(57)【要約】【課題】カーボンニュートラルな材料として微生物や植物等から得ることも可能な材料である、βフェランドレンをモノマーとする重合体を使用した積層体及び画像表示デバイスの提供。【解決手段】（１）基板と、前記基板の少なくとも片面に０．００１μｍ〜３０μｍの厚さでコーティングされた１層以上の機能性薄膜と、を有する積層体であって、前記基板には、比重が０．８５以上、１．０未満であり、且つガラス転移温度が８０℃以上である、水素添加されたβ−フェランドレン重合体が、前記基板の総質量に対して５０〜１００質量％含まれることを特徴とする積層体。（２）前記βフェランドレン重合体の数平均分子量Ｍｎが４万以上である前記積層体。（３）前記基板の厚みが１０μｍ〜３００００μｍである前記積層体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板の少なくとも片面に０．００１μｍ〜３０μｍの厚さでコーティングされた１層以上の機能性薄膜と、を有する積層体であって、
前記基板には、比重が０．８５以上、１．０未満であり、且つガラス転移温度が８０℃以上である、水素添加されたβ−フェランドレン重合体が、前記基板の総質量に対して５０〜１００質量％含まれることを特徴とする積層体。
【請求項２】
前記βフェランドレン重合体の水素添加率が、７０％以上であることを特徴とする請求項１に記載の積層体。
【請求項３】
前記βフェランドレン重合体が、下記化学式（Ｉ）及び（ＩＩ）で表されるβフェランドレンの少なくとも何れか一方が重合してなることを特徴とする請求項１又は２に記載の積層体。
【化１】
2015183074.tif 000007
【請求項４】
前記βフェランドレン重合体に、下記化学式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（ＩＩ−１）及び（ＩＩ−２）で表されるβフェランドレン単位が合計５０質量％以上含有されていることを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の積層体。
【化２】
2015183074.tif 000008
【請求項５】
前記βフェランドレン重合体の数平均分子量Ｍｎが４万以上であることを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載の積層体。
【請求項６】
前記基板の厚みが１０μｍ〜３００００μｍであることを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載の積層体。
【請求項７】
前記機能性薄膜が、帯電防止層であることを特徴とする請求項１〜６の何れか一項に記載の積層体。
【請求項８】
前記機能性薄膜が、反射防止層であることを特徴とする請求項１〜６の何れか一項に記載の積層体。
【請求項９】
前記機能性薄膜が、ハードコート層であることを特徴とする請求項１〜６の何れか一項に記載の積層体。
【請求項１０】
前記機能性薄膜が、透明導電層であることを特徴とする請求項１〜６の何れか一項に記載の積層体。
【請求項１１】
請求項１〜１０の何れか一項に記載の積層体を備えたことを特徴とする画像表示デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、βフェランドレン重合体を使用した積層体及び画像表示デバイスに関する。
【背景技術】
【０００２】
機能性薄膜が基板表面に積層されたフィルム状又は板状の積層体は、テレビ、パソコン、プロジェクタ、時計、カメラ、携帯電話等の画像表示デバイスに使用されている。これらの画像表示デバイスにおいて、前記積層体には、帯電防止層、反射防止層、ハードコート層、透明導電層、アンチグレア層等の多種類の機能が付与されている。
【０００３】
従来のフィルム状又は板状の積層体は、ポリエチレンテレフタレート（PET）、脂環式ポリオレフィン、トリアセチルセルロース（TAC）、ポリカーボネート（PC）、ポリメチルメタクリレート（PMMA）等、様々な材料から製造されている。その中でＰＭＭＡは、透明性、耐光性は良好であるが、耐熱性が低く、吸水により変形が起こり易いという欠点を有している。ＰＣは、耐熱性、耐衝撃性が高いものの、透明性が低く、耐光性が低いという欠点を有している。ＰＥＴは、耐熱性は高いものの、結晶性であるため光学用途には適していない。ＴＡＣは、耐熱性は高いが、吸水性が高く、弾性率が低いため歪みを生じ易いという欠点を有している。
【０００４】
光学特性の優れた熱可塑性樹脂としては、脂環式ポリオレフィンや環状ポリオレフィンが知られている。例えばジシクロペンタジエン系の開環重合水添体や、ノルボルネン若しくはジシクロペンタジエンとオレフィンとの付加共重合体（特許文献１参照）、やビニルシクロヘキサン系重合体（特許文献２参照）が挙げられる。そのなかでビニルシクロヘキサン系重合体は、高耐熱性、低吸水性、低比重、低複屈折であるが、側鎖にかさ高い置換基を有しているために、脆く、耐光性も充分ではない問題がある。更に、ビニルシクロヘキサン系重合体以外の環状ポリオレフィンは、高耐熱性、低吸水性であるが、比重が大きく、耐光性も充分ではなかった。
【０００５】
このような脂環式炭化水素系重合体の原料となるモノマーは石油由来の化合物であるため、二酸化炭素の排出を抑えたカーボンニュートラルな材料を用いた製品が求められている今日のニーズに合致しているとはいえない。
【０００６】
カーボンニュートラルなポリマーの材料として、生物体内の生合成経路で生産されうる化合物が注目されている。例えば、マツ等から抽出したテルペン油由来のβピネンを重合して得られた、ガラス転移点が８０℃の重合体が提案されている（特許文献３）。しかしながら、βピネンをモノマーとして使用して実用的な強度を発現する高重合度の重合体を得るには、２官能性ビニル化合物の存在下において重合せしめる必要があった。さらには重合温度を−８０℃〜０℃と極低温にする必要があり、安価に製造するためおよび昨今の環境問題の観点から、更なる反応条件の向上や、重合特性の良好な天然材料の利用が望まれていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０００−２２１３２８号公報
【特許文献２】特開昭６３−４３９１０号公報
【特許文献３】特許第５２７５６３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、カーボンニュートラルな材料として微生物や植物等から得ることも可能な材料である、βフェランドレンをモノマーとする重合体を使用した積層体及び画像表示デバイスを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
＜１＞  基板と、前記基板の少なくとも片面に０．００１μｍ〜３０μｍの厚さでコーティングされた１層以上の機能性薄膜と、を有する積層体であって、前記基板には、比重が０．８５以上、１．０未満であり、且つガラス転移温度が８０℃以上である、水素添加されたβ−フェランドレン重合体が、前記基板の総質量に対して５０〜１００質量％含まれることを特徴とする積層体。
＜２＞  前記βフェランドレン重合体の水素添加率が、７０％以上であることを特徴とする前記＜１＞に記載の積層体。
＜３＞  前記βフェランドレン重合体が、下記化学式（Ｉ）及び（ＩＩ）で表されるβフェランドレンの少なくとも何れか一方が重合してなることを特徴とする前記＜１＞又は＜２＞に記載の積層体。
【化１】
2015183074.tif 000002
＜４＞  前記βフェランドレン重合体に、下記化学式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（ＩＩ−１）及び（ＩＩ−２）で表されるβフェランドレン単位が合計５０質量％以上含有されていることを特徴とする前記＜１＞〜＜３＞の何れか一項に記載の積層体。
【化２】
2015183074.tif 000003
＜５＞  前記βフェランドレン重合体の数平均分子量Ｍｎが４万以上であることを特徴とする前記＜１＞〜＜４＞の何れか一項に記載の積層体。
＜６＞  前記基板の厚みが１０μｍ〜３００００μｍであることを特徴とする前記＜１＞〜＜５＞の何れか一項に記載の積層体。
＜７＞  前記機能性薄膜が、帯電防止層であることを特徴とする前記＜１＞〜＜６＞の何れか一項に記載の積層体。
＜８＞  前記機能性薄膜が、反射防止層であることを特徴とする前記＜１＞〜＜６＞の何れか一項に記載の積層体。
＜９＞  前記機能性薄膜が、ハードコート層であることを特徴とする前記＜１＞〜＜６＞の何れか一項に記載の積層体。
＜１０＞  前記機能性薄膜が、透明導電層であることを特徴とする前記＜１＞〜＜６＞の何れか一項に記載の積層体。
＜１１＞  前記＜１＞〜＜１０＞の何れか一項に記載の積層体を備えたことを特徴とする画像表示デバイス。
本明細書及び特許請求の範囲において、「膜」の用語は、「層」と同義である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、軽量性、耐熱性及び機械的強度に優れ、さらに、高透明性、高耐光性、低吸水性、低複屈折及び低光弾性等の優れた性質を有する積層体を提供できる。
本発明に係る積層体を使用した、画像表示パネル等の画像表示デバイスは、優れた視認性を有する。また、積層体を構成する基板が軽量であるため、画像表示デバイスの大型化に伴って前記積層体が大型化された場合にも、前記基板の自重による撓みの問題を軽減することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の第一態様は、積層体である。本発明の第二態様は、第一態様の積層体を部材として使用した画像表示デバイスである。
【００１２】
まず、本発明の材料であるβフェランドレン重合体の製造方法を説明する。
＜βフェランドレン重合体の製造方法＞
βフェランドレン重合体を構成するモノマーであるβフェランドレンは、生物から抽出及び精製されていてもよいし、石油由来の化合物から化学合成されていてもよい。例えば植物の種子や根から水蒸気蒸留によって得られたエッセンシャルオイルに含まれるβフェランドレンを用いてもよいし、既存の化学物質を原料として、公知の化学合成法によって得られたβフェランドレンを用いてもよい。
【００１３】
例えば、既存の化学物質を原料とする場合は、4-Isopropylcyclohexanoneを出発原料としCrypronを経由して合成する公知の化学合成法（Organic & Biomolecular Chemistry, 9(7), 2433-2451, 2011）によって得られたβフェランドレンを使用することができる。
【００１４】
