(57)【要約】【課題】光学フィルムを、転写層を有する光学フィルム用転写積層体を用いて作製する際に、支持体基材の剥離速度が高速の領域となる場合であっても、転写不良の発生を抑制することができる光学フィルム用転写積層体を提供する。【解決手段】転写層を有する光学フィルム用転写積層体１であって、表面に易接着処理がされていないポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなる支持体基材１１と、配向膜１２と、位相差層１３とがこの順で積層されてなり、その配向膜１２は、フッ素を含有する界面活性剤を０．０２５質量％以上０．１質量％以下の割合で含む配向膜組成物により構成される。【選択図】図１
2015148745.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
転写層を有する光学フィルム用転写積層体であって、
表面に易接着処理がされていないポリエチレンテレフタレートからなる支持体基材と、配向膜と、位相差層とがこの順で積層されてなり、
前記配向膜は、フッ素を含有する界面活性剤を０．０２５質量％以上０．１質量％以下の割合で含む配向膜組成物により構成されることを特徴とする光学フィルム用転写積層体。
【請求項２】
前記支持体基材と、配向膜との界面に、フッ素が存在することを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム用転写積層体。
【請求項３】
前記支持体基材を剥離速度５０ｍ／ｍｉｎで剥離したときの剥離強度が、０．３５Ｎ／５０ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学フィルム用転写積層体。
【請求項４】
前記配向膜は、垂直配向膜から構成されることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の光学フィルム用転写積層体。
【請求項５】
前記転写層が、逆分散延伸フィルムからなる１／４波長分の位相差を付与する光学機能層に転写されることを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の光学フィルム用転写積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、転写層を有する光フィルム用転写積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、フラットパネルディスプレイ等に適用される光学フィルムは、位相差層により透過光に所望の位相差を付与して所望する光学特性を確保するものが提供されている（例えば、特許文献１参照）。この種の光学フィルムは、透明フィルム等による基材の表面に配向膜が作製され、この配向膜の配向規制力により液晶材料を配向させた状態で硬化して位相差層が作製される。このような位相差層に適用される液晶材料は、通常、正の波長分散特性を備えているものの、近年、逆分散特性による液晶材料が提案されている（例えば、特許文献２、３参照）。ここで、逆分散特性とは、短波長側ほど透過光における位相差が小さい波長分散特性であり、より具体的に、４５０ｎｍの波長におけるリタデーション（Ｒ４５０）と、５５０ｎｍの波長におけるリタデーション（Ｒ５５０）との関係が、Ｒ４５０＜Ｒ５５０である。
【０００３】
また、画像表示パネルにおいては、Ａプレート、Ｃプレート等を利用して視野角特性、色味等の種々の光学特性を改善する方法が提案されており、例えば特許文献４には、Ａプレート、Ｃプレートを使用したＩＳＰ液晶表示装置の光学補償に係る工夫が提案されている。ここで、光学補償とは、黒表示の際に直線偏光板からの斜め方向の光漏れを低減する構成である。また、Ｃプレートは、ｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚ又はｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚで表され、ｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚは正のＣプレートであり、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚは負のＣプレートである。また、Ａプレートは、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ又はｎｚ＝ｎｘ＞ｎｙで表され、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚは正のＡプレートであり、ｎｚ＝ｎｘ＞ｎｙは負のＡプレートである。なお、ｎｘ、ｎｙ（ｎｘ≧ｎｙ）は面内方向の屈折率であり、ｎｚは厚さ方向の屈折率である。
【０００４】
これらの光学フィルムのうち、正のＡプレートは、位相差層に適用される正の波長分散特性による液晶材料、逆分散特性による液晶材料を使用して、それぞれ正の波長分散特性、逆分散特性により作製することができる。また、正のＣプレートにおいては、いわゆるＣプレート用の液晶材料による塗工液を塗布して乾燥硬化させることにより作製することができる。また、バーチカル・アライメント（ＶＡ）液晶表示装置等では、垂直配向膜により液晶材料を垂直方向に配向させており、ＶＡ液晶に関する垂直配向膜の工夫が種々提案されている。
【０００５】
