(57)【要約】【課題】本発明は、簡便な方法で骨見えが抑制された透明導電性フィルムを提供することを課題とする。【解決手段】本発明は、支持体と、支持体の一方の面側に形成される透明導電層と、透明導電層を介して支持体とは反対側に形成されるオーバーコート層とを有する積層体であって、オーバーコート層は、アルコキシシランと、屈折率が２．０以上の無機微粒子を混合した水性組成物から形成されることを特徴とする積層体に関する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と、前記支持体の一方の面側に形成される透明導電層と、前記透明導電層を介して前記支持体とは反対側に形成されるオーバーコート層とを有する積層体であって、
前記オーバーコート層は、アルコキシシランの縮合物と、屈折率が２．０以上の無機微粒子を含むことを特徴とする積層体。
【請求項２】
前記オーバーコート層の屈折率が１．８以上であることを特徴とする請求項１に記載の積層体。
【請求項３】
前記オーバーコート層のヘイズ値が０．５％以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の積層体。
【請求項４】
前記透明導電層は、パターン状に形成された透明導電層であり、
前記オーバーコート層は、前記パターン状に形成された透明導電層の面全体を覆うように形成されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項５】
前記アルコキシシランが４官能アルコキシシラン及び３官能アルコキシシランを含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項６】
前記無機微粒子は、ジルコニア又はチタニアであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項７】
前記無機微粒子の含有率は、前記水性組成物中の全固形分に対して、３０〜７５体積％であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項８】
前記オーバーコート層は、さらに硬化促進剤を含むことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項９】
前記硬化促進剤は、アルミニウムキレート錯体、チタンキレート錯体及びジルコニウムキレート錯体のうち少なくとも１種を含むことを特徴とする請求項８に記載の積層体。
【請求項１０】
前記硬化促進剤は、アルミニウムキレート錯体であることを特徴とする請求項８又は９に記載の積層体。
【請求項１１】
前記支持体と前記透明導電層の間に、さらに、ハードコート層及び屈折率調整層の少なくとも１層を有することを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項１２】
前記積層体は、さらに、易接着層、ハードコート層及び屈折率調整層を有し、
前記支持体の上に、前記易接着層、前記ハードコート層、前記屈折率調整層、前記透明導電層、及び前記オーバーコート層をこの順に有することを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項１３】
前記支持体がポリエステルフィルムであることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の積層体を有する透明導電フィルム。
【請求項１５】
請求項１４に記載の透明導電フィルムを有するタッチパネル。
【請求項１６】
支持体上に形成された透明導電層の一方の面上であって、支持体とは反対側にオーバーコート層を形成する工程を含み、
前記オーバーコート層を形成する工程は、アルコキシシランと、屈折率が２．０以上の無機微粒子を混合した水性組成物を前記透明導電層上に塗布し、乾燥させる工程を含むことを特徴とする積層体の製造方法。
【請求項１７】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の積層体に含まれるオーバーコート層を形成するために用いられる水性組成物であって、アルコキシシランと、屈折率が２．０以上の無機微粒子を混合した水性組成物。
【請求項１８】
さらに、硬化促進剤を有することを特徴とする請求項１７に記載の水性組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、オーバーコート層を含む積層体及びオーバーコート層形成用水性組成物に関する。具体的には、本発明は、透明導電層を設けた際に生じる骨見えを抑制し得るオーバーコート層を含む積層体及びオーバーコート層形成用水性組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、透明樹脂フィルム等の支持体上に透明導電層が形成された透明導電性フィルムは、様々な電子機器に用いられている。特に最近では、タッチパネルを搭載した電子機器の普及が目覚ましく、静電容量方式のタッチパネルに使用する透明導電性フィルムの開発が進められている。
【０００３】
透明導電層には、インジウム系酸化物であるＩＴＯ電極膜が主に用いられている。ＩＴＯ電極膜では、ＩＴＯの電極細線がパターン状に設けられることが一般的である。
ここで、ＩＴＯの屈折率は約２．００程度であり、支持基板として主に用いられるポリエステルフィルムの屈折率１．６程度と比べると大きい。このため、ＩＴＯの電極細線が有るところと無いところとでは、外光による反射強度が異なるため、ＩＴＯのパターンが見えてしまい、表示品位を著しく劣化させることになる。この現象をＩＴＯ骨見えという。
【０００４】
従来、「骨見え」を改良するために、支持体と透明導電層の間に設けられる層の屈折率や膜厚を制御することが行われていた。例えば、特許文献１には、支持体の透明導電層の間に屈折率と膜厚を規定した下塗り層とハードコート層が設けられた透明導電性フィルムが開示されている。
なお、特許文献２には、支持体と透明導電層の間ではなく、透明導電層の上にオーバーコート層を設けた透明導電性フィルムが開示されている。しかし、このようなオーバーコート層は、骨見えを抑制するためではなく導電性を向上させるために設けられているものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第５１１０２２６号公報
【特許文献２】特開平９−２６３７１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述したように、従来技術では、ＩＴＯの骨見えを抑制するためには、支持体と透明導電層の間に設けられる複数の層の屈折率と膜厚を制御する方法を採用することが行われていた。しかし、このような方法では、支持体の透明導電層の間に設けられる複数の層の屈折率や膜厚を厳密に制御する必要があり、その生産効率が上がらないという問題があった。また、様々な膜厚の透明導電層に対応できないという問題もあった。
【０００７】
