(57)【要約】【課題】マグネシウムリチウム合金の表面に良質な化成皮膜を形成できる部品の製造方法などの提供。【解決手段】フッ素を含む酸に、マグネシウムリチウム合金の母材の表面を曝す工程と、前記表面の光沢度が３〜７になるように、前記表面に生成した反応生成物の一部を除去する工程と、アルカリに、前記表面を曝す工程と、前記表面をフッ素化して化成皮膜を形成する工程と、をこの順で含む部品の製造方法である。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ素を含む酸に、マグネシウムリチウム合金の母材の表面を曝す工程と、
前記表面の光沢度が３〜７になるように、前記表面に生成した反応生成物の一部を除去する工程と、
アルカリに、前記表面を曝す工程と、
前記表面をフッ素化して化成皮膜を形成する工程と、
をこの順で含むことを特徴とする部品の製造方法。
【請求項２】
前記反応生成物の一部の除去が、前記表面への超音波付与により行われる請求項１に記載の部品の製造方法。
【請求項３】
前記母材が、電子機器の筐体である請求項１から２のいずれかに記載の部品の製造方法。
【請求項４】
フッ素を含む酸に、マグネシウムリチウム合金の母材の表面を曝す工程と、
前記表面の光沢度が３〜７になるように、前記表面に生成した反応生成物の一部を除去する工程と、
アルカリに、前記表面を曝す工程と、
前記表面をフッ素化して化成皮膜を形成する工程と、
をこの順で含むことを特徴とする表面処理方法。
【請求項５】
請求項１から３のいずれかに記載の部品の製造方法により製造されることを特徴とする部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本件は、部品、及び部品の製造方法、並びに表面処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話、ノートＰＣ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｃｏｍｐｕｔｅｒ）などのモバイル端末においては、軽量化のために樹脂、又はアルミニウム合金を材料とする筐体が使用されている。前記アルミニウム合金は、前記樹脂よりも強度が高いというメリットはあるものの、前記樹脂よりも重いという欠点がある。
【０００３】
そこで、前記アルミニウム合金よりも軽量な合金として、マグネシウムリチウム合金が注目されつつある。前記マグネシウムリチウム合金は、主成分であるマグネシウムに少量のリチウムを添加してなり、高強度かつ軽量という特徴がある。
【０００４】
しかし、反応性が高いマグネシウムを含むマグネシウムリチウム合金は、アルミニウム合金と比較して大気中で容易に酸化してしまうため、取扱いが難しい。酸化を防止するために、前記マグネシウムリチウム合金の表面に化成皮膜を形成することも考えられるが、耐腐食性、導電性テープの密着性等を両立し得る良質な化成皮膜を形成するのは難しいという問題がある。
【０００５】
マグネシウム合金の表面処理方法として、マグネシウム合金部材を、クエン酸水素２アンモニウム、３−メチル−３−メトキシブタノール、ポリオキシエチレン（１０）ノニルフェニルエーテル及び水を主成分とする洗浄原液又はその希釈液である洗浄液の中で、超音波を付加して洗浄する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
また、マグネシウムベース金属成形体を、メタ珪酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、リン酸ナトリウム及び苛性ソーダを主成分とする処理液中に、浸漬して洗浄及び下地処理を行う方法が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
しかし、これらの提案の技術では、マグネシウムリチウム合金の表面に良質な化成皮膜を形成することはできていない。
【０００６】
したがって、マグネシウムリチウム合金の表面に良質な化成皮膜を形成できる部品の製造方法、マグネシウムリチウム合金の表面に良質な化成皮膜を形成できる表面処理方法、及びマグネシウムリチウム合金の表面に良質な化成皮膜が形成された部品の提供が求められているのが現状である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−２５６０６４号公報
