(57)【要約】【課題】本発明の一態様は、レーザ光の照射エネルギー密度を増大させずに、熱可逆記録媒体に記録されている画像を短時間で消去することが可能な画像処理方法を提供することができる。【解決手段】画像処理方法は、画像が記録されている熱可逆記録媒体１００にレーザ光を並列に走査して画像を消去する工程を有し、レーザ光を並列に走査する画像記録領域１０１を、レーザ光を走査する方向に対して、４個の領域１０１ａ、１０１ｂ、１０１ｃ及び１０１ｄに分割し、４個の領域のうち、隣接する領域１０１ａ及び１０１ｂ、１０１ｂ及び１０１ｃ、１０１ｃ及び１０１ｄは、重なりを有し、レーザ光のスポット径に対する隣接する領域の重なり幅Ｌの比が０．２０以上１．６以下である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像が記録されている熱可逆記録媒体にレーザ光を並列に走査して該画像を消去する工程を有し、
該レーザ光を並列に走査する領域を、該レーザ光を走査する方向に対して、複数の領域に分割し、
該複数の領域のうち、隣接する領域は、重なりを有し、
該レーザ光のスポット径に対する該隣接する領域の重なり幅の比が０．２０以上１．６以下であることを特徴とする画像処理方法。
【請求項２】
隣接する前記レーザ光を走査する向きが同一であることを特徴とする請求項１に記載の画像処理方法。
【請求項３】
隣接する前記レーザ光を走査する向きが反対であることを特徴とする請求項１に記載の画像処理方法。
【請求項４】
前記レーザ光を走査する方向は、前記レーザ光を並列に走査する領域の短手方向であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の画像処理方法。
【請求項５】
前記熱可逆記録媒体は、支持体上に、光熱変換材料、ロイコ染料及び顕色剤を含む熱可逆記録層が形成されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の画像処理方法。
【請求項６】
前記レーザ光は、波長が７００ｎｍ以上２０００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の画像処理方法。
【請求項７】
ＹＡＧレーザ、ファイバレーザ及び半導体レーザからなる群より選択される一種以上を用いて、前記レーザ光を並列に走査することを特徴とする請求項６に記載の画像処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、熱可逆記録媒体に画像を記録する際及び熱可逆記録媒体に記録されている画像を消去する場合、加熱源を熱可逆記録媒体に接触させて熱可逆記録媒体を加熱する接触式が用いられている。加熱源としては、通常、画像を記録する際には、サーマルヘッドが用いられており、記録されている画像を消去する際には、熱ローラ、セラミックヒータ等が用いられている。
【０００３】
しかしながら、ＲＦ−ＩＤタグが非接触で離れた位置から、記憶情報を読み取ると共に、書き換えられるのに対して、熱可逆記録媒体についても離れた位置から画像を書き換えたいという要望がある。
【０００４】
例えば、表面に凹凸が存在する熱可逆記録媒体に対して、離れた位置から、画像を記録する方法及び記録されている画像を消去する方法として、レーザ光を照射する方法が知られている。また、熱可逆記録媒体にレーザ光を照射する位置を制御することが可能な装置として、レーザマーカーが知られている。レーザマーカーを用いて、レーザ光を熱可逆記録媒体に照射すると、熱可逆記録媒体中の光熱変換材料が光を吸収して熱に変換し、熱可逆記録媒体に画像を記録すると共に、熱可逆記録媒体に記録されている画像を消去することができる。
【０００５】
一般に、熱可逆記録媒体に記録されている画像を消去する場合、画像が記録されている領域が同一であるとは限らないため、熱可逆記録媒体の画像を記録する領域の全体にレーザ光を所定の間隔で並列に走査する。
【０００６】
しかしながら、熱可逆記録媒体に記録されている画像を短時間で消去することができないという問題がある。
【０００７】
特許文献１には、熱可逆記録媒体にレーザを照射して描画対象を描画する描画装置をコンピュータが制御する描画制御方法が開示されている。このとき、コンピュータは、描画対象を複数行に分け、熱可逆記録媒体に複数行の各々を描画する描画位置を決定する描画位置決定工程と、相隣接する行の描画方向を反転させながら描画対象を描画するように複数行の各行の描画順を決定する描画順決定工程と、熱可逆記録媒体に往復走査で一の行の次に他の行を描画する際に、他の行の始点側を描画するレーザ出力が他の行の終点側を描画するレーザ出力よりも低くなるように調整する、又は、一の行の終点と他の行の始点との間の第１距離が一の行の始点と他の行の終点との間の第２距離よりも長くなるように描画位置を調整する調整工程と、描画位置及び描画順を反映した描画命令を生成する描画命令生成工程を実行する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、レーザ光の照射エネルギー密度を増大させずに、熱可逆記録媒体に記録されている画像をさらに短時間で消去することが望まれている。
【０００９】
本発明の一態様は、上記従来技術が有する問題に鑑み、レーザ光の照射エネルギー密度を増大させずに、熱可逆記録媒体に記録されている画像を短時間で消去することが可能な画像処理方法及び画像処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一態様は、画像処理方法において、画像が記録されている熱可逆記録媒体にレーザ光を並列に走査して該画像を消去する工程を有し、該レーザ光を並列に走査する領域を、該レーザ光を走査する方向に対して、複数の領域に分割し、該複数の領域のうち、隣接する領域は、重なりを有し、該レーザ光のスポット径に対する該隣接する領域の重なり幅の比が０．２０以上１．６以下である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の一態様によれば、レーザ光の照射エネルギー密度を増大させずに、熱可逆記録媒体に記録されている画像を短時間で消去することが可能な画像処理方法及び画像処理装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】画像処理方法の一例を示す概略図である。
【図２】図１の画像処理方法において、画像記録領域を分割しない方法を示す概略図である。
【図３】画像処理方法の他の例を示す概略図である。
【図４】図３の画像処理方法において、画像記録領域を分割しない方法を示す概略図である。
【図５】画像処理方法の他の例を示す概略図である。
【図６】画像処理方法の他の例を示す概略図である。
【図７】画像処理装置の一例を示す概略図である。
【図８】熱可逆記録媒体の層構成の第一の例を示す概略断面図である。
【図９】熱可逆記録媒体の層構成の第二の例を示す概略断面図である。
【図１０】熱可逆記録媒体の層構成の第三の例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
次に、本発明を実施するための形態を図面と共に説明する。
【００１４】
画像処理方法は、画像消去工程を有し、画像記録工程をさらに有していてもよい。
【００１５】
画像消去工程は、画像が記録されている熱可逆記録媒体にレーザ光を並列に走査して画像を消去する工程である。
【００１６】
このとき、画像消去工程において、レーザ光を並列に走査する領域を、レーザ光を走査する方向に対して、複数の領域に分割し、複数の領域のうち、隣接する領域は、重なりを有する。このため、レーザ光の照射エネルギー密度を増大させずに、熱可逆記録媒体に記録されている画像を短時間で消去することができる。
【００１７】
ここで、レーザ光の照射エネルギー密度［ｍＪ／ｍｍ２］は、レーザ光の出力をＰ［Ｗ］、レーザ光の走査速度をＶ［ｍｍ／ｓ］、レーザ光の照射間隔をＩ［ｍｍ］とすると、式
Ｐ×１０００／（Ｖ×Ｉ）
で表される。
【００１８】
レーザ光のスポット径に対する隣接する領域の重なり幅の比は、０．２０〜１．６であり、０．２０〜１．０であることが好ましい。レーザ光のスポット径に対する隣接する領域の重なり幅の比が０．２０未満であると、複数の領域の境界部分の画像の消去が不十分になり、１．６を超えると、画像を消去する時間が長くなる。
【００１９】
図１に、画像処理方法の一例を示す。図１は、画像記録領域１０１に画像が記録されている熱可逆記録媒体１００にレーザ光を並列に走査して画像を消去し、隣接するレーザ光を走査する向きが反対である例である。
【００２０】
このとき、レーザ光を並列に走査する画像記録領域１０１を、レーザ光を走査する方向に対して、４個の領域１０１ａ、１０１ｂ、１０１ｃ及び１０１ｄに分割し、隣接する領域１０１ａ及び１０１ｂ、１０１ｂ及び１０１ｃ、１０１ｃ及び１０１ｄは、重なり幅がＬである重なりを有する。また、レーザ光を走査する方向は、画像記録領域１０１の短手方向である。
【００２１】
なお、図中、実線及び点線は、それぞれレーザ光が照射されている状態で走査されている動作（レーザ光描画線）及び隣接するレーザ光描画線間をレーザ光が照射されていない状態で走査されている動作である。
【００２２】
図２に、図１の画像処理方法において、画像記録領域１０１を分割しない方法を示す。
【００２３】
この場合、レーザ光描画線の折り返し部以外におけるレーザ光の照射エネルギー密度を最適な条件に調整してレーザ光を走査すると、レーザ光描画線の折り返し部におけるレーザ光の照射エネルギー密度は、残存熱の影響を受けるため、過剰になる。
【００２４】
一方、レーザ光描画線の折り返し部におけるレーザ光の照射エネルギー密度を最適な条件に調整してレーザ光を走査すると、レーザ光描画線の折り返し部以外における照射エネルギー密度は、残存熱の影響を受けにくいため、不足する。
【００２５】
ここで、図１の画像処理方法のように、レーザ光を並列に走査する画像記録領域１０１を、レーザ光を走査する方向に対して、分割すると、レーザ光描画線の折り返し部以外における照射エネルギー密度も、残存熱の影響を受けるため、過剰になる。このため、レーザ光の走査速度を高くしたり、レーザ光の照射間隔を大きくしたりすることができ、その結果、画像を消去する時間を短縮することができる。
