(57)【要約】【課題】レジストパターン寸法の面内傾向のバラツキを抑制し、且つ現像による現像ローディング効果の抑制する現像ノズル及び現像方法及び現像装置を提供する。【解決手段】レジストが塗布された被現像物を現像する現像ノズル１２であり、複数の小ノズル１３を有し、被現像物１１の直交射影の大きさより大きい現像ノズルであって、小ノズル１３は現像液噴出口である開口からなる複数の開口部を有し、且つ複数の小ノズル１３がそれぞれ独立して移動する。【選択図】図１
2015088540.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レジストが塗布された被現像物を現像する現像ノズルであり、
複数の小ノズルを有し、被現像物の直交射影の大きさより大きい現像ノズルであって、前記小ノズルは現像液噴出口である開口からなる複数の開口部を有し、且つ前記複数の小ノズルがそれぞれ独立して移動することを特徴とする現像ノズル。
【請求項２】
前記複数の小ノズルはそれぞれ独立して直線方向に平行に移動することを特徴とする請求項１に記載の現像ノズル。
【請求項３】
前記複数の小ノズルはそれぞれ独立して同心円上を移動することを特徴とする請求項１に記載の現像ノズル。
【請求項４】
前記複数の開口部の開口は小ノズルの移動方向に対して斜め方向に配置されたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の現像ノズル。
【請求項５】
前記複数の開口部の隣り合う開口は前記小ノズルの移動方向と直交する方向に均一にオーバーラップするように配置されたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の現像ノズル。
【請求項６】
前記複数の開口部の開口は前記小ノズルの移動方向と直交する方向で１列または複数列に配置されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の現像ノズル。
【請求項７】
前記複数の開口部の開口は隣接する開口と等間隔、または等間隔でしかも並行であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の現像ノズルである。
【請求項８】
前記複数の開口部は円形状の開口が複数配列されて形成されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の現像ノズル。
【請求項９】
前記複数の開口部は四角形状または角丸四角形状の開口が複数配列されて形成されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の現像ノズル。
【請求項１０】
前記複数の開口部の円形状の開口は直径が１ｍｍ以下であることを特徴とする請求項８に記載の現像ノズル。
【請求項１１】
前記複数の開口部の四角形状または角丸四角形状の開口は、短辺方向の幅が１ｍｍ以下であることを特徴とする請求項９に記載の現像ノズル。
【請求項１２】
前記複数の小ノズルの移動方向と直角の方向に揺動することを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載の現像ノズル。
【請求項１３】
前記複数の小ノズルの移動方向と直角の方向に被現像物を揺動して現像することを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載の現像ノズル。
【請求項１４】
前記被現像物がフォトマスク基板であることを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載の現像ノズル。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれかに記載の現像ノズルを用いて現像液を塗布して現像することを特徴とする現像方法。
【請求項１６】
請求項１〜１４のいずれかに記載の現像ノズルを用いて現像液を塗布して現像することを特徴とする現像装置。
【請求項１７】
