(57)【要約】【課題】  優れた速硬化性、貯蔵安定性及び塗工適性の両立が可能なＯＣＲ向けの活性エネルギー線硬化性のウレタン樹脂及びそれを含有する活性エネルギー線硬化性の樹脂組成物を提供すること。【解決手段】  テトラヒドロフラン（ａ１）と、ネオペンチルグリコール、特定の置換基を有するテトラヒドロフラン、オキセタン、及び特定の置換基を有するオキセタンなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物（ａ２）とが共重合されてなる数平均分子量が２００〜１００００であるポリエーテルジオール（Ａ）、炭素数が２〜２０であるジカルボン酸（Ｂ）、有機ジイソシアネート及び／又はその変性物（Ｃ）並びに炭素数が４〜１００である活性水素含有基を有する（メタ）アクリレート（Ｄ）が反応されてなり、数平均分子量が３０００〜１２００００であるディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂（Ｅ）。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
テトラヒドロフラン（ａ１）と、ネオペンチルグリコール、炭素数１〜１０の炭化水素基及びアルキルエーテル基から選ばれる少なくとも１個の置換基を有するテトラヒドロフラン、オキセタン、及び炭素数１〜１０の炭化水素基及びアルキルエーテル基から選ばれる少なくとも１個の置換基を有するオキセタンからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物（ａ２）とが共重合されてなる数平均分子量が２００〜１００００であるポリエーテルジオール（Ａ）、炭素数が２〜２０であるジカルボン酸（Ｂ）、有機ジイソシアネート及び／又はその変性物（Ｃ）並びに炭素数が４〜１００である活性水素含有基を有する（メタ）アクリレート（Ｄ）が反応されてなり、数平均分子量が３０００〜１２００００であるディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂（Ｅ）。
【請求項２】
ポリエーテルジオール（Ａ）が、テトラヒドロフラン（ａ１）と、ネオペンチルグリコール、２−メチルテトラヒドロフラン、３−メチルテトラヒドロフラン、２，５−ジメチルテトラヒドロフラン、２，５−ジメトキシテトラヒドロフラン、２−メチルオキセタン、２，２−ジメチルオキセタン、２−エチルオキセタン、２，２−ジエチルオキセタン、２−エチルヘキシルオキセタン及び３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシ）エチルオキセタンからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物との共重合体である請求項１記載のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂。
【請求項３】
炭素数が２〜２０であるジカルボン酸（Ｂ）が、シュウ酸、マロン酸、ジプロピルマロン酸、コハク酸、２,２−ジメチルコハク酸、グルタル酸、２−メチルグルタル酸、２,２−ジメチルグルタル酸、２,４−ジメチルグルタル酸、３−メチルグルタル酸、３,３−ジメチルグルタル酸、３−エチル−３−メチルグルタル酸、アジピン酸、３−メチルアジピン酸、ピメリン酸、２，２，６，６−テトラメチルピメリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸、ペンタデカン二酸、テトラデカン二酸、ヘプタデカン二酸、オクタデカン二酸、ノナデカン二酸、エイコサン二酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸及びテレフタル酸からなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１又は２記載のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂。
【請求項４】
有機ジイソシアネート及び／又はその変性物（Ｃ）が、炭素数４〜５０の脂肪族ジイソシアネート（Ｃ１）、炭素数４〜５０の脂環式ジイソシアネート（Ｃ２）及びこれらの変性物（ウレタン基、カルボジイミド基、アロファネート基、ウレア基、ビウレット基、イソシアヌレート基及びオキサゾリドン基含有変性物）（Ｃ３）からなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１〜３のいずれか記載のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂。
【請求項５】
脂肪族ジイソシアネート（Ｃ１）が、１，４−テトラメチレンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート及びリジンジイソシアネートからなる群から選ばれる少なくとも１種であり、脂環式ジイソシアネート（Ｃ２）が、イソホロンジイソシアネート、１，３−シクロペンタンジイソシアネート、１，３−シクロヘキサンジイソシアネート、１，４−シクロヘキサンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート及びノルボルナンジイソシアネートからなる群から選ばれる少なくとも１種であり、変性物（Ｃ３）がビウレット変性１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、イソシアヌレート変性１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート及びイソシアヌレート変性イソホロンジイソシアネートからなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項４記載のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂。
【請求項６】
炭素数が４〜１００である活性水素含有基を有する（メタ）アクリレート（Ｄ）が、ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１）及び／又はアミノ基を有する（メタ）アクリレート（Ｄ２）である請求項１〜５のいずれか記載のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂。
【請求項７】
ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１）が、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−１−アダマンチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、炭素数１〜２４のアルキルアルコールのグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸が反応したエポキシアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリルアミド、２−アクリロキシ−２−ヒドロキシエチルテレフタレート、２−アクリロキシ−２−ヒドロキシプロピルテレフタレート、並びにこれらの（メタ）アクリレート及び（メタ）アクリル酸に炭素数２〜１００のアルキレンオキサイドを付加した（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１種であり、アミノ基を有する（メタ）アクリレート（Ｄ２）が、テトラメチルピペリジニル（メタ）アクリレートである請求項６記載のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂。
【請求項８】
請求項１〜７いずれか記載のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂（Ｅ）及び重合開始剤（Ｆ）を含有するディスプレイ緩衝層用樹脂組成物。
【請求項９】
重合開始剤（Ｆ）が、アシルホスフィンオキサイド誘導体系重合開始剤（Ｆ１）、α−アミノアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ｆ２）、ベンジルケタール誘導体系重合開始剤（Ｆ３）、α−ヒドロキシアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ｆ４）、ベンゾイン誘導体系重合開始剤（Ｆ５）、オキシムエステル誘導体系重合開始剤（Ｆ６）及びチタノセン誘導体系重合開始剤（Ｆ７）からなる群から選ばれる少なくとも１種のラジカル重合開始剤である請求項８記載のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物。
【請求項１０】
ディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂（Ｅ）の含有量が１〜９０重量％であり、重合開始剤（Ｆ）の含有量が０．０５〜３０重量％である請求項８又は９記載のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物。
【請求項１１】
更に活性エネルギー線により酸を発生する酸発生剤（Ｇ）を含有する請求項８〜１０のいずれか記載のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物。
【請求項１２】
活性エネルギー線により酸を発生する酸発生剤（Ｇ）が、スルホニウム塩及び／又はヨードニウム塩である請求項１１記載のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物。
【請求項１３】
請求項１〜７のいずれか記載のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂、又は請求項８〜１２のいずれか記載のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物が活性エネルギー線により硬化されてなる画像表示ディスプレイの画像表示ユニットと前面板との間の緩衝層。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、活性エネルギー線照射で硬化し、画像表示ディスプレイの画像表示ユニットと前面板との間の緩衝層用として用いられる活性エネルギー線硬化性のウレタン樹脂及びそれを含有する活性エネルギー線硬化性の樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）やプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）等に代表される画像表示ディスプレイは、パソコンやテレビ、タブレット端末、携帯電話まで多くの電子機器に不可欠なものとなっており、画像表示ディスプレイを構成する数多くの光学用材料の需要も大きく伸びている。また、近年パネルサイズの大型化が進み、コントラスト、輝度、高耐熱性、高密着性及び高透明性の更なる向上が望まれている。
【０００３】
一般に、コントラストや輝度の更なる向上の為に、画像表示ユニットと前面板との間を感光性樹脂｛ＯＣＲ：Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｌｅａｒ  Ｒｅｓｉｎ（光学透明樹脂）｝で充填し緩衝層とする事が提案されている（例えば特許文献１）。
【０００４】