【００２６】
図３に、画像処理方法の他の例を示す。図３は、画像記録領域１０１に画像が記録されている熱可逆記録媒体１００にレーザ光を並列に走査して画像を消去し、隣接するレーザ光を走査する向きが同一である例である。
【００２７】
このとき、レーザ光を並列に走査する画像記録領域１０１を、レーザ光を走査する方向に対して、４個の領域１０１ａ、１０１ｂ、１０１ｃ及び１０１ｄに分割し、隣接する領域１０１ａ及び１０１ｂ、１０１ｂ及び１０１ｃ、１０１ｃ及び１０１ｄは、重なり幅がＬである重なりを有する。また、レーザ光を走査する方向は、画像記録領域１０１の短手方向である。
【００２８】
なお、図中、実線及び点線は、それぞれレーザ光が照射されている状態で走査されている動作（レーザ光描画線）及び隣接するレーザ光描画線間をレーザ光が照射されていない状態で走査されている動作である。
【００２９】
図４に、図３の画像処理方法において、画像記録領域１０１を分割しない方法を示す。
【００３０】
この場合、レーザ光描画線の折り返し部以外におけるレーザ光の照射エネルギー密度を最適な条件に調整してレーザ光を走査すると、レーザ光描画線の折り返し部におけるレーザ光の照射エネルギー密度は、残存熱の影響を受けにくいため、過剰にならない。
【００３１】
ここで、図３の画像処理方法のように、画像記録領域１０１を、レーザ光を走査する方向に対して、分割すると、レーザ光描画線の照射エネルギー密度は、残存熱の影響を受けるため、過剰になる。このため、レーザ光の走査速度を高くしたり、レーザ光の照射間隔を大きくしたりすることができ、その結果、画像を消去する時間を短縮することができる。
【００３２】
図５に、画像処理方法の他の例を示す。図５は、画像記録領域１０１に画像が記録されている熱可逆記録媒体１００にレーザ光を並列に走査して画像を消去し、隣接するレーザ光を走査する向きが同一である例である。
【００３３】
このとき、レーザ光を並列に走査する画像記録領域１０１を、レーザ光を走査する方向に対して、２個の領域１０１ａ及び１０１ｂに分割し、隣接する領域１０１ａ及び１０１ｂは、重なり幅がＬである重なりを有する。また、レーザ光を走査する方向は、画像記録領域１０１の短手方向である。
【００３４】
なお、図中、実線及び点線は、それぞれレーザ光が照射されている状態で走査されている動作（レーザ光描画線）及び隣接するレーザ光描画線間をレーザ光が照射されていない状態で走査されている動作である。
【００３５】
図６に、画像処理方法の他の例を示す。図６は、画像記録領域１０１に画像が記録されている熱可逆記録媒体１００にレーザ光を並列に走査して画像を消去し、隣接するレーザ光を走査する向きが同一である例である。
【００３６】
このとき、レーザ光を並列に走査する画像記録領域１０１を、レーザ光を走査する方向に対して、６個の領域１０１ａ、１０１ｂ、１０１ｃ、１０１ｄ、１０１ｅ及び１０１ｆに分割し、隣接する領域１０１ａ及び１０１ｂ、１０１ｂ及び１０１ｃ、１０１ｃ及び１０１ｄ、１０１ｄ及び１０１ｅ、１０１ｅ及び１０１ｆは、重なり幅がＬである重なりを有する。また、レーザ光を走査する方向は、画像記録領域１０１の短手方向である。
【００３７】
なお、図中、実線及び点線は、それぞれレーザ光が照射されている状態で走査されている動作（レーザ光描画線）及び隣接するレーザ光描画線間をレーザ光が照射されていない状態で走査されている動作である。
【００３８】
レーザ光を並列に走査する画像記録領域１０１を、レーザ光を走査する方向に対して、分割する個数は、通常、２〜１００であり、２〜８０であることが好ましい。レーザ光を並列に走査する画像記録領域１０１を、レーザ光を走査する方向に対して、分割する個数が１００を超えると、熱可逆記録媒体１００に記録されている画像を消去する時間が長くなることがある。
【００３９】
レーザ光のスポット径に対するレーザ光描画線の長さの比は、通常、１．５以上である。レーザ光のスポット径に対するレーザ光描画線の長さの比が１．５未満であると、熱可逆記録媒体１００に記録されている画像を消去する時間が長くなることがある。
【００４０】
レーザ光を走査する方向は、画像記録領域１０１の短手方向であることが好ましい。これにより、熱可逆記録媒体１００に記録されている画像を短時間で消去することができる。
【００４１】
なお、レーザ光を並列に走査する画像記録領域１０１を均等に分割してもよいし、不均等に分割してもよい。
【００４２】
また、レーザ光を並列に走査する画像記録領域１０１を、レーザ光の走査方向に対して垂直な方向に対して、さらに分割してもよい。
【００４３】
画像を消去する際に照射されるレーザ光の出力は、通常、５Ｗ以上であり、７Ｗ以上であることが好ましく、１０Ｗ以上であることがさらに好ましい。画像を消去する際に照射されるレーザ光の出力が５Ｗ未満であると、画像の消去に時間がかかることがある。また、画像を消去する際に照射されるレーザ光の出力は、通常、２００Ｗ以下であり、１９０Ｗ以下であることが好ましく、１８０Ｗ以下であることがさらに好ましい。画像を消去する際に照射されるレーザ光の出力が２００Ｗを超えると、レーザ装置の大型化を招くことがある。
【００４４】
画像を消去する際に照射されるレーザ光の走査速度は、通常、１００ｍｍ／ｓ以上であり、２００ｍｍ／ｓ以上であることが好ましく、３００ｍｍ／ｓ以上であることがさらに好ましい。画像を消去する際に照射されるレーザ光の走査速度が１００ｍｍ／ｓ未満であると、画像の消去に時間がかかることがある。また、画像を消去する際に照射されるレーザ光の走査速度は、通常、１５０００ｍｍ／ｓ以下であり、１００００ｍｍ／ｓ以下であることが好ましく、８０００ｍｍ／ｓ以下であることがさらに好ましい。画像を消去する際に照射されるレーザ光の走査速度が１５０００ｍｍ／ｓを超えると、均一に画像を消去しにくくなることがある。
【００４５】
画像を消去する際に照射されるレーザ光のスポット径は、通常、０．５ｍｍ以上であり、１．０ｍｍ以上であることが好ましく、２．０ｍｍ以上であることがさらに好ましい。画像を消去する際に照射されるレーザ光のスポット径が０．５ｍｍ未満であると、画像の消去に時間がかかることがある。また、画像を消去する際に照射されるレーザ光のスポット径は、通常、１４．０ｍｍ以下であり、１２．０ｍｍ以下であることが好ましく、１０．０ｍｍ以下であることがさらに好ましい。画像を消去する際に照射されるレーザ光のスポット径が１４．０ｍｍを超えると、出力が不足して画像の消去不良が発生することがある。
【００４６】
なお、画像が記録されていない熱可逆記録媒体に対して画像消去工程を行ってもよい。
【００４７】
画像記録工程は、画像が消去された後、画像が消去される前又は画像が記録されていない熱可逆記録媒体を加熱することにより画像を記録する工程である。
【００４８】
熱可逆記録媒体を加熱する方法としては、特に限定されないが、レーザ光等を用いる非接触加熱方法、サーマルヘッド等を用いる接触加熱方法等が挙げられる。中でも、物流ラインを想定した場合、熱可逆記録媒体の表面に凹凸が生じていても影響が少なく、離れた位置から記録することが可能であることから、レーザ光を照射する方法が好ましい。
【００４９】
このとき、熱可逆記録媒体の全面に画像を記録してもよいし、熱可逆記録媒体の上下左右に余白部を設けて画像を記録してもよい。
【００５０】
画像を記録する際に照射されるレーザ光の出力は、通常、１Ｗ以上であり、３Ｗ以上であることが好ましく、５Ｗ以上であることがさらに好ましい。画像を記録する際に照射されるレーザ光の出力が１Ｗ未満であると、画像の記録に時間がかかることがある。また、画像を記録する際に照射されるレーザ光の出力は、通常、２００Ｗ以下であり、１５０Ｗ以下であることが好ましく、１００Ｗ以下であることがさらに好ましい。画像を記録する際に照射されるレーザ光の出力が２００Ｗを超えると、レーザ装置の大型化を招くことがある。
【００５１】
画像を記録する際に照射されるレーザ光の走査速度は、通常、３００ｍｍ／ｓ以上であり、５００ｍｍ／ｓ以上であることが好ましく、７００ｍｍ／ｓ以上であることがさらに好ましい。画像を記録する際に照射されるレーザ光の走査速度が３００ｍｍ／ｓ未満であると、画像の記録に時間がかかることがある。また、画像を記録する際に照射されるレーザ光の走査速度は、通常、１５０００ｍｍ／ｓ以下であり、１００００ｍｍ／ｓ以下であることが好ましく、８０００ｍｍ／ｓ以下であることがさらに好ましい。画像を記録する際に照射されるレーザ光の走査速度が１５０００ｍｍ／ｓを超えると、均一に画像を形成しにくくなることがある。
【００５２】
画像を記録する際に照射されるレーザ光のスポット径は、通常、０．０２ｍｍ以上であり、０．１ｍｍ以上であることが好ましく、０．１５ｍｍ以上であることがさらに好ましい。画像を記録する際に照射されるレーザ光のスポット径が０．０２ｍｍ未満であると、画像の線幅が細くなり、視認性が低下することがある。また、画像を記録する際に照射されるレーザ光のスポット径は、通常、３．０ｍｍ以下であり、２．５ｍｍ以下であることが好ましく、２．０ｍｍ以下であることがさらに好ましい。画像を記録する際に照射されるレーザ光のスポット径が３．０ｍｍを超えると、画像の線幅が太くなり、隣接する線が重なり、小さい画像を記録しにくくなることがある。
【００５３】
レーザ光の光源としては、特に限定されないが、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、ファイバレーザ、ＣＯ２レーザ等が挙げられる。中でも、波長選択性が広く、光源自体が小さく、装置の小型化、低価格化が可能である点から、半導体レーザが好ましい。
【００５４】
