(57)【要約】【課題】単結晶太陽電池セル用途等に適した、均一性に優れた微細な凹凸部をシリコン基板に容易に安定して再現させるテクスチャエッチング液及びテクスチャエッチング液用添加剤液を低コストで提供すること、更には前記テクスチャエッチング液を用いて均一で微細な凹凸部を持つテクスチャ基板を提供すること、更には前記テクスチャ基板を使用した高効率太陽電池セルを提供すること。【解決手段】アルカリ成分と、重合度１２０以下の超低重合度ポリビニルアルコール系樹脂又は変性度１０％以上のカルボキシル基変性ポリビニルアルコール系樹脂とを含有するシリコン基板用エッチング液；重合度１２０以下の超低重合度ポリビニルアルコール系樹脂又は変性度が１０％以上のカルボキシル基変性ポリビニルアルコール系樹脂を含有し、前記ポリビニルアルコール系樹脂の濃度が、３０重量％以下であるエッチング液の製造に使用されるエッチング液用添加剤液；前記テクスチャエッチング液又は前記エッチング液用添加剤液を添加して製造されたテクスチャエッチング液を使用し、基板面の少なくとも片側表面にテクスチャ形成されたシリコン基板；前記テクスチャエッチング液を、シリコン基板と６０〜９５℃の範囲内で反応させる工程を有するシリコン基板の製造方法；及び、前記シリコン基板を含有し、少なくとも受光面側にテクスチャ形成面が向けられて成る太陽電池。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリ成分と、重合度１２０以下の超低重合度ポリビニルアルコール系樹脂を含有することを特徴とするシリコン基板用エッチング液。
【請求項２】
アルカリ成分と、変性度が１０％以上のカルボキシル基変性ポリビニルアルコール系樹脂を含有することを特徴とするシリコン基板用エッチング液。
【請求項３】
ポリビニルアルコール系樹脂の濃度が、１．０重量％以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載のエッチング液。
【請求項４】
アルカリ成分が、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のエッチング液。
【請求項５】
水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムの濃度が、０．５〜１２重量％であることを特徴とする請求項４記載のエッチング液。
【請求項６】
重合度１２０以下の超低重合度ポリビニルアルコール系樹脂又は変性度が１０％以上のカルボキシル基変性ポリビニルアルコール系樹脂を含有し、前記ポリビニルアルコール系樹脂の濃度が、３０重量％以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のエッチング液の製造に使用されるエッチング液用添加剤液。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれか１項に記載のエッチング液又は請求項６に記載のエッチング液用添加剤液を添加して製造されたエッチング液を使用し、基板面の少なくとも片側表面に凹凸構造が形成されたシリコン基板。
【請求項８】
請求項１〜５のいずれか１項に記載のエッチング液又は請求項６に記載のエッチング液用添加剤液を添加して製造されたエッチング液を、シリコン基板と６０〜９５℃の範囲内で反応させる工程を有することを特徴とする、請求項７に記載されたシリコン基板の製造方法。
【請求項９】
請求項７に記載のシリコン基板を含有し、少なくとも受光面側に凹凸構造形成面が向けられて成ることを特徴とする太陽電池。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、結晶系シリコン太陽電池等に用いるために、結晶系シリコン基板の表面を粗面化するために使用されるエッチング液に関する。更に詳しくは、前記エッチング液、前記エッチング液を作製するために使用される添加剤液、前記エッチング液を使用して作製される凹凸形状が形成されたシリコン基板（以下、単に「凹凸基板」ともいう）及び前記凹凸基板の製造方法並びに太陽電池に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のエッチング液としては、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）又は水酸化カリウム（ＫＯＨ）からなるアルカリ性媒体に、エチレングリコールが添加されたエッチング液を使用し、これを６０〜８０℃に加熱し、この溶液中に５〜２０分間シリコンウエハを浸漬してウエットエッチングすることにより、シリコンウエハの表面にピラミッド状凹凸部が形成され、エッチング液が消費された分は必要な媒体の添加により補充するものがある（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
