(57)【要約】【課題】十分な不燃性を確保しつつ、塗膜性能及び外観が良好で、極端な低湿度の環境に対して十分な適性を有する窯業系化粧板の提供。【解決手段】抄造石膏板を基板とし、該基板の表面は研磨処理及び含浸シーラー処理されてなり、該基板の表面の上に下塗り層及び上塗り層を、この順で有する有機塗膜層を有し、（ａ）下塗り層が、表面研磨され、その膜厚が５〜１２０μｍ、（ｂ）上塗り層の膜厚が５〜４０μｍ、（ｃ）下塗り層と上塗り層とからなる有機塗膜層の膜厚が１４０μｍ以下であることを特徴とする化粧板。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
抄造石膏板を基板とし、該基板の表面は研磨処理及び含浸シーラー処理されてなり、該基板の表面の上に下塗り層及び上塗り層を、この順で有する有機塗膜層を有し、
（ａ）下塗り層が、表面研磨され、その膜厚が５〜１２０μｍ、
（ｂ）上塗り層の膜厚が５〜４０μｍ、
（ｃ）下塗り層と上塗り層とからなる有機塗膜層の膜厚が１４０μｍ以下であることを特徴とする化粧板。
【請求項２】
コーンカロリーメータ法発熱性試験による総発熱量が８ＭＪ／ｍ2以下である請求項１記載の化粧板。
【請求項３】
基板の裏面が含浸シーラー処理されてなる請求項１又は２記載の化粧板。
【請求項４】
下塗り層が紫外線硬化型塗料による層であり、上塗り層がアクリルウレタン樹脂塗料、アクリル樹脂塗料、エポキシ樹脂塗料、ポリウレタン樹脂塗料、塩化ビニル樹脂塗料、塩化ビニリデン樹脂塗料、アクリルシリコーン樹脂塗料及びフッ素樹脂塗料から選ばれる１種以上による層である請求項１〜３のいずれかに記載の化粧板。
【請求項５】
抄造石膏板を基板とし、該基板の表面を研磨処理した後含浸シーラー処理し、次いで下塗り層及び上塗り層をこの順で形成する化粧板の製造方法であって、
（ａ）下塗り塗装として下塗り層形成用有機塗料を塗布し、硬化させ、表面研磨し、膜厚が５〜１２０μｍの下塗り層を形成し、
（ｂ）上塗り塗装として上塗り層形成用有機塗料を塗布し、硬化させ、膜厚が５〜４０μｍの上塗り層を形成し、
（ｃ）ただし、前記下塗り層と前記上塗り層とからなる有機塗膜層の膜厚を１４０μｍ以下とすることを特徴とする化粧板の製造方法。
【請求項６】
（ｄ）コーンカロリーメータ法発熱性試験による総発熱量が８ＭＪ／ｍ2以下である請求項５記載の化粧板の製造方法。
【請求項７】
基板の裏面を、含浸シーラー処理することを特徴とする請求項５又は６記載の化粧板の製造方法。
【請求項８】
下塗り層が紫外線硬化型塗料による層であり、上塗り層がアクリルウレタン樹脂塗料、アクリル樹脂塗料、エポキシ樹脂塗料、ポリウレタン樹脂塗料、塩化ビニル樹脂塗料、塩化ビニリデン樹脂塗料、アクリルシリコーン樹脂塗料及びフッ素樹脂塗料から選ばれる１種以上による層である請求項５〜７のいずれかに記載の化粧板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、不燃性を有し、低湿度クリーンルーム等の湿度が極端に低い環境においても、内装材として使用できる窯業系化粧板及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
クリーンルーム等の湿度が低い環境における内装材として、従来からけい酸カルシウム板や繊維強化セメント板等の窯業系材料を基板とし、その表面に塗膜層を形成し、あるいは化粧フィルムを接着した不燃の窯業系化粧板が使用されている（特許文献１）。けい酸カルシウム板は、多孔質であるため断熱性が高く、一方、多孔質であっても吸放湿に伴う寸法変化が比較的小さい、すなわち寸法安定性が比較的優れた材料であることから、クリーンルーム用内装材に適した材料である。しかし、最近は、例えばリチウム電池製造設備等を設置するために用いる、湿度が極端に低い条件となるクリーンルームの需要が増加しつつある。けい酸カルシウム板は、多孔質であっても寸法安定性が比較的優れた材料ではあるが、湿度が極端に低くなると、吸放湿に伴う寸法変化により反り等が発生することがあるため、寸法安定性が更に高く、湿度が極端に低い環境における内装材に適した不燃の窯業系化粧板が必要とされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−１５５３９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
すなわち、本発明の課題は、十分な不燃性を確保しつつ、塗膜性能及び外観が良好で、極端な低湿度の環境に対して十分な適性を有する窯業系化粧板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
そこで本発明者は、前記課題を解決すべく、種々検討した結果、基板として抄造石膏板を用い、その表面に有機塗膜で形成された下塗り層及び上塗り層の膜厚、及びそれらの合計膜厚を一定の範囲とし、下塗り層表面を研磨することにより、十分な不燃性と寸法安定性とを有する窯業系化粧板が得られることを見出し、本発明を完成した。
【０００６】
すなわち、本発明は、抄造石膏板を基板とし、該基板の表面は研磨処理及び含浸シーラー処理されてなり、該基板の表面の上に下塗り層及び上塗り層を、この順で有する有機塗膜層を有し、
（ａ）下塗り層が、表面研磨され、その膜厚が５〜１２０μｍ、
（ｂ）上塗り層の膜厚が５〜４０μｍ、
（ｃ）下塗り層と上塗り層とからなる有機塗膜層の膜厚が１４０μｍ以下であることを特徴とする化粧板を提供するものである。
