(57)【要約】【課題】スチレン系難燃性樹脂のビストルクの向上である。【解決手段】（Ａ）ゴム変性スチレン系樹脂９９〜８０質量部、（Ｂ）シンジオクタクチック構造を有するスチレン重合体１〜２０質量部であり、（Ａ）ゴム変性スチレン系樹脂、（Ｂ）シンジオクタクチック構造を有するスチレン重合体の合計が１００質量部に対して、（Ｃ）難燃剤５〜３０質量部を含有するスチレン系難燃性樹脂組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）ゴム変性スチレン系樹脂９９〜８０質量部、（Ｂ）シンジオクタクチック構造を有するスチレン重合体１〜２０質量部であり、（Ａ）ゴム変性スチレン系樹脂、（Ｂ）シンジオクタクチック構造を有するスチレン重合体の合計が１００質量部に対して、（Ｃ）難燃剤５〜３０質量部を含有するスチレン系難燃性樹脂組成物。
【請求項２】
（Ａ）ゴム変性スチレン系樹脂がアタクチックポリスチレンである請求項１に記載のスチレン系難燃性樹脂組成物。
【請求項３】
（Ｂ）シンジオクタクチック構造を有するスチレン重合体の結晶融点が１６０℃〜２６０℃である請求項１又は請求項２に記載のスチレン系難燃性樹脂組成物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の樹脂組成物を成形して得られる成形体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ビストルクとシャルピー衝撃強度の優れた難燃性樹脂組成物およびそれからなる成形体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
石油系樹脂の中でも、スチレン系樹脂は成形性、寸法精度、耐衝撃性および耐熱性に優れており、その用途は多岐にわたる。その中で、汎用ポリスチレンやゴム変性ポリスチレンは、容器、包装、日用雑貨等の分野で幅広く使用され、難燃性を付与させた難燃ポリスチレンはパーソナルコンピュータ、プリンター、複写機等のＯＡ機器、ＴＶ、オーディオ等の家電製品等の分野で使用されている。
また、これら製品は成形品をネジ止めする事が多い。
【０００３】
近年、成形体の薄肉化により、従来よりもビストルクが要求されている。ビストルクを向上させるにはゴム分を削減する方法があるが、シャルピー衝撃強度が著しく低下していまう欠点がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１−１８２３４９号公報
【特許文献２】特開平２−９２９４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の課題は、スチレン系難燃性樹脂のビストルクの向上である。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、上記課題について鋭意検討した結果、（Ａ）ゴム変性スチレン系樹脂に少量の（Ｂ）シンジオクタクチック構造を有するスチレン重合体を配合し、（Ｃ）難燃剤を添加する事によって、本発明を完成させた。
【０００７】
すなわち、本発明は以下のとおりである。
１．（Ａ）ゴム変性スチレン系樹脂９９〜８０質量部、（Ｂ）シンジオクタクチック構造を有するスチレン重合体１〜２０質量部であり、（Ａ）ゴム変性スチレン系樹脂、（Ｂ）シンジオクタクチック構造を有するスチレン重合体の合計が１００質量部に対して、（Ｃ）難燃剤５〜３０質量部を含有するスチレン系難燃性樹脂組成物。
２．（Ａ）ゴム変性スチレン系樹脂がアタクチックポリスチレンである前記１に記載のスチレン系難燃性樹脂組成物。
３．（Ｂ）シンジオクタクチック構造を有するスチレン重合体の結晶融点が１６０℃〜２６０℃である前記１又は２に記載のスチレン系難燃性樹脂組成物。
