(57)【要約】【課題】洗浄される基板が汚染されることを防止できる基板洗浄装置が提供される。【解決手段】本発明による基板を洗浄する基板洗浄装置は、洗浄室、第１洗浄ノズル、カバー部材、気流発生ユニット、及び排気ユニットを含む。前記メーン洗浄室は前記基板が洗浄される洗浄空間を有し、前記メーン洗浄室は第１通風口が設けられた側壁を含む。前記第１洗浄ノズルは前記メーン洗浄室に配置されて第１洗浄液を噴射する。前記カバー部材は前記メーン洗浄室をカバーし、前記カバー部材の一側に第２通風口が設けられる。前記気流発生ユニットは前記第１通風口を通じて前記洗浄空間側に空気を提供する。前記排気ユニットは前記カバー部材の前記一側と結合され、前記排気ユニットは前記第２通風口を通じて前記洗浄空間側に提供された前記空気を吸入して排気する。【選択図】図２Ｂ
2015099919.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を洗浄する基板洗浄装置において、
前記基板が洗浄される洗浄空間を有し、第１通風口が設けられた側壁を含むメーン洗浄室と、
前記メーン洗浄室に配置され、第１洗浄液を噴射する少なくとも１つの第１洗浄ノズルと、
前記メーン洗浄室をカバーし、一側面に第２通風口が設けられたカバー部材と、
前記第１通風口を通じて前記洗浄空間側に空気を提供する気流発生ユニットと、
前記カバー部材の前記一側と結合され、前記第２通風口を通じて、前記洗浄空間側に提供された前記空気を吸入して排気する排気ユニットと、を含む基板洗浄装置。
【請求項２】
前記気流発生ユニット及び前記排気ユニットは、前記洗浄空間内に気流を発生させ、前記気流は、前記第１及び第２通風口を通じて前記洗浄空間を横切る前記空気の流れによって定義されることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
前記気流発生ユニット及び前記排気ユニットは、前記気流を利用して前記第１洗浄液から発生して前記洗浄空間に満たされたミスト（ｍｉｓｔ）を前記メーン洗浄室の外部へ排気することを特徴とする請求項２に記載の基板洗浄装置。
【請求項４】
前記メーン洗浄室の前記側壁と隣接するように配置される第１補助洗浄室と、
前記第１補助洗浄室に配置され、第２洗浄液を噴射する少なくとも１つの第２洗浄ノズルと、
前記メーン洗浄室を介して前記第１補助洗浄室と対向する第２補助洗浄室と、
前記第２補助洗浄室に配置され、第３洗浄液を噴射する少なくとも１つの第３洗浄ノズルと、
前記第１補助洗浄室、前記洗浄室、及び前記第２補助洗浄室の内部に配置されて前記基板を移送する移送ユニットと、をさらに含むことを特徴とする請求項２に記載の基板洗浄装置。
【請求項５】
前記第１補助洗浄室の内部に配置されて前記第１通風口に向かって延長され、前記第１補助洗浄室に提供された前記空気を前記第１通風口側にガイドするガイド部材をさらに含み、
前記気流発生ユニットは、前記第１補助洗浄室に形成されたホールを通じて前記空気を前記第１補助洗浄室側に提供し、前記第１補助洗浄室側に提供された前記空気は、前記第１通風口を通じて前記洗浄空間側に提供されることを特徴とする請求項４に記載の基板洗浄装置。
【請求項６】
前記第１洗浄ノズルは、前記第１洗浄液を第１圧力で噴射し、前記第２洗浄ノズルは、前記第２洗浄液を第２圧力で噴射し、前記第３洗浄ノズルは、前記第３洗浄液を第３圧力で噴射し、前記第１圧力は、前記第２及び第３圧力の各々より高いことを特徴とする請求項４に記載の基板洗浄装置。
【請求項７】
前記第１補助洗浄室内に配置されて第１流体を噴射し、前記第１洗浄液から発生して第１基板の出入口を通じて前記第１補助洗浄室側に流れ込むミストを遮断する第１補助ノズルと、
