(57)【要約】【課題】  高精細なパターンを形成する技術において、フィルムブランケットを用いた反転印刷法は、非常に有効なパターン形成方法である。しかし、この技術を金属配線パターン形成に展開すると、高精細パターンと低精細パターンが共存することで、ネガパターンを取り除く凸版の作製が難しいなど様々な問題があった。【解決手段】  上記問題点を解決するために、目的とする画像パターンのネガパターンを凸部とした凸版を用いることなく、目的とする画像パターンを遮光するマスクを介して、金属ナノインク膜に強いエネルギーを加えてネガパターンのみを金属皮膜化させる方法で、被印刷基材上に目的の金属配線パターンを形成する印刷方法を見出し、上述の問題点解決を図った。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、
（ａ）インク剥離性フィルム基材上に、焼成後導電性を有する金属ナノインクであるインクを塗工する工程と、
（ｂ）前記インクを予備乾燥し予備乾燥インク膜とする工程と、
（ｃ）前記インク剥離性フィルム基材上の前記予備乾燥インク膜に、目的とする画像パターンを遮光するマスクを介して、強度のエネルギーを前記予備乾燥インク膜に与えることで、目的とする画像パターンのネガパターンのみを金属皮膜化させて非印刷状態にする工程と、
（ｄ）ネガパターンのみを非印刷状態にしたパターンニング予備インク膜を被印刷基材上へ接触させ、目的の画像パターンを転写する工程、
とを備えたことを特徴とするパターン印刷方法。
【請求項２】
前記強度のエネルギーのエネルギー源として、キセノンフラッシュランプ光源を用いることを特徴とする請求項１に記載のパターン印刷方法。
【請求項３】
前記キセノンフラッシュランプ光源の照射エネルギーの総量が、０．５Ｊ〜１０Ｊであることを特徴とする請求項２記載のパターン印刷方法。
【請求項４】
前記キセノンフラッシュランプ光源の単発照射時間が、１０ｍｓ以下であることを特徴とする請求項２または３に記載のパターン印刷方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基材上に導電性を有する高精細な金属パターンを形成する印刷方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、印刷技術による電子デバイス形成プロセス、”プリンテッドエレクトロニクス（ＰＥ）”では、導電性を有する金属製の機能性材料の印刷パターニングが盛んにおこなわれている。
【０００３】
例えば、金属配線形成について、その印刷形成プロセス技術は企業間で競われており、高精細なパターニング技術に焦点を当て、様々な印刷方法が開発されている。
【０００４】
その中でも、高精細なパターニングを実現する印刷方法としては、オフセット印刷の一種である反転印刷が適しており、カラーフィルタに代表されるパターン形成を行なう製造プロセスにおいて、ブランケットとしてインク剥離性フィルム基材を用いた反転印刷が考えられている。従来のシリコーンゴムまたはシリコーン樹脂からなるブランケットに代わって、透明なインク剥離性フィルム基材をブランケットとして使用することで、連続印刷安定性や被印刷基材との位置合わせが容易になるといった特徴を持つ。
【０００５】
それゆえ、金属配線形成に関しても、インク剥離性フィルム基材を用いた反転印刷は非常に有効な印刷方法と言える。しかしながら、金属配線形成に関しては、高精細なパターンと面積の大きいパッチパターンが共存することが多く、ブランケット上のインク膜から不必要なパターンを取り除く際に用いられる、画像パターンのネガパターンを凸部とした凸版は、エッチングで作製されることが多いため、版深を保ちながら、それら解像度が大きく異なるパターンを作製するのは難しい。
【０００６】
また、反転印刷における凸版洗浄の工程は、高洗浄性や高速化が求められ、その達成のために、再度金属ナノインクに合わせた装置の開発や洗浄条件の適応化が必要である。また、高精細なパターン印刷の際、凸版の凹部にインクが入りこみ、パターン再現性が悪化する現象がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−１０５４００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
以上のように、カラーフィルタ製造で用いたインク剥離性フィルム基材を用いたパターン印刷法を用いて、金属配線形成を行う際には、凸版を使用した不要パターンを取り除く工程をそのまま展開することは難しい。
【０００９】
