(57)【要約】      （修正有）【課題】制御された表面粗さおよび疎油性を有する印刷装置のための画像形成ブランケットを提供する。【解決手段】ポリマーブランケット化合物を受け入れるための支持構造（例えば、型）を調製することと、ポリマーブランケット化合物を液体状態で支持構造に入れることと、ポリマーブランケット化合物を硬化させ、画像形成ブランケットを製造することと、画像形成ブランケットを支持構造から剥離させることと、画像形成ブランケットの表面をエッチングし、表面にテクスチャパターンを作成し、表面が、画像形成ブランケットの画像形成表面を形成することとを含む。望ましい湿し液を保持する画像形成表面が提供される。ウェットエッチング、ドライエッチング、または両者の組み合わせを使用してもよい。ポリマーは、シリコーン化合物であってもよく、３重量％の顆粒状材料を含んでいてもよい。【選択図】図１
2015024655.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷装置のための画像形成ブランケットを作成する方法であって、
エラストマー性ポリマーブランケット化合物を受け入れるための支持構造を調製することと、
前記エラストマー性ポリマーブランケット化合物を液体状態で前記支持構造に入れることと、
前記エラストマー性ポリマーブランケット化合物を硬化させ、エラストマー性画像形成ブランケットを製造することと、
前記エラストマー性画像形成ブランケットを前記支持構造から剥離させることと、
前記エラストマー性画像形成ブランケットの表面をエッチングし、表面にテクスチャパターンを作成し、前記表面が、前記画像形成ブランケットの画像形成表面を形成することと、を含む、方法。
【請求項２】
前記ポリマーブランケット化合物が、フルオロシリコーン、フルオロカーボン系合成ゴムおよびシリコーンからなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ポリマーブランケット化合物が、実質的に３〜２５重量％の炭素をさらに含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記エッチングが、ドライエッチングプロセスによって行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記ドライエッチングプロセスが、ＣＦ４、ＳＦ６およびＯ２種の組み合わせを用いた異方性プラズマエッチングプロセスを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記ドライエッチングプロセスが、ＣＦ４、ＳＦ６およびＯ２種の組み合わせを用いた反応性イオンエッチングプロセスを含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記エッチングが、ウェットエッチングプロセスによって行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記ウェットエッチングプロセスが、画像形成表面へのＴＢＡＦおよびＮＭＰの溶液の塗布を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記エッチングが、ドライエッチングとウェットエッチングの組み合わせによって行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記エラストマー性ポリマーブランケットには、３〜２５重量％の顆粒状フィラー材料が分散している、請求項１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、マーキングシステムおよび印刷システムに関し、さらに具体的には、制御された表面粗さおよび疎油性を有するこのようなシステムの要素に関する。
【背景技術】
【０００２】
今日、オフセットリソグラフィーは、一般的な印刷方法である。（その目的のために、「印刷」および「マーキング」という用語は、相互に置き換え可能である。）典型的なリソグラフィープロセスでは、画像形成プレートは、平板状の要素、円柱形の表面またはベルトなどであってもよく、疎水性で親油性の材料から作られる「画像領域」と、親水性材料から作られる「非画像領域」を有するように作られる。画像領域は、印刷材料またはマーキング材料（例えば、インク）によって占められる最終的な印刷物（すなわち、標的基材）の領域に対応する領域であり、一方、非画像領域は、前記マーキング材料によって占められない最終的な印刷物の領域に対応する領域である。親水性領域は、一般的に濡らし液または湿し液と呼ばれる水系流体（典型的には、水および少量のアルコールと、表面張力を下げるための他の添加剤および／または界面活性剤からなる）を受け入れ、この水系流体で簡単に濡れる。疎水性領域は、湿し液をはじき、インクを受け入れ、一方、親水性領域の上に作られる湿し液は、インクを拒絶する流体「剥離層」を形成する。したがって、画像形成プレートの親水性領域は、最終印刷物の印刷されていない領域、つまり「非画像領域」に対応する。
【０００３】
インクを基材（例えば、紙）に直接転写してもよく、または、中間体表面、例えば、オフセット印刷システムのオフセット（またはブランケット）シリンダに塗布してもよい。後者の場合、オフセットシリンダは、基材のテクスチャに適合させることができる表面を有する適合させることが可能なコーティングまたはスリーブで覆われており、表面の山から谷までの深さは、ブランケット表面の山から谷までの深さよりもいくらか大きくてもよい。十分な圧力を使用し、ブランケットまたはオフセットシリンダから基材へと画像を転写させる。
【０００４】
上述のリソグラフィー印刷技術およびオフセット印刷技術は、印刷すべき画像（またはそのネガティブ画像）で永久的にパターン形成されたプレートを利用し、したがって、同じ画像の大量な複写物を印刷する場合（長時間の印刷操作）、例えば、雑誌、新聞紙などの場合にのみ有用である。これらの方法によっては、印刷シリンダおよび／または画像形成プレートを除去し、交換することなしには、１ページごとに異なるパターンを印刷する（本明細書では、バリアブル印刷と呼ぶ）ことができない。（すなわち、この技術は、例えば、デジタル印刷システムのように、一刷りごとに画像が変わる真の高速バリアブル印刷に合わせることができない。）
【０００５】
リソグラフィーおよびいわゆる無水プロセスは、一部には、使用するインクの品質および色域に起因して、非常に高品質の印刷を与える。さらに、これらのインクは、典型的には、カラー顔料含有量が非常に高く、トナーおよび多くの他の種類のマーキング材料と比較して、非常に低コストである。したがって、この高品質および低コストを利用するために、印刷にリソグラフィーインクおよびオフセットインクを使用することが望まれており、ページごとに変化するデータを印刷することも望まれている。