前記第２補助洗浄室内に配置されて第２流体を噴射し、第２基板の出入口を通じて第２補助洗浄室側に流れ込む前記ミストを遮断する第２補助ノズルと、
前記メーン洗浄室の前記側壁及び他の側壁の少なくとも１つから前記洗浄空間に向かって突出し、前記側壁及び前記他の側壁に沿って流れ落ちる液体を遮断する遮断部材と、をさらに含み、
前記メーン洗浄室に前記第１補助洗浄室と通じる前記第１基板の出入口が設けられ、前記メーン洗浄室に前記第２補助洗浄室と通じる前記第２基板の出入口が設けられることを特徴とする請求項４に記載の基板洗浄装置。
【請求項８】
前記第２補助洗浄室に形成されたホールを通じて前記第２補助洗浄室側に空気を提供して前記第２補助洗浄室側に流れ込む前記ミストを遮断する補助気流発生ユニットをさらに含むことを特徴とする請求項４に記載の基板洗浄装置。
【請求項９】
前記第１及び第２通風口の各々は、前記メーン洗浄室の前記側壁の幅方向に長いスリット形状を有することを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項１０】
前記カバー部材は、
前記第２通風口が設けられて前記排気ユニットと結合される側部と、
前記側部と結合されて前記メーン洗浄室の上側をカバーするカバー部と、を含み、
側面上で前記カバー部は、前記第２通風口から前記第１通風口に向かって傾斜を有する、前記カバー部は、前記第１通風口を通じて前記洗浄空間側に提供された前記空気を前記第２通風口側にガイドすることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は基板洗浄装置に関し、より詳細には湿式に基板を洗浄する基板洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
平板ディスプレー装置を製造する時、ガラスのような基板に対して洗浄工程を含む多数の処理工程が実行される。平板ディスプレー装置用大面積ガラス基板を洗浄するためには基板を洗浄室内に搬入し、洗浄室内に配置された多数のノズルが基板側へ洗浄液を噴射して基板が洗浄される。
多数のノズルは洗浄液が吐出される圧力によって分類され、吐出される圧力にしたがって洗浄液によって基板が洗浄される方式が若干異なることがある。例えば、多数のノズルにはウォータージェットノズル（ｗａｔｅｒ  ｊｅｔ）、シャワーノズル（ｓｈｏｗｅｒ  ｎｏｚｚｌｅ）、及びスプレーノズル（ｓｐｒａｙ  ｎｏｚｚｌｅ）があり、ウォータージェットノズルはシャワーノズル及びスプレーノズルより洗浄液を高圧に吐出する。このようなウォータージェットノズルは吐出する洗浄液成分を利用して基板を洗浄するのみでなく、洗浄液を基板に高圧で吹き付けることによって、基板に付着した異物の除去にさらに効果的である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】韓国特許公開第２００６−００４４９４５号明細書
【特許文献２】特開第２００９−０７６８５６号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は洗浄される基板が汚染されることを防止できる基板洗浄装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
