(57)【要約】【課題】視認性およびセキュリティ性の高いセキュリティカードを安価で簡単に製造可能なカード用原版の製造方法等の提供を主目的とする。【解決手段】金属基板の一方の表面上に平面部およびレンチキュラーレンズ形成部を有し、上記平面部の一部にレリーフ形成部が形成されており、上記レンチキュラーレンズ形成部が、ストライプ状に配置された複数の半円柱形レンズ転写部と、隣り合う上記半円柱形レンズ転写部の間に形成される隔壁部とを有するカード用原版の製造方法であって、上記金属基板の一方の表面上に、エッチングにより上記レンチキュラーレンズ形成部を形成するレンズ形成部形成工程と、上記金属基板の上記平面部において、同一箇所に少なくとも２回以上のフォトリソグラフィ処理を行うことにより、上記レリーフ形成部を形成するレリーフ形成部形成工程と、を有することを特徴とするカード用原版の製造方法。【選択図】図１
2015074190.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属基板の一方の表面上に平面部およびレンチキュラーレンズ形成部を有し、
前記平面部の一部にレリーフ形成部が形成されており、
前記レンチキュラーレンズ形成部が、ストライプ状に配置された複数の半円柱形レンズ転写部と、隣り合う前記半円柱形レンズ転写部の間に形成される隔壁部とを有するセキュリティカード用転写原版の製造方法であって、
前記金属基板の一方の表面上に、エッチングにより前記レンチキュラーレンズ形成部を形成するレンズ形成部形成工程と、
前記金属基板の前記平面部において、同一箇所に少なくとも２回以上のフォトリソグラフィ処理を行うことにより、前記レリーフ形成部を形成するレリーフ形成部形成工程と、
を有することを特徴とするセキュリティカード用転写原版の製造方法。
【請求項２】
前記レリーフ形成部形成工程において、前記フォトリソグラフィ処理の実施順に従い、前記金属基板上にパターン形成されるレジスト層の開口部が小さくなることを特徴とする請求項１に記載のセキュリティカード用転写原版の製造方法。
【請求項３】
前記レンズ形成部形成工程が、前記レリーフ形成部形成工程におけるいずれか１回の前記フォトリソグラフィ処理と同時に行われることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のセキュリティカード用転写原版の製造方法。
【請求項４】
少なくとも前記レリーフ形成部形成工程の後に研磨工程を有することを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載のセキュリティカード用転写原版の製造方法。
【請求項５】
カード基材の一方の表面にシート基材を積層し、前記シート基材の表面にセキュリティカード用転写原版の転写面を転写して、
一部にレリーフ部を有するシート平坦部と、
ストライプ状に配置された複数の半円柱形レンズ、および隣接する前記半円柱形レンズの間に位置するレンズ間溝部を有するレンチキュラーレンズと、
を有するレンチキュラーレンズシートを形成する転写工程と、
前記半円柱形レンズを介して、前記カード基材に異なる２方向からレーザー光を照射して、前記半円柱形レンズと平面視上に重なるように前記カード基材に画像部を形成する印字工程と、を有するセキュリティカードの製造方法であって、
前記セキュリティカード用転写原版が、金属基板の一方の表面上に平面部およびレンチキュラーレンズ形成部を有し、
前記平面部の一部にレリーフ形成部が形成されており、
前記レンチキュラーレンズ形成部が、ストライプ状に配置された複数の半円柱形レンズ転写部と、隣り合う前記半円柱形レンズ転写部の間に形成される隔壁部とを有するものであって、
前記レンチキュラーレンズ形成部が、前記金属基板の一方の表面をエッチングすることにより形成されたものであり、
前記レリーフ形成部が、前記金属基板の前記平面部において、同一箇所に少なくとも２回以上のフォトリソグラフィ処理を行うことにより形成されたものであることを特徴とするセキュリティカードの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、視認性およびセキュリティ性の高いセキュリティカードを安価で簡単に製造可能なセキュリティカード用転写原版の製造方法、およびセキュリティカードの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
身分証明証や各種会員証、クレジットカード等のセキュリティカード（以下、カードと略する場合がある。）において、カードの所有者とカード使用者との同一性を確認する、いわゆる個人識別機能として、カード表面に所有者の個人情報や写真等の画像が表示されたものが一般的に用いられている。また、近年では、これらの画像が改ざんおよび偽造されることを防止するために、画像表面に偽造防止機能を付与したセキュリティカードが用いられている。
【０００３】
偽造防止機能を付与する方法としては、例えば、カードの表面にレンチキュラーレンズを設ける方法がある。レンチキュラーレンズとは、断面が凸レンズ状であり側面が略半円柱の直線形状のレンズ（以下、上記レンズを半円柱形レンズと称する。）の複数本が、平行で等間隔に配置された形状を有するものであり、凸レンズ状の断面を有する方向にのみにレンズの集光機能を有するものである。セキュリティカードにおいては、表示される個人情報等の画像上にレンチキュラーレンズを設けることにより、カードの観察者に対し観察角度に応じて表示される画像を選択してレンチキュラーレンズを介して目視させることができるため、視認性の高いカードとすることができる（特許文献１〜３参照）。
【０００４】
しかし、このようなセキュリティカードを多品種小ロットで製造する場合、例えばレンチキュラーレンズのみを金型ロールで別途形成した後にカード表面に貼り付ける方法等が用いられており、レンチキュラーレンズ付きのセキュリティカードを安価で簡単に精度よく製造できる転写原版については知られていなかった。
また、このようなセキュリティカードでは、外観上の特徴を持たせるためにレンチキュラーレンズの設けられていない領域（以下、シート平坦部と略する場合がある。）に、顔料インク、ＵＶインク等を用いて文字、記号、図形等の模様が描画される。しかし、上記模様を描画する場合、多色のインクの使用や描画工程の回数を増やす必要があり、カードを安価に製造することが難しい。一方で、上記模様を精巧で複雑なものとすることができれば、外観上の特徴のみならず偽造防止効果を付与することができるため、上記模様によるカードのセキュリティ性の向上が期待されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平９−３１１２０４号公報
【特許文献２】特開２０００−２９８３１９号公報
【特許文献３】特開２００８−７７７１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、視認性およびセキュリティ性の高いセキュリティカードを安価で簡単に製造可能なセキュリティカード用転写原版（以下、カード用原版と略する場合がある。）の製造方法、およびセキュリティカードの製造方法を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明は、金属基板の一方の表面上に平面部およびレンチキュラーレンズ形成部を有し、上記平面部の一部にレリーフ形成部が形成されており、上記レンチキュラーレンズ形成部が、ストライプ状に配置された複数の半円柱形レンズ転写部と、隣り合う上記半円柱形レンズ転写部の間に形成される隔壁部とを有するカード用原版の製造方法であって、上記金属基板の一方の表面上に、エッチングにより上記レンチキュラーレンズ形成部を形成するレンズ形成部形成工程と、上記金属基板の上記平面部において、同一箇所に少なくとも２回以上のフォトリソグラフィ処理を行うことにより、上記レリーフ形成部を形成するレリーフ形成部形成工程と、を有することを特徴とするカード用原版の製造方法を提供する。
【０００８】
本発明によれば、レリーフ形成部形成工程として、金属基板の平面部において同一箇所に少なくとも２回以上のフォトリソグラフィ処理を行うことにより、平面部上に精巧で複雑な形状を有するレリーフ形成部を形成することができる。これにより、本発明により得られるカード用原版を用いてカードを製造する際に、カード表面にレリーフ形成部の転写形状であるレリーフ部を形成することができ、上記レリーフ部においては精巧で複雑な模様が表示されるため、高いセキュリティ性を有することができる。
また、レンズ形成部形成工程により、上記レリーフ形成部と同一面上の所望の位置にレンチキュラーレンズ形成部を形成することができる。これにより、カードを製造する際に、カード表面にレンチキュラーレンズ形成部の転写形状であるレンチキュラーレンズを形成することができ、上記レンチキュラーレンズにおいては観察角度に応じて画像を切り替えて表示することが可能となるため、高い視認性を有することができる。
すなわち、視認性およびセキュリティ性の高いカードを安価で簡単に一括製造可能なカード用原版を製造することができる。
【０００９】
上記発明においては、上記レリーフ形成部形成工程において、上記フォトリソグラフィ処理の実施順に従い、上記金属基板上にパターン形成されるレジスト層の開口部が小さくなることが好ましい。フォトリソグラフィ処理の実施順に従って形成される凹形状を段階的に小さくすることができるため、より精巧で複雑なレリーフ形成部を形成することができるからである。
【００１０】
上記発明においては、上記レンズ形成部形成工程が、上記レリーフ形成部形成工程におけるいずれか１回の上記フォトリソグラフィ処理と同時に行われることが好ましい。レリーフ形成部を形成するための開口部とレンチキュラーレンズ形成部を形成するための開口部とを同一のレジスト層に設け、フォトリソグラフィ処理を１回行うことにより、レリーフ形成部の一部とレンチキュラーレンズ形成部とを同時に形成することができ、製造工程の簡略化が図れるからである。
【００１１】
上記発明においては、少なくとも上記レリーフ形成部形成工程の後に研磨工程を有することが好ましい。カード用原版の表面を光沢面とすることができ、また、レリーフ部の最端の角および隔壁部の頂部が研磨されることにより曲率を有する形状となるからである。
【００１２】
また、本発明は、カード基材の一方の表面にシート基材を積層し、上記シート基材の表面にカード用原版の転写面を転写して、一部にレリーフ部を有するシート平坦部と、ストライプ状に配置された複数の半円柱形レンズ、および隣接する上記半円柱形レンズの間に位置するレンズ間溝部を有するレンチキュラーレンズと、を有するレンチキュラーレンズシートを形成する転写工程と、上記半円柱形レンズを介して、上記カード基材に異なる２方向からレーザー光を照射して、上記半円柱形レンズと平面視上に重なるように上記カード基材に画像部を形成する印字工程と、を有するセキュリティカードの製造方法であって、上記カード用原版が、金属基板の一方の表面上に平面部およびレンチキュラーレンズ形成部を有し、上記平面部の一部にレリーフ形成部が形成されており、上記レンチキュラーレンズ形成部が、ストライプ状に配置された複数の半円柱形レンズ転写部と、隣り合う上記半円柱形レンズ転写部の間に形成される隔壁部とを有するものであって、上記レンチキュラーレンズ形成部が、上記金属基板の一方の表面をエッチングすることにより形成されたものであり、上記レリーフ形成部が、上記金属基板の上記平面部において、同一箇所に少なくとも２回以上のフォトリソグラフィ処理を行うことにより形成されたものであることを特徴とするセキュリティカードの製造方法を提供する。
