(57)【要約】【課題】  偏光領域の吸収軸がズレ難く、調光用途に好適に用いることができる、パターニング偏光層を有する光学積層体を提供する。【解決手段】  基材２と、前記基材２上に設けられ且つ吸収軸方向が異なる複数の偏光領域５１，５２を有するパターニング偏光層５と、を有する光学積層体１において、前記基材２として、８０℃に２４時間加熱した後の寸法変化率の絶対値が１％未満の基材を用いる。【選択図】  図１
2015099362.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材上に設けられ且つ吸収軸方向が異なる複数の偏光領域を有するパターニング偏光層と、を有し、
前記基材は、８０℃に２４時間加熱した後の寸法変化率の絶対値が１％未満である、光学積層体。
【請求項２】
前記複数の偏光領域が、前記基材の表面と平行な第１方向に並んで配置されている、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項３】
前記第１方向が、前記基材の寸法変化率の絶対値が最大となる方向である、請求項２に記載の光学積層体。
【請求項４】
前記基材が、セルロース系フィルム、ポリエステル系フィルム、アクリル樹脂系フィルム、及びシクロオレフィン系フィルムから選ばれる少なくとも１種である、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光学積層体。
【請求項５】
前記基材が、ポリエステル系フィルム、アクリル樹脂系フィルム、及びシクロオレフィン系フィルムから選ばれる少なくとも１種である、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光学積層体。
【請求項６】
さらに、前記基材の表面に設けられた配向層を有し、前記パターニング偏光層が、前記配向層の表面に設けられている、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の光学積層体。
【請求項７】
前記パターニング偏光層は、複数の偏光領域が連続した１つの層から構成されている、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の光学積層体。
【請求項８】
前記パターニング偏光層が、配向した超分子会合体を含む、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の光学積層体。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか一項に記載の光学積層体と、窓ガラスと、を有し、前記光学積層体の２枚が平行に並設され且つそのうち少なくとも何れか一方が面方向にスライド可能に設けられている、調光窓。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも２つの偏光領域を有するパターニング偏光層と耐熱性の基材とを有する光学積層体などに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、可撓性を有する透明な基材と、吸収軸方向が異なる複数の偏光領域を有するパターニング偏光層と、を有する光学積層体が知られている（特許文献１乃至３）。
このような光学積層体は、例えば、調光窓の構成部材として使用できる。具体的には、例えば、ある方向に吸収軸を有する第１偏光領域と、前記第１偏光領域の吸収軸方向に直交する方向に吸収軸を有する第２偏光領域と、からなり、第１偏光領域と第２偏光領域が面方向に交互に配設されたパターニング偏光層を有する光学積層体を用いる。そして、窓ガラスに、２枚の前記光学積層体を平行に配置し、２枚の光学積層体を面方向にスライドさせることによって、２枚の光学積層体の第１偏光領域同士及び第２偏光領域同士を重ならせ、或いは、１つの光学積層体の第１偏光領域ともう１つの光学積層体の第２偏光領域とを重ならせることにより、窓から入る光の明るさを調節できる。この場合、第１偏光領域と第２偏光領域とが完全に重なった状態では、理論上、光の入射が全て遮られる。
【０００３】
しかしながら、前記光学積層体を、２枚の光学積層体の偏光領域の重なり具合によって光を調節する調光用途に用いた場合、経時的に（長期間使用している間に）、偏光領域の吸収軸方向が微妙にズレる。その結果、例えば、第１偏光領域と第２偏光領域とが完全に重なった状態でも、光が入射する事態が生じる可能性がある。特に、パターニング偏光層を有する光学積層体を調光窓の構成部材として用いた場合、偏光領域の吸収軸方向のズレが生じ易い。
なお、特許文献１乃至３には、このような問題点及びその解決原理は一切開示されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−９２７０７号公報
【特許文献２】特許第４１７５４５５号（特開２００２−３５７７２０号公報）
【特許文献３】特開２０１３−１６７８３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、偏光領域の吸収軸が経時的にズレ難く、調光用途に好適に用いることができる、パターニング偏光層を有する光学積層体及びそれを用いた調光窓を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、偏光領域の吸収軸のズレについて鋭意研究したところ、熱によって基材が変形することが原因であることを見出した。特に、光学積層体を窓に用いた場合、太陽光などの熱によって基材が変形し易く、基材の変形に応じて偏光領域の吸収軸方向のズレが顕著になる。
【０００７】
そこで、本発明は、基材と、前記基材上に設けられ且つ吸収軸方向が異なる複数の偏光領域を有するパターニング偏光層と、を有する光学積層体において、前記基材として、８０℃に２４時間加熱した後の寸法変化率の絶対値が１％未満の基材を用いることを特徴とする。
【０００８】
本発明の好ましい光学積層体は、前記複数の偏光領域が、前記基材の表面と平行な第１方向に並んで配置されている。
本発明の好ましい光学積層体は、前記第１方向が、前記基材の寸法変化率の絶対値が最大となる方向である。
