(57)【要約】【課題】耐衝撃性および加熱座屈性が良好な積層偏光フィルムを提供すること。【解決手段】偏光フィルムと、偏光子以外の光学フィルムが、低弾性接着剤層（ａ）を介して積層されている積層偏光フィルムであって、前記偏光フィルムは、偏光子の少なくとも一方の面に接着剤層（ｂ）を介して透明保護フィルムが積層されており、かつ、当該透明保護フィルムに前記低弾性接着剤層（ａ）が積層されており、前記低弾性接着剤層（ａ）の２５℃における貯蔵弾性率が３．０×１０５〜１．０×１０８Ｐａであり、かつ、前記低弾性接着剤層（ａ）の厚みが０．１〜５μｍである。【選択図】図１Ａ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光フィルムと、偏光子以外の光学フィルムが、低弾性接着剤層（ａ）を介して積層されている積層偏光フィルムであって、
前記偏光フィルムは、偏光子の少なくとも一方の面に接着剤層（ｂ）を介して透明保護フィルムが積層されており、かつ、当該透明保護フィルムに前記低弾性接着剤層（ａ）が積層されており、
前記低弾性接着剤層（ａ）の２５℃における貯蔵弾性率が３．０×１０５〜１．０×１０８Ｐａであり、
かつ、前記低弾性接着剤層（ａ）の厚みが０．１〜５μｍであることを特徴とする積層偏光フィルム。
【請求項２】
前記光学フィルムが位相差フィルムであることを特徴とする請求項１記載の積層偏光フィルム。
【請求項３】
前記低弾性接着剤層（ａ）が、活性エネルギー線硬化型接着剤に活性エネルギー線を照射して得られる硬化物層であることを特徴とする請求項１または２記載の積層偏光フィルム。
【請求項４】
前記活性エネルギー線硬化型接着剤が、実質的に有機溶剤を含有せず、かつ、粘度１〜１００ｃｐ／２５℃の液状物であることを特徴とする請求項３記載の積層偏光フィルム。
【請求項５】
前記活性エネルギー線硬化型接着剤が、硬化性成分としてラジカル重合性化合物を含有することを特徴とする請求項３または４記載の積層偏光フィルム。
【請求項６】
前記ラジカル重合性化合物が、単官能ラジカル重合性化合物と多官能ラジカル重合性化合物（Ａ）を含有することを特徴とする請求項５記載の積層偏光フィルム。
【請求項７】
前記ラジカル重合性化合物の全量を１００重量％としたとき、多官能ラジカル重合性化合物（Ａ）の割合が、１〜６５重量％であることを特徴とする請求項６記載の積層偏光フィルム。
【請求項８】
前記多官能ラジカル重合性化合物（Ａ）が、重量平均分子量が２００〜４０００の２官能（メタ）アクリレートであることを特徴とする請求項６または７記載の積層偏光フィルム。
【請求項９】
前記ラジカル重合性化合物が、炭素数２〜１８のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレート（Ｂ）を含有することを特徴とする請求項６〜８のいずれかに記載の積層偏光フィルム。
【請求項１０】
前記ラジカル重合性化合物が、水酸基を有する（メタ）アクリレート（Ｃ）を含有することを特徴とする請求項６〜９のいずれかに記載の積層偏光フィルム。
【請求項１１】
前記水酸基を有する（メタ）アクリレート（Ｃ）が、重量平均分子量が１６０〜３０００の水酸基含有単官能（メタ）アクリレートであることを特徴とする請求項１０記載の積層偏光フィルム。
【請求項１２】
前記活性エネルギー線硬化型接着剤が、シランカップリング剤（Ｄ）を含有することを特徴とする請求項３〜１１のいずれかに記載の積層偏光フィルム。
【請求項１３】
前記シランカップリング剤（Ｄ）が、ラジカル重合性の官能基を有しないシランカップリング剤であることを特徴とする請求項１２記載の積層偏光フィルム。
【請求項１４】
前記活性エネルギー線硬化型接着剤が、（メタ）アクリルモノマーを重合してなるアクリル系オリゴマー（Ｅ）を含有することを特徴とする請求項３〜１３のいずれかに記載の積層偏光フィルム。
【請求項１５】
前記活性エネルギー線硬化型接着剤が、活性メチレン基を有するラジカル重合性化合物（Ｆ）と、水素引き抜き作用のあるラジカル重合開始剤（Ｇ）とを含有することを特徴とする請求項３〜１４のいずれかに記載の積層偏光フィルム。
【請求項１６】
前記活性メチレン基がアセトアセチル基であることを特徴とする請求項１５記載の積層偏光フィルム。
【請求項１７】
前記活性メチレン基を有するラジカル重合性化合物（Ｆ）が、アセトアセトキシアルキル（メタ）アクリレートであることを特徴とする請求項１５または１６記載の積層偏光フィルム。
【請求項１８】
前記ラジカル重合開始剤（Ｇ）が、チオキサントン系ラジカル重合開始剤であることを特徴とする請求項１５〜１７のいずれかに記載の積層偏光フィルム。
【請求項１９】
前記接着剤層（ｂ）は、８５℃における貯蔵弾性率が１．０×１０６〜１．０×１０１０Ｐａであり、かつ、厚みが０．０３〜３μｍを満足する接着剤層（ｂ１）であることを特徴とする請求項１〜１８のいずれかに記載の積層偏光フィルム。
【請求項２０】
前記偏光フィルムは、前記偏光子の両面に、前記接着剤層（ｂ）を介して前記透明保護フィルムが設けられており、
前記接着剤層（ｂ）は、いずれも、８５℃における貯蔵弾性率が１．０×１０６〜１．０×１０１０Ｐａであり、かつ、厚みが０．０３〜３μｍを満足する接着剤層（ｂ１）であることを特徴とする請求項１〜１８のいずれかに記載の積層偏光フィルム。
【請求項２１】
前記偏光フィルムは、前記偏光子の両面に、前記接着剤層（ｂ）を介して前記透明保護フィルムが設けられており、
片面の前記接着剤層（ｂ）は、８５℃における貯蔵弾性率が１．０×１０６〜１．０×１０１０Ｐａであり、かつ、厚みが０．０３〜３μｍを満足する接着剤層（ｂ１）であり、
他の片面の前記接着剤層（ｂ）は、８５℃における貯蔵弾性率１．０×１０４〜１．０×１０８Ｐａであり、厚みが０．１〜２５μｍを満足する接着剤層（ｂ２）であることを特徴とする請求項１〜１８のいずれかに記載の積層偏光フィルム。
【請求項２２】
前記偏光子は、厚みが１〜１０μｍであることを特徴とする請求項１〜２１のいずれかに記載の積層偏光フィルム。
【請求項２３】
前記透明保護フィルムは、少なくとも片面の透明保護フィルムが位相差フィルムであることを特徴とする請求項１〜２２のいずれかに記載の積層偏光フィルム。
【請求項２４】
前記偏光フィルムと前記光学フィルムを強制剥離した際に、前記低弾性接着剤層（ａ）が凝集破壊することを特徴とする請求項１〜２３のいずれかに記載の積層偏光フィルム。
【請求項２５】
前記偏光フィルムと前記光学フィルムを強制剥離した際の剥離力が１〜５Ｎ／１５ｍｍであることを特徴とする請求項１〜２４のいずれかに記載の積層偏光フィルム。
【請求項２６】
請求項１〜２５のいずれかに記載の積層偏光フィルムの製造方法であって、
前記偏光フィルムにおける前記低弾性接着剤層（ａ）が積層される側の透明保護フィルムおよび前記光学フィルムの少なくとも一方の面に、前記低弾性接着剤層（ａ）を形成する活性エネルギー線硬化型接着剤を塗工する塗工工程と、
前記偏光フィルムおよび前記光学フィルムを貼り合わせる貼合工程と、
前記活性エネルギー線を照射して、前記活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化させることにより得られた低弾性接着剤層（ａ）を介して、前記偏光フィルムおよび前記光学フィルムを接着させる接着工程とを含むことを特徴とする積層偏光フィルムの製造方法。
【請求項２７】
前記活性エネルギー線は、波長範囲３８０〜４４０ｎｍの積算照度と波長範囲２５０〜３７０ｎｍの積算照度との比が１００：０〜１００：５０である請求項２６記載の偏光フィルムの製造方法。
【請求項２８】
請求項１〜２５のいずれかに記載の積層偏光フィルムが少なくとも１枚積層されていることを特徴とする積層光学フィルム。
【請求項２９】
請求項１〜２５のいずれかに記載の積層偏光フィルム、または請求項２８に記載の積層光学フィルムが用いられていることを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光フィルムと偏光子以外の光学フィルムとを低弾性接着剤層を介して積層した積層偏光フィルムおよびその製造方法に関する。当該積層フィルムはこれ単独で、または、さらに光学フィルムを積層した積層光学フィルムとして液晶表示装置（ＬＣＤ）、有機ＥＬ表示装置、ＣＲＴ、ＰＤＰなどの画像表示装置を形成しうる。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置等は、その画像形成方式から液晶セルの両側に偏光素子を配置することが必要不可欠であり、一般的には偏光フィルムが貼着されている。また液晶パネルには偏光フィルムの他に、ディスプレイの表示品位を向上させるために様々な光学フィルムが用いられる。例えば、光学フィルムとしては、着色防止としての位相差フィルム、液晶ディスプレイの視野角を改善するための視野角拡大フィルム、さらにはディスプレイのコントラストを高めるための輝度向上フィルム等が用いられる。
【０００３】
前記偏光フィルムと光学フィルム（例えば、位相差フィルム）を組み合わせて積層偏光フィルムとして用いる場合には、通常、粘着剤層を介して、前記偏光フィルムと光学フィルムが積層されていた（例えば、特許文献１）。特許文献１では、粘着剤層として、光漏れ防止等の観点から、２３℃における貯蔵弾性率が０．３ＭＰａ以上を有するものが提案されている。また、特許文献１では、粘着剤層の剥離力を満足させるために、厚さ５〜１００μｍの粘着剤層が用いられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−０３２８５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
前記積層偏光フィルムに用いられる位相差フィルムは、フィルム内において分子が面配向しているため、落下等の衝撃により、劈開しやすい。そのため、例えば、偏光フィルムと位相差フィルムの積層物は、耐衝撃性が十分ではなかった。
【０００６】
また、前記積層偏光フィルムは、液晶セルに貼り合わせたパネルの状態において、加熱試験や凍結サイクル試験（ヒートショックサイクル試験）等に供される。しかし、特許文献１に記載の粘着剤層では、前記試験によって生じる偏光フィルムの寸法変化に粘着剤層が追随することが難しく、試験後の積層偏光フィルムをクロスニコルの状態で観察するとスジムラ等の表示欠陥を見られた。そのため、積層光学フィルムには、前記試験後においても積層偏光フィルムをクロスニコルの状態でスジムラ等が生じないこと（以下、加熱座屈性という）が求められる。
【０００７】
本発明は、偏光フィルムと偏光フィルム以外の光学フィルムとを積層した積層偏光フィルムであって、耐衝撃性および加熱座屈性が良好な積層偏光フィルムおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【０００８】
さらに本発明は、前記積層偏光フィルムを用いた積層光学フィルム、さらには前記積層偏光フィルムまたは積層光学フィルムを用いた画像表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を下記偏光フィルム等により、上記課題を解決できることを見出だし本発明を完成するに到った。
【００１０】
即ち本発明は、偏光フィルムと、偏光子以外の光学フィルムが、接着剤層（ａ）を介して積層されている積層偏光フィルムであって、
前記偏光フィルムは、偏光子の少なくとも一方の面に接着剤層（ｂ）を介して透明保護フィルムが積層されており、かつ、当該透明保護フィルムに前記低弾性接着剤層（ａ）が積層されており、
前記低弾性接着剤層（ａ）の２５℃における貯蔵弾性率が３．０×１０５〜１．０×１０８Ｐａであり、
かつ、前記低弾性接着剤層（ａ）の厚みが０．１〜５μｍであることを特徴とする積層偏光フィルム、に関する。
【００１１】
前記積層光学フィルムにおいて、前記光学フィルムとして位相差フィルムを用いることができる。
【００１２】
前記積層光学フィルムにおいて、前記低弾性接着剤層（ａ）が、活性エネルギー線硬化型接着剤に活性エネルギー線を照射して得られる硬化物層であることが好ましい。
【００１３】
前記積層光学フィルムにおいて、前記活性エネルギー線硬化型接着剤が、実質的に有機溶剤を含有せず、かつ、粘度１〜１００ｃｐ／２５℃の液状物であることが好ましい。
【００１４】
前記積層光学フィルムにおいて、前記活性エネルギー線硬化型接着剤が、硬化性成分としてラジカル重合性化合物を含有することが好ましい。
【００１５】
前記積層光学フィルムにおいて、前記ラジカル重合性化合物が、単官能ラジカル重合性化合物と多官能ラジカル重合性化合物（Ａ）を含有することが好ましい。また、前記ラジカル重合性化合物の全量を１００重量％としたとき、多官能ラジカル重合性化合物（Ａ）の割合が、１〜６５重量％であることが好ましい。また、前記多官能ラジカル重合性化合物（Ａ）は、重量平均分子量が２００〜４０００の２官能（メタ）アクリレートであることが好ましい。
【００１６】
前記積層光学フィルムにおいて、前記ラジカル重合性化合物が、炭素数２〜１８のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレート（Ｂ）を含有することが好ましい。
【００１７】
前記積層光学フィルムにおいて、前記ラジカル重合性化合物が、水酸基を有する（メタ）アクリレート（Ｃ）を含有することが好ましい。前記水酸基を有する（メタ）アクリレート（Ｃ）が、重量平均分子量が１６０〜３０００の水酸基含有単官能（メタ）アクリレートであることが好ましい。
【００１８】
前記積層光学フィルムにおいて、前記活性エネルギー線硬化型接着剤が、シランカップリング剤（Ｄ）を含有することが好ましい。前記シランカップリング剤（Ｄ）は、ラジカル重合性の官能基を有しないシランカップリング剤であることが好ましい。
【００１９】
前記積層光学フィルムにおいて、前記活性エネルギー線硬化型接着剤が、（メタ）アクリルモノマーを重合してなるアクリル系オリゴマー（Ｅ）を含有することが好ましい。
【００２０】
前記積層光学フィルムにおいて、前記活性エネルギー線硬化型接着剤が、活性メチレン基を有するラジカル重合性化合物（Ｆ）と、水素引き抜き作用のあるラジカル重合開始剤（Ｇ）とを含有することが好ましい。前記活性メチレン基はアセトアセチル基であることが好ましい。前記活性メチレン基を有するラジカル重合性化合物（Ｆ）が、アセトアセトキシアルキル（メタ）アクリレートであることが好ましい。
【００２１】
前記積層光学フィルムにおいて、前記ラジカル重合開始剤（Ｇ）が、チオキサントン系ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
【００２２】
前記積層光学フィルムにおいて、前記接着剤層（ｂ）は、８５℃における貯蔵弾性率が１．０×１０６〜１．０×１０１０Ｐａであり、かつ、厚みが０．０３〜３μｍを満足する接着剤層（ｂ１）を用いることができる。
【００２３】
また、前記積層光学フィルムにおいて、前記偏光フィルムは、前記偏光子の両面に、前記接着剤層（ｂ）を介して前記透明保護フィルムが設けられている場合には、前記接着剤層（ｂ）としては、いずれも、８５℃における貯蔵弾性率が１．０×１０６〜１．０×１０１０Ｐａであり、かつ、厚みが０．０３〜３μｍを満足する接着剤層（ｂ１）を用いることができる。
【００２４】
また、前記積層光学フィルムにおいて、前記偏光フィルムは、前記偏光子の両面に、前記接着剤層（ｂ）を介して前記透明保護フィルムが設けられている場合には、片面の前記接着剤層（ｂ）としては、８５℃における貯蔵弾性率が１．０×１０６〜１．０×１０１０Ｐａであり、かつ、厚みが０．０３〜３μｍを満足する接着剤層（ｂ１）を用いて、他の片面の前記接着剤層（ｂ）としては、８５℃における貯蔵弾性率１．０×１０４〜１．０×１０８Ｐａであり、厚みが０．１〜２５μｍを満足する接着剤層（ｂ２）を用いることができる。
【００２５】
前記積層光学フィルムにおいて、前記偏光子は、厚みが１〜１０μｍであることが好ましい。
【００２６】
前記積層光学フィルムにおいて、前記透明保護フィルムは、少なくとも片面の透明保護フィルムとして位相差フィルムを用いることができる。
【００２７】
前記積層光学フィルムは、前記偏光フィルムと前記光学フィルムを強制剥離した際に、前記低弾性接着剤層（ａ）が凝集破壊することが好ましい。
【００２８】
前記積層光学フィルムは、前記偏光フィルムと前記光学フィルムを強制剥離した際の剥離力が１〜５Ｎ／１５ｍｍであることが好ましい。
【００２９】
また本発明は、前記積層偏光フィルムの製造方法であって、
前記偏光フィルムにおける前記低弾性接着剤層（ａ）が積層される側の透明保護フィルムおよび前記光学フィルムの少なくとも一方の面に、前記低弾性接着剤層（ａ）を形成する活性エネルギー線硬化型接着剤を塗工する塗工工程と、
前記偏光フィルムおよび前記光学フィルムを貼り合わせる貼合工程と、
前記活性エネルギー線を照射して、前記活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化させることにより得られた低弾性接着剤層（ａ）を介して、前記偏光フィルムおよび前記光学フィルムを接着させる接着工程とを含むことを特徴とする積層偏光フィルムの製造方法、に関する。
【００３０】
前記積層偏光フィルムの製造方法において、前記活性エネルギー線は、波長範囲３８０〜４４０ｎｍの積算照度と波長範囲２５０〜３７０ｎｍの積算照度との比が１００：０〜１００：５０であることが好ましい。
【００３１】
また本発明は、前記積層偏光フィルムが少なくとも１枚積層されていることを特徴とする積層光学フィルム、に関する。
【００３２】
また本発明は、前記積層偏光フィルム、または前記積層光学フィルムが用いられていることを特徴とする画像表示装置、に関する。
【発明の効果】
【００３３】
本発明の積層偏光フィルムは、偏光フィルムと偏光子以外の光学フィルムを、低弾性接着剤層（ａ）により積層している。接着剤層は、フィルム同士を積層して固着することを目的としており、フィルム同士を積層したのちに再剥離が可能なことを前提に設けられる粘着剤層とは相違する。前記低弾性接着剤層（ａ）は、偏光フィルムと光学フィルムを強固に接着している。このような低弾性接着剤層（ａ）は、薄層（０．１〜５μｍ）の厚みにおいてもフィルム間の剥離力を所定以上に維持することができ、かつ、加熱座屈性を満足することができる。なお、薄層（０．１〜５μｍ）の粘着剤層では、剥離力を満足することができない。粘着剤層は厚みを厚くすることで所定の剥離力が得られるが、粘着剤層は厚みが厚くなると、加熱試験や凍結サイクル試験による偏光フィルムの寸法変化に粘着剤層が追随することが難しくなり、加熱座屈性を満足することができない。
【００３４】
また、本発明の低弾性接着剤層（ａ）は、２５℃における貯蔵弾性率を３．０×１０５〜１．０×１０８Ｐａに制御しているため、低弾性接着剤層（ａ）が薄層であるにも拘わらず、積層偏光フィルムは耐衝撃性が良好である。
【００３５】
