(57)【要約】【課題】基板を熱的に処理するステージに対する線材の取り付けおよび取り外しを効率よく行う技術を提供する。【解決手段】線材３は、基板９０を加熱処理するステージ２の表面に配されている。線材３は、ステージ２の側方にて折り返すことによって、前記ステージの表面を連続して複数回横断する。ステージ２の側部に配置されている長尺部材４０には、線材３を引っ掛ける複数のフック４１が設けられている。長尺部材４０は、複数の弾性部材５４を介して、ステージ２に固定された固定部２３に接続されている。複数の弾性部材５４によって、長尺部材４０は、下方に付勢される。これによって、フック４１に引っ掛けられた線材３が引張される。【選択図】図２
2015188036.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を処理する基板処理装置であって、
基板を熱的処理するステージと、
前記ステージの表面に配され、折り返すことによって、前記ステージの表面を連続して複数回横断する１本以上の線材と、
前記線材の折返し部分に接触して、前記線材の前記ステージの表面における横断位置を規定する位置決め部と、
を備える、基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置であって、
前記位置決め部は、
前記ステージの側部に配置されている長尺部と、
前記長尺部に取り付けられているとともに、前記線材を引っ掛ける複数の掛止部と、
を備える、基板処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の基板処理装置であって、
前記長尺部を付勢することによって、前記掛止部に引っ掛けられる前記線材を引張する付勢機構、
をさらに備える、基板処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載の基板処理装置であって、
前記付勢機構は、
前記長尺部および前記ステージにおける固定部の間を接続しており、前記長尺部を前記固定部に向けて付勢する弾性部材、
を備えている、基板処理装置。
【請求項５】
請求項３または４に記載の基板処理装置であって、
前記付勢機構に付勢される方向への前記長尺部の移動を検出する検出器、
をさらに備えている、基板処理装置。
【請求項６】
請求項２から５のいずれか１項に記載の基板処理装置であって、
前記長尺部は、
前記掛止部を取り付けるための構造であって、前記長尺部における前記掛止部の取り付け位置を可変とする取付構造を有する、基板処理装置。
【請求項７】
請求項６に記載の基板処理装置であって、
前記取付構造は、前記掛止部を長尺部に対して着脱可能に取り付けする構造である、基板処理装置。
【請求項８】
請求項２から７のいずれか１項に記載の基板処理装置であって、
前記長尺部は、
前記ステージに沿って列をなして配されている複数の長尺部材を有する、基板処理装置。
【請求項９】
請求項２から８のいずれか１項に記載の基板処理装置であって、
前記長尺部は、
前記線材の端部を巻き取って保持する巻取部、
を有する、基板処理装置。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか１項に記載の基板処理装置であって、
前記１本以上の線材は、
第一方向に沿って前記ステージの表面を横断する第一線状部と、
前記第一方向とは交差する方向に沿って、前記ステージの表面を横断する複数の第二線状部と、を含み、
前記第一線状部は、前記複数の第二線状部と交差する際に、各第二線状部の上位置および下位置を交互に通過する、基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、基板を熱的に処理する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、液晶表示装置（ＬＣＤ）の製造工程の一つに、ＬＣＤ向けのガラス基板に所定のパターンを形成するフォトフィソグラフィがある。このフォトフィソグラフィでは、一般的に、洗浄したガラス基板を乾燥させるデハイドベーク処理や、ガラス基板に塗布されたレジストを固めるプリベーク処理、現像後におけるポストベーク処理などの熱的処理が行われている。
【０００３】
このような熱的処理を行う処理ユニットとしては、ホットプレートまたはコールドプレートなどで構成されたステージ上に、ガラス基板を載置し、ステージを加熱または冷却することによって、基板を熱的に処理するものが知られている。また、ステージの表面には、複数のプロミキシティピンが分散して設けられ、ガラス基板がステージに直接接しないようにすることが一般的である。
【０００４】
