(57)【要約】【課題】  本発明が解決しようとする課題は、大きな屈折率異方性と、重合性液晶組成物に添加した際に結晶の析出等が起こらず高い保存安定性を有する重合性化合物を提供し、当該重合性化合物を含有する重合性液晶組成物を重合して得られるレンズ状の重合物を作製した際に変色が発生しにくい重合性液晶組成物を提供することである。更に、当該重合性液晶組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供することである。【解決手段】  本願発明は一般式（Ｉ）【化１】2015110532.tif 000086で表される化合物を提供し、併せて当該化合物を含有する重合性組成物、重合性液晶組成物、当該重合性液晶組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。【選択図】  図１
2015110532.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）
【化１】
2015110532.tif 000081
（式中、Ｐは重合性基を表し、Ｓはスペーサー基又は単結合を表すが、Ｓが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は単結合を表すが、Ｘが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ１、Ａ２及びＡ３は各々同一であっても異なっていても良く１，４−フェニレン又はナフタレン−２，６−ジイルを表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良く、Ｒは水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、若しくは、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖又は分岐アルキル基を表し、ｌは０から８の整数を表し、Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニトロ基、シアノ基、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表し、Ｌが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良いが、Ａ１、Ａ２及びＡ３のうち少なくとも１つは無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良いナフタレン−２，６−ジイルを表す。）で表される化合物。
【請求項２】
一般式（Ｉ）においてＸ、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ｒ、Ｌ及びｌは請求項１で定義されたものと同一のものを表し、Ｐは下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２０）
【化２】
2015110532.tif 000082
から選ばれる基を表し、
Ｓは１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基又は単結合を表すが、Ｓが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い、請求項１記載の化合物。
【請求項３】
一般式（Ｉ）においてＰ、Ｓ、Ｘ、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ｒ、Ｌ及びｌは請求項１又は請求項２で定義されたものと同一のものを表し、Ｘは−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すが、Ｘが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い、請求項１又は請求項２記載の化合物。
【請求項４】
一般式（Ｉ）においてＰ、Ｓ、Ｘ、Ｒ、Ｌ及びｌは請求項１から請求項３のいずれかで定義されたものと同一のものを表し、Ａ１、Ａ２及びＡ３は各々独立して下記の式（Ａ−１）から式（Ａ−６）
【化３】
2015110532.tif 000083
又は式（Ｂ−１）から式（Ｂ−９）
【化４】
2015110532.tif 000084
から選ばれる基を表す請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項５】
一般式（Ｉ）においてＰ、Ｓ、Ｘ、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ｌ及びｌは請求項１から請求項４のいずれかで定義されたものと同一のものを表し、Ｒは水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、若しくは、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルキル基を表す請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項６】
一般式（Ｉ）においてＰ、Ｓ、Ｘ、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ｒ及びｌは請求項１から請求項５のいずれかで定義されたものと同一のものを表し、Ｌはフッ素原子、塩素原子、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から８の直鎖状又は分岐状アルキル基を表す請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項７】
一般式（Ｉ）においてＰ、Ｘ、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ｒ、Ｌ及びｌは請求項１から請求項６のいずれかで定義されたものと同一のものを表し、Ｓは炭素原子数１から１２のアルキレン基又は単結合を表すが、Ｓが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い、請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項８】
一般式（Ｉ）においてＰ、Ｓ、Ｘ、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ｒ及びＬは請求項１から請求項７のいずれかで定義されたものと同一のものを表し、ｌは０又は１を表す請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の化合物を含有する重合性組成物。
【請求項１０】
請求項１から請求項８記載のいずれか一項に化合物を含有する重合性液晶組成物。
【請求項１１】
重合性液晶組成物が更に、一般式（ＩＩ）
【化５】
2015110532.tif 000085
（式中、Ｐ１及びＰ２は各々独立して一般式（Ｉ）におけるＰと同じ意味を表し、Ｓ１及びＳ２は各々独立して単結合又は炭素原子数１〜２０個のアルキレン基を表すが、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、Ｘ１及びＸ２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ｚ１は各々独立して単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ａ４及びＡ５は各々独立して、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、Ａ４及びＡ５は各々独立して無置換であるか又はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基に置換されていても良く、ｍは０、１、２又は３を表すが、ｍが２又は３を表す場合、２個あるいは３個存在するＡ４及びＺ１は、それぞれ、同一であっても異なっていても良い。）で表される化合物からなる群から選ばれる１種類以上を含む請求項１０記載の重合性液晶組成物。
【請求項１２】
請求項９から請求項１１のいずれか一項に記載の重合性液晶組成物を重合することにより得られる重合体。
【請求項１３】
請求項１２記載の重合体を用いた光学異方体。
【請求項１４】
請求項１から請求項８のいずれかに記載の化合物を含有する樹脂、樹脂添加剤、オイル、フィルター、接着剤、粘着剤、油脂、インキ、医薬品、化粧品、洗剤、建築材料、包装材、液晶材料、農薬及び食品並びにそれらを使用した製品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は重合性基を有する化合物、当該化合物を含有する重合性組成物、重合性液晶組成物及び当該重合性液晶組成物を用いた光学異方体に関する。
【背景技術】
【０００２】
重合性基を有する化合物（重合性化合物）は種々の光学材料に使用される。例えば、重合性化合物を含む重合性組成物を液晶状態で配列させた後、重合させることにより、均一な配向を有する重合体を作製することが可能である。このような重合体は、ディスプレイに必要な偏光板、位相差板、３Ｄ表示を行うために必要なレンチキュラーレンズ等に使用することができる。多くの場合、要求される光学特性、重合速度、溶解性、融点、ガラス転移温度、重合体の透明性、機械的強度、表面硬度、耐熱性及び耐光性を満たすために、２種類以上の重合性化合物を含む重合性組成物が使用される。その際、使用する重合性化合物には、他の特性に悪影響を及ぼすことなく、重合性組成物に良好な物性をもたらすことが求められる。
【０００３】
人間は左右の各々の目から入った映像が脳内で一体化する際に、奥行きや立体感を感じる。３Ｄ表示は、右目用及び左目用に別々の角度で撮影した映像を各々右目及び左目に送ることにより、奥行きや立体感を感じさせる仕組みである。右目用及び左目用の各々の映像を各々の目に送る方法として、レンチキュラーレンズを使用したものが知られている。
【０００４】
重合性化合物をレンチキュラーレンズ用に使用する場合には、重合前の重合性組成物を調製した際に、長時間保管しても重合性組成物から、その成分中の重合性化合物が析出することが無いことが重要である。析出が発生しやすい重合性組成物を使用した場合、重合性組成物を調製した後、顧客生産ラインにおいて重合物を製造する工程に至るまでの保管又は輸送時に析出が発生する可能性が高くなる。その場合、加熱等の操作によって再度溶解させなければならず、プロセス上不利である。また、３Ｄディスプレイ用途にレンチキュラーレンズを使用する場合には、ディスプレイの内部部品のレイアウト自由度やディスプレイそのもののデザイン自由度の観点から、レンチキュラーレンズの膜厚がなるべく小さいことが好ましい。そのため、使用する重合性化合物には他の特性に悪影響を及ぼすことなく、屈折率異方性が大きいことが望まれる。また、ディスプレイ製品を長期間使用した場合に、レンチキュラーレンズの変色が起こりにくいことが好ましい。変色の原因としては、バックライト、室内光、太陽光等に含まれる紫外光による、レンチキュラーレンズに使用した重合性化合物の劣化が挙げられる。レンチキュラーレンズの変色は、重合させ得られたレンチキュラーレンズの耐熱性を安定化させるために、後工程として紫外線照射を行う場合にも発生する。変色が生じたレンチキュラーレンズ又は変色が生じやすいレンチキュラーレンズを、例えば３Ｄディスプレイに使用した場合、ディスプレイの明るさ及び／又はコントラストが低下したり、ディスプレイの使用時間とともに映像の色味が変化したりしてしまい、ディスプレイ製品の品質を大きく低下させてしまう問題がある。
【０００５】
当該分野において屈折率異方性の大きな化合物として種々の重合性化合物が知られているが、それらの重合性化合物は、重合性組成物に添加した場合に結晶の析出が起こり、保存安定性が不十分であった（特許文献１、２）。また、重合性組成物を重合させ得られたレンズ形状の重合物に対し、後工程として紫外線照射を行った場合に重合物の変色が起こりやすい問題があった（特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特表２００２−５２１３５４号公報
【特許文献２】ＵＳ６５１４５７８Ｂ１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明が解決しようとする課題は、大きな屈折率異方性と、重合性液晶組成物に添加した際に結晶の析出等が起こらず高い保存安定性を有する重合性化合物を提供し、当該重合性化合物を含有する重合性液晶組成物を重合して得られるレンズ状の重合物を作製した際に変色が発生しにくい重合性液晶組成物を提供することである。更に、当該重合性液晶組成物を重合させることで得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本願発明は一般式（Ｉ）
【０００９】
【化１】
2015110532.tif 000003
【００１０】