そこで、上記問題点を解決するために、目的とする画像パターンのネガパターンを凸部とした凸版を用いることなく、目的とする画像パターンを遮光するマスクを介して、強いエネルギーをネガパターンのみに与え、非印刷状態にする方法で、被印刷基材上に目的の画像パターンを形成するパターン印刷法を見出し、上述の問題点解決を図った。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明において上記課題を達成するための方法を以下に示す。
【００１１】
（請求項１）
少なくとも、
（ａ）インク剥離性フィルム基材上に、焼成後導電性を有する金属ナノインクであるインクを塗工する工程と、
（ｂ）前記インクを予備乾燥し予備乾燥インク膜とする工程と、
（ｃ）前記インク剥離性フィルム基材上の前記予備乾燥インク膜に、目的とする画像パターンを遮光するマスクを介して、強度のエネルギーを前記予備乾燥インク膜に与えることで、目的とする画像パターンのネガパターンのみを金属皮膜化させて非印刷状態にする工程と、
（ｄ）ネガパターンのみを非印刷状態にしたパターンニング予備インク膜を被印刷基材上へ接触させ、目的の画像パターンを転写する工程、
とを備えたことを特徴とするパターン印刷方法。
【００１２】
（請求項２）
前記強度のエネルギーのエネルギー源として、キセノンフラッシュランプ光源を用いることを特徴とする請求項１に記載のパターン印刷方法。
【００１３】
（請求項３）
前記キセノンフラッシュランプ光源の照射エネルギーの総量が、０．５Ｊ〜１０Ｊであることを特徴とする請求項２記載のパターン印刷方法。
【００１４】
（請求項４）
前記キセノンフラッシュランプ光源の単発照射時間が、１０ｍｓ以下であることを特徴とする請求項２または３に記載のパターン印刷方法。
【発明の効果】
【００１５】
本発明は以上の特徴を持つことから、下記に示す効果がある。
【００１６】
即ち、上記請求項１に係る発明によれば、画像パターンのネガパターンを凸部とした凸版を用いることなく、印刷が可能になり、高精細パターンと低精細パターンの共存も容易である。また、凸版洗浄や凸版加工などの工程が排除できるため、装置の簡易化・工程の簡略化・コスト低下・環境への負荷低減が見込める。また、複数枚必要であった凸版に代わり、遮光マスクは１〜２枚で十分であるため、部材の管理枚数を低減できる。
【００１７】
また、上記請求項２に係る発明によれば、エネルギー源として、キセノンフラッシュランプ光源を用いることで、短時間の光照射で強度のエネルギーを得ることができ、金属ナノインクの金属皮膜化に相性が非常に良い。また、ランニングコストが安い、タクトが早い、装置の簡便さなどの運用面でのメリットがある。
【００１８】
また、上記請求項３に係る発明によれば、キセノンフラッシュランプ光源の照射エネルギーの総量が、０．５Ｊ〜１０Ｊの範囲内にあることで、金属ナノインクが金属皮膜化し、非印刷状態にすることが可能になる。この範囲より、照射エネルギー総量が小さい場合、金属皮膜化せず、大きい場合は、インク剥離性フィルム基材上からインク被膜が飛び散ってしまう可能性がある。
【００１９】
また、上記請求項４に係る発明によれば、エネルギー源として用いるキセノンフラッシュランプ光源の照射時間が、１０ｍｓ以下であることで、インク剥離性フィルム基材への熱堆積を最大限に抑えることが可能であり、フィルム基材へのダメージを最小限に抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の印刷方法の工程を（Ａ）から（Ｆ）に順に示した概念断面図である。
【図２】本発明の印刷方法に用いる印刷装置の印刷状態の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明の印刷法に用いるインク剥離性フィルム基材は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ナイロン、アラミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロースなどを選択できる。線膨張係数が小さい基材であれば、熱による収縮挙動への追従性が高く、熱制御しやすい。水蒸気透過率が高い基材であれば、湿度による追従性が高く、湿度による制御しやすい。さらに光透過性の基材を用いることにより、パターンの重ね合わせ時にアライメントを容易とすることができる。これらフィルム基材は長尺の巻き取りロールで供給される。
【００２２】
インク剥離性フィルム基材は、上記基材へシリコーンオイル、シリコーンワニスで代表される離型剤を塗布する必要がある。離型剤としてシリコーンゴムの薄膜層を形成してもよい。また同じ目的でフッ素系樹脂、フッ素系ゴムも利用できるし、フッ素樹脂微粉末をシリコーンゴムあるいは、普通のゴムに混ぜて剥離性を出すなどの使い方をしてもよい。これらシリコーン系の塗膜は通常フィルム基材との密着力が低いが、最表面に設けるシリコーン層の下部より基材との接着性の高い熱硬化または紫外線硬化性のアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂等の樹脂層を、アンカー層としてあらかじめフィルム基材上に設けることで改善できる。
