(57)【要約】【課題】、付着した付着物を拭き取ることによりフィルム貼り合わせ時の弊害をなくすことを目的とする。また、揮発性が低く危険物に指定されていない溶剤を用いての拭き取り装置を提供することを目的とする。【解決手段】シート状部材を支持するステージと、拭き取り手段と、前記シート状部材の外周部に付着した付着物を拭き取る拭き取り部材と、溶剤を供給する溶剤供給手段と、拭き取り後の残留物を回収する回収手段と、を有し、前記拭き取り手段は、前記拭き取り部材と、前記溶剤供給手段と、前記回収手段とを配設し、前記溶剤供給手段は、前記付着物上に溶剤を供給し、前記拭き取り部材は、前記溶剤が供給され溶解する前記付着物を拭き取り、前記回収手段は、拭き取り後の残留物を回収する拭き取り装置、またはそのような拭き取り装置を備えた積層体の作製装置を特徴とする。【選択図】図１
2015208737.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シート状部材を支持するステージと、
拭き取り手段と、
前記シート状部材の外周部に付着した付着物を拭き取る拭き取り部材と、
溶剤を供給する溶剤供給手段と、
拭き取り後の残留物を回収する回収手段と、を有し、
前記拭き取り手段は、前記拭き取り部材と、前記溶剤供給手段と、前記回収手段とを配設し、
前記溶剤供給手段は、前記付着物上に溶剤を供給し、
前記拭き取り部材は、前記溶剤が供給され溶解する前記付着物を拭き取り、
前記回収手段は、拭き取り後の残留物を回収することを特徴とする拭き取り装置。
【請求項２】
請求項１において、前記ステージは、傾斜することを特徴とする拭き取り装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、前記拭き取り部材は、シリコーン製のゴム板であることを特徴とする拭き取り装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、前記溶剤供給手段は、前記拭き取り手段の進行方向に対して前記拭き取り部材より前方側に配設され、前記拭き取り部材の拭き取りに先んじて前記溶剤を前記付着物に供給することを特徴とする拭き取り装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、前記回収手段は、前記付着物より下方に位置し、前記拭き取り部材による拭き取り後に流下する残留物を回収することを特徴とする拭き取り装置。
【請求項６】
請求項５において、前記回収手段による回収は、吸引を利用した回収であることを特徴とする拭き取り装置。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項において、前記溶剤は、揮発性が低く危険物に指定されていない溶剤であることを特徴とする拭き取り装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一項において、前記拭き取り手段は、更に洗浄液供給手段を配設し、前記拭き取り部材による前記付着物の拭き取り後に洗浄液を供給し、前記付着物が残存した領域を洗浄することを特徴とする拭き取り装置。
【請求項９】
請求項８において、前記洗浄液供給手段は、前記拭き取り手段の進行方向に対して前記拭き取り部材より前方側に配設され、前記拭き取り部材の拭き取りに先んじて前記洗浄液を供給することを特徴とする拭き取り装置。
【請求項１０】
請求項８または請求項９において、前記洗浄液は、エタノールと純水の混合液であることを特徴とする拭き取り装置。
【請求項１１】
請求項８乃至請求項１０のいずれか一項において、前記拭き取り手段は、更に乾燥手段を配設し、前記洗浄後の領域を乾燥することを特徴とする拭き取り装置。
【請求項１２】
請求項１１において、前記乾燥手段は、前記拭き取り手段の進行方向に対して前記拭き取り部材より後方側に配設され、前記拭き取り部材の拭き取りに遅れて空気を供給することを特徴とする拭き取り装置。
【請求項１３】
請求項１乃至請求項１２のいずれか一項において、前記拭き取り部材は、前記付着物が付着した範囲を内方から外方に向かって跨ぐとともに、内方側が外方側より先行するように傾斜することを特徴とする拭き取り装置。
【請求項１４】
加工部材を供給する第１の供給ユニットと、
第１および第２の支持体を供給する支持体供給ユニットと、
前記加工部材の一方の表面を剥離して、第１の残部を分離する第１の分離ユニットと、
前記第１の残部を洗浄する第１の洗浄装置と、
前記第１の支持体を前記第１の残部に第１の接着層を用いて貼り合わせる第１の貼り合わせユニットと、
前記第１の残部、および前記第１の接着層で貼り合された前記第１の支持体を備える第１の積層体を積み出す第１の積み出しユニットと、
前記第１の積層体を供給する第２の供給ユニットと、
前記第１の残部および第１の支持体の端部近傍に、剥離の起点を形成する起点形成ユニットと、
前記第１の積層体の一方の表面を剥離して、第２の残部を分離する第２の分離ユニットと、
前記第２の支持体を前記第２の残部に第２の接着層を用いて貼り合わせる第２の貼り合わせユニットと、
前記第２の残部および前記第２の接着層で貼り合された第２の支持体を備える第２の積層体を積み出す第２の積み出しユニットと、を有し、
前記第１の洗浄装置は、
前記第１の残部であるシート状部材を支持するステージと、
拭き取り手段と、
前記シート状部材の外周部に付着した付着物を拭き取る拭き取り部材と、
溶剤を供給する溶剤供給手段と、
拭き取り後の残留物を回収する回収手段と、を有し、
前記拭き取り手段は、前記拭き取り部材と、前記溶剤供給手段と、前記回収手段とを配設し、
前記溶剤供給手段は、前記付着物上に溶剤を供給し、
前記拭き取り部材は、前記溶剤が供給され溶解する前記付着物を拭き取り、
前記回収手段は、拭き取り後の残留物を回収することを特徴とする積層体の作製装置。
【請求項１５】
請求項１４において、前記第１の支持体および前記第２の支持体は、可撓性基板であることを特徴とする積層体の作製装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、半導体装置、表示装置、発光装置、蓄電装置、発電装置等の積層体を作製する際に付着した付着物を拭き取る拭き取り装置、または、積層体の作製装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、可撓性を有する基板（以下、可撓性基板とも記す）上に半導体素子、表示素子、発光素子などの機能素子が設けられたフレキシブルデバイスの開発が進められている。フレキシブルデバイスの代表的な例としては、照明装置、画像表示装置の他、トランジスタなどの半導体素子を有する種々の半導体回路などが挙げられる。
【０００３】
可撓性基板を用いた装置の作製方法としては、ガラス基板や石英基板などの基板上に薄膜トランジスタや有機ＥＬ素子などの機能素子を作製したのち、可撓性基板に該機能素子を転置する技術が開発されている。この方法では、基板から機能素子を含む被剥離層を剥離する剥離工程が必要である。
【０００４】