（式中、Ｐは重合性基を表し、Ｓはスペーサー基又は単結合を表すが、Ｓが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ｘ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は単結合を表すが、Ｘが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Ａ１、Ａ２及びＡ３は各々同一であっても異なっていても良く１，４−フェニレン又はナフタレン−２，６−ジイルを表すが、これらの基は無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良く、Ｒは水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、若しくは、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖又は分岐アルキル基を表し、ｌは０から８の整数を表し、Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニトロ基、シアノ基、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、Ａ１、Ａ２及びＡ３のうち少なくとも１つは無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良いナフタレン−２，６−ジイルを表す。）で表される化合物を提供し、併せて当該化合物を含有する重合性組成物、重合性液晶組成物、当該重合性液晶組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。
【発明の効果】
【００１１】
本願発明の化合物は、重合性組成物を構成した場合に保存安定性が高く、重合性組成物の構成部材として有用である。また、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を用いた光学異方体は、変色が起こりにくいことからレンチキュラーレンズ等の光学材料の用途に有用である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本願発明は一般式（Ｉ）で表される化合物を提供し、併せて当該化合物を含有する重合性組成物、重合性液晶組成物、当該重合性液晶組成物を重合させることにより得られる重合体及び当該重合体を用いた光学異方体を提供する。
【００１３】
一般式（Ｉ）においてＰは重合性基を表すが、下記の式（Ｐ−１）から式（Ｐ−２０）
【００１４】
【化２】
2015110532.tif 000004
【００１５】
から選ばれる基を表すことが好ましく、これらの重合性基はラジカル重合、ラジカル付加重合、カチオン重合及びアニオン重合により重合する。特に重合方法として紫外線重合を行う場合には、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−３）、式（Ｐ−４）、式（Ｐ−５）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１１）、式（Ｐ−１３）、式（Ｐ−１５）又は式（Ｐ−１８）が好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）、式（Ｐ−７）、式（Ｐ−１１）又は式（Ｐ−１３）がより好ましく、式（Ｐ−１）、式（Ｐ−２）又は式（Ｐ−３）がさらに好ましく、式（Ｐ−１）又は式（Ｐ−２）が特に好ましい。
【００１６】
Ｓはスペーサー基又は単結合を表すが、Ｓが複数現れる場合は各々同一であっても異なっていても良い。また、スペーサー基としては、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０のアルキレン基を表すことが好ましい。Ｓは、液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１２のアルキレン基又は単結合を表すことが好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して、炭素原子数１から１２のアルキレン基又は単結合を表すことがより好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して、炭素原子数１から１２のアルキレン基を表すこと、更には、炭素原子数１〜８のアルキレン基を表すことが特に好ましい。
【００１７】
Ｘは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は単結合を表すが、Ｘが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。また、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して−Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが好ましく、複数存在する場合は各々同一であっても異なっていても良く、各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表すことが特に好ましい。
【００１８】
Ａ１、Ａ２及びＡ３は各々独立して無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良い１，４−フェニレン、又は無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良いナフタレン−２，６−ジイルを表す。また、Ａ１、Ａ２及びＡ３のうち少なくとも１つは、無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良いナフタレン−２，６−ジイルを表すが、化合物の安定保存濃度及び、化合物を重合し重合体とした場合の変色（黄変度）の観点から、Ａ１、Ａ２及びＡ３のうちのいずれか１つまたは２つが、無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良いナフタレン−２，６−ジイルを表すことが好ましく、Ａ１、Ａ２及びＡ３のうちのいずれか１つが、無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良いナフタレン−２，６−ジイルを表すことが特に好ましい。なお、Ｌが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。
【００１９】
無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良い１，４−フェニレン、及び、無置換又は１つ以上のＬによって置換されても良いナフタレン−２，６−ジイルとしては、原料の入手容易さ、及び、合成の容易さの観点から、各々独立して下記の式（Ａ−１）から式（Ａ−６）
【００２０】
【化３】
2015110532.tif 000005
【００２１】
又は式（Ｂ−１）から式（Ｂ−９）
【００２２】
【化４】
2015110532.tif 000006
【００２３】
から選ばれる基を表すことが好ましく、各々独立して式（Ａ−１）から式（Ａ−６）又は式（Ｂ−１）から式（Ｂ−３）から選ばれる基を表すことがより好ましく、各々独立して式（Ａ−１）から式（Ａ−６）又は式（Ｂ−１）から選ばれる基を表すことが特に好ましい。
【００２４】
さらに溶液の安定保存濃度の観点から、Ａ１が式（Ｂ−１）で表される基を表し、Ａ２及びＡ３の両方が式（Ａ−２）から式（Ａ−６）で表される基のいずれかを表すか、Ａ１が式（Ｂ−１）で表される基を表し、Ａ２及びＡ３のうち一方が式（Ａ−１）で表される基を表し他方が式（Ａ−２）から式（Ａ−６）で表される基のいずれかを表すか、Ａ３が式（Ｂ−１）で表される基を表し、Ａ１が式（Ａ−１）で表される基を表しＡ２が式（Ａ−２）、式（Ａ−４）、式（Ａ−６）で表される基のいずれかを表すことが好ましい。
【００２５】
Ｌはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニトロ基、シアノ基、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、合成の容易さ及び液晶性の観点からフッ素原子、塩素原子、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から８の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すことが好ましく、フッ素原子、塩素原子、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から８の直鎖状アルキル基を表すことがより好ましく、フッ素原子、塩素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基を表すことがさらにより好ましく、フッ素原子、メチル基、メトキシ基を表すことが特に好ましい。
【００２６】
Ｒは水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、ペンタフルオロスルフラニル基、シアノ基、ニトロ基、イソシアノ基、チオイソシアノ基、若しくは、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い炭素原子数１から２０の直鎖又は分岐アルキル基を表すが、液晶性及び合成の容易さの観点から水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、若しくは、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−によって置換されても良い炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルキル基を表すことが好ましく、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基若しくは炭素原子数１から１２の直鎖アルキル基を表すことがより好ましく、フッ素原子若しくは炭素原子数１から８の直鎖アルキル基を表すことが特に好ましい。
【００２７】
ｌは０から８の整数を表すが、液晶性、原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から０から４の整数を表すことが好ましく、０から２の整数を表すことがより好ましく、０又は１を表すことがさらに好ましく、１を表すことが特に好ましい。
【００２８】
一般式（Ｉ）で表される化合物として具体的には、下記の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−９９）で表される化合物が好ましい。
【００２９】
【化５】
2015110532.tif 000007
【００３０】
【化６】
2015110532.tif 000008
【００３１】
【化７】
2015110532.tif 000009
【００３２】
【化８】
2015110532.tif 000010
【００３３】
【化９】
2015110532.tif 000011
【００３４】
【化１０】
2015110532.tif 000012
【００３５】
【化１１】
2015110532.tif 000013
【００３６】
【化１２】
2015110532.tif 000014
【００３７】
【化１３】
2015110532.tif 000015
【００３８】
【化１４】
2015110532.tif 000016
【００３９】
【化１５】
2015110532.tif 000017
【００４０】
【化１６】
2015110532.tif 000018
【００４１】
【化１７】
2015110532.tif 000019
【００４２】
【化１８】
2015110532.tif 000020
【００４３】
【化１９】
2015110532.tif 000021
【００４４】
【化２０】
2015110532.tif 000022
【００４５】
【化２１】
2015110532.tif 000023
【００４６】
【化２２】
2015110532.tif 000024
【００４７】
【化２３】
2015110532.tif 000025
【００４８】
【化２４】
2015110532.tif 000026
【００４９】
本願発明の化合物は以下の製法で製造することができる。
（製法１）下記式（Ｓ−９）で表される化合物の製造
【００５０】
【化２５】
2015110532.tif 000027
【００５１】
（式中、Ｐ、Ｓ、Ｌ、Ｒは各々独立して一般式（Ｉ）で定義されたものと同一のものを表し、ｒは各々独立して０から４の整数、ｓは各々独立して０から３の整数を表し、ｈａｌｏｇｅｎはハロゲン原子又はハロゲン等価体を表す。）
一般式（Ｓ−１）で表される化合物を例えば塩基存在下トリフルオロメタンスルホン酸無水物（Ｔｆ２Ｏ）と反応させることにより一般式（Ｓ−２）で表される化合物を得る。塩基としては例えばトリエチルアミン、ピリジン等が挙げられる。
【００５２】
式（Ｓ−２）で表される化合物を式（Ｓ−３）で表される化合物と反応させることにより式（Ｓ−４）で表される化合物を得ることができる。反応例として例えば金属触媒及び塩基存在下、クロスカップリングさせる方法が挙げられる。金属触媒としては例えば、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（０）、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）等のパラジウム触媒が挙げられる。塩基としては例えばトリエチルアミン等が使用可能である。さらに前記アミンの他、例えば炭酸カリウム、炭酸セシウム等が使用可能である。反応条件としては例えばＭｅｔａｌ−Ｃａｔａｌｙｚｅｄ  Ｃｒｏｓｓ−Ｃｏｕｐｌｉｎｇ  Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ（Ａｒｍｉｎ  ｄｅ  Ｍｅｉｊｅｒｅ、Ｆｒａｎｃｏｉｓ  Ｄｉｅｄｒｉｃｈ共著、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ）、Ｐａｌｌａｄｉｕｍ  Ｒｅａｇｅｎｔｓ  ａｎｄ  Ｃａｔａｌｙｓｔｓ：Ｎｅｗ  Ｐｅｒｓｐｅｃｔｉｖｅｓ  ｆｏｒ  ｔｈｅ  ２１ｓｔ  Ｃｅｎｔｕｒｙ（Ｊｉｒｏ  Ｔｓｕｊｉ著、Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｌｔｄ．）、Ｃｒｏｓｓ−Ｃｏｕｐｌｉｎｇ  Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ：Ａ  Ｐｒａｃｔｉｃａｌ  Ｇｕｉｄｅ（Ｔｏｐｉｃｓ  ｉｎ  Ｃｕｒｒｅｎｔ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）（Ｓ．Ｌ．Ｂｕｃｈｗａｌｄ、Ｋ．Ｆｕｇａｍｉ、Ｔ．Ｈｉｙａｍａ、Ｍ．Ｋｏｓｕｇｉ、Ｍ．Ｍｉｕｒａ、Ｎ．Ｍｉｙａｕｒａ、Ａ．Ｒ．Ｍｕｃｉ、Ｍ．Ｎｏｍｕｒａ、Ｅ．Ｓｈｉｒａｋａｗａ、Ｋ．Ｔａｍａｏ著、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ）等の文献に記載の方法が挙げられる。
