(57)【要約】【課題】パッシブ方式の３次元画像表示に係るパターン位相差フィルム等に関して、従来に比して格段的に柔軟に位相差層をパターンニングすることができるようにする。【解決手段】透明フィルム材による基材２と、基材２上に設けられた書き換え可能な光配向膜３と、光配向膜３の上に選択的に設けられ、下層の光配向膜の配向規制力を保存する配向規制力保存層４と、配向規制力保存層４の上から、光配向膜３の全面に設けられ、下層の配向規制力により配向した状態で硬化された液晶材料による位相差層５とを備える。【選択図】図１
2015203740.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明フィルム材による基材と、
前記基材上に設けられた書き換え可能な光配向膜と、
前記光配向膜の上に選択的に設けられ、下層の光配向膜の配向規制力を保存する配向規制力保存層と、
前記配向規制力保存層の上から、前記光配向膜の全面に設けられ、下層の配向規制力により配向した状態で硬化された液晶材料による位相差層とを備える
パターン位相差フィルム。
【請求項２】
前記配向規制力保存層は、
下層の光配向膜の配向規制力により配向した状態で硬化された液晶材料により形成された
請求項１に記載のパターン位相差フィルム。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載のパターン位相差フィルムを画像表示パネルのパネル面に配置した
画像表示装置。
【請求項４】
透明フィルム材による基材に書き換え可能な光配向膜材料による塗工液を塗工する光配向膜材料の塗工工程と、
前記塗工工程で塗工した光配向膜材料を偏光露光して第１の方向に配向した光配向膜を作製する第１の偏光露光工程と、
パターン印刷により前記光配向膜の上に選択的に塗工液を塗工した後、下層の配向規制力により配向した状態で液晶材料を硬化させることにより、下層の配向規制力を保存する配向規制力保存層を作製する配向規制力保存層の作製工程と、
前記配向規制力保存層を作製した前記光配向膜を、前記第１の偏光露光工程とは異なる偏光方向によって偏光露光し、前記光配向膜を前記第１の偏光露光工程とは異なる方向に配向させる第２の偏光露光工程と、
前記配向規制力保存層の上から、前記光配向膜の全面に液晶材料の塗工液を塗工した後、下層の配向規制力により配向した状態で硬化させて位相差層を作製する位相差層作製工程とを備える
パターン位相差フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記透明フィルム材が、ロールにより提供される長尺フィルム材であり、
前記パターン位相差フィルムの製造方法は、
前記透明フィルム材を搬送しながら、前記塗工工程、前記第１の偏光露光工程、前記配向規制力保存層の作製工程、前記第２の偏光露光工程、前記位相差層作製工程の処理を順次実行する
請求項４に記載のパターン位相差フィルムの製造方法。
【請求項６】
前記配向規制力保存層の作製工程におけるパターン印刷が、凸版印刷である
請求項４又は請求項５に記載のパターン位相差フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記配向規制力保存層の作製工程におけるパターン印刷が、グラビア印刷である
請求項４又は請求項５に記載のパターン位相差フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターン位相差フィルム、画像表示装置、パターン位相差フィルムの製造方法に関し、例えばパッシブ方式による３次元画像表示に係るパターン位相差フィルムに適用することができる。
【背景技術】
【０００２】
近年、パッシブ方式により３次元画像を表示する画像表示装置が提供されている。パッシブ方式の画像表示装置は、垂直方向に連続する液晶表示パネルの画素を、順次交互に、右目用及び左目用に割り当て、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動し、これにより右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。また液晶表示パネルのパネル面（視聴者側面）にパターン位相差フィルムを配置し、右目用の画素及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で方向の異なる円偏光に変換する。これによりパッシブ方式では、対応する偏光フィルタを備えてなる眼鏡を装着して、右目用の画像と左目用の画像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供し、３次元画像を表示する。
【０００３】