例えば、特許文献１に開示されているレーザアブレーションを用いた剥離技術では、まず、基板上にタングステンを含む層と酸化タングステンを含む層などからなる剥離層を設け、剥離層上に薄膜素子からなる被剥離層を設け、被剥離層を接着層により転写体に接着させる。そして、レーザ光の照射により剥離層をアブレーションさせることで、剥離層に剥離を生じさせている。
【０００５】
可撓性を有する基板を用いた発光装置の作製方法としては、ガラス基板や石英基板などの基板上に剥離層を形成し、当該剥離層上に薄膜トランジスタなどの半導体素子を作製した後、他の基板（例えば可撓性を有する基板）へと半導体素子を転置する技術が開発されている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−１７４１５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、後述する図４（Ａ−１）、（Ａ−２）および図６（Ａ−１）、（Ａ−２）で示す加工部材９０を作製する場合、上部の第１の基板１１（ガラス基板など）、その下方のタングステンを含む層と酸化タングステンを含む層などからなる第１の剥離層１２及びその下方の薄膜素子からなる第１の被剥離層１３と、下部の第２の基板２１（ガラス基板など）、その上方のタングステンを含む層と酸化タングステンを含む層などからなる第２の剥離層２２及びその上方の薄膜素子からなる第２の被剥離層２３とを接合層３０を介在して圧着すると接合層３０のシール材の一部が流れ出て下部の第２の基板２１と第２の剥離層２２の外周部の１ないし４辺のいずれか１辺または複数辺に付着する場合がある（図４（Ａ−１）で示す破線領域のシール材３０ａ参照）。
【０００８】
このような場合、図４（Ｃ）に示すように上部の第１の基板１１などを剥がすと、下部の第２の基板２１と第２の被剥離層２３の外周部の１ないし４辺のいずれか１辺または複数辺上にシール材が残存することになる。
【０００９】
そのため、そのままの状態で図４（Ｄ−１）に示すように第２の基板２１、第２の剥離層２２及び第２の被剥離層２３（第１の残部及びシート状部材に相当）上に第１の接着層３１を形成すると、残存するシール材３０ａにより外周部の１ないし４辺のいずれか１辺または複数辺上に段差が生じる（例えば図４（Ｄ−１）に破線で示す盛り上がり部３１ａ参照）。
【００１０】
すると、その後、図４（Ｅ−１）に示すように第１の接着層３１の上面にフィルム状の第１の支持体４１をローラーを用いて圧着する際、ローラーが段差を拾って第１の支持体４１を均一に張り合わすことができなくなる。
【００１１】
本発明は、残存するシール材、即ち付着した付着物を拭き取ることにより第１の支持体を圧着する際の弊害をなくすことを目的とする。また、揮発性が低く危険物に指定されていない溶剤を用いての拭き取り装置を提供することを目的とする。また、基板上に形成された機能素子などの構造物および可撓性基板からなる積層体を短時間且つ適正に剥離し転置することができる積層体の作製装置を提供することを目的とする。なお、これらの課題の記載は、他の課題の存在を妨げるものではない。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の一態様は、シート状部材を支持するステージと、拭き取り手段と、前記シート状部材の外周部に付着した付着物を拭き取る拭き取り部材と、溶剤を供給する溶剤供給手段と、拭き取り後の残留物を回収する回収手段と、を有し、前記拭き取り手段は、前記拭き取り部材と、前記溶剤供給手段と、前記回収手段とを配設し、前記溶剤供給手段は、前記付着物上に溶剤を供給し、前記拭き取り部材は、前記溶剤が供給され溶解する前記付着物を拭き取り、前記回収手段は、拭き取り後の残留物を回収する拭き取り装置である。
【００１３】
本発明の他の一態様は、加工部材を供給する第１の供給ユニットと、第１および第２の支持体を供給する支持体供給ユニットと、前記加工部材の一方の表面を剥離して、第１の残部を分離する第１の分離ユニットと、前記第１の残部を洗浄する第１の洗浄装置と、前記第１の支持体を前記第１の残部に第１の接着層を用いて貼り合わせる第１の貼り合わせユニットと、前記第１の残部、および前記第１の接着層で貼り合された前記第１の支持体を備える第１の積層体を積み出す第１の積み出しユニットと、前記第１の積層体を供給する第２の供給ユニットと、前記第１の残部および第１の支持体の端部近傍に、剥離の起点を形成する起点形成ユニットと、前記第１の積層体の一方の表面を剥離して、第２の残部を分離する第２の分離ユニットと、前記第２の支持体を前記第２の残部に第２の接着層を用いて貼り合わせる第２の貼り合わせユニットと、前記第２の残部および前記第２の接着層で貼り合された第２の支持体を備える第２の積層体を積み出す第２の積み出しユニットと、を有し、前記第１の洗浄装置は、前記第１の残部であるシート状部材を支持するステージと、拭き取り手段と、前記シート状部材の外周部に付着した付着物を拭き取る拭き取り部材と、溶剤を供給する溶剤供給手段と、拭き取り後の残留物を回収する回収手段と、を有し、前記拭き取り手段は、前記拭き取り部材と、前記溶剤供給手段と、前記回収手段とを配設し、前記溶剤供給手段は、前記付着物上に溶剤を供給し、前記拭き取り部材は、前記溶剤が供給され溶解する前記付着物を拭き取り、前記回収手段は、拭き取り後の残留物を回収する積層体の作製装置である。
【００１４】
また、上記積層体は、上下面に可撓性基板を備えた積層体とすることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の一態様を用いることにより、基板を剥離したシート状部材または第１の残部に可撓性フィルムを転置する際、可撓性フィルムをほぼ均一に貼り付けることができ、機能素子の機能の低下を防止することができる。
【００１６】
また、ステージを傾けての拭き取りであり、拭き取り後の残留物が流下するため機能素子側に流れる弊害を防止することができる。
【００１７】
また、シリコーンゴム板での拭き取りであり再度の使用が可能であるため、使い捨ての拭き取り布を用いるものに比べて安価且つ省資源に資することができ、且つ布によるほこりの発生およびゴミ（使い捨ての拭き取り布）の発生をなくすことができるとともに、拭き取り面を損傷することなく適正に拭き取ることができる。
【００１８】
また、溶剤供給手段を拭き取り手段の進行方向に対して拭き取り部材より前方側に配設して拭き取り部材の拭き取りに先んじて溶剤を付着物に供給することにより、拭き取り装置全体をコンパクトにすることができるとともに、作業効率を向上することができる。
【００１９】
また、回収手段を付着物より下方に位置して残留物を回収することにより、その回収を容易にし、且つ残留物のシート状部材裏面への回り込みを防止することができる。なお、その回収を吸引を利用した強制的な回収にすることにより、回収をより確実に行うことができる。
【００２０】
また、溶剤を用いての拭き取りであり、付着物の除去を容易にすることができる。なお、溶剤として揮発性が低く危険物に指定されていない溶剤、例えば旭化成マテリアルズのエリーズＭ８９０２を用いることができる。このような溶剤を用いることにより、例えば可燃性の高いアセトンを用いる場合に比べてその扱いが容易になるとともに、安全上の対策を施す必要がないためその分生産コストを低減することができる。
