(57)【要約】【課題】  本発明の課題は、簡単かつ安価に脆化に対して保護されている、少なくとも一つの磁石を有する簡単に製造可能な真空ポンプを提供することである。【解決手段】  課題は、真空ポンプ、特にターボ分子ポンプであって、一つの回転軸を中心として回転可能な一つの回転シャフト（１２）、および少なくとも一つの磁石（９２，９４）、特に永久磁石を有するポンプであって、その際、好ましくは、磁石（１）がマグネット支承部（８６）内に、回転シャフト（１２）の回転可能なサポートの為に配置され、または回転シャフト（１２）の駆動の為の電動モーター内に配置されており、およびその際、磁石（１）が少なくとも一つの金属層（５）によりコーティングされていることを特徴とする真空ポンプにより解決される。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空ポンプ、特にターボ分子ポンプであって、一つの回転軸を中心として回転可能な一つの回転シャフト（１２）、および少なくとも一つの磁石（９２，９４）、特に永久磁石を有するポンプであって、その際、好ましくは、磁石（１）がマグネット支承部（８６）内に、回転シャフト（１２）の回転可能なサポートの為に配置され、または回転シャフト（１２）の駆動の為の電動モーター内に配置されており、およびその際、磁石（１）が少なくとも一つの金属層（５）によりコーティングされていることを特徴とする真空ポンプ。
【請求項２】
磁石（１）が少なくとも一つのプラスティック層（７）によりコーティングされていることを特徴とする請求項１に記載の真空ポンプ。
【請求項３】
金属層（５）及び／又はプラスティック層（７）が、磁石（１）の表面（９）を完全に覆っていることを特徴とする請求項１または２に記載の真空ポンプ。
【請求項４】
プラスティック層（７）が、少なくとも一つの金属層（５）の上に設けられていることを特徴とする請求項２または３に記載の真空ポンプ。
【請求項５】
金属層（５）が、すず、タングステン、金、銀、及び／又はアルミを有し、または前記金属の一つからなることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の真空ポンプ。
【請求項６】
金属層（５）が、アルミまたはすずを有するか、またはアルミまたはすずから成るとき、金属層（５）が、最高６０マイクロメートル、好ましくは最高５０マイクロメートルの厚さであり、または、
金属層（５）が、タングステン、銀、または金を有するか、またはタングステン、銀または金から成るとき、最高３０マイクロメートル、好ましくは最高２０マイクロメートルの厚さであることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の真空ポンプ。
【請求項７】
プラスティック層（７）がエポキシ樹脂を有するかまたはこれから成ることを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の真空ポンプ。
【請求項８】
プラスティック層（７）が、最高６０マイクロメートル、好ましくは最高５０マイクロメートルの厚さであることを特徴とする請求項２から７のいずれか一項に記載の真空ポンプ。
【請求項９】
金属層（５）及び／又はプラスティック層（７）が、少なくとも５マイクロメートル、好ましくは少なくとも１０マイクロメートル、そして特に好ましくは少なくとも１５マイクロメートルの厚さであることを特徴とする請求項１から８のいずれか一項に記載の真空ポンプ。
【請求項１０】
磁石（１）が、少なくとも一つの磁性の材料（３）を有することを特徴とする請求項１から９のいずれか一項に記載の真空ポンプ。
【請求項１１】
磁性の材料（３）が、ＮｄＦｅＢ若しくはＳｍＣｏを有し、特に、ＳｍＣｏ５若しくはＳｍ２Ｃｏ１７を有するか、またはＮｄＦｅＢ若しくはＳｍＣｏからなり、特にＳｍＣｏ５もしくは  Ｓｍ２Ｃｏ１７からなることを特徴とする請求項１０に記載の真空ポンプ。
【請求項１２】
金属層（５）とプラスティック層（７）が磁性の材料（３）上に設けられ、特に、磁性の材料（３）と両方の層（５，７）の間に、別の層またはカプセルが設けられていないことを特徴とする請求項１０または１１に記載の真空ポンプ。