４．前記１〜３のいずれかに記載の樹脂組成物を成形して得られる成形体。
【発明の効果】
【０００８】
本発明に関わるスチレン系難燃性樹脂組成物は、ビストルク・シャルピー衝撃強度を両立されることが出来るため、ＯＡ機器や家電部品等の薄肉化に対応する事が出来る為、産業上の利用価値は極めて大である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明で用いる（Ａ）ゴム変性スチレン系樹脂とは、芳香族ビニル化合物を重合して得られるものであり、必要に応じて共役ジエン系ゴム状重合体を加えてゴム変性を行ってもよい。重合方法としては公知の方法、例えば、塊状重合法、塊状・懸濁二段重合法、溶液重合法等により製造することができる。芳香族ビニル化合物系単量体は、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン等の公知のものが使用できるが、好ましくはスチレンである。また、これらの芳香族ビニル化合物系単量体と共重合可能なアクリロニトリル、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル等のスチレン系単量体や無水マレイン酸等以外の単量体も、スチレン系樹脂組成物の性能を損なわない程度であれば良い。さらに本発明ではジビニルベンゼン等の架橋剤をスチレン系単量体に対し添加して重合したものであっても差し支えない。
【００１０】
（Ａ）ゴム変性スチレン系樹脂のゴム変性に用いる共役ジエン系ゴム状重合体としては、ポリブタジエン、スチレン−ブタジエンのランダムまたはブロック共重合体、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、スチレン−イソプレンのランダム、ブロック又はグラフト共重合体、エチレン−プロピレンゴム、エチレン−プロピレン−ジエンゴムなどが挙げられるが、特にポリブタジエン、スチレン−ブタジエンのランダム、ブロック又はグラフト共重合体が好ましい。また、これらは一部水素添加されていても差し支えない。
【００１１】
（Ａ）ゴム変性スチレン系樹脂の例として、耐衝撃性ポリスチレン（ＨＩＰＳ）、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体）、ＡＡＳ樹脂（アクリロニトリル−アクリルゴム−スチレン共重合体）、ＡＥＳ樹脂（アクリロニトリル−エチレンプロピレン−スチレン共重合体）、ＭＢＳ樹脂（メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン共重合体）等が挙げられる。
【００１２】
（Ａ）ゴム変性スチレン系樹脂は、スチレン系単量体ユニットの立体規則性がシンジオタクチックではない重合体を意味する。
【００１３】
本発明に用いる（Ｂ）シンジオタクチック構造を有するスチレン重合体は以下の様である。
【００１４】
シンジオタクチック構造は、その立体化学構造が、炭素− 炭素結合から形成される主鎖に対して側鎖であるフェニル基が交互に反対方向に位置する立体構造を有するものであり、そのタクティシティーは同位体炭素による核磁気共鳴法（ １ ３ Ｃ − Ｎ Ｍ Ｒ ） により定量される。１ ３ Ｃ − Ｎ Ｍ Ｒ 法により測定されるタクティシティーは、連続する複数個の構成単位の存在割合、例えば２ 個の場合はダイアッド、３ 個の場合はトリアッド、５ 個の場合はペンタッドによって示すことができるが、本発明に言うシンジオタクチックポリスチレンとは、通常はラセミダイアッドで７ ５ ％ 以上、好ましくは８ ５ ％ 以上、若しくはラセミペンタッドで３ ０ ％ 以上、好ましくは５ ０ ％ 以上のシンジオタクティシティーを有するポリスチレン， ポリ（ アルキルスチレン） ， ポリ（ ハロゲン化スチレン） ， ポリ（ ハロゲン化アルキルスチレン） ， ポリ（ アルコキシスチレン） ， ポリ（ ビニル安息香酸エステル） ，これらの水素化重合体およびこれらの混合物， あるいはこれらを主成分とする共重合体を示す。