【特許文献２】国際公開第２０００／５０６６６号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本件は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本件は、マグネシウムリチウム合金の表面に良質な化成皮膜を形成できる部品の製造方法、マグネシウムリチウム合金の表面に良質な化成皮膜を形成できる表面処理方法、及びマグネシウムリチウム合金の表面に良質な化成皮膜が形成された部品を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するための手段としては、後述する付記に記載した通りである。即ち、
開示の部品の製造方法は、
フッ素を含む酸に、マグネシウムリチウム合金の母材の表面を曝す工程と、
前記表面の光沢度が３〜７になるように、前記表面に生成した反応生成物の一部を除去する工程と、
アルカリに、前記表面を曝す工程と、
前記表面をフッ素化して化成皮膜を形成する工程と、
をこの順で含む。
【００１０】
開示の表面処理方法は、
フッ素を含む酸に、マグネシウムリチウム合金の母材の表面を曝す工程と、
前記表面の光沢度が３〜７になるように、前記表面に生成した反応生成物の一部を除去する工程と、
アルカリに、前記表面を曝す工程と、
前記表面をフッ素化して化成皮膜を形成する工程と、
をこの順で含む。
【００１１】
開示の部品は、開示の前記部品の製造方法により製造される。
【発明の効果】
【００１２】
開示の部品の製造方法によると、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、マグネシウムリチウム合金の表面に良質な化成皮膜を形成できる部品の製造方法を提供できる。
開示の表面処理方法によると、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、マグネシウムリチウム合金の表面に良質な化成皮膜を形成できる表面処理方法を提供できる。
開示の部品によると、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、耐腐食性と、導電性テープの密着性とを両立し得る良質な化成皮膜が形成された部品を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１は、比較例１の表面処理方法のフローチャートである。
【図２】図２は、比較例１の試験片の表面を観察して得られた写真（その１）である。
【図３】図３は、比較例１の試験片の表面を観察して得られた写真（その２）である。
【図４】図４は、比較例１の試験片の表面を観察して得られた写真（その３）である。
【図５】図５は、開示の部品の製造方法の一例のフローチャートである。
【図６】図６は、実施例１の試験片の表面を観察して得られた写真である。
【図７】図７は、比較例２の試験片の表面を観察して得られた写真である。
【図８】図８は、耐食性試験における外観変化を示す写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
（部品の製造方法、及び部品、並びに表面処理方法）
開示の部品の製造方法は、活性化工程と、反応生成物除去工程と、デスマット工程と、化成皮膜形成工程とをこの順で含み、更に必要に応じて、その他の工程を含む。
開示の部品は、開示の前記部品の製造方法により製造される。
開示の表面処理方法は、活性化工程と、反応生成物除去工程と、デスマット工程と、化成皮膜形成工程とをこの順で含み、更に必要に応じて、その他の工程を含む。
【００１５】
本発明者らは、マグネシウムリチウム合金の表面処理を、図１に示すようなフローで行う（詳細は後述の比較例１において説明する）と、化成皮膜の表面に多量の粉が析出する（以下、「粉ふき」と称することがある）ことを発見した。マグネシウムリチウム合金の母材に化成皮膜を形成する場合に粉が析出すると、粉が原因でアース用の導電性テープを母材の表面に貼付できなかったり、経年劣化によって筐体から導電テープが剥がれる等の不都合が生じるので、なるべく粉を析出させないようにするのが好ましい。
【００１６】
