(57)【要約】【課題】本発明が解決しようとする課題は、外観品質に優れ、反射防止性に優れた反射防止フィルムの製造方法を提供することにある。【解決手段】本発明は、基材の少なくとも片面に、樹脂層（Ａ）を有し、前記樹脂層（Ａ）の表面に屈折率１．２０〜１．４５の低屈折率層（Ｂ）を有する反射防止フィルムの製造方法であって、前記基材の搬送方向とは逆方向に回転するメタリングロールを備えたリバースロールコーターを用い、所定の剪断応力［Ｘ］１００Ｐａ・ｓ／ｍ〜３００Ｐａ・ｓ／ｍを加える工程を有する製造方法である。【選択図】図１
2015152611.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の少なくと片面に、樹脂層（Ａ）を有し、前記樹脂層（Ａ）の表面に屈折率１．２０〜１．４５の低屈折率層（Ｂ）を有する反射防止フィルムの製造方法であって、
前記基材の少なくとも片面に、前記樹脂層（Ａ）を形成する重合性不飽和二重結合を有する化合物を含有する組成物（ａ）を塗布し、前記重合性不飽和二重結合の一部を重合させることによって樹脂層（Ａ’）を形成する工程［１］、
前記樹脂層（Ａ’）の表面に、前記低屈折率層（Ｂ）を形成する組成物（ｂ）を塗布した後、その塗布面に、前記基材の搬送方向とは逆方向に回転するメタリングロールを備えたリバースロールコーターを用い、下記一般式（１−１）で示される剪断応力［Ｘ］１００Ｐａ・ｓ／ｍ〜３００Ｐａ・ｓ／ｍを加える工程［２］、及び、
活性エネルギー線を照射することによって、樹脂層（Ａ）と低屈折率層（Ｂ）とが積層した構造を形成する工程［３］
を有することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
剪断応力（Ｘ）＝（１＋α）η１／Ｌ    ・・・（１−１）
〔式（１−１）中のαは基材の搬送速度に対するメタリングロールの周速度の比率を表し、η１は前記組成物（ｂ）の粘度（Ｐａ・ｓ）を表し、Ｌは前記樹脂層（Ａ’）の表面と、前記メタリングロールの表面との隙間距離（ｍ）を表す。〕
【請求項２】
前記組成物（ｂ）の粘度が、１ｍＰａ・ｓ〜５ｍＰａ・ｓの範囲である請求項１に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項３】
基材の少なくと片面に、樹脂層（Ａ）を有し、前記樹脂層（Ａ）の表面に屈折率１．５０〜２．００の高屈折率層（Ｃ）を有し、かつ前記高屈折率層（Ｃ）の表面に屈折率１．２０〜１．４５の低屈折率層（Ｂ）を有する反射防止フィルムの製造方法であって、
前記基材の少なくとも片面に、前記樹脂層（Ａ）を形成する重合性不飽和二重結合を有する化合物を含有する組成物（ａ）を塗布し、前記重合性不飽和二重結合の一部を重合させることによって樹脂層（Ａ’）を形成する工程［４］、
前記樹脂層（Ａ’）の表面に、前記高屈折率層（Ｃ）を形成する重合性不飽和二重結合を有する化合物を含有する組成物（ｃ）を塗布した後、その塗布面に、前記基材の搬送方向とは逆方向に回転するメタリングロールを備えたリバースロールコーターを用い、下記一般式（１−２）で示される剪断応力［Ｘ］１００Ｐａ・ｓ／ｍ〜３００Ｐａ・ｓ／ｍを加え、次に前記重合性不飽和二重結合の一部を重合させることによって高屈折率層（Ｃ’）を形成する工程［５］、
剪断応力（Ｘ）＝（１＋α）η１／Ｌ    ・・・（１−２）
〔式（１−２）中のαは基材の搬送速度に対するメタリングロールの周速度の比率を表し、η１は前記組成物（ｃ）の粘度（Ｐａ・ｓ）を表し、Ｌは前記樹脂層（Ａ’）の表面と、前記メタリングロールの表面との隙間距離（ｍ）を表す。〕
前記高屈折率層（Ｃ’）の表面に、前記低屈折率層（Ｂ）を形成する組成物（ｂ）を塗布した後、その塗布面に、前記基材の搬送方向とは逆方向に回転するメタリングロールを備えたリバースロールコーターを用い、下記一般式（１−３）で示される剪断応力［Ｘ］１００Ｐａ・ｓ／ｍ〜３００Ｐａ・ｓ／ｍを加える工程［６］、及び、活性エネルギー線を照射することによって、樹脂層（Ａ）と高屈折率層（Ｃ）と低屈折率層（Ｂ）とが積層した構造を形成する工程［７］
を有することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
剪断応力（Ｘ）＝（１＋α）η１／Ｌ    ・・・（１−３）
〔式（１−３）中のαは基材の搬送速度に対するメタリングロールの周速度の比率を表し、η１は前記組成物（ｂ）の粘度（Ｐａ・ｓ）を表し、Ｌは前記高屈折率層（Ｃ’）の表面と、前記メタリングロールの表面との隙間距離（ｍ）を表す。〕
【請求項４】
前記組成物（ｂ）の粘度が、１ｍＰａ・ｓ〜５ｍＰａ・ｓの範囲であり、かつ、前記組成物（ｃ）の粘度が、１ｍＰａ・ｓ〜５ｍＰａ・ｓの範囲である請求項３に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、及び、それらにタッチパネル機能が付与されたディスプレイとしては、太陽光等の光の画像表示部における反射等に起因した画像の見づらさを解消すべく、反射防止性を付与されたものが使用されている。
【０００３】
前記反射防止性を付与する方法としては、例えば画像表示面に反射防止フィルムや防眩フィルムを貼付する方法が知られている。
【０００４】
前記反射防止フィルムとしては、例えば透明フィルムの表面に、蒸着法やスパッタリング法等のドライプロセス法によって低屈折率層を設けたもの（例えば特許文献１参照。）、透明フィルムの表面に、ウェットプロセス法によって低屈折率層を設けたもの（例えば特許文献２参照。）等が知られている。
【０００５】
また、前記防眩フィルムとしては、例えば透明フィルムの表面に、ウェットプロセス法によって微粒子を含有する防眩層を設けたものが知られている（例えば特許文献３参照。）
【０００６】
しかし、従来の反射防止フィルム及び防眩フィルムでは、反射防止性能の向上を主要な課題としており、前記フィルム表面に欠点や輝点が生じることを防止することで良好な外観品質（フィルム面の品質）を付与し、その結果、画像表示部に表示される画像等の視認性を向上させることはこれまで検討されていなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−１４９４０７号公報
【特許文献２】特開２００３−１７７２０９号公報
【特許文献３】特開２００３−２４８１１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明が解決しようとする課題は、外観品質に優れ、反射防止性に優れた反射防止フィルムの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者等は、低屈折率層を形成するための組成物を塗布した後、前記低屈折率層の厚さを調整する方法として、リバースロールコーターを選択し、かつ、前記低屈折率層を形成するための組成物の粘度、フィルムの進行方向とは逆方向に回転するメタリングロールのフィルムに対する相対的表面速度、及び前記フィルムの最表面とメタリングロール表面との隙間距離を特定の数値範囲となるように組合せることで、上記課題を解決できることを見出した。
