(57)【要約】【課題】均一な厚さの金属膜を基板上に形成することができるアノードユニットを提供する。【解決手段】アノードユニット２は、アノード３と、アノード３の中心部に接続された第１の給電部１１と、アノード３の中心軸Ｏ上に配置され、アノード３から離間して配置された第２の給電部１５と、第２の給電部１５から放射状に延びる複数のアーム１４ａとを備える。複数のアーム１４ａは、アノード３の外周部に接続されている。【選択図】図２
2015161028.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アノードと、
前記アノードの中心部に接続された第１の給電部と、
前記アノードの中心軸上に配置され、前記アノードから離間して配置された第２の給電部と、
前記第２の給電部から放射状に延びる複数のアームとを備え、
前記複数のアームは、前記アノードの外周部に接続されていることを特徴とするアノードユニット。
【請求項２】
前記複数のアームは、前記アノードの周方向に沿って等間隔に配列されていることを特徴とする請求項１に記載のアノードユニット。
【請求項３】
第１のアノードと、
前記第１のアノードから離間して、前記第１のアノードと平行に配置された第２のアノードと、
前記第１のアノードの中心部に接続された第１の給電部と、
前記第２のアノードの中心軸上に配置され、前記第１のアノードおよび前記第２のアノードから離間して配置された第２の給電部と、
前記第２の給電部から放射状に延びる複数のアームとを備え、
前記複数のアームは、前記第２のアノードの外周部に接続されていることを特徴とするアノードユニット。
【請求項４】
前記複数のアームは、前記第２のアノードの周方向に沿って等間隔に配列されていることを特徴とする請求項３に記載のアノードユニット。
【請求項５】
互いに離間して平行に配置された第１のアノードおよび第２のアノードと、
前記第１のアノードおよび前記第２のアノードの中心軸上に配置され、前記第１のアノードおよび前記第２のアノードから離間して配置された給電部と、
前記給電部から放射状に延びる複数の第１のアームと、
前記給電部から放射状に延びる複数の第２のアームとを備え、
前記複数の第１のアームは前記第１のアノードの外周部に接続されており、
前記複数の第２のアームは前記第２のアノードの外周部に接続されていることを特徴とするアノードユニット。
【請求項６】
前記複数の第１のアームは、前記第１のアノードの周方向に沿って等間隔に配列されており、
前記複数の第２のアームは、前記第２のアノードの周方向に沿って等間隔に配列されていることを特徴とする請求項５に記載のアノードユニット。
【請求項７】
めっき液を保持するめっき槽と、
前記めっき液に浸漬されるアノードを有するアノードユニットと、
前記めっき液に浸漬される基板を保持する基板ホルダと、
前記基板と前記アノードとの間に電圧を印加する第１の電源および第２の電源とを備え、
前記アノードユニットは、
前記アノードの中心部に接続された第１の給電部と、
前記アノードの中心軸上に配置され、前記アノードから離間して配置された第２の給電部と、
前記第２の給電部から放射状に延びる複数のアームとを備え、
前記複数のアームは、前記アノードの外周部に接続されており、
前記第１の給電部は、前記第１の電源に電気的に接続され、
前記第２の給電部は、前記第２の電源に電気的に接続されることを特徴とするめっき装置。
【請求項８】
前記複数のアームは、前記アノードの周方向に沿って等間隔に配列されていることを特徴とする請求項７に記載のめっき装置。
【請求項９】
前記第１の電源および前記第２の電源は、互いに独立に前記基板と前記アノードとの間に電圧を印加するように構成されていることを特徴とする請求項７または８に記載のめっき装置。
【請求項１０】
めっき液を保持するめっき槽と、
前記めっき液に浸漬されるアノードを有するアノードユニットと、
前記めっき液に浸漬される基板を保持する基板ホルダと、
前記基板と前記アノードとの間に電圧を印加する第１の電源および第２の電源とを備え、
前記アノードユニットは、
第１のアノードと、
