(57)【要約】【課題】  基板における表面処理の対象面上に，処理液を良好に流動させることのできる表面処理装置およびその表面処理装置により製造されたプリント配線板を提供すること。【解決手段】  本発明の表面処理装置は，基板をその板面内方向に搬送しつつその表面に処理液を供給して表面処理を施す表面処理装置である。また，処理槽と，基板の表面上へ噴射口より処理液を噴射する噴射部と，処理槽内における基板の搬送経路に沿って配置されている複数の搬送ローラーとを有する。また，搬送ローラーのうちの少なくとも１つは，環状の第１および第２の凸部を有するリングローラーである。そして，リングローラーの軸方向について，第１の凸部は基板の有効領域に対向する範囲に設けられており，第２の凸部は基板の捨て代領域に対向する範囲に設けられている。さらに，第１の凸部の直径は，第２の凸部の直径よりも小さい。【選択図】図３
2015017316.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板をその板面内方向に搬送しつつその表面に処理液を供給して表面処理を施す表面処理装置において，
内部に基板を通すとともにその基板への表面処理が内部で行われる処理槽と，
前記処理槽の内部に設けられ，基板の表面上へ噴射口より処理液を噴射する噴射部と，
前記処理槽内における基板の搬送経路に沿って配置されている複数の搬送ローラーとを有し，
前記搬送ローラーのうちの少なくとも１つは，環状の第１および第２の凸部を有するリングローラーであり，
前記リングローラーの軸方向について，
前記第１の凸部は，前記リングローラーのうち，基板における最終製品に搭載される部分である有効領域に対向する範囲に設けられており，
前記第２の凸部は，前記リングローラーのうち，基板における有効領域以外の部分である捨て代領域に対向する範囲に設けられており，
前記第１の凸部の直径は，前記第２の凸部の直径よりも小さいことを特徴とする表面処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の表面処理装置において，
前記リングローラー以外の前記搬送ローラーは，基板の有効領域と対向する範囲における直径と，捨て代領域に対向する範囲における直径とが同じであるスリムローラーであることを特徴とする表面処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の表面処理装置において，
前記リングローラーは，基板の搬送方向について，前記スリムローラーの配置されている位置よりも，前記噴射部より噴射された処理液の噴流の上流側の位置に配置されていることを特徴とする表面処理装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれかに記載の表面処理装置において，
前記リングローラーの軸方向について，前記リングローラーが基板と対向している部分のうち，前記第１の凸部が占める部分の合計の長さは，前記第１および第２の凸部以外の部分が占める合計の長さよりも短いことを特徴とする表面処理装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれかに記載の表面処理装置において，
前記リングローラーは，シャフト部材とシャフト部材に組付けられたローラー部材とを有し，
前記シャフト部材は，金属製でその表面が撥水性の樹脂で被覆されているものであり，
前記ローラー部材は，少なくともその表面が撥水性の樹脂よりなるものであり，
前記ローラー部材により，前記第１および第２の凸部が構成されているものであることを特徴とする表面処理装置。
【請求項６】
配線パターン層と絶縁層とが積層されてなるプリント配線板において，
請求項１から請求項５のいずれかに記載の表面処理装置により基板の表面に表面処理を施してなる表面処理基板を用いて製造されたものであることを特徴とするプリント配線板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，基板の表面に表面処理を施す表面処理装置およびその表面処理装置により製造されたプリント配線板に関する。さらに詳細には，処理液を基板の主面に噴射することにより表面処理を行う表面処理装置およびその表面処理装置により製造されたプリント配線板に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より，多層構造のプリント配線板は，配線パターンが形成された導体層を，絶縁層を介して複数積層することにより製造される。また，プリント配線板の製造工程では，その製造過程における基板材に対して，デスミア処理やソフトエッチング，めっき処理などの種々の表面処理が行われる。基板の表面処理は，例えば，基板をその搬送経路に沿って配置された複数の搬送ローラー対によって搬送しつつ，基板における積層方向の両端である主面に対して，処理液を噴射することにより行われる（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−３２３９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら，上記の従来技術においては，以下のような問題があった。