(57)【要約】【課題】配向方向が相互に異なる４つの領域を有した配向膜を、光配向法を用いてより簡単に製造することのできる配向膜の製造方法、および、表示体の製造方法を提供する。【解決手段】第１偏光を感光性膜のうち第１領域と第２領域とに照射する第１照射工程（ステップＳ１１）と、第２偏光を感光性膜のうち第２領域と第３領域とに照射する第２照射工程（ステップＳ１２）と、第３偏光を感光性膜のうち前記第１領域から前記第４領域に照射する第３照射工程（ステップＳ１３）とを含む。第１偏光から第３偏光の各々においては偏光角が相互に異なり、３つの偏光角は、第１偏光角と、第１偏光角よりも大きい第２偏光角と、第２偏光角よりも大きい第３偏光角から構成される。３つの偏光角のうち、第３配向角θ３を形成するための偏光角の一方が、第３配向角θ３未満である。第３偏光角で照射される第３偏光の強度が、第１偏光の強度および第２偏光の強度よりも低い。【選択図】図２
2015152828.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１領域、第２領域、第３領域、および、第４領域を含む配向膜であって、前記第１領域における第１配向角θ１と、前記第２領域における第２配向角θ２と、前記第３領域における第３配向角θ３と、第４領域における第４配向角θ４とが、
θ２＝θ１＋２２．５°＋９０°×Ｌ
θ３＝θ１＋４５°＋９０°×Ｍ
θ４＝θ１＋６７．５°＋９０°×Ｎ
を満たす配向膜の製造方法であって、
第１偏光を感光性膜のうち前記第１領域と前記第２領域とに照射する第１工程と、
第２偏光を前記感光性膜のうち前記第２領域と前記第３領域とに照射する第２工程と、
第３偏光を前記感光性膜のうち前記第１領域から前記第４領域に照射する第３工程と、を含み、
前記第１偏光から前記第３偏光の各々においては偏光角が相互に異なり、
３つの前記偏光角は、第１偏光角と、前記第１偏光角よりも大きい第２偏光角と、前記第２偏光角よりも大きい第３偏光角から構成され、かつ、前記３つの偏光角のうち、前記第３配向角θ３を形成するための偏光角の一方が、前記第３配向角θ３未満であり、
前記第３工程で照射される前記第３偏光の強度が、前記第１偏光の強度、および、第２偏光の強度よりも低い
配向膜の製造方法。
【請求項２】
前記第３工程では、前記第３偏光角を有する前記第３偏光を、前記第１領域から前記第４領域に照射する
請求項１に記載の配向膜の製造方法。
【請求項３】
前記第１工程では、前記第１偏光角を有する前記第１偏光を前記第１領域と前記第２領域とに照射し、
前記第１偏光角は、前記第１配向角θ１よりも小さい
請求項２に記載の配向膜の製造方法。
【請求項４】
前記第２工程では、前記第２偏光角を有する第２偏光を前記第２領域と前記第３領域とに照射し、
前記第２偏光角は、前記第３配向角θ３よりも小さい
請求項３に記載の配向膜の製造方法。
【請求項５】
前記第１偏光の偏光角は、前記第２偏光の偏光角よりも小さく、
前記第１工程で照射される前記第１偏光の強度が、前記第２工程で照射される前記第２偏光の強度よりも高い
請求項４に記載の配向膜の製造方法。
【請求項６】
前記第１工程の次に前記第２工程を行い、
前記第２工程の次に前記第３工程を行う
請求項５に記載の配向膜の製造方法。
【請求項７】
配向膜を形成する配向膜形成工程と、
前記配向膜を覆う位相差層を形成する位相差層形成工程と、を備え、
前記配向膜形成工程は、請求項１から５のいずれか一項に記載の配向膜の製造方法である
表示体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示の技術は、複数の潜像が相互に重なり合って記憶された配向膜の製造方法、および、配向膜を備える表示体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
銀行券および商品券などの有価証券や、パスポートなどの認証媒体は、これらの偽造を防止するために、偽造の難しい表示体を有している。こうした表示体は、目視による判定、または、検証器を用いた判定による真贋の判定に用いられる。目視により真贋の判定を行うことのできる表示体は、他者に偽造されやすい。そのため、近年では、偏光技術を用いて形成された潜像を記憶した表示体であって、検証器であるフィルタが重ねられることによって出現する潜像を記憶した表示体が提案されている。
【０００３】
潜像を記憶した表示体として、例えば特許文献１には、複数の潜像を相互に重なり合う状態で記憶した表示体が提案されている。表示体は、配向性が相互に異なる４つの領域によって、相互に重なる２つの潜像を記憶している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−２５８１５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、表示体の備える配向膜に、相互に異なる複数の配向性を与えるための方法として、光配向法が知られている。光配向法では、各配向方向に対応する４つのフォトマスクが切り替えられつつ、配向膜となる感光性膜に偏光が照射される方法が用いられている。こうした方法では、各フォトマスクの位置が相互に合わせられる必要がある。そのため、４つのフォトマスクが切り替えられるときには、これらの領域が正確に分かれる程度の精度で、感光性膜に対する各フォトマスクの位置が合わせられなければならず、各フォトマスクの位置合わせが自ずと難くなる。
【０００６】
一方、１つの位相差フィルタが用いられる方法では、感光性膜に対する偏光の照射は一度で済むものの、１つの位相差フィルタに対して、上述した４つの部分に応じたパターンが作り込まれる必要がある。そのため、位相差フィルタを作成する工程が複雑になり、結果として、位相差フィルタの製造に長い時間がかかってしまう。また、２つの位相差フィルタを用いる場合でも、上述したフォトマスクを用いる方法と同様、感光性膜に対する各位相差フィルタの位置合わせが難しい。
【０００７】
本開示の技術は、配向方向が相互に異なる４つの領域を有した配向膜を、光配向法を用いてより簡単に製造することのできる配向膜の製造方法、および、表示体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本開示の技術における配向膜の製造方法の一態様は、第１領域、第２領域、第３領域、および、第４領域を含む配向膜であって、前記第１領域における第１配向角θ１と、前記第２領域における第２配向角θ２と、前記第３領域における第３配向角θ３と、第４領域における第４配向角θ４とが、θ２＝θ１＋２２．５°＋９０°×Ｌ、θ３＝θ１＋４５°＋９０°×Ｍ、θ４＝θ１＋６７．５°＋９０°×Ｎを満たす配向膜の製造方法である。第１偏光を感光性膜のうち前記第１領域と前記第２領域とに照射する第１工程と、第２偏光を前記感光性膜のうち前記第２領域と前記第３領域とに照射する第２工程と、第３偏光を前記感光性膜のうち前記第１領域から前記第４領域に照射する第３工程と、を含む。前記第１偏光から前記第３偏光の各々においては偏光角が相互に異なり、３つの前記偏光角は、第１偏光角と、前記第１偏光角よりも大きい第２偏光角と、前記第２偏光角よりも大きい第３偏光角から構成され、かつ、前記３つの偏光角のうち、前記第３配向角θ３を形成するための偏光角の一方が、前記第３配向角θ３未満であり、前記第３工程で照射される前記第３偏光の強度が、前記第１偏光の強度、および、第２偏光の強度よりも低い。
【０００９】
本開示の技術における表示体の製造方法は、配向膜を形成する配向膜形成工程と、前記配向膜を覆う位相差層を形成する位相差層形成工程と、を備え、前記配向膜形成工程が、上記の配向膜の製造方法である。
【００１０】
本開示の技術によれば、偏光角が相互に異なる３つの偏光を照射することによって、配向角が相互に異なる４つの領域が形成される。このとき、第１偏光および第２偏光の各々は、４つの領域のうちの２つの領域に照射される一方、第３偏光は、４つの領域の全てに照射される。そして、第３配向角θ３を形成するための偏光角の一方が、第３配向角θ３未満であり、かつ、感光性膜の全体に照射される第３偏光の強度が、第１偏光の強度および第２偏光の強度よりも小さい。そのため、３つの偏光を照射することによって、配向角が相互に異なる４つの領域を形成することができる。それゆえに、４つの領域の各々に対して、各領域に固有の偏光が、各領域に対して個別に照射される方法と比べて、より簡単な方法で配向膜を形成することができる。
【００１１】
本開示の技術における配向膜の製造方法の他の態様は、前記第３工程では、前記第３偏光角を有する前記第３偏光を、前記第１領域から前記第４領域に照射することが好ましい。
【００１２】
本開示の技術における配向膜の製造方法の他の態様によれば、感光性膜を形成する分子の一部が、既に所定の配向角を有した状態で、偏光角の最も大きい第３偏光が感光性膜に照射される。そのため、第３偏光が第１工程あるいは第２工程で照射される方法と比べて、感光性膜を構成する分子のうち、第３偏光に対応する配向角を有した分子の数が過剰になりにくくなる。それゆえに、各領域における配向角が、所望とする配向角よりも大幅に大きくなることが抑えられる。
【００１３】
本開示の技術における配向膜の製造方法の他の態様は、前記第１工程では、前記第１偏光角を有する前記第１偏光を前記第１領域と前記第２領域とに照射し、前記第１偏光角は、前記第１配向角θ１よりも小さいことが好ましい。
【００１４】
本開示の技術における配向膜の製造方法の他の態様によれば、第１偏光角が第１配向角θ１よりも小さいため、より角度の大きい偏光である第３偏光が第３工程で照射されても、第１配向角θ１が、所望とする配向角を超えにくくなる。
【００１５】
