(57)【要約】【課題】複数版のレジストパターンにより成形品にシボ付けするための形状を金型の表面に成形する場合に、各版のレジストパターンを容易に正確な位置に形成して、成形品をにシボ付けするための形状を狙い通りに金型の表面に成形する。【解決手段】各版のレジストパターンＲ１、Ｒ２、Ｒ３の位置基準部１１、１２、１３を、前の版のレジストパターンＲ１またはＲ２が形成されていない部分を腐食させたときに、次の版のレジストパターンＲ２またはＲ３用の位置基準部１２，１３、または１３が残るように、それぞれ予め金型Ｍの表面に形成しておく。各版のレジストパターンＲ１、Ｒ２、Ｒ３のそれぞれ残留凸部Ｍａを形成する部分Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３ａを対応する位置基準部１１、１２、１３に合わせて金型Ｍの表面に形成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
成形品にシボ付けするための形状を複数版のレジストパターンにより金型の表面に成形するための加工方法であって、
各版のレジストパターンを位置合せするための位置基準部を、前の版用のレジストパターンが形成されていない部分を腐食させたときに、次の版以後用の位置基準部が残るように、それぞれ予め前記金型の表面に形成しておき、
一の版のレジストパターンを対応する位置基準部に合わせて前記金型の表面に形成する工程と、前記金型の表面の当該レジストパターンが形成されていない部分を腐食させる工程と、当該レジストパターンを除去する工程とを、レジストパターンの版毎に順次行うことを特徴とする金型のシボ加工方法。
【請求項２】
各版のレジストパターンを、腐食させる部分の底に向かう傾斜角度に応じた大きさで形成することを特徴とする請求項１に記載の金型のシボ加工方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金型のシボ加工方法に関し、特に、複数版のレジストパターンにより成形品にシボ付け（エンボス加工）するための形状を金型の表面に成形するための加工方法する。
【背景技術】
【０００２】
複数版のレジストパターンにより成形品にシボ付けするための形状を金型の表面に成形するための加工方法に関する従来の技術として特許文献１が知られている。特許文献１には、（Ａ）：ある所定の溶剤に不溶な耐酸レジストにて、金型のエッチング加工面に、任意の様の第１レジストパターンを形成し、（Ｂ’）上記所定の溶剤に可溶な耐酸レジストにて、金型のエッチング加工面に、上記（Ａ）工程で形成した第１レジストパターンにシンクロするように（すなわち第１レジストパターン上に重なり合うように（段落００２１））して、該第１レジストパターンよりも太い、粗い又は大きい模様の第２レジストパターンを形成し、（Ｃ）：金型のエッチング加工面のレジストの付着していない部分を任意の深さまでエッチングし、（Ｄ）：上記所定の溶剤にて、金型のエッチング加工面から、上記（Ｂ’）工程で形成した第２レジストパターンを溶解除去し、（Ｅ）：金型のエッチング加工面のレジストの付着していない部分を任意の深さまでエッチングし、（Ｆ）：金型のエッチング加工面から、上記（Ａ）工程で形成した第１レジストパターンを除去することなどが開示されている。
【０００３】
また、特許文献１には、複数のレジストパターンを用いて複合的なエッチングによるシボ加工を行う場合において、最初のエッチングで形成される凹凸模様に、後のエッチングで形成される凹凸模様をシンクロさせることが、現物の皮革模様が持つ複雑な立体感を再現するために好ましいこと（段落００３０）、そして、このシンクロの手法として、まず、１つのレジストパターンのみを金型のエッチング加工面に形成して最初のエッチングを行い、そのレジストパターンを除去してから、最初のエッチングで形成された凹凸模様にシンクロするようにもう１つの別のレジストパターンを形成して再度エッチングを行うことが考えられること（段落００３１）、しかし、この方法では、最初のエッチングが終了して凹凸が形成されたエッチング加工面上に改めてもう１つのレジストパターンを形成するのが容易ではなく、また、金型