また、炭酸ナトリウム（Ｎａ２ＣＯ３）をベースとして、水酸化ナトリウムや炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ３）が添加されたエッチング液を８０℃〜１００℃に加熱し、これに３０分を目安として単結晶シリコンウエハを浸漬してウエットエッチングすることにより、単結晶シリコンウエハの表面に低反射率で結晶シリコン太陽電池に適したピラミッド状凹凸部が形成され、更にエッチング液の交換をせずに連続的に処理を行う場合は、処理する際に蒸発する量の水もしくはエッチング液を補充するものがある。また、その他の従来技術として、６０〜９５℃に加温した水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムにイソプロピルアルコール（以下、「ＩＰＡ」ともいう）を添加したエッチング液に、シリコンウエハを１０〜３０分間浸漬させることにより、ピラミッド状凹凸部（テクスチャ構造）を形成するためのエッチング液も挙げられる（例えば、特許文献２参照）。
【０００４】
他の態様としては、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムをベースとし、これにリグニン、セルロース類、ケトン類、エステル類等の一種又は複数種含有し、かつ炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ３）又は炭酸水素カリウム（ＫＨＣＯ３）を加えたエッチング液を６０〜８５℃に加温し、この溶液中に２〜３０分間シリコンウエハを浸漬してウエットエッチングすることにより、低反射率で結晶シリコン太陽電池に適したピラミッド状凹凸部が安定的に形成できるとするエッチング液も挙げられる（例えば、特許文献３参照）。
【０００５】
また更なる他の態様としては、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムをベースとし、これにポリビニルアルコール（ＰＶＡ）と、炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ３）又は炭酸水素カリウム（ＫＨＣＯ３）を加えたエッチング液を８５℃に加温し、この溶液中に１３分間シリコンウエハを浸漬してウエットエッチングすることにより、低反射率で結晶シリコン太陽電池に適したピラミッド状凹凸部が安定的に形成できるとするエッチング液も挙げられる（例えば、特許文献４参照）。
【０００６】
しかしながら、このような従来のエッチング液では、それらの明細書に記載された所定の条件下で実際に再現実験を行ったところ、確かに再現は可能であるものの、優れたピラミッド状凹凸部を容易に安定して再現することは難しく、工業的に実用可能でなく、エッチング時間もかかり、生産性も劣るという問題がある。
【０００７】
更に、太陽電池セル製造工程の後工程における電極のパターニング工程等では、微細で均一なピラミッド状凹凸部が形成されることが理想的であるが、従来のテクスチャエッチング液では、均一で微細なピラミッド状凹凸部は得られないという問題がある。その結果、従来のエッチング液を使用した場合、太陽電池セルの特性のバラツキが大きく、高効率太陽電池を安定して製造することが難しいという問題がある。
【０００８】
また、ＩＰＡやエチレングリコールを添加する場合、これらの化合物自体が危険物である上、廃液にアルカリとアルコールが混在し、廃液処理に設備が必要となり、コストが高くなると共に、廃液処理が確実に行えないと環境に悪影響を与える可能性もある。
【０００９】
更に、ＩＰＡを添加した場合には、沸点近くの温度で使用すると、ＩＰＡが蒸発してテクスチャエッチング液の組成が安定しないばかりでなく、引火する危険性があるため防爆設備が必要となる、消費した分だけ随時補充が必要になる等、コストアップになるという問題もある。
【００１０】
他方、アルカリ水溶液にリグニン等と炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウムを加えたＩＰＡを使用しないエッチング液は、均一で微細な凹凸部を更に安定して得るために、０．５〜１８重量％と比較的大量の炭酸水素ナトリウム又は炭酸水素カリウムが必要とされ、依然として材料コストが高いという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２０００−１７９２号公報
【特許文献２】特開２０００−１８３３７８号公報