該特許文献１では、ＯＣＲ向けの樹脂として、ポリイソプレン無水マレイン酸付加物の２−ヒドロキシエチルメタクリレートハーフエステル化物（ＵＣ−２０３：クラレ製）等が使用されているが、速硬化性と貯蔵安定性の両立に課題がある。具体的には、反応速度の観点でメタクリレート基よりもアクリレート基の方が好ましいが、このハーフエステル化物中に存在するＣＯＯＨ基とアクリレート基がマイケル付加を起こしゲル化してしまうため、メタクリレート基を使用せざるを得ない。しかし、メタクリレート基を使用しているためにしばしば硬化不良が発生し、画像表示ディスプレイの作製工程における歩留まり低下が問題となる。一方、アクリレート基を有するウレタン樹脂とする事で、速硬化性と貯蔵安定性の両立が提案されているが（例えば特許文献２）、ウレタン樹脂は一般的にチクソトロピー性が発現するために中・小型ディスプレイ向けには塗工適性が悪化する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−１８６９５７号公報
【特許文献２】特開２００７−１８２５５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、優れた速硬化性、貯蔵安定性及び塗工適性の両立が可能なＯＣＲ向けの活性エネルギー線硬化性のウレタン樹脂及びそれを含有する活性エネルギー線硬化性の樹脂組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記の目的を達成するべく検討を行った結果、本発明に到達した。即ち本発明は、下記３発明である。
（Ｉ）  テトラヒドロフラン（ａ１）と、ネオペンチルグリコール、炭素数１〜１０の炭化水素基及びアルキルエーテル基から選ばれる少なくとも１個の置換基を有するテトラヒドロフラン、オキセタン、及び炭素数１〜１０の炭化水素基及びアルキルエーテル基から選ばれる少なくとも１個の置換基を有するオキセタンからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物（ａ２）とが共重合されてなる数平均分子量が２００〜１００００であるポリエーテルジオール（Ａ）、炭素数が２〜２０であるジカルボン酸（Ｂ）、有機ジイソシアネート及び／又はその変性物（Ｃ）並びに炭素数が４〜１００である活性水素含有基を有する（メタ）アクリレート（Ｄ）が反応されてなり、数平均分子量が３０００〜１２００００であるディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂（Ｅ）。
（ＩＩ）  上記（Ｉ）のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂（Ｅ）及び重合開始剤（Ｆ）を含有するディスプレイ緩衝層用樹脂組成物。
（ＩＩＩ）  上記（Ｉ）のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂（Ｅ）、又は上記（ＩＩ）のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物が活性エネルギー線により硬化されてなる画像表示ディスプレイの画像表示ユニットと前面板との間の緩衝層。
【発明の効果】
【０００８】
本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂及びディスプレイ緩衝層用樹脂組成物は、以下の効果を奏する。
（１）活性エネルギー線の照射による硬化時に、速硬化性を発現する。
（２）貯蔵安定性が良好である。
（３）塗工適性が良好である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂は、テトラヒドロフラン（ａ１）と、ネオペンチルグリコール、炭素数１〜１０の炭化水素基及びアルキルエーテル基から選ばれる少なくとも１個の置換基を有するテトラヒドロフラン、オキセタン、及び炭素数１〜１０の炭化水素基及びアルキルエーテル基から選ばれる少なくとも１個の置換基を有するオキセタンからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物（ａ２）とが共重合されてなる数平均分子量が２００〜１００００であるポリエーテルジオール（Ａ）、炭素数が２〜２０であるジカルボン酸（Ｂ）、有機ジイソシアネート及び／又はその変性物（Ｃ）並びに炭素数が４〜１００である活性水素含有基を有する（メタ）アクリレート（Ｄ）が反応されてなる、数平均分子量が３０００〜１２００００であるウレタン樹脂（Ｅ）である。
【００１０】
尚、上記及び以下において、「アクリレート」、「メタクリレート」の双方又はいずれかを指す場合「（メタ）アクリレート」と、「アクリル」、「メタクリル」の双方又はいずれかを指す場合「（メタ）アクリル」と、それぞれ記載することがある。
【００１１】
本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂に用いるポリエーテルジオール（Ａ）は、テトラヒドロフラン（ａ１）と、ネオペンチルグリコール、炭素数１〜１０の炭化水素基及びアルキルエーテル基から選ばれる少なくとも１個の置換基を有するテトラヒドロフラン、オキセタン、及び炭素数１〜１０の炭化水素基及びアルキルエーテル基から選ばれる少なくとも１個の置換基を有するオキセタンからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物（ａ２）から共重合によって得られるポリエーテルジオールである。
【００１２】
ポリエーテルジオール（Ａ）の数平均分子量は２００〜１００００であり、好ましくは、１０００〜８０００である。
本発明における数平均分子量とは、下記条件にて測定されるものである。
装置  ：  ゲルパーミエイションクロマトグラフィー
溶媒  ：  テトラヒドロフラン
基準物質  ：  ポリスチレン
サンプル濃度  ：  ３ｍｇ／ｍｌ
カラム固定相  ：  ＰＬｇｅｌ  ＭＩＸＥＤ−Ｂ
カラム温度  ：  ４０℃
【００１３】
ポリエーテルジオール（Ａ）としては、例えばテトラヒドロフラン（ａ１）と、ネオペンチルグリコール、２−メチルテトラヒドロフラン、３−メチルテトラヒドロフラン、２，５−ジメチルテトラヒドロフラン、２，５−ジメトキシテトラヒドロフラン、２−メチルオキセタン、２，２−ジメチルオキセタン、２−エチルオキセタン、２，２−ジエチルオキセタン、２−エチルヘキシルオキセタン及び３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシ）エチルオキセタンから選ばれる少なくとも１種の化合物との共重合体等が挙げられる。
これらの中で、破断伸び、貯蔵弾性率及び塗工適性の観点から好ましいものは、テトラヒドロフラン（ａ１）と、ネオペンチルグリコール、３−メチルテトラヒドロフラン及び２，２−ジメチルオキセタンから選ばれる少なくとも１種との共重合体であり、更に好ましくはテトラヒドロフランとネオペンチルグリコールとの共重合体である。（Ａ）はそれぞれ１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００１４】
本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂に用いる炭素数が２〜２０であるジカルボン酸（Ｂ）としては、例えばシュウ酸、マロン酸、ジプロピルマロン酸、コハク酸、２,２−ジメチルコハク酸、グルタル酸、２−メチルグルタル酸、２,２−ジメチルグルタル酸、２,４−ジメチルグルタル酸、３−メチルグルタル酸、３,３−ジメチルグルタル酸、３−エチル−３−メチルグルタル酸、アジピン酸、３−メチルアジピン酸、ピメリン酸、２，２，６，６−テトラメチルピメリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸、ペンタデカン二酸、テトラデカン二酸、ヘプタデカン二酸、オクタデカン二酸、ノナデカン二酸、エイコサン二酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸及びテレフタル酸等が挙げられる。破断伸び、貯蔵弾性率及び塗工適性の観点から好ましいものは、脂肪族ジカルボン酸であり、更に好ましくはジプロピルマロン酸、２,２−ジメチルコハク酸、グルタル酸、２−メチルグルタル酸、２,２−ジメチルグルタル酸、２,４−ジメチルグルタル酸、３−メチルグルタル酸、３,３−ジメチルグルタル酸、３−エチル−３−メチルグルタル酸、３−メチルアジピン酸、ピメリン酸及び２，２，６，６−テトラメチルピメリン酸である。（Ｂ）はそれぞれ１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００１５】
本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂に用いる有機ジイソシアネート（Ｃ）としては、炭素数が４〜５０である化合物が好ましく、脂肪族ジイソシアネート（Ｃ１）、炭素数４〜５０の脂環式ジイソシアネート（Ｃ２）及びこれらの変性物（ウレタン基、カルボジイミド基、アロファネート基、ウレア基、ビウレット基、イソシアヌレート基及びオキサゾリドン基含有変性物）（Ｃ３）等が挙げられる。脂肪族ジイソシアネート（Ｃ１）としては、例えば１，４−テトラメチレンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート及びリジンジイソシアネート等が挙げられ、脂環式ジイソシアネート（Ｃ２）としては、例えばイソホロンジイソシアネート、１，３−シクロペンタンジイソシアネート、１，３−シクロヘキサンジイソシアネート、１，４−シクロヘキサンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート及びノルボルナンジイソシアネート等が挙げられ、（Ｃ１）または（Ｃ２）の変性物（ウレタン基、カルボジイミド基、アロファネート基、ウレア基、ビウレット基、イソシアヌレート基及びオキサゾリドン基含有変性物）（Ｃ３）としては、例えばビウレット変性１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、イソシアヌレート変性１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、イソシアヌレート変性イソホロンジイソシアネート等が挙げられる。これらの中で、破断伸び及び貯蔵弾性率の観点からより好ましいものは、炭素数４〜３０の脂肪族ジイソシアネート（Ｃ１）であり、更に好ましくは２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートである。（Ｃ）はそれぞれ１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００１６】
本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂に用いる、炭素数（化合物として）が４〜１００である活性水素含有基を有する（メタ）アクリレート（Ｄ）としては、炭素数が５〜１００である化合物が好ましく、活性水素基を有する（メタ）アクリレート（Ｄ）の活性水素含有基としては、ヒドロキシル基、アミノ基等が挙げられる。
ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１）としては、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−１−アダマンチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、炭素数（アルキルアルコール）が１〜２４のアルキルアルコールのグリシジルエーテルと（メタ）アクリル酸が反応したエポキシアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリルアミド、２−アクリロキシ−２−ヒドロキシエチルテレフタレート、２−アクリロキシ−２−ヒドロキシプロピルテレフタレート、並びにこれらの（メタ）アクリレート及び（メタ）アクリル酸に炭素数２〜１００のアルキレンオキサイドを付加した（メタ）アクリレート等が挙げられる。