基板を洗浄する基板洗浄装置において、上述した本発明の目的を達成するための本発明による基板洗浄装置は洗浄室、第１洗浄ノズル、カバー部材、気流発生ユニット、及び排気ユニットを含む。メーン洗浄室は基板が洗浄される洗浄空間を有し、メーン洗浄室は第１通風口が設けられた側壁を含む。第１洗浄ノズルはメーン洗浄室に配置されて第１洗浄液を噴射する。カバー部材はメーン洗浄室をカバーし、カバー部材の一側に第２通風口が設けられている。気流発生ユニットは第１通風口を通じて洗浄空間側に空気を提供する。排気ユニットはカバー部材の一側と結合し、排気ユニットは第２通風口を通じて、洗浄空間側に提供された空気を吸入して排気する。
【発明の効果】
【０００６】
本発明による基板洗浄装置はミスト及びミストによって発生された液体をそれ自体が除去できる機能を有する。したがって、このような基板洗浄装置の機能を利用してミスト及び液体によって基板が汚染されることを容易に防止でき、基板洗浄装置を管理するのに必要となる人員及び費用を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１Ａ】本発明の実施形態による基板洗浄装置の斜視図である。
【図１Ｂ】図１Ａに図示された基板洗浄装置の断面図である。
【図２Ａ】図１Ｂに図示されたメーン洗浄室にミストが発生された状態を示す図面である。
【図２Ｂ】図１Ｂに図示されたメーン洗浄室にミストが発生された状態を示す図面である。
【図３Ａ】基板洗浄装置がミストを排気する動作を示す図面である。
【図３Ｂ】基板洗浄装置がミストを排気する動作を示す図面である。
【図３Ｃ】基板洗浄装置がミストを排気する動作を示す図面である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、添付した図面を参照して本発明の実施形態を詳細に説明する。上述した本発明の目的、特徴、及び効果は図面に関連された実施形態を通じて容易に理解できる。但し、本発明はここで説明される実施形態に限定されなく、多様な形態に応用されて変形されることもあり得る。むしろ、後述される本発明の実施形態は本発明によって開示された技術思想をより明確にし、さらに本発明が属する分野で通常の知識を有する当業者に本発明の技術思想が十分に伝達されるように提供される。したがって、本発明の範囲が後述される実施形態によって限定されることとして解釈されてはならない。一方、下記の実施形態と図面上に同一の参照番号は同一の構成要素を示す。
【０００９】
また、本明細書で‘第１’、‘第２’等の用語は限定的な意味ではなく、１つの構成要素を他の構成要素と区別する目的として使用されている。また、膜、領域、構成要素等の部分が他の部分‘上に’又は‘うえに’あるとする時、他の部分の直上にある場合のみならず、その中間に他の膜、領域、構成要素等が介在されている場合も含む。
【００１０】
図１Ａは本発明の実施形態による基板洗浄装置１００の斜視図であり、図１Ｂは図１Ａに図示された基板洗浄装置１００の断面図である。
【００１１】
図１Ａ及び図１Ｂを参照すれば、基板洗浄装置１００は基板ＳＢに対して洗浄工程を実行する装置である。この実施形態では基板洗浄装置１００は移送ユニット１５０、第１補助洗浄室Ｒ１１、メーン洗浄室Ｒ１、及び第２補助洗浄室Ｒ１２を含み、第１補助洗浄室Ｒ１１、メーン洗浄室Ｒ１、及び第２補助洗浄室Ｒ１２が順次的に配置される。
【００１２】
第１補助洗浄室Ｒ１１の外側壁には基板の搬入口ＤＲ１が設けられ、メーン洗浄室Ｒ１に第１補助洗浄室Ｒ１１と通じる第１基板の出入口ＤＲ２が設けられ、メーン洗浄室Ｒ１に第２補助洗浄室Ｒ１２と通じる第２基板の出入口ＤＲ３が設けられ、第２補助洗浄室Ｒ１２の外側壁には基板の搬出口ＤＲ４が設けられている。
【００１３】