【００１３】
本発明によれば、使用するカード用原版は、平面部に２回以上のフォトリソグラフィ処理により形成されたレリーフ形成部を有することから、転写工程においてシート平坦部上に上記レリーフ形成部の反転形状であるレリーフ部を形成することができる。これによりインク等を用いて模様を描画するよりも、精巧で複雑な模様をカード表面に付することができ、カードのセキュリティ性を高めることができる。また、上記カード用原版は、エッチングにより形成されたレンチキュラーレンズ形成部を備えることから、転写工程において形状の寸法精度および配置精度の高いレンチキュラーレンズが形成されるため、印字工程においてカード基材に画像部を形成する際に、所望の位置に正確に印字が可能となる。これにより、レンチキュラーレンズを介して上記画像部を観察する際に、観察角度に応じて異なる画像情報を明瞭に表示することができ、視認性の高いものとすることができる。
すなわち、レンチキュラーレンズおよびレリーフ部を一括形成することができ、視認性およびセキュリティ性に優れたセキュリティカードを安価で簡単に製造することができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明においては、カード表面にレンチキュラーレンズおよびレリーフ部が転写形成されることにより、視認性およびセキュリティ性の高いセキュリティカードを安価で簡単に製造することが可能なカード用原版が得られるといった効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明のセキュリティカード用転写原版の製造方法の一例を示す工程図である。
【図２】本発明により得られるセキュリティカード用転写原版の一例を示す概略平面図である。
【図３】レリーフ形成部形成工程において形成される第２凹部の形状の一例を示す概略断面図である。
【図４】本発明におけるレリーフ形成部の形状の一例を示す概略平面図である。
【図５】本発明におけるレンチキュラーレンズ形成部の形状の一例を示す概略断面図である。
【図６】本発明における隔壁部の断面形状を説明する説明図である。
【図７】本発明のセキュリティカードの製造方法の一例を示す工程図である。
【図８】本発明により得られるセキュリティカードの一例を示す概略平面図である。
【図９】図８のＸ−Ｘ線断面図である。
【図１０】セキュリティカードの視認性を説明するための説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明のカード用原版の製造方法、およびセキュリティカードの製造方法について詳細に説明する。
【００１７】
Ａ．セキュリティカード用転写原版（カード用原版）の製造方法
まず、本発明のカード用原版の製造方法について説明する。本発明のカード用原版の製造方法は、金属基板の一方の表面上に平面部およびレンチキュラーレンズ形成部を有し、上記平面部の一部にレリーフ形成部が形成されており、上記レンチキュラーレンズ形成部が、ストライプ状に配置された複数の半円柱形レンズ転写部と、隣り合う上記半円柱形レンズ転写部の間に形成される隔壁部とを有するカード用原版の製造方法であって、上記金属基板の一方の表面上に、エッチングにより上記レンチキュラーレンズ形成部を形成するレンズ形成部形成工程と、上記金属基板の上記平面部において、同一箇所に少なくとも２回以上のフォトリソグラフィ処理を行うことにより、上記レリーフ形成部を形成するレリーフ形成部形成工程と、を有することを特徴とする。
【００１８】
本発明のカード用原版の製造方法について、図を例示して説明する。図１は本発明のカード用原版の製造方法の一例を示す工程図である。また、図２は本発明により得られるカード用原版の一例を示す概略平面図である。
図１に示すように、レリーフ形成部形成工程として、金属基板１の一方の表面上にレジスト膜１１ａを設け（図１（ａ））、マスク３１を介して露光Ｌ１後（図１（ｂ））、現像することにより複数個の第１開口部６１がパターニングされた第１レジスト層１１を成膜する（図１（ｃ））。次に、第１レジスト層１１をマスクとして金属基板１をエッチングし、第１レジスト層１１を剥離することにより複数個の第１凹部６ａを形成する（図１（ｄ））。
続いて、金属基板１の第１凹部６ａを有する面上に第２レジスト膜１２ａを設け（図１（ｅ））、マスク３２を介して露光Ｌ２後（図１（ｆ））、現像することにより第１凹部６ａ上に第２開口部６２がパターンニングされた第２レジスト層１２を成膜する（図１（ｇ））。このとき第２レジスト層１２に第２開口部６２の他に、ストライプ状に配置された複数のレンズ形成部用開口部６３を設けることで、第２レジスト層１２はレンズ形成部用レジスト層としての機能も有することとなる。
次に、第２レジスト層１２をマスクとして金属基板１をエッチングし、第２レジスト層１２を剥離することにより、第１凹部６ａ上に第２凹部６ｂが形成されたレリーフ形成部６、およびレンチキュラーレンズ形成部３を形成する（図１（ｈ））。レンチキュラーレンズ形成部３は、ストライプ状に配置された複数の半円柱形レンズ転写部４と隔壁部５とを有する。また、レンチキュラーレンズ形成部３が形成された金属基板１の表面のうち、レンチキュラーレンズ形成部３以外の領域が平面部２となる。すなわち、レリーフ形成部６は平面部２の一部に形成されることとなる。これにより目的のカード用原版１０を製造することができる。
なお、図１（ａ）〜（ｄ）を第１フォトリソグラフィ処理、図１（ｅ）〜（ｈ）を第２フォトリソグラフィ処理とする。また、図１（ｈ）は図２のＸ−Ｘ線断面図に相当する。
【００１９】
図１では、フォトリソグラフィ処理を２回行った場合を示したが、３回目以降のフォトリソグラフィ処理についても同様の方法により行うことができる。
また、図１ではレリーフ形成部形成工程における第２フォトリソグラフィ処理とレンズ形成部形成工程とを同時に実施したが、本発明は本実施態様に限定されるものではない。例えば、レンズ形成部形成工程をレリーフ形成部形成工程における第１フォトリソグラフィ処理と同時、もしくは第３フォトリソグラフィ処理以降のいずれかの処理と同時に実施してもよい。
また、先にレンズ形成部形成工程を行い金属基板上にレンチキュラーレンズ形成部を形成し、続いてレリーフ形成部形成工程を実施してもよい。さらに、レリーフ形成部形成工程後に別途レンズ形成部形成工程を実施してもよい。加えて、図１における第１フォトリソグラフィ処理を第２フォトリソグラフィ処理として実施し、第２フォトリソグラフィ処理を第１フォトリソグラフィ処理として実施してもよい。
【００２０】
本発明によれば、レリーフ形成部形成工程として、金属基板の平面部の同一箇所に少なくとも２回以上のフォトリソグラフィ処理を行うことにより、平面部に精巧で複雑な形状を有するレリーフ形成部を形成することができる。また、レンズ形成部形成工程として、金属基板の表面をエッチングすることにより、半円柱形レンズ転写部および隔壁部を有するレンチキュラーレンズ形成部を所望の位置に形成することができる。
これにより、金属基板の同一平面上に、レンチキュラーレンズ形成部と、一部にレリーフ形成部が形成された平面部とを有するカード用原版を、簡単且つ安価で製造することができる。
【００２１】
また、本発明により得られるカード用原版を用いることで、カード表面に上記レリーフ形成部の転写形状であるレリーフ部と、上記レンチキュラーレンズ形成部の転写形状であるレンチキュラーレンズとを一括形成することができる。これにより、上記レリーフ部においては、精巧で複雑な模様が表示されるため高いセキュリティ性を有することができ、上記レンチキュラーレンズにおいては、観察角度に応じてカード基材の有する画像を切り替えて表示が可能となるため、高い視認性を有することができる。
このように、本発明により視認性およびセキュリティ性の高いカードを安価で簡単に一括製造するためのカード用原版を製造することができる。
【００２２】
なお、本発明において、「平面部の一部にレリーフ形成部が形成される」とは、平面部の面積１００％に対してレリーフ形成部の面積が０．１％〜３０％の範囲内、好ましくは１％〜１０％の範囲内を占めることをいう。平面部の面積とは、金属基板の一方の表面の面積からレンチキュラーレンズ形成部の面積を除いたものである。
【００２３】
また、本発明において「同一箇所に少なくとも２回以上のフォトリソグラフィ処理を行う」とは、金属基板上の所望の位置に１回目のフォトリソグラフィ処理を行い形成された第１凹部に対して、２回目以降のフォトリソグラフィ処理を行うことをいう。
【００２４】
本発明のカード用原版の製造方法は、少なくともレンズ形成部形成工程およびレリーフ形成部形成工程を有するものである。
以下、本発明カード用原版の製造方法について説明する。
【００２５】
１．レリーフ形成部形成工程
本発明におけるレリーフ形成部形成工程は、金属基板の平面部において、同一箇所に少なくとも２回以上のフォトリソグラフィ処理を行うことにより、レリーフ形成部を形成する工程である。
【００２６】
（１）金属基板
本工程で用いられる金属基板は、単一の金属から形成される単層構造であることが好ましい。金属基板の表面上にめっき等が施された多層構造である場合、カードを転写形成する際にレリーフ形成部およびレンチキュラーレンズ形成部に応力が集中して掛かりやすくなり、表面のめっき等が剥離する場合があるからである。
金属基板の金属としては、特に限定されるものではないが、例えばステンレス鋼、鉄、銅、アルミニウム、チタン、チタン合金、ニッケル、ニッケル合金、ニオブ、タンタル、ジルコニウム、コバルト合金、クロム合金、モリブデン合金、タングステン合金等の金属が好ましい。中でも耐久性に優れており、エッチング等の加工がしやすく安価である点からステンレス鋼が好ましい。
【００２７】
金属基板の厚さとしては、所望の形状のレンチキュラーレンズ形成部およびレリーフ形成部を形成することができ、本工程を複数回行っても貫通等を生じない厚さであることが好ましい。また、金属基板にマスクを介して紫外線等の露光を行いパターニングする際に、金属基板とマスクとの真空密着により安定したパターニングを行う必要であることから、金属基板は真空密着を安定的に行うことが可能な厚さであることが好ましい。具体的には、目的とするカード用原版の厚さをその範囲に含む０．０５ｍｍ〜１０ｍｍの範囲内の大きさであることが好ましい。
