(57)【要約】【課題】端子を大型化したり、極力複雑化したりすることなく、接触抵抗を低減できる接点接続構造を提供する。【解決手段】インデント部４が突設された弾性撓み部３と、タブ部１１とを有し、弾性撓み部３のインデント部４がタブ部１１の接触面上を摺動し、端子挿入完了位置では、インデント部４がタブ部１１に接触する接点接続構造であって、弾性撓み部３の接触面側には、タブ部１１がインデント部４よりも先に摺動する位置に、酸化膜除去部５が設けられた。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
インデント部が突設された第１接点部と、第２接点部とを有し、
前記第１接点部の前記インデント部が前記第２接点部の接触面上を摺動し、
端子挿入完了位置では、前記インデント部が前記第２接点部に接触する接点接続構造であって、
前記第１接点部の接触面側には、前記第２接点部が前記インデント部よりも先に摺動する位置に、酸化膜除去部が設けられたことを特徴とする接点接続構造。
【請求項２】
請求項１記載の接点接続構造であって、
前記酸化膜除去部は、突部であることを特徴とする接点接続構造。
【請求項３】
請求項１又は２記載の接点接続構造であって、
前記インデント部は、端子挿入方向の直交方向に延びる頂部を有し、
前記酸化膜除去部は、端子挿入方向の直交方向に間隔を置いて複数設けられた部分を有することを特徴とする接点接続構造。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の接点接続構造であって、
前記酸化膜除去部は、端子挿入方向の直交方向の前記第１接点部の両端部にわたって連続して設けられた部分を有することを特徴とする接点接続構造。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の接点接続構造であって、
前記酸化膜除去部は、前記第１接点部の接触面と反対側に凹まされた凹部の角部を有することを特徴とする接点接続構造。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の接点接続構造であって、
前記酸化膜除去部は、前記第１接点部の接触面側に向けて折り曲げられた折曲部の端部を有することを特徴とする接点接続構造。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、端子の電気的接続を行う接点接続構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
図９〜１１には、従来のメス端子とオス端子が示されている（類似技術として特許文献１参照）。
【０００３】
図９〜１１に示すように、メス端子５１は、四角形状の箱部５２と、この箱部５２に一体に設けられ、箱部５２内に配置された弾性撓み部５３とを有する。
【０００４】
弾性撓み部５３には、底面側に向かって突出するインデント部５４が設けられている。
【０００５】
インデント部５４は、その外周面がほぼ球面形状であり、中心の頂点が最下方に位置している。
【０００６】
また、メス端子５１には、高温環境下での接続信頼性の向上、腐金環境下での耐食性の向上等の観点から錫メッキが施されている。
【０００７】
オス端子６０は、平板状のタブ部６１を有する。オス端子６０には、高温環境下での接続信頼性の向上、腐金環境下での耐食性の向上等の観点から錫メッキが施されている。
【０００８】
図９に示すように、オス端子６０のタブ部６１をメス端子５１の箱部５２に挿入すると、弾性撓み部５３が撓み変形してタブ部６１の挿入が許容される。
【０００９】
タブ部６１の挿入過程では、タブ部６１が弾性撓み部５３のインデント部５４上を摺動し、端子挿入完了位置では、図１０、図１１に示すように、弾性撓み部５３のインデント部５４とタブ部６１の面が接触する。
【００１０】
この従来例では、弾性撓み部５３の撓み復帰力を接触荷重として、メス端子５１のインデント部５４とオス端子６０のタブ部６１の接触面とが電気的に接触する。そして、この接触面を電流が流れることによってメス端子５１とオス端子６０間が通電する。