本開示の技術における配向膜の製造方法の他の態様は、前記第２工程では、前記第２偏光角を有する第２偏光を前記第２領域と前記第３領域とに照射し、前記第２偏光角は、前記第３配向角θ３よりも小さいことが好ましい。
【００１６】
本開示の技術における配向膜の製造方法の他の態様によれば、第２偏光が第３偏光角よりも小さいため、より角度の大きい偏光である第３偏光が第３工程で照射されても、第３配向角θ３が、所望とする配向角を超えにくくなる。
【００１７】
本開示の技術における配向膜の製造方法の他の態様は、前記第１偏光の偏光角が、前記第２偏光の偏光角よりも小さく、前記第１工程で照射される前記第１偏光の強度が、前記第２工程で照射される前記第２偏光の強度よりも高いことが好ましい。
【００１８】
本開示の技術における配向膜の製造方法の他の態様によれば、最も角度の小さい第１偏光の強度が最も大きいため、第１偏光が照射された後に、より偏光角の大きい第２偏光や第３偏光が照射されても、各領域における配向角が、所望とする配向角を超えにくくなる。
【００１９】
本開示の技術における配向膜の製造方法の他の態様は、前記第１工程の次に前記第２工程を行い、前記第２工程の次に前記第３工程を行うことが好ましい。
本開示の技術における配向膜の製造方法の他の態様によれば、感光性膜に対する偏光の照射が偏光角の小さい順に行われるため、照射の順番と偏光の角度の大きさの順番とが対応付けられていない方法と比べて、照射すべき偏光の角度が間違われにくくなる。
【発明の効果】
【００２０】
本開示の技術によれば、配向方向が相互に異なる４つの領域を有した配向膜を、光配向法を用いてより簡単に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本開示の配向膜の製造方法によって製造される配向膜の平面構造を示す平面図である。
【図２】配向膜の製造方法における処理の手順を示すフローチャートである。
【図３】配向膜の前駆体である感光性膜を有する感光性基板が一部破断された状態の斜視構造を示す斜視図である。
【図４】第１マスクが一部破断された状態の平面構造を示す平面図である。
【図５】第１照射工程を説明するための工程図である。
【図６】第２マスクが一部破断された状態の平面構造を示す平面図である。
【図７】第２照射工程を説明するための工程図である。
【図８】第１照射工程と第２照射工程とが終了したときの感光性膜の状態を模式的に示す模式図である。
【図９】第３照射工程を説明するための工程図である。
【図１０】第３照射工程が終了したときの配向膜の状態を模式的に示す模式図である。
【図１１】表示体の断面構造を示す断面図である。
【図１２】表示体の断面構造を示す断面図である。
【図１３】表示体の断面構造を示す断面図である。
【図１４】表示体が表示する画像を示す平面図である。
【図１５】表示体が表示する画像を示す平面図である。
【図１６】表示体が表示する画像を示す平面図である。
【図１７】表示体が表示する画像を示す平面図である。
【図１８】表示体が表示する画像を示す平面図である。
【図１９】表示体が表示する画像を示す平面図である。
【図２０】表示体が表示する画像を示す平面図である。
【図２１】表示体が表示する画像を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
図１から図２１を参照して、本開示の技術における配向膜の製造方法、および、表示体の製造方法を具体化した一実施形態を説明する。
［配向膜の構成］
図１を参照して配向膜の構成を説明する。
【００２３】
図１が示すように、配向膜１０は、配向膜１０の上に位置する位相差層を形成する分子を配向させる機能を有し、第１領域１１、第２領域１２、第３領域１３、および、第４領域１４を有している。第１領域１１から第４領域１４の各々においては、位相差層の分子の配向を規制する方向であって、配向膜１０の面内に平行な任意の直線であるＸ軸と形成する角度である配向角が相互に異なる。
【００２４】
第１領域１１における配向角が第１配向角θ１であり、第２領域１２における配向角が第２配向角θ２であり、第３領域１３における配向角が第３配向角θ３であり、第４領域１４における配向角が第４配向角θ４である。このとき、第１配向角θ１から第４配向角θ４の各々は、各配向角に関する以下の式を満たしている。
【００２５】
θ２＝θ１＋２２．５°＋９０°×Ｌ  …  （式１）
θ３＝θ１＋４５°＋９０°×Ｍ  …  （式２）
θ４＝θ１＋６７．５°＋９０°×Ｎ  …  （式３）
上述の式１から式３のうち、Ｌ、Ｍ、および、Ｎの各々は、任意の整数である。
【００２６】
配向膜１０においては、配向膜１０に入射した偏光の偏光軸と、Ｘ軸との形成する角度が所定の大きさであるとき、第１領域１１と第２領域１２とが、相互にほぼ等しい透過率を有し、かつ、第３領域１３と第４領域１４とが、相互にほぼ等しい透過率を有する。そのため、配向膜１０においては、第１画像として、第１領域１１と第２領域とから構成される形状である星形形状が顕像化される。星形形状のうち、文字列を除く部分が第１領域１１であり、文字列の部分が第２領域１２である。
【００２７】
また、配向膜１０においては、偏光の偏光軸と、上述した直線との形成する角度が、上述とは異なる所定の大きさであるとき、第２領域１２と第３領域１３とが、相互にほぼ等しい透過率を有し、かつ、第１領域１１と第４領域１４とが、相互にほぼ等しい透過率を有する。そのため、配向膜１０においては、第２画像として、第２領域１２と第３領域１３とから構成される形状であって、「ＴＰ１２３」という文字列が顕像化される。文字列のうち、星形形状の外側に位置する部分が第３領域１３である。
【００２８】
つまり、配向膜１０は、第１領域１１と第２領域１２とによって構成される星形形状を有した潜像と、第２領域１２と第３領域１３とから構成される文字列の潜像とを相互に重なった状態で記憶している。
【００２９】
配向膜１０の前駆体である感光性膜の形成材料は、例えば、アゾベンゼン誘導体、桂皮酸エステル、クマリン、カルコン、ベンゾフェノン、および、ポリイミドなどのいずれかである。配向膜１０の形成材料がアゾベンゼン誘導体であるとき、配向膜１０においては、アゾベンゼン誘導体が偏光の照射によって光異性化することにより、配向膜１０が所定の配向角を有する。配向膜１０の形成材料が、桂皮酸エステル、クマリン、カルコン、および、ベンゾフェノンであるとき、配向膜１０においては、これらの誘導体が偏光の照射によって光二量化、あるいは、光架橋することにより、配向膜１０が所定の配向角を有する。配向膜１０の形成材料がポリイミドであるとき、配向膜１０においては、ポリイミドが偏光の照射によって光分解することにより、配向膜１０が所定の配向角を有する。
【００３０】
［配向膜の製造方法］
図２から図１０を参照して、配向膜の製造方法を説明する。
図２が示すように、配向膜１０の製造方法は、感光性膜に第１偏光を照射する第１照射工程（ステップＳ１１）、感光性膜に第２偏光を照射する第２照射工程（ステップＳ１２）、および、感光性膜に第３偏光を照射する第３照射工程（ステップＳ１３）を含む。第１照射工程から第３照射工程の各々では、感光性膜に照射する偏光の角度が相互に異なる。また、第１照射工程から第３照射工程の各々では、感光性膜のうち、各偏光の照射される領域が、相互に重なる部分を有し、かつ、第１照射工程と第２照射工程とでは、各偏光の照射される領域の一部が相互に重なる。以下では、こうした配向膜１０の製造方法のうちの一例において、第１照射工程から第３照射工程を順番に説明する。
【００３１】
なお、図３が示すように、各照射工程では、例えば矩形板形状を有する感光性基板２０に各種の偏光が照射される。感光性基板２０は、支持基材２１と、支持基材２１の有する１つの面に形成された感光性膜２２とを備えている。
【００３２】
支持基材２１は、押出加工やキャスト加工によって形成された無延伸フィルム、および、延伸加工によって形成された延伸フィルムなどのいずれかであればよい。支持基材２１が延伸フィルムであるとき、支持基材２１は、１軸延伸フィルムであってもよいし、２軸延伸フィルムであってもよい。
【００３３】
支持基材２１の形成材料は、例えば、セロハン、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリオレフィン（ＰＯ）、エチレンビニルアルコール（ＥＶＯＨ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ナイロン、アクリル樹脂、および、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などのいずれかである。
【００３４】
感光性膜２２の形成材料は、上述した材料のいずれかであればよい。そして、感光性膜２２は、こうした形成材料が、グラビアコーティング法、および、マイクログラビアコーティング法などのいずれかの塗布方法を用いて、支持基材２１の１つの面に塗布されればよい。
【００３５】
図４が示すように、第１照射工程では、第１マスク３０が、感光性膜２２に対する偏光の照射に用いられる。第１マスク３０は、透明で、かつ、複屈折性を有しないマスク基材３１と、第１開口部３２を有した第１遮光部３３とを備えている。なお、図４は、便宜上、第１遮光部３３にドットを付して示し、第１遮光部３３の一部を切り欠くことでマスク基材３１を示している。マスク基材３１の形成材料は、例えば、プラスチック、および、ガラスなどのいずれかであればよい。
【００３６】
第１遮光部３３の形成材料は、マスク基材３１の上に塗布された遮光性のレジストであってもよいし、遮光性のインクであってもよい。第１遮光部３３は、マスク基材３１の一部を露出させる第１開口部３２を、例えば第１遮光部３３のほぼ中心に有し、第１開口部３２は、本実施形態においては、第１領域１１と第２領域１２とに相当する形状として星形形状を有している。
