(57)【要約】【課題】所望の輝度を有する面光源を得ることができる面光源の製造方法及び面光源を提供する。【解決手段】板状の導光体の光出射面に光出射手段を設け、側面に光源を設ける面光源の製造方法であって、前記光出射手段は、前記導光体と同等の導光体１０を用い、該導光体１０の光出射面１４に均一なパターンで光出射手段２０を設け、光入射面１５に前記光源と同等の光源３０を設けて導光体１０の光出射面１４から発光する輝度を測定し、測定した輝度から光出射手段２０のパターンを決定し、決定したパターンに従ったものである、面光源の製造方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状の導光体の光出射面に光出射手段を設け、側面に光源を設ける面光源の製造方法であって、
前記光出射手段は、前記導光体と同等の導光体を用い、該導光体の光出射面に均一なパターンで光出射手段を設け、側面に前記光源と同等の光源を設けて導光体の光出射面から発光する輝度を測定し、測定した輝度から光出射手段のパターンを決定し、決定したパターンに従ったものである、面光源の製造方法。
【請求項２】
前記光出射手段が凹部又は凸部の集合体であり、
測定した輝度から光出射率Ｐを算出し、算出した光出射率Ｐと、光出射面の単位面積あたりの前記凹部又は凸部の表面積Ｓと、所望の輝度を出射させるための光出射率ＰＬとから、光出射手段のパターンを決定する、請求項１に記載の面光源の製造方法。
【請求項３】
以下の工程Ａ〜工程Ｇを含む、請求項１又は２に記載の面光源の製造方法。
工程Ａ：板状の導光体の光出射面に凹部又は凸部の集合体である光出射手段を均一なパターンで設け、導光体の側面に光源を設け、導光体の光出射面から発光する輝度を光源からの距離Ｌが異なる複数の位置で測定する。
工程Ｂ：工程Ａで測定した各輝度のうち、最大値に対する各輝度の比率を算出して輝度比率とし、光源からの距離Ｌに対する輝度比率の対数の傾きＩから、光出射率Ｐを算出する。
工程Ｃ：光出射手段を構成する凹部又は凸部の表面積Ｓが異なる導光体について、前記工程Ａと工程Ｂとを行う。
工程Ｄ：光出射面の単位面積あたりの前記凹部又は凸部の表面積Ｓを算出して表面積率ＳＰとし、前記光出射率Ｐと表面積率ＳＰとの相関関数Ｆを作成する。
工程Ｅ：光源から導光体に入射させる全光量を分割し、光源からの距離Ｌごとに出射させたい輝度を決め、その輝度を出射させるための光出射率ＰＬを光源からの距離Ｌごとに算出する。
工程Ｆ：相関関数Ｆと光出射率ＰＬとから、光源からの距離Ｌで出射に必要な光出射手段のパターンを決定する。
工程Ｇ：工程Ａにて輝度の測定に用いた、光出射手段を設ける前の導光体と同等の導光体を準備し、該導光体の光出射面に、側面から距離Ｌごとに工程Ｆで決定したパターンに従って光出射手段を設け、導光体の側面に工程Ａにて用いた光源と同等の光源を設ける。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の面光源の製造方法により得られる、面光源。
【請求項５】
導光体の側面に光源を有し、導光体の光出射面から光が出射する面光源であって、
面光源の均斉度が５０％以上である、面光源。
【請求項６】
光源から出射される全光量１００％に対し、導光体の光出射面から出射する光量が９０％以上である、請求項５に記載の面光源。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、面光源の製造方法及び面光源に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、携帯電話、ノートパソコン、液晶テレビ、ビデオカメラ等に用いられる液晶表示装置、携帯電話のバックライトキー、パソコンのバックライトキーボード、電気機器や車両の表示スイッチ等の表示装置、シーリングライト等の室内照明、照明看板等の照明装置等に用いられている光源装置としては、ハウジング内に蛍光灯等の線状光源や発光ダイオード等の点光源を複数個配置した直下方式、板状の導光体の側面に線状光源又は点光源を配置したエッジライト方式がある。
【０００３】
エッジライト方式の光源装置は、通常、矩形状のアクリル樹脂板等の透明材料を導光体とし、その側面に配置された光源の光を側面（光入射面）から導光体に入射させ、導光体の表面（光出射面）又は裏面に光出射手段を設けたり、導光体中に光拡散性粒子を含有させたりすることにより、入射した光を光出射面から出射させる。
【０００４】
例えば、特許文献１には、単層の樹脂板の表面にパターンを設けたエッジライト方式の面光源が提案されている。
また、特許文献２には、コア−クラッド構造からなる樹脂積層体の表面にパターンを設けたエッジライト方式の面光源が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平５−１９６９３６号公報
【特許文献２】国際公開第２０１０／０７３７２６号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１や特許文献２に記載されている面光源は、輝度について改善されているものの、その改善効果は必ずしも十分ではなかった。特に、光出射面の場所ごとの輝度の最適化が十分でなく、所望の輝度の面光源を得ることが困難であった。
【０００７】
そこで、本発明の目的は、所望の輝度を有する面光源を得ることができる面光源の製造方法及び面光源を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は以下の態様を有する。
［１］  板状の導光体の光出射面に光出射手段を設け、側面に光源を設ける面光源の製造方法であって、前記光出射手段は、前記導光体と同等の導光体を用い、該導光体の光出射面に均一なパターンで光出射手段を設け、側面に前記光源と同等の光源を設けて導光体の光出射面から発光する輝度を測定し、測定した輝度から光出射手段のパターンを決定し、決定したパターンに従ったものである、面光源の製造方法。
［２］  前記光出射手段が凹部又は凸部の集合体であり、測定した輝度から光出射率Ｐを算出し、算出した光出射率Ｐと、光出射面の単位面積あたりの前記凹部又は凸部の表面積Ｓと、所望の輝度を出射させるための光出射率ＰＬとから、光出射手段のパターンを決定する、［１］に記載の面光源の製造方法。
