(57)【要約】【課題】シールを高精度なパターン形状で簡単に設けることを目的とする。【解決手段】有機ＥＬ表示装置は、有機ＥＬ層を含む複数層からなる回路基板１０と、回路基板１０の有機ＥＬ層が設けられた面に、間隔をあけて対向する対向基板２８と、回路基板１０と対向基板２８の間で、有機ＥＬ層の周囲に設けられたシール３８と、回路基板１０及び対向基板２８並びにシール３８によって囲まれた空間に充填された充填剤４０と、対向基板２８の空間側に積層されたカラーフィルタ層３４及びブラックマトリクス層３２と、を有し、シール３８は、カラーフィルタ層３４及びブラックマトリクス層３２の少なくとも一方と同じ材料の層４２を含む。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機エレクトロルミネッセンス層を含む複数層からなる回路基板と、
前記回路基板の前記有機エレクトロルミネッセンス層が設けられた面に、間隔をあけて対向する対向基板と、
前記回路基板と前記対向基板の間で、前記有機エレクトロルミネッセンス層の周囲に設けられたシールと、
前記回路基板及び前記対向基板並びに前記シールによって囲まれた空間に充填された充填剤と、
前記対向基板の前記空間側に積層されたカラーフィルタ層及びブラックマトリクス層と、
を有し、
前記シールは、前記カラーフィルタ層及び前記ブラックマトリクス層の少なくとも一方と同じ材料の層を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、
前記カラーフィルタ層は、複数色の着色層を含み、
前記シールは、少なくとも２層の積層構造を含み、
前記少なくとも２層の積層構造は、それぞれ、少なくとも２つの色の前記着色層と同じ材料からなることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、
前記カラーフィルタ層及び前記ブラックマトリクス層を覆うように前記対向基板に設けられたオーバーコート層をさらに有し、
前記シールは、前記オーバーコート層と同じ材料からなる層をさらに含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項４】
請求項３に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、
前記オーバーコート層と同じ材料からなる前記層は、前記オーバーコート層よりも厚く形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、
前記シールの外側に設けられた樹脂からなる補強層をさらに有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、
前記シールは、切れ目を有するように形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、
前記回路基板と前記対向基板の間で前記空間を形成するための間隔を保持するスペーサ層をさらに有し、
前記シールは、前記スペーサ層と同じ材料からなる層をさらに含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス表示装置では、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）基板に、その上にあるＯＬＥＤ（Organic light-Emitting Diode）素子部に対向するように、対向基板を貼り合わせるようになっている。この構造では、ＴＦＴ基板上に形成したＯＬＥＤ素子部の信頼性を確保するため、ＯＬＥＤ素子上にＳｉＮ等で封止膜を形成し、更に内部反射による光の損失を低減する目的で、充填剤を介して対向基板を貼り合せる（特許文献１及び２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−３３８９４６号公報
【特許文献２】特開２００５−３０２７４０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
充填剤は、シールによって囲まれた封止空間に充填されている。詳しくは、シールをＴＦＴ基板の周縁部にダムの形状で設け、ダムの内側に充填剤を滴下し、対向基板を貼り合わせていた。ダムの形成は、ディスペンサによって行うため、専用の設備と材料が必要であり、ディスペンサでは高精度なパターン形状の作製も困難であった。
【０００５】
本発明は、シールを高精度なパターン形状で簡単に設けることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
（１）本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、有機エレクトロルミネッセンス層を含む複数層からなる回路基板と、前記回路基板の前記有機エレクトロルミネッセンス層が設けられた面に、間隔をあけて対向する対向基板と、前記回路基板と前記対向基板の間で、前記有機エレクトロルミネッセンス層の周囲に設けられたシールと、前記回路基板及び前記対向基板並びに前記シールによって囲まれた空間に充填された充填剤と、前記対向基板の前記空間側に積層されたカラーフィルタ層及びブラックマトリクス層と、を有し、前記シールは、前記カラーフィルタ層及び前記ブラックマトリクス層の少なくとも一方と同じ材料の層を含むことを特徴とする。本発明によれば、シールは、カラーフィルタ層及びブラックマトリクス層の少なくとも一方と同時に形成することができるので、高精度なパターン形状で簡単に設けることができる。
【０００７】
