(57)【要約】      （修正有）【課題】駆動電圧を低電圧化した有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物を正孔注入層に含む、有機エレクトロルミネッセンス素子。2015216205.tif 000016前記一般式（１）において、Ｍは、金属原子または２つの水素原子を含み、Ｘ１〜Ｘ９は、互いに独立して、少なくとも１つ以上は、電子吸引基である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される化合物を正孔注入層に含む、有機エレクトロルミネッセンス素子。
【化１】
2015216205.tif 000014
前記一般式（１）において、
Ｍは、金属原子または２つの水素原子を含み、
Ｙ１〜Ｙ４は、互いに独立して、窒素または置換基Ｘ９を有する炭素であり、
Ｘ１〜Ｘ９は、互いに独立して、水素、重水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、アミジノ基、ヒドラジン、ヒドラゾン、カルボン酸基およびカルボン酸塩、スルホン酸基およびスルホン酸塩、リン酸基およびリン酸塩、炭素数１〜１２のアルキル基、核炭素数６〜３０のアリール基、または核炭素数５〜３０のヘテロアリール基であり、少なくとも１つ以上は、電子吸引基である。
【請求項２】
前記Ｘ１〜Ｘ９は、少なくとも１つ以上は、ハメット則でσ＞０．０７の電子吸引基である、請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項３】
前記Ｘ１〜Ｘ９は、少なくとも１つ以上は、塩素、臭素、ヨウ素、シアノ基、およびニトロ基からなる群より選択された電子吸引基である、請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項４】
前記Ｙ１〜Ｙ４は、窒素である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項５】
前記Ｍは、遷移金属原子を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項６】
前記Ｍは、ＶＯ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、またはＣｄのいずれかである、請求項５に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項７】
前記Ｍは、ＶＯ、Ｍｎ、Ｆｅ、またはＭｏのいずれかである、請求項６に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項８】
前記一般式（１）で表される化合物を含む正孔注入層と、
下記一般式（２）で表される化合物を含む有機層と、が積層された請求項１〜７のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【化２】
2015216205.tif 000015
前記一般式（２）において、
Ａｒ１〜Ａｒ３は、互いに独立して、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のヘテロアリール基であり、
Ａｒ４は、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のヘテロアリール基であり、
Ｌ１は、単結合、置換もしくは無置換のアリーレン基、または置換もしくは無置換のヘテロアリーレン基である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、自発光型の発光素子である有機エレクトロルミネッセンス素子（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ  Ｄｉｏｄｅ）の開発が盛んに行われている。有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子という）は、陽極および陰極から注入された正孔および電子を発光層において再結合させることにより、発光層において有機化合物を含む発光材料を発光させることができる。
【０００３】
一般的な有機ＥＬ素子は、発光層、ならびに発光層にキャリア（ｃａｒｒｉｅｒ）である正孔や電子を輸送する正孔輸送層および電子輸送層などの特性の異なる層を複数積層させた構成を有する。ここで、有機ＥＬ素子において、駆動電圧のさらなる低電圧化を実現するために、従来、各層の材料として様々な化合物が検討されている。
【０００４】