【０００６】
直面する問題の１つは、オフセットインクの粘度が、典型的なバリアブル印刷システム、例えば、ノズル系インクジェットシステムで有用な粘度より高すぎることである（多くは、５０，０００ｃＰより十分に高い）。それに加え、その接着性のため、オフセットインクは、静電力に対し、非常に高い表面付着力を有し、したがって、静電気を用い、表面への付着脱着を操作することが非常に困難である。（このことは、粒子の形状および調整された表面化学および特殊な表面添加剤に起因して表面付着力が低いゼログラフィー／静電システムで用いる乾燥トナー粒子または液体トナー粒子とは対照的である。）
【０００７】
過去に、変化するデータのためにリソグラフィー印刷システムおよびオフセット印刷システムを作る努力がなされてきた。一例は、本明細書に参考として組み込まれる米国特許第３，８００，６９９号に開示されており、強いエネルギー源（例えば、レーザー）を使用し、パターンの形状に湿し液を蒸発させる。
【０００８】
参照することで本明細書に組み込まれる米国特許第７，１９１，７０５号に開示されている別の例では、親水性コーティングを画像形成ベルトに塗布する。レーザーは、親水性コーティングの領域を選択的に加熱し、蒸発させるか、または分解する。次に、水系湿し液をこれらの親水性領域に塗布し、疎油性にする。次いで、インクを塗布し、湿し液で覆われていない領域にのみ、プレートに選択的に転写し、基材に転写可能なインクによるパターンを作成する。転写したら、ベルトを洗浄し、新しい親水性コーティングおよび湿し液を堆積させ、例えば、次のバッチの画像を印刷するために、パターン形成し、インクを塗布し、印刷する工程を繰り返す。
【０００９】
さらなる別の例では、再書き込み可能な表面を利用し、熱エネルギー、電気エネルギーまたは光エネルギーを加え、親水性状態から疎水性状態に切り替えることができる。これらの表面の例としては、いわゆる切り替え可能なポリマーおよび金属酸化物、例えば、ＺｎＯ２およびＴｉＯ２が挙げられる。表面状態を変えた後、湿し液は、プログラム可能な表面の親水性領域を選択的に濡らし、したがって、これらの領域にはインクが塗られない。
【００１０】
一般的に、画像プレートの上に、湿し液を比較的薄い層として塗布する。湿し液を表面に保持するために、特定の量の表面粗さが必要である。ある市販の画像形成システムでは、特定の非印刷領域は、湿し液の薄い層を保持することを目標とした十分な表面粗さを有する表面によって規定される。表面粗さを与えることは、一部には、画像形成プレートを作成する材料の関数である。金属画像形成プレートは、種々のテクスチャ作成方法（例えば、エッチング、陽極処理など）を受けやすい。
【００１１】
インクを基材に塗布し、基材にインクパターンを送るために、パターン形成された湿し溶液を保持するための従来のプレートの機能と、従来のブランケットの機能の両方を発揮する構造を使用する、一群の変化するデータリソグラフィーデバイスが開発された。本明細書に参考として組み込まれた米国特許出願第１３／０９５，７１４号を参照。これら両方の機能を発揮するブランケットは、本明細書では、画像形成ブランケットと呼ばれる。このようなデバイスのブランケットは、湿し液を保持し、その表面が選択したテクスチャを有することを必要とする。したがって、このような構造のテクスチャ形成は、最適化されていない。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【００１２】
したがって、本開示は、画像形成ブランケットの超微細表面のテクスチャ形成を規定するために用いられる自然なエラストマー性ポリマーエッチングを与えるシステムおよびプロセスに関する。このような画像形成ブランケットは、このような超微細表面テクスチャを有しており、印刷していない暗い部分の表面積を規定する湿し液の非常に薄い層を保持していてもよく、一方、これにインクを転写するための基材に適切に合わせることもできる。
【００１３】
本開示の一態様によれば、印刷装置のための画像形成ブランケットを作成する方法は、エラストマー性ポリマーブランケット化合物を受け入れるための支持構造（例えば、型構造）を調製することと、前記エラストマー性ポリマーブランケット化合物を液体状態で前記支持構造に入れることと、前記エラストマー性ポリマーブランケット化合物を硬化させ、画像形成ブランケットを製造することと、前記画像形成ブランケットを前記支持構造から剥離させることと、前記画像形成ブランケットの表面をエッチングし、表面にテクスチャパターンを作成し、前記表面が、前記画像形成ブランケットの画像形成表面を形成することと、を含む。
【００１４】
この態様の実施は、フルオロカーボンエラストマー、フルオロシリコーンゴム、シリコーン、または他のポリマーを含むエラストマー性ポリマーブランケット化合物を含んでいてもよく、もしかしたら、３〜２５重量％の顆粒状材料（炭素）を含み、もしかしたら、暗い色合いの材料を含む。この態様の実施は、顆粒状材料（例えば、カーボンブラック）を含むエラストマー性ポリマーブランケット化合物を含んでいてもよく、その結果、エッチングは、顆粒状材料よりもエラストマー性ポリマーの材料を除去する速度が大きい。（または、エッチングは、エラストマー性ポリマーよりも顆粒状材料で材料の除去速度が大きくてもよい）。したがって、表面は、顆粒状材料の大きさおよび分布に少なくとも部分的に由来して、テクスチャを現像する。
【００１５】
本開示の別の態様によれば、型のガラス表面に画像形成表面が作られる。本開示のさらなる別の態様によれば、型構造は、液体ブランケット化合物を入れるために片方の表面が開いており、画像形成表面は、この開いた表面に作られた表面であり、風乾する。
【００１６】
本開示のなおさらなる態様によれば、エッチングプロセスは、ドライエッチング、ウェットエッチング、またはドライエッチングとウェットエッチングの組み合わせであってもよい。ドライエッチングの場合には、エッチングプロセスは、ＣＦ４およびＯ２種の組み合わせを用いた異方性反応性イオンエッチングプロセスであってもよい。ウェットエッチングの場合、エッチングプロセスは、ＴＢＡＦおよびＮＭＰの溶液を画像形成表面に塗布することを含んでいてもよい。
【００１７】
ある実施形態では、周期的な表面粗さ（Ｒａ）が実質的に０．５〜１．５ミクロンである画像形成表面が与えられてもよい。
【００１８】
