(57)【要約】      （修正有）【課題】手間と時間をかけることなく、試料片を作製することができる試料片作製方法を提供する。【解決手段】試料ステージ上に配置される試料部材９の上面から切り出した試料片９０を観察ステージ８上に固定した後、その試料片９０を顕微鏡観察に適した形状に加工する試料片作製方法である。試料片９０の移送には、回転軸１０ａを有する本体部１１と、回転軸１０ａに対して傾斜した状態で本体部１１の先端に設けられる傾斜部１２と、を有するプローブ１０を用いる。試料片９０を移送する際、試料片９０における基材９ａの上面に平行な状態で、傾斜部１２の先端に試料片９０を保持させ、本体部１１を回転軸１０ａ回りに回転させてから、試料片９０の保持時における試料片９０の基材９ａの上面と同じ傾きの観察ステージ８上に試料片９０を固定する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料室内の試料ステージ上に、基材とその上面に形成された積層部とを備える試料部材を配置した状態で、加工ビームによって前記試料部材の表面から試料片を切り出し、
前記試料片を観察ステージ上に移送して固定した後、その試料片を加工ビームによって顕微鏡観察に適した形状に加工する試料片作製方法であって、
前記試料片の移送には、回転軸を有する本体部と、前記回転軸に対して傾斜した状態で前記本体部の先端に設けられる傾斜部と、を有するプローブを用い、
前記試料片を移送する際、前記回転軸が前記試料片における前記基材の上面に平行な状態で、前記傾斜部の先端に前記試料片を保持させ、
前記本体部を前記回転軸回りに回転させてから、前記試料片の保持時における前記基材の上面と同じ傾きの前記観察ステージ上に前記試料片を固定する試料片作製方法。
【請求項２】
前記傾斜部の先端から前記回転軸までの垂線の長さｄが、１μｍ以上、５０μｍ以下である請求項１に記載の試料片作製方法。
【請求項３】
前記本体部を前記回転軸回りに±１８０°回転させてから、前記試料片を前記観察ステージ上に固定する請求項１または請求項２に記載の試料片作製方法。
【請求項４】
前記回転軸に対する前記傾斜部の傾斜角度は、４５°以上、６０°以下である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の試料片作製方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、試料部材から顕微鏡観察に供する試料片を作製する試料片作製方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
基材とその上面に形成された積層部とを備える試料部材（例えば半導体デバイス）などの改良や不良原因の追求のために、試料部材の断面を電子顕微鏡レベルで観察することが行なわれている。例えば特許文献１には、試料部材から観察に供する試料片を作製する方法および装置が開示されている。特許文献１の技術では、まず集束イオンビームなどの加工ビームを用いて、試料室内の試料ステージ（特許文献１では第１ステージと表記）に配置される試料部材の上面から試料片を切り出す。そして、試料室内でその試料片を観察ステージ（特許文献１では第２ステージと表記）上に固定した後、その試料片を加工ビームによって顕微鏡観察に適した形状に加工することで、顕微鏡観察に供する試料片を作製している。
【０００３】
近年の工業技術の発達に伴い、試料部材の積層部の構成がより複雑になってきている。例えば、半導体デバイスでは、基材上に形成される配線やトランジスタなどの密集度と積層度が年々増加する傾向にある。配線などの密集度・積層度が異なる部分では加工ビームによる加工速度に差が生じるため、半導体デバイスから切り出された試料片の断面に筋ができてしまい、当該断面の顕微鏡観察に悪影響が生じる場合がある。そのような問題点を解決するために、例えば、特許文献２の技術では、試料部材から切り出した試料片を反転させてから観察ステージ（特許文献２では固定台と表記）に固定し、試料片を加工している。
【０００４】
