(57)【要約】【課題】  本発明は、被蒸着物への輻射熱を発生することなく、蒸着物質が付着したシャッタ板を交換するための専用駆動部を追加することなく、リニア蒸発源に適用可能なシャッタ交換機構を有する真空蒸着装置を提供する。【解決手段】  本発明は、複数のノズルを長手方向に有するリニア蒸発源と、シャッタ板を開閉移動させて蒸発源から蒸発する蒸着物質を遮断するャッタ機構とを有し、シャッタ機構は、シャッタ板を支持するシャッタベースと、シャッタベ―スを蒸発供給させる方向と垂直な面で直線的に開閉移動させるシャッタ駆動部と、シャッタベースの蒸発源側に複数枚積層されたシャッタ板を保持するシャッタ板保持手段と、シャッタ板を開移動の延長上の移動によって蒸発源側からシャッタ板を順次分離するシャッタ板分離手段とを有する。【選択図】  図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着物質を蒸発供給する複数のノズルを長手方向に有するリニア蒸発源と、シャッタ板を開閉移動させて前記蒸発源から蒸発する前記蒸着物質を遮断するシャッタ機構と、を有し、
前記シャッタ機構は、
前記シャッタ板を支持するシャッタベースと、
前記シャッタベ―スを前記蒸発供給させる方向と垂直な面で直線的に前記開閉移動させるシャッタ駆動部と、
前記シャッタベースの前記蒸発源側に複数枚積層された前記シャッタ板を保持するシャッタ板保持手段と、
前記シャッタ板を開移動の延長上の移動によって前記蒸発源側から前記シャッタ板を順次分離するシャッタ板分離手段と、を有する
ことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項２】
請求項１に記載の真空蒸着装置であって、
前記シャッタ板保持手段は、前記シャッタベースにその前記長手方向の両側の第１端部に、複数枚積層された前記シャッタ板に対して短手方向にずらして設けられた前記シャッタを保持する複数の保持部と、前記シャッタ板に前記長手方向の両側の第２端部に前記保持部に対応してそれぞれ設けられ、前記端部から前記シャッタベースに向かって延在し前記保持部に保持される複数の被保持部と、を有する、
ことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項３】
請求項２に記載の真空蒸着装置であって、
前記保持部は、マグネットで構成され前記長手方向に移動可能なマグネット部であり、
前記被保持部は、前記マグネット部に吸着される吸着部であり、
前記シャッタ板分離手段は、前記マグネット部と前記吸着部とで形成される接着磁力を解除できるように先端が斜面加工された分離ブロックである、
ことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項４】
請求項２に記載の真空蒸着装置であって、
前記保持部は、前記シャッタベースの端部側面に配設されたフックピンであり、
前記被保持部は、前記フックピンに係合するフックであり、
前記シャッタ板分離手段は、先端が平面加工され、前記フックの前記シャッタベース側と接触する分離ブロックである、
ことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項５】
請求項２に記載の真空蒸着装置であって、
前記被保持部は、平坦部を有し、
前記保持部は、前記シャッタベースの前記蒸発源の反対側に設けられ、前記平坦部を押付けるクランプであり、
前記シャッタ板分離手段は、前記クランプを離間できるように先端が斜面加工された分離ブロックである、
ことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項６】
請求項１に記載の真空蒸着装置であって、
前記シャッタ板保持手段は、前記シャッタ板を磁力で接着固定するシャッタベース内に配設したマグネット部を有する保持部と、前記マグネット部に対応した部分に前記マグネット部に吸着する吸着部と、複数枚積層されたそれぞれの前記シャッタ板に設けられた引掛け用の溝、あるいは、穴と、を有する被保持部と、を有し、