そこで本発明者らは、このような従来技術の課題を解決するために、簡便な方法で骨見えが抑制された透明導電性フィルムを提供することを目的として検討を進めた。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の課題を解決するために鋭意検討を行った結果、本発明者らは、支持体の一方の面側に形成される透明導電層の上に、屈折率の高い無機微粒子を混合したオーバーコート層を形成することにより、パターン状に形成された導電層の骨見えを抑制し得ることを見出した。
具体的に、本発明は、以下の構成を有する。
【０００９】
［１］支持体と、支持体の一方の面側に形成される透明導電層と、透明導電層を介して支持体とは反対側に形成されるオーバーコート層とを有する積層体であって、オーバーコート層は、アルコキシシランの縮合物と、屈折率が２．０以上の無機微粒子を含むことを特徴とする積層体。
［２］オーバーコート層の屈折率が１．８以上であることを特徴とする［１］に記載の積層体。
［３］オーバーコート層のヘイズ値が０．５％以下であることを特徴とする［１］又は［２］に記載の積層体。
［４］透明導電層は、パターン状に形成された透明導電層であり、オーバーコート層は、パターン状に形成された透明導電層の面全体を覆うように形成されることを特徴とする［１］〜［３］のいずれかに記載の積層体。
［５］アルコキシシランが４官能アルコキシシラン及び３官能アルコキシシランを含むことを特徴とする［１］〜［４］のいずれかに記載の積層体。
［６］無機微粒子は、ジルコニア又はチタニアであることを特徴とする［１］〜［５］のいずれかに記載の積層体。
［７］無機微粒子の含有率は、水性組成物中の全固形分に対して、３０〜７５体積％であることを特徴とする［１］〜［６］のいずれかに記載の積層体。
［８］オーバーコート層は、さらに硬化促進剤を含むことを特徴とする［１］〜［７］のいずれかに記載の積層体。
［９］硬化促進剤は、アルミニウムキレート錯体、チタンキレート錯体及びジルコニウムキレート錯体のうち少なくとも１種を含むことを特徴とする［８］に記載の積層体。
［１０］硬化促進剤は、アルミニウムキレート錯体であることを特徴とする［８］又は［９］に記載の積層体。
［１１］支持体と透明導電層の間に、さらに、ハードコート層及び屈折率調整層の少なくとも１層を有することを特徴とする［１］〜［１０］のいずれかに記載の積層体。
［１２］前記積層体は、さらに、易接着層、ハードコート層及び屈折率調整層を有し、支持体の上に、易接着層、ハードコート層、屈折率調整層、透明導電層、及び前記オーバーコート層をこの順に有することを特徴とする［１］〜［１１］のいずれかに記載の積層体。
［１３］支持体がポリエステルフィルムであることを特徴とする［１］〜［１２］のいずれかに記載の積層体。
［１４］［１］〜［１３］のいずれかに記載の積層体を有する透明導電フィルム。
［１５］［１４］に記載の透明導電フィルムを有するタッチパネル。
［１６］支持体上に形成された透明導電層の一方の面上であって、支持体とは反対側にオーバーコート層を形成する工程を含み、オーバーコート層を形成する工程は、アルコキシシランと、屈折率が２．０以上の無機微粒子を混合した水性組成物を前記透明導電層上に塗布し、乾燥させる工程を含むことを特徴とする積層体の製造方法。
［１７］［１］〜［１３］のいずれかに記載の積層体に含まれるオーバーコート層を形成するために用いられる水性組成物であって、アルコキシシランと、屈折率が２．０以上の無機微粒子を混合した水性組成物。
［１８］さらに、硬化促進剤を有することを特徴とする［１７］［に記載の水性組成物。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、簡便な方法で骨見えが抑制された透明導電性フィルム（積層体）を得ることができる。このように、本発明の積層体では、パターン状に形成された導電層の骨見えが効果的に抑制されているため、タッチパネルを搭載した電子機器等の表示品位を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、本発明の積層体の構成例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下において、本発明について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、代表的な実施形態や具体例に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は「〜」前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
【００１３】
（積層体）
本発明は、支持体と、支持体の一方の面側に形成される透明導電層と、透明導電層を介して支持体とは反対側に形成されるオーバーコート層とを有する積層体に関する。ここで、オーバーコート層は、アルコキシシランの縮合物と、屈折率が２．０以上の無機微粒子を含む。なお、オーバーコート層は、アルコキシシランと、屈折率が２．０以上の無機微粒子を混合した水性組成物から形成されるものである。
上記のような構成を有する積層体は、透明導電フィルムとして用いられる。透明導電フィルムとして用いる場合は、上記の積層体を構成する層構成に加えて他の機能性層を有していてもよい。
【００１４】
本発明では、透明導電層の上にアルコキシシランの縮合物と、屈折率が２．０以上の無機微粒子を含有するオーバーコート層を設けることにより、透明導電層がパターン状に形成された場合であっても、その骨見えを抑制することができる。なお、ここで、透明導電層がパターン状に設けられるとは、透明導電層が間欠部を有するよう形成されることを意味する。すなわち、透明導電層を構成する電極細線がメッシュ状に形成される形成されることを意味する。
【００１５】
また、本発明は、上記のようなオーバーコート層を形成する水性組成物にも関する。オーバーコート層を形成するために用いられる水性組成物は、アルコキシシランと、屈折率が２．０以上の無機微粒子を含むものであり、オーバーコート層が後述するような好ましい態様となるように適宜調整されることが好ましい。
【００１６】
（オーバーコート層）
オーバーコート層は、上述した水性組成物を透明導電層上に塗布して乾燥することにより、形成される。オーバーコート層の厚みは、水性組成物の塗布量を調整することにより制御することができる。得られるオーバーコート層の硬度の観点からは、厚みは、０．３〜１２μｍの範囲で一定あることがより好ましく、０．５〜１０μｍの範囲で一定あることがより好ましい。オーバーコート層の厚みを上記範囲内とすることにより、十分な硬度を有するオーバーコート層を形成することができ、かつ、カール等の変形が生じることを抑制することができる。
【００１７】
本発明のオーバーコート層は、前述の屈折率２．０以上の無機微粒子の含有率を調整することにより、所望の屈折率を得ることができる。
本発明では、オーバーコート層の屈折率は、１．８以上であることが好ましく、１．８５以上であることがより好ましく、１．９以上であることがさらに好ましく、１．９５以上であることがよりさらに好ましい。このように、透明導電層の上に高屈折率のオーバーコート層を設けることにより、より効果的に、透明導電層の骨見えを抑制することができる。
