(57)【要約】【課題】環境負荷が低減された方法で製造可能な、平面性の高い静電吸着ベルトを提供する。【解決手段】第１の樹脂層１００上の電極パターン１１０を形成する部分２１０に紫外線レーザを照射する。第１の樹脂層１００上の電極パターン１１０を形成する部分２１０を包含する領域を酸化する。第１の樹脂層１００にめっきを行うことにより、第１の樹脂層１００上に電極パターン１１０を形成する。第１の樹脂層１００の電極パターン１１０が形成された面上に第２の樹脂層１３０を形成する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の電極パターンが形成された静電吸着ベルトの製造方法であって、
第１の樹脂層上の前記電極パターンを形成する部分に紫外線レーザを照射する照射工程と、
前記第１の樹脂層上の前記電極パターンを形成する部分を包含する領域を酸化する酸化工程と、
前記第１の樹脂層にめっきを行うことにより、前記第１の樹脂層上に前記電極パターンを形成するめっき工程と、
前記第１の樹脂層の前記電極パターンが形成された面上に第２の樹脂層を形成する積層工程と、
を有することを特徴とする、静電吸着ベルトの製造方法。
【請求項２】
前記紫外線レーザの波長は２４３ｎｍ以下であることを特徴とする、請求項１に記載の静電吸着ベルトの製造方法。
【請求項３】
前記酸化工程では、紫外線ランプを用いて２４３ｎｍ以下の波長の紫外線を照射することを特徴とする、請求項１又は２に記載の静電吸着ベルトの製造方法。
【請求項４】
前記紫外線レーザの波長は２４３ｎｍ以下であり、
前記酸化工程では、２４３ｎｍ以下の波長の紫外線を照射し、
前記照射工程及び前記酸化工程は、酸素とオゾンとの少なくとも一方を含む雰囲気下で行われることを特徴とする、請求項１に記載の静電吸着ベルトの製造方法。
【請求項５】
前記めっき工程の前に、前記第１の樹脂層上の前記電極パターンを形成する部分に貫通穴を形成する貫通穴形成工程を有することを特徴とする、請求項１乃至４の何れか１項に記載の静電吸着ベルトの製造方法。
【請求項６】
前記貫通穴形成工程において、前記紫外線レーザを照射することにより前記貫通穴を形成することを特徴とする、請求項５に記載の静電吸着ベルトの製造方法。
【請求項７】
前記めっき工程の後、前記積層工程の前に、前記第１の樹脂層と前記電極パターンとで構成される積層体の、前記電極パターンが形成された面を平滑化する平滑化工程をさらに有することを特徴とする、請求項１乃至６の何れか１項に記載の静電吸着ベルトの製造方法。
【請求項８】
前記第１の樹脂層がシクロオレフィンポリマー、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート、又はポリ塩化ビニルを含むことを特徴とする、請求項１乃至７の何れか１項に記載の静電吸着ベルトの製造方法。
【請求項９】
表面に凹部を有する、一体的に成型された第１の樹脂層と、
前記第１の樹脂層の凹部に形成された電極パターンと、
前記第１の樹脂層の前記電極パターンが形成された面に積層された第２の樹脂層と、  を備えることを特徴とする静電吸着ベルト。
【請求項１０】
前記第１の樹脂層と前記電極パターンとで構成される積層体の、前記電極パターンが形成された面が、平滑な表面を有することを特徴とする、請求項９に記載の静電吸着ベルト。
【請求項１１】
前記電極パターンと接続している、前記第１の樹脂層を貫通する給電部を有することを特徴とする、請求項９又は１０に記載の静電吸着ベルト。
【請求項１２】
第１の樹脂層と、第２の樹脂層と、前記第１の樹脂層と前記第２の樹脂層とに挟まれた電極パターンと、前記電極パターンと接続し前記第１の樹脂層を貫通する給電部と、を備え、
前記電極パターンは、第１〜第Ｎ（Ｎ≧３）の電極部を含み、
前記第１〜第Ｎの電極部はそれぞれ第１〜第Ｎの給電部と接続しており、前記第１〜第Ｎの給電部のそれぞれの位置は静電吸着ベルトの幅方向にずれている
ことを特徴とする、静電吸着ベルト。
【請求項１３】
前記電極パターンは、前記第１〜第Ｎ（Ｎ≧３）の電極部が、前記静電吸着ベルトの長さ方向に繰り返し配列した構造を有しており、
前記第１〜第Ｎの電極部は、帯状の形状を有し、前記静電吸着ベルトの幅方向に平行に延びており、
複数の第ｉの電極部（１≦ｉ≦Ｎ）のそれぞれには、前記静電吸着ベルトの幅方向の位置が同じである第ｉの給電部が接続されていることを特徴とする、請求項１２に記載の静電吸着ベルト。
【請求項１４】
複数の電極部を含む電極パターンを備え、前記電極部のそれぞれは内部の一部がくり抜かれていることを特徴とする、静電吸着ベルト。
【請求項１５】
前記電極部のそれぞれがメッシュ構造を有することを特徴とする、請求項１４に記載の静電吸着ベルト。
【請求項１６】
複数の電極部を含む電極パターンを備え、前記電極部のそれぞれは、幅１．０ｍｍ以下の細線で構成されていることを特徴とする、静電吸着ベルト。
【請求項１７】
同一面上に配置された複数の電極部を含む電極パターンと、複数の導電膜とを備え、
前記複数の電極部は、静電吸着ベルトの長さ方向に互いに隣接する第１及び第２の電極部を含み、
第１の導電膜は、前記第１の電極部と前記静電吸着ベルトの幅方向に隣接しており、かつ前記第２の電極部と前記静電吸着ベルトの長さ方向に隣接している
ことを特徴とする、静電吸着ベルト。
【請求項１８】
請求項１乃至８の何れか１項に記載の製造方法により製造された静電吸着ベルト、又は請求項９乃至１７の何れか１項に記載の静電吸着ベルトと、
前記静電吸着ベルトを駆動する駆動手段と、
を備えることを特徴とする搬送システム。
【請求項１９】
第１〜第Ｎ（Ｎ≧３）の電極部を含む静電吸着ベルトと、
前記静電吸着ベルトを駆動する駆動手段と、
前記電極部のそれぞれについて印加する電圧を決定し、当該決定された電圧を対応する電極部に選択的に印加する電圧印加手段と、
を備えることを特徴とする、搬送システム。
【請求項２０】
前記電圧印加手段は、静電吸着ベルトが搬送する媒体の種類を示す情報を取得し、前記媒体の種類を示す情報に従って前記電圧を決定することを特徴とする、請求項１９に記載の搬送システム。
【請求項２１】
請求項１８乃至２０の何れか１項に記載の搬送システムと、
静電吸着ベルトにより搬送される媒体に画像を形成する画像形成手段と、
を備えることを特徴とする、印刷装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、静電吸着ベルト及びその製造方法、搬送システム並びに印刷装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
印刷機器等において記録媒体を搬送するために、静電吸着力により媒体を吸着して媒体を搬送する静電吸着ベルトが用いられている。静電吸着ベルトは、樹脂基材に所望パターンを有する導電層を設け、導電層の上に樹脂製の絶縁層を被覆することにより、作製することができる。電源を導電層に接続することにより絶縁層の表面に電荷が付与され、その電荷によって媒体が静電吸着ベルトに吸着される。
【０００３】
静電吸着ベルトの製造方法として、特許文献１には、塩化ビニル樹脂に銅箔を貼り合わせ、所望パターンに従ってレジストを塗布して銅箔をエッチングし、さらに塩化ビニル樹脂板を貼り合わせる方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−２１８７７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載の方法では、銅箔をエッチングにより除去することが必要であり、またレジストを溶剤や加熱蒸気等により除去する必要もあることから、環境負荷及びコスト面で課題を有していた。また、特許文献１に記載の方法により得られた静電吸着ベルトは、導電層の厚みのためにベルト表面に凹凸が生じ、吸着力が低下したり振動が生じたりするという課題があった。
【０００６】
本発明は、環境負荷が低減された方法で製造可能な、平面性の高い静電吸着ベルトを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の目的を達成するために、例えば、本発明の静電吸着ベルトの製造方法は以下の構成を備える。すなわち、
所定の電極パターンが形成された静電吸着ベルトの製造方法であって、
第１の樹脂層上の前記電極パターンを形成する部分に紫外線レーザを照射する照射工程と、
前記第１の樹脂層上の前記電極パターンを形成する部分を包含する領域を酸化する酸化工程と、
前記第１の樹脂層にめっきを行うことにより、前記第１の樹脂層上に前記電極パターンを形成するめっき工程と、
前記第１の樹脂層の前記電極パターンが形成された面上に第２の樹脂層を形成する積層工程と、
を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明は、環境負荷が低減された方法で製造可能な、平面性の高い静電吸着ベルトを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】実施形態１に係る静電吸着ベルトの製造方法を説明する図。
【図２】実施形態１に係る、電極パターン及び貫通穴が設けられる位置を示す図。
【図３】実施形態１に係る印刷装置の模式図。
【図４】実施形態１に係る静電吸着ベルトと給電ブラシとの位置関係を示す図。
【図５】実施形態１に係る静電吸着ベルトの製造方法のフローチャート。
【図６】従来技術に係る静電吸着ベルトの模式図。
【図７】実施形態２に係る静電吸着ベルトの一例の断面図。
【図８】実施形態２に係る静電吸着ベルトの一例の平面図。
【図９】各実施形態に係る搬送システム及び印刷装置の模式図。
【図１０】実施形態２に係る静電吸着ベルトと給電ブラシとの位置関係を示す図。
【図１１】電極部へと印加される電圧の組み合わせパターンの例を示す図。
【図１２】実施形態３に係る静電吸着ベルトの一例の平面図。
【図１３】実施形態４に係る静電吸着ベルトの一例の平面図。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明を適用できる実施形態を図面に基づいて説明する。ただし、本発明の範囲は以下の実施形態に限定されない。
【００１１】
［実施形態１］
本発明の一実施形態においては、所定の電極パターンが形成された静電吸着ベルト１９０が製造される。本実施形態に係る製造方法は、照射工程と、酸化工程と、めっき工程と、積層工程と、を有する。また、本実施形態に係る製造方法において、貫通穴形成工程と、平滑化工程と、の少なくとも一方を行ってもよい。以下、これらの工程について、図１の断面図及び図５のフローチャートを参照しながら詳しく説明する。
【００１２】
（照射工程）
ステップＳ５１０においては、照射工程が行われる。照射工程においては、第１の樹脂層上（第１の樹脂層１００上）の電極パターンを形成する部分に紫外線レーザが照射される。図１（Ａ）は第１の樹脂層１００を示す。また、図２は第１の樹脂層１００の上面図を示す。図１（Ｂ）及び図２に示すように、電極パターンを形成する部分２１０に紫外線レーザを照射することにより、第１の樹脂層１００上の紫外線レーザが照射された部分が改質されるとともに凹部１４０が形成される。
【００１３】
具体的には、紫外線を照射すると、雰囲気中の酸素は分解されてオゾンが生成する。また、樹脂表面において、樹脂を構成する分子中の結合も切断される。このとき、樹脂を構成する分子とオゾンとが反応し、樹脂表面が酸化され、すなわち樹脂表面にＣ−Ｏ結合、Ｃ＝Ｏ結合、Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ結合（カルボキシル基の骨格部分）等が形成される。このような親水性基は、第１の樹脂層１００と、めっきとの化学的吸着性を増大させる。また、第１の樹脂層１００の表面の酸化により、微細な粗面が形成されるため、投錨効果によりめっき層との物理的吸着性が増大する。さらに、改質された部分については、無電解めっきを行う場合に触媒イオンを選択的に吸着させることができる。