［３］  以下の工程Ａ〜工程Ｇを含む、［１］又は［２］に記載の面光源の製造方法。
工程Ａ：板状の導光体の光出射面に凹部又は凸部の集合体である光出射手段を均一なパターンで設け、導光体の側面に光源を設け、導光体の光出射面から発光する輝度を光源からの距離Ｌが異なる複数の位置で測定する。
工程Ｂ：工程Ａで測定した各輝度のうち、最大値に対する各輝度の比率を算出して輝度比率とし、光源からの距離Ｌに対する輝度比率の対数の傾きＩから、光出射率Ｐを算出する。
工程Ｃ：光出射手段を構成する凹部又は凸部の表面積Ｓが異なる導光体について、前記工程Ａと工程Ｂとを行う。
工程Ｄ：光出射面の単位面積あたりの前記凹部又は凸部の表面積Ｓを算出して表面積率ＳＰとし、前記光出射率Ｐと表面積率ＳＰとの相関関数Ｆを作成する。
工程Ｅ：光源から導光体に入射させる全光量を分割し、光源からの距離Ｌごとに出射させたい輝度を決め、その輝度を出射させるための光出射率ＰＬを光源からの距離Ｌごとに算出する。
工程Ｆ：相関関数Ｆと光出射率ＰＬとから、光源からの距離Ｌで出射に必要な光出射手段のパターンを決定する。
工程Ｇ：工程Ａにて輝度の測定に用いた、光出射手段を設ける前の導光体と同等の導光体を準備し、該導光体の光出射面に、側面から距離Ｌごとに工程Ｆで決定したパターンに従って光出射手段を設け、導光体の側面に工程Ａにて用いた光源と同等の光源を設ける。
【０００９】
［４］  ［１］〜［３］のいずれか１つに記載の面光源の製造方法により得られる、面光源。
［５］  導光体の側面に光源を有し、導光体の光出射面から光が出射する面光源であって、面光源の均斉度が５０％以上である、面光源。
［６］  光源から出射される全光量１００％に対し、導光体の光出射面から出射する光量が９０％以上である、［５］に記載の面光源。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の面光源の製造方法によれば、所望の輝度を有する面光源を得ることができる。
また、本発明の面光源は、所望の輝度を有する。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】工程Ａにおいて、導光体に光源と光出射手段を設けた面光源の一例を模式的に示す図であり、（ａ）は平面図であり、（ｂ）は断面図である。
【図２】実施例１で用いた導光体を模式的に示す図であり、（ａ）は平面図であり、（ｂ）は断面図である。
【図３】実施例１で得られた面光源Ａを模式的に示す図であり、（ａ）は平面図であり、（ｂ）は断面図である。
【図４】実施例１で得られた面光源Ａ、面光源Ｂ、面光源Ｃの輝度を示すグラフである。
【図５】実施例１で得られた面光源Ａ、面光源Ｂ、面光源Ｃの輝度比率の対数を示すグラフである。
【図６】実施例１で得られた面光源Ａ、面光源Ｂ、面光源Ｃの相関関数Ｆを示すグラフである。
【図７】実施例１において面光源Ｘを得るための光出射手段の設け方を模式的に示す平面図である。
【図８】実施例１で得られた面光源Ａ、面光源Ｂ、面光源Ｃ、面光源Ｘの輝度を示すグラフである。
【図９】実施例２で得られた面光源Ｄを模式的に示す図であり、（ａ）は平面図であり、（ｂ）は断面図である。
【図１０】実施例２で得られた面光源Ｄ、面光源Ｅ、面光源Ｆの輝度を示すグラフである。
【図１１】実施例２で得られた面光源Ｄ、面光源Ｅ、面光源Ｆの輝度比率の対数を示すグラフである。
【図１２】実施例２で得られた面光源Ｄ、面光源Ｅ、面光源Ｆの相関関数Ｆを示すグラフである。
【図１３】実施例２で得られた面光源Ｄ、面光源Ｅ、面光源Ｆ、面光源Ｙの輝度を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態について図面を用いながら説明するが、本発明はこれらの実施の形態及び図面に限定されるものではない。
本明細書において、「同等」、「同一」、「均一」、「一定」等の記載があるが、必ずしも厳密に「同等」、厳密に「同一」、厳密に「均一」、厳密に「一定」でなくてよく、本発明の趣旨を逸脱しない程度の範囲をもつ。
また、図２、図３、図７、図９において、図１と同じ構成要素には同じ符号を付して説明を省略する。
また、図１〜図３、図７、図９は、その特徴をわかりやすくするために、便宜上、特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率等は実際とは異なる場合がある。
【００１３】
本発明は、板状の導光体の光出射面に光出射手段を設け、側面に光源を設ける面光源の製造方法である。前記光出射手段は、前記導光体と同等の導光体を用い、該導光体の光出射面に均一なパターンで光出射手段を設け、側面に前記光源と同等の光源を設けて導光体の光出射面から発光する輝度を測定し、測定した輝度から光出射手段のパターンを決定し、決定したパターンに従ったものである。
ここで、光出射手段のパターンを決定するとは、面光源の用途に応じて光出射手段が最適なパターンとなるように決定することである。
【００１４】
光出射手段が凹部又は凸部の集合体である場合、光出射手段のパターンは、例えば、測定した輝度から光出射率Ｐを算出し、算出した光出射率Ｐと、光出射面の単位面積あたりの前記凹部又は凸部の表面積Ｓと、所望の輝度を出射させるための光出射率ＰＬとから決定される。具体的には、光出射手段のパターンの決定は以下の工程Ａ〜工程Ｆを経て行われるので、本発明の面光源の製造方法は、以下の工程Ａ〜工程Ｇを含むことが好ましい。
工程Ａ：板状の導光体の光出射面に凹部又は凸部の集合体である光出射手段を均一なパターンで設け、導光体の側面に光源を設け、導光体の光出射面から発光する輝度を光源からの距離Ｌが異なる複数の位置で測定する。
工程Ｂ：工程Ａで測定した各輝度のうち、最大値に対する各輝度の比率を算出して輝度比率とし、光源からの距離Ｌに対する輝度比率の対数の傾きＩから、光出射率Ｐを算出する。
工程Ｃ：光出射手段を構成する凹部又は凸部の表面積Ｓが異なる導光体について、前記工程Ａと工程Ｂとを行う。
工程Ｄ：光出射面の単位面積あたりの前記凹部又は凸部の表面積Ｓを算出して表面積率ＳＰとし、前記光出射率Ｐと表面積率ＳＰとの相関関数Ｆを作成する。