【００１１】
ところで、箱部５２とタブ部６１等の外面には、全域に亘って錫メッキ処理されている。錫メッキし、その後にリフロー処理を行うと、次のような構造となる。
【００１２】
図１２に示すように、銅合金材の母材層５２ａ，６１ａの外面側に銅／錫合金層５２ｂ，６１ｂ、錫メッキ層５２ｃ，６１ｃが形成されると共に錫メッキ層５２ｃ，６１ｃの外面に酸化膜５２ｄ，６１ｄが形成される。
【００１３】
酸化膜５２ｄ，６１ｄは、錫や銅に較べて電気比抵抗が非常に高い。そのため、接触抵抗の低減を図るために、酸化膜５２ｄ，６１ｄを破壊して錫メッキ層５２ｃ，６２ｃ同士の接触面（オーミック点）を多く作る必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１４】
【特許文献１】特開２００７−２８０８２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
しかしながら、前記従来例の構造では、酸化膜５２ｄ，６１ｄの破壊を促進させるためには、接点部間の接点圧力を大きくすることが考えられるが、端子５１，６０が大型化したり、複雑化したりするという問題があった。
【００１６】
そこで、本発明は、前記した課題を解決すべくなされたものであり、端子を大型化したり、極力複雑化したりすることなく、接触抵抗を低減できる接点接続構造を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
上記の課題を解決するために、請求項１記載の発明では、インデント部が突設された第１接点部と、第２接点部とを有し、前記第１接点部の前記インデント部が前記第２接点部の接触面上を摺動し、端子挿入完了位置では、前記インデント部が前記第２接点部に接触する接点接続構造であって、前記第１接点部の接触面側には、前記第２接点部が前記インデント部よりも先に摺動する位置に、酸化膜除去部が設けられたことを特徴とする。
【００１８】
請求項２記載の発明では、請求項１記載の接点接続構造であって、前記酸化膜除去部は、突部であることを特徴とする。
【００１９】
請求項３記載の発明では、請求項１又は２記載の接点接続構造であって、前記インデント部は、端子挿入方向の直交方向に延びる頂部を有し、前記酸化膜除去部は、端子挿入方向の直交方向に間隔を置いて複数設けられた部分を有することを特徴とする。
【００２０】
請求項４記載の発明は、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の接点接続構造であって、  前記酸化膜除去部は、端子挿入方向の直交方向の前記第１接点部の両端部にわたって連続して設けられた部分を有することを特徴とする。
【００２１】
請求項５記載の発明は、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の接点接続構造であって、前記酸化膜除去部は、前記第１接点部の接触面と反対側に凹まされた凹部の角部を有することを特徴とする。
【００２２】
請求項６記載の発明は、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の接点接続構造であって、前記酸化膜除去部は、前記第１接点部の接触面側に向けて折り曲げられた折曲部の端部を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２３】
請求項１記載の発明によれば、端子摺動過程で、第１接点部の接触面側の酸化膜除去部が第２接点部の接触面側に生成された酸化膜を除去するため、酸化膜の破壊が促進され、メッキ面との接触が得られる。また、接触面が酸化膜の削除によって分断され、複数の接触面ができる。以上より、端子を大型化したり、極力複雑化したりすることなく、接触抵抗を低減できる。
【００２４】
請求項２記載の発明によれば、端子摺動過程で、第１接点部の接触面側の酸化膜除去部としての突部が第２接点部の接触面側に生成された酸化膜を削るため、酸化膜の破壊が促進され、メッキ面との接触が得られる。また、接触面が酸化膜の削除によって分断され、複数の接触面ができる。以上より、端子を大型化したり、極力複雑化したりすることなく、接触抵抗を低減できる。
