(57)【要約】      （修正有）【課題】可視光透過率が比較的低く、遮熱性能が高く、ヘイズ値が低く、さらに、電磁波透過性に優れる電磁波透過性積層体を提供する。【解決手段】基板１２と、基板１２上に配置された、少なくとも１種の金属粒子を含有する金属粒子含有層１４とを有する電磁波透過性積層体１０であって、金属粒子が、六角形状乃至円形状の平板状金属粒子を６０個数％以上有し、電磁波透過性積層体１０を金属粒子含有層１４の上から見たときの基板の面積Ａに対する金属粒子の面積の合計値Ｂの割合である面積率〔(Ｂ／Ａ)×１００〕が７０％以上であり、かつ、金属粒子含有層１４中の金属粒子の充填率が５０〜９０質量％である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板上に配置された、少なくとも１種の金属粒子を含有する金属粒子含有層とを有する電磁波透過性積層体であって、
前記金属粒子が、六角形状乃至円形状の平板状金属粒子を６０個数％以上有し、
前記電磁波透過性積層体を前記金属粒子含有層の上から見たときの基板の面積Ａに対する前記金属粒子の面積の合計値Ｂの割合である面積率〔(Ｂ／Ａ)×１００〕が７０％以上であり、かつ、金属粒子含有層中の前記金属粒子の充填率が５０〜９０質量％である、電磁波透過性積層体。
【請求項２】
前記平板状金属粒子の表面が高分子で被覆され、前記平板状金属粒子の質量に対する前記高分子の質量の割合｛（高分子の質量／平板状金属粒子の質量）×１００｝が６５質量％以下である、請求項１に記載の電磁波透過性積層体。
【請求項３】
ＫＥＣ法によって測定した、０．１〜１０００ＭＨｚにおける電磁波シールド性が１ｄＢ以下である、請求項１または２に記載の電磁波透過性積層体。
【請求項４】
ヘイズ値が５％以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の電磁波透過性積層体。
【請求項５】
前記平板状金属粒子のアスペクト比（平均粒子径／平均粒子厚み）が８〜４０である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の電磁波透過性積層体。
【請求項６】
前記平板状金属粒子が、少なくとも銀を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の電磁波透過性積層体。
【請求項７】
前記基板が樹脂基板であり、フィルムミラーに用いられる、請求項１〜３のいずれか１項に記載の電磁波透過性積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁波透過性積層体に係り、特に、金属粒子の充填率および面積率が所定値である金属粒子含有層を有する電磁波透過性積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、二酸化炭素削減のための省エネルギー施策の一つとして、自動車や建物の窓に対する熱線遮蔽性付与材料が開発されている。熱線遮蔽性（日射熱取得率）の観点からは、吸収した光の室内への再放射（吸収した日射エネルギーの約１／３量）がある熱線吸収型より、再放射がない熱線反射型が望ましく、様々な提案がなされている。
例えば、特許文献１のように、金属スパッタにより形成される、金、銀、銅等からなる熱線遮蔽層を形成する方法が開示されている。
また、他には、特許文献２および３において、平板状金属粒子を所定量含む金属粒子含有層を備える熱線遮蔽材が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−１１７９１８号
【特許文献２】特開２０１３−８０２２２号
【特許文献３】特開２０１１−２５３０９４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
一方、近年、自動車のリアウィンドウまたはリアサイドウィンドウや、オフィスビルの窓ガラスに適用すべく、低可視光透過率で高反射型の熱線遮蔽材が求められている。このような熱線遮蔽材は、高い熱線遮蔽性を示しつつ、かつ、可視光透過率が低いことによる目隠し効果も併せ持つことが期待できる。さらに、上記のような用途への応用を考慮すると、携帯電話、地上デジタル放送、ＲＦＩＤなどの通信を阻害しないように、電磁波（特に０．１〜１０００ＭＨｚの電波）透過性が優れることも求められる。つまり、該熱線遮蔽材は、優れた電磁波透過性を示す電磁波透過性積層体であることも求められている。
【０００５】
それに対して、特許文献１に記載されるような従来技術では、金属スパッタ層が、電磁波と干渉し、通信障害を発生しやすいという問題があった。
また、特許文献２および３は、そもそも、高い可視光透過率が要求される場面において高い遮熱性能を持たせるために最適な形態に調整されている。本発明者らが特許文献２および３に記載の熱線遮蔽材を用いて、低可視光透過率（一般的に可視光透過率６０％未満を示す）の積層体を作り、その特性を評価したところ、所望の効果が劣ることが知見された。より具体的には、可視光透過率を低減させるために、特許文献２および３の実施例欄で具体的に記載される金属粒子を用いて、熱線遮蔽材を上から見た時の基板の面積Ａに対する平板状金属粒子の面積の合計値Ｂの割合である面積率〔（Ｂ／Ａ）×１００〕を高めたところ、熱線遮蔽性能が劣ると共に、ヘイズが上昇することを知見した。なお、ヘイズ値は透過光の散乱度合いを示し、ヘイズ値が高いほど散乱が大きく、例えば、該特性を示す熱線遮蔽材を窓ガラスに貼った際に、部屋の内側から外を見た際の、景観がぼやける、または、文字が読みにくくなるなどの問題が発生する。
つまり、従来技術においては、可視光透過率が低〜中程度の領域（可視光透過率６０％未満）において、高い遮熱性能、低いヘイズ値、高い電磁波透過性を全て満足するものはなく、更なる改良が必要であることを見出した。
【０００６】
本発明は、上記実情に鑑みて、可視光透過率が比較的低く、遮熱性能が高く、ヘイズ値が低く、さらに、電磁波透過性に優れる電磁波透過性積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、上記課題を達成すべく鋭意研究した結果、金属粒子含有層中での金属粒子の充填率および面積率を制御することにより上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。
【０００８】
（１）  基板と、基板上に配置された、少なくとも１種の金属粒子を含有する金属粒子含有層とを有する電磁波透過性積層体であって、
金属粒子が、六角形状乃至円形状の平板状金属粒子を６０個数％以上有し、
電磁波透過性積層体を金属粒子含有層の上から見たときの基板の面積Ａに対する金属粒子の面積の合計値Ｂの割合である面積率〔(Ｂ／Ａ)×１００〕が７０％以上であり、かつ、金属粒子含有層中の金属粒子の充填率が５０〜９０質量％である、電磁波透過性積層体。
（２）  平板状金属粒子の表面が高分子で被覆され、平板状金属粒子の質量に対する高分子の質量の割合｛（高分子の質量／平板状金属粒子の質量）×１００｝が６５質量％以下である、（１）に記載の電磁波透過性積層体。
（３）  ＫＥＣ法によって測定した、０．１〜１０００ＭＨｚにおける電磁波シールド性が１ｄＢ以下である、（１）または（２）に記載の電磁波透過性積層体。
（４）  ヘイズ値が５％以下である、（１）〜（３）のいずれかに記載の電磁波透過性積層体。
（５）  平板状金属粒子のアスペクト比（平均粒子径／平均粒子厚み）が８〜４０である、（１）〜（４）のいずれかに記載の電磁波透過性積層体。
（６）  平板状金属粒子が、少なくとも銀を含む、（１）〜（５）のいずれかに記載の電磁波透過性積層体。
（７）  基板が樹脂基板であり、フィルムミラーに用いられる、（１）〜（６）のいずれかに記載の電磁波透過性積層体。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、可視光透過率が比較的低く、遮熱性能が高く、ヘイズ値が低く、さらに、電磁波透過性に優れる電磁波透過性積層体を提供することができる。
なお、本発明の電磁波透過性積層体は、太陽光集光用などとして使用可能なフィルムミラーとして好適に使用することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の電磁波透過性積層体の一例を示す断面図である。
【図２】電磁波透過性積層体中の金属粒子含有層の構成を概念的に示す拡大断面図である。
【図３】平板状金属粒子の一例を示した概略斜視図であって、（Ａ）は円形状の平板状金属粒子を、（Ｂ）は六角形状の平板状金属粒子を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下に、本発明の電磁波透過性積層体の好適実施形態について説明する。