金属基板の厚さが上記の範囲より薄いと、金属基板に対してマスクを真空密着できない場合や、所望の深さのレンチキュラーレンズ形成部およびレリーフ形成部を得ることができない場合がある。また、カード製造時にカード用原版が変形しやすく、耐久性が不足する場合がある。
金属基板の大きさ（面積）としては、所望のセキュリティカードの大きさ等に応じて適宜設定することができる。
【００２８】
（２）レリーフ形成部形成工程
本工程は、少なくとも２回以上のフォトリソグラフィ処理を行う工程である。
以下、１回目のフォトリソグラフィ処理を「第１フォトリソグラフィ処理」、２回目のフォトリソグラフィ処理を「第２フォトリソグラフィ処理」として説明する。
【００２９】
（ａ）第１フォトリソグラフィ処理
本工程における第１フォトリソグラフィ処理の方法としては、例えば、少なくとも平面部の所望の位置に第１開口部が配置されるように第１レジスト層をパターニングし、上記第１レジスト層を介して金属基板のエッチングを行う方法が用いられる。上記方法により、第１開口部から露出した金属基板がエッチングされて、第１凹部を形成することができる。
【００３０】
（ｉ）第１レジスト層
本処理で用いられる第１レジスト層の材料としては、感光性を有するものであればよく、ポジ型でもネガ型でもよい。中でも液体レジストおよびドライフィルムレジストを用いることが好ましく、特に液体レジストを用いることが好ましい。本発明により得られるカード用原版を用いて転写形成されるレリーフ部の解像度が安定して得られるからである。また、第１レジスト層のパターニングが未処理の金属基板に対して行われる場合、液体レジストを用いることで解像度の高いパターニングをすることが可能であるからである。
液体レジストおよびドライフィルムレジストの種類としては、一般的にフォトリソグラフィで用いられるものが挙げられる。
また、第１レジスト層の材料が液体である場合、金属基板上に第１レジスト層の材料の材料を塗布してレジスト膜を成膜する方法として、スピンコート法、ブレードコート法、ディッピング法等の一般的な方法を用いることができる。
【００３１】
本処理におけるパターン形成方法としては、所望の位置に第１開口部を形成可能な方法であればよく、例えばフォトリソグラフィ法、印刷法等を用いることができる。中でも、高精度でパターンを形成することができることからフォトリソグラフィ法を用いることが好ましい。
本処理における露光条件および現像条件については、一般的なフォトリソグラフィにおける条件を用いることができる。
【００３２】
本処理において形成される第１レジスト層の厚さは、エッチングにより所望の形状の第１凹部を形成できる厚さであればよく、例えば３μｍ〜２５μｍ程度であることが好ましい。第１レジスト層の厚さが上記範囲よりも大きいと、エッチングの際にレジスト層のパターン間にエッチング液が十分に回り込まず、第１凹部が所望の深さとならない場合があるからである。
【００３３】
上記第１レジスト層に設けられる第１開口部の大きさとしては、目的とするレリーフ形成部の形状に応じて適宜設定することができ、例えば５０μｍ×５０μｍ〜５０００μｍ×５０００μｍ程度であることが好ましい。また、第１開口部の数は、少なくとも１つ以上形成されていることが好ましく、その数は適宜設定することができる。
【００３４】
（ｉｉ）第１フォトリソグラフィ処理
本処理で用いられるエッチング方法としては、ウェットエッチングであることが好ましい。ドライエッチングと比較して加工効率が高く、様々なデザインに対し柔軟に形成することができるからである。中でも、等方性のウェットエッチングであることが好ましい。エッチング箇所の底部が曲面を有する形状となるからである。
ウェットエッチングの方法としては、第１レジスト層を有する金属基板上にエッチング液を塗布する方法（シャワーエッチング）でもよく、エッチング液に第１レジスト層を有する金属基板を浸漬させる方法（ディッピングエッチング）でもよい。
【００３５】
本処理で用いられるエッチング液としては、特に限定されず、金属基板の材料に応じて適宜設定することができる。例えば金属基板にステンレス鋼を用いる場合は、塩化第二銅液、塩化第二鉄液、塩酸−硝酸−リン酸混合液等を用いることが好ましい。
エッチングの時間としては、金属基板の材料、エッチング方法、エッチング液、第１凹部の大きさ等に応じて適宜設定することができる。
【００３６】
本処理により形成される第１凹部は、底部が曲面となることが好ましい。また、第１凹部の大きさとしては、フォトリソグラフィ処理の回数や目的とするレリーフ形成部の形状に応じて適宜設定されるものであるが、通常、第１開口部と同様の大きさとなる。
第１凹部の大きさの測定方法としては、光干渉式表面形状測定装置（例えば、菱化システム社製  ＶｅｒｔＳｃａｎ２．０、Ｖｅｅｃｏ社製  Ｗｙｋｏ  ＮＴ９０００シリーズ等）を用いて、非接触法により測定することができる。具体的には、光干渉式表面形状測定装置の測定ステージ上に第１凹部を測定ヘッドに向けて載置し、上記第１凹部の表面形状データを３次元座標データの集合の形式で非接触に取得し、上記表面形状データを元に算出することができる。
なお、以降の説明において特段の記載が無い限り、各部位の測定方法については、該部位を測定ヘッドに向けて載置し、上述の方法と同様にして測定されたものとする。
【００３７】
第１凹部の深さとしては、フォトリソグラフィ処理の回数や目的とするレリーフ形成部の形状に応じて適宜設定されるものであるが、例えば２０μｍ〜５００μｍの範囲内であることが好ましく、中でも５０μｍ〜２５０μｍの範囲内であることが好ましい。第１凹部の深さを上記範囲よりも大きいものとすると、２回目以降のフォトリソグラフィ処理においてエッチング可能な深さの制御が難しくなる可能性がある。なお、第１凹部の深さとは金属基板表面から第１凹部の最下点までの距離をいい、図１（ｄ）においてＴ１で示される部分である。
【００３８】
（ｂ）第２フォトリソグラフィ処理
本工程における第２フォトリソグラフィ処理の方法としては、例えば、上述の第１フォトリソグラフィ処理により形成された第１凹部上に、第２開口部が配置されるように第２レジスト層をパターニングし、上記第２レジスト層を介して金属基板のエッチングを行う方法が用いられる。本処理により、第２開口部から露出した金属基板がエッチングされて、第２凹部を形成することができる。
【００３９】
（ｉ）第２レジスト層
本処理で用いられる第２レジスト層の材料としては、「（ａ）第１フォトリソグラフィ処理」の項で説明した材料と同様とすることができ、第２レジスト層と上記第１レジスト層とが同一の材料であってもよく、異なる材料であってもよい。中でも第２レジスト層はドライフィルムレジストを用いることが好ましい。第１凹部の形状に対してレジスト層を十分に密着させることができ、解像度の高いパターニングをすることが可能だからである。
また、第２レジスト層の材料が液体である場合、成膜方法については、第１レジスト層の成膜方法と同様の方法を用いることができる。
【００４０】
本処理におけるパターン形成方法としては、上述した第１凹部の所望の位置に第２開口部を形成することが可能な方法であればよく、「（ａ）第１フォトリソグラフィ処理」の項で説明した方法を用いることができる。また、本工程における露光条件および現像条件については、一般的なフォトリソグラフィにおける条件を用いることができる。
【００４１】
本工程において形成される第２レジスト層の厚さとしては、第２凹部が所望の形状となるまでエッチングできる厚さであれば特に限定されるものではなく、例えば「（ａ）第１フォトリソグラフィ処理」の項で説明した第１レジスト層の厚さと同様とすることができる。
【００４２】
第２レジスト層に設けられる第２開口部の大きさとしては、「（ａ）第１フォトリソグラフィ処理」における第１開口部よりも大きくてもよく小さくてもよいが、第１凹部の曲面上に第２凹部を形成することが可能であるという点から小さいことが好ましい。第２開口部が第１開口部よりも大きいと、第１凹部の形状が本処理により同時にエッチングされるため、明瞭な凹凸形状として残りにくい場合がある。
第２開口部の大きさとしては、特に限定されないが、第１開口部の大きさとの関係（面積比）において、第１開口部の大きさが第２開口部の大きさ（１００％）に対して１００％〜２５００％程度となる関係を有することが可能な大きさであることが好ましい。
【００４３】
第２開口部は、「（ａ）第１フォトリソグラフィ処理」により形成された第１凹部の１つ当たりに対して少なくとも１つ配置されるものであり、配置態様は特に限定されない。例えば第１凹部の１つ当たりに対して第２開口部が１個配置される場合、上記第２開口部の配置態様としては、第１凹部の中心と第２開口部の中心とが一致するように配置されていても良く、双方の中心が重ならない位置に配置されていてもよい。第２開口部の中心を第１凹部の中心と一致するようにして配置される場合、例えば図３（ａ）で示すような第２凹部６ｂを形成することができ、一方、第２開口部の中心が第１凹部の中心と重ならない位置に配置される場合は、例えば図３（ｂ）で示すような第２凹部６ｂを形成することができる。
また、第２開口部は、第１凹部の１つ当たりに対して複数個が配置されていてもよい。第２凹部を複雑な凹凸形状とすることができるからである。１つの第１凹部に対して２つの第２開口部を有する場合、例えば図３（ｃ）で示すように一部が凸形状となった第２凹部６ｂを形成することができる。
なお、図３は本処理において形成される第２凹部の形状の一例を示す概略断面図であり、図３において第１凹部の符号は省略するものとする。
【００４４】
（ｉｉ）第２フォトリソグラフィ処理
本処理で用いられるエッチング方法およびエッチング液については、「（ａ）第１フォトリソグラフィ処理」の項で説明した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
また、本処理におけるエッチング時間については、第２凹部を所望の形状とすることができる時間であればよく、適宜設定することができる。
【００４５】
本処理により形成される第２凹部は、その底部の少なくとも一部が曲面を有することが好ましい。
第２凹部の大きさとしては、第２開口部の大きさに従うものであり、第１凹部の大きさよりも大きくてもよく小さくてもよいが、中でも小さいことが好ましい。第１凹部の大きさに対する第２凹部の大きさの割合は、「（ｉ）第２レジスト層」の項で説明した第１開口部の大きさに対する第２開口部の大きさの割合（第１開口部の大きさと第２開口部の大きさとの関係）と同様となる。
【００４６】
また、第２凹部の深さとしては、フォトリソグラフィ処理の回数や目的とするレリーフ形成部の形状に応じて適宜設定されるものであるが、例えば２０μｍ〜３００μｍの範囲内であることが好ましい。第２凹部の深さを上記範囲内とすることにより、３回目以降のフォトリソグラフィ処理を行うための金属基板の厚さを残すことができ、フォトリソグラフィ処理の回数を増やしてレリーフ形成部の設計の自由度を上げることができる。中でも第２凹部の深さが４５μｍ以上であることが好ましい。第２凹部の深さを上記範囲内とすることにより、第２凹部と第１凹部との段差が明瞭となることから、本発明におけるカード用原版により凹凸が明瞭な視認性の高いレリーフ部を転写形成することが可能となるからである。
