(57)【要約】      （修正有）【課題】２次元の小遮蔽格子を重ね合わせる場合において、重ね合わせた領域における位相情報の取得を従来よりも容易にすることが可能となる遮蔽格子及び該遮蔽格子を備えるトールボット干渉計を提供する。【解決手段】遮蔽格子４は、Ｘ線を透過する透過部９とＸ線を遮蔽する遮蔽部８とが配列された、複数の小遮蔽格子３を備える。小遮蔽格子３のそれぞれは、透過部９と遮蔽部８とが交差する２方向に配列された２次元の格子領域と、透過部と遮蔽部とが１方向に配列された１次元の格子領域とを有する。１次元の格子領域は、２次元の格子領域の外周の少なくとも一部に形成されている。遮蔽格子は、複数の小遮蔽格子３のうち、隣り合う小遮蔽格子３が有する１次元の格子領域同士の少なくとも一部が重なる重なり領域１０を有し、重なり領域１０において、小遮蔽格子同士の配列方向が交差する。【選択図】図１
2015072261.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線を透過する透過部とＸ線を遮蔽する遮蔽部とが配列された、複数の小遮蔽格子を備え、
前記複数の小遮蔽格子のそれぞれは、
前記透過部と前記遮蔽部とが交差する２方向に配列された２次元の格子領域と、
前記透過部と前記遮蔽部とが１方向に配列された１次元の格子領域とを有し、
前記１次元の格子領域は、前記２次元の格子領域の外周の少なくとも一部に形成され、
前記複数の小遮蔽格子のうち、隣り合う小遮蔽格子が有する１次元の格子領域同士の少なくとも一部が重なる重なり領域において、前記小遮蔽格子同士の配列方向が交差することを特徴とする遮蔽格子。
【請求項２】
前記小遮蔽格子のそれぞれにおいて、
前記２次元の格子領域における前記透過部と前記遮蔽部との配列方向のうちのいずれか１方向と、
前記１次元の格子領域における前記透過部と前記遮蔽部との配列方向と、が平行であることを特徴とする請求項１に記載の遮蔽格子。
【請求項３】
前記２次元の格子領域における前記透過部と前記遮蔽部との配列方向のそれぞれと、
前記重なり領域における、前記１次元の格子領域の配列方向のそれぞれと、が平行であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の遮蔽格子。
【請求項４】
前記２次元の格子領域における前記２方向に配列された前記透過部と前記遮蔽部との配列方向が互いに直交しており、
前記重なり領域における、前記１次元の格子領域の前記透過部と前記遮蔽部との配列方向同士が互いに直交していることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の遮蔽格子。
【請求項５】
前記２次元の格子領域における前記透過部と前記遮蔽部との配列方向において、
前記２次元の格子領域における前記透過部と前記遮蔽部とのピッチと、
前記重なり領域における前記透過部と前記遮蔽部とのピッチと、が等しいことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の遮蔽格子。
【請求項６】
前記小遮蔽格子のそれぞれにおいて、前記２次元の格子領域が長方形であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の遮蔽格子。
【請求項７】
前記複数の小遮蔽格子同士の、小遮蔽格子全体における透過部と遮蔽部の配列によって形成される格子パターンが一致していることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の遮蔽格子。
【請求項８】
前記複数の小遮蔽格子同士の、前記２次元の格子領域における透過部と遮蔽部の配列によって形成される格子パターンが一致しており、
前記１次元の格子領域における前記格子パターンが異なっていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の遮蔽格子。