まず、本発明の従来技術と比較した特徴点としては、金属粒子含有層中の金属粒子の充填率および面積率を制御している点が挙げられる。本発明においては、電磁波透過性積層体を上から見た時の基板の面積Ａに対する金属粒子の面積の合計値Ｂの割合である面積率〔（Ｂ／Ａ）×１００〕を高めることにより、可視光透過率を低減させている。その際、金属粒子含有層中における金属粒子（特に、平板状金属粒子）の充填率を高めることにより、遮熱性能の向上、および、ヘイズ値の低減が達成されている。特に、ヘイズ値に関しては、図２の金属粒子含有層１４の拡大断面図に示すように、平板状金属粒子２０がその特殊な形状のために、平板状金属粒子２０同士が厚み方向に重なる場合でも互いに平行にならびやすく、結果としてヘイズ値の低減が達成されていると推測される。なお、金属粒子の充填率を高めるために、本発明においては金属粒子の表面を被覆する高分子の量を制御している。より具体的には、図２に示すように、平板状金属粒子２０の表面を被覆する高分子層２２の量を低減させる、つまり、高分子層２２を薄くすることにより、金属粒子含有層中の充填率を高めている。
【００１２】
以下に、本発明の電磁波透過性積層体について図面を参照して説明する。図１に、本発明の電磁波透過性積層体の一例の断面図を示す。
電磁波透過性積層体１０は、基板１２と、金属粒子含有層１４とをこの順で有する。なお、太陽光などの光は、金属粒子含有層１４側から入射されて金属粒子含有層１４表面上で反射する。
以下に、電磁波透過性積層体１０を構成する各層について詳述する。
【００１３】
＜基板＞
基板としては、後述する金属粒子含有層を支持できる基板であれば、特に制限されず、光学的に透明な基板が好ましい。より具体的には、可視光透過率が７０％以上の基板が好ましく、８０％以上の基板がより好ましい。
基板の形状、構造、大きさ、および材料などについては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。形状としては、例えば、平板状などが挙げられ、構造としては、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよく、大きさとしては、電磁波透過性積層体の大きさなどに応じて適宜選択することができる。
基板としては、目的に応じて適宜選択することができ、フィルムミラーとしての用途の点からは樹脂基板（樹脂フィルム）が好ましく、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ４−メチルペンテン−１、ポリブテン−１等のポリオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂、ポリエーテルサルフォン系樹脂、ポリエチレンサルファイド系樹脂、ポリフェニレンエーテル系樹脂、スチレン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、セルロースアセテート等のセルロース系樹脂などからなるフィルムまたはこれらの積層フィルムが挙げられる。これらの中で、特に、基板としては、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好適である。
基板の厚みは特に制限されず、使用目的に応じて適宜選択することができ、通常は１０〜５００μｍが好ましく、１２〜４００μｍがより好ましく、１６〜３００μｍがさらに好ましい。
特に、熱線遮蔽材としての使用であれば、基板の厚みが薄すぎるとガラスに貼り合わせた際に副次的に生じる飛散防止効果が低くなり、防犯性が低下する。一方で基板の厚みが厚すぎると、積層体を貼り合わせる際の施工性が悪く、空気残りやシワが残ってしまい、貼り合わせ後の外観が悪化してしまう。
基板には、紫外線吸収剤を含んでもよい。また、基板自体の劣化を防ぐ酸化防止剤やラジカル補足剤を含んでもよい。
【００１４】
＜金属粒子含有層＞
金属粒子含有層は、基板上に配置され、遮熱性能に優れる一方で、ヘイズ値が低く、電磁波透過性にも優れる。該金属粒子含有層は、少なくとも１種の金属粒子を含有する。
【００１５】
（金属粒子）
金属粒子としては、金属の平板粒子（平板状金属粒子）を含むものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、平板状金属粒子の他、粒状、立方体状、六面体状、八面体状、ロッド状などが挙げられる。
金属粒子含有層において、金属粒子の存在形態としては、基板平面に対して略水平に偏在していることが好ましく、例えば、基板と金属粒子とが略接触する形態、基板と金属粒子とが電磁波透過性積層体の深さ方向に一定の距離で配置されている形態が挙げられる。
金属粒子の大きさとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、５００ｎｍ以下の平均円相当径を有するものであってもよい。
金属粒子の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、可視光線〜熱線（近赤外線）の反射率が高いという点で、銀、金、アルミニウム、銅、ロジウム、ニッケル、白金が好適である。
【００１６】
（金属粒子の面積率）
電磁波透過性積層体を上から見た時（電磁波透過性積層体の金属粒子含有層の法線方向から電磁波透過性積層体を見た時）の基板の面積Ａ（金属粒子含有層に対して垂直方向から見たときの金属粒子含有層の全投影面積Ａ）に対する金属粒子の面積の合計値Ｂの割合である面積率〔（Ｂ／Ａ）×１００〕としては、７０％以上であり、好ましくは８０％以上である。面積率が７０％未満であると、熱線の最大反射率が低下してしまい、遮熱効果が十分に得られない。また、面積率が７０％未満であると、本発明で規定するところの充填率を高める効果を最大限に発揮できない。つまり面積率が低い場合、充填率が高いと粒子の配列状態（粒子同士の粗密や重なり具合）が悪くなる形態が存在する。
ここで、面積率は、例えば、電磁波透過性積層体を上からＳＥＭ観察で得られた画像や、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）観察で得られた画像を画像処理することにより測定することができる。
【００１７】
（金属粒子の充填率）
金属粒子含有層中の金属粒子の充填率は、５０〜９０質量％である。なかでも、遮熱性能と電磁波透過性とのバランスがより優れる点で、６０〜９０質量％が好ましく、７０〜９０質量％がより好ましい。
充填率の測定方法としては、作製した電磁波透過性積層体から、断面方向に対してＦＩＢ（集束イオンビーム）などを用いて、薄い切片を作製し、断面をＴＥＭ観察することによって、金属粒子と周囲の金属粒子含有層の面積比を画像処理によって求める。この値にそれぞれ金属粒子、および金属粒子含有層の物質の比重をかけ、その合計値に対する金属粒子の質量比を計算することで算出される。
【００１８】
（平板状金属粒子）
平板状金属粒子としては、２つの主平面からなる粒子（図３Ａおよび図３Ｂ参照）であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、六角形状、円形状、三角形状などが挙げられる。これらの中でも、可視光透過率が高い点で、六角形状以上の多角形状〜円形状であることがより好ましく、六角形状乃至円形状であることが特に好ましい。
本明細書中、円形状とは、後述する平板状金属粒子の平均円相当径の１０％以下の凹凸を無視したときに、主平面上において、平均円相当径の５０％以上の長さを有する辺の個数が１個の平板状金属粒子当たり０個である形状のことを言う。円形状の平板状金属粒子としては、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で平板状金属粒子を主平面の上方から観察した際に、角が無く、丸い形状であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
本明細書中、六角形状とは、後述する平板状金属粒子の平均円相当径の１０％以下の凹凸を無視したときに、主平面上において、平均円相当径の２０％以上の長さを有する辺の個数が１個の平板状金属粒子当たり６個である形状のことを言う。六角形状の平板状金属粒子としては、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で平板状金属粒子を主平面の上方から観察した際に、六角形状であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、六角形状の角が鋭角のものでも、鈍っているものでもよいが、可視光域の吸収を軽減し得る点で、角が鈍っているものであることが好ましい。角の鈍りの程度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
平板状金属粒子の材料としては、特に制限はなく、金属粒子と同じものを目的に応じて適宜選択することができる。平板状金属粒子は、少なくとも銀を含むことが好ましい。
【００１９】
金属粒子含有層に存在する金属粒子のうち、六角形状乃至円形状の平板状金属粒子は、金属粒子の全個数に対して、６０個数％以上であり、６５個数％以上が好ましく、７０個数％以上がさらに好ましい。上限は特に制限されないが、１００個数％が好ましい。平板状金属粒子の割合が、６０個数％未満であると、可視光透過率が低くなってしまうことがある。
上記個数％は、電子顕微鏡（例えば、ＴＥＭまたはＳＥＭ）により金属粒子含有層中の金属粒子を少なくとも２００個観察して、六角形状乃至円形状の平板状金属粒子の割合を計算する。
【００２０】
（平均粒子径（平均円相当径）および平均粒子径（平均円相当径）の粒度分布）