【０００７】
また、本発明は、抄造石膏板を基板とし、該基板の表面を研磨処理した後含浸シーラー処理し、次いで下塗り層及び上塗り層をこの順で形成する化粧板の製造方法であって、
（ａ）下塗り塗装として下塗り層形成用有機塗料を塗布し、硬化させ、表面研磨し、膜厚が５〜１２０μｍの下塗り層を形成し、
（ｂ）上塗り塗装として上塗り層形成用有機塗料を塗布し、硬化させ、膜厚が５〜４０μｍの上塗り層を形成し、
（ｃ）ただし、前記下塗り層と前記上塗り層とからなる有機塗膜層の膜厚を１４０μｍ以下とすることを特徴とする化粧板の製造方法を提供するものである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、吸放湿に伴う寸法安定性が非常に高く、かつコーンカロリーメータ法発熱性試験による総発熱量が法定の８ＭＪ／ｍ2以下をクリアした窯業系化粧板を提供できる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の化粧板は、抄造石膏板を基板とし、該基板の表面は研磨処理及び含浸シーラー処理されてなり、該基板の表面の上に下塗り層及び上塗り層を、この順で有する有機塗膜層を有し、
（ａ）下塗り層が、表面研磨され、その膜厚が５〜１２０μｍ、
（ｂ）上塗り層の膜厚が５〜４０μｍ、
（ｃ）下塗り層と上塗り層とからなる有機塗膜層の膜厚が１４０μｍ以下であることを特徴とする化粧板である。
【００１０】
本発明において、基板として用いる抄造石膏板は、マトリックス形成原料である水和性石膏、無機系混和材（炭酸カルシウム粉末等）及び繊維原料（木質パルプ等）を主原料とし、これらの原料に水を加えて混合して原料スラリーを形成し、原料スラリーを丸網抄造機等により所定の厚さに抄造して未硬化状態の生板（グリーンシート）を形成し、生板に対して必要に応じてプレス成形を行い、養生硬化することにより得られる材料である。
【００１１】
抄造石膏板は、見掛け密度が概ね１．５〜１．７ｇ／cm3であり、従来から一般のクリーンルーム用化粧板の基板として使用されているけい酸カルシウム板（以下：けい酸カルシウム板）の見掛け密度よりも高い。一方、抄造石膏板の平衡含水率は０．３％程度であり、けい酸カルシウム板の平衡含水率よりも低い。また、寸法安定性を評価するための試験である吸水による長さ変化率が、抄造石膏板は０．０５〜０．０７％程度であり、けい酸カルシウム板に比べ小さいことから、吸放湿に伴う寸法安定性が更に高く、湿度が極端に低い環境用の窯業系化粧板の基板に適している。
【００１２】
一方、抄造石膏板及びけい酸カルシウム板は、ともに抄造法によって製造される材料である。抄造法においては、抄造繊維として原料にパルプが用いられ、抄造石膏板もけい酸カルシウム板もパルプの配合比率はほぼ同程度である。抄造石膏板は、けい酸カルシウム板よりも見掛け密度が高いから、単位体積当たり含有されるパルプの質量は、けい酸カルシウム板よりも多い。パルプは可燃物であるから、抄造石膏板の単位体積当たりの発熱量は、けい酸カルシウム板よりも多くなる。また、クリーンルームの内装材として使用する場合、抄造石膏板及びけい酸カルシウム板とも厚さに差はない。従って、不燃の窯業系化粧板の基板として抄造石膏板を用いる場合、不燃性能を確保するため、けい酸カルシウム板を用いる場合よりも塗膜層の発熱量を低くしなければならない。
【００１３】
窯業系材料を基板とした化粧板において、クリーンルーム用として適した塗料は今のところ樹脂系の有機塗料であり、使用されている樹脂の発熱量にはあまり差がないことから、塗膜の発熱量を低くするためには、塗膜の膜厚を薄くする必要がある。しかし、膜厚を薄くすると、基板隠蔽性（基板自体の色が化粧板の外観に影響を与えないように隠蔽する）や塗膜性能が低下する危険性がある。従って、化粧板においては、塗膜性能を確保することができる範囲でなるべく薄い膜厚で有機塗膜層を形成することが望ましい。
【００１４】
なお、本発明において、基板及び化粧板の厚さは、ＪＩＳ Ａ ５４３０：２００８  １０．２．２項ｂ）に従い測定した値である。見かけ密度は、ＪＩＳ Ａ ５４３０：２００８  １０．５項に準拠し、吸水による長さ変化率は、ＪＩＳ Ａ ５４３０：２００８  １０．７項に準拠して測定した値であるが、基板に石膏系材料を使用しているため、乾燥についてはＪＩＳ Ａ １４７６：２００６  ７．２項の表２に示された基準乾燥温度４０℃±２℃の条件で行った。なお、塗装工程において、基板に対し工業的なスケールで加熱乾燥を行う場合には、実用上問題ないとされている９０〜１１０℃雰囲気中での短時間処理を行うのが一般的である。
また、平衡含水率は、ＪＩＳ  Ａ  ５４０４：２００７  付属書Ａ．２．６項に従い２３℃±２℃、相対湿度５０％±５％において恒量となったときの質量、及びＪＩＳ Ａ １４７６：２００６  ７．２項の表２に示された基準乾燥温度４０℃±２℃の条件で乾燥させたときの質量をもとに以下の式で求めた値である。
【００１５】
（数１）
平衡含水率＝（恒量時の質量−乾燥後の質量）／乾燥後の質量×１００（％）
【００１６】
基板及び化粧板の総発熱量は、コーンカロリーメータ法発熱性試験（ＩＳＯ５６６０−１：２００２準拠）により測定した。
【００１７】
