(57)【要約】【課題】有機ＥＬ表示装置の内部に侵入した水分の影響をより限られた範囲に留めることが可能な有機ＥＬ表示装置を提供する。【解決手段】有機ＥＬ表示装置１は、各画素に設けられている下部電極３１と、下部電極３１の外周を取り囲み且つ下部電極の外周縁に重なっているバンク３２と、下部電極３１上とバンク３２上とに形成されている有機層３３と、有機層３３上に形成されている上部電極３４とを備える。バンク３２は吸湿材料を含んでいる。【選択図】図３
2015201354.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各画素に設けられている下部電極と、
前記下部電極の外周を取り囲み且つ前記下部電極の外周縁に重なっているバンクと、
前記下部電極上と前記バンク上とに形成されている有機層と、
前記有機層上に形成されている上部電極と、を備え
前記バンクは吸湿材料を含んでいる
ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置において、
前記バンクは吸湿材料又は吸湿材料が混合された材料で形成されている、
ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置において、
前記バンクはその一部に吸湿材料で形成されている部分を有し、
前記吸湿材料で形成されている部分は複数の画素のそれぞれに設けられている、
ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項４】
請求項３に記載の有機ＥＬ表示装置において、
前記バンクは、前記吸湿材料で形成されている第１の部分と、第１の部分の材料とは異なる材料によって形成されている第２の部分とを含み、
前記第２の部分は第１の部分上に形成され、前記バンクの表面を構成している、
ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項５】
請求項３に記載の有機ＥＬ表示装置において、
前記バンクは、吸湿材料で形成されている第１の部分と、第１の部分の材料とは異なる材料によって形成されている第２の部分とを含み、
前記第１の部分は第２の部分上に形成され、前記バンクの表面を構成している、
ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項６】
請求項３に記載の有機ＥＬ表示装置において、
前記バンクは、前記下部電極と回路層とを接続するコンタクトホールを覆う部分を含み、
前記吸湿材料で形成されている部分は前記コンタクトホールを覆う部分に形成されている、
ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項７】
請求項３乃至５のいずれかに記載の有機ＥＬ表示装置において、
前記下部電極の外周縁は延伸方向の異なる複数の外縁を含み、
前記吸湿材料で形成されている部分は前記下部電極の複数の外縁のうち少なくとも隣接する２つの外縁に形成されている、
ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項８】
基板と、
前記基板の上側に形成され、各画素に設けられている下部電極と、
前記下部電極の外周を取り囲むバンクと、
前記下部電極上と前記バンク上とに形成されている有機層と、
前記有機層上に形成されている上部電極と、
前記有機層よりも基板寄りに形成されている、吸湿材料を含む層とを有している、
ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項９】
請求項８に記載の有機ＥＬ表示装置において、
前記吸湿材料を含む層として、前記下部電極と前記基板の間に設けた平坦化膜、又は平坦化膜上に形成されている吸湿層を有している、