平板状金属粒子の平均粒子径（平均円相当径）としては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、７０〜５００ｎｍが好ましく、１００〜４００ｎｍがより好ましい。平均粒子径（平均円相当径）が、７０ｎｍ以上であると、平板状金属粒子の吸収の寄与が反射より小さくなるためより優れた熱線反射能が得られ、５００ｎｍ以下であると、ヘイズ（散乱）がより小さくなる。なお、粒子径（円相当径）は、図３Ａおよび図３Ｂに示す通り、粒子径Ｄに相当する。
ここで、平均粒子径（平均円相当径）とは、ＴＥＭで粒子を観察して得た像から任意に選んだ２００個の平板状金属粒子の主平面直径（最大長さ）の平均値を意味する。
金属粒子含有層中には平均粒子径（平均円相当径）が異なる２種以上の金属粒子を含有することができ、この場合、金属粒子の平均粒子径（平均円相当径）のピークが２つ以上、即ち２つの平均粒子径（平均円相当径）を有していてもよい。
【００２１】
電磁波透過性積層体において、平板状金属粒子の粒度分布における変動係数としては、３０％以下が好ましく、２０％以下がより好ましい。変動係数が３０％以内であれば、電磁波透過性積層体における熱線の反射波長域がよりシャープとなり、可視光透過率が上昇する。ここで、平板状金属粒子の粒度分布における変動係数は、例えば、上述の通り得た平均値の算出に用いた２００個の平板状金属粒子の粒子径の分布範囲をプロットし、粒度分布の標準偏差を求め、上述の通り得た主平面直径（最大長さ）の平均値（平均粒子径（平均円相当径））で割った値（％）である。
【００２２】
（平板状金属粒子の厚み・アスペクト比）
平板状金属粒子のアスペクト比としては特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、波長８００ｎｍ〜１，８００ｎｍの赤外光領域での反射率が高くなる点から、８〜４０が好ましく、９〜３０がより好ましく、１０〜２０がさらに好ましい。アスペクト比が８以上であると反射ピーク波長が８００ｎｍより大きくなり、４０以下であると、反射ピーク波長が１，８００ｎｍより短い、より優れた熱線反射能が得られる。
アスペクト比は、平板状金属粒子の平均粒子径（平均円相当径）を平板状金属粒子の平均粒子厚みで除算した値を意味する。粒子厚みは、例えば、図３Ａおよび図３Ｂに示す通り、平板状金属粒子の主平面間距離Ｌに相当し、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により測定することができる。
平板状金属粒子の厚みは特に制限されないが、５〜１４ｎｍであることが好ましい。
平均粒子厚みの測定方法としては、ガラス基板に平板状金属粒子を含有する粒子分散液を滴下し、乾燥させて、任意の１０個の粒子の厚みを測定し、それらを算術平均する方法が挙げられる。
【００２３】
（平板状金属粒子を被覆する高分子）
平板状金属粒子はその表面が高分子（高分子分散剤）で被覆され、平板状金属粒子の質量に対する該高分子の質量の割合｛（高分子の質量／平板状金属粒子の質量）×１００｝が６５質量％以下であることが好ましく、上記割合は５０質量％以下がより好ましく、４０質量％がさらに好ましい。上記範囲であれば、金属粒子含有層中における平板状金属粒子の充填率をより高めることができる。また、上記割合の下限は特に制限されないが、平板状金属粒子の分散安定性の点から、１０質量％以上が好ましい。なお、該高分子としては、平板状金属粒子と直接吸着または結合している官能基を含む高分子であり、主に、平板状金属粒子を形成する際に、平板状金属粒子の分散安定化のために添加される高分子に相当する。該高分子は、平板状金属粒子表面を被覆する高分子層（被覆層）を形成する。
また、上記高分子の平板状金属粒子に対する質量を制御する方法としては、特に限定されないが、例えば、後述する平板状金属粒子の製造方法の際に使用される高分子の分子量や添加量を調整する方法や、平板状金属粒子の調製の際に、遠心分離操作により余分な高分子を除去する方法などがある。
【００２４】
上記割合の測定方法としては、例えば、金属粒子含有層の形成の際に使用される、高分子で被覆された平板状金属粒子中の高分子量を仕込み量から計算する方法や、高分子で被覆された平板状金属粒子の熱重量分析（ＴＧ−ＤＴＡ）により高分子量を測定する方法などが挙げられる。
【００２５】
使用される高分子の種類は特に制限されず、目的に応じて公知の高分子を適宜使用でき、例えば、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、（飽和）ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゼラチンやセルロース等の天然高分子等の高分子などが挙げられ、平板状金属粒子の分散安定性の点から、ゼラチンが好ましい。
【００２６】
（平板状金属粒子の合成方法）
平板状金属粒子の合成方法としては、六角形状乃至円形状の平板状金属粒子を合成し得るものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、化学還元法、光化学還元法、電気化学還元法等の液相法などが挙げられる。これらの中でも、形状とサイズ制御性の点で、化学還元法、光化学還元法などの液相法が特に好ましい。六角形〜三角形状の平板状金属粒子を合成後、例えば、硝酸、亜硫酸ナトリウム等の銀を溶解する溶解種によるエッチング処理、加熱によるエージング処理などを行うことにより、六角形〜三角形状の平板状金属粒子の角を鈍らせて、六角形状乃至円形状の平板状金属粒子を得てもよい。
平板状金属粒子の合成方法としては、上記の他、予めフィルム、ガラスなどの透明基材の表面に種晶を固定後、平板状に金属粒子（例えばＡｇ）を結晶成長させてもよい。
平板状金属粒子は、所望の特性を付与するために、更なる処理を施してもよい。更なる処理としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、高屈折率シェル層の形成、分散剤、酸化防止剤等の各種添加剤を添加することなどが挙げられる。
なお、上述したように、平板状金属粒子を合成する際に、所定の高分子を使用して、高分子で表面が被覆された平板状金属粒子を形成し、得られた平板状金属粒子の分散液を後述する金属粒子含有層形成用組成物として用いることもできる。
【００２７】
（金属粒子含有層の媒質）
金属粒子含有層には、上述した金属粒子以外の他の成分が含まれていてもよく、例えば、媒質（バインダー）が含まれていてもよい。
媒質の種類は特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。なかでも、透明ポリマーを含むことがより好ましい。ポリマーとしては、例えば、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、（飽和）ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゼラチンやセルロース等の天然高分子等の高分子などが挙げられる。その中でも、本発明では、ポリマーの主ポリマーがポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、（飽和）ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂であることが好ましく、ポリエステル樹脂およびポリウレタン樹脂であることが、本発明の電磁波透過性積層体のこすり耐性をより改善する観点から特に好ましい。
また、ポリエステル樹脂の中でも、飽和ポリエステル樹脂であることが二重結合を含まないために優れた耐候性を付与できる観点からより特に好ましい。また、分子末端に水酸基またはカルボキシル基を持つことが、水溶性・水分散性の硬化剤等で硬化させることで高い硬度・耐久性・耐熱性を得られる観点から、より好ましい。
ポリマーとしては、商業的に入手できるものを好ましく用いることもでき、例えば、互応化学工業株式会社製の水溶性ポリエステル樹脂である、プラスコートＺ−６８７、プラスコートＺ−６９０、または、ＤＩＣ株式会社製の水溶性ポリウレタン樹脂である、ハイドランＨＷ−３５０、ＨＷ−１７４などを挙げることができる。
また、本明細書中、金属粒子含有層に含まれるポリマーの主ポリマーとは、金属粒子含有層に含まれるポリマーの５０質量％以上を占めるポリマー成分のことをいう。
【００２８】
金属粒子含有層に含まれる金属粒子に対する媒質の含有量は、１〜１００００質量％であることが好ましく、１０〜１０００質量％であることがより好ましく、２０〜５００質量％であることが特に好ましい。金属粒子含有層に含まれる媒質を上記範囲以上とすることで、こすり耐性性等の物理特性を改善することができる。
媒質の屈折率ｎは、１．４〜１．７であることが好ましい。
【００２９】
＜各種添加物の添加＞
本発明の電磁波透過性積層体において、ハジキの発生を抑えて良好な面状な層が得られる観点から、金属粒子含有層中に界面活性剤が含まれることが好ましい。界面活性剤としては、アニオン系やノニオン系等の公知の界面活性剤を用いることができる。界面活性剤の具体例としては、例えば、ラピゾールＡ−９０（日油株式会社製）、ナロアクティーＨＮ−１００（三洋化成工業株式会社製）などがある。
金属粒子含有層中の全バインダーに対して０．０５〜１０質量％の界面活性剤を含有することが好ましく、より好ましくは０．１〜５質量％である。
【００３０】
