(57)【要約】【課題】設計後においても新たなテストパターンを生成することができ、通常の動作時に不要となる回路の面積規模を縮小することができる装置の提供。【解決手段】第１の回路と、第２の回路と、を有し、第２の回路は、複数の第３の回路と、複数の第４の回路と、第５の回路と、を有し、第２の回路は、第１の回路の動作状態を試験するための信号を生成する機能と、第１の回路の一部として動作する機能と、を有し、複数の第４の回路は、第１のデータを記憶する機能と、第２のデータを記憶する機能と、を有し、第５の回路は、複数の第４の回路に第１のデータを書き込む機能と、複数の第４の回路に第２のデータを書き込む機能と、前記複数の第４の回路から第２のデータを読み出す機能と、を有する装置。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の回路と、第２の回路と、を有し、
前記第２の回路は、複数の第３の回路と、複数の第４の回路と、第５の回路と、を有し、
前記第２の回路は、前記第１の回路の動作状態を試験するための信号を生成する機能と、前記第１の回路の一部として動作する機能と、を有し、
前記複数の第４の回路は、第１のデータを記憶する機能と、第２のデータを記憶する機能と、を有し、
前記第５の回路は、前記複数の第４の回路に前記第１のデータを書き込む機能と、前記複数の第４の回路に前記第２のデータを書き込む機能と、前記複数の第４の回路から前記第２のデータを読み出す機能と、を有し、
前記第１のデータは、前記複数の第３の回路間の導通状態を制御するためのデータであり、
前記第２のデータは、前記第１の回路における処置に用いられるデータである装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記第１の回路の一部として動作する機能は、前記第１の回路のキャッシュメモリとして動作する機能であり、
前記第２のデータは、前記キャッシュメモリの記憶領域に記憶されるデータである装置。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記第１のデータは、前記第５の回路に入力されたシリアルデータに基づいて生成され、
前記第２のデータは、前記第５の回路に入力されたパラレルデータに基づいて生成される装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記第４の回路は、第１のトランジスタと、第２のトランジスタと、を有し、
前記第１のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第２のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第１のトランジスタは、第１のチャネル形成領域を有する第１の半導体を有し、
前記第２のトランジスタは、第２のチャネル形成領域を有する第２の半導体を有し、
前記第１の半導体は、酸化物半導体を含み、
前記第２の半導体は、酸化物半導体以外の材料を含む装置。
【請求項５】
請求項４において、
前記酸化物半導体は、インジウム、ガリウム、及び亜鉛を含む装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の一態様は、テスト回路が内蔵された装置に関する。
【０００２】
なお、本発明の一態様は、上記の技術分野に限定されない。本明細書等で開示する発明の一態様の技術分野は、物、方法、または、製造方法に関するものである。または、本発明の一態様は、プロセス、マシン、マニュファクチャ、または、組成物（コンポジション・オブ・マター）に関するものである。または、本発明の一態様は、半導体装置、表示装置、発光装置、蓄電装置、記憶装置、それらの駆動方法、または、それらの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
近年、プロセッサなどを有する装置（以下、「チップ」ともいう）の回路規模の増大に伴い、チップの設計段階におけるテスト及びチップの出荷段階におけるテスト（以下、「チップテスト」ともいう）に要するコストは膨大になってきている。
【０００４】
チップテストには様々な手法があり、一例として、ＢＩＳＴ（Ｂｕｉｌｔ−Ｉｎ  Ｓｅｌｆ  Ｔｅｓｔ）が知られている。ＢＩＳＴは、チップテストを行うＬＳＩテスターの機能を有する専用回路（以下、「ＢＩＳＴ回路」ともいう）をチップに内蔵し、当該専用回路を用いてチップテストを行う手法である。ＬＳＩテスターの機能としては、テストパターンを生成する機能、当該テストパターンを入力信号としてチップに供給する機能、チップの出力信号を取得する機能、当該出力信号を期待値と比較する機能などがあげられる。ＢＩＳＴを用いることで、ＬＳＩテスターのみを用いる場合に比べてチップテストに要するコストを削減でき、また、チップテストの高速化を実現できる。また、下記の特許文献１では、ＬＳＩの外部に設けられたＢＩＳＴ回路を、ＦＰＧＡ（Ｆｉｅｌｄ  Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ  Ｇａｔｅ  Ａｒｒａｙ）を使って実現する技術について開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平５−１４２２９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ＢＩＳＴ回路などの、チップに内蔵されたテスト回路を用いたチップテストの品質を高めるため、或いは、複雑な機能を有する装置に対応したチップテストを行うためには、多種多様なテストパターンを生成する機能をテスト回路に搭載する必要がある。しかし、生成するテストパターンの数及び種類が増加するほど、テスト回路の規模が大きくなり、装置内におけるテスト回路が占める面積が増加してしまう。
【０００７】
また、テスト回路を用いる場合、チップの設計段階において生成できるテストパターンが定められるために、後から新たなテストパターンを用いるチップテストを追加で実行する場合には、新たなテストパターンをチップの外部のＬＳＩテスターなどから供給する必要がある。この場合、チップテストの高速化、チップテストに要するコストの削減など、チップに内蔵されたテスト回路を用いてチップテストを行うことによるメリットを十分に享受できない。
【０００８】
上記の技術的背景の下、本発明の一態様は、新規な装置の提供を課題の一つとする。また、本発明の一態様は、通常動作時に不要となる回路の面積規模を縮小することができる装置の提供を課題の一つとする。また、本発明の一態様は、設計後においても新たなテストパターンを生成することができる装置の提供を課題の一つとする。
【０００９】
なお、本発明の一態様は、必ずしも上記の課題の全てを解決する必要はなく、少なくとも一の課題を解決できるものであればよい。また、上記の課題の記載は、他の課題の存在を妨げるものではない。これら以外の課題は、明細書、図面、請求項などの記載から、自ずと明らかとなるものであり、明細書、図面、請求項などの記載から、これら以外の課題を抽出することが可能である。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一態様にかかる装置は、第１の回路と、第２の回路と、を有し、第２の回路は、第１の回路の動作状態を試験するための信号を生成する機能と、第１の回路の一部として動作する機能と、を有する。
【００１１】
本発明の一態様にかかる装置は、第１の回路と、第２の回路と、を有し、第２の回路は、複数の第３の回路と、複数の第４の回路と、第５の回路と、を有し、第２の回路は、第１の回路の動作状態を試験するための信号を生成する機能と、第１の回路の一部として動作する機能と、を有し、第４の回路は、第１のデータを記憶する機能と、第２のデータを記憶する機能と、を有し、第５の回路は、複数の第４の回路に第１のデータを書き込む機能と、複数の第４の回路に第２のデータを書き込む機能と、前記複数の第４の回路から第２のデータを読み出す機能と、を有する。また、第１のデータは、複数の第３の回路間の導通状態を制御するためのデータであり、第２のデータは、前記第１の回路における処置に用いられるデータである。
【００１２】
さらに、本発明の一態様にかかる装置では、第１の回路の一部として動作する機能は、前記第１の回路のキャッシュメモリとして動作する機能であり、第２のデータは、キャッシュメモリの記憶領域に記憶されるデータであってもよい。
【００１３】
さらに、本発明の一態様にかかる装置では、第１のデータは、第５の回路に入力されたシリアルデータに基づいて生成され、第２のデータは、前記第５の回路に入力されたパラレルデータに基づいて生成されてもよい。
【００１４】
さらに、本発明の一態様にかかる装置では、第４の回路は、第１のトランジスタと、第２のトランジスタと、を有し、第１のトランジスタのソース又はドレインの一方は、第２のトランジスタのゲートと電気的に接続され、第１のトランジスタは、第１のチャネル形成領域を有する第１の半導体を有し、第２のトランジスタは、第２のチャネル形成領域を有する第２の半導体を有し、第１の半導体は、酸化物半導体を含み、第２の半導体は、酸化物半導体以外の材料を含んでいてもよい。
【００１５】
さらに、本発明の一態様にかかる装置では、酸化物半導体は、インジウム、ガリウム、及び亜鉛を含んでいてもよい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の一態様により、新規な装置を提供することができる。また、本発明の一態様により、通常動作時に不要となる回路の面積規模を縮小することができる装置を提供することができる。また、本発明の一態様により、設計後においても新たなテストパターンを生成することができる装置を提供することができる。
【００１７】
なお、これらの効果の記載は、他の効果の存在を妨げるものではない。なお、本発明の一態様は、必ずしも、これらの効果の全てを有する必要はない。なお、これら以外の効果は、明細書、図面、請求項などの記載から、自ずと明らかとなるものであり、明細書、図面、請求項などの記載から、これら以外の効果を抽出することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】装置の構成の一例を説明する図。
【図２】装置の構成の一例を説明する図。
【図３】装置の構成の一例を説明する図。
【図４】装置の構成の一例を説明する図。
【図５】装置の構成の一例を説明する図。
【図６】装置の構成の一例を説明する図。
【図７】装置の構成の一例を説明する図。
【図８】装置の構成の一例を説明する回路図。
【図９】装置の構成の一例を説明する回路図。
【図１０】タイミングチャート。
【図１１】装置の構成の一例を説明する回路図。
【図１２】装置の構成の一例を説明する回路図。
【図１３】タイミングチャート。
【図１４】タイミングチャート。
【図１５】装置の構成の一例を説明する図。
【図１６】装置の構成の一例を説明する図。
【図１７】装置の構成の一例を説明する図。
【図１８】装置の構成の一例を説明する図。
【図１９】トランジスタの構成の一例を説明する図。
【図２０】トランジスタの構成の一例を説明する図。
【図２１】トランジスタの構成の一例を説明する図。
【図２２】トランジスタの構成の一例を説明する図。
【図２３】電子機器を説明する図。
【図２４】酸化物半導体の構造の一例を説明する図。
【図２５】酸化物半導体の構造の一例を説明する図。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の実施の形態について図面を用いて詳細に説明する。ただし、本発明は以下の説明に限定されず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは、当業者であれば容易に理解される。したがって、本発明は、以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。
【００２０】
なお、本発明の一態様は、ＲＦ（Ｒａｄｉｏ  Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）タグ、半導体表示装置、ＩＣ、ＬＳＩ、ＦＰＧＡなどのＰＬＤ（Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ  Ｌｏｇｉｃ  Ｄｅｖｉｃｅ）、ＦＰＧＡを搭載したＳｏＣ（Ｓｙｓｔｅｍ  ｏｎ  ａ  Ｃｈｉｐ）など、半導体集積回路を含むあらゆる装置を、その範疇に含まれる。また、表示装置には、液晶表示装置、有機発光素子に代表される発光素子を各画素に備えた発光装置、電子ペーパー、ＤＭＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｍｉｃｒｏｍｉｒｒｏｒ  Ｄｅｖｉｃｅ）、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）、ＦＥＤ（Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ）など、集積回路を回路に有している表示装置が、その範疇に含まれる。
【００２１】
なお、本明細書において接続とは、直接接続されているものの他、電気的に接続されているものも含むものであり、電流、電圧または電位が、供給可能、或いは伝送可能な状態にすることができるような回路構成を含むものとする。従って、接続している回路構成とは、直接接続している回路構成を必ずしも指すわけではなく、電流、電圧または電位が、供給可能、或いは伝送可能であるように、配線、抵抗、ダイオード、トランジスタなどの素子を介して間接的に接続している回路構成も、その範疇に含む。また、回路図上は独立している構成要素どうしが接続されている場合であっても、実際には、例えば配線の一部が電極として機能する場合など、一の導電膜が、複数の構成要素の機能を併せ持っている場合もある。本明細書において接続とは、このような、一の導電膜が、複数の構成要素の機能を併せ持っている場合も、その範疇に含める。
【００２２】
また、トランジスタのソースとは、活性層として機能する半導体膜の一部であるソース領域、或いは上記半導体膜に接続されたソース電極を意味する。同様に、トランジスタのドレインとは、上記半導体膜の一部であるドレイン領域、或いは上記半導体膜に接続されたドレイン電極を意味する。また、ゲートはゲート電極を意味する。
【００２３】
トランジスタが有するソースとドレインは、トランジスタの導電型及び各端子に与えられる電位の高低によって、その呼び方が入れ替わる。一般的に、ｎチャネル型トランジスタでは、低い電位が与えられる端子がソースと呼ばれ、高い電位が与えられる端子がドレインと呼ばれる。また、ｐチャネル型トランジスタでは、低い電位が与えられる端子がドレインと呼ばれ、高い電位が与えられる端子がソースと呼ばれる。本明細書では、便宜上、ソースとドレインとが固定されているものと仮定して、トランジスタの接続関係を説明する場合があるが、実際には上記電位の関係に従ってソースとドレインの呼び方が入れ替わる。
【００２４】
（実施の形態１）
本実施の形態では、本発明の一態様に係る構成の一例について説明する。
【００２５】
図１に、本発明の一態様にかかる装置の構成の一例を示す。図１（Ａ）に示す装置１０は、回路１１と、回路１２とを有する。回路１１は、演算、制御等を行う機能を有する回路であり、代表的には複数のトランジスタを含む集積回路である。例えば、回路１１は、順序回路や組み合わせ回路などの各種の論理回路を有する構成とすることができ、中央処理装置などとして用いることができる。回路１２は、回路１１と同様、代表的には複数のトランジスタから構成される集積回路である。また、回路１２は、特に回路構成を再構成することが可能な回路（以下、「再構成可能回路」ともいう）とすることが好ましい。
【００２６】
回路１２は、回路１３と、回路１４とを有する。回路１３は、順序回路や組み合わせ回路などの論理回路としての機能を有する回路（以下、「プログラマブルロジックエレメント」、「ＰＬＥ」ともいう）１５を複数有する。また、回路１４は、複数のＰＬＥ１５間の導通／非導通、ＰＬＥ１５と入出力装置（図示せず）との間の導通／非導通を制御するスイッチとしての機能を有する回路（以下、「プログラマブルスイッチ」、「ＳＷ」ともいう）１６を複数有する。また、ＳＷ１６は、複数のＰＬＥ１５間の導通／非導通や、ＰＬＥ１５と入出力装置との間の導通／非導通を決定するためのデータ（以下、「コンフィギュレーションデータ」ともいう）を記憶する機能を有する回路（以下、「コンフィギュレーションメモリ」としても機能する。コンフィギュレーションメモリに格納するコンフィギュレーションデータを変更することにより、複数のＰＬＥ１５間の導通／非導通またはＰＬＥ１５と入出力装置との間の導通／非導通を変更し、回路１２を所望の論理回路に再構成することができる。
【００２７】
また、ＰＬＥ１５は、論理回路としての機能の他に、当該論理回路の回路構成を変更するためのコンフィギュレーションデータを記憶する機能を有していてもよい。当該コンフィギュレーションデータを変更することにより、ＰＬＥ１５内部の回路構成を変更し、ＰＬＥ１５における入力信号に対する出力信号を任意の論理に変更することができ、ＰＬＥ１５において行う論理演算の内容を変更することができる。これにより、一つのＰＬＥ１５に複数の種類の論理演算を行う機能を付与することができるため、ＰＬＥ１５の数を少なく抑えつつ、回路１２において生成する信号の種類を増やすことができる。また、別のテストパターンを生成するための信号を外部から供給することなく、動作状態の試験の内容を変更することができる。
【００２８】
図１（Ｂ）に、回路１２の具体的な構成の一例を示す。回路１２は、複数のＰＬＥ１５、複数のＳＷ１６の他、回路１７を有する。回路１７は、複数のＳＷ１６と接続されており、複数のＳＷ１６へのデータの入力、または複数のＳＷ１６からのデータの出力を行う駆動回路としての機能を有する。例えば、回路１７から複数のＳＷ１６にコンフィギュレーションデータを出力することにより、ＳＷ１６にコンフィギュレーションデータを格納することができる。そして、当該コンフィギュレーションデータに基づいてＳＷ１６の導通／非導通を制御することにより、複数のＰＬＥ１５間の導通／非導通を制御し、回路１２を所望の論理回路に再構成することができる。
【００２９】
また、ＰＬＥ１５が、ＰＬＥ１５の内部の回路構成を変更するためのコンフィギュレーションデータを記憶する機能を有している場合、回路１７がＰＬＥ１５にコンフィギュレーションデータを出力する機能を有する構成としてもよい。
【００３０】
本発明の一態様では、回路１２が、回路１１の動作状態を試験するための信号（以下、「テストパターン」ともいう）を生成する機能を有する回路、すなわち回路１１のテスト回路としての機能と、回路１１の通常動作時（回路１１において動作状態の試験が行われない期間）において、回路１１の一部として動作する機能を有する回路、すなわち回路１１の拡張回路としての機能と、を有する。これらの構成について、図２、３を参照しながら説明する。なお、回路１２が有する拡張回路としての機能は特に限定されない。例えば、本来は回路１１において行われるべき処理の一部を行うものであってもよいし、回路１１に新たな構成や機能を付加するものであってもよい。
【００３１】
まず、回路１２が回路１１のテスト回路として機能する際の構成を図２に示す。
【００３２】
図２（Ａ）において、複数のＳＷ１６には、回路１２をテスト回路として機能させるためのコンフィギュレーションデータが格納されており、当該コンフィギュレーションデータに基づいて複数のＳＷ１６の導通／非導通が制御される。これにより、複数のＰＬＥ１５間の導通／非導通が制御され、回路１２がテスト回路に再構成される。すなわち、複数のＳＷ１６に所定のコンフィギュレーションデータが格納されることによって回路１２にテスト回路としての機能が付与される。そして、再構成された回路１２においてテストパターンが生成され、当該テストパターンが回路１１へ出力される。
【００３３】
テストパターンが回路１１に入力されると、回路１１の動作状態の試験が行われる。動作状態の試験は、回路１１の一部の動作状態の試験であってもよいし、回路１１の全体の動作状態の試験であってもよい。例えば、回路１１が記憶素子を有する場合、動作状態の試験は、当該記憶素子の動作状態（データの記憶が適切に行われているか否か、等）を試験するものであってもよい。また、例えば、回路１１が位相を同期する機能を有するアナログ回路を有する場合、動作状態の試験は、当該アナログ回路の動作状態を試験するものであってもよい。
【００３４】
テストパターンに従って回路１１の動作状態の試験を行った後、その試験結果に応じたデータを回路１１から回路１２に送信し、回路１２において回路１１の動作状態の評価を行う構成としてもよい。この場合、回路１２には回路１１の動作状態を評価する機能が付加されていることが好ましい。
【００３５】
図２（Ｂ）に示すように、回路１２がテスト回路として機能する場合、回路１７は、複数のＳＷ１６にコンフィギュレーションデータを出力する機能を有する。回路１７から出力されたコンフィギュレーションデータが複数のＳＷ１６に格納されることにより、回路１２がテスト回路に再構成される。なお、回路１７から複数のＳＷ１６へのコンフィギュレーションの出力は、例えば、コンフィギュレーションデータに対応するシリアルデータを回路１２の外部に設けられた記憶装置１８などから回路１７に入力し、当該シリアルデータに対応するコンフィギュレーションデータを回路１７からＳＷ１６に出力することによって行うことができる。このように、回路１２がテスト回路として機能する際には、回路１７は、入力されたシリアルデータに基づいてコンフィギュレーションデータを複数のＳＷ１６に出力する機能を有する。
【００３６】
次に、回路１２が回路１１の拡張回路として機能する際の構成を図３に示す。
【００３７】
回路１１の通常動作時においては、回路１１の動作状態の試験は行われず、回路１２におけるテストパターンの生成が必要とされない。そのため、回路１１の通常動作時において回路１２がテスト回路に再構成されていると、装置１０において不要となる回路の面積が増大してしまう。そこで、本発明の一態様では、回路１１の通常動作時において、回路１２を回路１１の拡張回路として用いる。例えば、ＳＷ１６はデータを記憶する機能を有するため、回路１１の動作状態の試験の際にはテスト回路を構成するためのコンフィギュレーションメモリとして用いたＳＷ１６を、回路１１の通常動作時には回路１１における処理に用いられるデータを記憶する回路として機能させることができる。これにより、装置１０において回路１１の通常の動作時に不要となる回路の面積を縮小することができる。
【００３８】
図３（Ａ）に、ＳＷ１６が回路１１の拡張回路として機能する構成の一例を示す。なお、ここでは特に、ＳＷ１６が回路１１における処理に用いられるデータを記憶する回路として機能する例について説明する。回路１１の通常動作時において、回路１１における処理に用いられるデータ（例えば、回路１１で行われる論理演算に用いられるデータ、回路１１において論理演算を行った結果得られたデータ、回路１１で行う処理の内容に対応したデータなど）が、回路１１から複数のＳＷ１６に出力され、当該データがＳＷ１６に格納される。また、回路１１からの要求に応じて、ＳＷ１６に格納されたデータが回路１１に出力される。このように、ＳＷ１６を回路１１の一部として用いることができる。
【００３９】
図３（Ｂ）に示すように、回路１２が拡張回路として機能する場合、回路１７は、回路１１における処理に用いられるデータをＳＷ１６に出力する機能、および、ＳＷ１６に格納されたデータを読み出す機能を有する。そのため、ＳＷ１６を回路１１において用いられる記憶回路として駆動させることができる。例えば、ＳＷ１６を回路１１のキャッシュメモリとして用いる場合、ＳＷ１６へのデータの書き込みは、装置１０の主記憶装置（図示せず）に記憶されたデータに対応するパラレルデータを回路１１から回路１７に入力し、当該パラレルデータに対応するデータを回路１７からＳＷ１６に出力することによって行うことができる。また、ＳＷ１６に格納されたデータの読み出しは、ＳＷ１６に格納されたデータを回路１７に入力し、当該データを回路１７から回路１１に出力することによって行うことができる。このように、回路１２が拡張回路として機能する際には、回路１７は、回路１１から入力されたパラレルデータに基づいて回路１１の処理に用いられるデータを複数のＳＷ１６に出力する機能、および、複数のＳＷ１６に格納されたデータをパラレルデータとして読み出す機能を有する。
【００４０】
なお、回路１２のテスト回路としての機能と拡張回路としての機能の切り替えは、入出力装置（図示せず）等から回路１２に制御信号を入力することによって行うことができる。また、上記の機能の切り替えを行う命令が、回路１１が有する記憶装置（図示せず）に記憶される構成とし、装置１０の電源投入時において当該命令に従って上記の機能の切り替えを行ってもよい。そして、回路１２を拡張回路として用いる場合は、複数のＰＬＥ１５の出力をハイインピーダンスとし、ＰＬＥ１５からＳＷ１６への信号を遮断することにより、ＳＷ１６をＰＬＥ１５から独立した回路として用いることができる。
【００４１】
図４、５に、回路１１の通常動作時において、回路１２を回路１１の記憶回路、特にキャッシュメモリとして用いる場合の構成の一例を示す。
【００４２】
まず、回路１１の動作状態を試験する際には、図２に示すように、複数のＳＷ１６に記憶されたコンフィギュレーションデータに基づいて回路１２がテスト回路に再構成される。そして、回路１２においてテストパターンが生成され、当該テストパターンが回路１１へ出力される。
【００４３】
一方、回路１１の通常動作時においては、図４に示すように、複数のＳＷ１６を有する回路１４が回路１１のキャッシュメモリとして機能する。具体的には、複数のＳＷ１６のうち少なくとも一部のＳＷ１６が、キャッシュメモリの記憶領域２１として機能する。