このためパターン位相差フィルムは、液晶表示パネルにおける画素の設定に対応して、遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）が直交する２種類の帯状領域が順次交互に形成される。なおここでこの隣接する帯状領域の遅相軸方向は、通常、水平方向に対して、＋４５度と−４５度の組み合わせ、又は０度と＋９０度の組み合わせが採用される。
【０００４】
このパッシブ方式は、応答速度の遅い画像表示装置にも適用することができ、さらにパターン位相差フィルムと円偏光メガネとを用いた簡易な構成で３次元表示することができる。なおパッシブ方式の画像表示装置では、垂直方向に代えて、水平方向に連続する画素を順次交互に右目用及び左目用に振り分ける方法も採用される。
【０００５】
このようなパターン位相差フィルムに関して、特許文献１及び２には、長尺フィルム材に光配向膜を作成し、この光配向膜の配向規制力により液晶材料をパターンニングして位相差層を作成することにより、パターン位相差フィルムを作成する構成が開示されている。より具体的に、特許文献１に開示の構成では、透明フィルム材に光配向膜の塗工液を塗工した後、偏光露光技術によりストライプ状に配向規制力を備えた光配向膜を作成する。またこの光配向膜の上に、紫外線硬化性の液晶材料による位相差層の塗工液を塗工した後、光配向膜の配向規制力によりこの液晶材料を配向させた状態で紫外線の照射により硬化させ、これにより位相差層を作成する。このようにして透明フィルム材を処理することにより、特許文献１には、ロールにより提供される長尺フィルムによる透明フィルム材を使用して効率良くパターン位相差フィルムを作製する方法が開示されている。
【０００６】
また特許文献２には、このように長尺フィルムによる透明フィルム材を使用してパターン位相差フィルムを作製する構成において、この透明フィルム材に対応する長尺形状によりマスクを作製し、このマスクを透明フィルム材に積層して搬送しながら偏光露光して配向膜を作製する構成が開示されている。この特許文献２に開示の構成によれば、透明フィルム材の搬送方向に延長するストライプ形状以外の、種々の形状により位相差層をパターンニングすることができる。
【０００７】
また特許文献３には、このような光配向膜を使用したパターン位相差フィルムに関して、繰り返しの偏光紫外線の照射により配向方向を設定し直すことが可能な、いわゆる書き換え可能な光配向膜材料を使用してパターン位相差フィルムを作製する構成が開示されている。
【０００８】
ところでこのようにパターン位相差フィルムを使用した３次元画像表示において、右目用及び左目用の２種類の帯状領域を順次交互に形成して画像表示する場合、この帯状領域の繰り返し方向の解像度が低下することより、表示画面の垂直方向と水平方向とで著しく解像度が相違することになり、その結果、画像品質が低下することになる。この場合、このような帯状領域の繰り返しに代えて、市松模様状に右目用及び左目用の領域を設定して画像表示すると、このような画像品質の低下を抑制することが可能となる。このためにはこの市松模様状の領域設定に対応するように、パターン位相差フィルムにおけるパターンニングを市松模様状に実行することが必要になる。これによりパターン位相差フィルムの製造工程では柔軟にパターンニングできることが望まれる。
【０００９】
しかしながら特許文献１に開示の構成では、結局、長尺による透明フィルム材の搬送方向に延長するようにストライプ状にパターンニングすることが必要であり、柔軟に位相差層をパターンニングすることが困難な問題があった。なおこの問題を解決する１つの方法として、特許文献２に開示の手法を適用する方法も考えられるものの、この特許文献２に開示の構成では、透明フィルム材に対応する長尺のフィルム形状によりマスクを作製することが必要であることにより、マスクの作成が煩雑になり、結局、この方法でも柔軟にパターンニングすることができない問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２０１２−１９８５２２号公報
【特許文献２】特開２０１２−０１４０６４号公報
【特許文献３】特開２０１２−１５５３０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、パッシブ方式の３次元画像表示に係るパターン位相差フィルム等に関して、従来に比して格段的に柔軟に位相差層をパターンニングすることができるようにする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、書き換え可能な光配向膜を使用した繰り返しの偏光露光により光配向膜の配向方向を切り替えると共に、光配向膜の配向規制力を保存する配向規制力保存層を選択的に設ける、との着想に至り、本発明を完成するに至った。
【００１３】
（１）  透明フィルム材による基材と、