上は、本開示の多くの固有の態様、特徴および利点の簡単なまとめである。上のまとめは、以下の完全な記載に関連する内容および特定の概念を紹介するために与えられる。しかし、このまとめは、排他的なものではない。上のまとめは、請求される主題の態様、特徴または利点の排他的な特定であることを意図しておらず、排他的な特定として読むべきではない。したがって、上のまとめは、特許請求の範囲に限定を付与すると読むべきではなく、特許請求の範囲をいかなる様式でも決定すると読むべきではない。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】図１は、例えば、本開示の一態様の変化するデータリソグラフィーデバイスで使用するための画像形成ブランケットを製造する例示的な方法のフローチャートである。
【図２】図２は、等方性ドライエッチングプロセスを受けた領域およびドライエッチングプロセスから保護された領域を用いて調製されたシリコーン画像形成表面のサンプルの拡大図である。
【図３Ａ】図３Ａは、図２の等方性ドライエッチングプロセスを受けた画像形成表面のもっと大きな拡大画像である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、図２の等方性ドライエッチングプロセスから保護された領域のもっと大きな拡大画像である。
【図４】図４は、ドライエッチングプロセスを用いて部分的にマスクされたサンプルの横方向の位置に対するエッチング深さのプロットである。
【図５】図５は、３種類のシリコーン材料のウェットエッチングに対するエッチングされた粗さ（Ｒａ）のプロットである。
【図６】図６は、本開示のエッチング実験について、粗さの種々の測定値のデータの表である。
【図７Ａ】図７Ａは、エッチング時間０分で、３重量％の炭素を含むガラス型表面に作られたシリコーン化合物について、ウェットエッチング時間の顕微鏡写真である（１００倍拡大、参照バーは５μｍを表す）。
【図７Ｂ】図７Ｂは、エッチング時間５分で、３重量％の炭素を含むガラス型表面に作られたシリコーン化合物について、ウェットエッチング時間の顕微鏡写真である（１００倍拡大、参照バーは５μｍを表す）。
【図７Ｃ】図７Ｃは、エッチング時間１０分で、３重量％の炭素を含むガラス型表面に作られたシリコーン化合物について、ウェットエッチング時間の顕微鏡写真である（１００倍拡大、参照バーは５μｍを表す）。
【図８Ａ】図８Ａ、エッチング時間０分で、ガラス型表面に作られた黒色シリコーン化合物について、ウェットエッチング時間の顕微鏡写真である（１００倍拡大、参照バーは５μｍを表す）。
【図８Ｂ】図８Ｂは、エッチング時間５分で、ガラス型表面に作られた黒色シリコーン化合物について、ウェットエッチング時間の顕微鏡写真である（１００倍拡大、参照バーは５μｍを表す）。
【図８Ｃ】図８Ｃは、エッチング時間１０分で、ガラス型表面に作られた黒色シリコーン化合物について、ウェットエッチング時間の顕微鏡写真である（１００倍拡大、参照バーは５μｍを表す）。
【図９Ａ】図９Ａは、エッチング時間０分、ガラス型表面に作られた透明シリコーン化合物について、ウェットエッチング時間の顕微鏡写真である（１００倍拡大、参照バーは５μｍを表す）。
【図９Ｂ】図９Ｂは、エッチング時間５分で、ガラス型表面に作られた透明シリコーン化合物について、ウェットエッチング時間の顕微鏡写真である（１００倍拡大、参照バーは５μｍを表す）。
【図９Ｃ】図９Ｃは、エッチング時間１０分で、ガラス型表面に作られた透明シリコーン化合物について、ウェットエッチング時間の顕微鏡写真である（１００倍拡大、参照バーは５μｍを表す）。
【図１０Ａ】図１０Ａは、３重量％の炭素シリコーン系、「瓶の外側」の市販の黒色シリコーン系および「瓶の外側」の市販の透明シリコーン系の種々の粗さ測定のプロットである。
【図１０Ｂ】図１０Ｂは、３重量％の炭素シリコーン系、「瓶の外側」の市販の黒色シリコーン系および「瓶の外側」の市販の透明シリコーン系の種々の粗さ測定のプロットである。
【図１０Ｃ】図１０Ｃは、３重量％の炭素シリコーン系、「瓶の外側」の市販の黒色シリコーン系および「瓶の外側」の市販の透明シリコーン系の種々の粗さ測定のプロットである。
【図１０Ｄ】図１０Ｄは、３重量％の炭素シリコーン系、「瓶の外側」の市販の黒色シリコーン系および「瓶の外側」の市販の透明シリコーン系の種々の粗さ測定のプロットである。
【図１１】図１１は、３重量％の炭素シリコーン系、「瓶の外側」の市販の黒色シリコーン系および「瓶の外側」の市販の透明シリコーン系について、ウェットエッチングプロセスにおける材料除去のプロットである。
【図１２】図１２は、３重量％の炭素シリコーン系、「瓶の外側」の市販の黒色シリコーン系および「瓶の外側」の市販の透明シリコーン系について、およびそれぞれの系について、空気で硬化させた表面およびガラス型表面に作られた表面の接触角のプロットである。
【図１３Ａ】図１３Ａは、エッチングされていないフルオロシリコーンブランケットの４５°角度で撮られた走査型電子顕微鏡写真である。
【図１３Ｂ】図１３Ｂは、ＲＩＥエッチングされたフリオロシリコーンブランケットの４５°角度で撮られた走査型電子顕微鏡写真である。
【図１３Ｃ】図１３Ｃは、従来のプラズマを用いてエッチングされたフルオロシリコーンブランケットの４５°角度で撮られた走査型電子顕微鏡写真である。
【図１３Ｄ】図１３Ｄは、従来のプラズマを用いてエッチングされたフルオロシリコーンブランケットの４５°角度で撮られた走査型電子顕微鏡写真である。
【図１４Ａ】図１４Ａは、エッチングされていないＶｉｔｏｎブランケットの４５°角度で撮られた走査型電子顕微鏡写真である。
【図１４Ｂ】図１４Ｂは、ＲＩＥエッチングされたＶｉｔｏｎブランケットの４５°角度で撮られた走査型電子顕微鏡写真である。
【図１４Ｃ】図１４Ｃは、従来のプラズマを用いてエッチングＶｉｔｏｎブランケットの４５°角度で撮られた走査型電子顕微鏡写真である。
【図１４Ｄ】図１４Ｄは、従来のプラズマを用いてエッチングＶｉｔｏｎブランケットの４５°角度で撮られた走査型電子顕微鏡写真である。
【図１５Ａ】図１５Ａは、ＣＦ４およびＯ２の混合物でエッチングされたフルオロシリコーンブランケットの８５°角度で撮られた走査型電子顕微鏡写真である。
【図１５Ｂ】図１５Ｂは、Ｏ２のみでエッチングされたフルオロシリコーンブランケットの８５°角度で撮られた走査型電子顕微鏡写真である。
【図１５Ｃ】図１５Ｃは、ＳＦ６およびＯ２の混合物でエッチングされたフルオロシリコーンブランケットの８５°角度で撮られた走査型電子顕微鏡写真である。
【図１５Ｄ】図１５Ｄは、ＳＦ６のみでエッチングされたフルオロシリコーンブランケットの８５°角度で撮られた走査型電子顕微鏡写真である。
【図１６Ａ】図１６Ａは、ＣＦ４とＯ２の混合物でエッチングされたフルオロシリコーンブランケットの８５°角度で撮られた走査型電子顕微鏡写真である。
【図１６Ｂ】図１６Ｂは、ＣＦ４とＯ２の混合物でエッチングされたフルオロシリコーンブランケットの８５°角度で撮られた走査型電子顕微鏡写真である。