なお、第２凹部の深さとは、第１凹部の最下点から第２凹部の最下点までの距離をいう。すなわち、金属基板の表面から第２凹部の最下点までの距離（図３中のＴ２）から、第１凹部（図１（ｄ）中のＴ１）の深さを引いた値である。
【００４７】
第２凹部の平面視上の形状については、第１凹部と同様であってもよく、異なる形状であってもよく、目的とするレリーフ形成部の形状に応じて適宜設計することができる。
【００４８】
（ｃ）レリーフ形成部形成工程
本工程は、同一箇所に少なくとも２回以上のフォトリソグラフィ処理を行うものであるが、その回数の上限は特に限定されるものではなく、金属基板を貫通せず、得られるカード用原版の強度が損なわれない程度に、所望のレリーフ形成部の形状に応じて適宜設定することができる。
３回目以降のフォトリソグラフィ処理において用いられるレジスト層、およびエッチング液等については、「（ａ）第１フォトリソグラフィ処理」の項で説明したものと同様とすることができる。
【００４９】
本工程において複数回のフォトリソグラフィ処理が実施される場合、フォトリソグラフィ処理の実施順に従い、金属基板上にパターン形成されるレジスト層の開口部が小さくなることが好ましい。フォトリソグラフィ処理の実施順に従って形成される凹形状を小さいものとすることができ、より精巧で複雑なレリーフ形成部を得ることができるからである。
【００５０】
本工程においては、レリーフ形成部を形成すると共に、平面部に文字、記号、図柄等を有する部位（以下、文字図柄転写部と称する場合がある。）が形成されることが好ましい。
従来、文字図柄転写部を転写原版上に形成する場合、レーザー法により基板へ直接形成する方法が用いられるが、この方法では、レーザー光が照射された箇所の照射跡の残存や溶融物の飛散が生じることや、レーザー光の照射により未照射領域も加熱されることで、文字図柄転写部の形状が変形するといった問題がある。
そこで、本工程において文字図柄転写部もエッチングにより同時に形成することにより、上記の問題を生じることなく、より精細な形状とすることが可能となる。また、本発明により得られるカード用原版を用いてカードを製造する際に、エッチングにより形成された文字図柄転写部はその形状を損なうことなく転写することができ、転写された文字等の品質が良好となる。
【００５１】
文字図柄転写部における文字、記号等の線幅は、８０μｍ〜５００μｍ程度の大きさであることが好ましい。また、文字図柄転写部の形成位置およびその大きさは、平面部内であれば特に限定されない。形成される文字図柄転写部は一つであってもよく、複数であってもよい。
【００５２】
文字図柄転写部の形成は、第１フォトリソグラフィ処理において同時に行ってもよく、第２フォトリソグラフィ処理以降のいずれかと同時に行ってもよい。また、本工程におけるいずれか１回のフォトリソグラフィ処理と後述するレンズ形成部形成工程とが同時に行われる場合は、文字図柄転写部の形成も同時に行ってもよい。カード用原版の製造工程の簡略化が図れるからである。
【００５３】
（３）レリーフ形成部
本工程において形成されるレリーフ形成部は、本発明により得られるカード用原版を用いてカードを製造する際に、カード表面上に特徴的な絵柄から成るレリーフ部を転写形成するものである。レリーフ形成部の形状は、上記レリーフ部のデザイン等に応じて適宜設定することができる。なお、上記カード用原版上のレリーフ形成部の数は限定されない。
図４はレリーフ形成部の形状の一例を示す概略平面図である。図４で示すように、レリーフ形成部の形状としては、例えば、第１凹部６ａの中に包含されるようにして第２凹部６ｂが形成された形状（図４（ａ））、第１凹部６ａの一部と第２凹部６ｂの一部とが重なって形成された形状（図４（ｂ））等が挙げられる。
また、第２凹部が第１凹部に包含される形状の場合、第２凹部の配置位置は、上述した図４（ａ）で示すように第２凹部６ｂが第１凹部６ａの中央に位置した形状の他に、図４（ｃ）で示すように第２凹部６ｂが第１凹部６ａの側面に近接した形状であってもよい。
また、複数回のフォトリソグラフィ処理によりレリーフ形成部を特徴的なデザインとすることも可能であり、例えば、転写により富士山、菊花紋章、人物や動物、幾何学模様の組み合わせ形状等の模様となる形状とすることができる。レリーフ形成部を複数有する場合、個々のレリーフ形成部が上記模様を成すものであってもよく、複数のレリーフ形成部の集合により上記模様を成すものであってもよい。
【００５４】
１つの、または複数のレリーフ形成部の集合から成るレリーフ形成部の平面視上の大きさ（面積）としては、１０００μｍ×１０００μｍ〜１００００μｍ×１００００μｍの範囲内であることが好ましく、中でも３０００μｍ×３０００μｍ〜７５００μｍ×７５００μｍの範囲内であることが好ましい。
また、レリーフ形成部の深さとしては、金属基板の表面から最後のフォトリソグラフィ処理において形成された凹部の最下点までの距離をいい、例えば４０μｍ〜８００μｍの範囲内であることが好ましく、中でも７５μｍ〜２００μｍの範囲内であることが好ましい。レリーフ形成部の深さが上記範囲よりも大きいと、レリーフ形成部を有する平面部において、転写の際に変形等を生じる場合があるからである。一方、上記範囲よりも小さいと、転写形成されるレリーフ部が精巧かつ複雑な形状とならない場合があるからである。
【００５５】
２．レンズ形成部形成工程
本発明におけるレンズ形成部形成工程は、金属基板の一方の表面上に、エッチングによりレンチキュラーレンズ形成部を形成する工程である。
【００５６】
本工程におけるレンチキュラーレンズ形成部の形成方法としては、金属基板の一方の表面上にレンチキュラーレンズ形成部を直接形成することができる方法であれば特に限定されないが、中でも、金属基板上にフォトリソグラフィを用いてレンズ形成部用開口部がパターニングされたレンズ形成部用レジスト層を成膜し、上記レンズ形成部用レジスト層を介してエッチングする方法が好ましい。所望の位置に半円柱形レンズ転写部および隔壁部を高精度で形成することができるからである。
【００５７】
（１）金属基板
本工程で用いられる金属基板は、上述した「１．レリーフ形成部形成工程」の項で説明した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
【００５８】
（２）レンズ形成部用レジスト層
本工程で用いられるレンズ形成部用レジスト層の材料としては、「１．レリーフ形成部形成工程」の項で説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。なお、上記レンズ形成部用レジスト層の材料は、上記第１レジスト層または第２レジスト層で使用した材料と同一であってもよく、異なる材料であってもよい。
また、レンズ形成部用レジスト層の材料が液体である場合の成膜方法についても、「１．レリーフ形成部形成工程」の項で説明したものと同様とすることができる。
【００５９】
本工程におけるパターン形成方法としては、目的とする半円柱形レンズ転写部の本数および配列に応じて、ストライプ状に複数のレンズ形成部用開口部を形成可能な方法であればよく、例えばフォトリソグラフィ法、印刷法等を用いることができる。中でも高精度でパターンを形成することができることから、フォトリソグラフィ法を用いることが好ましい。
また、本処理における露光条件および現像条件については、一般的なフォトリソグラフィにおける条件を用いることができる。
【００６０】
本処理におけるレンズ形成部用レジスト層の厚さは、エッチングにより所望の幅および深さを有する半円柱形レンズ転写部を形成可能な厚さであればよく、上述した「１．レリーフ形成部形成工程」の項で説明したレジスト層の厚さと同様とすることができる。
【００６１】
上記レンズ形成部用レジスト層に設けられるレンズ形成部用開口部の幅としては、目的とする半円柱形レンズ転写部の幅に応じて適宜設定することができる。また、上記レンズ形成部用開口部の並列間隔、本数等については、レンチキュラーレンズ形成部における半円柱形レンズ転写部のピッチ幅、本数等に応じて適宜選択することができる。なお、レンズ形成部用開口部の幅とは、短手方向の長さをいう。
【００６２】
また、レンズ形成部用開口部のピッチ幅は小さいことが好ましいが、所望の半円柱形レンズ転写部の幅より大きいことが好ましい。具体的には、上記ピッチ幅が３０μｍ〜２００μｍ以下の範囲内であることが好ましく、中でも５０μｍ〜１３０μｍの範囲内であることが好ましく、特に６０μｍ〜１００μｍの範囲内であることが好ましい。
レンズ形成部用開口部のピッチ幅が上記範囲よりも大きいと、形成される半円柱形レンズ転写部の配置間隔が大きくなるため、本発明により得られるカード用原版を用いて転写形成されるレンチキュラーレンズにおいて、個々の半円柱形レンズが視覚的に目立つようになり外観上好ましくない場合がある。一方、上記範囲よりも小さいと、半円柱形レンズ転写部の幅も小さくなり、転写形成されるレンチキュラーレンズのレンズ形状が欠損してしまう場合がある。
レンズ形成部用開口部のピッチ幅とは、隣り合うレンズ形成部用開口部の中心を結んだ距離をいう。
【００６３】
また、レンズ形成部用開口部は、その長手方向が転写形成されるカードの読み取り方向と同一方向となるように形成されることが好ましい。レンズ形成部用開口部において形成される半円柱形レンズ転写部は、カード製造時に半円柱形レンズを転写形成する部位である。このため、レンズ形成部用開口部の長手方向とカードの読み取り方向とが異なる場合、半円柱形レンズの長手方向もカードの読み取り方向と異なり、カードをカードリーダーに通す際に、半円柱形レンズが障害となる場合があるからである。
レンズ形成部用開口部の長手方向の長さとしては、半円柱形レンズ転写部の長手方向の長さと同様であり、適宜設定することができる。なお、長手方向の長さとは図２においてＹ方向の長さをいう。
【００６４】
（３）レンズ形成部形成工程
本工程で用いられるエッチング方法およびエッチング液については、「１．レリーフ形成部形成工程」の項で説明した方法と同様であるため、ここでの説明は省略する。
また、本工程におけるエッチング時間については、レンチキュラーレンズ形成部を所望の形状とすることが可能な時間であればよく、金属基板の材料、エッチング方法、エッチング液、半円柱形レンズ転写部の幅等に応じて適宜設定することができる。
【００６５】
本工程は単独で行ってもよいが、中でも、上述したレリーフ形成部形成工程におけるいずれか１回のフォトリソグラフィ処理と同時に行われることが好ましい。金属基板上に、レリーフ形成部を形成するための開口部とレンズ形成部用開口部とを有する１枚のレジスト層を成膜し、フォトリソグラフィ処理を１回行うことにより、レリーフ形成部の一部とレンチキュラーレンズ形成部とを同時に形成することができる。これにより、製造工程の簡略化が図れるからである。