前記第１のアノードから離間して、前記第１のアノードと平行に配置された第２のアノードと、
前記第１のアノードの中心部に接続された第１の給電部と、
前記第２のアノードの中心軸上に配置され、前記第１のアノードおよび前記第２のアノードから離間して配置された第２の給電部と、
前記第２の給電部から放射状に延びる複数のアームとを備え、
前記複数のアームは、前記第２のアノードの外周部に接続されており、
前記第１の給電部は、前記第１の電源に電気的に接続され、
前記第２の給電部は、前記第２の電源に電気的に接続されることを特徴とするめっき装置。
【請求項１１】
前記複数のアームは、前記第２のアノードの周方向に沿って等間隔に配列されていることを特徴とする請求項１０に記載のめっき装置。
【請求項１２】
めっき液を保持するめっき槽と、
前記めっき液に浸漬され、互いに離間して平行に配置された第１のアノードおよび第２のアノードを有するアノードユニットと、
前記めっき液に浸漬される基板を保持する基板ホルダと、
前記基板と前記第１および第２のアノードとの間に電圧を印加する電源とを備え、
前記アノードユニットは、
前記第１のアノードおよび前記第２のアノードの中心軸上に配置され、アノードから離間して配置された給電部と、
前記給電部から放射状に延びる複数の第１のアームと、
前記給電部から放射状に延びる複数の第２のアームとを備え、
前記複数の第１のアームは前記第１のアノードの外周部に接続されており、
前記複数の第２のアームは前記第２のアノードの外周部に接続されていることを特徴とするめっき装置。
【請求項１３】
前記複数の第１のアームは、前記第１のアノードの周方向に沿って等間隔に配列されており、
前記複数の第２のアームは、前記第２のアノードの周方向に沿って等間隔に配列されていることを特徴とする請求項１２に記載のめっき装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェハ等の基板の表面をめっきする際に使用されるアノードユニットおよび該アノードユニットを備えためっき装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体回路の配線やバンプ形成方法において、めっき処理を行ってウェハ等の基板上に金属膜や有機質膜を形成する方法が用いられるようになってきている。例えば、半導体回路やそれらを接続する微細配線が形成されたウェハの表面の所定個所に、金、銀、銅、はんだ、ニッケル、あるいはこれらを多層に積層した配線やバンプ（突起状接続電極）を形成し、このバンプを介してパッケージ基板の電極やＴＡＢ(Tape  Automated  Bonding)電極に接続させることが広く行われている。この配線やバンプの形成方法としては、電気めっき法、無電解めっき法、蒸着法、印刷法といった種々の方法があるが、半導体チップのＩ／Ｏ数の増加、狭ピッチ化に伴い、微細化に対応可能で膜付け速度の速い電気めっき法が多く用いられるようになってきている。現在最も多用されている電気めっきによって得られる金属膜は、高純度で、膜形成速度が速く、膜厚制御方法が簡単であるという特長がある。
【０００３】
一般的なめっき装置について図１３を参照して説明する。図１３は一般的なめっき装置を示す概略図である。図１３に示すように、このめっき装置は、めっき液を保持するめっき槽１０１と、アノードユニット１０７と、基板Ｗを保持するための基板ホルダ１０４とを備えている。アノードユニット１０７はアノード１０３を備えている。基板Ｗおよびアノード１０３は、めっき槽１０１のめっき液中に互いに対向するように鉛直に配置されている。アノード１０３と基板Ｗとの間には、基板Ｗの表面と平行に往復運動してめっき液を攪拌するパドル１０９が配置されている。めっき液をパドル１０９で攪拌することで、十分な金属イオンを基板Ｗの表面に均一に供給することができる。
【０００４】
アノード１０３は電源１０５の正極に接続され、基板Ｗは電源１０５の負極に接続される。アノード１０３と基板Ｗとの間に電圧を印加することで基板Ｗがめっきされる。めっき槽１０１に隣接してオーバーフロー槽１０６が設けられている。めっき槽１０１をオーバーフローしためっき液はオーバーフロー槽１０６に流れ込み、さらに循環ライン１２０を通ってめっき槽１０１内に戻される。