さて、このような光学フィルムは、例えば、直線偏光板としての機能を担う直線偏光板等の光学機能層に転写される転写層を有した光学フィルム用転写積層体を用いた転写法により作製される。転写法とは、例えば所定の基材の上に所望とする層を形成する場合に、その所望とする層を直接基材上に形成するのではなく、一旦、離型性の支持体（支持体基材）上に剥離可能にその層を積層形成して転写積層体を作製した後、工程や需要等に応じて、その支持体上に形成した層を、最終的に積層すべき基材（被転写基材）上に接着、積層し、その後、支持体を剥離除去することにより、所定の基材上に所望とする層を形成する方法である。このような転写法によって光学フィルムを作製することにより、全体の厚みが薄い光学フィルムを提供することができると考えられる。なお、転写法により作製された光学フィルムは、例えば特許文献５、特許文献６に記載されている。
【０００６】
しかしながら、上述したように、光学フィルムを転写によって作製した場合、転写積層体を被転写体上に転写する際に、転写積層体が転写されるべき部分の端部で切り離されず、被転写体上の転写積層体の側に余分な転写積層体の部分が残ってしまう、いわゆる泣き別れ（転写不良）が生じることがある。特に、高い生産性でもって光学フィルムを作製する場合等、支持体基材の剥離強度が高速の領域となると、その転写不良の問題が顕著に現れていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平１０−６８８１６号公報
【特許文献２】米国特許第８１１９０２６号明細書
【特許文献３】特表２０１０−５２２８９２号公報
【特許文献４】特表２００６−５２０００８号公報
【特許文献５】特開２００５−４９８６５号公報
【特許文献６】特開２００７−１５６２３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、このような実情に鑑みて提案されたものであり、光学フィルムを、転写層を有する光学フィルム用転写積層体を用いて作製する際に、支持体基材の剥離速度が高速の領域となる場合であっても、転写不良の発生を抑制することができる光学フィルム用転写積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上述した課題を解決するために鋭意検討を重ねた。その結果、光学フィルム用転写積層体において、支持体基材上に積層する配向膜を、フッ素を含有する界面活性剤を所定の割合で含む配向膜組成物を硬化させて構成することによって、支持体基材を高速剥離したときの剥離強度を弱めることができ、転写積層体の転写不良の発生を効果的に抑制できることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明は、以下のものを提供する。
【００１０】
（１）本発明は、転写層を有する光学フィルム用転写積層体であって、表面にコロナ処理がされていないポリエチレンテレフタレートからなる支持体基材と、配向膜と、位相差層とがこの順で積層されてなり、前記配向膜は、フッ素を含有する界面活性剤を０．０２５質量％以上０．１質量％以下の割合で含む配向膜組成物からなることを特徴とする光学フィルム用転写積層体である。
【００１１】
（２）また本発明は、（１）の発明において、前記支持体基材と、配向膜との界面に、フッ素が存在することを特徴とする光学フィルム用転写積層体である。
【００１２】
（３）また本発明は、（１）又は（２）の発明において、前記支持体基材を剥離速度５０ｍ／ｍｉｎで剥離したときの剥離強度が、０．３５Ｎ／５０ｍｍ以下であることを特徴とする光学フィルム用転写積層体である。
【００１３】
（４）また本発明は、（１）乃至（３）の何れかの発明において、前記配向膜は、垂直配向膜から構成されることを特徴とする光学フィルム用転写積層体である。
【００１４】
（５）また本発明は、（１）乃至（４）の何れかの発明において、前記転写層が、逆分散延伸フィルムからなる１／４波長分の位相差を付与する光学機能層に転写されることを特徴とする光学フィルム用転写積層体である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明に係る光学フィルム用転写積層体によれば、支持体基材を高速剥離したときの剥離強度を弱めることができ、被転写体に対する転写不良の発生を効果的に抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】光学フィルム用転写積層体の一例を示す断面模式図である。
【図２】光学フィルム用転写積層体の作製工程の流れを示すフロー図である。
【図３】光学フィルム用転写積層体を用いて転写法により光学フィルムを作製する流れを説明するための図である。
【図４】実施例１〜３、比較例１の光学フィルム用転写積層体に関して、ＰＥＴ基材の剥離速度を変化させたときの剥離強度について測定したときの結果を示すグラフ図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明に係る光学フィルム用転写積層体の具体的な実施形態（以下、「本実施の形態」という）について、以下の順で詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲で種々の変更が可能である。
１．光学フィルム用転写積層体の構成
２．配向膜について
３．光学フィルム用転写積層体の製造方法
４．光学フィルム用転写積層体を用いた光学フィルムの製造方法
【００１８】
≪１．光学フィルム用転写積層体の構成≫
