(57)【要約】【課題】調光ミラーの閉空間に水素含有ガスと酸素含有ガスが供給されて光学的な性質を制御可能とされたガスクロミック方式の調光ミラーにおいて、閉空間内で水を生成させるような水素と酸素の結合を抑制することにより、閉空間内での水の生成を抑制して調光ミラーにおける調光機能の低下を抑制する。【解決手段】上記閉空間に水素含有ガスを導入する水素導入手段（水素濃度調整装置２０等）と、閉空間及び調光素子から水素を除去するため、酸素含有ガスを閉空間に導入する酸素導入手段（空気供給口４１等）と、閉空間に存在するガスを排気するため、不活性ガスを閉空間に導入する不活性ガス導入手段（脱酸素空気供給源４２等）と、閉空間に水素含有ガスを導入するとき、及び閉空間に酸素含有ガスを導入するとき、それに先立って閉空間に不活性ガスを導入するように制御する制御手段とを備える。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向して配置された一対の透明基材と、
この一対の透明基材の互いに対向する面の少なくとも一方に形成された調光素子と、
前記一対の透明基材の周縁部をシールして一つの閉空間を形成するシール材と
を備える調光ミラーの前記閉空間にガスを供給する装置であって、
前記閉空間に水素含有ガスを導入する水素導入手段と、
前記閉空間及び前記調光素子から水素を除去するため、酸素含有ガスを前記閉空間に導入する酸素導入手段と、
前記閉空間に存在するガスを排気するため、不活性ガスを前記閉空間に導入する不活性ガス導入手段と、
前記閉空間に水素含有ガスを導入するとき、及び／又は前記閉空間に酸素含有ガスを導入するとき、それに先立って前記閉空間に不活性ガスを導入するように制御する制御手段と
を備える調光ミラーのガス供給装置。
【請求項２】
請求項１において、
所定圧力の水素含有ガスを貯留する水素ガスタンクと、
前記調光ミラーの閉空間における水素含有ガスの圧力が所定圧力より低下したとき、前記水素ガスタンク内の水素含有ガスを前記閉空間内へ供給して前記閉空間における水素含有ガスの圧力を所定圧力に維持する弁と
を備える調光ミラーのガス供給装置。
【請求項３】
請求項１において、
前記閉空間内の圧力を検出する圧力センサと、
該圧力センサによって検出される圧力を所定圧力に維持するように前記調光ミラーの閉空間内へ水素含有ガスを供給するポンプと
を備える調光ミラーのガス供給装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかにおいて、
前記一対の透明基材間の間隔を、各ガスが流れる領域の全面において所定値に維持するように、前記一対の透明基材の対向面に複数の突部が分散して設けられている調光ミラーのガス供給装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特定のガスの導入によって光学的な性質を制御可能とされたガスクロミック方式の調光ミラーに関し、その調光ミラーにガスを供給する装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
下記の非特許文献には、調光薄膜を透明シートに蒸着して調光シートを作製し、その調光シートの周囲をガラスに張り付けてガスクロミック方式の調光ミラーを構成するものが開示されている。調光シートとガラスとの隙間によって形成される閉空間に、空気中の水蒸気を電気分解して発生させた水素を導入することにより調光シートを鏡状態から透明状態にスイッチングし、また酸素を導入することにより調光シートは透明状態から鏡状態に戻される。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００３】
【非特許文献１】産総研のプレスリリース「新たなガスクロミック方式の調光ミラーシートを開発」（２０１３年１月２３日発表）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記のように調光ミラーの閉空間には水素と酸素が供給されるため、それらが結合すると水が生成される場合がある。しかし、水が調光薄膜に付着すると調光薄膜が劣化して調光機能が低下する問題がある。
【０００５】