【請求項１３】
特に請求項１から１２のいずれか一項に記載の真空ポンプ、特にターボ分子ポンプを製造する為の方法であって、
一つの磁石（１）の表面（９）が、一つの金属層（５）によりコーティングされ、好ましくは追加的に一つのプラスティック層（７）によりコーティングされ、
その際、好ましくは、コーティングされた磁石（１）が、一つの回転軸を中心として回転可能な回転シャフト（１２）の回転可能なサポートの為のマグネット支承部（８６）内に配置されるか、または回転シャフト（１２）の駆動のための電動モーター内に配置されることを特徴とする方法。
【請求項１４】
金属層（５）が、すず、タングステン、金、銀、及び／又はアルミを有するかまたは前記金属の一つからなるよう形成され、そして、
好ましくは、金属層（５）が、アルミもしくはすずを有するか、またはアルミ若しくはすずから成るとき、最高６０マイクロメートル、好ましくは最高５０マイクロメートルの厚さで形成され、または、更に好ましくは、金属層（５）が、タングステン、銀、若しくは金を有するか、タングステン、銀若しくは金からなるとき、最高３０マイクロメートル、好ましくは最高２０マイクロメートルの厚さで形成されることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
まず金属層（５）がメッキにより磁石（１）の表面（９）に設けられ、引き続いてプラスティック層（７）が金属層（５）の上に吹き付けられることを特徴とする請求項１３または１４に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空ポンプに関する。これは、特にターボ分子ポンプであり、回転軸を中心として回転可能な一つの回転シャフトを有している。
【背景技術】
【０００２】
そのような真空ポンプは、先行技術より公知である。そのような真空ポンプは、通常の磁石と、特に永久磁石を有している。これらは、例えば回転シャフトの回転可能なサポートの為のマグネット支承部内、または電動モーター内に設けられている。電動モーターは回転シャフトの為の駆動部として用いられる。真空ポンプ内で、磁石は水素ガスと接触する。これは磁石を腐食させ、そして脆化を引き起こす可能性がある。そのような脆化を防止するために磁石をカプセル化することが公知である。その際、カプセルは磁石をハウジングの形式で覆い、そしてそのようにして水素ガスから保護する。磁石は、ハウジングによっても保護されることが可能である。このハウジングは磁石を取り囲んで鋳造されている。カプセルの製造またはハウジングの鋳造は、比較的面倒であり、相応してコストがかかる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】独国特許出願公開第１０１５１６５１Ａ１号明細書
【特許文献２】独国特許出願公開第１０２０１３１００８５３Ａ１号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
よって本発明の課題は、簡単かつ安価に脆化に対して保護されている、少なくとも一つの磁石を有する簡単に製造可能な真空ポンプを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
この課題は請求項１に記載の特徴を有する真空ポンプによって解決される。本発明の好ましい発展形と実施形は従属請求項に記載される。
【０００６】
発明に従い真空ポンプは、少なくとも一つの金属層によってコーティングされた一つの磁石を有する。本発明は、よって真空ポンプにおいて磁石に、特にカプセルやハウジングの替わりに金属の層を設け、これによって磁石が水素ガスによって、または他のガスによって引き起こされる脆化から保護されているという思想を基礎とする。
【０００７】
