(57)【要約】【課題】光配向処理した配向膜を有し、配向膜とシール材をオーバーラップさせて額縁領域を小さくし、かつ、シール部の信頼性を確保することが出来る液晶表示装置を実現する。【解決手段】第１の配向膜１１０および第２の配向膜１１０は、シール材１５０とオーバーラップしており、第１の配向膜１１０と前記第２の配向膜１１０は、アミン系シランカップリング材を０．５ｗｔ％以上２ｗｔ％以下含む材料から形成され、シール材１５０は、比重カップ法による体積変化率で評価した収縮率が５．１％以下で貯蔵弾性率が９．２Ｐａ以下とすることによって、額縁領域ｘを小さくし、かつ、シール部の信頼性を維持することが出来る。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の配向膜を有する第１の基板と第２の配向膜を有する第２の基板とがシール材によって接着され、前記第１の基板と前記第２の基板の間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、
前記第１の配向膜および前記第２の配向膜は、前記シール材とオーバーラップしており、
前記第１の配向膜と前記第２の配向膜は、シランカップリング材を０．５ｗｔ％以上２ｗｔ％以下含む材料から形成され、
前記シール材は、比重カップ法による体積変化率で評価した収縮率が５．１％以下で貯蔵弾性率が９．２Ｐａ以下であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１の配向膜は前記第１の基板の端部まで形成され、前記第２の配向膜は前記第２の基板の端部まで形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
第１の配向膜を有する第１の基板と第２の配向膜を有する第２の基板とがシール材によって接着され、前記第１の基板と前記第２の基板の間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、
前記第１の配向膜および前記第２の配向膜は、前記シール材とオーバーラップしており、
前記第１の配向膜と前記第２の配向膜は、シランカップリング材を０．３ｗｔ％以上０．５ｗｔ％未満含む材料から形成され、
前記シール材は、比重カップ法による体積変化率で評価した収縮率が３．１％以下で貯蔵弾性率が９．０Ｐａ以下であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項４】
前記第１の配向膜は前記第１の基板の端部まで形成され、前記第２の配向膜は前記第２の基板の端部まで形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記シランカップリング材として、アミン系シランカップリング材を用いることを特徴とする請求項１乃至４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記アミン系シランカップリング材は、
【化２】
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または、
【化３】
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または、
【化４】
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または、
【化５】
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または、
【化６】
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または
【化７】
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であることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示装置に係り、光配向処理を用い、特に所定の外形に対して、表示領域を大きくした、いわゆる狭額縁にすることが可能な、液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置では画素電極および薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等を有する画素がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対向して、ＴＦＴ基板の画素電極と対応する場所にカラーフィルタ等が形成された対向基板が配置され、ＴＦＴ基板と対向基板の間に液晶が挟持されている。そして液晶分子による光の透過率を画素毎に制御することによって画像を形成している。
