(57)【要約】【課題】保護体の水層側への溶解を抑制し、収率よく保護体を得ることができる保護基の提供。【解決手段】  有機合成方法に用いられる官能基の保護基であって、下記一般式（１）で表される保護基、該保護基を用いる有機合成方法、保護基の導入方法及び保護体。2015017079.tif 000021（一般式（１）中、Ｒ１からＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数５以下のアルキル基を表し、Ｒ１からＲ７のうち少なくとも１つは炭素数５以下のアルキル基を表す。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機合成方法に用いられる官能基の保護基であって、下記一般式（１）で表される保護基。
【化１】
2015017079.tif 000017
（一般式（１）中、Ｒ１からＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数５以下のアルキル基を表し、Ｒ１からＲ７のうち少なくとも１つは炭素数５以下のアルキル基を表す。）
【請求項２】
前記官能基が、ヒドロキシル基、チオール基、カルボキシル基、アミド基、及びアミノ基より選択される少なくとも１種である、請求項１に記載の保護基。
【請求項３】
有機合成方法に用いられる官能基の保護基として、下記一般式（１）で表される保護基を用いる、有機合成方法。
【化２】
2015017079.tif 000018
（一般式（１）中、Ｒ１からＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数５以下のアルキル基を表し、Ｒ１からＲ７のうち少なくとも１つは炭素数５以下のアルキル基を表す。）
【請求項４】
保護基の導入方法であって、一般式（１−１）で表される化合物と、一般式（２）で表される化合物とを反応させ一般式（３）で表される保護体を得る工程を含む、保護基の導入方法。
【化３】
2015017079.tif 000019
（上記式中、Ｒ１からＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数５以下のアルキル基を表し、Ｒ１からＲ７のうち少なくとも１つは炭素数５以下のアルキル基を表す。
Ｒ８は、置換基を有していても良い炭素数１から３０の有機基を表す。
Ｙは酸素原子、硫黄原子、−ＯＣＯ−、−ＮＲ９−、又は−ＮＲ１０ＣＯ−を表し、Ｒ９はＲ８と同様に定義され、Ｒ８と結合して環を形成していてもよい。Ｒ１０はＲ８と同様に定義される。）
【請求項５】
下記一般式（３）で表される保護体。
【化４】
2015017079.tif 000020
（一般式（３）中、Ｒ１からＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数５以下のアルキル基を表し、Ｒ１からＲ７のうち少なくとも１つは炭素数５以下のアルキル基を表す。
Ｒ８は、置換基を有していても良い炭素数１から３０の有機基を表す。
Ｙは酸素原子、硫黄原子、−ＯＣＯ−、−ＮＲ９−、又は−ＮＲ１０ＣＯ−を表し、Ｒ９はＲ８と同様に定義され、Ｒ８と結合して環を形成していてもよい。Ｒ１０はＲ８と同様に定義される。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機合成に有用な、官能基を保護する保護基、該保護基を用いる有機合成方法、保護基の導入方法、及び保護体に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機合成において、活性水素を有する官能基の保護剤としては、各種化合物が提案されている（非特許文献１）。これらのうち、環状エーテル化合物は、温和な条件で保護が可能であると共に、保護体が塩基性条件下で安定であるという特徴を有することから、広く用いられている。このような環状エーテル化合物としては、ジヒドロフラン、ジヒドロピランが知られている。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００３】
【非特許文献１】Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ（Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ,Ｓｅｃｏｎｄ  Ｅｄｉｔｉｏｎ）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明者らの検討によると、非特許文献１記載の環状エーテル化合物から誘導される保護体は、反応後の後処理で触媒成分等を除去するために水洗した際、水層側に溶解して収率が低下することが明らかとなった。