前記シャッタ板分離手段は、複数枚積層された前記シャッタのうち１枚の前記溝または穴と係合する突起部と、前記突起部を係合させるバネとを有するプランジャーであり、前記突起部は、前記プランジャーとの前記開移動の延長上の移動によって最下層の前記シャッタ板と前記係合を行い、再び閉方向に戻るときに前記係合した前記シャッタ板を維持し、分離させる、
ことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかに記載の真空蒸着装置であって、
前記シャッタベースは、内部に冷却材の流路を有する、
ことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項８】
請求項１乃至６のいずれかに記載の真空蒸着装置であって、
前記シャッタ板の蒸着材料の付着面の縦横の長さは、シャッタベースの縦横の長さよりも長い、
ことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項９】
請求項１乃至６のいずれかに記載の真空蒸着装置であって、
前記シャッタ板を前記シャッタベースから分離する直下に配設した前記シャッタ板の回収部を有する、
ことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項１０】
請求項１から６のいずれかに記載の真空蒸着装置において、
前記シャッタ板が分離して落下する方向の前記真空蒸着装置の真空槽外部に配設したシャッタ板の搬出予備室と、前記真空槽と前記搬出予備室の間に設けられたゲートバルブと、を有する
ことを特徴とする真空蒸着装置。
【請求項１１】
請求項１から６のいずれかに記載の真空蒸着装置において
前記シャッタ機構の前記開閉動作の延長上であって、前記真空蒸着装置の真空槽外部の側面に配設された前記シャッタ板の供給予備室と、複数枚積層された未使用の前記シャッタ板を載置する交換ホルダと、前記真空槽と前記供給予備室の間に設けられたゲートバルブと、前記開閉動作延長上を前記シャッタ機構に向けて前記供給ホルダを移動させる移動機構と、を有するシャッタ板ユニット供給機構を有する、
ことを特徴とする真空蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板の被蒸着物に蒸着物質を蒸着する真空蒸着装置に係わり、特に複数のノズルを配設したリニア蒸発源を有し、シャッタ機構を蒸発源から蒸発する蒸着物質の蒸発方向を遮るよう配設した真空蒸着装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、真空蒸着装置には蒸発源から蒸発する蒸着物質の蒸着量を制御するために、蒸発源とこれに対向するよう配置された被蒸着物との間にシャッタ機構が設けられる。こうしたシャッタ機構は、シャッタ板を蒸着物質の蒸発方向を遮るように設け、開閉することで、被蒸着物への蒸着量の制御を行っている。
【０００３】
そして、シャッタ機構で蒸着量を制御しながら被蒸着物に蒸着を行うと、これによりシャッタ板の蒸発源に対向する面に蒸着物質が順次付着する。蒸着物質のシャッタ板への付着量は蒸着処理量に比例して多くなるため、シャッタ板を新しいものと交換、もしくは、使用していたシャッタ板の清掃を頻度多く行う必要がある。
【０００４】
シャッタ板の交換や清掃に際しては、真空蒸着装置の運転を停止してシャッタ板の取り外しや取り付けを行う作業、また、再運転に当たっての真空槽内の排気減圧や蒸発源の温度調節等を要する。このように交換や清掃に手間が掛かるものとなっていると共に再立ち上げには多くの時間が掛かっていた。
【０００５】
この課題を解決する手段として、例えば、特許文献１では、真空容器の内部に回転可能に支持された複数枚のシャッタを選択的に１枚ずつ回動させる機構で、容易にシャッタを交換する技術が示されている。
【０００６】
特許文献２では、シャッタ板が複数枚積層された収納筒体内を回転させてシャッタを行い、蒸発源に対向するシャッタ板から順次抜き取る機構で、容易にシャッタ板を交換する技術が示されている。
【０００７】
