(57)【要約】【課題】ヒュームの回収効率が高いヒューム回収装置を提供する。【解決手段】第１吸引部３１は、予熱ゾーン１２内の雰囲気を吸引可能である。第２吸引部３２は、加熱ゾーン１３内の雰囲気を吸引可能である。第３吸引部３３は、冷却ゾーン１４内の雰囲気を吸引可能である。第１回収部４１は、第１吸引部３１により吸引される雰囲気に含まれるヒュームを回収可能である。第２回収部４２は、第２吸引部３２により吸引される雰囲気に含まれるヒュームを回収可能である。第３回収部４３は、第３吸引部３３により吸引される雰囲気に含まれるヒュームを回収可能である。【選択図】図１
2015145024.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板（２）を搬送する搬送レール（１１）と、
前記搬送レールを覆うよう設けられ、入口（１２１）を有し、前記搬送レールにより前記入口を経由して搬送される前記基板を予熱する予熱ゾーン（１２）と、
前記搬送レールを覆い、前記予熱ゾーンの前記入口とは反対側に接続し、前記搬送レールにより前記予熱ゾーンから搬送される前記基板を加熱し部品（３）をはんだ付けする加熱ゾーン（１３）と、
前記搬送レールを覆い、前記加熱ゾーンの前記予熱ゾーンとは反対側に接続し、前記加熱ゾーンとは反対側に出口（１４１）を有し、前記搬送レールにより前記加熱ゾーンから搬送され前記出口を経由して外部へ搬送される前記基板を冷却する冷却ゾーン（１４）と、
を備えるはんだ付け装置（１０）で発生するヒュームを回収可能なヒューム回収装置（１）であって、
前記予熱ゾーン内の雰囲気を吸引可能な第１吸引部（３１）と、
前記加熱ゾーン内の雰囲気を吸引可能な第２吸引部（３２）と、
前記冷却ゾーン内の雰囲気を吸引可能な第３吸引部（３３）と、
前記第１吸引部により吸引される雰囲気に含まれるヒュームを回収可能な第１回収部（４１）と、
前記第２吸引部により吸引される雰囲気に含まれるヒュームを回収可能な第２回収部（４２）と、
前記第３吸引部により吸引される雰囲気に含まれるヒュームを回収可能な第３回収部（４３）と、
を備えるヒューム回収装置。
【請求項２】
前記第１吸引部は、吸引する雰囲気の流入口である第１吸引口（３４）が前記予熱ゾーンの鉛直方向上側に位置するよう設けられ、
前記第２吸引部は、吸引する雰囲気の流入口である第２吸引口（３５）が前記加熱ゾーンの鉛直方向上側に位置するよう設けられ、
前記第３吸引部は、吸引する雰囲気の流入口である第３吸引口（３６）が前記冷却ゾーンの鉛直方向上側に位置するよう設けられていることを特徴とする請求項１に記載のヒューム回収装置。
【請求項３】
前記加熱ゾーンに設けられ、前記基板の前記部品がはんだ付けされる面と前記基板の面方向外側とを隔てるツール（５１、５２）をさらに備えることを特徴とする請求項１または２に記載のヒューム回収装置。
【請求項４】
前記第１吸引部、前記第２吸引部および前記第３吸引部の少なくともいずれか１つに設けられ、前記第１吸引部、前記第２吸引部または前記第３吸引部が吸引する雰囲気を加熱可能なヒータ（６１）をさらに備えることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のヒューム回収装置。
【請求項５】
前記第１吸引部、前記第２吸引部および前記第３吸引部の少なくともいずれか１つに設けられ、前記第１吸引部、前記第２吸引部または前記第３吸引部の内側と外側との熱の移動を遮断可能な断熱材（６２）をさらに備えることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のヒューム回収装置。
【請求項６】
前記第１吸引部、前記第２吸引部および前記第３吸引部の少なくともいずれか１つに設けられ、前記第１吸引部、前記第２吸引部または前記第３吸引部が吸引する雰囲気が旋回しながら流れるよう誘導可能な誘導部（６３）をさらに備えることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載のヒューム回収装置。
【請求項７】
前記第１回収部、前記第２回収部および前記第３回収部の少なくともいずれか１つに設けられ、前記第１吸引部、前記第２吸引部または前記第３吸引部により吸引される雰囲気を冷却可能な熱交換器（７０）をさらに備えることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載のヒューム回収装置。
【請求項８】
前記第１回収部、前記第２回収部および前記第３回収部の少なくともいずれか１つに設けられ、雰囲気中で凝集したヒュームを捕集可能なフィルタ（７３、７４）をさらに備えることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載のヒューム回収装置。