【００２３】
いずれも適度のインク受容性を有すると同時に、一度受容したインクの完全なインク剥離性を有することが望ましい。
【００２４】
具体的には、シリコーンとして、ジメチルポリシロキサンの各種分子量のもの、その他メチルハイドロジエンポリシロキサン、メチルフェニルシリコーンオイル、メチル塩素化フェニルシリコーンオイル、あるいはこれらポリシロキサンと有機化合物との共重合体など、変成したものを用いることができる。
【００２５】
シリコーンゴムとしては、二液型のジオルガノポリシロキサンと架橋剤としての三官能性以上のシラン、またはシロキサン及び硬化触媒を組み合わせたもの、あるいは一液型ではジオルガノポリシロキサンとアセトンオキシム、各種メトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等の組み合わせなどが用いられ、その他ゴム硬度を調節するためのポリシロキサンが適宜用いられる。
【００２６】
また、本発明に用いるインク剥離性フィルム基材として、前記基材に無機酸化物膜を設けた後、シランカップリング剤による表面処理を施したものを用いることもできる。
【００２７】
シランカップリング剤としては、トリメトキシシラン類、トリエトキシシラン類などを用いることができる。このシランカップリング剤の一部位は、ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メタクリル基、メルカプト基などの有機化合物との反応性基を持つものから選ぶことができ、あるいはアルキル基やその一部にフッ素原子が置換されたものやシロキサンが結合して、表面自由エネルギーの小さな表面を形成できる置換基が結合したものを用いることができる。前者の反応性基を有するシランカップリング剤を用いる場合には、シランカップリング剤で基材表面を処理した後、所定の表面自由エネルギーになるような他の
モノマー成分を塗工して、結合させることができる。反応性基を有するシランカップリング剤としては、ビニルメトキシシラン、ビニルエトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３、４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランなどを用いることができ、モノマーとして、スチレン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチルプロパントリグリシジルエーテル、ラウリルアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどを用いることができる。また、反応性基を有さないシランカップリング剤としてはメチルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシランなどを用いることができる。但し、アルキル基に限定されるものではない。
【００２８】
上記シランカップリング剤を上記基材に固定化する方法としては、定法の表面処理方法を用いることができる。例えば、シランカップリング剤を水、酢酸水溶液、水−アルコール混合液、あるいはアルコール溶液に希釈させた溶液を調製する。前記溶液を公知の塗工方法であるグラビアコーター、ロールコーター、ダイコーター等を用いて基材表面に塗工し、次いで乾燥させることでシランカップリング剤を固定化できる。また、反応性基を有するシランカップリング剤を用いた場合には、次いで他のモノマー成分を同様に塗工して結合させることができる。
【００２９】
上記シランカップリング剤を基材上に固定化するためには、あらかじめ基材上にＳｉＯ２やＴｉＯ２、ＺｒＯ２もしくはこれらの複合膜が設けられていることが好ましい。これら無機酸化物膜は既知の蒸着法やスパッタ法を用いて設けたものを用いることができる。
【００３０】
また、上記無機酸化膜を設ける方法として、一般式Ｍ（ＯＲ）ｎで表される金属アルコキシド（ＭはＳｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒなどの金属、ＲはＣＨ３、Ｃ２Ｈ５などのアルキル基）を水、アルコールの共存下で加水分解反応および縮重合反応させて得られたゲル溶液を表面にコーティング後、加熱することで無機酸化物膜を設ける、いわゆるゾル−ゲル法を用いることができる。
【００３１】
さらに、上記ゾル−ゲル法で用いる金属アルコキシド溶液中にあらかじめ上記シランカップリング剤を添加しておくこともできる。この場合、表面性改質に特に効果が得られる。
