(57)【要約】【課題】エレクトロウェッティングディスプレイを好適に製造し得る新規な方法を提供する。【解決手段】非極性液体注入工程と、極性液体注入工程とを行う。非極性液体注入工程では、連通口１３ｅから非極性液体１７を注入し、ディスプレイ本体１０の連通口１３ｅ側の部分に非極性液体１７を配する。極性液体注入工程では、連通口１３ｅから極性液体１６を内部空間１０ａに注入することにより、ディスプレイ本体１０の連通口１３ｅ側の部分に配された非極性液体１７を押し流していきながら、非極性液体１７を疎水性表面の上に配すると共に、非極性液体１７と第２の基板１１との間に極性液体１６を配する。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
疎水性表面を有する誘電体層が設けられた第１の基板と、前記誘電体層の上方に配された第２の基板と、前記第１の基板と前記第２の基板との間に設けられており、前記第１の基板と前記第２の基板と共に内部空間を区画形成しているシール材とを有するディスプレイ本体と、
前記疎水性表面の上に配された非極性液体と、
前記非極性液体と前記第２の基板との間に配された極性液体と、
を備え、
前記シール材に前記内部空間に連通した連通口が設けられているエレクトロウェッティングディスプレイの製造方法であって、
前記連通口から前記非極性液体を注入し、前記ディスプレイ本体の前記連通口側の部分に前記非極性液体を配する非極性液体注入工程と、
前記連通口から前記極性液体を前記内部空間に注入することにより、前記ディスプレイ本体の前記連通口側の部分に配された前記非極性液体を押し流していきながら、前記非極性液体を前記疎水性表面の上に配すると共に、前記非極性液体と前記第２の基板との間に前記極性液体を配する極性液体注入工程と、
を備えるエレクトロウェッティングディスプレイの製造方法。
【請求項２】
前記非極性液体注入工程に先立って、前記第２の基板の前記第１の基板側の表面を親水化処理する工程をさらに備える、請求項１に記載のエレクトロウェッティングディスプレイの製造方法。
【請求項３】
前記疎水性表面の上に、前記疎水性表面を複数の領域に分割する隔壁部を形成する隔壁部形成工程と、
前記隔壁部の表面を親水化処理する親水化工程と、
をさらに備え、
前記親水化工程を前記非極性液体注入工程に先立って行う、請求項１又は２に記載のエレクトロウェッティングディスプレイの製造方法。
【請求項４】
前記シール材に、別の連通口を設け、前記極性液体注入工程において、前記連通口から注入した前記極性液体が前記別の連通口から排出されるまで前記極性液体の注入を継続する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のエレクトロウェッティングディスプレイの製造方法。
【請求項５】
前記非極性液体注入工程において、前記エレクトロウェッティングディスプレイ内に配される量よりも多い前記非極性液体を注入し、
前記極性液体注入工程において、前記非極性液体の残部が前記別の連通口から排出されるまで前記極性液体の注入を継続する、請求項４に記載のエレクトロウェッティングディスプレイの製造方法。
【請求項６】
前記極性液体注入工程において、前記内部空間が正圧となるような圧力で前記極性液体を加圧注入する、請求項１〜５のいずれか一項に記載のエレクトロウェッティングディスプレイの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エレクトロウェッティングディスプレイの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、エレクトロウェッティング効果を利用したエレクトロウェッティング（以下、「ＥＷ」と記載することがある。）素子が注目されている。一般的に、ＥＷ素子では、セル内に、互いに混和しない極性液体と非極性液体とが封入されている。ＥＷ素子に電圧を印加すると、極性液体と非極性液体との界面が変化する。これにより、光の透過率が変化する。
【０００３】
エレクトロウェッティング素子を製造するに際しては、非極性液体が誘電体層の上に位置するように、非極性液体と極性液体とをセル内に充填する必要がある。例えば特許文献１には、極性液体と非極性液体との充填方法の一例が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−１７０５８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