また本発明の積層偏光フィルムは、偏光フィルムを構成する偏光子の厚みが１〜１０μｍの薄型偏光子である場合に加熱座屈性、耐衝撃性の点で特に有効である。薄型偏光子は上記の寸法変化が小さいため、透明保護フィルムや偏光子以外の光学フィルムに対する寸法変化が相対的に大きくなり、厚みが１０μｍ以上の偏光子に比べて加熱座屈性に劣る傾向がある。また、薄型偏光子は、厚みが１０μｍ以上の偏光子に比べて高い弾性率を有することから、厚みが１０μｍ以上の偏光子に比べて衝撃吸収性に劣る傾向がある。本発明の積層偏光フィルムによれば、低弾性接着剤層（ａ）を有することから、薄型偏光子を用いる場合においても、加熱座屈性、耐衝撃性を満足させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１Ａ】本発明の積層偏光フィルムの一実施形態を示す断面図である。
【図１Ｂ】本発明の積層偏光フィルムの一実施形態を示す断面図である。
【図２】本発明の積層偏光フィルムの一実施形態を示す断面図である。
【図３】本発明の積層偏光フィルムの一実施形態を示す断面図である。
【図４】本発明の積層偏光フィルムの一実施形態を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
本発明の積層偏光フィルムの実施形態について、図面を参照しながら以下に説明する。
【００３８】
図１乃至図４は、本発明の積層偏光フィルムの一実施形態を示す断面図である。図１Ａに示す積層偏光フィルムは、偏光子（１）の両面に接着剤層（ｂ）を介して透明保護フィルム（２）が設けられている偏光フィルム（Ｐ）を有し、当該偏光フィルム（Ｐ）の片側の透明保護フィルム（２）に、低弾性接着剤層（ａ）を介して、光学フィルム（３）が設けられている。図１Ｂに示す積層偏光フィルムは、偏光子（１）の片面にのみ接着剤層（ｂ）を介して透明保護フィルム（２）が設けられている偏光フィルム（Ｐ）を有し、当該偏光フィルム（Ｐ）における透明保護フィルム（２）に、低弾性接着剤層（ａ）を介して、光学フィルム（３）が設けられている。なお、図１Ａでは、偏光フィルム（Ｐ）の片側の透明保護フィルム（２）にのみ低弾性接着剤層（ａ）を介して、光学フィルム（３）が設けられているが、両側の透明保護フィルム（２）に低弾性接着剤層（ａ）を介して、光学フィルム（３）を設けることができる。図２乃至図４の積層偏光フィルムは、図１Ａに記載の偏光フィルム（Ｐ）を偏光フィルム（Ｐ１）乃至（Ｐ３）の態様で用いた場合を示す。
【００３９】
前記低弾性接着剤層（ａ）は、２５℃における貯蔵弾性率が３．０×１０５〜１．０×１０８Ｐａである。前記低弾性接着剤層（ａ）の２５℃における貯蔵弾性率を前記範囲に制御することで、耐衝撃性および加熱座屈性が良好な積層偏光フィルムが得られる。２５℃における貯蔵弾性率が３．０×１０５Ｐａより低い場合には、低弾性接着剤層（ａ）の充分な凝集力が得られず接着性が低下するため好ましくない。一方、２５℃における貯蔵弾性率が１．０×１０８Ｐａより高い場合には、衝撃吸収性に劣るため、耐衝撃性の点で好ましくない。２５℃における貯蔵弾性率は１．０×１０６〜１．０×１０７Ｐａであることが好ましい。
【００４０】
また、前記低弾性接着剤層（ａ）は、８５℃における貯蔵弾性率が３．０×１０５〜１．０×１０８Ｐａであることが好ましい。前記低弾性接着剤層（ａ）の８５℃における貯蔵弾性率を前記範囲に制御することで、加熱耐久性を満足させるうえで好ましい。特に、８５℃における貯蔵弾性率を３．０×１０５Ｐａより高くなるようにすることで、偏光フィルムや光学フィルムの残存水分がガス化する蒸気圧に起因する発泡や剥れの発生を抑制するうえで好ましい。また、８５℃における貯蔵弾性率を１．０×１０８Ｐａより低くなるようにすることで偏光フィルムや光学フィルムの寸法変化に接着剤層が追随させて剥れの発生を抑制するうえで好ましい。８５℃における貯蔵弾性率は１．０×１０６〜１．０×１０７Ｐａであることが好ましい。
【００４１】
前記低弾性接着剤層（ａ）の厚みは０．１〜５μｍである。前記低弾性接着剤層（ａ）は薄層の形成が可能であり、薄層であるにも拘わらず、上記の貯蔵弾性率を満足することができ、加熱座屈性が良好な積層偏光フィルムが得られる。厚みが０．１μｍ未満の場合には、低弾性接着剤層（ａ）の凝集力が充分得られず接着力が低下するため好ましくない。一方、厚みが５μｍを超える場合には、加熱座屈性が悪化するため好ましくない。前記低弾性接着剤層（ａ）の厚みは薄層の観点から、０．４〜３μｍが好ましく、さらには０．７〜２μｍが好ましい。
【００４２】
一方、偏光フィルム（Ｐ）または（Ｐ´）において、偏光子（１）と透明保護フィルム（２）を積層する接着剤層（ｂ）の厚みは、通常、接着性の観点から０．１〜２５μｍである。
【００４３】
図２の積層偏光フィルムにおける偏光フィルム（Ｐ１）は、偏光子（１）の両面の接着剤層（ｂ）としていずれも接着剤層（ｂ１）を用いた場合である。接着剤層（ｂ１）は、８５℃における貯蔵弾性率が１．０×１０６〜１．０×１０１０Ｐａであり、かつ、厚みが０．０３〜３μｍを満足するものを用いることができる。接着剤層（ｂ１）の貯蔵弾性率、厚みを前記範囲に制御することは、ヒートショックサイクル試験時の偏光子クラックを抑制できる点から好ましい。前記接着剤層（ｂ１）は、８５℃における貯蔵弾性率が１．０×１０７〜５．０×１０９Ｐａであることが好ましく、さらには１．０×１０８〜１．０×１０９Ｐａであることが好ましい。また、前記接着剤層（ｂ１）の厚みは薄層の観点から、０．０４〜２μｍが好ましく、さらには０．０５〜１．５μｍが好ましい。
【００４４】
また、前記接着剤層（ｂ１）は、２５℃における貯蔵弾性率が５．０×１０７〜１．０×１０１０Ｐａ、１．０×１０８〜７．０×１０９Ｐａであることが好ましく、さらには５．０×１０８〜５．０×１０９Ｐａであることが好ましい。
【００４５】
図３、図４の積層偏光フィルムにおける偏光フィルム（Ｐ２）、（Ｐ３）は、偏光子（１）の片面の接着剤層（ｂ）として接着剤層（ｂ１）を、他の片面の前記接着剤層（ｂ）として接着剤層（ｂ２）を用いた場合である。図３では、前記低弾性接着剤層（ａ）が積層される側の透明保護フィルム（２）を積層する接着剤層（ｂ）として接着剤層（ｂ１）を、図４では、前記低弾性接着剤層（ａ）が積層される側の透明保護フィルム（２）を積層する接着剤層（ｂ）として接着剤層（ｂ２）が用いられている。
【００４６】
図３、図４の接着剤層（ｂ１）についても、図２の接着剤層（ｂ１）と同様に８５℃における貯蔵弾性率が１．０×１０６〜１．０×１０１０Ｐａであり、かつ、厚みが０．０３〜３μｍを満足するものを用いることができる。また、前記接着剤層（ｂ１）は、２５℃における貯蔵弾性率が５．０×１０７〜１．０×１０１０Ｐａであることが好ましい。前記接着剤層（ｂ１）の貯蔵弾性率、厚みの好ましい範囲は図２の記載の説明と同様である。
【００４７】
図３、図４の接着剤層（ｂ２）は、８５℃における貯蔵弾性率１．０×１０４〜１．０×１０８Ｐａであり、厚みが０．１〜２５μｍを満足するものを用いることができる。前記接着剤層（ｂ２）は、８５℃における貯蔵弾性率が５．０×１０４〜５．０×１０７Ｐａであることが好ましく、さらには３．０×１０５〜１．０×１０７Ｐａであることが好ましい。前記接着剤層（ｂ２）の厚みは０．５〜１５μｍが好ましく、さらには０．８〜５μｍが好ましい。
【００４８】
また、前記接着剤層（ｂ２）は、２５℃における貯蔵弾性率が１．０×１０４〜１．０×１０８Ｐａ、５．０×１０４〜７．０×１０７Ｐａであることが好ましく、さらには１．０×１０５〜１．０×１０７Ｐａであることが好ましい。
【００４９】
前記接着剤層（ｂ１）、（ｂ２）の貯蔵弾性率、厚みを前記範囲に制御することはヒートショックサイクル試験時の偏光子クラックを抑制できる点、耐衝撃性をより満足する点から好ましい。
【００５０】
なお、図１Ｂの積層偏光フィルムにおける偏光フィルム（Ｐ）では、偏光子（１）の片面にのみ接着剤層（ｂ）を介して透明保護フィルム（２）が設けられている。図１Ｂの偏光フィルム（Ｐ）における接着剤層（ｂ）としては、当該偏光フィルム（Ｐ）を加熱試験や凍結サイクル試験に供した場合に偏光子（１）の伸縮を抑え、またクニックなどの発生を抑える観点から、高弾性率を有する前記接着剤層（ｂ１）を用いることが好ましい。
【００５１】
＜低弾性接着剤層（ａ）＞
低弾性接着剤層（ａ）は、低弾性接着剤の硬化による固体化により形成される硬化物層である。低弾性接着剤には、２５℃における貯蔵弾性率が３．０×１０５〜１．０×１０８Ｐａである硬化物層を形成することができる液状の組成物が用いられる。前記低弾性接着剤は、二つの被着体の面と面とを貼り合わせて一体化するために用いられる。二つの被着体の貼り合わせを行う場合には、二つの被着体の一方または両方に前記組成物を塗布した後に、貼り合わせを行い、その後、エネルギーを加えることによって前記組成物を硬化させて、固体化した低弾性接着剤層（ａ）が形成される。
【００５２】
低弾性接着剤層（ａ）は、前記のように、２５℃における貯蔵弾性率が３．０×１０５〜１．０×１０８Ｐａであり、当該低弾性接着剤層（ａ）の形成には、前記貯蔵弾性率を満足することができる接着剤が用いられる。前記低弾性接着剤層（ａ）は光学的に透明であれば、特に制限されず水系、溶剤系、ホットメルト系、活性エネルギー線硬化型の各種形態のものが用いられる。
【００５３】
前記低弾性接着剤層（ａ）は、例えば、活性エネルギー線硬化型接着剤に活性エネルギー線を照射して得られる硬化物層として形成することが好ましい。前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、電子線硬化型、紫外線硬化型接着剤を用いることができる。紫外線硬化型接着剤としては、大きくラジカル重合硬化型接着剤とカチオン重合型接着剤に区分出来る。
【００５４】
ラジカル重合硬化型接着剤の硬化性成分としては、（メタ）アクリロイル基を有する化合物、ビニル基を有するラジカル重合性化合物が挙げられる。これら硬化性成分は、単官能または二官能以上の多官能のいずれも用いることができる。またこれら硬化性成分は、１種を単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。これら硬化性成分としては、例えば、（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好適である。
【００５５】
カチオン重合硬化型接着剤の硬化性成分としては、エポキシ基、オキセタニル基、またはビニル基を有する化合物が挙げられる。エポキシ基を有する化合物は、分子内に少なくとも１個のエポキシ基を有するものであれば特に限定されず、一般に知られている各種の硬化性エポキシ化合物を用いることができる。好ましいエポキシ化合物として、分子内に少なくとも２個のエポキシ基と少なくとも１個の芳香環を有する化合物（以下、「芳香族系エポキシ化合物」と呼ぶ）や、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有し、そのうちの少なくとも１個は脂環式環を構成する隣り合う２個の炭素原子との間で形成されている化合物等が例として挙げられる。
【００５６】
前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、実質的に有機溶剤を含有せず、かつ、粘度１〜１００ｃｐ／２５℃の液状物が用いられる。かかる液状物を用いることで、厚みが０．１〜５μｍの薄層の低弾性接着剤層（ａ）を形成することができる。低弾性接着剤層（ａ）の形成に前記液状物の接着剤が用いられる点は、粘着剤層の形成に用いる粘着剤が液状物を呈しない点と相違しており、この点からも、接着剤層と粘着剤層の相違は明らかである。前記粘度は５〜１００ｃｐ／２５℃が好ましく、さらには１０〜７０ｃｐ／２５℃が好ましい。前記「実質的に有機溶剤を含有せず」とは、活性エネルギー線硬化型接着剤が、活性エネルギー線硬化型接着剤の全量に対して有機溶剤を１０重量％以下の範囲で含有することができることを意味する。なお、有機溶剤の含有量は５重量％以下が好ましく、さらには３重量％以下が好ましい。ここで有機溶剤とは引火点４０℃以下の液体である。活性エネルギー線硬化型接着剤は、有機溶剤を含有しなくともよい。
【００５７】
前記活性エネルギー線硬化型接着剤としては、硬化性成分としてラジカル重合性化合物を含有するものを用いることが好ましい。前記ラジカル重合性化合物としては、単官能ラジカル重合性化合物と多官能ラジカル重合性化合物（Ａ）のいずれも用いることができる。当該活性エネルギー線硬化型接着剤は、ラジカル重合性化合物の全量を１００重量％としたとき、多官能ラジカル重合性化合物（Ａ）を、５重量％を超え５０重量％以下の割合で含有することが好ましい。当該活性エネルギー線硬化型接着剤は、低弾性接着剤層（ａ）が、上記貯蔵弾性率を満足する範囲において、他のラジカル重合性化合物を含有することができる。
【００５８】
＜多官能ラジカル重合性化合物（Ａ）＞
多官能ラジカル重合性化合物（Ａ）は、（メタ）アクリロイル基またはビニル基等の不飽和二重結合を有するラジカル重合性の官能基を少なくも２つ有する化合物である。多官能ラジカル重合性化合物（Ａ）としては、例えば、テトラエチレングルコールジアクリレート（ホモポリマーのＴｇ：５０℃，以下Ｔｇとのみ記載する）、ポリエチレングルコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート（ｎ＝３，Ｔｇ６９℃）、（ｎ＝７，Ｔｇ：−８℃）、（ｎ＝１２，Ｔｇ：−３２℃）などのポリアルキレングリコール系ジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート（Ｔｇ：１１７℃）、３−メチル-１，５−ペンタンジオールジアクリレート（Ｔｇ：１０５℃）、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（Ｔｇ：６３℃）、１，９−ノナンジオールジアクリレート（Ｔｇ：６８℃）、２−メチル−１，８−オクタンジオールジアクリレートと１，９−ノナンジオールジアクリレート混合物（Ｔｇ：８８℃）、ジメチロール-トリシクロデカンジアクリレート（Ｔｇ：７５℃）、ビスフェノールＡのＥＯ付加物ジアクリレート（Ｔｇ：７５℃）、ビスフェノールＦ  ＥＯ変性（ｎ＝２）ジアクリレート（Ｔｇ：７５℃）、ビスフェノールＡ  ＥＯ変性（ｎ＝２）ジアクリレート（Ｔｇ：７５℃）、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレート（Ｔｇ：１６６℃）、トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｔｇ：２５０℃以上）、トリメチロールプロパンＰＯ変性トリアクリレート（ｎ＝１，Ｔｇ：１２０℃）、（ｎ＝２，Ｔｇ：５０℃）、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリアクリレート（ｎ＝１，Ｔｇ未測定）、（ｎ＝２，Ｔｇ：５３℃）、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ及びトリアクリレート（ジ：３０−４０％，Ｔｇ：２５０℃以上）、（ジ：３−１３％，Ｔｇ：２５０℃以上）、ペンタエリスリトールトリ及びテトラアクリレート（トリ：６５−７０％，Ｔｇ：２５０℃以上）、（トリ：５５−６３％，Ｔｇ：２５０℃以上）、（トリ：４０−６０％，Ｔｇ：２５０℃以上）、（トリ：２５−４０％，Ｔｇ：２５０℃以上）、（トリ：１０％未満，Ｔｇ：２５０℃以上）、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（Ｔｇ：２５０℃以上）、ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート（ペンタ：５０−６０％，Ｔｇ：２５０℃以上）、（ペンタ：４０−５０％，Ｔｇ：２５０℃以上）、（ペンタ：３０−４０％，Ｔｇ：２５０℃以上）、（ペンタ：２５−３５％，Ｔｇ：２５０℃以上）、（ペンタ：１０−２０％，Ｔｇ：２５０℃以上）、およびこれらに対応する（メタ）アクリレートが挙げられる。その他各種ポリウレタン（メタ）アクリレートやポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエポキシ（メタ）アクリレートなどのオリゴマー（メタ）アクリレートなどが挙げられる。なお、多官能ラジカル重合性化合物（Ａ）としては市販品も好適に使用可能であり、例えばライトアクリレート4EG-A、ライトアクリレート9EG-A、ライトアクリレートNP-A、ライトアクリレートMPD-A、ライトアクリレート1.6HX-A、クリレート1.9ND-A、ライトアクリレートMOD-A、ライトアクリレートDCP-A、ライトアクリレートBP-4EAL以上（共栄社化学社製）、アロニックスM-208、M-211B、M-215,M-220,M-225,M-270,M-240,M-309,M-310,M-321,M-350,M-360,M-313,M-315,M-306,M-305,M-303,M-452,M-450,M-408,M-403,M-400,M-402,M-404,M-406,M-405,M-1100,M-1200,M-6100,M-6200,M-6250,M-6500,M-7100,M-7300,M-8030,M-8060,M-8100,M-8530,M-8560,M-9050（東亞合成社製）、ＳＲ−５３１（ＳＡＲＴＯＭＥＲ社製）、ＣＤ−５３６（ＳＡＲＴＯＭＥＲ社製）などが挙げられる。多官能ラジカル重合性化合物（Ａ）は、ホモポリマーのＴｇが−４０〜１００℃を満足するものが好ましい。
【００５９】
多官能ラジカル重合性化合物（Ａ）としては架橋点間距離の長いものがより好ましい。架橋点間距離を長くすることによって低弾性接着剤層（ａ）のバルク変形量が大きくなり、耐衝撃性に特に優れる積層偏光フィルムを得ることができる。架橋点間距離が長い多官能ラジカル重合性化合物（Ａ）としては、（メタ）アクリロイル基を２つ有する２官能（メタ）アクリレートが好ましい。２官能（メタ）アクリレートの重量平均分子量は２００〜４０００であることが好ましく、４００〜２０００であることがより好ましく、５００〜１０００であることが最も好ましい。重量平均分子量が大きすぎる場合、活性エネルギー線硬化型接着剤の粘度が高くなり、塗布厚みが不均一となって外観の不良が生じたり、貼合工程で気泡が入り込んで外観の不良が生じたりする傾向がある。上記観点から、２官能（メタ）アクリレートはリニア構造であるのが好ましい。なお、（メタ）アクリロイル基を３つ以上有する３官能（メタ）アクリレートは、２官能（メタ）アクリレートに比べて架橋点間距離が短くなる。本発明の効果（耐衝撃性）観点からは、２官能（メタ）アクリレートが好ましい。
【００６０】
前記重量平均分子量が２００〜４０００の２官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートなどのポリアルキレングリコール系ジ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、ポリエポキシ（メタ）アクリレートなどのオリゴマー（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００６１】
