(57)【要約】【課題】有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液を提供すること。【解決手段】主に特定比例のエッチング液と含窒素５員複素環化合物とを水に溶かして、エッチング液を調合する。使用者がこのエッチング液を少なくとも一つの第１金属（例えば、金）と少なくとも一つの第２金属（例えば、銅）を含む基板にウェットエッチングを行った後に、含窒素５員複素環化合物が高い還元電位を有する第１金属の上に有機被膜を形成することによって、第２金属がガルバノ効果（ｇａｌｖａｎｉｃ  ｅｆｆｅｃｔ）の影響により、過度なエッチング現象を防げる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１金属と第２金属とを含む基板のウェットエッチング工程に適用する、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液であって、
前記エッチング液は、
溶剤に溶かされて、前記エッチング液を形成するエッチング剤と、
含窒素５員複素環化合物（ｎｉｔｒｏｇｅｎ  ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ  ｆｉｖｅ−ｍｅｍｂｅｒ  ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）と、を備え、
前記エッチング剤の前記溶剤における含有量は５ｇ／Ｌ〜２５０ｇ／Ｌであり、前記含窒素５員複素環化合物の前記溶剤における含有量は０．０１ｇ／Ｌ〜５０ｇ／Ｌであり、
前記含窒素５員複素環化合物を前記エッチング剤に溶かして、ウェットエッチング工程の金属皮膜を形成することを特徴とする、
有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項２】
前記溶剤は水であることを特徴とする、請求項１に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項３】
前記エッチング剤は過酸化水素−硫酸（Ｈ２Ｏ２−Ｈ２ＳＯ４）、過酸化水素−リン酸（Ｈ２Ｏ２−Ｈ３ＰＯ４）、塩化銅−塩酸（ＣｕＣｌ２−ＨＣｌ）、塩化鉄−塩酸（ＦｅＣｌ２−ＨＣｌ）、塩酸−硝酸（ＨＣｌ−ＨＮＯ３）、過硫酸ナトリウム（Ｎａ２Ｓ２Ｏ８）または過硫酸塩複合材（ＫＨＳＯ５ｏＫＨＳＯ４ｏＫ２ＳＯ４）のいずれかのグループから選択されることを特徴とする、請求項１に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項４】
前記含窒素５員複素環化合物の化学構造は以下の化学式１に示され、
【化１】
2015161015.tif 000040
そのうち、Ｒ１は第１有機化学基または水素であり、前記第１有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択され、さらに、化学式１に示される含窒素５員複素環化合物は３−Ｒ１−１，２，４−トリアゾールであることを特徴とする、請求項１に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項５】
前記含窒素５員複素環化合物の化学構造は以下の化学式２に示され、
【化２】
2015161015.tif 000041
そのうち、Ｒ１は第１有機化学基または水素であり、前記第１有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択され、さらに、化学式２に示される含窒素５員複素環化合物は１，３，５−Ｒ１−１，２，４−トリアゾールであることを特徴とする、請求項１に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項６】
さらに、一つまたは２つの第２有機化学基または水素が１，３，５−Ｒ１−１，２，４−トリアゾールに増加され、含窒素５員複素環化合物が正イオンに形成され、前記含窒素５員複素環化合物に少なくとも一つの負イオンを帯びることによって、化学式の荷電平衡を達成させ、一つの第２有機化学基または水素が増加された含窒素５員複素環化合物は以下の化学式３または化学式４に示され、さらに２つの有機化学基または水素が増加された含窒素５員複素環化合物は以下の化学式５に示され、
【化３】
2015161015.tif 000042
【化４】
2015161015.tif 000043
【化５】
2015161015.tif 000044
そのうち、Ｒ２は第２有機化学基または水素であり、前記第２有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択され、負イオンは、フッ化物イオン（Ｆ−）、塩素イオン（Ｃｌ−）、臭素イオン（Ｂｒ−）、ヨウ素イオン（Ｉ−）、四フッ化ホウ素イオン（ＢＦ４−）、硫酸イオン（ＳＯ４２−）、硫酸水素イオン塩イオン（ＨＳＯ４−）いずれかのグループから選択されることを特徴とする、請求項５に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項７】
前記含窒素５員複素環化合物の化学構造は以下の化学式６に示され、
【化６】
2015161015.tif 000045
そのうち、Ｒ１は第１有機化学基または水素であり、前記第１有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択され、化学式１に示される含窒素５員複素環化合物は４−Ｒ１−１，２，３−トリアゾールであることを特徴とする、請求項１に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項８】
前記含窒素５員複素環化合物の化学構造は以下の化学式７に示され、
【化７】
2015161015.tif 000046
そのうち、Ｒ１は第１有機化学基または水素であり、前記第１有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択され、さらに、化学式７に示される含窒素５員複素環化合物は１，４，５−Ｒ１−１，２，３−トリアゾールであることを特徴とする、請求項１に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項９】
一つまたは２つの第２有機化学基または水素が１，４，５−Ｒ１−１，２，３−トリアゾールに増加され、含窒素５員複素環化合物が正イオンに形成され、含窒素５員複素環化合物に少なくとも一つの負イオンを帯びることによって、化学式の荷電平衡を達成させ、そのうち、一つの第２有機化学基または水素が増加された含窒素５員複素環化合物は以下の化学式８または化学式９に示され、さらに、２つの有機化学基または水素が増加された含窒素５員複素環化合物は以下の化学式１０に示され、
【化８】
2015161015.tif 000047
【化９】
2015161015.tif 000048
【化１０】
2015161015.tif 000049
そのうち、Ｒ２は第２有機化学基または水素であり、前記第２有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択され、負イオンは、フッ化物イオン（Ｆ−）、塩素イオン（Ｃｌ−）、臭素イオン（Ｂｒ−）、ヨウ素イオン（Ｉ−）、四フッ化ホウ素イオン（ＢＦ４−）、硫酸イオン（ＳＯ４２−）、硫酸水素イオン塩イオン（ＨＳＯ４−）いずれかのグループから選択されることを特徴とする、請求項８に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項１０】