本発明の好ましい光学積層体は、前記基材が、セルロース系フィルム、ポリエステル系フィルム、アクリル樹脂系フィルム、及びシクロオレフィン系フィルムから選ばれる少なくとも１種であり、より好ましくは、ポリエステル系フィルム、アクリル樹脂系フィルム、及びシクロオレフィン系フィルムから選ばれる少なくとも１種である。
本発明の好ましい光学積層体は、前記基材の表面に設けられた配向層をさらに有し、前記パターニング偏光層が、前記配向層の表面上に設けられている。
さらに好ましくは、前記パターニング偏光層は、複数の偏光領域が連続した１つの層から構成されている。
さらに好ましくは、前記パターニング偏光層が、配向した超分子会合体を含む。
【０００９】
本発明の別の局面によれば、調光窓を提供する。
この調光窓は、光学積層体と、窓ガラスと、を有し、前記光学積層体の２枚が平行に並設され且つそのうち少なくとも何れか一方が面方向にスライド可能に設けられている。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の光学積層体は、８０℃に２４時間加熱した後の寸法変化率の絶対値が１％未満の基材を有するので、熱に対する寸法安定性に優れている。かかる光学積層体は、各偏光領域の大きさが経時的に変化し難く、各偏光領域の吸収軸がズレることを防止できる。
また、本発明の調光窓は、前記光学積層体を具備するので、使用初期と同様な調光機能を長期間維持できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】１つの実施形態に係る光学積層体を模式的に表した平面図。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線で切断した拡大断面図。
【図３】他の実施形態に係る光学積層体を模式的に表した平面図。
【図４】さらなる他の実施形態に係る光学積層体を模式的に表した平面図。
【図５】本発明の調光窓を模式的に表した斜視図。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明について具体的に説明する。
本明細書において、用語の前に、「第１」や「第２」などを付す場合があるが、この第１などは、用語を区別するために付加されたものであり、用語の優劣や順序などを意味しない。また、角度及びその関係（例えば、直交、平行、４５度など）は、本発明の属する技術分野において許容される誤差範囲を含むものとする。例えば、平行などは、厳密な角度±１０度の範囲内であることを意味し、好ましくは、±５度の範囲内である。
本明細書において、「ＰＰＰ〜ＱＱＱ」という記載は、「ＰＰＰ以上ＱＱＱ以下」を意味する。
【００１３】
［光学積層体の概要］
本発明の光学積層体は、基材と、前記基材上に設けられたパターニング偏光層と、を有する。前記基材は、８０℃に２４時間加熱した後の寸法変化率の絶対値が１％未満である。
基材は、８０℃に２４時間加熱した後、基材の一方面（表面）と平行な方向に伸張又は収縮する。基材の寸法変化率の絶対値は、この伸張又は収縮の度合いを示したものである。以後、本明細書において、伸張と伸縮を併せて「伸縮」と称する場合がある。
基材の表面と平行な方向は無数に存在するため、基材の寸法変化率及びその絶対値は無数に想定されるが、本発明の基材は、無数に想定される全ての寸法変化率の絶対値が１％未満である。即ち、基材は、その表面と平行なあらゆる方向において、寸法変化率の絶対値が１％未満である。
ここで、本明細書において、基材の寸法変化率の絶対値が最大となる方向を「最大伸縮方向」と称する。基材は、８０℃に２４時間加熱した後、最大伸縮方向に最も伸張又は収縮する。
基材の表面と平行なあらゆる方向において基材の寸法変化率の絶対値が１％未満であるということは、換言すれば、最大伸縮方向における基材の寸法変化率の絶対値が１％未満であることを意味する。
【００１４】
基材の表面には、パターニング偏光層の複数の偏光領域を形成するため、配向処理が施されている。例えば、前記配向処理として、基材の表面に配向層が設けられており、その配向層の表面にパターニング偏光層が形成されている。
前記パターニング偏光層は、基材の両面にそれぞれ設けられていてもよいが、通常、パターニング偏光層は、基材の一方面（表面）に設けられる。
また、本発明の光学積層体は、前記基材、配向層及びパターニング偏光層以外に、他の層を有していてもよい。他の層としては、例えば、公知の保護層、位相差層及び反射防止層などが挙げられる。
【００１５】
前記パターニング偏光層は、吸収軸方向が異なる少なくとも２つの偏光領域を有する。つまり、前記パターニング偏光層は、吸収軸方向が異なる複数の偏光領域を有する。前記複数の偏光領域は、基材の面内に、規則的に配置されていてもよいし、或いは、不規則に配置されていてもよい。複数の偏光領域は、規則的に配置されていることが好ましい。また、複数の偏光領域は、基材の表面に平行な第１方向に並んで配置されていることがより好ましい。第１方向は、基材の表面と平行である限り特に限定されないが、好ましくは、基材の寸法変化率の絶対値が最大となる方向（最大伸縮方向）である。
前記偏光領域は、自然光又は各種偏光を直線偏光に変換するという光学特性を有する領域である。つまり、前記偏光領域は、自然光又は各種偏光が当たった際に、特定の直線偏光を透過するという光学特性を有する領域である。
複数の偏光領域のそれぞれの単体透過率は、特に限定されないが、例えば、１０％〜９０％の範囲である。
【００１６】
好ましくは、前記パターニング偏光層は、複数の偏光領域が連続した１つの層から構成されている。従って、前記パターニング偏光層は、面方向において、その厚みが略均一である。
基材及びパターニング偏光層の形成材料、並びに、光学積層体の製造方法などについては、後に詳述する。
【００１７】
［光学積層体の構成］
図１及び図２は、本発明の１つの実施形態に係る光学積層体の模式図である。
この光学積層体１は、基材２と、その基材２の表面に積層された配向層３と、その配向層３の表面に積層されたパターニング偏光層５と、を有する。
基材２は、例えば、平面視長方形状に形成されている。もっとも、基材２の形状は、これに限定されず、長尺状（長手方向が非常に長い長方形状）、その他、任意の形状に形成されていてもよい。基材２の厚みは、特に限定されないが、例えば、２０μｍ〜２００μｍであり、好ましくは、３０μｍ〜１００μｍである。
