(57)【要約】【課題】配向膜寸法の拡大を抑制し、かつ、所望の幅でシール材が配置された液晶表示装置を実現することを目的とする。【解決手段】本発明の液晶表示装置１は、矩形の表示領域Ｄを有する基板２０と、前記表示領域の少なくとも三辺を囲むように形成された、峰状に延在する堰止部４０と、前記堰止部の内側に、前記表示領域を覆うように形成された配向膜５２と、シール材Ｓと、を備え、前記堰止部の延在方向に垂直な面における断面形状において、前記堰止部の前記基板面に垂直な高さ方向の頂点４２が、前記堰止部全体の幅の中央４６よりも前記表示領域側に位置することを特徴とする。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
矩形の表示領域と前記表示領域の外側の非表示領域とを有する基板と、
前記表示領域の少なくとも三辺を囲むように前記非表示領域形成された、峰状に延在する堰止部と、
前記堰止部の内側に、前記表示領域を覆うように形成された配向膜と、
前記非表示領域に形成され、液晶を封止するシール材と、を備え、
前記堰止部の延在方向に垂直な面における断面形状において、前記堰止部の前記基板の上面に垂直な高さ方向の頂点が、前記堰止部全体の幅の中央よりも前記表示領域側に位置する、
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶表示装置であって、
前記堰止部の、前記表示領域の側の内周下端から立ち上がる内側面と前記基板の上面とが成す角度が、
前記堰止部の外側の外周下端から立ち上がる外側面と前記基板の上面とが成す角度よりも大きい、
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の液晶表示装置であって、
前記堰止部が、
前記基板の堰止部形成面に形成された段差に形成されている、
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
請求項３に記載の液晶表示装置であって、
絶縁基板の上面に、
光不透過膜と、
前記光不透過膜上に形成されたオーバーコート膜と、が形成され、
前記段差が、
前記光不透過膜と前記オーバーコート膜のうち、少なくとも一方が形成されていない領域と、前記光不透過膜と前記オーバーコート膜が形成された領域との段差により構成されている、
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
請求項４に記載の液晶表示装置であって、
前記段差が、前記光不透過膜が形成されていない領域上に前記オーバーコート膜が形成された領域と、前記光不透過膜と前記オーバーコート膜が形成された領域との段差により構成されている、
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
請求項１または請求項２に記載の液晶表示装置であって、
前記堰止部が、液状樹脂がハーフトーンマスクを用いた露光により形成されたものであることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
基板の表示領域の少なくとも三辺を囲むように、峰状に延在する堰止部を形成する工程と、
前記表示領域内に第１液状樹脂により配向膜を形成する工程と、
前記堰止部の外側を囲むように第２液状樹脂を塗布して、前記第２液状樹脂を前記堰止部を覆うように流動させることによりシール材を形成する工程と、
を備え、
前記堰止部の延在方向に垂直な面における断面形状において、前記堰止部の前記基板の上面に垂直な高さ方向の頂点が、前記堰止部全体の幅の中央よりも前記表示領域側に位置する、
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載の液晶表示装置の製造方法であって、
前記堰止部の、前記表示領域の側の内周下端から立ち上がる内側面と前記基板面が成す角度が、
前記堰止部の外側の外周下端から立ち上がる外側面と前記基板の上面が成す角度よりも大きい、
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
請求項７または請求項８に記載の液晶表示装置の製造方法であって、
前記堰止部を形成する工程が、
前記基板の堰止部形成面に段差を形成する工程と、
前記堰止部を前記段差に形成する工程と、
を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の液晶表示装置の製造方法であって、
絶縁基板の上面に光不透過膜を形成する工程と、
前記光不透過膜上にオーバーコート膜を形成することにより前記基板を形成する工程と、
を有し、
前記光不透過膜または前記オーバーコート膜の少なくとも一方が形成されていない領域を設けることにより前記段差を形成する、
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の液晶表示装置の製造方法であって、
前記光不透過膜が形成されていない領域上に前記オーバーコート膜を形成することにより前記段差を形成する、ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項７または請求項８に記載の液晶表示装置の製造方法であって、
前記堰止部を、ハーフトーンマスクを用いた露光により液状樹脂を硬化させることより形成する、
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
コンピュータ等の情報通信端末やテレビ受像機の表示デバイスとして、液晶表示パネルを有する液晶表示装置が広く用いられている。近年、液晶表示装置は、特に携帯電話やスマートフォンに利用されており、その小型化、狭額縁化、および製造工程の簡略化が要求されている。