【００１４】
第１の樹脂層１００は、静電吸着ベルト１９０の基材である。第１の樹脂層１００の材料は、レーザ照射部に選択的にめっきが析出するように改質可能な樹脂材料を表面に有するものであれば特に限定されない。第１の樹脂層１００は、例えば樹脂製のベルトであってもよいし、他の材料上に積層された樹脂層であってもよい。一実施形態においては、第１の樹脂層１００としては絶縁樹脂ベルトが用いられる。第１の樹脂層１００の材料の例としては、シクロオレフィンポリマー、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート、又はポリ塩化ビニル等が挙げられる。一実施形態においては、樹脂材料は炭素原子及び水素原子で構成される炭素ポリマーであり、炭素ポリマーにはシクロオレフィンポリマーが含まれる。シクロオレフィンポリマーは、例えば、下式に示す繰り返し単位を有するポリマーでありうる。
【００１５】
【化１】
2015110832.tif 000003
【００１６】
上式において、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、又は炭素数１以上１２以下の炭化水素基を表す。炭化水素基には、炭素数１以上１２以下のアルキル基等が含まれる。アルキル基の例としては、メチル基、エチル基及びシクロヘキシル基等が挙げられる。一実施形態において、Ｒ１及びＲ２は、炭素数１以上１２以下の２価の炭化水素基である。２価の炭化水素基には、炭素数１以上１２以下の２価のアルキル基等が含まれる。２価のアルキル基の例としては、１，３−プロパンジイル基、１，３−シクロペンタンジイル基及び５−メチルシクロペンタン−１，３−ジイル基等が挙げられる。シクロオレフィンポリマーの例としては、以下の繰り返し単位Ａ〜Ｅのいずれかを有するものが挙げられる。
【００１７】
【化２】
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【００１８】
シクロオレフィンポリマーは、複数の繰り返し単位を含んでいてもよい。また、樹脂材料が、複数のシクロオレフィンポリマーを含んでいてもよい。異なるガラス転移温度（Ｔｇ）を有する複数のシクロオレフィンポリマーを混合することにより、Ｔｇを調整することができる。一実施形態で用いられるシクロオレフィンポリマーは、上記の繰り返し単位Ａ〜Ｅのいずれかを有するシクロオレフィンポリマーを混合して得られるものであり、そのＴｇは１６０℃である。このシクロオレフィンポリマーは、主に、上記の繰り返し単位Ｅを有するシクロオレフィンポリマーで構成される。
【００１９】
上式に示すシクロオレフィンポリマーは、炭素原子及び水素原子で構成される。一実施形態に係るシクロオレフィンポリマーは、化学的に安定性の高い物質である。シクロオレフィンポリマーの重量平均分子量は特に限定されず、一実施形態においては１×１０４以上、１×１０６以下である。
【００２０】
一実施形態において、第１の樹脂層１００は平滑な表面を有する。第１の樹脂層１００がより平滑な表面を有することにより、より均一なめっき皮膜が得られる。一実施形態において、第１の樹脂層１００の表面の算術平均粗さＲａは、１０ｎｍ以下である。本明細書において、算術平均粗さＲａは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１により定義される。
【００２１】
紫外線レーザの種類及びレーザの波長は特に限定されず、第１の樹脂層１００の表面の改質を促進するものが選択される。一実施形態においては、紫外線レーザの波長は２４３ｎｍ以下である。波長が２４３ｎｍ以下であることにより、第１の樹脂層１００の表面の改質がより促進される。
【００２２】
紫外線レーザは、紫外線ランプからの紫外線と比較して高密度のエネルギーを有する。したがって、短時間のうちに、ある程度の表面改質量を得ることができる。このように短時間の照射を行う場合には、第１の樹脂層１００の熱膨張はほとんど抑えられるために、高い精度で第１の樹脂層１００の所望部分を改質することができる。
【００２３】
一実施形態においては、エキシマレーザが紫外線レーザとして用いられる。エキシマレーザは、ガスレーザの一種である。具体的には、不活性ガスとハロゲンガスとの混合ガスに高い電圧を瞬間的にかけることで励起状態を作り出し、高い出力のパルス発振が行われる。エキシマレーザを用いることにより、熱膨張が大きくならないように、第１の樹脂層１００の表面の改質をできるだけ短時間で行うことができる。
【００２４】
エキシマレーザを発生させるために用いる不活性ガスとハロゲンガスとの組合せにより、レーザの波長は変化する。以下に、ガスの組み合わせと、レーザの波長との関係を示す。
Ｆ２エキシマレーザ    ：波長１５７ｎｍ
ＡｒＦエキシマレーザ  ：波長１９３ｎｍ
ＫｒＣｌエキシマレーザ：波長２２２ｎｍ
【００２５】
一実施形態においては、ＡｒＦエキシマレーザが紫外線レーザとして用いられる。ＡｒＦエキシマレーザは比較的短い波長を有するため、第１の樹脂層１００の表面の改質がより効率的に行われる。また、ＡｒＦエキシマレーザはＦ２エキシマレーザと比べれば空気による吸収が少ないため、取り扱いが容易である。
【００２６】
一実施形態においては、エキシマレーザはパルス状に第１の樹脂層１００の所望部分に照射される。短時間、パルス状のレーザを照射することにより、第１の樹脂層１００の熱膨張を抑止することができる。一実施形態において、パルス幅は１０ｎｓ以上１００ｎｓ以下である。高い強度のパルスレーザは、光共振器内でレーザ光を往復させ、ある程度の時間が経ったところでレーザ光を取り出すことにより得られる。
【００２７】
レーザの照射量及びパルス数は、第１の樹脂層１００の種類及び形成しようとする凹部１４０の深さに応じて適宜選択することができる。一実施形態においては、１パルスあたりのエネルギー密度が８０ｍＪ／ｃｍ２以上１５００ｍＪ／ｃｍ２以下であるレーザが照射される。また、一実施形態においては、積算照射量が１０００ｍＪ／ｃｍ２以上２００００ｍＪ／ｃｍ２以下となるように、レーザが照射される。
【００２８】
一実施形態において、紫外線レーザの第１の樹脂層１００への照射は、酸素とオゾンとの少なくとも一方を含む雰囲気下で行われる。具体的な例としては、紫外線レーザの第１の樹脂層１００への照射は、大気中で行われうる。別の実施形態においては、より改質を促進するために、オゾンを含む雰囲気中で照射が行われる。
【００２９】
一方で、別の実施形態において、紫外線レーザの第１の樹脂層１００への照射は、例えばアミン化合物ガス雰囲気下又はアミド化合物ガス雰囲気下等の、他の気体雰囲気下で行うこともできる。ここで、アミン化合物にはアンモニアも含まれる。これらの気体雰囲気下で照射を行うことにより、樹脂表面を酸化する、すなわち樹脂表面に窒素原子を含む結合を生成することができる。すなわち、樹脂表面が窒素原子を含むように改質され、めっき層との吸着性が向上するため、照射部分に選択的なめっきを行うことが可能となる。加工対象物を、常圧大気中から隔離し、圧力を変え又は化合物ガスを封入して紫外線による改質を行う場合には、反応に適した波長を適宜選択することができる。一方で、酸素を含む大気中で２４３ｎｍ以下の波長を有する紫外線を照射することは、低コストに改質を行うことができる点で有利である。
【００３０】
例えば、第１の樹脂層１００上の電極パターン１１０を形成する各部分に、予め定められた回数だけレーザビームが照射されるように、レーザビームで第１の樹脂層１００を走査することができる。こうして、第１の樹脂層１００上の電極パターン１１０を形成する部分に紫外線レーザを照射することができる。一方で、紫外線レーザの光学系に、紫外線レーザが照射される部分の形状に対応するフォトマスクを挿入することにより、第１の樹脂層１００上の電極パターン１１０を形成する部分に紫外線レーザを照射することもできる。
【００３１】
第１の樹脂層１００にレーザを照射すると、レーザ照射部分には凹部１４０が形成される。すなわち、レーザ照射部分における第１の樹脂層１００の表面は、この照射部分に隣接する第１の樹脂層１００の表面に対して陥入している。この凹部１４０の深さは、照射量を変化させることにより制御できる。具体的には、レーザのエネルギー密度が大きいほど、またパルス数が多いほど、より深い凹部１４０が得られる。後述するめっき工程においては、この凹部１４０に電極パターン１１０が形成される。このために、電極パターン１１０と第１の樹脂層１００とを含む積層体の表面を平滑にすることが可能となる。
【００３２】
（貫通穴形成工程）
静電吸着ベルト１９０には、電極パターン１１０に電気を供給する給電部１２０が設けられる。一実施形態においては、図１（Ｅ）に示されるように、第１の樹脂層１００を貫通する金属製の給電部１２０が設けられる。図３を参照して後述するように、第１の樹脂層１００の電極パターン１１０が設けられた面とは反対側に設けられた給電ブラシ３１０から、給電部１２０を介して、電極パターン１１０に電気が供給される。
【００３３】
このような静電吸着ベルト１９０を作製するために、一実施形態においては、照射工程の後に、ステップＳ５２０において、給電部１２０が設けられる貫通穴１５０を形成する工程が行われる。具体的には、図１（Ｃ）に示すように、第１の樹脂層１００上の電極パターン１１０が形成される部分に、貫通穴１５０が形成される。
【００３４】
もっとも、電極パターン１１０への給電方法が給電部１２０を用いる方法に限定されるわけではない。例えば、第１の樹脂層１００の一部を除去してもよく、この場合には適切な位置に配置された給電ブラシから電極パターン１１０へと直接電気を供給することができる。このような場合、貫通穴１５０を形成する工程を行わなくてもよい。
【００３５】
一実施形態においては、紫外線レーザを用いて貫通穴１５０が形成される。例えば、図２に示す円形領域２２０Ａ，Ｂに紫外線レーザを複数回照射することにより、貫通穴１５０Ａ，Ｂを形成することができる。紫外線レーザとしては、照射工程で用いるものと同様のものを用いることができる。レーザの照射量及びパルス数は、第１の樹脂層１００の種類及び厚さに応じて適宜選択することができる。よりエネルギー密度の大きいレーザ、例えば１パルスあたりのエネルギー密度が８００ｍＪ／ｃｍ２以上１５００ｍＪ／ｃｍ２以下であるレーザを用いることにより、より迅速に貫通穴１５０を形成することが可能となる。
【００３６】
（酸化工程）
次に、ステップＳ５３０において、紫外線レーザが照射された第１の樹脂層１００に対する酸化処理が行われる。具体的には、第１の樹脂層１００上の電極パターン１１０を形成する部分を包含する領域に対して、酸化処理が行われる。
【００３７】
紫外線レーザを照射することにより第１の樹脂層１００の表面は改質されるが、めっきが析出する程度に十分な改質が行われるわけではない。そこで、酸化工程では、紫外線レーザが照射された部分を包含する領域に対して酸化処理を行うことにより、第１の樹脂層１００の表面をさらに改質する。このとき、レーザが照射された部分については、めっきが析出する程度に表面改質量が大きくなり、レーザが照射されていない部分については、めっきが析出しない程度に表面改質量を抑えるように、酸化処理が行われる。
【００３８】
また、レーザ照射により貫通穴１５０を設けた場合には、酸化処理により、貫通穴１５０の側面もまた改質される。このために、後述するめっき工程において無電解めっきを行うと、貫通穴１５０の側面にもめっきが析出する。
【００３９】
酸化処理の具体的な例としては、プラズマ処理、化学薬品を用いた酸化処理、及び紫外線の照射による酸化処理、等が挙げられる。以下では、簡便に行うことのできる紫外線を用いる方法について説明する。具体的には、照射工程と同様、酸素、オゾン、窒素、又はアンモニア等を含む雰囲気下で、紫外線を照射することにより、第１の樹脂層１００はさらに改質される。ここで、紫外線は、電極パターン１１０が形成される部分を含む領域に対して照射される。特に、一実施形態において、紫外線は、電極パターン１１０が形成される部分を包含しかつ所望部分より広い領域に対して照射される。すなわち、酸化工程においては、マスク等を用いて紫外線の照射部分を制限することは必須ではない。