前記含窒素５員複素環化合物の化学構造は以下の化学式１１に示され、
【化１１】
2015161015.tif 000050
そのうち、Ｒ１は第１有機化学基または水素であり、前記第１有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択され、さらに、化学式１１に示される前記含窒素５員複素環化合物は１，５−Ｒ１−テトラゾールであることを特徴とする、請求項１に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項１１】
さらに、一つ、２つまたは３つの第２有機化学基または水素が１，５−Ｒ１−テトラゾールに増加され、含窒素５員複素環化合物を正イオンに形成させると共に、含窒素５員複素環化合物を少なくとも一つの負イオンを帯びることによって、化学式の電荷平衡を達成させ、そのうち、一つの第２有機化学基または水素が増加された含窒素５員複素環化合物は以下の化学式１２、化学式１３または化学式１４に示され、さらに２つの有機化学基または水素が増加された含窒素５員複素環化合物は化学式１５、化学式１６または化学式１７に示され、さらに、３つの第２有機化学基または水素が増加された含窒素５員複素環化合物は、以下の化学式１８に示され、
【化１２】
2015161015.tif 000051
【化１３】
2015161015.tif 000052
【化１４】
2015161015.tif 000053
【化１５】
2015161015.tif 000054
【化１６】
2015161015.tif 000055
【化１７】
2015161015.tif 000056
【化１８】
2015161015.tif 000057
そのうち、Ｒ２は第２有機化学基または水素であり、前記第２有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択され、マイナスイオンは、フッ化物イオン（Ｆ−）、塩素イオン（Ｃｌ−）、臭素イオン（Ｂｒ−）、ヨウ素イオン（Ｉ−）、四フッ化ホウ素イオン（ＢＦ４−）、硫酸イオン（ＳＯ４２−）、硫酸水素イオン塩イオン（ＨＳＯ４−）いずれかのグループから選択されることを特徴とする、請求項１０に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項１２】
前記第１金属の還元電位（Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ  Ｐｏｔｅｎｔｉａｌ）は、前記第２金属の還元電位より小さいことを特徴とする、請求項１に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項１３】
前記第１金属は金（Ａｕ）、プラチナ（Ｐｔ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、すず（Ｓｎ）、ニッケル（Ｎｉ）、アルミ（Ａｌ）のいずれかのグループから選択されることを特徴とする、請求項１２に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項１４】
前記第２金属は金（Ａｕ）、アルミ（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）、すず（Ｓｎ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、プラチナ（Ｐｔ）、チタン（Ｔｉ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、クロム（Ｃｒ）のいずれかのグループから選択されることを特徴とする、請求項１３に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項１５】
前記基板は、プリント基板、シリコンウェハー、ガラス基板、ガリウムヒ素基板、酸化アルミ基板のいずれかのグループから選択されることを特徴とする、請求項１に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はエッチング液に関し、特に含窒素５員複素環化合物を含めた有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液である。
【先行技術】
【０００２】
電気回路基盤または集積回路の後工程において、電気回路基盤またはシリコンウェハー上に特定パターン（ｐａｔｔｅｒｎ）の金属層（すなわち、リードワイヤーまたは半田パッド）を仕上げるには、通常、リソグラフィ技術と特定のエッチング液、例えば、塩化第２鉄エッチング系液、塩化銅系エッチング液、アルカリエッチング液等を組み合わせる方法が用いられる。しかし、これらのエッチング液には、いわゆるアンダーカット（ｕｎｄｅｒｃｕｔ）の問題が存在している。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
図１と図２は電気回路基盤に特定パターンを備える銅層を仕上げる生産プロセスの概略図である。一般の電気回路基盤の銅リード線の生産プロセスは、図１に示すように、まず基板１０’の銅層１１’の上にて、特定パターンのエッチング防止層（ｅｔｃｈ−ｒｅｓｉｓｔｉｎｇ  ｌａｙｅｒ）１２’を形成する。引き続きウェットエッチング方式により、エッチング防止層１２’に覆われていない銅層１１’を除去し、最後にエッチング防止層（ｅｔｃｈ−ｒｅｓｉｓｔｉｎｇ  ｌａｙｅｒ）１２’を取り除いた後に、例えば、銅リードの線または銅の半田パッドなど特定パターンを有する銅層１１’が電気回路基盤１０’に形成される。
しかし、新世代の製品においては、電気回路基盤のリード線の太さに対する要求があるため、図２に示すように、繊細な銅リード線を製作するときに、エッチング防止層１２’に覆われている銅層１１’が横方向エッチング（ｌａｔｅｒａｌ  ｅｔｃｈｉｎｇ）の現象を引き起こす。この現象はアンダーカット（ｕｎｄｅｒｃｕｔ）という。
【０００４】
そのほか、スマートホーン、タブレットＰＣなど消費電子製品が大幅に普及するにつれて、従来の信号伝送に使用される銅リード線の電気回路基盤では、それらの消費電子製品の高い周波数、高速度の応用に耐えられないため、銅／金によるハイブリッド電気回路基盤が提唱され、前述した消費電子製品に応用し始めている。
引き続き図３の、銅／金ハイブリッド電気回路基盤の上面図を参照する。図３に示すように、係る基板１０’上に銅リード線１１’’と金リード線１２’が仕上げられている。そのうち、金リード線１２’’の還元電位は銅リード線１１’’より低いため、ウェットエッチング方式により、基板１０’’上に銅リード線１１’’と金リード線１２’’とを形成するときに、金リード線１２’’に接続された銅リード線１１’’に過度なエッチング現象が引き起こされる。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
前述した、公知の銅／金ハイブリッド電気回路基盤に用いられる銅リード線によって引き起こされる過度なエッチング現象に対する解決策の説明から、公知の解決策にはなお多くの欠点と不足の点があることが分かる。
そのため、発明者が研究に努めた結果、本発明の、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液を考案した。
【０００６】