磁石は、特に真空ポンプ内で、回転シャフトの回転可能なサポートのために使用されるマグネット支承部内に設けられている磁石であるか、または真空ポンプ内で回転シャフトを駆動するための電動モーター内に配置されている。真空ポンプのマグネット支承部または電動モーターの磁石においては、例えば水素ガスの部分を有するプロセスガスが真空ポンプによって搬送されるとき、これらが水素ガスまたは水素原子または他の脆化を引き起こすガスと接触するという危険性がある。発明に従い、磁石は、簡単かつ安価に水素ガスまたは水素原子の拡散から保護される、そしてこれによって脆化からも保護されるようコーティングされている。
【０００８】
好ましくは磁石は少なくとも一つのプラスティック層によってコーティングされている。プラスティック層によって、脆化からの保護がさらに改善されることが可能である。その際、金属層も、プラスティック層も、簡単に磁石上に設けられることが可能であり、そして長期にわたる効果的保護を提供することは特に有利である。その上、カプセルまたはハウジングの為の製造コスト、および材料コストは基本的により高いので、これらに比較して金属層およびプラスティック層を有する磁石の製造はよりコスト集中的でなく、そして材料集中的でない。
【０００９】
金属層及び／又はプラスティック層は、好ましくは磁石の表面を完全に覆う。これによって全磁石表面が、長期にわたって例えば水素ガスの拡散から保護されることが可能である。しかし、金属層及び／又はプラスティック層が、磁石の表面を部分的にのみ覆うことも可能である。
【００１０】
好ましくはプラスティック層は、金属層の上に設けられている。これによって、例えば磁石が真空ポンプ内に組み込まれる際に、金属層がその上に位置するプラスティック層によって損傷から保護されることが可能である。
【００１１】
金属層は、すず、タングステン、金、銀、及び／又はアルミを含むことが可能であり、または前記金属の内の一つから成ることが可能である。前記金属のいずれかによって、水素ガスまたは水素原子に対する良好な拡散保護が達成されることが可能である。
【００１２】
好ましくは、金属層がアルミまたはすずを有するか、アルミまたはすずから成るとき、金属層は最高６０マイクロメートル、好ましくは最高５０マイクロメートルの厚さである。上述した上限より薄い厚さを有するすず層、またはアルミ層によって、効率的かつ長期にわたる保護が水素ガスの拡散に対して、およびこれに伴い脆化に対しても達成されることが可能である。
【００１３】
好ましくは、金属層がタングステン、銀、または金を有する、またはタングステン、銀、または金から成るとき、金属層は、最高３０マイクロメートル、好ましくは最高２０マイクロメートルの厚さである。上述した上限より薄い厚さを有するタングステン層、銀層、または金層によって同様に効率的かつ長期にわたる保護が達成されることが可能である。
【００１４】
プラスティック層は、エポキシ樹脂を有するまたはこれから成ることが可能である。これによって安価な保護層がつくりだされることが可能である。その上、エポキシ樹脂は、エポキシ噴霧ラッカー（独語：Ｅｐｏｘｙ−Ｓｐｒｕｅｈｌａｃｋ）の形式で、吹き付けられる（独語：ａｕｆｓｐｒｕｅｈｅｎ）ので、プラスティック層は簡単かつ効率的に作られることが可能である。
【００１５】
プラスティック層は、最高６０マイクロメートル、好ましくは最高５０マイクロメートルの厚さであることが可能である。通常そのようなプラスティック層は、真空適用範囲に対して水素ガスまたは水素原子から十分な保護をすでに提供する。
【００１６】
金属層及び／又はプラスティック層が少なくとも５マイクロメートル、好ましくは少なくとも１０マイクロメートル、および特に好ましくは少なくとも１５マイクロメートルの厚さであると有利である。両方の層は、これによってその下に位置する磁石を保護するのに十分な厚さである。
【００１７】
特に好ましくは、金属層は、少なくとも約１３マイクロメートルの層厚さと、その上に位置する、少なくとも約２０マイクロメートルのエポキシ層を有するすずから成る。様々な圧力、腐食及び／又は脆化を引き起こすガス、および温度を付勢する耐久試験は、そのようなコーティングされた磁石は、腐食および脆化に対する十分でかつ長期にわたる耐性を有することを示した。
【００１８】