【図１７Ａ】図１７Ａは、エアロゲル顆粒状材料が分散したシリコーン系の初期表面で、通常面に対して８５°角度で撮られた走査型電子顕微鏡写真である。
【図１７Ｂ】図１７Ｂは、エアロゲル顆粒状材料が分散したシリコーン系のエッチング１分間で、通常面に対して８５°角度で撮られた走査型電子顕微鏡写真である。
【図１７Ｃ】図１７Ｃは、エアロゲル顆粒状材料が分散したシリコーン系のエッチング５分間で、通常面に対して８５°角度で撮られた走査型電子顕微鏡写真である。
【図１７Ｄ】図１７Ｄは、図１７Ａで示された初期表面の断面図である。
【図１８】図１８は、パターン形成された画像形成表面を備え、印刷部材に固定された、本開示の実施形態のシリコーン画像形成ブランケットのバリアブル・データ・リソグラフィー・システムの側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
制御された表面粗さは、例えば、入射近赤外（ＩＲ）レーザー光を用いてその後に選択的に除去するための比較的非常に薄い（例えば、２００ｎｍ程度）の湿し液層を保持する機能を有する。エラストマー性ポリマー画像形成ブランケットの表面に、例えば、成型することによって、特徴物、特徴物の形状および大きさ、および他の表面特徴の具体的なパターンが作られる。
【００２１】
本開示によれば、エラストマー性ポリマー表面を有するバリアブル・データ・リソグラフィー・システム画像形成ブランケットの表面テクスチャ形成の方法を開示する。ある実施形態によれば、この方法は、ポリマーの表面エッチングを含む。次いで、例えば、成型（または同等に、鋳込成形）、カレンダー加工、バードバーを用いて、フローコーティングまたはドローダウンプロセスを用い、エラストマー性ポリマー（例えば、フルオロカーボンエラストマー、フルオロシリコーンゴム、シリコーンなど）画像形成ブランケットを支持構造の上に作成することが多い。本願発明者らは、一例として成型に従うことを指し、画像形成ブランケットを作成する他のプロセスが本明細書に想定されると理解される。
【００２２】
典型的には、成型したままのエラストマー性ポリマー表面は、特に、成型した面の表面で高い表面光沢を有する。対照的に、エッチングしたポリマー表面は、つや消しされ、鈍い外観を有する。この超微細なテクスチャ形成した表面を用い、湿し液の薄層を保持する。この厚みは、印刷インクを除去し、印刷する基材に対応する表面積に印刷インクを受け入れるように流体の除去が容易であるなどの多くの因子のバランスである。印刷インクの受け入れは、少なくとも部分的に、表面にあるエラストマー性ポリマー材料の特性によって制御され、画像形成ブランケットの表面粗さは、厚みおよび湿し液を保持する効率を決定する鍵となる因子である。
【００２３】
いくつかの実施形態では、表面の山から谷までの表面粗さが均一であり、湿し液を４秒より長く保持することができるエラストマー性ポリマー画像形成ブランケットを提供することが望ましい。フルオロカーボンエラストマー（例えば、ＤｕＰｏｎｔ，Ｉｎｃ．製のＶｉｔｏｎ）は、画像形成ブランケットとして使用可能なエラストマー性ポリマーの例である一方、他の材料、例えば、フルオロシリコーンゴム（ＦＶＭＱ）、シリコーンなども本明細書で想定されている。例えば、陽極酸化されたアルミニウム表面を用いるか、またはミクロンスケール程度のビーズを用いて既知の方法によって金属画像形成プレートを作成すると、不均一な表面高さの変位が生じることがある。画像形成プレート表面を、例えば、画像形成プレート表面を除去することによって、例えば、紙またはレーザーツールを研磨することによって、テクスチャ形成してもよい。または、制御されたビーズ粒径を有するビーズスラリーを、画像形成プレート表面に塗布することができる。ビーズスラリーは、ビーズの塊を生じ、表面テクスチャの変位を生じることがわかった。一般的に、これらの方法を用いた表面均一性は、特に、横方向の周期的な構造要求が１桁ミクロンスケールである場合、最適ではない。これらのプレート表面について、多重モードの表面高さ分布を観察した。これらの山から谷までの高さの変位によって、湿し液の厚みが変わることがあり、バリアブルデータインクの印刷品質および信頼性に影響を与える。
【００２４】
バリアブルデータ印刷の特定の実施形態では、堆積したインク画像を紙に転写することができるように、油系印刷インクをはじく画像形成ブランケットを有することが望ましい。硬化したシリコーン材料、例えば、Ｄｏｗ  Ｔｏｒａｙ  ＳＥ９１８７黒色シリコーン（Ｄｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ）は、このような疎油性挙動を示し、所望な場合、印刷インクをはじく。Ｄｏｗ  Ｔｏｒａｙ  ＳＥ９１８７黒色シリコーンは、粘度が１０００ｃＰの一成分系である。本願発明者らは、本願発明者らのブランケット作成作業のために、種々の希釈剤を用いてポリマーを希釈するのに役立つことがわかった（例えば、トルエン、ヘプタン、エタノールによる希釈は、シリコーンと希釈剤の比率が２：１〜１：４の範囲である）。ある実施形態によれば、鋳込成形の場合、粘度は、３００ｃｐ未満であってもよい。他のフルオロカーボンエラストマー、フルオロシリコーンゴムおよび一成分または二成分のシリコーン系、特定の他の非シリコーン系を、同様にこのような疎油性挙動を示すように設計することもできる。
【００２５】
ある実施形態では、テクスチャ形成した表面のエラストマー性ポリマー画像形成ブランケットは、電磁放射線エネルギーを吸収し、非常に薄いコーティングされた湿し液層を蒸発させ、例えば、印刷中に、インクを受け入れる領域を作成することができなければならない。したがって、ある実施形態によれば、エラストマー性ポリマー系は、炭素粉末またはカーボンナノチューブをさらに組み込んでもよく、保持量の濃度は約３〜２５重量％であり、電磁放射線エネルギーの表面吸収を促進する。他の放射線吸収性粒状物を、炭素材料と共に使用してもよく、または炭素材料の代わりに使用してもよい。（他の実施形態では、粒状物は、放射線吸収性である必要はないが、画像形成ブランケットマトリックス材料と比較して、異なるエッチング速度を与える。）
【００２６】
すでに述べたように、山から谷まで均一な高さを有するテクスチャ形成した画像形成ブランケット表面を有することが望ましい。本明細書に開示する一実施形態によれば、画像形成ブランケット表面を作成し、次いで、この表面を、例えば、ドライエッチングまたはウェットエッチングを用いてエッチングすることによって達成することができる。それによって、制御可能な山から谷までの高さを有する微細な横方向の半周期的なテクスチャを得てもよい。テクスチャ形成した画像形成ブランケット表面の湿し液の保持能力およびインク塗布能力は、既知の画像形成ブランケット表面形成方法と比較して、向上している。
【００２７】
