(57)【要約】      （修正有）【課題】試料にイオンビームを照射して試料の断面を作製する際、少ない照射回数で所定の断面を作製できる試料の断面作製方法を提供する。【解決手段】準備工程として、主加工面１１と、隣接加工面１２と、これら両面で形成される稜線部１３とを有する試料１０を用意し、主加工面の一部を遮蔽板３０で覆って、主加工面の稜線部から所定長さの領域を露出面１１ｅとして露出させる。次に、露出面に垂直な方向から露出面にイオンビームを照射して、試料の露出面から隣接加工面に亘る所定領域を除去して試料の断面１４を作製する。隣接加工面は、露出面とのなす角が９１°以上９５°以下の傾斜面で構成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
主加工面と、隣接加工面と、これら両面で形成される稜線部とを有する試料を用意し、前記主加工面の一部を遮蔽板で覆って、前記主加工面の前記稜線部から所定長さの領域を露出面として露出させる準備工程と、
前記露出面に垂直な方向から前記露出面にイオンビームを照射して、前記試料の前記露出面から前記隣接加工面に亘る所定領域を除去して前記試料の断面を作製する断面作製工程とを備え、
前記隣接加工面は、前記露出面とのなす角が９１°以上９５°以下の傾斜面で構成されている試料の断面作製方法。
【請求項２】
前記除去された領域における前記露出面に垂直な方向の総加工深さが１ｍｍ以上である請求項１に記載の試料の断面作製方法。
【請求項３】
前記露出面の所定長さが、２０μｍ以上５０μｍ以下である請求項１又は請求項２に記載の試料の断面作製方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、試料にイオンビームを照射して試料の断面を作製する試料の断面作製方法に関する。特に、少ない照射回数で所定の断面を作製できる試料の断面作製方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
試料の内部構造等を観察するために、その試料の断面を例えば走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察することが行われている。試料の断面の作製は、例えば、イオンミリング装置（例えば、クロスセクションポリッシャー（ＣＰ）装置や集束イオンビーム（ＦＩＢ）装置）を用い、試料に対してイオンビームを照射して試料の一部を除去することで行う。まず、主加工面と、隣接加工面と、これら両面で形成される稜線部とを有する試料を用意し、主加工面の一部を遮蔽板で覆って、主加工面の稜線部から所定長さの領域を露出面として露出させる。そして、露出面に垂直な方向から露出面にイオンビームを照射する。それにより、露出面から隣接加工面に亘る所定領域が除去され、遮蔽板の端面に略連続するように試料の断面が形成される。
【０００３】
このようにイオンビームを用いて断面を露出させる場合、準備する試料としては、上記隣接加工面が、上記露出面に対して垂直（９０°）な平面で構成されるものが挙げられる。この試料は、例えば、バンドソーで切り出した後、露出面と隣接加工面とのなす角が９０°となるように研磨することで得られる。しかし、露出面と隣接加工面とのなす角が９０°の試料を準備してイオンビームを照射すると、イオンビームではじき出された試料の一部などの物質が、形成した断面に再付着することがあり、清浄な断面が得られないという問題があった。
【０００４】
その再付着が生じ難い断面の作製方法が、特許文献１に開示されている。特許文献１では、上記隣接加工面を、上記露出面とのなす角が鋭角（４０°〜８４°）な傾斜面で構成している。そうすることで、イオンビームではじき出された物質は加工箇所よりも下方に抜けていき易くなり、断面に付着し難くできる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−７４９３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１の断面作製方法では、上述の再付着を改善できる一方で、所定断面の形成に要するイオンビームの照射回数が多い上にばらつくことがあった。そのため、手間と時間とを要する上に、所定の断面を露出できないことで断面の適切な分析を行えないことがあった。所定の断面を確実に露出させようとすれば、上記照射回数が多くなる。特に、照射回数の増大は、試料が厚く、加工深さが深い場合に顕著になる。
