(57)【要約】      （修正有）【課題】抵抗値をはじめとする、タッチパネル向け光透過性導電性フィルムに通常要求される諸特性を大幅に損ねることなく、パターン見え現象が改善する光透過性導電性フィルムを提供する。【解決手段】光透過性支持層（Ａ）１１、ハードコート層（Ｂ）１２及び光透過性導電層（Ｃ）１３を含有する光透過性導電性フィルム１であって、ハードコート層（Ｂ）の少なくとも一つがシリカ系粒子を含有し、かつ、フィルム主面に対する垂直方向におけるハードコート層（Ｂ）の断面に、直径２０ｎｍ〜１００ｎｍの前記シリカ系粒子の断面が７個／μｍ２〜１００個／μｍ２観察される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）光透過性支持層；
（Ｂ）ハードコート層；及び
（Ｃ）光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記ハードコート層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記ハードコート層（Ｂ）の前記光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記ハードコート層（Ｂ）の少なくとも一つがシリカ系粒子を含有し、かつ
フィルム主面に対する垂直方向における前記ハードコート層（Ｂ）の断面に、直径２０ｎｍ〜１００ｎｍの前記シリカ系粒子の断面が７個／μｍ２〜１００個／μｍ２観察されることを特徴とする、光透過性導電性フィルム。
【請求項２】
前記ハードコート層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の両方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層（Ｃ）が、一方の前記ハードコート層（Ｂ）の前記光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面にのみ、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
他方の前記ハードコート層（Ｂ）のみがシリカ系粒子を含有する、請求項１に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項３】
前記シリカ系粒子が、球状シリカ、微粉末シリカ及び破砕シリカからなる群より選択される少なくとも一種のシリカ系粒子である、請求項１又は２に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項４】
光透過性支持層（Ａ）が、シクロオレフィン系ポリマーを主成分とするものである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の光透過性導電性フィルムを含む、タッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光透過性導電性フィルム及びそれを有するタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルに搭載される光透過性導電性フィルムとして、ＰＥＴ等からなる光透過性支持層の上に酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等からなる光透過性導電層を積層して得られるフィルムが数多く使用されている（特許文献１）。
【０００３】
これらの光透過性導電性フィルムは、さらにエッチング処理を行うことにより光透過性導電層をパターン化した上でタッチパネルに搭載されるのが通常である。このようにして光透過性導電層がパターン化された光透過性導電性フィルムにおいて、フィルム表面に光透過性導電層のパターンが視認されるようになること（いわゆる骨見え現象；ｐａｔｔｅｒｎ ｖｉｓｉｂｉｌｉｔｙ）が知られている。
【０００４】
このようにして光透過性導電層がパターン化された光透過性導電性フィルムは、光透過性導電層が存在する領域（本明細書において、「パターン部」ということがある。）と、光透過性導電層が存在しない領域（本明細書において、「エッチング部」ということがある。）とで、異なる分光透過率及び分光反射率を示す。このような分光透過率及び分光反射率の差が、骨見え現象の原因であると考えられている。
【０００５】
近年になって、加熱処理によって光透過性導電性フィルムのパターン部が視認されやすくなり、この結果見栄えが悪化することも報告されている（特許文献１）。しかしながら、かかる原因は十分に解明されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１２−１２８６２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明者らは、抵抗値をはじめとする、タッチパネル向け光透過性導電性フィルムに通常要求される諸特性を大幅に損ねることなく、パターン見え現象が改善された光透過性導電性フィルムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、パターン部及びエッチング部を有する光透過性導電性フィルムでは、パターン部の断面形状が上に凸の円弧形状となるものと、かつエッチング部の断面形状が下に凸の円弧形状となるものがあり、この場合にはこれらの円弧形状の丸み度合が大きいほど、骨見え現象の程度が大きくなる傾向があることを突き止めた。そして、本発明者らは、鋭意検討を重ね、シリカ系粒子を特定の態様で含有するハードコート層を支持層と導電層の間に設けることによって上記課題を解決できることを見出した。本発明はさらなる検討を重ねることにより完成されたものであり、以下の態様を含む。