極性液体と非極性液体との充填方法を含め、エレクトロウェッティングディスプレイの製造方法に関しては、十分に検討されていないのが現状である。
【０００６】
本発明の目的は、エレクトロウェッティングディスプレイを好適に製造し得る新規な方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係るエレクトロウェッティングディスプレイの製造方法は、以下のエレクトロウェッティングディスプレイを製造する方法に関する。エレクトロウェッティングディスプレイは、ディスプレイ本体と、非極性液体と、極性液体とを備える。ディスプレイ本体は、第１の基板第２の基板と、シール材とを有する。第１の基板には、疎水性表面を有する誘電体層が設けられている。第２の基板は、誘電体層の上方に配されている。シール材は、第１の基板と第２の基板との間に設けられている。シール材は、第１の基板と第２の基板と共に内部空間を区画形成している。非極性液体は、疎水性表面の上に配されている。極性液体は、非極性液体と第２の基板との間に配されている。シール材に内部空間に連通した連通口が設けられている。本発明に係るエレクトロウェッティングディスプレイの製造方法は、非極性液体注入工程と、極性液体注入工程とを備える。非極性液体注入工程では、連通口から非極性液体を注入し、ディスプレイ本体の連通口側の部分に非極性液体を配する。極性液体注入工程では、連通口から極性液体を内部空間に注入することにより、ディスプレイ本体の連通口側の部分に配された非極性液体を押し流していきながら、非極性液体を疎水性表面の上に配すると共に、非極性液体と第２の基板との間に極性液体を配する。
【０００８】
本発明に係るエレクトロウェッティングディスプレイの製造方法では、非極性液体注入工程に先立って、第２の基板の第１の基板側の表面を親水化処理することが好ましい。
【０００９】
本発明に係るエレクトロウェッティングディスプレイの製造方法は、隔壁部形成工程と、親水化工程とをさらに備えることが好ましい。隔壁部形成工程では、疎水性表面の上に、疎水性表面を複数の領域に分割する隔壁部を形成する。親水化工程では、隔壁部の表面を親水化処理する。親水化工程を非極性液体注入工程に先立って行うことが好ましい。
【００１０】
本発明に係るエレクトロウェッティングディスプレイの製造方法では、シール材に、別の連通口を設け、極性液体注入工程において、連通口から注入した極性液体が別の連通口から排出されるまで極性液体の注入を継続することが好ましい。
【００１１】
本発明に係るエレクトロウェッティングディスプレイの製造方法では、非極性液体注入工程において、エレクトロウェッティングディスプレイ内に配される量よりも多い非極性液体を注入することが好ましい。極性液体注入工程において、非極性液体の残部が別の連通口から排出されるまで極性液体の注入を継続することが好ましい。
【００１２】
本発明に係るエレクトロウェッティングディスプレイの製造方法では、極性液体注入工程において、内部空間が正圧となるような圧力で極性液体を加圧注入することが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、エレクトロウェッティングディスプレイを好適に製造し得る新規な方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の一実施形態において製造されるエレクトロウェッティングディスプレイの略図的断面図である。
【図２】本発明の一実施形態において製造されるエレクトロウェッティングディスプレイのシール材及び閉口材を説明するための模式的断面図である。
【図３】本発明の一実施形態において製造されるエレクトロウェッティングディスプレイの動作を説明するための略図的断面図である。
【図４】非極性液体注入工程を説明するための模式的平面図である。
【図５】非極性液体注入工程を説明するための模式的断面図である。
【図６】極性液体注入工程を説明するための模式的平面図である。
【図７】極性液体注入工程を説明するための模式的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明を実施した好ましい形態の一例について説明する。但し、下記の実施形態は、単なる例示である。本発明は、下記の実施形態に何ら限定されない。
【００１６】
また、実施形態等において参照する各図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照することとする。また、実施形態等において参照する図面は、模式的に記載されたものである。図面に描画された物体の寸法の比率などは、現実の物体の寸法の比率などとは異なる場合がある。図面相互間においても、物体の寸法比率等が異なる場合がある。具体的な物体の寸法比率等は、以下の説明を参酌して判断されるべきである。