【００１８】
前記パターニング偏光層５は、吸収軸方向の異なる少なくとも２つの偏光領域を有する。以下、これらの偏光領域を、第１偏光領域５１及び第２偏光領域５２と記す。
前記第１偏光領域５１の厚みと第２偏光領域５２の厚みは、異なっていてもよいが、好ましくは、図示したように同じである。前記第１偏光領域５１及び第２偏光領域５２の各厚みは、例えば、それぞれ独立して０．０１μｍ〜１０μｍであり、好ましくは０．１μｍ〜５μｍであり、特により好ましくは０．１μｍ〜１μｍである。
第１偏光領域５１及び第２偏光領域５２は、それぞれ面内に吸収軸を有する。第１偏光領域５１及び第２偏光領域５２は、基材２の表面と平行な第１方向に交互に配置されている。第１偏光領域５１及び第２偏光領域５２は、何れも基材２の表面と平行な第２方向に延びる平面視帯状である。なお、基材２の第２方向は、基板の第１方向と異なる方向である。基板の第２方向は、特に限定されないが、図１に示す例では、基材２の面内において基材２の第１方向と直交する方向である。図１に示す例では、基材２の第１方向は、紙面の縦方向であり、基材２の第２方向は、紙面の横方向である。
【００１９】
第１偏光領域５１の吸収軸方向と第２偏光領域５２の吸収軸方向は、互いに異なっていればその方向性は特に限定されない。本発明の光学積層体１が、例えば、調光窓の構成部材として使用される場合には、前記第１偏光領域５１の吸収軸方向が、第２偏光領域５２の吸収軸方向に対して直交していることが好ましい。図示例では、第１偏光領域５１の吸収軸方向は、基材２の第１方向に対して４５度を成しており、第２偏光領域５２の吸収軸方向は、基材２の第１方向に対して１３５度を成している。
なお、各平面図中の太矢印は、各偏光領域の吸収軸の方向を表す（以下、同様）。また、各偏光領域の透過軸は、偏光領域の面内で前記吸収軸と直交する方向に生じる。
【００２０】
前記第１偏光領域５１と第２偏光領域５２は、同じ材料で形成されていてもよいし、或いは、互いに異なる形成材料で形成されていてもよい。好ましくは、第１偏光領域５１と第２偏光領域５２は、同じ形成材料で形成される。また、第１偏光領域５１と第２偏光領域５２は、それぞれ２以上の層の積層物から構成されていてもよい。
図示例では、第１偏光領域５１及び第２偏光領域５２は、同じ材料で形成された単一層からなる。同じ材料から形成された第１偏光領域５１及び第２偏光領域５２は、吸収軸の方向が異なっていることを除いて、連続した１つの層からなる。前記連続した１つの層は、図２に示すように、複数の偏光領域５１，５２の境界に、構造上の界面が認められないことをいう。複数の偏光領域５１，５２が連続した１つの層から構成されていることにより、偏光領域間の境界に応力が生じないので、各偏光領域５１，５２の寸法安定性が向上する。
【００２１】
第１偏光領域５１及び第２偏光領域５２の各単体透過率は、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。単体透過率が同一である各偏光領域５１，５２は、後述するように、基材に塗布液をベタ状に塗布することによって簡単に形成できる。
第１偏光領域５１の幅と第２偏光領域５２の幅は、同じである。好ましくは、第１偏光領域５１と第２偏光領域５２は、同形同大である。各偏光領域５１，５２の幅の具体的寸法は、適宜設定でき、例えば、数ｍｍ〜１０ｃｍである。
前記第１偏光領域５１及び第２偏光領域５２の幅は、図１の場合には、それらの領域の縦方向の長さであり、図３の場合には、横方向の長さである。
【００２２】
前記第１偏光領域５１及び第２偏光領域５２が設けられている図示例にあっては、配向層３は、２種類設けられている。１つの配向層３１（以下、第１配向層３１という場合がある）は、第１偏光領域５１に対応して、基材２と第１偏光領域５１の間に介在されており、もう１つの配向層３２（以下、第２配向層３２という場合がある）は、第２偏光領域５２に対応して、基材２と第２偏光領域５２との間に介在されている。
第１配向層３１は、偏光領域の形成材料を所定の方向に配向させ、上記吸収軸方向の第１偏光領域５１を形成する機能を有し、第２配向層３２は、偏光領域の形成材料を所定の方向に配向させ、上記吸収軸方向の第２偏光領域５２を形成する機能を有する。
第１配向層３１及び第２配向層３２は、同じ材料で形成されていてもよいし、或いは、互いに異なる材料で形成されていてもよい。また、第１配向層３１及び第２配向層３２は、互いに厚みが異なっていてもよいし、或いは、同じ厚みでもよいが、同じ厚みであることが好ましい。前記第１配向層３１及び第２配向層３２の各厚みは、例えば、それぞれ独立して０．１μｍ〜１０μｍである。
また、第１配向層３１の幅と第２配向層３２の幅は、同じである。
【００２３】
なお、本発明の光学積層体は、上記実施形態に限られず、本発明の意図する範囲で様々に変更できる。例えば、上記実施形態では、第１偏光領域５１及び第２偏光領域５２は、基材２の表面と平行な第１方向に交互に配置されているが、これに限定されず、例えば、図３に示すように、基材２の表面と平行な第２方向に交互に配置されていてもよい。
また、上記実施形態では、第１偏光領域５１及び第２偏光領域５２の吸収軸方向は、基材２の第１方向に対して±４５度であるが、これに限定されず、例えば、図４に示すように、第１偏光領域５１の吸収軸方向が基材２の第１方向と直交に、且つ、第２偏光領域５２の吸収軸方向が基材２の第１方向と平行に配置されていてもよい。
また、上記実施形態のパターニング偏光層５は、帯状の第１偏光領域５１及び第２偏光領域５２が基材２の第１方向（又は第２方向）に交互に配置されているが、これに限定されず、例えば、第１偏光領域５１及び第２偏光領域５２が、（例えば、市松模様の如く）基材２の第１方向に交互に配置され且つ基材２の第２方向にも交互に配置されていてもよい（図示せず）。
【００２４】
［基材及び配向層］
基材は、８０℃に２４時間加熱した後の最大伸縮方向における寸法変化率の絶対値が１％未満であれば、その材質は特に限定されない。好ましくは、８０℃に２４時間加熱した後の寸法変化率の絶対値が０．５％以下の基材が用いられ、より好ましくは、同絶対値が０．３％以下の基材が用いられる。