アミノ基を有する（メタ）アクリレート（Ｄ２）としては、例えばテトラメチルピペリジニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
これらの中で、破断伸び及び貯蔵弾性率の観点からより好ましいものは、炭素数５〜５０のヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１）であり、更に好ましくは２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートである。（Ｄ）はそれぞれ１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００１７】
本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂（Ｅ）は、例えば上記ポリエーテルジオール（Ａ）と上記ジカルボン酸（Ｂ）を反応させた末端水酸基のポリエステル樹脂を作製した後、有機ジイソシアネート（Ｃ）を反応させたプレポリマーを作製し、更に活性水素含有基を有する（メタ）アクリレート（Ｄ）を反応させることで製造でき、製造方法は限定されない。必要により、エステル化触媒及びウレタン化触媒等の触媒を用いてもよい。
【００１８】
上記ウレタン樹脂（Ｅ）の数平均分子量としては３０００〜１２００００である事が好ましく、より好ましくは４０００〜５００００である。
【００１９】
本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物は、上記ディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂（Ｅ）と重合開始剤（Ｆ）を含有する。（Ｆ）を含有すると、活性エネルギー線による硬化性が、より良好となる。
【００２０】
本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物に用いるディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂（Ｅ）は、破断伸び及び貯蔵弾性率の観点から、ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物の重量を基準として、好ましくは１〜９０重量％、更に好ましくは２〜８０重量％である。
また、ウレタン樹脂（Ｅ）と重合開始剤（Ｆ）の合計重量に対する（Ｅ）の含有量は、好ましくは７０〜９９．９重量％、好ましくは８０〜９９．５重量％である。
【００２１】
（Ｅ）のウレタン基濃度としてはチクソトロピックインデックスの観点から、０．００４ｍｍｏｌ／ｇ〜０．３０ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、より好ましくは０．００５ｍｍｏｌ／ｇ〜０．２０ｍｍｏｌ／ｇであり、更に好ましくは０．００８ｍｍｏｌ／ｇ〜０．１５ｍｍｏｌ／ｇである。更に、保存安定性の観点から（Ｅ）の含水率は、０．１０重量％以下が好ましく、より好ましくは０．０５重量％以下である。
尚、本発明におけるウレタン基濃度は、（Ｅ）の元素分析値から下記算出式にて算出した値である。
［活性水素基を有する（メタ）アクリレート（Ｄ）がヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１）の場合］
ウレタン基濃度［ｍｍｏｌ／ｇ］＝（試料１ｇに水酸化ナトリウムを加え加熱したときに発生したアンモニア分子のｍｍｏｌ数）
［活性水素基を有する（メタ）アクリレート（Ｄ）がアミノ基を有する（メタ）アクリレート（Ｄ２）の場合］
ウレタン基濃度［ｍｍｏｌ／ｇ］＝（試料１ｇに水酸化ナトリウムを加え加熱したときに発生したアンモニア分子のｍｍｏｌ数）＊｛ＩＲ測定によるウレタン基のＣ＝Ｏ伸縮（１６９０ｃｍ-1）ピーク面積／（ＩＲ測定によるウレタン基のＣ＝Ｏ伸縮（１６９０ｃｍ-1）ピーク面積＋ＩＲ測定によるアミド基のＣ＝Ｏ伸縮（１６５０ｃｍ-1）ピーク面積）｝
【００２２】
本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物に用いる、重合開始剤（Ｆ）としては、例えばアシルホスフィンオキサイド骨格を有する重合開始剤（Ｆ１）、α−アミノアセトフェノン骨格を有する重合開始剤（Ｆ２）、ベンジルケタール骨格を有する重合開始剤（Ｆ３）、α−ヒドロキシアセトフェノン骨格を有する重合開始剤（Ｆ４）、ベンゾイン骨格を有する重合開始剤（Ｆ５）、オキシムエステル骨格を有する重合開始剤（Ｆ６）、チタノセン骨格を有する重合開始剤（Ｆ７）及びその他のラジカル開始剤（Ｆ８）が挙げられる。（Ｆ）は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２３】
アシルホスフィンオキサイド骨格を有する重合開始剤（Ｆ１）としては、例えば２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド［ＢＡＳＦ社製（ルシリン  ＴＰＯ）］及びビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド［ＢＡＳＦ社製（イルガキュア  ８１９）］が挙げられる。
【００２４】
α−アミノアセトフェノン骨格を有する重合開始剤（Ｆ２）としては、例えば２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン［ＢＡＳＦ社製（イルガキュア  ９０７）］、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン［ＢＡＳＦ社製（イルガキュア  ３６９）］及び１，２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン［ＢＡＳＦ社製（イルガキュア  ３７９）］が挙げられる。
【００２５】
ベンジルケタール骨格を有する重合開始剤（Ｆ３）としては、例えば２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン［ＢＡＳＦ社製（イルガキュア  ６５１）］が挙げられる。
【００２６】
α−ヒドロキシアセトフェノン骨格を有する重合開始剤（Ｆ４）としては、例えば１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン［ＢＡＳＦ社製（イルガキュア  １８４）］、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン［ＢＡＳＦ社製（ダロキュア  １１７３）］、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン［ＢＡＳＦ社製（イルガキュア  ２９５９）］及び２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン［ＢＡＳＦ社製（イルガキュア  １２７）］が挙げられる。
【００２７】
ベンゾイン骨格を有する重合開始剤（Ｆ５）としては、例えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテルが挙げられる。
【００２８】
オキシムエステル骨格を有する重合開始剤（Ｆ６）としては、例えば１，２−オクタンジオン−１−（４−［フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］［ＢＡＳＦ社製（イルガキュア  ＯＸＥ  ０１）］及びエタノン−１−（９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）［ＢＡＳＦ社製（イルガキュア  ＯＸＥ  ０２）］が挙げられる。
【００２９】
チタノセン骨格を有する重合開始剤（Ｆ７）としては、例えばビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム［ＢＡＳＦ社製（イルガキュア  ７８４）］が挙げられる。
【００３０】
その他の重合開始剤（Ｆ８）としては、例えば２，３−ジメチル−２，３−ジフェニルブタンが挙げられる。
【００３１】
上記重合開始剤（Ｆ）の中で、速硬化性の観点から好ましいのは、アシルホスフィンオキサイド骨格を有する重合開始剤（Ｆ１）及びα−ヒドロキシアセトフェノン骨格を有する重合開始剤（Ｆ４）である。
【００３２】
本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物中の重合開始剤（Ｆ）の含有量は、速硬化性の観点から、ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物の重量を基準として、好ましくは０．０５〜３０重量％、更に好ましくは０．１〜１０重量％である。
【００３３】
本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物は、必要により酸発生剤（Ｇ）を含有することができる。  酸発生剤（Ｇ）としては、例えば活性エネルギー線により酸を発生させる活性エネルギー線酸発生剤（Ｇ１）及び熱により酸を発生させる熱酸発生剤（Ｇ２）が挙げられる。（Ｇ）は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００３４】
活性エネルギー線により酸を発生する活性エネルギー線酸発生剤（Ｇ１）としては、例えばスルホニウム塩（Ｇ１１）及びヨードニウム塩（Ｇ１２）が挙げられる。
【００３５】
スルホニウム塩（Ｇ１１）としては、例えば、トリフェニルスルホニウムテトラフルオロボラート、トリフェニルスルホニウムブロミド、トリ−ｐ−トリルスルホニウムヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート［和光純薬工業（株）製「ＷＰＡＧ−２８１Ｈ］、トリ−ｐ−トリルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、［ｐ−（フェニルメルカプト）フェニル］ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート［サンアプロ（株）製「ＣＰＩ−１００Ｐ］及び［ｐ−（フェニルメルカプト）フェニル］ジフェニルスルホニウム［トリ（パーフルオロエチル）］トリフルオロホスフェート等が挙げられる。
【００３６】
ヨードニウム塩（Ｇ１２）としては、例えば、ヨードニウム（４−メチルフェニル）｛４−（２−メチルプロピル）フェニル｝−ヘキサフルオロホスフェート［ＢＡＳＦ社製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ２５０）］、ヨードニウム［ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）］ヘキサフルオロホスフェート、ヨードニウム［ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）］トリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ホスフェート、ヨードニウム［ビス（４−メトキシフェニル）］トリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ホスフェート、ヨードニウム［ビス（４−メトキシフェニル）］［テトラキス（パーフルフェニル）］ボレート及び下記化学式（１）で表される化合物等が挙げられる。
