(57)【要約】【課題】露光不良の発生を抑制できる液浸露光装置を提供する。【解決手段】露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置は、光学部材の周囲に配置され、露光光が通過する開口を有する第１部材と、露光光が通過する開口を有し、第１部材の下方で第１部材に対して可動な第２部材とを備え、射出面からの射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材と、第２部材を移動させた場合に、第２部材の移動方向側の、液浸空間の一部の液体の圧力と、移動方向とは反対方向側の、液浸空間の一部の液体の圧力との差を抑制する圧力差抑制部と、圧力差抑制部を制御するコントローラーと、を備える。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して前記露光光で前記基板を露光する液浸露光装置であって、
前記光学部材の周囲に配置され、前記露光光が通過する開口を有する第１部材と、前記露光光が通過する開口を有し、前記第１部材の下方で前記第１部材に対して可動な第２部材とを備え、前記射出面からの射出される前記露光光の光路が液体で満たされるように、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材と、
前記第２部材を移動させた場合に、前記第２部材の移動方向側の、前記液浸空間の一部の液体の圧力と、前記移動方向とは反対方向側の、前記液浸空間の一部の液体の圧力との差を抑制する圧力差抑制部と、
前記圧力差抑制部を制御するコントローラーと、
を備える液浸露光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液浸露光装置において、
前記コントローラーが前記圧力差抑制部を制御することにより、前記液浸空間を流れる前記液体の流量が制御される、液浸露光装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の液浸露光装置において、
前記圧力差抑制部は、前記液浸空間から液体を回収可能な第１液体回収部を備え、
前記コントローラーによる前記圧力差抑制部の制御は、前記第１液体回収部からの液体回収量の制御を含む、液浸露光装置。
【請求項４】
請求項３に記載の液浸露光装置において、
前記コントローラーは、前記反対方向側における前記液浸空間からの液体の回収量が、前記移動方向側における前記液浸空間からの液体の回収量より多くなるように、前記第１液体回収部からの液体回収量を制御する、液浸露光装置。
【請求項５】
請求項４に記載の液浸露光装置において、
前記第１液体回収部は、前記移動方向に関して前記露光光の光路の一側に設けられた第１回収口と他側に設けられた第２回収口とを有し、
前記コントローラーは、前記第１回収口と前記第２回収口のうち前記反対方向側に設けられた一方の回収口からの液体回収量を、前記移動方向側に設けられた他方の回収口からの液体回収量より多くする、液浸露光装置。
【請求項６】
請求項３〜５のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記第１部材は、前記液浸空間から液体を回収可能であり、前記液浸空間の圧力差の抑制に用いられない第２液体回収部を備える、液浸露光装置。
【請求項７】
請求項３〜６のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記第１液体回収部は、前記第１部材に設けられている、液浸露光装置。
【請求項８】
請求項３〜７のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記第１液体回収部は、前記光学部材と前記第１部材との間の液体を回収する、液浸露光装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記圧力差抑制部は、前記液浸空間へ液体を供給可能な第１液体供給部を備え、
前記コントローラーによる前記圧力差抑制部の制御は、前記第１液体供給部からの液体供給量の制御を含む、液浸露光装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の液浸露光装置において、
前記コントローラーは、前記第２部材の移動方向側における前記液浸空間への液体供給量が、前記移動方向と反対方向側における前記液浸空間への液体供給量より多くなるように、前記第１液体供給部からの液体供給量を制御する、液浸露光装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の液浸露光装置において、
前記第１液体供給部は、前記移動方向に関して露光光の光路の一側に設けられた第１供給口と他側に設けられた第２供給口を有し、
前記コントローラーは、前記第１供給口と前記第２供給口のうちの前記移動方向側に設けられた一方の供給口からの液体供給量を、前記反対方向側に設けられた他方の供給口からの液体供給量より多くする、液浸露光装置。
【請求項１２】
請求項９〜１１のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記第１部材は、前記液浸空間へ液体を供給可能であり、前記液浸空間の圧力差の抑制に用いられない第２液体供給部を備える、液浸露光装置。
【請求項１３】
請求項９〜１２のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記第１液体供給部は、前記第１部材に設けられている、液浸露光装置。
【請求項１４】
請求項９〜１３のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記第１液体供給部は、前記光学部材と前記第１部材との間に液体を供給する、液浸露光装置。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記コントローラーによる前記圧力差抑制部の制御により、前記第１部材の少なくとも一部が移動される、液浸露光装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載の液浸露光装置において、
前記圧力差抑制部は、前記第１部材の少なくとも一部を移動する移動装置を備え、
前記コントローラーによる前記圧力差抑制部の制御は、前記移動装置の制御を含む、液浸露光装置。
【請求項１７】
請求項１５又は１６に記載の液浸露光装置において、
前記コントローラーによる前記圧力差抑制部の制御により、前記第１部材の少なくとも一部は、前記第２部材の移動方向と反対方向に移動される、液浸露光装置。
【請求項１８】
請求項１５〜１７のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記コントローラーは、前記第２部材の移動量に応じた移動量で前記第１部材の少なくとも一部を移動させる、液浸露光装置。
【請求項１９】
露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して前記露光光で前記基板を露光する液浸露光装置であって、
前記光学部材の周囲に配置され、前記露光光が通過する開口を有する第１部材と、前記露光光が通過する開口を有し、前記第１部材下方で前記第１部材に対して可動な第２部材とを備え、前記射出面からの射出される前記露光光の光路が液体で満たされるように、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材と、
前記液浸空間から液体を回収可能な液体回収部と、
コントローラーと、を備え、
前記コントローラーは、前記第２部材の動きに応じて前記液体回収部からの液体回収量を制御する液浸露光装置。
【請求項２０】
露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して前記露光光で前記基板を露光する液浸露光装置であって、
前記光学部材の周囲に配置され、前記露光光が通過する開口を有する第１部材と、前記露光光が通過する開口を有し、前記第１部材下方で前記第１部材に対して可動な第２部材とを備え、前記射出面からの射出される前記露光光の光路が液体で満たされるように、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材と、
前記液浸空間に液体を供給可能な液体供給部と、
コントローラーと、を備え、
前記コントローラーは、前記第２部材の動きに応じて前記液体供給部からの液体供給量を制御する液浸露光装置。
【請求項２１】
露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して前記露光光で前記基板を露光する液浸露光装置であって、
前記光学部材の周囲に配置され、前記露光光が通過する開口を有する第１部材と、前記露光光が通過する開口を有し、前記第１部材の下方で可動な第２部材とを備え、前記射出面からの射出される前記露光光の光路が液体で満たされるように、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材と、
前記第１部材の少なくとも一部を移動する移動装置と、
コントローラーと、を備え、
前記コントローラーは、前記第２部材の動きに応じて前記移動装置を制御する液浸露光装置。
【請求項２２】
請求項１〜２１のいずれか１項に記載の液浸露光装置において、
前記光学部材及び前記液浸部材の下で移動する前記物体との相対速度、又は相対加速度、又はその両方が小さくなるように前記第２部材が移動される、液浸露光装置。
【請求項２３】
請求項２２に記載の液浸露光装置において、
前記第２部材は、前記物体の表面が対向する下面を有し、
前記液浸空間の一部は、前記第２部材の下面と前記物体の表面との間に形成される、液浸露光装置。
【請求項２４】
請求項２３に記載の液浸露光装置において、
前記第２部材の下面は、前記第２部材の前記開口の周囲に配置される、液浸露光装置。
【請求項２５】
請求項２３又は２４に記載の液浸露光装置において、
前記第２部材は、前記第２部材の下面の周囲に前記物体の表面上の液体を回収する第３液体回収部を有する、液浸露光装置。
【請求項２６】
請求項２２〜２５のいずれか一項に記載の液浸露光装置において、
前記物体は、前記基板を含む、液浸露光装置。
【請求項２７】
露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して前記露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
前記光学部材の周囲に配置され、前記露光光が通過する開口を有する第１部材と、前記露光光が通過する開口を有し、前記第１部材の下方で前記第１部材に対して可動な第２部材とを備える液浸部材を用いて、前記射出面からの射出される前記露光光の光路が液体で満たされるように、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に液浸空間を形成するステップと、
前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光するステップと、
前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動させるステップと、
前記第２部材を移動させた場合に、前記第２部材の移動方向側の、前記液浸空間の一部の液体の圧力と、前記移動方向とは反対方向側の、前記液浸空間の一部の液体の圧力との差を抑制するステップと、を備える露光方法。
【請求項２８】
露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して前記露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
前記光学部材の周囲に配置され、前記露光光が通過する開口を有する第１部材と、前記露光光が通過する開口を有し、前記第１部材の下方で前記第１部材に対して可動な第２部材とを備える液浸部材を用いて、前記射出面からの射出される前記露光光の光路が液体で満たされるように、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に液浸空間を形成するステップと、
前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光するステップと、
前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動させるステップと、
前記第２部材の動きに応じて、前記液浸空間から液体を回収する液体回収部の液体回収量を制御するステップと、を備える露光方法。
【請求項２９】
露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して前記露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
前記光学部材の周囲に配置され、前記露光光が通過する開口を有する第１部材と、前記露光光が通過する開口を有し、前記第１部材の下方で前記第１部材に対して可動な第２部材とを備える液浸部材を用いて、前記射出面からの射出される前記露光光の光路が液体で満たされるように、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に液浸空間を形成するステップと、
前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光するステップと、
前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動させるステップと、
前記第２部材の動きに応じて、前記液浸空間に液体を供給する液体供給部の液体供給量を制御するステップと、を備える露光方法。
【請求項３０】
露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して前記露光光で前記基板を露光する露光方法であって、
前記光学部材の周囲に配置され、前記露光光が通過する開口を有する第１部材と、前記露光光が通過する開口を有し、前記第１部材の下方で前記第１部材に対して可動な第２部材とを備える液浸部材を用いて、前記射出面からの射出される前記露光光の光路が液体で満たされるように、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に液浸空間を形成するステップと、
前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光するステップと、
前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動させるステップと、
前記第２部材の動きに応じて、前記第１部材の少なくとも一部を移動する移動装置を制御するステップと、を備える露光方法。
【請求項３１】
コンピュータに、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して前記露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記光学部材の周囲に配置され、前記露光光が通過する開口を有する第１部材と、前記露光光が通過する開口を有し、前記第１部材の下方で前記第１部材に対して可動な第２部材とを備える液浸部材を用いて、前記射出面からの射出される前記露光光の光路が液体で満たされるように、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に液浸空間を形成する処理と、
前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光する処理と、
前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動させる処理と、
前記第２部材を移動させた場合に、前記第２部材の移動方向側の、前記液浸空間の一部の液体の圧力と、前記移動方向とは反対方向側の、前記液浸空間の一部の液体の圧力との差を抑制する処理と、を実行させるプログラム。
【請求項３２】
露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して前記露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記光学部材の周囲に配置され、前記露光光が通過する開口を有する第１部材と、前記露光光が通過する開口を有し、前記第１部材の下方で前記第１部材に対して可動な第２部材とを備える液浸部材を用いて、前記射出面からの射出される前記露光光の光路が液体で満たされるように、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に液浸空間を形成する処理と、
前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光する処理と、
前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動させる処理と、
前記第２部材の動きに応じて、前記液浸空間から液体を回収する液体回収部の液体回収量を制御する処理と、を実行させるプログラム。
【請求項３３】
露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して前記露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記光学部材の周囲に配置され、前記露光光が通過する開口を有する第１部材と、前記露光光が通過する開口を有し、前記第１部材の下方で前記第１部材に対して可動な第２部材とを備える液浸部材を用いて、前記射出面からの射出される前記露光光の光路が液体で満たされるように、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に液浸空間を形成する処理と、
前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光する処理と、
前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動させる処理と、
前記第２部材の動きに応じて、前記液浸空間に液体を供給する液体供給部の液体供給量を制御する処理と、を実行させるプログラム。
【請求項３４】
露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して前記露光光で前記基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
前記光学部材の周囲に配置され、前記露光光が通過する開口を有する第１部材と、前記露光光が通過する開口を有し、前記第１部材の下方で前記第１部材に対して可動な第２部材とを備える液浸部材を用いて、前記射出面からの射出される前記露光光の光路が液体で満たされるように、前記光学部材の下方で移動可能な前記基板上に液浸空間を形成する処理と、
前記液浸空間の前記液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光する処理と、
前記基板の露光の少なくとも一部において、前記第１部材に対して前記第２部材を移動させる処理と、
前記第２部材の動きに応じて、前記第１部材の少なくとも一部を移動する移動装置を制御する処理と、を実行させるプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液浸露光装置、露光方法、及びプログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、例えば下記特許文献１に開示されているような、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許第７８６４２９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
液浸露光装置において、例えば露光光を射出する光学部材が変動したり、液体中に気泡（気体部分）が発生したりすると、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。
【０００５】
本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる液浸露光装置、露光方法、及びプログラムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の態様に従えば、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置であって、光学部材の周囲に配置され、露光光が通過する開口を有する第１部材と、露光光が通過する開口を有し、第１部材の下方で第１部材に対して可動な第２部材とを備え、射出面からの射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材と、第２部材を移動させた場合に、第２部材の移動方向側の、液浸空間の一部の液体の圧力と、移動方向とは反対方向側の、液浸空間の一部の液体の圧力との差を抑制する圧力差抑制部と、圧力差抑制部を制御するコントローラーと、を備える液浸露光装置が提供される。
【０００７】
本発明の第２の態様に従えば、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置であって、光学部材の周囲に配置され、露光光が通過する開口を有する第１部材と、露光光が通過する開口を有し、第１部材下方で第１部材に対して可動な第２部材とを備え、射出面からの射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材と、液浸空間から液体を回収可能な液体回収部と、コントローラーと、を備え、コントローラーは、第２部材の動きに応じて液体回収部からの液体回収量を制御する、液浸露光装置が提供される。
【０００８】