また、基材は、８０℃に２４時間加熱した後の最大伸縮方向と直交する方向における寸法変化率の絶対値が１％未満のものを用いることが好ましく、さらに、同絶対値が０．５％以下がより好ましく、同絶対値が０．３％以下が特に好ましい。
なお、寸法変化率がマイナスである場合は基材が収縮したことを表し、寸法変化率がプラスである場合は基材が伸張したことを表すが、ここでは、収縮及び伸張の場合を併せて寸法変化率とする。
【００２５】
前記８０℃に２４時間加熱した後の最大伸縮方向（又は最大伸縮方向と直交する方向）における寸法変化率は、次のようにして測定できる。
基材を８０℃に加熱する前の基材の最大伸縮方向（又は最大伸縮方向と直交する方向）の長さを計測し、その基材を８０℃、湿度５％ＲＨの雰囲気下に２４時間静置した後、前記基材の最大伸縮方向（又は最大伸縮方向と直交する方向）の長さを計測する。それらの長さを下記式に代入することにより、寸法変化率を求めることができる。
なお、下記式において、「Ａ」は、加熱後の基材の最大伸縮方向の長さを表し、「Ｂ」は、加熱後の基材の最大伸縮方向と直交する方向の長さを表し、「ａ」は、加熱前の基材の最大伸縮方向の長さを表し、「ｂ」は、加熱前の基材の最大伸縮方向と直交する方向の長さを表す。
８０℃に２４時間加熱した後の最大伸縮方向における寸法変化率［％］＝｛（Ａ−ａ）／ａ｝×１００。
８０℃に２４時間加熱した後の最大伸縮方向と直交する方向における寸法変化率［％］＝｛（Ｂ−ｂ）／ｂ｝×１００。
なお、最大伸縮方向と直交する方向における寸法変化率の絶対値は、必然的に、最大伸縮方向における寸法変化率の絶対値以下の値となる。また、最大伸縮方向及び最大伸縮方向と直交する方向以外の方向における基材の寸法変化率も同様に求めることができる。
【００２６】
さらに、前記基材は、吸湿性ができるだけ小さいことが好ましい。吸湿性の低い基材を用いることにより、高温多湿な環境下で光学積層体１を使用した場合でも、寸法変化が生じ難く、パターニング偏光層５の偏光領域の吸収軸のズレを効果的に防止できる。
例えば、前記基材の吸湿度は、３％である。
前記吸湿度は、次のようにして求められる。
５０ｍｍ×５０ｍｍの基材（サンプル）を５０℃のオーブンで２４時間乾燥し、これをデシケーターで２時間冷却した後、その重量（乾燥重量）を測定する。次に、２３±１℃の蒸留水中にサンプルを２時間浸漬し、取り出して水分を拭った後、その重量を測定し、それらの重量を次式に代入する。
式：吸湿度［％］＝｛（水浸漬後の重量−乾燥重量）／乾燥重量｝×１００。
【００２７】
前記基材は、可撓性を有することが好ましく、さらに、透明性に優れたもの（例えば、ヘイズ値３％以下）が用いられる。このような基材としては、代表的には、ポリマーフィルムが挙げられる。前記ポリマーフィルムの材質としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系；トリアセチルセルロース等のセルロース系；ポリカーボネート系；ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂系；ポリスチレン等のスチレン系；シクロオレフィン系；ポリプロピレン、環状又はノルボルネン構造を有するポリオレフィン等のオレフィン系；などが挙げられる。前記寸法変化率の範囲のフィルムを比較的簡単に得ることができることから、セルロース系フィルム、ポリエステル系フィルム、アクリル樹脂系フィルム、及びシクロオレフィン系フィルムから選ばれる少なくとも１種を基材として用いることが好ましい。さらに、比較的吸湿度が低いことから、ポリエステル系フィルム、アクリル樹脂系フィルム、及びシクロオレフィン系フィルムから選ばれる少なくとも１種を基材として用いることがより好ましい。
【００２８】
基材は、枚葉状であってもよく、ロールトゥロールで搬送可能な長尺状であってもよいが、好ましくは長尺状である。長尺状の基材とは、基材の長手方向の長さが、その短手方向（幅方向）の長さよりも十分に長い基材であり、例えば、基材の長手方向の長さは、基材の短手方向の長さの５倍〜１００倍であり、好ましくは２０倍〜１００倍である。
【００２９】
パターニング偏光層の形成材料を良好に配向させるために、基材の表面には、配向処理が施されている。配向処理が施された基材の表面は、配向規制力を有するので、前記形成材料を確実に配向させて、所定方向に吸収軸を有する複数の偏光領域を有するパターニング偏光層を形成できる。配向処理は、基材の表面に配向規制力を付与することにより行われる。配向規制力の付与方法としては、例えば、（１）基材の表面に配向層を形成する、（２）基材の表面をラビング処理するなどにより基材の表面自体を配向させる、などの方法が挙げられる。
これらの中では、基材の表面に配向層を形成することが好ましい。基材の表面自体を直接的に配向させるよりも、配向層を形成する方が、精度良く複数の偏光領域を形成できる。
【００３０】
前記配向処理の配向方向は、特に限定されず、パターニング偏光層の偏光領域の吸収軸を発現させたい方向を考慮して適宜設定される。
例えば、任意の方向に配向した第１配向層及びこれと直交する方向に配向した第２配向層を、それぞれ基材の表面に形成することにより、図１乃至図４に示すような、吸収軸が互いに直交する方向に生じる２つの偏光領域を有するパターニング偏光層を基材上に形成できる。
配向層の形成は、特に限定されず、従来公知な方法を採用でき、例えば、光配向層の形成が好ましい。前記配向層の形成材料及び形成方法としては、特開２００７−１３３１８４号及び特開２０００−２２６４４８号などに詳しく開示されている。これらの公報の配向層の形成材料及び形成方法を本明細書に記載したものとして、それらの記載を省略するが、必要に応じて、配向層に関する記載をそのまま本明細書に取り込むことができるものとする。
【００３１】
［パターニング偏光層の形成材料］
本発明のパターニング偏光層の形成材料は、偏光領域を形成できるものであれば特に限定されず、例えば、アゾ系、アントラキノン系、ペリレン系、インダンスロン系、イミダゾール系、インジゴイド系、オキサジン系、フタロシアニン系、トリフェニルメタン系、ピラゾロン系、スチルベン系、ジフェニルメタン系、ナフトキノン系、メロシアニン系、キノフタロン系、キサンテン系、アリザリン系、アクリジン系、キノンイミン系、チアゾール系、メチン系、ニトロ系、及びニトロソ系の化合物等を例示できる。これらは１種単独で、又は２種以上を併用できる。
