(57)【要約】      （修正有）【課題】センサを設けることなく、ステージが有している水平方向に沿う面の傾きを矯正することが可能な、磁気浮上式のステージ装置を提供する。【解決手段】ステージ装置は、水平方向に沿った基準面ＺＲＥＦを有する基準部材ＸＭと、移動体と、移動体を磁気力で浮上支持する支持ユニットＬＶを有する。移動体は、移動体を移動させる第１アクチュエータＸＡＭ、ＹＡＭによって基準面ＺＲＥＦに沿って移動し、第２アクチュエータＺＡＭによって鉛直方向に移動する。さらに移動体は、第２アクチュエータＺＡＭを用いて基準面ＺＲＥＦに当接可能な凸部を有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
水平方向に沿った基準面を有する基準部材と、
移動体と、
前記移動体を磁気力により非接触支持する支持ユニットと
前記基準面に沿って前記移動体を移動させる第１アクチュエータと、
前記移動体を鉛直方向に移動させる第２アクチュエータとを有し、
前記移動体は、前記第２アクチュエータを用いて前記基準面に当接可能な凸部を有することを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
前記基準面は第１の基準面であり、前記基準部材は第１の基準部材であり、前記凸部は第１の凸部であって、
前記第１の基準面に垂直な第２の基準面を有する第２の基準部材とを有し、
前記移動体は、前記第１アクチュエータを用いて前記第２の基準面に当接可能な第２の凸部を有することを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項３】
前記基準面は第１の基準面であり、前記凸部は第１の凸部であって、
前記第１の凸部は、前記第１の基準面に対面している平面を有することを特徴とする請求項１又は２に記載のステージ装置。
【請求項４】
前記凸部は第１の凸部であって、
前記第１の凸部は３つ以上在り、全ての前記凸部が一直線上に並ぶことが無く、かつ、離間していることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項５】
前記基準面は前記移動体の下方に在る第１の基準面であり、前記第２アクチュエータは前記移動体を鉛直下方に移動させることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項６】
前記第２のアクチュエータは磁気力により前記移動体を移動させることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項７】
前記第２のアクチュエータが前記支持ユニットを兼ねることを特徴とする請求項６に記載のステージ装置。
【請求項８】
前記移動体は、前記凸部と一体に成形されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項９】
水平方向に沿った基準面を有する基準部材と、
移動体と、
前記移動体を磁気力により非接触支持する支持ユニットと
前記基準面に沿って前記移動体を移動させる第１アクチュエータと、
前記移動体を鉛直方向に移動させる第２アクチュエータとを有し、
前記第１のアクチュエータ又は前記第２のアクチュエータは、固定子及び可動子を有する電磁アクチュエータであって、
前記可動子は、前記第２アクチュエータを用いて前記基準面に当接可能であることを特徴とするステージ装置。
【請求項１０】
磁気力により浮上している移動体を鉛直方向に移動して基準面に近づけるステップと、
前記移動体が有する凸部を前記基準面に当接して、前記移動体の浮上面の傾きを前記基準面の傾きに合わせるように矯正するステップと、を有することを特徴とする移動体の姿勢の矯正方法。
【請求項１１】
