(57)【要約】【課題】  ヒートアイランド増長を抑制し、かつ、回折パターンの発生を抑制することができる光学体を提供する。【解決手段】  光学体は、ランダムな凹凸面を有する第１の光学層と、凹凸面上に形成された反射面と、凹凸面を凹凸を埋めるように形成された第２の光学層とを備える。半透過層３は、反射層は、入射光のうちの一部を拡散反射するのに対して、残りの光を透過する半透過層である。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ランダムな凹凸面を有する第１の光学層と、
上記凹凸面上に形成され、入射光のうちの一部の光を拡散反射し、残りの光を透過する半透過層からなる反射層と、
上記凹凸面を埋めるように上記反射層上に形成された第２の光学層と
を備え、上記第１の光学層と上記第２の光学層との屈折率差が、０．０１０以下である光学体。
【請求項２】
第２の光学層は、ランダムな凹凸面を有し、
対向配置された上記第１の光学層の凹凸面と上記第２の光学層の凹凸面とにより界面が形成され、
上記反射層は、上記界面に設けられている請求項１記載の光学体。
【請求項３】
上記透過する波長の光に対する、ＪＩＳ  Ｋ−７１０５に準拠して測定した０．５ｍｍの光学くしの透過像鮮明度が、５０以上である請求項１記載の光学体。
【請求項４】
上記透過する波長の光に対する、ＪＩＳ  Ｋ−７１０５に準拠して測定した０．１２５、０．５、１．０、２．０ｍｍの光学くしの透過像鮮明度の合計値が、２３０以上である請求項１記載の光学体。
【請求項５】
上記第１の光学層と上記第２の光学層とが、可視光領域において透明性を有する同一樹脂からなり、上記第２の光学層には添加剤が含まれている請求項１記載の光学体。
【請求項６】
上記第１の光学層、および上記第２の光学層の少なくとも一方が、可視領域における特定の波長帯の光を吸収する請求項１記載の光学体。
【請求項７】
上記第１の光学層と上記第２の光学層とにより光学層が形成され、
上記光学層の表面、上記光学層の内部、および上記反射層と上記光学層との間のうち、少なくとも１箇所に光散乱体をさらに備える請求項１記載の光学体。
【請求項８】
上記光学体の入射面上に、撥水性または親水性を有する層をさらに備える請求項１記載の光学体。
【請求項９】
上記入射光の一部を拡散反射し、所定の空間に入り込むのを排除するのに対して、上記残りの光を透過して所定の空間に取り込む請求項１記載の光学体。
【請求項１０】
上記半透過層は、波長５００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の範囲内において透過率５％以上７０％以下を有する請求項１記載の光学体。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学体を備える窓材。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学体を採光部に備える建具。
【請求項１３】
日射を遮蔽する１または複数の日射遮蔽部材を備え、
上記日射遮蔽部材が、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学体を備える日射遮蔽装置。
【請求項１４】
ランダムな凹凸面を有する第１の光学層を形成する工程と、
入射光のうちの一部の光を拡散反射し、残りの光を透過する半透過層からなる反射層を上記凹凸面上に形成する工程と、
上記凹凸面を埋めるように上記反射層上に第２の光学層を形成する工程と
を備え、
上記第１の光学層と上記第２の光学層との屈折率差が、０．０１０以下である光学体の製造方法。
【請求項１５】
原盤の表面にランダムな凹凸面を形成する工程をさらに備え、
上記第１の光学層の形成工程では、上記原盤のランダムな凹凸面を光学層材料に転写し、上記ランダムな凹凸面を有する第１の光学層を形成する請求項１４記載の光学体の製造方法。
【請求項１６】
上記原盤の表面に凹凸面を形成する工程では、サンドブラスト法、レーザ干渉法、またはフォトリソグラフィおよびエッチング法により、上記原盤の表面にランダムな凹凸面を形成する請求項１５記載の光学体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学体、壁材、建具、および日射遮蔽装置に関する。詳しくは、入射光を拡散反射する光学体に関する。
【背景技術】
【０００２】
空調負荷低減の観点から、日射を遮蔽するための窓用フィルムが上市されている。この日射を遮蔽する技術として、日射を反射するフィルムが上市されている。このようなフィルムとしては、反射層として光学多層膜、金属含有膜、透明導電性膜などを用いる技術が既に数多く開示されている（例えば特許文献１参照）。
【０００３】
しかしながら、このような反射層は平面上の窓ガラスに設けられるため、入射した太陽光を正反射させることしかできない。このため、上空から照射されて正反射された光は、屋外の別な建物や地面に到達し、吸収されて熱に変わり周囲の気温を上昇させる。これにより、このような反射層が窓全体に貼られたビルの周辺では、局所的な温度上昇が起こり都市部ではヒートアイランドが増長されたり、反射光の照射面のみ芝生が生長しないなどの問題が生じている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第０５／０８７６８０号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
したがって、本発明の目的は、ヒートアイランド増長を抑制することができる光学体およびその製造方法、窓材、建具、ならびに日射遮蔽装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、従来技術が有する上述の課題を解決すべく、正反射以外の方向に日射を指向反射する光学体について鋭意検討を行った。その結果、構造体が規則的なピッチで配列された凹凸面を有する第１の光学層と、凹凸面上に形成された反射層と、凹凸面を埋めるように反射層上に形成された第２の光学層とを備える光学体を発明するに至った。
【０００７】
しかしながら、上記光学体を介して夜に遠くの電灯を見ると、回折パターンが見えてしまう。
【０００８】
そこで、本発明者らは、回折パターンの発生を抑制すべく、鋭意検討を行った結果、第１の光学層の凹凸面の形状をランダムにすることで、回折パターンの発生を抑制できることを見出すに至った。
【０００９】
本発明は以上の検討に基づいて案出されたものである。
【００１０】
上述の課題を解決するために、第１の発明は、ランダムな凹凸面を有する第１の光学層と、上記凹凸面上に形成され、入射光のうちの一部の光を拡散反射し、残りの光を透過する半透過層からなる反射層と、上記凹凸面を埋めるように上記反射層上に形成された第２の光学層とを備え、上記第１の光学層と上記第２の光学層との屈折率差が、０．０１０以下である光学体である。
【００１１】
第２の発明は、ランダムな凹凸面を有する第１の光学層を形成する工程と、入射光のうちの一部の光を拡散反射し、残りの光を透過する半透過層からなる反射層を上記凹凸面上に形成する工程と、上記凹凸面を埋めるように上記反射層上に第２の光学層を形成する工程とを備え、上記第１の光学層と上記第２の光学層との屈折率差が、０．０１０以下である光学体の製造方法である。
【００１２】
本発明では、第１の光学層のランダムな凹凸面上に、半透過層を形成しているので、入射光の一部を拡散反射することができる。また、第１の光学層にランダムな凹凸面を形成し、この凹凸面上に反射層を形成しているので、回折パターンの発生を抑制することができる。また、第１の光学層の凹凸面を埋めるように、反射層上に第２の光学層を形成し、上記第１の光学層と上記第２の光学層との屈折率差が、０．０１０以下であるので、光学体の透過像を鮮明にすることができる。
【発明の効果】
【００１３】
以上説明したように、本発明によれば、ヒートアイランド増長を抑制することができる。また、回折パターンの発生を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１Ａは、第１の実施形態に係る光学フィルムの一構成例を示す断面図である。図１Ｂは、第１の実施形態に係る光学フィルムを被着体に貼り合わせた例を示す断面図である。
【図２】図２は、第１の実施形態に係る光学フィルムの機能を説明するための拡大断面図である。
【図３】図３は、第１の実施形態に係る光学フィルムを製造するための製造装置の一構成例を示す概略図である。
【図４】図４Ａ〜図４Ｃは、第１の実施形態に係る光学フィルムの製造方法の一例を説明するための工程図である。
【図５】図５Ａ、図５Ｂは、サンドブラスト法による原盤表面の加工方法の一例を説明するための略線図である。
【図６】図６Ａ〜図６Ｅは、フォトリソグラフィおよびエッチング法による原盤表面の加工方法の一例を説明するための工程図である。
【図７】図７Ａ〜図７Ｃは、第１の実施形態に係る光学フィルムの製造方法の一例を説明するための工程図である。
【図８】図８Ａ〜図８Ｃは、第１の実施形態に係る光学フィルムの製造方法の一例を説明するための工程図である。
【図９】図９Ａは、第２の実施形態に係る光学フィルムの一構成例を示す断面図である。図９Ｂは、第２の実施形態に係る光学フィルムの機能を説明するための拡大断面図である。
【図１０】図１０は、第３の実施形態に係る光学フィルムの一構成例を示す断面図である。
【図１１】図１１は、第４の実施形態に係る光学フィルムの一構成例を示す断面図である。
【図１２】図１２は、第５の実施形態に係る光学フィルムの一構成例を示す断面図である。
【図１３】図１３は、第６の実施形態に係るブラインド装置の一構成例を示す斜視図である。
【図１４】図１４Ａは、スラットの第１の構成例を示す断面図である。図１４Ｂは、スラットの第２の構成例を示す断面図である。
【図１５】図１５Ａは、第７の実施形態に係るロールスクリーン装置の一構成例を示す斜視図である。図１５Ｂは、スクリーンの一構成例を示す断面図である。
【図１６】図１６Ａは、第８の実施形態に係る建具の一構成例を示す斜視図である。図１６Ｂは、光学体の一構成例を示す断面図である。
【図１７】図１７Ａ、図１７Ｂは、複製原盤の表面粗さを測定した結果を示す断面プロファイルである。
【図１８】図１８Ａは、実施例１、３、４の光学フィルムの分光透過率波形を示すグラフである。図１８Ｂは、実施例１、３、４の光学フィルムの分光反射率波形を示すグラフである。
【図１９】図１９Ａは、実施例８、９の光学フィルムの分光透過率波形を示すグラフである。図１９Ｂは、実施例８、９の光学フィルムの分光反射率波形を示すグラフである。
【図２０】図２０Ａは、比較例１、２の光学フィルムの分光透過率波形を示すグラフである。図２０Ｂは、比較例１、２の光学フィルムの分光反射率波形を示すグラフである。
【図２１】図２１は、実施例１〜９、比較例１〜３の光学フィルムの反射角度分布の測定に用いた装置を説明するための略線図である。
【図２２】図２２は、極座標プロットを説明するための図である。
【図２３】図２３は、実施例１の光学フィルムの極座標プロットを示す図である。
【図２４】図２４は、実施例２の光学フィルムの極座標プロットを示す図である。
【図２５】図２５は、実施例３の光学フィルムの極座標プロットを示す図である。
【図２６】図２６Ａは、実施例１の光学フィルムの入射光軸と正反射光軸を含む方位における反射強度をプロットした結果を示すグラフである。図２６Ｂは、実施例２の光学フィルムの入射光軸と正反射光軸を含む方位における反射強度をプロットした結果を示すグラフである。
【図２７】図２７は、実施例３の光学フィルムの入射光軸と正反射光軸を含む方位における反射強度をプロットした結果を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明の実施形態について図面を参照しながら以下の順序で説明する。
１．第１の実施形態（拡散反射性能を有する波長選択性の光学フィルムの例）
２．第２の実施形態（拡散反射性能を有する半透過性の光学フィルムの例）
３．第３の実施形態（光散乱体をさらに備えた光学フィルムの例）
４．第４の実施形態（自己洗浄効果層をさらに備えた光学フィルムの例）
５．第５の実施形態（ビースにより拡散反射面を形成した例）
６．第６の実施形態（ブラインド装置に光学フィルムを適用した例）
７．第７の実施形態（ロールスクリーン装置に光学フィルムを適用した例）
８．第８の実施形態（建具に光学フィルムを適用した例）
【００１６】
＜１．第１の実施形態＞
［光学フィルムの構成］
図１Ａは、第１の実施形態に係る光学フィルムの一構成例を示す断面図である。図１Ｂは、第１の実施形態に係る光学フィルムを被着体に貼り合わせた例を示す断面図である。光学体としての光学フィルム１は、拡散反射性能を有する波長選択性の光学フィルムである。拡散反射性能を有する波長選択性の光学フィルムは、入射光のうち特定波長帯域の光を拡散反射するのに対して、特定波長帯域以外の光を透過するものである。光学フィルム１は、帯状の形状を有することが好ましい。これにより、光学フィルム１をロール・ツー・ロール工程により容易に作製することができる。また、ロール状などに光学フィルム１を巻回することで、取り扱いを容易とすることができる。
【００１７】
図１Ａに示すように、この光学フィルム１は、ランダムな凹凸形状の界面を内部に有する光学層２と、この光学層２の界面に設けられた波長選択反射層３とを備える。光学層２は、ランダムな凹凸形状の第１の面を有する第１の光学層４と、ランダムな凹凸形状の第２の面を有する第２の光学層５とを備える。光学層内部の界面は、対向配置されたランダムな凹凸形状の第１の面と第２の面とにより形成されている。具体的には、光学フィルム１は、ランダムな凹凸面を有する第１の光学層４と、第１の光学層４のランダムな凹凸面上に形成された波長選択反射層３と、波長選択反射層３が形成されたランダムな凹凸面を埋めるように、波長選択反射層３上に形成された第２の光学層５とを備える。光学フィルム１は、太陽光などの光が入射する入射面Ｓ１と、この入射面Ｓ１より入射した光のうち、光学フィルム１を透過した光が出射される出射面Ｓ２とを有する。光学フィルム１は、内壁部材、外壁部材、窓材、壁材などに適用して好適なものである。また、光学フィルム１は、ブラインド装置のスラット（日射遮蔽部材）、およびロールスクリーン装置のスクリーン（日射遮蔽部材）として用いても好適なものである。さらに、光学フィルム１は、障子などの建具（内装部材または外装部材）の採光部に設けられる光学体として用いても好適なものである。
