(57)【要約】【課題】微細化されたメッシュ構造体を提供する。【解決手段】メッシュシート１０は、微小突起３２によって形成された凹凸面３１を有する凹凸構造層３０と、凹凸面３１上のうちの微小突起３２間となる谷底部３４上に設けられた導電体２５を含むメッシュ構造体２０と、を含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
微小突起によって形成された凹凸面を有する凹凸構造層と、
前記凹凸面上のうちの前記微小突起間となる谷底部上に設けられた導電体を含むメッシュ構造体と、を備える、メッシュシート。
【請求項２】
前記メッシュ構造体の前記導電体の線幅の平均が５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、
隣り合う微小突起の間隔の平均が１０００ｎｍ以下である、請求項１に記載のメッシュシート。
【請求項３】
前記微小突起は、可視光線帯域の最短波長以下となる間隔で設けられている、請求項１または２に記載のメッシュシート。
【請求項４】
前記導電体は、前記凹凸面の前記谷底部以外の部分上にも設けられている、請求項１〜３のいずれか一項に記載のメッシュシート。
【請求項５】
開口領域を画成する導電体を備え、
前記導電体の線幅の平均が５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、
隣り合う開口領域の間隔の平均が１０００ｎｍ以下である、メッシュ構造体。
【請求項６】
ある仮想面上に位置し且つ開口領域を画成する導電体本体部と、
前記導電体本体部から延び出した導電体延出部と、を備え、
前記導電体延出部は、前記導電体本体部のうちの当該導電体延出部と接続された部分が画成する開口領域に対して、前記仮想面への法線方向に、対面する位置を延びている、メッシュ構造体。
【請求項７】
前記導電体本体部の線幅の平均が５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、
隣り合う開口領域の間隔の平均が１０００ｎｍ以下である、請求項６に記載のメッシュ構造体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、編み目状に形成されたメッシュ構造体、及び、メッシュ構造体を含むメッシュシートに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、編み目状に形成され開口領域を画成するメッシュ構造体が、種々の広い分野において使用されてきた。
【０００３】
広く知られた例として、可視光透過性を有する導電性のメッシュ構造体が、特許文献１及び２に開示された電磁波遮蔽材（電磁波遮蔽シート）やタッチパネルセンサをなす透明な導電性部材として用いられている。このようなメッシュ構造体は、それ自体不透明な金属材料を用いて形成されている一方で、多くの用途、例えば表示装置上に配置されて用いられる電磁波遮蔽材（電磁波遮蔽シート）やタッチパネルセンサとしての用途等において、十分に不可視化されていることが要望される。とりわけメッシュ構造体のパターンが視認されるようになると、単に透過率が低下してしまうだけでなく、例えば他の部材と重ね合わせられた際に濃淡むら、ちらつき、モアレといった不具合を引き起こしてしまう。したがって、このメッシュ構造体は、不可視化され得る程度にまで微細化されていることが好ましい。
【０００４】
メッシュ構造体の他の例として、触媒担体が例示される。例えば特許文献３には、燃料電池の水素改質器用の触媒担体として、メッシュ構造体が使用されている例が開示されている。このようなメッシュ構造体においても、メッシュ構造体の微細化が要求されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平１１−１２１９７４号公報
【特許文献２】ＷＯ２００７／１１４０７６号公報
【特許文献３】特表２００８−５２３５６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
一方、本件発明者らは、鋭意研究を重ねた結果として、微小突起によって形成された凹凸面を有する凹凸構造層を用いることにより、微細化されたメッシュ構造体を作製することが可能であることを知見した。本発明は、このような知見に基づくものであり、すなわち、微細化されたメッシュ構造体、並びに、微細化されたメッシュ構造体と凹凸構造層とを含むメッシュシートを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明によるメッシュシートは、
微小突起によって形成された凹凸面を有する凹凸構造層と、
前記凹凸面上のうちの前記微小突起間となる谷底部上に設けられた導電体を含むメッシュ構造体と、を備える。
【０００８】
本発明によるメッシュシートにおいて、
前記メッシュ構造体の前記導電体の線幅の平均が５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、
隣り合う微小突起の間隔の平均が１０００ｎｍ以下であるようにしてもよい。
【０００９】
本発明によるメッシュシートにおいて、前記微小突起は、可視光線帯域の最短波長以下となる間隔で設けられていてもよい。
【００１０】
本発明によるメッシュシートにおいて、前記導電体は、前記凹凸面の前記谷底部以外の部分上にも設けられていてもよい。
【００１１】
本発明による第１のメッシュ構造体は、
開口領域を画成する導電体を備え、
前記導電体の線幅の平均が５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、
隣り合う開口領域の間隔の平均が１０００ｎｍ以下である。
【００１２】
本発明による第２のメッシュ構造体は、
ある仮想面上に位置し且つ開口領域を画成する導電体本体部と、
前記導電体本体部から延び出した導電体延出部と、を備え、
前記導電体延出部は、前記導電体本体部のうちの当該導電体延出部と接続された部分が画成する開口領域に対して、前記仮想面への法線方向に、対面する位置を延びている。
【００１３】
本発明による第２のメッシュ構造体において、
前記導電体本体部の線幅の平均が５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、
隣り合う開口領域の間隔の平均が１０００ｎｍ以下であってもよい。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、メッシュ構造体を十分に微細化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】図１は、本発明の一実施の形態を説明するための図であって、メッシュ構造体のパターンの一例を示す平面図である。
