(57)【要約】      （修正有）【課題】基板の縁部に液滴を付着させて縁部に沿って移動させるのに好適な基板検査装置と回収治具とを提供する。【解決手段】基板検査装置は、基板回転機器と回収治具３０と回収治具保持機器とで構成される。回収治具３０は、ガスを供給するガス供給手段３４と、基板の縁部に付着した液滴を保持する第一治具３１と、ガスを第一治具に保持される液滴が基板の縁部に付着する領域である付着領域の輪郭に沿って基板の面に吹き付ける様に案内する第二治具３２と、を備える。【選択図】図４
2015099103.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を検査するために基板に液滴を付着させて保持する回収治具であって、
ガスを供給するガス供給手段と、
基板の縁部に付着した液滴を保持する第一治具と、
前記ガスを前記第一治具に保持される液滴が基板の縁部に付着する領域である付着領域の輪郭に沿って基板の面に吹き付ける様に案内する第二治具と、
を備える、
ことを特徴とする回収治具。
【請求項２】
前記第一治具が軸芯を基板の中心軸に沿う方向に向ける筒状部を持ち、前記筒状部が側面に基板の縁部に付着した液滴を保持する凹みを設けられ、
前記第二治具が前記筒状部を側面の少なくとも前記凹みを設けられる箇所との間に隙間空間を設けて覆う壁部を持ち、該壁部は前記凹みに対面する位置に該隙間空間と雰囲気の空間と連通する開口を設けられ、
前記ガスが前記隙間空間へ供給される様になった、
ことを特徴とする請求項１に記載の回収治具。
【請求項３】
前記開口が基板の厚みより僅かに大きい幅寸法をもち基板の中心軸に交差する方向に延びる溝である第二溝により形成される、
ことを特徴とする請求項２に記載の回収治具。
【請求項４】
使用時の姿勢において、前記第二溝が基板の表面に対面する面と基板の裏面に対面する面と基板の縁部に対面する一対の面とで形成される、
ことを特徴とする請求項３に記載の回収治具。
【請求項５】
前記壁部が前記筒状部を前記側面と間に前記隙間空間を設けて覆う、
ことを特徴とする請求項４に記載の回収治具。
【請求項６】
前記ガスが前記隙間空間へ前記筒状部の一方の端の側から供給される、
ことを特徴とする請求項５に記載の回収治具。
【請求項７】
前記筒状部が他方の端部に端面をもち、
前記壁部が前記筒状部を前記側面と前記端面と間に前記隙間空間を設けて覆う、
ことを特徴とする請求項６に記載の回収治具。
【請求項８】
前記筒状部が他方の端彌に凸の形状をした端面をもち、
前記壁部が前記筒状部を前記側面の全周と前記端面と間に前記隙間空間を設けて覆う、
ことを特徴とする請求項７に記載の回収治具。
【請求項９】
前記凹みが基板の中心軸に交差する方向に延びる溝である第一溝により形成され、
前記開口を正面から見て前記第一溝が前記第二溝から覗ける様になった、
ことを特徴とする請求項２に記載に回収治具。
【請求項１０】
前記第一治具が液体を貯留可能な内部空間をもち、前記凹みが該内部空間に連通する、
ことを特徴とする請求項９に記載の回収治具。
【請求項１１】
前記壁部が前記筒状部を前記側面の全周と間に前記隙間空間を設けて覆う、
ことを特徴とする請求項２に記載の回収治具。
【請求項１２】
前記筒状部が他方の端部に端面をもち、
前記壁部が前記筒状部を前記端面と間に前記隙間空間を設けて覆う、
ことを特徴とする請求項２に記載の回収治具。
【請求項１３】
基板を検査するための基板に液滴を付着して移動させる基板検査装置であって、
基板を保持して基板の中心軸の回りに回転させる基板回転機器と、
請求項１乃至１２のうちの一つに記載の回収治具と、
前記回収治具を保持可能な回収治具保持機器と、
を備えることを特徴とする基板検査装置。
【請求項１４】
基板を検査するための基板に液滴を付着して移動させる基板検査装置であって、
基板を保持して基板の中心軸の回りに回転させる基板回転機器と、
請求項２に記載の回収治具と、
前記回収治具を保持可能な回収治具保持機器と、
を備え、
基板の縁部が前記開口に挿入されるときに、前記隙間空間の圧力に応じて基板と前記回収治具との相対距離を調整する、
ことを特徴とする基板検査装置。
【請求項１５】
基板を検査するための基板に液滴を付着して移動させる基板検査装置であって、
基板を保持して基板の中心軸の回りに回転させる基板回転機器と、
請求項２に記載の回収治具と、
前記回収治具を保持可能な回収治具保持機器と、
を備え、
基板の縁部が前記開口に挿入されるときに、前記基板の表面または裏面のどちらか一方の面の前記開口に近い箇所の圧力に応じて基板と前記回収治具との相対距離を調整する、
ことを特徴とする基板検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を検査するための基板検査装置とそれに用いる回収治具とに係る。特に、基板を検査するために基板の縁部に液滴を付着させて縁部に沿って移動させるのに好適な基板検査装置とそれに用いる回収治具とに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体や液晶の製造設備や検査設備において、基板検査装置が使用される。
基板検査装置は、基板を検査する装置である。例えば、基板は、半導体ウエハー、液晶基板等の基板である。半導体ウエハーは、シリコン、ガリウム、炭化ケイ素等のウエハーである。
基板検査装置は、基板を位置決めする必要がある。通常、基板のコンタミネーションを防止するために、簡易で確実な位置決め機構が要求される。