そこで、本発明者らは、鋭意検討を行った結果、活性化工程と、デスマット工程との間に反応生成物除去工程を含むことにより、耐腐食性を低下させず、前記粉ふきを防ぐことができることを見出した。
【００１７】
＜活性化工程＞
前記活性化工程としては、フッ素を含む酸に、マグネシウムリチウム合金の母材の表面を曝す工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記フッ素を含む酸に前記母材を浸漬する処理などが挙げられる。
【００１８】
＜＜マグネシウムリチウム合金＞＞
前記マグネシウムリチウム合金としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＬＺ９１などが挙げられる。
【００１９】
＜＜母材＞＞
前記母材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子機器の筐体などが挙げられる。前記電子機器としては、例えば、モバイル端末などが挙げられる。前記モバイル端末としては、例えば、ノート型ＰＣ、タブレットＰＣ、携帯電話、スマートフォンなどが挙げられる。
【００２０】
＜＜フッ素を含む酸＞＞
前記フッ素を含む酸としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フッ酸などが挙げられる。前記フッ素を含む酸としては、市販品を用いてもよい。前記市販品としては、例えば、ミリオン化学株式会社製のＧＦ  ＭＧ−１０９などが挙げられる。
【００２１】
前記活性化工程における前記フッ素を含む酸の温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、温度管理が容易である点で、２０℃〜６０℃が好ましく、３０℃〜５０℃がより好ましく、３５℃〜４５℃が特に好ましい。
【００２２】
前記活性化工程において、フッ素を含む酸に、マグネシウムリチウム合金の母材の表面を曝す時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、０．５分間〜５分間などが挙げられる。
【００２３】
前記活性化工程においては、前記表面にフッ化マグネシウム、フッ化リチウム、及び酸化リチウムなどが生成する。
【００２４】
＜反応生成物除去工程＞
前記反応生成物除去工程としては、前記表面の光沢度が３〜７になるように、前記表面に生成した反応生成物の一部を除去する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記表面への超音波付与、前記表面への水流の付与などが挙げられる。また、超音波を水流にのせて前記表面へ付与（いわゆる、メガソニック洗浄）してもよい。
【００２５】
前記反応生成物除去工程において除去される前記反応生成物は、主にフッ化リチウム、及び酸化リチウムである。
【００２６】
脱脂後の前記マグネシウムリチウム合金の表面の光沢度を、光沢計（例えば、ＨＯＲＩＢＡ社製、ＩＧ−３３１、測定角６０°）を用いて測定すると、３６〜４０である。また、前記活性化工程後の前記表面の光沢度は、０〜１である。即ち、前記活性化工程後に光沢度が低いことは、前記反応生成物が前記表面に多く存在することを示す。
そして、前記反応生成物除去工程においては、前記表面に生成した反応生成物の一部の除去を、前記表面の光沢度が３〜７になるように行う。前記光沢度が、３未満であると、前記反応生成物の除去量が少なすぎて、粉ふきが発生する。前記光沢度が、７を超えると、前記反応生成物の除去量が多いため、前記表面に化成皮膜を形成する際に、化成皮膜を形成するのに必要な量の前記反応生成物が前記表面に存在しないため、化成皮膜の形成が不十分になり耐食性が低下する。
【００２７】
前記表面へ付与される前記超音波の周波数としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０ｋＨｚ〜５ＭＨｚなどが挙げられる。
【００２８】
＜デスマット工程＞
前記デスマット工程としては、アルカリに、前記表面を曝す工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アルカリ水溶液に前記母材を浸漬する処理などが挙げられる。
【００２９】