移送ユニット１５０は第１補助洗浄室Ｒ１１、メーン洗浄室Ｒ１、及び第２補助洗浄室Ｒ１２の内部に配置される。したがって、基板ＳＢが基板の搬入口ＤＲ１を通じて基板洗浄装置１００に搬入された後に、基板１００は移送ユニット１５０によって第１補助洗浄室Ｒ１１、メーン洗浄室Ｒ１、及び第２補助洗浄室Ｒ１２側に順次的に移送される。また、基板洗浄装置１００が基板ＳＢに対する洗浄工程を実行した後に、移送ユニット１５０の駆動によって基板ＳＢが基板の搬出口ＤＲ４を通じて外部へ搬出される。
【００１４】
この実施形態では、移送ユニット１５０は多数のローラーはＲＬを含み、この場合に、基板ＳＢは多数のローラーはＲＬ上に配置されて多数のローラーはＲＬの回転力によって移送される。他の実施形態では、移送ユニット１５０は移送ベルト又は移送レールのような異なる方式に駆動されて基板ＳＢを移送してもよい。
【００１５】
メーン洗浄室Ｒ１は互いに対向する第１側壁Ｓ１及び第２側壁Ｓ２を含む多数の側壁を具備し、メーン洗浄室Ｒ１の内部に第１洗浄空間Ｃ１を有する。メーン洗浄室Ｒ１の内部には第１洗浄ノズル１０、１５及び第１乃至第４遮断部材３１、３２、３３、３４が配置される。
【００１６】
第１洗浄ノズル１０、１５の一方は基板ＳＢの上部に配置されて第１洗浄液Ｌ１を基板ＳＢの上部面側に噴射し、第１洗浄ノズル１０、１５の中で他方は基板ＳＢの下部に配置されて第１洗浄液Ｌ１を基板ＳＢの下部面側に噴射する。したがって、第１洗浄ノズル１０、１５から噴射される第１洗浄液Ｌ１によって基板ＳＢが洗浄される。
【００１７】
この実施形態では、第１洗浄液Ｌ１は蒸留水（ｄｉｓｔｉｌｌｅｄ  ｗａｔｅｒ、ＤＷ）又は脱イオン水（ｄｅｉｏｎｉｚｅｄ  ｗａｔｅｒ、ＤＩＷ）である。しかし、本発明が第１洗浄液Ｌ１の種類に限定されることではなく、例えば他の実施形態では第１洗浄液Ｌ１はイソプロパノールアルコール（ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ、ＩＰＡ）を含んでもよい。
【００１８】
この実施形態では、第１洗浄ノズル１０、１５はウォータージェット（ｗａｔｅｒ  ｊｅｔ）ノズルであり、第１洗浄ノズル１０、１５は高圧ポンプによって生成された第１洗浄液Ｌ１を約１００バー（ｂａｒ）程度の圧力に吐出する。したがって、第１洗浄液Ｌ１の成分によって基板ＳＢが洗浄されるだけでなく、第１洗浄液Ｌ１を基板ＳＢに高圧で吹き付ける物理的な力によって基板ＳＢに付着した異物を容易に洗浄することができる。
【００１９】
第１側壁Ｓ１には第１通風口ＳＴ１が設けられている。図１Ｂに示したように、第１側壁Ｓ１は第１補助洗浄室Ｒ１１と隣接するように配置されるので、第１通風口ＳＴ１を通じて第１補助洗浄室Ｒ１１からメーン洗浄室Ｒ１側に空気が提供される。
【００２０】
この実施形態では、図３Ｂに示したように、第１通風口ＳＴ１は第１側壁Ｓ１の幅方向（図３ＢのＤ１）に長く、第１通風口ＳＴ１の長さ方向は幅方向（図３ＢのＤ１）と平行である。
【００２１】
カバー部材５０はメーン洗浄室Ｒ１をカバーする。この実施形態では、カバー部材５０は側部ＳＰ及びカバー部ＣＰを含む。この実施形態では、カバー部材５０はアクリル樹脂のような透明な材質で形成され、カバー部材５０はメーン洗浄室Ｒ１と分離されることができる。
【００２２】
側部ＳＰには第２通風口ＳＴ２が設けられる。したがって、第１通風口ＳＴ１を通じて第１補助洗浄室Ｒ１１からメーン洗浄室Ｒ１側に提供された空気は第２通風口ＳＴ２を通じてメーン洗浄室Ｒ１の外部へ排出される。
【００２３】
この実施形態では、図３Ｃに示したように、第２通風口ＳＴ２は第１側壁Ｓ１の幅方向（図３ＣのＤ１）に長く、その結果、第１及び第２通風口ＳＴ１、ＳＴ２の各々の長さ方向は幅方向（図３ＣのＤ１）と平行である。