工程Ｅ：光源から導光体に入射させる全光量を分割し、光源からの距離Ｌごとに出射させたい輝度を決め、その輝度を出射させるための光出射率ＰＬを光源からの距離Ｌごとに算出する。
工程Ｆ：相関関数Ｆと光出射率ＰＬとから、光源からの距離Ｌで出射に必要な光出射手段のパターンを決定する。
工程Ｇ：工程Ａにて輝度の測定に用いた、光出射手段を設ける前の導光体と同等の導光体を準備し、該導光体の光出射面に、側面から距離Ｌごとに工程Ｆで決定したパターンに従って光出射手段を設け、導光体の側面に工程Ａにて用いた光源と同等の光源を設ける。
尚、工程Ａにおいて輝度の測定に用いる導光体であって、光出射手段が設けられる前の導光体を「第一の導光体」ともいい、工程Ｇにおいて工程Ｆで決定したパターンに従って光出射手段が設けられる前の導光体を「第二の導光体」ともいう。
【００１５】
（工程Ａ）
工程Ａは、板状の導光体（第一の導光体）の光出射面に凹部又は凸部の集合体である光出射手段を均一なパターンで設け、導光体（第一の導光体）の側面に光源を設け、導光体（第一の導光体）の光出射面から発光する輝度を光源からの距離Ｌが異なる複数の位置で測定する工程である。
例えば、図１に示すように、導光体（第一の導光体）１０の光出射面１４に光出射手段２０を均一に設け、導光体（第一の導光体）１０の側面に光源３０を設けて、面光源１を作製する。図１に示す面光源１は、光出射面１４となる表面に光出射手段２０を均一に設け、光入射面１５となる側面に光源３０を設けたものである。
【００１６】
導光体としては、導光するものであれば特に限定されないが、例えば、単層導光体、コア−クラッド構造を有する積層体等が挙げられる。
図１に示す導光体（第一の導光体）１０は、コア−クラッド構造を有する積層体である。
【００１７】
単層導光体の材料としては、光透過率が高いものであれば特に限定されないが、例えば、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、ガラス等が挙げられる。これらの単層導光体の材料の中でも、軽量で、透明性、取り扱い性に優れることから、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂が好ましく、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂がより好ましい。
【００１８】
単層導光体の厚さは、０．１ｍｍ〜１５ｍｍが好ましく、０．２ｍｍ〜１０ｍｍがより好ましい。単層導光体の厚さが０．１ｍｍ以上であると、機械特性に優れる。また、単層導光体の厚さが１５ｍｍ以下であると、取り扱い性に優れる。
【００１９】
コア−クラッド構造を有する積層体は、例えば、図１に示すように、コア層１１の両面にクラッド層１２を有する積層体である。
コア層１１とクラッド層１２の材料は、屈折率が異なり、光透過率が高いものであれば特に限定されない。
コア層１１とクラッド層１２の屈折率差は、入射した光がコア層１１とクラッド層１２との界面を全反射しながら少ない損失で遠くまで伝播できることから、０．００１以上が好ましく、０．０１以上がより好ましい。
【００２０】
コア層１１とクラッド層１２の屈折率は、どちらが高くてもどちらが低くてもよく、使用目的等に応じて適宜選択することができる。
コア層１１の屈折率がクラッド層１２の屈折率より高い場合、少ない損失で遠くまで伝播できるため好ましい。
クラッド層１２の屈折率がコア層１１の屈折率より低い場合、少ない光出射手段の数で面光源の輝度に優れるため好ましい。
【００２１】
コア層１１の材料は、光透過率が高いものであれば特に限定されないが、例えば、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、ガラス等が挙げられる。これらのコア層１１の材料の中でも、軽量で、透明性、取り扱い性に優れることから、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、ガラスが好ましく、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ガラスがより好ましい。
【００２２】
コア−クラッド構造を有する積層体の厚さは、０．１ｍｍ〜１５ｍｍが好ましく、０．２ｍｍ〜１０ｍｍがより好ましい。コア−クラッド構造を有する積層体の厚さが０．１ｍｍ以上であると、機械特性に優れる。また、コア−クラッド構造を有する積層体の厚さが１５ｍｍ以下であると、取り扱い性に優れる。
【００２３】
クラッド層１２の材料は、光透過率が高く、コア層１１の屈折率と異なるものであれば特に限定されず、使用目的等に応じて適宜選択することができる。
コア層１１の屈折率がクラッド層１２の屈折率より高く、コア層１１の材料としてアクリル樹脂を用いる場合、クラッド層１２の材料としては、例えば、フッ素含有オレフィン樹脂等が挙げられる。
コア層１１の屈折率がクラッド層１２の屈折率より高く、コア層１１の材料としてポリカーボネート樹脂を用いる場合、クラッド層１２の材料としては、例えば、フッ素含有オレフィン樹脂、アクリル樹脂等が挙げられる。
クラッド層１２の屈折率がコア層１１の屈折率より高く、コア層１１の材料としてアクリル樹脂を用いる場合、クラッド層１２の材料としては、例えば、ガラス等が挙げられる。
【００２４】
クラッド層１２の厚さは、１μｍ〜５００μｍが好ましく、２μｍ〜２００μｍがより好ましい。クラッド層１２の厚さが１μｍ以上であると、コア−クラッド構造を有する積層体の漏光を抑制することができる。また、クラッド層１２の厚さが５００μｍ以下であると、コア−クラッド構造を有する積層体の生産性に優れる。
【００２５】
導光体の形状としては、板状であれば特に限定されないが、例えば、矩形、三角形等の多角形状；真円、楕円等の円形状等が挙げられる。これらの導光体の形状の中でも、光源からの光を入射し易く、加工性に優れることから、多角形状が好ましく、矩形状がより好ましい。
導光体は、必要に応じて、光拡散粒子や気泡を有してもよい。
光拡散粒子の材料としては、例えば、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂等が挙げられる。これらの光拡散粒子は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２６】
