(57)【要約】      （修正有）【課題】タッチ位置の検出感度を損なうことなく意匠性が改善されたタッチパネルセンサを提供する。【解決手段】基材３２の上の非アクティブエリアに配置され、所定の色を呈するように構成された加飾層４６と、加飾層上に設けられ、金属材料を含み反射性を有する反射層６１と、反射層上に設けられたオーバーコート層７１と、オーバーコート層上に並べられた複数の額縁配線であって、反射性および導電性を有する金属層を有する額縁配線４３と、を備えている。反射層は、第１の反射層を有しており、第１の反射層には、基材の平面視において、複数の額縁配線のうち少なくとも一対の互いに隣接する額縁配線の間に、当該額縁配線に沿って延びる平行スリット６１ｓが設けられている。【選択図】図３
2015148941.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タッチパネルセンサであって、
タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアと、アクティブエリアの周辺に位置する非アクティブエリアと、を含む基材と、
前記基材の前記アクティブエリアに配置された複数の電極パターンと、
前記基材の上の前記非アクティブエリアに配置され、所定の色を呈するように構成された加飾層と、
前記加飾層上に設けられ、金属材料を含み反射性を有する反射層と、
前記反射層上に設けられたオーバーコート層と、
対応する前記電極パターンに電気的に接続されるとともに、前記オーバーコート層上に並べられた複数の額縁配線であって、反射性および導電性を有する金属層を含む額縁配線と、を備え、
前記反射層は、第１の反射層を有しており、
前記第１の反射層には、前記基材の平面視において、前記複数の額縁配線のうち少なくとも一対の互いに隣接する額縁配線の間に、当該額縁配線に沿って延びる平行スリットが設けられている、タッチパネルセンサ。
【請求項２】
前記タッチパネルセンサは、相互容量型のタッチパネルセンサであり、
前記複数の額縁配線は、複数の駆動配線及び複数の検出配線を含み、
前記平行スリットは、前記基材の平面視において、前記複数の駆動配線と、前記複数の検出配線と、の間に設けられている、請求項１に記載のタッチパネルセンサ。
【請求項３】
前記タッチパネルセンサは、前記オーバーコート層上であって、前記複数の駆動配線と、前記複数の検出配線と、の間に配置されたシールド配線を更に備え、
前記シールド配線は、前記複数の電極パターンのいずれにも電気的に接続されておらず、
前記シールド配線は、前記基材の平面視において、前記シールド配線の領域が前記平行スリットの領域の少なくとも一部を包含するように配置されている、請求項２に記載のタッチパネルセンサ。
【請求項４】
前記平行スリットは、前記基材の平面視において、互いに隣接する前記額縁配線の間に複数本が設けられている、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。
【請求項５】
前記平行スリットは、各額縁配線毎に配置されており、
各額縁配線は、前記基材の平面視において、各額縁配線の領域が当該額縁配線に対応する平行スリットの領域の少なくとも一部を包含するように配置されている、請求項１乃至４のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。
【請求項６】
前記第１の反射層には、前記基材の平面視において、前記平行スリットを横切るように延びる交差スリットが設けられている、請求項１乃至５のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。
【請求項７】
前記反射層は、第２の反射層を有しており、
前記第２の反射層は、交差スリットに沿って延びており、
前記第２の反射層は、前記基材の平面視において、前記第２の反射層の領域が前記交差スリットの領域の少なくとも一部を覆うように設けられている、請求項６に記載のタッチパネルセンサ。
【請求項８】
前記第１の反射層は、前記第２の反射層に対して、前記加飾層の側に設けられている、請求項７に記載のタッチパネルセンサ。
【請求項９】
前記タッチパネルセンサは、前記複数の額縁配線のうち少なくとも一対の互いに隣接する額縁配線の間の少なくとも一部の領域に配置されたダミー配線を更に備え、
前記ダミー配線は、反射性を有する金属層を含んでおり、
前記ダミー配線は、前記複数の電極パターンのいずれにも電気的に接続されておらず、
前記ダミー配線は、前記基材の平面視において、前記ダミー配線の領域が前記平行スリットの領域の少なくとも一部を覆うように配置されている、請求項１乃至８のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。
【請求項１０】
前記加飾層は、黒色以外の色を呈するよう構成されている、請求項１乃至９のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。
【請求項１１】
前記基材は、表示装置用の保護板として機能するものであり、
前記電極パターン、前記加飾層、前記反射層、前記オーバーコート層および前記額縁配線はいずれも、前記基材の面のうち表示装置側の面に設けられている、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。
【請求項１２】
表示装置と、
前記表示装置の表示面上に配置されたタッチパネルセンサと、を備え、
前記タッチパネルセンサは、
タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアと、アクティブエリアの周辺に位置する非アクティブエリアと、を含む基材と、
前記基材の前記アクティブエリアに配置された複数の電極パターンと、
前記基材の上の前記非アクティブエリアに配置され、所定の色を呈するように構成された加飾層と、
前記加飾層上に設けられ、金属材料を含み反射性を有する反射層と、
前記反射層上に設けられたオーバーコート層と、
対応する前記電極パターンに電気的に接続されるとともに、前記オーバーコート層上に並べられた複数の額縁配線であって、反射性および導電性を有する金属層を含む額縁配線と、を備え、
前記反射層は、第１の反射層を有しており、
前記第１の反射層には、前記基材の平面視において、前記複数の額縁配線のうち少なくとも一対の互いに隣接する額縁配線の間に、当該額縁配線に沿って延びる平行スリットが設けられている、入出力装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネルセンサに関する。また本発明は、タッチパネルセンサと表示装置とを組み合わせることによって得られる入出力装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
今日、入力手段として、タッチパネル装置が広く用いられている。タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ、タッチパネルセンサ上への接触位置を検出する制御回路、配線およびＦＰＣ（フレキシブルプリント基板）を含んでいる。タッチパネル装置は、多くの場合、液晶ディスプレイや有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）ディスプレイ等の表示装置が組み込まれた種々の装置等（例えば、券売機、ＡＴＭ装置、携帯電話、ゲーム機）に対する入力手段として、表示装置とともに用いられている。このような装置においては、タッチパネルセンサが表示装置の表示面上に配置されており、これによって、表示装置に対する極めて直接的な入力が可能になっている。タッチパネルセンサのうち表示装置の表示領域に対面する領域は透明になっており、タッチパネルセンサのこの領域が、接触位置（接近位置）を検出し得るアクティブエリアを構成するようになる。
【０００３】
タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ上への接触位置（接近位置）を検出する原理に基づいて、種々の形式に区別される。昨今では、光学的に明るいこと、意匠性があること、構造が容易であること、機能的にも優れていること等の理由から、容量結合方式のタッチパネル装置が注目されている。容量結合方式のタッチパネル装置においては、位置を検知されるべき外部導体（典型的には、指）が誘電体を介してタッチパネルセンサに接触（接近）する際、新たに奇生容量が発生する。この奇生容量に起因する静電容量の変化に基づいて、タッチパネルセンサ上における対象物の位置が検出される。容量結合方式には表面型と投影型とがあるが、マルチタッチの認識（多点認識）への対応に適していることから、投影型が注目を浴びている。