【請求項９】
前記フィルタは、前記第１回収部、前記第２回収部および前記第３回収部の少なくともいずれかの１つあたり、複数設けられていることを特徴とする請求項８に記載のヒューム回収装置。
【請求項１０】
前記フィルタは、前記第１回収部内、前記第２回収部内または前記第３回収部内の雰囲気の流れ方向に直列に並ぶようにして設けられていることを特徴とする請求項９に記載のヒューム回収装置。
【請求項１１】
前記フィルタを経由した雰囲気を前記予熱ゾーン内、前記加熱ゾーン内または前記冷却ゾーン内へ排出し循環させる循環部（３８）をさらに備えることを特徴とする請求項８〜１０のいずれか一項に記載のヒューム回収装置。
【請求項１２】
前記入口および前記出口に設けられ、気体を噴射可能な噴射口（８１）を有し、前記噴射口から前記入口および前記出口の開口面に沿うよう気体を噴射することにより、前記入口または前記出口を経由した前記予熱ゾーン、前記加熱ゾーンおよび前記冷却ゾーンの内側の雰囲気の外側への流出を抑制可能なガスカーテン部（８０）をさらに備えることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一項に記載のヒューム回収装置。
【請求項１３】
前記ガスカーテン部は、前記噴射口から噴射される気体を吸入可能な吸入口（８２）をさらに有することを特徴とする請求項１２に記載のヒューム回収装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、はんだ付け装置で発生するヒュームを回収するヒューム回収装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、はんだ付け装置のリフロー炉で発生するヒュームを回収するヒューム回収装置が知られている。例えば特許文献１のヒューム回収装置では、リフロー炉の加熱ゾーンに吸引部を設け、当該吸引部により加熱ゾーン内の雰囲気を吸引しヒュームを回収している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平７−２１２０３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１のヒューム回収装置では、リフロー炉の予熱ゾーン、加熱ゾーンのうち加熱ゾーンのみに吸引部が設けられている。そのため、特に予熱ゾーンで発生するヒュームを回収するのが困難になり、はんだ付け装置で発生するヒュームの回収効率が低下するおそれがある。ヒュームの回収効率が低下すると、はんだ付け装置の内側に付着するヒュームの量が増大し、はんだ付け装置の清掃時間および清掃回数が増大するおそれがある。その結果、はんだ付け装置の稼働率が低下するおそれがある。
【０００５】
また、特許文献１のヒューム回収装置では、予熱ゾーンで発生するヒュームの回収効率を上げるには、吸引部の吸引力を所定値以上に増大させる必要がある。しかしながら、吸引部は加熱ゾーンのみに設けられているため、吸引部の吸引力を所定値以上に増大させると、各ゾーン内の雰囲気の酸素濃度の管理が困難になるおそれがある。
【０００６】
さらに、特許文献１のヒューム回収装置では、吸引部は、雰囲気が流入する吸引口からヒュームを回収する回収部までの長さが大きく形成されている。そのため、吸引部の途中で雰囲気の温度が低下し、凝集したヒュームが吸引部の内側に付着するおそれがある。ヒュームが吸引部の内側に付着すると、吸引部の流路面積が小さくなり吸引効率が低下するおそれがある。吸引部の吸引効率を回復するには、吸引部の内側に付着したヒュームを清掃する必要がある。
【０００７】
本発明は、上述の問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、ヒュームの回収効率が高いヒューム回収装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、はんだ付け装置で発生するヒュームを回収可能なヒューム回収装置であって、第１吸引部と第２吸引部と第３吸引部と第１回収部と第２回収部と第３回収部とを備えている。
本発明のヒューム回収装置が適用されるはんだ付け装置は、搬送レールと予熱ゾーンと加熱ゾーンと冷却ゾーンとを備えている。搬送レールは、基板を搬送する。予熱ゾーンは、搬送レールを覆うよう設けられ、入口を有し、搬送レールにより入口を経由して搬送される基板を予熱する。加熱ゾーンは、搬送レールを覆い、予熱ゾーンの入口とは反対側に接続し、搬送レールにより予熱ゾーンから搬送される基板を加熱し部品をはんだ付けする。冷却ゾーンは、搬送レールを覆い、加熱ゾーンの予熱ゾーンとは反対側に接続し、加熱ゾーンとは反対側に出口を有し、搬送レールにより加熱ゾーンから搬送され出口を経由して外部へ搬送される基板を冷却する。