【００１０】
すなわち、本発明は、基材の少なくとも片面に、樹脂層（Ａ）を有し、前記樹脂層（Ａ）の表面に屈折率１．２０〜１．４５の低屈折率層（Ｂ）を有する反射防止フィルムの製造方法であって、
前記基材の少なくとも片面に、前記樹脂層（Ａ）を形成する重合性不飽和二重結合を有する化合物を含有する組成物（ａ）を塗布し、前記重合性不飽和二重結合の一部を重合させることによって樹脂層（Ａ’）を形成する工程［１］、
【００１１】
前記樹脂層（Ａ’）の表面に、前記低屈折率層（Ｂ）を形成する組成物（ｂ）を塗布した後、その塗布面に、前記基材の搬送方向とは逆方向に回転するメタリングロールを備えたリバースロールコーターを用い、下記一般式（１−１）で示される剪断応力［Ｘ］１００Ｐａ・ｓ／ｍ〜３００Ｐａ・ｓ／ｍを加える工程［２］、及び、
活性エネルギー線を照射することによって、樹脂層（Ａ）と低屈折率層（Ｂ）とが積層した構造を形成する工程［３］
を有することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法
【００１２】
剪断応力（Ｘ）＝（１＋α）η１／Ｌ    ・・・（１−１）
〔式（１−１）中のαは基材の搬送速度に対するメタリングロールの周速度の比率を表し、η１は前記組成物（ｂ）の粘度（Ｐａ・ｓ）を表し、Ｌは前記樹脂層（Ａ’）の表面と、前記メタリングロールの表面との隙間距離（ｍ）を表す。〕
【発明の効果】
【００１３】
本発明の製造方法によれば、外観品質に優れ、反射防止性に優れた反射防止フィルムを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】リバースロールコーターを備えた装置の一例を示す概念図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、図面を参照しつつ、基材の少なくとも片面に、樹脂層（Ａ）を有し、前記樹脂層（Ａ）の表面に屈折率１．２０〜１．４５の低屈折率層（Ｂ）を有する反射防止フィルムの製造方法について詳細に説明する。
【００１６】
本発明の製造方法は、基材の少なくとも片面に樹脂層（Ａ）を有し、前記樹脂層（Ａ）の表面に屈折率１．２０〜１．４５の低屈折率層（Ｂ）を有する反射防止フィルムを製造する方法である。
【００１７】
前記反射防止フィルムの製造に使用する前記基材としては、例えばポリエチレンテレフタレート基材、ポリエチレンナフタレート基材等のポリエステル基材、トリアセチルセルロース等のセルロース系基材、ポリエチレン基材、ポリプロピレン基材、ポリスチレン基材、エチレン−酢酸ビニル樹脂（ＥＶＡ）基材、ポリ塩化ビニル基材、ポリ塩化ビニリデン基材等のビニル系樹脂基材、ポリサルホン基材、ポリエーテルサルホン基材、ポリカーボネート基材、ポリアミド基材、ポリイミド基材、アクリル樹脂基材等のプラスチック基材、ガラス板、セラミック板等を用いることができる。
【００１８】
前記基材としては、透明性や耐熱性に優れ、取り扱いやすく、比較的低価格であることから、ポリエチレンテレフタレート基材、ポリエチレンナフタレート基材を使用することが好ましく、ポリエチレンテレフタレート基材を使用することがより好ましい。
【００１９】
前記基材としては、高透明性のものを使用することが好ましく、具体的には、その全可視光線透過率が７０％以上であるものを使用することが好ましい。なお、前記基材としては、良好な透明性を維持可能な範囲で着色されたものを使用することもできる。
【００２０】
前記基材としては、優れた透明性と、良好な取扱性とを両立するうえで５μｍ〜３００μｍの厚さのものを使用することが好ましく、１０μｍ〜２５０μｍの厚さのものを使用することがより好ましく、２５μｍ〜２００μｍの厚さのものを使用することがさらに好ましい。
【００２１】
また、前記基材としては、単一の層からなる基材を使用することもできるが、同一または異なる材料からなる２層以上からなる多層基材を使用することもできる。
【００２２】
また、前記基材としては、その少なくとも片面に易剥離処理の施されたものを使用してもよい。
【００２３】
また、前記基材としては、後述する樹脂層（Ａ）との密着性をより一層向上させるうえで、その片面または両面に易接着処理の施されたものを使用することができる。前記易接着処理としては、例えば前記基材の片面または両面にプライマー層を設ける方法が挙げられる。
【００２４】
前記基材の表面に設けられる樹脂層（Ａ）としては、例えばハードコート層または防眩層が挙げられる。
【００２５】
前記樹脂層（Ａ）としては、反射防止フィルムに優れた耐擦過性と高強度とを付与するうえで、例えばＪＩＳ５６００−５−４：１９９９で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を有するものを使用することが好ましい。とりわけ、前記樹脂層（Ａ）を、ハードコート層として使用する場合、前記樹脂層（Ａ）として前記所定の鉛筆硬度を有するものを使用することが好ましい。
【００２６】
また、前記樹脂層（Ａ）は、その表面に微細な凹凸形状を有するものであってもよい。とりわけ、前記樹脂層（Ａ）を防眩層として使用する場合、前記樹脂層（Ａ）として微細な凹凸形状を有するものを使用することが好ましい。
【００２７】
前記樹脂層（Ａ）としては、単一の層からなるものであってもよく、同一または異なる材料を用いて得られる２層以上の多層構造を有するものであってもよい。例えば、前記樹脂層（Ａ）を防眩層として使用する場合、前記樹脂層（Ａ）としては、例えば凹凸形状を有する下層と、前記凹凸形状を所望の凹凸形状となるように微調整しうる上層とからなる多層構造を有するものを使用することができる。
【００２８】
前記樹脂層（Ａ）は、重合性不飽和二重結合を有する化合物を含有する組成物（ａ）を前記基材の少なくとも片面に塗布し、後述する方法により硬化させることによって形成することができる。
【００２９】
前記組成物（ａ）に含まれる重合性不飽和二重結合を有する化合物としては、例えば活性エネルギー線硬化型化合物を使用することが好ましい。
【００３０】
前記活性エネルギー線硬化型化合物としては、重合性不飽和二重結合を有するものを使用することができる。
【００３１】
前記重合性不飽和二重結合としては、具体的にはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基が挙げられ、アクリロイル基、メタクリロイル基であることが好ましい。
【００３２】