【０００３】
液晶表示パネルは、液晶を封じ込めた一対の基板を有しており、これら二つの基板の相互に対向する面の表示領域には、それぞれ配向膜が形成され、表示領域の外側の額縁領域には、それぞれシール材が形成されている。
【０００４】
このような液晶表示装置の製造方法としては、例えば、特許文献１において、基板の下面に、表示領域を囲むように複数の壁状の凸部を互いに間隔を空けて設けた後に、その内側に配向膜の材料を塗布し、凸部の外側にシール材の材料を塗布する方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１―０５１２８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来、基板上に配向膜を形成する際に配向膜の材料が額縁領域側へ広がることを抑制するために、表示領域の外側を囲むように、壁状の堰き止めパターンが設けられていた。しかし、シール材を塗布する際に、シール材が一部の堰き止めパターンにより堰き止められてしまい、所望の幅で広がらないおそれがある。このような場合には、堰き止められた箇所のシール材の厚みが増すことにより基板間隔が所定の間隔に保てない問題や、シール材が基板の切断部分にまで拡がって、基板の切断不良を引き起こす恐れがあった。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、所望の幅でシール材が配置された液晶表示装置、および液晶表示装置の製造方法を実現することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本出願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以下
の通りである。
【０００９】
（１）本発明の液晶表示装置は、矩形の表示領域と前記表示領域の外側の非表示領域とを有する基板と、前記表示領域の少なくとも三辺を囲むように前記非表示領域に形成された、峰状に延在する堰止部と、前記堰止部の内側に、前記表示領域を覆うように形成された配向膜と、前記非表示領域に形成され、液晶を封止するシール材と、を備え、前記堰止部の延在方向に垂直な面における断面形状において、前記堰止部の前記基板の上面に垂直な高さ方向の頂点が、前記堰止部全体の幅の中央よりも前記表示領域側に位置することを特徴とする。
【００１０】
（２）本発明の液晶表示装置は、（１）において、前記堰止部の、前記表示領域の側の内周下端から立ち上がる内側面と前記基板の上面とが成す角度が、前記堰止部の外側の外周下端から立ち上がる外側面と前記基板の上面とが成す角度よりも大きくてもよい。
【００１１】
（３）本発明の液晶表示装置は、（１）または（２）において、前記堰止部が、前記基板の堰止部形成面に形成された段差に形成されていてもよい。
【００１２】
（４）本発明の液晶表示装置は、（３）において、絶縁基板の上面に、光不透過膜と、前記光不透過膜上に形成されたオーバーコート膜と、が形成され、前記段差が、前記光不透過膜と前記オーバーコート膜のうち、少なくとも一方が形成されていない領域と、前記光不透過膜と前記オーバーコート膜が形成された領域との段差により構成されていてもよい。
【００１３】
（５）本発明の液晶表示装置は（４）において、前記段差が、前記光不透過膜が形成されていない領域上に前記オーバーコート膜が形成された領域と、前記光不透過膜と前記オーバーコート膜が形成された領域との段差により構成されていてもよい。
【００１４】
（６）本発明の液晶表示装置は（１）または（２）において、前記堰止部が、液状樹脂がハーフトーンマスクを用いた露光により形成されたものであってもよい。
【００１５】
（７）本発明の液晶表示装置の製造方法は、基板の表示領域の少なくとも三辺を囲むように、峰状に延在する堰止部を形成する工程と、前記表示領域内に第１液状樹脂を流動させることにより配向膜を形成する工程と、前記堰止部の外側を囲むように第２液状樹脂を塗布して、前記第２液状樹脂を前記堰止部を覆うように流動させることによりシール材を形成する工程と、を備え、前記堰止部の延在方向に垂直な面における断面形状において、前記堰止部の前記基板の上面に垂直な高さ方向の頂点が、前記堰止部全体の幅の中央よりも前記表示領域側に位置する、ことを特徴とする。
【００１６】
（８）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（７）において、前記堰止部の、前記表示領域の側の内周下端から立ち上がる内側面と前記基板の上面とが成す角度が、前記堰止部の外側の外周下端から立ち上がる外側面と前記基板の上面とが成す角度よりも大きくてもよい。
【００１７】
（９）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（７）または（８）において、前記堰止部を形成する工程が、前記基板の堰止部形成面に段差を形成する工程と、前記堰止部を前記段差に形成する工程と、を有してもよい。
【００１８】
（１０）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（９）において、絶縁基板の上面に光不透過膜を形成する工程と、前記光不透過膜上にオーバーコート膜を形成することにより前記基板を形成する工程と、を有し、前記光不透過膜または前記オーバーコート膜の少なくとも一方が形成されていない領域を設けることにより前記段差を形成してもよい。
【００１９】