なお、ここでポリ（ アルキルスチレン） としては、ポリ（ メチルスチレン） ， ポリ（ エチルスチレン） ， ポリ（ イソプロピルスチレン） ， ポリ（ ターシャリーブチルスチレン） ，ポリ（ フェニルスチレン） ， ポリ（ ビニルナフタレン） ， ポリ（ ビニルスチレン） などがあり、ポリ（ ハロゲン化スチレン） としては、ポリ（ クロロスチレン） ， ポリ（ ブロモスチレン） ， ポリ（ フルオロスチレン） などがある。また、ポリ（ ハロゲン化アルキルスチレン） としては、ポリ（ クロロメチルスチレン） など、またポリ（ アルコキシスチレン）としては、ポリ（ メトキシスチレン） ， ポリ（ エトキシスチレン） などがある。
【００１５】
なお、これらのうち特に好ましい（Ｂ）シンジオタクチック構造を有するスチレン重合体としては、上記の条件を満足するポリスチレン，ポリ（ｐ−メチルスチレン），ポリ（ｍ−メチルスチレン），ポリ（エチルスチレン），ポリ（ジビニルベンゼン），ポリ（ｐ−ターシャリーブチルスチレン），ポリ（ｐ−クロロスチレン），ポリ（ｍ−クロロスチレン），ポリ（ｐ−フルオロスチレン），水素化ポリスチレンおよびこれらの構造単位を含む共重合体が挙げられる。
【００１６】
このような（Ｂ）シンジオタクチック構造を有するスチレン重合体としては、例えば不活性炭化水素溶媒中または溶媒の不存在下に、チタン化合物および水とトリアルキルアルミニウムの縮合生成物を触媒として、スチレン系単量体（上記スチレン系重合体に対応する単量体）を重合することにより製造することができる。また、ポリ（ハロゲン化アルキルスチレン）、およびこれらの水素化重合体は公知の方法などにより得ることができる。
【００１７】
更に、（Ｂ）シンジオタクチック構造を有するスチレン重合体に対して、共重合単量体として、上述の各種重合体の他、エチレン，プロピレン，ブテン，ヘキセン，オクテンなどのオレフィン単量体、ブタジエン，イソプレンなどのジエン単量体、環状ジエン単量体やメタクリル酸メチル，無水マレイン酸，アクリロニトリルなどの極性ビニル単量体などを挙げることができる。特に、スチレン繰返し単位が８０〜１００モル％，ｐ−メチルスチレン繰返し単位が０〜２０モル％からなるシンジオタクチックポリスチレンが好ましく用いられる。
【００１８】
（Ｂ）シンジオタクチック構造を有するスチレン重合体の分子量については特に制限はないが、重量平均分子量が１０，０００以上、３，０００，０００以下であるのが好ましく、特に１００，０００以上、１，０００，０００以下であるのが好ましい。ここで重量平均分子量が１０，０００未満であると、強度低下を引き起こす場合がある。１，０００，０００を超えると、押出不良（メルトフラクチャー）が生じやすい。さらに、分子量分布については、特に制限はないが、重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）が１．５以上８以下であるのが好ましい。
【００１９】
（Ｂ）シンジオタクチック構造を有するスチレン重合体の結晶融点は１６０〜２６０℃である。２６０℃を超える融点の場合、通常の成形加工温度での成形が困難となる。
【００２０】
（Ｂ）シンジオタクチック構造を有するスチレン重合体は、その添加量として１〜２０質量部用いるのが必須であり、好ましくは３〜１５質量部である。２０質量部を超えると、シャルピー衝撃強度が低下する。