【０００４】
投影型容量結合方式のタッチパネルセンサは、誘電体と、誘電体のうち上述のアクティブエリア内に形成された電極パターンと、誘電体のうちアクティブエリアの外側の非アクティブエリア（いわゆる額縁領域）に形成された額縁配線と、を有している。電極パターンは、透光性および導電性を有する材料、例えば金属酸化物から形成される。一方、額縁配線は、電極パターンからの信号をタッチパネルセンサの外部に設けられた制御回路に伝達したり、制御回路からの駆動信号を電極パターンに伝達したりするためのものであり、一般に、高い導電性を有する金属材料からなる層を含んでいる。
【０００５】
上述のように、非アクティブエリアには一般に、額縁配線などの、透光性を有さないパターンが配置されている。この場合、観察者側に位置するユーザーから額縁配線などが見えないようにし、これによって意匠性を向上させるため、額縁配線よりも観察者側の位置で非アクティブエリアに加飾層を設けることが知られている（例えば特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第４９６５００６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
額縁配線などがユーザーから視認されることを十分に防ぐためには、加飾層の光透過率が十分に低くなるように加飾層を構成することが好ましい。しかしながら、加飾層の光透過率を低くしようとすると、加飾層の厚みが大きくなってしまい、この結果、加飾層とその周辺の部分との間に大きな段差が生じてしまう。このような大きな段差が存在していると、搬送工程や表示装置との組合せ工程など、タッチパネルの製造工程の後に実施される様々な工程における生産性や作業性が低下してしまうことが考えられる。また、アクティブエリアおよび非アクティブエリアの両者に跨がって延びる配線が存在する場合、配線がそのような大きな段差を跨ぐことになり、この結果、配線の断線が段差の部分で生じやすくなってしまうことも考えられる。
【０００８】
また近年は、タッチパネルセンサが、スマートフォンやタブレットＰＣなどの意匠性が重要視される分野で多く使用されている。このような分野においては、加飾層の色として、従来の黒色だけでなく、黒色以外の色、例えば白色、桃色や水色なども採用されている。しかしながら、黒色以外の色を呈する加飾層の光透過率は一般に、黒色を呈する加飾層の光透過率よりも大きくなっている。このため、黒色以外の加飾層が採用される場合、額縁配線などをユーザーから十分に遮蔽するためには、より大きな厚みを有する加飾層が必要になる。この結果、加飾層とその周辺の部分との間に生じる段差がさらに大きくなってしまうことが考えられる。
【０００９】
本発明は、このような課題を効果的に解決し得るタッチパネルセンサおよびタッチパネルセンサを備えた入出力装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、タッチパネルセンサであって、タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアと、アクティブエリアの周辺に位置する非アクティブエリアと、を含む基材と、前記基材の前記アクティブエリアに配置された複数の電極パターンと、前記基材の上の前記非アクティブエリアに配置され、所定の色を呈するように構成された加飾層と、前記加飾層上に設けられ、金属材料を含み反射性を有する反射層と、前記反射層上に設けられたオーバーコート層と、対応する前記電極パターンに電気的に接続されるとともに、前記オーバーコート層上に並べられた複数の額縁配線であって、反射性および導電性を有する金属層を含む額縁配線と、を備え、前記反射層は、第１の反射層を有しており、前記第１の反射層には、前記基材の平面視において、前記複数の額縁配線のうち少なくとも一対の互いに隣接する額縁配線の間に、当該額縁配線に沿って延びる平行スリットが設けられている、タッチパネルセンサである。
【００１１】
本発明によるタッチパネルセンサは、例えば相互容量型のタッチパネルセンサであり、前記複数の額縁配線は、複数の駆動配線及び複数の検出配線を含み、前記平行スリットは、前記基材の平面視において、前記複数の駆動配線と、前記複数の検出配線と、の間に設けられている。
【００１２】
本発明によるタッチパネルセンサは、好ましくは、前記オーバーコート層上であって、前記複数の駆動配線と、前記複数の検出配線と、の間に配置されたシールド配線を更に備え、前記シールド配線は、前記複数の電極パターンのいずれにも電気的に接続されておらず、前記シールド配線は、前記基材の平面視において、前記シールド配線の領域が前記平行スリットの領域の少なくとも一部を包含するように配置されている。
【００１３】
本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記平行スリットは、互いに隣接する前記額縁配線の間に複数本が設けられていてもよい。
【００１４】
本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記平行スリットは、各額縁配線毎に配置されており、各額縁配線は、前記基材の平面視において、各額縁配線の領域が当該額縁配線に対応する平行スリットの領域の少なくとも一部を包含するように配置されていてもよい。
【００１５】
本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記第１の反射層には、前記基材の平面視において、前記平行スリットを横切るように延びる交差スリットが設けられていてもよい。
【００１６】
本発明によるタッチパネルセンサにおいて、好ましくは、前記反射層は、第２の反射層を有しており、前記第２の反射層は、交差スリットに沿って延びており、前記第２の反射層は、前記基材の平面視において、前記第２の反射層の領域が前記交差スリットの領域の少なくとも一部を覆うように設けられている。この場合、好ましくは、前記第１の反射層は、前記第２の反射層に対して、前記加飾層の側に設けられている。
【００１７】
本発明によるタッチパネルセンサは、前記複数の額縁配線のうち少なくとも一対の互いに隣接する額縁配線の間の少なくとも一部の領域に配置されたダミー配線を更に備え、前記ダミー配線は、反射性を有する金属層を含んでおり、前記ダミー配線は、前記複数の電極パターンのいずれにも電気的に接続されておらず、前記ダミー配線は、前記基材の平面視において、前記ダミー配線の領域が前記平行スリットの領域の少なくとも一部を覆うように配置されていてもよい。
【００１８】
本発明によるタッチパネルセンサは、前記加飾層は、黒色以外の色を呈するよう構成されていてもよい。
【００１９】
本発明によるタッチパネルセンサにおいて、好ましくは、前記基材は、表示装置用の保護板として機能するものであり、前記電極パターン、前記加飾層、前記反射層、前記オーバーコート層および前記額縁配線はいずれも、前記基材の面のうち表示装置側の面に設けられている。
【００２０】
本発明は、表示装置と、前記表示装置の表示面上に配置されたタッチパネルセンサと、を備え、前記タッチパネルセンサは、タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアと、アクティブエリアの周辺に位置する非アクティブエリアと、を含む基材と、前記基材の前記アクティブエリアに配置された複数の電極パターンと、前記基材の上の前記非アクティブエリアに配置され、所定の色を呈するように構成された加飾層と、前記加飾層上に設けられ、金属材料を含み反射性を有する反射層と、前記反射層上に設けられたオーバーコート層と、対応する前記電極パターンに電気的に接続されるとともに、前記オーバーコート層上に並べられた複数の額縁配線であって、反射性および導電性を有する金属層を有する額縁配線と、を備え、前記反射層は、第１の反射層を有しており、前記第１の反射層には、前記基材の平面視において、前記複数の額縁配線のうち少なくとも一対の互いに隣接する額縁配線の間に、当該額縁配線に沿って延びる平行スリットが設けられている、入出力装置である。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、基材の上の非アクティブエリアに配置された加飾層と複数の額縁配線との間に、金属材料を含み反射性を有する第１の反射層が設けられている。この場合、加飾層を透過して額縁配線に到達した光は、額縁配線によって反射されて観察者側に戻り、また、加飾層を透過して第１の反射層に到達した光も同様に、第１の反射層によって反射されて観察者側に戻る。このため、非アクティブエリアのうち額縁配線が存在する場所における加飾層の見え方と、非アクティブエリアのうち額縁配線が存在しない場所における加飾層の見え方との間に差が生じることを抑制することができる。このため、加飾層の光遮蔽性に関する要求を従来よりも低くすることができ、従って、加飾層の厚みを従来よりも小さくすることができる。このことにより、加飾層とその周辺の部分との間に段差が生じることを抑制することができる。