なお、本工程を行うタイミングとしては、レリーフ形成部形成工程の第１フォトリソグラフィ処理と同時であってもよく、第２フォトリソグラフィ処理以降のいずれかの処理と同時であってもよい。
【００６６】
本工程においては、レンチキュラーレンズ形成部を形成すると共に、平面部に文字図柄転写部を形成してもよい。その理由および文字図柄転写部の形状等については、上述した「１．レリーフ形成部形成工程」の項で説明した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
【００６７】
（４）レンチキュラーレンズ形成部
本工程により形成されるレンチキュラーレンズ形成部は、ストライプ状に配置された複数の半円柱形レンズ転写部と、隣り合う上記半円柱形レンズ転写部の間に形成される隔壁部とを有するものである。なお、図５は、レンチキュラーレンズ形成部の形状の一例を示す概略断面図である。
以下、各部位について説明する。
【００６８】
（ａ）半円柱形レンズ転写部
本工程において形成される半円柱形レンズ転写部の幅は、２０μｍ〜２００μｍの範囲内であることが好ましく、中でも４０μｍ〜１２０μｍの範囲内であることが好ましく、特に５０μｍ〜７０μｍの範囲内であることが好ましい。半円柱形レンズ転写部の幅が上記範囲よりも大きいと、本発明により得られるカード用原版を用いてカードを製造する際に、転写形成される半円柱形レンズおよびレンチキュラーレンズの高さが高くなり、規格等で決められたカード厚さを超えてしまう場合がある。一方、上記範囲よりも小さいと、パターニングに際して解像度の安定性が確保できず、半円柱形レンズ転写部の形状のばらつきが大きくなる可能性がある。このため、転写形成される半円柱形レンズおよびレンチキュラーレンズの形状もばらつくことにより、視認画像の均一性が確保できない場合がある。なお、半円柱形レンズ転写部の幅とは、半円柱形レンズ転写部の側壁に挟まれた短手方向の長さを指し、図５においてＸ１で示される部分をいう。また、半円柱形レンズ転写部と隔壁部とが連続した曲面形状で、半円柱形レンズ転写部の曲面を区分する位置が明確でない場合は、後述する「（ｂ）隔壁部」の項で説明する方法で特定される変曲点間の長さを半円柱形レンズ転写部の幅とすることができる。
【００６９】
半円柱形レンズ転写部は底部に所望の曲率を有することが好ましい。半円柱形レンズ転写部の底部の曲率半径（以下、半円柱形レンズ転写部の曲率半径と略する場合がある。）としては、１０μｍ〜１００μｍの範囲内であることが好ましく、中でも３０μｍ〜９０μｍの範囲内であることが好ましく、特に５０μｍ〜８０μｍの範囲内であることが好ましい。
半円柱形レンズ転写部の曲率半径が上記範囲よりも小さいと、転写形成される半円柱形レンズおよびレンチキュラーレンズの曲率半径も小さいものとなる。このため、カードを製造する際に半円柱形レンズを介してレーザー光の照射によりカード基材へ印字する場合に、レーザー光の焦点がカード基材に到達せず印字が行えない場合がある。一方、半円柱形レンズ転写部の曲率半径が上記範囲よりも大きいと、転写形成される半円柱形レンズおよびレンチキュラーレンズの曲率半径も大きいものとなる。このため、上述の方法でカード基材へ印字を行う場合に、レーザー光がカード基材を超えた位置に焦点を結ぶこととなりカード基材に印字が行えない場合がある。
なお、半円柱形レンズ転写部の曲率半径とは、図５においてＲ１で示される部分をいう。
【００７０】
半円柱形レンズ転写部の深さとしては、５μｍ〜１００μｍの範囲内であることが好ましく、中でも７μｍ〜６０μｍの範囲内であることが好ましく、特に１０μｍ〜５０μｍの範囲内であることが好ましい。
半円柱形レンズ転写部の深さが上記範囲よりも大きいと、本発明により得られるカード用原版を用いてカードを製造する際に、転写形成される半円柱形レンズおよびレンチキュラーレンズの高さが高くなり、規格で決められたカード厚さを超えてしまう場合がある。一方、上記範囲よりも小さいと、転写形成される半円柱形レンズおよびレンチキュラーレンズが所望のレンズ厚さとならず、画像情報の表示を切り替えるレンズとしての機能を十分発揮できない場合がある。また、カード製造時にレンチキュラーレンズを介してレーザー照射等によりカード基材に印字を行う際に、半円柱形レンズを透過したレーザー光がカード基材において焦点を結べず、所望の位置に印字が行えない可能性がある。
半円柱形レンズ転写部の深さとは、半円柱形レンズ転写部の最下点から隔壁部の最頂点までの長さをいい、図５においてＴ３で示される部分をいう。
【００７１】
半円柱形レンズ転写部は、図２で示すように金属基板の表面上にストライプ状に複数配置されるものであり、その本数は適宜選択することができる。
半円柱形レンズ転写部の長手方向の長さとしては、金属基板の寸法を越えない範囲であれば特に限定されるものではなく、目的とするレンチキュラーレンズの大きさに応じて適宜選択される。
【００７２】
（ｂ）隔壁部
本工程により形成される隔壁部の形状は、所望の幅や高さ等を有するものであれば特に限定されるものではない。図６は本発明における隔壁部の断面形状を説明する説明図である。隔壁部の断面形状としては、通常、図６（ａ）で示すように金属基板の底面に対して隔壁部の側面が直角を成す形状であるが、図６（ｂ）および（ｃ）で示すように、テーパー形状であってもよい。テーパー形状の隔壁部の両側面がなす角度（図６（ｂ）および（ｃ）中のθ）としては、５°〜１２０°の範囲内が好ましく、中でも１０°〜９０°の範囲内が好ましく、特に１５°〜４５°の範囲内が好ましい。隔壁部の両側面が上記範囲内の角度を成すことにより、カード製造時にカード用原版からのカードの剥離性を良好なものとすることができる。
【００７３】
また、隔壁部の頂部の幅は小さいことが好ましい。隔壁部は、セキュリティカードを製造する際に、隣り合う半円柱形レンズ間の溝部（以下、レンズ間溝部と称する場合がある。）を転写形成する部位である。そのため、レンズ間溝部の大きさによっては、所望の角度から観察した際にレンチキュラーレンズを介して表示される画像上に、表示すべき画像情報以外の画像が線状に出現する（以下、線状に出現する画像を「線状ノイズ」と称する場合がある。）といった現象が生じる。この様な現象により表示すべき画像が不鮮明な像として観察されるため、カードの視認性の低下を招く場合がある。なお、上述の現象および発生要因については、後述する「Ｂ．セキュリティカードの製造方法」の項で詳細に説明するため、ここでの説明は省略する。
隔壁部の頂部の幅としては、５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましく、中でも５μｍ〜１５μｍの範囲内であることが好ましく、特に５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。
隔壁部の頂部の幅が上記範囲よりも小さいと、隔壁部が決壊して半円柱形レンズ転写部の深さにばらつきが生じるため、カード製造時に転写形成される半円柱形レンズおよびレンチキュラーレンズがレンズとしての機能を有さない場合がある。一方、上記範囲よりも大きいと、カード製造時に転写形成されるレンズ間溝部の底部の幅が大きくなるため、得られるカードを観察する際に、レンチキュラーレンズを介して表示される画像上に線状ノイズ等が出現し、視認性が損なわれる場合がある。
隔壁部の頂部の幅とは、図５および図６においてＸ３で示される部分をいい、以下の方法により測定される。
【００７４】
隔壁部の頂部の幅の測定箇所については、図６（ａ）で示すように金属基板の表面に対して隔壁部の側面が直角を成す形状である場合は、上記側面間の距離を隔壁部の幅とする。また、図６（ｂ）で示すように金属基板の表面に対して隔壁部の側面が鈍角を成す場合は、上記隔壁部の頂部に有する平面における短手方向の長さを隔壁部の幅とする。
さらに、図６（ｃ）で示すように隔壁部の頂部が曲率を有するものであり、半円柱形レンズ転写部と隔壁部の頂部の曲面とが連続した形状で、隔壁部の頂部の曲面の区分される位置が明確でない場合は、非接触法の測定により作成されたグラフにおいて半円柱形レンズ転写部の曲面と隔壁部の頂部の曲面との変曲点を特定する。すなわち、対象曲面において半円柱形レンズ転写部および隔壁部の短手方向の断面が形成する曲線の曲率の符号が変化する点の位置を、半円柱形レンズ転写部と隔壁部の頂部とが区分される位置とし、上記変曲点における短手方向の長さを隔壁部の幅とする。ここで、短手方向の断面が形成する曲線から曲率を算出する一つの方法としては、上記曲線を微小区間に分け、曲率を算出する微小区間における上記曲線を構成する測定データに対し最小二乗法を用いて円弧を当てはめ、得られた円弧の半径から曲率を得る方法を用いることができる。
なお、上記変曲点に直線部が接している場合は直線部も半円柱形レンズ転写部の一部とする。
【００７５】
隔壁部の高さとしては、半円柱形レンズ転写部の深さと同様であるためここでの説明は省略する。また、隔壁部の頂部に有する平面または最頂点は、平面部と同じ高さに位置することが好ましい。
【００７６】
３．その他の工程
本発明は、上述したレンズ形成部形成工程およびレリーフ形成部形成工程の他に任意の工程を有していてもよい。任意の工程としては、例えば金属基板の表面を整面するための酸系水溶液あるいはアルカリ系水溶液による整面処理工程、レンズ形成部形成工程およびレリーフ形成部形成工程の際にレジスト層を剥離するレジスト層剥離工程、少なくともレリーフ形成部形成工程の後に金属基板の表面を研磨する研磨工程、平面部に別途、文字図柄転写部を形成する文字図柄転写部形成工程等を挙げることができる。
以下、本発明における研磨工程について説明する。
【００７７】
本発明においては、少なくともレリーフ形成部形成工程の後に研磨工程を有することが好ましい。本工程を行うことにより、得られるカード用原版の表面を光沢面とすることができ、上記カード用原版により製造されるカード表面に光沢を付与することができる。また、レリーフ形成部の最外角に高い曲率を持たせることができる。なお、本工程は金属基板の表面全体に対して行うことが好ましい。
【００７８】
本工程は少なくともレリーフ形成部形成工程の後に行うものであるが、好ましくは、レリーフ形成部形成工程の後で、且つレンズ形成部形成工程の後に行うことが好ましい。レリーフ形成部の最外角および隔壁部の頂部の両方に高い曲率を持たせることができるからである。
【００７９】
本工程で用いられる研磨方法としては、例えば、電解研磨法、化学研磨法、電解研磨と化学研磨とを同時に行う複合研磨法、バフ研磨法等を挙げることができるが、中でも電解研磨法を用いることが好ましい。金属基板において研磨を行いたい部分を選択的に研磨することができ、表面の平滑化および光沢化が図れるからである。
本工程に用いられる研磨液としては、酸系研磨液が好ましく、例えば塩酸、硫酸、硝酸などの水溶液、硫酸と過酸化水素を含む水溶液、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩を含む水溶液等が挙げられる。