【０００５】
図１４はアノードユニット１０７を示す斜視図であり、図１５は図１４に示すアノードユニット１０７を横から見た図である。図１４および図１５に示すように、アノードユニット１０７は、アノード１０３の中心部に電流を流すための給電部１０８を有する給電ベルト１１０を備えている。給電部１０８はアノード１０３の中心部のみに接触しているため、図１５の矢印に示すように、電流はアノード１０３の中心部からアノード１０３の外周部に流れる。このため、アノード１０３の外周部での電流は、アノード１０３の電気抵抗の影響によって、アノード１０３の中心部での電流よりも低くなる。その結果、不均一な電流が基板Ｗに流れ、基板Ｗに形成される金属膜の厚さの均一性に悪影響を及ぼすことがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】実開平７−１０７０号公報
【特許文献２】特開２００２−４０９５号公報
【特許文献３】特開２００８−１５０６３１号公報
【特許文献４】米国特許第８０２９６５３号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は上述した問題点に鑑みてなされたもので、均一な厚さの金属膜を基板上に形成することができるアノードユニットおよび該アノードユニットを備えためっき装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様は、アノードと、前記アノードの中心部に接続された第１の給電部と、前記アノードの中心軸上に配置され、前記アノードから離間して配置された第２の給電部と、前記第２の給電部から放射状に延びる複数のアームとを備え、前記複数のアームは、前記アノードの外周部に接続されていることを特徴とするアノードユニットである。
【０００９】
本発明の好ましい態様は、前記複数のアームは、前記アノードの周方向に沿って等間隔に配列されていることを特徴とする。
【００１０】
本発明の他の態様は、第１のアノードと、前記第１のアノードから離間して、前記第１のアノードと平行に配置された第２のアノードと、前記第１のアノードの中心部に接続された第１の給電部と、前記第２のアノードの中心軸上に配置され、前記第１のアノードおよび前記第２のアノードから離間して配置された第２の給電部と、前記第２の給電部から放射状に延びる複数のアームとを備え、前記複数のアームは、前記第２のアノードの外周部に接続されていることを特徴とするアノードユニットである。
【００１１】
本発明の好ましい態様は、前記複数のアームは、前記第２のアノードの周方向に沿って等間隔に配列されていることを特徴とする。
【００１２】
本発明のさらに他の態様は、互いに離間して平行に配置された第１のアノードおよび第２のアノードと、前記第１のアノードおよび前記第２のアノードの中心軸上に配置され、前記第１のアノードおよび前記第２のアノードから離間して配置された給電部と、前記給電部から放射状に延びる複数の第１のアームと、前記給電部から放射状に延びる複数の第２のアームとを備え、前記複数の第１のアームは前記第１のアノードの外周部に接続されており、前記複数の第２のアームは前記第２のアノードの外周部に接続されていることを特徴とするアノードユニットである。
【００１３】
本発明の好ましい態様は、前記複数の第１のアームは、前記第１のアノードの周方向に沿って等間隔に配列されており、前記複数の第２のアームは、前記第２のアノードの周方向に沿って等間隔に配列されていることを特徴とする。
【００１４】
本発明のさらに他の態様は、めっき液を保持するめっき槽と、前記めっき液に浸漬されるアノードを有するアノードユニットと、前記めっき液に浸漬される基板を保持する基板ホルダと、前記基板と前記アノードとの間に電圧を印加する第１の電源および第２の電源とを備え、前記アノードユニットは、前記アノードの中心部に接続された第１の給電部と、前記アノードの中心軸上に配置され、前記アノードから離間して配置された第２の給電部と、前記第２の給電部から放射状に延びる複数のアームとを備え、前記複数のアームは、前記アノードの外周部に接続されており、前記第１の給電部は、前記第１の電源に電気的に接続され、前記第２の給電部は、前記第２の電源に電気的に接続されることを特徴とするめっき装置である。