しかして、本発明の目的は、保護体の水層側への溶解を抑制して収率よく保護体を得ることができる、有機合成に有用な保護基を提供することにある。さらに、該保護基を用いる有機合成方法、保護基の導入方法、及び保護体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
下記一般式（１）で表される保護基は、環上に炭素数５以下のアルキル基が置換した化合物である。本発明者が鋭意検討した結果、下記一般式（１）で表される保護基は、環上に炭素数５以下のアルキル基を有することで、有機合成の保護基として用いると、得られる保護体の疎水性が高まり、保護体の有機層側への分配が高まることを見出した。その結果、保護反応時や、保護体を用いた反応時、後処理として水洗した場合の有機溶媒を用いた抽出回収率が高くなり、目的物の収率が向上することを見出し、本発明を完成した。
【０００６】
すなわち、本発明は、下記［１］〜［５］を提供する。
【０００７】
[１]
有機合成方法に用いられる官能基の保護基であって、下記一般式（１）で表される保護基；
【化１】
2015017079.tif 000002
（一般式（１）中、Ｒ１からＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数５以下のアルキル基を表し、Ｒ１からＲ７のうち少なくとも１つは炭素数５以下のアルキル基を表す。）
[２]
前記官能基が、ヒドロキシル基、チオール基、カルボキシル基、アミド基、及びアミノ基より選択される少なくとも１種である、上記[１]に記載の保護基；
[３]
有機合成方法に用いられる官能基の保護基として、下記一般式（１）で表される保護基を用いる、有機合成方法；
【化２】
2015017079.tif 000003
（一般式（１）中、Ｒ１からＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数５以下のアルキル基を表し、Ｒ１からＲ７のうち少なくとも１つは炭素数５以下のアルキル基を表す。）
[４]
保護基の導入方法であって、一般式（１−１）で表される化合物と、一般式（２）で表される化合物とを反応させ一般式（３）で表される保護体を得る工程を含む、保護基の導入方法；
【化３】
2015017079.tif 000004
（上記式中、Ｒ１からＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数５以下のアルキル基を表し、Ｒ１からＲ７のうち少なくとも１つは炭素数５以下のアルキル基を表す。
Ｒ８は、置換基を有していても良い炭素数１から３０の有機基を表す。
Ｙは酸素原子、硫黄原子、−ＯＣＯ−、−ＮＲ９−、又は−ＮＲ１０ＣＯ−を表し、Ｒ９はＲ８と同様に定義され、Ｒ８と結合して環を形成していてもよい。Ｒ１０はＲ８と同様に定義される。）
[５]
下記一般式（３）で表される保護体。
【化４】
2015017079.tif 000005
（一般式（３）中、Ｒ１からＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数５以下のアルキル基を表し、Ｒ１からＲ７のうち少なくとも１つは炭素数５以下のアルキル基を表す。
Ｒ８は、置換基を有していても良い炭素数１から３０の有機基を表す。
Ｙは酸素原子、硫黄原子、−ＯＣＯ−、−ＮＲ９−、又は−ＮＲ１０ＣＯ−を表し、Ｒ９はＲ８と同様に定義され、Ｒ８と結合して環を形成していてもよい。Ｒ１０はＲ８と同様に定義される。）
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、保護体の水層側への溶解を抑制し、収率よく保護体を得ることができる保護基を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の保護基は、有機合成方法に用いられる官能基の保護基であって、下記一般式（１）で表される。
【化５】
2015017079.tif 000006
【００１０】
（一般式（１）中、Ｒ１からＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数５以下のアルキル基を表し、Ｒ１からＲ７のうち少なくとも１つは炭素数５以下のアルキル基を表す。）
【００１１】
〔一般式（１）で表される保護基〕
一般式（１）中、Ｒ１からＲ７が表す炭素数５以下のアルキル基は、直鎖、分岐、又は環状アルキル基であり、置換もしくは無置換のアルキル基が挙げられる。