前記現像装置は被現像物を載置し固定するためのチャックと、前記チャックもしくは前記現像ノズル、又はチャック及び現像ノズルを駆動するための駆動機構と、現像液を前記被現像物に噴出させるための現像ノズルと、を備えていることを特徴とする請求項１６に記載の現像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体デバイスやフォトマスクの製造工程の重要な工程の１つであるレジスト現像工程における、レジストパターン寸法の面内傾向のバラツキ及び現像ローディング効果を抑制する現像ノズル、現像方法及び現像装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
レジストが塗布された被現像物の現像処理方法として、被現像物を回転し、現像液をスプレーノズルにて被現像物上に噴霧状に塗布することで現像処理を行うスプレー現像という方法がある。
【０００３】
また、被現像物に対して現像ノズルを平行移動させながら、現像ノズルから供給される現像液を上記基板上に液盛りし、静止状態で現像処理を行うパドル現像という方法がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−０８６０３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、スプレー現像では被現像物面内に現像液を一様に行き届かせるために被現像物を回転させるため、被現像物面内でのレジストパターンに同心円傾向が生じて同心円方向にパターン寸法の差が生じてしまう。
【０００６】
また、パドル現像では現像液を液盛りするため、被現像物面内におけるレジストパターン寸法の同心円傾向は抑制されるが、スプレー現像に比べて現像液の置換が不十分となり、パターン形状やパターン密度の差異によって現像速度等が変化し、現像ローディング効果（レジストパターンの粗密に応じて生じる寸法の変動）が生じるため、パターン密度差によるレジストパターンの寸法不均一性が問題となっている。
【０００７】
そこで本発明は、レジストパターン寸法の面内傾向のバラツキを抑制し、且つ現像による現像ローディング効果の抑制する現像ノズル及び現像方法及び現像装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
そこで本発明の請求項１に記載の発明は、
レジストが塗布された被現像物を現像する現像ノズルであり、
複数の小ノズルを有し、被現像物の直交射影の大きさより大きい現像ノズルであって、前記小ノズルは現像液噴出口である開口からなる複数の開口部を有し、且つ前記複数の小ノズルがそれぞれ独立して移動することを特徴とする現像ノズルである。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、
前記複数の小ノズルはそれぞれ独立して直線方向に平行に移動することを特徴とする請求項１に記載の現像ノズルである。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、
前記複数の小ノズルはそれぞれ独立して同心円上を移動することを特徴とする請求項１
に記載の現像ノズルである。
【００１１】
請求項４に記載の発明は、
前記複数の開口部の開口は小ノズルの移動方向に対して斜め方向に配置されたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の現像ノズルである。
【００１２】
請求項５に記載の発明は、
前記複数の開口部の隣り合う開口は前記小ノズルの移動方向と直交する方向に均一にオーバーラップするように配置されたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の現像ノズルである。
【００１３】
請求項６に記載の発明は、
前記複数の開口部の開口は前記小ノズルの移動方向と直交する方向で１列または複数列に配置されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の現像ノズルである。      
【００１４】
請求項７に記載の発明は、
前記複数の開口部の開口は隣接する開口と等間隔、または等間隔でしかも並行であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の現像ノズルである。
【００１５】
請求項８に記載の発明は、
前記複数の開口部は円形状の開口が複数配列されて形成されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の現像ノズルである。