【０００３】
液晶表示装置はフラットで軽量であることから、色々な分野で用途が広がっている。携帯電話やＤＳＣ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｓｔｉｌｌ Ｃａｍｅｒａ）等には、小型の液晶表示装置が広く使用されている。小型の液晶表示装置では、外形を小さく保ったまま、表示領域を大きくしたいという要求が強い。そうすると、表示領域の端部から液晶表示装置の端部までの幅が小さくなり、いわゆる、狭額縁とする必要がある。
【０００４】
額縁領域には、ＴＦＴ基板と対向基板を接着するシール材が形成されている。また、液晶表示装置の表示領域には、液晶を初期配向させるための配向膜が形成されている。配向膜は、表示領域を確実に覆う必要があるので、配向膜の塗布面積は、表示領域よりも所定の幅大きくしなければならい。配向膜の配向処理は、ラビング法と光配向処理（以後光配向ともいう）とがある。「特許文献１」には、光配向を用いることによって、（１）画素部の複雑な段差構造に起因する配向乱れを低減し、（２）ラビング時に発生する静電気やラビング布の毛先の乱れやラビングによって発生する異物等の影響を防止することが記載されている。
【０００５】
液晶表示装置はいわゆる視野角が問題であるが、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式は、液晶分子を基板と平行方向に回転させることによって、液晶層を透過する光の量を制御するので、視野角に対して優れた特性を持っている。一方、ＩＰＳ方式の液晶表示装置は、いわゆるプレティルト角を必要としないので、光配向に適している。
【０００６】
特に光配向処理を行った配向膜においては、従来例の構成では、配向膜がシール材とＴＦＴ基板、あるは、シール材と対向基板の間に存在すると、シール材の接着の信頼性を損ねる。したがって、配向膜の塗布端はシール材とオーバーラップしないように厳密に制御しなければならなかった。
【０００７】
配向膜は印刷あるいはインクジェット等によって塗布される。配向膜材料は、液体であるので、濡れ広がるため、塗布端の制御は難しい。特にインクジェットによって配向膜を塗布する場合は、配向膜材料の粘度が小さいので、制御が難しい。「特許文献２」には、表示領域に形成される配向膜の外側に枠状に第２の配向膜を形成し、この第２の配向膜を表示領域に形成される配向膜のストッパーとすることによって、表示領域の配向膜の塗布範囲を制御する構成が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００４−２０６０９１号公報
【特許文献２】特開２０１１−１４５５３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ＩＰＳ方式の液晶表示装置は優れた視野角特性を有しており、用途が広がっている。また、ＩＰＳ方式は、プレティルト角を必要としないので、光配向処理に適している。配向膜の光配向処理は、偏光紫外線を配向膜に照射し、配向膜に一軸異方性を生じさせる方法である。この一軸異方性は、従来のラビング処理のように最表面だけに生じるものではなく、配向膜層全体に亘って生じる。これは、ラビング処理が表面のみを擦っているのに対して、光配向処理は偏光紫外線が透過する範囲であれば厚さ方向のどの深さでも配向処理されるからである。配向膜層全体に異方性が生じているということは、配向膜を形成しているポリマーが一方向に揃っているということである。そのようなポリマーは、分子が並ぶ方向と垂直な方向の膜強度が弱くなるため、異方性のないランダムなポリマーに比べると膜強度が低下すると考えられる。配向膜の膜強度が低下すると、その配向膜の上にシール材を塗布してセルを形成した場合、セルの剥離試験を行うと配向膜が原因でセルが剥離され易くなり、セルの信頼性が低下する。
