(57)【要約】【課題】複数の光源を備え、スペックルの低減効果に優れた照明装置を提供する。【解決手段】本発明の照明装置２Ｇは、２次元的に配置された第１の光源、第２の光源および第３の光源、を含む複数の光源を備える光源装置７と、光源装置７から射出された複数の光の光路を所定の方向に時間的にシフトさせる光路シフト装置１１と、を備える。第２の光源と第１の光源との間の距離および第３の光源と第１の光源との間の距離は、複数の光源のうち第２の光源および第３の光源以外のいずれの光源と第１の光源との距離よりも短い。所定の方向は、第１の光源と、第２の光源と第３の光源との間の領域と、を結ぶ方向である。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
２次元的に配置された第１のコヒーレント光を射出する第１の光源、第２のコヒーレント光を射出する第２の光源および第３のコヒーレント光を射出する第３の光源、を含む複数の光源を備える光源装置と、
前記光源装置から射出された複数のコヒーレント光の光路を所定の方向に時間的にシフトさせる光路シフト装置と、を備え、
前記第２の光源と前記第１の光源との間の距離および前記第３の光源と前記第１の光源との間の距離は、前記複数の光源のうち前記第２の光源および前記第３の光源以外のいずれの光源と前記第１の光源との距離よりも短く、
前記所定の方向は、前記第１の光源と、前記第２の光源と前記第３の光源との間の領域と、を結ぶ方向であることを特徴とする照明装置。
【請求項２】
前記光路シフト装置は、前記光源装置の光軸に垂直な基準面において、前記第１のコヒーレント光の強度分布の裾の軌跡と前記第２のコヒーレント光の強度分布の裾の軌跡とが重なるように、前記複数のコヒーレント光の光路を時間的にシフトさせることを特徴とする請求項１に記載の照明装置。
【請求項３】
前記光路シフト装置が、回転可能なプリズムを備えることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の照明装置。
【請求項４】
前記プリズムの回転速度が、時間的に変化することを特徴とする請求項３に記載の照明装置。
【請求項５】
前記プリズムの回転速度が、一定であることを特徴とする請求項３に記載の照明装置。
【請求項６】
前記光源装置と前記光路シフト装置との間の光路中に設けられたコリメート光学系と、前記光路シフト装置を経由した複数のコヒーレント光が入射する回折光学素子と、をさらに備えたことを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の照明装置。
【請求項７】
前記第１のコヒーレント光と前記回折光学素子とにより形成される第１の回折光パターンは、前記第２のコヒーレント光と前記回折光学素子とにより形成される第２の回折光パターンと異なることを特徴とする請求項６に記載の照明装置。
【請求項８】
前記第１のコヒーレント光と前記回折光学素子とにより形成される第１の回折光パターンは、前記第２のコヒーレント光と前記回折光学素子とにより形成される第２の回折光パターンと同じであり、
照明対象において前記第１の回折光パターンと前記第２の回折光パターンとを重畳させる重畳光学系をさらに備えることを特徴とする請求項６に記載の照明装置。
【請求項９】
前記光源装置と前記光路シフト装置との間の光路中に設けられたコリメート光学系と、前記光路シフト装置を経由した複数のコヒーレント光が入射するインテグレーター光学系と、をさらに備えたことを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の照明装置。
【請求項１０】
前記インテグレーター光学系は、複数のレンズを有する第１のレンズアレイと、複数のレンズを有する第２のレンズアレイと、を備え、
前記インテグレーター光学系の光入射側に拡散板を備えることを特徴とする請求項９に記載の照明装置。
【請求項１１】
請求項１から請求項１０までのいずれか一項に記載の照明装置と、
前記照明装置からの光を変調する光変調装置と、
前記光変調装置により変調された光を投射する投射光学系と、
を備えたことを特徴とするプロジェクター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、照明装置およびプロジェクターに関する。
【背景技術】
【０００２】
プロジェクターの光源として、コヒーレントな光を発する光源が用いられることがある。この種の光源には、レーザーダイオード（ＬＤ）、スーパールミネッセンスダイオード（ＳＬＤ）等を用いた固体光源、短アークのランプ光源等がある。例えば、レーザー光源を用いたプロジェクターは、レーザー光の波長域が狭いために色再現範囲を十分に広くすることができ、小型化や構成部品の削減も可能である。
【０００３】
コヒーレント光源を用いたプロジェクターにより表示を行うと、観察者がスペックルを認識することがある。スペックルは、光の干渉により明点と暗点が縞模様あるいは斑模様に分布するパターンである。スペックルが発生すると、表示を見る観察者は、ぎらつき感を感じ、不快感を覚えることがある。
【０００４】
スペックルを抑制する技術の一つとして、特許文献１には、コヒーレント光源とマイクロレンズアレイと光ビーム走査装置とを備えた照明装置が開示されている。この照明装置では、光ビームが光ビーム走査装置を経てマイクロレンズアレイに照射され、マイクロレンズアレイに対する光ビームの照射位置が時間的に変化する。このとき、マイクロレンズアレイに対する光ビームの入射位置に係わらず、光ビームは受光面の同一位置に照射され、一定の照射領域に様々な入射角度で入射することにより、スペックルが抑制される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２−５８７１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
プロジェクターには、コヒーレントな光を射出する複数の光源を用いた照明装置が用いられることがある。特許文献１の照明装置に複数のコヒーレント光源を採用した場合には、スペックルの低減効果が得られないことがある。