【００１５】
本発明の好ましい態様は、前記複数のアームは、前記アノードの周方向に沿って等間隔に配列されていることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記第１の電源および前記第２の電源は、互いに独立に前記基板と前記アノードとの間に電圧を印加するように構成されていることを特徴とする。
【００１６】
本発明のさらに他の態様は、めっき液を保持するめっき槽と、前記めっき液に浸漬されるアノードを有するアノードユニットと、前記めっき液に浸漬される基板を保持する基板ホルダと、前記基板と前記アノードとの間に電圧を印加する第１の電源および第２の電源とを備え、前記アノードユニットは、第１のアノードと、前記第１のアノードから離間して、前記第１のアノードと平行に配置された第２のアノードと、前記第１のアノードの中心部に接続された第１の給電部と、前記第２のアノードの中心軸上に配置され、前記第１のアノードおよび前記第２のアノードから離間して配置された第２の給電部と、前記第２の給電部から放射状に延びる複数のアームとを備え、前記複数のアームは、前記第２のアノードの外周部に接続されており、前記第１の給電部は、前記第１の電源に電気的に接続され、前記第２の給電部は、前記第２の電源に電気的に接続されることを特徴とするめっき装置である。
【００１７】
本発明の好ましい態様は、前記複数のアームは、前記第２のアノードの周方向に沿って等間隔に配列されていることを特徴とする。
【００１８】
本発明のさらに他の態様は、めっき液を保持するめっき槽と、前記めっき液に浸漬され、互いに離間して平行に配置された第１のアノードおよび第２のアノードを有するアノードユニットと、前記めっき液に浸漬される基板を保持する基板ホルダと、前記基板と前記第１および第２のアノードとの間に電圧を印加する電源とを備え、前記アノードユニットは、前記第１のアノードおよび前記第２のアノードの中心軸上に配置され、アノードから離間して配置された給電部と、前記給電部から放射状に延びる複数の第１のアームと、前記給電部から放射状に延びる複数の第２のアームとを備え、前記複数の第１のアームは前記第１のアノードの外周部に接続されており、前記複数の第２のアームは前記第２のアノードの外周部に接続されていることを特徴とするめっき装置である。
【００１９】
本発明の好ましい態様は、前記複数の第１のアームは、前記第１のアノードの周方向に沿って等間隔に配列されており、前記複数の第２のアームは、前記第２のアノードの周方向に沿って等間隔に配列されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
電気は、アノードの中心軸上に配置された給電部から放射状に延びる複数のアームを通じてアノードの外周部に供給される。したがって、電流はアノード全体を均一に流れ、均一な電場を基板とアノードとの間に形成することができ、結果として均一な厚さの金属膜を基板上に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の一実施形態に係るめっき装置を示す概略図である。
【図２】本実施形態に係るアノードユニットを、アノードユニットの基板に対向する面の反対側から見た斜視図である。
【図３】本実施形態に係るアノードユニットの断面斜視図である。
【図４】図２に示すアノードユニットの断面図である。
【図５】アノード上の給電点を示す模式図である。
【図６】アノードユニットの比較例を示す図である。
【図７】他の実施形態に係るアノードユニットの構成要素を示す分解斜視図である。
【図８】図７に示すアノードユニットの構成要素を組み合わせた断面斜視図である。
【図９】図８に示すアノードユニットの断面図である。
【図１０Ａ】第１のアノードおよび第２のアノードを横方向に相対的に僅かにずらして配置した図である。
【図１０Ｂ】第１のアノードおよび第２のアノードを縦方向に相対的に僅かにずらして配置した図である。