【００１８】
光学フィルム１が、必要に応じて、光学層２の出射面Ｓ２に第１の基材４ａをさらに備えるようにしてもよい。また、光学フィルム１が、必要に応じて、光学層２の入射面Ｓ１に第２の基材５ａをさらに備えるようにしてもよい。なお、このように第１の基材４ａ、および／または第２の基材５ａを光学フィルム１に備える場合には、第１の基材４ａ、および／または第２の基材５ａを光学フィルム１に備えた状態において、後述する透明性、および透過色などの光学特性を満たすことが好ましい。
【００１９】
光学フィルム１が、必要に応じて貼合層６をさらに備えるようにしてもよい。この貼合層６は、光学フィルム１の入射面Ｓ１および出射面Ｓ２のうち、窓材１０に貼り合わされる面に形成される。この貼合層６を介して、光学フィルム１は被着体である窓材１０の屋内側または屋外側に貼り合わされる。貼合層６としては、例えば、接着剤（例えば、ＵＶ硬化型樹脂、２液混合型樹脂）を主成分とする接着層、または粘着剤（例えば、感圧粘着材(PSA:Pressure Sensitive Adhesive)）を主成分とする粘着層を用いることができる。貼合層６が粘着層である場合、貼合層６上に形成された剥離層７をさらに備えることが好ましい。このような構成にすることで、剥離層７を剥離するだけで、貼合層６を介して窓材１０などの被着体に対して光学フィルム１を容易に貼り合わせることができるからである。
【００２０】
光学フィルム１が、第２の基材５ａと、貼合層６および／または第２の光学層５の接合性を向上させる観点から、第２の基材５ａと、貼合層６および／または第２の光学層５との間に、プライマー層（図示せず）をさらに備えるようにしてもよい。また、同様の箇所の接合性を向上させる観点から、プライマー層に代えて、またはプライマー層と共に、公知の物理的前処理を施すことが好ましい。公知の物理的前処理としては、例えば、プラズマ処理、コロナ処理などが挙げられる。
【００２１】
光学フィルム１が、窓材１０などの被着体に貼り合わされる入射面Ｓ１または出射面Ｓ２上、またはその面と波長選択反射層３との間に、バリア層（図示せず）をさらに備えるようにしてもよい。このようにバリア層を備えることで、入射面Ｓ１または出射面Ｓ２から波長選択反射層３への水分の拡散を低減し、波長選択反射層３に含まれる金属などの劣化を抑制することができる。したがって、光学フィルム１の耐久性を向上させることができる。
【００２２】
光学フィルム１は、表面に耐擦傷性などを付与する観点から、ハードコート層８をさらに備えるようにしてもよい。このハードコート層８は、光学フィルム１の入射面Ｓ１および出射面Ｓ２のうち、窓材１０などの被着体に貼り合わされる面とは反対側の面に形成することが好ましい。光学フィルム１の入射面Ｓ１または出射面Ｓ２に、防汚性などを付与する観点から、撥水性または親水性を有する層をさらに備えてもよい。このような機能を有する層は、例えば、光学層２上に直接備える、またはハードコート層８などの各種機能層上に備えるようにしてもよい。
【００２３】
光学フィルム１は、光学フィルム１を窓材１０などの被着体に容易に貼り合わせ可能にする観点からすると、可撓性を有することが好ましい。ここで、フィルムにはシートが含まれるものとする。すなわち、光学フィルム１には光学シートも含まれものとする。
【００２４】
光学フィルム１は、透明性を有していることが好ましい。透明性としては、後述する透過像鮮明度の範囲を有するものであることが好ましい。第１の光学層４と第２の光学層５との屈折率差が、好ましくは０．０１０以下、より好ましくは０．００８以下、さらに好ましくは０．００５以下である。屈折率差が０．０１０を超えると、透過像がぼけて見える傾向がある。０．００８を超え０．０１０以下の範囲であると、外の明るさにも依存するが日常生活には問題がない。０．００５を超え０．００８以下の範囲であると、明るい物体の周辺を良く見ると像が薄らとぼけているのが気になるが、外の景色を鮮明に見ることができる。０．００５以下であれば、透過像の明るさに依存せず、鮮明な像が観察される。第１の光学層４および第２の光学層５のうち、窓材１０などと貼り合わせる側となる光学層は、粘着剤を主成分としてもよい。このような構成とすることで、粘着材を主成分とする第１の光学層４、または第２の光学層５により光学フィルム１を窓材１０などに貼り合わせることができる。なお、このような構成にする場合、粘着剤の屈折率差が上記範囲を満たすことが好ましい。
【００２５】
第１の光学層４と第２の光学層５とは、屈折率などの光学特性が同じであることが好ましい。より具体的には、第１の光学層４と第２の光学層５とが、可視領域において透明性を有する同一材料、例えば同一樹脂材料からなることが好ましい。第１の光学層４と第２の光学層５とを同一材料により構成することで、両者の屈折率が等しくなるので、可視光の透明性を向上させることができる。ただし、同一材料を出発源としても、成膜工程における硬化条件などにより最終的に生成する層の屈折率が異なることがあるので、注意が必要である。これに対して、第１の光学層４と第２の光学層５とを異なる材料により構成すると、両者の屈折率が異なるので、波長選択反射層３を境界として光が屈折し、透過像がぼやける傾向がある。特に、明るい物体の透過像を良く見てみると、像のぼけが顕著に観察される傾向がある。なお、屈折率の値を調整するために、第１の光学層４および／または第２の光学層５に添加剤を混入させてもよい。
【００２６】
第１の光学層４と第２の光学層５は、可視領域において透明性を有することが好ましい。ここで、透明性の定義には２種類の意味があり、光の吸収がないことと、光の散乱がないことである。一般的に透明と言った場合に前者だけを指すことがあるが、第１の実施形態に係る光学フィルム１では両者を備えることが好ましい。現在利用されている再帰反射体は、道路標識や夜間作業者の衣服など、その表示反射光を視認することを目的としているため、例えば散乱性を有していても、下地反射体と密着していれば、その反射光を視認することができる。例えば、画像表示装置の前面に、防眩性の付与を目的として散乱性を有するアンチグレア処理をしても、画像は視認できるのと同一の原理である。しかしながら、第１の実施形態に係る光学フィルム１は、拡散反射する特定の波長帯域以外の光を透過する点に特徴を有しており、この透過波長を主に透過する透過体に接着し、その透過光を観察するため、光の散乱がないことが好ましい。但し、その用途によっては、第２の光学層５に意図的に散乱性を持たせることも可能である。
【００２７】
光学フィルム１は、好ましくは、透過した特定波長以外の光に対して主に透過性を有する剛体、例えば、窓材１０に粘着剤などを介して貼り合わせて使用される。窓材１０としては、高層ビルや住宅などの建築用窓材、車両用の窓材などが挙げられる。建築用窓材に光学フィルム１を適用する場合、特に東〜南〜西向きの間のいずれかの向き（例えば南東〜南西向き）に配置された窓材１０に光学フィルム１を適用することが好ましい。このような位置の窓材１０に適用することで、より効果的に熱線を反射することができるからである。光学フィルム１は、単層の窓ガラスのみならず、複層ガラスなどの特殊なガラスにも用いることができる。また、窓材１０は、ガラスからなるものに限定されるものではなく、透明性を有する高分子材料からなるものを用いてもよい。光学層２が、可視領域において透明性を有することが好ましい。このように透明性を有することで、光学フィルム１を窓ガラスなどの窓材１０に貼り合せた場合、可視光を透過し、太陽光による採光を確保することができるからである。また、貼り合わせる面としてはガラスの内面のみならず、外面にも使用することができる。
【００２８】
また、光学フィルム１は他の熱線カットフィルムと併用して用いることができ、例えば空気と光学フィルム１との界面（すなわち、光学フィルム１の最表面）に光吸収塗膜を設けることもできる。また、光学フィルム１は、ハードコート層、紫外線カット層、表面反射防止層などとも併用して用いることができる。これらの機能層を併用する場合、これらの機能層を光学フィルム１と空気との間の界面に設けることが好ましい。ただし、紫外線カット層については、光学フィルム１よりも太陽側に配置する必要があるため、特に室内の窓ガラス面に内貼り用として用いる場合には、該窓ガラス面と光学フィルム１の間に紫外線カット層を設けることが望ましい。この場合、窓ガラス面と光学フィルム１の間の貼合層中に、紫外線吸収剤を添加するようにしてもよい。
【００２９】
また、光学フィルム１の用途に応じて、光学フィルム１に対して着色を施し、意匠性を付与するようにしてもよい。このように意匠性を付与する場合、透明性を損なわない範囲で第１の光学層４および第２の光学層５の少なくとも一方が、可視領域における特定の波長帯の光を主として吸収する構成とすることが好ましい。
【００３０】
図２は、第１の実施形態に係る光学フィルムの機能を説明するための拡大断面図である。光学フィルム１は、光Ｌが入射する入射面Ｓ１を有する。光学フィルム１は、入射面Ｓ１に入射した光Ｌのうち特定波長帯の光Ｌ１を拡散反射するのに対して、特定波長帯以外の光Ｌ２を透過する。また、この光学フィルム１は、上記特定波長帯以外の光Ｌ２に対して透明性を有し、その透明性としては、後述する透過像鮮明度の範囲を有するものであることが好ましい。また、拡散反射特性に異方性を付与するようにしてもよい。例えば光学フィルム１が帯状の形状を有する場合、その長手方向と短手方向（幅方向ともいう。）との拡散反射特性に異方性を付与するようにしてもよい。
【００３１】
拡散反射する特定の波長帯域の光、および透過させる特定波長帯以外の光は、光学フィルム１の用途により異なる。例えば、窓材１０に対して光学フィルム１を適用する場合、拡散反射する特定の波長帯域の光は近赤外光であり、透過させる特定の波長帯域の光は可視光であることが好ましい。具体的には、拡散反射する特定の波長帯域の光が、主に波長帯域７８０ｎｍ〜２１００ｎｍの近赤外線であることが好ましい。近赤外線を反射することで、光学フィルム１をガラス窓などの窓材に貼り合わせた場合に、建物内の温度上昇を抑制することができる。したがって、冷房負荷を軽減し、省エネルギー化を図ることができる。ここで、反射するとは、特定の波長帯域、例えば近赤外域における反射率が好ましくは３０％以上、より好ましくは５０％以上、更に好ましくは８０％以上であることを示す。透過するとは、特定の波長帯域、例えば可視光域における透過率が好ましくは３０％以上、より好ましくは５０％以上、更に好ましくは７０％以上であることを示す。
【００３２】
光学フィルム１において、透過性を持つ波長帯に対する透過像鮮明度に関し、０．５ｍｍの光学くしを用いたときの値が、好ましくは５０以上、より好ましくは６０以上、さらに好ましくは７５以上である。透過像鮮明度の値が５０未満であると、透過像がぼけて見える傾向がある。５０以上６０未満であると、外の明るさにも依存するが日常生活には問題がない。６０以上７５未満であると、明るい物体の周辺を良く見ると像が薄らとぼけているのが気になるが、外の景色を鮮明に見ることができる。７５以上であれば、回折パターンは殆ど気にならない。明るい物体の周辺を良く見ると像が薄らとぼけているのが気になるが、外の景色を鮮明に見ることができる。更に０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ、２．０ｍｍの光学くしを用いて測定した透過像鮮明度の値の合計値が、好ましくは２３０以上、より好ましくは２７０以上、さらに好ましくは３５０以上である。透過像鮮明度の合計値が２３０未満であると、透過像がぼけて見える傾向がある。２３０以上２７０未満であると、外の明るさにも依存するが日常生活には問題がない。２７０以上３５０未満であると、光源のように非常に明るい物体のみ回折パターンが気になるが、外の景色を鮮明に見ることができる。３５０以上であれば、回折パターンは殆ど気にならない。ここで、透過像鮮明度の値は、スガ試験機製ＩＣＭ−１Ｔを用いて、ＪＩＳ  Ｋ７１０５に準じて測定したものである。ただし、透過させたい波長がＤ６５光源波長と異なる場合は、透過したい波長のフィルターを用いて校正した後に測定することが好ましい。
【００３３】
光学フィルム１において、透過性を持つ波長帯に対するヘイズが、好ましくは６％以下、より好ましくは４％以下、さらに好ましくは２％以下である。ヘイズが６％を超えると、透過光が散乱され、曇って見えるためである。ここで、ヘイズは、村上色彩製ＨＭ−１５０を用いて、ＪＩＳ  Ｋ７１３６で規定される測定方法により測定したものである。ただし、透過させたい波長がＤ６５光源波長と異なる場合は、透過したい波長のフィルターを用いて校正した後に測定することが好ましい。光学フィルム１の入射面Ｓ１、好ましくは入射面Ｓ１および出射面Ｓ２は、透過像鮮明度を低下させない程度の平滑性を有する。具体的には、入射面Ｓ１および出射面Ｓ２の算術平均粗さＲａは、好ましくは０．０８μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下、さらに好ましくは０．０４μｍ以下である。なお、上記算術平均粗さＲａは、入射面の表面粗さを測定し、２次元断面曲線から粗さ曲線を取得し、粗さパラメータとして算出したものである。なお、測定条件はＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１に準拠している。以下に測定装置および測定条件を示す。