本発明の主な目的は、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液を提供することである。
主に特定比例のエッチング剤と含窒素５員複素環化合物とを水に溶かして、エッチング液を調合し、使用者がこのエッチング液を用い、少なくとも第１金属（例えば、金）と少なくとも一つの第２金属（例えば、銅）が含まれた基板にウェットエッチングを実施すると、含窒素５員複素環化合物は高い還元電位を有する第１金属（すなわち、金）の上に有機被膜を形成することによって、第２金属がガルバノ効果（ｇａｌｖａｎｉｃ  ｅｆｆｅｃｔ）の影響で引き起こされた過度なエッチング現象を防ぐことができる。
【０００７】
前述の目的を達成するため、本発明から有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液が提供される。このエッチングは少なくとも第１金属と第２金属とが含まれた基板へのウェットエッチング工程に用いられる。係るエッチング液は下記のことが含まれる。
【０００８】
溶剤と、溶剤に溶かせて形成されるエッチング剤と、エッチング剤に溶かした含窒素５員複素環化合物が含まれる。エッチング剤に溶かした含窒素５員複素環化合物は、ウェットエッチングプロセスの有機被膜とし、係るエッチング剤の溶剤における含有量は５ｇ／Ｌ〜２５０ｇＬ／であり、かつ溶剤における含窒素５員複素環化合物の含有量は０．０１ｇ／Ｌ〜５０ｇ／Ｌである。
【０００９】
前述エッチング液において、含窒素５員複素環化合物は例えば、以下の化学式１または化学式２に示される化学構造であっても良い。そのうち、Ｒ１は第１化学基であり、係る第１化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸または水素いずれかのグループから選択される。
【００１０】
【化１】
2015161015.tif 000002
【００１１】
【化２】
2015161015.tif 000003
【００１２】
さらに、一つまたは２つの第２有機化学基または水素を化学式２に増加し、含窒素５員複素環化合物が正イオンに形成され、含窒素５員複素環化合物が少なくとも一つの負イオンを帯びることによって、化学式の荷電平衡を達成させる。
そのうち、一つの第２有機化学基または水素を増加した含窒素５員複素環化合物は、以下の化学式３または化学式４に示し、２つの第２有機化学基または水素が増加された含窒素５員複素環化合物は以下の化学式５に示す。
【００１３】
【化３】
2015161015.tif 000004
【００１４】
【化４】
2015161015.tif 000005
【００１５】
【化５】
2015161015.tif 000006
【００１６】
そのうち、Ｒ２は第２有機化学基または水素であり、係る第２有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択され、マイナスイオンは、フッ化物イオン（Ｆ−）、塩素イオン（Ｃｌ−）、臭素イオン（Ｂｒ−）、ヨウ素イオン（Ｉ−）、四フッ化ホウ素イオン（ＢＦ４−）、硫酸イオン（ＳＯ４２−）、硫酸水素イオン塩イオン（ＨＳＯ４−）いずれかのグループから選択される。
【００１７】
そのほか、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液において、含窒素５員複素環化合物の化学構造は以下の化学式６または化学式７に示される。
そのうち、Ｒ１は第１有機化学基または水素であり、かつ係る第１有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択される。
【００１８】
【化６】
2015161015.tif 000007
【００１９】
【化７】
2015161015.tif 000008
【００２０】
さらに、一つか２つの第２有機化学基または水素が化学式７に増加し、含窒素５員複素環化合物が正イオンに形成され、含窒素５員複素環化合物が少なくとも一つの負イオンを帯びることによって、化学式の荷電平衡を達成させる。
そのうち、一つの第２有機化学基または水素が増加された含窒素５員複素環化合物は以下の化学式８または化学式９に示され、２つの第２有機化学基または水素が増加された含窒素５員複素環化合物は以下の化学式１０に示される。
【００２１】
【化８】
2015161015.tif 000009
【００２２】
【化９】
2015161015.tif 000010
【００２３】
【化１０】
2015161015.tif 000011
【００２４】
そのうち、Ｒ２は第２有機化学基または水素であり、係る第２有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択され、負イオンは、フッ化物イオン（Ｆ−）、塩素イオン（Ｃｌ−）、臭素イオン（Ｂｒ−）、ヨウ素イオン（Ｉ−）、四フッ化ホウ素イオン（ＢＦ４−）、硫酸イオン（ＳＯ４２−）、硫酸水素イオン塩イオン（ＨＳＯ４−）いずれかのグループから選択される。
【００２５】
そのほか、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液において、含窒素５員複素環化合物の化学構造は以下の化学式１１に示される。
そのうち、Ｒ１は第１有機化学基または水素であり、かつ係る第１有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択される。化学式１１に示す含窒素５員複素環化合物１，５−Ｒ１−テトラゾールである。
【００２６】
【化１１】
2015161015.tif 000012
【００２７】
さらに、一つ、２つまたは３つの第２有機化学基または水素を化学式１１に増加して、含窒素５員複素環化合物を正イオンになり、含窒素５員複素環化合物が少なくとも一つの負イオンを帯びることによって、化学式の電荷平衡を達成させる。
そのうち、一つの第２有機化学基または水素が増加された含窒素５員複素環化合物は以下の化学式１２、化学式１３または化学式１４に示される。
また、２つの第２有機化学基または水素が増加された含窒素５員複素環化合物は化学式１５、化学式１６または化学式１７に示される。さらに、３つの第２有機化学基または水素が増加された含窒素５員複素環化合物は、以下の化学式１８に示される。
【００２８】
【化１２】
2015161015.tif 000013
【００２９】
【化１３】
2015161015.tif 000014
【００３０】
【化１４】
2015161015.tif 000015
【００３１】
【化１５】
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【００３２】
【化１６】
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【００３３】
【化１７】
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【００３４】
【化１８】
2015161015.tif 000019
【００３５】
そのうち、Ｒ２は第２有機化学基または水素であり、係る第２有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択され、該当する負イオンは、フッ化物イオン（Ｆ−）、塩素イオン（Ｃｌ−）、臭素イオン（Ｂｒ−）、ヨウ素イオン（Ｉ−）、四フッ化ホウ素イオン（ＢＦ４−）、硫酸イオン（ＳＯ４２−）、硫酸水素イオン塩イオン（ＨＳＯ４−）いずれかのグループから選択される。