炭素数５以下のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ―プロピル基、ｓ−ブチル基、ｎ―ブチル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ペンチル基、ｎ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基等を挙げることができる。好ましくはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、又はｉ―プロピル基であり、より好ましくはメチル基である。
Ｒ１からＲ７のうち少なくとも１つは炭素数５以下のアルキル基を表し、Ｒ３〜Ｒ６のうち少なくとも１つは炭素数５以下のアルキル基であることが好ましく、Ｒ５又はＲ６が炭素数５以下のアルキル基であることがより好ましい。酸素原子に対してパラ位に水素原子又は炭素数５以下のアルキル基を有する場合には、一般式（２）で表される化合物との反応を妨げない。
本発明において、一般式（１）で表される保護基は後述の保護基の導入方法により得ることができる。
【００１２】
〔官能基〕
本発明における官能基とは、反応性の活性水素を有する化合物であり、ヒドロキシル基、チオール基、カルボキシル基、アミド基、及びアミノ基より選択される少なくとも１種であることが好ましく、ヒドロキシル基、チオール基、カルボキシル基、アミド基より選択される少なくとも１種であることがより好ましく、ヒドロキシル基、チオール基、カルボキシル基より選択される少なくとも１種であることが更に好ましい。
【００１３】
〔有機合成方法〕
本発明における有機合成方法は、有機合成方法に用いられる官能基の保護基として、前記一般式（１）で表される保護基を用いる。前記一般式（１）で表される保護基を用いることで、得られる保護体の疎水性が高まり、保護体の有機層側への分配が高まる。その結果、保護反応後や、保護体を用いた反応後に後処理として水洗した場合の有機溶媒を用いた反応生成物の抽出回収率が高くなり、目的物の収率が向上する。官能基は前記のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
本発明の有機合成方法は、有機合成方法に用いられる官能基の保護基として、前記一般式（１）で表される保護基を用いる合成方法であれば特に制限は無く、後述の保護基の導入方法を含むことが好ましい。
【００１４】
〔保護基の導入方法〕 
本発明における保護基の導入方法は、一般式（１−１）で表される化合物と、一般式（２）で表される化合物とを反応させ一般式（３）で表される保護体を得る工程を含む。
【００１５】
一般式（１−１）で表される化合物を、溶媒の存在下または不存在下、一般式（２）で表される化合物と反応させる。一般式（１−１）で表される化合物は、一般式（２）で表される化合物の保護基を導入したい官能基に対して、通常０．５当量以上、好ましくは０．８〜２０当量、より好ましくは１．０〜５当量使用することができる。
【００１６】
保護基の導入方法を溶媒の存在下で行う場合の溶媒としては、塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロロエタン等のハロゲン（特に塩素）系溶媒；アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトン等の非プロトン性極性溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒などが例示される。好ましくは、ジエチルエーテル、又はトルエンである。溶媒を用いる場合、その量に特に制限はないが、通常、一般式（１−１）で表される化合物の質量に対して１００質量倍以下、好ましくは５０質量倍以下、より好ましくは２０質量倍以下の範囲で用いることができる。
【００１７】
反応は塩化水素、臭化水素および硫酸等の無機酸またはシュウ酸、フタル酸およびパラトルエンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸ピリジニウム塩等の有機酸、またはその塩の存在下で行われることが好ましい。有機酸またはその塩の使用量は、一般式（１−１）で表される化合物１モルに対して、有機酸を通常０．１ミリモル以上、好ましくは１ミリモル〜０．５モル、より好ましくは１０ミリモル〜０．１モルの範囲である。
【００１８】
反応は窒素等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。反応温度は、通常０〜５０℃、好ましくは１０〜３０℃であり、反応時間は通常０．５〜１時間程度である。
【００１９】