塗膜性能を確保することができる範囲でなるべく薄い膜厚で有機塗膜層を形成するため、基板の少なくとも塗膜層を形成する側の表面（以下、基板の表面）を研磨処理し、平滑度を高める。基板の塗膜層を形成する側とは反対側の面（以下、基板の裏面）も研磨すれば、平滑度をさらに高めやすい。研磨方法としては、ベルトサンダーやプラテン研磨機等が好適に用いられる。これらの研磨機は、円筒状のローラーやプラテンパッドでベルト状の研磨紙を保持しつつ基板表面を連続研磨するため、ローラーやパッドの平滑面を利用して、基板の凸部のみを周囲よりも多く研磨することができる。またロールの位置やパッドの圧力等を変更することで、基板に加わる圧力や研磨負荷を任意に調整できるため、基板の凹凸に合わせた最適研磨条件が得易く、全面を均一に研磨することもできる。また研磨機と研磨紙を基板に合わせたサイズとすることで、連続して基板表面を研磨でき、連続したベルト状の研磨紙を利用しているため研磨粉塵の排出性にも優れることから、他の研磨方式に比べ、加工速度に優れる特徴を有する。抄造石膏板は、けい酸カルシウム板よりも柔らかく研磨により表面平滑性が得やすい材料であり、けい酸カルシウム板を基板として用いた場合に比べ、比較的薄い塗膜でも、塗膜として必要な外観と性能とを得ることができる。なお、抄造石膏板は、研磨処理に先立って、含水率を０．１〜２％に調整しておくことが好ましい。
【００１８】
基板の表面に、含浸シーラー処理を行う。含浸シーラー処理を行うことにより、基板の表層が強化されるとともに、その上層となる下塗り層との密着性も向上する。
含浸シーラー層は、公知のシーラーを用いて形成させることができ、例えば湿気硬化型ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂等の硬化性樹脂を用い、基板の表面に塗布し硬化させること等により行われる。含浸シーラーは基板への含浸性が良く、高不揮発分であり、かつ、基板中の水分や雰囲気の湿気と反応して三次元架橋し、耐水性能等が良いポリイソシアネート又はポリイソシアネートとポリオールとの反応生成物である遊離イソシアネート基を有するプレポリマー及び酢酸ブチルのような溶剤を主成分とする湿気硬化型ウレタン系のものが好適である。また、化粧板としての黄変が問題となる場合には、ＨＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）等の脂肪族イソシアネート、ＩＰＤＩ（イソホロンジイソシアネート）等の脂環族イソシアネート、ＭＤＩ（メチレンビス（４，１−フェニレン）＝ジイソシアネート）等の芳香族イソシアネートを使用することが好ましい。なお、昨今の揮発性有機化合物（ＶＯＣ）対策の観点から溶剤を含んでいない無溶剤シーラーを使用することや、ケイ酸リチウムあるいはケイ酸ナトリウムなどのケイ酸塩系シーラー等の無機シーラーや、テトラエトキシシランやテトラメトキシシランなどを主成分とするシラン化合物系シーラーも使用できる。
含浸シーラー処理は、抄造石膏板の表面温度を５〜５０℃の範囲に調整し、公知のロールコーター、スプレー等の方法で含浸シーラーを塗布し、次いで硬化することにより行うことができる。含浸シーラーの粘度は、使用する含浸シーラーの種類、塗装方法を勘案して適宜決めることができ、硬化は、例えば加熱乾燥することにより行うことができる。
【００１９】
また、本発明においては、基板の裏面も含浸シーラー処理し補強を行うのが好適である。化粧板の施工方法としては、接着工法が多く用いられており、基板の裏面を補強しておくと、施工性が向上するからである。基板の裏面についても含浸シーラー処理する場合、後述する下塗り層を形成する前に裏面の含浸シーラー処理を行うのが一般的であるが、下塗り層を形成した後に行ってもよい。
【００２０】
本発明においては、含浸シーラーの成分中の有機固形分量が、基板の単位面積（ｍ2）当たり３〜１００ｇとなるように設定するのが好ましい。有機固形分量が少なすぎると基板の表層がそれほど強化されない可能性がある。また、その上層となる下塗り層との密着性が低下する可能性もある。有機固形分量が多すぎると、基板の表層に余分な有機固形分が残り、この有機固形層が原因となって凝集剥離や後工程での発泡、わき等の不良が生じる可能性がある。なお、わきとは発泡において、泡の中にある気体が塗膜を破ってできた微小な穴であり、塗装時の局部的厚膜に起因し、主に乾燥時の急激な昇温により生じる。含浸シーラーの成分中の有機固形分量は、基板の単位面積（ｍ2）当たり３〜８０ｇとなるように設定するのがさらに好ましい。また、基板の裏面に含浸シーラー処理する場合、含浸シーラーの成分中の有機固形分量は、基板の単位面積（ｍ2）当たり１０〜３０ｇとなるように設定するのがさらに好ましい。
【００２１】
なお、本発明において、有機固形分量は、塗料原液の組成、希釈溶剤の使用量、実塗布量から算出することができる。
【００２２】
本発明の化粧板は、含浸シーラー処理した基板の上に下塗り層を有し、その下塗り層の表面は研磨されており、膜厚は５〜１２０μｍであることが重要である。下塗り層を形成することにより、基板の表面に存在する大小の凹凸部や、空隙部が塗料により充填され、凹凸感、塗料の吸い込み斑による光沢・色のばらつき感が抑制される。また、化粧板にピンホールのような不良が生じる可能性も減じられる。また、下塗り層を形成した後は、表面を研磨処理する。研磨処理を行うことにより、下地が平滑となり、その上に形成される上塗り層の塗膜の意匠性が損なわれず、良好な塗膜性能を確保することができる。
【００２３】