【００１８】
また、オーバーコート層のヘイズ値は、０．５％以下であることが好ましく、０．４％以下であることがより好ましく、０．３％以下であることがさらに好ましい。このように、本発明で用いるオーバーコート層は、透明性が高いことが好ましい。これにより、本発明の積層体をタッチパネルに用いた場合であっても、その表示性能を低下させることがなく、鮮明な画像等を表示することができる。
【００１９】
透明導電層は、一般的に、パターン状に形成される。この場合、オーバーコート層は、電極線が設けられた部分（パターン部）と電極線が設けられていない部分（非パターン部）の両部分を覆うように形成される。すなわち、オーバーコート層はパターン状に形成された透明導電層の面全体を覆うように形成されることとなる。このようにオーバーコート層を設けることにより、パターン状に形成された透明導電層の骨見えを抑制することができると同時に、透明導電層の耐久性を向上させることもできる。
【００２０】
（アルコキシシラン）
本発明に用いるオーバーコート層には、アルコキシシランが、水性組成物全質量に対して、４０〜７０質量％含まれることが好ましい。アルコキシシランの含有率は、４０質量％以上であることが好ましく、４５質量％以上であることがより好ましく、５０質量％以上であることがさらに好ましい。また、アルコキシシランの含有率は、７０質量％以下であることが好ましく、６５質量％以下であることがより好ましい。アルコキシシランの含有率を上記範囲内とすることにより、水性組成物の経時安定性を高めることができ、かつ、オーバーコート層を形成した際の硬度を高めることができる。さらに、オーバーコート層の膜厚を自在に調整することが可能となり、所望の厚みを有するオーバーコート層を容易に形成することができる。
【００２１】
本発明で用いるアルコキシシランは、４官能アルコキシシラン（テトラアルコキシシラン）及び３官能アルコキシシラン（トリアルコキシシラン）を含むことが好ましい。テトラアルコキシシランとトリアルコキシシランを混合して含有することにより、オーバーコート層を形成した際に、適度な柔軟性を有しつつも、十分な硬度を得ることができる。
【００２２】
テトラアルコキシシランは、４官能のアルコキシシランであり、各アルコキシ基の炭素数が１〜４のものがより好ましい。中でも、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランが特に好ましく用いられる。炭素数を４以下とすることにより、酸性水と混ぜたときのテトラアルコキシシランの加水分解速度が遅くなりすぎることがなく、均一な水溶液にするまでの溶解に要する時間がより短くなる。これにより、オーバーコート層を製造する際の製造効率を高めることができる。市販品としては、ＫＢＥ−０４（信越化学工業（株）製）などが挙げられる。
【００２３】
トリアルコキシシランは、下記一般式（１）で表される３官能のアルコキシシランである。
ＲＳｉ（ＯＲ1）3         …（１）
ここで、Ｒはアミノ基を含まない炭素数が１〜１５の有機基、Ｒ1はメチル、エチル基等炭素数４以下のアルキル基である。
【００２４】
一般式（１）で表される３官能のアルコキシシランは、アミノ基を官能基として含まない。つまり、この３官能のアルコキシシランは、アミノ基を持たない有機基Ｒを有している。Ｒがアミノ基を有する場合は、４官能のアルコキシシランと混合して加水分解すると、生成するシラノール同士で脱水縮合が促進されてしまう。このため、水性組成物が不安定となり好ましくない。
【００２５】
一般式（１）のＲは、炭素数が１〜１５の範囲であるような分子鎖長をもつ有機基であれば良い。炭素数を１５以下とすることにより、オーバーコート層を形成した際の柔軟性が過度に大きくならず、十分な硬度を得ることができる。Ｒの炭素数を上記範囲内とすることにより、脆性がより改善されたオーバーコート層を得ることができる。透明導電層や他のフィルムとオーバーコート層の密着性を高めることができる。
【００２６】
さらに、Ｒで示す有機基は、酸素、窒素、硫黄などのヘテロ原子を有しても良い。有機基がヘテロ原子をもつことにより、他のフィルムとの密着性をより向上させることができる。
【００２７】
トリアルコキシシランとしては、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシランを挙げることができる。中でも、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシランは特に好ましく用いられる。市販品としては、ＫＢＥ−１３（信越化学工業（株）製）などが挙げられる。
【００２８】
本発明では、テトラアルコキシシランとトリアルコキシシランのモル比は、２５：７５〜８５：１５であることが好ましく、３０：７０〜８０：２０であることがより好ましく、３０：７０〜６５：３５であることがさらに好ましい。モル比を上記範囲内とすることにより、アルコキシシランの重合度を所望の範囲内に制御することや加水分解速度及び硬化促進剤の溶解性の制御が容易となる。
【００２９】
本発明では、エポキシ基含有アルコキシシランを含むことが好ましい。エポキシ基含有アルコキシシランが占める割合は、全アルコキシシランに対して、２０〜８５質量％であることが好ましい。エポキシ基含有アルコキシシランが占める割合は、２０質量％以上であることが好ましく、２５質量％以上であることがより好ましく、３０質量％以上であることがさらに好ましい。また、エポキシ基含有アルコキシシランが占める割合は、８５質量％以下であることが好ましく、８０質量％以下であることがより好ましく、７５質量％以下であることがさらに好ましい。全アルコキシシランに対してエポキシ基含有アルコキシシランが占める割合を上記範囲内とすることにより、水性組成物の安定性を高めることができ、さらに、耐久性の高いオーバーコート層を形成することができる。
【００３０】
エポキシ基含有アルコキシシランは、エポキシ基を有するアルコキシシランである。エポキシ基含有アルコキシシランとしては、１分子中に１つ以上エポキシ基を有するものであればよく、エポキシ基の数は特に限定されない。エポキシ基含有アルコキシシランは、エポキシ基の他に、さらに、アルキル基、ウレタン基、ウレア基、エステル基、ヒドロキシ基など基を有していても良い。
【００３１】
本発明で用いるエポキシ基含有アルコキシシランとしては、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができる。市販品としては、ＫＢＥ−４０３（信越化学工業（株）製）などが挙げられる。
【００３２】
なお、エポキシ基を含有しないエポキシ基非含有アルコキシシランは、エポキシ基を有さないアルコキシシランであればよく、アルキル基、ウレタン基、ウレア基、エステル基、ヒドロキシ基などの基を有していてもよい。
【００３３】
水性組成物には、上述したアルコキシシランの他に、公知の硬化性樹脂を添加してもよい。公知の硬化性樹脂としては、熱硬化性樹脂や活性化エネルギー線重合樹脂を挙げることができる。