まず，処理液を適切に作用させるためには，処理液を表面処理の対象面に良好に流動させることが重要である。一般的に，処理液が滞留した箇所では，処理液の成分に偏りが生じてしまい，表面処理の速度が低下しがちだからである。ところが，従来技術では，基板は，処理液の噴射を受ける位置の搬送方向についての上流および下流において，搬送ローラー対によって挟み込まれている。つまり，噴射された処理液の基板の主面における流れは，搬送ローラー対によって遮られる。このため，噴射位置以外の搬送ローラー対によって搬送されている区間では，処理液が滞留してしまうのである。なお，上記の特許文献１の搬送ローラーにはその周方向に連続する複数の溝が形成されているが，それらの溝はいずれも，基板の搬送ローラーへの貼り付きを防止するための部材が挿入されていることにより塞がれている。よって，搬送ローラーの溝を処理液が通過することはできない。
【０００５】
また，表面処理が施される際の基板には，ドリル加工やレーザー加工によって空けられた穴や，その穴にめっき処理を施してなるビアが形成されていることがある。ビアは，穴の内壁面に形成されためっき層により，異なる導体層の配線パターン同士を導通するためのものである。そして，処理液の滞留は特に，有底穴の内部において生じやすい。例えば，めっき処理を施すための処理液が穴の内部で滞留した場合，その有底穴の内壁面などに適切にめっきを施すことができない。すなわち，有底穴の内部でめっきを施すための処理液が滞留してしまった場合には，完成後のプリント配線板における導通不良の原因となるおそれがあった。
【０００６】
またこのような問題は，デスミア処理やソフトエッチングなどの処理液を噴射することにより行われるその他の化成処理においても共通である。すなわち，例えば，有底穴の内部で処理液が滞留し，その部分において処理液が適切に作用しないことにより，プリント配線板に不良が発生してしまうおそれがあった。
【０００７】
本発明は，前記した従来の技術が有する問題点の解決を目的としてなされたものである。すなわちその課題とするところは，基板における表面処理の対象面上に，処理液を良好に流動させることのできる表面処理装置およびその表面処理装置により製造されたプリント配線板を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この課題の解決を目的としてなされた本発明の表面処理装置は，基板をその板面内方向に搬送しつつその表面に処理液を供給して表面処理を施す表面処理装置であって，内部に基板を通すとともにその基板への表面処理が内部で行われる処理槽と，処理槽の内部に設けられ，基板の表面上へ噴射口より処理液を噴射する噴射部と，処理槽内における基板の搬送経路に沿って配置されている複数の搬送ローラーとを有し，搬送ローラーのうちの少なくとも１つは，環状の第１および第２の凸部を有するリングローラーであり，リングローラーの軸方向について，第１の凸部は，リングローラーのうち，基板における最終製品に搭載される部分である有効領域に対向する範囲に設けられており，第２の凸部は，リングローラーのうち，基板における有効領域以外の部分である捨て代領域に対向する範囲に設けられており，第１の凸部の直径は，第２の凸部の直径よりも小さいことを特徴とする表面処理装置である。なお，第１および第２の凸部は，リングローラーにおける直径方向に突出しているとともに周方向に連続している環状の凸部である。
【０００９】
本発明の表面処理装置は，搬送ローラーとして，リングローラーを備えている。リングローラーは，第１の凸部と第２の凸部とを有し，第１の凸部の直径は，第２の凸部の直径よりも小さい。そして，リングローラーは，第２の凸部によって基板の捨て代領域に接触し，基板を搬送することができる。また，第１の凸部は，基板の有効領域に搬送に伴う振動が発生した場合にはこれを抑制しつつ，噴射部より噴射された基板の板面上の処理液の流れを遮らずにこれを通過させることができる。これにより，基板の有効領域における板面上に処理液を良好に流動させることができ，基板における表面処理の対象面上に適切に表面処理を行うことができる。よって，プリント配線板における不良を低減させることができる。さらには，表面処理を効率的に行うことができるため，配線板の生産性や処理液の寿命を向上させつつ，表面処理装置の小型化を達成することができる。
【００１０】
また上記に記載の表面処理装置において，リングローラー以外の搬送ローラーは，基板の有効領域と対向する範囲における直径と，捨て代領域に対向する範囲における直径とが同じであるスリムローラーであることが好ましい。スリムローラーは，基板を安定して搬送することができるからである。
【００１１】