【００４４】
記憶領域２１は、所定の情報量を記憶することができる複数の記憶領域（以下、ラインと呼ぶ）を有し、各ラインには、装置１０の主記憶装置（図示せず）に記憶されたデータの一部のコピーを記憶することができる。図４においては、記憶領域２１がｔ列（ｔは自然数）のラインを有する場合を例示している。また、記憶領域２１が有する各ラインは、タグフィールド２２およびデータフィールド２３を有する。データフィールド２３は、主記憶装置に記憶されたデータのコピーが記憶される記憶領域に相当する。また、タグフィールド２２は、データフィールド２３に記憶されているデータに対応する、主記憶装置上のアドレスの上位ビット（タグデータ）が記憶される記憶領域に相当する。そして、主記憶装置のデータのコピーがデータフィールド２３におけるどのラインに記憶されるかは、データフィールド２３に記憶されているデータに対応する、主記憶装置上のアドレスの下位ビットにより定められる。
【００４５】
また、回路１２は比較回路２４を有する。比較回路２４は、回路１１が有するプロセッサ２０からアクセス要求のあったアドレスの上位ビットと、当該アドレスの下位ビットで指定されるラインにおけるタグフィールド２２に記憶されているタグデータとを比較し、比較の結果をタグヒット信号として出力する機能を有する。この比較により、プロセッサ２０からアクセス要求があったアドレスに対応するデータが、記憶領域２１に記憶されている状態（以下、キャッシュヒットともいう）であるか、記憶領域２１に記憶されていない状態（以下、キャッシュミスともいう）であるかを判別することができる。キャッシュヒットの場合は、上記ラインのデータフィールドに記憶されたデータを所望のデータとして、回路１１における処理に用いることができる。
【００４６】
次に、回路１２がキャッシュメモリとして機能する場合の動作の一例を説明する。
【００４７】
プロセッサ２０から所定のアドレスへのアクセス要求があった場合、当該アドレスの下位ビットが記憶領域２１に送信され、当該アドレスの上位ビットが比較回路２４に送信される。そして、記憶領域２１では、プロセッサ２０から受信したアドレスの下位ビットにより定められるラインのタグフィールド２２に記憶されているタグデータが読み出され、当該タグデータが比較回路２４に送信される。
【００４８】
比較回路２４では、プロセッサ２０からアクセス要求のあったアドレスの上位ビットと、タグフィールド２２から読み出されたタグデータとが比較される。比較の結果、アドレスの上位ビットとタグデータが一致する場合は、プロセッサ２０からアクセス要求があったアドレスに対応するデータが記憶領域２１に記憶されていることとなる。また、比較の結果、アドレスの上位ビットとタグデータが一致しない場合は、プロセッサ２０からアクセス要求があったアドレスに対応するデータが記憶領域２１に記憶されていないこととなる。そして、この比較の結果が信号２６として比較回路２４からプロセッサ２０に出力される。また、上記比較の結果、アドレスの上位ビットとタグデータが一致する場合、当該アドレスの下位ビットにより定められるラインのデータフィールド２３に記憶されたデータが、プロセッサ２０において用いられる所望のデータに対応する。よって、当該データが信号２７としてプロセッサ２０に出力される。
【００４９】
なお、図４では図示していないが、記憶領域２１が有する各ラインには、当該ラインのデータフィールドに記憶されているデータが有効か無効かの識別情報が、特定の記憶領域に記憶されていてもよい。当該データが無効の場合は、タグの比較結果によらず、キャッシュミスと判定される。
【００５０】
また、図４においては、比較回路２４が回路１３、１４の外部に設けられた例を示すが、これに限られず、回路１３が比較回路２４としての機能を有する構成としてもよい。この場合、回路１４の一部には、回路１３を比較回路２４としての機能を有する回路に再構成するためのデータが記憶されている。また、回路１４の一部が比較回路２４としての機能を有する構成としてもよい。
【００５１】
このように、回路１１の通常動作時において、回路１４をキャッシュメモリとして用いることができる。なお、当該キャッシュメモリとしては、フル連想方式、ダイレクトマップ方式、セット連想方式の各種の方式を採用することができる。
【００５２】
回路１２をセット連想方式のキャッシュメモリの一部として用いる場合の構成の一例を、図５に示す。図５において、回路１１は回路１９を有する。そして、回路１４は、タグフィールド２２ａおよびデータフィールド２３ａを有する記憶領域２１ａを有し、回路１９は、タグフィールド２２ｂおよびデータフィールド２３ｂを有する記憶領域２１ｂと、タグフィールド２２ｃおよびデータフィールド２３ｃを有する記憶領域２１ｃとを有する。このような構成とすることにより、回路１９を回路１４とともにキャッシュメモリとして用いることができる。この場合、回路１４が有する記憶領域２１ａと、回路１９が有する記憶領域２１ｂ、２１ｃとを用いて、セット連想方式のキャッシュメモリを構成することができる。なお、記憶領域２１ａは図４における記憶領域２１に対応し、タグフィールド２２ａは図４におけるタグフィールド２２に対応し、データフィールド２３ａは図４におけるデータフィールド２３に対応し、比較回路２４ａは図４における比較回路２４に対応し、信号２６ａは図４における信号２６に対応する。
【００５３】
また、回路１１は、比較回路２４ｂ、２４ｃを有する。比較回路２４ｂは、プロセッサ２０からアクセス要求のあったアドレスの上位ビットと、当該アドレスの下位ビットで指定されるラインにおけるタグフィールド２２ｂに記憶されているタグデータとを比較し、比較の結果を信号２６ｂとして出力する機能を有する。比較回路２４ｃは、プロセッサ２０からアクセス要求のあったアドレスの上位ビットと、当該アドレスの下位ビットで指定されるラインにおけるタグフィールド２２ｃに記憶されているタグデータとを比較し、比較の結果を信号２６ｃとして出力する機能を有する。なお、比較回路２４ｂ、２４ｃは、比較回路２４ａと同様、回路１２に設けられていてもよい。また、回路１３または回路１４が比較回路２４ｂとしての機能を有する構成としてもよいし、回路１３または回路１４が比較回路２４ｃとしての機能を有する構成としてもよい。
【００５４】
また、回路１１は選択回路２５を有する。選択回路２５は、比較回路２４ａ、２４ｂ、２４ｃにおける比較の結果を情報として含む信号を出力する機能を有する。具体的には、選択回路２５は、複数の比較回路２４ａ、２４ｂ、２４ｃにおける比較の結果、アドレスの上位ビットが一致するラインが存在した場合、当該ラインから読み出されたデータを選択し、当該データを信号２８としてプロセッサ２０に出力する機能を有する。より具体的には、比較回路２４ａにおける比較の結果、アドレスの上位ビットとタグデータが一致する場合、当該アドレスの下位ビットにより定められるラインのデータフィールド２３ａに記憶されたデータが信号２８としてプロセッサ２０に出力される。また、比較回路２４ｂにおける比較の結果、アドレスの上位ビットとタグデータが一致する場合、当該アドレスの下位ビットにより定められるラインのデータフィールド２３ｂに記憶されたデータが信号２８としてプロセッサ２０に出力される。また、比較回路２４ｃにおける比較の結果、アドレスの上位ビットとタグデータが一致する場合、当該アドレスの下位ビットにより定められるラインのデータフィールド２３ｃに記憶されたデータが信号２８としてプロセッサ２０に出力される。また、選択回路２５は、比較回路２４ａ、２４ｂ、２４ｃにおける比較により、プロセッサ２０にアクセス要求されたデータが回路１９または回路１４に記憶されている状態（キャッシュヒット）か、記憶されていない状態（キャッシュミス）か、を判断し、その結果を情報として含む信号２９をプロセッサ２０に出力する機能を有する。比較回路２４ａ、２４ｂ、２４ｃにおける比較の結果を情報として含む信号２８は、選択回路２５の他、例えばＯＲ回路などを用いて生成することもできる。なお、選択回路２５は、回路１２に設けられていてもよい。
【００５５】
図５においては、回路１９が２セットの記憶領域（記憶領域２１ｂ、２１ｃ）を有し、回路１４が１セットの記憶領域（記憶領域２１ａ）を有する例を示している。この場合、記憶領域２１ａ、２１ｂ、２１ｃを用いて、３ウェイセット連想方式のキャッシュメモリを構成することができる。なお、回路１９が有するセット数と回路１４が有する記憶領域のセット数はこれに限定されず、任意の数とすることができる。回路１９が有するセット数をｉ、回路１４が有するセットの数をｊとした場合、回路１９および回路１４を用いて、ｉ＋ｊウェイセット連想方式のキャッシュメモリを構成することができる。回路１９および回路１４を用いてキャッシュメモリを構成することにより、回路１９または回路１４の一方のみを用いてキャッシュメモリを構成する場合と比べてキャッシュメモリのセット数を増加させることができる。よって、スラッシングを生じにくくし、キャッシュメモリのヒット率を高めることができるため、装置１０の性能を高めることができる。
【００５６】
また、回路１２がテスト回路として機能するときは、回路１９をｉウェイセット連想方式のキャッシュメモリとして機能させ、回路１１が拡張回路として機能するときは、回路１９および回路１４をｉ＋ｊウェイセット連想方式のキャッシュメモリとして機能させることもできる。
【００５７】
本発明の一態様に係る装置では、回路１２がテスト回路として機能する際には、回路１７は複数のＳＷ１６にコンフィギュレーションデータを出力する機能を有し（図２（Ｂ））、回路１１の通常動作時においては、回路１７は複数のＳＷ１６に回路１１における処理に用いられるデータをＳＷ１６に出力する機能、および、ＳＷ１６に格納されたデータを読み出す機能を有する（図３（Ｂ））。そのため、回路１２に、テスト回路としての機能および拡張回路として機能を付与することができる。よって、回路１１の動作状態を試験する際にテスト回路として用いた回路１２を、回路１１の通常動作時においてはキャッシュメモリなどの拡張回路として用いることができ、装置１０において回路１１の通常動作時に不要となる回路の面積規模を縮小することができる。
【００５８】
また、本実施の形態においては、回路１１の通常動作時に不要となる回路の例としてテスト回路を挙げたが、これに限られない。すなわち、回路１１の通常動作時に不要となる任意の回路を、回路１２によって再構成することができる。この場合にも、回路１１の通常動作時に不要となる回路の面積規模を縮小することができる。
【００５９】
また、本実施の形態においては、拡張回路の例として特にキャッシュメモリについて説明したが、これに限られない。例えば、回路１２を仮想メモリにおけるＴＬＢ（Ｔｒａｎｓｌａｔｉｏｎ  Ｌｏｏｋ−ａｓｉｄｅ  Ｂｕｆｆｅｒ）や分岐予測回路として用いることもできる。また、回路１２を乗算回路、積和演算回路などの演算回路として用いることもできる。さらに、回路１１の通常動作時、回路１２において、キャッシュメモリとして機能する構成と演算回路として機能する構成との切り替えを行うことにより、回路１２をキャッシュメモリ兼演算回路として用いることもできる。
【００６０】
なお、本実施の形態の内容は、本実施の形態に開示された別の内容及び他の実施の形態の内容等の本明細書等に開示された内容と適宜組み合わせることができる。
【００６１】
（実施の形態２）
本実施の形態では、図１乃至３における回路１２のより具体的な構成の一例について説明する。
【００６２】
図６に、回路１２の構成の一例を示す。回路１２は、複数のＰＬＥ１５と、複数のＳＷ１６を有するセルアレイ３０と、回路１７と、回路４１と、回路４２とを有する。なお、複数のＳＷ１６はそれぞれ、回路１７、回路４１、回路４２と接続されている。また、複数のＰＬＥ１５はそれぞれ、少なくとも一つのＳＷ１６と接続されている。
【００６３】
ここで、ＳＷ１６はｘ行のセル３２を有し、セルアレイ３１は、ｙ列のＳＷ１６を有する。また、セルアレイ３０はｓ行のセルアレイ３１を有する。よって、セルアレイ３０はｓｘ×ｙ個のセル３２を有する。そして、セル３２にはそれぞれ回路１７から出力されるデータが格納される。
【００６４】
回路１２をテスト回路として用いる場合、回路１７からコンフィギュレーションデータが出力され、セル３２に格納される。そして、当該コンフィギュレーションデータに基づいてセル３２の導通／非導通が制御されることにより、セルアレイ３１の回路構成が決定され、セルアレイ３１からＰＬＥ１５に所定の信号３３が入力される。そして、信号３３に基づいてＰＬＥ１５の出力信号が決定され、当該信号が他のＳＷ、ＰＬＥなどに入力される。
【００６５】
また、回路１２を拡張回路、特に記憶回路として用いる場合、回路１１における処理に用いられるデータが回路１７から出力され、当該データが配線ＢＬを介してセル３２に格納される。また、セル３２に格納されたデータに対応する信号が配線ＳＬを介して回路１７に出力されることにより、データの読み出しが行われる。ここで、セルアレイ３０にはｙビットのデータをｓｘ組格納することができる。
【００６６】
回路１７は、図１乃至３における回路１７と同様の機能を有するものであり、セル３２にデータを出力する機能、およびセル３２に格納されたデータを読み出して外部に出力する機能を有する。また、回路１７は回路４３を有する。図７に示すように、回路４３は、回路５１、回路５２、回路５３を有する。なお、回路１７は、回路４３を複数有する構成としてもよい。
【００６７】
回路５１は、回路１２をテスト回路として用いる際に、配線ＳＰから供給されるスタートパルス、配線ＣＫから供給されるクロック信号、および、配線ＣＫＢから供給される反転クロック信号に基づいて、配線ＤＡＴＡから供給されるシリアルデータを、回路５２を介して回路５３に順次格納する機能を有する。（以下、回路５１をシフトレジスタ５１もいう。）なお、配線ＤＡＴＡから供給されるシリアルデータの例としては、例えば、回路１２をテスト回路に再構成するためのコンフィギュレーションデータなどが挙げられる。
【００６８】
回路５２は、回路１２を拡張回路、特に記憶回路として用いる際に、配線ＷＤＡＴＡから供給される複数ビットのパラレルデータを、配線ＷＳＥＬに供給される信号によって特定される回路５３の特定のノードに格納する機能を有する。（以下、回路５２を選択回路５２ともいう。）なお、配線ＷＤＡＴＡから供給される複数ビットのパラレルデータの例としては、例えば、主記憶装置に記憶されたデータの一部のコピーなどが挙げられる。
【００６９】
回路５３は、配線ＬＡＴから供給される信号に基づいて、回路５３に格納されたデータを一括して配線ＢＬに出力する機能を有する。また、回路５３は、セル３２から出力されたデータを格納する機能を有する。（以下、回路５３をラインバッファ５３ともいう。）
【００７０】
また、回路４３は、配線ＰＣから供給される信号により、配線ＳＬをプリチャージすることができる構成とすることが好ましい。また、回路４３は、セル３２から出力されてラインバッファ５３に格納されたデータのうち、配線ＲＳＥＬから供給される信号によって特定されるデータを選択し、当該データを配線ＲＤＡＴＡに出力することができる構成とすることが好ましい。
【００７１】
なお、回路１２をテスト回路として用いるか拡張回路として用いるかは、配線ＣＥＮから供給される信号により制御することができる。また、セル３２からのデータ読み出し動作は、配線ＲＥＮから供給される信号により制御することができる。また、セル３２へのデータの書き込み動作は、配線ＷＥＮから供給される信号により制御できる。
【００７２】
図６における回路４１は、配線ＣＷＬ［１］乃至［ｓｘ］の電位を制御することにより、セルアレイ３０が有する複数のセル３２のうち、特定の行のセル３２を選択する機能を有する。
【００７３】
また、回路４１は、回路４４、回路４５を有する。回路４４は、セルアレイ３０が有するｓ行のＳＷ１６のうち、特定の行のＳＷ１６を選択するための信号を生成する機能を有する。回路４５は、配線ＣＯＮＴＥＸＴ［１］乃至［ｘ］に供給される信号により、回路４４によって選択された特定の行のＳＷ１６において、さらに特定の行のセル３２を選択するための信号を生成する機能を有する。なお、回路４４は、例えばデコーダなどによって構成することができる。また、回路４５は、例えば複数のＡＮＤ回路などによって構成することができる。
【００７４】
回路１２をテスト回路として用いる場合、回路４４はｓ行全てのＳＷ１６を選択するための信号を配線４７［１］乃至［ｓ］に出力する。そして、回路４５は、回路４４から配線４７［１］乃至［ｓ］を介して入力される信号と配線ＣＯＮＴＥＸＴ［１］乃至［ｘ］から入力される信号に基づき、各ＳＷ１６において特定の１行のセル３２を選択する信号を配線ＣＷＬ［１］乃至［ｓｘ］に出力する。具体的には、回路４５は、各ＳＷ１６における１行目の配線ＣＷＬ［１］、配線ＣＷＬ［（ｓ−１）ｘ＋１］の組と、各ＳＷ１６における第ｘ行目の配線ＣＷＬ［ｘ］、配線ＣＷＬ［ｓｘ］の組と、のうち１組を選択する信号を出力する。そして、回路４１によって選択された配線ＣＷＬと接続されたセル３２に格納されたコンフィギュレーションデータに従い、回路１２が所望のテスト回路に再構成される。
【００７５】
回路１２を拡張回路として用いる場合、回路４４は配線ＣＡＤＲに供給される信号に基づき、ｓ行のＳＷ１６のうち特定の行のＳＷ１６を選択するための信号を配線４７［１］乃至［ｓ］に出力する。そして、回路４５は、回路４４から配線４７［１］乃至［ｓ］を介して入力される信号と配線ＣＯＮＴＥＸＴ［１］乃至［ｘ］から入力される信号に基づき、回路４４によって選択された特定のＳＷ１６に含まれるセル３２のうち特定の１行のセル３２を選択する信号を配線ＣＷＬ［１］乃至［ｓｘ］に出力する。具体的には、回路４５は、配線ＣＷＬ［１］乃至［ｓｘ］のうち１つを選択する信号を出力する。そして、回路４１によって選択された行のセル３２に格納されたデータに対応した信号が、配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］に出力される。
【００７６】
よって、回路４１は、回路１２をテスト回路として用いる場合は、各ＳＷ１６においてｘ行のセル３２のうち特定の１行のセル３２を選択する機能を有し、回路１２を拡張回路として用いる場合は、ｓｘ行のセル３２のうち特定の１行のセル３２を選択する機能を有する。
【００７７】
回路４２は、配線ＷＷＬ［１］乃至［ｓｘ］の電位を制御することにより、セルアレイ３０が有する複数のセル３２のうち、特定の行のセル３２を選択する機能を有する。具体的には、回路４２は、ｓｘ行のセル３２のうち、特定の１行のセル３２を選択するための信号を配線ＷＷＬ［１］乃至［ｓｘ］に出力する機能を有する回路４６を有する。回路４６は、例えばデコーダなどによって構成することができる。回路４６には、選択する行のアドレスに関する情報を含む信号が配線ＷＡＤＲから供給され、当該信号を回路４６においてデコードすることにより、データの入力が行われる１行のセル３２を選択することができる。そして、選択された１行のセル３２には、配線ＢＬ［１］乃至［ｙ］から供給されるデータが格納される。
【００７８】
上記のような構成を有することにより、回路１７は、回路１２をテスト回路に再構成するためのコンフィギュレーションデータ等に対応するシリアルデータの書き込み、主記憶装置に記憶されたデータの一部のコピー等に対応するパラレルデータの書き込み、および、当該パラレルデータの読み出しを行うことができる。よって、回路１２に、テスト回路としての機能および拡張回路として機能を付与することができる。
【００７９】
次に、図６におけるセルアレイ３１の具体的な構成の一例を図８（Ａ）に示す。セルアレイ３１は、複数のセル３２を有する。ここでは、ｘ行のセルがｙ列設けられた構成について説明する。なお、図８（Ａ）において、ｘ行ｙ列のセルを、セル３２［ｘ，ｙ］と表記する。
【００８０】
セル３２［１，１］乃至［ｘ，ｙ］はそれぞれ、トランジスタ１０１、トランジスタ１０２、トランジスタ１０３、容量素子１０４を有する。トランジスタ１０１のゲートは配線ＷＷＬと接続され、ソースまたはドレインの一方は配線ＢＬと接続され、他方はトランジスタ１０２のゲートと接続されている。容量素子の一方の電極はトランジスタ１０１のソースまたはドレインの他方およびトランジスタ１０２のゲートと接続され、他方の電極は所定の電位が供給される配線と接続されている。なお、当該所定の電位の大きさは、０ボルトに限定されない。トランジスタ１０２のソース又はドレインの一方は配線ＳＬと接続され、他方はトランジスタ１０３のソース又はドレインの一方と接続されている。トランジスタ１０３のゲートは配線ＣＷＬと接続され、ソース又はドレインの他方は配線ＰＬＥＩＮと接続されている。
【００８１】
配線ＣＷＬ［１］乃至［ｘ］は、複数のセル３２のうち、特定の行のセル３２を選択するための信号を伝える機能を有する配線であり、具体的には、トランジスタ１０３の導通／非導通を制御する信号を伝える機能を有する配線である。配線ＷＷＬ［１］乃至［ｘ］は、複数のセル３２のうち、特定の行のセル３２を選択するための信号を伝える機能を有する配線であり、具体的には、トランジスタ１０１の導通／非導通を制御する信号を伝える機能を有する配線である。配線ＢＬ［１］乃至［ｙ］は、セル３２に格納するデータに対応する信号を伝える機能を有する配線である。配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］は、セル３２に格納されたデータに対応する信号を伝える機能を有する配線である。配線ＰＬＥＩＮは、ＰＬＥや入出力装置に入力される信号、またはＰＬＥや入出力装置から出力される信号を伝える機能を有する配線である。
【００８２】
また、セルアレイ３１は、トランジスタ１０５を有していてもよい。トランジスタ１０５のゲートは配線ＩＮＩＴと接続され、ソースまたはドレインの一方は配線ＰＬＥＩＮと接続され、他方は所定の電位が供給される配線と接続されている。なお、当該所定の電位の大きさは、０ボルトに限定されない。セルアレイ３１を有する装置に電源電圧を投入した直後の初期状態などにおいて、配線ＰＬＥＩＮの電位がハイレベルとローレベルの間の中間電位になってしまう場合がある。そして、中間電位が配線ＰＬＥＩＮと接続されたＰＬＥの入力端子に与えられると、当該ＰＬＥの入力端子と接続された回路素子において貫通電流が生じやすくなる。しかし、トランジスタ１０５を導通状態とすることにより配線ＰＬＥＩＮの電位を初期化することができるので、電源が投入された直後などにおいてＰＬＥの入力端子が中間電位になるのを防ぐことができ、ＰＬＥの入力端子に接続された回路素子における貫通電流の発生を防止することができる。
【００８３】
また、セルアレイ３１は、ラッチ回路１０６を有していてもよい。図８（Ａ）には、ラッチ回路１０６がインバータ１０７、トランジスタ１０８を有する構成例を示す。インバータ１０７の入力端子は配線ＰＬＥＩＮと接続され、出力端子はトランジスタ１０８のゲートと接続されている。トランジスタ１０８のソースまたはドレインの一方は配線ＰＬＥＩＮと接続され、他方は所定の電位が供給される配線と接続されている。ラッチ回路１０６は、配線ＰＬＥＩＮの電位を保持する機能を有しており、配線ＰＬＥＩＮがフロート状態となることを防ぐことができる。したがって、ＰＬＥの入力端子が中間電位になるのを防ぐことができ、当該入力端子に接続された回路素子における貫通電流の発生を防止することができる。
【００８４】
なお、ラッチ回路１０６は、図８（Ｂ）に示す構成とすることもできる。図８（Ｂ）におけるラッチ回路１０６は、インバータ１０９、１１０を有し、インバータ１０９の入力端子は配線ＰＬＥＩＮと接続され、出力端子はインバータ１１０の入力端子と接続されている。また、インバータ１１０の出力端子は、配線ＰＬＥＩＮと接続されている。このような構成とすることにより、配線ＰＬＥＩＮの電位がハイレベルであってもローレベルであってもその電位を保持することができ、配線ＰＬＥＩＮがフロート状態となることをより効果的に防止することができる。
【００８５】
なお、トランジスタ１０５と接続された所定の電位が供給される配線、およびトランジスタ１０８と接続された所定の電位が供給される配線は、高電位電源線であっても低電位電源線（接地線など）であってもよく、また、所定の電位の大きさは０ボルトに限定されない。また、図８においてはラッチ回路１０６がインバータ１０７、１０９、１１０を用いた例を示したが、これに限られず、入力された信号の極性を反転させる機能を有する素子であれば、これをインバータ１０７、１０９、１１０の代わりに用いることができる。
【００８６】
また、図８においては、トランジスタ１０１、１０２、１０３、１０５がｎチャネル型であり、トランジスタ１０８がｐチャネル型である場合を示すが、これに限られず、トランジスタ１０１、１０２、１０３、１０５、１０８はそれぞれ、ｎチャネル型であってもｐチャネル型であってもよい。
【００８７】
また、セル３２［１，１］乃至［ｘ，ｙ］は、必要に応じて、トランジスタ、ダイオード、抵抗素子、容量素子、インダクタなどのその他の素子をさらに有していても良い。
【００８８】
回路１２がテスト回路として用いられる場合、セル３２［１，１］乃至［ｘ，ｙ］には、回路１２をテスト回路に再構成するためのコンフィギュレーションデータが格納される。具体的には、まず、配線ＷＷＬ［１］の電位を制御してセル３２［１，１］乃至［１，ｙ］が有するトランジスタ１０１を導通状態とし、配線ＢＬ［１］乃至［ｙ］の電位をトランジスタ１０２のゲート及び容量素子１０４に供給することにより、セル３２［１，１］乃至［１，ｙ］にコンフィギュレーションデータを格納する。次に、配線ＷＷＬ［ｘ］の電位を制御してセル３２［ｘ，１］乃至［ｘ，ｙ］が有するトランジスタ１０１を導通状態とし、配線ＢＬ［１］乃至［ｙ］の電位をトランジスタ１０２のゲート及び容量素子１０４に供給することにより、セル３２［ｘ，１］乃至［ｘ，ｙ］にコンフィギュレーションデータを格納する。そして、セル３２［１，１］乃至［ｘ，ｙ］に格納されたコンフィギュレーションデータに応じて、トランジスタ１０２の導通／非導通が制御される。これにより、セル３２［１，１］乃至［ｘ，ｙ］のうち配線ＣＷＬ［１］乃至［ｙ］により選択された行のセル３２の導通／非導通を制御することができ、配線ＰＬＥＩＮと配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］との間の導通／非導通を制御することができる。