測定装置：全自動微細形状測定機  サーフコーダーＥＴ４０００Ａ（株式会社小坂研究所）
λｃ＝０．８ｍｍ、評価長さ４ｍｍ、カットオフ×５倍
データサンプリング間隔０．５μｍ
【００３４】
以下、光学フィルム１を構成する第１の光学層４、第２の光学層５、および波長選択反射層３について順次説明する。
【００３５】
（第１の光学層、第２の光学層）
第１の光学層４は、例えば、波長選択反射層３を支持し、かつ保護するためのものである。第１の光学層４は、光学フィルム１に可撓性を付与する観点から、樹脂材料を主成分とする層であることが好ましい。第１の光学層４の両主面のうち、例えば、一方の面は平滑面であり、他方の面はランダムな凹凸面（第１の面）である。波長選択反射層３は該ランダムな凹凸面上に形成される。
【００３６】
第２の光学層５は、波長選択反射層３が形成された第１の光学層４の第１の面（ランダムな凹凸面）を包埋することにより、波長選択反射層３を保護するためのものである。第２の光学層５は、光学フィルム１に可撓性を付与する観点から、樹脂材料を主成分とする層であることが好ましい。第２の光学層５の両主面のうち、例えば、一方の面は平滑面であり、他方の面はランダムな凹凸面（第２の面）である。第１の光学層４のランダムな凹凸面と第２の光学層５のランダムな凹凸面とは、互いにランダムな凹凸を反転した関係にある。第１の光学層４の凹凸面と第２の光学層５の凹凸面とは、ランダムな凹凸が反転している点のみが異なるので、以下では第１の光学層４の凹凸面について説明する。
【００３７】
第１の光学層４が、１００℃での貯蔵弾性率の低下が少なく、２５℃と１００℃とでの貯蔵弾性率が著しく異ならない樹脂を主成分としていることが好ましい。具体的には、２５℃での貯蔵弾性率が３×１０９Ｐａ以下であり、１００℃での貯蔵弾性率が３×１０７Ｐａ以上である樹脂を含んでいることが好ましい。なお、第１の光学層４は、１種類の樹脂で構成されているのが好ましいが、２種類以上の樹脂を含んでいてもよい。また、必要に応じて、添加剤が混入されていてもよい。
【００３８】
このように１００℃での貯蔵弾性率の低下が少なく、２５℃と１００℃とでの貯蔵弾性率が著しく異ならない樹脂を主成分としていると、熱、または熱と加圧とを伴うプロセスが第１の光学層４のランダムな凹凸面（第１の面）を形成後に存在する場合でも、設計した界面形状をほぼ保つことができる。これに対して、１００℃での貯蔵弾性率の低下が大きく、２５℃と１００℃とでの貯蔵弾性率が著しく異なる樹脂を主成分としていると、設計した界面形状からの変形が大きくなり、光学フィルム１にカールが生じたりする。
【００３９】
ここで、熱を伴うプロセスには、アニール処理などのように直接的に光学フィルム１またはその構成部材に対して熱を加えるようなプロセスのみならず、薄膜の成膜時、および樹脂組成物の硬化時などに、成膜面が局所的に温度上昇して間接的にそれらに対して熱を加えるようなプロセスや、エネルギー線照射により原盤の温度が上昇し、間接的に光学フィルムに熱を加えるようなプロセスも含まれる。また、上述した貯蔵弾性率の数値範囲を限定することにより得られる効果は、樹脂の種類に特に限定されず、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、およびエネルギー線照射型樹脂のいずれでも得ることができる。
【００４０】
第１の光学層４の貯蔵弾性率は、例えば以下のようにして確認することができる。第１の光学層４の表面が露出している場合には、その露出面の貯蔵弾性率を微小硬度計を用いて測定することにより確認することができる。また、第１の光学層４の表面に第１の基材４ａなどが形成されている場合には、第１の基材４ａなどを剥離して、第１の光学層４の表面を露出させた後、その露出面の貯蔵弾性率を微小硬度計を用いて測定することにより確認することができる。
【００４１】
高温下での弾性率の低下を抑制する方法としては、例えば、熱可塑性樹脂にあっては、側鎖の長さおよび種類などを調整する方法が挙げられ、熱硬化型樹脂、およびエネルギー線照射型樹脂にあっては、架橋点の量および架橋材の分子構造などを調整する方法が挙げられる。但し、このような構造変更によって樹脂材料そのものに求められる特性が損なわれないようにすることが好ましい。例えば、架橋剤の種類によっては室温付近での弾性率が高くなり、脆くなってしまったり、収縮が大きくなりフィルムが湾曲したり、カールしたりすることがあるので、架橋剤の種類を所望とする特性に応じて適宜選択することが好ましい。
【００４２】
第１の光学層４が、結晶性高分子材料を主成分として含んでいる場合には、ガラス転移点が、製造プロセス中の最高温度より大きく、製造プロセス中の最高温度下での貯蔵弾性率の低下が少ない樹脂を主成分としていることが好ましい。これに対して、ガラス転移点が、室温２５℃以上、製造プロセス中の最高温度以下の範囲内にあり、製造プロセス中の最高温度下での貯蔵弾性率の低下が大きい樹脂を用いると、製造プロセス中に、設計した理想的な界面形状を保持することが困難になる。
【００４３】
第１の光学層４が、非晶性高分子材料を主成分として含んでいる場合には、融点が、製造プロセス中の最高温度より大きく、製造プロセス中の最高温度下での貯蔵弾性率の低下が少ない樹脂を主成分としていることが好ましい。これに対して、融点が、室温２５℃以上、製造プロセス中の最高温度以下の範囲内にあり、製造プロセス中の最高温度下での貯蔵弾性率の低下が大きい樹脂を用いると、製造プロセス中に、設計した理想的な界面形状を保持することが困難になる。
【００４４】
ここで、製造プロセス中の最高温度とは、製造プロセス中における第１の光学層４のランダムな凹凸面（第１の面）の最高温度を意味している。上述した貯蔵弾性率の数値範囲、およびガラス転移点の温度範囲は、第２の光学層５も満たしていることが好ましい。
【００４５】
すなわち、第１の光学層４、および第２の光学層５の少なくとも一方が、２５℃での貯蔵弾性率が３×１０９Ｐａ以下である樹脂を含んでいることが好ましい。室温２５℃において光学フィルム１に可撓性を付与することができるので、ロール・ツー・ロールでの光学フィルム１の製造が可能となるからである。
【００４６】
第１の基材４ａ、および第２の基材５ａは、例えば、透明性を有している。基材の形状としては、光学フィルム１に可撓性を付与する観点から、フィルム状を有することが好ましいが、特にこの形状に限定されるものではない。第１の基材４ａ、および第２の基材５ａの材料としては、例えば、公知の高分子材料を用いることができる。公知の高分子材料としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエステル（ＴＰＥＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミド（ＰＡ）、アラミド、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ジアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂などが挙げられるが、特にこれらの材料に限定されるものではない。第１の基材４ａ、および第２の基材５ａの厚さは、生産性の観点から３８〜１００μｍであることが好ましいが、この範囲に特に限定されるものではない。第１の基材４ａ、および第２の基材５ａは、エネルギー線透過性を有することが好ましい。これにより、後述するように、第１の基材４ａ、または第２の基材５ａと波長選択反射層３との間に介在させたエネルギー線硬化型樹脂に対して、第１の基材４ａ、または第２の基材５ａ側からエネルギー線を照射し、エネルギー線硬化型樹脂を硬化させることができるからである。
【００４７】
第１の光学層４、および第２の光学層５は、例えば、透明性を有する。第１の光学層４、および第２の光学層５は、例えば、樹脂組成物を硬化することにより得られる。樹脂組成物としては、製造の容易性の観点からすると、光または電子線などにより硬化するエネルギー線硬化型樹脂、または熱により硬化する熱硬化型樹脂を用いることが好ましい。エネルギー線硬化型樹脂としては、光により硬化する感光性樹脂組成物が好ましく、紫外線により硬化する紫外線硬化型樹脂組成物が最も好ましい。樹脂組成物は、第１の光学層４、または第２の光学層５と波長選択反射層３との密着性を向上させる観点から、リン酸を含有する化合物、コハク酸を含有する化合物、ブチロラクトンを含有する化合物をさらに含有することが好ましい。リン酸を含有する化合物としては、例えばリン酸を含有する（メタ）アクリレート、好ましくはリン酸を官能基に有する（メタ）アクリルモノマーまたはオリゴマーを用いることができる。コハク酸を含有する化合物としては、例えば、コハク酸を含有する（メタ）アクリレート、好ましくはコハク酸を官能基に有する（メタ）アクリルモノマーまたはオリゴマーを用いることができる。ブチロラクトンを含有する化合物としては、例えば、ブチロラクトンを含有する（メタ）アクリレート、好ましくはブチロラクトンを官能基に有する（メタ）アクリルモノマーまたはオリゴマーを用いることができる。
【００４８】
紫外線硬化型樹脂組成物は、例えば、（メタ）アクリレートと、光重合開始剤とを含有している。また、紫外線硬化型樹脂組成物が、必要に応じて、光安定剤、難燃剤、レベリング剤および酸化防止剤などをさらに含有するようにしてもよい。
【００４９】
アクリレートとしては、２個以上の（メタ）アクリロイル基を有するモノマーおよび／またはオリゴマーを用いることが好ましい。このモノマーおよび／またはオリゴマーとしては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレートなどを用いることができる。ここで、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基およびメタアクリロイル基のいずれかを意味するものである。ここで、オリゴマーとは、分子量５００以上６００００以下の分子をいう。
【００５０】
光重合開始剤としては、公知の材料から適宜選択したものを使用できる。公知の材料としては、例えば、ベンゾフェノン誘導体、アセトフェノン誘導体、アントラキノン誘導体などを単独で、または併用して用いることができる。重合開始剤の配合量は、固形分中０．１質量％以上１０質量％以下であることが好ましい。０．１質量％未満であると、光硬化性が低下し、実質的に工業生産に適さない。一方、１０質量％を超えると、照射光量が小さい場合に、塗膜に臭気が残る傾向にある。ここで、固形分とは、硬化後のハードコート層１２を構成する全ての成分をいう。具体的には例えば、アクリレート、および光重合開始剤などを固形分という。
【００５１】
樹脂はエネルギー線照射や熱などによって構造を転写できるものが好ましく、ビニル系樹脂、エポキシ系樹脂、熱可塑性樹脂など上述の屈折率の要求を満たすものであればどのような種類の樹脂を使用しても良い。
【００５２】
硬化収縮を低減するために、オリゴマーを添加してもよい。硬化剤としてポリイソシアネートなどを含んでもよい。また、第１の光学層４、および第２の光学層５との密着性を考慮して水酸基やカルボキシル基、リン酸基を有するような単量体、多価アルコール類、カルボン酸、シラン、アルミ、チタンなどのカップリング剤や各種キレート剤などを添加しても良い。
【００５３】
樹脂組成物が、架橋剤をさらに含んでいることが好ましい。この架橋剤としては、環状の架橋剤を用いることが特に好ましい。架橋剤を用いることで、室温での貯蔵弾性率を大きく変化させることなく、樹脂を耐熱化することができるからである。なお、室温での貯蔵弾性率が大きく変化すると、光学フィルム１が脆くなり、ロール・ツー・ロール工程などによる光学フィルム１の作製が困難となる。環状の架橋剤としては、例えば、ジオキサングリコールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸ジアクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸トリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレートなどを挙げることができる。
【００５４】
第１の基材４ａ、または第２の基材５ａは、第１の光学層４、または第２の光学層５より水蒸気透過率が低いことが好ましい。例えば、第１の光学層４をウレタンアクリレートのようなエネルギー線硬化型樹脂で形成する場合には、第１の基材４ａを第１の光学層４より水蒸気透過率が低く、かつ、エネルギー線透過性を有するポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などの樹脂により形成することが好ましい。これにより、入射面Ｓ１または出射面Ｓ２から波長選択反射層３への水分の拡散を低減し、波長選択反射層３に含まれる金属などの劣化を抑制することができる。したがって、光学フィルム１の耐久性を向上させることができる。なお、厚み７５μｍのＰＥＴの水蒸気透過率は、１０ｇ／ｍ２／ｄａｙ（４０℃、９０％ＲＨ）程度である。
【００５５】
第１の光学層４および第２の光学層５の少なくとも一方が、極性の高い官能基を含み、その含有量が第１の光学層４と第２の光学層５とで異なることが好ましい。第１の光学層４と第２の光学層５との両方が、リン酸化合物（例えば、リン酸エステル）を含み、第１の光学層４と第２の光学層５とにおける上記リン酸化合物の含有量が異なることが好ましい。リン酸化合物の含有量は、第１の光学層４と第２の光学層５とにおいて、好ましくは２倍以上、より好ましくは５倍以上、さらに好ましくは１０倍以上異なる。
【００５６】