また、ステージのプロミキシティピンを設ける代わりに、ステージの表面に複数の線材を配置し、この複数の線材の上に基板を載置することも提案されている（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−１７９３８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に記載の基板処理装置では、複数本の線材が、ホットプレートの長手方向に所定の間隔をあけて配置されている。そして各線材は、ホットプレートの側部に設けられた複数の線材固定治具を用いて、一本ずつ固定されている。このため、ホットプレートに各線材を取り付ける場合、線材固定治具に対して一本ずつ線材を取り付けていく必要があり、作業が煩雑であった。また、線材をステージから取り外す際にも、線材固定治具から線材を一本ずつ取り外さなければならないため、作業が煩雑であった。このため、ステージ表面のメンテナンスを容易に行うことができなかった。
【０００７】
そこで、本発明は、基板を熱的に処理するステージに対する線材の取り付けおよび取り外しを効率よく行う技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するため、第１の態様は、基板を処理する基板処理装置であって、基板を熱的処理するステージと、前記ステージの表面に配され、折り返すことによって、前記ステージの表面を連続して複数回横断する１本以上の線材と、前記線材の折返し部分に接触して、前記線材の前記ステージの表面における横断位置を規定する位置決め部とを備える。
【０００９】
また、第２の態様は、第１の態様に係る基板処理装置であって、前記位置決め部は、前記ステージの側部に配置されている長尺部と、前記長尺部に取り付けられているとともに、前記線材を引っ掛ける複数の掛止部とを備えている。
【００１０】
また、第３の態様は、第２の態様に係る基板処理装置であって、前記長尺部を付勢することによって、前記掛止部に引っ掛けられる前記線材を引張する付勢機構、をさらに備える。
【００１１】
また、第４の態様は、第３の態様に係る基板処理装置であって、前記付勢機構は、前記長尺部および前記ステージにおける固定部の間を接続しており、前記長尺部を前記固定部に向けて付勢する弾性部材、を備えている。
【００１２】
また、第５の態様は、第３または第４の態様に係る基板処理装置であって、前記付勢機構に付勢される方向への前記長尺部の移動を検出する検出器、をさらに備えている。
【００１３】
また、第６の態様は、第２から第５の態様のいずれか１態様に係る基板処理装置であって、前記長尺部は、前記掛止部を取り付けるための構造であって、前記長尺部における前記掛止部の取り付け位置を可変とする取付構造を有する。
【００１４】
また、第７の態様は、第６の態様に係る基板処理装置であって、前記取付構造は、前記掛止部を長尺部に対して着脱可能に取り付けする構造である。
【００１５】
また、第８の態様は、第２から第７の態様のいずれか１態様に係る基板処理装置であって、前記長尺部は、前記ステージに沿って列をなして配されている複数の長尺部材を有する。
【００１６】
また、第９の態様は、第２から第８の態様のいずれか１態様に係る基板処理装置であって、前記長尺部は、前記線材の端部を巻き取って保持する巻取部、を有する。
【００１７】
また、第１０の態様は、第１から第９の態様のいずれか１態様に係る基板処理装置であって、前記１本以上の線材は、第一方向に沿って前記ステージの表面を横断する第一線状部と、前記第一方向とは交差する方向に沿って、前記ステージの表面を横断する複数の第二線状部とを含み、前記第一線状部は、前記複数の第二線状部と交差する際に、各第二線状部の上位置および下位置を交互に通過する。
【発明の効果】
【００１８】
第１の態様に係る基板処理装置によると、線材を折り返すことによってステージの表面を横断させるため、ステージを横断させる位置毎に線材を一本ずつ固定する場合に比べて、線材の取り付け作業を簡略化できる。また、取り外しの際にも、一本ずつ固定されている場合に比べて、作業が容易である。したがって、線材の取り付けおよび取り外しを効率よくできるという効果を奏する。
【００１９】
また、第２の態様に係る基板処理装置によると、掛止部に線材を引っ掛けることによって、線材に折り返すことができる。
【００２０】
また、第３の態様に係る基板処理装置によると、付勢機構によって線材を引張できるため、線材をステージ表面に良好に配置することができる。
【００２１】
また、第４の態様に係る基板処理装置によると、弾性部材によって線材を引張できるため、線材をステージ表面に良好に配置することができる。
【００２２】
また、第５の態様に係る基板処理装置によると、線材の延びあるいは切断によって発生する長尺部材の移動を検出できるため、線材のメンテナンス時期を把握でき、プロセス不良を未然に抑制できるという効果を奏する。
【００２３】
また、第６の態様に係る基板処理装置によると、掛止部の取り付け位置が可変であるため、掛止部の取り付け位置を自由に変更できる。したがって、ステージ２における線材の横断位置を変更できるという効果を奏する。
【００２４】
また、第７の態様に係る基板処理装置によると、掛止部が着脱可能であるため、必要に応じて掛止部を取り付けまたは取り外しできる。したがって、掛止部の数量を必要な数に抑えることができるため、部品コストを抑制できるという効果を奏する。