【００２１】
本発明で用いる（Ｃ）難燃剤は臭素系難燃剤、リン系難燃剤、塩素系難燃剤等が挙げられる。
臭素系難燃剤としては、トリス（ポリブロモフェノキシ）トリアジン化合物、臭素化ジフェニルアルカン化合物、臭素化フタルイミド化合物、臭素化ポリスチレン、臭素化ポリアクリレート、臭素化ポリフェニレンエーテル、臭素化ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の分子鎖末端のグリシジル基の一部又は全部を封止した変性物等が挙げられる。
【００２２】
リン系難燃剤としては、赤リン、有機リン酸エステル化合物、ホスファゼン化合物、ホスフィン酸塩類、ホスフォン酸塩類、ホスホルアミド化合物等が挙げられ、特に下記化１で表される芳香族ジオールビス（ジアリールホスフェート）化合物が好適に使用される。
【００２３】
【化１】
2015074747.tif 000002
（ここで、ｎは１〜５の正数であり、Ａｒ１〜Ａｒ４は炭素数６〜１５のフェニル基又はアルキル置換フェニル基を表し、Ｘは下式に示す化２で表わされるＸ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、又はＸ５から選ばれる置換基である。）
【００２４】
【化２】
2015074747.tif 000003
【００２５】
リン系難燃剤としては、特にベンゼンジオールビス（ジアリールホスフェート）化合物、ビスフェノールＡビス（ジアリールホスフェート）化合物から選択された少なくとも一種の縮合リン酸エステルが好ましく用いられる。
【００２６】
ビスフェノールＡビス（ジアリールホスフェート）化合物は、下記に示す化３で表される化合物である。
【００２７】
【化３】
2015074747.tif 000004
（ここで、ｎは１〜５の正数であり、Ａｒ１〜Ａｒ４は炭素数６〜１５のフェニル基又はアルキル置換フェニル基を表す。）
【００２８】
ビスフェノールＡビス（ジアリールホスフェート）化合物として具体的には、ビスフェノールＡのビス（ジフェニルホスフェート）、ビス（ジトリルホスフェート）、（ジキシレニルホスフェート）化合物等が挙げられるが、好ましくは、ビスフェノールＡビス（ジフェニルホスフェート）化合物である。
【００２９】
ベンゼンジオールビス（ジアリールホスフェート）化合物は、下記に示す化４で表される化合物である。
【００３０】
【化４】
2015074747.tif 000005
（ここで、ｎは１〜５の正数であり、Ａｒ１〜Ａｒ４は炭素数６〜１５のフェニル基又はアルキル置換フェニル基を表し、Ｘは下式に示す化５で表わされるＸ１、Ｘ２、又はＸ３から選ばれる置換基である。）
【００３１】
【化５】
2015074747.tif 000006
【００３２】
ベンゼンジオールビス（ジアリールホスフェート）化合物として具体的には、ヒドロキノン、レゾルシノール、カテコール等のビス（ジフェニルホスフェート）、ビス（ジトリルホスフェート）、（ジキシレニルホスフェート）化合物等が挙げられるが、好ましくは、ベンゼンジオールのビス（ジフェニルホスフェート）化合物、特に好ましくはレゾルシノールビス（ジフェニルホスフェート）である。
【００３３】
（Ｃ）難燃剤の添加量としては、（Ａ）ゴム変性スチレン系樹脂と（Ｂ）シンジオクタクチック構造を有するスチレン重合体の合計１００質量部に対して、５〜３０質量部であり、好ましくは７〜２２質量部である。５質量部未満だと難燃性が確保できず、３０質量部を超えるとシャルピー衝撃強度が著しく低下する。
【００３４】