【００２５】
請求項３記載の発明によれば、請求項１又は２と同様の効果を得ることができる。
【００２６】
請求項４記載の発明によれば、酸化膜除去部の第１接点部の両端部にわたって連続して設けられた部分により、第１接点部の接触面の全域で第２接点部に生成された酸化膜を除去することができ、インデント部と第２接点部との接触抵抗をさらに低減できる。
【００２７】
請求項５記載の発明によれば、第１接点部の接触面と反対側に凹まされた凹部の角部を酸化膜除去部とするので、容易に酸化膜除去部を設けることができ、複雑化を抑制することができる。
【００２８】
請求項６記載の発明によれば、第１接点部の接触面側に折り曲げられた折曲部の端部を酸化膜除去部とするので、容易に酸化膜除去部を設けることができ、複雑化を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明の第１実施形態を示し、端子接続前のメス端子とオス端子の断面図である。
【図２】本発明の第１実施形態を示し、端子接続状態のメス端子とオス端子の断面図である。
【図３】本発明の第１実施形態を示し、弾性撓み部の斜視図である。
【図４】本発明の第１実施形態を示し、（ａ）は端子接続前の弾性撓み部とタブ部の側面図、（ｂ）は端子摺動過程における弾性撓み部とタブ部の側面図、（ｃ）は端子接続状態の弾性撓み部とタブ部の側面図である。
【図５】本発明の第１実施形態を示し、（ａ）はタブ部の要部平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図６】本発明の第２実施形態を示し、（ａ）は弾性撓み部の平面図、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図、（ｃ）は弾性撓み部の斜視図である。
【図７】本発明の第３実施形態を示し、（ａ）は弾性撓み部の斜視図、（ｂ）は酸化膜除去部の断面図である。
【図８】本発明の第４実施形態を示し、（ａ）はメス端子の断面図、（ｂ）は酸化膜除去部の断面図である。
【図９】従来例を示し、端子接続前のメス端子とオス端子の断面図である。
【図１０】従来例を示し、端子接続状態のメス端子とオス端子の断面図である。
【図１１】従来例を示し、接点部の要部側面図である。
【図１２】従来例を示し、箱部やタブ部のメッキ層の構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下、本発明の実施形態について、図１〜図８を用いて詳細に説明する。
【００３１】
〔第１実施形態〕
図１〜図５を用いて本実施形態の接点接続構造について説明する。
【００３２】
図１及び図２に示すように、メス端子１は、メス側コネクタハウジング（図示せず）内の端子収容室に配置されている。
【００３３】
メス端子１は、所定形状に打ち抜かれた導電性金属（例えば銅合金）を折り曲げ加工して形成されており、第１接点部である箱部２を有する。
【００３４】
箱部２は、前方が開口された方形状である。箱部２内には、箱部２の上面部より折り曲げられた弾性撓み部３が配置されている。
【００３５】
弾性撓み部３には、底面側に向かって突出するインデント部４が設けられている。
【００３６】
インデント部４は、端子挿入方向の直交方向に延びる頂部４ａを有し、半円筒形状に形成されている。インデント部４は、弾性撓み部３の撓み変形によって上方に変移できる。
【００３７】
弾性撓み部３と固定面部である箱部２の底面部２ａは、間隔を置いて配置されている。弾性撓み部３と箱部２の底面部２ａの間に、オス端子１０が挿入される。
【００３８】
弾性撓み部３の接触面側には、後述するタブ部１１がインデント部４よりも先に摺動する位置に、四角錐状の突部５が設けられている。突部５は、端子挿入方向の直交方向に間隔を置いて複数、例えば３つ設けられている。
【００３９】
この突部５は、タブ部１１がインデント部４と摺動する前に、タブ部１１と摺動し、後述するタブ部１１の接触面に生成された酸化膜１３を除去する酸化膜除去部となっている。以下では、酸化膜除去部を突部５として説明する。