【０００９】
第１吸引部は、予熱ゾーン内の雰囲気を吸引可能である。第２吸引部は、加熱ゾーン内の雰囲気を吸引可能である。第３吸引部は、冷却ゾーン内の雰囲気を吸引可能である。
第１回収部は、第１吸引部により吸引される雰囲気に含まれるヒュームを回収可能である。第２回収部は、第２吸引部により吸引される雰囲気に含まれるヒュームを回収可能である。第３回収部は、第３吸引部により吸引される雰囲気に含まれるヒュームを回収可能である。
【００１０】
本発明では、はんだ付け装置の予熱ゾーン、加熱ゾーンおよび冷却ゾーンのそれぞれに対応して第１吸引部と第１回収部、第２吸引部と第２回収部、および、第３吸引部と第３回収部が設けられている。そのため、はんだ付け装置で発生するヒュームの回収効率を高めることができる。これにより、はんだ付け装置の各ゾーンの内側に付着するヒュームの量を低減でき、はんだ付け装置の清掃時間および清掃回数を低減することができる。その結果、はんだ付け装置の稼働率を向上することができる。
【００１１】
また、本発明では、はんだ付け装置の予熱ゾーン、加熱ゾーンおよび冷却ゾーンのそれぞれに対応して第１吸引部、第２吸引部および第３吸引部が設けられるため、各吸引部の吸引力を所定値以下に設定することができる。そのため、はんだ付け装置の各ゾーン内の雰囲気の酸素濃度を容易に管理することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一実施形態によるヒューム回収装置を示す模式図。
【図２】（Ａ）は本発明の一実施形態によるヒューム回収装置のツールおよびその近傍を示す斜視図、（Ｂ）は（Ａ）を矢印Ｂ方向から見た図。
【図３】本発明の一実施形態によるヒューム回収装置の第２吸引部、第２回収部およびその近傍を示す断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の実施形態によるヒューム回収装置を図面に基づき説明する。
（一実施形態）
【００１４】
本発明の一実施形態によるヒューム回収装置を図１に示す。ヒューム回収装置１は、はんだ付け装置１０に適用され、はんだ付け装置１０で基板２に部品３をはんだ付けするときに発生するヒュームを回収するために用いられる。ここで、基板２は、例えば車両の各部を制御する電子制御ユニットやメータ等に用いられる。また、部品３は、例えば半導体モジュールやコンデンサ等の電子部品である。なお、本実施形態では、部品３は、表面実装型の部品（ＳＭＤ）である。
【００１５】
まず、ヒューム回収装置１が適用されるはんだ付け装置１０について説明する。はんだ付け装置１０は、搬送レール１１、予熱ゾーン１２、加熱ゾーン１３および冷却ゾーン１４等を備えている。
搬送レール１１は、例えば２つの長尺状の部材を互いに平行になるよう配置することにより構成されている。搬送レール１１は、基板２を一端から他端に向かうよう長手方向に搬送する。
【００１６】
予熱ゾーン１２、加熱ゾーン１３および冷却ゾーン１４は、それぞれ、はんだ付け装置１０のリフロー炉の一部位である。
予熱ゾーン１２は、搬送レール１１を覆うよう設けられ、一端に入口１２１を有している。予熱ゾーン１２は、例えば図示しない送風部から熱風を送ることによって、搬送レール１１により入口１２１を経由して搬送される基板２を予熱する。
【００１７】
加熱ゾーン１３は、搬送レール１１を覆い、予熱ゾーン１２の入口１２１とは反対側に接続するよう設けられている。加熱ゾーン１３は、例えば送風部２０（図３参照）から熱風を送ることによって、搬送レール１１により予熱ゾーン１２から搬送される基板２を加熱し部品３をはんだ付けする。
【００１８】
冷却ゾーン１４は、搬送レール１１を覆い、加熱ゾーン１３の予熱ゾーン１２とは反対側に接続し、加熱ゾーン１３とは反対側に出口１４１を有している。冷却ゾーン１４は、例えば図示しない送風部から冷風を送ることによって、搬送レール１１により加熱ゾーン１３から搬送され出口１４１を経由して外部へ搬送される基板２を冷却する。
【００１９】
このように、はんだ付け装置１０は、例えば表面実装型の部品３を基板２の実装面にリフローによりはんだ付けする装置である。予熱ゾーン１２、加熱ゾーン１３および冷却ゾーン１４において、基板２と部品３との間のはんだペースト４から、フラックスに含まれる樹脂、活性剤、溶剤等が気化することによりヒュームが発生する（図２（Ｂ）参照）。