図３は、特許文献２に記載の試料作製方法を概略的に説明する説明図である。図３に示す試料部材９のうち、ハッチングがある部分は配線などが密集・積層された積層部９ｂ、ハッチングがない部分は基材９ａを示す。特許文献２の技術では、まず、図３の上段図に示すように、試料片９０の一部が試料部材９に繋がった状態で、試料片９０を移送するプローブ１９（特許文献２では保持手段と表記）の先端に試料片９０を保持させる。次いで、図３の中段図に示すように、矢印で示す加工ビームで試料片９０を試料部材９から切り離す。プローブ１９で試料片９０を移送する際、図３の下段図に示すように、プローブ１９をその軸回りに１８０°回転させ、試料片９０を反転させる。そして、観察ステージ８上に形成した挿入溝８ｇに試料片９０を挿入・固定し、試料片９０の裏側、即ち、試料片９０の基材９ａ側から加工ビームを照射して、試料片９０を顕微鏡観察に適した形状に加工している。試料片９０の基材９ａは均一的な材質で構成されているため、試料片９０の断面に筋が形成され難い。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−１６２１０２号公報
【特許文献２】特開２００９−２１６４９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、特許文献２の技術では、観察ステージ８上に挿入溝８ｇを形成する手間と時間がかかるし、挿入溝８ｇに試料片９０を挿入する手間と時間もかかるという問題がある。特許文献２の技術において挿入溝８ｇを形成しているのは、試料片９０を反転させたときに観察ステージ８に対して傾いてしまう試料片９０を、観察ステージ８上に安定した状態で固定するためである。仮に、観察ステージ８に挿入溝８ｇがなければ、試料片９０の上面と側面を繋ぐ稜線（図３の下段図に白抜き矢印で示す位置で紙面厚み方向に延びる稜線）と、観察ステージ８の表面と、が線接触するのみとなる。
【０００７】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的の一つは、手間と時間をかけることなく、試料片を作製することができる試料作製方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の試料片作製方法は、試料室内の試料ステージ上に、基材とその上面に形成された積層部とを備える試料部材を配置した状態で、加工ビームによって試料部材の表面から試料片を切り出し、試料片を観察ステージ上に移送して固定した後、その試料片を加工ビームによって顕微鏡観察に適した形状に加工する試料片作製方法である。この本発明の試料片作製方法における試料片の移送には、回転軸を有する本体部と、回転軸に対して傾斜した状態で本体部の先端に設けられる傾斜部と、を有するプローブを用いる。そして、本発明の試料片作製方法では、試料片を移送する際、回転軸が試料片における基材の上面に平行な状態で、傾斜部の先端に試料片を保持させ、本体部を回転軸回りに回転させてから、試料片の保持時における試料片の基材の上面と同じ傾きの観察ステージ上に試料片を固定する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の試料片作製方法によれば、手間と時間をかけることなく、試料片を作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】実施形態に示す試料片作製方法に使用する試料片作製装置の概略構成図である。
【図２】本実施形態における試料片作製方法の手順を説明する説明図である。
【図３】従来における試料片作製方法の手順を説明する説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
［本発明の実施形態の説明］
最初に本発明の実施形態の内容を列記して説明する。
【００１２】
＜１＞本実施形態の試料片作製方法は、試料室内の試料ステージ上に、基材とその上面に形成された積層部とを備える試料部材を配置した状態で、加工ビームによって試料部材の表面から試料片を切り出し、試料片を観察ステージ上に移送して固定した後、その試料片を加工ビームによって顕微鏡観察に適した形状に加工する試料片作製方法である。この試料片作製方法における試料片の移送には、回転軸を有する本体部と、回転軸に対して傾斜した状態で本体部の先端に設けられる傾斜部と、を有するプローブを用いる（本体部の回転軸は、プローブの回転軸に等しい）。そして、この試料片作製方法では、試料片を移送する際、回転軸が試料片における基材の上面に平行な状態で、傾斜部の先端に試料片を保持させ、本体部（即ち、プローブ全体）を回転軸回りに回転させてから、試料片の保持時における試料片の基材の上面と同じ傾きの観察ステージ上に試料片を固定する。