このような問題に鑑み本発明の課題は、調光ミラーの閉空間に水素含有ガスと酸素含有ガスが供給されて光学的な性質を制御可能とされたガスクロミック方式の調光ミラーにおいて、閉空間内で水を生成させるような水素と酸素の結合を抑制することにより、閉空間内での水の生成を抑制して調光ミラーにおける調光機能の低下を抑制することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
第１発明は、互いに対向して配置された一対の透明基材と、この一対の透明基材の互いに対向する面の少なくとも一方に形成された調光素子と、前記一対の透明基材の周縁部をシールして一つの閉空間を形成するシール材とを備える調光ミラーの前記閉空間にガスを供給する装置であって、前記閉空間に水素含有ガスを導入する水素導入手段と、前記閉空間及び前記調光素子から水素を除去するため、酸素含有ガスを前記閉空間に導入する酸素導入手段と、前記閉空間に存在するガスを排気するため、不活性ガスを前記閉空間に導入する不活性ガス導入手段と、前記閉空間に水素含有ガスを導入するとき、及び／又は前記閉空間に酸素含有ガスを導入するとき、それに先立って前記閉空間に不活性ガスを導入するように制御する制御手段とを備える調光ミラーのガス供給装置である。
【０００７】
第１発明によれば、調光ミラーの閉空間内への水素含有ガスの導入、及び／又は酸素含有ガスの導入に先立って、不活性ガスを導入することにより、それまで閉空間内にあった酸素含有ガス又は水素含有ガスが押し出されることになる。そのため、閉空間内に水素含有ガス又は酸素含有ガスが導入されるときは、閉空間内から酸素含有ガス又は水素含有ガスが除去された状態にあり、閉空間内で水素と酸素が結合して水が生成されることが抑制される。従って、調光ミラーの調光素子が水分によって劣化されることが抑制され、調光ミラーにおける調光機能の低下を抑制することができる。
【０００８】
第１発明では、調光ミラーの閉空間内への水素含有ガスの導入、及び酸素含有ガスの導入のいずれの場合も、それに先立って不活性ガスを導入することが望ましいが、不活性ガスの導入を介在させなくても水分の生成の可能性の低い条件が形成される場合には、水分の生成の可能性の比較的高い側のみで不活性ガスの導入を介在させるようにしても良い。
【０００９】
第２発明は、上記第１発明において、所定圧力の水素含有ガスを貯留する水素ガスタンクと、前記調光ミラーの閉空間における水素含有ガスの圧力が所定圧力より低下したとき、前記水素ガスタンク内の水素含有ガスを前記閉空間内へ供給して前記閉空間における水素含有ガスの圧力を所定圧力に維持する弁とを備える調光ミラーのガス供給装置である。
【００１０】
第２発明によれば、調光ミラーの閉空間内に水素含有ガスが導入された状態で、調光素子による水素の消費等によって水素含有ガスの圧力が低下すると、水素ガスタンクから水素含有ガスが供給されて、水素含有ガスの圧力が所定圧力に維持される。そのため、調光ミラーを透明状態に維持しているときに水素含有ガスが不足して、調光ミラーが意に反して鏡状態に転換してしまうことを防止することができる。また、閉空間内の圧力変動が抑制され、圧力変動に伴う水分の凝集が抑制される。従って、調光ミラーの調光素子が水分によって劣化されることが抑制され、調光ミラーにおける調光機能の低下を抑制することができる。
【００１１】
第３発明は、上記第１発明において、前記閉空間内の圧力を検出する圧力センサと、該圧力センサによって検出される圧力を所定圧力に維持するように前記調光ミラーの閉空間内へ水素含有ガスを供給するポンプとを備える調光ミラーのガス供給装置である。
【００１２】
第３発明によれば、調光ミラーの閉空間内に水素含有ガスが導入された状態で、調光素子による水素の消費等によって水素含有ガスの圧力が低下すると、ポンプによって水素含有ガスが供給されて、水素含有ガスの圧力が所定圧力に維持される。そのため、調光ミラーを透明状態に維持しているときに水素含有ガスが不足して、調光ミラーが意に反して鏡状態に転換してしまうことを防止することができる。また、閉空間内の圧力変動が抑制され、圧力変動に伴う水分の凝集が抑制される。従って、調光ミラーの調光素子が水分によって劣化されることが抑制され、調光ミラーにおける調光機能の低下を抑制することができる。
【００１３】