【００４０】
貫通穴１５０を設けた場合、第１の樹脂層１００表面へと紫外線を照射すると、紫外線の散乱により、貫通穴１５０の側面にも紫外線が入射する。このように、紫外線を照射することにより、貫通穴１５０の側面をも改質することができる。
【００４１】
一実施形態においては、２４３ｎｍ以下の波長の紫外線が照射される。波長が２４３ｎｍ以下であることにより、第１の樹脂層１００の表面の改質がより促進される。このような紫外線は、継続的に紫外線を放射する紫外線ランプを用いて照射することができる。紫外線ランプの例としては、低圧水銀ランプ及びエキシマランプ等が挙げられる。低圧水銀ランプは、波長１８５ｎｍ及び２５４ｎｍの紫外線を照射することができる。また、参考として、大気中で使用できるエキシマランプの例を以下に挙げる。エキシマランプとしては、一般的にはＸｅ２エキシマランプが用いられている。
Ｘｅ２エキシマランプ  ：波長１７２ｎｍ
ＫｒＢｒエキシマランプ：波長２０６ｎｍ
ＫｒＣｌエキシマランプ：波長２２２ｎｍ
【００４２】
本実施形態の酸化工程においては、電極パターン１１０が形成される部分には既に紫外線レーザを用いた改質が行われている。したがって、酸化工程における紫外線ランプの照射時間は、紫外線レーザを用いずに第１の樹脂層１００を改質する場合と比べて、短時間でよい。
【００４３】
紫外線を第１の樹脂層１００へと照射する際には、照射量が所望の値となるように、紫外線の照射が制御される。照射量は、照射時間を変えることにより制御することができる。また、照射量は、紫外線ランプの出力、本数、又は照射距離等を変えることにより制御することもできる。具体的な照射量については後述する。
【００４４】
もっとも、めっきの析出条件は、めっき液の種類、基板の種類、基板表面の汚染度、めっき液の濃度、温度、ｐＨ、及び経時劣化、紫外線ランプの出力の変動、並びにエキシマレーザのフォーカスずれ等により変化しうる。この場合、上記の数値を参考に、レーザが照射された部分に選択的にめっきが析出するように、紫外線ランプからの照射量を適宜決定すればよい。
【００４５】
（照射量）
照射工程における紫外線レーザの照射量、及び酸化工程における紫外線の照射量は、紫外線レーザが照射された部分についてはめっきが析出し、紫外線レーザが照射されていない部分についてはめっきが析出しないように、調整される。この析出状態を実現するために、一実施形態において、レーザが照射された部分については、照射工程の後にシクロオレフィンポリマー材表面の酸素原子存在比が３．０％以上となるように、又は３．８％以上となるように、紫外線レーザの照射量が調整される。ただし、水素原子の存在比については無視し計算に入れていない。
【００４６】
一実施形態においては、めっきが析出するように、レーザが照射された部分については酸化工程の後に酸素原子存在比が１８％以上となるように、又は２０．１％以上となるように、紫外線の照射量が調整される。レーザが照射された部分にめっきが析出する限り、酸素原子存在比に上限はない。また、めっきが析出しないように、レーザが照射されていない部分については酸化工程の後に酸素原子存在比が１５％以下となるように、又は１２．６％以下となるように、紫外線の照射量が調整される。レーザが照射された部分にめっきが析出しない限り、酸素原子存在比に下限はない。
【００４７】
本明細書において、酸素原子存在比とは、ＸＰＳ測定によって算出された、全原子に対する酸素原子の存在比（原子％）のことを指す。ただし、ＸＰＳ測定では水素原子を検出できないため、水素原子の数は計算に含まれていない。また、測定条件や装置毎の検出誤差等によって酸素原子の存在比が多少変わる場合もある。
【００４８】
一実施形態においては、レーザが照射されていない部分にはめっきが析出しないように、酸化工程における紫外線の照射量は、波長１８５ｎｍにおいて４００ｍＪ／ｃｍ２以下とされる。以下、特に断りがない限り、紫外線の照射量及び照射強度は、波長１８５ｎｍにおける値を指す。紫外線の照射強度が１．３５ｍＷ／ｃｍ２である一実施形態において、レーザが照射されていない部分にはめっきが析出しないように、酸化工程における紫外線の照射時間は５分間以下とされる。
【００４９】
また、レーザが照射された部分における照射工程の後の酸素原子存在比が６．５％以上、又は７．１％以上である一実施形態において、レーザが照射されている部分にめっきが析出するように、酸化工程における紫外線の照射量は、６５ｍＪ／ｃｍ２以上、又は８１ｍＪ／ｃｍ２以上とされる。紫外線の照射強度が１．３５ｍＷ／ｃｍ２である一実施形態において、レーザが照射された部分にめっきが析出するように、酸化工程における紫外線の照射時間は０．８分間以上、又は１分間以上とされる。例えば、照射工程において８０ｍＪ／ｃｍ２以上１５０ｍＪ／ｃｍ２以下、又は１００ｍＪ／ｃｍ２程度のエネルギー密度のレーザを用いる場合に、上記の条件に従う照射量の紫外線を酸化工程において照射することができる。
【００５０】
また、レーザが照射された部分における照射工程の後の酸素原子存在比が３．０％以上、又は３．８％以上である一実施形態において、レーザが照射されている部分にめっきが析出するように、酸化工程における紫外線の照射量は、２００ｍＪ／ｃｍ２以上、又は２４３ｍＪ／ｃｍ２以上とされる。紫外線の照射強度が１．３５ｍＷ／ｃｍ２である一実施形態において、レーザが照射された部分にめっきが析出するように、酸化工程における紫外線の照射時間は２．５分間以上、又は３分間以上とされる。例えば、照射工程において８００ｍＪ／ｃｍ２以上１５００ｍＪ／ｃｍ２以下、又は１０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギー密度のレーザを用いる場合に、上記の条件に従う照射量の紫外線を酸化工程において照射することができる。
【００５１】
一実施形態において、レーザを照射された部分における照射工程の後の酸素原子存在比が６．５％以上、又は７．１％以上となるように紫外線レーザを照射することにより、続く酸化工程における紫外線の照射時間を短くすることができる。一実施形態においては、８０ｍＪ／ｃｍ２以上１５０ｍＪ／ｃｍ２以下、又は１００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギー密度のレーザを用いることにより、続く酸化工程における紫外線の照射時間を短くすることができる。
【００５２】
レーザが照射された部分における照射工程の後の酸素原子存在比は、レーザのエネルギー密度を調整することにより制御できる。具体的には、１００ｍＪ／ｃｍ２から１０００ｍＪ／ｃｍ２までの範囲では、エネルギー密度が大きいほど酸素原子存在比が小さくなる傾向にある。また、酸化工程の後の酸素原子存在比は、紫外線の照射量を調整することにより制御できる。具体的には、紫外線の照射量が大きいほど、酸素原子存在比が大きくなる傾向にある。
【００５３】
上述の照射量は、特にめっき工程において無電解銅ニッケルめっきを行う場合に有効である。しかしながら、異なるめっき液等を用いる場合であっても、これらの知見に基づいて、照射工程及び酸化工程における照射量を調整することが可能である。すなわち、第１の樹脂層１００及びめっき液の組成等に応じて、紫外線レーザが照射された部分についてはめっきが析出し、紫外線レーザが照射されていない部分についてはめっきが析出しないように、照射量を調整することが可能である。
【００５４】
（めっき工程）
ステップＳ５４０のめっき工程においては、図１（Ｄ）に示すように、第１の樹脂層１００にめっきを行うことにより、第１の樹脂層１００上に電極パターン１１０を形成する。本実施形態によれば、第１の樹脂層１００上の紫外線レーザ照射部に、選択的にめっきが析出する。従って、金属皮膜の形成後にエッチング等の方法で金属皮膜をパターニングすることは必須ではない。
【００５５】
一実施形態においては、無電解めっき法によりめっき皮膜が形成される。具体的な無電解めっき法については、特に限定されない。採用可能な無電解めっき法の例としては、ホルマリン系無電解めっき浴を用いた無電解めっき法、及び析出速度の遅い次亜リン酸を還元剤として用いた無電解めっき法が挙げられる。無電解めっき法のさらなる具体例としては、無電解ニッケルめっき、無電解銅めっき、無電解銅ニッケルめっき等があげられる。上記の照射工程及び酸化工程を行うことにより、これらの方法により析出した無電解めっき層と第１の樹脂層との密着性が向上する。
【００５６】
また、第１の樹脂層１００に貫通穴１５０が設けられている場合には、上述のように貫通穴１５０の側面を改質することにより、貫通穴１５０の側面にもめっきを析出させることができる。
【００５７】
一実施形態において、無電解めっきは以下の方法で行うことができる。
１．第１の樹脂層１００をアルカリ溶液に浸漬し、脱脂を行い、親水性を高める。
２．カチオンポリマーのような、第１の樹脂層１００と触媒イオンとのバインダーを含有する溶液に浸漬する。
３．第１の樹脂層１００を触媒イオン入りの溶液に浸漬する。
４．第１の樹脂層１００を還元剤を含有する溶液に浸漬し、触媒イオンを還元及び析出させる。
５．析出した触媒上にめっきを析出させる。
【００５８】
別の実施形態においては、高速無電解めっき法によりめっき皮膜を形成しうる。高速無電解めっき法によれば、より厚いめっき膜を形成することができる。
【００５９】
さらなる実施形態においては、無電解めっきにより形成されためっき皮膜上に、さらに電解めっき法を用いてめっきを析出させる。この方法によれば、さらに厚いめっき皮膜を形成することができる。電解めっきの具体的な方法は、特に限定されない。
【００６０】
めっきにより形成された電極パターン１１０の厚さについて、特段の制限はない。得られる静電吸着ベルト１９０の平面性を向上させる観点からは、電極パターン１１０が、第１の樹脂層１００に形成された凹部１４０の深さと同程度の厚さを有することが好ましい。もっとも、後述する平滑化工程において平滑化を行う場合には、電極パターン１１０の厚さと第１の樹脂層１００に形成された凹部１４０の深さとが異なっていてもよい。
【００６１】
第１の樹脂層１００に貫通穴１５０が設けられている場合には、図１（Ｄ）に示すように、貫通穴１５０にめっきを析出させ、析出した金属で貫通穴１５０を少なくとも部分的に充填することにより、給電部１２０が形成される。一実施形態においては、析出した金属で貫通穴１５０が完全に充填される。上述のように、貫通穴１５０は第１の樹脂層１００上の電極パターン１１０が形成される部分に設けられているため、こうして形成された給電部１２０は電極パターン１１０と電気的に接触している。本実施形態によれば、このような第１の樹脂層１００を貫通する金属製の給電部１２０をめっきにより容易に形成することができる。
【００６２】
また、電極パターン１１０の材料については、特段の制限はなく、得ようとする静電吸着ベルト１９０の特性に応じて適切な材料を選択できる。
【００６３】
（平滑化工程）
ステップＳ５５０の平滑化工程においては、めっき工程の後、後述する積層工程の前に、第１の樹脂層１００と電極パターン１１０とで形成される積層体の、電極パターン１１０が形成された面を平滑化する。具体的な一例においては、第１の樹脂層１００の電極パターン１１０が形成された面のうち凹部１４０以外の表面と、電極パターン１１０の表面とが同じ面上に並ぶように、第１の樹脂層１００と、電極パターン１１０との少なくとも一方が研磨される。このように平滑化を行うことにより、積層工程により第２の樹脂層１３０を積層して得られる静電吸着ベルト１９０を、より平坦なものとすることができる。このような静電吸着ベルト１９０は、媒体の吸着力が高い点及び安定した搬送を行える点で有利である。もっとも、平滑化工程を行うことは必須ではない。平滑化工程を行わなくても、電極パターン１１０は第１の樹脂層１００に形成された凹部１４０に形成されるため、平坦な基材上に電極パターン１１０が形成される従来技術と比べて、より平坦な静電吸着ベルト１９０を得ることができる。