【００３７】
【化１】
2015145437.tif 000002
【００３８】
これらの内、速硬化性の観点からヨードニウム塩（Ｇ１２）が好ましく、化学式（３）で表される化合物がより好ましい。
【００３９】
熱により酸を発生させる熱酸発生剤（Ｇ２）としては、例えば、スルホニウム塩（Ｇ２１）、ヨードニウム塩（Ｇ２２）、ベンゾチアゾニウム塩（Ｇ２３）、アンモニウム塩（Ｇ２４）、ホスホニウム塩（Ｇ２５）等のオニウム塩等が挙げられる。ただし、（Ｇ１）で挙げられた化合物は除外する。
【００４０】
スルホニウム塩（Ｇ２１）としては、例えば、（４−ヒドロキシフェニル）ジメチルスルホニウム ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、（４−ヒドロキシフェニル）（２−メチルベンジル）メチルスルホニウム ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、（４−ヒドロキシフェニル）ベンジルメチルスルホニウム ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド、（４−ヒドロキシフェニル）ジメチルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、（４−ヒドロキシフェニル）（２−メチルベンジル）メチルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、（４−ヒドロキシフェニル）ベンジルメチルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、（４−ヒドロキシフェニル）（４−メチルベンジル）メチルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、（４−ヒドロキシフェニル）ジメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、（４−ヒドロキシフェニル）（２−メチルベンジル）メチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、（４−ヒドロキシフェニル）ベンジルメチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、（４−ヒドロキシフェニル）（４−メチルベンジル）メチルスルホニウム トリフルオロメタンスルホナート、（４−アセトフェニル）ジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、（４−ベンジルオキシカルボニルオキシフェニル）ジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、（４−ベンゾイルオキシフェニル）ジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、（４−アセトキシフェニル）ジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネート及び（４−ベンゾイルオキシフェニル）ジメチルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネート等が挙げられる。
【００４１】
ヨードニウム塩（Ｇ２２）としては、例えば、ジフェニルヨードニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド及び（ｐ−ニトロフェニル）フェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。
【００４２】
ベンゾチアゾニウム塩（Ｇ２３）としては、例えば、３−ベンジルベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネート、３−（４−メトキシベンジル）ベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネート、２−メチルスルファニル−３−ベンジルベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネート、５−クロロ−３−ベンジルベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネート；３−ベンジルベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロホスフェート；３−ベンジルベンゾチアゾニウム テトラフルオロボレート等が挙げられる。
【００４３】
アンモニウム塩（Ｇ２４）としては、例えば、テトラメチルアンモニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート及びベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート等が挙げられる。
【００４４】
ホスホニウム塩（Ｇ２５）としては、例えば、（４−メチルフェニル）ジフェニルホスホニウムトリフレート等が挙げられる。
【００４５】
本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物中の酸発生剤（Ｇ）の含有量は、速硬化性の観点から、ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物の重量を基準として、好ましくは０〜３０重量％、更に好ましくは０．０５〜２５重量％、特に好ましくは０．１〜２０重量％である。
【００４６】
本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物は、必要により熱ラジカル開始剤（Ｈ）を含有することができる。熱ラジカル開始剤（Ｈ）としては、例えば有機過酸化物重合開始剤（Ｈ１）及びアゾ化合物重合開始剤（Ｈ２）が挙げられる。（Ｈ）は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００４７】
有機過酸化物重合開始剤（Ｈ１）としては、例えばベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、２，２−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｎ−ブチル４，４−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート、ジ−（２−ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、ジクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ヘキシルパーオキサイド、２，５，−ジメチル−２，５，−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド、１，１，３，３，−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド及びｔ−ブチルトリメチルシリルパーオキサイドが挙げられる。
【００４８】
アゾ化合物重合開始剤（Ｈ２）としては、例えばアゾビスイソブチロニトリル、１−［（１−シアノ−１−メチルエチル）アゾ］ホルムアミド、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）及び２，２’−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）が挙げられる。
【００４９】
本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物中の重合開始剤（Ｈ）の含有量は、熱硬化性の観点から、ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物の重量を基準として、好ましくは０〜２０重量％、更に好ましくは０．０５〜１０重量％である。
【００５０】
本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物は、必要によりラジカル重合性化合物（Ｉ）を含有することができ、ラジカル重合性化合物（Ｉ）として例えば、炭素数３〜３５の（メタ）アクリルアミド化合物（Ｉ１）、炭素数４〜３５の（メタ）アクリレート化合物（Ｉ２）、炭素数６〜３５の芳香族ビニル化合物（Ｉ３）、炭素数３〜３５のビニルエーテル化合物（Ｉ４）及びその他のラジカル重合性化合物（Ｉ５）が挙げられる。（Ｉ）は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５１】
炭素数３〜３５の（メタ）アクリルアミド化合物（Ｉ１）としては、例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド及びＮ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリロイルモルフォリン以外のものなどが挙げられる。
【００５２】
炭素数４〜３５の（メタ）アクリレート化合物（Ｉ２）としては、例えば以下の単官能〜六官能の（メタ）アクリレートが挙げられる。
尚、上記「単官能〜六官能の（メタ）アクリレート」とは、（メタ）アクリロイル基の数が１〜６個の（メタ）アクリレートを意味し、以下同様の記載法を用いる。
単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−オクチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ｎ−ブチルシクロへキシル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルジグリコール（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−クロロエチル（メタ）アクリレート、４−ブロモブチル（メタ）アクリレート、シアノエチル（メタ）アクリレート、ブトキシメチル（メタ）アクリレート、メトキシプロピレンモノ（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、アルコキシメチル（メタ）アクリレート、２−エチルへキシルカルビトール（メタ）アクリレート、アルコキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２，２，２−テトラフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシル（メタ）アクリレート、４−ブチルフェニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２，４，５−テトラメチルフェニル（メタ）アクリレート、４−クロロフェニル（メタ）アクリレート、フェノキシメチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジロキシブチル（メタ）アクリレート、グリシジロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジロキシプロピル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