導光体は、必要に応じて、表面（光出射面１４）又は裏面（光出射面１４とは反対側の面）に機能層を有してもよい。
機能層としては、例えば、光反射層１３、意匠層、光拡散層等の公知の機能層等が挙げられる。
導光体に光反射層１３を設ける場合、図１に示すように、導光体の裏面に光反射層１３設けることで、クラッド層１２から漏光する光を反射させ、再びコア層１１に入射させることができる。
【００２７】
光反射層１３としては、例えば、ビニル系、ポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系等の樹脂インクにより可視光を反射する樹脂をコーティング処理した樹脂層；ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂等の樹脂板や樹脂フィルム；セルロース等の紙；アルミニウム、ニッケル、金、白金、クロム、鉄、銅、インジウム、スズ、銀、チタン、鉛、亜鉛等の金属板や金属薄膜等が挙げられる。これらの光反射層１３の中でも、反射率を容易に調整できることから、樹脂インクにより可視光を反射する樹脂をコーティング処理した樹脂層が好ましい。
【００２８】
光反射層１３は、必要に応じて、顔料や光拡散粒子や気泡を有してもよい。
顔料としては、例えば、酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の白色顔料等が挙げられる。これらの顔料は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらの顔料の中でも、可視光の全領域に対して反射率が高いことから、白色顔料が好ましい。
光拡散粒子の材料としては、例えば、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、スチレン樹脂等が挙げられる。これらの光拡散粒子は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２９】
光反射層１３の厚さは、光反射層１３の反射率や導光体の用途に応じて適宜選択すればよいが、導光体の耐久性に優れ、導光体の保護フィルムとして兼ねることができることから、１０μｍ〜５００μｍが好ましく、５０μｍ〜２００μｍがより好ましい。
【００３０】
工程Ａでは、導光体（第一の導光体）の光出射面に凹部又は凸部の集合体である光出射手段を均一なパターンで設ける。ここで、光出射手段を均一なパターンで設けるとは、形状が同一である複数の凹部又は凸部を等間隔のピッチで光出射面に形成することを意味する。
【００３１】
光出射手段としては、設計が容易であることから、図１に示すような凹部２１の集合体が好ましい。凹部２１は、光出射面１４側のクラッド層１２を貫通し、コア層１１に達するものが好ましい。
凹部２１の形状としては、円錐形状、楕円錘形状、角錐形状、球欠形状、ライン形状等が挙げられる。
【００３２】
凹部又は凸部の表面積Ｓは、光出射手段を構成する各凹部又は凸部の表面積が同一であれば特に限定されないが、１０μｍ２〜１００ｍｍ２の範囲から選択することが好ましい。
【００３３】
凹部の深さ又は凸部の高さは、光出射手段を構成する各凹部の深さ又は凸部の高さが同一であれば特に限定されないが、０．１μｍ〜１ｍｍの範囲から選択することが好ましい。導光体が図１に示すようなコア−クラッド構造を有する積層体の場合、凹部２１の深さは、クラッド層１２の厚さより大きいことが好ましい。
ここで、凹部の深さとは、任意の凹部の開口部から最深部までの垂直距離のことであり、凸部の高さとは、任意の凸部の頂部から底部までの垂直距離のことである。
【００３４】
凹部又は凸部のピッチは、光出射手段を構成する各凹部又は凸部のピッチが同一であれば特に限定されないが、１μｍ〜１０ｍｍの範囲から選択することが好ましい。
ここで、凹部又は凸部のピッチとは、任意の凹部又は凸部の中央部から、これに隣接する凹部又は凸部の中央部までの距離のことである。
【００３５】
光出射手段を設ける方法としては、例えば、レーザー加工、サンドブラスト加工、プレス加工、熱プレス加工、印刷加工、エッチング加工、放電加工等が挙げられる。これらの光出射手段を設ける方法の中でも、制御が容易で、簡便な方法であることから、レーザー加工、印刷加工が好ましく、レーザー加工がより好ましい。
【００３６】
光源は、例えば、ＬＥＤ等の点光源を複数配置した光源、線状光源等が挙げられる。
光源が点光源を複数配置した光源の場合、導光体の幅（ｗ）方向の全域に点光源を均一に設けることが好ましい。
光源が線状光源の場合、光源の長さと導光体の幅方向の長さが均一であることが好ましい。
光源は、１ヶ所の側面に設けてもよく、対向する２ヶ所の側面に設けてもよい。光源が設けられた側面を光入射面という。
【００３７】
導光体の光出射面から発光する輝度は、導光体の長さ（ｌ）方向における光源からの距離Ｌが異なる複数の位置において、輝度計、分光放射計等で測定する。
【００３８】
（工程Ｂ）
工程Ｂは、工程Ａで測定した各輝度のうち、最大値に対する各輝度の比率を算出して輝度比率とし、光源からの距離Ｌに対する輝度比率の対数の傾きＩから、光出射率Ｐを算出する工程である。
工程Ｂは、工程Ａの後に行う。
【００３９】
工程Ｂを具体的に説明する。
まず、工程Ａで測定した各輝度について、輝度の最大値を１とする輝度比率に換算し、更にその対数をとる。
次いで、光源からの距離Ｌ（ｍｍ）をｘ軸に、得られた輝度比率の対数をｙ軸にとって、２次元のグラフを作成する。
次いで、得られた２次元のグラフから、傾きが一定となる光源からの距離Ｌ（ｍｍ）の範囲Ｌ１（ｍｍ）〜Ｌ２（ｍｍ）を決定する。
次いで、決定した範囲Ｌ１（ｍｍ）〜Ｌ２（ｍｍ）における輝度比率の対数ＩＬ１〜ＩＬ２の傾きＩ（ｍｍ−１）を下記数式（１）により算出する。
次いで、光出射率Ｐ（％）を下記数式（２）により算出する。Ｌｓ（ｍｍ）は、ある一定距離を表し、光出射率Ｐ（％）は、Ｌｓ（ｍｍ）あたりの光出射率となる。
Ｉ＝（ＩＬ２−ＩＬ１）／（Ｌ２−Ｌ１）    ・・・（１）
Ｐ＝（１−１０Ｉ・Ｌｓ）×１００    ・・・（２）
【００４０】