反応終了後は、公知の方法により処理し、カラムクロマトグラフィー等の慣用の方法を用いて精製して一般式（３）で表される保護体（保護された官能基を有する化合物）を得ることができる。
反応終了後の処理としては、必要に応じて溶媒を添加した後、塩基又は水により洗浄し、有機層を濃縮することが好ましい。溶媒としては、前述の溶媒を挙げることができる。
【００２０】
塩基としては、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよび水酸化セシウム等の無機塩基；トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、トリｎ−ブチルアミン、ピリジン、２，６−ルチジン、２，４，６−コリジン、４−ジメチルアミノピリジン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エンおよび１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン等の有機塩基が挙げられる。中でも炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、２，６−ルチジン、２，４，６−コリジン、４−ジメチルアミノピリジン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エンおよび１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エンが好ましく、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、２，６−ルチジン、４−ジメチルアミノピリジンおよび１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エンが特に好ましい。これらの塩基は単独でまたは組み合わせて用いることができる。
【００２１】
【化６】
2015017079.tif 000007
【００２２】
（上記式中、Ｒ１からＲ７はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数５以下のアルキル基を表し、Ｒ１からＲ７のうち少なくとも１つは炭素数５以下のアルキル基を表す。
Ｒ８は、置換基を有していても良い炭素数１から３０の有機基を表す。
Ｙは酸素原子、硫黄原子、−ＯＣＯ−、−ＮＲ９−、又は−ＮＲ１０ＣＯ−を表し、Ｒ９はＲ８と同様に定義され、Ｒ８と結合して環を形成していてもよい。Ｒ１０はＲ８と同様に定義される。）
【００２３】
一般式（１−１）及び一般式（３）におけるＲ１からＲ７は、一般式（１）におけるＲ１からＲ７と同義であり、好ましいものも同様である。
【００２４】
一般式（２）及び一般式（３）におけるＲ８は、置換基を有していても良い炭素数１から３０の有機基を表す。
Ｒ８が表す炭素数１から３０の有機基は、脂肪族であっても芳香族であってもよく、また飽和又は不飽和であってよい。また、分岐していてもよい。該有機基は、炭化水素基に限られず、炭化水素基に、カルボニル炭素、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挿入された基であってもよい。
【００２５】
炭化水素基の例としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル、アリールアルキル基、アルケニルアリール基等が挙げられる。
より詳細には、アルキル基としては、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ノルボルニルなど；
アルケニル基としては、炭素数２〜３０、好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニル、シクロペンタジエニルなど；
アルキニル基としては、炭素数２〜３０、好ましくは炭素数２〜２、より好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなど；
アリール基としては、好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ペンタレン、インデン、ナフタレン、アズレン、ヘプタレン、ビフェニレン、as-インダセン、s-インダセン、アセナフチレン、フルオレン、フェナレン、フェナントレン、アントラセン、フルオランチン、アセフェナントリレン、アセアントリレン、トリフェニレン、ピレン、クリセン、ナフタセン、ブレイアデン、ピセン、ペリレン、ペンタフェン、ペンタセンなど、