前記基材上に設けられた書き換え可能な光配向膜と、
前記光配向膜の上に選択的に設けられ、下層の光配向膜の配向規制力を保存する配向規制力保存層と、
前記配向規制力保存層の上から前記光配向膜の全面に設けられ、下層の配向規制力により配向した状態で硬化された液晶材料による位相差層とを備える。
【００１４】
（１）によれば、配向規制力保存層に保存された配向規制力による第１の方向と、光配向膜の配向規制力による第２の方向とにより、位相差層の配向方向を設定することができ、これにより配向規制力保存層のパターンニングにより格段的に柔軟に位相差層をパターンニングすることができる。
【００１５】
（２）  （１）において、
前記配向規制力保存層は、
下層の光配向膜の配向規制力により配向した状態で硬化された液晶材料により形成される。
【００１６】
（２）によれば、位相差層の作製に供する液晶材料を適用して配向規制力保存層を作製することができる。
【００１７】
（３）  （１）又は（２）に記載のパターン位相差フィルムを画像表示パネルのパネル面に配置した画像表示装置。
【００１８】
（３）によれば、例えばパッシブ方式により３次元画像表示可能な画像表示装置を提供することができる。
【００１９】
（４）  透明フィルム材による基材に書き換え可能な光配向膜材料による塗工液を塗工する光配向膜材料の塗工工程と、
前記塗工工程で塗工した光配向膜材料を偏光露光して第１の方向に配向した光配向膜を作製する第１の偏光露光工程と、
パターン印刷により前記光配向膜の上に選択的に塗工液を塗工した後、下層の配向規制力により配向した状態で液晶材料を硬化させることにより、下層の配向規制力を保存する配向規制力保存層を作製する配向規制力保存層の作製工程と、
前記配向規制力保存層を作製した前記光配向膜を、前記第１の偏光露光工程とは異なる偏光方向によって偏光露光し、前記光配向膜を前記第１の偏光露光工程とは異なる方向に配向させる第２の偏光露光工程と、
前記配向規制力保存層の上から、前記光配向膜の全面に液晶材料の塗工液を塗工した後、下層の配向規制力により配向した状態で硬化させて位相差層を作製する位相差層作製工程とを備える。
【００２０】
（４）によれば、配向規制力保存層に保存された配向規制力による第１の方向と、光配向膜の配向規制力による第２の方向とにより、位相差層の配向方向を設定することができ、これにより配向規制力保存層のパターンニングにより格段的に柔軟に位相差層をパターンニングすることができる。
【００２１】
（５）  （４）において、
前記透明フィルム材が、ロールにより提供される長尺フィルム材であり、
前記パターン位相差フィルムの製造方法は、
前記透明フィルム材を搬送しながら、前記塗工工程、前記第１の偏光露光工程、前記配向規制力保存層の作製工程、前記第２の偏光露光工程、前記位相差層作製工程の処理を順次実行する。
【００２２】
（５）によれば、長尺フィルム材を連続して処理して、この長尺フィルム材の延長方向とは異なる方向に位相差層をパターンニングすることができる。
【００２３】
（６）  （４）又は（５）において、
前記配向規制力保存層の作製工程におけるパターン印刷が、凸版印刷である。
【００２４】
（６）によれば、パターン印刷時、位相差層に直接接する光配向膜表面を汚損しないようにすることができる。
【００２５】
（７）  （４）又は（５）において、
前記配向規制力保存層の作製工程におけるパターン印刷が、グラビア印刷である。
【００２６】
（７）によれば、グラビア印刷によっても、配向規制力保存層を作製することができる。
【発明の効果】
【００２７】
本発明は、パッシブ方式の３次元画像表示に係るパターン位相差フィルム等の光学フィルムに関して、従来に比して格段的に柔軟に位相差層をパターンニングすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の第１実施形態に係る画像表示装置に適用されるパターン位相差フィルムを示す略線図である。
【図２】図１のパターン位相差フィルムの製造工程の説明に供する図でありる。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００３０】
〔第１実施形態〕
〔パターン位相差フィルム〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る画像表示装置に適用されるパターン位相差フィルムを示す略線図である。この第１実施形態に係る画像表示装置は、右目用の画像データにより駆動される画素（領域Ａに対応する画素である）と、左目用の画像データにより駆動される画素（領域Ｂに対応する画素である）とが市松模様状に設定される。これによりこの画像表示装置は、右目用及び左目用の画像データにより順次交互に連続する画素を駆動するようにして、奇数ラインＥと偶数ラインＯとで、この駆動に供する順序を入れ替えて画像表示パネルを駆動し、右目用の画像及び左目用の画像を同時に表示する。またこの画素の設定に対応するように、パターン位相差フィルム１に、右目用の画像データを割り当てた画素からの出射光に対応する位相差を付与する右目用領域Ａ、及び左目用の画像データを割り当てた画素からの出射光に対応する位相差を付与する左目用領域Ｂが市松模様状に設定される。