前記アルカリとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、強アルカリであることが好ましい。前記強アルカリとしては、ｐＨが１３〜１４のアルカリであることが好ましい。
前記アルカリとしては、例えば、市販品を用いることができる。前記市販品としては、例えば、強アルカリ水溶液（ミリオン化学株式会社製、ＧＦ  ＭＧ−１５ＳＸ）などが挙げられる。
【００３０】
前記デスマット工程における前記アルカリの温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、反応促進の点で、４０℃〜８０℃が好ましく、５０℃〜７０℃がより好ましく、５５℃〜６５℃が特に好ましい。
【００３１】
前記デスマット工程において、前記アルカリに、前記表面を曝す時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１分間〜５分間などが挙げられる。
【００３２】
＜化成皮膜形成工程＞
前記化成皮膜形成工程としては、前記表面をフッ素化して化成皮膜を形成する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記表面を、フッ素を含む化成処理液に曝すことで行うことができる。前記表面を、前記フッ素を含む化成処理液に曝す方法としては、例えば、前記フッ素を含む化成処理液に前記母材を浸漬する方法などが挙げられる。
【００３３】
前記フッ素を含む化成処理液としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フッ酸、フッ化ナトリウム、フッ化水素酸、酸性フッ化ナトリウム、酸性フッ化カリウム、酸性フッ化アンモニウム、ケイフッ化水素酸とその塩、及びフッ化水素酸とその塩のいずれかを含む溶液を化成処理液として使用できる。前記フッ素を含む化成処理液は、市販品であってもよい。前記市販品としては、例えば、ミリオン化学株式会社製のＧＲ  ＭＣ−１６００などが挙げられる。
また、前記フッ素を含む化成処理液としては、リン酸マンガンとフッ化物との混合処理液、ＧＲ  ＭＣ−１６００とフッ酸との混合処理液などであってもよい。
【００３４】
前記化成皮膜形成工程における前記化成処理液の温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、反応促進の点で、３０℃〜７０℃が好ましく、５０℃〜７０℃がより好ましく、５５℃〜６５℃が特に好ましい。
【００３５】
前記化成皮膜形成工程において、前記化成処理液に、前記表面を曝す時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１分間〜５分間などが挙げられる。
【００３６】
＜その他の工程＞
前記その他の工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、脱脂工程などが挙げられる。
【００３７】
＜＜脱脂工程＞＞
前記脱脂工程としては、前記活性化工程の前に、前記母材の表面を、アルカリに曝す工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００３８】
前記アルカリとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、強アルカリであることが好ましい。前記強アルカリとしては、ｐＨが１３〜１４のアルカリであることが好ましい。
前記アルカリとしては、例えば、市販品を用いることができる。前記市販品としては、例えば、強アルカリ水溶液（ミリオン化学株式会社製、ＧＦ  ＭＧ−１５ＳＸ）などが挙げられる。
【００３９】
前記脱脂工程における前記アルカリの温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、反応促進の点で、５０℃〜９０℃が好ましく、６５℃〜８５℃がより好ましく、７０℃〜８０℃が特に好ましい。
【００４０】
前記脱脂工程において、前記アルカリに、前記表面を曝す時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１分間〜１０分間などが挙げられる。
【実施例】
【００４１】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるものではない。