また上記に記載の表面処理装置において，リングローラーは，基板の搬送方向について，スリムローラーの配置されている位置よりも，噴射部より噴射された処理液の噴流の上流側の位置に配置されていることが好ましい。スリムローラーは，基板の板面上の処理液の流れを遮ってしまう反面，基板を安定して搬送することができる。このため，噴射部より噴射された処理液の流れが速い噴流の上流側の位置にはリングローラーを，処理液の流れの遅い噴流の下流側の位置にはスリムローラーを配置することが好ましい。処理液の流れの遅い位置でその流れを遮ったとしても，表面処理の効率はそれほど低下しないからである。すなわち，基板を安定して搬送しつつ，表面処理の効率を向上させることができるからである。
【００１２】
また上記に記載の表面処理装置において，リングローラーの軸方向について，リングローラーが基板と対向している部分のうち，第１の凸部が占める部分の合計の長さは，第１および第２の凸部以外の部分が占める合計の長さよりも短いことが好ましい。第１の凸部の部分よりも，第１および第２の凸部以外の部分の方が，処理液の通過が良好だからである。
【００１３】
また上記に記載の表面処理装置において，リングローラーは，シャフト部材とシャフト部材に組付けられたローラー部材とを有し，シャフト部材は，金属製でその表面が撥水性の樹脂で被覆されているものであり，ローラー部材は，少なくともその表面が撥水性の樹脂よりなるものであり，ローラー部材により，第１および第２の凸部が構成されているものである表面処理装置にもおよぶ。
【００１４】
また本発明は，配線パターン層と絶縁層とが積層されてなるプリント配線板において，上記に記載の表面処理装置により基板の表面に表面処理を施してなる表面処理基板を用いて製造されたものであることを特徴とするプリント配線板にもおよぶ。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば，基板における表面処理の対象面上に，処理液を良好に流動させることのできる表面処理装置およびその表面処理装置により製造されたプリント配線板が提供されている。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】第１の形態に係る表面処理装置の概略構成図である。
【図２】同表面処理装置の噴射ノズルを説明するための図である。
【図３】同表面処理装置のリングローラーを説明するための図である。
【図４】第２の形態に係る表面処理装置の概略構成図である。
【図５】同表面処理装置のスリムローラーを説明するための図である。
【図６】噴射ノズルに近い搬送ローラーのみをリングローラーとした場合のめっき液の流れのシミュレーション結果を示す図である。
【図７】噴射ノズルに近い３つの搬送ローラーをリングローラーとした場合のめっき液の流れのシミュレーション結果を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下，本発明を具体化した実施の形態について，添付図面を参照しつつ詳細に説明する。
【００１８】
［第１の形態］
図１に，第１の形態に係る表面処理装置１の概略構成図を示す。表面処理装置１は，処理槽１０の内部にめっき液１１を備えるめっき処理装置である。また，表面処理装置１は，基板９０の表面に，めっき液１１によって化学銅めっきを施すものである。めっき液１１としては，従来より化学銅めっきに使用されているものを用いることができる。基板９０は，配線パターンが形成された導体層を，絶縁層を介しつつ複数積層してなる積層基板である。図１には，その積層方向の両端である基板９０の主面を，主面９１，９２として示している。なお，基板９０は最終的には，主面９１，９２の上にさらに上層が形成されることなどにより，電子機器などに搭載されるプリント配線板となるものである。
【００１９】
処理槽１０の内部には，基板９０を，その搬送経路８０に沿って図１中左から右に向かって搬送するための搬送ローラー２０，２５が複数配置されている。搬送ローラー２０は，搬送経路８０の図１中上側に配置されている。搬送ローラー２５は，搬送ローラー２０と搬送経路８０を挟んで対向する位置に配置されている。すなわち，搬送ローラー２０，２５は，対面位置において基板９０の搬送経路８０に沿って配置されているローラー対である。そして，これらローラー対は，基板９０を，その主面９１，９２において挟み込みつつ回転することにより搬送するものである。
【００２０】
さらに，表面処理装置１は，処理槽１０内における搬送経路８０の上下に，複数の噴射ノズル４０を有している。噴射ノズル４０は，搬送経路８０を搬送される基板９０の主面９１，９２上にめっき液１１を噴射するためのものである。そのため，噴射ノズル４０は，基板９０の主面９１，９２と対面する箇所に，めっき液１１を噴射するための噴射口４１を有している。また，表面処理装置１は，図１に示すように，処理槽１０と噴射ノズル４０とを接続する流路５１を有している。流路５１の途中には，ポンプ５０が接続されている。ポンプ５０は，処理槽１０から流路５１にめっき液１１を吸い込み，これを噴射ノズル４０に向かって送り出すためのものである。めっき液１１は，このポンプ５０によって流路５１に送り出されることにより，噴射ノズル４０の噴射口４１より噴射される。