（１１）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（１０）において、前記光不透過膜が形成されていない領域上に前記オーバーコート膜を形成することにより前記段差を形成
てもよい。
【００２０】
（１２）本発明の液晶表示装置の製造方法は、（７）または（８）において、前記堰止部を、ハーフトーンマスクを用いた露光により液状樹脂を硬化させることより形成してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】図１は本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の概略平面図である。
【図２】図２は図１に示す液晶表示装置のＩＩ領域の部分拡大図である。
【図３】図３は図２に示す液晶表示装置のＩＩＩ−ＩＩＩ切断線における概略断面図である。
【図４】図４は本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法を示す部分拡大図である。
【図５】図５は本実施形態に係る液晶表示装置及びその製造方法の変形例を図４と同様の視野において示す部分拡大図である。
【図６】図６は本実施形態に係る液晶表示装置及びその製造方法の変形例を図４と同様の視野において示す部分拡大図である。
【図７】図７は本実施形態に係る液晶表示装置及びその製造方法の変形例を図４と同様の視野において示す部分拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本実施形態に係る液晶表示装置１について図面に基づいて説明する。なお、以下の説明において参照する図面は、特徴をわかりやすくするために便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などは実際と同じであるとは限らない。また、以下の説明において例示される材料等は一例であって、各構成要素はそれらと異なっていてもよく、その要旨を変更しない範囲で変更して実施することが可能である。
【００２３】
図１は本発明の一実施形態に係る液晶表示装置１の概略平面図であり、図２は図１に示す液晶表示装置１のＩＩ領域の部分拡大図であり、図３は図２に示す液晶表示装置１のＩＩＩ−ＩＩＩ切断線における概略断面図である。
【００２４】
はじめに、液晶表示装置１の概略構成について説明する。図１、図３に示す通り、本実施形態に係る液晶表示装置１は、矩形の表示領域Ｄを有する第１基板１０と、基板（第２基板）２０と、を有している。なお、本実施形態においては説明の便宜上、各構成の位置関係をＸ軸（Ｘ１方向、Ｘ２方向）、Ｙ軸（Ｙ１方向、Ｙ２方向）、Ｚ軸（Ｚ１方向、Ｚ２方向）の座標を用いて説明する。
【００２５】
第１基板１０は、表示領域Ｄにおいて第２基板２０との間に液晶を挟む基板であり、図３に示す通り、第２基板２０に対向している。表示領域Ｄにおける第２基板２０と第１基板１０の間には、液晶が封止されている。
【００２６】
図１に示す通り、第１基板１０の平面視形状は第２基板２０の平面視形状よりも大きく、その一部（Ｙ２方向側の部分）の上面１０ａは、第２基板２０に覆われずに露出している。この露出している上面（上面１０ａ１）には、図示しない端子やフレキシブル配線基板が接続される。
【００２７】
第１基板１０としては例えばＴＦＴ（Thin Film Transistor）基板が用いられる。図１に示す通り、第１基板１０は表示領域Ｄとその外側の非表示領域Ｅとに区画されており、表示領域Ｄには、複数の画素が設けられ、それぞれの画素には薄膜トランジスタが形成されている。
【００２８】
図３に示す通り、第１基板１０は、絶縁基板１１と、配線及び薄膜トランジスタが形成された回路層１２と、アクリル、ポリイミド等の絶縁性を有する平坦化膜（有機絶縁膜や無機絶縁膜）１３と、を有している。また、有機または無機絶縁膜１３上には、ＩＴＯからなる電極３０が形成されている。
【００２９】
図３に示すように、第１基板１０の、表示領域Ｄにおける第２基板２０側の面（Ｚ２方向側の面）１０ａは配向膜５４で覆われている。配向膜５４は、その一部が非表示領域Ｅに形成されていてもよい。
【００３０】
次いで、第２基板２０の構成について説明する。第２基板２０は、表示領域Ｄにおいて第１基板１０との間に液晶を封止するための基板である。第２基板２０は表示領域Ｄとその外側の非表示領域Ｅとを有している。
【００３１】
第２基板２０は、例えばガラス基板からなる絶縁基板１２０と、カラーフィルタと、ブラックマトリクスなどの光不透過（遮光）膜ＢＭと、オーバーコート膜ＯＣと、を有する対向基板である。対向基板が第２基板２０として用いられることにより、液晶表示装置１はカラー表示を可能とする。尚、非表示領域Ｅに、画像の表示には寄与しないダミーのカラーフィルタを設けてもよい。また、カラーフィルタは第１の基板１０に設けられる構成であってもよい。
【００３２】
図２に示す通り、第２基板２０の表示領域Ｄには、カラーフィルタＣＦが形成されている。カラーフィルタＣＦは、光不透過膜ＢＭによってマトリクス状に区分された着色膜Ｒ，Ｇ，Ｂとからなる。なお、図２においては説明の便宜上、絶縁基板１２０とオーバーコート膜ＯＣの記載を省略する。
【００３３】
次いで、第２基板２０の非表示領域Ｅの構成について説明する。図２、３に示す通り、非表示領域Ｅにおける第２基板２０は、絶縁基板１２０の上面１２２（第１の基板１０側の面）に形成された光不透過膜ＢＭと、光不透過膜ＢＭ上（Ｚ１方向側）に形成されたオーバーコート膜ＯＣとが積層されている。また、第２基板２０の第１の基板１０側（Ｚ１方向側）の面（上面）２２には、スペーサ１４０と、堰止部４０とが形成されている。