第４発明は、上記第１乃至第３発明のいずれかにおいて、前記一対の透明基材間の間隔を、各ガスが流れる領域の全面において所定値に維持するように、前記一対の透明基材の対向面に複数の突部が分散して設けられている調光ミラーのガス供給装置である。
【００１４】
第４発明によれば、複数の突起によって一対の透明基材間の間隔が各ガスが流れる領域の全面において所定値に維持されている。そのため、透明基材の対向面間に水素含有ガス等のガスが導入されて流動する際に、流路空間が均一とされていることにより流動中にガス圧力が変動することが抑制され、圧力変動に伴う水分の凝集が抑制される。従って、調光ミラーの調光素子が水分によって劣化されることが抑制され、調光ミラーにおける調光機能の低下を抑制することができる。
【００１５】
第５発明は、上記第１乃至第４発明のいずれかにおいて、前記閉空間内へ供給される前記各ガスの供給経路中並びに前記閉空間内の少なくとも一部には、前記各ガス中の水分を除去する除湿剤を備える調光ミラーのガス供給装置である。
【００１６】
第５発明によれば、各ガスが流れる経路中の少なくとも一部には除湿剤が備えられているため、経路中を流れるガスの水分が除湿剤によって除去される。従って、調光ミラーの調光素子が水分によって劣化されることが抑制され、調光ミラーにおける調光機能の低下を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の一実施形態における調光ミラーの斜視図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線断面拡大図である。
【図３】上記調光ミラーの部分拡大正面図である。
【図４】図３のＩＶ−ＩＶ線断面図である。
【図５】上記実施形態のブロック図である。
【図６】上記実施形態における水素濃度調整の制御フローチャートである。
【図７】上記調光ミラーを透明にする際の制御フローチャートである。
【図８】上記調光ミラーを鏡にする際の制御フローチャートである。
【図９】上記調光ミラーを透明にする際の水素含有ガスの流れを説明する図である。
【図１０】上記調光ミラーへの不活性ガスの流れを説明する図である。
【図１１】上記調光ミラーを鏡にする際の酸素含有ガスの流れを説明する図である。
【図１２】水素ガスタンクから上記調光ミラーへの水素含有ガスの流れを説明する図である。
【図１３】ポンプから上記調光ミラーへの水素含有ガスの流れを説明する図である。
【図１４】上記調光ミラーが透明に制御された後の閉空間内の圧力変化（Ａ）及び調光ミラーの透過度の変化（Ｂ）を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
各図により本発明の一実施形態を説明する。この実施形態は、建物や乗物の窓ガラスに用いて太陽光を効果的に遮り冷房負荷を低減する用途に利用可能な調光ミラーに本発明を適用した例を示す。
【００１９】
図１〜４は、ガスクロミック方式の調光ミラー１０の構造を示す。調光ミラー１０は、透明なガラス１１の表面に所定の隙間を介してプラスチック製の透明シート１２を配置し、透明シート１２の周囲をシール材１５で気密状態にシールすることにより一つの閉空間を形成している。透明シート１２の閉空間側には、例えばマグネシウム合金薄膜である調光薄膜１３が蒸着により形成され、調光シート１４が構成されている。閉空間内に水素含有ガスを導入し、調光薄膜１３が水素を取り込むと透明シート１２は可視光を透過させる透明状態となり、また調光薄膜１３の水素が除去されると透明シート１２は光を反射する鏡状態となる。ここで、ガラス１１及び透明シート１２は本発明における一対の透明基材に相当し、調光薄膜１３は本発明における調光素子に相当する。
【００２０】
調光シート１４の周囲には図１に示すように枠体１６を装着して、調光シート１４とガラス１１の周囲の凹凸形状やシール材１５が外部から見えないように覆って見栄えを良くしている。図２では枠体１６の記載を省略している。また、図３、４に示すように、ガラス１１の閉空間側には複数の突部１７が閉空間内で水素含有ガス等のガスが流れる領域の全面に渡って分散して設けられている。突部１７は円柱状に形成され、ガラス１１と同じガラス製であり、ガラス１１と一体に設けられている。突部１７の大きさは、円柱の太さが０．２ｍｍ、円柱の高さが０．２〜１．０ｍｍ程度とされている。突部１７の先端は調光薄膜１３に当接して、ガラス１１と調光シート１４との隙間を円柱の高さによって決定している。従って、各突部１７の円柱高さを一定にすることによりガラス１１と調光シート１４との隙間がガスが流れる領域の全面に渡って均一とされている。そのため、ガラス１１と調光シート１４の対向面間に水素含有ガス等のガスが導入されて流動する際に流動中にガス圧力が変動することが抑制され、圧力変動に伴う水分の凝集が抑制される。従って、調光ミラー１０の調光薄膜１３が水分によって劣化されることが抑制され、調光ミラー１０における調光機能の低下を抑制することができる。