金属粒子は、該金属粒子を構成する銀などの金属の酸化を防止するために、メルカプトテトラゾール、アスコルビン酸等の酸化防止剤を吸着していてもよい。また、酸化防止を目的として、Ｎｉ等の酸化犠牲層が平板状金属粒子の表面に形成されていてもよい。また、酸素を遮断することを目的として、ＳｉＯ2などの金属酸化物膜で被覆されていてもよい。
金属粒子は、分散性付与を目的として、例えば、４級アンモニウム塩、アミン類等のＮ元素、Ｓ元素、およびＰ元素の少なくともいずれかを含む低分子量分散剤、高分子量分散剤などの分散剤を添加してもよい。
【００３１】
＜その他の層＞
（粘着層）
本発明の電磁波透過性積層体は、粘着層を有することが好ましい。該粘着層は、例えば、金属粒子含有層上に配置され、他の部材との密着性を担保する機能を有する。なお、粘着層は、紫外線吸収剤を含むことができる。
粘着層の形成に利用可能な材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、アクリル樹脂、スチレン／アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの材料からなる粘着層は、塗布により形成することができる。
さらに、粘着層には帯電防止剤、滑剤、ブロッキング防止剤などを添加してもよい。粘着層の厚みとしては、０．１〜１０μｍが好ましい。
【００３２】
（ハードコート層）
本発明の電磁波透過性積層体に耐擦傷性を付加するために、ハードコート層が電磁波透過性積層体に含まれていてもよい。ハードコート層には金属酸化物粒子を含むことができる。
ハードコート層としては特に制限はなく、目的に応じて適宜その種類も形成方法も選択することができ、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型または光硬化型樹脂などが挙げられる。
ハードコート層の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１〜５０μｍが好ましい。ハードコート層上にさらに反射防止層および／または防眩層を形成すると、耐擦傷性に加え、反射防止性および／または防眩性を有する機能性フィルムが得られ好適である。また、ハードコート層に金属酸化物粒子を含有してもよい。
【００３３】
（オーバーコート層）
本発明の電磁波透過性積層体において、物質移動による平板状金属粒子の酸化・硫化を防止し、耐擦傷性を付与するため、本発明の電磁波透過性積層体は、六角形状乃至円形状の平板状金属粒子が露出している方の金属粒子含有層の表面に密接するオーバーコート層を有していてもよい。また、金属粒子含有層と後述の紫外線吸収剤層との間にオーバーコート層を有していてもよい。本発明の電磁波透過性積層体は特に平板状金属粒子が金属粒子含有層の表面に偏在する場合は、平板状金属粒子の剥落による製造工程のコンタミ防止、別層塗布時の平板状金属粒子配列乱れの防止、などのため、オーバーコート層を有していてもよい。
オーバーコート層には紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤を含んでもよい。
オーバーコート層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、バインダー、マット剤、および界面活性剤を含有し、さらに必要に応じてその他の成分を含有してなる。
バインダーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型または光硬化型樹脂などが挙げられる。
オーバーコート層の厚みとしては、０．０１〜１，０００μｍが好ましく、０．０２〜５０μｍがより好ましく、０.０３〜１０μｍが特に好ましい。
【００３４】
（紫外線吸収剤層）
本発明の電磁波透過性積層体は、紫外線吸収剤が含まれている層（紫外線吸収剤層）を有することが好ましい。
紫外線吸収剤層は、目的に応じて適宜選択することができ、粘着層であってもよく、また、粘着層と金属粒子含有層との間の層（例えば、オーバーコート層など）であってもよく、紫外線吸収剤層の上にオーバーコート層を付与してもよい。いずれの場合も、紫外線吸収剤は、金属粒子含有層に対して、太陽光が照射される側に配置される層に添加されることが好ましい。
紫外線吸収剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、サリチレート系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
なお、紫外線吸収剤としては、例えば、特開２０１３−８０２２２の段落００５１〜００５５に記載の化合物が挙げられる。
【００３５】
バインダーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、可視光透明性や日射透明性が高い方が好ましく、例えば、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルアルコールなどが挙げられる。なお、バインダーが熱線を吸収すると、平板状金属粒子による反射効果が弱まってしまうことから、熱線源と平板状金属粒子との間に形成される紫外線吸収剤層としては、４５０〜１，５００ｎｍの領域に吸収を持たない材料を選択したり、該紫外線吸収剤層の厚みを薄くしたりすることが好ましい。
紫外線吸収剤層の厚みとしては、０．０１〜１，０００μｍが好ましく、０．０２〜５００μｍがより好ましい。厚みが０．０１μｍ以上であると、紫外線の吸収がより優れ、１，０００μｍ以下であると、可視光の透過率がより向上する。
紫外線吸収剤層の含有量としては、用いる紫外線吸収剤層によって異なり、一概に規定することができないが、本発明の電磁波透過性積層体において所望の紫外線透過率を与える含有量を適宜選択することが好ましい。
紫外線透過率としては、５％以下が好ましく、２％以下がより好ましい。紫外線透過率が、５％を超えると、太陽光の紫外線により金属粒子含有層の色味が変化することがある。
【００３６】
（金属酸化物粒子）
本発明の電磁波透過性積層体は、長波赤外線を吸収するために、少なくとも１種の金属酸化物粒子を含有していても熱線遮蔽と製造コストのバランスの観点からは好ましい。この場合、例えば、上述したハードコート層に金属酸化物粒子を含むことが好ましい。ハードコート層は、基板を介して、金属粒子含有層と積層されていてもよい。金属粒子含有層が太陽光などの熱線の入射方向側となるように本発明の電磁波透過性積層体を配置したときに、金属粒子含有層で熱線の一部（または全部でもよい）を反射した後、ハードコート層で熱線の一部を吸収することとなり、金属酸化物粒子含有層で吸収されずに電磁波透過性積層体を透過した熱線に起因して電磁波透過性積層体の内側で直接受ける熱量と、電磁波透過性積層体の金属酸化物粒子含有層で吸収されて間接的に電磁波透過性積層体の内側に伝わる熱量の合計としての熱量を低減することができる。
金属酸化物粒子の材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、錫ドープ酸化インジウム（以下、「ＩＴＯ」と略記する。）、錫ドープ酸化アンチモン（以下、「ＡＴＯ」と略記する。）、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウム、酸化錫、酸化アンチモン、ガラスセラミックス、酸化タングステン（以下、「ＣＷＯ」と略記する）などが挙げられる。これらの中でも、熱線吸収能力に優れ、平板状金属粒子と組み合わせることにより幅広い熱線吸収能を有する電磁波透過性積層体が製造できる点で、ＩＴＯ、ＡＴＯ、酸化亜鉛、ＣＷＯがより好ましく、１，２００ｎｍ以上の赤外線を９０％以上遮蔽し、可視光透過率が９０％以上である点で、ＩＴＯが特に好ましい。
金属酸化物粒子の一次粒子の体積平均粒径としては、可視光透過率を低下させないため、０．１μｍ以下が好ましい。
金属酸化物粒子の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、球状、針状、板状などが挙げられる。
【００３７】
金属酸化物粒子の金属酸化物粒子含有層における含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．１〜２０ｇ／ｍ2が好ましく、０．５〜１０ｇ／ｍ2がより好ましく、１．０〜４．０ｇ／ｍ2がさらに好ましい。
含有量が、０．１ｇ／ｍ2以上であると、肌に感じる日射量がより低化し、２０ｇ／ｍ2以下であると、可視光透過率がより向上する。
なお、金属酸化物粒子の金属酸化物粒子含有層における含有量は、例えば、熱線遮蔽層の超箔切片ＴＥＭ像および表面ＳＥＭ像の観察から、一定面積における金属酸化物粒子の個数および平均粒子径を測定し、該個数および平均粒子径と、金属酸化物粒子の比重とに基づいて算出した質量（ｇ）を、一定面積（ｍ2）で除することにより算出することができる。また、金属酸化物粒子含有層の一定面積における金属酸化物微粒子をメタノールに溶出させ、蛍光Ｘ線測定により測定した金属酸化物微粒子の質量（ｇ）を、一定面積（ｍ2）で除することにより算出することもできる。
【００３８】
＜電磁波透過性積層体の製造方法＞
本発明の電磁波透過性積層体の製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、塗布方法により、基板の表面に金属粒子含有層、さらに必要に応じてその他の層を形成する方法が挙げられる。
