(57)【要約】  【課題】アルミニウムおよび銅を含む複合酸化物を含有する膜状体であって、アルミナ基板のような高価な基板を用いることなく、高い配向性を有する膜状体を提供する。  【解決手段】アルミニウムおよび銅を含む複合酸化物を含有する膜状体であって、前記膜状体は、サファイアの（０００１）面以外の面に形成されたものであり、ＣｕのＫα特性Ｘ線を用いて前記膜状体のＸ線回折パターンを測定したときに、回折角２θが３１°から３３°の範囲に存在する最も強度の高い回折線のピーク強度を１００とした場合に、回折角２θが３６°から３８°の範囲に存在する最も強度の高い回折線のピーク強度が１５以下であることを特徴とする膜状体。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウムおよび銅を含む複合酸化物を含有する膜状体であって、
前記膜状体は、サファイアの（０００１）面以外の面に形成されたものであり、
ＣｕのＫα特性Ｘ線を用いて前記膜状体のＸ線回折パターンを測定したときに、回折角２θが３１°から３３°の範囲に存在する最も強度の高い回折線のピーク強度を１００とした場合に、回折角２θが３６°から３８°の範囲に存在する最も強度の高い回折線のピーク強度が１５以下であること
を特徴とする膜状体。
【請求項２】
前記膜状体は、その厚さが０．３μｍの場合における波長４８０ｎｍから７５０ｎｍの範囲の光の透過率が５０％以上である、請求項１に記載の膜状体。
【請求項３】
アルミニウムおよび銅を含む複合酸化物を含有する膜状体であって、ＣｕのＫα特性Ｘ線を用いて前記膜状体のＸ線回折パターンを測定したときに、回折角２θが３１°から３３°の範囲に存在する、アルミニウムおよび銅を含む複合酸化物に由来する最も強度の高い回折線のピーク強度を１００とした場合に、回折角２θが３６°から３８°の範囲に存在する、アルミニウムおよび銅を含む複合酸化物に由来する最も強度の高い回折線のピーク強度が１０以下である膜状体の製造方法であって、
アルミニウム含有溶質および銅含有溶質を含む金属含有溶質ならびにアミン化合物を含む溶解促進剤を含有するアルカリ性の液状組成物であるゾルゲルプロセス組成物と基材とを接触させて、前記基材上に前記ゾルゲルプロセス組成物の塗膜を形成する塗布工程；
前記塗布工程により形成された前記塗膜を乾燥させてアルミニウム元素および銅元素を含むゲル膜を形成する乾燥工程；および
前記熱処理工程により得られた前記ゲル膜を焼成して、前記アルミニウムおよび銅を含む複合酸化物を含有する膜状体を得る焼成工程を備えること
を特徴とする膜状体の製造方法。
【請求項４】
アルミニウム含有溶質および銅含有溶質を含む金属含有溶質ならびにアミン化合物を含む溶解促進剤を含有するアルカリ性の液状組成物からなることを特徴とするゾルゲルプロセス組成物。
【請求項５】
酢酸系溶質を含有し、前記酢酸系溶質の酢酸換算モル濃度の、前記アミン化合物のモル濃度に対する比率は、０．１以上１０以下である、請求項４に記載のゾルゲルプロセス組成物。
【請求項６】
前記アルミニウム含有溶質の少なくとも一部は塩基性酢酸アルミニウムに由来し、前記銅含有溶質の少なくとも一部は酢酸銅に由来し、前記酢酸系溶質の少なくとも一部は、前記塩基性酢酸アルミニウムおよび前記酢酸銅に由来する、請求項５に記載のゾルゲルプロセス組成物。
【請求項７】
前記アミン化合物は水酸基を有する、請求項４から６のいずれか一項に記載のゾルゲルプロセス組成物。
【請求項８】
請求項４から７のいずれか一項に記載されるゾルゲルプロセス組成物を乾燥させてアルミニウム元素および銅元素を含むゲル部材を形成するゾルゲル乾燥工程；および
前記ゾルゲル熱処理工程により得られたゲル部材を焼成して、アルミニウムおよび銅を含む複合酸化物を含有する構造体を得る焼成工程
を備えることを特徴とする構造体の製造方法。
【請求項９】
アルミニウムゾルゲルプロセス組成物であって、
アルミニウム含有溶質およびアミン化合物を含む溶解促進剤を含有するアルカリ性の液状組成物からなり、
前記アルミニウム含有溶質はアルミニウムアルコキシドに由来しないことを特徴とするアルミニウムゾルゲルプロセス組成物。
【請求項１０】
前記アルミニウム含有溶質の少なくとも一部は塩基性酢酸アルミニウムに由来し、当該塩基性酢酸アルミニウムに由来する前記酢酸系溶質の酢酸換算モル濃度の、前記アミン化合物のモル濃度に対する比率は、０．４未満である、請求項９に記載のアルミニウムゾルゲルプロセス組成物。
【請求項１１】
請求項９または１０に記載されるアルミニウムゾルゲルプロセス組成物を乾燥させてアルミニウム元素を含むアルミニウム系ゲル部材を形成するアルミニウムゾルゲル乾燥工程；および
前記アルミニウムゾルゲル熱処理工程により得られたアルミニウム系ゲル部材を焼成して、アルミニウム酸化物を含有する構造体を得る焼成工程
を備えることを特徴とする構造体の製造方法。
【請求項１２】
銅ゾルゲルプロセス組成物であって、
銅含有溶質およびアミン化合物を含む溶解促進剤を含有するアルカリ性の液状組成物からなり、
前記銅含有溶質の銅換算モル濃度が２５０ｍｍｏｌ／Ｌ以上であることを特徴とする銅ゾルゲルプロセス組成物。
【請求項１３】
銅を含有する物質からなる分散質および沈殿物を含有しない、請求項１２に記載の銅ゾルゲルプロセス組成物。
【請求項１４】
請求項１２または１３に記載される銅ゾルゲルプロセス組成物を乾燥させて銅元素を含む銅系ゲル部材を形成する銅ゾルゲル乾燥工程；
前記銅ゾルゲル熱処理工程により得られた銅系ゲル部材を焼成して、銅酸化物を含有する構造体を得る焼成工程を備えることを特徴とする構造体の製造方法。
【請求項１５】
請求項４から７のいずれか一項に記載されるゾルゲルプロセス組成物の製造方法であって、
請求項９または１０に記載されるアルミニウムゾルゲルプロセス組成物と、請求項１２または１３に記載される銅ゾルゲルプロセス組成物とを混合する混合工程を備えることを特徴とするゾルゲルプロセス組成物の製造方法。
【請求項１６】