また、有機ＥＬ素子の分野に限られず、近年、様々な化合物の合成が行われている。例えば、非特許文献１には、太陽電池の分野で用いられるオクタシアノポルフィラジン（ｏｃｔａｃｙａｎｏｐｏｒｐｈｙｒａｚｉｎｅ）骨格を有する金属錯体が開示されている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｍｕｎｉｃａｔｉｏｎｓ（２００７），（１９），１９４２−１９４４
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、非特許文献１では、開示されている金属錯体の他の用途については、詳細な検討はされていなかった。一方、有機ＥＬ素子において、従来の化合物を用いた場合では、駆動電圧の低電圧化が十分ではなく、さらに、駆動電圧を低電圧化する化合物が求められていた。
【０００７】
そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、駆動電圧をより低電圧化することが可能な、新規かつ改良された有機ＥＬ素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、下記一般式（１）で表される化合物を正孔注入層に含む、有機ＥＬ素子が提供される。
【化１】
2015216205.tif 000002
前記一般式（１）において、Ｍは、金属原子または２つの水素原子を含み、Ｙ１〜Ｙ４は、互いに独立して、窒素または置換基Ｘ９を有する炭素であり、Ｘ１〜Ｘ９は、互いに独立して、水素、重水素、ハロゲン（ｈａｌｏｇｅｎ）、ヒドロキシル（ｈｙｄｒｏｘｙｌ）基、シアノ（ｃｙａｎｏ）基、ニトロ（ｎｉｔｒｏ）基、アミノ（ａｍｉｎｏ）基、アミジノ（ａｍｉｄｉｎｏ）基、ヒドラジン（ｈｙｄｒａｚｉｎｅ）、ヒドラゾン（ｈｙｄｒａｚｏｎｅ）、カルボン酸（ｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ  ａｃｉｄ）基およびカルボン酸塩、スルホン酸（ｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）基およびスルホン酸塩、リン酸（ｐｈｏｓｐｈｏｒｉｃ  ａｃｉｄ）基およびリン酸塩、炭素数１〜１２のアルキル（ａｌｋｙｌ）基、核炭素数６〜３０のアリール（ａｒｙｌ）基、または核炭素数５〜３０のヘテロアリール（ｈｅｔｅｒｏａｒｙｌ）基であり、少なくとも１つ以上は、電子吸引基である。
【０００９】
この構成によれば、有機ＥＬ素子の駆動電圧を低下させることが可能である。
【００１０】
前記Ｘ１〜Ｘ９は、少なくとも１つ以上は、ハメット則（Ｈａｍｍｅｔｔ’ｓ  ｒｕｌｅ）でσ＞０．０７の電子吸引基であってもよい。
【００１１】
この構成によれば、上記一般式（１）で表される化合物を安定化させることができるため、有機ＥＬ素子の安定性および素子特性を向上させることが可能である。
【００１２】
前記Ｘ１〜Ｘ９は、少なくとも１つ以上は、塩素、臭素、ヨウ素、シアノ基、およびニトロ基からなる群より選択された電子吸引基であってもよい。
【００１３】
この構成によれば、上記一般式（１）で表される化合物のアクセプタ（ａｃｃｅｐｔｏｒ）性を向上させることができるため、有機ＥＬ素子の素子特性をさらに向上させることが可能である。
【００１４】
前記Ｙ１〜Ｙ４は、窒素であってもよい。
【００１５】
この構成によれば、上記一般式（１）で表される化合物のアクセプタ性を向上させることができるため、有機ＥＬ素子の素子特性をさらに向上させることが可能である。
【００１６】
前記Ｍは、遷移金属原子を含んでもよい。
【００１７】
この構成によれば、上記一般式（１）で表される化合物の安定性を向上させることができるため、有機ＥＬ素子の安定性および素子特性をさらに向上させることが可能である。
【００１８】
前記Ｍは、ＶＯ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、またはＣｄのいずれかであってもよい。
【００１９】
この構成によれば、上記一般式（１）で表される化合物の安定性を向上させることができるため、有機ＥＬ素子の安定性および素子特性をさらに向上させることが可能である。
【００２０】
前記Ｍは、ＶＯ、Ｍｎ、Ｆｅ、またはＭｏのいずれかであってもよい。
【００２１】
この構成によれば、上記一般式（１）で表される化合物の安定性を向上させることができるため、有機ＥＬ素子の安定性および素子特性をさらに向上させることが可能である。
【００２２】
前記一般式（１）で表される化合物を含む正孔注入層と、下記一般式（２）で表される化合物を含む有機層と、が積層されてもよい。
【化２】
2015216205.tif 000003