【００１６】
請求項９に記載の発明は、
前記複数の開口部は四角形状または角丸四角形状の開口が複数配列されて形成されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の現像ノズルである。
【００１７】
請求項１０に記載の発明は、
前記複数の開口部の円形状の開口は直径が１ｍｍ以下であることを特徴とする請求項８に記載の現像ノズルである。
【００１８】
請求項１１に記載の発明は、
前記複数の開口部の四角形状または角丸四角形状の開口は、短辺方向の幅が１ｍｍ以下であることを特徴とする請求項９に記載の現像ノズルである。
【００１９】
請求項１２に記載の発明は、
前記複数の小ノズルの移動方向と直角の方向に揺動することを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載の現像ノズルである。
【００２０】
請求項１３に記載の発明は、
前記複数の小ノズルの移動方向と直角の方向に被現像物を揺動して現像することを特徴とする請求項１〜１１のいずれかに記載の現像ノズルである。
【００２１】
請求項１４に記載の発明は、
前記被現像物がフォトマスク基板であることを特徴とする請求項１〜１３のいずれかに記載の現像ノズルである。
【００２２】
請求項１５に記載の発明は、
請求項１〜１４のいずれかに記載の現像ノズルを用いて現像液を塗布して現像することを特徴とする現像方法である。
【００２３】
請求項１６に記載の発明は、
請求項１〜１４のいずれかに記載の現像ノズルを用いて現像液を塗布して現像することを特徴とする現像装置である。
【００２４】
請求項１７に記載の発明は、
前記現像装置は被現像物を載置し固定するためのチャックと、前記チャックもしくは前記現像ノズル、又はチャック及び現像ノズルを駆動するための駆動機構と、現像液を前記被現像物に噴出させるための現像ノズルと、を備えていることを特徴とする請求項１６に記載の現像装置である。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、レジストが塗布された被現像物の現像において、レジストパターン寸法の同心円傾向を抑制し、且つパターン密度差によって生じる現像ローディング効果を抑制することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】（ａ）は本発明の現像ノズルの配置状態の一例を示した鳥瞰図。（ｂ）は本発明の現像ノズルに配置された小ノズルの移動方法の一例を示した被現像物側から見た図である。
【図２】本発明の現像ノズルに配置された小ノズルの移動方法の一例を示した被現像物側から見た図である。
【図３】小ノズルに配置された現像液噴出口の開口の一例を被現像物側から見た図で、（ａ）は小ノズルの移動方向と直交する方向に均一にオーバーラップするように配置された開口。（ｂ）は小ノズルの移動方向と直交する方向に２列配置された開口。（ｃ）は小ノズルに配置された円状の複数の開口。
【図４】本発明による現像方法を説明するための図。（ａ）は現像ノズルを小ノズルの移動方向と直角の方向に揺動して現像する方法を示す。（ｂ）は被現像物を小ノズルの移動方向と直角の方向に揺動して現像する方法を示す。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
請求項１に記載の本発明の現像ノズルは、図１（ａ）に示すように、レジストが塗布された被現像物１１の現像を行う現像ノズル１２であり、現像液噴出口である複数の開口１４ａからなる開口部１４を有する複数の小ノズル１３が、前記被現像物１１の直交射影の大きさより大きい方形板の被現像物側に配置され、且つ前記小ノズル１３がそれぞれ独立して前記方形板平面上を移動する。このようにして、被現像物１１上に形成されるレジストパターンの密度に応じて、小ノズル１３の移動速度、及び移動回数を制御することで、現像ローディング効果の抑制が可能となる。例えば、レジストパターン密度の低い箇所では小ノズル１３の移動速度を遅くして現像液の供給量を増加させることで現像レートを早くする。またレジストパターン密度の高い箇所では小ノズル１３の移動速度を速くして、現像液の供給量を減少させることで現像レートを遅くすることができる。
【００２８】