基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、請求項１乃至９のいずれか１項に記載のステージ装置を有することを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載のリソグラフィ装置によって基板にパターンを形成する工程と、
前記基板に対してエッチング処理及びイオン注入処理の少なくともいずれか一方を施す工程とを有することを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステージ装置、移動体の姿勢の矯正方法、リソグラフィ装置及び物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体の回路パターンの形成に用いるリソグラフィ装置に対するスループット向上の要求に伴い、ウエハステージやレチクルステージ等のステージ装置の高速化と位置決め精度の高精度化が望まれている。特許文献１にはこれらの要求に応えるべく、鉛直方向に磁気で浮上するステージ構造を開示している。変位センサによる計測結果に基づいてステージの浮上制御をボイスコイルモータで行う旨が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−３７８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ステージの位置制御を精度良く行うためには、レーザ干渉計の計測光と当該計測光の反射面とが直交する状態であることが望ましい。そのため、ステージの制御装置の電源投入時にはステージの姿勢を矯正した状態で原点位置を決める必要がある。ところが磁気浮上式のステージの場合は、ステージが有している水平方向に沿った面の傾きも電源を切った段階で不定状態となってしまうため、電源投入時には改めてこの面の傾きを矯正してから原点位置を決めなければならない。
【０００５】
しかしながら、特許文献１のように変位センサを設けてステージが有している水平方向に沿う面の傾き矯正を行うと、ステージ構造の複雑化や、変位センサ用の配線による外乱要因の増加を招く恐れがある。
【０００６】
そこで、本発明は上記課題を鑑みてなされたものであり、センサを設けることなく、ステージが有している水平方向に沿う面の傾きを矯正することが可能な、磁気浮上式のステージ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明のステージ装置は、水平方向に沿った基準面を有する基準部材と、移動体と、
前記移動体を磁気力により非接触支持する支持ユニットと、前記基準面に沿って前記移動体を移動させる第１アクチュエータと、前記移動体を鉛直方向に移動させる第２アクチュエータとを有し、前記移動体は、前記第２アクチュエータを用いて前記基準面に当接可能な凸部を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、センサを設けることなく、磁気浮上式のステージが有している水平方向に沿う面の傾きを矯正することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】実施形態に係る描画装置１の構成図。
【図２】ステージ装置の構成図。
【図３】ステージの姿勢矯正及び原点出しに関するフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
磁気力によって支持された磁気浮上式のステージが有する水平方向に沿った面（以下、浮上面と称す）の傾きを、容易に矯正して原点出しを行うことが可能なステージ装置の構成について説明する。
【００１１】
（描画装置の構成）
本発明に係るステージ装置の実施形態について、図１を用いて説明する。図１はレジストの塗布されているウエハ（基板）Ｗ上に電子線を照射してパターン形成を行う描画装置（リソグラフィ装置）１の正面図である。Ｙ軸方向に対する、ステージ装置の構成は図２を用いて後述する。鏡筒ＣＬは、電子線を発生する電子源（不図示）と、電子源から射出された電子線をウエハＷ上に集束する電子光学系（不図示）を有している。さらに、鏡筒ＣＬは真空チャンバＶＣを貫通するように設置されており、真空チャンバＶＣ内及び鏡筒ＣＬ内は真空ポンプ（不図示）を用いて真空雰囲気に保たれている。