また、一部の基板検査装置が、半導体ウエハーの表面に形成された酸化膜や窒化膜等の薄膜の中の、ナトリウム、カリウム、鉄等の不純物の量を正確に測定するのに用いられる。この基板検査装置では、基板を正確に位置決めすることが、不純物の量を正確に測定するために重要である。
【０００３】
半導体ウエハーの表面の不純物を正確に測定する目的とその方法を簡単に説明する。
半導体ウエハーの表面に形成された酸化膜や窒化膜等の薄膜中に、不純物が含まれていいると、その不純物の量が微量であっても、半導体素子の電気的特性に大きな影響を与える。
従って、半導体素子の製造設備において、ウエハー表面から不純物の混入をできる限り抑制することが要請されている。
そのために、半導体ウエハーの表面に存在する不純物の量を正確に測定することが行われている。
【０００４】
最近、ウエハー表面に存在する不純物の量を測定するのに用いられていた二次イオン質量分析法やオージェ分光分析法や中性子放射化分析法に代わって、ふっ化物溶液を持ちいて、不純物の量を測定する。例えば、ふっ化物溶液はＨＦ（ふっ化水素）水溶液である。
シリコンウエハーの表面の酸化膜をＨＦ（ふっ化水素）水溶液で溶解した後で、そのＨＦ（ふっ化水素）水溶液を捕集して、ＨＦ（ふっ化水素）水溶液中の不純物を分析することが行われる。捕集したＨＦ（ふっ化水素）水溶液の量が少なくすると、不純物の濃度が高くなり、測定精度が向上するという特徴を有する。
例えば、ＨＦ（ふっ化水素）水溶液の蒸気に基板を曝し、基板の酸化層を溶解した後で、基板の表面にＨＦ（ふっ化水素）水溶液の液滴を滴下し、その液滴を基板の表面に付着したまま移動する。液滴に酸化膜の中の不純物が捕集される。その液滴中の不純物の量を計測することにより、基板表面の不純物の量を検査する。
【０００５】
測定精度を向上させるために、基板の位置決めを精度良くおこない、また、特定の測定領域のみの不純物の量を測定できる基板検査装置が求められている。特に、液滴を基板の縁部に付着されたまま移動し、液滴に不純物を捕集するのに好適な基板検査装置と基板検査方法と回収治具が求められている。例えば、液滴が基板の表面に対し親水性であるとき、液滴に不純物を捕集するのに好適な基板検査装置と基板検査方法と回収治具が求められている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は以上に述べた問題点に鑑み案出されたもので、測定精度をより向上させることのできる基板検査装置と回収治具、及び基板の縁部に液滴を付着させて縁部に沿って移動させるのに好適な基板検査装置と回収治具とを提供しようとする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するため、本発明に係る基板を検査するために基板に液滴を付着させて保持する回収治具を、ガスを供給するガス供給手段と、基板の縁部に付着した液滴を保持する第一治具と、前記ガスを前記第一治具に保持される液滴が基板の縁部に付着する領域である付着領域の輪郭に沿って基板の面に吹き付ける様に案内する第二治具と、を備える、ものとした。
【０００８】
上記本発明の構成により、ガス供給手段が、ガスを供給する。第一治具が、基板の縁部に付着した液滴を保持する。第二治具が、前記ガスを前記第一治具に保持される液滴が基板の縁部に付着する領域である付着領域の輪郭に沿って基板の面に吹き付ける様に案内する。
その結果、基板の縁部に付着した液滴を付着領域から漏らすことなく保持できる。
【０００９】
以下に、本発明の実施形態に係る回収治具を説明する。本発明は、以下に記載した実施形態のいずれか、またはそれらの中の二つ以上が組み合わされた態様を含む。
【００１０】
また、本発明の実施形態に係る回収治具は、前記第一治具が軸芯を基板の中心軸に沿う方向に向ける筒状部を持ち、前記筒状部が側面に基板の縁部に付着した液滴を保持する凹みを設けられ、前記第二治具が前記筒状部を側面の少なくとも前記凹みを設けられる箇所との間に隙間空間を設けて覆う壁部を持ち、該壁部は前記凹みに対面する箇所に該隙間空間と雰囲気の空間と連通する開口を設けられ、前記ガスが前記隙間空間へ供給される様になった。
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記第一治具が軸芯を基板の中心軸に沿う方向に向ける筒状部を持ち、前記筒状部が側面に基板の縁部に付着した液滴を保持する凹みを設けられる。前記第二治具が前記筒状部を側面の少なくとも前記凹みを設けられる箇所との間に隙間空間を設けて覆う壁部を持ち、該壁部は前記凹みに対面する位置に該隙間空間と雰囲気の空間と連通する開口を設けられる。
前記ガスが前記隙間空間へ供給される様になった。
その結果、ガスが前記隙間空間に入り、凹みに保持される液滴の前記付着領域の輪郭に沿って開口から基板の表面に吹き付けられて、基板の縁部に付着した液滴を前記付着領域から漏らすことなく保持できる、
【００１１】
また、本発明の実施形態に係る回収治具は、前記開口が基板の厚みより僅かに大きい幅寸法をもち基板の中心軸に交差する方向に延びる溝である第二溝により形成される。
上記本発明に係る実施形態の構成により、
前記開口が基板の厚みより僅かに大きい幅寸法をもち基板の中心軸に交差する方向に延びる溝である第二溝により形成される。
その結果、前記開口に挿入される基板の縁部と第二溝で形成される開口との隙間寸法を安定して維持できる。
【００１２】
また、本発明の実施形態に係る回収治具は、使用時の姿勢において、前記第二溝が基板の表面に対面する面と基板の裏面に対面する面と基板の縁部に対面する一対の面とで形成される。