【００３２】
このようにして得られるインク剥離性フィルム基材に対する剥離性の評価は、接触角を尺度とすると、処理面へインクを滴下した際の接触角が、１０°以上９０°以下となるのが好ましく、より好ましくは２０°以上７０°以下である。この接触角が小さいと後工程でのインク剥離性が低下してパターンの欠陥（出っ張り、ブリッジ、あるいは再現性不良等）が発生しやすくなり、接触角が大きいとインク液膜を形成する際にハジキが生じてしまう。
【００３３】
上記に示したインク剥離性フィルム基材上へインク液膜を形成する方法としては、インクの粘度や溶媒の乾燥性によって公知の塗工方法を用いることができる。すなわち、例えばディッピング法、ロールコート、グラビアコート、リバースコート、エアナイフコート、コンマコート、ダイコート、スクリーン印刷法、スプレーコート、グラビアオフセット法等が挙げられる。中でも、ダイコート、キャップコート、ロールコート、アプリケータは、広い範囲の粘度のインクについて均一なインク液膜を形成することができる。
【００３４】
インク剥離性フィルム基材上へ前記方法によりインク液膜を形成した後に、前記インク液膜を予備乾燥する。この予備乾燥には自然乾燥、冷風・温風乾燥、マイクロ波照射、減
圧乾燥などを用いることができ、また、紫外線、電子線などの放射線を用いることもできる。
【００３５】
この予備乾燥では、前記インク液膜の粘度またはチキソトロピー性、脆性を上げることを目的とする。予備乾燥による乾燥が不十分な場合は、後工程の凸版の凸部を押し当て剥離する際に、インク液膜が断裂し不良が発生してしまう。逆に乾燥が行き過ぎた場合は、インク膜表面のタック性が無くなり、前記凸版にインクが転写されない。そのため、使用するインクの組成によって乾燥状態を乾燥時間や雰囲気温度により調節するが、乾燥したインク膜に対して０．５重量％から４重量％の溶剤の残留が認められる状態が好ましい。
【００３６】
いわゆるドライフィルムといわれるｐｐｍオーダーの溶剤残留量では乾燥が行き過ぎであり、インクが転写されない不具合や、版の押し付けによりインク膜が部分的に剥離してゴミの原因になったりする不具合があるため、予備乾燥インク膜の条件として適さない。
【００３７】
本発明の印刷方法は、プラスチック基材などの印刷に適用できるが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ナイロン、アラミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロースなどのフィルム、シートを用いることもできる。
【００３８】
インク液膜の材料としては、有機保護膜が付着している金属ナノ粒子に溶媒を分散させたものを用いることができる。金属ナノ粒子の種類としては金、銀、銅、ニッケル、白金、パラジウム、ロジウム等が挙げられる。
【００３９】
金属ナノ粒子の粒径は、１０ｎｍ以上〜２００ｎｍ以下程度の径を扱うことができる。粒径が小さいほど、サイズ効果により、金属同士の融着温度が低くなり、より小さいエネルギーで金属皮膜化することが可能となる。一方で粒径が大きいと導電率が高くなる傾向がある。しかしながら、インクとしての分散性は悪くなり、沈殿などが発生する可能性がある。
【００４０】
溶媒には、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤及び炭化水素系溶剤などが使用される。エステル系溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エトキシエチルプロピオネート、アルコール系溶剤として、１−ブタノール、３メトキシ−３メチル−１ブタノール、１−ヘキサノール、１，３ブタンジオール、１−ペンタノール、２−メチル１−ブタノール、４−メチル−２−ペンタノール、エーテル系溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールターシャリーブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、炭化水素系溶剤として、ソルベッソ１００、ソルベッソ１５０（製品名エクソン化学社製）などが挙げられる。
【００４１】
また、これらのインクには必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、レベリング剤等が添加されてもよい。なお、本発明のインクはこれらに限定されるものではない。
【００４２】
キセノンフラッシュランプ光源については特に限定するものではないが、紫外線領域の波長がカットしてあることが望ましい。この理由として、インク剥離性フィルム基材が紫外線領域の波長のエネルギーを吸収してしまい、発熱してしまうことが挙げられる。
【００４３】