【００３２】
好ましくは、パターニング偏光層の形成材料としては、二色性液晶化合物が用いられ、より好ましくは、リオトロピック液晶性を有する二色性液晶化合物が用いられる。二色性液晶化合物を用いることにより、配向処理が施された基材上に、二色性液晶化合物を含む塗布液を塗布するだけで、所定方向に吸収軸を有する複数の偏光領域を簡易に形成できる。また、前記二色性液晶化合物は、少なくとも可視光領域（波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）で吸収を示す化合物が好ましい。
【００３３】
前記リオトロピック液晶性は、溶媒に溶解させた溶液状態で、溶液の温度や濃度などを変化させることにより、等方相−液晶相の相転移を起こす性質である。
前記等方相は、巨視的な光学的性質が方向により異ならない（光学的異方性を示さない）状態の相である。
前記リオトロピック液晶性を有する化合物は、溶液状態で液晶相を示し、超分子を形成する性質を有する。前記超分子の構造は、特に限定されず、球状構造、柱状構造、管状構造のようなミセル構造；ラメラ構造；などが挙げられる。前記液晶相は、偏光顕微鏡で観察される光学模様によって、確認、識別できる。
【００３４】
例えば、本発明のパターニング偏光層の形成材料として、下記一般式（１）で表されるジスアゾ化合物が用いられる。このジスアゾ化合物は、リオトロピック液晶性を有し、可視光領域に吸収を示す二色性液晶化合物である。
【００３５】
【化１】
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【００３６】
一般式（１）において、Ｑ１及びＱ３は、置換若しくは無置換のアリール基を表し、Ｑ２は、置換若しくは無置換のアリーレン基を表す。
前記置換若しくは無置換のアリール基は、隣接しない炭素原子の一部が窒素原子に置換されているアリール基を含む。前記置換若しくは無置換のアリーレン基も同様に、隣接しない炭素原子の一部が窒素原子に置換されているアリーレン基を含む。
なお、本明細書において、「置換若しくは無置換」とは、「置換基を有する又は置換基を有さない」という意味である。
【００３７】
前記Ｑ１及びＱ３で表されるアリール基としては、フェニル基の他、ナフチル基などのようなベンゼン環が２以上縮合した縮合環基などが挙げられる。前記Ｑ１及びＱ３で表されるアリール基が置換基を有する場合、その置換基は、それぞれ独立して、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４のチオアルキル基、ジヒドロキシプロピル基等の炭素数１〜４のヒドロキシアルキル基、炭素数１〜４のアルキルアミノ基、炭素数６〜２０のフェニルアミノ基、炭素数１〜４のアシルアミノ基、ハロゲノ基、ニトロ基、シアノ基、アセトアミド基、リン酸基、−ＯＨ基、−ＳＯ３Ｍ基、−ＣＯＯＭ基、−ＮＨＲ基、−ＣＯＮＨＲ基などである。ただし、前記Ｍは、対イオンを表す。前記−ＮＨＲ基のＲは、水素原子、置換若しくは無置換の炭素数１〜３のアルキル基、置換若しくは無置換のアセチル基、置換若しくは無置換のベンゾイル基、置換若しくは無置換のフェニル基などが挙げられる。
前記Ｑ１及びＱ３で表されるアリール基が置換基を有する場合、前記置換基は、それぞれ１つでもよいし、それぞれ２つ以上でもよい。
【００３８】
前記Ｑ１は、好ましくは置換若しくは無置換のフェニル基（隣接しない炭素原子の一部が窒素原子に置換されているフェニル基を含む）又は置換若しくは無置換のナフチル基（隣接しない炭素原子の一部が窒素原子に置換されているナフチル基を含む）であり、より好ましくは置換若しくは無置換のフェニル基であり、特に好ましくは置換基を有するフェニル基である。
前記Ｑ３は、好ましくは置換若しくは無置換のナフチル基（隣接しない炭素原子の一部が窒素原子に置換されているナフチル基を含む）であり、より好ましくは置換基を有するナフチル基であり、特に好ましくは置換基として極性基を有するナフチル基である。前記極性基としては、炭素数１〜４のヒドロキシアルキル基、炭素数１〜４のアルキルアミノ基、炭素数１〜４のアシルアミノ基、ニトロ基、アセトアミド基、リン酸基、−ＯＨ基、−ＳＯ３Ｍ基、−ＣＯＯＭ基、−ＮＨＲ基、−ＣＯＮＨＲ基が挙げられる。前記極性基は、好ましくは−ＯＨ基、−ＳＯ３Ｍ基、及び−ＮＨＲ基である。
【００３９】
前記Ｑ２で表されるアリーレン基としては、フェニレン基の他、ナフチレン基などのようなベンゼン環が２以上縮合した縮合環基などが挙げられる。前記Ｑ２で表されるアリーレン基が置換基を有する場合、その置換基としては、上述したような基が挙げられる。
前記Ｑ２で表されるアリール基が置換基を有する場合、前記置換基は、１つでもよいし、２つ以上でもよい。
前記Ｑ２は、好ましくは置換若しくは無置換のナフチレン基（隣接しない炭素原子の一部が窒素原子に置換されているナフチレン基を含む）であり、より好ましくは極性基を有するナフチレン基であり、特に好ましくは−ＳＯ３Ｍ基を有するナフチレン基である。
【００４０】
上記一般式（１）で表されるジスアゾ化合物の中で、好ましいジスアゾ化合物を、下記一般式（２）で表し、より好ましいジスアゾ化合物を一般式（３）で表す。
【００４１】
【化２】
2015099362.tif 000004
【００４２】
【化３】
2015099362.tif 000005
【００４３】
一般式（２）において、Ｑ１及びＱ２は、一般式（１）と同様である。一般式（２）及び（３）において、Ｒは、水素原子、置換若しくは無置換の炭素数１〜３のアルキル基、置換若しくは無置換のアセチル基、置換若しくは無置換のベンゾイル基、又は、置換若しくは無置換のフェニル基を表し、ｌは、−ＮＨＲ基の置換数である０〜２の整数を表し、Ｍは、対イオンを表し、ｍは、−ＳＯ３Ｍ基の置換数である０〜６の整数を表す。ただし、０≦ｌ＋ｍ≦６である。一般式（３）において、ｎは、−ＳＯ３Ｍ基の置換数である０〜４の整数を表し、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、−ＯＨ基、炭素数１〜４のアルコキシ基、−ＳＯ３Ｍ基、−ＣＯＯＭ基、−ＮＨＲ基、又は−ＣＯＮＨＲ基を表す。前記Ｘにおいて、Ｍ及びＲは、前記と同様である。