【００５３】
一般式（Ｓ−４）で表される化合物を例えば塩基存在下トリフルオロメタンスルホン酸無水物（Ｔｆ２Ｏ）と反応させることにより一般式（Ｓ−５）で表される化合物を得る。塩基としては前記のものが挙げられる。
【００５４】
式（Ｓ−５）で表される化合物を式（Ｓ−６）で表される化合物と反応させることにより式（Ｓ−７）で表される化合物を得ることができる。反応例として例えば金属触媒及び塩基存在下、クロスカップリングさせる方法が挙げられる。金属触媒、塩基及び反応条件としては前記のものが挙げられる。
【００５５】
一般式（Ｓ−７）で表される化合物を例えば塩基存在下一般式（Ｓ−８）で表される化合物と反応させることにより一般式（Ｓ−９）で表される化合物を得る。塩基としては例えば前記のものが使用可能である。
【００５６】
前記各工程において記載した以外の反応条件として、例えば実験化学講座（日本化学会編、丸善株式会社発行）、Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ（Ａ  Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．，Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ）、Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ−Ｉｎｓｔｉｔｕｔ  ｆｕｅｒ  Ｌｉｔｅｒａｔｕｒ  ｄｅｒ  Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ  Ｃｈｅｍｉｅ、Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ  Ｂｅｒｌｉｎ  ａｎｄ  Ｈｅｉｄｅｌｂｅｒｇ  ＧｍｂＨ  ＆  Ｃｏ．Ｋ）、Ｆｉｅｓｅｒｓ’  Ｒｅａｇｅｎｔｓ  ｆｏｒ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．）等の文献に記載の条件又はＳｃｉＦｉｎｄｅｒ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ａｂｓｔｒａｃｔｓ  Ｓｅｒｖｉｃｅ，Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ）又はＲｅａｘｙｓ（Ｅｌｓｅｖｉｅｒ  Ｌｔｄ．）等のオンライン検索サービスから提供される条件が挙げられる。
【００５７】
また、各工程において適宜反応溶媒を用いることができる。溶媒としては目的の化合物を与えるものであれば制限は無いが、例えばｔｅｒｔ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、イソペンチルアルコール、シクロヘキサノール、１−ブタノール、２−ブタノール、１−オクタノール、２−メトキシエタノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、メタノール、メチルシクロヘキサノール、エタノール、プロパノール、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，２−ジクロロエチレン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、１−クロロブタン、二硫化炭素、アセトン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ｏ−ジクロロベンゼン、キシレン、ｏ−キシレン、ｐ−キシレン、ｍ−キシレン、クロロベンゼン、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソアミル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸２−メトキシエチル、ヘキサメチルリン酸トリアミド、トリス（ジメチルアミノ）ホスフィン、シクロヘキサノン、１，４−ジオキサン、ジクロロメタン、スチレン、テトラクロロエチレン、テトラヒドロフラン、ピリジン、１−メチル−２−ピロリジノン、１，１，１−トリクロロエタン、トルエン、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン、シクロペンタン、ヘプタン、ベンゼン、メチルイソブチルケトン、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルシクロヘキサノン、メチルブチルケトン、ジエチルケトン、ガソリン、コールタールナフサ、石油エーテル、石油ナフサ、石油ベンジン、テレビン油、ミネラルスピリット等が挙げられる。有機溶媒及び水の二相系で反応を行う場合、相間移動触媒を添加することも可能である。相間移動触媒としては、例えば、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、ポリオキシエチレン（１０）オクチルフェニルエーテル［Ｔｒｉｔｏｎ  Ｘ−１００］、ポリオキシエチレン（２０）ソルビタンモノパルミタート［Ｔｗｅｅｎ  ４０］、ソルビタンモノパルミタート［Ｓｐａｎ  ４０］等が挙げられる。
【００５８】
また、各工程において必要に応じて精製を行うことができる。精製方法としてはクロマトグラフィー、再結晶、蒸留、昇華、再沈殿、吸着、分液処理等が挙げられる。精製剤を用いる場合、精製剤としてシリカゲル、アルミナ、活性炭、活性白土、セライト、ゼオライト、メソポーラスシリカ、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン、備長炭、木炭、グラフェン、イオン交換樹脂、酸性白土、二酸化ケイ素、珪藻土、パーライト、セルロース、有機ポリマー、多孔質ゲル等が挙げられる。
（製法２）下記式（Ｓ−１７）で表される化合物の製造
【００５９】
【化２６】
2015110532.tif 000028
【００６０】
（式中、Ｐ、Ｓ、Ｌ、Ｒは各々独立して一般式（Ｉ）で定義されたものと同一のものを表し、ｒは各々独立して０から４の整数を表し、ｓは各々独立して０から３の整数を表し、ｈａｌｏｇｅｎはハロゲン原子又はハロゲン等価体を表す。）
式（Ｓ−１０）で表される化合物を式（Ｓ−１１）で表される化合物と反応させることにより式（Ｓ−１２）で表される化合物を得ることができる。反応例として例えば金属触媒及び塩基存在下、クロスカップリングさせる方法が挙げられる。金属触媒、塩基及び反応条件としては例えば製法１記載のものが挙げられる。
【００６１】
一般式（Ｓ−１２）で表される化合物をホウ酸化することにより一般式（Ｓ−１３）で表される化合物を得る。方法として例えば一般式（Ｓ−１２）で表される化合物の芳香環上のプロトンを強塩基により引き抜き、ホウ酸エステルと反応させた後、加水分解する方法が挙げられる。強塩基としては例えばブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、メチルリチウム、フェニルリチウム等が挙げられる。プロトン引き抜きを促進させるために、テトラメチルエチレンジアミン等の添加剤を使用してもよい。ホウ酸エステルとしては例えばホウ酸トリイソプロピル、ホウ酸トリメチル等が挙げられる。又は、一般式（Ｓ−１２）で表される化合物をハロゲン化した化合物からハロゲンリチウム交換反応によりリチオ化体へと誘導し、ホウ酸エステルと反応させた後、加水分解する方法が挙げられる。若しくは、一般式（Ｓ−１２）で表される化合物をハロゲン化した化合物からグリニャール試薬へと誘導し、ホウ酸エステルと反応させた後、加水分解する方法が挙げられる。
【００６２】
式（Ｓ−１３）で表される化合物を式（Ｓ−１４）で表される化合物と反応させることにより式（Ｓ−１５）で表される化合物を得ることができる。反応例として例えば金属触媒及び塩基存在下、クロスカップリングさせる方法が挙げられる。金属触媒、塩基及び反応条件としては製法１記載のものが使用可能である。
【００６３】
一般式（Ｓ−１５）で表される化合物を一般式（Ｓ−１６）で表される化合物と反応させることにより式（Ｓ−１７）で表される化合物を得る。反応条件としては例えば、光延反応又は、一般式（Ｓ−１６）で表される化合物をスルホン酸等と反応させスルホン酸エステルとするか、ハロゲン化試薬と反応させハロゲン化合物とした後、一般式（Ｓ−１５）で表される化合物と塩基存在下反応させる方法が挙げられる。光延反応を用いる場合、アゾジカルボン酸としては例えばアゾジカルボン酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル等が挙げられる。ホスフィンとしては例えばトリフェニルホスフィンが挙げられる。また、シアノメチレントリブチルホスホラン等の角田試薬を用いてもよい。スルホン酸エステルを経由する場合、スルホン酸としてメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等が挙げられる。塩基としては例えば製法１記載のものが挙げられる。
【００６４】
前記各工程において記載した以外の反応条件として、例えば製法１に挙げた文献に記載の条件又は製法１に挙げたオンライン検索サービスから提供される条件が使用可能である。
【００６５】
また、各工程において適宜反応溶媒を用いることができる。溶媒としては目的の化合物を与えるものであれば制限は無いが、例えば製法１記載のものが使用可能である。
【００６６】
また、各工程において必要に応じて精製を行うことができる。精製方法としては例えば製法１記載のものが挙げられる。
（製法３）下記式（Ｓ−２７）で表される化合物の製造
【００６７】
【化２７】
2015110532.tif 000029
【００６８】
（式中、Ｐ、Ｓ、Ｌ、Ｒは各々独立して一般式（Ｉ）で定義されたものと同一のものを表し、ｒは各々独立して０から４の整数を表し、ｓは各々独立して０から３の整数を表し、ｈａｌｏｇｅｎはハロゲン原子又はハロゲン等価体を表す。）
一般式（Ｓ−１８）で表される化合物をホウ酸化することにより一般式（Ｓ−１９）で表される化合物を得る。方法として例えば製法２記載のものが挙げられる。
【００６９】
式（Ｓ−１９）で表される化合物を式（Ｓ−２０）で表される化合物と反応させることにより式（Ｓ−２１）で表される化合物を得ることができる。反応例として例えば金属触媒及び塩基存在下、クロスカップリングさせる方法が挙げられる。金属触媒、塩基及び反応条件としては製法１記載のものが使用可能である。
【００７０】
一般式（Ｓ−２１）で表される化合物を例えば塩基存在下トリフルオロメタンスルホン酸無水物（Ｔｆ２Ｏ）と反応させることにより一般式（Ｓ−２２）で表される化合物を得る。塩基としては製法１記載のものが挙げられる。
【００７１】
一般式（Ｓ−２２）で表される化合物を金属触媒及び塩基下ビス（ピナコラート）ジボロン又はピナコールボラン等と反応させることにより式（Ｓ−２３）で表される化合物を得る。金属触媒、塩基及び反応条件としては製法１記載のものが使用可能である。
【００７２】
式（Ｓ−２３）で表される化合物を式（Ｓ−２４）で表される化合物と反応させることにより式（Ｓ−２５）で表される化合物を得ることができる。反応例として例えば金属触媒及び塩基存在下、クロスカップリングさせる方法が挙げられる。金属触媒、塩基及び反応条件としては製法１記載のものが使用可能である。
【００７３】
一般式（Ｓ−２５）で表される化合物を例えば塩基存在下一般式（Ｓ−２６）で表される化合物と反応させることにより一般式（Ｓ−２７）で表される化合物を得る。塩基としては例えば製法１記載のものが使用可能である。
【００７４】
前記各工程において記載した以外の反応条件として、例えば製法１に挙げた文献に記載の条件又は製法１に挙げたオンライン検索サービスから提供される条件が使用可能である。
【００７５】
また、各工程において適宜反応溶媒を用いることができる。溶媒としては目的の化合物を与えるものであれば制限は無いが、例えば製法１記載のものが使用可能である。
【００７６】
また、各工程において必要に応じて精製を行うことができる。精製方法としては例えば製法１記載のものが挙げられる。
【００７７】
本願発明の化合物は、ネマチック液晶組成物、スメクチック液晶組成物、キラルスメクチック液晶組成物及びコレステリック液晶組成物に使用することが好ましい。本願発明の反応性化合物を用いる液晶組成物において本願発明以外の化合物を添加しても構わない。
【００７８】
本願発明の反応性化合物と混合して使用される他の反応性化合物としては、具体的には一般式（ＩＩ）
【００７９】
【化２８】
2015110532.tif 000030
【００８０】