【図１１】アノードユニットのさらに他の実施形態を示す断面斜視図である。
【図１２】図１１に示すアノードユニットの断面図である。
【図１３】一般的なめっき装置を示す概略図である。
【図１４】図１３に示すアノードユニットを示す斜視図である。
【図１５】図１４に示すアノードユニットを横から見た図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。図１乃至図１２において、同一または相当する構成要素には、同一の符号を付して重複した説明を省略する。図１は、本発明の一実施形態に係るめっき装置を示す概略図である。図１に示すように、このめっき装置は、内部にめっき液を保持するめっき槽１と、アノード３を有するアノードユニット２と、基板ホルダ６とを備えている。基板ホルダ６は、ウェハなどの基板Ｗを着脱自在に保持し、かつ基板Ｗをめっき槽１内のめっき液に浸漬させるように構成されている。アノード３および基板Ｗは鉛直に配置され、めっき液中で互いに対向するように配置される。
【００２３】
めっき装置は、めっき槽１内のめっき液を攪拌するパドル２２と、基板Ｗ上の電位分布を調整する調整板（レギュレーションプレート）２４とをさらに備えている。調整板２４は、パドル２２とアノードユニット２との間に配置されており、めっき液中の電場を制限するための開口２４ａを有している。パドル２２は、基板ホルダ６に保持された基板Ｗの表面近傍に配置されており、かつ基板ホルダ６とアノードユニット２との間に配置されている。パドル２２は、鉛直に配置されており、基板Ｗと平行に往復運動することでめっき液を攪拌し、基板Ｗのめっき中に、十分な金属イオンを基板Ｗの表面に均一に供給することができる。
【００２４】
めっき槽１に隣接してオーバーフロー槽７が設けられている。オーバーフロー槽７とめっき槽１は循環ライン８によって接続されている。すなわち、循環ライン８の一端はオーバーフロー槽７の底部に接続され、循環ライン８の他端はめっき槽１の底部に接続されている。めっき槽１をオーバーフローしためっき液はオーバーフロー槽７に流れ込み、さらに循環ライン８を通ってめっき槽１内に戻される。
【００２５】
アノードユニット２について、図２乃至図４を参照しつつ説明する。図２は本実施形態に係るアノードユニット２を、アノードユニット２の基板Ｗに対向する面の反対側から見た斜視図である。図３は図２に示すアノードユニット２の断面斜視図である。図４は図２に示すアノードユニット２の断面図である。図２乃至図４に示すように、アノードユニット２は、円板状のアノード３と、アノード３に接続された第１の給電ベルト１０とを備えている。アノード３は、例えばチタンなどからなる導体に酸化イリジウムまたは白金を被覆した不溶解アノードである。
【００２６】
第１の給電ベルト１０は、アノード３の中心部に接続された第１の給電部１１を有している。この第１の給電部１１は、ねじなどの締結具１２によってアノード３の中心部に着脱可能に取り付けられており、第１の給電ベルト１０とアノード３の中心部とを電気的に接続している。
【００２７】
さらに、アノードユニット２は、第２の給電部１５を有する第２の給電ベルト１３と、第２の給電ベルト１３に接続され、アノード３の外周部と第２の給電ベルト１３とを電気的に接続する外周保持部材１４とを備えている。第２の給電部１５は、アノード３の中心軸Ｏ上に配置されており、かつアノード３から離間して配置されている。この中心軸Ｏは、アノード３の中心点を通り、かつアノード３の表面と垂直に延びる想像線である。第１の給電ベルト１０および第２の給電ベルト１３は、それぞれ第１の導電部材および第２の導電部材を構成し、これら導電部材の形状は本実施形態に限定されない。
【００２８】
外周保持部材１４は、第２の給電部１５に接続された複数のアーム１４ａを有している。これらのアーム１４ａは、第２の給電部１５から放射状に延びており、それぞれの先端部はアノード３の外周部に接続されている。アーム１４ａのそれぞれの先端部はアノード３に向かって屈曲しており、ねじなどの締結具１６によってアーム１４ａの先端部がアノード３の外周部に固定されている。各アーム１４ａは、アノード３の半径方向に延びている。これらアーム１４ａは、互いに同じ長さを有し、アノード３の周方向に沿って等間隔に配列されている。