前記アルミニウム含有溶質は塩基性酢酸アルミニウムに由来し、前記銅含有溶質は酢酸銅に由来する、請求項１５に記載のゾルゲルプロセス組成物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、膜状体および膜状体の製造方法、ゾルゲルプロセス組成物およびゾルゲルプロセス組成物の製造方法、アルミニウムゾルゲルプロセス組成物およびアルミニウムゾルゲルプロセス組成物の製造方法、銅ゾルゲルプロセス組成物および銅ゾルゲルプロセス組成物の製造方法、ならびに構造体の製造方法に関する。
【０００２】
本明細書において、膜状体とは膜状の形状を有する部材をいう。ゾルゲルプロセス組成物とは、ゾルゲルプロセスに使用される組成物をいう。アルミニウムゾルゲルプロセス組成物とは、ゾルゲルプロセスに使用される組成物であって、アルミニウム元素を含有する組成物をいう。銅ゾルゲルプロセス組成物とは、ゾルゲルプロセスに使用される組成物であって、銅元素を含有する組成物をいう。構造体とは、特段の外力などが付与されない限り所定の形状（層状、ファイバー状、粉状などが例示される。）を維持可能な部材をいう。
【背景技術】
【０００３】
アルミニウムおよび銅を含む複合酸化物は、透明導電部材として使用し得ることが可能であり、さらに、ｐ型の透明半導体材料としても期待されていることから、さまざまな方法でその製造が検討されている。
【０００４】
たとえば、非特許文献１には、ドライプロセス、具体的にはスパッタ法を用いて、アルミニウムおよび銅を含む酸化物を備える膜状体を製造する方法が開示されている。
【０００５】
また、非特許文献２には、酢酸銅の水和物が分散したエタノール分散液にトリス（ｓｅｃ−ブトキシ）アルミニウムのブタノール溶液を加え、得られた液体を１．５時間還流させ、さらに濃縮することによって得られた液体を用いて、アルミニウムおよび銅を含む酸化物を備える膜状体を製造する方法が開示されている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】Ｔｓｕｂｏｉ，ｅｔ．ａｌ．、“Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏｎ  ｏｆ  ＣｕＡｌＯ２  ｔｈｉｎ  ｆｉｌｍｓ  ｐｒｅｐａｒｅｄ  ｏｎ  ｓａｐｐｈｉｒｅ  ｓｕｂｓｔｒａｔｅｓ  ｂｙ  ｒｅａｃｔｉｖｅ  ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ  ａｎｄ  ａｎｎｅａｌｉｎｇ”、Ｊａｐａｎｅｓｅ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ、２００８年、第４７巻、第１号、ｐ．５９２−５９５
【非特許文献２】Ｏｈａｓｈｉ，ｅｔ．ａｌ．、“Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ  ｏｆ  ＣｕＡｌＯ２  Ｆｉｌｍｓ  ｂｙ  Ｗｅｔ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ”、Ｊ．  Ａｍ．  Ｃｅｒａｍ．  Ｓｏｃ．２００２年、第８５巻、第１号、ｐ．２７０−２７２
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
アルミニウムおよび銅を含む酸化物を備える膜状体は、光電変換素子の透明電極としての適用が期待されていることから、光学特性や電気特性により優れる膜状体であることが望ましい。この点に関し、非特許文献１には、設備が高額であって維持コストも高額であるスパッタ法を用いて高価なサファイアを基板とすることにより、配向性が高い膜状体が得られることが開示されている。しかしながら、比較的低コストで製造することが可能なゾルゲル法で作成した非特許文献２には、非特許文献１に開示される膜状体に比べて、配向性が低い膜状体が開示されている。
【０００８】
そこで、本発明は、アルミニウムおよび銅を含む複合酸化物を含有する膜状体であって、サファイア基板のような高価な基板を用いることなく、高い配向性を有する膜状体を提供することを目的とする。本発明は、アルミニウムおよび銅を含む複合酸化物を含有し、高い配向性を有する膜状体をゾルゲル法により製造する方法を提供することも目的とする。上記の膜状体を製造することに適用可能なゾルゲルプロセス組成物、およびかかるゾルゲルプロセス組成物の製造方法を提供することも目的とする。本発明は、上記のゾルゲルプロセスを用いる構造体の製造方法を提供することも目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために完成された本発明は次のとおりである。
（１）アルミニウムおよび銅を含む複合酸化物を含有する膜状体であって、前記膜状体は、サファイアの（０００１）面以外の面に形成されたものであり、ＣｕのＫα特性Ｘ線を用いて前記膜状体のＸ線回折パターンを測定したときに、回折角２θが３１°から３３°の範囲に存在する最も強度の高い回折線のピーク強度を１００とした場合に、回折角２θが３６°から３８°の範囲に存在する最も強度の高い回折線のピーク強度が１５以下であることを特徴とする膜状体。
【００１０】
（２）前記膜状体は、その厚さが０．３μｍの場合における波長４８０ｎｍから７５０ｎｍの範囲の光の透過率が５０％以上である、上記（１）に記載の膜状体。
【００１１】
（３）アルミニウムおよび銅を含む複合酸化物を含有する膜状体であって、ＣｕのＫα特性Ｘ線を用いて前記膜状体のＸ線回折パターンを測定したときに、回折角２θが３１°から３３°の範囲に存在する、アルミニウムおよび銅を含む複合酸化物に由来する最も強度の高い回折線のピーク強度を１００とした場合に、回折角２θが３６°から３８°の範囲に存在する、アルミニウムおよび銅を含む複合酸化物に由来する最も強度の高い回折線のピーク強度が１０以下である膜状体の製造方法であって、アルミニウム含有溶質および銅含有溶質を含む金属含有溶質ならびにアミン化合物を含む溶解促進剤を含有するアルカリ性の液状組成物であるゾルゲルプロセス組成物と基材とを接触させて、前記基材上に前記ゾルゲルプロセス組成物の塗膜を形成する塗布工程；前記塗布工程により形成された前記塗膜を乾燥させてアルミニウム元素および銅元素を含むゲル膜を形成する乾燥工程；および前記熱処理工程により得られた前記ゲル膜を焼成して、前記アルミニウムおよび銅を含む複合酸化物を含有する膜状体を得る焼成工程を備えることを特徴とする膜状体の製造方法。
