(57)【要約】【課題】蛋白質等の異物が付着したフィルム基材を用いて位相差フィルムを製造するにあたり、そのフィルム基材上に形成させる配向膜、位相差層等におけるハジキの発生を抑制することができる位相差フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】本発明は、長尺のフィルム基材１１を搬送しながら順次処理することにより、そのフィルム基材１１上に、配向膜１２と、位相差層１３とをこの順に積層して得られる位相差フィルム１の製造方法であって、配向膜１２を形成するための配向膜組成物を塗工する前に、フィルム基材１１に対してオゾン処理を施すことを特徴とする。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺のフィルム基材を搬送しながら順次処理することにより、該フィルム基材上に、配向膜と、位相差層とをこの順に積層して得られる位相差フィルムの製造方法であって、
配向膜を形成するための配向膜組成物を塗工する前に、前記フィルム基材に対してオゾン処理を施すことを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記フィルム基材は、アクリル樹脂からなることを特徴とする請求項１に記載の位相差フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記フィルム基材に対して、紫外線を照射することによりオゾンを発生させて処理することを特徴とする請求項１又は２に記載の位相差フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記紫外線は、アマルガムＵＶランプ、エキシマランプ、低圧水銀ランプのいずれかの光源を用いて照射することを特徴とする請求項３に記載の位相差フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記フィルム基材に対して、オゾン発生装置から発生するオゾンを吹き掛けて処理することを特徴とする請求項１又は２に記載の位相差フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、位相差フィルムの製造方法に関し、より詳しくは、長尺のフィルム基材を搬送しながら順次処理することにより、そのフィルム基材上に、配向膜と、位相差層とをこの順に積層して得られる位相差フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、３次元表示可能なフラットパネルディスプレイが提供されている。３次元画像表示では、例えばパッシブ方式等により、右目用の映像と、左目用の映像とを、それぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供することが必要となる。
【０００３】
パッシブ方式では、画像表示パネルの垂直方向に連続する画素を、順次交互に右目用及び左目用に割り当て、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動し、これにより右目用の映像と左目用の映像とを同時に表示する。また、画像表示パネルのパネル面に位相差フィルムを配置し、右目用及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で方向の異なる円偏光に変換する。これにより、パッシブ方式では、対応する偏光フィルタを備えてなるめがねを装着して、右目用の映像と左目用の映像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供する。
【０００４】
位相差フィルムは、透明フィルム材による基材に配向膜、位相差層（液晶層）が順次設けられる。位相差フィルムは、この位相差層が液晶材料により形成され、この液晶材料の配向を配向膜の配向規制力によりパターンニングする。なお、配向規制力を発揮する配向膜は、例えば特許文献１、２に記載のように種々の作製手法により作製される。そして、このパターンニングにより、位相差フィルムでは、液晶表示パネルにおける画素の割り当てに対応して、一定の幅により右目用の領域と左目用の領域とが順次交互に形成され、右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。
【０００５】
これにより、画像表示装置では、順次入力される画像データにより画像表示パネルを駆動して、奇数ライン及び偶数ラインの画素をそれぞれ右目用及び左目用の画像データにより駆動し、右目用及び左目用の映像を同時に表示する。また、画像表示パネルに配置した偏光フィルタにより画像表示パネルの出射光を直線偏光に変換し、この偏光フィルタに積層されて配置された位相差フィルムにより、偏光フィルタの出射光に右目及び左目に対応する位相差を与える。
【０００６】
ところで、液晶表示装置等の画像表示装置では、画像表示パネルのパネル面に、ハードコート、反射防止、電磁波シールド等を目的とした各種の光学フィルムが設けられている。これらの光学フィルムでは、透明フィルムによる基材の表面に、目的とする機能に応じた各種の機能層が設けられ、さらに上下の層との貼り合わせを目的として粘着層（接着剤層）が設けられる。ここで、接着剤層は、例えば基材の全面に接着剤を塗布して作製され、光学フィルムを所望の対象に貼り付けるために設けられる。これにより、上述した光学フィルムは、画像表示装置の製造過程において、粘着剤層によりパネル面に貼り付けて保持される。
【０００７】
さて、このような光学フィルムでは、そのフィルムにより構成される基材において、何らかの原因で人間の皮脂（例えば２０〜３０μｍ程度）等の異物が付着する場合がある。このような場合、光学フィルムの作製に必要な配向膜、位相差層（液晶層）を塗工し、さらにプライマー層やＵＶ接着剤等の接着剤層を塗工すると、その表面自由エネルギーの違いから、それぞれの層においてハジキが発生する。このようなハジキは、目視できる程度の直径（例えば３００μｍ程度）となり、製品としては欠陥となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００５−４９８６５号公報
【特許文献２】特開２０１０−１５２２９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、このような実情に鑑みて提案されたものであり、蛋白質等の異物が付着したフィルム基材を用いて位相差フィルムを製造するにあたり、そのフィルム基材上に形成させる配向膜、位相差層等におけるハジキの発生を抑制することができる位相差フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、上述した課題を解決するための鋭意検討を重ねた。その結果、フィルム基材に配向膜を形成させるための配向膜組成物を塗工するに先立ち、そのフィルム基材に対して、所定のオゾン処理を施すことによって、蛋白質等の異物が付着したフィルム基材の表面の濡れ性を改善させ、基材上に形成される層におけるハジキの発生を抑制することができることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明は以下のものを提供する。