【請求項９】
前記複数の小遮蔽格子のうち一部の小遮蔽格子は、
前記１次元の格子領域の遮蔽部と、前記２次元の格子領域の遮蔽部が連続して形成されていることを特徴とする請求項８に記載の遮蔽格子。
【請求項１０】
前記複数の小遮蔽格子の透過部と遮蔽部の配列によって形成される格子パターンは、
４角形が有する４つの角のうちの同じ辺に位置する２つの角が、切り落とされた形状を有していることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の遮蔽格子。
【請求項１１】
Ｘ線源からのＸ線を回折する回折格子と、
前記回折格子からのＸ線の一部を遮蔽する遮蔽格子と、
前記遮蔽格子からのＸ線を検出する検出器とを備え、
前記遮蔽格子は、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の遮蔽格子であることを特徴とするトールボット干渉計。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、遮蔽格子及びトールボット干渉計に関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線位相イメージング法は、Ｘ線の位相シフトに基づいてコントラストを発生させ、被検体に関する情報を得る方法である。Ｘ線位相イメージング法の１つとして、トールボット干渉法がある。
【０００３】
Ｘ線を用いたトールボット干渉を観測するためには、空間的に可干渉なＸ線を出射するＸ線源、Ｘ線の位相を周期的に変調するための回折格子、検出器が少なくとも必要である。空間的に可干渉性なＸ線が回折格子を透過すると、Ｘ線の位相が回折格子の形状を反映して周期的に変化する。すると、トールボット距離と呼ばれる特定の距離だけ回折格子から離れた位置に自己像と呼ばれる第１の干渉パターンが形成される。
【０００４】
被検体をＸ線源と回折格子の間又は回折格子と検出器の間に置くことで、被検体の形状と複素屈折率により自己像が変形され、この自己像の変形から被検体の位相に関する情報（以下、位相情報と呼ぶことがある。）を得ることができる。
尚、被検体の位相に関する情報として、微分位相微分像、位相像、散乱像が挙げられる。
【０００５】
しかし、一般的に、Ｘ線を用いたトールボット干渉法において形成される自己像のピッチは検出器の画素ピッチと比較して小さいため、自己像を直接検出することは困難である。
そこで、Ｘ線を遮る遮蔽部とＸ線を透過する透過部が周期的に配列された周期構造を持つ、遮蔽格子を用いて、第２の干渉パターンを形成する。
【０００６】
遮蔽格子に形成されている遮蔽部と透過部の周期は自己像の周期と同じもしくはほぼ同じであり、第２の干渉パターンとして自己像よりも周期が大きいモアレを形成したり、自己像との相対位置を移動させることで縞走査を可能にしたりする。
【０００７】
また、遮蔽部はＸ線を十分遮蔽するために高アスペクト比の金属構造体から構成されており、遮蔽格子を大面積で作製することは困難である。
【０００８】
このため特許文献１には、１次元構造の遮蔽部を持つ複数の小遮蔽格子を重ね合わせて作製した大面積の遮蔽格子が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０１２−０４５０９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかし、特許文献１のように複数の小遮蔽格子を重ね合わせると、小遮蔽格子の重ね合わせの精度によっては、小遮蔽格子を重ね合わせた領域における位相情報の取得が困難になる。これは、小遮蔽格子の重ね合わせズレにより、設計上は遮蔽部が位置する位置に遮蔽部が位置しなかったり、設計上は透過部が位置する位置に透過部が位置しなかったりすることによる。特に、２方向に遮蔽部と透過部とが配列された２次元の小遮蔽格子を精度よく重ね合わせることは難しい。
【００１１】