【００８９】
このように、セル３２［１，１］乃至［ｘ，ｙ］にテスト回路用のコンフィギュレーションデータを格納することにより、複数のＰＬＥ１５間の導通／非導通、またはＰＬＥ１５と入出力装置との間の導通／非導通を制御し、回路１２をテスト回路に再構成することができる。なお、セル３２［１，１］乃至［ｘ，ｙ］に格納されたコンフィギュレーションデータを変更することにより、回路１２において生成されるテストパターンの変更を容易に行うことができる。
【００９０】
また、ＰＬＥ１５が、論理回路としての機能の他に、当該論理回路の回路構成を変更するためのコンフィギュレーションデータを格納する機能を有する場合、当該コンフィギュレーションデータを変更してＰＬＥ１５内部の回路構成を変更することにより、回路１２をテスト回路に再構成することもできる。
【００９１】
一方、回路１２が拡張回路として用いられる場合、上記と同様の動作により、セル３２［１，１］乃至［ｘ，ｙ］に回路１１の動作に用いられるデータが格納される。そして、トランジスタ１０５を導通状態として配線ＰＬＥＩＮを低電位にした後、配線ＣＷＬ［１］乃至［ｘ］の電位を制御してセル３２［１，１］乃至［ｘ，ｙ］のうち特定の行のセル３２を選択することにより、当該特定の行のセル３２に格納されたデータに対応した信号が配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］に出力される。よって、セル３２をデータの書き込みおよび読み出しが可能な記憶装置として利用することができる。
【００９２】
例えば、セル３２［１，１］乃至［ｘ，ｙ］に主記憶装置に記憶されたデータの一部のコピーを格納する場合、セルアレイ３１を回路１１のキャッシュメモリとして用いることができる。この場合、セル３２［１，１］乃至［１，ｙ］をキャッシュメモリの１行目のラインとして機能させ、セル３２［ｘ，１］乃至［ｘ，ｙ］をキャッシュメモリのｘ行目のラインとして機能させることができ、セルアレイ３１をライン数ｘ、ビット数ｙのキャッシュメモリとして用いることができる。
【００９３】
なお、セル３２の構成はこれに限られず、配線、トランジスタ、容量素子の間にスイッチ等の素子を設けてもよいし、スイッチの配置や配線の接続関係を変更してもよい。例えば、図９（Ａ）に示すように、トランジスタ１０３を配線ＳＬとトランジスタ１０２との間に設ける構成としてもよい。この場合、トランジスタ１０３のゲートは配線ＣＷＬと接続され、ソースまたはドレインの一方は配線ＳＬと接続され、他方はトランジスタ１０２のソースまたはドレインの一方と接続されている。このような構成とすることにより、図８（Ａ）におけるセル３２の構成と比較して、配線ＣＷＬの電位の変動に起因して配線ＰＬＥＩＮに生じるノイズを抑制することができる。よって、配線ＰＬＥＩＮと接続されたＰＬＥなどにおける誤動作を防止することができる。
【００９４】
また、図９（Ｂ）に示すように、容量素子１０４の一方の電極が、配線ＣＷＬと接続された構成としてもよい。この場合、容量素子１０４はトランジスタ１０２のゲートの電位を保持する機能に加え、トランジスタ１０２のゲートを浮遊状態に保ちつつ、配線ＣＷＬの電位の変化分をトランジスタ１０２のゲートの電位に加算する機能を有する。そして、トランジスタ１０２は、配線ＣＷＬの電位と、セル３２に格納されたデータに従って、導通状態が決定される。
【００９５】
また、図９（Ｃ）に示すように、容量素子１０４をインバータ１１１、１１２に置き換えた構成としてもよい。インバータ１１１の入力端子は、トランジスタ１０１のソースまたはドレインの一方、トランジスタ１０２のゲート、およびインバータ１１２の出力端子と接続され、インバータ１１２の出力端子はインバータ１１１の入力端子と接続されている。このような構成とすることにより、他の配線や電極の電位の変化に起因する、セル３２に格納されたデータの変動を低減することができる。そのため、セル３２をノイズの影響を受けにくいセルとすることができ、セルアレイ３１を駆動するための電圧を低くすることが可能となる。なお、図９（Ｃ）においてはインバータ１１１、１１２を用いた例を示したが、これに限られず、入力された信号の極性を反転させる機能を有する素子であれば、これをインバータ１１１、１１２の代わりに用いることができる。
【００９６】
また、図８、９におけるトランジスタ１０１、１０２、１０３、１０５、１０８には、チャネル形成領域が形成される半導体膜の材料として、シリコン、ゲルマニウム、シリコンゲルマニウム、酸化物半導体など様々な材料を用いることができる。
【００９７】
ここで、トランジスタ１０１はトランジスタ１０２のゲートおよび容量素子１０４の電位を保持する機能を有するため、オフ電流が著しく小さいトランジスタであることが好ましい。トランジスタ１０１のオフ電流が小さいと、トランジスタ１０２のゲートおよび容量素子１０４に保持されている電荷のトランジスタ１０１を介したリークを低減することができる。よって、セル３２に格納されたコンフィギュレーションデータを長時間保持することができる。ここで、シリコン等よりもバンドギャップが広く、真性キャリア密度がシリコン等よりも低い半導体膜にチャネル形成領域が形成されるトランジスタは、オフ電流を著しく小さくすることができるので、トランジスタ１０１として用いるのに好適である。このような半導体膜の材料としては、例えば、シリコンの２倍以上の大きなバンドギャップを有する、酸化物半導体などが挙げられる。酸化物半導体を有するトランジスタは、シリコンやゲルマニウムなど酸化物半導体以外の材料を用いて形成されたトランジスタに比べて、オフ電流を極めて小さくすることができる。よって、酸化物半導体を有するトランジスタ１０１を用いることで、トランジスタ１０２のゲート又は容量素子１０４に保持されている電荷のリークを効果的にと抑制することができる。
【００９８】
一方、セル３２に格納されたデータの読み出し速度の向上のために、トランジスタ１０２、１０３には大きな電流供給能力が求められる。また、配線ＰＬＥＩＮの電位の初期化を高速に行うため、トランジスタ１０５にも大きな電流供給能力が求められる。よって、トランジスタ１０２、１０３、１０５には、酸化物半導体以外の材料、例えばシリコン等を用いたトランジスタを用いることが好ましい。これによって、トランジスタ１０２、１０３、１０５の電流供給能力を向上させることができる。
【００９９】
このように、酸化物半導体を用いたトランジスタと、酸化物半導体以外の材料を用いたトランジスタを組み合わせ、要求される機能に応じてトランジスタを使い分ける構成とすることにより、データの長期間の保持と回路の高速動作の両方を同時に実現することができる。
【０１００】
なお、シリコン等の酸化物半導体以外の材料を用いたトランジスタは、酸化物半導体を用いたトランジスタと比較してｐチャネル型のトランジスタの作製が容易である。よって、トランジスタ１０１、１０２、１０３、１０５、１０８のうち、ｐチャネル型とするトランジスタは、酸化物半導体以外の材料を用いたトランジスタとすることが好ましい。これにより、装置の作製における歩留まりの向上を図ることができる。
【０１０１】
また、トランジスタ１０５を導通状態とすることによる配線ＰＬＥＩＮの電位の初期化は、セル３２［１，１］乃至［ｘ，ｙ］それぞれの読み出し動作の際に行う必要があるため、トランジスタ１０５の導通状態と非導通状態の切り替えは短期間に行えることが好ましい。そのため、トランジスタ１０５には、トランジスタ１０２、１０３と比較して大きな電流供給能力を有することが好ましい。従って、トランジスタ１０５のＷ（チャネル幅）／Ｌ（チャネル長）は、トランジスタ１０２のＷ／Ｌよりも大きいことが好ましい。また、トランジスタ１０５のＷ／Ｌは、トランジスタ１０３のＷ／Ｌよりも大きいことが好ましい。これにより、トランジスタ１０２のＷ／Ｌまたはトランジスタ１０３のＷ／Ｌを小さくすることに伴うセルアレイ３１のサイズの縮小と、トランジスタ１０５のＷ／Ｌを大きくすることに伴う配線ＰＬＥＩＮの初期化速度の向上の両立を図ることができる。
【０１０２】
また、セル３２の構造を、酸化物半導体を用いたトランジスタと酸化物半導体以外の材料を用いたトランジスタとが積層された構造とすることにより、セル３２のサイズを小さくすることができる。このような構造の例としては、酸化物半導体を用いたトランジスタのチャネル形成領域と、酸化物半導体以外の材料を用いたトランジスタのチャネル形成領域との間に、少なくとも絶縁層を設けた構造があげられる。
【０１０３】
また、トランジスタ１０１のオフ電流が著しく小さい場合、トランジスタ１０１がオフであるときのトランジスタ１０２のゲートは、他の電極や配線との間における絶縁性が極めて高い浮遊状態になる。これによって、以下に述べるブースティング効果を得ることができる。
【０１０４】
セル３２では、トランジスタ１０２のゲートが浮遊状態にあると、配線ＳＬの電位がローレベルからハイレベルに変化するのに伴い、スイッチとして機能するトランジスタ１０２のソースとゲートの間に形成される容量Ｃｇｓにより、トランジスタ１０２のゲートの電位が上昇する。そして、そのトランジスタ１０２のゲートの電位の上昇幅は、トランジスタ１０２のゲートに入力された電位のレベルによって異なる。
【０１０５】
セル３２に書き込まれたデータの電位がローレベルである場合、トランジスタ１０２は弱反転モードの状態にあるため、トランジスタ１０２のゲートの電位の上昇に寄与する容量Ｃｇｓには、トランジスタ１０２のゲートの電位に依存しない容量Ｃｏｓが含まれる。具体的に、容量Ｃｏｓには、ゲート電極とソース領域とが重畳する領域に形成されるオーバーラップ容量と、ゲート電極とソース電極の間に形成される寄生容量などが含まれる。
【０１０６】
一方、セル３２に書き込まれたデータの電位がハイレベルである場合、トランジスタ１０２は強反転モードの状態にあるため、トランジスタ１０２のゲートの電位の上昇に寄与する容量Ｃｇｓには、上述した容量Ｃｏｓに加えて、トランジスタ１０２のチャネル形成領域とゲート電極の間に形成される容量Ｃｏｘの一部が含まれる。したがって、トランジスタ１０２のゲートの電位がハイレベルである場合、トランジスタ１０２のゲートの電位の上昇に寄与する容量Ｃｇｓが、トランジスタ１０２のゲートの電位がローレベルである場合よりも大きいこととなる。
【０１０７】
よって、セル３２に書き込まれたデータの電位がハイレベルである場合の方が、データの電位がローレベルである場合よりも、配線ＳＬの電位の変化に伴い、トランジスタ１０２のゲートの電位をより高く上昇させるというブースティング効果を得ることができる。よって、セル３２に書き込まれたデータの電位がハイレベルである場合に、配線ＢＬに入力された信号の電位に対して、トランジスタ１０１の閾値電圧分、トランジスタ１０２のゲートの電位が降下していたとしても、ブースティング効果によりトランジスタ１０２のゲートの電位を上昇させることができるので、スイッチとして機能するトランジスタ１０２をオンにすることができ、セル３２のスイッチの速度を向上させることができる。また、セル３２に書き込まれたデータの電位がローレベルである場合には、スイッチとして機能するトランジスタ１０２をオフのまま維持することができる。
【０１０８】
次に、図６に示すセルアレイ３０の動作の一例を説明する。
【０１０９】
図１０は、セルアレイ３０の動作の一例を示すタイミングチャートである。まず、セル３２にデータを書き込む期間に相当する期間Ｔ１乃至Ｔ４における動作について説明する。
【０１１０】
なお、図１０では示していないが、回路１２に電源を供給した直後に、全てのセル３２［１，１］乃至［ｘ，ｙ］にローレベルのデータを格納してもよい。具体的には、配線ＷＷＬ［１］乃至［ｓｘ］の電位を全てハイレベルにし、配線ＢＬ［１］乃至［ｙ］の電位を全てローレベルとすることで、全てのセル３２［１，１］乃至［ｘ，ｙ］に格納されているデータをローレベルとすることができる。これにより、配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］間で意図しない短絡が発生することを防止することができるため、配線ＰＬＥＩＮの電位が不定値となることを防止し、不要な消費電流を低減することができる。
【０１１１】
まず、期間Ｔ１において、選択する行のアドレスに関する情報を含む信号（以下、アドレス信号と呼ぶ）を配線ＷＡＤＲから回路４６に供給し、当該アドレス信号を回路４６でデコードすることにより（図６参照）、配線ＷＷＬ［１］の電位をハイレベルとする。そして、配線ＢＬ［１］の電位をハイレベルとし、配線ＢＬ［２］の電位をローレベルとする。これにより、セル３２［１，１］におけるトランジスタ１０２のゲートおよび容量素子１０４（図８参照）にＢＬ［１］の電位が供給され、セル３２［１，１］にハイレベルのデータが格納される。また、セル３２［１，２］におけるトランジスタ１０２のゲートおよび容量素子１０４にＢＬ［２］の電位が供給され、セル３２［１，２］にローレベルのデータが格納される。
【０１１２】
次いで、期間Ｔ２において、アドレス信号を配線ＷＡＤＲから回路４６に供給し、当該アドレス信号を回路４６でデコードすることにより、配線ＷＷＬ［ｘ］の電位をハイレベルとする。そして、配線ＢＬ［１］の電位をローレベルとし、配線ＢＬ［２］の電位をハイレベルとする。これにより、セル３２［ｘ，１］にローレベルのデータが格納され、セル３２［ｘ，２］にハイレベルのデータが格納される。
【０１１３】
次いで、期間Ｔ３において、アドレス信号を配線ＷＡＤＲから回路４６に供給し、当該アドレス信号を回路４６でデコードすることにより、配線ＷＷＬ［（ｓ−１）ｘ＋１］の電位をハイレベルとする。そして、配線ＢＬ［１］の電位をハイレベルとし、配線ＢＬ［２］の電位をローレベルとする。これにより、セル３２［（ｓ−１）ｘ＋１，１］にハイレベルのデータが格納され、セル３２［（ｓ−１）ｘ＋１，２］にローレベルのデータが格納される。
【０１１４】
次いで、期間Ｔ４において、アドレス信号を配線ＷＡＤＲから回路４６に供給し、当該アドレス信号を回路４６でデコードすることにより、配線ＷＷＬ［ｓｘ］の電位をハイレベルとする。そして、配線ＢＬ［１］の電位をローレベルとし、配線ＢＬ［２］の電位をハイレベルとする。これにより、セル３２［ｓｘ，１］にローレベルのデータが格納され、セル３２［ｓｘ，２］にハイレベルのデータが格納される。
【０１１５】
次に、回路１２がテスト回路として機能する期間に相当する期間Ｔ５乃至Ｔ６における動作について説明する。
【０１１６】
まず、期間Ｔ５において、配線ＣＥＮにローレベルの信号が供給されることにより、複数のセルアレイ３１の全てを選択する信号が回路４４から配線４７［１］乃至［ｓ］を介して回路４５に供給される。また、配線ＣＯＮＴＥＸＴ１の電位をハイレベル、配線ＣＯＮＴＥＸＴｘの電位をローレベルの電位とすることにより、配線ＣＯＮＴＥＸＴ１と接続された配線ＣＷＬ［１］、［（ｓ−１）ｘ＋１］の電位がハイレベルとなり、当該配線ＣＷＬと接続されたセル３２［１，１］乃至［１，ｙ］、セル３２［（ｓ−１）ｘ＋１，１］乃至［（ｓ−１）ｘ＋１，ｙ］が選択される。そして、当該選択されたセル３２の導通／非導通が、当該選択されたセル３２に格納されたデータによって決定され、回路１２の再構成が行われる。
【０１１７】
次いで、期間Ｔ６において、配線ＣＯＮＴＥＸＴ１の電位をローレベル、配線ＣＯＮＴＥＸＴｘの電位をハイレベルとする。その結果、配線ＣＯＮＴＥＸＴｘと接続された配線ＣＷＬ［ｘ］、配線ＣＷＬ［ｓｘ］がハイレベルとなり、当該配線ＣＷＬと接続されたセル３２［ｘ，１］乃至［ｘ，ｙ］、セル３２［ｓｘ，１］乃至［ｓｘ，ｙ］が選択される。そして、当該選択されたセル３２の導通／非導通が、当該選択されたセル３２に格納されたデータによって決定され、回路１２の再構成が行われる。
【０１１８】
次に、回路１２を拡張回路、特にキャッシュメモリとして用いる期間に相当する期間Ｔ７乃至Ｔ１０における動作について説明する。
【０１１９】
期間Ｔ７において、配線ＣＥＮにハイレベルの信号が供給され、配線ＣＡＤＲからアドレス信号が供給されることにより、複数のセルアレイ３１のうち特定のセルアレイ３１（ここでは１行目のセルアレイ３１）を選択する信号が回路４４から配線４７［１］乃至［ｓ］を介して回路４５に供給される。また、配線ＣＯＮＴＥＸＴ１の電位をハイレベル、配線ＣＯＮＴＥＸＴｘの電位をローレベルの電位とすることにより、１行目のセルアレイ３１において、特に配線ＣＯＮＴＥＸＴ１と接続された配線ＣＷＬ［１］の電位がハイレベルとなり、配線ＣＷＬ［１］と接続されたセル３２［１，１］乃至［１，ｙ］が選択される。そして、当該選択されたセル３２［１，１］乃至［１，ｙ］において、データの読み出し動作が行われる。
【０１２０】
また、期間Ｔ７において、配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］の電位を一旦ハイレベルにする。そして、アドレス信号を配線ＣＡＤＲから回路４４に供給し、当該アドレス信号を回路４４でデコードするとともに、配線ＣＯＮＴＥＸＴ１の電位をハイレベル、配線ＣＯＮＴＥＸＴｘの電位をローレベルとすることにより（図６参照）、配線ＣＷＬ［１］の電位をハイレベルとする。また、配線ＩＮＩＴ（図８参照）の電位をハイレベルとすることにより、配線ＰＬＥＩＮの電位をローレベルとする。上記動作により、ハイレベルのデータが格納されたセル３２［１，１］は導通状態となり、ＳＬ［１］の電位はローレベルとなる。また、ローレベルのデータが格納されたセル３２［１，２］は非導通状態となり、ＳＬ［２］の電位はハイレベルを維持する。ここで、ＳＬ［１］乃至［ｙ］にＰＬＥが接続されている場合は、その出力をハイインピーダンスとしておくことが好ましい。なお、図１０では、図８に示すトランジスタ１０５と接続された、所定の電位を供給する機能を有する配線の電位がローレベルである場合のタイミングチャートを例示しているが、ハイレベルであっても良い。
【０１２１】
次いで、期間Ｔ８において、配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］の電位を一旦ハイレベルにする。そして、アドレス信号を配線ＣＡＤＲから回路４４に供給し、当該アドレス信号を回路４４でデコードするとともに、配線ＣＯＮＴＥＸＴ１の電位をローレベル、配線ＣＯＮＴＥＸＴｘの電位をハイレベルとすることにより、配線ＣＷＬ［ｘ］の電位をハイレベルとする。また、配線ＩＮＩＴの電位をハイレベルとすることで、配線ＰＬＥＩＮの電位をローレベルとする。上記動作により、ローレベルのデータが格納されたセル３２［ｘ，１］は非導通状態となり、ＳＬ［１］の電位はハイレベルを維持する。また、ハイレベルのデータが格納されたセル３２［ｘ，２］は導通状態となり、ＳＬ［２］の電位はローレベルとなる。
【０１２２】
次いで、期間Ｔ９において、配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］の電位を一旦ハイレベルにする。そして、アドレス信号を配線ＣＡＤＲから回路４４に供給し、当該アドレス信号を回路４４でデコードするとともに、配線ＣＯＮＴＥＸＴ１の電位をハイレベル、配線ＣＯＮＴＥＸＴｘの電位をローレベルとすることにより、配線ＣＷＬ［（ｓ−１）ｘ＋１］の電位をハイレベルとする。また、配線ＩＮＩＴの電位をハイレベルとすることで、配線ＰＬＥＩＮの電位をローレベルとする。上記動作により、ハイレベルのデータが格納されたセル３２［（ｓ−１）ｘ＋１，１］は導通状態となり、ＳＬ［１］の電位はローレベルとなる。また、ローレベルのデータが格納されたセル３２［（ｓ−１）ｘ＋１，２］は非導通状態となり、ＳＬ［２］の電位はハイレベルを維持する。
【０１２３】
次いで、期間Ｔ１０において、配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］の電位を一旦ハイレベルにする。そして、アドレス信号を配線ＣＡＤＲから回路４４に供給し、当該アドレス信号を回路４４でデコードするとともに、配線ＣＯＮＴＥＸＴ１の電位をローレベル、配線ＣＯＮＴＥＸＴｘの電位をハイレベルとすることにより、配線ＣＷＬ［ｓｘ］の電位をハイレベルとする。また、配線ＩＮＩＴの電位をハイレベルとすることで、配線ＰＬＥＩＮの電位をローレベルとする。上記動作により、ローレベルのデータが格納されたセル３２［ｓｘ，１］は非導通状態となり、ＳＬ［１］の電位はハイレベルを維持する。また、ハイレベルのデータが格納されたセル３２［ｓｘ，２］は導通状態となり、ＳＬ［２］の電位はローレベルとなる。
【０１２４】
このように、セル３２に格納されているデータに対応する電位が配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］に供給されることにより、セル３２に格納されたデータを読み出しが可能となる。よって、セル３２を書き込みおよび読み出しが可能な記憶装置として用いることができる。
【０１２５】
ここで、前述の通り、図７における回路４３は、シリアルデータの書き込み、パラレルデータの書き込み、およびパラレルデータの読み出しを行うことができる。そのため、期間Ｔ１乃至Ｔ４に示す動作によって、セル３２へのシリアルデータまたはパラレルデータの書き込みを行うことができる。また、期間Ｔ７乃至Ｔ１０に示す動作によって、セル３２からのパラレルデータの読み出しを行うことができる。
【０１２６】
なお、セルアレイ３１は、図１１に示す構成とすることもできる。図１１におけるセルアレイ３１は、配線ＰＬＥＩＮを複数有し（配線ＰＬＥＩＮ［１］乃至［ｘ］）、ＰＬＥＩＮ［１］はセル３２［１，１］乃至［１，ｙ］と接続され、ＰＬＥＩＮ［ｘ］はセル３２［ｘ，１］乃至［ｘ，ｙ］と接続されている。また、配線ＰＬＥＩＮ［１］は、トランジスタ１０５［１］およびラッチ回路１０６［１］と接続され、配線ＰＬＥＩＮ［ｘ］はトランジスタ１０５［ｘ］およびラッチ回路１０６［ｘ］と接続されている。このように、各行のセル３２がそれぞれ別の配線ＰＬＥＩＮと接続された構成をとる場合、セル３２［１，１］乃至［ｘ，ｙ］における読み出し動作は、トランジスタ１０５［１］乃至［ｘ］を用いて行毎に行うことができる。この場合、図８の構成と比較して配線ＰＬＥＩＮの寄生容量を低減できるため、トランジスタ１０５に要求される電流供給能力の条件を緩和することができ、トランジスタ１０５のサイズや材料などの自由度を高めることができる。
【０１２７】
なお、本実施の形態においては、回路１１の通常動作時に回路１２をキャッシュメモリとして用いる場合を説明したが、これに限られず、回路１２を仮想メモリにおけるＴＬＢ（Ｔｒａｎｓｌａｔｉｏｎ  Ｌｏｏｋ−ａｓｉｄｅ  Ｂｕｆｆｅｒ）や分岐予測回路として用いることもできる。
【０１２８】
本発明の一態様に係る装置では、回路１２がテスト回路として機能する際には、回路１７はセル３２にテスト回路用のコンフィギュレーションデータを出力する機能を有し、回路１１の通常動作時においては、回路１７は複数のセル３２に回路１１における処理に用いられるデータを出力する機能、および、セル３２に格納されたデータを読み出す機能を有する。そのため、回路１２に、テスト回路としての機能および拡張回路として機能を付与することができる。よって、回路１１の動作状態を試験する際にテスト回路として用いた回路１２を、回路１１の通常動作時においてはキャッシュメモリなどの拡張回路として用いることができ、装置１０において回路１１の通常の動作時に不要となる回路の面積規模を縮小することができる。
【０１２９】
また、本実施の形態においては、回路１１の通常動作時に不要となる回路の例としてテスト回路を挙げたが、これに限られない。すなわち、回路１１の通常動作時に不要となる任意の回路を、回路１２によって再構成することができる。この場合にも、回路１１の通常動作時に不要となる回路の面積規模を縮小することができる。
【０１３０】
また、本実施の形態においては、拡張回路の例として特にキャッシュメモリについて説明したが、これに限られない。例えば、回路１２を仮想メモリにおけるＴＬＢ（Ｔｒａｎｓｌａｔｉｏｎ  Ｌｏｏｋ−ａｓｉｄｅ  Ｂｕｆｆｅｒ）や分岐予測回路として用いることもできる。また、回路１２を乗算回路、積和演算回路などの演算回路として用いることもできる。さらに、回路１１の通常動作時、回路１２において、キャッシュメモリとして機能する構成と演算回路として機能する構成との切り替えを行うことにより、回路１２をキャッシュメモリ兼演算回路として用いることもできる。
【０１３１】
なお、本実施の形態の内容は、本実施の形態に開示された別の内容及び他の実施の形態の内容等の本明細書等に開示された内容と適宜組み合わせることができる。
【０１３２】
（実施の形態３）
本実施の形態では、図７に示す回路４３の、より具体的な構成の一例について説明する。
【０１３３】
図１２に、回路４３の回路構成の一例を示す。回路４３は、シフトレジスタ２００と、選択回路２０４乃至２０６と、ラッチ回路２０７乃至２１２を有するラインバッファと、トランジスタ２１３乃至２２１と、イネーブルバッファ２２２乃至２２４を有する。
【０１３４】
シフトレジスタ２００は、ラッチ回路２０１乃至２０３を有する。ラッチ回路２０１には、配線ＳＰから供給されるスタートパルスおよび配線ＣＫから供給されるクロック信号が入力される。また、ラッチ回路２０１の入力端子および出力端子はＡＮＤ回路の入力端子と接続され、当該ＡＮＤ回路の出力端子は配線ＳＥＬ［１］と接続される。ラッチ回路２０２には、ラッチ回路２０１の出力信号および配線ＣＫＢから供給される反転クロック信号が入力される。また、ラッチ回路２０２の入力端子および出力端子はＡＮＤ回路の入力端子と接続され、当該ＡＮＤ回路の出力端子は配線ＳＥＬ［２］と接続される。同様に、ラッチ回路２０３には、前段のラッチ回路の出力信号と、配線ＣＫから供給されるクロック信号または配線ＣＫＢから供給される反転クロック信号（図１２においてはクロック信号）が入力される。また、ラッチ回路２０３の入力端子および出力端子はＡＮＤ回路の入力端子と接続され、当該ＡＮＤ回路の出力端子は配線ＳＥＬ［ｙ］と接続される。