半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、ファイバレーザから照射されるレーザ光の波長は、通常、７００ｎｍ以上であり、７２０ｎｍ以上であることが好ましく、７５０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。画像を記録する際に、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、ファイバレーザから照射されるレーザ光の波長が７００ｎｍ未満の可視光領域であると、熱可逆記録媒体に記録された画像のコントラストが低下したり、熱可逆記録媒体が着色したりすることがある。半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、ファイバレーザから照射されるレーザ光の波長が紫外光領域であると、熱可逆記録媒体が劣化しやすくなることがある。また、熱可逆記録媒体に添加する光熱変換材料は、耐久性を確保するために高い分解温度を必要とし、光熱変換材料として、有機色素を用いる場合、分解温度が高く吸収波長が長い光熱変換材料を得るのは難しい。このため、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、ファイバレーザから照射されるレーザ光の波長は、通常、２０００ｎｍ以下であり、１５００ｍｍ以下であることが好ましく、１２００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
【００５５】
ＣＯ２レーザから照射されるレーザ光の波長は、遠赤外領域の１０．６μｍであり、レーザ光を吸収して発熱させるための添加物を添加しなくても、熱可逆記録媒体の表面でレーザ光を吸収する。また、添加物は、近赤外領域の波長を有するレーザ光を用いても、若干ではあるが、可視光も吸収することがあるため、添加物が不要となるＣＯ２レーザは、熱可逆記録媒体に記録された画像のコントラストの低下を抑制することができる。
【００５６】
図４に、画像処理装置の一例を示す。
【００５７】
画像処理装置は、レーザ発振器１、ビームエキスパンダ２、スキャンニングユニット５から構成されている発振器ユニットを有する。
【００５８】
レーザ発振器１は、レーザ媒質の両側にミラーを配置し、レーザ媒質をポンピングし、励起状態の原子数を増やし反転分布を形成して誘導放出させる。その結果、光軸方向の光のみが選択的に増幅されることにより、光の指向性が高まり、出力ミラーからレーザ光が放出される。
【００５９】
スキャンニングユニット５は、ガルバノメータ４と、ガルバノメータ４に取り付けられたミラー４Ａから構成されている。そして、レーザ発振器１から出力されたレーザ光を、ガルバノメータ４に取り付けられたＸ軸方向とＹ軸方向との２枚のミラー４Ａで回転走査することにより、熱可逆記録媒体１００に、画像を記録又は消去する。
【００６０】
画像処理装置は、レーザ媒質を励起する光源の駆動電源、ガルバノメータの駆動電源、ペルチェ素子等の冷却用電源、各ユニットを制御する制御部から構成されている電源制御ユニットを有する。
【００６１】
画像処理装置は、タッチパネル入力、キーボード入力により、画像を記録又は消去するために、レーザ光の強さ、レーザ走査の速度等の条件を入力し、画像を作成及び編集するプログラムユニットを有する。
【００６２】
なお、画像処理装置は、熱可逆記録媒体１００を搬送する搬送ユニット、タッチパネル等をさらに有する。
【００６３】
熱可逆記録媒体１００は、支持体上に、熱可逆記録層が形成されており、必要に応じて、光熱変換層、酸素遮断層、紫外線吸収層、中間層、保護層、アンダー層、バック層、接着層、粘着層、着色層、空気層、光反射層等がさらに形成されている。
【００６４】
なお、これらの各層は、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよい。
【００６５】
また、光熱変換材料を添加する場合は、熱可逆記録層又は光熱変換層に添加されるが、記録感度の点から、熱可逆記録層に添加されることが好ましい。
【００６６】
光熱変換材料は、無機系材料と有機系材料に大別できる。
【００６７】
無機系材料としては、特に限定されないが、カーボンブラック、Ｇｅ、Ｂｉ、Ｉｎ、Ｔｅ、Ｓｅ、Ｃｒ等の金属又は半金属、金属又は半金属を含む合金、金属ホウ化物、金属酸化物が挙げられる。
【００６８】
金属ホウ化物及び金属酸化物としては、六ホウ化物、酸化タングステン、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモン酸亜鉛等が挙げられる。中でも、可視領域に吸収が少ないことから、六ホウ化物、酸化タングステンが好ましい。
【００６９】
有機系材料としては、特に限定されないが、光源として半導体レーザを用いる場合には、７００〜１５００ｎｍの波長領域に吸収ピークを有する近赤外吸収色素が用いられる。
【００７０】
近赤外吸収色素としては、シアニン色素、キノン系色素、インドナフトールのキノリン誘導体、フェニレンジアミン系ニッケル錯体、フタロシアニン系化合物等が挙げられ、二種以上併用してもよい。中でも、耐熱性に優れる点から、フタロシアニン系化合物が好ましい。
【００７１】
図８に、熱可逆記録媒体の層構成の第一の例を示す。
【００７２】
熱可逆記録媒体１００Ａは、支持体１１０上に、熱可逆記録層１２０が形成されている。
【００７３】
図９に、熱可逆記録媒体の層構成の第二の例を示す。
【００７４】
熱可逆記録媒体１００Ｂは、支持体１１０上に、熱可逆記録層１２０及び光熱変換層１３０が順次積層されている。
【００７５】
なお、熱可逆記録層１２０及び光熱変換層１３０を積層する順序は逆であってもよい。
【００７６】
図１０に、熱可逆記録媒体の層構成の第三の例を示す。
【００７７】
熱可逆記録媒体１００Ｃは、支持体１１０上に、熱可逆記録層１２０Ａ、光熱変換層１３０及び熱可逆記録層１２０Ｂが順次積層されている。
【００７８】
支持体１１０の形状としては、特に限定されないが、平板状等が挙げられる。
【００７９】
支持体１１０の構造は、単層構造であってもよいし、積層構造であってもよい。
【００８０】
支持体１１０を構成する材料としては、特に限定されないが、ガラス、石英、シリコン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、金属等の無機材料、紙、三酢酸セルロース等のセルロース誘導体、合成紙、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメタクリル酸メチル等の有機材料が挙げられ、二種以上を併用してもよい。中でも、有機材料が好ましく、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチルがさらに好ましく、ポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。
【００８１】
支持体１１０は、表面改質されていることが好ましい。これにより、塗布層の接着性を向上させることができる。
【００８２】
表面改質処理としては、特に限定されないが、コロナ放電処理、酸化反応処理（例えば、クロム酸処理）、エッチング処理、易接着処理、帯電防止処理等が挙げられる。
【００８３】
支持体１１０は、酸化チタン等の白色顔料を含むことが好ましい。
【００８４】
支持体１１０の平均厚さは、通常、１０μｍ〜２ｍｍであり、２０μｍ〜１ｍｍであることが好ましい。
【００８５】
なお、支持体１１０を省略することもできる。
【００８６】
熱可逆記録層１２０は、温度に依存して透明度及び色調のいずれかが可逆的に変化する材料を含む。
【００８７】
温度に依存して透明度及び色調のいずれかが可逆的に変化する材料は、温度変化により、目に見える変化を可逆的に生じる現象を発現することが可能な材料であり、加熱温度及び加熱後の冷却速度の違いにより、相対的に発色した状態と消色した状態に変化することが可能である。この場合、目に見える変化は、色の状態の変化と形状の変化に分けられる。色の状態の変化は、例えば、透過率、反射率、吸収波長、散乱度等の変化に起因し、熱可逆記録媒体は、実際には、これらの変化の組み合わせにより色の状態が変化する。
【００８８】
温度に依存して透明度及び色調のいずれかが可逆的に変化する材料としては、特に限定されないが、第一の特定温度で透明状態となり、第二の特定温度で白濁状態となる材料（特開昭５５−１５４１９８号公報参照）、第二の特定温度で発色し、第一の特定温度で消色する材料（特開平４−２２４９９６号公報、特開平４−２４７９８５号公報、特開平４−２６７１９０号公報等参照）、第一の特定温度で白濁状態となり、第二の特定温度で透明状態となる材料（特開平３−１６９５９０号公報参照）、第一の特定温度で黒、赤、青等に発色し、第二の特定温度で消色する材料（特開平２−１８８２９３号、特開平２−１８８２９４号公報等参照）等が挙げられる。中でも、透明状態と発色状態とを可逆的に示し、コントラストが高い画像を記録できる点で、ロイコ染料と顕色剤を用いることが好ましい。
【００８９】
ロイコ染料は、無色又は淡色の染料前駆体である。
【００９０】
ロイコ染料としては、特に限定されないが、トリフェニルメタンフタリド系、トリアリルメタン系、フルオラン系、フェノチアジン系、チオフェルオラン系、キサンテン系、インドフタリル系、スピロピラン系、アザフタリド系、クロメノピラゾール系、メチン系、ローダミンアニリノラクタム系、ローダミンラクタム系、キナゾリン系、ジアザキサンテン系、ビスラクトン系等が挙げられ、二種以上併用してもよい。中でも、発消色特性、色彩、保存性に優れる点で、フルオラン系又はフタリド系のロイコ染料が好ましい。
【００９１】
顕色剤としては、熱を因子として可逆的に発消色させることが可能であれば、特に限定されないが、ロイコ染料を発色させる顕色能を有する構造（例えば、フェノール性水酸基、カルボキシル基、リン酸基）及び分子間の凝集力を制御する構造（例えば、長鎖炭化水素基）を１個以上有する化合物が挙げられる。
【００９２】
ロイコ染料を発色させる顕色能を有する構造は、フェノール性水酸基であることが好ましい。
【００９３】
長鎖炭化水素基の炭素数は、通常、８以上であり、１１以上であることが好ましい。また、長鎖炭化水素基の炭素数は、通常、４０以下であり、３０以下であることが好ましい。
【００９４】
なお、ロイコ染料を発色させる顕色能を有する構造及び分子間の凝集力を制御する構造は、ヘテロ原子を含む２価以上の連結基を介して、連結されていてもよい。また、長鎖炭化水素基中に、同様の連結基及び／又は芳香族基により置換されていてもよい。
【００９５】
顕色剤は、一般式
【００９６】
【化１】
2015051607.tif 000003