のエッチング加工面は一様な金属色であるため形成された凹凸模様が見にくく、最初のエッチングで形成された凹凸模様に後のエッチングのためのレジストパターンを正しくシンクロさせて形成すること、及び正しくシンクロして形成されているか確認することが困難であること（段落００３２）が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平９−２６３９７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１にあっては、第２レジストパターンが、第１レジストパターンにシンクロする（重ね合わせる）ように、第１レジストパターンよりも太い、粗い又は大きい模様で形成される。つまり、第２レジストパターンをこれよりも細い、細かいまたは小さい模様で形成された第１レジストパターンにシンクロさせるよう位置合せする必要があった。そのため、特許文献１にあっては、多くの形状要素で構成される柄の全ての範囲について、細かいまたは狭い第１レジストパターンに対して第２レジストパターンを正確にシンクロさせて形成することは困難であるという問題があった。また、特許文献１にあっては、第１レジストパターンに対して第２レジストパターンをシンクロさせるべく正確に位置合せするための基準がなかった。そのため、特許文献１では、段落００３１に記載されているような方法を行うことができず、エッチングを行う前に予め２種類のレジストパターンを重ね合わせるように形成するしかなかった。
【０００６】
また、エッチングを行う際には、レジストパターンが形成されていない部分が腐食される。つまり、エッチングされる部分は、レジストパターンが形成された部分の縁部から腐食される。そしてエッチングの進行に伴って、レジストパターンが形成された部分の縁部裏側も腐食されることとなる。このようにレジストパターンが形成された部分の縁部裏側も腐食されると、レジストパターンを形成して腐食させない部分の縁部から、レジストパターンを形成せず腐食させる部分の底に向かう傾斜を所望の角度で形成することができない。すなわち、成形品にシボ付けするための形状を金型の表面に正しく狙い通りに形成することができない。特に、例えば成形品の表面に皮革模様をシボ付けする場合、このシボ付けするための金型表面の形状の傾斜角度が浅くなる（金型表面と平行に近づく）と、実際の皮革のような質感の成形品を成形することができない。しかしながら、従来の技術では、特許文献１を含めて、レジストパターンを形成して腐食させない部分の縁部から、レジストパターンを形成せず腐食させる部分の底に向かう傾斜の角度を制御することを考慮したものがなかった。
【０００７】
本発明は、上述した問題に鑑みてなされたもので、複数版のレジストパターンにより成形品にシボ付けするための形状を金型の表面に成形する場合に、各版のレジストパターンを容易に正確な位置に形成し、もって、成形品をにシボ付けするための形状を狙い通りに金型の表面に成形することができる方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、上述した問題に鑑みてなされたもので、成形品にシボ付けするための形状を金型の表面に正しく狙い通りに形成することができ、もって、高品質な質感で成形品にシボ付けすることができる方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１の金型のシボ加工方法に係る発明は、上記目的を達成するため、成形品にシボ付けするための形状を複数版のレジストパターンにより金型の表面に成形するための加工方法であって、各版のレジストパターンを位置合せするための位置基準部を、前の版のレジストパターンが形成されていない部分を腐食させたときに、次の版以後用の位置基準部が残るように、それぞれ予め前記金型の表面に形成しておき、一の版のレジストパターンを対応する位置基準部に合わせて金型表面に形成する工程と、金型表面の当該レジストパターンが形成されていない部分を腐食する工程と、当該レジストパターンを除去する工程とを、レジストパターンの版毎に順次行うことを特徴とする。