本発明の第３の態様に従えば、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置であって、光学部材の周囲に配置され、露光光が通過する開口を有する第１部材と、露光光が通過する開口を有し、第１部材下方で第１部材に対して可動な第２部材とを備え、射出面からの射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材と、液浸空間に液体を供給可能な液体供給部と、コントローラーと、を備え、コントローラーは、第２部材の動きに応じて液体供給部からの液体供給量を制御する、液浸露光装置が提供される。
【０００９】
本発明の第４の態様に従えば、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置であって、光学部材の周囲に配置され、露光光が通過する開口を有する第１部材と、露光光が通過する開口を有し、第１部材の下方で可動な第２部材とを備え、射出面からの射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材と、第１部材の少なくとも一部を移動する移動装置と、コントローラーと、を備え、コントローラーは、第２部材の動きに応じて移動装置を制御する、液浸露光装置が提供される。
【００１０】
本発明の第５の態様に従えば、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、光学部材の周囲に配置され、露光光が通過する開口を有する第１部材と、露光光が通過する開口を有し、第１部材の下方で第１部材に対して可動な第２部材とを備える液浸部材を用いて、射出面からの射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な基板上に液浸空間を形成するステップと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光するステップと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動させるステップと、第２部材を移動させた場合に、第２部材の移動方向側の、液浸空間の一部の液体の圧力と、移動方向とは反対方向側の、液浸空間の一部の液体の圧力との差を抑制するステップと、を備える露光方法が提供される。
【００１１】
本発明の第６の態様に従えば、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、光学部材の周囲に配置され、露光光が通過する開口を有する第１部材と、露光光が通過する開口を有し、第１部材の下方で第１部材に対して可動な第２部材とを備える液浸部材を用いて、射出面からの射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な基板上に液浸空間を形成するステップと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光するステップと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動させるステップと、第２部材の動きに応じて、液浸空間から液体を回収する液体回収部の液体回収量を制御するステップと、を備える露光方法が提供される。
【００１２】
本発明の第７の態様に従えば、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、光学部材の周囲に配置され、露光光が通過する開口を有する第１部材と、露光光が通過する開口を有し、第１部材の下方で第１部材に対して可動な第２部材とを備える液浸部材を用いて、射出面からの射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な基板上に液浸空間を形成するステップと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光するステップと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動させるステップと、第２部材の動きに応じて、液浸空間に液体を供給する液体供給部の液体供給量を制御するステップと、を備える露光方法が提供される。
【００１３】
本発明の第８の態様に従えば、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、光学部材の周囲に配置され、露光光が通過する開口を有する第１部材と、露光光が通過する開口を有し、第１部材の下方で第１部材に対して可動な第２部材とを備える液浸部材を用いて、射出面からの射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な基板上に液浸空間を形成するステップと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光するステップと、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動させるステップと、第２部材の動きに応じて、第１部材の少なくとも一部を移動する移動装置を制御するステップと、を備える露光方法が提供される。
【００１４】
本発明の第９の態様に従えば、コンピュータに、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、光学部材の周囲に配置され、露光光が通過する開口を有する第１部材と、露光光が通過する開口を有し、第１部材の下方で第１部材に対して可動な第２部材とを備える液浸部材を用いて、射出面からの射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な基板上に液浸空間を形成する処理と、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光する処理と、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動させる処理と、第２部材を移動させた場合に、第２部材の移動方向側の、液浸空間の一部の液体の圧力と、移動方向とは反対方向側の、液浸空間の一部の液体の圧力との差を抑制する処理と、を実行させるプログラム。
【００１５】
本発明の第１０の態様に従えば、コンピュータに、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、光学部材の周囲に配置され、露光光が通過する開口を有する第１部材と、露光光が通過する開口を有し、第１部材の下方で第１部材に対して可動な第２部材とを備える液浸部材を用いて、射出面からの射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な基板上に液浸空間を形成する処理と、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光する処理と、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動させる処理と、第２部材の動きに応じて、液浸空間から液体を回収する液体回収部の液体回収量を制御する処理と、を実行させるプログラム。
【００１６】
本発明の第１１の態様に従えば、コンピュータに、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、光学部材の周囲に配置され、露光光が通過する開口を有する第１部材と、露光光が通過する開口を有し、第１部材の下方で第１部材に対して可動な第２部材とを備える液浸部材を用いて、射出面からの射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な基板上に液浸空間を形成する処理と、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光する処理と、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動させる処理と、第２部材の動きに応じて、液浸空間に液体を供給する液体供給部の液体供給量を制御する処理と、を実行させるプログラム。
【００１７】
本発明の第１２の態様に従えば、コンピュータに、露光光を射出する光学部材の射出面と基板との間の液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムであって、光学部材の周囲に配置され、露光光が通過する開口を有する第１部材と、露光光が通過する開口を有し、第１部材の下方で第１部材に対して可動な第２部材とを備える液浸部材を用いて、射出面からの射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な基板上に液浸空間を形成する処理と、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光する処理と、基板の露光の少なくとも一部において、第１部材に対して第２部材を移動させる処理と、第２部材の動きに応じて、第１部材の少なくとも一部を移動する移動装置を制御する処理と、を実行させるプログラムが提供される。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の態様によれば、露光不良の発生を抑制できる。また、本発明の態様によれば、不良デバイスの発生を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】第１実施形態に係る液浸露光装置の一例を示す概略構成図である。
【図２】図１に示す液浸部材のＸＺ平面と平行な断面図である。
【図３】図２の＋Ｘ方向側の一部拡大図である。
【図４】液浸部材の動作の一例を示す図である。
【図５】液浸部材を下側（−Ｚ側）から見た図である。
【図６】液浸部材の分解斜視図である。
【図７】図２に示す第１部材を下面側から見た図である。
【図８】図１に示す基板ステージに保持された基板の一例を示す図である。
【図９】図９Ａは、移動可能範囲の最も＋Ｘ方向側の端の位置に第２部材が配置されている状態を示す図であり、図９Ｂは、移動可能範囲の最も＋Ｘ方向側の端の位置と移動可能範囲の中央の位置との間の位置に第２部材が配置されている状態を示す図であり、図９Ｃは、移動可能範囲の中央の位置に第２部材が配置されている状態を示す図であり、図９Ｄは、移動可能範囲の最も−Ｘ方向側の端の位置と移動可能範囲の中央の位置との間の位置に第２部材が配置されている状態を示す図であり、図９Ｅは、移動可能範囲の最も−Ｘ方向側の端の位置に第２部材５２が配置されている状態を示す図である。
【図１０】基板を＋Ｘ方向の成分を含むステップ移動を行いながら、各ショット領域のそれぞれを順次露光するときの基板の移動軌跡の一例を模式的に示す図である。
【図１１】図１１Ａは、基板が第１のショット領域の露光開始位置にあるときに、投影領域（露光光の光路）に対して第２部材が配置される位置を示す図であり、図１１Ｂは、基板が第１のショット領域の露光終了位置にあるときに、投影領域（露光光の光路）に対して第２部材が配置される位置を示す図であり、図１１Ｃは、基板が第１のショット領域の露光終了位置と第２のショット領域の露光開始位置との中間位置にあるときに、投影領域（露光光の光路）に対して第２部材が配置される位置を示す図であり、図１１Ｄは、基板が第２のショット領域の露光開始位置にあるときに、投影領域（露光光の光路）に対して第２部材が配置される位置を示す図である。
【図１２】図１２Ａは、基板が第２のショット領域の露光終了位置にあるときに、投影領域（露光光の光路）に対して第２部材が配置される位置を示す図であり、図１２Ｂは、基板が第２のショット領域の露光終了位置と第３のショット領域の露光開始位置との中間位置にあるときに、投影領域（露光光の光路）に対して第２部材が配置される位置を示す図であり、図１２Ｃは、基板が第３のショット領域の露光開始位置にあるときに、投影領域（露光光の光路）に対して第２部材が配置される位置を示す図であり、図１２Ｄは、基板が第３のショット領域の露光終了位置にあるときに、投影領域（露光光の光路）に対して第２部材が配置される位置を示す図である。
【図１３】第２実施形態の液浸部材のＸＺ平面と平行な断面図である。
【図１４】本第３及び第４実施形態の液浸部材の分解斜視図である。
【図１５】本第３実施形態の液浸部材のＸＺ平面と平行な断面図である。
【図１６】本第４実施形態の液浸部材のＸＺ平面と平行な断面図である。
【図１７】変形例３の液浸部材のＸＺ平面と平行な一部拡大断面図であり、液浸部材の動作の一例を示す図である。
【図１８】変形例４の第２部材の開口の一例を示す図である。
【図１９】変形例４の基板ステージの一例を示す図である。
【図２０】デバイスの製造方法の一例を説明するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向と直交するする方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転方向をθＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００２１】
［第１実施形態］
図１は、第１実施形態に係る液浸露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本第１実施形態の液浸露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する露光装置である。本第１実施形態においては、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。液浸空間ＬＳとは、液体ＬＱで満たされた部分（空間、領域）をいう。基板Ｐは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して露光光ＥＬで露光される。本第１実施形態においては、液体ＬＱとして水（純水）を用いる。
【００２２】
また、本第１実施形態の液浸露光装置ＥＸは、例えば米国特許第６８９７９６３号、及び欧州特許出願公開第１７１３１１３号等に開示されているような、基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置である。
【００２３】
図１において、液浸露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１２と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ１４と、基板Ｐを保持せずに、露光光ＥＬを計測する計測部材（計測器）Ｃを搭載して移動可能な計測ステージ１６と、基板ステージ１４及び計測ステージ１６の位置を計測する計測システム１８と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、液浸空間ＬＳを形成する液浸部材２０と、液浸露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置２２と、制御装置２２に接続され、露光に関する各種の情報を記憶する記憶装置２４とを備えている。
【００２４】
制御装置２２は、ＣＰＵ等を含むコンピュータを含む。制御装置２２は、外部装置との通信を実行可能なインターフェースを含む。記憶装置２４は、例えば、ＲＡＭ等のメモリ、ハードディスク、不揮発性メモリ、揮発性メモリ等を含む記憶媒体を含む。記憶装置２４には、制御装置２２のコンピュータを制御するオペレーティングシステム（ＯＳ）がインストールされ、液浸露光装置ＥＸを制御するためのプログラムが記憶されている。記憶装置２４に記憶されているプログラムを含む各種情報は、コンピュータ）が読み取り可能である。コンピュータは、記憶装置２４に記憶されているプログラムを実行することで、本第１実施形態の制御装置２２として機能する。
【００２５】
なお、制御装置２２に、入力信号を入力可能な入力装置が設けられていてもよい。入力装置は、キーボード、マウス等の入力機器、あるいは、外部装置からのデータを入力可能な通信装置等を含む。また、制御装置２２に、液晶表示ディスプレイ等の表示装置が設けられていてもよい。
【００２６】
液浸露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬ、及び計測システム１８を含む各種の計測システムを支持する基準フレーム２６Ａと、基準フレーム２６Ａを支持する装置フレーム２６Ｂと、基準フレーム２６Ａと装置フレーム２６Ｂとの間に配置され、装置フレーム２６Ｂから基準フレーム２６Ａへの振動の伝達を抑制する防振装置２８とを備えている。防振装置２８は、ばね装置等を含む。本第１実施形態において、防振装置２８は、気体ばね（例えばエアマウント）を含む。なお、基板Ｐのアライメントマークを検出する検出システム、及び基板Ｐ等の物体の表面の位置を検出する検出システムの一方又は両方が、基準フレーム２６Ａに支持されてもよい。
【００２７】
液浸露光装置ＥＸは、露光光ＥＬが進行する空間ＣＳの環境（温度、湿度、圧力、及びクリーン度の少なくとも一つ）を調整するチャンバ装置３０を備えている。空間ＣＳには、少なくとも投影光学系ＰＬ、液浸部材２０、基板ステージ１４、及び計測ステージ１６が配置される。本第１実施形態においては、マスクステージ１２、及び照明系ＩＬの少なくとも一部も空間ＣＳに配置される。
【００２８】
マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを有する。マスクＭは、例えば、ガラス板等の透明板とその透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクであってもよく、反射型マスクであってもよい。
【００２９】
基板Ｐは、デバイスを製造するための基板である。基板Ｐは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された感光膜とを有する。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。また、基板Ｐが、感光膜に加えて別の膜を含んでもよい。例えば、基板Ｐが、反射防止膜を含んでもよいし、感光膜を保護する保護膜（トップコート膜）を含んでもよい。
【００３０】
照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに露光光ＥＬを照射する。照明領域ＩＲは、照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとして、例えば、水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本第１実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光を用いる。
【００３１】
マスクステージ１２は、マスクＭを保持した状態で移動可能である。マスクステージ１２は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム３２の作動により移動する。本第１実施形態において、マスクステージ１２は、駆動システム３２の作動により、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム３２は、平面モータを含まなくてもよい。例えば、駆動システム３２が、リニアモータを含んでもよい。
【００３２】
投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射する。投影領域ＰＲは、投影光学系ＰＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。本第１実施形態において、投影光学系ＰＬは、縮小系であり、投影光学系ＰＬの投影倍率は、１／ｎ（ｎ＝１より大きい正数）、で表される。なお、投影光学系ＰＬは、等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本第１実施形態において、投影光学系ＰＬの光軸は、Ｚ軸と平行である、投影光学系ＰＬの像面側が−Ｚ側であり、投影光学系ＰＬのマスクステージ１２側が＋Ｚ側である。投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれでもよい。投影光学系ＰＬは、倒立像及び正立像のいずれを形成してもよい。
【００３３】
投影光学系ＰＬは、露光光ＥＬが射出される射出面３４を有する終端光学素子３６を含む。射出面３４は、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する。終端光学素子３６は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い光学素子である。この終端光学素子３６はばね等の付勢部材若しくは弾性部材を介して複数の支持点（例えば、３つの支持点）で支持されている。本第１実施形態において、射出面３４は、−Ｚ方向を向いており、射出面３４から射出される露光光ＥＬは、−Ｚ方向に進行する。射出面３４は、ＸＹ平面と平行である。なお、−Ｚ方向を向いている射出面３４は、凸面でもよいし、凹面でもよい。なお、射出面３４は、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。本第１実施形態において、終端光学素子３６の光軸は、Ｚ軸と平行である。
【００３４】
基板ステージ１４は、基板Ｐを保持した状態で、射出面３４からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。計測ステージ１６は、計測部材（計測器）Ｃを搭載した状態で、射出面３４からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。基板ステージ１４及び計測ステージ１６のそれぞれは、ベース部材３８のガイド面３８Ｇ上を移動可能である。本第１実施形態において、ガイド面３８ＧとＸＹ平面とは実質的に平行である。
【００３５】