【０１３５】
図２に示すように回路１２をテスト回路として用いる場合、配線ＣＥＮに回路１２をテスト回路として用いることを示す信号（例えば、ローレベルの信号）が供給される。そして、配線ＳＥＬ［１］に出力された信号はラッチ回路２０７のラッチ用信号として用いられ、配線ＳＥＬ［２］に出力された信号はラッチ回路２０８のラッチ用信号として用いられ、配線ＳＥＬ［ｙ］に出力された信号はラッチ回路２０９のラッチ用信号として用いられる。
【０１３６】
選択回路２０４乃至２０６は、例えば、ＡＮＤ回路、ＮＯＲ回路を図１２に示すように接続することにより構成することができる。回路１２を拡張回路、例えばキャッシュメモリとして用いる場合、配線ＣＥＮに回路１２をキャッシュメモリとして用いることを示す信号（例えば、ハイレベルの信号）が供給される。そして、配線ＷＳＥＬ［１］に出力された信号はラッチ回路２０７のラッチ用信号およびラッチ回路２０８等のラッチ用信号として用いられ、配線ＷＳＥＬ［ｍ］に出力された信号はラッチ回路２０９等のラッチ用信号として用いられる。
【０１３７】
ラッチ回路２０７乃至２０９は、例えば、インバータ、アナログスイッチを図１２に示すように接続することにより構成することができる。回路１２をテスト回路として用いる場合、配線ＤＡＴＡにシリアルデータが順次入力され、当該シリアルデータが選択回路２０４乃至２０６を介してラッチ回路２０７乃至２０９に順次格納される。また、回路１２をキャッシュメモリとして用いる場合、配線ＷＤＡＴＡ［１］乃至［ｎ］にｎビットのパラレルデータが入力され、当該パラレルデータが配線ＷＳＥＬ［１］によって選択された選択回路２０４、２０５等を介してラッチ回路２０７、２０８等に格納され、さらに配線ＷＤＡＴＡ［１］乃至［ｎ］にｎビットのパラレルデータが入力され、当該パラレルデータが配線ＷＳＥＬ［ｍ］によって選択された選択回路２０６等を介してラッチ回路２０９に格納される。すなわちパラレルデータをｎビットずつラッチ回路に一括で格納する動作をｍ回繰り返すことにより、ラッチ回路２０７乃至２０９にｎ×ｍ＝ｙビットのデータが格納される。この時、配線ＷＥＮの電位を制御することにより、トランジスタ２１９乃至２２１を導通させ、配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］の電位をローレベルとすることが好ましい。これにより、セル３２へのデータの書き込みの際、配線ＳＬに接続されたセル３２におけるトランジスタ１０２（図８参照）のソース又はドレインの一方の電位をローレベルとすることができ、より安定したデータの書き込みが可能となる。
【０１３８】
ラッチ回路２１０乃至２１２は、配線ＬＡＴに供給される信号に応じて、ラッチ回路２０７乃至２０９から出力されたデータを格納する機能を有する。そして、ラッチ回路２１０乃至２１２に格納されたデータは、配線ＢＬ［１］乃至［ｙ］に供給される。
【０１３９】
回路１２をキャッシュメモリとして用いる場合において、当該キャッシュメモリにおいて読み出し動作を行う際には、配線ＲＥＮに供給する信号を制御することにより、トランジスタ２１３乃至２１５を導通状態とし、配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］とラッチ回路２０７乃至２０９が接続された状態とする。このとき、配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］には、配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］と接続されたセル３２に格納されたデータに対応する信号が供給され、当該信号がラッチ回路２０７乃至２０９に格納される。なお、データの読み出しを行うセル３２を選択する直前に、配線ＰＣの電位を制御することにより、トランジスタ２１６乃至２１８を導通させ、配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］をプリチャージすることが好ましい。これにより、セル３２に格納されたデータがハイレベルであってもローレベルであっても、データの読み出しを正確に行うことができる。
【０１４０】
セル３２からＳＬ［１］乃至［ｙ］を介してラッチ回路２０７乃至２０９に格納されたデータは、配線ＲＳＥＬ［１］乃至［ｍ］により供給される信号により選択されるイネーブルバッファ２２２乃至イネーブルバッファ２２４を介して、ｎビットずつ、配線ＲＤＡＴＡ［１］乃至［ｎ］に出力される。よって、セル３２に格納されたデータを、パラレルデータとして読み出すことができる。
【０１４１】
なお、ラッチ回路２０７乃至２０９のすべてに新しいデータを格納し、当該データをラッチ回路２１０乃至２１２を介して配線ＢＬ［１］乃至［ｙ］に供給することにより、特定の行のセル３２にデータを同時に書き込むことができる。すなわち、特定の行のセル３２に格納されるデータの更新を一括で行うことができる。
【０１４２】
また、特定の行のセル３２に格納されているデータを配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］を介してラッチ回路２０７乃至２０９に格納した後、ラッチ回路２０７乃至２０９のうち一部に新しいデータを格納してデータを上書きし、その後、ラッチ回路２０７乃至ラッチ回路２０９に格納されたデータをラッチ回路２１０乃至ラッチ回路２１２を介して配線ＢＬ［１］乃至［ｙ］に供給することにより、当該特定の行のセル３２のうち、一部のセルのデータを書き換えることができる。すなわち、特定の行のセル３２のうち一部のセルに格納されたデータを部分的に更新することができる。
【０１４３】
また、特定の行のセル３２に格納されているデータを配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］を介してラッチ回路２０７乃至２０９に格納した後、ラッチ回路２１０乃至２１２を介して配線ＢＬ［１］乃至［ｙ］に供給することにより、当該特定の行のセル３２のデータをリフレッシュすることができる。これによって、セル３２におけるトランジスタ１０２のゲートおよび容量素子１０４の電位が低下した場合に、元の電位に戻すことができる。
【０１４４】
上記のように、ラッチ回路２０７乃至２０９は、書き込み用のラッチ回路としても読み出し用のラッチ回路としても用いることができる。よって、書き込み用のラッチ回路と読み出し用のラッチ回路を別々に設ける必要がなくなるため、回路の規模を小さくし、回路の面積を削減することができる。
【０１４５】
このように、図１２に示す回路４３は、セル３２へのシリアルデータを書き込みと、セル３２へのパラレルデータの書き込みと、セル３２からのパラレルデータの読み出しを行うことができる。
【０１４６】
次に、回路１２がテスト回路として機能する場合の回路４３の動作について説明する。
【０１４７】
図１３は、回路１２をテスト回路として用いる際の、データの書き込み動作を説明するタイミングチャートである。なお、期間Ｔ１乃至１１において、配線ＣＥＮには、回路１２をテスト回路として用いる場合に対応するローレベルの信号が供給されている。
【０１４８】
まず、期間Ｔ１において、配線ＩＮＩＴの電位をハイレベル、配線ＷＷＬ［１］乃至［ｘ］の電位をハイレベルとし、配線ＢＬ［１］乃至［ｙ］の電位をローレベルとすることにより、セル３２［１，１］乃至［ｘ，ｙ］のすべてにローレベルのデータを格納する。これにより、配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］間で意図しない短絡が発生することを防止することができるため、配線ＰＬＥＩＮの電位が不定値となることを防止し、不要な消費電流を低減することができる。
【０１４９】
次いで、期間Ｔ２、３において、配線ＳＰの電位をハイレベルとする。このとき、期間Ｔ３において配線ＳＥＬ［１］の電位がハイレベルとなり、期間Ｔ３における配線ＤＡＴＡの電位に対応するハイレベルのデータがラッチ回路２０７に格納される。また、期間Ｔ４において配線ＳＥＬ［２］の電位がハイレベルとなり、期間Ｔ４における配線ＤＡＴＡの電位に対応するローレベルのデータがラッチ回路２０８に格納される。なお、配線ＳＰの電位を図１３に示すような電位に制御するために、ラッチ回路２０１の前段に、配線ＣＫＢから供給される反転クロック信号により制御されるラッチ回路をさらに追加してもよい。
【０１５０】
次いで、期間Ｔ５において、配線ＬＡＴの電位をハイレベルとする。この時、ラッチ回路２０７乃至２０９に格納されたデータは、ラッチ回路２１０乃至２１２に格納されるとともに、配線ＢＬ［１］乃至［ｙ］に出力される。よって、配線ＢＬ［１］の電位はハイレベル、配線ＢＬ［２］の電位はローレベルとなる。
【０１５１】
次いで、期間Ｔ６において、配線ＷＷＬ［１］の電位をハイレベルにする。この時、配線ＷＷＬ［１］と接続されたセル３２［１，１］乃至［１，ｙ］が書き込み対象として選択され、セル［１，１］には配線ＢＬ［１］の電位に対応したハイレベルのデータが格納され、セル［１，２］には配線ＢＬ［２］の電位に対応するローレベルのデータが格納される。
【０１５２】
次いで、期間Ｔ７、８において、配線ＳＰの電位をハイレベルとする。このとき、期間Ｔ８において配線ＳＥＬ［１］の電位がハイレベルとなり、期間Ｔ８における配線ＤＡＴＡの電位に対応するローレベルのデータがラッチ回路２０７に格納される。また、期間Ｔ９において配線ＳＥＬ［２］の電位がハイレベルとなり、期間Ｔ９における配線ＤＡＴＡの電位に対応するハイレベルのデータがラッチ回路２０８に格納される。
【０１５３】
次いで、期間Ｔ１０において、配線ＬＡＴの電位をハイレベルとする。この時、ラッチ回路２０７乃至２０９に格納されたデータは、ラッチ回路２１０乃至２１２に格納されるとともに、配線ＢＬ［１］乃至［ｙ］に出力される。よって、配線ＢＬ［１］の電位はローレベル、配線ＢＬ［２］の電位はハイレベルとなる。
【０１５４】
次いで、期間Ｔ１１において、配線ＷＷＬ［ｘ］の電位をハイレベルとする。この時、配線ＷＷＬ［ｘ］と接続されたセル３２［ｘ，１］乃至［ｘ，ｙ］が書き込み対象として選択され、セル［ｘ，１］には配線ＢＬ［１］の電位に対応したローレベルのデータが格納され、セル［ｘ，２］には配線ＢＬ［２］の電位に対応するハイレベルのデータが格納される。
【０１５５】
以降、同様の動作を全ての行のセル３２について繰り返すことで、全てのセル３２［１，１］乃至［ｓｘ，ｙ］に書き込みが行われ、所定のデータが格納される。そして、当該データをコンフィギュレーションデータとして回路１２がテスト回路に再構成され、回路１２においてテストパターンの生成等が行われる。
【０１５６】
次に、回路１２がキャッシュメモリとして機能する場合の回路４３の動作について説明する。
【０１５７】
図１４は、回路１２をキャッシュメモリとして用いる際のデータの書き込み動作および読み出し動作を説明するタイミングチャートである。ここで、期間Ｔ１２乃至１４は、セル３２へのデータの書き込み動作に相当する。また、期間Ｔ１５は、セル３２からのデータの読み出し動作に相当する。また、期間Ｔ１６乃至１８は、セルに格納されたデータの一部を書き換える動作に相当する。また、期間Ｔ１９乃至２０は、キャッシュメモリのデータのリフレッシュ動作に相当する。なお、期間Ｔ１２乃至２０において、配線ＣＥＮには、回路１２をキャッシュメモリとして用いる場合に対応するハイレベルの信号が供給されている。
【０１５８】
まず、期間Ｔ１２において、配線ＷＥＮの電位をハイレベル、配線ＷＳＥＬ［１］の電位をハイレベルとし、配線ＷＤＡＴＡ［１］の電位をハイレベル、配線ＷＤＡＴＡ［２］の電位をローレベルとする。これにより、ラッチ回路２０７にはハイレベルのデータが格納され、ラッチ回路２０８にはローレベルのデータが格納される。
【０１５９】
次いで、期間Ｔ１３において、配線ＷＥＮの電位をハイレベル、配線ＷＳＥＬ［ｍ］の電位をハイレベルとし（図示せず）、配線ＷＤＡＴＡ［１］の電位をローレベル、配線ＷＤＡＴＡ［２］の電位をハイレベルとすると、配線ＷＳＥＬ［ｍ］および配線ＷＤＡＴＡ［１］と接続されたラッチ回路（図示せず）にはローレベルのデータが格納され、配線ＷＳＥＬ［ｍ］および配線ＷＤＡＴＡ［２］と接続されたラッチ回路（図示せず）にはハイレベルのデータが格納される。
【０１６０】
次いで、期間Ｔ１４において、配線ＷＥＮの電位をハイレベル、配線ＬＡＴの電位をハイレベル、配線ＷＷＬ［１］の電位をハイレベルとする。この時、ラッチ回路２０７に格納されているハイレベルのデータがラッチ回路２１０に格納されるとともに、配線ＢＬ［１］に出力される。また、ラッチ回路２０８に格納されているローレベルのデータがラッチ回路２１１に格納されるとともに、配線ＢＬ［２］に出力される。よって、配線ＢＬ［１］の電位はハイレベル、配線ＢＬ［２］の電位はローレベルとなる。さらに、配線ＷＷＬ［１］と接続された１行目のセル３２［１，１］乃至［１，ｙ］が書き込み対象として選択され、セル［１，１］には配線ＢＬ［１］の電位に対応したハイレベルのデータが格納され、セル［１，２］には配線ＢＬ［２］の電位に対応するローレベルのデータが格納される。なお、期間Ｔ１４において、配線ＷＥＮの電位をハイレベルとすることにより、トランジスタ２１９乃至２２１を導通させ、配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］の電位をローレベルとすることが好ましい。これにより、セル３２へのデータの書き込みの際、配線ＳＬに接続されたセル３２におけるトランジスタ１０２（図８参照）のソース又はドレインの一方の電位をローレベルとすることができ、より安定したデータの書き込みが可能となる。
【０１６１】
次いで、期間Ｔ１５において、配線ＲＥＮの電位をハイレベルとし、配線ＣＷＬ［１］の電位をハイレベルとすると、配線ＣＷＬ［１］と接続された１行目のセル３２［１，１］乃至［１，ｙ］が読み出し対象として選択され、配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］に、セル３２［１，１］乃至［１，ｙ］に格納されたデータに対応する信号が出力される。具体的には、配線ＣＷＬ［１］の電位がハイレベルとなることにより、セル３２［１，１］、［１，２］におけるトランジスタ１０３は導通状態となり、ハイレベルのデータが格納されたセル３２［１，１］におけるトランジスタ１０２は導通状態となり、ローレベルのデータが格納されたセル３２［１，２］におけるトランジスタ１０２は非導通状態となる。そのため、セル３２［１，１］は導通状態、セル３２［１，２］は非導通状態となり、配線ＳＬ［１］の電位はローレベル、配線ＳＬ［２］の電位はハイレベルとなる。
【０１６２】
また、配線ＲＥＮの電位がトランジスタ２１３乃至２１５のゲートに供給されることにより、トランジスタ２１３乃至２１５が導通状態となり、配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］の電位に対応するデータがラッチ回路２０７乃至２０９に格納される。具体的には、ラッチ回路２０７にはハイレベルのデータが格納され、ラッチ回路２０８にはローレベルのデータが格納される。なお、期間Ｔ１５の初期において、配線ＰＣの電位をローレベルとし、トランジスタ２１６乃至２１８を導通状態とすることにより、配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］をプリチャージしておく構成が好ましい。これによって、セル３２に格納されたデータがハイレベルであってもローレベルであっても、データの読み出しを正確に行うことができる。
【０１６３】
そして、配線ＲＳＥＬ［１］の電位がハイレベルとなることにより、ラッチ回路２０７に格納されたデータがイネーブルバッファ２２２を介して配線ＲＤＡＴＡ［１］に出力され、ラッチ回路２０８に格納されたデータがイネーブルバッファ２２３を介して配線ＲＤＡＴＡ［２］に出力される。
【０１６４】
次いで、期間Ｔ１６において、配線ＲＥＮの電位をハイレベルとし、配線ＣＷＬ［１］の電位をハイレベルとすることにより、配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］にセル３２［１，１］乃至［１，ｙ］に格納されたデータに対応する信号が出力される。そして、期間Ｔ１５と同様の動作により、配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］の電位に対応するデータがラッチ回路２０７乃至２０９に格納される。ここでは、ラッチ回路２０７にハイレベルのデータが格納され、ラッチ回路２０８にローレベルのデータが格納される。
【０１６５】
次いで、期間Ｔ１７において、配線ＷＳＥＬ［１］の電位をハイレベルとし、配線ＷＤＡＴＡ［１］の電位をローレベルとし、配線ＷＤＡＴＡ［２］の電位をハイレベルとすると、ラッチ回路２０７にローレベルのデータが格納され、ラッチ回路２０８にハイレベルのデータが格納される。
【０１６６】
次いで、期間Ｔ１８において、配線ＷＥＮの電位をハイレベル、配線ＬＡＴの電位をハイレベル、配線ＷＷＬ［１］の電位をハイレベルとする。この時、ラッチ回路２０７に格納されているローレベルのデータがラッチ回路２１０に格納されるとともに、配線ＢＬ［１］に出力される。また、ラッチ回路２０８に格納されているハイレベルのデータがラッチ回路２１１に格納されるとともに、配線ＢＬ［２］に出力される。よって、配線ＢＬ［１］の電位はローレベル、配線ＢＬ［２］の電位はハイレベルとなる。さらに、配線ＷＷＬ［１］と接続された１行目のセル３２［１，１］乃至［１，ｙ］が書き込み対象として選択され、セル［１，１］には配線ＢＬ［１］の電位に対応したローレベルのデータが格納され、セル［１，２］には配線ＢＬ［２］の電位に対応するハイレベルのデータが格納される。なお、期間Ｔ１８において、配線ＷＥＮの電位をハイレベルとすることにより、トランジスタ２１９乃至２２１を導通させ、配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］の電位をローレベルとすることが好ましい。これにより、セル３２へのデータの書き込みの際、配線ＳＬに接続されたセル３２におけるトランジスタ１０２（図８参照）のソース又はドレインの一方の電位をローレベルとすることができ、より安定したデータの書き込みが可能となる。
【０１６７】
次いで、期間Ｔ１９において、配線ＲＥＮの電位をハイレベルとし、配線ＣＷＬ［１］の電位をハイレベルとすることにより、配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］にセル３２［１，１］乃至［１，ｙ］に格納されたデータに対応する信号が出力される。そして、期間Ｔ１６と同様の動作により、配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］の電位に対応するデータがラッチ回路２０７乃至２０９に格納される。ここでは、ラッチ回路２０７にローレベルのデータが格納され、ラッチ回路２０８にハイレベルのデータが格納される。
【０１６８】
次いで、期間Ｔ２０において、配線ＷＥＮの電位をハイレベル、配線ＬＡＴの電位をハイレベル、配線ＷＷＬ［１］の電位をハイレベルとする。この時、ラッチ回路２０７に格納されているローレベルのデータがラッチ回路２１０に格納されるとともに、配線ＢＬ［１］に出力される。また、ラッチ回路２０８に格納されているハイレベルのデータがラッチ回路２１１に格納されるとともに、配線ＢＬ［２］に出力される。よって、配線ＢＬ［１］の電位はローレベル、配線ＢＬ［２］の電位がハイレベルとなる。さらに、配線ＷＷＬ［１］と接続された１行目のセル３２［１，１］乃至［１，ｙ］が書き込み対象として選択され、セル［１，１］には配線ＢＬ［１］の電位に対応したローレベルのデータが格納され、セル［１，２］には配線ＢＬ［２］の電位に対応するハイレベルのデータが格納される。なお、期間Ｔ２０において、配線ＷＥＮの電位をハイレベルとすることにより、トランジスタ２１９乃至２２１を導通させ、配線ＳＬ［１］乃至［ｙ］の電位をローレベルとすることが好ましい。これにより、セル３２へのデータの書き込みの際、配線ＳＬに接続されたセル３２におけるトランジスタ１０２（図８参照）のソース又はドレインの一方の電位をローレベルとすることができ、より安定したデータの書き込みが可能となる。
【０１６９】
なお、本実施の形態においては、回路１１の通常動作時に回路１２をキャッシュメモリとして用いる場合を説明したが、本発明の一態様はこれに限られず、回路１２を仮想メモリにおけるＴＬＢや分岐予測回路として用いることもできる。
【０１７０】
本発明の一態様に係る装置では、回路１２がテスト回路として機能する際には、回路１７はセル３２にテスト回路用のコンフィギュレーションデータを出力する機能を有し、回路１１の通常動作時においては、回路１７は複数のセル３２に回路１１における処理に用いられるデータを出力する機能、および、セル３２に格納されたデータを読み出す機能を有する。そのため、回路１２に、テスト回路としての機能および拡張回路として機能を付与することができる。よって、回路１１の動作状態を試験する際にテスト回路として用いた回路１２を、回路１１の通常動作時においてはキャッシュメモリなどの拡張回路として用いることができ、装置１０において回路１１の通常の動作時に不要となる回路の面積規模を縮小することができる。
【０１７１】
また、本実施の形態においては、回路１１の通常動作時に不要となる回路の例としてテスト回路を挙げたが、これに限られない。すなわち、回路１１の通常動作時に不要となる任意の回路を、回路１２によって再構成することができる。この場合にも、回路１１の通常動作時に不要となる回路の面積規模を縮小することができる。
【０１７２】
また、本実施の形態においては、拡張回路の例として特にキャッシュメモリについて説明したが、これに限られない。例えば、回路１２を仮想メモリにおけるＴＬＢ（Ｔｒａｎｓｌａｔｉｏｎ  Ｌｏｏｋ−ａｓｉｄｅ  Ｂｕｆｆｅｒ）や分岐予測回路として用いることもできる。また、回路１２を乗算回路、積和演算回路などの演算回路として用いることもできる。さらに、回路１１の通常動作時、回路１２において、キャッシュメモリとして機能する構成と演算回路として機能する構成との切り替えを行うことにより、回路１２をキャッシュメモリ兼演算回路として用いることもできる。
【０１７３】
なお、本実施の形態の内容は、本実施の形態に開示された別の内容及び他の実施の形態の内容等の本明細書等に開示された内容と適宜組み合わせることができる。
【０１７４】
（実施の形態４）
本実施の形態では、回路１２（図１乃至５参照）に用いることができるＰＬＤの構成の一例について説明する。
【０１７５】
＜ロジックアレイの構成例＞
図１５に、回路１２に用いることができるＰＬＤ４００の構成の一部を例示する。ＰＬＤ４００は、複数のＰＬＥ４１０（図１乃至５におけるＰＬＥ１５に対応）と、複数のＰＬＥ４１０の入力端子または出力端子に電気的に接続されている複数の配線４２０と、配線４２０間の導通状態を制御する機能を有するＳＷ（図１乃至５におけるＳＷ１６に対応）とを有する。複数の配線４２０とＳＷとにより、ＰＬＥ４１０間の導通状態が制御される。
【０１７６】
なお、図１５に示すＰＬＤ４００には、複数のＰＬＥ４１０の入力端子または出力端子に電気的に接続されている配線４２０に加えて、クロック信号や信号ＲＥＳをＰＬＥ４１０に供給する機能を有する配線が設けられていても良い。クロック信号は、例えば、ＰＬＥ４１０が有するフリップフロップからの信号の出力のタイミングを制御する動作に用いることができる。また、信号ＲＥＳは、例えば、ＰＬＥ４１０が有するフリップフロップに保持されているデータを、初期化するタイミングを制御する動作に用いることができる。
【０１７７】
＜ＰＬＥの構成例＞
次いで、ＰＬＥ４１０の構成例について説明する。
【０１７８】
図１６（Ａ）に、ＰＬＥ４１０の一形態を例示する。図１６（Ａ）に示すＰＬＥ４１０は、ＬＵＴ（ルックアップテーブル）４３０と、フリップフロップ４４０とを有する。ＬＵＴ４３０では、回路情報を含むデータに従って、入力端子４５０に入力される入力信号の論理値に対する、出力信号の論理値が定められる。フリップフロップ４４０は、ＬＵＴ４３０の出力信号に含まれるデータを保持し、クロック信号ＣＬＫに同期して当該データに対応した出力信号を、出力端子４６０から出力する。
【０１７９】
また、回路情報を含むデータによって、フリップフロップ４４０の種類を定義できる構成にしても良い。具体的には、回路情報を含むデータに従って、フリップフロップ４４０がＤ型フリップフロップ、Ｔ型フリップフロップ、ＪＫ型フリップフロップ、またはＳＷ型フリップフロップのいずれかの機能を有するようにしても良い。
【０１８０】
また、図１６（Ｂ）に、ＰＬＥ４１０の別の一形態を例示する。図１６（Ｂ）に示すＰＬＥ４１０は、図１６（Ａ）に示したＰＬＥ４１０に、ＡＮＤ回路４７０が追加された構成を有している。ＡＮＤ回路４７０には、フリップフロップ４４０からの信号が、正論理の入力として与えられ、信号ＩＮＩＴの電位が、負論理の入力として与えられている。上記構成により、信号ＩＮＩＴの電位に従って、出力端子４６０の電位を初期化することができる。
【０１８１】
また、図１６（Ｃ）に、ＰＬＥ４１０の別の一形態を例示する。図１６（Ｃ）に示すＰＬＥ４１０は、図１６（Ａ）に示したＰＬＥ４１０に、マルチプレクサ４８０が追加された構成を有している。また、図１６（Ｃ）に示すＰＬＥ４１０は、記憶回路４９０を有している。
【０１８２】