【００３１】
ここでこの実施形態において、画像表示パネルは、液晶表示パネルであるものの、自発光素子による画像表示パネルである有機ＥＬによる画像表示パネル等も広く適用することができる。パターン位相差フィルム１は、この画像表示パネルのパネル面（視聴者側面）に接着剤層を介して配置される。
【００３２】
パターン位相差フィルム１は、基材２の全面に光配向膜３が設けられ、この光配向膜３の上に、配向規制力保存層４、位相差層５が順次作製される。ここで配向規制力保存層４は、下層の光配向膜３の配向規制力（配向方向）が変化した後にあっても、それまでの光配向膜３の配向規制力を保存する層であり、上述した市松模様状の領域設定に対応するようにパターンニングされて、右目用の画素に対応する右目用領域Ａ、又は左目用画素に対応する左目用領域Ｂに選択的に配置される。また光配向膜３は、書き換え可能な光配向膜材料により作製される。これによりこの実施形態では、一旦、光配向膜３を配向させてこの光配向膜３の配向性規制力を配向規制力保存層４に保存した後、改めて光配向膜３の配向能を設定し直すことにより位相差層５に係る配向規制力をパターンニングし、このようにパターンニングした配向規制力により液晶材料を硬化させて位相差層５を作製する。
【００３３】
基材２は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等の透明フィルムからなる長尺フィルム材であり、ロールにより提供される。この実施形態では、このロールにより提供される基材２を順次処理してパターン位相差フィルム１を作製することにより、効率良くパターン位相差フィルム１を作製する。なおこのようなロールにより提供される基材２の処理によりパターン位相差フィルムを作製する代わりに、枚葉により基材２を順次処理してパターン位相差フィルム１を作製するようにしてもよい。
【００３４】
光配向膜３は、基材２の全面に、塗工液を塗工乾燥して作製され、その後、偏光紫外線を照射して配向能が付与される。ここで光配向膜３は、繰り返しの偏光紫外線の照射により配向方向を設定し直すことが可能な、書き換え可能な光配向膜材料が適用される。このような材料としては、例えば、光異性化反応型の光配向材料を使うことができる。なお光異性化に関しては、「W.M.Gibbons,P.J.Shannon,S.T.Sun  and  B.J.Swetlin:Nature,351,49(1991)」で報告されている。光配向膜３は、厚み５０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下により作製されるものの、この実施形態では厚み１００ｎｍにより作製される。
【００３５】
配向規制力保存層４は、位相差層５に適用可能な材料が適用され、この実施形態では
位相差層５と同一の材料が適用される。これによりこの実施形態では、工程管理を簡略化できるように構成される。配向規制力保存層４は、塗工液が塗工された後、乾燥、硬化することにより、下層の光配向膜３の配向規制力により液晶材料を配向させた状態で硬化して作製される。しかしてこのようにして所定の方向に配向した液晶材料による硬化層にあっては、この液晶材料の配向により、上層に塗工される液晶材料を配向させる配向規制力を保持しており、これにより配向規制力保存層として機能させることができる。配向規制力保存層４は、厚み５０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下により作製されるものの、この実施形態では厚み１００ｎｍにより作製される。ここで配向規制力保存層４が厚み５０ｎｍより薄くなると、上層の位相差層５の配向に供する配向規制力を充分に担保できなくなるからである。また配向規制力保存層４は、位相差層５と同様に透過光に位相差層を付与し、後述するように位相差層５と積層されることにより、厚みが厚くなると、領域Ａ及びＢ間の位相差の相違が著しくなるからである。
【００３６】
位相差層５は、配向規制力保存層４側から、光配向膜３の全面に設けられる。位相差層５は、液晶材料の塗工液が塗工、乾燥された後、紫外線の照射により硬化されることにより、下層の光配向膜３又は配向規制力保存層４の配向規制力により液晶材料を配向させた状態で硬化させて作製され、透過光に位相差を付与する。
【００３７】
