(57)【要約】      （修正有）【課題】発する高エネルギー短波長の青色光による人の目に対する傷害を回避ための新規の表示パネルを提供する。【解決手段】ガラス基板１０と、ガラスカバー板２０と、ガラス基板１０とガラスカバー板２０の間に介在する発光ユニット３０とを主に備える表示パネルであって、表示パネルの光射出方向に、波長≦435nmの青色光を濾過するための光濾過層２１が設けられており、当該光濾過層２１により、表示パネルが発する波長≦435nmの青色光に対して濾過を行い、高エネルギー短波長の青色光による人の目に対する傷害を回避する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板と、ガラスカバー板と、前記ガラス基板とガラスカバー板の間に介在する発光ユニットとを備える表示パネルであって、前記表示パネルの光射出方向に、所定の波長域範囲内の青色光を濾過するための光濾過層が設けられていることを特徴とする表示パネル。
【請求項２】
前記表示パネルはLCD表示パネルであることを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。
【請求項３】
前記表示パネルはOLED表示パネルであることを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。
【請求項４】
前記光濾過層は前記ガラスカバー板の表面又は裏面に製作されるロングウェーブパス光濾過層であることを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。
【請求項５】
前記ロングウェーブパス光濾過層はガラスカバー板に蒸着又はスパッタリングされる多層媒体膜であることを特徴とする請求項4に記載の表示パネル。
【請求項６】
前記ロングウェーブパス光濾過層はガラスカバー板に蒸着又はスパッタリングされる単層半導体薄膜材料であることを特徴とする請求項4に記載の表示パネル。
【請求項７】
前記濾過される青色光の波長域は≦440nmであることを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。
【請求項８】
前記濾過される青色光的波長域は≦435nmであることを特徴とする請求項7に記載の表示パネル。
【請求項９】
前記表示パネルの光射出方向に光濾過層を設けることにより、所定の波長域範囲内の青色光を濾過する工程を備えることを特徴とする表示パネルの製作方法。
【請求項１０】
前記表示パネルはLCD表示パネルであることを特徴とする請求項9に記載の製作方法。
【請求項１１】
前記表示パネルはOLED表示パネルであることを特徴とする請求項9に記載の製作方法。
【請求項１２】
前記表示パネルのガラスカバー板の表面又は裏面にロングウェーブパス光濾過層を製作することにより、所定の波長域範囲内の青色光を濾過することを特徴とする請求項9に記載の製作方法。
【請求項１３】
前記ガラスカバー板に多層媒体膜を蒸着又はスパッタリングすることにより前記ロングウェーブパス光濾過層を形成することを特徴とする請求項12に記載の製作方法。
【請求項１４】
前記ガラスカバー板に単層半導体薄膜材料を蒸着又はスパッタリングすることにより前記ロングウェーブパス光濾過層を形成することを特徴とする請求項12に記載の製作方法。
【請求項１５】
前記光濾過層により波長域≦440nmの青色光を濾過することを特徴とする請求項9に記載の製作方法。
【請求項１６】
前記光濾過層により波長域≦440nmの青色光を濾過することを特徴とする請求項15に記載の製作方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示パネル及びその製造方法に関し、特に、青色光濾過効果を有する表示パネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子製品が日増しに普及しているにつれて、長期的に電子製品を使用することが健康を損なうかどうかについての論争は止んでいない。論争と検討の焦点は主に電子製品における表示パネルの放射問題に集まる。
【０００３】
現在、LCD（Liquid Crystal Display，液晶ディスプレイ）とOLED（Organic Electroluminesence Display，有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ）技術は日増しに完全になり、既に従来のCRT（Cathode ray tube，陰極線管）ディスプレイに次第に代わってきた。LCDとOLEDが放出する放射線は、CRTディスプレイと比べて比較的に大幅に少なくなる。しかし、LCDとOLEDパネルからの放射線が人の目に傷害を与える問題はまだうまく解決されていない。