傾きが一定となる光源からの距離Ｌ（ｍｍ）の範囲Ｌ１（ｍｍ）〜Ｌ２（ｍｍ）の決め方は、得られた２次元のグラフを確認して適宜設定すればよい。範囲Ｌ１〜Ｌ２は、光を出射させたい範囲（導光体の長さ方向の距離）に対して、２０％〜６０％の範囲から選択することが好ましい。
【００４１】
Ｌｓは適宜設定すればよいが、１ｍｍ〜１００ｍｍが好ましく、２ｍｍ〜５０ｍｍがより好ましい。Ｌｓが１ｍｍ以上であると、設計が容易である。また、Ｌｓが１００ｍｍ以下であると、面光源の均斉度に優れる。
【００４２】
（工程Ｃ）
工程Ｃは、光出射手段を構成する凹部又は凸部の表面積Ｓが異なる導光体について、前記工程Ａと工程Ｂとを行う工程である。
工程Ｃは、工程Ｂの後に行う。
工程Ｃは、少なくとも１回行えばよいが、面光源の均斉度を高めることから、２回以上行うことが好ましい。具体的には、第一の導光体として、先ほどの工程Ａにて用いた導光体とは光出射手段を構成する凹部又は凸部の表面積Ｓが異なる導光体を１つ以上、好ましくは２つ以上準備し、これらについて工程Ａと工程Ｂを実施する。
【００４３】
（工程Ｄ）
工程Ｄは、光出射面の単位面積あたりの前記凹部又は凸部の表面積Ｓを算出して表面積率ＳＰとし、前記光出射率Ｐと表面積率ＳＰとの相関関数Ｆを作成する工程である。
工程Ｄは、工程Ｃの後に行う。
【００４４】
光出射手段を構成する凹部又は凸部の表面積率ＳＰは、光出射面の単位面積あたりの凹部又は凸部の表面積Ｓ（ｍｍ２）を表す。
光出射面の単位面積あたりの凹部又は凸部の表面積Ｓ（ｍｍ２）は、１個あたりの凹部又は凸部の表面積Ｓ（ｍｍ２）と、凹部又は凸部のピッチ（ｍｍ）から算出することができる。例えば、光出射面の単位面積を１ｍｍ２とし、導光体の長さ（ｌ）方向における凹部又は凸部のピッチｐｘ（ｍｍ）、及び導光体の幅（ｗ）方向における凹部又は凸部のピッチｐｙが共に１ｍｍである場合は、１個あたりの凹部又は凸部の表面積Ｓ（ｍｍ２）＝表面積率ＳＰである。
【００４５】
相関関数Ｆは、工程Ｂで算出した光出射率Ｐ（％）をｘ軸に、光出射手段を構成する凹部又は凸部の表面積率ＳＰをｙ軸にとってプロットし、プロットした点を最小二乗法により近似した１次関数（ｙ＝ａｘ＋ｂ）である。
【００４６】
（工程Ｅ）
工程Ｅは、光源から導光体に入射させる全光量を分割し、光源からの距離Ｌごとに出射させたい輝度を決め、その輝度を出射させるための光出射率ＰＬを光源からの距離Ｌごとに算出する工程である。
工程Ｅは、工程Ａ〜工程Ｄの前に行ってもよく、工程Ａ〜工程Ｄの後に行ってもよく、工程Ａ〜工程Ｄの間に行ってもよい。
【００４７】
光源から導光体に入射させる全光量を分割することで、輝度利用率を高めることができる。輝度利用率は、光源から出射される全光量１００％に対する導光体の光出射面から出射する光量（％）とする。
工程Ｅの趣旨は、光源から導光体に入射させる全光量に対し、光源からの距離Ｌごとに、所望の輝度を出射させるための光出射率ＰＬ（割合）を算出することであるため、光源から導光体に入射させる全光量は、実際に入射させる全光量の値でもよく、仮の数値でもよい。
【００４８】
光源からの距離Ｌごとに出射させたい輝度は、均一であってもよく、高低があってもよく、面光源の用途に応じて所望の輝度となるよう適宜設定すればよい。
例えば、均斉度の高い面光源を得たい場合、光源からの距離Ｌごとに出射させたい輝度を均一に配分するとよい。
【００４９】
出射させたい輝度を出射させるための光出射率ＰＬ（％）は、出射させたい輝度を光源から出射される全光量で割って１００を掛けて算出する。
【００５０】
（工程Ｆ）
工程Ｆは、相関関数Ｆと光出射率ＰＬとから、光源からの距離Ｌで出射に必要な光出射手段のパターンを決定する工程である。
工程Ｆは、工程Ｄと工程Ｅの後に行う。
【００５１】
工程Ｄで求めた相関関数Ｆ（ｙ＝ａｘ＋ｂ）のｘに、工程Ｅで求めた光出射率ＰＬ（％）を代入することで、光源からの距離Ｌで出射に必要な光出射手段の表面積率ＳＰ（相関関数Ｆのｙ）を算出することができる。光源からの距離Ｌで出射に必要な光出射手段の表面積率ＳＰを基に、光源からの距離Ｌごとに、各光出射手段のピッチを変化させたり、各光出射手段の表面積を変化させたりして、光出射手段のパターンを決めることができる。
【００５２】
具体的には、光源からの距離Ｌで出射に必要な光出射手段の表面積率ＳＰは、単位面積あたりの光出射手段の表面積Ｓ（ｍｍ２）を表すので、設ける光出射手段の表面積Ｓ（ｍｍ２）、設ける光出射手段の導光体の長さ方向におけるピッチｐｘ（ｍｍ）、設ける光出射手段の導光体の幅方向におけるピッチｐｙ（ｍｍ）のとき、下記数式（３）が成り立つ。この下記数式（３）に基づいて、光出射手段のパターンを決めることができる。
ＳＰ＝Ｓ／（ｐｘ×ｐｙ）    ・・・（３）
【００５３】
（工程Ｇ）
工程Ｇは、工程Ａにて輝度の測定に用いた、光出射手段を設ける前の導光体（第一の導光体）と同等の導光体（第二の導光体）を準備し、該導光体（第二の導光体）の光出射面に、側面から距離Ｌごとに工程Ｆで決定したパターンに従って光出射手段を設け、導光体（第二の導光体）の側面に工程Ａにて用いた光源（すなわち、第一の導光体に設けられた光源）と同等の光源を設ける工程である。
【００５４】
工程Ａ〜工程Ｇを経て得られる面光源は、光出射面に用途に応じた最適なパターンの光出射手段が設けられているので、光出射面の場所ごとの輝度が最適化されており、所望の輝度を有する。
工程Ａ〜工程Ｇを経て得られる面光源は、均斉度を高くすることができ、具体的には均斉度を５０％以上とすることができる。均斉度は、面光源の出射させたい範囲における輝度の最大値と最小値の比とする。
工程Ａ〜工程Ｇを経て得られる面光源は、輝度利用率を高めることができ、具体的には輝度利用率を９０％以上とすることができる。輝度利用率は、光源から出射される全光量１００％に対する、導光体の光出射面から出射する光量の割合であり、面光源の出射させたい範囲における輝度の総量を、面光源から出射した輝度の総量で割って１００を掛けて算出する。
【００５５】
以上説明した本発明の面光源の製造方法によれば、所望の輝度の面光源を得ることができる。そのため、得られる面光源は、例えば、携帯電話、ノートパソコン、液晶テレビ、ビデオカメラ等に用いられる液晶表示装置、携帯電話のバックライトキー、パソコンのバックライトキーボード、電気機器や車両の表示スイッチ等の表示装置、シーリングライト等の室内照明、照明看板等の照明装置等に好適に用いることができる。