【０００７】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたもので、その目的の一つは、試料にイオンビームを照射して試料の断面を作製する際、少ない照射回数で所定の断面を作製できる試料の断面作製方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様に係る試料の断面作製方法は、準備工程と、断面作製工程とを備える。準備工程は、主加工面と、隣接加工面と、これら両面で形成される稜線部とを有する試料を用意し、主加工面の一部を遮蔽板で覆って、主加工面の稜線部から所定長さの領域を露出面として露出させる。断面作製工程は、露出面に垂直な方向から露出面にイオンビームを照射して、試料の露出面から隣接加工面に亘る所定領域を除去して試料の断面を作製する。そして、隣接加工面は、露出面とのなす角が９１°以上９５°以下の傾斜面で構成される。
【発明の効果】
【０００９】
上記の試料の断面作製方法は、イオンビームを照射して試料の断面を作製する際、少ない照射回数で所定の断面を作製できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】実施形態に係る試料の断面作製方法を示す模式図である。
【図２】露出面と隣接加工面とのなす角が鋭角の試料を用いる従来の試料の断面作製方法を示す模式図である。
【図３】露出面と隣接加工面とのなす角が直角の試料を用いる従来の試料の断面作製方法を示す模式図である。
【図４】試験例で作製した試料の断面を示す図で、上段図は試料の厚さ方向全長に亘って断面が形成された模式図、中段図は試料の厚さ方向の途中まで断面が形成された模式図、下段図は断面に飛散物質が再付着した模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
《本発明の実施形態の説明》
本発明者らは、試料にイオンビームを照射して試料の断面を作製する際、少ない照射回数で所定の断面を作製する方法を鋭意検討した。その結果、詳しくは後述の試験例で示すが、試料の隣接加工面を露出面に対して特定の鈍角となる傾斜面で構成することで、少ない照射回数で所定の断面を作製できるとの知見を得た。本発明は、この知見に基づくものである。最初に本発明の実施形態の内容を列記して説明する。
【００１２】
（１）実施形態に係る試料の断面作製方法は、準備工程と、断面作製工程とを備える。準備工程は、主加工面と、隣接加工面と、これら両面で形成される稜線部とを有する試料を用意し、主加工面の一部を遮蔽板で覆って、主加工面の稜線部から所定長さの領域を露出面として露出させる。断面作製工程は、露出面に垂直な方向から露出面にイオンビームを照射して、試料の露出面から隣接加工面に亘る所定領域を除去して試料の断面を作製する。そして、隣接加工面は、露出面とのなす角が９１°以上９５°以下の傾斜面で構成される。
【００１３】
上記の構成によれば、少ない照射回数で所定の断面を作製できる。その上、再付着を抑制できる。隣接加工面を露出面とのなす角が９１°以上の傾斜面で構成することで、従来に比べて所定断面の形成のために除去する総体積を少なくできる。そのため、所定断面の形成に要するイオンビームの照射回数を少なくできる。除去する総体積とは、所定の断面を形成するまでに除去される試料の体積のことであり、照射回数が複数回の場合は、複数回の加工で除去された合計体積のことである。また、除去する総体積が少ないため、イオンビームではじき出される試料の一部などの物質の総量も少なくできて、断面に再付着し難い。一方、隣接加工面を露出面とのなす角が９５°以下の傾斜面で構成することで、上記総体積が多くなることを抑制できて、照射回数を少なくし易い。また、形成された断面の露出面との反対側は、イオンビームの照射方向に対する傾斜が緩やかになり難い。そのため、断面が上記物質の受け部となり難いので上記物質が、形成した断面に再付着し難くできる。
【００１４】