【００６４】
貫通穴１５０Ａ，Ｂを形成して給電部１２０を設けた場合には、第１の樹脂層１００のうち給電部１２０が設けられた面、すなわち第１の樹脂層１００と給電部１２０とで形成される積層体の電極パターン１１０が形成されていない面を、平滑化してもよい。具体的な一例においては、第１の樹脂層１００の電極パターン１１０が形成された面の反対面と、給電部１２０の表面とが同じ面上に並ぶように、第１の樹脂層１００と、給電部１２０との少なくとも一方が研磨される。このように平滑化を行うことにより、得られる静電吸着ベルト１９０をより平坦なものとすることができる。
【００６５】
平滑化は、任意の方法により行うことができる。例えば、化学機械研磨（ＣＭＰ）を行うことにより、第１の樹脂層１００、電極パターン１１０、及び給電部１２０のうちの少なくとも１つを研磨することができる。
【００６６】
（積層工程）
ステップＳ５６０の積層工程においては、図１（Ｅ）に示すように、第１の樹脂層１００の電極パターン１１０が形成された面上に第２の樹脂層１３０が形成される。例えば、第２の樹脂層１３０を、任意の接着剤を用いて第１の樹脂層１００の電極パターン１１０が形成された面上に貼り付けることにより、積層を行うことができる。
【００６７】
第２の樹脂層１３０の材料及び厚さは特に限定されない。しかしながら、一実施形態において、第２の樹脂層１３０は静電吸着ベルト１９０が搬送する媒体と接触する面である。この場合、第２の樹脂層１３０は、媒体の搬送に適する程度に表面が帯電するように、適切な抵抗を有していることが望ましい。このため、第２の樹脂層１３０の材料及び厚さは、静電吸着ベルト１９０が媒体を搬送するために適した制御された抵抗を第２の樹脂層１３０が有するように、選択される。第２の樹脂層１３０が有する体積抵抗率は、一実施形態においては１０１５Ω・ｃｍ以下であり、別の実施形態においては１０１４Ωｃｍ以下であり、さらなる実施形態においては１０１３Ωｃｍ以下である。また、一実施形態においては１０９Ωｃｍ以上であり、別の実施形態においては１０１０Ωｃｍ以上であり、さらなる実施形態においては１０１１Ωｃｍ以上である。
【００６８】
積層工程の後で、静電吸着ベルト１９０の二端を接着することにより、無端ベルトを作製することができる。
【００６９】
本実施形態によれば、エッチングを用いることなく、すなわち環境負荷の低減を実現しながら、微細な電極パターン１１０を有する静電吸着ベルト１９０を作製することが可能となる。
【００７０】
（静電吸着ベルト）
前述した製造方法により製造された静電吸着ベルト１９０（以下、本実施形態に係る静電吸着ベルトと呼ぶ）は、図１（Ｅ）に示すように、第１の樹脂層１００と、電極パターン１１０と、第２の樹脂層１３０と、を有している。第１の樹脂層１００は、樹脂層に凹部１４０を形成することにより形成されており、言い換えれば一体的に成型されている。また、第１の樹脂層１００の凹部１４０には、電極パターン１１０が形成されている。さらに、第２の樹脂層１３０は、第１の樹脂層１００の電極パターン１１０が形成された面に積層されている。
【００７１】
このように、本実施形態に係る静電吸着ベルト１９０において、電極パターン１１０は第１の樹脂層１００に形成された凹部１４０に形成されている。一方で、図６に示すように、平坦な基材６１０上に電極パターン６２０が形成され、さらに樹脂層６３０が積層される従来技術においては、電極パターン６２０の厚みのために静電吸着ベルト６００の平坦性が低下する。このように、本実施形態に係る静電吸着ベルト１９０は、より平坦性が高く、媒体の吸着力が高い点及び安定した搬送を行える点で有利である。また、第１の樹脂層１００は一体的に成型されているため、曲げるなどの方法で力を加えた際に損傷しにくい。
【００７２】
また、一実施形態においては、例えば上述した平滑化工程を行った結果として、第１の樹脂層１００と電極パターン１１０とで形成される積層体の電極パターン１１０が形成された面が、平滑な表面を有している。このような構成によれば、本実施形態に係る静電吸着ベルト１９０の平坦性がより向上する。
【００７３】
また、一実施形態においては、電極パターン１１０に接続し、第１の樹脂層１００を貫通する給電部１２０Ａ，Ｂが設けられている。このような構成によれば、電極パターン１１０に電気を供給するために第１の樹脂層１００の一部を切除する必要がないため、静電吸着ベルト１９０上の段差を減らすことができる。このために、静電吸着ベルト１９０を駆動する際の振動を抑えることができ、電極パターン１１０に対する安定した給電及び媒体の安定した搬送を実現することができる。
【００７４】
（搬送システム及び印刷装置）
本実施形態に係る静電吸着ベルト１９０を備える搬送システム及び印刷装置について、図３及び図４を参照して説明する。搬送システムは、静電吸着ベルト１９０と静電吸着ベルト１９０の駆動部とにより構成される。また、印刷装置は、静電吸着ベルト１９０、静電吸着ベルト１９０の駆動部、及び画像形成部によって構成される。
【００７５】
図３は、印刷装置３００の主要構成を示す模式図である。印刷装置３００は、静電吸着ベルト１９０、給電ブラシ３１０、画像形成部３２０、及びローラ３３０を備える。静電吸着ベルト１９０は無端ベルトであり、第２の樹脂層１３０が外側となるように設置されている。ローラ３３０は、静電吸着ベルト１９０を駆動する駆動部の一例であり、静電吸着ベルト１９０に吸着されている媒体３４０を搬送する。
【００７６】
媒体３４０は、給紙部（不図示）から静電吸着ベルト１９０に吸着されて搬送され、排紙部（不図示）へと排出される。画像形成部３２０は、搬送される媒体３４０に画像を形成する。画像形成部３２０による画像形成の方法は特に限定されず、例えば電子写真方式又はインクジェット方式でありうる。
【００７７】
給電ブラシ３１０は、静電吸着ベルト１９０の内側に接触するように配置されている。より具体的には、給電ブラシ３１０は静電吸着ベルト１９０の内側に露出している給電部１２０Ａ，Ｂに接触し、給電部１２０Ａ，Ｂを介して電極パターン１１０に電気を供給する。
【００７８】
給電ブラシ３１０のより詳しい配置について、図４を参照して説明する。図４は、静電吸着ベルト１９０と給電ブラシ３１０との接触部における、第２の樹脂層１３０側から見た、電極パターン１１０、給電部１２０Ａ，Ｂ、及び給電ブラシ３１０Ａ，Ｂの位置関係を示す図である。図４に示す静電吸着ベルト１９０は、縞状に配置された電極パターン１１０を有する。具体的には、電極パターン１１０は、それぞれが静電吸着ベルト１９０の幅方向に延びる複数の長方形電極で構成されている。また、電極パターン１１０は、静電吸着ベルト１９０の幅方向の一端に給電部１２０Ａを有する長方形電極と、静電吸着ベルト１９０の幅方向の他端に給電部１２０Ｂを有する長方形電極と、の繰り返しにより構成されている。
【００７９】
図４に示すように、一対の給電ブラシ３１０Ａ，Ｂは、静電吸着ベルト１９０の幅方向における両端のそれぞれに接触している。静電吸着ベルト１９０の幅方向における両端には給電部１２０Ａ，Ｂが設けられているから、給電ブラシ３１０Ａ，Ｂは給電部１２０Ａ，Ｂに接触する。こうして、給電ブラシ３１０から電極パターン１１０への電気の供給が行われる。もっとも、給電ブラシ３１０の配置及び給電部１２０Ａ，Ｂの配置は、図４に示すものに限られるわけではない。
【００８０】
本実施形態に係る静電吸着ベルト１９０は、平坦性が高いために媒体３４０をよく吸着できる。また、静電吸着ベルト１９０がローラ３３０と接触して駆動される際に、高い平坦性のために振動が発生しにくい。このために、安定して媒体３４０を搬送することが可能となる。
【００８１】
［実施形態２］
図７は、実施形態２に係る静電吸着ベルト７００の、長さ方向に垂直な断面図である。本明細書において、静電吸着ベルトの長さ方向とは静電吸着ベルトが駆動される方向を指す。また、静電吸着ベルトの幅方向とは静電吸着ベルトの面に沿った長さ方向に垂直な方向を指す。静電吸着ベルト７００は、第１の樹脂層７１０と、第２の樹脂層７３０と、第１の樹脂層７１０と第２の樹脂層７３０とに挟まれた電極パターン７２０と、電極パターン７２０と接続し第１の樹脂層７１０を貫通する給電部７４０と、を備える。給電部７４０を介して電源を電極パターン７２０に接続することにより、第２の樹脂層７３０の表面に電荷が付与され、この電荷によって媒体が静電吸着ベルト７００に吸着される。
【００８２】
静電吸着ベルト７００の形状は特に限定されず、例えば一定の幅を有する無端ベルトでありうる。
【００８３】
第１の樹脂層７１０は、静電吸着ベルト７００の基材である。第１の樹脂層７１０の材料は、絶縁性を有する樹脂材料であれば特に限定されない。第１の樹脂層７１０の材料の例としては、シクロオレフィンポリマー、ポリスチレン、又はポリエチレンテレフタレート等が挙げられる。また、第１の樹脂層７１０の厚さも特に限定されず、静電吸着ベルト７００の用途に応じて適宜選択することができる。
【００８４】
電極パターン７２０は、導電性材料で構成された所定のパターンを有する電極であり、第１の樹脂層７１０と第２の樹脂層７３０とに挟まれている。電極パターン７２０の材料は特に限定されず、例えばニッケル又は銅のような金属材料でありうる。好ましい一実施形態において、電極パターン７２０は第１の樹脂層７１０の表面の凹部に設けられている。さらに好ましい一実施形態において、第１の樹脂層７１０と電極パターン７２０とにより構成される積層体の、電極パターン７２０側は、平坦な表面を有する。このような構成を有することにより、第１の樹脂層７１０及び電極パターン７２０に対して第２の樹脂層７３０を積層した際に、第２の樹脂層７３０の表面が平坦になる。このように平坦な表面を有する静電吸着ベルト７００は、駆動した際に振動が生じにくいという利点を有する。もっとも、第１の樹脂層７１０が凹部を有すること、及び電極パターン７２０がこの凹部に設けられることは、必須ではない。
【００８５】
第２の樹脂層７３０は、静電吸着ベルト７００において搬送する媒体が吸着される面を構成する。第２の樹脂層７３０の材料としては、絶縁性を有する樹脂材料であれば特に限定されず、第２の樹脂層７３０の厚さも特に限定されない。しかし、第２の樹脂層７３０は、媒体の搬送に適する程度に表面が帯電するように、適切な抵抗を有していることが望ましい。このため、第２の樹脂層７３０の材料及び厚さは、静電吸着ベルト７００が媒体を搬送するために適した制御された抵抗を第２の樹脂層７３０が有するように、選択される。第２の樹脂層７３０の材料も、絶縁性を有する樹脂材料であれば特に限定されない。第２の樹脂層１３０が有する体積抵抗率は、一実施形態においては１０１５Ω・ｃｍ以下であり、別の実施形態においては１０１４Ωｃｍ以下であり、さらなる実施形態においては１０１３Ωｃｍ以下である。また、一実施形態においては１０９Ωｃｍ以上であり、別の実施形態においては１０１０Ωｃｍ以上であり、さらなる実施形態においては１０１１Ωｃｍ以上である。第２の樹脂層７３０の材料の例としては、シクロオレフィンポリマー、ポリスチレン、又はポリエチレンテレフタレート等が挙げられる。
【００８６】
給電部７４０は、導電性材料で構成され、電極パターン７２０と接続している。また、給電部７４０は、第１の樹脂層７１０を貫通し、第１の樹脂層７１０のうち電極パターン７２０が設けられていない面に接続している。給電部７４０の材料は特に限定されず、例えばニッケル又は銅のような金属材料でありうる。給電部７４０の形状も特に限定されず、例えば円柱状又は角柱状であってもよいし、中心に導電性材料が充填されていない円筒形状であってもよい。給電部７４０の大きさも特に限定されないが、例えば第１の樹脂層７１０のうち電極パターン７２０が設けられていない面における直径は、１００μｍ以下でありうる。このような微細な給電部７４０は、例えば、実施形態１と同様に紫外線レーザを用いる方法により作製する事が好適である。
