(57)【要約】【課題】耐傷性に優れるフィルムミラーを提供する。【解決手段】樹脂基材と、前記樹脂基材の少なくとも一方の面に銀反射層および腐食防止層が設けられたフィルムミラーであって、（ｉ）最表層にメタロキサン骨格を有する材料を含むハードコート層を有し；かつ（ｉｉ）前記ハードコート層と銀反射層との間に有機無機ハイブリッド層を有する、フィルムミラー。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂基材と、前記樹脂基材の少なくとも一方の面に銀反射層および腐食防止層が設けられたフィルムミラーであって、
（ｉ）最表層にメタロキサン骨格を有する材料を含むハードコート層を有し；
（ｉｉ）前記ハードコート層と銀反射層との間に有機無機ハイブリッド層を有し；かつ
（ｉｉｉ）前記腐食防止層とハードコート層との間の無機成分の比率が１５〜８５重量％である、フィルムミラー。
【請求項２】
前記腐食防止層とハードコート層との間の無機成分の比率が２０〜８０重量％である、請求項１に記載のフィルムミラー。
【請求項３】
前記ハードコート層および有機無機ハイブリッド層の少なくとも一方は、無機微粒子をさらに含む、請求項１または２に記載のフィルムミラー。
【請求項４】
前記ハードコート層および有機無機ハイブリッド層の少なくとも一方は、紫外線吸収剤をさらに含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項５】
前記紫外線吸収剤は、トリアジン系紫外線吸収剤または無機系紫外線吸収剤である、請求項４に記載のフィルムミラー。
【請求項６】
鉛筆硬度が２Ｈ〜４Ｈである、請求項１〜５のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項７】
前記メタロキサン骨格を有する材料は、下記一般式（Ａ）：
【化１】
2015161826.tif 000011
ただし、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基またはエトキシ基を表わし；ｍは、０〜３０００の整数であり；ｎは、１〜３０００の整数であり；ｏは、０〜３０００の整数である、
で示される繰り返し単位を有する、ポリシロキサンである、請求項１〜６のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載のフィルムミラーを有する太陽熱発電用反射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルムミラーおよび太陽熱発電用反射装置に関する。詳細には、本発明は、高硬度太陽熱発電用フィルムミラーおよび太陽熱発電用反射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーの代替エネルギーとして、自然エネルギーの利用が検討されている。その中でも、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、エネルギー量の多い太陽エネルギーが注目されている。
【０００３】
太陽光をエネルギーに変換する別方式として、ミラーを用いて太陽光を集めて得られた熱を媒体として発電する、太陽熱発電が注目されている。この方式を用いれば、昼夜を問わず、発電が可能である上、長期的な視野でみれば、発電効率は太陽電池より高いと考えられるため、太陽光を有効に利用できる。
【０００４】
太陽熱発電に使われるミラーとして、現在は厚いガラスミラーが使用されているが、重く、割れやすいため、取り付け作業性が悪いのと維持コストが高い問題がある。そこで近年ミラーをフィルム化したフィルムミラーが注目されている。フィルムであれば、軽く、割れないので、簡単に取りつけれられる上、反射率自体も高いという特徴を有する。欠点としてはガラスミラーと比較して、耐傷性（特に、耐擦傷性）が低いことが挙げられる。
【０００５】
太陽熱発電プラントは砂漠地帯等の日射量の多い地域に建設されるが、砂埃がミラー表面に付着して、経時的に反射率が低下することが問題として挙げられる。その上、昼夜の気温差が大きいため、地域によっては朝方に大量の結露水がミラー表面に発生し、その結露水に砂や土が混じり、乾燥してミラー表面に汚れが強力に付着し、反射率が低下する。特にフィルムミラーの場合、最表面層に樹脂層が設けられるため、表面が強く帯電し、汚れが余計吸着しやすい。そのため、２週間〜２ヵ月に１回程度の頻度で、フィルムミラーにイオン交換水を吹き付けてブラシで擦って汚れを定期的に落としているが、洗浄に使用する水も大量に使う上、洗浄するための人手も必要なため、多額の洗浄コストが必要になる。また、定期的にミラーにイオン交換水を吹き付けてブラシでこすり洗いするため、非常に高いミラーの表面硬度が要求される（非特許文献１参照）。加えて、長期間屋外に暴露されることから、非常に高い紫外線耐性も要求される。
【０００６】
上記課題を考慮して、例えば、特許文献１では、特定の表面硬度を有するフィルムミラーを報告している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】国際公開第２０１１／０９６３２０号
【非特許文献】
【０００８】
【非特許文献１】Ｆｉｎａｌ  ｒｅｐｏｒｔ  ｏｎ  ｔｈｅ  ｏｐｅｒａｔｉｏｎ  ａｎｄ  ｍａｉｎｔｅｎａｎｃｅ  ｉｍｐｒｏｖｅｍｅｎｔ  ｐｒｏｇｒａｍ  ｆｏｒ  ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｎｇ  ｓｏｌａｒ  ｐｏｗｅｒ  ｐｌａｎｔｓ．  Ｐｒｉｎｔｅｄ  Ｊｕｎｅ  １９９９，  Ｇｉｌｂｅｒｔ  Ｅ．Ｃｏｈｅｎ，  Ｄａｖｉｄ  Ｗ．Ｋｅａｒｎｅｙ，  Ｇｒｅｇｏｒｙ  Ｊ．Ｋｏｌｂ
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
特許文献１に記載のフィルムミラーは、最表層を規定しているが、層構成が有機材料中心で形成されているため、ある程度の耐久性は確保されるが、２０年以上の使用は難しい上、耐傷性（特に、耐擦傷性）も十分ではない。
【００１０】
したがって、本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであり、耐傷性（特に、耐擦傷性）に優れるフィルムミラーおよび太陽熱発電用反射装置を提供することを目的とする。
【００１１】
本発明の他の目的は、耐久性に優れるフィルムミラーおよび太陽熱発電用反射装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者は、上記課題を解決すべく、鋭意研究を行った結果、無機成分の高い耐傷性及び耐候性（表面保護性）ならびに有機成分の高い柔軟性（屈曲性）に着目し、最表層に耐傷性及び耐候性（表面保護性）の高いメタロキサン系ハードコート層を設け、当該ハードコート層と銀反射層との間に柔軟性（屈曲性）の高い有機無機ハイブリッド層を設けることによって、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
【００１３】
すなわち、上記目的は、樹脂基材と、前記樹脂基材の少なくとも一方の面に銀反射層および腐食防止層が設けられたフィルムミラーであって、（ｉ）最表層にメタロキサン骨格を有する材料を含むハードコート層を有し；かつ（ｉｉ）前記ハードコート層と銀反射層との間に有機無機ハイブリッド層を有する、フィルムミラーによって達成できる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、耐傷性（特に、耐擦傷性）と屈曲性とのバランスに優れるフィルムミラーが提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１Ａ】本発明のフィルムミラーの構成の一実施形態を示す概略断面図である。
【図１Ｂ】本発明に係る太陽熱発電用反射装置の構成の一実施形態を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明は、樹脂基材と、前記樹脂基材の少なくとも一方の面に銀反射層および腐食防止層が設けられたフィルムミラーであって、（ｉ）最表層にメタロキサン骨格を有する材料を含むハードコート層（以下、「メタロキサン系ハードコート層」または「ハードコート層」とも称する）を有し；かつ（ｉｉ）前記ハードコート層と銀反射層との間に有機無機ハイブリッド層を有する、フィルムミラーに関する。本発明のフィルムミラーは、最表層にメタロキサン系ハードコート層を設け、当該ハードコート層と銀反射層との間に有機無機ハイブリッド層を設けることを特徴とする。
【００１７】
上述したように、太陽光を反射・集光させ、その熱を利用して発電を行う、太陽熱発電では、太陽光の反射部材としてはガラスミラーが用いられてきたが、その代替部材として、割れにくく、軽く、柔軟性があるフィルムミラーが注目されている。しかし、フィルムミラーは表面にハードコート層を設けても、ガラスミラーと比較して表面硬度に劣り、ブラシによる洗浄の際に傷が生じやすいという課題があった。また、太陽熱発電用途では砂漠のような非常に過酷な環境に設置されるため、高い紫外線耐性（耐光性、耐候性、耐久性）を必要としている。そのため、紫外線吸収剤や無機系材料を使用し、耐傷性及び耐候性を両立するフィルムミラーの開発も行われているが、耐傷性や耐候性、特に耐傷性を優先すると、屈曲性が低下し、十分な耐傷性と屈曲性をもつものはない。しかし、フィルムミラーは、効率的な集光性を得るために、通常、凹形状を有している。また、上述したように、太陽熱発電プラントは寒暖差の大きい砂漠地帯に設置されることが多いため、寒暖差に耐えうる柔軟性をも必要とする。このため、フィルムミラーは、耐傷性および屈曲性をバランスよく有することが好ましい。
【００１８】
特許文献１に記載のフィルムミラーは、最表層を無機（複）酸化物微粒子及びアクリレートまたはウレタン樹脂で形成している。このように有機材料中心で形成した最表層は、柔軟性には優れるが、耐擦傷性が十分ではない。このため、フィルムミラーに水を吹き付けてブラシで擦って砂塵を落とすと、砂塵がミラー表面に傷をつけるため、反射率が経時的に低下してしまう（耐傷性に劣る）。一方、無機材料で形成した最表層は耐傷性に優れるものの、最表層が高い硬度を有するため、屈曲性に劣る。このように、従来、耐傷性及び屈曲性はトレードオフの関係にあり、両者をバランスよく満足する最表層を備えるフィルムミラーに対する要望は高いにもかかわらず、存在しなかった。
【００１９】
これに対して、本発明のフィルムミラーは、耐傷性及び屈曲性双方に優れる。ここで、本発明の構成による上記作用効果の発揮のメカニズムは以下のように推測される。なお、本発明は下記メカニズムに限定されるものではない。
【００２０】
すなわち、本発明のフィルムミラーは、最表層にメタロキサン骨格を有する材料を含むハードコート層を有する。ここで、メタロキサン系ハードコート層は、無機材料であるメタロキサン骨格を有する材料を主成分とする（好ましくはメタロキサン骨格を有する材料から構成される）。無機材料（無機成分）は結合エネルギーが強いため、最表層は、硬く、また、太陽光に含まれる紫外線では切断されない。このため、このような無機材料からなる最表層は、耐傷性（耐擦傷性）に優れ、また、長期間屋外に放置していても膜機能はほとんど変化しないという利点がある。しかしその一方で、このような層は、結合エネルギーが強い分、脆く、屈曲性（柔軟性）に劣るという欠点がある。それに対して、有機無機ハイブリッド層は、無機材料（無機成分）及び有機材料（有機成分）（例えば、樹脂）双方を含む。ここで、無機材料（無機成分）は、上記したように耐傷性には優れるが、柔軟性には劣る。一方、有機材料（有機成分）は、比較的紫外線によって劣化しやすいが、柔軟性、屈曲性に優れる。このため、これらの機能を複合させた材料として有機無機ハイブリッド樹脂は、無機単独よりは耐傷性、耐候性に劣るが、柔軟性、屈曲性には優れる。このため、最も紫外線によりダメージを受けやすい最表層に耐傷性に優れるメタロキサン系ハードコート層を配置し、その下（光反射層側）に屈曲性（柔軟性）に優れる有機無機ハイブリッド層を配置することによって、フィルムミラーは、表面洗浄時の傷付きは有効に抑えつつ、フィルム独特の柔軟性も維持することができる。