【００４２】
（比較例１）
マグネシウムリチウム合金の表面に化成皮膜を形成する方法としては、例えば、当該表面をフッ化する方法がある。この方法について、図１を参照しながら説明する。
図１は、マグネシウムリチウム合金に対する従来の表面処理方法のフローチャートである。
【００４３】
〔工程Ｓ１１：脱脂〕
まず、最初の工程Ｓ１１において、温度が７５℃の強アルカリ水溶液（ミリオン化学株式会社製、ＧＦ  ＭＧ−１５ＳＸ）にマグネシウムリチウム合金の試験片を５分間浸漬することにより、その試験片の表面を脱脂した。なお、この例では、試験片として短辺の長さが２５ｍｍで長辺の長さが５０ｍｍの矩形状のＬＺ９１の板（日本金属株式会社製）を用いた。ＬＺ９１は、リチウムが９重量％、亜鉛が１重量％、マグネシウムが９０重量％のマグネシウムリチウム合金である。また、強アルカリ水溶液には添加剤としてミリオン化学株式会社製のＧＦ  Ｆ２１を添加した。
【００４４】
〔工程Ｓ１２：活性化〕
次に、工程Ｓ１２に移り、温度が４０℃の酸に上記の試験片を１分間浸漬することにより、試験片の表面に形成されたマグネシウム及びリチウムの自然酸化膜をエッチングして除去し、試験片の表面を清浄化した。このように表面を清浄化する工程は活性化とも呼ばれる。
この例では、フッ酸を含有するミリオン化学株式会社製のＧＦ  ＭＧ−１０９を上記の酸として使用した。このようにフッ素を含む酸を使用することで、試験片中のマグネシウムがフッ化され、活性化の後の試験片の表面にはマグネシウムのフッ化物が形成されることになる。
【００４５】
〔工程Ｓ１３：デスマット〕
続いて、工程Ｓ１３に移り、上記の活性化で試験片の表面に発生した残渣を除去するために、温度が６０℃の強アルカリ水溶液（ミリオン化学株式会社製、ＧＦ  ＭＧ−１５ＳＸ）に試験片を２分間浸漬した。この工程で除去される残渣はスマットと呼ばれる黒色物質であり、この工程はデスマット処理とも呼ばれる。
【００４６】
〔工程Ｓ１４：化成皮膜の形成〕
そして、工程Ｓ１４に移り、フッ素を含む化成処理液に上記の試験片を浸漬した。この例では、化成処理液としてミリオン化学株式会社製のＧＲ  ＭＣ−１６００を使用すると共に、その化成処理液の温度を６０℃に維持しつつ、化成処理液に試験片を２．５分間浸漬した。
この化成処理により、試験片の材料であるマグネシウム及びリチウムがフッ化して、試験片の表面にフッ素を含む化成皮膜が形成された。この例では工程Ｓ１２で試験片の表面から自然酸化膜を除去したことで、当該表面がフッ化するのが自然酸化膜で妨げられず、十分な厚みの化成皮膜を形成することができた。
更に、工程Ｓ１２では自然酸化膜を除去するためにフッ素を含む酸を用いたため、化成皮膜を形成する前には試験片の表面に予めマグネシウム及びリチウムのフッ化物が生成された状態となり、このフッ化物によって化成皮膜の成長を促すことができる。
【００４７】
〔工程Ｓ１５：乾燥〕
この後は、工程Ｓ１５に移り、高温槽において温度を８０℃、加熱時間を１０分間とする条件で試験片の表面の水分を蒸散させ、試験片を乾燥させた。
【００４８】
以上により、試験片に対する表面処理を終了した。
【００４９】
上記の化成皮膜の表面を観察した。その結果、化成皮膜の表面に多量の粉が析出していること（粉ふき）を確認した。マグネシウムリチウム合金の筐体に化成皮膜を形成する場合に粉が析出すると、粉が原因でアース用の導電性テープを筐体の表面に貼付できなかったり、経年劣化によって筐体から導電テープが剥がれる等の不都合が生じるので、なるべく粉を析出させないようにするのが好ましい。
【００５０】
本発明者らは、粉の発生（粉ふき）の原因を特定するため、上記の活性化（工程Ｓ１２）、デスマット（工程Ｓ１３）、及び化成皮膜の形成（工程Ｓ１４）の各々を終了した時点で試験片の表面を観察した。その結果を図２に示す。
【００５１】
図２において、「外観」は試験片の外観を示す。また、粉の発生状況を確認するために、試験片の表面に透明な接着テープを貼付して粉を採取した後、黒色の台紙に接着テープを貼付した状態で接着テープをスキャナーで読み取った。そして、これにより取得した画像ファイルの輝度値をフォトレタッチソフトで取得した。
【００５２】