【００１２】
（４）アルミニウム含有溶質および銅含有溶質を含む金属含有溶質ならびにアミン化合物を含む溶解促進剤を含有するアルカリ性の液状組成物からなることを特徴とするゾルゲルプロセス組成物。
【００１３】
（５）酢酸系溶質を含有し、前記酢酸系溶質の酢酸換算モル濃度の、前記アミン化合物のモル濃度に対する比率は、０．１以上１０以下である、上記（４）に記載のゾルゲルプロセス組成物。
【００１４】
（６）前記アルミニウム含有溶質の少なくとも一部は塩基性酢酸アルミニウムに由来し、前記銅含有溶質の少なくとも一部は酢酸銅に由来し、前記酢酸系溶質の少なくとも一部は、前記塩基性酢酸アルミニウムおよび前記酢酸銅に由来する、上記（５）に記載のゾルゲルプロセス組成物。
【００１５】
（７）前記アミン化合物は水酸基を有する、上記（４）から（６）のいずれかに記載のゾルゲルプロセス組成物。
【００１６】
（８）上記（４）から（７）のいずれかに記載されるゾルゲルプロセス組成物を乾燥させてアルミニウム元素および銅元素を含むゲル部材を形成するゾルゲル乾燥工程；および前記ゾルゲル熱処理工程により得られたゲル部材を焼成して、アルミニウムおよび銅を含む複合酸化物を含有する構造体を得る焼成工程を備えることを特徴とする構造体の製造方法。
【００１７】
（９）アルミニウムゾルゲルプロセス組成物であって、アルミニウム含有溶質およびアミン化合物を含む溶解促進剤を含有するアルカリ性の液状組成物からなり、前記アルミニウム含有溶質はアルミニウムアルコキシドに由来しないことを特徴とするアルミニウムゾルゲルプロセス組成物。
【００１８】
（１０）前記アルミニウム含有溶質の少なくとも一部は塩基性酢酸アルミニウムに由来し、当該塩基性酢酸アルミニウムに由来する前記酢酸系溶質の酢酸換算モル濃度の、前記アミン化合物のモル濃度に対する比率は、０．４未満である、上記（９）に記載のアルミニウムゾルゲルプロセス組成物。
【００１９】
（１１）上記（９）または（１０）に記載されるアルミニウムゾルゲルプロセス組成物を乾燥させてアルミニウム元素を含むアルミニウム系ゲル部材を形成するアルミニウムゾルゲル乾燥工程；および前記アルミニウムゾルゲル熱処理工程により得られたアルミニウム系ゲル部材を焼成して、アルミニウム酸化物を含有する構造体を得る焼成工程を備えることを特徴とする構造体の製造方法。
【００２０】
（１２）銅ゾルゲルプロセス組成物であって、銅含有溶質およびアミン化合物を含む溶解促進剤を含有するアルカリ性の液状組成物からなり、前記銅含有溶質の銅換算モル濃度が２５０ｍｍｏｌ／Ｌ以上であることを特徴とする銅ゾルゲルプロセス組成物。
【００２１】
（１３）銅を含有する物質からなる分散質および沈殿物を含有しない、上記（１２）に記載の銅ゾルゲルプロセス組成物。
【００２２】
（１４）上記（１２）または（１３）に記載される銅ゾルゲルプロセス組成物を乾燥させて銅元素を含む銅系ゲル部材を形成する銅ゾルゲル乾燥工程；前記銅ゾルゲル熱処理工程により得られた銅系ゲル部材を焼成して、銅酸化物を含有する構造体を得る焼成工程を備えることを特徴とする構造体の製造方法。
【００２３】
（１５）上記（４）から（７）のいずれかに記載されるゾルゲルプロセス組成物の製造方法であって、上記（９）または（１０）に記載されるアルミニウムゾルゲルプロセス組成物と、上記（１２）または（１３）に記載される銅ゾルゲルプロセス組成物とを混合する混合工程を備えることを特徴とするゾルゲルプロセス組成物の製造方法。
【００２４】
（１６）前記アルミニウム含有溶質は塩基性酢酸アルミニウムに由来し、前記銅含有溶質は酢酸銅に由来する、上記（１５）に記載のゾルゲルプロセス組成物の製造方法。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、銅およびアルミニウムを含む複合酸化物を含有する膜状体であって、配向性が高い膜状体が、石英ガラスのような比較的廉価な材料からなる基板上に形成されたものとして提供される。また、本発明に係るゾルゲルプロセス組成物を用いることにより、上記の膜状体をゾルゲル法により製造する方法が提供される。さらに、銅およびアルミニウムの少なくとも一方を含有する酸化物を含む構造体、および当該構造体を製造する方法も提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】実施例１に係る膜状体のＸ線回折パターンを示す図である。
【図２】実施例２に係る膜状体のＸ線回折パターンを示す図である。
【図３】実施例３に係る膜状体のＸ線回折パターンを示す図である。
【図４】実施例４に係る膜状体のＸ線回折パターンを示す図である。
【図５】実施例１から４に係る膜状体の分光スペクトルを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、本発明について詳しく説明する。
１．膜状体
本発明の一実施形態に係る膜状体は、アルミニウムおよび銅を含む複合酸化物を含有する。好ましい一形態において、膜状体が含有する金属元素は実質的にアルミニウムおよび銅である。
【００２８】
（１）結晶構造
本発明の一実施形態に係る膜状体は、ＣｕのＫα特性Ｘ線を用いて前記膜状体のＸ線回折パターンを測定したときに、回折角２θが３１°から３３°の範囲（本明細書において「第一角度領域」ともいう。）に存在する、アルミニウムおよび銅を含む複合酸化物に由来する最も強度の高い回折線のピーク強度を１００とした場合に、回折角２θが３６°から３８°の範囲（本明細書において「第二角度領域」ともいう。）に存在する、アルミニウムおよび銅を含む複合酸化物に由来する最も強度の高い回折線のピーク強度（本明細書において、「対比用強度」ともいう。）が１５以下である。