上記本発明に係る実施形態の構成により、
使用時の姿勢において、使用時の姿勢において、前記第二溝が基板の表面に対面する面と基板の裏面に対面する面と基板の縁部に対面する一対の面とで形成される。
その結果、前記開口に挿入される基板の縁部と第二溝で形成される開口との隙間寸法をより安定して維持できる。
【００１３】
また、本発明の実施形態に係る回収治具は、前記壁部が前記筒状部を前記側面と間に前記隙間空間を設けて覆う。
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記壁部が前記筒状部を前記側面と間に前記隙間空間を設けて覆う。
その結果、ガスが側面の全周との間に設けた隙間空間に一端充満してから開口と基板の縁部との隙間から出て、基板の縁部に付着した液滴を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
【００１４】
また、本発明の実施形態に係る回収治具は、前記ガスが前記隙間空間へ前記筒状部の一方の端の側から供給される。
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記ガスが前記隙間空間へ前記筒状部の一方の端の側から供給される。
その結果、ガスが前記隙間空間に充満してから開口と基板の縁部との隙間から出て、基板の縁部に付着した液滴を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
【００１５】
また、本発明の実施形態に係る回収治具は、前記筒状部が他方の端に端面をもち、
前記壁部が前記筒状部を前記側面と前記端面と間に前記隙間空間を設けて覆う。
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記筒状部が他方の端に端面をもち、前記壁部が前記筒状部を前記側面と前記端面と間に前記隙間空間を設けて覆う。
その結果、側面の全周と端面と壁部との隙間空間に充満してから開口と基板の縁部との隙間から出て、基板の縁部に付着した液滴を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
【００１６】
また、本発明の実施形態に係る回収治具は、前記筒状部が他方の端に凸の形状をした端面をもち、前記壁部が前記筒状部を前記側面の全周と前記端面と間に前記隙間空間を設けて覆う。
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記筒状部が他方の端に凸の形状をした端面をもつ。前記壁部が前記筒状部を前記側面の全周と前記端面と間に前記隙間空間を設けて覆う。
その結果、側面の全周と凸の形状をした端面と壁部との隙間空間に充満してから開口と基板の縁部との隙間から出て、基板の縁部に付着した液滴を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
【００１７】
また、本発明の実施形態に係る回収治具は、前記凹みが基板の中心軸に交差する方向に延びる溝である第一溝により形成され、前記開口を正面から見て前記第一溝が前記第二溝から覗ける様になった、
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記凹みが基板の中心軸に交差する方向に延びる溝である第一溝により形成される、
前記開口を正面から見て前記第一溝が前記第二溝から覗ける様になった。
その結果、第二溝に倣って開口に挿入された基板の縁が第一溝に倣って凹みに対面し、基板の縁部に付着した液滴を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
【００１８】
また、本発明の実施形態に係る回収治具は、前記第一治具が液滴を貯留可能な内部空間をもち、前記凹みが該内部空間に連通する。
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記第一治具が液体を貯留可能な内部空間をもつ。前記凹みが該内部空間に連通する。
その結果、内部空間に貯留される液体の一部が液滴として基板の縁部に付着できる。
【００１９】
また、本発明の実施形態に係る回収治具は、前記壁部が前記筒状部を前記側面の全周と間に前記隙間空間を設けて覆う。
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記壁部が前記筒状部を前記側面の全周と間に前記隙間空間を設けて覆う。
その結果、ガスが側面の全周との間に設けた隙間空間に一端充満してから開口と基板の縁部との隙間から出て、基板の縁部に付着した液滴を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
【００２０】
また、本発明の実施形態に係る回収治具は、前記筒状部が他方の端部に端面をもち、
前記壁部が前記筒状部を前記端面と間に前記隙間空間を設けて覆う。
上記本発明に係る実施形態の構成により、前記筒状部が他方の端部に端面をもつ。前記壁部が前記筒状部を前記端面と間に前記隙間空間を設けて覆う。
その結果、端面と壁部との隙間空間に充満してから開口と基板の縁部との隙間から出て、基板の縁部に付着した液滴を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
【００２１】