本第１実施形態において、基板ステージ１４は、例えば米国特許出願公開第２００７／０１７７１２５号、米国特許出願公開第２００８／００４９２０９号等に開示されているような、基板Ｐをリリース可能に保持する第１保持部と、第１保持部の周囲に配置され、カバー部材Ｔをリリース可能に保持する第２保持部とを有する。第１保持部は、基板Ｐの表面（上面）とＸＹ平面とが実質的に平行となるように、基板Ｐを保持する。本第１実施形態において、第１保持部に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、実質的に同一平面内に配置される。なお、第１保持部に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、同一平面内に配置されなくてもよい。なお、基板Ｐの上面に対してカバー部材Ｔの上面が傾斜してもよいし、カバー部材Ｔの上面が曲面を含んでもよい。
【００３６】
基板ステージ１４及び計測ステージ１６は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム４０の作動により移動する。駆動システム４０は、基板ステージ１４に配置された可動子１４Ｃと、計測ステージ１６に配置された可動子１６Ｃと、ベース部材３８に配置された固定子３８Ｍとを有する。基板ステージ１４及び計測ステージ１６のそれぞれは、駆動システム４０の作動により、ガイド面３８Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム４０は、平面モータを含まなくてもよい。例えば、駆動システム４０が、リニアモータを含んでもよい。
【００３７】
計測システム１８は、干渉計システムを含む。干渉計システムは、基板ステージ１４の計測ミラー及び計測ステージ１６の計測ミラーに計測光を照射して、その基板ステージ１４及び計測ステージ１６の位置を計測するユニットを含む。なお、計測システム１８が、例えば米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号に開示されているようなエンコーダシステムを含んでもよい。なお、計測システム１８が、干渉計システム及びエンコーダシステムのいずれか一方のみを含んでもよい。
【００３８】
基板Ｐの露光処理を実行するとき、あるいは所定の計測処理を実行するとき、制御装置２２は、計測システム１８の計測結果に基づいて、基板ステージ１４（基板Ｐ）、及び計測ステージ１６(計測部材Ｃ）の位置制御を実行する。
【００３９】
次に、本第１実施形態に係る液浸部材２０について説明する。なお、液浸部材２０を、ノズル部材と称してもよい。図２は、液浸部材２０のＸＺ平面と平行な断面図である。図３は、図２の＋Ｘ方向側の一部拡大図である。図４は、液浸部材２０の動作の一例を示す図である。図５は、液浸部材２０を下側（−Ｚ側）から見た図である。図６は、液浸部材２０の分解斜視図である。
【００４０】
液浸部材２０は、終端光学素子３６の下方で移動可能な物体上に液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成する。本第１実施形態において、終端光学素子３６の下方で移動可能な物体は、射出面３４と対向する位置を含むＸＹ平面内を移動可能であり、投影領域ＰＲに配置可能である。その物体は、液浸部材２０の下方で移動可能であり、液浸部材２０と対向可能である。本第１実施形態において、その物体は、基板ステージ１４の少なくとも一部（例えば基板ステージ１４のカバー部材Ｔ）、基板ステージ１４（第１保持部）に保持された基板Ｐ、及び計測ステージ１６の少なくとも一つを含む。基板Ｐの露光において、終端光学素子３６の射出面３４と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているとき、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域だけが液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳが形成される。
【００４１】
以下の説明においては、物体が基板Ｐであることとする。なお、上述のように、物体は、基板ステージ１４及び計測ステージ１６の少なくとも一方でもよいし、基板Ｐ、基板ステージ１４、及び計測ステージ１６とは別の物体でもよい。また、基板ステージ１４のカバー部材Ｔと基板Ｐとを跨ぐように液浸空間ＬＳが形成される場合もあるし、基板ステージ１４と計測ステージ１６とを跨ぐように液浸空間ＬＳが形成される場合もある。
【００４２】
液浸空間ＬＳは、終端光学素子３６の射出面３４から射出される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように形成される。液浸空間ＬＳの少なくとも一部は、終端光学素子３６と基板Ｐ（物体）との間の空間に形成される。また、液浸空間ＬＳの少なくとも一部は、液浸部材２０と基板Ｐ（物体）との間の空間に形成される。
【００４３】
液浸部材２０は、終端光学素子３６の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材５０と、第１部材５０の下方において光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置され、第１部材５０に対して可動な第２部材５２とを備えている。第１部材５０は、終端光学素子３６に対して移動不可能である。
【００４４】
第１部材５０は、第２部材５２よりも基板Ｐ（物体）から離れた位置に配置される。第２部材５２の少なくとも一部は、第１部材５０と基板Ｐ（物体）との間に配置される。第２部材５２の少なくとも一部は、終端光学素子３６と基板Ｐ（物体）との間に配置される。第２部材５２の少なくとも一部は、第１部材５０の下方において移動可能である。なお、第２部材５２は、終端光学素子３６と基板Ｐ（物体）との間に配置されなくてもよい。
【００４５】
第１部材５０は、−Ｚ方向を向く下面５４と、下面５４の周囲の少なくとも一部に配置された液体回収部５６とを有する。第２部材５２は、＋Ｚ方向を向く上面５８と、−Ｚ方向を向く下面６０と、下面６０の周囲の少なくとも一部に配置された液体回収部６２とを有する。
【００４６】
第１部材５０は、終端光学素子３６の側面３６Ｆと隙間を介して対向する内側面６４と、光路Ｋ（終端光学素子３６の光軸）に対して外側を向く外側面６６とを有する。側面３６Ｆは、外側に向かって上方に傾斜した形状を有する。内側面６４は、２段階形状を有し、外側に向かって上方に傾斜した形状を有する傾斜面６４Ａと、傾斜面６４Ａの上端から外側に水平（Ｘ軸方向）に延びた水平面６４Ｂと、水平面６４Ｂの後端から外側に向かって上方に傾斜した傾斜面６４Ｃとを有する。傾斜面６４Ａと側面３６Ｆとの隙間より、傾斜面６４Ｃと側面３６Ｆとの隙間の方が大きい。第２部材５２は、外側面６６と間隙を介して対向する内側面６８を有する。
【００４７】
第２部材５２は、下面５４に対向可能である。第２部材５２は、液体回収部５６に対向可能である。本第１実施形態において、第２部材５２の上面５８の少なくとも一部は、下面５４と間隙を介して対向する。上面５８の少なくとも一部は、射出面３４と間隙を介して対向する。なお、上面５８が射出面３４と対向しなくてもよい。
【００４８】
基板Ｐ（物体）は、下面６０に対向可能である。基板Ｐ（物体）は、液体回収部６２に対向可能である。本第１実施形態において、基板Ｐの上面の少なくとも一部は、下面６０と間隙を介して対向する。基板Ｐの上面の少なくとも一部は、射出面３４と間隙を介して対向する。
【００４９】
下面５４と上面５８との間に第１空間ＳＰ１が形成される。下面６０と基板Ｐ（物体）の上面との間に第２空間ＳＰ２が形成される。側面３６Ｆと内側面６４との間に第３空間ＳＰ３が形成される。
【００５０】
本第１実施形態において、上面５８は、液体ＬＱに対して撥液性である。本第１実施形態において、上面５８は、フッ素を含む樹脂の膜の表面を含む。本第１実施形態において、上面５８は、ＰＦＡ（Tetra fluoro ethylene-perfluoro alkylvinyl ether copolymer）の膜の表面を含んでもよく、上面５８が、ＰＴＦＥ（Poly tetra fluoro ethylene）の膜の表面を含んでもよい。上面５８が液体ＬＱに対して撥液性であるため、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱに気体部分が生成されたり、液体ＬＱに気泡が混入したりすることが抑制される。
【００５１】
液体ＬＱに対する上面５８の接触角は、９０度よりも大きい。なお、液体ＬＱに対する上面５８の接触角が、例えば１００度よりも大きくてもよいし、１１０度よりも大きくてもよいし、１２０度よりも大きくてもよい。液体ＬＱに対する上面５８の接触角が、液体ＬＱに対する基板Ｐの上面の接触角よりも大きくてもよいし、小さくてもよいし、液体ＬＱに対する基板Ｐの上面の接触角と実質的に等しくてもよい。
【００５２】
なお、上面５８が液体ＬＱに対して親液性でもよい。液体ＬＱに対する上面５８の接触角が、９０度よりも小さくてもよいし、８０度よりも小さくてもよいし、７０度よりも小さくてもよい。これにより、第１空間ＳＰ１において液体ＬＱが円滑に流れる。
【００５３】
下面５４は、液体ＬＱに対して撥液性又は親液性でもよい。例えば、下面５４及び上面５８の両方が液体ＬＱに対して撥液性でもよく、下面５４及び上面５８の両方が液体ＬＱに対して親液性でもよい。また、下面５４が液体ＬＱに対して撥液性で上面５８が液体ＬＱに対して親液性でもよく、下面５４が液体ＬＱに対して親液性で上面５８が液体ＬＱに対して撥液性でもよい。
【００５４】
本第１実施形態において、下面６０は、液体ＬＱに対して親液性である。液体ＬＱに対する下面６０の接触角が、９０度よりも小さくてもよいし、８０度よりも小さくてもよいし、７０度よりも小さくてもよい。本第１実施形態において、液体ＬＱに対する下面６０の接触角は、液体ＬＱに対する基板Ｐの上面の接触角よりも小さい。なお、液体ＬＱに対する下面６０の接触角は、液体ＬＱに対する基板Ｐの上面の接触角よりも大きくてもよいし、実質的に等しくてもよい。
【００５５】
終端光学素子３６の側面３６Ｆは、射出面３４の周囲に配置される。側面３６Ｆは、露光光ＥＬを射出しない非射出面であり、露光光ＥＬは、射出面３４を通過し、側面３６Ｆを通過しない。
【００５６】
第１部材５０の下面５４は、第２部材５２との間で液体ＬＱを保持可能である。第２部材５２の上面５８は、第１部材５０との間で液体ＬＱを保持可能である。第２部材５２の下面６０は、基板Ｐ（物体）との間で液体ＬＱを保持可能である。
【００５７】
第１部材５０の下面５４、第２部材５２の上面５８、及び下面６０は、ＸＹ平面と実質的に平行である。なお、下面５４、上面５８、及び下面６０の少なくとも１つはＸＹ平面に対して非平行であってもよく、曲面を含んでもよい。また、下面５４、上面５８、及び下面６０の少なくとも一つは、他の面と非平行であってもよい。
【００５８】
第１部材５０は、射出面３４から射出された露光光ＥＬが通過可能な開口７０を有する。第２部材５２は、射出面３４から射出された露光光ＥＬが通過可能な開口７２を有する。開口７０の内側に終端光学素子３６の少なくとも一部が配置される。開口７０の周囲に下面５４が配置される。下面５４の上方で、開口７０の周囲に内側面６４が配置される。開口７２の上端の周囲に上面５８が配置され、開口７２の下端の周囲に下面６０が配置される。
【００５９】
本第１実施形態において、光路Ｋに面する開口７２によって形成される第２部材５２の内側面７４の少なくとも一部は、光路Ｋに対する射出方向に関して外側に向かって上方に傾斜する。これにより、第２部材５２の内側面７４が液浸空間ＬＳに配置されている状態で、第２部材５２は円滑に移動可能である。また、第２部材５２の内側面７４が液浸空間ＬＳに配置されている状態で第２部材５２が移動しても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が変動することが抑制される。
【００６０】
ＸＹ平面内における開口７０の寸法は、開口７２の寸法よりも大きい。また、Ｘ軸方向に関して、開口７０の寸法は、開口７２の寸法よりも大きく、Ｙ軸方向に関して、開口７０の寸法は、開口７２の寸法よりも大きい。射出面３４の直下には、第１部材５０が配置されておらず、開口７０は、射出面３４の周囲に配置される。すなわち、開口７０は、射出面３４より大きい。終端光学素子３６の側面３６Ｆと第１部材５０との間に形成された間隙の下端は、第２部材５２の上面５８に面している。また、第２部材５２の開口７２は、射出面３４と対向するように配置される。ＸＹ平面内における開口７２の形状は、Ｘ軸方向に長い長方形状である。なお、開口７２の形状は、長方形に限定されず、Ｘ軸方向に長い楕円形であってもよいし、Ｘ軸方向に長い多角形であってもよい。なお、開口７０の寸法が開口７２の寸法よりも小さくてもよく、開口７０の寸法が開口７２の寸法と実質的に等しくてもよい。
【００６１】
第１部材５０は、環状の部材であり、終端光学素子３６に接触しないように終端光学素子３６の周囲に配置される。第１部材５０と終端光学素子３６との間に間隙が形成される。本第１実施形態において、第１部材５０は、射出面３４と対向しない。なお、第１部材５０の一部が、射出面３４と対向してもよい。すなわち、第１部材５０の一部が、射出面３４と基板Ｐ（物体）の上面との間に配置されてもよい。なお、第１部材５０は環状でなくてもよい。例えば、第１部材５０は、終端光学素子３６（光路Ｋ）の周囲の一部に配置されてもよく、終端光学素子３６（光路Ｋ）の周囲において複数配置されてもよい。
【００６２】
第２部材５２は、環状の部材であり、第１部材５０に接触しないように光路Ｋの周囲に配置される。第２部材５２と第１部材５０との間に間隙が形成される。なお、第２部材５２は、環状でなくてもよい。例えば、第２部材５２は、光路Ｋの周囲の一部に配置されてもよく、光路Ｋの周囲において複数配置されてもよい。
【００６３】
本第１実施形態において、第１部材５０は、支持部材５０Ｓを介して装置フレーム２６Ｂに支持される。なお、第１部材５０は支持部材を介して基準フレーム２６Ａに支持されてもよい。第２部材５２は、支持部材５２Ｓを介して装置フレーム２６Ｂに支持される。支持部材５２Ｓは、光路Ｋに対して第１部材５０の外側で第２部材５２に接続される。なお、第２部材５２が支持部材を介して基準フレーム２６Ａに支持されていてもよい。
【００６４】
第２部材５２は、第１部材５０及び終端光学素子３６に対して移動可能である。これにより、第２部材５２と第１部材５０との相対位置、及び、第２部材５２と終端光学素子３６との相対位置は変化する。第２部材５２は、第１部材５０の少なくとも一部の下方で移動可能である。第２部材５２は、第１部材５０と基板Ｐ（物体）との間において移動可能である。
【００６５】
第２部材５２は、終端光学素子３６の光軸と垂直なＸＹ平面内を移動可能である。図４に示すように、本第１実施形態において、第２部材５２は、少なくともＸ軸方向に移動可能である。なお、第２部材５２は、Ｘ軸方向に加えて、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの少なくとも一つの方向に移動可能でもあってもよい。なお、本第１実施形態では、第２部材５２は、Ｘ軸方向のみに移動するものとする。
【００６６】
本第１実施形態においては、第２部材５２がＸＹ平面内において移動することにより、第１部材５０の外側面６６と第２部材５２の内側面６８との間隙の寸法が変化する。換言すれば、第２部材５２がＸＹ平面内において移動することによって、外側面６６と内側面６８との間の空間の大きさが変化する。例えば、図４に示す例では、第２部材５２が−Ｘ方向に移動することにより、＋Ｘ方向側の外側面６６と内側面６８との間隙の寸法が小さくなる（外側面６６と内側面６８との間の空間が小さくなる）。第２部材５２が−Ｘ方向に移動することにより、−Ｘ方向側の外側面６６と内側面６８との間隙の寸法が大きくなる（外側面６６と内側面６８との間の空間が大きくなる）。本第１実施形態においては、第１部材５０（外側面６６）と第２部材５２（内側面６８）とが接触しないように、第２部材５２の移動可能範囲が定められる。
【００６７】
本第１実施形態において、第２部材５２は、駆動装置７６によって移動する。本第１実施形態において、駆動装置７６は、支持部材５２Ｓを移動させる。支持部材５２Ｓが駆動装置７６により移動されることにより、第２部材５２が移動する。駆動装置７６は、例えばモータを含み、ローレンツ力を使って第２部材５２を移動させる。駆動装置７６は、制御装置２２の制御に従って第２部材５２を移動させる。
【００６８】
駆動装置７６は、支持部材７６Ｓを介して、装置フレーム２６Ｂに支持される。本第１実施形態において、第２部材５２は、支持部材５２Ｓ、駆動装置７６、及び支持部材７６Ｓを介して、装置フレーム２６Ｂに支持される。第２部材５２の移動により振動が発生しても、防振装置２８によって、その振動が基準フレーム２６Ａに伝達されることが抑制される。
【００６９】
第２部材５２は、例えば、射出面３４から露光光ＥＬが射出される期間の少なくとも一部と並行して移動してもよい。第２部材５２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で射出面３４から露光光ＥＬが射出される期間の少なくとも一部と並行して移動してもよい。第２部材５２は、基板Ｐ（物体）が移動する期間の少なくとも一部と並行して移動してもよい。第２部材５２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（物体）が移動する期間の少なくとも一部と並行して移動してもよい。
【００７０】
第２部材５２は、基板Ｐ（物体）の移動方向に移動してもよい。例えば、基板ＰがＸＹ平面内における一方向（例えば、−Ｘ方向）に移動するとき、第２部材５２は、その基板Ｐの移動と同期して、ＸＹ平面内における一方向（例えば、−Ｘ方向）に移動してもよい。
【００７１】
液浸部材２０は、液浸空間ＬＳを形成するために液体ＬＱを供給する液体供給部７８を有する。本第１実施形態においては、液体供給部７８は、第１部材５０に配置される。なお、液体供給部７８は、第２部材５２に配置されてもよく、第１部材５０及び第２部材５２の両方に配置されてもよい。また、液体供給部７８は、第１部材５０及び第２部材５２とは異なる部材に配置されてもよい。
【００７２】
液体供給部７８は、光路Ｋ（終端光学素子３６の光軸）に関して液体回収部５６及び液体回収部６２の内側に配置される。液体供給部７８は、内側面６４（本第１実施形態では、傾斜面６４Ｃの下部）に配置される供給口を含む。液体供給部７８は、側面３６Ｆに対向するように配置される。液体供給部７８は、側面３６Ｆと内側面６４との間の第３空間ＳＰ３に液体ＬＱを供給する。液体供給部７８は、終端光学素子３６と第１部材５０との間に液体ＬＱを供給する。
【００７３】
本第１実施形態において、液体供給部７８は、光路Ｋ（終端光学素子３６の光軸）に対して＋Ｘ方向側及び−Ｘ方向側のそれぞれに配置される。なお、液体供給部７８は、Ｘ軸方向に沿って配置される必要はなく、Ｘ軸方向及びＹ軸方向を含む光路Ｋ（終端光学素子３６の光軸）の周囲に複数配置されてもよい。また、液体供給部７８は一つでもよい。液体供給部７８の替わりに、あるいは液体供給部７８に加えて、液体ＬＱを供給可能な液体供給部を下面５４及び（又は）下面６０に設けてもよい。
【００７４】
ここで、−Ｘ方向側に配置された液体供給部７８と＋Ｘ方向側に配置された液体供給部７８を区別するために、−Ｘ方向側に配置された液体供給部７８を７８（−Ｘ）で表し、＋Ｘ方向側に配置された液体供給部７８を７８（＋Ｘ）で表す場合がある。
【００７５】
液体供給部（供給口）７８（＋Ｘ）は、光路Ｋに対して第１部材５０の＋Ｘ方向側の内部に形成された供給流路７８Ｒを介して、液体供給部７８（＋Ｘ）に液体ＬＱを供給する液体供給装置７８Ｓと接続される。液体供給部（供給口）７８（−Ｘ）は、光路Ｋに対して第１部材５０の−Ｘ方向側の内部に形成された供給流路７８Ｒを介して、液体供給部７８（−Ｘ）に液体ＬＱを供給する液体供給装置７８Ｓと接続される。液体供給装置７８Ｓは、クリーンで温度調整された液体ＬＱを液体供給部７８に供給可能である。液体供給部７８は、液体供給装置７８Ｓからの液体ＬＱを供給する。この液体供給装置７８Ｓは、制御装置２２の制御に従って液体ＬＱを供給する。
【００７６】
ここで、液体供給部７８（−Ｘ）に接続される供給流路７８Ｒ及び液体供給装置７８Ｓを、７８Ｒ（−Ｘ）、７８Ｓ（−Ｘ）で、液体供給部７８（＋Ｘ）に接続される供給流路７８Ｒ及び液体供給装置７８Ｓを、７８Ｒ（＋Ｘ）、７８Ｓ（＋Ｘ）で表す場合がある。本第１実施形態においては、液体供給装置７８Ｓ（−Ｘ）と液体供給装置７８Ｓ（＋Ｘ）とは、それぞれ別の装置であり、供給流路７８Ｒ（−Ｘ）と供給流路７８Ｒ（＋Ｘ）とは、互いに連通していない。これにより、−Ｘ方向側と＋Ｘ方向側とで液体供給部７８の液体供給量を異ならせることが可能となる。
【００７７】
下面５４の内側のエッジと上面５８との間に、開口８０が形成される。射出面３４と基板Ｐ（物体）との間の光路Ｋを含む光路空間ＳＰＫと、下面５４と上面５８との間の第１空間ＳＰ１とは、開口８０を介して結ばれる。光路空間ＳＰＫは、射出面３４と基板Ｐ（物体）との間の空間、及び射出面３４と上面５８との間の空間を含む。開口８０は、光路Ｋに面するように配置される。側面３６Ｆと内側面６４との間の第３空間ＳＰ３と、第１空間ＳＰ１とは、開口８０を介して結ばれる。
【００７８】
液体供給部７８からの液体ＬＱの少なくとも一部は、開口８０を介して、下面５４と上面５８との間の第１空間ＳＰ１に供給される。液浸空間ＬＳを形成するために液体供給部７８から供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口７０及び開口７２を介して、射出面３４と対向する基板Ｐ（物体）上に供給される。これにより、光路Ｋが液体ＬＱで満たされる。液体供給部７８からの液体ＬＱの少なくとも一部は、下面６０と基板Ｐ（物体）の上面との間の第２空間ＳＰ２に供給される。
【００７９】
本第１実施形態においては、Ｚ軸方向に関して、第１空間ＳＰ１の寸法は、第２空間ＳＰ２の寸法よりも小さい。なお、Ｚ軸方向に関して、第１空間ＳＰ１の寸法が、第２空間ＳＰ２の寸法と実質的に等しくてもよく、第２空間ＳＰ２の寸法よりも大きくてもよい。