【００３７】
第１遮光部３３がレジストで形成されるとき、第１開口部３２は、第１遮光部３３がフォトリソグラフィによってパターニングされることによって形成されればよい。一方、第１遮光部３３がインクで形成されるとき、第１開口部３２は、印刷法によって第１遮光部３３が形成されるときに、第１遮光部３３と同時に形成されればよい。このうち、第１マスク３０が印刷法を用いて製造されることにより、第１マスク３０の製造にかかるコストを低くすることができる。
【００３８】
図５が示すように、感光性基板２０の上部に第１マスク３０が位置し、かつ、感光性基板２０の感光性膜２２と、第１マスク３０のマスク基材３１とが対向する状態で、感光性基板２０に対して、第１偏光角θＩの第１偏光Ｐ１が照射される。第１偏光Ｐ１の偏光軸と、感光性膜２２のＸ軸とが形成する角度が第１偏光角θＩであり、第１偏光角θＩは、例えば−９°である。
【００３９】
第１偏光Ｐ１は、直線偏光でもよいし、自然光であってもよい。なお、第１偏光Ｐ１が自然光であるとき、感光性膜２２と、自然光の照射方向とが所定の角度を有する状態で、感光性膜２２に対して自然光が照射されることによって、感光性膜２２に対して偏光が照射された状態になる。第１偏光Ｐ１は、第１強度Ｉ１で照射される。第１偏光Ｐ１の第１強度Ｉ１は、例えば８６．４ｍＪ／ｃｍ２である。
【００４０】
感光性基板２０に第１偏光Ｐ１が照射されると、感光性膜２２のうち、マスク基材３１を挟んで第１開口部３２と対向する部位に第１偏光Ｐ１が照射される。これにより、感光性膜２２のうちで第１偏光Ｐ１を照射された部分において、感光性膜２２を構成する分子の一部が異方的に再配列する、もしくは、感光性膜２２を構成する分子の一部において化学反応が異方的に進行する。結果として、感光性膜２２のうち、第１偏光Ｐ１を照射された部分の一部が、第１偏光Ｐ１の第１偏光角θＩに応じた配向角を有する。
【００４１】
こうした第１照射工程により、感光性膜２２のうち、配向膜１０における第１領域１１と第２領域１２とに対応する部分に第１偏光Ｐ１が照射される。
図６が示すように、第２照射工程では、第２マスク４０が、感光性膜２２に対する偏光の照射に用いられる。第２マスク４０は、第１マスク３０と同様、透明で、かつ、複屈折性を有しないマスク基材４１と、第２開口部４２を有した第２遮光部４３とを備えている。なお、図６は、便宜上、第２遮光部４３にドットを付して示し、第２遮光部４３の一部を切り欠くことでマスク基材４１を示している。マスク基材４１の形成材料は、上述したマスク基材３１の形成材料のうちのいずれかであればよい。
【００４２】
第２遮光部４３の形成材料も、上述した第１遮光部３３と同様、遮光性のレジストであってもよいし、遮光性のインクであってもよい。第２遮光部４３は、マスク基材４１の一部を露出させる第２開口部４２を、例えば第２遮光部４３のほぼ中心であって、第２開口部４２の形状が感光性膜２２に転写されたとき、第１開口部３２の転写された部分の一部と相互に重なる位置に有している。第２開口部４２は、本実施形態においては、第２領域１２と第３領域１３とに相当する形状として「ＴＰ１２３」という文字列に対応した形状を有している。なお、第２開口部４２は、第１開口部３２と同様、第２遮光部４３の形成材料に対応した方法で形成される。
【００４３】
図７が示すように、第１偏光Ｐ１の照射された感光性基板２０の上部に第２マスク４０が位置し、かつ、感光性基板２０の感光性膜２２と、第２マスク４０のマスク基材４１とが対向する状態で、第１偏光Ｐ１の照射された感光性基板２０に対して、第２偏光角θＩＩの第２偏光Ｐ２が照射される。第２偏光Ｐ２の第２偏光角θＩＩは、例えば、第１偏光Ｐ１の第１偏光角θＩよりも大きく、第２偏光角θＩＩは、例えば３６°である。第２偏光Ｐ２は、第１偏光Ｐ１と同様、直線偏光でもよいし、自然光でもよい。第２偏光Ｐ２の強度である第２強度Ｉ２は、例えば、第１強度Ｉ１よりも小さく、第２強度Ｉ２は、例えば、６４．８ｍＪ／ｃｍ２である。
【００４４】
第２偏光Ｐ２は、第２マスク４０を介することで、感光性膜２２のうち、配向膜１０における第２領域１２に対応する部分、および、第３領域１３に対応する部分に照射される。
【００４５】
図８が示すように、第２偏光Ｐ２が、第２マスク４０を用いて感光性基板２０に照射されるとき、感光性膜２２に対する第２マスク４０の位置が合わせられる。このとき、第２マスク４０の第２開口部４２は、感光性膜２２における第１偏光Ｐ１が照射された部位と対向する部分と、感光性膜２２における第１偏光Ｐ１が照射されていない部位と対向する部分を含む。そのため、第２偏光Ｐ２が感光性膜２２に照射されることによって、感光性膜２２には、第１偏光Ｐ１が照射された部分である第１前駆領域ＰＲ１と、第１偏光Ｐ１と第２偏光Ｐ２とが照射された部分である第２前駆領域ＰＲ２とが形成される。加えて、感光性膜２２には、第２偏光Ｐ２が照射された部分である第３前駆領域ＰＲ３と、第１偏光Ｐ１と第２偏光Ｐ２とが照射されていない部分である第４前駆領域ＰＲ４とが形成される。なお、図８は、分子の配向する方向を矢印の向きで模式的に示し、配向の強度を矢印の大きさで模式的に示している。
【００４６】
第１照射工程にて、感光性膜２２に第１偏光角θＩでの第１偏光Ｐ１の照射が行われると、第１前駆領域ＰＲ１および第１前駆領域ＰＲ１を構成する一部の分子Ｍ１に、例えば、液晶などの分子を第１規制角度で配向させるための配向を規制する力が与えられる。このとき、第１前駆領域ＰＲ１および第２前駆領域ＰＲ２の各々を構成する全ての分子には、第１偏光Ｐ１による配向を規制する力が与えられない。
【００４７】
より詳しくは、分子における配向性を発現する反応の効率や、第１偏光Ｐ１の第１強度Ｉ１に応じて、第１前駆領域ＰＲ１および第２前駆領域ＰＲ２の各々を構成する分子のうち、例えば、１０％以上８０％以下の分子Ｍ１が、第１偏光Ｐ１の照射によって、第１規制角度の方向への配向を規制する力を与えられる。なお、感光性膜２２を構成する分子において、配向性を発現する反応の効率が高いほど、第１偏光Ｐ１の照射によって配向を規制する力が与えられる分子の数が多くなり、第１偏光Ｐ１の第１強度Ｉ１が高いほど、第１偏光Ｐ１の照射によって配向を規制する力が与えられる分子の数が多くなる。
【００４８】
第２照射工程にて、感光性膜２２に第２偏光角θＩＩでの第２偏光Ｐ２の照射が行われると、第２前駆領域ＰＲ２および第３前駆領域ＰＲ３を構成する一部の分子Ｍ２に、第２規制角度で液晶などの他の分子の配向を規制する力が与えられる。このとき、第２前駆領域ＰＲ２では、第２前駆領域ＰＲ２を構成する分子のうち、第１偏光Ｐ１の照射によって反応していない未反応分子であって、かつ、未反応分子のうちの１０％以上８０％以下の分子Ｍ２に、第２規制角度の方向に配向を規制する力が与えられる。このように、第２前駆領域ＰＲ２は、配向を規制する力の方向が相互に異なる分子である分子Ｍ１と分子Ｍ２とを含む。
【００４９】
一方、第３前駆領域ＰＲ３では、第３前駆領域ＰＲ３を構成する分子のうち、１０％以上８０％以下の分子Ｍ２に、第２規制角度の方向に配向を規制する力が与えられる。
図９が示すように、第３照射工程では、感光性膜２２の全体に対する偏光の照射が行われる。第３照射工程では、感光性基板２０に対して、第１偏光角θＩおよび第２偏光角θＩＩよりも大きい第３偏光角θＩＩＩの第３偏光Ｐ３が照射される。第３偏光Ｐ３の第３偏光角θＩＩＩは、例えば６７．５°である。第３偏光Ｐ３は、第１偏光Ｐ１と同様、直線偏光でもよいし、自然光であってもよい。第３偏光Ｐ３は、第２強度Ｉ２よりも低い第３強度Ｉ３であって、例えば３６ｍＪ／ｃｍ２で感光性膜２２に照射される。
【００５０】
図１０が示すように、第３照射工程では、第１前駆領域ＰＲ１、第２前駆領域ＰＲ２、第３前駆領域ＰＲ３、および、第４前駆領域ＰＲ４の全てに、第３偏光Ｐ３が照射される。なお、図１０は、図８と同様、分子の配向する方向を矢印の向きで模式的に示し、配向の強度を矢印の大きさで模式的に示している。
【００５１】
このとき、第１前駆領域ＰＲ１では、第１前駆領域ＰＲ１を構成する分子のうち、第１偏光Ｐ１の照射によって反応していない未反応分子であって、かつ、未反応分子のうちの例えば１０％以上８０％以下の分子Ｍ３に対して、第３規制角度の方向への配向を規制する力が与えられる。これにより、感光性膜２２には、第１領域１１が形成され、第１領域１１は、配向を規制する力の方向が相互に異なる分子である分子Ｍ１と分子Ｍ３とを含む。
【００５２】
第２前駆領域ＰＲ２では、第２前駆領域ＰＲ２を構成する分子のうち、第１偏光Ｐ１の照射、および、第２偏光Ｐ２の照射の各々によって反応していない未反応分子であって、かつ、未反応分子のうちの例えば１０％以上８０％以下の分子Ｍ３に対して、第３規制角度の方向への配向を規制する力が与えられる。これにより、感光性膜２２には、第２領域１２が形成され、第２領域１２は、配向を規制する力の方向が相互に異なる分子である分子Ｍ１、分子Ｍ２、および、分子Ｍ３を含む。
【００５３】
第３前駆領域ＰＲ３では、第３前駆領域ＰＲ３を構成する分子のうち、第２偏光Ｐ２の照射によって反応していない未反応分子であって、かつ、未反応分子のうちの例えば１０％以上８０％以下の分子Ｍ３に、第３偏光Ｐ３の照射によって、第３規制角度の方向への配向を規制する力が与えられる。これにより、感光性膜２２には、第３領域１３が形成され、第３領域１３は、配向を規制する力の方向が相互に異なる分子である分子Ｍ２と分子Ｍ３とを含む。
【００５４】