が挙げられる。
アラルキル基、アリールアルキル基、及びアルケニルアリール基としては、上記アルキル基、アルケニル基及びアリール基を組み合わせた基が挙げられる。
【００２６】
カルボニル炭素、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等が挿入された基としては、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、ヘテロ環基を挙げることができ、
より詳細には、アルコキシ基としては、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、２−エチルヘキシルオキシなど；
アリールオキシ基としては、好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、１−ナフチルオキシ、２−ナフチルオキシなど；
ヘテロ環オキシ基としては、好ましくは炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばピリジルオキシ、ピラジルオキシ、ピリミジルオキシ、キノリルオキシなど；
【００２７】
アシル基としては、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなど；
アルコキシカルボニル基としては、好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなど；
アリールオキシカルボニル基としては、好ましくは炭素数７〜３０、より好ましくは炭素数７〜２０、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルなど；
アシルオキシ基としては、好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは炭素数２〜２０、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなど；
ヘテロ環基としては、好ましくは素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２であり、例えば、チオフェン、チアントレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサチイン、２Ｈ−ピロール、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドール、３Ｈ−インドール、インドール、１Ｈ−インダゾール、プリン、４Ｈ−キノリジン、イソキノリン、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、ブテリジン、aH-カルバゾール、カルバゾール、β―カルボリン、フェナントリジン、アクリジン、ペリミジン、フェナントロリン、フェナジン、フェナルサジン、フェノチアジン、フラザン、フェノキサジン、イソクロマン、クロマン、ピロリジン、ピロリン、イミダゾリジン、イミダゾリン、ピラゾリジン、ピラゾリン、ピペリジン、ピペラジン、インドリン、イソインドリン、キヌクリジン、モルホリン、ベンズ[h]イソキノリン、チエノ[2,3-b]フラン、７Ｈ−ピラジノ[2,3-c]カルバゾール、２Ｈ−フロ[3,2-b]ピラン、５Ｈ−ピリド[2,3-d]-o-オキサジン、１Ｈ−ピラゾロ[4,3-d]オキサゾール、４Ｈ−イミダゾ[4,5-d]チアゾール、セレナゾロ[5,4-f]ベンゾチアゾール、ピラジノ[2,3-d]ピリダジンなど；
が挙げられる。
【００２８】
Ｒ８が置換基を有する場合の置換基としては、前記したアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、アリールアルキル基、アルケニルアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基などのほか、ヒドロキシル基、チオール基、カルボキシル基、アミド基、及びアミノ基を挙げることができる。該置換基における活性水素及び活性水素を有する基は、一般式（１）で表される保護基により保護されていてもよい。
【００２９】
Ｒ８の具体例としては、例えば下記の置換基を挙げることができる。ここで、置換位置は単なる例示であって、かかる置換位置に制限されるものではない。なお、（３−２）〜（３−３５）に例示する置換基は、構成する炭素原子のうちの任意の位置の１つまたは２つ以上が酸素原子、窒素原子または硫黄原子で置換されていても良い。
【００３０】
【化７】
2015017079.tif 000008
【００３１】