生物から抽出した化学物質を材料として使用する場合は、例えばβフェランドレンが含有される植物として、トドマツ、ジンジャー、フェンネル、ネロリ、ローズウッド、トマト、ラベンダー、カナダバルサム、アンジェリカ、などの葉または種子からの抽出物を精製して用いてもよい。特に高純度のβフェランドレンを使用することが好ましく、その場合は精密蒸留やシリカゲルカラムによる分離等の方法により純度（純分）を上げることができる。 
【００１５】
カーボンニュートラルな材料として生物由来のβフェランドレンを用いることにより、製造過程における環境負荷を下げ、二酸化炭素の排出を低減することができる。
【００１６】
βフェランドレン重合体の数平均分子量Ｍｎを高めることによって、耐熱性に関するガラス転移温度Ｔｇを高め、優れた光透過性及び機械的強度を得る目的を達成するために、βフェランドレン重合体を合成する反応系において、βフェランドレンを含む反応液中のβフェランドレンの純度（純分）をなるべく高くすることが好ましい。また、前記反応系は、βフェランドレンの重合に干渉する二重結合を有する化合物をなるべく排除した反応系であることがより好ましい。
特に好ましくは、例えば、ディールスアルダー反応試薬等のシス型の共役二重結合と反応する物質を添加し、βフェランドレン以外のシス型の共役二重結合物質を不溶性の物質として除去し、純分を高くすることがよく、精密蒸留やシリカゲルカラムによる分離と組み合わせることにより純分をあげるのが好ましい。
【００１７】
具体的には、前記反応液中の重合性化合物の総質量に対して、βフェランドレンの含有量、即ちβフェランドレンの純度（純分）は、７０質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましく、９０質量％以上が更に好ましく、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、８０質量％以上がさらに好ましく、９０質量％以上が特に好ましく、９５質量％以上が最も好ましい。前記含有量は１００質量％であってもよい。ここで、「純度」とは、βフェランドレンの光学異性体を区別した光学的な純度を意味しておらず、βフェランドレンの光学異性体を区別しない単なる化学的な純度を意味する。また、前記「重合性化合物」とは、βフェランドレンと重合可能な二重結合を有する化合物を意味する。
【００１８】
本明細書および特許請求の範囲において、前記反応に使用するβフェランドレンの純度はガスクロマトグラフィー（ＧＣ）法またはＧＣ−ＭＳの方法によって、βフェランドレンのピーク面積百分率で求められた値である。
例えば、βフェランドレン反応用液を１質量％となるようにクロロホルム溶液（和光純薬社製高速液体クロマトグラフ用、純度９９．７％）に希釈し、ガスクロマトグラフ分析装置（HEWLETT PACKARD社製 HP6890 Series GC System）を用いて測定することができる。この時、成分分離用のカラムとしてはＤＢ−５（アジレント・テクノロジー社製キャピラリーカラム、３０ｍ×０．２５ｍｍＩＤ×０．２５μ）、を用い、カラム温度：開始５０℃、最終３００℃、昇温速度  １５℃／分、インジェクション温度：３００℃で測定することが好ましい。βフェランドレンのピークはβフェランドレン標準液またはＭＳスペクトルより同定することができる。βフェランドレンの純分はＧＣ分析において観測された面積値１０００以上のピークの全面積の合計を１００としたときのβフェランドレンの面積比率で算出することが好ましい。
【００１９】
前記反応液を構成する有機溶媒に、触媒としてのルイス酸を添加してよく分散させた後、高純度のβフェランドレンをゆっくり滴下して、カチオン重合を開始し、所定時間反応させることにより、目的のβフェランドレン重合体を得ることができる。
【００２０】
このような溶液重合法によってカチオン重合を行うに際しては、モノマーであるβフェランドレンの濃度は、前記反応溶液の総質量に対して、好ましくは１〜９０質量％、より好ましくは１０〜８０質量％、更に好ましくは１０〜５０質量％に調製することができる。前記濃度が１質量％未満では生産性が低くなり、一方、９０質量％を超えると重合熱の除去が困難になる。
【００２１】
前記反応液を構成する有機溶媒の種類はβフェランドレンを溶解可能であれば特に制限されず、従来のカチオン重合で使用される溶媒が適用できる。なかでも連鎖移動の少ない溶媒であることが好ましい。このような溶媒としては、ポリマーの重合条件下での溶解性や反応性等の観点から、例えばハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、及び脂肪族炭化水素等が挙げられる。より具体的には、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、１，１−ジクロロエタン、１，２−ジクロルエタン、ｎ−プロピルクロライド、１−クロロ−ｎ−ブタン、２−クロロ−ｎ−ブタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン、アニソール等の芳香族炭化水素系溶媒；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、デカリン等の脂肪族炭化水素系溶媒等が挙げられる。
前記有機溶媒として、１種の有機溶媒を単独で用いてもよいし、２種以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００２２】
前記有機溶媒は、非極性溶媒であってもよいし、極性溶媒であってもよい。
βフェランドレン重合体の重合度を一層高めて、高靭性の重合体を得るためには、非極性溶媒を用いる方が特に好ましい。ハロゲン化脂肪族炭化水素、ハロゲン化芳香族炭化水素等の塩素系溶媒（塩素原子有する化合物からなる溶媒）は使用可能である。しかし、廃棄溶剤の処理、重合製品の脱塩処理および昨今のＶＯＣ規制の観点から使用不可能な塩素系溶剤もあるため、環境問題の観点からは好ましいとは限らない。
【００２３】
前記ルイス酸としては、従来のカチオン重合で使用されるルイス酸が適用可能であり、例えばＥｔＡｌＣｌ２、ＡｌＣｌ３、Ｅｔ２ＡｌＣｌ、Ｅｔ３Ａｌ２Ｃｌ３、ＢＣｌ３、ＳｎＣｌ４、ＴｉＣｌ４、Ｔｉ（ＯＲ）４−ｙＣｌ４［Ｒはアルキル基又はアリール基を表し、ｙは１〜３の整数を表す。］が、反応性及び選択性が高いため、好ましい。これらの他、ＢＦ３、ＢＢｒ３、ＡｌＦ３、ＡｌＢｒ３、ＴｉＢｒ４、ＴｉＩ４、ＦｅＣｌ３、ＦｅＣｌ２、ＳｎＣｌ２、ＷＣｌ６、ＭｏＣｌ５、ＳｂＣｌ５、ＴｅＣｌ２、ＺｎＣｌ２等の金属ハロゲン化物、（ｉ−Ｂｕ）３Ａｌ、（ｉ−Ｂｕ）２ＡｌＣｌ、（ｉ−Ｂｕ）ＡｌＣｌ２、Ｍｅ４Ｓｎ、Ｅｔ４Ｓｎ、Ｂｕ４Ｓｎ、Ｂｕ３ＳｎＣｌ等の金属アルキル化合物［Ｍｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｂｕはブチル基を表す。］、Ａｌ（ＯＲ）３−ｘＣｌｘ［Ｒはアルキル基又はアリール基を表し、ｘは１又は２の整数を表す。］等の金属アルコキシ化合物が挙げられる。
前記ルイス酸として、１種のルイス酸を単独で用いてもよいし、２種以上のルイス酸を併用してもよい。
【００２４】
重合触媒としては上述のルイス酸のみでもよいが、ルイス酸として組み合わせて用いられる開始剤を利用してもよい。この場合、開始剤とはルイス酸と反応して炭素カチオンを発生するものであり、そのような特質を有するものであればどんなものでもよい。具体的には、アルキルビニルエーテル−塩化水素付加体、クロロアルキルビニルエーテル−塩化水素付加体、α−クロロエチルベンゼン、α―クロロイソプロピルベンゼン、１，３−ビス（α―クロロイソプロピル）ベンゼン、１，４−ビス（α―クロロイソプロピル）ベンゼン、１，３−ビス（α―クロロイソプロピル）−５−ｔ−ブチルベンゼン、１，３，５−トリス（α−クロロイソプロピル）ベンゼン、ｔ−ブチルクロライド、２−クロロ−２，４，４−トリメチルペンタン等の塩素系開始剤：アルキルビニルエーテル−酢酸付加体、α―アセトキシエチルベンゼン、α―アセトキシイソプロピルベンゼン、１，３−ビス（α−アセトキシイソプロピル）ベンゼン、１，４−ビス（α−アセトキシイソプロピル）ベンゼン等のエステル系開始剤、α−ヒドロキシエチルベンゼン、α−ヒドロキシイソプロピルベンゼン、１，３−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ベンゼン、１，４−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ベンゼン等のアルコール系開始剤等が挙げられる。
【００２５】
また、リビングカチオン重合触媒と共に用いられる電子供与剤を用いてもよい。そのような電子供与剤としては、公知のものを使用することができる。具体的にはジエチルエーテル（Et2O）、メチル−t−ブチルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル類：酢酸エチル（EtOAc）、酢酸メチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、イソ酪酸メチル、イソ酪酸エチル、イソ酪酸プロピル等のエステル類；ピリジン、２−メチルピリジン、２，６−ジメチルピリジン、２，６−ジーブチルピリジン、２，６−ジフェニルピリジン、２，６−ジ−ｔ−ブチルピリジン、２，６−ジーｔ−ブチル−４−メチルピリジン等のピリジン類；トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン等のアミン類；ジメチルアセトアミド、ジエチルアセトアミド等のアミド類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類等を、挙げることができる。特に、ジエチルエーテルや酢酸メチル等が、経済性及び反応後の除去が容易であることから、好適に使用される。
【００２６】
これらのルイス酸の前記反応液中の濃度としては、後で添加するβフェランドレン１００重量部に対して、０．００１〜１００重量部が好ましく、０．０１〜５０重量部がより好ましく、０．１〜１０重量部が更に好ましい。ルイス酸触媒の使用量が少な過ぎると反応が重合の完了前に停止してしまう恐れがあり、逆に多過ぎると不経済である。
【００２７】
前記滴下するβフェランドレンは、前記反応液を構成する有機溶媒と同じ種類の有機溶媒に予め溶解しておいてもよい。前記滴下する際の前記反応液の温度は、通常、−１２０℃〜１５０℃に設定することができ、−９０℃〜１００℃に設定することが好ましい。反応温度が高過ぎると反応の制御が困難となって再現性が得られ難くなる恐れがあり、低過ぎると製造コストが高くなる。
【００２８】