【００１２】
真空チャンバＶＣ内の底部には、土台となる定盤ＢＳ、及び定盤ＢＳを支え定盤ＢＳへ伝わる外部振動を低減するためのマウントＭＴがある。定盤ＢＳ上にはＸ軸方向に移動可能なステージＸＭがあり、ステージＸＭ上には、ウエハＷを保持した状態で水平方向であるＸ軸方向及びＹ軸方向と、鉛直方向であるＺ軸方向への移動が可能なステージＹＭ（移動体）がある。制御部２は、ステージＸＭ及びステージＹＭには、ステージＸＭやステージＹＭを移動するためのアクチュエータを制御する。
【００１３】
ステージＹＭ上には、Ｘ軸方向の位置を計測するために用いるミラーＸＢＭがある。真空チャンバＶＣから吊り下げられている干渉計ＬからミラーＸＢＭに向けてレーザ光を射出し、ミラーＸＢＭが反射したレーザ光と参照光との干渉光を検出する。干渉計Ｌは、この干渉光の強度変化に基づいてステージＹＭのＸ軸方向の変位を計測する。Ｙ軸方向及びＺ軸方向の変位も、ミラーＹＢＭ（図２（ａ）に図示）とＺ軸方向用のミラー（不図示）を用いて同様に計測する。干渉計Ｌによる検出結果から、検出器３がステージＹＭのＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸方向の位置を出力する。
【００１４】
主制御部４は、制御部２と検出器３に接続されている。主制御部４は、検出器３の計測結果に基づいて、ステージＸＭ及びステージＹＭに必要な移動量を制御部２に指示する。制御部２の指示に基づいてステージＸＭとステージＹＭが同期しながら移動をし、ステージＹＭの６軸方向（Ｘ、Ｙ、Ｚ、ωｘ、ωｙ、ωｚ）の位置が制御される。
【００１５】
（ステージ装置の詳細構成）
ステージＹＭは支持ユニットＬＶにより、ステージＸＭの上方で非接触で浮上支持されている。これにより、ステージＹＭは、ステージＹＭよりも下方に配置されているケーブル等による振動等の影響を受けず、かつ高速で移動することができる。
【００１６】
支持ユニットＬＶは、支持ユニットＬＶを構成している固定子ＬＶＳと可動子ＬＶＭとの間にはたらく磁気吸引力によってステージＹＭを浮上する。固定子ＬＶＳは鉄であり、可動子ＬＶＭは鉄ＬＶＭＳと、鉄ＬＶＭＳに固定されている永久磁石ＬＶＭＭで構成されている。固定子ＬＶＳは、ステージＹＭのＹ軸方向への移動が大幅に外れてしまうことを防ぐガイドとしての役割も有する。
【００１７】
ステージＹＭの底面には、ステージＹＭを移動するアクチュエータが配置されている。アクチュエータの可動子として磁石ユニットＸＡＭ、ＹＡＭ、ＺＡＭがある。磁石ユニットＸＡＭはステージＹＭをＸ軸方向に移動し、２つの磁石ユニットＹＡＭはステージＹＭをＹ軸方向に移動し、４つの磁石ユニットＺＡＭはステージＹＭをＺ軸方向に移動する。各々の磁石ユニットＸＡＭ、ＹＡＭ、ＺＡＭは、各々の磁石ユニットＸＡＭ、ＹＡＭ、ＺＡＭに対応するアクチュエータの固定子である、コイルＸＡＣ、ＹＡＣ、ＺＡＣが貫通できるように中空の構造をしている。
【００１８】
磁石ユニットＹＡＭは、コイルＹＡＣの上下に磁石ＹＡＭＭを各々配置しており、各々の磁石ＹＡＭＭのさらに上下をヨークＹＡＭＹで挟んでいる。さらに、ヨークＹＡＭＹ同士を中間部材ＹＡＭＩで固定している。Ｙ軸方向には異なる磁極の磁石ＹＡＭＭが交互に並べられている。
【００１９】
磁石ユニットＺＡＭの磁石ＺＡＭＭ１同士、ＺＡＭＭ２同士には互いに異なる向きの磁性を帯びた磁石である。磁石ＺＡＭＭ１、ＺＡＭＭ２の側面にはヨークＺＡＭＹが配置されており、ヨークＺＡＭＹ同士を中間部材ＺＡＭＩで固定している。
【００２０】