【００１３】
上記構成に示すように、試料片をプローブで保持する際、プローブ（本体部）の回転軸が試料片における基材の上面、即ち基材と積層部との境界面に平行な状態とすることで、時間と手間をかけることなく試料片を作製することができる。それは、特許文献２の技術のように試料片を挿入する挿入溝を観察ステージに形成することなく、観察ステージにおける試料片の固定状態を安定化させることができるからである。
【００１４】
＜２＞実施形態の試料片作製方法として、試料片の移送に用いるプローブの傾斜部の先端から当該プローブの回転軸までの垂線の長さｄが、１μｍ以上、５０μｍ以下である形態を挙げることができる。
【００１５】
上記構成は、プローブの先端のごく僅かな部分が屈曲した構成である。実施形態の試料片作製方法では、回転軸を中心にプローブを回転させるため、傾斜部の先端から回転軸までの垂線の長さｄが当該先端部の回転半径となる。加えて、傾斜部の先端には試料片が保持されるため、試料片を回転させるには、先端部の回転半径に加えて、試料片の大きさの分だけ広い空間が必要になる。しかし、試料片を加工する試料室内には種々の機器が密集して配置されており、自由に使用できる空間は決して広くないため、上記長さｄが長くなればプローブを回転させることができない恐れがある。これに対して、上記長さｄが１μｍ以上、５０μｍ以下であれば、試料片の回転の際に必要な空間が十分に小さくなるので、プローブを回転させることができる。
【００１６】
＜３＞実施形態の試料片作製方法として、試料片の移送に用いるプローブの本体部を回転軸回りに±１８０°回転させてから、試料片を観察ステージ上に固定する形態を挙げることができる。
【００１７】
プローブの本体部を回転軸回りに±１８０°回転させれば、試料片を上下反転させることができる。その結果、観察ステージに対する試料片の固定状態をより安定化させることができる。
【００１８】
＜４＞実施形態の試料片作製方法として、試料片の移送に用いるプローブの回転軸に対する傾斜部の傾斜角度は、４５°以上、６０°以下である形態を挙げることができる。
【００１９】
傾斜部の傾斜角度が４５°以上であれば、傾斜部の長さが長くなり過ぎて傾斜部の強度が低下することを回避できる。また、傾斜部の傾斜角度が６０°以下であれば、試料片の斜め上方から傾斜部をアプローチさせ易く、傾斜部の先端に試料片を保持させ易い。
【００２０】
［本発明の実施形態の詳細］
本発明の実施形態に係る試料片作製方法について説明する。なお、本発明はこれらの例示に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内の全ての変更が含まれることを意図する。
【００２１】
試料片作製方法の説明にあたり、まず試料片作製方法に利用する試料片作製装置を図１，２に基づいて簡単に説明する。
【００２２】
＜試料片作製装置の全体構成＞
図１に示す試料片作製装置１００は、試料室２と、試料部材９を載置する試料ステージ３と、試料部材９から切り出した試料片を保持する保持機構１と、試料片を固定する観察ステージ８と、試料部材９に加工ビームを照射するビーム照射機構４と、試料ステージ３近傍にデポジションガスを導入するガス供給機構５と、試料片９０を観察する電子線照射機構６と、を備える。なお、試料片作製装置１００の説明に当たっては便宜上、紙面左右方向をＸ軸方向、紙面厚み方向をＹ軸方向、紙面上下方向をＺ軸方向とする。
【００２３】
≪試料部材≫
試料部材９としては、例えば、半導体デバイスを挙げることができる。半導体デバイスは、図２に示すように、シリコンなどで構成される基材９ａと、その上面に形成される配線・トランジスタ・保護膜などで構成される積層部９ｂと、を備える。基材９ａの上面は略平面であるのに対して、積層部９ｂの上面は構成部材の積層状態によって凹凸形状となり易い。本実施形態では説明を簡単にするために、基材９ａの上面が平坦で、基材９ａの上面と積層部９ｂの上面とが平行である場合を例にして説明する。
【００２４】
≪試料室≫
試料室２は、試料室２内を外部から区画する。試料室２は、図示しない排気機構によって内部を所望の真空度に維持することができるように構成されている。