【００２１】
また、拭き取り後に洗浄または乾燥することにより拭き取り後の状態をより適正にすることができる。
【００２２】
また、洗浄液供給手段または／および乾燥手段を設けることにより、拭き取り装置全体をコンパクトにすることができるとともに、作業効率を向上することができる。
【００２３】
また、拭き取り部材を付着物が付着する範囲を内方から外方に向かって跨ぐとともに、内方側が外方側より先行するように傾斜させることにより、溶解物などの残留物が機能素子側に流れる弊害を防止することができる。
【００２４】
また、貼り合わされた上下基板から一方の基板を分離して第１の残部を形成し、当該第１の残部に第１の可撓性基板を貼り合わせ、他方の基板を分離して第２の残部を形成し、当該第２の残部に第２の可撓性基板を貼り合わす各種工程を集約してなる積層体の作製装置により、可撓性の積層体を短時間且つ効率的に作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】拭き取り装置を説明する図。
【図２】拭き取り装置の拭き取り手順を説明する図。
【図３】積層体の作製装置の構成を説明する図。
【図４】積層体の作製工程を説明する図。
【図５】積層体の作製工程を説明する図。
【図６】加工部材を説明する図。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。但し、本発明は以下の説明に限定されず、本発明の趣旨およびその範囲から逸脱することなくその形態および詳細を様々に変更し得る。したがって、本発明は以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、以下に説明する発明の構成において、同一部分または同様な機能を有する部分には同一の符号を異なる図面間で共通して用い、その繰り返しの説明は省略することがある。
（実施の形態１）
本実施の形態では、本発明の一態様の拭き取り装置について説明する。
【００２７】
本発明の一態様は、基板上に形成した機能素子などからなる構造物を可撓性基板上に転置する前の一工程に使用することができる。例えば、上下両基板に構造物が挟持される加工部材から一方の基板を剥離した後の残部（第１の残部またはシート状部材に相当）の洗浄工程に用いることができる。なお、基板にはガラス基板のような硬質基板を用いることが好ましいが、樹脂などの可撓性基板を用いることもできる。
【００２８】
図１は、本発明の一態様である拭き取り装置を説明する斜視図であり、（Ａ）はその全体の概略斜視図で、（Ｂ１）はテーブル状のステージが回動する状態を示す斜視図で、（Ｂ２）はテーブル状のステージが傾動する状態を示す側面図で、（Ｃ１）は拭き取り手段が付着物を拭き取る状態を示す側面図で、（Ｃ２）は拭き取り手段が付着物を拭き取って後退する状態を示す側面図である。
【００２９】
また、図２は、拭き取り、洗浄および乾燥を説明する図であり、（Ａ）はヘッド部に収納される各種ノズルおよび拭き取り部材を概略的に示す図で、（Ｂ）はヘッド部の前後方向（矢印Ｙ方向は前方向、その逆方向は後方向と呼ぶ。）および左右方向（矢印Ｘ方向は左方向、その逆方向は右方向と呼ぶ。）の動きを示す図で、（Ｃ１）は拭き取りの状態を示す図で、（Ｃ２）は洗浄および乾燥の状態を示す図で、（Ｄ１）は拭き取り時の残留物（溶解物でもある。）を回収する図で、（Ｄ２）は洗浄時の水などの洗浄液を回収する図である。
【００３０】
拭き取り装置２００は、拭き取り手段２１０、シート状部材２２０、ステージ２３０、拭き取り部材２４０、溶剤を供給する溶剤供給手段２５０および拭き取り時の残留物を回収する回収手段２６０を備える（図１（Ａ）等参照）。なお、その他として洗浄液供給手段２７０および乾燥手段２８０を備えてもよい。
【００３１】
上記拭き取り手段２１０は、ヘッド部２１１、支柱部２１２および台座部２１３などからなる。台座部２１３の下面には車輪が設けられており、拭き取り手段２１０は、図示しない制御装置によりレール２１５上をステージ２３０に沿って矢印で示すような左右方向（図２のＸ方向）に移動可能である。
【００３２】
台座部２１３の上方に支柱部２１２を介して位置するヘッド部２１１は、厚みのある矩形状且つ板状の部材であり、図１（Ｃ２）に矢印で示すように前後方向（図の矢印方向は後方向）に移動可能、別言すれば、ステージ２３０から離れる方向（後方向）に移動可能であり、或いは矢印と反対のステージ２３０に向かう方向（前方向）（図２（Ｂ）の矢印Ｙ方向）に移動可能である。
【００３３】
また、ヘッド部２１１は、前方側の側面に前方側から後方側に向かって凹む略コ字状の切欠凹部２１６を有する。そして、切欠凹部２１６の上面２１６ａは前方から後方に向かって下がる傾斜面であり、側面２１６ｂは略垂直であり、底面２１６ｃは水平である（図１（Ｃ１）および（Ｃ２）参照）。
【００３４】
そして、図２（Ｂ）に示すようにヘッド部２１１の上面２１６ａの上方には、下方から上方に向かって開口する断面矩形状の凹部空間２１７が設けられており、その凹部空間２１７内には、図２（Ａ）に示すように左側から右側に向かって順に後記の溶剤供給ノズル２５１、洗浄液供給ノズル２７１、拭き取り部材２４０および空気ノズル２８１がユニット状に配設され、底面２１６ｃには、回収手段２６０が配設される。
【００３５】
なお、凹部空間２１７内に溶剤供給ノズル２５１、洗浄液供給ノズル２７１、拭き取り部材２４０および空気ノズル２８１をユニット状に配設することにより、拭き取り手段２１０を小型化することができる。
【００３６】
上記シート状部材２２０は、ステージ２３０上に載置される矩形状の部材である（図１（Ａ）参照）。シート状部材２２０は、例えば後記図４で示されるような第１の基板１１が剥離され、その外周面に付着物であるシール材３０ａが付着物として残存する基板２１上に機能素子などからなる構造物が積層される第１の残部９０ａであり、その外周部の４辺近傍に残存するシール材３０ａを有する面を上にしてステージ２３０に載置され、ステージ２３０が有する吸引を利用した吸着手段によりその下面がステージ２３０上面に吸着固定される。なお、シート状部材２２０は上記のものでなくともシール材３０ａなどの付着物が付着するものであればどのようなものでもよい。
【００３７】
上記ステージ２３０は、一種のテーブルであり、上部の矩形状平板２３１上にはシート状部材２２０が載置される。平板２３１には上下方向に複数の細孔２３２が設けられており、これら細孔２３２を介して図示しない真空ポンプによる負圧を平板２３１上に作用させて、載置するシート状部材２２０の裏面を引きつけ、シート状部材２２０を平板２３１上に吸着固定する。
【００３８】
また、ステージ２３０の平板２３１は、図１（Ｂ１）に示すように水平面に対して回動自在に制御可能であり、且つ図１（Ｂ２）に示すように前後方向に傾動自在に制御可能である。その回動は、例えば支柱２３４を図示しないモータで回動することにより行い、その傾動は、例えば継ぎ手部２３３を図示しないモータで傾動することにより行うことになる。
【００３９】