磁石ユニットＸＡＭは、コイルＸＡＣの上下にある磁石ＸＡＭＭと、各々磁石の上下に配置されたヨークＸＡＭＹと、ヨークＸＡＭＹ同士を連結するように固定する中間部材ＸＡＭＩで構成されている。各々の磁石ＸＡＭＭはＸ軸方向に異なる向きの磁性を帯びた磁石である。
【００２１】
次に、鏡筒ＣＬ下面からステージＹＭを見た図を図２（ａ）に、ステージＸＭからステージＹＭを見た図を図２（ｂ）に示す。なお、図１（ａ）に示した支持ユニットＬＶは省略している。図２（ａ）（ｂ）に示すように、ステージＸＭはＹ軸方向に長い形状をしている。コイルＸＡＣは単相の長円形コイルであって、ＸＹ平面においてＹ軸方向に長い形状をしている。コイルＺＡＣも単相の長円形コイルであり、コイルＺＡＣの成す面がコイルＸＡＣの成す面と直角を成すように配置されている。一方、コイルＹＡＣは多相コイルで構成されており、ステージＹＭをＹ軸方向に長距離駆動できる構成となっている。
【００２２】
制御部２は、コイルＸＡＣに電流を流して、電磁力により磁石ユニットＸＡＭ及びステージＹＭをＸ軸方向に駆動する。同様にコイルＺＡＣに電流を流して、磁石ユニットＺＡＭ及びステージＹＭをＺ軸方向に駆動する。さらに、制御部２はステージＹＭの位置に応じたコイルＹＡＣの所定のコイルに対して電流を流して、磁石ユニットＹＡＭ及びステージＹＭをＹ軸方向に駆動する。
【００２３】
図２（ｂ）に示すように、コイルＺＡＣの各コイルは、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向に離間して配置されている。これにより、描画中に、ウエハＷ表面の微小な凹凸等に合わせてステージＹＭの傾きを制御することも可能である。このようにして、制御部２からの指示に基づいて各々のコイルに対して流れる電流量、電流の方向、及びタイミング等に応じて、ステージＹＭの位置が制御される。
【００２４】
ステージＸＭはリニアモータ（不図示）を用いて、転動ガイド（不図示）に支持されながらＸ軸方向に移動する。ステージＸＭが移動した分だけ、磁石ユニットＸＡＭも移動することで、ステージＸＭとステージＹＭが一体となってＸ軸方向に移動する。
【００２５】
ステージＸＭとステージＹＭの移動によって、ウエハＷは図２（ｃ）に示すような軌跡を描く。電子線を照射しながらＹ軸方向に駆動するスキャン駆動（実線部）と、電子線を照射していない間にＸ軸方向に移動するステップ駆動（破線部）とを繰り返す。ステージＸＭ及びステージＹＭの１回あたりの移動距離は、例えば、Ｘ軸方向には１０〜１００μｍに対してＹ軸方向には１００〜１０００ｍｍである。
【００２６】
図１及び図２（ｂ）（ｄ）を用いて、本実施形態の特徴的な構成である、ステージＹＭの浮上面の傾きを矯正するための構成について説明する。
【００２７】
ステージＸＭ上には、水平方向に沿った平面であるＺ基準面（（第１の）基準面）ＺＲＥＦが形成された基準部材ＺＢと、Ｚ基準面ＺＲＥＦに垂直なＸ基準面（第２の基準面）ＸＲＥＦが形成された基準部材ＸＢがある。さらに、ステージＹＭの側面のうちＸ基準面ＸＲＥＦと対向する面には当接部材（第２の凸部）ＸＰが、各磁石ユニットＺＡＭの底面には、Ｚ基準面ＺＲＥＦと対向するように４つの当接部材（第１の凸部）ＺＰ１〜ＺＰ４がある。図２（ｄ）に示すように、ステージＹＭの側面であって基準面ＸＲＥＦに対向する面に、当接部材ＸＰが２つ並んでいる。
【００２８】
制御部２がステージＹＭを下降させ、当接部材ＺＰ１〜ＺＰ４をＺ基準面ＺＲＥＦに突き当てることで、ステージＹＭの浮上面の傾きを矯正することができる。一方、当接部材ＸＰをＸ基準面ＸＲＥＦに突き当てることで、ステージＹＭの水平面における回転ずれを矯正することができる。これらの動作を、電源を入れた後の原点出し前に行えば、当接部材ＸＰとＺＰ１〜ＺＰ４を用いてステージＹＭの６軸方向の姿勢矯正をすることができる。
【００２９】