カバー部ＣＰは側部ＳＰと結合されてメーン洗浄室Ｒ１の上側をカバーする。この実施形態では側面上でカバー部ＣＰは第２通風口ＳＴ２から第１通風口ＳＴ１に向かって傾いた形状を有する。したがって、第１洗浄空間Ｃ１で実行される洗浄工程によって発生されたミスト（図２ＡのＭＴ）がカバー部ＣＰで凝結しても、凝結したミストによって発生した液体は基板ＳＢ側に落下しなく、液体はカバー部ＣＰ及び第１側壁Ｓ１に沿って流れ下る。
【００２４】
液体の殆どはメーン洗浄室Ｒ１で使用される第１洗浄液Ｌ１を含むが、液体がカバー部ＣＰで凝結している間に、その液体はカバー部ＣＰに残存しているパーティクル及びバクテリアによって汚染されることもある。したがって、上述したようにカバー部ＣＰの形状によって液体が基板ＳＢに落下することが防止できるので、基板ＳＢが液体によって汚染されることを防止することができる。
【００２５】
また、空気が第１通風口ＳＴ１を通じてメーン洗浄室Ｒ１側に提供される時、カバー部ＣＰの傾いた形状によって空気が第２通風口ＳＴ２側に容易にガイドされ、これによって空気がメーン洗浄室Ｒ１を経由して流れる間に乱流を発生しない。
この実施形態では、第１側壁Ｓ１及び第２側壁Ｓ２の互いに同一の高さの位置をつなぐ仮想のライン４０を定義する時、カバー部ＣＰはライン４０に対して約２０°乃至約５０°に傾いている。
【００２６】
第１及び第２遮断部材３１、３２は第１側壁Ｓ１に配置されて第１洗浄空間Ｃ１に向かって突出した形状を有し、第３及び第４遮断部材３３、３４は第２側壁Ｓ２に配置されて第１洗浄空間Ｃ１に向かって突出した形状を有する。また、第１乃至第４遮断部材３１、３２、３３、３４が側面上で傾いた形状を有するので、第１乃至第４遮断部材３１、３２、３３、３４は第１及び第２側壁Ｓ１、Ｓ２に沿って下降する液体を遮断することができる。したがって、液体が第１及び第２側壁Ｓ１、Ｓ２に沿って流れる間に汚染されるが、第１乃至第４遮断部材３１、３２、３３、３４によって液体が基板ＳＢ側に落下することが防止されて基板ＳＢが汚染されることを防止することができる。
【００２７】
この実施形態では、第１乃至第４遮断部材３１、３２、３３、３４は第１及び第２側壁Ｓ１、Ｓ２に配置されているが、他の実施形態では第１及び第２側壁Ｓ１、Ｓ２の以外にメーン洗浄室Ｒ１の他の側壁に他の遮断部材がさらに配置されてもよい。
【００２８】
排気ユニットＤＰはカバー部材５０の側部ＳＰと結合される。排気ユニットＤＰは第２通風口ＳＴ２を通じて第１洗浄空間Ｃ１側に提供された空気を吸入し、吸入された空気をメーン洗浄室Ｒ１の外部へ排気する。この実施形態では、排気ユニットＤＰは排気ダンパー（ｄａｍｐｅｒ）及び排気ポンプを含む。
【００２９】
第１補助洗浄室Ｒ１１は第２洗浄空間Ｃ２を有し、第１補助洗浄室Ｒ１１の一側には基板の搬入口ＤＲ１が設けられる。第１補助洗浄室Ｒ１１の内部には第２洗浄ノズル１１０、第１補助ノズル１２０、第２補助ノズル１３０、第５遮断部材１３１、及び第６遮断部材１３２が配置される。
【００３０】
第２洗浄ノズル１１０は基板ＳＢの上部に配置されて第２洗浄液Ｌ２を基板ＳＢの側に噴射する。したがって、移送ユニット１５０によって基板ＳＢがメーン洗浄室Ｒ１に移送される前に、第１補助洗浄室Ｒ１１で基板ＳＢが洗浄される。
【００３１】
この実施形態では、第２洗浄ノズル１１０はシャワーノズルであり、第２洗浄ノズル１１０が第２洗浄液Ｌ２を吐出する圧力は第１洗浄ノズル１０、１５が第１洗浄液Ｌ１を吐出する圧力より小さい。例えば、上述したように、第１洗浄ノズル１０、１５から第１洗浄液Ｌ１が吐出される圧力が約１００バー（ｂａｒ）である場合に、第２洗浄ノズル１１０から第２洗浄液Ｌ２が吐出される圧力は約５バー（ｂａｒ）である。