前記活性エネルギー線硬化型化合物としては、例えばエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性（ＥＯ変性）トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性（ＰＯ変性）トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、１，３，５−シクロヘキサントリオールトリ（メタ）アクリレート、等のポリオールポリ（メタ）アクリレート、アクリル（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルのジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのジ（メタ）アクリレート等のエポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、及び、それらの一部が重合し形成したオリゴマーを使用することができる。
【００３３】
なかでも、前記活性エネルギー線硬化型化合物としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ウレタンアクリレートを使用することが、透光性に優れ、フィルムの各面の外観品質に優れた反射防止フィルムを得るうえで好ましい。
【００３４】
前記化合物は、前記組成物（ａ）の固形分の全量に対して、５質量％〜９５質量％の範囲で含まれることが好ましい。
【００３５】
また、前記樹脂層（Ａ）として防眩層を形成する場合、前記組成物（ａ）としては、前記化合物と、粒子とを含有する組成物を使用することが好ましい。
【００３６】
前記粒子は、前記防眩層の表面に微細な凹凸形状を形成するうえで使用することが好ましい。
【００３７】
前記粒子としては、例えば透光性粒子を使用することができる。また、前記粒子としては、有機粒子または無機粒子を使用することができる。
【００３８】
前記有機粒子としては、例えばプラスチックビーズを使用することができる。
【００３９】
前記プラスチックビーズとしては、例えばスチレンビーズ（屈折率１．６０）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．５０〜１．５３）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４〜１．５８）、ベンゾグアナミンビーズ、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合ビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等を使用することができる。
【００４０】
前記プラスチックビーズとしては、その表面に疎水性基を有することが好ましく、具体的にはスチレンビーズを使用することが好ましい。
【００４１】
また、前記無機粒子としては、不定形シリカ、無機シリカビーズ等を使用することができる。
【００４２】
前記粒子は、目的に応じ、１種類だけでなく、成分が異なるもの、形状が異なるもの、粒度分布が異なるものなどを２種類以上混合して用いることができる。
【００４３】
前記粒子としては、任意の形状を有するものを使用することができ、例えば真球状、楕円状等であるものを使用することが好ましく、真球状であるものを使用することがより好ましい。
【００４４】
前記粒子としては、０．５μｍ〜２０μｍの範囲の平均粒子径を有するものを使用することが、より一層優れた防眩性及び光拡散効果と、優れた外観品質とを両立できるため好ましい。
【００４５】
前記粒子は、樹脂層（Ａ）の全質量に対して、５質量％〜４０質量％含まれることが、防眩性と、外観品質とに優れた樹脂層（Ａ）を形成できるため好ましく、１０質量％〜３０質量％含まれることがより好ましい。
【００４６】
前記組成物（ａ）としては、前記したもののほかに、必要に応じて、紫外線遮断剤、紫外線吸収剤、レベリング剤等の添加剤を含有するものを使用することができる。また、前記組成物（ａ）としては、高硬度の樹脂層（Ａ）を形成するうえで、高硬度を付与可能な無機フィラーを含有するものを使用することができる。
【００４７】
前記組成物（ａ）を用いて形成された前記樹脂層（Ａ）は、０．１μｍ〜１００μｍの範囲の厚さを有するものであることが好ましく、１μｍ〜３０μｍの範囲の厚さを有するものであることがより好ましく、３μｍ〜１５μｍの範囲の厚さを有するものであることが、前記基材との良好な密着性と、良好な耐擦過性とを両立するうえでさらに好ましい。
【００４８】
前記組成物（ａ）を用いて形成された樹脂層（Ａ）としては、その屈折率について制限はないが、後述する低屈折率層（Ｂ）よりも大きい屈折率を有する層とすることが、後述する高屈折率層（Ｃ）を設けることなく、より一層優れた反射防止性を備えた反射防止フィルムを得ることができるため好ましい。
【００４９】
また、本発明の反射防止フィルムを構成する低屈折率層（Ｂ）は、１．２０〜１．４５の屈折率を有する層である。
【００５０】
前記低屈折率層（Ｂ）は、それを形成する組成物（ｂ）を塗布等した後、所定の方法でその膜厚を調整することによって形成することができる。
【００５１】
前記組成物（ｂ）としては、所定の低屈折率を備えた低屈折率層（Ｂ）を形成するうえで、空隙を有する粒子、金属フッ化物からなる粒子等を含有するものを使用することができる。
【００５２】
前記空隙を有する粒子としては、気体を内部に含む多孔質構造のもの等を使用することができる。具体的には、前記空隙を有する粒子としては、中空シリカ粒子、ナノポーラス構造を有するシリカ粒子等が挙げられる。
【００５３】
また、前記金属フッ化物からなる粒子としては、フッ化マグネシウム、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム等からなる粒子を使用することができる。
【００５４】
また、前記低屈折率層（Ｂ）の形成に使用可能な前記粒子としては、有機化合物等によって修飾されたものを使用することもできる。具体的には、前記修飾された粒子としては、前記修飾されていない粒子の存在下で、架橋性モノマーまたはそのオリゴマー等を重合して得られるもの等を使用することができる。
【００５５】
前記組成物（ｂ）に使用可能な前記粒子は、１種または２種以上を組み合わせ使用することができる。また、前記粒子は、結晶性のもの、ゾル状のもの、ゲル状のもののいずれのものも用いることができる。
【００５６】
前記粒子としては、中空シリカ粒子を使用することが好ましい。
【００５７】
前記中空シリカ粒子の形状は、球状、鎖状、針状、板状、鱗片状、棒状、繊維状、不定形状のいずれであってもよい。なかでも、前記中空シリカ粒子としては、球状または針状のものを使用することが好ましい。
【００５８】
前記中空シリカ粒子の平均粒子径は、その形状が球状の場合、５ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ〜８０ｎｍであることがより好ましく、４０ｎｍ〜７０ｎｍであることが、低屈折率と優れた透明性とを両立できるためさらに好ましい。
【００５９】