【００１１】
（１）本発明は、長尺のフィルム基材を搬送しながら順次処理することにより、該フィルム基材上に、配向膜と、位相差層とをこの順に積層して得られる位相差フィルムの製造方法であって、配向膜を形成するための配向膜組成物を塗工する前に、前記フィルム基材に対してオゾン処理を施すことを特徴とする位相差フィルムの製造方法である。
【００１２】
（２）また本発明は、（１）に係る発明において、前記フィルム基材が、アクリル樹脂からなることを特徴とする位相差フィルムの製造方法である。
【００１３】
（３）また本発明は、（１）又は（２）に係る発明において、前記フィルム基材に対して、紫外線を照射することによりオゾンを発生させて処理することを特徴とする位相差フィルムの製造方法である。
【００１４】
（４）また本発明は、（３）に係る発明において、前記紫外線は、アマルガムＵＶランプ、エキシマランプ、低圧水銀ランプのいずれかの光源を用いて照射することを特徴とする位相差フィルムの製造方法である。
【００１５】
（５）また本発明は、（１）又は（２）に係る発明において、前記フィルム基材に対して、オゾン発生装置から発生するオゾンを吹き掛けて処理することを特徴とする位相差フィルムの製造方法である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、蛋白質等の異物が付着したフィルム基材の表面を改質して濡れ性を改善することができるので、そのフィルム基材上に形成させる配向層、位相差層、さらには接着剤層等を形成した場合においても、各層におけるハジキの発生を有効に抑制することができ、位相差フィルムの外観不良の発生を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】位相差フィルムの断面図である。
【図２】位相差フィルムに偏光子を貼り付けた光学フィルムを示す断面図である。
【図３】フィルム基材上に付着した蛋白質等の異物により、配向層、位相差層、さらにプライマー層、接着剤層にハジキが生じている様子を模式的に示す図である。
【図４】位相差フィルムの製造装置の一例を示す図である。
【図５】製造装置における第１露光部及び第２露光部の説明に供する図である。
【図６】位相差層のパターンを模式的に示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の具体的な実施形態（以下、「本実施の形態」という）について、図面を参照しながら以下の順で詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲で種々の変更が可能である。
１．位相差フィルムの製造方法の概要
２．位相差フィルムの構成
３．位相差フィルムの製造方法について
３−１．フィルム基材のオゾン処理（前処理）
３−２．位相差フィルムの製造装置
【００１９】
≪１．位相差フィルムの製造方法の概要≫
図１は、本実施の形態に係る位相差フィルム１の断面図である。図１に示すように、位相差フィルム１は、例えばアクリル樹脂等からなる長尺のフィルム基材（以下、単に「基材」ともいう）１１上に配向膜１２が形成され、この配向膜１２上に位相差層形成用の重合性液晶組成物を塗工することによって位相差層（液晶層）１３が形成されてなる。
【００２０】
このような位相差フィルム１では、基材１１上に形成した位相差層１３が、ＵＶ接着剤等の接着剤層を介して偏光子に貼り合せられて又は転写されて、位相差フィルム１に偏光子が貼合した光学フィルムが形成される。具体的に、図２は、その光学フィルム２の一例を示す断面図である。この図２に示すように、光学フィルム２は、位相差フィルム１にＵＶ接着剤等の接着剤層２０を介して偏光子２１が貼り合わされてなる。
【００２１】
ここで、位相差フィルム１においては、配向膜、位相差層等を支持するフィルム基材に何らかの原因で人間の皮脂（例えば２０μｍ〜３０μｍ程度（幅方向））等の異物が付着することがある。このような場合、その基材上に配向膜組成物、液晶組成物を塗工し、さらに形成された位相差層上にプライマー層を形成させる塗工液、接着剤層を形成させる塗工液を塗工していくと、その表面自由エネルギーの違いから、塗工液を均一に塗工することができずに下層が露出してしまう、いわゆる「ハジキ」が発生する。図３は、アクリル樹脂等からなるフィルム基材上に付着した蛋白質等の異物により、配向膜、位相差層、さらにプライマー層、接着剤層にハジキが生じている様子を模式的に示す図である。
【００２２】
この図３に示すように、フィルム基材上に付着した異物は、例えば目視できる程度の直径（例えば３００μｍ程度）を有し、その高さ方向の大きさも３μｍ〜４μｍ程度である。このように基材上に付着した異物に起因してハジキが発生すると、そのハジキが生じた部分の位相差が小さくなり、欠点等を発生させて外観不良を引き起こし、製品としては欠陥となる。また、このようなハジキの発生は、位相差フィルムの歩留まりを低下させることにもなる。通常フィルムでは、微粘着ロール等によって基材上に付着した異物を除去するが、その場合、微粘着ロールから粘着成分が基材に転写してしまうことがあり、その結果として位相差フィルムの配向性を悪化させるという不具合が生じる。
【００２３】
そこで、本実施の形態においては、長尺のフィルム基材を搬送しながら順次処理することにより、そのフィルム基材上に、配向膜と、位相差層とをこの順に積層して得られる位相差フィルムの製造方法において、配向膜を形成するための配向膜組成物を塗工する前に、そのフィルム基材に対してオゾン処理を施すことを特徴とする。
【００２４】
詳しくは後述するが、オゾン処理としては、例えば、低波長域（例えば２４０ｎｍ以下）に発光波長を有する紫外線をフィルム基材に照射することによりオゾンを発生させて処理する方法が挙げられる。このようなオゾン処理によれば、発生したオゾンにより、皮脂等の異物が付着したフィルム基材の表面改質を行うことができ、その表面の濡れ性を変化させることができる。これにより、そのフィルム基材上に配向膜や位相差層等を形成させても、それら層におけるハジキの発生を抑制することができる。また、この紫外線を照射するオゾン処理によれば、フィルム基材に付着した皮脂等の蛋白質の二重結合（例えばＣ＝Ｏ、Ｃ＝Ｃ等）を分解させることもでき、そして発生したオゾンによって揮発させて除去することができる。
【００２５】
また、その他の方法として、オゾン発生装置から発生させたオゾンをフィルム基材に吹き掛けて処理する方法が挙げられる。このようなオゾン処理によれば、紫外線照射と同様に、吹き掛けたオゾンにより、皮脂等の異物が付着したフィルム基材の表面改質を行うことができ、その表面の濡れ性を変化させることができる。これにより、皮脂等が付着したままの状態であっても、そのフィルム基材上に形成した配向膜や位相差層等におけるハジキの発生を抑制することができる。