【００２９】
本実施形態のアノードユニット２は８本のアーム１４ａを備えているが、アーム１４ａの本数はこの実施形態に限定されない。さらに、本実施形態の各アーム１４ａは単一の部材から構成されているが、複数の部材から各アーム１４ａが構成されてもよい。例えば、各アーム１４ａは、アノード３の半径方向に延びるアームベースと、このアームベースに着脱自在に連結され、アノード３の外周部に接続される先端部とから構成されてもよい。
【００３０】
図５はアノード３上の給電点を示す模式図である。第１の給電部１１は、アノード３の中心上の第１の給電点Ｑ１で電気をアノード３に供給する。第２の給電部１５に接続された複数のアーム１４ａは、アノード３の外周部上の複数の第２の給電点Ｑ２で電気をアノード３に供給する。図５から分かるように、第２の給電点Ｑ２は、第１の給電点Ｑ１を中心として円形のアノード３の周方向に沿って等間隔に配列されている。
【００３１】
図６はアノードユニット２の比較例を示す図である。図６に示すアノードホルダ３９のアーム３９ａ〜アーム３９ｄは、アノード３の外周部に接続されている点では図２に示すアノードユニット２と同じである。しかしながら、アーム３９ａ〜アーム３９ｄの長さはそれぞれ異なっているため、アーム３９ａ〜アーム３９ｄ内を流れる電流の大きさもそれぞれ異なる。その結果、不均一な電流がアノード３内を流れ、不均一な厚さの金属膜が基板Ｗ上に形成される。
【００３２】
これに対し、図２に示す複数のアーム１４ａは同じ長さを有しているため、アノード３の外周部に均一な電流を流すことができる。さらに、第１の給電部１１はアノード３の中心部に接続されているため、アノード３の中心部にも電流を流すことができる。このような構成により、均一な電流がアノード３を流れ、均一な電場をアノード３と基板Ｗとの間に形成することができる。したがって、均一な厚さの金属膜を基板Ｗ上に形成することができる。
【００３３】
図１に示すように、第１の給電ベルト１０は、アノード３と基板Ｗとの間に電圧を印加する第１の電源１７に接続されており、第２の給電ベルト１３は、アノード３と基板Ｗとの間に電圧を印加する第２の電源１８に接続されている。より具体的には、第１の給電ベルト１０は第１の電源１７の正極に接続され、基板Ｗは第１の電源１７の負極に接続される。第２の給電ベルト１３は第２の電源１８の正極に接続され、基板Ｗは第２の電源１８の負極に接続される。第１の電源１７および第２の電源１８は、互いに独立にアノード３と基板Ｗとの間に電圧を印加するように構成される。
【００３４】
このような構成により、第１の電源１７および第２の電源１８は、同一または異なる大きさの電流をアノード３の中心部および外周部にそれぞれ流すことができる。例えば、アノード３の外周部での電流がアノード３の中心部での電流よりも小さい場合、第２の電源１８の出力電圧を調整して、アノード３の外周部での電流がアノード３の中心部での電流と同等になるように上昇させる。このように、アノード３全体に均一な電流が流れるため、結果として均一な厚さの金属膜を基板Ｗ上に形成することができる。基板Ｗ上に形成される金属膜として、例えば、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、半田、錫（Ｓｎ）とコバルト（Ｃｏ）との合金などが挙げられる。
【００３５】
基板Ｗのめっきは次のように行われる。アノード３および基板ホルダ６に保持された基板Ｗをめっき槽１内の所定位置に配置する。この状態で、アノード３と基板Ｗとの間に電圧が印加され、これによって基板Ｗの表面に金属膜が形成される。アノード３の中心部は第１の給電部１１に電気的に接続され、アノード３の外周部は複数のアーム１４ａに電気的に接続されている。したがって、第１の電源１７および／または第２の電源１８の電圧を調整してアノード３の中心部および外周部に流れる電流の大きさを独立に調整することが可能である。
【００３６】