前記組成物（ｂ）としては、前記中空シリカ粒子や金属フッ化物等の粒子の他に、各種バインダー成分を含有するものを使用することができる。
【００６０】
前記バインダー成分としては、例えば前記樹脂層（Ａ）を形成する際に使用可能なものとして例示した重合性不飽和二重結合を有する化合物を使用することができる。
【００６１】
また、前記バインダー成分としては、フッ素系重合体、ケイ素系重合体等を使用することもできる。
【００６２】
前記フッ素系重合体としては、例えばフッ化ビニリデンやヘキサフルオロプロピレン等の単量体を重合して得られるものを使用することができる。
【００６３】
前記組成物（ｂ）としては、前記した成分の他に、必要に応じて、公知のシリコーン系防汚剤、フッ素系防汚剤、滑り剤等を含有するものを使用することができる。
【００６４】
前記低屈折率層（Ｂ）は、前記組成物（ｂ）を塗布した後、その塗布面に対し、後述するリバースロールコーターを用い所定の剪断応力を加え、次に活性エネルギー線の照射を行うことによって形成される。前記塗布面に前記剪断応力を加えることで、その塗布層の厚さを調整するとともに、その塗布層の表面の質の向上（欠点等の防止）や平滑性等を付与できるため、表面に欠点や輝点がなく外観品質に優れた反射防止フィルムを形成することができる。
【００６５】
前記低屈折率層（Ｂ）の厚さは、５０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲にあることが好ましく、５０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲にあることがより好ましく、８０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲にあることがさらに好ましい。前記方法で低屈折率層（Ｂ）の厚さを前記した範囲に調整することによって、外観品質に優れ、反射防止性に優れた反射防止フィルムを得ることができる。
【００６６】
前記低屈折率層（Ｂ）の屈折率は、１．２３〜１．４２の範囲であることが、より一層優れた反射防止効果を付与するうえで好ましい。
【００６７】
本発明の反射防止フィルムは、基材の少なくとも片面に、樹脂層（Ａ）を有し、前記樹脂層（Ａ）の表面に屈折率１．２０〜１．４５の低屈折率層（Ｂ）を有する反射防止フィルムの製造方法であって、
前記基材の少なくとも片面に、前記樹脂層（Ａ）を形成する重合性不飽和二重結合を有する化合物を含有する組成物（ａ）を塗布し、前記重合性不飽和二重結合の一部を重合させることによって樹脂層（Ａ’）を形成する工程［１］、
【００６８】
前記樹脂層（Ａ’）の表面に、前記低屈折率層（Ｂ）を形成する組成物（ｂ）を塗布した後、その塗布面に、前記基材の搬送方向とは逆方向に回転するメタリングロールを備えたリバースロールコーターを用い、下記一般式（１−１）で示される剪断応力［Ｘ］１００Ｐａ・ｓ／ｍ〜３００Ｐａ・ｓ／ｍを加える工程［２］、及び、
活性エネルギー線を照射することによって、樹脂層（Ａ）と低屈折率層（Ｂ）とが積層した構造を形成する工程［３］
を有する方法で製造することができる。
【００６９】
剪断応力（Ｘ）＝（１＋α）η１／Ｌ    ・・・（１−１）
〔式（１−１）中のαは基材の搬送速度に対するメタリングロールの周速度の比率を表し、η１は前記組成物（ｂ）の粘度（Ｐａ・ｓ）を表し、Ｌは前記樹脂層（Ａ’）の表面と、前記メタリングロールの表面との隙間距離（ｍ）を表す。〕
【００７０】
はじめに、前記工程［１］について説明する。
前記工程［１］は、前記基材の少なくとも片面に、前記樹脂層（Ａ）を形成する重合性不飽和二重結合を有する化合物を含有する組成物（ａ）を塗布し、前記重合性不飽和二重結合の一部を重合させることによって樹脂層（Ａ’）を形成する工程である。
【００７１】
前記基材の片面または両面に前記組成物（ａ）を塗布する方法としては、ダイコーター、カーテンフローコーター、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、スピンコーター等を用いる方法が挙げられる。
【００７２】
前記方法で塗布することによって形成された層に含まれる重合性不飽和二重結合の一部を重合させる方法としては、例えば、紫外線、電子線、α線、β線、γ線のような活性エネルギー線を照射する方法が挙げられる。
【００７３】
前記活性エネルギー線を照射する装置としては、例えば紫外線であれば、その発生源として低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、無電極ランプ（フュージョンランプ）、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、水銀−キセノンランプ、ショートアーク灯、ヘリウム・カドミニウムレーザー、アルゴンレーザー、太陽光、ＬＥＤ等が挙げられる。
【００７４】
前記工程［１］を経ることによって形成された樹脂層（Ａ’）は、前記重合性不飽和二重結合の一部が残存した層である。かかる重合性不飽和二重結合の大部分は、後述する工程［３］でラジカル重合し消費される。
【００７５】
次に、前記工程［２］について説明する。
【００７６】
前記工程［２］は、前記工程［１］で形成された、基材少なくとも片面に前記樹脂層（Ａ’）が設けられた積層体の前記樹脂層（Ａ’）の表面に、前記組成物（ｂ）を塗布し、次に、その塗布面に、前記基材の搬送方向とは逆方向に回転するメタリングロールを備えたリバースロールコーターを用い、下記一般式（１−１）で示される剪断応力［Ｘ］１００Ｐａ・ｓ／ｍ〜３００Ｐａ・ｓ／ｍを加える工程［２］である。
【００７７】
前記積層体を構成する前記樹脂層（Ａ’）上に、前記組成物（ｂ）を塗布する方法としては、例えば、図１に示される供給ノズル３から前記組成物（ｂ）を一定流量で供給する方法、前記組成物（ｂ）を溜めた液パンに前記積層体をその搬送ロールの一部と共に浸して付着させる方法が挙げられる。
【００７８】
前記方法で前記組成物（ｂ）を塗布した後、その塗布面に、所定のリバースロールコーターを用い、所定の剪断応力を加える。これにより、その塗布層の厚さを調整するとともに、その塗布層の表面の質の向上（欠点等の防止）や平滑性等を付与することができ、その結果、欠点や輝点がなく外観品質に優れた反射防止フィルムを形成することができる。
【００７９】
前記リバースコーターとしては、例えば図１の概念図に記載された構造のものを使用することができる。
【００８０】
前記リバースロールコーターとしては、例えば、供給される基材の搬送方向と同じ方向に回転するバックアップロール１と、基材の搬送方向と逆方向に回転するメタリングロール２とを備えるものを使用することができる。なお、前記基材の搬送方向とは、前記基材の表面に樹脂層（Ａ’）の設けられた積層体が、前記バックアップロール１と前記メタリングロール２との間に位置する場合において、その積層体を構成する基材の搬送方向を指す。
【００８１】