図１は、本実施の形態に係る光学フィルム用転写積層体１の一例を模式的に示す断面図である。図１に示すように、光学フィルム用転写積層体１は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなる支持体基材１１と、配向膜１２と、位相差層（液晶層）１３とがこの順で積層されてなるものである。
【００１９】
光学フィルム用転写積層体１は、例えば、直線偏光板の光学機能層や、逆分散延伸フィルム等からなる、透過光に１／４波長分の位相差を付与する光学機能層などに転写される転写層、すなわち位相差層１３と、配向膜１２とを含む転写層を有する光学フィルム用転写積層体である。この光学フィルム用転写積層体１では、例えば、位相差層１３上に逆分散延伸フィルム等の高分子フィルムを粘着剤を介して貼合することで転写層を転写し、さらに直線偏光板を貼合させることによって、所定の光学フィルムを作製することができる。このとき、その光学フィルムの作製に際しては、光学フィルム用転写積層体１に逆分散延伸フィルム等の基材に転写層を転写した後に、離型性を有する支持体基材のみが剥離される。
【００２０】
本実施の形態に係る光学フィルム用転写積層体１においては、支持体基材１１上に積層される配向膜１２が、フッ素を含有する界面活性剤を所定の割合で含む配向膜組成物を硬化させた硬化物により構成されていることを特徴とする。
【００２１】
このような光学フィルム用転写積層体１では、配向膜組成物中の界面活性剤に含まれるフッ素が、配向膜１２の支持体基材１１との界面側に存在するようになる。すると、支持体基材１１の剥離強度、より具体的には、支持体基材１１を高速剥離したときの剥離強度を弱めることができるようになる。これにより、高速で支持体基材１１を剥離した場合であっても、被転写体に対する転写積層体の転写不良の発生を効果的に抑制することができ、高い生産性でもって光学フィルムを製造することができる。
【００２２】
＜１−１．支持体基材＞
支持体基材１１は、配向膜１２を指示する機能を有し、長尺に形成された、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなるフィルム材である。
【００２３】
この支持体基材１１は、光学フィルム用転写積層体１において離型性支持体として機能し、転写層をなす配向膜１２及び位相差層１３を支持するものであるとともに、その表面にコロナ放電処理やプラズマ処理等の公知の易接着処理がなされておらず、配向膜１２に対して剥離可能な程度の接着力を有するものである。
【００２４】
支持体基材１１の厚みとしては、特に限定されないが、例えば２０μｍ〜２００μｍの範囲内とすることが好ましい。支持体基材１１の厚さが２０μｍ未満であると、光学フィルム用転写積層体として最低限必要な自己支持性を付与できない場合があり好ましくない。一方で、厚さが２００μｍを超えると、光学フィルム用転写積層体が長尺状である場合に、長尺状の光学フィルム用転写積層体を裁断加工して枚葉の光学フィルム用転写積層体とするにあたって、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまうことがあり好ましくない。
【００２５】
＜１−２．配向膜＞
配向膜１２は、上述した支持体基材１１上に配向膜用組成物（配向膜組成物）を塗工して硬化させることによって得られ、配向規制力を発現する。ここで、配向規制力とは、配向膜１２上に重合性液晶化合物（液晶材料）からなる層（位相差層１３）を形成したとき、その液晶化合物を所定の方向に配列（配向）させる機能をいう。配向膜１２は、例えば、偏光照射により光配向性を発揮する光配向材料を用い、光照射によって配向させる光配向方式により形成することができる。
【００２６】
配向膜１２は、特に限定されるものではないが、例えば、位相差層１３における液晶化合物の分子の分子軸をホメオトロピック配向（垂直配向）させる垂直配向膜により構成することができる。この垂直配向膜としては、ＶＡ液晶表示装置等に適用される各種の垂直配向膜を適用することができ、例えば、ポリイミド配向膜、ＬＢ膜による配向膜等を適用することができる。
【００２７】
より具体的に、垂直配向膜としては、例えば、レシチン、シラン系界面活性剤、チタネート系界面活性剤、ピリジニウム塩系高分子界面活性剤、ｎ−オクタデシルトリエトキシシラン等のシランカップリング系垂直配向膜用組成物、長鎖アルキル基や脂環式構造を側鎖に有する可溶性ポリイミドや長鎖アルキル基や脂環式構造を側鎖に有するポリアミック酸等のポリイミド系垂直配向膜用組成物等の材料を用いて形成することができる。なお、垂直配向膜用組成物として、ジェイエスアール（株）製のポリイミド系垂直配向膜用組成物「ＪＡＬＳ−２０２１」や「ＪＡＬＳ−２０４」、日産化学工業（株）製の「ＲＮ−１５１７」、「ＳＥ−１２１１」、「ＥＸＰＯＡ−０１８」等の市販品を適用することができる。
【００２８】
配向膜組成物中に用いる溶媒（希釈溶媒）としては、配向材料を所望の濃度に溶解できるものであれば特に限定されるものでなく、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン（ＣＨＮ）等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＭＥ）等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）等のエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、シクロヘキサン等のアノン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール（以下、「ＩＰＡ」という。）等のアルコール系溶媒を例示することができる。また、溶媒は、１種類であってもよいし、２種類以上の溶媒の混合溶媒であってもよい。