【図２】図２は、メッシュ構造体を有するメッシュシートの法線方向に沿った断面図である。
【図３】図３は、図２のメッシュシートの凹凸構造層を示す斜視図である。
【図４】図４は、凹凸構造層の凹凸面の一例を示す平面写真である。
【図５】図５は、メッシュ構造体の作製方法を説明するため模式図である。
【図６】図６は、メッシュ構造体の作製方法を説明するため平面写真である。
【図７】図７は、メッシュ構造体の作製方法を説明するため断面写真である。
【図８】図８は、メッシュ構造体の反射率を示すグラフである。
【図９】図９は、メッシュシートからなる電磁波遮蔽シートを含む表示装置を示す図である。
【図１０】図１０は、メッシュシートからなるタッチパネルセンサを含むタッチパネル装置を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する写真以外の図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
【００１７】
なお、本明細書において、「シート」、「板」、「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「シート」は板やフィルムと呼ばれ得るような部材も含む概念であり、したがって、「メッシュシート」は、「メッシュ板」や「メッシュフィルム」と呼ばれる部材と呼称の違いのみにおいて区別され得ない。
【００１８】
また、シート「面（板面、フィルム面）」とは、対象となるシート状（板状、フィルム状）の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となるシート状部材（板状部材、フィルム状部材）の平面方向と一致する面のことを指す。本実施の形態においては、メッシュシートのシート面、後述するメッシュシートの凹凸構造層のシート面、および、後述するメッシュシートの透明基材のシート面は、互いに平行となっている。
【００１９】
さらに、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。
【００２０】
＜＜メッシュシート及びメッシュ構造体＞＞
図１に示すように、メッシュ構造体２０は、多数の開口領域２１を画成するメッシュ状の部材である。図１及び図２に示すように、メッシュ構造体２０は、開口領域２１を画成する導電体２５、例えば、金属から構成されている。この導電体２５は、曲線状または直線状に延びる導電体本体部２６を含んでいる。なお、導電体本体部２６は、すべての部分において必ずしもいずれかの開口領域２１の周縁を画成している必要はなく、端部が開口領域２１内に位置する断線部分を含んでいてもよい。
【００２１】
ここで説明するメッシュ構造体２０は、後述する凹凸構造層３０を用いて形成さている。凹凸構造層３０は、図３に示すように、例えばナノオーダーの間隔ｄ１で設けられた、微小突起３２によって形成された凹凸面３１を有している。ここで、微小突起３２の「微小」とは、メッシュ構造体２０を従来のメッシュ構造体と比較して十分に微細化することができる程度に微細であることを意味しており、ナノオーダーの間隔で設けられた突起は十分に微小突起に含まれる。メッシュ構造体２０は、この凹凸面３１を利用して、凹凸面３１上に形成されている。具体的には、図２に示すように、導電体２５の導電体本体部２６は、凹凸面３１上のうちの微小突起３２となる谷底部３４上に設けられている。そして、ここで説明するメッシュ構造体２０は、従来品と比較して大幅に微細化され、種々の用途において有用に機能する。
【００２２】
とりわけ、ここで説明するメッシュ構造体２０では、導電体２５の導電体本体部２６の線幅ｗ２の平均を５ｎｍ以上５００ｎｍ以下とし、且つ、隣り合う開口領域２１の間隔ｄ２の平均を５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下とすることができる。導電体２５の導電体本体部２６の線幅ｗ２の平均が５ｎｍ以上５００ｎｍ以下となり且つ隣り合う開口領域２１の間隔ｄ２の平均が１０００ｎｍ以下となっているメッシュ構造体２０によれば、一般に、人間の目でメッシュ構造体２０を解像することができなくなる。
【００２３】
ところで、導電体２５の線幅ｗ２や隣り合う二つの開口領域２１の間隔ｄ２等のメッシュ構造体２０の各寸法や形状、並びに、後述する凹凸構造層３０の各寸法や形状は、原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope;AFM）又は走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope:SEM）を用いて、特定することができる。また、メッシュ構造体２０の各寸法や形状、並びに、後述する凹凸構造層３０の各寸法は、対象となるメッシュ構造体２０や凹凸構造層３０の全領域を調べてその平均値を算出して特定する必要はなく、実際的には、調査すべき対象（導電体２５の線幅ｗ２や隣り合う二つの開口領域２１の間隔ｄ２等）の全体的な傾向を反映し得ると期待される面積を持つ一区画内において、調査すべき対象のばらつきの程度を考慮して適当と考えられる数を調べてその平均値を算出することによって特定することができる。このようにして特定された値を、それぞれ、導電体２５の線幅の平均値や、隣り合う二つの開口領域２１の間隔の平均値として取り扱うことができる。例えば、直前で説明した値を目標として後述する製造方法により製造されるメッシュ構造体２０においては、３０ｍｍ×３０ｍｍの領域内に含まれる３０箇所を顕微鏡により測定して平均を算出することにより、導電体２５の線幅や開口領域２１の大きさ等を特定することができる。
【００２４】
なお、一般的なメッシュ構造体は、例えば、蒸着法、スパッタリング法、箔の転写、塗工法等により、金属膜を透明基材上に形成し、この金属膜を所望のフォトレジストパターンをマスクにエッチングする方法、導電性感光剤（たとえばハロゲン化銀粒子を拡散させた乳剤など）を所望のパターンに露光・現像する方法、あるいは、導電性インキ（例えば、導電性金属粒子を分散させた導電性インキ）を透明基材上に所望のパターンで印刷する方法等の方法によって、透明基材上に形成することができる。ただし、導電体２５の導電体本体部２６の線幅ｗ２の平均値や隣り合う二つの開口領域２１の間隔ｄ２の平均値が、上述した微細な範囲に設定されているメッシュ構造体２０は、これらの従来既知の方法では作製することが不可能である。
【００２５】
また、本件発明者らは、メッシュ構造体２０が、その微細構造に起因して単独で有用な作用効果を奏し得るだけでなく、凹凸構造層３０と組み合わされたままの状態にて当該凹凸構造層３０との有機的な関連により、優れた作用効果を奏し得ることを知見した。以下では、メッシュ構造体２０及び凹凸構造層３０を含むメッシュシート１０について説明することにより、メッシュシート１０の一部分をなすメッシュ構造体２０についても説明していく。