ことを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は有機ＥＬ表示装置に関し、特に有機層への水分の影響を低減するための技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ表示装置には、薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴ）を含む回路層に接続される下部電極を有するものがある。下部電極の縁には、隣接する２つの画素を区画するバンクが形成されている。発光層を含む有機層は下部電極とバンクとを覆うように形成される。有機層上に上部電極が形成され、上部電極は封止膜で覆われている。有機ＥＬ表示装置の製造工程で封止膜に入った異物や封止膜に生じたピンホールが原因で表示装置の内部に水分が侵入する場合がある。下記特許文献１の有機ＥＬ表示装置は、有機層への水分の影響を低減するため、水分を吸着できる材料で形成されたゲッター層（以下において吸湿層と称する）を有している。吸湿層は上部電極を覆い、且つ、複数の画素に亘って形成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−１２９３３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１の構造は次のような問題を有している。吸湿層は複数の画素に亘って形成され、また吸湿層と有機層との間に上部電極が存在している。そのため、例えば１つの画素（サブ画素）に水分侵入の原因となる異物の混入やピンホールが生じた場合、水分の影響をその１つの画素に留めることは困難である。そのため、例えば有機ＥＬ表示装置を長期間使用していると、水分の影響（例えば、ダークスポット）が複数の画素に広がるという問題があった。
【０００５】
また、吸湿層はその層に内在する水分が予め完全に除去されていることが好ましい。そのような水分を除去するためにはアニール処理が有効である。ところが、特許文献１の構造では、吸湿層は有機層よりも上層であるため、吸湿層にそのようなアニール処理を施すことは困難であった。
【０００６】
本発明の第1の目的は、有機ＥＬ表示装置の内部に侵入した水分の影響をより限られた範囲に留めることが可能な有機ＥＬ表示装置を提供することにある。
【０００７】
本発明の第２の目的は、吸湿材料から水分をより効果的に除去することが可能な有機ＥＬ表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
（１）第１の目的を達するための有機ＥＬ表示装置は、各画素に設けられている下部電極と、前記下部電極の外周を取り囲み且つ前記下部電極の外周縁に重なっているバンクと、前記下部電極上と前記バンク上とに形成されている有機層と、前記有機層上に形成されている上部電極と、を備える。前記バンクは吸湿材料を含んでいる。この有機ＥＬ表示装置によれば、その内部に侵入した水分の有機層への影響を限定された範囲に留めることが可能である。
【０００９】
（２）（１）において、前記バンクは吸湿材料又は吸湿材料が混合された材料で形成されてもよい。これによれば、有機ＥＬ表示装置の製造プロセスを簡素化できる。
【００１０】
（３）（１）において、前記バンクはその一部に吸湿材料で形成されている部分を含み、前記吸湿材料で形成されている部分は複数の画素のそれぞれに設けられてもよい。この有機ＥＬ表示装置の内部に侵入した水分の有機層への影響をさらに限定された範囲に留めることが可能である。
【００１１】
（４）（３）において、前記バンクは、吸湿材料で形成されている第１の部分と、第１の部分の材料とは異なる材料によって形成されている第２の部分とを含み、前記第２の部分は第１の部分上に形成され、前記バンクの表面を構成してもよい。これによれば、第１の部分を構成する材料の表面が粗い場合であっても、その粗さが有機層に影響することを第２の部分によって抑えることができる。
【００１２】
（５）（３）において、前記バンクは、吸湿材料で形成されている第１の部分と、第１の部分の材料とは異なる材料によって形成されている第２の部分とを含み、前記第１の部分は第２の部分上に形成され、前記バンクの表面を構成してもよい。これによれば、吸湿材料を含む第１の部分が有機層に接するので、有機層に対する水分の影響をより効果的に低減できる。
【００１３】