【００８７】
電極パターン７２０は、第１〜第Ｎ（Ｎ≧３）の電極部を含んでいる。電極部の配置について、図８を参照して以下で説明する。図８は、静電吸着ベルト７００の、第２の樹脂層７３０側からみた平面図を表す。図８には、第１〜第４の電極部７２１〜７２４が示されている。すなわち、図８はＮ＝４の場合を示す。図８には静電吸着ベルト７００の一部が示されている。説明のために、図８には第２の樹脂層７３０は示されていない。図７は、図８のＡ−Ａにおける断面図に相当する。
【００８８】
電極パターン７２０は、複数の電極部７２１〜７２４を含んでいる。具体的には、電極パターン７２０は、第１の電極部７２１と、第２の電極部７２２と、第３の電極部７２３と、第４の電極部７２４とを含む。これらの第１〜第４の電極部７２１〜７２４は、静電吸着ベルト７００上においては互いに絶縁されている。一実施形態において、第１〜第４の電極部７２１〜７２４は、静電吸着ベルト７００の長さ方向に配列している。また、一実施形態において、電極部７２１〜７２４は矩形形状を有している。図８の例においては、それぞれの電極部７２１〜７２４は、帯状の形状を有し、静電吸着ベルト７００の幅方向に平行に延びている。また、それぞれの電極部７２１〜７２４は、静電吸着ベルト７００の一端から他端に向かって延びている。もっとも、電極部７２１〜７２４の形状は図８に示すものに限られない。例えば、電極部７２１〜７２４は、静電吸着ベルト７００の一端から他端に向かって、静電吸着ベルト７００の幅方向に対して斜めに延びていてもよい。
【００８９】
第１〜第Ｎの電極部はそれぞれ第１〜第Ｎの給電部と接続している。図８の例においては、給電部７４０は、第１の給電部７４１Ａと、第２の給電部７４２Ａと、第３の給電部７４３Ａと、第４の給電部７４４Ａと、を含んでいる。そして、第１の電極部７２１は第１の給電部７４１Ａと接続し、第２の電極部７２２は第２の給電部７４２Ａと接続し、第３の電極部７２３は第３の給電部７４３Ａと接続し、第４の電極部７２４は第４の給電部７４４Ａと接続している。第１〜第４の電極部７２１〜７２４と、第１〜第４の給電部７４１〜７４４Ａとの位置関係は特に限定されないが、図８の例においては、第１〜第４の給電部７４１〜７４４Ａは、第１〜第４の電極部７２１〜７２４の一端に設けられている。
【００９０】
さらに、第１〜第Ｎの給電部のそれぞれの位置は静電吸着ベルト７００の幅方向にずれている。図８の例においても、第１〜第４の給電部７４１Ａ〜７４４Ａの位置は、静電吸着ベルト７００の幅方向、すなわち図８の横方向にずれている。静電吸着ベルト７００を備える搬送システムの一実施形態においては、無端ベルトである静電吸着ベルト７００を駆動する際に、第１〜第４の給電部７４１〜７４４Ａのそれぞれと接触するように複数の電圧印加部（例えば電源に接続された給電ブラシ）が固定される。このような構成によれば、固定された複数の電圧印加部のそれぞれを用いて、第１〜第４の電極部７２１〜７２４のそれぞれに選択的に電圧を供給することができる。
【００９１】
それぞれの電極部７２１〜７２４は、複数の給電部と接続していてもよい。例えば、図８においては、第１の電極部７２１は、第１の給電部７４１Ａ及びさらなる給電部７４１Ｂと、第１の電極部７２１の両端において接続している。第２〜第４の電極部７２２〜７２４も同様に、第２〜第４の給電部７４２〜７４４Ａ及びさらなる給電部７４２〜７４４Ｂと接続している。このように、１つの電極部が複数の給電部と接続することにより、複数の給電部を介して電極部へと安定的に電圧を供給することができる。一実施形態においては、上述のような選択的な電圧の供給を可能とするために、これらのさらなる給電部７４１〜７４４Ｂは、静電吸着ベルト７００の幅方向に互いにずれるように、及び第１〜第４の給電部７４１Ａ〜７４４Ａの位置からずれるように、設けられる。
【００９２】
一実施形態において、電極パターン７２０は、上記の第１〜第Ｎ（Ｎ≧３）の電極部が、静電吸着ベルト７００の長さ方向に繰り返し配列した構造を有している。例えば、図８の例においては、第１〜第４の電極部７２１〜７２４に加えて、同様の構成を有する第１〜第４の電極部７２５〜７２８が繰り返して配置されている。そして、複数の第ｉの電極部（１≦ｉ≦Ｎ）のそれぞれには、静電吸着ベルト７００の幅方向の位置が同じである第ｉの給電部が接続されている。例えば、図８の例においては、繰り返し配置される第１の電極部７２１，７２５のそれぞれには、静電吸着ベルト７００の幅方向の同じ位置に、第１の給電部７４１，７４５Ａが接続されている。
【００９３】
上述した静電吸着ベルト７００を備える搬送システムの一実施形態においては、第１の給電部に対応する固定された電圧印加部は、静電吸着ベルト７００の駆動時に、給電部７４１，７４５Ａと接触する。一方で、この第１の給電部に対応する電圧印加部はその他の給電部７４２〜７４４，７４６〜７４８Ａには接触しない。このため、第１の給電部に対応する１つの電圧印加部が、繰り返し配置された第１の電極部７２１，７２５に選択的に電圧を供給することができる。後述するように、このような構成を備える静電吸着ベルト７００を用いることにより、様々な媒体を安定して搬送することが可能となる。
【００９４】
繰り返し配置された第１〜第４の電極部７２５〜７２８は、第１〜第４の電極部７２１〜７２４と同様に、さらなる給電部７４５〜７４８Ｂを有していてもよい。
【００９５】
一実施形態において、Ｎの数は４以上であり、好ましくは偶数である。この場合、後述するように、第１〜第Ｎの電極部へと供給する電圧を制御することにより、効率的に媒体の吸着力を制御することができる。
【００９６】
各電極部７２１〜７２８の幅は、狭いことが好ましい。電極部７２１〜７２８が設けられている部分と、電極部７２１〜７２８が設けられていない部分とは、剛性の違いのために、曲がりやすさが異なる。無端ベルトである静電吸着ベルト７００を、無端ベルトの内側に設けたローラを用いて駆動する場合、電極部７２１〜７２８の幅が広いほど、静電吸着ベルト７００はローラに沿って滑らかに曲がりにくくなる。この場合、静電吸着ベルト７００の駆動時に振動が発生しやすい。一方で、電極部７２１〜７２８の幅が狭いほど、静電吸着ベルト７００はローラに沿って滑らかに曲がりやすくなるので、駆動時に振動が発生しにくくなる。このような観点から、一実施形態において、第１〜第Ｎの電極部の、静電吸着ベルト７００の長さ方向の幅は１．０ｍｍ以下とされ、好ましくは０．５ｍｍ以下とされ、より好ましくは０．２ｍｍ以下とされ、さらに好ましくは０．１ｍｍ以下とされる。幅の下限は特に限定されないが、例えば１０μｍ以上でありうる。
【００９７】
後述するように、一部の電極部に電圧を印加しない場合には、単位長さあたりの電極部の数が少ないと、搬送される媒体の静電吸着ベルト７００上での位置に依存して、吸着力にばらつきがでることが考えられる。このような観点からも、第１〜第Ｎの電極部の、静電吸着ベルト７００の長さ方向の幅はより短いことが好ましい。
【００９８】
一実施形態においては、図８に示すように、各電極部７２１〜７２８は同様の形状を有しており、静電吸着ベルト７００の幅方向にずれて配置されている。別の実施形態において、各電極部７２１〜７２８は異なる形状を有していてもよい。例えば、第１〜第４の電極部７２１〜７２４のそれぞれが、互いに長さの異なる、静電吸着ベルト７００の幅方向に延びた矩形形状を有していてもよい。
【００９９】
さらなる実施形態において、第１〜第４の電極部７２１〜７２４は、静電吸着ベルト７００の幅方向に配列されていてもよい。例えば、第１〜第４の電極部７２１〜７２４はそれぞれ静電吸着ベルト７００の長さ方向に延びた矩形形状を有し、静電吸着ベルト７００の幅方向に並んでいてもよい。
【０１００】
さらに、第１〜第４の電極部７２１〜７２４のそれぞれが、同様の形状を有し、かつ静電吸着ベルト７００の長さ方向に整列されていてもよい。この場合、第１〜第４の給電部７４１〜７４４Ａは、静電吸着ベルト７００の幅方向の位置がずれるように、第１〜第４の電極部７２１〜７２４の端部又は端部以外の部分に設けられる。図１０はこれに類似した実施形態を示しており、第１〜第８の電極部１０２１〜１０２８のそれぞれが、同様の形状を有し、かつ静電吸着ベルト７００の長さ方向に整列されている。
【０１０１】
（搬送システム及び印刷装置）
次に、実施形態２に係る静電吸着ベルト７００を用いた搬送システム９００及び印刷装置９５０について、図９を参照して説明する。搬送システム９００は、静電吸着ベルト７００、駆動部９１０、及び電圧印加部９２０を備える。
【０１０２】
図９の実施形態において、静電吸着ベルト７００は無端ベルトであり、第２の樹脂層７３０が外側となるように設置されている。駆動部９１０は、静電吸着ベルト７００を駆動することにより、静電吸着ベルト７００に吸着されている媒体９９０を搬送する。媒体９９０は、給紙部（不図示）から静電吸着ベルト７００に吸着されて搬送され、排紙部（不図示）へと排出される。図９の例においては、駆動部９１０はローラであり、静電吸着ベルト７００の内側に３つ配置されている。もっとも、駆動部９１０は静電吸着ベルト７００を駆動できるのであればローラには限られず、駆動部９１０の配置も特に限定されない。
【０１０３】
電圧印加部９２０は、電極パターン７２０が有する第１〜第Ｎの電極部７２１〜７２８のそれぞれに印加する電圧を決定する。また、電圧印加部９２０は静電吸着ベルト７００の給電部７４０に接触し、給電部７４０を介して第１〜第Ｎの電極部７２１〜７２８のそれぞれへと決定された電圧を供給する。電圧印加部９２０の詳しい構成については後述する。
【０１０４】
印刷装置９５０は、搬送システム９００及び画像形成部９６０を備える。画像形成部９６０は、搬送される媒体９９０に画像を形成する。画像形成部９６０による画像形成の方法は特に限定されず、例えば電子写真方式又はインクジェット方式でありうる。
【０１０５】
以下に、電圧印加部９２０についてより詳しく説明する。電圧印加部９２０は、複数の電極部のそれぞれについて印加する電圧を決定し、決定された電圧を対応する電極部に選択的に印加する。一実施形態において、電圧印加部９２０は、給電ブラシ９２１と、電圧供給部９２２と、電圧決定部９２３とを備える。給電ブラシ９２１は、電圧供給部９２２に接続され、静電吸着ベルト７００の第１の樹脂層７１０側に接触するように配置されている。より具体的には、給電ブラシ９２１は静電吸着ベルト７００の第１の樹脂層７１０側に露出している給電部７４０に接触し、給電部７４０を介して電極パターン７２０に電気を供給する。
【０１０６】
給電ブラシ９２１のより詳しい配置について、図１０を参照して説明する。図１０は、静電吸着ベルト７００と給電ブラシ９２１との接触部における、第２の樹脂層７３０側から見た、電極パターン７２０、給電部７４０、及び給電ブラシ９２１の位置関係を示す図である。図１０においては、説明のために、第１の樹脂層７１０及び第２の樹脂層７３０は示されていない。
【０１０７】
図１０に示す静電吸着ベルト７００は、それぞれが同様の形状を有する第１〜第８の電極部１０２１〜１０２８を含む。第１〜第８の電極部１０２１〜１０２８のそれぞれは、静電吸着ベルト７００の幅方向にわたって延びる細長の矩形形状を有し、静電吸着ベルト７００の長さ方向に整列されている。そして、第１〜第８の電極部１０２１〜１０２８にはそれぞれ第１〜第８の給電部１０４１〜１０４８が接続されている。第１〜第８の給電部１０４１〜１０４８は、静電吸着ベルト７００の幅方向にずれて設けられている。
【０１０８】
図１０の例において、給電ブラシ９２１は、第１〜第８の給電ブラシ１００１〜１００８で構成されている。第１〜第８の給電ブラシ１００１〜１００８のそれぞれは、静電吸着ベルト７００の幅方向にずれて設けられており、対応する第１〜第８の給電部１０４１〜１０４８に接触する。このような構成により、第１〜第８の給電ブラシ１００１〜１００８のそれぞれは、電圧供給部９２２から供給された電圧を、対応する第１〜第８の給電部１０４１〜１０４８を介して、第１〜第８の電極部１０２１〜１０２８に選択的に印加する。