次に、アノードユニット２の他の実施形態について図７乃至図９を参照して説明する。特に説明しない本実施形態の構成は、上述した実施形態と同様であるので、その重複する説明を省略する。図７は他の実施形態に係るアノードユニット２の構成要素を示す分解斜視図である。図８は図７に示すアノードユニット２の構成要素を組み合わせた断面斜視図である。図９は図８に示すアノードユニット２の断面図である。本実施形態では、アノードユニット２は、２つのアノード、すなわち第１のアノード３Ａおよび第２のアノード３Ｂを備えている。第２のアノード３Ｂは第１のアノード３Ａよりも基板Ｗに近接して配置されている。
【００３７】
図７乃至図９に示すように、第１の給電部１１は第１のアノード３Ａの中心部に接続され、複数のアーム１４ａは第２のアノード３Ｂの外周部に接続されている。より具体的には、第１の給電部１１はねじなどの締結具１２によって第１のアノード３Ａの中心部に固定されており、複数のアーム１４ａの先端部はねじなどの締結具１６によって第２のアノード３Ｂの外周部に固定されている。図８に示すように、複数のアーム１４ａは第１のアノード３Ａに接触することなく、第１のアノード３Ａの外周部の外側を延びて、第２のアノード３Ｂの外周部に固定されている。第２の給電部１５はアノード３Ａ，３Ｂの中心軸Ｏ上にあり、アノード３Ａ，３Ｂから離間している。
【００３８】
第１のアノード３Ａと第２のアノード３Ｂとの間には、絶縁体からなる複数のスペーサ２８が配置されており、これらスペーサ２８によって第１のアノード３Ａと第２のアノード３Ｂとの間に一定の隙間が形成されている。第１のアノード３Ａおよび第２のアノード３Ｂは離間して互いに平行に配置されている。これらアノード３Ａ，３Ｂは同じ大きさの円板形状を有している。さらに、これらアノード３Ａ，３Ｂは同心状に配置されている。なお、アノード３Ａ，３Ｂは異なる大きさの円板形状を有してもよい。
【００３９】
一般に、不溶解アノードの表面は、めっき液中に含まれる添加剤（促進剤、抑制剤など）の消耗を抑制するためのコーティング材で覆われていることがある。しかしながら、アノードの表面上での電流密度が高いと、このコーティング材が剥がれてしまうことがある。本実施形態によれば、２枚のアノード３Ａ，３Ｂを使用することで、アノード全体としての表面積を大きくすることができる。したがって、アノード３Ａ，３Ｂと基板Ｗとの間に形成される電場の強さを維持しつつ、アノード３Ａ，３Ｂの表面上での電流密度を低くすることができる。したがって、アノード３Ａ，３Ｂの表面を覆うコーティング材の剥がれを防止することができる。さらに、アノード３Ａ，３Ｂの表面上での電流密度を低くすることにより、添加剤の消耗を抑制することができる。
【００４０】
さらに、本実施形態によれば、第１のアノード３Ａの中心部および第２のアノード３Ｂの外周部に電流を流すことで、均一な電場をアノード３Ａ，３Ｂと基板Ｗとの間に形成することができ、結果として均一な厚さの金属膜を基板Ｗ上に形成することができる。すなわち、第１のアノード３Ａのみでは基板Ｗ上に均一な厚さの金属膜を形成できない場合、第１のアノード３Ａおよび第１のアノード３Ａと給電位置の異なる第２のアノード３Ｂを互いに離間して平行に配置する。アノード３Ａ，３Ｂに同一または異なる大きさの電流を供給することにより、均一な厚さの金属膜を基板Ｗ上に形成することができる。
【００４１】
第２のアノード３Ｂは基板Ｗと第１のアノード３Ａとの間に位置しているため、第２のアノード３Ｂが第１のアノード３Ａと基板Ｗとの間に生じる電場を妨げることがある。そこで、第１のアノード３Ａおよび第２のアノード３Ｂを網目状のラス材（エキスパンデッドメタル）で構成してもよい。第１のアノード３Ａおよび第２のアノード３Ｂを正面から見たときに、第２のアノード３Ｂを構成するラス材は、第１のアノード３Ａを構成するラス材と重ならないように配置される。例えば、図１０Ａに示すように、第１のアノード３Ａおよび第２のアノード３Ｂを、ラス材の配列ピッチの１／２だけ横方向に互いに相対的にずらしてもよく、あるいは図１０Ｂに示すように、第１のアノード３Ａおよび第２のアノード３Ｂを、ラス材の配列ピッチの１／２だけ縦方向に互いに相対的にずらしてもよい。このような配置により、第２のアノード３Ｂが第１のアノード３Ａと基板Ｗとの間に生じる電場を遮蔽してしまうことを防止することができる。