（２）上記試料の断面作製方法の一形態として、除去された領域における露出面に垂直な方向の総加工深さが１ｍｍ以上であることが挙げられる。
【００１５】
総加工深さを１ｍｍ以上とする加工を行う場合、従来の断面作製方法に比べて所定断面の作製に要する照射回数を少なくするのに特に効果的である。総加工深さが深くなるほど、除去する総体積が増加するためイオンビームの照射回数が増加するが、隣接加工面と露出面とのなす角を上述の範囲とすることで、上述したように除去する総体積を低減できるからである。
【００１６】
（３）上記試料の断面作製方法の一形態として、露出面の所定長さが、２０μｍ以上５０μｍ以下であることが挙げられる。
【００１７】
上記所定長さを２０μｍ以上とすることで、イオンビームの照射の一回当たりに除去できる体積を多くし易い。イオンビームの照射領域を広くでき、効率的な加工が可能となるからである。一方、上記所定長さを５０μｍ以下とすることで、上記物質が、形成した断面に再付着し難くできる。形成された断面の露出面との反対側は、イオンビームの照射方向に対する傾斜が緩やかになり難いため、断面が上記物質の受け部となり難いからである。
【００１８】
《本発明の実施形態の詳細》
本発明の実施形態の詳細を、以下に図面を参照しつつ説明する。なお、本発明はこれらの例示に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【００１９】
〔試料の断面作製方法〕
実施形態に係る試料の断面作製方法は、以下の準備工程と断面作製工程とを備える。準備工程は、主加工面と隣接加工面とこれら両面で形成される稜線部とを有する試料を用意し、主加工面の一部を遮蔽板で覆って露出面を露出させる。断面作製工程は、露出面に垂直な方向から露出面にイオンビームを照射して試料の断面を作製する。試料の断面作製方法の主たる特徴とするところは、試料の隣接加工面を露出面に対して特定の鈍角となる傾斜面で構成する点にある。以下、図１を参照して各工程を詳細に説明する。
【００２０】
［準備工程］
準備工程では、断面１４を形成する試料１０を用意し、後工程の断面作製工程で試料１０の所定の領域にイオンビーム４１が照射されるように試料１０の一部を遮蔽板３０で覆う。
【００２１】
（試料）
試料１０は、その断面を観察や分析に供するためのものである。試料１０は、イオンビーム４１で加工される領域を有する主加工面１１、隣接加工面１２、及び稜線部１３を有する。この稜線部１３は、互いに隣り合う主加工面１１と隣接加工面１２との境界部に形成される。
【００２２】
主加工面１１は、その一部が遮蔽板３０に覆われると共に、稜線部１３から所定長さ（図１紙面左右方向の長さ）の領域が遮蔽板３０から露出した露出面１１ｅを有する。この露出面１１ｅの一部は、直上に位置する照射源４０（イオン銃）からイオンビーム４１が照射されて除去される。
【００２３】
露出面１１ｅの上記所定長さは、２０μｍ以上が好ましい。上記所定長さを２０μｍ以上とすることで、イオンビーム４１の一回の照射で除去する体積を多くし易い。一方、上記所定長さは５０μｍ以下が好ましい。上記所定長さを５０μｍ以下とすることで、イオンビーム４１ではじき出された試料１０の一部などの物質（飛散物質）が形成した断面１４に再付着し難くできる。形成された断面１４の露出面１１ｅとの反対側部分（図１クロスハッチング部）のイオンビーム４１の照射方向に対する傾斜が緩やかになり難い。そのため、上記飛散物質の受け部となり難い。上記所定長さは、遮蔽板３０の配置により調整できる。
【００２４】
隣接加工面１２は、露出面１１ｅとのなす角が９１°以上９５°以下の傾斜面で構成されている。隣接加工面１２を上記なす角が９１°以上の傾斜面で構成することで、従来に比べて所定断面の形成のために除去する総体積を少なくできる。そのため、所定断面の形成に要するイオンビーム４１の照射回数を少なくできる。また、除去する総体積が少ないため、上記飛散物質量も少なくできて再付着が生じ難い。一方、隣接加工面１２を上記なす角が９５°以下の傾斜面で構成することで、再付着を抑制できる。上述したように、上記反対側部分（図１クロスハッチング部）の上記傾斜が緩やかになり難いため上記飛散物質の受け部となり難い。隣接加工面１２は、上記なす角を９１．５°以上９２．５°以下の傾斜面で構成することが好ましく、９２°の傾斜面で構成することが特に好ましい。