項１．
（Ａ）光透過性支持層；
（Ｂ）ハードコート層；及び
（Ｃ）光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記ハードコート層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記ハードコート層（Ｂ）の前記光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記ハードコート層（Ｂ）の少なくとも一つがシリカ系粒子を含有し、かつ
フィルム主面に対する垂直方向における前記ハードコート層（Ｂ）の断面に、直径２０ｎｍ〜１００ｎｍの前記シリカ系粒子の断面が７個／μｍ２〜１００個／μｍ２観察されることを特徴とする、光透過性導電性フィルム。
項２．
前記ハードコート層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の両方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層（Ｃ）が、一方の前記ハードコート層（Ｂ）の前記光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面にのみ、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
他方の前記ハードコート層（Ｂ）のみがシリカ系粒子を含有する、項１に記載の光透過性導電性フィルム。
項３．
前記シリカ系粒子が、球状シリカ、微粉末シリカ及び破砕シリカからなる群より選択される少なくとも一種のシリカ系粒子である、項１又は２に記載の光透過性導電性フィルム。
項４．
光透過性支持層（Ａ）が、シクロオレフィン系ポリマーを主成分とするものである、項１〜３のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。
項５．
項１〜４のいずれかに記載の光透過性導電性フィルムを含む、タッチパネル。
【発明の効果】
【０００９】
本発明を利用することにより、タッチパネル向け光透過性導電性フィルムにおいて、抵抗値をはじめとする通常の要求特性を大幅に損ねることなく、パターン見え現象を改善することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】光透過性支持層（Ａ）の片面に、ハードコート層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で、互いに全層が隣接して配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図２】光透過性支持層（Ａ）の片面に、ハードコート層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で、互いに全層が隣接して配置されており、他方の面に、別のハードコート層（Ｂ）が直接配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図３】光透過性支持層（Ａ）の両面に、ハードコート層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で、互いに全層が隣接して配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図４】光透過性支持層（Ａ）の片面に、ハードコート層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｃ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で、互いに全層が隣接して配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図５】光透過性支持層（Ａ）の片面に、ハードコート層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｃ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で、互いに全層が隣接して配置されており、他方の面に、別のハードコート層（Ｂ）が直接配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図６】光透過性支持層（Ａ）の両面に、ハードコート層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｃ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で、互いに全層が隣接して配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
１．  光透過性導電性フィルム
本発明の光透過性導電性フィルムは、
（Ａ）光透過性支持層；
（Ｂ）ハードコート層；及び
（Ｃ）光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記ハードコート層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記ハードコート層（Ｂ）の前記光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記ハードコート層（Ｂ）がシリカ系粒子を含有し、かつ