【００２６】
このように、本実施の形態に係る位相差フィルムの製造方法においては、配向膜を形成するための配向膜組成物を塗工する前に、フィルム基材に対してオゾン処理を施すことにより、フィルム基材表面の濡れ性を改善することができ、そのフィルム基材上に付着した異物に起因するハジキの発生を効果的に防ぐことができる。
【００２７】
また、この位相差フィルムの製造方法によれば、上述のようにしてフィルム基材に対して洗浄処理を施すことによって、そのフィルム基材の表面が改質され、フィルム基材とそのフィルム基材上に形成する配向膜との密着性を向上させることができる。
【００２８】
≪２．位相差フィルムの構成≫
より具体的な本実施の形態に係る位相差フィルムの製造方法の説明に先立ち、先ずは、図１及び図２に一例を示した位相差フィルムの構成について簡単に説明する。
【００２９】
（１）基材（フィルム基材）
基材１１は、透明フィルム材であり、配向膜１２を支持する機能を有し、長尺に形成されている。基材１１は、位相差が小さいことが好ましく、面内位相差（面内レターデーション値（Ｒｅ値））が、０ｎｍ〜１０ｎｍの範囲内であることが好ましく、０ｎｍ〜５ｎｍの範囲内であることがより好ましく、０ｎｍ〜３ｎｍの範囲内であることがさらに好ましい。Ｒｅ値が１０ｎｍを超えると、例えばパターン配向膜を用いたフラットパネルディスプレイの表示品質が悪くなる可能性がある点で好ましくない。
【００３０】
基材１１を構成するフィルム材としては、ロール状に巻き取ることができる可撓性を有するフレキシブル材であることが好ましい。このようなフレキシブル材としては、例えば、アクリル系ポリマー（アクリル樹脂）、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン、トリアセチルセルロース等を挙げることができる。
【００３１】
なお、これらのようなフィルム基材の中でも、アクリル樹脂からなる基材の場合は特に、蛋白質等の異物が付着しやすい。本実施の形態に係る位相差フィルムの製造方法においては、このようなアクリル基材等であっても好適に用いることができ、ハジキの発生を抑制しながら位相差フィルムを製造することができる。
【００３２】
基材１１の厚みとしては、特に限定されないが、例えば２０μｍ〜２００μｍの範囲内とすることが好ましい。基材１１の厚さが２０μｍ未満であると、位相差フィルムとして最低限必要な自己支持性を付与できない場合があり好ましくない。一方で、厚さが２００μｍを超えると、位相差フィルムが長尺状である場合に、長尺状の位相差フィルムを裁断加工して枚葉の位相差フィルムとするにあたって、加工屑が増加したり、裁断刃の磨耗が早くなってしまうことがあり好ましくない。
【００３３】
基材１１は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。
【００３４】
（２）配向膜
配向膜１２は、基材１１上に配向膜用組成物（配向膜組成物）を塗布（塗工）して硬化させて得られた硬化物からなる。この配向膜１２は、特に限定されないが、例えば、偏光照射により光配向性を発揮する光配向材料を用い光照射によって配向させる光配向方式により形成することができる。
【００３５】
なお、配向膜１２は、パターン状に形成したパターン配向膜であっても、基材１１上にベタ状に形成したベタ膜であってもよい。パターン配向膜とする場合、その配向パターンは、例えば、凹凸形状を有するロールで圧延し、その凹凸形状を転写するラビング処理によって形成されてもよいし、上述のように偏光照射により光配向性を発揮する光配向材料を用いて光照射によって配向させる光配向方式によって形成されてもよい。ラビング処理によってパターン配向膜を形成する場合、配向膜（パターン配向膜）１２は、広く一般に用いられるエネルギー線硬化性樹脂（紫外線硬化樹脂等）を含有するものであればどのようなものであってもよい。
【００３６】
例えば光配向方式によって配向膜（光配向膜）１２を形成する場合、配向膜１２は配向膜組成物を含有する。この配向膜組成物は、偏光照射により光配向性を発揮する光配向材料と、この光配向材料を溶かす溶媒とを含有する。
【００３７】
（光配向材料）
光配向材料とは、偏光紫外線の照射により配向規制力を発現できる材料をいう。配向規制力とは、光配向材料を含む配向膜を形成し、この配向膜上に液晶化合物（位相差層形成用の重合性液晶組成物）からなる層を形成したとき、液晶化合物を所定の方向に配列させる機能をいう。
【００３８】
光配向材料としては、偏光を照射することにより配向規制力を発現するものであれば特に限定されるものではない。このような光配向材料は、シス−トランス変化によって分子形状のみを変化させて配向規制力を可逆的に変化させる光異性化材料と、偏光を照射することにより分子そのものを変化させる光反応材料とに大別することができる。本実施の形態においては、光異性化材料及び光反応材料のいずれであっても好適に用いることができるが、不可逆的に配向規制力を発現することが可能となり、配向規制力の経時安定性において優れる点で光反応材料を用いることがより好ましい。光反応材料の中でも、安定性及び反応性（感度）等の点から光二量化型材料を用いることがより好ましい。
【００３９】
なお、光二量化型材料として、シンナメート、クマリン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、マレインイミド、又はシンナミリデン酢酸誘導体を有するポリマーが挙げられる。その中でも、配向規制力が良好である点で、シンナメート、クマリンの一方又は両方を有するポリマーが好ましく用いられる。なお、光配向材料は、１種類のみであってもよく、２種類以上を混合させて用いてもよい。
【００４０】
（溶媒）
配向膜組成物に用いる溶媒としては、上述した光配向材料を所望の濃度に溶解できるものであれば特に限定されるものでなく、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、シクロヘキサン等のアノン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒を例示することができる。また、溶媒は、１種類単独であってもよいし、２種類以上の混合溶媒であってもよい。
【００４１】
また、溶媒の量としては、特に限定されないが、光配向材料１００質量部に対して６００質量部〜３９００質量部程度であることが好ましい。溶媒の量が６００質量部未満であると、光配向材料を均一に溶かすことができない可能性がある。一方で、溶媒の量が３９００質量部を超えると、溶媒の一部が残存し、基材上に配向膜組成物を塗工したときに、その残存した溶媒が基材に浸透してしまい、その結果として、光配向性と、基材に対する密着性との両方が低下する可能性がある。
【００４２】