本実施形態によるヒューム回収装置１は、上述のはんだ付け装置１０で発生するヒュームを回収するための装置である。
【００２０】
本実施形態では、はんだ付け装置１０は、ガス導入部１５および濃度センサ１６をさらに備えている。
ガス導入部１５は、例えば窒素を加熱ゾーン１３に噴出することにより、加熱ゾーン１３、予熱ゾーン１２および冷却ゾーン１４に窒素（ガス）を導入する。濃度センサ１６は、例えば加熱ゾーン１３に設けられ、加熱ゾーン１３内の雰囲気の酸素の濃度を検出する。本実施形態では、濃度センサ１６が検出する酸素の濃度に応じてガス導入部１５から窒素を加熱ゾーン１３、予熱ゾーン１２および冷却ゾーン１４に導入する。これにより、加熱ゾーン１３、予熱ゾーン１２および冷却ゾーン１４内の雰囲気の酸素濃度が一定に保たれる。その結果、加熱ゾーン１３、予熱ゾーン１２および冷却ゾーン１４内を、はんだ付けに適した環境に保つことができる。
【００２１】
ヒューム回収装置１は、第１吸引部３１、第２吸引部３２、第３吸引部３３、第１回収部４１、第２回収部４２、第３回収部４３、ツール５１、５２、ヒータ６１、断熱材６２、誘導部６３、熱交換器７０、フィルタ７３、７４、ガスカーテン部８０等を備えている。
第１吸引部３１は、例えば予熱ゾーン１２に設けられ、予熱ゾーン１２内の雰囲気を吸引可能である。第２吸引部３２は、例えば加熱ゾーン１３に設けられ、加熱ゾーン１３内の雰囲気を吸引可能である。第３吸引部３３は、例えば冷却ゾーン１４に設けられ、冷却ゾーン１４内の雰囲気を吸引可能である。
【００２２】
ここで、第１吸引部３１は、筒状または管状に形成され、吸引する雰囲気の流入口である第１吸引口３４が予熱ゾーン１２の鉛直方向上側に位置するよう設けられている。第２吸引部３２は、筒状または管状に形成され、吸引する雰囲気の流入口である第２吸引口３５が加熱ゾーン１３の鉛直方向上側に位置するよう設けられている。第３吸引部３３は、筒状または管状に形成され、吸引する雰囲気の流入口である第３吸引口３６が冷却ゾーン１４の鉛直方向上側に位置するよう設けられている。
【００２３】
第１回収部４１は、筒状または管状に形成され、一端が第１吸引部３１の第１吸引口３４とは反対側に接続するよう設けられ、第１吸引部３１により吸引される雰囲気に含まれるヒュームを回収可能である。第２回収部４２は、筒状または管状に形成され、一端が第２吸引部３２の第２吸引口３５とは反対側に接続するよう設けられ、第２吸引部３２により吸引される雰囲気に含まれるヒュームを回収可能である。第３回収部４３は、筒状または管状に形成され、一端が第３吸引部３３の第３吸引口３６とは反対側に接続するよう設けられ、第３吸引部３３により吸引される雰囲気に含まれるヒュームを回収可能である。
【００２４】
ツール５１、５２は、例えば加熱ゾーン１３に設けられ、基板２の部品３がはんだ付けされる面（実装面）と基板２の面方向外側とを隔てる。本実施形態では、ツール５１、５２は、例えば板状に形成され、基板２の搬送方向に対し平行になるよう、かつ、互いに対向するよう設けられている。図２に示すように、基板２上の部品３を加熱ゾーン１３ではんだ付けするとき、はんだ付け装置１０の昇降部１７が基板２を鉛直方向上側に移動するよう持ち上げる。これにより、基板２の実装面の端部がツール５１、５２の下端面に当接する。その結果、部品３のはんだ付け時、基板２は、部品３がはんだ付けされる面（実装面）と基板２の面方向外側とがツール５１、５２により隔てられる。そのため、部品３のはんだ付け時にはんだペースト４から発生するヒュームが基板２の面方向外側に飛び散るのを抑制することができる。
【００２５】
ヒータ６１は、例えば発熱可能な電熱ヒータであり、第１吸引部３１、第２吸引部３２および第３吸引部３３のそれぞれに設けられている。すなわち、ヒータ６１は、ヒューム回収装置１に計３つ設けられている。ヒータ６１は、第１吸引部３１、第２吸引部３２または第３吸引部３３が吸引する雰囲気を加熱可能である。図３には、ヒータ６１が第２吸引部３２の内側に設けられる例を示している。
【００２６】
断熱材６２は、例えばグラスウール等の断熱材であり、第１吸引部３１、第２吸引部３２および第３吸引部３３のそれぞれに設けられている。すなわち、断熱材６２は、ヒューム回収装置１に計３つ設けられている。断熱材６２は、第１吸引部３１、第２吸引部３２または第３吸引部３３の内側と外側との熱の移動を遮断可能である。図３には、断熱材６２が第２吸引部３２の外側に設けられる例を示している。
【００２７】