【０１０９】
静電吸着ベルト７００における電極部の配置が異なる場合であっても、静電吸着ベルト７００の幅方向にずれて配置された給電ブラシは、静電吸着ベルトの幅方向にずれて配置されている給電部を介して、電圧を対応する電極部に選択的に印加できる。
【０１１０】
電圧供給部９２２は、電源９２４に接続されており、電圧決定部９２３によって第１〜第８の電極部１０２１〜１０２８のそれぞれについて決定された電圧を、第１〜第８の給電ブラシ１００１〜１００８へと供給する。電圧決定部９２３は、第１〜第８の電極部１０２１〜１０２８のそれぞれについて供給する電圧を決定する。
【０１１１】
以下に、電圧決定部９２３による電圧決定方法について詳しく説明する。図１１は、第１〜第８の電極部１０２１〜１０２８へと印加される電圧の組み合わせパターンと、静電吸着ベルト７００による紙Ａ〜Ｃの吸着力との関係を示す。紙Ａ〜紙Ｃは、それぞれ異なる紙である。図１１において、○は紙の吸着力が良好であったことを、△は紙の吸着力が中程度であったことを、×は紙の吸着に問題があったことを示す。また、＋は対応する電極部に＋１ｋＶの電圧を印加したことを、−は対応する電極に−１ｋＶの電圧を印加したことを、Ｎは対応する電極部に電圧を印加しなかったことを示す。
【０１１２】
パターンａに従って電圧を印加した場合、紙Ａの吸着力は良好であり、紙Ｂの吸着力は中程度であったが、紙Ｃの吸着には問題があった。すなわち、パターンａに従って電圧を印加した場合、紙Ｃの搬送中に大きな電流が流れてしまうという問題が生じた。一方で、パターンｄに従って、プラスの電圧が印加された電極とマイナスの電圧が印加された電極との間の距離がパターンａの場合よりも長くなるように電圧を印加した場合、紙Ｃの吸着力は良好であったが、紙Ａの吸着力は低かった。このように、紙は厚さ又は材質等に応じて抵抗又は重さ等が異なるため、従来用いられている静電吸着ベルトのように、一定のパターンで電圧を印加すると、特定の媒体の搬送に問題が生じることがあった。本実施形態においては、複数の電極部のそれぞれについて印加する電圧を決定し、決定された電圧を対応する電極部に選択的に印加することにより、様々な媒体を安定して搬送することが可能となる。
【０１１３】
一実施形態において、電圧決定部９２３は、図１１に示すような、第１〜第８の電極部１０２１〜１０２８へと印加される電圧の組み合わせパターンを示す情報を予め保持している。それぞれの組み合わせパターンには、適した媒体の種類が予め対応づけられている。電圧決定部９２３は、静電吸着ベルト７００が搬送する媒体９９０の種類を示す情報を取得する。例えば、電圧決定部９２３は、ユーザが入力した、媒体９９０の種類を示す情報を取得することができる。また、電圧決定部９２３は、媒体９９０の抵抗又は重さ等を測定することにより媒体９９０の種類を示す情報を取得する測定部（不図示）から、媒体９９０の種類を示す情報を取得してもよい。そして、電圧決定部９２３は、媒体９９０の種類に対応する電圧の組み合わせパターンに従う電圧を供給するように、電圧供給部９２２を制御する。
【０１１４】
もっとも、電圧決定部９２３が電圧の組み合わせパターンを示す情報を予め保持することは必須ではない。例えば、電圧決定部９２３は、媒体９９０の抵抗又は重さ等の情報に基づいて、実験により決定したアルゴリズムに従って複数の電極部のそれぞれについて印加する電圧を決定してもよい。
【０１１５】
電圧決定部９２３は、専用のハードウェアにより構成されていてもよいし、コンピュータにより実現されてもよい。例えば、電圧決定部９２３の機能は、プロセッサとメモリとを備えるコンピュータを用いて実現できる。具体的には、コンピュータは、上述の処理をコンピュータに行わせる命令を含むプログラムを記録した記憶媒体から、このプログラムを読み込み、メモリに展開する。そして、プロセッサがこのプログラムに従って動作することにより、電圧決定部９２３の機能が実現できる。
【０１１６】
以上、静電吸着ベルト７００を備える搬送システム９００及び印刷装置９５０について説明した。しかしながら、以上に説明した静電吸着ベルト７００は、決定された電圧を各電極部に選択的に印加するために好適な構成を有するものの、搬送システム９００及び印刷装置９５０が以上に説明した通りの静電吸着ベルト７００を備えることは必須ではない。すなわち、静電吸着ベルトにおいて互いに絶縁されている第１〜第Ｎ（Ｎ≧３）の電極部を含む静電吸着ベルトであれば、搬送システム９００及び印刷装置９５０において用いることができる。例えば、第１〜第Ｎの給電部のそれぞれの位置が静電吸着ベルトの長さ方向に整列している静電吸着ベルトを用いることも可能である。この場合、静電吸着ベルトの動きに合わせて移動する給電ブラシを用いることにより、決定された電圧を第１〜第Ｎの給電部のそれぞれへと選択的に供給することができる。
【０１１７】
［実施形態３］
図１２（Ａ）は、実施形態３に係る静電吸着ベルト１２００の一例の平面図を表す。静電吸着ベルト１２００は、実施形態２に係る静電吸着ベルト７００と同様の積層構造を有する。すなわち、静電吸着ベルト１２００は、第１の樹脂層と、第２の樹脂層と、第１の樹脂層と第２の樹脂層とに挟まれた電極パターンと、電極パターンと接続し第１の樹脂層を貫通する給電部と、を備えている。これらの構成要素は、特に説明しない限り実施形態２と同様である。図１２（Ａ）（Ｂ）には、静電吸着ベルト１２００の一部が示されている。説明のために、図１２（Ａ）（Ｂ）には第２の樹脂層７３０は示されていない。
【０１１８】
図１２（Ａ）に示す静電吸着ベルト１２００は、複数の電極部を含む電極パターンを有し、具体的には第１の電極部１２２１及び第２の電極部１２２２が静電吸着ベルト１２００の長さ方向に繰り返して配置されている。第１の電極部１２２１及び第２の電極部１２２２は、帯状の形状を有し、静電吸着ベルト１２００の幅方向に平行に延びている。また、第１の電極部１２２１は一端において第１の給電部１２４１と接続しており、第２の電極部１２２２は一端において第２の給電部１２４２と接続している。第１の給電部１２４１及び第２の給電部１２４２は、静電吸着ベルト１２００の幅方向にずれて配置されており、固定して配置された第１及び第２の静電ブラシ（不図示）を用いて選択的に電圧を供給することができる。もっとも、電極部の数及び形状は、図１２（Ａ）に示すものには限られない。
【０１１９】
第１の電極部１２２１及び第２の電極部１２２２のそれぞれは、内部の一部がくり抜かれている。例えば、図１２（Ａ）に示す第１の電極部１２２１及び第２の電極部１２２２は、メッシュ構造を有する。より具体的には、第１の電極部１２２１及び第２の電極部１２２２は、静電吸着ベルト１２００の幅方向及び長さ方向に対して傾いている複数の細線により構成されている。
【０１２０】
上述のように、従来の静電吸着ベルトには、電極部が設けられている部分と設けられていない部分とは剛性が異なるため、曲がりやすさが異なり、静電吸着ベルトの駆動時に振動が発生しやすいという課題があった。本実施形態のように、電極部の内部の一部をくり抜くことにより、静電吸着ベルト１２００はローラに沿って滑らかに曲がりやすくなるので、駆動時に振動が発生しにくくなり、様々な媒体を安定して搬送することが可能となる。
【０１２１】
電極部のくり抜き方は、特に限定されるわけではない。大きいくり抜き部分を設けてもよいし、小さいくり抜き部分を多数設けてもよい。もっとも、電極部を形成する際に、大きい電極面を形成した後に内部をくり抜くことは必要ではない。例えば、電極部が形成されない第１の領域が、電極部が形成される第２の領域に囲まれるように、第２の領域に選択的に電極を形成してもよい。このような方法によっても、内部がくり抜かれた電極部を形成することができる。
【０１２２】
電極部がメッシュ構造を有する一実施形態において、駆動時の振動を抑える観点から、メッシュの線幅は細い方が好ましい。例えば、メッシュの線幅は３００μｍ以下であることが好ましく、１００μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以下であることがさらに好ましい。線幅の下限は特に限定されないが、例えば１０μｍ以上でありうる。メッシュの間隔、すなわち互いに平行な隣接する２つの細線の間隔は、特に制限されないが、例えば５０μｍ程度でありうる。
【０１２３】
図１２（Ｂ）は、実施形態３に係る静電吸着ベルト１２００の別の一例の平面図を表す。図１２（Ｂ）に示す静電吸着ベルト１２００は、第１の電極部１２２１及び第２の電極部１２２２が、静電吸着ベルト１２００の幅方向に平行な複数の細線及び長さ方向に平行な複数の細線により構成されていることを除き、図１２（Ａ）に示す静電吸着ベルト１２００と同様である。
【０１２４】
実施形態２と同様に、実施形態３に係る静電吸着ベルト１２００を備える搬送システム９００及び印刷装置９５０を製造することもできる。ただし、本実施形態においては電圧印加部９２０が複数の電極部のそれぞれについて印加する電圧を決定することは必要ではない。例えば、電圧印加部９２０は、予め決定された電圧を対応する電極部１３２１，１３２２に選択的に印加すればよい。
【０１２５】
（変形例）
実施形態３の変形例においては、静電吸着ベルト１２００が有する第１の電極部１２２１及び第２の電極部１２２２が、幅１．０ｍｍ以下の細線により構成されている。このような構成によっても、静電吸着ベルト１２００はローラに沿って滑らかに曲がりやすくなるので、駆動時に振動が発生しにくくなる。振動を抑える観点から、細線の幅は５００μｍ以下であることが好ましく、３００μｍ以下であることがより好ましく、１００μｍ以下であることがさらに好ましい。線幅の下限は特に限定されないが、例えば１０μｍ以上でありうる。細線の形状及び配置は特に限定されず、直線であってもよいし、蛇行していてもよい。一実施形態において、第１の電極部１２２１及び第２の電極部１２２２は、静電吸着ベルト１２００の幅方向に平行な細線である。
【０１２６】
［実施形態４］
図１３は、実施形態４に係る静電吸着ベルト１３００の一例の平面図を表す。静電吸着ベルト１３００は、実施形態２に係る静電吸着ベルト７００と同様の積層構造を有する。すなわち、静電吸着ベルト１３００は、第１の樹脂層と、第２の樹脂層と、第１の樹脂層と第２の樹脂層とに挟まれた電極パターンと、電極パターンと接続し第１の樹脂層を貫通する給電部と、を備えている。これらの構成要素は、特に説明しない限り実施形態２と同様である。図１３には、静電吸着ベルト１３００の一部が示されている。説明のために、図１３には第２の樹脂層７３０は示されていない。
【０１２７】
図１３に示す静電吸着ベルト１３００は、複数の電極部を含む電極パターンを有し、具体的には第１の電極部１３２１及び第２の電極部１３２２が静電吸着ベルト１３００の長さ方向に繰り返して配置されている。第１の電極部１３２１及び第２の電極部１３２２は、帯状の形状を有し、静電吸着ベルト１３００の幅方向に平行に延びている。また、静電吸着ベルト１３００の長さ方向に互いに隣接する第１の電極部１３２１及び第２の電極部１３２２の位置は、静電吸着ベルト１３００の幅方向にずれている。さらに、第１の電極部１３２１は一端において第１の給電部１３４１と接続しており、第２の電極部１３２２は一端において第２の給電部１３４２と接続している。第１の給電部１３４１及び第２の給電部１３４２は、静電吸着ベルト１３００の幅方向にずれて配置されており、固定して配置された第１及び第２の静電ブラシ（不図示）を用いて選択的に電圧を供給することができる。もっとも、電極部の数及び形状は、図１３に示すものには限られない。
【０１２８】
静電吸着ベルト１３００は、さらに複数の導電膜を有している。具体的には第１の導電膜１３１１及び第２の導電膜１３１２が静電吸着ベルト１３００の長さ方向に繰り返して配置されている。第１及び第２の導電膜１３１１，１３１２は、第１及び第２の電極部１３２１，１３２２と同一面上に、例えば第１の樹脂層の同一表面に形成された凹部に配置されている。導電膜１３１１，１３１２は、静電吸着ベルト１３００のうち電極部１３２１，１３２２が配置されていない部分に配置されている。また、第１の電極部１３２１、第２の電極部１３２２、第１の導電膜１３１１、及び第２の導電膜１３１２は、静電吸着ベルト１３００上において互いに絶縁されている。