上記目的を達成するため、本発明に係る基板を検査するための基板に液滴を付着して移動させる基板検査装置を、基板を保持して基板の中心軸の回りに回転させる基板回転機器と、上記のうちの一つに記載の回収治具と、前記回収治具を保持可能な回収治具保持機器と、を備えるものとした。
【００２２】
上記本発明の構成により、基板回転機器が、基板を保持して基板の中心軸の回りに回転させる。回収治具保持機器が、上記のうちの一つに記載の回収治具を保持可能である。
その結果、液滴を基板の縁部に付着させて基板の周囲に沿って移動させることをできる。
【００２３】
以下に、本発明の実施形態に係る基板検査装置を説明する。本発明は、以下に記載した実施形態のいずれか、またはそれらの中の二つ以上が組み合わされた態様を含む。
【００２４】
また、本発明の実施形態に係る基板検査装置は、基板の縁部が前記開口に挿入されるときに、前記隙間空間の圧力に応じて基板と前記回収治具との相対距離を調整する。
上記本発明に係る実施形態の構成により、基板の縁部が前記開口に挿入されるときに、前記隙間空間の圧力に応じて基板と前記回収治具との相対距離を調整する。
その結果、前記隙間空間の圧力を基に基板の面と回収治具の開口と凹みとのギャップを調整できる。
【００２５】
また、本発明の実施形態に係る基板検査装置は、基板の縁部が前記開口に挿入されるときに、前記基板の表面または裏面のどちらか一方の面の前記開口に近い箇所の圧力に応じて基板と前記回収治具との相対距離を調整する。
上記本発明に係る実施形態の構成により、基板の縁部が前記開口に挿入されるときに、前記基板の表面または裏面のどちらか一方の面の前記開口に近い箇所の圧力に応じて基板と前記回収治具との相対距離を調整する。
その結果、基板の面の前記開口に近い個所の圧力を基に基板の面と回収治具の開口と凹みとのギャップを調整できる。
【発明の効果】
【００２６】
以上説明したように、本発明に係る回収治具は、その構成により、以下の効果を有する。
第一治具が基板の縁部に付着した液滴を保持し、ガスを第一治具に保持される液滴が縁部に付着する付着領域の輪郭に沿って基板の面に吹き付ける様にしたので、基板の縁部に付着した液滴を付着領域から漏らすことなく保持できる。
また、基板の中心軸に沿う方向に向ける軸芯をもつ筒状部に基板の縁部に付着した液滴を保持する凹みを設け、第二治具の壁部が筒状部を側面の少なくとも前記凹みを設けられる箇所との間に隙間空間を設けて覆い、隙間空間と雰囲気を連通する開口を壁部の前記凹みに対面する位置に設け、前記隙間空間へガスを供給する様にしたので、ガスが前記隙間空間に入り、凹みＤに保持される液滴の前記付着領域の輪郭に沿って基板の表面に吹き付けられて、基板１の縁部に付着した液滴を前記付着領域から漏らすことなく保持できる、
また、前記開口が基板の厚みより僅かに大きい幅寸法をもち基板の中心軸に交差する方向に延びる溝である第二溝により形成される様にしたので、前記開口に挿入される基板の縁部と第二溝で形成される開口Ｗとの隙間寸法を安定して維持できる。
また、使用時の姿勢において、前記第二溝が基板の表面に対面する面と基板の裏面に対面する面と基板の縁部に対面する一対の面とで形成される様にしたので、前記開口に挿入される基板の縁部と第二溝で形成される開口との隙間寸法をより安定して維持できる。
また、前記壁部が前記筒状部を前記側面と間に前記隙間空間を設けて覆う様にしたので、ガスが側面の全周との間に設けた隙間空間Ｓに一端充満してから開口と基板の縁部との隙間から出て、基板の縁部に付着した液滴を付着領域から漏らすことなく保持できる。
また、前記ガスが前記隙間空間へ前記筒状部の一方の端の側から供給される様にしたので、ガスが前記隙間空間に充満してから開口と基板の縁部との隙間から出て、基板の縁部に付着した液滴を付着領域から漏らすことなく保持できる。
また、前記壁部が前記筒状部を前記側面と前記端面と間に前記隙間空間を設けて覆う様にしたので、側面の全周と端面と壁部との隙間空間に充満してから開口と基板の縁部との隙間から出て、基板の縁部に付着した液滴を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
また、前記壁部が前記筒状部を前記側面の全周と凸の形状をした前記端面と間に前記隙間空間を設けて覆う様にしたので、側面の全周と凸の形状をした端面と壁部との隙間空間に充満してから開口と基板の縁部との隙間から出て、基板の縁部に付着した液滴を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
また、前記開口を正面から見て基板の中心軸に交差する方向に延びる前記第一溝が前記第二溝から覗ける様にしたので、第二溝に倣って開口に挿入された基板の縁が第一溝に倣って凹みに対面し、基板の縁部に付着した液滴を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
また、凹みが液体を貯留可能な内部空間に連通する様にしたので、内部空間に貯留される液体の一部が液滴として基板の縁部に付着できる。
また、前記壁部が前記筒状部を前記側面の全周と間に前記隙間空間を設けて覆う様にしたので、ガスが側面の全周との間に設けた隙間空間に一端充満してから開口と基板の縁部との隙間から出て、基板の縁部に付着した液滴を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
また、前記壁部が前記筒状部を前記端面と間に前記隙間空間を設けて覆う様にしたので、端面と壁部との隙間空間に充満してから開口と基板の縁部との隙間から出て、基板の縁部に付着した液滴を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