【００４０】
また、メス端子１の外面には、導電性金属のメッキ層６が形成されている。メッキ層６の外面には酸化膜７が形成される。
【００４１】
オス端子１０は、オス側コネクタハウジング（図示せず）内の端子収容室に配置されている。オス端子１０は、所定形状に打ち抜かれた導電性金属（例えば銅合金）を折り曲げ加工して形成されており、第２接点部であるタブ部１１を有する。
【００４２】
タブ部１１は、フラットな板形状である。また、オス端子１０の外面には、導電性金属のメッキ層１２が形成されている。メッキ層１２の外面には酸化膜１３が形成される。
【００４３】
次に、タブ部１１のメッキ層１２について説明する。メッキ層１２は、図５（ｂ）に示すように、銅合金の母材層１２ａの上に形成されている。
【００４４】
銅合金材の母材層１２ａの外面側には、銅／錫合金層１２ｂ及び錫メッキ層１２ｃが形成されると共には、錫メッキ層１２ｃの外面に酸化膜１３が形成される。また、弾性撓み部３のメッキ層６も同様に構成されている。
【００４５】
上記構成において、メス側コネクタハウジング（図示せず）とオス側コネクタハウジング（図示せず）間を嵌合すると、その嵌合過程ではオス端子１０のタブ部１１がメス端子１の箱部２に挿入される。
【００４６】
すると、先ず図４（ａ）に示すように、タブ部１１の先端が弾性撓み部３に接近する。その後、図４（ｂ）に示すように、タブ部１１の先端が弾性撓み部３に当接し、タブ部１１の接触面上に弾性撓み部３の接触面側の突部５が摺動することにより、タブ部１１の接触面側に生成された酸化膜１３が削られて、オス端子１０の挿入方向に沿うＶ字溝１４が形成されると共に、メッキ面１２の錫メッキ層１２ｃが露出する。
【００４７】
次いで、この当接箇所より更にタブ部１１の挿入が進むと、図４（ｃ）に示すように、タブ部１１の接触面上にインデント部４の頂部４ａが摺動し、弾性撓み部３が撓み変形してタブ部１１の挿入が許容される。
【００４８】
タブ部１１の挿入過程では、インデント部４がタブ部１１の接触部１１ａに接触し、端子挿入完了位置に達する（図２、図３参照）。
【００４９】
以上説明したように、本実施形態の接点接続構造では、突部５が酸化膜除去部として機能することにより、端子摺動過程において、弾性撓み部３の接触面側の突部５がタブ部１１の表面に生成された酸化膜１３を削るため、図５（ａ），（ｂ）に示すように、酸化膜１３の破壊が促進され、メッキ層１２の錫メッキ層１２ｃとの接触が得られる。
【００５０】
また、接触面が酸化膜１３の削除によって分断され、複数の接触面ができる。以上より、メス端子１やオス端子１０を大型化したり、極力複雑化したりすることなく、接触抵抗を低減できる。
【００５１】
本実施形態では、端子挿入方向の直交方向に間隔を置いて複数設けられた突部５で、タブ部１１の表面の酸化膜１３を削ることにより、複数の箇所で接触面が分断されるため、多くの接触面を確実に得ることができる。
【００５２】
〔第２実施形態〕
次に、図６を用いて本発明の第２実施形態を示す。なお、第１実施形態と同様の構成については説明を省略する。また、本実施の形態においては、後述する突部９が酸化膜除去部として機能する。
【００５３】
図６（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に示すように、本実施形態の接点接続構造は、弾性撓み部３の接触面側には、インデント部８が形成されると共に、タブ部１１がインデント部８よりも先に摺動する位置に、突部９が設けられている点において、第１実施形態と相違している。
【００５４】
インデント部８は、その外周面がほぼ球面形状であり、中心の頂点が最下方に位置している。
【００５５】
突部９は、半円柱形状に形成され、頂点が最下方に位置している。なお、突部９の外径は、インデント部８の外径より小さく設定されている。
【００５６】
この第２実施形態においても、前述した第１実施形態と同様に、端子摺動過程において、弾性撓み部３の接触面側の突部９が酸化膜除去部として機能することにより、タブ部１１の表面に生成された酸化膜１３を削るため、酸化膜１３の破壊が促進され、メッキ層１２の錫メッキ層１２ｃとの接触が得られる。
