(57)【要約】【課題】真空容器内環境からの輻射熱による基板昇温を、長時間にわたり安定して低減できる真空蒸着装置を提供する。【解決手段】前記蒸発源から放射される前記蒸着材料が前記真空容器の内壁に付着するのを防ぐ防着部と、フレーム部と前記フレーム部に設けられ前記蒸発源から放射される前記蒸着材料を前記防着部に導く開口部と前記開口部の外周の1部に設けられた羽板部と前記防着部からの輻射熱を吸収し、前記蒸発源から放射される前記蒸着材料が前記羽板部に付着するのを防止する付着防止手段とを有し、前記防着部と離間して設けられた遮熱部と、を有することを特徴とする。【選択図】図１
2015021170.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空容器内で、蒸発源によって被蒸着対象上に蒸着材料を成膜する真空蒸着装置であって、
前記蒸発源から放射される前記蒸着材料が前記真空容器の内壁に付着するのを防ぐ防着部と、
フレーム部と、前記フレーム部に設けられ前記蒸発源から放射される前記蒸着材料を前記防着部に導く開口部と、前記開口部の外周の1部に設けられた羽板部と、前記防着部からの輻射熱を吸収し、前記蒸発源から放射される前記蒸着材料が前記羽板部に付着するのを防止する付着防止手段とを有し、前記防着部と離間して設けられた遮熱部と、
を有することを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項２】
真空容器内で、蒸発源によって被蒸着対象上に蒸着材料を成膜する真空蒸着装置であって、
前記蒸発源から放射される前記蒸着材料が前記真空容器の内壁に付着するのを防ぐ防着部と、
前記蒸発源から放射される輻射熱を前記防着部に導く複数の開口部と、前記防着部からの輻射熱を吸収する羽板部と、複数の前記開口部と複数の前記羽板部を備えるフレーム部とを有し、前記開口部を通して前記蒸発源から前記防着部を望むことができ、且つ前記防着部から前記被蒸着対象を望むことができないように前記羽板部を配置し、前記防着部と離間して設けられた遮熱部と、
を有することを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項３】
真空容器内で、蒸発源によって被蒸着対象上に蒸着材料を成膜する真空蒸着装置であって、
前記蒸発源から放射される前記蒸着材料が前記真空容器の内壁に付着するのを防ぐ防着部と、
前記防着部からの輻射熱を吸収し、前記防着部に固定された羽板部と、前記蒸発源を放射される前記蒸着材料が前記羽板部に付着するのを防止する付着防止手段を備える遮熱部と、
を有することを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項４】
前記請求項１又は３記載の真空蒸着装置において、
前記付着防止手段は、前記羽板部の傾斜角を前記蒸発源から放射される前記蒸着材料の飛行方向と略平行になるように設定したことであることを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項５】
前記請求項１又は３記載の真空蒸着装置において、
前記付着防止手段は、前記羽板部の前記蒸発源側の端部に設けられた鍔であることを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかに記載の真空蒸着装置において、
前記羽板部は前記被蒸着対象側を望む第１の面と前記防着部を望む第２の面を有し、前記第１の面が前記第２の面と比べて高い反射率を有することを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項７】
請求項１又は２に記載の真空蒸着装置において、
前記遮熱部は冷却機構を備えていることを特徴とする真空蒸着装置。 
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかに記載の真空蒸着装置において、
前記羽板部は、SUS、Mo、Ti、Taのうち少なくとも一つの金属で構成されたことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項９】
請求項６に記載の真空蒸着装置において、
前記羽板部の前記第１の面上に、耐酸化性を有する保護層を備えていることを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の真空蒸着装置において、