請求項２に記載の発明によれば、現像ノズル１２に複数配置されている小ノズル１３を、図１（ｂ）のように隣り合う小ノズル１３同士が平行に区切られたレール１６上を、それぞれ独立して矢印１５で示す方向に移動することで、適切な現像ローディングの抑制効果を得ることができる。
【００２９】
請求項３に記載の発明によれば、現像ノズル１２に複数配置されている小ノズル１３が、図２のように同心円状に区切られたレール１７上を、それぞれ独立して移動することで、現像ローディングの抑制及びレジストパターン寸法の面内傾向の改善が可能となる。
【００３０】
請求項４に記載の発明によれば、現像ノズル１２に配置された小ノズル１３の被現像物１１側に、斜め形状の現像液噴出口である開口１９を有していることで、小ノズル１３の移動方向１５、１８から見た、開口１９同士の距離を十分接近させることが可能となる。
【００３１】
請求項５に記載の発明によれば、小ノズル１３の被現像物１１側に配置された現像液噴出口である開口が、小ノズル１３の移動方向１５、１８から見て、図３（ａ）のように隣り合う開口１９が符号２０で示すように均一にオーバーラップするように配置することで、現像液の供給量にムラが生じにくく、より安定した現像ローディングの抑制効果を得ることができる。
【００３２】
請求項６に記載の発明によれば、小ノズル１３上に配置された現像液噴出口である開口１９が被現像物側に、図３（ａ）に示すように１列または図３（ｂ）に示すように複数列配置されていることで、正確に現像液供給量の緩急をつけることができ、より効果的に現像ローディングを抑制することが可能となる。
【００３３】
請求項７に記載の発明によれば、小ノズル１３上に配置された現像液噴出口である開口部１４、１９が、隣接する開口部と等間隔または等間隔でしかも並行であることで、均一に現像液の供給を行うことが出来、現像ムラの発生を防ぎ、且つ、現像ローディングの抑制が可能となる。
【００３４】
現像ローディングの抑制のためには請求項８に記載の発明のように、現像液噴出口である開口が、図３（ｃ）に示すように円形状の開口２１が複数配列されて形成されていても良く、また請求項９に記載の発明のように、円形状の開口ではなく四角形状または角丸四角形状の開口が複数配列されて形成されていても良い。
【００３５】
請求項１０、１１に記載の発明によれば、小ノズル１３上に配置された現像液噴出口である開口１９、２１の直径または短辺方向の幅が、１ｍｍ以下と小さくすることによって、各開口部での現像液流量のバラツキを抑制することが可能となる。
【００３６】
上記請求項１〜１１に記載の現像ノズル１２に配置された小ノズル１３に、現像液噴出口である開口１９、２１を配置するには、開口１９、２１を小ノズル１３に直接形成しても良いし、開口１９、２１を固定する小ノズル１３に個別に固定して取り付けても良い。また使用する現像ノズル１２及び小ノズル１３の材質については、洗浄時に洗浄液や被現像物（例えばフォトマスク基板）と反応しないもの、洗浄時や取扱時に被現像物の欠陥を発生させない材質のものを適宜使用できる。特に被現像物に傷をつけたり、粒子等を発生したりしないものが好ましく用いられる。
【００３７】
請求項１２に記載の発明によれば、図４（ａ）に示すように現像ノズル１２に配置された小ノズル１３をそれぞれ移動しながら、且つ現像ノズル１２全体を矢印２２で示す方向に移動して現像液を塗布することで、現像ローディングの抑制を可能とする。この場合、現像ノズル１２全体を矢印２２で示す方向に移動する代わりに、請求項１３に記載の発明のように図４（ｂ）に示すように被現像物１１を矢印２３で示す方向に移動しても良い。
【００３８】
請求項１４に記載の発明によれば、被現像物１１をフォトマスク基板とし、請求項１〜１３に記載の現像ノズルを用いることで、フォトマスク作製における現像ローディングの抑制が可能となる。
【００３９】
請求項１５に記載の発明によれば、図４（ａ）のように請求項１〜１４のいずれか１項
に記載の現像ノズルを用い、且つ前記現像ノズルが小ノズルの移動方向と直角の方向２２に揺動しながら現像液を塗布する方法で、レジストパターン寸法の同心円傾向を抑制し、且つ安定した現像ローディングの抑制を可能とする。
【００４０】
請求項１６に記載の発明によれば、図４（ａ）のように請求項１〜１４のいずれか１項に記載の現像ノズルを用い、且つ前記現像ノズルが小ノズルの移動方向と直角の方向２２に揺動しながら現像液を塗布する装置であり、レジストパターン寸法の同心円傾向を抑制し、且つ安定した現像ローディングの抑制を可能とする。