【００１７】
（ＥＷディスプレイ１の構成）
まず、本実施形態において製造されるエレクトロウェッティングディスプレイ（以下、「ＥＷディスプレイ」とすることがある。）１の構成について、図１及び図２を参照しながら説明する。
【００１８】
図１に示されるように、ＥＷディスプレイ１は、ディスプレイ本体１０を備えている。ディスプレイ本体１０は、内部空間１０ａを有する。
【００１９】
具体的には、ディスプレイ本体１０は、第１の基板１２と、第２の基板１１と、シール材１３とを備える。第１の基板１２と第２の基板１１とは、内部空間１０ａを介して互いに間隔をおいて対向している。第２の基板１１と第１の基板１２との間には、側壁部を構成しているシール材１３が配されている。シール材１３は、第１及び第２の基板１２，１１のそれぞれに対して接合されている。これらシール材１３並びに第１及び第２の基板１２，１１により内部空間１０ａが区画形成されている。
【００２０】
図２に示されるように、シール材１３は、一の方向に沿って延び、一の方向に対して垂直な他の方向に沿って配された直線状の第１及び第２の壁部１３ａ、１３ｂと、他の方向に沿って延び、一の方向に沿って配された直線状の第３及び第４の壁部１３ｃ、１３ｄとを有する。これら第１〜第４の壁部１３ａ〜１３ｄによって、平面視形状が矩形状である内部空間１０ａが区画形成されている。
【００２１】
シール材１３には、第１の連通口１３ｅと、第２の連通口１３ｆとが設けられている。第１及び第２の連通口１３ｅ、１３ｆは、それぞれ、内部空間１０ａと、内部空間１０ａの外側とを連通している。第１の連通口１３ｅと、第２の連通口１３ｆとは、内部空間１０ａを介して対向するように設けられている。具体的には、第１の連通口１３ｅが設けられた第１の壁部１３ａと、第２の連通口１３ｆが設けられた第２の壁部１３ｂとは、互いに対向している。より具体的には、第１の連通口１３ｅは、第１の壁部１３ａの中央部に設けられている。第２の連通口１３ｆは、第２の壁部１３ｂの中央部に設けられている。
【００２２】
第１の連通口１３ｅと、第２の連通口１３ｆとは、それぞれ、閉口材２０によって閉口されている。これにより内部空間１０ａが気密空間とされている。
【００２３】
図１に示されるように、第１の基板１２は、基板本体１２ａと、ＴＦＴ１２ｂと、配線部１２ｃと、平坦化膜１２ｄと、画素電極１２ｅと、コモン電極１２ｆとを有する。一方、第２の基板１１は、基板本体１１ａと、コモン電極１１ｂとを有する。コモン電極１１ｂは、基板本体１１ａの第１の基板１２側の主面の上に配されている。
【００２４】
基板本体１１ａ，基板本体１２ａは、例えば、ガラス、樹脂成型体及びフィルム等により構成することができる。
【００２５】
コモン電極１１ｂは透明電極であることが好ましい。コモン電極１１ｂは、例えば、ＩＴＯ（スズドープ酸化インジウム）等の透明導電性酸化物などにより構成することができる。
【００２６】
画素電極１２ｅ及びコモン電極１２ｆは、それぞれ、平坦化膜１２ｄ上に形成されている。画素電極１２ｅ及びコモン電極１２ｆは、それぞれ、ビアホール電極１２ｄａを介してＴＦＴ１２ｂ及び配線部１２ｃに接続されている。
【００２７】
画素電極１２ｅ及びコモン電極１２ｆは、それぞれ、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）等の透明導電性酸化物などや、アルミニウムや銅等の金属などにより構成することができる。
【００２８】
第１の基板１２の第２の基板１１側の表面には、誘電体層１４が設けられている。誘電体層１４の上方に第２の基板１１が位置している。この誘電体層１４は、画素電極１２ｅ及びコモン電極１２ｆが設けられた領域を含め、基板本体１２ａの第２の基板１１側の主面の実質的に全体を覆うように設けられている。
【００２９】
誘電体層１４の表面は、例えばフッ素樹脂の塗布及び熱処理などの公知の方法により、撥水化処理されている。このため、誘電体層１４の第２の基板１１側の表面は、疎水性表面を構成している。すなわち、誘電体層１４は、疎水性表面を有する。誘電体層１４には、コモン電極１１ｂと画素電極１２ｅとによって電圧が印加される。これにより、誘電体層１４が分極する。
【００３０】