（式中、Ｐ１及びＰ２は各々独立して一般式（Ｉ）におけるＰと同じ意味を表し、Ｓ１及びＳ２は各々独立して単結合又は炭素原子数１〜２０個のアルキレン基を表すが、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、Ｘ１及びＸ２は各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し、Ｚ１は各々独立して単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ａ４及びＡ５は各々独立して、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又は１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すが、Ａ４及びＡ５は各々独立して無置換であるか又はハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、炭素原子数１から２０のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていても良く、ｍは０、１、２又は３を表すが、ｍが２又は３を表す場合、２個あるいは３個存在するＡ４及び、Ｚ１は、それぞれ、同一であっても異なっていても良い。）で表される化合物が好ましく、一般式（ＩＩ）のＰ１及びＰ２がアクリル基又はメタクリル基である場合が特に好ましい。具体的には、一般式（ＩＩ−Ａ）
【００８１】
【化２９】
2015110532.tif 000031
【００８２】
（式中、Ｒ１及びＲ２は各々独立して水素又はメチル基を表し、Ｓ３及びＳ４は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基、Ｘ３及びＸ４は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、Ｚ２及びＺ３は各々独立して−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ａ６、Ａ７及びＡ８は各々独立して無置換或いはフッ素原子、塩素原子又は炭素原子数１から４のアルキル基又はアルコキシ基によって置換された１，４−フェニレン基を表す。）で表される化合物が好ましく、下記式（ＩＩ−Ａ−１）から式（ＩＩ−Ａ−８）で表される化合物が特に好ましい。
【００８３】
【化３０】
2015110532.tif 000032
【００８４】
（式中、Ｒ１及びＲ２は各々独立して水素又はメチル基を表し、Ｓ３は一般式（ＩＩ−Ａ）におけるＳ３と同じ意味を表し、Ｓ４は一般式（ＩＩ−Ａ）におけるＳ４と同じ意味を表す。）上記式（ＩＩ−Ａ−１）から式（ＩＩ−Ａ−８）において、Ｓ３及びＳ４が各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基である化合物がさらに好ましい。
【００８５】
また、一般式（ＩＩ−Ｂ）
【００８６】
【化３１】
2015110532.tif 000033
【００８７】
（式中、Ｒ１及びＲ２は各々独立して水素又はメチル基を表し、Ｓ５及びＳ６は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基、Ｘ５及びＸ６は各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は単結合を表し、Ｚ４は−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ａ９、Ａ１０及びＡ１１は各々独立して無置換或いはフッ素原子、塩素原子又は炭素原子数１から４のアルキル基又はアルコキシ基によって置換された１，４−フェニレン基を表す。）で表される化合物が好ましく、下記式（ＩＩ−Ｂ−１）から式（ＩＩ−Ｂ−８）で表される化合物が特に好ましい。
【００８８】
【化３２】
2015110532.tif 000034
【００８９】
（式中、Ｒ１及びＲ２は各々独立して水素又はメチル基を表し、Ｓ５は一般式（ＩＩ−Ｂ）におけるＳ５と同じ意味を表し、Ｓ６は一般式（ＩＩ−Ｂ）におけるＳ６と同じ意味を表す。）上記式（ＩＩ−Ｂ−１）から式（ＩＩ−Ｂ−８）において、耐熱性及び耐久性の観点から、式（ＩＩ−Ｂ−２）、式（ＩＩ−Ｂ−５）、式（ＩＩ−Ｂ−６）、式（ＩＩ−Ｂ−７）及び式（ＩＩ−Ｂ−８）で表される化合物が好ましく、式（ＩＩ−Ｂ−２）で表される化合物がさらに好ましく、Ｓ５及びＳ６が各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基である化合物が特に好ましい。
【００９０】
この他、好ましい２官能重合性化合物としては下記一般式（ＩＩ−Ｃ−１）から式（ＩＩ−Ｃ−８）で表される化合物が挙げられる。
【００９１】
【化３３】
2015110532.tif 000035
【００９２】
（式中、Ｒ１及びＲ２は各々独立して水素又はメチル基を表し、Ｓ７及びＳ８は各々独立して炭素原子数２から１８のアルキレン基を表す。）上記式（ＩＩ−Ｃ−１）から式（ＩＩ−Ｃ−８）において、式（ＩＩ−Ｃ−２）、式（ＩＩ−Ｃ−３）、式（ＩＩ−Ｃ−４）、式（ＩＩ−Ｃ−６）、式（ＩＩ−Ｃ−７）及び式（ＩＩ−Ｃ−８）で表される化合物が好ましく、Ｓ７及びＳ８が各々独立して炭素原子数２から８のアルキレン基である化合物が特に好ましい。
【００９３】
好ましい単官能重合性化合物としては下記一般式（ＩＩＩ−１）から式（ＩＩＩ−９）で表される化合物が挙げられる。
【００９４】
【化３４】
2015110532.tif 000036
【００９５】
（式中、Ｐ３は一般式（Ｉ）におけるＰと同じ意味を表し、Ｓ９は単結合又は炭素原子数１から２０個のアルキレン基を表すが、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−に置き換えられても良く、Ｘ７は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−を表し、Ｚ５は単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、Ａ１２は１，４−フェニレン基又はナフタレン−２，６−ジイル基を表すが、Ａ１２は無置換であるか又はハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、炭素原子数１から２０のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていても良く、Ｌ１はフッ素原子、塩素原子、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−に置き換えられても良い炭素原子数１から１０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表し、ｒは０から４の整数を表し、Ｒ１は水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、ニトロ基、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−に置き換えられても良い炭素原子数１から２０の直鎖状又は分岐状アルキル基を表す。）
本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物には、当該組成物の液晶性を大きく損なわない程度に、液晶性を示さない重合性化合物を添加することも可能である。具体的には、この技術分野で高分子形成性モノマーあるいは高分子形成性オリゴマーとして認識される化合物であれば特に制限なく使用可能である。具体例として例えば「光硬化技術データブック、材料編（モノマー，オリゴマー，光重合開始剤）」（市村國宏、加藤清視監修、テクノネット社）記載のものが挙げられる。
【００９６】
また、本願発明の化合物は光重合開始剤を使用しなくても重合させることが可能であるが、目的により光重合開始剤を添加しても構わない。その場合は光重合開始剤の濃度は、本願発明の化合物に対し０．１質量％から１５質量％が好ましく、０．２質量％から１０質量％がより好ましく、０．４質量％から８質量％がさらに好ましい。光重合開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。光重合開始剤としては、具体的には２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ９０７）等が挙げられる。熱重合開始剤としては、アゾ化合物、過酸化物等が挙げられる。熱重合開始剤としては、具体的には２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）が挙げられる。また、１種類の重合開始剤を用いても良く、２種類以上の重合開始剤を併用して用いても良い。
【００９７】
また、本発明の重合性液晶組成物には、その保存安定性を向上させるために、安定剤を添加することもできる。使用できる安定剤としては、例えば、ヒドロキノン類、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、β−ナフチルアミン類、β−ナフトール類、ニトロソ化合物等が挙げられる。安定剤を使用する場合の添加量は、組成物に対して０．００５質量％から１質量％の範囲が好ましく、０．０２質量％から０．８質量％がより好ましく、０．０３質量％から０．５質量％がさらに好ましい。また、１種類の安定剤を用いても良く、２種類以上の安定剤を併用して用いても良い。安定剤としては、具体的には式（ＩＶ−１）から式（ＩＶ−３６）
【００９８】
【化３５】
2015110532.tif 000037
【００９９】
【化３６】
2015110532.tif 000038
【０１００】
【化３７】
2015110532.tif 000039
【０１０１】
【化３８】
2015110532.tif 000040
【０１０２】
【化３９】
2015110532.tif 000041
【０１０３】
【化４０】
2015110532.tif 000042
【０１０４】
【化４１】
2015110532.tif 000043
【０１０５】
【化４２】
2015110532.tif 000044
【０１０６】
（式中、ｎは０から２０の整数を表す。）で表される化合物が好ましい。
【０１０７】
また、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物をフィルム類、光学素子類、機能性顔料類、医薬品類、化粧品類、コーティング剤類、合成樹脂類等の用途に利用する場合には、その目的に応じて金属、金属錯体、染料、顔料、色素、蛍光材料、燐光材料、界面活性剤、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物等を添加することもできる。
【０１０８】
本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を重合することにより得られるポリマーは種々の用途に利用できる。例えば、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を、配向させずに重合することにより得られるポリマーは、光散乱板、偏光解消板、モアレ縞防止板として利用可能である。また、配向させた後に重合することにより得られるポリマーは、光学異方性を有しており有用である。このような光学異方体は、例えば、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を、布等でラビング処理した基板、有機薄膜を形成した基板又はＳｉＯ２を斜方蒸着した配向膜を有する基板に担持させるか、基板間に挟持させた後、当該重合性液晶組成物を重合することによって製造することができる。
【０１０９】
重合性液晶組成物を基板上に担持させる際の方法としては、スピンコーティング、ダイコーティング、エクストルージョンコーティング、ロールコーティング、ワイヤーバーコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング、ディッピング、プリント法等を挙げることができる。またコーティングの際、重合性液晶組成物に有機溶媒を添加しても良い。有機溶媒としては、炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、非プロトン性溶媒等を使用することができるが、例えば炭化水素系溶媒としてはトルエン又はヘキサンを、ハロゲン化炭化水素系溶媒としては塩化メチレンを、エーテル系溶媒としてはテトラヒドロフラン、アセトキシ−２−エトキシエタン又はプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを、アルコール系溶媒としてはメタノール、エタノール又はイソプロパノールを、ケトン系溶媒としてはアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、γ−ブチルラクトン又はＮ−メチルピロリジノン類を、エステル系溶媒としては酢酸エチル又はセロソルブを、非プロトン性溶媒としてはジメチルホルムアミド又はアセトニトリルを挙げることができる。これらは単独でも、組み合わせて用いても良く、その蒸気圧と重合性液晶組成物の溶解性を考慮し、適宜選択すれば良い。添加した有機溶媒を揮発させる方法としては、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥を用いることができる。重合性液晶材料の塗布性をさらに向上させるためには、基板上にポリイミド薄膜等の中間層を設けることや、重合性液晶材料にレベリング剤を添加する事も有効である。基板上にポリイミド薄膜等の中間層を設ける方法は、重合性液晶材料を重合することにより得られるポリマーと基板との密着性を向上させるために有効である。
【０１１０】