下塗り層の膜厚は、５〜１２０μｍであるのが、化粧板の表面平滑性、上塗り層の塗膜との密着性、基板隠蔽性、防水性、基板成分の析出防止性、塗膜ピンホールの防止、塗膜硬化性、表面異物埋没性、膜厚管理の容易性の点で重要である。５μｍ未満では、その上層及び下層の塗膜との密着性が低下する可能性がある。一方１２０μｍを超えると総発熱量が増加し、不燃性の悪化につながる可能性があり、また、極端な低湿度環境で使用された場合には塗膜の乾燥収縮による化粧板の反りが発生しやすくなる。好ましい塗膜は５〜７０μｍであり、より好ましくは１０〜５０μｍである。
【００２４】
下塗り層を形成するための塗料は、基板隠蔽性、表面平滑性、耐薬品性、塗膜密着性、研磨加工性、塗膜硬度、塗装容易性、クラック防止性の点から、ラジカルオリゴマー系塗料やモノマーラジカル系塗料、例えばエポキシ系アクリレート、ウレタン系アクリレート、エステル系アクリレート、アクリル系アクリレート、シリコン系アクリレート、不飽和ポリエステル系塗料が好ましく、具体的にはエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、フタル酸ジアリルエステルなどのアリル系不飽和ポリエステル、無水マレイン酸やフマル酸などの不飽和二塩基酸とグリコール類との重縮合によるマレイン酸系不飽和ポリエステル、官能基としてカルボキシル基や水酸基を持つポリエステルモノアクリレート、アクリル酸と２塩基酸と２価アルコールから得られるポリエステルジアクリレート、３価以上の多価アルコールと２塩基酸とアクリル酸から得られるポリエステルポリアクリレート等のポリエステルアクリレート、エポキシアクリレートオリゴマー、エポキシオリゴマー等のオリゴマー類、アクリルポリエーテル、ポリエーテルアクリレート等が挙げられる。また、下塗り層を形成するための塗料は紫外線硬化型塗料とすることが、塗布容易性や、塗膜の硬化速度が早い点、塗膜の被研削性や耐久性、基板や上塗り塗料との密着性に優れることから好ましい。塗料を塗布した後は、紫外線を照射して塗料を硬化させ、下塗り層を形成し、次いで研磨を行う。また、下塗り層を形成するための塗料は基板隠蔽性の確保および可燃物の含有率を減らして発熱量を低減させる目的から、炭酸カルシウムなどの無機顔料を添加したものが好ましい。下塗り塗料の塗布方法は、ロールコーターやフローコーター等を用いる方法が挙げられ、中でも、基板表面に存在する大小の凹凸部や、空隙部を塗料により充填する効果を考慮すると、ロールコーターが適している。
【００２５】
本発明においては、下塗り層の成分中の有機固形分量は、基板の単位面積（ｍ2）当たり３〜６０ｇ、好ましくは３〜３５ｇ、より好ましくは５〜２５ｇに設定するのがよい。
【００２６】
下塗り層を形成するための下塗り塗装は、１回で所定の膜厚の下塗り層を形成することもできるし、２回以上行って所定の膜厚の下塗り層を形成することもできる。例えば、下塗り塗装を２回行って所定の膜厚の下塗り層を形成する場合は、１回目の下塗り塗装を行った後、紫外線を照射して下塗り塗料を硬化させる際に、紫外線の照射量を加減して完全には硬化しないようにし、その上に２回目の下塗り塗装を行った後に再度紫外線を照射して、下塗り塗料全体を完全に硬化させ下塗り層を形成する。また、３回以上の下塗り塗装を行う場合も、２回の場合と同様に、最後の下塗り塗装を行った後の紫外線照射により、下塗り塗料全体を完全に硬化させ下塗り層を形成する。本発明の化粧板においては、けい酸カルシウム板よりも発熱量の多い抄造石膏板を基板として用いるため、必要な塗膜性能と不燃性とを確保するには、塗膜厚さの制御が重要である。この観点から、基板表面に存在する大小の凹凸部や空隙部を塗料により充填する効果と、表面平滑性をさらに向上させる効果とを効率よく得るため下塗り塗装を２回行うことにより下塗り層の塗膜を形成するのがよい。
【００２７】
下塗り層形成後にその表面を研磨する手段としては、バフ研磨、プラテン研磨、ポリシャー研磨、ブラスト研磨、エッチング研磨、砥石研磨、フェルト研磨、ブラシ研磨、レーザー研磨、エンドミルあるいはバイト等による切削等が挙げられるが、下塗り層の表面を平滑にする点、研磨性の点からプラテン研磨が好ましい。プラテン研磨は、周回駆動される無端ベルト状の研磨紙を、柔らかなパッドで研磨対象に押し当てた状態で、研磨対象を進行させて研磨するものである。また、下塗り塗装を複数回行う場合には、形成された下塗り層の表面のみを研磨してもよいし、下塗り塗装し硬化（半硬化）させるたびに表面研磨を行うこともできる。下塗り層の研磨により、最終的な下塗り層の膜厚を前記５〜１２０μｍ、好ましくは５〜７０μｍ、より好ましくは１０〜５０μｍに調整する。
【００２８】
本発明の化粧板は、上記下塗り層の上層に膜厚５〜４０μｍの上塗り層を有する。当該上塗り層を形成することにより、本発明化粧板に良好な外観、クリーンルーム等の用途に適した塗膜性能（発塵防止、空調風圧等による振動耐久性、補修性、清掃作業耐性、耐乾燥クラック性、平滑性、下地隠蔽性等）を付与することができる。また、上塗り層の膜厚は、前記した特性を付与するため、５〜４０μｍであることが必要であり、１０〜４０μｍがより好ましく、２５〜４０μｍがさらに好ましい。上塗り層の膜厚が４０μｍを越えると、化粧板の不燃性能が低下する可能性があり、また、極端な低湿度環境で使用された場合には塗膜の乾燥収縮による化粧板の反りが発生しやすくなる。また、上塗り層膜厚が５μｍを下回ると、塗膜性能が低下することから好ましくない。
【００２９】