【００２１】
したがって、本発明のフィルムミラーは、高い耐擦傷性、耐候性をもち、過酷な環境に長期間設置しても、太陽光に対して良好な正反射率を長期間保ち続けることができると同時に、屈曲性（柔軟性）に優れる。ゆえに、本発明のフィルムミラーは、太陽熱発電用反射装置に好適に使用できる。
【００２２】
以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態のみには限定されない。また、図面の寸法比率は、説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。
【００２３】
また、本明細書において、範囲を示す「Ｘ〜Ｙ」は「Ｘ以上Ｙ以下」を意味し、「重量」と「質量」、「重量％」と「質量％」及び「重量部」と「質量部」は同義語として扱う。また、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温（２０〜２５℃）／相対湿度４０〜５０％の条件で測定する。
【００２４】
［フィルムミラー］
本発明のフィルムミラーは、図１に示されるように、メタロキサン系ハードコート層、有機無機ハイブリッド層、腐食防止層、光反射層および樹脂基材を有する。詳細には、図１Ａは、本発明のフィルムミラーの構成の一実施形態を示す概略断面図である。図１Ａに示されるように、当該形態のフィルムミラー１０は、光入射（最表）側から順に、メタロキサン系ハードコート層（最表層）４、有機無機ハイブリッド層３、光反射層（例えば、銀反射層）２、腐食防止層５および樹脂基材（例えば、樹脂フィルム）１を少なくとも有している。フィルムミラー１０は、上記に加えて、樹脂基材１の光反射層２が配置されていない側に粘着層６を有していてもよい。当該形態によると、光反射層２が粘着層６と接しないため、粘着層６と光反射層２との界面から汚染物質が侵入し、光反射層２が腐食して反射率が低下することを抑制・防止できる。また、粘着層６と光反射層２との間に樹脂基材１を設けているため、粘着層６の凹凸が光反射層２に反映されることがなくなり、平面性の高い光反射層２を得ることができ、より高い反射率を達成できる。
【００２５】
なお、上記各層間に他の層を介していてもよいし、それぞれの層が隣接していてもよい。例えば、ハードコート層と銀反射層の間に、必要に応じて、紫外線吸収層、ガスバリア層、腐食防止層、アンカー層（プライマー層）、接着層などを設けてもよい。さらに、ハードコート層の光入射側に剥離層等を設けてもよい。本発明では、メタロキサン系ハードコート層及び有機無機ハイブリッド層は隣接していることが好ましい。当該構成をとることによって、耐傷性及び屈曲性双方をよりバランスよく向上することができる。このため、当該形態のフィルムミラーが太陽熱発電用反射装置に使用され、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐などに長持間晒されたとしても、フィルムミラーの高い反射率をより有効に発揮・維持できる。
【００２６】
本発明のフィルムミラー全体の厚さは、特に制限されないが、撓み防止、正反射率、取り扱い性等の観点から７５〜３００μｍが好ましく、より好ましくは９０〜２５０μｍ、更に好ましくは１００〜２５０μｍである。また、フィルムミラーの光入射側の最表面層の中心線平均粗さ（Ｒａ）が、３ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが、反射光の散乱を防止でき集光効率を高めるという観点から好ましい。
【００２７】
また、太陽熱発電用反射装置の概要を、図１Ｂに示す。
【００２８】
図１Ａに示されるフィルムミラー１０は、上述したように、樹脂基材１上に、腐食防止層５、光反射層２、有機無機ハイブリッド層３、メタロキサン系ハードコート層４が順に積層されて設けられている。また、樹脂基材１の光入射側の反対面に粘着層６が設けられている。当該フィルムミラー１０を用いてなる太陽熱発電用反射装置２０は、図１Ｂに示されるように、フィルムミラー１０における粘着層６を支持基材７に接合し、フィルムミラー１０と支持基材７を貼り合わせてなる反射鏡である。
【００２９】
以下、各構成層の詳細について記載する。
【００３０】
（メタロキサン系ハードコート層）
本発明に係るメタロキサン系ハードコート層は、メタロキサン骨格を有する材料を含む。ここで、メタロキサン骨格を有する材料は、特に制限されないが、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウムなどのポリメトキサン、ポリシラザン、パーヒドロポリシラザン、アルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン、ポリシロキサンなどが挙げられる。これらのうち、メタロキサン骨格を有する材料は、２官能、３官能、４官能ポリシロキサンまたはその混合物を含むことが好ましい。すなわち、メタロキサン骨格を有する材料は、下記一般式（Ａ）：
【００３１】
【化１】
2015161826.tif 000002
【００３２】
で示される繰り返し単位を有する、ポリシロキサンであることが好ましい。このようなポリシロキサンを含むハードコート層を使用することによって、耐傷性（表面保護性）および耐侯性をより向上できる。なお、上記メタロキサン骨格を有する材料は、１種を単独で使用されてもあるいは２種以上の混合物の形態で使用されてもよい。
【００３３】
上記一般式（Ａ）において、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基またはエトキシ基を表わす。ここで、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は、それぞれ、同一であってもあるいは異なるものであってもよい。また、各繰り返し単位が複数存在する（即ち、ｍ、ｎまたはｏが２以上の整数である）場合には、各繰り返し単位は、同一であってもあるいは異なるものであってもよい。
【００３４】
上記一般式（Ａ）において、ｍは、下記４官能のシロキサン繰り返し単位：
【００３５】
【化２】
2015161826.tif 000003
【００３６】
がポリシロキサン（メタロキサン骨格を有する材料）中に存在する数を示し、０〜３０００の整数である。より優れた耐傷性（表面保護性）および耐侯性などを考慮すると、ｍは、好ましくは０〜２５００の整数であり、より好ましくは０〜２０００の整数である。
【００３７】
ｎは、下記３官能のシロキサン繰り返し単位：
【００３８】
【化３】
2015161826.tif 000004
【００３９】
がポリシロキサン（メタロキサン骨格を有する材料）中に存在する数を示し、１〜３０００の整数である。より優れた耐傷性（表面保護性）および耐侯性などを考慮すると、ｎは、好ましくは１〜２５００の整数であり、より好ましくは１〜２０００の整数である。
【００４０】
ｏは、下記２官能のシロキサン繰り返し単位：
【００４１】
【化４】
2015161826.tif 000005
【００４２】
がポリシロキサン（メタロキサン骨格を有する材料）中に存在する数を示し、０〜３０００の整数である。より優れた耐傷性（表面保護性）および耐侯性などを考慮すると、ｎは、好ましくは１〜２５００の整数であり、より好ましくは１〜２０００の整数である。
【００４３】
また、ポリシロキサンは、アルコキシシラン系化合物の部分加水分解オリゴマーからなる熱硬化型シリコン系ハードコートであり、熱硬化型ポリシロキサン樹脂からなることが好ましい。なお、ハードコート層には、後述する紫外線吸収剤、酸化防止剤など他の成分を含んでもよいが、有機高分子（樹脂）を実質的に含まないことが好ましい。なお、「有機高分子（樹脂）を実質的に含まない」とは、メタロキサン系ハードコート層中に、有機高分子（樹脂）が固形分で３重量％以下の量で含まれることを意味し、好ましくは０重量％以下（下限：０）の量で含まれる。
【００４４】
熱硬化型シリコーン系のハードコート層には公知の方法によって合成したアルコキシシラン化合物の部分加水分解オリゴマーを使用できる。その合成方法の一例は以下の通りである。まず、アルコキシシラン化合物としてテトラメトキシシラン、又はテトラエトキシシランを用い、これを塩酸、硝酸等の酸触媒の存在下に所定量の水を加えて、副生するアルコールを除去しながら室温から８０℃で反応させる。この反応によりアルコキシシランは加水分解し、更に縮合反応により一分子中にシラノール基又はアルコキシ基を２個以上有し、平均重合度４〜８のアルコキシシラン化合物の部分加水分解オリゴマーが得られる。次にこれに酢酸、マレイン酸等の硬化触媒を添加し、アルコール、グリコールエーテル系の有機溶剤に溶解させて熱硬化型シリコーン系ハードコート液が得られる。そしてこれを通常の塗料における塗装方法によりフィルムミラーの最表層（最外面）に塗布し、８０〜１４０℃の温度で加熱硬化することによって、透明ハードコート層を形成できる。ただし、この場合、フィルムミラーの熱変形温度以下での硬化温度の設定が前提となる。なお、テトラアルコキシシランの代わりにジ（アルキルまたはアリール）ジアルコキシシラン、並びに／或いはモノ（アルキルまたはアリール）トリアルコキシシランを使用することにより、同様にポリシロキサン系の透明ハードコート層を製造することが可能である。
【００４５】
なお、ハードコート層の硬化促進を目的として、触媒を使用してよい。ここで、触媒は、特に制限されないが、例えば、硫酸、塩酸、硝酸、次亜塩素酸、ホウ酸、フッ酸。好ましくは塩酸、硝酸等の無機酸のほか、スルホ基（スルホン酸基ともいう）またはカルボキシル基を有する有機酸、例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、メチルスルホン酸等が用いられる。有機酸は１分子内に水酸基とカルボキシル基を有する化合物が好ましく使用され、例えば、クエン酸または酒石酸等のヒドロキシジカルボン酸が好ましく用いられる。また、有機酸は水溶性の酸であることが更に好ましく、例えば上記クエン酸や酒石酸の他に、レブリン酸、ギ酸、プロピオン酸、リンゴ酸、コハク酸、メチルコハク酸、フマル酸、オキサロ酢酸、ピルビン酸、２−オキソグルタル酸、グリコール酸、Ｄ−グリセリン酸、Ｄ−グルコン酸、マロン酸、マレイン酸、シュウ酸、イソクエン酸、乳酸等が好ましく用いられる。また、安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、アトロバ酸等も適宜用いることができる。
【００４６】
または、シリコーン系ハードコート剤として、市販品を使用してもよい。市販品としては、以下に制限されないが、シリコーン系熱重合硬化ハードコート剤（例えば、メチルトリメトキシシラン（関東化学（株）製、化学式はＣＨ３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）、（株）動研製：サーコート（ＳＡＲＣｏａｔ）（商標）シリーズ、（株）動研製：ＮＰシリーズ、東芝シリコーン製：トスガード５１０（シリコーンレジン）、ＳＲ２４４１（東レ・ダウコーニング社）、信越化学工業（株）製：ＫＰ−８６）、Ｐｅｒｍａ−Ｎｅｗ（登録商標）６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄ  ｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ）等を使用することができる。
【００４７】
または、ハードコート層は、ポリシラザンを塗布製膜し、加熱硬化することによって形成してもよい。ハードコート層の前駆体が、ポリシラザンを含有する場合、例えば下記一般式（６）で表されるポリシラザンを含む有機溶剤中に必要に応じて触媒を加えた溶液を塗布した後、溶剤を蒸発させて除去し、それによってフィルムミラーの最表に０．０５〜３．０μｍの層厚を有するポリシラザン層を残す。そして、水蒸気を含む雰囲気中で酸素、活性酸素、場合によっては窒素の存在下で、上記のポリシラザン層を局所的加熱することによって、フィルムミラーの最表にガラス様の透明なハードコートの被膜を形成する方法を採用することが好ましい。
【００４８】
【化５】
2015161826.tif 000006
【００４９】