【００８０】
本第１実施形態においては、上面５８側の第１空間ＳＰ１及び下面６０側の第２空間ＳＰ２の一方から他方への液体ＬＱの移動が抑制されている。第１空間ＳＰ１と第２空間ＳＰ２とは、第２部材５２によって仕切られている。第１空間ＳＰ１の液体ＬＱは、開口８０、７２を介して第２空間ＳＰ２に移動できる。第２空間ＳＰ２の液体ＬＱは、開口７２、８０を介して第１空間ＳＰ１に移動できる。
【００８１】
すなわち、本第１実施形態において、液浸部材２０は、開口７２、８０以外に、第１空間ＳＰ１と第２空間ＳＰ２とを流体的に接続する流路を有しない。光路Ｋに対して第１空間ＳＰ１の外側（外側面６６の外側）に移動した液体ＬＱは、内側面６８によって、基板Ｐ上（第２空間ＳＰ２）に移動することが抑制される。
【００８２】
液体回収部５６は、光路Ｋ（終端光学素子３６の光軸）に対して下面５４の外側に配置される。液体回収部５６は、第１部材５０の下面５４の周囲の少なくとも一部に配置される。本第１実施形態において、液体回収部５６は、下面５４の周囲に、つまり、図６に示すように、環状に配置される。液体回収部５６は、露光光ＥＬの光路Ｋの周囲に配置される。液体回収部５６は、上面５８に対向するように配置されて、第１空間ＳＰ１に面する。液体回収部５６は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。液体回収部５６は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収することで、終端光学素子３６と第１部材５０との間にある液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。
【００８３】
液体回収部５６は、第１部材５０の下面５４の周囲の少なくとも一部に配置される回収口を含む。液体回収部５６は、第１部材５０の内部に形成された回収流路５６Ｒを介して、液体回収装置５６Ｃと接続される。第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、液体回収部５６を介して回収流路５６Ｒに流入可能である。
【００８４】
本第１実施形態において、液体回収部５６は、多孔部材８２を含み、液体回収部５６の回収口は、多孔部材８２の孔を含む。多孔部材８２は、複数の孔を有する。液体回収部５６は、第１空間ＳＰ１にある液体ＬＱを多孔部材８２の孔を介して回収する。液体回収部５６から回収された第１空間ＳＰ１の液体ＬＱは、多孔部材８２の孔を介して回収流路５６Ｒに流入し、回収流路５６Ｒを流れて液体回収装置５６Ｃによって回収される。多孔部材８２は、メッシュプレートを含んでもよい。液体回収装置５６Ｃは、制御装置２２の制御に従って液体ＬＱ等を回収する。
【００８５】
本第１実施形態においては、液体回収部５６によって実質的に液体ＬＱのみが回収され、気体の回収が制限されている。制御装置２２は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱが多孔部材８２の孔を通過して回収流路５６Ｒに流入し、気体は通過しないように、多孔部材８２の下面側の圧力（第１空間ＳＰ１の圧力）と上面側の圧力（回収流路５６Ｒの圧力）との差を調整する。なお、多孔部材８２を介して液体ＬＱのみを回収する技術の一例が、例えば米国特許第７２９２３１３号等に開示されている。なお、多孔部材８２を介して液体ＬＱ及び気体の両方が回収（吸引）されてもよい。また、液体回収部５６に多孔部材８２を設けなくてもよい。
【００８６】
本第１実施形態において、液体回収部５６の下面は、多孔部材８２の下面を含み、液体回収部５６の下面は、ＸＹ平面と実質的に平行である。本第１実施形態において、液体回収部５６の下面と下面５４とは、同一平面内に配置される（面一である）。
【００８７】
なお、液体回収部５６の下面が下面５４よりも＋Ｚ側に配置されてもよいし、−Ｚ側に配置されてもよい。なお、液体回収部５６の下面が下面５４に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。また、第１空間ＳＰ１の流体（液体ＬＱ、又は、液体ＬＱと気体の両方）を回収するための液体回収部５６が、第１空間ＳＰ１に面するように第２部材５２に配置され、回収流路５６Ｒが第２部材５２内に形成されていてもよい。また、液体回収部５６及び回収流路５６Ｒは、第１部材５０及び第２部材５２の両方に配置されてもよい。
【００８８】
液体回収部６２は、光路Ｋ（終端光学素子３６の光軸）に対して下面６０の外側に配置される。液体回収部６２は、第２部材５２の下面６０の周囲の少なくとも一部に配置される。本第１実施形態において、液体回収部６２は、下面６０の周囲に、つまり、図６に示すように、環状に配置される。液体回収部６２は、露光光ＥＬの光路Ｋの周囲に配置される。液体回収部６２は、基板Ｐ（物体）の上面に対向するように配置されて、第２空間ＳＰ２に面する。液体回収部６２は、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。液体回収部６２は、第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部を回収することで、終端光学素子３６と第１部材５０との間にある液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。
【００８９】
本第１実施形態において、液体回収部６２は、光路Ｋ（終端光学素子３６の光軸）に対して第１部材５０の外側に配置される。また、液体回収部６２は、光路Ｋ（終端光学素子３６の光軸）に対して第１空間ＳＰ１の外側に配置される。
【００９０】
液体回収部６２は、第２部材５２の下面６０の周囲の少なくとも一部に配置される回収口を含む。液体回収部６２は、第２部材５２の内部に形成された回収流路６２Ｒを介して、液体回収装置６２Ｃと接続される。第２空間ＳＰ２の液体ＬＱの少なくとも一部は、液体回収部６２を介して回収流路６２Ｒに流入可能である。
【００９１】
本第１実施形態において、回収流路６２Ｒは、光路Ｋ（終端光学素子３６の光軸）に対して内側面６８の外側に配置される。第２部材５２が移動することにより、第２部材５２の液体回収部６２及び回収流路６２Ｒが、第１部材５０の外側面６６の外側で移動する。
【００９２】
本第１実施形態において、液体回収部６２は、多孔部材８４を含み、液体回収部６２の回収口は、多孔部材８４の孔を含む。多孔部材８４は、複数の孔を有する。液体回収部６２は、第２空間ＳＰ２にある液体ＬＱを多孔部材８４の孔を介して回収する。液体回収部６２は気体を回収してもよい。液体回収部６２から回収された第２空間ＳＰ２の流体（液体ＬＱ、又は、液体ＬＱと気体の両方）は、多孔部材８４の孔を介して回収流路６２Ｒに流入し、回収流路６２Ｒを流れて液体回収装置６２Ｃによって回収される。多孔部材８４は、メッシュプレートを含んでもよい。なお、液体回収部６２に多孔部材８４を設けなくてもよい。液体回収装置６２Ｃは、制御装置２２の制御に従って液体ＬＱ等を回収する。
【００９３】
本第１実施形態において、液体回収部６２の下面は、多孔部材８４の下面を含み、液体回収部６２の下面は、ＸＹ平面と実質的に平行である。本第１実施形態において、液体回収部６２の下面は、下面６０よりも＋Ｚ側に配置される。
【００９４】
なお、液体回収部６２の下面と下面６０とが同一平面内に配置されてもよい（面一でもよい）。液体回収部６２の下面が下面６０よりも−Ｚ側に配置されてもよい。なお、液体回収部６２の下面が下面６０に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。
【００９５】
本第１実施形態においては、液体供給部７８からの液体ＬＱの供給動作と並行して、液体回収部６２による液体ＬＱの回収動作が実行されることによって、終端光学素子３６及び液浸部材２０と、基板Ｐ（物体）との間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳが形成される。また、本第１実施形態においては、液浸空間ＬＳの形成を形成するために、液体供給部７８からの液体ＬＱの供給動作、及び液体回収部６２による流体の回収動作と並行して、液体回収部５６による液体ＬＱの回収動作が実行される。
【００９６】
本第１実施形態においては、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、第２部材５２と基板Ｐ（物体）との間に形成され、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、第１部材５０と第２部材５２との間に形成される。本第１実施形態においては、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、終端光学素子３６と第１部材５０との間に形成される。
【００９７】
以下の説明において、第１部材５０と第２部材５２との間に形成される液体ＬＱの界面ＬＧを第１界面ＬＧ１と称する。第２部材５２と基板Ｐ（物体）との間に形成される界面ＬＧを第２界面ＬＧ２と称する。終端光学素子３６と第１部材５０との間に形成される界面ＬＧを第３界面ＬＧ３と称する。
【００９８】
本第１実施形態においては、第１界面ＬＧ１が液体回収部５６の下面と上面５８との間に形成され、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱが液体回収部５６の外側の空間（例えば外側面６６と内側面６８との間の空間）に移動することが抑制されている。外側面６６と内側面６８との間の空間には液体ＬＱが存在せず、外側面６６と内側面６８との間の空間は気体空間となる。また、外側面６６と内側面６８との間の空間は、空間ＣＳと接続される。空間ＣＳの圧力が大気圧である場合、外側面６６と内側面６８との間の空間は、大気に開放される。そのため、第２部材５２は円滑に移動可能である。なお、空間ＣＳの圧力は、大気圧よりも高くてもよいし、低くてもよい。
【００９９】
液浸部材２０は、更に、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを回収する抑制用液体回収部１００を有する。本第１実施形態においては、抑制用液体回収部１００は、第１部材５０の下面５４に配置される。抑制用液体回収部１００は、光路Ｋ（終端光学素子３６の光軸）に対して液体回収部５６及び液体回収部６２の内側に配置される。抑制用液体回収部１００は、露光光ＥＬの光路Ｋの周囲に配置される。抑制用液体回収部１００は、光路Ｋ（終端光学素子３６の光軸）に対して開口７０より外側であって、開口７０付近に配置される。
【０１００】
抑制用液体回収部１００は、上面５８に対向するように配置されて、第１空間ＳＰ１に面する。抑制用液体回収部１００は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。抑制用液体回収部１００は、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収することで、終端光学素子３６と第１部材５０との間にある液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。
【０１０１】
抑制用液体回収部１００は、光路Ｋ（終端光学素子３６の光軸）に対して＋Ｘ方向側及び−Ｘ方向側のそれぞれに配置される。なお、抑制用液体回収部１００は、Ｘ軸方向に沿って配置される必要はなく、Ｘ軸方向及びＹ軸方向を含む光路Ｋ（終端光学素子３６の光軸）の周囲に複数配置されてもよい。
【０１０２】
ここで、−Ｘ方向側に配置された抑制用液体回収部１００と＋Ｘ方向側に配置された抑制用液体回収部１００とを区別するために、−Ｘ方向側に配置された抑制用液体回収部１００を１００（−Ｘ）で表し、＋Ｘ方向側に配置された抑制用液体回収部１００を１００（＋Ｘ）で表す場合がある。
【０１０３】
抑制用液体回収部１００は、第１部材５０の下面５４に配置される回収口を含む。抑制用液体回収部１００（＋Ｘ）は、光路Ｋに対して第１部材５０の＋Ｘ方向側の内部に形成された回収流路１００Ｒを介して、抑制用液体回収部１００（＋Ｘ）からの液体ＬＱを回収する液体回収装置１００Ｃと接続される。抑制用液体回収部１００（−Ｘ）は、光路Ｋに対して第１部材５０の−Ｘ方向側の内部に形成された回収流路１００Ｒを介して、抑制用液体回収部１００（−Ｘ）からの液体ＬＱを回収する液体回収装置１００Ｃと接続される。第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、抑制用液体回収部１００を介して回収流路１００Ｒに流入可能である。
【０１０４】
ここで、抑制用液体回収部１００（−Ｘ）に接続される回収流路１００Ｒ及び液体回収装置１００Ｃを、１００Ｒ（−Ｘ）、１００Ｃ（−Ｘ）で表し、抑制用液体回収部１００（＋Ｘ）に接続される回収流路１００Ｒ及び液体回収装置１００Ｃを、１００Ｒ（＋Ｘ）、１００Ｃ（＋Ｘ）で表す場合がある。本第１実施形態においては、液体回収装置１００Ｃ（−Ｘ）と液体回収装置１００Ｃ（＋Ｘ）とは、それぞれ別の装置であり、回収流路１００Ｒ（−Ｘ）と回収流路１００Ｒ（＋Ｘ）とは、互いに連通していない。これにより、−Ｘ方向側と＋Ｘ方向側とで抑制用液体回収部１００の液体回収量を異ならせることが可能となる。
【０１０５】
本第１実施形態において、抑制用液体回収部１００は、多孔部材１０２を含み、抑制用液体回収部１００の回収口は、多孔部材１０２の孔を含む。多孔部材１０２は、複数の孔を有する。抑制用液体回収部１００は、第１空間ＳＰ１にある液体ＬＱを多孔部材１０２の孔を介して回収する。抑制用液体回収部１００から回収された第１空間ＳＰ１の液体ＬＱは、多孔部材１０２の孔を介して回収流路１００Ｒに流入し、回収流路１００Ｒを流れて液体回収装置１００Ｃによって回収される。多孔部材１０２は、メッシュプレ−トを含んでもよい。液体回収装置１００Ｃは、制御装置２２の制御に従って液体ＬＱ等を回収する。
【０１０６】
本第１実施形態においては、抑制用液体回収部１００によって実質的に液体ＬＱのみが回収され、気体の回収が制限されている。なお、液体ＬＱ及び気体の両方を回収（吸引）してもよい。また、抑制用液体回収部１００に多孔部材１０２を設けなくてもよい。
【０１０７】
本第１実施形態において、抑制用液体回収部１００の下面は、多孔部材１０２の下面を含み、抑制用液体回収部１００の下面は、ＸＹ平面と実質的に平行である。本第１実施形態において、抑制用液体回収部１００の下面と下面５４とは、同一平面内に配置される（面一である）。
【０１０８】
なお、抑制用液体回収部１００の下面が下面５４よりも＋Ｚ側に配置されてもよいし、−Ｚ側に配置されてもよい。なお、抑制用液体回収部１００の下面が下面５４に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。また、第１空間ＳＰ１の流体（液体ＬＱ、又は、液体ＬＱと気体の両方）を回収するための抑制用液体回収部１００が、第１空間ＳＰ１に面するように第２部材５２に配置され、回収流路１００Ｒが第２部材５２内に形成されていてもよい。抑制用液体回収部１００及び回収流路１００Ｒは、第１部材５０及び第２部材５２の両方に配置されてもよい。
【０１０９】
図７は、第１部材５０を下面５４側から見た図である。本第１実施形態においては、第１部材５０の下面５４に、液体供給部７８からの液体ＬＱの少なくとも一部を誘導する誘導部１１０が配置される。誘導部１１０は、下面５４に設けられた凸部である。本第１実施形態において、誘導部１１０は、液体供給部７８からの液体ＬＱの少なくとも一部を液体回収部５６及び抑制用液体回収部１００に誘導する。
【０１１０】
本第１実施形態においては、誘導部１１０の形状は、第２部材５２の移動方向に基づいて定められる。本第１実施形態においては、誘導部１１０は、第２部材５２の移動方向と平行な方向の液体ＬＱの流れを促進するように設けられている。
【０１１１】
例えば、第２部材５２がＸ軸方向に移動する場合、第１空間ＳＰ１において液体ＬＱがＸ軸方向と平行な方向に流れて液体回収部５６及び抑制用液体回収部１００に到達するように、誘導部１１０の形状が定められる。例えば、第２部材５２が＋Ｘ方向に移動する場合、誘導部１１０によって、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、＋Ｘ方向に流れる。第２部材５２が−Ｘ方向に移動する場合、誘導部１１０によって、第１空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、−Ｘ方向に流れる。
【０１１２】
本第１実施形態においては、誘導部１１０は、開口７０を囲むように配置される周壁部１１０Ｒと、その周壁部１１０Ｒの一部に形成されるスリット（開口）１１０Ｋとを有する。スリット１１０Ｋは、Ｘ軸方向と平行な方向の液体ＬＱの流れが促進されるように、光路Ｋに対して＋Ｘ側及び−Ｘ側のそれぞれに形成される。
【０１１３】
誘導部１１０により、第２部材５２の移動方向と平行な方向に関して、第１空間ＳＰ１における液体ＬＱの流速を高めることができる。本第１実施形態においては、誘導部１１０により、第１空間ＳＰ１におけるＸ軸方向に関する液体ＬＱの流速が高められる。すなわち、液体回収部５６の下面と上面５８との間の空間に向かって流れる液体ＬＱの速度が高められる。これにより、第１部材５０に対する第１界面ＬＧ１の位置が変動したり、第１界面ＬＧ１の形状が変化したりすることが抑制される。
【０１１４】
なお、スリット１１０Ｋが形成される位置は、光路Ｋに対して＋Ｘ側及び−Ｘ側に限定されない。例えば、第２部材５２がＹ軸と平行にも移動する場合には、光路Ｋに対して＋Ｙ側及び−Ｙ側に、スリット１１０Ｋを追加してもよい。あるいは、第２部材５２がＹ軸と平行にも移動しない場合でも、光路Ｋに対して＋Ｙ側及び−Ｙ側に、スリット１１０Ｋを追加してもよい。
【０１１５】
また、第２部材５２の移動方向に基づいて、誘導部１１０の形状（スリット１１０Ｋの位置等）を定めなくてもよい。例えば、光路Ｋの全周囲において、光路Ｋに対して放射状に液体ＬＱが流れるように、誘導部１１０の形状を決めてよい。
【０１１６】
本第１実施形態において、第２部材５２は、下面５４の全部と対向可能である。例えば、図２に示すように、終端光学素子３６の光軸と開口７２の中心とが実質的に一致する原点に第２部材５２が配置されているときに、下面５４の全部と第２部材５２の上面５８とが対向する。また、第２部材５２が原点に配置されているときに、射出面３４の一部と第２部材５２の上面５８とが対向する。また、第２部材５２が原点に配置されているときに、液体回収部５６の下面と第２部材５２の上面５８とが対向する。本第１実施形態においては、第２部材５２が原点に配置されているときに、開口７０の中心と開口７２の中心とが実質的に一致する。
【０１１７】
図８は、基板ステージ１４に保持された基板Ｐの一例を示す図である。本第１実施形態においては、基板Ｐに露光対象領域であるショット領域Ｓがマトリクス状に複数配置される。制御装置２２は、終端光学素子３６の射出面３４から射出される露光光ＥＬに対して、第１保持部に保持されている基板ＰをＹ軸方向（走査方向）に移動しつつ、射出面３４と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して、射出面３４から射出された露光光ＥＬで、基板Ｐの複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。
【０１１８】
例えば、基板Ｐの１つのショット領域Ｓを露光するために、制御装置２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面３４から射出される露光光ＥＬ（投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲ）に対して基板ＰをＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介してそのショット領域Ｓに露光光ＥＬを照射する。これにより、マスクＭのパターンの像がそのショット領域Ｓに投影され、そのショット領域Ｓが射出面３４から射出された露光光ＥＬで露光される。
【０１１９】
そのショット領域Ｓの露光が終了した後、制御装置２２は、次のショット領域Ｓの露光を開始するために、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、基板ＰをＸＹ平面内においてＹ軸と交差する方向（例えば、Ｘ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に移動し、次のショット領域Ｓを露光開始位置に移動する。その後、制御装置２２は、そのショット領域Ｓの露光を開始する。
【０１２０】
そして、制御装置２２は、再び、基板Ｐ（基板ステージ１４）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面３４からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対してショット領域ＳをＹ軸方向に移動しながらそのショット領域Ｓを露光する動作を行う。そのショット領域Ｓの露光後、基板Ｐ（基板ステージ１４）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、次のショット領域Ｓが露光開始位置に配置されるように、ＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に基板Ｐを移動する動作を行う。このショット領域Ｓを露光する動作と、次のショット領域Ｓを露光開始位置に移動する動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。
【０１２１】