誘導部６３は、例えば板状に形成され、第１吸引部３１、第２吸引部３２および第３吸引部３３のそれぞれに設けられている。すなわち、誘導部６３は、ヒューム回収装置１に計３つ設けられている。誘導部６３は、第１吸引部３１、第２吸引部３２または第３吸引部３３が吸引する雰囲気が旋回しながら流れるよう誘導可能である。図３には、誘導部６３が第２吸引部３２の内側に設けられる例を示している。
【００２８】
熱交換器７０は、第１回収部４１、第２回収部４２および第３回収部４３のそれぞれに設けられている。すなわち、熱交換器７０は、ヒューム回収装置１に計３つ設けられている。熱交換器７０は、第１吸引部３１、第２吸引部３２または第３吸引部３３により吸引される雰囲気を冷却可能である。図３には、熱交換器７０が第２回収部４２に設けられる例を示している。熱交換器７０は、熱交換部７１およびチラー７２等を有している。
【００２９】
熱交換部７１は、例えば内部に流路を有し、外壁に放熱フィンを有している。チラー７２は、熱交換部７１の流路に冷却水を流すことができる。これにより、熱交換部７１の周囲の雰囲気が冷却される。ここで冷却された雰囲気中のヒュームは凝集する。
【００３０】
フィルタ７３、７４は、例えば不織布等により形成され、第１回収部４１、第２回収部４２および第３回収部４３のそれぞれに設けられている。すなわち、フィルタ７３、７４は、それぞれ、ヒューム回収装置１に計３つ設けられている。フィルタ７３、７４は、雰囲気中で凝集したヒュームを捕集可能である。図３には、フィルタ７３、７４が第２回収部４２の内側に設けられる例を示している。
【００３１】
本実施形態では、フィルタ７３、７４は、第２回収部４２の熱交換部７１に対し第２吸引部３２とは反対側に設けられている。また、フィルタ７３、７４は、第１回収部４１内、第２回収部４２内または第３回収部４３内の雰囲気の流れ方向に直列に並ぶようにして設けられている（図３参照）。
【００３２】
本実施形態では、第１回収部４１、第２回収部４２、第３回収部４３のそれぞれにファン３７が設けられている。ファン３７は、第１回収部４１、第２回収部４２、第３回収部４３それぞれの他端の内側に設けられている。図３には、ファン３７が第２回収部４２の他端の内側に設けられる例を示している。ファン３７が回転すると、予熱ゾーン１２、加熱ゾーン１３、冷却ゾーン１４内の雰囲気は、第１吸引口３４、第２吸引口３５、第３吸引口３６から第１吸引部３１、第２吸引部３２、第３吸引部３３に吸引され、第１回収部４１、第２回収部４２、第３回収部４３に導かれる。
【００３３】
本実施形態では、ヒューム回収装置１は、循環部３８をさらに備えている。循環部３８は、第１回収部４１、第２回収部４２、第３回収部４３のそれぞれの他端と予熱ゾーン１２の送風部、加熱ゾーン１３の送風部２０、冷却ゾーン１４の送風部とを接続している。
【００３４】
予熱ゾーン１２の送風部、および、加熱ゾーン１３の送風部２０は、本体２１、ファン２２、ヒータ２３、送風ノズル２４、吸引孔２５等を有している（図３参照）。一方、冷却ゾーン１４の送風部は、ヒータ２３を有さず、本体２１、ファン２２、送風ノズル２４、吸引孔２５等を有している（図示せず）。
【００３５】
ファン２２、ヒータ２３は、本体２１内に設けられている。循環部３８の第１回収部４１、第２回収部４２、第３回収部４３とは反対側の端部は、本体２１に接続している、そのため、第１回収部４１、第２回収部４２、第３回収部４３内の雰囲気は、循環部３８を経由して本体２１に流入可能である。ヒータ２３は、例えば発熱可能な電熱ヒータである。ファン２２が回転すると、ヒータ２３を通過した雰囲気が熱風となって、送風ノズル２４から噴出される。本実施形態では、例えば加熱ゾーン１３の送風部２０の送風ノズル２４は、熱風を噴出する噴出口（端部）が部品３に比較的近い位置となるよう本体２１に設けられている。
【００３６】
なお、本実施形態では、本体２１には、複数の送風ノズル２４の間に、雰囲気を吸引する吸引孔２５が複数形成されている。ファン３７が回転すると、予熱ゾーン１２、加熱ゾーン１３、冷却ゾーン１４の雰囲気は、それぞれ、吸引孔２５、本体２１、第１吸引口３４、第２吸引口３５、第３吸引口３６を経由して、第１吸引部３１、第２吸引部３２、第３吸引部３３に吸引される。
【００３７】
このように、循環部３８は、フィルタ７３、７４を経由した雰囲気を予熱ゾーン１２内、加熱ゾーン１３内または冷却ゾーン１４内へ排出（送風）し循環させる。そのため、ガス導入部１５から予熱ゾーン１２内、加熱ゾーン１３内、冷却ゾーン１４内に導入する窒素等の量を低減することができる。
【００３８】
ガスカーテン部８０は、噴射口８１、吸入口８２等を有している。