【００２７】
以上説明したように、本発明に係る基板検査装置は、その構成により、以下の効果を有する。
回収治具保持機器が上記にうちの一つに記載の回収治具を保持し、基板回転機器が基板を保持して基板の中心軸の回りに回転させる様にしたので、液滴を基板の縁部に付着させて基板の周囲に沿って移動させることをできる。
また、基板の縁部が前記開口に挿入されるときに、前記隙間空間の圧力に応じて基板と前記回収治具との相対距離を調整する様にしたので、前記隙間空間の圧力を基に基板の面と回収治具の開口と凹みとのギャップを調整できる。
また、基板の縁部が前記開口に挿入されるときに、前記基板の表面または裏面のどちらか一方の面の前記開口に近い箇所の圧力に応じて基板と前記回収治具との相対距離を調整する様にしたので、基板の面の前記開口に近い個所の圧力を基に基板の面と回収治具の開口と凹みとのギャップを調整できる。、
その結果、測定精度をより向上させることのできる基板検査装置と回収治具、及び基板の縁部に液滴を付着させて縁部に沿って移動させるのに好適な基板検査装置と回収治具とを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の実施形態に係る基板検査装置の平面図である。
【図２】本発明の実施形態に係る基板検査装置の正面図である。
【図３】本発明の実施形態に係る基板検査装置の側面図である。
【図４】本発明の第一の実施形態に係る回収治具の正面断面図である。
【図５】本発明の第一の実施形態に係る回収治具の側面断面図である。
【図６】本発明の第一の実施形態に係る回収治具のＡ−Ａ断面図である。
【図７】本発明の第一の実施形態に係る回収治具の部分断面図である。
【図８】本発明の第二の実施形態に係る回収治具の部分断面図である。
【図９】本発明の第三の実施形態に係る回収治具の部分断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、本発明を実施するための最良の形態を、図面を参照して説明する。
【００３０】
最初に、本発明の実施形態に係る基板検査装置を、図を基に、説明する
図１は、本発明の実施形態に係る基板検査装置の平面図である。図２は、本発明の実施形態に係る基板検査装置の正面図である。図３は、本発明の実施形態に係る基板検査装置の側面図である。
以下では、基板１の中心軸が垂直である場合を例に、説明する。
【００３１】
本発明の実施形態にかかる基板検査装置２は、基板１を検査するための基板１に液滴４を付着して移動させる装置である。
【００３２】
以下では、基板１に存在する不純物の量を検査する場合を例に、基板検査装置２を説明する。
基板１がシリコンウェハーである場合に、基板１に存在する不純物の量を検査するには、第一の方法では、基板の表面を液体蒸気（例えば、ＨＦ（ふっ化水素）水溶液の蒸気）に晒して、液体により基板１の表面の酸化膜を溶かす。その後、基板検査装置を用いて、基板１を検査するために基板１に液滴４を付着して移動させる。第二の方法では、基板の表面に液体（例えば、ＨＦ（ふっ化水素）水溶液の蒸気）を滴下する。液体により基板１の表面の酸化膜を溶かす。その後、基板検査装置を用いて、基板１を検査するために基板１に液滴４を付着して移動させる。
基板検査装置２は、基板１の表面に液滴（例えば、ＨＦ（ふっ化水素）水溶液）を滴下し、液滴４を基板１の表面を所定の領域をなぞる様に移動させ、その液滴４を回収する。その液滴４に混ざった不純物の量を測定すると、基板１の表面の所定の領域に存在した不純物の量を特定できる。
【００３３】
基板検査装置２は、基板回転機器１０と回収治具３０と回収治具保持機器２０とで構成される。
基板検査装置２は、下部構造体３と基板回転機器１０と回収治具保持機器２０と回収治具３０と液体回収機器４０と基板芯だし機器５０とで構成されてもよい。
【００３４】
下部構造体３は、基板回転機器１０と回収治具保持機器２０と回収治具３０と液体回収機器４０と基板芯だし機器５０を上面に乗せ、これらの機器を制御するためのコントローラや制御盤面を備えた構造体である。
【００３５】
基板回転機器１０は、基板１を保持して基板１の中心軸の回りに回転させる機器である。
例えば、基板回転機器１０は、水平になった基板１の下面を下方から保持面で保持して垂直な回転中心軸まわりに回転させる機器であり、基板保持部材（図示せず）と基板保持基台（図示せず）とで構成される。
基板保持部材は、水平になった基板１の下面を下方から保持面Ｍで保持する部材である。真空チャック機構が、保持面Ｍに設けられる。真空チャック機構は、負圧により保持面Ｍに保持された基板１を固定する。
基板保持基台は、基板保持部材を回転中心軸の回りに回転自在に支持する機器である。
【００３６】
回収治具３０は、基板１を検査するために基板１に液滴４を付着させて保持する治具である。
回収治具３０の詳細は、後述する。
【００３７】
回収治具保持機器２０は、回収治具３０を保持できる機器である。
回収治具保持機器２０は、基板１の縁部１ａに付着した液滴４を保持する姿勢をとる回収治具を保持できる。
【００３８】
例えば、回収治具保持機器２０は、水平アーム２１とアーム回転軸２２とアーム回転基台２３と回転治具ホルダー２４とで構成される。
水平アーム２１は、先端部に回収治具フォルダー２４を固定し、後端部をアーム回転軸２２に固定した梁構造である。