以下の説明において、ショット領域を露光するために、基板Ｐ（基板ステージ１４）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面３４からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対して基板Ｐ（ショット領域）をＹ軸方向に移動する動作をスキャン移動動作と称する。また、あるショット領域の露光終了後、基板Ｐ（基板ステージ１４）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、次のショット領域の露光が開始されるまでの間に、ショット領域Ｓが露光開始位置に配置されるように、ＸＹ平面内において基板Ｐを移動する動作をステップ移動動作と称する。
【０１２２】
本第１実施形態において、スキャン移動動作は、あるショット領域Ｓが露光開始位置に配置されている状態から露光終了位置に配置される状態になるまで基板ＰがＹ軸方向に移動する動作を含む。ステップ移動動作は、あるショット領域Ｓが露光終了位置に配置されている状態から次のショット領域Ｓが露光開始位置に配置される状態になるまで基板ＰがＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向に移動する動作を含む。
【０１２３】
以下の説明において、あるショット領域Ｓの露光のためにスキャン移動動作が行われる期間をスキャン移動期間と称し、あるショット領域Ｓの露光終了から次のショット領域Ｓの露光開始のためにステップ移動動作が行われる期間をステップ移動期間と称する。
【０１２４】
スキャン移動動作において、射出面３４から露光光ＥＬが射出して、基板Ｐ（物体）に露光光ＥＬが照射する。ステップ移動動作において、射出面３４から露光光ＥＬが射出しない。つまり、ステップ移動動作において、基板Ｐ（物体）に露光光ＥＬが照射しない。
【０１２５】
制御装置２２は、スキャン移動動作とステップ移動動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。なお、スキャン移動動作は、主にＹ軸方向に関する等速移動であってもよい。ステップ移動動作は、加減速度移動を含んでもよい。例えば、あるショット領域Ｓの露光終了から次のショット領域Ｓの露光開始までの間のステップ移動動作は、Ｙ軸方向に関する加減速移動及びＸ軸方向に関する加減速移動の一方又は両方を含んでもよい。
【０１２６】
なお、スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳの少なくとも一部が、基板ステージ１４（カバー部材Ｔ）上に形成される場合がある。スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳが基板Ｐと基板ステージ１４（カバー部材Ｔ）とを跨ぐように形成される場合がある。基板ステージ１４と計測ステージ１６とが接近又は接触した状態で基板Ｐの露光が行われる場合、スキャン移動動作及びステップ移動動作の少なくとも一部において、液浸空間ＬＳが基板ステージ１４（カバー部材Ｔ）と計測ステージ１６とを跨ぐように形成される場合がある。
【０１２７】
制御装置２２は、基板Ｐ上の複数のショット領域Ｓの露光条件に基づいて、駆動システム４０を制御して、基板Ｐ（基板ステージ１４）を移動する。複数のショット領域Ｓの露光条件は、例えば露光レシピと呼ばれる露光制御情報によって規定される。露光制御情報は、記憶装置２４に記憶されている。
【０１２８】
露光条件（露光制御情報）は、複数のショット領域Ｓの配列情報（基板Ｐにおける複数のショット領域Ｓそれぞれの位置）を含む。また、露光条件（露光制御情報）は、複数のショット領域Ｓのそれぞれの寸法情報（Ｙ軸方向に関する寸法情報）を含む。
【０１２９】
制御装置２２は、記憶装置２４に記憶されている露光条件（露光制御情報）に基づいて、所定の移動条件で基板Ｐを移動しながら、複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光する。基板Ｐ（物体）の移動条件は、移動速度、加速度、移動距離、移動方向、及びＸＹ平面内における移動軌跡の少なくとも一つを含む。
【０１３０】
一例として、複数のショット領域Ｓのそれぞれを順次露光するとき、制御装置２２は、投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲと基板Ｐとが、図８中、矢印Ｓｒに示す移動軌跡に沿って相対的に移動するように基板ステージ１４を移動しつつ投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射して、液体ＬＱを介して複数のショット領域Ｓのそれぞれを露光光ＥＬで順次露光する。
【０１３１】
本第１実施形態において、第２部材５２は、基板Ｐの露光処理の少なくとも一部において第１部材５０に対して移動する。第２部材５２は、例えば、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（基板ステージ１４）のステップ移動動作の少なくとも一部と並行して移動する。第２部材５２は、例えば、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（基板ステージ１４）のスキャン移動動作の少なくとも一部と並行して移動する。第２部材５２の移動と並行して、射出面３４から露光光ＥＬが射出される。
【０１３２】
第２部材５２は、例えば、基板Ｐ（基板ステージ１４）がステップ移動動作を行うとき、基板Ｐ（基板ステージ１４）との相対移動（相対速度、相対加速度）が、第１部材５０と基板Ｐ（基板ステージ１４）との相対移動（相対速度、相対加速度）よりも小さくなるように、移動してもよい。
【０１３３】
また、第２部材５２は、基板Ｐ（基板ステージ１４）がスキャン移動動作を行うとき、基板Ｐ（基板ステージ１４）との相対移動（相対速度、相対加速度）が、第１部材５０と基板Ｐ（基板ステージ１４）との相対移動（相対速度、相対加速度）よりも小さくなるように、移動してもよい。
【０１３４】
図９Ａ〜図９Ｅは、第２部材５２の動作の一例を示す模式図である。図９Ａ〜図９Ｅは、第２部材５２を上方から見た図である。本第１実施形態において、第２部材５２はＸ軸方向に移動する。なお、上述のように、第２部材５２は、Ｙ軸方向に移動してもよいし、Ｘ軸方向（又はＹ軸方向）の成分を含むＸＹ平面内における任意の方向に移動してもよい。
【０１３５】
第２部材５２は、Ｘ軸方向に関して規定された可動範囲（移動可能範囲）を移動する。射出面３４からの露光光ＥＬが開口７０及び開口７２を通過するとともに、第２部材５２が第１部材５０に接触しないように、第２部材５２の可動範囲が定められる。
【０１３６】
基板Ｐ（物体）が移動する期間の少なくとも一部において、第２部材５２は、図９Ａ〜図９Ｅに示すように、Ｘ軸方向に移動する。図９Ａは、移動可能範囲の最も＋Ｘ方向側の端の位置Ｊｒに第２部材５２が配置されている状態を示す。図９Ｃは、移動可能範囲の中央の位置Ｊｍに第２部材５２が配置されている状態を示す。図９Ｅは、移動可能範囲の最も−Ｘ方向側の端の位置Ｊｓに第２部材５２が配置されている状態を示す。
【０１３７】
また、図９Ｂは、位置Ｊｒと位置Ｊｍとの間の位置Ｊｒｍに第２部材５２が配置されている状態を示す。図９Ｄは、位置Ｊｓと位置Ｊｍとの間の位置Ｊｓｍに第２部材５２が配置されている状態を示す。
【０１３８】
なお、本第１実施形態において、第２部材５２が位置Ｊｍに配置される状態は、第２部材５２の開口７２の中心と終端光学素子３６の光軸とが実質的に一致している状態を含む。開口７２の中心が終端光学素子３６の光軸に一致する第２部材５２の位置を、原点と称してもよい。第２部材５２の移動可能範囲の寸法は、Ｘ軸方向に関する位置Ｊｒと位置Ｊｓとの距離を含む。
【０１３９】
制御装置２２は、終端光学素子３６（投影領域ＰＲ）に対する第２部材５２の位置を異ならせることができる。制御装置２２は、位置Ｊｒ、位置Ｊｒｍ、位置Ｊｍ、位置Ｊｓｍ、及び位置Ｊｓのうち選択された２つの位置の間において第２部材５２を移動可能である。制御装置２２は、位置Ｊｒ、位置Ｊｒｍ、位置Ｊｍ、位置Ｊｓｍ、及び位置Ｊｓの少なくとも一つにおいて第２部材５２を停止可能である。
【０１４０】
位置Ｊｒと位置Ｊｍとの間の第２部材５２の移動距離は、位置Ｊｒｍと位置Ｊｍとの間の第２部材５２の移動距離よりも長くてよい。位置Ｊｓと位置Ｊｍとの間の第２部材５２の移動距離は、位置Ｊｓｍと位置Ｊｍとの間の第２部材５２の移動距離よりも長くてよい。
【０１４１】
制御装置２２は、定められた移動条件で第２部材５２を移動可能である。第２部材５２の移動条件は、移動方向、移動速度、加速度、及び移動距離の少なくとも一つを含む。制御装置２２は、第２部材５２の移動方向、移動速度、加速度、及び移動距離の少なくとも一つを制御可能である。
【０１４２】
図１０は、基板Ｐを＋Ｘ方向の成分を含むステップ移動を行いながら、第１のショット領域Ｓａ、第２のショット領域Ｓｂ、及び第３のショット領域Ｓｃのそれぞれを順次露光するときの基板Ｐの移動軌跡の一例を模式的に示す図である。第１〜第３のショット領域Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃは、Ｘ軸方向に配置される。
【０１４３】
図１０に示すように、第１のショット領域Ｓａが露光されるとき、終端光学素子３６の下において、投影領域ＰＲが基板Ｐの位置ｄ１に配置される状態からその位置ｄ１に対して＋Ｙ方向側に隣り合う位置ｄ２に配置される状態までの経路Ｔｐ１に沿って基板Ｐは移動する。その後、位置ｄ２に配置される状態からその位置ｄ２に対して＋Ｘ方向側に隣り合う位置ｄ３に配置される状態までの経路Ｔｐ２に沿って基板Ｐは移動する。その後、第２のショット領域Ｓｂが露光されるとき、位置ｄ３に配置される状態からその位置ｄ３に対して−Ｙ方向側に隣り合う位置ｄ４に配置される状態までの経路Ｔｐ３に沿って基板Ｐは移動する。その後、位置ｄ４に配置される状態からその位置ｄ４に対して＋Ｘ方向側に隣り合う位置ｄ５に配置される状態までの経路Ｔｐ４に沿って基板Ｐは移動する。そして、第３のショット領域Ｓｃが露光されるとき、位置ｄ５に配置される状態からその位置ｄ５に対して＋Ｙ方向側に隣り合う位置ｄ６に配置される状態までの経路Ｔｐ５に沿って基板Ｐは移動する。位置ｄ１、ｄ２、ｄ３、ｄ４、ｄ５、ｄ６は、ＸＹ平面内における位置である。
【０１４４】
経路Ｔｐ１の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線を含む。経路Ｔｐ３の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線を含む。経路Ｔｐ５の少なくとも一部は、Ｙ軸と平行な直線を含む。経路Ｔｐ２は、位置ｄ２．５を経由する曲線を含む。経路Ｔｐ４は、位置ｄ４．５を経由する曲線を含む。位置ｄ１は、経路Ｔｐ１の始点を含み、位置ｄ２は、経路Ｔｐ１の終点を含む。位置ｄ２は、経路Ｔｐ２の始点を含み、位置ｄ３は、経路Ｔｐ２の終点を含む。位置ｄ３は、経路Ｔｐ３の始点を含み、位置ｄ４は、経路Ｔｐ３の終点を含む。位置ｄ４は、経路Ｔｐ４の始点を含み、位置ｄ５は、経路Ｔｐ４の終点を含む。位置ｄ５は、経路Ｔｐ５の始点を含み、位置ｄ６は、経路Ｔｐ５の終点を含む。
【０１４５】
経路Ｔｐ１は、基板Ｐが−Ｙ方向に移動する経路である。経路Ｔｐ３は、基板Ｐが＋Ｙ方向に移動する経路である。経路Ｔｐ５は、基板Ｐが−Ｙ方向に移動する経路である。経路Ｔｐ２及び経路Ｔｐ４は、基板Ｐが−Ｘ方向を主成分とする方向に移動する経路である。
【０１４６】
基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動する動作、経路Ｔｐ３を移動する動作、及び経路Ｔｐ５を移動する動作のそれぞれは、スキャン移動動作を含む。また、基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する動作、及び経路Ｔｐ４を移動する動作のそれぞれは、ステップ移動動作を含む。すなわち、基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動する期間、経路Ｔｐ３を移動する期間、及び経路Ｔｐ５を移動する期間のそれぞれは、スキャン移動期間（露光期間）である。基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動する期間、及び経路Ｔｐ４を移動する期間のそれぞれは、ステップ移動期間である。
【０１４７】
図１１及び図１２は、第１〜第３のショット領域Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃが順次露光されるときの第２部材５２の動作の一例を示す模式図である。図１１及び図１２は、第２部材５２を上方から見た図である。
【０１４８】
基板Ｐが位置ｄ１にあるとき、図１１Ａに示すように、第２部材５２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して、位置Ｊｓに配置される。基板Ｐが位置ｄ２にあるとき、図１１Ｂに示すように、第２部材５２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して、位置Ｊｒに配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ１から位置ｄ２へのスキャン移動動作中に、第２部材５２は、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ方向）とは逆の＋Ｘ方向に移動する。基板Ｐの位置ｄ１から位置ｄ２へのスキャン移動動作中に、第２部材５２は、位置Ｊｓから位置Ｊｓｍ、位置Ｊｍ、及び位置Ｊｒｍを経て、位置Ｊｒまで移動する。換言すれば、基板Ｐが経路Ｔｐ１を移動するとき、第２部材５２は、図１１Ａに示す状態から図１１Ｂに示す状態に変化するように、＋Ｘ方向に移動する。
【０１４９】
基板Ｐが位置ｄ２．５にあるとき、図１１Ｃに示すように、第２部材５２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して、位置Ｊｍに配置される。基板Ｐが位置ｄ３にあるとき、図１１Ｄに示すように、第２部材５２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して、位置Ｊｓに配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ２から位置ｄ３へのステップ移動動作中に、第２部材５２は、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ方向）と同じ−Ｘ方向に移動する。基板Ｐの位置ｄ２から位置ｄ３へのステップ移動動作中に、第２部材５２は、位置Ｊｒから位置Ｊｒｍ、位置Ｊｍ、及び位置Ｊｓｍを経て、位置Ｊｍまで移動する。換言すれば、基板Ｐが経路Ｔｐ２を移動するとき、第２部材５２は、図１１Ｂに示す状態から図１１Ｃに示す状態を経て図１１Ｄに示す状態に変化するように、−Ｘ方向に移動する。
【０１５０】
基板Ｐが位置ｄ４にあるとき、図１２Ａに示すように、第２部材５２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して、位置Ｊｒに配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ３から位置ｄ４へのスキャン移動動作中に、第２部材５２は、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ方向）とは逆の＋Ｘ方向に移動する。基板Ｐの位置ｄ３から位置ｄ４へのスキャン移動動作中に、第２部材５２は、位置Ｊｓから位置Ｊｓｍ、位置Ｊｍ、及び位置Ｊｒｍを経て、位置Ｊｒまで移動する。換言すれば、基板Ｐが経路Ｔｐ３を移動するとき、第２部材５２は、図１１Ｄに示す状態から図１２Ａに示す状態に変化するように、＋Ｘ方向に移動する。
【０１５１】
基板Ｐが位置ｄ４．５にあるとき、図１２Ｂに示すように、第２部材５２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して、位置Ｊｍに配置される。基板Ｐが位置ｄ５にあるとき、図１２Ｃに示すように、第２部材５２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して、位置Ｊｓに配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ４から位置ｄ５へのステップ移動動作中に、第２部材５２は、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ方向）と同じ−Ｘ方向に移動する。基板Ｐの位置ｄ４から位置ｄ５へのステップ移動動作中に、第２部材５２は、位置Ｊｒから位置Ｊｒｍ、位置Ｊｍ、及び位置Ｊｓｍを経て、位置Ｊｍまで移動する。換言すれば、基板Ｐが経路Ｔｐ４を移動するとき、第２部材５２は、図１２Ａに示す状態から図１２Ｂに示す状態を経て図１２Ｃに示す状態に変化するように、−Ｘ方向に移動する。
【０１５２】
基板Ｐが位置ｄ６にあるとき、図１２Ｄに示すように、第２部材５２は、投影領域ＰＲ（露光光ＥＬの光路Ｋ）に対して、位置Ｊｒに配置される。すなわち、基板Ｐの位置ｄ５から位置ｄ６へのスキャン移動動作中に、第２部材５２は、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ方向）とは逆の＋Ｘ方向に移動する。基板Ｐの位置ｄ５から位置ｄ６へのスキャン移動動作中に、第２部材５２は、位置Ｊｓから位置Ｊｓｍ、位置Ｊｍ、及び位置Ｊｒｍを経て、位置Ｊｒまで移動する。換言すれば、基板Ｐが経路Ｔｐ５を移動するとき、第２部材５２は、図１２Ｃに示す状態から図１２Ｄに示す状態に変化するように、＋Ｘ方向に移動する。
【０１５３】
すなわち、本第１実施形態において、第２部材５２は、基板Ｐが経路Ｔｐ２に沿って移動する期間の少なくとも一部において、基板Ｐとの相対移動が小さくなるように、−Ｘ方向に移動する。換言すれば、第２部材５２は、基板Ｐが−Ｘ方向の成分を含むステップ移動動作する期間の少なくとも一部に、Ｘ軸方向に関する基板Ｐとの相対速度が小さくなるように、−Ｘ方向に移動する。同様に、第２部材５２は、基板Ｐが経路Ｔｐ４に沿って移動する期間の少なくとも一部において、Ｘ軸方向に関する基板Ｐとの相対速度が小さくなるように、−Ｘ方向に移動する。
【０１５４】
また、本第１実施形態において、第２部材５２は、基板Ｐが経路Ｔｐ３に沿って移動する期間の少なくとも一部において、＋Ｘ方向に移動する。これにより、基板Ｐの経路Ｔｐ３の移動後、経路Ｔｐ４の移動において、第２部材５２が−Ｘ方向に移動しても露光光ＥＬが開口７０、７２を通過可能であり、第１部材５０と第２部材５２との接触が抑制される。基板Ｐが経路Ｔｐ１、Ｔｐ５を移動する場合も同様である。
【０１５５】
すなわち、基板Ｐがスキャン移動動作と−Ｘ方向の成分を含むステップ移動動作とを繰り返す場合、ステップ移動動作中に、基板Ｐとの相対速度が小さくなるように第２部材５２が位置Ｊｒから位置Ｊｓへ−Ｘ方向に移動し、スキャン移動動作中に、次のステップ移動動作において第２部材５２が再度−Ｘ方向に移動できるように、第２部材５２が位置Ｊｓから位置Ｊｒへ戻る。すなわち、基板Ｐがスキャン移動動作する期間の少なくとも一部において、第２部材５２が＋Ｘ方向に移動するので、開口７２の寸法が必要最小限に抑えられ、第１部材５０と第２部材５２との接触が抑制される。
【０１５６】
また、本第１実施形態においては、第２部材５２が位置Ｊｒ又は位置Ｊｓに配置されても、液体回収部６２の少なくとも一部は、基板Ｐ（物体）と対向し続ける。これにより、例えば、ステップ移動動作において、液体回収部６２は、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱを回収することができる。
【０１５７】
なお、図１１及び図１２を用いて説明した例においては、基板Ｐが位置ｄ１、ｄ３、ｄ５にあるときに、第２部材５２が位置Ｊｓに配置されることとしたが、基板Ｐが位置ｄ１、ｄ３、ｄ５にあるときに、第２部材５２が、位置Ｊｍに配置されてもよいし、位置Ｊｍと位置Ｊｓとの間の位置Ｊｓｍに配置されてもよい。また、図１１及び図１２を用いて説明した例においては、基板Ｐが位置ｄ２、ｄ４、ｄ６にあるときに、第２部材５２が位置Ｊｒに配置されることとしたが、基板Ｐが位置ｄ２、ｄ４、ｄ６にあるときに、第２部材５２が、位置Ｊｍに配置されてもよいし、位置Ｊｍと位置Ｊｒとの間の位置Ｊｒｍに配置されてもよい。
【０１５８】
また、基板Ｐが位置ｄ２．５、ｄ４．５にあるときに、第２部材５２が、位置Ｊｍとは異なる位置に配置されてもよい。すなわち、基板Ｐが位置ｄ２．５、ｄ４．５にあるときに、第２部材５２が、例えば位置Ｊｍと位置Ｊｓとの間の位置Ｊｓｍに配置されてもよいし、位置Ｊｍと位置Ｊｒとの間の位置Ｊｒｍに配置されてもよい。
【０１５９】
基板Ｐのスキャン移動期間の少なくとも一部において、第２部材５２は、停止してもよいし、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ方向）と同じ−Ｘ方向に移動してもよい。また、基板Ｐのステップ移動期間の少なくとも一部において、第２部材５２は、停止してもよいし、基板Ｐのステップ移動の方向（−Ｘ方向）とは逆の＋Ｘ方向に移動してもよい。すなわち、基板Ｐの移動期間（スキャン移動期間及びステップ移動期間）の一部において、第２部材５２は、基板Ｐ（物体）との相対速度が、第１部材５０と基板Ｐ（物体）との相対速度よりも小さくなるように移動し、基板Ｐの移動期間の一部において、停止したり、相対速度が大きくなるように移動したりしてもよい。
【０１６０】
本第１実施形態においては、第２部材５２は、例えば、基板Ｐ等の物体との相対移動（相対速度、相対加速度）が小さくなるように移動可能である。そのため、液浸空間ＬＳが形成されている状態で物体が高速度で移動しても、液体ＬＱが流出したり、基板Ｐ（物体）上に液体ＬＱが残留したり、液体ＬＱに気泡が発生したりすることが抑制される。
【０１６１】