本発明では、臭素系難燃剤を使用した場合、必要に応じて難燃化助剤を用いる事が出来る。難燃化助剤とは難燃剤の難燃効果を更に高める働きをするものであり、例えば酸化アンチモンとして三酸化アンチモン、四酸化アンチモン、五酸化アンチモン、アンチモン酸ソーダ等、ホウ素系化合物としてホウ酸亜鉛、メタホウ酸バリウム、無水ホウ酸亜鉛、無水ホウ酸等、スズ系化合物として酸化第二スズ、スズ酸亜鉛、ヒドロキシスズ酸亜鉛等、モリブデン系化合物として酸化モリブデン、モリブデン酸アンモニウム等、ジルコニウム系化合物として酸化ジルコニウム、水酸化ジルコニウム等、また亜鉛系化合物として硫化亜鉛等が挙げられる。なかでも三酸化アンチモンを使用することが特に好ましい。
【００３５】
本発明では、リン系難燃剤を使用した場合、必要に応じてポリフェニレンエーテル樹脂を用いる事が出来る。ポリフェニレンエーテル樹脂とは、下記化６に示す構造単位を主鎖に有する重合体であって、単独重合体又は共重合体のいずれでもよい。
【００３６】
【化６】
2015074747.tif 000007
（ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、第１級若しくは第２級アルキル基、アリール基、アミノアルキル基、ハロアルキル基、炭化水素オキシ基、又はハロ炭化水素オキシ基を表す。ただし、Ｒ１、Ｒ２がともに水素原子になることはない。）
【００３７】
本発明の熱可塑性樹脂組成物は目的を損なわない範囲で他の添加剤を添加する事が出来る。例えば、核剤のアルミニウムジ（ｐ−ｔ−ブチルベンゾエート）をはじめとするカルボン酸の金属塩、メチレンビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェノール）アシッドホスフェートナトリウムをはじめとするリン酸の金属塩、タルク、フタロシアニン誘導体等。酸化防止剤のフェノール系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、リン系酸化防止剤等。滑剤の脂肪酸系滑剤、脂肪族アマイド系滑剤、金属石鹸系滑剤等。充填剤のタルク等。着色剤の顔料、染料等。帯電防止剤の非イオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤等である。
【００３８】
本発明の樹脂組成物の混合方法は、公知の混合技術を適用することが出来る。例えばミキサー型混合機、Ｖ型ブレンダー、及びタンブラー型混合機等の混合装置で出来る。
【００３９】
本発明の押出溶融混練方法は特に制限はなく公知の溶融技術を適用出来る。好適な溶融混練装置として、バンバリー型ミキサー、ニーダー、ロール、単軸押出機、特殊単軸押出機、及び二軸押出機等がある。
【００４０】
本発明の樹脂組成物から成形品を得る成形法には特に制限は無いが、好ましくは射出成形および真空成形である。
【実施例】
【００４１】
以下に例を挙げて具体的に本発明を説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。
【００４２】
（Ａ）ゴム変性スチレン系樹脂：実施例及び比較例で使用した（Ａ）ゴム変性スチレン系樹脂は、それぞれ以下の組成である。ゴム状重合体にシス１、４結合を９０モル％以上の比率で含有するハイシスポリブタジエンゴムを使用したゴム変性スチレン系樹脂である。このゴム変性スチレン系樹脂の組成は、マトリックス部分の還元粘度が０．７６ｄｌ／ｇであり、ゴム状重合体の含有量が９．１質量％であり、ゴム状重合体のゲル含有量が２６質量％であり、及びゴム状重合体の体積平均粒子径２．８μｍである。ここで言う還元粘度、ゴム状重合体の質量％、ゴム状重合体のゲル含有量の質量％、ゴム状重合体の体積平均粒子径は以下の方法で測定した。
【００４３】