【実施例】
【００５６】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
【００５７】
「実施例１」
（導光体の製造）
コア層を構成する材料としてポリカーボネート樹脂（商品名「タフロン  ＬＣ２２００」、出光興産株式会社製、屈折率ｎ１＝１．５８５）、クラッド層を構成する材料としてアクリル樹脂（商品名「アクリペット  ＶＨ０００」、三菱レイヨン株式会社製、屈折率ｎ２＝１．４９）を用い、多層溶融押出によりコア層と、コア層の両面に積層したクラッド層とからなる積層体を得た。クラッド層の厚さはそれぞれ１０μｍであり、積層体の全体の厚さは０．７ｍｍであった。
得られた積層体を幅（ｗ）２１０ｍｍ、長さ（ｌ）６０５ｍｍの矩形に切断し、４つの側面をダイヤモンドバイトにより鏡面に切削した。次いで、積層体の光出射面の裏面に、片面に粘着層が設けられている光反射層（商品名「Ｅ２４１−ＷＳ」、株式会社スミロン製、白色フィルム）の粘着層を有する面をラミネーションし、導光体（第一の導光体）を得た。得られた導光体の模式図を図２に示す。
【００５８】
（工程Ａ）
得られた導光体の光出射面に、炭酸ガスレーザー加工装置（機種名「ＥＭＭＬＳ−００１」、ＬＴＳ社製）を用い、表面積Ｓが０．００４４ｍｍ２（直径７５μｍの略円）であり、深さが２５μｍである凹部を、導光体の長さ方向におけるピッチｐｘ及び導光体の幅方向におけるピッチｐｙがそれぞれ１ｍｍとなるように均一に形成して光出射手段を設けた。次いで、導光体の側面に、光源としてＬＥＤ（商品名「ＮＳＳＷ１５７Ｔ」、日亜化学工業株式会社製）を１０ｍｍピッチで２０個配置し、面光源Ａを得た。得られた面光源Ａの模式図を図３に示す。
得られた面光源Ａを、直流１８Ｖ、６３０ｍＡの電流を通電し発光させ、輝度計（機種名「ＢＭ−７Ａ」、株式会社トプコンテクノハウス製）を用い、光源からの距離Ｌが１０ｍｍ〜３６０ｍｍの領域について、１０ｍｍ刻みで３６点の法線方向の輝度を測定した。尚、面光源Ａから輝度計の高さを５００ｍｍ、視野角度を２°とし、輝度計の測定円の中心を各領域の中心と一致させて各領域の輝度を測定し、法線方向の輝度を得た。面光源Ａの輝度を図４、図８に示す。
【００５９】
（工程Ｂ）
図４に示す輝度について、その最大値を１とする輝度比率に換算し、更にその対数をとった。次いで、光源からの距離Ｌ（ｍｍ）をｘ軸に、得られた輝度比率の対数をｙ軸にとって、２次元のグラフを作成した。結果を図５に示す。
図５から、傾きが一定となる光源からの距離Ｌの範囲Ｌ１〜Ｌ２を２００ｍｍ〜３６０ｍｍとした。光源からの距離Ｌが２００ｍｍ〜３６０ｍｍの範囲における輝度比率の対数ＩＬ１〜ＩＬ２の傾きＩを上記数式（１）より求めたところ、−０．０００４９ｍｍ−１であった。Ｌｓを１０ｍｍとし、１０ｍｍあたりの光出射率Ｐを上記数式（２）より求めたところ、１．１３％であった。面光源Ａの光出射率Ｐを表１に示す。
【００６０】
（工程Ｃ）
光出射手段を構成する凹部の表面積Ｓを０．０２５０ｍｍ２（長径３５０μｍ、短径７５μｍの略楕円）とした以外は面光源Ａと同様の操作を行い、面光源Ｂを得た。
別途、光出射手段を構成する凹部の表面積Ｓを０．０５５０ｍｍ２（長径７５０μｍ、短径７５μｍの略楕円）とした以外は面光源Ａと同様の操作を行い、面光源Ｃを得た。
得られた面光源Ｂ及び面光源Ｃについて、面光源Ａと同様にして輝度を測定し、輝度比率の対数の傾きＩから光出射率Ｐを求めた。面光源Ｂ及び面光源Ｃの輝度を図４、図８に示し、輝度比率の対数を図５に示し、光出射率Ｐを表１に示す。
尚、長径が導光体の幅方向であり、短径が導光体の長さ方向である。
【００６１】
（工程Ｄ）
面光源Ａ、面光源Ｂ、面光源Ｃについて、光出射手段を構成する凹部の表面積Ｓとピッチから、光出射面の単位面積（１ｍｍ２）あたりの凹部の表面積Ｓを算出し、これを表面積率ＳＰとした。面光源Ａ、面光源Ｂ、面光源Ｃの表面積率ＳＰを表１に示す。
工程Ｂで算出した光出射率Ｐ（％）をｘ軸に、光出射手段を構成する凹部の表面積率ＳＰをｙ軸にとってプロットした。結果を図６に示す。プロットした３点を最小二乗法により近似して相関関数Ｆを算出したところ、ｙ＝０．００６５７ｘ−０．００５７７であった。
【００６２】
【表１】
2015213051.tif 000003
【００６３】
（工程Ｅ）
光源から導光体に入射させる全光量を３０００ｃｄ／ｍ２と仮に設定し、その全光量を均等に分割し、光源からの距離Ｌごとに出射させたい輝度を決定した。具体的には、全光量（３０００ｃｄ／ｍ２）を３０等分し、光源からの距離Ｌが０ｍｍ〜３００ｍｍの領域について１０ｍｍ刻みで出射させたい輝度を１００ｃｄ／ｍ２と決定した。
次いで、各領域において出射させたい輝度（１００ｃｄ／ｍ２）を出射させるための光出射率ＰＬを算出した。具体的には、各領域において出射させたい輝度を光源から出射される全光量（各領域における減衰前輝度）で割って１００を掛けて算出した。算出した光出射率ＰＬを表２に示す。尚、各領域における減衰前輝度は以下のようにして求めた。
本工程の場合、光源からの距離Ｌが０ｍｍ〜３００ｍｍの領域について１０ｍｍ刻みで出射させたい輝度を１００ｃｄ／ｍ２と決定したので、光源からの距離Ｌが０ｍｍ〜１０ｍｍの領域（領域ｉ）における減衰前輝度は３０００ｃｄ／ｍ２であり、減衰後輝度は領域ｉにおける減衰前輝度から出射させたい輝度を差し引いた値、すなわち２９００ｃｄ／ｍ２である。光源からの距離Ｌが１０ｍｍ〜２０ｍｍの領域（領域ii）における減衰前輝度は領域ｉにおける減衰後輝度と同じ値、すなわち２９００ｃｄ／ｍ２であり、減衰後輝度は領域iiにおける減衰前輝度から出射させたい輝度を差し引いた値、すなわち２８００ｃｄ／ｍ２である。以下、同様にして、光源からの距離Ｌが０ｍｍ〜３００ｍｍの領域において１０ｍｍ刻みで減衰前輝度および減衰後輝度を求めていくと、光源からの距離Ｌが２９０ｍｍ〜３００ｍｍの領域における減衰前輝度は１００ｃｄ／ｍ２であり、減衰後輝度は０ｃｄ／ｍ２である。各領域における減衰前輝度と減衰後輝度を表２に示す。
【００６４】
【表２】
2015213051.tif 000004
【００６５】
（工程Ｆ）