ただし、ｍ及びｎのうち少なくとも何れか一方は、１以上の整数である。ｌ、ｍ及びｎが２以上である場合、それぞれ置換基は同一でもよいし、又は異なっていてもよい。
【００４４】
前記Ｍ（対イオン）としては、水素イオン；Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓなどのアルカリ金属イオン；Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａなどのアルカリ土類金属イオン；その他の金属イオン；アルキル基若しくはヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウムイオン；有機アミン由来の陽イオンなどが挙げられる。有機アミンとしては、炭素数１〜６の低級アルキルアミン、ヒドロキシル基を有する炭素数１〜６の低級アルキルアミン、カルボキシル基を有する炭素数１〜６の低級アルキルアミンなどが挙げられる。各一般式において、Ｍが２価以上の陽イオンである場合、そのＭは、他の陰イオンと静電的に結合して安定化しているか、或いは、そのＭは他のジスアゾ化合物と共有されて安定化している。
【００４５】
前記一般式（１）乃至（３）で表されるジスアゾ化合物は、例えば、細田豊著「理論製造  染料化学（５版）」（昭和４３年７月１５日技報堂発行、１３５頁〜１５２頁）に従って合成できる。
例えば、置換基を有するアニリン化合物をジアゾニウム塩化し、これをアミノナフタレンスルホン酸化合物とカップリング反応させることにより、モノアゾアニリン化合物を得る。このモノアゾアニリン化合物を、ジアゾニウム塩化した後、これをアニリノ−ヒドロキシナフタレンジスルホン酸と弱アルカリ性下においてカップリング反応させることにより、上記ジスアゾ化合物を得ることができる。
【００４６】
本発明のパターニング偏光層中の二色性液晶化合物の含有量は特に限定されない。例えば、パターニング偏光層中における二色性液晶化合物の含有量は、５０質量％〜１００質量％であり、好ましくは８０質量％〜１００質量％である。
また、前記パターニング偏光層には、二色性液晶化合物以外に、他の成分が含まれていてもよい。前記他の成分としては、二色性を有さない液晶化合物、ポリマー、及び添加剤などが挙げられる。前記添加剤としては、相溶化剤、界面活性剤、熱安定剤、光安定剤、滑剤、抗酸化剤、難燃剤、帯電防止剤などが挙げられる。
前記他の成分の含有量は、特に限定されないが、例えば、０質量％を超え５０質量％以下であり、好ましくは０質量％を超え２０質量％以下である。
【００４７】
本発明の光学積層体は、８０℃に２４時間加熱した後の寸法変化率の絶対値が１％未満の基材を有する。かかる基材を有する光学積層体は、熱に対する寸法安定性に優れている。このため、光学積層体を長期間使用した場合でも、各偏光領域の幅が変化し難く、各偏光領域の吸収軸がズレることを防止できる。
特に、図１に示すように、複数の偏光領域が基材の第１方向に並んで配置されている光学積層体は、各偏光領域の幅が変化し難い。
このような本発明の光学積層体は、特に高温に曝され易い用途、例えば、調光窓、画像表示装置などの構成部材として好適に用いることができる。
【００４８】
［本発明の光学積層体の用途］
本発明の光学積層体は、特に限定されないが、例えば、光の入射量を調整できる調光窓；立体画像表示装置などの画像表示装置の偏光板；その他の装置に用いられる偏光板；偏光眼鏡；などに用いることができる。
以下、本発明の調光窓について説明する。
調光窓は、上記光学積層体を少なくとも２枚と、窓ガラスと、を有し、その２枚の光学積層体が平行に並設され且つそのうち少なくとも何れか一方が面方向にスライド可能とされている。
前記調光窓においては、２枚の光学積層体の何れか一方又は双方を１つの方向にスライドさせたときに、一方の光学積層体の第１偏光領域が他方の光学積層体の第１偏光領域に重なり、且つ、一方の光学積層体の第２偏光領域が他方の光学積層体の第２偏光領域に重なり、何れか一方又は双方を前記１つの方向とは反対の方向にスライドさせたときに、一方の光学積層体の第１偏光領域が他方の光学積層体の第２偏光領域に重なり、且つ、一方の光学積層体の第２偏光領域が他方の光学積層体の第１偏光領域に重なるように、２枚の光学積層体が並設されている。
【００４９】
図５に調光窓の模式図を示す。
図５において、調光窓１０は、２枚の窓ガラス６１，６２と、それぞれの窓ガラス６１１，６２に貼り付けられた、上記で説明した光学積層体１と、を有する。この欄において、窓ガラス６１に貼り付けられた光学積層体を、第１光学積層体１１といい、窓ガラス６２に貼り付けられた光学積層体を、第２光学積層体１２という。
２枚の窓ガラス６１，６２は、面同士が平行に配置され、縦方向にスライド可能（平行移動可能）な構造とされている。
２枚の光学積層体１１，１２は、窓ガラス６１をスライドさせた際に、第１光学積層体１１の第１偏光領域５１１及び第２偏光領域５２１の各吸収軸方向が、第２光学積層体１２の第１偏光領域５１２及び第２偏光領域５２２の各吸収軸方向と平行又は直交すように配置されている。
図示例では、第１光学積層体１１が貼り付けられた一方の窓ガラス６１を、第２光学積層体１２が貼り付けられた他方の窓ガラス６２に対して、縦方向上側にスライドさせ、第１光学積層体１１の第１偏光領域５１１及び第２偏光領域５２１に、第２光学積層体１２の第１偏光領域５１２及び第２偏光領域５２２を重ならせることにより、光の入射量が最大となる。また、縦方向下側にスライドさせ、第１光学積層体１１の第１偏光領域５１１に、第２光学積層体１２の第２偏光領域５２２を重ならせ且つ第１光学積層体１１の第２偏光領域５２１に、第２光学積層体１２の第１偏光領域５１２を重ならせることにより、パターニング偏光層同士がクロスニコルとなって、光の入射量が最小となる。窓ガラスをスライドさせて、第１光学積層体１１と第２光学積層体１２の各偏光領域の重なり度合いを調整することにより、光の入射量を調整できる。
なお、図示例では、窓ガラスを縦方向にスライドさせて調光する場合を説明したが、同様の原理に従い、窓ガラスを横方向、その他任意の方向にスライドさせて調光するように変更することができる。
【００５０】