【特許文献３】特開２００５−０１９６０５号公報
【特許文献４】特開２００９−１２３８１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、単結晶太陽電池セル用途等に適した、均一性に優れた微細な凹凸部をシリコン基板に容易に安定して再現させるテクスチャエッチング液及びテクスチャエッチング液用添加剤液を工業的有利に提供することを目的とする。また、前記テクスチャエッチング液を用いて均一で微細な凹凸部を持つテクスチャ基板を提供することを目的とする。さらに、前記テクスチャ基板を使用した高効率太陽電池セルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、エッチング液に特定のポリビニルアルコール系樹脂を含有させることによって、目的を達成することができることを見出し、この知見に基づいてさらに研究を進め、本発明を完成するに至った。
【００１４】
すなわち、本発明は以下の発明に関する。
［１］アルカリ成分と、重合度１２０以下の超低重合度ポリビニルアルコール系樹脂を含有することを特徴とするシリコン基板用エッチング液。
［２］アルカリ成分と、変性度が１０％以上のカルボキシル基変性ポリビニルアルコール系樹脂を含有することを特徴とするシリコン基板用エッチング液。
［３］ポリビニルアルコール系樹脂の濃度が、１．０重量％以下であることを特徴とする前記［１］又は［２］に記載のエッチング液。
［４］アルカリ成分が、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムであることを特徴とする前記［１］〜［３］のいずれか１項に記載のエッチング液。
［５］水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムの濃度が、０．５〜１２重量％であることを特徴とする前記［４］記載のエッチング液。
［６］重合度１２０以下の超低重合度ポリビニルアルコール系樹脂又は変性度が１０％以上のカルボキシル基変性ポリビニルアルコール系樹脂を含有し、前記ポリビニルアルコール系樹脂の濃度が、３０重量％以下であることを特徴とする前記［１］〜［５］のいずれか１項に記載のエッチング液の製造に使用されるエッチング液用添加剤液。
［７］前記［１］〜［５］のいずれか１項に記載のエッチング液又は前記［６］に記載のエッチング液用添加剤液を添加して製造されたエッチング液を使用し、基板面の少なくとも片側表面に凹凸構造が形成されたシリコン基板。
［８］前記［１］〜［５］のいずれか１項に記載のエッチング液又は前記［６］に記載のエッチング液用添加剤液を添加して製造されたエッチング液を、シリコン基板と６０〜９５℃の範囲内で反応させる工程を有することを特徴とする、前記［７］に記載されたシリコン基板の製造方法。
［９］前記［７］に記載のシリコン基板を含有し、少なくとも受光面側に前記テクスチャ形成面が向けられて成ることを特徴とする太陽電池。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、結晶系太陽電池セル用途等に適した、均一性に優れた微細な凹凸部をシリコン基板に容易に安定して再現させるエッチング液及びエッチング液用添加剤液を工業的有利に提供することができる。また、本発明では、前記エッチング液を用いて微細な凹凸部を持つシリコン基板を提供することができる。前記シリコン基板を使用することで結果として高効率太陽電池セルを安定して提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】図１は、実施例１、実施例２及び比較例１のエッチング液を用いて得られたシリコン基板の反射率の測定結果を示す。
【図２】図２は、実施例１のテクスチャエッチング液で処理した基板のレーザー顕微鏡写真を示す。
【図３】図３は、実施例２のテクスチャエッチング液で処理した基板のレーザー顕微鏡写真を示す。
【図４】図４は、比較例１のテクスチャエッチング液で処理した基板のレーザー顕微鏡写真を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明のエッチング液は、アルカリ成分と、重合度１２０以下の超低重合度ポリビニルアルコール系樹脂又は変性度１０％以上のカルボキシル基変性ポリビニルアルコール系樹脂とを含有することを特徴とするものである。以下、重合度１２０以下の超低重合度ポリビニルアルコール系樹脂及び変性度１０％以上のカルボキシル基変性ポリビニルアルコール系樹脂を「添加剤成分」ともいう。本発明のテクスチャエッチング液は、少なくともアルカリ成分と、重合度１２０以下の超低重合度ポリビニルアルコール系樹脂又は変性度１０％以上のカルボキシル基変性ポリビニルアルコール系樹脂とを含有してればよく、本発明の効果を妨げない限り、上記成分以外のテクスチャエッチング液に用いる任意の成分を加えていてもよい。