【００２５】
また、第８の態様に係る基板処理装置によると、長尺部の一部である長尺部材毎に交換できる。このため、長尺部を単一の部材で構成する場合に比べて、長尺部のメンテナンスが容易となる。また、部分的な交換で済むため、交換に係る部品コストも抑えることができる。
【００２６】
また、第９の態様に係る基板処理装置によると、巻取部によって、余った線材の部分を巻き取って保持できるという効果を奏する。
【００２７】
また、第１０の態様に係る基板処理装置によると、第一線状部および第二線状部が交差する部分において、基板を点状に支持することができる。これによって、基板と線材との接触面積を低減することができる。したがって、基板を良好に熱的に処理できるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】第１実施形態に係る基板処理装置を備えた基板処理システムを示す概略平面図である。
【図２】第１実施形態に係る基板処理装置を示す概略平面図である。
【図３】＋Ｘ側から見た第１実施形態に係る基板処理装置を示す概略側面図である。
【図４】図２に示されるＩＶ−ＩＶ位置から見た基板処理装置を示す概略断面図である。
【図５】一対の板状部材がステージから取り外された基板処理装置の概略断面図である。
【図６】第１実施形態の変形例に係る基板処理装置を示す概略側面図である。
【図７】第２実施形態に係る基板処理装置を示す概略平面図である。
【図８】図７に示されるＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ位置から見た基板処理装置を示す概略正面図である。
【図９】第２実施形態に係る長尺部材を示す概略斜視図である。
【図１０】第２実施形態の変形例に係る長尺部材を示す部分概略図である。
【図１１】図１０に示されるＸＩ−ＸＩ位置から見た長尺部材を示す概略断面図である。
【図１２】線材の配置例１−配置例４を示す図である。
【図１３】線材を交差するように配置する配置例を示す部分概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。なお、この実施形態に記載されている構成要素はあくまでも例示であり、本発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。また、図面においては、理解容易のため、必要に応じて各部の寸法や数が誇張または簡略化して図示されている場合がある。
【００３０】
｛１．  第１実施形態｝
＜基板処理システム１００＞
図１は、第１実施形態に係る基板処理装置１を備えた基板処理システム１００を示す概略平面図である。基板処理システム１００は、液晶表示装置（ＬＣＤ）の画面パネルを製造するための角形ガラス基板９０（以下、単に基板９０と称する。）を処理する。
【００３１】
基板処理システム１００は、搬入部１０、洗浄部１１、デハイドベーク部１２、塗布部１３、減圧乾燥部１４およびプリベーク部としての基板処理装置１を備えている。図１に示されるように、搬入部１０、洗浄部１１、デハイドベーク部１２、塗布部１３、減圧乾燥部１４およびとしての基板処理装置１（プリベーク部）は、この順に、一方向（方向Ｄ１）に沿って直線状に隣接するように配置されている。
【００３２】
搬入部１０は、基板処理システム１００において処理される基板９０を受け入れる部分である。洗浄部１１は、搬入部１０に搬入された基板９０を洗浄して清浄化する。デハイドベーク部１２は、洗浄部１１にて洗浄液が付着した基板９０を乾燥する。
【００３３】
塗布部１３は、デハイドベーク部１２で乾燥された基板９０の表面に処理液（ここでは、レジスト液）を塗布する。減圧乾燥部１４は、塗布部１３で塗布された処理液を減圧乾燥させる。プリベーク部としての基板処理装置１は、基板９０を加熱することによって処理液を固化させ、基板９０に処理液の薄膜を形成する。
【００３４】
また、基板処理システム１００は、処理液の薄膜が形成された基板９０の表面に対して、所要の回路パターン状に露光する露光部１５を備えている。露光部１５は方向Ｄ１に直交する方向Ｄ２に延びている。露光部１５の一方側の部分は、プリベーク部としての基板処理装置１に隣接しており、露光部１５の他方側の部分は、現像部１６に隣接している。
【００３５】
基板処理システム１００は、さらに、現像部１６、リンス部１７、ポストベーク部１８および搬出部１９を備えている。現像部１６は、露光部１５において露光された基板９０を現像液に浸して、現像処理する。リンス部１７は、現像部１６にて現像処理した基板９０をリンス液ですすぐことによって、現像処理の進行を停止させる。
【００３６】
ポストベーク部１８は、基板９０を加熱することによって、基板９０に付着したリンス液を除去する。搬出部１９は、基板処理システム１００において処理が完了した基板９０を外部に搬出する部分である。現像部１６、リンス部１７、ポストベーク部１８および搬出部１９は、上記方向Ｄ１とは反対の方向Ｄ３に沿って直線状に隣接するように配置されている。基板処理システム１００においては、基板９０が露光部１５においてＵターンするように、処理の進行方向が方向Ｄ１から方向Ｄ３に変更される。