前記保護膜は、赤外領域で透明かつ耐酸化性を有する材料（TiN、SiN、ZrN、TaN、CrOx、SiO2）、あるいは酸化しても変化の小さな貴金属の材料（Ag、Au、Pt、白金族）のうち少なくとも一つの材料で構成されたことを特徴とする真空蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイや有機ＥＬ照明など生産する際に、基板等に対して蒸着材料を成膜する真空蒸着装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機ＥＬ素子が新たな産業分野として注目されている。有機ＥＬディスプレイは液晶ディスプレイやプラズマディスプレイに代わる次世代ディスプレイとして、また有機ＥＬ照明はＬＥＤ照明と並ぶ次世代照明として期待されている。
【０００３】
有機ＥＬ素子は、有機化合物からなる発光層、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層などを積層した多層構造を、陽極と陰極からなる電極対で挟み込んだ構造になっている。電極に電圧を印加することにより陽極側から正孔が、陰極側から電子が発光層に注入され、それらが再結合して生じる励起子（エキシトン）の失活により発光する。
【０００４】
発光層を形成する有機材料には高分子材料と低分子材料がある。このうち現在主流である低分子材料は、真空蒸着によって成膜される。その他の層を形成する際にも真空蒸着が用いられる。性能向上のために共蒸着によるドーピングや合金化も行われている。
【０００５】
真空蒸着に用いられる蒸発源は、蒸着材料を封入する坩堝、蒸着材料を噴出(放射)する開口部、坩堝を加熱するヒーター、坩堝およびヒーターなどを格納するハウジングを有する。ヒーターにより加熱された坩堝から蒸着材料を蒸発あるいは昇華させて、真空容器内に設置した基板上にノズルから気化した蒸着材料を噴射して各層を形成する。カラー表示の有機ＥＬ素子を作成するには、基板と蒸着マスクをアライメントした状態で、異なる色を発光する有機ＥＬ材料を画素ごとに塗り分けて成膜する。
【０００６】
本技術分野の背景技術の一つとして、例えば特許文献１や特許文献２がある。
特許文献１には、蒸着源の開口の温度が低下する部分で、蒸発した蒸着材料が堆積することを防止するために、「内部に蒸着材料Ｍが収納されているセル11と、側壁部材13との間に、加熱手段13Aを設ける。セル11の上部に、蒸着材料の蒸気排出用開口12Aが形成されたセルキャップ12と、該セルキャップに形成された蒸気排出用開口と対応する開口が形成された蓋15との間に、SUSあるいはタンタルからなり、蒸気排出用開口と対応する開口が形成された熱遮断板16を設ける。熱伝導率の低い材料からなる熱遮断板により、開口周辺の温度を適切に保持し、温度低下により開口周辺に凝固する現象を防止できる」と記載されている。
【０００７】
特許文献２には、材料源からの粒子を対象物に付着させることによって対象物に成膜する成膜装置において、対象物の被成膜面以外に形成された膜の剥離を十分に抑制するために、「チャンバー１内に設置されるとともに、粒子の飛来方向に対して垂直状態より小さな角度方向に設置される複数のフィン５２が配列されてなる防着板５を備える」と記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００５−５４２７０号公報
【特許文献２】特開２００８−１４４２１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
最近、有機ＥＬディスプレイの大型化、高精細化に伴い、真空蒸着装置において蒸発源からの輻射熱による蒸着マスクの熱膨張と、熱膨張した蒸着マスクと基板との位置合わせずれがより問題になっている。とくに、金属膜蒸着の際には、前プロセスで基板に成膜された有機層の昇温ダメージ防止のため、蒸発源の基板への輻射熱による昇温低減が必要とされ、特に蒸気圧が低く高温加熱が必要な金属蒸着において重要な課題となっている。また、蒸発源、基板等を格納する真空容器内の汚染による有機層への不純物混入により素子特性が劣化することを防止することも重要である。真空容器内の汚染低減は、蒸着装置のメンテナンスを容易にするためにも重要である。
【００１０】