上塗り層の形成に用いられる塗料としては、塗装作業性、塗装後の塗膜乾燥性、安全性、塗装後の耐久性、塗膜表面硬度、塗膜の耐薬品性や耐汚染性の点から、アクリルウレタン樹脂塗料が好ましく、２液硬化型アクリルウレタン樹脂塗料がより好ましい。また、アクリル樹脂塗料、エポキシ樹脂塗料、ポリウレタン樹脂塗料、塩化ビニル樹脂塗料、塩化ビニリデン樹脂塗料、アクリルシリコーン樹脂塗料、フッ素樹脂塗料などを、単層で、同一塗料の塗膜を積層して、又は異なる塗料の塗膜を積層して上塗り層を形成する。
【００３０】
上塗り層を形成するための上塗り塗装方法は、ロールコーター、フローコーター、スプレーコーター等を用いる方法が挙げられる。上塗り塗装は、１回で所定の膜厚の上塗り層を形成することもできるし、２回以上行って所定の膜厚の上塗り層を形成することもできる。本発明の化粧板においては、けい酸カルシウム板よりも発熱量の多い抄造石膏板を基板として用いるため、必要な塗膜性能と不燃性とを確保するには、塗膜厚さの制御が重要である。この観点から、上塗り塗装を２回行うことにより上塗り層の塗膜を形成するのがよく、１回目にロールコーターにて上塗り塗装を行い、２回目にフローコーターにて上塗り塗装を行うのが特に好ましい。
【００３１】
本発明においては、上塗り層の成分中の有機固形分量は、基板の単位面積（ｍ2）当たり５〜３５ｇとなるように設定するのが好ましく、さらに１０〜３３ｇとするのがより好ましい。１回目にロールコーターにて上塗り塗装を行い、２回目にフローコーターにて上塗り塗装を行う場合、基板の単位面積（ｍ2）当たりの有機固形分量が１回目にロールコーターで１〜１５ｇ、より好ましくは２〜１３ｇ、２回目にフローコーターで４〜２０ｇ、より好ましくは８〜２０ｇとなるよう塗布するのがよい。
【００３２】
上塗り塗装した後、基板をしばらくの間水平に保持して上塗り塗料をレベリングさせて塗装面を平滑にした後、加熱乾燥を行い、上塗り塗料を硬化させて上塗り層が形成される。加熱乾燥は、９０〜１１０℃雰囲気中で３０分程度行うのがよい。
【００３３】
本発明の化粧板において、不燃性を確保するためには、下塗り層と上塗り層とからなる有機塗膜層の厚さが１４０μｍ以下、好ましくは１００μｍ以下である。前記したとおり抄造石膏板はけい酸カルシウム板と比較して、単位体積当たりの発熱量が多いことから、有機塗膜層の厚さを前記条件にすることは、化粧板として必要な塗膜性能と不燃性とを確保するうえで重要である。また、極端な低湿度環境で使用された場合に有機塗膜層が厚すぎると塗膜の乾燥収縮による化粧板の反りが発生しやすくなる。また、下塗り層と上塗り層の有機塗膜層の合計の厚さは、１０μｍ以上が好ましく、２０μｍ以上がより好ましい。この場合、下塗り層と上塗り層の有機塗膜層の有機固形分の合計量は、基板の単位面積（ｍ2）当たり７０ｇ以下が好ましく、より好ましくは５８ｇ以下である。また、当該合計量は、基板の単位面積（ｍ2）当たり８ｇ以上が好ましく、より好ましくは１５ｇ以上である。
【００３４】
本発明の化粧板は、抄造石膏板を基板とし、該基板の表面を研磨処理した後含浸シーラー処理し、次いで下塗り層及び上塗り層をこの順で形成する化粧板の製造方法であって、（ａ）下塗り塗装として下塗り層形成用有機塗料を塗布し、硬化させ、研磨し、膜厚が５〜１２０μｍの下塗り層を形成し、
（ｂ）上塗り塗装として上塗り層形成用有機塗料を塗布し、硬化させ、膜厚が５〜４０μｍの上塗り層を形成し、
（ｃ）ただし、前記下塗り層と前記上塗り層とからなる有機塗膜層の膜厚を１４０μｍ以下とすることによって製造できる。各塗膜層の形成方法は、前述のとおりである。
【００３５】
本発明の化粧板は、コーンカロリーメータ法発熱性試験による総発熱量が８ＭＪ／ｍ2以下である必要がある。この要件を満たすことにより、ＪＩＳ Ａ ５４３０：２００８で規定する発熱性１級（加熱時間２０分）を満たし、高い不燃性を示す。さらに好ましい総発熱量は、７．２ＭＪ／ｍ2以下である。
【００３６】
製造した化粧板を、保管や輸送のために重ね合わせて積み込む場合は、所謂ブロッキングを避けるために、板温を４０℃以下まで冷却させてから行うのが好ましい。
【００３７】
以上、基板の片面に塗膜層を設ける方法について記述したが、本発明においては、基板の裏面についても塗膜層を設けることができる。基板の裏面にも塗膜層を設けることは、化粧板の寸法安定性を更に高めることができる。ただし、基板の裏面にも塗膜層を設ける場合には、不燃性能を確保するために、基板の表面及び裏面の有機塗膜層の膜厚を合計して１４０μｍ以下とする必要がある。
【実施例】
【００３８】
以下、本発明を実施例及び比較例によりさらに説明するが、本発明は下記例に制限されない。
【００３９】
（１）抄造石膏板（基板）
基板として、厚さ５ｍｍのエフジーボード（(株)エーアンドエーマテリアル製）を使用した。実施例及び比較例において使用したエフジーボードは、有機繊維原料としてパルプが５．５質量％配合されたものであり、見掛け密度は１．６ｇ／cm3、吸水による長さ変化率は０．０６％、平衡含水率は０．３％であった。
【００４０】
（２）塗料
各塗装は、次の塗料を使用して行った。
含浸シーラー１：ＤＩＣ株式会社  ＵＣシーラーＷ００４Ｋ（イソシアネート系）
含浸シーラー２：大日本塗料株式会社  Ｖセラン＃１００ＮＳシーラー（イソシアネート系）
下塗り塗料１：ＤＩＣ株式会社  ＳＫＳ−ＷＰ（不飽和ポリエステル系）
下塗り塗料２：大日本塗料株式会社  ルーセン＃６００ＮＲ−１（エポキシアクリレート系）
下塗り塗料３：大日本塗料株式会社  ルーセン＃６００ＮＲ−２（エポキシアクリレート系）