【００２９】
第一角度領域のピークは、デラフォサイト型構造を有するＣｕＡｌＯ２の（００６）面の回折線に対応し、第二角度領域のピークは、デラフォサイト型構造を有するＣｕＡｌＯ２の（１０１）面の回折線および（０１２）面の回折線に対応する。なお、第二角度領域には、ＣｕＯに由来するピークが含まれる場合があるが、その場合には、このピークを考慮することなく、対比用強度を導出すればよい。
【００３０】
本発明の一実施形態に係る膜状体の対比用強度は、１０以下であることが好ましく、５以下であることがより好ましい。本発明の一実施形態に係る膜状体の好ましい一例では、デラフォサイト型構造を有するＣｕＡｌＯ２の（１０１）面の回折線のピークや（０１２）面の回折線のピークはノイズレベルであって、これらのピークは実質的に測定されないと判断される場合もある。
【００３１】
本発明の一実施形態に係る膜状体は、ゾルゲル法により製造された膜状体でありながら配向性が高い。具体的には、本発明の一実施形態に係る膜状体は、（００１）面への配向性が高い。配向性が相対的に低い膜状体は、格子の不整合面を多数有するため、配向性が相対的に高い膜状体に比べて電磁気的な特性が劣る可能性がある。このような膜状体は、従来、非特許文献１に開示されるように、設備が高額であって維持コストも高額であるスパッタ法を用いて高価なサファイアを基板とすることにより初めて実現できるものであった。非特許文献１には、膜状体が形成される面をサファイアの（０００１）面以外の面、具体的には、石英ガラスの面とすると、（００１）面への配向性は著しく低下してしまうことが開示されている。これに対し、本実施形態に係る膜状体は、石英ガラスの面のようなサファイアの（０００１）面以外の面上に形成されていながら、高い配向性を有することが可能である。
【００３２】
（２）光学特性
本発明の一実施形態に係る膜状体は、その厚さが０．３μｍの場合における波長４８０ｎｍから７５０ｎｍの範囲の光の透過率（本明細書において「透過率１」ともいう。）が５０％以上であることが好ましい。このような優れた光学特性を有している場合には、膜状体を可視光域の透明材料として用いることが可能となる。透過率１は、６０％以上であることが好ましく、６５％以上であることがより好ましく、７０％以上であることが特に好ましい。本発明の一実施形態に係る膜状体は、その厚さが０．３μｍの場合における波長４００ｎｍから７５０ｎｍの範囲の光の透過率が５０％以上であることが、さらに好ましい。本発明の一実施形態に係る膜状体の光学特性は、当該膜状体の製造過程を変化させることにより、制御することが可能な場合もある。
【００３３】
２．膜状体の製造方法
上記の本発明の一実施形態に係る膜状体の製造方法は限定されない。次に説明するゾルゲルプロセス組成物を用いて製造すれば、本発明の一実施形態に係る膜状体を、効率的かつ安定的に製造することが可能である。
【００３４】
（１）ゾルゲルプロセス組成物
本発明の一実施形態に係るゾルゲルプロセス組成物は、アルミニウム含有溶質および銅含有溶質を含む金属含有溶質ならびにアミン化合物を含む溶解促進剤を含有するアルカリ性の液状組成物からなる。好ましい一形態において、本発明の一実施形態に係るゾルゲルプロセス組成物は実質的に溶液の状態にある。この場合には、沈殿物は実質的に観察されない。また、ゾルゲルプロセス組成物の透明性が高くなる。
【００３５】
本明細書において、金属含有溶質とは、ゾルゲルプロセス組成物に溶解している成分物質の中で、金属元素を含有する成分をいう。本明細書において、溶解促進剤とは、ゾルゲルプロセス組成物の原材料の１種である金属含有溶質を与える化合物（本明細書において「金属化合物」ともいう。）をゾルゲルプロセス組成物に溶解させて金属含有溶質を生成させることに資する物質をいう。
【００３６】
本発明の一実施形態に係るゾルゲルプロセス組成物が含有するアミン化合物は、アンモニアの水素原子の少なくとも一つが有機基で置換された有機化合物であって、２３℃、１気圧の状態で液体状態にあるものをいう。アミン化合物が一分子あたりで有する窒素原子の数は限定されない。アミン化合物は、１級アミンであってもよいし、２級アミンであってもよいし、３級アミンであってもよいし、４級アミンであってもよい。本発明の一実施形態に係るゾルゲルプロセス組成物におけるアミン化合物の含有量は限定されない。金属含有溶質を溶解させることをより安定的に実現させる観点から、当該含有量は、０．１ｍｏｌ／Ｌ以上２０ｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、０．５ｍｏｌ／Ｌ以上１０ｍｏｌ／Ｌ以下であることがより好ましく、１ｍｏｌ／Ｌ以上５ｍｏｌ／Ｌ以下であることが特に好ましい。
【００３７】
アミン化合物の具体例として、プロピルアミン、ブチルアミン等のモノアルキルアミン；ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン等のジアルキルアミン；トリエチルアミンなどのトリアルキルアミン；エタノールアミン、ジエタノールアミン等のアルコールアミンなどが例示される。アミン化合物は１種類の化合物から構成されていてもよいし、複数種類の化合物から構成されていてもよい。アミン化合物は、エタノールアミンなどのように、水酸基を有するアルコールアミンを含むことが好ましい。
【００３８】
アルミニウム含有溶質とは、金属含有溶質の一種であって、金属元素としてアルミニウム元素を含有する成分をいう。上記の溶媒に溶解してアルミニウム含有溶質を形成することが可能な化合物（本明細書において「アルミニウム化合物」ともいう。）として、塩基性酢酸アルミニウム、硝酸アルミニウムなどが例示される。アルカリ性の液状組成物であるゾルゲル組成物を調製しやすさの観点から、アルミニウム化合物の中でも塩基性酢酸アルミニウムが好ましい。
【００３９】