【００２２】
一方で、金属材料を含む反射層は導電性を有するため、反射層が複数の額縁配線に近接して配置されていると、隣接する額縁配線間で生じる容量結合が、反射層を介して促進されてしまう虞がある。隣接する額縁配線間で生じる容量結合が促進されてしまうと、アクティブエリアに形成される電界が弱まってしまい、タッチ位置の検出感度が低下してしまう虞がある。
【００２３】
しかしながら本発明によれば、第１の反射層には、基材の平面視において、複数の額縁配線のうち少なくとも一対の互いに隣接する額縁配線の間に、当該額縁配線に沿って延びる平行スリットが設けられている。この場合、隣接する額縁配線間の容量結合が反射層を介して促進されてしまうことが抑制される。このことにより、アクティブエリアに形成される電界が弱まってしまうことが抑制され、タッチ位置の検出を精度良く行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】図１は、第１の実施の形態におけるタッチパネルセンサを備える入出力装置を示す展開図。
【図２】図２は、図１の入出力装置におけるタッチパネルセンサを示す平面図。
【図３】図３は、図２のタッチパネルセンサの、III線に沿った断面図。
【図４】図４は、図２のタッチパネルセンサの、IV線に沿った断面図。
【図５Ａ】図５Ａは、図２のタッチパネルセンサの、駆動配線と、検出配線と、シールド配線と、第１の反射層と、を示す平面図。
【図５Ｂ】図５Ｂは、図５ＡのＶＢ線断面を示す断面図。
【図６Ａ】図６Ａは、図２のタッチパネルセンサの、端子部と、ダミー配線と、反射層と、を示す平面図。
【図６Ｂ】図６Ｂは、図６ＡのVIＢ線断面を示す断面図。
【図６Ｃ】図６Ｃは、図６ＡのVIＣ線断面を示す断面図。
【図７Ａ】図７Ａは、第１の実施の形態における、加飾層形成工程と、反射層形成工程と、オーバーコート層形成工程と、を説明するための図。
【図７Ｂ】図７Ｂは、第１の実施の形態における、加飾層形成工程と、反射層形成工程と、オーバーコート層形成工程と、を説明するための図。
【図７Ｃ】図７Ｃは、第１の実施の形態における、加飾層形成工程と、反射層形成工程と、オーバーコート層形成工程と、を説明するための図。
【図７Ｄ】図７Ｄは、第１の実施の形態における、加飾層形成工程と、反射層形成工程と、オーバーコート層形成工程と、を説明するための図。
【図７Ｅ】図７Ｅは、第１の実施の形態における、加飾層形成工程と、反射層形成工程と、オーバーコート層形成工程と、を説明するための図。
【図８Ａ】図８Ａは、第１の実施の形態における、額縁配線形成工程と、電極パターン形成工程と、を説明するための図。
【図８Ｂ】図８Ｂは、第１の実施の形態における、額縁配線形成工程と、電極パターン形成工程と、を説明するための図。
【図８Ｃ】図８Ｃは、第１の実施の形態における、額縁配線形成工程と、電極パターン形成工程と、を説明するための図。
【図８Ｄ】図８Ｄは、第１の実施の形態における、額縁配線形成工程と、電極パターン形成工程と、を説明するための図。
【図８Ｅ】図８Ｅは、第１の実施の形態における、額縁配線形成工程と、電極パターン形成工程と、を説明するための図。
【図８Ｆ】図８Ｆは、第１の実施の形態における、額縁配線形成工程と、電極パターン形成工程と、を説明するための図。
【図８Ｇ】図８Ｇは、第１の実施の形態における、額縁配線形成工程と、電極パターン形成工程と、を説明するための図。
【図９Ａ】図９Ａは、第２の実施の形態における、駆動配線と、検出配線と、シールド配線と、第１の反射層と、を示す平面図。
【図９Ｂ】図９Ｂは、図９ＡのIXＢ線断面を示す断面図。
【図１０Ａ】図１０Ａは、第３の実施の形態における、駆動配線と、検出配線と、シールド配線と、第１の反射層と、を示す図。
【図１０Ｂ】図１０Ｂは、図１０ＡのＸＢ線断面を示す断面図。
【図１１Ａ】図１１Ａは、第４の実施の形態における、駆動配線と、検出配線と、シールド配線と、第１の反射層と、を示す図。
【図１１Ｂ】図１１Ｂは、図１１ＡのＸＩＢ線断面を示す断面図。
【図１２Ａ】図１２Ａは、第５の実施の形態における、駆動配線と、検出配線と、シールド配線と、第１の反射層と、を示す図。
【図１２Ｂ】図１２Ｂは、図１２ＡのＸIIＢ線断面を示す断面図。
【図１３Ａ】図１３Ａは、第６の実施の形態における、駆動配線と、検出配線と、シールド配線と、第１の反射層と、第２の反射層と、を示す図。
【図１３Ｂ】図１３Ｂは、図１３ＡのＸIIIＢ線断面を示す断面図。
【図１３Ｃ】図１３Ｃは、図１３ＡのＸIIIＣ線断面を示す断面図。
【図１４Ａ】図１４Ａは、第６の実施の形態におけるタッチパネルセンサの、端子部と、第１の反射層と、ダミー端子部と、を示す平面図。
【図１４Ｂ】図１４Ｂは、図１４ＡのＸIVＢ線断面を示す断面図。
【図１４Ｃ】図１４Ｃは、図１４ＡのＸIVＣ線断面を示す断面図。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、図１乃至図８Ｇを参照して、本発明の第１の実施の形態について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。また本明細書において、「シート」、「フィルム」、「板」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。したがって、例えば「板」は、シートやフィルム等とも呼ばれ得るような部材や部分も含む概念である。
【００２６】
タッチパネル装置および入出力装置
はじめに図１を参照して、タッチパネルセンサ３０を備えた入出力装置１０について説明する。図１に示すように、入出力装置１０は、タッチパネルセンサ３０と表示装置（例えば液晶表示装置）１５とを組み合わせることによって構成されている。図示された表示装置１５は、フラットパネルディスプレイとして構成されている。表示装置１５は、表示面１６ａを有した表示パネル１６と、表示パネル１６に接続された表示制御部（図示せず）と、を有している。表示パネル１６は、映像を表示することができるアクティブエリアＡ１と、アクティブエリアＡ１を取り囲むようにしてアクティブエリアＡ１の外側に配置された非アクティブエリア（額縁領域とも呼ばれる）Ａ２と、を含んでいる。表示制御部は、表示されるべき映像に関する情報を処理し、映像情報に基づいて表示パネル１６を駆動する。すなわち、表示装置１５は、文字や図等の情報を映像として出力する出力装置としての役割を担っている。
【００２７】
図１に示すように、タッチパネルセンサ３０は、表示装置１５の表示面１６ａ上に配置されている。このタッチパネルセンサ３０は、例えば、表示装置１５の表示面１６ａ上に接着層（図示せず）を介して接着されている。
【００２８】
なお、本実施の形態において、タッチパネルセンサ３０は、タッチ位置検出機能をもたらすだけでなく、表示装置を保護する役割をも果たすように構成されている。具体的には、タッチパネルセンサ３０の基材３２は、表示装置用の保護板として機能するように構成されている。この場合、基材３２の観察者側の面３２ｂが、入出力装置１０のうち最も観察者側に位置する面を構成している。また、タッチパネルセンサ３０の各構成要素、例えば後述する電極パターン４１，４２、額縁配線４３やシールド配線４５および端子部４４は、いずれも基材３２の表示装置側の面３２ａに設けられている。また、基材３２は、表示装置１５を保護する上で十分な強度を有する材料から構成されている。
【００２９】
タッチパネルセンサ
次に図２乃至図６Ｃを参照して、第１の実施の形態のタッチパネルセンサ３０について説明する。図２は、タッチパネルセンサ３０を示す平面図であり、図３は、図２のタッチパネルセンサ３０の、III線に沿った断面図であり、図４は、図２のタッチパネルセンサ３０の、IV線に沿った断面図である。また、図５Ａは、図２のタッチパネルセンサ３０の、駆動配線４３ｘと、検出配線４３ｙと、シールド配線４５と、第１の反射層６１と、を示す平面図であり、図５Ｂは、図５ＡのＶＢ線断面を示す断面図である。また、図６Ａは、図２のタッチパネルセンサ３０の、端子部４４と、ダミー端子部９１と、第１の反射層６１と、を示す平面図であり、図６Ｂは、図６ＡのVIＢ線断面を示す断面図であり、図６Ｃは、図６ＡのVIＣ線断面を示す断面図である。
【００３０】