【００２６】
上述したように、メッシュシート１０は、微小突起３２によって形成された凹凸面３１を有する凹凸構造層３０と、凹凸面３１上のうちの微小突起３２間となる谷底部３４上に設けられた導電体２５を含むメッシュ構造体２０と、を有している。また、図２に示されたメッシュシート１０は、凹凸構造層３０と積層された透明基材１５と、をさらに有している。以下、透明基材１５、凹凸構造層３０及びメッシュ構造体２０についてこの順で説明していく。
【００２７】
＜透明基材１５＞
透明基材１５としては、既知の透明基材を適宜選択して用いることができ、特に限定されない。透明体１５に用いられる材料としては、例えば、透明樹脂や透明無機材料を例示することができる。透明樹脂としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクロニトリル、メタクリロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマ一等を挙げることができる。一方、透明無機材料としては、例えばソーダ硝子、カリ硝子、鉛ガラス等の硝子、ＰＬＺＴ等のセラミックス、石英、蛍石等を例示することができる。
【００２８】
メッシュ構造体２０及び凹凸構造層３０との組み合わせにおいて、後述するように、優れた透過性が、メッシュシート１０の一つの有用な特徴となり得る。この観点から、透明基材１５の可視光透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。
【００２９】
なお、本件明細書において、「透明」とは、可視光透過率が５０％以上あることを意味している。また、本明細書で言及する可視光透過率は、分光光度計（（株）島津製作所製「ＵＶ−３１００ＰＣ」、ＪＩＳＫ０１１５準拠品）を用いて測定波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内で測定したときの、各波長における透過率の平均値として特定される。
【００３０】
透明基材１５の厚みは、メッシュシート１０の用途に応じて適宜設定することができ、特に限定されないが、通常２０〜５０００μｍであり、透明基材１５は、ロールの形で供給されるもの、巻き取れるほどには曲がらないが負荷をかけることによって湾曲するもの、完全に曲がらないもののいずれであってもよい。
【００３１】
透明基材１５の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有していてもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。また、透明基材１５と凹凸構造層３０とが別の材料から形成される場合には、透明基材１５と金属薄膜３０との密着性を向上させ、ひいては耐摩耗性を向上させるためのプライマー層を透明基材１５上に形成してもよい。このプライマー層は、透明基材１５および凹凸構造層３０との双方に密着性を有し、透明であることが好ましい。プライマー層の材料としては、例えば、フッ素系コーティング剤及びシランカップリング剤等から適宜選択して使用することができる。フッ素系コーティング剤の市販品としては、例えば、フロロテクノロジー製のフロロサーフ  ＦＧ−５０１０Ｚ１３０等が挙げられ、前記シランカップリング剤の市販品としては、例えば、ハーベス製のデュラサーフプライマーＤＳ−ＰＣ−３Ｂ等が挙げられる。
【００３２】
＜凹凸構造層＞
次に、凹凸構造層３０について説明する。図３及び図４に示すように、凹凸構造層３０は、微小突起３２によって形成された凹凸面３１を有している。
【００３３】
凹凸構造層３０の凹凸面３１は、凹凸構造層３０のシート面に沿って間隔ｄ１で配置された微小突起３２によって形成されている。後述するように、凹凸構造層３０の凹凸面３１は、メッシュ構造体２０の形成に利用される。メッシュ構造体２０を微細化する観点からは、凹凸面３１をなす微小突起３２の間隔ｄ１は、微細化されていることが好ましい。さらに、本件発明者らが鋭意研究を重ねたところ、凹凸面３１をなす微小突起３２の間隔ｄ１が、可視光線帯域の最短波長以下の間隔ｄ１で配列された微小突起３２によって形成されている場合、凹凸構造層３０が、メッシュ構造体２０の機能に関連した有用な機能を発揮し得ることが知見された。すなわち、後述するように凹凸面３１上に形成されたメッシュ構造体２０を、凹凸構造層３０から取り出すことなく、凹凸構造層３０とともにメッシュシート１０として利用することにより、メッシュ構造体２０だけで利用するよりも有用な作用効果を奏し得る。この点から、以下の例においては、微小突起３２が、可視光線帯域の最短波長以下の間隔で配列されている例について説明する。
【００３４】
ここで、可視光線帯域の最短波長は、メッシュ構造体２０或いはメッシュ構造体２０を含むメッシュシート１０が使用される環境下における可視光線帯域の最短波長を指している。したがって、メッシュ構造体２０又はメッシュシート１０が使用される環境下に制限された光源からの光のみが存在する場合には、当該光源から射出される可視光の最短波長が、ここでいう可視光線帯域の最短波長となり、それ以外の場合には、一般的な可視光線帯域の最短波長として３８０ｎｍを、ここでいう可視光線帯域の最短波長として採用する。
【００３５】
微小突起３２が可視光線帯域の最短波長以下の間隔ｄ１で配置されてなる凹凸面３１を有した凹凸構造層３０は、いわゆるモスアイ構造体として機能する。したがって、凹凸面３１は、極めて優れた反射防止機能を発揮し、非常に高い透過率を示すようになる。具体的には、凹凸構造層３０の可視光透過率、或いは、凹凸構造層３０及び透明基材１５を含む積層体の可視光透過率は、８０％以上となっていることが好ましく、９０％以上となっていることがより好ましい。また、凹凸構造層３０の凹凸面３１上での５°正反射による反射率が、０％以上０．３％以下となっていることが好ましく、０．１％以下となっていることがより好ましい。そして、以下に説明するようにして凹凸構造層３０を形成すれば、このような特性を実現することができる。なお、本明細書で言及する正反射の反射率は、日本分光製の分光光度計Ｖ−７１００と自動絶対反射率測定ユニットＶＡＲ−７０１０を用いてＪＩＳ  Ｚ８７２２に準拠して測定された値とする。
【００３６】