【０００７】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものである。本発明の一つの態様は、複数の光源を備え、スペックルの低減効果に優れた照明装置を提供することを目的の一つとする。本発明の一つの態様は、複数の光源を含む照明装置を備え、スペックルの低減により表示品質に優れたプロジェクターを提供することを目的の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するために、本発明の一つの態様の照明装置は、２次元的に配置された第１のコヒーレント光を射出する第１の光源、第２のコヒーレント光を射出する第２の光源および第３のコヒーレント光を射出する第３の光源、を含む複数の光源を備える光源装置と、前記光源装置から射出された複数のコヒーレント光の光路を所定の方向に時間的にシフトさせる光路シフト装置と、を備え、前記第２の光源と前記第１の光源との間の距離および前記第３の光源と前記第１の光源との間の距離は、前記複数の光源のうち前記第２の光源および前記第３の光源以外のいずれの光源と前記第１の光源との距離よりも短く、前記所定の方向は、前記第１の光源と、前記第２の光源と前記第３の光源との間の領域と、を結ぶ方向であることを特徴とする。
【０００９】
第１の光源、第２の光源および第３の光源からなる３個の光源が２次元的に配置されている場合、仮にこれらの光源から射出される各コヒーレント光の光路をシフトさせる方向が第１の光源と第２の光源とを結ぶ方向であったとすると、照明対象上での第１のコヒーレント光の照射領域の軌跡と第２のコヒーレント光の照射領域の軌跡とが重なってしまう。同様に、仮に各コヒーレント光の光路をシフトさせる方向が第１の光源と第３の光源とを結ぶ方向であったとすると、照明対象上での第１のコヒーレント光の照射領域の軌跡と第３のコヒーレント光の照射領域の軌跡とが重なってしまう。その結果、照明対象上で２つのコヒーレント光の照射領域の軌跡が重なる領域と重ならない領域との間で照度の差が大きくなり、スペックルが発生しやすくなる。
【００１０】
これに対して、本発明の一つの態様の照明装置においては、光路シフト装置が、複数のコヒーレント光の光路を、第１の光源と、第２の光源と第３の光源との間の領域と、を結ぶ方向に時間的にシフトさせる。そのため、光路シフト装置により第１のコヒーレント光、第２のコヒーレント光および第３のコヒーレント光の各々の光路が時間的にシフトしたとき、第１のコヒーレント光の照射領域の軌跡と第２のコヒーレント光の照射領域の軌跡との重なり、および第１のコヒーレント光の照射領域の軌跡と第３のコヒーレント光の照射領域の軌跡との重なりが上記の場合に比べて少なくなる。これにより、照明対象上での照度分布の均一性が向上するとともに、入射角度分布の均一性が向上する結果、スペックルを低減することができる。
【００１１】
本発明の一つの態様の照明装置において、前記光路シフト装置は、前記光源装置の光軸に垂直な基準面において、前記第１のコヒーレント光の強度分布の裾の軌跡と前記第２のコヒーレント光の強度分布の裾の軌跡とが重なるように、複数のコヒーレント光の光路をシフトさせてもよい。
この構成によれば、第１のコヒーレント光の強度分布の裾の軌跡と第２のコヒーレント光の強度分布の裾の軌跡とが重なるため、照明対象においてこれら２つのコヒーレント光の強度分布の裾の軌跡が重なる領域では双方のコヒーレント光の強度が積算される。これにより、２つのコヒーレント光の強度分布の裾の軌跡が重なる領域における照度と強度分布のピーク位置における照度との差が小さくなる。その結果、照度分布の均一性をさらに向上させることができる。
【００１２】
本発明の一つの態様の照明装置において、前記光路シフト装置は、回転可能なプリズムを備えていてもよい。
この構成によれば、プリズムを回転させることにより、コヒーレント光の光路を所定の方向に時間的にシフトさせることができる。
【００１３】
本発明の一つの態様の照明装置において、前記プリズムの回転速度が、時間的に変化してもよい。
この構成によれば、プリズムの回転速度を時間的に変化させることにより、照明対象における時間平均した照度分布を均一にでき、トップハット形状により近い照度分布が得られる。
【００１４】
本発明の一つの態様の照明装置において、前記プリズムの回転速度が、一定であってもよい。
この構成によれば、プリズムから射出される光の照射領域の周縁部で、時間平均した照度が高くなる。これにより、スペックルをより効果的に低減することができる。
【００１５】
本発明の一つの態様の照明装置は、前記光源装置と前記光路シフト装置との間の光路中に設けられたコリメート光学系と、前記光路シフト装置を経由した複数のコヒーレント光が入射する回折光学素子と、をさらに備えてもよい。
この構成によれば、光源装置から射出されたコヒーレント光はコリメート光学系で平行化され、平行化された光が光路シフト装置を経由して回折光学素子に入射する。光は回折光学素子により回折され、照明対象の所定の領域が照明される。
【００１６】
本発明の一つの態様の照明装置において、前記第１のコヒーレント光と前記回折光学素子とにより形成される第１の回折光パターンは、前記第２のコヒーレント光と前記回折光学素子とにより形成される第２の回折光パターンと異なっていてもよい。
この構成によれば、互いに異なる第１の回折光パターンと第２の回折光パターンとにより、スペックルを効果的に低減することができる。
【００１７】
本発明の一つの態様の照明装置において、前記第１のコヒーレント光と前記回折光学素子とにより形成される第１の回折光パターンは、前記第２のコヒーレント光と前記回折光学素子とにより形成される第２の回折光パターンと同じであり、照明対象において前記第１の回折光パターンと前記第２の回折光パターンとを重畳させる重畳光学系をさらに備えていてもよい。
この構成によれば、第１の回折光パターンと第２の回折光パターンとが重畳光学系により照明対象上で重畳されることにより、スペックルを効果的に低減することができる。
【００１８】
本発明の一つの態様の照明装置は、前記光源装置と前記光路シフト装置との間の光路中に設けられたコリメート光学系と、前記光路シフト装置を経由した複数のコヒーレント光が入射するインテグレーター光学系と、をさらに備えていてもよい。
この構成によれば、光源装置から射出されたコヒーレント光はコリメート光学系により平行化され、平行化された光が光路シフト装置を経由してインテグレーター光学系に入射する。これにより、照明対象上での光の照度分布および入射角度分布は均一化される。