本発明は、上記課題に鑑み、２次元の小遮蔽格子を重ね合わせる場合において、重ね合わせた領域における位相情報の取得を従来よりも容易にすることが可能となる遮蔽格子及び該遮蔽格子を備えるトールボット干渉計の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の一側面としての遮蔽格子は、Ｘ線を透過する透過部とＸ線を遮蔽する遮蔽部とが配列された、複数の小遮蔽格子を備え、前記複数の小遮蔽格子のそれぞれは、前記透過部と前記遮蔽部とが交差する２方向に配列された２次元の格子領域と、前記透過部と前記遮蔽部とが１方向に配列された１次元の格子領域とを有し、前記１次元の格子領域は、前記２次元の格子領域の外周の少なくとも一部に形成され、前記複数の小遮蔽格子のうち、隣り合う小遮蔽格子が有する１次元の格子領域同士の少なくとも一部が重なることで形成される重なり領域を有し、前記重なり領域において、前記小遮蔽格子同士の配列方向が交差することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の一側面としての遮蔽格子によれば、２次元の小遮蔽格子を重ね合わせる場合において、重ね合わせた領域における位相情報の取得を従来よりも容易にすることが可能となる遮蔽格子を実現することができる。
【００１４】
本発明のその他の側面については、以下で説明する実施の形態で明らかにする。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施形態及び実施例１における複数の小遮蔽格子を有する遮蔽格子の模式図。
【図２】本発明の実施形態及び実施例２における複数の小遮蔽格子を有する遮蔽格子の模式図。
【図３】本発明の実施形態における複数の小遮蔽格子を有する遮蔽格子の模式図。
【図４】本発明の実施形態における１次元周期構造と２次元周期構造の模式図である。
【図５】発明の実施形態における複数の小遮蔽格子を有する遮蔽格子の模式図。
【図６】発明の実施形態における、法線が交差するように配置された複数の小遮蔽格子を有する遮蔽格子の模式図。
【図７】複数の小遮蔽格子を有する、従来の遮蔽格子の例の模式図。
【図８】本発明の実施形態における遮蔽格子を備えるトールボット干渉計の模式図。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
上述のように、複数の小遮蔽格子を重ね合わせると、小遮蔽格子の重ね合わせズレにより、設計上は遮蔽部が位置する位置に遮蔽部が位置しなかったり、設計上は透過部が位置する位置に透過部が位置しなかったりすることがある。このため、小遮蔽格子を重ね合わせた領域（以下、重なり領域と呼ぶことがある）におけるＸ線の透過率が、小遮蔽格子を重ね合わせなかった領域におけるＸ線の透過率よりも低くなり、重なり領域において検出器に到達するフォトン数が減少し、検出器ノイズに対する取得信号量（ＳＮ比）が低下する。そのため、重なり領域における位相情報の取得が困難になる可能性がある。
【００１７】
そこで、本発明の実施形態においては、２次元の小遮蔽格子を重ね合わせる場合において、重ね合わせた領域における位相情報の取得を従来よりも容易にすることが可能となる遮蔽格子を提供する。そのために、本実施形態の遮蔽格子は、小遮蔽格子同士が重なる領域におけるＸ線の透過率と、小遮蔽格子を重ね合わせなかった領域におけるＸ線の透過率との差を小さくする。具体的には、本実施形態の遮蔽格子は、次のような構成を備える。
【００１８】
遮蔽格子は、Ｘ線を透過する透過部とＸ線を遮蔽する遮蔽部とが配列された、複数の小遮蔽格子を備える。そして、この小遮蔽格子のそれぞれは、透過部と遮蔽部とが交差する２方向に配列された２次元の格子領域と、透過部と遮蔽部とが１方向に配列された１次元の格子領域とを有している。１次元の格子領域は、前記２次元の格子領域の外周の少なくとも一部に形成され、遮蔽格子は、複数の小遮蔽格子のうち、隣り合う小遮蔽格子が有する１次元の格子領域同士の少なくとも一部が重なることで形成される重なり領域を有する。重なり領域において、隣り合う小遮蔽格子が有する１次元の格子領域の配列方向同士は交差する。これにより、重なり領域において透過部と遮蔽部とが交差する２方向に配列されている。