凹凸構造層３０は、樹脂を含有してなる層とすることができ、更に、樹脂組成物の硬化物からなる層とすることができる。凹凸構造層３０の形成に用いられる樹脂組成物は、少なくとも樹脂を含み、必要に応じて重合開始剤等その他の成分を含有する。凹凸構造層３０の形成に用いられる樹脂として、例えば、アクリレート系、エポキシ系、ポリエステル系等の電離放射線硬化性樹脂、アクリレート系、ウレタン系、エポキシ系、ポリシロキサン系等の熱硬化性樹脂、アクリレート系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系等の熱可塑性樹脂等の各種材料及び各種硬化形態の賦型用樹脂を用いることができる。
【００３７】
凹凸構造層３０の形成に用いられる樹脂としては、微小突起３２の成形性及び機械的強度に優れる点から電離放射線硬化性樹脂が好ましい。電離放射線硬化性樹脂とは、分子中にラジカル重合性及び／又はカチオン重合性結合を有する単量体、低重合度の重合体、反応性重合体を適宜混合したものであり、重合開始剤によって硬化されるものである。なお、非反応性重合体を含有してもよい。なお、電離放射線とは、分子を重合させて硬化させ得るエネルギーを有する電磁波または荷電粒子を意味し、例えば、すべての紫外線（ＵＶ、ＵＶ−Ｂ、ＵＶ−Ｃ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線等が挙げられる。
【００３８】
樹脂組成物は、さらに必要に応じて、界面活性剤、重合開始剤、離型剤、光増感剤、酸化防止剤、重合禁止剤、架橋剤、赤外線吸収剤、帯電防止剤、粘度調整剤、密着性向上剤等を含有することもできる。
【００３９】
次に、凹凸構造層３０の寸法について説明する。モスアイ構造体による反射防止機能では、モスアイ構造体とこれに隣接する媒質との界面における有効屈折率を、厚み方向に連続的に変化させて反射防止を図るものである。このため、凹凸構造層３０の凹凸面３１は、凹凸構造層３０のシート面に沿って可視光線帯域の最短波長以下の間隔ｄ１で配列された微小突起３２によって形成されている。ここで、この間隔ｄ１に係る隣接する微小突起３２とは、いわゆる隣り合う微小突起３２であり、透明基材１５側の付け根部分である微小突起の裾の部分が接している二つの突起である。凹凸構造層３０では微小突起３２が密接して配置されることにより、微小突起３２間の谷の部位を順次辿るようにして線分を作成すると、平面視において各微小突起を囲む多角形状領域を多数連結してなる網目状の模様が作製されることになる。間隔ｄ１に係る隣接する微小突起３２は、この網目状の模様を構成する一部の線分を共有する突起である。また、間隔ｄ１は、図２及び図３に示すように、メッシュシート１０のシート面に沿った、隣接する二つの微小突起３２の頂部３３間の距離とすることができる。
【００４０】
ただし、凹凸構造層３０に対して優れた反射防止機能を付与する観点からは、凹凸構造層３０をなす微小突起３２が次のように形成されていることがより好ましい。まず、凹凸構造層３０の微小突起３２は、メッシュシート１０のシート面に沿って、可視光線帯域の最短波長としての３８０ｎｍ以下の間隔ｄ１で設けられていることが好ましい。また、メッシュシート１０のシート面への法線方向ｎｄに沿った微小突起３２の高さＨは、１５００ｎｍ以下５０ｎｍ以上となっていることが好ましく、１２００ｎｍ以下８０ｎｍ以上となっていることがより好ましい。
【００４１】
また、凹凸構造層３０の凹凸面３１上における反射防止性能は、微小突起３２のアスペクト比からも大きな影響を受ける。アスペクト比は、微小突起３２の幅に対する微小突起３２の高さＨの比である。ただし、凹凸構造層３０において、微小突起３２の幅は微小突起３２間の間隔ｄ１と置き換えて取り扱うことが可能であり、したがって、アスペクト比は、微小突起３２間の間隔ｄ１に対する微小突起３２の高さＨの比（Ｈ／ｄ１）として取り扱うことができる。凹凸構造層３０に対して上記の優れた反射防止機能を付与する観点から、微小突起３２のアスペクト比は、１．５以下０．５以上となっていることが好ましく、１．２以下０．８以上となっていることがより好ましい。
【００４２】
凹凸構造層３０の厚みは、特に限定されないが、一例として１０〜３００μｍとすることができる。なお、この場合の凹凸構造層３０の厚みとは、図３に示すように、凹凸構造層３０の透明基材１５側の界面から、当該凹凸構造層３０の凹凸面３１をなす微小突起３２の頂部３３までの凹凸構造層３０のシート面への法線方向ｎｄに沿った高さｔ１を意味する。
【００４３】
なお、既に述べたように、凹凸構造層３０の凹凸面３１及び微小突起３２に関する各種寸法及び形状は、原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope;AFM）又は走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope:SEM）を用いて、特定することができる。図４は、実際に原子間力顕微鏡により求められた拡大写真である。
【００４４】
また、凹凸構造層３０の各寸法は、対象となるメッシュ構造体２０や凹凸構造層３０の全領域を調べてその平均値を算出して特定する必要はなく、実際的には、調査すべき対象（微小突起３２の間隔ｄ２や突起の高さＨ等）の全体的な傾向を反映し得ると期待される面積を持つ一区画内において、調査すべき対象のばらつきの程度を考慮して適当と考えられる数を調べてその平均値を算出することによって特定することができる。例えば、直前で説明した値を目標として紫外線硬化製樹脂を賦型することによって作製された紫外線硬化製樹脂の硬化物からなる凹凸構造層３０においては、３０ｍｍ×３０ｍｍの領域内に含まれる３０箇所を電子顕微鏡により測定して平均を算出することにより、微小突起３２に関する各寸法、例えば微小突起３２の間隔ｄ２や突起の高さＨ等を、特定することができる。
【００４５】
ところで、図４に示された凹凸構造層３０において、微小突起３２は不規則的に配置されているが、微小突起３２の配列は、不規則的でも規則的でもよい。ただし、干渉模様の発生を防止する観点からは、微小突起３２の配列が不規則的であることが好ましい。
【００４６】
＜メッシュ構造体＞
次に、メッシュ構造体２０について説明する。メッシュ構造体２０は、多数の開口領域２１を画成するメッシュ状の材料である。上述したように、メッシュ構造体２０は、開口領域２１を画成する導電体２５、例えば、金属から構成されている。この導電体２５は、曲線状または直線状に延びる導電体本体部２６を含んでいる。図２に示すように、導電体２５の導電体本体部２６は、凹凸構造層３０の凹凸面３１のうちの微小突起３２の間となる谷底部３４に沿って延びている。
【００４７】
したがって、各開口領域２１は、凹凸構造層３０の微小突起３２に対応して形成され、メッシュシート１０において、開口領域２１は、対応する微小突起３２に貫通されている。このメッシュシート１０において、開口領域２１の間隔ｄ２（図１参照）は、微小突起３２間の間隔ｄ１（図２及び図３参照）と置き換えて取り扱うことが可能となる。このようなことから、凹凸面３１を微細化することによって、メッシュ構造体２０を微細化することが可能となる。このため、微小突起３２の間隔ｄ１を小さくすることにより、開口領域２１の間隔ｄ１を小さくすることができ、且つ、導電体２５の導電体本体部２６の線幅ｗ２を小さくすることができる。