相関関数Ｆ（ｙ＝０．００６５７ｘ−０．００５７７）のｘに、工程Ｅで算出した光出射率ＰＬを代入し、相関関数Ｆのｙを算出し、これを光源からの距離Ｌで出射に必要な光出射手段の表面積率ＳＰとした。
工程Ｇで設ける予定の光出射手段を、表面積Ｓが０．００４４ｍｍ２（直径７５μｍの略円）であり、深さが２５μｍである凹部の集合体とし、導光体の幅方向のピッチｐｙを０．１ｍｍとし、上記数式（３）より導光体の長さ方向のピッチｐｘを算出した。算出した長さ方向のピッチｐｘを表３に示す。
【００６６】
【表３】
2015213051.tif 000005
【００６７】
（工程Ｇ）
工程Ａにて輝度の測定に用いた、光出射手段を設ける前の導光体（第一の導光体）と同等の導光体（第二の導光体）を準備した。炭酸ガスレーザー加工装置（機種名「ＥＭＭＬＳ−００１」、ＬＴＳ社製）を用い、準備した導光体（第二の導光体）の光出射面に、距離Ｌごとに、表面積Ｓが０．００４４ｍｍ２（直径７５μｍの略円）であり、深さが２５μｍである凹部を、導光体の幅方向のピッチｐｙを０．１ｍｍ、導光体の長さ方向のピッチｐｘを表３に示す値として形成し、光出射手段を設けた。光出射手段の設け方の模式図を図７に示す。
次いで、導光体（第二の導光体）の側面に、光源としてＬＥＤ（商品名「ＮＳＳＷ１５７Ｔ」、日亜化学工業株式会社製）を１０ｍｍピッチで２０個配置し、面光源Ｘを得た。
【００６８】
（光学評価）
得られた面光源Ｘに直流１８Ｖ、６３０ｍＡの電流を通電して発光させ、輝度計（機種名「ＢＭ−７Ａ」、株式会社トプコンテクノハウス製）を用い、光源からの距離Ｌが１０ｍｍ〜３６０ｍｍの領域について、１０ｍｍ刻みで３６点の法線方向の輝度を測定した。尚、面光源Ｘから輝度計の高さを５００ｍｍ、視野角度を２°とし、輝度計の測定円の中心を各領域の中心と一致させて各領域の輝度を測定し、法線方向の輝度を得た。面光源Ｘの輝度を図８に示す。
【００６９】
このとき、光源からの距離Ｌが１０ｍｍ〜２９０ｍｍにおける輝度の平均値を、面光源Ｘの輝度（ｃｄ／ｍ２）とした。
また、このとき、光源からの距離Ｌが１０ｍｍ〜２９０ｍｍにおける輝度の最大値と最小値の比を下記数式（４）により算出し、得られた値を面光源Ｘの均斉度（％）とした。
更に、このとき、光源からの距離Ｌが１０ｍｍ〜２９０ｍｍにおける輝度の総量と光源からの距離Ｌが１０ｍｍ〜３６０ｍｍにおける輝度の総量の比を下記数式（５）により算出し、得られた値を面光源Ｘの輝度利用率（％）とした。
均斉度＝｛（輝度の最小値）／（輝度の最大値）｝×１００    ・・・（４）
輝度利用率＝｛（１０ｍｍ〜２９０ｍｍにおける輝度の総量）／（１０ｍｍ〜３６０ｍｍにおける輝度の総量）｝×１００    ・・・（５）
【００７０】
面光源Ｘの輝度、均斉度、輝度利用率を表４に示す。
また、面光源Ａ、面光源Ｂ、面光源Ｃについても、面光源Ｘと同様にして輝度、均斉度、輝度利用率を算出した。これらの結果を表４に示す。
【００７１】
【表４】
2015213051.tif 000006
【００７２】
実施例１で得られた面光源Ｘは、平均輝度、輝度利用率に優れると共に、均斉度に優れていた。
一方、ピッチを均一にして光出射手段を設けた面光源Ａ、面光源Ｂ、面光源Ｃは、均斉度に劣っていた。
【００７３】
「実施例２」
（導光体の製造）
単層導光体の材料としてアクリル樹脂（商品名「アクリライト  ＬＸ＃００１」、三菱レイヨン株式会社製、屈折率ｎ１＝１．４９、厚さ＝３．０ｍｍ）を用い、これを幅（ｗ）３００ｍｍ、長さ（ｌ）５１０ｍｍの矩形に切断し、４つの側面をダイヤモンドバイトにより鏡面に切削し、導光体（第一の導光体）を得た。
【００７４】
（工程Ａ）
得られた導光体の光出射面に、炭酸ガスレーザー加工装置（機種名「ＥＭＭＬＳ−００１」、ＬＴＳ社製）を用い、表面積Ｓが０．００４４ｍｍ２（直径７５μｍの略円）であり、深さが６０μｍである凹部を、導光体の長さ方向におけるピッチｐｘが０．５ｍｍ、導光体の幅方向におけるピッチｐｙが１ｍｍとなるように均一に形成して光出射手段を設けた。次いで、導光体のドット面（光出射面）を下にし、導光体の光出射面とは反対側の面に光反射層として反射シート（商品名「Ｅ６０」、東レ株式会社製、厚さ１８８μｍ）を載置した。また、導光体の側面に、光源としてＬＥＤ（商品名「ＮＳＳＷ１５７Ｔ」、日亜化学工業株式会社製）を１０ｍｍピッチで３０個配置し、面光源Ｄを得た。得られた面光源Ｄの模式図を図９に示す。
得られた面光源Ｄを、直流１８Ｖ  ６３０ｍＡの電流を通電し発光させ、分光放射計（機種名「ＳＲ−３ＡＲ」、株式会社トプコンテクノハウス製）を用い、光源からの距離Ｌが１０ｍｍ〜３６０ｍｍの領域について、１０ｍｍ刻みで３６点の法線方向の輝度を測定した。尚、面光源Ｄから分光放射計の高さを５００ｍｍ、視野角度を２°とし、分光放射計の測定円の中心を各領域の中心と一致させて各領域の輝度を測定し、法線方向の輝度を得た。面光源Ｄの輝度を図１０、１３に示す。
【００７５】
（工程Ｂ）
図１０に示す輝度について、その最大値を１とする輝度比率に換算し、更にその対数をとった。次いで、光源からの距離Ｌ（ｍｍ）をｘ軸に、得られた輝度比率の対数をｙ軸にとって、２次元のグラフを作成した。結果を図１１に示す。
図１１から、傾きが一定となる光源からの距離Ｌの範囲Ｌ１〜Ｌ２を６０ｍｍ〜２００ｍｍとした。光源からの距離Ｌが６０ｍｍ〜２００ｍｍの範囲における輝度比率の対数ＩＬ１〜ＩＬ２の傾きＩを上記数式（１）より求めたところ、−０．０１２６４ｍｍ−１であった。Ｌｓを１０ｍｍとし、１０ｍｍあたりの光出射率Ｐを上記数式（２）より求めたところ、２．８７％であった。面光源Ｄの光出射率Ｐを表５に示す。
【００７６】
（工程Ｃ）
光出射手段を構成する凹部の表面積Ｓを０．０２５０ｍｍ２（長径３５０μｍ、短径７５μｍの略楕円）とし、深さを６０μｍとした以外は面光源Ｄと同様の操作を行い、面光源Ｅを得た。
別途、光出射手段を構成する凹部の表面積Ｓを０．０５５０ｍｍ２（長径７５０μｍ、短径７５μｍの略楕円）とし、深さを６０μｍとした以外は面光源Ｄと同様の操作を行い、面光源Ｆを得た。
得られた面光源Ｅ及び面光源Ｆについて、面光源Ｄと同様にして輝度を測定し、輝度比率の対数の傾きＩから光出射率Ｐを求めた。面光源Ｅ及び面光源Ｆの輝度を図１０、図１３に示し、輝度比率の対数を図１１に示し、光出射率Ｐを表５に示す。