【００８０】
本工程においてレリーフ形成部の最外角が研磨される割合については、後述する隔壁部が研磨される割合と同様であることが好ましい。本発明により得られるカード用原版を用いてカードを製造する際に、カード用原版からカードが剥離しやすくなるからである。なお、レリーフ形成部の最外角とは最外壁の角部をいい、図１（ｈ）においてＣで示される部分をいう。また、このときのレリーフ形成部の最外角の曲率半径についても、後述する隔壁部の頂部の曲率半径の大きさと同様であることが好ましい。
【００８１】
本工程において隔壁部が研磨される割合としては、隔壁部の頂部の幅の大きさに対して５％〜５０％の範囲内であることが好ましく、中でも５％〜２５％の範囲内であることが好ましく、特に５％〜１０％の範囲内であることが好ましい。隔壁部が研磨される割合を上記範囲内とすることにより、隔壁部の一部が変形や決壊等を生じることなく、頂部を曲面とすることができるからである。
【００８２】
また、本工程により隔壁部の頂部を所望の曲率を有するものとすることができる。隔壁部の頂部の曲率半径としては、２．５μｍ〜１０．０μｍの範囲内であることが好ましく、中でも２．５μｍ〜７．５μｍの範囲内であることが好ましく、特に２．５μｍ〜５．０μｍの範囲内であることが好ましい。隔壁部の頂点の曲率半径を上記範囲内とすることにより、本発明により得られるカード用原版を用いてカードを製造する際に、カード用原版からカードが剥離しやすくなるからである。また、得られるカードにおいて、レンチキュラーレンズを介して視認される画像上に出現する線状ノイズ等をより目立たなくすることができるからである。なお、頂部の曲率半径とは、図６（ｃ）においてＲ２で示される部分をいう。
【００８３】
本工程において、金属基板の表面を研磨することにより、表面の平滑性を高めることが好ましく、中でも平滑且つ光沢面とすることが好ましい。金属基板の表面を光沢面とすることにより、本発明により得られるカード用原版を用いてカードを製造する際に、カード表面を光沢面とすることができるからである。
研磨後のカード用原版の十点平均表面粗度（Ｒｚ）としては、Ｒｚ＝０．０５μｍ〜１．５μｍの範囲内であることが好ましく、中でもＲｚ＝０．１μｍ〜０．５μｍの範囲内であることが好ましい。上記十点平均表面粗度は、光干渉式の非接触表面粗さ計（菱化システム（株）製のバートスキャンＲ１３００Ｈ  Ｌｉｔｅ）を使い、プロファイル範囲を＋／−５ミクロンとして測定された値である。
また、光沢面の程度としては、＃４００以上の砥粒で研磨した時の光沢性を有することが好ましい。
【００８４】
４．セキュリティカード用転写原版（カード用原版）
本発明により得られるカード用原版は、金属基板の一方の表面上に平面部およびレンチキュラーレンズ形成部を有し、上記平面部の一部にレリーフ形成部が形成されており、上記レンチキュラーレンズ形成部が、ストライプ状に配置された複数の半円柱形レンズ転写部と、隣り合う上記半円柱形レンズ転写部の間に形成される隔壁部とを有するものである。
【００８５】
上記カード用原版において、レリーフ形成部の数は少なくとも１つ以上有するものである。複数のレリーフ形成部を有する場合、隣接するレリーフ形成部が干渉しない程度の配置間隔とすることが好ましく、例えば５０μｍ〜１０００μｍの範囲内であることが好ましく、中でも２００μｍ〜７５０μｍの範囲内であることが好ましい。隣接するレリーフ形成部の配置間隔とは、一方のレリーフ形成部の最外壁と他方のレリーフ形成部の最外壁との間隔をいうものである。
【００８６】
また、上記カード用原版において、レンチキュラーレンズ形成部は少なくとも１つ以上有するものであるが、複数有していてもよい。レンチキュラーレンズ形成部を複数有する場合は、上記カード用原版を多面付け原版として使用することができる。
レンチキュラーレンズ形成部の占める面積の割合としては、上記カード用原版の一方の表面の面積を１００％としたときに１％〜３０％程度の割合を占めることが好ましい。
【００８７】
上記カード用原版は、さらに平面部上に文字図柄転写部を有していても良い。なお、文字図柄転写部については、「１．レリーフ形成部形成工程」の項で説明した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
【００８８】
本発明により得られるカード用原版の用途としては、高い視認性および偽造防止性が求められるセキュリティカードの製造に用いることができ、中でも、クレジットカード等の個人情報管理カード、ＩＣカード、各種証明カード、政府文書等の機密性を要するセキュリティカードの製造に用いられることが好ましい。
【００８９】
Ｂ．セキュリティカードの製造方法
次に、本発明のセキュリティカードの製造方法について説明する。本発明のレンチキュラーレンズシートの製造方法は、カード基材の一方の表面にシート基材を積層し、上記シート基材の表面にカード用原版の転写面を転写して、一部にレリーフ部を有するシート平坦部と、ストライプ状に配置された複数の半円柱形レンズ、および隣接する上記半円柱形レンズの間に位置するレンズ間溝部を有するレンチキュラーレンズと、を有するレンチキュラーレンズシートを形成する転写工程と、上記半円柱形レンズを介して、上記カード基材に異なる２方向からレーザー光を照射して、上記半円柱形レンズと平面視上に重なるように上記カード基材に画像部を形成する印字工程と、を有するセキュリティカードの製造方法であって、上記カード用原版が、金属基板の一方の表面上に平面部およびレンチキュラーレンズ形成部を有し、上記平面部の一部にレリーフ形成部が形成されており、上記レンチキュラーレンズ形成部が、ストライプ状に配置された複数の半円柱形レンズ転写部と、隣り合う上記半円柱形レンズ転写部の間に形成される隔壁部とを有するものであって、上記レンチキュラーレンズ形成部が、上記金属基板の一方の表面をエッチングすることにより形成されたものであり、上記レリーフ形成部が、上記金属基板の上記平面部において、同一箇所に少なくとも２回以上のフォトリソグラフィ処理を行うことにより形成されたものであることを特徴とする。
【００９０】
本発明のセキュリティカードの製造方法について、図を例示して説明する。図７は本発明のセキュリティカードの製造方法の一例を示す概略断面図である。
まず、上述した「Ａ．カード用原版の製造方法」により得られたカード用原版１０を準備する（図７（ａ））。なお、図７（ａ）に示すカード用原版１０の各符号は図１（ｈ）で説明したものと同様である。また、後述する図７（ｃ）においては、カード用原版１０の各部位の符号の表記は省略する。
次に、転写工程として、カード基材２１とシート基材２２ａとを積層し（図７（ｂ））、加熱をしながらシート基材２２ａにカード用原版１０の転写面を押し当てて転写する（図７（ｃ））。これにより、レンチキュラーレンズ２３と、一部にレリーフ部２５を有するシート平坦部２４とを有するレンチキュラーレンズシート２２が形成される（図７（ｄ））。レンチキュラーレンズ２３は、ストライプ状に配置された複数の半円柱形レンズ２６と、隣り合う半円柱形レンズ２６の間に形成されるレンズ間溝部２７から構成されるものである。
次に印字工程として、カード基材２１に対して半円柱形レンズ２６を介してレーザー光Ｚ１およびＺ２を照射し、カード基材２１に含有される発色材料を炭化させ、文字や数字等の異なる画像部２８（画像部２８ａおよび２８ｂを構成要素として含む。）を形成する（図７（ｅ））。画像部２８ａおよび２８ｂと半円柱形レンズ２６とは、平面視上重なる位置関係を有する。
これにより、所望のセキュリティカード２０を製造することができる（図７（ｆ））。
【００９１】
図８は本発明により得られるセキュリティカードの一例を示す概略平面図であり、図９は図８のＸ−Ｘ線断面図である。なお、図８および図９中の符号については、図７と同一の部材を示すため、ここでの説明は省略する。また、図８のＹ方向は、カードの読み取り方向を示す。
本発明により得られるセキュリティカード２０では、画像部２８ａおよび画像部２８ｂには異なる情報が印字されており、観察角度に応じてレンチキュラーレンズ２３を介して別々の像を出現させることができる。
【００９２】
本発明によれば、使用するカード用原版は、平面部に２回以上のフォトリソグラフィ処理を行い形成されたレリーフ形成部を有しており、その形状は精巧で複雑なものである。このため、転写工程においてレリーフ形成部が転写されることにより、カード表面にレリーフ部を形成することができ、上記レリーフ部はインク等を用いて文字、記号、図型等の模様を描画するよりも精巧で複雑な模様として表示されるため、得られるセキュリティカードのセキュリティ性を高めることができる。
【００９３】
また、上記カード用原版は、金属基板をエッチングすることにより高い寸法精度および配置精度で形成されたレンチキュラーレンズ形成部を有するものである。転写工程においてこのレンチキュラーレンズ形成部が転写されることにより、画像部の印字に適し、上記画像部を明瞭に表示が可能な形状を有するレンチキュラーレンズをカード表面に形成することができる。
このため、印字工程において、カード基材上の半円柱形レンズと平面視上に重なる位置に正確に画像部を形成することができる。また、得られるカードは、レンチキュラーレンズを介して上記画像部を観察する際に、観察角度に応じて異なる画像部の情報を明瞭に表示することができるため、視認性の高いものとすることができる。
【００９４】
さらに、本発明によれば、上述のカード用原版を用いることにより、レンチキュラーレンズと、一部にレリーフ部が形成されたシート平坦部とを有するセキュリティカードを、均一なカード厚さで一括製造することができる。このとき、カード用原版において、レリーフ形成部を除く平面部は高い平滑性を有するものであるため、レリーフ部を除くシート平坦部についても表面を平坦性の高いものとすることができる。
通常、ＩＣカードや各種証明カード等のセキュリティカードにおいては、その形状、大きさ等がＩＳＯ７８１６等の規格で規定され、高い精度が求められることから、本発明により、規格等に対応可能な高い寸法精度を有し、視認性およびセキュリティ性の高いセキュリティカードを簡単に製造することができる。
【００９５】
本発明のセキュリティカードの製造方法は、転写工程および印字工程を少なくとも有するものである。
以下、本発明のセキュリティカードの製造方法について説明する。
【００９６】
１．転写工程
本発明における転写工程は、カード基材の一方の表面にシート基材を積層し、上記シート基材の表面にカード用原版の転写面を転写して、一部にレリーフ部を有するシート平坦部と、ストライプ状に配置された複数の半円柱形レンズ、および隣接する上記半円柱形レンズの間に位置するレンズ間溝部を有するレンチキュラーレンズと、を有するレンチキュラーレンズシートを形成する工程である。
【００９７】
ここで、「カード用原版の転写面」とは、カード用原版の表面のうち、一部にレリーフ形成部が形成された平面部およびレンチキュラーレンズ形成部を有する面をいう。