【００１９】
また、小遮蔽格子のそれぞれは、２次元の格子領域における透過部と遮蔽部との配列方向のうちのいずれか１方向と、１次元の格子領域における透過部と遮蔽部との配列方向と、が平行に構成されていることが好ましい。更に、２次元の格子領域における透過部と遮蔽部との配列方向のそれぞれと、重なり領域における、１次元の格子領域同士による透過部と遮蔽部との配列方向のそれぞれと、が平行に構成されていることがより好ましい。
【００２０】
更に、２次元の格子領域における透過部と遮蔽部との配列方向において、２次元の格子領域における透過部と遮蔽部とのピッチと、重なり領域における透過部と遮蔽部とのピッチと、が等しいピッチに構成されていることが更に好ましい。但し、本発明及び本明細書において、ピッチが等しいとは、ピッチが±１０％の範囲内にあることを指す。つまり、あるピッチが、１．１Ａ以下、０．９Ａ以上であるとき、そのピッチは、ピッチＡと等しいというものとする。また、配列方向が平行とは、配列方向同士がなす角度の絶対値が０．１度以内であることを指す。また、配列方向が直交とは、配列方向同士がなす角度の絶対値が８９．９度以上９０．１度以下であることを指す。
【００２１】
以下に、具体例として、複数の小遮蔽格子により構成されたＸ線位相イメージングに用いられる遮蔽格子について、図を用いて説明する。
【００２２】
透過部９と遮蔽部８とが交差する２方向に周期的に配列された２次元の格子領域の構造（以下、２次元周期構造と呼ぶことがある）１の例を図４（ａ）に示す。また、透過部９と遮蔽部８とが１方向に周期的に配列された１次元の格子領域の構造（（以下、１次元周期構造と呼ぶことがある）２の例を図４（ｂ）に示す。本実施形態の遮蔽格子４は、２次元周期構造１を有する遮蔽部と、２次元周期構造１の外周の少なくとも一部に形成された１次元周期構造２を有する遮蔽部から成る複数枚の小遮蔽格子３より構成されている。
１次元周期構造２は２次元周期構造１が有する配列方向（ｘ方向、ｙ方向）のうち、１つの方向と同じ配列方向を有し、この配列方向に対して２次元周期構造１と同じピッチで遮蔽部が配置されていることが好ましい。
【００２３】
基板に対して垂直方向から見たときに、小遮蔽格子３の外周に形成された１次元周期構造２同士が重なるように、小遮蔽格子同士を重ね合わせる。このとき、１次元周期構造の配列方向同士が交差するように遮蔽格子同士を重ね合わせる。これにより、重なり領域も透過部と遮蔽部とが交差する２方向に周期的に配列された領域となる。加えて、重なり領域におけるＸ線透過率を２次元周期構造との）のＸ線透過率と同程度とすることが可能である。
【００２４】
２次元周期構造１としては、メッシュ状構造が好ましく、このメッシュ状構造の配列方向が直交することがより好ましい。また、２次元周期構造の２つの配列方向のそれぞれと、重なり領域における２つの配列方向のそれぞれとが一致することが好ましい。そのためには、重ね合わせる小遮蔽格子同士の２次元周期構造が同じ配列方向（第１と第２の方向とする）を有し、且つ、重なり領域において重なり合う１次元周期構造の一方の配列方向が第１の方向であり、もう一方の配列方向が第２の方向であればよい。
【００２５】
メッシュ状の小遮蔽格子の場合、１枚ではＸ線の透過率が理想的には１／４（配列方向が直交する場合）だが、小遮蔽格子の２次元周期構造同士を２枚重ねると完全に遮光してしまう可能性がある。
【００２６】
図７に示すように、２次元周期構造のみを有する小遮蔽格子３１同士の重なりによりモアレ縞が形成されるような場合でも、重なり領域の平均的な透過率は１／１６となってしまう。
【００２７】