上記一般式（６）において、Ｙ１、Ｙ２及びＹ３は、同一か又は異なり、互いに独立して、水素原子、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基、好ましくは水素原子、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニル、ビニル又は３−（トリエトキシシリル）プロピル、３−（トリメトキシシリルプロピル）からなる群から選択される基を表す。この際、ｎは整数であり、ｎは、ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
【００５０】
触媒としては、好ましくは、塩基性触媒、特にＮ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、３−モルホリノプロピルアミン又はＮ−複素環式化合物が使用される。触媒濃度は、ポリシラザンを基準にして通常０．１〜１０モル％、好ましくは０．５〜７モル％の範囲である。
【００５１】
なお、好ましい態様の一つでは、一般式（６）中のＹ１、Ｙ２及びＹ３のすべてが水素原子であるパーヒドロポリシラザンを含む溶液が使用される。
【００５２】
また、別の好ましい態様の一つでは、ハードコート層が、下記の一般式（７）で表される少なくとも一種のポリシラザンを含むことである。
【００５３】
【化６】
2015161826.tif 000007
【００５４】
一般式（７）中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、Ｙ５及びＹ６は、互いに独立して、水素原子、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基を表す。この際、ｎ及びｐは整数であり、特にｎは、ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
【００５５】
特に好ましいものは、Ｙ１、Ｙ３及びＹ６が水素原子を表し、そしてＹ２、Ｙ４及びＹ５がメチルを表す化合物。またＹ１、Ｙ３及びＹ６が水素原子を表し、そしてＹ２、Ｙ４がメチルを表し、そしてＹ５がビニルを表す化合物。また、Ｙ１、Ｙ３、Ｙ４及びＹ６が水素原子を表し、そしてＹ２及びＹ５がメチルを表す化合物である。
【００５６】
さらに、別の好ましい態様の一つでは、透明ハードコート層が、下記の一般式（８）で表される少なくとも一種のポリシラザンを含むことである。
【００５７】
【化７】
2015161826.tif 000008
【００５８】
一般式（８）中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、Ｙ５、Ｙ６、Ｙ７、Ｙ８及びＹ９は、互いに独立して、水素原子、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基を表す。この際、ｎ、ｐ及びｑは整数であり、特にｎは、ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
【００５９】
特に好ましいものは、Ｙ１、Ｙ３及びＹ６が水素原子を表し、そしてＹ２、Ｙ４、Ｙ５及びＹ８がメチルを表し、Ｙ９が（トリエトキシシリル）プロピルを表し、そしてＹ７がアルキル又は水素原子を表す化合物である。
【００６０】
溶剤中のポリシラザンの割合は、一般的には、ポリシラザン１〜８０重量％、好ましくは５〜５０重量％、特に好ましくは１０〜４０重量％である。
【００６１】
溶剤としては、特に、水及び反応性基（例えばヒドロキシ基又はアミン基）を含まず、ポリシラザンに対して不活性の有機系で好ましくは非プロトン性の溶剤が好適である。これは、例えば、脂肪族又は芳香族炭化水素、ハロゲン炭化水素、エステル、例えば酢酸エチル又は酢酸ブチル、ケトン、例えばアセトン又はメチルエチルケトン、エーテル、例えばテトラヒドロフラン又はジブチルエーテル、並びにモノ−及びポリアルキレングリコールジアルキルエーテル（ジグライム類）又はこれらの溶剤からなる混合物である。
【００６２】
このポリシラザン溶液の追加の成分に、通常の塗料（ハードコート剤）の製造に慣用されているもののような、更に別のバインダーを用いることができる。これは、例えば、セルロースエーテル及びセルロースエステル、例えばエチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテート又はセルロースアセトブチレート、天然樹脂、例えばゴムもしくはロジン樹脂、又は合成樹脂、例えば重合樹脂もしくは縮合樹脂、例えばアミノプラスト、特に尿素樹脂及びメラミンホルムアルデヒド樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステルもしくは変性ポリエステル、エポキシド、ポリイソシアネートもしくはブロック化ポリイソシアネート、又はポリシロキサンである。
【００６３】
また、このポリシラザン調合物に更に追加する別の成分として、例えば、調合物の粘度、下地の濡れまたは成膜性に影響を与える添加剤、あるいは無機ナノ粒子、例えばＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＺｒＯ２又はＡｌ２Ｏ３を用いることができる。
【００６４】
ハードコート層は、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。これにより、ハードコート層自体およびハードコート層より下層（例えば、有機無機ハイブリッド層）をより有効に保護することができる。このため、フィルムミラーの耐久性をより向上できる。ここで、紫外線吸収剤は、特に制限はないが、例えばチアゾリドン系、ベンゾトリアゾール系、アクリロニトリル系、ベンゾフェノン系、アミノブタジエン系、トリアジン系、サリチル酸フェニル系、ベンゾエート系などの有機系の紫外線吸収剤、あるいは酸化セリウム、酸化マグネシウムなどの微粉末系の紫外線遮断剤や酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄等の無機系の紫外線吸収剤などがある。これらのうち、有機系の紫外線吸収剤や無機系の紫外線吸収剤が好ましく、トリアジン系紫外線吸収剤や無機系紫外線吸収剤がより好ましい。すなわち、紫外線吸収剤は、トリアジン系紫外線吸収剤または無機系紫外線吸収剤であることが好ましい。
【００６５】
有機系の紫外線吸収剤として、例えば特開昭４６−３３３５号、同５５−１５２７７６号、特開平５−１９７０７４号、同５−２３２６３０号、同５−３０７２３２号、同６−２１１８１３号、同８−５３４２７号、同８−２３４３６４号、同８−２３９３６８号、同９−３１０６７号、同１０−１１５８９８号、同１０−１４７５７７号、同１０−１８２６２１号各公報、独国特許第１９７３９７９７Ａ号、欧州特許第７１１８０４Ａ号各公報及び特表平８−５０１２９１号公報、米国特許第１，０２３，８５９号、同第２，６８５，５１２号、同第２，７３９，８８８号、同第２，７８４，０８７号、同第２，７４８，０２１号、同第３，００４，８９６号、同第３，０５２，６３６号、同第３，２１５，５３０号、同第３，２５３，９２１号、同第３，５３３，７９４号、同第３，６９２，５２５号、同第３，７０５，８０５号、同第３，７０７，３７５号、同第３，７３８，８３７号、同第３，７５４，９１９号、英国特許第１，３２１，３５５号明細書等に記載されている化合物を用いることができる。
【００６６】
具体的には、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシ−ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−ベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン等が挙げられる。
【００６７】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−（２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］（分子量６５９；市販品の例としては株式会社ＡＤＥＫＡのＬＡ３１）、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール（分子量４４７．６；市販品の例としてはＢＡＳＦ社製のＴＩＮＵＶＩＮ２３４）、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ９２８、商品名、ＢＡＳＦ製）などが挙げられる。
【００６８】
サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤としては、フェニルサルチレート、２−４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。ヒンダードアミン系紫外線吸収剤としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート等が挙げられる。
【００６９】
トリアジン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、〔２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−（ヘキシル）オキシフェノール〕（ＴＩＮＵＶＩＮ１５７７ＦＦ、商品名、ＢＡＳＦ製）、ＴＩＮＵＶＩＮ４７７（商品名、ＢＡＳＦ社製）、ＴＩＮＵＶＩＮ４７９（商品名、ＢＡＳＦ社製）等のヒドロキシフェニルトリアジン、〔２−［４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−５−（オクチルオキシ）フェノール〕（ＣＹＡＳＯＲＢ  ＵＶ−１１６４、商品名、サイテックインダストリーズ製）等が挙げられる。
【００７０】
ベンゾエート系紫外線吸収剤としては、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート（分子量４３８．７；市販品の例としては住友化学株式会社のＳｕｍｉｓｏｒｂ４００）などが挙げられる。
【００７１】
これら紫外線吸収剤のなかでも、分子量が４００以上の紫外線吸収剤は、高沸点で揮発しにくく、高温成形時にも飛散しにくいため、比較的少量の添加で効果的に耐候性を改良することができる。
【００７２】
また、分子量が４００以上の紫外線吸収剤は、薄いハードコート層から他の構成層への移行性も小さく、積層体の表面にも析出しにくいため、含有された紫外線吸収剤量が長時間維持され、耐候性改良効果の持続性に優れるなどの点から好ましい。
【００７３】
分子量が４００以上の紫外線吸収剤としては、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール等のベンゾトリアゾール系、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート等のヒンダードアミン系、さらには２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等の分子内にヒンダードフェノールとヒンダードアミンの構造を共に有するハイブリッド系のものが挙げられ、これらは単独で、あるいは２種以上を併用して使用することができる。これらのうちでも、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］が特に好ましい。
【００７４】
また、紫外線吸収剤としては上記した以外に、紫外線の保有するエネルギーを分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物を用いることもできる。さらに、酸化防止剤あるいは着色剤等との併用により効果を発現するもの、あるいはクエンチャーと呼ばれる、光エネルギー変換剤的に作用する光安定剤等も併用することができる。但し、上記の紫外線吸収剤を使用する場合は、紫外線吸収剤の光吸収波長が、光重合開始剤の有効波長と重ならないものを選択する必要がある。通常の紫外線吸収剤を使用する場合は、可視光でラジカルを発生する光重合開始剤を使用することが有効である。
【００７５】