（式中、Ｒ１は、単結合又は炭素数が１〜２４の２価の脂肪族炭化水素基であり、Ｒ２は、置換基を有していてもよい炭素数が２以上の２価の脂肪族炭化水素基であり、Ｒ３は、炭素数が１〜３５の１価の脂肪族炭化水素基であり、Ｘ及びＹは、それぞれ独立に、Ｎ原子又はＯ原子を含む２価の基であり、ｎは０又は１である。）
で表される化合物であることが好ましく、一般式
【００９７】
【化２】
2015051607.tif 000004
で表される化合物であることがさらに好ましい。
【００９８】
Ｒ２の炭素数は、５以上であることが好ましく、１０以上であることがさらに好ましい。
【００９９】
Ｒ３の炭素数は、６以上であることが好ましく、８以上であることがさらに好ましい。
【０１００】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の炭素数の和は、通常、８以上であり、１１以上であることが好ましい。また、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の炭素数の和は、通常、４０以下であり、３５以下であることが好ましい。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の炭素数の和が８未満であると、発色の安定性及び消色性が低下することがある。
【０１０１】
脂肪族炭化水素基は、直鎖であってもよいし、分枝鎖であってもよく、不飽和結合を有していてもよいが、直鎖であることが好ましい。
【０１０２】
置換基としては、特に限定されないが、水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基等が挙げられる。
【０１０３】
Ｎ原子又はＯ原子を含む２価の基としては、特に限定されないが、酸素原子、アミド結合（−ＮＨＣＯ−）、尿素結合（−ＨＮＣＯＮＨ−）、化学式
−ＣＯＨＮ−ＮＨＣＯ−
で表される基、化学式
−ＨＮＣＯ−ＣＯＮＨ−
で表される基、化学式
−ＨＮＣＯＮＨＣＯ−
で表される基等が挙げられる。中でも、アミド結合、尿素結合が好ましい。
【０１０４】
なお、顕色剤は、熱可逆記録層１２０中に、粒子状に分散して存在している。
【０１０５】
熱可逆記録層１２０は、消色促進剤をさらに含むことが好ましい。
【０１０６】
消色促進剤としては、アミド結合（−ＮＨＣＯ−）及び／又は化学式
−ＯＣＯＮＨ−
で表される基を１個以上有していれば、特に限定されない。
【０１０７】
消色促進剤は、消色状態を形成する過程において、顕色剤との間に、分子間相互作用が誘起され、発消色特性を向上させることができる。
【０１０８】
熱可逆記録層１２０は、塗布特性及び発消色特性を向上させるために、添加剤をさらに含んでいてもよい。
【０１０９】
添加剤としては、特に限定されないが、界面活性剤、導電剤、充填剤、酸化防止剤、光安定化剤、発色安定化剤等が挙げられる。
【０１１０】
熱可逆記録層１２０は、バインダー樹脂をさらに含んでいてもよい。
【０１１１】
バインダー樹脂としては、特に限定されないが、繰り返し時の耐久性を向上させるため、架橋剤により硬化することが可能な熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂が好ましく、架橋剤により硬化することが可能な熱可塑性樹脂が特に好ましい。
【０１１２】
架橋剤により硬化することが可能な熱可塑性樹脂としては、特に限定されないが、架橋剤と反応することが可能な基を有していれば、特に限定されないが、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、アクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリウレタンポリオール等が挙げられる。中でも、アクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリウレタンポリオールが好ましい。
【０１１３】
ロイコ染料に対するバインダー樹脂の質量比は、通常、０．１〜１０である。ロイコ染料に対するバインダー樹脂の質量比が０．１未満であると、熱可逆記録層１２０の熱強度が低下することがあり、１０を超えると、発色濃度が低下することがある。
【０１１４】
架橋剤としては、特に限定されないが、イソシアネート類、アミノ樹脂、フェノール樹脂、アミン類、エポキシ化合物等が挙げられる。でも、イソシアネート類が好ましく、イソシアネート基を複数有するポリイソシアネートが特に好ましい。
【０１１５】
熱可塑性樹脂が有する架橋剤と反応することが可能な基に対する架橋剤が有する活性基のモル比は、通常、０．０１〜２である。熱可塑性樹脂が有する架橋剤と反応することが可能な基に対する架橋剤が有する活性基のモル比が０．０１未満であると、熱可逆記録層１２０の熱強度が低下することがあり、２を超えると、発消色特性が低下することがある。
【０１１６】
架橋剤は、架橋反応の触媒と併用してもよい。
【０１１７】
熱可逆記録層１２０のゲル分率は、通常、３０％以上であり、５０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがさらに好ましい。熱可逆記録層１２０のゲル分率が３０％未満であると、熱可逆記録媒体１００の耐久性が低下することがある。
【０１１８】
熱可逆記録層１２０を形成する方法としては、特に限定されないが、バインダー樹脂、ロイコ染料及び顕色剤を含む組成物が溶媒中に溶解又は分散している塗布液を支持体上に塗布した後、乾燥させる方法等が挙げられる。
【０１１９】
溶媒としては、特に限定されないが、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、クロロホルム、四塩化炭素、エタノール、トルエン、ベンゼン等が挙げられる。
【０１２０】
塗布液の調製方法としては、特に限定されないが、組成物を溶媒中に溶解又は分散させる方法、バインダー樹脂を溶媒中に溶解させた後、バインダー樹脂以外の材料を溶解又は分散させる方法等が挙げられる。
【０１２１】
塗布液は、消泡剤、スリップ剤、防腐剤、架橋剤、可塑剤等をさらに含んでいてもよい。
【０１２２】
塗布液の塗布方法としては、特に限定されないが、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、エアナイフ塗布法、ビード塗布法、カーテン塗布法、グラビア塗布法、キス塗布法、リバースロール塗布法、ディップ塗布法、ダイ塗布法等が挙げられる。
【０１２３】
熱可逆記録層１２０の平均厚さは、通常、１〜２０μｍであり、３〜１８μｍであることが好ましい。熱可逆記録層の平均厚さが１μｍ未満であると、発色濃度が低下することがあり、２０μｍを超えると、発色温度に達せず、発色しない部分が発生することがある。
【０１２４】
光熱変換層１３０は、光熱変換材料を含み、熱可逆記録層１２０の片面又は両面に形成される。
【０１２５】
光熱変換層１３０中の光熱変換材料の含有量は、通常、０．００５〜２０ｇ／ｍ２であり、０．０１〜１０ｇ／ｍ２であることが好ましい。
【０１２６】
光熱変換層１３０は、バインダー樹脂をさらに含んでいてもよい。
【０１２７】
バインダー樹脂としては、熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂のいずれを用いてもよく、熱可逆記録層１２０のバインダー樹脂と同様の樹脂を用いることができる。中でも、耐久性を向上させるため、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂が好ましく、架橋剤により硬化することが可能な熱硬化性樹脂が好ましい。
【０１２８】
光熱変換層１３０の平均厚さは、通常、０．１〜２０μｍである。
【０１２９】
熱可逆記録層１２０と光熱変換層１３０の間に、バリア層を形成してもよい。
【０１３０】
バリア層は、バインダー樹脂を含む。
【０１３１】
バインダー樹脂としては、特に限定されないが、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等が挙げられる。
【０１３２】
熱可逆記録層１２０又は光熱変換層１３０上に、酸素遮断層をさらに形成してもよい。これにより、熱可逆記録層１２０や光熱変換層１３０に酸素が進入することを防ぐことにより、熱可逆記録層１２０中のロイコ染料の光劣化を防止することができると共に、繰り返し高温に加熱されることによる光熱変換材料の酸化を防止することができる。
【０１３３】
酸素遮断層の２５℃、８０％ＲＨにおける酸素透過度は、通常、０．５ｍＬ／（ｍ２・２４ｈｒ・ａｔｍ）以下であり、０．１ｍＬ／（ｍ２・２４ｈｒ・ａｔｍ）以下であることが好ましく、０．０５ｍＬ／（ｍ２・２４ｈｒ・ａｔｍ）以下であることがさらに好ましい。酸素遮断層の２５℃、８０％ＲＨにおける酸素透過度が０．５ｍＬ／（ｍ２・２４ｈｒ・ａｔｍ）を超えると、十分に酸素を遮断することができなくなることがある。
【０１３４】
なお、酸素透過度は、ＪＩＳ  Ｋ７１２６Ｂ法（等圧法）、ＡＴＳＭＤ３９８５に準じた測定方法により測定することができる。
【０１３５】
酸素遮断層としては、特に限定されないが、ポリビニルアルコール、エチレン−ポリビニルアルコール共重合体等の水溶性樹脂フィルム、シリカ、アルミナ等の無機酸化物の蒸着層、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ナイロン等の樹脂フィルム上に、シリカ、アルミナ、シリカ／アルミナ等の無機酸化物の蒸着層が形成されている無機蒸着フィルム等が挙げられる。中でも、無機蒸着フィルムが好ましい。無機蒸着フィルムにおける無機酸化物は、安価で、酸素遮断性が高く、温度や湿度に対する影響が少ないことから、シリカであることが好ましい。また、無機蒸着フィルムにおける樹脂フィルムは、蒸着適性、酸素遮断性の安定性、耐熱性の点から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）であることが好ましい。
【０１３６】
熱可逆記録層１２０又は光熱変換層１３０と、酸素遮断層の間には、紫外線吸収層、中間層、保護層、接着層、粘着層等がさらに形成されていてもよい。