【００３４】
スペーサ１４０は、第１基板１０と第２基板２０との間隔を保つ部材である。図２に示す通り、複数のスペーサ１４０は互いに離間し、堰止部４０の外側（Ｘ１方向側）を囲むように配置されている。スペーサ１４０は、図２に示すように、堰止部４０の外側を二重に囲むことが好ましい。本実施形態においては、第１スペーサ１４２の外側（Ｘ１方向側）を囲むスペーサを、第２スペーサ１４４とする。
【００３５】
スペーサ１４０は例えばレジストなどの感光性の樹脂からなるが、絶縁性を有するものであれば、その他の材料が用いられていてもよい。
【００３６】
堰止部４０は第１基板１０側に突出し、表示領域Ｄを囲むように形成されている。図２、３に示すように、堰止部４０の内側（Ｘ１方向側）には配向膜５２が形成され、堰止部４０上（Ｚ１方向側）と、堰止部４０の外側（Ｘ２方向側）にはシール材Ｓが形成されている。
【００３７】
シール材Ｓは、第１基板１０と第２基板２０との間の液晶を封止する部材であり、表示省域Ｄの外側に配置されている。シール材Ｓは、図２，３に示すように、その表示領域Ｄ側（図２，３におけるＸ２方向側）の端部（内端Ｓ１）が、堰止部４０よりも表示領域Ｄ側に位置している。
【００３８】
堰止部４０は、配向膜５２の外周５２ａが堰止部４０の外側（図２，３のＸ１方向側）に配置されるのを防ぐために設けられている。堰止部４０は、表示領域Ｄの外側を囲むように形成されており、図１に示すように、表示領域Ｄの４辺を囲むように延在している。
【００３９】
配向膜５２は液晶分子を一定方向に揃える膜であり、例えばポリイミド膜からなる。図２、３に示すように、配向膜５２は表示領域Ｄを覆うように形成され、その外周５２ａは、堰止部４０に沿って配置されている。
【００４０】
堰止部４０は、例えば感光性の樹脂からなるが、絶縁性を有するものであれば、その他の材料であってもよい。堰止部４０は、例えばフォトリソグラフィにより、スペーサ１４０と同材料で同一プロセスによって形成されたレジストからなる。
【００４１】
堰止部４０は、図３に示すように、第２基板２０から、第１基板１０側（Ｚ１方向側）に突出している部分であり、図１，２に示すように、表示領域Ｄの外周に沿って峰状に延在している。
【００４２】
図３に示すように、堰止部４０の延在方向に垂直な面における断面形状における、堰止部４０の第２基板２０の上面（絶縁基板１２０の上面）１２２に垂直な高さ方向の頂点を頂点４２とし、堰止部４０全体の幅の中央を中央４６とすると、頂点４２は中央４６よりも表示領域Ｄ側（図中のＸ２方向側）に位置している。
【００４３】
頂点４２は、堰止部４０の延在方向に垂直な面における断面形状において、堰止部４０のうち最も第１基板１０側（図３におけるＺ１側）に近い点を示す。また、中央４６は、堰止部４０が第２基板２０の上面２２に接する部分の幅、つまり、堰止部４０の２方向側の面である下面４４の幅の、Ｘ方向の中央を示す。
【００４４】
このように、堰止部４０の頂点が、堰止部４０の下面４４の中央４６よりも表示領域Ｄ側に位置していることにより、堰止部４０の頂点４２よりも表示領域Ｄ側（図３におけるＸ２方向側）の側面（内面４８ａ）は、その反対側（図３におけるＸ１方向側）の側面（外面４８ｂ）よりも、第２基板２０の上面（絶縁基板１２０の上面）１２２に対する傾斜が急となる。
【００４５】
なお、堰止部４０のこのような構成は、図１に示す表示領域Ｄを囲む４辺全体にわたって形成されていることが好ましいが、少なくとも、端子などが配置される箇所（上面１０ａ１側）以外の３辺にわたって形成されていればよい。また、内面４８ａは、堰止部４０全体の平均値で、外面４８ｂよりも傾斜が急であればよい。
【００４６】
本実施形態における液晶表示装置１は、このような構成を有することにより、本構成を有さない液晶表示装置と比べ、第２基板２０の上面１２２に対する内面４８ａの傾斜が急となり、上面１２２に対する外側面４６ｂの傾斜が穏やかとなる。
【００４７】
このため、シール材Ｓの形成工程において、シール材Ｓが堰止部４０（外面４８ｂ）に堰き止められることが防がれる。これにより、所望の幅と厚みでシール材Ｓが形成された、狭額縁の液晶表示装置１を実現することができる。
【００４８】
また、従来の液晶表示装置と比べて上面１２２に対する内面４８ａの傾斜が急であるため、配向膜５２の形成工程において、配向膜５２が確実に堰止部４０によって堰き止められる。これにより、配向膜５２とシール材Ｓの接触面積拡大による、液晶表示装置１の不良発生を抑えることができる。
【００４９】
なお、堰止部４０の内面４８ａのうち、表示領域Ｄの側の内周下端４９ａから立ち上がる面を内側面４８ａ１とし、内側面４８ａ１と第２基板２０の上面２２が成す角度を角度αとする。また、堰止部４０の外面４８ｂのうち、表示領域Ｄの外側（反対側）の外周下端４９ｂから立ち上がる面を外側面４８ｂ１とし、外側面４８ｂ１と第２基板２０の上面２２が成す角度を角度βとすると、角度βは、堰止部４０において角度αよりも小さくなることが好ましい。
【００５０】
尚、第２基板２０の上面（絶縁基板１２０の上面）１２２に形成される上述の膜の表面が第２基板２０の上面（堰止部形成面）２２と平行となる場合は、上記角度αとβとを第２基板２０の上面（堰止部形成面）２２を基準とした角度としてもよい。また、膜の表面に凹凸や傾斜がある場合、本願発明の効果を得るために上記角度αとβとを第２基板２０の上面（絶縁基板１２０の上面）１２２を基準とした角度とすることも可能である。
【００５１】
なお、角度βは、堰止部４０全体にわたって角度αよりも小さいことが好ましいが、堰止部４０全体の平均値で、角度αよりも小さければよい。