前記一般式（２）において、Ａｒ１〜Ａｒ３は、互いに独立して、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のヘテロアリール基であり、Ａｒ４は、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のヘテロアリール基であり、Ｌ１は、単結合、置換もしくは無置換のアリーレン（ａｒｙｌｅｎｅ）基、または置換もしくは無置換のヘテロアリーレン（ｈｅｔｅｒｏａｒｙｌｅｎｅ）基である。
【００２３】
この構成によれば、上記一般式（１）で表される化合物を含む正孔注入層と、積層された上記一般式（２）で表される化合物を含む有機層との酸化還元反応によって、より多くのキャリアを発生させることができる。
【発明の効果】
【００２４】
以上説明したように本発明によれば、有機ＥＬ素子の駆動電圧をさらに低電圧化することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ素子の一例を示す概略図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る実施例において作製した有機ＥＬ素子の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００２７】
＜１．有機ＥＬ素子の概要＞
まず、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ素子の概要について説明を行う。本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ素子は、下記一般式（１）で表される化合物を含む正孔注入層を有する。
【００２８】
【化３】
2015216205.tif 000004
【００２９】
上記一般式（１）において、Ｍは、金属原子または２つの水素原子を含み、Ｙ１〜Ｙ４は、互いに独立して、窒素または置換基Ｘ９を有する炭素であり、Ｘ１〜Ｘ９は、互いに独立して、水素、重水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、アミジノ基、ヒドラジン、ヒドラゾン、カルボン酸基およびカルボン酸塩、スルホン酸基およびスルホン酸塩、リン酸基およびリン酸塩、炭素数１〜１２のアルキル基、核炭素数６〜３０のアリール基、または核炭素数５〜３０のヘテロアリール基であり、少なくとも１つ以上は、電子吸引基である。
【００３０】
このような化合物のうち、例えば、下記の化合物（１０）は、非特許文献１に記載されているように太陽電池などの分野において公知の化合物である。
【００３１】
【化４】
2015216205.tif 000005
【００３２】
しかしながら、非特許文献１等では、化合物（１０）のアクセプタ性に着目した用途は検討されていなかった。一方、本発明者らは、上記一般式（１）で表される化合物の特性を詳細に検討した結果、上記一般式（１）で表される化合物が有機ＥＬ素子の正孔注入層の材料物質として好適な特性を有していることを見出した。
【００３３】
具体的には、上記一般式（１）で表される化合物は、アクセプタ性材料であり、正孔注入材料として機能することができる。また、上記一般式（１）で表される化合物は、酸化力が高いため、積層される有機層との間で酸化還元反応を起こすことにより、より多くのキャリアを発生させることができる。そのため、上記一般式（１）で表される化合物を含む正孔注入層を有する有機ＥＬ素子は、電荷注入が容易になり、駆動電圧を低電圧化させることができる。
【００３４】
また、上記一般式（１）で表される化合物において、Ｘ１〜Ｘ９は、少なくとも１つ以上が電子吸引基であり、具体的には、ハメット則でσ＞０．０７の電子吸引基であることが好ましい。
【００３５】
ハメット則は、安息香酸に対する反応速度と置換安息香酸に対する反応速度との違いから、置換基の電子吸引性および電子供与性の強度を示したものである。具体的には、ハメット則では、ハメットの置換基定数と呼ばれる定数にて置換基の電子吸引性および電子供与性を評価する。ハメットの置換基定数σは、水素が０であり、正であるほど電子吸引性が高く、負であるほど電子供与性が高いことを示す。なお、ハメットの置換基定数σは、置換基の位置によってパラ（ｐａｒａ）効果とメタ（ｍｅｔａ）効果とが定義されるが、例えば、本明細書において「ハメット則でσ＞０．０７」とは、パラ効果およびメタ効果の両方においてハメットの置換基定数σが０．０７より大きいことを示す。
【００３６】
上記一般式（１）で表される化合物において、Ｘ１〜Ｘ９の少なくとも１つ以上の電子吸引基は、ハメットの置換基定数σにて０．０７より大きい電子吸引性を有することが好ましい。ここで、「ハメットの置換基定数σにて０．０７より大きい」とは、一般的な電子吸引基を含み、フッ素（パラ効果のハメットの置換基定数が０．０６２）が除外されるように設定した。上記一般式（１）で表される化合物において、Ｘ１〜Ｘ９のいずれかがフッ素である場合、化合物の安定性および電子耐性が低下するため、好ましくない。したがって、Ｘ１〜Ｘ９の少なくとも１つ以上は、フッ素以外の電子吸引基であることが好ましい。