（６）（３）において、前記バンクは、前記下部電極と回路層とを接続するコンタクトホールを覆う部分を含み、前記吸湿材料で形成されている部分は前記コンタクトホールを覆うように形成されてもよい。コンタクトホールを覆う部分は、バンクの他の部分に比べて大きな幅を有する。そのため、この形態によれば、吸湿材料で形成される部分の幅を確保することが可能となる。その結果、吸湿材料が幅の狭い領域にパターニングすることが困難な材料である場合であっても、吸湿材料で形成される部分を製造することが容易となる。
【００１４】
（７）（３）から（５）のいずれかにおいて、前記下部電極の外周縁は延伸方向の異なる複数の外縁を含み、前記吸湿材料で形成されている部分は前記下部電極の複数の外縁のうち少なくとも隣接する２つの外縁に形成されてもよい。これによれば、有機ＥＬ表示装置の内部に侵入した水分の有機層への影響をより限定された範囲に留めることが可能となる。
【００１５】
（８）第２の目的を達するための有機ＥＬ表示装置は、基板と、前記基板の上側に形成され、各画素に設けられている下部電極と、前記下部電極の外周を取り囲むバンクと、前記下部電極上と前記バンク上とに形成されている有機層と、前記有機層上に形成されている上部電極と、前記有機層よりも基板寄りに形成されている、吸湿材料を含む層とを有している。この有機ＥＬ表示装置によれば、有機ＥＬ表示装置の製造工程において、有機層を形成する前に、吸湿材料からその内部に存在する水分を熱処理により除去することが可能となるので、水分の有機層への影響をより効果的に低減できる。
【００１６】
（９）（８）において、前記吸湿材料を含む層として、平坦化膜、又は平坦化膜上に形成されている吸湿層を有してもよい。これによれば、吸湿材料を含む層の面積を確保することが容易となり、水分の有機層への影響をより効果的に低減できる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明に係る有機ＥＬ表示装置の平面図である。
【図２】有機ＥＬ表示装置の下部電極及びバンクを示す平面図である。
【図３】図２に示すＩＩＩ−ＩＩＩ線での有機ＥＬ表示装置の断面図である。
【図４】バンクの変形例を示す断面図である。
【図５】バンクのさらに別の変形例を示す断面図である。
【図６】バンクの変形例を示す平面図である。
【図７】図６に示すＶＩＩ−ＶＩＩ線での有機ＥＬ表示装置の断面図である。
【図８】有機ＥＬ表示装置の変形例を示す断面図である。
【図９】有機ＥＬ表示装置のさらに別の変形例を示す断面図である。
【図１０】有機ＥＬ表示装置のさらに別の変形例を示す断面図である。
【図１１】有機ＥＬ表示装置のさらに別の変形例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の一実施形態について図面を参照しながら説明する。図１は本発明に係る有機ＥＬ（ＥＬｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｅｎｃｅ）表示装置１の平面図である。図２は有機ＥＬ表示装置１の下部電極３１及びバンク３２を示す平面図である。図２においてはハッチングが施されている領域ばバンク３２である。図３は図２に示すＩＩＩ−ＩＩＩ線での有機ＥＬ表示装置１の断面図である。
【００１９】
図１及び図３に示すように、有機ＥＬ表示装置１は基板１０を有している。基板１０は例えばガラス基板や樹脂基板である。基板１０の縁には、後述する回路層Ｃ（図３参照）に形成された素子（例えば、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ））を駆動する駆動ＩＣ２が取り付けられている。また、基板１０の縁には、駆動ＩＣ２に映像信号などを加えるフレキシブル基板３が取り付けられている。また、基板１０には後述する上部電極３４が形成されている。上部電極３４は複数の画素に亘って形成されている。上部電極３４の外縁の内側に、複数の画素からなる表示領域Ｄが規定されている。有機ＥＬ表示装置１は例えば全体として可撓性を有するフレキシブルディスプレイである。この場合、基板１０としては、好ましくは樹脂基板が用いられる。有機ＥＬ表示装置１はリジットのディスプレイでもよい。
【００２０】