βフェランドレン重合体の製造方法においては、低温で反応させる方が重合度を高める点で有利であり、例えば−８０〜７０℃で反応させることにより、数平均分子量Ｍｎが１００，０００以上、例えば１４０，０００程度のβフェランドレン重合体を容易に得ることができる。また、−１５〜４０℃で反応させてもよく、この温度においては数平均分子量Ｍｎが５０，０００〜１００，０００程度のβフェランドレン重合体を容易に得ることができる。
【００２９】
カチオン重合の反応時間は特に制限されず、重合触媒の種類や量、反応温度、反応設備等の条件に応じて、所望の特性を有するβフェランドレン重合体が得られるように適宜調整することができる。通常は、１秒〜１００時間程度、好ましくは１０秒〜１時間程度、より好ましくは３０秒〜１０分程度で反応させることにより、所望の特性を有するβフェランドレン重合体を得ることができる。
【００３０】
本発明で使用されるβフェランドレン重合体はβフェランドレンの単独重合体であってもよいし、βフェランドレンと他の共重合可能な単量体の１種以上との共重合体であってもよい。
【００３１】
また反応を終了させるために、所定時間反応後に停止剤を添加してもよい。停止剤としては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、イソプロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、イソブタノール、ｔ−ブタノール等のアルコール類が好適に使用される。停止剤の添加量は厳密に規定されるものでは無いが、通常、反応溶媒量の０．０１〜１０倍容量であり、好ましくは０．１〜１倍容量である。
【００３２】
前記反応液中で重合して得られたβフェランドレン重合体を溶媒から分離する方法としては、例えば再沈殿、加熱による溶媒の留去、減圧による溶媒の除去、水蒸気による溶媒の除去（コアギュレーション）、押出し機による脱気溶媒除去等の公知方法が適用可能である。
【００３３】
重合体を溶媒から分離する際に塩素系のルイス酸触媒を中和除去する必要がある場合は、適時アルカリ性の中和剤例えば、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、アンモニア等の一般的に公知な中和剤を用いることができ、特に限定されるものではない。更に透明性や熱安定性の要求が厳しい用途においては、得られる重合体の不純物として残留する塩素、中和塩の十分な除去が望まれる。その除去方法としては特に限定されるものではないが、例えば、重合体の再枕時に適時加水等の処理により精製することが好ましい。特に光学特性や電気絶縁性を向上させるためには、残留の中和塩の含有率は重合体の質量に対し、１００ｐｐｍ以下とすることが好ましい。特に好ましくは１０ｐｐｍ以下である。
【００３４】
＜βフェランドレン重合体＞
上記のようにして得られたβフェランドレン重合体の数平均分子量Ｍｎは、重合溶液の粘度や溶融粘度、成形性、成形された前記基板の強度、耐熱性を高める観点から、１万〜１００万が好ましい。本発明に使用されるβフェランドレン重合体の数平均分子量Ｍｎは、２万〜５０万に調製することもできるし、３万〜４０万に調製することもできるし、４万〜３０万に調製することもできるし、５万〜２５万に調製することもできるし、６万〜２０万に調製することもできるし、７万〜１５万に調製することもできるし、８万〜１２万に調製することもできる。重合体の分子量が大き過ぎると、重合溶液の粘度が高くなって重合体の生産性が悪くなり、又は、重合体の溶融粘度が高くなって成形性が悪くなる恐れがある。一方、分子量が小さ過ぎると、重合体を用いて得られる積層体を構成する基板の強度が低下すると共に、ガラス転移温度が８０℃未満となり、十分な耐熱性を発揮し得ない恐れがある。
【００３５】
βフェランドレン重合体のガラス転移温度Ｔｇは、耐熱性、成形性、成形された前記基板の強度を高める観点から、８０〜３５０℃程度が好ましく、８５〜２５０℃がより好ましく、９０〜２００℃が更に好ましい。本発明に使用されるβフェランドレン重合体のガラス転移温度Ｔｇは、８０℃以上２００℃以下に調製することもできるし、８５℃以上２００℃以下に調製することもできるし、９０℃以上２００℃以下に調製することもできるし、９５℃以上２００℃以下に調製することもできるし、１００℃以上２００℃以下に調製することもできるし、１１０℃以上２００℃以下に調製することもできるし、１２０℃以上２００℃以下に調製することもできるし、１２５℃以上２００℃以下に調製することもできるし、１３０℃以上２００℃以下に調製することもできる。ガラス転移温度Ｔｇが高過ぎると、βフェランドレン重合体の溶融粘度が高くなり、成形性が悪くなる恐れがある。一方、ガラス転移温度Ｔｇが低過ぎると、成形された前記基板の耐熱使用温度が低くなるために、実用的ではない。通常、βフェランドレン重合体の分子量を高めることにより、及び、βフェランドレン重合体を水素添加することにより、そのガラス転移温度Ｔｇ及び耐熱性を向上させることができる。
【００３６】
本明細書及び特許請求の範囲において、βフェランドレン重合体の数平均分子量Ｍｎは、ＪＩＳ−Ｋ−０１２４−２００２にて規定されているサイズ排除クロマトグラフィーの手法に従って求められるものであって、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定される示差屈折検出器の値と、標準ポリスチレンの校正曲線とから求められるものである。また、ガラス転移温度Ｔｇは、ＪＩＳ−Ｋ−７１２１−１９８７「プラスチックの転移温度測定方法」に規定されている手法に従って測定されたものであって、より詳細には、中間点ガラス転移温度（Ｔｍｇ）として求められる温度が、本明細書及び特許請求の範囲におけるガラス転移温度Ｔｇである。
【００３７】
＜βフェランドレンの光学異性について＞
本発明に使用されるβフェランドレン重合体の材料であるβフェランドレンは、下記化学式（Ｉ）及び（ＩＩ）で表される互いに光学異性体（エナンチオマー）である化合物の混合物又はラセミ体であってもよいし、何れか一方の光学異性体のみであってもよい。化学合成されたβフェランドレンは、通常、前記混合物又はラセミ体である。何れか一方の光学異性体のみからなるβフェランドレンの材料を用いる場合、例えばキラルカラムを用いたクロマトグラフィー、光学分割剤を用いたジアステレオマ法等の手法を用いることにより、光学異性分離をして得られた材料を用いてもよい。
【００３８】
【化３】
2015183074.tif 000004
【００３９】
βフェランドレンの前記混合物又はラセミ体を材料として使用して得られたβフェランドレン重合体には、下記化学式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（ＩＩ−１）及び（ＩＩ−２）で表されるモノマー単位（繰り返し単位）のうち何れか１種以上が含まれる。なお、各化学式中、括弧は重合（結合）している隣のモノマー単位との結合を表す。
【００４０】
【化４】
2015183074.tif 000005
【００４１】
本発明に使用されるβフェランドレン重合体は、上記の各化学式で表されるモノマー単位のうち、１種を有していてもよいし、２種を有していてもよいし、３種を有していてもよいし、４種を有していてもよい。
【００４２】
本発明に使用されるβフェランドレン重合体には、上記化学式（Ｉ）及び（ＩＩ）の混合物又はラセミ体をその材料として用いた場合、上記化学式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）、（ＩＩ−１）及び（ＩＩ−２）で表されるβフェランドレン単位が、当該βフェランドレン重合体の総質量に対して合計で５０質量％以上含有されていると考えられる。この含有量は、５０〜１００質量％が好ましく、７０〜１００質量％がより好ましく、８０〜１００質量％がさらに好ましく、９０〜１００質量％が最も好ましい。
【００４３】
＜βフェランドレン重合体に対する水素添加＞
本発明に使用されるβフェランドレン重合体が有するオレフィン性炭素−炭素二重結合に対しては、水素化（水素添加）が行われている。水素添加を行うことによって、βフェランドレン重合体のガラス転移温度Ｔｇが上昇し、耐熱性、耐光性、耐候性等が一層向上した重合体を得ることができる。
【００４４】
βフェランドレン重合体に対する水素添加の方法として、従来の高分子に水素を添加する公知の方法が適用可能である。この際に用いられる水素添加触媒としては、一般にオレフィン類や芳香族化合物の水素化反応に使用される触媒が適用可能であり、例えば、パラジウム、白金、ニッケル、ロジウム、ルテニウム等の遷移金属をカーボン、アルミナ、シリカ、ケイソウ土などの担体に担持してなる担持型金属触媒；チタン、コバルト、ニッケル等の有機遷移金属化合物とリチウム、マグネシウム、アルミニウム、スズ等の有機金属化合物からなる均一系触媒；ロジウム、ルテニウム等の金属錯体触媒等が挙げられる。
【００４５】
前記担持型金属触媒としては、例えば、ニッケル・シリカ、ニッケル・ケイソウ土、ニッケル・アルミナ、パラジウム・カーボン、パラジウム・シリカ、パラジウム・ケイソウ土、パラジウム・アルミナ、白金・シリカ、白金・アルミナ、ロジウム・シリカ、ロジウム・アルミナ、ルテニウム・シリカ、ルテニウム・アルミナ等の触媒を挙げることができる。
【００４６】
前記均一系触媒としては、例えば、酢酸・コバルトトリエチルアルミニウム、トリオクチル酸ニッケル・トリイソブチルアルミニウム、ニッケルアセチルアセトナート・トリイソブチルアルミニウム、チタノセンジクロリド・ｎ−ブチルリチウム、ジルコノセンジクロリド・ｓｅｃ−ブチルリチウム、テトラブトキシチタネート・ジメチルマグネシウム等の組み合わせを挙げることができる。
【００４７】
前記金属錯体触媒としては、例えば、クロロトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム、ジヒドリドテトラ（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、ヒドリド（アセトニトリル）トリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、カルボニルクロロヒドリドトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、カルボニルジヒドリドトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム等を挙げることができる。
【００４８】
ここで例示した水素化反応に用いる触媒のうち、前記担持型金属触媒は、水素化反応後に、重合触媒と共にろ過で容易に分離回収することができるため、特に好ましい。
前記触媒を１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００４９】