【００２５】
試料１０の厚さ（露出面１１ｅとその反対側面との間の長さ：図１紙面上下方向の長さ）は、例えば１ｍｍ以上とすることが挙げられる。厚さが１ｍｍ以上において、イオンビーム４１が照射されて除去された領域における露出面１１ｅに垂直な方向の総加工深さは、１ｍｍ以上とすることが好ましい。試料１０の厚さが厚く、総加工深さを深くするほど、一般的に、除去する総体積が増加するためイオンビーム４１の照射回数は増加する傾向にある。しかし、隣接加工面１２と露出面１１ｅとのなす角を上述の範囲とすることで、上述したように除去する総体積を低減できるため、従来の断面作製方法に比べて所定断面の作製に要するイオンビーム４１の照射回数を少なくし易い。試料１０の厚さは１．５ｍｍ以上、更には２ｍｍ以上が好ましく、総加工深さは、１．５ｍｍ以上、更には２ｍｍ以上が好ましい。
【００２６】
試料１０の材質は、種々の材質、例えば、金属（アルミニウムやその合金、銅やその合金、マグネシウムやその合金など）、セラミックス（酸化アルミニウムなど）、ガラスなどが挙げられる。
【００２７】
試料１０は、必要に応じて、遮蔽板３０との間に介在される樹脂層２０を形成することができる。試料１０によっては、露出面１１ｅに存在した凹凸によってイオンビーム４１での除去開始時点に差が生じることで、形成された断面１４に深さ方向に沿った筋が形成される場合がある。しかし、樹脂層２０を形成することで、その筋の形成を抑制でき表面性状に優れる断面１４を形成し易い。ここでは、試料１０の隣接加工面１２を除く外周面に樹脂層２０を形成している。樹脂層２０の厚さは、１５０μｍ以上２００μｍ以下程度が実用的に用いられる。樹脂層２０の材質としては、例えば、エポキシ樹脂などが挙げられる。
【００２８】
露出面１１ｅと隣接加工面１２とのなす角が上記範囲を満たす試料１０の作製は、例えば、次のようにして行うことができる。まず、バンドソーなどで所定のサイズ及び形状に切り出した試料１０を作製する。次に、試料１０の端面を研磨定盤の研磨面に押し当てて機械研磨する。このとき、試料１０をその端面と研磨面とのなす角が１°以上５°以下となるように傾斜させた状態で上記端面を上記研磨面に押し当てる。試料１０の端面を上述のように傾斜させるには、例えば、研磨に使用する研磨治具の試料ホルダの一面を１°以上５°以下傾斜させることが挙げられる。或いは、研磨治具自体を研磨面に対して１°以上５°以下傾斜させてもよい。なお、樹脂層２０を形成する場合は、研磨の前に試料１０を樹脂に包埋させて樹脂を硬化する。そして、上記研磨では樹脂と共に試料１０の端面を研磨する。
【００２９】
（遮蔽板）
遮蔽板３０は、イオンビームを試料１０の所定の領域に照射させるために試料１０の主加工面１１の一部を覆う。具体的には、遮蔽板３０は、試料１０の主加工面１１の稜線部１３側に露出面１１ｅを形成させる。遮蔽板３０の配置は、上述したように露出面１１ｅの所定長さが２０μｍ以上５０μｍ以下となるように行うことが好ましい。遮蔽板３０は、イオンビーム４１により除去され難い材質で構成することが挙げられる。例えば、鉄にＮｉメッキを施した被覆板などが挙げられる。
【００３０】
［断面作製工程］
断面作製工程では、露出面１１ｅの垂直な方向に配置される照射源４０から露出面１１ｅにイオンビーム４１を照射する。このイオンビーム４１の照射により、例えば図１に示すように、二点鎖線（左側）に沿ってＪ字型状に露出面１１ｅから隣接加工面１２に亘る所定領域が除去されて断面１４が形成される。具体的には、露出面１１ｅ側では、遮蔽板３０の端面に略沿って（露出面１１ｅの垂直な方向に沿って）断面１４が形成されるように試料１０が削られる。そして、試料１０の露出面１１ｅとの反対側では、徐々に隣接加工面１２側に向かうように加工深さ方向に対して傾斜又は湾曲する断面１４が形成されるように試料１０が削られる。
【００３１】