熱硬化性樹脂は熱を加えることにより硬化する樹脂である。熱硬化性樹脂としてはメラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等のプレポリマーの架橋反応を利用するものがある。熱硬化性樹脂としては、カルボキシル（−ＣＯＯＨ）基および／またはヒドロキシル（−ＯＨ）基を含有するポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリメタクリレート樹脂、ポリアミド樹脂、フルオロ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂およびアルキド樹脂等を挙げることができる。
【００３４】
活性エネルギー線重合性樹脂は、多官能モノマーと重合開始剤を含む塗布液を塗布し、多官能モノマーを活性エネルギー線により重合させることで形成される。モノマーが有する官能基としては、重合性不飽和二重結合基を挙げることができる。重合性不飽和二重結合の例としては、アクリレート基、メタクリレート基、ビニル基を挙げることができる。反応性の観点よりアクリレート基が好ましく用いられる。
【００３５】
活性エネルギー線としては、放射線、ガンマー線、アルファー線、電子線、紫外線等を用いることができるが、紫外線（ＵＶ）が好ましく用いられる。ＵＶ硬化性樹脂としては、アクリレート系モノマーからなるアクリル樹脂や、エポキシシ系あるいはウレタン樹脂等を挙げることができる。
【００３６】
（硬化促進剤（金属錯体））
本発明に用いるオーバーコート層は、さらに硬化促進剤を含むことが好ましい。本発明で用いる硬化促進剤は、水性組成物中で、シラノールの脱水縮合を促してシロキサン結合の形成を促進させる働きをする。硬化促進剤は、水溶性の無機酸、有機酸、有機酸塩、無機酸塩、金属アルコキシド、金属錯体を用いることができる。金属錯体としては、Ａｌ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｈｆ及びＺｒよりなる硬化促進剤（金属錯体）が好ましく、中でも、Ａｌ、Ｔｉ及びＺｒよりなる硬化促進剤のうち少なくとも１種を含むことが好ましく、Ａｌよりなる硬化促進剤を用いることが特に好ましい。
【００３７】
これらの金属錯体は、金属アルコキシドにキレート化剤を反応させることにより容易に得ることができる。キレート化剤の例としては、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタンなどのβ−ジケトン、アセト酢酸エチル、ベンゾイル酢酸エチルなどのβ−ケト酸エステルなどを用いることができる。
【００３８】
金属錯体としては、アルミニウムキレート錯体、チタンキレート錯体及びジルコニウムキレート錯体を好ましく用いることができる。これらの金属錯体の好ましい具体的な例としては、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムモノアセチルアセテートビス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）等のアルミニウムキレート化合物、エチルアセトアセテートマグネシウムモノイソプロピレート、マグネシウムビス（エチルアセトアセテート）、アルキルアセトアセテートマグネシウムモノイソプロピレート、マグネシウムビス（アセチルアセトネート）等のマグネシウムキレート化合物、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムトリブトキシアセチルアセトナート、ジルコニウムアセチルアセトナートビス（エチルアセトアセテート）、マンガンアセチルアセトナート、コバルトアセチルアセトナート、銅アセチルアセトナート、チタンアセチルアセトナート、チタンオキシアセチルアセトナートが挙げられる。これらのうち、好ましくは、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、マグネシウムビス（アセチルアセトネート）、マグネシウムビス（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムテトラアセチルアセトナートであり、保存安定性、入手容易さを考慮すると、アルミニウムキレート錯体であるアルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）が特に好ましい。市販品としては、アルミキレートＡ（Ｗ）、アルミキレートＤ、アルミキレートＭ（川研ファインケミカル（株）製）などが挙げられる。
【００３９】
硬化促進剤が占める割合は、全アルコキシシランの質量に対して、３０質量％以上であることが好ましく、３５質量％以上であることがより好ましく、４０質量％以上であることがさらに好ましい。また、硬化促進剤が占める割合は、９０％以下であれば良く、７５％以下であることが好ましく、６０％以下であることがより好ましい。
本発明では、硬化促進剤を上記下限値以上含むことにより、オーバーコート層のヘイズ値を抑えることができ、かつ、耐久性に優れたオーバーコート層を得ることができる。また、上記上限値以下とすることにより、水性水溶液中の分散性を良好とし、かつ、製造コストを抑えることができる。
【００４０】
（無機微粒子）
本発明の水性組成物は、無機微粒子を含む。水性組成物中の全固形分に対して無機微粒子が占める割合は、３０体積％以上であることが好ましく、４０体積％以上であることがより好ましく、５０体積％以上であることがより好ましい。また、無機微粒子が占める割合は、７５体積％以下であることが好ましく、７０体積％以下であることがより好ましく、６５体積％以下であることがさらに好ましい。
なお、無機微粒子は２種以上を併用してもよく、その場合は使用した全種類の合計量が上記範囲内となる。無機微粒子が占める割合を上記範囲内とすることにより、水性組成物中における無機微粒子の分散性を高めることができる。さらに、高硬度であって、耐傷性および耐衝撃性に優れたオーバーコート層を形成することができる。
【００４１】
無機微粒子としては、透明導電膜の直下に用いられるため透明で絶縁性の金属酸化物微粒子等が好ましく用いられる。本発明では、金属酸化物の具体例として、ジルコニアやチタニアからなる微粒子を挙げることができる。ジルコニアやチタニアは高い屈折率を示すため好ましく、特に、チタニアは好ましく用いられる。
【００４２】
無機微粒子の平均粒子径は、１〜３０ｎｍであることが好ましく、１〜２０ｎｍであることがより好ましい。無機微粒子の平均粒子径を上記範囲内とすることにより、水性組成物のヘイズ値を下げることができる。また、オーバーコート層の透明性を高めることができ、屈折率を層内で均一に制御することも可能となる。
ここで、無機微粒子の平均粒子径は、分散した粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた写真から求めてもよい。粒子の投影面積を求め、そこから円相当径を求め平均粒子径（平均一次粒子径）とする。本明細書における平均粒子径は、３００個以上の粒子について投影面積を測定して、円相当径を求めて算出することができる。
【００４３】