配向膜１２の厚さとしては、後述する液晶化合物（位相差層形成用の重合性液晶組成物）に対して所望の配向規制力を発現できる範囲内であれば特に限定されないが、５０ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲内であることが好ましい。配向膜１２の厚さが５０ｎｍ未満であると、液晶化合物に対して所望の配向規制力を発現できない可能性がある。一方で、厚さが１０００ｎｍを超えると、密着性が低減する可能性がある。
【００４３】
（３）位相差層（液晶層）
位相差層（液晶層）１３は、重合性液晶組成物を含有する。この重合性液晶組成物は、液晶性を示し分子内に重合性官能基を有する液晶化合物（棒状化合物）を含有する。
【００４４】
液晶化合物は、屈折率異方性を有し、規則的に配列することにより所望の位相差性を付与する機能を有する。液晶化合物としては、例えば、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を示す材料が挙げられるが、他の液晶相を示す液晶化合物と比較して規則的に配列させることが容易である点で、ネマチック相の液晶性を示す材料を用いることが好ましい。また、上述した配向膜１２を垂直配向膜からなるものとし、液晶化合物をホメオトロピック配向させる場合には、ホメオトロピック配向を形成することができるホメオトロピック液晶材料であれば特に限定されない。
【００４５】
液晶化合物は、上述したように分子内に重合性官能基を有する重合性液晶化合物である。重合性官能基を有することにより、液晶化合物を重合して固定することが可能になるため、配列安定性に優れ、位相差性の経時変化が生じにくくなる。また、重合性液晶化合物は、分子内に三次元架橋可能な重合性官能基を有することがより好ましい。三次元架橋可能な重合性官能基を有することで、配列安定性をより一層高めることができる。なお、「三次元架橋」とは、液晶性分子を互いに三次元に重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることをいう。重合性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の電離放射線、あるいは熱の作用によって重合するものを挙げることができ、より具体的には、ラジカル重合性官能基、カチオン重合性官能基等が挙げられる。
【００４６】
重合性液晶化合物の量としては、配向膜１２上に塗工する塗工方法に応じて、位相差層形成用塗工液（液晶組成物）の粘度を所望の値に調整できれば特に限定されないが、例えば、液晶組成物中の量として５質量部〜４０質量部程度の範囲内とすることができる。なお、重合性液晶化合物は、１種単独で又は２種以上を混合して用いることができる。
【００４７】
上述した液晶化合物は、通常、溶媒（希釈溶媒）に溶かされている。溶媒としては、液晶化合物等を均一に分散できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、シクロヘキサン等のアノン系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶媒を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、溶媒は、１種類単独であってもよく、２種類以上の混合溶媒であってもよい。
【００４８】
また、溶媒の量としては、特に限定されるものではなく、例えば液晶化合物１００質量部に対して６６質量部〜９００質量部程度とすることができる。溶媒の量が６６質量部未満であると、液晶化合物を均一に溶かすことができない可能性がある。一方で、９００質量部を超えると、溶媒の一部が残存して信頼性が低下する可能性があり、また均一に塗工することができない可能性がある。
【００４９】
その他、液晶組成物には、上述した液晶化合物の配列秩序を害するものでなければ、必要に応じて他の化合物を含んでもよい。例えば、重合禁止剤、可塑剤、界面活性剤、及びシランカップリング剤等を挙げることができる。
【００５０】
上述したような液晶組成物を配向膜１２上に塗工して形成される位相差層１３の厚さとしては、特に限定されないが、適切な配向性能を得るためには、５００ｎｍ〜２０００ｎｍ程度であることが好ましい。
【００５１】
≪３．位相差フィルムの製造方法について≫
＜３−１．フィルム基材のオゾン処理（前処理）＞
さて、上述したように、位相差フィルムを構成するフィルム基材においては、何らかの原因で人間の皮脂等の蛋白質といった異物が付着することがある。このような場合、その基材上に配向膜組成物、液晶組成物を塗工し、さらに形成された位相差層上にプライマー層を形成させる塗工液、接着剤層を形成させる塗工液を塗工していくと、その表面自由エネルギーの違いから、それぞれの層においてハジキが発生する（図３の模式図参照）。このような基材上に付着した異物に起因するハジキの発生は、その部分の位相差を小さくし、欠点等を発生させて外観不良を引き起こし、製品としては欠陥となる。
【００５２】
そこで、本実施の形態に係る位相差フィルムの製造方法では、フィルム基材１１上に配向膜１２を形成するための配向膜組成物を塗工するに先立って、そのフィルム基材に対してオゾン処理を施すようにする。具体的には、低波長域に発光波長を有する紫外線をフィルム基材に照射することによりオゾンを発生させて処理する方法や、オゾン発生装置から発生するオゾンをフィルム基材に吹き掛けて処理する方法が挙げられる。
【００５３】
（１）紫外線照射によるオゾン処理
第１の態様として、低波長域に発光波長を有する紫外線をフィルム基材１１に照射することによりオゾンを発生させて処理する方法を用いることができる。具体的には、例えば波長（発光波長）が２４０ｎｍ以下の紫外線（ＵＶ）を照射する光源（ランプ）を、フィルム基材１１の搬送経路上に設置して、配向膜１２を形成するための配向膜組成物を塗工する前のフィルム基材１１に対して万遍なく照射するようにする。
【００５４】
波長が２４０ｎｍ以下の紫外線を照射する光源としては、特に限定されないが、例えば、アマルガムＵＶランプ、エキシマランプ、低圧水銀ランプ等を挙げることができる。
【００５５】
紫外線の照射量としては、その紫外線照射により酸素分子を酸素原子に分解しオゾンを有効に発生させることができれば特に限定されないが、例えば、１２００ｍＪ／ｃｍ２〜４８００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であることが好ましく、３０００ｍＪ／ｃｍ２〜４８００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であることがより好ましい。
【００５６】
また、紫外線の照射距離、すなわち、紫外線の照射を受ける長尺のフィルム基材１１の搬送方向の距離としては、例えば上述したような照射量とすることができれば特に限定されず、ライン速度等に応じて適宜設定することができる。照射距離が短い場合には、オゾンの発生が不十分となり、フィルム基材１１の表面改質を効果的に行うことができない可能性がある。なお、照射距離を長くする方法としては、紫外線の照射幅が長い光源を用いることや、紫外線照射の光源をフィルム基材１１の搬送方向に複数連続的に配置することにより、搬送方向に搬送されるフィルム基材１１に対して紫外線照射面積を大きくする方法を挙げることができる。