【００１９】
本発明の一つの態様の照明装置において、前記インテグレーター光学系は、複数のレンズを有する第１のレンズアレイと、複数のレンズを有する第２のレンズアレイと、を備え、前記インテグレーター光学系の光入射側に拡散板を備えていてもよい。
この構成によれば、光源装置から射出されたコヒーレント光は拡散板により拡散され、均一な照度分布を持った光が第１のレンズアレイに入射する。これにより、第２のレンズアレイ上で均一な照度分布が形成され、スペックルを効果的に低減することができる。
【００２０】
本発明の一つの態様のプロジェクターは、本発明の一つの態様の照明装置と、前記照明装置からの光を変調する光変調装置と、前記光変調装置により変調された光を投射する投射光学系と、を備えている。
本発明の一つの態様によれば、上記の照明装置を備えたことにより、スペックルの低減により表示品質に優れたプロジェクターを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の第１実施形態のプロジェクターを示す概略構成図である。
【図２】第１実施形態の照明装置を示す概略構成図である。
【図３】光路シフト装置による光路のシフトを説明するための図である。
【図４】照明装置の光軸方向から見たプリズムの正面図である。
【図５】回折光学素子上でシフトする光の照射領域の軌跡を示す図である。
【図６】比較例の照明装置の光軸方向から見たプリズムの正面図である。
【図７】比較例の照明装置において回折光学素子上でシフトする光の照射領域の軌跡を示す図である。
【図８】光源装置における複数の光源の配置の変形例を示す図である。
【図９】光源装置における複数の光源の配置の変形例を示す図である。
【図１０】光源装置における複数の光源の配置の変形例を示す図である。
【図１１】光源装置における複数の光源の配置の変形例を示す図である。
【図１２】プリズムの回転速度を変化させたときの照度分布を示す図である。
【図１３】プリズムの回転速度を一定としたときの照度分布を示す図である。
【図１４】複数の光源から射出された複数の光の強度分布を示す図である。
【図１５】第２実施形態の照明装置を示す概略構成図である。
【図１６】第３実施形態の照明装置を示す概略構成図である。
【図１７】第４実施形態の照明装置を示す概略構成図である。
【図１８】第５実施形態の照明装置を示す概略構成図である。
【図１９】光路シフト装置の他の例を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
［第１実施形態］
以下、本発明の第１実施形態について、図１〜図７を用いて説明する。
第１実施形態のプロジェクターは、複数のレーザー光源を有する照明装置を３組備えた液晶プロジェクターの例である。
図１は、第１実施形態のプロジェクターを示す概略構成図である。図２は、第１実施形態の照明装置を示す概略構成図である。
以下の各図面においては各構成要素を見やすくするため、構成要素によって寸法の縮尺を異ならせて示すことがある。
【００２３】
第１実施形態のプロジェクター１は、ＤＶＤプレイヤー、ＰＣなどの信号源から供給される画像データに基づいて画像を形成し、形成した画像をスクリーンや壁等の投射面ＳＣ（表示画面）に投射する。
【００２４】
図１に示すように、プロジェクター１は、照明光学系２と、画像形成光学系３と、投射光学系４と、制御系５と、色合成光学系６と、を備えている。画像形成光学系３は、照明光学系２から射出された照明光から画像を形成する。投射光学系４は、画像形成光学系３が形成した画像を投射面ＳＣ上に投射する。制御系５は、プロジェクター１の各部を制御する。プロジェクター１は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色の画像を個別に形成し、形成した３色の画像を色合成光学系６により合成することでフルカラーの画像を表現する。プロジェクター１は、いわゆる３板式のプロジェクターである。
【００２５】
照明光学系２は、赤色の照明光を射出する照明装置２Ｒと、緑色の照明光を射出する照明装置２Ｇと、青色の照明光を射出する照明装置２Ｂと、を備えている。これらの照明装置は、いずれも同様の構成であり、それぞれ光源装置７と照明光学系８とを含んでいる。これら照明装置２Ｒ、照明装置２Ｇおよび照明装置２Ｂの詳細な構成については後述する。
【００２６】
画像形成光学系３は、赤色の画像を形成する画像形成装置３Ｒと、緑色の画像を形成する画像形成装置３Ｇと、青色の画像を形成する画像形成装置３Ｂと、を備えている。照明装置２Ｒ、照明装置２Ｇおよび照明装置２Ｂの各々と、画像形成装置３Ｇ、画像形成装置３Ｇおよび画像形成装置３Ｂの各々と、は１対１で対応している。画像形成装置３Ｇ、画像形成装置３Ｇおよび画像形成装置３Ｂの各々は、特許請求の範囲における光変調装置に対応する。
【００２７】
画像形成装置３Ｇ、画像形成装置３Ｇおよび画像形成装置３Ｂの各々は、対応する照明装置からの照明光により各色の画像を形成し、各色の画像に応じた画像光を射出する。すなわち、赤色用の画像形成装置３Ｒは、赤色用の照明装置２Ｒからの照明光（赤色光）により赤色の画像を形成し、画像に応じた光（画像光）を射出する。緑色用の画像形成装置３Ｇは、緑色用の照明装置２Ｇからの照明光（緑色光）により緑色の画像を形成し、画像に応じた光（画像光）を射出する。青色用の画像形成装置３Ｂは、青色用の照明装置２Ｂからの照明光（青色光）により青色の画像を形成し、画像に応じた光（画像光）を射出する。
【００２８】
画像形成光学系３から射出された各色の画像光は、色合成光学系６に入射する。色合成光学系６は、例えばダイクロイックプリズムで構成される。ダイクロイックプリズムは、入射光の波長に応じて入射光を反射または透過させる２つの波長分離膜を含む。１つの波長分離膜は、赤色光と緑色光とを透過させ、青色光を反射させる特性を有する。他の波長分離膜は、緑色光と青色光とを透過させ、赤色光を反射させる特性を有する。
【００２９】
画像形成光学系３から色合成光学系６に入射した３色の色光は、波長によって波長分離膜で反射するか、もしくは波長分離膜を透過するかにより、進行方向が揃えられて色合成光学系６から射出される。色合成光学系６から射出された画像光は、投射光学系４に入射する。投射光学系４は、複数のレンズまたはミラーで構成される。投射光学系４は、画像形成光学系３が形成した画像を投射面ＳＣに拡大投射する。