（２）（１）に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、前記カラーフィルタ層は、複数色の着色層を含み、前記シールは、少なくとも２層の積層構造を含み、前記少なくとも２層の積層構造は、それぞれ、少なくとも２つの色の前記着色層と同じ材料からなることを特徴としてもよい。
【０００８】
（３）（１）又は（２）に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、前記カラーフィルタ層及び前記ブラックマトリクス層を覆うように前記対向基板に設けられたオーバーコート層をさらに有し、前記シールは、前記オーバーコート層と同じ材料からなる層をさらに含むことを特徴としてもよい。
【０００９】
（４）（３）に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、前記オーバーコート層と同じ材料からなる前記層は、前記オーバーコート層よりも厚く形成されていることを特徴としてもよい。
【００１０】
（５）（１）から（４）のいずれか１項に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、前記シールの外側に設けられた樹脂からなる補強層をさらに有することを特徴としてもよい。
【００１１】
（６）（１）から（５）のいずれか１項に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、前記シールは、切れ目を有するように形成されていることを特徴としてもよい。
【００１２】
（７）（１）から（６）のいずれか１項に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、前記回路基板と前記対向基板の間で前記空間を形成するための間隔を保持するスペーサ層をさらに有し、前記シールは、前記スペーサ層と同じ材料からなる層をさらに含むことを特徴としてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置を示す平面図である。
【図２】図１に示す有機エレクトロルミネッセンス表示装置のII−II線断面図である。
【図３】実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の変形例１を示す図である。
【図４】実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の変形例２を示す図である。
【図５】実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の変形例３を示す図である。
【図６】実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の変形例４を示す図である。
【図７】実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の変形例５を示す図である。
【図８】実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の変形例６を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。
【００１５】
図１は、本発明の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置を示す平面図である。図２は、図１に示す有機エレクトロルミネッセンス表示装置のII−II線断面図である。
【００１６】
有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、テレビ受像機、パーソナルコンピュータ用モニタ、ノート型パーソナルコンピュータ、ＰＤＡ（Personal Digital Assistant）、携帯電話機、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、カーナビゲーション用モニタなどに使用することができる。
【００１７】
有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、回路基板１０を有する。回路基板１０は、複数層からなる。複数層の１層は、ガラス等からなる第１基板１２である。第１基板１２には、図示しない薄膜トランジスタなどの回路を含む回路層１４が形成されている。複数層の少なくとも１層は、有機エレクトロルミネッセンス層１６である。
【００１８】
図示しない薄膜トランジスタのソース電極（又はドレイン電極）に接続されるように、下部電極１８（例えば画素電極となる陽極）が形成されている。下部電極１８の下には光を反射する反射層２０がある。下部電極１８の一部を露出させるように、絶縁体からなるバンク層２２が形成されている。バンク層２２の開口で下部電極１８に接触するように、有機エレクトロルミネッセンス層１６が形成されている。有機エレクトロルミネッセンス層１６は、少なくとも発光層を含み、例えば、下部電極１８から順に、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層が積層された構造が知られている。有機エレクトロルミネッセンス層１６の上には上部電極２４（例えば共通電極となる陰極）が形成されている。有機エレクトロルミネッセンス層１６は、例えば無機材料（例えばＳｉＮ，ＳｉＯ，ＳｉＯＮ）などからなる封止層２６によって覆われている。
【００１９】