なお、上記紫外線吸収剤はそれぞれ、必要に応じてそれらの２種以上を用いることもできる。また、必要により、上記紫外線吸収剤以外の紫外線吸収剤、例えば、サリチル酸誘導体、置換アクリロニトリル、ニッケル錯体などを含有させることもできる。
【００７６】
ハードコート層への紫外線吸収剤の含有量（固形分換算）は、特に制限されないが、ハードコート層に対して、０．１〜２５重量％であることが好ましく、より好ましくは０．５〜２０重量％、さらに好ましくは１〜１５重量％である。また、紫外線吸収剤のハードコート層への含有量（フィルム単位面積当たりの含有量）もまた特に制限されないが、好ましくは０．１７〜２．２８ｇ／ｍ２、より好ましくは０．４〜２．２８ｇ／ｍ２である。紫外線吸収剤の含有量を上記の範囲にすることによって、耐候性能をより十分発揮しつつ、紫外線吸収剤のブリードアウトによるロールやフィルムの汚れを起こすこと（ゆえに、ヘイズの上昇）をより有効に抑制・防止できる。
【００７７】
また、ハードコート層は、無機微粒子を含有することが好ましい。これにより、硬度、耐擦傷性をさらに向上できる。ここで、無機微粒子は、特に制限されないが、例えば、シリカ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム等が挙げられる。なお、無機微粒子が紫外線吸収剤として作用することもありうる。無機微粒子の大きさもまた、特に制限されないが、耐傷性、耐候性などの観点から、平均粒子径が５〜２００ｎｍであることが好ましく、５〜１００ｎｍであることがより好ましい。ここで、平均粒子径の測定方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により粒子観察を行い、そこから粒子径分布の数平均粒子径として求める方法や、電子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて平均粒子径を求める方法、動的光散乱法による粒径測定装置、例えば、Ｍａｌｖｅｒｎ社製、「ＺＥＴＡＳＩＺＥＲＮａｎｏ  Ｓｅｒｉｅｓ  Ｎａｎｏ−ＺＳ」を用いて測定することができる。その他にも、Ｘ線小角散乱法により得られたスペクトルから粒子の粒子径分布シミュレーション計算を用いて粒子径分布を導出する方法などが挙げられるが、本発明においては、電子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて平均粒子径を求める方法が好ましい。
【００７８】
また、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウムは、クラック発生を抑制・防止するという観点から、光触媒活性が低いことが好ましい。このような光触媒活性が低い無機微粒子としては、以下に制限されないが、上記無機微粒子の表面をシリカ等の酸化物や水酸化物で被覆する方法、加水分解性シランにより表面処理（表面被覆）する方法、無機微粒子の表面をアルミニウムアルコキシド、シリコンアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、スズアルコキシド等のアルコキシドの加水分解物で被覆する方法、ケイ酸ナトリウム水溶液で中和して、無機微粒子表面に酸化物や水酸化物を析出させる方法、上記析出した酸化物や水酸化物を加熱して結晶性を高める方法などが挙げられる。
【００７９】
また、無機微粒子は、市販品を使用してもよい。具体的には、日産化学工業（株）製スノーテックス−Ｏ、ＯＳ、ＯＬ、メタノール分散シリカゾル、メチルエチルケトン分散シリカゾル等；ＣＩＫナノテック（株）製ＺＮＴＡＮＢ１５ＷＴ％−Ｅ１６、同Ｅ３４、ＲＴＴＤＮＢ１５ＷＴ％−Ｅ６８、同Ｅ８８；日揮触媒化成（株）製シリカ粒子などを挙げることができる。
【００８０】
ハードコート層への無機微粒子の含有量（固形分換算）は、特に制限されないが、ハードコート層に対して、１０〜８０重量％であることが好ましく、より好ましくは２０〜７０重量％、さらに好ましくは３０〜６０重量％である。無機微粒子の含有量を上記の範囲にすることによって、耐傷性、耐候性能をより十分発揮できる。
【００８１】
また、ハードコート層は、劣化を防止するために、酸化防止剤を含有してもよい。これにより、ハードコート層自体およびハードコート層より下層（例えば、有機無機ハイブリッド層）をより有効に保護することができる。ここで、酸化防止剤は、特に制限されないが、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤を使用することが好ましい。ここで、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤としては、それぞれ、ＷＯ  ２０１２／１６５４６０号などに記載される公知の酸化防止剤が使用できる。
【００８２】
ハードコート層中には、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、界面活性剤、レベリング剤および帯電防止剤などを用いることができる。
【００８３】
レベリング剤は、表面凹凸低減に効果的である。レベリング剤としては、例えば、シリコーン系レベリング剤として、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体（例えば東レダウコーニング（株）製ＳＨ１９０）が好適である。
【００８４】
ハードコート層の作製方法としては、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法、バーコート法等、従来公知のコーティング方法を挙げることができる。また、所定の材料を塗布、塗工することに加え、各種表面処理等を組み合わせてもよい。
【００８５】
なお、ハードコート層の厚みは、０．０５μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。ハードコート層の厚みは、より好ましくは１μｍ以上７μｍ以下であり、特に好ましくは２μｍ以上５μｍ以下である。このような厚みであれば、硬度及び屈曲性をある程度両立でき、十分な耐傷性を得つつ、フィルムミラーにそりが発生することを防止できる。
【００８６】
（有機無機ハイブリッド層）
本発明に係る有機無機ハイブリッド層は、無機材料（無機成分）及び有機材料（有機成分）を含むが、反応性官能基を有する無機材料（無機成分）及び硬化性樹脂（有機材料、有機成分）から構成されることが好ましい。有機無機ハイブリッド層は、有機材料（有機成分）を含むため、柔軟性（屈曲性）に優れる。ゆえに、高い硬度を有するハイブリッド層の下方（光反射層側）に、特に高い硬度を有するハードコート層と隣接させて、有機無機ハイブリッド層を設けることによって、フィルムミラーは、耐傷性（特に、耐擦傷性）と屈曲性とのバランスに優れる。
【００８７】
このような反応性官能基を有する無機成分及び硬化性樹脂から構成される有機・無機ハイブリッド系コーティング剤は、反応性官能基を有する無機成分が、ラジカル重合性モノマーと共重合及び架橋することにより、有機無機ハイブリッド層を形成する。このため、本発明に係る有機無機ハイブリッド層は、有機バインダーに無機成分を含有させてなる有機・無機複合系コーティング剤に比べて、硬化収縮が生じにくく、かつ高い耐擦傷性を発現することができる。
【００８８】
反応性官能基を有する無機成分は、特に制限されないが、硬化収縮の観点から、紫外線反応性のシリカを含むことが好ましく、紫外線反応性のコロイダルシリカを含むことがより好ましい。または、反応性官能基を有する無機成分は、市販品を使用してもよい。具体的には、Ｄｙｎａｓｙｌａｎ（登録商標）（ＥＶＯＮＩＣ社製、シリケート）、コルコート（コルコート社製）などが使用できる。
【００８９】
また、ラジカル重合性モノマーとしては、多官能性（メタ）アクリレートが挙げられる。例えば、２官能性（メタ）アクリレートとしては、エチレンオキサイド変性ジアクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキサイド変性ジアクリレート、ジメチロール−トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）ジアクリレート、ウレタン（メタ）ジアクリレート等が挙げられる。
【００９０】
また３官能性以上の多官能性（メタ）アクリレートとしては、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートやトリメチロールプロパントリエトキシ（メタ）アクリレート、ウレタントリ（メタ）アクリレート、ウレタンテトラ（メタ）アクリレート、ウレタンヘキサ（メタ）アクリレート、ポリエステルテトラ（メタ）アクリレート、ポリエステルヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００９１】
または、硬化性樹脂（有機材料、有機成分）は、市販品を使用してもよい。具体的には、ＳＳＧ（登録商標）コート（ニットーボーメディカル（株）製、有機無機ハイブリッド樹脂）、コンポセラン（荒川化学工業社製、有機無機ハイブリッド樹脂）、ＨＵＶ−ＣＭＡシリーズ（アトミクス社製、有機無機ハイブリッド樹脂）などが使用できる。
【００９２】
また、有機無機ハイブリッド層における、硬化収縮率及び粘度の調整、少量添加物の溶解性向上を目的として、適宜、１官能性（メタ）アクリレートを加えてもよい。１官能性（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレン（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００９３】
有機・無機ハイブリッド系コーティング剤（有機無機ハイブリッド層）中の反応性官能基を有する無機成分の含有量は、特に制限されないが、表面硬度、透明性及び打ち抜き加工性などの観点から、５重量％以上７０重量％未満であることが好ましく、１０重量％以上６５重量％未満であることがより好ましく、１５重量％を超えて６０重量％未満であることが最も好ましい。
【００９４】
または、本発明に係る有機無機ハイブリッド層は、特開２０１２−２１９１５９号公報に記載される耐候性ハードコート組成物から形成されるものであってもよい。なお、特開２０１２−２１９１５９号公報では、ガラスに代わる構造部材として、高寿命と耐擦傷性を達成できる組成物を目的としている。しかし、上記公報の実施例は、ポリカーボネート板に厚い有機無機ハイブリッド層を形成しており、当該記載をもってしても、本発明のフィルムミラーにそのまま適用することは容易には想到しない。
【００９５】
有機無機ハイブリッド層は、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。これにより、有機無機ハイブリッド層自体および有機無機ハイブリッド層より下層をより有効に保護することができる。このため、フィルムミラーの耐久性をより向上できる。すなわち、ハードコート層および有機無機ハイブリッド層の少なくとも一方は、紫外線吸収剤をさらに含むことが好ましい。ここで、紫外線吸収剤は、特に制限されず、上記ハードコート層で記載したのと同様の定義であるため、ここでは説明を省略する。
【００９６】
有機無機ハイブリッド層は、無機微粒子を含有することが好ましい。これにより、有機無機ハイブリッド層の硬度、耐擦傷性をさらに向上できる。すなわち、ハードコート層および有機無機ハイブリッド層の少なくとも一方は、無機微粒子をさらに含むことが好ましい。ここで、無機微粒子は、特に制限されず、上記ハードコート層で記載したのと同様の定義であるため、ここでは説明を省略する。
【００９７】
また、有機無機ハイブリッド層は、酸化防止剤を含有してもよい。ここで、酸化防止剤は、特に制限されず、上記ハードコート層で記載したのと同様の定義であるため、ここでは説明を省略する。
【００９８】
有機無機ハイブリッド層の作製方法としては、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法を挙げることができる。また、所定の材料を塗布、塗工することに加え、各種表面処理等を組み合わせてもよい。
【００９９】