この実施形態の例示的な方法１０を図１に示す。工程１２では、画像形成ブランケットを作成するために型を調製する。例えば、このような調剤薬は、例えば、Ｐａｒｙｌｅｎｔの薄層（厚みが２ミクロン程度）を成型した後に、ブランケット化合物の剥離を助けるような材料層の洗浄および塗布を含んでいてもよい。工程１４では、硬化性ブランケット化合物、例えば、上述の液体形態のエラストマー性ポリマー化合物のいずれかを型に注ぐ。型の中でポリマー化合物の流動を可能にするために、選択された添加剤（例えば、上述）を加えることによって、ポリマーの粘度を制御してもよい。工程１６では、液体ポリマー化合物を、例えば、室温で一晩、例えば、具体的なポリマー化合物を保証するような時間および条件で硬化させる。次いで、工程１８では、硬化したエラストマー性ポリマー画像形成ブランケットをテンプレートからはずし、洗浄し、すすぐ。
【００２８】
次いで、工程２０で、湿し液／インクを最終的に受け入れる画像形成ブランケットの表面（本明細書では画像形成表面と呼ばれる）を、ドライエッチング、ウェットエッチング、またはこの２種類のエッチングフォーマットの組み合わせによってテクスチャ形成する。ドライエッチングおよびウェットエッチングの条件および方法の具体例を以下に提示する。次いで、２２で、エラストマー性ポリマー画像形成ブランケットを洗浄し、すすいでもよい。次いで、２４で、画像形成ブランケットを、印刷システム中、適切な担体に配置してもよく、２６で、以下にさらに記載するように、バリアブル・データ・リソグラフィー・プロセスで使用してもよい。
【００２９】
上述のように、エラストマー性ポリマー画像形成表面のエッチングは、ドライエッチングまたはウェットエッチングであってもよい。作成する場合には、ドライエッチングは、低い気圧または大気圧または高い気圧の計画で操作することができる。操作温度は、室温未満で、室温で、または高温で維持してもよい（例えば、増加した反応速度を促進するために）。ドライエッチングは、気体プラズマであってもよく、ＡＣ電圧態様で操作してもよく、ＡＣおよび／またはＤＣバイアス条件の反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）態様で操作してもよい。ドライエッチングガスは、フッ素系または塩素系のガスを含んでいてもよく、励起したプラズマラジカルをポリマー基材と反応させ、下流に運ばれる揮発性最終生成物を製造することができる。エッチングガスの具体例としては、ＣＦ４およびＳＦ６エッチングガス（＋任意要素のＯ２ガス）が挙げられる。後者の場合には、ウェットエッチングは、浸漬エッチング、噴霧エッチング、または分注エッチングであってもよい。エッチング溶液は、酸性溶液またはアルカリ性溶液であってもよい。エッチング浴の温度を制御し、最適なエッチング条件を達成することができる。エッチング剤の具体例としては、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）＋Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）溶液が挙げられる。
【００３０】
図２を参照すると、等方性ＣＦ４＋Ｏ２ドライエッチングプロセス（２０分、４００Ｗ）を受けた領域５２と、ドライエッチングプロセスから保護された領域５４を用いて調製されたシリコーン画像形成表面５０の単純なサンプルの拡大（５倍）図が示される。図３Ａおよび３Ｂも参照すると、図２に示される領域が、もっと大きな拡大（１５００倍）で示される。ここからわかるように、また、予想されるように、エッチングされた領域は、エッチングされていない領域と比較して、目で見た大きな表面粗さを示す。この粗さは、例えば、テクスチャ形成していない表面と比較して、湿し液を良好に保持する特定の微細な周期性およびプロフィールを有する。
【００３１】
ドライエッチングを用いた一実施形態では、種々のポリマー表面の超微細表面テクスチャ形成は、平均表面粗さ（Ｒａ）が約０．５ミクロン（μｍ）であることを示した。この平均表面粗さは、デジタルリソグラフィー印刷システムで画像形成ブランケットとして使用するのに合理的な値である。エラストマー性ポリマーシートのドライエッチングおよびウェットエッチングの両方に対する実験を行った。図４を参照すると、バレルエッチング器を用い、４００ＷのＣＦ４＋Ｏ２プラズマを用いた等方性ドライエッチングによって、平均エッチング速度０．１１μｍ／分でエラストマー性ポリマー表面材料を除去した。図４の最も左の部分がＫａｐｔｏｎマスクで保護され、一方、最も右側の部分は、エッチング中に保護されなかった。エッチング後のＳＥＭ観察は、等方性プラズマでエッチングされた表面が、数ミクロン以下の線状の分離を伴い、無作為に配置された高い点を示すことがわかった（図３も参照）。反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）型の異方性（ＣＦ４／ＳＦ６）プラズマエッチングも、エッチング後に、つや消しされた鈍いエラストマー性ポリマー表面を作ることも示された。次いで湿し液を用いてこれらを試験し、非常に薄い湿し液の層を少なくとも４秒間捕捉し、保持することが示された。
【００３２】
いくつかの異なる候補物質である画像形成ブランケット材料を、エッチング計画で評価した。図５を参照すると、エッチングされた粗さ（Ｒａ）を、３種類のシリコーン材料のウェットエッチング時間に対してプロットした。示される３種類は、「透明瓶の外側」（Ｄｏｗ  Ｔｏｒａｙ  ＳＥ９１８７Ｌ  ｃｌｅａｒ）、「黒色瓶の外側」（暗い色のついたシリコーン、Ｄｏｗ  Ｔｏｒａｙ  ＳＥ９１８７Ｌ  ｂｌａｃｋ）および３：５０：１００（Ｃ：Ｔ：ＴＫ、Ｃが炭素であり、Ｔがトルエンであり、ＴＫがＤｏｗ  Ｔｏｒａｙ  ＳＥ９１８７Ｌ  ｂｌａｃｋであり、瓶の外で、比率は、硬化前の重量基準である）の約３重量％の炭素含有量を含む特注の配合物であった。第３の実施例のシリコーンマトリックス中の過剰な炭素保持量は、もっと大きな表面粗さ（Ｒａ）を作り出すことに顕著に関与していることがわかった。（少なくとも部分的に、マトリックス材料と炭素とで異なるエッチング速度のためであり、その結果は、本開示の種々の図で示される表面テクスチャで示される。ここで、Ｒａ（表面粗さの平均）は、以下
【数１】
2015024655.tif 000003
によって定義され、式中、Ｚｉは、測定点から平均平面までの距離であると定義される。
【００３３】