また、請求項２の金型のシボ加工方法に係る発明は、上記目的を達成するため、請求項１に記載の発明において、各版のレジストパターンを、腐食させる部分の底に向かう傾斜角度に応じた大きさで形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
請求項１の金型のシボ加工方法では、各版のレジストパターンを位置合せするための位置基準部をそれぞれ予め前記金型の表面に形成しておく。この位置基準部は、前の版のレジストパターンが形成されていない部分を腐食させたときに、次の版以後用の位置基準部が残るように形成する。そして各版毎に、レジストパターンを対応する位置基準部に合わせて前記金型の表面に形成する工程と、前記金型の表面の当該レジストパターンが形成されていない部分を腐食させる工程と、当該レジストパターンを除去する工程とを順次行う。各版のレジストパターンは、それぞれ位置基準部に確実に合わせられるため、容易に且つ正確に金型の表面に形成される。そのため、金型の表面を容易に且つ正確に腐食させることができる。
請求項２の発明では、請求項１に記載の発明において、各版のレジストパターンを、腐食させる部分の底に向かう傾斜角度に応じた大きさで形成する。そのため、金型の表面の腐食させる部分を、任意の傾斜角度で底に向かって狙い通りに容易に且つ正確に成形することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の加工方法を説明するために示した概念図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の金型のシボ加工方法の実施の一形態を、図１に基づいて詳細に説明する。なお、各工程で既に先の工程で説明した内容と同様または相当する内容についてはその説明を省略して、新たな内容を順次説明することとする。
本発明の金型のシボ加工方法は、概略、成形品にシボ付けするための形状を複数版のレジストパターンＲ１、Ｒ２、Ｒ３・・・により金型Ｍの表面に形成するためのものであって、各版のレジストパターンＲ１、Ｒ２、Ｒ３・・・の位置基準部１１、１２、１３・・・を、前の版のレジストパターンＲ１またはＲ２が形成されていない部分を腐食させたときに、次の版のレジストパターンＲ２またはＲ３用の位置基準部１２および１３、または、１３が残るように、それぞれ予め金型Ｍの表面に形成しておき、各版のレジストパターン各版のレジストパターンＲ１、Ｒ２、Ｒ３・・・のそれぞれ残留凸部Ｍａを形成する部分Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３ａ・・・を対応する位置基準部１１、１２、１３・・・にそれぞれ合わせて金型Ｍの表面に形成する工程と、金型Ｍの表面の当該レジストパターンレジストパターンＲ１、Ｒ２、Ｒ３・・・が形成されていない部分をそれぞれ腐食させる工程と、当該レジストパターンレジストパターンＲ１、Ｒ２、Ｒ３・・・をそれぞれ除去する工程とを、各版のレジストパターンレジストパターンＲ１、Ｒ２、Ｒ３・・・毎に順次行う。
さらに本発明の金型のシボ加工方法は、各版のレジストパターンＲ１、Ｒ２、Ｒ３・・・（この実施の形態では、残留凸部Ｍｂを形成するための部分Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ・・・）を、残留凸部Ｍｂから腐食させる部分の底Ｓに向かう傾斜角度αに応じた大きさで形成する。
【００１２】
なお、この実施の形態では、複数版で形成するレジストパターンとして、初版Ｒ１、第２版Ｒ２、第３版Ｒ３により構成する場合により説明する。また、この実施の形態では、図１の（d）における左方に残留凸部Ｍａを、右方に残留凸部Ｍｂを形成する場合で説明する。この残留凸部Ｍａは、残留凸部Ｍｂよりも最終的に小さく（腐食量が多く）成形され、また、残留凸部Ｍｂは、その周囲の腐食される部分の底Ｓに向かう傾斜角度αが大きく（急な傾斜角度で）成形するよう設定されている。そして、この実施の形態における位置基準部は、後述するように、凹部１１、１２、１３により構成されている。凹部１１、１２、１３は、初版〜第３版のレジストパターンＲ１、Ｒ２、Ｒ２の残留凸部Ｍａを成形するための部分Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３ａに応じて、残留凸部Ｍａと対応する位置の周囲にそれぞれ相似形で形成されている。