複数の小遮蔽格子を正確な位置合わせを行って固定すれば、重なり領域におけるＸ線透過率は、小遮蔽格子同士が重なり合わない領域（以下、中央領域と呼ぶことがある）のＸ線透過率と変わらない。しかしながら、遮蔽格子はμｍオーダーの遮蔽部から成るため、少なくともμｍオーダーの位置合わせ精度が必要となるため、重ね合わせが難しかった。
【００２８】
これに対し、本実施形態のメッシュ状に２次元周期構造１を持つ小遮蔽格子３同士は、２枚の小遮蔽格子３が有する１次元周期構造同士を配列方向が交差するように重ね合わせる。
【００２９】
１枚の１次元状格子の透過率は１／２（５０％）であり、１次元周期構造２の配列方向が直交するように積層した場合１／４（２５％）となる。このとき、数度の回転誤差やμｍオーダーの位置合わせ誤差があったとしても、透過率はほとんど変わらない。
【００３０】
このため、２次元周期構造１の外周に１次元周期構造２を形成した小遮蔽格子３を複数枚作製し、１次元周期構造２同士を重ね合わせて遮蔽格子４とすることで、２次元周期構造のみを有する遮蔽格子の２次元周期構造同士を重ね合わせた遮蔽格子よりも容易な位置合わせで大面積の遮蔽格子４を作製することができる。
【００３１】
２次元周期構造の配列方向が直交するとき、基板に対して垂直方向から見たときに、重なり領域における１次元周期構造２同士の配列方向も直交することが好ましい。また、小遮蔽格子同士を重ね合わせるときに、小遮蔽格子の１次元周期構造は、隣り合う小遮蔽格子の１次元構造と重ならない領域を有していても良いし、１次元周期構造２と２次元周期構造１の一部が重なり合っても良い。１次元周期構造の一部が重なり合わなかった場合、その領域の透過率は５０％であり、２次元周期構造の透過率（２５％）と異なる。しかし、２次元周期構造のみを有する小遮蔽格子の２次元周期構造同士が重なり合わなかった場合の透過率（１００％）よりも、２次元周期構造の透過率に近く、１次元周期構造の配列方向に対しての位相情報の取得が容易である。また、１次元周期構造２と２次元周期構造１の一部が重なり合う場合も、２次元周期構造同士が重なったときよりも、その重なり領域の透過率への影響は小さいため、位相情報の取得が容易である。但し、１次元周期構造２のうち、隣り合う小遮蔽格子の１次元周期構造と重ならない領域や、１次元周期構造２と２次元周期構造１が重なる領域は少ないほうが好ましく、小遮蔽格子が有する１次元周期構造の面積の１／２以上が、隣り合う小遮蔽格子のうち、共に重なり領域を形成する１次元周期構造と重なることが好ましく、その面積が３／４以上であることがより好ましく、１次元周期構造２部分のみが重ね合わされ、重なり合わない１次元周期構造がないことが更に好ましい。
【００３２】
このため、１次元周期構造２部分と２次元周期構造１部分の境界は直線状であると積層が容易であるため好ましい。
【００３３】
また、２次元周期構造１の配列方向が互いに直交する場合、２次元周期構造１を形成する領域は長方形（正方形を含む。）であることが好ましい。
【００３４】
遮蔽格子は、１種類の小遮蔽格子を用いて構成して良いし、複数種類の小遮蔽格子３を組み合わせて構成しても良い。尚、小遮蔽格子の遮蔽部の形状が等しいとき、その小遮蔽格子は同じ種類の小遮蔽格子であるとし、小遮蔽格子の遮蔽部の形状が異なるとき、その小遮蔽格子は異なる種類の小遮蔽格子であるとする。
【００３５】
１種類の小遮蔽格子３を用いて大面積の遮蔽格子を形成する場合に用いられる、小遮蔽格子の形状として２パターンを例示する。１つめの小遮蔽格子の形状の例（第１の形状）は、図１（ａ）に示した小遮蔽格子のように、２次元周期構造に対して対向する位置（２次元周期構造の上と下が対向する位置にあり、左と右も対向する位置にあるという）にある１次元周期構造同士の配列方向が交差する形状である。但し、２次元周期構造の配列方向が直交する場合、対向する位置にある１次元周期構造同士の配列方向も直交することが好ましい。
【００３６】