【０１３７】
支持体１１０と、熱可逆記録層１２０又は光熱変換層１３０の間、又は、支持体１１０の熱可逆記録層１２０が形成されていない側の面上に、酸素遮断層がさらに形成されていることが好ましい。これにより、効果的に酸素を遮断することができる。
【０１３８】
なお、熱可逆記録層１２０の上下に形成される酸素遮断層は、同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【０１３９】
（水溶性）樹脂フィルムの形成方法としては、特に限定されないが、コーティング法、ラミネート法等が挙げられる。
【０１４０】
無機酸化物の蒸着方法としては、特に限定されないが、ＰＶＤ法、ＣＶＤ法等が挙げられる。
【０１４１】
酸素遮断層の平均厚さは、通常、０．００５〜１０００μｍであり、０．００７〜５００μｍであることが好ましい。酸素遮断層の平均厚さが１０００μｍを超えると、透明性が低下したり、記録感度が低下したりすることがある。
【０１４２】
無機酸化物の蒸着層の平均厚さは、通常、５〜１００ｎｍであり、７〜８０ｎｍであることが好ましい。無機酸化物の蒸着層の平均厚さが５ｎｍ未満であると、酸素の遮断が不十分になることがあり、１００ｎｍを超えると、透明性が低下したり、着色したりすることがある。
【０１４３】
酸素遮断層と下層の間に、接着層又は粘着層がさらに形成されていてもよい。
【０１４４】
接着層又は粘着層の形成方法としては、特に限定されないが、コーティング法、ラミネート法等が挙げられる。
【０１４５】
接着層又は粘着層の平均厚さは、通常、０．１〜２０μｍである。
【０１４６】
接着層又は粘着層を構成する材料としては、特に限定されないが、ユリア樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、酢酸ビニル系樹脂、酢酸ビニル−アクリル系共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アクリル系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩素化ポリオレフィン系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、アクリル酸エステル系共重合体、メタクリル酸エステル系共重合体、天然ゴム、シアノアクリレート系樹脂、シリコーン系樹脂等が挙げられる。
【０１４７】
接着層又は粘着層は、架橋剤により架橋していてもよいし、ホットメルトタイプであってもよい。
【０１４８】
無機蒸着フィルムは、２層以上積層されていてもよい。これにより、酸素遮断性を向上させることができる。
【０１４９】
無機蒸着フィルムを積層する方法としては、特に限定されないが、接着層又は粘着層を用いて貼り合せる方法等が挙げられる。
【０１５０】
熱可逆記録層１２０又は光熱変換層１３０上に、保護層がさらに形成されていてもよい。
【０１５１】
保護層は、表面に形成されていることが好ましい。
【０１５２】
保護層は、バインダー樹脂を含み、離型剤、フィラー等をさらに含んでいてもよい。
【０１５３】
バインダー樹脂としては、特に限定されないが、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等が挙げられる。中でも、紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂が好ましい。
【０１５４】
紫外線硬化性樹脂を用いると、硬い保護層を形成することができ、表面の物理的な接触によるダメージ、レーザ加熱による熱可逆記録媒体の変形を抑止することができるため、耐久性を向上させることができる。
【０１５５】
また、熱硬化性樹脂を用いると、紫外線硬化性樹脂を用いる場合と比較すると、やや劣るが、耐久性を向上させることができる。
【０１５６】
紫外線硬化性樹脂としては、特に限定されないが、ウレタンアクリレート系、エポキシアクリレート系、ポリエステルアクリレート系、ポリエーテルアクリレート系、ビニル系、不飽和ポリエステル系のオリゴマー、単官能又は多官能のアクリレート、単官能又は多官能のメタクリレート、ビニルエステル、エチレン誘導体、アリル化合物等のモノマーが挙げられる。中でも、４官能以上の多官能のモノマー又はオリゴマーが好ましい。
【０１５７】
このとき、紫外線硬化性樹脂を二種以上併用することにより、保護層の硬さ、収縮度、柔軟性、塗膜強度を調節することができる。
【０１５８】
なお、紫外線硬化性樹脂を硬化させるためには、光重合開始剤、光重合促進剤を用いる必要がある。
【０１５９】
紫外線硬化性樹脂に対する光重合開始剤又は光重合促進剤の質量比は、通常、０．１〜２０％であり、１〜１０％であることが好ましい。
【０１６０】
紫外線硬化樹脂を硬化させる方法としては、特に限定されないが、紫外線照射装置を用いて紫外線を照射する方法等が挙げられる。
【０１６１】
紫外線照射装置は、光源、灯具、電源、冷却装置、搬送装置等を有する。
【０１６２】
光源としては、特に限定されないが、水銀ランプ、メタルハライドランプ、カリウムランプ、水銀キセノンランプ、フラッシュランプ等が挙げられる。
【０１６３】
熱硬化性樹脂としては、熱可逆記録層１２０の熱硬化性樹脂と同様の樹脂を用いることができる。
【０１６４】
熱硬化性樹脂は、水酸基、アミノ基、カルボキシル基等の架橋剤と反応することが可能な基を有することが好ましく、水酸基を有することがさらに好ましい。
【０１６５】
架橋剤としては、熱可逆記録層１２０の架橋剤と同様の架橋剤を用いることができる。
【０１６６】
離型剤としては、搬送性を良好にするため、重合性基を有するシリコーン樹脂、シリコーン樹脂がグラフトされている樹脂、ワックス、ステアリン酸亜鉛、シリコーンオイル等が挙げられる。
【０１６７】
バインダー樹脂に対する離型剤の質量比は、通常、０．０１〜５０％であり、０．１〜４０％であることが好ましい。
【０１６８】
保護層は、界面活性剤、レベリング剤、帯電防止剤等をさらに含んでいてもよい。
【０１６９】
保護層の形成方法としては、熱可逆記録層１２０の形成方法と同様の方法を用いることができる。
【０１７０】
保護層の平均厚さは、通常、０．１〜２０μｍであり、０．５〜１０μｍであることが好ましく、１．５〜６μｍであることがさらに好ましい。保護層の平均厚さが０．１μｍ未満であると、熱可逆記録媒体１００の耐久性が低下することがあり、２０μｍを超えると、熱可逆記録媒体１００の発消色特性が低下することがある。
【０１７１】
熱可逆記録層１２０又は光熱変換層１３０上に、紫外線吸収層がさらに形成されていることが好ましい。これにより、熱可逆記録層１２０中の樹脂成分の紫外線による劣化、ロイコ染料の紫外線による着色及び光劣化による消え残りを防止することができる。
【０１７２】
紫外線吸収層は、紫外線吸収剤を含み、バインダー樹脂、フィラー、滑剤等をさらに含んでいてもよい。
【０１７３】
紫外線吸収剤としては、有機系化合物及び無機系化合物のいずれを用いてもよい。
【０１７４】
有機系紫外線吸収剤としては、特に限定されないが、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、サリチル酸エステル系、シアノアクリレート系、ケイ皮酸系等の紫外線吸収剤が挙げられる。中でも、ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤が好ましく、水酸基が隣接する嵩高い基により保護されている紫外線吸収剤がさらに好ましい。
【０１７５】
ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤の具体例としては、２−（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'−ｔ−ブチル−５'−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'−ｔ−ブチル−５'−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−５'−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２'−メチレンビス［６−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］）等が挙げられる。
【０１７６】
また、長期に亘って使用する場合、紫外線吸収剤の凝集やブリーディングを防止するために、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂等の共重合した高分子に紫外線吸収構造をペンダントしてもよいし、タルク等の無機材料の表面を有機系紫外線吸収剤で被覆した後、ジメチコンで表面処理してもよい。
【０１７７】
紫外線吸収層中の有機系紫外線吸収剤の含有量は、通常、１〜９５質量％である。
【０１７８】
無機系紫外線吸収剤としては、特に限定されないが、酸化亜鉛、酸化インジウム、アルミナ、シリカ、酸化ジルコニア、酸化スズ、酸化セリウム、酸化鉄、酸化アンチモン、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化ビスマス、酸化ニッケル、酸化マグネシウム、酸化クロム、酸化マンガン、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化トリウム、酸化ハフニウム、酸化モリブデン、鉄フェライト、ニッケルフェライト、コバルトフェライト、チタン酸バリウム、チタン酸カリウム等の金属酸化物又はこれらの複合酸化物、硫化亜鉛、硫酸バリウム等の金属硫化物又は硫酸化合物、チタンカーバイド、シリコンカーバイド、モリブデンカーバイド、タングステンカーバイド、タンタルカーバイド等の金属炭化物、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、窒化ジルコニウム、窒化バナジウム、窒化チタニウム、窒化ニオブ、窒化ガリウム等の金属窒化物等が挙げられる。中でも、金属酸化物又はこれらの複合酸化物が好ましく、シリカ、アルミナ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ビスマスがさらに好ましい。