【発明の効果】
【００３６】
以上より、本発明は以下の技術特徴と長所を有することが分かる。
【００３７】
イ、本発明において、主に特定比例のエッチング液と含窒素５員複素環化合物とを水に溶かして、エッチング液を調合する。使用者がこのエッチング液を少なくとも一つの第１金属（例えば、金）と少なくとも一つの第２金属（例えば、銅）を含む基板にウェットエッチングしたときに、含窒素５員複素環化合物が高い還元電位を有する第１金属（すなわち、金）の上に有機被膜を形成することによって、第２金属がガルバノ効果（ｇａｌｖａｎｉｃ  ｅｆｆｅｃｔ）の影響により、過度なエッチング現象を引き起こすことを防げる。
【００３８】
ロ、前述イ、に加え、本発明において、含窒素５員複素環化合物と合わせてエッチング液に混合されるエッチング剤の種類及び化学構造は制限されない。たとえば、常用の塩化銅または過酸化水素−硫酸、過酸化水素−リン酸、塩化銅−塩酸、塩化鉄−塩酸、塩酸−硝酸、過硫酸ナトリウム、過硫酸塩複合材であっても良い。よって、本発明のエッチング液は調合するエッチング剤の形式に拘束されない点から、本発明のエッチング液は相当に広範囲に応用できることが証明されている。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】電気回路基盤に特定パターンの銅層を仕上げる生産プロセスの概略図である。
【図２】電気回路基盤に特定パターンの銅層を仕上げる生産プロセスの概略図である。
【図３】銅／金ハイブリッド電気回路基盤の上面図である。
【図４】銅層と金層を有する基板の上面図である。
【図５】銅層の立体図面の概略図である。
【図６】実験１による銅層の顕微鏡の画像である。
【図７】実験２による銅層の顕微鏡の画像である。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
本発明の有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液をより詳しく説明するため、図面と合わせて好ましい実施例を下記に詳しく説明する。
【実施例】
【００４１】
本発明の有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液は、少なくとも一つの第１金属と、少なくとも一つの第２金属とを含む基板のウェットエッチングプロセスに適用できる。
そのうち、第１金属の還元電位（Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ  Ｐｏｔｅｎｔｉａｌ）は第２金属の還元電位より高いため、第１金属は例えば金（Ａｕ）、プラチナ（Ｐｔ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、すず（Ｓｎ）、ニッケル（Ｎｉ）、アルミ（Ａｌ）であり、これに対して、第２金属は例えばアルミ（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）、すず（Ｓｎ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、プラチナ（Ｐｔ）、チタン（Ｔｉ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、クロム（Ｃｒ）である。基板は一般の電気回路基盤、シリコンウェハー、ガラス基板、ガリウムヒ素基板と酸化アルミ基板である。
【００４２】
引き続き、本発明の有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液を説明する。エッチング液は主に、溶剤と、エッチング剤と、含窒素５員複素環化合物と、を含む。そのうち、溶剤は水であり、エッチング剤を溶剤に溶かしてエッチング液を形成する。
本発明において、エッチング剤のタイプは特に制限されない。よって、エッチング剤は例えば、過酸化水素−硫酸（Ｈ２Ｏ２−Ｈ２ＳＯ４）、過酸化水素−リン酸（Ｈ２Ｏ２−Ｈ３ＰＯ４）、塩化銅−塩酸（ＣｕＣｌ２−ＨＣｌ）、塩化鉄−塩酸（ＦｅＣｌ２−ＨＣｌ）、塩酸−硝酸（ＨＣｌ−ＨＮＯ３）、過硫酸ナトリウム（Ｎａ２Ｓ２Ｏ８）または過硫酸塩複合物（ＫＨＳＯ５ｏＫＨＳＯ４ｏＫ２ＳＯ４など）であっても良い。
【００４３】
本発明において、特に含窒素５員複素環化合物（ｎｉｔｒｏｇｅｎ  ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ  ｆｉｖｅ−ｍｅｍｂｅｒ  ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）をエッチング剤に溶かして、ウェットエッチング工程の金属皮膜（特に、高い還元電位を有する第１金属の有機被膜）に用いる。
さらに、含有量（濃度）において、前述エッチング剤の溶剤（すなわち、水）における含有量は５ｇ／Ｌ〜２５０ｇ／Ｌであり、含窒素５員複素環化合物の溶剤における含有量は０．０１ｇ／Ｌ〜５０ｇ／Ｌである。
ここで強調することは、本発明の有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液において、含窒素５員複素環化合物は例えば、三塩化５員複素環化合物（すなわち、トリアゾール化合物）であり、かつ基礎化学構造は以下の化学式１または化学式２に示される点である。
[化学式１]
2015161015.tif 000020
[化学式２]
2015161015.tif 000021
【００４４】
化学式１と化学式２において、Ｒ１は第１有機化学基または水素、かつ第１有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択される。
さらに、化学式２に示される含窒素５員複素環化合物は一つの１，３，５−Ｒ１−１，２，４−トリアゾールである。
【００４５】
本発明において、さらに、一つまたは２つの第２有機化学基または水素を１，３，５−Ｒ１−１，２，４−トリアゾールに追加し、含窒素５員複素環化合物を正イオンに形成して、含窒素５員複素環化合物に少なくとも一つの負イオンを帯びることによって、化学式の荷電平衡を達成させる。
そのうち、一つの第２有機化学基または水素が増加された含窒素５員複素環化合物は以下の化学式３または化学式４に示され、２つの第２有機化学基または水素が増加された含窒素５員複素環化合物は以下の化学式５に示される。
[化学式３]
2015161015.tif 000022
[化学式４]
2015161015.tif 000023
[化学式５]
2015161015.tif 000024
【００４６】
そのうち、前述化学式３〜化学式５において、Ｒ２は第２有機化学基または水素であり、係る第２有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択され、負イオンは、フッ化物イオン（Ｆ−）、塩素イオン（Ｃｌ−）、臭素イオン（Ｂｒ−）、ヨウ素イオン（Ｉ−）、四フッ化ホウ素イオン（ＢＦ４−）、硫酸イオン（ＳＯ４２−）、硫酸水素イオン塩イオン（ＨＳＯ４−）いずれかのグループから選択される。
【００４７】
そのほか、本発明の有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液のうち、トリアゾール５員複素環化合物化合物（すなわち、トリアゾール化合物）の化学構造は、同じく以下の化学式６または化学式７に示される。
[化学式６]
2015161015.tif 000025
[化学式７]