ここで、第２部材５２が第１部材５０に対して＋Ｘ方向に移動する場合は、第２部材５２の−Ｘ方向側（移動方向とは反対方向側）の内側面７４が、−Ｘ方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱ、特に終端光学素子３６の下方にある液体ＬＱを＋Ｘ方向側に押圧するので、第２部材５２の−Ｘ方向側の液浸空間ＬＳの一部の液体ＬＱ（例えば、−Ｘ方向側の終端光学素子３６と第１部材５０との間にある液体ＬＱ）の圧力が上昇する。これに対して、第２部材５２の＋Ｘ方向側（移動方向側）の内側面７４は、＋Ｘ方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱ、特に終端光学素子３６の下方にある液体ＬＱを＋Ｘ方向側に引き込むので、第２部材５２の＋Ｘ方向側の液浸空間ＬＳの一部の液体ＬＱ（例えば、＋Ｘ方向側の終端光学素子３６と第１部材５０との間にある液体ＬＱ）の圧力が低下する。
【０１６２】
逆に、第２部材５２が第１部材５０に対して−Ｘ方向に移動する場合は、第２部材５２の＋Ｘ方向側（移動方向とは反対方向側）の内側面７４が、＋Ｘ方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱ、特に終端光学素子３６の下方にある液体ＬＱを−Ｘ方向側に押圧するので、第２部材５２の＋Ｘ方向側の液浸空間ＬＳの一部の液体ＬＱの圧力が上昇する。これに対して、第２部材５２の−Ｘ方向側（移動方向側）の内側面７４が、−Ｘ方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱ、特に終端光学素子３６の下方にある液体ＬＱを−Ｘ方向側に引き込むので、第２部材５２の−Ｘ方向側の液浸空間ＬＳの一部の液体ＬＱの圧力の圧力が低下する。
【０１６３】
つまり、第２部材５２が移動すると、第２部材５２の移動方向側と反対方向側とで液浸空間ＬＳの一部の液体ＬＱに圧力の差が生じる。第２部材５２の移動方向側と反対方向側とで液体ＬＱの圧力差が生じることで、終端光学素子３６が液体ＬＱから受ける圧力が不均一となり終端光学素子３６が変動する。この終端光学素子３６が変動すると、終端光学素子３６の光軸がＺ軸に対して傾き、射出面３４から射出される露光光ＥＬの光路Ｋは、Ｚ軸と非平行になる。
【０１６４】
そこで、本第１実施形態では、制御装置２２は、第２部材５２が第１部材５０に対してＸ軸方向に移動すると、抑制用液体回収部１００を用いて、第２部材５２の移動方向とは反対方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱの回収量を、第２部材５２の移動方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱの回収量より多くする。すなわち、抑制用液体回収部１００を用いて、第２部材５２の移動方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱの回収量を、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱの回収量より少なくする。この液体ＬＱの回収量は、単位時間当たりの回収量であってもよい。
【０１６５】
詳しくは、制御装置２２は、液体回収装置１００Ｃを制御することで、＋Ｘ方向側及び−Ｘ方向側に設けられた抑制用液体回収部１００のうち、第２部材５２の移動方向と反対方向側に設けられた抑制用液体回収部１００によって液体ＬＱを回収させる。この場合、第２部材５２の移動方向側に設けられた抑制用液体回収部１００による液体ＬＱの回収は行われない。
【０１６６】
これにより、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が低下し、第２部材５２の移動方向側と反対方向側とにおける液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力差が抑制される。また、第２部材５２の移動方向側と反対方向側とにおける終端光学素子３６と第１部材５０との間にある液体ＬＱの圧力差も抑制される。なお、この場合においても、液浸空間ＬＳを形成するために液体回収部５６及び液体回収部６２による液体ＬＱの回収は行われている。
【０１６７】
本第１実施形態では、制御装置２２は、第２部材５２が第１部材５０に対してＸ軸方向に移動すると、液体供給部７８を用いて、第２部材５２の移動方向側の液浸空間ＬＳへ供給する液体ＬＱの供給量を、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液浸空間ＬＳへ供給する液体ＬＱの供給量より多くする。すなわち、液体供給部７８を用いて、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液浸空間ＬＳへ供給する液体ＬＱの供給量を、第２部材５２の移動方向側の液浸空間ＬＳへ供給する液体ＬＱの供給量より少なくする。この液体ＬＱの供給量は、単位時間当たりの供給量であってもよい。
【０１６８】
詳しくは、制御装置２２は、液体供給装置７８Ｓを制御することで、＋Ｘ方向側及び−Ｘ方向側に設けられた液体供給部７８のうち、第２部材５２の移動方向側に設けられた液体供給部７８からの液体ＬＱの供給量を、第２部材５２の移動方向と反対方向側に設けられた液体供給部７８からの液体ＬＱの供給量より多くする。
【０１６９】
これにより、第２部材５２の移動方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力に対して増加し、第２部材５２の移動方向側と反対方向側とにおける液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力差が抑制される。また、第２部材５２の移動方向側と反対方向側とにおける終端光学素子３６と第１部材５０との間にある液体ＬＱの圧力差も抑制される。
【０１７０】
なお、この場合は、第２部材５２の反対方向側に設けられた液体供給部７８からの液体ＬＱの供給量は、液浸空間ＬＳを形成するための必要な供給量であり、第２部材５２の移動方向側に設けられた液体供給部７８からの液体ＬＱの供給量は、液浸空間を形成するために必要な供給量より多い供給量であってもよい。
【０１７１】
例えば、第２部材５２が＋Ｘ方向に移動する場合は（スキャン移動動作の場合は）、抑制用液体回収部１００（−Ｘ）によって液体ＬＱを回収させ、液体供給部７８（＋Ｘ）から供給される液体ＬＱの供給量を、液体供給部７８（−Ｘ）から供給される液体ＬＱの供給量より多くする。この場合は、抑制用液体回収部１００（＋Ｘ）は液体ＬＱを回収しない。また、第２部材５２が−Ｘ方向に移動する場合は（ステップ移動動作の場合は）、抑制用液体回収部１００（＋Ｘ）によって液体ＬＱを回収させ、液体供給部７８（−Ｘ）からの液体供給量を、液体供給部７８（＋Ｘ）からの液体供給量より多くする。この場合は、抑制用液体回収部１００（−Ｘ）は液体ＬＱを回収しない。
【０１７２】
この抑制用液体回収部１００による液体ＬＱの回収量は、第２部材５２の第１部材５０又は終端光学素子３６に対する相対速度、相対加速度に応じて変更してもよい。また、移動方向側の液体供給部７８による液体ＬＱの供給量と、移動方向とは反対方向側の液体供給部７８による液体ＬＱの供給量との差は、第２部材５２の第１部材５０又は終端光学素子３６に対する相対速度、相対加速度に応じて変更してもよい。
【０１７３】
以上説明したように、本第１実施形態によれば、第１部材５０に対して移動可能な第２部材５２を設けたので、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ等の物体がＸＹ平面内において移動しても、例えば液体ＬＱが液浸部材２０と物体との間の空間から流出したり、物体上に液体ＬＱが残留したりすることが抑制される。すなわち、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ等の物体がＸＹ平面内において高速で移動する場合、その物体と対向する部材（液浸部材２０等）が静止していると、液体ＬＱが流出したり、基板Ｐ（物体）上に液体ＬＱが残留したり、液体ＬＱに気泡が発生したりする可能性があるが、本第１実施形態においては、第２部材５２は、例えば基板Ｐ等の物体との相対移動（相対速度、相対加速度）が小さくなるように移動可能である。そのため、液浸空間ＬＳが形成されている状態で物体が高速度で移動しても、液体ＬＱが流出したり、基板Ｐ（物体）上に液体ＬＱが残留したり、液体ＬＱに気泡が発生したりすることが抑制される。
【０１７４】
本第１実施形態では、制御装置２２は、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱの回収量を、第２部材５２の移動方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱの回収量より多くするとともに、第２部材５２の移動方向側の液浸空間ＬＳへ供給する液体ＬＱの供給量を、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液浸空間ＬＳへ供給する液体ＬＱの供給量より多くする。そのため、第２部材５２の移動に起因して、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が変動した場合であっても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子３６が受ける圧力を略均一にすることができる。従って、第２部材５２が移動しても終端光学素子３６の光軸がＺ軸に対して傾くのを防止することができ、露光光ＥＬの光路ＫをＺ軸方向と平行にすることができる。そのため、露光不良の発生を抑制でき、不良デバイスの発生を抑制できる。
【０１７５】
［第２実施形態］
次に、第２実施形態について説明する。以下の説明において、第１実施形態と同一又は同等の構成乃至構造ついては同一の符号を付し、異なる部分だけを説明する。
【０１７６】
上記第１実施形態においては、液体供給部７８を圧力差抑制として用いたが、本第２実施形態においては、液体供給部７８とは別個に圧力差抑制用としての抑制用液体供給部１２０を設ける。本第２実施形態においては、液体供給部７８は、圧力抑制用に用いられない液体供給部７８であり、液浸空間ＬＳを形成するために用いられる。
【０１７７】
図１３は、第２実施形態の液浸部材２０のＸＺ平面と平行な断面図である。第２実施形態においては、液浸部材２０は、更に、液浸空間ＬＳへ液体ＬＱを供給する抑制用液体供給部１２０を有する。本第２実施形態においては、抑制用液体供給部１２０は、第１部材５０に配置される。なお、抑制用液体供給部１２０は、第２部材５２に配置されてもよく、第１部材５０及び第２部材５２の両方に配置されてもよい。また、抑制用液体供給部１２０は、第１部材５０及び第２部材５２とは異なる部材に配置されてもよい。
【０１７８】
抑制用液体供給部１２０は、光路Ｋに関して液体回収部５６及び液体回収部５６の内側に配置される。抑制用液体供給部１２０は、内側面６４（本第２実施形態では、傾斜面６４Ａ）に配置される供給口を含み、光路Ｋに関して液体供給部７８の内側に配置されてもよい。抑制用液体供給部１２０は、側面３６Ｆに対向するように配置される。抑制用液体供給部１２０は、側面３６Ｆと内側面６４との間の第３空間ＳＰ３に液体ＬＱを供給する。抑制用液体供給部１２０は、終端光学素子３６と第１部材５０との間に液体ＬＱを供給する。なお、抑制用液体供給部１２０を光路Ｋに関して開口７０付近に設けてもよい。また、抑制用液体供給部１２０を下面５４に設けてもよい。
【０１７９】
本第２実施形態において、抑制用液体供給部１２０は、光路Ｋ（終端光学素子３６の光軸）に対して＋Ｘ方向側及び−Ｘ方向側のそれぞれに配置される。なお、抑制用液体供給部１２０は、Ｘ軸方向に沿って配置される必要はなく、Ｘ軸方向及びＹ軸方向を含む光路Ｋ（終端光学素子３６の光軸）の周囲に複数配置されてもよい。
【０１８０】
ここで、−Ｘ方向側に配置された抑制用液体供給部１２０と＋Ｘ方向側に配置された抑制用液体供給部１２０とを区別するために、−Ｘ方向側に配置された抑制用液体供給部１２０を１２０（−Ｘ）で表し、＋Ｘ方向側に配置された抑制用液体供給部１２０を１２０（＋Ｘ）で表す場合がある。
【０１８１】
抑制用液体供給部（供給口）１２０（＋Ｘ）は、光路Ｋに対して第１部材５０の＋Ｘ方向側の内部に形成された供給流路１２０Ｒを介して、抑制用液体供給部１２０（＋Ｘ）に液体ＬＱを供給する液体供給装置１２０Ｓと接続される。抑制用液体供給部（供給口）１２０（−Ｘ）は、光路Ｋに対して第１部材５０の−Ｘ方向側の内部に形成された供給流路１２０Ｒを介して、抑制用液体供給部１２０（−Ｘ）に液体ＬＱを供給する液体供給装置１２０Ｓと接続される。液体供給装置１２０Ｓは、クリーンで温度調整された液体ＬＱを抑制用液体供給部１２０に供給可能である。抑制用液体供給部１２０は、液体供給装置１２０Ｓからの液体ＬＱを供給する。この液体供給装置１２０Ｓは、制御装置２２の制御に従って液体ＬＱを供給する。
【０１８２】
ここで、抑制用液体供給部１２０（−Ｘ）に接続される供給流路１２０Ｒ及び液体供給装置１２０Ｓを、１２０Ｒ（−Ｘ）、１２０Ｓ（−Ｘ）で、抑制用液体供給部１２０（＋Ｘ）に接続される供給流路１２０Ｒ及び液体供給装置１２０Ｓを、１２０Ｒ（＋Ｘ）及び１２０Ｓ（＋Ｘ）で表す場合ある。本第２実施形態においては、液体供給装置１２０Ｓ（−Ｘ）と液体供給装置１２０Ｓ（＋Ｘ）とは、それぞれ別の装置であり、供給流路１２０Ｒ（−Ｘ）と供給流路１２０Ｒ（＋Ｘ）とは、互いに連通していない。これにより、−Ｘ方向側と＋Ｘ方向側とで抑制用液体供給部１２０の液体供給量を異ならせることが可能となる。
【０１８３】
なお、本第２実施形態においては、１つの液体供給装置７８Ｓを、液体供給装置７８Ｓ（−Ｘ）及び液体供給装置７８Ｓ（＋Ｘ）として機能させてもよい。また、供給流路７８（−Ｘ）と供給流路７８（＋Ｘ）とを連通させてもよい。
【０１８４】
抑制用液体供給部１２０からの液体ＬＱの少なくとも一部は、開口８０を介して、下面５４と上面５８との間の第１空間ＳＰ１に供給される。液浸空間ＬＳを形成するために抑制用液体供給部１２０から供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口７０及び開口７２を介して、射出面３４と対向する基板Ｐ（物体）上に供給され、下面６０と基板Ｐ（物体）の上面との間の第２空間ＳＰ２に供給される。
【０１８５】
本第２実施形態においては、制御装置２２は、液体供給部７８（−Ｘ）及び液体供給部７８（＋Ｘ）から供給される液体ＬＱの供給量を同じにし、抑制用液体供給部１２０を用いて、第２部材５２の移動方向側の液浸空間ＬＳへ供給する液体ＬＱの供給量を、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液浸空間ＬＳへ供給する液体ＬＱの供給量より多くする。すなわち、抑制用液体供給部１２０を用いて、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液浸空間ＬＳへ供給する液体ＬＱの供給量を、第２部材５２の移動方向側の液浸空間ＬＳへ供給する液体ＬＱの供給量より少なくする。
【０１８６】
詳しくは、本第２実施形態においては、制御装置２２は、第２部材５２が第１部材５０に対してＸ軸方向に移動すると、液体供給装置１２０Ｓを制御することで、Ｘ方向側及び−Ｘ方向側に設けられた抑制用液体供給部１２０のうち、第２部材５２の移動方向側に設けられた抑制用液体供給部１２０から液体ＬＱを供給させる。この場合、第２部材５２の移動方向と反対方向側に設けられた抑制用液体供給部１２０からの液体ＬＱの供給は行われない。
【０１８７】
これにより、第２部材５２の移動方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が増加し、第２部材５２の移動方向側と反対方向側とにおける液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力差が抑制される。また、第２部材５２の移動方向側と反対方向側とにおける終端光学素子３６と第１部材５０との間にある液体ＬＱの圧力差も抑制される。
【０１８８】
例えば、第２部材５２が＋Ｘ方向に移動する場合は（スキャン移動動作の場合は）、抑制用液体回収部１００（−Ｘ）によって液体ＬＱを回収させ、抑制用液体供給部１２０（＋Ｘ）から液体ＬＱを供給させる。この場合は、抑制用液体回収部１００（＋Ｘ）は液体ＬＱを回収せず、抑制用液体供給部１２０（−Ｘ）は液体ＬＱを供給しない。また、第２部材５２が−Ｘ方向に移動する場合は（ステップ移動動作の場合は）、抑制用液体回収部１００（＋Ｘ）によって液体ＬＱを回収させ、抑制用液体供給部１２０（−Ｘ）から液体ＬＱを供給させる。この場合は、抑制用液体回収部１００（−Ｘ）は液体ＬＱを回収せず、抑制用液体供給部１２０（＋Ｘ）は液体ＬＱを供給しない。
【０１８９】
この抑制用液体回収部１００による液体回収量及び抑制用液体供給部１２０による液体供給量は、第２部材５２の第１部材５０又は終端光学素子３６に対する相対速度、相対加速度に応じて変更してもよい。
【０１９０】
本第２実施形態においても、第２部材５２の移動に起因して、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が変動した場合であっても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子３６が受ける圧力を略均一にすることができる。従って、第２部材５２が移動しても終端光学素子３６の光軸がＺ軸に対して傾くのを防止することができ、露光光ＥＬの光路ＫをＺ軸方向と平行にすることができる。そのため、露光不良の発生を抑制でき、不良デバイスの発生を抑制できる。
【０１９１】
［第３実施形態］
次に、第３実施形態について説明する。以下の説明において、上記第１実施形態と同一又は同等の構成乃至構造ついては同一の符号を付し、異なる部分だけを説明する。
【０１９２】
上記第１実施形態においては、液体回収部６２及び液体回収部６２とは別個に、圧力差抑制用としての抑制用液体回収部１００を設けるようにしたが、本第３実施形態においては、液体回収部５６、又は、液体回収部６２、又は、液体回収部５６及び液体回収部６２の両方を、圧力差抑制用として用いてもよい。第３実施形態においては、抑制用液体回収部１００は不要であり、液体回収部５６及び液体回収部６２の両方を、圧力差抑制用としても用いる場合について説明する。本第３実施形態においては、液体回収部５６及び液体回収部６２は、液浸空間ＬＳの形成にも用いられる。
【０１９３】
図１４は、本第３実施形態の液浸部材２０の分解斜視図である。図１５は、本第３実施形態の液浸部材２０のＸＺ平面と平行な断面図である。本第３実施形態においては、液体回収部５６は、下面５４の周囲に、光路Ｋ（終端光学素子３６の光軸）に対して＋Ｘ方向側及び−Ｘ方向側のそれぞれに配置される。液体回収部６２も同様に、下面６０の周囲に、光路Ｋ（終端光学素子３６の光軸）に対して＋Ｘ方向側及び−Ｘ方向側のそれぞれに配置される。
【０１９４】
本第３実施形態においては、液体回収部５６は、環状ではなく、略半円状に＋Ｘ方向側及び−Ｘ方向側のそれぞれに配置される。また、本第３実施形態においては、液体回収部６２は、環状ではなく、略半円状に＋Ｘ方向側及び−Ｘ方向側のそれぞれに配置される。なお、液体回収部５６は、Ｘ軸方向に沿って配置される必要はなく、Ｘ軸方向及びＹ軸方向を含む光路Ｋ（終端光学素子３６の光軸）の周囲に複数配置されてもよい。また、液体回収部６２は、Ｘ軸方向に沿って配置される必要はなく、Ｘ軸方向及びＹ軸方向を含む光路Ｋ（終端光学素子３６の光軸）の周囲に複数配置されてもよい。
【０１９５】
ここで、−Ｘ方向側に配置された液体回収部５６と＋Ｘ方向側に配置された液体回収部５６とを区別するために、−Ｘ方向側に配置された液体回収部５６を５６（−Ｘ）で表し、＋Ｘ方向側に配置された液体回収部５６を５６（＋Ｘ）で表す場合がある。同様に、−Ｘ方向側に配置された液体回収部６２と＋Ｘ方向側に配置された液体回収部６２とを区別するために、−Ｘ方向側に配置された液体回収部６２を６２（−Ｘ）で表し、＋Ｘ方向側に配置された液体回収部６２を６２（＋Ｘ）で表す場合がある。
【０１９６】
本第３実施形態においては、液体回収部５６（＋Ｘ）は、光路Ｋに対して第１部材５０の＋Ｘ方向側の内部に形成された回収流路５６Ｒを介して、液体回収部５６（＋Ｘ）からの液体ＬＱを回収する液体回収装置５６Ｃと接続される。液体回収部５６（−Ｘ）は、光路Ｋに対して第１部材５０の−Ｘ方向側の内部に形成された回収流路５６Ｒを介して、液体回収部５６（−Ｘ）からの液体ＬＱを回収する液体回収装置５６Ｃと接続される。
【０１９７】
本第３実施形態においては、液体回収部６２（＋Ｘ）は、光路Ｋに対して第２部材５２の＋Ｘ方向側の内部に形成された回収流路６２Ｒを介して、液体回収部６２（＋Ｘ）からの液体ＬＱを回収する液体回収装置６２Ｃと接続される。液体回収部６２（−Ｘ）は、光路Ｋに対して第２部材５２の−Ｘ方向側の内部に形成された回収流路６２Ｒを介して、液体回収部６２（−Ｘ）からの液体ＬＱを回収する液体回収装置５６Ｃと接続される。
【０１９８】
ここで、液体回収部５６（−Ｘ）に接続される回収流路５６Ｒ及び液体回収装置５６Ｃを、５６Ｒ（−Ｘ）、５６Ｃ（−Ｘ）で、液体回収部５６（＋Ｘ）に接続される回収流路５６Ｒ及び液体回収装置５６Ｃを、５６Ｒ（＋Ｘ）、５６Ｃ（＋Ｘ）で表す場合がある。本第３実施形態においては、液体回収装置５６Ｃ（−Ｘ）と液体回収装置５６Ｃ（＋Ｘ）とは、それぞれ別の装置であり、回収流路５６Ｒ（−Ｘ）と回収流路５６Ｒ（＋Ｘ）とは、互いに連通していない。これにより、−Ｘ方向側と＋Ｘ方向側とで液体回収部５６の液体回収量を異ならせることができる。液体回収装置５６Ｃは、制御装置２２の制御に従って液体ＬＱを回収する。
【０１９９】
また、液体回収部６２（−Ｘ）に接続される回収流路６２Ｒ及び液体回収装置６２Ｃを、６２Ｒ（−Ｘ）、６２Ｃ（−Ｘ）で、液体回収部６２（＋Ｘ）に接続される回収流路６２Ｒ及び液体回収装置６２Ｃを、６２Ｒ（＋Ｘ）、６２Ｃ（＋Ｘ）で表す場合がある。本第３実施形態においては、液体回収装置６２Ｃ（−Ｘ）と液体回収装置６２Ｃ（＋Ｘ）とは、それぞれ別の装置であり、回収流路６２Ｒ（−Ｘ）と回収流路６２Ｒ（＋Ｘ）とは、互いに連通していない。これにより、−Ｘ方向側と＋Ｘ方向側とで液体回収部６２の液体回収量を異ならせることができる。液体回収装置６２Ｃは、制御装置２２の制御に従って液体ＬＱを回収する。