【００５２】
本実施形態における液晶表示装置１は、このような構成を有することにより、従来の構成を有する液晶表示装置と比べ、シール材Ｓの形成工程において、シール材Ｓが堰止部４０（外側面４６ｂ）に堰き止められることがより効果的に防がれる。これにより、所望の幅と厚みでシール材Ｓが形成された、狭額縁の液晶表示装置１を実現することができる。
【００５３】
また、本実施形態における堰止部４０は、第２基板２０の堰止部形成面２２に形成された段差２４に形成されていることが好ましい。なお、「段差２４」とは、堰止部形成面２２に設けられた、第１基板１０の上面１０ａからの距離が変わる箇所である。本実施形態における段差２４は、図２に示すように、表示領域Ｄの外側を囲むように延在している。
【００５４】
また、「段差２４に形成されている」とは、堰止部４０が、第２基板の堰止部形成面２２のうち第１基板１０側に位置する第１面２２ａと、堰止部形成面２２のうち、絶縁基板１２０側（Ｚ２方向側）に凹んだ面である第２面２２ｂとにわたって形成されていることを示す。このような構成を有することにより、堰止部４０の下面４４は、第１面２２ａと第２面２２ｂの両方の面に接している。
【００５５】
本実施形態における液晶表示装置１は、このような構成を有することにより、従来の構成を有する液晶表示装置と比べ、段差２４の高さ（第１面２２ａと第２面２２ｂのＺ方向の高低差）や、Ｘ方向やＹ方向に延在する長さにより、所望の形状の堰止部４０が形成される。このため、シール材Ｓが堰止部４０（外側面４６ｂ）に堰き止められることがより効果的に防がれ、所望の幅と厚みでシール材Ｓが形成された、狭額縁の液晶表示装置１を実現することができる。
【００５６】
また、段差２４の構成は特に制限されないが、光不透過膜ＢＭとオーバーコート膜ＯＣのうち、少なくとも一方が形成されていない領域と、光不透過膜ＢＭとオーバーコート膜ＯＣが形成された領域との段差により構成されていることが好ましい。
【００５７】
例えば、図３に示すように、段差２４は、光不透過膜ＢＭが形成されていない、溝状の領域１２２ａ（絶縁基板１２０の上面１２２のうち、光不透過膜ＢＭの形成されていない面）上にオーバーコート膜ＯＣが形成された領域（第２面２２ｂ）と、光不透過膜ＢＭとオーバーコート膜ＯＣが形成された領域（第１面２２ａ）との段差により構成されていてもよい。
【００５８】
このような領域１２２ａは、光不透過膜ＢＭを形成する際のマスクの配置や、光不透過膜ＢＭを形成した後のエッチングなどにより形成される。
【００５９】
なお、このように光不透過膜ＢＭが形成されていない領域１２２ａが第２基板２０に設けられている場合は、第１基板１０の領域１２２ａに対向する箇所に、遮光膜６０が形成されていることが好ましい。遮光膜６０が設けられることにより、液晶表示装置１を第２基板２０の外側（Ｚ２方向側）から観察者が見た場合における、光抜けを防ぐことができる。なお、遮光膜６０の材料は特に限定されず、金属膜やブラックマトリクス等、光を遮断可能な材料を適宜用いることができる。
【００６０】
本実施形態における液晶表示装置１は、このような構成を有することにより、従来の構成を有する液晶表示装置と比べ、所望の高さや長さを有する段差２４が形成される。このため所望の形状の堰止部４０が形成され、所望の幅と厚みでシール材Ｓが形成された、狭額縁の液晶表示装置１を実現することができる。
【００６１】
また、段差２４は上記の構成に限定されず、その他の構成であってもよい。図５は本実施形態に係る液晶表示装置１及びその製造方法の変形例を図４と同様の視野において示す部分拡大図である。なお、説明の便宜上、図４乃至７は図３とＺ方向が逆に示されている。
【００６２】
図５に示すように、段差２４は、光不透過膜ＢＭ上にオーバーコート膜ＯＣが形成されていない領域ＢＭ１（第２面２２ｂ）と、光不透過膜ＢＭとオーバーコート膜ＯＣが形成された領域（第１面２２ａ）との段差により構成されていてもよい。
【００６３】
本実施形態における液晶表示装置１は、このような構成を有することにより、従来の構成を有する液晶表示装置と比べ、段差２４が高精細となる。このため高精細な形状を有する堰止部４０が形成され、所望の幅と厚みでシール材Ｓが形成された、狭額縁の液晶表示装置１を実現することができる。
【００６４】
また、段差２４は、光不透過膜ＢＭとオーバーコート膜ＯＣのそれぞれ一部が除去されることにより構成されていてもよい。図６は本実施形態に係る液晶表示装置１及びその製造方法の変形例を図４と同様の視野において示す部分拡大図である。
【００６５】
図６における段差２４は、光不透過膜ＢＭとオーバーコート膜ＯＣが形成されていない領域（第２面２２ｂ、領域１２２ｂ）と、光不透過膜ＢＭとオーバーコート膜ＯＣが形成された領域（第１面２２ａ）との段差により構成されている。
【００６６】
本実施形態における液晶表示装置１はこのような構成を有することにより、従来の構成を有する液晶表示装置と比べ、Ｚ方向の高低差の大きく、かつ高精細な段差２４が形成される。このため高精細な形状を有する堰止部４０が形成され、所望の幅と厚みでシール材Ｓが形成された、狭額縁の液晶表示装置１を実現することができる。
【００６７】
なお、堰止部４０は、頂点４２が中央４６よりも表示領域Ｄ側（図中のＸ２方向側）に位置していれば、段差上に設けられたもののみならず、図７に示すように、平坦な堰止部形成面２２に設けられたものであってもよい。
【００６８】