また、本発明の調光窓は、１枚の窓ガラスと、２枚の光学積層体と、から構成することもできる（図示せず）。かかる調光窓は、前記窓ガラスと平行に、２枚の光学積層体が並設されている。２枚の光学積層体は、支持体に支持されることにより、平面状態を保持している。前記支持体としては、窓ガラス以外の透光性板（例えば、ガラス板）、枠部材などが挙げられる。支持体として、前記透光性板が用いられる場合には、光学積層体は、その透光性板に貼り付けられる。支持体として枠部材が用いられる場合には、光学積層体の周縁に枠部材が取り付けられ、光学積層体の平面状態が保持される。前記支持体に支持された２枚の光学積層体は、スライド可能とされる。この欄の調光窓も、図５に示す調光窓と同様の原理に従い、２枚の光学積層体をスライドさせて、２枚の光学積層体の各偏光領域の重なり度合いを調整することにより、調光できる。
【００５１】
［光学積層体の製造方法］
本発明の光学積層体の製造方法は、上記二色性液晶化合物と溶媒とを含む塗布液を基材の上に塗布する工程を有する。ここで、塗布とは、塗布液を基材の表面に付着させて塗膜を形成することを意味する。
本発明の光学積層体の製造方法は、前記工程を有していることを条件として、これ以外の工程を有していてもよい。例えば、前記製造方法は、前記工程によって得られた塗膜を乾燥する工程を有していてもよい。前記基材は、上述のように配向規制力が付与された基材である。
【００５２】
（塗布液の調製）
前記塗布液は、二色性液晶化合物と、その二色性液晶化合物を溶解又は分散させる溶媒と、を含む。使用する二色性液晶化合物は、上述した中から選ばれる１種単独で又は２種以上を併用してもよい。
塗布液は、水系溶媒などの溶媒に、前記二色性液晶化合物を溶解又は分散させることによって得られる。なお、必要に応じて、前記二色性液晶化合物以外に、上述した他の成分を前記溶媒に添加してもよい。
【００５３】
前記溶媒は、特に限定されず、従来公知の溶媒を用いることができるが、水系溶媒が好ましい。水系溶媒としては、水、親水性溶媒、水と親水性溶媒の混合溶媒などが挙げられる。前記親水性溶媒は、水に略均一に溶解する溶媒である。親水性溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類；エチレングリコール、ジエチレングリコールなどのグリコール類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブなどのセロソルブ類；酢酸エチルなどのエステル類；などが挙げられる。上記水系溶媒は、好ましくは、水、又は、水と親水性溶媒の混合溶媒が用いられる。
【００５４】
上記塗布液は、液温や二色性液晶化合物の濃度などを変化させることにより、液晶相を示す。
塗布液中における二色性液晶化合物の濃度は、特に限定されないが、二色性液晶化合物が析出しない濃度であることが好ましい。また、前記液中において二色性液晶化合物が液晶相を示す濃度でもよいし、液晶相を示さない濃度であってもよい。前記塗布液中における二色性液晶化合物の濃度は、好ましくは０．０５質量％〜５０質量％であり、より好ましくは０．５質量％〜４０質量％であり、特に好ましくは２質量％〜３０質量％である。
【００５５】
また、前記塗布液は、適切なｐＨに調整される。塗布液のｐＨは、好ましくはｐＨ２〜１０程度、より好ましくはｐＨ６〜８程度である。
さらに、前記塗布液の温度は、好ましくは１０℃〜４０℃、より好ましくは１５℃〜３０℃に調整される。
前記塗布液は、適切な粘度に調整される。塗布液の粘度（２３℃）は、好ましくは１ｍＰａ・ｓ〜５００ｍＰａ・ｓである。
【００５６】
（塗布液の塗布）
上記塗布液を、配向層などの配向処理が成された基材上に塗布し、塗膜を形成する。
塗布液は、各種のコーターを用いて塗布できる。前記コーターとしては、特に限定されず、例えば、バーコーター、グラビヤロールコーター、リバースロールコーター、キスロールコーター、ディップロールコーター、ナイフコーター、スプレーコーターなどが挙げられる。
【００５７】
塗布液を塗布する基材は、上述したような配向層などの配向処理が施されたものが好ましい。前記配向層などの配向方向、配向層などの形成領域及びその領域の配置などは、形成したいパターニング偏光層を考慮して適宜設定すればよい。配向処理が成された基材としては、例えば、その長手方向に延びる帯状の第１配向層及び第２配向層を、幅方向に交互に配置したものが挙げられる。
また、基材の平面形状は、枚葉状でもよいし、長尺状でもよい。長尺状の基材を用いることにより、ロールツーロール方式で、本発明の光学積層体を連続的に製造することもできる。
【００５８】
配向層の表面に塗布液をベタ状に塗布することにより、均一な塗膜を形成できる。
塗布液を配向層の表面に塗布すると、配向層の配向規制力の方向に従い、塗膜中の二色性液晶化合物が配向する。
なお、二色性液晶化合物の配向を高めるため、必要に応じて、前記塗膜を形成した後、磁場又は電場などを印加してもよい。
【００５９】
塗布後の塗膜（未硬化の塗膜）を乾燥することにより、配向された二色性液晶化合物が固定される。このようにして、基材上にパターニング偏光層が形成された、本発明の光学積層体が得られる（硬化後の塗膜が、パターニング偏光層となる）。
前記未硬化の塗膜の乾燥は、自然乾燥、又は強制的な乾燥などで実施できる。強制的な乾燥としては、減圧乾燥、加熱乾燥、減圧加熱乾燥などが挙げられる。
なお、上記硬化後の塗膜の表面に、公知の耐水化処理を行ってもよい。
【実施例】
【００６０】
以下、実施例を示して本発明をさらに説明する。ただし、本発明は、下記実施例のみに限定されるものではない。
【００６１】
［ジスアゾ化合物の合成及び塗布液の調製］
４−ニトロアニリンと８−アミノ−２−ナフタレンスルホン酸とを、常法（細田豊著「理論製造  染料化学（５版）」（昭和４３年７月１５日、技報堂発行、１３５頁〜１５２頁）に従って、ジアゾ化及びカップリング反応させることにより、  モノアゾ化合物を得た。このモノアゾ化合物を、前記常法に従って、ジアゾ化し、さらに、１−アミノ−８−ナフトール−２，４−ジスルホン酸リチウム塩とカップリング反応させることにより、下記式（４）で表されるジスアゾ化合物を含む粗生成物を得た。この粗生成物を塩化リチウムで塩析することにより、式（４）で表されるジスアゾ化合物を得た。
【００６２】
【化４】
2015099362.tif 000006
【００６３】