フィルム主面に対する垂直方向における前記ハードコート層（Ｂ）の断面に、直径２０ｎｍ〜１００ｎｍの前記シリカ系粒子の断面が７個／μｍ２〜１００個／μｍ２観察されることを特徴とする、光透過性導電性フィルムである。
また、本発明の光透過性導電性フィルムは、好ましくは、
（Ａ）光透過性支持層；
（Ｂ）ハードコート層；及び
（Ｃ）光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記ハードコート層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の両方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層（Ｃ）が、一方の前記ハードコート層（Ｂ）の前記光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面にのみ、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
他方の前記ハードコート層（Ｂ）のみがシリカ系粒子を含有し、かつ
フィルム主面に対する垂直方向における前記ハードコート層（Ｂ）の断面に、直径２０ｎｍ〜１００ｎｍの前記シリカ系粒子の断面が７個／μｍ２〜１００個／μｍ２観察されることを特徴とする、光透過性導電性フィルムである。
【００１２】
本発明において「光透過性」とは、光を透過させる性質を有する（ｔｒａｎｓｌｕｃｅｎｔ）ことを意味する。「光透過性」には、透明（ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ）が含まれる。「光透過性」とは、例えば、全光線透過率が８０％以上、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上である性質をいう。本発明において全光線透過率は、ヘーズメーター（日本電色社製、商品名：ＮＤＨ−２０００、またはその同等品）を用いてＪＩＳ−Ｋ−７１０５に基づいて測定する。
【００１３】
本発明において、各層の厚さは、市販の反射分光膜厚計（大塚電子、ＦＥ−３０００（製品名）、又はその同等品）を用いて求める。又は、代替的に、市販の透過型電子顕微鏡を用いた観察により求めてもよい。具体的には、ミクロトーム又はフォーカスイオンビームなどを用いて光透過性導電性フィルムをフィルム面に対して垂直方向に薄く切断し、その断面を観察する。
【００１４】
本明細書において、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に配置される複数の層のうち二つの層の相対的な位置関係について言及する場合、光透過性支持層（Ａ）を基準にして、光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きい一方の層を「上の」層等ということがある。
【００１５】
図１に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、ハードコート層（Ｂ）が直接配置されており、光透過性導電層（Ｃ）がハードコート層（Ｂ）の光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面に直接配置されている。
【００１６】
図２に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、図１に示すフィルムにさらに別のハードコート層（Ｂ）が配置された構成となっており、具体的には、図１に示すフィルムの光透過性導電層（Ｃ）が配置されている面とは反対側の面に、さらに別のハードコート層（Ｂ）が光透過性支持層（Ａ）に隣接して配置されている。
図３に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の両方の面が同一の構成を備えており、具体的には、それぞれの面にハードコート層（Ｂ）が直接配置されており、光透過性導電層（Ｃ）がハードコート層（Ｂ）の光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面に直接配置されている。
【００１７】
１．１  光透過性支持層（Ａ）
本発明において光透過性支持層とは、光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性導電層を含む層を支持する役割を果たすものをいう。光透過性支持層（Ａ）としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。
【００１８】
光透過性支持層（Ａ）の素材は、特に限定されないが、例えば、各種の有機高分子等を挙げることができる。有機高分子としては、特に限定されないが、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリメタクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂及びポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。ＩＴＯをパターン化したときにＩＴＯパターンの変形が小さいことから、熱収縮が小さい素材であることが好ましい。特に、流れ方向（ＭＤ）と流れに直角方向（ＴＤ）における熱収縮率の差が小さい樹脂フィルム、具体的には例えば０．１％以下の樹脂フィルムが好ましく、例えば、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）やシクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）などの低Ｒeの樹脂フィルムや、低熱収縮処理されたＰＥＴフィルム等が挙げられる。なお、元の長さ寸法をＬ０、高温度の環境に置き、この後に常温に戻した場合における長さ寸法をＬ１とした場合に、｛（Ｌ０−Ｌ１）／Ｌ０｝×１００を、熱収縮率と定義する。