噴射口８１は、例えばはんだ付け装置１０の入口１２１および出口１４１の鉛直方向上側に設けられ、鉛直方向下側へ向けて、入口１２１および出口１４１の開口面に沿うよう窒素等の気体を噴射可能である。吸入口８２は、例えば入口１２１および出口１４１の鉛直方向下側に設けられ、噴射口８１から噴射される窒素等を吸入可能である。ガスカーテン部８０は、噴射口８１から窒素等を噴射しつつ、吸入口８２で窒素等を吸入することにより、入口１２１または出口１４１を経由した予熱ゾーン１２、加熱ゾーン１３および冷却ゾーン１４の内側の雰囲気の外側への流出を抑制可能である。また、ガスカーテン部８０は、はんだ付け装置１０の外側の空気が入口１２１または出口１４１を経由して予熱ゾーン１２、加熱ゾーン１３および冷却ゾーン１４の内側に流入するのを抑制することができる。これにより、予熱ゾーン１２内、加熱ゾーン１３内または冷却ゾーン１４内の酸素濃度の変動を抑制することができる。
【００３９】
以上説明したように、（１）本実施形態のヒューム回収装置１が適用されるはんだ付け装置１０は、搬送レール１１と予熱ゾーン１２と加熱ゾーン１３と冷却ゾーン１４とを備えている。搬送レール１１は、基板２を搬送する。予熱ゾーン１２は、搬送レール１１を覆うよう設けられ、入口１２１を有し、搬送レール１１により入口１２１を経由して搬送される基板２を予熱する。加熱ゾーン１３は、搬送レール１１を覆い、予熱ゾーン１２の入口１２１とは反対側に接続し、搬送レール１１により予熱ゾーン１２から搬送される基板２を加熱し部品３をはんだ付けする。冷却ゾーン１４は、搬送レール１１を覆い、加熱ゾーン１３の予熱ゾーン１２とは反対側に接続し、加熱ゾーン１３とは反対側に出口１４１を有し、搬送レール１１により加熱ゾーン１３から搬送され出口１４１を経由して外部へ搬送される基板２を冷却する。
【００４０】
第１吸引部３１は、予熱ゾーン１２内の雰囲気を吸引可能である。第２吸引部３２は、加熱ゾーン１３内の雰囲気を吸引可能である。第３吸引部３３は、冷却ゾーン１４内の雰囲気を吸引可能である。
【００４１】
第１回収部４１は、第１吸引部３１により吸引される雰囲気に含まれるヒュームを回収可能である。第２回収部４２は、第２吸引部３２により吸引される雰囲気に含まれるヒュームを回収可能である。第３回収部４３は、第３吸引部３３により吸引される雰囲気に含まれるヒュームを回収可能である。
【００４２】
本実施形態では、はんだ付け装置１０の予熱ゾーン１２、加熱ゾーン１３および冷却ゾーン１４のそれぞれに対応して第１吸引部３１と第１回収部４１、第２吸引部３２と第２回収部４２、および、第３吸引部３３と第３回収部４３が設けられている。そのため、はんだ付け装置１０で発生するヒュームの回収効率を高めることができる。これにより、はんだ付け装置１０の各ゾーンの内側に付着するヒュームの量を低減でき、はんだ付け装置１０の清掃時間および清掃回数を低減することができる。その結果、はんだ付け装置１０の稼働率を向上することができる。
【００４３】
また、本実施形態では、はんだ付け装置１０の予熱ゾーン１２、加熱ゾーン１３および冷却ゾーン１４のそれぞれに対応して第１吸引部３１、第２吸引部３２および第３吸引部３３が設けられるため、各吸引部の吸引力を所定値以下に設定することができる。そのため、はんだ付け装置１０の各ゾーン内の雰囲気の酸素濃度を容易に管理することができる。
【００４４】
また、（２）本実施形態では、第１吸引部３１は、吸引する雰囲気の流入口である第１吸引口３４が予熱ゾーン１２の鉛直方向上側に位置するよう設けられている。第２吸引部３２は、吸引する雰囲気の流入口である第２吸引口３５が加熱ゾーン１３の鉛直方向上側に位置するよう設けられている。第３吸引部３３は、吸引する雰囲気の流入口である第３吸引口３６が冷却ゾーン１４の鉛直方向上側に位置するよう設けられている。温度の高い雰囲気は鉛直方向上側に移動するため、第１吸引口３４、第２吸引口３５、第３吸引口３６により雰囲気を効率的に吸引することができる。
【００４５】
また、（３）本実施形態では、ツール５１、５２をさらに備えている。ツール５１、５２は、はんだ付け装置１０の加熱ゾーン１３に設けられ、基板２の部品３がはんだ付けされる面と基板２の面方向外側とを隔てる。これにより、加熱ゾーン１３で部品３がはんだ付けされるとき、はんだペースト４から発生するヒュームが基板２の面方向外側に飛び散るのを抑制することができる。そのため、加熱ゾーン１３の内側にヒュームが付着するのを抑制することができる。
【００４６】