多官能ラジカル重合性化合物（Ａ）の割合は、活性エネルギー線硬化型接着剤中のラジカル重合性化合物の全量を１００重量％としたとき、１〜６５重量％であるのが好ましい。前記割合を１重量％以上とすることは、低弾性接着剤層（ａ）の耐衝撃性、加熱座屈性、偏光子クラックを満足するうえで好ましい。
【００６２】
前記多官能ラジカル重合性化合物（Ａ）としては、全部または一部として、前記重量平均分子量が２００〜４０００の２官能（メタ）アクリレートを用いることができる。前記重量平均分子量が２００〜４０００の２官能（メタ）アクリレートの割合は、活性エネルギー線硬化型接着剤中のラジカル重合性化合物の全量を１００重量％としたとき、１〜６５重量％であることが好ましく、２〜５０重量％であることがより好ましく、３〜２０重量％であることが最も好ましい。前記割合が多い場合、低弾性接着剤層（ａ）のバルク変形量が小さくなり、剥離力が小さくなったり、耐衝撃性が低下したりする傾向がある。
【００６３】
＜炭素数２〜１８のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレート（Ｂ）＞
上記低弾性接着剤層（ａ）の形成に用いる活性エネルギー線硬化型接着剤は、ラジカル重合性化合物の単官能ラジカル重合性化合物として、炭素数２〜１８のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレート（Ｂ）を含有することができる。アルキル（メタ）アクリレート（Ｂ）としては、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基の炭素数１〜１８のものを例示できる。例えば、前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、アミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、２−エチルヘキシル基、イソオクチル基、ノニル基、デシル基、イソデシル基、ドデシル基、イソミリスチル基、ラウリル基、トリデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、ステアリル基、イソステアリル基等を例示できる。これらは単独であるいは組み合わせて使用することができる。アルキル（メタ）アクリレート（Ｂ）は、アルキル基の炭素数が３〜１８であるのが好ましい。アルキル（メタ）アクリレート（Ｂ）は、落下試験でのハガレに対する耐久性、耐水性の点からホモポリマーのＴｇが−８０〜６０℃を満足するものが好ましい。例えば、メチルアクリレート（Ｔｇ：８℃）、エチルアクリレート（Ｔｇ：−２０℃）、ｎ−プロピルアクリレート（Ｔｇ：８℃）、ｎ−ブチルアクリレート（Ｔｇ：−４５℃）、イソブチルアクリレート（Ｔｇ：−２６℃）、ｔ−ブチルアクリレート（Ｔｇ：１４℃）、イソアミルアクリレート（Ｔｇ：−４５℃）、シクロヘキシルアクリレート（Ｔｇ：８℃）、２−エチルヘキシルアクリレート（Ｔｇ：−５５℃）、ｎ−オクチルアクリレート（Ｔｇ：−６５℃）、イソオクチルアクリレート（Ｔｇ：−５８℃）、イソノニルアクリレート（Ｔｇ：−５８℃）、ラウリルアクリレート（Ｔｇ：１５℃）、ステアリルアクリレート（Ｔｇ：３０℃）、イソステアリルアクリレート（Ｔｇ：−１８℃）等のアルキルアクリレートを使用することが好ましい。
【００６４】
アルキル（メタ）アクリレート（Ｂ）の割合は、活性エネルギー線硬化型接着剤中のラジカル重合性化合物の全量を１００重量％としたとき、耐衝撃性、加熱座屈性を満足させる観点から、６０重量％以下の割合で用いることが好ましい。前記割合は１０〜５０重量％が好ましく、さらには２０〜４０重量％であるのが好ましい。
【００６５】
＜水酸基を有する（メタ）アクリレート（Ｃ）＞
上記低弾性接着剤層（ａ）の形成に用いる活性エネルギー線硬化型接着剤は、ラジカル重合性化合物の単官能ラジカル重合性化合物として、水酸基を有する（メタ）アクリレート（Ｃ）を含有することができる。水酸基を有する（メタ）アクリレート（Ｃ）としては、（メタ）アクリロイル基および水酸基を有するものを用いることができる。水酸基を有する（メタ）アクリレート（Ｃ）の具体例としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、８−ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、１０−ヒドロキシデシル（メタ）アクリレート、１２−ヒドロキシラウリル（メタ）アクリレート等のアルキル基の炭素数２〜１２のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートや、（４−ヒドロキシメチルシクロヘキシル)−メチルアクリレート等があげられる。水酸基を有する（メタ）アクリレート（Ｃ）は、落下試験でのハガレに対する耐久性の点からホモポリマーのＴｇがー８０〜４０℃を満足するものが好ましい。例えば、アクリル酸ヒドロキシエチル（Ｔｇ：−１５℃）、アクリル酸ヒドロキシプロピル（Ｔｇ：−７℃）、アクリル酸ヒドロキシブチル（Ｔｇ：−３２℃）等を用いることが好ましい。
【００６６】
前記水酸基を有する（メタ）アクリレート（Ｃ）としては、水酸基と（メタ）アクリロイル基との間の鎖長が長いものを用いることができる。水酸基と（メタ）アクリロイル基との間の鎖長が長いことによって、水酸基がより被着フィルムに配向しやすくなり、水酸基の極性による接着性付与がより効果的に行われる点で好ましい。水酸基を有し、かつ水酸基と（メタ）アクリロイル基との間の鎖長が長い、水酸基を有する（メタ）アクリレート（Ｃ）としては、重量平均分子量が１６０〜３０００の水酸基含有単官能（メタ）アクリレートであることが好ましい。前記水酸基含有単官能（メタ）アクリレートの重量平均分子量は２００〜２０００であることがより好ましく、３００〜１０００であることが最も好ましい。重量平均分子量が１６０〜３０００の水酸基含有単官能（メタ）アクリレートに関して、水酸基と（メタ）アクリロイル基との間の鎖長が長いことが好ましく、水酸基と（メタ）アクリロイル基が両末端（特にリニア構造で）にあることが好ましい。
【００６７】
前記水酸基を有する（メタ）アクリレート（Ｃ）の重量平均分子量が大きすぎる場合、活性エネルギー線硬化型接着剤の粘度が高くなり、塗布厚みが不均一となって外観の不良が生じたり、貼合工程で気泡が入り込んで外観の不良が生じたりするため好ましくない。また、水酸基数が相対的に減少するため、水酸基の極性による接着性付与効果が得られにくくなるため好ましくない。重量平均分子量が１６０〜３０００の水酸基含有単官能（メタ）アクリレートとしては、先述のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのなかで重量平均分子量が１６０〜３０００を満足するもの、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール・ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートなどのポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレートや、先述のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートや（４−ヒドロキシメチルシクロヘキシル)−メチルアクリレートのカプロラクトン変性物などが挙げられる。カプロラクトン変性物としては、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートのカプロラクトン付加物が好適に用いられ、カプロラクトンの付加量は１〜５モルであることが特に好ましい。
【００６８】
水酸基を有する（メタ）アクリレート（Ｃ）の割合は、活性エネルギー線硬化型接着剤中のラジカル重合性化合物の全量を１００重量％としたとき、耐衝撃性、加熱座屈性を満足させる観点から、７０重量％以下の割合で用いることが好ましい。前記割合が多い場合、水酸基の親水性の影響が大きくなり、加湿環境下での剥がれなど耐水性が悪化するため好ましくない。水酸基を有する（メタ）アクリレート（Ｃ）として、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートや、（４−ヒドロキシメチルシクロヘキシル)−メチルアクリレートを用いる場合には、前記割合は１０〜６０重量％が好ましく、さらには２０〜５０重量％であるのが好ましい。また、水酸基を有する（メタ）アクリレート（Ｃ）として、重量平均分子量が１６０〜３０００の水酸基含有単官能（メタ）アクリレートを用いる場合には、活性エネルギー線硬化型接着剤中のラジカル重合性化合物の全量を１００重量％としたとき、１〜７０重量％であることが好ましく、３０〜６０重量％であることがより好ましい。
【００６９】
＜重量平均分子量の測定＞
上記の２官能（メタ）アクリレート、水酸基含有単官能（メタ）アクリレートの重量平均分子量は、ＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー）により測定することができる。
・検出器：示差屈折計（ＲＩ）
・標準試料：ポリスチレン
【００７０】
＜その他のラジカル重合性化合物＞
上記低弾性接着剤層（ａ）の形成に用いる活性エネルギー線硬化型接着剤は、ラジカル重合性化合物として、上記以外のその他のラジカル重合性化合物を含有することができる。その他のラジカル重合性化合物としては、接着剤層の接着性、耐久性および耐水性をよりバランス良く向上させる観点から、極性基を有するものが好ましい。その他のラジカル重合性化合物の単官能ラジカル重合性化合物としては、例えば、ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ−メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−エトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−ビニルカプロラクタム等が挙げられる。
【００７１】
その他のラジカル重合性化合物の割合は、活性エネルギー線硬化型接着剤中のラジカル重合性化合物の全量を１００重量％としたとき、接着剤層の接着性、耐久性および耐水性の観点から３０重量％以下の割合で用いることが好ましい。前記割合は２〜２５重量％が好ましく、さらには５〜２０重量％であるのが好ましい。
【００７２】
＜重合基を有しないシランカップリング剤（Ｄ）＞
上記低弾性接着剤層（ａ）の形成に用いる活性エネルギー線硬化型接着剤は、ラジカル重合性化合物の他にシランカップリング剤（Ｄ）を含有することができる。シランカップリング剤（Ｄ）としては、ラジカル重合性の官能基を有しないシランカップリング剤（が好ましい。ラジカル重合性の官能基を有しないシランカップリング剤は偏光子表面に作用し、更なる耐水性を付与することができる。
【００７３】
ラジカル重合性の官能基を有しないシランカップリング剤の具体例としては、アミノ基を有するシランカップリング剤が挙げられる。アミノ基を有するシランカップリング剤の具体例としては、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−（２−（２−アミノエチル）アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（６−アミノヘキシル）アミノプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ−エチルアミノ）−２−メチルプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ベンジル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ビニルベンジル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−シクロヘキシルアミノメチルトリエトキシシラン、Ｎ−シクロヘキシルアミノメチルジエトキシメチルシラン、Ｎ−フェニルアミノメチルトリメトキシシラン、（２−アミノエチル）アミノメチルトリメトキシシラン、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（トリメトキシシリル）プロピル］エチレンジアミン等のアミノ基含有シラン類；Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）−３−（トリエトキシシリル）−１−プロパンアミン等のケチミン型シラン類を挙げることができる。
【００７４】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）−３−（トリエトキシシリル）−１−プロパンアミンが好ましい。
【００７５】
アミノ基を有するシランカップリング剤以外の、ラジカル重合性の官能基を有しないシランカップリング剤の具体例としては、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、イミダゾールシランなどが挙げられる。
【００７６】
また、シランカップリング剤（Ｄ）としては、活性エネルギー線硬化性の化合物としてビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２−（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【００７７】
シランカップリング剤（Ｄ）は、１種のみを用いてもよく、複数種を組み合わせて用いても良い。ラジカル重合性の官能基を有しないシランカップリング剤（Ｄ）の配合量は、活性エネルギー線硬化型接着剤中のラジカル重合性化合物の全量１００重量部に対して、通常、２０重量部以下であり、０．０１〜２０重量部の範囲が好ましく、０．０５〜１５重量部であることが好ましく、０．１〜１０重量部であることがさらに好ましい。２０重量部を超える配合量の場合、接着剤の保存安定性が悪化するおそれがある。
【００７８】
＜（メタ）アクリルモノマーを重合してなるアクリル系オリゴマー（Ｅ）＞
上記低弾性接着剤層（ａ）の形成に用いる活性エネルギー線硬化型接着剤は、ラジカル重合性化合物の他に、（メタ）アクリルモノマーを重合してなるアクリル系オリゴマー（Ｅ）を含有することができる。活性エネルギー線硬化型接着剤中にアクリル系オリゴマー（Ｅ）を含有することで、該組成物に活性エネルギー線を照射・硬化させる際の硬化収縮を低減し、接着剤と、偏光フィルム（Ｐ）および光学フィルム（３）などの被着体との界面応力を低減することができる。その結果、接着剤層と被着体との接着性の低下を抑制することができる。
【００７９】
活性エネルギー線硬化型接着剤は、塗工時の作業性や均一性を考慮した場合、低粘度であることが好ましいため、（メタ）アクリルモノマーを重合してなるアクリル系オリゴマー（Ｅ）も低粘度であることが好ましい。低粘度であって、かつ接着剤層の硬化収縮を防止できるアクリル系オリゴマーとしては、重量平均分子量（Ｍｗ）が１５０００以下のものが好ましく、１００００以下のものがより好ましく、５０００以下のものが特に好ましい。一方、硬化物層（接着剤層）の硬化収縮を十分に抑制するためには、アクリル系オリゴマー（Ｅ）の重量平均分子量（Ｍｗ）が５００以上であることが好ましく、１０００以上であることがより好ましく、１５００以上であることが特に好ましい。アクリル系オリゴマー（Ｅ）を構成する（メタ）アクリルモノマーとしては、具体的には例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−ニトロプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、Ｓ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、ｔ−ペンチル（メタ）アクリレート、３−ペンチル（メタ）アクリレート、２，２−ジメチルブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、４−メチル−２−プロピルペンチル（メタ）アクリレート、Ｎ−オクタデシル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸（炭素数１−２０）アルキルエステル類、さらに、例えば、シクロアルキル（メタ）アクリレート（例えば、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレートなど）、アラルキル（メタ）アクリレート（例えば、ベンジル（メタ）アクリレートなど）、多環式（メタ）アクリレート（例えば、２−イソボルニル（メタ）アクリレート、２−ノルボルニルメチル（メタ）アクリレート、５−ノルボルネン−２−イル−メチル（メタ）アクリレート、３−メチル−２−ノルボルニルメチル（メタ）アクリレートなど）、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリル酸エステル類（例えば、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２，３−ジヒドロキシプロピルメチル−ブチル（メタ）メタクリレートなど）、アルコキシ基またはフェノキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル類（２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシメトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレートなど）、エポキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル類（例えば、グリシジル（メタ）アクリレートなど）、ハロゲン含有（メタ）アクリル酸エステル類（例えば、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル（メタ）アクリレートなど）、アルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート（例えば、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレートなど）などが挙げられる。これら（メタ）アクリレートは、単独使用または２種類以上併用することができる。アクリル系オリゴマー（Ｅ）の具体例としては、東亞合成社製「ＡＲＵＦＯＮ」、綜研化学社製「アクトフロー」、ＢＡＳＦジャパン社製「ＪＯＮＣＲＹＬ」などが挙げられる。
【００８０】
アクリル系オリゴマー（Ｅ）の配合量は、活性エネルギー線硬化型接着剤中のラジカル重合性化合物の全量１００重量部に対して、通常、３０重量部以下であるのが好ましい。組成物中のアクリル系オリゴマー（Ｅ）の含有量が多すぎると、該組成物に活性エネルギー線を照射した際の反応速度の低下が激しく、硬化不良となる場合がある。一方、硬化物層（接着剤層ａ）の硬化収縮を十分に抑制するためには、組成物中、アクリル系オリゴマー（Ｅ）を３重量部以上含有することが好ましく、５重量部以上含有することがより好ましい。