図７は本実施形態に係る液晶表示装置１及びその製造方法の変形例を図４と同様の視野において示す部分拡大図である。図７に示す堰止部４０は、レジストなどの液状樹脂がハーフトーンマスクを用いた露光により形成されたものである。液状樹脂は、ハーフトーンマスクを用いて頂点４２となる箇所よりも表示領域Ｄ側（Ｘ２方向側）に、頂点４２のＸ１方向側よりも弱い露光が行われることにより、内面４８ａと外面４８ｂとで異なる傾斜の堰止部４０が形成される。
【００６９】
本実施形態における液晶表示装置１はこのような構成を有することにより、従来の構成を有する液晶表示装置と比べ、高精細な形状を有する堰止部４０が形成される。このため、所望の幅と厚みでシール材Ｓが形成された、狭額縁の液晶表示装置１を実現することができる。
【００７０】
次いで、図１，３に示す、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置１の製造方法について図面を用いて説明する。図１，３に示す液晶表示装置１の製造方法は、第１基板１０を用意する工程と、第２基板２０を用意する工程と、第２基板２０に堰止部４０を形成する工程と、第２基板２０の表示領域Ｄに配向膜５２を形成する工程と、第２基板２０の非表示領域Ｅにシール材Ｓを形成する工程と、第１基板１０と第２基板２０の間に液晶を封止する工程と、を有する。以下、これら各工程について詳細を説明する。
【００７１】
はじめに、図３に示すように、絶縁基板１１と、図示しない薄膜トランジスタの形成された回路層１２と、有機絶縁膜１３と、電極３０と、配向膜５４と、を有する第１基板１０を用意する。第１基板１０としては例えばＴＦＴ基板が用いられる。第１基板１０は図３に示すように、表示領域Ｄと非表示領域Ｅとに区画されている。
【００７２】
次いで、第２基板２０を用意する。図４は本実施形態に係る液晶表示装置１の製造方法を示す部分拡大図である。第２基板２０を用意する工程は、絶縁基板１２０の上面１２２に光不透過膜ＢＭを形成する工程と、光不透過膜ＢＭ上にオーバーコート膜ＯＣを形成する工程と、を有する。
【００７３】
まず、例えばガラス基板からなる絶縁基板１２０を用意する。次いで、図４に示すように、絶縁基板１２０の上面１２２（Ｚ１方向側の面）に、ブラックマトリクスなどの光不透過膜ＢＭを形成する。この光不透過膜ＢＭ形成の際、表示領域Ｄに画素毎にマスクを設置することにより、網目状の光不透過膜が形成される。
【００７４】
また、非表示領域Ｅにおいては、後述する堰止部４０を形成する箇所に対応して、表示領域Ｄの外側を囲むようにマスクを配置してもよい。これにより、光不透過膜ＢＭが形成されなかった箇所は、表示領域Ｄの外側を囲むように溝状に延在する（以下、この箇所を領域１２２ａとする）。領域１２２ａにおいては、絶縁基板１２０の上面１２２が光不透過膜ＢＭから露出する。
【００７５】
次いで、図２に示すように、表示領域Ｄの光不透過膜ＢＭによって区分された各領域に、着色膜Ｒ，Ｇ，Ｂを形成する。これにより、表示領域ＤにカラーフィルタＣＦが形成される。
【００７６】
次いで、光不透過膜ＢＭを覆うようにオーバーコート膜ＯＣを、たとえばスピンコート法により形成する。この際、図４に示すように、非表示領域Ｅにおいては、光不透過膜ＢＭが形成されていない領域１２２ａと、光不透過膜ＢＭの上面ＢＭ２（Ｚ１方向側の面）の双方にオーバーコート膜ＯＣが形成される。
【００７７】
このため、絶縁基板１２０の上面１２２から光不透過膜ＢＭの上面ＢＭ２に形成されたオーバーコート膜ＯＣの上面（第１面２２ａ）までの距離は、上面１２２から領域１２２ａに対応する箇所のオーバーコート膜ＯＣの上面（第２面２２ｂ）までの距離より大きくなる。これにより、第２面２２ｂは絶縁基板１２０側（Ｚ２方向側）に凹んだ構成となり、第１面２２ａと第２面２２ｂとの境界は段差２４となる。以上により、第２基板２０の上面２２に段差２４が形成される。
【００７８】
なお、段差２４を設ける場合は、図１に示す表示領域Ｄを囲む４辺全体にわたって、領域１２２ａを形成することが好ましいが、少なくとも、フレキシブル配線基板などが配置される箇所（図１のＹ２方向側）以外の３辺にわたって形成すればよい。
【００７９】
次いで、第２基板２０の堰止部形成面２２の表示領域Ｄを囲むように、峰状に延在する堰止部４０を形成する。まず、レジストなどの感光性の樹脂を、第２基板２０の非表示領域Ｅの堰止部形成面２２に塗布する。次いで、堰止部４０が形成される箇所に応じて図示しないマスクを配置して樹脂を感光させる。この際、堰止部４０に対応する箇所のみならず、堰止部４０の外側を二重に囲むように、部分的に感光を行う。
【００８０】
以上により、図２，４に示すように、峰状に延在する堰止部４０と、堰止部４０の外側を二重に囲むスペーサ１４０（第１スペーサ１４２、第２スペーサ１４４）が、表示領域Ｄを囲むように形成される。
【００８１】
この樹脂の感光の際、図示しないマスクを段差２４に配置することにより、堰止部４０は段差２４に形成される。なお、「段差２４」とは、堰止部形成面２２に設けられた、第２基板２０の堰止部形成面２２と絶縁基板１２０の上面１２２の間の距離が変わる箇所であり、「段差２４に形成される」とは、堰止部４０が、第１面２２ａと第２面２２ｂとにわたって形成されていることを示す。これにより、堰止部４０の下面４４は、第１面２２ａと第２面２２ｂの両方の面に接する。
【００８２】
このように段差２４に堰止部４０を形成することにより、図４に示すように、第２面２２ｂ上に形成された堰止部４０は、第１面２２ａ上に形成された堰止部４０よりも、下側（Ｚ２方向側）に配置される。
【００８３】
このため、堰止部４０の延在方向に垂直な面における断面形状において、堰止部４０の第２基板２０の堰止部形成面２２に垂直な高さ方向の頂点を頂点４２とし、堰止部４０全体の幅の中央を中央４６とすると、頂点４２は中央４６よりも表示領域Ｄ側（図中のＸ２方向側）に位置する。