【００３７】
具体的には、Ｘ１〜Ｘ９は、少なくとも１つ以上が塩素、臭素、ヨウ素、シアノ基、およびニトロ基からなる群より選択された電子吸引基であることが好ましい。塩素、臭素、ヨウ素、シアノ基、およびニトロ基は、ハメット則でσ＞０．２の強い電子吸引性を有する。Ｘ１〜Ｘ９の少なくとも１つ以上がこれらの電子吸引基であることにより、中心部の窒素原子の電子密度が低下し、上記一般式（１）で表される化合物のアクセプタ性が増加する。したがって、正孔注入層に上記一般式（１）で表される化合物を含む有機ＥＬ素子は、素子特性が向上するため好ましい。
【００３８】
また、Ｙ１〜Ｙ４は、窒素であることが好ましい。具体的には、Ｙ１〜Ｙ４が窒素である場合、上記一般式（１）で表される化合物のアクセプタ性がより向上する。したがって、正孔注入層に上記一般式（１）で表される化合物を含む有機ＥＬ素子は、素子特性が向上するため好ましい。
【００３９】
Ｍは、遷移金属原子を含むことが好ましい。具体的には、Ｍは、ＶＯ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、またはＣｄのいずれかであることが好ましく、より具体的には、Ｍは、ＶＯ、Ｍｎ、Ｆｅ、またはＭｏのいずれかであることが好ましい。上記一般式（１）で表される化合物の中心部の窒素原子は、遷移金属原子と安定な錯体を形成することができる。したがって、Ｍが遷移金属原子を含む場合、上記一般式（１）で表される化合物は、安定性がより高くなるため好ましい。
【００４０】
上記で説明したように、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ素子は、上記一般式（１）で表される化合物による酸化還元反応によって、より多くのキャリアが発生し、電荷注入が容易になるため、駆動電圧を低電圧化することができる。なお、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ素子が有する正孔注入層は、上記一般式（１）で表される化合物で構成されていてもよいし、上記一般式（１）で表される化合物がドーピング（ｄｏｐｉｎｇ）されていてもよい。
【００４１】
例えば、上記一般式（１）で表される化合物としては、以下の化学式（１）〜（４）で表される化合物を具体的に挙げることができる。しかしながら、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ素子が有する正孔注入層が含む化合物は、下記の化合物に限定されるものではない。
【００４２】
【化５】
2015216205.tif 000006
【００４３】
さらに、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ素子は、上記一般式（１）で表される化合物を含む正孔注入層と、下記一般式（２）で表される化合物を含む有機層とが積層されていることが好ましい。
【００４４】
【化６】
2015216205.tif 000007
【００４５】
なお、上記一般式（２）において、Ａｒ１〜Ａｒ３は、互いに独立して、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のヘテロアリール基であり、Ａｒ４は、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換のヘテロアリール基であり、Ｌ１は、単結合、置換もしくは無置換のアリーレン基、または置換もしくは無置換のヘテロアリーレン基である。
【００４６】
上記一般式（２）で表される化合物は、カルバゾール（ｃａｒｂａｚｏｌｅ）骨格を有することにより正孔輸送能を有する。したがって、上記一般式（２）で表される化合物を含む有機層は、有機ＥＬ素子における正孔輸送層または発光層として好適に用いることができる。また、上記一般式（２）で表される化合物は、酸化されやすいアミン（ａｍｉｎｅ）構造を有するため、酸化力が高い上記一般式（１）で表される化合物を含む正孔注入層と積層された場合、酸化還元反応によりさらに多くのキャリアを発生させることができる。
【００４７】
したがって、上記一般式（１）で表される化合物を含む正孔注入層と、上記一般式（２）で表される化合物を含む有機層とが積層された有機ＥＬ素子では、より多くのキャリアが発生し、電荷注入が容易になるため好ましい。
【００４８】