【００３７】
＜基板処理装置１＞
図２は、第１実施形態に係る基板処理装置１を示す概略平面図である。図３は、＋Ｘ側から見た第１実施形態に係る基板処理装置１を示す概略側面図である。図４は、図２に示されるＩＶ−ＩＶ位置から見た基板処理装置１を示す概略断面図である。なお、図２以降の各図には、水平面において互いに直交するＸ方向およびＹ方向と、鉛直方向に沿うＺ方向とが示されている。これらの方向は、各要素の位置関係を説明の便宜のために定義されたものであり、各要素の位置関係を限定する趣旨のものではない。
【００３８】
基板処理装置１は、ステージ２、線材３、位置決め部４を備えている。ステージ２は略直方体形状の部材である。ステージ２の表面（上面）は、水平面と平行な平滑な面とされている。ステージ２の表面には、１本の線材３が配されている。
【００３９】
基板処理装置１は、ステージ２を貫通する複数の昇降ピン２１を備えている。図４に示されるように、基板処理装置１は、複数の昇降ピン２１を同時に昇降させるピン駆動装置２２を備えている。ピン駆動装置２２は、複数の昇降ピン２１の下端が取り付けられる板状部材と、板状部材を上下に昇降させるピストン部とで構成されている。
【００４０】
ピン駆動装置２２によって、複数の昇降ピン２１は、ステージ２の表面よりも高い位置まで上昇するとともに、ステージ２の表面よりも低い位置まで下降する。複数の昇降ピン２１は、外部から搬送ロボットによって搬送されてきた基板９０を、上端部で受け取って支持する。そして、複数の昇降ピン２１が下降することによって、基板９０がステージ２の表面に配置された線材３の上に載置されることとなる。
【００４１】
ステージ２には、図４に示されるように、ヒータ２３が内蔵されている。ヒータ２３によってステージ２の表面が加熱されると、線材３に支持された基板９０は、ステージ２の表面からの輻射熱によって加熱処理される。
【００４２】
図２に示すように、単一の線材３は、折り返すことによって、ステージ２の表面を連続して複数回横断している。図２に示される例では、単一の線材３は、Ｘ方向に沿って、ステージ２を７回横断している。
【００４３】
線材３としては、金属線材やグラスファイバー等のガラス線材、耐熱性の樹脂線材、もしくは、これらのうちから選ばれる２以上の複合材料からなる線材を用いることできる。また、線材３としては、熱伝導率が小さいものが望ましい。なぜなら、熱伝導率を小さくすることによって、線材３を通じてステージ２から基板９０へ熱が伝導することを抑制できるからである。線材３の太さは、特に限定されないが、ステージ２の熱輻射が均一に起こるように、例えば、約０．１ｍｍ〜約１ｍｍの範囲の太さとされる。なお、線材３は、複数の素線を撚り合わせることによって、１本の線材として構成されていてもよい。
【００４４】
線材３は、ステージ２のＸ方向の両側部に設けられている一対の位置決め部４,４によって折り返している。位置決め部４は、ステージ２の側部に配されている長尺部材４０、および、長尺部材４０（長尺部）に取り付けられており、線材３を引っ掛ける複数のフック４１（掛止部）を備えている。
【００４５】
図２に示されるように、線材３は、２つのフック４１，４１に引っ掛けられることによって折り返している。例えば、ステージ２の−Ｘ側に設けられた隣り合う２つのフック４１，４１に着目すると、＋Ｘ側から−Ｘ側に向けて延びる線材３は、Ｙ方向に並ぶ２つのフック４１，４１のうち−Ｙ側に配されたフック４１に引っ掛けられることで、Ｘ方向からＹ方向へ曲がり、Ｙ方向に沿って＋Ｙ側に配されたフック４１まで延びる。さらに、線材３は、＋Ｙ側に配されたフック４１に引っ掛けられることで、Ｙ方向から再びＸ方向に曲がり、＋Ｘ側に配されたフック４１まで延びる。以下の説明では、この２つのフック４１，４１に接触して曲がる部分、および、これらの曲がる部分に挟まれる部分を、線材３の折返し部分３０と呼ぶ。
【００４６】
長尺部材４０は、ステージ２の側部に沿うＹ方向に延びている。また、各フック４１は、Ｙ方向に沿って既定間隔で長尺部材４０の上面（＋Ｚ側の表面）に形成された取付穴４２に着脱可能に取り付けられる。フック４１の取り付け態様は種々考えられるが、例えば、取付穴４２内に雌ねじを設け、フック４１の後端部に雄ねじを設け、これらが螺合するようにしてもよい。また、フック４１を取付穴４２に挿入した際に、フック４１の一部分が所定位置で引っ掛かることによって、フック４１が取付穴４２から抜け難くなるようにしてもよい。また、取付穴４２の内部またはフック４１に磁石を取り付けて、磁力によってフック４１が長尺部材４０に結合するようにしてもよい。複数の取付穴４２は、掛止部であるフック４１を長尺部材４０に取り付けるための取付構造の一例である。
【００４７】
図２に示されるように、長尺部材４０には、多数の取付穴４２が設けられている。このため、複数のフック４１の取り付け位置を変更することによって、ステージ２における、線材３の横断位置をＹ方向関して移動させることができる。すなわち、複数のフック４１の取り付けピッチを変更することによって、線材３のＹ方向のピッチを変更できる。