上記以外の配向処理としては、液晶材料の流動配向の利用、電場又は磁場の利用を挙げることができる。これらの配向手段は単独で用いても、また組み合わせて用いても良い。さらに、ラビングに代わる配向処理方法として、光配向法を用いることもできる。基板の形状としては、平板の他に、曲面を構成部分として有していても良い。基板を構成する材料は、有機材料、無機材料を問わずに用いることができる。基板の材料となる有機材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリアリレート、ポリスルホン、トリアセチルセルロース、セルロース、ポリエーテルエーテルケトン等が挙げられ、また、無機材料としては、例えば、シリコン、ガラス、方解石等が挙げられる。
【０１１１】
本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を重合させる際、迅速に重合が進行することが望ましいため、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を照射することにより重合させる方法が好ましい。紫外線を使用する場合、偏光光源を用いても良く、非偏光光源を用いても良い。また、液晶組成物を２枚の基板間に挟持させて状態で重合を行う場合、少なくとも照射面側の基板は活性エネルギー線に対して適当な透明性を有していなければならない。また、光照射時にマスクを用いて特定の部分のみを重合させた後、電場や磁場又は温度等の条件を変化させることにより、未重合部分の配向状態を変化させて、さらに活性エネルギー線を照射して重合させるという手段を用いても良い。また、照射時の温度は、本発明の重合性液晶組成物の液晶状態が保持される温度範囲内であることが好ましい。特に、光重合によって光学異方体を製造しようとする場合には、意図しない熱重合の誘起を避ける意味からも可能な限り室温に近い温度、即ち、典型的には２５℃での温度で重合させることが好ましい。活性エネルギー線の強度は、０．１ｍＷ／ｃｍ２〜２Ｗ／ｃｍ２が好ましい。強度が０．１ｍＷ／ｃｍ２以下の場合、光重合を完了させるのに多大な時間が必要になり生産性が悪化してしまい、２Ｗ／ｃｍ２以上の場合、重合性液晶化合物又は重合性液晶組成物が劣化してしまう危険がある。
【０１１２】
重合によって得られた当該光学異方体は、初期の特性変化を軽減し、安定的な特性発現を図ることを目的として熱処理を施すこともできる。熱処理の温度は５０〜２５０℃の範囲であることが好ましく、熱処理時間は３０秒〜１２時間の範囲であることが好ましい。
【０１１３】
このような方法によって製造される当該光学異方体は、基板から剥離して単体で用いても、剥離せずに用いても良い。また、得られた光学異方体を積層しても、他の基板に貼り合わせて用いてもよい。
【実施例】
【０１１４】
以下、実施例を挙げて本発明を更に記述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は『質量％』を意味する。
（実施例１）式（Ｉ−１）で表される化合物の製造
【０１１５】
【化４３】
2015110532.tif 000045
【０１１６】
反応容器に式（Ｉ−１−１）で表される化合物５０．０ｇ（０．２２７モル）、３−クロロプロパノール２７．９ｇ（０．２９５モル）、炭酸カリウム４７．１ｇ（０．３４１モル）、２−プロパノール２００ｍＬを加え、５０時間加熱還流させた。塩を濾過し、濾液を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−２−９）で表される化合物６３．１ｇ（０．２２７モル）を得た。
【０１１７】
滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−１−３）で表される化合物５０．０ｇ（０．２６８モル）、ピリジン３１．８ｇ（０．４０３モル）、ジクロロメタン２００ｍＬを加えた。氷冷しながらトリフルオロメタンスルホン酸無水物９０．９ｇ（０．３２２モル）を滴下した。室温で１０時間撹拌した後、塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−１−４）で表される化合物７８．８ｇ（０．２４８モル）を得た。
【０１１８】
反応容器に式（Ｉ−１−４）で表される化合物３５．０ｇ（０．１１０モル）、式（Ｉ−１−５）で表される化合物１６．９ｇ（０．１２１モル）、炭酸カリウム２２．８ｇ（０．１６５モル）、テトラヒドロフラン１５０ｍＬ、水１５０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）１．２７ｇ（１．１０ミリモル）を加え、９時間加熱還流させた。トルエンで希釈した後、塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−１−６）で表される化合物１９．６ｇ（０．０７４０モル）を得た。
【０１１９】
滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−１−６）で表される化合物１９．６ｇ（０．０７４０モル）、テトラヒドロフラン１２０ｍＬを加えた。ｓｅｃ−ブチルリチウム溶液（１．０モル／Ｌ）９２ｍＬを−７０℃で滴下した。そのまま２時間撹拌した後、ホウ酸トリメチル１０．０ｇ（０．０９６２モル）を滴下した。そのまま２時間撹拌した後、１０％塩酸３００ｍＬを０℃で滴下した。室温で１時間撹拌した後、食塩水で洗浄した。濃縮、乾燥させることにより式（Ｉ−１−７）で表される化合物２２．８（０．０７４０モル）を得た。
【０１２０】
反応容器に式（Ｉ−１−７）で表される化合物１１．０ｇ（０．０３５７モル）、式（Ｉ−１−２）で表される化合物９．０２ｇ（０．０３２４モル）、炭酸カリウム６．７２ｇ（０．０４８６モル）、テトラヒドロフラン１００ｍＬ、水１００ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．３７ｇ（０．３２０ミリモル）を加え、５時間加熱還流させた。反応液を濃縮し水を加え、析出物を濾過した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１−８）で表される化合物１０．５ｇ（０．０２５３モル）を得た。
【０１２１】
滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−１−８）で表される化合物２．６４ｇ（０．００６３７モル）、ジイソプロピルエチルアミン１．１５ｇ（０．００８９０モル）、ジクロロメタン２０ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化アクリロイル０．６９ｇ（０．００７６２モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、５％塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１）で表される化合物２．３０ｇを得た。
転移温度（昇温５℃／分）： Ｃ  １０８  Ｓ  １７１  Ｎ  ＞２００  Ｉ
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ０．９９（ｔ，３Ｈ），１．７５（ｓｅｘ，２Ｈ），２．２０（ｑｕｉｎ，２Ｈ），２．７７（ｔ，２Ｈ），４．１３（ｔ，２Ｈ），４．３９（ｔ，２Ｈ），５．８４（ｄｄ，１Ｈ），６．１４（ｄｄ，１Ｈ），６．４３（ｄｄ，１Ｈ），７．００（ｄ，２Ｈ），７．３７（ｄｄ，１Ｈ），７．４８−７．５６（ｍ，５Ｈ），７．６４（ｓ，１Ｈ），７．７２（ｄｄ，１Ｈ），７．８５（ｄｄ，２Ｈ），８．０３（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
１３Ｃ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  １３．８５，２４．４２，２８．６９，３８．２２，６１．３７，６４．４１，１１４．５８，１１４．８２，１２３．０２，１２３．０５，１２５．０３，１２５．５１，１２６．２０，１２７．２０，１２７．３４，１２８．１１，１２８．１６，１２８．４０，１３０．１１，１３０．１４，１３０．７０，１３０．７４，１３０．８４，１３２．１３，１３３．０７，１３６．０４，１３６．０６，１４０．７９，１４１．７９，１４１．８７，１５８．４８，１５８．８６，１６１．３１，１６６．１８ｐｐｍ．
（実施例２）式（Ｉ−２）で表される化合物の製造
【０１２２】
【化４４】
2015110532.tif 000046
【０１２３】
反応容器に式（Ｉ−１−４）で表される化合物３５．０ｇ（０．１１０モル）、式（Ｉ−２−１）で表される化合物１９．１ｇ（０．１２１モル）、炭酸カリウム２２．８ｇ（０．１６５モル）、テトラヒドロフラン１００ｍＬ、水１００ｍＬを加え、系内を窒素置換した。テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）１．２７ｇ（１．１０ミリモル）を加え、５時間加熱還流させた。トルエンを加え、水、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い式（Ｉ−２−２）で表される化合物２６．０ｇ（０．０９２１モル）を得た。
【０１２４】
滴下ロートを備えた反応容器にジイソプロピルアミン１４．０ｇ（０．１３８モル）、テトラヒドロフラン７０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、１．５８Ｍブチルリチウム／ヘキサン溶液８１．６ｍＬ（０．１２９モル）を−３０℃で滴下した。そのまま１時間撹拌した後、式（Ｉ−２−２）で表される化合物２６．０ｇ（０．０９２１モル）及びホウ酸トリイソプロピル２６．０ｇ（０．１３８モル）をテトラヒドロフラン１３０ｍＬに溶解させた溶液を−３０℃で滴下した。そのまま１時間撹拌した後、塩酸を加えた。水、食塩水で洗浄した後、溶媒を留去することにより式（Ｉ−２−３）で表される化合物１９．２ｇ（０．０５８９モル）を得た。
【０１２５】
反応容器に式（Ｉ−２−３）で表される化合物１５．０ｇ（０．０４６０モル）、式（Ｉ−１−２）で表される化合物１１．６ｇ（０．０４１８モル）、炭酸カリウム８．６７ｇ（０．０６２７モル）、テトラヒドロフラン８０ｍＬ、水８０ｍＬを加え、系内を窒素置換した。テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．４８ｇ（０．４１５ミリモル）を加え、５時間加熱還流させた。水を加え析出物を濾過した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ）及び再結晶により精製を行い式（Ｉ−２−４）で表される化合物１０．１ｇ（０．０２３４モル）を得た。
【０１２６】
滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−２−４）で表される化合物１０．１ｇ（０．０２３４モル）、ジイソプロピルエチルアミン４．２３ｇ（０．０３２７モル）、ジクロロメタン５０ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化アクリロイル２．５４ｇ（０．０２８１モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、５％塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−２）で表される化合物８．６５ｇを得た。
転移温度（昇温５℃／分）： Ｃ  １０２  Ｎ  ＞２００  Ｉ
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ０．９９（ｔ，３Ｈ），１．７５（ｓｅｘ，２Ｈ），２．２０（ｑｕｉｎ，２Ｈ），２．７８（ｔ，２Ｈ），４．１３（ｔ，２Ｈ），４．３９（ｔ，２Ｈ），５．８４（ｄｄ，１Ｈ），６．１４（ｄｄ，１Ｈ），６．４３（ｄｄ，１Ｈ），７．０１（ｄ，２Ｈ），７．２６（ｔｄ，１Ｈ），７．３５（ｄｄ，２Ｈ），７．５５（ｄ，２Ｈ），７．６６（ｍ，２Ｈ），７．８４（ｄｄ，２Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
１３Ｃ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  １３．８４，２４．４３，２８．６７，３８．２４，６１．３５，６４．４４，１１４．６９，１２４．４２，１２４．４６，１２４．５０，１２４．８３，１２４．８７，１２４．９１，１２６．２１，１２６．５６，１２６．５９，１２７．２３，１２７．７２，１２７．８５，１２７．８８，１２８．１０，１２８．１５，１２８．３８，１２９．３３，１２９．３８，１２９．４４，１２９．４８，１３０．０８，１３０．１１，１３０．８７，１３１．３２，１３１．８６，１３３．０７，１４１．０７，１４７．２２，１４７．３４，１４７．５８，１４９．６７，１４９．８０，１４９．９２，１５８．８２，１６６．１８ｐｐｍ．
（実施例３）式（Ｉ−３）で表される化合物の製造
【０１２７】
【化４５】
2015110532.tif 000047
【０１２８】
反応容器に式（Ｉ−３−１）で表される化合物２０．０ｇ（０．０８８１モル）、式（Ｉ−２−１）で表される化合物１５．３ｇ（０．０９６９モル）、炭酸カリウム１８．３ｇ（０．１３２モル）、テトラヒドロフラン１２０ｍＬ、水１２０ｍＬを加え、系内を窒素置換した。テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）１．０２ｇ（０．８８１ミリモル）を加え、５時間加熱還流させた。トルエンを加え、水、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い式（Ｉ−３−２）で表される化合物１９．７ｇ（０．０７５７モル）を得た。