【００４２】
図１１はアノードユニット２のさらに他の実施形態を示す断面斜視図である。図１２は図１１に示すアノードユニット２の断面図である。図１１および図１２に示すように、本実施形態のアノードユニット２は、２枚のアノード３Ａ，３Ｂを有している点では図８に示す実施形態と同じであるが、アノード３Ａの中心部に接続される第１の給電ベルト１０を有していない点で相違する。このため、以下の説明では、第２の給電ベルト１３を単に給電ベルト１３と呼び、第２の給電部１５を単に給電部１５と呼ぶ。図８に示す実施形態と同様に、第２のアノード３Ｂは第１のアノード３Ａよりも基板Ｗに近接して配置されている。
【００４３】
給電ベルト１３の給電部１５は、アノード３Ａ，３Ｂの外周部を保持する外周保持部材１４に接続されている。この外周保持部材１４は、複数の第１のアーム１４ａと、複数の第２のアーム１４ｂとを有している。給電部１５はアノード３Ａ，３Ｂの中心軸Ｏ上に配置されており、アノード３Ａ，３Ｂから離間している。複数のアーム１４ａ，１４ｂは給電部１５から放射状に延びている。複数の第１のアーム１４ａと複数の第２のアーム１４ｂは、交互に配置されている。
【００４４】
複数の第１のアーム１４ａの先端部は第１のアノード３Ａの外周部に接続されており、複数の第２のアーム１４ｂの先端部は第２のアノード３Ｂの外周部に接続されている。複数の第１のアーム１４ａは第１のアノード３Ａの周方向に沿って等間隔に配列されており、複数の第２のアーム１４ｂは第２のアノード３Ｂの周方向に沿って等間隔に配列されている。
【００４５】
これらアーム１４ａ，１４ｂの先端部は、それぞれアノード３Ａ，３Ｂに向かって屈曲しており、ねじなどの締結具１６によってアノード３Ａ，３Ｂの外周部に固定されている。第１のアノード３Ａおよび第２のアノード３Ｂが離間して互いに平行に配置されるように、アノード３Ａ，３Ｂはアーム１４ａ，１４ｂの先端部に保持されている。複数の第１のアーム１４ａは互いに同じ長さを有し、複数の第２のアーム１４ｂは互いに同じ長さを有している。さらに第１のアーム１４ａは第２のアーム１４ｂと略同じ長さを有している。複数の第２のアーム１４ｂは第１のアノード３Ａに接触することなく、第１のアノード３Ａの外周部の外側を延びて、第２のアノード３Ｂの外周部に固定されている。
【００４６】
本実施形態においても、２枚のアノード３Ａ，３Ｂを使用することで、アノード全体としての表面積を大きくすることができる。したがって、アノード３Ａ，３Ｂと基板Ｗとの間に形成される電場の強さを維持しつつ、アノード３Ａ，３Ｂの表面上での電流密度を低くすることができる。したがって、アノード３Ａ，３Ｂの表面を覆うコーティング材の剥がれや添加剤の過度の消耗を防止することができる。
【００４７】
これまで本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されず、その技術的思想の範囲内において種々異なる形態にて実施されてよいことは言うまでもない。
【符号の説明】
【００４８】
１，１０１  めっき槽
２，１０７  アノードユニット
３，１０３  アノード
３Ａ  第１のアノード
３Ｂ  第２のアノード
６，１０４  基板ホルダ
７，１０６  オーバーフロー槽
８  循環ライン
１０  第１の給電ベルト
１１  第１の給電部
１２，１６  締結具
１３  第２の給電ベルト
１４  外周保持部材
１４ａ  第１のアーム
１４ｂ  第２のアーム
１５  第２の給電部
１７  第１の電源
１８  第２の電源
２２  パドル
２４  調整板（レギュレーションプレート）
２４ａ  開口
２８  スペーサ
３９  アノードホルダ
３９ａ〜３９ｄ  アーム
１０５  電源
１０８  給電部
１０９  パドル
１１０  給電ベルト
１２０  循環ライン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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