【００４８】
また、必要に応じてフック４１を取り付けたり取り外したりできる。このため、フック４１の数量を線材３の位置決めに必要な数量に抑えることができる。したがって、部品コストを抑えることができる。
【００４９】
線材３の一端部分は、端部保持治具４３に保持されている。端部保持治具４３は、−Ｘ側に配された長尺部材４０の−Ｙ側端部近傍に設けられている。線材３を固定する方法としては、例えば、端部保持治具４３に線材３を巻き付けて、その端部を固定してもよい。また、端部保持治具４３に孔を設け、この孔に線材３の端部を挿通し、当該孔に蓋をすることによって、線材３の端部を固定してもよい。なお、端部保持治具４３は、ステージ２などに取り付けられていてもよい。
【００５０】
線材３の他端部分は、巻取治具４４（巻取部）に保持されている。巻取治具４４は、＋Ｘに配された長尺部材４０の＋Ｙ側端部近傍に設けられている。巻取治具４４は、細隙をあけて対向配置された２つの板部材と、これらの板部材の中央部を連結する連結部材とで構成されている。線材３は、巻取治具４４における２つの板部材の隙間に通され、連結部材に幾重にも巻き付けられることによって、巻取治具４４に固定される。
【００５１】
巻取治具４４によると、線材３の余った端部を巻き取って保持することができる。なお、線材３の余った端部のうち、一部分のみを保持して、それよりも先端側の部分を下に垂らすようにしてもよい。しかしながら、巻取治具４４を用いることによって、このような線材３の垂れ下がりを排除できるため、ステージ２のまわりを整えることができる。
【００５２】
ステージ２の＋Ｘ側および−Ｘ側の両側面には、板状部材５１，５１がそれぞれ取り付けられている。板状部材５１は、ステージ２の側面および長尺部材４０の間に介在する部材である。板状部材５１のＹ方向の長さは、長尺部材４０のＹ方向の長さよりも長くなっている（図３参照）。板状部材５１は、例えばボルトなどによって、ステージ２の側面に固定される。
【００５３】
板状部材５１には、Ｚ方向に延びる一対のレール５２，５２、および、Ｙ方向に延びる固定部５３が設けられている。
【００５４】
一対のレール５２，５２は、板状部材５１における−Ｙ側および＋Ｙ側の端部付近に設けられている。一対のレール５２，５２は、長尺部材４０の一部と接続されることによって左右方向（Ｙ方向）の移動を規制する。長尺部材４０は、一対のレール５２，５２によって、上下方向（Ｚ方向）にのみ直線的に移動できるように構成されている。なお、一対のレール５２，５２は、省略しても構わない。
【００５５】
固定部５３は、板状部材５１を介してステージ２に固定された部分である。固定部５３は、ステージ２から側方（＋Ｘ方向または−Ｘ方向）に突出する部分である。固定部５３の上面（＋Ｚ側の表面）には、複数の弾性部材５４（弦巻バネ）の一端が取り付けられている。複数の弾性部材５４の他端は、固定部５３の上方に配されている長尺部材４０の下面（−Ｚ側の表面）に取り付けられている。複数の弾性部材５４は、長尺部材４０を固定部５３に向けて付勢する。これによって、長尺部材４０に取り付けられた複数のフック４１が、線材３を下方に引張する。ここで、ステージ２の＋Ｘ側および−Ｘ側のそれぞれの長尺部材４０が、複数の弾性部材５４によって下方へ付勢される。このため、ステージ２の表面を横断する線材３は、両側から引っ張られ、弛みなく配置されることとなる。したがって、本実施形態では、固定部５３に接続されている複数の弾性部材５４によって、付勢機構が構成されている。
【００５６】
なお、板状部材５１を省略して、レール５２および固定部５３を、ステージ２自体に設けてもよい。しかしながら、この場合は、ステージ２の加工が必要となり、コストが高くなる虞がある。これに対して、本実施形態では、これらの構造物を板状部材５１に設けることによって、ステージ２の加工を省略できるため、加工コストを抑えることができる。
【００５７】
図５は、一対の板状部材５１，５１がステージ２から取り外された基板処理装置１の概略断面図である。本実施形態では、一対の板状部材５１，５１をステージ２から取り外すことによって、線材３および一対の位置決め部４，４をステージ２から取り外すことができる。例えば、一対の板状部材５１，５１を上方へ持ち上げて支持することによって、ステージ２の表面およびその周辺部を容易にメンテナンスできる。
【００５８】
固定部５３の上面には、長尺部材４０の上下方向の移動を検出する複数の検出器５５が設けられている（図３参照）。検出器５５は、例えばリミットスイッチセンサなどで構成される。リミットスイッチセンサは、外部から受けた力をマイクロスイッチに伝達することによって、電気回路を開閉する構成を有している。このリミットスイッチセンサによって、長尺部材４０の下降を検出することによって、線材３の延びまたは断線などを検出することができる。
【００５９】