【００２１】
図２は，図１に示す噴射ノズル４０のうち，基板９０の主面９１側にめっき液１１を噴射する噴射ノズル４０の拡大図である。また，図２においては，噴射ノズル４０の一部断面により，噴射口４１を示している。噴射口４１は，基板９０の搬送方向と直行する幅方向（図１，２において奥行き方向）について連続するスリット状の形をしている。さらに，基板９０の幅方向における噴射口４１の長さは，基板９０の長さと同じくらいである。また，図２には，噴射ノズル４０の噴射口４１より噴射されためっき液１１の最も流速の速い流れの方向である噴射方向Ｘを矢印により示している。図２に矢印Ｘで示すように，噴射ノズル４０は，めっき液１１を，主面９１に対して斜めに噴射するものである。すなわち，噴射ノズル４０の噴射口４１より噴射されるめっき液１１の噴射方向Ｘと，基板９０の主面９１との角度である噴射角度θは，鋭角である。なお，噴射ノズル４０のめっき液１１の噴射方向Ｘは，基板９０の搬送方向については上流側から下流側の向きであり，主面９１と垂直な方向から見たときには，基板９０の搬送方向と平行である。また，これらのことは，基板９０の主面９２側にめっき液１１を噴射する噴射ノズル４０についても同様である。すなわち，基板９０の主面９２側の噴射ノズル４０についても，そのめっき液１１の噴射方向は，主面９２に対して斜めであり，基板９０の搬送方向については，上流側から下流側の向きである。さらに，基板９０の主面９２側の噴射ノズル４０についても，主面９２と垂直な方向から見たときには，基板９０の搬送方向と平行にめっき液１１を噴射するものである。
【００２２】
また，図２に示すように，噴射ノズル４０では，矢印Ｘの方向にめっき液１１が噴射されることにより，基板９０の主面９１に沿って，いずれも基板９０の搬送方向の上流側から下流側への向きである流れＹ，Ｚが発生する。流れＹは，噴射ノズル４０によってＸの方向に噴射されためっき液１１が，基板９０の主面９１に沿って流れたことにより発生した流れである。また，流れＺは，噴射ノズル４０によってＸの方向に噴射されためっき液１１がＹの方向に流れたことにより，噴射ノズル４０と基板９０の主面９１との隙間に負圧が発生したことによるものである。なお，本形態においては，めっき液１１の噴射方向Ｘが基板９０の主面９１に対して斜めの噴射ノズル４０を用いているが，噴射方向Ｘが基板９０の主面９１に対して垂直または水平の噴射ノズルを用いることもできる。あるいは，噴射方向Ｘを，基板９０の主面９１に対して斜めまたは水平としつつ，基板９０の搬送方向については下流側から上流側の向きとしてめっき液１１を噴射する噴射ノズルを用いることもできる。
【００２３】
また，図２に示すように，基板９０には随所に，厚さ方向に空けられた有底穴９３および貫通孔９４が形成されている。有底穴９３および貫通孔９４は，例えばレーザー加工やドリル加工によって空けられたものである。有底穴９３は，基板９０の主面９１にのみ開口しており，基板９０を貫通していない。貫通孔９４は，基板９０を貫通しており，その主面９１と主面９２とのいずれにも開口している。前述したように，基板９０は，導体層と絶縁層とを複数積層してなるものである。有底穴９３および貫通孔９４はいずれも，この後，内壁面などにめっき層が形成されることにより，基板９０における異なる導体層の配線パターン同士を導通するためのビアとなるものである。
【００２４】
図３は，搬送ローラー２０，２５について説明するための図である。図３において左右方向が，搬送ローラー２０，２５の軸方向（図１において奥行き方向）である。搬送ローラー２０，２５はいずれも，シャフト２１と，複数の大径ローラー部材２２および小径ローラー部材２３とにより構成されている。シャフト２１は，例えば，ステンレス製の芯材の表面に，撥水性の樹脂コーティングを施してなるものである。シャフト２１は，中実の棒状のものであってもよいし，中空のパイプ状のものであってもよい。大径ローラー部材２２および小径ローラー部材２３の材質としては，例えば，フッ素樹脂などの撥水性の樹脂を用いることができる。
【００２５】
大径ローラー部材２２および小径ローラー部材２３はいずれも，中空のリング形状をしており，その内周面において，シャフト２１の外周面に組み付けられている。つまり，搬送ローラー２０，２５は，複数のリング形状の大径ローラー部材２２および小径ローラー部材２３を有するリングローラーである。よって以下，搬送ローラー２０，２５をリングローラー２０，２５として説明する。また，図３には，リングローラー２０，２５について，シャフト２１の外径Ｄ１，大径ローラー部材２２の外径Ｄ２，小径ローラー部材２３の外径Ｄ３を示している。図３に示すように，シャフト２１の外径Ｄ１は，大径ローラー部材２２の外径Ｄ２および小径ローラー部材２３の外径Ｄ３よりも小さいものである。また，小径ローラー部材２３の外径Ｄ３は，大径ローラー部材２２の外径Ｄ２よりも小さいものである。
【００２６】