【化８】
2015017079.tif 000009
【００３２】
【化９】
2015017079.tif 000010
【００３３】
【化１０】
2015017079.tif 000011
【００３４】
【化１１】
2015017079.tif 000012
【００３５】
一般式（２）及び一般式（３）におけるＹは、酸素原子、硫黄原子、−ＯＣＯ−、−ＮＲ９−、又は−ＮＲ１０ＣＯ−を表し、Ｒ９はＲ８と同様に定義され、Ｒ８と結合して環を形成していてもよい。Ｒ１０はＲ８と同様に定義される。Ｙ表す連結基の具体例としては、例えば下記に記載の連結基を挙げることができる。
【００３６】
【化１２】
2015017079.tif 000013
【００３７】
一般式（３）で表される保護体として、保護基として好ましく用いられる、Ｒ６＝メチル基、Ｒ１＝Ｒ２＝Ｒ３＝Ｒ４＝Ｒ５＝Ｒ７＝水素原子である構造を有する場合の化合物の例示を以下の表１のとおり挙げるが、本発明の保護体はこれらの例示に限定されるものではない。表１中のＹ−１〜Ｙ−１９は前記に例示した連結基と対応し、３−１〜３−１３５は前記に例示した置換基に対応する。
【００３８】
【表１】
2015017079.tif 000014
【実施例】
【００３９】
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明は、これら実施例に限定されるものではない。以下で用いる分析方法、および、略記号は次のとおりである。
【００４０】
［分析方法］
実施例１から４、比較例１から３については、内部標準法によるガスクロマトグラフィー分析にて、反応液中の保護体重量、水洗処理後の保護体重量を算出した（使用機器：島津製作所製ＧＣ−２０１４、使用カラム：化学物質評価研究機構製Ｇ−３００、内部標準物質：和光純薬工業社製ペンタデカン）。反応液中の保護体重量から保護体のモル量を算出し、反応に用いたアルコールのモル量に対する比率から反応収率を算出した。
一方、水洗処理後の保護体重量から保護体のモル量を算出し、反応に用いたアルコールのモル量に対する比率から水洗処理後の収率を算出した。反応液中の保護体重量に対する水洗処理後の保護体重量の比率を、水洗処理での回収率とした。
実施例１０については、上記と同様に内部標準法によるガスクロマトグラフィー分析にて脱保護反応により生成した１−ブタノール量を算出した。
【００４１】
［保護基前駆体］
ＭＤＨＰ：４−メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン
ＤＨＰ：３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（和光純薬工業社製）
ＤＨＦ：２，３−ジヒドロフラン（和光純薬工業社製）
【００４２】
[保護体]
【００４３】
【化１３】
2015017079.tif 000015
【００４４】
【化１４】
2015017079.tif 000016
【００４５】
実施例１（保護体Ａ−１の合成）  
ナスフラスコに１−ブタノール１４．８ｇ（０．２ｍｍｏｌ、和光純薬工業社製）、ＭＤＨＰ２３．６ｇ（０．２４ｍｍｏｌ）、ジエチルエーテル１５０ｍｌ（和光純薬工業社製）をとり、２８℃で攪拌した。ここに、パラトルエンスルホン酸１水和物０．７６ｇ（４．０ｍｍｏｌ、和光純薬工業社製）を加え、１．２５時間攪拌を続けた後、室温まで冷却した。保護体Ａ−１の反応収率は９９．０％であった。飽和炭酸ナトリウム水溶液１１０ｍｌで１回、蒸留水１１０ｍｌで３回、飽和食塩水１１０ｍｌで１回洗浄した。有機層を濃縮し、油状物質３６．６ｇを得た。水洗処理後の保護体Ａ−１の収率は９７．０％であり、水洗処理での保護体Ａ−１の回収率は９８．０％であった。
【００４６】
実施例２（保護体Ａ−２の合成）
ナスフラスコに２-ブタノール１４．８ｇ（０．２ｍｍｏｌ、和光純薬工業社製）、ＭＤＨＰ２３．６ｇ（０．２４ｍｍｏｌ）、ジエチルエーテル１５０ｍｌ（和光純薬工業社製）をとり、２８℃で攪拌した。ここに、パラトルエンスルホン酸１水和物０．７６ｇ（４．０ｍｍｏｌ、和光純薬工業社製）を加え、１．５時間攪拌を続けた後、室温まで冷却した。保護体Ａ−２の反応収率は、９７．６％であった。飽和炭酸ナトリウム水溶液１１０ｍｌで１回、蒸留水１１０ｍｌで３回、飽和食塩水１１０ｍｌで１回洗浄した。有機層を濃縮し、油状物質３６．６ｇを得た。水洗処理後の保護体Ａ−２の収率は９７．０％であり、水洗処理での保護体Ａ−２の回収率は９８．０％であった。
【００４７】
実施例３（保護体Ａ−３の合成）