アーム回転軸２２は、水平アーム２１の後端部を固定し、垂直な回転軸の回りに回転する構造体である。
アーム回転基台２３は、アーム回転軸２２を回転自在に保持する構造体であり、下部構造３に取り付けられる。
回収治具フォルダー２４は、回収治具３０を保持する構造体である。回収治具フォルダー２４の先端部は、回収治具３０が嵌合する嵌合部を持つ。
【００３９】
液体回収機器４０は、回収治具３０から液体を回収する機器である。
例えば、液体回収機器４０は、回収治具３０が保持する液滴４を容器に回収する。
【００４０】
基板芯だし機器５０は、基板１の芯を出して、基板回転機器１０にセットする機器である。
【００４１】
以下に、本発明の実施形態にかかる回収治具を、図を基に、説明する。
図４は、本発明の第一の実施形態に係る回収治具の正面断面図である。図５は、本発明の第一の実施形態に係る回収治具の側面断面図である。図６は、本発明の第一の実施形態に係る回収治具のＡ−Ａ断面図である。図７は、本発明の第一の実施形態に係る回収治具の部分断面図である。図８は、本発明の第二の実施形態に係る回収治具の部分断面図である。図９は、本発明の第三の実施形態に係る回収治具の部分断面図である。
【００４２】
本発明の実施形態にかかる回収治具３０は、基板１を検査するために基板１に液滴４を付着させて保持するものである。
回収治具３０は、ガス供給手段３４と第一治具３１と第二治具３２とで構成される。
例えば、回収治具３０は、ガス供給手段３４と第一治具３１と第二治具３２とフランジ３３とで構成される。
回収治具３０は、ガス供給手段３４と第一治具３１と第二治具３２と圧力測定器３５とで構成されてもよい。
例えば、回収治具３０は、ガス供給手段３４と第一治具３１と第二治具３２とフランジ３３と圧力測定器３５とで構成される。
【００４３】
ガス供給手段３４は、ガスを供給する手段である。
ガスは、エアー、窒素、その他である。
ガス供給手段３４が、ガスを後述する隙間空間Ｓに供給する。
ガス供給手段３４が、ガスを、ガス導入孔Ｋを通過して、後述する隙間空間Ｓに供給する。
【００４４】
第一治具３１は、基板１の縁部１ａに付着した液滴４を保持するものである。
第一治具３１は、軸芯を基板１の中心軸に沿う方向に向ける筒状部３１ａを持ち、筒状部が側面に基板１の縁部１ａに付着した液滴４を保持する凹みＤを設けられてもよい。
例えば、基板１の中心軸が垂直である場合に、第一治具３１は、軸芯を上下方向に向ける筒状部３１ａを持ち、筒状部３１ａが側面に基板１の縁部１ａに付着した液滴４を保持する凹みＤを設けられる。
【００４５】
筒状部３１ａの側面が、円筒状であってもよい。  
【００４６】
筒状部３１ａの一方の端部が、後述するフランジ３３に連結してもよい。
【００４７】
第一治具３１が、筒状部３１ａの他方の端部に凸の形状をした端面をもっていてもよい。
第一治具３１が、筒状部３１ａの他方の端部に球状の凸の形状をした端面をもっていてもよい。
【００４８】
凹みＤが、基板１の中心軸に交差する方向に延びる溝である第一溝３１ｂにより形成されてもよい。
後述する開口Оを横から見て後述する第一溝３１ｂが後述する第二溝３２ｂから覗ける様になっていてもよい。
【００４９】
後述する開口Оを正面から見て、後述する凹みＤが後述する第二溝３２ｂから覗ける様になっていてもよい。
【００５０】
第一治具３１が液体を貯留可能な内部空間Ｈをもち、凹みＤが該内部空間Ｈに連通してもよい。
【００５１】
第一治具３１が液体を貯留可能な内部空間Ｈをもち、第一溝３１ｂが該内部空間Ｈと後述する隙間空間Ｓとを連通してもよい。
第一溝３１ｂの幅が基板１の厚みより大きくてもよい。
【００５２】
第二治具３２が、ガスを第一治具３１に保持される液滴４が基板１の縁部１ａに付着する領域である付着領域の輪郭に沿って基板１の面に吹き付ける様に案内するものである。
第二治具３２が、ガスを第一治具３１に保持される液滴４が基板１の縁部１ａに付着する領域である付着領域の輪郭の全周に沿って基板１の面に吹き付ける様に案内してもよい。
【００５３】
第二治具３２が、筒状部３１ａを側面の少なくとも凹みＤを設けられる箇所との間に隙間空間Ｓを設けて覆う壁部３２ａを持ち、壁部３２ａは凹みＤに対面する位置に隙間空間Ｓと雰囲気の空間と連通する開口Ｗを設けられてもよい。
ガスが隙間空間Ｓへ供給される様になった。
【００５４】
開口Ｗが、基板１の厚みより僅かに大きい幅寸法をもち基板１の中心軸に交差する方向に延びる溝である第二溝により形成されてもよい。
【００５５】
使用時の姿勢において、第二溝３２ｂが基板１の表面に対面する面と基板１の裏面に対面する面と基板１の縁部１ａに対面する一対の面とで形成されてもよい。
例えば、使用時の姿勢において、第二溝３２ｂが基板１の表面に平行に対面する面と基板１の裏面に平行に対面する面と基板１の縁部１ａに対面する一対の面とで形成される。
【００５６】
壁部３２ａが、筒状部３１ａを、側面と間に隙間空間Ｓを設けて、覆ってもよい。
【００５７】
壁部３２ａが、筒状部３１ａを、側面の全周と間に隙間空間Ｓを設けて、覆ってもよい。
【００５８】
壁部３２ａが、筒状部３１ａを、側面と端面と間に隙間空間Ｓを設けて、覆ってもよい。
【００５９】
壁部３２ａが、筒状部３１ａを、端面と間に隙間空間Ｓを設けて、覆ってもよい。
【００６０】
ガスが、隙間空間Ｓへ供給される。
【００６１】
ガスが、隙間空間Ｓへ筒状部３１ａの一方の端の側から供給されてもよい。
例えば、筒状部材の軸芯が上下方向に延びる場合、ガスが、隙間空間Ｓへ上方から供給される。
【００６２】