銅含有溶質とは、金属含有溶質の一種であって、金属元素として銅元素を含有する成分をいう。上記の溶媒に溶解して銅含有溶質を形成することが可能な化合物（本明細書において「銅化合物」ともいう。）として、酢酸銅、硝酸銅、塩化銅などが例示される。アルカリ性の液状組成物であるゾルゲル組成物を調製しやすさの観点から、銅化合物の中でも酢酸銅が好ましい。銅含有溶質に含有される銅は、１価の銅イオンとして含有されていてもよいし、２価の銅イオンとして含有されていてもよい。
【００４０】
本発明の一実施形態に係るゾルゲルプロセス組成物が含有する金属含有溶質の金属換算モル濃度は限定されない。詳細は不明であるが、本発明の一実施形態に係るゾルゲルプロセス組成物が含有する金属含有溶質の金属換算モル濃度が高いほど、ＣｕＡｌＯ２を含有する膜状体が得られやすくなる傾向を有する場合がある。ＣｕＡｌＯ２を含有する膜状体の得られやすさ観点から、上記のモル濃度は、０．１ｍｏｌ／Ｌ以上１ｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましい場合があり、当該モル濃度が０．２ｍｏｌ／Ｌ以上０．５ｍｏｌ／Ｌ以下であることがより好ましい場合もある。
【００４１】
本発明の一実施形態に係るゾルゲルプロセス組成物は、酢酸系溶質を含有してもよい。本明細書において、「酢酸系溶質」とは、ゾルゲルプロセス組成物に溶解している成分物質の中で、酢酸、酢酸イオン、および酢酸塩からなる群から選ばれる１種以上を含む成分を意味する。酢酸系溶質は、上記の金属化合物によってゾルゲルプロセス組成物中にもたらされてもよい。すなわち、ゾルゲルプロセス組成物の原材料は、酢酸アルミニウム、酢酸銅などの酢酸塩を金属化合物として含んでいてもよい。詳細は不明であるが、本発明の一実施形態に係るゾルゲルプロセス組成物が含有する金属含有溶質が酢酸塩からなる金属化合物に由来する場合には、当該ゾルゲルプロセス組成物から形成された膜状体に含有されるＣｕＡｌＯ２の配向性が高くなる傾向を示すこともある。
【００４２】
本発明の一実施形態に係るゾルゲルプロセス組成物における酢酸系溶質の含有量は限定されない。本発明の一実施形態に係るゾルゲルプロセス組成物における、酢酸系溶質の酢酸換算モル濃度の、上記のアミン化合物のモル濃度に対する比率は、０．１以上１０以下であることが、本発明の一実施形態に係るゾルゲルプロセス組成物を溶液の状態で得ることを容易にする観点から、好ましい。上記の比率は、０．３以上７以下であることが好ましく、０．６以上５以下であることが好ましい。
【００４３】
本発明の一実施形態に係るゾルゲルプロセス組成物が含有するアルミニウム含有溶質の金属換算モル濃度と銅含有溶質の金属換算モル濃度との関係は限定されない。ＣｕＡｌＯ２を含有する膜状体の得られやすさの観点から、アルミニウム含有溶質の金属換算モル濃度の、銅含有溶質の金属換算モル濃度に対する比率は、０．１以上１０以下であることが好ましく、０．２５以上４以下であることがより好ましく、０．５以上２以下であることが特に好ましい。
【００４４】
本発明の一実施形態に係るゾルゲルプロセス組成物の溶媒は限定されない。メタノール、イソプロピルアルコール、メトキシエタノール等の低級アルコールなどのプロトン性極性溶媒、アセトン等のケトン類、テトラヒドロフラン等のエーテル類などの非プロトン性極性溶媒などの極性溶媒が、溶媒の具体例として挙げられる。本発明の一実施形態に係るゾルゲルプロセス組成物の溶媒は１種類の物質から構成されていてもよいし、複数種類の物質から構成されていてもよい。
【００４５】
本発明の一実施形態に係るゾルゲルプロセス組成物の製造方法は限定されない。得られたゾルゲルプロセス組成物の組成の経時的安定性を高める観点から、本発明の一実施形態に係るゾルゲルプロセス組成物の製造方法は、後述する本発明の一実施形態に係るアルミニウムゾルゲルプロセス組成物と本発明の一実施形態に係る銅ゾルゲルプロセス組成物とを混合させる混合工程を備えることが好ましい。かかる混合工程では、液性が等しい（いずれもアルカリ性である。）液体を混合させるため、工程管理が容易である。
【００４６】
この混合工程は室温（２３℃）で行うことができる。また、特段の加熱作業や濃縮作業を必要とせず、上記の混合工程を実施することのみで発明の一実施形態に係るゾルゲルプロセス組成物を得ることが可能である。すなわち、上記の混合工程により得られた混合物を本発明の一実施形態に係るゾルゲルプロセス組成物としてもよい。
【００４７】
混合工程で混合されるアルミニウムゾルゲルプロセス組成物および銅ゾルゲルプロセス組成物に係る金属化合物に含有される金属イオンのカウンターアニオンは共通していてもよい。この場合において、カウンターアニオンは酢酸イオンであることが好ましい。すなわち、ゾルゲルプロセス組成物に含有されるアルミニウム含有溶質は塩基性酢酸アルミニウムに由来し、銅含有溶質は酢酸銅に由来することが好ましい。上記の酢酸銅は２価の銅イオンを含むことが好ましい。
【００４８】
（１−１）アルミニウムゾルゲルプロセス組成物
本発明の一実施形態に係るアルミニウムゾルゲルプロセス組成物は、アルミニウム含有溶質およびアミン化合物を含む溶解促進剤を含有するアルカリ性の液状組成物からなる。本発明の一実施形態に係るアルミニウムゾルゲルプロセス組成物は、その組成の経時安定性を高める観点から、アルミニウムアルコキシドを実質的に含有しないことが好ましい。
【００４９】
アルミニウムゾルゲルプロセス組成物に含有されるアルミニウム含有溶質の濃度は限定されない。アルミニウムゾルゲルプロセス組成物の製造のしやすさ、アルミニウムゾルゲルプロセス組成物の安定性、およびアルミニウムゾルゲルプロセス組成物からアルミニウムを含有するゲル膜を得ることの容易さのバランスを良好にする観点から、本発明の一実施形態に係るアルミニウムゾルゲルプロセス組成物のアルミニウム含有溶質のアルミニウム換算モル濃度は、０．０１ｍｏｌ／Ｌ以上１０ｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、０．１ｍｏｌ／Ｌ以上１ｍｏｌ／Ｌ以下であることがより好ましく、０．２ｍｏｌ／Ｌ以上０．８ｍｏｌ／Ｌ以下であることが特に好ましい。