上塗り塗料：大日本塗料株式会社  ＡＳＡ＃１００ＰＲＴＲ（アクリルウレタン系）
【００４１】
実施例１
含水率を０．５％に調整した基板の表面にロールコーターを用いて、有機固形分濃度が４０％の含浸シーラー１を７０ｇ／ｍ2塗布し、一方、基板の裏面には、前記浸シーラー１を２０ｇ／ｍ2塗布し、基板の表裏面全体で有機固形分が３６ｇ／ｍ2となる含浸シーラー層を形成した。
次にロールコーターを用いて基板表面側に下塗り塗料１を５０ｇ／ｍ2塗布した後、紫外線照射により下塗り塗料を一部硬化させて塗膜を形成し、次いで再度ロールコーターを用いて、前記塗膜の上に前記下塗り塗料１を５０ｇ／ｍ2塗布した後、紫外線照射により下塗り塗料を完全に硬化させて塗膜を形成した。次に、プラテン研磨機により前記塗膜の表面を平滑に研磨して、膜厚が４０μｍで有機固形分量が２０ｇ／ｍ2となる下塗り層を形成した。
さらに下塗り層の上から、ロールコーターを用いて上塗り塗料を１０ｇ／ｍ2塗布した後、フローコーターを用いて同一の上塗り塗料を９５g／ｍ2塗布し、熱風式乾燥機を用い１００℃の雰囲気中で３０分加熱乾燥して上塗り塗膜を硬化させ、膜厚が３０μｍで有機固形分量が２６ｇ／ｍ2となる上塗り層を形成し、化粧板を得た。この化粧板の下塗り層と上塗り層とを併せた有機塗膜層の膜厚は７０μｍであった。
【００４２】
実施例２
実施例１と同様に含浸シーラー処理し、実施例１と同様の塗料と塗装方法を用いて、下塗り層の膜厚が８μｍで下塗り層の有機固形分量が４ｇ／ｍ2である下塗り層を形成した。次いで、実施例１と同様に、ロールコーターを用いて上塗り塗料を１０ｇ／ｍ2塗布した後、フローコーターを用いて同一の上塗り塗料を９５ｇ／ｍ2塗布し、膜厚が３０μｍで上塗り層の有機固形分量が２６ｇ／ｍ2である上塗り層を形成し、化粧板を作製した。この化粧板の下塗り層と上塗り層とを併せた有機塗膜層の膜厚は３８μｍであった。
【００４３】
実施例３
実施例１と同様に含浸シーラー処理し、実施例１と同様の塗料と塗装方法を用いて、下塗り層の膜厚が１２０μｍで下塗り層の有機固形分量が６０ｇ／ｍ2である下塗り層を形成した。次いで、実施例１と同様に、ロールコーターを用いて上塗り塗料を５ｇ／ｍ2塗布した後、フローコーターを用いて同一の上塗り塗料を５８ｇ／ｍ2塗布し、膜厚が１８μｍで上塗り層の有機固形分量が１５．６ｇ／ｍ2である上塗り層を形成し、化粧板を作製した。この化粧板の下塗り層と上塗り層とを併せた有機塗膜層の膜厚は１３８μｍであった。
【００４４】
実施例４
実施例１と同様に含浸シーラー処理し、実施例１と同様の塗料と塗装方法を用いて、下塗り層の膜厚が４０μｍで下塗り層の有機固形分量が２０ｇ／ｍ2である下塗り層を形成した。次いで、ロールコーターを用いて一回塗りにて上塗り塗料を２１ｇ／ｍ2塗布し、膜厚が６μｍで上塗り層の有機固形分量が５．２ｇ／ｍ2である上塗り層を形成し、化粧板を作製した。この化粧板の下塗り層と上塗り層とを併せた有機塗膜層の膜厚は４６μｍであった。
【００４５】
実施例５
実施例１と同様に含浸シーラー処理し、実施例１と同様の塗料と塗装方法を用いて、下塗り層の膜厚が４０μｍで下塗り層の有機固形分量が２０ｇ／ｍ2である下塗り層を形成した。次いで、実施例１と同様に、ロールコーターを用いて上塗り塗料を１８ｇ／ｍ2塗布した後、フローコーターを用いて同一の上塗り塗料を１１５ｇ／ｍ2塗布し、膜厚が３８μｍで上塗り層の有機固形分量が３２．９ｇ／ｍ2である上塗り層を形成し、化粧板を作製した。この化粧板の下塗り層と上塗り層とを併せた有機塗膜層の膜厚は７８μｍであった。
【００４６】
比較例１
実施例１と同様に含浸シーラー処理し、実施例１と同様の塗料と塗装方法を用いて、下塗り層の膜厚が４μｍで下塗り層の有機固形分量が２ｇ／ｍ2である下塗り層を形成した。次いで、実施例１と同様に、ロールコーターを用いて上塗り塗料を１０ｇ／ｍ2塗布した後、フローコーターを用いて同一の上塗り塗料を９５ｇ／ｍ2塗布し、膜厚が３０μｍで上塗り層の有機固形分量が２６ｇ／ｍ2である上塗り層を形成し、化粧板を作製した。この化粧板の下塗り層と上塗り層とを併せた有機塗膜層の膜厚は３４μｍであった。
【００４７】
比較例２
実施例１と同様に含浸シーラー処理し、実施例１と同様の塗料と塗装方法を用いて、下塗り層の膜厚が１４０μｍで下塗り層の有機固形分量が７０ｇ／ｍ2である下塗り層を形成した。次いで、実施例１と同様に、ロールコーターを用いて上塗り塗料を３０ｇ／ｍ2塗布し、膜厚が９μｍで上塗り層の有機固形分量が７．４ｇ／ｍ2である上塗り層を形成し、化粧板を作製した。この化粧板の下塗り層と上塗り層とを併せた有機塗膜層の膜厚は１４９μｍであった。
【００４８】
比較例３
実施例１と同様に含浸シーラー処理し、実施例１と同様の塗料と塗装方法を用いて、下塗り層の膜厚が４０μｍで下塗り層の有機固形分量が２０ｇ／ｍ2である下塗り層を形成した。次いで、ロールコーターを用いて一回塗りで上塗り塗料を７ｇ／ｍ2塗布し、膜厚が２μｍで上塗り層の有機固形分量が１．７ｇ／ｍ2である上塗り層を形成し、化粧板を作製した。この化粧板の下塗り層と上塗り層とを併せた有機塗膜層の膜厚は４２μｍであった。
【００４９】
比較例４
実施例１と同様に含浸シーラー処理し、実施例１と同様の塗料と塗装方法を用いて、下塗り層の膜厚が４０μｍで下塗り層の有機固形分量が２０ｇ／ｍ2である下塗り層を形成した。次いで、実施例１と同様に、ロールコーターを用いて上塗り塗料を２０ｇ／ｍ2塗布した後、フローコーターを用いて同一の上塗り塗料を１６０ｇ／ｍ2塗布し、膜厚が５１μｍで上塗り層の有機固形分量が４４．５ｇ／ｍ2である上塗り層を形成し、化粧板を作製した。この化粧板の下塗り層と上塗り層とを併せた有機塗膜層の膜厚は９１μｍであった。