【００３９】
（金属粒子含有層の形成方法）
金属粒子含有層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、基板の表面上に、金属粒子を有する分散液（金属粒子含有層形成用組成物）を、ディップコーター、ダイコーター、スリットコーター、バーコーター、グラビアコーター等により塗布する方法、ＬＢ膜法、自己組織化法、スプレー塗布などの方法で面配向させる方法が挙げられる。
なお、面配向を促進するために、金属粒子を塗布後、カレンダーローラーやラミローラーなどの圧着ローラーを通すことにより促進させてもよい。
なお、金属粒子含有層形成用組成物には、必要に応じて、溶媒が含まれていてもよい。
【００４０】
（オーバーコート層の形成方法）
オーバーコート層は、塗布により形成することが好ましい。このときの塗布方法としては、特に限定はなく、公知の方法を用いることができ、例えば、紫外線吸収剤を含有する分散液を、ディップコーター、ダイコーター、スリットコーター、バーコーター、グラビアコーター等により塗布する方法などが挙げられる。
【００４１】
（ハードコート層の形成方法）
ハードコート層は、塗布により形成することが好ましい。このときの塗布方法としては、特に限定はなく、公知の方法を用いることができ、例えば、紫外線吸収剤を含有する分散液を、ディップコーター、ダイコーター、スリットコーター、バーコーター、グラビアコーター等により塗布する方法などが挙げられる。
【００４２】
（粘着層の形成方法）
粘着層は、塗布により形成することが好ましい。例えば、基板、金属粒子含有層、などの下層の表面上に積層することができる。このときの塗布方法としては、特に限定はなく、公知の方法を用いることができる。
【００４３】
＜電磁波透過性積層体の特性＞
本発明の電磁波透過性積層体のＫＥＣ法によって測定した０．１〜１０００ＭＨｚにおける電磁波シールド性は特に制限されないが、電磁波透過性がより優れる点で、１ｄＢ以下が好ましく、０．５ｄＢ以下がより好ましい。
電磁波シールド性の測定方法（ＫＥＣ法）は、一般社団法人ＫＥＣ製の電磁波シールド効果測定装置を用い、電波用・磁波それぞれ専用の治具の間に、何もはさまない場合の電磁波強度に対する測定サンプルをはさんだ場合の電磁波強度の減衰量をｄＢで測定することができる。
【００４４】
本発明の電磁波透過性積層体のヘイズ値は特に制限されないが、５％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましい。
ヘイズ値は、ＪＩＳ  Ｋ７１６５：１９８１に準拠して、ヘイズメーター（「ＮＤＨ２０００」，日本電色工業（株）製もしくは相当機種）などでＤ６５光源を用いて測定することができる。
【００４５】
本発明の電磁波透過性積層体の可視光透過率としては低〜中程度の透過率であることが好ましく、より具体的には、６０％未満が好ましい。上記範囲内であれば、十分な目隠し効果と、遮熱効果を両立させることができる。
可視光透過率は、反射スペクトルおよび透過スペクトルを、紫外可視近赤外分光機（日本分光株式会社製、Ｖ−６７０）などを用いて測定し、得られた反射・透過スペクトルから、ＪＩＳ  Ａ  ５７５９に従って、可視光透過率、遮蔽係数を計算することで算出することができる。
【００４６】
＜貼合せ構造体の使用態様＞
（ドライラミネーションによる粘着剤層積層）
本発明の電磁波透過性積層体を使って、既設窓ガラスに機能性付与する場合は、粘着剤を積層してガラスの室内側に貼り付ける。その際、反射層として機能する金属粒子含有層をなるべく太陽光側に向けた方が発熱を防ぐことになるので、金属粒子含有層の上に粘着剤層を積層し、その面から窓ガラスへ貼合するのが適切である。
金属粒子含有層表面への粘着剤層の積層に当っては、表面に直接粘着剤入りの塗布液を塗工することもできるが、粘着剤に含まれる各種添加剤、可塑剤や、使用溶剤などが、場合によっては金属粒子含有層の配列を乱したり、金属粒子自身を変質させたりすることがある。そうした弊害を最小限に留めるためには、粘着剤を予め離型フィルム上に塗工および乾燥させたフィルムを作製しておいて、当該フィルムの粘着剤面と本発明フィルムの金属粒子含有層表面とをラミネートすることにより、ドライな状態のままの積層をすることが有効である。
【００４７】
（貼合せ構造体）
本発明の電磁波透過性積層体と、ガラスおよびプラスチックのいずれかとを貼り合わせてなる貼合せ構造体を製造することができる。
貼合せ構造体の製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、上述のように製造した本発明の電磁波透過性積層体を、自動車等の乗り物用ガラスまたはプラスチックや、建材用ガラスまたはプラスチックに貼合せる方法などが挙げられる。
【００４８】
本発明の電磁波透過性積層体は、熱線（近赤外線）を選択的に反射または吸収するために使用される態様であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択すればよく、例えば、乗り物用フィルムや貼合せ構造体、建材用フィルムや貼合せ構造体、農業用フィルムなどが挙げられる。これらの中でも、省エネルギー効果の点で、乗り物用フィルムや貼合せ構造体、建材用フィルムや貼合せ構造体であることが好ましい。
【００４９】
（フィルムミラーの利用）
また、本発明の電磁波透過性積層体は、可視光領域における高い反射特性から、反射鏡としても使用でき、特に、基板が樹脂基板の場合、フィルムミラーとして使用できる。フィルムミラーの用途としては、例えば、太陽光集光用のフィルムミラーとして使用できる。
その応用態様としては、例えば、太陽光反射板への適用が挙げられる。樹脂、金属、またはセラミックのいずれかからなる基板や枠体に、フィルムミラーを固定化することで、フィルムミラーによる鏡面を作成し、太陽光反射板を作製することができる。このようにして作製された複数のミラーユニットを配置して、太陽光を効率的に集光することが好ましい。また、該ミラーユニットを太陽の日周運動に追尾させる太陽光追尾システムと、を備えることで、より効率的な太陽光の集光を実現できる。
また、本発明のフィルムミラーを採光用ミラーとして使用してもよい。フィルムミラーは柔軟性を有するため、曲率を有する表面への追従性がよいので、そのような表面上に設置することも好ましい。
なお、本発明において、熱線（近赤外線）とは、太陽光に約５０％含まれる近赤外線（７８０ｎｍ〜１，８００ｎｍ）を意味する。
また、フィルムミラーをＬＣＤ用のバックライトミラーとして使用してもよい。本発明のフィルムミラーは電磁波透過性を有するため、無線ＬＡＮなどの電波を妨害せず、設置の自由度が高い。
【実施例】
【００５０】
以下、本発明の実施例および比較例を挙げて説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。なお、比較例は、公知技術とは限らない。
以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【００５１】
［製造例１：銀平板粒子分散液Ｂ１の調製］
―平板状金属粒子の合成―
２．５ｍｍｏｌ／Ｌ（２．５ｍＭ）のクエン酸ナトリウム水溶液５０ｍＬに０．５ｇ／Ｌのポリスチレンスルホン酸水溶液を２．５ｍＬ添加し、３５℃まで加熱した。この溶液に１０ｍｍｏｌ／Ｌの水素化ほう素ナトリウム水溶液を３ｍＬ添加し、０．５ｍｍｏｌ／Ｌの硝酸銀水溶液５０ｍＬを２０ｍＬ／ｍｉｎで攪拌しながら添加した。この溶液を３０分間攪拌し、種溶液を作製した。
反応釜中に２．５ｍｍｏｌ／Ｌのクエン酸ナトリウム水溶液１３２．７ｍＬにイオン交換水８７．１ｍＬを添加し、３５℃まで加熱した。反応釜中の上記溶液に、１０ｍｍｏｌ／Ｌのアスコルビン酸水溶液を２ｍＬ添加し、上記種溶液を４２．４ｍＬ添加し、０．５ｍｍｏｌ／Ｌの硝酸銀水溶液７９．６ｍＬを１０ｍＬ／ｍｉｎで攪拌しながら添加した。３０分間攪拌した後、０．３５ｍｏｌ／Ｌのヒドロキノンスルホン酸カリウム水溶液７１．１ｍＬを反応釜に添加し、７質量％ゼラチン水溶液２００ｇを反応釜に添加した。反応釜中の上記溶液に、０．２５ｍｏｌ／Ｌの亜硫酸ナトリウム水溶液１０７ｍＬと、０．４７ｍｏｌ／Ｌの硝酸銀水溶液１０７ｍＬを混合してできた亜硫酸銀の白色沈殿物混合液を添加した。白色沈殿物混合液を添加した後すぐに、０．１７ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液７２ｍＬを反応釜に添加した。このときｐＨが１０を超えないように添加速度を調節しながらＮａＯＨ水溶液を添加した。これを３００分間攪拌し、銀平板粒子分散液Ａを得た。
この銀平板粒子分散液Ａ中には、平均円相当径２００ｎｍの銀の六角平板粒子が生成していることを確認した。また、原子間力顕微鏡（ＮａｎｏｃｕｔｅＩＩ、セイコーインスツル社製）で、六角平板粒子の厚みを測定したところ、平均１２ｎｍであり、アスペクト比が１６．７の平板粒子が生成していることが分かった。