【０００４】
可視光も電磁波の一種であり、電磁波は即ち電磁放射線である。したがって、広義で言えば、可視光は即ち一種の電磁放射線である。しかし、通常的には、可視光が人体に対する危害は小さいと考えられる。可視光とは、電磁波スペクトルにおいて波長が約390〜760nmの範囲内で、且つ肉眼で見える電磁放射線を指す。各種の可視光のうち、青色光の波長は400〜500nm(Nanometer；NM)である。科学研究によると、網膜細胞には、英語名がA2Eである異常なレチナールが含まれ、A2Eは二つの吸収ピークを有し、一つは紫外線領域における335NMにあり、もう一つは青色光領域における435NMにある。光の照射のない暗い条件において、A2Eは網膜色素上皮に対して毒性を有する。光の照射がある条件において、その毒性は大幅に増加する。現在主流になったLCDとOLEDの光源に異常な高エネルギー短波長の青色光が含まれる。現在の理解で言えば、高エネルギー短波長の青色光とは、A2E吸収ピークにある波長が435NM〜440NMである高強度で高輝度な青色光である。
【０００５】
高エネルギー短波長の青色光による網膜傷害作用について、第一歩では、A2Eが青色光領域において吸収ピークがあるため、高エネルギー短波長の青色光はA2Eを励起させてラジカルイオンを放出させることができる。第二歩では、これらのラジカルイオンはA2Eによる網膜色素上皮傷害作用を増大し、網膜色素上皮の萎縮を引き起こし、更に光感受性細胞の死亡を引き起こす。光感受性細胞は入射光を受けて光信号を電気信号に変換する機能を発揮し、後者は視神経を経由して大脳に伝達された後に結像する。光感受性細胞の死亡により、視力は次第に低下し、ひいては完全に喪失してしまう。
【０００６】
したがって、従来の表示パネル技術は確かに更に改善する必要がある。
【発明の概要】
【０００７】
本発明が解決しようとする技術問題は、発する高エネルギー短波長の青色光による人の目に対する傷害を回避ための新規の表示パネルを提供することにある。
【０００８】
前記技術問題を解決するために、本発明は、ガラス基板と、ガラスカバー板と、前記ガラス基板とガラスカバー板の間に介在する発光ユニットとを備える表示パネルであって、前記表示パネルの光射出方向に、所定の波長域範囲内（例えば、波長440nm）の青色光を濾過するための光濾過層が設けられている表示パネルを開示している。
【０００９】
当該光濾過層により、表示パネルが発する所定の波長の青色光に対して濾過を行い、当該所定の波長（例えば、435nm）より小さい高エネルギー短波長の青色光による人の目に対する傷害を回避する。
【００１０】
本発明の更なる改善は、前記表示パネルがLCD表示パネル、OLED表示パネル又は任意の適切なパネルであることにある。
【００１１】
本発明の更なる改善は、前記光濾過層が前記ガラスカバー板の表面又は裏面に製作されるロングウェーブパス光濾過層であることにある。
【００１２】
本発明の更なる改善は、前記ロングウェーブパス光濾過層がガラスカバー板に例えば蒸着又はスパッタリングされる多層媒体膜、又はガラスカバー板に蒸着又はスパッタリングされる単層半導体薄膜材料であることにある。
【００１３】
本発明は、前記表示パネルの光射出方向に光濾過層を設けることにより、ある所定の波長域範囲内の青色光を濾過する工程を備える表示パネルの製造方法を更に開示している。
【００１４】
本発明の更なる改善は、前記表示パネルがLCD表示パネルであることにある。
【００１５】
本発明の更なる改善は、前記表示パネルがOLED表示パネルであることにある。
【００１６】
本発明の更なる改善は、前記表示パネルのガラスカバー板の表面又は裏面にロングウェーブパス光濾過層を製作することにより、所定の波長の青色光を濾過することにある。
【００１７】
本発明の更なる改善は、前記ガラスカバー板に多層媒体膜を例えば蒸着又はスパッタリングすることにより前記ロングウェーブパス光濾過層を形成し、或いは、前記ガラスカバー板に単層半導体薄膜材料を蒸着又はスパッタリングすることにより前記ロングウェーブパス光濾過層を形成することにある。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明に係る表示パネルの第一の好ましい実施形態の構造模式図である。
【図２】本発明に係る表示パネルの第二の好ましい実施形態の構造模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明の構造及び動作原理を明らかに説明するために、以下、添付図面と具体的実施例を参照して本発明について更に説明する。
【００２０】