また、（４）本実施形態では、ヒータ２３をさらに備えている。ヒータ２３は、第１吸引部３１、第２吸引部３２および第３吸引部３３のそれぞれに設けられ、第１吸引部３１、第２吸引部３２または第３吸引部３３が吸引する雰囲気を加熱可能である。これにより、第１吸引部３１、第２吸引部３２または第３吸引部３３を流通する雰囲気の温度が低下し、第１吸引部３１、第２吸引部３２または第３吸引部３３内でヒュームが凝集するのを抑制することができる。そのため、第１吸引部３１、第２吸引部３２または第３吸引部３３の内側にヒュームが付着するのを抑制することができる。
【００４７】
また、（５）本実施形態では、断熱材６２をさらに備えている。断熱材６２は、第１吸引部３１、第２吸引部３２および第３吸引部３３のそれぞれに設けられ、第１吸引部３１、第２吸引部３２または第３吸引部３３の内側と外側との熱の移動を遮断可能である。これにより、第１吸引部３１、第２吸引部３２または第３吸引部３３を流通する雰囲気の温度が低下し、第１吸引部３１、第２吸引部３２または第３吸引部３３内でヒュームが凝集するのを抑制することができる。そのため、第１吸引部３１、第２吸引部３２または第３吸引部３３の内側にヒュームが付着するのを抑制することができる。
【００４８】
また、（６）本実施形態では、誘導部６３をさらに備えている。誘導部６３は、第１吸引部３１、第２吸引部３２および第３吸引部３３のそれぞれに設けられ、第１吸引部３１、第２吸引部３２または第３吸引部３３が吸引する雰囲気が旋回しながら流れるよう誘導可能である。これにより、雰囲気中のヒュームは、第１吸引部３１、第２吸引部３２または第３吸引部３３の中心軸近傍を流れて第１回収部４１、第２回収部４２または第３回収部４３に導かれる。そのため、第１吸引部３１、第２吸引部３２または第３吸引部３３の内側にヒュームが付着するのを抑制することができる。
【００４９】
また、（７）本実施形態では、熱交換器７０をさらに備えている。熱交換器７０は、第１回収部４１、第２回収部４２および第３回収部４３のそれぞれに設けられ、第１吸引部３１、第２吸引部３２または第３吸引部３３により吸引される雰囲気を冷却可能である。これにより、雰囲気中に含まれるヒュームを強制的に凝集させることができる。その結果、第１回収部４１、第２回収部４２および第３回収部４３におけるヒュームの回収効率を向上することができる。
【００５０】
また、（８）本実施形態では、フィルタ７３、７４をさらに備えている。フィルタ７３、７４は、第１回収部４１、第２回収部４２および第３回収部４３のそれぞれに設けられ、雰囲気中で凝集したヒュームを捕集可能である。これにより、第１回収部４１、第２回収部４２および第３回収部４３におけるヒュームの回収効率を向上することができる。
【００５１】
また、（９）本実施形態では、フィルタ（７３、７４）は、第１回収部４１、第２回収部４２および第３回収部４３のいずれか１つあたり、複数（７３、７４）設けられている。そのため、ヒュームの回収効率をさらに向上することができる。
【００５２】
また、（１０）本実施形態では、フィルタ７３、７４は、第１回収部４１内、第２回収部４２内または第３回収部４３内の雰囲気の流れ方向に直列に並ぶようにして設けられている。そのため、ヒュームの回収効率をより一層向上することができる。
【００５３】
また、（１１）本実施形態では、循環部３８をさらに備えている。循環部３８は、フィルタ７３、７４を経由した雰囲気を予熱ゾーン１２内、加熱ゾーン１３内または冷却ゾーン１４内へ排出し循環させる。そのため、ガス導入部１５から予熱ゾーン１２内、加熱ゾーン１３内、冷却ゾーン１４内に導入する窒素等の量を低減することができる。
【００５４】
また、（１２）本実施形態では、ガスカーテン部８０をさらに備えている。ガスカーテン部８０は、はんだ付け装置１０の入口１２１および出口１４１に設けられ、窒素等の気体を噴射可能な噴射口８１を有している。ガスカーテン部８０は、噴射口８１から入口１２１および出口１４１の開口面に沿うよう窒素等の気体を噴射することにより、入口１２１または出口１４１を経由した予熱ゾーン１２、加熱ゾーン１３および冷却ゾーン１４の内側の雰囲気の外側への流出を抑制可能である。また、ガスカーテン部８０は、はんだ付け装置１０の外側の空気が入口１２１または出口１４１を経由して予熱ゾーン１２、加熱ゾーン１３および冷却ゾーン１４の内側に流入するのを抑制することができる。これにより、予熱ゾーン１２内、加熱ゾーン１３内または冷却ゾーン１４内の酸素濃度の変動を抑制することができる。
【００５５】
また、（１３）本実施形態では、ガスカーテン部８０は、噴射口８１から噴射される気体を吸入可能な吸入口８２をさらに有している。これにより、吸入口８２から吸入した窒素等を再度噴射口８１から噴射すれば、ガスカーテン部８０による窒素等の消費量を低減することができる。
【００５６】
（他の実施形態）