第１の光学層４、および第２の光学層５の少なくとも一方が、リン酸化合物を含む場合、波長選択反射層３は、リン酸化合物を含む第１の光学層４または第２の光学層５と接する面に、酸化物もしくは窒化物、酸窒化物を含むことが好ましい。波長選択反射層３は、リン酸化合物を含む第１の光学層４または第２の光学層５と接する面に、酸化亜鉛（ＺｎＯ）または酸化ニオブを含む層を有することが特に好ましい。これらの光学層と波長選択反射層３との密着性が向上するためである。また、波長選択反射層３がＡｇ等の金属を含む場合に、腐食防止効果が高いからである。また、この波長選択反射層３は、Ａｌ、Ｇａなどのドーパントを含有していても良い。金属酸化物層をスパッタ法等で形成する場合に、膜質や平滑性が向上するからである。
【００５７】
第１の光学層４、および第２の光学層５の少なくとも一方が、光学フィルム１や窓材１０などに意匠性を付与する観点からすると、可視領域における特定の波長帯の光を吸収する特性を有することが好ましい。樹脂中に分散させる顔料は、有機系顔料および無機系顔料のいずれであってもよいが、特に顔料自体の耐候性が高い無機系顔料とすることが好ましい。具体的には、ジルコングレー（Ｃｏ、ＮｉドープＺｒＳｉＯ４）、プラセオジムイエロー（ＰｒドープＺｒＳｉＯ４）、クロムチタンイエロー（Ｃｒ、ＳｂドープＴｉＯ２またはＣｒ、ＷドープＴｉＯ２）、クロムグリーン（Ｃｒ２Ｏ３など）、ピーコックブルー（（ＣｏＺｎ）Ｏ（ＡｌＣｒ）２Ｏ３）、ビクトリアグリーン（（Ａｌ、Ｃｒ）２Ｏ３）、紺青（ＣｏＯ・Ａｌ２Ｏ３・ＳｉＯ２）、バナジウムジルコニウム青（ＶドープＺｒＳｉＯ４）、クロム錫ピンク（ＣｒドープＣａＯ・ＳｎＯ２・ＳｉＯ２）、陶試紅（ＭｎドープＡｌ２Ｏ３）、サーモンピンク（ＦｅドープＺｒＳｉＯ４）などの無機顔料、アゾ系顔料やフタロシアニン系顔料などの有機顔料が挙げられる。
【００５８】
（反射層）
部分反射層である波長選択反射層３は、例えば、入射面に入射した光のうち、特定波長帯の光を拡散反射するのに対して、特定波長帯以外の光を透過するものである。波長選択反射層３は、例えば、積層膜、透明導電層、または機能層である。また、積層膜、透明導電層、および機能層を２以上組み合わせて波長選択反射層３としてもよい。波長選択反射層３の平均膜厚は、好ましくは２０μｍ、より好ましくは５μｍ以下、さらに好ましくは１μｍ以下である。波長選択反射層３の平均膜厚が２０μｍを超えると、透過光が屈折する光路が長くなり、透過像が歪んで見える傾向がある。反射層の形成方法としては、例えば、スパッタ法、蒸着法、ディップコーティング法、ダイコーティング法などを用いることができる。
【００５９】
以下、積層膜、透明導電層、および機能層について順次説明する。
（積層膜）
積層膜は、例えば、屈折率の異なる低屈折率層および高屈折率層を交互に積層してなる積層膜である。または、積層膜は、例えば、赤外領域において反射率の高い金属層と、可視領域において屈折率が高く反射防止層として機能する高屈折率層とを交互に積層してなる積層膜である。高屈折率層としては、光学透明層、または透明導電層を用いることができる。
【００６０】
赤外領域において反射率の高い金属層は、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｃｏ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｇｅなどの単体、またはこれらの単体を２種以上含む合金を主成分とする。そして、実用性の面を考慮すると、これらのうちのＡｇ系、Ｃｕ系、Ａｌ系、Ｓｉ系またはＧｅ系の材料が好ましい。また、金属層の材料として合金を用いる場合には、金属層は、ＡｌＣｕ、ＡｌＴｉ、ＡｌＣｒ、ＡｌＣｏ、ＡｌＮｄＣｕ、ＡｌＭｇＳｉ、ＡｇＰｄＣｕ、ＡｇＰｄＴｉ、ＡｇＣｕＴｉ、ＡｇＰｄＣａ、ＡｇＰｄＭｇ、ＡｇＰｄＦｅ、ＡｇまたはＳｉＢなどを主成分とすることが好ましい。また、金属層の腐食を抑えるために、金属層に対してＴｉ、Ｎｄなどの材料を添加することが好ましい。特に、金属層の材料としてＡｇを用いる場合には、上記材料を添加することが好ましい。
【００６１】
光学透明層は、可視領域において屈折率が高く反射防止層として機能する光学透明層である。光学透明層は、例えば酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化チタンなどの高誘電体を主成分とする。透明導電層は、例えば、ＺｎＯ系酸化物、インジウムドープ酸化錫などの主成分とする。なお、ＺｎＯ系酸化物としては、例えば、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、ガリウム（Ｇａ）およびアルミニウム（Ａｌ）をドープした酸化亜鉛（ＧＡＺＯ）、Ａｌをドープした酸化亜鉛（ＡＺＯ）、およびガリウム（Ｇａ）をドープした酸化亜鉛（ＧＺＯ）からなる群より選ばれる少なくとも１種を用いることができる。
【００６２】
また、積層膜に含まれる高屈折率層の屈折率は、１．７以上２．６以下の範囲内であることが好ましい。より好ましくは１．８以上２．６以下、更に好ましくは１．９以上２．６以下である。これにより、クラックが発生しない程度の薄い膜で可視光領域での反射防止が実現できるからである。ここで、屈折率は、波長５５０ｎｍにおけるものである。高屈折率層は、例えば、金属の酸化物を主成分とする層である。金属の酸化物としては、層の応力を緩和し、クラックの発生を抑制する観点からすると、酸化亜鉛以外の金属酸化物を用いることが好ましい場合もある。特に、酸化ニオブ（例えば、五酸化ニオブ）、酸化タンタル（例えば、五酸化タンタル）、および酸化チタンからなる群より選ばれる少なくとも１種を用いることが好ましい。高屈折率層の平均膜厚は、好ましくは１０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下、さらに好ましくは１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下である。平均膜厚が１０ｎｍ未満であると、可視光が反射しやすくなる傾向がある。一方、平均膜厚が１２０ｎｍを超えると、透過率の低下やクラックが発生しやすくなる傾向がある。
【００６３】
なお、積層膜は、無機材料からなる薄膜に限定されるものではなく、高分子材料からなる薄膜や高分子中に微粒子などを分散した層を積層して構成してもよい。また、これら光学透明層成膜時の下層金属の酸化劣化を防ぐ目的で、成膜する光学透明層の界面に数ｎｍ程度のＴｉなどの薄いバッファー層を設けてもよい。ここで、バッファー層とは、上層成膜時に、自らが酸化することで下層である金属層などの酸化を抑制するための層である。
【００６４】
（透明導電層）
透明導電層は、可視領域において透明性を有する導電性材料を主成分とする透明導電層である。透明導電層は、例えば、酸化錫、酸化亜鉛、カーボンナノチューブ含有体、インジウムドープ酸化錫、インジウムドープ酸化亜鉛、アンチモンドープ酸化錫などの透明導電物質を主成分とする。もしくはこれらのナノ粒子や金属などの導電性を持つ材料のナノ粒子、ナノロッド、ナノワイヤーを樹脂中に高濃度に分散させた層を用いても良い。
【００６５】
（機能層）
機能層は、外部刺激により反射性能などが可逆的に変化するクロミック材料を主成分とする。クロミック材料は、例えば、熱、光、侵入分子などの外部刺激により構造を可逆的に変化させる材料である。クロミック材料としては、例えば、フォトクロミック材料、サーモクロミック材料、ガスクロミック材料、エレクトロクロミック材料を用いることができる。
【００６６】
フォトクロミック材料とは、光の作用により構造を可逆的に変化させる材料である。フォトクロミック材料は、例えば紫外線などの光照射により、反射率や色などの様々な物性を可逆的に変化させることができる。フォトクロミック材料としては、例えばＣｒ、Ｆｅ、ＮｉなどをドープしたＴｉＯ２、ＷＯ３、ＭｏＯ３、Ｎｂ２Ｏ５などの遷移金属酸化物を用いることができる。また、これらの層と屈折率の異なる層を積層することで波長選択性を向上させることもできる。
【００６７】
サーモクロミック材料とは、熱の作用により構造を可逆的に変化させる材料である。フォトクロミック材料は、加熱により、反射率や色などの様々な物性を可逆的に変化させることができる。サーモクロミック材料としては、例えばＶＯ２などを用いることができる。また、転移温度や転移カーブを制御する目的で、Ｗ、Ｍｏ、Ｆなどの元素を添加することもできる。また、ＶＯ２などのサーモクロミック材料を主成分とする薄膜を、ＴｉＯ２やＩＴＯなどの高屈折率体を主成分とする反射防止層で挟んだ積層構造としてもよい。
【００６８】
または、コレステリック液晶などのフォトニックラティスを用いることもできる。コレステリック液晶は層間隔に応じた波長の光を選択的に反射することができ、この層間隔は温度によって変化するため、加熱により、反射率や色などの物性を可逆的に変化させることができる。この時、層間隔の異なるいくつかのコレステリック液晶層を用いて反射帯域を広げることも可能である。
【００６９】
エレクトロクロミック材料とは、電気により、反射率や色などの様々な物性を可逆的に変化させることができる材料である。エレクトロクロミック材料としては、例えば、電圧の印加により構造を可逆的に変化させる材料を用いることができる。より具体的には、エレクトロクロミック材料としては、例えば、プロトンなどのドープまたは脱ドープにより、反射特性が変わる反射型調光材料を用いることができる。反射型調光材料とは、具体的には、外部刺激により、光学的な性質を透明な状態と、鏡の状態、および／またはその中間状態に制御することができる材料である。このような反射型調光材料としては、例えば、マグネシウムおよびニッケルの合金材料、マグネシウムおよびチタンの合金材料を主成分とする合金材料、ＷＯ３やマイクロカプセル中に選択反射性を有する針状結晶を閉じ込めた材料などを用いることができる。
【００７０】
具体的な機能層の構成としては、例えば、第２の光学層上に、上記合金層、Ｐｄなどを含む触媒層、薄いＡｌなどのバッファー層、Ｔａ２Ｏ５などの電解質層、プロトンを含むＷＯ３などのイオン貯蔵層、透明導電層が積層された構成を用いることができる。または、第２の光学層上に透明導電層、電解質層、ＷＯ３などのエレクトロクロミック層、透明導電層が積層された構成を用いることができる。これらの構成では、透明導電層と対向電極の間に電圧を印加することにより、電解質層に含まれるプロトンが合金層にドープまたは脱ドープされる。これにより、合金層の透過率が変化する。また、波長選択性を高めるために、エレクトロクロミック材料をＴｉＯ２やＩＴＯなどの高屈折率体と積層することが望ましい。また、その他の構成として、第２の光学層上に透明導電層、マイクロカプセルを分散した光学透明層、透明電極が積層された構成を用いることができる。この構成では、両透明電極間に電圧を印加することにより、マイクロカプセル中の針状結晶が配向した透過状態にしたり、電圧を除くことで針状結晶が四方八方を向き、波長選択反射状態にすることができる。
【００７１】
［光学フィルムの製造装置］
図３は、第１の実施形態に係る光学フィルムを製造するための製造装置の一構成例を示す概略図である。図３に示すように、この製造装置は、ラミネートロール４１、４２、ガイドロール４３、塗布装置４５、および照射装置４６を備える。
【００７２】
ラミネートロール４１、４２は、反射層付き光学層９と、第２の基材５ａとをニップ可能に構成されている。ここで、反射層付き光学層９は、第１の光学層４の一主面上に波長選択反射層３を成膜したものである。なお、反射層付き光学層９として、第１の光学層４の波長選択反射層３が成膜された面と反対側の他主面上に第１の基材４ａが形成されていてもよい。この例では、第１の光学層４の一主面上に波長選択反射層３が成膜され、他主面上に第１の基材４ａが形成された場合が示されている。ガイドロール４３は、帯状の光学フィルム１を搬送できるように、この製造装置内の搬送路に配置されている。ラミネートロール４１、４２およびガイドロール４３の材質は特に限定されるものではなく、所望とするロール特性に応じてステンレスなどの金属、ゴム、シリコーンなどを適宜選択して用いることができる。
【００７３】
塗布装置４５は、例えば、コーターなどの塗布手段を備える装置を用いることができる。コーターとしては、例えば、塗布する樹脂組成物の物性などを考慮して、グラビア、ワイヤバー、およびダイなどのコーターを適宜使用することができる。照射装置４６は、例えば、電子線、紫外線、可視光線、またはガンマ線などの電離線を照射する照射装置である。この例では、照射装置４６として紫外線を照射するＵＶランプを用いた場合が図示されている。
【００７４】
［原盤の製造方法］
ランダムな微細凹凸形状を有する原盤２１を作製する方法としては、例えば以下の（１）〜（９）の方法を用いることができることができる。これらの（１）〜（９）の方法により、それぞれ異なる微細凹凸形状を有する原盤２１を得ることができる。
【００７５】
（１）母材表面を粗面化する方法
この方法は、ガラス、金属、セラミックス、プラスチックスなどからなる原盤作製用母材の平滑面を砥粒もしくはサンドブラストなどにより研磨したり、またはエッチングしたりすることにより粗面化する方法である。母材表面に形成される凹凸のピッチは砥粒の粒径、ストロークやブラストの力および回転数で制御でき、またエッチングで粗化や平滑化して制御することができる。また、形状の制御は砥粒を用いる場合、揺動軌跡により制御することが可能で、サンドブラストやエッチングの場合は、母材への吹き付け角度を考慮することにより制御をすることができる。
【００７６】
サンドブラスト法を用いることで、面内方向のうち直交する２方向で異なる拡散角を持つ、または面内方向のうち直交する２方向で拡散特性に異方性を持つ光学フィルム１を作製することができる。このような光学フィルム１を作製するためのサンドブラスト方法としては、例えば、特開２００５−２５０４５９号公報に開示の方法を用いることができる。
【００７７】
（２）母材表面を彫刻する方法
この方法は、例えば、ワックスの表面を尖った針（例えばダイアモンド針）で原盤作製用母材表面を彫刻する方法である。また、彫刻した原盤作製用母材表面上に金属を蒸着等により堆積させて、表面を強化するようにしてもよい。
【００７８】
（３）母材表面に気体または液体から微小な固体を凝集させる方法