ＬＵＴ４３０は、回路情報を含むデータに従って、入力信号の論理値に対する出力信号の論理値が定められる。また、マルチプレクサ４８０は、ＬＵＴ４３０からの出力信号と、フリップフロップ４４０からの出力信号とが入力されている。そして、マルチプレクサ４８０は、記憶回路４９０に格納されているデータに従って、上記２つの出力信号のいずれか一方を選択し、出力する機能を有する。マルチプレクサ４８０からの出力信号は、出力端子４６０から出力される。
【０１８３】
また、図１６（Ｄ）に、ＰＬＥ４１０の別の一形態を例示する。図１６（Ｄ）に示すＰＬＥ４１０は、図１６（Ｃ）に示したＰＬＥ４１０に、マルチプレクサ５００が追加された構成を有している。また、図１６（Ｄ）に示すＰＬＥ４１０は、記憶回路５１０を有している。
【０１８４】
マルチプレクサ５００には、ＬＵＴ４３０からの出力信号と、端子５２０から入力された、他のＰＬＥ４１０が有するフリップフロップ４４０からの出力信号とが入力されている。そして、マルチプレクサ５００は、記憶回路５１０に格納されている回路情報を含むデータに従って、上記２つの出力信号のいずれか一方を選択し、出力する機能を有する。
【０１８５】
＜記憶回路について＞
次いで、ＰＬＥ４１０が有する、回路情報を記憶する機能を有する記憶回路の構成例について説明する。
【０１８６】
図１７に、記憶回路６００の構成を、一例として示す。記憶回路６００は、図１６（Ｃ）に示す記憶回路４９０として、或いは、図１６（Ｄ）に示す記憶回路４９０または記憶回路５１０として用いることができる。また、記憶回路６００は、ＬＵＴ４３０が有する記憶回路として用いることができる。
【０１８７】
記憶回路６００は、データを記憶する機能を有する複数の回路６１０を有する。図１７では、複数の回路６１０がｍ行ｎ列で配置されている場合を例示している。そして、ｉ列ｊ行目（ｉはｎ以下の自然数を意味し、ｊはｍ以下の自然数を意味する）の回路６１０は、配線ＢＬ［ｉ−１］、配線ＣＬ［１，０］、配線ＷＬ［２ｊ−１，２ｊ−２］、配線ＯＬ［ｊ−１］に電気的に接続されている。
【０１８８】
図１８（Ａ）に、ｉ列ｊ行目の、回路６１０のより具体的な構成の一例を示す。回路６１０は、データを記憶する機能を有する複数の回路６２０と、複数の回路６２０からそれぞれ出力されるデータを選択する機能を有するマルチプレクサ６３０とを有する。具体的に、図１８（Ａ）では、回路６１０が回路６２０ａ及び回路６２０ｂで示す２つの回路６２０を有する場合を例示している。
【０１８９】
具体的に、入力される信号の極性が互いに反転している配線ＢＬ［ｉ−１］及び配線ＢＬｂ［ｉ−１］は、共に、回路６２０ａ及び回路６２０ｂに電気的に接続されている。配線ＷＬ［２ｊ−２］及び配線ＷＬ［２ｊ−１］は、回路６２０ａ及び回路６２０ｂにそれぞれ電気的に接続されている。配線ＣＬ［０］及び配線ＣＬ［１］は、マルチプレクサ６３０に電気的に接続されている。回路６２０ａから出力されるデータと、回路６２０ｂから出力されるデータとは、マルチプレクサ６３０において、配線ＣＬ［０］及び配線ＣＬ［１］から供給される信号に含まれるデータに従って、いずれかが選択される。
【０１９０】
なお、回路６１０が有する回路６２０の数は、３以上であっても良い。この場合、回路６１０に電気的に接続される配線ＷＬ及び配線ＣＬの数も、回路６２０の数に合わせて調整することが望ましい。また、回路６１０が有する回路６２０の数は、単数であっても良い。この場合、配線ＷＬ及び配線ＣＬの数も、回路６２０の数に合わせて調整することが望ましい。さらに、回路６１０が有する回路６２０の数が単数である場合は、マルチプレクサ６３０を回路６１０に設けず、回路６２０から出力されるデータを配線ＯＬ［ｊ−１］に入力するようにしても良い。
【０１９１】
次いで、図１８（Ｂ）に、回路６２０の具体的な構成を一例として示す。図１８（Ｂ）に示す回路６２０は、トランジスタ６４０、６５０、６６０、６７０を少なくとも有する。また、回路６２０は、図１８（Ｂ）に示すように、容量素子６８０及び容量素子６９０を有していても良い。
【０１９２】
トランジスタ６４０は、回路６２０内のノードＮＤ１への、データを含む第１信号の電位の供給を制御する機能を有する。具体的には、トランジスタ６４０が導通状態であるとき、配線ＢＬ［ｉ−１］に与えられたデータを含む第１信号の電位が、ノードＮＤ１に供給される。また、トランジスタ６４０が非導通状態であるとき、ノードＮＤ１の電位が保持される。容量素子６８０の一方の電極はノードＮＤ１に電気的に接続されており、容量素子６８０は、ノードＮＤ１の電位を保持する機能を有する。容量素子６８０の他方の電極は、例えば、一定の電位を供給することができる機能を有する配線に接続されている。例えば、ＧＮＤ線に接続されている。ただし、その配線の電位は、０ボルトであることに限定されない。
【０１９３】
トランジスタ６４０における導通状態または非導通状態の選択は、配線ＷＬ［２ｊ−１］または配線ＷＬ［２ｊ−２］に与えられる信号の電位に従って行われる。
【０１９４】
トランジスタ６５０は、ノードＮＤ１の電位に従って、配線７００と配線７２０の間における導通状態と非導通状態とを切り替える機能を有する。具体的には、トランジスタ６５０が導通状態であるとき、配線７００と配線７２０とが導通状態となる。また、トランジスタ６５０が非導通状態であるとき、配線７００と配線７２０とは非導通状態となる。
【０１９５】
また、トランジスタ６６０は、回路６２０内のノードＮＤ２への、データを含む第２信号の電位の供給を、制御する機能を有する。具体的には、トランジスタ６６０が導通状態であるとき、配線ＢＬｂ［ｉ−１］に与えられたデータを含む第２信号の電位が、ノードＮＤ２に供給される。また、トランジスタ６６０が非導通状態であるとき、ノードＮＤ２の電位が保持される。容量素子６９０の一方の電極はノードＮＤ２に電気的に接続されており、容量素子６９０は、ノードＮＤ２の電位を保持する機能を有する。容量素子６９０の他方の電極は、例えば、一定の電位を供給することができる機能を有する配線に電気的に接続されている。例えば、ＧＮＤ線に電気的に接続されている。ただし、その配線の電位は、０ボルトであることに限定されない。なお、容量素子６９０の他方の電極は、容量素子６８０の他方の電極と、電気的に接続されていてもよい。ただし、本発明の一態様は、これに限定されない。
【０１９６】
トランジスタ６６０における導通状態または非導通状態の選択は、配線ＷＬ［２ｊ−１］または配線ＷＬ［２ｊ−２］に与えられる信号の電位に従って行われる。
【０１９７】
トランジスタ６７０は、ノードＮＤ２の電位に従って、配線７１０と配線７２０の間における導通状態と非導通状態とを切り替える機能を有する。具体的には、トランジスタ６７０が導通状態であるとき、配線７１０と配線７２０とが導通状態となる。また、トランジスタ６７０が非導通状態であるとき、配線７１０と配線７２０とは非導通状態となる。
【０１９８】
なお、配線７００にはハイレベルの電位ＶＤＤが与えられ、配線７１０にはローレベルの電位ＶＳＳが与えられるものとする。そして、データを回路６２０に書き込むときには、第１信号の電位と、第２信号の電位は、互いに極性が反転している、すなわち論理レベルが反転している。よって、トランジスタ６５０とトランジスタ６７０とは、一方が導通状態にあるとき、他方が非導通状態にある。また、トランジスタ６５０とトランジスタ６７０のうち、どちらが導通状態にあり、どちらが非導通状態にあるかは、第１信号と第２信号の電位、すなわちデータによって定まる。そのため、データによって、配線７２０に与えられる電位が、ハイレベルの電位ＶＤＤであるか、ローレベルの電位ＶＳＳであるかが定まる。
【０１９９】
配線７２０に与えられる電位をデータとして含む信号は、図１８（Ａ）に示すマルチプレクサ６３０に入力される。
【０２００】
なお、図１８（Ｂ）に示す回路６２０において、トランジスタ６４０及びトランジスタ６６０に用いられるトランジスタは、ノードＮＤ１及びノードＮＤ２の電位を保持する機能を有しているため、オフ電流の著しく小さいトランジスタであることが望ましい。シリコンよりもバンドギャップが広く、真性キャリア密度がシリコンよりも低い半導体膜に、チャネル形成領域が形成されることを特徴とするトランジスタは、オフ電流を著しく小さくすることができるので、トランジスタ６４０及びトランジスタ６６０に用いるのに好適である。このような半導体としては、例えば、シリコンの２倍以上の大きなバンドギャップを有する、酸化物半導体、窒化ガリウムなどが挙げられる。よって、上記構成を有するトランジスタをトランジスタ６４０及びトランジスタ６６０に用いることで、ノードＮＤ１及びノードＮＤ２に保持されている電荷が、リークするのを防ぐことができる。
【０２０１】
なお、トランジスタ６４０にｎチャネル型のトランジスタが用いられる場合、ノードＮＤ１を電位ＶＳＳにすることは容易であるが、ノードＮＤ１を電位ＶＤＤにすることは、上記トランジスタの閾値電圧を考慮すると難しい。そのため、トランジスタ６５０にｐチャネル型のトランジスタが用いられていると、トランジスタ６５０を確実に非導通状態にすることが難しくなり、トランジスタ６５０を介して貫通電流が流れやすくなる。よって、トランジスタ６４０にｎチャネル型のトランジスタが用いられる場合、トランジスタ６５０には、ｎチャネル型のトランジスタを用いることが、貫通電流を防止するために望ましい。トランジスタ６６０とトランジスタ６７０にも同様のことが言える。すなわち、トランジスタ６６０にｎチャネル型のトランジスタが用いられる場合、トランジスタ６７０には、ｎチャネル型のトランジスタを用いることが、貫通電流を防止するために望ましい。
【０２０２】
また、トランジスタ６４０にｐチャネル型のトランジスタが用いられる場合、ノードＮＤ１を電位ＶＤＤにすることは容易であるが、ノードＮＤ１を電位ＶＳＳにすることは、上記トランジスタの閾値電圧を考慮すると難しい。そのため、トランジスタ６５０にｎチャネル型のトランジスタが用いられていると、トランジスタ６５０を確実に非導通状態にすることが難しくなり、トランジスタ６５０を介して貫通電流が流れやすくなる。よって、トランジスタ６４０にｐチャネル型のトランジスタが用いられる場合、トランジスタ６５０には、ｐチャネル型のトランジスタを用いることが、貫通電流を防止するために望ましい。トランジスタ６６０とトランジスタ６７０にも同様のことが言える。すなわち、トランジスタ６６０にｐチャネル型のトランジスタが用いられる場合、トランジスタ６７０には、ｐチャネル型のトランジスタを用いることが、貫通電流を防止するために望ましい。
【０２０３】
なお、本実施の形態は、他の実施の形態と適宜組み合わせて実施することができる。
【０２０４】
（実施の形態５）
本実施の形態では、回路１２（図１乃至５参照）に用いることができる再構成可能回路の構成の一例について説明する。
【０２０５】
＜半導体装置の断面構造の例＞
図１９に、図８に示したセル３２を有する半導体装置の断面構造を、一例として示す。
【０２０６】
なお、図１９では、酸化物半導体膜にチャネル形成領域を有するトランジスタ１０１が、単結晶のシリコン基板にチャネル形成領域を有するトランジスタ１０２上に形成されている場合を例示している。
【０２０７】
トランジスタ１０２は、非晶質、微結晶、多結晶または単結晶である、シリコン又はゲルマニウムなどの半導体膜または半導体基板に、チャネル形成領域を有していても良い。或いは、トランジスタ１０２は、酸化物半導体膜または酸化物半導体基板に、チャネル形成領域を有していても良い。全てのトランジスタが酸化物半導体膜または酸化物半導体基板に、チャネル形成領域を有している場合、トランジスタ１０１はトランジスタ１０２上に積層されていなくとも良く、トランジスタ１０１とトランジスタ１０２とは、同一の層に形成されていても良い。
【０２０８】
シリコンの薄膜を用いてトランジスタ１０２を形成する場合、当該薄膜には、プラズマＣＶＤ法などの気相成長法若しくはスパッタリング法で作製された非晶質シリコン、非晶質シリコンにレーザーを照射する等の処理により結晶化させた多結晶シリコン、単結晶シリコンウェハに水素イオン等を注入して表層部を剥離した単結晶シリコンなどを用いることができる。
【０２０９】
トランジスタ１０２が形成される半導体基板８０１は、例えば、シリコン基板、ゲルマニウム基板、シリコンゲルマニウム基板等を用いることができる。図１９では、単結晶シリコン基板を半導体基板８０１として用いる場合を例示している。
【０２１０】
また、トランジスタ１０２は、素子分離法により電気的に分離されている。素子分離法として、選択酸化法（ＬＯＣＯＳ法：Ｌｏｃａｌ  Ｏｘｉｄａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｓｉｌｉｃｏｎ法）、トレンチ分離法（ＳＴＩ法：Ｓｈａｌｌｏｗ  Ｔｒｅｎｃｈ  Ｉｓｏｌａｔｉｏｎ）等を用いることができる。図１９では、トレンチ分離法を用いてトランジスタ１０２を電気的に分離する場合を例示している。具体的に、図１９では、半導体基板８０１にエッチング等によりトレンチを形成した後、酸化珪素などを含む絶縁物を当該トレンチに埋め込むことで形成される素子分離領域８１０により、トランジスタ１０２を素子分離させる場合を例示している。
【０２１１】
トランジスタ１０２上には、絶縁膜８１１が設けられている。絶縁膜８１１には開口部が形成されている。そして、上記開口部には、トランジスタ１０２のソース及びドレインにそれぞれ電気的に接続されている導電膜８２５及び導電膜８２６と、トランジスタ１０２のゲートに電気的に接続されている導電膜８２７とが、形成されている。
【０２１２】
そして、導電膜８２５は、絶縁膜８１１上に形成された導電膜８３４に電気的に接続されており、導電膜８２６は、絶縁膜８１１上に形成された導電膜８３５に電気的に接続されており、導電膜８２７は、絶縁膜８１１上に形成された導電膜８３６に電気的に接続されている。
【０２１３】
導電膜８３４乃至導電膜８３６上には、絶縁膜８１２が形成されている。絶縁膜８１２には開口部が形成されており、上記開口部に、導電膜８３６に電気的に接続された導電膜８３７が形成されている。そして、導電膜８３７は、絶縁膜８１２上に形成された導電膜８５１に、電気的に接続されている。
【０２１４】
また、導電膜８５１上には、絶縁膜８１３が形成されている。絶縁膜８１３には開口部が形成されており、上記開口部に、導電膜８５１に電気的に接続された導電膜８５２が形成されている。そして、導電膜８５２は、絶縁膜８１３上に形成された導電膜８５３に、電気的に接続されている。また、絶縁膜８１３上には、導電膜８４４が形成されている。
【０２１５】
導電膜８５３及び導電膜８４４上には絶縁膜８６１が形成されている。そして、図１９では、絶縁膜８６１上にトランジスタ１０１が形成されている。
【０２１６】
トランジスタ１０１は、絶縁膜８６１上に、酸化物半導体を含む半導体膜９０１と、半導体膜９０１上の、ソースまたはドレインとして機能する導電膜９２１及び導電膜９２２と、半導体膜９０１、導電膜９２１及び導電膜９２２上のゲート絶縁膜８６２と、ゲート絶縁膜８６２上に位置し、導電膜９２１と導電膜９２２の間において半導体膜９０１と重なっているゲート電極９３１と、を有する。なお、導電膜９２２は、絶縁膜８６１に設けられた開口部において、導電膜８５３に電気的に接続されている。
【０２１７】
そして、トランジスタ１０１では、半導体膜９０１において、導電膜９２１に重なる領域と、ゲート電極９３１に重なる領域との間に、領域９１０が存在する。また、トランジスタ１０１では、半導体膜９０１において、導電膜９２２に重なる領域と、ゲート電極９３１に重なる領域との間に、領域９１１が存在する。領域９１０及び領域９１１に、導電膜９２１、導電膜９２２、及びゲート電極９３１をマスクとしてアルゴン、ｐ型の導電型を半導体膜９０１に付与する不純物、或いは、ｎ型の導電型を半導体膜９０１に付与する不純物を添加することで、半導体膜９０１のうちゲート電極９３１に重なる領域よりも、領域９１０及び領域９１１の抵抗率を下げることができる。
【０２１８】
そして、トランジスタ１０１上に、絶縁膜８６３が設けられている。
【０２１９】
なお、図１９において、トランジスタ１０１は、ゲート電極９３１を半導体膜９０１の片側において少なくとも有していれば良いが、半導体膜９０１を間に挟んで存在する一対のゲート電極を有していても良い。
【０２２０】
トランジスタ１０１が、半導体膜９０１を間に挟んで存在する一対のゲート電極を有している場合、一方のゲート電極には導通状態または非導通状態を制御するための信号が与えられ、他方のゲート電極は、電位が他から与えられている状態であっても良い。この場合、一対のゲート電極に、同じ高さの電位が与えられていても良いし、他方のゲート電極にのみ接地電位などの固定の電位が与えられていても良い。他方のゲート電極に与える電位の高さを制御することで、トランジスタの閾値電圧を制御することができる。
【０２２１】
また、図１９では、トランジスタ１０１が、一のゲート電極９３１に対応した一のチャネル形成領域を有する、シングルゲート構造である場合を例示している。しかし、トランジスタ１０１は、電気的に接続された複数のゲート電極を有することで、一の活性層にチャネル形成領域を複数有する、マルチゲート構造であっても良い。
【０２２２】
＜トランジスタについて＞
次いで、酸化物半導体膜にチャネル形成領域を有するトランジスタ９０の構成例について説明する。
【０２２３】
図２０に、酸化物半導体膜にチャネル形成領域を有するトランジスタ９０の構成を、一例として示す。図２０（Ａ）には、トランジスタ９０の上面図を示す。なお、図２０（Ａ）では、トランジスタ９０のレイアウトを明確にするために、各種の絶縁膜を省略している。また、図２０（Ａ）に示した上面図の、一点鎖線Ａ１−Ａ２における断面図を図２０（Ｂ）に示し、一点鎖線Ａ３−Ａ４における断面図を図２０（Ｃ）に示す。
【０２２４】
図２０に示すように、トランジスタ９０は、基板９７に形成された絶縁膜９１上において順に積層された酸化物半導体膜９２ａ及び酸化物半導体膜９２ｂと、酸化物半導体膜９２ｂに電気的に接続され、ソース電極またはドレイン電極としての機能を有する導電膜９３及び導電膜９４と、酸化物半導体膜９２ｂ、導電膜９３及び導電膜９４上の酸化物半導体膜９２ｃと、ゲート絶縁膜としての機能を有し、なおかつ酸化物半導体膜９２ｃ上に位置する絶縁膜９５と、ゲート電極としての機能を有し、なおかつ絶縁膜９５上において酸化物半導体膜９２ａ乃至酸化物半導体膜９２ｃと重なる導電膜９６とを有する。なお、基板９７は、ガラス基板や半導体基板などであってもよいし、ガラス基板や半導体基板上に半導体素子が形成された素子基板であってもよい。
【０２２５】
また、トランジスタ９０の、具体的な構成の別の一例を、図２１に示す。図２１（Ａ）には、トランジスタ９０の上面図を示す。なお、図２１（Ａ）では、トランジスタ９０のレイアウトを明確にするために、各種の絶縁膜を省略している。また、図２１（Ａ）に示した上面図の、破線Ａ１−Ａ２における断面図を図２１（Ｂ）に示し、破線Ａ３−Ａ４における断面図を図２１（Ｃ）に示す。
【０２２６】
図２１に示すように、トランジスタ９０は、絶縁膜９１上において順に積層された酸化物半導体膜９２ａ乃至酸化物半導体膜９２ｃと、酸化物半導体膜９２ｃに電気的に接続され、ソース電極またはドレイン電極としての機能を有する導電膜９３及び導電膜９４と、ゲート絶縁膜としての機能を有し、なおかつ酸化物半導体膜９２ｃ、導電膜９３及び導電膜９４上に位置する絶縁膜９５と、ゲート電極としての機能を有し、なおかつ絶縁膜９５上において酸化物半導体膜９２ａ乃至酸化物半導体膜９２ｃと重なる導電膜９６とを有する。
【０２２７】
なお、図２０及び図２１では、積層された酸化物半導体膜９２ａ乃至酸化物半導体膜９２ｃを用いるトランジスタ９０の構成を例示している。トランジスタ９０が有する酸化物半導体膜は、積層された複数の酸化物半導体膜で構成されているとは限らず、単膜の酸化物半導体膜で構成されていても良い。
【０２２８】
酸化物半導体膜９２ａ乃至酸化物半導体膜９２ｃが順に積層されている半導体膜をトランジスタ９０が有する場合、酸化物半導体膜９２ａ及び酸化物半導体膜９２ｃは、酸化物半導体膜９２ｂを構成する金属元素の少なくとも１つを、その構成要素に含み、伝導帯下端のエネルギーが酸化物半導体膜９２ｂよりも０．０５ｅＶ以上、０．０７ｅＶ以上、０．１ｅＶ以上または０．１５ｅＶ以上、かつ２ｅＶ以下、１ｅＶ以下、０．５ｅＶ以下または０．４ｅＶ以下、真空準位に近い酸化物膜である。さらに、酸化物半導体膜９２ｂは、少なくともインジウムを含むと、キャリア移動度が高くなるため好ましい。
【０２２９】
上記構成の半導体膜をトランジスタ９０が有する場合、ゲート電極に電圧を印加することで、半導体膜に電界が加わると、半導体膜のうち、伝導帯下端のエネルギーが小さい酸化物半導体膜９２ｂにチャネル領域が形成される。即ち、酸化物半導体膜９２ｂと絶縁膜９５との間に酸化物半導体膜９２ｃが設けられていることによって、絶縁膜９５と離隔している酸化物半導体膜９２ｂに、チャネル領域を形成することができる。
【０２３０】
また、酸化物半導体膜９２ｃは、酸化物半導体膜９２ｂを構成する金属元素の少なくとも１つをその構成要素に含むため、酸化物半導体膜９２ｂと酸化物半導体膜９２ｃの界面では、界面散乱が起こりにくい。従って、当該界面においてキャリアの動きが阻害されにくいため、トランジスタ９０の電界効果移動度が高くなる。
【０２３１】
また、酸化物半導体膜９２ｂと酸化物半導体膜９２ａの界面に界面準位が形成されると、界面近傍の領域にもチャネル領域が形成されるために、トランジスタ９０の閾値電圧が変動してしまう。しかし、酸化物半導体膜９２ａは、酸化物半導体膜９２ｂを構成する金属元素の少なくとも１つをその構成要素に含むため、酸化物半導体膜９２ｂと酸化物半導体膜９２ａの界面には、界面準位が形成されにくい。よって、上記構成により、トランジスタ９０の閾値電圧等の電気的特性のばらつきを、低減することができる。
【０２３２】
また、酸化物半導体膜間に不純物が存在することによって、各膜の界面にキャリアの流れを阻害する界面準位が形成されることがないよう、複数の酸化物半導体膜を積層させることが望ましい。積層された酸化物半導体膜の膜間に不純物が存在していると、酸化物半導体膜間における伝導帯下端のエネルギーの連続性が失われ、界面近傍において、キャリアがトラップされるか、あるいは再結合により消滅してしまうからである。膜間における不純物を低減させることで、主成分である一の金属を少なくとも共に有する複数の酸化物半導体膜を、単に積層させるよりも、連続接合（ここでは特に伝導帯下端のエネルギーが各膜の間で連続的に変化するＵ字型の井戸構造を有している状態）が形成されやすくなる。
【０２３３】
連続接合を形成するためには、ロードロック室を備えたマルチチャンバー方式の成膜装置（スパッタリング装置）を用いて各膜を大気に触れさせることなく連続して積層することが必要となる。スパッタリング装置における各チャンバーは、酸化物半導体にとって不純物となる水等を可能な限り除去すべくクライオポンプのような吸着式の真空排気ポンプを用いて高真空排気（５×１０−７Ｐａ乃至１×１０−４Ｐａ程度）することが好ましい。または、ターボ分子ポンプとコールドトラップを組み合わせて排気系からチャンバー内に気体が逆流しないようにしておくことが好ましい。
【０２３４】
高純度の真性な酸化物半導体を得るためには、各チャンバー内を高真空排気するのみならず、スパッタリングに用いるガスの高純度化も重要である。上記ガスとして用いる酸素ガスやアルゴンガスの露点を、−４０℃以下、好ましくは−８０℃以下、より好ましくは−１００℃以下とし、使用するガスの高純度化を図ることで、酸化物半導体膜に水分等が取り込まれることを可能な限り防ぐことができる。具体的に、酸化物半導体膜９２ｂがＩｎ−Ｍ−Ｚｎ酸化物（Ｍは、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｌａ、Ｃｅ、またはＮｄ）の場合、酸化物半導体膜９２ｂを成膜するために用いるターゲットにおいて、金属元素の原子数比をＩｎ：Ｍ：Ｚｎ＝ｘ１：ｙ１：ｚ１とすると、ｘ１／ｙ１は、１／３以上６以下、さらには１以上６以下であって、ｚ１／ｙ１は、１／３以上６以下、さらには１以上６以下であることが好ましい。なお、ｚ１／ｙ１を１以上６以下とすることで、酸化物半導体膜９２ｂとしてＣＡＡＣ−ＯＳ膜が形成されやすくなる。ターゲットの金属元素の原子数比の代表例としては、Ｉｎ：Ｍ：Ｚｎ＝１：１：１、Ｉｎ：Ｍ：Ｚｎ＝３：１：２等がある。
【０２３５】
具体的に、酸化物半導体膜９２ａ、酸化物半導体膜９２ｃがＩｎ−Ｍ−Ｚｎ酸化物（Ｍは、Ｇａ、Ｙ、Ｚｒ、Ｌａ、Ｃｅ、またはＮｄ）の場合、酸化物半導体膜９２ａ、酸化物半導体膜９２ｃを成膜するために用いるターゲットにおいて、金属元素の原子数比をＩｎ：Ｍ：Ｚｎ＝ｘ２：ｙ２：ｚ２とすると、ｘ２／ｙ２＜ｘ１／ｙ１であって、ｚ２／ｙ２は、１／３以上６以下、さらには１以上６以下であることが好ましい。なお、ｚ２／ｙ２を１以上６以下とすることで、酸化物半導体膜９２ａ、酸化物半導体膜９２ｃとしてＣＡＡＣ−ＯＳ膜が形成されやすくなる。ターゲットの金属元素の原子数比の代表例としては、Ｉｎ：Ｍ：Ｚｎ＝１：３：２、Ｉｎ：Ｍ：Ｚｎ＝１：３：４、Ｉｎ：Ｍ：Ｚｎ＝１：３：６、Ｉｎ：Ｍ：Ｚｎ＝１：３：８等がある。
【０２３６】
なお、酸化物半導体膜９２ａ及び酸化物半導体膜９２ｃの厚さは、３ｎｍ以上１００ｎｍ以下、好ましくは３ｎｍ以上５０ｎｍ以下とする。また、酸化物半導体膜９２ｂの厚さは、３ｎｍ以上２００ｎｍ以下、好ましくは３ｎｍ以上１００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは３ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。
【０２３７】
３層構造の半導体膜において、酸化物半導体膜９２ａ乃至酸化物半導体膜９２ｃは、非晶質または結晶質の両方の形態を取りうる。ただし、チャネル領域が形成される酸化物半導体膜９２ｂが結晶質であることにより、トランジスタ９０に安定した電気的特性を付与することができるため、酸化物半導体膜９２ｂは結晶質であることが好ましい。