有機ＥＬ表示装置１の一例では、図２に示すように、４つの画素（図２においてＰｘ）が１単位となっている。言い換えると、有機ＥＬ表示装置１の一例では、４つのサブ画素によって１画素が構成される。１単位を構成する４つの画素はそれぞれ赤画素、緑画素、青画素、及び白画素である。４つの画素は、例えば図２に示すように、２列及び２行で配置される。画素の配置は必ずしもこれに限られない。例えば、４つの画素は１列で配置されてもよい。また、３つの画素によって１単位が構成されてもよい。言い換えると、３つのサブ画素によって１画素が構成されてもよい。この場合、３つの画素はそれぞれ赤画素、青画素、及び緑画素であり、一方向に並んでもよい。
【００２１】
基板１０にはＴＦＴやコンデンサなどを含む回路層Ｃが形成されている。図３では、回路層Ｃに形成されるＴＦＴ１１が示されている。ＴＦＴ１１は半導体層１２とゲート電極１３とソース電極１４とドレイン電極１５とを有している。図３に示す例では、半導体層１２は基板１０上に形成されている。半導体層１２はゲート絶縁膜２１によって覆われている。ゲート電極１３はゲート絶縁膜２１上に形成され、層間絶縁膜２２によって覆われている。ソース電極１４とドレイン電極１５は層間絶縁膜２２上に形成されている。ソース電極１４は、ゲート絶縁膜２１と層間絶縁膜２２とに形成されているコンタクトホールを介して、半導体層１２のソース領域に接続している。ドレイン電極１５は、ゲート絶縁膜２１と層間絶縁膜２２とに形成されているコンタクトホールを介して、半導体層１２のドレイン領域に接続している。図３に示すＴＦＴ１１の積層構造は一例であり、ＴＦＴの構造はこれに限られない。回路層Ｃ（図３に示す例ではＴＦＴ１１）はパッシベーション膜２３によって覆われている。また、図３に示す例では、パッシベーション膜２３上に平坦化膜２４が形成されている。平坦化膜２４は例えばアクリルなどの樹脂で形成される。
【００２２】
図２及び図３に示すように、基板１０の上側には下部電極３１が形成されている。より具体的には、下部電極３１は平坦化膜２４上に形成されている。下部電極３１は各画素に設けられている。すなわち、有機ＥＬ表示装置１は複数の下部電極３１を有し、それらは複数の画素にそれぞれ設けられている。下部電極３１はＴＦＴ１１のドレイン電極１５にコンタクトホールｈを介して接続している。有機ＥＬ表示装置１の一例では、図３に示すように、平坦化膜２４とパッシベーション膜２３とにコンタクトホールｈが形成される。下部電極３１は例えば陽極であり、後述する上部電極３４は例えば陰極である。有機ＥＬ表示装置１の一例はトップエミッション型である。この場合、下部電極３１は反射層を含んでもよい。また、反射層は下部電極３１よりも下層に形成されてもよい。有機ＥＬ表示装置１はボトムエミッション型でもよい。
【００２３】
図２及び図３に示すように、有機ＥＬ表示装置１は、各画素を区画するバンク３２を有している。バンク３２は各下部電極３１の外周を取り囲み且つ下部電極３１の外周縁に重なっている。すなわち、バンク３２は下部電極３１の外周縁上に位置する部分３２ａを有している。バンク３２は、好ましくは、各下部電極３１の全周を取り囲む。バンク３２の内側には、図２に示すように、開口Ａが形成され、下部電極３１は開口Ａにおいて露出している（以下では開口Ａをバンク開口と称する）。有機ＥＬ表示装置１の一例では、下部電極３１は矩形であり、その角部に近い位置にコンタクトホールｈが形成されている。図２に示すように、ここで説明する例のバンク３２は張り出し部３２ｄを有している。張り出し部３２ｄはバンク３２の他の部分よりも内側に張り出し、コンタクトホールｈが形成されている部分を覆っている。張り出し部３２ｄの存在により、バンク開口Ａは略Ｌ字形状を有している。バンク開口Ａの形状は必ずしもＬ字形状に限られず、適宜変更されてよい。
【００２４】
図３に示すように、下部電極３１上とバンク３２上とには発光層（不図示）を含む有機層３３が形成されている。有機層３３は上述のバンク開口Ａを通して下部電極３１と接しており、バンク開口Ａの領域から光が出る。有機層３３は、発光層の他に、ホール注入層、ホール輸送層、電子注入層、電子輸送層の全部又は一部を含む。