第４前駆領域ＰＲ４では、第４前駆領域ＰＲ４を構成する分子のうち、例えば、１０％以上８０％以下の分子Ｍ３に、第３規制角度に配向を規制する力が与えられる。これにより、感光性膜２２には、第４領域１４が形成され、第４領域１４は、配向を規制する力を有する分子として分子Ｍ３のみを含む。
【００５５】
このように、配向膜１０が有する複数の領域のうち、第１領域１１、第２領域１２、および、第３領域１３は、配向を規制する力の相互に異なる複数の分子から構成される。そのため、各領域が全体として有する配向角は、複数の配向を規制する力の相互作用によって決まる。すなわち、各領域における配向角は、各照射工程で照射される偏光の偏光角と強度とによって決まる。
【００５６】
例えば、上述のように、第１偏光Ｐ１の第１強度Ｉ１が最も大きく、かつ、第３偏光Ｐ３の第３強度Ｉ３を最も小さいとき、第１偏光Ｐ１が分子Ｍ１に与える配向を規制する力が、分子Ｍ１を含む領域の各々の配向角において支配的になる。一方、第２偏光Ｐ２が分子Ｍ２に与える配向を規制する力、および、第３偏光Ｐ３が分子Ｍ３に与える配向を規制する力は、第１偏光Ｐ１が分子Ｍ１に与える配向を規制する力よりは小さいものの、分子Ｍ２や分子Ｍ３を含む領域の配向角に対して少なからず影響する。なお、分子Ｍ１を含まない第３領域１３においては、第２偏光Ｐ２が分子Ｍ２に与える配向を規制する力が、第３領域１３の第３配向角θ３において支配的であり、分子Ｍ３のみを含む第４領域１４においては、第３偏光Ｐ３が分子Ｍ３に与える配向を規制する力が、第４領域１４の第４配向角θ４を決める。
【００５７】
この点で、第１領域１１には、第１偏光Ｐ１と、第１偏光Ｐ１よりも角度の大きい第３偏光Ｐ３が照射されるため、第１偏光Ｐ１の第１偏光角θＩは、第１領域１１の第１配向角θ１よりも小さいことが好ましい。これにより、第１領域１１の第１配向角θ１が、所望とする配向角を超えにくくなる。
【００５８】
第３領域１３には、第２偏光Ｐ２と、第２偏光Ｐ２よりも角度の大きい第３偏光Ｐ３とが照射されるため、第２偏光Ｐ２の第２偏光角θＩＩは、第３領域１３の第３配向角θ３よりも小さいことが好ましい。これにより、第３配向角θ３が、所望とする配向角を超えにくくなる。第４領域１４には、第３偏光Ｐ３のみが照射されるため、第３偏光Ｐ３の第３偏光角θＩＩＩは、第４領域１４の第４配向角θ４と等しい角度に設定される。
【００５９】
［表示体の構成］
図１１から図１３を参照して、表示体の構成を説明する。
図１１が示すように、表示体５０は、支持基材２１、配向膜１０、および、位相差層５１を備えている。
【００６０】
位相差層５１の形成材料は、複屈折性を有する材料であり、複屈折性を有する材料で形成された層においては、屈折率が、層に照射された光の光軸方向によって異なる。そのため、層の内部を光が通過するとき、光軸方向の相互に異なる複数の光においては、屈折率が相互に異なるために、層の内部を通過する速度も相互に異なる。結果として、層を通過した後の複数の光においては、層を通過する速度の差の分だけ、相互に位相差が生じる。
【００６１】
位相差層５１の形成材料は、例えば液晶材料である。液晶材料は、例えば、メソゲン基の両端にアクリレートを有する光硬化型液晶モノマー、電子線あるいは紫外線の照射によって硬化する高分子液晶、ポリマーの主鎖から分岐する状態で主鎖にメソゲン基が結合している高分子液晶、および、分子の主鎖が配向を規制する力に従って配向する液晶性高分子などである。これらの液晶材料が配向膜１０の上に塗布されることによって、液晶材料に含まれる液晶分子は、配向膜１０を構成する分子の異方的な配列などに応じて配向する。なお、液晶材料が配向膜１０の上に塗布された後、液晶材料が、液晶相の１つであるネマティック相から等方相に相転移する温度であるＮＩ点よりも５℃程度低い温度で熱処理されることにより、液晶材料の配向が促される。
【００６２】
図１２が示すように、表示体５０は、支持基材２１と配向膜１０との間に、反射層５２を備えてもよい。反射層５２の形成材料は、例えば、Ａｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ、および、Ａｇなどから構成される群から選択される少なくとも１つの金属、または、この群から選択される少なくとも１つの金属の化合物などである。また、反射層５２は、反射層５２の１つの面、すなわち、配向膜１０における複数の領域が形成された面に対して平行な面に垂直な光に対してほぼ透明である一方、同面と垂直以外の所定の角度を形成する斜光に対する屈折率に応じて反射特性を示す透明な層であってもよい。こうした反射層５２は、単一の層から構成されてもよいし、複数の層から構成されてもよい。
【００６３】
透明な反射層５２の形成材料は、例えば、セラミックス、および、有機ポリマーのいずれかである。反射層５２の形成材料がセラミックスであるとき、セラミックスは、例えば、Ｆｅ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＣｄＳ、ＣｅＯ２、ＺｎＳ、ＰｂＣｌ２、ＣｄＯ、ＷＯ３、ＳｉＯ、Ｓｉ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＰｂＯ、Ｔａ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＺｒＯ２、ＭｇＯ、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２、ＣｅＦ３、ＣａＦ２、ＡｌＦ３、Ａｌ２Ｏ３、および、ＧａＯなどのいずれかである。反射層５２の形成材料が有機ポリマーであるとき、有機ポリマーは、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリメチルメタクリレート、および、ポリスチレンなどである。
【００６４】
なお、反射層５２の形成方法は、例えば、反射層５２の形成材料が、上述した金属、金属化合物、および、セラミックであるとき、真空蒸着法、スパッタリング法、および、ＣＶＤ法などである。一方、反射層５２の形成方法は、反射層５２の形成材料が有機ポリマーであるとき、各種の印刷法などであればよい。
【００６５】
図１３が示すように、表示体５０は、支持基材２１と反射層５２との間に、レリーフ形成層５３を備えてもよく、表示体５０がレリーフ形成層５３を備えるとき、表示体５０は、反射層５２をレリーフ形成層の１つの面に沿って有する。レリーフ形成層５３は、例えば、光の干渉を用いたレリーフ型ホログラム、または、回折格子を構成するための微細な凹凸構造を有している。
【００６６】
レリーフ形成層５３の形成材料は、加熱によって成形することが可能な材料であることが好ましい。さらに、レリーフ形成層５３の形成材料は、プレス加工によって成形されたときのむらが生じにくく、かつ、レリーフ形成層５３がレリーフ型ホログラムを有するとき、明るい再生像が得られる材料であることが好ましい。
【００６７】
レリーフ形成層５３の形成材料は、例えば、熱可塑性樹脂、ウレタン樹脂、熱硬化性樹脂、および、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂から構成される群の少なくとも一つであればよい。レリーフ形成層５３の形成材料が熱可塑性樹脂であるとき、熱可塑性樹脂は、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、セルロース系樹脂、および、ビニル系樹脂などである。レリーフ形成層５３の形成材料がウレタン樹脂であるとき、ウレタン樹脂は、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオールなどにポリイソシアネートを架橋剤として添加あるいは架橋した樹脂などである。レリーフ形成層５３の形成材料が熱可塑性樹脂であるとき、熱可塑性樹脂は、メラミン系樹脂、および、フェノール系樹脂などである。レリーフ形成層５３の形成材料が紫外線あるいは電子線硬化性樹枝であるとき、紫外線あるいは電子線硬化性樹脂は、エポキシ（メタ）アクリル、および、ウレタン（メタ）アクリレートなどである。また、上述した樹脂以外の樹脂であっても、凹凸構造を形成することの可能な樹脂であれば、レリーフ形成層５３の形成材料として選択されてもよい。
【００６８】
レリーフ形成層５３の有する凹凸構造は、例えば、支持基材２１の上に、上述した樹脂から構成される層が形成された後、凹凸構造に対応するレリーフ型のプレス版を用いて、樹脂層が加熱および加圧されることで、樹脂層に転写される。その後、上述した真空蒸着法などを用いて、レリーフ形成層５３の凹凸構造の上に、反射層５２が形成される。これにより、レリーフ形成層５３が有する凹凸構造に沿った反射層５２が形成される。
【００６９】
位相差層５１においては、位相差値δが、液晶材料の複屈折率Δｎと、位相差層５１の厚さＴｈとで決まる。なお、複屈折率Δｎは、液晶材料における常光線ｏの屈折率ｎｏと、液晶材料における異常光線ｅの屈折率ｎｅとの差であって、以下の式で表される。
【００７０】
Δｎ＝ｎｅ−ｎｏ  …  （式４）
そして、位相差値δは、複屈折率Δｎと、位相差層５１の厚さＴｈとを用いた以下の式で表される。
【００７１】
δ＝Δｎ・Ｔｈ  …  （式５）
位相差値δは、例えば、表示体５０の検証器が直線偏光子であり、かつ、表示体５０が反射層５２を有するとき、位相差値δは、設計波長である波長λに対して１／４λであることが好ましい。さらに、配向膜１０の支持基材２１が透明な基材であり、支持基材２１における配向膜１０とは反対側の面に直線偏光子が位置し、かつ、表示体５０の検証器が直線偏光子であるとき、位相差値δは、１／２λであることが好ましい。また、配向膜１０の支持基材２１が透明な基材であり、支持基材２１における配向膜１０とは反対側の面に円偏光子が位置し、かつ、表示体５０の検証器が円偏光子であるとき、位相差値δは、１／８λであることが好ましい。なお、いずれの場合であっても、位相差値δは、１／４λ、１／２λ、および、１／８λのいずれかであればよい。