【００４１】
請求項１７の発明は、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の現像ノズル１２を用いて、現像する現像装置であって、少なくとも、被現像物１１を載置し固定するためのチャックと、前記チャックと現像ノズル１２の一方または両方を駆動するための駆動機構と、現像液を被現像物１１に噴出させるための現像ノズル１２とを備えていることで、現像ローディングの抑制を可能とする現像装置である。
【実施例】
【００４２】
実施例１〜３を行った。その結果を比較例と共に表１に示す。表１（ａ）はパターンが同一寸法、同一密度の場合のパターン寸法のレンジについて、従来のスプレー現像と実施例１〜３の結果を示す。表１（ｂ）はパターンが疎密パターンの場合の疎密パターン寸法の平均値の差について従来のパドル現像と実施例１〜３の結果を示す。
【００４３】
【表１】
2015088540.tif 000003
【００４４】
（実施例１）
本発明の実施例１を下記に示す。
〈被現像物〉
露光済のレジストが形成されている縦６ｉｎｃｈ（１５２．４ｍｍ）×横６ｉｎｃｈ（１５２．４ｍｍ）×厚さ２．３ｍｍのフォトマスクブランク
〈現像ノズルの形状、大きさ〉
形状：方形状
大きさ：２２０．０ｍｍ×２２０．０ｍｍ
〈小ノズルの形状、大きさ〉
形状：方形状
大きさ：２２．０ｍｍ×３８．０ｍｍ
〈現像ノズルの噴出口の形状、大きさ、配置〉
形状：一方向に長い方形状
大きさ：１．０ｍｍ×１３．０ｍｍ
配置：小ノズルの移動方向と直角の方向に、隣接する噴出口同士が平行に１列配置
各噴出口間の間隔：６ｍｍ
噴出口の角度：現像ノズルの短辺方向に対し２７．５°
〈現像ノズルと被現像物間の距離〉
２ｍｍ
〈現像条件〉
現像液温度：２３℃（現像液タンク内の現像液管理温度）
現像液供給量：１０ｃｍ３／秒
現像時間：１１０秒
レジスト：ＦＥＰ１７１(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製)
レジスト膜厚：２０００Å
【００４５】
フォトマスク基板には、レジストが塗布され、且つ電子ビーム描画機にてパターン露光されたフォトマスク基板を用いて、本発明による現像ノズル及び現像方法及び現像装置を用いて現像処理を行った。
【００４６】
描画データ上同一寸法及び同一密度のパターンがフォトマスク基板面内に均一に配置・描画されたレジストパターン寸法のレンジが、従来スプレー現像では７．０ｎｍに対して、上記条件では２．２ｎｍと改善が見られ、且つ面内におけるパターン寸法に同心円または非対称といった傾向は見られなかった。
【００４７】
また、フォトマスクブランクの面内に描画データ上同一寸法のパターンと、そのパターン周辺に密度０％及び５０％のダミーパターンが配置・描画されたレジストパターン寸法を測定した結果、現像ローディング効果による疎密パターン寸法の平均値差が、従来パドル現像での６．２ｎｍに対して、上記条件では４．６ｎｍと改善が見られた。
【００４８】
（実施例２）
実施例１との違いは、小ノズルに配列された噴出口の列が、１列から２列に変更した点である。
〈被現像物〉
露光済のレジストが形成されている縦６ｉｎｃｈ（１５２．４ｍｍ）×横６ｉｎｃｈ（１５２．４ｍｍ）×厚さ２．３ｍｍのフォトマスクブランク
〈現像ノズルの形状、大きさ〉
形状：方形状
大きさ：２２０．０ｍｍ×２２０．０ｍｍ
〈小ノズルの形状、大きさ〉
形状：方形状
大きさ：２２．０ｍｍ×３８．０ｍｍ
〈現像ノズルの噴出口の形状、大きさ、配置〉
形状：一方向に長い方形状
大きさ：１．０ｍｍ×１３．０ｍｍ
配置：隣接する噴出口同士が千鳥配置となるように、
噴出口の列を小ノズルの移動方向と直角の方向に３ｍｍずらして２列配置
噴出口列間の距離：２ｍｍ
各噴出口間の間隔：６ｍｍ
噴出口の角度：現像ノズルの短辺方向に対し２７．５°
〈現像ノズルと被現像物間の距離〉
２ｍｍ
〈現像条件〉
現像液温度：２３℃（現像液タンク内の現像液管理温度）
現像液供給量：１０ｃｍ３／秒
現像時間：８０秒
レジスト：ＦＥＰ１７１(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製)