【００４８】
また、図２に示されたメッシュシート１０は、凹凸構造層３０の凹凸面３１の凹凸に対応した凹凸面を含むようになる。そして、メッシュシート１０の凹凸面の凹凸は、凹凸構造層３０の凹凸面３１をなす微小突起３２に対応して形成された突起によって形成される。
【００４９】
このようなメッシュ構造体２０は、次のようにして形成することができる。まず、図７（ａ）に示すように、凹凸構造層３０の凹凸面３１上に、メッシュ構造体２０をなすようになる材料２５ａを付着させる。材料２５ａを付着させる方法としては、特に限定されることなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法等の気相法(ドライプロセス) が挙げられる。ただし、図７（ａ）及び図６（ａ）に示すように、材料２５ａの付着量は、材料２５ａが、凹凸面３１上で膜を形成することなく、粒状として凹凸面３１に付着することが好ましい。例えば、凹凸構造層３０の微小突起３２の寸法及び形状がより好ましい範囲として上述した寸法及び形状となっている場合には、例えば、後述する金属材料からなる材料２５ａの成膜厚を１ｎｍ以上５０ｎｍ以下とすることができる。
【００５０】
なお、ここでいう成膜厚とは、凹凸構造層３０の凹凸面３１が仮に凹凸の無い平坦面であったと仮定した場合に形成される膜の厚みのことを意味している。そして、図６（ａ）及び図７（ａ）では、実際に、５ｎｍの成膜厚で真空蒸着により金を凹凸面３１上に付着させた状態を示している。
【００５１】
図６（ａ）及び図７（ａ）に示されているように、材料２５ａは、粒状にて、凹凸面３１上に付着している。そして、図６（ａ）及び図７（ａ）に示すように、凹凸面３１に材料２５ａを付着させて場合、より多くの材料２５ａが、隣り合う二つの微小突起３２間となる谷底部３４上に付着するようになる。そして、図５（ａ）及び図６（ａ）に示すように、材料２５ａの一部は、凹凸面３１上において、微小突起３２の周囲に形成される谷底部３４上に並ぶようになる。ただし、材料２５ａは、凹凸面３１上において、谷底部３４以外の部分にも概ね均一に付着している。
【００５２】
次に、凹凸構造層３０上に付着した材料２５ａに対してアニール処理を行う。ここでのアニール処理は、材料２５ａを単純に加熱するのではなく、材料２５ａに対してキセノンフラッシュランプ光や赤外線を照射する。より具体的には、２００ｎｍ以上３０μｍ以下の波長の光を、材料２５ａが付着した凹凸面３１に面状に照射する。凹凸面３１上の材料２５ａが、十分に微細化されている場合、典型的には、ナノオーダーの粒子状となっている場合、キセノンフラッシュランプ光や赤外線の照射によって、隣接して位置する金属製の材料２５ａが溶接、すなわち溶融して接合される。
【００５３】
このアニール処理によって、図５（ａ）に示されているように、線状に並べられていた多数の材料２５ａが、互いに溶接されて、図５（ｂ）に示されているように、開口領域２１を画成する導電体本体部２６をなすようになる。また、図６及び図７からも理解され得るように、微小突起３２の谷底部３４以外の部分に付着していた粒状の材料２５ａは、アニール処理の進行とともに、近傍に位置する他の粒状の材料２５ａと溶接され且つ谷底部３４の側へ寄っていく。このようにして、多くの材料２５ａが、アニール処理によって凹凸面３１上において谷底部３４に集まり、導電体本体部２６を形成する。
【００５４】
ただし、アニール処理の程度によっては、材料２５ａのすべてが、谷底部３４へ移動するわけでない。図７（ｂ）によく示されているように、材料２５ａの一部は、アニール処理後においても、微小突起３２の表面のうち、谷底部３４と頂部３３との間の側面や、さらには頂部３３に残留することがある。このような材料２５ａは、作製されたメッシュ構造体２０において、導電体本体部２６から延び出した導電体延出部２７を形成する。
【００５５】
導電体延出部２７は、凹凸面３１上において、微小突起３２の表面上を、谷底部３４から頂部３３に向けて延び上がるようになる。すなわち、図２に示すように、凹凸面３１上における或る仮想面上に凹凸面３１の谷底部３４が位置しており、導電体延出部２７は、図２に二点鎖線で示すように、谷底部３４上に形成された導電体本体部２６とは、当該仮想面への法線方向に沿って（凹凸構造層３０（メッシュシート１０）のシート面への法線方向に沿って）、異なる位置に位置する。さらに言い換えると、メッシュ構造体２０において、導電体延出部２７は、導電体本体部２６のうちの当該導電体延出部２７と接続された部分が画成する開口領域２１に対面し且つ開口領域２１から仮想面への法線方向にずれた位置を延びている。すなわち、メッシュ構造体２０は、三次元的な構造を有するようになる。なお、導電体延出部２７の量、太さ、形状等は、アニール処理の条件によって制御することができる。
【００５６】
なお、導電体２５をなすようになる材料２５ａとして、金属材料、例えば、金、銀、銅、白金、アルミニウム、クロム、モリブデン、ニッケル、チタン、パラジウム、インジウム、及び、これらの合金の一以上を用いることができる。とりわけ、材料２５ａを凹凸面３１上に粒状で付着させて導電体本体部２６の線幅ｗ２を微細化する観点からは、金、銀、銅、白金、及び、これらの合金の一以上を材料２５として、真空蒸着法により、凹凸面３１上に付着させることが好適である。
【００５７】
なお、以上のようなメッシュ構造体２０において、面抵抗を低下させて高い導電性を付与する観点から、アニール処理後にめっき、例えば無電界めっきを行うようにしてもよい。めっきに用いられる材料として、例えば、銅、アルミニウム、クロム、ニッケル、及び、これらの合金の一以上を用いることができる。
【００５８】
また、用途に応じて、メッシュシート１０からメッシュ構造体２０を取り出すことも可能である。例えば、メッシュシート１０のうち、透明基材１５及びメッシュ構造体２０が透明樹脂から構成されている場合、透明基材１５及びメッシュ構造体２０を化学的または物理的に溶解させることにより、金属からなるメッシュ構造体２０だけを取り出すことができる。
【００５９】
＜メッシュシート及びメッシュ構造体の作用効果＞
以上のようなメッシュ構造体２０は、導電性を有した導電体２５から形成されている。したがって、メッシュ構造体２０は、導電性に関連した何らかの機能を発揮することができる。
【００６０】