【００２９】
このような、垂直配向膜等からなる配向膜１２は、上述したような材料を含有する配向膜組成物による塗工液を支持体基材１１に塗布して乾燥し、加熱することにより作製される。このようにして作製された硬化物により配向膜１２が構成される。
【００３０】
ここで、本実施の形態に係る光学フィルム用転写積層体１においては、その配向膜１２が、フッ素を含有する界面活性剤（フッ素含有界面活性剤）を所定の割合で含む配向膜組成物からなることを特徴としている。具体的には、フッ素含有界面活性剤を、組成物中に０．０２５質量％以上０．１質量％以下の割合で含む配向膜組成物により構成される。
【００３１】
詳しくは後述するように、このような配向膜１２を有する光学フィルム用転写積層体１によれば、支持体基材１１の剥離強度、具体的には、支持体基材１１を高速剥離したときの剥離強度を弱めることができるようになり、生産性を高めるために高速で支持体基材１１を剥離した場合であっても、被転写体に対する転写積層体の転写不良の発生を抑制することができる。
【００３２】
＜１−３．位相差層（液晶層）＞
位相差層（液晶層）１３は、重合性液晶組成物を含有する。この重合性液晶組成物は、液晶性を示し分子内に重合性官能基を有する液晶化合物（棒状化合物）を含有する。
【００３３】
液晶化合物は、屈折率異方性を有し、規則的に配列することにより所望の位相差性を付与する機能を有する。液晶化合物としては、例えば、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を示す材料が挙げられるが、他の液晶相を示す液晶化合物と比較して規則的に配列させることが容易である点で、ネマチック相の液晶性を示す材料を用いることが好ましい。ネマチック相を示す液晶化合物としては、メソゲン両端にスペーサを有する材料であることが好ましい。メソゲン両端にスペーサを有する液晶化合物は、柔軟性に優れるため、光学フィルム用転写積層体１を透明性に優れたものにすることができる。
【００３４】
また、上述した配向膜１２を垂直配向膜からなるものとし、液晶化合物をホメオトロピック配向させる場合には、ホメオトロピック配向を形成することができるホメオトロピック液晶材料であれば特に限定されない。なお、ホメオトロピック液晶材料としては、垂直配向膜を使用することなく、ホメオトロピック配向を形成できるものと、垂直配向膜を使用することによりホメオトロピック配向を形成できるものとを挙げることができるが、本実施の形態においては、どちらであっても好適に用いることができる。
【００３５】
液晶化合物は、上述したように分子内に重合性官能基を有する重合性液晶化合物である。重合性官能基を有することにより、液晶化合物を重合して固定することが可能になるため、配列安定性に優れ、位相差性の経時変化が生じにくくなる。また、重合性液晶化合物は、分子内に三次元架橋可能な重合性官能基を有することがより好ましい。三次元架橋可能な重合性官能基を有することで、配列安定性をより一層高めることができる。なお、「三次元架橋」とは、液晶性分子を互いに三次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることをいう。
【００３６】
重合性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の電離放射線、あるいは熱の作用によって重合するものを挙げることができる。これら重合性官能基としては、ラジカル重合性官能基、カチオン重合性官能基等が挙げられる。ラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも１つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、例えば、置換基を有する若しくは有さないビニル基、アクリレート基（アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称）等が挙げられる。また、カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、イソシアネート基、不飽和３重結合等が挙げられる。その中でも、プロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。
【００３７】
重合性液晶化合物の量としては、配向膜１２上に塗工する塗工方法に応じて、位相差層形成用塗工液（液晶組成物）の粘度を所望の値に調整できるものであれば特に限定されないが、例えば、液晶組成物中の量として５〜４０質量部程度の範囲内とすることができる。なお、重合性液晶化合物は、１種単独で又は２種以上を混合して用いることができる。
【００３８】