光配向膜には、光二量化型、光異性化型、光分解型等の種類があるが、上記はどの型の光配向膜にも当てはまる。
【００１０】
したがって、従来の光配向膜では、図１１および図１２に示すように、配向膜はシール材とオーバーラップしないように形成されていた。図１１は従来の液晶表示装置の平面図である。図１１において、ＴＦＴや画素電極が形成されたＴＦＴ基板にシール材を介してカラーフィルタ等が形成された対向基板が接着し、ＴＦＴ基板と対向基板の間に図示しない液晶が挟持されている。
【００１１】
ＴＦＴ基板あるいは対向基板には配向膜が形成されている。配向膜が光配向されていると、上述のように、配向膜の膜強度が低下し、信頼性が低下するので、従来は、図１１に示すように、配向膜の端部は、シール材よりも内側に形成されていた。一方、表示領域は、配向膜によって確実に覆われている必要があるので、表示領域の端部は配向膜よりもさらに内側に形成される必要がある。そうすると、表示領域の端部から対向基板の端部までの、いわゆる額縁領域ｘを小さくすることが難しくなり、液晶表示装置の外形に対する表示領域の面積を大きく設定することが困難になる。
【００１２】
図１２は図１１のＢ−Ｂ断面図である。図１２において、ガラスで形成されたＴＦＴ基板１００の上に、例えば、ゲート絶縁膜１０１が形成され、その上にパッシベーション膜１０２が形成され、その上に層間絶縁膜１０３が形成されている。ゲート絶縁膜１０１、パッシベーション膜１０２、層間絶縁膜１０３等は、スパッタリングあるいはＣＶＤ等によるＳｉＮ等によって形成することが出来る。この層構造は例であり、他の層構造をとる場合もある。
【００１３】
層間絶縁膜１０３の上には光配向処理された配向膜１１０が形成されている。従来の光配向された配向膜１１０は膜強度が問題となるために、配向膜１１０は、シール材１５０とはオーバーラップしないように形成している。配向膜１１０はオフセット印刷あるいはインクジェット法等によって形成される。表示領域１０は配向膜１１０の端部よりもさらに内側に形成されている。
【００１４】
一方、ガラスで形成された対向基板２００には、カラーフィルタ２０１およびブラックマトリクス２０２が形成され、また、ブラックマトリクス２０２およびカラーフィルタ２０１を覆ってオーバーコート膜２０３が形成されている。オーバーコート膜２０３の上には光配向処理された配向膜１１０が形成されているが、ＴＦＴ基板１００側と同様、配向膜１１０の膜強度が問題となるので、配向膜１１０はシール材１５０とはオーバーラップしないように形成されている。そして、表示領域１０は配向膜１１０の端部よりもさらに内側に形成されている。
【００１５】
このように、従来例では、配向膜１１０の膜強度が問題であるために、配向膜１１０をシール材１５０とオーバーラップさせないように形成し、かつ、表示領域１０は完全に配向膜によって覆われている必要があるので、図１１あるいは図１２における額縁領域ｘを十分小さくすることが出来ず、したがって、表示領域１０を大きくしたいという要求に十分応えることができなかった。
【００１６】
本願発明の課題は、光配向処理をした配向膜１１０を用いても、配向膜１１０をＴＦＴ基板１００あるいは対向基板２００の端部にまで形成し、シール材１５０とオーバーラップさせることが可能な液晶表示装置を実現することである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明は上記問題を克服するものであり、具体的な手段は次のとおりである。
【００１８】
（１）第１の配向膜を有する第１の基板と第２の配向膜を有する第２の基板とがシール材によって接着され、前記第１の基板と前記第２の基板の間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、前記第１の配向膜および前記第２の配向膜は、前記シール材とオーバーラップしており、前記第１の配向膜と前記第２の配向膜は、シランカップリング材を０．５ｗｔ％以上２ｗｔ％以下含む材料から形成され、前記シール材は、比重カップ法による体積変化率で評価した収縮率が５．１％以下で貯蔵弾性率が９．２Ｐａ以下であることを特徴とする液晶表示装置。
【００１９】