本発明で用いることができるチタニア（酸化チタン）としては、"ＴＴＯ−５５、５１、Ｓ、Ｍ、Ｄ"シリーズ｛以上、石原産業（株）｝；"ＪＲ"シリーズ、"ＪＡ"シリーズ｛以上、テイカ（株）｝、ＳＲＤ−Ｗ等のルチル型チタニア｛以上、堺化学工業（株）｝等が挙げられる。
【００４４】
（その他の添加剤）
本発明の水性組成物には、オーバーコート層の平滑性を向上させて塗膜表面の摩擦を軽減する目的で界面活性剤を添加しても良い。また、顔料や染料、その他微粒子等を分散させることによってオーバーコート層を着色しても良い。さらに、耐候性を向上させる目的で紫外線吸収剤や酸化防止剤等を添加しても良い。
【００４５】
（界面活性剤）
本発明の水性組成物には、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。
【００４６】
フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１４１、同Ｆ１４２、同Ｆ１４３、同Ｆ１４４、同Ｒ３０、同Ｆ４３７、同Ｆ４７５、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、同Ｆ７８０、同Ｆ７８１（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ１０６８、同ＳＣ−３８１、同ＳＣ−３８３、同Ｓ３９３、同ＫＨ−４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。
【００４７】
ノニオン系界面活性剤として具体的には、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセリンエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル（ＢＡＳＦ社製のプルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１、パイオニンＤ−６５１２、Ｄ−６４１４、Ｄ−６１１２、Ｄ−６１１５、Ｄ−６１２０、Ｄ−６１３１、Ｄ−６１０８−Ｗ、Ｄ−６１１２−Ｗ、Ｄ−６１１５−Ｗ、Ｄ−６１１５−Ｘ、Ｄ−６１２０−Ｘ（竹本油脂（株）製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ナロアクティーＣＬ−９５、ＨＮ−１００（三洋化成工業（株）製）等が挙げられる。
【００４８】
カチオン系界面活性剤として具体的には、フタロシアニン誘導体（商品名：ＥＦＫＡ−７４５、森下産業（株）製）、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、（メタ）アクリル酸系（共）重合体ポリフローＮｏ．７５、Ｎｏ．９０、Ｎｏ．９５（共栄社化学（株）製）、Ｗ００１（裕商（株）製）等が挙げられる。
【００４９】
アニオン系界面活性剤として具体的には、Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７（裕商（株）社製）、サンデッドＢＬ（三洋化成工業（株）製）等が挙げられる。
【００５０】
シリコーン系界面活性剤としては、例えば、東レ・ダウコーニング（株）製「トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ」、「トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ」，「トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ」，「トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ」、「トーレシリコーンＳＨ８４００」、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製「ＴＳＦ−４４４０」、「ＴＳＦ−４３００」、「ＴＳＦ−４４４５」、「ＴＳＦ−４４６０」、「ＴＳＦ−４４５２」、信越シリコーン株式会社製「ＫＰ３４１」、「ＫＦ６００１」、「ＫＦ６００２」、ビックケミー社製「ＢＹＫ３０７」、「ＢＹＫ３２３」、「ＢＹＫ３３０」等が挙げられる。
界面活性剤は、１種のみを用いてもよいし、２種類以上を組み合わせてもよい。
界面活性剤の添加量は、水性組成物の全質量に対して、０．００１質量％〜２．０質量％が好ましく、より好ましくは０．００５質量％〜１．０質量％である。
【００５１】
（他の層構成）
本発明の積層体は、支持体と透明導電層の間に、ハードコート層及び屈折率調整層の少なくとも１層を有することが好ましい。さらに、積層体は、易接着層、ハードコート層及び屈折率調整層を有することが好ましく、支持体の上に、易接着層、ハードコート層、屈折率調整層、透明導電層、及びオーバーコート層をこの順に有することが好ましい。本発明では、支持体の上に、易接着層、ハードコート層、屈折率調整層、透明導電層、及びオーバーコート層を順に積層することにより、骨見えを抑制することに加えて、干渉ムラの発生も抑制することが可能となる。
【００５２】
本発明で用いる支持体には、高分子化合物を溶融製膜方法や溶液製膜方法によりフィルム形状にしたものを用いることができる。支持体に用いる高分子化合物は特に制限されないが、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリブチレンナフタレート（ＰＢＮ）、ポリアリレート類、ポリエーテルスルフォン、ポリカーボネート、ポリエーテルケトン、ポリスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリエステル系液晶ポリマー、トリアセチルセルロース、セルロース誘導体、ポリプロピレン、ポリアミド類、ポリイミド、ポリシクロオレフィン類等が好ましい。この中でも、ＰＥＴ、ＰＥＮ、トリアセチルセルロース、セルロース誘導体がより好ましく、ＰＥＴ、ＰＥＮが特に好ましい。
【００５３】
これらの支持体は、２軸延伸されていることが好ましい。２軸延伸とは、フィルムの幅方向および長手方向をそれぞれ１軸とみなして両方向に延伸させることである。このように２軸延伸されたポリエステルフィルムは、２軸での分子配向が十分に制御されているため非常に優れた機械強度を有する。延伸倍率は特に制限されるものではないが、一方向に対する延伸倍率が１．５〜７倍であることが好ましく、より好ましくは２〜５倍である。特に、１軸方向あたりの延伸倍率を２〜５倍として２軸延伸させたポリエステルフィルムは、分子配向がより効率良くかつ効果的に制御されているので、非常に優れた機械強度を備え、ポリエステルフィルムとして好適である。
【００５４】
支持体は、表面がコロナ処理又はグロー処理されたものであってもよい。それらの処理により、支持体の表面が親水化され、水性組成物の塗れ性を改善することができるので、ハードコート層との密着力または易接着層との密着力をより高めることができる。
【００５５】