当接部材ＺＰ１〜ＺＰ４は、ステージＹＭが鉛直下方に移動したときに最初にＺ基準面ＺＲＥＦに当接可能な長さになるように加工されている。同様に、当接部材ＸＰも、ステージＹＭをＸ軸方向に移動したときに最初にＸ基準面ＸＲＥＦに当接可能な長さになるように加工されている。さらに、２つの当接部材ＸＰ同士、あるいは当接部材ＺＰ１〜ＺＰ４は、同じ長さになるように加工されている。
【００３０】
図２（ｂ）に示すように、全ての当接部材ＺＰ１〜ＺＰ４を一直線上に並ぶことが無いように配置している。このように配置することで、ステージＹＭの浮上面の傾きを矯正することが可能となる。また、当接部材ＺＰ１〜ＺＰ４を、本実施形態のように互いに離間して配置することが望ましい。ステージＹＭの偏った位置に配置されてしまうと、当接部材が配置されていない場所においてステージＹＭがたわむことによって、浮上面の傾き矯正の精度が低下する恐があるためである。
【００３１】
当接部材ＸＰ、ＺＰ１〜ＺＰ４の使用目的から、各当接部材の基準面に対面している平面は平面度が小さくなるように加工されていることが好ましい。同様にＸ基準面ＸＲＥＦ、及びＺ基準面ＺＲＥＦの表面も平面度が小さくなるように加工されていることが好ましい。さらに、当接部材ＸＰの傾きとステージＹＭの側面の傾き、及び当接部材ＺＰ１〜ＺＰ４とステージＹＭの浮上面の傾きとが平行となっている状態が好ましい。
【００３２】
以上の構成によれば、各々の当接部材を基準面に突き当てることによって、初期化動作の際にステージＹＭの６軸方向の姿勢矯正の精度を高めることができる。
【００３３】
また、接触による摩耗によってパーティクルが発生することを防ぐため、当接部材ＸＰ、ＺＰ１〜ＺＰ４、Ｘ基準面ＸＲＥＦ、Ｚ基準面ＺＲＥＦには硬度の高い材料を使用することが好ましい。例えば、焼き入れをした鉄や、ステンレス材等が挙げられる。特に本実施形態の場合は、オーステナイト系のステンレスのように着磁しにくい材料であることが好ましい。磁場の影響を受けて、ウエハＷに照射する電子線の軌道が曲がる現象を防ぐためである。
【００３４】
本実施形態では、Ｘ基準面ＸＲＥＦの面の大きさは当接部材ＸＰのＹ軸方向の可動範囲よりも大きく、Ｚ基準面ＺＲＥＦの面の大きさも当接部材ＺＰ１〜ＺＰ４のＹ軸方向の可動範囲よりも大きくしている。これにより、ステージＸＭやステージＹＭがどのような場所に位置している状態であったとしてもＸ基準面ＸＲＥＦ及びＺ基準面ＺＲＥＦへの突き当てができ、任意の位置でステージＹＭの姿勢矯正をすることができる。
【００３５】
（ステージの初期化動作）
描画装置１の電源投入時や外部からの衝撃等によりステージＹＭの絶対位置が分からない場合には、改めて原点位置を決定しなければならない。特に支持ユニットＬＶによる支持のみでステージの浮上面が不定状態となってしまう場合には、Ｚ軸まわりの姿勢矯正だけでなく、浮上面の傾きも矯正した状態で原点位置を決定しなければならない。これにより、原点位置決定後の干渉計ＬによるステージＹＭの位置計測の精度が高まり、ステージＹＭと電子線の照射位置を同期精度も高めることができるからである。
【００３６】
そこで、描画装置１におけるステージ装置の初期化動作（当接部材ＸＰ、ＺＰ１〜ＺＰ４及びＸ基準面ＸＲＥＦ、Ｚ基準面ＺＲＥＦを用いたステージＹＭの姿勢の矯正方法（Ｓ１０１〜Ｓ１０２）及び原点位置の決定方法（Ｓ１０３〜Ｓ１０９））について説明する。
【００３７】
図３は原点位置を決定するまでの流れを示すフローチャートである。フローチャートの開始時点では、ステージＹＭの位置や姿勢が分からずに浮上している状態とする。まず、制御部２がコイルＺＡＣに対して電流を流してステージＹＭを鉛直下向きに移動する。当接部材ＺＰ１〜ＺＰ４をＺ基準面ＺＲＥＦに突き当てて、ステージＹＭのＺ、ωｘ、ωｙ軸の姿勢を正す（Ｓ１０１）。制御部２が当接部材ＺＰ１〜ＺＰ４が基準面ＺＲＥＦに突き当たるまでに十分な大きさの電流と十分な時間をかけて電流を流すことにより、主制御部４は、両物体の平面同士が当接した状態であると判断する。
【００３８】