【００５０】
本発明の一実施形態に係るアルミニウムゾルゲルプロセス組成物のアルミニウム含有溶質に係るアルミニウム化合物の詳細（種類など）は、前述の本発明の一実施形態に係るゾルゲルプロセス組成物に含有されるアルミニウム化合物と同様である。本発明の一実施形態に係るアルミニウムゾルゲルプロセス組成物に係るアルミニウム化合物として、塩基性酢酸アルミニウムが好ましい。
【００５１】
本発明の一実施形態に係るアルミニウムゾルゲルプロセス組成物のアミン化合物の詳細（種類など）は、前述の本発明の一実施形態に係るゾルゲルプロセス組成物に含有されるアミン化合物と同様である。本発明の一実施形態に係るアルミニウムゾルゲルプロセス組成物におけるアミン化合物の含有量は、０．１ｍｏｌ／Ｌ以上２０ｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、０．５ｍｏｌ／Ｌ以上１０ｍｏｌ／Ｌ以下であることがより好ましく、１ｍｏｌ／Ｌ以上５ｍｏｌ／Ｌ以下であることが特に好ましい。アルミニウム含有溶質の少なくとも一部が塩基性酢酸アルミニウムに由来する場合において、塩基性酢酸アルミニウムに由来する酢酸系溶質の酢酸換算モル濃度の、アミン化合物のモル濃度に対する比率は、０．４未満であることが好ましく、０．３７以下であることがより好ましく、０．３４以下であることが特に好ましい。
【００５２】
本発明の一実施形態に係るアルミニウムゾルゲルプロセス組成物の溶媒は限定されない。メタノール、イソプロピルアルコール、メトキシエタノール等の低級アルコールなどのプロトン性極性溶媒、アセトン等のケトン類、テトラヒドロフラン等のエーテル類などの非プロトン性極性溶媒などの極性溶媒が、溶媒の具体例として挙げられる。本発明の一実施形態に係るアルミニウムゾルゲルプロセス組成物の溶媒は１種類の物質から構成されていてもよいし、複数種類の物質から構成されていてもよい。
【００５３】
本発明の一実施形態に係るアルミニウムゾルゲルプロセス組成物の製造方法は限定されない。係る製造方法の典型例として、アルミニウム化合物およびアミン化合物を含む配合成分を溶媒に加えて、得られた液体を撹拌することが挙げられる。この場合における撹拌時間は液体温度などを考慮して適宜設定すればよい。液体温度を室温（２３℃）としてもよい。液体を加熱することなく室温にてアルミニウムゾルゲルプロセス組成物を製造することは、製造に要するエネルギーコストを低減させる観点から好ましい場合もある。
【００５４】
（１−２）銅ゾルゲルプロセス組成物
本発明の一実施形態に係る銅ゾルゲルプロセス組成物は、銅含有溶質およびアミン化合物を含む溶解促進剤を含有するアルカリ性の液状組成物からなる。かかる銅含有溶質の銅換算モル濃度が２５０ｍｍｏｌ／Ｌ以上であることが好ましい。本発明の一実施形態に係る銅ゾルゲルプロセス組成物は、アミン化合物を含む溶解促進剤を含有することにより、上記のような濃度で銅含有溶質を含有することが可能である。銅ゾルゲルプロセス組成物に含有される銅含有溶質の濃度が高いほど、溶媒を揮発させるプロセスが簡素化され、銅を含有するゲル膜を得ることが容易となる。銅を含有するゲル膜を得ることをより容易にする観点から、本発明の一実施形態に係る銅ゾルゲルプロセス組成物の銅含有溶質の銅換算モル濃度は、３００ｍｍｏｌ／Ｌ以上であることが好ましく、４００ｍｍｏｌ／Ｌ以上であることがより好ましく、５００ｍｍｏｌ／Ｌ以上であることが特に好ましい。
【００５５】
本発明の一実施形態に係る銅ゾルゲルプロセス組成物の銅含有溶質に係る銅化合物の詳細（種類など）は、前述の本発明の一実施形態に係るゾルゲルプロセス組成物に含有される銅化合物と同様である。銅化合物が含有する銅イオンの価数は限定されない。１価であってもよいし、２価であってもよいし、これらの双方を含んでいてもよい。本発明の一実施形態に係る銅ゾルゲルプロセス組成物に係る銅化合物として、酢酸銅が好ましい。
【００５６】
本発明の一実施形態に係る銅ゾルゲルプロセス組成物におけるアミン化合物の詳細（種類など）は、前述の本発明の一実施形態に係るゾルゲルプロセス組成物に含有されるアミン化合物と同様である。本発明の一実施形態に係る銅ゾルゲルプロセス組成物におけるアミン化合物の含有量は、０．１ｍｏｌ／Ｌ以上２０ｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、０．５ｍｏｌ／Ｌ以上１０ｍｏｌ／Ｌ以下であることがより好ましく、１ｍｏｌ／Ｌ以上５ｍｏｌ／Ｌ以下であることが特に好ましい。
【００５７】
本発明の一実施形態に係る銅ゾルゲルプロセス組成物の溶媒は限定されない。メタノール、イソプロピルアルコール、メトキシエタノール等の低級アルコールなどのプロトン性極性溶媒、アセトン等のケトン類、テトラヒドロフラン等のエーテル類などの非プロトン性極性溶媒などの極性溶媒が、溶媒の具体例として挙げられる。本発明の一実施形態に係る銅ゾルゲルプロセス組成物の溶媒は１種類の物質から構成されていてもよいし、複数種類の物質から構成されていてもよい。
【００５８】
得られる銅ゾル膜などの性質を良好にする観点から、本発明の一実施形態に係る銅ゾルゲルプロセス組成物は銅を含有する物質からなる分散質および沈殿物を実質的に含有しないことが好ましい。
【００５９】
（２）膜状体の製造方法
本発明の一実施形態に係る膜状体の製造方法は、次に説明する塗布工程、乾燥工程および焼成工程を備える。
【００６０】
（２−１）塗布工程
塗布工程では、ゾルゲルプロセス組成物と基材とを接触させて、基材上にゾルゲルプロセス組成物の塗膜を形成する。後述する焼成工程を実施可能な材料であれば、基材を構成する材料は限定さない。非特許文献１に開示されるようなサファイアであってもよいし、石英ガラスなど他の材料からなる基板であってもよい。ゾルゲルプロセス組成物と基材との接触方法は限定されない。ディップコート、スピンコート、スプレーコートなど公知の方法を採用することができる。塗膜の厚さは限定されない。用途に応じて適宜設定される。塗膜の厚さは塗工条件により制御可能である。塗布工程を複数回行うことにより、塗膜の厚さを調製してもよい。