第１の基板１２の誘電体層１４の上には、第２の基板１１側に向かって延びる隔壁部１５が設けられている。隔壁部１５は、第２の基板１１に到っていてもよいし、第２の基板１１に到っていなくてもよい。この隔壁部１５により、疎水性表面が複数の領域に分割されている。これにより、内部空間１０ａが複数のセルＣに区画されている。具体的には、本実施形態では、隔壁部１５は、格子状に設けられている。よって、略矩形状の複数のセルＣがマトリクス状に設けられている。
【００３１】
複数のセルＣのそれぞれには、コモン電極１１ｂと共に誘電体層１４を分極させる画素電極１２ｅと、コモン電極１２ｆとが配されている。なお、コモン電極１２ｆは、コモン電極１１ｂと同電位の電極である。
【００３２】
各セルＣには、極性液体１６と非極性液体１７とが充填されている。ＥＷディスプレイ１に電圧が印加されていない状態において、非極性液体１７が疎水性表面の上に位置しており、極性液体１６は、非極性液体１７と第２の基板１１との間に位置している。
【００３３】
極性液体１６の表面エネルギーが相対的に高く、非極性液体１７の表面エネルギーが相対的に低い。極性液体１６は、親水性を有する高表面エネルギー液体により構成されている。非極性液体１７は、疎水性を有する低表面エネルギー液体により構成されている。このため、極性液体１６と非極性液体１７とは、実質的に混和しない。
【００３４】
ＥＷディスプレイ１の応答速度を高くする観点からは、極性液体１６及び非極性液体１７のそれぞれの粘度が低いことが好ましい。極性液体１６及び非極性液体１７のそれぞれの粘度は、８００ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、５００ｍＰａ・ｓ以下であることがより好ましく、３００ｍＰａ・ｓ以下であることがさらに好ましい。
【００３５】
非極性液体１７は、例えば、アルカン、シリコーン類、フルオロカーボン類等の有機溶媒により構成することができる。非極性液体１７は、複数種類の有機溶媒を含んでいてもよい。アルカンとしては、直鎖アルカン、分岐アルカン、環状アルカン等が挙げられる。好ましく用いられる直鎖又は分岐アルカンの具体例としては、例えば、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン等が挙げられる。環状アルカンの具体例としては、シクロヘキサン、シクロヘプタン等が挙げられる。シリコーン類としては、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタンシロキサン、ドデカメチルペンタシロキサン等が挙げられる。
【００３６】
通常、非極性液体１７の常温（１５℃）における揮発性は、極性液体１６の常温における揮発性よりも高い。
【００３７】
極性液体１６は、水または水溶液であってもよいし、少なくとも１種の有機溶媒を含んでいてもよい。極性液体１６は、有機溶媒を含むことが好ましい。極性を有する有機溶媒のなかには、水等よりも融点が低いものが存在する。そのような低融点の有機溶媒を極性液体１６として用いることにより、ＥＷディスプレイ１の作動温度域を広げることができる。ＥＷディスプレイ１の作動温度域を広げる観点から、極性液体１６の沸点は８０℃以上であることが好ましい。その場合、極性液体１６における有機溶媒の含有率は、９０質量％以上であることが好ましい。
【００３８】
極性液体１６として好ましく用いられる有機溶媒の具体例としては、例えば、エタノール、プロパノール、エチレングリコールなどの一価及び多価アルコール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類、Ｎ−メチルピロリドンなどのピロリドン類等が挙げられる。なお、極性液体１６は、有機溶媒と水とを含む混合液であってもよい。
【００３９】
本実施形態においては、非極性液体１７は、着色物質を含む。一方、極性液体１６は、着色物質を実質的に含まない。
【００４０】
着色物質は、例えば、極性部と非極性部とを有する顔料であってもよい。極性部と非極性部とを有する顔料の具体例としては、例えば、カーボンブラック、チタンブラック、鉄酸化物、銅−クロム複合酸化物、銅−クロム−亜鉛複合酸化物等が挙げられる。
【００４１】
着色物質は、極性を有する染料を含んでいてもよい。極性を有する染料の具体例としては、例えば、ソルベントブラック類等が挙げられる。
【００４２】
なお、非極性液体１７における着色物質の含有率は、ＥＷディスプレイ１に要求される光学特性等に応じて適宜設定することができる。非極性液体１７における着色物質の含有率は、通常、１重量％〜３０重量％程度である。
【００４３】