本実施形態に係る基板処理装置によると、線材３によって基板９０を支持する。このため、従来のように多数のプロキシミティピンで基板を支持するために、ステージ２に多数のプロキシミティピン固定用の穴を形成したり、あるいは、プロキシミティピンを設けたりせずに済む。これによって、ステージ２の加工コストを大幅に低減できる。また、プロキシミティピンを設けないことによって、ステージ２の表面を平坦なままとできるため、ステージ２の表面の清掃を効率よくできるとともに、高度に清浄化できる。すなわち、線材３を用いることで、基板処理装置１のメンテナンス作業を容易化できる。
【００６０】
また、本実施形態では、単一の線材３を折り返すことによって、ステージ２の表面を複数回横断させる。このため、特許文献１に記載の基板処理装置のように、複数の線材を、ステージ（ホットプレート）上における横断する位置毎に一本ずつ固定する場合に比べて、線材３の取り付け作業を簡略化できる。したがって、ステージ２に対して線材３を効率よく取り付けできる。また、取り外しの際においても、複数の線材を一本ずつ固定する場合に比べて、効率よく取り外すことができる。
【００６１】
本実施形態では、長尺部材４０を弾性部材５４によって下方に付勢することによって、線材３を引張している。このため、ステージ２がヒータ２３によって熱膨張して変形したとしても、線材３を弛ませることなくステージ２上の既定位置に配置できる。なお、弾性部材５４の代わりに、長尺部材４０におもりを取り付けることによって、長尺部材４０を下方に付勢するようにしてもよい。また、線材３の折返し部分３０におもりを取り付けることによって、線材３を引張してもよい。
【００６２】
図６は、第１実施形態の変形例に係る基板処理装置１を示す概略側面図である。図２〜４に示される基板処理装置１においては、１本の長尺部材４０がステージ２の側方に配されている。これに対して、図６に示される基板処理装置１では、長尺部材４０が２本の長尺部材４０１，４０１に置き換えられている。
【００６３】
２本の長尺部材４０１，４０１は、Ｙ軸方向に沿って列をなすように配されている。各長尺部材４０１には、フック４１を取り付けるための複数の取付穴４２が設けられている。また、各長尺部材４０１は、一対のレール５２によって、その移動方向が上下方向のみに制限されている。
【００６４】
この場合、長尺部材４０１毎に、交換することが可能となる。このため、単一の長尺部材４０で構成する場合よりも、メンテナンスが容易となる。また、部分的な交換で済むため、交換に係る部品コストも抑えることができる。なお、長尺部材４０を、３以上の長尺部材に分割してもよい。さらに、板状部材５１および板状部材５１に設けられた固定部５３を、長尺部材４０１と同様に分割してもよい。
【００６５】
｛２．  第２実施形態｝
次に、第２実施形態について説明する。なお、以降の説明において、既に説明した要素と同様の機能を有する要素については、同じ符号またはアルファベットを追加した符号を付して、詳細な説明を省略する場合がある。
【００６６】
図７は、第２実施形態に係る基板処理装置１Ａを示す概略平面図である。また、図８は、図７に示されるＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ位置から見た基板処理装置１Ａを示す概略正面図である。基板処理装置１Ａにおいては、２本の線材３，３のそれぞれが、折り返すことによってステージ２をＸ方向に複数回横断するように配置されている。また、２本の線材３，３は、ステージ２Ａの＋Ｘ側および−Ｘ側に配された位置決め部４Ａによって位置決めされている。
【００６７】
位置決め部４Ａは、長尺部材４０Ａと、複数の滑車４１Ａを備えている。長尺部材４０Ａは、第１実施形態に係る長尺部材４０と同様に、Ｙ方向に延びる部材であり、板状部材５１に設けられた一対のレール５２，５２によって、その移動方向が上下方向のみに制限されている。また、長尺部材４０Ａは、複数の弾性部材５４によって、板状部材５１に設けられた固定部５３と接続されている。これによって、長尺部材４０Ａは、下方に付勢されている。
【００６８】
滑車４１Ａは、長尺部材４０Ａに対して着脱自在に取り付けられている。滑車４１Ａは、Ｘ方向に延びる軸まわりに回転自在とされた円板部を備えている。円板部は、ＹＺ平面に平行となるように配されており、円板の中央部に形成された周溝内に、線材３が引っ掛けられる。図７に示されるように、線材３は、２つの滑車４１Ａ，４１Ａに引っ掛けられることによって折り返している。
【００６９】
例えば、ステージ２Ａの−Ｘ側に設けられた隣り合う２つの滑車４１Ａ，４１Ａに着目する。すると、＋Ｘ側から−Ｘ側に向けて延びる線材３は、−Ｙ側の滑車４１Ａに引っ掛けられることで、Ｘ方向からＹ方向に曲がり、＋Ｙ側の滑車４１Ａまで延びる。そして、線材３は、＋Ｙ側に配された滑車４１Ａに引っ掛けられることで、Ｙ方向から再びＸ方向に曲がり、＋Ｘ側に配された滑車４１Ａまで延びる。このように、本実施形態では、２つの滑車４１Ａ，４１Ａによって、線材３の折り返しがなされる。
【００７０】