【０２３８】
なお、チャネル形成領域とは、トランジスタ９０の半導体膜のうち、ゲート電極と重なり、かつソース電極とドレイン電極に挟まれる領域を意味する。また、チャネル領域とは、チャネル形成領域において、電流が主として流れる領域をいう。
【０２３９】
例えば、酸化物半導体膜９２ａ及び酸化物半導体膜９２ｃとして、スパッタリング法により形成したＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ酸化物膜を用いる場合、酸化物半導体膜９２ａ及び酸化物半導体膜９２ｃの成膜には、Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ酸化物（Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝１：３：２［原子数比］）であるターゲットを用いることができる。成膜条件は、例えば、成膜ガスとしてアルゴンガスを３０ｓｃｃｍ、酸素ガスを１５ｓｃｃｍ用い、圧力０．４Ｐａとし、基板温度を２００℃とし、ＤＣ電力０．５ｋＷとすればよい。
【０２４０】
また、酸化物半導体膜９２ｂをＣＡＡＣ−ＯＳ（Ｃ  Ａｘｉｓ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ  Ｏｘｉｄｅ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）膜とする場合、酸化物半導体膜９２ｂの成膜には、Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ酸化物（Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝１：１：１［原子数比］）であり、Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ酸化物を含む多結晶ターゲットを用いることが好ましい。成膜条件は、例えば、成膜ガスとしてアルゴンガスを３０ｓｃｃｍ、酸素ガスを１５ｓｃｃｍ用い、圧力を０．４Ｐａとし、基板の温度３００℃とし、ＤＣ電力０．５ｋＷとすることができる。また、酸化物半導体膜９２ｂをＣＡＡＣ−ＯＳ膜とする場合、酸化物半導体膜９２ｂの成膜には、Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ酸化物（Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝２：１：３［原子数比］）をターゲットに用いてもよい。このようなターゲットを用いて成膜されたＣＡＡＣ−ＯＳ膜は、一定の範囲におけるＣＡＡＣ−ＯＳの回折パターンが観測される領域の割合（ＣＡＡＣ化率ともいう）を高くすることができるので、当該ＣＡＡＣ−ＯＳ膜にチャネル形成領域を有するトランジスタの周波数特性（ｆ特）を高めることができる。
【０２４１】
なお、酸化物半導体膜９２ａ乃至９２ｃは、スパッタリング法により形成することができる。
【０２４２】
なお、電子供与体（ドナー）となる水分または水素などの不純物が低減され、なおかつ酸素欠損が低減されることにより高純度化された酸化物半導体（ｐｕｒｉｆｉｅｄ  Ｏｘｉｄｅ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）は、キャリア発生源が少ないため、ｉ型（真性半導体）又はｉ型に限りなく近くすることができる。そのため、高純度化された酸化物半導体膜にチャネル形成領域を有するトランジスタは、オフ電流が著しく小さく、信頼性が高い。そして、当該酸化物半導体膜にチャネル形成領域が形成されるトランジスタは、閾値電圧がプラスとなる電気的特性（ノーマリーオフ特性ともいう。）になりやすい。
【０２４３】
不純物元素を低減することで、高純度化された酸化物半導体膜は膜中のキャリア密度が低減されている。膜中のキャリア密度は、例えば、１×１０１７個／ｃｍ３以下、又は１×１０１５個／ｃｍ３以下、又は１×１０１３個／ｃｍ３以下、又は８×１０１１個／ｃｍ３以下、とすることができる。より好ましくは、キャリア密度を８×１０１１個／ｃｍ３未満、１×１０１１個／ｃｍ３未満、さらに好ましくは１×１０１０個／ｃｍ３未満であり、且つ、１×１０−９個／ｃｍ３以上とすることができる。
【０２４４】
具体的に、高純度化された酸化物半導体膜にチャネル形成領域を有するトランジスタのオフ電流が小さいことは、いろいろな実験により証明できる。例えば、チャネル幅が１×１０６μｍでチャネル長が１０μｍの素子であっても、ソース電極とドレイン電極間の電圧（ドレイン電圧）が１Ｖから１０Ｖの範囲において、オフ電流が、半導体パラメータアナライザの測定限界以下、すなわち１×１０−１３Ａ以下という特性を得ることができる。この場合、トランジスタのチャネル幅で規格化したオフ電流は、１００ｚＡ／μｍ以下であることが分かる。また、容量素子とトランジスタとを接続して、容量素子に流入または容量素子から流出する電荷を当該トランジスタで制御する回路を用いて、オフ電流の測定を行った。当該測定では、高純度化された酸化物半導体膜を上記トランジスタのチャネル形成領域に用い、容量素子の単位時間あたりの電荷量の推移から当該トランジスタのオフ電流を測定した。その結果、トランジスタのソース電極とドレイン電極間の電圧が３Ｖの場合に、数十ｙＡ／μｍという、さらに小さいオフ電流が得られることが分かった。従って、高純度化された酸化物半導体膜をチャネル形成領域に用いたトランジスタは、オフ電流が、結晶性を有するシリコンを用いたトランジスタに比べて著しく小さい。
【０２４５】
なお、半導体膜として酸化物半導体膜を用いる場合、酸化物半導体としては、少なくともインジウム（Ｉｎ）あるいは亜鉛（Ｚｎ）を含むことが好ましい。また、該酸化物半導体を用いたトランジスタの電気的特性のばらつきを減らすためのスタビライザーとして、それらに加えてガリウム（Ｇａ）を有することが好ましい。また、スタビライザーとしてスズ（Ｓｎ）を有することが好ましい。また、スタビライザーとしてハフニウム（Ｈｆ）を有することが好ましい。また、スタビライザーとしてアルミニウム（Ａｌ）を有することが好ましい。また、スタビライザーとしてジルコニウム（Ｚｒ）を含むことが好ましい。
【０２４６】
酸化物半導体の中でもＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ酸化物、Ｉｎ−Ｓｎ−Ｚｎ酸化物などは、炭化シリコン、窒化ガリウム、または酸化ガリウムとは異なり、スパッタリング法や湿式法により電気的特性の優れたトランジスタを作製することが可能であり、量産性に優れるといった利点がある。また、炭化シリコン、窒化ガリウム、または酸化ガリウムとは異なり、上記Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ酸化物は、ガラス基板上に、電気的特性の優れたトランジスタを作製することが可能である。また、基板の大型化にも対応が可能である。
【０２４７】
また、他のスタビライザーとして、ランタノイドである、ランタン（Ｌａ）、セリウム（Ｃｅ）、プラセオジム（Ｐｒ）、ネオジム（Ｎｄ）、サマリウム（Ｓｍ）、ユウロピウム（Ｅｕ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、テルビウム（Ｔｂ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ホルミウム（Ｈｏ）、エルビウム（Ｅｒ）、ツリウム（Ｔｍ）、イッテルビウム（Ｙｂ）、ルテチウム（Ｌｕ）のいずれか一種または複数種を含んでいてもよい。
【０２４８】
例えば、酸化物半導体として、酸化インジウム、酸化ガリウム、酸化スズ、酸化亜鉛、Ｉｎ−Ｚｎ酸化物、Ｓｎ−Ｚｎ酸化物、Ａｌ−Ｚｎ酸化物、Ｚｎ−Ｍｇ酸化物、Ｓｎ−Ｍｇ酸化物、Ｉｎ−Ｍｇ酸化物、Ｉｎ−Ｇａ酸化物、Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ酸化物（ＩＧＺＯとも表記する）、Ｉｎ−Ａｌ−Ｚｎ酸化物、Ｉｎ−Ｓｎ−Ｚｎ酸化物、Ｓｎ−Ｇａ−Ｚｎ酸化物、Ａｌ−Ｇａ−Ｚｎ酸化物、Ｓｎ−Ａｌ−Ｚｎ酸化物、Ｉｎ−Ｈｆ−Ｚｎ酸化物、Ｉｎ−Ｌａ−Ｚｎ酸化物、Ｉｎ−Ｐｒ−Ｚｎ酸化物、Ｉｎ−Ｎｄ−Ｚｎ酸化物、Ｉｎ−Ｃｅ−Ｚｎ酸化物、Ｉｎ−Ｓｍ−Ｚｎ酸化物、Ｉｎ−Ｅｕ−Ｚｎ酸化物、Ｉｎ−Ｇｄ−Ｚｎ酸化物、Ｉｎ−Ｔｂ−Ｚｎ酸化物、Ｉｎ−Ｄｙ−Ｚｎ酸化物、Ｉｎ−Ｈｏ−Ｚｎ酸化物、Ｉｎ−Ｅｒ−Ｚｎ酸化物、Ｉｎ−Ｔｍ−Ｚｎ酸化物、Ｉｎ−Ｙｂ−Ｚｎ酸化物、Ｉｎ−Ｌｕ−Ｚｎ酸化物、Ｉｎ−Ｓｎ−Ｇａ−Ｚｎ酸化物、Ｉｎ−Ｈｆ−Ｇａ−Ｚｎ酸化物、Ｉｎ−Ａｌ−Ｇａ−Ｚｎ酸化物、Ｉｎ−Ｓｎ−Ａｌ−Ｚｎ酸化物、Ｉｎ−Ｓｎ−Ｈｆ−Ｚｎ酸化物、Ｉｎ−Ｈｆ−Ａｌ−Ｚｎ酸化物を用いることができる。
【０２４９】
なお、例えば、Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ酸化物とは、ＩｎとＧａとＺｎを含む酸化物という意味であり、ＩｎとＧａとＺｎの比率は問わない。また、ＩｎとＧａとＺｎ以外の金属元素を含んでいてもよい。Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ酸化物は、無電界時の抵抗が十分に高くオフ電流を十分に小さくすることが可能であり、また、移動度も高い。
【０２５０】
例えば、Ｉｎ−Ｓｎ−Ｚｎ酸化物では比較的容易に高い移動度が得られる。しかしながら、Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ酸化物でも、バルク内欠陥密度を低減することにより移動度を上げることができる。
【０２５１】
酸化物半導体膜に含まれる水分または水素などの不純物をさらに低減して、酸化物半導体膜を高純度化するために、加熱処理を行ってもよい。
【０２５２】
例えば、減圧雰囲気下、窒素や希ガスなどの不活性雰囲気下、酸化性雰囲気下、又は超乾燥エア（ＣＲＤＳ（キャビティリングダウンレーザー分光法）方式の露点計を用いて測定した場合の水分量が２０ｐｐｍ（露点換算で−５５℃）以下、好ましくは１ｐｐｍ以下、好ましくは１０ｐｐｂ以下の空気）雰囲気下で、酸化物半導体膜に加熱処理を施す。なお、酸化性雰囲気とは、酸素、オゾンまたは窒化酸素などの酸化性ガスを１０ｐｐｍ以上含有する雰囲気をいう。また、不活性雰囲気とは、前述の酸化性ガスが１０ｐｐｍ未満であり、その他、窒素または希ガスで充填された雰囲気をいう。
【０２５３】
なお、不活性ガス雰囲気で加熱処理した後に、酸化性ガスを１０ｐｐｍ以上、１％以上または１０％以上含む雰囲気で加熱処理を行ってもよい。なお、加熱処理は、酸化物半導体膜の形成後であれば、いつ行ってもよい。例えば、酸化物半導体膜の選択的なエッチング後に加熱処理を行ってもよい。
【０２５４】
加熱処理は、２５０℃以上６５０℃以下、好ましくは３００℃以上５００℃以下で行えばよい。処理時間は２４時間以内とする。
【０２５５】
加熱処理は、電気炉、ＲＴＡ装置等を用いることができる。ＲＴＡ装置を用いることで、短時間に限り、基板の歪み点以上の温度で熱処理を行うことができる。そのため加熱処理時間を短縮することができる。
【０２５６】
また、トランジスタ９０において、ソース電極及びドレイン電極に用いられる導電性材料によっては、ソース電極及びドレイン電極中の金属が、酸化物半導体膜から酸素を引き抜くことがある。この場合、酸化物半導体膜のうち、ソース電極及びドレイン電極に接する領域が、酸素欠損の形成によりｎ型化される。ｎ型化された領域は、ソース領域またはドレイン領域として機能するため、酸化物半導体膜とソース電極及びドレイン電極との間におけるコンタクト抵抗を下げることができる。よって、ｎ型化された領域が形成されることで、トランジスタ９０の移動度及びオン電流を高めることができ、それにより、トランジスタ９０を用いた半導体装置の高速動作を実現することができる。
【０２５７】
なお、ソース電極及びドレイン電極中の金属による酸素の引き抜きは、ソース電極及びドレイン電極をスパッタリング法などにより形成する際に起こりうるし、ソース電極及びドレイン電極を形成した後に行われる加熱処理によっても起こりうる。また、ｎ型化される領域は、酸素と結合し易い導電性材料をソース電極及びドレイン電極に用いることで、より形成されやすくなる。上記導電性材料としては、例えば、Ａｌ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｗなどが挙げられる。
【０２５８】
複数の積層された酸化物半導体膜を有する半導体膜をトランジスタ９０に用いる場合、ｎ型化される領域は、チャネル領域となる酸化物半導体膜９２ｂにまで達していることが、トランジスタ９０の移動度及びオン電流を高め、半導体装置の高速動作を実現する上で好ましい。
【０２５９】
絶縁膜９１は、加熱により酸素を酸化物半導体膜９２ａ乃至酸化物半導体膜９２ｃに供給する機能を有する絶縁膜であることが望ましい。また、絶縁膜９１は、欠陥が少ないことが好ましく、代表的には、ＥＳＲ測定により得られる、シリコンのダングリングボンドに由来するｇ＝２．００１を持つスピンの密度が１×１０１８ｓｐｉｎｓ／ｃｍ３以下であることが好ましい。
【０２６０】
絶縁膜９１は、加熱により酸素を酸化物半導体膜９２ａ乃至酸化物半導体膜９２ｃに供給する機能を有するため、酸化物であることが望ましく、例えば、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化珪素、酸化窒化珪素、窒化酸化珪素、酸化ガリウム、酸化ゲルマニウム、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化ランタン、酸化ネオジム、酸化ハフニウムおよび酸化タンタルなどを用いることができる。絶縁膜９１は、プラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法またはスパッタリング法等により、形成することができる。
【０２６１】
なお、本明細書中において、酸化窒化物は、その組成として、窒素よりも酸素の含有量が多い材料を指し、窒化酸化物は、その組成として、酸素よりも窒素の含有量が多い材料を指す。
【０２６２】
なお、図２０及び図２１に示すトランジスタ９０は、チャネル領域が形成される酸化物半導体膜９２ｂの端部のうち、導電膜９３及び導電膜９４とは重ならない端部、言い換えると、導電膜９３及び導電膜９４が位置する領域とは異なる領域に位置する端部と、導電膜９６とが、重なる構成を有する。酸化物半導体膜９２ｂの端部は、当該端部を形成するためのエッチングでプラズマに曝されるときに、エッチングガスから生じた塩素ラジカル、フッ素ラジカル等が、酸化物半導体を構成する金属元素と結合しやすい。よって、酸化物半導体膜の端部では、当該金属元素と結合していた酸素が脱離しやすい状態にあるため、酸素欠損が形成され、ｎ型化しやすいやすい。しかし、図２０及び図２１に示すトランジスタ９０では、導電膜９３及び導電膜９４とは重ならない酸化物半導体膜９２ｂの端部と、導電膜９６とが重なるため、導電膜９６の電位を制御することにより、当該端部にかかる電界を制御することができる。よって、酸化物半導体膜９２ｂの端部を介して導電膜９３と導電膜９４の間に流れる電流を、導電膜９６に与える電位によって制御することができる。このようなトランジスタ９０の構造を、Ｓｕｒｒｏｕｎｄｅｄ  Ｃｈａｎｎｅｌ（Ｓ−Ｃｈａｎｎｅｌ）構造とよぶ。
【０２６３】
具体的に、Ｓ−Ｃｈａｎｎｅｌ構造の場合、トランジスタ９０がオフとなるような電位を導電膜９６に与えたときは、当該端部を介して導電膜９３と導電膜９４の間に流れるオフ電流を小さく抑えることができる。そのため、トランジスタ９０では、大きなオン電流を得るためにチャネル長を短くし、その結果、酸化物半導体膜９２ｂの端部における導電膜９３と導電膜９４の間の長さが短くなっても、トランジスタ９０のオフ電流を小さく抑えることができる。よって、トランジスタ９０は、チャネル長を短くすることで、オンのときには大きいオン電流を得ることができ、オフのときにはオフ電流を小さく抑えることができる。
【０２６４】
また、具体的に、Ｓ−Ｃｈａｎｎｅｌ構造の場合、トランジスタ９０がオンとなるような電位を導電膜９６に与えたときは、当該端部を介して導電膜９３と導電膜９４の間に流れる電流を大きくすることができる。当該電流は、トランジスタ９０の電界効果移動度とオン電流の増大に寄与する。そして、酸化物半導体膜９２ｂの端部と、導電膜９６とが重なることで、酸化物半導体膜９２ｂにおいてキャリアの流れる領域が、絶縁膜９５に近い酸化物半導体膜９２ｂの界面近傍のみでなく、酸化物半導体膜９２ｂの広い範囲においてキャリアが流れるため、トランジスタ９０におけるキャリアの移動量が増加する。この結果、トランジスタ９０のオン電流が大きくなる共に、電界効果移動度が高くなり、代表的には電界効果移動度が１０ｃｍ２／Ｖ・ｓ以上、さらには２０ｃｍ２／Ｖ・ｓ以上となる。なお、ここでの電界効果移動度は、酸化物半導体膜の物性値としての移動度の近似値ではなく、トランジスタの飽和領域における電流駆動力の指標であり、見かけ上の電界効果移動度である。
【０２６５】
＜酸化物半導体膜の構造＞
以下では、酸化物半導体膜の構造について説明する。なお、以下の説明において、「平行」とは、二つの直線が−１０°以上１０°以下の角度で配置されている状態をいう。従って、−５°以上５°以下の場合も含まれる。また、「垂直」とは、二つの直線が８０°以上１００°以下の角度で配置されている状態をいう。従って、８５°以上９５°以下の場合も含まれる。また、結晶が三方晶または菱面体晶である場合、六方晶系として表す。
【０２６６】
酸化物半導体膜は、非単結晶酸化物半導体膜と単結晶酸化物半導体膜とに大別される。非単結晶酸化物半導体膜とは、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜、多結晶酸化物半導体膜、微結晶酸化物半導体膜、非晶質酸化物半導体膜などをいう。
【０２６７】
＜ＣＡＡＣ−ＯＳ膜＞
まずは、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜について説明する。
【０２６８】
ＣＡＡＣ−ＯＳ膜は、ｃ軸配向した複数の結晶部を有する酸化物半導体膜の一つである。
【０２６９】
ＣＡＡＣ−ＯＳ膜を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ：Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）によって観察すると、明確な結晶部同士の境界、即ち結晶粒界（グレインバウンダリーともいう。）を確認することが難しい。そのため、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜は、結晶粒界に起因する電子移動度の低下が起こりにくいといえる。
【０２７０】
ＣＡＡＣ−ＯＳ膜を、試料面と概略平行な方向からＴＥＭによって観察（断面ＴＥＭ観察）すると、結晶部において、金属原子が層状に配列していることを確認できる。金属原子の各層は、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜の膜を形成する面（被形成面ともいう。）または上面の凹凸を反映した形状であり、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜の被形成面または上面と平行に配列する。
【０２７１】
一方、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜を、試料面と概略垂直な方向からＴＥＭによって観察（平面ＴＥＭ観察）すると、結晶部において、金属原子が三角形状または六角形状に配列していることを確認できる。しかしながら、異なる結晶部間で、金属原子の配列に規則性は見られない。
【０２７２】
図２４（Ａ）は、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜の断面ＴＥＭ像である。また、図２４（Ｂ）は、図２４（Ａ）をさらに拡大した断面ＴＥＭ像であり、理解を容易にするために原子配列を強調表示している。
【０２７３】
図２４（Ｃ）は、図２４（Ａ）のＡ−Ｏ−Ａ’間において、丸で囲んだ領域（直径約４ｎｍ）の局所的なフーリエ変換像である。図２４（Ｃ）より、各領域においてｃ軸配向性が確認できる。また、Ａ−Ｏ間とＯ−Ａ’間とでは、ｃ軸の向きが異なるため、異なるグレインであることが示唆される。また、Ａ−Ｏ間では、ｃ軸の角度が１４．３°、１６．６°、３０．９°のように少しずつ連続的に変化していることがわかる。同様に、Ｏ−Ａ’間では、ｃ軸の角度が−１８．３°、−１７．６°、−１１．３°と少しずつ連続的に変化していることがわかる。
【０２７４】
なお、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜に対し、電子回折を行うと、配向性を示すスポット（輝点）が観測される。例えば、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜の上面に対し、例えば１ｎｍ以上３０ｎｍ以下の電子線を用いる電子回折（ナノビーム電子回折ともいう。）を行うと、スポットが観測される（図２５（Ａ）参照。）。
【０２７５】
断面ＴＥＭ観察および平面ＴＥＭ観察より、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜の結晶部は配向性を有していることがわかる。
【０２７６】
なお、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜に含まれるほとんどの結晶部は、一辺が１００ｎｍ未満の立方体内に収まる大きさである。従って、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜に含まれる結晶部は、一辺が１０ｎｍ未満、５ｎｍ未満または３ｎｍ未満の立方体内に収まる大きさの場合も含まれる。ただし、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜に含まれる複数の結晶部が連結することで、一つの大きな結晶領域を形成する場合がある。例えば、平面ＴＥＭ像において、２５００ｎｍ２以上、５μｍ２以上または１０００μｍ２以上となる結晶領域が観察される場合がある。
【０２７７】
ＣＡＡＣ−ＯＳ膜に対し、Ｘ線回折（ＸＲＤ：Ｘ−Ｒａｙ  Ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ）装置を用いて構造解析を行うと、例えばＩｎＧａＺｎＯ４の結晶を有するＣＡＡＣ−ＯＳ膜のｏｕｔ−ｏｆ−ｐｌａｎｅ法による解析では、回折角（２θ）が３１°近傍にピークが現れる場合がある。このピークは、ＩｎＧａＺｎＯ４の結晶の（００９）面に帰属されることから、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜の結晶がｃ軸配向性を有し、ｃ軸が被形成面または上面に概略垂直な方向を向いていることが確認できる。
【０２７８】
一方、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜に対し、ｃ軸に概略垂直な方向からＸ線を入射させるｉｎ−ｐｌａｎｅ法による解析では、２θが５６°近傍にピークが現れる場合がある。このピークは、ＩｎＧａＺｎＯ４の結晶の（１１０）面に帰属される。ＩｎＧａＺｎＯ４の単結晶酸化物半導体膜であれば、２θを５６°近傍に固定し、試料面の法線ベクトルを軸（φ軸）として試料を回転させながら分析（φスキャン）を行うと、（１１０）面と等価な結晶面に帰属されるピークが６本観察される。これに対し、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜の場合は、２θを５６°近傍に固定してφスキャンした場合でも、明瞭なピークが現れない。
【０２７９】
以上のことから、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜では、異なる結晶部間ではａ軸およびｂ軸の配向は不規則であるが、ｃ軸配向性を有し、かつｃ軸が被形成面または上面の法線ベクトルに平行な方向を向いていることがわかる。従って、前述の断面ＴＥＭ観察で確認された層状に配列した金属原子の各層は、結晶のａｂ面に平行な面である。
【０２８０】
なお、結晶部は、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜を成膜した際、または加熱処理などの結晶化処理を行った際に形成される。上述したように、結晶のｃ軸は、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜の被形成面または上面の法線ベクトルに平行な方向に配向する。従って、例えば、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜の形状をエッチングなどによって変化させた場合、結晶のｃ軸がＣＡＡＣ−ＯＳ膜の被形成面または上面の法線ベクトルと平行にならないこともある。
【０２８１】
また、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜中において、ｃ軸配向した結晶部の分布が均一でなくてもよい。例えば、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜の結晶部が、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜の上面近傍からの結晶成長によって形成される場合、上面近傍の領域は、被形成面近傍の領域よりもｃ軸配向した結晶部の割合が高くなることがある。また、不純物の添加されたＣＡＡＣ−ＯＳ膜は、不純物が添加された領域が変質し、部分的にｃ軸配向した結晶部の割合の異なる領域が形成されることもある。
【０２８２】