なお、有機無機ハイブリッド層の厚みは、１５μｍ以上１００μｍ未満であることが好ましい。有機無機ハイブリッド層の厚みは、より好ましくは２０μｍ以上６０μｍ以下であり、特に好ましくは２５μｍ以上５０μｍ以下である。このような厚みであれば、硬度及び屈曲性をある程度両立でき、十分な耐傷性を得つつ、フィルムミラーにそりが発生することを防止できる。
【０１００】
本発明に係るフィルムミラーでは、高い硬度を有する（耐傷性に優れる）が屈曲性に劣るハードコート層と、耐傷性には劣るが屈曲性に優れる有機無機ハイブリッド層と、をバランスよく組み合わせることによって、耐傷性及び屈曲性双方に優れるフィルムミラーが提供される。本発明者は、上記組み合わせについてさらに鋭意検討を行って結果、腐食防止層とハードコート層との間の無機材料の量（無機成分の比率）を適切に調整することにより、耐傷性（表面保護性）および耐侯性と屈曲性（柔軟性）との良好なバランスをより有効に達成することができることを知得した。
【０１０１】
すなわち、腐食防止層とハードコート層との間の無機成分の比率（以下、単に「無機成分比率」とも称する）は、１５〜８５重量％であることが好ましく、２０〜８０重量％であることがより好ましい。このような範囲の無機成分比率にすることによって、耐傷性（表面保護性）および耐侯性と、屈曲性（柔軟性）と、のバランスをより向上することができる。
【０１０２】
本明細書において、「無機成分」とは、ケイ素（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）などの炭素以外の元素が３つ以上連なった構造を有する物質（材料）を指す。なお、ケイ素（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）などの炭素以外の元素にメチル基やエチル基が修飾されていても無機成分とする。一方、「有機成分」とは、炭素元素が３つ以上連なった構造を指し、炭素元素にＳｉやＮが組み込まれていても炭素成分とみなす。本発明では、ハードコート層は、無機成分を主成分とする。一方、有機無機ハイブリッドは、有機成分及び無機成分双方を含むため、その組成により、有機成分及び無機成分の比率が変化する。「腐食防止層とハードコート層との間の無機成分の比率（無機成分比率）（％）」は、腐食防止層とハードコート層との間に存在する各層中の無機成分および有機成分の含有量（重量）をそれぞれ測定し、無機成分の合計重量および有機成分の合計重量を算出して、下記式（ア）に従って求められる。なお、腐食防止層とハードコート層との間に光反射層を含む場合には、光反射層は上記無機成分比率の算出には含めない。また、下記式（ア）において、無機成分比率の算出にあたっては、有機成分及び無機成分の合計重量を各層（例えば、有機無機ハイブリッド層、ハードコート層）の体積（厚み）を勘案して求めてもよい。
【０１０３】
【数１】
2015161826.tif 000009
【０１０４】
（樹脂基材）
樹脂基材としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルム、アクリルフィルムが好ましい。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム又はアクリルフィルムを用いることが好ましく、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルムが特に好ましい。ここで、樹脂基材は、いずれの方法によって製造されてもよく、例えば、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
【０１０５】
樹脂基材は、光反射層よりも光入射側から遠い位置にあるため、紫外線が樹脂基材に到達しにくい。特に、樹脂基材よりも光入射側にある透光性樹脂層等に紫外線吸収剤を含有させたりする場合は、紫外線が樹脂基材により一層到達しにくい。従って、樹脂基材は、紫外線に対して劣化しやすい樹脂であっても用いることが可能となる。そのような観点から、樹脂基材として、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルムを用いることが可能となる。
【０１０６】
樹脂基材の厚さは、特に制限されないが、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。樹脂基材の厚さは、例えば、１０〜３００μｍの範囲内であることが好ましく、より好ましくは２０〜２００μｍである。
【０１０７】
（光反射層）
光反射層は、太陽光を反射する機能を有する金属等からなる層である。
【０１０８】
光反射層の表面反射率は好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。この光反射層は、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｒｈ、Ｐｔ及びＡｕからなる元素群の中から選ばれるいずれかの元素を含む材料により形成されることが好ましい。中でも、反射率、耐食性の観点からＡｌまたはＡｇを主成分としていることが好ましく、このような金属の薄膜を２層以上形成するようにしてもよい。本発明においては、特に銀を主成分とする光反射層としている。
【０１０９】
光反射層の厚さは、反射率等の観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍである。
【０１１０】
また、光反射層にＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の金属酸化物からなる層を設けてさらに反射率を向上させてもよい。
【０１１１】
この光反射層の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応などがある。一方、乾式法とは、真空製膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続的に製膜するロールツーロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。例えば、太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法において、光反射層を銀蒸着（特に真空蒸着）によって形成する製造方法であることが好ましい。
【０１１２】
（アンカー層（プライマー層））
アンカー層は、樹脂基材と光反射層との間に配置されうる。アンカー層は、樹脂からなり、樹脂基材と光反射層とを密着させるものである。したがって、アンカー層は、樹脂基材と光反射層とを密着する密着性、光反射層を真空蒸着法等で形成する際の熱にも耐え得る耐熱性、及び光反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
【０１１３】
アンカー層に使用される材料（樹脂材料）、アンカー層の形成方法は、特に制限されないが、例えば、ＷＯ  ２０１２／１６５４６０号パンフレット（特に、段落「０２０９」〜「０２１２」）等の公知の文献に記載されるのと同様の材料や方法が使用できる。
【０１１４】
（腐食防止層）
腐食防止層は、腐食防止剤を含有している樹脂層であり、光反射層に隣接していることが好ましい。これにより、光反射層、特に銀の腐食を有効に防止できる。光反射層の腐食をより有効に抑制・防止するためには、腐食防止層が銀反射層の光入射側に隣接している。または腐食防止層が光反射層の両側に隣接していることが好ましい。
【０１１５】
腐食防止層は、１層のみからなっていてもよいし、複数層からなっていてもよい。腐食防止層の厚さは、３０ｎｍ〜１０μｍが好ましく、５０ｎｍ〜５μｍがより好ましい。
【０１１６】
腐食防止層に用いる樹脂、腐食防止剤は、特に制限されないが、例えば、ポリエステル系樹脂やアクリル系樹脂等の、ＷＯ  ２０１２／１６５４６０号パンフレット（特に、段落「００７９」〜「００９５」）などの公知の文献に記載されるのと同様の材料が使用できる。
【０１１７】
これら樹脂材料（バインダー）を光反射層上などに塗布、塗工するなどして、腐食防止層を形成することができる。
【０１１８】
腐食防止剤としては、銀に対する吸着性基を有することが好ましい。ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ  Ｚ０１０３−２００４参照）。腐食防止剤は、特に制限されず、公知の腐食防止剤が使用できる。具体的には、アミン類およびその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系化合物などが挙げられる。また、シリコン変性樹脂を用いることも可能である。シリコン変性樹脂として特に限定されない。上記腐食防止剤は、１種を単独で使用されてもあるいは２種以上の混合物の形態で使用されてもよい。
【０１１９】
アミン類およびその誘導体としては、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、Ｏ−トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２Ｎ−ジメチルエタノールアミン、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、ｐ−エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１２０】
ピロール環を有する物としては、Ｎ−ブチル−２，５−ジメチルピロール，Ｎ−フェニル−２，５ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３−ホルミル−２，５−ジメチルピロール，Ｎ−フェニル−３，４−ジホルミル−２，５−ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１２１】
トリアゾール環を有する化合物としては、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−ヒドロキシ−１，２，４−トリアゾール、３−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、４−メチル−１，２，３−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７−テトラハイドロトリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−５−メチル−１，２，４−トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ３’５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１２２】
ピラゾール環を有する化合物としては、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５−ジメチルピラゾール、３−メチル−５−ヒドロキシピラゾール、４−アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１２３】
チアゾール環を有する化合物としては、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２−Ｎ，Ｎ−ジエチルチオベンゾチアゾール、Ｐ−ジメチルアミノベンザルロダニン、２−メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１２４】
イミダゾール環を有する化合物としては、イミダゾール、ヒスチジン、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５ジヒドロキシメチルイミダゾール、４−フォルミルイミダゾール、２−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−フォルミルイミダゾール、４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−エチル−４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１２５】