【００８１】
＜活性メチレン基を有するラジカル重合性化合物（Ｆ）と、水素引き抜き作用のあるラジカル重合開始剤（Ｇ）＞
上記低弾性接着剤層（ａ）の形成に用いる活性エネルギー線硬化型接着剤は、ラジカル重合性化合物の他に、さらに、活性メチレン基を有するラジカル重合性化合物（Ｆ）と、水素引き抜き作用のあるラジカル重合開始剤（Ｇ）とを含有することできる。かかる構成によれば、特に高湿度環境または水中から取り出した直後（非乾燥状態）であっても、低弾性接着剤層（ａ）の接着性が著しく向上する。この理由は明らかでは無いが、以下の原因が考えられる。つまり、活性メチレン基を有するラジカル重合性化合物（Ｆ）は、低弾性接着剤層（ａ）を構成する他のラジカル重合性化合物とともに重合しつつ、低弾性接着剤層（ａ）中のベースポリマーの主鎖および／または側鎖に取り込まれ、低弾性接着剤層（ａ）を形成する。かかる重合過程において、水素引き抜き作用のあるラジカル重合開始剤（Ｇ）が存在すると、低弾性接着剤層（ａ）を構成するベースポリマーが形成されつつ、活性メチレン基を有するラジカル重合性化合物（Ｆ）から、水素が引き抜かれ、メチレン基にラジカルが発生する。そして、ラジカルが発生したメチレン基とＰＶＡなどの偏光子の水酸基とが反応し、低弾性接着剤層（ａ）と偏光子（１）との間に共有結合が形成される。その結果、特に非乾燥状態であっても、偏光フィルムの有する接着剤層の接着性が著しく向上するものと推測される。
【００８２】
活性メチレン基を有するラジカル重合性化合物（Ｆ）は、末端または分子中に（メタ）アクリル基などの活性二重結合基を有し、かつ活性メチレン基を有する化合物である。活性メチレン基としては、例えばアセトアセチル基、アルコキシマロニル基、またはシアノアセチル基などが挙げられる。活性メチレン基を有するラジカル重合性化合物（Ｆ）の具体例としては、例えば２−アセトアセトキシエチル（メタ）アクリレート、２−アセトアセトキシプロピル（メタ）アクリレート、２−アセトアセトキシ−１−メチルエチル（メタ）アクリレートなどのアセトアセトキシアルキル（メタ）アクリレート；２−エトキシマロニルオキシエチル（メタ）アクリレート、２−シアノアセトキシエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−（２−シアノアセトキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−（２−プロピオニルアセトキシブチル）アクリルアミド、Ｎ−（４−アセトアセトキシメチルベンジル）アクリルアミド、Ｎ−（２−アセトアセチルアミノエチル）アクリルアミドなどが挙げられる。
【００８３】
水素引き抜き作用のあるラジカル重合開始剤（Ｇ）として、例えばチオキサントン系ラジカル重合開始剤、ベンゾフェノン系ラジカル重合開始剤などが挙げられる。チオキサントン系ラジカル重合開始剤としては、下記一般式
（１）で表される化合物；
【化１】
2015143848.tif 000003
（式中、Ｒ１およびＲ２は−Ｈ、−ＣＨ２ｂＨ３、−ｉＰｒまたはＣｌを示し、Ｒ１およびＲ２は同一または異なっても良い）が挙げられる。
【００８４】
一般式（１）で表される化合物の具体例としては、例えば、チオキサントン、ジメチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、クロロチオキサントンなどが挙げられる。一般式（１）で表される化合物の中でも、Ｒ１およびＲ２が−ＣＨ２ｂＨ３であるジエチルチオキサントンが特に好ましい。
【００８５】
また、上記活性エネルギー線硬化型接着剤において、光重合開始剤として、一般式（１）の光重合開始剤に加えて、さらに下記一般式（２）で表される化合物；
【化２】
2015143848.tif 000004
（式中、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は−Ｈ、−ＣＨ３ｂＨ２ｂＨ３、−ｉＰｒまたはＣｌを示し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は同一または異なっても良い）を含有することが好ましい。上記一般式（１）および一般式（２）の光重合開始剤を併用することで、これらの光増感反応により反応が高効率化し、接着剤層の接着性が特に向上する。
【００８６】
上述のとおり、本発明においては、水素引き抜き作用のあるラジカル重合開始剤（Ｇ）の存在下で、活性メチレン基を有するラジカル重合性化合物（Ｆ）のメチレン基にラジカルを発生させ、かかるメチレン基と水酸基とが反応し、共有結合を形成する。したがって、活性メチレン基を有するラジカル重合性化合物（Ｆ）は、活性メチレン基を有するラジカル重合性化合物（Ｆ）のメチレン基にラジカルを発生させ、かかる共有結合を十分に形成するために、活性エネルギー線硬化型接着剤中のラジカル重合性化合物の全量を１００重量部としたとき、１〜３０重量部含有することが好ましく、さらには３〜３０重量部含有することがより好ましい。活性メチレン基を有するラジカル重合性化合物（Ｆ）が１重量部未満であると、非乾燥状態での接着性の向上効果が低く、耐水性が十分に向上しない場合があり、５０重量部を超えると、接着剤層の硬化不良が発生する場合がある。また、水素引き抜き作用のあるラジカル重合開始剤（Ｇ）は、前記活性エネルギー線硬化型接着剤中のラジカル重合性化合物の全量１００重量部に対して、０．１〜１０重量部含有することが好ましく、さらには０．３〜９重量部含有することがより好ましい。水素引き抜き作用のあるラジカル重合開始剤（Ｇ）が０．１重量部未満であると、水素引き抜き反応が十分に進行しない場合があり、１０重量部を超えると、組成物中で完全に溶解しない場合がある。
【００８７】
＜光酸発生剤（Ｈ）＞
上記低弾性接着剤層（ａ）の形成に用いる活性エネルギー線硬化型接着剤は、ラジカル重合性化合物の他に、さらに、光酸発生剤（Ｈ）を含有することできる。活性エネルギー線硬化型樹脂組成物中に、光酸発生剤を含有する場合、光酸発生剤を含有しない場合に比べて、接着剤層の耐水性および耐久性を飛躍的に向上することができる。光酸発生剤（Ｈ）は、下記一般式（３）で表すことができる。
【００８８】
一般式（３）
【化３】
2015143848.tif 000005
（ただし、Ｌ＋は、任意のオニウムカチオンを表す。また、Ｘ−は、ＰＦ６−、ＳｂＦ６−、ＡｓＦ６−、ＳｂＣｌ６−、ＢｉＣｌ５−、ＳｎＣｌ６−、ＣｌＯ４−、ジチオカルバメートアニオン、ＳＣＮ−よりからなる群より選択されるカウンターアニオンを表す。）
【００８９】
一般式（３）を構成するオニウムカチオンＬ＋として好ましいオニウムカチオンの構造としては、下記一般式（４）〜一般式（１２）から選ばれるオニウムカチオンをあげることができる。
【００９０】
一般式（４）
【化４】
2015143848.tif 000006
【００９１】
一般式（５）
【化５】
2015143848.tif 000007
【００９２】
一般式（６）
【化６】
2015143848.tif 000008
【００９３】
一般式（７）
【化７】
2015143848.tif 000009
【００９４】
一般式（８）
【化８】
2015143848.tif 000010
【００９５】
一般式（９）
【化９】
2015143848.tif 000011
【００９６】
一般式（１０）
【化１０】
2015143848.tif 000012
【００９７】
一般式（１１）
【化１１】
2015143848.tif 000013
【００９８】
一般式（１２）
【化１２】
2015143848.tif 000014
（上記一般式（４）−（１２）中、ただし、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルケニル基、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未置換の複素環基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリールオキシ基、置換もしくは未置換の複素環オキシ基、置換もしくは未置換のアシル基、置換もしくは未置換のカルボニルオキシ基、置換もしくは未置換のオキシカルボニル基、またはハロゲン原子より選ばれる基を表す。Ｒ４は、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３に記載した基と同様の基を表す。Ｒ５は、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルキルチオ基を表す。Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立に、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルコキシル基を表す。Ｒは、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ基、ニトロ基、置換もしくは未置換のカルバモイル基、置換もしくは未置換のアルキル基、置換もしくは未置換のアルケニル基、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未置換の複素環基、置換もしくは未置換のアルコキシル基、置換もしくは未置換のアリールオキシ基、置換もしくは未置換の複素環オキシ基、置換もしくは未置換のアルキルチオ基、置換もしくは未置換のアリールチオ基、置換もしくは未置換の複素環チオ基、置換もしくは未置換のアシル基、置換もしくは未置換のカルボニルオキシ基、置換もしくは未置換のオキシカルボニル基のいずれかを表す。Ａｒ４、Ａｒ５は、置換もしくは未置換のアリール基、置換もしくは未置換の複素環基のいずれかを表す。Ｘは、酸素もしくは硫黄原子を表す。ｉは０〜５の整数を表す。ｊは０〜４の整数を表す。ｋは０〜３の整数を表す。また、隣接したＲ同士、Ａｒ４とＡｒ５、Ｒ２とＲ３、Ｒ２とＲ４、Ｒ３とＲ４、Ｒ１とＲ２、Ｒ１とＲ３、Ｒ１とＲ４、Ｒ１とＲ、もしくはＲ１とＲ５は、相互に結合した環状構造であってもよい。）
【００９９】
一般式（４）に該当するオニウムカチオン（スルホニウムカチオン）：
ジメチルフェニルスルホニウム、ジメチル（ｏ−フルオロフェニル）スルホニウム、ジメチル（ｍ−クロロフェニル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−ブロモフェニル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−シアノフェニル）スルホニウム、ジメチル（ｍ−ニトロフェニル）スルホニウム、ジメチル（２，４，６−トリブロモフェニル）スルホニウム、ジメチル（ペンタフルオロフェニル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−（トリフルオロメチル）フェニル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−ヒドロキシフェニル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メルカプトフェニル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メチルスルフィニルフェニル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メチルスルホニルフェニル）スルホニウム、ジメチル（ｏ−アセチルフェニル）スルホニウム、ジメチル（ｏ−ベンゾイルフェニル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メチルフェニル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−オクタデシルフェニル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−シクロヘキシルフェニル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−メトキシフェニル）スルホニウム、ジメチル（ｏ−メトキシカルボニルフェニル）スルホニウム、ジメチル（ｐ−フェニルスルファニルフェニル）スルホニウム、（７−メトキシ−２−オキソ−２Ｈ−クロメン−４−イル）ジメチルスルホニウム、（４−メトキシナフタレン−１−イル）ジメチルスルホニウム、ジメチル（ｐ−イソプロポキシカルボニルフェニル）スルホニウム、ジメチル（２−ナフチル）スルホニウム、ジメチル（９−アンスリル）スルホニウム、ジエチルフェニルスルホニウム、メチルエチルフェニルスルホニウム、メチルジフェニルスルホニウム、トリフェニルスルホニウム、ジイソプロピルフェニルスルホニウム、ジフェニル（４−フェニルスルファニル−フェニル）−スルホニウム、４，４’−ビス（ジフェニルスルホニウム）ジフェニルスルフィド、４，４’−ビス［ジ［（４−（２−ヒドロキシ−エトキシ）−フェニル）］スルホニウム］］ジフェニルスルフィド、４，４’−ビス（ジフェニルスルホニウム）ビフェニレン、ジフェニル（ｏ−フルオロフェニル）スルホニウム、ジフェニル（ｍ−クロロフェニル）スルホニウム、ジフェニル（ｐ−ブロモフェニル）スルホニウム、ジフェニル（ｐ−シアノフェニル）スルホニウム、ジフェニル（ｍ−ニトロフェニル）スルホニウム、ジフェニル（２，４，６−トリブロモフェニル）スルホニウム、ジフェニル（ペンタフルオロフェニル）スルホニウム、ジフェニル（ｐ−（トリフルオロメチル）フェニル）スルホニウム、ジフェニル（ｐ−ヒドロキシフェニル）スルホニウム、ジフェニル（ｐ−メルカプトフェニル）スルホニウム、ジフェニル（ｐ−メチルスルフィニルフェニル）スルホニウム、ジフェニル（ｐ−メチルスルホニルフェニル）スルホニウム、ジフェニル（ｏ−アセチルフェニル）スルホニウム、ジフェニル（ｏ−ベンゾイルフェニル）スルホニウム、ジフェニル（ｐ−メチルフェニル）スルホニウム、ジフェニル（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウム、ジフェニル（ｐ−オクタデシルフェニル）スルホニウム、ジフェニル（ｐ−シクロヘキシルフェニル）スルホニウム、ジフェニル（ｐ−メトキシフェニル）スルホニウム、ジフェニル（ｏ−メトキシカルボニルフェニル）スルホニウム、ジフェニル（ｐ−フェニルスルファニルフェニル）スルホニウム、（７−メトキシ−２−オキソ−２Ｈ−クロメン−４−イル）ジフェニルスルホニウム、（４−メトキシナフタレン−１−イル）ジフェニルスルホニウム、ジフェニル（ｐ−イソプロポキシカルボニルフェニル）スルホニウム、ジフェニル（２−ナフチル）スルホニウム、ジフェニル（９−アンスリル）スルホニウム、エチルジフェニルスルホニウム、メチルエチル（ｏ−トリル）スルホニウム、メチルジ（ｐ−トリル）スルホニウム、トリ（ｐ−トリル）スルホニウム、ジイソプロピル（４−フェニルスルファニルフェニル）スルホニウム、ジフェニル（２−チエニル）スルホニウム、ジフェニル（２−フリル）スルホニウム、ジフェニル（９−エチル−９Ｈカルバゾール−３−イル）スルホニウム等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１００】
一般式（５）に該当するオニウムカチオン（スルホキソニウムカチオン）：
ジメチルフェニルスルホキソニウム、ジメチル（ｏ−フルオロフェニル）スルホキソニウム、ジメチル（ｍ−クロロフェニル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−ブロモフェニル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−シアノフェニル）スルホキソニウム、ジメチル（ｍ−ニトロフェニル）スルホキソニウム、ジメチル（２，４，６−トリブロモフェニル）スルホキソニウム、ジメチル（ペンタフルオロフェニル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−（トリフルオロメチル）フェニル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−ヒドロキシフェニル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−メルカプトフェニル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−メチルスルフィニルフェニル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−メチルスルホニルフェニル）スルホキソニウム、ジメチル（ｏ−アセチルフェニル）スルホキソニウム、ジメチル（ｏ−ベンゾイルフェニル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−メチルフェニル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−オクタデシルフェニル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−シクロヘキシルフェニル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−メトキシフェニル）スルホキソニウム、ジメチル（ｏ−メトキシカルボニルフェニル）スルホキソニウム、ジメチル（ｐ−フェニルスルファニルフェニル）スルホキソニウム、（７−メトキシ−２−オキソ−２Ｈ−クロメン−４−イル）ジメチルスルホキソニウム、（４−メトキシナフタレン−１−イル）ジメチルスルホキソニウム、ジメチル（ｐ−イソプロポキシカルボニルフェニル）スルホキソニウム、ジメチル（２−ナフチル）スルホキソニウム、ジメチル（９−アンスリル）スルホキソニウム、ジエチルフェニルスルホキソニウム、メチルエチルフェニルスルホキソニウム、メチルジフェニルスルホキソニウム、トリフェニルスルホキソニウム、ジイソプロピルフェニルスルホキソニウム、ジフェニル（４−フェニルスルファニル−フェニル）−スルホキソニウム、４，４’−ビス（ジフェニルスルホキソニウム）ジフェニルスルフィド、４，４’−ビス［ジ［（４−（２−ヒドロキシ−エトキシ）−フェニル）］  スルホキソニウム］ジフェニルスルフィド、４，４’−ビス（ジフェニルスルホキソニウム）ビフェニレン、ジフェニル（ｏ−フルオロフェニル）スルホキソニウム、ジフェニル（ｍ−クロロフェニル）スルホキソニウム、ジフェニル（ｐ−ブロモフェニル）スルホキソニウム、ジフェニル（ｐ−シアノフェニル）スルホキソニウム、ジフェニル（ｍ−ニトロフェニル）スルホキソニウム、ジフェニル（２，４，６−トリブロモフェニル）スルホキソニウム、ジフェニル（ペンタフルオロフェニル）スルホキソニウム、ジフェニル（ｐ−（トリフルオロメチル）フェニル）スルホキソニウム、ジフェニル（ｐ−ヒドロキシフェニル）スルホキソニウム、ジフェニル（ｐ−メルカプトフェニル）スルホキソニウム、ジフェニル（ｐ−メチルスルフィニルフェニル）スルホキソニウム、ジフェニル（ｐ−メチルスルホニルフェニル）スルホキソニウム、ジフェニル（ｏ−アセチルフェニル）スルホキソニウム、ジフェニル（ｏ−ベンゾイルフェニル）スルホキソニウム、ジフェニル（ｐ−メチルフェニ���）スルホキソニウム、ジフェニル（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホキソニウム、ジフェニル（ｐ−オクタデシルフェニル）スルホキソニウム、ジフェニル（ｐ−シクロヘキシルフェニル）スルホキソニウム、ジフェニル（ｐ−メトキシフェニル）スルホキソニウム、ジフェニル（ｏ−メトキシカルボニルフェニル）スルホキソニウム、ジフェニル（ｐ−フェニルスルファニルフェニル）スルホキソニウム、（７−メトキシ−２−オキソ−２Ｈ−クロメン−４−イル）ジフェニルスルホキソニウム、（４−メトキシナフタレン−１−イル）ジフェニルスルホキソニウム、ジフェニル（ｐ−イソプロポキシカルボニルフェニル）スルホキソニウム、ジフェニル（２−ナフチル）スルホキソニウム、ジフェニル（９−アンスリル）スルホキソニウム、エチルジフェニルスルホキソニウム、メチルエチル（ｏ−トリル）  スルホキソニウム、メチルジ（ｐ−トリル）  スルホキソニウム、トリ（ｐ−トリル）  スルホキソニウム、ジイソプロピル（４−フェニルスルファニルフェニル）  スルホキソニウム、ジフェニル（２−チエニル）  スルホキソニウム、ジフェニル（２−フリル）  スルホキソニウム、ジフェニル（９−エチル−９Ｈカルバゾール−３−イル）  スルホキソニウム等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１０１】