前記水素添加を行う際の反応温度は、通常、−２０℃〜２５０℃で行うことが可能であり、−１０℃〜２２０℃が好ましく、０〜２００℃がより好ましい。反応温度が高過ぎると、重合体が熱分解する恐れがあり、低過ぎると、反応速度が遅くなり、反応が完了しない恐れがある。
【００５０】
前記水素添加を行う際の水素圧力は、通常０．１〜１００ｋｇｆ／ｃｍ２で行うことが可能であり、好ましくは０．５〜７０ｋｇｆ／ｃｍ２、より好ましくは１〜５０ｋｇｆ／ｃｍ２である。水素圧力が低過ぎると、水素化反応が遅くなり、高過ぎると高耐圧反応装置が必要となる。
【００５１】
前記水素添加を行う際の溶媒としては、重合体が溶解し、触媒不活性な有機溶媒であれば特に制限されない。重合体の水素添加物の溶解性や反応性の観点から、例えば、脂肪族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、及び芳香族炭化水素等が挙げられる。具体的には、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、デカリン等の脂肪族炭化水素系溶媒；テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒；塩化メチレン、クロロホルム、１，１−ジクロルエタン、１，２−ジクロルエタン、ｎ−プロピルクロライド、１−クロロ−ｎ−ブタン、２−クロロ−ｎ−ブタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒が挙げられる。これらの有機溶媒のうち、溶解性や反応性の観点から、特に炭化水素系溶媒が好ましい。
前記有機溶媒を１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５２】
前記水素添加は、βフェランドレンの重合反応が終了した後の前記反応液の溶媒を交換せずに、そのまま水素添加の反応を行うことも可能である。このように溶媒を置換せずに水素添加を行うと、製造プロセスから排出される廃液が減少するので、環境負荷を下げる観点から好ましい。
【００５３】
前記水素添加の反応時間は、通常０．１〜２０時間程度で行うことができる。水素添加反応の終了の目安としては、例えば、水素添加前の重合体が有するオレフィン性炭素−炭素二重結合（不飽和結合）のうち、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、更に好ましくは９０％以上、特に好ましくは９５％以上が飽和されるまで、最も好ましくは１００％が飽和されるまで、水素添加を継続することが望ましい。十分にβフェランドレン重合体に対して水素添加を行うことにより、耐熱性、耐光性に優れた重合体を得ることができる。
【００５４】
前記水素添加の前後の重合体におけるオレフィン性炭素−炭素二重結合の水素添加率を求める方法として、一般に、ヨウ素価滴定法、赤外分光スペクトル測定、核磁気共鳴スペクトル（１Ｈ−ＮＭＲスペクトル）測定等の分析値から算出する方法が知られている。
【００５５】
本明細書及び特許請求の範囲において、βフェランドレン重合体のオレフィン性炭素−炭素二重結合に対する水素添加率は、重水素化クロロホルムを溶媒として用いた核磁気共鳴スペクトル（１Ｈ−ＮＭＲスペクトル）の測定値を用いて算出している。具体的には、テトラメチルシランのプロトンを０ｐｐｍとして、δ＝５．０〜６．０ｐｐｍに検出されるシグナルの積分値、即ちオレフィン性炭素−炭素二重結合のプロトンに由来するシグナルの積分値Ａと、０．５〜２．５ｐｐｍに検出されるシグナルの積分値、即ち飽和炭化水素のプロトンに由来するシグナルの積分値Ｂとの比（Ａ／Ｂ）を算出する。この比は、水素添加率が高くなるにつれて小さくなる。前記水素添加前の前記比（Ａ／Ｂ（水添前））及び前記水素添加後の前記比（Ａ／Ｂ（水添後））をそれぞれ算出し、下記式に代入することにより、水素添加率を求めることができる。
【００５６】
水素添加率（％）＝
（比（Ａ／Ｂ（水添前））−比（Ａ／Ｂ（水添後））×１００÷比（Ａ／Ｂ（水添前））
【００５７】
βフェランドレン重合体に対して水素添加することにより得られる重合体のガラス転移温度Ｔｇは、熱源（例えば熱を発する光源）に近い環境で使用することを想定した場合や、表面加工が容易になる等の観点から、高い方が好ましい。光源の熱による影響を低減する観点からは、Ｔｇは１００℃以上であることがより好ましい。本発明にかかる積層体を構成する基板について、その耐溶剤性やガス遮蔽性を向上させたり、帯電防止性を付与したり、導電性を付与したりするために公知の表面加工（表面処理）を行うことができる。これらの表面加工を容易に行うことができるため、水素添加したβフェランドレン重合体のＴｇは１２０℃以上であることが好ましい。Ｔｇが２００℃程度を超えると、βフェランドレン重合体の溶融粘度が高くなり、成形性が悪くなる恐れがある。一方、Ｔｇが８０℃未満であると、成形品（積層体を構成する基板）の耐熱使用温度が低くなるために、好ましくない。
水素添加したβフェランドレン重合体のガラス転移温度Ｔｇの測定方法は、水素添加していないβフェランドレン重合体のガラス転移温度Ｔｇの測定方法と同じでよい。
【００５８】
本発明の積層体を構成する基板の材料であるβフェランドレン重合体の全光線透過率は、その用途に通常求められる性質として、高いほど好ましく、８０％以上が好ましく、８５％以上がより好ましく、９０％以上がさらに好ましい。例えば、βフェランドレン重合体のみからなる厚さ１００μｍの平板状試験片を測定した場合、その全光線透過率が８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましく、９５％以上であることが最も好ましい。
ここで、上記全光線透過率は、JIS-K-7361 : 1997 (ISO13468-1:1996)に準拠して測定した数値である。
【００５９】
本発明で使用されるβフェランドレン重合体は、寸法安定性の観点から、吸水率が低い方が好ましい。βフェランドレン重合体の吸水率は、６０℃、９０％ＲＨ（相対湿度）雰囲気下に試験片を２４時間置いたときの試験片の質量変化を飽和吸水率として測定したときに、０．２％以下が好ましく、０．１％以下がより好ましく、０．０５％以下がさらに好ましい。
ここで、上記吸水率は、JIS-K-7209：2000に準拠して測定した数値である。この際、試験片の一例として、上記βフェランドレン重合体を厚さ１００μｍの平板状に成形したものを使用することができる。
【００６０】
本発明で使用されるβフェランドレン重合体の比重は小さいため、軽い積層体を得ることができる。本発明で使用されるβフェランドレン重合体の比重は、０．８５以上１．０未満であり、０．８５〜０．９８であることが好ましい。
上記比重が０．８５よりも小さいβフェランドレン重合体を得ることは通常困難である。また、上記比重が１．０以上であると、軽量化の目的を充分に達成し得なくなる。
ここで、上記比重は、JIS-K-7112：1999のＡ法に準じて測定した数値である。
【００６１】
一般に、成形品を構成する樹脂の光弾性係数が、Ｔｇ以上の温度において大きい場合、得られる成形品（積層体を構成する基板）の光学歪みが大きくなる問題がある。故に、光学歪みの小さい成形品を得ようとする場合、成形条件の選択できる範囲が狭くなるため、生産性が低くなってしまう問題がある。
【００６２】
したがって、本発明で使用されるβフェランドレン重合体の光弾性係数は小さいことが好ましく、ガラス転移温度Ｔｇ以上の温度においても、その光弾性係数が小さいことがより好ましい。光弾性が小さいβフェランドレン重合体を使用することにより、光学歪みの少ない積層体を得ることができる。
【００６３】
使用するβフェランドレン重合体のＴｇ以上の温度（例えば、Ｔｇ＋２０℃）における好適な光弾性係数は、用途により一概に規定できないが、−３０００×１０−１３〜３０００×１０−１３ｃｍ２／ｄｙｎが好ましく、−１０００×１０００−１３〜１０００×１０−１３ｃｍ２／ｄｙｎがより好ましい。この範囲の光弾性係数を有することで、光学歪みの小さい積層体を、生産性良く得ることができる。なお、１ｄｙｎ＝１０−５Ｎである。
【００６４】
本発明で使用されるβフェランドレン重合体を１００μｍ厚のフィルム形状に成形したとき、そのフィルムの引張強度は、６０ＭＰａ以上が好ましく、７０ＭＰａ以上がより好ましく、８０ＭＰａ以上が更に好ましい。引張強度の上限値は特に制限されず、その強度が大きい程好ましいが、通常１００ＭＰａ程度が上限値となる。
ここで、前記引張強度は、ISO 527に準拠した測定方法によって求められた数値である。測定に使用するフィルム形状は１００μｍ厚である。
【００６５】
本発明で使用されるβフェランドレン重合体の屈折率ｎＤ（２５℃）は、１．４５０〜１．６００の範囲であることが好ましい。この範囲の屈折率であると、従来の透明樹脂（PMMAの屈折率は1.49、PCの屈折率1.59）と同様に積層体を構成することができる。ここで、上記屈折率ｎＤ（２５℃）は、ＪＩＳ−Ｋ−７１４２に準拠した方法により測定された数値である。この際、試験片として、上記βフェランドレン重合体を、例えば上記JIS規格で推奨されるサイズの板状やフィルム状に成形したものを使用することができる。また、測定装置として、例えば、アッベ屈折計 ＤＲ−Ｍ４（株式会社アタゴ製）を使用して測定することができる。
【００６６】
＜積層体＞
本発明の積層体は、基板と、前記基板の少なくとも片面に、０．００１μｍ〜３０μｍの厚さでコーティングされた少なくとも１層の機能性薄膜と、を有する積層体である。
前記基板には、比重が０．８５以上１．０未満であり、且つガラス転移温度Ｔｇが８０℃以上である、水素添加されたβ−フェランドレン重合体が、前記基板の総質量に対して５０〜１００質量％含まれる。
【００６７】
前記基板に含まれる前記βフェランドレン重合体の含有量は、前記基板の総質量に対して、６０〜１００質量％であってもよいし、７０〜１００質量％であってもよいし、８０〜１００質量％であってもよいし、９０〜１００質量％であってもよいし、９５〜１００質量％であってもよいし、９８〜１００質量％であってもよい。
【００６８】
本発明の積層体及び前記基板の機械的強度及び耐熱性を向上させるためには、前記基板の主成分であるβフェランドレン重合体の機械的強度及び耐熱性を向上させればよい。βフェランドレン重合体の機械的強度及び耐熱性を向上させる観点から、好適なＴｇとしては、前述のとおり、８０〜３５０℃が好ましく、８５〜２５０℃がより好ましく、９０〜２００℃が更に好ましい。また、同様の観点から、βフェランドレン重合体の好適な数平均分子量Ｍｎは大きい程好ましく、６万以上が好ましく、８万以上が好ましく、１０万以上がより好ましく、１２万以上が更に好ましく、１４万以上が更に一層好ましく、１６万以上が特に好ましく、１８万以上が最も好ましい。その数平均分子量Ｍｎの上限値は特に限定されないが、成形性や加工性を向上させる観点から、通常、８０万以下が好ましく、６０万以下がより好ましく、４０万以下が更に好ましい。