２つめの小遮蔽格子の形状の例（第２の形状）は、図２（ａ），（ｂ）に示した小遮蔽格子のように、２次元周期構造の上下左右の４つの１次元周期構造２の配列方向が平行な形状である。
【００３７】
第２の形状の小遮蔽格子を用いる場合は、隣り合う小遮蔽格子３が有する１次元周期構造の配列方向が交差するように、小遮蔽格子を回転させて重ね合わせる。
【００３８】
次に、２種類の小遮蔽格子３を用いて大面積の遮蔽格子を形成する場合に用いられる、小遮蔽格子の形状の例として、第３の形状の小遮蔽格子と第４の形状の小遮蔽格子とを用いる場合について説明する。
【００３９】
第３と第４の形状の小遮蔽格子は、共に、２次元周期構造に対して対向する位置にある１次元周期構造同士の配列方向が平行であり、且つ、隣り合う位置（つまり、対向しない位置）にある１次元周期構造同士の配列方向が交差する形状である。但し、２次元周期構造の配列方向が直交する場合、隣り合う位置にある１次元周期構造同士の配列方向も直交することが好ましい。
【００４０】
第３の形状の小遮蔽格子３は、図３（ｂ）に示した小遮蔽格子のように、１次元周期構造２が２次元周期構造１の遮蔽部の延長により形成される。つまり、２次元周期構造の上下に位置する１次元周期構造は、上下に延びる遮蔽部が横方向に配列した構造であり、左右に位置する１次元周期構造は、左右に延びる遮蔽部が縦方向に配列した構造である。
【００４１】
一方、第４の形状の小遮蔽格子３は、図３（ａ）に示した小遮蔽格子のように、１次元周期構造２が２次元周期構造１の外周を囲うように形成する。つまり、２次元周期構造の左右に位置する１次元周期構造は、上下に延びる遮蔽部が横方向に配列した構造であり、上下に位置する１次元周期構造は、左右に延びる遮蔽部が縦方向に配列した構造である。
【００４２】
複数枚の小遮蔽格子３を平面状に貼り合わせるとき、３枚分以上の周期構造体が重なる可能性がある。
【００４３】
積層枚数が３枚以上となり、３つ以上の１次元周期構造が重なると、その領域の透過率が中央領域よりも低下することがある。よって、遮蔽格子が３枚以上の小遮蔽格子を有する場合、重なり領域が２つの小遮蔽格子の１次元周期構造が重なることで形成され、３つ以上の小遮蔽格子の１次元周期構造が重ならないように１次元周期構造を形成することが好ましい。
【００４４】
例えば、小遮蔽格子のそれぞれは、図１（ａ）に示すように、２次元周期構造１の頂点に接する４か所のエリアのうち２か所は１次元周期構造２を形成しないことが好ましい。この２か所に１次元周期構造を形成しないことで、小遮蔽格子の周期構造（１次元と２次元を含む）が形成される領域は、四角形のうち、２つの角を小さな四角形で切り落としたような形状を有する。切り落とした小さな四角形は、１次元周期構造の幅×１次元周期構造の高さであることが好ましい。
【００４５】
図１〜３に示した小遮蔽格子３は、２次元周期構造１の外周４辺に接するように一次元周期構造２を形成しているが、対向する位置にある１次元周期構造２のみを形成しても良い。例えば、図５（ａ）に示す小遮蔽格子のように、対向する位置にある１次元周期構造の配列方向が交差する小遮蔽格子を、図５（ｂ）に示すように、１次元周期構造の配列方向が交差するように重ね合わせればよい。また、図５（ｃ）に示す小遮蔽格子のように、対向する位置にある１次元周期構造の配列方向が平行な小遮蔽格子を、図５（ｂ）に示すように、１次元周期構造の配列方向が交差するように重ね合わせても良い。
【００４６】