【００６１】
（２−２）乾燥工程
乾燥工程では、上記の塗布工程により形成された塗膜を乾燥させてアルミニウム元素および銅元素を含むゲル膜を形成する。乾燥条件は限定されない。ゾルゲルプロセス組成物の組成、特に溶媒の物性、塗膜の厚さなどに応じて適宜設定すればよい。ゾルゲルプロセス組成物の溶媒がメトキシエタノールである場合を例とすれば、乾燥条件の具体例として、大気中にて、２００℃で１０分間加熱し、続いて５００℃で２０分間乾燥させることが挙げられる。塗布工程と乾燥工程とからなるサイクルを複数回繰り返して、ゲル膜の厚さを増やしてもよい。一回の塗布工程を実施することにより形成される塗膜が薄い場合には、塗布工程の間に溶媒が揮発して、実質的に乾燥工程が実施されることもある。
【００６２】
（２−３）焼成工程
焼成工程では、熱処理工程により得られたゲル膜を焼成して、アルミニウムおよび銅を含む複合酸化物を含有する膜状体を得る。焼成温度および焼成時間、冷却速度、ならびに焼成雰囲気など焼成条件はゲル膜の組成や厚さ、基材の耐熱性などを考慮して適宜設定すればよい。焼成温度は、通常、６００℃から１２００℃の範囲である。焼成温度など焼成条件を変化させることにより、膜状体の組成を調製することが可能な場合もある。また、その結果として、膜状体の諸特性（具体例として、結晶性および光学特性が挙げられる。）を制御することが可能となる場合もある。焼成工程の後にアニール処理を行ってもよい。アニール温度を変化させることにより、膜状体の諸特性（具体例として、結晶性および光学特性が挙げられる。）を制御することが可能となる場合もある。
【００６３】
３．構造体の製造方法
上記の膜状体の製造方法において使用される、本発明の一実施形態に係るゾルゲルプロセス組成物、本発明の一実施形態に係るアルミニウムゾルゲルプロセス組成物、および／または本発明の一実施形態に係る銅ゾルゲルプロセス組成物を用いて、構造体を製造してもよい。
【００６４】
上記の構造体の製造方法の一例として、本発明の一実施形態に係るゾルゲルプロセス組成物を乾燥させてアルミニウム元素および銅元素を含むゲル部材を形成するゾルゲル乾燥工程；およびゾルゲル熱処理工程により得られたゲル部材を焼成して、アルミニウムおよび銅を含む複合酸化物を含有する構造体を得る焼成工程を備える製造方法が挙げられる。
【００６５】
上記の構造体の製造方法の他の一例として、本発明の一実施形態に係るアルミニウムゾルゲルプロセス組成物を乾燥させてアルミニウム元素を含むアルミニウム系ゲル部材を形成するアルミニウムゾルゲル乾燥工程；およびアルミニウムゾルゲル熱処理工程により得られたアルミニウム系ゲル部材を焼成して、アルミニウム酸化物を含有する構造体を得る焼成工程を備える製造方法が挙げられる。なお、アルミニウム酸化物を含有する構造体を得る場合には、本発明の一実施形態に係るアルミニウムゾルゲルプロセス組成物は、水分を含有していることが好ましい。
【００６６】
上記の構造体の製造方法のさらに別の一例として、本発明の一実施形態に係る銅ゾルゲルプロセス組成物を乾燥させて銅元素を含む銅系ゲル部材を形成する銅ゾルゲル乾燥工程；銅ゾルゲル熱処理工程により得られた銅系ゲル部材を焼成して、銅酸化物を含有する構造体を得る焼成工程を備える製造方法が挙げられる。なお、焼成工程により得られる銅酸化物がＣｕＯである場合には、構造体の色調は黒となり、焼成工程により得られる銅酸化物がＣｕ２Ｏである場合には、構造体の色調は赤となる。銅ゾルゲルプロセス組成物の組成や製造方法の条件などを変化させることにより、焼成工程により得られる銅酸化物の組成を制御することが可能である。
【００６７】
上記のゾルゲル乾燥工程、アルミニウムゾルゲル乾燥工程および銅ゾルゲル乾燥工程の詳細は前述の乾燥工程と同様であるから、説明を省略する。上記の３つの製造方法における焼成工程の詳細は、前述の焼成工程と同様であるから、説明を省略する。
【００６８】
以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。
【実施例】
【００６９】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例等に限定されるものではない。
【００７０】
（実施例１）
（１）アルミニウムゾルゲルプロセス組成物の製造
２−メトキシエタノール５０ｍｌに、２−アミノエタノール７．２ｇ（ＭＷ＝６１，０．１２ｍｏｌ）を加えて、室温（２３℃）の大気雰囲気下で１時間攪拌した。その後、塩基性酢酸アルミニウム（和光純薬工業社製、Ａｌ２Ｏ（ＣＨ３ＣＯＯ）４）３．０ｇ（ＭＷ=３０６，０．０１ｍｏｌ）を加え、室温（２３℃）の大気雰囲気下で７２時間攪拌した。その結果、アルミニウムゾルゲルプロセス組成物が、透明な均一な液体として得られた。いずれの撹拌もマグネティックスターラーを用いて行った。
【００７１】
（２）銅ゾルゲルプロセス組成物の製造
２−メトキシエタノール５０ｍｌに、２−アミノエタノール．６ｇ（ＭＷ＝６１，０．０６ｍｏｌ）を加えて、室温（２３℃）の大気雰囲気下で１時間攪拌した。その後、酢酸銅・１水和物（Ｃｕ（ＣＨ３ＣＯＯ）２・Ｈ２Ｏ）４．０ｇ（ＭＷ=１９９，０．０２ｍｏｌ）を加え、室温（２３℃）の大気雰囲気下で１２時間攪拌した。その結果、銅ゾルゲルプロセス組成物が、濃青色の均一な液体として得られた。いずれの攪拌もマグネティックスターラーを用いて行った。
【００７２】
（３）ゾルゲルプロセス組成物の製造
上記の製造方法により製造されたアルミニウムゾルゲルプロセス組成物およびゾルゲルプロセス組成物を、得られるゾルゲルプロセス組成物の組成が次のようになるように混合した。
アルミニウム含有溶質のアルミニウム換算モル数：０．０２ｍｏｌ
銅含有溶質の銅換算モル数：０．０２ｍｏｌ
２−アミノエタノール：１１ｍｌ
メトキシエタノール：１００ｍｌ
【００７３】