このジスアゾ化合物をイオン交換水に溶解させることにより、ジスアゾ化合物濃度２０質量％の溶液を調製した。この濃度２０質量％の溶液を、２３℃で観察したところ、ネマチック液晶相を示していた。前記観察は、顕微鏡用大型試料加熱冷却ステージ（ジャパンハイテック（株）製、製品名「１００１３Ｌ」）を備える、偏光顕微鏡（オリンパス（株）製、製品名「ＯＰＴＩＰＨＯＴ−ＰＯＬ」）を用いて行った。
前記溶液にさらにイオン交換水を加えて希釈することにより、ジスアゾ化合物濃度８質量％の塗布液を調製した。
【００６４】
［実施例１］
基材として、厚み４０μｍ、縦×横＝１２０ｍｍ×２００ｍｍの長方形状のトリアセチルセルロースフィルム（コニカミノルタ社製）を準備した。
この基材の横方向の長さを計測した。その後、その基材を、８０℃、５％ＲＨ下に保持された加熱試験器内に２４時間入れた後、それを取り出して最大伸縮方向（横方向）の長さを計測し、上記式に代入して寸法変化率を算出した。その結果、実施例１の基材の最大伸縮方向における寸法変化率は、−０．１％であった。
なお、実施例における基材の横方向は、後述するように、吸収軸方向が直交した２つの偏光領域が交互に配置された方向である。
【００６５】
この基材の表面に、ポリアミドを塗布してポリアミド薄膜を形成した。このポリアミド薄膜の上方から、ストライプ状のマスクを介して、直線偏光（第１直線偏光）を照射した。この照射により、前記ポリアミド薄膜の露光部（薄膜のうち、前記マスクの帯状の間隙を通過した第１直線偏光が当たった部分）における光活性基の分子軸が所定方向に配列し、基材の縦方向に延びる複数列の第１配向層を、基材の横方向に間隔を開けて形成した。次に、前記第１直線偏光とは偏光の向きが９０度回転した第２直線偏光を、ストライプ状のマスクを介して、前記露光部以外の部分（前記第１直線偏光の未露光部）に照射した。この照射により、露光部以外の部分における光活性基の分子軸が前記露光部の光活性基とは９０度の方向に配列し、第１配向層と同幅の第２配向層を複数の第１配向層の間に形成した。
このようにして、基材の縦方向に帯状に延びる第１配向層及び第２配向層が、基材の横方向に交互に配置された配向層（配向層の厚み０．６μｍ）を有する基材を形成した。
この配向層付き基材の、配向層の表面にコロナ処理を施した後、バーコーター（ＢＵＳＨＭＡＮ社製、製品名「Ｍａｙｅｒ  ｒｏｔ  ＨＳ５」）を用いて、塗布液を基材の縦方向に塗布し、均一な塗膜を形成した。この塗膜を、２３℃の恒温室内で自然乾燥することにより、塗膜を固化させた。固化した塗膜がパターニング偏光層であり、その厚みを反射分光膜厚計（大塚電子社製、製品名「ＦＥ−３０００」）を用いて測定したところ、２５０ｎｍであった。このようにして第１偏光領域と第２偏光領域が横方向に交互に並んだ光学積層体を作製した。
【００６６】
［実施例２］
前記トリアセチルセルロースフィルムに代えて、厚み４０μｍのアクリル樹脂フィルム（三菱レイヨン社製）を基材として用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学積層体を作製した。
実施例２の基材の最大伸縮方向（横方向）における寸法変化率を、実施例１と同様にして算出したところ、−０．２％であった。
【００６７】
［実施例３］
前記トリアセチルセルロースフィルムに代えて、厚み７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ社製）を基材として用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学積層体を作製した。
実施例３の基材の最大伸縮方向（横方向）における寸法変化率を、実施例１と同様にして算出したところ、−０．１％であった。
【００６８】
［実施例４］
前記トリアセチルセルロースフィルムに代えて、厚み４０μｍのシクロオレフィンフィルム（オプテス社製、製品名「ゼオノア」）を基材として用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学積層体を作製した。
実施例４の基材の最大伸縮方向（横方向）における寸法変化率を、実施例１と同様にして算出したところ、−０．０５％であった。
【００６９】
［実施例５］
前記トリアセチルセルロースフィルムに代えて、厚み２７μｍのシクロオレフィンフィルム（オプテス社製、製品名「アートンフィルム」）を基材として用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学積層体を作製した。
実施例５の基材の最大伸縮方向（横方向）における寸法変化率を、実施例１と同様にして算出したところ、−０．１％であった。
【００７０】
［比較例１］
前記トリアセチルセルロースフィルムに代えて、厚み４０μｍのポリプロピレンフィルム（信越フィルム社製）を基材として用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学積層体を作製した。
比較例１の基材の最大伸縮方向（横方向）における寸法変化率を、実施例１と同様にして算出したところ、−１．０％であった。
【００７１】
［比較例２］
前記トリアセチルセルロースフィルムに代えて、厚み２５μｍのポリエチレンフィルム（積水化学社製）を基材として用いたこと以外は、実施例１と同様にして、光学積層体を作製した。
比較例２の基材の最大伸縮方向（横方向）における寸法変化率を、実施例１と同様にして算出したところ、−５．０％であった。
【００７２】
実施例１乃至５の光学積層体は、寸法安定性に優れているので、偏光領域の吸収軸が長期間変化し難いと推定される。
なお、実施例１乃至５の光学積層体は、第１偏光領域及び第２偏光領域が連続した１つの層から構成されているため、各領域間に光洩れは観察されなかった。
【符号の説明】
【００７３】
１  光学積層体
２  基材
３  配向層
３１  第１配向層
３２  第２配向層
５  パターニング偏光層
５１  第１偏光領域
５２  第２偏光領域
【図１】
2015099362.tif 000007
【図２】
2015099362.tif 000008
【図３】
2015099362.tif 000009
【図４】
2015099362.tif 000010
【図５】
2015099362.tif 000011