図２における「輝度値」は、このようにフォトレタッチソフトで取得した値を示し、「輝度値」が８０．０以上の場合に「粉の発生」（即ち、粉ふき）があると判断した。図２においては、「粉の発生」がある場合、粉の発生の欄に「○」を記した。これは、外観から判断して粉の存在が明らかなときの輝度値が８０．０以上であるためである。
また、図２の「基準値」は、工程Ｓ１１〜工程Ｓ１５を行っていない未処理の試験片の「輝度値」を示す。
更に、図２における「テープ剥離」は、上記のようにスキャナーで読み取った接着テープの画像を示す。
【００５３】
活性化工程後には反応生成物である「粉」が大量に確認できる（輝度値：９２．９）。デスマット工程では、前工程で大量に生成した反応生成物のうち、表面の脆い層が除去され、「粉ふき」が一旦解消された（輝度値：５０．４）。次の化成皮膜形成工程では、活性化工程で生成した反応生成物を使用して化成皮膜が形成される。デスマット工程では反応生成物のうち、表面の脆い層しか除去できないために、化成皮膜工程後には「粉ふき」は大量に確認された（輝度値：８２．３）。
【００５４】
図２に示すように、粉は、活性化（工程Ｓ１２）と化成皮膜の形成（工程Ｓ１４）で発生している。その原因について本発明者らは以下のように考察する。
【００５５】
マグネシウムリチウム合金では、全てのリチウムがマグネシウムの格子点に存在しているとは限らず、格子点から離れて遊離した遊離リチウムが存在する。その遊離リチウムが活性化（工程Ｓ１２）のときにフッ素を含む酸に曝されるとフッ化リチウムや酸化リチウムが生成され、これらが粉として析出すると考えられる。
その粉は、デスマット処理（工程Ｓ１３）によって除去されたかのように見える。
但し、デスマット処理においては、活性化（工程Ｓ１２）のときに析出した粉のうち、試験片の表面近傍の粉のみが除去され、当該表面から深い部位にある粉は除去されないと考えられる。
そして、化成皮膜の形成（工程Ｓ１４）において、デスマット処理で除去しきれなかった粉が再び析出したものと考えられる。
【００５６】
〔超音波洗浄〕
このような粉を低減するため、上記の化成皮膜の形成（工程Ｓ１４）の後に超音波洗浄で試験片を洗浄した。
図３は、超音波洗浄後の試験片の表面を観察して得られた写真である。なお、図３では、図２で説明した各試験片の画像も併記してある。
図３に示すように、超音波洗浄により輝度値が低下（輝度値：５５．３）し、粉が除去されることが確認できた。
その一方で、超音波洗浄により化成皮膜の色彩がまだらとなってしまっている。これは、超音波洗浄によるダメージで化成皮膜の一部が剥離したためである。また、試験片の角度や槽内の位置によって超音波のあたり具合にむらが生じていると考えられる。このように化成皮膜が剥離すると、化成皮膜でマグネシウムリチウム合金を保護することができず、マグネシウムリチウム合金の耐腐食性が低下してしまう。
よって、化成皮膜の形成後の超音波洗浄は、化成皮膜の洗浄には不向きである。
【００５７】
〔硝酸系処理〕
次に、本発明者らは、粉が最初に発生する活性化の工程Ｓ１２に着目した。工程Ｓ１２においては前述のようにフッ素を含む酸を用いており、そのフッ素が遊離リチウムと反応して形成されたフッ化リチウムが粉の発生要因の一つであると考えられる。
【００５８】
そこで、本発明者らは、フッ素を含む酸に代えて、硝酸系の酸を用いて工程Ｓ１２の活性化を行った。硝酸系の酸として、この例ではミリオン化学株式会社製のＧＦ  ＭＧ−１０９１を用いた。この酸にはフッ素は含まれていない。
そして、活性化（工程Ｓ１２）、デスマット（工程Ｓ１３）、及び化成皮膜の形成（工程Ｓ１４）の各々を終了した時点で試験片の表面を観察した。
【００５９】
図４は、このようにして各工程を行った後の試験片の表面を観察して得られた写真である。
図４に示すように、活性化の工程Ｓ１２において硝酸系の酸を用いることで、当該工程Ｓ１２で粉が発生するのを抑制できる（輝度値：５２．２）。これは、硝酸系の酸にはフッ素が含まれていないため、遊離リチウムとフッ素が反応して粉の原因であるフッ化リチウムが生成されないためであると考えられる。
【００６０】