【００２５】
図３に示す例では、有機層３３は複数の画素に亘って形成されている。すなわち、隣接する２つの画素の有機層３３は連続している。有機層３３の一例は、各画素に、その画素の色で発光する発光層を有する。すなわち、有機層３３の一例は、赤画素には赤色で発光する発光層を有し、緑画素には緑色で発光する発光層を有し、青画素には青色で発光する発光層を有する。また、有機ＥＬ表示装置１が白画素を有する場合、有機層３３の一例は白色光を発するように積層された複数の発光層を白画素に有してもよい。有機層３３の他の例は、その全体に、白色光を発するように積層された複数の発光層を有してもよい。この場合、有機ＥＬ表示装置１は、各画素にカラーフィルターを有してもよい。有機層３３は、複数の画素のそれぞれに独立して形成されてもよい。すなわち、隣接する２つの画素の有機層３３は繋がっていなくてもよい。この場合、各有機層３３の外周部はバンク３２上に形成されてもよい。
【００２６】
図３に示すように、有機層３３上には上部電極３４が形成されている。上部電極３４は複数の画素に亘って形成されている。すなわち、隣接する２つの画素の上部電極３４は連続している。上述したように、下部電極３１の外周縁にはバンク３２が重なっている。これにより、下部電極３１の外周縁と上部電極３４とが接触することが防止されている。図３に示す例では、上部電極３４上に封止膜３５が形成されている。封止膜３５は必ずしも形成されなくてもよい。また、封止膜３５は必ずしも１層でなくてもよい。すなわち、封止膜３５は複数の層から構成されてもよい。
【００２７】
バンク３２は水分を吸着できる吸湿材料（デシカント）を含んでいる。バンク３２は、各画素に吸湿材料が存在するように、吸湿材料を含んでいる。このようなバンク３２を利用することにより、異物の混入や封止膜に生じたピンホールが原因で基板１０上の積層構造に水分が発生した場合でも、その水分の影響を１画素に留めることができる。その結果、有機ＥＬ表示装置１の画質を長期間に亘って維持できる。バンク３２の全体が吸湿材料で形成されてもよいし、バンク３２の一部だけが吸湿材料で形成されてもよい。本明細書において、「吸湿材料で形成される」との表現には、「吸湿材料だけで形成される」及び「吸湿材料が混合された材料で形成される」が含まれる。
【００２８】
図３に示す例では、バンク３２の材料が吸湿材料である。すなわち、バンク３２の全体が吸湿材料だけで形成される。こうすることにより、バンク３２を形成するプロセスを簡素化できる。他の例では、バンク３２の全体が、吸湿材料が混合された材料（例えば、ポリイミドやアクリルなどの樹脂に吸湿材料が混合された材料）によって形成される。この場合でも、バンク３２を形成するプロセスを簡素化できる。
【００２９】
吸湿材料は水分を吸着する機能を有するものであれば特に制限されない。吸湿材料は化学的に水分を吸着し、水分を吸着しても固体状態を維持する化合物が好ましい。吸湿材料の例としては、金属酸化物、金属の無機酸塩・有機酸塩などを挙げることができる。吸湿材料としては、アルカリ土類金属酸化物及び硫酸塩が好ましい。アルカリ土類金属酸化物としては、例えば酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化ストロンチウム、酸化ラジウムなどを挙げることができる。硫酸塩としては、例えば硫酸リチウム、硫酸ナトリウム、硫酸ガリウム、硫酸チタン、硫酸ニッケルなどを挙げることができる。また、吸湿材料としては、シリカゲルや、ポリビニルアルコールなど吸湿性を有する有機化合物を用いてもよい。これらの中では、酸化カルシウム、酸化バリウム、シリカゲルなどを吸湿材料として使用することが特に好ましい。また、吸湿材料は、天然ゼオライト、合成ゼオライト、珪藻土、無水塩化マグネシウムと酸化マグネシウムの混合物、上述のアルカリ土類金属の酸化物、活性アルミナ、水素化バリウム、水素化アルミニウム、シリカゲルＡ形、シリカゲルＢ形、セピオライト、アルミナシリカゲル、ベントナイト、アロフェン、活性白土、活性炭などのうち１種又は２種以上の混合物で構成されもよい。
【００３０】