【００５０】
比較例５
実施例１と同様に含浸シーラー処理し、実施例１と同様の塗料と塗装方法を用いて、下塗り層の膜厚が１１５μｍで下塗り層の有機固形分量が５７．５ｇ／ｍ2である下塗り層を形成した。次いで、実施例１と同様に、ロールコーターを用いて上塗り塗料を１２ｇ／ｍ2塗布した後、フローコーターを用いて同一の上塗り塗料を１２５ｇ／ｍ2塗布し、膜厚が３９μｍで上塗り層の有機固形分量が３３．８ｇ／ｍ2である上塗り層を形成し、化粧板を作製した。この化粧板の下塗り層と上塗り層とを併せた有機塗膜層の膜厚は１５４μｍであった。
【００５１】
比較例６
下塗り塗膜の表面を研磨しなかったことを除き、実施例１と同様の化粧板を作製した。この化粧板の下塗り層と上塗り層とを併せた有機塗膜層の膜厚は１３０μｍであった。
【００５２】
（３）評価
有機塗膜層の性能評価：ＪＩＳ Ｋ ５６００−６−１：１９９９  ９項に準拠し、化粧板の耐薬品性を評価した。塗膜に滴下する試験液には、表１に記載の酸及びアルカリ、有機溶剤を用い24時間経過し、外観に変化が認められないものを◎、外観に若干の変退色が認められるが使用上問題ないものを○、外観に変退色が認められるため使用条件が制限されるものを△、外観に明らかな変退色や変形が認められたものを×とした。
総発熱量：コーンカロリーメータ法発熱性試験（ＩＳＯ５６６０−１：２００２準拠）により測定した。
外観：目視観察により良好なものを◎、良好でないものを×として、これらの中間（ほぼ良好）を○とした。
【００５３】
得られた評価結果を表１に示す。
【００５４】
【表１】
2015120339.tif 000002
【００５５】
実施例６
含水率を０．５％に調整した基板の表面にロールコーターを用いて、有機固形分濃度が１００％の含浸シーラー２を２５ｇ／ｍ2塗布し、一方、基板の裏面には、前記浸シーラー２を１０ｇ／ｍ2塗布し、基板の表裏面全体で有機固形分が３５ｇ／ｍ2となる含浸シーラー層を形成した。
次にロールコーターを用いて基板表面側に下塗り塗料２を５０ｇ／ｍ2塗布した後、紫外線照射により下塗り塗料を一部硬化させて塗膜を形成し、次いで再度ロールコーターを用いて、前記塗膜の上に下塗り塗料３を５０ｇ／ｍ2塗布した後、紫外線照射により下塗り塗料を完全に硬化させて塗膜を形成した。次に、プラテン研磨機により前記塗膜の表面を平滑に研磨して、膜厚が４０μｍで有機固形分量が２０ｇ／ｍ2となる下塗り層を形成した。
さらに下塗り層の上から、ロールコーターを用いて上塗り塗料を１０ｇ／ｍ2塗布した後、フローコーターを用いて同一の上塗り塗料を９５g／ｍ2塗布し、熱風式乾燥機を用い１００℃の雰囲気中で３０分加熱乾燥して上塗り塗膜を硬化させ、膜厚が３０μｍで有機固形分量が２６ｇ／ｍ2となる上塗り層を形成し、化粧板を得た。この化粧板の下塗り層と上塗り層とを併せた有機塗膜層の膜厚は７０μｍであった。
【００５６】
実施例７
実施例６と同様に含浸シーラー処理し、実施例６と同様の塗料と塗装方法を用いて、下塗り層の膜厚が８μｍで下塗り層の有機固形分量が４ｇ／ｍ2である下塗り層を形成した。次いで、実施例６と同様に、ロールコーターを用いて上塗り塗料を１０ｇ／ｍ2塗布した後、フローコーターを用いて同一の上塗り塗料を９５ｇ／ｍ2塗布し、膜厚が３０μｍで上塗り層の有機固形分量が２６ｇ／ｍ2である上塗り層を形成し、化粧板を作製した。この化粧板の下塗り層と上塗り層とを併せた有機塗膜層の膜厚は３８μｍであった。
【００５７】
実施例８
実施例６と同様に含浸シーラー処理し、実施例６と同様の塗料と塗装方法を用いて、下塗り層の膜厚が１２１μｍで下塗り層の有機固形分量が６０．５ｇ／ｍ2である下塗り層を形成した。次いで、実施例６と同様に、ロールコーターを用いて上塗り塗料を５ｇ／ｍ2塗布した後、フローコーターを用いて同一の上塗り塗料を５８ｇ／ｍ2塗布し、膜厚が１８μｍで上塗り層の有機固形分量が１５．６ｇ／ｍ2である上塗り層を形成し、化粧板を作製した。この化粧板の下塗り層と上塗り層とを併せた有機塗膜層の膜厚は１３９μｍであった。
【００５８】
実施例９
実施例６と同様に含浸シーラー処理し、実施例６と同様の塗料と塗装方法を用いて、下塗り層の膜厚が４０μｍで下塗り層の有機固形分量が２０ｇ／ｍ2である下塗り層を形成した。次いで、ロールコーターを用いて一回塗りにて上塗り塗料を２１ｇ／ｍ2塗布し、膜厚が６μｍで上塗り層の有機固形分量が５．２ｇ／ｍ2である上塗り層を形成し、化粧板を作製した。この化粧板の下塗り層と上塗り層とを併せた有機塗膜層の膜厚は４６μｍであった。
【００５９】
実施例１０
実施例６と同様に含浸シーラー処理し、実施例６と同様の塗料と塗装方法を用いて、下塗り層の膜厚が４０μｍで下塗り層の有機固形分量が２０ｇ／ｍ2である下塗り層を形成した。次いで、実施例６と同様に、ロールコーターを用いて上塗り塗料を１８ｇ／ｍ2塗布した後、フローコーターを用いて同一の上塗り塗料を１１５ｇ／ｍ2塗布し、膜厚が３８μｍで上塗り層の有機固形分量が３２．９ｇ／ｍ2である上塗り層を形成し、化粧板を作製した。この化粧板の下塗り層と上塗り層とを併せた有機塗膜層の膜厚は７８μｍであった。
【００６０】
比較例７