また，図３には，リングローラー２０，２５の間の位置に，基板９０を示している。基板９０は，その幅方向（図３中左右方向）について，有効領域９５と捨て代領域９６とを有している。捨て代領域９６は基板９０の幅方向の両端部分であり，その捨て代領域９６に挟まれた中央部分が有効領域９５である。有効領域９５は，最終的には，プリント配線板として電子機器などに搭載される部分である。このため，基板９０の有効領域９５は，その表面や内部に，配線パターンが形成された導体層の部分である配線パターン層を有している。また，図３に示すように，配線パターン層の導通をとるためのビアとなる有底穴９３および貫通孔９４は，有効領域９５に形成されている。
【００２７】
一方，捨て代領域９６は，配線パターン層を有しておらず，有効領域９５が切り出された後，破棄される部分である。よって，基板９０については，その有効領域９５の表面に適切にめっき処理を施すことが重要である。また，図３には，基板９０の幅方向における外形の長さである外形幅を，ＬＢ１として示している。有効領域９５および捨て代領域９６の幅方向の長さをそれぞれ，有効幅ＬＢ２および捨て幅ＬＢ３として示している。
【００２８】
リングローラー２０，２５において，２つの大径ローラー部材２２は，シャフト２１の軸方向の両端付近に組み付けられている。その両端付近の大径ローラー部材２２の内側の側面間の距離である内幅Ｌ２は，基板９０の外形幅ＬＢ１よりは短く，有効領域９５の有効幅ＬＢ２よりは長い。また，両端付近の大径ローラー部材２２の軸方向における外側の側面間の距離Ｌ１は，基板９０の外形幅ＬＢ１よりも長い。そして，大径ローラー部材２２はいずれも，リングローラー２０，２５のうち，有効領域９５よりも外側の捨て代領域９６と対向する部分に配置されている。そして，図３に示すように，リングローラー２０，２５は，大径ローラー部材２２の外周面により，基板９０の捨て代領域９６のみを挟み込んでいる。
【００２９】
一方，複数の小径ローラー部材２３は，図３に示すように，両端付近の大径ローラー部材２２の内幅Ｌ２の間であるシャフト２１の中央付近に組み付けられている。図３には，小径ローラー部材２３の幅をＬ３で示している。さらには，小径ローラー部材２３はいずれも，リングローラー２０，２５の有効領域９５と対向する部分に，隣り合う大径ローラー部材２２または小径ローラー部材２３と，間隔Ｌ４を設けつつ配置されている。このため，間隔Ｌ４の部分では，シャフト２１の外周面が露出している。そのシャフト２１の露出している外周面を，図３にシャフト露出面２４として示している。そして，シャフト露出面２４と基板９０の主面９１、９２との間にはそれぞれ，隙間Ｇ１が形成されている。
【００３０】
また，小径ローラー部材２３の直径Ｄ３は，大径ローラー部材２２の直径Ｄ２よりも小さい。このため，小径ローラー部材２３の外周面と基板９０の主面９１，９２との間にはそれぞれ，隙間Ｇ２が形成されている。すなわち，図３に示すように，リングローラー２０，２５は，通常時には，基板９０の有効領域９５には接触していない。ただし，リングローラー２０，２５は，基板９０を，その幅方向の両端の捨て代領域９６のみを挟み込んで搬送する。このため，基板９０の幅方向の中央付近には，搬送に伴う振動が発生することがある。そして，小径ローラー部材２３の外周面は，基板９０に隙間Ｇ２以上の振動が発生した場合には，基板９０の主面９１，９２に接触する。これにより，基板９０の幅方向の中央付近に振動が発生したとしても，その振動はそれほど大きくなることはない。すなわち，リングローラー２０，２５は，基板９０を適切に搬送することができる。
【００３１】
ここにおいて，基板９０のうち，めっき処理を施す対象面は，前述したように，有効領域９５の表面である。そして，基板９０の有効領域９５の表面に適切にめっき処理を施すためには，その有効領域９５の表面上に，めっき液１１を良好に流動させることが重要である。めっき液１１が滞留した箇所では，滞留しているめっき液１１の成分に偏りが生じてしまうことにより，良好に流動しているめっき液１１に接触している面よりもめっきの析出速度が低下してしまうからである。また，めっき液１１の滞留は特に，有底穴９３の内部などで生じやすい。ここで，本形態のリングローラー２０，２５は，基板９０の有効領域９５における主面９１，９２との間で，隙間Ｇ１，Ｇ２（図３）を形成しつつ配置されている。よって，本形態の表面処理装置１では，噴射ノズル４０の噴射口４１より噴射されためっき液１１の噴流を，リングローラー２０，２５によって遮ることなく，基板９０の有効領域９５の主面９１，９２上に沿って広い範囲に流動させることができる。これにより，有効領域９５の主面９１，９２上に適切にめっき処理を施すことができる。
【００３２】