【０１２９】
滴下ロートを備えた反応容器にジイソプロピルアミン９．９６ｇ（０．０９８４モル）、テトラヒドロフラン４０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、１．５８Ｍブチルリチウム／ヘキサン溶液５７．５ｍＬ（０．０９０９モル）を−３０℃で滴下した。そのまま１時間撹拌した後、式（Ｉ−３−２）で表される化合物１９．７ｇ（０．０７５７モル）及びホウ酸トリイソプロピル１８．５ｇ（０．０９８４モル）をテトラヒドロフラン１００ｍＬに溶解させた溶液を−３０℃で滴下した。そのまま１時間撹拌した後、塩酸を加えた。水、食塩水で洗浄した後、溶媒を留去することにより式（Ｉ−３−３）で表される化合物２０．７ｇ（０．０６８２モル）を得た。
【０１３０】
反応容器に式（Ｉ−３−３）で表される化合物１０．０ｇ（０．０３２９モル）、式（Ｉ−３−４）で表される化合物６．６７ｇ（０．０２９９モル）、炭酸カリウム６．２０ｇ（０．０４４８モル）、テトラヒドロフラン６０ｍＬ、水６０ｍＬを加え、系内を窒素置換した。テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．３５ｇ（０．２９９ミリモル）を加え、５時間加熱還流させた。トルエンを加え塩酸、水、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い式（Ｉ−３−５）で表される化合物９．６２ｇ（０．０２３９モル）を得た。
【０１３１】
反応容器に式（Ｉ−３−５）で表される化合物９．６２ｇ（０．０２３９モル）、式（Ｉ−３−６）で表される化合物５．９３ｇ（０．０３１１モル）、炭酸セシウム１１．７ｇ（０．０３５９モル）、ジメチルスルホキシド１００ｍＬを加え、６５℃で１２時間加熱撹拌した。ジクロロメタンで希釈し、水、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−３）で表される化合物９．３１ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ−１．
ＬＲＭＳ：５５６
（実施例４）式（Ｉ−４）で表される化合物の製造
【０１３２】
【化４６】
2015110532.tif 000048
【０１３３】
滴下ロートを備えた反応容器にマグネシウム３．４２ｇ（０．１４０モル）、テトラヒドロフラン９ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、式（Ｉ−４−１）で表される化合物２０．０ｇ（０．１０８モル）をテトラヒドロフラン６０ｍＬに溶解させた溶液を滴下し、グリニャール試薬を調製した。２時間撹拌した後、ホウ酸トリメチル１４．６ｇ（０．１４０モル）を滴下した。２時間撹拌した後、塩酸を加え１時間撹拌した。分液処理し有機層を食塩水で洗浄し溶媒を留去することにより、式（Ｉ−４−２）で表される化合物１５．４ｇ（０．１０３モル）を得た。
【０１３４】
反応容器に式（Ｉ−４−２）で表される化合物１５．４ｇ（０．１０３モル）、式（Ｉ−４−３）で表される化合物２９．０ｇ（０．１０３モル）、炭酸カリウム２１．３ｇ（０．１５４モル）、テトラヒドロフラン１００ｍＬ、水１００ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）１．１９ｇ（１．０３ミリモル）を加え、５時間加熱還流させた。トルエンで希釈し、水、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−４−４）で表される化合物２２．８ｇ（０．０８７３モル）を得た。
【０１３５】
滴下ロートを備えた反応容器にマグネシウム２．７６ｇ（０．１１３モル）、テトラヒドロフラン９ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、式（Ｉ−４−４）で表される化合物２２．８ｇ（０．０８７３モル）をテトラヒドロフラン６０ｍＬに溶解させた溶液を滴下し、グリニャール試薬を調製した。２時間撹拌した後、ホウ酸トリメチル１１．８ｇ（０．１１３モル）を滴下した。２時間撹拌した後、塩酸を加え１時間撹拌した。分液処理し有機層を食塩水で洗浄し溶媒を留去することにより、式（Ｉ−４−５）で表される化合物１８．７ｇ（０．０８２９モル）を得た。
【０１３６】
反応容器に式（Ｉ−４−５）で表される化合物１８．７ｇ（０．０８２９モル）、式（Ｉ−３−４）で表される化合物１８．５ｇ（０．０８２９モル）、炭酸カリウム１７．２ｇ（０．１２４モル）、テトラヒドロフラン１００ｍＬ、水１００ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．９６ｇ（０．８２９ミリモル）を加え、５時間加熱還流させた。酢酸エチルで希釈し、塩酸、水、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−４−６）で表される化合物２１．５ｇ（０．０６６３モル）を得た。
【０１３７】
反応容器に式（Ｉ−４−６）で表される化合物１０．０ｇ（０．０３０８モル）、４−クロロブタノール４．３５ｇ（０．０４０１モル）、炭酸セシウム１５．１ｇ（０．０４６２モル）、ジメチルスルホキシド５０ｍＬを加え、６０℃で８時間加熱撹拌した。ジクロロメタンで希釈し、塩酸、水、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−４−７）で表される化合物１０．４ｇ（０．０２６２モル）を得た。
【０１３８】
滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−４−７）で表される化合物１０．４ｇ（０．０２６２モル）、ジイソプロピルエチルアミン４．４０ｇ（０．０３４１モル）、ジクロロメタン６０ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化メタクリロイル３．２９ｇ（０．０３１４モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、５％塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−４）で表される化合物８．５１ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ−１．
ＬＲＭＳ：４６４
（実施例５）式（Ｉ−５）で表される化合物の製造
【０１３９】
【化４７】
2015110532.tif 000049
【０１４０】
反応容器に式（Ｉ−１−４）で表される化合物１５．０ｇ（０．０４７１モル）、式（Ｉ−５−１）で表される化合物７．４４ｇ（０．０４７１モル）、炭酸カリウム９．７７ｇ（０．０７０７モル）、テトラヒドロフラン１００ｍＬ、水１００ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．５４ｇ（０．４７１ミリモル）を加え、５時間加熱還流させた。トルエンで希釈し、水、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−５−２）で表される化合物１１．３ｇ（０．０４００モル）を得た。
【０１４１】
滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−５−２）で表される化合物１１．３ｇ（０．０４００モル）、テトラヒドロフラン６０ｍＬを加えた。ブチルリチウム溶液（１．６モル／Ｌ）３２．５ｍＬを−６０℃で滴下した。そのまま２時間撹拌した後、ホウ酸トリイソプロピル９．７９ｇ（０．０５２０モル）を滴下した。そのまま２時間撹拌した後、１０％塩酸３００ｍＬを０℃で滴下した。室温で１時間撹拌した後、食塩水で洗浄した。濃縮、乾燥させることにより式（Ｉ−５−３）で表される化合物１１．７ｇ（０．０３６０モル）を得た。
【０１４２】
反応容器に式（Ｉ−５−３）で表される化合物１１．７ｇ（０．０３６０モル）、式（Ｉ−１−２）で表される化合物１０．０ｇ（０．０３６０モル）、炭酸カリウム７．４７ｇ（０．０５４０モル）、テトラヒドロフラン１００ｍＬ、水１００ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．４２ｇ（０．３６０ミリモル）を加え、５時間加熱還流させた。ジクロロメタンで希釈し、塩酸、水、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−５−４）で表される化合物１２．５ｇ（０．０２８８モル）を得た。
【０１４３】
滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−５−４）で表される化合物１２．５ｇ（０．０２８８モル）、ジイソプロピルエチルアミン４．８４ｇ（０．０３７５モル）、ジクロロメタン６０ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化アクリロイル３．１３ｇ（０．０３４６モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、５％塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−５）で表される化合物９．８０ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ−１．
ＬＲＭＳ：４８６
（実施例６）式（Ｉ−６）で表される化合物の製造
【０１４４】
【化４８】
2015110532.tif 000050
【０１４５】
反応容器に式（Ｉ−６−１）で表される化合物１０．０ｇ（０．０５６９モル）、式（Ｉ−６−２）で表される化合物１７．１ｇ（０．０５６９モル）、炭酸カリウム１１．８ｇ（０．０８５３モル）、テトラヒドロフラン１００ｍＬ、水１００ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．６６ｇ（０．５６９ミリモル）を加え、５時間加熱還流させた。トルエンで希釈し、水、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−６−３）で表される化合物１３．９ｇ（０．０４５５モル）を得た。
【０１４６】
滴下ロートを備えた反応容器にマグネシウム０．５２ｇ（０．０２１３モル）、テトラヒドロフラン２ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、式（Ｉ−６−３）で表される化合物５．００ｇ（０．０１６４モル）をテトラヒドロフラン２０ｍＬに溶解させた溶液を滴下し、グリニャール試薬を調製した。２時間撹拌した後、ホウ酸トリメチル２．２１ｇ（０．０２１３モル）を滴下した。２時間撹拌した後、塩酸を加え１時間撹拌した。分液処理し有機層を食塩水で洗浄し溶媒を留去することにより、式（Ｉ−６−４）で表される化合物３．９８ｇ（０．０１４８モル）を得た。
【０１４７】
反応容器に式（Ｉ−６−４）で表される化合物３．９８ｇ（０．０１４８モル）、式（Ｉ−３−４）で表される化合物３．２９ｇ（０．０１４８モル）、炭酸カリウム３．０６ｇ（０．０２２１モル）、テトラヒドロフラン２０ｍＬ、水２０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．１７ｇ（０．１４８ミリモル）を加え、５時間加熱還流させた。酢酸エチルで希釈し、塩酸、水、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−６−５）で表される化合物４．３５ｇ（０．０１１８モル）を得た。
【０１４８】
反応容器に式（Ｉ−６−５）で表される化合物４．３５ｇ（０．０１１８モル）、式（Ｉ−６−６）で表される化合物２．９３ｇ（０．０１５３モル）、炭酸セシウム５．７７ｇ（０．０１７７モル）、ジメチルスルホキシド４０ｍＬを加え、６５℃で１２時間加熱撹拌した。ジクロロメタンで希釈し、水、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−６）で表される化合物４．３１ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ−１．
ＬＲＭＳ：５２２
（実施例７）式（Ｉ−７）で表される化合物の製造
【０１４９】
【化４９】
2015110532.tif 000051
【０１５０】
反応容器に式（Ｉ−３−４）で表される化合物１０．０ｇ（０．０４４８モル）、６−クロロヘキサノール７．９６ｇ（０．０５８３モル）、炭酸カリウム９．２９ｇ（０．０６７２モル）、２−プロパノール１００ｍＬを加え、６０時間加熱還流させた。塩を濾過し、濾液を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−７−１）で表される化合物１０．１ｇ（０．０３１４モル）を得た。
【０１５１】
反応容器に式（Ｉ−７−２）で表される化合物７．００ｇ（０．０３７４モル）、式（Ｉ−５−１）で表される化合物５．９１ｇ（０．０３７４モル）、炭酸カリウム７．７６ｇ（０．０５６１モル）、テトラヒドロフラン３０ｍＬ、水３０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．４３ｇ（０．３７４ミリモル）を加え、５時間加熱還流させた。トルエンで希釈し、水、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−７−３）で表される化合物６．５９ｇ（０．０２９９モル）を得た。
【０１５２】
滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−７−３）で表される化合物６．５９ｇ（０．０２９９モル、テトラヒドロフラン３０ｍＬを加えた。ブチルリチウム溶液（１．６モル／Ｌ）２４．３ｍＬを−６０℃で滴下した。そのまま２時間撹拌した後、ホウ酸トリイソプロピル７．３２ｇ（０．０３８９モル）を滴下した。そのまま２時間撹拌した後、１０％塩酸５０ｍＬを０℃で滴下した。室温で１時間撹拌した後、食塩水で洗浄した。濃縮、乾燥させることにより式（Ｉ−７−４）で表される化合物７．１１ｇ（０．０２６９モル）を得た。
【０１５３】
反応容器に式（Ｉ−７−４）で表される化合物３．００ｇ（０．０１１４モル）、式（Ｉ−７−１）で表される化合物３．６７ｇ（０．０１１４モル）、炭酸カリウム２．３６ｇ（０．０１７０モル）、テトラヒドロフラン２０ｍＬ、水２０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．１３ｇ（０．１１４ミリモル）を加え、５時間加熱還流させた。酢酸エチルで希釈し、塩酸、水、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−７−５）で表される化合物４．２０ｇ（９．０９ミリモル）を得た。
【０１５４】
滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−７−５）で表される化合物４．２０ｇ（９．０９ミリモル）、３−エチル−３−オキセタンメタノール１．２７ｇ（０．０１０９モル）、トリフェニルホスフィン２．８６ｇ（０．０１０９モル）、テトラヒドロフラン３０ｍＬを加えた。氷冷しながらアゾジカルボン酸ジイソプロピル２．２１ｇ（０．０１０９モル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−７）で表される化合物３．５７ｇを得た。
ＬＲＭＳ：５６０
（実施例８）式（Ｉ−８）で表される化合物の製造
【０１５５】
【化５０】
2015110532.tif 000052
【０１５６】
反応容器に式（Ｉ−１−１）で表される化合物１０．０ｇ（０．０４５５モル）、６−クロロヘキサノール１３．０ｇ（０．０５９１モル）、炭酸カリウム９．４２ｇ（０．０６８２モル）、２−プロパノール１００ｍＬを加え、６０時間加熱還流させた。塩を濾過し、濾液を留去した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−８−１）で表される化合物１１．６ｇ（０．０３６４モル）を得た。
【０１５７】
滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−８−１）で表される化合物１１．６ｇ（０．０３６４モル）、パラトルエンスルホン酸ピリジニウム０．７４ｇ（１．８２ミリモル）、ジクロロメタン１００ｍＬを加えた。氷冷しながら３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン３．９８ｇ（０．０４７３モル）を滴下した。室温で１０時間撹拌した後、飽和重曹水、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（アルミナ）により精製を行い、式（Ｉ−８−２）で表される化合物１４．０ｇ（０．０３４５モル）を得た。
【０１５８】
滴下ロートを備えた反応容器にマグネシウム０．３９ｇ（０．０１６１モル）、テトラヒドロフラン１ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、式（Ｉ−８−２）で表される化合物５．００ｇ（０．０１２４モル）をテトラヒドロフラン２０ｍＬに溶解させた溶液を滴下し、グリニャール試薬を調製した。２時間撹拌した後、ホウ酸トリメチル１．６７ｇ（０．０１６１モル）を滴下した。２時間撹拌した後、塩化アンモニウム水溶液を加え１時間撹拌した。分液処理し有機層を食塩水で洗浄し溶媒を留去することにより、式（Ｉ−８−３）で表される化合物３．５９ｇ（０．０１１１モル）を得た。
【０１５９】
反応容器に式（Ｉ−８−３）で表される化合物３．５９ｇ（０．０１１１モル）、式（Ｉ−３−４）で表される化合物２．４８ｇ（０．０１１１モル）、炭酸カリウム２．３１ｇ（０．０１６７モル）、テトラヒドロフラン３０ｍＬ、水３０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．１３ｇ（０．１１１ミリモル）を加え、５時間加熱還流させた。酢酸エチルで希釈し、塩化アンモニウム水溶液、水、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（アルミナ）により精製を行い、式（Ｉ−８−４）で表される化合物３．７４ｇ（８．９０ミリモル）を得た。
【０１６０】
滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−８−４）で表される化合物３．７４ｇ（８．９０ミリモル）、ピリジン０．９２ｇ（０．０１１６モル）、ジクロロメタン３０ｍＬを加えた。氷冷しながらトリフルオロメタンスルホン酸無水物３．０１ｇ（０．０１０７モル）を滴下した。室温で１０時間撹拌した後、塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ）により精製を行い、式（Ｉ−８−５）で表される化合物４．４３ｇ（８．０１ミリモル）を得た。
【０１６１】
反応容器に式（Ｉ−８−５）で表される化合物４．４３ｇ（８．０１ミリモル）、ビス（ピナコラート）ジボロン２．２４ｇ（８．８２ミリモル）、酢酸カリウム２．３６ｇ（０．０２４０モル）、ジメチルスルホキシド４０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、ジクロロ［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロロメタン付加物０．２０ｇ（０．２４０ミリモル）を加え８０℃で２０時間加熱撹拌した。水、ジクロロメタンを加え分液処理した後、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（アルミナ）により精製を行い、式（Ｉ−８−６）で表される化合物３．４０ｇ（６．４１ミリモル）を得た。
【０１６２】
反応容器に式（Ｉ−８−６）で表される化合物３．４０ｇ（６．４１ミリモル）、式（Ｉ−８−７）で表される化合物１．２８ｇ（６．４１ミリモル）、炭酸カリウム１．３３ｇ（９．６２ミリモル）、テトラヒドロフラン２０ｍＬ、水２０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．０７４１ｇ（０．０６４１ミリモル）を加え、１０時間加熱還流させた。ジクロロメタンで希釈し、水、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（アルミナ）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−８−８）で表される化合物２．６９ｇ（５．１３ミリモル）を得た。
【０１６３】
反応容器に式（Ｉ−８−８）で表される化合物２．６９ｇ（５．１３ミリモル）、テトラヒドロフラン２０ｍＬ、メタノール２０ｍＬ、濃塩酸１ｍＬを加え、室温で１０時間撹拌した。酢酸エチルで希釈し食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−８−９）で表される化合物２．１４ｇ（４．８７ミリモル）を得た。
【０１６４】
滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−８−９）で表される化合物２．１４ｇ（４．８７ミリモル）、２−フルオロアクリル酸０．４８ｇ（５．３６ミリモル）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン０．０５９５ｇ（０．４８７ミリモル）、ジクロロメタン１０ｍＬを加えた。氷冷しながらＮ，Ｎ−ジイソプロピルカルボジイミド０．７４ｇ（５．８５ミリモル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、濾過し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−８）で表される化合物１．７４ｇを得た。
ＬＲＭＳ：５１１
（実施例９）式（Ｉ−９）で表される化合物の製造
【０１６５】
【化５１】
2015110532.tif 000053
【０１６６】
反応容器に式（Ｉ−３−４）で表される化合物５．００ｇ（０．０２２４モル）、１−ブロモペンタン４．４０ｇ（０．０２９１モル）、炭酸セシウム１１．０ｇ（０．０３３６モル）、ジメチルスルホキシド５０ｍＬを加え、６０℃で５時間時間撹拌した。トルエンを加え、水、食塩水で洗浄した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−９−１）で表される化合物５．２６ｇ（０．０１７９モル）を得た。
【０１６７】
滴下ロートを備えた反応容器にマグネシウム０．５７ｇ（０．０２３３モル）、テトラヒドロフラン２ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、式（Ｉ−９−１）で表される化合物５．２６ｇ（０．０１７９モル）をテトラヒドロフラン２０ｍＬに溶解させた溶液を滴下し、グリニャール試薬を調製した。２時間撹拌した後、ホウ酸トリメチル２．４２ｇ（０．０２３３モル）を滴下した。２時間撹拌した後、１０％塩酸を加え１時間撹拌した。分液処理し有機層を食塩水で洗浄し溶媒を留去することにより、式（Ｉ−９−２）で表される化合物４．１７ｇ（０．０１６１モル）を得た。
【０１６８】
反応容器に式（Ｉ−９−２）で表される化合物４．１７ｇ（０．０１６１モル）、式（Ｉ−３−４）で表される化合物３．６０ｇ（０．０１６１モル）、炭酸カリウム３．３５ｇ（０．０２４２モル）、テトラヒドロフラン２０ｍＬ、水２０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．１９ｇ（０．１６１ミリモル）を加え、１０時間加熱還流させた。酢酸エチルで希釈し、塩酸、水、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−９−３）で表される化合物４．６０ｇ（０．０１２９モル）を得た。
【０１６９】
滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−９−３）で表される化合物４．６０ｇ（０．０１２９モル）、ピリジン１．５３ｇ（０．０１９４モル）、ジクロロメタン３０ｍＬを加えた。氷冷しながらトリフルオロメタンスルホン酸無水物４．３７ｇ（０．０１５５モル）を滴下した。室温で１０時間撹拌した後、塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−９−４）で表される化合物５．９９ｇ（０．０１２３モル）を得た。
【０１７０】
反応容器に式（Ｉ−９−４）で表される化合物５．９９ｇ（０．０１２３モル）、ビス（ピナコラート）ジボロン３．４３ｇ（０．０１３５モル）、酢酸カリウム３．６１ｇ（０．０３６８モル）、ジメチルスルホキシド４０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、ジクロロ［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロロメタン付加物０．３０ｇ（０．３６８ミリモル）を加え８０℃で２０時間加熱撹拌した。水、ジクロロメタンを加え分液処理した後、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−９−５）で表される化合物４．００ｇ（８．５９ミリモル）を得た。
【０１７１】
反応容器に式（Ｉ−９−５）で表される化合物４．００ｇ（８．５９ミリモル）、式（Ｉ−９−６）で表される化合物１．４９ｇ（８．５９ミリモル）、炭酸カリウム１．７８ｇ（０．０１２９モル）、テトラヒドロフラン３０ｍＬ、水３０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）９９．２ｍｇ（０．０８５９ミリモル）を加え、１０時間加熱還流させた。酢酸エチルで希釈し、塩酸、水、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−９−７）で表される化合物２．９７ｇ（６．８７ミリモル）を得た。
【０１７２】
滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−９−７）で表される化合物２．９７ｇ（６．８７ミリモル）、ジイソプロピルエチルアミン１．１５ｇ（８．９３ミリモル）、ジクロロメタン３０ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化メタクリロイル０．８６ｇ（８．２４ミリモル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、５％塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−９）で表される化合物２．４１ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ−１．
ＬＲＭＳ：５００
（実施例１０）式（Ｉ−１０）で表される化合物の製造
【０１７３】
【化５２】
2015110532.tif 000054
【０１７４】
滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−３−４）で表される化合物５０．０ｇ（０．２２４モル）、１，２−ジクロロエタン１５０ｍＬ加えた。塩化スルフリル３３．３ｇ（０．２４７モル）を滴下し、８時間撹拌した後、酢酸エチルに溶解させ、水、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行うことにより式（Ｉ−１０−１）で表される化合物５２．７ｇ（０．２０５モル）を得た。
【０１７５】
滴下ロートを備えた反応容器にマグネシウム０．６７ｇ（０．０２７４モル）、テトラヒドロフラン２ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、式（Ｉ−１０−２）で表される化合物５．００ｇ（０．０２１１モル）をテトラヒドロフラン２０ｍＬに溶解させた溶液を滴下し、グリニャール試薬を調製した。２時間撹拌した後、ホウ酸トリメチル２．８５ｇ（０．０２７４モル）を滴下した。２時間撹拌した後、１０％塩酸を加え１時間撹拌した。分液処理し有機層を食塩水で洗浄し溶媒を留去することにより、式（Ｉ−１０−３）で表される化合物３．８３ｇ（０．０１９０モル）を得た。
【０１７６】
反応容器に式（Ｉ−１０−３）で表される化合物３．８３ｇ（０．０１９０モル）、式（Ｉ−１０−１）で表される化合物４．８９ｇ（０．０１９０モル）、炭酸カリウム３．９３ｇ（０．０２８５モル）、テトラヒドロフラン３０ｍＬ、水３０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．２２ｇ（０．１９０ミリモル）を加え、１０時間加熱還流させた。酢酸エチルで希釈し、塩酸、水、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１０−４）で表される化合物５．０８ｇ（０．０１５２モル）を得た。
【０１７７】
滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−１０−４）で表される化合物５．０８ｇ（０．０１５２モル）、ピリジン１．８０ｇ（０．０２２８モル）、ジクロロメタン３０ｍＬを加えた。氷冷しながらトリフルオロメタンスルホン酸無水物５．１４ｇ（０．０１８２モル）を滴下した。室温で１０時間撹拌した後、塩酸、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−１０−５）で表される化合物６．７３ｇ（０．０１４４モル）を得た。
【０１７８】
反応容器に式（Ｉ−１０−５）で表される化合物６．７３ｇ（０．０１４４モル）、ビス（ピナコラート）ジボロン４．０３ｇ（０．０１５９モル）、酢酸カリウム４．２５ｇ（０．０４３３モル）、ジメチルスルホキシド７０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後、ジクロロ［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロロメタン付加物０．３５ｇ（０．４３３ミリモル）を加え８０℃で２０時間加熱撹拌した。水、ジクロロメタンを加え分液処理した後、食塩水で洗浄した。カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）により精製を行い、式（Ｉ−１０−６）で表される化合物４．４９ｇ（０．０１０１モル）を得た。
【０１７９】
反応容器に式（Ｉ−１０−６）で表される化合物４．４９ｇ（０．０１０１モル）、式（Ｉ−１０−１）で表される化合物２．６０ｇ（０．０１０１モル）、炭酸カリウム２．０９ｇ（０．０１５１モル）、テトラヒドロフラン２０ｍＬ、水２０ｍＬを加えた。系内を窒素置換した後テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）０．１２ｇ（０．１０１ミリモル）を加え、１０時間加熱還流させた。酢酸エチルで希釈し、塩酸、水、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１０−７）で表される化合物４．００ｇ（８．０８ミリモル）を得た。
【０１８０】
滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−１０−７）で表される化合物４．００ｇ（８．０８ミリモル）、トリエチレングリコール１．２１ｇ（８．０８ミリモル）、トリフェニルホスフィン２．７５ｇ（０．０１０５モル）、テトラヒドロフラン１００ｍＬを加えた。氷冷しながらアゾジカルボン酸ジイソプロピル２．１２ｇ（０．０１０５モル）をテトラヒドロフラン２０ｍＬに溶解させた溶液を滴下した。室温で５０時間撹拌した後、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１０−８）で表される化合物２．７９ｇ（４．４４ミリモル）を得た。
【０１８１】
滴下ロートを備えた反応容器に式（Ｉ−１０−８）で表される化合物２．７９ｇ（４．４４ミリモル）、ジイソプロピルエチルアミン０．７５ｇ（５．７８ミリモル）、ジクロロメタン２０ｍＬを加えた。氷冷しながら塩化アクリロイル０．５２ｇ（５．７８ミリモル）を滴下した。室温で５時間撹拌した後、５％塩酸、食塩水で洗浄し、カラムクロマトグラフィー（シリカゲル）及び再結晶により精製を行い、式（Ｉ−１０）で表される化合物２．１２ｇを得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ−１．
ＬＲＭＳ：６８０
（実施例１１）式（Ｉ−９９）で表される化合物の製造
【０１８２】
【化５３】
2015110532.tif 000055
【０１８３】
実施例１において、式（Ｉ−１−１）で表される化合物を式（Ｉ−９９−１）で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって式（Ｉ−９９−２）で表される化合物を得た。
【０１８４】
実施例９と同様にして式（Ｉ−９９）で表される化合物を得た。
ＩＲ：３０６０−３０３０，２９７５−２９２０，１７２５，１６３０，１２００，１１６０，１１３０，７５０，６９０ｃｍ−１．
ＬＲＭＳ：４５０
実施例１から実施例１１と同様の方法、公知の方法に準拠した方法を用いて、下記式（Ｉ−１１）から式（Ｉ−９８）で表される化合物を製造した。
【０１８５】
【化５４】
2015110532.tif 000056
【０１８６】
【化５５】
2015110532.tif 000057
【０１８７】
【化５６】
2015110532.tif 000058
【０１８８】
【化５７】
2015110532.tif 000059
【０１８９】
【化５８】
2015110532.tif 000060
【０１９０】
【化５９】
2015110532.tif 000061
【０１９１】
【化６０】
2015110532.tif 000062
【０１９２】
【化６１】
2015110532.tif 000063
【０１９３】
【化６２】
2015110532.tif 000064
【０１９４】
【化６３】
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【０１９５】
【化６４】
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【０１９６】
【化６５】
2015110532.tif 000067
【０１９７】
【化６６】
2015110532.tif 000068
【０１９８】
【化６７】
2015110532.tif 000069
【０１９９】
【化６８】
2015110532.tif 000070
【０２００】
【化６９】
2015110532.tif 000071
【０２０１】
【化７０】
2015110532.tif 000072
【０２０２】
【化７１】
2015110532.tif 000073
【０２０３】
（実施例１２〜２２、比較例１〜３）
実施例１から実施例１０記載の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）で表される化合物及び、本願発明の化合物類似の分子構造を有する特許文献１記載の化合物（Ｒ−１）、大きな屈折率異方性を有することが報告されているトラン構造を有する特許文献２記載の化合物（Ｒ−２）並びに当該分野において汎用的に使用されている屈折率異方性が大きい化合物（Ｒ−３）を評価対象の化合物とした。
【０２０４】
【化７２】
2015110532.tif 000074
【０２０５】
【化７３】
2015110532.tif 000075
【０２０６】
【化７４】
2015110532.tif 000076
【０２０７】
【化７５】
2015110532.tif 000077
【０２０８】
保存安定性を評価するために、評価対象の化合物の安定保存濃度を測定した。安定保存濃度は、母体液晶に評価対象となる化合物を５％から２５％まで５％刻みで添加した組成物を各々調製し、調製した組成物を１８．５℃で１２週間放置した後に、結晶の析出が起こらない当該化合物の最大添加濃度と定義する。最大添加濃度が大きい化合物は安定保存濃度が大きく、長期間の保存によっても結晶の析出が発生しないことを意味する。
【０２０９】
安定保存濃度を測定するために、下記化合物（Ｘ−１）：２０％、化合物（Ｘ−２）：２５％、化合物（Ｘ−３）：２５％及び化合物（Ｘ−４）：３０％からなる液晶組成物を母体液晶（Ｘ）とした。また、評価対象の化合物の屈折率異方性を測定した。測定結果を表１に示す。
【０２１０】
【化７６】
2015110532.tif 000078
【０２１１】
【表１】
2015110532.tif 000079
【０２１２】
表より、実施例１２〜実施例２２の本願発明の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）及び式（Ｉ−９９）で表される化合物はいずれも比較例１〜比較例３の比較化合物（Ｒ−１）から比較化合物（Ｒ−３）と比較して、結晶の析出の起こらない最大添加濃度が同等若しくはより高いことから、高い保存安定性を示すことがわかる。また、実施例１２〜実施例２２の本願発明の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）、式（Ｉ−９９）で表される化合物はいずれも比較例１〜比較例３の比較化合物（Ｒ−１）から比較化合物（Ｒ−３）と比較して、ほぼ同等若しくはそれ以上の屈折率異方性を有することがわかる。
（実施例２３〜３３、比較例４〜６）
配向膜用ポリイミド溶液を厚さ０．７ｍｍのガラス基材にスピンコート法を用いて塗布し、１００℃で１０分乾燥した後、２００℃で６０分焼成することにより塗膜を得た。得られた塗膜をラビング処理した。ラビング処理は、市販のラビング装置を用いて行った。
【０２１３】
母体液晶（Ｘ）に評価対象となる化合物を２０％添加することにより調製した組成物各々に対し、光重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（ＢＡＳＦ社製）を１％及び４−メトキシフェノールを０．１％添加した。この組成物をラビングしたガラス基材に７０℃でスピンコート法により塗布した。得られた塗布膜の上に配向処理が施された樹脂金型をラビングしたガラス基材の配向方向と樹脂金型の配向方向が並行になるように配置した後、室温まで冷却した。その後、高圧水銀ランプを用いて、紫外線を４０ｍＷ／ｃｍ２の強度で２５秒間照射した。次に樹脂金型をゆっくり取り外すことによりレンチキュラーレンズを得た。（図１参照）
得られたレンチキュラーレンズの変色の起こりやすさについて評価するために、評価対象のレンチキュラーレンズを８５℃のホットプレートに載せ、ＬＥＤランプ（３６５ｎｍ）で６０ｍＷの光を５０時間照射した。照射前と照射後のフィルムの黄色度（ＹＩ）を各々測定し、黄変度（ΔＹＩ）を求めた。黄色度はＪＡＳＣＯ  ＵＶ／ＶＩＳ  Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ  Ｖ−５６０で重合体の吸収スペクトルを測定し、付属のカラー診断プログラムで黄色度（ＹＩ）を計算した。計算式は、
ＹＩ＝１００（１．２８Ｘ−１．０６Ｚ）／Ｙ
（式中、ＹＩは黄色度、Ｘ、Ｙ、ＺはＸＹＺ表色系における三刺激値を表す（ＪＩＳ  Ｋ７３７３）。）である。また、黄変度（ΔＹＩ）は初期の黄色度と暴露後の黄色度の差を意味する（ＪＩＳ  Ｋ７３７３）。評価結果を表２に示す。
【０２１４】
【表２】
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【０２１５】
表より、実施例２３〜実施例３３の本願発明の式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）及び式（Ｉ−９９）で表される化合物はいずれも比較例４〜比較例６の比較化合物（Ｒ−１）から比較化合物（Ｒ−３）と比較して、黄変度（ΔＹＩ）が低く、変色が起こりにくいことがわかる。
【０２１６】
以上の結果から、式（Ｉ−１）から式（Ｉ−１０）及び式（Ｉ−９９）で表される本願発明の化合物は、重合性液晶組成物を構成した場合に保存安定性が高く、屈折率異方性が高く、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を用いた光学異方体は、変色が起こりにくいことがわかる。従って、本願発明の化合物は、重合性組成物の構成部材として有用である。また、本願発明の化合物を含有する重合性液晶組成物を用いた光学異方体は光学フィルム等の用途に有用である。
【図面の簡単な説明】
【０２１７】
【図１】レンチキュラーレンズの構成を模式図で示す。
【符号の説明】
【０２１８】
１：樹脂金型
２：樹脂金型を取り外した後の重合体
３：ガラス基材
【図１】
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