磁石の角が処理され、特にバリ取りされ、エッジ取りされ、丸められ、トリミングされ、傾斜化され、及び／又は面取りされていると特に有利である。というのは、角の領域に、金属層及び／又はプラスティック層の為の各所望の層厚さが特に簡単に実現されることができるからである。
【００１９】
磁石は、好ましくは永久磁石である。磁石は、少なくとも一つの磁性の材料を有する。その際、磁性の金属とは、磁化された金属、または磁化可能な金属を意味する。該金属は、永久磁石のもと磁場を発生する。
【００２０】
磁性の材料は、ＮｄＦｅＢまたはＳｍＣｏ、特に、ＳｍＣｏ５またはＳｍ２Ｃｏ１７を有するか、または、ＮｄＦｅＢまたはＳｍＣｏ、特に、ＳｍＣｏ５またはＳｍ２Ｃｏ１７から成る。その際、ＮｄＦｅＢは、水素ガスに対してＳｍＣｏよりも弱い。更に、Ｓｍ２Ｃｏ１７は、脆化に対してＳｍＣｏ５よりも耐性があるが、もっともこれは脆化に対して申し分ない耐性を示すことが示された。よってＳｍ２Ｃｏ１７は、好ましくは磁性の金属として使用される。
【００２１】
金属層およびプラスティック層は、磁性の材料上に設けられることが可能である。特に、その際、磁性の材料と両方の層の間に更なる層、カプセル又はハウジングが設けられる必要が無い。両方の層は、よって直接磁性の材料の上に位置する。カプセルまたはハウジングは、よって省略されることが可能である。
【００２２】
好ましくは、真空ポンプは能動的にマグネット支承された（独語：ａｋｔｉｖ  ｍａｇｎｅｔｇｅｌａｇｅｒｔ）ターボ分子ポンプである。ここで、マグネット支承部は、能動的に制御される、または制御可能な少なくとも一つの電磁石と、コーティングされた発明に係る少なくとも一つの永久磁石を有する。これは例えば、マグネット支承部の支承ステータを予じめ磁化するために設けられている。
【００２３】
真空ポンプは、受動的にマグネット支承されたターボ分子ポンプであることも可能である。ここでマグネット支承部は、コーティングされた発明に係る少なくとも一つの永久磁石を有する。
【００２４】
更に本発明は、真空ポンプの製造の為の方法に関する。この方法において、真空ポンプの磁石の表面は、金属層でコーティングされ、および好ましくは追加的にプラスティック層でコーティングされる。
【００２５】
好ましくは、コーティングされた磁石は、回転軸を中心として回転可能な回転シャフトのマグネット支承部内、または回転シャフトの駆動のための電動モーター内に配置されている。
【００２６】
好ましくは、金属層は、すず、タングステン、金、銀、及び／又はアルミを有する、また前記金属のうちの一つから成っているよう形成される。
【００２７】
金属層は、これがアルミ若しくはすずを有する、またはアルミ若しくはすずから成るとき、特に、最高６０マイクロメートル、好ましくは最高５０マイクロメートルの厚さで形成され、更に特に、金属層がタングステン、銀、若しくは金を有する、またはタングステン、銀若しくは金から成るとき、金属層は、最高３０マイクロメートル、好ましくは最高２０マイクロメートルの厚さで形成される。
【００２８】
特に有利には、金属層は、磁石の表面にメッキを施し（独語：ｇａｌｖａｎｉｓｃｈ）、そしてプラスティック層が金属層の上に吹き付けられる。これによって磁石の全表面が、製造技術的に極めて簡単に両方の層によってコーティングされることが可能である。
【００２９】
好ましくは、磁石の角が、コーティングの前に処理され、特にバリ取りされ、エッジ取りされ、丸められ、トリミングされ、傾斜化され、及び／又は面取りされる。これによって角には、金属層及び／又はプラスティック層に対して各所望の層厚さが特に簡単に実現されることが可能である。
【００３０】
以下に本発明を添付の図面を参照のもと例示的に説明する。図はそれぞれ以下を簡略的に示す。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】真空ポンプの断面図
【図２】真空装置の著しく簡略化された断面図
【図３】磁石の部分断面図
【発明を実施するための形態】
【００３２】