特許文献３では、シャッタに発熱体を設けて、シャッタへの蒸着物の付着を防止し、シャッタの交換等を要するものではないが、付着防止のためにシャッタを加熱するための発熱体が必要である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開昭５９−０５９８８１号公報
【特許文献２】特開平０９−００３６３２号公報
【特許文献３】特開平０５−０５９５３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
蒸発源から蒸発する蒸着物質の蒸気指向性は、ｃｏｓｎθに近似できることが知られている。例えば、有機EL素子に蒸着される有機材料のＡｌｑ３、α−ＮＰＤや金属材料のＡｌ、Ａｇ、Ｍｇ等は、蒸気指向性のｎ値は、おおよそｎ＝５〜８である。均一な膜厚を蒸着するために、図１に示すように蒸気指向性の両端少量部分は、角度制限板９によって、蒸着量は制限されている。例えば、角度制限板９によって、＋３０度以上、及び、−３０度以下の蒸発方向を制限した場合、シャッタ７への材料付着の割合（開口割合α[％]）は、ｎ＝６のときα＝８３％であり、残りの１７％は角度制限板９に付着することになる。ここで、材料Ｍ[ｋｇ]を投入した場合、材料付着量Ｗ[ｋｇ]は、Ｗ＝Ｍ×αとなる。重力加速度をｇ[ｍ／ｓ２]、付着面積をＡ[ｍ２]とすると、Ｗ×ｇ／Ａ＞材料付着力[Ｎ／ｍ２]となる場合は、付着した材料のはがれが発生し、蒸発源１０に落下し、ノズル詰まり等の原因となる。従って、連続稼動時間内に上記材料はがれの可能性がある場合は、シャッタ７の交換が必要となる。
【００１０】
また、被蒸着物１００が有機EL素子の場合、蒸発源１０からの輻射熱が被蒸着物１００へダメージを与えるため、蒸発源１０からの輻射熱を抑制しなければならないという課題もある。
【００１１】
しかしながら、特許文献１は、蒸発源のノズルが１つのポイントソースに限られ、複数のノズルを配設したリニア蒸発源では、スペースの問題で適用できない。
【００１２】
また、特許文献２は、収納筒体内を回転させる駆動部とは別にシャッタ板を抜き取る駆動部が必要であり、駆動部側に抜き取る及び収納するスペースが必要となる。また、特許文献１、２では、蒸発源側に対向しているシャッタ保持部が移動するときに、蒸着物質が付着し、成膜性能に影響を与えるゴミの発生源となる。
【００１３】
さらに、特許文献３は、発熱体が必要であり、被蒸着物１００へダメージを与える輻射熱を発生する。また、発熱体制御部やそれに係るそのための費用等設備投資が増加する。また、蒸発した蒸着物質がシャッタに付着しない代わりに、その他構造物に多量に付着してしまう可能性がある。
【００１４】
本発明は、上記課題を鑑みてなされたもので、その目的とするところは被蒸着物への輻射熱を発生することなく、蒸着物質が付着したシャッタ板を交換するための専用駆動部を追加することなく、リニア蒸発源に適用可能なシャッタ交換機構を有する真空蒸着装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の真空蒸着装置は、上記の目的を達成するために、例として以下の特徴を有する。
【００１６】
本発明は、蒸着物質を蒸発供給する複数のノズルを長手方向に有するリニア蒸発源と、シャッタ板を開閉移動させて蒸発源から蒸発する蒸着物質を遮断するシャッタ機構と、を有し、シャッタ機構は、シャッタ板を支持するシャッタベースと、シャッタベ―スを蒸発供給させる方向と垂直な面で直線的に開閉移動させるシャッタ駆動部と、シャッタベースの蒸発源側に複数枚積層されたシャッタ板を保持するシャッタ板保持手段と、シャッタ板を開移動の延長上の移動によって蒸発源側からシャッタ板を順次分離するシャッタ板分離手段と、を有する。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、被蒸着物への輻射熱を発生することなく、蒸着物質が付着したシャッタ板を交換するための専用駆動部を追加することなく、リニア蒸発源に適用可能なシャッタ交換機構を有する真空蒸着装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】蒸発源の側面図、及び、蒸発源から蒸発する蒸着物質の蒸気指向性を示すグラフである。