【００１９】
ポリエステル系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等が挙げられる。
【００２０】
ポリオレフィン系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）等が挙げられる。
【００２１】
光透過性支持層（Ａ）の素材は、パターン見え現象を改善するという点で、光学的等方性を有するものが好ましい。そのような特性を有するものとしては、特に限定されないが、例えばＣＯＰ等が好ましい。
光透過性支持層（Ａ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。
【００２２】
光透過性支持層（Ａ）の厚さは、特に限定されないが、例えば、２〜３００μｍの範囲が挙げられる。
【００２３】
光透過性支持層（Ａ）の屈折率は、特に限定されないが、例えば、ＰＥＴを主材料とした場合には、１．６５程度であり、ＣＯＰを主材料とした場合には、１．５２程度である。
【００２４】
特に限定されないが、光透過性支持層（Ａ）は、ハードコート層（Ｂ）よりも高い屈折率を有していてもよいし、低い屈折率を有していてもよい。
【００２５】
一般的にタッチパネル用基材として光透過性支持層は両面がハード処理されたものが用いられる。ハードコート材料として一般的に用いられるのは屈折率が１．５２程度のアクリル系材料である。ＰＥＴを光透過性支持層として用い、これらのアクリル系材料をコートした場合は光透過性支持層とハードコート層の屈折率差が大きくなり、干渉ムラが発生する。干渉ムラのあるフィルムをタッチパネル等のディスプレイ部材に使用すると、視認性が悪く、使用しづらいものとなってしまう。一方、ＣＯＰを光透過性支持層として用いた場合は、ＣＯＰの屈折率が１．５２程度であるため、光透過性支持層とハードコート層の屈折率差が小さくなり、干渉ムラが発生し難いためより好ましい。このように、干渉ムラの点では、光透過性支持層（Ａ）の材料としてＣＯＰがより好ましく用いられる。
【００２６】
１．２  ハードコート層（Ｂ）
【００２７】
ハードコート層（Ｂ）は、好ましくは光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に隣接して配置されている。
【００２８】
ハードコート層（Ｂ）は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。
【００２９】
ハードコート層（Ｂ）は、光透過性支持層（Ａ）の両面に配置されていてもよい。
【００３０】
本発明においてハードコート層とは、プラスチック表面の傷つきを防止する役割を果たすものをいう。本発明ではハードコート層（Ｂ）がフィラーとしてシリカ系粒子を含有していればよく、その他の点については、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいてハードコート層として通常用いられるものと同じ特徴を有するものを用いることができる。具体的には、樹脂成分（バインダー成分）としては通常使用されるものと同様の樹脂成分を採用することができる。
なお、ハードコート層（Ｂ）が、光透過性支持層（Ａ）の両面に配置されている場合は、一方のハードコート層（Ｂ）を、シリカ系粒子を含有しないハードコート層としてもよい。この場合、製造しやすいことから、一方のハードコート層（Ｂ）の光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面にのみ、直接又は一以上の他の層を介して光透過性導電層（Ｃ）が配置されており、（前記ハードコート層（Ｂ）とは反対側の光透過性支持層（Ａ）の面に配置されている）他方のハードコート層（Ｂ）のみが、シリカ系粒子を含有するものであれば好ましい。
【００３１】
ハードコート層（Ｂ）のバインダー成分は、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂及びアルキド系樹脂等が挙げられる。これらのうち、アクリル系樹脂が特に好ましい。
ハードコート層（Ｂ）は、フィラーとしてシリカ系粒子を含有しており、言い換えれば、上記のバインダー成分中に、シリカ系粒子が分散した構成を有している。これにより、パターン見え現象が改善される。
ハードコート層（Ｂ）は、パターン見え現象の改善の点では、シリカ系粒子の大きさ及び密度が重要であり、これらを所定の範囲とすることによって、より改善を図ることができる。ハードコート層（Ｂ）は、この点で、フィルム主面に対する垂直方向におけるハードコート層（Ｂ）の断面に、直径２０ｎｍ〜１００ｎｍの前記シリカ系粒子の断面が７個／μｍ２より多く観察されるものであり、１０個／μｍ２以上観察されるものであれば好ましく、２０個／μｍ２〜１００個／μｍ２観察されるものであればより好ましい。ハードコート層（Ｂ）は、上記断面に、直径２０ｎｍ〜１００ｎｍの前記シリカ系粒子の断面が２５個／μｍ２〜５０個／μｍ２観察されるものであればより好ましい。ハードコート層（Ｂ）は、上記断面に、直径３０ｎｍ〜５０ｎｍの前記シリカ系粒子の断面が３０個／μｍ２〜４０個／μｍ２観察されるものであればさらに好ましい。