【００６９】
また、上記と同様の観点から、βフェランドレン重合体の好適な重量平均分子量Ｍｗは大きい程好ましく、５万以上が好ましく、７万以上がより好ましく、９万以上が更に好ましく、１１万以上が更に一層好ましく、１３万以上が特に好ましく、１５万以上が最も好ましい。その重量平均分子量Ｍｗの上限値は特に限定されないが、成形性や加工性を向上させる観点から、通常、１００万以下が好ましく、８０万以下がより好ましく、６０万以下が更に好ましい。重量平均分子量は数平均分子量と同様の方法で得た測定データから算出することができる。
また、上記と同様の観点から、βフェランドレン重合体のＭｗ／Ｍｎは、１〜２５が好ましく、１．０５〜２０がより好ましく、１．１〜１０がさらに好ましい。
【００７０】
本発明の積層体を構成する前記基板の比重は、前述したβフェランドレン重合体が当該基板の総質量の５０〜１００質量％を構成している場合、通常、０．８５〜１．０の範囲にすることができる。βフェランドレン重合体は、従来のアクリル系樹脂、ＰＥＴ樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂等よりも比重が軽いため、βフェランドレン重合体を主成分として有する前記基板は、これらの従来樹脂からなる基板よりも軽量性に優れる。
【００７１】
本発明の積層体及び前記基板の耐熱性、耐光性、耐候性等を向上させる観点から、本発明に使用されるβフェランドレン重合体が有するオレフィン性炭素−炭素二重結合の少なくとも一部は水素化されている。
【００７２】
本発明の積層体の用途において光透過性が求められる場合、前記基板の全光線透過率は高いほど好ましい。その全光線透過率としては、８０％以上が好ましく、８５％以上がより好ましく、９０％以上がさらに好ましい。例えば、前記基板の一例として、厚さ約１００μｍの平板状試験片を測定した場合、その全光線透過率が８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましく、９５％以上であることが最も好ましい。
ここで、上記全光線透過率は、JIS-K-7361 : 1997 (ISO13468-1:1996)に準拠して測定した数値である。
【００７３】
本発明の積層体を構成する前記基板の吸水率は、前述したβフェランドレン重合体が前記基板の総質量の７０〜１００質量％を構成している場合、６０℃、９０％ＲＨ（相対湿度）雰囲気下に前記基板を２４時間置いたときのその質量変化を飽和吸水率として測定したときに、０．２％以下が好ましく、０．１％以下がより好ましく、０．０５％以下がさらに好ましい。ここで、上記吸水率は、JIS-K-7209：2000に準拠して測定した数値である。
βフェランドレン重合体は、従来のアクリル系樹脂よりも吸水性が低いため、βフェランドレン重合体を主成分として有する本発明の積層体を構成する前記基板は、従来のアクリル系樹脂からなる基板よりも寸法安定性に優れる。
【００７４】
本発明の積層体を構成する前記基板の光弾性係数は、前述したβフェランドレン重合体が前記基板の総質量の９５〜１００質量％を構成している場合、前述したβフェランドレン重合体の好適な光弾性係数と同等にすることができる。
【００７５】
本発明の積層体を構成する前記基板の屈折率は、前述したβフェランドレン重合体が前記基板の総質量の９５〜１００質量％を構成している場合、前述したβフェランドレン重合体の好適な屈折率と同等にすることができる。
【００７６】
本発明の積層体を構成する前記基板のβフェランドレン重合体には、本発明の目的を損なわない範囲において、更に必要に応じて、公知の各種の配合剤が、単独で又は２種以上を組み合わせて、混合されても構わない。
【００７７】
前記配合剤としては、従来の樹脂工業で通常使用されるものであれば特に制限されず、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、近赤外線吸収剤、染料や顔料等の着色剤、滑剤、可塑剤（柔軟化剤）、帯電防止剤、蛍光増白剤、充填材等の配合剤を挙げることができる。
【００７８】
前記酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤等が挙げられる。これらの酸化防止剤の中でも、フェノール系酸化防止剤が好ましく、アルキル置換フェノール系酸化防止剤が特に好ましい。
【００７９】
前記フェノール系酸化防止剤としては、例えば、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２，４−ジ−ｔ−アミル−６−（１−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）エチル）フェニルアクリレート等のアクリレート系化合物；オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２’−メチレン−ビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス（メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニルプロピオネート）メタン［即ちペンタエリスリメチル−テトラキス（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオネート）］、トリエチレングリコールビス（３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート）等のアルキル置換フェノール系化合物；６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−２，４−ビスオクチルチオ−１，３，５−トリアジン、４−ビスオクチルチオ−１，３，５−トリアジン、２−オクチルチオ−４，６−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−オキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン等のトリアジン基含有フェノール系化合物等が挙げられる。
【００８０】
前記リン系酸化防止剤としては、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド等のモノホスファイト系化合物；４，４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト）、４，４’−イソプロピリデン−ビス（フェニル−ジ−アルキル（Ｃ12〜Ｃ15）ホスファイト）等のジホスファイト系化合物等が挙げられる。これらの中でも、モノホスファイト系化合物が好ましく、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト等が特に好ましい。
【００８１】
前記イオウ系酸化防止剤としては、例えば、ジラウリル３，３−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル３，３−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル３，３−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）、３，９−ビス（２−ドデシルチオエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン等を挙げることができる。
【００８２】
前記酸化防止剤は、それぞれ単独で又は２種以上を組み合わせて、用いることができる。酸化防止剤の配合量は、本発明の目的が損なわれない範囲で適宜に決定されればよく、例えば、βフェランドレン重合体の１００質量部に対して、０．００１〜５質量部程度、好ましくは０．０１〜１質量部の範囲で使用することができる。
【００８３】
前記紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤；４−ｔ−ブチルフェニル−２−ヒドロキシベンゾエート、フェニル−２−ヒドロキシベンゾエート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミジルメチル）フェノール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等のベンゾエート系紫外線吸収剤；２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸３水和物、２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノン、４−ドデシルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンジルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤；エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２’−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート等のアクリレート系紫外線吸収剤；［２，２’−チオビス（４−ｔ−オクチルフェノレート）］−２−エチルヘキシルアミンニッケル等の金属錯体系紫外線吸収剤等を用いることができる。
【００８４】
前記光安定剤としては、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、４−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）−１−（２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等のヒンダードアミン系光安定剤を挙げることができる。
【００８５】
前記近赤外線吸収剤としては、例えば、シアニン系近赤外線吸収剤；ピリリウム系近赤外線吸収剤；スクワリリウム系近赤外線吸収剤；クロコニウム系近赤外線吸収剤；アズレニウム系近赤外線吸収剤；フタロシアニン系近赤外線吸収剤；ジチオール金属錯体系近赤外線吸収剤；ナフトキノン系近赤外線吸収剤；アントラキノン系近赤外線吸収剤；インドフェノール系近赤外線吸収剤；アジ系近赤外線吸収剤等が挙げられる。また、市販品の近赤外線吸収剤として、ＳＩＲ−１０３、ＳＩＲ−１１４、ＳＩＲ−１２８、ＳＩＲ−１３０、ＳＩＲ−１３２、ＳＩＲ−１５２、ＳＩＲ−１５９、ＳＩＲ−１６２（以上、三井東圧染料株式会社製）、Ｋａｙａｓｏｒｂ ＩＲ−７５０、Ｋａｙａｓｏｒｂ ＩＲＧ−００２、Ｋａｙａｓｏｒｂ ＩＲＧ−００３、Ｋａｙａｓｏｒｂ ＩＲ−８２０Ｂ、Ｋａｙａｓｏｒｂ ＩＲＧ−０２２、Ｋａｙａｓｏｒｂ ＩＲＧ−０２３、Ｋａｙａｓｏｒｂ ＣＹ−２、Ｋａｙａｓｏｒｂ ＣＹ−４、Ｋａｙａｓｏｒｂ ＣＹ−９（以上、日本化薬株式会社製）等を挙げることできる。