（２）第１の配向膜を有する第１の基板と第２の配向膜を有する第２の基板とがシール材によって接着され、前記第１の基板と前記第２の基板の間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、前記第１の配向膜および前記第２の配向膜は、前記シール材とオーバーラップしており、前記第１の配向膜と前記第２の配向膜は、シランカップリング材を０．３ｗｔ％以上０．５ｗｔ％未満含む材料から形成され、前記シール材は、比重カップ法による体積変化率で評価した収縮率が３．１％以下で貯蔵弾性率が９．０Ｐａ以下であることを特徴とする液晶表示装置。
（３）前記シランカップリング材としてアミン系のシランカップリング材を用いることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、光配向処理された配向膜を有する液晶表示装置において、シール材と配向膜をオーバーラップさせることが出来るので、いわゆる額縁領域を小さくすることが出来、所定の外形の液晶表示装置において、表示領域の面積を大きくすることが出来る。本発明は、特に、光配向処理した配向膜を有するＩＰＳ方式の液晶表示装置において効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の液晶表示装置の平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ断面図である。
【図３】シール部の接着強度を試験するサンプルの形状である。
【図４】シール部の接着強度を評価する方法を示す模式図である。
【図５】エポキシ系シランカップリング材の例である。
【図６】アミン系シランカップリング材の例である。
【図７】シール材の特性の例である。
【図８】シール材ＺＺを使用し、配向膜にアミン系とエポキシ系のシランカップリング材を使用した場合のシール部の接着強度の比較である。
【図９】シール材ＡＡを使用し、配向膜にアミン系とエポキシ系のシランカップリング材を使用した場合のシール部の接着強度の比較である。
【図１０】シール部の接着強度３０Ｎを可能にするアミン系シランカップリング材とシール材の組み合わせの例である。
【図１１】従来例における液晶表示装置の平面図である。
【図１２】図１１のＢ−Ｂ断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
図１は本発明における液晶表示装置の平面図である。図１において、ＴＦＴや画素電極が形成されたＴＦＴ基板１００にシール材１５０を介してカラーフィルタ２０１等が形成された対向基板２００が接着し、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間に図示しない液晶が挟持されている。ＴＦＴ基板１００あるいは対向基板２００には光配向処理された配向膜１１０が形成されている。
【００２３】
図１の特徴は、配向膜１１０がＴＦＴ基板１００あるいは対向基板２００の端部にまで形成されている点である。すなわち、配向膜１１０とシール材１５０とはオーバーラップしている。本発明においては、後で説明するように、シール材１５０および配向膜１１０を特別な構成とすることによってシール部の接着力の低下を防止しているので、図１のような構成をとることが出来る。
【００２４】
図１に示すように、配向膜１１０とシール材１５０をオーバーラップさせることが出来るので、表示領域１０をシール材１５０の直近まで形成することが出来る。したがって、図１におけるｘで示す額縁領域を小さくすることが出来、所定の外形の液晶表示装置に対して表示領域１０の面積を大きくとることが出来る。
【００２５】
図２は図１のＡ−Ａ断面図である。図２において、ガラスで形成されたＴＦＴ基板１００の上に、例えば、ゲート絶縁膜１０１が形成され、その上にパッシベーション膜１０２が形成され、その上に層間絶縁膜１０３が形成されている。層間絶縁膜１０３の上には、光配向された配向膜１１０が形成されているが、従来例を示す図１２と大きく異なる点は、配向膜１１０がＴＦＴ基板１００の端部にまで形成されていることである。本発明は、配向膜１１０とシール材１５０を特別な構成とすることによって、この構造を可能にしている。
【００２６】