断面におけるシリカ系粒子の観察は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて行う。なお、シリカ系粒子の直径の測定は、以下のようにして行う。観察視野内から任意の２０個の粒子を選び、それぞれの粒子について観察された粒子の外径の最大長さを測る。なお、観察された粒子数が２０個より少ない場合は観察視野を変えるか複数の視野を観察して合計２０個の測定値を得る。左記の方法による観察を、観察部位を変えて１０回行い、それらの測定値の平均が、上記範囲内にあれば好ましい。
本発明において、シリカ系粒子としては、特に限定されないが、例えば、球状シリカ、微粉末シリカや破砕シリカ等が使用できる。なお、球状シリカは微粉末シリカを球状に溶射することにより得られる。また、微粉末シリカは破砕シリカの粒子同士を相互に擦り合わせて研磨することで得られる。これらのうち、パターン見え現象を改善するという点では、球状シリカが特に好ましい。
【００３２】
ハードコート層（Ｅ）の一層あたりの厚さは、特に限定されないが、例えば０．１〜１０μｍ、１〜７μｍ、及び２〜６μｍ等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全てのハードコート層（Ｅ）の合計厚さが上記範囲内であればよい。左記の例示列挙においては後出のものが前出のものよりも好ましい。
【００３３】
ハードコート層（Ｅ）の屈折率は、本発明の光透過性導電性フィルムがタッチパネル用光透過性導電性フィルムとして使用できる限り特に限定されないが、例えば、１．４〜１．７等が挙げられる。
【００３４】
ハードコート層（Ｅ）を配置する方法としては、特に限定されないが、例えば、上述の樹脂成分を主成分とし、フィラーとしてシリカ系粒子を含有するコート剤をフィルムに塗布して硬化する方法等が挙げられる。硬化する方法としては、特に限定されないが、例えば、熱で硬化する方法、紫外線や電子線などの活性エネルギー線で硬化する方法等が挙げられる。これらのうち、生産性の点では、紫外線により硬化する方法が好ましい。
【００３５】
１．４  光透過性導電層（Ｃ）
光透過性導電層（Ｃ）は、ハードコート層（Ｂ）の光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている。
【００３６】
本発明において光透過性導電層とは、導電性物質を含有し、電気を導通しかつ可視光を透過する役割を果たすものをいう。光透過性導電層（Ｃ）としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて光透過性導電層として通常用いられるものを用いることができる。
【００３７】
光透過性導電層（Ｃ）の素材は、特に限定されないが、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化錫及び酸化チタン等が挙げられる。光透過性導電層（Ｃ）としては、透明性と導電性を両立する点で酸化インジウムにドーパントをドープしたものを含む光透過性導電層が好ましい。光透過性導電層（Ｃ）は、酸化インジウムにドーパントをドープしたものからなる光透過性導電層であってもよい。ドーパントとしては、特に限定されないが、例えば、酸化スズ及び酸化亜鉛、並びにそれらの混合物等が挙げられる。
【００３８】
光透過性導電層（Ｃ）の素材として酸化インジウムに酸化スズをドープしたものを用いる場合は、酸化インジウム（ＩＩＩ）（Ｉｎ２Ｏ３）に酸化スズ（ＩＶ）（ＳｎＯ２）をドープしたもの（ｔｉｎ−ｄｏｐｅｄ  ｉｎｄｉｕｍ  ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）が好ましい。この場合、ＳｎＯ２の添加量としては、特に限定されないが、例えば、１〜１５重量％、好ましくは２〜１０重量％、より好ましくは３〜８重量％等が挙げられる。また、ドーパントの総量が左記の数値範囲を超えない範囲で、酸化インジウムスズにさらに他のドーパントが加えられたものを光透過性導電層（Ｃ）の素材として用いてもよい。左記において他のドーパントとしては、特に限定されないが、例えばセレン等が挙げられる。
【００３９】
光透過性導電層（Ｃ）は、上記の各種素材のうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。
【００４０】
光透過性導電層（Ｃ）は、特に限定されないが、結晶体若しくは非晶質体、又はそれらの混合体であってもよい。
【００４１】
光透過性導電層（Ｃ）を形成する方法としては、導電性物質を焼成する工程を含有する方法が好ましい。焼成方法としては、特に限定されないが、例えばスパッタリング等を行う際のドラム加熱や、熱風式焼成炉、遠赤外線焼成炉などを例として挙げることができる。焼成温度は、特に限定されないが、通常は３０〜２５０℃であり、好ましくは５０〜２００℃、より好ましくは８０〜１８０℃、さらに好ましくは１００〜１６０℃である。焼成時間は、好ましくは３分〜１８０分、より好ましくは５分〜１２０分、さらに好ましくは１０分〜９０分である。焼成を行う雰囲気としては、真空下、大気、窒素やアルゴンなどの不活性ガス、酸素、若しくは水素添加窒素等、又はこれらのうち二種以上の組合せが挙げられる。導電性物質を焼成することにより、導電性物質の結晶化が促進される。
【００４２】
光透過性導電層（Ｃ）の厚さは、特に限定されないが、通常１５〜３０ｎｍである。光透過性導電層（Ｃ）の厚さは、２０ｎｍ未満であると、改善された透過率及びパターン化された光透過性導電層のパターン見えの軽減等の利点が得られるため、好ましい。この場合、光透過性導電層の厚さとしては、５〜１９ｎｍ、１２〜１９ｎｍ、及び１５〜１９ｎｍが挙げられる。左記の例示列挙においては後出のものが前出のものよりも導電性及び／又は透明性の点で好ましい。