なお、ＩｎＧａＺｎＯ４の結晶を有するＣＡＡＣ−ＯＳ膜のｏｕｔ−ｏｆ−ｐｌａｎｅ法による解析では、２θが３１°近傍のピークの他に、２θが３６°近傍にもピークが現れる場合がある。２θが３６°近傍のピークは、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜中の一部に、ｃ軸配向性を有さない結晶が含まれることを示している。ＣＡＡＣ−ＯＳ膜は、２θが３１°近傍にピークを示し、２θが３６°近傍にピークを示さないことが好ましい。
【０２８３】
ＣＡＡＣ−ＯＳ膜は、不純物濃度の低い酸化物半導体膜である。不純物は、水素、炭素、シリコン、遷移金属元素などの酸化物半導体膜の主成分以外の元素である。特に、シリコンなどの、酸化物半導体膜を構成する金属元素よりも酸素との結合力の強い元素は、酸化物半導体膜から酸素を奪うことで酸化物半導体膜の原子配列を乱し、結晶性を低下させる要因となる。また、鉄やニッケルなどの重金属、アルゴン、二酸化炭素などは、原子半径（または分子半径）が大きいため、酸化物半導体膜内部に含まれると、酸化物半導体膜の原子配列を乱し、結晶性を低下させる要因となる。なお、酸化物半導体膜に含まれる不純物は、キャリアトラップやキャリア発生源となる場合がある。
【０２８４】
また、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜は、欠陥準位密度の低い酸化物半導体膜である。例えば、酸化物半導体膜中の酸素欠損は、キャリアトラップとなることや、水素を捕獲することによってキャリア発生源となることがある。
【０２８５】
不純物濃度が低く、欠陥準位密度が低い（酸素欠損の少ない）ことを、高純度真性または実質的に高純度真性と呼ぶ。高純度真性または実質的に高純度真性である酸化物半導体膜は、キャリア発生源が少ないため、キャリア密度を低くすることができる。従って、当該酸化物半導体膜を用いたトランジスタは、しきい値電圧がマイナスとなる電気特性（ノーマリーオンともいう。）になることが少ない。また、高純度真性または実質的に高純度真性である酸化物半導体膜は、キャリアトラップが少ない。そのため、当該酸化物半導体膜を用いたトランジスタは、電気特性の変動が小さく、信頼性の高いトランジスタとなる。なお、酸化物半導体膜のキャリアトラップに捕獲された電荷は、放出するまでに要する時間が長く、あたかも固定電荷のように振る舞うことがある。そのため、不純物濃度が高く、欠陥準位密度が高い酸化物半導体膜を用いたトランジスタは、電気特性が不安定となる場合がある。
【０２８６】
また、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜を用いたトランジスタは、可視光や紫外光の照射による電気特性の変動が小さい。
【０２８７】
＜微結晶酸化物半導体膜＞
次に、微結晶酸化物半導体膜について説明する。
微結晶酸化物半導体膜は、ＴＥＭによる観察像では、明確に結晶部を確認することが困難な場合がある。微結晶酸化物半導体膜に含まれる結晶部は、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、または１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の大きさであることが多い。特に、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下、または１ｎｍ以上３ｎｍ以下の微結晶であるナノ結晶（ｎｃ：ｎａｎｏｃｒｙｓｔａｌ）を有する酸化物半導体膜を、ｎｃ−ＯＳ（ｎａｎｏｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ  Ｏｘｉｄｅ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）膜と呼ぶ。また、ｎｃ−ＯＳ膜は、例えば、ＴＥＭによる観察像では、結晶粒界を明確に確認することが困難な場合がある。
【０２８８】
ｎｃ−ＯＳ膜は、微小な領域（例えば、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の領域、特に１ｎｍ以上３ｎｍ以下の領域）において原子配列に周期性を有する。また、ｎｃ−ＯＳ膜は、異なる結晶部間で結晶方位に規則性が見られない。そのため、膜全体で配向性が見られない。従って、ｎｃ−ＯＳ膜は、分析方法によっては、非晶質酸化物半導体膜と区別が付かない場合がある。例えば、ｎｃ−ＯＳ膜に対し、結晶部よりも大きい径のＸ線を用いるＸＲＤ装置を用いて構造解析を行うと、ｏｕｔ−ｏｆ−ｐｌａｎｅ法による解析では、結晶面を示すピークが検出されない。また、ｎｃ−ＯＳ膜に対し、結晶部よりも大きいプローブ径（例えば５０ｎｍ以上）の電子線を用いる電子回折（制限視野電子回折ともいう。）を行うと、ハローパターンのような回折パターンが観測される。一方、ｎｃ−ＯＳ膜に対し、結晶部の大きさと近いか結晶部より小さいプローブ径の電子線を用いるナノビーム電子回折を行うと、スポットが観測される。また、ｎｃ−ＯＳ膜に対しナノビーム電子回折を行うと、円を描くように（リング状に）輝度の高い領域が観測される場合がある。また、ｎｃ−ＯＳ膜に対しナノビーム電子回折を行うと、リング状の領域内に複数のスポットが観測される場合がある（図２５（Ｂ）参照。）。
【０２８９】
ｎｃ−ＯＳ膜は、非晶質酸化物半導体膜よりも規則性の高い酸化物半導体膜である。そのため、ｎｃ−ＯＳ膜は、非晶質酸化物半導体膜よりも欠陥準位密度が低くなる。ただし、ｎｃ−ＯＳ膜は、異なる結晶部間で結晶方位に規則性が見られない。そのため、ｎｃ−ＯＳ膜は、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜と比べて欠陥準位密度が高くなる。
【０２９０】
なお、酸化物半導体膜は、例えば、非晶質酸化物半導体膜、微結晶酸化物半導体膜、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜のうち、二種以上を有する積層膜であってもよい。
【０２９１】
酸化物半導体膜が複数の構造を有する場合、ナノビーム電子回折を用いることで構造解析が可能となる場合がある。
【０２９２】
ところで、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜であったとしても、部分的にｎｃ−ＯＳ膜などと同様の回折パターンが観測される場合がある。したがって、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜の良否は、一定の範囲におけるＣＡＡＣ−ＯＳ膜の回折パターンが観測される領域の割合（ＣＡＡＣ化率ともいう。）で表すことができる場合がある。例えば、良質なＣＡＡＣ−ＯＳ膜であれば、ＣＡＡＣ化率は、５０％以上、好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９５％以上となる。ＣＡＡＣ−ＯＳ膜と異なる回折パターンが観測される領域の割合を非ＣＡＡＣ化率と表記する。
【０２９３】
一例として、成膜直後（ａｓ−ｓｐｕｔｔｅｒｅｄと表記。）、または酸素を含む雰囲気における４５０℃加熱処理後のＣＡＡＣ−ＯＳ膜を有する各試料の上面に対し、スキャンしながら透過電子回折パターンを取得した。ここでは、５ｎｍ／秒の速度で６０秒間スキャンしながら回折パターンを観測し、観測された回折パターンを０．５秒ごとに静止画に変換することで、ＣＡＡＣ化率を導出した。なお、電子線としては、プローブ径が１ｎｍのナノビーム電子線を用いた。なお、同様の測定は６試料に対して行った。そしてＣＡＡＣ化率の算出には、６試料における平均値を用いた。
【０２９４】
成膜直後のＣＡＡＣ−ＯＳ膜のＣＡＡＣ化率は７５．７％（非ＣＡＡＣ化率は２４．３％）であった。また、４５０℃加熱処理後のＣＡＡＣ−ＯＳ膜のＣＡＡＣ化率は８５．３％（非ＣＡＡＣ化率は１４．７％）であった。成膜直後と比べて、４５０℃加熱処理後のＣＡＡＣ化率が高いことがわかる。即ち、高い温度（例えば４００℃以上）における加熱処理によって、非ＣＡＡＣ化率が低くなる（ＣＡＡＣ化率が高くなる）ことがわかる。また、５００℃未満の加熱処理においても高いＣＡＡＣ化率を有するＣＡＡＣ−ＯＳ膜が得られることがわかる。
【０２９５】
ここで、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜と異なる回折パターンのほとんどはｎｃ−ＯＳ膜と同様の回折パターンであった。また、測定領域において非晶質酸化物半導体膜は、確認することができなかった。したがって、加熱処理によって、ｎｃ−ＯＳ膜と同様の構造を有する領域が、隣接する領域の構造の影響を受けて再配列し、ＣＡＡＣ化していることが示唆される。
【０２９６】
図２５（Ｃ）は、成膜直後（ａｓ−ｓｐｕｔｔｅｒｅｄ）のＣＡＡＣ−ＯＳ膜の平面ＴＥＭ像であり、図２５（Ｄ）は、４５０℃加熱処理後のＣＡＡＣ−ＯＳ膜の平面ＴＥＭ像である。図２５（Ｃ）と図２５（Ｄ）とを比較することにより、４５０℃加熱処理後のＣＡＡＣ−ＯＳ膜は、膜質がより均質であることがわかる。即ち、高い温度における加熱処理によって、ＣＡＡＣ−ＯＳ膜の膜質が向上することがわかる。
【０２９７】
このような測定方法を用いれば、複数の構造を有する酸化物半導体膜の構造解析が可能となる場合がある。
【０２９８】
（実施の形態６）
本実施の形態では、図１９とは異なる構造のセル３２を有する半導体装置の構造の一例について説明する。
【０２９９】
図２２に、図８に示したセル３２を有する半導体装置の断面構造を、一例として示す。なお、破線Ａ１−Ａ２で示す領域では、トランジスタ１０２及びトランジスタ１０１のチャネル長方向における構造を示しており、破線Ａ３−Ａ４で示す領域では、トランジスタ１０２及びトランジスタ１０１のチャネル幅方向における構造を示している。ただし、本発明の一態様では、トランジスタ１０２のチャネル長方向とトランジスタ１０１のチャネル長方向とが、必ずしも一致していなくともよい。
【０３００】
なお、チャネル長方向とは、トランジスタにおいてキャリアが移動する方向と概略平行な方向を意味し、チャネル幅方向は、基板と水平な面内において、チャネル長方向に対して垂直の方向を意味する。
【０３０１】
また、図２２では、酸化物半導体膜にチャネル形成領域を有するトランジスタ１０１が、単結晶のシリコン基板にチャネル形成領域を有するトランジスタ１０２上に形成されている場合を例示している。
【０３０２】
トランジスタ１０２は、非晶質、微結晶、多結晶または単結晶である、シリコン又はゲルマニウムなどの半導体膜または半導体基板に、チャネル形成領域を有していても良い。或いは、トランジスタ１０２は、酸化物半導体膜または酸化物半導体基板に、チャネル形成領域を有していても良い。全てのトランジスタが酸化物半導体膜または酸化物半導体基板に、チャネル形成領域を有している場合、トランジスタ１０１はトランジスタ１０２上に積層されていなくとも良く、トランジスタ１０１とトランジスタ１０２とは、同一の層に形成されていても良い。
【０３０３】
シリコンの薄膜を用いてトランジスタ１０２を形成する場合、当該薄膜には、プラズマＣＶＤ法などの気相成長法若しくはスパッタリング法で作製された非晶質シリコン、非晶質シリコンをレーザーの照射などの処理により結晶化させた多結晶シリコン、単結晶シリコンウェハに水素イオン等を注入して表層部を剥離した単結晶シリコンなどを用いることができる。
【０３０４】
トランジスタ１０２が形成される基板１０００は、例えば、シリコン基板、ゲルマニウム基板、シリコンゲルマニウム基板等を用いることができる。図２２では、単結晶シリコン基板を基板１０００として用いる場合を例示している。
【０３０５】
また、トランジスタ１０２は、素子分離法により電気的に分離されている。素子分離法として、トレンチ分離法（ＳＴＩ法：Ｓｈａｌｌｏｗ  Ｔｒｅｎｃｈ  Ｉｓｏｌａｔｉｏｎ）等を用いることができる。図２２では、トレンチ分離法を用いてトランジスタ１０２を電気的に分離する場合を例示している。具体的に、図２２では、エッチング等により基板１０００に形成されたトレンチに、酸化珪素などが含まれる絶縁物を埋め込んだ後、当該絶縁物をエッチング等により部分的に除去することで形成される素子分離領域１００１により、トランジスタ１０２を素子分離させる場合を例示している。
【０３０６】
また、トレンチ以外の領域に存在する基板１０００の凸部には、トランジスタ１０２の不純物領域１００２及び不純物領域１００３と、不純物領域１００２及び不純物領域１００３に挟まれたチャネル形成領域１００４とが設けられている。さらに、トランジスタ１０２は、チャネル形成領域１００４を覆う絶縁膜１００５と、絶縁膜１００５を間に挟んでチャネル形成領域１００４と重なるゲート電極１００６とを有する。
【０３０７】
トランジスタ１０２では、チャネル形成領域１００４における凸部の側部及び上部と、ゲート電極１００６とが絶縁膜１００５を間に挟んで重なることで、チャネル形成領域１００４の側部と上部を含めた広い範囲においてキャリアが流れる。そのため、トランジスタ１０２の基板上における専有面積を小さく抑えつつ、トランジスタ１０２におけるキャリアの移動量を増加させることができる。その結果、トランジスタ１０２は、オン電流が大きくなると共に、電界効果移動度が高められる。特に、チャネル形成領域１００４における凸部のチャネル幅方向の長さ（チャネル幅）をＷ、チャネル形成領域１００４における凸部の膜厚をＴとすると、チャネル幅Ｗに対する膜厚Ｔの比に相当するアスペクト比が高い場合、キャリアが流れる範囲はより広くなるため、トランジスタ１０２のオン電流をより大きくすることができ、電界効果移動度もより高められる。
【０３０８】
なお、バルクの半導体基板を用いたトランジスタ１０２の場合、アスペクト比は０．５以上であることが望ましく、１以上であることがより望ましい。
【０３０９】
トランジスタ１０２上には、絶縁膜１０１１が設けられている。絶縁膜１０１１には開口部が形成されている。そして、上記開口部には、不純物領域１００２、不純物領域１００３にそれぞれ電気的に接続されている導電膜１０１２、導電膜１０１３と、ゲート電極１００６に電気的に接続されている導電膜１０１４とが、形成されている。
【０３１０】
そして、導電膜１０１２は、絶縁膜１０１１上に形成された導電膜１０１６に電気的に接続されており、導電膜１０１３は、絶縁膜１０１１上に形成された導電膜１０１７に電気的に接続されており、導電膜１０１４は、絶縁膜１０１１上に形成された導電膜１０１８に電気的に接続されている。
【０３１１】
導電膜１０１６乃至導電膜１０１８上には、絶縁膜１０２０が設けられている。そして、絶縁膜１０２０上には、酸素、水素、水の拡散を防ぐブロッキング効果を有する絶縁膜１０２１が設けられている。絶縁膜１０２１は、密度が高くて緻密である程、また未結合手が少なく化学的に安定である程、より高いブロッキング効果を示す。酸素、水素、水の拡散を防ぐブロッキング効果を示す絶縁膜１０２１として、例えば、酸化アルミニウム、酸化窒化アルミニウム、酸化ガリウム、酸化窒化ガリウム、酸化イットリウム、酸化窒化イットリウム、酸化ハフニウム、酸化窒化ハフニウム等を用いることができる。水素、水の拡散を防ぐブロッキング効果を示す絶縁膜１０２１として、例えば、窒化シリコン、窒化酸化シリコン等を用いることができる。
【０３１２】
絶縁膜１０２１上には絶縁膜１０２２が設けられており、絶縁膜１０２２上には、トランジスタ１０１が設けられている。
【０３１３】
トランジスタ１０１は、絶縁膜１０２２上に、酸化物半導体を含む半導体膜１０３０と、半導体膜１０３０に電気的に接続された、ソース電極またはドレイン電極として機能する導電膜１０３２及び導電膜１０３３と、半導体膜１０３０を覆っているゲート絶縁膜１０３１と、ゲート絶縁膜１０３１を間に挟んで半導体膜１０３０と重なるゲート電極１０３４と、を有する。なお、絶縁膜１０２０乃至絶縁膜１０２２には開口部が設けられており、導電膜１０３３は、上記開口部において導電膜１０１８に接続されている。
【０３１４】
なお、図２２において、トランジスタ１０１は、ゲート電極１０３４を半導体膜１０３０の片側において少なくとも有していれば良いが、絶縁膜１０２２を間に挟んで半導体膜１０３０と重なるゲート電極を、さらに有していても良い。
【０３１５】
トランジスタ１０１が、一対のゲート電極を有している場合、一方のゲート電極には導通状態または非導通状態を制御するための信号が与えられ、他方のゲート電極は、電位が他から与えられている状態であっても良い。この場合、一対のゲート電極に、同じ高さの電位が与えられていても良いし、他方のゲート電極にのみ接地電位などの固定の電位が与えられていても良い。他方のゲート電極に与える電位の高さを制御することで、トランジスタの閾値電圧を制御することができる。
【０３１６】
また、図２２では、トランジスタ１０１が、一のゲート電極１０３４に対応した一のチャネル形成領域を有する、シングルゲート構造である場合を例示している。しかし、トランジスタ１０１は、電気的に接続された複数のゲート電極を有することで、一の活性層にチャネル形成領域を複数有する、マルチゲート構造であっても良い。
【０３１７】
また、図２２に示すように、トランジスタ１０１は、半導体膜１０３０が、絶縁膜１０２２上において順に積層された酸化物半導体膜１０３０ａ乃至酸化物半導体膜１０３０ｃを有する場合を例示している。ただし、本発明の一態様では、トランジスタ１０１が有する半導体膜１０３０が、単膜の金属酸化物膜で構成されていても良い。
【０３１８】
なお、本実施の形態は、他の実施の形態と適宜組み合わせて実施することができる。
【０３１９】
（実施の形態７）
上記実施の形態で開示された、導電膜、半導体膜、絶縁膜など様々な膜はスパッタ法やプラズマＣＶＤ法により形成することができるが、他の方法、例えば、熱ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法により形成してもよい。熱ＣＶＤ法の例としてＭＯＣＶＤ（Ｍｅｔａｌ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法やＡＬＤ（Ａｔｏｍｉｃ  Ｌａｙｅｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法を使っても良い。
【０３２０】
熱ＣＶＤ法は、プラズマを使わない成膜方法のため、プラズマダメージにより欠陥が生成されることが無いという利点を有する。
【０３２１】
熱ＣＶＤ法は、原料ガスと酸化剤を同時にチャンバー内に送り、チャンバー内を大気圧または減圧下とし、基板近傍または基板上で反応させて基板上に堆積させることで成膜を行ってもよい。
【０３２２】
また、ＡＬＤ法は、チャンバー内を大気圧または減圧下とし、反応のための原料ガスが順次にチャンバーに導入され、そのガス導入の順序を繰り返すことで成膜を行ってもよい。例えば、それぞれのスイッチングバルブ（高速バルブとも呼ぶ）を切り替えて２種類以上の原料ガスを順番にチャンバーに供給し、複数種の原料ガスが混ざらないように第１の原料ガスと同時またはその後に不活性ガス（アルゴン、或いは窒素など）などを導入し、第２の原料ガスを導入する。なお、同時に不活性ガスを導入する場合には、不活性ガスはキャリアガスとなり、また、第２の原料ガスの導入時にも同時に不活性ガスを導入してもよい。また、不活性ガスを導入する代わりに真空排気によって第１の原料ガスを排出した後、第２の原料ガスを導入してもよい。第１の原料ガスが基板の表面に吸着して第１の層を成膜し、後から導入される第２の原料ガスと反応して、第２の層が第１の層上に積層されて薄膜が形成される。このガス導入順序を制御しつつ所望の厚さになるまで複数回繰り返すことで、段差被覆性に優れた薄膜を形成することができる。薄膜の厚さは、ガス導入順序を繰り返す回数によって調節することができるため、精密な膜厚調節が可能であり、微細なＦＥＴを作製する場合に適している。
【０３２３】
ＭＯＣＶＤ法やＡＬＤ法などの熱ＣＶＤ法は、これまでに記載した実施形態に開示された導電膜、半導体膜、絶縁膜など様々な膜を形成することができ、例えば、Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ膜を成膜する場合には、トリメチルインジウム、トリメチルガリウム、及びジメチル亜鉛を用いる。なお、トリメチルインジウムの化学式は、Ｉｎ（ＣＨ３）３である。また、トリメチルガリウムの化学式は、Ｇａ（ＣＨ３）３である。また、ジメチル亜鉛の化学式は、Ｚｎ（ＣＨ３）２である。また、これらの組み合わせに限定されず、トリメチルガリウムに代えてトリエチルガリウム（化学式Ｇａ（Ｃ２Ｈ５）３）を用いることもでき、ジメチル亜鉛に代えてジエチル亜鉛（化学式Ｚｎ（Ｃ２Ｈ５）２）を用いることもできる。
【０３２４】
例えば、ＡＬＤを利用する成膜装置により酸化ハフニウム膜を形成する場合には、溶媒とハフニウム前駆体化合物を含む液体（ハフニウムアルコキシド溶液、代表的にはテトラキスジメチルアミドハフニウム（ＴＤＭＡＨ））を気化させた原料ガスと、酸化剤としてオゾン（Ｏ３）の２種類のガスを用いる。なお、テトラキスジメチルアミドハフニウムの化学式はＨｆ［Ｎ（ＣＨ３）２］４である。また、他の材料液としては、テトラキス（エチルメチルアミド）ハフニウムなどがある。
【０３２５】
例えば、ＡＬＤを利用する成膜装置により酸化アルミニウム膜を形成する場合には、溶媒とアルミニウム前駆体化合物を含む液体（トリメチルアルミニウム（ＴＭＡ）など）を気化させた原料ガスと、酸化剤としてＨ２Ｏの２種類のガスを用いる。なお、トリメチルアルミニウムの化学式はＡｌ（ＣＨ３）３である。また、他の材料液としては、トリス（ジメチルアミド）アルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、アルミニウムトリス（２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオナート）などがある。
【０３２６】
例えば、ＡＬＤを利用する成膜装置により酸化シリコン膜を形成する場合には、ヘキサクロロジシランを被成膜面に吸着させ、吸着物に含まれる塩素を除去し、酸化性ガス（Ｏ２、一酸化二窒素）のラジカルを供給して吸着物と反応させる。
【０３２７】
例えば、ＡＬＤを利用する成膜装置によりタングステン膜を成膜する場合には、ＷＦ６ガスとＢ２Ｈ６ガスを順次繰り返し導入して初期タングステン膜を形成し、その後、ＷＦ６ガスとＨ２ガスを同時に導入してタングステン膜を形成する。なお、Ｂ２Ｈ６ガスに代えてＳｉＨ４ガスを用いてもよい。
【０３２８】
例えば、ＡＬＤを利用する成膜装置により酸化物半導体膜、例えばＩｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ膜を成膜する場合には、Ｉｎ（ＣＨ３）３ガスとＯ３ガスを順次繰り返し導入してＩｎ−Ｏ層を形成し、その後、Ｇａ（ＣＨ３）３ガスとＯ３ガスを同時に導入してＧａＯ層を形成し、更にその後Ｚｎ（ＣＨ３）２ガスとＯ３ガスを同時に導入してＺｎＯ層を形成する。なお、これらの層の順番はこの例に限らない。また、これらのガスを混ぜてＩｎ−Ｇａ−Ｏ層やＩｎ−Ｚｎ−Ｏ層、Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ層などの混合化合物層を形成しても良い。なお、Ｏ３ガスに変えてＡｒ等の不活性ガスでバブリングして得られたＨ２Ｏガスを用いても良いが、Ｈを含まないＯ３ガスを用いる方が好ましい。また、Ｉｎ（ＣＨ３）３ガスにかえて、Ｉｎ（Ｃ２Ｈ５）３ガスを用いても良い。また、Ｇａ（ＣＨ３）３ガスにかえて、Ｇａ（Ｃ２Ｈ５）３ガスを用いても良い。また、Ｚｎ（ＣＨ３）２ガスを用いても良い。
【０３２９】
なお、本実施の形態は、他の実施の形態と適宜組み合わせて実施することができる。
【０３３０】
（実施の形態８）
本発明の一態様に係る半導体装置は、表示機器、パーソナルコンピュータ、記録媒体を備えた画像再生装置（代表的にはＤＶＤ：Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ  Ｄｉｓｃ等の記録媒体を再生し、その画像を表示しうるディスプレイを有する装置）に用いることができる。その他に、本発明の一態様に係る半導体装置を用いることができる電子機器として、携帯電話、携帯型を含むゲーム機、携帯情報端末、電子書籍端末、ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ等のカメラ、ゴーグル型ディスプレイ（ヘッドマウントディスプレイ）、ナビゲーションシステム、音響再生装置（カーオーディオ、デジタルオーディオプレイヤー等）、複写機、ファクシミリ、プリンタ、プリンタ複合機、現金自動預け入れ払い機（ＡＴＭ）、自動販売機、医療機器などが挙げられる。これら電子機器の具体例を図２３に示す。
【０３３１】
図２３（Ａ）は携帯型ゲーム機であり、筐体５００１、筐体５００２、表示部５００３、表示部５００４、マイクロホン５００５、スピーカー５００６、操作キー５００７、スタイラス５００８等を有する。本発明の一態様にかかる半導体装置は、携帯型ゲーム機の各種集積回路に用いることができる。なお、図２３（Ａ）に示した携帯型ゲーム機は、２つの表示部５００３と表示部５００４とを有しているが、携帯型ゲーム機が有する表示部の数は、これに限定されない。
【０３３２】
図２３（Ｂ）は携帯情報端末であり、第１筐体５６０１、第２筐体５６０２、第１表示部５６０３、第２表示部５６０４、接続部５６０５、操作キー５６０６等を有する。本発明の一態様にかかる半導体装置は、携帯情報端末の各種集積回路に用いることができる。第１表示部５６０３は第１筐体５６０１に設けられており、第２表示部５６０４は第２筐体５６０２に設けられている。そして、第１筐体５６０１と第２筐体５６０２とは、接続部５６０５により接続されており、第１筐体５６０１と第２筐体５６０２の間の角度は、接続部５６０５により変更が可能である。第１表示部５６０３における映像を、接続部５６０５における第１筐体５６０１と第２筐体５６０２との間の角度に従って、切り替える構成としても良い。また、第１表示部５６０３及び第２表示部５６０４の少なくとも一方に、位置入力装置としての機能が付加された表示装置を用いるようにしても良い。なお、位置入力装置としての機能は、表示装置にタッチパネルを設けることで付加することができる。或いは、位置入力装置としての機能は、フォトセンサとも呼ばれる光電変換素子を表示装置の画素部に設けることでも、付加することができる。