フランジ３３は、回収治具３０を回収治具ホルダー２４に取り付けるためのフランジ状部分である。
【００６３】
圧力測定器３５は、基板１の表面または裏面のどちらか一方の面の開口Ｗに近い箇所の圧力２を測定するための測定管である。
【００６４】
図９は、回収治具３０が圧力測定器３５をもつ様子を示す。
図８は、回収治具３０が圧力測定器３５をもたない様子を示す。  
【００６５】
図１乃至７は、第一治具３１が内部空間Ｈを設けられ、ガスが隙間空間Ｓへ上方から供給させる様子を示す。
【００６６】
図８は、第一治具３１が内部空間Ｈを設けられておらず、凹みＤが溝型である様子を示す。
【００６７】
以下に、本発明の実施形態にかかる基板検査装置における回収治具の使用方法を説明する。
【００６８】
基板１の縁部１ａが開口Ｗに挿入されるときに、隙間空間Ｓの圧力に応じて基板１と回収治具との相対距離を調整してもよい。
基板１の縁部１ａが開口Ｗに挿入されるときに、隙間空間Ｓの圧力に応じて基板１と回収治具３０との基板１の中心軸に沿った向きの相対距離を調整してもよい。
基板１の中心軸が垂直である場合に、基板１の縁部１ａが開口Ｗに挿入されるときに、隙間空間の圧力に応じて基板１と回収治具３０との上下方向の相対距離を調整してもよい。
基板１の中心軸が垂直である場合に、基板１の縁部１ａが開口Ｗに挿入されるときに、隙間空間の圧力に応じて、回収治具保持機器２０が回収治具３０の上下方向の距離を調整してもよい。
基板１の中心軸が垂直である場合に、基板１の縁部１ａが開口Ｗに挿入されるときに、隙間空間の圧力が所定の圧力により、回収治具保持機器２０が回収治具３０の上下方向の距離を調整してもよい。
所定の圧力は、開口Ｗと基板１の表面、裏面との隙間が所定の値になる様に予め設定される値である。
【００６９】
基板１の縁部１ａが開口Ｗに挿入されるときに、基板１の表面または裏面のどちらか一方の面の開口Ｗに近い箇所の圧力に応じて基板１と回収治具３０との相対距離を調整してもよい。
基板１の縁部１ａが開口Ｗに挿入されるときに、基板１の表面または裏面のどちらか一方の面の開口Ｗに近い箇所の圧力に応じて基板１と回収治具３０との基板１の中心軸に沿った向きの相対距離を調整してもよい。
基板１の中心軸が垂直である場合に、基板１の縁部１ａが開口Ｗに挿入されるときに、基板１の表面または裏面のどちらか一方の面の開口Ｗに近い箇所の圧力に応じて基板１と回収治具３０との上下方向の相対距離を調整してもよい。  
基板１の中心軸が垂直である場合に、基板１の縁部１ａが開口Ｗに挿入されるときに、基板１の表面または裏面のどちらか一方の面の開口Ｗに近い箇所の圧力に応じて、回収治具保持機器２０が回収治具３０の上下方向の距離を調整してもよい。
例えば、基板１の中心軸が垂直である場合に、基板１の縁部１ａが開口Ｗに挿入されるときに、基板１の表面または裏面のどちらか一方の面の開口Ｗに近い箇所の圧力が所定の圧力になる様に、回収治具保持機器２０が回収治具３０の上下方向の距離を調整する。
所定の圧力は、開口Ｗと基板１の表面、裏面との隙間が所定の値になる様に予め設定される値である。
【００７０】
以上説明したように、本発明の実施形態に係る回収治具は、その構成により、以下の効果を有する。
第一治具３１が基板１の縁部１ａに付着した液滴４を保持し、ガスを第一治具３１に保持される液滴４が縁部１ａに付着する付着領域の輪郭に沿って基板１の面に吹き付ける様にしたので、基板１の縁部１ａに付着した液滴４を付着領域から漏らすことなく保持できる。
また、基板１の中心軸に沿う方向に向ける軸芯をもつ筒状部に基板１の縁部１ａに付着した液滴４を保持する凹みを設け、第二治具３２の壁部が筒状部３１ａを側面の少なくとも凹みＤを設けられる箇所との間に隙間空間Ｓを設けて覆い、隙間空間Ｓと雰囲気を連通する開口Ｗを壁部の凹みＤに対面する位置に設け、隙間空間Ｓへガスを供給する様にしたので、ガスが隙間空間Ｓに入り、凹みＤに保持される液滴４の付着領域の輪郭に沿って基板１の表面に吹き付けられて、基板１の縁部１ａに付着した液滴４を付着領域から漏らすことなく保持できる、
また、開口Ｗが基板１の厚みより僅かに大きい幅寸法をもち基板１の中心軸に交差する方向に延びる溝である第二溝３２ｂにより形成される様にしたので、開口Ｗに挿入される基板１の縁部１ａと第二溝３２ｂで形成される開口Ｗとの隙間寸法を安定して維持できる。
また、使用時の姿勢において、第二溝３２ｂが基板１の表面に対面する面と基板１の裏面に対面する面と基板１の縁部１ａに対面する一対の面とで形成される様にしたので、開口Ｗに挿入される基板１の縁部１ａと第二溝３２ｂで形成される開口Ｗとの隙間寸法をより安定して維持できる。
また、使用時の姿勢において、第二溝３２ｂが基板１の表面に平行に対面する面と基板１の裏面に平行に対面する面と基板１の縁部１ａに対面する一対の面とで形成される様にしたので、開口Ｗに挿入される基板１の縁部１ａと第二溝３２ｂで形成される開口Ｗとの隙間寸法をより安定して維持できる。
また、壁部３２ａが筒状部３１ａを側面と間に隙間空間Ｓを設けて覆う様にしたので、ガスが側面の全周との間に設けた隙間空間Ｓに一端充満してから開口Ｗと基板１の縁部１ａとの隙間から出て、基板１の縁部１ａに付着した液滴４を付着領域から漏らすことなく保持できる。
また、ガスが隙間空間Ｓへ筒状部３１ａの一方の端の側から供給される様にしたので、ガスが隙間空間Ｓに充満してから開口Ｗと基板１の縁部１ａとの隙間から出て、基板１の縁部１ａに付着した液滴４を付着領域から漏らすことなく保持できる。