この方法は、例えば原盤作製用母材表面に、蒸着を行う方法であり、母材の温度を低く設定するなどの、グレインサイズが大きくなるような条件を選択して蒸着を行うことにより、原盤作製用母材表面上に微小な凹凸を形成することができる。また、メッキにおいてメッキ液中に通常は添加される安定化剤やその他の添加剤の添加量を減らすような条件を設定することにより、同様に微小な固体を原盤作製用母材表面に形成することが可能である。また、固体溶液あるいは分散液を極めて微細な霧状の状態（ミスト）で原盤作製用母材表面に噴霧して、あるいは、上記ミストの中を原盤作製用母材を通過させることにより原盤作製用母材表面にミストを付着させ、その後溶媒あるいは分散媒を蒸発させることにより、原盤作製用母材表面に微小な固体を凝集させる方法も採用可能である。
【００７９】
（４）母材表面に微小粒子を敷き詰め固定する方法
微小粒子としては、粉体、ビーズ、砂、微小結晶体、微生物（菌、ウィルス、プランクトン等）等を挙げることができる。これらの微小粒子を、高分子バインダーと共に塗布することにより原盤作製用母材表面に微小粒子を敷き詰めることができる。また、微小粒子の粒径、微小粒子とバインダーの割合、塗布量等を種々変更することにより、表面凹凸のピッチ、凹凸の高さ等を調節することができる。また、上記の微生物とは、例えば、微生物が増殖する際に生ずるコロニーが微小凹凸を構成するものであり、菌種により、さまざまな形状のコロニーが形成される。
【００８０】
（５）塗膜層に発生する皺（レチキュレーション）を利用する方法
この方法は、例えば、高分子塗膜材料を有機溶媒に溶解した塗料を、原盤作製用母材表面に塗布し、乾燥条件を特定の条件に制御しつつ、溶媒の除去を行うことにより、原盤作製用母材表面に微細な皺、すなわち、微小な凹凸形状を有する表面を得る方法である。また、形成した塗膜に熱膨張あるいは吸水を制御条件下で行わせて皺を形成する方法を挙げることもできる。また、多層膜で各層の化学反応として異なる機構の材料を用いて各層の膨張収縮率を制御することにより発生する皺を微小凹凸として利用することもできる。
【００８１】
（６）種々の既存材料を用いる方法
この方法は、紙、皮、布、陶磁器、板ガラス、木板、岩石の表面の他、生物例えば昆虫、魚、貝等の外皮、ウロコ、外骨格、殻等をそのまま利用する方法である。
【００８２】
（７）フォトポリマーを露光、現像する方法
この方法は、原盤作製用母材表面にフォトポリマーを塗布した後、不均一パターンに露光し現像した面を利用する方法である。不均一パターンに露光するには、印刷用の網点パターンや、コヒーレント光の干渉でできるスペックル（以下、レーザー干渉法と称する。）を利用することができる。レーザー干渉法としては、例えば、特許第４４６０１６３号公報に開示の方法を用いることができる。
【００８３】
（８）フォトリソグラフィおよびエッチングによる方法
この方法は、フォトリソグラフィおよびエッチング法により原盤作製用母材表面にランダムな凹凸形状を形成する方法である。
【００８４】
（９）上記方法の組合せ
この方法は、上記の（１）〜（８）のいずれかの方法により不規則な微小凹凸形状を有する表面を形成あるいは選択した後、さらにその表面に（１）〜（８）のいずれかの方法を再度施す方法である。
【００８５】
［光学フィルムの製造方法］
以下、図４Ａ〜図８Ｃを参照して、第１の実施形態に係る光学フィルムの製造方法の一例について説明する。なお、以下に示す製造プロセスの一部または全部は、生産性を考慮して、ロール・ツー・ロールにより行われることが好ましい。但し、原盤の作製工程は除くものとする。
【００８６】
（原盤作製工程）
まず、図４Ａに示すように、ランダムな微細凹凸形状を有する原盤２１を形成する。原盤２１の形状としては、例えば、平板状、円柱状、円筒状などが挙げられる。原盤表面に微細凹凸形状を形成する方法として、例えば、上記（１）〜（９）のうちのいずれかの方法を用いることができ、これらの方法を２以上組み合わせるようにしてもよい。これらの方法のうち、サンドブラスト法、レーザー干渉法、またはフォトリソグラフィおよびエッチングによる方法を用いることが好ましく、これらの方法を２以上組み合わせるようにしてもよい。ここで、例として、サンドブラスト法、およびフォトリソグラフィおよびエッチング法について説明する。
【００８７】
（サンドブラスト法）
図５Ａ、図５Ｂは、サンドブラスト法による原盤表面の加工方法の一例を説明するための略線図である。
【００８８】
サンドブラスト加工は、サンドブラスト装置（図示せず）のブラストガン６１から研削材６２を射出させて、原盤作製用母材２１ａの表面に吹き付け、研削材６２が原盤作製用母材２１ａの表面に衝突することにより、該原盤作製用母材２１ａの表面に凹凸が形成される加工である。
【００８９】
サンドブラスト装置は、ブラストガン６１から研削材６２を空気、窒素などの加圧ガスで射出させて、被加工材である原盤の原盤作製用母材２１ａに吹き付けて、その表面加工を行う装置である。この例では、原盤作製用母材２１ａを回転させながら、以下に示す所定の条件でサンドブラスト加工を行う。
【００９０】
研削材６２は、樹脂、ガラス、金属、セラミックなどからなる球形あるいは多角形などの角のある粒子が好ましく、とくに角のある粒子が好ましい。例えば、ガラスビーズ、ジルコニア粒子、スチールグリッド、アルミナ粒子、シリカ粒子などが挙げられる。また、研削材６２の平均粒径は、１〜１０００μｍが好ましく、５〜６００μｍがより好ましい。さらに５〜５０μｍとするとなお好ましい。研削材６２の粒子１個の重さは、０．００２〜８ｍｇが好ましい。
【００９１】
原盤作製用母材２１ａは、サンドブラスト加工を行うのに適した材料からなる。この材料は樹脂あるいは金属、例えば、アルミニウム、銅、スチールなどがよく、とくにアルミニウムが好適である。原盤作製用母材２１ａの大きさは、例えば、帯状などを有する光学フィルム１の幅に対応できる幅サイズに選ばれる。
【００９２】
研削材６２の吹き付け条件は、図５において、原盤作製用母材２１ａの主面に対して研削材６２の吹き付け角度（俯角）がすべて９０°未満となるようにすることが好ましい。詳しくは、原盤作製用母材２１ａの主軸とブラストガン６１とのなす角度θは、好ましくは０〜６０°、より好ましくは０〜２０°、さらにより好ましくは０〜１０°である。
【００９３】
例えば、この例では、角度θを１０°にて吹き付けを行うことで研削材６２の吹き付け方向とそれに直角な方向の溝のピッチを変えることができ、さらに吹き付け方向の表面粗さプロファイルを光拡散シートの主面軸（法線）に対して非対称にすることが可能である。
【００９４】
原盤作製用母材２１ａに衝突した研削材６２は、そのエネルギーを失いながら原盤作製用母材２１ａの表面を切削、あるいは変形させた後に原盤作製用母材２１ａの上方へある角度をもって飛散するが、上記吹き付け条件とすることにより、研削材６２は原盤作製用母材２１ａにある角度をもって衝突するため、その衝突によって生じた変形形状は横方向（Ｘ軸方向）と縦方向（Ｙ軸方向）とで異なる。例えば、図１の条件では、Ｘ軸方向の変形形状（くぼみ）の方がＹ軸方向のそれよりも長くなる。言いかえれば、Ｘ軸方向の表面粗さの方がＹ軸方向の表面粗さよりもピッチが長くなる。このピッチなどの表面粗さのパラメータは原盤作製用母材２１ａ、研削材６２、サンドブラスト加工条件（研削材６２の吹き付け条件など）の各パラメータにより調整することが可能である。例えば、粒径の大きい研削材を用いた場合はＸ，Ｙ軸方向共に大きなピッチの粗さが実現でき、より密度の大きい研削材を使用すれば溝の深い形状を実現することができる。
【００９５】
また、原盤作製用母材２１ａにおける加工形状として、研削材６２の噴射方向の加工形状は噴射時のエネルギーを決めるブラストガン６１の加圧空気の圧力、ブラストガン６１の角度、ブラストガン６１と原盤作製用母材２１ａとの距離、研削材６２の形状、密度、硬度、原盤作製用母材の材質などで制御できる。噴射方向と垂直方向の加工形状については、研削材の形状、硬度によって制御することが可能である。さらに、研削材６２がエネルギーを失いながら原盤作製用母材２１ａを変形させる軌跡と、反発力により原盤作製用母材２１ａから飛散していく時の軌跡は対称ではないため、原盤作製用母材２１ａの主面軸に対して非対称の表面形状を形成する事が可能である。
【００９６】
また、上記吹き付け条件により製造した原盤を使用することにより、光学フィルム１を縦方向と横方向とで拡散角の異なる、あるいは縦横方向に拡散特性に異方性のあるものとすることができる。例えば、図５の研削材６２の吹き付け条件では、反射光または透過光の拡散角はＸ方向に狭く、Ｙ方向に広くなり、拡散特性としてＸ方向のＸ１側に輝度ピークが軸ずれしたものとなる。
【００９７】
あるいは、反射光または透過光の拡散角はＸ方向に狭く、Ｙ方向に広くなり、更に入射角０°で拡散面に照射した光の前記拡散面からの拡散光輝度の角度依存性を測定した時に最大輝度軸が光拡散シート主面の法線方向に対してＸ１側に傾いており、該最大輝度軸に対して前記輝度分布が非対称なものとなる。
【００９８】
また、ブラストガン６１を原盤作製用母材２１ａに対して寝かせるほど、すなわち角度θを小さくするほど、後述する光拡散シートの拡散角の縦横比率を大きくすることができ、拡散特性の異方性の効果も大きい。
【００９９】
なお、研削材６２は原盤作製用母材２１ａに対して角度θを中心として角度幅αをもってブラストガン６１から射出される。言いかえると研削材６２は原盤作製用母材に角度β１〜β２の範囲内で入射し衝突する。角度幅αは通常、１０°程度である。
【０１００】
原盤作製用母材２１ａのより小さい領域を加工する場合には角度幅αをより小さくするか、あるいはブラストガン６１と原盤作製用母材２１ａとの距離Ｌを小さくすればよい。より広い領域を加工するためには、ブラストガン６１または原盤作製用母材２１ａをなめらかに移動させながらサンドブラスト加工を行えばよい。
【０１０１】
この例では、ブラストガン６１から研削材６２を出射しながら、ブラストガン６１を原盤作製用母材２１ａ上でスキャンさせて、原盤作製用母材２１ａの主面全面に対してサンドブラスト加工を行う。
【０１０２】
（フォトリソグラフィおよびエッチングにより原盤表面を加工する方法）
図６Ａ〜図６Ｆは、フォトリソグラフィおよびエッチングにより原盤表面の加工方法の一例を説明するための工程図である。
【０１０３】
（レジスト層形成工程）
まず、被加工体である原盤作製用母材２１ａの表面上に、レジスト層７１を形成する（図６Ａ参照）。被加工体である原盤作製用母材２１ａの形状としては、例えば、板状、シート状、フィルム状、ブロック状、円柱状、円筒状、円環状などが挙げられる。レジスト層７１の材料としては、例えば、無機レジストおよび有機レジストのいずれも用いることができる。なお、原盤作製用母材２１ａが円柱状または円筒状を有する場合には、それらの外周面にレジスト層７１を形成することが好ましい。
【０１０４】
（露光工程）
次に、例えば、レーザー光などの光Ｌ１をレジスト層７１に照射することにより、露光部７１ａをランダムにレジスト層７１に形成する（図６Ｂ参照）。レジスト層７１に形成される露光部７１ａの形状としては、例えば、円形状またはほぼ円形状を挙げることができる。      
【０１０５】
（現像工程）
次に、露光部７１ａが形成されたレジスト層７１を現像する。これにより、露光部７１ａに応じた開口部７１ｂがレジスト層７１に形成される（図６Ｃ参照）。開口部７１ｂは、異なる半径を有する円形状であることが好ましい。なお、図６Ｃでは、レジストとしてポジ型レジストを用い、露光部に開口部７１ｂを形成する例が示されているが、レジストはこの例に限定されるものではない。すなわち、レジストとしてネガ型レジストを用い、露光部を残すようにしてもよい。
【０１０６】
（エッチング工程）
次に、開口部７１ｂが形成されたレジスト層７１をマスクとして、原盤作製用母材２１ａの表面をエッチングする。これにより、異なる深さおよび／または異なる半径を有する凹部７２が、原盤作製用母材２１ａの表面に形成される（図６Ｄ参照）。凹部７２の形状は、部分球面形状であることが好ましい。部分球面形状とは、球形またはほぼ球形の一部を切り出した形状である。エッチングとしては、例えば、ドライエッチングおよびウエットエッチングのいずも用いることができるが、設備が簡易である点からすと、ウエットエッチングを用いることが好ましい。また、エッチングとしては、例えば、等方性エッチングおよび異方性エッチングのいずれも用いることができ、所望とするランダムな凹凸形状に応じて適宜選択することが好ましい。
【０１０７】
（レジスト剥離工程）
次に、必要に応じて、アッシングなどにより、原盤作製用母材２１ａの表面に形成されたレジスト層７１を剥離する。
【０１０８】
（メッキ工程）
次に、必要に応じて、原盤２１の凹凸面にメッキ処理を施し、ニッケルメッキなどのメッキ層を形成するようにしてもよい。
以上により、ランダムな凹凸形状を有する原盤２１が得られる。
【０１０９】
（転写工程）
次に、図４Ｂに示すように、例えば溶融押し出し法または転写法などを用いて、上記原盤のランダムな凹凸形状をフィルム状の樹脂材料に転写する。転写法としては、型にエネルギー線硬化型樹脂を流し込み、エネルギー線を照射して硬化させる方法、樹脂に熱や圧力を加え、形状を転写する方法、または樹脂フィルムをロールから供給し、熱を加えながら型の形状を転写する方法（ラミネート転写法）などが挙げられる。これにより、図４Ｃに示すように、一主面にランダムな凹凸面を有する第１の光学層４が形成される。
【０１１０】
また、図４Ｃに示すように、第１の基材４ａ上に、第１の光学層４を形成するようにしてもよい。この場合には、例えば、フィルム状の第１の基材４ａをロールから供給し、該基材上にエネルギー線硬化型樹脂を塗布した後に型に押し当て、型の形状を転写し、エネルギー線を照射して樹脂を硬化させる方法が用いられる。なお、樹脂は、架橋剤をさらに含んでいることが好ましい。室温での貯蔵弾性率を大きく変化させることなく、樹脂を耐熱化することができるからである。