2015161015.tif 000026
【００４８】
化学式６と化学式７において、Ｒ１は第１有機化学基または水素、かつ第１有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択され、化学式７に示される含窒素５員複素環化合物は一つ１，４，５−Ｒ１−１，２，３−トリアゾールである。
【００４９】
さらに、本発明において、一つまたは２つの第２有機化学基または水素を１，４，５−Ｒ１−１，２，３−トリアゾールに増加し、含窒素５員複素環化合物を正イオンに形成して、含窒素５員複素環化合物に少なくとも一つの負イオンを帯びることによって、化学式の荷電平衡を達成させる。そのうち、一つの第２有機化学基または水素が増加された含窒素５員複素環化合物は以下の化学式８または化学式９に示され、２つの第２有機化学基または水素が増加された含窒素５員複素環化合物は以下の化学式１０に示される。
[化学式８]
2015161015.tif 000027
[化学式９]
2015161015.tif 000028
[化学式１０]
2015161015.tif 000029
【００５０】
そのうち、前述化学式８〜１０において、Ｒ２は第２有機化学基または水素であり、係る第２有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択され、負イオンは、フッ化物イオン（Ｆ−）、塩素イオン（Ｃｌ−）、臭素イオン（Ｂｒ−）、ヨウ素イオン（Ｉ−）、四フッ化ホウ素イオン（ＢＦ４−）、硫酸イオン（ＳＯ４２−）、硫酸水素イオン塩イオン（ＨＳＯ４−）いずれかのグループから選択される。
【００５１】
このほか、特に説明すべきことは、前述の化学式１〜１０に示す化学構造はすべて三塩化５員複素環化合物であるとしても、本発明のエッチング液の含窒素５員複素環化合物の構造が制限されない点である。実際の応用において、係る含窒素５員複素環化合物はたとえば、四塩化５員複素環化合物（すなわち、テトラゾール化合物）であっても良く、化学構造は以下の化学式１１に示される。
化学式１１において、Ｒ１は有機化学基または水素であり、かつ係る有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択される。さらに、化学式１１に示す含窒素５員複素環化合物は、１，５−Ｒ１−テトラゾールである。
[化学式１１]
2015161015.tif 000030
【００５２】
さらに、一つ、２つまたは３つの第２有機化学基または水素が１，５−Ｒ１−テトラゾールに増加され、含窒素５員複素環化合物が正イオンに形成させると共に、少なくとも一つの負イオンを帯びることによって、化学式の電荷平衡を達成させる。
そのうち、一つの有機化学基または水素が増加された含窒素５員複素環化合物は以下の化学式１２、化学式１３または化学式１４に示される。さらに３つの第２有機化学基または水素が増加された含窒素５員複素環化合物は、以下の化学式１８に示される。
[化学式１２]
2015161015.tif 000031
[化学式１３]
2015161015.tif 000032
[化学式１４]
2015161015.tif 000033
[化学式１５]
2015161015.tif 000034
[化学式１６]
2015161015.tif 000035
[化学式１７]
2015161015.tif 000036
[化学式１８]
2015161015.tif 000037
【００５３】
そのうち、前述の化学式１２〜１８において、Ｒ２は第２有機化学基または水素であり、係る第２有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択され、負イオンは、フッ化物イオン（Ｆ−）、塩素イオン（Ｃｌ−）、臭素イオン（Ｂｒ−）、ヨウ素イオン（Ｉ−）、四フッ化ホウ素イオン（ＢＦ４−）、硫酸イオン（ＳＯ４２−）、硫酸水素イオン塩イオン（ＨＳＯ４−）いずれかのグループから選択される。
【００５４】
前述のとおり、本発明の有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液の組成と化学構造を詳しく開示した。引き続き、各実験の数値をもって、本発明の有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液の実行可能性を証明する。
図４の、銅層と金層を有する基板の上面図を参照する。図４（ａ）に示すように、実験組と対象組が含まれている。図において、基板１０は互いに接続された金層１１と銅層１２とを有しており、そのうち、金層１１と銅層１２の面積の比例は１０００：１である。
引き続き図５の、銅層の立体図面の概略図を参照する。基板１０上の銅層１２の直径と高さはそれぞれ４０μｍと２０μｍである。
【００５５】
さらに、図４（ｂ）に示すように、実験組と対象組とが含まれている。図において、基板１０は互いに接続された金層１１と銅層１２とを有する。そのうち、金層１１と銅層１２の面積の比は５００：１である。このほか、図４（ｃ）に示すように、実験組と対象組とが含まれている。
図において、基板１０は互いに接続された金層１１と銅層１２とを有する。そのうち、金層１１と銅層１２の面積の比は２５０：１である。
さらに、図４（ｄ）に示すように、実験組と対象組とが含まれている。図において、基板１０は互いに接続された金層１１と銅層１２とを有する。そのうち、金層１１と銅層１２の面積の比は１００：１である。
【００５６】
＜実験１＞
実験１において、硫酸１０％  ＋  過酸化水素水溶液３％を水に溶かせて、第１対照用エッチング液を調合した上、引き続き、硫酸１０％  ＋  過酸化水素水溶液３％と５ｇ／Ｌの１，５−ジフェニルテトラゾール（すなわち、四塩化５員複素環化合物）を水に溶かして、第１実験組のエッチング液を調合する。そのうち、１，５−ジフェニルテトラゾールの化学構造は以下の化学式１９に示される。  
[化学式１９]
2015161015.tif 000038
【００５７】
引き続き図６の、実験１による銅層の顕微鏡の画像を参照する。そのうち、図６（ａ１）と図６（ｂ１）は対照組と実験組による銅層１０のウェットエッチング前の顕微鏡の画像である。さらに、前述の方法で調合された第１対照組と第１実験組のエッチング液でそれぞれ図４（ａ）に示された対象組と実験組のウェットエッチングを実施し、それぞれ３０秒と６０秒のウェットエッチングを実施した結果を、図６（ａ２）と図６（ａ３）に示す。これによると、対照組の銅層１０は明らかにガルバノ効果（ｇａｌｖａｎｉｃ  ｅｆｆｅｃｔ）の影響を受けていて、過度なエッチング現象が発生し、銅の表面の殆どがエッチングされていることがわかる。
これに対して、実験組の銅層１０を観察した結果、図６（ｂ２）と、図６（ｂ３）と、図６（ｂ４）に示すように、それぞれ３０秒と９０秒と１５０秒のウェットエッチングを実施した後もなお銅の表面が完全に維持されている。従って、この結果は、ガルバノ効果が有効に抑制されたため、実験組の銅層１０の過度なエッチング現象が軽減されていることを表す。
【００５８】
＜実験２＞
実験２において、硫酸１０％  ＋  過酸化水素水溶液３％を水に溶かして、第２対照用エッチング液を調合した上、引き続き、硫酸１０％  ＋  過酸化水素水溶液３％と７ｇ／Ｌの１−フェニル−１，２，４−トリアゾール（すなわち、三塩化５員複素環化合物）を水に溶かして、第２実験組のエッチング液を調合する。
そのうち、１−フェニル−１，２，４−トリアゾールの化学構造は以下の化学式２０に示される。
[化学式２０]