そして、拭き取り時または洗浄時、ステージ２３０を図１（Ｃ１）に示すようにヘッド部２１１の上面２１６ａと同じ角度前方に傾斜させるとともに、シート状部材２２０の１辺の残存シール材、即ち付着した付着物を拭き取り、洗浄し、乾燥する毎に平板２３１の傾きをおよそ水平に戻し、９０度回動させることになる。
【００４０】
上記拭き取り部材２４０は、例えば弾性体を用いることができる。具体的には、矩形状のシリコーン製のゴム板であり、図２（Ｃ１）乃至（Ｄ２）に示すようにその先端部がヘッド部２１１の上面２１６ａから下方に突き出る形態で取り付けられる。また、拭き取り部材２４０は、拭き取り時および洗浄時に付着物であるシール材３０ａが付着した範囲を内方から外方に向かって跨ぐとともに、内方側が外方側より先行するように傾斜して配設される（図２（Ａ）、（Ｃ１）および（Ｃ２）参照）。
【００４１】
そして、拭き取り時または洗浄時にその先端部はシール材３０ａ領域に押し付けられ、左右方向に移動する。その結果、シール材３０ａは拭き取られ、洗浄され、乾燥される。なお、先端部は弾力性を有するため若干変形し、拭き取り面を損傷することなく適正に拭き取る。また、拭き取り部材２４０は拭き取り布のように交換する必要がないため安価であり且つ省資源に資する。
【００４２】
上記溶剤供給手段２５０は、図示しない溶剤を入れる容器、ポンプ、配管および図２（Ａ）に示すような溶剤供給ノズル２５１などからなる。溶剤供給ノズル２５１は、ヘッド部２１１の上面２１６ａであって、拭き取り手段２１０の進行方向に対して拭き取り部材２４０より前方側に下方に向けて開口する形態で取り付けられる。
【００４３】
そして、拭き取り時、溶剤供給ノズル２５１から所定量の溶剤が拭き取り部材２４０の拭き取りに先んじてシール材３０ａ上に供給される。
【００４４】
供給される溶剤は、揮発性が低く危険物に指定されていない溶剤、即ち、消防法、労働安全衛生法、ＰＲＴＲ法、オゾン層保護法、毒物および劇物取締法に抵触しない溶剤であり、例えばグリコールエーテル系溶剤、または旭化成マテリアルズのエリーズＭ８９０２を用いることができる。
【００４５】
このような溶剤を用いることにより、例えば可燃性の高いアセトンを用いる場合に比べてその扱いが容易になるとともに、安全上の対策を施す必要がない分生産コストを低減することができる。
【００４６】
因みに上記エリーズはグリコールエーテル系溶剤であり、沸点は１０８℃（アセトンは５６．５℃）、引火点は無し（アセトンは−１７℃）である。このように、上記エリーズは、アセトンと同様に溶解性は高いがアセトンのように揮発性は劣るため、エリーズでの拭き取り後にエタノールおよび純水の混合液で残留物を蒸発させる洗浄を行うとよい。しかし、そのような洗浄は、拭き取り面に水が残りべたべたするため常温のまたは加熱された空気や窒素ガス等を吹き付けて乾燥するとよい。
【００４７】
上記回収手段２６０は、図示しない残留物を回収する容器、真空ポンプ、配管および図２（Ｄ１）および（Ｄ２）に示すようなヘッド部２１１の底面２１６ｃに形成される上方開口の回収凹部２６１などからなる。なお、図２（Ｄ１）および（Ｄ２）に示すように回収凹部２６１の上面に平板状の吸湿性部材２６２を設けることができる。この吸湿性部材２６２は流下する溶解物でもある残留物または洗浄液を適正に受ける受けであり、跳ね返ってシート状部材２２０方向へ向かうことを防止する。
【００４８】
そして、拭き取り時または洗浄時、流下する残留物または洗浄液を回収凹部２６１に効率的に回収する。回収凹部２６１に負圧を作用させることにより残留物または洗浄液の回収をより確実に行うことができる。
【００４９】
上記洗浄液供給手段２７０は、図示しない洗浄液を入れる容器、ポンプ、配管および図２（Ａ）に示すような洗浄液供給ノズル２７１などからなる。洗浄液供給ノズル２７１は、ヘッド部２１１の上面２１６ａであって、拭き取り手段２１０の進行方向に対して拭き取り部材２４０より前方側に下方に向けて開口する形態で取り付けられる。
【００５０】
そして、洗浄時、洗浄液供給ノズル２７１から所定量の洗浄液が拭き取り部材２４０の拭き取りに先んじてシール材が残存した領域上に供給される。
【００５１】
供給される洗浄液は、エタノールおよび純水の混合液で残留物を蒸発させる。エタノールおよび純水の混合液を供給した後に拭き取り部材２４０で拭き取って洗浄することになる。
【００５２】
上記乾燥手段２８０は、図示しない空気ポンプ、配管および図２（Ａ）に示すような空気ノズル２８１などからなる。空気ノズル２８１は、ヘッド部２１１の上面２１６ａであって、拭き取り手段２１０の進行方向に対して拭き取り部材２４０より後方側に下方に向けて開口する形態で取り付けられる。
【００５３】
そして、洗浄後に、空気ノズル２８１から所定量の空気が拭き取り部材２４０の拭き取りに遅れて洗浄後の領域上に供給され、洗浄面に残った水を乾燥することになる。
【００５４】
拭き取り、洗浄および乾燥作業の手順について図１および図２により説明する。
【００５５】
まず、例えば４辺に残存し付着するシール材のうち、拭き取り作業を行う辺がヘッド部２１１の位置する側になるようにステージ２３０を回動する（図１（Ｂ１）参照）。そして、ステージ２３０をヘッド部２１１の上面２１６ａの傾斜と同じ角度に傾斜する（図１（Ｂ２）および（Ｃ１）参照）。
【００５６】
次いで、拭き取り手段２１０を、レール２１５上を移動してステージ２３０の右端に位置させる（図１（Ａ）および図２（Ｂ）参照）。
【００５７】
次いで、拭き取り手段２１０のヘッド部２１１を前方に移動して、拭き取り部材２４０の先端をシール材３０ａの右端より若干右方にずれた位置でステージ２３０面上に当接させる。なお、この場合、溶剤供給ノズル２５１の先端はシール材３０ａの右端でシール材３０ａの面上より若干上方に位置する（図１（Ａ）および図２（Ｃ１）参照、なお、図２（Ｃ１）は概略図であり、必ずしも説明通りではない。）。
【００５８】
次いで、拭き取り作業をスタートする。まず、溶剤供給ノズル２５１から溶剤（例えば、上記エリーズなど）を供給し、拭き取り手段２１０をＸ方向である左方に向かって移動する（図２（Ｃ１）参照）。
【００５９】
溶剤が供給されるとシール材３０ａは溶解するため、拭き取り部材２４０はその残留物を拭き取ることになる。なお、図２（Ａ）および（Ｃ１）に示すように、拭き取り部材２４０は、拭き取り時にシール材３０ａが付着した範囲を内方から外方に向かって跨ぐとともに、内方側が外方側より先行するように傾斜しているため、残留物がシート状部材２２０の中央側に向かう弊害を防止できる。
【００６０】
更に、ステージ２３０は後方側に向かって傾斜しているため、残留物は容易に下方に流れ、底面２１６ｃ上の吸湿性部材２６２上に滴下する（図２（Ｄ１）参照）。そして、滴下した残留物は回収凹部２６１を介して外部に強制的に吸い出される。吸湿性部材２６２は残留物の跳ね返りを防止するがなくてもよく、また、拭き取り部材２４０はシール材３０ａに対して略直交する形態でもよい。
【００６１】
１辺の拭き取りが終了すると、拭き取り手段２１０は停止する。そして、次に同じ辺の洗浄および乾燥が以下の手順で同時に行われる。
【００６２】
まず、拭き取り手段２１０のヘッド部２１１を後方に移動した後、拭き取り手段２１０をレール２１５上を移動してステージ２３０の右端に位置させる（図１（Ａ）および図２（Ｂ）参照）。