イオンビーム４１の照射は、所定の断面が作製されるまで行う。具体的には、上述の準備工程と断面作製工程とを繰り返し行う。例えば、所定の断面を図１の試料１０の厚さ方向全長に亘る断面１４（右側二点鎖線）とするときは、図１点線で示すように遮蔽板３０の位置を主加工面１１に沿って上記所定長さ方向にずらして、試料１０の主加工面１１に再度所定長さの領域が露出した露出面１１ｅを形成する。所定長さは、前回のイオンビーム４１を照射した際の所定長さと同様とすることが挙げられる。必要に応じて、所定長さをいずれかの照射において変えても構わない。その所定長さは、主加工面１１と断面１４との稜線部から遮蔽板３０の端面（図１の左端面）までの距離をとる。
【００３２】
続いて、露出面１１ｅにイオンビーム４１を照射して試料１０を削る。そうすると、上述と同様、二点鎖線（右側）に示すようにＪ字型状に断面１４が形成され、断面１４の露出面１１ｅとの反対側は加工深さ方向に対して傾斜又は湾曲する。断面１４のうち、上記傾斜又は湾曲した面と除去前の隣接加工面１２とのなす角は、露出面１１ｅと隣接加工面１２とのなす角を上記特定の鈍角とすることで、従来の試料（露出面１１ｅと隣接加工面１２とのなす角が鋭角や直角）に比べて小さくなる。これは、特に上記総加工深さが深くなるほど顕著になる。即ち、露出面１１ｅと隣接加工面１２とのなす角を上記特定の鈍角とすることで、加工深さが深くなるほど除去される総体積を従来に比べて少なくし易い。また、断面１４の上記傾斜又は湾曲は、除去前の隣接加工面１２とのなす角が小さいため再付着し難くできる。
【００３３】
試料１０の断面の作製は、市販のイオンミリング装置（例えば、クロスセクションポリッシャー（ＣＰ）装置や集束イオンビーム（ＦＩＢ）装置）を利用できる。
【００３４】
〔作用効果〕
上述した試料の断面作製方法によれば、隣接加工面１２を露出面１１ｅとのなす角が特定の鈍角の傾斜面で構成することで、所定断面の形成のために除去する総体積を少なくできる。そのため、所定断面の形成に要するイオンビーム４１の照射回数を少なくできる。イオンビーム４１の照射回数が少ないことで、所定断面の形成に要する加工時間も短くできる。また、除去する総体積が少ないことで、イオンビーム４１ではじき出される試料１０の一部などの物質の総量も少ないため、断面１４に再付着し難くできる。
【００３５】
〔試験例〕
上述した実施形態の試料の断面作製方法と同様にして試料の断面を作製し、断面を分析した。以下の説明は、図１〜図４を適宜参照して行う（図中の同一符号は同一名称物を示す）。
【００３６】
［試験対象Ａ］
まず、１０ｍｍ×１０ｍｍ×厚さ２ｍｍのガラスで構成される試料１０を準備した。次に、この試料１０をエポキシ樹脂に包埋させた後、樹脂を硬化して試料１０の外周全面に厚さ２００μｍの樹脂層２０が形成された包埋物を作製した。続いて、この包埋物の端面に機械研磨加工を施して、図１に示すように、樹脂層２０から露出すると共に、主加工面１１とのなす角が９２°の傾斜面で構成される隣接加工面１２を備える試験対象Ａを４個作製した。
【００３７】
試験対象Ａのそれぞれに対して、露出面１１ｅの所定長さが２５μｍとなるように遮蔽板３０（鉄にＮｉメッキを施した被覆板）を配置し、ＣＰ装置（日本電子株式会社製ＳＭ−０９０２０ＣＰ）を用いて、露出面１１ｅの垂直な方向から露出面１１ｅに以下に示す照射条件のイオンビーム４１を照射した。イオンビーム４１の照射回数は、２回とした。遮蔽板３０は、イオンビーム４１を１回照射する度に、所定長さが２５μｍの露出面１１ｅが露出されるようにずらす（図１点線）と共に、試料１０の幅方向（厚さ方向と所定長さ方向の両方に直交する方向：図１紙面垂直方向）にもずらした。
【００３８】
（イオンビームの１回あたりの照射条件）
イオン種：Ａｒ
加速電圧：６ｋＶ
イオン電流：主に１６０ｍＡ（１５０ｍＡ以上１７０ｍＡ以下）
加工時間：６時間
【００３９】
［試験対象Ｂ・試験対象Ｃ］
上記なす角の角度を除き、試験対象Ａと同様にして試験対象Ｂと試験対象Ｃとをそれぞれ１６個作製した。試験対象Ｂは、図２に示すように、隣接加工面１２を主加工面１１とのなす角が８８°の傾斜面で構成し、試験対象Ｃは、図３に示すように、隣接加工面１２を主加工面１１とのなす角が９０°の垂直面で構成した。試験対象Ｂ及び試験対象Ｃに対し、試験対象Ａと同様にしてイオンビーム４１を照射した。ここでは、１６個の試験対象Ｂ及び試験対象Ｃのうち、４個ずつ照射回数を２回、３回、４回、５回と変更した。イオンビーム４１を１回照射する度に、遮蔽板３０を上述のようにずらした点は試験対象Ａと同様である。なお、図２では４回の照射で断面１４が試料１０の厚さ方向全長に亘って形成された場合を示し、図３では５回の照射で断面１４が試料１０の厚さ方向全長に亘って形成された場合を示している。