図２に示されたタッチパネルセンサ３０は、投影型の静電容量結合方式として構成され、タッチパネルセンサ３０の外部導体（例えば、人間の指）の接触位置（タッチ位置とも称する）を検出可能に構成されている。なお、静電容量結合方式のタッチパネルセンサ３０の検出感度が優れている場合には、外部導体がタッチパネルセンサ３０に接近しただけで当該外部導体がタッチパネル装置のどの領域に接近しているかを検出することができる。従って、ここで用いる「接触位置」とは、実際には接触していないが位置を検出され得る接近位置を含む概念とする。なお、「容量結合」方式は、タッチパネルの技術分野において「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等とも呼ばれており、本件では、これらの「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等と同義の用語として取り扱う。さらに、図２に示されたタッチパネルセンサ３０は、本実施の形態では、特に相互容量型のタッチパネルセンサとして構成されるが、これに限定されない。
【００３１】
図２に示すように、タッチパネルセンサ３０は、タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアＡａ１と、アクティブエリアＡａ１の周辺に位置する非アクティブエリアＡａ２と、を含む基材３２と、基材３２のアクティブエリアＡａ１に配置された複数の電極パターン４１，４２と、対応する電極パターン４１，４２に電気的に接続されるとともに、基材３２の非アクティブエリアＡａ２に並べられた複数の額縁配線４３であって、反射性および導電性を有する金属層を含む額縁配線４３と、を備えている。基材３２のアクティブエリアＡａ１および非アクティブエリアＡａ２はそれぞれ、表示パネル１６のアクティブエリアＡ１および非アクティブエリアＡ２に対応して区画されたものである。
【００３２】
以下、タッチパネルセンサ３０を構成する各要素についてさらに詳述する。
【００３３】
基材３２は、タッチパネルセンサ３０において誘電体として機能するものである。また上述のように、基材３２は、表示装置用の保護板としても機能するものである。基材３２は例えば、十分な強度を有するよう、ガラスなどを用いて構成されている。
【００３４】
電極パターン４１，４２は、図２に示すように、第１方向に沿って、例えば図２のｘ方向に沿って延びる複数の第１電極パターン４１と、第１方向に直交する第２方向に沿って、例えば図２のｙ方向に沿って延びる複数の第２電極パターン４２と、を有している。本実施の形態では、第１電極パターン４１は、ｘ方向に沿って直線状に延びるｘ方向接続部４１ａと、ｘ方向にｘ方向接続部４１ａを介して接続されたｘ方向電極単位４１ｂと、を有している。また、第２電極パターン４２は、ｙ方向に沿って直線状に延びるｙ方向接続部４２ａと、ｘ方向電極単位４１ｂ間に位置し、ｙ方向にｙ方向接続部４２ａを介して接続されたｙ方向電極単位４２ｂと、を有している。図２に示すように、ｘ方向電極単位４１ｂおよびｙ方向電極単位４２ｂは、各々略正方形の形状を有している。
【００３５】
電極パターン４１，４２を構成する材料は、導電性を有する限りにおいて特には限定されないが、本実施の形態においては、ｘ方向電極単位４１ｂおよびｙ方向電極単位４２ｂを構成する材料としては、導電性および透光性を有する透明導電材料が用いられる。ｘ方向電極単位４１ｂおよびｙ方向電極単位４２ｂを構成する透明導電材料としては、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、酸化インジウム、アンチモン添加酸化錫、フッ素添加酸化錫、アルミニウム添加酸化亜鉛、カリウム添加酸化亜鉛、シリコン添加酸化亜鉛や、酸化亜鉛−酸化錫系、酸化インジウム−酸化錫系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系などの導電性酸化物が用いられる。これらの導電性酸化物が２種以上複合されてもよい。
【００３６】
ｘ方向接続部４１ａおよびｙ方向接続部４２ａを構成する材料も、導電性を有する限りにおいては特には限定されない。
例えば本実施の形態においては、ｘ方向接続部４１ａおよびｙ方向接続部４２ａを構成する材料としては、ｘ方向電極単位４１ｂおよびｙ方向電極単位４２ｂと同一の材料が用いられる。このようにｘ方向接続部４１ａないしｙ方向接続部４２ａがｘ方向電極単位４１ｂおよびｙ方向電極単位４２ｂの材料と同一の材料から形成されていることにより、後述するタッチパネルセンサの製造工程において、ｘ方向接続部４１ａないしｙ方向接続部４２ａのいずれか一方をｘ方向電極単位４１ｂおよびｙ方向電極単位４２ｂの形成工程と同一の工程で形成することができる。
若しくは、ｘ方向電極単位４１ｂ、ｙ方向電極単位４２ｂおよびｘ方向接続部４１ａを、透明導電材料を用いて構成し、ｙ方向接続部４２ａを、金属材料を用いて構成してもよい。
【００３７】
ｙ方向接続部４２ａは、図３および図４に示すように、ｘ方向接続部４１ａに対して基板３２の側に形成されている。ｙ方向接続部４２ａとｘ方向接続部４１ａとの間には、絶縁層４７が介在されており、これによってｙ方向接続部４２ａとｘ方向接続部４１ａとが電気的に短絡するのが防がれている。絶縁層４７を形成する材料としては、電気絶縁性を有する材料であれば特に限定されないが、本実施の形態においては、透明性を有するアクリル樹脂が用いられる。
【００３８】
額縁配線４３は、電極パターン４１，４２を駆動するための信号、または電極パターン４１，４２によって伝達された信号が流れるものであり、反射性および導電性を有する金属層を含んでいる。額縁配線４３は、複数本が非アクティブエリアＡａ２に並べられており、その一端において対応する電極パターン４１，４２に、その他端において対応する端子部４４に電気的に接続されている。
【００３９】
本実施の形態においては、複数の額縁配線４３は、対応する第１電極パターン４１に接続された複数の駆動配線４３ｘと、対応する第２電極パターン４２に電気的に接続された検出配線４３ｙと、を含んでいる。すなわち本実施の形態においては、第１電極パターン４１が駆動電極として機能し、第２電極パターン４２が検出電極として機能する。しかしながら、これに限られることはなく、第１電極パターン４１が検出電極として機能し、第２電極パターン４２が駆動電極として機能するよう、複数の額縁配線４３が電極パターン４１，４２に接続されていてもよい。
【００４０】
額縁配線４３によって端子部４４まで伝達された信号は、端子部４４に取り付けられたフレキシブル基板（図示せず）などを介して検出制御部へ伝達される。
【００４１】
シールド配線４５は、複数の電極パターン４１，４２のいずれにも電気的に接続されていない配線であって、安定したシールド電位に維持されるものである。シールド配線４５は、例えば図２においては、非アクティブエリアＡａ２のうち、複数の駆動配線４３ｘと複数の検出配線４３ｙとの間の領域に、隣接する額縁配線４３に沿って各１本ずつ設けられている。もっとも、シールド配線４５が設けられる領域および当該領域におけるシールド配線４５の本数は、これに限られない。シールド配線４５は、その一端において端子部４４に電気的に接続されており、当該端子部４４を介して図示しない接地端子や接地配線に接続されている。もっとも、シールド配線４５は、どこにも電気的に接続されていない配線であってもよい。
【００４２】
上述のように、タッチパネルセンサ３０の非アクティブエリアＡａ２には一般に、額縁配線４３や端子部４４やシールド配線４５をユーザーから見えないようにするための加飾層４６が、アクティブエリアＡａ１を取り囲むように設けられている。しかしながら、上述のように、加飾層４６の厚みには上限がある。このため、加飾層４６の上に直接的に額縁配線４３や端子部４４やシールド配線４５が設けられている場合、観察者側から加飾層４６を透過して額縁配線４３や端子部４４やシールド配線４５に到達し、その後、額縁配線４３や端子部４４やシールド配線４５によって反射されて観察者側に戻る、という光が少なからず存在することが考えられる。また、表示装置１５から放射された後、額縁配線４３や端子部４４やシールド配線４５が設けられていない領域を通って加飾層４６に入射し、そして加飾層４６を透過して観察者側に至る、という光も存在することが考えられる。この場合、額縁配線４３や端子部４４やシールド配線４５が観察者側に居るユーザーによって視認されてしまう可能性がある。また、ユーザーによって視認される非アクティブエリアＡａ２の色が、外光や表示装置からの光に含まれる色や額縁配線４３の色などの影響を受けてしまう可能性もある。すなわち、ユーザーによって視認される非アクティブエリアＡａ２の色が、加飾層４６によって呈される色、例えば加飾層４６に含まれる着色剤の色からずれてしまう可能性がある。また、このような色のずれが部分的に生じる場合、非アクティブエリアＡａ２の色が不均一なものとして視認されてしまうことになる。