以下に、これら材料を用いて高精細パターンの転写を実施するための一例を説明する。
【００４４】
本実施形態に係る印刷方法の特徴は図１に示すとおり、インク剥離性フィルム基材１０１へ金属ナノインクを塗工し、該インク液を予備乾燥した予備乾燥インク膜１０２に、画像パターンが遮光されているマスク１０３を介して、キセノンフラッシュランプ光源１０４から強度のエネルギーを加えることで（Ａ）で、ネガパターン１０５のみを金属被膜化（Ｂ）させ、未金属被膜化部分の画像パターン１０６のみを、被印刷基材１０７に接触・剥離（Ｃ）〜（Ｅ）することで、多様で高精細なパターンを得る（Ｆ）ことを特徴としている。
【００４５】
本発明の印刷方法の印刷を行う装置は、図２に示す通り、インク剥離性フィルム基材１０１と、被印刷基材１０７，当該インク剥離性フィルム基材の搬送の制御を行う、インク剥離性フィルム基材巻き出し部１０８、インク剥離性フィルム基材巻き取り部１０９、の搬送系とインク塗工部１１０、インク乾燥部１１１、画像パターンが遮光されているマスク１０３とキセノンフラッシュランプ光源１０４から成るネガパターン光硬化部、基材アライメント部１１２、基材貼りあわせ部１１３、によって構成される。
【００４６】
インク剥離性フィルム基材巻き出し部１０８、インク剥離性フィルム基材巻き取り部１０９の搬送部は、回転やテンションを制御してフィルム基材を搬送するためのモーターを備える。装着されるフィルム基材の原反幅は１００ｍｍ〜１０００ｍｍが選択できるが、パターンの実用性と転写位置精度を考慮し選択される。
【００４７】
また、フィルム基材のテンションの制御は、これら装置以外に搬送系にニップ部を設置して基材を保持することでも調節を行うことができる。ニップ部は、主に搬送ロールに備わったエアー吸着孔による吸着ニップが用いられる。
【００４８】
搬送は、各工程で必要な時間差を緩和し、フィルム基材の連続搬送を行うためのバッファを備えた場合には、連続搬送を行うことができるが、インク剥離性フィルム基材１０１を、工程ごとに必要な長さの搬送を行なうことが好ましい。
【００４９】
インク塗工部１１０は、可動ステージと、可動ステージ上に設けられたインク剥離性フィルム基材に対しインクを塗布する塗工装置が設置されている。可動ステージは、ボールねじやリニアモーター等で駆動するものを用いることができ、金属製、石製などのものを用いることができるが少なくとも水平方向に水平を保ったまま往復運動することができ、インク剥離性フィルム基材１０１を吸着することができることが望ましい。吸着による表面の凹凸を防ぐためにフィルムのエッジ付近のみ吸着孔を設ける方法や、多孔質性材料を用いた吸着表面を用いる方法を選択することができる。
【００５０】
塗工装置は、連続加工や膜厚の均一性が優れるダイ方式のものについて説明するが、これに限定するものではない。ダイヘッドには、別に用意されたインク供給用のポンプから所定量のインクを供給することができる。このダイヘッドとインク剥離性フィルム基材とのギャップは印刷開始前に設定してもよく、また可動式ステージの搬送に合わせてダイヘッドを上下動させて調整してもよい。
【００５１】
インク乾燥部１１１は、上記塗工部１１０でインク剥離性フィルム基材１０１へ塗工したインクを乾燥させるために設置されるもので、ホットプレート、オーブン、温風、減圧乾燥、紫外線照射などの乾燥装置を設けてもよい。
【００５２】
ネガパターン金属被膜化部は、画像パターンが遮光されているマスク１０３とキセノンフラッシュランプ光源１０４から成り、インク剥離性フィルム基材１０１上部、及び下部より、画像パターンが遮光されているマスク１０３を介してキセノンフラッシュランプ光
源１０４から強度のエネルギー加えることで、ネガパターン部のみ金属被膜化させる。インク剥離性フィルム基材１０１と画像パターンが遮光されているマスク１０３とのＧＡＰは、異物の混入によるマスク欠損の発生等の不良を防ぐために、間隔を設けても良いし、解像度を高くするために裏面から接触させても良い。
【００５３】
このとき、エネルギーを加える方法として、単発で強度のエネルギーを加える方法と複数発で積算して強度のエネルギーを与える方法が選択できる。前者のメリットとしては、銅などを酸化させずに金属被膜化することができ、タクトなども総じて短くなる。一方で、光源装置電源の初期コストが高くなる。後者のメリットとしては、光源装置電源が安価であって、単発ではエネルギー量を稼ぐことが出来なくても、複数回照射することで積算エネルギー量を稼ぐことができる。一方で、エネルギーを加えている時間が総じて長くなる傾向があり、インク剥離性フィルム基材に熱が堆積する可能性が出てくることや、単純にタクトが遅くなる可能性がある。
【００５４】