上述した液晶化合物は、通常、溶媒（希釈溶媒）に溶かされている。溶媒としては、液晶化合物等を均一に分散できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン（ＣＨＮ）等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＭＥ）等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）等のエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、シクロヘキサン等のアノン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、溶媒は、１種類であってもよく、２種類以上の溶媒の混合溶媒であってもよい。
【００３９】
溶媒の量としては、特に限定されるものではなく、例えば液晶化合物１００質量部に対して６６〜９００質量部程度とすることができる。溶媒の量が６６質量部未満であると、液晶化合物を均一に溶かすことができない可能性があり好ましくない。一方で、９００質量部を超えると、溶媒の一部が残存し、信頼性が低下する可能性、及び均一に塗工できない可能性があり好ましくない。
【００４０】
その他、液晶組成物には、上述した液晶化合物の配列秩序を害するものでなければ、必要に応じて他の化合物を含んでもよい。例えば、重合禁止剤、可塑剤、界面活性剤、及びシランカップリング剤等を挙げることができる。
【００４１】
上述したような液晶組成物を配向膜１２上に塗工して形成される位相差層１３の厚さとしては、特に限定されるものでないが、適切な配向性能を得るためには、５００〜２０００ｎｍ程度であることが好ましい。
【００４２】
≪２．配向膜について≫
上述したように、本実施の形態に係る光学フィルム用転写積層体１においては、その配向膜１２が、フッ素を含有する界面活性剤を所定の割合で含む配向膜組成物からなることを特徴としている。具体的には、フッ素含有界面活性剤を、０．０２５質量％以上０．１質量％以下の割合で含む配向膜組成物により構成される。
【００４３】
このようなフッ素含有界面活性剤を所定の割合で含む配向膜組成物により形成された配向膜１２を有する光学フィルム用転写積層体１では、支持体基材１１とその配向膜１２との界面に、フッ素が存在するようになる。支持体基材１１と配向膜１２との界面に存在するフッ素は、配向膜組成物中の界面活性剤に含まれるフッ素に由来するものである。ここで、界面活性剤に由来するフッ素は、比較して親水性である支持体基材１１側よりも大気側（比較して疎水性）へ多くブリードアウトする。ところが、大気側にブリードアウトしきれなかった少数のフッ素は、配向膜１２中に存在するよりも支持体基材１１側に移行する方が安定化するため、このことにより、支持体基材１１と配向膜１２との界面にそれらフッ素が存在するようになると推測される。
【００４４】
このように、支持体基材１１と配向膜１２との界面にフッ素が存在している光学フィルム用転写積層体１では、支持体基材１１と配向膜１２との界面を剥離界面としたときの支持体基材１１の剥離強度、より具体的には、支持体基材１１を高速剥離したときの剥離強度を弱めることができるようになる。これにより、例えば、生産性を高めるために高速で支持体基材１１を剥離した場合であっても、被転写体に対する転写積層体の転写不良（泣き別れ）の発生を効果的に抑制することができる。
【００４５】
例えば、剥離速度が３０ｍ／ｍｉｎ程度よりも低い速度では、従来の転写積層体と比較して剥離強度に変化はないものの、それよりも高速で剥離すると、フッ素含有界面活性剤を含む配向膜１２を有する光学フィルム用転写積層体１においては、その剥離強度を有効に弱めることができる。より具体的には、例えば剥離速度を５０ｍ／ｍｉｎとしたときには、剥離強度が０．３５０［Ｎ／５０ｍｍ］以下となる。
【００４６】
なお、下記の実施例にて詳しく示すように、比較例（従来）のサンプル（界面活性剤無し）の転写積層体を用いた場合、剥離速度５０ｍ／ｍｉｎの時の剥離強度がおよそ０．４２５［Ｎ／５０ｍｍ］となるに対して、光学フィルム用転写積層体１（実施例）では、同じ５０ｍ／ｍｉｎの剥離速度での剥離強度が０．３５０［Ｎ／５０ｍｍ］以下となり、光学フィルム用転写積層体１を用いることで遥かに剥離強度を弱めることができることが分かる。
【００４７】
このようなことは、高速で剥離するほど、顕著に剥離強度の低下の効果が現れ、例えば生産性を高めるために高速で支持体基材１１を剥離する場合であっても、被転写体に対する転写積層体の転写不良の発生を効果的に抑制できる。
【００４８】
また、このように配向膜組成物中にフッ素を含有する界面活性剤を含ませることによって、優れた均一塗布性（レベリング性）を発揮させることも可能となり、形成される配向膜１２をより平滑化させることができる。
【００４９】
配向膜１２に含有させるフッ素含有界面活性剤としては、フッ素を含有する界面活性剤であれば特に限定されず、カチオン性、アニオン性、両性、ノニオン性の何れでもよい。
【００５０】