インダゾール環を有する化合物としては、４−クロロインダゾール、４−ニトロインダゾール、５−ニトロインダゾール、４−クロロ−５−ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１２６】
銅キレート化合物類としては、アセチルアセトン銅、エチレンジアミン銅、フタロシアニン銅、エチレンジアミンテトラアセテート銅、ヒドロキシキノリン銅等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１２７】
チオ尿素類としては、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１２８】
メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、メルカプト酢酸、チオフェノール、１，２‐エタンジオール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、グリコールジメルカプトアセテート、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１２９】
ナフタレン系としては、チオナリド等が挙げられる。
【０１３０】
なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には０．１〜１．０ｇ／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
【０１３１】
（紫外線吸収層）
紫外線吸収層は、太陽光や紫外線によるフィルムミラーの劣化防止の目的で紫外線吸収剤を含有してなる層である。紫外線吸収層の配置は、特に制限されないが、樹脂基材よりも光入射側に設けることが好ましい。また、フィルムミラーが腐食防止層をさらに有する場合には、腐食防止層よりも光入射側に設けることが好ましい。
【０１３２】
紫外線吸収層は、バインダーとして樹脂を含んでもよい。この際、樹脂は、バインダーとして機能するものであれば特に制限されない。例えば、セルロースエステル系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリアリレート系、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン系、ポリカーボネート、ノルボルネン系、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル系樹脂等が挙げられる。これらのうち、ポリエステル系、アクリル系樹脂が好ましい。なお、上記樹脂は、単独で使用されてもあるいは２種以上の混合物の形態で使用されてもよい。
【０１３３】
また、紫外線吸収剤は、特に制限されず、上記ハードコート層で記載したのと同様の定義であるため、ここでは説明を省略する。
【０１３４】
紫外線吸収層の厚さは、特に制限されないが、１層のみからなっていてもよいし、複数層からなっていてもよい。紫外線吸収層の厚さは、３０ｎｍ〜１０μｍが好ましく、５０ｎｍ〜５μｍがより好ましい。
【０１３５】
（接着層）
接着層は、層同士の接着性を高める機能があるものであれば特に限定はない。接着層は、いずれの位置に配置されてもよい。したがって、接着層は、層同士を密着する密着性、銀反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び銀反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性を有することが好ましい。
【０１３６】
接着層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、０．０１〜１０μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１０μｍである。
【０１３７】
接着層が樹脂である場合、樹脂として、上記の密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【０１３８】
また、接着層が金属酸化物である場合、例えば酸化シリコン、酸化アルミニウム、窒化シリコン、窒化アルミニウム、酸化ランタン、窒化ランタン等、各種真空製膜法により製膜することができる。例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。
【０１３９】
（ガスバリア層）
ガスバリア層は、光反射層よりも光入射側に設けることが好ましい。特に、樹脂基材と光反射層の間にガスバリア層を設けることが好ましい。
【０１４０】
ガスバリア層は、湿度の変動、特に高湿度による樹脂基材及び樹脂基材に支持される各構成層等の劣化を防止するためのものであるが、特別の機能・用途を持たせたものであってもよく、劣化防止機能を有する限りにおいて、種々の態様のガスバリア層を設けることができる。ガスバリア層の防湿性としては、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが好ましく、より好ましくは０．５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下、更に好ましくは０．２ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である。また、ガスバリア層の酸素透過度としては、測定温度２３℃、湿度９０％ＲＨの条件下で、０．６ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であることが好ましい。
【０１４１】
ガスバリア層に使用される材料、ガスバリア層の形成方法は、特に制限されないが、例えば、ＷＯ  ２０１２／１６５４６０号パンフレット（特に、段落「０１８８」〜「０２０９」）等の公知の文献に記載されるのと同様の材料や方法が使用できる。
【０１４２】
（粘着層）
粘着層は、フィルムミラーを支持基材に貼り付けることを可能にする粘着性を有しており、この粘着層によってフィルムミラーを支持基材に接合して、太陽熱発電用反射装置を形成するための構成層である。
【０１４３】
粘着層としては、特に制限されず、例えば、ドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤等のいずれもが用いられる。粘着剤としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴム等が用いられる。ラミネート法は、特に制限されず、例えば、ロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。また、粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜１００μｍ程度の範囲であることが好ましい。
【０１４４】
なお、フィルムミラーは、粘着層における樹脂基材とは反対側の面を覆う剥離シート（図示省略）を備えていてもよい。フィルムミラーが剥離シートを有する場合、剥離シートを粘着層から剥離した後に、粘着層を介してフィルムミラーを支持基材に貼り付けることができる。
【０１４５】
剥離シートは、フィルムミラーにおける粘着層の光入射側とは反対側の面を覆う部材である。
【０１４６】
例えば、フィルムミラーの出荷時には剥離シートが粘着層に張り付いた状態であり、その後、剥離シートをフィルムミラーの粘着層から剥離し、そのフィルムミラーを支持基材に貼り合わせて太陽熱発電用反射装置を形成することができる。
【０１４７】
剥離シートとしては、粘着層の粘着性を保護することができるものであればよく、例えば、アクリルフィルム又はシート、ポリカーボネートフィルム又はシート、ポリアリレートフィルム又はシート、ポリエチレンナフタレートフィルム又はシート、ポリエチレンテレフタレートフィルム又はシート、フッ素フィルムなどのプラスチックフィルム又はシート、又は酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルム又はシート、これらを練り込んだ樹脂にコーティングを施したりアルミニウム等の金属を金属蒸着したりなどの表面加工を施した樹脂フィルム又はシートが用いられる。
【０１４８】
剥離シートの厚さは、特に制限されないが、通常１２〜２５０μｍの範囲であることが好ましい。
【０１４９】
（フィルムミラーの製造方法）
上述した各構成層を適宜積層することによって、太陽熱発電用のフィルムミラーを製造することができる。
【０１５０】
まず、樹脂基材（例えば、溶融製膜などで作製されたポリエチレンテレフタレートフィルム）を用意する。なお、必要であれば、樹脂基材上に、所定の樹脂材料を塗布する（塗布後、必要であれば乾燥する）ことによってアンカー層を形成する。次いで、樹脂基材（または、アンカー層を樹脂基材上に設ける場合には、アンカー層）上に、真空蒸着等の方法によって光反射層（例えば、銀反射層）を形成する。光反射層上に塗布により腐食防止層を形成する。次に、所定の有機無機ハイブリッド樹脂を塗布し、有機無機ハイブリッド層を形成する。
【０１５１】
次いで、このようにして形成された有機無機ハイブリッド層上に、ハードコート材料（必要であれば、紫外線吸収剤および／または無機微粒子などを含む）を含むハードコート層形成液を塗布する（塗布後、必要であれば乾燥し、さらに必要に応じて硬化する）ことによってハードコート層を形成する。ここで、ハードコート層形成液の調製に使用できる溶剤としては、ハードコート材料を溶解できるものであれば特に制限されず、使用されるハードコート材料の種類によって適宜選択される。具体的には、例えば、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、トルエン、キシレン、メチレンクロライド、１，２−ジクロロエタン、シクロヘキサン、酢酸エチル、酢酸ｔ−ブチル、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコールブタノール、メチルセロソルブ、４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノン、エチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、１−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、ピリジン、ジエチルアミン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独でもまたは２種以上組み合わせても用いることができる。ハードコート層形成液中のハードコート材料の濃度は、特に制限されないが、塗布しやすさ、所望の厚みの調節のしやすさなどを考慮すると、好ましくは２０〜４０重量％、より好ましくは２５〜３５重量％である。また、塗布方法としては、特に制限されず、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法、バーコート法等、従来公知のコーティング方法が適用できる。ハードコート層形成液の塗膜の乾燥条件は、塗膜から十分量の溶剤が蒸発できる（ハードコート層が形成できる）条件であれば特に制限されない。具体的には、乾燥温度は、好ましくは７０〜１００℃、より好ましくは８０〜９０℃である。また、乾燥時間は、好ましくは０．５〜３．０分、より好ましくは０．５〜１．５分である。なお、熱硬化型のハードコート材料を使用する場合には、上記乾燥および硬化は、同時に行うことができる。
【０１５２】
さらに、樹脂基材の裏面側（それぞれ、樹脂基材および光反射層が形成されない側）に、粘着材料を塗工して粘着層を形成し、その粘着層を剥離シートで覆うことによって、フィルムミラーが製造される。
【０１５３】