基材アライメント部１１２は、可動性ステージと複数の顕微鏡カメラから構成されており、可動性ステージ上に吸着した被印刷基材１０７上に、インク剥離性フィルム基材上１０１の未金属被膜化部分の画像パターン１０６を接触・剥離することにより、転写を行なう。
【００５５】
被印刷基材１０７に、積層パターン形成など位置合わせが必要な転写を行なう場合は、インク剥離性フィルム基材１０１が透明であることを利用して、インク剥離性フィルム基材上１０１に得られたパターンの一部や位置合わせ用のマークパターンと、被印刷基材１０７上に予め設けられた位置合わせ用パターンを透過画像で認識し、それぞれのパターンを認識した画像から座標データを取得し、可動性ステージを動作させ転写位置の補正を行うことができる。
【００５６】
上記の顕微鏡カメラは光学顕微鏡、ＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅ）顕微鏡のどちらであっても良いが、オートフォーカス又は電気的に制御可能な手動焦点制御機構のいずれか、もしくはその両方の機能を必要とし、取得した画像を観察するために外部に設置したモニターや位置補正のための画像処理装置へ出力するインターフェースを持つものとする。
【００５７】
また、被印刷基材１０７がプラスチック基材の場合など、稼動ステージ内部に熱制御可能なヒータの装填や温水を循環させる加熱・冷却機構や、複数のチャックなどで被印刷基材１０７を固定し、引っ張る機構を加えることで、より精度の高い位置合わせを可能とする。
【００５８】
基材貼りあわせ部１１３には、前記基材アライメント部１１２に設置された可動性ステージ上にローラが設けられる。ローラ外周の材料としては、ゴムや金属、プラスチックなどの材料が使用できる。このとき、ローラの曲率としては、微小なインク膜の凹凸に追従するよう曲率の小さいものを使用することが望ましい。
【００５９】
前記基材貼り合わせ部１１３に設置された可動性ステージに固定された被印刷基材１０７と、わずかな隙間をあけて設置されたインク剥離性フィルム基材１０１の上から、同じく前記基材貼り合わせ部１１３に設置されたローラを押し当て、可動性ステージの移動と共にローラを回転させながら印圧をかけ、つぎにインク剥離性フィルム基材を被印刷基材から剥がすことにより転写することができる。
【実施例】
【００６０】
本発明の印刷方法にて、ＰＥＴフィルム基材上に、銅の金属配線パターンの作成をおこ
なった。
【００６１】
使用した銅の金属ナノインクは、芳香族炭化水素系で、銅の含有量は１０〜３０ｗｔ％であり、印刷に適応させるため数種の添加物を混ぜている。
【００６２】
インク剥離性フィルム基材として、基材厚１００μｍのＰＥＴフィルム上に剥離性シリコーンゴムを厚さ１０μｍ塗布して乾燥させたものを使用した。
【００６３】
最初に、塗工部ステージ上でインク剥離性フィルム基材に、３００ｍｍ幅のヘッドを用いたダイコーターにより、ドライ膜厚が０．４μｍになる条件でインクをコーティングした。
【００６４】
塗工が終わったインク剥離性フィルム基材は、減圧乾燥工程を経て、インク液膜が予備乾燥をされ、ネガパターン金属被膜化部まで搬送を行なった。
【００６５】
ネガパターン金属被膜化部の遮光マスクは、ライン：スペースの間隔が５μｍ：５μｍのラインパターンの両端に２ｍｍ□のパッチパターンが描かれており、目的とする画像パターンを遮光する設計とした。
【００６６】
キセノンフラッシュランプ光源は、エネルギー波長３５０ｎｍ以下はカットし、単発の照射でエネルギー量４．５Ｊほどになるよう設定した。その照射時間は１ｍｓ程度である。
【００６７】
前記、遮光マスクを裏面から１００μｍの位置で固定し、それを介して、キセノンフラッシュランプ光源を予備乾燥被膜に向けて、照射することで、ネガパターンを金属被膜化し、被印刷状態にした。
【００６８】
その後ゴムローラでインク剥離性フィルム基材と被印刷基材を貼り合わせた後、インク剥離性フィルム基材を被印刷基材から剥がすことによって、被印刷基材への金属配線パターンの転写を行った。
【００６９】
転写された金属配線パターンは、精度良く設計値どおりに印刷された。
【符号の説明】
【００７０】
１０１  ・・・インク剥離性フィルム基材
１０２  ・・・予備乾燥インク膜
１０３  ・・・画像パターンが遮光されているマスク
１０４  ・・・キセノンフラッシュランプ光源
１０５  ・・・ネガパターン
１０６  ・・・未金属被膜部分の画像パターン
１０７  ・・・被印刷基材
１０８  ・・・インク剥離性フィルム基材巻き出し部
１０９  ・・・インク剥離性フィルム基材巻き取り部
１１０  ・・・インク塗工部
１１１  ・・・インク乾燥部
１１２  ・・・基材アライメント部
１１３  ・・・基材貼りあわせ部
【図１】
2015074187.tif 000003
【図２】
2015074187.tif 000004