、トリメトキシシリルプロピル（メタ）アクリレート、トリメトキシシリルプロピル（メタ）アクリレート、トリメチルシリルプロピル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレンオキサイドモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、オリゴエチレンオキサイドモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレンオキサイド（メタ）アクリレート、オリゴエチレンオキサイド（メタ）アクリレート、オリゴエチレンオキサイドモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレンオキサイドモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレンオキサイドモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、オリゴプロピレンオキサイドモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、２−メタクリロイロキシエチルコハク酸、２−メタクリロイロキシヘキサヒドロフタル酸、ブトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリフロロエチル（メタ）アクリレート、パーフロロオクチルエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド（以下、ＥＯと記載）変性フェノール（メタ）アクリレート、ＥＯ変性クレゾール（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド（以下、ＰＯと記載）変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート及びＥＯ変性−２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等のビニルエーテル基及び／又はアリルエーテル基を有しないものなどが挙げられる。
【００５３】
二官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、１，４−ブタンジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレンジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２，４−ジメチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ブチルエチルプロパンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンメタノールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、オリゴエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦポリエトキシジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、オリゴプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート及びトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５４】
三官能の（メタ）アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンのアルキレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスルトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（（メタ）アクリロイルオキシプロピル）エーテル、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリ（（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ヒドロキシピバルアルデヒド変性ジメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ソルビトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールの炭素数２〜４のアルキレンオキサイド１〜３０モル付加物のトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリントリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５５】
四官能の（メタ）アクリレートとしては、例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ソルビトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート及びペンタエリスリトールの炭素数２〜４のアルキレンオキサイド１〜３０モル付加物のテトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５６】
五官能の（メタ）アクリレートとしては、例えば、ソルビトールペンタ（メタ）アクリレート及びジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００５７】
六官能の（メタ）アクリレートとしては、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート、フォスファゼンのアルキレンオキサイド変性ヘキサ（メタ）アクリレート及びカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５８】
炭素数６〜３５の芳香族ビニル化合物（Ｉ３）としては、例えば、ビニルチオフェン、ビニルフラン、ビニルピリジン、スチレン、メチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロルメチルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、ビニル安息香酸メチルエステル、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、３−エチルスチレン、４−エチルスチレン、３−プロピルスチレン、４−プロピルスチレン、３−ブチルスチレン、４−ブチルスチレン、３−ヘキシルスチレン、４−ヘキシルスチレン、３−オクチルスチレン、４−オクチルスチレン、３−（２−エチルヘキシル）スチレン、４−（２−エチルヘキシル）スチレン、アリルスチレン、イソプロペニルスチレン、ブテニルスチレン、オクテニルスチレン、４−ｔ−ブトキシカルボニルスチレン、４−メトキシスチレン及び４−ｔ−ブトキシスチレン等が挙げられる。
【００５９】
炭素数３〜３５のビニルエーテル化合物（Ｉ４）としては、例えば以下の単官能又は多官能ビニルエーテルが挙げられる。
尚、上記「単官能ビニルエーテル」とはビニル基の数が１個の、「多官能ビニルエーテル」とはビニル基の数が２個以上の、それぞれビニルエーテル化合物を意味する。
単官能ビニルエーテルとしては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、ｎ−ノニルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、４−メチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ジシクロペンテニルビニルエーテル、２−ジシクロペンテノキシエチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ブトキシエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチルビニルエーテル、エトキシエトキシエチルビニルエーテル、メトキシポリエチレングリコールビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、２−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、４−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、クロルブチルビニルエーテル、クロルエトキシエチルビニルエーテル、フェニルエチルビニルエーテル及びフェノキシポリエチレングリコールビニルエーテルが挙げられる。
【００６０】
多官能ビニルエーテルとしては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ブチレングリコールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、ビスフェノールＡアルキレンオキサイドジビニルエーテル、ビスフェノールＦアルキレンオキサイドジビニルエーテル等のジビニルエーテル類；トリメチロールエタントリビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、グリセリントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、ＥＯ付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ＰＯ付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ＥＯ付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、ＰＯ付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、ＥＯ付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ＰＯ付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ＥＯ付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル及びＰＯ付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテルが挙げられる。
【００６１】
その他のラジカル重合性化合物（Ｉ５）としては、例えば、アクリロニトリル、脂肪族ビニルエステル化合物（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル及びバーサチック酸ビニル等）、脂肪族アリルエステル化合物（酢酸アリル等）、ハロゲン含有単量体（塩化ビニリデン及び塩化ビニル等）及びオレフィン化合物（エチレン及びプロピレン等）等の芳香族エステル化合物以外のものなどが挙げられる。
【００６２】
これらの内、速硬化性の観点から好ましいのは、炭素数３〜３５の（メタ）アクリルアミド化合物（Ｉ１）、炭素数４〜３５の（メタ）アクリレート化合物（Ｉ２）、炭素数６〜３５の芳香族ビニル化合物（Ｉ３）及び炭素数３〜３５のビニルエーテル化合物（Ｉ４）であり、更に好ましいのは炭素数３〜３５の（メタ）アクリルアミド化合物（Ｉ１）及び炭素数４〜３５の（メタ）アクリレート化合物（Ｉ２）である。
【００６３】