例えば、カチオン性フッ素系界面活性剤としては、パーフルオロアルキルトリメチルアンモニウムヨウ化物のようなパーフルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩類が挙げられる。また、アニオン性フッ素系界面活性剤としては、例えば、パーフルオロアルキルスルホン酸アンモニウム塩、パーフルオロアルキルスルホン酸カリウム塩、パーフルオロアルキルスルホン酸ナトリウム塩等のパーフルオロアルキルスルホン酸塩類、パーフルオロアルキルカルボン酸アンモニウム塩、パーフルオロアルキルカルボン酸カリウム塩、パーフルオロアルキルカルボン酸ナトリウム塩等のパーフルオロアルキルカルボン酸塩類、パーフルオロアルキルナフタレンスルホン酸塩類、パーフルオロアルキルベンゼンスルホン酸塩類、パーフルオロアルキルジアリルスルホン酸塩類、パーフルオロアルキル燐酸エステル類等が挙げられる。また、両性フッ素系界面活性剤としては、例えば、パーフルオロアルキルアミノスルホン酸塩（パーフルオロアルキルベタイン）類が挙げられる。また、ノニオン性フッ素系界面活性剤としては、例えば、パーフルオロアルキルエチレンオキサイド付加物、パーフルオロアルキルエステル類、パーフルオロアルキル基・親水性基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基・親油基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基含有オリゴマー、パーフルオロアルキル基・親油基含有ウレタン、パーフルオロアルキルオリゴマー、パーフルオロアルキルアミンオキサイド、パーフルオロアルキル基含有シリコーンのエチレンオキサイド付加物等が挙げられる。
【００５１】
フッ素含有界面活性剤の含有量に関しては、上述したように、０．０２５質量％以上０．１質量％以下の割合とする。その含有量が０．０２５質量％未満であると、高速剥離したときの剥離強度を有効に弱めることができず、転写不良を効果的に抑制することができない。
【００５２】
一方で、含有量が０．１質量％を超えると、高速剥離時における剥離強度を弱くする効果は得られるものの、多くのフッ素が配向膜１２に含まれるようになるため、その配向膜１２上に液晶組成物を含む位相差層形成用塗工液を塗工する際に、その塗工液を均一に配向膜１２上に塗工することができず配向膜１２が露出してしまう、いわゆるハジキを発生させる。これにより、位相差層１３との密着不良が生じるとともに、ハジキが生じた部分の位相差が小さくなり欠点等を発生させて外観不良を引き起こすことにもなり、さらに、歩留まりの低下の原因にもなる。
【００５３】
≪３．光学フィルム用転写積層体の製造方法≫
次に、光学フィルム用転写積層体の製造方法について説明する。図２は、光学フィルム用転写積層体１の製造工程の流れを示すフロー図である。なお、以下の製造方法の説明では、配向膜１２が垂直配向膜により構成される場合を例に挙げて説明するが、これに限られない。
【００５４】
図２に示すように、光学フィルム用転写積層体１の製造においては、先ず、ロールに巻き取った長尺フィルムからＰＥＴフィルムからなる支持体基材１１が提供される（Ｓ１）。
【００５５】
次に、配向膜形成工程（Ｓ２）において、ロールから繰り出した支持体基材１１上に垂直配向膜の塗工液（配向膜組成物）を塗工し、乾燥機等を用いて熱硬化させる処理を施す。これにより支持体基材１１上に垂直配向膜を作製し、配向膜１２を形成する。このとき、本実施の形態においては、フッ素を含有する界面活性剤を０．０２５質量％以上０．１質量％以下の割合で含有する配向膜組成物を支持体基材１１上に塗工して配向膜１２を形成する。
【００５６】
次に、位相差層形成工程（Ｓ３）において、液晶化合物を含有する液晶組成物の塗工液（位相差層形成用塗工液）を、配向膜１２上に塗工する。その後、乾燥させて紫外線等の照射により硬化させることによって、位相差層（液晶層）１３を形成する。なお、紫外線照射処理に先立ち、位相差層１３の層厚を均一にするためのレベリング処理を施すようにしてもよい。
【００５７】
ここで、本実施の形態においては、上述したように、フッ素含有界面活性剤を０．０２５質量％以上０．１質量％以下の割合で含有する配向膜組成物を支持体基材１１上に塗工することによって配向膜１２を形成している。このような配向膜１２においては、支持体基材１１とその配向膜１２との界面に、界面活性剤に由来するフッ素が存在するようになり、このことにより、支持体基材１１を高速剥離したときの剥離強度を弱めることができるようになる。これにより、生産性を高めるために高速で支持体基材１１を剥離した場合であっても、被転写体に対する転写積層体の転写不良の発生を効果的に抑制することができる。
【００５８】
このようにして、支持体基材１１／配向膜１２／位相差層１３がこの順で積層されてなる積層体フィルムを製造し、得られたフィルムを巻き取りリール等で巻き取った後、所望の大きさに切り出す切断処理を行う。このような工程を経て、光学フィルム用転写積層体１が作製される。
【００５９】
なお、支持体基材１１上への配向膜組成物の塗工方法や、配向膜１２上への位相差層形成用塗工液の塗工方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、ダイコート法、グラビアコート法、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、Ｅ型塗布方法等を用いることができる。
【００６０】
≪４．光学フィルム用転写積層体を用いた光学フィルムの作製方法≫
次に、上述した光学フィルム用転写積層体を用いて転写法により光学フィルムを作製する方法について説明する。図３は、本実施の形態に係る光学フィルム用転写積層体１を用いて、逆分散延伸フィルムからなる、透過光に１／４波長分の位相差を付与する光学機能層に光学フィルム用転写積層体１の転写層を転写して光学フィルムを作製する際の工程の流れを示す図である。なお、この図３は、フィルムの断面を示す図であり、各工程におけるフィルムの層構造について示しながら工程の流れを示す図である。また、フィルムの層構造についてはこれに限定されない。
【００６１】