このように、配向膜１１０をＴＦＴ基板１００の端部にまで形成することによって、配向膜１１０の外形の厳密な制御を行う必要が無く、配向膜１１０の形成が容易である。なお、配向膜１１０は、ＴＦＴ基板１００の端部にまで形成する必要は無く、表示領域１０を十分にカバーしていれば、シール材１５０の途中まで形成されていてもよい。この場合も、配向膜１１０はシール材１５０とオーバーラップしてもよいので、従来のように、配向膜１１０の外形を正確に制御する必要は無い。配向膜１１０はオフセット印刷でもインクジェット法でもその他の方法によって形成しても良い。
【００２７】
一方、ガラスで形成された対向基板２００には、カラーフィルタ２０１およびブラックマトリクス２０２が形成され、また、ブラックマトリクス２０２およびカラーフィルタ２０１を覆ってオーバーコート膜２０３が形成されている。オーバーコート膜２０３の上には光配向処理された配向膜１１０が形成されているが、従来例を示す図１２と大きく異なる点は、配向膜１１０が対向基板２００の端部にまで形成されていることである。本発明は、配向膜１１０とシール材１５０を特別な構成とすることによって、この構造を可能にしている。
【００２８】
このように、配向膜１１０を対向基板２００の端部にまで形成することによって、配向膜１１０の外形の制御を特に行う必要が無く、配向膜１１０の形成が容易である。なお、配向膜１１０は、対向基板２００の端部にまで形成する必要は無く、表示領域１０を十分にカバーしていれば、シール材１５０の途中まで形成されていてもよい。この場合も、配向膜１１０はシール材１５０とオーバーラップしてもよいので、従来のように、配向膜１１０の外形を正確に制御する必要は無い。
【００２９】
本発明は、光配向処理した配向膜１１０を有する液晶表示装置においても、シール部の接着強度を必要十分に維持することが出来る構成を可能とすることを目的としているが、このためには、シール部の接着強度の評価を行う必要がある。図３は、シール部の接着強度を評価するための、液晶表示パネルのサンプルの例である。図３（ａ）はサンプルの平面図であり、図３（ｂ）はサンプルの側面図である。
【００３０】
図３（ａ）において、ＴＦＴ基板１００の上に対向基板２００が図示しないシール材を介して接着している。図３（ｂ）に示すように、端子部１２０に加圧ピン３００を押し付けることによって、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００に対して引き剥がし応力を加え、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００とが剥がれる時の力Ｆが所定の値以上か否かを評価する。この所定の値は３０Ｎであり、３０Ｎ以上であれば、シール部の接着強度は十分であると評価することが出来る。図３（ａ）において、加圧ピン３００は端子部１２０の２箇所に表示されているが、これは、２箇の加圧ピン３００に同時に力Ｆを加えるのではなく、１箇の加圧ピンに別々にＦを加える。これによって、１個のサンプルから２個のデータを取得することが出来る。
【００３１】
図４は、サンプルの液晶表示パネルにおいて、シール部の接着強度を測定している図である。ＴＦＴ基板１００と対向基板２００が図示しないシール材によって接着した液晶表示パネルを押さえ治具３１０によって抑える。液晶表示パネルの端子部１２０に加圧ピン３００によって上側から力Ｆを加え、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００が剥離する力を測定する。
【００３２】
この場合、シール材１５０による接着強度が十分に強ければＴＦＴ基板１００の端子部１２０が破壊することになる。ＴＦＴ基板１００と対向基板２００のシール部における剥離強度が３０Ｎ以上であれば、シール部の接着強度は十分な信頼性を有していると考えてよい。以後、シール部の接着強度が３０Ｎ以上あるか否かによって、シール部が十分な信頼性を有するか否かを評価する。以下の実施例によって本発明の特徴を説明する。
【実施例１】
【００３３】
本発明の特徴は、光配向処理する配向膜の材料を特別なものにすることと、シール材の収縮率および貯蔵弾性率を所定の値以下とすることによって、シール部における配向膜とシール材との接着強度を改善し、光配向処理した配向膜をシール部においてシール材と接着させても十分な信頼性を得るものである。
【００３４】