【０１７９】
無機系紫外線吸収剤の平均粒径は、通常、１００ｎｍ以下である。
【０１８０】
無機系紫外線吸収剤は、シリコーン、ワックス、有機シラン、シリカ等により、表面が処理されていてもよい。
【０１８１】
紫外線吸収層中の無機系紫外線吸収剤の含有量は、通常、１〜９５体積％である。
【０１８２】
バインダー樹脂としては、熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂のいずれを用いてもよく、熱可逆記録層１２０のバインダー樹脂と同様の樹脂を用いることができる。
【０１８３】
バインダー樹脂としては、特に限定されないが、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリウレタン、飽和ポリエステル、不飽和ポリエステル、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート、ポリアミド等が挙げられる。
【０１８４】
紫外線吸収層の平均厚さは、通常、０．１〜３０μｍであり、０．５〜２０μｍであることが好ましい。
【０１８５】
紫外線吸収層の形成方法としては、熱可逆記録層１２０の形成方法と同様の方法を用いることができる。
【０１８６】
なお、紫外線吸収剤を熱可逆記録層１２０に添加してもよい。
【０１８７】
熱可逆記録層１２０又は光熱変換層１３０上に、中間層がさらに形成されていてもよい。これにより、熱可逆記録層１２０又は光熱変換層１３０と、酸素遮断層の接着性を向上させると共に、熱可逆記録層１２０又は光熱変換層１３０の表面を平滑化することができる。
【０１８８】
中間層は、バインダー樹脂を含み、フィラー、滑剤等をさらに含んでいてもよい。
【０１８９】
バインダー樹脂としては、熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂のいずれを用いてもよく、熱可逆記録層のバインダー樹脂と同様の樹脂を用いることができる。
【０１９０】
中間層は、紫外線吸収層と同様の紫外線吸収剤をさらに含んでいてもよい。
【０１９１】
中間層の平均厚さは、通常、０．１〜２０μｍであり、０．５〜１０μｍであることが好ましい。
【０１９２】
中間層の形成方法としては、熱可逆記録層の形成方法と同様の方法を用いることができる。
【０１９３】
熱可逆記録層１２０又は光熱変換層１３０と、支持体１１０の間に、アンダー層がさらに形成されていてもよい。これにより、発熱した熱を有効に利用して高感度化すると共に、支持体１１０と、熱可逆記録層１２０又は光熱変換層１３０の接着性を改善し、支持体１１０への熱可逆記録層１２０又は光熱変換層１３０の材料の浸透を防止することができる。
【０１９４】
アンダー層は、中空粒子を含み、バインダー樹脂等をさらに含んでいてもよい。
【０１９５】
中空粒子としては、中空部が粒子内に一つ存在する単一中空粒子、中空部が粒子内に多数存在する多中空粒子等が挙げられ、二種以上併用してもよい。
【０１９６】
中空粒子を構成する材料としては、特に限定されないが、熱可塑性樹脂等が挙げられる。
【０１９７】
中空粒子の市販品としては、マイクロスフェアーＲ−３００（松本油脂社製）、ローペイクＨＰ１０５５、ローペイクＨＰ４３３Ｊ（以上、日本ゼオン社製）、ＳＸ８６６（ＪＳＲ社製）等が挙げられる。
【０１９８】
アンダー層中の中空粒子の含有量は、通常、１０〜８０質量％である。
【０１９９】
バインダー樹脂としては、熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂のいずれを用いてもよく、熱可逆記録層のバインダー樹脂と同様の樹脂を用いることができる。
【０２００】
アンダー層は、フィラー、滑剤、界面活性剤、分散剤等をさらに含んでいてもよい。
【０２０１】
フィラーとしては、無機フィラー及び有機フィラーのいずれを用いてもよいが、無機フィラーを用いることが好ましい。
【０２０２】
無機フィラーを構成する材料としては、特に限定されないが、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、酸化チタン、酸化ケイ素、水酸化アルミニウム、カオリン、タルク等が挙げられる。
【０２０３】
アンダー層の平均厚さは、通常、１〜８０μｍであり、４〜７０μｍであることが好ましく、１２〜６０μｍであることがさらに好ましい。
【０２０４】
支持体１１０の熱可逆記録層１２０が形成されていない側に、バック層がさらに形成されていてもよい。これにより、熱可逆記録媒体１００のカール及び帯電を防止すると共に、搬送性を向上させることができる。
【０２０５】
バック層は、バインダー樹脂を含み、フィラー、導電性フィラー、滑剤等をさらに含んでいてもよい。
【０２０６】
バインダー樹脂としては、特に限定されないが、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等が挙げられる。中でも、紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂が好ましい。  バインダー樹脂としては、熱可逆記録層１２０のバインダー樹脂と同様の樹脂を用いることができる。
【０２０７】
支持体１１０の熱可逆記録層１２０が形成されていない側に、接着層又は粘着層をさらに形成して、熱可逆記録ラベルとしてもよい。これにより、熱可逆記録層１２０の塗布による形成が困難な磁気ストライプ付き塩ビカード等の厚手の基板の全面又は一部に、熱可逆記録ラベルを貼ることができる。その結果、磁気に記憶された情報の一部を表示することができ、利便性が向上する。熱可逆記録ラベルは、ＩＣカード、光カード等の厚手カードにも適用することができる。
【０２０８】
接着層又は粘着層を構成する材料としては、特に限定されないが、ユリア樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、酢酸ビニル系樹脂、酢酸ビニル−アクリル系共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アクリル系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩素化ポリオレフィン系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、アクリル酸エステル系共重合体、メタクリル酸エステル系共重合体、天然ゴム、シアノアクリレート系樹脂、シリコーン系樹脂等が挙げられる。
【０２０９】
接着層又は粘着層は、架橋剤により架橋してもよいし、ホットメルトタイプであってもよい。
【０２１０】
熱可逆記録ラベルは、粘着層又は接着層上に、剥離紙を付ける剥離紙タイプであってもよいし、粘着層又は接着層上に、剥離紙を付けない無剥離紙タイプであってもよい。
【０２１１】
支持体１１０と熱可逆記録層１２０の間に、着色層がさらに形成されていてもよい。これにより、視認性を向上させることができる。
【０２１２】
着色層は、着色剤及びバインダー樹脂を含む。
【０２１３】
着色層の形成方法としては、特に限定されないが、着色剤及びバインダー樹脂を含む組成物が溶媒中に溶解又は分散している塗布液を塗布した後、乾燥させる方法、着色剤及びバインダー樹脂を含む着色シートを貼り合わせる方法等が挙げられる。
【０２１４】
熱可逆記録媒体１００は、熱非可逆記録層がさらに形成されていてもよい。この場合、熱非可逆記録層の発色色調は、熱可逆記録層１２０の発色色調と同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【０２１５】
熱可逆記録媒体１００の熱可逆記録層１２０が形成されている側の一部若しくは全面又は熱可逆記録媒体１００の熱可逆記録層１２０が形成されていない側の一部に、オフセット印刷、グラビア印刷等の印刷又はインクジェットプリンタ、熱転写プリンタ、昇華型プリンタ等により、絵柄等がさらに形成されていてもよい。このとき、絵柄上の一部又は全面に、硬化性樹脂を含むＯＰニス層がさらに形成されていてもよい。
【０２１６】
なお、各層のいずれかに、染料及び／又は顔料を添加して着色してもよい。
【０２１７】
熱可逆記録媒体１００は、セキュリティを向上させるために、ホログラムが設けられていてもよい。また、熱可逆記録媒体１００は、意匠性を付与するために、レリーフ状、インタリヨ状に凹凸を形成することにより、人物像、社章、シンボルマーク等のデザインが設けられていてもよい。
【０２１８】
熱可逆記録媒体１００の形状としては、特に限定されないが、カード状、タグ状、ラベル状、シート状、ロール状等が挙げられる。
【０２１９】
カード状の熱可逆記録媒体１００としては、プリペイドカード、ポイントカード、クレジットカード等が挙げられる。
【０２２０】
カードサイズよりも小さいタグ状の熱可逆記録媒体１００としては、値札等が挙げられる。一方、カードサイズよりも大きいタグ状の熱可逆記録媒体１００としては、工程管理書、出荷指示書、チケット等が挙げられる。
【０２２１】
ラベル状の熱可逆記録媒体１００は、様々な大きさに加工された後、台車、容器、箱、コンテナ等に貼り付けられて、工程管理、物品管理等に使用することができる。
【０２２２】
シート状の熱可逆記録媒体１００としては、一般文書、工程管理用の指示書等が挙げられる。
【０２２３】
画像処理方法及び画像処理装置は、ダンボール、プラスチックコンテナ等の容器に貼付したラベル等の熱可逆記録媒体に対して、高速で繰り返し画像の記録及び消去が可能であるため、物流・配送システムに適用することができる。この場合、例えば、ベルトコンベアに載せたダンボールやプラスチックコンテナを移動させながら、ラベルに画像を記録及び消去することができ、ラインの停止が不要な点で、出荷時間の短縮を図ることができる。また、ラベルが貼付されたダンボールやプラスチックコンテナは、ラベルを剥がすことなく、そのままの状態で再利用し、再度、画像の消去及び記録が可能である。
【実施例】
【０２２４】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、実施例に限定されない。なお、部は、質量部を意味する。