【００２５】
≪試料ステージ≫
試料ステージ３は、試料部材９を載置する台であって、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、およびＺ軸方向に移動可能に構成されている。本実施形態では試料部材９の上面と下面とが平行となっているため、試料ステージ３の上面と、試料ステージ３の上面に載置される試料部材９の上面と、は平行になっている。また、本実施形態では、図２に示すように、試料部材９の上面（＝積層部９ｂの上面）と、試料部材９の基材９ａの上面と、が平行になっているため、試料ステージ３の上面と、基材９ａの上面と、が平行になっている。この試料ステージ３は、Ｘ軸、Ｙ軸、およびＺ軸の少なくとも一つを回転軸として回転可能に構成しても良い。
【００２６】
≪観察ステージ≫
本実施形態における観察ステージ８は、上記試料ステージ３上に配置されている。観察ステージ８の上面は、試料ステージ３の上面と平行になっており、従って、この観察ステージ８の上面と試料部材９の上面とは平行になっている。つまり、観察ステージ８の上面は、試料部材９の基材９ａ（図２参照）の上面と同じ傾きとなっている。
【００２７】
なお、観察ステージ８は、試料ステージ３と別個に用意しても構わない。例えば、従来技術の特許文献１に記載のように、試料室２内に試料ステージ３と観察ステージ８を挿抜自在に構成しても良い。その場合、試料室２内の試料ステージ３を観察ステージ８に入れ換えるときは、観察ステージ８の傾きを、試料部材９の上面の傾き、即ち試料部材９の基材９ａ（図２参照）の上面の傾きと同じにする。試料部材９の上面と試料ステージ３の上面とが平行である場合、試料ステージ３と同じ傾きの観察ステージ８を試料室２内に挿入すれば、観察ステージ８の傾きを、試料部材９の上面の傾きと同じにすることができる。
【００２８】
≪保持機構≫
保持機構１は、試料片を保持するプローブ１０を有する。この保持機構１は、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、およびＺ軸方向に移動可能に構成されている。また、保持機構１は、プローブ１０を回転させる回転機構部を有している。
【００２９】
プローブ１０は、図２に示すように、本体部１１と、本体部１１の先端に設けられる傾斜部１２と、を備える。本体部１１は、回転軸１０ａ回りに回転可能に構成されている。一方、傾斜部１２は、回転軸１０ａに対して傾斜した状態で本体部１１の先端に設けられている。プローブ１０は、挟み込みによって試料片を保持することができる機構を備えていても良い。例えば、プローブの傾斜部のみがピンセット状であっても良いし、プローブの全体形状がピンセット状であっても良い。上記本体部１１と傾斜部１２とを備えるプローブ１０の詳しい構成については、試料片作製方法の説明の際に改めて説明する。
【００３０】
≪ビーム照射機構≫
ビーム照射機構４は、試料部材９に加工ビームを照射する。照射する加工ビームとしては、ガリウムをイオン源とする集束イオンビーム（ＦＩＢ；Ｆｏｃｕｓｅｄ  Ｉｏｎ  Ｂｅａｍ）を挙げることができる。
【００３１】
≪ガス供給機構≫
ガス供給機構５は、化学蒸着（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）に用いるデポジションガスを導入する機構である。化学蒸着は、試料部材９から切り出した試料片をプローブ１０の先端に保持させること、および試料片を観察ステージ８に固定すること、に利用される。
【００３２】
≪電子線照射機構≫
電子線照射機構６としては、例えば走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ；Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）を挙げることができる。電子線照射機構６は、試料片作製装置１００に搭載されている必要はないが、搭載されていれば、試料片の作製から試料片の断面の観察までを一つの装置内で行なえるので、効率的に試料部材９の観察結果を得ることができる。
【００３３】
＜試料片作製方法＞
試料片作製装置１００の概略構成図である図１、および試料片９０近傍を拡大して示した図２を参照し、試料片作製方法の手順を説明する。
【００３４】
≪試料片の切り出し工程≫