一般式（６）に該当するオニウムカチオン（ホスホニウムカチオン）：
ホスホニウムカチオンの例：
トリメチルフェニルホスホニウム、トリエチルフェニルホスホニウム、テトラフェニルホスホニウム、トリフェニル（ｐ−フルオロフェニル）ホスホニウム、トリフェニル（ｏ−クロロフェニル）ホスホニウム、トリフェニル（ｍ−ブロモフェニル）ホスホニウム、トリフェニル（ｐ−シアノフェニル）ホスホニウム、トリフェニル（ｍ−ニトロフェニル）ホスホニウム、トリフェニル（ｐ−フェニルスルファニルフェニル）ホスホニウム、（７−メトキシ−２−オキソ−２Ｈ−クロメン−４−イル）トリフェニルホスホニウム、トリフェニル（ｏ−ヒドロキシフェニル）ホスホニウム、トリフェニル（ｏ−アセチルフェニル）ホスホニウム、トリフェニル（ｍ−ベンゾイルフェニル）ホスホニウム、トリフェニル（ｐ−メチルフェニル）ホスホニウム、トリフェニル（ｐ−イソプロポキシフェニル）ホスホニウム、トリフェニル（ｏ−メトキシカルボニルフェニル）ホスホニウム、トリフェニル（１−ナフチル）ホスホニウム、トリフェニル（９−アンスリル）ホスホニウム、トリフェニル（２−チエニル）  ホスホニウム、トリフェニル（２−フリル）  ホスホニウム、トリフェニル（９−エチル−９Ｈカルバゾール−３−イル）  ホスホニウム等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１０２】
一般式（７）に該当するオニウムカチオン（ピリジニウムカチオン）：
ピリジニウムカチオンの例：
Ｎ−フェニルピリジニウム、Ｎ−（ｏ−クロロフェニル）ピリジニウム、Ｎ−（ｍ−クロロフェニル）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）ピリジニウム、Ｎ−（ｏ−ニトロフェニル）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−アセチルフェニル）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−イソプロピルフェニル）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ピリジニウム、Ｎ−（ｐ−メトキシカルボニルフェニル）ピリジニウム、Ｎ−（９−アンスリル）ピリジニウム、２−クロロ−１−フェニルピリジニウム、２−シアノ−１−フェニルピリジニウム、２−メチル−１−フェニルピリジニウム、２−ビニル−１−フェニルピリジニウム、２−フェニル−１−フェニルピリジニウム、１，２−ジフェニルピリジニウム、２−メトキシ−１−フェニルピリジニウム、２−フェノキシ−１−フェニルピリジニウム、２−アセチル−１−（ｐ−トリル）ピリジニウム、２−メトキシカルボニル−１−（ｐ−トリル）ピリジニウム、３−フルオロ−１−ナフチルピリジニウム、４−メチル−１−（２−フリル）ピリジニウム、Ｎ−メチルピリジニウム、Ｎ−エチルピリジニウム等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１０３】
一般式（８）に該当するオニウムカチオン（キノリニウムカチオン）：
キノリニウムカチオンの例：
Ｎ−メチルキノリニウム、Ｎ−エチルキノリニウム、Ｎ−フェニルキノリニウム、Ｎ−ナフチルキノリニウム、Ｎ−（ｏ−クロロフェニル）キノリニウム、Ｎ−（ｍ−クロロフェニル）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）キノリニウム、Ｎ−（ｏ−ニトロフェニル）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−アセチルフェニル）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−イソプロピルフェニル）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）キノリニウム、Ｎ−（ｐ−メトキシカルボニルフェニル）キノリニウム、Ｎ−（９−アンスリル）キノリニウム、２−クロロ−１−フェニルキノリニウム、２−シアノ−１−フェニルキノリニウム、２−メチル−１−フェニルキノリニウム、２−ビニル−１−フェニルキノリニウム、２−フェニル−１−フェニルキノリニウム、１，２−ジフェニルキノリニウム、２−メトキシ−１−フェニルキノリニウム、２−フェノキシ−１−フェニルキノリニウム、２−アセチル−１−フェニルキノリニウム、２−メトキシカルボニル−１−フェニルキノリニウム、３−フルオロ−１−フェニルキノリニウム、４−メチル−１−フェニルキノリニウム、２−メトキシ−１−（ｐ−トリル）キノリニウム、２−フェノキシ−１−（２−フリル）キノリニウム、２−アセチル−１−（２−チエニル）キノリニウム、２−メトキシカルボニル−１−メチルキノリニウム、３−フルオロ−１−エチルキノリニウム、４−メチル−１−イソプロピルキノリニウム等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１０４】
一般式（９）に該当するオニウムカチオン（イソキノリニウムカチオン）：
イソキノリニウムカチオンの例：
Ｎ−フェニルイソキノリニウム、Ｎ−メチルイソキノリニウム、Ｎ−エチルイソキノリニウム、Ｎ−（ｏ−クロロフェニル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｍ−クロロフェニル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｏ−ニトロフェニル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−アセチルフェニル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−イソプロピルフェニル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）イソキノリニウム、Ｎ−（ｐ−メトキシカルボニルフェニル）イソキノリニウム、Ｎ−（９−アンスリル）イソキノリニウム、１，２−ジフェニルイソキノリニウム、Ｎ−（２−フリル）イソキノリニウム、Ｎ−（２−チエニル）イソキノリニウム、Ｎ−ナフチルイソキノリニウム等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１０５】
一般式（１０）に該当するオニウムカチオン（ベンゾオキサゾリウムカチオン、ベンゾチアゾリウムカチオン）：
ベンゾオキサゾリウムカチオンの例：
Ｎ−メチルベンゾオキサゾリウム、Ｎ−エチルベンゾオキサゾリウム、Ｎ−ナフチルベンゾオキサゾリウム、Ｎ−フェニルベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｐ−フルオロフェニル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｏ−メトキシカルボニルフェニル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（２−フリル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｏ−フルオロフェニル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｍ−ニトロフェニル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｐ−イソプロポキシカルボニルフェニル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（２−チエニル）ベンゾオキサゾリウム、Ｎ−（ｍ−カルボキシフェニル）ベンゾオキサゾリウム、２−メルカプト−３−フェニルベンゾオキサゾリウム、２−メチル−３−フェニルベンゾオキサゾリウム、２−メチルチオ−３−（４−フェニルスルファニルフェニル）ベンゾオキサゾリウム、６−ヒドロキシ−３−（ｐ−トリル）ベンゾオキサゾリウム、７−メルカプト−３−フェニルベンゾオキサゾリウム、４，５−ジフルオロ−３−エチルベンゾオキサゾリウム等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１０６】
ベンゾチアゾリウムカチオンの例：
Ｎ−メチルベンゾチアゾリウム、Ｎ−エチルベンゾチアゾリウム、Ｎ−フェニルベンゾチアゾリウム、Ｎ−（１−ナフチル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（ｐ−フルオロフェニル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（ｐ−シアノフェニル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（ｏ−メトキシカルボニルフェニル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（ｐ−トリル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（ｏ−フルオロフェニル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（ｍ−ニトロフェニル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（ｐ−イソプロポキシカルボニルフェニル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（２−フリル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（４−メチルチオフェニル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（４−フェニルスルファニルフェニル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（２−ナフチル）ベンゾチアゾリウム、Ｎ−（ｍ−カルボキシフェニル）ベンゾチアゾリウム、２−メルカプト−３−フェニルベンゾチアゾリウム、２−メチル−３−フェニルベンゾチアゾリウム、２−メチルチオ−３−フェニルベンゾチアゾリウム、６−ヒドロキシ−３−フェニルベンゾチアゾリウム、７−メルカプト−３−フェニルベンゾチアゾリウム、４，５−ジフルオロ−３−フェニルベンゾチアゾリウム等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１０７】
一般式（１１）に該当するオニウムカチオン（フリルもしくはチエニルヨードニウムカチオン）：
ジフリルヨードニウム、ジチエニルヨードニウム、ビス（４，５−ジメチル−２−フリル）ヨードニウム、ビス（５−クロロ−２−チエニル）ヨードニウム、ビス（５−シアノ−２−フリル）ヨードニウム、ビス（５−ニトロ−２−チエニル）ヨードニウム、ビス（５−アセチル−２−フリル）ヨードニウム、ビス（５−カルボキシ−２−チエニル）ヨードニウム、ビス（５−メトキシカルボニル−２−フリル）ヨードニウム、ビス（５−フェニル−２−フリル）ヨードニウム、ビス（５−（ｐ−メトキシフェニル）−２−チエニル）ヨードニウム、ビス（５−ビニル−２−フリル）ヨードニウム、ビス（５−エチニル−２−チエニル）ヨードニウム、ビス（５−シクロヘキシル−２−フリル）ヨードニウム、ビス（５−ヒドロキシ−２−チエニル）ヨードニウム、ビス（５−フェノキシ−２−フリル）ヨードニウム、ビス（５−メルカプト−２−チエニル）ヨードニウム、ビス（５−ブチルチオ−２−チエニル）ヨードニウム、ビス（５−フェニルチオ−２−チエニル）ヨードニウム等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１０８】
一般式（１２）に該当するオニウムカチオン（ジアリールヨードニウムカチオン）：
ジフェニルヨードニウム、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウム、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウム、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウム、４−イソプロピル−４’−メチルジフェニルヨードニウム、（４−イソブチルフェニル）−ｐ−トリルヨードニウム、ビス（１−ナフチル）ヨードニウム、ビス（４−フェニルスルファニルフェニル）ヨードニウム、フェニル（６−ベンゾイル−９−エチル−９Ｈ−カルバゾール−３−イル）ヨードニウム、（７−メトキシ−２−オキソ−２Ｈ−クロメン−３−イル）−４’−イソプロピルフェニルヨードニウム等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１０９】
次に、一般式（３）中のカウンターアニオンＸ−について説明する。
【０１１０】
一般式（３）中のカウンターアニオンＸ−は原理的に特に限定されるものではないが、非求核性アニオンが好ましい。カウンターアニオンＸ−が非求核性アニオンの場合、分子内に共存するカチオンや併用される各種材料における求核反応が起こりにくいため、結果として一般式（２）で表記される光酸発生剤自身やそれを用いた組成物の経時安定性を向上させることが可能である。ここでいう非求核性アニオンとは、求核反応を起こす能力が低いアニオンを指す。このようなアニオンとしては、ＰＦ６−、ＳｂＦ６−、ＡｓＦ６−、ＳｂＣｌ６−、ＢｉＣｌ５−、ＳｎＣｌ６−、ＣｌＯ４−、ジチオカルバメートアニオン、ＳＣＮ−等が挙げられる。
【０１１１】
上記した例示アニオンの中で、一般式（３）中のカウンターアニオンＸ−として特に好ましいものとしては、ＰＦ６−、ＳｂＦ６−、およびＡｓＦ６−が挙げられ、特に好ましくは、ＰＦ６−、ＳｂＦ６−が挙げられる。
【０１１２】
したがって、本発明の光酸発生剤（Ｈ）を構成する好ましいオニウム塩の具体例としては、上記例示の一般式（３）〜一般式（１２）で表されるオニウムカチオンの構造の具体例とＰＦ６−、ＳｂＦ６−、ＡｓＦ６−、ＳｂＣｌ６−、ＢｉＣｌ５−、ＳｎＣｌ６−、ＣｌＯ４−、ジチオカルバメートアニオン、ＳＣＮ−より選ばれるアニオンとからなるオニウム塩である。
【０１１３】
具体的には、「サイラキュアーＵＶＩ−６９９２」、「サイラキュアーＵＶＩ−６９７４」（以上、ダウ・ケミカル日本株式会社製）、「アデカオプトマーＳＰ１５０」、「アデカオプトマーＳＰ１５２」、「アデカオプトマーＳＰ１７０」、「アデカオプトマーＳＰ１７２」（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）、「ＩＲＧＡＣＵＲＥ２５０」（チバスペシャルティーケミカルズ社製）、「ＣＩ−５１０２」、「ＣＩ−２８５５」（以上、日本曹達社製）、「サンエイドＳＩ−６０Ｌ」、「サンエイドＳＩ−８０Ｌ」、「サンエイドＳＩ−１００Ｌ」、「サンエイドＳＩ−１１０Ｌ」、「サンエイドＳＩ−１８０Ｌ」（以上、三新化学社製）、「ＣＰＩ−１００Ｐ」、「ＣＰＩ−１００Ａ」（以上、サンアプロ株式会社製）、「ＷＰＩ−０６９」、「ＷＰＩ−１１３」、「ＷＰＩ−１１６」、「ＷＰＩ−０４１」、「ＷＰＩ−０４４」、「ＷＰＩ−０５４」、「ＷＰＩ−０５５」、「ＷＰＡＧ−２８１」、「ＷＰＡＧ−５６７」、「ＷＰＡＧ−５９６」（以上、和光純薬社製）が本発明の光酸発生剤（Ｈ）の好ましい具体例として挙げられる。
【０１１４】
光酸発生剤（Ｈ）の含有量は、活性エネルギー線硬化型接着剤中のラジカル重合性化合物の全量１００重量部に対して、０．０１〜１０重量部であることが好ましく、０．０５〜５重量部であることがより好ましく、０．１〜３重量部であることが特に好ましい。
【０１１５】
上記活性エネルギー線硬化型接着剤において、活性エネルギー線硬化型接着剤中に光酸発生剤（Ｈ）とアルコキシ基、エポキシ基いずれかを含む化合物（Ｉ）を併用することが好ましい。
【０１１６】
（エポキシ基を有する化合物及び高分子）（Ｉ）
分子内に１個以上のエポキシ基を有する化合物又は分子内に２個以上のエポキシ基を有する高分子（エポキシ樹脂）を用いる場合は、エポキシ基との反応性を有する官能基を分子内に二つ以上有する化合物を併用してもよい。ここでエポキシ基との反応性を有する官能基とは、例えば、カルボキシル基、フェノール性水酸基、メルカプト基、１級又は２級の芳香族アミノ基等が挙げられる。これらの官能基は、３次元硬化性を考慮して、一分子中に２つ以上有することが特に好ましい。
【０１１７】