【０３３３】
図２３（Ｃ）はノート型パーソナルコンピュータであり、筐体５４０１、表示部５４０２、キーボード５４０３、ポインティングデバイス５４０４等を有する。本発明の一態様にかかる半導体装置は、ノート型パーソナルコンピュータの各種集積回路に用いることができる。
【０３３４】
図２３（Ｄ）は電気冷凍冷蔵庫であり、筐体５３０１、冷蔵室用扉５３０２、冷凍室用扉５３０３等を有する。本発明の一態様にかかる半導体装置は、電気冷凍冷蔵庫の各種集積回路に用いることができる。
【０３３５】
図２３（Ｅ）はビデオカメラであり、第１筐体５８０１、第２筐体５８０２、表示部５８０３、操作キー５８０４、レンズ５８０５、接続部５８０６等を有する。本発明の一態様にかかる半導体装置は、ビデオカメラの各種集積回路に用いることができる。操作キー５８０４及びレンズ５８０５は第１筐体５８０１に設けられており、表示部５８０３は第２筐体５８０２に設けられている。そして、第１筐体５８０１と第２筐体５８０２とは、接続部５８０６により接続されており、第１筐体５８０１と第２筐体５８０２の間の角度は、接続部５８０６により変更が可能である。表示部５８０３における映像を、接続部５８０６における第１筐体５８０１と第２筐体５８０２との間の角度に従って切り替える構成としても良い。
【０３３６】
図２３（Ｆ）は普通自動車であり、車体５１０１、車輪５１０２、ダッシュボード５１０３、ライト５１０４等を有する。本発明の一態様にかかる半導体装置は、普通自動車の各種集積回路に用いることができる。
【０３３７】
例えば、本明細書等において、ＸとＹとが接続されている、と明示的に記載する場合は、ＸとＹとが電気的に接続されている場合と、ＸとＹとが機能的に接続されている場合と、ＸとＹとが直接接続されている場合とを含むものとする。したがって、所定の接続関係、例えば、図または文章に示された接続関係に限定されず、図または文章に示された接続関係以外のものも含むものとする。
【０３３８】
ここで、Ｘ、Ｙは、対象物（例えば、装置、素子、回路、配線、電極、端子、導電膜、層、など）であるとする。
【０３３９】
ＸとＹとが電気的に接続されている場合の一例としては、ＸとＹとの電気的な接続を可能とする素子（例えば、スイッチ、トランジスタ、容量素子、インダクタ、抵抗素子、ダイオード、表示素子、発光素子、負荷など）が、ＸとＹとの間に１個以上接続されることが可能である。なお、スイッチは、オンオフが制御される機能を有している。つまり、スイッチは、導通状態（オン状態）、または、非導通状態（オフ状態）になり、電流を流すか流さないかを制御する機能を有している。または、スイッチは、電流を流す経路を選択して切り替える機能を有している。
【０３４０】
ＸとＹとが機能的に接続されている場合の一例としては、ＸとＹとの機能的な接続を可能とする回路（例えば、論理回路（インバータ、ＮＡＮＤ回路、ＮＯＲ回路など）、信号変換回路（ＤＡ変換回路、ＡＤ変換回路、ガンマ補正回路など）、電位レベル変換回路（電源回路（昇圧回路、降圧回路など）、信号の電位レベルを変えるレベルシフタ回路など）、電圧源、電流源、切り替え回路、増幅回路（信号振幅または電流量などを大きく出来る回路、オペアンプ、差動増幅回路、ソースフォロワ回路、バッファ回路など）、信号生成回路、記憶回路、制御回路など）が、ＸとＹとの間に１個以上接続されることが可能である。なお、一例として、ＸとＹとの間に別の回路を挟んでいても、Ｘから出力された信号がＹへ伝達される場合は、ＸとＹとは機能的に接続されているものとする。
【０３４１】
なお、ＸとＹとが電気的に接続されている、と明示的に記載する場合は、ＸとＹとが電気的に接続されている場合（つまり、ＸとＹとの間に別の素子又は別の回路を挟んで接続されている場合）と、ＸとＹとが機能的に接続されている場合（つまり、ＸとＹとの間に別の回路を挟んで機能的に接続されている場合）と、ＸとＹとが直接接続されている場合（つまり、ＸとＹとの間に別の素子又は別の回路を挟まずに接続されている場合）とを含むものとする。つまり、電気的に接続されている、と明示的に記載する場合は、単に、接続されている、とのみ明示的に記載されている場合と同じであるとする。
【０３４２】
なお、例えば、トランジスタのソース（又は第１の端子など）が、Ｚ１を介して（又は介さず）、Ｘと電気的に接続され、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）が、Ｚ２を介して（又は介さず）、Ｙと電気的に接続されている場合や、トランジスタのソース（又は第１の端子など）が、Ｚ１の一部と直接的に接続され、Ｚ１の別の一部がＸと直接的に接続され、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）が、Ｚ２の一部と直接的に接続され、Ｚ２の別の一部がＹと直接的に接続されている場合では、以下のように表現することが出来る。
【０３４３】
例えば、「ＸとＹとトランジスタのソース（又は第１の端子など）とドレイン（又は第２の端子など）とは、互いに電気的に接続されており、Ｘ、トランジスタのソース（又は第１の端子など）、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）、Ｙの順序で電気的に接続されている。」と表現することができる。または、「トランジスタのソース（又は第１の端子など）は、Ｘと電気的に接続され、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）はＹと電気的に接続され、Ｘ、トランジスタのソース（又は第１の端子など）、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）、Ｙは、この順序で電気的に接続されている」と表現することができる。または、「Ｘは、トランジスタのソース（又は第１の端子など）とドレイン（又は第２の端子など）とを介して、Ｙと電気的に接続され、Ｘ、トランジスタのソース（又は第１の端子など）、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）、Ｙは、この接続順序で設けられている」と表現することができる。これらの例と同様な表現方法を用いて、回路構成における接続の順序について規定することにより、トランジスタのソース（又は第１の端子など）と、ドレイン（又は第２の端子など）とを、区別して、技術的範囲を決定することができる。なお、これらの表現方法は、一例であり、これらの表現方法に限定されない。ここで、Ｘ、Ｙ、Ｚ１、Ｚ２は、対象物（例えば、装置、素子、回路、配線、電極、端子、導電膜、層、など）であるとする。
【０３４４】
なお、回路図上は独立している構成要素同士が電気的に接続しているように図示されている場合であっても、１つの構成要素が、複数の構成要素の機能を併せ持っている場合もある。例えば配線の一部が電極としても機能する場合は、一の導電膜が、配線の機能、及び電極の機能の両方の構成要素の機能を併せ持っている。したがって、本明細書における電気的に接続とは、このような、一の導電膜が、複数の構成要素の機能を併せ持っている場合も、その範疇に含める。
【０３４５】
なお、ある一つの実施の形態の中で述べる内容（一部の内容でもよい）は、その実施の形態で述べる別の内容（一部の内容でもよい）、及び／又は、一つ若しくは複数の別の実施の形態で述べる内容（一部の内容でもよい）に対して、適用、組み合わせ、又は置き換えなどを行うことが出来る。
【０３４６】
なお、実施の形態の中で述べる内容とは、各々の実施の形態において、様々な図を用いて述べる内容、又は明細書に記載される文章を用いて述べる内容のことである。
【０３４７】
なお、ある一つの実施の形態において述べる図（一部でもよい）は、その図の別の部分、その実施の形態において述べる別の図（一部でもよい）、及び／又は、一つ若しくは複数の別の実施の形態において述べる図（一部でもよい）に対して、組み合わせることにより、さらに多くの図を構成させることが出来る。
【０３４８】
なお、明細書の中の図面や文章において規定されていない内容について、その内容を除くことを規定した発明の一態様を構成することが出来る。または、ある値について、上限値と下限値などで示される数値範囲が記載されている場合、その範囲を任意に狭めることで、または、その範囲の中の一点を除くことで、その範囲を一部除いた発明の一態様を規定することができる。これらにより、例えば、従来技術が本発明の一態様の技術的範囲内に入らないことを規定することができる。
【０３４９】
具体例としては、ある回路において、第１乃至第５のトランジスタを用いている回路図が記載されているとする。その場合、その回路が、第６のトランジスタを有していないことを発明として規定することが可能である。または、その回路が、容量素子を有していないことを規定することが可能である。さらに、その回路が、ある特定の接続構造をとっているような第６のトランジスタを有していない、と規定して発明を構成することができる。または、その回路が、ある特定の接続構造をとっている容量素子を有していない、と規定して発明を構成することができる。例えば、ゲートが第３のトランジスタのゲートと接続されている第６のトランジスタを有していない、と発明を規定することが可能である。または、例えば、第１の電極が第３のトランジスタのゲートと接続されている容量素子を有していない、と発明を規定することが可能である。
【０３５０】
別の具体例としては、ある値について、例えば、「ある電圧が、３Ｖ以上１０Ｖ以下であることが好適である」と記載されているとする。その場合、例えば、ある電圧が、−２Ｖ以上１Ｖ以下である場合を除く、と発明の一態様を規定することが可能である。または、例えば、ある電圧が、１３Ｖ以上である場合を除く、と発明の一態様を規定することが可能である。なお、例えば、その電圧が、５Ｖ以上８Ｖ以下であると発明を規定することも可能である。なお、例えば、その電圧が、概略９Ｖであると発明を規定することも可能である。なお、例えば、その電圧が、３Ｖ以上１０Ｖ以下であるが、９Ｖである場合を除くと発明を規定することも可能である。なお、ある値について、「このような範囲であることが好ましい」、「これらを満たすことが好適である」となどと記載されていたとしても、ある値は、それらの記載に限定されない。つまり、「好ましい」、「好適である」などと記載されていたとしても、必ずしも、それらの記載には、限定されない。
【０３５１】
別の具体例としては、ある値について、例えば、「ある電圧が、１０Ｖであることが好適である」と記載されているとする。その場合、例えば、ある電圧が、−２Ｖ以上１Ｖ以下である場合を除く、と発明の一態様を規定することが可能である。または、例えば、ある電圧が、１３Ｖ以上である場合を除く、と発明の一態様を規定することが可能である。
【０３５２】
別の具体例としては、ある物質の性質について、例えば、「ある膜は、絶縁膜である」と記載されているとする。その場合、例えば、その絶縁膜が、有機絶縁膜である場合を除く、と発明の一態様を規定することが可能である。または、例えば、その絶縁膜が、無機絶縁膜である場合を除く、と発明の一態様を規定することが可能である。または、例えば、その膜が、導電膜である場合を除く、と発明の一態様を規定することが可能である。または、例えば、その膜が、半導体膜である場合を除く、と発明の一態様を規定することが可能である。
【０３５３】
別の具体例としては、ある積層構造について、例えば、「Ａ膜とＢ膜との間に、ある膜が設けられている」と記載されているとする。その場合、例えば、その膜が、４層以上の積層膜である場合を除く、と発明を規定することが可能である。または、例えば、Ａ膜とその膜との間に、導電膜が設けられている場合を除く、と発明を規定することが可能である。
【０３５４】
なお、本明細書等において記載されている発明の一態様は、さまざまな人が実施することが出来る。しかしながら、その実施は、複数の人にまたがって実施される場合がある。例えば、送受信システムの場合において、Ａ社が送信機を製造および販売し、Ｂ社が受信機を製造および販売する場合がある。別の例としては、トランジスタおよび発光素子を有する発光装置の場合において、トランジスタが形成された半導体装置は、Ａ社が製造および販売する。そして、Ｂ社がその半導体装置を購入して、その半導体装置に発光素子を成膜して、発光装置として完成させる、という場合がある。
【０３５５】
このような場合、Ａ社またはＢ社のいずれに対しても、特許侵害を主張できるような発明の一態様を、構成することが出来る。つまり、Ａ社のみが実施するような発明の一態様を構成することが可能であり、別の発明の一態様として、Ｂ社のみが実施するような発明の一態様を構成することが可能である。また、Ａ社またはＢ社に対して、特許侵害を主張できるような発明の一態様は、明確であり、本明細書等に記載されていると判断する事が出来る。例えば、送受信システムの場合において、送信機のみの場合の記載や、受信機のみの場合の記載が本明細書等になかったとしても、送信機のみで発明の一態様を構成することができ、受信機のみで別の発明の一態様を構成することができ、それらの発明の一態様は、明確であり、本明細書等に記載されていると判断することが出来る。別の例としては、トランジスタおよび発光素子を有する発光装置の場合において、トランジスタが形成された半導体装置のみの場合の記載や、発光素子を有する発光装置のみの場合の記載が本明細書等になかったとしても、トランジスタが形成された半導体装置のみで発明の一態様を構成することができ、発光素子を有する発光装置のみで発明の一態様を構成することができ、それらの発明の一態様は、明確であり、本明細書等に記載されていると判断することが出来る。
【０３５６】
なお、本明細書等においては、能動素子（トランジスタ、ダイオードなど）、受動素子（容量素子、抵抗素子など）などが有するすべての端子について、その接続先を特定しなくても、当業者であれば、発明の一態様を構成することは可能な場合がある。つまり、接続先を特定しなくても、発明の一態様が明確であると言える。そして、接続先が特定された内容が、本明細書等に記載されている場合、接続先を特定しない発明の一態様が、本明細書等に記載されていると判断することが可能な場合がある。特に、端子の接続先が複数のケース考えられる場合には、その端子の接続先を特定の箇所に限定する必要はない。したがって、能動素子（トランジスタ、ダイオードなど）、受動素子（容量素子、抵抗素子など）などが有する一部の端子についてのみ、その接続先を特定することによって、発明の一態様を構成することが可能な場合がある。
【０３５７】
なお、本明細書等においては、ある回路について、少なくとも接続先を特定すれば、当業者であれば、発明を特定することが可能な場合がある。または、ある回路について、少なくとも機能を特定すれば、当業者であれば、発明を特定することが可能な場合がある。つまり、機能を特定すれば、発明の一態様が明確であると言える。そして、機能が特定された発明の一態様が、本明細書等に記載されていると判断することが可能な場合がある。したがって、ある回路について、機能を特定しなくても、接続先を特定すれば、発明の一態様として開示されているものであり、発明の一態様を構成することが可能である。または、ある回路について、接続先を特定しなくても、機能を特定すれば、発明の一態様として開示されているものであり、発明の一態様を構成することが可能である。
【０３５８】
なお、本明細書等においては、ある一つの実施の形態において述べる図または文章において、その一部分を取り出して、発明の一態様を構成することは可能である。したがって、ある部分を述べる図または文章が記載されている場合、その一部分の図または文章を取り出した内容も、発明の一態様として開示されているものであり、発明の一態様を構成することが可能であるものとする。そして、その発明の一態様は明確であると言える。そのため、例えば、能動素子（トランジスタ、ダイオードなど）、配線、受動素子（容量素子、抵抗素子など）、導電層、絶縁層、半導体層、有機材料、無機材料、部品、装置、動作方法、製造方法などが単数もしくは複数記載された図面または文章において、その一部分を取り出して、発明の一態様を構成することが可能であるものとする。例えば、Ｎ個（Ｎは整数）の回路素子（トランジスタ、容量素子等）を有して構成される回路図から、Ｍ個（Ｍは整数で、Ｍ＜Ｎ）の回路素子（トランジスタ、容量素子等）を抜き出して、発明の一態様を構成することは可能である。別の例としては、Ｎ個（Ｎは整数）の層を有して構成される断面図から、Ｍ個（Ｍは整数で、Ｍ＜Ｎ）の層を抜き出して、発明の一態様を構成することは可能である。さらに別の例としては、Ｎ個（Ｎは整数）の要素を有して構成されるフローチャートから、Ｍ個（Ｍは整数で、Ｍ＜Ｎ）の要素を抜き出して、発明の一態様を構成することは可能である。さらに別の例としては、「Ａは、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、または、Ｆを有する」と記載されている文章から、一部の要素を任意に抜き出して、「Ａは、ＢとＥとを有する」、「Ａは、ＥとＦとを有する」、「Ａは、ＣとＥとＦとを有する」、または、「Ａは、ＢとＣとＤとＥとを有する」などの発明の一態様を構成することは可能である。
【０３５９】
なお、本明細書等においては、ある一つの実施の形態において述べる図または文章において、少なくとも一つの具体例が記載される場合、その具体例の上位概念を導き出すことは、当業者であれば容易に理解される。したがって、ある一つの実施の形態において述べる図または文章において、少なくとも一つの具体例が記載される場合、その具体例の上位概念も、発明の一態様として開示されているものであり、発明の一態様を構成することが可能である。そして、その発明の一態様は、明確であると言える。
【０３６０】
なお、本明細書等においては、少なくとも図に記載した内容（図の中の一部でもよい）は、発明の一態様として開示されているものであり、発明の一態様を構成することが可能である。したがって、ある内容について、図に記載されていれば、文章を用いて述べていなくても、その内容は、発明の一態様として開示されているものであり、発明の一態様を構成することが可能である。同様に、図の一部を取り出した図についても、発明の一態様として開示されているものであり、発明の一態様を構成することが可能である。そして、その発明の一態様は明確であると言える。
【符号の説明】
【０３６１】
１０    装置
１１    回路
１２    回路
１３    回路
１４    回路
１５    ＰＬＥ
１６    ＳＷ
１７    回路
１８    記憶装置
１９    回路
２０    プロセッサ
２１    記憶領域
２１ａ    記憶領域
２１ｂ    記憶領域
２１ｃ    記憶領域
２２    タグフィールド
２２ａ    タグフィールド
２２ｂ    タグフィールド
２２ｃ    タグフィールド
２３    データフィールド
２３ａ    データフィールド
２３ｂ    データフィールド
２３ｃ    データフィールド
２４    比較回路
２４ａ    比較回路
２４ｂ    比較回路
２４ｃ    比較回路
２５    選択回路
２６    信号
２６ａ    信号
２６ｂ    信号
２６ｃ    信号
２７    信号
２８    信号
２９    信号
３０    セルアレイ
３１    セルアレイ
３２    セル
３３    信号
４１    回路
４２    回路
４３    回路
４４    回路
４５    回路
４６    回路
４７    配線
５１    回路
５２    回路
５３    回路
９０    トランジスタ
９１    絶縁膜
９２ａ    酸化物半導体膜
９２ｂ    酸化物半導体膜
９２ｃ    酸化物半導体膜
９３    導電膜
９４    導電膜
９５    絶縁膜
９６    導電膜
９７    基板
１０１    トランジスタ
１０２    トランジスタ
１０３    トランジスタ
１０４    容量素子
１０５    トランジスタ
１０６    ラッチ回路
１０７    インバータ
１０８    トランジスタ
１０９    インバータ
１１０    インバータ
１１１    インバータ
１１２    インバータ
２００    シフトレジスタ
２０１    ラッチ回路
２０２    ラッチ回路
２０３    ラッチ回路
２０４    選択回路
２０６    選択回路
２０７    ラッチ回路
２０８    ラッチ回路
２０９    ラッチ回路
２１０    ラッチ回路
２１１    ラッチ回路
２１２    ラッチ回路
２１３    トランジスタ
２１５    トランジスタ
２１６    トランジスタ
２１８    トランジスタ
２１９    トランジスタ
２２１    トランジスタ
２２２    イネーブルバッファ
２２３    イネーブルバッファ
２２４    イネーブルバッファ
４００    ＰＬＤ
４１０    ＰＬＥ
４２０    配線
４３０    ＬＵＴ
４４０    フリップフロップ
４５０    入力端子
４６０    出力端子
４７０    ＡＮＤ回路
４８０    マルチプレクサ
４９０    記憶回路
５００    マルチプレクサ
５１０    記憶回路
５２０    端子
６００    記憶回路
６１０    回路
６２０    回路
６２０ａ    回路
６２０ｂ    回路
６３０    マルチプレクサ
６４０    トランジスタ
６５０    トランジスタ
６６０    トランジスタ
６７０    トランジスタ
６８０    容量素子
６９０    容量素子
７００    配線
７１０    配線
７２０    配線
８０１    半導体基板
８１０    素子分離領域
８１１    絶縁膜
８１２    絶縁膜
８１３    絶縁膜
８２５    導電膜
８２６    導電膜
８２７    導電膜
８３４    導電膜
８３５    導電膜
８３６    導電膜
８３７    導電膜
８４４    導電膜
８５１    導電膜
８５２    導電膜
８５３    導電膜
８６１    絶縁膜
８６２    ゲート絶縁膜
８６３    絶縁膜
９０１    半導体膜
９１０    領域
９１１    領域
９２１    導電膜
９２２    導電膜
９３１    ゲート電極
１０００    基板
１００１    素子分離領域
１００２    不純物領域
１００３    不純物領域
１００４    チャネル形成領域
１００５    絶縁膜
１００６    ゲート電極
１０１１    絶縁膜
１０１２    導電膜
１０１３    導電膜
１０１４    導電膜
１０１６    導電膜
１０１７    導電膜
１０１８    導電膜
１０２０    絶縁膜
１０２１    絶縁膜
１０２２    絶縁膜
１０３０    半導体膜
１０３０ａ    酸化物半導体膜
１０３０ｃ    酸化物半導体膜
１０３１    ゲート絶縁膜
１０３２    導電膜
１０３３    導電膜
１０３４    ゲート電極
５００１    筐体
５００２    筐体
５００３    表示部
５００４    表示部
５００５    マイクロホン
５００６    スピーカー
５００７    操作キー
５００８    スタイラス
５１０１    車体
５１０２    車輪
５１０３    ダッシュボード
５１０４    ライト
５３０１    筐体
５３０２    冷蔵室用扉
５３０３    冷凍室用扉
５４０１    筐体
５４０２    表示部
５４０３    キーボード
５４０４    ポインティングデバイス
５６０１    筐体
５６０２    筐体
５６０３    表示部
５６０４    表示部
５６０５    接続部
５６０６    操作キー
５８０１    筐体
５８０２    筐体
５８０３    表示部
５８０４    操作キー
５８０５    レンズ
５８０６    接続部
【図１】
2015165558.tif 000003
【図２】
2015165558.tif 000004
【図３】
2015165558.tif 000005
【図４】
2015165558.tif 000006
【図５】
2015165558.tif 000007
【図６】
2015165558.tif 000008
【図７】
2015165558.tif 000009
【図８】
2015165558.tif 000010
【図９】
2015165558.tif 000011
【図１０】
2015165558.tif 000012
【図１１】
2015165558.tif 000013
【図１２】
2015165558.tif 000014
【図１３】
2015165558.tif 000015
【図１４】
2015165558.tif 000016
【図１５】
2015165558.tif 000017
【図１６】
2015165558.tif 000018
【図１７】
2015165558.tif 000019
【図１８】
2015165558.tif 000020
【図１９】
2015165558.tif 000021
【図２０】
2015165558.tif 000022
【図２１】
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【図２２】
2015165558.tif 000024
【図２３】
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【図２４】
2015165558.tif 000026
【図２５】
2015165558.tif 000027