前記リバースロールコーターは、前記積層体を構成する前記樹脂層（Ａ’）の表面と、メタリングロール２の表面とが接触しないよう所定の隙間距離６が設けられるように調整されている。これにより、所定の周速度で回転するメタリングロール２が、前記組成物（ｂ）の塗布層の厚さを調整するとともに、その塗布層の表面の質の向上（欠点等の防止）や平滑性等を付与でき、その結果、表面に欠点や輝点がなく外観品質に優れた反射防止フィルムを形成することができる。
【００８２】
最終的に得られる反射防止フィルムを構成する低屈折率層（Ｂ）の厚さは、剪断速度Ｄにおける前記組成物（ｂ）の粘度、前記隙間距離６、前記基材の搬送速度（これは、前記基材の表面に樹脂層（Ａ’）が設けられた積層体の搬送速度と同一、また、バックアップロール１の表面速度と同一。）及び前記メタリングロール２の前記基材の搬送速度に対する前記メタリングロール２の相対的表面速度等により決定される。
【００８３】
具体的には、前記剪断速度をＤ［ｓ−１］とし、前記バックアップロール１に支持された前記積層体を構成する前記樹脂層（Ａ’）の表面と前記メタリングロール２の表面との隙間距離６をＬとし、前記基材の搬送速度に対する前記メタリングロール２の相対的表面速度（前記積層体の搬送速度に対する前記メタリングロール２の相対的表面速度と同一）をＶとしたとき、次の式（２）の関係が成り立つ。
【００８４】
【数１】
2015152611.tif 000003
【００８５】
Ｄ：  剪断速度［ｓ−１］
Ｖ：  前記基材の搬送速度に対するメタリングロールの相対的表面速度［ｍ／ｓ］
Ｌ：  隙間距離［ｍ］
また、基材の搬送速度をＳ［ｍ／ｓ］とし、前記基材の搬送速度Ｓに対するメタリングロール２の周速度の比率をαとすると、メタリングロール２の周速度は、基材の搬送速度に対して逆方向であることから、−αＳ［ｍ／ｓ］で表され、式（３）が成り立つ。
【００８６】
【数２】
2015152611.tif 000004
【００８７】
前記式（２）と式（３）より、剪断速度Ｄは式（４）で表すことができる。
【００８８】
【数３】
2015152611.tif 000005
【００８９】
一方、一般にニュートン流体の粘度ηと剪断応力τおよび剪断速度Ｄとの間には、次式（５）の関係が成り立つ。
【００９０】
【数４】
2015152611.tif 000006
【００９１】
η：  ニュートン流体の粘度［Ｐａ・ｓ］
τ：  剪断応力［Ｐａ］
したがって、前記組成物（ｂ）がほぼニュートン流体であるとき、前記組成物（ｂ）の粘度η１は、式（５）においてη＝η１の関係が成り立ち、前記組成物（ｂ）の剪断応力τ１は、以下の式（６）で表すことができる。
【００９２】
【数５】
2015152611.tif 000007
【００９３】
ここで、前記工程［２］において、前記式（６）で算出される剪断応力τ１を基材の搬送速度Ｓで除したものを基材の搬送速度あたりの剪断応力（Ｘ）［Ｐａ・ｓ／ｍ］とするとき、剪断応力（Ｘ）［Ｐａ・ｓ／ｍ］は式（７）で表される。
【００９４】
【数６】
2015152611.tif 000008
【００９５】
すなわち、前記式（６）、式（７）より、剪断応力（Ｘ）［Ｐａ・ｓ／ｍ］は式（１−１）で表される。
【００９６】
剪断応力（Ｘ）＝（１＋α）η１／Ｌ    ・・・（１−１）
【００９７】
前記工程［２］では、前記組成物（ｂ）を選択し、その粘度が決定された後、前記相対的表面速度や前記隙間距離６を調節することによって、その剪断応力（Ｘ）が１００Ｐａ・ｓ／ｍ〜３００Ｐａ・ｓ／ｍの範囲となるように調整することが好ましい。
【００９８】
前記組成物（ｂ）の粘度は、１ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓの範囲であることが好ましく、１ｍＰａ・ｓ〜５ｍＰａ・ｓの範囲であることが、前記組成物（ｂ）の塗布層の厚さを任意の厚さに調整しやすい点でより好ましい。なお、前記組成物（ｂ）の粘度は、Ｂ型粘度計（ＢＬ型，東京計器株式会社製）を用いて常温で測定された値を指す。
【００９９】
また、前記工程［２］は、前記積層体を構成する前記樹脂層（Ａ’）のうち、静的表面張力が３０ｍＮ／ｍ以上である樹脂層（Ａ’）の表面に、前記組成物（ｂ）として動的表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下であるものを塗布する態様であることが好ましい。
【０１００】
なお、前記Ｖは、基材の搬送速度（正数）と、メタリングロール２との周速度（負数）との差である。前記基材の搬送速度は、基材と同一の周速度で回転するバックアップロール１の回転数と直径から計算により求めた速度を指し、メタリングロール２の周速度は、メタリングロール２の回転数と直径から計算により求めた速度を指す。
【０１０１】
また、Ｌで表される隙間距離６は、磁気式の変位計測用スケールを用いて測定した、バックアップロール１とメタリングロール２との両ロール外周間距離（最短距離）と、前記基材及び樹脂層（Ａ’）の積層体の厚さとの差を指す（図１）
前記樹脂層（Ａ’）と前記低屈折率層（Ｂ）との密着性をより一層向上させる方法としては、前記樹脂層（Ａ’）の表面を、予めサンドブラスト法や溶剤処理法等で、その表面を凹凸化処理、コロナ放電処理、クロム酸処理、火炎処理、熱風処理、オゾン処理、紫外線照射処理、酸化処理する方法が挙げられる。
【０１０２】
次に、前記工程［３］について説明する。
【０１０３】
前記工程［３］は、活性エネルギー線を照射することによって、樹脂層（Ａ）、または、樹脂層（Ａ）及び低屈折率層（Ｂ）を形成する工程である。
【０１０４】
前記工程［２］を経ることによって、基材の少なくとも片面に樹脂層（Ａ’）を有し、その表面に前記組成物（ｂ）の塗布層または低屈折率層（Ｂ）を有する積層体が製造される。
【０１０５】
前記積層体に、活性ネルギー線を照射することによって、樹脂層（Ａ’）に残存する重合性不飽和二重結合の大部分または全部がラジカル重合することによって樹脂層（Ａ）が形成される。また、前記組成物（ｂ）が活性エネルギー線硬化型化合物を含有する場合には、前記活性ネルギー線の照射の際にラジカル重合を進行させ低屈折率層（Ｂ）を形成する。前記組成物（ｂ）が活性エネルギー線硬化型化合物を含有しない場合には、前記活性エネルギー線を照射前に、予め低屈折率層（Ｂ）が形成されていてもよい。
【０１０６】
前記活性エネルギー線としては、例えば、紫外線、電子線、α線、β線、γ線等を使用することができる。
【０１０７】
前記活性エネルギー線を照射する装置としては、例えば紫外線であれば、その発生源として低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、無電極ランプ（フュージョンランプ）、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、水銀−キセノンランプ、ショートアーク灯、ヘリウム・カドミニウムレーザー、アルゴンレーザー、太陽光、ＬＥＤ等が挙げられる。