実施例６と同様に含浸シーラー処理し、実施例６と同様の塗料と塗装方法を用いて、下塗り層の膜厚が４μｍで下塗り層の有機固形分量が２ｇ／ｍ2である下塗り層を形成した。次いで、実施例６と同様に、ロールコーターを用いて上塗り塗料を１０ｇ／ｍ2塗布した後、フローコーターを用いて同一の上塗り塗料を９５ｇ／ｍ2塗布し、膜厚が３０μｍで上塗り層の有機固形分量が２６ｇ／ｍ2である上塗り層を形成し、化粧板を作製した。この化粧板の下塗り層と上塗り層とを併せた有機塗膜層の膜厚は３４μｍであった。
【００６１】
比較例８
実施例６と同様に含浸シーラー処理し、実施例６と同様の塗料と塗装方法を用いて、下塗り層の膜厚が１３８μｍで下塗り層の有機固形分量が６９ｇ／ｍ2である下塗り層を形成した。次いで、実施例６と同様に、ロールコーターを用いて上塗り塗料を３０ｇ／ｍ2塗布し、膜厚が９μｍで上塗り層の有機固形分量が７．４ｇ／ｍ2である上塗り層を形成し、化粧板を作製した。この化粧板の下塗り層と上塗り層とを併せた有機塗膜層の膜厚は１４７μｍであった。
【００６２】
比較例９
実施例６と同様に含浸シーラー処理し、実施例６と同様の塗料と塗装方法を用いて、下塗り層の膜厚が４０μｍで下塗り層の有機固形分量が２０ｇ／ｍ2である下塗り層を形成した。次いで、ロールコーターを用いて一回塗りで上塗り塗料を７ｇ／ｍ2塗布し、膜厚が２μｍで上塗り層の有機固形分量が１．７ｇ／ｍ2である上塗り層を形成し、化粧板を作製した。この化粧板の下塗り層と上塗り層とを併せた有機塗膜層の膜厚は４２μｍであった。
【００６３】
比較例１０
実施例６と同様に含浸シーラー処理し、実施例６と同様の塗料と塗装方法を用いて、下塗り層の膜厚が４０μｍで下塗り層の有機固形分量が２０ｇ／ｍ2である下塗り層を形成した。次いで、実施例６と同様に、ロールコーターを用いて上塗り塗料を２０ｇ／ｍ2塗布した後、フローコーターを用いて同一の上塗り塗料を１６０ｇ／ｍ2塗布し、膜厚が５１μｍで上塗り層の有機固形分量が４４．５ｇ／ｍ2である上塗り層を形成し、化粧板を作製した。この化粧板の下塗り層と上塗り層とを併せた有機塗膜層の膜厚は９１μｍであった。
【００６４】
比較例１１
実施例６と同様に含浸シーラー処理し、実施例６と同様の塗料と塗装方法を用いて、下塗り層の膜厚が１１８μｍで下塗り層の有機固形分量が５９ｇ／ｍ2である下塗り層を形成した。次いで、実施例６と同様に、ロールコーターを用いて上塗り塗料を１２ｇ／ｍ2塗布した後、フローコーターを用いて同一の上塗り塗料を１２５ｇ／ｍ2塗布し、膜厚が３９μｍで上塗り層の有機固形分量が３３．９ｇ／ｍ2である上塗り層を形成し、化粧板を作製した。この化粧板の下塗り層と上塗り層とを併せた有機塗膜層の膜厚は１５７μｍであった。
【００６５】
比較例１２
下塗り塗膜の表面を研磨しなかったことを除き、実施例６と同様の化粧板を作製した。この化粧板の下塗り層と上塗り層とを併せた有機塗膜層の膜厚は１３２μｍであった。
【００６６】
（４）評価
前記実施例１と同様に評価した。
得られた評価結果を表２に示す。
【００６７】
【表２】
2015120339.tif 000003
【００６８】
表１及び表２から明らかなように、抄造石膏板の表面に下塗り層及び上塗り層を形成させ、各層を所定の厚さとし、かつ下塗り層を研磨することにより、外観及び塗膜性能が良好で総発熱量８ＭＪ／ｍ2以下の優れた不燃性を有する化粧板が得られる。また、この化粧板は、低湿度のクリーンルームの内装材としての適性を有する。
一方、下塗り層が４μｍと薄い比較例１及び比較例７は、基板の凹凸痕跡が表面にのこり平滑性が不十分なため外観不良であり、有機塗膜層合計厚みが１４０μｍを越えている比較例２、比較例５、比較例８及び比較例１１は、発熱量が８ＭＪ／ｍ2より高い値となっており、また、上塗り層が２μｍと薄い比較例３及び比較例９は、耐薬品性が低下しているのに加え下地隠蔽性が不十分なため色ムラが生じて外観不良であり、また、下塗り塗膜の表面を研磨しなかった比較例６及び比較例１２は、表面に基板の毛羽痕跡が残り表面平滑性が不十分であった。
【００６９】
次に、実施例１及び比較例４の化粧板（縦１８２０mm×横９１０mm）を作製し、該化粧板を縦５００mm×横４００mmに切断して実施例１の試験片１２枚、比較例の試験片１２枚を作製して、湿度が極端に低い場合に対する適性試験を実施した。
（実施内容）
（１）乾燥室：複数の略透明樹脂板を組み合わせて囲った空間に、超低露点エアードライヤーを用いて乾燥空気を送り込み、内部を常に陽圧に保つことで外気の流入を防ぐようにした乾燥室を設けた。この乾燥室内部を、温度２３℃±５℃で相対湿度が１％以下という極端な低湿度の環境に調整した。
（２）下地：５０mm×５０mmの角パイプ鋼材を用いて外寸５００mm×４００mmの枠体を組み、該枠体に縦５００mm×横４００mm、厚さ１２．５mmのせっこうボード（ＪＩＳ Ａ ６９０１：２００５）をビスで固定して試験体の下地とした。
（３）試験体：前記下地に前記試験片を固定して試験体とした。固定方法は一般的なクリーンルームの内装工法と同様に、両面テープと弾性接着剤を用いて行った。
（４）評価方法：前記試験体を前記乾燥室内に１ヶ月静置した後、乾燥収縮等による反り及びクラック発生の有無を目視にて判別した。
試験片各１２枚について上記試験を実施した結果、比較例４の試験体は１２体中４体について若干の反り発生が認められたのに対し、実施例１の試験体は１２体すべてについて反り及びクラックの発生が認められなかった。従って本発明による化粧板は、極端な低湿度の環境で使用する窯業系化粧板として、十分な適性を有することが確認できた。