【図２】本発明のシャッタ機構の第１の実施例及びシャッタ板を回収する回収機構の第１の実施例を有する真空蒸着装置の第１の実施形態を示す斜視図である。
【図３】図２に示す蒸発源の待機位置において、シャッタ機構及び回収機構を矢印Ａから見た側面図及びシャッタ機構の上面図を示し、シャッタ板の交換動作及び回収動作の説明図であり、交換前の状態を示す図である。
【図４】図２に示す蒸発源の待機位置において、シャッタ機構及び回収機構を矢印Ａから見た側面図及びシャッタ機構の上面図を示し、シャッタ板の交換動作及び回収動作の説明図であり、交換後の状態を示す図である。
【図５】本発明のシャッタ機構の第２の実施例を有する真空蒸着装置の第２の実施形態を示す図である。
【図６】本発明のシャッタ機構の第３の実施例を有する真空蒸着装置の第３の実施形態を示す図であり、図６において矢印Ｂの方向見たＢ側面図を付した図である。
【図７】本発明のシャッタ機構の第４の実施例を有する真空蒸着装置の第４の実施形態を示す図である。
【図８】本発明の回収機構の第２の実施例を有する真空蒸着装置の第５の実施形態を示す図である。
【図９】シャッタ板ユニット供給機構を配設した本発明の真空蒸着装置の第６の実施形態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明に係る実施の形態を図面を参照して説明する。尚、図示されている本構成物は、図８に示すよう真空槽１１内に配設されており、その内部は図示しない減圧部によって所定の減圧状態に保たれるようになっている。
【００２０】
図１は、蒸発源１０の側面図、及び、蒸発源１０から蒸発する蒸着物質の蒸気指向性を示すグラフである。坩堝２内には、蒸着材料１が充填されており、蒸着材料１が蒸発する温度までヒータ３で加熱を行なう。蒸発した蒸着物質は、坩堝２上面の孔（ノズル）６から蒸発し、被蒸着物１００に蒸着して所望の膜を形成する。
【００２１】
尚、ヒータ３、及び、坩堝２から外部への熱量流出を軽減するため、ヒータ３、及び、坩堝２はリフレクタ４や冷却ＢＯＸ５で覆われている。また、均一な膜厚を蒸着するために、蒸気指向性の両端少量部分は、角度制限板９によって蒸着量は制限されている。そして、図示していない蒸着量監視センサで蒸着量をモニタし、蒸着量が所望の値に安定後、シャッタ板７２を開放して蒸着を開始する。
【００２２】
(実施形態１)
図２は、本発明のシャッタ機構７の第１の実施例Ｓ１及びシャッタ板７２を回収する回収機構８の第１の実施例Ｋ１を有する真空蒸着装置５０の第１の実施形態を示す斜視図である。図３、図４は、図２に示す蒸発源１０の待機位置において、シャッタ機構７及び回収機構８を矢印Ａから見た側面図及びシャッタ機構７を上から見た上面図を示し、シャッタ板７２の交換動作及び回収動作の説明図である。図３は交換前の状態を、図４は交換後の状態を示す図である。
【００２３】
図２に示すように、蒸発源１０は、複数のノズル６を直線状に配設したタイプであり、リニア蒸発源１０と呼ばれている。このリニア蒸発源１０を、図２に示す待機位置でシャッタ板７２を開放後、矢印で示すＸ方向に、図示しない駆動装置により水平移動させて、ガラス基板などの被蒸着物１００に均一な膜を蒸着させる。
【００２４】
また、蒸着終了後や蒸着量が所望の値で安定していない場合等は、図３に示すようにシャッタ板７２を閉じた状態で待機することで、他構造物への余分な蒸着物質の付着を防止する役目を果たしている。そして、例えば、図２に示したようにシャッタ駆動部７ｋを構成すれば、モータの回転運動からシャッタ板７２の水平運動に伝達し、容易にシャッタ板７２の開閉動作を行なうことが可能である。
【００２５】
次に、図３、及び、図４を参照して、シャッタ板７２交換動作を説明する。シャッタ機構７は、シャッタ駆動部７ｋの他、シャッタベース７１と、蒸発源１０側に複数枚積層されたシャッタ板７２と、シャッタ板保持手段７０と、シャッタベース７１からシャッタ板７２を分離させるシャッタ板分離手段７４と、を有する。