位相差層５は、この種の光学フィルムに適用される種々の液晶材料を広く適用することができる。より具体的に位相差層５は、重合性液晶組成物を含有する。この重合性液晶組成物は、液晶性を示し分子内に重合性官能基を有する液晶化合物（以下、「棒状化合物」ともいう。）のほか、アンチブロッキング剤等を含有させることができる。
【００３８】
棒状化合物は、屈折率異方性を有し、光配向膜３、配向規制力保存層４の配向規制力により規則的に配列することにより、所望の位相差性を付与する機能を有する。棒状化合物として、例えば、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を示す材料が挙げられるが、他の液晶相を示す液晶化合物と比較して規則的に配列させることが容易である点で、ネマチック相を示す棒状化合物を用いることがより好ましい。
【００３９】
本実施形態において用いられる棒状化合物の具体例としては、例えば、下記式（１）〜（１６）で表される化合物を例示できる。
【００４０】
【化１】
2015203740.tif 000003
2015203740.tif 000004
【００４１】
〔製造方法〕
図２は、パターン位相差フィルム１の製造工程の説明に供する図である。なおこの図２においては、配向規制力保存層４を模式的に示す。この製造工程は、ロールから基材２を引き出して光配向膜の塗工工程（図２（Ａ））に搬送し、ここで光配向膜に係る塗工液を塗工した後、乾燥させる。また続く第１の偏光露光工程（図２（Ｂ））において、基材２の搬送方向に対して偏光方向が斜め４５度の角度を成す直線偏光による偏光紫外線を照射し、これによりこの斜め４５度の方向に配向規制力を設定して光配向膜３に配向能を付与する。なおこの図においては、この配向方向を矢印により示し、偏光紫外線の光源を符号１１により示す。
【００４２】
製造工程は、続く配向規制力保存層の作製工程（図２（Ｃ））において、パターン印刷により領域Ａ又は領域Ｂに対応する部位に選択的に塗工液を塗工した後、無偏光の紫外線を照射し、これにより光配向膜３の配向規制力により液晶材料を配向させた状態で硬化させ、配向規制力保存層４を作製する。なおこのように無偏光の紫外線を照射することにより、図２（Ｄ）において矢印を設けることなく示すように、光配向膜３は、配向能を消失することになる。
【００４３】
ここでパターン印刷の方法として、平板印刷、凹版印刷、孔版印刷、凸版印刷等の各種印刷方式を適応することができるものの、光配向膜３上に液晶材料を塗工、配向させるためには配向膜表面を清浄な状態に保持することが好ましいことにより、この実施形態では凸版印刷による印刷法がパターン印刷に適用される。またグラビア印刷を適用するようにしてもよく、グラビア印刷による場合には、高い精度によりパターンニングすることができる。
【００４４】
製造工程は、続く第２の偏光露光工程において、第１の偏光露光工程とは偏光方向が９０度異なる直線偏光による偏光紫外線を照射し（図２（Ｅ））、これにより第１の偏光露工程に対して異なる方向である、第１の偏光露工程による配向方向と直交する方向に光配向膜３を配向させる。続いて製造工程は、位相差層作製工程（図２（Ｆ））において、配向規制力保存層４の上から、光配向膜３の全面に液晶材料の塗工液を塗工、乾燥させた後、紫外線の照射により下層の配向規制力により配向した状態で硬化させて位相差層５を作製する。これにより位相差層５は、配向規制力保存層４が設けられている領域は、この配向規制力保存層４に保持された第１の偏光露光工程により照射した偏光紫外線の偏光方向に液晶材料が配向して作製され、この配向規制力保存層４は設けられていない領域は、光配向膜３の配向規制力により第２の偏光露光工程により照射した偏光紫外線の偏光方向に液晶材料が配向して作製される（図２（Ｇ））。
【００４５】
このようにして作製されるパターン位相差フィルム１においては、配向規制力保存層の印刷形状により位相差層５がパターンニングされることにより、基材２の搬送方向に何ら制限されることなく、市松模様状にパターンニングしたり、基材２の搬送方向と直交する方向に延長するようにパターンニングしたり、基材の搬送方向に対して斜め方向に延長する方向にパターンニングしたりすることができ、これにより従来に比して格段的に柔軟に位相差層をパターンニングすることができる。またパターン印刷に供する版を交換するだけで位相差層のパターンニングを変更することができ、これによっても従来に比して格段的に柔軟に位相差層をパターンニングすることができる。
【００４６】
〔検討結果〕