また、メッシュ構造体２０は、開口領域２１を画成する編み目状の形状を有しており、光透過性となっている。とりわけ、メッシュ構造体２０は、非常に微細化されている。例えば、導電体２５の導電体本体部２６の線幅ｗ２の平均が５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、且つ、隣り合う開口領域２１の間隔ｄ２の平均が１０００ｎｍ以下であるようにすることもできる。このような、メッシュ構造体２０の導電体本体部２６は、一般に、人間の目では解像され得ない。すなわち、ここで説明したメッシュ構造体２０は、視認されることを効果的に回避され得る。これにより、メッシュ構造体２０の透過性を単に改善することが可能となるだけでなく、メッシュ構造体２０が視認されることに起因した以下の不具合の発生も効果的に防止することができる。
【００６１】
まず、メッシュ構造体２０をなす導電体２５の線幅ｗ２が十分に細くなっているので、ぎらつきや濃淡むらの発生を防止することができる。濃淡むらは、メッシュ構造体２０のパターンにおける導電体２５の密度分布の不均一性および導電体２５の線幅の不均一性に起因して、局所的に透過率が減少する現象と考えられている。一方、ぎらつきは、メッシュ構造体のパターンにおける導電体２５の密度分布の不均一性に起因して反射光量が局所的に増加する現象と考えられている。ここで説明するメッシュ構造体２０によれば、導電体２５の線幅の平均が５００ｎｍ以下にまで細くなっているため、導電体２５のライン部１２自体が十分に不可視化され、濃淡むらやぎらつきが視認されにくくなる。
【００６２】
また、カラー表示可能な表示パネル上にメッシュ構造体を配置した場合、メッシュ構造体の導電体によって特定の画素が覆われてしまうことがある。一例として、赤色サブ画素、緑色サブ画素および青色サブ画素を含む典型的な画素にて白表示を行う場合、メッシュ構造体の導電体によって赤色サブ画素が覆われると白色ではなく水色に表示され、緑色サブ画素が覆われると白色ではなくマゼンダに表示され、青色サブ画素が覆われると白色ではなく黄色に表示される。このような現象は、ちらつきと呼ばれ、色再現性を低下させることになる。一方、ここで説明したメッシュ構造体２０によれば、導電体２５の線幅の平均が５ｎｍ以上５００ｎｍ以下に設定されている。したがって、メッシュ構造体２０の導電体２５が特定の画素を塞いでしまうことはない。これにより、表示装置の色再現性を悪化させてしまうことはない。
【００６３】
同様に、メッシュ構造体２０が微細化されているので、他の部材と重ね合わせられた際に生じ得るモアレを効果的に目立たなくさせることができる。とりわけ、例えば導電体本体部２６の線幅ｗ２の平均が５ｎｍ以上５００ｎｍ以下となり且つ隣り合う開口領域２１の間隔ｄ２の平均が１０００ｎｍ以下となるように、メッシュ構造体２０が微細化されていると、開口領域２１の配置の規則性の有無に依らず、もはや、メッシュ構造体２０が他の部材と重ね合わせられた際にモアレを視認されなくすることができる。
【００６４】
モアレは、明暗の筋模様が視認されるようになる現象であり、メッシュ構造体のパターンの規則性（周期性）と、メッシュ構造体と重ねられる他の部材のパターンの規則性（例えば表示装置の画素配列の規則性）との干渉によって生じるとされている。したがって、メッシュ構造体２０の開口領域２１の配列ピッチを、他の部材の規則的パターンと干渉を生じ得ないピッチに調整しておくことにより、モアレを効果的に目立たなくさせることができる。一方、ここで説明したメッシュ構造体２０では、導電体２５の線幅が非常に細く設定されていることに加え、隣り合う二つの開口領域２１の間隔ｄ２も非常に小さく設定されている。したがって、これまで問題とされてきた部材との組み合わせにおいて発生し得るモアレ、例えば数十μｍでサブ画素が配列されている典型的な表示パネルとの組み合わせで発生し得るモアレを、効果的に目立たなくさせることができる。加えて図示された例では、メッシュ構造体２０の開口領域２１の配列が周期的なパターンを有していない。したがって、極めて効果的にモアレの発生を抑制することができる。
【００６５】
さらに、メッシュ構造体２０は、多くの場合、透明な基材上に支持されて使用される。一方、メッシュ構造体２０は、凹凸構造層３０の凹凸面３１を利用して形成され得る。具体的には、メッシュ構造体２０をなす導電体２５の導電体本体部２６は、凹凸面３１をなす微小突起３２の谷底部３４上を延びている。この凹凸構造層３０は、微小突起３２が可視光線帯域の最短波長以下の間隔ｄ１にて設けられている場合に、モスアイ構造体として機能する。すなわち、メッシュ構造体２０を支持する凹凸構造層３０は、極めて優れた反射防止機能を発揮することができ、これにより、映り込みを防止しながら高い透過率を示すことができる。
【００６６】
メッシュ構造体２０自体の優れた可視光透過性と、凹凸構造層３０の優れた反射防止機能に起因した優れた可視光透過性とによって、メッシュシート１０は、メッシュ構造体２０の導電性に関連した何らかの機能を発揮しながら、極めて優れた可視光透過性を呈することになる。導電性及び優れた可視光透過性を有するメッシュ構造体２０の支持体として、極めて優れた反射防止機能を有した凹凸構造層３０を適用することは、従来とは異質または際だって優れた作用効果、言い換えると技術水準から予測される範囲を超えた顕著な作用効果を、奏することを可能にしていると言える。
【００６７】
その一方で、メッシュ構造体２０が非常に微細化されているため、メッシュ構造体２０の単体での比表面積が非常に大きくなっている。このため、メッシュシート１０からメッシュ構造体２０を取り出して、メッシュ構造体２０を凹凸構造層３０とは別途に利用した際にも、メッシュ構造体２０によって優れた作用効果が奏される。例えば、メッシュ構造体２０を触媒担体として用いた場合には、微細化された触媒を多量に担持すること及び担持した触媒に起因した触媒反応を促進することが可能となる。とりわけ、導電体２５が、導電体本体部２６と、導電体本体部２６から延び出る導電体延出部２７と、を含んで立体的な構造を有している場合には、触媒反応の促進がより顕著となる。
【００６８】
ここで本件発明者らが、実際にメッシュシートを作製し、その透過率を測定した結果の一例を紹介する。
【００６９】
まず、メッシュシートは、原版を用いて電離放射線硬化型樹脂を賦型することにより凹凸構造層を形成し、その後、この凹凸構造層上にメッシュ構造体を作製した。