続いて、室温（２３℃）の大気雰囲気下で２４時間、マグネティックスターラーを用いて混合物の攪拌を行った。その結果、ゾルゲルプロセス組成物が、青色の均一な液体として得られた。ゾルゲルプロセス組成物中の金属（金属元素はＣｕおよびＡｌ）含有溶質の金属換算含有量は、０．３６ｍｏｌ／Ｌであった。
【００７４】
（４）ゲル膜の作製
得られたゾルゲルプロセス組成物を、石英基板（厚さ０．５ｍｍ）上に、引き上げ速度１ｍｍ／秒でディップコートした。ディップコート後、ホットプレートを用いて、大気雰囲気下にて、２００℃で１０分間、５００℃で２０分間、加熱することにより、乾燥工程を実施した。上記の塗布工程と乾燥工程とからなるサイクルを都合５回行って、石英基板上に厚さが約０．３５μｍのゲル膜を作製した。
【００７５】
（５）焼成
上記のとおり作製したゲル膜を、窒素雰囲気下で１０時間加熱した。加熱条件は次のとおりであった。まず、室温（２３℃）から３時間かけて目的温度である８００℃まで炉内を昇温し、所定の時間その温度を保ち、その後６時間かけて炉内温度が１００℃となるように降温し、その後、炉内温度が室温（２３℃）に戻るまで放冷した。以上の焼成工程を実施して、アルミニウムおよび銅の複合酸化物を含有する膜状体（厚さ：０．３μｍ）を、石英基板上に得た。
【００７６】
（実施例２から４）
実施例１において、目的温度を８００℃から次の温度に変更した以外は、実施例１と同様にして、石英基板上に膜状体を得た。
実施例２：８５０℃
実施例３：９００℃
実施例４：９５０℃
【００７７】
（実施例５）
２−メトキシエタノール５０ｍｌに、２−アミノエタノール１４．７ｇ（０．２４ｍｏｌ）を加えて、室温（２３℃）の大気雰囲気下で１時間攪拌した。その後、塩基性酢酸アルミニウム（和光純薬工業社製、Ａｌ２Ｏ（ＣＨ３ＣＯＯ）４）６．１ｇ（ＭＷ=３０６，０．０２ｍｏｌ）を加えた。得られた液状組成物を、室温（２３℃）の大気雰囲気下で、都合７２時間攪拌した。いずれの撹拌もマグネティックスターラーを用いて行った。
【００７８】
（実施例６）
２−メトキシエタノール５０ｍｌに、２−アミノエタノール１３．４ｇ（０．２２ｍｏｌ）を加えて、室温（２３℃）の大気雰囲気下で１時間攪拌した。その後、塩基性酢酸アルミニウム（和光純薬工業社製、Ａｌ２Ｏ（ＣＨ３ＣＯＯ）４）６．１ｇ（ＭＷ=３０６，０．０２ｍｏｌ）を加えた。得られた液状組成物を、室温（２３℃）の大気雰囲気下で、都合７２時間攪拌した。いずれの撹拌もマグネティックスターラーを用いて行った。
【００７９】
（実施例７）
２−メトキシエタノール５０ｍｌに、２−アミノエタノール１２．２ｇ（０．２０ｍｏｌ）を加えて、室温（２３℃）の大気雰囲気下で１時間攪拌した。その後、塩基性酢酸アルミニウム（和光純薬工業社製、Ａｌ２Ｏ（ＣＨ３ＣＯＯ）４）７．１ｇ（ＭＷ=３０６，０．０２ｍｏｌ）を加えた。得られた液状組成物を、室温（２３℃）の大気雰囲気下で、都合７２時間攪拌した。いずれの撹拌もマグネティックスターラーを用いて行った。
【００８０】
（試験例１）Ｘ線回折パターンの測定
Ｘ線回折測定装置（使用Ｘ線：ＣｕのＫα特性Ｘ線）を用いて、実施例１から４に係る膜状体のＸ線回折パターンの測定を行った。その結果、図１から４に示されるＸ線回折パターンが得られた。これらのスペクトルから、第一角度領域に存在する、アルミニウムおよび銅を含む複合酸化物に由来する最も強度の高い回折線のピーク強度（以下、「第一強度」という。）、および第二角度領域に存在する、アルミニウムおよび銅を含む複合酸化物に由来する最も強度の高い回折線のピーク強度（以下、「第二強度」という。）を求め、これらに基づいて対比用強度を算出した。その結果を表１に示す。
【００８１】
なお、第一強度を求めるにあたり、回折角３０．９°から３１．１°の範囲の平均値を回折角３１°の強度Ｉ１０とし、回折角３２．９°から３３．１°の範囲の平均値を回折角３３°の強度Ｉ１１とし、点（回折角３１°，強度Ｉ１０）および点（回折角３３°，強度Ｉ１１）を両端とする線分を、第一角度領域におけるベースラインとした。第一角度領域における測定強度の最大値を与える回折角Ａ１±０．０４°の範囲の測定強度の平均値を、第一角度領域における最大強度Ｉ１とした。上記の回折角Ａ１におけるベースライン値Ｂ１と上記の最大強度Ｉ１とを用いて、次式から、第一強度Ｐ１を求めた。
Ｐ１＝Ｉ１−Ｂ１
【００８２】
また、第二強度を求めるにあたり、回折角３３．９°から３４．１°の範囲の平均値を回折角３４°の強度Ｉ２０とし、回折角３９．９°から４０．１°の範囲の平均値を回折角４０°の強度Ｉ２１とし、点（回折角３４°，強度Ｉ２０）および点（回折角４０°，強度Ｉ２１）を両端とする線分を、第二角度領域におけるベースラインとした。第二角度領域における測定強度の最大値を与える回折角Ａ２±０．０４°の範囲の測定強度の平均値を、第二角度領域における最大強度Ｉ２とした。上記の回折角Ａ２におけるベースライン値Ｂ２と上記の最大強度Ｉ２とを用いて、次式から、第二強度Ｐ２を求めた。
Ｐ２＝Ｉ２−Ｂ２
なお、実施例３では、ＣｕＯに由来するピークが第二角度領域内に認められた。
【００８３】
【表１】
2015145326.tif 000003
【００８４】
（試験例２）分光スペクトルの測定
分光スペクトル測定装置を用いて、実施例１から４に係る膜状体の分光スペクトルの測定を行った（測定範囲：３００ｎｍ〜８００ｎｍ）。その結果、図５に示されるスペクトルが得られた。
【００８５】
（試験例３）ゾルゲルプロセス組成物の調製過程の観察
試験例５から７に係る液状組成物について、撹拌時間が表２に示される時間となった時の外観を観察し、その結果を記録した。観察結果を表２に示す。
【００８６】
【表２】
2015145326.tif 000004
【図１】
2015145326.tif 000005
【図２】
2015145326.tif 000006
【図３】
2015145326.tif 000007
【図４】
2015145326.tif 000008
【図５】
2015145326.tif 000009