【００８６】
前記染料としては、用いられるβフェランドレン重合体に均一に分散又は溶解するものであれば特に限定されず、例えば、βフェランドレン重合体との相溶性が優れる油溶性染料（各種Ｃ．Ｉ．ソルベント染料）が挙げられる。この油溶性染料の具体例としては、例えば、The Society of Dyers and Colourists 社刊の「Ｃｏｌｏｒ Ｉｎｄｅｘ」、Ｖｏｌ．３に記載されている各種のＣ．Ｉ．ソルベント染料が、挙げられる。
【００８７】
前記顔料のうち、有機系顔料としては、例えば、ピグメントレッド３８等のジアリリド系顔料；ピグメントレッド４８：２、ピグメントレッド５３、ピグメントレッド５７：１等のアゾレーキ系顔料；ピグメントレッド１４４、ピグメントレッド１６６、ピグメントレッド２２０、ピグメントレッド２２１、ピグメントレッド２４８等の縮合アゾ系顔料；ピグメントレッド１７１、ピグメントレッド１７５、ピグメントレッド１７６、ピグメントレッド１８５、ピグメントレッド２０８等のベンズイミダゾロン系顔料；ピグメントレッド１２２等のキナクリドン系顔料；ピグメントレッド１４９、ピグメントレッド１７８、ピグメントレッド１７９等のペリレン系顔料；ピグメントレッド１７７等のアントラキノン系顔料が挙げられる。また、無機系顔料としては、例えば、酸化チタン、カーボンブラック、べんがら、クロムレッド、モリブデンレッド、リサージ、酸化鉄等が挙げられる。
【００８８】
本発明の積層体を構成する前記基板に着色が必要とされるときは、前記染料及び顔料の何れでも、本発明の目的の範囲内で使用することができる。例えば、ミクロな光学特性の考慮が必要な用途においては、染料による着色が好ましい。また、紫外線吸収剤が目視では黄色〜赤色の色を示すこともあり、近赤外線吸収剤が目視では黒色の色を示すこともあるため、これらの光吸収材と前記染料及び顔料とを厳密に区別して使用する必要は無い。また、これらの光吸収材と前記染料及び顔料を組み合わせて使用しても構わない。
【００８９】
前記滑剤としては、例えば、脂肪族アルコールのエステル、多価アルコールのエステル又は部分エステル等の有機化合物や無機微粒子等を用いることができる。
前記有機化合物としては、例えば、グリセリンモノステアレート、グリセリンモノラウレート、グリセリンジステアレート、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールジステアレート、ペンタエリスリトールトリステアレート等が挙げられる。
前記無機微粒子としては、周期律表の１族、２族、４族、６〜１４族元素の酸化物、硫化物、水酸化物、窒化物、ハロゲン化物、炭酸塩、硫酸塩、酢酸塩、燐酸塩、亜燐酸塩、有機カルボン酸塩、珪酸塩、チタン酸塩、硼酸塩、及びそれらの含水化物、それらを中心とする複合化合物、天然化合物等の微粒子が挙げられる。
【００９０】
前記可塑剤としては、例えば、トリクレジルフォスフェート、トリキシレニルフォスフェート、トリフェニルフォスフェート、トリエチルフェニルフォスフェート、ジフェニルクレジルフォスフェート、モノフェニルジクレジルフォスフェート、ジフェニルモノキシレニルフォスフェート、モノフェニルジキシレニルフォスフェート、トリブチルフォスフェート、トリエチルフォスフェート等の燐酸トリエステル系可塑剤；フタル酸ジメチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘプチル、フタル酸ジ−ｎ−オクチル、フタル酸ジ−２−エチルヘキシル、フタル酸ジイソノニル、フタル酸オクチルデシル、フタル酸ブチルベンジル等のフタル酸エステル系可塑剤；オレイン酸ブチル、グリセリンモノオレイン酸エステル等の脂肪酸一塩基酸エステル系可塑剤；二価アルコールエステル系可塑剤；オキシ酸エステル系可塑剤等が挙げられる。これらの中でも、燐酸トリエステル系可塑剤が好ましく、トリクレジルフォスフェート、トリキシレニルフォスフェートが特に好ましい。
【００９１】
前記可塑剤の他の具体例として、スクアラン（Ｃ３０Ｈ６２、Ｍｗ＝４２２．８）、流動パラフィン（ホワイトオイル、ＪＩＳ−Ｋ−２２３１に規定されるＩＳＯ ＶＧ１０、ＩＳＯ ＶＧ１５、ＩＳＯ ＶＧ３２、ＩＳＯ ＶＧ６８、ＩＳＯ ＶＧ１００、ＩＳＯ ＶＧ８及びＩＳＯ ＶＧ２１等）、ポリイソブテン、水添ポリブタジエン、水添ポリイソプレン等が挙げられる。これらの中でも、スクアラン、流動パラフィン及びポリイソブテンが好ましい。
【００９２】
前記帯電防止剤としては、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコール等の長鎖アルキルアルコール、グリセリンモノステアレート、ペンタエリスリトールモノステアレート等の多価アルコールの脂肪酸エステル等が挙げられるが、ステアリルアルコール、ベヘニルアルコールが特に好ましい。
【００９３】
前記配合剤は、単独で又は２種以上を混合して用いることができる。その混合割合は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜に選択される。また、前記配合剤の個々の配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜に選択されるが、各配合剤につき、βフェランドレン重合体の１００質量部に対して、通常、０．００１〜５質量部程度、好ましくは０．０１〜１質量部の範囲で使用することが好ましい。
【００９４】
本発明に係る積層体を構成する前記基板のβフェランドレン重合体には、必要に応じて、本発明の目的を損なわない範囲において、その他のポリマー成分を配合することもできる。前記その他のポリマーとしては、例えば、ゴム質重合体があり、具体的には、天然ゴム、ポリブタジエンゴム、ポリイソプレンゴム、アクリロニトリル・ブタジエン共重合体ゴム等のジエン系ゴム；スチレン・ブタジエン共重合体ゴム、スチレン・イソプレン共重合体ゴム、スチレン・ブタジエン・イソプレン三元共重合体ゴム；ジエン系ゴムの水素添加物；エチレン・プロピレン共重合体等のエチレン・α−オレフィン共重合体、プロピレン・その他のα−オレフィンの共重合体等の飽和ポリオレフィンゴム；エチレン・プロピレン・ジエン共重合体、α−オレフィン・ジエン共重合体、イソブチレン・イソプレン共重合体、イソブチレン・ジエン共重合体等のα−オレフィン・ジエン系重合体ゴム；ウレタンゴム、シリコーンゴム、ポリエーテル系ゴム、アクリルゴム、プロピレンオキサイドゴム、エチレン・アクリルゴム等の特殊ゴム；スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体ゴム、スチレン・イソプレン・スチレンブロック共重合体ゴム等の熱可塑性エラストマー；水素添加熱可塑性エラストマー；ウレタン系熱可塑性エラストマー；ポリアミド系熱可塑性エラストマー；１，２−ポリブタジエン系熱可塑性エラストマーを挙げることができる。また、その配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で、適宜に選択されるが、βフェランドレン重合体の１００質量部に対して、例えば、３〜３０質量部程度、好ましくは５〜２０質量部の範囲で使用されることが好ましい。
【００９５】
本発明の積層体を構成する前記基板の厚みは特に制限されず、その用途に応じて適宜設定されれば良く、例えば、基板全体に亘って厚みが、１０μｍ〜３００００μｍであることが好ましく、２０μｍ〜１００００μｍであることがより好ましい。上記の好ましい範囲の厚みであると、前記基板が有する機械的強度の高さを発揮させ易くなるとともに、種々の用途における取り扱い易さを一層高めることができる。
【００９６】
前記基板の厚さ変動は、基板厚み（基準厚み）の３．０％以下であることが好ましく、２．４％以下であることがより好ましい。膜厚変動がこのように小さいと、本発明の積層体を液晶表示装置の画像表示面に設置した場合の色ムラを小さくすることができる。
ここで、前記膜厚変動は、JIS-K-7130：1999のＡ法に準ずる接触法によって、測定するフィルムの１００ｃｍ２の面積内で厚みを９点測定し、９点のデータより求めた変動係数を百分率で表した値を膜厚変動（％）とする。
【００９７】
本発明の積層体を構成する前記基板について、１００μｍ厚のフィルム形状（基板形状）で測定したときの引張強度は、６０ＭＰａ以上が好ましく、７０ＭＰａ以上がより好ましく、８０ＭＰａ以上が更に好ましい。引張強度の上限値は特に制限されず、その強度が大きい程好ましいが、通常１００ＭＰａ程度が上限値となる。
ここで、前記引張強度は、ISO 527に準拠した測定方法によって求められた数値である。測定に使用するフィルム形状は１００μｍ厚である。
【００９８】
＜積層体の製造方法＞
本発明の積層体を構成する前記基板の製造（成形）方法は、特に制限されず、例えば、射出成形、押出成形、押出ブロー成形、射出ブロー成形、多層ブロー成形、コネクションブロー成形、二重壁ブロー成形、延伸ブロー成形、真空成形、回転成形、溶液キャスト法等の従来の樹脂成形品を製造する公知方法を採用することができる。その中でも、溶剤を使用しない、射出成形及び押出成形等の溶融押出法の方が、地球環境への負荷を低減し、作業環境を向上させる観点又は製造コストを下げる観点から好ましい。
【００９９】
本発明の積層体を構成する前記基板の少なくとも片面にコーティングによって形成される前記機能性薄膜の種類は特に制限されず、前記基板のみでは発現し得ない機能を有する層を与える膜であればよい。このような機能性薄膜としては、例えば、帯電防止層、反射防止層、ハードコート層、透明導電層、アンチグレア層等の機能性薄膜が挙げられる。
【０１００】
前記機能性薄膜の厚みは、積層体の用途に応じて０．００１μｍ〜３０μｍの範囲内で適宜調整すればよい。上記厚みが０．００１μｍ未満であると、機能性薄膜が発揮すべき機能が充分に発揮されない場合がある。上記厚みが３０μｍを超えると、製造時又は使用時に積層体が屈曲された場合に機能性薄膜が剥離したり、割れたりする恐れがある。
【０１０１】
前記基板に前記機能性薄膜を形成する方法は特に制限されず、例えば、公知の機能性材料の溶液を用いて、ディッピング法、スピナー法、スプレー法、ロールコーター法、グラビア法、エアーナイフコート法、ワイヤーバー法、エクストルージョン法、ブレード法、ダイコート法などの湿式法や、スパッタや蒸着等の真空成膜する乾式法等の公知方法によって形成することができる。
【０１０２】