次に制御部２は、当接部材ＺＰ１〜ＺＰ４をＺ基準面ＺＲＥＦに接触させた状態のままステージＹＭをＸ基準面ＸＲＥＦの方向に移動するように、コイルＸＡＣに対して電流を流す。これにより当接部材ＸＰがＸ基準面ＸＲＥＦに接触し、ステージＹＭの６軸（Ｘ、Ｙ、Ｚ、ωｘ、ωｙ、ωｚ）方向の姿勢が水平方向及び鉛直方向に沿った状態に矯正される（Ｓ１０２）。このとき、Ｘ基準面ＸＲＥＦ、Ｚ基準面ＺＲＥＦの位置は既知であるため、ステージＹＭのＸ軸方向及びＺ軸方向における位置を知ることができる。
【００３９】
次に、ステージＹＭのＹ軸方向のおよその位置を把握する（Ｓ１０３）。位置把握の手法としてさまざまな手法が考えられるが、例えばミラーＹＢＭの位置変動を干渉計Ｌで計測している状態で、Ｙ軸方向に並んでいるコイルＹＡＣを構成している多相コイルの端から順に電流を流していく手法が簡便で好ましい。磁石ユニットＹＡＭがある付近のコイルＹＡＣに電流が流れるとステージＹＭがわずかにずれる。この位置のずれを検出器３が検知したら、その時に電流を流していたコイルの位置からステージＹＭのおよその位置がわかる。
【００４０】
次に、サーボをＯＮにし、制御部２がコイルＸＡＣ，ＹＡＣ、ＺＡＣに対して電流を流して位置制御ができる状態にする（Ｓ１０４）。コイルＹＡＣに電流を流しながらＹ軸方向の原点位置に向けてステージＹＭを移動する（Ｓ１０５）。ステージＹＭが移動させながら、所定の位置までステージＹＭが移動してきたかどうかを原点位置に配置したフォトセンサ等の原点センサ（不図示）が判断する（Ｓ１０７）。
【００４１】
原点センサがステージＹＭを検出しない場合（ＮＯ）は、引き続きステージＹＭの移動を行う。検出した場合（ＹＥＳ）はステージＹＭの位置の原点として決定する（Ｓ１０８）。サーボをＯＦＦにし、原点位置における干渉計Ｌの値や各コイルに流している電流値をオフセット値として記憶する。以後に計測される値をオフセット値に上乗せしていくことで、ステージＹＭの絶対位置を計測することが可能となる。
【００４２】
本実施形態によれば、当接部材ＺＰ１〜ＺＰ４、Ｚ基準面ＸＲＥＦを用いて、センサ等の配線が必要な装置を使用せずにステージＹＭの浮上面の傾き矯正を行うことができる。これにより、ステージ周りの構成を簡素化することが可能となる。さらに当接部材ＸＰ、Ｘ基準面ＸＲＥＦと合わせた構成にすることによって、６軸方向の姿勢を矯正することができるため、原点位置を精度良く決定することができ描画中のウエハＷの位置決め精度が向上する。
【００４３】
なお、Ｘ基準面ＸＲＥＦに当接部材ＸＰが突き当たるまでの間、当接部材ＺＰ１〜ＺＰ４の平面の摩耗を防ぎたい場合には、コイルＺＡＣに電流を流しステージＹＭにかかる重力と同程度の力で浮上させながら移動することが好ましい。同様の理由から、Ｓ１０５における移動の際に、当接部材ＸＰ、ＺＰ１〜ＺＰ４は、Ｘ基準面ＸＲＥＦ及びＺ基準面ＺＲＥＦから離す状態にすることが好ましい。
【００４４】
Ｓ１０３における、その他のステージＹＭの位置検出方法として、絶対距離計である超音波センサやコイルＹＡＣの各々にホール素子を接続して検出する方法を用いても構わない。
【００４５】
（その他の実施形態）
その他の実施形態について説明する。前述の実施形態では、浮上面の傾き矯正のために４つの当接部材ＺＰ１〜ＺＰ４を配置したステージを例に説明したが、当接部材の個数はこの形態に限られるわけではない。当接部材は複数あることが好ましく、特に当接部材が３つ以上在り、水平面の位置を規制できるように一直線上に無いように配置されていることが好ましい。
【００４６】
当接部材ＺＰ１〜ＺＰ４の配置位置は、磁石ユニットＺＡＭの下部に限られるわけではない。ステージＹＭと一体となって移動する位置に設けられており、鉛直下向きにステージＹＭを下降させた際に最初にＺ基準面ＺＲＥＦに突き当たるのであれば、どこに配置されていても構わない。当接部材ＺＰ１〜ＺＰ４とステージＹＭとが別部材であっても、一体に成形されていても構わない。