本工程により、シート基材の表面には、カード用原版の半円柱形レンズ転写部および隔壁部が転写されて、半円柱形レンズおよびレンズ間溝部が形成される。また、上記カード用原版のレリーフ形成部を含む平面部が転写されて、一部にレリーフ部を有するシート平坦部が形成される。
【００９８】
本発明において、「一部にレリーフ部を有するシート平坦部」とは、シート平坦部の一部にレリーフ部が形成されるものであり、シート平坦部の面積１００％に対してレリーフ部の面積が、「Ａ．カード用原版の製造方法」の項で説明した平面部の面積に対するレリーフ形成部の面積比率を占めることをいう。
【００９９】
（１）カード用転写原版
本工程において用いられるカード用原版については、上述した「Ａ．カード用原版の製造方法」の項で説明したものと同様であるため、ここでの説明は省略する。
【０１００】
（２）シート基材
本工程において用いられるシート基材の材料としては、カード用原版の転写面に追従可能な柔軟性を有するものが好ましく、加熱により軟化する材料、すなわち熱可塑性樹脂であることが好ましい。また、透明性を有することが好ましい。
このような材料としては、例えばポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、セルロースエステル、フッ化ポリマー、ポリアセタール、ポリオレフィン、アラミド、フッ素樹脂、ＡＢＳ（アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体）、ＰＬＡ（ポリ乳酸）等を用いることができ、中でもポリカーボネートを用いることが好ましい。
【０１０１】
シート基材の厚さとしては、目的とするレンチキュラーレンズシートの厚さをその範囲に含む５０μｍ〜１００μｍの範囲内であることが好ましく、中でも３０μｍ〜１５０μｍの範囲内であることが好ましく、特に５０μｍ〜１００μｍの範囲内であることが好ましい。
シート基材の厚さが上記範囲よりも大きいと、印字工程においてレーザー光がカード基材の所望の位置に届かず、画像部が形成されない場合がある。また、得られるカードが規格等により規定されるカード厚さを超える場合がある。一方、上記範囲よりも小さいと、シート基材上にカード用原版の転写面が精度よく転写されない場合や、カードの強度が得られない場合がある。
シート基材の大きさについては、目的とするセキュリティカードの大きさにより適宜設定することができる。
【０１０２】
（３）カード基材
本工程において用いられるカード基材の材料としては、一般的なセキュリティカード用のカード基材に用いられる樹脂材料を挙げることができる。上記樹脂材料は透明性を有するものであってもよく、有しないものであってもよい。
樹脂材料としては、例えばポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエステル、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、アラミド、ポリイミド、ＡＢＳ（アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体）、ＰＬＡ（ポリ乳酸）等を用いることができる。中でも、ポリカーボネートが好ましい。
【０１０３】
また、カード基材は画像部を形成するための発色材料を含むものである。発色材料としては、レーザー光を吸収する材料であればよく、例えばカーボンブラック、チタンブラック、黒色酸化鉄、雲母等を用いることができ、中でもカーボンブラックが好ましい。
【０１０４】
カード基材の厚さは、５０μｍ〜８００μｍの範囲内であることが好ましく、中でも３００μｍ〜７００μｍの範囲内であることが好ましい。カード基材の厚さが上記範囲よりも大きいと、規格等により規定されるカード厚さを超えてしまう場合があり、一方、上記範囲よりも小さいと、カードの強度が得られない場合がある。
【０１０５】
カード基材の大きさとしては、所望のセキュリティカードの大きさに応じて適宜設定することができ、少なくともシート基材と同等またはそれ以上の大きさであることが好ましい。
【０１０６】
（４）転写工程
本工程における転写方法としては、シート基材にカード用原版の転写面を転写できる方法であればよく、例えば熱転写法を用いて、加熱したシート基材の一方の表面に上述したカード用原版の転写面を押し当てることにより、シート基材が軟化して上記転写面に追従させることができる。
加圧条件としては、カード用原版表面のパターンを十分に転写可能な圧力であれば特に限定されるものではなく、シート基材の厚さ等に応じて適宜設定することができる。
加熱条件としては、カード用原版表面のパターンを転写可能な程度にシート基材を十分に軟化させることができる温度であれば特に限定されるものではなく、カード基材の材料により適宜設定されるものであるが、例えば２００℃程度が好ましい。
加熱時間としては、加圧条件および加熱条件によって適宜設定されるものであり、例えば２０分程度であることが好ましい。
【０１０７】
また、本工程では、転写後にシート基材を硬化させるための冷却処理を行うものである。冷却方法としては、カード用原版を押し当てた状態で全体を冷却する方法が好ましく、例えば、熱転写を行った環境下で放冷する方法、冷風を当て冷却する方法等がある。
冷却時間としては特に限定されるものではないが、短時間で急冷するとシート基材とカード用原版との熱収縮率の差から、得られるレンチキュラーレンズシートが所望の形状とならない場合や、表面の平滑性が損なわれる場合がある。
【０１０８】
カード用原版が平面部に文字図柄転写部を有する場合、本工程において、シート平坦部上に文字図柄転写部が転写されて、文字図柄部が形成されることが好ましい。
文字図柄部については、後述するためここでの説明は省略する。
【０１０９】
（５）レンチキュラーレンズシート
本工程により、一部にレリーフ部を有するシート平坦部およびレンチキュラーレンズを有するレンチキュラーレンズシートが形成される。レンチキュラーレンズシートの厚さは、上述したシート基材の厚さと同様である。
【０１１０】
（ａ）レンチキュラーレンズ
本工程において形成されるレンチキュラーレンズは、ストライプ状に配置された複数の半円柱形レンズ、および隣接する上記半円柱形レンズの間に位置するレンズ間溝部を有する。
【０１１１】
（ｉ）半円柱形レンズ
上記半円柱形レンズは、カード用原版の半円柱形レンズ転写部の反転形状と同等の形状を有する。すなわち、半円柱形レンズの幅、レンズ厚、曲率半径、およびピッチ幅は、半円柱形レンズ転写部の幅、深さ、曲率半径、およびピッチ幅に相当する。各寸法についての詳細は、「Ａ．カード用原版の製造方法」の項で説明した内容と同様であるため、ここでの記載は省略する。
なお、半円柱形レンズのレンズ幅とは、半円柱形レンズの短手方向における側面間の長さ（図９中のＸ４）をいう。
レンズ厚とは、半円柱形レンズの最頂点からレンズ間溝部の最下点までの長さをいい、図９においてＴ４で示される部分をいう。
半円柱形レンズの曲率半径とは、図９においてＲ３で示される部分をいう。
ピッチ幅とは、隣接する半円柱形レンズの中心間距離（図９中のＸ５）をいう。
【０１１２】
（ｉｉ）レンズ間溝部
上記レンズ間溝部は、カード用原版の隔壁部の反転形状と同等の形状を有する。
【０１１３】
レンズ間溝部は底幅が所望の範囲内となるように形成されることが好ましい。レンチキュラーレンズを介して画像部を視認する際に、表示画像上に線状ノイズ等が出現することを抑制し、画像表示が阻害されるのを防ぐことができるからである。
【０１１４】
ここで、「画像部上に線状ノイズ等が出現」するとは、図１０（ａ）で示すように、レンチキュラーレンズ２３を介して画像部２８を観察する際に、図１０（ｄ）に示すように、レンチキュラーレンズの長手方向に従って線状に画像の薄い部分や、所望の角度において表示すべき画像の他に上記画像の情報以外の画像が、複数本の線状ノイズＬとして同時に表示されることをいう。
【０１１５】
上述のような現象が起こる要因としては、レンズ間溝部の底幅の大きさによるものと考えられる。所望の角度からセキュリティカードを視認する際、カード基材の有する画像部はレンチキュラーレンズを介して視認される。しかし、レンズ間溝部の底幅が大きい場合、レンズ間溝部の表面の屈折率と上記レンズ間溝部の底幅との関係から、レンズ間溝部を介して上記画像部が形成されていない領域や、レンチキュラーレンズを介して視認させようとしている画像部以外の画像部領域（これらを非画像部領域とする場合がある。）も視認することとなり、観察者は、レンチキュラーレンズを介して目視される画像部の像と、レンズ間溝部を介して目視される非画像部領域とを同時に視認することになる。
このとき、上記非画像部領域は上述のように表示される画像部上に線状ノイズ等として出現するため、視認される画像の形状等が損なわれ、画像全体として不鮮明なものとして認識されると推量される。
そこで、レンズ間溝部の底部の幅を小さいものとすることにより、レンズ間溝部の底部の幅に起因して、視認画像上に線状ノイズ等が出現することを抑制することができる。
【０１１６】
レンズ間溝部の底幅としては、上述した「Ａ．カード用原版の製造方法」の項で説明した隔壁部の頂部の幅と同様であるため、ここでの説明は省略する
なお、レンズ間溝部の底幅とは、図９においてＸ６で示される部分である。
【０１１７】
また、レンズ間溝部は、その底部が曲率を有することが好ましい。レンチキュラーレンズを介して画像部を視認する際に、視認画像上に出現する線状ノイズ等をより目立たなくすることができ、視認性の阻害を抑制できるからである。
レンズ間溝部の底部の曲率半径としては、上述した「Ａ．カード用原版の製造方法」の項で説明した隔壁部の頂部の曲率半径と同様であるため、ここでの説明は省略する。
なお、レンズ間溝部の底部の曲率半径とは、図９においてＲ４で示される部分である。
【０１１８】
レンズ間溝部の深さとしては、上述した半円柱レンズのレンズ厚と同じである。また、レンズ間溝部のその他の特徴については、「Ａ．カード用原版の製造方法」の項で説明した隔壁部の特徴と同様であるため、ここでの説明は省略する。
【０１１９】
（ｉｉｉ）レンチキュラーレンズ
レンチキュラーレンズの高さおよび曲率半径は、上述した半円柱形レンズのレンズ厚および曲率半径に相当するため、ここでの説明は省略する。
また、レンチキュラーレンズの単位あたりの半円柱形レンズの本数は、上述のカード用原版における直線状凹曲面部の本数により決まる。
レンチキュラーレンズの大きさは、上述のカード用原版のレンチキュラーレンズ形成部と同様の大きさとなる。
【０１２０】
（ｂ）シート平坦部
上記シート平坦部は、表面の一部に少なくともレリーフ部を有する。
【０１２１】
（ｉ）レリーフ部
レリーフ部は、上述した「Ａ．カード用原版の製造方法」の項で説明したレリーフ形成部の反転形状と同等の形状を有するため、ここでの説明は省略する。なお、レリーフ部の幅とは、上記レリーフ部の最も外側に位置する側面間の距離をいい、図９においてＸ７で示す部分である。また、レリーフ部の高さとは、上記レリーフ部の最頂点からシート平坦部までの長さをいい、図９においてＴ５で示す部分である。