【００５７】
このような、例えば波長が２４０ｎｍ以下である紫外線をフィルム基材１１に照射することによりオゾンを発生させて処理する方法によれば、フィルム基材１１の表面改質を行うことができ、その表面の濡れ性を改善することができる。これにより、そのフィルム基材１１上に配向膜１２や位相差層１３等を形成させても、濡れ性の改善効果から、それらの層におけるハジキの発生を効果的に抑制することができる。また、このような紫外線照射処理では、薬液等を用いない処理であることから、極めて簡便な処理となり、さらにフィルム基材１１に対して非接触の状態で処理を行うことができるので、配向膜１２や位相差層１３等を形成して光学フィルム２を作製する上で、フィルム基材１１の表面の損傷による配向性等の光学特性の低下をもたらすことがない。
【００５８】
また、この紫外線の照射によるオゾン処理によれば、フィルム基材１１に付着した皮脂等の蛋白質からなる異物を有効に分解除去することもできる。すなわち、例えば２４０ｎｍの波長を有する紫外線を照射することによって、皮脂等の蛋白質（有機物質）における二重結合（例えばＣ＝Ｏ、Ｃ＝Ｃ）を分解させることもできる。例えば、Ｃ＝Ｏの二重結合は、およそ１８０ｎｍ付近の紫外線照射により分解することができ、Ｃ＝Ｃの二重結合は、およそ２００ｎｍ付近の紫外線照射により分解することができる。そして、分解した有機物は、紫外線照射により発生したオゾンによって揮発させることができ、これによりフィルム基材１１の表面から有効に異物を除去することができる。
【００５９】
（２）オゾン発生装置から発生させたオゾンに吹き掛けによるオゾン処理
また、第２の態様として、オゾン発生装置から発生させたオゾンをフィルム基材１１に吹き掛けて処理する方法を用いることができる。具体的には、所定のオゾン発生量、オゾン濃度のオゾンを発生させるオゾン発生機と、例えば幅１ｍ〜２ｍ程度、高さ５０ｍｍ〜１００ｍｍ程度の吹き出し口とを備えるオゾン発生装置を、フィルム基材１１の搬送経路上に設置して、配向膜１２を形成するための配向膜組成物を塗工する前のフィルム基材１１に対して万遍なく吹き掛けるようにする。
【００６０】
オゾン発生装置としては、特に限定されず、一般的に市販されているものを用いることができる。また、オゾン発生量としては、搬送されるフィルム基材１１に対して十分なオゾンを吹き掛けることができれば特に限定されないが、例えば、１００ｇ／ｈ〜３０００ｇ／ｈとすることが好ましく、５００ｇ／ｈ〜２０００ｇ／ｈとすることがより好ましく、１０００ｇ／ｈ〜１５００ｇ／ｈとすることが特に好ましい。
【００６１】
また、オゾン濃度についても、吹き掛けたオゾンによって後述するようにフィルム基材１１の表面が有効に改質されれば特に限定されないが、例えば、１０ｇ／ｍ３〜２００ｇ／ｍ３とすることが好ましく、２０ｇ／ｍ３〜１２０ｇ／ｍ３とすることがより好ましい。
【００６２】
このような、オゾン発生装置から発生させたオゾンをフィルム基材１１に吹き掛けて処理する方法によれば、フィルム基材１１の表面改質を行うことができ、その表面の濡れ性を改善することができる。これにより、そのフィルム基材１１上に配向膜１２や位相差層１３等を形成させても、濡れ性の改善効果から、それら層におけるハジキの発生を効果的に抑制することができる。また、このようなオゾンの吹き掛けによる処理では、薬液等を用いない処理であることから、極めて簡便な処理となり、さらにフィルム基材１１に対して非接触の状態で処理を行うことができるので、配向膜１２や位相差層１３等を形成して光学フィルム２を作製する上で、フィルム基材１１の表面の損傷による配向性等の光学特性の低下をもたらすことがない。
【００６３】
以上のように、第１の態様及び第２の態様で示したようなオゾン処理をフィルム基材１１に対する前処理とした本実施の形態に係る位相差フィルムの製造方法によれば、そのオゾン処理によって、フィルム基材１１の表面の濡れ性を改善することができ、そのフィルム基材１１上に配向膜組成物や液晶組成物、さらにはプライマー層や接着剤層を形成するための組成物を塗工した場合でも、その基材１１上に形成された各層におけるハジキの発生を効果的に防ぐことができる。
【００６４】
また、上述したようなフィルム基材１１に対するオゾン処理による副次的な効果として、フィルム基材１１とそのフィルム基材１１上に形成する配向膜１２との密着性を高めることができる。このことは、オゾン処理によりフィルム基材１１の表面が改質されることによるものと考えられる。
【００６５】
＜３−２．位相差フィルムの製造装置＞
ここで、本実施の形態に係る位相差フィルムの製造方法に用いられる製造装置について説明する。図４は、位相差フィルムの製造装置３の一例を示す図である。この製造装置３は、アクリル樹脂等からなる長尺のフィルム基材１１を搬送しながら順次処理して位相差フィルムを製造するものである。
【００６６】
具体的に、この製造装置３は、フィルム基材１１を提供する基材提供部３０と、フィルム基材１１に配向膜組成物を塗工して配向膜１２を形成する配向膜形成部３２と、基材１１の流れ方向に沿った所定形状の第１マスクを介して第１偏光を露光して第１配向領域を形成する第１露光部３３と、流れ方向に沿った所定形状の第２マスクを介して第１偏光とは異なる第２偏光を露光して第２配向領域を形成する第２露光部３４と、配向膜１２上に対して位相差層形成用組成物（液晶組成物）１３’を塗工する位相差層形成用組成物塗工部３５と、位相差層形成用組成物１３’から位相差層１３を形成する位相差層形成部３６と、位相差層１３を形成した後のフィルムを巻き取る巻き取り部３７とを備える。
【００６７】
そして、本実施の形態においては、基材提供部３０の後段であって配向膜形成部３２の前段に、フィルム基材１１に対してオゾン処理を施すためのオゾン処理部３１を備えていることを特徴としている。このオゾン処理部３１において、上述したように、配向膜組成物等の塗工液を塗工するに先立ち、フィルム基材１１の表面に対してオゾン処理を施し、その表面の改質を行って濡れ性を改善させるようにしている。
【００６８】
［基材提供部３０］
基材提供部３０は、ロールに巻き取った長尺フィルムから基材１１を提供する。基材提供部３０は、長尺フィルムを連続的に搬送することができれば特に限定されず、一般的な搬送手段を用いることができる。また、所定のテンションを加えた状態で搬送されることが好ましい。具体的には、ロール状の長尺フィルムを供給する巻き出し機及び長尺フィルムを巻き取る巻き取り機、ベルトコンベア、搬送用ロール等を用いることができる。また、エアの吐出と吸引とを行うことにより、長尺配向膜形成用フィルムを浮上させた状態で搬送する浮上式搬送台を用いもよい。
【００６９】
［オゾン処理部３１］