【００２１】
図５には調光ミラー１０の閉空間内に水素含有ガスを導入及び除去するための配管及び制御機器等が示されている。調光ミラー１０の閉空間には３本の配管１０ａ、１０ｂ、１０ｃが接続され、閉空間内には水分を吸収する除湿剤１８と閉空間内の圧力を検出する圧力センサ１９を備えている。第１の配管１０ａは、吐出方向を切り替え可能なポンプ３３と電磁弁３２を介して水素濃度調整装置２０を接続している。第２の配管１０ｂは、電磁弁４４と２方向切替弁４３を介して空気供給口４１を接続している。第３の配管１０ｃは、逆止弁３５を介して水素ガスタンク３４を接続している。逆止弁３５は調光ミラー１０の閉空間内の圧力が所定圧力より低下すると水素ガスタンク３４から水素含有ガスを閉空間内に導入するように構成されている。第１の配管１０ａの電磁弁３２には並列に逆止弁３１が接続され、逆止弁３１の他方のポートは大気中に開放されている。そして、逆止弁３１はポンプ３３が調光ミラー１０にガスを導入するときは弁を閉じ、ポンプ３３が調光ミラー１０からガスを吸引するときは弁を開くように作動する。第２の配管１０ｂの２方向切替弁４３の他方のポートには脱酸素空気供給源４２が接続されている。脱酸素空気供給源４２は大気中の酸素を除去して窒素リッチの不活性ガスを供給する装置であり、内部に除湿剤を備えている。上述の空気供給口４１の内部にも除湿剤を備えている。
【００２２】
水素濃度調整装置２０は、水素発生源２１と脱酸素空気供給源２２と混合器２６とを備えている。水素発生源２１は空気中の水蒸気を電気分解して水素含有ガスを発生させる装置であり、脱酸素空気供給源２２は、脱酸素空気供給源４２と同様、大気中の酸素を除去して窒素リッチの不活性ガスを供給する装置であり、内部に除湿剤を備えている。混合器２６は、水素発生源２１及び脱酸素空気供給源２２からの水素含有ガス及び不活性ガスを受けて混合し、適度な濃度の水素含有ガスを蓄える装置である。水素発生源２１と脱酸素空気供給源２２と混合器２６との間は、２方向切替弁２３によって水素発生源２１からの水素含有ガスか、脱酸素空気供給源２２からの不活性ガスが切り替えて取り出され、そのガスがポンプ２４及び逆止弁２５を介して混合器２６に供給されるようにされている。逆止弁２５は混合器２６に蓄えられたガスがポンプ２４側に逆流しないように機能している。
【００２３】
図６は水素濃度調整装置２０における水素濃度調整のための制御内容を示している。ステップＳ１では、水素発生源２１に電力を供給し、ステップＳ２では２方向切替弁２３に電力を供給し、ステップＳ３ではポンプ２４をＡ秒間駆動する。そのため、水素発生源２１で水素含有ガスが発生され、その水素含有ガスがポンプ２４によって２方向切替弁２３及び逆止弁２５を介して混合器２６に供給される。Ａ秒経過後、ステップＳ４ではポンプ２４が作動停止され、ステップＳ５では２方向切替弁２３への電力供給が停止される。そのため、混合器２６への水素含有ガスの供給が停止される。次にステップＳ６ではポンプ２４がＢ秒間駆動される。そのため、脱酸素空気供給源２２からの不活性ガスがポンプ２４によって２方向切替弁２３及び逆止弁２５を介して混合器２６に供給される。Ｂ秒経過後、ステップＳ７ではポンプ２４が作動停止され、ステップＳ８では水素発生源２１への電力供給が停止される。そのため、混合器２６への不活性ガスの供給が停止される。ここでは説明を省略するが、混合器２６に蓄えられる水素含有ガスの濃度が適度な濃度となるように、混合器２６に水素含有ガスを供給する時間Ａ秒と不活性ガスを供給する時間Ｂ秒との比率が制御される。
【００２４】