特許文献１には、蒸着材料の開口周辺における凝固を防止する熱遮断板を備えた蒸着源が記載されている。前記特許文献２には、対象物の被成膜面以外に飛来する粒子（蒸着材料）を複数のフィンに積極的に蒸着させ、蒸着面積を拡大し、対象物の被成膜面以外で形成される膜厚を低減し、膜剥離を抑制する技術が記載されている。
【００１１】
しかし、特許文献１および特許文献２には、真空容器内環境からの輻射熱による基板昇温については考慮されていない。
【００１２】
そこで、本発明は、真空容器内環境からの輻射熱による基板昇温、蒸着マスクの熱膨張の少なくとも一方を、長時間にわたり安定して低減できる真空蒸着装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決するために、例えば特許請求の範囲に記載の構成を採用する。本願は上記課題を解決する手段を複数含んでいるが、その第１の例を挙げるならば、前記蒸発源から放射される前記蒸着材料が前記真空容器の内壁に付着するのを防ぐ防着部と、フレーム部と前記フレーム部に設けられ前記蒸発源から放射される前記蒸着材料を前記防着部に導く開口部と前記開口部の外周の1部に設けられた羽板部と前記防着部からの輻射熱を吸収し、前記蒸発源から放射される前記蒸着材料が前記羽板部に付着するのを防止する付着防止手段とを有し、前記防着部と離間して設けられた遮熱部と、を有することを特徴とする。
【００１４】
また、第２の例としては、前記蒸発源から放射される蒸着材料が前記真空容器の内壁に付着するのを防ぐ防着部と、前記蒸発源から放射される輻射熱を前記防着部に導く複数の開口部と、前記防着部からの輻射熱を吸収する羽板部と、複数の前記開口部と複数の前記羽板部を備えるフレーム部とを有し、前記開口部を通して前記蒸発源から前記防着部を望むことができ、且つ前記防着部から前記被蒸着対象を望むことができないように前記羽板部を配置し、前記防着部と離間して設けられた遮熱部と、を有することを特徴とする。
【００１５】
さらに、第３の例としては、前記蒸発源から放射される前記蒸着材料が前記真空容器の内壁に付着するのを防ぐ防着部と、前記防着部からの輻射熱を吸収し、前記防着部に固定された羽板部と、前記蒸発源を放射される前記蒸着材料が前記羽板部に付着するのを防止する付着防止手段を備える遮熱部と、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、真空容器内環境からの輻射熱による基板昇温を低減できる真空蒸着装置を提供することができる。その結果、特に金属膜蒸着の際には、前プロセスで基板に成膜された有機層の昇温ダメージが防止でき、信頼性の高い真空蒸着装置を提供できる。
【００１７】
また、本発明によれば、真空容器内環境からの輻射熱による蒸着マスクの熱膨張を低減できる。その結果、蒸着マスクと基板との位置合わせのずれを低減でき、高精細な有機ＥＬディスプレイを製造できる真空蒸着装置を提供できる。
上記した以外の課題、構成及び効果は、以下の実施形態の説明により明らかにされる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】実施例１における真空蒸着装置の構成を示す模式図である。
【図２】図１に示す遮熱部の構成を示す模式図である。
【図３】図１に示す遮熱部及び防着部に対する蒸発源から輻射熱の挙動を示す図である。
【図４】図１に示す羽板部の構成を示す模式図である。
【図５】図４に示す羽板部から基板への輻射熱の挙動を示す図である。
【図６】図１に示す模式図に膜剥がれの様子を示した図である。
【図７】実施例２における羽板部の構成を示す模式図である。
【図８】実施例３における真空蒸着装置の一部を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、図面を用いて実施例を説明する。
以下では、本発明の真空蒸着装置の一例として、有機ＥＬデバイスの製造に適用した例を説明する。以下の説明は本発明の内容の具体例を示すものであり、本発明がこれらの説明だけに限定されるものではなく、本明細書に開示される技術的思想の範囲内において当業者による様々な変更および修正が可能である。
【００２０】
（実施例１）
本実施例では、真空容器内環境からの輻射熱による被蒸着対象である基板の昇温を低減できる真空蒸着装置の例を説明する。
図１は、本実施例の真空蒸着装置の概略構成を示す模式図である。本実施例に示す真空蒸着装置は、真空容器１、基板２、蒸発源３、防着部４、遮熱部５を少なくとも有する。本実施例では、蒸着材料９（図３参照）として金属材料（Ag、Al、Mgなど）を用い、略垂直を向き静止した蒸発源３から、略水平に設置された基板２対して成膜する構成について説明する。