銀平板粒子分散液Ａ（８００ｍＬ）を４０℃に保ち、１ＮのＮａＯＨおよび／または１Ｎの硫酸を用いてｐＨ＝１０に調整した。分散剤として非水溶性のフェニルメルカプトテトラゾール（和光純薬工業社製、商品名５−メルカプト−１−フェニルメルカプトテトラゾール）をさらに添加して、１０分間撹拌を継続した。添加量は、銀に対するモル比率で１．０％とした。これを遠心分離器（日立工機社製ｈｉｍａｃ  ＣＲ−ＧＩＩＩ、アングルローター）で、９０００ｒｐｍで６０分の遠心分離を行い、上澄みを７６０ｍＬ捨てた。沈殿した銀平板粒子を卓上型ホモジナイザー（三井電気精機社製、ＳｐｉｎＭｉｘ０８）の容器に移し、０．２ｍｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液を３６０ｍＬ加えて、１２０００ｒｐｍで２０分間分散した。これを製造例１の銀平板粒子分散液Ｂ１とした。
なお、得られた銀平板粒子の表面にはゼラチンが吸着しており、ゼラチン質量と銀平板粒子質量との比率（ゼラチン質量／銀平板粒子質量）（以後、比率Ｘとも称する）は、０．６５０であった。
【００５２】
［製造例２：銀平板粒子分散液Ｂ２の調製］
上澄みの廃棄量を７６０ｍＬから７８４ｍＬに変更し、その後添加する０．２ｍｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液の量を３８０ｍLにした以外は、製造例１と同様の手順に従い、銀平板粒子分散液Ｂ２を得た。
なお、得られた銀平板粒子分散液Ｂ２中の銀平板粒子の表面にはゼラチンが吸着しており、比率Ｘは０．４２９であった。
【００５３】
［製造例３：銀平板粒子分散液Ｂ３の調製］
上澄みの廃棄量を７６０ｍＬから７８４ｍＬに変更し、上澄みを廃棄した後に得られる銀平板粒子分散液を以下の手順Ｘによって処理した以外は、製造例１と同様の手順に従い、銀平板粒子分散液Ｂ３を得た。
なお、得られた銀平板粒子分散液Ｂ３中の銀平板粒子の表面にはゼラチンが吸着しており、比率Ｘは０．２５０であった。
【００５４】
（手順Ｘ）
銀平板粒子分散液８００ｍＬを遠心分離器（日立工機社製ｈｉｍａｃ  ＣＲ−ＧＩＩＩ、アングルローター）で、９０００ｒｐｍで６０分の遠心分離を行い、上澄みを７８４ｍＬ捨てた。その後、沈殿した銀平板粒子を卓上型ホモジナイザー（三井電気精機社製、ＳｐｉｎＭｉｘ０８）の容器に移し、０．２ｍｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液を７８４ｍＬ加えて、１２０００ｒｐｍで２０分間分散した。
【００５５】
[製造例４：銀平板粒子分散液Ｂ４の調製］
銀平板粒子分散液Ａを得る過程で、加えるゼラチン水溶液の濃度を７質量％から３質量％にした以外は製造例３と同様の手順に従い、銀平板粒子分散液Ｂ４を得た。
なお、得られた銀平板粒子分散液Ｂ４中の銀平板粒子の表面にはゼラチンが吸着しており、比率Ｘは０．０５３であった。
【００５６】
［製造例５：銀平板粒子分散液Ｂ５の調製］
銀平板粒子分散液Ａを得る過程で、添加する亜硫酸銀の白色沈殿物混合液として、０．２５ｍｏｌ／Ｌの亜硫酸ナトリウム水溶液２７ｍＬと、０．４７ｍｏｌ／Ｌの硝酸銀水溶液２７ｍＬ、およびイオン交換水を１６０ｍＬを混合してできた亜硫酸銀の白色沈殿物混合液を使用した以外は製造例２と同様の手順に従い、銀平板粒子分散液Ｂ５を得た。
なお、得られた銀平板粒子分散液Ｂ５中の銀平板粒子の表面にはゼラチンが吸着しており、比率Ｘは０．４２９であった。
【００５７】
［製造例６：銀平板粒子分散液Ｂ６の調製］
銀平板粒子分散液Ａを得る過程で、添加する亜硫酸銀の白色沈殿物混合液として、０．２５ｍｏｌ／Ｌの亜硫酸ナトリウム水溶液５０ｍＬと、０．４７ｍｏｌ／Ｌの硝酸銀水溶液５０ｍＬ、およびイオン交換水を１１４ｍＬを混合してできた亜硫酸銀の白色沈殿物混合液を使用した以外は製造例２と同様の手順に従い、銀平板粒子分散液Ｂ６を得た。
なお、得られた銀平板粒子分散液Ｂ６中の銀平板粒子の表面にはゼラチンが吸着しており、比率Ｘは０．４２９であった。
【００５８】
［製造例７：銀平板粒子分散液Ｂ７の調製］
上澄みの廃棄量を７６０ｍＬから７２０ｍＬに変更した以外は、製造例１と同様の手順に従い、銀平板粒子分散液Ｂ７を得た。
なお、得られた銀平板粒子分散液Ｂ７中の銀平板粒子の表面にはゼラチンが吸着しており、比率Ｘは１．０００であった。
【００５９】
＜比較例１＞
ＰＥＴフィルム（東洋紡（株）製  Ａ４３００、厚み：７５μｍ、屈折率１．６６）の表面上に、ＵＬＶＡＣ製小型実験用蒸着装置を用いて、可視光透過率が３０％になるよう蒸着量を調整し、銀をスパッタし、電磁波透過性積層体Ｃ１を得た。
実際の可視光透過率は２８％であった。
【００６０】
＜比較例２＞
下記に示す組成の、金属粒子含有層形成用組成物Ｍ１を調製した。
ポリウレタン水溶液：ハイドランＨＷ−３５０
（ＤＩＣ（株）製、固形分濃度３０質量％）                    ０．１２６質量部
界面活性剤Ａ：Ｆリパール８７８０Ｐ
（ライオン（株）製、固形分１質量％）                        ０．９６質量部
界面活性剤Ｂ：ナロアクティーＣＬ−９５
（三洋化成工業（株）製、固形分１質量％）                    １．１９質量部
銀平板粒子分散液Ｂ７                                      １７．１５質量部
メルカプトテトラゾール
（和光純薬（株）製、固形分２質量％）                        ０．６１質量部
水                                                        ４９．９６質量部
メタノール                                                      ３０質量部
【００６１】
ＰＥＴフィルム（東洋紡（株）製  Ａ４３００、厚み：７５μｍ、屈折率１．６６）の表面上に、ワイヤーバーを用いて、金属粒子含有層形成用組成物Ｍ１をウェット塗布厚み１０．６μｍになるように塗布した。その後、１３０℃で１分間加熱し、乾燥および固化させ、金属粒子含有層を形成し、電磁波透過性積層体Ｃ２を得た。
【００６２】
＜比較例３＞
ウェット塗布厚みを１０．６μｍから２１．２μｍに変更した以外は、比較例２と同様の手順に従って、電磁波透過性積層体Ｃ３を得た。
【００６３】
＜比較例４＞
ウェット塗布厚みを１０．６μｍから２９．７μｍに変更した以外は、比較例２と同様の手順に従って、電磁波透過性積層体Ｃ４を得た。
【００６４】
＜比較例５＞
銀平板粒子分散液Ｂ７の代わりに、銀平板粒子分散液Ｂ２を使用した以外は、比較例２と同様の手順に従って、電磁波透過性積層体Ｃ５を得た。
【００６５】
＜比較例６＞
下記に示す組成の、金属粒子含有層形成用組成物Ｍ２を調製した。
ポリウレタン水溶液：ハイドランＨＷ−３５０
（ＤＩＣ（株）製、固形分濃度３０質量％）                  ０．６７３質量部
界面活性剤Ａ：Ｆリパール８７８０Ｐ
（ライオン（株）製、固形分１質量％）                        ０．９６質量部
界面活性剤Ｂ：ナロアクティーＣＬ−９５
（三洋化成工業（株）製、固形分１質量％）                    １．１９質量部
銀平板粒子分散液Ｂ４                                      ４２．８８質量部
メルカプトテトラゾール
（和光純薬（株）製、固形分２質量％）                        ０．６１質量部
水                                                        ２３．６９質量部
メタノール                                                      ３０質量部
【００６６】
ＰＥＴフィルム（東洋紡（株）製  Ａ４３００、厚み：７５μｍ、屈折率１．６６）の表面上に、ワイヤーバーを用いて、金属粒子含有層形成用組成物Ｍ２をウェット塗布厚み１０．６μｍになるように塗布した。その後、１３０℃で１分間加熱し、乾燥および固化させ、金属粒子含有層を形成し、電磁波透過性積層体Ｃ６を得た。
【００６７】
＜実施例１＞
下記に示す組成の、金属粒子含有層形成用組成物Ｍ３を調製した。
ポリウレタン水溶液：ハイドランＨＷ−３５０
（ＤＩＣ（株）製、固形分濃度３０質量％）                  ０．０１８質量部
界面活性剤Ａ：Ｆリパール８７８０Ｐ
（ライオン（株）製、固形分１質量％）                        ０．９６質量部
界面活性剤Ｂ：ナロアクティーＣＬ−９５
（三洋化成工業（株）製、固形分１質量％）                    １．１９質量部
銀平板粒子分散液Ｂ１                                      ４８．０３質量部
メルカプトテトラゾール
（和光純薬（株）製、固形分２質量％）                        ０．６１質量部
水                                                      １９．１９２質量部
メタノール                                                      ３０質量部
【００６８】
ＰＥＴフィルム（東洋紡（株）製  Ａ４３００、厚み：７５μｍ、屈折率１．６６）の表面上に、ワイヤーバーを用いて、金属粒子含有層形成用組成物Ｍ３をウェット塗布厚み１０．６μｍになるように塗布した。その後、１３０℃で１分間加熱し、乾燥および固化させ、金属粒子含有層を形成し、電磁波透過性積層体Ｅ１を得た。