2015161015.tif 000039
【００５９】
引き続き図７の、実験２による銅層の顕微鏡の画像を参照する。そのうち、図７（ａ１）と図７（ｂ１）は対照組と実験組による銅層１２のウェットエッチング前の顕微鏡の画像である。さらに、前述の方法で調合された第２対照組と第２実験組のエッチング液でそれぞれ図４（ａ）に示された対象組と実験組のウェットエッチングを実施し、それぞれ３０秒と６０秒のウェットエッチングを実施した結果は、図７（ａ２）と図７（ａ３）に示すように、対照組の銅層１０が明らかにガルバノ効果（ｇａｌｖａｎｉｃ  ｅｆｆｅｃｔ）の影響を受けていて、過度なエッチング現象が発生し、銅の表面の殆どがエッチングされていることがわかる。
これに対して、実験組の銅層１０を観察したところ、図７（ｂ２）と、図７（ｂ３）と、図７（ｂ４）に示すように、それぞれ３０秒と９０秒と１５０秒のウェットエッチングを実施した後もなお銅表面が完全に維持されている。この結果は、ガルバノ効果が有効に抑制されたため、実験組の銅層１０の過度なエッチング現象が軽減されていることを表す。
【００６０】
以上、本発明の有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液の組成と化学構造を詳しく説明した上、実験によってエッチング液の実行可能性と効果も検証した。上記で述べたように、本発明が下記のような技術特徴と優れた点を有することが分かる。
【００６１】
前記した詳細な説明は、本発明の好ましい実施例について説明したものである。ただし、該実施例は本発明になんらの制限を加わるものではない。本発明の技術精神に基づく効果の応用又は変更は、すべて本発明の特許請求の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００６２】
１０      基板
１１      金層
１２      銅層
１０’    基板
１１’    銅層
１２’    エッチング防止層
１０’’  基板
１１’’  銅リード線
１２’’  金リード線
【図１】
2015161015.tif 000058
【図２】
2015161015.tif 000059
【図３】
2015161015.tif 000060
【図４】
2015161015.tif 000061
【図５】
2015161015.tif 000062
【図６】
2015161015.tif 000063
【図７】
2015161015.tif 000064
【手続補正書】
【提出日】平成27年2月17日(2015.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１金属と第２金属とを含む基板のウェットエッチング工程に適用する、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液であって、
前記エッチング液は、
溶剤に溶かされて、前記エッチング液を形成するエッチング剤と、
含窒素５員複素環化合物（ｎｉｔｒｏｇｅｎ  ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ  ｆｉｖｅ−ｍｅｍｂｅｒ  ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）と、を備え、
前記エッチング剤の前記溶剤における含有量は５ｇ／Ｌ〜２５０ｇ／Ｌであり、前記含窒素５員複素環化合物の前記溶剤における含有量は０．０１ｇ／Ｌ〜５０ｇ／Ｌであり、
前記含窒素５員複素環化合物を前記エッチング剤に溶かして、ウェットエッチング工程の金属皮膜を形成し、
前記含窒素５員複素環化合物は１，４，５−Ｒ１−１，２，３−トリアゾールであり、前記含窒素５員複素環化合物の化学構造は以下の化学式１に示され、
【化１】
2015161015.tif 000065
前記１，４，５−Ｒ１−１，２，３−トリアゾールには一つまたは２つの第２有機化学基または水素が増加され、前記含窒素５員複素環化合物が正イオンに形成され、前記含窒素５員複素環化合物に少なくとも一つの負イオンを帯びることによって、化学式の荷電平衡を達成させ、そのうち、一つの第２有機化学基または水素が増加された前記含窒素５員複素環化合物は以下の化学式２または化学式３に示され、さらに、２つの有機化学基または水素が増加された含窒素５員複素環化合物は以下の化学式４に示され、
【化２】
2015161015.tif 000066
【化３】
2015161015.tif 000067
【化４】
2015161015.tif 000068
そのうち、Ｒ１は第１有機化学基または水素であり、前記第１有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択され、
Ｒ２は第２有機化学基または水素であり、前記第２有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択され、負イオンは、フッ化物イオン（Ｆ−）、塩素イオン（Ｃｌ−）、臭素イオン（Ｂｒ−）、ヨウ素イオン（Ｉ−）、四フッ化ホウ素イオン（ＢＦ４−）、硫酸イオン（ＳＯ４２−）、硫酸水素イオン塩イオン（ＨＳＯ４−）いずれかのグループから選択されることを特徴とする、
有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項２】
前記溶剤は水であることを特徴とする、請求項１に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項３】
前記エッチング剤は過酸化水素−硫酸（Ｈ２Ｏ２−Ｈ２ＳＯ４）、過酸化水素−リン酸（Ｈ２Ｏ２−Ｈ３ＰＯ４）、塩化銅−塩酸（ＣｕＣｌ２−ＨＣｌ）、塩化鉄−塩酸（ＦｅＣｌ２−ＨＣｌ）、塩酸−硝酸（ＨＣｌ−ＨＮＯ３）、過硫酸ナトリウム（Ｎａ２Ｓ２Ｏ８）または過硫酸塩複合材（ＫＨＳＯ５ｏＫＨＳＯ４ｏＫ２ＳＯ４）のいずれかのグループから選択されることを特徴とする、請求項１に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項４】
前記第１金属の還元電位（Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ  Ｐｏｔｅｎｔｉａｌ）は、前記第２金属の還元電位より小さいことを特徴とする、請求項１に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項５】
前記第１金属は金（Ａｕ）、プラチナ（Ｐｔ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、すず（Ｓｎ）、ニッケル（Ｎｉ）、アルミ（Ａｌ）のいずれかのグループから選択されることを特徴とする、請求項４に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項６】
前記第２金属は金（Ａｕ）、アルミ（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）、すず（Ｓｎ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、プラチナ（Ｐｔ）、チタン（Ｔｉ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、クロム（Ｃｒ）のいずれかのグループから選択されることを特徴とする、請求項５に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項７】