前記基板において、前記機能性薄膜を形成する領域は、前記基板の片面であっても良いし、前記基板の両面であってもよい。また、前記機能性薄膜が形成された基板面において、当該機能性薄膜はその全面をコーティングしていてもよいし、当該基板面の一部のみをコーティングしていてもよい。
【０１０３】
前記基板に形成される前記機能性薄膜の層数は、特に制限されず、１層でもよいし、２層でもよいし、３層以上でもよい。複数層の機能性薄膜が形成される場合、個々の層を構成する機能性薄膜は、同じ機能を有する膜であってもよいし、異なる機能を有する膜であってもよい。同じ機能を有する機能性薄膜を複数層形成する場合、個々の膜を構成する材料は同じであってもよいし、異なっていてもよい。
【０１０４】
前記機能性薄膜の一例として、帯電防止層を前記基板にコーティングすることができる。この場合の帯電防止剤としては、公知の帯電防止剤が適用可能であり、例えばアニオン系帯電防止剤、カチオン系帯電防止剤、非イオン系帯電防止剤、両性系帯電防止剤が挙げられる。これらの帯電防止剤は、１種単独で使用されてもよいし、２種以上が併用されてもよい。
【０１０５】
前記アニオン系帯電防止剤として、例えば、アルキルサルフェート型、アルキルアリルサルフェート型、アルキルホスフェート型及びアルキルアミンサルフェート型帯電防止剤が挙げられる。前記カチオン系帯電防止剤として、例えば第４級アンモニウム塩型、第４級アンモニウム樹脂型、イミダゾリン型、ホスホニウム塩型及びスルホニウム塩型帯電防止剤が挙げられる。
【０１０６】
前記非イオン系帯電防止剤として、例えば、ソルビタン型、エーテル型、アミン型、アミド型及びエタノールアミド型帯電防止剤が挙げられる。前記両性系帯電防止剤として、例えば、スルホベタイン型、アミンオキシド型、ホスフェート型及びホスホン酸エステル型帯電防止剤が挙げられる。
【０１０７】
前記帯電防止層は、他の機能を有する機能性薄膜と合わせて形成されていてもよい。例えば、帯電防止機能とハードコート機能、帯電防止機能と反射防止機能のように、複数の機能が複合化された機能性薄膜として使用されてもよい。
【０１０８】
複数の機能が複合化された機能性薄膜を得る方法としては、例えば、基板をコーティングする第一の機能性薄膜の上に、第二の機能性薄膜を積層する方法が挙げられる。また、別の方法として、単一層の機能性薄膜の中に、異なる機能を発現させ得る複数種類の材料を含有させる方法も例示できる。
【０１０９】
前記機能性薄膜の一例として、反射防止層を前記基板にコーティングすることができる。この反射防止層は、高屈折率層の上に低屈折率層を設けた二層構造の反射防止層であることが好ましい。
【０１１０】
前記高屈折率層の屈折率は例えば１．５５〜１．７０程度にすることができる。また、その厚みは例えば０．０３μｍ〜０．１５μｍ程度にすることができる。このような高屈折率層は、樹脂等のバインダー成分中に微量の金属化合物粒子を分散させることによって得ることができる。前記樹脂の種類は特に限定されず、例えば、ポリエステル、アクリル、ウレタン、エポキシ等の汎用の樹脂を使用できる。
【０１１１】
前記金属化合物粒子は、それ自体の屈折率が高いことが好ましく、例えば、スズ含有酸化アンチモン粒子、亜鉛含有酸化アンチモン粒子、スズ含有酸化インジウム粒子、酸化亜鉛と酸化アルミニウムの複合粒子、酸化アンチモン粒子、酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子等を用いることができる。これらのうち、帯電防止機能を付加できる化合物がより好ましく、スズ含有酸化インジウム粒子が特に好適である。前記金属化合物粒子の平均一次粒子径（ＢＥＴ法による球相当径）は、０．５μｍ以下であることが好ましく、０．００１μｍ〜０．３μｍであることがより好ましい。これらの粒子径であると、反射防止層の透明性を容易に維持することができる。これらの金属化合物の導電性を向上させる目的で、ポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン等の有機導電材料を添加することもできる。
【０１１２】
前記低屈折率層の屈折率は例えば１．３０〜１．４０程度であることが好ましく、その厚みは０．０１μｍ〜０．１５μｍ程度であることが好ましい。前記低屈折率層を形成する材料としては、公知の材料を用いることができる。例えばフッ素化合物やパーフルオロアルキル基を有する化合物等が好適である。また、バインダー樹脂中に中空微細粒子を分散させた組成物を使用することによって前記低屈折率層を形成することもできる。このような中空粒子は、例えば、特開２００１−２３３６１１号公報及びＪ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，２００３，１２５，３１６−３１７等の公知文献に記載されている。
【０１１３】
前記機能性薄膜の一例として、ハードコート層を前記基板にコーティングすることができる。このハードコート層の形成には、公知の硬化性組成物を用いることができる。前記硬化性組成物としては、例えば、熱硬化性組成物、活性エネルギー線重合性組成物等が挙げられる。前記熱硬化性組成物として、例えば、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等のプレポリマーの架橋反応を利用する組成物、シリケートのゾルゲル反応を利用する組成物等が挙げられる。
【０１１４】
硬化反応の制御の容易さの観点から、活性エネルギー線の照射により硬化させることが可能な重合性組成物を使用して、ハードコート層を形成することが好ましい。前記ハードコート層には、活性エネルギー線又は熱による硬化性組成物の他に、公知の無機若しくは有機微粒子、重合開始剤、その他の添加剤が含有されていても構わない。前記硬化性組成物を使用したハードコート層の形成方法については、国際公開ＷＯ０３／２６８８１号公報に詳述されており、本発明においても同様に採用され得る。
【０１１５】
前記機能性薄膜の一例として、透明導電層を前記基板にコーティングすることができる。この透明導電層の形成方法は特に制限されず、公知の方法を採用することができる。例えば、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）、ＺｎＯ等からなる膜をスパッタ等で基板表面に成膜する方法、ＩＴＯゾルを含む溶液を塗布する方法、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）／ポリスチレンスルホン酸等の導電性高分子を基板表面に成膜する方法等が挙げられる。
【０１１６】
本発明の積層体の製造において、前記機能性薄膜を形成する前に、前記基板と前記機能性薄膜の密着性を向上させる目的で、前記基板の片面又は両面に公知の表面処理を予め施しておいてもよい。前記表面処理としては、例えば公知の酸化法や凹凸化法等が挙げられる。前記酸化法としては、例えば、コロナ放電処理、グロー放電処理、プラズマ処理、クロム酸処理（湿式）、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理等が挙げられる。
【０１１７】
更に、前記基板と前記機能性薄膜との間に、一層以上の下塗り層を設けてもよい。下塗り層を構成する材料としては、例えば、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ブタジエン、（メタ）アクリル酸エステル、ビニルエステル等の共重合体、ラテックス、低分子量ポリエステル、ゼラチン等の水溶性ポリマー等が挙げられる。また、下塗り層中に、酸化スズ、酸化インジウムスズ、酸化亜鉛などの金属酸化物、イオン性の有機化合物等を、導電性物質として添加してもよい。
【０１１８】
本発明の積層体を構成する基板は、軽量で耐熱性が高く、寸法安定性に優れ、高い機械的強度を有するため、本発明の積層体には、当該基板の優れた性質が反映されている。このため、本発明の積層体は種々の用途に使用可能である。前記用途としては、例えば、電磁波シールド、電子部品を梱包するキャリアテープ、画像表示デバイスの機能性基板等が挙げられる。これらの用途のうち、画像表示デバイスの機能性基板としての用途が特に好ましい。
【０１１９】
画像表示デバイスにおける本発明の積層体を設置する箇所は特に制限されず、備えられた機能性薄膜の特性に応じて適宜使用され得る。本発明の積層体を構成する基板は透明性が高いため、画像表示デバイスにおける光の透過経路上に設置することも可能である。
ここで、画像表示デバイスとは、照明装置と表示素子とを組み合わせた表示モジュール、更にはこの表示モジュールを用いたテレビ、パソコンモニター等の少なくとも画像表示機能を有する機器のことを意味する。このような機器で使用される透過型表示素子として、例えば公知の液晶パネルが挙げられる。画像表示デバイスを製造する方法の一例として、透過型表示素子を照明装置の照明する側に配置する製法が挙げられる。
【０１２０】
本発明の積層体は、光透過性、耐熱性、吸水性、耐光性、光弾性係数及び機械的強度等に関して、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、カーボネート系樹脂等の石油由来の従来樹脂と比べて、同等又はより優れた物性を有する。そのうえ、多くの従来樹脂よりも比重が軽いため、軽量性に優れる。
また、従来知られているβピネン重合体からなる基板は、本発明の積層体を構成する基板と同等の優れた軽量性を有するが、引張強度等の機械的強度において、本発明の積層体を構成する、βフェランドレン重合体によって構成された基板の方が優れる。この要因の一つとして、βフェランドレンの方が、数平均分子量の大きい重合体を形成し易く、機械的強度に優れた基板に成り易いことが考えられる。
したがって、本発明の積層体を使用することにより、従来と同じ強度を有しながら、薄くて軽量な機能性材料が得られる。
【実施例】
【０１２１】
次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
【０１２２】
［合成例１］
本発明に係る積層体の材料として、βフェランドレン重合体の水素添加物を以下の様に合成した。
［βフェランドレン重合体の製造］
乾燥させたガラス製フラスコに、ヘキサン（関東化学株式会社製）６８重量部を入れ、０℃に冷却した。そこにルイス酸触媒のＥｔＡｌＣｌ２（エチルアルミニウムジクロリド）（１７％ヘキサン溶液、約１ｍｏｌ／Ｌ、東京化成工業株式会社製）０．３７重量部を投入し、よく分散させたのち、化学合成によって得たβフェランドレン（純度８３．３％）５．１重量部をゆっくりと滴下投入した。１分後に、メタノール８重量部を加えて重合反応を停止した。反応溶液を分液ロートに移した後に１％水酸化ナトリウム溶液２０重量部を加えて、よく撹拌した後、水溶液の相を分離除去した。次に、有機溶媒相をエバポレータによりゆっくりと蒸発させ、反応溶液を濃縮させた。濃縮した反応溶液約４０重量部をメタノール２４０重量部にゆっくり滴下し、重合物を再沈させた。得られた沈殿物を溶液よりろ過分離し、十分乾燥させ、βフェランドレン重合体を得た。反応時のモノマーの反応率は１００％であった。