【００７２】
なお、波長λは、例えば、観察者が、最も高い感度で認識することができる波長、または、読取装置が、最も高い感度で検出することができる波長に設定されることが好ましい。観察者が、例えば肉眼で表示体５０を観察するとき、可視光のうちで最も視認性の高い光である緑色光となる波長が波長λに設定されてもよい。あるいは、表示体５０が潜像を記憶していることを第三者に気付かれにくくするためには、緑色光となる波長よりも視認性の低い波長が波長λに設定されてもよい。
【００７３】
また、こうした表示体５０は、上述した第１照射工程から第３照射工程を含む配向膜形成工程の後に、配向膜１０の上に位相差層５１が形成される位相差層形成工程が行われることによって製造される。
【００７４】
［表示体の作用］
図１４から図２１を参照して表示体５０の作用を説明する。図１４から図２１の各々は、一対の偏光フィルタの間に表示体５０を挟んで観察したときに表示される画像を示す平面図である。図１４から図２１の各々は、偏光軸角度θＰが０°から９０°に含まれる複数の角度の間で変えられたときに、表示体５０の上に顕像化される画像が変わる様子を示している。以下では、位相差層５１の位相差値δが１／２λである表示体５０の一例の作用を説明する。
【００７５】
位相差層５１の位相差値δが１／２λであるとき、直線偏光が位相差層５１に入射すると、直線偏光の偏光軸は、位相差層５１の配向方向に対して反転する。すなわち、入射光の偏光軸と位相差層５１の配向方向とが形成する角度がθであるとき、入射光の偏光軸と透過光の偏光軸とが形成する角度は２θである。
【００７６】
そして、表示体５０が平行ニコルによって観察されたとき、配向膜１０における入射光の透過率Ｔは、以下の式６で表される。
【００７７】
【数１】
2015152828.tif 000003
上述したように、配向膜１０は、配向角が相互に異なる第１領域１１、第２領域１２、第３領域１３、および、第４領域１４を備えている。そのため、表示体５０においては、配向膜１０の上に積み重ねられた位相差層５１も、配向膜１０における第１領域１１から第４領域１４と対応して、配向角が相互に異なる４つの領域を備えている。観察者が、表示体５０に直線偏光を入射させ、かつ、偏光フィルタを介して表示体５０から出射される光を観察したとき、第１領域１１から第４領域１４の各々における透過率Ｔは、上述した式６に従うことで相互に異なり得る。
【００７８】
そのため、表示体５０は、第１領域１１から第４領域１４の各々における透過率Ｔの差異に基づいて、表示体５０上に可視像、すなわち、配向膜１０が記憶している潜像を可視化した顕像を表示することができる。なお、観察者が、一対の偏光フィルタを介さずに表示体５０から出射される光を観察するとき、表示体５０の上には、観察者が視認することのできる画像が表示されない。
【００７９】
表示体５０の表示する画像は、例えば、偏光フィルタの偏光軸の向きを偏光フィルタの面内で回転させることにより、以下のように変化する。
なお、以下では、θ１＝０°、Ｌ＝０、Ｍ＝−１、および、Ｎ＝０であるとき、すなわち、θ１＝０°、θ２＝２２．５°、θ３＝−４５°、および、θ４＝６７．５°である表示体５０を一例として説明する。
【００８０】
表示体５０を挟んで平行ニコルの状態で位置する一対の偏光フィルタの各々の偏光軸と、上述したＸ軸とが形成する角度、すなわち、表示体５０に入射させる直線偏光の偏光軸、および、表示体５０に出射させる直線偏光の偏光軸と、Ｘ軸とが形成する角度が偏光軸角度θＰである。また、第１領域１１の透過率が透過率Ｔ１であり、第２領域１２の透過率が透過率Ｔ２であり、第３領域１３の透過率が透過率Ｔ３であり、第４領域１４の透過率がＴ４である。
【００８１】
図１４が示すように、偏光軸角度θＰが１１．２５°であるとき、一対の偏光フィルタの各々の偏光軸は、第１領域１１においてＸ軸と第１配向角θ１を形成する直線と、第２領域１２においてＸ軸と第２配向角θ２を形成する直線とに挟まれる角の二等分線に平行である。また、偏光フィルタの偏光軸と、第３領域１３においてＸ軸と第３配向角θ３を形成する直線とが形成する角度は、偏光フィルタの偏光軸と、第４領域１４においてＸ軸と第４配向角θ４を形成する直線とが形成する角度と等しい。
【００８２】
このとき、偏光フィルタの偏光軸と、第１領域１１においてＸ軸と第１配向角θ１を形成する直線とが形成する角度は、偏光軸角度θＰから第１配向角θ１を引いた絶対値（｜θＰ−θ１｜）であって、１１．２５°である。また、偏光フィルタの偏光軸と、第２領域１２においてＸ軸と第２配向角θ２を形成する直線とが形成する角度は、偏光軸角度θＰから第２配向角θ２を引いた絶対値（｜θＰ−θ２｜）であって、１１．２５°である。
【００８３】
そのため、第１領域１１における透過率Ｔ１、および、第２領域１２における透過率Ｔ２の各々は、上述した式６を用いて以下のように算出される。
Ｔ１＝Ｔ２＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×１１．２５°］＝８５．４％
一方、偏光フィルタの偏光軸と、第３領域１３においてＸ軸と第３配向角θ３を形成する直線とが形成する角度は、偏光軸角度θＰから第３配向角θ３を引いた絶対値（｜θＰ−θ３｜）であって、５６．２５°である。また、偏光フィルタの偏光軸と、第４領域１４においてＸ軸と第４配向角θ４を形成する直線とが形成する角度は、偏光軸角度θＰから第４配向角θ４を引いた絶対値（｜θＰ−θ４｜）であって、５６．２５°である。
【００８４】
そのため、第３領域１３における透過率Ｔ３、および、第４領域１４における透過率Ｔ４の各々は、上述した式６を用いて以下のように算出される。
Ｔ３＝Ｔ４＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×５６．２５°］＝１４．６％
それゆえに、表示体５０においては、第１領域１１、および、第２領域１２がネガティブ像として観察される一方、第３領域１３、および、第４領域１４がポジティブ像として観察される。結果として、表示体５０は、第１画像をポジティブ画像として表示する。このとき、第１画像の透過率と、配向膜１０における第１画像以外の部分の透過率との透過率差ΔＴは、第１領域１１の透過率Ｔ１と第３領域１３の透過率Ｔ３との差に等しい。すなわち、透過率差ΔＴは、以下のように算出される。
【００８５】
ΔＴ＝Ｔ１−Ｔ３＝７０．８％
このように、配向膜１０によれば、第１画像と配向膜１０における第１画像以外の部分との透過率差ΔＴが、７０．８％になる。結果として、表示体５０は、表示体５０が記憶している潜像のうち、第１画像を選択的に表示することができる。
【００８６】
図１５が示すように、偏光軸角度θＰが３３．７５°であるとき、一対の偏光フィルタの各々の偏光軸は、第１領域１１においてＸ軸と第１配向角θ１を形成する直線と、第４領域１４においてＸ軸と第４配向角θ４を形成する直線とに挟まれる角度の二等分線に平行である。
【００８７】
このとき、偏光フィルタの偏光軸と、第１領域１１においてＸ軸と第１配向角θ１を形成する直線とが形成する角度は、偏光フィルタの偏光軸と、第４領域１４において第４配向角θ４を形成する直線とが形成する角度と等しい。偏光フィルタの偏光軸と、第１領域１１においてＸ軸と第１配向角θ１を形成する直線とが形成する角度は、偏光軸角度θＰから第１配向角θ１を引いた絶対値（｜θＰ−θ１｜）である。一方、偏光フィルタの偏光軸と、第４領域１４においてＸ軸と第４配向角θ４を形成する直線とが形成する角度は、偏光軸角度θＰから第４配向角θ４を引いた絶対値（｜θＰ−θ４｜）である。これらの角度はいずれも、３３．７５°である。
【００８８】
そのため、第１領域１１における透過率Ｔ１、および、第４領域１４における透過率Ｔ４の各々は、上述した式６を用いて以下のように算出される。
Ｔ１＝Ｔ４＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×３３．７５°］＝１４．６％
一方、偏光フィルタの偏光軸と、第２領域１２においてＸ軸と第２配向角θ２を形成する直線とが形成する角度は、偏光軸角度θＰから第２配向角θ２を引いた絶対値（｜θＰ−θ２｜）であって、１１．２５°である。また、偏光フィルタの偏光軸と、第３領域１３の第３配向角θ３を有する直線とが形成する角度は、偏光軸角度θＰから第３配向角θ３を引いた絶対値（｜θＰ−θ３｜）であって、７８．７５°である。
【００８９】
そのため、第２領域１２における透過率Ｔ２、および、第３領域１３における透過率Ｔ３の各々は、上述した式６を用いて以下のように算出される。
Ｔ２＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×１１．２５°］
＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×７８．７５°］＝８５．４％
それゆえに、表示体５０においては、第１領域１１および第４領域１４はポジティブ像として観察される一方、第２領域１２および第３領域１３はネガティブ像として観察される。結果として、表示体５０は、第２画像をポジティブ画像として表示する。このとき、第２画像の透過率と、配向膜１０における第２画像以外の部分の透過率との透過率差ΔＴは、第２領域１２の透過率Ｔ２と第１領域１１の透過率Ｔ１との差に等しい。すなわち、透過率差ΔＴは、以下のように算出される。
【００９０】