まず、図１に示すように、試料部材９を載置した試料ステージ３を動かしながらビーム照射機構４から集束イオンビームを照射し、図２の上段図に示すように、試料部材９の上面の一部を試料片９０として切り出す。その際、試料片９０の一部が試料部材９に繋がった状態としておく。試料片９０の上面形状は矩形とすることが好ましい。
【００３５】
≪試料片の保持工程≫
次いで、図２の上段図に示すように、プローブ１０に備わる傾斜部１２の先端を試料片９０に接触させ、傾斜部１２の先端に試料片９０を保持させる。その際、プローブ１０を構成する本体部１１の回転軸１０ａが、試料片９０の基材９ａの上面（即ち、基材９ａと積層部９ｂとの境界面）に平行となるように、プローブ１０を支持する保持機構１および試料ステージ３の少なくとも一方を移動させたり回転させたりする（図１を合わせて参照）。ここで、本実施形態では、試料片９０を切り出す試料部材９の基材９ａ上面と積層部９ｂ上面とが平行であり、基材９ａの上面と試料ステージ３とが平行であるため、プローブ１０の回転軸１０ａは試料ステージ３と平行である。
【００３６】
プローブ１０によって試料片９０を保持する位置は、試料片９０の上面でも良いし、側面でも良い。あるいは試料片９０の上面と側面との境界の位置をプローブ１０に保持させても良い。本実施形態におけるプローブ１０は、試料片９０の上面と側面との境界の位置を保持している。
【００３７】
プローブ１０による試料片９０の保持には化学蒸着を利用することができる。具体的には、図１のガス供給機構５からデポジションガスを導入させつつ、ビーム照射機構４から集束イオンビームを照射させ、試料片９０とプローブ１０の傾斜部１２との境界近傍に化学蒸着膜を形成する。この化学蒸着膜によって、傾斜部１２の先端に試料片９０を固定することができ、プローブ１０によって試料片９０を保持させることができる。
【００３８】
プローブ１０の先端に試料片９０を保持させたら、図２の中段図に示すように、矢印で示す集束イオンビームで試料片９０を試料部材９から切り離す。
【００３９】
（プローブの詳細）
ここで、本実施形態のプローブ１０を詳細に説明する。プローブ１０の本体部１１は、既に説明したように、回転軸１０ａ回りに回転可能に構成されている。この本体部１１は、例えばタングステン合金などの剛性材でできた棒状の部材である。本体部１１の断面形状は特に限定されず、例えば円形状でも良いし、矩形などの多角形状でも良いし、星型などの異形状であっても良い。
【００４０】
本体部１１の太さ、即ち本体部１１の断面の外接円の直径は、１００ｎｍ以上、６μｍ以下とすることが好ましい。本体部１１の太さを１００ｎｍ以上とすることで、十分な強度を有する本体部１１とすることができる。また、本体部１１の太さを６μｍ以下とすることで、後述する長さｄが長くなり過ぎることを回避できる。
【００４１】
プローブ１０の傾斜部１２は、回転軸１０ａに対して傾斜した状態で本体部１１の先端に設けられる部材であって、その先端で試料片９０を保持する。傾斜部１２は、例えばタングステン合金などの剛性材で構成することが好ましい。
【００４２】
傾斜部１２の先端から回転軸１０ａまでの垂線の長さｄは、１μｍ以上、５０μｍ以下とすることが好ましい。つまり、プローブ１０の先端のごく僅かな部分が屈曲することで傾斜部１２が形成されていることが好ましい。長さｄを上記範囲に設定することで、後述する試料片の移送・回転工程においてプローブ１０を回転させたときに、試料片９０を回転軸１０ａ回りに回転させるために必要な空間を十分に小さくすることができる。
【００４３】
回転軸１０ａに対する傾斜部１２の傾斜角度θは、０°超、９０°以下であれば特に限定されないが、４５°以上、６０°以下とすることが好ましい。傾斜部１２の傾斜角度θが４５°以上であれば、傾斜部１２の長さが長くなり過ぎて傾斜部１２の強度が低下することを回避できる。また、傾斜部１２の傾斜角度θが６０°以下であれば、試料片９０の斜め上方から傾斜部１２をアプローチさせ易く、傾斜部１２の先端に試料片９０を保持させ易い。本実施形態では、傾斜角度θを４５°とした。
【００４４】
傾斜部１２の長さは、１μｍ以上、５μｍ以下とすることが好ましい。傾斜部１２の長さが１μｍ以上であれば、試料片９０の斜め上方から傾斜部１２をアプローチさせ易く、傾斜部１２の先端に試料片９０を保持させ易い。また、傾斜部１２の長さが５μｍ以下であれば、傾斜部１２の長さが長くなり過ぎて傾斜部１２の強度が低下することを回避できる。