【０１２９】
より具体的には、第１の導電膜１３１１は、第１の電極部１３２１と静電吸着ベルト１３００の幅方向に隣接しており、かつ第２の電極部１３２２と静電吸着ベルト１３００の長さ方向に隣接している。また、第２の導電膜１３１２は、第２の電極部１３２２と静電吸着ベルト１３００の幅方向に隣接しており、かつ第１の電極部１３２１と静電吸着ベルト１３００の長さ方向に隣接している。図１３の例においては、第１及び第２の導電膜１３１１，１３１２は円形状を有している。別の実施形態において、第１及び第２の導電膜１３１１，１３１２は矩形形状を有していてもよい。
【０１３０】
導電膜１３１１，１３１２は、電極部１３２１，１３２２と同じ材料で構成される。一実施形態において、導電膜１３１１，１３１２は、電極部１３２１，１３２２と同じ厚さを有する。このような静電吸着ベルト１３００は、導電膜１３１１，１３１２が存在しない場合と比較して、全体にわたってより均一な剛性を有している。このために、静電吸着ベルト１３００は、駆動時に振動が発生しにくく、様々な媒体を安定して搬送することが可能であるという利点を有する。
【０１３１】
第１及び第２の導電膜１３１１，１３１２の材料は特に限定されないが、第１及び第２の電極部１３２１，１３２２の材料として実施形態２の説明において例示したものと同様の材料を用いることができる。また、第１及び第２の導電膜１３１１，１３１２は、第１及び第２の電極部１３２１，１３２２と同様の方法で形成することができる。好ましい実施形態においては、第１及び第２の導電膜１３１１，１３１２は、第１及び第２の電極部１３２１，１３２２と同時に、後述する方法を用いてめっきにより形成される。
【０１３２】
実施形態２と同様に、実施形態４に係る静電吸着ベルト１３００を備える搬送システム９００及び印刷装置９５０を製造することもできる。
【０１３３】
［実施形態２〜４に係る静電吸着ベルトの製造方法］
実施形態２〜４に係る静電吸着ベルトの製造方法は、特に限定されない。しかしながら、上述の実施形態２〜４に係る静電吸着ベルトは、比較的細かい電極パターンを有している。したがって、例えば特許文献１に記載の方法のように電極と絶縁層とを並べてから積層する方法により製造することは容易ではないことがある。一方で、実施形態１に係る静電吸着ベルトの製造方法は、実施形態２〜４に係る静電吸着ベルトを製造するためにも好適に用いることができる。すなわち、照射工程において所望の電極パターンに従って紫外線レーザを照射することにより、各実施形態に係る静電吸着ベルトを製造することができる。実施形態１に係る静電吸着ベルトの製造方法は、特に、幅の狭い、例えば幅が１．０ｍｍ以下の、帯状又は細線状の電極部を形成するために好適である。
【実施例】
【０１３４】
［ＸＰＳ測定］
以下において、樹脂製品表面に導入された酸素原子量は、ＸＰＳ分析により測定した。測定された酸素原子量は、表面改質の進行度合いを示す。ＸＰＳ分析装置としては、Ｔｈｅｒｍｏ  Ｆｉｓｈｅｒ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製のＴｈｅｔａ  Ｐｒｏｂｅを用いた。励起Ｘ線としては、Ａｌをターゲットとする単色Ｘ線（Ａｌ  Ｋα  １４８６．６ｅＶ）を用いた。測定にあたっては、帯電を中和する目的で、電子線及びアルゴンイオン照射を行った。表１に分析条件を示す。
【０１３５】
【表１】
2015110832.tif 000005
【０１３６】
［紫外線ランプによる改質］
表２に、低圧水銀ランプを紫外線源として用い、紫外線を樹脂製品に照射した場合における、無電解めっきの析出状況と、ＸＰＳ（Ｘ−ｒａｙ  Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）測定による表面改質状況の分析結果を示す。具体的には、低圧水銀ランプからの紫外線をシクロオレフィンポリマー材（日本ゼオン株式会社製，ゼオノアフィルムＺＦ−１６，膜厚１００μｍ，表面粗さ１．０１ｎｍ）に所定時間照射した後に、ＸＰＳ測定を行った。低圧水銀ランプとしては、後述する実験１と同様のものを用いた。低圧水銀ランプの出力は、波長１８５ｎｍにおいて１．３５ｍＷ／ｃｍ２であった。さらに、照射後の樹脂製品に対して、後述する実験１のめっき工程と同様に無電解めっきを行った。
【０１３７】
表２の「無電解めっき析出状況」においては、○はめっきが析出したこと、×はめっきが析出しなかったこと、△はめっきが部分的に析出したことを示している。また、「酸素原子存在比」はＸＰＳ測定によって測定された全原子に占める酸素原子の比率（原子％）を示す。さらに、「Ｃ−Ｏ結合の酸素原子％」は、ＸＰＳ測定によって測定された全原子に占める、Ｃ−Ｏ結合を構成する酸素原子の比率（原子％）を示す。さらに、「Ｃ＝Ｏ結合の酸素原子％」は、ＸＰＳ測定によって測定された全原子に占める、Ｃ＝Ｏ結合を構成する酸素原子の比率（原子％）を示す。この場合、「酸素原子存在比」＝「Ｃ−Ｏ結合の酸素原子％」＋「Ｃ＝Ｏ結合の酸素原子％」である。
【０１３８】
【表２】
2015110832.tif 000006
【０１３９】
表２に示すように、積算照射量が３２４ｍＪ／ｃｍ２以下の場合には無電解めっきが析出せず、積算照射量が９７２ｍＪ／ｃｍ２以上の場合には、無電解めっきが析出することが分かった。また、ＸＰＳ測定結果から、樹脂製品表面の酸素原子存在比が１３．６％以下の場合には無電解めっきは析出せず、２３．２％以上の場合には無電解めっきが析出することが分かった。また、１０分間程度の照射時間が必要であることが分かった。
【０１４０】
［レーザによる改質］
表３に、ＡｒＦエキシマレーザを樹脂製品に照射した場合の、無電解めっきの析出状況と、ＸＰＳ測定による表面改質状況の分析結果を示す。具体的には、ＡｒＦエキシマレーザ（主波長１９３ｎｍ）を、１パルスあたりのエネルギー密度１０００ｍＪ／ｃｍ２で、シクロオレフィンポリマー材（日本ゼオン株式会社製，ゼオノアフィルムＺＦ−１６，膜厚１００μｍ，表面粗さ１．０１ｎｍ）に所定のパルス数照射した後に、ＸＰＳ測定を行った。ＡｒＦエキシマレーザとしては、後述する実験１と同様のものを用いた。表３に示す各項目は、表２に示す各項目と同様のものである。さらに、照射後の樹脂製品に対して、後述する実験１のめっき工程と同様に無電解めっきを行った。
【０１４１】
【表３】
2015110832.tif 000007
【０１４２】
表３に示すように、パルス数を変えても酸素原子存在比は４％前後でほぼ一定であり、パルス数と表面改質量とは比例しないことが分かった。また、いずれの条件でも無電解めっきは析出しなかった。これは、レーザによって改質された表面がアブレーションされ、すなわち改質部分が除去されるためであると考えられた。
【０１４３】
表４に、ＡｒＦエキシマレーザの１パルスあたりのエネルギー密度を１００ｍＪ／ｃｍ２とした場合における、無電解めっきの析出状況と、ＸＰＳ測定による表面改質状況の分析結果を示す。それ以外の条件は、表３の場合と同様である。
【０１４４】
【表４】
2015110832.tif 000008
【０１４５】
表４に示すように、パルス数を変えても酸素原子存在比は８％前後でほぼ一定であり、パルス数と表面改質量とは比例しないことが分かった。また、いずれの条件でも無電解めっきは析出しなかった。しかしながら、１パルスあたりのエネルギー密度が１０００ｍＪ／ｃｍ２のときと比較すると、酸素存在量は増加していた。これは、レーザのエネルギー密度が弱いと、改質された表面がアブレーションにより除去されにくくなるためであると考えられた。
【０１４６】
［レーザ照射による凹部形成］
ＡｒＦエキシマレーザ（主波長１９３ｎｍ）を、１パルスあたりのエネルギー密度１００ｍＪ／ｃｍ２又は１０００ｍＪ／ｃｍ２で、シクロオレフィンポリマー材（日本ゼオン株式会社製，ゼオノアフィルムＺＦ−１６，膜厚１００μｍ，表面粗さ１．０１ｎｍ）に照射した。ＡｒＦエキシマレーザとしては、後述する実験１と同様のものを用いた。その後、触針段差計（ヤマト科学株式会社製，アルファステップ）を用いて、レーザが照射された部分に形成された凹部の深さを測定した。測定は、レーザの入射範囲のうち、中央部付近（２回目測定）及び双方の端部付近（１，３回目測定）について行った。測定結果を表５に示す。
【０１４７】
【表５】
2015110832.tif 000009
【０１４８】
表５に示すように、レーザのエネルギー密度がより大きい場合に、より深い凹部が形成されることが分かった。また、レーザのエネルギー密度が１０００ｍＪ／ｃｍ２である場合には、積算照射量と深さとはほぼ比例していたのに対し、レーザのエネルギー密度が１００ｍＪ／ｃｍ２である場合には、積算照射量を増やしても深さはあまり変わらなかった。これは、材料表面が改質されると物性が変化し、特にエネルギー密度が低い場合にはアブレーション効率が落ちるためであると考えられる。
【０１４９】
このように、レーザ照射により、樹脂製品表面に凹部が形成されることが確認された。また、レーザのエネルギー密度及び照射量を制御することにより、凹部の深さを制御することができることが分かった。
【０１５０】
［実験１］
（基板処理）
実験１においては、無電解めっき用基板として、樹脂材料であるシクロオレフィンポリマー材（日本ゼオン株式会社製，ゼオノアフィルムＺＦ−１６，膜厚１００μｍ，表面粗さ１．０１ｎｍ）を用いた。
【０１５１】
まず、表面改質を行う前に、基板表面の洗浄を目的として以下の処理を行った。
１．５０℃の純水で３分間超音波洗浄
２．５０℃のアルカリ洗浄液（水酸化ナトリウム３．７％含有）に３分間浸漬
３．５０℃の純水で３分間超音波洗浄
４．乾燥
【０１５２】
（照射工程）
次に、基板の所望部分に対して紫外線レーザを照射する照射工程を行った。実験１で用いた紫外線レーザの詳細について以下に示す。
紫外線レーザ：ＡｒＦエキシマレーザ（主波長１９３ｎｍ）
紫外線レーザ照射機：コヒレント社製ＬＰＸｐｒｏ３０５
照射条件：周波数５０Ｈｚ，パルス幅２５ｎｓ，２００パルス
１パルス当たりの照射面エネルギー密度：１００ｍＪ/ｃｍ２
【０１５３】
こうして紫外線レーザが照射された基板について、ＸＰＳ測定により酸素原子存在比を測定したところ、８．８％であった。ここで、測定装置ＸＰＳは水素原子の測定が不可能である。よって、実験１におけるシクロオレフィンポリマー材表面の原子の存在比は、炭素原子及び酸素原子のみに基づいて計算された。
【０１５４】
また、シクロオレフィンポリマー材にＡｒＦエキシマレーザを２００パルス照射した後に、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）を用いて基板表面の形状を確認したところ、レーザ照射部には凹部が形成されており、その深さは約０．２μｍであった。また、レーザのパルス数を増減させることにより、深さを調整することができた。
【０１５５】
（酸化工程）
次に、レーザ照射後の基板の所望部分に対して紫外線ランプを照射する酸化工程を行った。実験１で用いた紫外線ランプ（低圧水銀ランプ）の詳細について以下に示す。
低圧水銀ランプ：サムコ社製ＵＶ−３００（主波長１８５ｎｍ，２５４ｎｍ）
照射距離３．５ｃｍにおける照度：５．４０ｍＷ/ｃｍ２（２５４ｎｍ）
１．３５ｍＷ/ｃｍ２（１８５ｎｍ）
【０１５６】
具体的には、シクロオレフィンポリマー材にＡｒＦエキシマレーザを２００パルス照射した後の基板に対して、さらに上記の紫外線ランプを用いて、１．３５ｍＷ／ｃｍ２（１８５ｎｍ）の紫外線を、紫外線ランプから３．５ｃｍ離して１分間照射した。この場合、積算露光量は１．３５ｍＷ／ｃｍ２×６０秒＝８１ｍＪ／ｃｍ２となる。
【０１５７】