ＥＷディスプレイ１では、誘電体層１４の表面が疎水性表面を構成している。このため、コモン電極１１ｂと画素電極１２ｅとの間に電圧が印加されていない状態では、非極性液体１７の方が、極性液体１６よりも誘電体層１４に対する親和性が高い。従って、コモン電極１１ｂと画素電極１２ｅとの間に電圧が印加されていない状態では、誘電体層１４の実質的に全体が非極性液体１７により覆われている。
【００４４】
図３に示されるように、画素電極１２ｅに電圧（ＥＶ）を印加し、画素電極１２ｅとコモン電極１１ｂとの間に電位差を設けると、画素電極１２ｅと極性液体１６とが電極として機能し、誘電体層１４の画素電極１２ｅの上に位置する部分が分極する。その結果、極性液体１６が、誘電体層１４の画素電極１２ｅの上に位置する部分に静電作用で引きつけられる。一方、コモン電極１２ｆとコモン電極１１ｂとの間には電位差が生じない。このため、誘電体層１４のコモン電極１２ｆの上に位置する部分は分極せず、当該部分の表面は、疎水性表面のままである。このため、誘電体層１４の画素電極１２ｅの上に位置する部分を覆っていた非極性液体１７が、誘電体層１４のコモン電極１１ｂの上に位置する部分の上に押しのけられる。よって、非極性液体１７の単位面積あたりの被覆率が低下する。その結果、セルＣの光透過率が変化する。ＥＷディスプレイ１では、この原理を用いて、画像表示が行われる。
【００４５】
（ＥＷディスプレイ１の製造方法）
次に、ＥＷディスプレイ１の製造方法の一例について説明する。
【００４６】
まず、第１の基板１２と第２の基板１１とを準備する。第１及び第２の基板１２，１１は、それぞれ、公知の方法により作製することができる。
【００４７】
次に、第１及び第２の基板１２，１１の少なくとも一方の上に、熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂などの硬化性樹脂を塗布し、硬化させることにより、シール材１３を形成し、第１の基板１２と第２の基板１１とを貼り合わせる。以上の工程により、ディスプレイ本体１０を作製する。
【００４８】
なお、第１の基板１２と第２の基板１１とをシール材１３により接合する前に、第２の基板１１の第１の基板１２側の表面を親水化処理しておくことが好ましい。
【００４９】
また、第１の基板１２と第２の基板１１とをシール材１３により接合する前に、隔壁部１５の表面を親水化処理しておくことが好ましい。
【００５０】
好ましい親水化処理の具体例としては、例えば、プラズマ処理等が挙げられる。
【００５１】
次に、図４及び図５に示されるように、ディスプレイ本体１０の第１の連通口１３ｅから非極性液体１７を注入し、ディスプレイ本体１０の第１の連通口１３ｅ側の部分に非極性液体１７を配する（非極性液体注入工程）。非極性液体注入工程において注入する非極性液体１７の量は、ＥＷディスプレイ１内に配される非極性液体１７の量以上であることが好ましい。非極性液体注入工程において注入する非極性液体１７の量は、ＥＷディスプレイ１内に配される非極性液体１７の量より多いことが好ましく、ＥＷディスプレイ１内に配される非極性液体１７の量の１．１倍以上であることが好ましく、１．２倍〜５倍であることがより好ましい。非極性液体注入工程において、非極性液体１７が注入される領域の大きさは、注入する非極性液体１７の量、内部空間１０ａの厚み等に応じて決定される。非極性液体注入工程において、非極性液体１７は、例えば、第１の連通口１３ｅ内のみに位置していてもよいし、第１の連通口１３ｅ内からセルＣにまで至っていてもよい。
【００５２】
非極性液体１７の注入方法は、特に限定されない。例えば、毛細管現象を用いて非極性液体１７を注入してもよいし、非極性液体１７を加圧注入してもよい。
【００５３】
次に、図６及び図７に示されるように、第１の連通口１３ｅから極性液体１６を内部空間１０ａに注入する（極性液体注入工程）。極性液体１６が内部空間１０ａに流入すると、予め注入されていた非極性液体１７が極性液体１６により押し流される。詳細には、非極性液体１７は、極性液体１６の先端部の下流側に位置し、極性液体１６の先端部によって下流側に押し流される。ここで、誘電体層１４の表面は疎水性表面を構成している。このため、非極性液体１７は、誘電体層１４の表面と親和する。よって、誘電体層１４の表面のうち、非極性液体１７が通過した部分の上には、非極性液体１７が残存する。その非極性液体１７の上に極性液体１６が充填される。その結果、極性液体注入工程において、疎水性表面の上に非極性液体１７が配され、非極性液体１７と第２の基板１１との間に極性液体１６が充填される。
【００５４】