本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物中のラジカル重合性化合物（Ｉ）の含有量は、速硬化性の観点から、ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物の重量を基準として、好ましくは０〜８０重量％、更に好ましくは１〜５０重量％である。
【００６４】
本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物は、必要により溶剤、増感剤、密着性付与剤（シランカップリング剤等）、レベリング剤及び重合禁止剤等を含有することができる。
【００６５】
溶剤としては、例えば、グリコールエーテル（エチレングリコールモノアルキルエーテル及びプロピレングリコールモノアルキルエーテル等）、ケトン（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びシクロヘキサノン等）、エステル（エチルアセテート、ブチルアセテート、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート及びプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート等）、芳香族炭化水素（トルエン、キシレン、メシチレン及びリモネン等）、アルコール（メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ゲラニオール、リナロール及びシトロネロール等）及びエーテル（テトラヒドロフラン及び１，８−シネオール等）等が挙げられる。これらは、１種を単独で使用しても２種以上を併用してもよい。
溶剤の含有量は、ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物の重量を基準として０〜９６重量％であることが好ましく、更に好ましくは３〜９５重量％、特に好ましくは５〜９０重量％である。
【００６６】
増感剤としては、例えば、ケトクマリン、フルオレン、チオキサントン、アントラキノン、ナフチアゾリン、ビアセチル、ベンジル及びこれらの誘導体、ペリレン並びに置換アントラセン等が挙げられる。増感剤の含有量は、ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物の重量を基準として０〜２０重量％が好ましく、更に好ましくは１〜１５重量％、特に好ましくは５〜１０重量％である。
【００６７】
密着性付与剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、尿素プロピルトリエトキシシラン、トリス（アセチルアセトネート）アルミニウム及びアセチルアセテートアルミニウムジイソプロピレート、テルペン系樹脂、水素添加テルペン樹脂等が挙げられる。密着性付与剤の含有量は、ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物の重量を基準として０〜５０重量％が好ましく、更に好ましくは１〜４０重量％、特に好ましくは５〜２５重量％である。
【００６８】
レベリング剤としては、例えば、フッ素系のレベリング剤（パーフルオロアルキルエチレンオキシド付加物等）、シリコーン系のレベリング剤（アミノポリエーテル変性シリコーン、メトキシ変性シリコーン及びポリエーテル変性シリコーン等）が挙げられる。レベリング剤の含有量は、ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物の重量を基準として、添加効果及び透明性の観点から好ましくは２重量％以下、更に好ましくは０．０５〜１重量％、特に好ましくは０．１〜０．５重量％である。
【００６９】
重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン及びメチルエーテルハイドロキノン類等が挙げられる。重合禁止剤の含有量は、ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物の重量を基準として０〜１重量％が好ましく、更に好ましくは０〜０．１重量％である。
【００７０】
本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物は、更に、使用目的に合わせて、無機微粒子、分散剤、消泡剤、チクソトロピー性付与剤、スリップ剤、難燃剤、帯電防止剤、酸化防止剤、可塑剤（ポリブタジエン等）及び紫外線吸収剤等を含有することができる。
【００７１】
本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物は、数平均分子量が３０００〜１２００００のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂（Ｅ）、及び重合開始剤（Ｆ）、並びに必要により酸発生剤（Ｇ）、熱ラジカル開始剤（Ｈ）、他のラジカル重合性化合物（Ｉ）、及び溶剤その他の成分等をディスパーサー等で混合攪拌することで得られる。混合攪拌温度は、通常１０℃〜４０℃、好ましくは２０℃〜３０℃である。
【００７２】
本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂及びディスプレイ緩衝層用樹脂組成物の基材への塗布方法としては、スピンコート、ロールコート及びスプレーコート等の公知のコーティング法並びに平版印刷、カルトン印刷、金属印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷及びグラビア印刷といった公知の印刷法を適用できる。また、微細液滴を連続して吐出するインクジェット方式の塗布も適用できる。
塗工膜厚は、硬化乾燥後の膜厚として、通常０．５〜３００μｍである。乾燥性、硬化性の観点から好ましい上限は２５０μｍであり、耐摩耗性、耐溶剤性、耐汚染性の観点から好ましい下限は１μｍである。
【００７３】
本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂及びディスプレイ緩衝層用樹脂組成物を溶剤で希釈して使用する場合は、塗工後に乾燥するのが好ましい。乾燥方法としては、例えば熱風乾燥（ドライヤー等）が挙げられる。乾燥温度は、通常１０〜２００℃、塗膜の平滑性及び外観の観点から好ましい上限は１５０℃、乾燥速度の観点から好ましい下限は３０℃である。
【００７４】
本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂及びディスプレイ緩衝層用樹脂組成物を活性光線照射で硬化させる際のエネルギー源としては、一般的に使用されている高圧水銀灯の他、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ及びハイパワーメタルハライドランプ等（ＵＶ・ＥＢ硬化技術の最新動向、ラドテック研究会編、シーエムシー出版、１３８頁、２００６）が使用できる。また、ＬＥＤ光源を使用した照射装置も好適に使用できる。活性光線の照射時及び／又は照射後に光酸発生剤から発生した酸を拡散させる目的で、加熱を行ってもよい。加熱温度は、通常、３０℃〜２００℃であり、好ましくは３５℃〜１５０℃、更に好ましくは４０℃〜１２０℃である。
【００７５】
本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂及びディスプレイ緩衝層用樹脂組成物を電子線照射で硬化させる際のエネルギー源としては、一般的に使用されている電子線照射装置を使用することができる。
電子線の照射量（Ｍｒａｄ）は、通常０．５〜２０、ディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂及びディスプレイ緩衝層用樹脂組成物の硬化性及び硬化物の可撓性、硬化膜及び基材の損傷を避けるとの観点から好ましくは１〜１５である。
【実施例】
【００７６】
以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下、特に規定しない限り、部は重量部を示す。
【００７７】
製造例１
［テトラヒドロフランと３，３−ジメチルオキセタンの共重合体（Ａ−３）の合成］
攪拌機、コンデンサー、温度計、滴下ポンプを備えた耐圧反応容器に、１，４−ブタンジオール（分子量９０．１２）９０部、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの２５％水溶液３部を仕込み、混合後、６０℃で減圧下（２ｋＰａ）に脱水した。次いで、トリイソブチルアルミニウムの２５％トルエン溶液１２部を投入し、撹拌下に７０℃でテトラヒドロフラン（分子量７２．１１）１５１０部と３，３−ジメチルオキセタン（分子量８６．１３）（Ａｌｆａ  Ａｅｓａｒ社製）２００部の混合溶液を４時間かけて連続的に導入した後、同温度で４時間熟成させた。水を３０部投入した後、吸着剤としてのキョーワード６００（協和化学工業製）を５部混合して３０分攪拌した後、濾去した。次いで、１３０℃で２時間、減圧下（３ｋＰａ）に揮発成分を留去して、目的とする（Ａ−３）（無色液体）１８００部を得た。数平均分子量は１８００であった。
【００７８】
製造例２
［テトラヒドロフランと２，５−ジメチルテトラヒドロフランの共重合体（Ａ−６）の合成］
テトラヒドロフランを１５１０部から１８２部に、３，３−ジメチルオキセタン２００部を２，５−ジメチルテトラヒドロフラン（分子量１００．１６）（東京化成製）２８部に変更する以外は、製造例１と同様にして目的とする（Ａ−６）（無色液体）３００部を得た。数平均分子量は３００であった。
【００７９】
製造例３
［テトラヒドロフランと３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシ）エチルオキセタンの共重合体（Ａ−７）の合成］
テトラヒドロフランを１５１０部から５８５０部に、３，３−ジメチルオキセタン２００部を３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシ）エチルオキセタン（分子量２２８．４）（東亞合成製「ＯＸＴ−２１２（ＥＨＯＸ）」）２０６０部に変更する以外は、製造例１と同様にして目的とする（Ａ−７）（無色粘調液体）８０００部を得た。数平均分子量は８０００であった。
【００８０】
製造例４
［酸発生剤（Ｇ２−１）｛化学式（１）で表される化合物｝の合成］
【００８１】
【化２】
2015145437.tif 000003
【００８２】
攪拌機、コンデンサー、温度計、滴下ポンプを備えたフラスコに、トルエン６．５部、イソプロピルベンゼン８．１部、ヨウ化カリウム５．３５部及び無水酢酸２０部を酢酸７０部に溶解させ、１０℃まで冷却し、温度を１０±２℃に保ちながら、濃硫酸１２部と酢酸１５部の混合溶液を１時間かけて滴下した。２５℃まで昇温し、２４時間攪拌した。その後、反応溶液にジエチルエーテル５０部を加え、水で３回洗浄し、ジエチルエーテルを減圧留去した。残渣にカリウム｛トリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ホスフェート｝１１８部を水１００部に溶解させた水溶液を加え、２５℃で２０時間攪拌した。その後、反応溶液に酢酸エチル５００部を加え、水で３回洗浄し、有機溶剤を減圧留去することで目的とする酸発生剤（Ｇ２−１）（淡黄色固体）５．０部を得た。
【００８３】
比較製造例１：（Ａ）の数平均分子量が２００未満の例
［テトラヒドロフランと３，３−ジメチルオキセタンの共重合体（Ａ’−３）の合成］