図１に示された真空ポンプは、インレットフランジ６８を取り囲む一つのポンプインレット７０と、ポンプインレット７０におよぶ（又は滞留する、独語：ａｎｓｔｅｈｅｎｄ）ガスを図１に示されていないポンプアウトレットに搬送するための複数のポンプステージを有する。真空ポンプは、静的なハウジング７２を有するステータと、該ハウジング７２内に配置されたローターを有する。ローターは、回転軸１４を中心として回転可能に支承された回転シャフト１２を有している。
【００３３】
真空ポンプは、ターボ分子ポンプとして形成されており、そして、互いに直列に接続された、ポンプ作用を奏する複数のターボ分子的ポンプステージを有する。ポンプステージは、回転シャフト１２と接続されたターボ分子的な複数のローターディスク１６と、軸方向でローターディスク１６の間に配置され、ハウジング７２内に固定された複数のターボ分子的ステータディスク２６を有する。これらは、スペーサリング３６によって互いに所望の軸方向間隔に保持されている。ローターディスク１６とステータディスク２６は、汲み上げ領域（または吸い込み領域、独語：Ｓｃｈｏｅｐｆｂｅｒｅｉｃｈ）５０において、矢印５８の方向に向けられた軸方向のポンプ作用を提供する。
【００３４】
その上真空ポンプは、放射方向で相互に入り込んで配置され、そして互いに直列に接続されたポンプ作用を奏する三つホルベックポンプステージを有する。ホルベックポンプステージのローター側の部分は、回転シャフト１２と接続された一つのローターハブ７４と、該ローターハブ７４に固定され、そしてこれによって担持された、シリンダー側面形状のホルベックロータースリーブ７６，７８を有している。これらは、回転軸１４に同軸に向けられており、そして放射方向で相互に入り込んで接続されている。更に、シリンダー側面形状の二つのホルベックステータスリーブ８０，８２が設けられており、これらは同様に回転軸１４に同軸に向けられ、そして放射方向で相互に入り込んで接続されている。ホルベックポンプステージのポンプ効果を有する表面は、互いに狭い放射方向の間隙を形成しつつ向かい合っている、各ホルベックロータースリーブ７６，７８とホルベックステータスリーブ８０，８２の放射方向の側面によって其々形成されている。その際、ポンプ効果を有する表面（この場合、ホルベックロータースリーブ７６または７８の表面）は其々滑らかに形成されており、そしてホルベックステータスリーブ８０，８２の向かい合ったポンプ効果を有する表面は、ねじ線形状に回転軸１４を中心として軸方向に推移する複数の溝を有する構造化部を有している。ローターの回転によってこれら溝の中でガスが促進されそしてこれによってポンピングが行われる。
【００３５】
回転シャフト１２の回転可能な支承部は、ローラー支承部８４によってポンプアウトレットの領域に実現され、そして永久磁石支承部８６は、ポンプインレット７０の領域に実現される。
【００３６】
永久磁石支承部８６は、ローター側の支承半部８８とステータ側の支承半部９０を有している。これらは軸方向に互いに積層された永久磁石のリング９２，９４からなる各一つのリング積層部を有している。その際、マグネットリング９２，９４は、放射方向の一つの支承間隙９６を形成しつつ互いに向き合っている。
【００３７】
マグネット支承部８６の内部には、緊急用または安全用支承部９８が設けられている。これは、潤滑されていないローラー支承部として形成されており、そして真空ポンプの通常の運転では非接触で空転し、そしてローターがステータに対して過剰に移動した際に初めて接触するに至り、ローターの為の放射方向のストッパーを形成する。このストッパーは、ローター側の構造がステータ側の構造と衝突することを防止する。
【００３８】
ローラー支承部８４は、回転シャフト１２に、ローラー支承部８４の方に向かって大きくなる外直径を有するすい形（又は円すい形：独語ｋｏｎｉｓｃｈ）のスプラッシナット１００を設けられている。これは、作動媒体、例えば潤滑媒体を含まされた吸収性の複数のディスク１０２を有する作動媒体貯蔵部の少なくとも一つのスキマーと滑らかに接触している。運転中、作動媒体は毛細管効果によって作動媒体貯蔵部からスキマーを介して回転するスプラッシュナット１００へと伝達される。そしてその後、遠心力によってスプラッシュナット１００にそって大きくなるスプラッシュナットの外直径の方向へ、ローラー支承部８４に向かって搬送される。そこで例えば潤滑機能を発揮する。