【００３２】
第１補助ノズル１２０は第２洗浄ノズル１１０より基板の搬入口ＤＲ１に配置される。第１補助ノズル１２０は基板ＳＢ側に水を供給し、水は第２洗浄液Ｌ２と共に基板ＳＢを洗浄するのに使用される。
【００３３】
第２補助ノズル１３０は第１基板の出入口ＤＲ２に隣接するように配置される。第２補助ノズル１３０は基板ＳＢに対して垂直方向に水を噴射し、噴射された水によって第１基板の出入口ＤＲ２を通じて第１洗浄空間Ｃ１から第２洗浄空間Ｃ２側に移動する流体の流れが遮断される。この実施形態では、流体は第１洗浄ノズル１０、１５が第１洗浄液Ｌ１を噴射する時に発生するミスト（ｍｉｓｔ）である。
【００３４】
第５遮断部材１３１及び第６遮断部材１３２は第１補助洗浄室Ｒ１１の側壁に配置される。第５及び第６遮断部材１３１、１３２の各々は側壁のいずれか１つに配置されて第２洗浄空間Ｃ２に向かって突出した形状を有する。また、第１乃至第４遮断部材３１、３２、３３、３４のように、第５及び第６遮断部材１３１、１３２の各々は側面上で傾いた形状を有する。したがって、第５及び第６遮断部材１３１、１３２によって第１補助洗浄室Ｒ１１が有する側壁に沿って下降して基板ＳＢを汚染する液体の流れが遮断される。
【００３５】
第２補助洗浄室Ｒ１２は第３洗浄空間Ｃ３を有し、第２補助洗浄室Ｒ１２の一側には基板の搬出口ＤＲ４が設けられる。また、第２補助洗浄室Ｒ１２の内部には第３洗浄ノズル２１０、第３補助ノズル２２０、第４補助ノズル２３０、第７遮断部材２３１、及び第８遮断部材２３２が配置される。
【００３６】
第３洗浄ノズル２１０は基板ＳＢの上部に配置されて第３洗浄液Ｌ３を基板ＳＢの側に噴射する。この実施形態では、第３洗浄ノズル２１０はシャワーノズルであり、第３洗浄ノズル２１０が第３洗浄液Ｌ３を吐出する圧力は第１洗浄ノズル１０、１５が第１洗浄液Ｌ１を吐出する圧力より小さい。
【００３７】
第３補助ノズル２２０は第３洗浄ノズル２１０より第２基板の出入口ＤＲ３に配置される。第１補助ノズル１２０のように、第３補助ノズル２２０は基板ＳＢ側に基板ＳＢを洗浄するのに使用される水を提供する。
【００３８】
第４補助ノズル２３０は第２基板の出入口ＤＲ３に隣接するように配置される。第４補助ノズル２３０は基板ＳＢに対して垂直方向に水を噴射し、噴射された水によって第２基板の出入口ＤＲ３を通じて第１洗浄空間Ｃ１から第３洗浄空間Ｃ３側に移動する流体の流れが遮断される。この実施形態では、流体は第１洗浄ノズル１０、１５が第１洗浄液Ｌ１を噴射する時に発生するミスト（ｍｉｓｔ）である。
【００３９】
第７遮断部材２３１及び第８遮断部材２３２は第３補助洗浄室Ｒ１２の側壁に配置される。第７及び第８遮断部材２３１、２３２の各々は側壁いずれか１つに配置されて第３洗浄空間Ｃ３に向かって突出した形状を有する。また、第１及び第４遮断部材３１、３２、３３、３４のように、第７及び第８遮断部材２３１、２３２の各々は側面上で傾いた形状を有する。したがって、第７及び第８遮断部材２３１、２３２によって第２補助洗浄室Ｒ１２が有する側壁に沿って下降して基板ＳＢを汚染させる液体の流れが遮断される。
【００４０】
気流発生ユニットＦＵ１は第１補助洗浄室Ｒ１１と結合し、この実施形態では気流発生ユニットＦＵ１はファン及びフィルタを含むファンフィルタユニット（ｆａｎ  ｆｉｌｔｅｒ  ｕｎｉｔ）であってもよい。気流発生ユニットＦＵ１は基板洗浄装置１００の外部から提供される空気を浄化し、浄化された空気を第１補助洗浄室Ｒ１１に形成されたホール１７０を通じて第２洗浄空間Ｃ２側に提供する。
【００４１】