こうして紫外線を照射した基板についての表面改質状況を、ＸＰＳ測定により分析した。基板上のレーザが照射された部分についての、紫外線ランプによる照射を行った後の酸素原子存在比は、２０．１％であった。また、基板上のレーザが照射されていない部分についての、紫外線ランプによる照射を行った後の酸素原子存在比は、１２．６％であった。このように実験１においては、基板上のレーザが照射されていない部分の酸素原子存在比が、１５％以下に抑えられていた。このため、後述するように、レーザが照射された部分について選択的にめっきを析出させることができた。
【０１５８】
（めっき工程）
次に、酸化工程において紫外線を照射した基板に対し、無電解めっきを行うめっき工程を行った。無電解めっき液としては、ＪＣＵ社製Ｃｕ−Ｎｉめっき液セット「ＡＩＳＬ」を使用した。めっき工程における具体的な処理を表６に示す。
【０１５９】
【表６】
2015110832.tif 000010
【０１６０】
表６に示す工程に従って無電解めっきを行ったところ、レーザを照射した部位に対してのみ無電解めっきによる金属皮膜が形成された。
【０１６１】
［実験２］
照射工程においてレーザの照射回数を変えたことを除いては、実験１と同様に、照射工程、酸化工程、及びめっき工程を行い、レーザを照射した部位に金属皮膜が形成されるか否かを観察した。結果を表７に示す。表７において、○はめっきが析出したことを、×はめっきが析出しなかったことを示す。
【０１６２】
【表７】
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【０１６３】
表７に示すように、酸化工程において８１ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射する場合、照射工程においてレーザ照射部分の酸素原子存在比を６．５％以上とすることにより、レーザ照射部分にめっきが析出することが分かった。具体的には、エネルギー密度１００ｍＪ／ｃｍ２のＡｒＦエキシマレーザを照射する実験２において、パルス数が２０回以上である場合について、酸素原子存在比が６．５％以上となった。パルス数を増やしても酸素原子存在比が減ることはないと考えられるため、パルス数の上限は特にないと考えられるが、パルス数が２００回以下である場合については、酸素原子存在比が６．５％以上となることが確認された。
【０１６４】
［実験３］
照射工程においてレーザの照射回数を変えたこと、及び酸化工程において紫外線を３分間照射したことを除いては、実験１と同様に、照射工程、酸化工程、及びめっき工程を行い、レーザを照射した部位に金属皮膜が形成されるか否かを観察した。結果を表８に示す。表８において、○はめっきが析出したことを、×はめっきが析出しなかったことを示す。
【０１６５】
【表８】
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【０１６６】
表８に示すように、酸化工程において２４３ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射する場合、照射工程においてレーザ照射部分の酸素原子存在比を３．０％以上とすることにより、レーザ照射部分にめっきが析出することが分かった。
【０１６７】
［実施例１］
第１の樹脂層１００としては、シクロオレフィンポリマー材の絶縁樹脂シート（日本ゼオン株式会社製，ゼオノアフィルムＺＦ−１６，膜厚１００μｍ，表面粗さ１．０１ｎｍ）を用いた。
【０１６８】
まず、ＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）で第１の樹脂層１００上の電極パターン１１０を形成する部分を走査することにより、第１の樹脂層１００上の電極パターン１１０を形成する部分２１０に紫外線レーザを照射した。具体的には、図２に示す複数の長方形の部分２１０に紫外線レーザを照射した。
【０１６９】
長方形の部分２１０に対する、レーザの照射条件は以下の通りであった。
紫外線レーザ照射機：コヒレント社製ＬＰＸｐｒｏ２１０
照射条件：周波数１００Ｈｚ，パルス幅２５ｎｓ
１パルス当たりの照射面エネルギー密度：１０００ｍＪ/ｃｍ２
照射エネルギー総量：２０パルス，計２００００ｍＪ/ｃｍ２
【０１７０】
紫外線レーザが照射された部分には凹部１４０が生じた。この凹部１４０の深さを触針段差計により測定したところ、約２μｍであった。
【０１７１】
次に、第１の樹脂層１００に対して紫外線レーザを照射することにより、貫通穴１５０を形成した。具体的には、図２に示す直径５０μｍの円形領域２２０Ａ，Ｂのそれぞれに、紫外線レーザを３００パルス照射した。レーザの照射条件は、パルス数及び照射エネルギー総量以外は、部分２１０に対する紫外線レーザの照射条件と同様であった。
【０１７２】
次に、第１の樹脂層１００の全面に対して、低圧水銀ランプを用いて紫外線を照射することにより、第１の樹脂層１００上の部分２１０を含む領域の酸化を行った。この工程においては、紫外線の散乱のために、貫通穴１５０の側面にも紫外線が照射される。
【０１７３】
紫外線の照射条件は以下の通りであった。
低圧水銀ランプ：サムコ社製ＵＶ−３００（主波長１８５ｎｍ，２５４ｎｍ）
照射距離：３．５ｃｍ
ランプ直下の照度：５．４０ｍＷ/ｃｍ２（２５４ｎｍ）
照射時間：３分間
【０１７４】
次に、第１の樹脂層１００に対して無電解めっきを行った。無電解めっき液としては、ＪＣＵ社製Ｃｕ−Ｎｉめっき液セット「ＡＩＳＬ」を使用した。具体的には、上記の表６に示すようにめっき処理を行った。無電解めっきを行ったところ、凹部１４０と、貫通穴１５０の側面と、にのみ無電解めっきによる金属皮膜が形成された。
【０１７５】
続いて、第１の樹脂層１００に対して電解めっきを行うことにより、めっき皮膜の増厚処理を行った。具体的には、ＪＣＵ社製めっき液セット（キューブライトＲＦ）を用いることにより、凹部１４０に形成されためっき皮膜の表面が第１の樹脂層１００の表面から突出し、貫通穴１５０が析出した金属により埋まるまでめっきを行った。その後、第１の樹脂層１００の紫外線レーザが照射された面、すなわちめっき皮膜が形成された面が平滑となるように、第１の樹脂層１００及びこれに形成されためっき皮膜を化学機械研磨（ＣＭＰ）により研磨した。こうして、第１の樹脂層１００上の凹部１４０に埋め込まれた電極パターン１１０が形成された。
【０１７６】
最後に、第１の樹脂層１００の電極パターン１１０が形成された面に、第２の樹脂層１３０（塩化ビニル樹脂，三菱樹脂社製，厚さ１００μｍ）を貼り付けることにより、静電吸着ベルト１９０を完成させた。目視によれば、静電吸着ベルト１９０は平滑な表面を有していた。
［実施例２］
以下の方法に従い、実施形態２に従う静電吸着ベルト７００を作製した。本実施例における電極部７２１〜７２８の配置は、図８に示される通りである。第１の樹脂層７１０としては、シクロオレフィンポリマー材の絶縁樹脂シート（日本ゼオン株式会社製，ゼオノアフィルムＺＦ−１６，膜厚１００μｍ）を用いた。
【０１７７】
まず、ＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）で第１の樹脂層７１０上の電極部７２１〜７２８を形成する部分を走査することにより、第１の樹脂層７１０上の電極部７２１〜７２８を形成する部分に紫外線レーザを照射した。本実施例において、形成される電極部７２１〜７２８のそれぞれの幅は０．５ｍｍであった。また、静電吸着ベルト７００の長さ方向に隣接する電極部７２１〜７２８の間隔は０．５ｍｍであった。
【０１７８】
レーザの照射条件は以下の通りであった。
紫外線レーザ照射機：コヒレント社製ＬＰＸｐｒｏ２１０
照射条件：周波数１００Ｈｚ，パルス幅２５ｎｓ
１パルス当たりの照射面エネルギー密度：１０００ｍＪ/ｃｍ２
照射エネルギー総量：１０パルス，計１００００ｍＪ/ｃｍ２
【０１７９】
紫外線レーザが照射された部分には凹部が生じた。この凹部の深さを触針段差計により測定したところ、約１μｍであった。
【０１８０】
次に、第１の樹脂層７１０の給電部７４１〜７４８Ａ，７４１〜７４８Ｂを形成する部分に対して、紫外線レーザを３００パルス照射することにより、貫通穴を形成した。レーザの照射条件は、パルス数及び照射エネルギー総量以外は、電極部７２１〜７２８を形成する部分に対する紫外線レーザの照射条件と同様であった。形成された貫通穴の直径は５０μｍであった。
【０１８１】
次に、第１の樹脂層７１０の全面に対して、低圧水銀ランプを用いて紫外線を照射することにより、酸化処理を行った。この工程においては、紫外線の散乱のために、貫通穴の側面にも紫外線が照射される。
【０１８２】
紫外線の照射条件は以下の通りであった。
低圧水銀ランプ：サムコ社製ＵＶ−３００（主波長１８５ｎｍ，２５４ｎｍ）
照射距離：３．５ｃｍ
ランプ直下の照度：５．４０ｍＷ/ｃｍ２（２５４ｎｍ）
照射時間：３分間
【０１８３】
次に、第１の樹脂層７１０に対して無電解めっきを行った。無電解めっき液としては、ＪＣＵ社製Ｃｕ−Ｎｉめっき液セット「ＡＩＳＬ」を使用した。具体的には、以下の表に示すようにめっき処理を行った。無電解めっきを行ったところ、凹部と、貫通穴の側面と、にのみ無電解めっきによる金属皮膜が形成された。
【０１８４】
【表９】
2015110832.tif 000013
【０１８５】
続いて、第１の樹脂層７１０に対して電解めっきを行うことにより、めっき皮膜の増厚処理を行った。具体的には、ＪＣＵ社製めっき液セット「キューブライトＲＦ」を用いることにより、凹部に形成されためっき皮膜の表面が第１の樹脂層７１０の表面から突出し、貫通穴が析出した金属により埋まるまでめっきを行った。その後、第１の樹脂層７１０の紫外線レーザが照射された面、すなわちめっき皮膜が形成された面が平滑となるように、第１の樹脂層７１０及びこれに形成されためっき皮膜を化学機械研磨（ＣＭＰ）により研磨した。こうして、第１の樹脂層７１０上の凹部に埋め込まれた電極部７２１〜７２８が形成された。
【０１８６】
最後に、第１の樹脂層７１０の電極部７２１〜７２８が形成された面に、第２の樹脂層７３０（シクロオレフィンポリマー材，日本ゼオン株式会社製「ゼオノア」，厚さ１００μｍ）を貼り付けることにより、静電吸着ベルト７００を完成させた。目視によれば、静電吸着ベルト７００は平滑な表面を有していた。
【０１８７】
［実施例３］
以下の方法に従い、実施形態３に従う静電吸着ベルト１２００を作製した。本実施例における電極部１２２１，１２２２の配置は、図１２Ａに示される通りである。本実施例において、電極部１２２１，１２２２を構成するメッシュの線幅は２５μｍであり、メッシュの間隔は５０μｍであった。
【０１８８】
電極部１２２１，１２２２を形成する部分に対する紫外線レーザの照射量を１５パルス，計１５０００ｍＪ/ｃｍ２としたことを除き、図１２Ａに示される電極部１２２１，１２２２の形状に従って、実施例２と同様の処理を行った。こうして、実施形態３に従う、メッシュ状の電極部を有する静電吸着ベルト１２００を作製することができた。
【０１８９】
［実施例４］
以下の方法に従い、実施形態４に従う静電吸着ベルト１３００を作製した。本実施例における電極部１３２１，１３２２の配置は、図１３に示される通りである。本実施例において、形成される電極部１３２１，１３２２のそれぞれの幅は０．３ｍｍであった。また、静電吸着ベルト１３００の長さ方向に隣接する電極部１３２１，１３２２の間隔は０．８ｍｍであった。さらに、導電膜１３１１，１３１２は、直径５０μｍの円形状を有していた。
【０１９０】
図１３に示される電極部１３２１，１３２２の形状に従って、実施例３と同様の処理を行った。こうして、実施形態４に従う、導電膜をさらに有する静電吸着ベルト１３００を作製することができた。
【図１】
2015110832.tif 000014
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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