以上にて、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ素子の概要について、正孔注入層を中心に説明した。
【００４９】
＜２．有機ＥＬ素子の構造＞
次に、図１を参照して、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ素子の構造について説明を行う。図１は、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ素子の一例を示す概略図である。
【００５０】
図１に示すように、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ素子１００は、基板１０２、基板１０２上に配置された陽極１０４、陽極１０４上に配置された正孔注入層１０６、正孔注入層１０６上に配置された正孔輸送層１０８、正孔輸送層１０８上に配置された発光層１１０、発光層１１０上に配置された電子輸送層１１２、電子輸送層１１２上に配置された電子注入層１１４、および電子注入層１１４上に配置された陰極１１６を備える。
【００５１】
なお、図１で示した有機ＥＬ素子１００の構造は、あくまでも一例であって、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ素子は、図１の構造に限定されるものではない。例えば、有機ＥＬ素子１００は、一部の層が省略されていてもよく、また他の層が追加されていてもよい。さらに、有機ＥＬ素子１００の各層は、複数層で形成されていてもよい。
【００５２】
基板１０２は、例えば、透明ガラス（ｇｌａｓｓ）基板、シリコン（Ｓｉ）等からなる半導体基板、樹脂等のフレキシブル（ｆｌｅｘｉｂｌｅ）な基板を使用することができる。
【００５３】
陽極１０４は、基板１０２上に配置され、例えば、仕事関数が大きい金属、合金、導電性化合物等によって形成することができる。具体的には、陽極１０４は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）やインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）等を用いて形成される。
【００５４】
正孔注入層１０６は、陽極１０４上に配置され、上述した一般式（１）で表される化合物を含んで形成される。この構成によれば、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ素子１００は、一般式（１）で表される化合物の酸化還元反応により、より多くのキャリアを発生させることができるため、より駆動電圧を低電圧化することができる。
【００５５】
正孔輸送層１０８は、正孔注入層１０６上に配置され、例えば、Ｎ，Ｎ’−Ｂｉｓ（３−ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ）−Ｎ，Ｎ’−ｄｉｐｈｅｎｙｌｂｅｎｚｉｄｉｎｅ（ＴＰＤ）、４，４’，４’’−Ｔｒｉｓ（Ｎ−ｃａｒｂａｚｏｌｙｌ）ｔｒｉｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｅ（ＴＣＴＡ）、Ｎ，Ｎ’−Ｄｉ（１−ｎａｐｈｔｙｌ）−Ｎ，Ｎ’−ｄｉｐｈｅｎｙｌｂｅｎｚｉｄｉｎｅ（ＮＰＤ）を含んで形成される。
【００５６】
また、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ素子１００では、正孔輸送層１０８は、上述した一般式（２）で表される化合物を含むことが好ましい。この構成によれば、有機ＥＬ素子１００は、酸化されやすいアミン構造を有する一般式（２）で表される化合物と、酸化力の高い一般式（１）で表される化合物とが積層されることによって、酸化還元反応にてより多くのキャリアを発生させることができる。したがって、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ素子１００は、発生した多くのキャリアにより、電荷注入をより容易にすることができる。
【００５７】
発光層１１０は、正孔輸送層１０８上に配置され、ホスト（ｈｏｓｔ）材料、およびドーパント（ｄｏｐａｎｔ）材料含んで形成される。例えば、発光層１１０は、９，１０−Ｄｉ（２−ｎａｐｈｔｈｙｌ）ａｎｔｈｒａｃｅｎｅ（ＡＤＮ）を含むホスト材料に２，５，８，１１−Ｔｅｔｒａ−ｔ−ｂｕｔｙｌｐｅｒｙｌｅｎｅ（ＴＢＰ）をドープすることで形成される。
【００５８】
電子輸送層１１２は、発光層１１０上に配置され、例えば、Ｔｒｉｓ（８−ｈｙｄｒｏｘｙｑｕｉｎｏｌｉｎａｔｏ）ａｌｕｍｉｎｉｕｍ（Ａｌｑ３）、３−（４−Ｂｉｐｈｅｎｙｌｙｌ）−４−ｐｈｅｎｙｌ−５−（４−ｔｅｒｔ−ｂｕｔｙｌｐｈｅｎｙｌ）−４Ｈ−１，２，４−ｔｒｉａｚｏｌｅ（ＴＡＺ）等を含んで形成される。