【００２６】
シャッタ板保持手段７０は、シャッタベース７１にその長手方向の両側の端部に設けられ、複数枚積層されたシャッタ板７２をそれぞれの保持する複数の保持部と、保持部に対応してシャッタ板７２にその長手方向の両側の端部に設けれ、保持部に保持される複数の被保持部とを有する。保持部及び被保持部は、シャッタ板７２の積層枚数に応じて、それぞれの短手方向にずらして設けられている。
【００２７】
実施例Ｓ１では、シャッタベース７１に３枚が積層されたシャッタ板７２ａ、７２ｂ、７２ｃ（７２）に対応して保持部としてマグネット部７３ａ、７３ｂ、７３ｃ（７３）を有する。また、シャッタ板７２にそれぞれマグネット部７３ａ、７３ｂ、７３ｃ（７３）に対応して被保持部として、端部から延在したマグネットに吸着される材料で形成された延在部、例えば凸形曲げ加工部分７２αａ、７２αｂ、７２αｃ（７２α）を有する。従って、各シャッタ板７２は、凸形曲げ加工部分７２αとマグネット部７３の接着磁力によって、シャッタベース７１に保持されている。なお、被保持部にマグネット部を設け、保持部をマグネットに吸着される材料で形成してもよい。
【００２８】
そして、マグネット部７３（７３ａ、７３ｂ、７３ｃ）の保持部は、図４の上面図に示すように凸形曲げ加工部７２αから離間できるスライド構造と有している。マグネット部７３のスライド構造は、シャッタベース７１上面に溝加工をしてもよいし、リニアガイドを配設してもよい。
【００２９】
シャッタ板分離手段７４は、図４の上面図に示すように、回収ＢＯＸ８Ａに固定された斜面加工された分離ブロック７４αを有する。分離ブロック７４αは、凸形曲げ加工部分７２αとマグネット部７３の接着磁力を解除する機構である。通常は、シャッタ板７２は、待機位置にいる蒸発源１０の上にいて、蒸着材料１を不要な部分に拡散しないように付着させている。再度、蒸発源１０が次の被蒸着部１００を蒸着する際には、シャッタ板７２は、シャッタ駆動部７ｋによって、図２に示す矢印Ｘ方向とは反対方向、即ちシャッタ機構７の動作で示せば開方向に移動し、図３に示すように、分離ブロック７４αと接触しない位置にあるシャッタ板７２の待機位置へ戻る。以下の説明では、Ｘ方向を開方向、Ｘ方向とは反対方向を閉方向という。
【００３０】
しかしながら、現在のシャッタ板７２、図３ではシャッタ板７２ａが所定量の蒸着材料の１の蒸着を得たと判断した場合は、待機位置から開方向の延長上にさらに水平移動し、図４に示すシャッタ交換位置に移動する。図４の上面図に示すように、斜面加工された分離ブロック７４αがシャッタ板７２ａの凸形曲げ加工部分７２αａとマグネット部７３ａの隙間に入り、接着磁力が無効となって、シャッタ板７２ａは落下する。これにより、シャッタ板７２の交換が可能となる。
【００３１】
落下したシャッタ板７２ａは、図４に示すように、シャッタ板７２の交換位置直下に設けられた回収ＢＯＸ８Ａに落下する。回収ＢＯＸ８Ａは、落下したシャッタ板７２の衝撃を少なくし、付着した材料が飛散しない構造とすることが望ましい。その為に、例えば、回収ＢＯＸ８Ａの回収底面８Ａｓにバネなど緩衝部を設けてもよい。また、回収ＢＯＸ８Ａでは、その回収底面８Ａｓに傾斜を持たせてもよい。傾斜方向は、回収したシャッタ板７２を熱源から遠ざけ、付着物の飛散を少なくするため、蒸発源１０と反対方向とする方がより良い。
【００３２】
また、上層に積層されたシャッタ板７２を回収するためには、下層のシャッタ板７２よりさらに開方向に水平移動する必要がある。従って、回収ＢＯＸ８Ａの長さＬは、最上層のシャッタ板７２ｃを回収できる長さとする。
【００３３】
シャッタベース７１は、内部に冷却水などの冷却材が通過できる流路が加工されており、入出口が冷却材と接続可能となっている。
また、シャッタ板７２の蒸着材料１の付着面の縦横の長さは、シャッタベース７１の縦横の長さよりも長くする。このような長さ関係とすることにより、シャッタ板が開閉移動するときに、シャッタベース７１に蒸着材料１が付着することが無く、その結果、成膜性能に悪影響を与える蒸着材料のごみの発生をなくすことができる。