分子内に１個以上のエポキシ基を有する高分子としては、例えば、エポキシ樹脂が挙げられ、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンから誘導されるビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦとエピクロルヒドリンから誘導されるビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ジフェニルエーテル型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、３官能型エポキシ樹脂や４官能型エポキシ樹脂等の多官能型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、イソシアヌレート型エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂等があり、これらのエポキシ樹脂はハロゲン化されていてもよく、水素添加されていてもよい。市販されているエポキシ樹脂製品としては、例えばジャパンエポキシレジン株式会社製のＪＥＲコート８２８、１００１、８０１Ｎ、８０６、８０７、１５２、６０４、６３０、８７１、ＹＸ８０００、ＹＸ８０３４、ＹＸ４０００、ＤＩＣ株式会社製のエピクロン８３０、ＥＸＡ８３５ＬＶ、ＨＰ４０３２Ｄ、ＨＰ８２０、株式会社ＡＤＥＫＡ製のＥＰ４１００シリーズ、ＥＰ４０００シリーズ、ＥＰＵシリーズ、ダイセル化学株式会社製のセロキサイドシリーズ（２０２１、２０２１Ｐ、２０８３、２０８５、３０００等）、エポリードシリーズ、ＥＨＰＥシリーズ、新日鐵化学社製のＹＤシリーズ、ＹＤＦシリーズ、ＹＤＣＮシリーズ、ＹＤＢシリーズ、フェノキシ樹脂（ビスフェノール類とエピクロルヒドリンより合成されるポリヒドロキシポリエーテルで両末端にエポキシ基を有する；ＹＰシリーズ等）、ナガセケムテックス社製のデナコールシリーズ、共栄社化学社製のエポライトシリーズ等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。これらのエポキシ樹脂は、２種以上を併用してもよい。なお、接着剤層のガラス転移温度Ｔｇを計算する際には、エポキシ基を有する化合物及び高分子（Ｈ）を計算には入れないこととする。
【０１１８】
（アルコキシル基を有する化合物及び高分子）（Ｉ）
分子内にアルコキシル基を有する化合物としては、分子内に１個以上のアルコキシル基を有するものであれば特に制限なく、公知のものを使用できる。このような化合物としては、メラミン化合物、アミノ樹脂などが代表として挙げられる。
【０１１９】
アルコキシ基、エポキシ基いずれかを含む化合物（Ｉ）の配合量は、活性エネルギー線硬化型接着剤中のラジカル重合性化合物の全量１００重量部に対して、通常、３０重量部以下であり、組成物中の化合物（Ｉ）の含有量が多すぎると、接着性が低下し、落下試験に対する耐衝撃性が悪化する場合がある。組成物中の化合物（Ｉ）の含有量は、２０重量部以下であることがより好ましい。一方、硬化物層（接着剤層２ａ）の耐水性の点から、組成物中、化合物（Ｉ）を２重量部以上含有することが好ましく、５量部以上含有することがより好ましい。
【０１２０】
本発明の低弾性接着剤層（ａ）に係る活性エネルギー線硬化型接着剤を電子線硬化型で用いる場合、組成物中に光重合開始剤を含有させることは特に必要ではないが、紫外線硬化型で用いる場合には、光重合開始剤を用いることが好ましく、特に３８０ｎｍ以上の光に対して高感度な光重合開始剤を用いることが好ましい。３８０ｎｍ以上の光に対して高感度な光重合開始剤については後述する。
【０１２１】
本発明の低弾性接着剤層（ａ）に係る活性エネルギー線硬化型接着剤では、光重合開始剤として、上記一般式（１）で表される化合物；
【化１３】
2015143848.tif 000015
（式中、Ｒ１およびＲ２は−Ｈ、−ＣＨ２ｂＨ３、−ｉＰｒまたはＣｌを示し、Ｒ１およびＲ２は同一または異なっても良い）を単独で使用するか、あるいは一般式（１）で表される化合物と後述する３８０ｎｍ以上の光に対して高感度な光重合開始剤とを併用することが好ましい。一般式（１）で表される化合物を使用した場合、３８０ｎｍ以上の光に対して高感度な光重合開始剤を単独で使用した場合に比べて接着性に優れる。一般式（１）で表される化合物の中でも、Ｒ１およびＲ２が−ＣＨ２ｂＨ３であるジエチルチオキサントンが特に好ましい。組成物中の一般式（１）で表される化合物の組成比率は、活性エネルギー線硬化型接着剤中のラジカル重合性化合物の全量１００重量部に対して、０．１〜５．０重量部であることが好ましく、０．５〜４．０重量部であることがより好ましく、０．９〜３．０重量部であることがさらに好ましい。
【０１２２】
また、必要に応じて重合開始助剤を添加することが好ましい。重合開始助剤としては、トリエチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルなどが挙げられ、４−ジメチルアミノ安息香酸エチルが特に好ましい。重合開始助剤を使用する場合、その添加量は、活性エネルギー線硬化型接着剤中のラジカル重合性化合物の全量１００重量部に対して、通常０〜５重量部、好ましくは０〜４重量部、最も好ましくは０〜３重量部である。
【０１２３】
また、必要に応じて公知の光重合開始剤を併用することができる。光重合開始剤としては、３８０ｎｍ以上の光に対して高感度な光重合開始剤を使用することが好ましい。具体的には、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス（Η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウムなどが挙げられる。
【０１２４】
特に、光重合開始剤として、一般式（１）の光重合開始剤に加えて、さらに下記一般式
（２）で表される化合物；
【化１４】
2015143848.tif 000016
（式中、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は−Ｈ、−ＣＨ３ｂＨ２ｂＨ３、−ｉＰｒまたはＣｌを示し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は同一または異なっても良い）を使用することが好ましい。一般式（２）で表される化合物としては、市販品でもある２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７  メーカー：ＢＡＳＦ）が好適に使用可能である。その他、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９  メーカー：ＢＡＳＦ）、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ３７９  メーカー：ＢＡＳＦ）が感度が高いため好ましい。
【０１２５】
また、本発明の低弾性接着剤層（ａ）に係る活性エネルギー線硬化型接着剤には、本発明の目的、効果を損なわない範囲において、その他の任意成分として各種の添加剤を配合することができる。かかる添加剤としては、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリウレタン、ポリブタジエン、ポリクロロプレン、ポリエーテル、ポリエステル、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、石油樹脂、キシレン樹脂、ケトン樹脂、セルロース樹脂、フッ素系オリゴマー、シリコーン系オリゴマー、ポリスルフィド系オリゴマーなどのポリマーあるいはオリゴマー；フェノチアジン、２，６−ジ−Ｔ−ブチル−４−メチルフェノールなどの重合禁止剤；重合開始助剤；レベリング剤；濡れ性改良剤；界面活性剤；可塑剤；紫外線吸収剤；無機充填剤；顔料；染料などを挙げることができる。
【０１２６】
本発明に係る活性エネルギー線硬化型接着剤は、活性エネルギー線を照射することにより硬化され、低弾性接着剤層（ａ）を形成する。
【０１２７】
活性エネルギー線としては、電子線、波長範囲３８０ｎｍ〜４５０ｎｍの可視光線を含むものを使用することができる。なお、可視光線の長波長限界は７８０ｎｍ程度であるが、４５０ｎｍを超える可視光線は重合開始剤の吸収に寄与しない一方で、発熱を引き起こす原因となり得る。このため、本発明においては、バンドパスフィルターを用いて４５０ｎｍを超える長波長側の可視光線を遮断することが好ましい。
【０１２８】
電子線の照射条件は、上記活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化しうる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。例えば、電子線照射は、加速電圧が好ましくは５ｋＶ〜３００ｋＶであり、さらに好ましくは１０ｋＶ〜２５０ｋＶである。加速電圧が５ｋＶ未満の場合、電子線が接着剤まで届かず硬化不足となるおそれがあり、加速電圧が３００ｋＶを超えると、試料を通る浸透力が強すぎて、偏光フィルム（Ｐ）および光学フィルム（３）にダメージを与えるおそれがある。照射線量としては、５〜１００ｋＧｙ、さらに好ましくは１０〜７５ｋＧｙである。照射線量が５ｋＧｙ未満の場合は、接着剤が硬化不足となり、１００ｋＧｙを超えると、偏光フィルム（Ｐ）および光学フィルム（３）にダメージを与え、機械的強度の低下や黄変を生じ、所定の光学特性を得ることができない。
【０１２９】
電子線照射は、通常、不活性ガス中で照射を行うが、必要であれば大気中や酸素を少し導入した条件で行ってもよい。透明保護フィルムの材料によるが、酸素を適宜導入することによって、最初に電子線があたる透明保護フィルム面にあえて酸素阻害を生じさせ、透明保護フィルムへのダメージを防ぐことができ、接着剤にのみ効率的に電子線を照射させることができる。
【０１３０】
ただし、本発明に係る積層偏光フィルムの製造方法では、偏光フィルム（Ｐ）と光学フィルム（３）との間の低弾性接着剤層（ａ）の接着性能を高めつつ、偏光フィルム（Ｐ）のカールを防止するために、活性エネルギー線として、波長範囲３８０ｎｍ〜４５０ｎｍの可視光線を含むもの、特には波長範囲３８０ｎｍ〜４５０ｎｍの可視光線の照射量が最も多い活性エネルギー線を使用することが好ましい。偏光フィルム（Ｐ）の透明保護フィルムや光学フィルム（３）に、紫外線吸収能を付与したフィルム（紫外線不透過型フィルム）を使用する場合には、前記透明保護フィルムや光学フィルム（３）によって吸収された３８０ｎｍより短波長の光は熱に変換され、透明保護フィルムや光学フィルム（３）が発熱し、積層偏光フィルムのカール・シワなど不良の原因となる。そのため、本発明においては、活性エネルギー線発生装置として３８０ｎｍより短波長の光を発光しない装置を使用することが好ましく、より具体的には、波長範囲３８０〜４４０ｎｍの積算照度と波長範囲２５０〜３７０ｎｍの積算照度との比が１００：０〜１００：５０であることが好ましく、１００：０〜１００：４０であることがより好ましい。このような積算照度の関係を満たす活性エネルギー線としては、ガリウム封入メタルハライドランプ、波長範囲３８０〜４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源が好ましい。あるいは、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、白熱電球、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザーまたは太陽光を光源とし、バンドパスフィルターを用いて３８０ｎｍより短波長の光を遮断して用いることもできる。偏光フィルム（Ｐ）と光学フィルム（３）との間の低弾性接着剤層（ａ）との間の接着剤層の接着性能を高めつつ、偏光フィルムのカールを防止するためには、４００ｎｍより短波長の光を遮断可能なバンドパスフィルターを使用して得られた活性エネルギー線、またはＬＥＤ光源を使用して得られる波長４０５ｎｍの活性エネルギー線を使用することが好ましい。
【０１３１】
可視光線硬化型において、可視光線を照射する前に活性エネルギー線硬化型接着剤を加温すること（照射前加温）が好ましく、その場合４０℃以上に加温することが好ましく、５０℃以上に加温することがより好ましい。また、可視光線を照射後に活性エネルギー線硬化型接着剤を加温すること（照射後加温）も好ましく、その場合４０℃以上に加温することが好ましく、５０℃以上に加温することがより好ましい。
【０１３２】
低弾性接着剤層（ａ）に係る活性エネルギー線硬化型接着剤は、上述した一般式（１）の光重合開始剤を含有することによって、ＵＶ吸収能を有する光学フィルム（３）越しに紫外線を照射して、低弾性接着剤層（ａ）を硬化形成することができる。光学フィルム（３）としては、波長３６５ｎｍの光線透過率が５％未満ものを用いることができる。
【０１３３】
光学フィルム（３）へのＵＶ吸収能の付与方法としては、光学フィルム（３）中に紫外線吸収剤を含有させる方法や、光学フィルム（３）表面に紫外線吸収剤を含有する表面処理層を積層させる方法が挙げられる。
【０１３４】
紫外線吸収剤の具体例としては、例えば、従来公知のオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物などが挙げられる。
【０１３５】
本発明に係る積層偏光フィルムの製造方法は、
前記偏光フィルム（Ｐ）における前記低弾性接着剤層（ａ）が積層される側の透明保護フィルム（２）および前記光学フィルム（３）の少なくとも一方の面に、前記低弾性接着剤層（ａ）を形成する活性エネルギー線硬化型接着剤を塗工する塗工工程と、
前記偏光フィルム（Ｐ）および前記光学フィルム（３）を貼り合わせる貼合工程と、
前記活性エネルギー線を照射して、前記活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化させることにより得られた低弾性接着剤層（ａ）を介して、前記偏光フィルム（Ｐ）および前記光学フィルム（３）を接着させる接着工程とを含む。
【０１３６】
偏光フィルム（Ｐ）における透明保護フィルム（２）および光学フィルム（３）は、上記活性エネルギー線硬化型接着剤を塗工する前に、表面改質処理を行ってもよい。具体的な処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、ケン化処理、エキシマー処理またはフレーム処理による処理などが挙げられる。
【０１３７】
活性エネルギー線硬化型接着剤の塗工方式は、組成物の粘度や目的とする厚みによって適宜に選択される。塗工方式の例として、例えば、リバースコーター、グラビアコーター（ダイレクト，リバースやオフセット）、バーリバースコーター、ロールコーター、ダイコーター、バーコーター、ロッドコーターなどが挙げられる。その他、塗工には、デイッピング方式などの方式を適宜に使用することができる。
【０１３８】
上記のように塗工した接着剤を介して、偏光フィルム（Ｐ）と光学フィルム（３）とを貼り合わせる。偏光フィルム（Ｐ）と光学フィルム（３）の貼り合わせは、ロールラミネーターなどにより行う事ができる。
【０１３９】
偏光フィルム（Ｐ）と光学フィルム（３）を貼り合わせた後に、活性エネルギー線（電子線、紫外線および可視光線など）を照射し、活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化して低弾性接着剤層（ａ）を形成する。活性エネルギー線（電子線、紫外線および可視光線など）の照射方向は、任意の適切な方向から照射することができる。好ましくは、光学フィルム（３）側から照射する。偏光フィルム（Ｐ）側から照射すると、偏光フィルム（Ｐ）が活性エネルギー線（電子線、紫外線および可視光線など）によって劣化するおそれがある。
【０１４０】
本発明に係る積層偏光フィルムを連続ラインで製造する場合、ライン速度は、接着剤の硬化時間によるが、好ましくは１〜５００ｍ／ｍｉｎ、より好ましくは５〜３００ｍ／ｍｉｎ、さらに好ましくは１０〜１００ｍ／ｍｉｎである。ライン速度が小さすぎる場合は、生産性が乏しい、または偏光フィルム（Ｐ）および光学フィルム（３）へのダメージが大きすぎ、耐久性試験などに耐えうる偏光フィルムが作製できない。ライン速度が大きすぎる場合は、接着剤の硬化が不十分となり、目的とする接着性が得られない場合がある。
【０１４１】
＜偏光フィルム＞
前記のように、偏光フィルム（Ｐ）は、偏光子（１）の少なくとも片面に接着剤層（ｂ）を介して透明保護フィルム（２）が設けられている。
【０１４２】
＜偏光子＞
偏光子（１）は、特に制限されず、各種のものを使用できる。偏光子としては、例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルムなどの親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料などの二色性材料を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物などポリエン系配向フィルムなどが挙げられる。これらのなかでもポリビニルアルコール系フィルムとヨウ素などの二色性物質からなる偏光子が好適である。これら偏光子の厚みは特に制限されないが、一般的に８０μｍ程度以下である。
【０１４３】
ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸した偏光子は、例えば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の３〜７倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗してもよい。ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるほかに、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸してもよし、また延伸してからヨウ素で染色してもよい。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。
【０１４４】
また偏光子としては厚みが１０μｍ以下の薄型の偏光子を用いることができる。薄型化の観点から言えば当該厚みは１〜７μｍであるのが好ましい。このような薄型の偏光子は、厚みムラが少なく、視認性が優れており、また寸法変化が少ないため耐久性に優れ、さらには偏光フィルムとしての厚みも薄型化が図れる点が好ましい。また、薄型偏光子は加熱乾燥時の水分率低下が容易なため、水分率が１５％以下の偏光子として好適に使用可能である。
【０１４５】
薄型の偏光子としては、代表的には、特開昭５１−０６９６４４号公報や特開２０００−３３８３２９号公報や、ＷＯ２０１０／１００９１７号パンフレット、ＰＣＴ／ＪＰ２０１０／００１４６０の明細書、または特願２０１０−２６９００２号明細書や特願２０１０−２６３６９２号明細書に記載されている薄型偏光膜を挙げることができる。これら薄型偏光膜は、ポリビニルアルコール系樹脂（以下、ＰＶＡ系樹脂ともいう）層と延伸用樹脂基材を積層体の状態で延伸する工程と染色する工程を含む製法による得ることができる。この製法であれば、ＰＶＡ系樹脂層が薄くても、延伸用樹脂基材に支持されていることにより延伸による破断などの不具合なく延伸することが可能となる。
【０１４６】
前記薄型偏光膜としては、積層体の状態で延伸する工程と染色する工程を含む製法の中でも、高倍率に延伸できて偏光性能を向上させることのできる点で、ＷＯ２０１０／１００９１７号パンフレット、ＰＣＴ／ＪＰ２０１０／００１４６０の明細書、または特願２０１０−２６９００２号明細書や特願２０１０−２６３６９２号明細書に記載のあるようなホウ酸水溶液中で延伸する工程を含む製法で得られるものが好ましく、特に特願２０１０−２６９００２号明細書や特願２０１０−２６３６９２号明細書に記載のあるホウ酸水溶液中で延伸する前に補助的に空中延伸する工程を含む製法により得られるものが好ましい。
【０１４７】