【０１０８】
前記活性エネルギー線の照射強度は、１００ｍＪ／ｃｍ２〜８００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましく、３００ｍＪ／ｃｍ２〜７００ｍＪ／ｃｍ２であることが樹脂層（Ａ’）に残存する重合性不飽和二重結合の大部分または全部がラジカル重合する点でより好ましい。
【０１０９】
前記工程［１］〜［３］を経ることによって、外観品質に優れ、反射防止性に優れた反射防止フィルムを得ることができる。
【０１１０】
また、本発明の反射防止フィルムとしては、より一層優れた反射防止性を付与するうえで、前記樹脂層（Ａ）と前記低屈折率層（Ｂ）との間に、高屈折率層（Ｃ）を有するものを使用することができる。
【０１１１】
前記高屈折率層（Ｃ）としては、１．５０〜２．００の範囲の屈折率を有するものを使用することが好ましい。
【０１１２】
前記高屈折率層（Ｃ）の形成に使用可能な組成物（ｃ）としては、重合性不飽和二重結合を有する化合物と、必要に応じて高屈折率の無機粒子とを含有するものを使用することができる。
【０１１３】
前記重合性不飽和二重結合を有する化合物としては、前記組成物（ａ）に使用可能なものとして例示した活性エネルギー線硬化型化合物と同様のものを使用することができる。
【０１１４】
また、前記高屈折率の無機粒子としては、１．６５〜２．００の屈折率を有するものを使用することが好ましく、例えば、屈折率１．９０である酸化亜鉛、屈折率２．３〜２．７であるチタニア、屈折率が．９５であるセリア、屈折率１．９５〜２．００である錫ドープ酸化インジウム、屈折率１．７５〜１．８５であるアンチモンドープ酸化錫、屈折率１．８７であるイットリア、屈折率２．１０であるジルコニア等を、単独または２種以上を組み合わせ使用することができる。
【０１１５】
前記組成物（ｃ）を用いて形成される前記高屈折率層（Ｃ）の厚さは、１０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲にあることが好ましく、３０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲にあることがより好ましい。
【０１１６】
前記高屈折率層（Ｃ）を有する反射防止フィルムは、以下の工程［４］〜工程［７］を経ることによって製造することができる。
【０１１７】
はじめに工程［４］について説明する。
【０１１８】
工程［４］は、前記基材の少なくとも片面に、前記樹脂層（Ａ）を形成する重合性不飽和二重結合を有する化合物を含有する組成物（ａ）を塗布し、前記重合性不飽和二重結合の一部を重合させることによって樹脂層（Ａ’）を形成する工程である。
【０１１９】
前記工程［４］は、前記工程［１］と同様の方法で行うことができる。
【０１２０】
次に、工程［５］について説明する。
【０１２１】
前記工程［５］は、前記工程［４］で形成された、基材少なくとも片面に前記樹脂層（Ａ’）が設けられた積層体の前記樹脂層（Ａ’）の表面に、前記高屈折率層（Ｃ）を形成する重合性不飽和二重結合を有する化合物を含有する組成物（ｃ）を塗布した後、その塗布面に、前記基材の搬送方向とは逆方向に回転するメタリングロールを備えたリバースロールコーターを用い、下記一般式（１−２）で示される剪断応力［Ｘ］１００Ｐａ・ｓ／ｍ〜３００Ｐａ・ｓ／ｍを加え、次に前記重合性不飽和二重結合の一部を重合させることによって高屈折率層（Ｃ’）を形成する工程である。
【０１２２】
剪断応力（Ｘ）＝（１＋α）η１／Ｌ    ・・・（１−２）
〔式（１−２）中のαは基材の搬送速度に対するメタリングロールの周速度の比率を表し、η１は前記組成物（ｃ）の粘度（Ｐａ・ｓ）を表し、Ｌは前記高屈折率層（Ｃ’）の表面と、前記メタリングロールの表面との隙間距離（ｍ）を表す。〕
前記積層体を構成する前記樹脂層（Ａ’）上に、前記組成物（ｃ）を塗布する方法としては、前記工程［２］において組成物（ｂ）を塗布する方法として例示した方法と同様の方法を採用することができる。
【０１２３】
前記方法で前記組成物（ｃ）を塗布した後、その塗布面に、所定のリバースロールコーターを用い、所定の剪断応力［Ｘ］を加える。これにより、前記組成物（ｃ）を塗布して形成した塗布層の厚さを調整するとともに、その塗布層の表面の質の向上（欠点等の防止）や平滑性等を付与でき、その結果、表面に欠点や輝点がなく外観品質に優れた反射防止フィルムを形成することができる。
【０１２４】
前記リバースコーターとしては、前記工程［２］において使用可能なものとして例示したリバースコーターと同様のものを、同様の条件（剪断応力等）で使用することができる。
【０１２５】
前記リバースロールコーターは、前記積層体を構成する前記樹脂層（Ａ’）の表面と、メタリングロールの表面とが接触しないよう所定の隙間距離が設けられるように調整されている。これにより、前記塗布層の厚さを調整するとともに、その塗布層の表面の質の向上（欠点等の防止）や平滑性等を付与でき、その結果、表面に欠点や輝点がなく外観品質に優れた反射防止フィルムを形成することができる。
【０１２６】
前記組成物（ｃ）の厚さ、すなわち、最終的に得られる反射防止フィルムを構成する高屈折率層（Ｃ）の厚さは、剪断速度Ｄにおける前記組成物（ｃ）の粘度、前記隙間距離、前記基材の搬送速度（これは、前記基材の表面に樹脂層（Ａ’）が設けられた積層体の搬送速度と同一、また、バックアップロールの表面速度と同一。）及び前記メタリングロールの周速度等により決定される。
【０１２７】
前記工程［５］では、前記組成物（ｃ）を選択し、その粘度が決定された後、前記相対的表面速度や前記隙間距離を調節しすることによって、その剪断応力（Ｘ）が１００Ｐａ・ｓ／ｍ〜３００Ｐａ・ｓ／ｍの範囲となるように調整することが好ましい。
【０１２８】
前記組成物（ｃ）の粘度は、１ｍＰａ・ｓ〜１０ｍＰａ・ｓの範囲であることが好ましく、１ｍＰａ・ｓ〜５ｍＰａ・ｓの範囲であることが、前記組成物（ｃ）の塗布層の厚さを任意の厚さに調整しやすい点でより好ましい。なお、前記組成物（ｃ）の粘度は、Ｂ型粘度計（ＢＬ型，東京計器株式会社製）を用いて常温で測定された値を指す。
【０１２９】
また、前記工程［５］は、前記積層体を構成する前記樹脂層（Ａ’）のうち、静的表面張力が３０ｍＮ／ｍ以上である樹脂層（Ａ’）の表面に、前記組成物（ｃ）として動的表面張力が３０ｍＮ／ｍ以下であるものを塗布する態様であることが好ましい。
【０１３０】
次に、工程［６］について説明する。
【０１３１】
前記工程［６］は、前記工程［２］で形成した高屈折率層（Ｃ’）の表面に、前記低屈折率層（Ｂ）を形成する組成物（ｂ）を塗布した後、その塗布面に、前記基材の搬送方向とは逆方向に回転するメタリングロールを備えたリバースロールコーターを用い、下記一般式（１−３）で示される剪断応力［Ｘ］１００Ｐａ・ｓ／ｍ〜３００Ｐａ・ｓ／ｍを加える工程である。