易接着層は、支持体とハードコート層の接着性を向上させ、ハードコート層との密着力を高めるために支持体に適宜設けられる。易接着層は、通常、バインダと硬化剤と界面活性剤とからなる塗布液を、支持体のハードコート層が設けられる面に塗布して形成される。易接着層には、有機または無機の微粒子を適宜添加してもよい。微粒子としては、特に限定されないが例えば金属酸化物が挙げられ、具体的には酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ニオブなどが好ましく、これらを単独で使用、もしくは２種以上を併用してもよい。市販品としては、例えば、ＥＴ−５００ＷほかＥＴシリーズ、ＦＴ−２０００ほかＦＴシリーズ、ＳＮ−１００ＰほかＳＮシリーズ、ＦＳ−１０ＤほかＦＳシリーズ（石原産業（株）製）、ＺＲ−３０ＢＦ(堺化学工業(株)製)などが挙げられる。
【００５６】
易接着層に使用するバインダは、特に限定されないが、接着性の観点からポリエステル、ポリウレタン、アクリル樹脂、スチレンブタジエン共重合体の少なくともひとつであることが好ましい。また、バインダは、水溶性または水分散性を持つものが環境への負荷が少ない点で特に好ましい。市販品としては、例えば、カルボジライトＶ−０２−Ｌ２ほかカルボジライトシリーズ（日清紡（株）製）タケラックＷＳ−５１００ほかタケラックＷＳシリーズ（三井化学（株）製）などが挙げられる。
【００５７】
易接着層の厚みは、その塗布量を調節することで適宜調整することができる。易接着層の厚みは、０．０１〜５μｍの範囲で一定であることがより好ましい。厚みが０．０１μｍ未満であると接着性が不十分となることがあり、５μｍよりも大きいと均一な厚みの接着性を形成することが難しかったり、さらには、溶液の使用量が増加したり乾燥時間が長くかかりすぎてコストが増大することになる。より好ましい厚みの範囲は、０．０２〜３μｍである。易接着層は、１層のみでもよいし、これを複数重ねた態様であってもよい。複数の易接着層を重ねた場合には、すべての易接着層の厚みの合計を厚みとみなす。
【００５８】
ハードコート層や屈折率調整層は、オーバーコート層を形成する水性組成物と同様の成分を含有したものを用いることができる。好ましくは、アルコキシシランを含有する水性組成物を硬化させて形成することが好ましい。これにより、環境への負荷が少なく、製造適性を高めることができる。なお、これらの層は、各層間の屈折率を調整するために設けられてもよい。これにより、干渉ムラの発生を効果的に抑制することができる。
【００５９】
ハードコート層における無機微粒子については、透明導電膜の直下に用いられるため透明で絶縁性の金属酸化物微粒子等が好ましく用いられ、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニアからなる微粒子を用いることが好ましい。具体的には、オーバーコート層と同様の成分のほかに例えば、シリカとして四塩化ケイ素の燃焼によって製造される乾燥粉末状のシリカや、二酸化ケイ素又はその水和物が水に分散したコロイダルシリカが挙げられる。特に限定されないが、市販品としてはスノーテックス０３３などの日産化学工業(株)製のスノーテックスシリーズなどがある。また、無機微粒子は２種類以上含んでいてもよい。
【００６０】
さらに、ハードコート層にはマット剤を含んでいてもよい。マット剤としては、有機または無機微粒子のいずれも使用することができる。例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、シリコーン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂等のポリマー微粒子や、シリカ、炭酸カルシウム、酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム等の無機微粒子を用いることができる。これらの中で、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、シリカは、すべり性改良効果やコストの観点から好ましい。
これらの粒子は、粒子単体で用いてもよく、コロイダルシリカのように、水等の分散媒に分散したコロイドとして用いてもよい。市販品としては、例えばスノーテックスＸＬ（日産化学工業（株）製）、シーホスターＫＥ−Ｐ２５０（日本触媒（株）製）などが挙げられる。また、マット剤は２種類以上含んでいてもよい。
【００６１】
ハードコート層の厚みは、水性組成物の塗布量を調整することにより制御することができる。得られるハードコート層の硬度の観点からは、厚みは、０．３〜１２μｍの範囲で一定あることがより好ましいハードコート層の厚みを上記範囲内とすることにより、十分な硬度を有するハードコート層を形成することができ、かつ、カール等の変形が生じることを抑制することができる。
【００６２】
本発明のハードコート層のヘイズ値は、０．５％以下であることが好ましく、０．４５％以下であることがより好ましく、０．４％以下であることがさらに好ましい。
【００６３】
ハードコート層の屈折率は、１．５０〜２．３０が好ましく、１．６０〜２．２０がより好ましく、１．７０〜２．１０がさらに好ましい。
ハードコート層は、その上に透明電極層を積層することでタッチパネルとすることができる。透明電極層には、一般的にＩＴＯ（インジウム・錫酸化物）が用いられており、その電極パターンはＩＴＯ導電膜をパターニングすることにより作成される。ハードコート層と透明電極層は接するように積層されても良く、ハードコート層と透明電極の間に光学調整層等の調整層を積層しても良い。光学調整層は、各層間の屈折率の差を調整するために設けられる。
【００６４】
透明電極層としては、タッチパネルの電極に用いられる公知の材料を用いることができる。例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）、ＡＴＯ（酸化アンチモン錫）等の金属酸化物が挙げられる。これらの中でもＩＴＯが好ましく用いられる。
透明電極層の製造方法としては、膜厚の制御が可能であればいかなる成膜方法でもよく、例えば特開２０１２−２０６３０７号公報に記載の方法を用いることができる。
【００６５】
透明電極層の厚みは、例えば表面抵抗値を１０3Ω／ｓｑ以下の良好な導電性を確保するという観点から、１０ｎｍ以上が好ましく、１５ｎｍ以上がより好ましく、２０ｎｍ以上が特に好ましい。一方、透明導電層の厚みが大きくなりすぎると骨見え現象の抑制効果が小さくなること、および透明性が低下するという不都合が生じることがあるので、透明導電膜の厚みの上限は、６０ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、４０ｎｍ以下が特に好ましい。
【００６６】
透明導電層の屈折率（ｎｔ）は１．８１以上である。さらに透明導電膜の屈折率（ｎｔ）は１．８５以上が好ましく、１．９０以上がより好ましい。上限は２．２０以下が好ましく、２．１０以下がより好ましい。
【００６７】
（タッチパネル）
本発明のタッチパネルは、上述した積層体又は透明導電フィルムを有する。タッチパネルは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、電子ペーパー等の表示装置等に組み込むことで、入力デバイスとして利用することができる。本発明のタッチパネルを利用することで、骨見えと干渉ムラの発生が抑制され、かつ、良好な色味のタッチパネルとすることができる。