また，有効領域９５の主面９１，９２上に沿ってめっき液１１が流れることにより，そこに開口している有底穴９３および貫通孔９４の内部にも，めっき液１１の流れ込みが生じる。つまり，リングローラー２０，２５を用いることにより，有底穴９３および貫通孔９４の内部にもめっき液１１を流動させ，これらの内壁面などにも適切にめっき処理を施すことができる。よって，本形態の表面処理装置１は，基板９０の有効領域９５の主面９１，９２上，および，有効領域９５に形成された有底穴９３および貫通孔９４の内壁面などに適切にめっきを施すことができる。また，めっき液１１を有効領域９５の主面９１，９２上に良好に流すため，図３に示す小径ローラー部材２３の幅Ｌ３は小さく，間隔Ｌ４は大きいことが好ましい。すなわち，リングローラー２０，２５の基板９０と対向する部分のうち，幅Ｌ３の複数の小径ローラー部材２３が占める部分の合計の長さは，複数の間隔Ｌ４のシャフト露出面２４が占める部分の合計の長さよりも短いことが好ましい。
【００３３】
以上詳細に説明したように，本実施の形態に係る表面処理装置１は，基板９０の主面９１，９２にめっき液１１を噴射するための噴射ノズル４０，基板９０を搬送するための搬送ローラーであるリングローラー２０，２５を処理槽１０内に有している。リングローラー２０，２５は，大径ローラー部材２２，小径ローラー部材２３をシャフト２１の外周面に組み付けてなるものである。大径ローラー部材２２は，基板９０を，その捨て代領域９６において挟み込んで搬送するためのものである。小径ローラー部材２３は，基板９０の主面９１，９２と対向する位置に設けられているとともに，大径ローラー部材２２よりも直径が小さい。また，大径ローラー部材２２と小径ローラー部材２３とは，間隔Ｌ４を設けつつ配置されている。このため，リングローラー２０，２５は，基板９０の振動を防ぎつつ，その主面９１，９２上のめっき液１１の流れを遮らずにこれを通過させることができる。すなわち，基板９０における表面処理の対象面上に，めっき液１１を良好に流動させることのできる表面処理装置１が実現されている。
【００３４】
従って，表面処理装置１により，短時間で，基板９０の表面に必要とする厚さのめっき層が形成された表面処理基板を得ることができる。すなわち，その表面処理基板を用いて製造されるプリント配線板における導通を確実なものとして不良の発生率を低減させつつ，生産性を向上させることができる。さらに，めっきの析出速度が速いため，表面処理装置１の基板９０の搬送方向における全長は，従来のものよりも短くてすむ。また，従来では，めっきの析出速度を速めるためには，めっき液１１の温度や銅イオンの濃度を高くする必要があった。しかし，めっき液１１の温度や銅イオンの濃度を高くすることにより，めっき液１１の劣化は加速され，寿命が短くなってしまうという問題があった。これに対し，本形態では，めっき液１１の流動性によってめっきの析出速度を速めることができるため，めっき液１１の劣化を加速させることがなく，めっき液１１の寿命を長くすることができる。
【００３５】
［第２の形態］
第２の形態について説明する。本形態の表面処理装置は，搬送ローラーとして，リングローラーと，外径が軸方向について一定であるスリムローラーとを有する。この点，搬送ローラーとしてスリムローラーのみを有する第１の形態の表面処理装置と異なる。なお，表面処理装置のその他の構成，および，表面処理の対象物である基板については，第１の形態と同じである。
【００３６】
図４は，第２の形態に係る表面処理装置２の概略構成図である。表面処理装置２は，リングローラー２０，２５に加え，搬送ローラー３０，３５を有している。搬送ローラー３０，３５は，図５において後述するように，その外径が軸方向について一定であるスリムローラーである。よって以下，搬送ローラー３０，３５をスリムローラー３０，３５として説明する。
【００３７】
図５は，スリムローラー３０，３５について説明するための図である。図５において左右方向が，スリムローラー３０，３５の軸方向（図４において奥行き方向）である。スリムローラー３０，３５はいずれも，シャフト３１と，ローラー部材３２とにより構成されている。ローラー部材３２は中空の円筒形状をしており，その内周面において，シャフト３１の外周面に組み付けられている。図５には，スリムローラー３０，３５について，シャフト３１の直径Ｄ１，ローラー部材３２の外径Ｄ２，ローラー部材３２の軸方向における長さである幅Ｌ１をそれぞれ示している。本形態においては，これらシャフト３１の直径Ｄ１，ローラー部材３２の外径Ｄ２および幅Ｌ１についてそれぞれ，リングローラー２０，２５のシャフト２１の外径Ｄ１，大径ローラー部材２２の外径Ｄ２および大径ローラー部材２２の外側の側面間の距離Ｌ１と同じとしている。図５に示すように，スリムローラー３０，３５のローラー部材３２の外径Ｄ２は，軸方向について一定である。シャフト３１は，例えば，ステンレス製の芯材の表面に，撥水性の樹脂コーティングを施してなるものである。シャフト３１は，中実の棒状のものであってもよいし，中空のパイプ状のものであってもよい。ローラー部材３２の材質としては，例えば，フッ素樹脂などの撥水性の樹脂を用いることができる。
【００３８】