ΔＴ＝Ｔ２−Ｔ１＝７０．８％
このように、配向膜１０によれば、第２画像と配向膜１０における第２画像以外の部分との透過率差ΔＴが、７０．８％になる。結果として、表示体５０は、表示体５０が記憶している潜像のうち、第２画像を選択的に表示することができる。
【００９１】
図１６が示すように、偏光軸角度θＰが５６．２５°であるとき、第１領域１１における透過率Ｔ１、および、第２領域１２における透過率Ｔ２は、上述した式６を用いて以下のように算出される。
【００９２】
Ｔ１＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×５６．２５°］
＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×３３．７５°］＝Ｔ２＝１４．６％
一方、第３領域１３における透過率Ｔ３、および、第４領域１４における透過率Ｔ４は、上述した式６を用いて以下のように算出される。
【００９３】
Ｔ３＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×７８．７５°］
＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×１１．２５°］＝Ｔ４＝８５．４％
そのため、表示体５０においては、第１領域１１および第２領域１２はネガティブ像として観察される一方、第３領域１３および第４領域１４はポジティブ像として観察される。結果として、表示体５０は、第１画像をネガティブ画像として表示する。このとき、第１画像の透過率と、配向膜１０における第１画像以外の部分の透過率との透過率差ΔＴは、第３領域１３の透過率Ｔ３と第１領域１１の透過率Ｔ１との差に等しい。すなわち、透過率差ΔＴは、以下のように算出される。
【００９４】
ΔＴ＝Ｔ３−Ｔ１＝７０．８％
このように、配向膜１０によれば、第１画像と配向膜１０における第１画像以外の部分との透過率差ΔＴが、７０．８％になる。結果として、表示体５０は、表示体５０が記憶している潜像のうち、第１画像を選択的に表示することができる。
【００９５】
図１７が示すように、偏光軸角度θＰが７８．７５°であるとき、第１領域１１における透過率Ｔ１、および、第４領域１４における透過率Ｔ４の各々は、上述した式６を用いて以下のように算出される。
【００９６】
Ｔ１＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×７８．７５°］
＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×１１．２５°］＝Ｔ４＝８５．４％
一方、第２領域１２における透過率Ｔ２、および、第３領域１３における透過率Ｔ３の各々は、上述した式６を用いて以下のように算出される。
【００９７】
Ｔ２＝Ｔ３＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×５６．２５°］＝１４．６％
そのため、表示体５０においては、第１領域１１および第４領域１４はポジティブ像として観察される一方、第２領域１２および第３領域１３はネガティブ像として観察される。結果として、表示体５０は、第２画像をネガティブ画像として表示する。このとき、第２画像の透過率と、配向膜１０における第２画像以外の部分の透過率との透過率差ΔＴは、第１領域１１の透過率Ｔ１と第２領域１２の透過率Ｔ２との差に等しい。すなわち、透過率差ΔＴは、以下のように算出される。
【００９８】
ΔＴ＝Ｔ１−Ｔ２＝７０．８％
このように、配向膜１０によれば、第２画像と配向膜１０における第２画像以外の部分との透過率差ΔＴが、７０．８％になる。結果として、表示体５０は、表示体５０が記憶している潜像のうち、第２画像を選択的に表示することができる。
【００９９】
上述したように、表示体５０は、表示体５０の観察に用いられる偏光フィルタの偏光軸の偏光軸角度θＰが変えられることにより、第１画像と第２画像との各々をポジティブ画像として表示すること、および、第１画像と第２画像との各々をネガティブ画像として表示することができる。そのため、表示体５０が、上述した条件の下で観察されることにより、潜像が顕像化することを知っている観察者は、表示体５０が２つの潜像の各々を個別に表示できるか否かを判断することによって、表示体５０を有する物品が真正品であるか偽造品であるかを判断することができる。
【０１００】
一方、図１８が示すように、偏光軸角度θＰが０°であるとき、第１領域１１における透過率Ｔ１は、上述した式６から、以下のように算出される。
Ｔ１＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×０°］＝１００％
これに対して、第２領域１２における透過率Ｔ２、および、第４領域１４における透過率Ｔ４は、上述した式６を用いて以下のように算出される。
【０１０１】
Ｔ２＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×２２．５°］
＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×６７．５°］＝Ｔ４＝６．２５％
さらに、第３領域１３における透過率Ｔ３は、上述した式６を用いて以下のように算出される。
【０１０２】
Ｔ３＝ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×４５°］＝２５％
なお、偏光軸角度θＰが９０°であるとき、第１領域１１から第４領域１４の各々における透過率は、偏光軸角度θＰが０°であるときと同じ値である。
【０１０３】
図１９が示すように、偏光軸角度θＰが２２．５°であるとき、第１領域１１における透過率Ｔ１、および、第３領域１３における透過率Ｔ３の各々は、上述した式６を用いて以下のように算出される。
【０１０４】
Ｔ１＝Ｔ３＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×２２．５°］＝６．２５％
一方、第２領域１２における透過率Ｔ２は、上述した式６を用いて以下のように算出される。
【０１０５】
Ｔ２＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×０°］＝１００％
さらに、第４領域１４における透過率Ｔ４は、上述した式６を用いて以下のように算出される。
【０１０６】
Ｔ４＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×４５°］＝２５％
図２０が示すように、偏光軸角度θＰが４５°であるとき、第１領域１１における透過率Ｔ１は、上述した式６を用いて以下のように算出される。
【０１０７】
Ｔ１＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×４５°］＝２５％
一方、第２領域１２における透過率Ｔ２、および、第４領域１４における透過率Ｔ４の各々は、上述した式６を用いて以下のように算出される。
【０１０８】
Ｔ２＝Ｔ４＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×２２．５°］＝６．２５％
さらに、第３領域１３における透過率Ｔ３は、上述した式６を用いて以下のように算出される。
【０１０９】
Ｔ３＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×９０°］＝１００％
図２１が示すように、偏光軸角度θＰが６７．５°であるとき、第１領域１１における透過率Ｔ１、および、第３領域１３における透過率Ｔ３の各々は、上述した式６を用いて以下のように算出される。
【０１１０】
Ｔ１＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×６７．５°］
＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×２２．５°］＝６．２５％
一方、第２領域１２における透過率Ｔ２は、上述した式６を用いて以下のように算出される。
【０１１１】
Ｔ２＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×４５°］＝２５％
さらに、第４領域１４における透過率Ｔ４は、上述した式６を用いて以下のように算出される。
【０１１２】
Ｔ４＝１００×ｃｏｓ２［（π／１８０°）×２×０°］＝１００％
このように、偏光軸角度θＰが、０°、２２．５°、４５°、６７．５°、および、９０°であるとき、表示体５０は、第１画像と第２画像とが相互に重なった状態で表示する。つまり、偏光軸角度θＰが所定の角度であるときのみ、表示体５０が、第１画像と第２画像とのうちの一方を表示する。そのため、偏光軸角度θＰに関わらず、第１画像と第２画像とのうちの一方を表示する構成と比べて、表示体５０が相互に重なる２つの潜像を記憶していることが、第三者に気付かれにくい。
【０１１３】
以上説明したように、上述した実施形態の配向膜の製造方法、および、表示体の製造方法によれば、以下に列挙する効果を得ることができる。
（１）偏光角が相互に異なる３つの偏光を照射することによって、配向角が相互に異なる４つの領域が形成される。このとき、第１偏光Ｐ１および第２偏光Ｐ２の各々は、４つの領域のうちの２つの領域に照射される一方、第３偏光Ｐ３は、４つの領域の全てに照射される。このとき、第３配向角θ３を形成するための偏光角の一方が、第３配向角θ３未満であり、かつ、感光性膜の全体に照射される第３偏光Ｐ３の強度が、第１偏光Ｐ１の強度および第２偏光Ｐ２の強度よりも小さい。そのため、３つの偏光を照射することによって、配向角が相互に異なる４つの領域を形成することができる。それゆえに、４つの領域の各々に対して、各領域に固有の偏光が、各領域に対して個別に照射される方法と比べて、より簡単な方法で配向膜を形成することができる。