図７は調光ミラー１０の閉空間内に水素含有ガスを導入するための制御内容を示している。ステップＳ１０において調光ミラー１０を鏡状態から透明状態に切り替えるために行われたスイッチ操作の情報が入力されると、ステップＳ１１ではポンプ３３、電磁弁３２等への電力供給が停止され初期化処理が行われる。次のステップＳ１２では処理１として図６において説明した水素濃度調整処理が行われる。
【００２５】
ステップＳ１３からステップＳ１５では、調光ミラー１０の閉空間内への水素含有ガス導入に先立って不活性ガスの導入が行われる（図１０参照）。ステップＳ１３では電磁弁４４への電力供給により弁開放が行われ、ステップＳ１４ではポンプ３３がＣ秒間駆動される。このときのポンプ３３の駆動では調光ミラー１０の閉空間内からガスの吸引が行われる。そのため、図１０の矢印で示すように脱酸素空気供給源４２からの不活性ガスがポンプ３３によって吸引され、２方向切替弁４３、電磁弁４４及び逆止弁３１を介して調光ミラー１０の閉空間内に導入される。このように調光ミラー１０の閉空間内に不活性ガスが導入されることにより閉空間内の換気が行われ、閉空間内に酸素含有ガスのない環境が形成される。そして、Ｃ秒経過後、ステップＳ１５ではポンプ３３の駆動が停止される。
【００２６】
ステップＳ１６以降の処理では、調光ミラー１０の閉空間内への水素含有ガス導入が行われる（図９参照）。ステップＳ１６では電磁弁３２への電力供給により弁開放が行われる。次のステップＳ１７では水素含有ガスを供給するための各機器が正常に機能可能な状態にあるか否かがチェックされる。いずれかの機器に異常があればステップＳ１７が否定判断されてステップＳ２４において処理２としてエラー処理が行われる。エラー処理では全ての機器への出力がオフとされ、エラー表示を行う発光ダイオードが点灯される。そして、水素含有ガス導入の処理が終了される。
【００２７】
ステップＳ１７のチェックにおいて各機器に異常がなく、ステップＳ１７が肯定判断されれば、ステップＳ１８において、２方向切替弁４３への電力供給が行われる。また、ステップＳ１９ではポンプ３３がＤ秒間駆動される。このときのポンプ３３の駆動では調光ミラー１０の閉空間内に向けてガスの導入が行われる。そのため、図９の矢印で示すように水素濃度調整装置２０からの水素含有ガスがポンプ３３によって、電磁弁３２、４４、２方向切替弁４３、及び空気供給口４１を介して調光ミラー１０の閉空間内に導入される。このように調光ミラー１０の閉空間内に水素含有ガスが導入されることにより調光薄膜１３に水素含有ガスが供給され、調光シート１４が可視光を通す透明状態とされる。そして、Ｄ秒経過後、ステップＳ２０ではポンプ３３の駆動が停止される。
【００２８】
ステップＳ２１では調光シート１４が所定の透明状態に至ったか否かが判定される。この判定は、図示を省略したが、調光ミラー１０を挟んで対峙されたフォトカプラーにより検出される光の透過率が閾値以上か否かによって行われる。調光シート１４の透明状態が不十分でステップＳ２１が否定判断されると、ステップＳ２２においてステップＳ１９以降の処理回数がＮ回以上か否かが判定される。この処理回数の計数のため図示を省略したがステップＳ１９の処理を行う毎にインクリメントされるカウンタが設けられている。処理回数がＮ回以上に達していなくてステップＳ２２が否定判断されると、ステップＳ１９に戻って再びポンプ３３がＤ秒間駆動される。ステップＳ２１とステップＳ２２の処理によって光の透過率が閾値以上になるか、処理回数がＮ回以上に達するまでステップＳ１９の処理が繰り返される。その間に光の透過率が閾値以上に達してステップＳ２１が肯定判断されれば、ステップＳ２３においてステップＳ１１と同様にポンプ３３、電磁弁３２等への電力供給が停止される。また、処理回数がＮ回以上に達してステップＳ２２が肯定判断されれば、ステップＳ２４において処理２によりエラー処理が行われる。即ち、ポンプ３３の駆動をＮ回繰り返しても調光ミラー１０が所定の透明状態にならないことから、どこかに異常があるとしてエラー処理が行われる。
【００２９】
図８は調光ミラー１０の閉空間内に酸素含有ガスを導入するための制御内容を示している。ステップＳ３０において調光ミラー１０を透明状態から鏡状態に切り替えるために行われたスイッチ操作の情報が入力されると、ステップＳ３１ではポンプ３３、電磁弁３２等への電力供給が停止され初期化処理が行われる。
【００３０】