【００１８】
本発明のエッチング液は、液中でエッチングすることによりシリコン基板の表面に凹凸形状を形成するために用いる。いわゆるウエットエッチング用エッチング液である。
【００１９】
従来のエッチング液で使用されるポリビニルアルコール系樹脂（以下、「ＰＶＡ系樹脂」という）は、重合度３００〜５０００程度のものが市販されており、このようなＰＶＡ系樹脂を添加した場合、そのエッチング抑制効果が強過ぎてシリコン基板表面を微細な凹凸形状でエッチングする状態を適切にコントロールすることが困難であった。これに対し、本発明の超低重合度ＰＶＡ系樹脂又はカルボキシル基変性ＰＶＡ系樹脂を添加した場合、そのエッチング抑制効果が適度に弱まり、アルカリ水溶液中でシリコン基板表面を微細な凹凸形状でエッチングする状態を適切にコントロールすることが可能となり、結果として、より低い反射率の凹凸面を再現良く得ることができる。
【００２０】
本発明における超低重合度ＰＶＡ系樹脂の重合度は、アルカリ水溶液からのシリコンのエッチング抑制効果を適度に持ち、添加量によりエッチング程度をコントロールすることが可能という点から、１２０以下が好ましく、２０〜４０がより好ましい。前記重合度は、ＪＩＳ  Ｋ  ６７２６（１９９４）に記載の方法に従って測定される。また、同様の理由から、カルボキシル基変性ＰＶＡ系樹脂の変性度は、１０％以上が好ましく、１０〜３０％がより好ましい。これらのＰＶＡ系樹脂は、１種単独でもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２１】
本発明の超低重合度ＰＶＡ系樹脂の製法としては、特に限定されず、公知の方法を使用できる。例えば、イソプロピルアルコール等連鎖移動定数の大きい重合溶媒を用いる公知の方法（例えば、特開昭５１−８７５９４号公報に記載の方法）等を利用することができる。
【００２２】
また、本発明のカルボキシル基変性ＰＶＡ系樹脂の製法としては、特に限定されず、公知の方法を使用できる。例えば、カルボキシル基含有ビニルモノマーとビニルエステル系モノマーを、重合触媒を用いて共重合させた後、公知の方法によってケン化して得ることができる。
【００２３】
前記カルボキシル基含有ビニルモノマーとしては、特に限定されないが、例えば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、桂皮酸等の炭素数３〜１５のモノカルボン酸；（無水）マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸等の炭素数４〜１５のジカルボン酸；マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエステル、イタコン酸モノアルキルエステル、シトラコン酸モノアルキルエステル等の前記ジカルボン酸のモノアルキル（炭素数１〜１８）エステル等のジカルボン酸モノエステル等が挙げられる。これらは、１種単独でもよく、２種以上を併用してもよい。これらのうち好ましくは、（メタ）アクリル酸、ジカルボン酸モノエステル、及びそれらの２種以上の混合物である。
【００２４】
前記ビニルエステルモノマーとしては、特に限定されないが、例えば、脂肪族ビニルエステル（炭素数４〜１５、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、イソプロペニルアセテート等）、不飽和カルボン酸多価（２〜３価又はそれ以上）アルコールエステル〔炭素数８〜２００、例えばエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、１，６ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、及びポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等〕、芳香族ビニルエステル（炭素数９〜１５、例えば、メチル−４−ビニルベンゾエート等）等が挙げられる。
【００２５】
カルボキシル基含有ビニルモノマーとビニルエステル系モノマーを共重合する方法としては、特に制限はなく、塊状重合、溶液重合、懸濁重合、分散重合、又はエマルジョン重合等の公知の方法を採用することができるが、通常は溶液重合が行われる。
【００２６】