【００６９】
＜実施例２＞
銀平板粒子分散液Ｂ１の代わりに、銀平板粒子分散液Ｂ２を使用し、金属粒子含有層形成用組成物を作る際のポリウレタン水溶液：ハイドランＨＷ−３５０添加量を０．２５１質量部（合計が１００質量部となるように加える水の量も調整する）とする以外は、実施例１と同様の手順に従って、電磁波透過性積層体Ｅ２を得た。
【００７０】
＜実施例３＞
銀平板粒子分散液Ｂ１の代わりに、銀平板粒子分散液Ｂ３を使用、金属粒子含有層形成用組成物を作る際のポリウレタン水溶液：ハイドランＨＷ−３５０添加量を０．４４０質量部（合計が１００質量部となるように加える水の量も調整する）とする以外は、実施例１と同様の手順に従って、電磁波透過性積層体Ｅ３を得た。
【００７１】
＜実施例４＞
下記に示す組成の、金属粒子含有層形成用組成物Ｍ４を調製した。
ポリウレタン水溶液：ハイドランＨＷ−３５０
（ＤＩＣ（株）製、固形分濃度３０質量％）                  ０．６７３質量部
界面活性剤Ａ：Ｆリパール８７８０Ｐ
（ライオン（株）製、固形分１質量％）                        ０．９６質量部
界面活性剤Ｂ：ナロアクティーＣＬ−９５
（三洋化成工業（株）製、固形分１質量％）                    １．１９質量部
銀平板粒子分散液Ｂ２（３倍濃縮液）                        ４２．８８質量部
メルカプトテトラゾール
（和光純薬（株）製、固形分２質量％）                        ０．６１質量部
水                                                        ２３．６９質量部
メタノール                                                      ３０質量部
【００７２】
ＰＥＴフィルム（東洋紡（株）製  Ａ４３００、厚み：７５μｍ、屈折率１．６６）の表面上に、ワイヤーバーを用いて、金属粒子含有層形成用組成物Ｍ４をウェット塗布厚み１０．６μｍになるように塗布した。その後、１３０℃で１分間加熱し、乾燥および固化させ、金属粒子含有層を形成し、電磁波透過性積層体Ｅ４を得た。
【００７３】
＜実施例５＞
金属粒子含有層形成用組成物を作る際のポリウレタン水溶液：ハイドランＨＷ−３５０添加量を１．３４７質量部（合計が１００質量部となるように加える水の量も調整する）とした以外は、実施例４と同様の手順に従って、電磁波透過性積層体Ｅ５を得た。
【００７４】
＜実施例６＞
金属粒子含有層形成用組成物を作る際のポリウレタン水溶液：ハイドランＨＷ−３５０添加量を０質量部（合計が１００質量部となるように加える水の量も調整する）とする以外は、実施例４と同様の手順に従って、電磁波透過性積層体Ｅ６を得た。
【００７５】
＜実施例７＞
銀平板粒子分散液Ｂ２の代わりに、銀平板粒子分散液Ｂ３を使用する以外は、実施例６と同様の手順に従って、電磁波透過性積層体Ｅ７を得た。
【００７６】
＜実施例８＞
銀平板粒子分散液Ｂ２の代わりに、銀平板粒子分散液Ｂ５を使用する以外は、実施例４と同様の手順に従って、電磁波透過性積層体Ｅ８を得た。
【００７７】
＜実施例９＞
銀平板粒子分散液Ｂ２の代わりに、銀平板粒子分散液Ｂ６を使用する以外は、実施例４と同様の手順に従って、電磁波透過性積層体Ｅ９を得た。
【００７８】
＜貼合せ構造体の作製＞
各実施例および比較例で作製した電磁波透過性積層体に対して、それぞれの金属粒子含有層を清浄にした後、粘着材（粘着層）を貼り合わせた。粘着材としてパナック（株）製パナクリーンＰＤ−Ｓ１（粘着層２５μｍ）を使用して、軽剥離セパレータ（シリコーンコートＰＥＴ）を剥がして保護層表面に貼り合わせた。ＰＤ−Ｓ１の他方の重剥離セパレータ（シリコーンコートＰＥＴ）を剥がし、フィルム施工液であるリアルパーフェクト（リンテック（株）製）の０．５質量％希釈液を使用してソーダ石灰珪酸塩ガラス（板ガラス厚み：３ｍｍ）と貼り合わせて光学特性の評価を行った。
なお、板ガラスはイソプロピルアルコールで汚れを拭き取って自然乾燥したものを使用し、貼り合わせ時、２５℃６５％ＲＨの環境下で、ゴムローラーを用いて０．５ｋｇ／ｃｍ２の面圧で圧着した。
以上により、各実施例および比較例で得られた電磁波透過性積層体をガラスに貼り合わせた、貼り合わせ構造体を作製した。
なお、このような構成は、実際の建材への施工を模した形態である。
【００７９】
＜評価（その１）＞
―比率Ｘの算出―
作製した各分散液を１０ｍＬ採取し、これを１２０℃のオーブンで１２時間乾燥させ、１０ｍｇほどサンプリングした後、熱分析装置（ＴＧ／ＤＴＡ６２００セイコーインスツルメンツ（ＳＩＩ）.製）で常温〜９００℃まで１０℃／ｓｅｃで昇温し、ＴＧ−ＤＴＡを測定し、最終的な減少割合をＡとした場合、比率Ｘ（ゼラチン質量／銀平板粒子質量）はＸ＝Ａ／（１−Ａ）で算出した。この値を表1に示す。
【００８０】
−金属粒子の評価−
（平板粒子の割合、平均粒子径（平均円相当径）、アスペクト比）
銀平板粒子の形状均一性は、観察したＳＥＭ画像から任意に抽出した２００個の粒子の形状を、六角形状乃至円形状の平板状金属粒子をＡ、涙型などの不定形形状および略六角形未満の多角形状の粒子をＢとして画像解析を行い、Ａに該当する粒子個数の割合（個数％）を求めた。
得られた銀平板粒子を含む分散液を、ガラス基板上に滴下して乾燥し、Ａに該当する金属平板粒子１０個の厚みを、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）（ＮａｎｏｃｕｔｅＩＩ、セイコーインスツル社製）を用いて測定した。なお、ＡＦＭを用いた測定条件としては、自己検知型センサー、ＤＦＭモード、測定範囲は５μｍ、走査速度は１８０秒／１フレーム、データ点数は２５６×２５６とした。得られたデータの平均値を平板粒子Ａの平均粒子厚みとし、また、同様にＡに該当する粒子２００個の平板状金属粒子の主平面直径（最大長さ）をデジタルノギスで測定し、その平均値を平均円相当径とし、あわせて得られたＡに該当する金属平板粒子の平均粒子径（平均円相当径）および平均粒子厚みから、平均粒子径（平均円相当径）を平均粒子厚みで除算して、平板粒子Ａのアスペクト比を算出した。それぞれの値を表１に示す。
【００８１】
＜評価（その２）＞
−ヘイズの測定−
ヘイズメーター（ＮＤＨ−５０００、日本電色工業株式会社製)を用いて、各実施例および比較例で得られた電磁波透過性積層体のヘイズ（％）を測定し、以下の基準に従って評価した。
「Ａ」：２％未満
「Ｂ」：２％以上５％未満
「Ｃ」：５％以上
【００８２】
−反射スペクトルおよび透過スペクトル測定−
各実施例および比較例で得られた電磁波透過性積層体を用いて得られた、貼り合わせ構造体について、反射スペクトルおよび透過スペクトルを、紫外可視近赤外分光機（日本分光株式会社製、Ｖ−６７０）を用いて測定した。反射スペクトル測定には、絶対反射率測定ユニット（ＡＲＶ−４７４、日本分光株式会社製）を用い、入射光は４５°偏光板を通し、無偏光とみなせる入射光とした。このようにして得られた反射・透過スペクトルから、ＪＩＳ  Ａ  ５７５９に従って、可視光透過率、遮蔽係数を計算した。
【００８３】
―電磁波透過性の測定―
電磁波透過性は、各実施例・比較例で作製したシートサンプルを１５ｃｍ角に切り出し、東京都立産業技術センターのＡｇｉｌｅｎｔ４３９６Ｂを用いてＫＥＣ法（社団法人関西電子工業振興センター法）により０．１〜１０００ＭＨｚの範囲において測定した。具体的には、電波用・磁波それぞれ専用の治具の間に、何もはさまない場合の電磁波強度に対する測定サンプルをはさんだ場合の電磁波強度の減衰量をｄＢで測定し、１ｄＢを基準として以下の評価（「Ａ」または「Ｂ」）を実施した。
「Ａ」：１ｄＢ未満
「Ｂ」：１ｄＢ以上
【００８４】
表１中、「比率Ｘ」は、上述した比率（ゼラチン質量／銀平板粒子質量）を意図する。
また、「面積率」は、上述した電磁波透過性積層体を金属粒子含有層の上から見たときの基板の面積Ａに対する金属粒子の面積の合計値Ｂの割合である面積率〔(Ｂ／Ａ)×１００〕である。より具体的には、電磁波透過性積層体を上から（金属粒子含有層側から）走査型顕微鏡で観察した際に得られる画像を、画像処理することにより実施した。
また、「充填率」は、金属粒子含有層中の金属粒子の充填率（％）を意図する。充填率の具体的な測定方法としては、作製した電磁波透過性積層体の断面方向に対してＦＩＢ（集束イオンビーム）を走査して、薄い切片を作製し、該切片をＴＥＭ観察することによって、金属粒子と周囲の金属粒子含有層の面積比を画像処理によって求め、得られた値に、それぞれ金属粒子、および金属粒子含有層の物質（有機物）の比重をかけ、その合計値に対する金属粒子の質量比を計算することで、充填率（質量％）が算出した。なお、計算に必要な有機物の比重は、固形状態で乾式自動密度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ製アキュピック）を用いて測定した値を用いた。
【００８５】
【表１】
2015051608.tif 000003
【００８６】
表１に示すように、本発明の電磁波透過性積層体は、優れた熱遮熱性能、ヘイズ値、電磁波透過性を示すことが確認された。
なかでも、実施例２と４との比較より、面積率が８０％以上の場合、遮蔽係数がより小さいことが確認された。