バンクは必ずしも上述したものに限られない。バンクは、その一部にのみ、吸湿材料で形成されている部分を有してもよい（以下では、この部分を吸湿部と称する）。吸湿部が各画素に設けられてもよい。
【００３１】
図４及び図５はバンクのこのような変形例を示す、有機ＥＬ表示装置の断面図である。これらの図では、これまで説明した箇所と同一の箇所には同一符合を付している。また、これらの図の切断面は図３と同様である。
【００３２】
図４に示すように、有機ＥＬ表示装置１０１のバンク１３２は、吸湿材料で形成されている吸湿部１３２Ａを有している。吸湿部１３２Ａの一例は吸湿材料だけで形成される。また、吸湿部１３２Ａの他の例は吸湿材料が混合された材料で形成される。バンク１３２は、吸湿部１３２Ａと重なる非吸湿部１３２Ｂを有している。非吸湿部１３２Ｂは吸湿部１３２Ａとは異なる材料によって形成されている。例えば、非吸湿部１３２Ｂは吸湿部１３２Ａよりも吸湿性能の低い材料（例えば、上述のポリイミドやアクリルなどの樹脂）によって形成されている。
【００３３】
図４の例では、非吸湿部１３２Ｂは吸湿部１３２Ａ上に形成されている。このようなバンク１３２によれば、吸湿部１３２Ａを構成する材料の表面が粗い場合であっても、その粗さが有機層３３に影響することを非吸湿部１３２Ｂによって抑えることができる。また、吸湿部１３２Ａの厚さを調節することにより、バンク１３２の吸湿性能を制御できる。図４に示す例では、非吸湿部１３２Ｂは吸湿部１３２Ａの表面を覆っており、バンク１３２の表面（有機層３３に接する上面及び側面）を構成している。非吸湿部１３２Ｂは吸湿部１３２Ａの上面にだけ形成されてもよい。
【００３４】
吸湿部１３２Ａは隣接する２つの下部電極３１の間で露出している平坦化膜２４上に形成されている。図４に示す例では、吸湿部１３２Ａは下部電極３１の外周縁に重なっている。
【００３５】
吸湿部１３２Ａは複数の画素のそれぞれに設けられている。下部電極３１の外周縁は延伸方向の異なる複数の外縁を有している。すなわち、下部電極３１の外周縁は垂直方向に延伸している右縁及び左縁と、水平方向に延伸している上縁及び下縁とを有している。吸湿部１３２Ａは、下部電極３１の上述の４つの外縁のうち隣接する２つの外縁に沿って形成される。例えば、吸湿部１３２Ａは下部電極３１の４つの外縁のうち隣接する２つの縁、或いは４つの外縁のうち３つの縁に沿って形成される。例えば、吸湿部１３２Ａは下部電極３１の上縁と右縁とに沿って形成される。好ましくは、吸湿部１３２Ａは、下部電極３１の全周を取り囲むように形成される。
【００３６】
図５に示すように、有機ＥＬ表示装置２０１のバンク２３２は、吸湿部２３２Ａと非吸湿部２３２Ｂとを有している。吸湿部２３２Ａは、上述の吸湿部１３２Ａと同様、吸湿材料で形成されている部分である。非吸湿部２３２Ｂは、吸湿部２３２Ａとは異なる材料（例えば、上述のポリイミドやアクリルなどの樹脂）によって形成されている。吸湿部２３２Ａは非吸湿部２３２Ｂ上に形成されている。このようなバンク２３２によれば、吸湿材料を含む吸湿部２３２Ａが有機層３３に接するので、有機層３３に対する水分の影響をより効果的に低減できる。図５に示す例では、吸湿部２３２Ａは非吸湿部２３２Ｂを覆うように形成され、バンク２３２の表面（有機層３３に接する上面及び側面）を構成している。吸湿部２３２Ａは非吸湿部２３２Ｂの上面にだけ形成されてもよい。
【００３７】
このような吸湿部２３２Ａも複数の画素のそれぞれに設けられる。吸湿部２３２Ａは、好ましくは、下部電極３１の全周を取り囲む。吸湿部２３２Ａは必ずしもこれに限られない。例えば、下部電極３１の上述の４つの外縁のなかには、吸湿部２３２Ａが形成されない縁が存在してもよい。言い換えると、吸湿部２３２Ａは下部電極３１の４つの外縁のうち隣接する２つの縁、或いは４つの外縁のうち３つの縁に沿って形成されてもよい。例えば、吸湿部２３２Ａは下部電極３１の上縁と右縁とに沿って形成されてもよい。
【００３８】
各画素に設けられる吸湿部は必ずしも下部電極３１の全周を囲んでいなくてもよい。図６及び図７はさらに別の変形例である有機ＥＬ表示装置３０１を示す図である。図６はバンクと下部電極の平面図であり、図７は図６に示すＶＩＩ−ＶＩＩ線での有機ＥＬ表示装置３０１の断面図である。これらの図では、これまで説明した箇所と同一の箇所には同一符合を付している。