溶液重合で用いられる溶媒としては、通常、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等の低級アルコール；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類等が挙げられ、工業的には、メタノールが好適に使用される。溶媒の使用量は、目的とする共重合体の重合度に合わせて、溶媒の連鎖移動定数を考慮して適宜選択すればよい。
【００２７】
本発明のエッチング液に用いるＰＶＡ系樹脂としては、重合度が１２０以下であるか、変性度１０％以上のカルボキシル基変性であれば、その他の制限はない。例えば、重合度が１２０以下であり、かつ変性度１０％以上のカルボキシル基変性ＰＶＡ系樹脂でも良く、その一部がスルホン酸変性したＰＶＡ系樹脂でも、カルボニル基変性したＰＶＡ系樹脂でも、エチレンオキサイド変性したＰＶＡ系樹脂でも、側鎖に１，２−ジオール構造単位を有するＰＶＡ系樹脂でもよい。
【００２８】
また、本発明に使用されるＰＶＡ系樹脂は、アルカリ水溶液に添加して使用するため、ケン化度については、特に制限はない。本発明に使用されるＰＶＡ系樹脂は、例えば、エッチング液の製造において、ポリビニルエステル系樹脂の状態で添加してもよい。
【００２９】
また、本発明のＰＶＡ系樹脂と共に、例えば、ＩＰＡ、エチレングリコール等、公知技術のエッチング液の成分の一部を併用してもよい。
【００３０】
本発明のエッチング液は、ベースとなるアルカリ成分を含有する。前記アルカリ成分としては、特に限定されないが、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムが試薬コストの面からは好ましい。さらに、本発明の効果を妨げない限り、例えば、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）等の他のアルカリ成分を使用してもよい。
【００３１】
エッチング液の連続使用における寿命や、試薬コストを考慮し、本発明のエッチング液において、アルカリ成分（好適には、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム）の濃度は、特に限定されないが、０．５〜１２重量％が好ましい。また、上記の点を考慮し、本発明のエッチング液において、ＰＶＡ系樹脂の濃度は、特に限定されないが、１．０重量％以下が好ましく、０．００００００１〜０．５重量％が特に好ましい。前記添加剤成分の濃度が低過ぎると、凹凸形状が形成されなくなる。添加剤成分の濃度が高くなり過ぎてもエッチング抑制効果が高くなり過ぎ、生産性良く低反射率のシリコン基板が得られなくなる等の問題が生じるおそれがある。
【００３２】
本発明の他の態様として、上記エッチング液製造用の添加剤液が挙げられる。前記エッチング液を簡単に製造するために、予め前記ＰＶＡ系樹脂（添加剤成分）を溶媒（例えば純水等）に高濃度に溶解させてテクスチャエッチング液用添加剤液を作製し、これを使用することができる。添加剤液の前記ＰＶＡ系樹脂（添加剤成分）の濃度は３０重量％以下が好ましく、１０重量％以下がより好ましい。前記ＰＶＡ系樹脂の濃度が高くなり過ぎると、粘度が高くなり取扱いが難しくなる等の問題が生じる。
【００３３】
前記エッチング液又は前記添加剤液を添加して製造されたエッチング液を使用し、シリコン基板の表面とエッチング液を反応させることで、シリコン基板の少なくとも片側表面に、微細な凹凸構造が形成されたシリコン基板を得ることができる。
【００３４】
本発明の他の態様として、前記エッチング液又は前記添加剤液を添加して製造されたエッチング液を、６０〜９５℃の範囲内でシリコン基板と反応させる工程を有するシリコン基板の製造方法が挙げられる。前記反応工程によって、基板面の少なくとも片側表面に凹凸構造が形成されたシリコン基板が得られる。
【００３５】
前記製造方法において使用するシリコン基板は、特に制限はないが、単結晶のシリコン基板を用いた方が高効率の太陽電池を得られることから好ましい。また、前記製造方法に使用するシリコン基板は、結晶シリコンインゴットから切り出されたスライス後の基板を用いることができるが、スライスによるダメージ層を予め酸又はアルカリ性のエッチング液で除去した基板等を用いてもよい。
【００３６】
前記反応工程において、前記エッチング液と、シリコン基板との反応温度は、特に限定されないが、基板面の少なくとも片側表面に均一な凹凸構造が形成できるため、通常６０〜９５℃であり、６５〜９０℃が好ましい。また、反応時間は、特に限定されないが、１〜５０分が好ましく、１〜２０分がより好ましく、１〜１５分がさらに好ましい。反応条件としては、６０〜９５℃で１〜５０分反応させるのがさらに好ましい。
【００３７】