【０１２２】
レリーフ部はカード表面において特徴的な絵柄として機能する。具体的な絵柄の形状については、「Ａ．カード用原版の製造方法」の項で説明した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。また、個々のレリーフ部がそれぞれ上記絵柄を成してもよく、複数のレリーフ部の集合により上記絵柄を成すものであってもよい。
１つの、または複数のレリーフ部の集合から成るレリーフ部の平面視上の大きさ（面積）としては、１０００μｍ×１０００μｍ〜１００００μｍ×１００００μｍの範囲内であることが好ましく、中でも３０００μｍ×３０００μｍ〜７５００μｍ×７５００μｍの範囲内であることが好ましい。なお、シート平坦部上のレリーフ部の個数については１つ以上あればよく、適宜設定することができる。
【０１２３】
（ｉｉ）シート平坦部
シート平坦部は、図８および図９で示すように、文字図柄部２９を有していてもよい。印字工程において形成される画像部の情報とは異なる情報を表示することができ、カードのセキュリティ性、意匠性を向上させることが可能となるからである。
文字図柄部の詳細については、上述した「Ａ．カード用原版の製造方法」の項で説明した文字図柄転写部と同様であるため、ここでの説明は省略する。
【０１２４】
２．印字工程
本発明における印字工程は、半円柱形レンズを介して、カード基材に異なる２方向からレーザー光を照射して、半円柱形レンズと平面視上に重なるようにカード基材に画像部を形成する工程である。
【０１２５】
本工程において使用されるレーザー光としては、上述したカード基材に含まれる発色材料により吸収されるものであればよく、例えばガスレーザー、ＹＡＧレーザー、半導体レーザー、ファイバーレーザー、面発光レーザー等の波長７００ｎｍ〜１３００ｎｍの赤外線を発する光源を挙げることができる。
なお、レーザー光の照射角度、照射時間等の条件については、所望の画像部を形成可能な条件であれば特に限定されるものではない。
【０１２６】
本工程において画像部が形成される位置としては、半円柱形レンズと平面視上に重なる場所であれば特に限定されるものではなく、カード基材表面のシート基材と接する面上であってもよく、上記面の対向面上であってもよく、カード基材の内部であってもよい。
１つの半円柱形レンズの下に位置する画像部は、通常２種類の異なる画像情報で構成されるが、２種類以上有していてもよい。また、画像部の大きさとしては、画像部の構成要素が半円柱形レンズの覆われた領域を超えない大きさであり、且つ画像部全体がレンチキュラーレンズに覆われた領域を超えない大きさであることが好ましい。
【０１２７】
３．その他の工程
本発明は、転写工程および印字工程の他に、必要に応じて任意の工程を有しても良い。
【０１２８】
４．セキュリティカード
本発明により得られるセキュリティカードは、画像部を有するカード基材と、上記カード基材の一方の表面に配置されるレンチキュラーレンズシートとを有するものであり、上記レンチキュラーレンズシートは、一部にレリーフ部を有するシート平坦部と、ストライプ状に配置された複数の半円柱形レンズ、および隣接する半円柱形レンズの間に位置するレンズ間溝部を有するレンチキュラーレンズと、を有するものである。
また、半円柱形レンズと画像部とが平面視上に重なるように配置されており、レンチキュラーレンズを介して画像部を観察する際に、観察角度によって視認される画像が異なるものである。
【０１２９】
ここで、「観察角度によって視認される画像が異なる」とは、図１０（ａ）に示すように、一方の観察角度Ｅ１においてはレンチキュラーレンズ２３を介して画像部２８ａの情報（図１０（ｂ））のみを視認することができ、別の観察角度Ｅ２においてはレンチキュラーレンズ２３を介して画像部２８ｂの情報（図１０（ｃ））のみを視認することができることをいう。なお、図１０で示す符号については、図９と同様のものとする。
【０１３０】
上記セキュリティカードにおいて、半円柱形レンズの長手方向はセキュリティカードの長手方向、すなわちカードリーダーの読み取り方向と同じであることが好ましい。カードをカードリーダーに通す際に、レンチキュラーレンズが障害となって通すことができず、磁気情報が読み取れない場合があるからである。
【０１３１】
上記セキュリティカードにおいて、レンチキュラーレンズの占める割合としては、セキュリティカードの大きさ、画像部の大きさ等によって適宜設定されるものであるが、セキュリティカードの全体面積を１００％としたときに１％〜３０％程度の割合であることが好ましい。
【０１３２】
また、上記セキュリティカードは、カード基材およびレンチキュラーレンズシートの他に、必要に応じて磁気シート、染料インク印刷層、顔料インク印刷層、ＩＣチップ、透明カバー層等を有していてもよい。
【０１３３】
本発明により得られるセキュリティカードの用途としては、視認性および偽造防止性が求められる分野に用いることが可能であり、例えば、クレジットカード等の個人情報管理カード、ＩＣカード、各種証明カード、政府文書等の機密性を要する情報媒体に用いることが可能である。
【０１３４】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１３５】
以下に実施例を示して、本発明をさらに具体的に説明する。
【０１３６】
［実施例１〜１０］
（第１フォトリソグラフィ処理およびレンズ形成部形成工程）
金属基板として、所望の厚さを有し、３００ｍｍ角サイズの圧延材料であるＳＵＳ３０４材を準備した。上記金属基板の一方の表面を、アルカリ脱脂（ＮａＯＨ水溶液５％、６０℃）、硫酸電解（硫酸水溶液５％、常温、電流密度ｄｋ＝３）、塩酸ディップ（塩酸水溶液１０％、常温）により整面処理を行った。
次に、整面処理を行った金属基板の表面に、ドライフィルムレジストを使用してラミネーターにてラミネートを行い、１５μｍ〜２５μｍ程度の厚さを有するフォトレジスト層（第１レジスト層兼レンズ形成部用レジスト層）を形成した。
次に、平行光露光機を使い、マスクを介して紫外線照射によるパターン露光を行った後、３０℃の１％炭酸ナトリウム水溶液で現像を行い、フォトレジスト層をパターン形成した。
フォトレジスト層のパターンについては、上述した金属基板のサイズ内でレンチキュラーレンズを形成するために、カード１枚当たりに、８５ｍｍ×５０ｍｍ程度の外形を有するデザインを具備し、且つ、そのカード内に縦および横のサイズが各々２０ｍｍ程度となる矩形のレンチキュラーレンズ形成部を、得られるセキュリティカードにおいてレンチキュラーレンズを左下部に配置できるように、上記フォトレジスト層の当該位置にレンズ形成部用開口部を具備した。また、同心円形状のレリーフ形成部を形成するために、レンチキュラーレンズ形成部の形成位置と異なる領域に第１開口部を縦横に複数配置して約１０ｍｍ×１０ｍｍのサイズとした。各実施例における金属基板の厚さ、ならびに第１開口部の直径およびピッチについては、以下の表１に示すものとした。
【０１３７】
当該パターン形成されたフォトレジスト層を介して、塩化第二鉄液による金属基板の表面のエッチングを行い、半円柱形レンズ転写部および隔壁部を有するレンチキュラーレンズ形成部、ならびに複数の第１凹部を一部に有する平面部の形状を、各金属基板の一方の表面上に得た。
【０１３８】
（第２フォトリソグラフィ処理）
上述の金属基板の凹凸形状面に対して、アルカリ脱脂（ＮａＯＨ水溶液５％、６０℃）、硫酸電解（硫酸水溶液５％、常温、電流密度ｄｋ＝３）、塩酸ディップ（塩酸水溶液１０％、常温）により整面処理を行った。
次に、整面処理を行った表面にドライフィルムレジストを使用し、金属基板表面の凹凸形状に密着させるために真空ラミネーターにてラミネートを行い、１５μｍ〜２５μｍ程度の厚さを有するフォトレジスト層（第２レジスト層）を形成した。
次に、平行光露光機を使い、マスクを介して紫外線照射による露光を行った後、３０℃の１％炭酸ナトリウム水溶液で現像を行い、図１（ｇ）に示すように、第１フォトリソグラフィ処理によって形成された各第１凹部内に、第２開口部が同心円形状のパターンとなるように第２レジスト層をパターン形成した。なお、各実施例における第２開口部の直径については、以下の表１に示すものとした。また、第２開口部のピッチは第１開口部のピッチと同様であった。
当該パターン形成された第２レジスト層を介して、塩化第二鉄液による金属基板の表面のエッチングを行い、第１凹部内に第２凹部を有する複数個のレリーフ形成部の集合（大きさ１０ｍｍ×１０ｍｍ）を備えたカード用原版を得た。
【０１３９】
（検証）
各フォトリソグラフィ処理におけるマスクによる設計については、レジスト層の解像度およびエッチング条件等に依存するため、マスクのパターンのみでエッチング後の形状は決まらない。このため、各フォトリソグラフィ処理後の最終的に得られた形状で、マスクのパターン形状およびエッチング条件の検証を行った。
各実施例における第１凹部の直径、第２凹部の直径および深さについて、以下の表１に示す。
【０１４０】
【表１】
2015074190.tif 000003
【０１４１】
いずれの実施例においても、第１フォトリソグラフィ処理により得られた第１凹部の形状と、第２フォトリソグラフィ処理により得られた第２凹部の形状とから、凹凸形状を有するレリーフ形成部が得られた。実施例において同心円形状の関係にある第１凹部の周縁と第２凹部の周縁とは、その間隔を十分に有するものであったが、中でも第２凹部の深さを４５μｍ以上とした実施例３〜実施例１０については、第１凹部と第２凹部との段差がより明瞭となることで、視認性の高いレリーフ形成部が形成された。
【符号の説明】
【０１４２】
１  …  金属基板
２  …  平面部
３  …  レンチキュラーレンズ形成部
４  …  半円柱形レンズ転写部
５  …  隔壁部
６  …  レリーフ形成部
１０  …  セキュリティカード用転写原版（カード用原版）
２０  …  セキュリティカード
２１  …  カード基材
２２  …  レンチキュラーレンズシート
２３  …  レンチキュラーレンズ
２４  …  シート平坦部
２５  …  レリーフ部
２６  …  半円柱形レンズ
２７  …  レンズ間溝部
２８、２８ａ、２８ｂ  …  画像部
【図１】
2015074190.tif 000004
【図２】
2015074190.tif 000005
【図３】
2015074190.tif 000006
【図４】
2015074190.tif 000007
【図５】
2015074190.tif 000008
【図６】
2015074190.tif 000009
【図７】
2015074190.tif 000010
【図８】
2015074190.tif 000011
【図９】
2015074190.tif 000012
【図１０】
2015074190.tif 000013