凹凸構造層を作製するための原版を次のようにして作製した。純度９９．５０％の圧延されたアルミニウム板を、その表面が、小さいうねりとして十点平均粗さＲｚ３０ｎｍ、且つ大きいうねりとして周期１μｍの凹凸形状となるように研磨後、０．０２Ｍシュウ酸水溶液の電解液中で、化成電圧４０Ｖ、２０℃の条件にて１２０秒間、陽極酸化を実施した。次に、第一エッチング処理として、陽極酸化後の電解液で６０秒間エッチング処理を行った。続いて、第二エッチング処理として、１．０Ｍリン酸水溶液で１５０秒間孔径処理を行った。さらに、上記処理を繰り返し、これらを合計５回追加実施した。これにより、アルミニウム基板上に微細な凹凸形状が形成された陽極酸化アルミニウム層が形成された。最後に、フッ素系離型剤を塗布し、余分な離型剤を洗浄することで、微細凹凸層形成用原版を得た。なお、アルミニウム層に形成された微細な凹凸形状は、平均隣接微細孔間距離が１００ｎｍ、平均深さが２００ｎｍで、深さ方向に徐々に孔径が小さくなる多数の微細孔が密に形成された形状であった。
【００７０】
このようにして作製した原版を用い、次の方法で、凹凸構造層を作製した。まず、凹凸構造層を形成するための凹凸構造層形成用樹脂組成物は、ジペンタエリスリトールへキサアクリレート（ＤＰＨＡ）２０重量部、アロニックスＭ−２６０（東亜合成社製）７０重量部、ヒドロキシエチルアクリレート１０重量部、及び光重合開始剤としてルシリンＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）３重量部を混合することによって、作製した。その後、凹凸構造層形成用樹脂組成物を、凹凸構造層形成用原版の微細凹凸面が覆われ、硬化後の微細凹凸層の厚さが２０μmとなるように塗布、充填し、その上に透明基材として厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（富士フィルム社製）を斜めから貼り合わせた後、貼り合わせられた貼合体をゴムローラーで１０Ｎ／ｃｍ２の加重で圧着した。原版全体に均一な組成物が塗布されたことを確認し、透明基材側から２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーで紫外線を照射して凹凸構造層形成用樹脂組成物を硬化させた。次に、原版より剥離し透明基材と凹凸構造層との積層体（中間サンプルＡ）を得た。
【００７１】
その後、中間サンプルＡの凹凸構造層の凹凸面上に、真空蒸着装置（アルバック社製、ＶＰＣ−４１０）を用い、真空度８×１０Ｅ−６Ｔｏｒｒで、凹凸面上の領域と平面視において同面積となる平版材の表面に成膜した場合に５ｎｍとなるような平面での換算膜厚５ｎｍで金を蒸着することで中間サンプルＢの物品を得た。目視により観察される色調としては青紫色を示した。
【００７２】
次に、中間サンプルＢの物品を、フラッシュランプアニール装置（ＳＩＮＴＲＯＮ２０００、ＸＥＮＯＮ社製）を用い、１２５１ＪのエネルギーでアニールすることでサンプルＢの物品（メッシュシート）を得た。目視により観察される色調としては赤紫色を示した。なお、図６は、中間サンプルＢ及びサンプルＢについて、ＳＥＭの反射電子により重元素のマッピングを行った像であり、図７は、中間サンプルＢ及びサンプルＢについてのＳＴＥＭ像である。中間サンプルＢの物品には金のナノ粒子が形成されていた。一方、サンプルＢの物品には金の細線が形成されていた。
【００７３】
中間サンプルＢと同様に、金を銀に変更することで中間サンプルＣの物品を得た。目視により観察される色調としては黄色を示した。中間サンプルＣの物品を、フラッシュランプアニール装置（ＳＩＮＴＲＯＮ２０００、ＸＥＮＯＮ社製）を用い、１５０１ＪのエネルギーでアニールすることでサンプルＣの物品（メッシュシート）を得た。目視により観察される色調としては淡黄色を示した。
【００７４】
＜反射防止性能の評価＞
作製された各サンプルの反射率を評価した。黒アクリル板（三菱レイヨン製、製品名アクリライト）に粘着剤（パナック製、製品名パナクリーンＰＤＲ５）を介して、各サンプル実施例で得られた物品の透明基材側を貼合し、分光器（日本分光製、分光器Ｖ−７１００と自動絶対反射率測定ユニットＶＡＲ−７０１０）にて反射率を測定した。結果を図８に示す。図８の結果から理解されるように、凹凸構造層の凹凸面（中間サンプルＡ）は極めて優れた反射防止機能を発揮していた。また、金属を蒸着された凹凸面（中間サンプルＢ，Ｃ）の反射率並びにメッシュ構造体を形成された凹凸面（サンプルＢ，Ｃ）の反射率も、０．３％程度であり、極めて低い値となっていた。すなわち、金属を蒸着された凹凸面（中間サンプルＢ，Ｃ）並びにメッシュ構造体を形成された凹凸面（サンプルＢ，Ｃ）は、広く利用されている低屈折率層からなる反射防止膜と比較して、格段に優れた反射防止機能を有していた。
【００７５】
＜透過率の評価＞
作製された各サンプルの透過率を評価した。分光器（島津製作所製、分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣ）にて測定することで、各サンプルに係る物品の波長３８０〜７８０ｎｍでの透過率（％）の平均値を得た。中間サンプルＡの透過率は９５％であり、中間サンプルＢの透過率は６６％であり、サンプルＢの透過率は６７％であり、中間サンプルＣの透過率は６２％であり、中間サンプルＣの透過率は６９％であった。
【００７６】
＜メッシュシート及びメッシュ構造体の具体的な適用例＞
次に、メッシュ構造体２０及びメッシュシート１０の用途例を具体的に説明する。メッシュ構造体２０及びメッシュシート１０は、一例として、接地されて電磁波を遮蔽する電磁波遮蔽材、タッチパネル装置のタッチパネルセンサ用の電極、可視光透過性を有したアンテナ、太陽電池の集電電極、結露防止用の発熱電極として、用いられ得る。
【００７７】
まず、図９に示すように、メッシュ構造体２０及びメッシュシート１０は、テレビジョン受像装置、各種測定機器や計器類、各種事務用機器、各種医療機器、電算機器、電話機、電飾看板、各種遊戯機器等の表示部に用いられるプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）装置、ブラウン管ディスプレイ（ＣＲＴ）装置、液晶ディスプレイ装置（ＬＣＤ）、電場発光ディスプレイ（ＥＬ）装置などの画像表示装置に、電磁波遮蔽材として、組み込まれ得る。
【００７８】
図９に示された例において、画像表示装置４０は、画像を形成し得る画像形成装置（表示パネル、表示部）４１と、画像形成装置４１の出光側に配置された積層体４５と、を有している。したがって、積層体４５の出光面が、画像表示装置４０の表示面（出光面）４０ａをなし、観察者は、画像形成装置４１で形成された画像を、積層体４５を介して観察することになる。この積層体４５に、電磁波遮蔽シートとしてのメッシュシート１０が、組み込まれている。メッシュシート１０のメッシュ構造体２０は、画像形成装置４１の画像が形成される領域に延び広がっている。このメッシュ構造体２０は、電磁波を効果的に遮蔽することができる一方で、その線幅を細く設定されることにより、視認され難くなっている。このため、メッシュ構造体２０が視認されることに起因したモアレ、濃淡むら及びちらつきといった不具合の発生を効果的に防止することができる。なお、積層体４５には、反射防止シートやルーバー等の機能性シートが適宜組み込まれるが、メッシュ構造体２０と他の機能性シートとの間でのモアレの発生も効果的に防止されるようになる。