上記のＰＣＴ／ＪＰ２０１０／００１４６０の明細書に記載の薄型高機能偏光膜は、樹脂基材に一体に製膜される、二色性物質を配向させたＰＶＡ系樹脂からなる厚みが７μｍ以下の薄型高機能偏光膜であって、単体透過率が４２．０％以上および偏光度が９９．９５％以上の光学特性を有する。
【０１４８】
上記薄型高機能偏光膜は、少なくとも２０μｍの厚みを有する樹脂基材に、ＰＶＡ系樹脂の塗布および乾燥によってＰＶＡ系樹脂層を生成し、生成されたＰＶＡ系樹脂層を二色性物質の染色液に浸漬して、ＰＶＡ系樹脂層に二色性物質を吸着させ、二色性物質を吸着させたＰＶＡ系樹脂層を、ホウ酸水溶液中において、樹脂基材と一体に総延伸倍率を元長の５倍以上となるように延伸することによって、製造することができる。
【０１４９】
また、二色性物質を配向させた薄型高機能偏光膜を含む積層体フィルムを製造する方法であって、少なくとも２０μｍの厚みを有する樹脂基材と、樹脂基材の片面にＰＶＡ系樹脂を含む水溶液を塗布および乾燥することによって形成されたＰＶＡ系樹脂層とを含む積層体フィルムを生成する工程と、樹脂基材と樹脂基材の片面に形成されたＰＶＡ系樹脂層とを含む前記積層体フィルムを、二色性物質を含む染色液中に浸漬することによって、積層体フィルムに含まれるＰＶＡ系樹脂層に二色性物質を吸着させる工程と、二色性物質を吸着させたＰＶＡ系樹脂層を含む前記積層体フィルムを、ホウ酸水溶液中において、総延伸倍率が元長の５倍以上となるように延伸する工程と、二色性物質を吸着させたＰＶＡ系樹脂層が樹脂基材と一体に延伸されたことにより、樹脂基材の片面に、二色性物質を配向させたＰＶＡ系樹脂層からなる、厚みが７μｍ以下、単体透過率が４２．０％以上かつ偏光度が９９．９５％以上の光学特性を有する薄型高機能偏光膜を製膜させた積層体フィルムを製造する工程を含むことで、上記薄型高機能偏光膜を製造することができる。
【０１５０】
上記の特願２０１０−２６９００２号明細書や特願２０１０−２６３６９２号明細書薄型偏光膜は、二色性物質を配向させたＰＶＡ系樹脂からなる連続ウェブの偏光膜であって、非晶性エステル系熱可塑性樹脂基材に製膜されたＰＶＡ系樹脂層を含む積層体が空中補助延伸とホウ酸水中延伸とからなる２段延伸工程で延伸されることにより、１０μｍ以下の厚みにされたものである。かかる薄型偏光膜は、単体透過率をＴ、偏光度をＰとしたとき、Ｐ＞−（１００．９２９Ｔ−４２．４−１）×１００（ただし、Ｔ＜４２．３）、およびＰ≧９９．９（ただし、Ｔ≧４２．３）の条件を満足する光学特性を有するようにされたものであることが好ましい。
【０１５１】
具体的には、前記薄型偏光膜は、連続ウェブの非晶性エステル系熱可塑性樹脂基材に製膜されたＰＶＡ系樹脂層に対する空中高温延伸によって、配向されたＰＶＡ系樹脂層からなる延伸中間生成物を生成する工程と、延伸中間生成物に対する二色性物質の吸着によって、二色性物質（ヨウ素またはヨウ素と有機染料の混合物が好ましい）を配向させたＰＶＡ系樹脂層からなる着色中間生成物を生成する工程と、着色中間生成物に対するホウ酸水中延伸によって、二色性物質を配向させたＰＶＡ系樹脂層からなる厚みが１０μｍ以下の偏光膜を生成する工程とを含む薄型偏光膜の製造方法により製造することができる。
【０１５２】
この製造方法において、空中高温延伸とホウ酸水中延伸とによる非晶性エステル系熱可塑性樹脂基材に製膜されたＰＶＡ系樹脂層の総延伸倍率が、５倍以上になるようにするのが望ましい。ホウ酸水中延伸のためのホウ酸水溶液の液温は、６０℃以上とすることができる。ホウ酸水溶液中で着色中間生成物を延伸する前に、着色中間生成物に対して不溶化処理を施すのが望ましく、その場合、液温が４０℃を超えないホウ酸水溶液に前記着色中間生成物を浸漬することにより行うのが望ましい。上記非晶性エステル系熱可塑性樹脂基材は、イソフタル酸を共重合させた共重合ポリエチレンテレフタレート、シクロヘキサンジメタノールを共重合させた共重合ポリエチレンテレフタレートまたは他の共重合ポリエチレンテレフタレートを含む非晶性ポリエチレンテレフタレートとすることができ、透明樹脂からなるものであることが好ましく、その厚みは、製膜されるＰＶＡ系樹脂層の厚みの７倍以上とすることができる。また、空中高温延伸の延伸倍率は３．５倍以下が好ましく、空中高温延伸の延伸温度はＰＶＡ系樹脂のガラス転移温度以上、具体的には９５℃〜１５０℃の範囲であるのが好ましい。空中高温延伸を自由端一軸延伸で行う場合、非晶性エステル系熱可塑性樹脂基材に製膜されたＰＶＡ系樹脂層の総延伸倍率が、５倍以上７．５倍以下であるのが好ましい。また、空中高温延伸を固定端一軸延伸で行う場合、非晶性エステル系熱可塑性樹脂基材に製膜されたＰＶＡ系樹脂層の総延伸倍率が、５倍以上８．５倍以下であるのが好ましい。
更に具体的には、次のような方法により、薄型偏光膜を製造することができる。
【０１５３】
イソフタル酸を６ｍｏｌ％共重合させたイソフタル酸共重合ポリエチレンテレフタレート（非晶性ＰＥＴ）の連続ウェブの基材を作製する。非晶性ＰＥＴのガラス転移温度は７５℃である。連続ウェブの非晶性ＰＥＴ基材とポリビニルアルコール（ＰＶＡ）層からなる積層体を、以下のように作製する。ちなみにＰＶＡのガラス転移温度は８０℃である。
【０１５４】
２００μｍ厚の非晶性ＰＥＴ基材と、重合度１０００以上、ケン化度９９％以上のＰＶＡ粉末を水に溶解した４〜５％濃度のＰＶＡ水溶液とを準備する。次に、２００μｍ厚の非晶性ＰＥＴ基材にＰＶＡ水溶液を塗布し、５０〜６０℃の温度で乾燥し、非晶性ＰＥＴ基材に７μｍ厚のＰＶＡ層が製膜された積層体を得る。
【０１５５】
７μｍ厚のＰＶＡ層を含む積層体を、空中補助延伸およびホウ酸水中延伸の２段延伸工程を含む以下の工程を経て、３μｍ厚の薄型高機能偏光膜を製造する。第１段の空中補助延伸工程によって、７μｍ厚のＰＶＡ層を含む積層体を非晶性ＰＥＴ基材と一体に延伸し、５μｍ厚のＰＶＡ層を含む延伸積層体を生成する。具体的には、この延伸積層体は、７μｍ厚のＰＶＡ層を含む積層体を１３０℃の延伸温度環境に設定されたオーブンに配備された延伸装置にかけ、延伸倍率が１．８倍になるように自由端一軸に延伸したものである。この延伸処理によって、延伸積層体に含まれるＰＶＡ層を、ＰＶＡ分子が配向された５μｍ厚のＰＶＡ層へと変化させる。
【０１５６】
次に、染色工程によって、ＰＶＡ分子が配向された５μｍ厚のＰＶＡ層にヨウ素を吸着させた着色積層体を生成する。具体的には、この着色積層体は、延伸積層体を液温３０℃のヨウ素およびヨウ化カリウムを含む染色液に、最終的に生成される高機能偏光膜を構成するＰＶＡ層の単体透過率が４０〜４４％になるように任意の時間、浸漬することによって、延伸積層体に含まれるＰＶＡ層にヨウ素を吸着させたものである。本工程において、染色液は、水を溶媒として、ヨウ素濃度を０．１２〜０．３０重量％の範囲内とし、ヨウ化カリウム濃度を０．７〜２．１重量％の範囲内とする。ヨウ素とヨウ化カリウムの濃度の比は１対７である。ちなみに、ヨウ素を水に溶解するにはヨウ化カリウムを必要とする。より詳細には、ヨウ素濃度０．３０重量％、ヨウ化カリウム濃度２．１重量％の染色液に延伸積層体を６０秒間浸漬することによって、ＰＶＡ分子が配向された５μｍ厚のＰＶＡ層にヨウ素を吸着させた着色積層体を生成する。
【０１５７】
さらに、第２段のホウ酸水中延伸工程によって、着色積層体を非晶性ＰＥＴ基材と一体にさらに延伸し、３μｍ厚の高機能偏光膜を構成するＰＶＡ層を含む光学フィルム積層体を生成する。具体的には、この光学フィルム積層体は、着色積層体をホウ酸とヨウ化カリウムを含む液温範囲６０〜８５℃のホウ酸水溶液に設定された処理装置に配備された延伸装置にかけ、延伸倍率が３．３倍になるように自由端一軸に延伸したものである。より詳細には、ホウ酸水溶液の液温は６５℃である。それはまた、ホウ酸含有量を水１００重量部に対して４重量部とし、ヨウ化カリウム含有量を水１００重量部に対して５重量部とする。本工程においては、ヨウ素吸着量を調整した着色積層体をまず５〜１０秒間ホウ酸水溶液に浸漬する。しかる後に、その着色積層体をそのまま処理装置に配備された延伸装置である周速の異なる複数の組のロール間に通し、３０〜９０秒かけて延伸倍率が３．３倍になるように自由端一軸に延伸する。この延伸処理によって、着色積層体に含まれるＰＶＡ層を、吸着されたヨウ素がポリヨウ素イオン錯体として一方向に高次に配向した３μｍ厚のＰＶＡ層へと変化させる。このＰＶＡ層が光学フィルム積層体の高機能偏光膜を構成する。
【０１５８】
光学フィルム積層体の製造に必須の工程ではないが、洗浄工程によって、光学フィルム積層体をホウ酸水溶液から取り出し、非晶性ＰＥＴ基材に製膜された３μｍ厚のＰＶＡ層の表面に付着したホウ酸をヨウ化カリウム水溶液で洗浄するのが好ましい。しかる後に、洗浄された光学フィルム積層体を６０℃の温風による乾燥工程によって乾燥する。なお洗浄工程は、ホウ酸析出などの外観不良を解消するための工程である。
【０１５９】
同じく光学フィルム積層体の製造に必須の工程というわけではないが、貼合せおよび／または転写工程によって、非晶性ＰＥＴ基材に製膜された３μｍ厚のＰＶＡ層の表面に接着剤を塗布しながら、８０μｍ厚のトリアセチルセルロースフィルムを貼合せたのち、非晶性ＰＥＴ基材を剥離し、３μｍ厚のＰＶＡ層を８０μｍ厚のトリアセチルセルロースフィルムに転写することもできる。
【０１６０】
［その他の工程］
上記の薄型偏光膜の製造方法は、上記工程以外に、その他の工程を含み得る。その他の工程としては、例えば、不溶化工程、架橋工程、乾燥（水分率の調節）工程等が挙げられる。その他の工程は、任意の適切なタイミングで行い得る。
上記不溶化工程は、代表的には、ホウ酸水溶液にＰＶＡ系樹脂層を浸漬させることにより行う。不溶化処理を施すことにより、ＰＶＡ系樹脂層に耐水性を付与することができる。当該ホウ酸水溶液の濃度は、水１００重量部に対して、好ましくは１重量部〜４重量部である。不溶化浴（ホウ酸水溶液）の液温は、好ましくは２０℃〜５０℃である。好ましくは、不溶化工程は、積層体作製後、染色工程や水中延伸工程の前に行う。
上記架橋工程は、代表的には、ホウ酸水溶液にＰＶＡ系樹脂層を浸漬させることにより行う。架橋処理を施すことにより、ＰＶＡ系樹脂層に耐水性を付与することができる。当該ホウ酸水溶液の濃度は、水１００重量部に対して、好ましくは１重量部〜４重量部である。また、上記染色工程後に架橋工程を行う場合、さらに、ヨウ化物を配合することが好ましい。ヨウ化物を配合することにより、ＰＶＡ系樹脂層に吸着させたヨウ素の溶出を抑制することができる。ヨウ化物の配合量は、水１００重量部に対して、好ましくは１重量部〜５重量部である。ヨウ化物の具体例は、上述のとおりである。架橋浴（ホウ酸水溶液）の液温は、好ましくは２０℃〜５０℃である。好ましくは、架橋工程は上記第２のホウ酸水中延伸工程の前に行う。好ましい実施形態においては、染色工程、架橋工程および第２のホウ酸水中延伸工程をこの順で行う。
【０１６１】
＜透明保護フィルム＞
透明保護フィルム（２）を構成する材料としては、例えば透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性などに優れる熱可塑性樹脂が用いられる。このような熱可塑性樹脂の具体例としては、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、（メタ）アクリル樹脂、環状ポリオレフィン樹脂（ノルボルネン系樹脂）、ポリアリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、およびこれらの混合物が挙げられる。透明保護フィルム中には任意の適切な添加剤が１種類以上含まれていてもよい。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、滑剤、可塑剤、離型剤、着色防止剤、難燃剤、核剤、帯電防止剤、顔料、着色剤などが挙げられる。透明保護フィルム中の上記熱可塑性樹脂の含有量は、好ましくは５０〜１００重量％、より好ましくは５０〜９９重量％、さらに好ましくは６０〜９８重量％、特に好ましくは７０〜９７重量％である。透明保護フィルム中の上記熱可塑性樹脂の含有量が５０重量％以下の場合、熱可塑性樹脂が本来有する高透明性等が十分に発現できないおそれがある。
【０１６２】
また透明保護フィルム（２）を形成する材料としては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性などに優れるものが好ましく、特に透湿度が１５０ｇ／ｍ２／２４ｈ以下であるものがより好ましく、１４０ｇ／ｍ２／２４ｈ以下のものが特に好ましく、１２０ｇ／ｍ２／２４ｈ以下のものさらに好ましい。透湿度は、実施例に記載の方法により求められる。
【０１６３】
上記偏光フィルムにおいて、透湿度が１５０ｇ／ｍ２／２４ｈ以下の透明保護フィルムを用いた場合には、偏光フィルム中に空気中の水分が入り難く、偏光フィルム自体の水分率変化を抑制することができる。その結果、保存環境により生じる偏光フィルムのカールや寸法変化を抑えることができる。
【０１６４】
上記透明保護フィルム（２）の偏光子（１）を接着させない面には、ハードコート層、反射防止層、スティッキング防止層、拡散層ないしアンチグレア層などの機能層を設けることができる。なお、上記ハードコート層、反射防止層、スティッキング防止層、拡散層やアンチグレア層などの機能層は、透明保護フィルム（２）そのものに設けることができるほか、別途、透明保護フィルム（２）とは別体のものとして設けることもできる。
【０１６５】
透明保護フィルム（２）の厚みは、適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性などの作業性、薄層性などの点より１〜５００μｍ程度であり、１〜３００μｍが好ましく、５〜２００μｍがより好ましい。さらには１０〜２００μｍが好ましく、２０〜８０μｍが好ましい。
【０１６６】
なお、偏光子（１）の両面に設けられる、前記透明保護フィルム（２）は、その表裏で同じポリマー材料からなる透明保護フィルムを用いてもよく、異なるポリマー材料等からなる透明保護フィルムを用いてもよい。
【０１６７】
前記透明保護フィルムとして、正面位相差が４０ｎｍ以上および／または、厚み方向位相差が８０ｎｍ以上の位相差を有する位相差フィルムを用いることができる。正面位相差は、通常、４０〜２００ｎｍの範囲に、厚み方向位相差は、通常、８０〜３００ｎｍの範囲に制御される。透明保護フィルムとして位相差フィルムを用いる場合には、当該位相差フィルムが透明保護フィルムとしても機能するため、薄型化を図ることができる。
【０１６８】
位相差フィルムとしては、高分子素材を一軸または二軸延伸処理してなる複屈折性フィルム、液晶ポリマーの配向フィルム、液晶ポリマーの配向層をフィルムにて支持したものなどがあげられる。位相差フィルムの厚さも特に制限されないが、２０〜１５０μｍ程度が一般的である。
【０１６９】
なお、図１Ａ、Ｂ、図２乃至図４で示す積層偏光フィルムにおいては、透明保護フィルム（２）として位相差フィルムを用いることができる。また、偏光子（１）の両側の透明保護フィルム（２）は片側または両側のいずれも位相差フィルムとすることもできる。特に、図３および図４において、接着剤層（ｂ２）の側の透明保護フィルムとして、位相差フィルムを用いるのが好ましい。特に、両側の透明保護フィルム（２）として位相差フィルムを用いる場合には、図４の態様が好ましい。
【０１７０】
＜接着剤層（ｂ）＞
前記接着剤層（ｂ）は光学的に透明であれば、特に制限されず水系、溶剤系、ホットメルト系、活性エネルギー線硬化型の各種形態のものが用いられる。接着剤層（ｂ）は、上記のように、所定の厚さで、所定の貯蔵弾性率を満足するものであることが好ましい。
【０１７１】
水系の硬化型接着剤として、例えば、ビニルポリマー系、ゼラチン系、ビニル系ラテックス系、ポリウレタン系、イソシアネート系、ポリエステル系、エポキシ系等を例示できる。このような水系接着剤からなる接着剤層は、水溶液の塗布乾燥層などとして形成しうるが、その水溶液の調製に際しては、必要に応じて、架橋剤や他の添加剤、酸等の触媒も配合することができる。
【０１７２】
前記水系の硬化型接着剤としては、ビニルポリマーを含有する接着剤などを用いることが好ましく、ビニルポリマーとしては、ポリビニルアルコール系樹脂が好ましい。またポリビニルアルコール系樹脂としては、アセトアセチル基を有するポリビニルアルコール系樹脂を含む接着剤が耐久性を向上させる点からより好ましい。また、ポリビニルアルコール系樹脂に配合できる架橋剤としては、ポリビニルアルコール系樹脂と反応性を有する官能基を少なくとも２つ有する化合物が好ましく使用できる。例えば、ホウ酸やホウ砂、カルボン酸化合物、アルキルジアミン類；イソシアネート類；エポキシ類；モノアルデヒド類；ジアルデヒド類；アミノ−ホルムアルデヒド樹脂；さらに二価金属、または三価金属の塩およびその酸化物が挙げられる。ポリビニルアルコール系樹脂には、水溶性珪酸塩を配合することができる。水溶性珪酸塩として、珪酸リチウム、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム等が挙げられる。
【０１７３】
また、活性エネルギー線硬化型接着剤としては各種形態のものが用いられ、電子線硬化型、紫外線硬化型等の活性エネルギー線硬化型の接着剤を例示できる。紫外線硬化型接着剤としては、大きくラジカル重合硬化型接着剤とカチオン重合型接着剤に区分出来る。その他、ラジカル重合硬化型接着剤は熱硬化型接着剤として用いることができる。接着剤層（ｂ）の形成に用いる活性エネルギー線硬化型接着剤としては、前記低弾性接着剤層（ａ）の形成に用いる活性エネルギー線硬化型接着剤を用いることができる。
【０１７４】
前記接着剤層（ｂ）のなかでも、接着剤層（ｂ１）は、ポリビニルアルコール系の接着剤が好ましい。また、接着剤層（ｂ２）は、活性エネルギー線硬化型接着剤が好ましい。
【０１７５】
前記低弾性接着剤層（ａ）または接着剤層（ｂ）を形成する接着剤は、必要であれば適宜添加剤を含むものであっても良い。添加剤の例としては、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等のカップリング剤、エチレンオキシドで代表される接着促進剤、透明フィルムとの濡れ性を向上させる添加剤、アクリロキシ基化合物や炭化水素系（天然、合成樹脂）などに代表され、機械的強度や加工性などを向上させる添加剤、紫外線吸収剤、老化防止剤、染料、加工助剤、イオントラップ剤、酸化防止剤、粘着付与剤、充填剤（金属化合物フィラー以外）、可塑剤、レベリング剤、発泡抑制剤、帯電防止割、耐熱安定剤、耐加水分解安定剤等の安定剤等が挙げられる。
【０１７６】
本発明の積層偏光フィルムは、偏光フィルム（Ｐ）と光学フィルム（３）が低弾性接着剤層（ａ）を介して貼り合されるが、透明保護フィルム（２）および／または光学フィルム（３）には、易接着層を設けることができる。また、偏光フィルム（Ｐ）において偏光子（１）および／または透明保護フィルム（２）に易接着層を設けることができる。
【０１７７】