尚、長径が導光体の幅方向であり、短径が導光体の長さ方向である。
【００７７】
（工程Ｄ）
面光源Ｄ、面光源Ｅ、面光源Ｆについて、光出射手段を構成する凹部の表面積Ｓとピッチから、光出射面の単位面積（１ｍｍ２）あたりの凹部の表面積Ｓを算出し、これを表面積率ＳＰとした。面光源Ｄ、面光源Ｅ、面光源Ｆの表面積率ＳＰを表５に示す。
工程Ｂで算出した光出射率Ｐ（％）をｘ軸に、光出射手段を構成する凹部の表面積率ＳＰをｙ軸にとってプロットした。結果を図１２に示す。プロットした３点を最小二乗法により近似して相関関数Ｆを算出したところ、ｙ＝０．００８６０ｘ−０．０１９３２であった。
【００７８】
【表５】
2015213051.tif 000007
【００７９】
（工程Ｅ）
光源から導光体に入射させる全光量を３０００ｃｄ／ｍ２と仮に設定し、その全光量を均等に分割し、光源からの距離Ｌごとに出射させたい輝度を決定した。具体的には、全光量（３０００ｃｄ／ｍ２）を３０等分し、光源からの距離Ｌが０ｍｍ〜３００ｍｍの領域について１０ｍｍ刻みで出射させたい輝度を１００ｃｄ／ｍ２と決定した。
次いで、各領域において出射させたい輝度（１００ｃｄ／ｍ２）を出射させるための光出射率ＰＬを算出した。具体的には、各領域において出射させたい輝度を光源から出射される全光量（各領域における減衰前輝度）で割って１００を掛けて算出した。算出した光出射率ＰＬを表６に示す。尚、各領域における減衰前輝度は実施例１と同様にして求めた。各領域における減衰前輝度と減衰後輝度を表６に示す。
【００８０】
【表６】
2015213051.tif 000008
【００８１】
（工程Ｆ）
相関関数Ｆ（ｙ＝０．００８６０ｘ−０．０１９３２）のｘに、工程Ｅで算出した光出射率ＰＬを代入し、相関関数Ｆのｙを算出し、これを光源からの距離Ｌで出射に必要な光出射手段の表面積率ＳＰとした。
工程Ｇで設ける予定の光出射手段を、表面積Ｓが０．０２５０ｍｍ２（直径３５０μｍの略円）であり、深さが６０μｍである凹部の集合体とし、導光体の幅方向のピッチｐｙを１ｍｍとし、上記数式（３）より導光体の長さ方向のピッチｐｘを算出した。算出した長さ方向のピッチｐｘを表７に示す。
【００８２】
【表７】
2015213051.tif 000009
【００８３】
（工程Ｇ）
工程Ａにて輝度の測定に用いた、光出射手段を設ける前の導光体（第一の導光体）と同等の導光体（第二の導光体）を準備した。炭酸ガスレーザー加工装置（機種名「ＥＭＭＬＳ−００１」、ＬＴＳ社製）を用い、準備した導光体（第二の導光体）の光出射面に、距離Ｌごとに、表面積Ｓが０．０２５０ｍｍ２（直径３５０μｍの略円であり）、深さが６０μｍである凹部を、導光体の幅方向のピッチｐｙを１．０ｍｍ、導光体の長さ方向のピッチｐｘを表７に示す値として形成し、光出射手段を設けた。光出射手段の設け方の模式図を図７に示す。
次いで、導光体（第二の導光体）の側面に、光源としてＬＥＤ（商品名「ＮＳＳＷ１５７Ｔ」、日亜化学工業株式会社製）を１０ｍｍピッチで３０個配置し、面光源Ｙを得た。
【００８４】
（光学評価）
得られた面光源Ｙに直流１８Ｖ、６３０ｍＡの電流を通電して発光させ、分光放射計（機種名「ＳＲ−３ＡＲ」、株式会社トプコンテクノハウス製）を用い、光源からの距離Ｌが１０ｍｍ〜３６０ｍｍの領域について、１０ｍｍ刻みで３６点の法線方向の輝度を測定した。尚、面光源Ｙから分光放射計の高さを５００ｍｍ、視野角度を２°とし、分光放射計の測定円の中心を各領域の中心と一致させて各領域の輝度を測定し、法線方向の輝度を得た。面光源Ｙの輝度を図１３に示す。
【００８５】
このとき、光源からの距離Ｌが１０ｍｍ〜２９０ｍｍにおける輝度の平均値を、面光源Ｙの輝度（ｃｄ／ｍ２）とした。
また、このとき、光源からの距離Ｌが１０ｍｍ〜２９０ｍｍにおける輝度の最大値と最小値の比を上記数式（４）により算出し、得られた値を面光源Ｙの均斉度（％）とした。
更に、このとき、光源からの距離Ｌが１０ｍｍ〜２９０ｍｍにおける輝度の総量と光源からの距離Ｌが１０ｍｍ〜３６０ｍｍにおける輝度の総量の比を上記数式（５）により算出し、得られた値を面光源Ｙの輝度利用率（％）とした。
【００８６】
面光源Ｙの輝度、均斉度、輝度利用率を表８に示す。
また、面光源Ｄ、面光源Ｅ、面光源Ｆについても、面光源Ｙと同様にして輝度、均斉度、輝度利用率を算出した。これらの結果を表８に示す。
【００８７】
【表８】
2015213051.tif 000010
【００８８】
実施例２で得られた面光源Ｙは、平均輝度、輝度利用率に優れると共に、均斉度に優れていた。
一方、ピッチを均一にして光出射手段を設けた面光源Ｄ、面光源Ｅ、面光源Ｆは、均斉度に劣っていた。
【産業上の利用可能性】
【００８９】
本発明の面光源の製造方法によれば、所望の輝度の面光源を得ることができる。そのため、得られる面光源は、例えば、携帯電話、ノートパソコン、液晶テレビ、ビデオカメラ等に用いられる液晶表示装置、携帯電話のバックライトキー、パソコンのバックライトキーボード、電気機器や車両の表示スイッチ等の表示装置、シーリングライト等の室内照明、照明看板等の照明装置等に好適に用いることができる。
【符号の説明】
【００９０】
１  面光源
１０  導光体
１１  コア層
１２  クラッド層
１３  光反射層
１４  光出射面
１５  光入射面
２０  光出射手段
２１  凹部
３０  光源
ｌ  導光体の長さ
ｗ  導光体の幅
【図１】
2015213051.tif 000011
【図２】
2015213051.tif 000012
【図３】
2015213051.tif 000013
【図４】
2015213051.tif 000014
【図５】
2015213051.tif 000015
【図６】
2015213051.tif 000016
【図７】
2015213051.tif 000017
【図８】
2015213051.tif 000018
【図９】
2015213051.tif 000019
【図１０】
2015213051.tif 000020
【図１１】
2015213051.tif 000021
【図１２】
2015213051.tif 000022
【図１３】
2015213051.tif 000023