オゾン処理部３１は、フィルム基材１１に対して配向膜１２を形成させるための配向膜組成物を塗工する前に、そのフィルム基材１１に対してオゾン処理を施すものである。このオゾン処理により、フィルム基材１１の表面を改質させ、その表面に付着した蛋白質等の異物に起因するハジキの発生を抑制する。
【００７０】
図４においては、このオゾン処理部３１として、上述した第１の態様（１）のオゾン処理である、紫外線照射によるオゾン処理を行う場合の例を示している。すなわち、このオゾン処理部３１では、例えば波長が２４０ｎｍ以下の紫外線（ＵＶ）を照射する光源（ランプ）３１Ａをフィルム基材１１の搬送経路上に設置して、配向膜形成部３２にて配向膜組成物を塗工する前のフィルム基材に対して万遍なく照射するようにする。
【００７１】
図４に示すように、本実施の形態においては、オゾン処理部３１に紫外線照射光源３１Ａをフィル基材１１の搬送方向に４セット連続的に配置している。また、そのフィルム基材１１の表（おもて）面、裏（うら）面の両方に万遍なく紫外線を照射可能とするために、フィルム基材１１を介して上段、下段にそれぞれ４セットずつ紫外線照射光源３１Ａを配置している。このようにして、フィルム基材１１の搬送方向に複数連続的に光源３１Ａを配置させ、またフィルム基材１１に対して上下に複数セットの光源３１Ａを配置させることによって、紫外線の照射距離を長くし、紫外線照射面積を大きくすることができる。これにより、より効果的にフィルム基材１１の表面改質を行うことができる。
【００７２】
このような構成からなるオゾン処理部３１では、上述したように、搬送されたフィルム基材１１に対して紫外線を照射してオゾン処理を施すことで、フィルム基材１１の表面改質を行うようにすることができる。これにより、フィルム基材１１の表面の濡れ性を改善させることができる。
【００７３】
なお、図４では、オゾン処理部３１内に紫外線照射光源３１Ａを複数個設置し、紫外線照射によるオゾン処理を行う例を示しているが、オゾン処理部３１内に１セット又は複数セットのオゾン発生装置を設置して、上述した第２の態様（２）のオゾン処理である、オゾン発生装置から発生させたオゾンの吹き掛けによるオゾン処理を行うようにしてよい。このような態様においても、そのオゾン処理部３１にて、搬送されたフィルム基材１１の表面改質を行うことができ、その表面の濡れ性を改善させることができる。
【００７４】
［配向膜形成部３２］
配向膜形成部３２は、提供された基材１１に対して例えば光配向膜形成用の配向膜組成物を塗工して配向膜（光配向膜）１２を形成する。上述したように、配向膜組成物は、例えば、偏光照射により光配向性を発揮する光配向材料と、この光配向材料を溶かす溶媒とを含有する。
【００７５】
配向膜形成部３２では、例えば、グラビアコートの手法を適用して基材１１上に配向膜組成物を塗工するが、これに限られない。具体的には、グラビアコート法のほか、リバースコート法、ナイフコート法、ディップコート法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、ロールコート法、プリント法、浸漬引き上げ法、カーテンコート法、ダイコート法、キャスティング法、バーコート法、エクストルージョンコート法、Ｅ型塗布方法等により塗工するものであってもよい。
【００７６】
基材１１に対して配向膜組成物を塗布する厚さとしては、所望の平面性を達成できる範囲内であれば特に限定されないが、０．０３μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、０．０３μｍ〜５μｍの範囲内であることがより好ましく、０．０５μｍ〜３μｍの範囲内であることがさらに好ましい。
【００７７】
［第１露光部３３及び第２露光部３４］
第１露光部３３は、光配向膜形成後の基材１１を流れ方向に連続又は不連続に移動して、流れ方向に沿ったストライプ状の第１マスクを介して第１偏光を露光してストライプ状の第１配向領域を形成する。また、第２露光部３４は、流れ方向に沿ったストライプ状の第２マスクを介して第１偏光とは異なる第２偏光を露光して第１配向領域の間にストライプ状の第２配向領域を形成する。
【００７８】
第１露光部３３及び第２露光部３４について、図５を参照しながら説明する。先ず、図５（Ａ）に示すように、右目用の領域に対応する第１配向準備領域１２’Ａを遮光せず、左目用の領域に対応する第２配向準備領域１２’Ｂだけを遮光した第１マスク４１を介して、直線偏光による紫外線（偏光紫外線）を光配向膜形成用層１２’に向けて照射する。これにより、遮光されていない第１配向準備領域１２’Ａを所望の方向に配向させる。続いて、図５（Ｂ）に示すように、左目用の領域に対応する第１配向準備領域１２’Ｂを遮光せず、右目用の領域に対応する第２配向準備領域１２’Ａだけを遮光した第２マスク４２を介して、直線偏光による紫外線（偏光紫外線）を光配向膜形成用層１２’に向けて照射する。これにより、遮光されていない第２配向準備領域１２’Ｂを所望の方向に配向させる。これら２回の紫外線照射により、２種類の配向パターンが形成される。なお、この例では、第１配向準備領域１２’Ａに偏光紫外線を照射し、その後、第２配向準備領域１２’Ｂに偏光紫外線を照射しているが、この順番に限るものではない。
【００７９】
なお、マスク４１，４２を構成する材料としては、所望の開口部を形成できるものであれば特に限定されないが、紫外線による劣化がほとんどない金属や石英等を挙げることができる。具体的には、ＳＵＳ等の金属基板をエッチング加工、レーザー加工、又は電鋳加工によりパターンニングし、さらに必要に応じてニッケルメッキ等の表面処理を施したものを用いることができる。
【００８０】
偏光紫外線の偏光方向は、右目用の領域に対応する領域に対する偏光方向と、左目用の領域に対応する領域に対する偏光方向とが異なるものであれば特に限定されないが、両者の間で９０°異なるものであることが好ましい。
【００８１】
偏光紫外線は、集光されていてもよく、集光されていないものであってもよいが、パターン照射が搬送用ロール上の長尺フィルムに対して行われるような場合、すなわち、偏光紫外線が照射される領域内で、偏光紫外線の光源からの距離の差が生じる場合には、搬送方向に対して集光されていることが好ましい。偏光紫外線の波長は、使用する光配向材料等に応じて適宜設定されるものであり、一般的な光配向材料に配向規制力を発現させる際に用いられる波長とすることができ、具体的には、波長が２１０ｎｍ〜３８０ｎｍ、好ましくは２３０ｎｍ〜３８０ｎｍ、さらに好ましくは２５０ｎｍ〜３８０ｎｍの照射光を用いることができる。
【００８２】
紫外線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）、ショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）等を例示することができる。その中でも、メタルハライドランプ、キセノンランプ、高圧水銀ランプ灯等を好ましく用いることができる。
【００８３】