小遮蔽格子のそれぞれは、平面でも良いし、図６（ａ）に示した断面図のように、湾曲していても良い。湾曲した小遮蔽格子を用いると、発散するＸ線を用いる場合であっても、格子の中心から遠い領域で生じるＸ線のケラレ（影）を軽減させることができる。発散するＸ線とは、点光源状のＸ線源から射出されるコーンビーム又はファンビームのようなＸ線のことを指す。また、ここでいう格子の中心とは、遮蔽格子のうち、Ｘ線が照射される領域の中心のことを指すものとする。ケラレを軽減させるためには、小遮蔽格子のそれぞれが、Ｘ線源との距離を曲率半径として湾曲した形状を有することが好ましい。このとき、小遮蔽格子のそれぞれは、ファンビームのように１方向に発散するＸ線の場合はシリンドリカル面を有するように湾曲し、コーンビームのように２方向に発散するＸ線の場合は球の表面の一部に沿うような形状を有するように湾曲していることが好ましい。加えて、これらの小遮蔽格子のそれぞれの法線５が１点で交差するように小遮蔽格子同士を重ね合わせることが好ましい。交差する点とそれぞれの小遮蔽格子との距離は、曲率半径と等しいことが好ましく、交差する点にＸ線源を配置すれば、理論的にはケラレを解消することができる。実際には、小遮蔽格子の法線同士が交差すれば、ケラレの軽減という効果を得ることができる。
【００４７】
また、小遮蔽格子のそれぞれが平面であっても、図６（ｂ）に示した断面図のように、小遮蔽格子のそれぞれの法線（平面に垂直な線とする）が１点で交わるように小遮蔽格子同士を重ね合わせることで、同様の効果を得ることができる。この場合、角度を有する支持基板６に小遮蔽格子を配置することで小遮蔽格子のそれぞれの法線が交差するように配置することができる。角度を有する支持基板６の代わりに、図６（ｃ）のように凸部を有する支持基板７を用い、小遮蔽格子の一部が凸部に配置されるように小遮蔽格子を支持基板７に配置しても同様の効果が得られる。また、図６（ｄ）のように、小遮蔽格子自体の厚みを利用して、小遮蔽格子のそれぞれの法線が交差するように配置しても良い。この場合、小遮蔽格子の厚みを調整することで、法線が交差する点と遮蔽格子との距離を適宜調整することができる。
【００４８】
尚、このように、小遮蔽格子同士の法線が交差するように小遮蔽格子を配置する場合（小遮蔽格子の湾曲の有無は問わない）、小遮蔽格子のそれぞれの形状は特に問わず、法線が平行である時と同様に、例示した図１〜３、５のいずれであっても良い。
【００４９】
小遮蔽格子３を製造する方法は特に問わないが、例としてめっきを用いて小遮蔽格子を製造する方法について説明をする。平滑な基板表面に感光性レジストやＳｉにより高アスペクト比の構造物を形成し、その間をめっき物で充填する。高アスペクト比の構造物は、例えば、シリコン基板をエッチングすることによって形成することができる。
高アスペクト比の構造物は透過部９を形成し、めっき物が充填されて形成される構造物は遮蔽部８を形成する。
【００５０】
めっき物は、Ｘ線透過率の低い材料であればよいが、めっきが比較的容易なため、金又は白金あるいは、これらの金属を含む合金が好ましい。
【００５１】
以上のようにして製造した遮蔽格子４は、位相格子１８・検出器１９とともに、トールボット干渉計１５を構成することができる。また、トールボット干渉計１５は、Ｘ線源２０と計算機１６とともに用いることにより、Ｘ線トールボット干渉システム１５０を構成することが可能である。また、Ｘ線を周期的に遮蔽する格子として、それ以外の用途にも用いることができる。例えば、Ｘ線発生手段２と組み合わせて、Ｘ線の空間的可干渉性を上げる線源格子１２として用いることもできる。
【実施例】
【００５２】
以下に、本発明の実施例について説明する。
【００５３】
［実施例１］
実施例１として、２次元周期構造に対して対向する位置にある１次元周期構造同士が直交した配列方向を有する小遮蔽格子（第１の形状の小遮蔽格子）３を貼り合わせて構成した遮蔽格子４の例について、図１を用いて説明する。
【００５４】
本実施例においては、用いる小遮蔽格子３は１種類とすることができる。このときの小遮蔽格子３を図１（ａ）に示す。
【００５５】
長方形の領域に２次元周期構造１が形成され、その外周に１次元周期構造２が形成されている。２次元周期構造の配列方向同士（ｘ方向、ｙ方向）は直交しており、