【００３０】
以下、プロジェクター１の各部について、より詳しく説明する。
第１実施形態において、各色用の照明装置および画像形成装置はいずれも同様の構成である。そのため、緑色の画像に対応するシステムの構成を代表的に説明し、他色の画像に対応するシステムの説明を省略する。
【００３１】
図２は、照明装置２Ｇ、画像形成装置３Ｇ、色合成光学系６、および投射光学系４を示す図である。照明装置２Ｇは、画像形成装置３Ｇにおける複数の画素が配列された領域を、ケーラー照明法などにより略均一な明るさで照明する。照明装置２Ｇは、被照明領域ＩＲの各点に入射する光の入射角度分布を時間的に変化させることにより、スペックルが視認されることを抑制できる。
【００３２】
照明装置２Ｇは、光源装置７と、照明光学系８と、を備える。照明光学系８は、コリメート光学系１０と、光路シフト装置１１と、回折光学素子１２と、重畳光学系１３と、を備える。
【００３３】
光源装置７は、複数のレーザー光源１５を備える。複数のレーザー光源１５は、光源装置７の光軸ＡＸの方向に垂直な基準面において、互いに直交する方向に等間隔で２次元的に配置されている。本実施形態の例では、９個のレーザー光源１５が基準面内の互いに直交する方向に等間隔で３行３列に配置されている。レーザー光源１５は、コヒーレントな光として緑色のレーザー光を射出する。その他の光源として、スーパールミネッセンスダイオード（ＳＬＤ）、短アークのランプ光源等のコヒーレント光を射出する光源を用いることができる。
なお、光源装置７の光軸ＡＸとは、光源装置７から射出された複数のコヒーレントな光ビームの束を１本の光ビームとみなしたときの、その光ビームの光軸のことである。
【００３４】
コリメート光学系１０は、複数のレンズ１６を備える。コリメート光学系１０を構成する複数のレンズ１６の各々は、光源装置７を構成する複数のレーザー光源１５の各々と、１対１で対応している。そのため、光源装置７と同様、複数のレンズ１６は、光源装置７の光軸ＡＸの方向から見て互いに直交する方向に等間隔で２次元的に配置されている。
【００３５】
光路シフト装置１１は、例えば回転可能とされた立方体状の透明材からなるプリズム１７で構成される。プリズム１７は、光源装置７から射出された複数の光が入射する位置に配置され、光源装置７から射出された複数の光を透過させる。プリズム１７は、光源装置７の光軸ＡＸの方向と交差する方向に配置された回転軸Ｒを中心として回転する。プリズム１７は、電動モーター等の駆動部から供給されるトルクによって回転する。
【００３６】
プリズム１７は、ある時刻において光源装置７からの光が入射する第１面１７ａと、第１面１７ａに平行な第２面１７ｂとを有する。本実施形態において、プリズム１７は、回転軸Ｒに直交する断面形状が正方形状であり、第１面１７ａおよび第２面１７ｂに垂直な第３面１７ｃおよび第４面１７ｄを有する。第３面１７ｃと第４面１７ｄは、互いに平行である。回転軸Ｒは、プリズム１７の中心（重心）を通り、第１面１７ａ、第２面１７ｂ、第３面１７ｃおよび第４面１７ｄの各々に平行な方向に延びる軸である。
【００３７】
回折光学素子１２は、例えば計算機合成ホログラム（ＣＧＨ：Computer Generated Hologram）から構成されている。図示を省略するが、回折光学素子１２は、アレイ状に配列された複数のセルを有している。ＣＧＨは、例えば石英（ガラス）や合成樹脂などの光透過性材料からなる基材の一面に、計算機により設計された微細な凹凸構造が設けられた表面レリーフ型のホログラム素子である。回折光学素子１２は、回折現象を利用して入射光の波面を変換する波面変換素子として機能する。
【００３８】
回折光学素子１２は、互いに異なる深さの矩形状の断面形状を有する複数の凹部と、互いに異なる高さの矩形状の断面形状を有する複数の凸部と、を有している。回折光学素子１２においては、凹部や凸部のピッチ、凹部の深さや凸部の高さ等の設計条件を適宜調整することにより、被照明領域の大きさや形状、および回折光の照度分布を自在に設定することができる。回折光学素子１２の設計条件を最適化する手法として、例えば反復フーリエ法などの演算手法を用いることができる。
【００３９】
重畳光学系１３は、第１のレンズ１８と、第２のレンズ１９と、を含む。重畳光学系１３は、回折光学素子１２から射出された光が入射する位置に配置されている。重畳光学系１３は、回折光学素子１２から射出されて重畳光学系１３の互いに異なる位置に入射した光を、画像形成装置３Ｇ上の各点で互いに重畳させる。
【００４０】
画像形成装置３Ｇは、例えば透過型の液晶ライトバルブである。画像形成装置３Ｇは、複数の画素を有する液晶パネル２１と、液晶パネル２１の入射側（光源装置７側）に配置された入射側偏光板２２と、液晶パネル２１の射出側（投射光学系４側）に配置された射出側偏光板２３と、を備えている。
【００４１】
入射側偏光板２２は、液晶パネル２１において複数の画素が配列される面に平行な第１方向の直線偏光を通し、第１方向に直交する第２方向の直線偏光を遮光（吸収）する。液晶パネル２１は、画像制御装置２４により制御され、各画素に入射した光の偏光状態を画素ごとに変調する。画像制御装置２４は、例えば図１に示した制御系５の一部である。
【００４２】
射出側偏光板２３は、例えば、その透過軸が入射側偏光板２２の透過軸と直交するように配置される。画像制御装置２４は、画像データに基づいて液晶パネル２１を駆動し、各画素を通った光の偏光状態を制御することにより、入射側偏光板２２と液晶パネル２１と射出側偏光板２３との透過率を画素ごとに制御する。このようにして、画像形成装置３Ｇは、画像データに規定された画像を形成する。
【００４３】
図１を参照して説明したように、画像形成装置３Ｇから出射した画像光は、色合成光学系６を介して投射光学系４に入射する。投射光学系４は、画像形成装置３Ｇ（物体面）と光学的に共役な像面を形成し、この像面に配置される投射面ＳＣ上には、画像形成装置３Ｇが形成した画像が投射される。
【００４４】
図３は、光路シフト装置１１による光路のシフトを説明するための図である。
図３において、プリズム１７の回転角は、光源装置７からの光が第１面１７ａの法線方向から第１面１７ａに入射する回転位置を基準位置（０°）とした場合の、基準位置からのプリズム１７の回転角で示す。