【００１３】
各版のレジストパターンＲ１、Ｒ２、Ｒ３は、フィルムまたはシートなどからなる支持体上に、耐酸性インクなどを印刷することにより所定の形状に構成されており、この支持体に支持されたレジストパターンＲ１、Ｒ２、Ｒ３を金型Ｍの表面に対して圧着してから支持体を剥がすことなどにより、金型Ｍの表面上に形成される。また、各版のレジストパターンＲ１、Ｒ２、Ｒ３は、それぞれの対応して溶かすことが可能な溶剤やサンドブラスト等により、除去することができる。
【００１４】
金型Ｍのシボ付けを行うに際して、図１の（ａ）の左方に示すように、予め、各版のレジストパターンＲ１、Ｒ２、Ｒ３の位置基準部として、凹部１１、１２、１３を金型Ｍの表面に形成しておく。これらの凹部１１、１２、１３は、金型Ｍの表面に形成する成形品にシボ付けするための形状のうちで、任意の位置決めに適した部分に設定することができる。凹部１１、１２、１３は、レーザ加工やＮＣ制御による切削加工、あるいは、ポンチなどを用いた手作業などによって形成することができる。凹部１１、１２、１３の形状は、金型Ｍの表面に成形する残留凸部Ｍａの形状と相似形に設定することができる。また、凹部１１、１２、１３は、初版のレジストパターンＲ１を形成してから、かかる初版のレジストパターンＲ１が形成されていない部分の腐食させることにより凹部１１が消失するとともに、次の第２版のレジストパターンＲ２を位置合せするための凹部１２が残り、また、第２版のレジストパターンＲ２を形成してから、かかる第２のレジストパターンＲ２が形成されていない部分の腐食させることにより凹部１２が消失して、次の第３版のレジストパターンＲ３を位置合せするための凹部１３が残り、さらに、最終的に成形品にシボ付けするための形状に影響を及ぼすことがなくなるような位置、形状、深さ、および大きさに設定することができる。
【００１５】
図１（ａ）に示すように、初版のレジストパターンＲ１は、残留凸部Ｍａを形成するため部分Ｒ１ａが、後の版のレジストパターンＲ２、Ｒ３を形成して腐食させる工程を経て最終的に所望する形状の残留凸部Ｍａを成形し得る形状に形成されており、残留凸部Ｍｂを形成するための部分Ｒ１ｂが、エッチングの進行に伴って、かかる部分Ｒ１ｂの縁部裏側まで腐食されても残留凸部Ｍｂを形成し得る大きさに形成されている。
【００１６】
金型Ｍのシボ付けを行うに際して、最初に、初版のレジストパターンＲ１を金型Ｍの表面に形成する工程では、支持体に支持された初版のレジストパターンＲ１の残留凸部Ｍａを形成するため部分Ｒ１ａの端縁を、対応する凹部１１の内周側壁に合わせて位置決めする。このとき、凹部１１を容易に且つ確実に目視などによって認識できるので、初版のレジストパターンＲ１の残留凸部Ｍａを形成するため部分Ｒ１ａの位置を対応する凹部１１に容易に且つ正確に合わせることができる。また、初版のレジストパターンＲ１の残留凸部Ｍａを形成するため部分Ｒ１ａを対応する凹部１１に位置合わせることにより、残留凸部Ｍｂを形成するための部分Ｒ１ｂも、正確な位置に合わせることができる。そして、支持体を介して初版のレジストパターンＲ１を金型Ｍの表面に対して押圧するなどして圧着させ、支持体を剥がす。これにより、初版のレジストパターンＲ１が金型Ｍの表面上に形成される。
【００１７】
続いて、金型Ｍの表面の初版のレジストパターンＲ１が形成されていない部分を腐食する工程を行う。金型Ｍの表面の、凹部１１と第２版のレジストパターンＲ２の残留凸部Ｍａを形成するため部分Ｒ２ａと対応する凹部１２との間の部分は、凹部１１にエッチング剤が入り込むことにより腐食され、図１の（b）に示すように溶解されて消失することとなる。また、金型Ｍの表面の残留凸部Ｍｂとなる部分の周囲は、初版のレジストパターンＲ１の残留凸部Ｍｂを形成するための部分Ｒ１ｂの端縁から、かかる部分Ｒ１ｂの裏側の、残留凸部Ｍｂとなる部分まで腐食される。