先ず、図３（ａ）に示すように、ＰＥＴフィルムからなる支持体基材１１（離型性基材）上に、例えば垂直配向膜からなる配向膜１２を形成し、その配向膜１２上に液晶組成物を含有する位相差層形成用塗工液を塗工して位相差層（液相層）１３を形成し、光学フィルム用転写積層体１を作製する。ここで、上述したように、この光学フィルム用転写積層体１の作製においては、フッ素含有界面活性剤を０．０２５質量％以上０．１質量％以下の割合で含有する配向膜組成物を用いて配向膜１２が構成されている。
【００６２】
次に、図３（ｂ）に示すように、作製した光学フィルム用転写積層体１の位相差層１３上に、例えばＵＶ接着剤等を含有する接着層２１を形成し、その接着層２１上に高分子フィルム（保護フィルム）２２を形成して、光学フィルム用転写積層体１を転写する。
【００６３】
接着層２１としては、紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、感圧接着剤等、各種の接着剤を広く適用することができるが、その中でも、全体の厚みを薄くする観点から紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂を適用してＵＶ接着層とすることが好ましく、この場合には、厚み１μｍ程度の接着層を作製することができる。なお、接着層２１には粘着層を適用してもよい。
【００６４】
また、高分子フィルムとしては、特に限定されないが、例えば逆分散特性を備えた延伸フィルム（以下、「逆分散延伸フィルム２２」ともいう）を用いることができる。この逆分散延伸フィルム２２は、１軸方向に延伸、若しくは所望の方向に斜め延伸した、例えばＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）フィルムで形成されており、遅相軸が、直線偏光板の吸収軸に対して反時計回りにθ２度の角度をなすように配置され、透過光に１／４波長分の位相差を付与する１／４波長板用位相差層としての役割を担う。このような逆分散延伸フィルム２２を用いることにより、例えば、基材、１／４波長板用樹脂層、１／４波長板用配向膜の構成を省略することができので、光学フィルムの全体の層厚みを薄くすることができる。
【００６５】
逆分散延伸フィルム等の高分子フィルム２２を光学フィルム用転写積層体１に積層させて転写すると、次に、図３（ｃ）に示すように、光学フィルム用転写積層体１の支持体基材１１を剥離する。光学フィルム用転写積層体１は、このように他の基材（高分子フィルム等）に転写層（位相差層１３、配向膜１２）を転写するために、離型性支持体としての役割を担う支持体基材１１が剥離される。なお、支持体基材１１の剥離は、後述する直線偏光板を積層させた後に行うようにしてもよい。
【００６６】
そして、光学フィルム用転写積層体１の支持体基材１１を剥離すると、次に、図３（ｄ）に示すように、粘着剤層３１を備えた直線偏光板を積層する。
【００６７】
直線偏光板としては、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルムからなる基材３４の下面側が鹸化処理された後、光学機能層が配置される。なお、基材３４は、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂等の樹脂、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛硝子、石英硝子等の硝子等を適用することもできる。
【００６８】
光学機能層は、直線偏光板としての光学的機能を担う部位であり、例えば、偏光子３３と、アクリル樹脂等からなる透明の保護フィルム（基材）３２とが順に積層されたものを用いることができる。このような直線偏光板を、粘着剤層３１を介して逆分散延伸フィルム等の高分子フィルム２２に貼り合わせる。
【００６９】
以上のような工程に基づき、光学フィルム用転写積層体１を用いて転写法により光学フィルムを作製することができる。特に、本実施の形態においては、光学フィルム用転写積層体１の配向膜１２にフッ素を含有する界面活性剤を含有させていることにより、そのフッ素が支持体基材１１と配向膜１２との界面に存在するようになり、支持体基材１１を高速で剥離するときの剥離強度を弱めることができる。これにより、被転写体に対する転写積層体の転写不良の発生を効果的に抑制することができ、生産性を高めることができる。
【００７０】
なお、上述したように、光学フィルム用転写積層体１において垂直配向膜からなる配向膜１２を有するものとし、その光学フィルム用転写積層体１の位相差層１３上に接着層２１を介して逆分散延伸フィルム２２を積層させ、その逆分散延伸フィルム２２上に、透明フィルムからなる基材３２，３４により挟持された偏光子３３を備える直線偏光板を設けることで、簡易に、且つ高い生産性でもって、逆分散特性による正のＣプレートを備えた光学フィルムを得ることができる。
【実施例】
【００７１】
以下、本発明の実施例を示してさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００７２】
＜実施例及び比較例＞
［実施例１］
（光学フィルム用転写積層体の作製）
コロナ放電処理等の易剥離処理がなされていない３８μｍの厚みのＰＥＴ基材（メーカー名，品番）を用い、その片面に垂直配向膜用組成物を膜厚３μｍになるようにコーティングし、２０ｍＪ／ｃｍ２の偏光紫外線を照射して配向膜を作製した。ここで、その垂直配向膜用組成物としては、三洋化成工業（株）製のファインキュアーＰＸＶ−１８を用いて、その組成物中に、フッ素含有界面活性剤（ＤＩＣ社製，メガファックＦ−５５４）を０．０２５質量％の割合で添加したものを用いた。