また、壁部３２ａが筒状部３１ａを側面と端面と間に隙間空間Ｓを設けて覆う様にしたので、側面の全周及び端面と壁部３２ａとの隙間空間Ｓに充満してから開口と基板１の縁部１ａとの隙間から出て、基板１の縁部１ａに付着した液滴４を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
また、壁部３２ａが筒状部３１ａを側面の全周及び凸の形状をした端面と間に隙間空間Ｓを設けて覆う様にしたので、側面の全周及び凸の形状をした端面と壁部との隙間空間Ｓに充満してから開口Ｗと基板１の縁部１ａとの隙間から出て、基板１の縁部１ａに付着した液滴４を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
また、開口Ｗを正面から見て基板１の中心軸に交差する方向に延びる第一溝が第二溝から覗ける様にしたので、第二溝３２ｂに倣って開口Ｗに挿入された基板１の縁が第一溝３１ｂに倣って凹みＤに対面し、基板１の縁部１ａに付着した液滴４を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
また、凹みＤが液体を貯留可能な内部空間Ｈに連通する様にしたので、内部空間Ｈに貯留される液体の一部が液滴４として基板１の縁部１ａに付着できる。
また、壁部３２ａが筒状部３１ａを側面の全周と間に隙間空間Ｓを設けて覆う様にしたので、ガスが側面の全周との間に設けた隙間空間Ｓに一端充満してから開口Ｗと基板１の縁部１ａとの隙間から出て、基板１の縁部１ａに付着した液滴４を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
また、壁部３２ａが筒状部３１ａを端面と間に隙間空間Ｓを設けて覆う様にしたので、端面と壁部３２ａとの隙間空間Ｓに充満してから開口Ｗと基板１の縁部１ａとの隙間から出て、基板１の縁部１ａに付着した液滴４を付着漁領域から漏らすことなく保持できる。
【００７１】
以上説明したように、本発明の実施形態に係る基板検査装置２は、その構成により、以下の効果を有する。
回収治具保持機器２０が上記にうちの一つに記載の回収治具３０を保持し、基板回転機器１０が基板１を保持して基板１の中心軸の回りに回転させる様にしたので、液滴４を基板１の縁部１ａに付着させて基板１の周囲に沿って移動させることをできる。
また、基板１の縁部１ａが開口Ｗに挿入されるときに、隙間空間Ｓの圧力に応じて基板１１と回収治具３０との相対距離を調整する様にしたので、隙間空間の圧力を基に基板１の面と回収治具の開口と凹みとのギャップを調整できる。
また、基板１の縁部１ａが開口Ｗに挿入されるときに、隙間空間Ｓの圧力に応じて基板１と回収治具３０との基板１の中心軸に沿った向きの相対距離を調整する様にしたので、隙間空間Ｓの圧力を基に基板１の面と回収治具３０の開口Ｗと凹みＤとのギャップを調整できる。
また、基板１の縁部１ａが開口Ｗに挿入されるときに、基板１の表面または裏面のどちらか一方の面の開口Ｗに近い箇所の圧力に応じて基板１と回収治具３０との相対距離を調整する様にしたので、基板１の面の開口Ｗに近い個所の圧力を基に基板１の面と回収治具の開口Ｗと凹みＤとのギャップを調整できる。、
また、基板１の縁部１ａが開口Ｗに挿入されるときに、基板１の表面または裏面のどちらか一方の面の開口Ｗに近い箇所の圧力に応じて基板１と回収治具３０との基板１の中心軸に沿った向きの相対距離を調整する様にしたので、基板１の面の開口Ｗに近い個所の圧力を基に基板１の面と回収治具３０の開口Ｗと凹みＤとのギャップを調整できる。、
【００７２】
本発明は以上に述べた実施形態に限られるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で各種の変更が可能である。
基板１の中心軸が垂直である場合を例に説明したが、これに限定されない。例えば、基板１の中心軸が水平であってもよい。例えば、基板１の中心軸が傾いていてもよい。
【符号の説明】
【００７３】
Ｈ    内部空間
Ｗ    開口
Ｄ    凹み
Ｋ    ガス導入孔
１    基板
１ａ  縁部１ａ
２    基板検査装置
３    下部構造体
４    液滴
１０    基板回転機器
２０    回収治具保持機器
２１    水平アーム
２２    アーム回転軸
２３    アーム回転基台
２４    回収治具フォルダー
３０    回収治具
３１    第一治具
３１ａ  筒状部
３１ｂ  第一溝
３２    第二治具
３２ａ  壁部
３２ｂ  第二溝
３３    フランジ
３４    ガス供給手段
３５    圧力測定器
４０    液滴回収機器
５０    基板芯だし機器
【先行技術文献】
【特許文献】
【００７４】
【特許文献１】特開平０２−２７２３５９号
【特許文献２】特開平０２−０２８５３３号
【特許文献３】特開平０８−２３３７０９号
【特許文献４】特開平０２−２２９４２８号
【特許文献５】ＷО２００５／０７３６９２
【特許文献６】特開２０１０−０４０５４８号
【図１】
2015099103.tif 000003
【図２】
2015099103.tif 000004
【図３】
2015099103.tif 000005
【図４】
2015099103.tif 000006
【図５】
2015099103.tif 000007
【図６】
2015099103.tif 000008
【図７】
2015099103.tif 000009
【図８】
2015099103.tif 000010
【図９】
2015099103.tif 000011