【００８４】
このように、堰止部４０の頂点２４が中央４６よりも表示領域Ｄ側に位置することにより、堰止部４０の頂点４２よりも表示領域Ｄ側（図４におけるＸ２方向側）の側面（内面４８ａ）は、その反対側（Ｘ１方向側）の側面（外面４８ｂ）よりも、第２基板２０の堰止部形成面２２に対する傾斜が急となる。
【００８５】
なお、堰止部４０の内面４８ａのうち、表示領域Ｄの側の内周下端４９ａから立ち上がる面を内側面４８ａ１とし、内側面４８ａ１と第２基板２０の上面２２が成す角度を角度αとする。また、堰止部４０の外面４８ｂのうち、表示領域Ｄの外側（反対側）の外周下端４９ｂから立ち上がる面を外側面４８ｂ１とし、外側面４８ｂ１と第２基板２０の堰止部形成面２２が成す角度を角度βとすると、角度αは、堰止部４０において角度βよりも大きくなることが好ましい。
【００８６】
次いで、表示領域Ｄ内に第１液状樹脂を表示領域Ｄから堰止部４０の方向に流動させることにより配向膜５２を形成する。まず、第２基板２０の堰止部形成面２２の表示領域Ｄ内に、配向膜５２の材料である、流動性を有する第１液状樹脂１５２を滴下する。そして、例えばスピンコート法などにより、第１液状樹脂１５２を表示領域Ｄの外側（図４中のＸ１方向側）へ向けて流動させる。
【００８７】
表示領域Ｄの外側へ流動した第１液状樹脂１５２は、堰止部４０の内面４８ａによって堰き止められるため、その後、第１液状樹脂１５２を硬化することにより、図４に示す配向膜５２が形成される。なお、第１液状樹脂１５２は内面４８ａによって堰き止められた状態で硬化されるため、配向膜５２の外周５２ａは、堰止部４０の内面４８ａに沿った形状となる。その後、周知のラビング処理等により、配向膜の配向方向を確定させる。
【００８８】
本実施形態における液晶表示装置１の製造方法は、内面４８ａの第２基板２０の堰止部形成面２２に対する傾斜が、外面４８ｂ堰止部形成面２２に対する傾斜よりも急となるため、本構成を有さない液晶表示装置の製造方法と比べて、第１液状樹脂１５２が確実に堰止部４０によって堰き止められる。このことにより、配向膜５２が堰止部４０の外側へ広がって形成されることによる、歩留りの低下を抑えることができる。
【００８９】
また、堰止部４０の内側面４８ａ１と堰止部形成面２２が成す角度αが、外側面４８ｂ１と第２基板２０の堰止部形成面２２が成す角度βよりも大きいことにより、第１液状樹脂１５２を堰止部４０により、より確実に堰き止めることができる。
【００９０】
次いで、第２基板２０の非表示領域Ｅにシール材Ｓを形成する。まず、堰止部４０の外側を囲むように、図示しないディスペンサーを用いて、シール材Ｓの材料である、流動性を有する第２液状樹脂１５４を塗布する。なお、第２液状樹脂１５４の滴下量は、所望のシール材Ｓの幅に応じて、適宜調整すればよい。
【００９１】
次いで、第２液状樹脂１５４を堰止部４０を覆うように流動させる。第２液状樹脂１５４は、図２に示すように、第２スペーサ１４４同士の間や、第１スペーサ１４２同士の間を超えて、堰止部４０の方向へ流動する。そして、図４に示すように、第２液状樹脂１５４の表示領域Ｄ側の端部（内端Ｓ１）は堰止部４０上を超えて、表示領域Ｄの方向（図中のＸ２方向）へ流動する。その後、第２液状樹脂１５４を硬化することによりシール材Ｓを形成する。
【００９２】
次いで、シール材Ｓの内側に図示しない液晶を滴下し、第１基板１０上に第２基板２０を配置することにより、第１基板１０と第２基板２０の間に液晶を封止する。以上により、本実施形態における液晶表示装置１が製造される。
【００９３】
本実施形態における液晶表示装置１の製造方法は、堰止部４０の頂点４２が中央４６よりも表示領域Ｄ側に位置することにより、堰止部４０の外面４８ｂの第２基板２０の堰止部形成面２２に対する傾斜が、内面４８ａの堰止部形成面２２に対する傾斜よりも緩やかとなる。
【００９４】
このため、シール材Ｓを形成する際に、第２液状樹脂１５４が堰止部４０の外面４８ｂに堰き止められることを防ぐことができる。このため、第２液状樹脂１５４が堰止部４０に堰き止められることによる不良の発生や、それによる歩留りの低下を抑えることができる。このように第２液状樹脂１５４の滴下量に応じた所望の幅と厚みでシール材Ｓを形成することができるため、狭額縁の液晶表示装置１を製造することができる。
【００９５】
なお、本実施形態のように、第２基板２０に光不透過膜ＢＭが形成されない領域１２２ａを設ける場合は、図３に示すように、領域１２２ａに対向する箇所に遮光膜６０が形成された第１基板１０を用意することが好ましい。これにより、液晶表示装置１を第２基板２０の外側（Ｚ２方向側）から観察者が見た場合における、光抜けを防ぐことができる。
【００９６】
また、本実施形態における液晶表示装置１の製造方法においては、堰止部４０の内側面４８ａ１と堰止部形成面２２が成す角度αを、外側面４８ｂ１と堰止部形成面２２が成す角度βよりも大きくすることにより、従来の堰止部と比べ、角度αが小さくなる。このため、シール材Ｓを形成する工程において、第２液状樹脂１５４が堰止部４０に堰き止められることを効果的に防ぐことができる。
【００９７】
また、本実施形態における液晶表示装置１の製造方法は、堰止部４０を段差２４に形成することにより、段差２４のＺ方向の高さや、Ｘ方向やＹ方向に延在する長さを調整することにより、所望の形状の堰止部４０を形成することができる。このため、シール材Ｓを形成する工程において第２液状樹脂１５４が堰止部４０（外面４６ｂ）に堰き止められることを、より効果的に防ぐことができる。
【００９８】