【００２１】
真空容器１は、蒸発源３に格納された蒸着材料９を基板２に成膜するための成膜室である。被成膜対象である基板２以外に飛散した蒸着材料９が真空容器１内面に付着するのを防ぐため、真空容器１は防着部４を有している。真空容器１には図示しない排気系が接続されており、成膜中、真空容器１内は真空に維持されている。真空容器１には図示しない基板搬送系が接続されており、基板搬送系を介して真空容器１の中に基板２が搬送される。
【００２２】
基板２は、図示しない蒸着マスクに対して位置決めされ、図示しない基板固定台に固定される。蒸着マスクは、一般に基板２の所定の画素又は領域に蒸着、成膜できるように孔加工が施され、基板２に密着して配置されるメタルマスクと、メタルマスクに弛みが生じないようにテンションをかけるフレームからなる。
【００２３】
蒸発源３は、蒸着材料９を封入する容器である坩堝と、前記坩堝の周辺に加熱手段であるヒーターと、前記ヒーターの少なくとも外周に前記坩堝の保温性を向上するための複数枚のリフレクタを有し、ヒーターから出る輻射熱１０を蒸発源３外部に漏らさないよう冷却した容器で格納したものである。坩堝は、基板２と対向する面に蒸着材料９を放射するノズルを有する。蒸発源３は、ノズルを開閉するための蒸着シャッター、蒸着レートを電力制御するための膜厚モニタを有する。
【００２４】
加熱手段で坩堝を加熱することにより、坩堝に収納された蒸着材料９が溶融あるいは昇華して、坩堝内は蒸着材料９の蒸気で満たされ、ノズルから基板２側に蒸気が噴出する。蒸着マスク４によってパターニングされた基板２の領域に蒸着材料９が蒸着される。
【００２５】
基板２に均一な薄膜を成膜するには、基板２よりも広範囲に亘ってノズルから蒸着材料９を放射する必要がある。そのため、基板２以外に向かって放射された蒸着材料９は、真空容器１内に飛散する。
【００２６】
長時間、例えば168時間に亘って成膜を続けると、蒸着材料９の真空容器１内への付着量が増加し、膜応力によって膜剥がれ１３が生じやすくなる。膜剥がれ１３は、ゴミや微粒子の発生源となり、基板２へ付着するとデバイスの特性に悪影響を及ぼす。膜剥がれ１３を防止するため、真空容器１内に防着部４を設置し、防着部４を定期的に交換あるいはメンテナンスする方法が一般的に知られている。また、膜剥がれ１３防止のため、防着部４にブラストや溶射で凹凸をつける方法が一般的に知られている。
【００２７】
ところで、蒸発源３からは蒸着材料９と共に輻射熱１０を有する光(電磁波)が放出される。特に蒸気圧が低く高温加熱が必要な金属蒸着においては、蒸発源３の基板２への輻射熱１０による昇温低減が重要な課題となっている。
【００２８】
なお、熱平衡状態では、ある物体からある割合(輻射率)で輻射熱を輻射すれば、その物体は、同じ割合(吸収率)で輻射熱を吸収する。即ち、輻射率＝吸収率である。また、輻射熱は、ある物体に入射したときに、所定の割合で、吸収率で吸収されるもの、反射するもの又は透過するものがある。後者２つを反射率、透過率とすれば、それら３つの率の和は１となる。防着板４及び遮熱部５は、透過がないので、輻射率＋反射率＝１となる。
【００２９】
蒸発源３から放射された輻射熱１０は、基板２に直接吸収される成分のほか、基板２を透過あるいは反射する成分、基板２以外に放射される成分が存在する。基板２に吸収されず反射や透過あるいは基板２以外に放射される成分は、真空容器１内で反射を繰り返しながら、次第に真空容器１や防着部４や基板２などに吸収されていく。その結果、基板２が正味で吸収した輻射熱１０が基板２の昇温に寄与する。同様に輻射熱１０は、蒸着マスクを熱膨張させ、基板２と蒸着マスクとの位置ずれをもたらす。
【００３０】
さらに、真空容器１内環境からの輻射熱１０を考える際に、真空容器１内環境への蒸着材料９の付着による経時変化を考慮する必要がある。真空容器１内において、蒸発源３から放射する蒸着材料９が真空容器１内の防着部４に付着するため、防着部４の反射率は増加する傾向にある。成膜を長時間続けるうちに、次第に真空容器１の内壁や防着板に蒸着材料９が付着し反射率が上昇する。真空容器１内環境の反射率が大きくなると、それに伴い真空容器１の輻射吸収率が減少し、真空容器１内を反射する輻射熱１０の割合が増加する。その結果、基板２の吸収率が相対的に増加し、基板２の昇温に繋がる課題がある。さらに、防着部４の反射率が大きくなると、輻射率が低下し、即ち吸収率が低下しそもそも吸熱しにくくなるため、防着部４を冷却しても、防着部の徐熱効果が弱められてしまう。