前記反応工程は、前記条件でエッチング液中にシリコン基板を浸漬させる方法で行うのが、簡便な装置を使用して凹凸構造を形成できる点から好ましい。また、前記反応前にスライス時の砥粒や切削油等を洗浄により除去することが、再現性良く凹凸構造を形成できる点から好ましい。
【００３８】
さらに、反応工程では、温度と時間の制御の他に、エッチング液を基板表面に満遍なく反応させるため、前記シリコン基板を入れたキャリアを揺動させたり、エッチング液を撹拌させたり、オーバーフローで循環させたり、バブリングさせる等することが再現良く凹凸形状を形成できる点から好ましい。また、その他の方法として、シリコン基板の片面のみを前記エッチング液と反応させる装置を用いて、基板の片面にのみ凹凸構造の形成を行ってもよい。
【００３９】
前記基板面の少なくとも片側表面に凹凸構造が形成されたシリコン基板を用いた太陽電池の製法としては、一般的な結晶系太陽電池の製法を使用することができ、少なくとも受光面側に本発明による前記凹凸構造形成面が向けられていることが、高効率太陽電池を安定して得るために好ましい。
【００４０】
本発明のシリコン基板の波長４００〜１１００ｎｍの平均反射率は、２０．０％以下が好ましく、１８．０％以下がより好ましい。平均反射率の測定方法は、後記する実施例に記載のとおりである。
【００４１】
本発明は、本発明の効果を奏する限り、本発明の技術的範囲内において、上記の構成を種々組み合わせた態様を含む。
【実施例】
【００４２】
次に、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではなく、多くの変形が本発明の技術的思想内で当分野において通常の知識を有する者により可能である。
【００４３】
［実施例１］
水酸化ナトリウム２５重量％水溶液と、超低重合度ＰＶＡ（重合度１２０）０．１重量％の添加剤液と、水とを混合して、各成分の濃度が下記表１記載の値となるようにエッチング液を製造した。
【００４４】
［実施例２］
水酸化ナトリウム２５重量％水溶液と、カルボキシル基変性ＰＶＡ（変性度１０％、重合度５００）０．１重量％の添加剤液と、水とを混合して、各成分の濃度が下記表１記載の値となるようにエッチング液を製造した。
【００４５】
［比較例１］
特許文献３の実施例に記載されたエッチング液を製造した。具体的には、水酸化ナトリウム２５重量％水溶液と、炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ３）２５重量％水溶液と、通常のＰＶＡ（重合度５００）０．１重量％の添加剤液と、水とを混合して、各成分の濃度が下記表１記載の値となるようにエッチング液を製造した。
【００４６】
［試験例１］
下記表１に示す各実施例及び比較例のエッチング液に、下記表１記載の条件でシリコン基板を浸漬してシリコン表面をアルカリエッチングすることにより、シリコン基板を製造した。
【００４７】
下記表１に示す各実施例及び比較例のエッチング液を用いて得られたシリコン基板について、それぞれの反射率を、分光反射率測定機（商品名：MPC-3100/UV-3150、島津製作所製）を用いて、反射率測定モードで３００〜１２００ｎｍの波長の反射率を測定した。波長３００〜１２００ｎｍの測定結果を図１に示す。下記表１の平均反射率は、波長４００〜１１００ｎｍの平均反射率である。
【００４８】
【表１】
2015088710.tif 000002
【００４９】
得られた各シリコン基板のレーザー顕微鏡写真を、図２〜図４に示す。図２から、超低重合度ＰＶＡ（重合度１２０）の添加により、均一で微細な凹凸構造が形成されていることが分かる。図３から、カルボキシル基変性ＰＶＡ（変性度１０％）の添加により、均一で微細な凹凸構造が形成されていることが分かる。また、実施例のシリコン基板は、比較例に比べ平均反射率も低い。図４から、炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ３）と、通常のＰＶＡ（重合度５００）を添加しても特許文献３の実施結果のような凹凸構造は形成されず、平均反射率も比較的高い面しか得られなかった。
【００５０】
上記結果から、本発明のエッチング液を使用することで、シリコン基板の表面に効果的に凹凸構造を形成できることが確認できた。
【産業上の利用可能性】
【００５１】
本発明のエッチング液は、シリコン基板の製造に有用である。特に、該エッチング液は、シリコン基板面の少なくとも片側表面に均一性に優れた微細な凹凸部を容易に安定して形成する際に有用である。
【図１】
2015088710.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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