【００５９】
電子注入層１１４は、電子輸送層１１２上に配置され、例えば、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、塩化ナトリウム（ＮａＣｌ）、フッ化セシウム（ＣｓＦ）、酸化リチウム（Ｌｉ２Ｏ）、酸化バリウム（ＢａＯ）等を含んで形成される。
【００６０】
陰極１１６は、電子注入層１１４上に配置され、例えば、仕事関数が小さい金属、合金、導電性化合物等で形成されることができる。具体的には、陰極１１６は、Ａｌ等の金属、および酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）やインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）等の透明材料により形成される。
【００６１】
なお、図１にて示した有機ＥＬ素子１００の構造のうち、例えば、陽極１０４、発光層１１０、電子輸送層１１２、電子注入層１１４、および陰極１１６については、特に限定されるものではなく、公知の有機ＥＬ素子用材料を利用することも可能である。
【００６２】
ここで、上述した本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ素子１００の各層は、真空蒸着、スパッタ、各種塗布法など、材料に応じた適切な成膜方法を選択することにより形成することができる。
【００６３】
例えば、陽極１０４および陰極１１６などの電極層は、電子ビーム蒸着（ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｂｅａｍ  ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）法、熱フィラメント蒸着（ｈｏｔ  ｆｉｌａｍｅｎｔ  ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）法および真空蒸着法を含む蒸着法、スパッタリング（ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）法、メッキ（ｐｌａｔｉｎｇ）法（電気メッキ法および無電解メッキ法）などにより形成することができる。
【００６４】
また、正孔注入層１０６、正孔輸送層１０８、発光層１１０、および電子輸送層１１２、および電子注入層１１４などの有機層は、例えば、真空蒸着法等の物理的気相成長法（ＰＶＤ法）、スクリーン印刷（ｓｃｒｅｅｎ  ｐｒｉｎｔｉｎｇ）法およびインクジェット（ｉｎｋ  ｊｅｔ）印刷法といった印刷法、レーザ（ｌａｓｅｒ）転写法、およびスピンコート（ｓｐｉｎ  ｃｏａｔ）法等の塗布法などにより形成することができる。
【００６５】
以上にて、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ素子１００の一例について説明した。
【実施例】
【００６６】
以下では、実施例および比較例を参照しながら、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ素子について、具体的に説明を行う。なお、以下に示す実施例は、あくまでも一例であって、本発明が下記の例に限定されるものではない。
【００６７】
＜有機ＥＬ素子の作製＞
（実施例１）
以下の手順により、本発明の実施例１に係る有機ＥＬ素子を作製した。
【００６８】
まず、あらかじめパターニング（ｐａｔｔｅｒｎｉｎｇ）して洗浄処理を施したＩＴＯ−ガラス基板にオゾン（ｏｚｏｎｅ）による表面処理を行った。なお、該ガラス基板におけるＩＴＯ膜の膜厚は、１３０ｎｍであった。オゾン処理後、直ちに正孔注入材料として、下記の化合物（１０）を上記ＩＴＯ膜上に膜厚１３．５ｎｍで成膜し、正孔注入層（Ｈｏｌｅ  Ｉｎｊｅｃｔｉｏｎ  Ｌａｙｅｒ：ＨＩＬ）とした。
【００６９】
【化７】
2015216205.tif 000008
【００７０】
次に、正孔輸送材料として、Ｎ，Ｎ’−ジ（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン（ＮＰＤ）を膜厚５０ｎｍで成膜し、正孔輸送層（Ｈｏｌｅ  Ｔｒａｎｓｆｅｒ  Ｌａｙｅｒ：ＨＴＬ）とした。さらに、発光材料としてトリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）を膜厚７０ｎｍで成膜した。続いて、電子注入材料としてフッ化リチウム（ＬｉＦ）を膜厚０．５ｎｍで成膜し、陰極としてアルミニウム（Ａｌ）を膜厚８０ｎｍで成膜し、有機ＥＬ素子２００を作製した。
【００７１】
（実施例２）