【００４３】
このような課題を考慮して、本実施の形態においてタッチパネルセンサ３０は、後述するように、加飾層４６上に設けられ、反射性を有する金属材料で形成された反射層をさらに備えている。この反射層を設けることにより、後述するように、加飾層４６の厚みをさほど大きくすることなく、非アクティブエリアＡａ２における所望の色彩を実現することができる。そして、額縁配線４３や端子部４４やシールド配線４５は、反射層および加飾層４６上に設けられたオーバーコート層７１上に配置されている。
【００４４】
以下、図３および図４を参照して、このような反射層を含むタッチパネルセンサ３０の非アクティブエリアＡａ２に配置される構成要素の層構成について説明する。図３および図４に示すように、基材３２のうち表示装置側の面３２ａ上には、所定の色を呈するよう構成された加飾層４６が配置されている。
【００４５】
加飾層４６の色は、タッチパネルセンサ３０および入出力装置１０に対して求められる意匠性に応じて選択される。ここでは、加飾層４６が、黒色以外の色を呈するよう構成されている場合について説明する。黒色以外の色の例としては、例えば、白色、水色、桃色、緑色などを挙げることができる。加飾層４６を構成する材料は、選択された色に応じて決定されるが、例えば白色が求められる場合、加飾層４６は、白色を呈するための着色剤として用いられる酸化チタンが分散された樹脂材料から構成される。
【００４６】
加飾層４６は、所定の色を呈するための着色剤に加えて、光が照射されることによってその物性を変化させる感光剤をさらに含んでいてもよい。加飾層４６が感光剤を含むことにより、後述するように、加飾層４６を所望の形状にパターニングするための方法として、露光処理および現像処理を含むフォトリソグラフィー法を用いることが可能になる。加飾層４６に含まれる感光剤は、光硬化型のものであってもよく、光溶解型のものであってもよいが、ここでは、光硬化型のものが用いられる例について説明する。
【００４７】
（反射層）
図３および図４に示すように、加飾層４６の面のうち表示装置側の面上には、上述の反射層が設けられている。この反射層は第１の反射層６１を含んでおり、第１の反射層６１は、光を反射することができるよう構成されている。具体的には、第１の反射層６１は、金属材料を含んでいる。このため、観察者側から加飾層４６に入射して酸化チタンなどの着色剤（呈色成分）によって反射された後に第１の反射層６１に到達した光は、第１の反射層６１によって反射されて観察者側に戻ることになる。また第１の反射層６１は、表示装置１５から放射された光が加飾層４６および基材３２を透過して観察者側に到達することを防ぐという役割も果たす。このため、加飾層４６によって呈される色をユーザーに鮮明に認識させることができる。すなわち、加飾層４６の発色性を向上させることができる。第１の反射層６１は、どこにも電気的に接続されていなくてもよいし、図示しない配線を介して接地されていてもよいし、電源電圧が印加されるように任意の機能部に接続されていてもよい。
【００４８】
上述のように、第１の反射層６１は、加飾層４６の発色性を向上させるという効果をもたらすことができる。一方で、第１の反射層６１は導電性を有しているため、第１の反射層６１が複数の額縁配線４３に近接して配置されていると、互いに隣接する２つの額縁配線４３間で生じる容量結合が、第１の反射層６１を介して促進されてしまう虞がある。この結果、アクティブエリアＡａ１に形成される電界が弱くなり、タッチ位置の検出感度が低下する虞がある。
【００４９】
本件発明者は、このような課題を解決すべく試行錯誤を重ねた結果、第１の反射層６１に複数の額縁配線４３に沿って延びるスリット、すなわち間隙、を設けることにより、互いに隣接する２つの額縁配線４３間の容量結合が第１の反射層６１を介して促進されてしまうことを抑制し得る、ということを見出した。特に、相互容量型のタッチパネルセンサ３０においては、基材３２の平面視において複数の駆動配線４３ｘと複数の検出配線４３ｙとの間に位置するようにスリットを設けた場合、互いに隣接する２つの額縁配線４３間の容量結合が第１の反射層６１を介して促進されてしまうことによるタッチ位置の検出感度の低下を効果的に抑制し得る、ということを見出した。
【００５０】
ここで、図５Ａおよび図５Ｂを参照して、上述のスリットを有する本実施の形態の第１の反射層６１について説明する。図５Ａは、図２のタッチパネルセンサの、駆動配線４３ｘと、検出配線４３ｙと、シールド配線４５と、第１の反射層６１と、を示す平面図であり、第１の反射層６１の側から基材３２の側に向かう方向に見た図である。また、図５Ｂは、図５ＡのＶＢ線断面を示す断面図である。
【００５１】
第１の反射層６１には、基材３２の平面視において、複数の額縁配線４３のうち少なくとも一対の互いに隣接する額縁配線４３の間に、当該額縁配線４３に沿って延びる平行スリット６１ｓが設けられている。特に本実施の形態においては、平行スリット６１ｓは、図５Ａに示すように、基材３２の平面視において、複数の駆動配線４３ｘと複数の検出配線４３ｙとの間に１本が設けられている。これによって、駆動配線４３ｘ群と検出配線４３ｙ群との間の容量結合が第１の反射層６１を介して促進されてしまう、ということが抑制され得る。
【００５２】
ところで、第１の反射層６１に平行スリット６１ｓが設けられていると、観察者側から加飾層４６に入射して平行スリット６１ｓを通過する光が存在してしまう。この結果、加飾層の見え方が不均一になってしまう虞がある。このような課題を解決するため、本実施の形態では、シールド配線４５は、基材３２の平面視において、平行スリット６１ｓと重なるように配置されている。
【００５３】
具体的には、シールド配線４５は、基材３２の平面視において、シールド配線４５の領域が平行スリット６１ｓの領域の少なくとも一部を包含するように配置されている。このようにシールド配線４５が平行スリット６１ｓの領域の少なくとも一部を包含するように配置されていることにより、観察者側から加飾層４６に入射して平行スリット６１ｓを通過した光が、シールド配線４５によって反射されて観察者側に戻ることとなる。
【００５４】
平行スリット６１ｓの幅Ｗ１を決定する上では、駆動配線４３ｘ群と検出配線４３ｙ群との間の容量結合が第１の反射層６１を介して促進されてしまうことを所望の程度に抑制する、ということが考慮される。さらに本実施の形態においては、シールド配線４５の金属層４５ｍの幅Ｗ２が考慮される。すなわち、平行スリット６１ｓの幅Ｗ１は、基材３２の平面視において、シールド配線４５の金属層４５ｍ領域によって平行スリット６１ｓの領域が十分に包含されるように決定される。本実施の形態では、金属層４５ｍの幅Ｗ２が３０μｍ程度であり、平行スリット６１ｓの幅Ｗ１は１５μｍ程度である。換言すれば、基材３２の平面視において、金属層４５ｍと第１の反射層６１とが重なり合う領域の幅Ｗ３が、７．５μｍ程度である。
【００５５】
（オーバーコート層）
ところで図３乃至図５Ｂに示すように、第１の反射層６１の表示装置側には、上述の額縁配線４３や端子部４４、シールド配線４５が設けられる。第１の反射層６１を介してこれらの額縁配線４３や端子部４４、シールド配線４５が互いに導通してしまうことを防ぐため、図３乃至図５Ｂに示すように、タッチパネルセンサ３０は、第１の反射層６１の面のうち表示装置側の面上に設けられたオーバーコート層７１をさらに備えている。このオーバーコート層７１は、額縁配線４３や端子部４４、シールド配線４５が互いに導通するのを防ぐという機能だけでなく、加飾層４６および第１の反射層６１を保護するという機能を有していてもよい。またオーバーコート層７１は、タッチパネルセンサ３０や入出力装置１０の製造工程において加飾層４６から排出されるアウトガスを遮蔽するという機能を有していてもよい。オーバーコート層７１の材料としては、例えばアクリル樹脂などが用いられ得る。なおオーバーコート層７１の形成工程においてフォトリソグラフィー法が用いられる場合、オーバーコート層７１は、加飾層４６の場合と同様に、感光剤をさらに含んでいてもよい。後述するオーバーコート層形成工程においては、オーバーコート層７１に光硬化型の感光剤が含まれている場合について説明する。
【００５６】
（額縁配線、端子部およびシールド配線）