【００６３】
次いで、拭き取り手段２１０のヘッド部２１１を前方に移動して、拭き取り部材２４０の先端をシール材３０ａの右端より若干右方にずれた位置でステージ２３０面上に当接させる。なお、この場合、洗浄液供給ノズル２７１の先端は、シール材３０ａがあった領域の右端でシール材３０ａがあった面上より若干上方に位置し、空気ノズル２８１の先端は拭き取り部材２４０の先端より若干右方でステージ２３０の面上より若干上方に位置する（図１（Ａ）および図２（Ｃ２）参照、なお、図２（Ｃ２）は概略図であり、必ずしも説明通りではない。）。
【００６４】
次いで、洗浄および乾燥作業がスタートする。まず、洗浄液供給ノズル２７１から洗浄液（例えば、エタノールおよび純水の混合液など）を供給し、拭き取り手段２１０をＸ方向である左方に向かって移動する（図２（Ｃ２）参照）。
【００６５】
洗浄液が供給されると残留物は洗い流されるため、拭き取り部材２４０は残りの洗浄液（残留物より蒸発しやすい）を拭き取ることになる。なお、上記したように拭き取り部材２４０は、シール材３０ａがあった領域を内方から外方に向かって跨ぐとともに、内方側が外方側より先行するように傾斜しているため、残りの洗浄液がシート状部材２２０の中央側に向かう弊害を防止できる。
【００６６】
更に、ステージ２３０は後方側に向かって傾斜しているため、残りの洗浄液は容易に下方に流れ、底面２１６ｃ上の吸湿性部材２６２上に滴下する（図２（Ｄ２）参照）。そして、滴下した残りの洗浄液は回収凹部２６１を介して外部に強制的に吸い出される。
【００６７】
洗浄作業が開始されると同時に乾燥が行われる。即ち、洗浄作業が開始されると同時に空気ノズル２８１から空気が噴出する（図２（Ｃ２）参照）。そして、拭き取り部材２４０が拭き取った面上に残った洗浄液を空気で乾燥させる。この動作を上記した拭き取り作業と同様に左端まで連続して行う。即ち、１辺を拭き取り部材２４０を２往復させることによりシール材３０ａの除去とその後の処理を行う。この作業によりシール材３０ａの除去とその後の処理を安全且つ適正に行うことができる。
【００６８】
１辺の作業が終了すると、拭き取り手段２１０のヘッド部２１１が後方に移動して拭き取り手段２１０がレール２１５上をステージ２３０の右端に移動する間に、ステージ２３０はおよそ水平になるように傾動し、９０度回動し、他の隣り合う辺を最初にあった辺の位置に移動する。そのため、次の処理までの時間が短縮できる。
【００６９】
上記したように移動後、同様な拭き取り、洗浄および乾燥作業を行う。その後残りの２辺も同様な手順で作業を行い、４辺の作業が終了した時点ですべての作業が終了する。
【００７０】
以上のように本発明の一態様の拭き取り装置を用いることで機能素子などからなる構造物及び基板上に可撓性フィルム（第１の支持体に相当）を接着層を介して貼り付ける場合、当該可撓性フィルムをより均一に貼り付けることができるようになる。
【００７１】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。
【００７２】
（実施の形態２）
本実施の形態では、実施の形態１で説明した拭き取り装置を含む積層体の作製装置について説明する。なお、当該作製装置の用途は限定されないが、特に可撓性基板を有する半導体装置、表示装置、発光装置、蓄電装置、または発電装置等の製造工程に用いることが有用である。
【００７３】
図３は本発明の一態様の積層体の作製装置１０００の構成と、加工部材および工程中の積層体が搬送される経路を説明する模式図である。
【００７４】
図４および図５は本発明の一態様の積層体の作製装置１０００を用いて積層体を作製する工程を説明する模式図である。図４および図５の左側に、加工部材および積層体の構成を説明する断面図を示し、対応する上面図を、図４（Ｃ）、図５（Ｂ）および図５（Ｃ）を除いて右側に示す。
【００７５】
本実施の形態で説明する積層体の作製装置１０００は、第１の供給ユニット１００、第１の分離ユニット３００、第１の洗浄装置３５０、第１の貼り合わせユニット４００、支持体供給ユニット５００、第２の供給ユニット６００、起点形成ユニット７００、第２の分離ユニット８００、および第２の貼り合わせユニット９００を有する。なお、各ユニットの名称は任意であり、名称により機能が限定されることはない。
【００７６】
以下に、本発明の一態様の積層体の作製装置を構成する個々の要素について説明する。
【００７７】
《第１の供給ユニット》
第１の供給ユニット１００は、加工部材９０（図４（Ａ−１）および図６（Ａ−１）、（Ａ−２）参照）を供給する。例えば、搬送手段１１１が加工部材９０を連続して搬送することができるように、複数の加工部材９０を収納することができる多段式の収納庫を備える構成とすることができる。
【００７８】
また、本実施の形態で説明する第１の供給ユニット１００は、第１の積み出しユニットを兼ねる。第１の供給ユニット１００は、第１の残部９０ａ、第１の接着層３１および第１の接着層３１で貼り合された第１の支持体４１を備える積層体９１（第１の積層体に相当）（図４（Ｅ−１）参照）を積み出す。例えば、搬送手段１１１が積層体９１を連続して搬送することができるように、複数の積層体９１を収納することができる多段式の収納庫を備える構成とすることができる。
【００７９】
《第１の分離ユニット》
第１の分離ユニット３００は、加工部材９０の一方の表面を保持する手段と、対向する他方の表面を保持する手段を備える。それぞれの保持手段を引き離すことにより、加工部材９０の一方の表面を剥離して、第１の残部９０ａを分離する（図３および図４（Ａ−１）乃至図４（Ｃ）参照）。
【００８０】
《第１の洗浄装置》
第１の洗浄装置３５０は、第１の残部９０ａの外周部の１ないし４辺のいずれか１辺または複数辺（例えば、２乃至４辺）の残存シール材を上記実施の形態１で説明した拭き取り装置により除去する。なお、ここでの工程は本発明の一態様に相当する。詳細については実施の形態１を参照のこと。
【００８１】
《第１の貼り合わせユニット》
第１の貼り合わせユニット４００は、第１の接着層３１を形成する手段と、第１の接着層３１を用いて第１の残部９０ａと第１の支持体４１を貼り合わせる圧着手段を備える（図３および図４（Ｄ−１）乃至図４（Ｅ−２）参照）。
【００８２】
第１の接着層３１を形成する手段として、例えば、液体状の接着剤を塗布するディスペンサの他、あらかじめシート状に成形された接着シートを供給する装置等が挙げられる。
【００８３】
なお、第１の接着層３１は、第１の残部９０ａまたは／および第１の支持体４１に形成してもよい。具体的には、第１の接着層３１があらかじめ形成された第１の支持体４１を用いる方法であってもよい。また、第１の接着層３１の材料がはみ出して基板および第１の支持体４１の外周面に付着しないように適正制御するが、はみ出した場合、例えば、アセトンなどの有機溶剤や布などを用いて拭き取ることができる。
【００８４】
第１の残部９０ａと第１の支持体を貼り合わせる圧着手段として、例えば、圧力または間隙が一定になるように制御された一対のローラー、平板とローラーまたは一対の対向する平板等の加圧手段が挙げられる。