また、実施例４と６との比較より、アスペクト比が８〜４０であれば、遮蔽係数がより小さいことが確認された。
一方、本発明の電磁波透過性積層体の要件を満たさない比較例１〜６においては、上記いずれかの項目が劣っていた。
【００８７】
［製造例８：銀平板粒子分散液Ｂ８の調製］
銀平板粒子分散液Ｂ３（８００ｍＬ）を遠心分離器（日立工機社製ｈｉｍａｃ  ＣＲ−ＧＩＩＩ、アングルローター）で、９０００ｒｐｍで６０分の遠心分離を行い、上澄みを７８４ｍＬ捨てた。その後、沈殿した銀平板粒子を卓上型ホモジナイザー（三井電気精機社製、ＳｐｉｎＭｉｘ０８）の容器に移し、０．２ｍｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液を１８４ｍＬ加えて、１２０００ｒｐｍで２０分間分散した。この銀平板粒子分散液を加熱し５０ｍＬまで濃縮することで、製造例８の銀平板粒子分散液Ｂ８を得た。
なお、得られた銀平板粒子分散液Ｂ８中の銀平板粒子の表面にはゼラチンが吸着しており、比率Ｘは０．１３０であった。
【００８８】
＜実施例１０＞
下記に示す組成の、金属粒子含有層形成用組成物Ｍ５を調製した。
界面活性剤Ａ：Ｆリパール８７８０Ｐ
（ライオン（株）製、固形分１質量％）                        ０．９５質量部
界面活性剤Ｂ：ナロアクティーＣＬ−９５
（三洋化成工業（株）製、固形分１質量％）                    １．１５質量部
銀平板粒子分散液Ｂ８                                        ６４．５質量部
メルカプトテトラゾール
（和光純薬（株）製、固形分２質量％）                        ０．５質量部
水                                                          ２．９質量部
メタノール                                                      ３０質量部
【００８９】
ＰＥＴフィルム（東洋紡（株）製  Ａ４３００、厚み：２５０μｍ、屈折率１．６６）の表面上に、ワイヤーバーを用いて、金属粒子含有層形成用組成物Ｍ５をウェット塗布厚み３５．３μｍになるように塗布した。その後、１７０℃で２分間加熱し、乾燥および固化させ、金属粒子含有層を形成した。
次に、以下の手順によって、金属粒子含有層上に紫外線吸収剤層およびオーバーコート層を付与することで、電磁波透過性積層体Ｅ１０を得た。
【００９０】
（紫外線吸収剤層）
紫外線吸収剤層塗布液として、アクリレートポリマー（ユニディックＥＫＳ−６７５、ＤＩＣ（株）製）（固形分として３０質量部）、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（ＴＩＮＵＶＩＮ４０５、ＢＡＳＦ（株）製）（１．５質量部）、ヒンダードアミン系光安定剤（ＴＩＮＵＶＩＮ２９２、ＢＡＳＦ（株）製）（０．３質量部）、シクロヘキサノン（３質量部）、メチルイソブチルケトン（５５質量部）、フッ素系界面活性剤（メガファックＦ−７８０−Ｆ、ＤＩＣ（株）製）（固形分として０．０１質量部）の混合溶液を調製した。得られた紫外線吸収剤層塗布液を、金属粒子含有層上に、乾燥後の膜厚が１５μｍとなるように、バーコート法により塗布し、１３０℃で２分間乾燥した後、ＵＶ照射装置（ＧＳユアサ社製、ＵＶランプ：メタルハライドランプ）により、２５４ｎｍの波長において５００ｍＪ／ｃｍ2にて紫外線露光を行い、紫外線吸収剤層を形成した。
【００９１】
（オーバーコート層）
次に、オーバーコート層形成用塗布液として、フッ素系ＵＶ硬化樹脂（ディフェンサＦＨ−７００、ＤＩＣ（株）製）（固形分として２２質量部）、シクロヘキサノン（５質量部）、メチルエチルケトン（７２質量部）、フッ素系界面活性剤（メガファックＦ−７８０−Ｆ、ＤＩＣ（株）製）（固形分として０．０４質量部）の混合溶液を調製した。得られたオーバーコート層形成用塗布液を、上記紫外線吸収剤層の上に、乾燥膜厚が１０μｍとなるようにバーコート法により塗布し、１３０℃で２分間乾燥した後、ＵＶ照射装置（ＧＳユアサ社製、ＵＶランプ：メタルハライドランプ）により、２５４ｎｍの波長において５００ｍＪ／ｃｍ2にて紫外線露光を行い、オーバーコート層を形成した。
【００９２】
（実施例１１）
実施例１０に記載の金属粒子含有層を作製した後、以下の手順によって、金属粒子含有層上に紫外線吸収剤層およびオーバーコート層を付与することで、電磁波透過性積層体Ｅ１１を得た。
紫外線吸収剤層塗布液として、ブチラール樹脂（エスレックＢＬ−１、積水化学工業（株）製、粉末）（１４．４８質量部）、フッ素系界面活性剤（メガファックＦ−７８０−Ｆ、ＤＩＣ（株）製、固形分３質量％、ＭＥＫ希釈）（０．２９質量部）、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（ＴＩＮＵＶＩＮ４０５、ＢＡＳＦ（株）製）（１．４５質量部）、酸化防止剤（Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６、ＢＡＳＦジャパン（株）製）（０．１４質量部）、メチルイソブチルケトン（５８．６３質量部）、１−メトキシ−２−プロパノール（２０．００質量部）、シクロヘキサノン（５．００質量部）の混合溶液を作製した。得られた紫外線吸収剤層塗布液を、金属粒子含有層上に、乾燥後の膜厚が８μｍとなるように、バーコート法により塗布し、１３０℃で２分間乾燥した後、ＵＶ照射装置（ＧＳユアサ社製、ＵＶランプ：メタルハライドランプ）により、２５４ｎｍの波長において５００ｍＪ／ｃｍ2にて紫外線露光を行い、紫外線吸収剤層を形成した。
次に、オーバーコート層形成用塗布液として、ウレタン樹脂構成物（パンデックスＧＷ−３２５０、ＤＩＣ（株）製、固形分７０質量％）（５７．９３質量部）、開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ１２７、ＢＡＳＦジャパン（株）製）（０．８５質量部）、フッ素系界面活性剤（メガファックＦ−７８０−Ｆ、ＤＩＣ（株）製、固形分３質量％、ＭＥＫ希釈）（０．４２質量部）、酸化防止剤（Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６、ＢＡＳＦジャパン（株）製）（０．４２質量部）、光安定剤（ＴＩＮＵＶＩＮ２９２、ＢＡＳＦ（株）製）（０．４２質量部）、メチルイソブチルケトン（３４．７質量部）、シクロヘキサノン（５．００質量部）の混合溶液を調製した。得られたオーバーコート層形成用塗布液を、上記紫外線吸収剤層の上に、乾燥膜厚が１５μｍとなるようにバーコート法により塗布し、１３０℃で２分間乾燥した後、ＵＶ照射装置（ＧＳユアサ社製、ＵＶランプ：メタルハライドランプ）により、２５４ｎｍの波長において５００ｍＪ／ｃｍ2にて紫外線露光を行い、オーバーコート層を形成した。
【００９３】
（実施例１２）
紫外線吸収剤層およびオーバーコート層を付与する前に、金属粒子含有層に対して、カレンダ圧力１６０ｋｇ／ｃｍ、カレンダ温度２５℃でカレンダ処理した以外は、実施例１０と同様の手順に従って、電磁波透過性積層体Ｅ１２を得た。
【００９４】
（実施例１３）
紫外線吸収剤層およびオーバーコート層を付与する前に、金属粒子含有層に対して、カレンダ圧力１６０ｋｇ／ｃｍ、カレンダ温度２５℃でカレンダ処理した以外は、実施例１１と同様の手順に従って、電磁波透過性積層体Ｅ１３を得た。
【００９５】
（評価：太陽光エネルギー反射率）
作製した電磁波透過性積層体について、紫外可視近赤外分光光度計ＵＶ−３１００（島津製作所社製）を用いて、電磁波透過性積層体の波長２８０ｎｍから波長１７００ｎｍの範囲の反射率を１ｎｍ間隔で測定し、得られた反射率のスペクトルをＲs（λ）として表した（λ：波長）。地表（エアマス１．５）における太陽光の基準放射照度スペクトルＳｉは、ＡＳＴＭＧ１７３−０３により定義されており、波長２８０ｎｍから波長１７００ｎｍまでの１ｎｍおきのＳｉをＳｉ（λ）として表した際、太陽光エネルギー反射率（Ｒtotal）を下記式で定義して算出し、以下の基準に沿って評価した。結果を表２に示す。
なお、Ｒtotalは太陽光の各波長における照射強度を加味した、実効的な太陽光エネルギーの反射効率を意味する。
＜評価基準＞
Ａ：Ｒtotalが８０％以上である。
Ｂ：Ｒtotalが７０％以上８０％未満である。
Ｃ：Ｒtotalが７０％未満である。
【００９６】
【数１】
2015051608.tif 000004
【００９７】
なお、表２中の「電磁波透過性」は、上述した「電磁波透過性の測定」によって測定した結果である。
【００９８】
【表２】
2015051608.tif 000005
【００９９】
表２に示すように、本発明の電磁波透過性積層体は、電磁波透過性を有しながら、優れた太陽光エネルギー反射率を示し、フィルムミラーとして好適に機能することが確認された。
【符号の説明】
【０１００】
１０    電磁波透過性積層体
１２    基板
１４    金属粒子含有層
２０    平板状金属粒子
２２    高分子層
【図１】
2015051608.tif 000006
【図２】
2015051608.tif 000007
【図３】
2015051608.tif 000008