【００４３】
光透過性導電層（Ｃ）を配置する方法は、湿式及び乾式のいずれであってもよく、特に限定されない。光透過性導電層（Ｃ）を配置する方法の具体例として、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法及びパルスレーザーデポジション法等が挙げられる。
【００４４】
１．５  アンダーコート層（Ｄ）
本発明の光透過性導電性フィルムは、さらにハードコート層（Ｂ）と光透過性導電層（Ｃ）の間に、少なくとも一層のアンダーコート層（Ｄ）を含有していてもよい。
光透過性導電層（Ｂ）は、アンダーコート層（Ｄ）に隣接して配置されていてもよい。
【００４５】
図４に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、ハードコート層（Ｂ）が直接配置されており、アンダーコート層（Ｄ）がハードコート層（Ｂ）の光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面に直接配置されており、光透過性導電層（Ｃ）がアンダーコート層（Ｄ）の光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面に直接配置されている。
【００４６】
図５に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、図４に示すフィルムにさらに別のハードコート層（Ｂ）が配置された構成となっており、具体的には、図４に示すフィルムの光透過性導電層（Ｃ）が配置されている面とは反対側の面に、さらに別のハードコート層（Ｂ）が光透過性支持層（Ａ）に隣接して配置されている。
図６に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の両方の面が同一の構成を備えており、具体的には、それぞれの面にハードコート層（Ｂ）が直接配置されており、アンダーコート層（Ｄ）がハードコート層（Ｂ）の光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面に直接配置されており、光透過性導電層（Ｃ）がアンダーコート層（Ｄ）の光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面に直接配置されている。
【００４７】
アンダーコート層（Ｄ）の素材は、特に限定されないが、例えば、誘電性を有するものであってもよい。アンダーコート層（Ｄ）の素材としては、特に限定されないが、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、炭化ケイ素、シリコンアルコキシド、アルキルシロキサン及びその縮合物、ポリシロキサン、シルセスキオキサン、ポリシラザン及びアクリルシリカハイブリッド等が挙げられる。アンダーコート層（Ｄ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。アンダーコート層（Ｄ）としては、ポリシラザン、アクリルシリカハイブリッド及びＳｉＯｘ（ｘ＝１．０〜２．０）からなる群より選択される１種を含む光透過性下地層が好ましい。アンダーコート層（Ｄ）は、ポリシラザン、アクリルシリカハイブリッド及びＳｉＯｘ（ｘ＝１．０〜２．０）からなる群より選択される１種からなる光透過性下地層であってもよい。アンダーコート層（Ｄ）としては、ＳｉＯｘ（ｘ＝１．０〜２．０）を含む光透過性下地層が好ましい。アンダーコート層（Ｄ）は、ＳｉＯｘ（ｘ＝１．０〜２．０）からなる光透過性下地層であってもよい。以下、例えば、ＳｉＯｘ（ｘ＝１．０〜２．０）からなる光透過性下地層を、ＳｉＯｘ層というように略記する場合がある。
【００４８】
アンダーコート層（Ｄ）は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。アンダーコート層（Ｄ）が二層以上互いに隣接して配置されているのが好ましい。このような態様の例としては、例えば、隣接するＳｉＯ２層及びＳｉＯｘ層からなる積層（ｓｔａｃｋｉｎｇ）、及び隣接するＳｉＯ２層及びＳｉＯｘＮｙ層からなる積層が挙げられる。例えば二層が互いに隣接して配置されている場合、ＳｉＯ２層及びＳｉＯｘ層の順序は任意であるが、光透過性支持層（Ａ）側にＳｉＯ２からなる光透過性下地層（Ｃ−１）、光透過性導電層（Ｂ）側にＳｉＯｘ（ｘ＝１．０〜２．０）からなる光透過性下地層（Ｃ−２）を配置させるのが好ましい。
【００４９】
アンダーコート層（Ｄ）の一層あたりの厚さとしては、特に限定されないが、例えば１５〜２５ｎｍ等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全てのアンダーコート層（Ｄ）の合計厚さが上記範囲内であればよい。
【００５０】
アンダーコート層（Ｄ）の屈折率は、本発明の光透過性導電性フィルムがタッチパネル用光透過性導電性フィルムとして使用できる限り特に限定されないが、例えば、１．４〜１．５が好ましい。
アンダーコート層（Ｄ）を配置するための方法としては、湿式及び乾式のいずれでもよく、特に限定されないが、湿式としては例えば、ゾル−ゲル法、又は微粒子分散液若しくはコロイド溶液を塗布する方法等が挙げられる。
【００５１】
アンダーコート層（Ｄ）を配置する方法として、乾式としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法及びパルスレーザーデポジション法により隣接する層上に積層する方法等が挙げられる。