但し、このようにフッ素を含まない酸を用いると、活性化の工程Ｓ１２において試験片のマグネシウムがフッ化されず、活性化後の試験片の表面にマグネシウムのフッ化物が形成されない。マグネシウムのフッ化物は前述のように化成皮膜の成長を促す役割を担うため、このようにマグネシウムのフッ化物が存在しないと化成皮膜の成長が不十分となり、化成皮膜の膜厚が薄くなってしまう。よって、この場合も化成皮膜でマグネシウムリチウム合金を保護することができず、マグネシウムリチウム合金の耐腐食性が低下してしまう。
【００６１】
（実施例１）
図５のフローチャートに従って、開示の部品の製造方法及び表面処理方法の１実施形態を行った。具体的には以下のとおりである。
【００６２】
〔工程Ｓ１：脱脂〕
比較例１の工程Ｓ１１と同様にして、マグネシウムリチウム合金の試験片の表面を脱脂した。具体的には以下のとおりである。
温度が７５℃の強アルカリ水溶液（ミリオン化学株式会社製、ＧＦ  ＭＧ−１５ＳＸ）にマグネシウムリチウム合金の試験片を５分間浸漬することにより、その試験片の表面を脱脂した。なお、この例では、試験片として短辺の長さが２５ｍｍで長辺の長さが５０ｍｍの矩形状のＬＺ９１の板を用いた。ＬＺ９１は、リチウムが９重量％、亜鉛が１重量％、マグネシウムが９０重量％のマグネシウムリチウム合金である。また、強アルカリ水溶液には添加剤としてミリオン化学株式会社製のＧＦ  Ｆ２１を添加した。
【００６３】
〔工程Ｓ２：活性化〕
比較例１の工程Ｓ１２と同様にして、マグネシウムリチウム合金の試験片の表面を活性化した。具体的には以下のとおりである。
温度が４０℃の酸に上記の試験片を１分間浸漬することにより、試験片の表面に形成されたマグネシウム及びリチウムの自然酸化膜をエッチングして除去し、試験片の表面を清浄化した。
この例では、フッ酸を含有するミリオン化学株式会社製のＧＦ  ＭＧ−１０９を上記の酸として使用した。このようにフッ素を含む酸を使用することで、試験片中のマグネシウムがフッ化され、活性化の後の試験片の表面にはマグネシウムのフッ化物が形成されることになる。
【００６４】
〔工程Ｓ３：反応生成物除去〕
超音波洗浄器（出力１８０Ｗ、発振周波数３８ｋＨｚ、商品名ＵＳＫ−３、アズワン株式会社製）を用いて、２５℃６０秒間で、試験片に超音波の付与を行った。超音波の付与を行った後に、試験片の表面の光沢度を、光沢計（例えば、ＨＯＲＩＢＡ社製、ＩＧ−３３１、測定角６０°）を用いて測定した結果、光沢度は、５であった。このことより、工程Ｓ３により、反応生成物の一部が除去されていることが確認できた。
【００６５】
〔工程Ｓ４：デスマット〕
比較例１の工程Ｓ１３と同様にして、マグネシウムリチウム合金の試験片の表面のデスマット処理を行った。具体的には以下のとおりである。
上記の活性化で試験片の表面に発生した残渣を除去するために、温度が６０℃の強アルカリ水溶液（ミリオン化学株式会社製、ＧＦ  ＭＧ−１５ＳＸ）に試験片を２分間浸漬した。
【００６６】
〔工程Ｓ５：化成皮膜の形成〕
比較例１の工程Ｓ１４と同様にして、マグネシウムリチウム合金の試験片の表面に化成皮膜を形成した。具体的には以下のとおりである。
フッ素を含む化成処理液に上記の試験片を浸漬した。この例では、化成処理液としてミリオン化学株式会社製のＧＲ  ＭＣ−１６００を使用すると共に、その化成処理液の温度を６０℃に維持しつつ、化成処理液に試験片を２．５分間浸漬した。
この化成処理により、試験片の材料であるマグネシウムがフッ化して、試験片の表面にフッ素を含む化成皮膜が形成された。この例では工程Ｓ２で試験片の表面から自然酸化膜を除去したことで、当該表面がフッ化するのが自然酸化膜で妨げられず、十分な厚みの化成皮膜を形成することができた。
【００６７】
〔工程Ｓ６：乾燥〕
比較例１の工程Ｓ１５と同様にして、マグネシウムリチウム合金の試験片を乾燥させた。具体的には以下のとおりである。
高温槽において温度を８０℃、加熱時間を１０分間とする条件で試験片の表面の水分を蒸散させ、試験片を乾燥させた。
【００６８】
以上により、試験片に対する表面処理を終了した。
【００６９】
上記の活性化（工程Ｓ２）、反応生成物除去（工程Ｓ３）、デスマット（工程Ｓ４）、及び化成皮膜の形成（工程Ｓ５）の各々を終了した時点で試験片の表面を観察した。その結果を図６に示す。
図６において、「外観」、「テープ剥離」、「輝度値」、「粉の発生」の各項目の意味は図２におけるのと同様である。