【００４７】
また、当接部材の形状は、前述の円柱形状に限られるわけではない。円錐台、角柱、角柱台、直方体などの柱形状等、基準面に当接可能な部材であればどのような凸部材であっても構わない。特にこれら当接部材には、基準面と対面する方に平面加工が施されていることが好ましい。これにより、ステージＹＭの浮上面の傾きを水平方向に沿って配置されている基準面ＺＲＥＦの傾きに合うように、浮上面の傾きを矯正することが可能となる。
【００４８】
当接部材ＺＰ１〜ＺＰ４の代替部材としてアクチュエータの可動子である磁石ユニット（磁石ユニット内部からの磁場漏れを防止するための不図示の磁気シールド材がＺ基準面ＺＲＥＦに面している場合は磁気シールド材も含む）を使用しても構わない。これらに平面加工を施しておくことで、Ｚ基準面ＺＲＥＦに突き当て浮上面の傾きを矯正することもできる。しかしながら、平面加工の容易さの観点、さらには加工した平面の傾きとステージＹＭの浮上面のとの平行度が小さいほうが好ましい観点から、突き当てる当接部材の面積は大きくなり過ぎないことが好ましい。
【００４９】
浮上面の傾きを矯正するためにステージＹＭをＺ軸方向に移動させるアクチュエータ（磁石ＺＡＭとコイルＺＡＣ）は、前述のリニアモータのような電磁アクチュエータに限らない。空気の吹き付けや接触式のアクチュエータ等による加圧によって、当接部材当接部材ＺＰ１〜ＺＰ４をＺ基準面ＺＲＥＦに当接しても良い。
【００５０】
移動体の浮上支持は、移動体をＺ軸方向に移動するためのアクチュエータ（磁石ＺＡＭとコイルＺＡＣ）のみで行っても構わない。しかし、前述の実施形態のように支持ユニットＬＶを併用するほうが、アクチュエータが必要とする動力を低減させることができるため好ましい。
【００５１】
傾き矯正対象の移動体が磁気浮上式により吊り下げられている場合には、Ｚ基準面ＺＲＥＦを移動体の鉛直上方に設けてＺ基準面ＺＲＥＦに当接部材を当接させることで、移動体の浮上面の傾きを矯正することもできる。しかしＺ基準面ＺＲＥＦは前述の実施形態のように移動体の鉛直下方に設ける方が好ましい。移動体の重力も利用することができ、移動体を鉛直方向に移動するにあたりアクチュエータが必要とする動力を低減させることができるからである。
【００５２】
なお、本発明における移動体とは、少なくとも、磁気力によって浮上支持されているおり基準面に沿った方向、かつ鉛直方向に移動するステージと、当該ステージと一体となって移動する当接部材とを有する。
【００５３】
また、本発明に係るステージ装置は、電子線を用いた描画装置に限らず、ＫｒＦやＥＵＶ等の光線、イオンビーム又はレーザビームを照射してパターンを形成するリソグラフィ装置や、インプリント法を用いてパターンを形成するリソグラフィ装置にも適用できる。その他、磁気浮上を利用して駆動するステージ装置においても適用できる。
【００５４】
（物品の製造方法）
本発明の物品（半導体集積回路素子、液晶表示素子、ＣＤ−ＲＷ、フォトマスク等）の製造方法は、前述の実施形態のステージ装置を用いて基板上にパターンを露光する工程と、露光されたウエハやガラス等の基板に対してエッチング処理又はイオン注入処理の少なくとも一方の処理を施す工程とを含む。さらに、他の周知の工程（現像、酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含んでも良い。
【符号の説明】
【００５５】
１  描画装置
ＬＶ  支持ユニット
ＸＭ、ＹＭ  ステージ
ＸＰ  当接部材（Ｘ軸方向）
ＺＰ１〜ＺＰ４  当接部材（Ｚ軸方向）
ＸＲＥＦ  Ｘ基準面
ＺＲＥＦ  Ｚ基準面
ＸＡＭ、ＹＡＭ、ＺＡＭ  磁石ユニット
ＸＡＣ、ＹＡＣ、ＺＡＣ  コイル
ＸＢ、ＺＢ  基準部材
Ｗ  ウエハ
【図１】
2015192089.tif 000003
【図２】
2015192089.tif 000004
【図３】
2015192089.tif 000005