【０２２５】
（熱可逆記録媒体１の作製）
支持体として、平均厚さが１２５μｍの白ポリエステルフィルムのテトロン（登録商標）フィルムＵ２Ｌ９８Ｗ（帝人デュポン社製）を用いた。
【０２２６】
スチレン−ブタジエン系共重合体ＰＡ−９１５９（日本エイアンドエル社製）３０部、ポリビニルアルコールのポバールＰＶＡ１０３（クラレ社製）１２部、中空粒子マイクロスフェアーＲ−３００（松本油脂社製）２０部及び水４０部を１時間撹拌して、アンダー層用塗布液を得た。
【０２２７】
支持体上に、ワイヤーバーを用いてアンダー層用塗布液を塗布した後、８０℃で２分間乾燥させて、平均厚さが２０μｍのアンダー層を形成した。
【０２２８】
化学式
【０２２９】
【化３】
2015051607.tif 000005
で表される顕色剤５部、化学式
【０２３０】
【化４】
2015051607.tif 000006
で表される消色促進剤１部、水酸基価が２００ｍｇＫＯＨ／ｇのアクリルポリオールの５０質量％溶液１０部及びメチルエチルケトン８０部を、ボールミルを用いて平均粒径が約１μｍになるまで分散させた。次に、ロイコ染料２−アニリノ−３−メチル−６−ジエチルアミノフルオラン１部、光熱変換材料ＬａＢ６の１．８５質量％分散液ＫＨＦ−７Ａ（住友金属鉱山社製）１．２部及びイソシアネートのコロネートＨＬ（日本ポリウレタン社製）５部を加えた後、撹拌して、熱可逆記録層用塗布液を得た。
【０２３１】
アンダー層上に、ワイヤーバーを用いて熱可逆記録層用塗布液を塗布した後、１００℃で２分間乾燥させ、６０℃で２４時間硬化して、平均厚さが１０μｍの熱可逆記録層を形成した。
【０２３２】
紫外線吸収ポリマーの４０質量％溶液ＵＶ−Ｇ３０２（日本触媒社製）１０部、イソシアネートのコロネートＨＬ（日本ポリウレタン社製）１部及びメチルエチルケトン１２部を攪拌して、紫外線吸収層用塗布液を得た。
【０２３３】
熱可逆記録層上に、ワイヤーバーを用いて紫外線吸収層用塗布液を塗布した後、９０℃で１分間乾燥させ、６０℃で２４時間架橋させて、平均厚さが１０μｍの紫外線吸収層を形成した。
【０２３４】
ウレタン系接着剤ＴＭ−５６７（東洋モートン社製）５部、イソシアネートＣＡＴ−ＲＴ−３７（東洋モートン社製）０．５部及び酢酸エチル５部を攪拌して、接着層用塗布液を得た。次に、酸素透過度が１５ｍＬ／ｍ２／ｄａｙ／ＭＰａのシリカ蒸着ＰＥＴフィルムＩＢ−ＰＥＴ−Ｃ（大日本印刷社製）上に、ワイヤーバーを用いて接着層用塗布液を塗布した後、８０℃で１分間乾燥させ、接着層を形成した。さらに、接着層が形成されたシリカ蒸着ＰＥＴフィルムを、紫外線吸収層上に貼り合わせた後、５０℃で２４時間加熱し、平均厚さが１２μｍの第１の酸素遮断層を形成した。
【０２３５】
接着層が形成されたシリカ蒸着ＰＥＴフィルムを支持体の熱可逆記録層が形成されていない側の面上に貼り合わせた以外は、第１の酸素遮断層と同様にして、平均厚さが１２μｍの第２の酸素遮断層を形成した。
【０２３６】
ペンタエリスルトールヘキサアクリレートＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（日本化薬社製）３部、ウレタンアクリレートオリゴマーのアートレジンＵＮ−３３２０ＨＡ（根上工業社製）３部、ジペンタエリスリトールカプロラクトンのアクリル酸エステルＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＣＡ−１２０（日本化薬社製）３部、シリカＰ−５２６（水澤化学工業社製）１部、光重合開始剤イルガキュア１８４（日本チバガイギー社製）０．５部及びイソプロピルアルコール１１部を、ボールミルを用いて平均粒径が約３μｍになるまで分散させ、保護層用塗布液を得た。
【０２３７】
第１の酸素遮断層上に、ワイヤーバーを用いて保護層用塗布液を塗布した後、９０℃で１分間乾燥させ、８０Ｗ／ｃｍの紫外線ランプを用いて、紫外線を照射して架橋させて、平均厚さが４μｍの保護層を形成した。
【０２３８】
ペンタエリスリトールヘキサアクリレートＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（日本化薬社製）７．５部、ウレタンアクリレートオリゴマーのアートレジンＵＮ−３３２０ＨＡ（根上工業社製）２．５部、光重合開始剤イルガキュア１８４（日本チバガイギー社製）０．５部及びイソプロピルアルコール１３部を、ボールミルを用いて攪拌して、バック層用塗布液を得た。
【０２３９】
第１の酸素遮断層上に、ワイヤーバーを用いてバック層塗布液を塗布した後、９０℃で１分間乾燥させ、８０Ｗ／ｃｍの紫外線ランプを照射して架橋させて、平均厚さが４μｍのバック層を形成した。
【０２４０】
縦４５ｍｍ、横５５ｍｍのサイズにカットし、熱可逆記録媒体１を得た。
【０２４１】
（熱可逆記録媒体２の作製）
光熱変換材料ＬａＢ６の１．８５質量％分散液ＫＨＦ−７Ａ（住友金属鉱山社製）を添加しなかった以外は、熱可逆記録媒体１と同様にして、熱可逆記録層用塗布液を得た。
【０２４２】
アクリルポリオール樹脂の５０質量％溶液ＬＲ３２７（三菱レーヨン社製）６部、光熱変換材料ＬａＢ６の１．８５質量％分散液ＫＨＦ−７Ａ（住友金属鉱山社製）１．２５部、イソシアネートのコロネートＨＬ（日本ポリウレタン社製）２．４部及びメチルエチルケトン１４部を攪拌して、光熱変換層用塗布液を得た。
【０２４３】
得られた熱可逆記録層用塗布液を用いると共に、熱可逆記録層上に、光熱変換層用塗布液を塗布して光熱変換層をさらに形成した以外は、熱可逆記録媒体１と同様にして、熱可逆記録媒体２を得た。
【０２４４】
このとき、熱可逆記録層上に、ワイヤーバーを用いて光熱変換層用塗布液を塗布した後、９０℃で１分間乾燥させ、６０℃で２時間架橋させて、平均厚さが３μｍの光熱変換層を形成した。
【０２４５】
（実施例１−１）
半導体レーザマーカーＬＤＭ２００シリーズ（リコー社製）を用いて、出力１８Ｗ、照射距離１５０ｍｍ、スポット径０．５ｍｍ、走査速度３０００ｍｍ／ｓの条件で、熱可逆記録媒体１の上下左右にそれぞれ２．５ｍｍの余白を設けて、４０ｍｍ×５０ｍｍの画像記録領域に中心波長が９８０ｎｍのレーザ光を照射して、ベタ画像を記録した。
【０２４６】
次に、出力２４Ｗ、照射距離１９０ｍｍ、スポット径３．０ｍｍ、走査速度１９００ｍｍ／ｓの条件で、ベタ画像が記録されている熱可逆記録媒体１にレーザ光を並列に走査してベタ画像を消去した。具体的には、レーザ光を走査する方向を画像記録領域１０１の短手方向とし、レーザ光を並列に走査する画像記録領域１０１を、レーザ光を走査する方向に対して、均等に２個の領域１０１ａ及び１０１ｂに分割して画像を消去した（図５参照）。このとき、レーザ光の描画線の長さを２０．３ｍｍ、即ち、隣接する領域１０１ａ及び１０１ｂの重なり幅Ｌを０．６ｍｍとした。また、レーザ光の照射間隔を０．２〜０．４ｍｍとし、隣接するレーザ光を走査する向きを同一とした。その結果、ベタ画像の残量が０．０３になる時のレーザ光の照射間隔は０．２５ｍｍであり、ベタ画像を消去する時間は５．３秒であった。このとき、隣接する領域の境界部分のベタ画像が十分に消去されていた。
【０２４７】
（ベタ画像の残量）
まず、ベタ画像を形成する前の画像記録領域の地肌濃度及びベタ画像を消去した後の画像記録領域の濃度を、Ｘ−Ｒｉｔｅ９３９（Ｘ−Ｒｉｔｅ社製）を用いて測定し、式
（ベタ画像を消去した後の画像記録領域の濃度）−（画像記録領域の地肌濃度）
により、ベタ画像の残量を求めた。
【０２４８】
（実施例１−２）
レーザ光を並列に走査する画像記録領域１０１を４個の領域１０１ａ、１０１ｂ、１０１ｃ及び１０１ｄに分割した以外は、実施例１−１と同様にして、ベタ画像を記録した後、消去した（図３参照）。このとき、レーザ光の描画線の長さを１０．４５ｍｍ、即ち、隣接する領域１０１ａ及び１０１ｂ、１０１ｂ及び１０１ｃ、１０１ｃ及び１０１ｄの重なり幅Ｌを０．６ｍｍとした。その結果、ベタ画像の残量が０．０３になる時のレーザ光の照射間隔は０．３０ｍｍであり、ベタ画像を消去する時間は４．８秒であった。このとき、隣接する領域の境界部分のベタ画像が十分に消去されていた。
【０２４９】
（実施例１−３）
隣接する領域１０１ａ及び１０１ｂ、１０１ｂ及び１０１ｃ、１０１ｃ及び１０１ｄの重なり幅Ｌを１．２ｍｍとした以外は、実施例１−２と同様にして、ベタ画像を記録した後、消去した。このとき、レーザ光の描画線の長さを１０．９ｍｍとした。その結果、ベタ画像の残量が０．０３になる時のレーザ光の照射間隔は０．３０ｍｍであり、ベタ画像を消去する時間は５．２秒であった。このとき、隣接する領域の境界部分のベタ画像が十分に消去されていた。
【０２５０】
（実施例１−４）
隣接する領域１０１ａ及び１０１ｂ、１０１ｂ及び１０１ｃ、１０１ｃ及び１０１ｄの重なり幅Ｌを４．２ｍｍとした以外は、実施例１−２と同様にして、ベタ画像を記録した後、消去した。このとき、レーザ光の描画線の長さを１３．１５ｍｍとした。その結果、ベタ画像の残量が０．０３になる時のレーザ光の照射間隔は０．２８ｍｍであり、ベタ画像を消去する時間は６．３秒であった。このとき、隣接する領域の境界部分のベタ画像が十分に消去されていた。
【０２５１】
（実施例１−５）
隣接する領域１０１ａ及び１０１ｂ、１０１ｂ及び１０１ｃ、１０１ｃ及び１０１ｄの重なり幅Ｌを４．８ｍｍとした以外は、実施例１−２と同様にして、ベタ画像を記録した後、消去した。このとき、レーザ光の描画線の長さを１３．６０ｍｍとした。その結果、ベタ画像の残量が０．０３になる時のレーザ光の照射間隔は０．２８ｍｍであり、ベタ画像を消去する時間は６．６秒であった。このとき、隣接する領域の境界部分のベタ画像が十分に消去されていた。
【０２５２】
（実施例１−６）
隣接する領域１０１ａ及び１０１ｂ、１０１ｂ及び１０１ｃ、１０１ｃ及び１０１ｄの重なり幅Ｌを０．８ｍｍ、レーザ光の走査速度を１５００〜３０００ｍｍ／ｓ、レーザ光の照射間隔を０．２０ｍｍとした以外は、実施例１−２と同様にして、ベタ画像を記録した後、消去した。このとき、レーザ光の描画線の長さを１０．６ｍｍとした。その結果、ベタ画像の残量が０．０３になる時のレーザ光の走査速度は２７８０ｍｍ／ｓであり、ベタ画像を消去する時間は５．８秒であった。このとき、隣接する領域の境界部分のベタ画像が十分に消去されていた。