【００４０】
［断面観察］
試験対象Ａ・Ｂ・Ｃの試料１０の断面１４の形成状態と断面１４への飛散物質の再付着の有無をＳＥＭで観察した。それらの結果をまとめて表１に示し、断面１４の形成状態の模式図を図４に示す。表１の「Ｇｏｏｄ」は、図４上段図に示すように、断面１４が試料１０の厚さ方向全長に亘って形成された場合を示し、「Ｂａｄ」は、図４中段図に示すように、断面１４が試料１０の厚さ方向の全長に亘らなかった場合を示す。そして、再付着有りは、図４下段図の断面１４の主加工面１１とは反対側に飛散物質が再付着した場合を示す。なお、図４は、断面１４を試料１０の隣接加工面１２側からみた図であり、紙面上側が照射源４０（図１など）側である。
【００４１】
【表１】
2015169585.tif 000003
【００４２】
試験対象Ａは、いずれも２回の照射で、例えば図４上段図に示すように、試料１０の厚さ方向全長に亘って断面１４が形成された。また、試験対象Ａは、図４下段図の断面１４下方側に示すような断面１４への飛散物質の再付着は生じなかった。
【００４３】
試験対象Ｂは、２回の照射では、例えば図４中段図に示すように、いずれも断面１４が試料１０の厚さ方向全長に亘らなかった。また、３回の照射では、断面１４が厚さ方向全長に亘って形成された試料１０もあったが（図４上段図）、断面１４が厚さ方向全長に亘らなかった試料１０が多かった。更に、４回や５回の照射では、照射回数を３回とした場合に比べると、断面１４が厚さ方向全長に亘って形成された試料１０が多くなったものの、断面１４が厚さ方向全長に亘らなかった試料１０もあった。そして、試験対象Ｂは、２回〜５回の照射回数では、断面１４への飛散物質の再付着は生じなかった。
【００４４】
試験対象Ｃは、２回や３回の照射では、いずれも断面１４が試料１０の厚さ方向全長に亘らなかった。また、４回の照射では、断面１４が厚さ方向全長に亘って形成された試料１０もあったが、同程度、断面１４が厚さ方向全長に亘らなかった試料１０もあった。更に、５回の照射では、照射回数を４回とした場合に比べると、断面１４が厚さ方向全長に亘って露出した試料１０が多くなったものの、断面１４が厚さ方向全長に亘らなかった試料１０もあった。そして、照射回数を４回以上としたあたりから、断面１４への飛散物質の再付着が見られるようになった。
【００４５】
以上の試験例に示すように、隣接加工面１２を露出面１１ｅとのなす角が特定の鈍角の傾斜面で構成することで、所定断面の作製に要するイオンビーム４１の照射回数を少なくできることが分かる。即ち、所定断面の形成に要する加工時間を大幅に短縮できる。具体的には、上記なす角を特定の鈍角とすれば、上記なす角を鋭角とした場合に比べて、加工時間を６時間以上短縮でき、上記なす角を直角とする場合に比べて加工時間を１２時間以上短縮できる。特に、上記なす角を鋭角とした場合であって、所定の断面をある程度安定して得られる場合（照射回数４回以上）に比べると、加工時間を１２時間以上短縮できる。
【００４６】
なお、隣接加工面１２を露出面１１ｅとのなす角が９５°の傾斜面で構成した試料１０を準備して、試験対象Ａと同様にして断面１４を作製した場合、試験対象Ａと同様に少ない照射回数（２回）で、断面１４が厚さ方向全長に亘って形成されると期待できる。また、その断面１４には飛散物質が再付着していないと期待できる。
【産業上の利用可能性】
【００４７】
本発明の試料の断面作製方法は、内部構造を分析するため等に試料の断面を作製するのに好適に利用できる。
【符号の説明】
【００４８】
１０  試料
１１  主加工面  １１ｅ  露出面
１２  隣接加工面
１３  稜線部
１４  断面
２０  樹脂層
３０  遮蔽板
４０  照射源  ４１  イオンビーム
【図１】
2015169585.tif 000004
【図２】
2015169585.tif 000005
【図３】
2015169585.tif 000006
【図４】
2015169585.tif 000007