図３において、プリズムの回転軸Ｒが延びる方向をＹ１軸方向とし、Ｙ１軸に垂直な平面内の直交する２方向をそれぞれＸ１軸方向、Ｚ１軸方向とする。
【００４５】
図３において、回転角が０°の状態において第１面１７ａに入射した光は、プリズム１７の内部を通って第２面１７ｂから射出される。回転角が０°の状態においては、第１面１７ａへ入射する光は第１面１７ａおよび第２面１７ｂで屈折しない。そのため、第１面１７ａへの入射側の光路（以下、入射側光路Ｌｘ１という）と第２面１７ｂからの射出側の光路（以下、射出側光路Ｌｘ２という）とは、同一直線上にある。
【００４６】
回転角が所定の角度以下（例えば１５°）の状態において、光源装置７からの光の略全てが第１面１７ａに入射する。第１面１７ａに入射した光は、第１面１７ａと第２面１７ｂとで屈折して、第２面１７ｂから射出される。第１面１７ａと第２面１７ｂとは互いに平行であるため、入射側光路Ｌｘ１と射出側光路Ｌｘ２は、互いに平行である。また、光軸（Ｚ１軸方向）の方向と交差する方向（ここではＸ１軸方向）の、入射側光路Ｌｘ１の位置が、射出側光路Ｌｘ２のＸ１軸方向の位置からずれている。つまり、射出側光路Ｌｘ２は入射側光路Ｌｘ１からＸ１軸方向にシフトしている。
【００４７】
入射側光路Ｌｘ１と射出側光路Ｌｘ２とのシフト量ｄ（以下、光路シフト量ｄという）は、プリズム１７の屈折率と、第１面１７ａと第２面１７ｂとの距離と、プリズム１７の回転角によって定まる。換言すると、光路シフト量ｄは、プリズム１７の回転角に応じて変化し、プリズム１７の回転角が時間的に変化することで光路シフト量ｄも時間的に変化する。
【００４８】
回転角が所定の角度以上（例えば３０°）になると、光源装置７からの光は、第１面１７ａと第３面１７ｃとに入射するようになる。光源装置７からの光のうち、第１面１７ａに入射した光（以下、第１部分光Ｂａという）は、第１面１７ａおよび第２面１７ｂで屈折し、射出側光路が第１部分光Ｂａの入射側光路に対してＸ１軸の正方向にシフトする。一方、光源装置７からの光のうち第３面１７ｃに入射した光（以下、第２部分光Ｂｂという）は、第３面１７ｃおよび第４面１７ｄで屈折し、射出側光路が第２部分光Ｂｂの入射側光路に対してＸ１軸の負方向にシフトする。第１部分光Ｂａの射出側光路と第２部分光Ｂｂの射出側光路は、Ｘ１軸方向の位置が互いにずれており、ここでは互いに重複しない光路である。
【００４９】
回転角が所定の角度よりも大きくなるにつれて、第１面１７ａに入射する光の光量（光源装置７からの光に対する第１部分光Ｂａの割合）が減少するとともに、第３面１７ｃに入射する光の光量（光源装置７からの光に対する第２部分光Ｂｂの割合）が増加する。ここでは、回転角が４５°になると、光源装置７からの光の約半分が第１面１７ａに入射し、残りの約半分が第３面１７ｃに入射する。回転角が約４５°である状態において、第１部分光Ｂａの射出側光路と第２部分光Ｂｂの射出側光路は、プリズム１７の回転軸Ｒと光の進行方向を含む面に関して対称的になる。
【００５０】
第１部分光Ｂａの射出側光路と第２部分光Ｂｂの射出側光路は、回転角が４５°から９０°まで変化する間に、回転角が０°から４５°まで変化する間の光路の変化の態様とＹ１−Ｚ１面に関して対称的に変化する。例えば、回転角が６０°（４５°＋１５°）である状態の第１部分光Ｂａの射出側光路は、３０°（４５°−１５°）である状態の第１部分光Ｂａの射出側光路に対し、Ｙ１−Ｚ１平面に関して対称的になる。回転角が９０°になると、光源装置７からの光が第３面１７ｃに対して法線方向から入射するようになり、回転角が０°の状態と同じ状態になる。このようにして、光路シフト装置１１は、光源装置７から射出された光の回折光学素子１２への入射位置を時間的に変化させる。
【００５１】
光路シフト装置１１は、回転角が９０°変化する間に、回転角が０°から９０°まで変化するときと同様に、光源装置７から射出された光の回折光学素子１２への入射位置を変化させる。プリズム１７が１回転する間に４周期分の入射位置の変化が生じる。そのため、プリズム１７の回転速度を毎秒６回転以上にすると、入射位置が１秒間に２４回以上（１周期が１／２４秒以下）変化し、被照明領域ＩＲの各点に入射する光の角度分布が１／２４秒以下の周期で変化する。その結果、スペックルパターンが、人間が識別できる速度以上（周期が１／２４秒以下）で変化し、観察者に固定のパターンとして視認されにくくなる。
【００５２】
図面が見にくくなるため、図２では図示していないが、実際にはプリズム１７の回転軸Ｒは図２の紙面に垂直な方向に配置されているのではなく、プリズム１７の回転軸Ｒは図２の紙面に垂直な方向から傾いて配置されている。図４に示すように、光源装置７の光軸ＡＸの方向から見て、レーザー光源１５が横方向に並ぶ方向をＸ軸方向、レーザー光源１５が縦方向に並ぶ方向をＹ軸方向としたとき、プリズム１７の回転軸Ｒは、Ｘ軸方向もしくはＹ軸方向と平行な方向ではなく、Ｘ軸方向およびＹ軸方向と交差する方向に沿って配置されている。例えば図４の例では、プリズム１７の回転軸Ｒとｘ軸（負方向）とのなす角度θ１は、例えば６０°〜７０°程度である。
また、プリズム１７の回転軸Ｒは、必ずしも光源装置７の光軸ＡＸの方向、すなわちＺ軸方向と直交していなくてもよく、Ｚ軸方向と直角以外の角度で交差していてもよい。
【００５３】
図５に、プリズム１７を回転させたときに回折光学素子１２上でシフトする光の照射領域の軌跡を示す。
図３を用いて説明したように、光源装置７から射出された複数の光の光路がシフトする方向は、プリズム１７の回転軸Ｒと直交する方向である。したがって、本実施形態の場合、図５に矢印Ｓ１で示すように、複数の光の光路がシフトする方向は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向と交差する方向となる。
【００５４】
光の光路がシフトしていない状態（図３の回転角０°の状態）において、光源装置７の光軸ＡＸの方向から見て、複数の光の照射領域ＳＨの位置はレーザー光源１５の位置に一致していたとする。このとき、プリズム１７が回転したときに光の光路がシフトしてできる照射領域ＳＨの軌跡Ｋは、プリズム１７の回転軸Ｒと直交する方向に細長く延びた形状となる。光の照射領域ＳＨの軌跡Ｋが延びる方向、すなわち光の光路がシフトする方向とＸ軸（正方向）とのなす角度θ２は、例えば２０°〜３０°程度となる。