この実施形態では、第２洗浄空間Ｃ２の内部にガイド部材１６０が配置されてもよい。ガイド部材１６０は板形状を有し、ガイド部材１６０は第２洗浄空間Ｃ２の内部を横切って第１通風口ＳＴ１に向かって延長される。したがって、気流発生ユニットＦＵ１から第２洗浄空間Ｃ２側に提供された空気の一部はガイド部材１６０によって第１通風口ＳＴ１側にガイドされる。また、空気の他の一部は第１補助洗浄室Ｒ１１の側壁少なくともいずれか１つに配置された第１排気口２０を通じて排気され、その結果、第２洗浄空間Ｃ２内で空気が循環する。
【００４２】
この実施形態では、基板洗浄装置１００は第２補助洗浄室Ｒ１２と結合する補助気流発生ユニットＦＵ２をさらに含む。補助気流発生ユニットＦＵ２はファンフィルタユニットであり、補助気流発生ユニットＦＵ２は第２補助洗浄室Ｒ１２に形成されたホール２７０を通じて第２補助洗浄室Ｃ３側に空気が流入する。第２補助洗浄室Ｒ１２側に提供された空気は第２補助洗浄室Ｒ１２の側壁の中で少なくともいずれか１つに配置された第２排気口２１を通じて排気され、その結果、第２洗浄空間Ｃ２内で空気が循環する。また、第２補助洗浄室Ｒ１２の内部で空気が循環される時、メーン洗浄室Ｒ１から第２補助洗浄室Ｒ１２側に流入されたミストが空気と共に排気されることもある。
【００４３】
以下、気流発生ユニットＦＵ１及び排気ユニットＤＰが第１洗浄空間Ｃ１内に気流を発生させて洗浄空間Ｃ１に満たされたミストが排気される過程を説明すれば、次の通りである。
【００４４】
図２Ａ及び図２Ｂは図１Ｂに図示されたメーン洗浄室にミストが発生された状態を示す図面である。
【００４５】
図２Ａ及び図２Ｂを参照すれば、第１補助洗浄室Ｒ１１で基板ＳＢに対して洗浄工程が実行された後に、移送ユニット１５０によって基板ＳＢがメーン洗浄室Ｒ１へ移送される。その後に、第１洗浄ノズル１０、１５が基板ＳＢ側に第１洗浄液Ｌ１を噴射してメーン洗浄室Ｒ１で洗浄工程が進行される。
【００４６】
この実施形態では、第１洗浄ノズル１０、１５は第１洗浄液Ｌ１を約１００ｂａｒの圧力で基板ＳＢ側に噴射する。その結果、第１洗浄液Ｌ１の成分による基板ＳＢの洗浄だけでなく、第１洗浄液Ｌ１が基板ＳＢに吹き付ける物理的な力によって基板ＳＢが洗浄される。
【００４７】
一方、第１洗浄液Ｌ１が高圧で基板ＳＢ側に噴射される間に、基板ＳＢに吹き付ける第１洗浄液Ｌ１によってミスト（ｍｉｓｔ、ＭＴ）が発生する。その結果、ミストＭＴの一部は第１洗浄空間Ｃ１を浮遊した後に、ミストＭＴがカバー部ＣＰ、第１及び第２側壁Ｃ１、Ｃ２側に凝結して液体ＬＣが発生する。この場合に、液体ＬＣはカバー部ＣＰ及び第１及び第２側壁Ｓ１、Ｓ２に沿って流れ落ちるが、液体ＬＣの流れは第１乃至第４遮断部材３１、３２、３３、３４によって遮断される。また、第１乃至第４遮断部材３１、３２、３３、３４に集まった液体ＬＣは配管（図３Ｃの７５）に沿ってメーン洗浄室Ｒ１の外部へ排出される。
【００４８】
図３Ａ、図３Ｂ、及び図３Ｃは基板洗浄装置がミストを排気する動作を示す図面である。参考に、図３Ｂでは図１ＡのＩ−Ｉ’に沿って切断された面を示した断面図を利用して基板洗浄装置がミストを排気するための動作が図示され、図３Ｃでは図１ＡのＩＩ−ＩＩ’に沿った断面図を利用して基板洗浄装置がミストを排気するための動作が図示される。
【００４９】
図３Ａ、図３Ｂ、及び図３Ｃを参照すれば、第１気流発生ユニットＦＵ１が外部から提供される空気ＡＲを浄化した後、空気ＡＲをホール１７０を通じて第１補助洗浄室Ｒ１１側に提供する。また、第１補助洗浄室Ｒ１１側に提供された空気ＡＲはガイド部材１６０によって第１通風口ＳＴ１側にガイドされ、その結果、空気ＡＲが第１通風口ＳＴ１を通じてメーン洗浄室Ｒ１の内部に提供される。