【００３１】
遮熱部５は、蒸発源３と防着部４の間の少なくとも一部の領域、本実施例では、図１に示すように蒸発源３の左右に設けられた防着部４に対して設けられている。
【００３２】
図２は図１に示す遮熱部５を示す模式図である。遮熱部５はフレーム部６と、所定の傾斜角を持ってフレーム６に固定された複数の羽板部７と、それぞれの隣接する羽板部７の間に設けられた複数の開口部８とを有する。
【００３３】
図３は、図１に示す遮熱部５及び防着部４に対する蒸発源３から輻射熱１０ａの挙動を示す図である。ドット線で示す輻射熱１０ａは、破線で示す蒸発材料９と共に、蒸発源３から放射状に放射される。以下の、説明において、輻射熱全般のことを示すときは、符号として単に１０を用いる。特定の輻射熱を示すときは、添え字ａ、ｂ等を付す。
【００３４】
羽板部７の傾斜角は、蒸発源３から放射される輻射熱１０ａの飛行方向に対して略平行となるように設置されており、蒸発源３から遮熱部５を眺めた際に、羽板部７間にある開口部８から防着部４あるいは真空容器１内壁を望むことが可能な構成となっている。同時に、防着部４から基板２を眺めた際に、羽板部７間にある開口部８から基板２を望むことが出来ない構成となっている。羽板部７の傾斜角が輻射熱１０ａの飛行方向に対して略平行となるように設けることが、羽板部７への蒸着材料９の付着防止手段となっている。
【００３５】
即ち、本実施例の構成においては、遮熱部５の羽板部７の傾斜角が、輻射熱１０ａの飛行方向とほぼ平行であるため、蒸発源３から遮熱部５に向かって放出された蒸着材料９および輻射熱１０ａは、その大部分が遮熱部５の開口部８を通り抜けて、真空容器１内の防着部４に到達する。このとき防着部４に到達した蒸着材料９はその壁面に付着する。一方、防着部４に到達した輻射熱１０ａは、その一部は壁面の吸収率に応じて吸収されるが、残りは反射される。とくに、長時間の成膜によって蒸着材料９が厚く付着した防着部４では、反射率が増加しているため、輻射熱１０ａが反射される割合が増加する。
【００３６】
従来の真空蒸着装置では、真空容器１内環境から輻射熱１０ｂが基板２の昇温に寄与していた。
しかし、本実施例の構成においては、このように防着部４で反射された輻射熱１０ｂは、遮熱部５の羽板部７で吸収もしくは反射される。このように遮熱部５で防着部４からの輻射熱１０ｂを羽板部７で吸収することで、基板２の昇温を低減することができる。羽板部７の防着部４側は、吸収率の高いことが望まれる。羽板部７からの輻射熱１０ｃについても、その大部分は、防着部４の間に押し戻され、羽板部７に再び反射され、羽板部７に吸収されていく。
【００３７】
このように防着機能と遮熱機能を防着部４と遮熱部５に分離することで、長時間の成膜によって真空容器１内の防着部４に蒸着材料９が付着して防着部４の反射率が大きくなっても、羽板部７で輻射熱１０を吸収することで基板２の昇温を安定して抑制することができる。
【００３８】
更に、基板２の昇温の抑制効果を高めるために、図４に示すように、本実施例の羽板部７の表面のうち、基板２側を向いた面は輻射率の低い（反射率が高い）表面を有する。これは、羽板部７の防着部側を向いた面で吸収した熱を、基板２側を向いた面からの熱の流出を防ぐためのものである。反射率を高くするために、例えば、基板２側を向いた面を磨いたり、反射率の高い材料をコーティングしたり、あるいは面に反射率の高いシートが張ったりすることなどが挙げられる。一方、羽板部７の基板側と反対側の面、即ち防着部４に向いた面では、前述したように吸収率の高い（反射率の低い）表面を有することが望まれる。反射率を低くするために、例えば、防着部４に向いた面を溶射やサンブラなどで荒らしたり、酸化処理され黒色化したりすることなどが挙げられる。
【００３９】
その結果、図５に示すように、上述した羽板部７の表面改質よって、羽板部７から基板２への輻射熱１０ｄを抑制することができる。また、防着部４からの輻射熱１０ｂを効率よく吸収することができる。これらはどちらか片側の面のみ表面改質がされている場合にも、対応する効果を得ることができ、真空容器１内環境からの輻射熱１０による基板２の昇温を低減することができる。
【００４０】