【０１２３】
得られたβフェランドレン重合体の数平均分子量は１０５，３００、ガラス転移温度は８５℃であった。
【０１２４】
［水素添加］
十分窒素置換を行った圧力容器に、脱水したヘキサン６１重量部および得られたβフェランドレン重合体４重量部を投入し十分溶解させた。ついで、パラジウム・アルミナ触媒（和光純薬製、Ｐｄ：５％）１０重量部を添加し、８ＭＰａの水素雰囲気下にて、１２０℃で１０時間、水素添加反応を行った。テフロン（登録商標）からなる孔径１μｍのフィルターを用いて反応液をろ過し、触媒を除去した後、メタノールにて再沈させ、沈殿を十分に乾燥させて、βフェランドレン重合体の水素添加物４．５重量部を得た。
【０１２５】
得られたβフェランドレン重合体の水素添加率を１Ｈ−ＮＭＲスペクトル測定により算出したところ、９９．９％であった。また重合体の数平均分子量は１０４，０００、ガラス転移温度は１３０℃、比重は０．９３であった。
【０１２６】
（反応収率）
o-ジクロロベンゼンを内部標準とする方法により、β-フェランドレンモノマーの共役二重結合に由来するシグナル５．５〜６．５ｐｐｍのシグナルの面積の減少率により算出した。
【０１２７】
（数平均分子量）
標準ポリスチレン換算で測定した。装置として、島津製作所社製、LC-20AD送液ユニット、RID-10示差屈折率検出器を用いた。カラムは、昭和電工株式会社製のShodex KF803を2本用いた。溶媒は、THF（40℃）を用いた。
【０１２８】
（水素添加率）
溶媒は重水素化クロロホルムを用いた。TMSで０ｐｐｍ補正を行った。日本電子株式会社製のＮＭＲ装置、JNM-ECX400（４００MHz）を使用して、H-NMRスペクトルを測定した。測定は室温で行った。
水素添加前のスペクトルの不飽和結合に起因する5.0〜6.0ppmのピークの減少率を求めた。この時、5.0〜6.0ppmのオレフィン性二重結合のプロトンに由来するシグナルの積分値Aと、0.5〜2.5ppmの飽和炭化水素のプロトンに由来するシグナルの積分値Bとの比  A/Bを用いた。水素添加率(%)は（A/B（Before）−A/B(After)）x100／A/B(Before)で算出した。
【０１２９】
（全光線透過率）
溶融押出法により、上記で作製したβフェランドレン重合体水添物からなる厚さ１００μｍの試験片を成形して、これを測定試料として全光線透過率を測定した。
JIS-K-7361 : 1997 (ISO13468-1:1996)に準拠して全光線透過率を測定した。測定装置として、東京電色社製のヘーズメーターTC-H3DPK／IIを用いた。
【０１３０】
（ガラス転移温度）
JIS-K-7121-1987「プラスチックの転移温度測定方法」により、上記で作製したβフェランドレン重合体水添物のガラス転移温度Ｔｇを、示差熱測定装置を用いて測定した。装置は、島津製作所社製のDSC-60を用いた。
【０１３１】
（吸水率）
上記で作製したβフェランドレン重合体水添物を使用して、長さ：１４０ｍｍ、幅：６０ｍｍ、厚さ：０．８ｍｍの板をプレス成形した。この板を、６０℃、９０％ＲＨの雰囲気下に１０日間置き、初期質量からの増加した質量の割合を下記式により算出し、その吸水率を求めた。
吸水率（％） ＝ 質量増加分×１００／初期質量
【０１３２】
（耐光性）
溶融押出法により、上記で作製したβフェランドレン重合体水添物からなる厚さ０．５ｍｍの試験片を成形して、これを測定試料として耐光性を評価した。
上記試験片を紫外線暴露試験装置に入れ、１００時間の促進暴露試験を行い、ＹＩ（イエローインデックス）の試験前と試験後における黄変度（ΔＹＩ）を測定した。  ＹＩの測定は、JIS-K-7103に準じて行い、以下の判定基準に従って評価した。
ΔＹＩ ＝（紫外線暴露１００時間後のＹＩ）−（紫外線暴露前のＹＩ）
A： ΔＹＩ ≦ １ …長期の耐光性が非常に良好
B： １ ＜ ΔＹＩ …長期の耐光性が不良
【０１３３】
（光弾性係数）
溶融押出法により、上記で作製したβフェランドレン重合体水添物からなる厚さ０．２ｍｍの試験片を成形して、これを測定試料として光弾性係数を評価した。
上記試験片を、Ｔｇよりも２０℃低い温度で、一晩アニールした後、Ｔｇよりも２０℃高い温度で、長軸方向に引っ張り応力をかけ、その際のレターデーションを、エリプソメーターＭ２２０（日本分光株式会社製）で測定し、応力に対するレターデーションの変化量から、光弾性係数を算出した。算出した変化量を以下の基準に従って分類した。
A：１０００未満                …変化量が小さく、非常に良好である。
B：１０００以上３０００未満    …変化量が許容範囲内であり、良好である。
C： ３０００以上               …変化量が大きく、不良である。
変化量の単位は［×１０−１３ｃｍ２／ｄｙｎ］
【０１３４】
（引張強度）
溶融押出法により、上記で作製したβフェランドレン重合体水添物からなる厚さ０．１ｍｍの試験片を成形して、これを測定試料として２３℃における引張強度を評価した。
ISO 527に準拠して、オートグラフ（株式会社島津製作所製）を使用して引張強度を測定し、以下の判定基準に従って評価した。
A： ６０MPa以上 …強い引張強度を有し、良好である。
B： ６０MPa未満 …弱い引張強度を有し、不良である。
【０１３５】
（屈折率(nD)）
上記で作製したβフェランドレン重合体水添物からなる厚さ１００μｍの試験片を成形して、その屈折率(nD)を、ＪＩＳ−Ｋ−７１４２に準拠して、２５℃で測定した。測定装置としてオーエムジー株式会社製アッベ屈折計 ＤＲ−Ｍ４を使用した。
【０１３６】
（比重）
後述する方法で作製した積層体の比重を、JIS-K-7112：1999のＡ法に準じて測定し、以下の判定基準に従って評価した。
A： 比重＜１．０         …比重が軽く、良好である。
B： １．０≦比重＜１．１ …比重が重く、不良である。
C： １．１≦比重         …比重が更に重く、不良である。
【０１３７】
（耐湿性）
後述する方法で作製した積層体について、８０℃、９０％ＲＨの条件下で、１０００時間の耐久試験を行い、その外観変化を目視で観察した。以下の基準で判定した。
A：目視で変化はなく、良好な外観を保った。
B：白濁または変形が見られ、外観が劣化した。
【０１３８】
合成例１で得たβフェランドレン重合体の水素添加物の各物性を下記表に示す。
また、後述する比較例１で用いたポリオレフィン樹脂の各物性を下記表に併記する。
【０１３９】
【表１】
2015183074.tif 000006
【０１４０】
＜積層体の製造＞
合成例１で得たβフェランドレン重合体の水素添加物（ガラス転移温度１３０℃）を、熱風乾燥機を用いて、９０℃、４時間乾燥した。その後、二軸押出機とスリット幅が１５０ｍｍのＴダイを用いて、溶融温度２５０℃にて溶融押出しした後、押出し機から出てきたシート状のβフェランドレン重合体の水素添加物を３本冷却ロールに通して冷却し、厚みが１００μｍのフィルムを得た。
得られたフィルムに常圧プラズマ装置（積水化学工業製、RD640）を用いてプラズマ処理を行い、表面処理フィルムを得た。
【０１４１】
［実施例１］
上記で得た表面処理フィルムに帯電防止性ハードコート剤（三菱化学社製、ユピマーUV）を塗布し、厚みが６．５μｍの帯電防止性ハードコート層を有する積層体を作成した。
帯電防止層を有する機能性薄膜である上記積層体について、次の各物性を測定した。
・表面固有抵抗＝１．１×１０8Ω・ｍ
・全光線透過率＝９１％、
・ヘイズ＝０．７％、
・鉛筆硬度＝３H
【０１４２】
［実施例２］
上記で得た表面処理フィルムにハードコート剤（JSR社、KZ6445A）を塗布し、厚みが６．１μｍのハードコート層を形成した。次に低屈折率反射防止コーティング剤（JSR社製、OPSTAR  TU2276）を塗布し、厚みが１００ｎｍの反射防止層を形成し、反射防止機能を有する積層体を作成した。
反射防止層を有する機能性薄膜である上記積層体について、次の各物性を測定した。
・全光線透過率＝９１％
・ヘイズ＝０．７％
・反射率＝０．９％
【０１４３】
［実施例３］
上記で得た表面処理フィルムに防汚性のハードコート剤（JSR社製、OPSTAR  KZ6471）を塗布し、厚みが１５μｍのハードコート層を有する積層体を作成した。
汚れ防止層を有する機能性薄膜である上記積層体について、次の各物性を測定した。
・全光線透過率＝９１％
・ヘイズ＝０．９％
・鉛筆硬度＝３H
【０１４４】
上記表面固有抵抗は、表面抵抗計を用いて２３℃、５０RH%の環境下で、IEC９３の方法で測定した。
上記全光線透過率は、前述したβフェランドレン重合体からなる試験片と同様の方法で測定した。
上記ヘイズ（ヘーズ）は、プラスチック−透明材料のヘーズの求め方（JIS K 7136）の方法にて東京電色社製のヘーズメーターTC-H3DPK／IIを用いて測定した。
上記鉛筆硬度は、JISK５４０１の方法で測定した。
上記反射率は、JISK７３７５  全光線反射率に準拠した方法で測定した。
【０１４５】
［比較例１］
脂環式ポリオレフィン系樹脂（日本ゼオン株式会社製ゼオノア１０６０Ｒ、ガラス転移温度：１０２℃）のペレットに対して、熱風乾燥機を用いて、８０℃、４時間の乾燥を行なった。次いで、実施例１と同様な装置を用いて、乾燥したペレットを２６０℃で溶融押出して１００μｍのフィルムを作成した。その後、実施例１と同様の方法でフィルムの表面処理を行い、表面処理後のフィルムに実施例１と同様の方法で６．５μｍの帯電防止ハードコート層を有する積層体を作製した。作製した積層体の各物性を実施例１と同様に測定した。
・表面固有抵抗＝１．０×１０8Ω・ｍ
・全光線透過率＝９１％、
・ヘイズ＝０．８％、
・鉛筆硬度＝３H
【０１４６】
以上の結果から、実施例１〜３の積層体は、光透過性、耐熱性、耐光性及び引張強度が高く、吸水性が低く、軽量性に優れた積層体であることが明らかである。実施例１〜３の積層体は、比較例１の積層体に比べて、引張強度が優れており、積層体の用途において有利であることが理解される。
【０１４７】
以上で説明した各実施形態における各構成及びそれらの組み合わせ等は一例であり、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、構成の付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。また、本発明は各実施形態によって限定されることはなく、請求項（クレーム）の範囲によってのみ限定される。
【産業上の利用可能性】
【０１４８】
本発明は、光学素子、画像表示デバイス等の分野で広く利用可能である。