図８に示されるように、線材３のうち、ステージ２Ａの表面からはみ出た部分（以下、「はみ出し部分」と称する。）は、水平面に対して斜め下方向に延びている。また、滑車４１Ａの円板部は、ＹＺ平面に平行に配されているため、線材３が滑車４１ＡによってＺ方向に曲げられている。この曲がりが急である場合、滑車４１Ａから外れる虞がある。これを避けるために、滑車４１Ａの円板部を、線材３のはみ出し部分の延びる方向に合うように、ＹＺ平面に対して斜めに配してもよい。
【００７１】
図９は、第２実施形態に係る長尺部材４０Ａを示す概略斜視図である。長尺部材４０Ａの側面には、滑車４１Ａの円板部から延びる棒状の接続部４１１を差し込むことによって、滑車４１Ａを長尺部材４０Ａに取り付ける取付穴４２Ａが設けられている。滑車４１Ａの接続部４１１の取り付け態様は、フック４１の取り付け態様と同一としてもよい。
【００７２】
長尺部材４０Ａにおいても、取付穴４２Ａが多数設けられている。このため、任意の取付穴４２Ａに滑車４１Ａを取り付けることができる。このため、滑車４１Ａの設置位置を変更することによって、線材３のステージ２Ａにおける横断位置を変更することができる。
【００７３】
ステージ２Ａの表面側両端部は、長方形の角部が丸められた角Ｒ部２Ｒが形成されている。角Ｒ部２Ｒが形成されることによって、線材３の折れを抑制することができる。
【００７４】
本実施形態では、例えばステージ２の＋Ｘ側に配された滑車４１Ａは、ステージ２Ａの側面よりも＋Ｘ側に突き出ており、ステージ２の−Ｘ側２配された滑車２１Ａは、ステージ２Ａの側面から−Ｘ側に突き出ている。このため、線材３のはみ出し部分は、ステージ２Ａの＋Ｘ側の部分では＋Ｘ方向および−Ｚ方向に、ステージ２Ａの−Ｘ側の部分では−Ｘ方向および−Ｚ方向に延びている。この線材３のはみ出し部分を、例えば−Ｚ方向だけにすることも考えられる。具体的には、ステージ２Ａの＋Ｘ側および−Ｘ側の側面を、内側に凹ませることによって、板状部材５１をステージ２Ａの内側に移動させる。これによって、ステージ２Ａの＋Ｘ側および−Ｘ側に配された滑車４１Ａを、ステージ２Ａの内側（−Ｘ側および＋Ｘ側）に移動させることができる。したがって、線材３のはみ出し部分が下方（−Ｚ方向）のみに延びるように構成できる。
【００７５】
図１０は、第２実施形態の変形例に係る長尺部材４０Ｂを示す部分概略図である。また、図１１は、図１０に示されるＸＩ−ＸＩ位置から見た長尺部材４０Ｂを示す概略断面図である。長尺部材４０Ｂは、中空の四角柱における各側面の中央部分を、長手方向（Ｙ方向）に沿って角柱状の溝４０２をなすように凹ませた形状を有している。長尺部材４０Ｂとしては、例えばアルミ製の引き抜き材などが採用される。
【００７６】
長尺部材４０Ｂに対して、例えば滑車４１Ａを取り付ける場合、取付治具４５が使用される。取付治具４５は、溝４０２に挿入され、溝４０２に沿ってＹ方向に移動可能な移動治具４６、移動治具４６を固定するための一対の固定治具４７，４７で構成されている。
【００７７】
移動治具４６の中央部には、滑車４１Ａを取り付けるための取付穴４２Ａが設けられている。固定治具４７は、長尺部材４０Ｂの上端と下端をはさみ込むことによって、長尺部材４０Ｂに自身を固定させる。２つの固定治具４７，４７のそれぞれを、移動治具４６における−Ｙ側端部および＋Ｙ側端部に重なるようにして長尺部材４０Ｂに取り付けることによって、移動治具４６の位置を固定することができる。固定治具４７は取り外し容易とする観点から、例えばゴムなどの材料で形成することが望ましい。
【００７８】
このような長尺部材４０Ｂおよび取付治具４５を用いた場合、移動治具４６の取り付け位置を、溝４０２内で自由に設定できる。このため、滑車４１Ａの位置を任意に設定できるため、線材３の横断位置を自由に設定できる。
【００７９】
図１２は、線材３の配置例１−配置例４を示す図である。図１２に示す配置例１−配置例４は、いずれも＋Ｚ側から見たステージ２の平面図を示している。配置例１は、線材３をＸ方向に沿って横断させるものである。これは、図２および図７に示した実施形態と同様の配置態様である。
【００８０】
配置例２は、線材３をＹ方向に沿って横断させるものである。この場合、ステージ２の＋Ｙ側および−Ｙ側のそれぞれに、線材３を折り返させる位置決め部４（または、位置決め部４Ａ）を配置すればよい。
【００８１】
配置例３は、線材３を、Ｘ方向に横断させるだけでなく、Ｙ方向にも横断させることによって、線材３を交差させたものである。この場合、ステージ２の＋Ｘおよび−Ｘ、ならびに、＋Ｙおよび−Ｙに、位置決め部４（または位置決め部４Ａ）を配置して、線材を折り返せばよい。また、１本の線材３を折り返して配置してもよいし、複数の線材３を組み合わせて配置してもよい。図示のように、１本の線材３を、一筆書きを描くように折り返して配置すれば、ステージ２に対する線材３の取り付けおよび取り外しを、より効率よく行うことができる。
【００８２】
配置例４は、線材３を、Ｘ方向およびＹ方向に対して斜めに横断させて、線材３を交差させたものである。この場合においても、１本の線材３を、一筆書きを描くように折り返して配置すれば、ステージ２に対する線材３の取り付けおよび取り外しを効率よく行うことができる。