図３乃至図６Ｃに示すように、オーバーコート層７１の面のうち表示装置１５側の面上には、複数の額縁配線４３およびシールド配線４５が並べられている。これら額縁配線４３およびシールド配線４５は、反射性および導電性を有する金属層４３ｘｍ，４３ｙｍ，４５ｍを含んでいる。なお図示はしないが、額縁配線４３およびシールド配線４５と同様に端子部４４も、オーバーコート層７１の面のうち表示装置１５側の面上に配置されている。また端子部４４も、反射性および導電性を有する金属層４４ｍを含んでいる。金属層４３ｘｍ，４３ｙｍ，４４ｍ，４５ｍを構成する材料としては、上述の第１の反射層６１の場合と同様に、例えばアルミニウム、モリブデン、銀、銅またはこれらの合金等を挙げることができる。
【００５７】
ところで、シールド配線４５およびそれに接続された端子部４４は、基材３２の外縁までは延びていない。一方、平行スリット６１ｓは、基材３２の外縁まで延びている。したがって、端子部４４の基材３２の外縁側の端部４４ｅと、基材３２の外縁と、の間の領域において観察者側から観察者側から加飾層４６に入射して平行スリット６１ｓを通過してしまう、という光が存在する。
【００５８】
このような課題を解決するため、本実施の形態では、オーバーコート層７１上であって端子部４４の外縁側端部４４ｅと基材３２の外縁との間の領域に、ダミー端子部９１が設けられている。ダミー端子部９１は、反射性を有する金属層９１ｍを含んでいる。ダミー端子部９１を構成する材料としては、上述の第１の反射層６１の場合と同様に、例えばアルミニウム、モリブデン、銀、銅またはこれらの合金等を挙げることができる。このように、端子部４４の外縁側端部４４ｅと基材３２の外縁との間の領域にダミー端子部９１が設けられていることにより、当該領域において、観察者側から加飾層４６に入射して平行スリット６１ｓを透過した光が、ダミー端子部９１によって反射されて観察者側に戻ることとなる。
【００５９】
なお額縁配線４３、端子部４４、シールド配線４５およびダミー端子部９１は、金属層４３ｘｍ，４３ｙｍ，４４ｍ，４５ｍ，９１ｍ以外の層を含んでいてもよい。例えば図３、図４、図６Ｂおよび図６Ｃに示すように、額縁配線４３、端子部４４、シールド配線４５およびダミー端子部９１は、額縁配線４３等の側から基材３２の側に向かう方向に見て、額縁配線４３、端子部４４、シールド配線４５およびダミー端子部９１の金属層４３ｘｍ，４３ｙｍ，４４ｍ，４５ｍ，９１ｍの金属層４３ｘｍ，４３ｙｍ，４４ｍ，４５ｍ，９１ｍを覆うように形成された被覆層４３ｘｃ，４３ｙｃ，４４ｃ，４５ｃ，９１ｃをさらに含んでいてもよい。このように金属層４３ｘｍ，４３ｙｍ，４４ｍ，４５ｍ，９１ｍに被覆層４３ｘｃ，４３ｙｃ，４４ｃ，４５ｃ，９１ｃが設けられていることにより、金属層４３ｘｍ，４３ｙｍ，４４ｍ，４５ｍ，９１ｍの腐食を防止することができる。本実施の形態では、被覆層４３ｘｃ，４３ｙｃ，４４ｃ，４５ｃ，９１ｃを構成する材料としては、上述の透光性を有する導電性金属酸化物が用いられる。
【００６０】
本実施の形態では、額縁配線４３、端子部４４およびシールド配線４５およびオーバーコート層７１の上にさらに、オーバーコート層８１が設けられている。オーバーコート層８１を構成する材料としては、上述の第１の反射層６１上に設けられたオーバーコート層７１と同様の材料が挙げられる。
【００６１】
タッチパネルセンサの製造方法
次に、以上のような構成からなるタッチパネルセンサ３０を製造する方法について、図７Ａ乃至図８Ｇを参照して説明する。図７Ａ乃至図７Ｅは、第１の実施の形態における、加飾層形成工程と、反射層形成工程と、オーバーコート層形成工程と、を説明するための図である。また、図８Ａ乃至図８Ｇは、第１の実施の形態における、額縁配線形成工程と、電極パターン形成工程と、を説明するための図である。
【００６２】
はじめに図７Ａに示すように、基材３２を準備する。上述のように、基材３２は、表示装置用の保護板としても機能することができるものである。
【００６３】
（加飾層形成工程）
次に図７Ｂに示すように、基材３２の表示装置側の面３２ａ上に加飾層４６を設ける。上述のように、加飾層４６は、基材３２の非アクティブエリアＡａ２に設けられる。
【００６４】
基材３２の非アクティブエリアＡａ２に加飾層４６を設ける方法が特に限られることはなく、様々な方法が用いられ得る。例えば、加飾層４６を構成するための樹脂材料および顔料を含む塗布液を、非アクティブエリアＡａ２にのみ選択的に塗布してもよい。選択的に塗布する方法としては、例えばスクリーン印刷法などが用いられ得る。若しくは、はじめに、基材３２の表示装置側の面３２ａの全域にわたって加飾層４６を設け、その後、加飾層４６を露光・現像して加飾層４６をパターニングするという、いわゆるフォトリソグラフィー法が用いられてもよい。この場合、加飾層４６は、露光光を照射されることによって硬化する感光材を含んでいる。
【００６５】
（反射層形成工程）
次に、図７Ｃに示すように、加飾層４６上および基材３２上に第１の反射層６１を形成するための金属層６１ｍを設ける。金属層６１ｍを設ける方法としては、例えばスパッタリング法などが用いられ得る。その後、加飾層４６上に形成されるべき第１の反射層６１のパターンに対応するパターンを有するレジスト層を、金属層６１ｍ上に設け、レジスト層をマスクとして金属層６１ｍをエッチングする。これによって、図７Ｄに示すように、後述する額縁配線形成工程で形成される額縁配線４３に沿うように延びる平行スリット６１ｓを、所望の位置に有する第１の反射層６１が形成される。
【００６６】
（オーバーコート層形成工程）
次に図７Ｅに示すように、反射層６１上および加飾層４６上にオーバーコート層７１を設ける。オーバーコート層７１を設ける方法としては、加飾層４６の形成工程と同様の方法を用いることができる。
【００６７】
（額縁配線形成工程）
次に図８Ａに示すように、オーバーコート層７１上および基材３２上に、額縁配線４３等の金属層４３ｘｍ，４３ｙｍ，４５ｍ，４４ｍ，９１ｍを形成するための金属層５２を設ける。金属層５２を設ける方法としては、第１の反射層６１を形成するための金属層６１ｍの場合と同様に、スパッタリング法やめっき法が用いられ得る。その後、図８Ｂに示すように、金属層５２をパターニングする。これによって、額縁配線４３、シールド配線４５、端子部４４およびダミー端子部９１を構成するための金属層４３ｘｍ，４３ｙｍ，４５ｍ，４４ｍ，９１ｍを同時に得ることができる。金属層６１ｍをパターニングする方法としては、上述の第１の反射層６１をパターニングする工程と同様の方法が用いられ得る。
【００６８】
次に図８Ｃに示すように、額縁配線４３、シールド配線４５、端子部４４およびダミー端子部９１の金属層４３ｘｍ，４３ｙｍ，４５ｍ，４４ｍ，９１ｍ上、オーバーコート層７１上および基材３２上に、ｙ方向接続部４２ａを形成するための導電性酸化物層５３を設ける。導電性酸化物層５３を設ける方法としては、例えばスパッタリング法が用いられ得る。その後、上述の金属層６１ｍをパターニングする工程と同様の方法を用いて、導電性酸化物層５３をパターニングする。これによって、図８Ｄに示すように、ｙ方向接続部４２ａを得ることができる。この際、金属層４３ｘｍ，４３ｙｍ，４５ｍ，４４ｍ，９１ｍを被覆する被覆層４３ｘｃ，４３ｙｃ，４５ｃ，４４ｃ，９１ｃを、導電性酸化物層５３から同時に得ることができる。
【００６９】
次に図８Ｅに示すように、ｙ方向接続部４２ａを構成する部分の上に絶縁層４７を設ける。絶縁層４７を設ける方法が特に限られることはなく、スクリーン印刷法やフォトリソグラフィー法などが用いられ得る。
【００７０】
その後図８Ｆに示すように、ｙ方向接続部４２ａ上、絶縁層４７上、基材３２上、額縁配線４３上、およびオーバーコート層７１上に、ｘ方向接続部４１ａ、ｘ方向電極単位４１ｂ、およびｙ方向電極単位４２ｂを形成するための導電性酸化物層５１を設ける。導電性酸化物層５１を設ける方法としては、例えばスパッタリング法が用いられ得る。その後、上述の金属層６１ｍをパターニングする工程と同様の方法を用いて、導電性酸化物層５１をパターニングする。これによって、上述のｘ方向接続部４１ａ、ｘ方向電極単位４１ｂ、およびｙ方向電極単位４２ｂを同時に得ることができる。このようにして、図５に示すタッチパネルセンサ３０を作製することができる。その後、基材３２の表示装置１５側を覆うようにオーバーコート層８１が設けられる。そして、タッチパネルセンサ３０と表示装置１５とを組み合わせることによって、入出力装置１０を得ることができる。
【００７１】