１．６  その他の層
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、ハードコート層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）に加えて、アンダーコート層（Ｄ）及びそれらと異なる少なくとも１種のその他の層（Ｆ）からなる群より選択される少なくとも１種の層がさらに配置されていてもよい。
【００５２】
（Ａ）〜（Ｄ）のいずれとも異なるその他の層としては、特に限定されないが、例えば、接着層等が挙げられる。
【００５３】
接着層とは、二層の間に当該二層と互いに隣接して配置され、当該二層間を互いに接着するために配置される層である。接着層としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて接着層として通常用いられるものを用いることができる。接着層は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。
【００５４】
１．７  本発明の光透過性導電性フィルムの用途
本発明の光透過性導電性フィルムは、タッチパネルの製造のために好ましく用いられる。
【００５５】
抵抗膜方式タッチパネルの製造のために用いられる光透過性導電性フィルムは一般に表面抵抗率（シート抵抗）が２５０〜１，０００Ω／ｓｑ程度は必要であるとされる。これに対して静電容量型タッチパネルの製造のために用いられる光透過性導電性フィルムは一般に表面抵抗率が低いほうが有利である。本発明の光透過性導電性フィルムは、抵抗率が低減されており、これにより、静電容量型タッチパネルの製造のために好ましく用いられる。静電容量型タッチパネルについて詳細は、２で説明する通りである。
【００５６】
２．  本発明の静電容量型タッチパネル
本発明の静電容量型タッチパネルは、本発明の光透過性導電性フィルムを含み、さらに必要に応じてその他の部材を含んでなる。
【００５７】
本発明の静電容量型タッチパネルの具体的な構成例としては、次のような構成が挙げられる。なお、保護層（１）側が操作画面側を、ガラス（５）側が操作画面とは反対側を向くようにして使用される。
（１）保護層
（２）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｙ軸方向）
（３）絶縁層
（４）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｘ軸方向）
（５）ガラス
本発明の静電容量型タッチパネルは、特に限定されないが、例えば、上記（１）〜（５）、並びに必要に応じてその他の部材を通常の方法に従って組み合わせることにより製造することができる。
【００５８】
３．  本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法
本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法において、それぞれの層を配置する工程は、それぞれの層について説明した通りである。
本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法は、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、高屈折率層（Ｂ）、ハードコート層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）に加えて、ハードコート層（Ｅ）及びそれらと異なる少なくとも１種のその他の層（Ｆ）からなる群より選択される少なくとも１種の層をそれぞれ配置する工程をそれぞれ含んでいてもよい。
例えば、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に光透過性支持層（Ａ）側から順次配置させてもよいが、配置の順番は特に限定されない。例えば、最初に光透過性支持層（Ａ）ではない層の一方の面に他の層を配置させてもよい。あるいは、一方で２種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより１種の複合層を得てから、又はそれと同時に、他方で同様に２種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより１種の複合層を得て、これらの２種の複合層をさらに互いに隣接するように配置させてもよい。
【実施例】
【００５９】
以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
１．  実施例１〜９、比較例１〜７
１．１  ハードコート用材料の調製
光重合剤含有アクリル系オリゴマーに、トルエンとメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）とを５：５（重量比）の割合にて混合してなる混合溶媒を加えて、表１に示す平均粒径と密度になるようにＳｉフィラー（球状シリカ）を添加した液状のハードコート用材料調製した。
１．２  ハードコートフィルムの作成
厚さ１００μｍのシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルム（日本ゼオン製、商品名：ＺＦ１６）又は厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを支持層として用いた。これらについての熱収縮率（流れ方向：ＭＤと流れに直角方向：ＴＤ）を表１に示す。これらのフィルムの一方の面に、コロナ処理後、液状のハードコート用材料を、バーコーターを用いて塗工し、その塗工膜を、ドライヤーオーブンを用いて、１００℃×１分の条件で加熱乾燥した。次いで、乾燥後の塗工膜に対して紫外線を照射することにより（照射量：３００ｍＪ／ｃｍ２）、ＣＯＰフィルム又はＰＥＴフィルム上に厚さ約１μｍのハードコートを設けた。