【０１１１】
（成膜工程）
次に、図７Ａに示すように、その第１の光学層４の一主面上に波長選択反射層３を成膜する。波長選択反射層３の成膜方法としては、例えば、スパッタリング法、蒸着法、ＣＶＤ(Chemical Vapor Deposition)法、ディップコーティング法、ダイコーティング法、ウェットコーティング法、スプレーコーティング法などが挙げられる。次に、図７Ｂに示すように、必要に応じて、波長選択反射層３に対してアニール処理３１を施す。アニール処理の温度は、例えば１００℃以上２５０℃以下の範囲内である。
【０１１２】
（包埋工程）
次に、図７Ｃに示すように、未硬化状態の樹脂２２を波長選択反射層３上に塗布する。樹脂２２としては、例えば、エネルギー線硬化型樹脂、または熱硬化型樹脂などを用いることができる。エネルギー線硬化型樹脂としては、紫外線硬化樹脂が好ましい。次に、図８Ａのように、樹脂２２上に第２の基材５ａを被せることにより、積層体を形成する。次に、図８Ｂに示すように、例えばエネルギー線３２または加熱３２により樹脂２２を硬化させるとともに、積層体に対して圧力３３を加える。エネルギー線としては、例えば、電子線、紫外線、可視光線、ガンマ線、電子線などを用いることができ、生産設備の観点から、紫外線が好ましい。積算照射量は、樹脂の硬化特性、樹脂や基材１１の黄変抑制などを考慮して適宜選択することが好ましい。積層体に加える圧力は、０．０１ＭＰａ以上１ＭＰａ以下の範囲内であることが好ましい。０．０１ＭＰａ未満であると、フィルムの走行性に問題が生じる。一方、１ＭＰａを超えると、ニップロールとして金属ロールを用いる必要があり、圧力ムラが生じ易く好ましくない。以上により、図８Ｃに示すように、波長選択反射層３上に第２の光学層５が形成され、光学フィルム１が得られる。
【０１１３】
ここで、図３に示す製造装置を用いて、光学フィルム１の形成方法について具体的に説明する。まず、図示しない基材供給ロールから第２の基材５ａを送出し、送出された第２の基材５ａは、塗布装置４５の下を通過する。次に、塗布装置４５の下を通過する第２の基材５ａ状に、塗布装置４５により電離線硬化樹脂４４を塗布する。次に、電離線硬化樹脂４４が塗布された第２の基材５ａをラミネートロールに向けて搬送する。一方、図示しない光学層供給ロールから反射層付き光学層９を送出し、ラミネートロール４１、４２に向けて搬送する。
【０１１４】
次に、第２の基材５ａと反射層付き光学層９との間に気泡が入らないように、搬入された第２の基材５ａと反射層付き光学層９とをラミネートロール４１、４２により挟み合わせ、第２の基材５ａに対して反射層付き光学層９をラミネートする。次に、反射層付き光学層９によりラミネートされた第２の基材５ａを、ラミネートロール４１の外周面に沿わせながら搬送するとともに、照射装置４６により第２の基材５ａ側から電離線硬化樹脂４４に電離線を照射し、電離線硬化樹脂４４を硬化させる。これにより、第２の基材５ａと反射層付き光学層９とが電離線硬化樹脂４４を介して貼り合わされ、目的とする長尺の光学フィルム１が作製される。次に、作製された帯状の光学フィルム１を図示しない巻き取りロールにより巻き取る。これにより、帯状の光学フィルム１が巻回された原反が得られる。
【０１１５】
硬化した第１の光学層４は、上述の第２の光学層形成時のプロセス温度をｔ℃としたときに、（ｔ−２０）℃における貯蔵弾性率が３×１０７Ｐａ以上であることが好ましい。ここで、プロセス温度ｔとは、例えば、ラミネートロール４１の加熱温度である。第１の光学層４は、例えば、第１の基材４ａ上に設けられ、第１の基材４ａを介してラミネートロール４１に沿うように搬送されるため、実際に第１の光学層４にかかる温度は、経験的に（ｔ−２０）℃程度であることが分かっている。したがって、第１の光学層４の（ｔ−２０）℃における貯蔵弾性率を３×１０７Ｐａ以上にすることにより、熱、または熱と加圧とにより光学層内部の界面のランダムな凹凸形状が変形することを抑制することができる。
【０１１６】
また、第１の光学層４は、２５℃での貯蔵弾性率が３×１０９Ｐａ以下であることが好ましい。これにより、室温において可撓性を光学フィルムに付与することができる。したがって、ロール・ツー・ロールなどの製造工程により光学フィルム１を作製することが可能となる。
【０１１７】
なお、プロセス温度ｔは、光学層または基材の使用樹脂の耐熱性を考慮すると、２００℃以下であることが好ましい。ただし、耐熱性の高い樹脂を用いることにより、プロセス温度ｔを２００℃以上に設定することも可能である。
【０１１８】
第１の実施形態によれば、ランダムな凹凸形状を有する拡散反射面とすることで、回折パターンの発生を抑制することができる。また、サンドブラスト法、レーザー干渉法、またはフォトリソグラフィおよびエッチングによる方法などを用いて、ランダムな凹凸面を有する原盤２１を作製することで、原盤加工の日数を大幅に削減できる。
これに対して、光学フィルムの反射光の方向を制御するために、設計通りに規則的な凹凸形状を有する原盤、例えば幅１００ｃｍ以上で直径２０ｃｍ以上のロール原盤を作製するためには、膨大な時間を有し、コストがかかる。また、加工時間中に地震等のトラブルがあると、原盤が使用出来なくなるなどの問題もある。
【０１１９】
また、原盤形状を転写した拡散反射面上に、部分透過性の反射層である波長選択反射層３を形成することで、日射の一部を上空に反射することが可能となる。更に、第１の光学層４とほぼ同一の屈折率を有する第２の光学層５により、第１の光学層４の凹凸形状を包埋し、第２の光学層５の表面を平滑にした場合には、透過像も鮮明に視認することが可能となる。
【０１２０】
＜２．第２の実施形態＞
図９Ａは、第２の実施形態に係る光学フィルムの一構成例を示す断面図である。第２の実施形態において、第１の実施形態と同一または対応する箇所には同一の符号を付して説明を省略する。第２の実施形態に係る光学フィルム１は、拡散反射性能を有する半透過性の光学フィルムであり、部分反射層として半透過層５２を備える点において、第１の実施形態のものとは異なっている。拡散反射性能を有する半透過性の光学フィルムは、入射光うちの一部の光を拡散反射するのに対して、残り光を透過するものである。
【０１２１】
図９Ｂは、第２の実施形態に係る光学フィルムの機能を説明するための拡大断面図である。光学フィルム１は、光Ｌが入射する入射面Ｓ１を有する。光学フィルム１は、入射面Ｓ１に入射した光Ｌのうちの一部の光ＬＡを拡散反射するのに対して、残りの光ＬＢを透過する。拡散反射する光は、主に波長帯域４００ｎｍ以上２１００ｎｍ以下の光であることが好ましい。
【０１２２】
部分反射層である半透過層５２は、例えば、赤外光のみならず可視光も同時に遮蔽する半透過性の反射層である。半透過性の反射層は、例えば、可視領域および近赤外領域において半透過性を有している。半透過性の反射層としては、例えば、半導体性物質を含む薄い金属層、金属窒化層などが挙げられ、反射防止、色調調整、化学的濡れ性向上、または環境劣化に対する信頼性向上などの観点からすると、上記反射層を酸化層、窒化層、または酸窒化層などと積層した積層構造とすることが好ましい。
【０１２３】
可視領域および赤外領域において反射率の高い金属層として、例えばＡｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｃｏ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ、Ｇｅなどの単体、またはこれらの単体を２種以上含む合金を主成分とする材料が挙げられる。そして、実用性の面を考慮すると、これらのうちのＡｇ系、Ｃｕ系、Ａｌ系、Ｓｉ系またはＧｅ系の材料が好ましい。また、金属層の腐食を抑えるために、金属層に対してＴｉ、Ｎｄなどの材料を添加することが好ましい。また金属窒化層としては、例えば、ＴｉＮ、ＣｒＮ、ＷＮなどが挙げられる。
【０１２４】
半透過層５２の平均膜厚は、例えば、２ｎｍ以上４０ｎｍ以下の範囲とすることが可能であるが、可視領域および近赤外領域において半透過性を有する膜厚であればよく、これに限定されるものではない。ここで、半透過性とは、波長５００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下における透過率が５％以上７０％以下、好ましくは１０％以上６０％以下、更に好ましくは１５％以上５５％以下であることを示す。また、半透過層とは、波長５００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下における透過率が５％以上７０％以下、好ましくは１０％以上６０％以下、更に好ましくは１５％以上５５％以下である反射層を示す。
【０１２５】
＜３．第３の実施形態＞
第３の実施形態において、第１の実施形態と同一または対応する箇所には同一の符号を付して説明を省略する。第３の実施形態に係る光学フィルム１は、特定波長の光を拡散反射するのに対して、特定波長以外の光を散乱させる点において、第１の実施形態のものとは異なっている。光学フィルム１は、入射光を散乱する光散乱体を備えている。この散乱体は、例えば、光学層２の表面、光学層２の内部、および波長選択反射層３と光学層２との間のうち、少なくとも１箇所に設けられている。光散乱体は、好ましくは、波長選択反射層３と第１の光学層４との間、第１の光学層４の内部、および第１の光学層４の表面のうちの少なくとも一箇所に設けられている。光学フィルム１を窓材などの支持体に貼り合わせる場合、室内側および室外側のどちらにも適用可能である。光学フィルム１を室外側に対して貼り合わせる場合、波長選択反射層３と窓材などの支持体との間にのみ、特定波長以外の光を散乱させる光散乱体を設けることが好ましい。波長選択反射層３と入射面との間に光散乱体が存在すると、拡散反射特性が失われてしまうからである。また、室内側に光学フィルム１を貼り合せる場合には、その貼り合わせ面とは反対側の出射面と、波長選択反射層３との間に光散乱体を設けることが好ましい。
【０１２６】
図１０Ａは、第３の実施形態に係る光学フィルム１の第１の構成例を示す断面図である。図１０Ａに示すように、第１の光学層４は、樹脂と微粒子１１とを含んでいる。微粒子１１は、第１の光学層４の主構成材料である樹脂とは異なる屈折率を有している。微粒子１１としては、例えば有機微粒子および無機微粒子の少なくとも１種を用いることができる。また、微粒子１１としては、中空微粒子を用いてもよい。微粒子１１としては、例えば、シリカ、アルミナなどの無機微粒子、またはスチレン、アクリルやそれらの共重合体などの有機微粒子が挙げられるが、シリカ微粒子が特に好ましい。
【０１２７】
図１０Ｂは、第３の実施形態に係る光学フィルム１の第２の構成例を示す断面図である。図１０Ｂに示すように、光学フィルム１は、第１の光学層４の表面に光拡散層１２をさらに備えている。光拡散層１２は、例えば、樹脂と微粒子とを含んでいる。微粒子としては、第１の例と同様のものを用いることができる。
【０１２８】
図１０Ｃは、第３の実施形態に係る光学フィルム１の第３の構成例を示す断面図である。図１０Ｃに示すように、光学フィルム１は、波長選択反射層３と第１の光学層４との間に光拡散層１２をさらに備えている。光拡散層１２は、例えば、樹脂と微粒子とを含んでいる。微粒子としては、第１の例と同様のものを用いることができる。
【０１２９】
第３の実施形態によれば、赤外線などの特定波長帯の光を拡散反射し、可視光などの特定波長対以外の光を散乱させることができる。したがって、光学フィルム１を曇らせて、光学フィルム１に対して意匠性を付与することができる。
【０１３０】
＜４．第４の実施形態＞
図１１は、第４の実施形態に係る光学フィルムの一構成例を示す断面図である。第４の実施形態において、第１の実施形態と同一または対応する箇所には同一の符号を付して説明を省略する。第４の実施形態は、光学フィルム１の入射面Ｓ１および出射面Ｓ２のうち、被着体に貼り合わされる面とは反対側の露出面上に、洗浄効果を発現する自己洗浄効果層５１をさらに備えている点において、第１の実施形態とは異なっている。自己洗浄効果層５１は、例えば、光触媒を含んでいる。光触媒としては、例えば、ＴｉＯ２を用いることができる。
【０１３１】
上述したように、光学フィルム１は入射光の一部を透過する点に特徴を有している。光学フィルム１を屋外や汚れの多い部屋などで使用する際には、表面に付着した汚れにより光が散乱され透過性および反射性が失われてしまうため、表面が常に光学的に透明であることが好ましい。そのため、表面が撥水性や親水性などに優れ、表面が自動的に洗浄効果を発現することが好ましい。
【０１３２】
第４の実施形態によれば、光学フィルム１が自己洗浄効果層５１を備えているので、撥水性や親水性などを入射面に付与することができる。したがって、入射面に対する汚れなどの付着を抑制し、拡散反射特性の低減を抑制できる。
【０１３３】
＜５．第５の実施形態＞
図１２は、本発明の第５の実施形態に係る光学フィルムの一構成例を示す断面図である。第５の実施形態において、第１の実施形態と対応する箇所には同一の符号を付す。図１０に示すように、第３の実施形態は、第１の光学層４のランダムな凹凸形状をビース５３により形成している点において、第１の実施形態とは異なっている。
【０１３４】
第２の光学層５の一主面には、この一主面からビース５３の一部が突出するように複数のビース５３が埋め込まれている。そして、複数のビース５３が埋め込まれた第２の光学層５の一主面に、焦点層５４、波長選択反射層３、第１の光学層４が順次積層されている。ビース３１は、例えば球状を有する。ビース３１は、透明性を有することが好ましい。ビース５３は、例えば、ガラスなどの無機材料、または高分子樹脂などの有機材料を主成分とする。
【０１３５】
第２の光学層５からの複数のビース５３の突出量が異なっている、および／または複数のビース５３の大きさが異なっていることが好ましい。これにより、第１の光学層４の波長選択反射層３の形状をランダムに変化させることができるからである。