ステップＳ１３からステップＳ１５では、図７に基づいて説明したように調光ミラー１０の閉空間内への酸素含有ガス導入に先立って不活性ガスの導入が行われる（図１０参照）。そのため、図１０の矢印で示すように脱酸素空気供給源４２からの不活性ガスがポンプ３３によって吸引され、２方向切替弁４３、電磁弁４４及び逆止弁３１を介して調光ミラー１０の閉空間内に導入される。このように調光ミラー１０の閉空間内に不活性ガスが導入されることにより閉空間内の換気が行われ、閉空間内に水素含有ガスのない環境が形成される。
【００３１】
ステップＳ３２以降の処理では、調光ミラー１０の閉空間内への酸素含有ガス導入が行われる（図１１参照）。ステップＳ３２では酸素含有ガスを供給するための各機器が正常に機能可能な状態にあるか否かがチェックされる。いずれかの機器に異常があればステップＳ１７が否定判断されてステップＳ２４において処理２として上述と同様のエラー処理が行われる。そして、酸素含有ガス導入の処理が終了される。
【００３２】
ステップＳ３２のチェックにおいて各機器に異常がなく、ステップＳ３２が肯定判断されれば、ステップＳ３３において、２方向切替弁４３への電力供給が行われる。また、ステップＳ３４ではポンプ３３がＥ秒間駆動される。このときのポンプ３３の駆動では調光ミラー１０の閉空間内からガスの吸引が行われる。そのため、図１１の矢印で示すように空気供給口４１からの酸素含有ガスである大気がポンプ３３によって、２方向切替弁４３、電磁弁４４、３２及び逆止弁３１を介して調光ミラー１０の閉空間内に導入される。このように調光ミラー１０の閉空間内に酸素含有ガスが導入されることにより調光薄膜１３中の水素含有ガスが除去され、調光シート１４が可視光を反射する鏡状態とされる。そして、Ｅ秒経過後、ステップＳ３５ではポンプ３３の駆動が停止される。
【００３３】
ステップＳ３６では調光シート１４が所定の鏡状態に至ったか否かが判定される。この判定は、上述したように調光ミラー１０を挟んで対峙されたフォトカプラーにより検出される光の透過率が閾値以下か否かによって行われる。調光シート１４の鏡状態への転換が不十分でステップＳ３６が否定判断されると、ステップＳ３７においてステップＳ３４以降の処理回数がＮ回以上か否かが判定される。処理回数がＮ回以上に達していなくてステップＳ３７が否定判断されると、ステップＳ３４に戻って再びポンプ３３がＥ秒間駆動される。ステップＳ３６とステップＳ３７の処理によって光の透過率が閾値以下になるか、処理回数がＮ回以上に達するまでステップＳ３４の処理が繰り返される。その間に光の透過率が閾値以下に達してステップＳ３６が肯定判断されれば、ステップＳ３８においてステップＳ１１と同様にポンプ３３、電磁弁３２等への電力供給が停止される。また、処理回数がＮ回以上に達してステップＳ３７が肯定判断されれば、ステップＳ２４において処理２によりエラー処理が行われる。即ち、ポンプ３３の駆動をＮ回繰り返しても調光ミラー１０が所定の鏡状態にならないことから、どこかに異常があるとしてエラー処理が行われる。
【００３４】
図１４（Ａ）は調光ミラー１０の閉空間内に水素含有ガスを導入した状態を維持しているときの閉空間内の水素含有ガスの時間経過に伴う圧力変化を示している。一方、図１４（Ｂ）は水素含有ガスの圧力変化に対応する調光ミラー１０の透過率の変化を示している。これらのグラフは、時間の経過と共に調光ミラー１０の閉空間内の水素含有ガスが減少し、限界圧力Ｐ１に達すると、調光ミラー１０が透明状態から鏡状態に変化してしまうことを表している。このように閉空間内の水素含有ガスの圧力が時間と共に低下する理由は調光薄膜１３によって水素含有ガスが消費されるからである。そのため、この実施形態では、水素含有ガス圧力が低下したとき、限界圧力Ｐ１に達する前の圧力Ｐ２になると、水素含有ガスを補充するようにしている。それにより調光ミラーを透明状態に維持しているときに意に反して鏡状態に転換してしまうことを防いでいる。
【００３５】