光配向の配向膜は、ポリイミド材料であり、その前駆体をＮＭＰ（Ｎ−メチル−２ピロリドン）、ＧＢＬ（γ−ブチロラクトン）、ＢＣ（エチレングリコールモノブチルエーテル）等の混合物の溶媒に溶解させたものを用い、さらに、シランカップリング材が添加される。なお、溶媒としては、ＮＭＰ、ＧＢＬ、ＢＣの全てを含む溶媒でもよいし、これらの溶媒のうちの２種類を含むものでもよいし、１種類のみでもよい。
【００３５】
例えば、光分解型の光配向膜を形成する際、ポリアミド酸を含む溶液を使用してもよく、ポリアミド酸エステルとポリアミド酸を含む溶液を使用してもよい。ポリアミド酸エステルとポリアミド酸を含む溶液を基板上に塗布すると層分離し、下層がポリアミド酸の溶液、上層がポリアミド酸エステルの溶液となる。配向膜を乾燥、焼成することによって、下層にポリアミド酸を前駆体とする下層配向膜が、上層にポリアミド酸エステルを前駆体とする上層配向膜が形成される。このうち、上層に形成されたポリアミド酸エステルを前駆体とする配向膜が光配向処理を受けることになる。本実施例においては、光分解型の光配向膜の例を示す。その場合のポリイミド材料の前駆体の構造式は（化１）に示すとおりである。もちろん、光二量化型や光異性化型の光配向膜でもよい。
【００３６】
【化１】
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【００３７】
化学式（１）において、Ｒ１は、それぞれ独立に炭素数１〜８のアルキル基、または水素原子であり、Ｒ２は、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ビニル基（−（ＣＨ2）ｍ−ＣＨ＝ＣＨ2，ｍ＝０，１，２）又はアセチル基（−（ＣＨ2）ｍ−Ｃ≡ＣＨ，ｍ＝０，１，２）であり、Ａｒは芳香族化合物である。
【００３８】
シランカップリング材としては、従来はエポキシ系のシランカップリング材が用いられてきた。５種類のエポキシ系シランカップリング材の例を図５に示す。この場合、光配向処理した後は、配向膜強度、および、配向膜１１０とＴＦＴ基板１００あるいは対向基板２００との接着力を十分に確保することが困難であった。
【００３９】
本発明者は、エポキシ系シランカップリング材に代えてアミン系シランカップリング材を使用することによって、光配向処理をした後も配向膜強度と基板との接着力を高く維持できることを発見した。６種類のアミン系シランカップリング材の例を図６に示す。ただし、アミン系シランカップリング材は量が多すぎると、いわゆるＡＣ残像を劣化させる。ＡＣ残像は、長期間の動作において、配向膜の配向特性が劣化することによって生ずる残像である。これは、シランカップリング材が配向膜の表面に存在することによって、配向膜と液晶分子との相互作用（配向規制力）を阻害するためである。
【００４０】
一方、アミン系シランカップリング材の量が少なすぎるとカップリング材としての役割を十分に発揮することが出来ない。配向膜材料におけるアミン系シランカップリング材の量は、０．３ｗｔ％乃至２．０ｗｔ％の範囲であれば、特定のシール材を用いた場合は、シール部の密着強度を十分に維持し、かつ、残像特性を実用範囲に抑えることが出来る。
【００４１】
光分解型ポリイミド材料の前駆体は、ＮＭＰ（Ｎ−メチル−２ピロリドン）、ＧＢＬ（γ−ブチロラクトン）、ＢＣ（エチレングリコールモノブチルエーテル）等の混合物の溶媒に溶解させたものを用い、さらに、アミン系シランカップリング材を０．５ｗｔ％添加した配向膜材料をＴＦＴ基板および対向基板に塗布し、２３０℃で焼成し、２５４ｎｍを含む偏光紫外線を１０００ｍＪ/ｃｍ２の強度で照射して配向膜を形成した。光二量化型の光配向膜の場合は３１３ｎｍ、光異性化型の光配向膜の場合は３６５ｎｍを含む偏光紫外線を、例えば、それぞれ１００ｍＪ/ｃｍ２、２０００ｍＪ/ｃｍ２の強度で照射する。
【００４２】
しかし、シール部分の接着強度は、配向膜の特性のみでは決まらない。それは、シール材の特性も大きく影響するからである。シール材には、例えば、エポキシ系やアクリル系の有機材料が使用される。シール材は、光や熱によって硬化するときに収縮する。このシール材の硬化収縮率が大きいと、基板あるいは配向膜とシール材との間に応力（ストレス）を生ずることになり、シール部剥離の原因となる。
【００４３】