【０１３６】
＜６．第６の実施形態＞
上述の第１の実施形態では、本発明を窓材などに適用する場合を例として説明したが、本発明はこの例に限定されるものではなく、窓材以外の内装部材や外装部材などに適用することが可能である。また、本発明は壁や屋根などのように固定された不動の内装部材および外装部材のみならず、季節や時間変動などに起因する太陽光の光量変化に応じて、太陽光の透過量および／または反射量を内装部材または外装部材を動かして調整し、屋内などの空間に取り入れ可能な装置にも適用可能である。第６の実施形態では、このような装置の一例として、複数の日射遮蔽部材からなる日射遮蔽部材群の角度を変更することにより、日射遮蔽部材群による入射光線の遮蔽量を調整可能な日射遮蔽装置（ブラインド装置）について説明する。
【０１３７】
図１３は、第６の実施形態に係るブラインド装置の一構成例を示す斜視図である。図１３に示すように、日射遮蔽装置であるブラインド装置は、ヘッドボックス２０３と、複数のスラット（羽）２０２ａからなるスラット群（日射遮蔽部材群）２０２と、ボトムレール２０４とを備える。ヘッドボックス２０３は、複数のスラット２０２ａからなるスラット群２０２の上方に設けられている。ヘッドボックス２０３からラダーコード２０６、および昇降コード２０５が下方に向かって延びており、これらのコードの下端にボトムレール２０４が吊り下げられている。日射遮蔽部材であるスラット２０２ａは、例えば、細長い矩形状を有し、ヘッドボックス２０３から下方に延びるラダーコード２０６により所定間隔で吊り下げ支持されている。また、ヘッドボックス２０３には、複数のスラット２０２ａからなるスラット群２０２の角度を調整するためのロッドなどの操作手段（図示省略）が設けられている。
【０１３８】
ヘッドボックス２０３は、ロッドなどの操作手段の操作により応じて、複数のスラット２０２ａからなるスラット群２０２を回転駆動することにより、室内などの空間に取り込まれる光量を調整する駆動手段である。また、ヘッドボックス２０３は、昇降操作コード２０７などの操作手段の適宜操作に応じて、スラット群２０２を昇降する駆動手段（昇降手段）としての機能も有している。
【０１３９】
図１４Ａは、スラットの第１の構成例を示す断面図である。図１４Ａに示すように、スラット２０２は、基材２１１と、光学フィルム１とを備える。光学フィルム１は、基材２１１の両主面のうち、スラット群２０２を閉じた状態において外光が入射する入射面側（例えば窓材に対向する面側）に設けることが好ましい。光学フィルム１と基材２１１とは、例えば、接着層または粘着層などの貼合層により貼り合される。
【０１４０】
基材２１１の形状としては、例えば、シート状、フィルム状、および板状などを挙げることができる。基材２１１の材料としては、ガラス、樹脂材料、紙材、および布材などを用いることができ、可視光を室内などの所定の空間に取り込むことを考慮すると、透明性を有する樹脂材料を用いることが好ましい。ガラス、樹脂材料、紙材、および布材としては、従来ロールスクリーンとして公知のものを用いることができる。光学フィルム１としては、上述の第１〜第５の実施形態に係る光学フィルム１のうちの１種、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１４１】
図１４Ｂは、スラットの第２の構成例を示す断面図である。図１４Ｂに示すように、第２の構成例は、光学フィルム１をスラット２０２ａとして用いるものである。光学フィルム１は、ラダーコード２０５により支持可能であるとともに、支持した状態において形状を維持できる程度の剛性を有していることが好ましい。
【０１４２】
＜７．第７の実施形態＞
第７の実施形態では、日射遮蔽部材を巻き取る、または巻き出すことで、日射遮蔽部材による入射光線の遮蔽量を調整可能な日射遮蔽装置の一例であるロールスクリーン装置について説明する。
【０１４３】
図１５Ａは、第７の実施形態に係るロールスクリーン装置の一構成例を示す斜視図である。図１５Ａに示すように、日射遮蔽装置であるロールスクリーン装置３０１は、スクリーン３０２と、ヘッドボックス３０３と、芯材３０４とを備える。ヘッドボックス３０３は、チェーン２０５などの操作部を操作することにより、スクリーン３０２を昇降可能に構成されている。ヘッドボックス３０３は、その内部にスクリーンを巻き取り、および巻き出すための巻軸を有し、この巻軸に対してスクリーン３０２の一端が結合されている。また、スクリーン３０２の他端には芯材３０４が結合されている。スクリーン３０２は可撓性を有し、その形状は特に限定されるものではなく、ロールスクリーン装置３０１を適用する窓材などの形状に応じて選択することが好ましく、例えば矩形状に選ばれる。
【０１４４】
図１５Ｂは、スクリーン３０２の一構成例を示す断面図である。図１５Ｂに示すように、スクリーン３０２は、基材３１１と、光学フィルム１とを備え、可撓性を有していることが好ましい。光学フィルム１は、基材２１１の両主面のうち、外光を入射させる入射面側（窓材に対向する面側）に設けることが好ましい。光学フィルム１と基材３１１とは、例えば、接着層または粘着層などの貼合層により貼り合される。なお、スクリーン３０２の構成はこの例に限定されるものではなく、光学フィルム１をスクリーン３０２として用いるようにしてもよい。
【０１４５】
基材３１１の形状としては、例えば、例えば、シート状、フィルム状、および板状などを挙げることができる。基材３１１としては、ガラス、樹脂材料、紙材、および布材などを用いることができ、可視光を室内などの所定の空間に取り込むことを考慮すると、透明性を有する樹脂材料を用いることが好ましい。ガラス、樹脂材料、紙材、および布材としては、従来ロールスクリーンとして公知のものを用いることができる。光学フィルム１としては、上述の第１〜第５の実施形態に係る光学フィルム１のうちの１種、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１４６】
＜８．第８の実施形態＞
第８の実施形態では、拡散反射性能を有する光学体を採光部に備える建具（内装部材または外装部材）に対して本発明を適用した例について説明する。
【０１４７】
図１６Ａは、第８の実施形態に係る建具の一構成例を示す斜視図である。図１６Ａに示すように、建具４０１は、その採光部４０４に光学体４０２を備える構成を有している。具体的には、建具４０１は、光学体４０２と、光学体４０２の周縁部に設けられる枠材４０３とを備える。光学体４０２は枠材４０３により固定され、必要に応じて枠材４０３を分解して光学体４０２を取り外すことが可能である。建具４０１としては、例えば障子を挙げることができるが、本発明はこの例に限定されるものではなく、採光部を有する種々の建具に適用可能である。
【０１４８】
図１６Ｂは、光学体の一構成例を示す断面図である。図１６Ｂに示すように、光学体４０２は、基材４１１と、光学フィルム１とを備える。光学フィルム１は、基材４１１の両主面のうち、外光を入射させる入射面側（窓材に対向する面側）に設けられる。光学フィルム１と基材３１１とは、接着層または粘着層などの貼合層などにより貼り合される。なお、障子４０２の構成はこの例に限定されるものではなく、光学フィルム１を光学体４０２として用いるようにしてもよい。
【０１４９】
基材４１１は、例えば、可撓性を有するシート、フィルム、または基板である。基材４１１としては、ガラス、樹脂材料、紙材、および布材などを用いることができ、可視光を室内などの所定の空欄に取り込むことを考慮すると、透明性を有する樹脂材料を用いることが好ましい。ガラス、樹脂材料、紙材、および布材としては、従来建具の光学体として公知のものを用いることができる。光学フィルム１としては、上述の第１〜第５の実施形態に係る光学フィルム１のうちの１種、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【実施例】
【０１５０】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【０１５１】
以下の実施例および比較例において、反射層の平均膜厚は以下のようにして測定した。まず、ＦＩＢ(Focused Ion Beam)により光学フィルムをカットして断面を形成した。次に、ＴＥＭ(Transmission Electron Microscope)を用いて、入射面または出射面の垂線方向の反射層の膜厚を測定した。この測定を光学フィルムの任意の１０箇所で繰り返し行い、その測定値を単純に平均（算術平均）して平均膜厚を求めた。
【０１５２】
（実施例１）
まず、下地の形状フィルム（形状樹脂層）として、レーザー干渉法により作製したＰＯＣ(Physical Optics Coorporation)社製の透過型異方性拡散シート（商品名：ＬＳＤ４０×２０°、アクリルシートタイプ）（フィルムへの垂直入射光に対する透過光のＦＨＷＭがフィルム面内第１の軸とそれに垂直な軸に対してそれぞれ４０°、２０°）を準備した。次に、この形状フィルム上に、スパッタ法によりＡｇ／Ｂｉ＝９９．０ａｔ％／１．０ａｔ％の組成を有する合金ターゲットを使用してＡｇＢｉを平均膜厚で１２ｎｍ製膜した。
【０１５３】
次に、上記下地フィルム上に透過型異方性拡散シート（商品名：ＬＳＤ４０×２０°）と屈折率が一致するように調合したＵＶ硬化樹脂を塗布し、厚み７５μｍのＰＥＴフィルム（東洋紡製、Ａ４３００）を載置して気泡を押し出した後に、ＵＶ光照射することで樹脂を硬化させた。これにより、平滑なＰＥＴフィルムと反射層との間の樹脂組成物が硬化され、樹脂層（以下、包埋樹脂層と称する。）が形成された。以上により、目的とする光学フィルムを得た。
【０１５４】
（実施例２）
まず、下地の形状フィルム（形状樹脂層）としてＰＯＣ社製の透過型拡散シート（商品名：ＤＤＳ４０°）（アクリルタイプ）を用いた以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを得た。
【０１５５】
（実施例３）
以下の条件で斜めブラスト法により異方性光拡散シート複製用原盤を作製した。
（１）原盤作製用母材：アルミロール（直径２０ｃｍ）
（２）サンドブラスト条件
・サンドブラスト装置（不二製作所製、型名：ＳＧＦ−４（Ａ））
・研削材：アルミナ（番手＃１８０、平均粒径：７６μｍ）
・ブラストガンと原盤作製用母材との距離：５０ｍｍ
・ブラストガンと原盤作製用母材との角度：８°
・圧縮空気圧：０．５ＭＰａ
・原盤作製用母材表面への研削材吹き付け状態：図５Ａ、図５Ｂの状態
・ブラストガンスキャン条件：ロールを回転しながら、図５Ａ、図５ＢのＸ方向にピッチ５ｍｍでスキャンした。
【０１５６】
次に、厚み７５μｍのＰＥＴフィルム（東洋紡製、Ａ４３００）上にウレタンアクリレート（東亞合成製、アロニックス、硬化後屈折率１．５３３）を塗布し、Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ法により上記原盤に密着させた状態でＰＥＴフィルム側からＵＶ光を照射してウレタンアクリレートを硬化させ、このウレタンアクリレートが硬化されてなる樹脂層とＰＥＴフィルムとの積層体を原盤から剥離した。これにより、原盤形状の反転形状が付与された樹脂層（以下、形状樹脂層と称する。）がＰＥＴフィルム上に形成された。次に、形状樹脂面上に実施例１と同様にしてスパッタ法によりＡｇＢｉを平均膜厚で１２ｎｍ製膜した。
【０１５７】
次に、この反射層上に下記配合の樹脂組成物を塗布し、厚み７５μｍのＰＥＴフィルム（東洋紡製、Ａ４３００）を積層させ、ニップロールにより気泡を押し出した後に、ＵＶ光照射することで樹脂を硬化させた。これにより、平滑なＰＥＴフィルムと反射層との間の樹脂組成物が硬化され、包埋樹脂層が形成された。以上により、目的とする光学フィルムを得た。
【０１５８】
＜樹脂組成物の配合＞
ウレタンアクリレート                                  ９９質量部
（東亞合成製、アロニックス、硬化後屈折率１．５３３）
２−アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート      １質量部
（共栄社化学製、ライトアクリレートＰ−１Ａ）
【０１５９】
（実施例４）
部分反射層としてＡｌＴｉを１０ｎｍ製膜した以外は、実施例３と同様にして光学フィルムを得た。
【０１６０】
（実施例５）
包埋樹脂層の材料として、下記配合の樹脂組成物を使用し、包埋樹脂層と形状樹脂層との屈折率差を０．００３とした以外は実施例４と同様にして、光学フィルムを得た。
【０１６１】
＜樹脂組成物の配合＞
ウレタンアクリレート                                  ９９質量部
（東亞合成製、アロニックス、硬化後屈折率１．５３６）
２−アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート      １質量部
（共栄社化学製、ライトアクリレートＰ−１Ａ）
【０１６２】
（実施例６）
包埋樹脂層の材料として、下記配合の樹脂組成物を使用し、包埋樹脂層と形状樹脂層との屈折率差を０．００６とした以外は実施例４と同様にして、光学フィルムを得た。
【０１６３】
＜樹脂組成物の配合＞
ウレタンアクリレート                                  ９９質量部
（東亞合成製、アロニックス、硬化後屈折率１．５４２）
２−アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート      １質量部
（共栄社化学製、ライトアクリレートＰ−１Ａ）
【０１６４】
（実施例７）
包埋樹脂層の材料として、下記配合の樹脂組成物を使用し、包埋樹脂層と形状樹脂層との屈折率差を０．００６とした以外は実施例４と同様にして、光学フィルムを得た。
【０１６５】
＜樹脂組成物の配合＞
ウレタンアクリレート                                  ９９質量部