【００３４】
以上説明したように、実施形態１によれば、蒸発源から蒸発する蒸着物質を遮るよう配設したシャッタ機構７が、シャッタ板７２の開方向の延長上をさらにシャッタ板７２を移動させてシャッタ７２を落下させることができる。この結果、新たに落下させるための駆動部を設ける必要がなく、単一の駆動機構でシャッタ板７２の交換を行うことができる。
【００３５】
また、以上説明したように、実施形態１によれば、発熱体を設ける必要がなく、さらにシャッタ板７２を保持し、被蒸着物１００に面するシャッタベース７１内に冷却材を流すことで、被蒸着物１００への輻射熱を極力低減でき、成膜性能を向上させることがきる。
【００３６】
なお、以下の実施形態の説明では、シャッタ板７２を始めとして構成物には、煩雑さを避けるために、説明に必要なもの以外符号を付していない。
【００３７】
（実施形態２）
図５は、本発明のシャッタ機構７の第２の実施例Ｓ２を有する真空蒸着装置５０の第２の実施形態を示す図であって、実施形態１の図４に対応する図を示す図である。シャッタ機構７以外は、実施形態１と同じである。但し、回収機構８は示していない。
【００３８】
実施例Ｓ２の実施例Ｓ１と異なる点は、シャッタ板保持手段７０とシャッタ板分離手段７４とが異なる。実施例Ｓ１では磁力を利用して行うのに対し、実施例Ｓ２はフックを利用して行う。シャッタ機構７を構成するその他の部分は同じである。
【００３９】
実施例Ｓ２のシャッタ板保持手段７０は、保持部としてシャッタベース７１側面に配設したフックピン７５を、被保持部として実施例Ｓ１と同様に、シャッタ板７２の端部から延在した延在部、例えば凸形曲げ加工部分７２αａに設けられた切欠き加工部７２βａを、有する。
シャッタ板分離手段７４は、先端が平面加工された分離ブロック７４βを有する。
この構造によって、図５のシャッタ板７２ａを交換する例で示すように、実施例Ｓ１と同様に、シャッタ板７２ａを、待機位置からさらに開方向の延長上を移動し、シャッタ交換位置に水平移動することにより、分離ブロック７４βが凸形曲げ加工部分７２αａの切欠き加工部７２βａ上部を押し、凸形曲げ加工部分７２αａがフックピン７５ａから外れて分離して、シャッタ板７２ａは落下する。これにより、シャッタ板７２ａの交換が可能となる。
【００４０】
実施例Ｓ２においても、フックというより簡単な機構を用いることにより、実施例Ｓ１と同じ効果を奏することができる。実施例Ｓ２では、シャッタ板７２は、必ずしも磁性体で構成する必要もない。
【００４１】
（実施形態３）
図６は、本発明のシャッタ機構７の第３の実施例Ｓ３を有する真空蒸着装置５０の第３の実施形態を示す図であり、実施形態１の図４に対応する図で、さらに図６において矢印Ｂの方向から見たＢ側面図を付した図である。シャッタ機構７以外は、実施形態１と同じである。但し、回収機構８は示していない。
【００４２】
実施例Ｓ３の実施例Ｓ１と異なる点は、シャッタ板保持手段７０が異なる。実施例Ｓ１では磁力を利用して行うのに対し、実施例Ｓ３はクランプ７６を利用して行う。シャッタ機構７を構成するその他の部分は同じである。
【００４３】
実施例Ｓ３のシャッタ板保持手段７０は、被保持部としてシャッタ板７２の端部から延在した平坦部を有する例えば凸形曲げ加工部分７２αと、保持部としてシャッタベース７１の上面に設けられ、バネ７６βで凸形曲げ加工部分７２αを保持するクランプ７６とを有する。
シャッタ板分離手段７４は、実施例Ｓ１と同様に先端が斜面加工された分離ブロック７４αと、を有する。
【００４４】
この構造によって、図６のシャッタ板７２ａを交換する例で示すように、実施例Ｓ１と同様に、シャッタ板７２を、待機位置からさらに開方向に位置するシャッタ交換位置に水平移動することにより、斜面加工された分離ブロック７４αがバネ７６βａに打ち勝ってクランプ７６ａを開き、シャッタ板７２ａをシャッタベース７１から分離させ、落下させる。これにより、シャッタ板７２ａの交換が可能となる。
【００４５】
実施例Ｓ３においても、クランプ７６という機構を用いることにより、実施例Ｓ１と同じ効果を奏することができる。