先ず、OLEDパネルを例として、図1を参照し、同図は本発明に係るOLED表示パネルの第一の好ましい実施形態の構造模式図であり、前記OLED表示パネルは、ガラス基板10と、ガラスカバー板20と、ガラス基板10とガラスカバー板20の間に介在する発光ユニット30とを主に備え、当該発光ユニット30は、駆動するための薄膜トランジスター31（TFT）と、発光するための発光構造層32とを主に備え、当該発光構造層32は陽極（ITO）、正孔輸送層（HTL）、発光層（EL）、電子輸送層（ETL）及び陰極(Cathode)などを更に備える。電力が供給されて適当な電圧に達する時、正極正孔と陰極電荷は発光層において結合し、光を発し、その組成の差異によって赤、緑、青というRGB三原色を発し、基本色を構成する。OLEDパネルの駆動及び発光原理について、公知の技術であるので、ここで贅言しない。
【００２１】
本発明の第一の好ましい実施形態構造では、表示パネルの光射出方向にロングウェーブパス光濾過層21を設け、当該ロングウェーブパス光濾過層21により、波長がある所定の値より小さい光子が透過できないように発射した波における短波長の部分を濾過し、高強度で高輝度な青色光による人の目に対する傷害を回避した。当該ロングウェーブパス光濾過層21の製作方法は、多層媒体膜を蒸着又はスパッタリングする方法を選択してもよく、単層半導体薄膜材料を選択しても良い。
【００２２】
先ず、多層媒体膜技術について、当該技術は干渉原理を利用し、ある所定の波長より大きい光を透過させ、当該所定の波長より小さい光を反射又は散乱することを実現できる。カットオフ波長440nmを例として、多層媒体膜構造はg(L/2)(HL)mH(L/2)aを選択し使用でき、その中、gはガラス（光学部材材料）を示し、aは膜外の空気を示し、LとHはそれぞれ厚さが1/4波長である低屈折率層と高屈折率層を示し、カットオフ波長が440nmである時、対応する厚さは110nmであり、L/2は厚さが1/8波長である低屈折率層を示し、カットオフ波長が440nmである時、対応する厚さは55nmであり、mは周期数であり、達成しようとするカットオフ効果とコスト要求によって選択することができ、一般的には、周期数が大きいほど、短波長の光のカットオフ効果がよいが、スパッタリングフィルムのコストも相応的に増加する。その中、当該実施例における低屈折率層はSiO2（屈折率n=1.45）を選択し利用でき、高屈折率層はTiO2（屈折率n=2.3）を選択し利用できる。
【００２３】
次に、単層半導体薄膜材料は同様にスパッタリング又は蒸着の方式によりガラスカバー板の表面に製作されることが可能であり、それはバンドギャップ構造を有し、エネルギーがバンドギャップより大きい光子を吸収できる。波長440nmを例として、それに対応する半導体材料のバンドギャップは約2.8eVであり、半導体材料の特性によって、当該バンドギャップを有する半導体薄膜は、エネルギーが2.8eVより大きい、即ち波長が440nmより小さい光子を吸収できる。その中、バンドギャップ幅が2.8eVである典型的な半導体材料はIn2O3であり、このような酸化物半導体材料はスパッタリング又は蒸着の方法によりガラスカバー板に製作されることができ、また、異なるカットオフ波長の需要に応じて、当該材料にSnをドープすることによりそのバンドギャップ幅を調整できる。また、FeTiO3及びPbO材料のバンドギャップ幅も約2.8eVであり、いずれもプロセス条件の改善によりガラスカバー板に製作され、波長が440nmより小さい光子に対する吸収を実現する可能性がある。
【００２４】
また、図2を参照し、同図は本発明に係る表示パネルの第二の好ましい実施形態の構造模式図であり、その構造は前記第一の好ましい実施例とほぼ同じであり、区別は、ロングウェーブパス光濾過層21をガラスカバー板の表面に直接に製作することにある。具体的な原理及び実施形態は第一の好ましい実施形態に述べていることと完全に同じである。
【００２５】
更に、LCD表示パネルに適用される時、同様に前記ロングウェーブパスフィルタ40を個別に利用でき、或いは、LCD表示パネルのガラスにロングウェーブパス光濾過層を直接に覆い、同様に所定の波長の青色光を濾過する効果を奏することができる。
【００２６】
以上、添付図面と実施例を結合して本発明について詳細に説明したが、当該技術分野の普通の当業者は前記説明によって本発明に対して様々な変形を行うことができる。したがって、実施例における細部は本発明に対して限定しておらず、本発明は添付される特許請求の範囲によって限定される範囲を本発明の請求の範囲とする。
【符号の説明】
【００２７】
10 : ガラス基板
20 : ガラスカバー板
21 : ロングウェーブパス光濾過層
30 : 発光ユニット
31 : 薄膜トランジスター
32 : 発光構造層
RGB : 三原色
【図１】
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【図２】
2015099357.tif 000004