（東亞合成製、アロニックス、硬化後屈折率１．５４２）
２−アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート      １質量部
（共栄社化学製、ライトアクリレートＰ−１Ａ）
【０１６６】
（実施例８）
部分反射層（波長選択反射層）として、下層よりＧＡＺＯ（２７ｎｍ）／ＡｇＮｄＣｕ（９ｎｍ）／ＧＡＺＯ（８８ｎｍ）を製膜した以外は実施例３と同様にして、光学フィルムを得た。
【０１６７】
（実施例９）
部分反射層（波長選択反射層）として、下層よりＧＡＺＯ（平均膜厚２７ｎｍ）／ＡｇＮｄＣｕ（平均膜厚９ｎｍ）／ＧＡＺＯ（平均膜厚８８ｎｍ）／ＡｇＮｄＣｕ（平均膜厚９ｎｍ）／ＧＡＺＯ（平均膜厚２７ｎｍ）を製膜した以外は実施例３と同様にして、光学フィルムを得た。
【０１６８】
（比較例１）
平滑な表面を有するＰＥＴフィルム（東洋紡製Ａ４３００、厚み７５μｍ）上に、ＡｌＴｉを平均膜厚で１０ｎｍ製膜して、光学フィルムを得た。
【０１６９】
（比較例２）
部分反射層（波長選択反射層）としてＡｌＴｉを平均膜厚で１００ｎｍ製膜した以外は実施例３と同様にして、光学フィルムを得た。
【０１７０】
（比較例３）
包埋樹脂層の材料として、下記配合の樹脂組成物を使用し、包埋樹脂層と形状樹脂層との屈折率差を０．０１２とした以外は実施例４と同様にして、光学フィルムを得た。
【０１７１】
＜樹脂組成物の配合＞
ウレタンアクリレート                                  ９９質量部
（東亞合成製、アロニックス、硬化後屈折率１．５４５）
２−アクリロイルオキシエチルアシッドフォスフェート      １質量部
（共栄社化学製、ライトアクリレートＰ−１Ａ）
【０１７２】
（分光透過率・色度の評価）
実施例１〜９、比較例１〜３の光学フィルムの分光透過率を以下のようにして評価した。
可視領域および近赤外領域の分光透過率を島津製作所製のＤＵＶ３７００により測定した。試料への光線入射角は０°（垂直入射）とし、直線透過光を測定した。その分光透過率波形を図１８Ａ、図１９Ａ、図２０Ａに示す。
分光反射率は同一の装置により、試料への光線入射角を８°とし、反射光を積分球で受光して測定した。その分光反射率波形を図１８Ｂ、図１９Ｂ、図２０Ｂに示す。
【０１７３】
（拡散反射の評価）
実施例１〜９、比較例１〜３の光学フィルムの反射角度分布を以下のようにして評価した。平行度０．５°以下にコリメートされたハロゲン光源５０１を用い、ハーフミラー５０２で反射した光を入射光とし、サンプル５０３に照射し、検出器５０４により検出を行った。サンプル５０３は入射光に対し４５°傾けて配置し、入射光に垂直な軸で３６０°回転（φｍ）しながら、検出器５０４を０〜９０°（θｍ）の範囲で走査し、波長９００〜１５５０ｎｍの反射強度の平均値を極座標プロットした（図２１、図２２参照）。評価結果の一例として、実施例１〜３の結果を図２３〜図２５に示す。なお、拡散反射の異方性がある実施例１、３に関しては、拡散反射光が広角まで広がっている方向をφｍ≒９０°となるよう配置して測定した。また、入射光軸と正反射光軸を含む方位における反射強度をプロットした結果を図２６Ａ、図２６Ｂ、図２７に示す。この時、サンプル面に垂直な軸をθ＝０°とし、下方向への反射をマイナス方位とした。サンプル５０３を鉛直面内に配置した時に、水平面より上方に反射する成分が上方反射であり、図２２の極座標プロットから計算することができるが、計算方法が複雑になるため、ここでは、入射面内での反射強度分布を表す図２６Ａ、図２６Ｂ、図２７のグラフを用いて、簡易的に上方反射率を計算した。図２６Ａ、図２６Ｂ、図２７のプロットにおいて、正反射光を除く拡散反射光に対して、ハーフミラー５０２による強度減少分、迷光による強度上昇分の補正を行った（グラフ中、計算データのプロット参照）。この時、測定光学系の影響で正反射より下方の反射が測定出来ないため、反射強度最大となる軸に対して上下対称の反射分布と仮定してプロットを行った。次に、サンプル面に垂直な軸（θｍ＝４５°）より高角側を上方反射とし、上方反射／正反射を除く全反射成分を上方反射率と定義して計算した結果を表に示す。なお、この計算法によると、反射層の種類が異なっていても、上方反射率は形状に依存することが分かる。また、実施例３ではその非対称形状に依存して、拡散反射最大強度方向が軸ずれしているため、この反射方向と正反射方向のφが１０°程度異なるが、どちらの軸で計算しても数％の違いであった。
【０１７４】
（透過写像鮮明度の評価）
実施例１〜９、比較例１〜３の光学フィルムの透過写像鮮明性を以下のようにして評価した。ＪＩＳ−Ｋ７１０５に従い、くし幅２．０ｍｍ、１．０ｍｍ、０．５ｍｍ、０．１２５ｍｍの光学くしを用いて透過写像鮮明度を評価した。評価に使用した測定装置はスガ試験機（株）製の写像性測定器（ＩＣＭ−１Ｔ型）である。次に、くし幅２．０ｍｍ、１．０ｍｍ、０．５ｍｍ、０．１２５ｍｍの光学くしを用いて測定した透過写像鮮明度の総和を求めた。それらの結果を表１に示す。なお、光源はＤ６５光源を用いた。
【０１７５】
（ヘイズの評価）
実施例１〜９、比較例１〜３の光学フィルムのヘイズ評価を以下のようにして評価した。
ＪＩＳ  Ｋ７１３６に準拠した測定条件に基づき、ヘイズメータＨＭ−１５０（村上色彩技術研究所製）を用いてヘイズの測定を行った。その結果を表１に示す。なお、光源はＤ６５光源を用いた。
【０１７６】
（視認性の評価）
実施例１〜９、比較例１〜３の光学フィルムの視認性を以下のようにして評価した。
作製したフィルムを光学透明な粘着剤により３ｍｍ厚のガラスに貼合した。次にこのガラスを目から５０ｃｍ程度離して保持し、ガラス越しに約１０ｍの距離にある隣の建物内部を観察し、以下の基準で評価した。その結果を表１に示す。
○：回折による多重像や曇りなどは見られず、通常の窓と同様に見える
△：通常の使用には問題ないが、鏡面反射体などがあるとその周辺が若干ボケて見える
×：曇っていて、反対側に何があるか分からない
××：反対側が全く見えない
【０１７７】
（回折パターンの評価）
実施例１〜９、比較例１〜３の光学フィルムの回折パターンを以下のようにして評価した。
作製したフィルムを光学透明な粘着剤により３ｍｍ厚のガラスに貼合した。次に、このガラスを目から５０ｃｍ程度離して保持し、ガラス越しに約５００ｍ程度の距離にある電灯を観察し、その回折パターンを以下の基準で評価した。その結果を表１に示す。
○：フィルムを貼らない時と同等で気にならない
△：電灯の周辺にうっすらと広がりが見えるが、殆ど気にならない
×：電灯の周辺にスポット状の強いパターンが見える
【０１７８】
（表面粗さの評価）
斜めブラストにより作製した複製原盤を用いて転写した光学フィルム（実施例３）の表面粗さを以下のようにして評価した。その結果を図１７Ａ、図１７Ｂに示す。
触針式表面形状測定器ＥＴ−４０００（小坂研究所製）を用いて、２次元断面曲線から粗さ曲線を取得し、算術平均粗さＲａを算出した。なお、測定条件はＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１に準拠している。以下に測定条件を示す。
λｃ＝０．８ｍｍ、評価長さ４ｍｍ、カットオフ×５倍
データサンプリング間隔０．５μｍ
【０１７９】
上記評価結果から以下のことがわかった。
Ｘ軸方向の表面粗さのピッチＰｘの方がＹ軸方向の表面粗さのピッチＰｙよりも長くなっていた。また、平均凹凸間隔Ｓｍとして、Ｘ軸方向ではＳ＝０．１４、Ｙ軸方向でＳ＝０．０８となっていた。
【０１８０】
（原盤加工日数の評価）
実施例１〜９の光学フィルムの作製に用いられる複製原盤について、原盤加工に要する日数を以下の基準で評価した。また、比較のために、コーナーキューブ形状を有する複製原盤についても、原盤加工に要する日数を同様の基準で評価した。
○：〜２日（加工中に地震などの発生でトラブルが生じるリスクが低い。また、加工途中でトラブルが生じたとしてもすぐに再加工により原盤を容易に作製することが可能であり、光学フィルムの生産に影響を与えることがない。したがって、リスク管理をする必要が特にない。）
△：３日〜１０日（加工中に地震などの発生でトラブルが生じるリスクがある。また、加工途中でトラブルが生じた場合には再加工により原盤を作製することは可能であるが、光学フィルムの生産に影響を与える可能性がある。したがって、リスク管理をすることが好ましい。）
×：１１日〜１ヶ月（加工中に地震などの発生でトラブルが生じるリスクが高い。また、加工途中でトラブルが生じた場合には再加工により原盤を作製することは困難であり、光学フィルムの生産に与える影響が大きい。したがって、リスク管理をすることが必要である。）
【０１８１】
【表１】
2015099397.tif 000003
【０１８２】
【表２】
2015099397.tif 000004
【０１８３】
上記評価結果から以下のことがわかる。
実施例１〜９では、ランダムな凹凸形状を有する形状樹脂層上に、部分反射層である半透過層または波長選択反射層を形成しているので、回折パターンの発生を抑制できている。また、形状樹脂層と包埋樹脂層との屈折率差Δｎを０．０１０以下としているため、透過像鮮明度の値を５０以上とすることができる。したがって、光学フィルムの透過像を鮮明にすることができる。
比較例１では、光学フィルムの平坦面に部分反射層を形成しているため、上方反射率が０％となっている。
比較例２では、部分反射層を１００ｎｍと厚く形成しているため、光を透過することができない。
比較例３では、形状樹脂層と包埋樹脂層との屈折率差Δｎが０．０１０を超えているため、透過像鮮明度の値が５０未満となっている。したがって、光学フィルムの透過像がぼけて見える傾向がある。
【０１８４】
以上、本発明の実施形態について具体的に説明したが、本発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
【０１８５】
例えば、上述の実施形態において挙げた構成、方法、形状、材料および数値などはあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる構成、方法、形状、材料および数値などを用いてもよい。
【０１８６】
また、上述の実施形態の各構成は、本発明の主旨を逸脱しない限り、互いに組み合わせることが可能である。
【０１８７】
また、上述の実施形態では、ブランインド装置、およびロールスクリーン装置の駆動方式が手動式である場合を例として説明したが、ブランインド装置、およびロールスクリーン装置の駆動方式を電動式としてもよい。
【０１８８】
また、上述の実施形態では、光学フィルムを窓材などの被着体に貼り合わせる構成を例として説明したが、窓材などの被着体を光学フィルムの第１の光学層、または第２の光学層自体とする構成を採用するようにしてもよい。これにより、窓材などの光学体に予め拡散反射の機能を付与することができる。
【０１８９】
また、上述の実施形態では、光学体が光学フィルムである場合を例として説明したが、光学体の形状はフィルム状に限定されるものではなく、プレート状、ブロック状などでもよい。
【０１９０】
上述の実施形態では、本発明を窓材、建具、ブラインド装置のスラット、およびロールスクリーン装置のスクリーンなどの内装部材または外装部材に適用した場合を例として説明したが、本発明はこの例に限定されるものではなく、上記以外の内装部材および外装部材にも適用可能である。
【０１９１】
本発明に係る光学体が適用される内装部材または外装部材としては、例えば、光学体自体により構成された内装部材または外装部材、拡散反射体が貼り合わされた透明基材などにより構成された内装部材または外装部材などが挙げられる。このような内装部材または外装部材を室内の窓付近に設置することで、例えば、赤外線だけを屋外に拡散反射し、可視光線を室内に取り入れることができる。したがって、内装部材または外装部材を設置した場合にも、室内照明の必要性が低減される。また、内装部材または外装部材による室内側への散乱反射も殆どないため、周囲の温度上昇も抑えることができる。また、視認性制御や強度向上など必要な目的に応じ、透明基材以外の貼り合わせ部材に適用することも可能である。
【０１９２】
また、上述の実施形態では、ブラインド装置、およびロールスクリーン装置に対して本発明を適用した例について説明したが、本発明はこの例に限定されるものではなく、室内または屋内に設置される種々の日射遮蔽装置に適用可能である。
【０１９３】
また、上述の実施形態では、日射遮蔽部材を巻き取る、または巻き出すことで、日射遮蔽部材による入射光線の遮蔽量を調整可能な日射遮蔽装置（例えばロールスクリーン装置）に本発明を適用した例について説明したが、本発明はこの例に限定されるものではない。例えば、日射遮蔽部材を折り畳むことで、日射遮蔽部材による入射光線の遮蔽量を調整可能な日射遮蔽装置に対しても本発明は適用可能である。このような日射遮蔽装置としては、例えば、日射遮蔽部材であるスクリーンを蛇腹状に折り畳むことで、入射光線の遮蔽量を調整するプリーツスクリーン装置を挙げることができる。
【０１９４】
また、上述の実施形態では、本発明を横型ブラインド装置（ベネシアンブラインド装置）に対して適用した例について説明したが、縦型ブラインド装置（バーチカルブラインド装置）に対しても適用可能である。
【符号の説明】
【０１９５】
１    光学フィルム
２    光学層
３    波長選択反射層
４    第１の光学層
４ａ    第１の基材
５    第２の光学層
５ａ    第２の基材
６    貼合層
７    剥離層
８    ハードコート層
９    反射層付き光学層
５１    自己洗浄効果層
５２    反透過層
５３    ビース
Ｓ１    入射面
Ｓ２    出射面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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