【００５７】
また、接触面が酸化膜１３の削除によって分断され、複数の接触面ができる。以上より、メス端子１やオス端子１０を大型化したり、極力複雑化したりすることなく、接触抵抗を低減できる。
【００５８】
〔第３実施形態〕
図７を用いて本発明の第３実施形態を示す。なお、他の実施形態と同様の構成については説明を省略する。また、本実施の形態においては、後述する突部１５が酸化膜除去部として機能する。
【００５９】
本実施の形態に係る接点接続構造は、突部１５が、端子挿入方向の直交方向の第１接点部である箱部２の弾性撓み部３の両端部にわたって連続して設けられている。
【００６０】
また、突部１５は、弾性撓み部３の接触面と反対側に凹まされた凹部１７の角部１９を有する。
【００６１】
図７に示すように、突部１５は、タブ部１１の挿入方向と直交する弾性撓み部３の幅方向の両端部にわたって連続して設けられている。
【００６２】
この突部１５は、弾性撓み部３の接触面と反対側、すなわちインデント部４の頂部４ａの突出方向と反対側に向けて凹まされた凹部１７の角部１９となっている。
【００６３】
このような突部１５では、タブ部１１が箱部２内に挿入されると、凹部１７の角部１９がタブ部１１の接触面上を摺動し、タブ部１１の接触面側に生成された酸化膜１３が削られて、メッキ面１２の錫メッキ層１２ｃが露出する。
【００６４】
このとき、突部１５（凹部１７の角部１９）は、弾性撓み部３の幅方向にわたって設けられているので、タブ部１１の接触面において、弾性撓み部３の幅方向全域分の生成された酸化膜１３が削られる。
【００６５】
このため、インデント部がどのような形状（例えば、第１実施形態に示すインデント部４や第２実施形態に示すインデント部８など）であっても、インデント部は、メッキ面１２の錫メッキ層１２ｃが露出したタブ部１１の接触面に接触することができる。
【００６６】
この第３実施形態においても、前述した各実施形態と同様に、端子摺動過程において、弾性撓み部３の接触面側の突部１５が酸化膜除去部として機能することにより、タブ部１１の表面に生成された酸化膜１３を削るため、酸化膜１３の破壊が促進され、メッキ層１２の錫メッキ層１２ｃとの接触が得られる。
【００６７】
また、突部１５は、端子挿入方向の直交方向の弾性撓み部３の両端部にわたって連続して設けられているので、弾性撓み部３の接触面の全域でタブ部１１に生成された酸化膜１３を削ることができ、インデント部４とタブ部１１との接触抵抗をさらに低減できる。
【００６８】
さらに、突部１５は、タブ部１１の接触面と反対側に凹まされた凹部１７の角部１９であるので、容易に突部１５を設けることができ、複雑化を抑制することができる。以上より、メス端子１やオス端子１０を大型化したり、極力複雑化したりすることなく、接触抵抗を低減できる。
【００６９】
〔第４実施形態〕
図８を用いて本発明の第４実施形態を示す。なお、他の実施形態と同様の構成については説明を省略する。また、本実施の形態においては、後述する突部２１が酸化膜除去部として機能する。
【００７０】
本実施の形態に係る接点接続構造は、突部２１が、第１接点部である箱部２の弾性撓み部２３の接触面側に向けて折り曲げられた折曲部２５の端部２７を有する。
【００７１】
ここで、図８に示すように、本実施の形態に係る接点接続構造においては、弾性撓み部２３が、箱部２の底壁が上壁側に向けて切り起こされて形成されている。
【００７２】
この弾性撓み部２３の接触面である上面側には、上面側に向けて突出するインデント部２９が設けられている。なお、インデント部２９の形状は、半円筒状や半球状など、どのような形状であってもよい。
【００７３】
このインデント部２９は、箱部２の上壁と弾性撓み部２３の接触面との間にタブ部１１が挿入されると、弾性撓み部２３の撓み変形によって下方へ変移する。
【００７４】
このようなインデント部２９が設けられた弾性撓み部２３には、タブ部１１がインデント部２９よりも先に摺動する位置に、突部２１が設けられている。
【００７５】