【００７９】
また、その他、住宅、学校、病院、事務所、店舗等の建築物の窓、車両、航空機、船舶等の乗物の窓、電子レンジの窓等の各種家電製品の窓等の電磁波遮蔽用途にも使用可能である。この例では、電磁波遮蔽材としてのメッシュ構造体２０を支持するようになる窓材が、メッシュシート１０における透明基材１５をなすようにしてもよいし、窓材がメッシュシート１０のその他の一部分を構成するようになっていてもよい。この例において、窓材に重ねて配置された網戸やカーテンの模様等と、メッシュ構造体２０との間でのモアレの発生を効果的に防止することができるとともに、濃淡むら、ぎらつき及びちらつき等による不快感を受けることも効果的に防止される。
【００８０】
次に、図１０を参照しながら、メッシュ構造体２０をタッチパネル装置５０のタッチパネルセンサ５１，５２に適用した例について説明する。図１０には、タッチパネルセンサ５１，５２を含んだタッチパネル装置５０が開示されている。図示されたタッチパネル装置５０は、投影型容量結合方式のタッチパネル装置として構成されており、それぞれ、透明基材３５上に電極５５が形成された第１タッチパネルセンサ５１及び第２タッチパネルセンサ５２を有している。このタッチパネル装置５０は、画像形成装置上に配置されるようになり、第１及び第２タッチパネルセンサ５１，５２は、画像形成装置の画素が配列された領域に対面するアクティブエリアＡａ１と、アクティブエリアＡａ１の周囲となる非アクティブエリアＡａ２と、を含んでいる。電極５５は、アクティブエリアＡａ１内に位置して位置検出に用いられる検出電極６０と、検出電極６０に接続され非アクティブエリアＡａ２内に位置する取出電極７０と、を有している。
【００８１】
そして、図１０に示すように、各検出電極６０は、その長手方向に間隔を明けて配列された多数のメッシュ構造体２０と、隣り合う二つのメッシュ構造体２０の間を接続する接続導線６１と、を有している。各検出電極６０は、メッシュ構造体２０および接続導線６１により、アクティブエリアＡａ１内を直線状に延びている。各検出電極６０が配置されている領域の幅は、メッシュ構造体２０が設けられている部分において太くなっている。一方のタッチパネルセンサ５１，５２に含まれる各検出電極６０は、他方のタッチパネルセンサ５２，５１に含まれる多数の検出電極６０と交差している。そして、図１０に示すように、一方のタッチパネルセンサ５１，５２のメッシュ構造体２０は、検出電極６０上において、他方のタッチパネルセンサ５２，５１の隣り合う二つの検出電極６０との交差点の間に配置されている。
【００８２】
このタッチパネル装置５０では、タッチパネルセンサ５１，５２のメッシュ構造体２０が、画像形成装置４１の画素が配列されている領域上に配置される。このメッシュ構造体２０は、その優れた導電性により検出電極６０として機能するとともに、上述したように、モアレ、濃淡むら、ぎらつき及びちらつきの発生を防止することができる。
【００８３】
なお、図１０に示された電極５５の形状は一例に過ぎず、種々の変更が可能である。また、メッシュ構造体２０及びメッシュシート１０は、投影型容量結合形式のタッチパネル装置に限られず、種々の形式のタッチパネル装置に適用することができる。
【００８４】
その他の用途として、メッシュ構造体２０及びメッシュシート１０は、窓に支持されたアンテナとして機能する。また、メッシュ構造体２０及びメッシュシート１０は、窓に支持された結露防止用の発熱電極として機能する。これらの例では、窓材が、メッシュシート１０及びメッシュシート１０の透明基材１５をなすようにしてもよいし、窓材がメッシュシート１０のその他の一部分を構成するようにしてもよい。そしてこれらの例では、窓に重ねて配置された網戸やカーテンの模様等と、メッシュ構造体２０との間でのモアレの発生を効果的に防止することができるとともに、濃淡むら、ぎらつき及びちらつきによる不快感を受けることも効果的に防止される。
【００８５】
＜＜追加、変形、その他＞＞
なお、上述した例に対して様々な追加や変更を加えることが可能である。以下、変形の一例について説明する。
【００８６】
上述した例では、メッシュシート１０の透明基材１５と凹凸構造層３０とが別の層として形成されていた。このようなメッシュシート１０は、透明基材１５上に、電離放射線硬化型樹脂を賦型してなる凹凸構造層３０を形成することにより作製され得る。その一方で、メッシュシート１０が、メッシュ構造体２０、凹凸構造層３０及び透明基材１５以外の層を更に含むようにしてもよいし、或いは、射出成形や押出成形によって凹凸構造層３０を作製することにより透明基材１５が省かれるようにしても良い。
【００８７】
また、凹凸構造層３０の凹凸面３１が、耐擦傷性を向上させるためのハードコート層として形成されていてもよい。このハードコート層は、薄膜として形成されていてもよい。或いは、耐擦傷性の改善を図る観点から、凹凸構造層３０が、スリップ剤を含有するようにしてもよい。さらに、紫外線による劣化を防止する観点から、メッシュシート１０が、紫外線吸収剤を含有するようにしてもよい。
【００８８】
なお、以上において上述した例に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。
【符号の説明】
【００８９】
１０  メッシュシート
１５  透明基材
２０  メッシュ構造体
２１  開口領域
２５  導電体
２５ａ  材料
２６  導電体本体部
２７  導電体延出部
３０  凹凸構造層
３１  凹凸面
３２  微小突起
３３  頂部
４０   画像表示装置
４０ａ 表示面
４１   画像形成装置、表示パネル、表示部
４５   積層体
５０   タッチパネル装置
５１   第１タッチパネルセンサ
５２   第２タッチパネルセンサ
５５   電極
６０   検出電極
６１   接続導線
７０   取出電極
【図１】
2015031875.tif 000003
【図２】
2015031875.tif 000004
【図５】
2015031875.tif 000005
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図３】
2015031875.tif 000009
【図４】
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【図６】
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【図７】
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