その後、初版のレジストパターンＲ１を除去する工程を行う。この除去工程では、上述したように、初版のレジストパターンＲ１を溶かすことが可能な溶剤を付着させて拭き取るか、かかる溶剤に浸漬し、または、サンドブラスト等により、初版のレジストパターンＲ１を除去することができる。
【００１８】
次に、図１の（b）に示すように、第２版のレジストパターンＲ２を金型Ｍの表面に形成する工程を行う。この工程では、支持体に支持された第２版のレジストパターンＲ２の残留凸部Ｍａを形成するため部分Ｒ２ａの端縁を、対応する凹部１２の内周側壁に合わせて位置決めする。このとき、初版のレジストパターンＲ１用の凹部１１が既に消失しているため、第２版のレジストパターンＲ２用の凹部１２が最も外側に位置している。そして、第２版のレジストパターンＲ２が形成される金型Ｍの表面は、先の腐食工程で初版のレジストパターンＲ１に保護されて腐食されることなく、その形状を維持している。そのため、第２版のレジストパターンＲ２用の凹部１２を容易に且つ確実に目視などによって認識できるので、第２版のレジストパターンＲ２の残留凸部Ｍａを形成するため部分Ｒ２ａを対応する凹部１２に対して容易に且つ正確に位置合せすることができる。また、第２版のレジストパターンＲ２の残留凸部Ｍａを形成するため部分Ｒ２ａの位置を対応する凹部１２に合わせることにより、残留凸部Ｍｂを形成するための部分Ｒ２ｂも、正確な位置に合わせることができる。
【００１９】
ここで、第２版のレジストパターンＲ２の残留凸部Ｍｂを形成するための部分Ｒ２ｂの大きさは、成形しようとする金型Ｍの表面の残留凸部Ｍｂとなる部分よりも大きく形成されている。そして、第２版のレジストパターンＲ２の残留凸部Ｍｂを形成するための部分Ｒ２ｂの、残留凸部Ｍｂとなる部分からはみ出た部分（図１の（ｂ）の鎖線で示した符号Ｒ２ｂ’）は、矢印で示したように、第２版のレジストパターンＲ２の支持体を剥すときの前後いずれかの時期に押さえ込み、残留凸部Ｍｂとなる部分の周囲に密着させる。
【００２０】
続いて、金型Ｍの表面の第２版のレジストパターンＲ２が形成されていない部分を腐食する工程を行う。金型Ｍの表面の、凹部１２と第２版のレジストパターンＲ２と対応する凹部１３との間の部分は、凹部１２にエッチング剤が入り込むことにより腐食され、図１の（ｃ）に示すように溶解されて消失することとなる。また、金型Ｍの表面の残留凸部Ｍｂとなる部分の周囲は、第２版のレジストパターンＲ２の残留凸部Ｍｂを形成するための部分Ｒ２ｂの周囲に密着された端縁から腐食される。そのため、金型Ｍの表面の残留凸部Ｍｂとなる部分の周囲が腐食されず、その結果、図１の（ｄ）に参照されるように、残留凸部Ｍｂとなる部分から腐食させる部分の底Ｓに向かう傾斜角度αを大きく、つまり、金型Ｍの表面に対して鉛直に近づくように立てて成形することができる。なお、金型Ｍの表面の残留凸部Ｍｂとなる部分から腐食させる部分の底に向かう傾斜角度を逆に小さく、つまり、金型Ｍの表面と平行に近づけるように寝かせて成形する場合には、第２版のレジストパターンＲ２の残留凸部Ｍｂを形成するための部分Ｒ２ｂの大きさを、成形しようとする金型Ｍの表面の残留凸部Ｍｂとなる部分以下の大きさに形成する。これにより、金型Ｍの表面の残留凸部Ｍｂとなる部分の周囲も腐食されることとなり、金型Ｍの表面の残留凸部Ｍｂとなる部分から腐食させる部分の底Ｓに向かう傾斜角度αを小さくすることができる。
その後、第２版のレジストパターンを除去する工程を行う。
【００２１】
次に、図１の（ｃ）に示すように、第３版のレジストパターンＲ３を金型Ｍの表面に形成する工程を行う。この工程では、支持体に支持された第３版のレジストパターンＲ３の残留凸部Ｍａを形成するため部分Ｒ３ａの端縁を、第３版のレジストパターンＲ３と対応する凹部１３の内周側壁に合わせて位置決めする。このとき、第２版のレジストパターンＲ２用の凹部１２が既に消失しているため、第３版のレジストパターンＲ３用の凹部１３の内周側壁が露出した状態となっている。そして、第３版のレジストパターンＲ３が形成される金型Ｍの表面は、先の腐食工程で初版および第２版のレジストパターンＲ１、Ｒ２に保護されて腐食されることなく、その形状を維持している。そのため、第３版のレジストパターンＲ３用の凹部１３の内周側壁を容易に且つ確実に目視などによって認識できるので、第３版のレジストパターンＲ３の残留凸部Ｍａを形成するため部分Ｒ３ａを対応する凹部１３に対して容易に且つ正確に位置合せすることができる。また、第３版のレジストパターンＲ３の残留凸部Ｍａを形成するため部分Ｒ３ａの位置を対応する凹部１３の内周側壁に合わせることにより、残留凸部Ｍｂを形成するための部分Ｒ３ｂも、正確な位置に合わせることができる。