還元粘度（ηsp／Ｃ）の測定：ゴム変性スチレン系樹脂１ｇにメチルエチルケトン１７.５ｍｌとアセトン１７.５ｍｌの混合溶媒を加え、温度２５℃で２時間振とう溶解した後、遠心分離で不溶分を沈降させ、デカンテーションにより上澄み液を取り出し、２５０ｍｌのメタノールを加えて樹脂分を析出させ、不溶分を濾過乾燥する。同操作で得られた樹脂分をトルエンに溶解してポリマー濃度０．４％（質量／体積）の試料溶液を作成した。この試料溶液、及び純トルエンを３０℃の恒温でウベローデ型粘度計により溶液流下秒数を測定して、下式にて算出した。
ηsp／Ｃ＝（ｔ1／ｔ0−１）／Ｃ
ｔ0：純トルエン流下秒数
ｔ１：試料溶液流下秒数
Ｃ ：ポリマー濃度
【００４４】
ゴム状重合体含有量の測定：該スチレン系難燃性樹脂組成物をクロロホルムに溶解させ、一定量の一塩化ヨウ素／氷酢酸溶液を加え暗所に約３０分放置後、１５質量％のヨウ化カリウム溶液と純水５０ｍｌを加え、過剰の一塩化ヨウ素を０．１Ｎチオ硫酸ナトリウム溶液で滴定し、付加した一塩化ヨウ素量から算出した。
【００４５】
ゲル含有量の測定：ゴム変性スチレン系樹脂をトルエンに３．３％（質量／体積）の割合で加え、温度２５℃で４０分振とう溶解した後、遠心分離（回転数１００００〜１４０００ｒｐｍ、分離時間３０分）で不溶分（ゲル分）を沈降させ、デカンテーションにより上澄み液を除去してゲルを得た。次に、この膨潤ゲルを温度１００℃で２時間予備乾燥した後、温度１２０℃の真空乾燥機で１時間乾燥した。デシケータで常温まで冷却し精秤し下式にて算出した。
ゲル分率（％）＝[（ｍ１−ｍ０）／Ｓ]×１００
ｍ０：遠心沈降管質量
ｍ１：乾燥ゲル＋遠心沈降管質量
Ｓ：試料樹脂質量
【００４６】
ゴム状重合体の体積平均粒子径の測定：ゴム変性スチレン系樹脂をジメチルホルムアミドに完全に溶解させ、レーザー回析方式粒度分布装置にて測定した。
【００４７】
（Ｂ）シンジオタクチック構造を有するスチレン重合体
スチレン−ｐ−メチルスチレン共重合体（ｐ−メチルスチレン共重合比率１２モル％）、Ｍｗ＝２３万、融点２５０℃を用いた。
比較として使用した、スチレン系樹脂（ＧＰ）は、還元粘度０．８３ｄｌ／ｇ、スチレン系樹脂中の流動パラフィン含有量が０．８質量％であるスチレン重合体を使用した。
【００４８】
（Ｃ）難燃剤
（Ｃ−１）トリス（ポリブロモフェノキシ）トリアジン化合物
商品名：ピロガードＳＲ２４５（第一工業製薬社製）を使用した。
臭素含有量：６８質量％
（Ｃ−２）エチレンビスペンタブロモベンゼン
商品名：ＳＡＹＴＥＸ８０１０（アルベマール日本社製）を使用した。
臭素含有量：８２質量％
（Ｃ−３）ベンゼンジオールビス（ジアリールホスフェート）化合物
商品名：ＣＲ−７３３Ｓ（大八化学工業社製）を使用した。
リン含有量１０．５質量％
【００４９】
難燃助剤として、三酸化アンチモンの商品名ＡＴ−３ＣＮ（鈴裕化学社製）を使用した。
【００５０】
ポリフェニレンエーテル系樹脂は、商品名ＰＸ１００Ｆ（三菱エンジニアリングプラスチックス社製、極限粘度０．３８ｄｌ／ｇ）を使用した。
【００５１】
次に、本発明の樹脂組成物の混合方法を述べる。（Ａ）ゴム変性スチレン系樹脂と（Ｂ）シンジオタクチック構造を有するスチレン重合体と（Ｃ）難燃剤と、必要に応じてスチレン系樹脂（ＧＰ）と難燃助剤とポリフェニレンエーテル樹脂とを、表１に示す量にて配合し、これら全成分をヘンシェルミキサー（三井三池化工社製、ＦＭ２０Ｂ）にて予備混合し、二軸押出機（東芝機械社製、ＴＥＭ２６ＳＳ）に供給してストランドとし、水冷してからペレタイザーへ導きペレット化した。この際、シリンダー温度２３０℃、供給量３０ｋｇ／時間とした。
【００５２】
実施例及び比較例に示した各種測定は以下の方法により実施した。
【００５３】
＜分子量＞