各材料のサンプルを調製し、調べた。ガラス型表面にサンプルを入れた。ガラスと接触したシリコーン表面は、試験（印刷）表面を形成する。図５から、３重量％の炭素を含むサンプルは、他のサンプルと比較して、エッチング後に望ましい表面粗さの増加を示したことを注記しておく。このことは、例えば、図６に示されるこれらのサンプルで行われる実験から得たデータに示される。Ｒａが、典型的には、表面の平均粗さを特性決定するために使用される１つの測定基準である場合、ＲＭＳ粗さ（Ｒｑ）、平均最大プロフィール高さ（Ｒｚ）および最大プロフィール高さ（Ｒｔ）も、考慮すべき有用な粗さパラメータである（後者は、粒状物および汚い粒子によって妨害されやすい）。これらの値は、それぞれ、以下のように決定され、
【数２】
2015024655.tif 000004
ここで、Ｈｉは、表面にあるｉ番目に高い点であると定義され、Ｌｉは、表面にあるｉ番目に低い点であると定義される。
【数３】
2015024655.tif 000005
ここで、Ｒｐ（最大プロフィールピーク高さ）は、表面上の最も高い点と、表面の平均高さとの距離であると定義され、Ｒｖ（最大プロフィール谷深さ）は、表面の最も低い点と、表面の平均高さとの距離であると定義される。
【００３４】
図７Ａ〜７Ｃ、８Ａ〜８Ｃおよび９Ａ〜９Ｃを参照すると、顕微鏡写真（１００倍拡大、参照バーは５μｍをあらわす）は、３種類のウェットエッチングしたシリコーン材料表面から示される。これらの図面では、すべてのシリコーン表面が、ガラス型の上に作られた。図７Ａ〜７Ｃは、それぞれ、エッチング０分目、５分目、１０分目の３重量％の炭素を含むシリコーン化合物のウェットエッチング時間の増加を示す。図８Ａ〜８Ｃは、それぞれ、エッチング０分目、５分目、１０分目の「瓶の外側の」黒色シリコーン化合物のウェットエッチング時間の増加を示す。図９Ａ〜９Ｃは、それぞれ、エッチング０分目、５分目、１０分目の「瓶の外側の」透明シリコーン化合物のウェットエッチング時間の増加を示す。これらのエッチングおよび材料の条件について、平均粗さ（Ｒａ）も記録した。エッチング評価は、シリコーンエッチングした表面は、炭素含有量（重量％）を増やし、エッチング時間を長くすると、もっと粗くなること、瓶の黒色外側が、瓶の透明外側よりも多くエッチングされていることを示す。
【００３５】
ウェットエッチングした３重量％炭素シリコーン表面の粗さ測定とエッチングプロフィールの比較を図１０Ａ〜１０Ｄに示す。Ｃ０は、エッチングしていない３重量％炭素シリコーン系をあらわし、Ｃ１は、５分間ウェットエッチングした３重量％炭素シリコーン系をあらわし、Ｃ２は、１０分間ウェットエッチングした３重量％炭素シリコーン系をあらわす。ＴＫ０は、黒色瓶Ｄｏｗ  Ｔｏｒａｙ  ＳＥ９１８７Ｌ系のエッチングしていない外側をあらわし、ＴＫ１は、５分間ウェットエッチングした黒色瓶Ｄｏｗ  Ｔｏｒａｙ  ＳＥ９１８７Ｌ系の外側をあらわし、ＴＫ２は、１０分間ウェットエッチングした黒色瓶Ｄｏｗ  Ｔｏｒａｙ  ＳＥ９１８７Ｌ系の外側をあらわす。ＴＫ０は、透明瓶Ｄｏｗ  Ｔｏｒａｙ  ＳＥ９１８７Ｌ系のエッチングしていない外側をあらわし、ＴＫ１は、５分間ウェットエッチングした透明瓶Ｄｏｗ  Ｔｏｒａｙ  ＳＥ９１８７Ｌ系の外側をあらわし、ＴＫ２は、１０分間ウェットエッチングした透明瓶Ｄｏｗ  Ｔｏｒａｙ  ＳＥ９１８７Ｌ系の外側をあらわす。５分間ウェットエッチングしたサンプルＣ１を用い、Ｒａが０．５μｍのベンチマークを得た。このことは、５分間のウェットエッチングを用い、３重量％の炭素を保持するシリコーン材料で、Ｒａ値０．５μｍが達成可能であることを示す。
【００３６】
バリアブルデジタルリソグラフィーシステムの印刷ブランケットとして有用なエラストマー性ポリマー表面のテクスチャ形成のためのエッチングプロセスの有効性の別の指標は、テクスチャ形成プロセス中の材料除去度である。３種類の主題となる材料系のための材料除去の比較を図１１に示し、それぞれ、３重量％炭素シリコーン系、黒色瓶シリコーンの外側、透明瓶シリコーンの外側について、１０分のウェットエッチングプロセスの間に除去された材料の重量を示す。ここからわかるように、ウェットエッチングプロセスは、３重量％の炭素サンプル（３：５０：１００）からほとんどの重量の材料を除去した。エッチングは、透明瓶（炭素を含まない）サンプルの外側から最も少ない重量を除去した。引き出し得る結論は、ほとんどの物質を除去することによって、３重量％の炭素サンプルのエッチングは、試験するサンプルの最も高い微細な粗さを有することが確認される。
【００３７】
上述の３種類のサンプル系のエッチングした表面水接触角も測定し、エッチングされた３重量％の炭素シリコーン系が、他の系と比較して、改良された湿し液保持性を与えるという推定が確認された。この観察の結果を図１２に示す。ここでも再び、Ｃ０は、エッチングしていない３重量％炭素シリコーン系をあらわし、Ｃ１は、５分間ウェットエッチングした３重量％炭素シリコーン系をあらわし、Ｃ２は、１０分間ウェットエッチングした３重量％炭素シリコーン系をあらわす。ＴＫ０は、黒色瓶Ｄｏｗ  Ｔｏｒａｙ  ＳＥ９１８７Ｌ系のエッチングしていない外側をあらわし、ＴＫ１は、５分間ウェットエッチングした黒色瓶Ｄｏｗ  Ｔｏｒａｙ  ＳＥ９１８７Ｌ系の外側をあらわし、ＴＫ２は、１０分間ウェットエッチングした黒色瓶Ｄｏｗ  Ｔｏｒａｙ  ＳＥ９１８７Ｌ系の外側をあらわす。
【００３８】
プラズマエッチング条件および他の画像形成ブランケット材料を、本開示の裏付けとして試験した。異なるプラズマガス組成物、粉末および幾何形状を使用し、得られたテクスチャを比較した。プラズマ電極の幾何形状は、プラズマのエッチング特性に大きな影響を与えるだろう。反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）システムでは、エッチングされるサンプルを電極に直接配置する。このために、プラズマでの反応性種は、基材に向かって加速される。得られたエッチングは、強い機械的な要素を有し、異方性である。
【００３９】
ＲＩＥシステムに加え、従来のプラズマエッチングの幾何形状を観察し、この場合、エッチングされるサンプルは、電極と離れて配置される。この幾何形状では、反応性種は、基材に向かって加速されず、その結果、プラズマエッチングは、ＲＩＥで観察されるほど大きな機械的なスパッタリング挙動は有していない。サンプルは、プラズマ内の反応性種によって化学的にエッチングされ、もっと遅いエッチング速度で等方性のエッチングを生じる。
【００４０】
図１３Ａ〜１３Ｄは、エッチングされていないフルオロシリコーンブランケット（図１３Ａ）、ＲＩＥエッチングされたフルオロシリコーンブランケット（図１３Ｂ）および従来のプラズマを用いてエッチングされたフルオロシリコーンブランケット（図１３Ｃおよび１３Ｄ）の４５°角度で撮られた走査型電子顕微鏡写真走査型電子顕微鏡を示す。図１４Ａ〜１４Ｄは、エッチングされていないＶｉｔｏｎ（Ｅ．Ｉ．ｄｕ  Ｐｏｎｔ  ｄｅ  Ｎｅｍｏｕｒｓ  ａｎｄ  Ｃｏｍｐａｎｙ）ブランケット（図１４Ａ）、ＲＩＥエッチングされたＶｉｔｏｎブランケット（図１４Ｂ）および従来のプラズマを用いてエッチングされたＶｉｔｏｎブランケット（図１４Ｃおよび１４Ｄ）の４５°角度で撮られた走査型電子顕微鏡写真を示す。