【０２００】
本第３実施形態においては、制御装置２２は、液体回収部５６及び液体回収部６２を用いて、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱの回収量を、第２部材５２の移動方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱの回収量より多くする。すなわち、液体回収部５６及び液体回収部６２を用いて、第２部材５２の移動方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱの回収量を、第２部材５２の移動方向と反対方向側側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱの回収量より少なくする。
【０２０１】
詳しくは、制御装置２２は、第２部材５２が第１部材５０に対してＸ軸方向に移動すると、液体回収装置５６Ｃ及び液体回収装置６２Ｃを制御することで、＋Ｘ方向側及び−Ｘ方向側に設けられた液体回収部５６及び液体回収部６２のうち、第２部材５２の移動方向と反対方向側に設けられた液体回収部５６及び液体回収部６２による液体ＬＱの回収量を、第２部材５２の移動方向側に設けられた液体回収部５６及び液体回収部６２による液体ＬＱの回収量より多くする。
【０２０２】
これにより、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が、第２部材５２の移動方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力に対して低下し、第２部材５２の移動方向側と反対方向側とにおける液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力差が抑制される。また、第２部材５２の移動方向側と反対方向側とにおける終端光学素子３６と第１部材５０との間にある液体ＬＱの圧力差も抑制される。
【０２０３】
なお、この場合は、第２部材５２の移動方向側に設けられた液体回収部５６及び液体回収部６２による液体ＬＱの回収量は、液浸空間ＬＳを形成するために必要な液体回収量であり、第２部材５２の移動方向と反対方向側に設けられた液体回収部５６及び液体回収部６２による液体ＬＱの回収量は、液浸空間ＬＳを形成するために必要な液体回収量より多い回収量であってもよい。
【０２０４】
例えば、第２部材５２が＋Ｘ方向に移動する場合は（スキャン移動動作の場合は）、液体回収部５６（−Ｘ）及び液体回収部５６（−Ｘ）によって回収される液体ＬＱの回収量を、液体回収部５６（＋Ｘ）及び液体回収部５６（＋Ｘ）によって回収される液体ＬＱの回収量より多くし、液体供給部７８（＋Ｘ）から供給される液体ＬＱの供給量を、液体供給部７８（−Ｘ）から供給される液体ＬＱの供給量より多くする。また、第２部材５２が−Ｘ方向に移動する場合は（ステップ移動動作の場合は）、液体回収部５６（＋Ｘ）及び液体回収部５６（＋Ｘ）によって回収される液体ＬＱの回収量を、液体回収部５６（−Ｘ）及び液体回収部５６（−Ｘ）によって回収される液体ＬＱの回収量より多くし、液体供給部７８（−Ｘ）から供給される液体ＬＱの供給量を、液体供給部７８（＋Ｘ）から供給される液体ＬＱの供給量より多くする。
【０２０５】
この移動方向と反対方向側の液体回収部５６及び液体回収部６２による液体ＬＱの回収量と、移動方向側の液体回収部５６及び液体回収部６２による液体ＬＱの回収量との差は、第２部材５２の第１部材５０又は終端光学素子３６に対する相対速度、相対加速度に応じて変更してもよい。
【０２０６】
本第３実施形態においても、第２部材５２の移動に起因して、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が変動した場合であっても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子３６が受ける圧力を略均一にすることができる。従って、第２部材５２が移動しても終端光学素子３６の光軸がＺ軸に対して傾くのを防止することができ、露光光ＥＬの光路ＫをＺ軸方向と平行にすることができる。そのため、露光不良の発生を抑制でき、不良デバイスの発生を抑制できる。
【０２０７】
［第４実施形態］
次に、第４実施形態について説明する。以下の説明において、上記各実施形態と同一又は同等の構成乃至構造ついては同一の符号を付し、異なる部分だけを説明する。
【０２０８】
上記第１実施形態においては、液体供給部７８を圧力差抑制として用いたが、本第４実施形態においては、上記第２実施形態のように、液体供給部７８とは別個に圧力差抑制用としての抑制用液体供給部１２０を設ける。また、上記第１実施形態においては、圧力差抑制用としての抑制用液体回収部１００を設けるようにしたが、本第４実施形態においては、上記第３実施形態のように、液体回収部５６、又は、液体回収部６２、又は、液体回収部５６及び液体回収部６２の両方を、圧力差抑制用として用いてもよい。本第４実施形態においては、抑制用液体回収部１００は不要であり、液体回収部５６及び液体回収部６２の両方を、圧力差抑制用としても用いる場合について説明する。
【０２０９】
本第４実施形態においては、液体供給部７８は、圧力抑制用に用いられない液体供給部７８であり、液浸空間ＬＳを形成するために用いられる。また、本第４実施形態においては、液体回収部５６及び液体回収部６２は、液浸空間ＬＳの形成にも用いられる。
【０２１０】
図１４は、本第４実施形態の液浸部材２０の分解斜視図である。図１６は、本第４実施形態の液浸部材２０のＸＺ平面と平行な断面図である。本第４実施形態においては、上記第２実施形態と同様に、液浸部材２０は、液浸空間ＬＳへ液体ＬＱを供給する抑制用液体供給部１２０を有する。抑制用液体供給部１２０は、光路Ｋ（終端光学素子３６の光軸）に対して＋Ｘ方向側及び−Ｘ方向側のそれぞれに配置される。
【０２１１】
本第４実施形態においても、−Ｘ方向側に配置された抑制用液体供給部１２０と＋Ｘ方向側に配置された抑制用液体供給部１２０とを区別するために、−Ｘ方向側に配置された抑制用液体供給部１２０を１２０（−Ｘ）で表し、＋Ｘ方向側に配置された抑制用液体供給部１２０を１２０（＋Ｘ）で表す場合がある。
【０２１２】
本第４実施形態においても、上記第２実施形態と同様に、抑制用液体供給部（供給口）１２０（＋Ｘ）は、光路Ｋに対して第１部材５０の＋Ｘ方向側の内部に形成された供給流路１２０Ｒを介して、抑制用液体供給部１２０（＋Ｘ）に液体ＬＱを供給する液体供給装置１２０Ｓと接続される。抑制用液体供給部（供給口）１２０（−Ｘ）は、光路Ｋに対して第１部材５０の−Ｘ方向側の内部に形成された供給流路１２０Ｒを介して、抑制用液体供給部１２０（−Ｘ）に液体ＬＱを供給する液体供給装置１２０Ｓと接続される。液体供給装置１２０Ｓは、制御装置２２の制御に従って液体ＬＱを供給する。
【０２１３】
本第４実施形態においても、抑制用液体供給部１２０（−Ｘ）に接続される供給流路１２０Ｒ及び液体供給装置１２０Ｓを、１２０Ｒ（−Ｘ）、１２０Ｓ（−Ｘ）で、抑制用液体供給部１２０（＋Ｘ）に接続される供給流路１２０Ｒ及び液体供給装置１２０Ｓを、１２０Ｒ（＋Ｘ）及び１２０Ｓ（＋Ｘ）で表す場合ある。本第４実施形態においても、液体供給装置１２０Ｓ（−Ｘ）と液体供給装置１２０Ｓ（＋Ｘ）とは、それぞれ別の装置であり、供給流路１２０Ｒ（−Ｘ）と供給流路１２０Ｒ（＋Ｘ）とは、互いに連通していない。これにより、−Ｘ方向側と＋Ｘ方向側とで抑制用液体供給部１２０の液体供給量を異ならせることが可能となる。
【０２１４】
なお、本第４実施形態においても、１つの液体供給装置７８Ｓを、液体供給装置７８Ｓ（−Ｘ）及び液体供給装置７８Ｓ（＋Ｘ）として機能させてもよい。また、供給流路７８（−Ｘ）と供給流路７８（＋Ｘ）とを連通させてもよい。
【０２１５】
本第４実施形態の抑制用液体供給部１２０、供給流路１２０Ｒ、及び液体供給装置１２０Ｓの構成は、上記第２実施形態と同様なので、詳しい構成については説明を省略する。
【０２１６】
本第４実施形態においても、上記第３実施形態と同様に、液体回収部５６は、下面５４の周囲に、光路Ｋ（終端光学素子３６の光軸）に対して＋Ｘ方向側及び−Ｘ方向側のそれぞれに配置される。液体回収部６２も同様に、下面６０の周囲に、光路Ｋ（終端光学素子３６の光軸）に対して＋Ｘ方向側及び−Ｘ方向側のそれぞれに配置される。
【０２１７】
本第４実施形態においても、−Ｘ方向側に配置された液体回収部５６と＋Ｘ方向側に配置された液体回収部５６とを区別するために、−Ｘ方向側に配置された液体回収部５６を５６（−Ｘ）で表し、＋Ｘ方向側に配置された液体回収部５６を５６（＋Ｘ）で表す場合がある。同様に、−Ｘ方向側に配置された液体回収部６２と＋Ｘ方向側に配置された液体回収部６２とを区別するために、−Ｘ方向側に配置された液体回収部６２を６２（−Ｘ）で表し、＋Ｘ方向側に配置された液体回収部６２を６２（＋Ｘ）で表す場合がある。
【０２１８】
本第４実施形態においても、上記第３実施形態と同様に、液体回収部５６（＋Ｘ）は、光路Ｋに対して第１部材５０の＋Ｘ方向側の内部に形成された回収流路５６Ｒを介して、液体回収部５６（＋Ｘ）からの液体ＬＱを回収する液体回収装置５６Ｃと接続される。液体回収部５６（−Ｘ）は、光路Ｋに対して第１部材５０の−Ｘ方向側の内部に形成された回収流路５６Ｒを介して、液体回収部５６（−Ｘ）からの液体ＬＱを回収する液体回収装置５６Ｃと接続される。液体回収装置５６Ｃは、制御装置２２の制御に従って液体ＬＱ等を回収する。
【０２１９】
本第４実施形態においても、上記第３実施形態と同様に、液体回収部６２（＋Ｘ）は、光路Ｋに対して第２部材５２の＋Ｘ方向側の内部に形成された回収流路６２Ｒを介して、液体回収部６２（＋Ｘ）からの液体ＬＱを回収する液体回収装置６２Ｃと接続される。液体回収部６２（−Ｘ）は、光路Ｋに対して第２部材５２の−Ｘ方向側の内部に形成された回収流路６２Ｒを介して、液体回収部６２（−Ｘ）からの液体ＬＱを回収する液体回収装置５６Ｃと接続される。液体回収装置６２Ｃは、制御装置２２の制御に従って液体ＬＱ等を回収する。
【０２２０】
本第４実施形態においても、液体回収部５６（−Ｘ）に接続される回収流路５６Ｒ及び液体回収装置５６Ｃを、５６Ｒ（−Ｘ）、５６Ｃ（−Ｘ）で、液体回収部５６（＋Ｘ）に接続される回収流路５６Ｒ及び液体回収装置５６Ｃを、５６Ｒ（＋Ｘ）、５６Ｃ（＋Ｘ）で表す場合がある。本第４実施形態においても、液体回収装置５６Ｃ（−Ｘ）と液体回収装置５６Ｃ（＋Ｘ）とは、それぞれ別の装置であり、回収流路５６Ｒ（−Ｘ）と回収流路５６Ｒ（＋Ｘ）とは、互いに連通していない。これにより、−Ｘ方向側と＋Ｘ方向側とで液体回収部５６の液体回収量を異ならせることができる。
【０２２１】
本第４実施形態においても、液体回収部６２（−Ｘ）に接続される回収流路６２Ｒ及び液体回収装置６２Ｃを、６２Ｒ（−Ｘ）、６２Ｃ（−Ｘ）で、液体回収部６２（＋Ｘ）に接続される回収流路６２Ｒ及び液体回収装置６２Ｃを、６２Ｒ（＋Ｘ）、６２Ｃ（＋Ｘ）で表す場合がある。本第４実施形態においても、液体回収装置６２Ｃ（−Ｘ）と液体回収装置６２Ｃ（＋Ｘ）とは、それぞれ別の装置であり、回収流路６２Ｒ（−Ｘ）と回収流路６２Ｒ（＋Ｘ）とは、互いに連通していない。これにより、−Ｘ方向側と＋Ｘ方向側とで液体回収部６２の液体回収量を異ならせることができる。
【０２２２】
本第４実施形態の液体回収部５６、回収流路５６Ｒ、及び液体回収装置５６Ｃの構成は、上記第３実施形態と同様なので、詳しい構成については説明を省略する。また、本第４実施形態の液体回収部６２、回収流路６２Ｒ、及び液体回収装置６２Ｃの構成は、上記第３実施形態と同様なので、詳しい構成については説明を省略する。
【０２２３】
本第４実施形態においても、上記第２実施形態と同様に、制御装置２２は、液体供給部７８（−Ｘ）及び液体供給部７８（＋Ｘ）から供給される液体ＬＱの供給量を同じにし、抑制用液体供給部１２０を用いて、第２部材５２の移動方向側の液浸空間ＬＳへ供給する液体ＬＱの供給量を、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液浸空間ＬＳへ供給する液体ＬＱの供給量より多くする。すなわち、抑制用液体供給部１２０を用いて、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液浸空間ＬＳへ供給する液体ＬＱの供給量を、第２部材５２の移動方向側の液浸空間ＬＳへ供給する液体ＬＱの供給量より少なくする。
【０２２４】
詳しくは、本第４実施形態においては、制御装置２２は、第２部材５２が第１部材５０に対してＸ軸方向に移動すると、液体供給装置１２０Ｓを制御することで、Ｘ方向側及び−Ｘ方向側に設けられた抑制用液体供給部１２０のうち、第２部材５２の移動方向側に設けられた抑制用液体供給部１２０から液体ＬＱを供給させる。この場合、第２部材５２の移動方向と反対方向側に設けられた抑制用液体供給部１２０からの液体ＬＱの供給は行われない。
【０２２５】
これにより、第２部材５２の移動方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が増加し、第２部材５２の移動方向側と反対方向側とにおける液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力差が抑制される。また、第２部材５２の移動方向側と反対方向側とにおける終端光学素子３６と第１部材５０との間にある液体ＬＱの圧力差も抑制される。
【０２２６】
本第４実施形態においても、上記第３実施形態と同様に、制御装置２２は、液体回収部５６及び液体回収部６２を用いて、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱの回収量を、第２部材５２の移動方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱの回収量より多くする。すなわち、液体回収部５６及び液体回収部６２を用いて、第２部材５２の移動方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱの回収量を、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱの回収量より少なくする。
【０２２７】
詳しくは、制御装置２２は、第２部材５２が第１部材５０に対してＸ軸方向に移動すると、液体回収装置５６Ｃ及び液体回収装置６２Ｃを制御することで、＋Ｘ方向側及び−Ｘ方向側に設けられた液体回収部５６及び液体回収部６２のうち、第２部材５２の移動方向と反対方向側に設けられた液体回収部５６及び液体回収部６２による液体ＬＱの回収量を、第２部材５２の移動方向側に設けられた液体回収部５６及び液体回収部６２による液体ＬＱの回収量より多くする。
【０２２８】
これにより、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が、第２部材５２の移動方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力に対して低下し、第２部材５２の移動方向側と反対方向側とにおける液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力差が抑制される。また、第２部材５２の移動方向側と反対方向側とにおける終端光学素子３６と第１部材５０との間にある液体ＬＱの圧力差も抑制される。
【０２２９】
なお、この場合は、第２部材５２の移動方向側に設けられた液体回収部５６及び液体回収部６２による液体ＬＱの回収量は、液浸空間ＬＳを形成するために必要な液体回収量であり、第２部材５２の移動方向と反対方向側に設けられた液体回収部５６及び液体回収部６２による液体ＬＱの回収量は、液浸空間ＬＳを形成するために必要な液体回収量より多い回収量であってもよい。
【０２３０】
例えば、第２部材５２が＋Ｘ方向に移動する場合は（スキャン移動動作の場合は）、液体回収部５６（−Ｘ）及び液体回収部５６（−Ｘ）によって回収される液体ＬＱの回収量を、液体回収部５６（＋Ｘ）及び液体回収部５６（＋Ｘ）によって回収される液体ＬＱの回収量より多くし、抑制用液体供給部１２０（＋Ｘ）から液体ＬＱを供給させる。この場合は、抑制用液体供給部１２０（−Ｘ）は液体ＬＱを供給しない。また、第２部材５２が−Ｘ方向に移動する場合は（ステップ移動動作の場合は）、液体回収部５６（＋Ｘ）及び液体回収部５６（＋Ｘ）によって回収される液体ＬＱの回収量を、液体回収部５６（−Ｘ）及び液体回収部５６（−Ｘ）によって回収される液体ＬＱの回収量より多くし、抑制用液体供給部１２０（−Ｘ）から液体ＬＱを供給させる。この場合は、抑制用液体供給部１２０（＋Ｘ）は液体ＬＱを供給しない。
【０２３１】
この移動方向と反対方向側の液体回収部５６及び液体回収部６２による液体ＬＱの回収量と、移動方向側の液体回収部５６及び液体回収部６２による液体ＬＱの回収量との差は、第２部材５２の第１部材５０又は終端光学素子３６に対する相対速度、相対加速度に応じて変更してもよい。また、抑制用液体供給部１２０による液体供給量は、第２部材５２の第１部材５０又は終端光学素子３６に対する相対速度、相対加速度に応じて変更してもよい。
【０２３２】
本第４実施形態においても、第２部材５２の移動に起因して、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が変動した場合であっても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子３６が受ける圧力を略均一にすることができる。従って、第２部材５２が移動しても終端光学素子３６の光軸がＺ軸に対して傾くのを防止することができ、露光光ＥＬの光路ＫをＺ軸方向と平行にすることができる。そのため、露光不良の発生を抑制でき、不良デバイスの発生を抑制できる。
【０２３３】
［第１〜第４実施形態の変形例］
上記第１〜第４実施形態は、以下のように変形可能である。なお、以下の説明において、上記第１〜第４実施形態と同一又は同等の構成乃至構造ついては同一の符号を付し、異なる部分だけを説明する。
【０２３４】
［変形例１］
上記第１〜第４実施形態においては、第２部材５２が第１部材５０に対して移動した場合は、第２部材５２の移動方向側と、第２部材５２の移動方向と反対方向側とで、液体ＬＱの回収量及び供給量の両方を変えるようにしたが、本変形例１では、液体回収量及び液体供給量のうちどちらか一方を変える。
【０２３５】
第２部材５２が第１部材５０に対してＸ軸方向に移動した場合に、液体ＬＱの供給量のみを変える場合は、制御装置２２は、第２部材５２の移動方向側の液浸空間ＬＳへ供給する液体ＬＱの供給量を、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液浸空間ＬＳへ供給する液体ＬＱの供給量より多くする。すなわち、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液浸空間ＬＳへ供給する液体ＬＱの供給量を、第２部材５２の移動方向側の液浸空間ＬＳへ供給する液体ＬＱの供給量より少なくする。
【０２３６】
詳しくは、上記第１及び３実施形態においては、制御装置２２は、液体供給装置７８Ｓを制御することで、第２部材５２の移動方向側に設けられた液体供給部７８からの液体ＬＱの供給量を、第２部材５２の移動方向と反対方向側に設けられた液体供給部７８からの液体ＬＱの供給量より多くする。この場合は、第１実施形態においては、抑制用液体回収部１００は不要である。また、第３実施形態においては、第２部材５２の移動方向側の液体回収部５６及び液体回収部６２により回収される液体ＬＱの回収量と、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液体回収部５６及び液体回収部６２により回収される液体ＬＱの回収量とは略同一である。
【０２３７】
また、上記第２及び第４実施形態においては、制御装置２２は、液体供給装置１２０Ｓを制御することで、第２部材５２の移動方向側に設けられた抑制用液体供給部１２０から液体ＬＱを供給させ、第２部材５２の移動方向と反対方向側の抑制用液体供給部１２０から液体ＬＱを供給させない。この場合は、第２実施形態においては、抑制用液体回収部１００は不要である。また、第４実施形態においては、第２部材５２の移動方向側の液体回収部５６及び液体回収部６２により回収される液体ＬＱの回収量と、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液体回収部５６及び液体回収部６２により回収される液体ＬＱの回収量とは略同一である。
【０２３８】
また、第２部材５２が第１部材５０に対して移動した場合に、液体ＬＱの回収量のみを変える場合は、制御装置２２は、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液浸空間ＬＳから回収する液体ＬＱの回収量を、第２部材５２の移動方向側の液浸空間ＬＳから回収する液体ＬＱの回収量より多くする。すなわち、第２部材５２の移動方向側の液浸空間ＬＳから回収する液体ＬＱの回収量を、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液浸空間ＬＳから回収する液体ＬＱの回収量より少なくする。
【０２３９】
詳しくは、上記第１及び第２実施形態においては、制御装置２２は、液体回収装置１００Ｃを制御することで、第２部材５２の移動方向と反対方向側の抑制用液体回収部１００に液体ＬＱを回収させ、第２部材５２の移動方向側の抑制用液体回収部１００に液体ＬＱを回収させない。この場合は、第１実施形態においては、第２部材５２の移動方向側の液体供給部７８から供給される液体ＬＱの供給量と、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液体供給部７８から供給される液体ＬＱの供給量とは略同一である。また、第２実施形態においては、抑制用液体供給部１２０は不要である。
【０２４０】