【００６８】
タッチパネルの構成については、抵抗膜型、静電容量型などがあり、静電容量型の入力装置は、単に一枚の基板に透光性導電膜を形成すればよいという利点があるため、静電容量型であることが好ましい。かかる静電容量型の入力装置では、例えば、前記透明電極層として互いに交差する方向に電極パターンを延在させて、指などが接触した際、電極間の静電容量が変化することを検知して入力位置を検出するタイプのものを好ましく用いることができる。このようなタッチパネルの構成については、例えば、特開２０１０−８６６８４号公報、特開２０１０−１５２８０９号公報、特開２０１０−２５７４９２号公報等の記載を参酌できる。
【００６９】
タッチパネルを構成要素として備えた画像表示装置の構成については、『最新タッチパネル技術』（２００９年７月６日発行（株）テクノタイムズ）、三谷雄二監修、“タッチパネルの技術と開発”、シーエムシー出版（２００４，１２）、ＦＰＤ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  ２００９  Ｆｏｒｕｍ  Ｔ−１１講演テキストブック、Ｃｙｐｒｅｓｓ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ  アプリケーションノートＡＮ２２９２等に開示されている構成を適用することができる。
また、タッチパネルを組み込むことができる液晶ディスプレイの構成については、特開２００２−４８９１３号公報等の記載も参酌できる。
【００７０】
（製造方法）
本発明の積層体の製造方法は、支持体上に形成された透明導電層の一方の面上であって、支持体とは反対側にオーバーコート層を形成する工程を含む。オーバーコート層を形成する工程は、アルコキシシランと、屈折率が２．０以上の無機微粒子を混合した水性組成物を前記透明導電層上に塗布し、乾燥させる工程を含む。
【００７１】
また、本発明のオーバーコート層を形成するために用いられる水性組成物の製造方法は、アルコキシシランと、屈折率が２．０以上の無機微粒子を混合する工程を含む。
オーバーコート層を形成するために用いられる水性組成物が硬化促進剤を含有する場合、無機微粒子と硬化促進剤は、まず別々のアルコキシシランを有する水性組成物中に混合され、その後、無機微粒子と硬化促進剤が各々混合された２種類の水性組成物が混合されることが好ましい。すなわち、本発明のオーバーコート層を形成するために用いられる水性組成物の製造方法は、アルコキシシランと無機微粒子を含む第１の水性組成物を得る工程と、アルコキシシランと硬化促進剤を含む第２の水性組成物を得る工程を含み、これらの第１の水性組成物と第２の水性組成物を混合する工程を含む。本発明の水性組成物の製造方法においては、無機微粒子と硬化促進剤は、まず別々の水性組成物中に混合され、その後、無機微粒子と硬化促進剤が各々混合された２種類の水性組成物が混合される。
【００７２】
屈折率の高い無機微粒子は、水性組成物で硬化促進剤と接触することにより、分散性が悪化し、これが懸濁度を上昇させる場合がある。しかし、本発明では、無機微粒子と硬化促進剤を異なる水性組成物中に混合した後に、無機微粒子と硬化促進剤が各々混合された２種類の水性組成物を混合することにより、水性組成物で無機微粒子と硬化促進剤が直接接触することを防ぐことができる。このように得られた水性組成物においては、無機微粒子が均一に分散され、水性組成物のヘイズ値が一定範囲以下となる。
【００７３】
上記のようにして得られた水性組成物は、透明導電層の面全体を覆うように塗布され、その後乾燥される。このように、透明導電層の一方の面であって、支持体とは反対側の面にオーバーコート層が形成されることとなる。
【００７４】
オーバーコート層を形成する水性組成物のｐＨはあらかじめ調整されていることが好ましい。例えば、水性組成物が塗布される前に、水性組成物に酸性溶液を添加し、ｐＨを所望の範囲となるように調節することが好ましい。酸性溶液は、ｐＨが２〜６であることが好ましく、水性組成物のｐＨは２〜７、好ましくは２〜６となるように調整されることが好ましい。
【００７５】
水性組成物の塗布は公知の塗布機を適宜用いることができる。例えば、スピンコータ、ロールコータ、バーコータ、カーテンコータ等を挙げることができる。
塗布工程の後には、塗布液を乾燥させる工程が設けられる。乾燥工程では、加熱乾燥を行うことが好ましい。加熱乾燥では、塗布膜の温度が１２０℃以上となるように加熱処理を行うことが好ましく、塗布膜の温度は１４０℃以上であることがより好ましく、１６０℃以上であることがさらに好ましい。また、塗布膜の温度は、３００℃以下であることが好ましく、２８０℃以下であることがより好ましく、２６０℃以下であることがさらに好ましい。加熱処理温度を上記範囲内とすることにより、塗布膜を十分に硬化することができ、かつ、オーバーコート層に変形が起こることを防ぐことができる。なお、加熱時間は、１０秒〜１時間であればよく、１０秒〜５分であることが好ましい。本発明では、加熱工程では、１２０℃〜３００℃の程度の加熱温度で加熱すれば十分であり、加熱時間も１０秒〜１時間程度と短時間である。このため、製造効率を高めることができ、製造にかかるコストを抑制することができる。
【００７６】
透明導電層は支持体の一方の面側に形成される。透明導電層の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスを用いることができる。
【００７７】
本発明の透明導電膜はパターン状に形成されることが好ましい。例えば、上記のようにして製膜した透明導電膜をパターン化する。パターン化は、透明導電性フィルムが適用される用途に応じて、各種のパターンを形成することができる。なお、透明導電膜のパターン化により、パターン部と非パターン部が形成されるが、パターン部の形状としては、例えば、ストライプ状、格子状等が挙げられる。
【００７８】
透明導電膜のパターン化は、一般的にはエッチングによって行われる。例えば、透明導電膜上にパターン状のエッチングレジスト膜を、フォトリソグラフィ法、レーザー露光法、あるいは印刷法により形成した後エッチン処理することにより、透明導電膜がパターン化される。
【００７９】
エッチング液としては、従来公知のものが用いられる。例えば、塩化水素、臭化水素、
硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、酢酸等の有機酸、およびこれらの混合物、ならびにそれらの水溶液が用いられる。
【００８０】
乾燥工程の後に得られた積層体は、その後ロール状に巻き取られても良く、シート状にカットされても良い。なお、加熱処理工程は、塗布工程の後の乾燥工程に設けられてもよく、ロール状に巻き取られた後に加熱処理工程を設けてもよい。
【００８１】
積層体の上には、さらに、他の構成層を積層してタッチパネル等の表示装置を形成しても良い。他の構成層の積層方法としては、各々、従来の公知の方法を適宜選択できる。
【実施例】