対向する領域の１次元周期構造の配列方向同士は、互いに直交している。また、対向する領域の１次元周期構造のうち、いずれか１つの１次元周期構造の配列方向と、２次元周期構造の配列方向のうちの１つとは平行である。同様にもう１つの１次元周期構造の配列方向と、２次元周期構造の配列方向の１つも平行である。つまり、図１（ａ）において、２次元周期構造の上に位置する１次元周期構造の配列方向はｙ方向であり、２次元周期構造の下に位置する１次元周期構造の配列方向はｘ方向である。また、２次元周期構造の左に位置する１次元周期構造の配列方向はｙ方向であり、２次元周期構造の右に位置する１次元周期構造の配列方向はｘ方向である。
【００５６】
このときの１次元構造のｘ方向におけるピッチと２次元構造のｘ方向におけるピッチは等しい。同様に、１次元周期構造のｙ方向におけるピッチと２次元構造のｙ方向におけるピッチは等しい。尚、図１では、ｘ方向におけるピッチとｙ方向におけるピッチは等しいが、異なっていても良い。複数の小遮蔽格子３を同じ方向に向け、図１（ｂ）のように１次元周期構造２を重ね合わせて遮蔽格子４を構成する。これにより、１次元周期構造の重ね合わせにより形成される格子パターンと、２次元周期構造の格子パターンが一致する。
【００５７】
つまり、複数の小遮蔽格子同士の、小遮蔽格子全体における透過部と遮蔽部の配列によって形成される格子パターンが一致している遮蔽格子４が構成される。別の言い方をすると、第１の小遮蔽格子の１次元周期構造と、第１の小遮蔽格子と隣接する第２の小遮蔽格子の１次元周期構造とにより、第１と第２の小遮蔽格子が有する２次元周期構造と同じ形状を有する２次元周期構造が形成される。
【００５８】
これにより、連続する２次元周期構造形成領域が単一の小遮蔽格子と比較して大面積化する。
【００５９】
小遮蔽格子３の作製には、ＬＩＧＡプロセスを用いることができる。６インチＳｉウェハー中央部９０ｍｍ角エリアに５μｍピッチ・線幅２．５μｍ、厚さ５０μｍのメッシュ状構造を金めっきで形成する。メッシュ状構造の外周には幅１ｍｍで図１（ａ）と同様の１次元構造を５μｍピッチ・線幅２．５μｍで作製する。これにより、４角形が有する４つの頂点（角）に接するエリアのうちの同じ辺に接する２つのエリアが切り落とされた形状の格子パターンを有する小遮蔽格子３が形成される。
【００６０】
同様にして合計４枚の小遮蔽格子３を作製し、１ｍｍ幅の１次元周期構造を重ねて貼り合わせることで１８１ｍｍ角の遮蔽格子４を得ることができる。
【００６１】
［実施例２］
実施例２として、１次元周期構造の配列方向が平行であり、隣り合う小遮蔽格子（第２の形状の小遮蔽格子）３を９０°回転させて重ね合わせることで構成した遮蔽格子４の例を、図２を用いて説明する。
【００６２】
本実施例においても、用いる小遮蔽格子３は１種類とすることができる。
【００６３】
このときの小遮蔽格子３の構造を図２（ａ）に示す。長方形の領域に２次元周期構造が形成され、その外周に１次元周期構造が形成されている。
【００６４】
小遮蔽格子３内では、１次元周期構造の配列方向は互い平行である。また、１次元構造のピッチと２次元構造のピッチは等しい。
【００６５】
図２（ａ）に示した小遮蔽格子の隣には、図２（ｂ）のように、図２（ａ）を９０°回転させた小遮蔽格子を重ね合わせる。これにより、重ね合わせた領域において２つの配列方向は直交する。
【００６６】
図２（ｃ）のように１次元周期構造を重ね合わせて遮蔽格子４を構成することにより、連続する２次元周期構造形成領域が単一の小遮蔽格子３と比較して大面積化する。
【００６７】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【符号の説明】
【００６８】
１  二次元周期構造
２  一次元周期構造
３  小遮蔽格子
４  遮蔽格子
８  遮蔽部
９  透過部
１０  重なり領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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