図６に示すように、本実施例では工程Ｓ２の活性化を行った時には、輝度値が１００．４であり、粉の発生が確認できる。しかし、工程Ｓ３を行った後には、従来のデスマット工程よりも深い層の反応生成物まで除去され、輝度値が５０．５となっており、粉が除去できていた。次の工程Ｓ４では、反応生成物除去工程で荒れた母材表面の反応生成物層表面が溶解除去され、表面が平滑になっていた（輝度値：４５．７）。更に、工程Ｓ５において化成皮膜を形成した後においても輝度値が４７．５と低い値に抑えられ、化成皮膜の上にも粉が発生していないことが確認できた。
【００７０】
（比較例２）
実施例１において、工程Ｓ１〜工程Ｓ５の順序を、工程Ｓ３（反応生成物除去）を工程Ｓ４（デスマット）の後に行う順序に変更した（即ち、工程Ｓ１、工程Ｓ２、工程Ｓ４、工程Ｓ３、工程Ｓ５の順序で行った）以外は、実施例１と同様にして、試験片に化成皮膜を形成した。
各々の工程を終了した時点で試験片の表面を観察した。その結果を図７に示す。
デスマット工程後に反応生成物除去を行うと化成皮膜形成後に粉ふきの発生は抑制できるものの、反応生成物除去後、及び化成皮膜形成後に、表面にムラが生じた。このムラは、耐腐食性の低下につながる。
【００７１】
（実施例２）
実施例１において、化成処理液にフッ酸を添加した以外は、実施例１と同様にして、マグネシウムリチウム合金の表面処理を行った。化成皮膜形成後の輝度値は。５１．２であり、反応生成物除去工程を行っていない場合と比較して、粉の発生が抑制できていることが確認できた。
【００７２】
（比較例３）
実施例１において、工程３を行った後の試験片の表面の光沢度が８になるようにした以外は、実施例１と同様にして、部品の製造を行った。その結果、粉ふきは発生しないものの、耐腐食性の低下が見られた。
【００７３】
（比較例４）
実施例１において、工程３を行った後の試験片の表面の光沢度が２になるようにした以外は、実施例１と同様にして、部品の製造を行った。その結果、粉ふきの発生が見られた。
【００７４】
（耐腐食性試験）
耐腐食性の低下を確認するための耐腐食性試験を行った。
具体的には、温湿度サイクル条件（ＭＩＬ−ＳＴＤ−１０６Ｄ−２０２Ｅ）を１０サイクル実施後の外観変化、及び導通性評価を行った。
外観変化を、図８に示した。なお、試験片は全て化成皮膜が形成された後の試験片である。実施例１以外は、外観に変化が生じており、耐腐食性が不十分であった。図８においては、耐腐食性が良好であることを「○」で表現した。
導通性試験は、化成皮膜表面の抵抗値を４探針の抵抗計で測定するもので、実施例１、比較例１、及び比較例２の化成皮膜は、硝酸系活性化剤を使用した皮膜以外は初期の時点から導通が見られなかった。硝酸系活性化剤を使用した皮膜については、初期では導通が見られたが、温湿度サイクル後には腐食によって導通しなくなった。
【００７５】
以上の実施形態に関し、更に以下の付記を開示する。
（付記１）  フッ素を含む酸に、マグネシウムリチウム合金の母材の表面を曝す工程と、
前記表面の光沢度が３〜７になるように、前記表面に生成した反応生成物の一部を除去する工程と、
アルカリに、前記表面を曝す工程と、
前記表面をフッ素化して化成皮膜を形成する工程と、
をこの順で含むことを特徴とする部品の製造方法。
（付記２）  前記反応生成物の一部の除去が、前記表面への超音波付与により行われる付記１に記載の部品の製造方法。
（付記３）  前記母材が、電子機器の筐体である付記１から２のいずれかに記載の部品の製造方法。
（付記４）  フッ素を含む酸に、マグネシウムリチウム合金の母材の表面を曝す工程と、
前記表面の光沢度が３〜７になるように、前記表面に生成した反応生成物の一部を除去する工程と、
アルカリに、前記表面を曝す工程と、
前記表面をフッ素化して化成皮膜を形成する工程と、
をこの順で含むことを特徴とする表面処理方法。
（付記５）  前記反応生成物の一部の除去が、前記表面への超音波付与により行われる付記４に記載の表面処理方法。
（付記６）  前記母材が、電子機器の筐体である付記４から５のいずれかに記載の表面処理方法。
（付記７）  付記１から３のいずれかに記載の部品の製造方法により製造されることを特徴とする部品。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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