【００８２】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【００８３】
（実施例１）
（易接着層用水溶液の調液）
以下の配合で易接着層用水溶液の調液を行った。
酸化錫微粒子分散液（平均粒径６０ｎｍ）                固形分として１６質量部
ポリウレタン（三井化学（株）製、タケラックＷＳ−５１００）      ２．８質量部
架橋剤（日清紡ケミカル（株）製、カルボジライトＶ−０２−Ｌ２の１０％希釈液）
４．２質量部
界面活性剤Ａ（三洋化成工業（株）製、サンデッドＢＬの１０％水溶液、アニオン性）
０．２質量部
界面活性剤Ｂ（三洋化成工業（株）、ナロアクティーＣＬ−９５の１０％希釈液、ノニオン性）                                                          ０．２質量部
水                                                            ７６．６質量部
【００８４】
（ハードコート層用水性組成物の調液）
１００質量部の１％酢酸に３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業（株）製、ＫＢＥ−４０３）４８質量部を添加して十分に加水分解した後、テトラエトキシシラン（信越化学工業（株）製、ＫＢＥ−０４）１５質量部を添加した。アルミニウムキレート錯体（川研ファインケミカル製、アルミキレートＤ）を１１質量部添加し、ここに無機微粒子（日産化学工業（株）製、スノーテックスＯ３３）を３５質量部添加した。界面活性剤Ａ（三洋化成工業（株）製、サンデットＢＬ）の１０％希釈液と界面活性剤Ｂ（三洋化成工業（株）、ナロアクティーＣＬ−９５）の１０％希釈液を０．２質量部ずつ添加し、マット剤（日本触媒（株）製、シーホスターＫＥ−Ｐ２５０）０．０４質量部を添加し、固形分濃度が１５％になるように水を添加してハードコート用水性組成物とした。
【００８５】
（易接着層とハードコート層の形成）
ガラス又はＰＥＴベースにコロナ処理を施し、上記の易接着層用水溶液をワイヤーバー用いて膜厚が７ｎｍとなるように塗布し１５０℃にて２分間乾燥させた。再度コロナ処理を施し、上記ハードコート用水性組成物をワイヤーバーを用いて膜厚が１μｍとなるように塗布し１５０℃にて２分間乾燥した。
【００８６】
（ＩＴＯ導電膜の成膜）
上記のハードコート層の上に、透明導電膜としてＩＴＯ膜を厚みが５０ｎｍとなるようにスパッタリング法で積層し、エッチング処理により透明導電膜をストライプ状にパターン加工した。
【００８７】
（オーバーコート層用水性組成物の調液）
３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業（株）製、ＫＢＥ−４０３）を２１重量部と、１％酢酸（ダイセル化学工業（株）製、工業用酢酸の１％水溶液）２６重量部とを混合し十分加水分解した後、テトラエトキシシラン（信越化学工業（株）製、ＫＢＥ−０４）を９重量部上記加水分解液に添加し十分加水分解させた。加水分解液を２等分し片方に無機微粒子（堺化学工業株式会社、チタニア分散液ＳＲＤ−Ｗ  １５重量％水分散液）を４８０重量部加えた。もう片方にアルミキレートＤ（川研ファインケミカル製）を１０重量部添加した。これらを混合し固形分濃度が１５％になるように水を添加しオーバーコート用水性組成物とした。
【００８８】
（オーバーコート層の成膜）
得られたオーバーコート用水性組成物を、パターン加工されたＩＴＯ膜上にワイヤーバーを用いて膜厚１μｍとなるように塗布し、１５０℃にて２分間乾燥した。なお、実施例１で製造した積層体の構成は、図１（ａ）に示す通りである。
【００８９】
（実施例２〜８、比較例１）
実施例１と同様に易接着層、ハードコート層、ＩＴＯ膜を形成し、表１のように調液したオーバーコート用水性組成物を実施例１と同様に塗布しオーバーコート層を作成した。比較例１はハードコート用水性組成物を用いてオーバーコート層を作成した。
【００９０】
（評価）
＜屈折率＞
屈折率の測定用にシリコンウエハー上に各オーバーコート用水性組成物を２μｍ程度の膜厚になるまで重ね塗りした後、ＳＡＩＲＯＮ  ＴＥＣＨＮＯＬＯＧＹ社製プリズムカプラーＳＰＡ−４０００を用いて屈折率を測定した。
【００９１】
＜骨見え＞
黒い板の上にサンプルを置き、目視により透明導電膜のパターン部が視認できるかどうか以下の基準で評価した。基材フィルムの一方の面のみに透明導電膜が積層されているサンプルの場合、透明導電膜が上になるように置いて評価をした。
Ａ：パターン部が視認できない。
Ｂ：パターン部が僅かに視認できる。
Ｃ：パターン部が明確に視認できる。
【００９２】
表１より、本発明のオーバーコート用水性組成物を用いたサンプルで骨見えが優れていることがわかる。特にオーバーコート層の屈折率を１．８以上としたサンプルで特に優れている。
【００９３】
【表１】
2015024565.tif 000002
【００９４】
（実施例９〜１６）
さらに、図１（ｂ）に示すように、ハードコート層とＩＴＯ層の間に屈折率調整層を形成し、得られた積層体について評価を行った。
【００９５】
実施例１の易接着層の酸化錫分散液の量を易接着層として屈折率が１．６６となるよう変更した以外は実施例１と同様にして、易接着層を形成した。続いて、易接着層上に実施例８のオーバーコート用水性組成物を用いて膜厚１μｍのハードコート層を形成した。さらに実施例６のオーバーコート用水性組成物を用いて、膜厚７５ｎｍの屈折率調整層を形成した。得られた屈折率調整層上に、実施例１と同様にして、ＩＴＯ膜を成膜し、パターン加工を施し、本発明の実施例１〜８のオーバーコート用水性組成物を用いてオーバーコート層を形成し、実施例９〜１６のサンプルを得た。それらのサンプルを、実施例と同様に評価をしたところ、実施例１〜８と同様に本発明のサンプルにて骨見えに優れた結果を得た。さらに、屈折率調整層を有する構成の実施例９〜１６のサンプルは、干渉ムラが良好であった。
【００９６】
＜ヘイズ値＞
実施例および比較例で得られたオーバーコート用水性組成物をそれぞれガラス基板に塗布したサンプル及びガラス基板のヘイズ値を日本電色工業（株）製のヘイズ測定機ＮＤＨ５０００を用いて測定し、塗布後のサンプルから塗布していないガラス基板のヘイズ値を引いた値を、そのオーバーコート用水性組成物から形成されたオーバーコート層のヘイズ値とした。
実施例で得られたオーバーコート層のヘイズ値は、いずれも０．５％以下であった。
【産業上の利用可能性】
【００９７】
本発明によれば、簡便な方法で骨見えが抑制された積層体を得ることができる。このため、本発明の積層体を用いれば、パターン状に形成された導電層の骨見えが効果的に抑制されているため、タッチパネルを搭載した電子機器等の表示品位を向上させることができ、産業上の利用可能性が高い。
【符号の説明】
【００９８】
１      支持体
３      易接着層
５      ハードコート層
６      屈折率調整層
７      透明導電層
１０    オーバーコート層
２０    積層体
【図１】
2015024565.tif 000003