また、同様に、シール材の貯蔵弾性率が大きい場合も、シール材と基板あるいは配向膜との間に大きなストレスを生ずることになり、シール部剥離の原因となる。本発明は、配向膜材料におけるカップリング材として、アミン系シランカップリング材を用いるとともに、シール材の硬化時の収縮率と貯蔵弾性率を所定の値以下に設定することによって、光配向処理された配向膜をシール材とオーバーラップさせた構成において、シール部の信頼性を確保するものである。
【００４４】
図７は実験において使用した２種類のシール材の収縮率と貯蔵弾性率を示す表である。シール材ＺＺの収縮率は５．５％、貯蔵弾性率は９．６Ｐａであり、シール材ＡＡの収縮率は４．７％、貯蔵弾性率は９．２Ｐａである。シール材ＺＺは収縮率、貯蔵弾性率ともに、シール材ＡＡよりも大きい。したがって、シール材ＺＺはシール材ＡＡに比較してシール部の信頼性が劣ることが予想される。なお、シール材の収縮率は、比重カップ法による体積変化率で評価したものである。
【００４５】
図８は、シール材にＺＺを用い、配向膜材料として、カップリング材にエポキシ系シランカップリング材を１％添加した場合とアミン系シランカップリング材を１％添加した場合におけるシール部の接着強度を評価したものである。図８において、アミン系シランカップリング材を用いた場合は、エポキシ系シランカップリング材を用いた場合よりも接着強度は大きくなっている。しかし、いずれの場合も、目標値の３０Ｎには到達しない。
【００４６】
図９は、シール材にＡＡを用い、配向膜材料として、カップリング材にエポキシ系シランカップリング材を１％添加した場合とアミン系シランカップリング材を１％添加した場合におけるシール部の接着強度を評価したものである。シール材にＡＡを用いた場合は、シール材にＺＺを用いた場合に比較して接着強度は大きくなっている。また、図９においても、アミン系シランカップリング材を用いた場合は、エポキシ系シランカップリング材を用いた場合よりも接着強度は大きくなっている。
【００４７】
図９において、エポキシ系シランカップリング材を用いた場合は、シール部の接着強度は２４Ｎであり、目標値である３０Ｎには到達していない。一方、アミン系シランカップリング材を用いた場合は、シール部の接着強度は３４Ｎであり、目標値である３０Ｎをクリアしている。つまり、図７乃至図９に示すように、配向膜のカップリング材としてアミン系シランカップリング材を用い、シール材として収縮率と貯蔵弾性率が所定の値以下の材料を用いることによって、シール部において、シール材と配向膜をオーバーラップさせることが出来る構成を得ることが出来る。
【００４８】
図１０は、アミン系シランカップリング材を０．３ｗｔ％から２．０ｗｔ％まで変化させた場合に、シール部の接着強度が３０Ｎ以上を確保することが出来るシール材の収縮率の上限と貯蔵弾性率の上限を評価したものである。図１０は、アミン系シランカップリング材の量が０．５ｗｔ％、１．０ｗｔ％、１．５ｗｔ％、２．０ｗｔ％においては、いずれの場合も、収縮率が５．１％以下、貯蔵弾性率が９．２Ｐａ以下の場合にシール部の接着強度３０Ｎ以上を確保することが出来ることを示している。
【００４９】
また図１０は、アミン系シランカップリング材が０．３ｗｔ％の場合、シール材の収縮率が３．１％以下で、かつ、貯蔵弾性率が９．０Ｐａ以下の場合にシール部の接着強度３０Ｎ以上を確保することが出来ることを示している。図１０においては、０．３％を超え、０．５％未満の場合の数値は記載されていないが、この範囲は、収縮率が３．１％以下、貯蔵弾性率が９．０Ｐａ以下のシール材を用いることにより、シール部の接着強度を３０Ｎ以上とすることが出来ると解釈することが出来る。尚、シール形成領域には液晶分子が存在していないため、液晶分子を配向することはないが、本明細書では配向膜と称することとしている。
【符号の説明】
【００５０】
１０…表示領域、  １００…ＴＦＴ基板、  １０１…ゲート絶縁膜、  １０２…パッシベーション膜、  １０３…層間絶縁膜、  １１０…配向膜、  １２０…シール材、  １５０…シール材、  ２００…対向基板、  ２０１…カラーフィルタ、  ２０２…ブラックマトリクス、  ２０３…オーバーコート膜、  ３００…加圧ピン、  ３１０…押さえ治具
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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