易接着層は、例えば、ポリエステル骨格、ポリエーテル骨格、ポリカーボネート骨格、ポリウレタン骨格、シリコーン系、ポリアミド骨格、ポリイミド骨格、ポリビニルアルコール骨格などを有する各種樹脂により形成することができる。これらポリマー樹脂は１種を単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。また易接着層の形成には他の添加剤を加えてもよい。具体的にはさらには粘着付与剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、耐熱安定剤などの安定剤などを用いてもよい。易接着層は乾燥後の厚みは、好ましくは０．０１〜５μｍ、さらに好ましくは０．０２〜２μｍ、さらに好ましくは０．０５〜１μｍである。なお、易接着層は複数層設けることができるが、この場合にも、易接着層の総厚みは上記範囲になるようにするのが好ましい。
【０１７８】
＜光学フィルム＞
光学フィルム（３）としては、偏光子（１）以外の、例えば、位相差フィルム（１／２や１／４等の波長板を含む）、視覚補償フィルム、輝度向上フィルム、反射板や反透過板、などの液晶表示装置等の形成に用いられることのある光学層となるものがあげられる。  前記光学フィルム（３）は、２層以上を用いることができる。２層以上の光学フィルムを用いる場合において、２層目の光学フィルムの積層にも、前記低弾性接着剤層（ａ）を用いることができる。前記光学フィルム（３）としては、位相差フィルムが好適である。
【０１７９】
前記位相差フィルムとしては、上記同様の、正面位相差が４０ｎｍ以上および／または、厚み方向位相差が８０ｎｍ以上の位相差を有するものを用いることができる。正面位相差は、通常、４０〜２００ｎｍの範囲に、厚み方向位相差は、通常、８０〜３００ｎｍの範囲に制御される。
【０１８０】
位相差フィルムとしては、高分子素材を一軸または二軸延伸処理してなる複屈折性フィルム、液晶ポリマーの配向フィルム、液晶ポリマーの配向層をフィルムにて支持したものなどがあげられる。位相差フィルムの厚さも特に制限されないが、２０〜１５０μｍ程度が一般的である。
【０１８１】
本発明の積層偏光フィルムには、液晶セルなどの他部材と接着するための粘着剤層を設けることもできる。粘着剤層を形成する粘着剤は特に制限されないが、例えばアクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエーテル、フッ素系やゴム系などのポリマーをベースポリマーとするものを適宜に選択して用いることができる。特に、アクリル系粘着剤の如く光学的透明性に優れ、適度な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましく用いうる。
【０１８２】
粘着剤層は、異なる組成または種類などのものの重畳層として積層偏光フィルムまたは積層光学フィルムの片面または両面に設けることもできる。また両面に設ける場合に、積層偏光フィルムまたは積層光学フィルムの表裏において異なる組成や種類や厚みなどの粘着剤層とすることもできる。粘着剤層の厚みは、使用目的や接着力などに応じて適宜に決定でき、一般には１〜５００μｍであり、１〜２００μｍが好ましく、特に１〜１００μｍが好ましい。
【０１８３】
粘着剤層の露出面に対しては、実用に供するまでの間、その汚染防止などを目的にセパレータが仮着されてカバーされる。これにより、通例の取扱状態で粘着剤層に接触することを防止できる。セパレータとしては、上記厚み条件を除き、例えばプラスチックフィルム、ゴムシート、紙、布、不織布、ネット、発泡シートや金属箔、それらのラミネート体などの適宜な薄葉体を、必要に応じシリコーン系や長鎖アルキル系、フッ素系や硫化モリブデンなどの適宜な剥離剤でコート処理したものなどの、従来に準じた適宜なものを用いうる。
【０１８４】
本発明の積層偏光フィルムまたは積層光学フィルムは液晶表示装置などの各種装置の形成などに好ましく用いることができる。液晶表示装置の形成は、従来に準じて行いうる。すなわち液晶表示装置は一般に、液晶セルと積層偏光フィルムまたは積層光学フィルム、および必要に応じての照明システムなどの構成部品を適宜に組立てて駆動回路を組込むことなどにより形成されるが、本発明においては本発明による積層偏光フィルムまたは積層光学フィルムを用いる点を除いて特に限定はなく、従来に準じうる。液晶セルについても、例えばＴＮ型やＳＴＮ型、π型などの任意なタイプのものを用いうる。
【０１８５】
液晶セルの片側または両側に積層偏光フィルムまたは積層光学フィルムを配置した液晶表示装置や、照明システムにバックライトあるいは反射板を用いたものなどの適宜な液晶表示装置を形成することができる。その場合、本発明による積層偏光フィルムまたは積層光学フィルムは液晶セルの片側または両側に設置することができる。両側に積層偏光フィルムまたは積層光学フィルムを設ける場合、それらは同じものであってもよいし、異なるものであってもよい。さらに、液晶表示装置の形成に際しては、例えば拡散板、アンチグレア層、反射防止膜、保護板、プリズムアレイ、レンズアレイシート、光拡散板、バックライトなどの適宜な部品を適宜な位置に１層または２層以上配置することができる。
【実施例】
【０１８６】
以下に、本発明の実施例を記載するが、本発明の実施形態はこれらに限定されない。
【０１８７】
＜貯蔵弾性率の測定＞
実施例および比較例で用いた接着剤層または粘着剤層について下記方法により貯蔵弾性率を求めた。
［貯蔵弾性率の測定方法］
貯蔵弾性率は、レオメトリック社製の粘弾性スペクトロメータ（商品名：ＲＳＡ−ＩＩ）を用いて行った。測定条件は、周波数１Ｈｚ、サンプル厚２ｍｍ、圧着加重１００ｇ、昇温速度５℃／ｍｉｎでの−５０℃〜２００℃の範囲に於ける、２５℃および８５℃での値を測定値とした。
【０１８８】
＜透明保護フィルムの透湿度＞
透湿度の測定は、ＪＩＳ  Ｚ０２０８の透湿度試験（カップ法）に準じて測定した。直径６０ｍｍに切断したサンプルを約１５ｇの塩化カルシウムを入れた透湿カップにセットし、温度４０℃、湿度９０％Ｒ．Ｈ．の恒温機に入れ、２４時間放置した前後の塩化カルシウムの重量増加を測定することで透湿度（ｇ／ｍ２／２４ｈ）を求めた。
【０１８９】
＜透明保護フィルム＞
透明保護フィルム（２ａ）：厚み５０μｍのラクトン環構造を有する（メタ）アクリル樹脂（透湿度９６ｇ／ｍ２／２４ｈ）にコロナ処理を施して用いた。
透明保護フィルム（２ｂ）：厚さ１８μｍの環状ポリオレフィンフィルム（日本ゼオン社製：ＺＥＯＮＯＲ）にコロナ処理を施して用いた。
【０１９０】
＜ポリビニルアルコール系接着剤＞
アセトアセチル（ＡＡ）基を含有するＰＶＡ系樹脂（平均重合度：１２００，ケン化度：９８．５モル％，ＡＡ基変性度：５モル％，（表１中ではＡＡ変性ＰＶＡと示す。））１００部に対し、メチロールメラミン２０部を、３０℃の温度条件下に、純水に溶解し、固形分濃度０．５％に調整した水溶液を調製した。これを接着剤として、３０℃の温度条件下に用いた。
【０１９１】
＜通常の偏光子の作製＞
平均重合度２４００、ケン化度９９．９モル％、厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３０℃の温水中に６０秒間浸漬して膨潤させた。次いで、０．３重量％（重量比：ヨウ素／ヨウ化カリウム＝０．５／８）の３０℃のヨウ素溶液中で１分間染色しながら、３．５倍まで延伸した。その後、６５℃の４重量％のホウ酸水溶液中に０．５分間浸漬しながら総合延伸倍率が６倍まで延伸した。延伸後、７０℃のオーブンで３分間乾燥を行い、厚さ２６μｍの偏光子を得た。
【０１９２】
＜図２に記載の偏光フィルム（Ｐ１）の作製＞
上記偏光子の両面に、上記ポリビニルアルコール系接着剤を塗布しながら、上記透明保護フィルム（２ａ）および（２ｂ）を貼合せたのち、５０℃で５分間の乾燥を行って偏光フィルムを作成した。透明保護フィルム（２ａ）および（２ｂ）に形成された接着剤層（ｂ１）の厚さは、いずれも０．１μｍであり、２５℃における貯蔵弾性率は１．５×１０９Ｐａ、８５℃における貯蔵弾性率は１．０×１０８Ｐａであった。
【０１９３】
＜薄型の偏光子の作成＞
薄型偏光膜を作製するため、まず、非晶性ＰＥＴ基材に９μｍ厚のＰＶＡ層が製膜された積層体を延伸温度１３０℃の空中補助延伸によって延伸積層体を生成し、次に、延伸積層体を染色によって着色積層体を生成し、さらに着色積層体を延伸温度６５℃のホウ酸水中延伸によって総延伸倍率が５．９４倍になるように非晶性ＰＥＴ基材と一体に延伸された４μｍ厚のＰＶＡ層を含む光学フィルム積層体を生成した。このような２段延伸によって非晶性ＰＥＴ基材に製膜されたＰＶＡ層のＰＶＡ分子が高次に配向され、染色によって吸着されたヨウ素がポリヨウ素イオン錯体として一方向に高次に配向された高機能偏光膜を構成する、厚さ５μｍのＰＶＡ層を含む光学フィルム積層体を生成することができた。
【０１９４】
＜図３に記載の偏光フィルム（Ｐ２）の作成＞
上記光学フィルム積層体の偏光膜の表面に、上記ポリビニルアルコール系接着剤を塗布しながら、上記透明保護フィルム（２ａ）を貼合せたのち、５０℃で５分間の乾燥を行った。透明保護フィルム（２ａ）に形成された接着剤層（ｂ１）の厚さは１μｍであり、２５℃における貯蔵弾性率は１．５×１０９Ｐａ、８５℃における貯蔵弾性率は１．０×１０８Ｐａであった。
【０１９５】
次いで、非晶性ＰＥＴ基材を剥離し、その剥離面に、下記に示す活性化エネルギー線硬化型系の接着剤（下記の実施例１の低弾性接着剤層（ａ）に係る活性エネルギー線硬化型接着剤に同じ）を塗布し、上記透明保護フィルム（２ｂ）を貼り合せたのちに紫外線により硬化させて、薄型偏光膜を用いた偏光フィルムを作製した。透明保護フィルム（２ｂ）に形成された接着剤層（ｂ２）の厚さは、５μｍであり、２５℃における貯蔵弾性率は８．０×１０６Ｐａ、８５℃における貯蔵弾性率は８．０×１０６Ｐａであった。
【０１９６】
＜活性エネルギー線＞
活性エネルギー線として、紫外線（ガリウム封入メタルハライドランプ）  照射装置：Ｆｕｓｉｏｎ  ＵＶ  Ｓｙｓｔｅｍｓ，Ｉｎｃ社製Ｌｉｇｈｔ  ＨＡＭＭＥＲ１０  バルブ：Ｖバルブ  ピーク照度：１６００ｍＷ／ｃｍ２、積算照射量１０００／ｍＪ／ｃｍ２（波長３８０〜４４０ｎｍ）を使用した。なお、紫外線の照度は、Ｓｏｌａｔｅｌｌ社製Ｓｏｌａ−Ｃｈｅｃｋシステムを使用して測定した。
【０１９７】
＜粘度の測定＞
実施例および比較例で用いた活性エネルギー線硬化型接着剤または粘着剤の粘度（ｃｐ／２５℃）はＥ型回転式粘度計により測定した値である。測定結果は表１に示す。
【０１９８】
実施例１〜４および比較例１
（低弾性接着剤層（ａ）に係る活性エネルギー線硬化型接着剤の調整）
表１記載の配合表に従い、各成分を混合して５０℃で１時間撹拌して、活性エネルギー線硬化型接着剤を得た。表中の活性エネルギー線硬化型接着剤の数値は重量部を示す。
【０１９９】
（位相差フィルム）
アクリル系位相差フィルム（ＪＳＲ社製アートン，４０μｍ厚み、正面位相差１４０ｎｍ）を用いた。
【０２００】
（積層偏光フィルムの製法）
位相差フィルムのコロナ表面に、表１に記載の低弾性接着剤層（ａ）に係る活性エネルギー線硬化型接着剤をＭＣＤコーター（富士機械社製）（セル形状：ハニカム、グラビアロール線数：１０００本／ＩＮＣＨ、回転速度１４０％／対ライン速）を用いて、表１に示す厚みになるように塗布した。
上記位相差フィルムの接着剤塗布面を、偏光フィルム（Ｐ１）または（Ｐ２）に貼り合わせた。偏光フィルム（Ｐ１）では透明保護フィルム（２ｂ）の側に、偏光フィルム（Ｐ２）では透明保護フィルム（２ａ）の側に貼り合せた。その後、貼り合わせた位相差フィルム側から、ＩＲヒーターを用いて５０℃に加温し、上記紫外線を照射して、低弾性接着剤層（ａ）に係る活性エネルギー線硬化型接着剤を硬化させた後、７０℃で３分間熱風乾燥して、積層偏光フィルムを得た。貼り合わせのライン速度は１５ｍ／ｍｉｎで行った。
【０２０１】
比較例２、３
＜（メタ）アクリル系ポリマーの調製＞ 
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器を備えた４つ口フラスコに、ブチルアクリレート９２部、Ｎ−アクリロイルモルホリン５部、アクリル酸２．９部、２−ヒドロキシルエチルアクリレート０．１部、重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．１重量部、酢酸エチル２００重量部を仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入して窒素置換した後、フラスコ内の液温を５５℃付近に保って８時間重合反応を行い、アクリル系ポリマー溶液を調製した。上記アクリル系ポリマーの重量平均分子量は２２０万であった。  
【０２０２】
＜粘着剤層付偏光フィルムの作成＞
上記で得られたアクリル系ポリマー溶液の固形分１００部に対して、架橋剤としてトリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパン付加物からなるポリイソシアネート系架橋剤（日本ポリウレタン工業社製、コロネートＬ）０．２部を配合したアクリル系粘着剤溶液を調製した。 次いで、上記アクリル系粘着剤溶液を、シリコーン処理を施したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製、厚さ：３８μｍ）の片面に、乾燥後の粘着剤層の厚さが表１に示すようになるように（比較例２では５．５μｍ；比較例３では４．０μｍ）塗布し、１５０℃で３分間乾燥を行い、粘着剤層を形成した。
【０２０３】
＜積層偏光フィルムの作成＞
上記粘着剤層を偏光フィルム（Ｐ１）または（Ｐ２）に貼り合わせた。偏光フィルム（Ｐ１）では透明保護フィルム（２ｂ）の側に、偏光フィルム（Ｐ２）では透明保護フィルム（２ａ）の側に粘着剤層を貼り合せた。その後、ＰＥＴフィルムを剥離して、位相差フィルムを貼り合せて積層偏光フィルムを得た。
【０２０４】
各例で得られた積層偏光フィルムについて下記評価を行った。結果を表１に示す。
【０２０５】
＜耐衝撃性＞
積層偏光フィルムの位相差フィルム面に粘着剤層を積層し、偏光子の延伸方向に５０ｍｍ、垂直方向に１００ｍｍの長方形にカットした。厚さ０．５ｍｍ、縦１２０ｍｍ、横６０ｍｍのガラス板に上記積層偏光フィルムをラミネートしサンプルを作成した。なお、ガラス板の裏面には破壊防止のためにセロハンテープを全面に貼っておいた。
作成したサンプルを高さ１ｍから自然落下させた。その落下を１００回繰り返してからの端部の剥離状態を目視で観察した。
○：剥れは確認されない。
△：端部から剥れが１ｍｍ未満。
×：端部から剥れが１ｍｍ以上。
【０２０６】
＜加熱座屈性＞
積層偏光フィルムの位相差フィルム面に粘着剤層を積層し、偏光子の延伸方向に２００ｍｍ、垂直方向に４００ｍｍの長方形にカットした。液晶セル（「ソニー社製３２インチ液晶テレビＢＲＡＶＩＡ（登録商標）ＫＤＬ−３２Ｆ１」から液晶セルを取り出し用いた）の両面に、前記粘着剤層を介して上記積層偏光フィルムをクロスニコル状態になるようにラミネートして液晶パネルを作成した。当該液晶パネルについて下記試験を行った。
１：加熱試験（８５℃でそれぞれ１２時間）
２：−４０℃⇔８５℃のヒートサイクル試験を行い、１００サイクル
試験後に、液晶パネルを目視観察し下記の基準に基づきスジムラを評価した。
○：スジムラの発生は見られない。
×：スジムラが発生した。
【０２０７】
＜剥離力：強制剥離＞
積層偏光フィルムを偏光子の延伸方向と平行に２００ｍｍ、直行方向に２０ｍｍの大きさに切り出し、偏光フィルムと位相差フィルムとの間にカッターナイフで切り込みを入れた後、積層偏光フィルムをガラス板に貼り合わせた。テンシロンにより、９０度方向に偏光フィルムと位相差フィルムとを剥離速度５００ｍｍ／ｍｉｎで剥離し、その剥離強度を測定した。また、剥離後の剥離面の赤外吸収スペクトルをＡＴＲ法によって測定し、剥離界面を下記の基準に基づき評価した。
１：低弾性接着剤層（ａ）の凝集破壊。
２：位相差フィルムの凝集破壊。
上記基準において、２は、接着力がフィルムの凝集力以上であるため、接着力が非常に優れることを意味する。一方、１は、偏光フィルム／接着剤層／位相差フィルムの界面の接着力が不足している（接着力が劣る）ことを意味する。
【０２０８】
＜剥離性：剥離力＞
積層偏光フィルムを偏光子の延伸方向と平行に２００ｍｍ、直行方向に１５ｍｍの大きさに切り出し、偏光フィルムと位相差フィルムとの間にカッターナイフで切り込みを入れた後、積層偏光フィルムをガラス板に貼り合わせた。テンシロンにより、９０度方向に偏光フィルムと位相差フィルムとを剥離速度３００ｍｍ／ｍｉｎで剥離し、その剥離強度（Ｎ／１５ｍｍ）を測定した。
【０２０９】
【表１】
2015143848.tif 000017
【０２１０】
表１中の比較例２、３は、低弾性接着剤層（ａ）と対比する粘着剤層であり、参考のために、粘着剤層を形成するアクリル系ポリマーを構成するモノマー成分の割合を記載した。
【０２１１】
（Ａ）：多官能ラジカル重合性化合物
アロニックス  Ｍ−２７０は、ポリプロピレングリコールジアクリレート（東亞合成社製）を示す。
ＴＰＧＤＡ：トリプロピレングリコールジアクリレートを示す。
ライトアクリレート９ＥＧ−Ａは、エチレングリコール（付加モル数の平均値９）ジアクリレート（共栄社化学社製）を示す。
（Ｂ）：炭素数２〜１２のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレート
ＢＡは、ｎ−ブチルアクリレート；
（Ｃ）：水酸基を有する（メタ）アクリレート
２ＨＥＡは、２−ヒドロキシエチルアクリレート；
４ＨＢＡは、４−ヒドロキシブチルアクリレート； 
ＰＬＡＣＣＥＬ ＦＡ１ＤＤＭは、２ＨＥＡのカプロラクトン１モル付加物（ダイセル社製）：を示す。
（その他）：上記以外のラジカル重合性化合物
ＨＥＡＡは、ヒドロキシエチルアクリルアミド（興人社製）；
ＡＣＭＯは、アクリロイルモルホリン（興人社製）；を示す。
（Ｅ）：（メタ）アクリルモノマーを重合してなるアクリル系オリゴマー
ＵＰ−１１９０は、（メタ）アクリルモノマーを重合してなるアクリル系オリゴマー（ＡＲＵＦＯＮ  ＵＰ−１１９０，東亞合成社製）を示す。
（Ｆ）：活性メチレン基を有するラジカル重合性化合物
ＡＡＥＭは、２−アセトアセトキシエチルメタクリレート（日本合成化学社製）を示す。
（Ｇ）：水素引き抜き作用のあるラジカル重合開始剤
ＫＡＹＡＣＵＲＥ  ＤＥＴＸ−Ｓは、水素引き抜き作用のあるラジカル重合開始剤（ジエチルチオキサントン，ＫＡＹＡＣＵＲＥ  ＤＥＴＸ−Ｓ，日本化薬社製）を示す。
（光重合開始剤：その他）（一般式（２）で表される化合物）
ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７は、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７，ＢＡＳＦ社製）を示す。
【符号の説明】
【０２１２】
１  偏光子
２  透明保護フィルム
Ｐ  偏光フィルム
３  光学フィルム（位相差フィルム）
ａ  低弾性接着剤層
ｂ  接着剤層
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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