【００８５】
《支持体供給ユニット》
支持体供給ユニット５００は、第１の支持体４１を供給する。例えば、ロール状で供給されるフィルムを巻き出して、所定の長さに断裁し、表面をＵＶ等で活性化して、第１の支持体４１として供給する。
【００８６】
《第２の供給ユニット》
第２の供給ユニット６００は、積層体９１を供給することができる。なお、第２の供給ユニット６００は、第２の積み出しユニットを兼ねることができ、第１の供給ユニットと同様の構成を適用することができる。即ち、第２の残部９１ａおよび第２の接着層３２で貼り合された第２の支持体４２を備える積層体９２（第２の積層体に相当）を積み出す（図３、図５（Ｅ−１）、（Ｅ−２）参照）。
【００８７】
《起点形成ユニット》
起点形成ユニット７００は、積層体９１の第１の残部９０ａおよび第１の支持体４１ｂの端部近傍に、剥離の起点９１ｓを形成する（図５（Ａ−１）および図５（Ａ−２）参照）。例えば、第１の支持体４１および第１の接着層３１を切断し且つ第２の被剥離層２３の一部を第２の剥離層２２から剥離する切断手段を備える。
【００８８】
具体的には、切断手段は、鋭利な先端を備える一つまたは複数の刃物と、当該刃物を積層体９１に対して相対的に移動する。
【００８９】
《第２の分離ユニット》
第２の分離ユニット８００は、積層体９１の一方の表面９１ｂを剥離して、第２の残部９１ａを分離する（図５（Ｂ）参照）。そのため、積層体９１の一方の表面を保持する手段と、対向する他方の表面を保持する手段を備える。二つの保持手段を引き離すことにより、積層体９１の一方の表面を剥離して、第２の残部９１ａを分離する。
【００９０】
《第２の貼り合わせユニット》
第２の貼り合わせユニット９００は、第２の接着層３２を形成する手段と、第２の接着層３２を用いて第２の残部９１ａと第２の支持体４２を貼り合わせる圧着手段を備える。即ち、第２の支持体４２が供給され、第２の支持体４２を第２の残部９１ａに第２の接着層３２を用いて貼り合わせる（図５（Ｄ−１）乃至図５（Ｅ−２）参照）。
【００９１】
第２の接着層３２を形成する手段として、例えば、第１の貼り合わせユニット４００と同様の構成を適用することができる。
【００９２】
なお、第２の接着層３２は、第２の残部９１ａまたは／および第２の支持体４２に形成してもよい。具体的には、第２の接着層３２があらかじめ形成された第２の支持体４２を用いる方法であってもよい。
【００９３】
第２の残部９１ａと第２の支持体４２を貼り合わせる圧着手段として、例えば、第１の貼り合わせユニット４００と同様の構成を適用することができる。
【００９４】
上記したように、積層体の作製装置は、「加工部材９０を供給し且つ第１の残部９０ａおよび第１の接着層３１で貼り合された第１の支持体４１を備える積層体９１を積み出すとともに、積み出しユニットを兼ねる供給ユニット１００」と、「第１の残部９０ａを分離する第１の分離ユニット３００」と、「残存シール材を拭き取る第１の洗浄装置３５０」と、「第１の支持体４１を第１の残部９０ａに貼り合わせる第１の貼り合わせユニット４００」と、「第１の支持体４１および第２の支持体４２を供給する支持体供給ユニット５００」とともに、「積層体９１を供給し且つ第２の残部９１ａ、第２の接着層３２および第２の接着層３２で貼り合された第２の支持体４２を備える積層体９２を積み出す供給ユニット６００」と、「剥離の起点を形成する起点形成ユニット７００」と、「第２の残部９１ａを分離する第２の分離ユニット８００」と、「第２の支持体４２を第２の残部９１ａに貼り合わせる第２の貼り合わせユニット９００」と、を含んで構成される。
【００９５】
これらの構成により、加工部材９０の両方の表面を剥離して、第２の残部９１ａを分離して、それに第１の支持体４１および第２の支持体４２を貼り合わせることができる。その結果、加工部材の残部および支持体を備える積層体の作製装置を提供できる。
【００９６】
また、本実施の形態で説明する積層体の作製装置１０００は、第１の収納部３００ｂ、第２の収納部８００ｂ、第２の洗浄装置８５０、搬送手段１１１および搬送手段１１２等を有する。
【００９７】
そして、第１の収納部３００ｂは、加工部材９０から剥離された一方の表面９０ｂを収納し、第２の収納部８００ｂは、積層体９１から剥離された一方の表面９１ｂを収納し、第２の洗浄装置８５０は、積層体９１から分離された第２の残部９１ａを洗浄し、搬送手段１１１は、加工部材９０、加工部材９０から分離された第１の残部９０ａおよび積層体９１を搬送し、搬送手段１１２は、積層体９１、積層体９１から分離された第２の残部９１ａおよび積層体９２を搬送する。
【００９８】
このように、各装置を集約させ、２台の搬送装置により加工部材などの受け渡しを行わせることにより、作製装置全体を小型化できるとともに、生産時間を短縮し、且つ生産コストを低減できる。
【００９９】
次いで、以下に、積層体の作製装置１０００を用いて、加工部材９０から積層体９２を作製する方法について、図３乃至図５を参照しながら説明する。
【０１００】
加工部材９０は、ガラスなどからなる第１の基板１１、第１の基板１１上のタングステンを含む層と酸化タングステンを含む層などからなる第１の剥離層１２、第１の剥離層１２と一方の面が接する機能素子などからなる第１の被剥離層１３、第１の被剥離層１３の他方の面と一方の面が接する接合層３０、および接合層３０の他方の面に一方の面が接する機能素子などからなる第２の被剥離層２３、第２の被剥離層２３の他方の面と一方の面が接するタングステンを含む層と酸化タングステンを含む層などからなる第２の剥離層２２および第２の剥離層２２上のガラスなどからなる第２の基板２１を備える（図４（Ａ−１）、（Ａ−２）参照）。
【０１０１】
なお、図４（Ａ−１）の符号３０ａは、圧着時にはみ出た接合層３０の一部を示し、本発明の一態様は、このようにはみ出たシール材であって第１の残部９０ａ上に残存するシール材３０ａを拭き取るものである。
【０１０２】
また、図４（Ｄ−１）の符号３１ａは、第１の残部９０ａ上に第１の接着層３１を形成した場合、上記残存シール材３０ａによって盛り上がる盛り上がり部である。本発明の一態様を実施することによりこの盛り上がり部３１ａをなくすことができる。
【０１０３】
本実施の形態では、あらかじめ剥離の起点１３ｓが、接合層３０の端部近傍に形成された加工部材９０を用いる場合について説明する（図４（Ｂ−１）、（Ｂ−２）参照）。また、加工部材９０の構成の詳細は、実施の形態３で説明する。
【０１０４】
《第１のステップ》
加工部材９０が第１の供給ユニット１００に搬入される。第１の供給ユニット１００は加工部材９０を供給し、搬送手段１１１は、加工部材９０を搬送し、第１の分離ユニット３００に供給する。
【０１０５】
《第２のステップ》
第１の分離ユニット３００が、加工部材９０の一方の表面９０ｂを剥離する。具体的には、接合層３０の端部近傍に形成された剥離の起点１３ｓから、第１の基板１１を第１の剥離層１２と共に第１の被剥離層１３から分離する（図４（Ｃ）参照）。
【０１０６】