テトラヒドロフランを１５１０部から９０部に、３，３−ジメチルオキセタンを２００部から１０部に変更する以外は、製造例１と同様にして比較用の（Ａ’−３）（無色液体）１１部を得た。数平均分子量は１９０であった。
【００８４】
比較製造例２：（Ａ）の数平均分子量が１００００よりも大きい例
［テトラヒドロフランと３，３−ジメチルオキセタンの共重合体（Ａ’−４）の合成］
テトラヒドロフランを１５１０部から１０５１５部に、３，３−ジメチルオキセタンを２００部から１３９５部に変更する以外は、製造例１と同様にして比較用の（Ａ’−４）（無色高粘調液体）１２０００部を得た。数平均分子量は１２０００であった。
【００８５】
比較製造例３：テトラヒドロフラン（ａ１）と共重合されるモノマーが、化合物（ａ２）以外の例
［テトラヒドロフランとプロピレンオキシドの共重合体（Ａ’−５）の合成］
テトラヒドロフランを１５１０部から２６７０部に、３，３−ジメチルオキセタン２００部をプロピレンオキシド（分子量５８）２４０部に変更する以外は、製造例１と同様にして比較用の（Ａ’−５）（無色粘調液体）３０００部を得た。数平均分子量は３０００であった。
【００８６】
比較製造例４：（Ａ）がテトラヒドロフラン（ａ１）を含まない例
［３，３−ジメチルオキセタンの単重合体（Ａ’−６）の合成］
テトラヒドロフラン１５１０部を使用せず、３，３−ジメチルオキセタンを２００部から２９１０部に変更する以外は、製造例１と同様にして比較用の（Ａ’−６）（無色粘調液体）３０００部を得た。数平均分子量は３０００であった。
【００８７】
比較製造例５：（Ｂ）の炭素数が２０よりも大きい例
［ポリブタジエンジカルボン酸（Ｂ’−１）の合成］
攪拌機、コンデンサー、温度計、滴下ポンプを備えたフラスコに、ポリブタジエンジオール（日本曹達製「ＮＩＳＳＯ−ＰＢ Ｇ−１０００（数平均分子量１０００：炭素数７０）」）１００部を仕込み、８０℃まで加熱し、温度を８０±１０℃に保ちながら、３０％過酸化水素水２０部を５時間かけて滴下した後、２４時間攪拌した。その後を水で３回洗浄し、目的とする酸発生剤（Ｂ’−１）（無色粘調液体）１０２部を得た。
【００８８】
比較製造例６：（Ｄ）の炭素数が１００よりも大きい例
攪拌機、コンデンサー、温度計、脱水用ディーンスターク管を備えたフラスコに、アクリル酸１０部、両末端水酸基のポリエチレングリコール（三洋化成製「ＰＥＧ４５００」重量平均分子量４５００：炭素数１０２個）２３０部、トルエン３００部及び硫酸５部及びハイドロキノン１部を仕込み、１１０℃に昇温して、１２時間反応させた。
トリエチルアミン１０部を投入して、反応触媒を中和した後、反応溶剤及び過剰のトリエチルアミンを留去し、比較用の（Ｄ’−１）（白色固体）２４０部を得た。数平均分子量は４６００であった。
【００８９】
実施例１〜１６、比較例２〜１４
［ディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂（Ｅ）の合成、基礎物性評価］
攪拌機、コンデンサー、温度計、エアーコンプレッサーを備えたフラスコに、エステル化触媒（日東化成製「ネオスタンＵ−６００」）０．０３部と、表１及び表２に記載の配合部数の（Ａ）及び（Ｂ）を一括で投入し、温度を２３０±５℃に保ちながら、２４時間攪拌した。１００℃まで降温させ、エチルメチルケトン１０００部と、表１及び表２に記載の配合部数の（Ｃ）を一括で投入し、温度を１００±５℃に保ちながら、２４時間攪拌した。７０℃まで降温させ、エアーコンプレッサーを始動させ、フラスコ内の溶液中へのエアレーションを開始した後、表１及び表２に記載の配合部数の（Ｄ）を一括で投入し、温度を７０±５℃に保ちながら、１０時間攪拌した。有機溶剤を４０℃で減圧留去することで目的とするディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂（Ｅ−１）〜（Ｅ−１６）、及び比較用のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂（Ｅ’−２）〜（Ｅ’−１４）を得た。
【００９０】
実施例１７〜３２、比較例１５〜２８：（Ｅ）及び（Ｅ’）の硬化前の物性評価
本発明のウレタン樹脂（Ｅ−１）〜（Ｅ−１６）及び比較用のウレタン樹脂（Ｅ’−１）〜（Ｅ’−１４）について、以下の方法で性能評価を行った結果を表３に示す。
【００９１】
［硬化前樹脂の性能評価法］
（１）数平均分子量
装置  ：  ゲルパーミエイションクロマトグラフィー
溶媒  ：  テトラヒドロフラン
基準物質  ：  ポリスチレン
サンプル濃度  ：  ３ｍｇ／ｍｌ
カラム固定相  ：  ＰＬｇｅｌ  ＭＩＸＥＤ−Ｂ
カラム温度  ：  ４０℃
【００９２】
（２）ウレタン基濃度
各（Ｅ）及び（Ｅ’）各々１ｇに水酸化ナトリウム１ｇを加え、元素分析装置［ＬＥＣＯ製「ＴｒｕＳｐｅｃ  Ｍｉｃｒｏ  ＣＨＮＳ」］を用いて、測定し、下記算出式にて、ウレタン基濃度を算出した。
［（Ｅ−１）〜（Ｅ−１４）、（Ｅ−１６）及び（Ｅ’−１）〜（Ｅ’−１４）］
ウレタン基濃度［ｍｍｏｌ／ｇ］＝（試料１ｇに水酸化ナトリウムを加え加熱したときに発生したアンモニア分子のｍｍｏｌ数）
［（Ｅ−１５）］
ウレタン基濃度［ｍｍｏｌ／ｇ］＝（試料１ｇに水酸化ナトリウムを加え加熱したときに発生したアンモニア分子のｍｍｏｌ数）＊｛ＩＲ測定によるウレタン基のＣ＝Ｏ伸縮（１６９０ｃｍ-1）ピーク面積／（ＩＲ測定によるウレタン基のＣ＝Ｏ伸縮（１６９０ｃｍ-1）ピーク面積＋ＩＲ測定によるアミド基のＣ＝Ｏ伸縮（１６５０ｃｍ-1）ピーク面積）｝
尚、ＩＲ測定には［日立ハイテク製「フーリエ変換赤外分光装置Ｎｉｃｏｌｅｔ  ｉＳ５０  ＦＴ−ＩＲ」］を用いた。
【００９３】
（３）粘度
ＪＩＳ−Ｋ７１１７に準拠し、Ｂ型粘度計を用いて３８℃での粘度を測定した。塗工適正の観点から好ましい領域は１００〜３０００Ｐａ・ｓであり、より好ましくは１５０〜２０００Ｐａ・ｓである。
【００９４】
（４）チクソトロピックインデックス
レオメーター［ＴＡ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ製「ＡＲ−２０００」］を用いて３８℃にてせん断速度０．０１ｓ−1〜１０ｓ−1の粘度を測定し、下記算出式にて、チクソトロピックインデックスを算出した。
チクソトロピックインデックス＝
｛（せん断速度１０ｓ−1の粘度）−（せん断速度０．０１ｓ−1の粘度）｝
／（せん断速度１０ｓ−1の粘度）
塗工適正の観点から好ましい領域は±１．０以下であり、より好ましくは±０．５以下である。
【００９５】
（５）耐水性
各（Ｅ）及び（Ｅ’）を３０℃の水に２４時間浸漬し、下記の基準にて判定した。    ○判定：数平均分子量変化が１０％未満
×判定：数平均分子量変化が１０％以上。
【００９６】
（６）全光線透過率
ＪＩＳ−Ｋ７１３６に準拠し、全光線透過率測定装置［ＢＹＫ  ｇａｒｄｎｅｒ製「ｈａｚｅ−ｇａｒｄｄｕａｌ」］を用いて測定した。透明性の観点から好ましい領域は９１％以上であり、より好ましくは９２％以上である。
【００９７】
（７）貯蔵安定性
窒素雰囲気に置換した密閉容器中で１００℃にて保管し、粘度が８０００Ｐａ・ｓ（３８℃）となった時点をゲル化したと判断した。
【００９８】
【表１】
2015145437.tif 000004
【００９９】
【表２】
2015145437.tif 000005
【０１００】
表１及び表２に記載の（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、（Ａ’）、（Ｂ’）、（Ｃ’）及び（Ｄ’）は以下を使用した。
テトラヒドロフランとネオペンチルグリコ−ルの共重合体(Ｍｎ＝１８００)（Ａ−１）：旭化成せんい製「ＰＴＸ−Ｇ  １８００」
テトラヒドロフランとネオペンチルグリコ−ルの共重合体(Ｍｎ＝１０００)（Ａ−２）：旭化成せんい製「ＰＴＸ−Ｇ  １０００」
テトラヒドロフランと３,３−ジメチルオキセタンの共重合体(Ｍｎ＝１８００)（Ａ−３）：製造例１の化合物
テトラヒドロフランと３−メチルテトラヒドロフランの共重合体(Ｍｎ＝３０００)（Ａ−４）：保土ヶ谷化学製「ＰＴＧ−Ｌ  ３０００」
テトラヒドロフランと３−メチルテトラヒドロフランの共重合体(Ｍｎ＝１０００)（Ａ−５）：保土ヶ谷化学製「ＰＴＧ−Ｌ  １０００」
テトラヒドロフランと２,５−ジメチルテトラヒドロフランの共重合体（Ａ−６）：製造例２の化合物
テトラヒドロフランと３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシ）エチルオキセタンの共重合体（Ａ−７）：製造例３の化合物
【０１０１】
ジカルボン酸（Ｂ）：全て東京化成製
【０１０２】
２,２,４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート（Ｃ１−１）：エボニック製「ＴＭＤＩ」
１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート（Ｃ１−２）：住友バイエルウレタン製「デスモジュールＨ」
イソホロンジイソシアネート（Ｃ２−１）：住友バイエルウレタン製「デスモジュールＩ」
１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン（Ｃ２−２）：三井化学製「タケネート６００」
４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート（Ｃ２−３）：住友バイエルウレタン製「デスモジュールＷ」
ノルボルナンジイソシアネート（Ｃ２−４）：三井化学ファイン製「ＮＢＤＩ」
ビウレット変性−１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート（Ｃ３−１）：旭化成製「デュラネート２４Ａ−１００」
イソシアヌレート変性−１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート（Ｃ３−２）：旭化成製「デュラネートＴＰＡ−１００」
イソシアヌレート変性イソホロンジイソシアネート（Ｃ３−３）：エボニック・デグサ・ジャパン製「ＶＥＳＴＡＮＡＴ  １８９０／１００」
【０１０３】
２−ヒドロキシエチルアクリレート（Ｄ１−１）：日本触媒製「ＢＨＥＡ」
２−ヒドロキシプロピルアクリレート（Ｄ１−２）：  日本触媒製「ＨＰＡ」
４−ヒドロキシブチルアクリレート（Ｄ１−３）：  大阪有機化学工業製「４ＨＢＡ」
２−ヒドロキシエチルアクリルアミド（Ｄ１−４）：興人製「ＨＥＡＡ」
２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチル−フタル酸（Ｄ１−５）：共栄社化学製「ライトアクリレートＨＯＡ−ＭＰＥ」
水酸基末端デカエチレングリコールアクリレート（Ｄ１−６）：日油製「ブレンマーＡＥ−４００」（炭素数１０）
２−ヒドロキシエチルメタクリレート（Ｄ１−７）：日本触媒製「ＨＥＭＡ」
グリセリンジメタクリレート（Ｄ１−８）：  日油製「ブレンマーＧＭＲ−Ｈ」（炭素数１１）
水酸基末端トリデカプロピレングリコールメタクリレート（Ｄ１−９）：  日油製「ブレンマーＰＰ−８００」（炭素数４３）
水酸基末端（デカエチレングリコール／ペンタプロピレングリコール）メタクリレート（Ｄ１−１０）：日油製「ブレンマー５５ＰＥＴ−８００」（炭素数４４）
テトラメチルピペリジニルメタクリレート（Ｄ２−１）：日立化成製「ファンクリルＦＡ−７１２ＨＭ」
【０１０４】
ポリプロピレン無水マレイン酸付加物と２−ヒドロキシエチルメタクリレートの反応物（Ｅ’−１）：クラレ製「ＵＣ−２０３（数平均分子量３５，０００）」
ポリテトラメチレングリコール（Ａ’−２）：三菱化学製「ＰＴＭＧ−３０００」