前記基板は、プリント基板、シリコンウェハー、ガラス基板、ガリウムヒ素基板、酸化アルミ基板のいずれかのグループから選択されることを特徴とする、請求項１に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項８】
第１金属と第２金属とを含む基板のウェットエッチング工程に適用する、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液であって、
前記エッチング液は、
溶剤に溶かされて、前記エッチング液を形成するエッチング剤と、
含窒素５員複素環化合物（ｎｉｔｒｏｇｅｎ  ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ  ｆｉｖｅ−ｍｅｍｂｅｒ  ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）と、を備え、
前記エッチング剤の前記溶剤における含有量は５ｇ／Ｌ〜２５０ｇ／Ｌであり、前記含窒素５員複素環化合物の前記溶剤における含有量は０．０１ｇ／Ｌ〜５０ｇ／Ｌであり、
前記含窒素５員複素環化合物を前記エッチング剤に溶かして、ウェットエッチング工程の金属皮膜を形成し、
前記含窒素５員複素環化合物は１，４，５−Ｒ１−１，２，３−トリアゾールであり、前記含窒素５員複素環化合物の化学構造は以下の化学式５に示され、
【化５】
2015161015.tif 000069
１，４，５−Ｒ１−１，２，３−トリアゾールには一つ、２つまたは３つの第２有機化学基または水素が増加され、前記含窒素５員複素環化合物を正イオンに形成させると共に、前記含窒素５員複素環化合物を少なくとも一つの負イオンを帯びることによって、化学式の電荷平衡を達成させ、そのうち、一つの第２有機化学基または水素が増加された前記含窒素５員複素環化合物は以下の化学式６、化学式７または化学式８に示され、さらに２つの有機化学基または水素が増加された前記含窒素５員複素環化合物は化学式９、化学式１０または化学式１１に示され、さらに、３つの第２有機化学基または水素が増加された前記含窒素５員複素環化合物は、以下の化学式１２に示され、
【化６】
2015161015.tif 000070
【化７】
2015161015.tif 000071
【化８】
2015161015.tif 000072
【化９】
2015161015.tif 000073
【化１０】
2015161015.tif 000074
【化１１】
2015161015.tif 000075
【化１２】
2015161015.tif 000076
そのうち、Ｒ１は第１有機化学基または水素であり、前記第１有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択され、
Ｒ２は第２有機化学基または水素であり、前記第２有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択され、マイナスイオンは、フッ化物イオン（Ｆ−）、塩素イオン（Ｃｌ−）、臭素イオン（Ｂｒ−）、ヨウ素イオン（Ｉ−）、四フッ化ホウ素イオン（ＢＦ４−）、硫酸イオン（ＳＯ４２−）、硫酸水素イオン塩イオン（ＨＳＯ４−）いずれかのグループから選択されることを特徴とする、
有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項９】
前記第１金属の還元電位（Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ  Ｐｏｔｅｎｔｉａｌ）は、前記第２金属の還元電位より小さいことを特徴とする、請求項８に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項１０】
前記第１金属は金（Ａｕ）、プラチナ（Ｐｔ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、すず（Ｓｎ）、ニッケル（Ｎｉ）、アルミ（Ａｌ）のいずれかのグループから選択されることを特徴とする、請求項９に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項１１】
前記第２金属は金（Ａｕ）、アルミ（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）、すず（Ｓｎ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、プラチナ（Ｐｔ）、チタン（Ｔｉ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、クロム（Ｃｒ）のいずれかのグループから選択されることを特徴とする、請求項１０に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項１２】
前記基板は、プリント基板、シリコンウェハー、ガラス基板、ガリウムヒ素基板、酸化アルミ基板のいずれかのグループから選択されることを特徴とする、請求項８に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月18日(2015.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１金属と第２金属とを含む基板のウェットエッチング工程に適用する、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液であって、前記第１金属の還元電位（Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ  Ｐｏｔｅｎｔｉａｌ）は、前記第２金属の還元電位より小さく、
前記エッチング液は、
溶剤に溶かされて、前記エッチング液を形成するエッチング剤と、
含窒素５員複素環化合物（ｎｉｔｒｏｇｅｎ  ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ  ｆｉｖｅ−ｍｅｍｂｅｒ  ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）と、を備え、
前記エッチング剤の前記溶剤における含有量は５ｇ／Ｌ〜２５０ｇ／Ｌであり、前記含窒素５員複素環化合物の前記溶剤における含有量は０．０１ｇ／Ｌ〜５０ｇ／Ｌであり、
前記含窒素５員複素環化合物を前記エッチング剤に溶かして、ウェットエッチング工程の有機皮膜を形成し、
前記含窒素５員複素環化合物は１，４，５−Ｒ１−１，２，３−トリアゾールであり、前記含窒素５員複素環化合物の化学構造は以下の化学式１に示され、
【化１】
2015161015.tif 000077
前記１，４，５−Ｒ１−１，２，３−トリアゾールには一つまたは２つの第２有機化学基または水素が増加され、前記含窒素５員複素環化合物が正イオンに形成され、前記含窒素５員複素環化合物に少なくとも一つの負イオンを帯びることによって、化学式の荷電平衡を達成させ、そのうち、一つの第２有機化学基または水素が増加された前記含窒素５員複素環化合物は以下の化学式２または化学式３に示され、さらに、２つの有機化学基または水素が増加された含窒素５員複素環化合物は以下の化学式４に示され、
【化２】
2015161015.tif 000078
【化３】
2015161015.tif 000079
【化４】
2015161015.tif 000080