本実施の形態において、１回目の露光時と２回目の露光時との両方においてマスク４１，４２を用いているため、１回目の露光時における偏光紫外線の照射量と、２回目の露光時における偏光紫外線の照射量とは同じであることが好ましい。照射量を同じにすることで、配向領域ごとの配向膜１２の配向規制力の程度を同じにすることができる。偏光紫外線の照射量は、所望の配向規制力を有する配向領域を形成できる必要があり、波長３１０ｎｍである場合、５ｍＪ／ｃｍ２〜５００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であることが好ましく、５ｍＪ／ｃｍ２〜３００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であることがより好ましく、５ｍＪ／ｃｍ２〜１００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内であることがさらに好ましい。
【００８４】
また、薄膜に対して偏光紫外線を照射する際、薄膜の温度が一定となるように温度調節することが好ましい。これにより、配向領域を精度良く形成することができる。薄膜の温度は、１５℃〜９０℃であることが好ましく、１５℃〜６０℃であることがより好ましい。温度調節の方法としては、一般的な加熱・冷却装置等の温度調節装置を用いる方法を挙げることができる。
【００８５】
［位相差層形成用組成物塗工部３５］
位相差層形成用組成物塗工部３５は、露光後の配向膜（光配向膜）１２上に対して、位相差層１３の形成に供する位相差層形成用組成物（液晶組成物）１３’を塗工する。上述したように、位相差層形成用組成物（液晶組成物）１３’は、液晶性を示し分子内に重合性官能基を有する液晶化合物を含んでいる。液晶化合物は、屈折率異方性を有し、光配向材料に偏光紫外線を照射することで発現される配向パターンに沿って規則的に配列することにより、所望の位相差性を付与する機能を有する。
【００８６】
位相差層形成用組成物塗工部３５では、供給装置から位相差層形成用組成物１３’を配向膜１２上に塗工する。具体的な塗工の方法としては、配向膜１２上に位相差層形成用組成物１３’からなる塗膜を安定的に形成できる方法であれば特に限定されない。
【００８７】
［位相差層形成部３６］
位相差層形成部３６は、位相差層形成用組成物１３’の層厚を均一にするレベリング部５１と、位相差層形成用組成物１３’の塗膜に含まれる液晶化合物を液晶相形成温度以上に加温する乾燥部５２と、その液晶化合物にエネルギー線を照射する第３露光部５３とを備える。
【００８８】
レベリング部５１は、位相差層形成用層の層厚を均一にする。位相差層形成用組成物１３’からなる位相差層形成用層の厚さは、その後に形成される位相差層１３の面内位相差がλ／４分に相当するような範囲内となるように塗布することが好ましい。これにより、後で示す図６のように、第１位相差領域１３Ａ及び第２位相差領域１３Ｂを通過する直線偏光を、互いに直交関係にある円偏光にすることができる。
【００８９】
乾燥部５２は、位相差層形成用組成物１３’の塗膜に含まれる液晶化合物を液晶相形成温度以上に加温し、配向膜（光配向膜）１２に含まれる第１配向領域及び第２配向領域の異なる配向方向に沿って、液晶化合物を配列させる。
【００９０】
図６は、この製造装置３を用いて形成される位相差層１３のパターンを模式的に示した図である。位相差フィルム１は、透明フィルム材による基材１１上に、配向膜（光配向膜）１２、位相差層１３が順次形成されてなる。位相差層１３のパターンは、配向膜１２のパターンと同一となり、第１配向領域上には第１位相差領域１３Ａが形成され、第２配向領域上には第２位相差領域１３Ｂが形成される。
【００９１】
乾燥部５２により液晶化合物を液晶相形成温度以上に加温する際、液晶化合物が所望の方向に配列されるだけでなく、位相差層形成用組成物１３’の塗膜が乾燥される。塗膜の乾燥は、残留する溶媒量に応じて適宜調整すればよいが、塗膜に当てる乾燥風の風速は、３ｍ／秒以下であることが好ましく、特に２ｍ／秒以下であることが好ましい。また、温度条件としては、使用した液晶の液晶→等方相転移温度にもよるが、４０℃〜１５０℃程度の範囲内であることが好ましく、５０℃〜１２０℃程度の範囲内であることがより好ましく、５５℃〜１１０℃程度の範囲内であることが特に好ましい。また、乾燥時間としては、０．２分〜３０分程度の範囲内であることが好ましく、０．５分〜１０分程度の範囲内であることがより好ましく、０．５分〜５分程度の範囲内であることが特に好ましい。この条件であることにより、安定的に溶媒を除去することができる。
【００９２】
第３露光部５３は、位相差層形成用組成物１３’の塗膜に含まれる重合性液晶化合物を重合させて硬化させる。重合性液晶化合物を重合させる方法としては、液晶化合物が有する重合性官能基の種類に応じて任意に決定すればよいが、例えば、適量の重合開始剤を加えて、活性放射線の照射により硬化させる方法を用いることができる。活性放射線としては、特に限定されないが、紫外光又は可視光を使用することが好ましく、具体的には、配向膜１２を形成する際に用いた紫外線と同様とすることができる。このような硬化処理を経ることにより、互いに重合して、網目（ネットワーク）構造の状態にすることができるため、列安定性を備え、かつ、光学特性の発現性に優れた位相差層１３を形成できる。
【００９３】
なお、以上の説明では、配向膜形成部３２にて基材１１に対して配向膜組成物を塗工した後に、第１露光部３３と第２露光部３４とにおいて、それぞれマスク（第１マスク４１、第２マスク４２）を介してストライプ状の第１配向領域と第２配向領域とを形成してパターン位相差フィルムを製造する流れを示しているが、これに限られない。すなわち、第１露光部３３と第２露光部３４において、それぞれマスクを介さずに露光処理を行い、配向膜１２をパターン状に形成せずにベタ状の配向膜１２を有する位相差フィルム１を製造するものであってもよい。
【実施例】
【００９４】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。
【００９５】
［実施例１］
＜フィルム基材に対するオゾン処理（前処理）＞
図４に模式的に示した位相差フィルムの製造装置３を用い、アクリル樹脂からなる長尺のフィルム基材を搬送しながら順次処理して、フィルム基材／配向膜／位相差層がこの順に積層された位相差フィルムを製造した。先ず、この実施例１では、位相差フィルムの製造するためのフィルム基材上に配向膜組成物からなる塗工液を塗工するに先立ち、そのフィルム基材に対してオゾン処理を施した。
【００９６】
具体的には、図４におけるオゾン処理部３１において、１８０ｎｍ付近の低波長を発光波長として持つ光源（ランプ）３１Ａを設置した。この光源としては、ロングライフアマルガムＵＶランプ（照射幅１４６ｍｍ、ヘレウス社製）を用い、このＵＶランプの４セットを、搬送されるフィルム基材に対して上下にそれぞれ設置し（図４の模式図参照）、基材提供部３０からの搬送速度を１ｍ／分としてフィルム基材に対して紫外線を照射してオゾン処理を施した。
【００９７】