有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、対向基板２８を有する。対向基板２８は、回路基板１０から間隔をあけて、回路基板１０の有機エレクトロルミネッセンス層１６が設けられた面に対向する。対向基板２８は、複数層からなる。複数層の１層は、ガラス等からなる第２基板３０である。
【００２０】
対向基板２８の、回路基板１０との間に形成される空間側には、ブラックマトリクス層３２及びが積層されている。第２基板３０には、ブラックマトリクス層３２が形成されている。また、第２基板３０には、カラーフィルタ層３４が形成されている。カラーフィルタ層３４は、複数色（例えば、赤、緑及び青）の着色層３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂを含む。カラーフィルタ層３４の一部はブラックマトリクス層３２に載るようになっている。カラーフィルタ層３４を使用するので、この例では、有機エレクトロルミネッセンス層１６は白色の光を発するようになっている。
【００２１】
有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、回路基板１０と対向基板２８の間で、有機エレクトロルミネッセンス層１６の周囲に設けられたシール３８を有する。有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、回路基板１０及び対向基板２８並びにシール３８によって囲まれた空間に充填された充填剤４０を有する。充填剤４０は、光透過性（例えば透明）の樹脂からなり、充填剤４０によって内部反射による光の損失が低減される。
【００２２】
シール３８は、少なくとも２層の積層構造を含む。シール３８は、カラーフィルタ層３４及びブラックマトリクス層３２の少なくとも一方と同じ材料の層４２ＢＭ，４２Ｇ，４２Ｒ，４２Ｂを含む。図２の例では、ブラックマトリクス層３２及び全色の着色層３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂと同じ材料からなる複数の層４２ＢＭ，４２Ｇ，４２Ｒ，４２Ｂが積層されて、シール３８を構成している。シール３８の少なくとも２つ（この例では３つ）の層４２Ｇ，４２Ｒ，４２Ｂの積層構造は、それぞれ、異なる少なくとも２つ（この例では３つ）の色の着色層３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂと同じ材料からなる。
【００２３】
シール３８は、カラーフィルタ層３４及びブラックマトリクス層３２と同時に形成することができる。例えば、ブラックマトリクス層３２とシール３８の一部を構成する層４２ＢＭとを一体的に形成する。ブラックマトリクス層３２は、金属で形成するときは、図示しない金属膜を第２基板３０に形成し、図示しないエッチングマスクの形状に従って、金属膜をエッチングする。エッチングマスクは、ブラックマトリクス層３２とシール３８の一部を構成する層４２ＢＭに対応する形状になっている。エッチングマスクを精密に形成すれば、高精度なパターン形状でシール３８の一部の層４２ＢＭを形成することができる。
【００２４】
ブラックマトリクス層３２は、樹脂で形成するときは、図示しないフォトレジスト層をフォトリスグラフィによってパターニングして形成する。フォトリソグラフィで使用する露光マスク（図示せず）は、ブラックマトリクス層３２とシール３８の一部を構成する層４２ＢＭに対応する形状になっている。露光マスクを精密に形成すれば、高精度なパターン形状でシール３８の一部の層４２ＢＭを形成することができる。
【００２５】
カラーフィルタ層３４の形成プロセスでは、複数の着色層３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂを順に形成する。着色層３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂのそれぞれは、フォトリソグラフィによってフォトレジスト層をパターニングして形成することができる。その場合、フォトリソグラフィでは、着色層３６Ｇと層４２Ｇに対応する露光マスク（図示せず）と、着色層３６Ｒと層４２Ｒに対応する露光マスク（図示せず）と、着色層３６Ｂと層４２Ｂに対応する露光マスク（図示せず）を使用する。シール３８の一部を構成する層４２Ｇ，４２Ｒ，４２Ｂを、それぞれ、対応する着色層３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂと同時に形成する。露光マスクを精密に形成すれば、高精度なパターン形状でシール３８の一部の層４２Ｇ，４２Ｒ，４２Ｂを形成することができる。
【００２６】
本実施形態では、複数色の着色層３６Ｒ，３６Ｇ，３６Ｂを１色ずつ形成する。図２の例では、緑の着色層３６Ｇ、赤の着色層３６Ｒ及び青の着色層３６Ｂを、この順番に形成する。したがって、第２基板３０から順に、緑色の層４２Ｇ、赤色の層４２Ｒ及び青色の層４２Ｂが積層される。
【００２７】
本実施形態によれば、シール３８は、カラーフィルタ層３４及びブラックマトリクス層３２の少なくとも一方と同時に形成することができるので、高精度なパターン形状で簡単に設けることができる。
【００２８】
図３は、実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の変形例１を示す図である。この例では、シール１３８は、ブラックマトリクス層１３２及び複数の着色層と同じ材料からなる複数の層１４２ＢＭ，１４２Ｇ，１４２Ｒから構成されている。シール１３８の少なくとも一部を構成する複数の層１４２Ｇ，１４２Ｒに対応するのは、全色の着色層１３６ではなく、その一部の色（例えば、緑色及び赤色）の着色層１３６である。