ここで本実施の形態によれば、基材３２の上の非アクティブエリアＡａ２に配置された加飾層４６と複数の額縁配線４３との間に、反射性を有する金属材料で形成された第１の反射層６１が設けられている。この場合、加飾層４６を透過して額縁配線４３に到達した光は、額縁配線４３によって反射されて観察者側に戻り、また、加飾層４６を透過して第１の反射層６１に到達した光も同様に、第１の反射層６１によって反射されて観察者側に戻る。このため、非アクティブエリアＡａ２のうち額縁配線４３が存在する場所における加飾層４６の見え方と、非アクティブエリアＡａ２のうち額縁配線４３が存在しない場所における加飾層４６の見え方との間に差が生じることを抑制することができる。このため、加飾層４６の光遮蔽性に関する要求を従来よりも低くすることができ、従って、加飾層４６の厚みを従来よりも小さくすることができる。このことにより、加飾層４６とその周辺の部分との間に段差が生じることを抑制することができる。
【００７２】
また本発明によれば、第１の反射層６１には、基材３２の平面視において、複数の額縁配線４３のうち少なくとも一対の互いに隣接する額縁配線４３の間に、当該額縁配線４３に沿って延びる平行スリットが設けられている。この場合、互いに隣接する額縁配線４３間の容量結合が第１の反射層６１によって促進されてしまってアクティブエリアＡａ１に形成される電界が弱くなってしまう、ということを抑制することができる。このことにより、タッチ位置の検出を精度よく行うことができる。
【００７３】
次に、本発明によるタッチパネルセンサの他の実施の形態について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。
【００７４】
まず、図９Ａおよび図９Ｂを参照して、本発明によるタッチパネルセンサの第２の実施の形態について説明する。図９Ａは、第２の実施の形態における、駆動配線４３ｘと、検出配線４３ｙと、シールド配線４５と、第１の反射層６１と、を示す平面図であり、図９Ｂは、図９ＡのIXＢ線断面を示す断面図である。
【００７５】
本実施の形態において、平行スリット６１ｓは、基材３２の平面視において、互いに隣接する額縁配線４３の間に複数本が設けられている。その他の構成は、第１の実施の形態のタッチパネルセンサ３０と略同一である。
【００７６】
図９Ａおよび図９Ｂに示す例においては、平行スリット６１ｓは、複数の駆動配線４３ｘと複数の検出配線４３ｙとの間に、２本が設けられている。このように、互いに隣接する額縁配線４３の間に複数本の平行スリット６１ｓを設けることにより、互いに隣接する額縁配線４３間の容量結合が第１の反射層６１を介して促進されてしまってアクティブエリアＡａ１に形成される電界が弱まってしまう、ということがさらに効果的に抑制される。
【００７７】
また本実施の形態においては、シールド配線４５が、基材３２の平面視において、シールド配線４５の領域が２本の平行スリット６１ｓの領域をどちらも包含するように配置されている。このため、２本の平行スリット６１ｓに起因して加飾層４６の発色性が低下してしまうことを抑制することができる。また本実施の形態によれば、基材３２の平面視において、シールド配線４５の領域と重なるように、第１の反射層６１のスリット間部分６１'が配置されることになる。これにより、図６Ａに示す例と比較して、観察者側から加飾層４６に入射して第１の反射層６１によって反射される光が増える。このことにより、より加飾層４６の見え方をより一層均一なものとすることができる。スリット間部分６１'は、第１の反射層６１の場合と同様に、どこにも電気的に接続されていなくてもよいし、図示しない配線を介して接地されていてもよいし、電源電圧が印加されるように任意の機能部に接続されていてもよい。また、第１の反射層６１の電位とスリット間部分６１'の電位とは、同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００７８】
次に、図１０Ａおよび図１０Ｂを参照して、本発明によるタッチパネルセンサの第３の実施の形態について説明する。図１０Ａは、第３の実施の形態における、駆動配線４３ｘと、検出配線４３ｙと、シールド配線４５と、第１の反射層６１と、を示す平面図であり、図１０Ｂは、図１０ＡのＸＢ線断面を示す断面図である。
【００７９】
本実施の形態において、平行スリット６１ｓは、各額縁配線４３毎に設けられており、基材３２の平面視において、各額縁配線４３の領域が当該額縁配線４３に対応する平行スリット６１ｓの領域の少なくとも一部を包含するように配置されている。その他の構成は、第１の実施の形態のタッチパネルセンサ３０と略同一である。
【００８０】
このように、各額縁配線４３毎に平行スリット６１ｓを設けることにより、互いに隣接する額縁配線４３間の容量結合が第１の反射層６１によって促進されてしまってアクティブエリアＡａ１に形成される電界が弱まってしまう、ということがさらに効果的に抑制される。
【００８１】
また、観察者側から見て、平行スリット６１ｓが設けられている各々の領域には、額縁配線４３またはシールド配線４５が配置されている。このため、加飾層４６を透過して平行スリット６１ｓを通過した光は、額縁配線４６またはシールド配線４５によって反射されて観察者側に戻る。したがって、平行スリット６１ｓが形成されている領域における加飾層４６の見え方と、その他の領域とにおける加飾層４６の見え方と、の間に差が生じる、ということを抑制することができる。すなわち、加飾層４６の見え方をより均一なものとすることができる。
【００８２】
次に、図１１Ａおよび図１１Ｂを参照して、本発明によるタッチパネルセンサの第４の実施の形態について説明する。図１１Ａは、第４の実施の形態における、駆動配線４３ｘと、検出配線４３ｙと、シールド配線４５と、第１の反射層６１と、を示す平面図であり、図１１Ｂは、図１１ＡのＸＩＢ線断面を示す断面図である。
【００８３】
本実施の形態においては、図１１Ａに示すように、第１の反射層６１には、平行スリット６１ｓを横切るように延びる交差スリット６１ｃが設けられている。その他の構成は、第３の実施の形態のタッチパネルセンサ３０と略同一である。
【００８４】
このように、平行スリット６１ｓを横切るように延びる交差スリット６１ｃが設けられていることにより、互いに隣接する額縁配線４３間の容量結合が第１の反射層６１によって促進されてしまってアクティブエリアＡａ１に形成される電界が弱まってしまう、ということがさらに効果的に抑制される。
【００８５】
交差スリット６１ｃの長さＬ１を決定する上では、観察者側から加飾層４６に入射して交差スリット６１ｃを通過する光が存在しても加飾層４６の見え方の均一性が損なわれないこと等が考慮される。本実施の形態においては、第１の反射層６１のスリット間部分６１'の長さＬ２が３０μｍ程度であるのに対し、交差スリット６１ｃの長さＬ１は１５μｍ程度である。
【００８６】
次に、図１２Ａおよび図１２Ｂを参照して、本発明によるタッチパネルセンサの第５の実施の形態について説明する。図１２Ａは、第５の実施の形態における、駆動配線４３ｘと、検出配線４３ｙと、シールド配線４５と、第１の反射層６１と、を示す図であり、図１２Ｂは、図１２ＡのＸIIＢ線断面を示す断面図である。
【００８７】
上述の第３の実施の形態では、第１の反射層６１には、各額縁配線４３毎に平行スリット６１ｓが設けられている。ところで第３の実施の形態においては、第１の反射層６１のスリット間部分６１'が、基材３２の平面視において、互いに隣接する２つの額縁配線４３の両方と重なるように配置されている。したがって、互いに隣接する２つの額縁配線４３間の容量結合が第１の反射層６１を介して促進されてしまう、ということを十分に抑制することができない虞がある。
【００８８】
このような課題を解決するため、本実施の形態では、基材３２の平面視において、互いに隣接する２つの額縁配線間で、第１の反射層６１にさらに平行スリット６１ｓ'を設けることを提案する。これにより、互いに隣接する２つの額縁配線４３間の容量結合が第１の反射層６１を介して促進されてしまう、ということをより効果的に抑制し得る。
【００８９】
一方、第１の反射層６１に平行スリット６１ｓ'が設けられていると、観察者側から加飾層４６に入射した光が平行スリット６１ｓ'を通過してしまって、加飾層４６の見え方が不均一になってしまう虞がある。
【００９０】
このような課題を解決するため、本実施の形態では、オーバーコート層７１上に、平行スリット６１ｓ'に対応するようにダミー配線７０を配置する。これにより、観察者側から加飾層４６に入射して平行スリット６１ｓ'を通過した光が、ダミー配線７０によって反射されて観察者側に戻される。この結果、加飾層４６の見え方を均一にし得る。
【００９１】
より詳しくは、本実施の形態のタッチパネルセンサ３０は、複数の額縁配線４３のうち少なくとも一対の互いに隣接する額縁配線４３の間の少なくとも一部の領域に配置されたダミー配線７０を更に備えている。ダミー配線７０は、反射性を有する金属層７０ｍを含んでいる。ダミー配線７０は、複数の電極パターン４１，４２のいずれにも電気的に接続されていなくてもよいし、図示しない配線を介して接地されていてもよいし、電源電圧が印加されるように任意の機能部に接続されていてもよい。また、ダミー配線７０は、基材３２の平面視において、ダミー配線７０の領域が平行スリット６１ｓの領域の少なくとも一部を覆うように配置されている。その他の構成は、第４の実施の形態のタッチパネルセンサ３０と略同一である。