また、本実施形態における液晶表示装置１の製造方法においては、光不透過膜ＢＭを形成する際にマスクを配置することで領域１２２ａを形成するため、工程を増やすことなく、段差２４を形成することができる。このため、工程を増やすことなく、本発明の効果を得ることができる。
【００９９】
なお、段差２４の形成方法は、上記のように領域１２２ａを形成する方法に限られず、その他の方法であってもよい。すなわち、光不透過膜ＢＭまたはオーバーコート膜ＯＣの少なくとも一方が形成されていない領域を設けることにより段差２４を形成すればよい。
【０１００】
例えば、光不透過膜ＢＭを形成する工程において、非表示領域Ｅ全体において光不透過膜ＢＭとオーバーコート膜ＯＣを形成した後、図５に示すように、段差２４に対応する領域のオーバーコート膜ＯＣを溝状に除去してもよい。
【０１０１】
このようにオーバーコート膜ＯＣを除去することにより、段差２４は、光不透過膜ＢＭ上にオーバーコート膜ＯＣが形成されていない領域ＢＭ１（第２面２２ｂ）と、光不透過膜ＢＭとオーバーコート膜ＯＣが形成された領域（第１面２２ａ）との段差により構成される。なお、領域ＢＭ１を形成する方法は上記の方法に限られず、マスクを用いてオーバーコート膜ＯＣ形成してもよい。
【０１０２】
本実施形態における液晶表示装置１の製造方法においては、本構成を有さない液晶表示装置の製造方法と比べ、高精細な段差２４を形成することができる。これにより、高精細な形状を有する堰止部４０を形成することができ、シール材Ｓを形成する工程において第２液状樹脂１５４が堰止部４０に堰き止められることを、より効果的に防ぐことができる。
【０１０３】
また、本実施形態においては図６に示すように、光不透過膜ＢＭとオーバーコート膜ＯＣの両方が形成されていない領域（第２面２２ｂ、領域１２２ｂ）を設けることにより段差２４を形成してもよい。図６は本実施形態に係る液晶表示装置１及びその製造方法の変形例を図４と同様の視野において示す部分拡大図である。
【０１０４】
具体的には、光不透過膜ＢＭを形成する工程において、非表示領域Ｅ全体に光不透過膜ＢＭとオーバーコート膜ＯＣを形成した後、段差２４に対応する領域のオーバーコート膜ＯＣと光不透過膜ＢＭを溝状に除去すればよい。
【０１０５】
本実施形態における液晶表示装置１の製造方法においては、本構成を有さない液晶表示装置の製造方法と比べ、Ｚ方向の高低差が大きく、かつ高精細な段差２４を形成することができる。これにより、高精細で、かつ、内面４８ｂの傾斜が穏やかな堰止部４０を形成することができ、シール材Ｓを形成する工程において第２液状樹脂１５４が堰止部４０に堰き止められることを、より効果的に防ぐことができる。
【０１０６】
また、本実施形態においては、頂点４２を中央４６よりも表示領域Ｄ側に位置するように堰止部４０を形成するのであれば、図７に示すように、段差２４を形成せずに、平坦な堰止部形成面２２に堰止部４０を形成してもよい。
【０１０７】
具体的には、光不透過膜ＢＭを形成する工程において、非表示領域Ｅ全体に光不透過膜ＢＭを形成し、その後、光不透過膜ＢＭの上面ＢＭ２（Ｚ１方向側）を覆うようにオーバーコート膜ＯＣを形成することにより、堰止部形成面２２の平坦な第２基板２０を形成する。
【０１０８】
次いで、堰止部形成面２２に、レジストなどの液状樹脂を塗布し、ハーフトーンマスクを用いた露光により硬化させる。この際、頂点４２となる箇所よりも表示領域Ｄ側（Ｘ２方向側）に、頂点４２のＸ１方向側よりも弱く露光を行うことにより、内面４８ａと外面４８ｂとで異なる傾斜の堰止部４０を形成する。
【０１０９】
本実施形態における液晶表示装置１の製造方法においては、ハーフトーンマスクを用いて堰止部４０を形成するため、工程を増やすことなく、本発明の効果を得ることができる。
【０１１０】
以上、本発明の実施形態を説明してきたが、本発明は上述した実施形態には限られない。例えば、上述した実施形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成、又は同一の目的を達成することができる構成により置き換えてもよい。
【０１１１】
例えば、配向膜やシール材を第１基板１０（ＴＦＴ基板）に形成する場合は、本実施形態の構成を有する堰止部を第１基板１０に設けてもよい。具体的には、図３に示す有機絶縁膜１３に段差を設けてその上に堰止部を形成する方法や、ハーフトーンマスクを用いて堰止部を形成する方法が挙げられる。
【０１１２】
また、本実施形態において述べた態様によりもたらされる他の作用効果について本明細書記載から明らかなもの、または当業者において適宜想到し得るものついては、当然に本発明によりもたらされるものと解される。
【符号の説明】
【０１１３】
１  液晶表示装置、１０  第１基板、２０  第２基板、２２  堰止部形成面、２２ａ  第１面、２２ｂ  第２面、２４  段差、４０  堰止部、４２  頂点、４６  中央、４８ａ  内面、４８ａ１  内側面、４８ｂ  外面、４８ｂ１  外側面、５２  配向膜、１２２  上面、１２２ａ,１２２ｂ  領域、１４０  スペーサ、１５２  第１液状樹脂、ＢＭ  光不透過膜、ＣＦ  カラーフィルタ、Ｄ  表示領域、Ｅ  非表示領域、ＯＣ  オーバーコート膜。
【図１】
2015143771.tif 000003
【図２】
2015143771.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
2015143771.tif 000007
【図６】
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【図７】
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