【００４１】
それぞれ、フルオロシリコーンおよびＶｉｔｏｎ両方について、図１３Ｂ〜１３Ｄおよび１４Ｂ〜１４Ｄは、非常に微細なテクスチャの増加を示し、印刷用途にとって望ましいだろう。この増加した微細なテクスチャは、特に、ｖｉｔｏｎサンプルでは顕著である。これらの図は、異方性化学プラズマエッチングが、エラストマー性ポリマー膜に微細なテクスチャを作成するのに特に適していることを示唆している。
【００４２】
望ましい表面テクスチャを与えるパラメータが何であるかをよりよく理解するために、種々のエッチングガス組成物が開発された。具体的には、本願発明者らは、種々の濃度のＣＦ４、ＳＦ６およびＯ２を考察した。図１５Ａ〜１５Ｄは、ＣＦ４およびＯ２（図１５Ａ）、ＣＦ４のみ（図１５Ｂ）、ＳＦ６およびＯ２（図１５Ｃ）およびＳＦ６のみ（図１５Ｄ）の混合物でエッチングされたフルオロシリコーンブランケットの８５°角度で撮られた走査型電子顕微鏡写真を示す。これらの図から、本願発明者らは、望ましいテクスチャが、ＣＦ４化学を用いて作られること（図１５Ａおよび１５Ｂ）、および増加した酸素組成物が、もっと微細なテクスチャを与えるようであること（図１４Ａおよび１５Ｃ）がわかった（それぞれ、１５Ｂおよび１５Ｄで作られるテクスチャと比較して）。
【００４３】
図１６Ａ〜１６Ｂは、ＣＦ４とＯ２の混合物でエッチングされたフルオロシリコーンブランケットの８５°角度で撮られた走査型電子顕微鏡写真を示す。両方の画像が、エッチング領域６０、６２と、エッチングされていない領域６４、６６とをそれぞれ示す。エッチングの深さは、←６８、７０で示される工程で明らかに目に見える。図１６Ａの表面を作るために用いられるプラズマは、図１６Ｂの表面を作るために用いられるプラズマと比べ、Ｏ２濃度がちょうど２倍以上であった。このことは、増加した酸素組成物は、顕著な縦方向のエッチング速度を与えることを示す。
【００４４】
上のことから、本願発明者らは、エラストマー性ポリマー画像形成ブランケットに望ましいテクスチャを達成するためのエッチングガスの化学は、ＣＦ４と少量のＯ２との組み合わせであると結論づける。しかし、例えば、ＮＦ３などのテクスチャを作るための他の候補物質を想定する。
【００４５】
本願発明者らは、プラズマエッチングによる画像形成ブランケット表面へのテクスチャ形成も開発し、この場合、画像形成ブランケットは、特定のフィラー材料を含む。ポリマーマトリックスへのフィラー材料の添加を使用し、表面にある突出するフィラー粒子を残しつつ、ポリマーマトリックス材料をエッチングすることによって、特定の表面テクスチャを作成することができる。選択されるフィラー材料は、これを包み込むポリマーマトリックスよりもエッチング速度がかなり遅くなければならない。最終的な表面テクスチャは、フィラー材料の大きさおよび密度を選択することによって設計することができる。これらの態様のフィラーは、ブランケットの表面特徴の最終的な深さおよび空間に影響を与えるだろう。
【００４６】
図１７Ａ〜１７Ｄは、包み込まれたフィラー材料を含むプラズマエッチングされたエラストマー性ポリマーマトリックスの垂直表面に対して８５°で撮られた走査型電子顕微鏡写真を示す。ポリマーマトリックスは、市販のシリコーンで構成され、使用されるフィラー材料は、粉砕した炭素エアロゲルである。炭素エアロゲルは、プラズマエッチング（ある場合には、２００ワットでＣＦ４、ＳＦ６、Ｏ２）を受けにくく、エッチング後に表面に突出したまま残る。この図は、包み込まれた粒子を含むエラストマー性ポリマーマトリックスの初期表面（図１７Ａ）、１分間エッチングした後の表面（図１７Ｂ）、５分間エッチングした後の表面（図１７Ｃ）およびエッチング前のサンプルの断面図（図１７Ｄ）を示す。図１７Ｂおよび１７Ｃは、エッチング時間が長くなるにつれ、もっと多くのエアロゲル材料が露出し、もっと粗い表面テクスチャを生じることを示す。最終的な表面は、包み込まれているエアロゲルの大きさおよび密度、および露出させるために用いられるエッチング時間を特定することによって調整することができる。
【００４７】
この手法は、プラズマエッチングを用いて開発されたが、フィラー材料よりもマトリックス材料を選択的に除去する任意の引き算プロセスは同様に有効である。さらなる手法の例としては、化学エッチングまたは物理的な研磨を挙げることができ、適切な材料および条件が選択されると推定される。
【００４８】
上述のように、上述の成型プロセスによって作られた、パターン形成した画像形成表面を有するエラストマー性ポリマー画像形成ブランケットを、バリアブル・データ・リソグラフィー・システムの印刷媒体に固定してもよい。図１８を参照すると、バリアブル・データ・リソグラフィーのためのこのようなシステム２００の一例が示される。システム２００は、画像化部材２１２を備えている（この実施形態ではドラムであるが、等価なものとして、プレート、ベルトなどであってもよい）。上述の成型し、表面をエッチングしたエラストマー性ポリマー画像形成ブランケット２０２を、例えば、ブランケット２０２を部材２１２の表面に一時的に接着することができる適切な接着剤によって部材２１２に貼り付けてもよい。ブランケット２０２は、パターン形成した画像形成表面が外側になるように設置する。
【００４９】
ある実施形態では、画像化部材２１２は、画像形成ブランケット２０２が貼り付けられており、直接塗布する湿し液サブシステム２１４（しかし、直接塗布サブシステム以外のものも使用してもよい）、光学パターン形成サブシステム２１６、インク塗布サブシステム２１８、レオロジー（複合粘弾率）制御サブシステム２２０、インクのついた画像を、画像形成ブランケット２０２の表面から基材２２４まで転写するための転写サブシステム２２２、最後に、表面洗浄サブシステム２２６のうち、１つ以上に囲まれている。多くの任意要素のサブシステムを使用してもよいが本開示の範囲を超える。一般的に、バリアブルリソグラフィーシステムを操作してもよく、その結果、前記画像形成ブランケットの上にある湿し液を放射線にさらし、それによって、湿し液の一部を除去し、湿し液が除去された涼気にインクを選択的に作成し、基材をインクと物理的に接触させ、それによって、インクを画像形成ブランケットから基材へと転写することによって、画像が作られる。これらの多くのサブシステム、およびシステム全体としての操作は、上述の米国特許出願第１３／０９５，７１４号にさらに詳細に記載される。
【００５０】