また，図５には，スリムローラー３０，３５の間の位置に，基板９０を示している。基板９０は，その主面９１，９２において，スリムローラー３０，３５のローラー部材３２の外周面によって挟み込まれている。図５に示すように，基板９０の外形幅ＬＢ１は，スリムローラー３０，３５のローラー部材３２の幅Ｌ１よりも短いものである。そして，図５に示すように，スリムローラー３０，３５は，ローラー部材３２の外周面により，基板９０の有効領域９５および捨て代領域９６のすべてを，その幅方向において一様に挟み込んでいる。このため，スリムローラー３０，３５は，その位置で，基板９０の主面９１，９２上のめっき液１１の流れをほとんど遮ってしまう。その反面，スリムローラー３０，３５は，リングローラー２０，２５よりも，基板９０を安定して搬送することができる。スリムローラー３０，３５は，基板９０をその幅方向に一様に挟み込みつつ搬送することができるからである。
【００３９】
ここで，図４に示す表面処理装置２においても，噴射ノズル４０は，図２において説明したように，めっき液１１を噴射方向Ｘの方向に噴射する。このため，噴射ノズル４０より噴射方向Ｘの向きに噴射されためっき液１１の噴流は，基板９０の搬送方向については，上流側から下流側の向きに流れる。そして，図４に示すように，表面処理装置２において，リングローラー２０，２５，スリムローラー３０，３５はこの順で，噴射ノズル４０により噴射されためっき液１１の噴流の上流側より配置されている。つまり，リングローラー２０，２５，は，スリムローラー３０，３５よりも噴射ノズル４０によるめっき液１１の噴流の上流側の位置に配置されている。このため，リングローラー２０，２５の位置では，基板９０の有効領域９５の表面上に，めっき液１１を良好に流動させることができる。リングローラー２０，２５により，めっき液１１の噴流が遮られることがないからである。
【００４０】
一方，スリムローラー３０，３５が配置されている噴射ノズル４０によるめっき液１１の噴流の下流側の位置では，その噴射口４１より噴射されためっき液１１の噴流が拡散して弱まっている。このため，スリムローラー３０，３５の位置では，スリムローラー３０，３５によって基板９０の主面９１，９２上のめっき液１１の流れが遮られたとしても，めっきの析出速度にはそれほど影響しない。このため，本形態の表面処理装置２においても，基板９０の有効領域９５の主面９１，９２上，および，有効領域９５に形成された有底穴９３および貫通孔９４の内壁面などに適切にめっきを施すことができる。また，リングローラー２０，２５の搬送によって基板９０に振動が発生していたとしても，その振動は，基板９０がスリムローラー３０，３５を通過することにより抑えられる。よって，本形態の表面処理装置２においては，基板９０の主面９１，９２上に良好にめっき液１１を流動させつつ，基板９０を安定して搬送させることができる。
【００４１】
なお，表面処理装置２においては，図４に示すように，噴射ノズル４０の基板９０の搬送方向の上流側の位置にリングローラー２０，２５を配置している。これは，図２において説明したように，本形態の噴射ノズル４０による噴射方向Ｘが基板９０の主面９１，９２に対して斜めであることにより，噴射口４１の基板９０の搬送方向の上流側に流れＺが発生するからである。そして，その噴射ノズル４０の基板９０の搬送方向の上流側の位置においては，そのめっき液１１の流れＺが遮られることがないよう，配置する搬送ローラーをリングローラー２０，２５としているだけである。つまり，本形態では，ある噴射ノズル４０より噴射されためっき液１１の噴流の下流側に次の噴射ノズル４０が存在する場合，次の噴射ノズル４０によって流れＺの発生する範囲については，噴流の上流側および下流側の関係には含まないものとする。つまり，表面処理装置２では，噴射ノズル４０の基板９０の搬送方向の上流側の位置のリングローラー２０，２５は，スリムローラー３０，３５よりも，噴射ノズル４０によるめっき液１１の噴流の下流側の位置に配置されているわけではない。このことについては，めっき液１１を基板９０の主面９１，９２に対して水平に噴射する噴射ノズルを用いた場合においても同様である。
【００４２】
以上詳細に説明したように，本実施の形態に係る表面処理装置２は，基板９０を搬送するための搬送ローラーであるリングローラー２０，２５およびスリムローラー３０，３５を有している。リングローラー２０，２５は，基板９０の搬送方向について，スリムローラー３０，３５よりも，噴射ノズル４０より噴射されためっき液１１の噴流の上流側に配置されている。これにより，表面処理装置２は，基板９０における表面処理の対象面上に，めっき液１１を良好に流動させることができるとともに，基板９０を安定して搬送す
ることができる。従って，表面処理装置２によっても短時間で表面処理基板を得ることができ，その表面処理基板を用いることにより，プリント配線板における不良の発生率を低減させつつ，その生産性を向上させることができる。さらには，表面処理装置２においても，その基板９０の搬送方向における全長は，従来のものよりも短くてすむ。加えて，表面処理装置２においても，めっき液１１の寿命を長くすることができる。
【００４３】