【００４６】
（実施形態４）
図７は、本発明のシャッタ機構７の第４の実施例Ｓ４を有する真空蒸着装置５０の第４の実施形態を示す図であって、実施形態１の図４に対応する図を示す図である。シャッタ機構７以外は、実施形態１と同じである。但し、回収機構８は示していない。
【００４７】
実施例Ｓ４の実施例Ｓ１と異なる点は、シャッタ板保持手段７０とシャッタ板分離手段７４が異なる。実施例Ｓ１では磁力を利用して行うのに対し、実施例Ｓ４はプランジャー７７を利用して行う。シャッタ機構７を構成するその他の部分は同じである。
【００４８】
実施例Ｓ４のシャッタ板保持手段７０は、保持部としてシャッタ板７２を磁力で接着固定するシャッタベース７１内に配設したマグネット部７３を、被保持部として少なくともマグネット部７３に対応した部分にマグネット部７３に吸着する吸着部と、複数枚積層されたそれぞれのシャッタ板７２に設けられた係合用の溝、あるいは、穴７２γ(７２γａ)と、を有する。
シャッタ板分離手段７４は、複数枚積層されたシャッタ板７２のうち１枚シャッタ板の溝、あるいは、穴７２γと係合する突起部７７δと、突起部７７δを係合させるバネ７７γとを有するプランジャー７７と、を有する。
【００４９】
この構造によって、図７のシャッタ板７２ａを交換する例で示すように、シャッタ７２をさらに開方向に移動しシャッタ交換位置にくると、突起部７７δが最下層のシャッタ板７２ａの溝、あるいは、穴７２γａと係合し、シャッタ交換位置から再度シャッタ閉位置に水平移動する際、係合したシャッタ板７２ａのみがプランジャー７７側に残されて、シャッタベース７１から分離し落下する。これにより、シャッタ板７２の交換が可能となる。
【００５０】
実施例Ｓ１からＳ３では、凸形曲げ加工部分７２αの取り付け位置によって、積層するシャッタ板７２の形状が異なるが、本実施例Ｓ４の構造によれば、溝、あるいは、穴７２γの構造及び位置を同じにでき、積層するシャッタ板７２を同一形状にできるというメリットがある。また、引掛け用の加工は、シャッタベース７１等への蒸着物質の付着を考えると、穴加工よりも溝加工とする方が望ましい。
【００５１】
また、実施例Ｓ４においても、プランジャーという機構を用いることにより、実施例Ｓ１と同じ効果を奏することができる。
【００５２】
（実施形態５）
図８は、本発明の回収機構８の第２の実施例Ｋ２を有する真空蒸着装置５０の実施形態５であって、実施形態１の図４に対応する図で、図４における上面図は省略している。回収機構８以外は、実施形態１と同じである。
【００５３】
実施例Ｋ２は、実施例Ｋ１と異なり、シャッタ板７２の落下方向に、回収機構８としてシャッタ板搬出機構８Ｂを配設した例である。シャッタ板搬出機構８Ｂは、搬出予備室１３と、真空蒸着装置５０の真空破壊をしなくてもシャッタ板７２を搬出ための上面ゲートバルブ１２ａと側面ゲートバルブ１２ｂと、を有する。
【００５４】
シャッタ板７２を交換し、落下する際、排気減圧をした搬出予備室１３の上面ゲートバルブ１２ａを開き、搬出予備室１３にシャッタ板７２を導入する。その後、上面ゲートバルブ１２ａを閉じ、搬出予備室１３のみ大気解放して、側面ゲートバルブ１２ｂを開き、シャッタ板７２を回収する。シャッタ板７２の落下高さは数十ｃｍであり、シャッタ７２に付着した蒸着材料１が飛び散る問題はないが、必要ならば搬出予備室１３の床にバネなどの緩衝部を設けてもよい。
【００５５】
このような構造とすれば、真空蒸着装置の運転を停止して、真空槽１１内を大気解放することなく、使用済みシャッタ板７２の回収を行うことができる。
【００５６】
（実施形態６）
図９は、シャッタ板ユニット供給機構２０を配設した真空蒸着装置５０の第６の実施形態を示す図である。シャッタ板ユニット供給機構２０は、真空槽１１の側面に配設した供給予備室１５と、複数枚積層された未使用のシャッタ板を載置する交換ホルダ１４と、真空槽１１と供給予備室１５の間に設けられたゲートバルブ１２ｃと、レールをゲートバルブ１２ｃの直前まで開閉動作の延長上に沿って延長させ、供給ホルダ１４をシャッタ機構７に向けて移動させるシャッタ駆動部７ｋと、供給予備室１５と大気雰囲気エリアとを隔離するゲートバルブ１２ｄを有する。なお、供給予備室１５は、真空槽１１の右側側面に設けてもよい。