このステップにより、加工部材９０から第１の残部９０ａを得る。具体的には、第１の残部９０ａは、第１の被剥離層１３、第１の被剥離層１３と一方の面が接する接合層３０および接合層３０の他方の面に一方の面が接する第２の被剥離層２３、第２の被剥離層２３の他方の面と一方の面が接する第２の剥離層２２および第２の剥離層２２上の第２の基板２１を備える。
【０１０７】
その後、本発明の一態様である拭き取り手段により、はみ出たシール材であって第１の残部９０ａの外周上に残存するシール材３０ａを第１の洗浄装置３５０で拭き取ることになる。その結果、図４（Ｄ−１）の盛り上がり部３１ａはなくなる。
【０１０８】
《第３のステップ》
搬送手段１１１が第１の残部９０ａを搬送し、支持体供給ユニット５００が、第１の支持体４１を供給する。
【０１０９】
そして、第１の貼り合わせユニット４００は、供給された第１の残部９０ａに第１の接着層３１を形成し（図４（Ｄ−１）、（Ｄ−２）参照）、第１の接着層３１を用いて第１の支持体４１と貼り合わせる。
【０１１０】
このステップにより、第１の残部９０ａから積層体９１を得る。具体的には、積層体９１は、第１の支持体４１、第１の接着層３１、第１の被剥離層１３、第１の被剥離層１３と一方の面が接する接合層３０および接合層３０の他方の面に一方の面が接する第２の被剥離層２３、第２の被剥離層２３の他方の面と一方の面が接する第２の剥離層２２および第２の剥離層２２上の第２の基板２１を備える（図４（Ｅ−１）、（Ｅ−２）参照）。
【０１１１】
《第４のステップ》
搬送手段１１１が積層体９１を搬送し、第１の積み出しユニットを兼ねる第１の供給ユニット１００に積層体９１を供給する。
【０１１２】
このステップにより、積層体９１を積み出すことが可能になる。例えば、第１の接着層３１の硬化に時間を要する場合は、第１の接着層が硬化していない状態の積層体９１を積み出して、第１の接着層３１を積層体の作製装置１０００の外部で硬化させることができる。これにより、装置の占有時間を短縮することができる。
【０１１３】
《第５のステップ》
積層体９１が第２の供給ユニット６００に搬入される。第２の供給ユニット６００は積層体９１を供給し、搬送手段１１２は積層体９１を搬送し、起点形成ユニット７００に供給する。
【０１１４】
《第６のステップ》
起点形成ユニット７００が、積層体９１の第１の接着層３１の端部近傍にある第２の被剥離層２３の一部を第２の剥離層２２から剥離して、第２の剥離の起点９１ｓを形成する。
【０１１５】
例えば、第１の支持体４１および第１の接着層３１を、第１の支持体４１が設けられた側から切断し且つ第２の被剥離層２３の一部を第２の剥離層２２から剥離する。
【０１１６】
具体的には、剥離層２２上の第２の被剥離層２３が設けられた領域にある第１の接着層３１および第１の支持体４１を、鋭利な先端を備える刃物等を用いて閉曲線で囲むように切断し、且つ当該閉曲線に沿って、第２の被剥離層２３の一部を第２の剥離層２２から剥離する（図５（Ａ−１）、（Ａ−２）参照）。
【０１１７】
このステップにより、切り抜かれた第１の支持体４１ｂおよび第１の接着層３１の端部近傍に剥離の起点９１ｓが形成される。
【０１１８】
《第７のステップ》
第２の分離ユニット８００が、積層体９１から第２の残部９１ａを剥離する。具体的には、接合層３０の端部近傍に形成された剥離の起点から、第２の基板２１を第２の剥離層２２と共に第２の被剥離層２３から分離する（図５（Ｃ）参照）。
【０１１９】
このステップにより、積層体９１から第２の残部９１ａを得る。具体的には、第２の残部９１ａは、第１の支持体４１ｂ、第１の接着層３１、第１の被剥離層１３、第１の被剥離層１３と一方の面が接する接合層３０および接合層３０の他方の面に一方の面が接する第２の被剥離層２３を備える。
【０１２０】
《第８のステップ》
搬送手段１１２が第２の残部９１ａを搬送し、第２の被剥離層２３が上面を向くように第２の残部９１ａを反転する。第２の洗浄装置８５０は、供給された第２の残部９１ａを水などで洗浄する。
【０１２１】
搬送手段１１２が洗浄された第２の残部９１ａを第２の貼り合わせユニット９００に搬送し、支持体供給ユニット５００が、第２の支持体４２を供給する。なお、第２の残部９１ａを第２の洗浄装置８５０に供給せず、第２の貼り合わせユニット９００に第２の残部を直接供給してもよい。
【０１２２】
第２の貼り合わせユニット９００は、供給された第２の残部９１ａに第２の接着層３２を形成し（図５（Ｄ−１）、（Ｄ−２）参照）、第２の接着層３２を用いて第２の支持体４２と貼り合わせる（図５（Ｅ−１）、（Ｅ−２）参照）。
【０１２３】
このステップにより、第２の残部９１ａから、積層体９２を得る。具体的には、積層体９２は、第１の被剥離層１３、第１の被剥離層１３の一方の面に第１の接着層３１を用いて貼り合される第１の支持体４１ｂ、第１の被剥離層１３の他方の面と一方の面が接する接合層３０、接合層３０の他方の面に一方の面が接する第２の被剥離層２３および第２の被剥離層２３の他方の面に第２の接着層３２を用いて貼り合される第２の支持体４２を備える。
【０１２４】
《第９のステップ》
搬送手段１１２が積層体９２を搬送し、第２の積み出しユニットを兼ねる第２の供給ユニット６００に積層体９２を供給する。このステップにより、積層体９２を積み出すことが可能になる。
【０１２５】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。
【０１２６】
（実施の形態３）
本実施の形態では、本発明の一態様の積層体の作製装置に適用可能な加工部材の構成について、図６を参照しながら説明する。
【０１２７】
図６は本発明の一態様の積層体の作製装置を用いて積層体にすることができる加工部材の構成を説明する模式図である。図６（Ａ−１）は、加工部材９０の構成を説明する断面図であり、図６（Ａ−２）は、対応する上面図である。
【０１２８】
＜加工部材＞
加工部材９０は、第１の基板１１、第１の基板１１上の第１の剥離層１２、第１の剥離層１２と一方の面が接する第１の被剥離層１３、第１の被剥離層１３の他方の面と一方の面が接する接合層３０、および接合層３０の他方の面が接する第２の被剥離層２３、第２の被剥離層２３の他方の面と一方の面が接する第２の剥離層２２および第２の剥離層２２上の第２の基板２１を備える（図６（Ａ−１）、（Ａ−２）参照）。  なお、剥離の起点１３ｓが、接合層３０の端部近傍に設けられていてもよい。
【０１２９】
《第１の基板》
第１の基板１１は、製造工程に耐えられる程度の耐熱性および製造装置に適用可能な厚さおよび大きさを備えるものであれば、特に限定されない。第１の基板１１に用いることができる材料は、例えば、ガラス、セラミックス、金属、無機材料または樹脂等が挙げられる。
【０１３０】
具体的には、ガラスとしては、無アルカリガラス、ソーダ石灰ガラス、カリガラス若しくはクリスタルガラス等を挙げることができる。金属としては、ＳＵＳおよびアルミニウム等を挙げることができる。
【０１３１】
第１の基板１１は、単層構造または積層構造等を有していても良い。例えば、基材と基材に含まれる不純物の拡散を防ぐ絶縁層が積層された構造を有していてもよい。具体的には、ガラスとガラスに含まれる不純物の拡散を防ぐ酸化シリコン層、窒化シリコン層または酸化窒化シリコン層等の様々な下地層が積層された構造を適用できる。
【０１３２】