ＣＯＰフィルム又はＰＥＴフィルムの他方の面に対しても同一の作業を施すことにより、両面に厚さ約１μｍのハードコートが設けられてなるハードコートフィルムを得た。
１．３  光学調整層の成膜
１．３．１  高屈折率層（高屈層）の成膜
得られたハードコートフィルムの一方の面にＮｂからなるスパッタリング用ターゲットを用いて反応性スパッタリングで成膜した。具体的にはチャンバー内を５×１０−４Ｐａ以下となるまで真空排気した後にＡｒガスとＯ２ガスを２：１の割合で投入しチャンバー内圧力を０．２ＰａとしＤＣパルス電源を用いてスパッタリングを実施した。得られた膜の屈折率は２．０、膜厚は７ｎｍであった。
１．３．２  低屈折率層（低屈層）の成膜
得られたＮｂ２Ｏ５の薄膜上にＳｉ(ボロンドープ)らなるスパッタリング用ターゲット材料を用いて反応性スパッタリングで成膜した。具体的にはチャンバー内を５×１０−４Ｐａ以下となるまで真空排気した後にＡｒガスとＯ２ガスを２：１で投入しチャンバー内圧力を０．２Ｐａとしスパッタリングを実施した。得られた膜の屈折率は１．４９、膜厚は５０ｎｍであった。
１．４  透明導電層の成膜
酸化インジウム：９５重量％及び酸化スズ：５重量％からなる焼結体材料をターゲット材として用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、低屈折率層の全面を覆う透明導電層を形成した。具体的には、チャンバー内を５×１０−４Ｐａ以下となるまで真空排気した後に、かかるチャンバー内にＡｒガス：９５％及び酸素ガス：５％からなる混合ガスを導入し、チャンバー内圧力を０．２〜０．３Ｐａとしてスパッタリングを実施した。尚、最終的に得られる透明導電層の膜厚が２０ｎｍとなるように、スパッタリングを実施した。得られた膜を１５０℃で１時間熱処理した後のシート抵抗値は１５０Ω/□であった。
１．５  実施例１０〜１８、比較例８〜１４
実施例１〜９、比較例１〜７における「１．１  ハードコート用材料の調製」において、Ｓｉフィラー（球状シリカ）を含有する液状のハードコート用材料に加えて、Ｓｉフィラー（球状シリカ）を含有しない液状のハードコート用材料を調製した。次いで、これらのハードコート用材料を用い、ＣＯＰフィルム又はＰＥＴフィルムの一方の面に球状シリカを含有する厚さ約１μｍのハードコートを設け、他方の表面に球状シリカを含有しない厚さ約１μｍのハードコートを設けた。これにより、フィルムの両面にハードコート層を有し、一方のハードコート層にのみ球状シリカを含有するハードコート層が配置されたハードコートフィルムを得た。得られたハードコートフィルムを用いて、実施例１〜９、比較例１〜７と同様にして光学調整層と、透明導電層を、球状シリカを含有しないハードコート層側に成膜した。
２．  評価
各実施例及び各比較例で作成した光透過性導電性フィルムについて、骨見えを評価した結果を表１及び表２に示す。なお、骨見えは以下のようにして評価した。
光透過性導電フィルムを５ｃｍ角に切り出し、光透過性導電層のうえに２００μｍ幅のラインアンドスペースのレジストパターンを露光現像し、ＩＴＯエッチング液（関東化学社製、商品名「ＩＴＯ−０６Ｎ」）に１分間浸漬し、リンス及び乾燥後にレジストパターンを除去して、パターニングされた光透過性導電層を有する光透過性導電フィルムを得た。
測定装置として、アークハリマ株式会社製鏡面計（商品名：ミラーＳＰＯＴ・Ｆ）を用いた。光源として、上記装置に付属のＬＥＤバックライトに白黒パターンを表示させ、試料に対して２０度正反射を測定するように配置した。準備した光透過性導電性フィルムをパターニングの長手方向が光源の明暗境界に対して４５度をなすように配置し、ステンレス製のリング状治具を載せてフィルムのうねりを低減させた。試料からの２０度正反射光を上記装置に付属のＣＣＤカメラで撮影して画像データを得た。
【００６０】
画像データから明暗の境界中心点を抽出し、ベースライン補正を行った後、複数の明暗境界の段差の平均値を計測値とした。
骨見えの評価基準は以下のとおりとした。
○  鏡面計上の明暗境界段差が１ｍｍ以下
△  鏡面計上の明暗境界段差が１ｍｍより大きく１．５ｍｍ以下
×  鏡面計上の明暗境界段差が１．５ｍｍを超える
なお、表１には、フィルム主面に対する垂直方向におけるハードコート層の断面において観察されるＳｉフィラーの個数（μｍ２あたり）を計測した結果が記載されている。この計測は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて行った。
【００６１】
【表１】
2015201165.tif 000003
【００６２】
【表２】
2015201165.tif 000004
【符号の説明】
【００６３】
１        光透過性導電性フィルム
１１      光透過性支持層（Ａ）
１２      ハードコート層（Ｂ）
１３      光透過性導電層（Ｃ）
１４      アンダーコート層（Ｄ）
【図１】
2015201165.tif 000005
【図２】
2015201165.tif 000006
【図３】
2015201165.tif 000007
【図４】
2015201165.tif 000008
【図５】
2015201165.tif 000009
【図６】
2015201165.tif 000010