【００９２】
図１２Ａおよび図１２Ｂに示す例においては、互いに隣接する駆動配線４３ｘの間、互いに隣接する検出配線４３ｙの間、互いに隣接するシールド配線４５と駆動配線４３ｘとの間、および、互いに隣接するシールド配線４５と検出配線４３ｙとの間に、各々に、ダミー配線７０が配置されている。
【００９３】
ダミー配線７０の金属層７０ｍを構成する材料としては、反射性を有する限りにおいて特には限定されないが、本実施の形態においては、額縁配線４３の金属層４３ｘｍ，４３ｙｍと同一の材料が用いられる。また、ダミー配線７０は、ダミー配線７０の側から基材３２の側に向かう方向に見て、金属層７０ｍを覆うように形成された被覆層７０ｃを有していてよい。被覆層７０ｃを形成する材料としては、本実施の形態においては、額縁配線４３の被覆層４３ｘｃ，４３ｙｃと同一の材料が用いられる。このように、金属層７０ｍと金属層４３ｘｍ，４３ｙｍとが同一の材料で形成されていることにより、また、被覆層７０ｃと被覆層４３ｘｃ，４３ｙｃとが同一の材料で形成されていることにより、上述の額縁配線形成工程と同一の工程でダミー配線７０を形成することができる。
【００９４】
ダミー配線７０の金属層７０ｍの幅Ｗ５、ダミー配線７０に対応して設けられる平行スリット６１ｓ'の幅Ｗ６、および、第１の反射層６１のスリット間部分６１'の幅Ｗ７を決定する上では、金属層７０ｍおよび第１の反射層６１のパターニングの精度等が考慮される。本実施の形態においては、金属層７０ｍの幅Ｗ５は、１０μｍ程度であり、平行スリット６１ｓ'の幅Ｗ６は、５μｍ程度である。また、第１の反射層６１のスリット間部分６１'の幅Ｗ７は、１２．５μｍ程度である。
【００９５】
次に、図１３Ａ乃至図１４Ｃを参照して、本発明によるタッチパネルセンサの第６の実施の形態について説明する。図１３Ａは、第６の実施の形態における、駆動配線４３ｘと、検出配線４３ｙと、シールド配線４５と、第１の反射層６１と、第２の反射層６２と、を示す図であり、図１３Ｂは、図１３ＡのＸIIIＢ線断面を示す断面図であり、図１３Ｃは、図１３ＡのＸIIIＣ線断面を示す断面図である。また、図１４Ａは、第６の実施の形態におけるタッチパネルセンサの、端子部４４と、第１の反射層６１と、ダミー端子部９１と、を示す平面図であり、図１４Ｂは、図１４ＡのＸIVＢ線断面を示す断面図であり、図１４Ｃは、図１４ＡのＸIVＣ線断面を示す断面図である。
【００９６】
本実施の形態において、反射層は、反射性を有する金属材料を含む第２の反射層６２を有している。第２の反射層６２は、交差スリット６１ｃに沿って延びており、第２の反射層６２は、基材３２の平面視において、第２の反射層６２の領域が交差スリット６１ｃの領域の少なくとも一部を覆うように設けられている。第２の反射層６２と第１の反射層６１との間には、オーバーコート層６５が設けられている。その他の構成は、第４の実施の形態のタッチパネルセンサ３０の構成と略同一である。
【００９７】
図１３Ａ乃至図１３Ｃに示す例においては、基材３２の平面視において、平行スリット６１ｓと交差スリット６１ｃとが交差する領域の各々を第２の反射層６２が包含するように、第２の反射層６２が設けられている。
【００９８】
第２の反射層６２を構成する材料としては、例えば、第１の反射層６１と同一の材料が用いられ得る。また、第１の反射層６１と第２の反射層６２のオーバーコート層６５を構成する材料としては、オーバーコート層７１と同一の材料が用いられ得る。
【００９９】
第２の反射層６２は、基材３２の平面視において、平行スリット６１ｓと交差スリット６１ｃとが交差する領域を十分に包含するように設けられる。本実施の形態においては、基材３２の平面視において、平行スリット６１ｓの長さ方向の、平行スリット６１ｓと交差スリット６１ｃとが重なり合う領域の長さＬ３は、７．５μｍ程度である。
【０１００】
このように、基材３２の平面視において、第２の反射層６２の領域が交差スリット６１ｃの領域の少なくとも一部を覆うように第２の反射層６２が設けられていることにより、観察者側から加飾層４６に入射して交差スリット６１ｃを通過した光は、第２の反射層６２によって反射されて観察者側に戻る。したがって、交差スリット６１ｃが形成されている領域における加飾層４６の見え方と、その他の領域とにおける加飾層４６の見え方と、の間に差が生じることを抑制することができる。すなわち、加飾層４６の見え方をより均一なものとすることができる。
【０１０１】
さらに本実施の形態では、図１４Ａ乃至図１４Ｃに示すように、ダミー端子部９１は、第２の反射層６２と同じ層上に、基材３２の平面視において、端子部４４の外縁側端部４４ｅと基材３２の外縁との間において、ダミー端子部９１の領域が平行スリット６１ｓの領域を包含するように配置されている。ダミー端子部９１が第２の反射層６２と同じ層上に形成されていることにより、タッチパネルセンサ３０の製造工程において、第２の反射層６２の形成工程と同一の工程で形成され得る。また、基材３２の平面視において、ダミー端子部９１が、端子部４４の外縁側端部４４ｅと基材３２の外縁との間において、ダミー端子部９１の領域が平行スリット６１ｓの領域を包含するように配置されていることにより、図６Ａに示す例と比較して、観察者側から加飾層４６に入射した光が端子部４４の外縁側端部４４ｅとダミー端子部９１との間を通過してしまって加飾層４６の見え方が不均一になってしまう、ということが抑制される。
【符号の説明】
【０１０２】
３０  タッチパネルセンサ
３２  基材
４１  第１電極パターン
４２  第２電極パターン
４３  額縁配線
４５  シールド配線
４６  加飾層
６１  第１の反射層
６１ｓ  平行スリット
６１ｃ  交差スリット
６２  第２の反射層
７１  オーバーコート層
Ａ１  アクティブエリア
Ａ２  非アクティブエリア
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
2015148941.tif 000007
【図５Ｂ】
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【図６Ａ】
2015148941.tif 000009
【図６Ｂ】
2015148941.tif 000010
【図６Ｃ】
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【図７Ａ】
2015148941.tif 000012
【図７Ｂ】
2015148941.tif 000013
【図７Ｃ】
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【図７Ｄ】
2015148941.tif 000015
【図７Ｅ】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図８Ｃ】
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【図８Ｄ】
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【図８Ｅ】
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【図８Ｆ】
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【図８Ｇ】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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【図１３Ａ】
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【図１３Ｂ】
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【図１３Ｃ】
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【図１４Ａ】
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【図１４Ｂ】
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【図１４Ｃ】
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