なお、フィルム基材に対する紫外線の照射幅は１４６ｍｍ×４＝５８４ｍｍとし、照射時間を３５秒として照射した。また、フィルム基材としては、蛋白質が付着しやすいアクリル樹脂からなるものであって、事前にマーキングを施した蛋白質からなる異物を付着させたものを用いた。
【００９８】
＜位相差フィルムの製造（配向膜、位相差層の積層）＞
上述のようにオゾン処理を施した後、フィルム基材上に配向膜を形成した。すなわち、光二量化部位と熱架橋部位との両方を有する光配向材料（商品名：ＲＯＰ−１０３，ロリック社製）１００質量部をメチルエチルケトン（ＭＥＫ）９００質量部に溶解させて配向膜組成物を調製し、その後、オゾン処理を施したアクリル樹脂からなるフィルム基材に、調製した配向膜組成物を、硬化後の膜厚が２００ｎｍとなるようにダイコート法にて塗布した。そして、１００℃に調整した乾燥機内に２分間流し、溶媒を蒸発させるとともに組成物を熱硬化させた。続いて、この薄膜に対して、ワイヤーグリッドを通した偏光紫外線（偏光軸がフィルムの搬送方向に対して４５°の方向）を原反の搬送方向と平行な方向に幅５００μｍのストライプパターンをクロムで合成石英上に形成したマスクを介して照射した。続いて、マスクを通さないでワイヤーグリッドを通した偏光紫外線（偏光軸がフィルムの搬送方向に対して−４５°の方向）を照射した。なお、紫外線照射装置は、「Ｈバルブ」（フュージョン社製）を用いた。また、偏光紫外線の波長は３１３ｎｍとし、積算光量は４０ｍＪ／ｃｍ２とした。積算光量の測定は、紫外線光量計「ＵＶ−３５１」（オーク製作所社製）を用いて測定した。
【００９９】
続いて、形成した配向膜（パターン配向膜）上に、重合性液晶組成物（製品名：ｌｉｃｒｉｖｕｅ（登録商標）  ＲＭＳ０３−０１３Ｃ，メルク社製）をダイコート法にて塗工量を３．６ｇ／ｍ２として塗工した。そして、６０℃に調整した第１乾燥機内に１分間、９５℃に調整した第２乾燥機内に０．５分間、１０５℃に調整した第３乾燥機内に０．５分間流し、室温近傍まで冷却した後、上述した紫外線照射装置と同型の紫外線照射装置を用いて波長２６０ｎｍの紫外線を積算光量が３００ｍＪ／ｃｍ２となるまで照射することによって位相差層（液晶層）を形成し、位相差フィルムを得た。
【０１００】
得られた位相差フィルムに対して、欠点の存在の有無を確認した。なお、比較対象として、フィルム基材に対して紫外線照射によるオゾン処理を施さずに（前処理無しで）製造した位相差フィルム（比較フィルム）を用意し、その比較フィルムと比較して欠点の存在を確認した。その結果、この実施例１にて作製した位相差フィルムでは、フィルム基材の付着していた蛋白質に起因する１００μｍ以上の欠点が消失していた。また、光学顕微鏡にて拡大検査を行ったところ、事前にマーキングを施した蛋白質が完全に消失していた。
【０１０１】
得られた位相差フィルムに対して、配向膜、位相差層におけるハジキの発生の有無を、光学顕微鏡を用いて観察した。その結果、配向膜、位相差層の何れの層においても、ハジキの発生は確認されなかった。
【０１０２】
このように、実施例１における紫外線照射によるオゾン処理では、欠点やハジキの発生を有効に抑制することができた。また、フィルム基材の表面に付着した蛋白質からなる異物を除去することができた。このことは、１８０ｎｍ付近の波長の紫外線を照射したことにより、フィルム基材の表面の改質が効果的に行われ濡れ性が改善されたとともに、蛋白質中の炭素や酸素の化学結合（Ｃ＝Ｏ、Ｏ＝Ｏ等）が直接的に分解され、そして発生したオゾンにより揮発したために除去することができたと考えられる。
【０１０３】
［実施例２］
＜フィルム基材に対するオゾン処理（前処理）＞
図４に模式的に示した位相差フィルムの製造装置３を用い、アクリル樹脂からなる長尺のフィルム基材を搬送しながら順次処理して、フィルム基材／配向膜／位相差層がこの順に積層された位相差フィルムを製造した。先ず、この実施例２では、位相差フィルムの製造するためのフィルム基材上に配向膜組成物からなる塗工液を塗工するに先立ち、そのフィルム基材に対してオゾン処理を施した。
【０１０４】
具体的には、図４におけるオゾン処理部３１において、オゾン発生装置（ＭＫ−３８Ａ−１６Ｍ、ムサシノキカイ製）を設置した。このオゾン発生装置を用いて、オゾン発生量を１５００ｇ／ｈ、オゾン濃度を２０ｇ／ｍ３とする風量設定として稼動させ、基材提供部３０から搬送されたフィルム基材に対してオゾンを吹き掛けることによってオゾン処理を施した。
【０１０５】
なお、オゾンは、幅方向２ｍ、流れ方向０．０５ｍのスリットから、１．２５ｍ／分の風速となるようにしてフィルム基材に吹き掛けた。また、フィルム基材としては、蛋白質が付着しやすいアクリル樹脂からなるものであって、事前にマーキングを施した蛋白質からなる異物を付着させたものを用いた。
【０１０６】
＜位相差フィルムの製造（配向膜、位相差層の積層）＞
上述のようにオゾン処理を施した後、実施例１と同様にして、フィルム基材上に配向膜を形成し、さらに配向膜上に位相差層（液晶層）を形成し、位相差フィルムを得た。
【０１０７】
得られた位相差フィルムに対して、欠点の存在の有無を確認した。なお、比較対象として、フィルム基材に対してオゾンの吹き掛けによるオゾン処理を施さずに（前処理無しで）製造した位相差フィルム（比較フィルム）を用意し、その比較フィルムと比較して欠点の存在を確認した。その結果、この実施例２にて作製した位相差フィルムでは、フィルム基材の付着していた蛋白質に起因する１００μｍ以上の欠点が消失していた。なお、光学顕微鏡にて拡大検査を行ったところ、事前にマーキングを施した蛋白質は消失していなかった。
【０１０８】
また。得られた位相差フィルムに対して、配向膜、位相差層におけるハジキの発生の有無を、光学顕微鏡を用いて観察した。その結果、配向膜、位相差層の何れの層においても、ハジキの発生は確認されなかった。
【０１０９】
このように、実施例２におけるオゾンの吹き掛けによる処理では、フィルム基材の表面の蛋白質は消失されないものの、その蛋白質等の異物がフィルム基材表面に付着した状態のままであっても欠点やハジキの発生を抑制することができた。このことは、オゾンの吹き掛けに基づくオゾン処理により、フィルム基材の表面の改質が効果的に行われ、有効に濡れ性が改善されたためであると考えられる。
【符号の説明】
【０１１０】
１      位相差フィルム
２      光学フィルム
３      位相差フィルムの製造装置
１１    フィルム基材（基材）
１２    配向膜
１３    位相差層
２０    接着剤層
２１    偏光子
３０    基材提供部
３１    オゾン処理部
３１Ａ  紫外線照射光源（光源）
３２    配向膜形成部
３３    第１露光部
３４    第２露光部
３５    位相差層形成用組成物塗工部
３６    位相差層形成部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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