【００５０】
上述したように、第１通風口ＳＴ１はスリット形状を有し、スリットは第１側壁Ｓ１の幅方向Ｄ１と平行である長さ方向を有する。本発明の実施形態と異なり、第１側壁に形成された通風口がメーン洗浄室Ｒ１及び第１補助洗浄室Ｒ１１を連結する円筒形のような配管に対応する形状を有する場合に、通風口の周辺で乱流が発生して通風口を通過する空気の流れが円滑ではないこともあり得る。しかし、この実施形態では、第１通風口ＳＴ１がスリットの形状を有することによって第１通風口ＳＴ１の周辺に横気流（ｈｏｒｉｚｏｎｔａｌ  ａｉｒ  ｆｌｏｗ）が発生し、その結果、空気ＡＲは第１補助洗浄室Ｒ１１からメーン洗浄室Ｒ１側に円滑に流れる。
【００５１】
空気ＡＲが第１補助洗浄室Ｒ１１からメーン洗浄室Ｒ１側に移動する間に、排気ユニットＤＰが駆動されてメーン洗浄室Ｒ１側に移動した空気ＡＲを吸入する。したがって、メーン洗浄室Ｒ１側に提供された空気ＡＲは第２通風口ＳＴ２を通じて排気ユニットＤＰによって吸入される。
【００５２】
第１通風口ＳＴ１のように、第２通風口ＳＴ２は幅方向Ｄ１に長いスリット形状を有する。したがって、第２通風口ＳＴ２の周辺に横気流が発生して空気ＡＲは第２通風口ＳＴ２を通じて外部へ円滑に排気される。
【００５３】
上述したように第１補助洗浄室Ｒ１１及びメーン洗浄室Ｒ１内で空気ＡＲの流れが制御され、これによって気流発生ユニットＦＵ１及び排気ユニットＤＰによってメーン洗浄室Ｒ１の第１洗浄空間Ｃ１を横切る気流ＡＦが定義される。この場合に、第１洗浄空間Ｃ１にミストＭＴが発生しても、ミストＭＴは気流ＡＦによって第２通風口ＳＴ２を通じて外部へ排気される。即ち、上述した経路に外部へ排気される空気ＡＲと共にミストＭＴがメーン洗浄室Ｒ１の外部へ容易に排気される。
【００５４】
基板洗浄装置１００がミストＭＴを除去する動作によれば、気流ＡＦを利用してメーン洗浄室Ｒ１に浮遊するミストＭＴを容易に除去することができるので、メーン洗浄室Ｒ１及びカバー部材５０に凝結したミストＭＴを除去するためにカバー部材５０をメーン洗浄室Ｒ１から取り外さなくともよい。また、基板洗浄装置１００はそれ自体で基板ＳＢの汚染源として作用するミストＭＴを除去できる機能を有するので、基板洗浄装置１００の運用がより容易になり、基板洗浄装置１００を管理するのに必要である人員及び費用を低減することができる。
【００５５】
以上では本発明の望ましい実施形態を参照して説明したが、該当技術分野の熟練された当業者又は該当技術分野に通常の知識を有する者であれば、後述される特許請求の範囲に記載された本発明のマッピング及び技術領域から逸脱しない範囲内で本発明を多様に修正及び変形できることは理解できる。したがって、本発明の技術的範囲は明細書の詳細な説明に記載された内容に限定されることではなく、特許請求の範囲によって定まれなければならない。
【符号の説明】
【００５６】
１０・・・第１洗浄ノズル
３１・・・第１遮断部材
５０・・・カバー部材
１００・・・基板洗浄装置
ＣＰ・・・カバー部
ＤＰ・・・排気ユニット
ＤＲ１・・・基板の搬入口
ＤＲ２・・・第１基板の出入口
ＤＲ３・・・第２基板の出入口
ＤＲ４・・・基板の搬出口
ＦＵ１・・・気流発生ユニット
Ｒ１・・・メーン洗浄室
Ｒ１１・・・第１補助洗浄室
Ｒ１２・・・第２補助洗浄室
ＳＢ・・・基板
ＳＰ・・・側部
ＳＴ１・・・第１通風口
ＳＴ２・・・第２通風口
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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