第１の層が、第２の層または基材の「上（ｏｎ）」または「上（ｏｖｅｒ）」にあると言う場合、第２の層または基材の上に直接的に存在していてもよく、または、介在する１つ以上の層が第１の層と第２の層または基材との間にあってもよいことを理解されたい。さらに、第１の層が、第２の層または基材の「上（ｏｎ）」または「上（ｏｖｅｒ）」にあると言う場合、第１の層は、第２の層または基材全体を覆っていてもよく、または第２の層または基材の一部を覆っていてもよい。
【００５１】
デバイスの物理学およびその製造方法は、絶対的なものではなく、望ましいデバイスおよび／または結果を与えるために統計学的な努力がなされる。プロセスの再現性に最大限の注意がはらわれている場合であっても、製造設備の洗浄性、出発物質および処理物質の純度など、変動および欠陥が生じる。したがって、本開示および特許請求の範囲の記載の限定事項は絶対であると読むことはできず、またそう読むべきでもない。特許請求の範囲の限定事項は、その限定事項まで、また、その限定事項を含むように、本開示の境界を規定することを意図している。このことをさらに強調するために、「実質的に」という用語は、特許請求の範囲の限定事項と組み合わせて本発明で時折使用されてもよく（しかし、変動および欠陥を考慮することは、この用語を使用する限定のみに制限されない）。本開示の限定事項自体として正確に定義することは困難であるが、本願発明者らは、この用語を「大きな程度まで」、「できる限り近く」、「技術的な制限の範囲内で」などのように解釈する。
【００５２】
実施例および改変例を上の記載に提示してきたが、非常に多くの改変例が存在し、これらの例は単に代表例であり、本開示の範囲、適用可能性または構造をいかなる様式にも限定することを意図したものではないことを理解すべきである。例えば、本明細書に開示する設計された表面テクスチャ形成方法を使用し、アニロックス型またはグラビア型のインク計量ローラーを可能にし、このとき、アニロックスまたはグラビアセルは、印刷インクを保持するための設計されたインクポケットである。さらに、型枠成型プロセスが記載されているが、エラストマー性印刷プレート材料をブランケットとして作成する他の方法も本明細書で想定される。このような手法としては、限定されないが、カレンダー加工、バードバーを用いて、フローコーティングまたはドローダウンプロセスを用いることが挙げられる。これらの手法すべてが、画像形成表面を製造し、上述のように、ウェットエッチングまたはドライエッチングによってテクスチャを製造することが有益であろう。
【００５３】
したがって、本明細書には、特に、本開示は、画像形成ブランケットの超微細表面のテクスチャ形成を規定するために用いられる自然なエラストマー性ポリマーエッチング、得られたブランケット、およびこれを用いるシステムが開示される。このような超微細表面テクスチャを有する画像形成ブランケットは、湿し液の放射能による蒸発、除去など、転写印刷に適した材料表面硬度、画像形成ブランケット表面から、その上に作られた湿し液またはインクへの材料の移動が最低限である表面を与えつつ、印刷していない暗い部分の表面積を規定する湿し液の非常に薄い層の保持性が高まる。
【図１】
2015024655.tif 000006
【図４】
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【図５】
2015024655.tif 000008
【図６】
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【図１０Ａ】
2015024655.tif 000010
【図１０Ｂ】
2015024655.tif 000011
【図１０Ｃ】
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【図１０Ｄ】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１８】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図７Ａ】
2015024655.tif 000020
【図７Ｂ】
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【図７Ｃ】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図８Ｃ】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図９Ｃ】
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【図１３Ａ】
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【図１３Ｂ】
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【図１３Ｃ】
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【図１３Ｄ】
2015024655.tif 000032
【図１４Ａ】
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【図１４Ｂ】
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【図１４Ｃ】
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【図１４Ｄ】
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【図１５Ａ】
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【図１５Ｂ】
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【図１５Ｃ】
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【図１５Ｄ】
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【図１６Ａ】
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【図１６Ｂ】
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【図１７Ａ】
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【図１７Ｂ】
2015024655.tif 000044
【図１７Ｃ】
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【図１７Ｄ】
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