レジスト膜厚：２０００Å
【００４９】
実施例１と同様に本発明による現像ノズル及び現像方法及び現像装置を用いて現像処理を行った。
【００５０】
描画データ上同一寸法及び同一密度のパターンがフォトマスク基板面内に均一に配置・描画されたレジストパターン寸法のレンジが、従来スプレー現像では７．０ｎｍに対して、上記条件では２．０ｎｍと改善が見られ、且つ面内におけるパターン寸法に同心円または非対称といった傾向は見られなかった。
【００５１】
また、フォトマスクブランクの面内に描画データ上同一寸法のパターンと、そのパターン周辺に密度０％及び５０％のダミーパターンが配置・描画されたレジストパターン寸法を測定した結果、現像ローディング効果による疎密パターン寸法の平均値差が、従来パドル現像での６．２ｎｍに対して、上記条件では４．０ｎｍと改善が見られた。
【００５２】
（実施例３）
実施例２との違いは、小ノズルが配列された現像ノズルが、小ノズルの移動方向と直角の方向に揺動している点である。
〈被現像物〉
露光済のレジストが形成されている縦６ｉｎｃｈ（１５２．４ｍｍ）×横６ｉｎｃｈ（１５２．４ｍｍ）×厚さ２．３ｍｍのフォトマスクブランク
〈現像ノズルの形状、大きさ〉
形状：方形状
大きさ：２２０．０ｍｍ×２２０．０ｍｍ
〈小ノズルの形状、大きさ〉
形状：方形状
大きさ：２２．０ｍｍ×３８．０ｍｍ
〈現像ノズルの噴出口の形状、大きさ、配置〉
形状：一方向に長い方形状
大きさ：１．０ｍｍ×１３．０ｍｍ
配置：隣接する噴出口同士が千鳥配置となるように、
噴出口の列を小ノズルの移動方向と直角の方向に３ｍｍずらして２列配置
噴出口列間の距離：２ｍｍ
各噴出口間の間隔：６ｍｍ
噴出口の角度：現像ノズルの短辺方向に対し２７．５°
〈現像ノズルと被現像物間の距離〉
２ｍｍ
〈現像ノズルの揺動振幅〉
振幅方向：小ノズルの移動方向と直角の方向
振幅の幅：６ｍｍ
〈現像条件〉
現像液温度：２３℃（現像液タンク内の現像液管理温度）
現像液供給量：１０ｃｍ３／秒
現像時間：８０秒
レジスト：ＦＥＰ１７１(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製)
レジスト膜厚：２０００Å
【００５３】
実施例１、２と同様に本発明による現像ノズル及び現像方法及び現像装置を用いて現像処理を行った。
【００５４】
描画データ上同一寸法及び同一密度のパターンがフォトマスク基板面内に均一に配置・描画されたレジストパターン寸法のレンジが、従来スプレー現像では７．０ｎｍに対して、上記条件では１．９ｎｍと改善が見られ、且つ面内におけるパターン寸法に同心円または非対称といった傾向は見られなかった。
【００５５】
また、フォトマスクブランクの面内に描画データ上同一寸法のパターンと、そのパターン周辺に密度０％及び５０％のダミーパターンが配置・描画されたレジストパターン寸法を測定した結果、現像ローディング効果による疎密パターン寸法の平均値差が、従来パドル現像での６．２ｎｍに対して、上記条件では３．７ｎｍと改善が見られた。
【００５６】
また実施例３の場合、現像ノズルの代わりに被現像物を揺動させてもよい。
【００５７】
以上のように、本発明による現像ノズル及び現像方法及び現像装置によれば、レジストが塗布された被現像物の現像において、レジストパターン寸法の同心円傾向を抑制し、且つパターン密度差によって生じる現像ローディング効果を抑制することが可能となる。
【符号の説明】
【００５８】
１１・・・被現像物
１２・・・現像ノズル
１３・・・小ノズル
１４・・・小ノズルに配置された現像液噴出口である開口部の一例
１４ａ・・・開口
１５・・・小ノズルの移動方向の一例
１６・・・小ノズル同士が平行に移動するためのレールの一例
１７・・・小ノズル同士が同心円状に移動するためのレールの一例
１８・・・小ノズルが同心円状に移動方向の一例
１９・・・斜め形状の現像液噴出口の一例
２０・・・隣り合う開口が均一にオーバーラップする配置線の一例
２１・・・現像ノズルが小ノズルの移動方向と直角の方向に揺動する方向
２２・・・被現像物が小ノズルの移動方向と直角の方向に揺動する方向
【図１】
2015088540.tif 000004
【図２】
2015088540.tif 000005
【図３】
2015088540.tif 000006
【図４】
2015088540.tif 000007