なお、上記構成以外の層を有するフィルムミラーを製造する際には、各フィルムミラーに必要な構成層を樹脂基材または光反射層に所定順に積層することで、所望のフィルムミラーを製造することができる。例えば、アンカーコート層を樹脂基材と光反射層との間に形成する場合には、樹脂基材上に、所定の樹脂材料（必要であれば、所定の樹脂材料を含むアンカーコート層形成液）を塗布する（塗布後、必要であれば乾燥する）ことによって、アンカーコート層を形成することが可能である。ここで、アンカーコート層形成液の調製に使用できる溶剤、乾燥条件などは、制限されず、例えば、上記と同様の記載が適用できるため、ここでは説明を省略する。同様にして、腐食防止層を光反射層上（例えば、光反射層と有機無機ハイブリッド層との間）に形成する場合には、光反射層上に、腐食防止剤を含有した樹脂材料（必要であれば、所定の樹脂材料及び腐食防止剤を含む腐食防止層形成液）を塗布する（塗布後、必要であれば乾燥する）ことによって、腐食防止層を形成することが可能である。ここで、腐食防止層形成液の調製に使用できる溶剤、乾燥条件などは、制限されず、例えば、上記と同様の記載が適用できるため、ここでは説明を省略する。また、フィルムミラーがガスバリア層を有する場合には、ガスバリア層は、所定の層上にゾル−ゲル法および加熱／ＵＶ処理を施すことによって形成されうる。
【０１５４】
そして、本発明のフィルムミラーでは、樹脂基材のみが溶融製膜などで作製された樹脂フィルムであり、他の構成層には樹脂フィルムを用いておらず、その樹脂基材に対して順次、各構成層の材料の塗布・塗工や蒸着などによる成膜を繰り返し、所定の構成層を積層することでフィルムミラーを製造することが好ましい。つまり、本発明のフィルムミラーの製造方法は、少なくとも光反射層を有する樹脂フィルムと、光入射側に配置される層（例えば、ハードコート層、有機無機ハイブリッド層）とを別々に製造し、接着剤（接着層）によって貼り合わせる工程を含まないことが好ましい。
【０１５５】
上記本発明のフィルムミラーは、耐傷性（特に、耐擦傷性）と屈曲性とのバランスに優れる。具体的には、本発明のフィルムミラーは、鉛筆硬度が、Ｈ〜６Ｈであることが好ましく、２Ｈ〜４Ｈであることがより好ましい。上記鉛筆硬度は、下記実施例の評価において、耐候性試験前後双方における鉛筆硬度が上記範囲であることが好ましいが、耐候性試験後の鉛筆硬度が上記範囲であることがより好ましい。
【０１５６】
（太陽熱発電用反射装置）
上記本発明のフィルムミラーは、耐傷性（特に、耐擦傷性）と屈曲性とのバランスに優れる。このため、本発明のフィルムミラーは、太陽熱発電用反射装置に好適に使用される。したがって、本発明は、本発明のフィルムミラーを有する太陽熱発電用反射装置をも提供する。
【０１５７】
太陽熱発電用反射装置は、フィルムミラーと自己支持性の支持基材とを有しており、粘着層を介してフィルムミラーが支持基材に接合されている反射鏡である。
【０１５８】
なお、ここで言う「自己支持性」とは、太陽熱発電用反射装置の支持基材として用いられる大きさに断裁された状態で、支持基材がフィルムミラーの端縁部分を支持することで、フィルムミラーを担持することが可能な程度の剛性を有することを表す。太陽熱発電用反射装置の支持基材が自己支持性を有することで、太陽熱発電用反射装置を設置する際に取り扱い性に優れるとともに、太陽熱発電用反射装置を保持するための保持部材を簡素な構成とすることが可能となるため、反射装置自体を軽量化することが可能となり、太陽追尾の際の消費電力を抑制することが可能となる。
【０１５９】
（支持基材）
自己支持性の支持基材としては、一対の金属平板とその金属平板間に介装された中間層を有するもの（タイプＡ）か、中空構造を有する樹脂材料からなるもの（タイプＢ）であることが好ましい。具体的な構成については、国際公開第１１／１６２１５４号または米国特許出願公開第２０１３／０１１４１５５号公報などに記載される自己支持性基材ＡやＢを採用することができる。
【０１６０】
（保持部材）
太陽熱発電用反射装置は、反射装置自体を保持する保持部材を有していてもよい。
【０１６１】
保持部材は、太陽熱発電用反射装置における反射面（フィルムミラー）が、太陽を追尾可能な状態で保持することが好ましい。保持部材の形態としては、特に制限はないが、太陽熱発電用反射装置が所望の形状や姿勢を保持できるように、例えば、太陽熱発電用反射装置の裏面側の支持基材における複数個所を棒状の柱状部材や梁状部材によって保持する形態が好ましい。
【０１６２】
保持部材は、太陽を追尾可能な状態で太陽熱発電用反射装置を保持する構成を有するが、太陽追尾に際しては、手動で駆動させてもよいし、別途駆動装置を設けて自動的に太陽を追尾する構成としてもよい。
【０１６３】
このような構成の太陽熱発電用反射装置は、太陽光を集光する目的において、好ましく使用できる。
【０１６４】
この太陽熱発電用反射装置を使用する場合、反射装置の形状を樋状（半円筒状）として、半円の中心部分に内部に流体を有する筒状部材を設け、筒状部材に太陽光を集光させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する形態が一形態として挙げられる。
【０１６５】
また、平板状の反射装置を複数個所に設置し、それぞれの反射装置で反射された太陽光を一枚の反射鏡（中央反射鏡）に集光させて、反射鏡により反射して得られた熱エネルギーを発電部で変換することで発電する形態も一形態として挙げられる。特に後者の形態においては、用いられる反射装置に高い正反射率が求められる為、本発明の太陽熱発電用フィルムミラーが特に好適に用いられる。
【実施例】
【０１６６】
本発明の効果を、以下の実施例および比較例を用いて説明する。ただし、本発明の技術的範囲が以下の実施例のみに制限されるわけではない。なお、下記実施例において、特記しない限り、操作は室温（２５℃）で行われた。また、特記しない限り、「％」および「部」は、それぞれ、「重量％」および「重量部」を意味する。
【０１６７】
［反射フィルムの作製］
樹脂基材として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ：１５０μｍ）を用いた。上記樹脂基材の片面に、ポリエステル系樹脂（ポリエスター  ＳＰ−１８１、日本合成化学社製）とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネート（２，４−トリレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で１０：２（質量比）に混合し、溶媒としてメチルエチルケトンを加え、更に腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテート（和光純薬製）１０質量％の濃度となるよう調製した量を混合し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ（乾燥膜厚）６０ｎｍの腐食防止層を形成した。
【０１６８】
上記のようにして形成された腐食防止層上に、真空蒸着によって厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成した。次に、この銀反射層上に、上記腐食防止層の形成において、グリコールジメルカプトアセテートの代わりに、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（チバ・ジャパン社製、Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４）を用いた以外は、腐食防止層の形成と同様にして、紫外線吸収層を形成し、反射フィルムを得た。
【０１６９】
比較例１
ビームセット５７７（荒川化学社製、ウレタンアクリレート）をメチルエチルケトンに濃度（固形分濃度）が２０重量％となるように溶解し、さらにトリアジン紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ製、ＴＩＮＵＶＩＮ４７７）を５重量％となるように混合し、全固形分２５重量％になるように、塗布液（１）を調製した。
【０１７０】
このようにして調製された塗布液（１）をアプリケーターを用いて上記反射フィルム上に塗布し、１００℃で、３０秒間乾燥し、ＵＶ照射装置（ヘレウス社製無電極ランプ）を用い、出力６５％、搬送速度：１０ｍ／分で搬送し、厚さ（乾燥膜厚；以下同様）２５μｍのアクリル樹脂層を反射フィルム上に形成した。
【０１７１】
ＵＶ−７６００Ｂ（日本合成化学（株）製、商品名：紫光ＵＶ７６００Ｂ、紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂）１５重量部、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４（ＢＡＳＦ社製、光重合開始剤）３重量部、トリアジン紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ製、ＴＩＮＵＶＩＮ４７７）５重量部をメチルエチルケトンに全固形分が３０％になるように添加して、塗布液（２）を調製した。
【０１７２】
上記で形成されたアクリル樹脂層上に、塗布液（２）をワイヤーバーで塗布し、９０℃で、５０秒間乾燥した後、ＵＶ照射装置を用い、出力６５％、搬送速度：１０ｍ／分で硬化し、厚さが５μｍのハードコート層をアクリル樹脂層上に形成して、サンプル（１）を作製した。
【０１７３】
なお、本比較例では、式（ア）に示されている内容であり、本ハードコートの構造からわかるように無機比率は０重量％である。
【０１７４】
比較例２
比較例１において、ＳＳＧ（登録商標）コート  ＨＢ３１ＢＮ（ニットーボーメディカル（株）製、有機無機ハイブリッド樹脂）を、ビームセット５７７（荒川化学社製、ウレタンアクリレート）２０重量部に対して１重量部の割合となるようにさらに添加して、塗布液（２）を調製した。比較例１において、塗布液（１）の代わりに、塗布液（２）を使用した。
次にハードコート層として、ＮＰ７２０（動研社製、三官能ポリメチルシロキサンハードコート）をワイヤーバーで塗布し、９０℃で、５０秒間乾燥して、厚さが３μｍのハードコート層をアクリル樹脂層上に形成して、サンプル（２）を作製した。
【０１７５】
なお、本比較例では、ＨＢ３１ＢＮの無機含有率が５０重量％であるため、有機無機ハイブリッド層の有機比率が９８．１％であり、当該層の膜厚を換算すると、サンプル（２）の無機比率は、１２．４重量％である。
【０１７６】
比較例３
Ｄｙｎａｓｙｌａｎ（登録商標）４０（ＥＶＯＮＩＣ社製、エチルポリシリケート）４０量部に対して、ＳＳＧ（登録商標）コート  ＨＢ３１ＢＮを２重量部を添加し、さらにＴＩＮＵＶＩＮ４７７を５重量部添加して、メチルエチルケトンを加え、全固形分４０重量％になるように、塗布液（３）を調製した。
【０１７７】
このようにして調製された塗布液（３）をワイヤーバーを用いて上記反射フィルム上に塗布し、１１０℃で、２分間乾燥して、膜厚２５μｍの有機無機ハイブリッド層を反射フィルム上に形成した。
【０１７８】
この有機無機ハイブリッド層上に、ＮＰ７２０をワイヤーバーで塗布し、９０℃で、５０秒間乾燥して、厚さが３μｍのハードコート層を有機無機ハイブリッド層上に形成して、サンプル（３）を作製した。
【０１７９】
なお、本比較例では、ハードコート層の無機含有率が１００重量％、有機無機ハイブリッド層の無機含有率は８８％であり、それを膜厚で換算すれば、サンプル（３）の無機比率は９０重量％である。
【０１８０】
比較例４
比較例３と同様にして、膜厚２５μｍの有機無機ハイブリッド層を反射フィルム上に形成した。
【０１８１】
上記で形成された有機無機ハイブリッド層上に、塗布液（２）をワイヤーバーで塗布し、９０℃で、５０秒間乾燥した後、ＵＶ照射装置を用い、出力６５％、搬送速度：１０ｍ／分で硬化し、厚さが５μｍのハードコート層を有機無機ハイブリッド層上に形成して、サンプル（４）を作製した。
【０１８２】
なお、本比較例では、上記と同様に計算し、サンプル（４）の無機比率は、７２重量％であった。
【０１８３】
実施例１
Ｄｙｎａｓｙｌａｎ（登録商標）４０（ＥＶＯＮＩＣ社製、エチルポリシリケート）７重量部に対して、ＳＳＧ（登録商標）コート  ＨＢ３１ＢＮ（ニットーボーメディカル（株）製、有機無機ハイブリッド樹脂）１０重量部を添加し、これをメチルエチルケトンに溶解し、さらに酸化亜鉛系紫外線吸収剤（テイカ社製、ＺＤ０１９）を５重量部添加して、全固形分５３重量％になるように、塗布液（５）を調製した。
【０１８４】
このようにして調製された塗布液（５）をワイヤーバーを用いて上記反射フィルム上に塗布し、１１０℃で、２分間乾燥して、膜厚２５μｍの有機無機ハイブリッド層を反射フィルム上に形成した。
【０１８５】