《第１の剥離層》
第１の剥離層１２は、第１の剥離層１２上に形成された第１の被剥離層１３を剥離することができ、製造工程に耐えられる程度の耐熱性を備えるものであれば、特に限定されない。第１の剥離層１２に用いることができる材料は、例えば無機材料または有機樹脂等が挙げられる。
【０１３３】
具体的には、無機材料としては、タングステン、モリブデン、チタン、タンタル、ニオブ、ニッケル、コバルト、ジルコニウム、亜鉛、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、シリコンから選択された元素を含む金属、該元素を含む合金または該元素を含む化合物等を挙げることができる。
【０１３４】
具体的には、有機材料としては、ポリイミド、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリカーボネート若しくはアクリル樹脂等を挙げることができる。
【０１３５】
第１の剥離層１２に用いることができる構造は、単層構造または積層構造等を有していても良い。例えば、タングステンを含む層とタングステンの酸化物を含む層の積層構造を適用できる。
【０１３６】
また、タングステンの酸化物を含む層は、タングステンを含む層に他の層を積層する方法で形成された層であってもよく、例えば、タングステンを含む層に酸化シリコンまたは酸化窒化シリコン等の酸素を含む膜を積層して、タングステンの酸化物を含む層を形成してもよい。
【０１３７】
また、タングステンの酸化物を含む層は、タングステンを含む層の表面を、熱酸化処理、酸素プラズマ処理、亜酸化窒素（Ｎ２Ｏ）プラズマ処理、オゾン水等の酸化力の強い溶液を用いる処理等により形成された層であってもよい。
【０１３８】
《第１の被剥離層》
第１の被剥離層１３は、第１の剥離層１２上から剥離することができ、製造工程に耐えられる程度の耐熱性を備えるものであれば、特に限定されない。
【０１３９】
第１の被剥離層１３に用いることができる材料は、例えば無機材料または有機樹脂等が挙げられる。
【０１４０】
第１の被剥離層１３は、単層構造または積層構造等を有していても良い。例えば、第１の剥離層１２と重なる機能層と、第１の剥離層１２と機能層の間に当該機能層の特性を損なう不純物の拡散を防ぐ絶縁層が積層された構造を有していてもよい。具体的には、第１の剥離層１２側から順に酸化窒化シリコン層、窒化シリコン層および機能層が順に積層された構成を適用できる。
【０１４１】
第１の被剥離層１３に用いることができる機能層としては、例えば機能回路、機能素子、光学素子または機能膜等もしくはこれらから選ばれた複数を含む層が挙げられる。具体的には、既に公知の表示装置の画素回路、画素の駆動回路、表示素子、カラーフィルタまたは防湿膜等もしくはこれらから選ばれた複数を含む層を挙げることができる。
【０１４２】
《接合層》
接合層３０は、第１の被剥離層１３と第２の被剥離層２３を接合するものであれば、特に限定されない。接合層３０に用いることができる材料は、例えば無機材料または有機樹脂等が挙げられる。
【０１４３】
具体的には、融点が４００℃以下好ましくは３００℃以下のガラス層または接着剤等を用いることができる。
【０１４４】
接合層３０に用いることができるシール材としては、紫外線硬化型等の光硬化型接着剤、反応硬化型接着剤、熱硬化型接着剤、嫌気型接着剤などが挙げられる。
【０１４５】
例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、イミド樹脂、ＰＶＣ（ポリビニルクロライド）樹脂、ＰＶＢ（ポリビニルブチラル）樹脂、ＥＶＡ（エチレンビニルアセテート）樹脂等が挙げられる。
【０１４６】
《剥離の起点》
加工部材９０が、剥離の起点１３ｓを接合層３０の端部近傍に備える構成としてもよい。剥離の起点１３ｓは、第１の被剥離層１３の一部が第１の剥離層１２から剥離された構造である。
【０１４７】
剥離の起点１３ｓは、第１の被剥離層１３を鋭利な先端で第１の基板１１側から刺突して形成することができる他、レーザ等を用いた非接触な方法（例えばレーザアブレーション法）で、第１の被剥離層１３の一部を剥離層１２から剥離できる。
【０１４８】
《第２の基板》
第２の基板２１は、第１の基板１１と同様のものを用いることができる。なお、第２の基板２１を第１の基板１１と同一の構成とする必要はない。
【０１４９】
《第２の剥離層》
第２の剥離層２２は、第１の剥離層１２と同様のものを用いることができる。なお、第２の剥離層２２を第１の剥離層１２と同一の構成とする必要はない。
【０１５０】
《第２の被剥離層》
第２の被剥離層２３は、第１の被剥離層１３と同様の構成を用いることができる。また、第２の被剥離層２３は、第１の被剥離層１３と異なる構成とすることもできる。例えば、第１の被剥離層１３が機能回路を備え、第２の被剥離層２３が当該機能回路への不純物の拡散を防ぐ機能層を備える構成としてもよい。
【０１５１】
具体的には、第１の被剥離層１３が表示装置の画素回路、画素回路の駆動回路および画素回路と接続され且つ第２の被剥離層に向けて光を発する発光素子を備え、第２の被剥離層２３がカラーフィルタおよび防湿膜を備える構成としてもよい。
【０１５２】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。
【符号の説明】
【０１５３】
１１  第１の基板
１２  第１の剥離層
１３  第１の被剥離層
２１  第２の基板
２２  第２の剥離層
２３  第２の被剥離層
３０  接合層
３０ａ  シール材
３１  第１の接着層
３１ａ  盛り上がり部
３２  第２の接着層
４１，４１ｂ  第１の支持体
４２  第２の支持体
９０  加工部材
９０ａ  第１の残部
９１  第１の積層体
９１ａ  第２の残部
９１ｓ，１３ｓ  起点
９２  第２の積層体
１００  第１の供給ユニット
１１１，１１２  搬送手段
２００  拭き取り装置
２１０  拭き取り手段
２１１  ヘッド部
２１２  支柱部
２１３  台座部
２１５  レール
２１６  切欠凹部
２１６ａ  上面
２１６ｂ  側面
２１６ｃ  底面
２１７  凹部空間
２２０  シート状部材
２３０  ステージ
２３１  平板
２３２  細孔
２３３  継ぎ手部
２３４  支柱
２４０  拭き取り部材
２５０  溶剤供給手段
２５１  溶剤供給ノズル
２６０  回収手段
２６１  回収凹部
２６２  吸湿性部材
２７０  洗浄液供給手段
２７１  洗浄液供給ノズル
２８０  乾燥手段
２８１  空気ノズル
３００  第１の分離ユニット
３００ｂ  第１の収納部
３５０  第１の洗浄装置
４００  第１の貼り合わせユニット
５００  支持体供給ユニット
６００  第２の供給ユニット
７００  起点形成ユニット
８００  第２の分離ユニット
８００ｂ  第２の収納部
８５０  第２の洗浄装置
９００  第２の貼り合わせユニット
１０００  積層体の作製装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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