【０１３２】
剪断応力（Ｘ）＝（１＋α）η１／Ｌ    ・・・（１−３）
〔式（１−３）中のαは基材の搬送速度に対するメタリングロールの周速度の比率を表し、η１は前記組成物（ｂ）の粘度（Ｐａ・ｓ）を表し、Ｌは前記高屈折率層（Ｃ’）の表面と、前記メタリングロールの表面との隙間距離（ｍ）を表す。〕
【０１３３】
前記工程［６］は、前記樹脂層（Ａ’）の代わりに前記高屈折率層（Ｃ’）の表面に前記組成物（ｂ）を塗布すること以外は、前記工程［２］に記載した方法と同様の方法で行うことができる。
【０１３４】
次に、工程［７］について説明する。
工程［７］は、活性エネルギー線を照射することによって、樹脂層（Ａ）と高屈折率層（Ｃ）、または、樹脂層（Ａ）と高屈折率層（Ｃ）と低屈折率層（Ｂ）とを形成する工程である。
【０１３５】
前記工程［７］は、前記工程［３］とに記載した方法と同様の方法で行うことができる。
【０１３６】
前記工程［４］〜［７］を経ることによって、外観品質に優れ、反射防止性に優れた反射防止フィルムを得ることができる。
【０１３７】
本発明の製造方法により製造された反射防止フィルムの視感度反射率は、２．０％以下であることが好ましく、１．５％以下であることがより好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。
【０１３８】
本発明の製造方法により製造された反射防止フィルムは、必要に応じて、その片面または両面に、加飾層、粘着剤、電磁波シールド層、赤外線吸収層、紫外線吸収層、色補正層等の各種機能層を有していてもよい。
【０１３９】
前記機能層は、単層であっても複数の層であってもよい。例えば、機能層は、単層で複数の性能を有するものであってもよい。例えば、防汚性能と赤外線吸収性能とを備えた単層であってもよい。
【０１４０】
本発明の製造方法により製造された反射防止フィルムは、前記したとおり、その片面または両面の一部または全部に、加飾層や粘着剤層を有していてもよい。前記加飾層が一部または全部に設けられた反射防止フィルムは、加飾フィルムとして使用することができる。また、前記粘着剤層が一部または全部に設けられた反射防止フィルムは、保護フィルムとして使用することができる。
【０１４１】
前記加飾層としては、例えば文字、図形、記号をはじめ、隠ぺい用の額縁状の縁取りなどによって構成されるものが挙げられる。
【０１４２】
実施例により本発明をより具体的に説明する。
〔調製例１〕組成物（ａ−１）の調製
ユニディック  １７−８１３（ＤＩＣ株式会社製、多官能ウレタンアクリレート、不揮発分８０質量％）３９質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（東亞合成株式会社製、アロニックス  Ｍ４０２）３１質量部、光重合開始剤としてイルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）４質量部、及び、有機溶媒として酢酸エチル２６質量部を混合することによって組成物（ａ−１）を得た。
【０１４３】
〔調製例２〕組成物（ｂ−１）の調製
組成物（ｂ−１）として、「Ｐ−５０６２」（日揮触媒化成株式会社製、中空シリカ微粒子分散液、不揮発分３質量％）を使用した。組成物（ｂ−１）の粘度は、Ｂ型粘度計（ＢＬ型、東京計器株式会社製）を用い、回転数６０ｒｐｍで測定したところ、２．０ｍＰａ・ｓであった。
【０１４４】
〔調製例３〕組成物（ｃ−１）の調製
組成物（ｃ−１）として、「ＤＸ−１０５７ＺＲＣ」（日揮触媒化成株式会社製、ジルコニア微粒子分散液、不揮発分３質量％）を使用した。前記組成物（ｃ−１）の粘度は、Ｂ型粘度計（ＢＬ型、東京計器株式会社製）を用い、回転数６０ｒｐｍで測定したところ、２．０ｍＰａ・ｓであった。
【０１４５】
〔実施例１〜６、比較例１〜３〕
Ａ４３００−１００（東洋紡株式会社製、厚さ１００μｍ、高透明ポリエチレンテレフタレートフィルム）からなる基材の片面に、調製例１で得た組成物（ａ−１）を乾燥後の厚さが５μｍになるように、図１に示すような、基材の搬送方向とは逆方向に回転するメタリングロールを備えたリバースロールコーターを用いて塗布し、温度８０℃の環境下で２分間乾燥することによって塗膜を形成した。
【０１４６】
次に、前記塗膜の表面に、ヒュージョン社製のＨバルブを使用し、酸素雰囲気下で照射量１００ｍＪ／ｃｍ２になるように、紫外線照射を行うことによって、前記塗膜に含まれる（メタ）アクリロイル基の一部が重合した樹脂層（Ａ’−１）を形成した。
【０１４７】
次に、前記樹脂層（Ａ’−１）上に、前記組成物（ｂ−１）を乾燥後の厚さが０．１μｍになるように、図１に示すメタリングロールを備えたリバースロールコーターを用いて塗布し、温度８０℃の環境下で２分間乾燥することによって塗膜（低屈折率層（Ｂ−１））を形成した。
【０１４８】
なお、前記リバースロールコーターを用いて組成物（ｂ−１）を塗布する際の剪断応力が、下記表に示す値となるように、後述する、Ｓ、α、αＳ、Ｖ、Ｌ、Ｄ、τ１、及びＸを、表に示すとおり設定した。
【０１４９】
次に、前記塗膜（低屈折率層（Ｂ−１））の表面に、ヒュージョン社製のＨバルブを使用し、窒素雰囲気下で照射量４００ｍＪ／ｃｍ２になるように、紫外線照射を行うことによって、前記塗膜に含まれる（メタ）アクリロイル基の全部または大部分が重合した前記樹脂層（Ａ−１）と、その表面に低屈折率層（Ｂ−１）とを形成した。
【０１５０】
〔実施例７〜９、比較例４〜６〕
Ａ４３００−１００（東洋紡株式会社製、厚さ１００μｍ、高透明ポリエチレンテレフタレートフィルム）からなる基材の片面に、前記組成物（ａ−１）を乾燥後の厚さが５μｍになるように、図１に示すメタリングロールを備えたリバースロールコーターを用いて塗布し、温度８０℃の環境下で２分間乾燥することによって塗膜を形成した。
【０１５１】
次に、前記塗膜の表面に、ヒュージョン社製のＨバルブを使用し、酸素雰囲気下で照射量１００ｍＪ／ｃｍ２になるように、紫外線を照射を行うことによって、前記塗膜に含まれる（メタ）アクリロイル基の一部が重合した樹脂層（Ａ’−１）を形成した。
【０１５２】
次に、前記樹脂層（Ａ’）上に、前記組成物（ｃ−１）を乾燥後の厚さが０．１５μｍになるように、図１に示すメタリングロールを備えたリバースロールコーターを用いて塗布し、温度８０℃の環境下で２分間乾燥することによって塗膜を形成した。
【０１５３】
なお、前記リバースロールコーターを用いて組成物（ｃ−１）を塗布する際の剪断応力が、下記表に示す値となるように、後述する、Ｓ、α、αＳ、Ｖ、Ｌ、Ｄ、τ１、及びＸを、表に示すとおり設定した。
【０１５４】
次に、前記塗膜の表面に、ヒュージョン社製のＨバルブを使用し、酸素雰囲気下で照射量６００ｍＪ／ｃｍ２になるように、紫外線を照射を行うことによって、前記塗膜に含まれる（メタ）アクリロイル基の全部または大部分が重合した前記樹脂層（Ａ−１）と、その表面に高低屈折率層（Ｃ’−１）を形成した。