この有機無機ハイブリッド層上に、ＮＰ７２０（動研社製、三官能ポリシロキサンハードコート）をワイヤーバーで塗布し、９０℃で、５０秒間乾燥して、厚さが３μｍのハードコート層を有機無機ハイブリッド層上に形成して、サンプル（５）を作製した。
【０１８６】
なお、本実施例では、有機無機ハイブリッド層の有機比率が２２．７重量％であり、当該層の膜厚を換算すると、サンプル（５）の無機比率は８０重量％である。
【０１８７】
実施例２
実施例１において、有機無機ハイブリッド層の形成において、Ｄｙｎａｓｙｌａｎ（登録商標）４０を添加せず、ＳＳＧ（登録商標）コート  ＨＢ３１ＢＮを２重量部に対し、トリアジン紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ製、ＴＩＮＵＶＩＮ４７７）を５重量部添加して塗布液を調製した以外は、実施例１と同様にして、サンプル（６）を作製した。
【０１８８】
なお、本実施例では、有機無機ハイブリッド層の有機比率が８５．７重量％であり、当該層の膜厚を換算すると、サンプル（６）の無機比率は、２３重量％であった。
【０１８９】
実施例３
実施例２において、有機無機ハイブリッド層の形成において、Ｄｙｎａｓｙｌａｎ（登録商標）４０を１．５重量部に対して、ＳＳＧ（登録商標）コート  ＨＢ３１ＢＮを４重量部およびトリアジン紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ製、ＴＩＮＵＶＩＮ４７７）を５重量部添加して塗布液を調製した以外は、実施例２と同様にして、サンプル（７）を作製した。
【０１９０】
なお、本実施例では、有機無機ハイブリッド層の有機比率が６６．６重量％であり、当該層の膜厚を換算すると、サンプル（７）の無機比率は、４０重量％であった。
【０１９１】
実施例４
実施例２において、有機無機ハイブリッド層の形成において、Ｄｙｎａｓｙｌａｎ（登録商標）４０の量を７重量部に対して、ＳＳＧ（登録商標）コート  ＨＢ３１ＢＮの量を７重量部およびトリアジン紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ製、ＴＩＮＵＶＩＮ４７７）を５重量部添加して塗布液を調製した以外は、実施例２と同様にして、サンプル（８）を作製した。
【０１９２】
なお、本実施例では、有機無機ハイブリッド層の有機比率が４４．７重量％であり、当該層の膜厚を換算すると、サンプル（８）の無機比率は、６０重量％であった。
【０１９３】
実施例５
実施例１において、有機無機ハイブリッド層の形成において、Ｄｙｎａｓｙｌａｎ（登録商標）４０を１２重量部に対して、ＳＳＧ（登録商標）コート  ＨＢ３１ＢＮを８．６重量部および酸化亜鉛系紫外線吸収剤（テイカ社製、ＺＤ０１９）を５重量部添加して塗布液を調製した以外は、実施例１と同様にして、サンプル（９）を作製した。
【０１９４】
なお、本実施例では、有機無機ハイブリッド層の有機比率が１６．８重量％であり、当該層の膜厚を換算すると、サンプル（９）の無機比率は、８５重量％であった。
【０１９５】
実施例６
実施例２において、有機無機ハイブリッド層の形成において、Ｄｙｎａｓｙｌａｎ（登録商標）４０を添加せず、ＳＳＧ（登録商標）コート  ＨＢ３１ＢＮを１重量部に対し、トリアジン紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ製、ＴＩＮＵＶＩＮ４７７）を５重量部添加して塗布液を調製した以外は、実施例２と同様にして、サンプル（１０）を作製した。
【０１９６】
なお、本実施例では、有機無機ハイブリッド層の有機比率が９１．７重量％であり、当該層の膜厚を換算すると、サンプル（１０）の無機比率は、１８重量％であった。
【０１９７】
実施例７
Ｄｙｎａｓｙｌａｎ（登録商標）４０を添加せず、ＳＳＧ（登録商標）コート  ＨＢ３１ＢＮを１０重量部を添加し、これをメチルエチルケトンに溶解し、さらにＴＩＮＵＶＩＮ４７７を５重量部およびＭＥＫ−ＡＣ−２１４０Ｚ（日産化学工業社製、溶剤分散型シリカ粒子）を３重量部添加して、全固形分４５重量％になるように、塗布液（６）を調製した。
【０１９８】
このようにして調製された塗布液（６）をワイヤーバーを用いて上記反射フィルム上に塗布し、１１０℃で、２分間乾燥して、膜厚２５μｍの有機無機ハイブリッド層を反射フィルム上に形成した。
【０１９９】
この有機無機ハイブリッド層上に、ＮＰ７２０（動研社製、三官能ポリシロキサンハードコート）をワイヤーバーで塗布し、９０℃で、５０秒間乾燥して、厚さが３μｍのハードコート層を有機無機ハイブリッド層上に形成して、サンプル（１１）を作製した。
【０２００】
なお、本実施例では、有機無機ハイブリッド層の有機比率が５５．６重量％であり、当該層の膜厚を換算すると、サンプル（１１）の無機比率は、５０重量％であった。
【０２０１】
実施例８
実施例７において、有機無機ハイブリッド層の形成において、Ｄｙｎａｓｙｌａｎ（登録商標）４０を３重量部に対して、ＳＳＧ（登録商標）コート  ＨＢ３１ＢＮを２０重量部、ＴＩＮＵＶＩＮ４７７を５重量部およびＭＥＫ−ＡＣ−２１４０Ｚを５重量部添加して塗布液を調製した以外は、実施例７と同様にして、サンプル（１２）を作製した。
【０２０２】
なお、本実施例では、有機無機ハイブリッド層の有機比率が４５．５重量％であり、当該層の膜厚を換算すると、サンプル（１２）の無機比率は、５９重量％であった。
【０２０３】
実施例９
実施例１において、有機無機ハイブリッド層の形成において、Ｄｙｎａｓｙｌａｎ（登録商標）４０（ＥＶＯＮＩＣ社製、エチルポリシリケート）３重量部に対して、コンポセランＡＣ６０１（荒川化学工業社製、アクリル樹脂−シリカ（４官能）ハイブリッド）を１２重量部および酸化亜鉛系紫外線吸収剤（テイカ社製、ＺＤ０１９）を５重量部添加し、メチルエチルケトンに溶解して全固形分を３５重量％にて塗布液を調製した以外は、実施例１と同様にして、サンプル（１３）を作製した。
【０２０４】
なお、本実施例では、コンポセランＡＣ６０１の無機含有率が２５重量％であるため、有機無機ハイブリッド層の有機比率が４５重量％であり、当該層の膜厚を換算すると、サンプル（１３）の無機比率は、６０重量％であった。
【０２０５】
実施例１０
実施例３において、ＨＢ３１ＢＮの添加量を１０重量部に変更し、ＴＩＮＵＶＩＮ４７７の添加量を２．５重量部に変更した以外は、実施例３と同様にして、サンプル（１４）を作製した。
【０２０６】
なお、本実施例では、有機無機ハイブリッド層の有機比率が５３．６重量％であり、当該層の膜厚を換算すると、サンプル（１４）の無機比率は、５２重量％であった。
【０２０７】
実施例１１
実施例２において、ＨＢ３１ＢＮの添加量を１５重量部に変更し、ＴＩＮＵＶＩＮ４７７の添加量を０．５重量部に変更した以外は、実施例２と同様にして、サンプル（１５）を作製した。
【０２０８】
なお、本実施例では、有機無機ハイブリッド層の有機比率が５７．１重量％であり、当該層の膜厚を換算すると、サンプル（１５）の無機比率は、５４重量％であった。
【０２０９】
実施例１２
実施例３において、５重量部のＴＩＮＵＶＩＮ４７７の代わりに、４重量部のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ社製、ＴＩＮＵＶＩＮ９２８）を使用した以外は、実施例３と同様にして、サンプル（１６）を作製した。
【０２１０】
なお、本実施例では、有機無機ハイブリッド層の有機比率が６３．２重量％であり、当該層の膜厚を換算すると、サンプル（１６）の無機比率は、４３重量％であった。
【０２１１】
実施例１３
実施例３と同様にして、膜厚２５μｍの有機無機ハイブリッド層を反射フィルム上に形成した。
【０２１２】
この有機無機ハイブリッド層上に、ＮＰ７２０を１５重量部に対してＫＭ−４（日揮触媒化成（株）製、シリカ粒子）を６重量部の混合物を調製し、ワイヤーバーで塗布後、９０℃で、５０秒間乾燥して、厚さが３μｍのハードコート層を有機無機ハイブリッド層上に形成して、サンプル（１７）を作製した。
【０２１３】
なお、本実施例では、有機無機ハイブリッド層の有機比率が６６．６重量％であり、当該層の膜厚を換算すると、サンプル（１７）の無機比率は、５６．３重量％であった。
【０２１４】
［フィルムミラーの評価］
上記比較例１〜４及び実施例１〜１３で作製されたサンプル（１）〜（１７）（フィルムミラー）について、下記評価を行い、結果を下記表１に示す。
【０２１５】
（ＵＶカット率（ＵＶ透過率）の測定）
各サンプルについて、島津製作所社製の分光光度計「Ｕ−４１００」を用いて、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°の正反射率を測定した。評価は、２５０ｎｍから３８０ｎｍまでの平均反射率として測定する。
【０２１６】
（鉛筆硬度の測定）
ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−４：１９９９の規格に従って測定する。鉛筆を４５度の角度にして、５００ｇの荷重をかけて、各サンプルの最表面（ハードコート層側）の引っ掻き試験を行なう。５回のうち４回以上傷の付かなかった鉛筆の硬さ記号で、ランク付けを行なった。測定には、安田精機製作所社製の鉛筆硬度測定計（型番：５５３−Ｍ１）を用いて測定した。
【０２１７】
（屈曲性の測定）
ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−１：１９９９に基づいて、１５０６マンドレル屈曲試験機（Ｅｌｃｏｍｅｔｅｒ社製）を用い、ハードコート層面を外側に配置し、屈曲した時にハードコート層が割れない最低直径（ｍｍ）を測定した。
【０２１８】
（耐候性試験）
各サンプルを、ＵＶテスター（岩崎電気製）照度１００ｍＷ、温度６０℃、湿度６３％ＲＨの条件で１０日間、放置した。所定期間放置後の各サンプルのＵＶカット率（ＵＶ透過率）、鉛筆硬度及び屈曲性を、それぞれ上記と同様の方法により測定した。
【０２１９】
なお、下記表１において、耐候性試験前の結果を「初期」と、耐候性試験後の結果を「試験後」と、それぞれ、称する。
【０２２０】
【表１】
2015161826.tif 000010
【０２２１】
上記表１の結果から明らかなように、実施例のサンプル（５）〜（１７）は、比較例のサンプル（１）〜（４）に比して、鉛筆硬度及び屈曲性、特に耐候性試験後の鉛筆硬度及び屈曲性に優れていることが分かる。
【０２２２】
実施例１〜１３のサンプル（５）〜（１７）は、耐候性試験前後のいずれでも、高い硬度を発揮し、フィルム性能（屈曲性）に優れることが分かる。これから、本発明のフィルムミラーは、最表面は高い硬度を保ちつつ、フィルム全体としては良好な柔軟性を有することが示唆される。すなわち、本発明によれば、銀反射層の劣化による正反射率の低下を防止するとともに、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することができ、耐傷性、防汚性に優れ、過酷な環境に長期間設置しても、太陽光に対して良好な正反射率を長期間保ち続けることができる耐候性の優れた太陽熱発電用のフィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置を提供できることが期待される。
【０２２３】
これに対して、比較例１及び２のサンプル（１）及び（２）では、無機比率が低い（無機材料が少ない）ため、耐候性試験後の特性（耐候性）に劣ると、考察される。また、比較例３のサンプル（３）では、逆に無機比率が高いため、屈曲性に乏しいため、耐候性試験後においても膜が割れてしまうと、考察される。さらに、比較例４のサンプル（４）の結果から、ＵＶ硬化型ハードコート材料は耐候性の点で好ましくないことが確認される。
【０２２４】
なお、本発明の適用は上述した実施形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
【符号の説明】
【０２２５】
１…樹脂基材、
２…光反射層、
３…有機無機ハイブリッド層、
４…メタロキサン系ハードコート層、
５…腐食防止層、
６…粘着層、
７…支持基材、
１０…フィルムミラー、
２０…太陽熱発電用反射装置。
【図１Ａ】
2015161826.tif 000012
【図１Ｂ】
2015161826.tif 000013