【００５５】
ただし、光源装置７とプリズム１７との間にミラーなどが配置され、光源装置７から射出される光の光路が折り曲げられている場合、光源装置７の光軸ＡＸの方向から見て、複数の光の照射領域ＳＨの位置とレーザー光源１５の位置とは一致しない。この場合には、ミラーがないものとして光の光路を直線状に延ばして考えればよい。
【００５６】
図５に示す９個のレーザー光源１５のうち、２次元的に配置された３個のレーザー光源１５を選択し、これら３個のレーザー光源１５を第１のレーザー光源１５Ａ、第２のレーザー光源１５Ｂおよび第３のレーザー光源１５Ｃとする。このとき、第２のレーザー光源１５Ｂと第１のレーザー光源１５Ａとの間の距離、および第３のレーザー光源１５Ｃと第１のレーザー光源１５Ａとの間の距離が、９個のレーザー光源１５のうち、第２のレーザー光源１５Ｂおよび第３のレーザー光源１５Ｃ以外のいずれのレーザー光源１５と第１のレーザー光源１５Ａとの距離よりも短くなるように、第１のレーザー光源１５Ａ、第２のレーザー光源１５Ｂおよび第３のレーザー光源１５Ｃを選択する。この条件を満たす光源の選び方の一例として、９個のレーザー光源１５のうち、中段の中央のレーザー光源を第１のレーザー光源１５Ａとし、中段の右側のレーザー光源を第２のレーザー光源１５Ｂとし、上段の中央の光源を第３のレーザー光源１５Ｃとする。
【００５７】
第１のレーザー光源１５Ａ、第２のレーザー光源１５Ｂおよび第３のレーザー光源１５Ｃを上記の例のように選択した場合、光の光路がシフトする方向は、第１のレーザー光源１５Ａと、第２のレーザー光源１５Ｂと第３のレーザー光源１５Ｃとの間の領域と、を結ぶ方向であればよい。言い換えると、上記の例で言えば、光の光路がシフトする方向とＸ軸（正方向）とのなす角度θ２は、０°よりも大きく、９０°よりも小さい角度であればよい。
【００５８】
図６に示すように、仮にプリズム１１７の回転軸Ｒ１がＹ軸方向と平行に配置されていたとする。すなわち、プリズム１１７の回転軸Ｒ１とＸ軸（負方向）とのなす角度θ３が９０°であったとする。この場合、図７に矢印Ｓ２で示すように、複数の光の光路がシフトする方向は、Ｘ軸方向に平行な方向となる。光の照射領域ＳＨの軌跡Ｋが延びる方向、すなわち光の光路がシフトする方向とＸ軸とのなす角度は０°となる。
【００５９】
この場合、Ｘ軸方向に並ぶ３個のレーザー光源１１５からの光の照射領域ＳＨの軌跡Ｋが重なり合う。そのため、回折光学素子１１２の全体で見たときに光の照射領域ＳＨの軌跡Ｋ同士の間に光が照射されない領域ができ、照度分布のムラが大きくなる。これに対して、本実施形態の場合、図５に示すように、光の照射領域ＳＨの軌跡Ｋの重なりが少なく、光が照射されない領域が少ない。このように、回折光学素子１２における照度分布のムラが小さくなる結果、画像形成装置３Ｇでの照度分布の均一性が向上するとともに、入射角度分布の均一性が向上する。これにより、スペックルを低減することができる。
【００６０】
光の光路がシフトする方向についてさらに説明する。
例えば図８に示すように、第１のレーザー光源１５Ａを中心として、第１のレーザー光源１５Ａの上側に隣り合う光源を第２のレーザー光源１５Ｂとし、第１のレーザー光源１５Ａの右側に隣り合う光源を第３のレーザー光源１５Ｃとする。第１のレーザー光源１５Ａ、第２のレーザー光源１５Ｂおよび第３のレーザー光源１５Ｃが２次元的に配置され、かつ、第２のレーザー光源１５Ｂと第１のレーザー光源１５Ａとの間の距離および第３のレーザー光源１５Ｃと第１のレーザー光源１５Ａとの間の距離が、９個のレーザー光源のうち第２のレーザー光源１５Ｂおよび第３のレーザー光源１５Ｃ以外のいずれのレーザー光源と第１のレーザー光源１５Ａとの距離よりも短いという条件を満たすために、第１のレーザー光源１５Ａと第２のレーザー光源１５Ｂとを図８のように決定した場合に、例えばハッチングを付した光源は第３のレーザー光源１５Ｃとして選択されない。
【００６１】
このとき、光の光路がシフトする方向は、第１のレーザー光源１５Ａと、第２のレーザー光源１５Ｂと第３のレーザー光源１５Ｃとの間の領域と、を結ぶ方向である。言い換えると、光の光路がシフトする方向とＸ軸（正方向）とのなす角度θ２は、０°より大きく、９０°より小さい角度である。光の光路がシフトする方向として好ましい方向の一例を符号Ｓ１の実線の矢印で示し、光の光路がシフトする方向として避けるべき方向の一例を符号Ｂ１，Ｂ２の破線の矢印で示す。光の光路がシフトする方向とＸ軸とのなす角度θ２が４５°の場合、第１のレーザー光源１５Ａからの光の照射領域の軌跡は、第１のレーザー光源１５Ａに対して斜め方向に隣り合うレーザー光源１５Ｅ，１５Ｆからの光の照射領域の軌跡と重なる。その場合であっても、光の光路がシフトする方向とＸ軸とのなす角度θ２が０°もしくは９０°の場合に比べれば、回折光学素子１２における照度分布の均一性を高めることができる。
【００６２】
次に、図９に示すように、横方向に並ぶ複数の光源からなる１行のレーザー光源群と、そのレーザー光源群の上側もしくは下側のレーザー光源群とが、横方向に隣り合うレーザー光源のピッチの半ピッチ分だけずれて配置され、全てのレーザー光源が最密充填配置されている場合を考える。この場合も、第１のレーザー光源１５Ａと第２のレーザー光源１５Ｂとを図９のように決定した場合に、例えばハッチングを付した光源は第３のレーザー光源１５Ｃとして選択されない。光の光路がシフトする方向として好ましい方向の一例を符号Ｓ１の実線の矢印で示し、光の光路がシフトする方向として避けるべき方向の一例を符号Ｂ１，Ｂ２，Ｂ３の破線の矢印で示す。
【００６３】
例えばレンズの外形に対応させる目的で、光源装置の中央部にあたる複数のレーザー光源と周縁部にあたる複数のレーザー光源でピッチを異ならせる場合がある。
図１０に示す例は、左右それぞれ２列分のレーザー光源間のピッチを中央部のレーザー光源間のピッチよりも小さくした例である。この場合、第１のレーザー光源１５Ａ、第２のレーザー光源１５Ｂおよび第３のレーザー光源１５Ｃは、光源装置の中央部にあたる複数のレーザー光源から選択してもよいし、周縁部にあたる複数のレーザー光源から選択してもよい。光の光路がシフトする方向として好ましい方向の一例を符号Ｓ１の実線の矢印で示し、光の光路がシフトする方向として避けるべき方向の一例を符号Ｂ１，Ｂ２の破線の矢印で示す。