【００３９】
図６及び図７に示すバンク３３２は、バンク３２と同様に、下部電極３１におけるコンタクトホールｈが形成されている部分を覆っている張り出し部３３２ｄを有している。バンク３３２は、張り出し部３３２ｄに、吸湿材料で形成されている吸湿部３３２Ａを有している。吸湿部３３２Ａはコンタクトホールｈが形成された部分を覆うように形成されている。吸湿部３３２Ａは張り出し部３３２ｄにだけ形成されている。張り出し部３３２ｄにはバンク３３２の他の部分に比べて大きな幅を吸湿部３３２Ａに確保できる。そのため、吸湿材料が幅の狭い領域にパターニングすることが困難な材料である場合であっても、吸湿材料を含む吸湿部３３２Ａを形成することが容易となる。すなわち、吸湿材料を含む部分の最小寸法（最小幅）に制限がある場合でも、吸湿材料を含む部分を各画素に設けることができる。
【００４０】
バンク３３２は、吸湿部３３２Ａよりも吸湿性能の低い材料（例えば、上述のポリイミドやアクリルなどの樹脂）によって形成されている非吸湿部３３２Ｂを有している。図６及び図７に示す例の吸湿部３３２Ａは非吸湿部３３２Ｂ上に形成されている。吸湿部３３２Ａはこれに限られない。例えば、吸湿部３３２Ａ上に非吸湿部３３２Ｂが形成されてもよい。
【００４１】
有機ＥＬ表示装置３０１では、上述したように、４つの画素で１単位が構成されている。すなわち、４つのサブ画素によって１画素が構成されている。４つの画素は、コンタクトホールｈが形成された部分が近接するように配置されている。すなわち、４つの画素は、垂直方向の直線と水平方向の直線のそれぞれに対して線対称となるように配置されている。そのため、コンタクトホールｈが形成された部分は互いに近接するように配置されている。吸湿部３３２Ａは、４つの画素の張り出し部３３２ｄに亘って形成されている。すなわち、４つの張り出し部３３２ｄにそれぞれ形成されている４つの吸湿部３３２Ａは連続している。そのため、連続している吸湿部３３２Ａの全体の幅を確保することができる。その結果、吸湿材料が幅の狭い領域にパターニングすることが困難な材料である場合であっても、吸湿部３３２Ａを形成することがさらに容易となる。
【００４２】
なお、１単位を構成する複数の画素は上述のような配置でなくてもよい。例えば、複数の画素は垂直方向の直線と水平方向の直線のうち一方の直線に対してだけ線対称であってもよい。この場合、吸湿部３３２Ａは、２つの画素の張り出し部３３２ｄに亘って形成されてもよい。
【００４３】
図７に示す有機ＥＬ表示装置３０１は、上述の平坦化膜２４上に、吸湿材料で形成されている吸湿層２６を有している。吸湿層２６上に下部電極３１及びバンク３２が形成されている。このような吸湿層２６によれば、有機層への水分の影響をより効果的に低減できる。図７に示す例では、下部電極３１に接する吸湿層２６が吸湿材料を含んでいるので、吸湿材料と有機層３３との距離が比較的小さい。そのため、有機層３３への水分の影響をより効果的に低減できる。また、有機ＥＬ表示装置の製造工程において、有機層３３を形成する前に、吸湿層２６にアニール処理を施し、吸湿層２６からその層が含む水分を除去することができる。
【００４４】
有機ＥＬ表示装置１は、図７に例示したように、バンクとは別に、吸湿材料で形成されている層を有してもよい。図８、図９、図１０、及び図１１は有機ＥＬ表示装置のさらに別の変形例を示す断面図である。これらの図では、これまで説明した箇所と同一の箇所には同一符合を付している。また、これらの図の切断面は図３と同様である。
【００４５】
図８に示す有機ＥＬ表示装置４０１は、有機層３３よりも基板１０寄りに、吸湿材料で形成される層を有している。すなわち、吸湿材料で形成される層は、有機層３３よりも下層に設けられている。有機ＥＬ表示装置４０１は、上述の平坦化膜２４に替えて、平坦化膜４２４を有し、平坦化膜４２４は吸湿材料で形成されている。有機ＥＬ表示装置４０１は、これまで説明した有機ＥＬ表示装置１と同様に、バンク３２を有している。そのため、有機層３３への水分の影響をさらに効果的に低減できる。有機ＥＬ表示装置４０１は、バンク３２に替えて、上述のバンク１３２やバンク２３２、バンク３３２を有してもよい。