テトラヒドロフランと３，３−ジメチルオキセタンの共重合体（Ｍｎ＝１９０）（Ａ’−３）：比較製造例１の化合物
テトラヒドロフランと３，３−ジメチルオキセタンの共重合体（Ｍｎ＝１２０００）（Ａ’−４）：比較製造例２の化合物
テトラヒドロフランとプロピレンオキシドの共重合体（Ａ’−５）：比較製造例３の化合物
３，３−ジメチルオキセタンの単重合体（Ａ’−６）：比較製造例４の化合物
ポリブタジエンジカルボン酸（Ｂ’−１）：比較製造例５の化合物
１，３，５−ペンタントリカルボン酸（Ｂ’−２）：東京化成製
４，４’，４’’−メチリジントリス（イソシアネートベンゼン）（Ｃ’−１）：ＢＣＯ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ社製
水酸基末端ポリエチレングリコールメタクリレート（Ｄ’−１）：比較製造例６の化合物
ペンタエリスリトールジ／トリアクリレート（Ｄ’−２）：共栄社化学製「ライトアクリレートＰＥ３Ａ」
【０１０５】
【表３】
2015145437.tif 000006
【０１０６】
比較例１において、ＣＯＯＨ基が残存しているため、貯蔵安定性試験にてゲル化する。比較例２において、テトラヒドロフランが単重合されてなる（Ａ）は３８℃にて固体なため、（Ｅ）も固体であり、塗工できない。比較例３において、（Ａ）の数平均分子量が２００未満の場合、低粘度過ぎて液ダレに課題あり、更にウレタン基濃度が高いため、チクソトロピックインデックスにも課題がある。一方、比較例４において、（Ａ）の数平均分子量が２００未満を用いた場合でも、工夫すれば適切な粘度に調整可能だが、エステル基濃度が上がるため、耐加水分解性に課題がある。比較例５において、（Ａ）の数平均分子量が１００００よりも大きい場合、（Ｅ）は固体となり、塗工できない。比較例６において、（Ａ）が（ａ２）を含まない場合、高分子鎖間の相互作用が強まり、非常に高粘度となり、塗工できない。逆に、比較例７において、（Ａ）がテトラヒドロフラン（ａ１）を含まない場合、高分子鎖間の相互作用が弱すぎ、液ダレに課題がある。比較例８〜１０において、（Ｂ）又は（Ｃ）として、２官能よりも多い官能基を有する化合物を使用した場合、ゲル化又は固体となってしまうため、塗工できない。比較例１１において、（Ｄ）の炭素数が１００よりも大きい場合、非常に高粘度となり、塗工できない。比較例１２において、（Ｄ）として、２官能よりも多い官能基を有する化合物を使用した場合、貯蔵安定性に課題がある。比較例１３において、（Ｅ）の数平均分子量が３０００未満の場合、非常に低粘度なため、液ダレに課題がある。比較例１４において、（Ｅ）の数平均分子量が１２００００よりも大きい場合、非常に低粘度なため、液ダレに課題がある。また、比較例２〜１４において、全光線透過率が低い。
以上の比較例と対比して、本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂（Ｅ）は粘度、チクソトロピックインデックス、耐水性、透明性、貯蔵安定性いずれも良好であることが分かる。
【０１０７】
実施例３３〜４８、比較例２９〜４２：（Ｅ）及び（Ｅ’）の硬化後の物性評価
本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂（Ｅ−１）〜（Ｅ−１６）及び比較用のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂（Ｅ’−１）〜（Ｅ’−１４）各９５部とイルガキュア１８４（Ｅ４−１）（ＢＡＳＦ製）５部を一括で配合し、ディスパーサーで均一に混合攪拌し、本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物（Ｑ−１）〜（Ｑ−１６）、比較用のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物（Ｑ’−１）〜（Ｑ’−１４）を得た。尚、性状が固体の（Ｅ）については、６０℃まで加温し、溶融させた状態で配合した。
【０１０８】
[硬化速度の評価]
（Ｑ−１）〜（Ｑ−１６）及び（Ｑ’−１）〜（Ｑ’−１４）を、表面処理を施した厚さ１００μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム［東洋紡（株）製コスモシャインＡ４３００］に、アプリケーターを用いて膜厚２０μｍとなるように塗布して、ベルトコンベア式ＵＶ照射装置（アイグラフィックス株式会社「ＥＣＳ−１５１Ｕ」）を使用して露光を行った。露光量を３６５ｎｍとして１００、３００、５００及び１０００ｍＪ／ｃｍ2と振り、透過ＩＲ（日本文高株式会社製「ＦＴ／ＩＲ−４６０Ｐｌｕｓ」）にて、露光前後での、１６００ｃｍ−1における不飽和結合の消失度合いから、下記計算式にて反応率（％）を計算した。
反応率（％）の算出式＝１００×（露光前の吸光度−露光後の吸光度）／露光前の吸光度
【０１０９】
［硬化後樹脂の性能評価］
実施例３３〜４８及び比較例２９〜４２で得た各ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物を、表面に離型性処理を施した厚さ１００μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム［リンテック製「ＰＥＴ−３８Ｃ」］に、アプリケーターを用いて膜厚２００μｍとなるように塗布して、ベルトコンベア式ＵＶ照射装置（アイグラフィックス株式会社「ＥＣＳ−１５１Ｕ」）を使用して露光を行った。露光量は３６５ｎｍとして１０００ｍＪ／ｃｍ2であった。尚、性状が固体の（Ｅ）については、６０まで加温し、溶融させた状態で塗工した。露光後、硬化塗膜を離型性処理ＰＥＴフィルムから剥がし、評価用試験片とした。
硬化後の塗膜について以下の方法で性能評価を行った結果を表４に示す。
【０１１０】
［硬化後塗膜の性能評価方法］
（１）破断伸び
各試験片について、引っ張り試験機（オリエンテック社「テンシロン」）で、温度２５℃、加重５ｋｇｆ、引っ張り速度５ｍｍ／分にて測定した。基材追従性の観点から好ましくは、５００％以上である。
（２）貯蔵弾性率
各試験片について、粘弾性測定装置（セイコーインスツルメンツ製「ＤＭＳ６１００」）を用い、測定周波数１Ｈｚで貯蔵弾性率（Ｐａ）（２５℃）を測定した。耐衝撃性の観点から好ましくは１０4〜１０7Ｐａでる。
（３）全光線透過率
ＪＩＳ−Ｋ７１３６に準拠し、全光線透過率測定装置［ＢＹＫ  ｇａｒｄｎｅｒ製「ｈａｚｅ−ｇａｒｄｄｕａｌ」］で測定した。透明性の観点から好ましい領域は９１％以上であり、より好ましくは９２％以上である。
（４）硬化収縮率
硬化前の樹脂液と硬化後の固体の比重を電子比重計（ＭＩＲＡＧＥ社製ＳＤ−１２０Ｌ）で測定した。
【０１１１】
【表４】
2015145437.tif 000007
【０１１２】
実施例３３〜３６の比較から、破断伸び、硬化収縮率は分子量１００００前後の時に最良値となる。また、本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物以外は、破断伸び、貯蔵弾性率、透明性、硬化収縮率に課題があることが比較例から分かる。
【０１１３】
実施例４９：ＯＣＲとしての評価
（Ｅ−３）３０部、ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート［日立化成製「ＦＡ−５１２Ｍ」］（Ｉ２−１）１５部、２−ヒドロキシブチルメタクリレート［共栄社化学製「ライトエステルＨＯＢ」］（Ｉ２−２）５部、水素添加テルペン系樹脂［ヤスハラケミカル「クリアロンＰ８５」］１０部、ポリブタジエン［Ｅｖｏｎｉｋ製「ＰｏｌｙＯｉｌ １１０」］３３部、重合開始剤としてルシリンＴＰＯ（Ｆ１−１）［ＢＡＳＦ製］２部、イルガキュア１８４（Ｆ４−１）（ＢＡＳＦ製）５部、酸化防止剤としてイルガノックス１０１０［ＢＡＳＦ製］０．１部及びイルガノックス１５２０Ｌ（ＢＡＦＳ製）０．１部を一括で配合し、ディスパーサーで均一に混合攪拌し、本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物（Ｑ−１７）を得た。
【０１１４】
実施例５０：ＯＣＲとしての評価
酸発生剤（Ｇ２−１）０．５部を新たに追加する以外は、実施例４９と同様にして本発明のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物（Ｑ−１８）を得た。
【０１１５】
比較例４３：ＯＣＲとしての評価
（Ｅ−３）を（Ｅ’−１）に変更する以外は、実施例６４と同様にして比較用のディスプレイ緩衝層用樹脂組成物（Ｑ’−１５）を得た。
【０１１６】
[硬化速度の評価]
実施例４９、５０及び比較例４３で得た各ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物を、表面処理を施した厚さ１００μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム［東洋紡（株）製コスモシャインＡ４３００］に、アプリケーターを用いて膜厚２０μｍとなるように塗布して、ベルトコンベア式ＵＶ照射装置（アイグラフィックス株式会社「ＥＣＳ−１５１Ｕ」）を使用して露光を行った。露光量を３６５ｎｍとして１００、３００、５００及び１０００ｍＪ／ｃｍ2と振り、透過ＩＲ（日本文高株式会社製「ＦＴ／ＩＲ−４６０Ｐｌｕｓ」）にて、露光前後での、１６００ｃｍ-1における不飽和結合の消失度合いから、下記計算式にて反応率（％）を計算した。
反応率（％）の算出式＝１００×（露光前の吸光度−露光後の吸光度）／露光前の吸光度
【０１１７】
［硬化後樹脂の性能評価］
実施例３３〜４８及び比較例２９〜４２と同様にして、実施例４９、５０及び比較例４３の硬化後樹脂の性能評価、及び下記の遮蔽部硬化性の評価を行った結果を表５に示す。
【０１１８】
［遮蔽部硬化性の評価］
実施例４９、５０及び比較例４３で得た各ディスプレイ緩衝層用樹脂組成物を、表面処理を施した厚さ１００μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム［東洋紡（株）製コスモシャインＡ４３００］に、アプリケーターを用いて膜厚２０μｍとなるように塗布して、黒色のポリカーボネート板を塗工した塗膜上に載置し、ベルトコンベア式ＵＶ照射装置（アイグラフィックス株式会社「ＥＣＳ−１５１Ｕ」）を使用して露光を行った。露光量は３６５ｎｍとして１０００ｍＪ／ｃｍ2であった。
露光後、黒色のポリカーボネート板を外し、透過ＩＲ（日本文高株式会社製「ＦＴ／ＩＲ−４６０Ｐｌｕｓ」）にて、露光部・露光部から遮蔽部へ２ｃｍ奥の地点それぞれにおいて、１６００ｃｍ-1における不飽和結合の消失度合いから、下記計算式にて反応率（％）を計算した。
反応率（％）の算出式＝１００×（露光前の吸光度−露光後の吸光度）／露光前の吸光度
【０１１９】
【表５】
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【０１２０】
本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂及びそれを含有するディスプレイ緩衝層用樹脂組成物は、ＯＣＲ用の組成とした場合でも、速硬化性、破断伸び、貯蔵弾性率透明性、低硬化収縮性及び遮蔽部硬化性の全てを満足することが可能である。
【産業上の利用可能性】
【０１２１】
本発明のディスプレイ緩衝層用ウレタン樹脂及びそれを含有するディスプレイ緩衝層用樹脂組成物は、硬化前の塗工適正（粘度、チクソトロピックインデックス）、硬化後の硬化膜の高透明性、貯蔵安定性、基材追従性（破断伸び）、低硬化収縮性及び遮蔽部硬化性に優れている為、画像表示ディスプレイの画像表示ユニットと前面板との間の緩衝層用として有用である。