【００４５】
≪試料片の移送・回転工程≫
この工程では、試料ステージ３上に設けられた観察ステージ８上に試料片９０を移送させる。これは、本実施形態の試料ステージ３が観察ステージ８を保持する構成であるからで、試料ステージ３とは別の観察ステージ８を用意するのであれば、別途用意した観察ステージ８に試料片９０を移送させる。
【００４６】
観察ステージ８に試料片９０を移送させ、観察ステージ８に試料片を固定するまでの間に、プローブ１０（本体部１１）を回転軸１０ａ回りに回転させる。プローブ１０の回転角度は０°超、±１８０°以下とする。当該回転角度を±１８０°とすると、図２の下段図に図示するように試料片９０は上下が反転する。
【００４７】
ここで、本実施形態では、プローブ１０に試料片９０を保持させる際、プローブ１０の回転軸１０ａが試料片９０の上面（即ち、試料片９０の基材９ａの上面）と平行となるようにしている。そのため、プローブ１０を１８０°回転させると、試料片９０の上面は、紙面下側を向き、試料部材９が載置される観察ステージ８と平行になる。その結果、試料片９０と観察ステージ８とは面接触する。また、仮にプローブ１０の回転角度が±１８０°未満であったとしても、試料片９０の上面と側面との間の稜線が観察ステージ８に線接触する。
【００４８】
一方、プローブの回転軸が試料片の上面に対して傾いていた場合を、図３を参照して検討する。なお、図３に示す挿入溝８ｇはないものとして考える。図３の下段図に示すように、プローブ１９の回転角度が±１８０°のときには、試料片９０が観察ステージ８に対して傾斜しており、試料片９０と観察ステージ８とは点接触、もしくは線接触する。また、プローブ１９の回転角度が±１８０°未満であれば、試料片９０の紙面奥側または手前側が浮き上がり、試料片９０と観察ステージ８とは白抜き矢印に示す位置で点接触するのみとなる。以上説明したように、プローブ１９の回転軸が試料片９０の上面に対して傾いていた場合、観察ステージ８上における試料片９０の接触状態は、本実施形態に劣る。
【００４９】
≪試料片の固定工程≫
試料片９０を反転させた後、試料片９０を観察ステージ８上に固定する。試料片９０の固定には化学蒸着を利用すると良い。具体的には、図１のガス供給機構５からデポジションガスを導入させつつ、ビーム照射機構４から集束イオンビームを照射させ、試料片９０と観察ステージ８との境界近傍に化学蒸着膜を形成する。この化学蒸着膜によって試料片９０が観察ステージ８に固定される。観察ステージ８への試料片９０の固定が終了したら、集束イオンビームによってプローブ１０の傾斜部１２と、試料片９０と、の接合を絶つ。
【００５０】
≪試料片の仕上げ工程≫
最後に、試料片９０を集束イオンビームによって顕微鏡観察に適した形状に加工する。その際、観察ステージ８に対する試料片９０の固定状態が安定しているため、試料片９０を加工し易いし、試料片９０の顕微鏡観察の際に試料片９０が観察ステージ８から脱落し難い。
【００５１】
以上説明した試料片作製方法によれば、観察ステージ８の傾きを補正したり、観察ステージ８に挿入溝を形成したりすることなく、顕微鏡観察に供する試料片を容易に作製することができる。
【００５２】
なお、試料片を作製する試料部材は、略平坦な基材上に積層部を形成したものであれば良く、半導体デバイスに限定されるわけではない。
【産業上の利用可能性】
【００５３】
本発明の試料片作製方法は、試料部材から試料片を作製することに好適に利用することができる。特に、本発明の試料片作製方法は、半導体デバイスなどの改良・検品などのために試料片を作製することに好適に利用することができる。
【符号の説明】
【００５４】
１００  試料片作製装置
１  保持機構
１０  プローブ  １１  本体部  １２  傾斜部  １０ａ  回転軸
２  試料室
３  試料ステージ（観察ステージ）
４  ビーム照射機構
５  ガス供給機構
６  電子線照射機構
９  試料部材  ９０  試料片  ９ａ  基材  ９ｂ  積層部
８  観察ステージ
８ｇ  挿入溝  １９  プローブ
【図１】
2015017812.tif 000003
【図２】
2015017812.tif 000004
【図３】
2015017812.tif 000005