【００６４】
図１１に示す例は、左右それぞれ１列分のレーザー光源間のピッチを中央部のレーザー光源間のピッチよりも小さくした例である。この場合、第１のレーザー光源１５Ａ、第２のレーザー光源１５Ｂおよび第３のレーザー光源１５Ｃは、光源装置の中央部にあたる複数のレーザー光源から選択してもよいし、周縁部にあたる複数のレーザー光源から選択してもよい。周縁部にあたる複数のレーザー光源から選択した場合、第１のレーザー光源１５Ａと第２のレーザー光源１５Ｂを図１１のように決定した場合に、例えばハッチングを付した光源は第３のレーザー光源１５Ｃとして選択されない。光の光路がシフトする方向として好ましい方向の一例を符号Ｓ１の実線の矢印で示し、光の光路がシフトする方向として避けるべき方向の一例を符号Ｂ１，Ｂ２の破線の矢印で示す。
【００６５】
本実施形態の照明装置２Ｇにおいて、プリズム１７の回転速度は、時間的に変化してもよいし、一定であってもよい。
プリズム１７の回転速度を時間的に変化させた場合、図１２に示すように、プリズム１７から射出された光Ｌの時間平均した照度分布は、プリズム１７から射出される位置に係わらず、一定にすることができる。言い換えると、プリズム１７から射出された光Ｌの時間平均した照度分布をトップハット型にすることができる。これにより、画像形成装置３Ｇの被照明領域ＩＲにおける時間平均した照度分布を略一定にすることができる。
【００６６】
これに対して、プリズム１７の回転速度を一定にした場合、図１３に示すように、プリズム１７から射出された光の時間平均した照度分布は、プリズム１７の周縁部に対応する領域では照度が高く、プリズム１７の中央部に対応する領域では照度が低くなる。このように、光の照射領域の周縁部の時間平均した照度を高めることにより、スペックルをより効果的に低減することができる。
【００６７】
本実施形態の照明装置２Ｇにおいて、光の照射領域ＳＨを重ねる場合、図１４に示すように、光源装置７の光軸ＡＸに垂直な基準面において、第１の光の強度分布の裾の軌跡と第２の光の強度分布の裾の軌跡とを重ねることが望ましい。図１４において、光の照射領域ＳＨを示す楕円のうち、白っぽく見える箇所は光の強度が相対的に高い箇所を示し、黒っぽく見える箇所は光の強度が相対的に低い箇所を示す。レーザー光の照度分布は基本的にガウス分布であるため、強度分布の裾の部分同士を重ねることにより、重なり部分の強度をピーク強度に近付けることができ、照度分布の均一化が図れる。
【００６８】
［第２実施形態］
以下、本発明の第２実施形態について、図１５を用いて説明する。
第２実施形態は、プロジェクターの基本構成が第１実施形態と同様であり、照明装置の構成が第１実施形態と異なる。
図１５は、第２実施形態の照明装置を示す概略構成図である。
図１５において、第１実施形態で用いた図２と共通の構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００６９】
図１５に示すように、第２実施形態の照明装置３１Ｇを構成する照明光学系３７は、プリズム１７と重畳光学系１３との間の光路上に拡散板３２とインテグレーター光学系３３とを備えている。拡散板３２とインテグレーター光学系３３とは、光の進行方向に沿ってこの順に配置されている。拡散板３２は、基材中に基材とは屈折率が異なる粒子を分散させたもの、もしくは基材の一面に凹凸を形成したもの等が用いられる。拡散板３２は、入射した光を拡散させて角度分布を広げる機能を有する。光利用効率を高めるためには、拡散板３２の拡散角は、拡散板３２により角度分布が広がった光をインテグレーター光学系３３が飲み込めるだけの大きさに設定することが望ましい。
【００７０】
インテグレーター光学系３３は、第１のレンズアレイ３４と第２のレンズアレイ３５とを含む。第１のレンズアレイ３４は、光源装置７の照明光軸ＡＸに直交する２つの方向（図１５におけるＸ軸方向およびＹ軸方向）に２次元的に配列された複数のレンズ３６を有する。第２のレンズアレイ３５は、第１のレンズアレイ３４の光射出側に配置されており、第１のレンズアレイ３４と同様の構成を有する。第１のレンズアレイ３４は、拡散板３２から入射した光を複数の光束に分割する機能を有する。第２のレンズアレイ３５は、第１のレンズアレイ３４から入射した複数の光束各々を同一の被照明領域である画像形成装置３Ｇの被照明領域ＩＲに伝達する機能を有する。その他の構成は第１実施形態と同様である。
【００７１】
第２実施形態の場合、インテグレーター光学系３３の光入射側に拡散板３２が設けられているため、照度分布および角度分布の均一性が高い光が第１のレンズアレイ３４に入射する。そのため、第２のレンズアレイ３５に照射される光の照度分布および角度分布の均一性が高まり、スペックルを効果的に低減することができる。
【００７２】
［第３実施形態］
以下、本発明の第３実施形態について、図１６を用いて説明する。
第３実施形態は、プロジェクターの基本構成が第１実施形態と同様であり、照明装置の構成が第１実施形態と異なる。
図１６は、第３実施形態の照明装置を示す概略構成図である。
図１６において、第１実施形態で用いた図２と共通の構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００７３】
図１６に示すように、第３実施形態の照明装置４１Ｇを構成する照明光学系４２は、プリズム１７と重畳光学系１３との間の光路上にインテグレーター光学系３３を備えている。すなわち、第３実施形態の照明装置４１Ｇは、第２実施形態の照明装置３１Ｇから拡散板３２を除いたものである。その他の構成は第２実施形態と同様である。
【００７４】
第３実施形態の場合、インテグレーター光学系３３の光入射側に拡散板が設けられていないため、微小な時間内では第２のレンズアレイ３５上にできる光源像が離散的になってしまう。すなわち、プリズム１７が実線で示した位置にあるとき、光源装置７からの光の光路はＸ軸の負方向にシフトするため、光は第２のレンズアレイ３５のうちの下側のレンズ３６に入射し、上側のレンズ３６に入射しない。また、プリズム１７が２点鎖線で示した位置にあるとき、光源装置７からの光の光路はＸ軸の正方向にシフトするため、光は第２のレンズアレイ３５のうちの上側のレンズ３６に入射し、下側のレンズ３６に入射しない。しかしながら、画像形成装置３Ｇの被照明領域ＩＲ上での時間平均した照度分布は一定になり、照度ムラを低減することができる。