【００２９】
図４は、実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の変形例２を示す図である。この例では、図示しないカラーフィルタ層及びブラックマトリクス層２３２を覆うように、オーバーコート層２４４が対向基板２２８に設けられている。そして、シール２３８は、オーバーコート層２４４と同じ材料からなる層２４２Ｃをさらに含む。オーバーコート層２４４と、シール２３８を構成するためにオーバーコート層２４４と同じ材料からなる層２４２Ｃとは連続的に形成されている。オーバーコート層２４４は、光透過性（例えば透明）の樹脂で形成し、着色層よりも耐久性、強度及びバリア性能が高い。着色層と同じ材料からなる層２４２Ｇ，２４２Ｒ，２４２Ｂが、オーバーコート層２４４と同じ材料からなる層２４２Ｃに覆われることでシール２３８の信頼性が向上する。
【００３０】
図５は、実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の変形例３を示す図である。この例では、オーバーコート層３４４と同じ材料からなる層３４２Ｃは、オーバーコート層３４４よりも厚く形成されている。シール３３８は、着色層３３６Ｇと同じ材料からなる層３４２Ｇを有するが、着色層３３６Ｒ，３３６Ｂと同じ材料からなる層を有していない。しかし、シール３３８は、層３４２Ｃを厚く形成することによって必要な高さで形成することができる。
【００３１】
図６は、実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の変形例４を示す図である。この例では、シール４３８の外側に設けられた樹脂からなる補強層４４６をさらに有する。補強層４４６によってシール４３８が補強される。シール４３８が第２基板４３０の周縁部の全周にわたって設けられており、これに対応して、補強層４４６も第２基板４３０の周縁部の全周にわたって設けられている。補強層４４６は、第２基板４３０からはみ出している。補強層４４６の一部は、着色層と同じ材料からシール４３８の一部を構成する層４４２Ｇ，４４２Ｒと重なっているので、シール４３８の一部も構成するようになっている。したがって、図６に示す補強層４４６は、第１基板４１２と第２基板４３０を貼り合わせる前に形成したものである。あるいは、第１基板４１２と第２基板４３０を貼り合わせた後に、シール４３８の外側に補強層４４６を形成してもよい。その場合、補強層４４６は、図６の例とは異なり、シール４３８と第１基板４１２との間に介在しない。
【００３２】
図７は、実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の変形例５を示す図である。この例では、シール５３８は、切れ目５４８を有するように形成されている。これによれば、充填剤が切れ目５４８から漏れるようなっているので、第１基板５１２及び第２基板５３０の少なくとも一方に充填剤を滴下した後、回路基板及び対向基板を貼り合せる際に、余った充填剤や気泡を切れ目５４８から排出することができる。したがって、気泡の少ない充填剤の層を形成することができ、歩留まりを向上させることができる。
【００３３】
図８は、実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の変形例６を示す図である。この例では、回路基板６１０と対向基板６２８の間には、スペーサ層６５０が設けられている。スペーサ層６５０によって、回路基板６１０と対向基板６２８の間の間隔を保持し、両者間に空間が形成される。シール６３８は、スペーサ層６５０と同じ材料からなる層６４２Ｓを含む。この例は、上記実施形態又はいずれかの変形例に組み合わせることができる。
【００３４】
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。例えば、実施形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成で置き換えることができる。
【符号の説明】
【００３５】
１０  回路基板、１２  第１基板、１４  回路層、１６  エレクトロルミネッセンス層、１８  下部電極、２０  反射層、２２  バンク層、２４  上部電極、２６  封止層、２８  対向基板、３０  第２基板、３２  ブラックマトリクス層、３４  カラーフィルタ層、３６Ｒ  着色層、３６Ｇ  着色層、３６Ｂ  着色層、３８  シール、４０  充填剤、４２ＢＭ  層４２、４２Ｇ  層、４２Ｒ  層、４２Ｂ  層、１３２  ブラックマトリクス層、１３８  シール、１４２ＢＭ  層、１４２Ｇ  層、１４２Ｒ  層、２２８  対向基板、２３２  ブラックマトリクス層、２３８  シール、２４２Ｇ  層、２４２Ｒ  層、２４２Ｂ  層、２４２Ｃ  層、２４４  オーバーコート層、３３６Ｒ  着色層、３３６Ｇ  着色層、３３６Ｂ  着色層、３３８  シール、３４２Ｇ  層、３４２Ｃ  層、３４４  オーバーコート層、４１２  第１基板、４３０  第２基板、４３８  シール、４４２Ｇ  層、４４２Ｒ  層、４４６  補強層、５１２  第１基板、５３０  第２基板、５３８  シール、５４８  切れ目、６１０  回路基板、６２８  対向基板、６３８  シール、６４２Ｓ  層、６５０  スペーサ層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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