【００２２】
ここで、第３版のレジストパターンＲ３の残留凸部Ｍｂを形成するための部分Ｒ３ｂの大きさは、成形しようとする金型Ｍの表面の残留凸部Ｍｂとなる部分よりも大きく、この実施の形態では第２版のレジストパターンＲ２の残留凸部Ｍｂを形成するための部分Ｒ２ｂとほぼ同じ大きさで形成されている。そして、第３版のレジストパターンＲ３の残留凸部Ｍｂを形成するための部分Ｒ３ｂの、残留凸部Ｍｂとなる部分からはみ出た部分（図１の（ｃ）の鎖線で示した符号Ｒ３ｂ’）は、矢印で示したように、第３版のレジストパターンＲ３の支持体を剥すときの前後いずれかの時期に押さえ込み、残留凸部Ｍｂとなる部分の周囲に密着させる。
【００２３】
続いて、金型表面の第３版のレジストパターンＲ３が形成されていない部分を腐食する工程を行う。金型Ｍの表面の、凹部１３から内側は、第３版のレジストパターンＲ３の残留凸部Ｍａを形成するための部分Ｒ３ａの外周縁からエッチング剤が入り込むことにより徐々に内側に向かって腐食され、図１の（ｄ）に示すように残留凸部Ｍａが成形されることとなる。また、金型Ｍの表面の残留凸部Ｍｂとなる部分の周囲は、第３版のレジストパターンＲ３の残留凸部Ｍｂを形成するための部分の周囲に密着された端縁から腐食される。そのため、金型Ｍの表面の残留凸部Ｍｂとなる部分の周囲が腐食されず、その結果、残留凸部Ｍｂとなる部分から腐食させる部分の底Ｓに向かう傾斜角度αを大きく成形することができる。
その後、第３版のレジストパターンＲ３を除去する工程を行う。これにより、図１の（d）に示したように、成形品にシボ付けするための任意の形状を金型Ｍの表面に正確に形成することができる。
【００２４】
このように、腐食させる部分の底Ｓに向かう傾斜角度αを任意に制御することができることから、成形品にシボ付けするための形状を金型Ｍの表面に正しく狙い通りに形成することができる。そのため、この金型Ｍを用いることにより、多くの形状要素で構成される柄の全ての範囲について、高品質な質感でシボ付けされた成形品を狙い通りに成形することができる。
【００２５】
上記した実施の形態は単なる例示にすぎず、本発明を何ら限定するものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々の改良、変形が可能であることはもちろんである。
【産業上の利用可能性】
【００２６】
本発明の金型のシボ加工方法は、成形品の意匠面を構成する表面に皮革模様、木目模様、梨地模様などの任意の模様をシボ付けするための形状を金型の表面に成形することができる。
【符号の説明】
【００２７】
Ｍ：金型、  Ｍａ：残留凸部、  Ｍｂ：残留凸部、  Ｓ：腐食させる部分の底、  α：残留凸部Ｍｂから底Ｓに向かう傾斜角度、  Ｒ１：初版のレジストパターン、  Ｒ１Ａ  ：初版のレジストパターンの残留凸部Ｍａを形成する部分、  Ｒ１２：初版のレジストパターンの残留凸部Ｍｂを形成する部分、  Ｒ２：第２版のレジストパターン、  Ｒ２ａ：第２版のレジストパターンの残留凸部Ｍａを形成する部分、  Ｒ２ｂ：第２版のレジストパターンの残留凸部Ｍｂを形成する部分、  Ｒ３：第３版のレジストパターン、  Ｒ３ａ：第３版のレジストパターンの残留凸部Ｍａを形成する部分、  Ｒ３ｂ：第３版のレジストパターンの残留凸部Ｍｂを形成する部分、  １１：初版のレジストパターンの残留凸部Ｍａを形成する部分Ｒ１Ａ  と対応する凹部（位置基準部）、１２：第２版のレジストパターンの残留凸部Ｍａを形成する部分Ｒ２ａと対応する凹部（位置基準部）、１３：第３版のレジストパターンの残留凸部Ｍａを形成する部分Ｒ３ａと対応する凹部（位置基準部）
【図１】
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