【０１５５】
次に、前記高屈折率層（Ｃ’−１）上に、前記組成物（ｂ）を乾燥後の厚さが０．１μｍになるように、図１に示すメタリングロールを備えたリバースロールコーターを用いて塗布し、温度８０℃の環境下で２分間乾燥することによって塗膜（低屈折率層（Ｂ−１））を形成した。
【０１５６】
なお、前記リバースロールコーターを用いて組成物（ｂ−１）を塗布する際の剪断応力が、下記表に示す値となるように、後述する、Ｓ、α、αＳ、Ｖ、Ｌ、Ｄ、τ１、及びＸを、表に示すとおり設定した。
【０１５７】
次に、前記塗膜（低屈折率層（Ｂ−１））の表面に、ヒュージョン社製のＨバルブを使用し、窒素雰囲気下で照射量４００ｍＪ／ｃｍ２になるように、紫外線を照射を行うことによって、前記高屈折率層（Ｃ’−１）上に低屈折率層（Ｂ−１）を形成した。
【０１５８】
表１に、実施例１〜６及び比較例１〜３の反射防止フィルムの製造条件を示す。なお、表１中の記号は以下のとおりである。
Ｓ：基材の搬送速度［ｍ／ｓ］
α：基材の搬送速度に対する、メタリングロール（ＭＤ）の周速度の比率
αＳ：メタリングロール（ＭＤ）の周速度
Ｖ：基材の搬送速度に対する、メタリングロールの相対的表面速度［ｍ／ｓ］
Ｌ：樹脂層（Ａ’）の表面とメタリングロールの表面との隙間距離［ｍ］
Ｄ：剪断速度
τ１：組成物（ｂ−１）の剪断応力
（Ｘ）：式（１−１）で表される剪断応力（Ｘ）
前記Ｓで示される前記基材の搬送速度は、基材と同一の周速度で回転するバックアップロール１の回転数と直径から計算により求めた速度を指し、メタリングロール２の周速度は、メタリングロール２の回転数と直径から計算により求めた。
【０１５９】
また、基材の搬送速度に対する、メタリングロール（ＭＤ）の周速度の比率αは、前記基体の搬送速度と、メタリングロールの周速度とに基づいて算出した。
【０１６０】
また、メタリングロール（表中、ＭＤと省略）の周速度αＳは、メタリングロールの回転数と直径から計算により求めた。
【０１６１】
また、基材の搬送速度に対する、メタリングロールの相対的表面速度であるＶは、前記基材の搬送速度Ｓ（正数）と、前記メタリングロールの周速度αＳ（負数）との差に基づいて算出した。
【０１６２】
また、基材及び樹脂層（Ａ’−１）からなる積層体の表面とメタリングロールの表面との隙間距離Ｌ［ｍ］は、磁気式の変位計測用スケールを用いて測定した、バックアップロール１とメタリングロール２との両ロール外周間距離（最短距離）から、前記基材及び樹脂層（Ａ’）の積層体の厚さを差し引くことによって算出した。
【０１６３】
また、表１におけるＤで表される剪断速度は、前記Ｖと前記Ｌから、式（２）により求めた。
【０１６４】
【数７】
2015152611.tif 000009
【０１６５】
また、表１におけるτ１で表される組成物（ｂ）の剪断応力は、前記α、前記Ｓ、前記Ｌと、前記組成物（ｂ）の粘度η１から、式（６）により求めた。
【０１６６】
【数８】
2015152611.tif 000010
【０１６７】
また、剪断応力（Ｘ）は、前記α、前記η１、前記Ｌとから、式（１−１）により求めた。
【０１６８】
剪断応力（Ｘ）＝（１＋α）η１／Ｌ    ・・・（１−１）
表２に、実施例７〜９、及び比較例４〜６の、反射防止フィルムの製造条件を示す。なお、表１中の記号は、以下のとおりである。
Ｓ：基材の搬送速度［ｍ／ｓ］
αＳ：メタリングロール（ＭＤ）の周速度
α：基材の搬送速度に対する、メタリングロール（ＭＤ）の周速度の比率
Ｖ：基材の搬送速度に対する、メタリングロールの相対的表面速度［ｍ／ｓ］
Ｌ：樹脂層（Ａ’）または高屈折率層（Ｃ’）の表面とメタリングロールの表面との隙間距離［ｍ］
Ｄ：剪断速度
τ１：組成物（ｂ−１）または組成物（ｃ−１）の剪断応力
Ｘ：式（１−２）または式（１−３）で表される剪断応力（Ｘ）
【０１６９】
表２におけるＬは、組成物（ｃ−１）を塗布する場合において、前記樹脂層（Ａ’）の表面とメタリングロール表面との隙間距離［ｍ］を指し、組成物（ｂ−１）を塗布する場合、前記高屈折率層（Ｃ’）の表面とメタリングロール表面との隙間距離［ｍ］を指す。
【０１７０】
基材及び樹脂層（Ａ’−１）からなる積層体の表面とメタリングロールの表面との隙間距離Ｌ［ｍ］は、磁気式の変位計測用スケールを用いて測定した、バックアップロール１とメタリングロール２との両ロール外周間距離（最短距離）から、前記基材及び樹脂層（Ａ’）の積層体の厚さを差し引くことによって算出した。
【０１７１】
また、前記基材と樹脂層（Ａ−１）と高屈折率層（Ｃ’−１）からなる積層体の表面からメタリングロールの表面までの隙間距離Ｌ［ｍ］は、磁気式の変位計測用スケールを用いて測定した、バックアップロール１とメタリングロール２との両ロール外周間距離（最短距離）から、前記積層体の厚さを差し引くことによって算出した。
【０１７２】
また、表２におけるＤで表される剪断速度は、前記Ｖと前記Ｌから、式（２）により求めた。
【０１７３】
【数９】
2015152611.tif 000011
【０１７４】
また、表２におけるτ１で表される剪断応力は、前記α、前記Ｓ、前記Ｌと、前記組成物（ｂ）又は（ｃ）の粘度η１から、式（６）により求めた。
【０１７５】
【数１０】
2015152611.tif 000012
【０１７６】
また、表１における（Ｘ）で表される剪断応力（Ｘ）は、前記α、前記η１、前記Ｌとから、式（１−２）または式（１−３）により求めた。
【０１７７】
剪断応力（Ｘ）＝（１＋α）η１／Ｌ    ・・・（１−２）
剪断応力（Ｘ）＝（１＋α）η１／Ｌ    ・・・（１−３）
〔外観品質の評価方法〕
前記方法で得た反射防止フィルムの外観を、目視で観察し、下記の基準によってその外観品質を評価した。
【０１７８】
○：輝点、欠点、スジがなかった。
×：輝点、欠点、スジのいずれかがあった。
【０１７９】
〔反射防止性の評価方法（視感度反射率に基づく評価方法）〕
分光光度計（日本分光株式会社製Ｖ−６５０）を用いて、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の光を分光し反射防止フィルムに照射することによって、反射防止フィルムの分光反射率を測定し、波長５５０ｎｍの分光反射率を視感度反射率として表１、２に示した。視感度反射率が２％以下であれば、反射防止性能が十分得られていると判定した。
【０１８０】
【表１】
2015152611.tif 000013
【０１８１】
【表２】
2015152611.tif 000014
【０１８２】
表２中の工程５は、組成物（ｃ−１）を塗布し、所定の剪断応力を加える工程を指し、工程６は、組成物（ｂ−１）を塗布し、所定の剪断応力を加える工程を指す。
【符号の説明】
【０１８３】
１ バックアップロール
２ メタリングロール
３ 供給ノズル
４ 基材の片面に樹脂層（Ａ’）が設けられた積層体
５ 組成物（ｂ）
６ 隙間距離
【図１】
2015152611.tif 000015