【０１１４】
（２）感光性膜を形成する感光分子の一部が、既に所定の配向角を有した状態で、偏光角の最も大きい第３偏光が感光性膜に照射される。そのため、第３偏光が第１工程あるいは第２工程で照射される方法と比べて、感光性膜を構成する感光分子のうち、第３偏光に対応する配向角を有した感光性分子の数が過剰になりにくくなる。それゆえに、各領域における配向角が、所望とする配向角よりも大幅に大きくなることが抑えられる。
【０１１５】
（３）第１偏光角が第２配向角θ２よりも小さいため、より角度の大きい偏光である第３偏光が第３工程で照射されても、第１配向角θ１が、所望とする配向角を超えにくくなる。
【０１１６】
（４）第２偏光が第３偏光角よりも小さいため、より角度の大きい偏光である第３偏光が第３工程で照射されても、第３配向角θ３が、所望とする配向角を超えにくくなる。
（５）最も角度の小さい第１偏光の強度が最も大きいため、第１偏光が照射された後に、より偏光角の大きい第２偏光や第３偏光が照射されても、各領域における配向角が、所望とする配向角を超えにくくなる。
【０１１７】
（６）感光性膜に対する偏光の照射が偏光角の小さい順に行われるため、照射の順番と偏光の角度の大きさの順番とが対応付けられていない方法と比べて、照射すべき偏光の角度が間違われにくくなる。
【０１１８】
なお、上述した実施形態は、以下のように適宜変更して実施することもできる。
・第１照射工程の次に第２照射工程を行い、かつ、第２照射工程の次に第３照射工程を行う。これに限らず、第１照射工程、第２照射工程、および、第３照射工程の順番は、任意に変更してよい。要は、第１照射工程として、第１領域と第２領域とに第１偏光Ｐ１を照射する工程と、第２照射工程として、第２領域と第３領域とに第２偏光Ｐ２を照射する工程と、第３照射工程として、第１領域から第４領域に第３偏光Ｐ３を照射する工程とが行われればよい。
【０１１９】
・第１照射工程では、偏光角の最も小さい第１偏光Ｐ１が、感光性膜２２に照射される。これに限らず、第１偏光Ｐ１の偏光角は、第２偏光Ｐ２の偏光角よりも大きくてもよい。すなわち、第１偏光Ｐ１の偏光角が、第２偏光角θＩＩあるいは第３偏光角θＩＩＩであり、第２偏光Ｐ２の偏光角が、第１偏光Ｐ１の偏光角よりも小さい角度であってもよい。この場合には、第２偏光Ｐ２の強度を第１偏光Ｐ１の強度よりも高くすることで、上述した（５）に準じた効果を得ることはできる。
【０１２０】
・第２偏光Ｐ２の偏光角が第２偏光角θＩＩであるとき、第２偏光角θＩＩは、第３領域１３の第３配向角θ３以上であってもよい。この場合には、第２偏光角θＩＩが第３配向角θ３よりも大きい分、同じく第３領域１３に照射される第３偏光Ｐ３の偏光角を第２偏光角θＩＩよりも小さい第１偏光角θＩとし、かつ、第１偏光角θＩの角度を第３配向角θ３よりも小さくすることで、第３領域１３の配向角を第３配向角θ３とすることが可能にはなる。
【０１２１】
・第１偏光Ｐ１の偏光角は、第１偏光角θＩよりも大きい偏光角である第２偏光角θＩＩあるいは第３偏光角θＩＩＩであって、かつ、第２配向角θ２よりも大きい偏光角であってもよい。この場合には、第１偏光Ｐ１の偏光角を大きくした分、同じく第１領域１１に照射される第２偏光Ｐ２の偏光角が、第１偏光Ｐ１の偏光角よりも小さい偏光角であればよい。例えば、第１偏光Ｐ１が第２偏光角θＩＩを有するのであれば、第２偏光Ｐ２が第１偏光角θＩを有すればよいし、第１偏光Ｐ１が第３偏光角θＩＩＩを有するのであれば、第２偏光Ｐ２が第２偏光角θＩＩもしくは第１偏光角θＩを有すればよい。これにより、第２領域１２の配向角が、第２配向角θ２を超えにくくする効果を得ることは可能である。
【０１２２】
・第３照射工程にて照射される第３偏光Ｐ３の偏光角は、第３偏光角θＩＩＩでなくともよく、第３偏光角θＩＩＩよりも小さい偏光角である第２偏光角θＩＩ、あるいは、第１偏光角θＩであってもよい。例えば、第３偏光Ｐ３の偏光角が第１偏光角θＩであるとき、第４領域１４の第４配向角θ４が、第１偏光角θＩと等しくなるため、上述した式１から式３に含まれる３つの整数においては、整数Ｌおよび整数Ｍの各々が、整数Ｎよりも大きくなるように偏光の照射が行われればよい。これにより、第３偏光Ｐ３の偏光角が第１偏光角θＩであっても、配向膜１０が、配向角が相互に異なる第１領域１１から第４領域１４を有する構成とすることが可能にはなる。例えば、第３偏光Ｐ３の偏光角が第２偏光角θＩＩであるとき、第４領域１４の第４配向角θ４が、第２偏光角θＩＩと等しくなるため、整数Ｌおよび整数Ｍの各々が、整数Ｎよりも大きくなるように偏光の照射が行われることが好ましい。
【０１２３】
・整数Ｌは０以外の数であってよく、整数Ｍは−１以外の数であってよく、整数Ｎは０以外の数であってもよい。例えば、整数Ｌ、整数Ｍ、および、整数Ｎが、Ｌ＝Ｎ＝Ｍ＋２の関係を満たすとき、表示体５０においては、上述した実施形態と同等の画像が表示される。また、整数Ｌ、整数Ｍ、および、整数Ｎが、Ｌ＝Ｎ＝Ｍ＋２の関係を満たしていなくともよい。要は、第１配向角θ１から第４配向角θ４が上述した式１から式３を満たしていれば、偏光軸角度θＰが０°以上９０°以下に含まれるいずれかの角度にて、表示体５０が第１画像を表示し、第１画像を表示する角度とは異なる偏光軸角度θＰにて、表示体５０が第２画像を表示する。
【０１２４】
・第１配向角θ１は０°以外の角度であってもよく、第１配向角θ１、第２配向角θ２、第３配向角θ３、および、第４配向角θ４が、上述した式１から式３を満たしていれば、第１配向角θ１は、任意の角度であってよい。
【０１２５】
［実施例］
配向膜の製造方法、および、表示体の製造方法における実施例および比較例を説明する。
【０１２６】
［実施例１］
まず、透明なプラスチック板であるマスク基材３１に、遮光性を有するインク（東洋インキ（株）製、ＳＳ６６  ９１１墨）をスクリーン印刷法によって塗布し、２μｍの厚さを有する第１遮光部３３と、第１開口部３２とを有する第１マスク３０を得た。また、同様の透明なプラスチック板であるマスク基材４１に、遮光性を有するインク（同上）をスクリーン印刷法によって塗布し、２μｍの厚さを有する第２遮光部４３と、第２開口部４２とを有する第２マスク４０を得た。
【０１２７】
次に、ポリエステルフィルム（東レ（株）製、ルミラー１９Ｆ６０）を支持基材２１として、光配向剤（大日本インキ化学工業（株）製、ＩＡ−０１）を０．１μｍの厚さで支持基材２１の上に塗布して、感光性膜２２を形成した。これにより、感光性基板２０を得た。
【０１２８】
第１照射工程として、感光性膜２２のＸ軸と、直線偏光の光軸との形成する角度が−９°である状態で、第１マスク３０を用いて直線偏光を感光性膜２２に照射した。そして、第２照射工程として、上述の直線と直線偏光の光軸との形成する角度が３６°である状態で、第２マスク４０を用いて直線偏光を感光性膜２２に照射した。さらに、第３照射工程として、上述の直線と直線偏光の光軸とが形成する角度が６７．５°である状態で、直線偏光を感光性膜２２の全体に照射した。
【０１２９】
第１照射工程における直線偏光の強度を８６．４ｍＪ／ｃｍ２に設定し、第２照射工程における直線偏光の強度を６４．８ｍＪ／ｃｍ２に設定し、第３照射工程における直線偏光の強度を３６ｍＪ／ｃｍ２に設定した。
【０１３０】
これにより、第１領域１１、第２領域１２、第３領域１３、および、第４領域１４を有する配向膜１０を得た。
さらに、上述の方法で製造された配向膜１０の上に、液晶材料（大日本インキ化学工業（株）製、ＵＶキュアラブル液晶ＵＣＬ−００８）をマイクログラビア法によって塗布し、液晶材料に酸素雰囲気下で紫外線を照射して、液晶材料を硬化した。これにより、配向膜１０の上に位相差層５１を形成することで、表示体５０を得た。
【０１３１】
そして、表示体５０を平行ニコルの状態にある２つの偏光フィルタの間に挟み、さらに、偏光フィルタの各々の偏光軸を偏光フィルタの面内で回転させながら表示体５０から射出される光を観察した。これにより、偏光軸角度θＰが、１１．２５°、３３．７５°、５６．２５°、および、７８．７５°のいずれかであるとき、図１４から図１７が示すように、２つの潜像のうちの一方が顕像化されることが認められた。
【０１３２】
すなわち、第１領域１１では、第１偏光角θＩである−９°と、第３偏光角θＩＩＩである６７．５°との相互作用により、配向膜１０におけるＸ軸と第１領域１１の配向規制方向とが形成する角度である第１配向角θ１が、０°であることが認められた。また、第２領域１２では、第１偏光角θＩである−９°と、第２偏光角θＩＩである３６°と、第３偏光角θＩＩＩである６７．５°との相互作用により、上述した直線と第２領域１２の配向規制方向との形成する角度である第２配向角θ２が、２２°であることが認められた。
【０１３３】
そして、第３領域１３では、第２偏光角θＩＩである３６°と、第３偏光角θＩＩＩである６７．５°との相互作用により、上述した直線と第３領域１３の配向規制方向との形成する角度である第３配向角θ３が、４６°であることが認められた。さらに、第４領域１４では、第３偏光角θＩＩＩである６７．５°により、上述した直線と第４領域１４の配向規制方向との形成する角度である第４配向角θ４が、６７．５°であることが認められた。
【０１３４】
［実施例２］
実施例１と同様の方法で、第１マスク３０、第２マスク４０、および、感光性基板２０を得た。
【０１３５】