本発明の他の実施形態では、第１吸引部は、第１吸引口が予熱ゾーンの鉛直方向上側以外の位置に位置するよう設けられていてもよい。また、第２吸引部は、第２吸引口が加熱ゾーンの鉛直方向上側以外の位置に位置するよう設けられていてもよい。また、第３吸引部は、第３吸引口が冷却ゾーンの鉛直方向上側以外の位置に位置するよう設けられていてもよい。
【００５７】
また、上述の実施形態では、ツール（５１、５２）が、基板の搬送方向に対し平行になるよう、かつ、互いに対向するよう設けられる例を示した。これに対し、本発明の他の実施形態では、ツールは、基板の搬送方向に対し垂直になるよう、かつ、互いに対向するよう設けられることとしてもよい。また、ツールは、基板の部品がはんだ付けされる面（実装面）と基板の面方向外側とを隔てるのであれば、どのような姿勢で、いくつ設けられていてもよい。
【００５８】
また、上述の実施形態では、基板上の部品を加熱ゾーンではんだ付けするとき、はんだ付け装置の昇降部が基板を鉛直方向上側に移動するよう持ち上げ、基板の実装面の端部がツールの下端面に当接する例を示した。これに対し、本発明の他の実施形態では、昇降部が基板を鉛直方向上側に移動するよう持ち上げたとき、基板の実装面に垂直な壁面である側面がツールに当接または対向することとしてもよい。また、はんだ付け装置は基板を昇降させる昇降部を備えず、ヒューム回収装置は、ツールを昇降させて基板の実装面と基板の面方向外側とを隔てることとしてもよい。
【００５９】
また、本発明の他の実施形態では、ヒータは、第１吸引部、第２吸引部および第３吸引部の少なくともいずれか１つに設けられることとしてもよい。また、ヒューム回収装置は、ヒータを備えていなくてもよい。
また、本発明の他の実施形態では、断熱材は、第１吸引部、第２吸引部および第３吸引部の少なくともいずれか１つに設けられることとしてもよい。また、ヒューム回収装置は、断熱材を備えていなくてもよい。
【００６０】
また、本発明の他の実施形態では、誘導部は、第１吸引部、第２吸引部および第３吸引部の少なくともいずれか１つに設けられることとしてもよい。また、ヒューム回収装置は、誘導部を備えていなくてもよい。
また、本発明の他の実施形態では、熱交換器は、第１吸引部、第２吸引部および第３吸引部の少なくともいずれか１つに設けられることとしてもよい。また、ヒューム回収装置は、熱交換器を備えていなくてもよい。
【００６１】
また、本発明の他の実施形態では、フィルタは、第１吸引部、第２吸引部および第３吸引部の少なくともいずれか１つに設けられることとしてもよい。
また、本発明の他の実施形態では、フィルタは、第１回収部、第２回収部および第３回収部の少なくともいずれかの１つあたり、１つ、または、３つ以上等、いくつ設けられていてもよい。
【００６２】
また、本発明の他の実施形態では、フィルタは、第１回収部内、第２回収部内または第３回収部内の雰囲気の流れ方向に例えば並列に並ぶようにして設けられていてもよい。また、ヒューム回収装置は、フィルタを備えていなくてもよい。
また、本発明の他の実施形態では、ヒューム回収装置は、循環部を備えていなくてもよい。
【００６３】
また、本発明の他の実施形態では、ガスカーテン部は、吸入口を有していなくてもよい。
また、本発明の他の実施形態では、ガスカーテン部は、噴射口から窒素以外の気体を噴射することとしてもよい。また、ヒューム回収装置は、ガスカーテン部を備えていなくてもよい。
【００６４】
また、本発明の他の実施形態では、ガス導入部は、窒素以外の気体を加熱ゾーンに導入することとしてもよい。また、ガス導入部は、予熱ゾーンまたは冷却ゾーンに窒素等の気体を導入することとしてもよい。また、はんだ付け装置は、ガス導入部および濃度センサを備えていなくてもよい。また、はんだ付け装置の搬送レールは、基板を加熱可能なヒータを有していてもよい。
このように、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々の形態で実施可能である。
【符号の説明】
【００６５】
１  ・・・・ヒューム回収装置
２  ・・・・基板
３  ・・・・部品
１０  ・・・はんだ付け装置
１１  ・・・搬送レール
１２  ・・・予熱ゾーン
１２１  ・・入口
１３  ・・・加熱ゾーン
１４  ・・・冷却ゾーン
１４１  ・・出口
３１  ・・・第１吸引部
３２  ・・・第２吸引部
３３  ・・・第３吸引部
４１  ・・・第１回収部
４２  ・・・第２回収部
４３  ・・・第３回収部
【図１】
2015145024.tif 000003
【図２】
2015145024.tif 000004
【図３】
2015145024.tif 000005