【００７３】
続いて、形成した配向膜上に、液晶層組成物（メルク（株）製，ＲＭＭ２８Ｂ）をダイコーティングにより塗工し、約１μｍ厚みの位相差層（液晶層）を形成した。このようにして、基材（支持体基材）、配向膜、位相差層がこの順で積層された光学フィルム用転写積層体を作製した。
【００７４】
（光学フィルム用転写積層体の転写）
次に、上述のようにして得られた光学フィルム用転写積層体を用い、逆分散延伸フィルムを被転写体とした転写を行った。具体的には、先ず、得られた光学フィルム用転写積層体の位相差層上に、ＵＶ接着剤を含有する接着層を形成し、その接着層上にＣＯＰフィルムからなる逆分散延伸フィルムを貼合して、光学フィルム用転写積層体における転写層（位相差層、配向膜）を転写させた。そして、逆分散延伸フィルムを貼合させた後、ＰＥＴ基材と配向膜との界面を剥離界面としてＰＥＴ基材を剥離させた。
【００７５】
この実施例では、このＰＥＴ基材の剥離において、剥離速度を変化させてＰＥＴ基材を剥離したときの剥離強度［Ｎ／５０ｍｍ］を測定した。
【００７６】
（ＰＥＴ基材剥離後における配向膜側表面のＸＰＳ分析）
実施例１では、光学フィルム用転写積層体を用いて逆分散延伸フィルムに転写層を転写し、その転写積層体のＰＥＴ基材剥離後の配向膜側表面における元素分析を行った。この元素分析は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により、サーモフィッシャーサイエンティフィック社製のＸ線分光分析装置ＥＳＣＡＬＡＢ  ２２０ｉ−ＸＬを用いて行った。下記表１に、ＰＥＴ基材剥離後の配向膜表面のＸＰＳ分析結果を示す。
【００７７】
【表１】
2015148745.tif 000003
【００７８】
表１の分析結果に示されるように、ＰＥＴ基材剥離後の配向膜表面、すなわちＰＥＴ基材と配向膜との界面には、界面活性剤に含まれる成分であるフッ素が０．３ａｔ％存在していることが分かった。
【００７９】
［実施例２］
垂直配向膜用組成物として、フッ素含有界面活性剤（ＤＩＣ社製，メガファックＦ−５５４）を０．０５０質量％の割合で添加したものを用いて配向膜を作製したこと以外は、実施例１と同様にして光学フィルム用転写積層体を作製し、続いて、逆分散延伸フィルムを被転写体とした転写処理を行った。そして、この実施例２のサンプルにおいても、剥離速度を変化させてＰＥＴ基材を剥離したときの剥離強度［Ｎ／５０ｍｍ］を測定した。
【００８０】
［実施例３］
垂直配向膜用組成物として、フッ素含有界面活性剤（ＤＩＣ社製，メガファックＦ−５５４）を０．１００質量％の割合で添加したものを用いて配向膜を作製したこと以外は、実施例１と同様にして光学フィルム用転写積層体を作製し、続いて、逆分散延伸フィルムを被転写体とした転写処理を行った。そして、この実施例３のサンプルにおいても、剥離速度を変化させてＰＥＴ基材を剥離したときの剥離強度［Ｎ／５０ｍｍ］を測定した。
【００８１】
［比較例１］
垂直配向膜用組成物として、フッ素含有界面活性剤を添加しなかったこと以外は、実施例１と同様にして光学フィルム用転写積層体を作製し、続いて、逆分散延伸フィルムを被転写体とした転写処理を行った。そして、この比較例１のサンプルにおいても、剥離速度を変化させてＰＥＴ基材を剥離したときの剥離強度［Ｎ／５０ｍｍ］を測定した。
【００８２】
＜結果＞
図４は、実施例１〜３の光学フィルム用転写積層体と、比較例１の光学フィルム用転写積層体について、その剥離速度を変化させてＰＥＴ基材を剥離したときの剥離強度［Ｎ／５０ｍｍ］を測定したときの結果を示すグラフ図である。
【００８３】
図４のグラフから分かるように、例えば剥離速度が３０ｍ／ｍｉｎ程度よりも低い速度では、それぞれの転写積層体において剥離強度に差はないものの、それよりも高速で剥離すると、フッ素含有界面活性剤を含む配向膜を有する実施例１〜３の光学フィルム用転写積層体においては、その剥離強度が弱くなることが分かる。
【００８４】
具体的には、フッ素含有界面活性剤を添加していない比較例１の光学フィルム用転写積層体では、剥離速度５０ｍ／ｍｉｎでＰＥＴ基材を剥離したときの剥離強度がおよそ０．４２５［Ｎ／５０ｍｍ］であったのに対して、フッ素含有界面活性剤を所定量添加して配向膜を構成した実施例１〜３の光学フィルム用転写積層体では、その剥離速度５０ｍ／ｍｉｎでの剥離強度が０．３５０［Ｎ／５０ｍｍ］以下となり、有効に弱まっていることが分かる。
【００８５】
そして、このような実施例１〜３の光学フィルム用転写積層体では、剥離速度が３０ｍ／ｍｉｎを超える高速で剥離するほど、顕著に剥離強度の低下の効果が現れることが分かる。このことから、実施例１〜３のような光学フィルム用転写積層体によれば、例えば生産性を高めるために高速で支持体基材を剥離する場合であっても、被転写体に対する転写積層体の転写不良の発生を効果的に抑制できることが分かる。
【符号の説明】
【００８６】
１    光学フィルム用転写積層体
１１  支持体基材
１２  配向膜
１３  位相差層（液晶層）
【図１】
2015148745.tif 000004
【図２】
2015148745.tif 000005
【図３】
2015148745.tif 000006
【図４】
2015148745.tif 000007