本実施例の遮熱部５は、図１に示す冷却部１２を有している。遮熱部５を冷却することで、羽板部７から基板２への輻射熱１０ｄを低減するとともに、防着部４から吸収した輻射熱１０ｂの排熱を促進できる。また、本実施例では、異なる構成要素である防着部４と遮熱部５は独立して冷却することが可能である。さらに、遮熱部５のみを冷却するのであれば、両者を冷却するより熱容量が小さくできるため、冷却効率が向上できる。
【００４１】
また、本実施例の遮熱部５は、防着部４から一定の距離を離して配置することが可能である。防着部４と遮熱部５が密着している場合には、防着部４で発生した膜剥がれ１３が、遮熱部５開口部８を通り抜け蒸発源３や基板２側に落下する可能性がある。しかし、図６に示すように、遮熱部５と防着部４との間に一定の距離を保つことで、防着部４の膜剥がれ１３により発生したゴミや微粒子が蒸発源３や基板２側に飛散するのを遮ることができる。遮熱部５と防着部４の間隔の目安として、羽板部７の間隔以上の距離があれば効果が得られる。
【００４２】
本実施例の遮熱部５、とくに羽板部７の材質には、例えば、SUS、Mo、Ti、Taなどの金属板を用いることができる。羽板部７は、フレーム部６と一体化した構造でも、分離可能な構造であってもよい。
【００４３】
後述する図８に示すような羽板部７とフレーム部６が一体化した構造としては、例えば一体ものの金属板を用いることができる。金属板の片面を研磨や鏡面処理をし、裏面を溶射やブラストで荒らす。このようにして表面処理された金属板にコの字型に切れ目を入れて折り曲げる。このように羽板部７を作成することで、片面は高反射率、その裏面は低反射率を有する面として機能する。この場合には、遮熱部５の作成が容易となる利点がある。
【００４４】
一方、図１に示すような羽板部７とフレーム部６が分離可能な構造としては、例えば、遮熱部５として、金属やセラミック製のフレーム部６を用意し、羽板部７を固定するための固定部を設ける。羽板部７には例えば金属板を用い、前述したフレーム部６に固定する。この場合には、一体ものの金属板に切れ目を入れて作成する場合のような、羽板部７の寸法に関する制限がないことが利点として挙げられる。
勿論、本実施例の羽板部７は、ここに記載した作成方法に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、羽板部７の傾斜角は、蒸発源３から放射される輻射熱１０の飛光方向に対して略平行であるのが好ましい状態を述べたが、所定の角度以内であれば、羽板部７への付着が発生するが、以下に述べる輻射熱１０による基板２の昇温を低減等の効果を得ることができる。
【００４５】
以上のように、本実施例によれば、真空容器内１環境からの輻射熱１０による基板２の昇温を低減することができる。その結果、特に金属膜蒸着の際には、例え長時間の成膜に対しても、
前プロセスで基板に成膜された有機層の昇温ダメージが防止でき、信頼性の高い真空蒸着装置を提供できる。
【００４６】
また、本発明によれば、基板の昇温と同様に、真空容器内環境からの輻射熱による蒸着マスクの熱膨張を低減できる。その結果、蒸着マスクと基板との位置合わせのずれを低減でき、高精細な有機ＥＬディスプレイを製造できる真空蒸着装置を提供できる。
【００４７】
（実施例２）
本実施例では、羽板部７の酸化防止機能を有した真空蒸着装置の例を説明する。
図１は、実施例３における真空蒸着装置を示す図である。真空蒸着装置は、真空容器１、基板２、蒸発源３、防着部４、遮熱部５を少なくとも有する。図１の真空蒸着装置のうち、図４の羽板部７を有する遮熱部５を、図７の羽板部７を有する遮熱部５に変更したものである。その他の構成は、既に説明した図１に示された同一の符号を付された構成と、同一の機能を有するので、それらの説明は省略する。
【００４８】
メンテナンスの際には、真空容器１内は大気に開放される。羽板部７の基板側の面が酸化されると輻射率が増加（反射率が減少）する可能性がある。その結果、基板２へ放射する輻射熱１０ｄが増加する。
【００４９】
そこで、本実施例の遮熱部５は、羽板部７の低反射化された面側に、赤外領域で透明かつ耐酸化性を有する材料（TiN、SiN、ZrN、TaN、CrOx、SiO2）、あるいは酸化しても変化の小さな貴金属の材料（Ag、Au、Pt、白金族など）の保護膜１４が薄くコートされている。これによって表面の酸化を抑制することができる。また、貴金属をコートする場合には、膜厚をおよそ50 nm 〜100 nm 程度に薄くすることでコストを低減できる。
【００５０】
（実施例３）