実施例１で用いたＮＰＤの代わりに下記の構造式で表されるＨＴ１を用いた以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬ素子を作製した。なお、ＨＴ１は、上記で説明した一般式（２）で表される化合物である。
【００７２】
【化８】
2015216205.tif 000009
【００７３】
（比較例１）
実施例１で用いた化合物（１０）の代わりに下記の構造式で表されるヘキサアザトリフェニレンヘキサカルボニトリル（ＨＡＴ）を用いた以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬ素子を作製した。なお、ＨＡＴは、正孔注入材料として一般的な化合物であり、ポルフィリン（ｐｏｒｐｈｙｒｉｎ）またはポルフィラジン（ｐｏｒｐｈｙｒａｚｉｎｅ）骨格を有していないという点において、本発明の一般式（１）で表される化合物とは異なるものである。
【００７４】
【化９】
2015216205.tif 000010
【００７５】
（比較例２）
実施例１で用いた化合物（１０）の代わりに下記の構造式で表される銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）を用いた以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬ素子を作製した。なお、ＣｕＰｃは、ポルフィラジン骨格を有するものの、Ｘ１〜Ｘ９のいずれもが電子吸引基ではないという点において、本発明の一般式（１）で表される化合物とは異なる化合物である。
【００７６】
【化１０】
2015216205.tif 000011
【００７７】
（比較例３）
実施例１で用いた化合物（１０）の代わりに下記の構造式で表されるオクタシアノフタロシアニン誘導体（ＯＣＰＣ）を用いた以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬ素子を作製した。なお、ＯＣＰＣは、ポルフィラジン骨格を有するものの、Ｘ１〜Ｘ８のそれぞれが互いに縮合環を形成しているという点において、本発明の一実施形態に係る一般式（１）で表される化合物とは異なる化合物である。
【００７８】
【化１１】
2015216205.tif 000012
【００７９】
なお、作製した有機ＥＬ素子２００の実施例１、２および比較例１〜３の概略図を図５に示す。作製した有機ＥＬ素子２００は、基板２０２、基板２０２上に配置された陽極２０４、陽極２０４上に配置された正孔注入層２０６、正孔注入層２０６上に配置された正孔輸送層２０８、正孔輸送層２０８上に配置された発光層２１０、発光層２１０上に配置された電子注入層２１２、電子注入層２１２上に配置された陰極２１４から構成されている。
【００８０】
（評価結果）
作製した実施例１、２および比較例１〜３の有機ＥＬ素子２００の評価結果を以下の表１に示す。作製した有機ＥＬ素子２００の特性評価には、Ｋｅｉｔｈｌｅｙ社製ソースメータ２４００を用い、１０ｍＡ／ｃｍ２の電流密度における電圧を測定した。
【００８１】
【表１】
2015216205.tif 000013
【００８２】
表１からわかるように、本発明の一実施形態に係る実施例１および２の有機ＥＬ素子は、比較例１〜３の有機ＥＬ素子に対して、駆動電圧が低電圧化していることがわかる。具体的には、実施例１および２の有機ＥＬ素子は、正孔注入材料として一般的な化合物であるＨＡＴを用いた比較例１よりも駆動電圧が低下していることがわかる。また、実施例１および２の有機ＥＬ素子は、ポルフィラジン骨格を有するものの本発明の一実施形態に係る一般式（１）で表される化合物とは異なる化合物であるＣｕＰｃおよびＯＣＰＣを用いた比較例２および３よりも駆動電圧が低下していることがわかる。
【００８３】
なお、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ素子は、前述の実施例に限定されないことはいうまでもない。また、本発明の一実施形態に係る有機ＥＬ素子は、パッシブ・マトリクス（ｐａｓｓｉｖｅ−ｍａｔｒｉｘ）駆動方式の有機ＥＬディスプレイ（ｄｉｓｐｌａｙ）に利用されてもよいし、アクティブ・マトリクス（ａｃｔｉｖｅ−ｍａｔｒｉｘ）駆動方式の有機ＥＬディスプレイに利用されてもよい。
【００８４】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【符号の説明】
【００８５】
１００  有機ＥＬ素子
１０２  基板
１０４  陽極
１０６  正孔注入層
１０８  正孔輸送層
１１０  発光層
１１２  電子輸送層
１１４  電子注入層
１１６  陰極
【図１】
2015216205.tif 000017
【図２】
2015216205.tif 000018