以下のようにして検討用の試料を作製して検討した。特開２０１２−１５５３０８号公報、実施例２８に記載の光配向膜材料による塗工液を作製し、ＴＡＣフィルム上に全面に塗布し、１００℃１分の乾燥を行って光配向膜３を作製した。この光配向膜３に偏光紫外線を２０ｍＪ／ｃｍ２照射し、光配向膜３に配向能を付与した。次に重合性液晶を染み込ませた不織布を使用して、配向規制力保存層４に対応する凹凸パターンを作製したローラー上に重合性液晶を転写し、このローラー上のパターンを配向膜３上に転写した後、乾燥させ、紫外線照射により硬化させて配向規制力保存層４を作製した。なおこの紫外線照射は、３６５ｎｍの波長で５０ｍＪ／ｃｍ２により実行した。続いて１回目の偏光露光とは直交する方向に偏光した偏光紫外線を１００ｍＪ／ｃｍ２照射し、配向膜３に配向能を付与し直した後、重合性液晶材料をレタレーションの値が１２５ｎｍとなる膜厚で塗布して乾燥し、３６５ｎｍの波長で３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線照射を行って位相差層５を作製した。
【００４７】
このようにして作製したパターン位相差フィルムを単体で、クロスニコル配置による直線偏光板で挟持して透過光を観察した。またクロスニコル配置による直線偏光板でパターン位相差フィルムと１／４波長板との積層体を挟持して透過光を観察した。パターン位相差フィルム単体で配置した場合と、１／４波長板と積層した状態で配置した場合とで、領域Ａ及びＢに対応する領域の明暗の変化を確認することができ、これにより領域Ａ及びＢに位相差層がパターンニングされていることを確認することができた。
【００４８】
この実施形態によれば、基材に光配向膜、位相差層を設けるようにして、この光配向膜を書き換え可可能な材料により作製すると共に、光配向膜の上に、下層の光配向膜の配向規制力を保存する配向規制力保存層を設けることにより、従来に比して格段的に柔軟に位相差層をパターンニングすることができる。
【００４９】
また配向規制力保存層を、下層の光配向膜の配向規制力により配向した状態で硬化された液晶材料により形成することにより、より具体的構成により従来に比して格段的に柔軟に位相差層をパターンニングすることができる。
【００５０】
また第１の方向に光配向膜を配向させた後、パターン印刷により選択的に配向規制力保存層を作製し、その後、第１の方向とは異なる第２の光配向膜の配向能を設定することにより、従来に比して格段的に柔軟に位相差層をパターンニングすることができる。
【００５１】
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々変更することができる。
【００５２】
すなわち上述の実施形態では、市松模様状に位相差層をパターンニングする場合について述べたが、本発明はこれに限らず、基材２の搬送方向に帯状に領域Ａ及びＢが延長するストライプ形状によりパターンニングする場合、この基材２の搬送方向に対して直交する方向に帯状に領域Ａ及びＢが延長するストライプ形状によりパターンニングする場合、基材２の搬送方向の斜め方向に帯状に領域Ａ及びＢが延長するストライプ形状によりパターンニングする場合にも広く適用することができる。またいわゆる半画素ずらしにより画素を配置した画像表示パネルへの使用を前提に、この画像表示パネルの画素の配置に対応して半画素ずらしにより市松模様状にパターンニングする場合にも広く適用することができる。
【００５３】
また上述の実施形態では、第１及び第２の偏光露光により遅相軸方向が直交する２種類の領域に位相差層をパターンニングする場合について述べたが、本発明はこれに限らず、さらに書き換え可能な光配向膜の配向能を設定し直して配向規制力保存層を作製すことにより、遅相軸方向が異なる３種類以上の領域に位相差層をパターンニングするようにしてもよい。
【００５４】
また上述の実施形態では、第１及び第２の偏光露光により遅相軸方向が直交する２種類の領域に位相差層をパターンニングする場合について述べたが、この２種類の領域にあっては、遅相軸方向が直交する場合に限らず、遅相軸方向を異ならせる場合に広く適用することができる。
【００５５】
また上述の実施形態では、３次元画像表示用のパターン位相差フィルムに本発明を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば調光用に利用する場合等にも広く適用することができる。
【００５６】
また上述の実施形態では、位相差層と同一の材料により配向規制力保存層を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、位相差層と異なる材料により配向規制力保存層を作製するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００５７】
１    パターン位相差フィルム
２    基材
３    光配向膜
４    配向規制力保存層
５    位相差層
１１    光源
【図１】
2015203740.tif 000005
【図２】
2015203740.tif 000006