【００３９】
真空ポンプは、ローターの回転駆動の為の駆動モーター１０４を有している。その回転子は回転シャフト１２によって形成されている。制御ユニット１０６はモーター１０４を駆動する。ターボ分子的なポンプステージが、汲み上げ領域（または吸い込み領域５０）で矢印５８の方向のポンプ効果を提供する。
【００４０】
表された真空ポンプにおいては、インレットフランジ６８がレシーバーと接続されることが可能である。該レシーバーは真空ポンプによってポンプアウトされる。その際、レシーバーからポンプアウトされたガスは、例えば水素ガス又は水素原子のような、腐食作用を奏する及び／又は脆化を行う部分を有することがある。これらは影響磁石支承部８６の部材と接触する可能性がある。永久磁石支承部８６においては、マグネットリング９２，９４は例えばＮｄＦｅＢまたはＳｍＣｏ、特にＳｍＣｏ５またはＳｍ２Ｃｏ１７からなる材料を有しうる。これは、これらガス部分によって害される可能性がある。マグネットリング９２，９４の保護の為に、発明に従い、各マグネットリング９２，９４の各表面は一つの金属層、および好ましくは、追加的に、金属層の上に位置する一つのプラスティック層によってコーティングされている（図１には図示されていない）。
【００４１】
金属層は、特にすず、タングステン、金、銀、及び／又はアルミの層である。そしてプラスティック層は好ましくはエポキシ樹脂からなる層である。その際、金属層およびプラスティック層の組合せは、この層によって各マグネットリング９２，９４が長期にわたって脆化または水素ガスの拡散から保護されることが可能であるという層を形成する。
【００４２】
図２に示された真空装置は、一つの外側ハウジング２１１、ハウジング２１１内に配置された真空引き可能な領域２１３を有する。これは、一つのインレットフランジ２１５および一つのアウトレットフランジ２１７を有している。
【００４３】
インレットフランジ２１５には、例えば一つのレシーバーが接続されることが可能である（図示せず）。アウトレットフランジ２１７には、更に真空ポンプが接続されることが可能である（同様に図示せず）。レシーバーは、真空ポンプによってポンプアウトされることが可能であり、その際、レシーバーからポンプ排出されるガスは、真空引きされることが可能な領域２１３を通って流れる。真空引き可能な領域２１３内には、真空装置のコンポーネント２１９が配置されている。これらは、少なくとも一つの永久磁石２２１を有している。永久磁石は、レシーバーから搬送されるガスと接触する可能性がある。磁石２２１を水素ガスの拡散から保護するために、磁石は、一つの金属層によってコーティングされている。この金属層は、すず、タングステン、金、銀、及び／又はアルミを有するか、または前記金属の一つからなり、そして好ましくは、磁石は、追加的に一つのプラスティック層によりコーティングされており、このプラスティック層は、好ましくはエポキシ噴霧ラッカーから成る。金属およびプラスティックから成るこの様な形式の二重層によって、磁石２２１は効果的かつ長期にわたって、例えば水素ガスおよび水素原子から保護されることが可能である。
【００４４】
その際、例えば洗浄目的でレシーバー内にプラズマスパーク（独語：Ｐｌａｓｍａｚｕｅｎｄｕｎｇ）が実施されると、水素原子が水素ガスから発生する。その際、拡散する水素原子は、水素ガスよりも容易に材料内へと拡散するので、水素原子による脆化は水素ガスに比べてさらに著しく促進される。
【００４５】
真空装置は、例えば、リーク探査装置であり、そしてコンポーネントは例えば電動モーーターであり、または組み込まれた真空ポンプであることが可能である。
【００４６】
図３に表された磁石１は、磁性の材料３を有する。これは例えば、ＮｄＦｅＢまたは  ＳｍＣｏであり、特にＳｍＣｏ５またはＳｍ２Ｃｏ１７である。該材料が、金属層５および、金属層の上に位置するプラスティック層７によってコーティングされている。その際、両方の層５，７は磁性の材料３の表面を完全に覆っている。