図８に示すように、突部２１は、弾性撓み部２３の自由端が接触面側、すなわちインデント部２９の突出方向と同一方向に向けて折り曲げられた折曲部２５の端部２７となっている。
【００７６】
なお、突部２１は、タブ部１１の挿入方向と直交する弾性撓み部２３の幅方向の両端部にわたって連続して設けられている。
【００７７】
この突部２１では、タブ部１１が箱部２内に挿入されると、折曲部２５の端部２７がタブ部１１の接触面上を摺動し、タブ部１１の接触面側に生成された酸化膜１３が削られて、メッキ面１２の錫メッキ層１２ｃが露出する。
【００７８】
この第４実施形態においても、前述した各実施形態と同様に、端子摺動過程において、弾性撓み部３の接触面側の突部２１が酸化膜除去部として機能することにより、タブ部１１の表面に生成された酸化膜１３を削るため、酸化膜１３の破壊が促進され、メッキ層１２の錫メッキ層１２ｃとの接触が得られる。
【００７９】
また、突部２１は、弾性撓み部２３の自由端側を接触面側に向けて折り曲げられた折曲部２５の端部２７であるので、容易に突部２１を設けることができ、複雑化を抑制することができる。以上より、メス端子１やオス端子１０を大型化したり、極力複雑化したりすることなく、接触抵抗を低減できる。
【００８０】
なお、上記第１実施形態では四角錐状の突部５を設けて、上記第２実施形態では半円柱状の突部９を設けたが、本発明はこれに限定されず、突部をインデント部より外径が小さく設定された形状であればよい。
【００８１】
また、突部の表面に細かな凹凸部を設けて摩擦係数の向上を図ることもできる。これによって、突部でメッキ層の酸化膜を強く擦ることができるので、酸化膜をより確実に破壊することができる。
【００８２】
さらに、第３，第４実施形態では、突部が端子挿入方向の直交方向の第１接点部の両端部にわたって連続して設けられているが、本発明はこれに限定されず、凹部の角部や折曲部の端部を端子挿入方向の直交方向に間隔を置いて複数設けてもよい。
【００８３】
また、酸化膜除去部としての突部は、第１，第２実施形態では端子挿入方向の直交方向に間隔を置いて複数設けられたのみ、第３，第４実施形態では端子挿入方向の直交方向の第１接点部の両端部にわたって連続して設けられたのみであるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００８４】
例えば、第１接点部の接触面側の第２接点部がインデント部よりも先に摺動する位置において、まず、端子挿入方向の直交方向に間隔を置いて複数設けられた酸化膜除去部を１列設け、次に、端子挿入方向の直交方向の第１接点部の両端部にわたって連続して設けられた酸化膜除去部を１列設けるなど、端子挿入方向の直交方向に沿った酸化膜除去部を端子挿入方向に複数列配置させ、全体として酸化膜除去部としてもよい。
【００８５】
さらに、酸化膜除去部として機能する突部は、四角錐状の突部のみ、半円柱形状の突部のみ、凹部の角部のみ、折曲部の端部のみで構成されなくともよく、第１接点部の接触面側において、第２接点部がインデント部よりも先に摺動する位置であれば、例えば、四角錐状の突部と折曲部の端部とで突部を構成するなど、複数の組み合わせで突部を構成してもよい。
【００８６】
また、酸化膜除去部は、突部となっているが、これに限らず、例えば、第１接点部のメッキ層内に、第２接点部のメッキ層に混入させた金属と同種の金属を混入させ、金属間結合の結合力によって酸化膜を除去するような部分としてもよく、酸化膜を除去できる構成であればどのようなものであってもよい。
【符号の説明】
【００８７】
１  メス端子（第１端子）
２  箱部（第１接点部）
３、２３  弾性撓み部（第１接点部）
４、８、２９  インデント部
４ａ  頂部
５、９、１５、２１  突部（酸化膜除去部）
１０  オス端子（第２端子）
１１  タブ部（第２接点部）
１２  メッキ層
１３  酸化膜
１７  凹部
１９  角部
２５  折曲部
２７  端部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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