そして、第１照射工程として、感光性膜２２におけるＸ軸と、直線偏光の光軸との形成する角度が−９°である状態で、第１マスク３０を用いて直線偏光を感光性膜２２に照射した。そして、第２照射工程として、上述の直線と直線偏光との形成する角度が４１°である状態で、第２マスク４０を用いて直線偏光を感光性膜２２に照射した。さらに、第３照射工程として、上述の直線と直線偏光の光軸とが形成する角度が６７．５°である状態で、直線偏光を感光性膜２２の全体に照射した。
【０１３６】
第１照射工程における直線偏光の強度を８６．４ｍＪ／ｃｍ２に設定し、第２照射工程における直線偏光の強度を８６．４ｍＪ／ｃｍ２に設定し、第３照射工程における直線偏光の強度を３６ｍＪ／ｃｍ２に設定した。
【０１３７】
これにより、第１領域１１、第２領域１２、第３領域１３、および、第４領域１４を有する配向膜１０を得た。そして、実施例１と同様の方法で、配向膜１０の上に、位相差層５１を形成することで、表示体５０を得た。
【０１３８】
表示体５０を平行ニコルの状態にある２つの偏光フィルタの間に挟み、さらに、偏光フィルタの各々の偏光軸を偏光フィルタの面内で回転させながら表示体５０から出射される光を観察した。これにより、偏光軸角度θＰが、１１．２５°、３３．７５°、５６．２５°、および、７８．７５°のいずれかであるとき、図１４から図１７が示すように、２つの潜像のうちの一方が顕像化されることが認められた。
【０１３９】
すなわち、第１領域１１では、第１偏光角θＩである−９°と、第３偏光角θＩＩＩである６７．５°との相互作用により、配向膜１０におけるＸ軸と第１領域１１の配向規制方向とが形成する角度である第１配向角θ１が、０°であることが認められた。また、第２領域１２では、第１偏光角θＩである−９°と、第２偏光角θＩＩである４１°と、第３偏光角θＩＩＩである６７．５°との相互作用により、上述した直線と第２領域１２の配向規制方向との形成する角度である第２配向角θ２が、２２°であることが認められた。
【０１４０】
そして、第３領域１３では、第２偏光角θＩＩである４１°と、第３偏光角θＩＩＩである６７．５°との相互作用により、上述した直線と第３領域１３の配向規制方向との形成する角度である第３配向角θ３が、４６°であることが認められた。さらに、第４領域１４では、第３偏光角θＩＩＩである６７．５°により、上述した直線と第４領域１４の配向規制方向との形成する角度である第４配向角θ４が、６７．５°であることが認められた。
【０１４１】
［実施例３］
実施例１と同様の方法で、第１マスク３０、第２マスク４０、および、感光性基板２０を得た。
【０１４２】
そして、第３照射工程として、感光性膜２２におけるＸ軸と、直線偏光の偏光軸との形成する角度が６７．５°である状態で、直線偏光を感光性膜２２の全体に照射した。そして、第１照射工程として、上述の直線と直線偏光との形成する角度が−９°である状態で、第１マスク３０を用いて直線偏光を感光性膜２２に照射した。さらに、第２照射工程として、上述の直線と直線偏光の偏光軸とが形成する角度が４１°である状態で、第２マスク４０を用いて直線偏光を感光性膜２２に照射した。
【０１４３】
第１照射工程における直線偏光の強度を３６ｍＪ／ｃｍ２に設定し、第２照射工程における直線偏光の強度を８６．４ｍＪ／ｃｍ２に設定し、第３照射工程における直線偏光の強度を６４．８ｍＪ／ｃｍ２に設定した。
【０１４４】
これにより、第１領域１１、第２領域１２、第３領域１３、および、第４領域１４を有する配向膜１０を得た。そして、実施例１と同様の方法で、配向膜１０の上に、位相差層５１を形成することで、表示体５０を得た。
【０１４５】
表示体５０を平行ニコルの状態にある２つの偏光フィルタの間に挟み、さらに、偏光フィルタの各々の偏光軸を偏光フィルタの面内で回転させながら表示体５０から出射される光を観察した。これにより、偏光軸角度θＰが、１１．２５°、３３．７５°、５６．２５°、および、７８．７５°のいずれかであるとき、図１４から図１７が示すように、２つの潜像のうちの一方が顕像化されることが認められた。
【０１４６】
すなわち、第１領域１１では、第１偏光角θＩである−９°と、第３偏光角θＩＩＩである６７．５°との相互作用により、配向膜１０におけるＸ軸と第１領域１１の配向規制方向とが形成する角度である第１配向角θ１が、０°であることが認められた。また、第２領域１２では、第１偏光角θＩである−９°と、第２偏光角θＩＩである４１°と、第３偏光角θＩＩＩである６７．５°との相互作用により、上述した直線と第２領域１２の配向規制方向との形成する角度である第２配向角θ２が、２２°であることが認められた。
【０１４７】
そして、第３領域１３では、第２偏光角θＩＩである４１°と、第３偏光角θＩＩＩである６７．５°との相互作用により、上述した直線と第３領域１３の配向規制方向との形成する角度である第３配向角θ３が、４６°であることが認められた。さらに、第４領域１４では、第３偏光角θＩＩＩである６７．５°により、上述した直線と第４領域１４の配向規制方向との形成する角度である第４配向角θ４が、６７．５°であることが認められた。
【０１４８】
なお、上述した実施例１から実施例３に限らず、第１照射工程から第３照射工程にて感光性膜２２に照射される３つの偏光が、以下の条件を満たしていれば、表示体５０が第１画像と第２画像とを個別に表示することが可能であることが、本願発明者らによって認められている。
【０１４９】
（Ａ）第１偏光Ｐ１から第３偏光Ｐ３の各々においては偏光角が相互に異なる。
（Ｂ）３つの偏光角は、第１偏光角と、第１偏光角θＩよりも大きい第２偏光角θＩＩと、第２偏光角θＩＩよりも大きい第３偏光角θＩＩＩから構成され、かつ、３つの偏光角のうち、第３配向角θ３を形成するための偏光角の一方が、第３配向角θ３未満である。
【０１５０】
（Ｃ）第３偏光角θＩＩＩで照射される第３偏光Ｐ３の強度が、第１偏光Ｐ１の強度、および、第２偏光Ｐ２の強度よりも低い。
［比較例１］
実施例１と同様の方法で、第１マスク３０、第２マスク４０、および、感光性基板２０を得た。
【０１５１】
そして、第１照射工程として、感光性膜２２におけるＸ軸と、直線偏光の偏光軸との形成する角度が−９°である状態で、第１マスク３０を用いて直線偏光を感光性膜２２に照射した。そして、第２照射工程として、上述の直線と直線偏光との形成する角度が３６°である状態で、第２マスク４０を用いて直線偏光を感光性膜２２に照射した。さらに、第３照射工程として、上述の直線と直線偏光の偏光軸との形成する角度が６７．５°である状態で、感光性膜２２の全体に直線偏光を照射した。
【０１５２】
第１照射工程における直線偏光の強度を８６．４ｍＪ／ｃｍ２に設定し、第２照射工程における直線偏光の強度を８６．４ｍＪ／ｃｍ２に設定し、第３照射工程における直線偏光の強度を８６．４ｍＪ／ｃｍ２に設定した。
【０１５３】
これにより、第１領域、第２領域、第３領域、および、第４領域を有する配向膜を得た。そして、実施例１と同様の方法で、配向膜の上に、位相差層を形成することで、表示体を得た。
【０１５４】
表示体を平行ニコルの状態にある２つの偏光フィルタの間に挟み、さらに、偏光フィルタの各々の偏光軸を偏光フィルタの面内で回転させながら表示体から出射される光を観察した。このとき、偏光軸角度θＰが、０°以上９０°以下の範囲に含まれるいずれの角度であっても、２つの潜像が相互に重なった状態で顕像化されることが認められた。
【０１５５】
［比較例２］
実施例１と同様の方法で、第１マスク３０、第２マスク４０、および、感光性基板２０を得た。
【０１５６】
そして、第１照射工程として、感光性膜２２におけるＸ軸と、直線偏光の偏光軸との形成する角度が−９°である状態で、第１マスク３０を用いて直線偏光を感光性膜２２に照射した。そして、第２照射工程として、上述の直線と直線偏光との形成する角度が５０°である状態で、第２マスク４０を用いて直線偏光を感光性膜２２に照射した。さらに、第３照射工程として、上述の直線と直線偏光の偏光軸との形成する角度が６７．５°である状態で、感光性膜２２の全体に直線偏光を照射した。
【０１５７】
第１照射工程における直線偏光の強度を８６．４ｍＪ／ｃｍ２に設定し、第２照射工程における直線偏光の強度を６４．８ｍＪ／ｃｍ２に設定し、第３照射工程における直線偏光の強度を３６ｍＪ／ｃｍ２に設定した。
【０１５８】
これにより、第１領域、第２領域、第３領域、および、第４領域を有する配向膜を得た。そして、実施例１と同様の方法で、配向膜の上に、位相差層を形成することで、表示体を得た。
【０１５９】
表示体を平行ニコルの状態にある２つの偏光フィルタの間に挟み、さらに、偏光フィルタの各々の偏光軸を偏光フィルタの面内で回転させながら表示体から出射される光を観察した。このとき、偏光軸角度θＰが、０°以上９０°以下の範囲に含まれるいずれの角度であっても、２つの潜像が相互に重なった状態で顕像化されることが認められた。
【符号の説明】
【０１６０】
１０…配向膜、１１…第１領域、１２…第２領域、１３…第３領域、１４…第４領域、２０…感光性基板、２１…支持基材、２２…感光性膜、３０…第１マスク、３１，４１…マスク基材、３２…第１開口部、３３…第１遮光部、４０…第２マスク、４２…第１開口部、４３…第２遮光部、５０…表示体、５１…位相差層、５２…反射層、５３…レリーフ形成層、Ｐ１…第１偏光、Ｐ２…第２偏光、Ｐ３…第３偏光、ＰＲ１…第１前駆領域、ＰＲ２…第２前駆領域、ＰＲ３…第３前駆領域、ＰＲ４…第４前駆領域、Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３…分子。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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