【００４６】
吸湿材料を含む層を有機層３３よりも基板１０寄りに有する上述の構造によれば、有機ＥＬ表示装置の製造工程において、有機層３３を形成する前に、吸湿材料を含む層（平坦化膜４２４及びバンク３２）にアニール処理を施し、吸湿材料から水分を除去することができる。その結果、有機層３３への水分の影響を効果的に低減できる。また、図８に示す例では、下部電極３１に接する平坦化膜４２４が吸湿材料を含んでいるので、吸湿材料と有機層３３との距離が比較的小さい。そのため、有機層３３への水分の影響を効果的に低減できる。
【００４７】
図９に示す有機ＥＬ表示装置５０１は、吸湿材料を含む平坦化膜４２４に加えて、上部電極３４上に形成され且つ吸湿材料で形成される吸湿層５２５を有している。吸湿層５２５は上部電極３４を覆うように形成されている。有機ＥＬ表示装置５０１は、上述のバンク３２及び吸湿材料で形成される平坦化膜４２４を有している。このような有機ＥＬ表示装置５０１によれば、有機層３３への水分の影響をさらに効果的に低減できる。吸湿層５２５の形成方法は特に限定されないが、例えば、上部電極３４に吸湿材料を塗布することにより形成できる。有機ＥＬ表示装置５０１は、バンク３２に替えて、上述のバンク１３２やバンク２３２、バンク３３２を有してもよい。
【００４８】
図１０に示すように、有機ＥＬ表示装置６０１も、有機層３３よりも基板１０寄りに、吸湿材料で形成される層を有している。すなわち、有機ＥＬ表示装置６０１も、有機層３３よりも下層に、吸湿材料で形成される層を有している。具体的には、有機ＥＬ表示装置６０１は、上述の平坦化膜２４上に、吸湿層６２６を有している。吸湿層６２６上に下部電極３１及びバンク３２が形成されている。
【００４９】
有機ＥＬ表示装置６０１の上述の構造によれば、有機ＥＬ表示装置の製造工程において、有機層３３を形成する前に、吸湿層６２６にアニール処理を施し、吸湿層６２６からその層が含む水分を除去することができる。その結果、有機層３３への水分の影響をより効果的に低減できる。また、図９に示す例では、下部電極３１に接する吸湿層６２６が吸湿材料を含んでいるので、吸湿材料と有機層３３との距離が比較的小さい。そのため、有機層３３への水分の影響を効果的に低減できる。
【００５０】
有機ＥＬ表示装置６０１は、これまで説明した有機ＥＬ表示装置１と同様に、バンク３２を有している。そのため、有機層３３への水分の影響をさらに効果的に低減できる。有機ＥＬ表示装置６０１は、バンク３２に替えて、上述のバンク１３２やバンク２３２、バンク３３２を有してもよい。
【００５１】
図１１に示す有機ＥＬ表示装置７０１は、上部電極３４上に形成され且つ吸湿材料で形成される吸湿層７２５を有している。吸湿層７２５は上部電極３４を覆うように形成されている。有機ＥＬ表示装置７０１は、上述のバンク３２を有している。このような有機ＥＬ表示装置７０１によれば、上述の有機ＥＬ表示装置１に比べて、有機層３３への水分の影響をさらに効果的に低減できる。有機ＥＬ表示装置７０１は、バンク３２に替えて、上述のバンク１３２やバンク２３２、バンク３３２を有してもよい。
【００５２】
本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に属するものと了解される。
【符号の説明】
【００５３】
１,１０１，２０１，３０１，４０１，５０１，６０１，７０１  有機ＥＬ表示装置、１０  基板、２４  平坦化膜、２６  吸湿層、３１  下部電極、３２，１３２，２３２，３３２  バンク、１３２Ａ,２３２Ａ，３３３Ａ  吸湿部、１３２Ｂ,２３２Ｂ，３３３Ｂ  非吸湿部、３２ｄ,３３２ｄ  張り出し部、３３  有機層、３４  上部電極、３５  封止膜、４２４平坦化膜、５２５，７２５  吸湿層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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