【０２５３】
（実施例１−７）
レーザ光を並列に走査する画像記録領域１０１を６個の領域１０１ａ、１０１ｂ、１０１ｃ、１０１ｄ、１０１ｅ及び１０１ｆに分割した以外は、実施例１−１と同様にして、ベタ画像を記録した後、消去した（図６参照）。このとき、レーザ光の描画線の長さを７．１７ｍｍ、即ち、隣接する領域１０１ａ及び１０１ｂ、１０１ｂ及び１０１ｃ、１０１ｃ及び１０１ｄ、１０１ｄ及び１０１ｅ、１０１ｅ及び１０１ｆの重なり幅Ｌを０．６ｍｍとした。その結果、ベタ画像の残量が０．０３になる時のレーザ光の照射間隔は０．３３ｍｍであり、ベタ画像を消去する時間は４．７秒であった。このとき、隣接する領域の境界部分のベタ画像が十分に消去されていた。
【０２５４】
（比較例１−１）
レーザ光を並列に走査する画像記録領域１０１を分割しなかった以外は、実施例１−１と同様にして、ベタ画像を記録した後、消去した（図４参照）。このとき、レーザ光の描画線の長さを４０ｍｍとした。その結果、ベタ画像の残量が０．０３になる時のレーザ光の照射間隔は０．１９ｍｍであり、ベタ画像を消去する時間は６．７秒であった。
【０２５５】
（比較例１−２）
隣接する領域１０１ａ及び１０１ｂ、１０１ｂ及び１０１ｃ、１０１ｃ及び１０１ｄの重なり幅Ｌを０ｍｍとした以外は、実施例１−２と同様にして、ベタ画像を記録した後、消去した。このとき、レーザ光の描画線の長さを１０ｍｍとした。その結果、ベタ画像を消去する時間は４．７秒であったが、隣接する領域の境界部分のベタ画像が十分に消去されていなかった。
【０２５６】
（比較例１−３）
隣接する領域１０１ａ及び１０１ｂ、１０１ｂ及び１０１ｃ、１０１ｃ及び１０１ｄの重なり幅Ｌを０．５ｍｍとした以外は、実施例１−２と同様にして、ベタ画像を記録した後、消去した。このとき、レーザ光の描画線の長さを１０．３８ｍｍとした。その結果、ベタ画像を消去する時間は４．８秒であったが、隣接する領域の境界部分のベタ画像が十分に消去されていなかった。
【０２５７】
（比較例１−４）
隣接する領域１０１ａ及び１０１ｂ、１０１ｂ及び１０１ｃ、１０１ｃ及び１０１ｄの重なり幅Ｌを５．４ｍｍとした以外は、実施例１−４と同様にして、ベタ画像を記録した後、消去した。このとき、レーザ光の描画線の長さを１４．０５ｍｍとした。その結果、隣接する領域の境界部分のベタ画像が十分に消去されていたが、ベタ画像を消去する時間は６．９秒であった。
【０２５８】
表１に、熱可逆記録媒体１において、隣接するレーザ光を走査する向きを同一とした場合の評価結果を示す。
【０２５９】
【表１】
2015051607.tif 000007
表１から、実施例１−１〜１−７は、レーザ光を並列に走査する画像記録領域１０１を分割しなかった比較例１−１と比較して、レーザ光の照射エネルギー密度を増大させずに、ベタ画像を消去する時間を短縮できることがわかる。
【０２６０】
一方、比較例１−２、１−３は、Ｌ／Ｓが０〜０．１７であるため、隣接する領域の境界部分のベタ画像の消去が不十分である。
【０２６１】
比較例１−４は、Ｌ／Ｓが１．８であるため、ベタ画像を消去する時間が長くなる。
【０２６２】
（実施例２−１）
レーザ光の走査速度２４００ｍｍ／ｓとし、隣接するレーザ光を走査する向きを反対にした以外は、実施例１−２と同様にして、ベタ画像を記録した後、消去した（図１参照）。その結果、ベタ画像の残量が０．０３になる時のレーザ光の照射間隔は０．２９ｍｍであり、ベタ画像を消去する時間は３．４秒であった。このとき、隣接する領域の境界部分のベタ画像が十分に消去されていた。
【０２６３】
（実施例２−２）
隣接する領域１０１ａ及び１０１ｂ、１０１ｂ及び１０１ｃ、１０１ｃ及び１０１ｄの重なり幅Ｌを３．０ｍｍとした以外は、実施例２−１と同様にして、ベタ画像を記録した後、消去した。このとき、レーザ光の描画線の長さを１２．２５ｍｍとした。その結果、ベタ画像の残量が０．０３になる時のレーザ光の照射間隔は０．２８ｍｍであり、ベタ画像を消去する時間は４．１秒であった。このとき、隣接する領域の境界部分のベタ画像が十分に消去されていた。
【０２６４】
（実施例２−３）
隣接する領域１０１ａ及び１０１ｂ、１０１ｂ及び１０１ｃ、１０１ｃ及び１０１ｄの重なり幅Ｌを４．２ｍｍとした以外は、実施例２−１と同様にして、ベタ画像を記録した後、消去した。このとき、レーザ光の描画線の長さを１３．１５ｍｍとした。その結果、ベタ画像の残量が０．０３になる時のレーザ光の照射間隔は０．２７ｍｍであり、ベタ画像を消去する時間は４．４秒であった。このとき、隣接する領域の境界部分のベタ画像が十分に消去されていた。
【０２６５】
（実施例２−４）
隣接する領域１０１ａ及び１０１ｂ、１０１ｂ及び１０１ｃ、１０１ｃ及び１０１ｄの重なり幅を０．８ｍｍ、レーザ光の走査速度を１５００〜３０００ｍｍ／ｓ、レーザ光の照射間隔を０．２０ｍｍとした以外は、実施例２−１と同様にして、ベタ画像を記録した後、消去した。このとき、レーザ光の描画線の長さを１０．６ｍｍとした。その結果、ベタ画像の残量が０．０３になる時のレーザ光の走査速度は３６７０ｍｍ／ｓであり、ベタ画像を消去する時間は３．４秒であった。このとき、隣接する領域の境界部分のベタ画像が十分に消去されていた。
【０２６６】
（比較例２−１）
レーザ光を並列に走査する画像記録領域１０１を分割しなかった以外は、実施例２−１と同様にして、ベタ画像を記録した後、消去した（図２参照）。このとき、レーザ光の描画線の長さを４０ｍｍとした。その結果、ベタ画像の残量が０．０３になる時のレーザ光の照射間隔は０．１９ｍｍであり、ベタ画像を消去する時間は４．６秒であった。このとき、隣接する領域の境界部分のベタ画像が十分に消去されていた。
【０２６７】
（比較例２−２）
隣接する領域１０１ａ及び１０１ｂ、１０１ｂ及び１０１ｃ、１０１ｃ及び１０１ｄの重なり幅Ｌを０ｍｍとした以外は、実施例２−１と同様にして、ベタ画像を記録した後、消去した。このとき、レーザ光の描画線の長さを１０ｍｍとした。その結果、ベタ画像を消去する時間は３．３秒であったが、隣接する領域の境界部分のベタ画像が十分に消去されていなかった。
【０２６８】
（比較例２−３）
隣接する領域１０１ａ及び１０１ｂ、１０１ｂ及び１０１ｃ、１０１ｃ及び１０１ｄの重なり幅Ｌを０．５ｍｍとした以外は、実施例２−１と同様にして、ベタ画像を記録した後、消去した。このとき、レーザ光の描画線の長さを１０．３８ｍｍとした。その結果、ベタ画像を消去する時間は３．４秒であったが、隣接する領域の境界部分のベタ画像が十分に消去されていなかった。
【０２６９】
（比較例２−４）
隣接する領域１０１ａ及び１０１ｂ、１０１ｂ及び１０１ｃ、１０１ｃ及び１０１ｄの重なり幅Ｌを５．４ｍｍとした以外は、実施例２−３と同様にして、ベタ画像を記録した後、消去した。このとき、レーザ光の描画線の長さを１４．０５ｍｍとした。その結果、隣接する領域の境界部分のベタ画像が十分に消去されていたが、ベタ画像を消去する時間は４．８秒であった。
【０２７０】
表２に、熱可逆記録媒体１において、隣接するレーザ光を走査する向きを反対とした場合の評価結果を示す。
【０２７１】
【表２】
2015051607.tif 000008
表２から、実施例２−１〜２−４は、レーザ光を並列に走査する画像記録領域１０１を分割しなかった比較例２−１と比較して、レーザ光の照射エネルギー密度を増大させずに、ベタ画像を消去する時間を短縮できることがわかる。
【０２７２】
一方、比較例２−２、２−３は、Ｌ／Ｓが０〜０．１７であるため、隣接する領域の境界部分のベタ画像の消去が不十分である。
【０２７３】
比較例２−４は、Ｌ／Ｓが１．８であるため、ベタ画像を消去する時間が長くなる。
【０２７４】
（実施例３−１）
熱可逆記録媒体１の代わりに、熱可逆記録媒体２を用い、出力を２３Ｗとした以外は、実施例１−１と同様にして、ベタ画像を記録した。
【０２７５】
次に、レーザ光の走査速度を１５００〜３０００ｍｍ／ｓ、レーザ光の照射間隔を０．２０ｍｍとした以外は、実施例１−１と同様にして、ベタ画像を消去した。このとき、レーザ光の描画線の長さを２０．３ｍｍ、即ち、隣接する領域１０１ａ及び１０１ｂの重なり幅Ｌを０．６ｍｍとした。その結果、ベタ画像の残量が０．０３になる時のレーザ光の走査速度は１８３０ｍｍ／ｓであり、ベタ画像を消去する時間は７．０秒であった。このとき、隣接する領域の境界部分のベタ画像が十分に消去されていた。
【０２７６】
（比較例３−１）
レーザ光を並列に走査する画像記録領域１０１を分割しなかった以外は、実施例３−１と同様にして、ベタ画像を記録した後、消去した。このとき、レーザ光の描画線の長さを４０ｍｍとした。その結果、ベタ画像の残量が０．０３になる時のレーザ光の走査速度は１４８０ｍｍ／ｓであり、ベタ画像を消去する時間は８．６秒であった。このとき、隣接する領域の境界部分のベタ画像が十分に消去されていた。
【０２７７】
表３に、熱可逆記録媒体２において、隣接するレーザ光を走査する向きを同一とした場合の評価結果を示す。
【０２７８】
【表３】
2015051607.tif 000009
表３から、実施例３−１は、レーザ光を並列に走査する画像記録領域１０１を分割しなかった比較例３−１と比較して、レーザ光の照射エネルギー密度を増大させずに、ベタ画像を消去する時間を短縮できることがわかる。
【符号の説明】
【０２７９】
１    レーザ発振器
２    ビームエキスパンダ
３    マスク又は非球面レンズ
４    ガルバノメータ
４Ａ    ミラー
５    スキャニングユニット
６    ｆθレンズ
１０１    画像記録領域
１０１ａ、１０１ｂ、１０１ｃ、１０１ｄ、１０１ｅ、１０１ｆ    領域
１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ    熱可逆記録媒体
１１０    支持体
１２０、１２０Ａ、１２０Ｂ    熱可逆記録層
１３０    光熱変換層
Ｌ    重なり幅
【先行技術文献】
【特許文献】
【０２８０】
【特許文献１】特開２０１１−１１６１１６号公報
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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