また、上記第３及び第４実施形態においては、制御装置２２は、液体回収装置５６Ｃ及び液体回収装置５６Ｃを制御することで、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液体回収部５６及び液体回収部６２による液体ＬＱの回収量を、第２部材５２の移動方向側の液体回収部５６及び液体回収部６２による液体ＬＱの回収量より多くする。この場合は、第３実施形態においては、第２部材５２の移動方向側の液体供給部７８から供給される液体ＬＱの供給量と、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液体供給部７８から供給される液体ＬＱの供給量とは略同一である。また、第４実施形態においては、抑制用液体供給部１２０は不要である。
【０２４１】
本変形例１においても、第２部材５２の移動に起因して、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が変動した場合であっても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子３６が受ける圧力を略均一にすることができる。従って、第２部材５２が移動しても終端光学素子３６の光軸がＺ軸に対して傾くのを防止することができ、露光光ＥＬの光路ＫをＺ軸方向と平行にすることができる。そのため、露光不良の発生を抑制でき、不良デバイスの発生を抑制できる。
【０２４２】
［変形例２］
上記第１〜第４実施形態においては、第２部材５２が、−Ｘ方向と＋Ｘ方向とのどちらの方向に移動した場合であっても、第２部材５２の移動方向側と反対方向側とにおける液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力差を抑制するようにしたが、−Ｘ方向及び＋Ｘ方向のどちらか一方に移動した場合のみ、圧力差を抑制するようにしてもよい。
【０２４３】
例えば、第２部材５２が−Ｘ方向側に移動するステップ移動動作時のみ、第２部材５２の移動方向側と反対方向側とにおける液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力差を抑制してもよく、第２部材５２が＋Ｘ方向側に移動するスキャン移動動作時のみ、第２部材５２の移動方向側と反対方向側とにおける液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力差を抑制してもよい。
【０２４４】
例えば、第１及び第２実施形態において、圧力差を抑制したい移動方向が＋Ｘ方向の場合は、圧力差を抑制したい移動方向と反対方向である−Ｘ方向側に抑制用液体回収部１００を設け、圧力差を抑制したい移動方向である＋Ｘ方向側には抑制用液体回収部１００を設けなくてもよい。この場合は、第２部材５２が＋Ｘ方向に移動した場合のみ、−Ｘ方向側に設けられた抑制用液体回収部１００が液体ＬＱを回収する。
【０２４５】
第１及び第２実施形態において、圧力差を抑制した移動方向が−Ｘ方向の場合は、圧力差を抑制したい移動方向と反対方向である＋Ｘ方向側に抑制用液体回収部１００を設け、圧力差を抑制したい移動方向である−Ｘ方向側には抑制用液体回収部１００を設けなくてもよい。この場合は、第２部材５２が−Ｘ方向に移動した場合のみ、＋Ｘ方向側に設けられた抑制用液体回収部１００が液体ＬＱを回収する。
【０２４６】
第１及び第３実施形態において、圧力差を抑制したい移動方向が＋Ｘ方向の場合は、第２部材５２が＋Ｘ方向に移動した場合のみ、移動方向である＋Ｘ方向側の液体供給部７８から供給される液体ＬＱの供給量を、移動方向と反対方向である−Ｘ方向側の液体供給部７８から供給される液体ＬＱの供給量より多くする。この場合は、第２部材５２が−Ｘ方向に移動した場合は、＋Ｘ方向側の液体供給部７８から供給される液体ＬＱの供給量と、−Ｘ方向側の液体供給部７８から供給される液体ＬＱの供給量とを略同一にする。
【０２４７】
第１及び第３実施形態において、圧力差を抑制したい移動方向が−Ｘ方向の場合は、第２部材５２が−Ｘ方向に移動した場合のみ、移動方向である−Ｘ方向側の液体供給部７８から供給される液体ＬＱの供給量を、移動方向と反対方向である＋Ｘ方向側の液体供給部７８から供給される液体ＬＱの供給量より多くする。この場合は、第２部材５２が＋Ｘ方向に移動した場合は、＋Ｘ方向側の液体供給部７８から供給される液体ＬＱの供給量と、−Ｘ方向側の液体供給部７８から供給される液体ＬＱの供給量とを略同一にする。
【０２４８】
第２及び第４実施形態において、圧力差を抑制したい移動方向が＋Ｘ方向の場合は、圧力差を抑制したい移動方向である＋Ｘ方向側に抑制用液体供給部１２０を設け、圧力差を抑制したい移動方向と反対方向である−Ｘ方向側には抑制用液体供給部１２０を設けなくてもよい。この場合は、第２部材５２が＋Ｘ方向に移動した場合のみ、＋Ｘ方向側に設けられた抑制用液体供給部１２０から液体ＬＱを供給させる。
【０２４９】
第２及び第４実施形態において、圧力差を抑制したい移動方向が−Ｘ方向の場合は、圧力差を抑制したい移動方向である−Ｘ方向側に抑制用液体供給部１２０を設け、圧力差を抑制したい移動方向と反対方向である＋Ｘ方向側には抑制用液体供給部１２０を設けなくてもよい。この場合は、第２部材５２が−Ｘ方向に移動した場合のみ、−Ｘ方向側に設けられた抑制用液体供給部１２０から液体ＬＱを供給させる。
【０２５０】
第３及び第４実施形態において、圧力差を抑制したい移動方向が＋Ｘ方向の場合は、第２部材５２が＋Ｘ方向に移動した場合のみ、移動方向と反対方向である−Ｘ方向側の液体回収部５６及び液体回収部６２による液体ＬＱの回収量を、移動方向である＋Ｘ方向側の液体回収部５６及び液体回収部６２による液体ＬＱの回収量より多くする。この場合は、第２部材５２が−Ｘ方向に移動した場合は、＋Ｘ方向側の液体回収部５６及び液体回収部６２による液体ＬＱの回収量と、−Ｘ方向側の液体回収部５６及び液体回収部６２による液体ＬＱの回収量とを略同一にする。
【０２５１】
第３及び第４実施形態において、圧力差を抑制したい移動方向が−Ｘ方向の場合は、第２部材５２が−Ｘ方向に移動した場合のみ、移動方向と反対方向である＋Ｘ方向側の液体回収部５６及び液体回収部６２による液体ＬＱの回収量を、移動方向である−Ｘ方向側の液体回収部５６及び液体回収部６２による液体ＬＱの回収量より多くする。この場合は、第２部材５２が＋Ｘ方向に移動した場合は、＋Ｘ方向側の液体回収部５６及び液体回収部６２による液体ＬＱの回収量と、−Ｘ方向側の液体回収部５６及び液体回収部６２による液体ＬＱの回収量とを略同一にする。
【０２５２】
本変形例２においても、第２部材５２の移動に起因して、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が変動した場合であっても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子３６が受ける圧力を略均一にすることができる。従って、第２部材５２が移動しても終端光学素子３６の光軸がＺ軸に対して傾くのを防止することができ、露光光ＥＬの光路ＫをＺ軸方向と平行にすることができる。そのため、露光不良の発生を抑制でき、不良デバイスの発生を抑制できる。
【０２５３】
［変形例３］
上記第１〜第４実施形態においては、第１部材５０は終端光学素子３６に対して移動しないようにしたが、本変形例３では、第１部材５０の少なくとも一部は、終端光学素子３６に対して移動可能である。本変形例３では、第１部材５０は、少なくともＸ軸方向に移動可能である。なお、第１部材５０は、Ｘ軸方向に加えて、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの少なくとも一つの方向に移動可能であってもよい。なお、本変形例３では、第１部材５０は、Ｘ軸方向のみ移動するものとする。
【０２５４】
図１７は、本変形例３の液浸部材２０のＸＺ平面と平行な一部拡大断面図の一例であり、液浸部材２０の動作の一例を示す図である。なお、図１７においては、第１部材５０は、上記第１実施形態で説明した第１部材５０の構成と同じものを採用したが、第２〜第４実施形態で説明した第１部材５０の構成と同じものを採用してもよい。
【０２５５】
第１部材５０の少なくとも一部は、駆動装置１３０によって移動する。本変形例３において、駆動装置１３０は、支持部材５０Ｓを移動する。支持部材５０Ｓが駆動装置１３０により駆動されることにより、第１部材５０の少なくとも一部が移動する。駆動装置１３０は、例えば、モータを含み、ローレンツ力を使って第１部材５０を移動してもよく、ピエゾ素子等の圧電素子を用いて第１部材５０を移動してもよい。駆動装置１３０は、制御装置２２の制御に従って第１部材５０を移動させる。
【０２５６】
駆動装置１３０は、支持部材１３０Ｓを介して、装置フレーム２６Ｂに支持される。第１部材５０は、支持部材５０Ｓ、駆動装置１３０、及び支持部材１３０Ｓを介して、装置フレーム２６Ｂに支持される。第１部材５０の移動により振動が発生しても、防振装置２８によって、その振動が基準フレーム２６Ａに伝達されることが抑制される。
【０２５７】
第１部材５０は、第２部材５２が移動している期間の少なくとも一部と並行して移動してもよい。第１部材５０は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、第２部材５２が移動している期間の少なくとも一部と並行して移動してもよい。第１部材５０は、露光光ＥＬが出射されている状態で、第２部材５２が移動している期間の少なくとも一部と並行して移動してもよい。
【０２５８】
第１部材５０が移動することにより、第１部材５０の外側面６６と第２部材５２の内側面６８との隙間が変化する。還元すれば、第１部材５０がＸＹ平面内において移動することによって、外側面６６と内側面６８との間の空間の大きさが変化する。また、第１部材５０の内側面６４が移動することにより、終端光学素子３６と第１部材５０との隙間（第３空間ＳＰ３）が変化する。
【０２５９】
第２部材５２が移動すると、上述したように移動方向と反対方向側の液浸空間ＬＳの一部の液体ＬＱの圧力が上昇し、移動方向側の液浸空間ＬＳの一部の液体ＬＱの圧力が低下するため、第２部材５２の移動方向側と反対方向側とで液浸空間ＬＳの一部の液体ＬＱに差が生じる。
【０２６０】
そこで、本変形例３では、第２部材５２が終端光学素子３６に対してＸ軸方向に移動すると、第１部材５０を第２部材５２の移動方向と反対方向に移動させて、第２部材５２の移動方向側と反対方向側とにおける液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力差を抑制する。
【０２６１】
第２部材５２が終端光学素子３６に対してＸ軸方向に移動した場合に、第１部材５０を第２部材５２の移動方向と反対方向に移動させると、第２部材５２の移動方向と反対方向側の終端光学素子３６と第１部材５０との隙間（第３空間ＳＰ３）が広くなる。従って、第２部材５２の移動方向と反対方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱ（例えば、第２部材５２の移動方向と反対方向側の終端光学素子３６と第１部材５０との間にある液体ＬＱ）の圧力を逃がすことができ、圧力の上昇を抑えることができる。
【０２６２】
また、第１部材５０を第２部材５２の移動方向と反対方向に移動させると、第２部材５２の移動方向側の終端光学素子３６と第１部材５０との隙間（第３空間ＳＰ３）が狭くなり、第２部材５２の移動方向側の液浸空間ＬＳの液体ＬＱ（例えば、第２部材５２の移動方向側の終端光学素子３６と第１部材５０との間にある液体ＬＱ）の圧力の低下を抑えることができる。
【０２６３】
このように、第２部材５２の移動方向と反対方向側に第１部材５０を移動させることで、第２部材５２の移動方向側と反対方向側における液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力差を抑制することができる。
【０２６４】
なお、第１部材５０が終端光学素子３６及び第２部材５２に接触しないように、第１部材５０の可動範囲が定められ、第２部材５２が第１部材５０に接触しないように、第２部材５２の可動範囲が定められる。
【０２６５】
第１部材５０は、第２部材５２が移動している期間の少なくとも一部の期間で移動する。第１部材５０は、第２部材５２に対する移動量に応じた移動量で移動する。第１部材５０は、第２部材５２の移動量の所定の割合で移動してもよい。第１部材５０の移動量は、第２部材５２の移動量より小さくてもよい。本変形例３においては、制御装置２２が、駆動装置１３０を制御することで、第２部材５２の移動中に第２部材５２の移動方向と反対方向に第１部材５０を移動させる。
【０２６６】
本変形例３においても、第２部材５２の移動に起因して、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が変動した場合であっても、液浸空間ＬＳの液体ＬＱから終端光学素子３６が受ける圧力を略均一にすることができる。従って、第２部材５２が移動しても終端光学素子３６の光軸がＺ軸に対して傾くのを防止することができ、露光光ＥＬの光路ＫをＺ軸方向と平行にすることができる。そのため、露光不良の発生を抑制でき、不良デバイスの発生を抑制できる。
【０２６７】
なお、上記変形例３では、上記第１〜第４実施形態の液浸露光装置ＥＸを前提として説明したが、本変形例３は、液体ＬＱの回収量及び（又は）供給量を変えることによって第２部材５２の移動方向側と反対方向側における液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力差を抑制する液浸露光装置ＥＸ以外の液浸露光装置にも適用可能である。
【０２６８】
［変形例４］
上記第１〜第４実施形態においては、第２部材５２等に設けられる開口７２は、図１８に示すように、六角形状であってもよい。
【０２６９】
上記第１〜第４実施形態においては、投影光学系ＰＬの終端光学素子３６の射出面３４側（像面側）の光路Ｋが液体ＬＱで満たされているが、投影光学系ＰＬが、例えば国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されているような、終端光学素子３６の入射側（物体面側）の光路Ｋも液体ＬＱで満たされる投影光学系でもよい。
【０２７０】
上記第１〜第４実施形態においては、液体ＬＱが水であることとしたが、水以外の液体でもよい。液体ＬＱは、露光光ＥＬに対して透過性であり、露光光ＥＬに対して高い屈折率を有し、投影光学系ＰＬあるいは基板Ｐの表面を形成する感光材（フォトレジスト）等の膜に対して安定なものが好ましい。例えば、液体ＬＱが、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル等のフッ素系液体でもよい。また、液体ＬＱが、種々の流体、例えば、超臨界流体でもよい。
【０２７１】
上記第１〜第４実施形態においては、基板Ｐが、半導体デバイス製造用の半導体ウエハを含むこととしたが、例えば、ディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは液浸露光装置ＥＸで用いられるマスクＭ又はレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等を含んでもよい。
【０２７２】
上記第１〜第４実施形態においては、上述の各実施形態においては、液浸露光装置ＥＸが、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）であることとしたが、例えばマスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）でもよい。
【０２７３】
また、液浸露光装置ＥＸが、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとを略静止した状態で、投影光学系ＰＬを用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとを略静止した状態で、投影光学系ＰＬを用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光する露光装置（スティッチ方式の一括露光装置）でもよい。また、スティッチ方式の露光装置が、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置でもよい。
【０２７４】
また、液浸露光装置ＥＸが、例えば米国特許第６６１１３１６号に開示されているような、２つのマスクＭのパターンを、投影光学系ＰＬを介して基板Ｐ上で合成し、１回の走査露光によって基板Ｐ上の１つのショット領域を略同時に二重露光する露光装置でもよい。また、液浸露光装置ＥＸが、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナー等でもよい。
【０２７５】
上記第１〜第４実施形態においては、液浸露光装置ＥＸが、米国特許第６３４１００７号、米国特許第６２０８４０７号、米国特許第６２６２７９６号等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置でもよい。例えば、図１９に示すように、液浸露光装置ＥＸが２つの基板ステージ１５０、１５２を備えている場合、射出面３４と対向するように配置可能な物体は、一方の基板ステージ、その一方の基板ステージの第１保持部に保持された基板Ｐ、他方の基板ステージ、及びその他方の基板ステージの第１保持部に保持された基板Ｐの少なくとも一つを含む。
【０２７６】
また、液浸露光装置ＥＸが、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置でもよい。
【０２７７】
また、液浸露光装置ＥＸが、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置でもよいし、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置でもよいし、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクＭ等を製造するための露光装置でもよい。
【０２７８】
上記第１〜第４実施形態においては、光透過性の基板Ｐ上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６７７８２５７号に開示されているような、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしてもよい。
【０２７９】
上記第１〜第４実施形態においては、液浸露光装置ＥＸが投影光学系ＰＬを備えることとしたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。例えば、レンズ等の光学部材と基板Ｐとの間に液浸空間ＬＳを形成し、その光学部材を介して、基板Ｐに露光光ＥＬを照射する露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。
【０２８０】
また、液浸露光装置ＥＸが、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されているような、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって基板Ｐ 上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）でもよい。
【０２８１】
［変形例５］
上記変形例１〜４を任意に組み合わせた態様であってもよい。
【０２８２】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図２０示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）Ｍを製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板Ｐを製造するステップ２０３、上述の各実施形態又は各変形例に従って、マスクＭのパターンからの露光光ＥＬで基板Ｐを露光すること、及び露光された基板Ｐを現像することを含む基板処理（露光処理）を含むステップ２０４、デバイスを組み立てるステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程等の加工プロセスを含む）２０５、組み立てられたデバイスを検査するステップ２０６等を経て製造される。
【０２８３】
なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【符号の説明】
【０２８４】
１４、１５０、１５２…基板ステージ      １６…計測ステージ
２０…液浸部材                          ２２…制御装置
２４…記憶装置                          ３４…射出面
３６…終端光学素子                      ５０…第１部材
５２…第２部材                          ５４、６０…下面
５６、６２…液体回収部                  ５６Ｒ、６２Ｒ、１００Ｒ…回収流路
５６Ｃ、６２Ｃ、１００Ｃ…液体回収装置  ５８…上面
６４…内側面                            ７０、７２、８０…開口
７６、１３０…駆動装置                  ７８…液体供給部
７８Ｒ、１２０Ｒ…供給流路              ７８Ｓ、１２０Ｓ…液体供給装置
８２、８４、１０２…多孔部材            １００…抑制用液体回収部
１１０…誘導部                          １２０…抑制用液体供給部
ＥＬ…露光光                            ＥＸ…液浸露光装置
ＩＬ…照明系                            Ｋ…光路
ＬＱ…液体                              ＬＳ…液浸空間
Ｐ…基板                                ＰＲ…投影領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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