なお、極性液体１６の注入方法は、特に限定されない。例えば、毛細管現象を利用して極性液体１６を注入してもよいし、極性液体１６を加圧注入してもよい。
【００５５】
極性液体注入工程が完了した後に、熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂などの硬化性樹脂を塗布し、硬化させることにより、第１及び第２の連通口１３ｅ、１３ｆを閉口する閉口材２０を形成する。以上の工程により、ＥＷディスプレイ１を完成させることができる。
【００５６】
以上説明した本実施形態の方法によれば、非極性液体１７が供給されてから非極性液体１７の表面が極性液体１６により覆われるまでに要する時間を短くすることができる。従って、揮発性が高い非極性液体１７が揮発し、非極性液体における着色物質の濃度等が変化することを好適に抑制することができる。
【００５７】
非極性液体１７の揮発をより効果的に抑制する観点からは、極性液体注入工程において、内部空間１０ａが正圧となるような圧力で極性液体を加圧注入することが好ましい。
【００５８】
また、本実施形態の製造方法によれば、例えば、各セルＣに非極性液体１７を配置してから極性液体１６を配置する場合よりも、非極性液体１７及び極性液体１６の配置が容易である。従って、ＥＷディスプレイ１を容易に製造することができる。
【００５９】
本実施形態の製造方法では、非極性液体１７が第２の基板１１にも接触し得る。従って、非極性液体注入工程に先立って、第２の基板１１の第１の基板１２側の表面を親水化処理しておくことが好ましい。そうすることにより、第２の基板１１の表面と非極性液体１７とが接触した場合であっても、第２の基板１１の表面に非極性液体１７が付着しにくい。
【００６０】
同様に、非極性液体注入工程に先立って、隔壁部１５の表面を親水化処理しておくことが好ましい。そうすることにより、隔壁部の表面に非極性液体１７が付着しにくい。
【００６１】
各セルＣに非極性液体１７を供給し、かつ内部空間１０ａを非極性液体１７及び極性液体１６で確実に充填する観点からは、連通口１３ｅから注入した極性液体１６が連通口１３ｆから排出されるまで極性液体の注入を継続することが好ましい。また、連通口１３ｅから非極性液体１７の残部が排出されるように、非極性液体注入工程において非極性液体１７を余分に注入しておき、極性液体注入工程において、非極性液体１７の残部が連通口１３ｆから排出されるように極性液体１６を注入することが好ましい。
【００６２】
なお、本実施形態では、第１の連通口１３ｅと第２の連通口１３ｆとをそれぞれ一つ設ける例について説明した。但し、本発明は、この構成に限定されない。例えば、第１の連通口１３ｅと、第２の連通口１３ｆとをそれぞれ複数設けてもよい。
【００６３】
また、本発明において、第１及び第２の連通口を設ける位置も特に限定されない。例えば、第１及び第２の連通口をシール材の角部に設けてもよい。
【００６４】
本実施形態では、各画素を独立して駆動できるアクティブマトリクス駆動方式のＥＷディスプレイの構成について説明した。但し、本発明において、エレクトロウェッティングディスプレイは、アクティブマトリクス駆動方式のエレクトロウェッティングディスプレイに限定されない。本発明において、エレクトロウェッティングディスプレイは、例えば、対向する一対の基板の一方の基板の上に、一の方向に沿って延びる複数の第１の電極が設けられており、他方の基板の上に、他の方向に沿って延びる複数の第２の電極が設けられたパッシブ駆動方式のエレクトロウェッティングディスプレイであってもよい。また、本発明において、エレクトロウェッティングディスプレイは、例えば、セグメント駆動方式のエレクトロウェッティングディスプレイであってもよい。
【符号の説明】
【００６５】
１  ＥＷディスプレイ
１０  ディスプレイ本体
１０ａ  内部空間
１１  第２の基板
１１ａ  基板本体
１１ｂ  コモン電極
１２  第１の基板
１２ａ  基板本体
１２ｂ  ＴＦＴ
１２ｃ  配線部
１２ｄ  平坦化膜
１２ｄａ  ビアホール電極
１２ｅ  画素電極
１２ｆ  コモン電極
１３  シール材
１３ａ  第１の壁部
１３ｂ  第２の壁部
１３ｃ  第３の壁部
１３ｄ  第４の壁部
１３ｅ  第１の連通口
１３ｆ  第２の連通口
１４  誘電体層
１５  隔壁部
１６  極性液体
１７  非極性液体
２０  閉口材
【図１】
2015152916.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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