図８は、実施例３における真空蒸着装置の一部を示す模式図である。真空蒸着装置は、真空容器１、基板２、蒸発源３、防着部４、遮熱部1５を少なくとも有する。実施例３は図３で説明した真空蒸着装置の一部のうち、遮熱部５の羽板部７を遮熱部１５の羽板部１７に変更したものである。その他の構成は、既に説明した図１に示された同一の符号を付された構成と、同一の機能を有するので、それらの説明は省略する。
【００５１】
本実施例では、図１に示すように蒸発源３の両側に遮熱部１５を設け、それぞれの羽板部１７の蒸発源３側端部に、羽板部１７への蒸着材料９の付着防止手段として鍔部１６を設ける。
【００５２】
また、鍔部１６は、基板２を向いた面側、あるいは防着部４を向いた面側の、どちらか一方のみに取り付けられていてもよい。さらに、鍔部１６は、両側の遮熱部１５に設けず、どちらか一方のみ取り付けられていてもよい。さらにまた、両側に遮熱部１５とは関係なく、遮熱部１５は一部に鍔部１６を有しない図３に示す羽板部７を備えていてもよい。
【００５３】
羽板部１７の鍔部１６に隠れることなく、蒸発源３から開口部８を通して真空容器１あるいは防着部４を望むことが可能となるように、鍔部１６の羽板部１７間方向の長さは、制限されている。羽板部１７の蒸発源３側端部に鍔部１６が設けることで、蒸発源３から遮熱部１５に向かって放射された蒸着材料９が開口部８を通り抜ける前に、羽板部１７に蒸着材料９が付着することが低減される。その結果、羽板部１７に蒸着材料９が付着して輻射熱の吸収率を低下させる可能性を大きく低減させることができる。
【００５４】
また、鍔部１６の羽板部１７間方向の長さを長くすれば、羽板部１７の傾斜角の設定の自由度を、例えば同じ角度にする等、高くすることができる。しかし、長くすると、鍔部１６に蒸着材料９が付着する。これらの点を考慮して鍔部１６の羽板部１７間方向の長さを決定する必要がある。
【００５５】
実施例３によれば、蒸着材料９の羽板部１７への付着を抑制し、より長時間に渡って羽板部１７の表面状態を防着部４からの輻射熱の吸収率を高い状態で維持できる。
【００５６】
上記の実施例１乃至３においては、防着部４と遮熱部５は離間して設けられたが、防着部４と遮熱部５とを接触させて設けても、極端なことを言えば、羽板部を直接防着部３に設けても、付着物からの輻射熱による基板２の昇温抑制効果を得ることができる。この場合は、羽板部を蒸発源３から放射される輻射熱１０の飛行方向に対して略平行に設けるなどの付着防止手段を設ける必要がある。本実施例によれば、より簡単構造で、付着物からの輻射熱による基板２の昇温抑制効果を得ることができる。
【００５７】
また、上記の実施例１乃至３においては、基板や蒸着マスクを水平に配置し、それらの下側に設けた蒸発源によって蒸着する所謂水平タイプの真空蒸着装置に対し説明した。これに限定せず、本発明は、基板や蒸着マスクを垂直に配置し、それらの横側に設けた蒸発源によって蒸着する所謂垂直タイプの真空蒸着装置に対しも適用できる。
【００５８】
なお、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。
【００５９】
また、ある実施例の構成の一部を他の実施例の構成に置き換えることが可能であり、さらに、ある実施例の構成に他の実施例の構成を加えることも可能である。さらにまた、各実施例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。
【符号の説明】
【００６０】
１：真空容器                                ２：基板
３：蒸発源                                  ４：防着部
５：遮熱部                                  ６：フレーム部
７：羽板部                                  ８：開口部
９：蒸発材料                                １０：輻射熱
１２：冷却部                                １３：膜剥がれ
１４：保護膜（実施例２）                    １５：遮熱部（実施例３）
１６：鍔部（実施例３）                      １７：羽板部（実施例３）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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