【００４７】
金属層は、すず、タングステン、金、銀及び／又はアルミを有するか、または前記金属の一つから成ることが可能である。その際、金属層は、金属層がアルミまたはすずを有するか、またはアルミまたはすずからなるとき、最高６０μｍ、好ましくは最高５０μｍの厚さＤ１を有する。金属層が、タングステン、銀、または金を有するか、タングステン、銀、または金から成るとき、金属層５の厚さＤ１は、最高３０μｍ、好ましくは最高２０μｍである。金属層の最小厚さは、好ましくは５μｍ、更に好ましくは少なくとも１０μｍ、そして特に好ましくは少なくとも１５μｍである。
【００４８】
プラスティック層７は、好ましくはエポキシ樹脂から形成され、特にエポキシ噴霧ラッカーから形成される。その際、プラスティック層の厚さＤ２は最高６０μｍ、好ましくは最高５０μｍである。更に、プラスティック層の厚さＤ２は、少なくとも５μｍ、好ましくは少なくとも１０μｍ、そして特に好ましくは少なくとも１５μｍである。
【００４９】
特に好ましくは、金属層は、１３μｍの層厚さＤ１のすずと、その上に位置する、厚さ約２０μｍのエポキシ層から形成される。そのような形式の二重にコーティングされた磁石１は、水素ポンプ内または真空装置内に発生する可能性がある例えば水素ガスのような、浸入するよう作用するガスに対して十分かつ長期にわたる拡散耐性を有する。磁石１は、両方の層５，７によって長期にわたり拡散および脆化から保護されることが可能である。
【００５０】
その際、好ましくは、磁石１は真空ポンプの運転の間、少なくとも部分的に循環ガス（独語：Ｓｐｕｅｌｇａｓ）を循環される（独語：ｕｍｓｐｕｅｌｅｎ）。循環ガスは、水素ガスまたは水素原子と磁石の表面の間の接触の可能性を減少させ、これによって磁石を拡散および脆化から保護することに貢献する。
【００５１】
上述した例に対応してプラスティック層は、金属層を覆っている。しかし原理的には、まずプラスティック層を、そしてその後金属層を設けることも可能である。複数の金属層が、互いに重なり合ってコーティングされていることも可能である。その際、複数の金属層に、更に一つプラスティック層が設けられていることが可能である。プラスティック層は、もちろん省略されることも可能である。
【００５２】
特に好ましくは、磁石１または磁性の材料３の表面９が、まず金属層がメッキにより表面９上に設けられ、そして引き続いてプラスティック層７がエポキシ噴霧ラッカーとして金属層５上に吹き付けられるというようにコーティングされることが可能である。
【００５３】
よって、図３の磁石１における金属層５とプラスティック層７の層構造は、図１の真空ポンプのマグネットリング９２，９４に、または図２の真空装置の磁石２２１に設けられることが可能である。相当する層構造を有する磁石は、図１の真空ポンプ１の駆動モーター１０４内にも組み込まれることが可能である。
【符号の説明】
【００５４】
１  磁石
３  磁性の材料
５  金属層
７  プラスティック層
９  表面
１２  回転シャフト
１４  回転軸
１６  ローターディスク
２６  ステータディスク
３６  スペーサリング
５０  汲み上げ領域（又は吸い込み領域）
５８  矢印
６８  インレットフランジ
７０  ポンプインレット
７２  ハウジング
７４  ローターハブ
７６，７８  ホルベックロータースリーブ
８０，８２  ホルベックステータスリーブ
８４  ローラー支承部
８６  永久磁石支承部
８８  ローター側の支承半部
９０  ステータ側の支承半部
９２，９４  永久磁石のリング
９６  放射方向の支承間隙
９８  安全用支承部
１００  スプラッシュナット
１０２  吸収性のディスク
１０４  駆動モーター
１０６  制御ユニット
２１１  ハウジング
２１３  真空引き可能な領域
２１５  インレットフランジ
２１７  アウトレットフランジ
２１９  コンポーネント
２２１  磁石
【図１】
2015158201.tif 000003
【図２】
2015158201.tif 000004
【図３】
2015158201.tif 000005