数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）、Ｚ平均分子量（Ｍｚ）は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて、次の条件で測定した。
ＧＰＣ機種：昭和電工株式会社製Ｓｈｏｄｅｘ  ＧＰＣ−１０１
カラム：ポリマーラボラトリーズ社製  ＰＬｇｅｌ  １０μｍ  ＭＩＸＥＤ−Ｃ
移動相：クロロホルム
試料濃度：０．２質量％
温度：オーブン４０℃
検出器：示差屈折計
本発明における各成分の分子量測定は、単分散ポリスチレンの溶出曲線より各溶出時間における分子量を算出し、ポリスチレン換算の分子量として算出したものである。
【００５４】
＜結晶融点＞
ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン社ＤＳＣ装置（Ｑ２０００）を用い、窒素気流化、昇温条件１０℃／ｍｉｎで測定した。
【００５５】
＜ビストルク＞
ビストルクの試験片は、得られたペレットを温度７０℃×３時間で加熱乾燥後、射出成形機（日本製鋼所（株）製、Ｊ１００Ｅ−Ｐ）にて、ボス付き試験片を成形した。ボス形状は、外径７．０ｍｍ、内径２．５ｍｍ、高さ１５ｍｍ、穴高さ１０ｍｍ、底厚４ｍｍとした。この際、シリンダー温度２４０℃、金型温度４０℃とした。このボス付き試験片のボス穴に直径３．０ｍｍ、長さ８ｍｍのネジを、トルクドライバー（中村製作所（株）製、２０ＤＰＳＫ）にて挿入し、完全にねじ込んだ後、さらに、このネジに回転力を加えてボスが破壊するまで行い、最大トルクを測定した。
【００５６】
＜シャルピー衝撃強度＞
シャルピー衝撃強度の試験片は、得られたペレットを温度７０℃×３時間で加熱乾燥後、射出成形機（日本製鋼所（株）製、Ｊ１００Ｅ−Ｐ）にて、ＪＩＳ  Ｋ  ７１３９に記載のＡ型試験片（ダンベル）を成形した。この際の成形条件はＪＩＳ  Ｋ  ６９２６−２に準拠して行った。測定はＪＩＳ  Ｋ  ７１１１−１に基づき、エッジワイズ衝撃で、１．０Ｊの錘を用いて行った。
【００５７】
＜燃焼性＞
燃焼性の評価用試験片は、得られたペレットを温度７０℃×３時間で加熱乾燥後、射出成形機（日本製鋼所（株）製、Ｊ１００Ｅ−Ｐ）にて、１２７×１２.７×２．０ｍｍの燃焼用試験片を成形した。この際、シリンダー温度１９０℃、金型温度３０℃とした。米国アンダーライターズ・ラボラトリーズ社のサブジェクト９４号の垂直燃焼試験方法（ＵＬ９４）に基づき、燃焼試験を行った。この試験法でＶ−２、Ｖ−１、Ｖ−０、５Ｖの評価となった場合を合格とし、それ以外を不合格とした。
【００５８】
各配合量と共に評価結果を表１〜３に示す。
【００５９】
【表１】
2015074747.tif 000008
【００６０】
【表２】
2015074747.tif 000009
【００６１】
【表３】
2015074747.tif 000010
【００６２】
実施例より、本発明の規定を満足する物は、難燃性を有し、ビストルクが向上し、尚且つ、シャルピー強度も向上している。
例えば、（Ｂ）シンジオタクチック構造を有するスチレン重合体が０質量部の比較例１よりも、実施例１、２はビストルクが向上し、尚且つ、シャルピー衝撃強度も向上している。さらに、規定量２０質量部を超えている比較例２はビストルクは向上するが、シャルピーの向上が見られない。
また、比較例としてスチレン系樹脂（ＧＰ）では、添加量に比例して、ビストルクは向上するが、シャルピー衝撃強度は低下する。（比較例１、１１、１２）
難燃剤種を変えても、同挙動を示す。（実施例３〜８、比較例３〜８）
【００６３】
（Ｃ）難燃剤が規定量５質量部未満だと、難燃性能が得られない。（比較例９）また、規定量３０質量部を超えると、シャルピー衝撃強度が著しく低下する。（比較例１０）