【００５７】
そして、シャッタ板７２を全て交換し、落下させた後、排気減圧をした供給予備室１５の側面ゲートバルブ１２cを開き、交換ホルダ１４を水平移動させれば、積層したシャッタ板７２を追加供給することができる。このような構造とすれば、真空蒸着装置の運転を停止して、真空槽１１内を大気解放することなく、シャッタ板７２の追加供給を行うことができる。
【００５８】
以上説明した実施形態１乃至４に示した構造、及び、動作とすれば、交換専用の駆動部を追加せずに、また装置自体の大きさに影響を与えずにシャッタ板７２のうちの蒸発源１０に対向するものを順次更新可能となる。
【００５９】
また、以上説明した実施形態１乃至４に示した構造、及び、動作とすれば、発熱体を設ける必要がなく、さらにシャッタ板７２を保持し、被蒸着物１００に面するシャッタベース７１内に冷却材を流すことで、被蒸着物への輻射熱を極力低減でき、成膜性能を維持することがきる。
【００６０】
尚、上述したシャッタ板保持手段に限定されるものではなく、シャッタ開閉移動軸上の延長線上の位置移動によって、シャッタ板７２を落下させる構造であれば、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、種々変形してもよい。また、シャッタ板７２以外の構造物に蒸着物質を極力付着させないために、シャッタ板７２はシャッタベース７１より蒸発源１０に対向する面積を大きくし、シャッタ板保持部は蒸発源１０側に露出しない構造とすることが望ましい。
【００６１】
また実施形態５及び６に示した構造、及び、動作とすれば、真空蒸着装置の運転を停止して、真空槽１１内を大気解放することなく、シャッタ板７２の回収、及び、追加供給を行うことができる。
【００６２】
以上の説明では、被蒸着物を水平状態にて成膜する真空蒸着装置の例を述べたが、被蒸着物を垂直状態にて成膜する真空蒸着装置にも本発明を適用できる。その場合、シャッタ板７２は上下移動し、落下させる場合は、一辺に衝撃が掛からないように、回収機構８Ａのように斜めに受け取るなどの工夫が必要である。
【００６３】
以上のように本発明の実施形態について説明したが、上述の説明に基づいて当業者にとって種々の代替例、修正又は変形が可能であり、本発明はその趣旨を逸脱しない範囲で前述の種々の代替例、修正又は変形を包含するものである。
【符号の説明】
【００６４】
１：蒸着材料                      ６:ノズル
７：シャッタ機構                  ７ｋ：シャッタ駆動部
７０：シャッタ板保持手段          ７１：シャッタベース
７２：シャッタ板                  ７２α：凸形曲げ加工部分
７２β：切欠き加工部              ７２γ：溝または穴
７３：マグネット部                ７４：シャッタ板分離機構
７４α、７４β：分離ブロック      ７５：フックピン
７６：クランプ                    ７６β：バネ
７７：プランジャー                ７７γ：バネ
７７δ：突起部                    ８：回収機構
８Ａ：回収ＢＯＸ                  ８Ｂ：シャッタ板搬出機構
９：角度制限板                    １０：蒸発源
１１：真空槽                    
１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄ：ゲートバルブ
１３：搬出予備室                  １４：交換ホルダ
１５：供給予備室                  １００：被蒸着物
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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