ここで，本発明者らは，本発明による効果を確認するためのシミュレーションを行った。そのシミュレーション結果について図６および図７により説明する。図６および図７はともに，図中左下より，基板９０の主面９１に沿ってめっき液１１の流れＹを発生させたものである。流れＹは，図２示す噴射口４１より基板９０の搬送方向の下流側のめっき液１１の流れである。また，図６は，噴射ノズル４０より基板９０の搬送方向の下流側に，１つのリングローラー２０，３つのスリムローラー３０をこの順で配置した場合のものである。
【００４４】
図７は，噴射ノズル４０より基板９０の搬送方向の下流側に，３つのリングローラー２０，１つのスリムローラー３０をこの順で配置した場合のものである。つまり，図７は，図６におけるスリムローラー３０のうちの噴射ノズル４０に近い側の２つを，リングローラー２０に変更したものである。また，図６および図７はともに，リングローラー２０の間隔Ｌ４における断面についてシミュレーションを行った結果を示している。よって，図６および図７では，リングローラー２０についてはシャフト２１の外周面が，スリムローラー３０についてはローラー部材３２の外周面が示されている。
【００４５】
そして，図６におけるめっき液１１の流れは，図中左側より数えて２つ目の搬送ローラーである最初のスリムローラー３０までは，主面９１に沿った流速の速い流れであることがわかる。すなわち，めっき液１１の流れは，リングローラー２０の位置では，これに遮られることなく，シャフト２１と主面９１との隙間（図３のＧ１）を速いまま通過している。しかし，リングローラー２０を通過しためっき液１１の流れは，最初のスリムローラー３０によって遮られており，それより下流側へはほとんど流れていない。
【００４６】
これに対し，図７では，図中左側より数えて４つ目の搬送ローラーである最初のスリムローラー３０まで，主面９１に沿ってめっき液１１の流れが発生していることがわかる。具体的には，主面９１に沿っためっき液１１の流れは，図７中左側より２つ目のリングローラー２０までは流速が速く，それ以降は噴流に若干の拡散が生じているものの，最初のスリムローラー３０まで有る程度の速い流速で流れていることがわかる。よって，図６および図７より，リングローラー２０を噴射ノズル４０より噴射されためっき液１１の噴流の上流側の位置に優先的に配置することにより，主面９１上に良好にめっき液１１を流動させることができることが確認された。またこれは，基板９０の主面９２についても同様である。
【００４７】
なお，本実施の形態は単なる例示にすぎず，本発明を何ら限定するものではない。したがって本発明は当然に，その要旨を逸脱しない範囲内で種々の改良，変形が可能である。例えば，めっき液１１は銅めっきを施すものに限らず，例えば，ニッケルめっきなどのその他のめっきを施すめっき液であってもよい。また，表面処理装置１，２は，めっきに限らず，デスミア処理やソフトエッチングなどその他の化成処理を行うものであってもよい。
【００４８】
また，本発明において，基板９０がその幅方向について複数のピースが配置された多ピース取りの基板である場合には，その基板９０における各ピースの間の領域は，有効領域９５および捨て代領域９６のうちのどちらの領域として扱ってもよい。すなわち，リングローラー２０，２５において，その軸方向における基板９０の各ピースの間の領域に対向する範囲には，大径ローラー部材２２および小径ローラー部材２３のいずれについても配置することができる。
【００４９】
また例えば，基板９０の主面９１，９２に対して垂直にめっき液１１を噴射する噴射ノズル４０を用いる場合，その噴射ノズル４０の基板９０の搬送方向における上流側および下流側の双方について，リングローラー２０，２５を，スリムローラー３０，３５よりも，噴射ノズル４０に近い位置に配置することが好ましい。噴射ノズル４０による噴流が基板９０の主面９１，９２に当たることにより，主面９１，９２上のめっき液１１の流れは，噴射ノズル４０の基板９０の搬送方向における上流側および下流側の双方に発生する。そして，その基板９０の主面９１，９２上のめっき液１１の流れは，噴射ノズル４０に近い位置ほど，速いからである。また，このような噴射ノズル４０の場合においては，その基板９０の搬送方向における上流側および下流側の双方について，噴射ノズル４０に近い位置ほど，噴射ノズル４０より噴射されためっき液１１の噴流の上流側の位置である。
【符号の説明】
【００５０】
１，２      表面処理装置
１０        処理槽
１１        めっき液
２０，２５  リングローラー
２１        シャフト
２２        大径ローラー部材
２３        小径ローラー部材
３０，３５  スリムローラー
３１        シャフト
３２        ローラー部材
４０        噴射ノズル
９０        基板
９１，９２  主面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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