【００８３】
図１３は、線材３を交差するように配置する配置例を示す部分概略断面図である。図１３に示される第一線状部３１および第二線状部３２は、同一の線材３または異なる線材３の一部である。また、第一線状部３１は、Ｙ方向に沿ってステージ２の表面を横断している。また、第二線状部３２は、Ｙ方向に交差する（ここでは直交する）Ｘ方向に延びている。
【００８４】
図示のように、第一線状部３１は、複数の第二線状部３２と交差する際、各第二線状部３２の上位置および下位置を交互に通過している。このように線材３を編み込むように交差させることによって、各交差する部分（交差部Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３）において、基板９０を点状に支持できる。これによって、基板９０と線材３との接触面積を低減することができる。したがって、基板９０を均一に熱処理できる。
【００８５】
｛３．  変形例｝
以上、実施形態について説明してきたが、本発明は上記のようなものに限定されるものではなく、様々な変形が可能である。
【００８６】
例えば、第１実施形態では、掛止部であるフック４１が、線材３を、ステージ２の表面よりも下側の高さで、かつ、下方に引いている。このため、線材３におけるステージ２からのはみ出し部分が、下側に引っ張られている。例えばフック４１が、線材３を、ステージ２の表面の高さで、かつ、ステージ２の外側（側方）に向けて引くようにすれば、線材３が下方に引っ張られることを抑制できる。これによって、線材３がステージ２の角部で折れることを抑制できる。
【００８７】
また、第１実施形態では、ステージ２の両側側面に配設された位置決め部４はいずれも弾性部材５４により掛止されている。しかしながら、一方が弾性部材５４によって掛止され、他方が弾性部材５４を用いる態様とは異なる構造によって掛止されていてもよい。このような構造の構成例としては、例えば、長尺部材４０が板状部材５１に直接固定されているような構成が考えられる。
【００８８】
また、上記実施形態では、基板処理装置１が、基板処理システム１００におけるプリベーク部として構成されている場合を説明した。しかしながら、基板処理システム１００におけるデハイドベーク部１２またはポストベーク部１８として構成された基板処理装置においても、本発明は有効である。
【００８９】
また、上記実施形態では、基板を加熱処理する基板処理装置について説明した。しかしながら、基板を冷却処理する基板処理装置においても、本発明は有効である。ステージを冷却することによって、ステージ表面の線材上に載置された基板を冷却できる。ステージを冷却する構成としては、例えばペルティエ素子を利用したもの、ステージ内に冷却水を流す流路を設けたものなど、種々の構成が考えられる。また、基板を放置して自然冷却するような場合にも、本発明は有効である。
【００９０】
上記実施形態では、基板処理装置の処理対象が液晶表示装置用のガラス基板である場合を説明した。しかしながら、処理対象となる基板は、半導体ウェハ、プラズマディスプレイ用ガラス基板、磁気・光ディスク用のガラスまたはセラミック基板、有機ＥＬ用ガラス基板、太陽電池用ガラス基板またはシリコン基板、その他フレキシブル基板およびプリント基板などの電子機器向けの各種被処理基板であってもよい。
【００９１】
この発明は詳細に説明されたが、上記の説明は、すべての局面において、例示であって、この発明がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この発明の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。また、上記各実施形態及び各変形例で説明した各構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わせたり、省略したりすることができる。
【符号の説明】
【００９２】
１００  基板処理システム
１，１Ａ  基板処理装置
２，２Ａ  ステージ
２３  ヒータ
３  線材
３０  折返し部分
３１  第一線状部
３２  第二線状部
４，４Ａ  位置決め部
４０，４０Ａ，４０Ｂ，４０１  長尺部材（長尺部）
４０２  溝
４１  フック（掛止部）
４１Ａ  滑車（掛止部）
４１１  接続部
４２，４２Ａ  取付穴（取付構造）
４３  端部保持治具
４４  巻取治具
４５  取付治具
４６  移動治具
４７  固定治具
５１  板状部材
５２  レール
５３  固定部
５４  弾性部材（付勢機構）
５５  検出器
９０  基板
Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３  交差部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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