そのうち、Ｒ１は第１有機化学基または水素であり、前記第１有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択され、
Ｒ２は第２有機化学基または水素であり、前記第２有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択され、負イオンは、フッ化物イオン（Ｆ−）、塩素イオン（Ｃｌ−）、臭素イオン（Ｂｒ−）、ヨウ素イオン（Ｉ−）、四フッ化ホウ素イオン（ＢＦ４−）、硫酸イオン（ＳＯ４２−）、硫酸水素イオン塩イオン（ＨＳＯ４−）いずれかのグループから選択されることを特徴とする、
有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項２】
前記溶剤は水であることを特徴とする、請求項１に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項３】
前記エッチング剤は過酸化水素−硫酸（Ｈ２Ｏ２−Ｈ２ＳＯ４）、過酸化水素−リン酸（Ｈ２Ｏ２−Ｈ３ＰＯ４）、塩化銅−塩酸（ＣｕＣｌ２−ＨＣｌ）、塩化鉄−塩酸（ＦｅＣｌ２−ＨＣｌ）、塩酸−硝酸（ＨＣｌ−ＨＮＯ３）、過硫酸ナトリウム（Ｎａ２Ｓ２Ｏ８）または過硫酸塩複合材のいずれかのグループから選択されることを特徴とする、請求項１に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項４】
前記第１金属は金（Ａｕ）、プラチナ（Ｐｔ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、すず（Ｓｎ）、ニッケル（Ｎｉ）、アルミ（Ａｌ）のいずれかのグループから選択されることを特徴とする、請求項１に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項５】
前記第２金属は金（Ａｕ）、アルミ（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）、すず（Ｓｎ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、プラチナ（Ｐｔ）、チタン（Ｔｉ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、クロム（Ｃｒ）のいずれかのグループから選択されることを特徴とする、請求項４に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項６】
前記基板は、プリント基板、シリコンウェハー、ガラス基板、ガリウムヒ素基板、酸化アルミ基板のいずれかのグループから選択されることを特徴とする、請求項１に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項７】
第１金属と第２金属とを含む基板のウェットエッチング工程に適用する、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液であって、前記第１金属の還元電位（Ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ  Ｐｏｔｅｎｔｉａｌ）は、前記第２金属の還元電位より小さく、
前記エッチング液は、
溶剤に溶かされて、前記エッチング液を形成するエッチング剤と、
含窒素５員複素環化合物（ｎｉｔｒｏｇｅｎ  ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ  ｆｉｖｅ−ｍｅｍｂｅｒ  ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）と、を備え、
前記エッチング剤の前記溶剤における含有量は５ｇ／Ｌ〜２５０ｇ／Ｌであり、前記含窒素５員複素環化合物の前記溶剤における含有量は０．０１ｇ／Ｌ〜５０ｇ／Ｌであり、
前記含窒素５員複素環化合物を前記エッチング剤に溶かして、ウェットエッチング工程の有機皮膜を形成し、
前記含窒素５員複素環化合物は１，４，５−Ｒ１−１，２，３−トリアゾールであり、前記含窒素５員複素環化合物の化学構造は以下の化学式５に示され、
【化５】
2015161015.tif 000081
１，４，５−Ｒ１−１，２，３−トリアゾールには一つ、２つまたは３つの第２有機化学基または水素が増加され、前記含窒素５員複素環化合物を正イオンに形成させると共に、前記含窒素５員複素環化合物を少なくとも一つの負イオンを帯びることによって、化学式の電荷平衡を達成させ、そのうち、一つの第２有機化学基または水素が増加された前記含窒素５員複素環化合物は以下の化学式６、化学式７または化学式８に示され、さらに２つの有機化学基または水素が増加された前記含窒素５員複素環化合物は化学式９、化学式１０または化学式１１に示され、さらに、３つの第２有機化学基または水素が増加された前記含窒素５員複素環化合物は、以下の化学式１２に示され、
【化６】
2015161015.tif 000082
【化７】
2015161015.tif 000083
【化８】
2015161015.tif 000084
【化９】
2015161015.tif 000085
【化１０】
2015161015.tif 000086
【化１１】
2015161015.tif 000087
【化１２】
2015161015.tif 000088
そのうち、Ｒ１は第１有機化学基または水素であり、前記第１有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択され、
Ｒ２は第２有機化学基または水素であり、前記第２有機化学基はエーテル、アルコール、酸、アルキル、アルキン、アルケン、ベンゼン、フェノール、安息香酸いずれかのグループから選択され、マイナスイオンは、フッ化物イオン（Ｆ−）、塩素イオン（Ｃｌ−）、臭素イオン（Ｂｒ−）、ヨウ素イオン（Ｉ−）、四フッ化ホウ素イオン（ＢＦ４−）、硫酸イオン（ＳＯ４２−）、硫酸水素イオン塩イオン（ＨＳＯ４−）いずれかのグループから選択されることを特徴とする、
有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項８】
前記第１金属は金（Ａｕ）、プラチナ（Ｐｔ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、すず（Ｓｎ）、ニッケル（Ｎｉ）、アルミ（Ａｌ）のいずれかのグループから選択されることを特徴とする、請求項７に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項９】
前記第２金属は金（Ａｕ）、アルミ（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）、すず（Ｓｎ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、プラチナ（Ｐｔ）、チタン（Ｔｉ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、クロム（Ｃｒ）のいずれかのグループから選択されることを特徴とする、請求項８に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。
【請求項１０】
前記基板は、プリント基板、シリコンウェハー、ガラス基板、ガリウムヒ素基板、酸化アルミ基板のいずれかのグループから選択されることを特徴とする、請求項７に記載された、有効にガルバノ効果を軽減できるエッチング液。