図５の調光ミラー１０内の圧力センサ１９は閉空間内の圧力を検出している。この検出圧力が上述の圧力Ｐ２より低くなると、電磁弁３２が開放されると共に、ポンプ３３が駆動され、水素濃度調整装置２０からの水素含有ガスが電磁弁３２を介して調光ミラー１０の閉空間内に導入される。この様子が図１３の矢印により示されている。これにより閉空間内の圧力が限界圧力Ｐ１に達してしまうことを防止している。このように水素含有ガスの圧力が所定圧力Ｐ２に維持されるため、閉空間内の圧力変動が抑制され、圧力変動に伴う水分の凝集が抑制される。従って、調光ミラー１０の調光薄膜１３が水分によって劣化されることが抑制され、調光ミラー１０における調光機能の低下を抑制することができる。
【００３６】
一方、図５に基づいて既述したように、調光ミラー１０に接続された第３の配管１０ｃによって、調光ミラー１０の閉空間内の圧力が所定圧力Ｐ２より低下すると逆止弁３５が開いて、水素ガスタンク３４からの水素含有ガスを閉空間内に導入するように構成されている。この様子が図１２の矢印により示されている。この構成によっても上述のポンプ３３を駆動した場合と同様、閉空間内の圧力が限界圧力Ｐ１に達してしまうことを防止し、水素含有ガスの圧力を所定圧力Ｐ２に維持している。なお、この第３の配管１０ｃ経由の水素含有ガスの導入と、上述のポンプ３３と圧力センサ１９を使った水素含有ガスの導入とは、同じ機能を達成するものであるため、いずれか一方のみを採用し、他方を省略することもできる。
【００３７】
以上の実施形態において、図９の矢印の経路上にある第１の配管１０ａに接続された電磁弁３２、ポンプ３３、及び第２の配管１０ｂに接続された電磁弁４４、２方向切替弁４３、空気供給口４１、並びに図７のフローチャートにおけるステップＳ１３〜ステップＳ１５を除く処理は、本発明の水素導入手段に相当する。同様に、図１１の矢印の経路上にある第１の配管１０ａに接続された逆止弁３１、ポンプ３３、及び第２の配管１０ｂに接続された電磁弁４４、２方向切替弁４３、空気供給口４１、並びに図８のフローチャートにおけるステップＳ１３〜ステップＳ１５を除く処理は、本発明の酸素導入手段に相当する。また、図１０の矢印の経路上にある第１の配管１０ａに接続された逆止弁３１、ポンプ３３、及び第２の配管１０ｂに接続された電磁弁４４、２方向切替弁４３、脱酸素空気供給源４２、並びに図７、８のフローチャートにおけるステップＳ１３〜ステップＳ１５の処理は、本発明の不活性ガス導入手段に相当する。更に、図７、８のフローチャートにおける処理全体が本発明の制御手段に相当する。
【００３８】
以上の実施形態によれば、調光ミラー１０の閉空間内への水素含有ガスの導入、及び酸素含有ガスの導入に先立って、不活性ガスを導入することにより、それまで閉空間内にあった酸素含有ガス又は水素含有ガスが押し出されることになる。そのため、閉空間内に水素含有ガス又は酸素含有ガスが導入されるときは、閉空間内から酸素含有ガス又は水素含有ガスが除去された状態にあり、閉空間内で水素と酸素が結合して水が生成されることが抑制される。従って、調光ミラー１０の調光薄膜１３が水分によって劣化されることが抑制され、調光ミラー１０における調光機能の低下を抑制することができる。
【００３９】
また、各ガスが流れる経路となる脱酸素空気供給源２２、４２、混合器２６、空気供給口４１、並びに調光ミラー１０の閉空間内には、それぞれ除湿剤が備えられているため、経路中を流れるガスの水分が除湿剤によって除去される。従って、調光ミラー１０の調光薄膜１３が水分によって劣化されることが抑制され、調光ミラー１０における調光機能の低下を抑制することができる。
【００４０】
以上、特定の実施形態について説明したが、本発明は、それらの外観、構成に限定されず、本発明の要旨を変更しない範囲で種々の変更、追加、削除が可能である。例えば、調光ミラーの用途は上述のものに限定されない。
【符号の説明】
【００４１】
１０    調光ミラー
１１    ガラス（透明基材）
１２    透明シート（透明基材）
１３    調光薄膜（調光素子）
１４    調光シート
１５    シール材
１６    枠体
１７    突部
１８    除湿剤
１９    圧力センサ
２０    水素濃度調整装置
２１    水素発生源
２２    脱酸素空気供給源
２６    混合器
３４    水素ガスタンク
４１    空気供給口
４２    脱酸素空気供給源
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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