【００７５】
［第４実施形態］
以下、本発明の第４実施形態について、図１７を用いて説明する。
第４実施形態は、プロジェクターの基本構成が第１実施形態と同様であり、照明装置の構成が第１実施形態と異なる。
図１７は、第４実施形態の照明装置を示す概略構成図である。
図１７において、第１実施形態で用いた図２と共通の構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００７６】
図１７に示すように、第４実施形態の照明装置５１Ｇを構成する照明光学系５２は、プリズム１７と画像形成装置３Ｇとの間の光路上に回折光学素子５３を備えている。第４実施形態の照明光学系５２は、重畳光学系を備えていない。第４実施形態の回折光学素子５３は、第１実施形態の回折光学素子１２と異なり、光が入射する場所によって異なる回折光パターンを生成する。すなわち、第１のレーザー光源１５Ａから射出される第１の光と回折光学素子５３とにより形成される第１の回折光パターンは、第２のレーザー光源１５Ｂから射出される第２の光と回折光学素子５３とにより形成される第２の回折光パターンと異なる。その他の構成は第１実施形態と同様である。
【００７７】
第４実施形態の場合、回折光学素子５３により互いに異なる複数の回折光パターンが被照明領域ＩＲ上で時間的に重畳されることによって、スペックルを効果的に低減することができる。
【００７８】
［第５実施形態］
以下、本発明の第５実施形態について、図１８を用いて説明する。
第５実施形態のプロジェクターは、光変調装置としてデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ、テキサスインスツルメンツ社登録商標）を備えたプロジェクターの例である。
図１８は、第５実施形態の照明装置を示す概略構成図である。
図１８において、第１実施形態で用いた図２と共通の構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
【００７９】
図１８に示すように、第５実施形態の照明装置６１Ｇを構成する照明光学系６２は、重畳光学系１３を構成する第１のレンズ１８と第２のレンズ１９との間にロッドレンズ６３を備えている。ロッドレンズ６３は、光入射端面から入射した光を内部で導光させることにより強度分布を均一化して射出する機能を有する。プリズム１７を回転させたとき、ロッドレンズ６３への光の入射角度が時間的に変化し、ロッドレンズ６３から射出される光の強度分布が時間平均で均一化される。強度分布が均一化された光は、第２のレンズ１９を経てＤＭＤ６４の被照明領域を照明する。ＤＭＤ６４に入射した光は、画素毎に設けられたマイクロミラー（図示略）で反射し、投射光学系４によりスクリーン上に投射される。
【００８０】
第５実施形態の照明装置６１Ｇにおいても、光の照度分布および角度分布の均一性が高められ、スペックルを効果的に低減することができる。
【００８１】
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば上記実施形態では、光路シフト装置として回転プリズムを用いたが、回転プリズムに代えて、以下の光路シフト装置を用いてもよい。
【００８２】
図１９は、変形例の光路シフト装置７１を示す図である。光路シフト装置７１は、光源装置７からの光が入射する第１のミラー７２と、第１のミラー７２で反射した光を重畳光学系１３に導く第２のミラー７３と、第１のミラー７２を移動させる移動部７４と、を備える。
【００８３】
第１のミラー７２は、反射面が光源装置７からの光の射出方向Ｌ１に対して４５°の角度をなすように傾いている。第２のミラー７３は、反射面が重畳光学系１３の光軸ＡＸ２に対して４５°の角度をなすように傾いている。第１のミラー７２と第２のミラー７３とは、互いに略平行になるように配置されている。移動部７４は、第１のミラー７２を、光源装置７からの光の射出方向Ｌ１に対して垂直な方向に移動させる。
【００８４】
この変形例において、光源装置７から射出された光は、移動部７４による第１のミラー７２の移動に伴って第１のミラー７２上の入射位置が時間的に変化し、第２のミラー７３上での入射位置が時間的に変化する。そのため、このような光路シフト装置７１によっても、重畳光学系１３に入射する光の入射位置を光軸ＡＸ２の方向と交差する方向に時間的に変化させることができる。
【００８５】
なお、第１のミラー７２の移動方向は、光源装置７の光の射出方向Ｌ１と平行であってもよいし、交差していてもよい。また、光路シフト装置７１は、第１のミラー７２を移動させる代わりに第２のミラー７３を移動させる構成でもよいし、第１のミラー７２と第２のミラー７３の双方を移動させる構成でもよい。第１のミラー７２と第２のミラー７３の双方を移動させる場合には、各ミラーの移動速度と双方のミラーの相対位置は、重畳光学系１３に入射する光の入射位置が変化するように適宜設定できる。また、第１のミラー７２と第２のミラー７３とは、互いに平行に配置しなくてもよい。光路シフト装置７１は、第１のミラー７２と第２のミラー７３の一方または双方を回転させることで光路をシフトする構成でもよく、ミラーの回転および併進移動の双方により光路をシフトする構成でもよい。
【００８６】
その他、照明装置およびプロジェクターにおける各種の構成要素の形状、数、配置等の具体的な構成は、上記実施形態に限ることなく、適宜変更が可能である。
【符号の説明】
【００８７】
１…プロジェクター、２Ｒ，２Ｇ，２Ｂ，３１Ｇ，４１Ｇ，５１Ｇ，６１Ｇ…照明装置、３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ…画像形成装置、４…投射光学系、７…光源装置、１０…コリメート光学系、１１，７１…光路シフト装置、１２…回折光学素子、１５…レーザー光源、１５Ａ…第１のレーザー光源、１５Ｂ…第２のレーザー光源、１５Ｃ…第３のレーザー光源、１７…プリズム、３３…インテグレーター光学系、３４…第１のレンズアレイ、３５…第２のレンズアレイ、３６…レンズ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図１４】
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