ナスフラスコにtert-ブタノール１４．８ｇ（０．２ｍｍｏｌ、和光純薬工業社製）、ＭＤＨＰ２３．６ｇ（０．２４ｍｍｏｌ）、ジエチルエーテル１５０ｍｌ（和光純薬工業社製）をとり、２８℃で攪拌した。ここに、パラトルエンスルホン酸１水和物０．７６ｇ（４．０ｍｍｏｌ、和光純薬工業社製）を加え、１．５時間攪拌を続けた後、室温まで冷却した。保護体Ａ−３の反応収率は、９３．０％であった。飽和炭酸ナトリウム水溶液１１０ｍｌで１回、蒸留水１１０ｍｌで３回、飽和食塩水１１０ｍｌで１回洗浄した。有機層を濃縮し、油状物質３６．６ｇを得た。水洗処理後の保護体Ａ−３の収率は９７．０％であり、水洗処理での保護体Ａ−３の回収率は９８．０％であった。
【００４８】
実施例４（保護体Ａ−５の合成）
ナスフラスコに１，４−ブタンジオール１８．０ｇ（０．２ｍｍｏｌ、和光純薬工業社製）、ＭＤＨＰ１９．６ｇ（０．２ｍｍｏｌ）をとり、３０℃で攪拌した。ここに、パラトルエンスルホン酸１水和物０．３４ｇ（１．８ｍｍｏｌ、和光純薬工業社製）を加え、３時間攪拌を続けた後、室温まで冷却した。得られた反応液には保護体Ａ−５が２４．４ｇ、保護体Ａ−６が１６．１ｇ含まれており、保護体Ａ−５の反応収率は６４．７％であった。得られた反応液にトルエン４３ｍｌを加えた後、１０質量％の水酸化ナトリウム水溶液７．９ｇで１回、蒸留水７５ｍｌで３回洗浄した。有機層を濃縮し、保護体Ａ−５を１６．５ｇ含む油状物質３２．６ｇを得た。水洗処理後の保護体Ａ−５の収率は４３．７％、水洗処理での保護体Ａ−５の回収率は６７．６％であった。
【００４９】
比較例１（保護体Ａ−４の合成）
実施例１でＭＤＨＰに換えてＤＨＰ２０．２ｇ（０．２４ｍｏｌ）を用いた以外は、同様にして保護体を合成した。反応収率は９９．４％であり、水洗処理後の保護体Ａ−４の収率は８８．０％、水洗処理での保護体Ａ−４回収率は８８．５％であった。
【００５０】
比較例２（保護体Ａ−７の合成）
実施例４でＭＤＨＰに換えてＤＨＰ１６．８ｇ（０．２ｍｏｌ）を用いた以外は、同様にして保護体Ａ−７を合成した。なお、保護体Ａ−８も生成していた。保護体Ａ−７の反応収率は５９．４％、水洗処理後の保護体Ａ−７の収率は１７．８％であり、水洗処理での保護体Ａ−７回収率は２９．９％であった。
【００５１】
比較例３（保護体Ａ−９の合成）
実施例２でＭＤＨＰに換えてＤＨＦ１４．０ｇ（０．２ｍｏｌ）を用いた以外は、同様にして保護体Ａ−９を合成した。なお、保護体Ａ−１０も生成していた。保護体Ａ−９の反応収率は６２．４％、水洗処理後の保護体Ａ−９の収率は９．１％であり、水洗処理での保護体Ａ−９の回収率は１４．６％であった。
【００５２】
実施例５（保護体Ａ−１１の合成）
ナスフラスコにフェノール１１．３ｇ（０．１ｍｍｏｌ、和光純薬工業社製）、ＭＤＨＰ１１．８ｇ（０．１２ｍｍｏｌ）、ジエチルエーテル７５ｍｌ（和光純薬工業社製）をとり、２８℃で攪拌した。ここに、パラトルエンスルホン酸１水和物０．３８ｇ（２．０ｍｍｏｌ、和光純薬工業社製）を加え、１．５時間攪拌を続けた後、室温まで冷却した。１０質量％水酸化ナトリウム水溶液５０ｍｌで２回、蒸留水５０ｍｌで２回、飽和食塩水５０ｍｌで１回洗浄した。有機層を濃縮した後、シリカゲルクロマトグラフィーで精製し、保護体Ａ−１１を１８．２ｇ得た。
【００５３】
実施例６（保護体Ｂの合成）
ナスフラスコにチオフェノール１１．１ｇ（０．１ｍｏｌ、東京化成工業社製）、ＭＤＨＰ９．８ｇ（０．１ｍｏｌ）、ジエチルエーテル５０ｍｌをとり、３０℃で攪拌した。ここに、パラトルエンスルホン酸ピリジニウム０．５ｇ（２．０ｍｍｏｌ、和光純薬工業社製）を加え、８時間攪拌した後、室温まで冷却した。１０質量％水酸化ナトリウム水溶液５０ｍｌで２回、蒸留水５０ｍｌで２回、飽和食塩水５０ｍｌで１回洗浄した。有機層を濃縮した後、シリカゲルクロマトグラフィーで精製し、保護体Ｂ１９．８ｇを得た。
【００５４】
実施例７（保護体Ｃの合成）
ナスフラスコにシクロヘキサンカルボン酸１２．８ｇ（０．１ｍｏｌ、和光純薬工業社製）、ＭＤＨＰ９．８ｇ（０．１ｍｏｌ）、ジエチルエーテル７５ｍｌ（和光純薬工業社製）をとり、２８℃で攪拌した。ここに、パラトルエンスルホン酸１水和物０．３８ｇ（２．０ｍｍｏｌ、和光純薬工業社製）を加え、３時間攪拌を続けた後、室温まで冷却した。１０％水酸化ナトリウム水溶液５０ｍｌで１回、蒸留水５０ｍｌで３回、飽和食塩水５０ｍｌで１回洗浄した。有機層を濃縮した後、シリカゲルクロマトグラフィーで精製し、保護体Ｃ２１．８ｇを得た。
【００５５】
実施例８（保護体Ｄの合成）
ナスフラスコに６−クロロプリン２．０ｇ（１２．９ｍｍｏｌ、和光純薬工業社製）、酢酸エチル２０ｍｌ（和光純薬工業社製）、パラトルエンスルホン酸１水和物５７．１ｍｇ（０．３ｍｍｏｌ、和光純薬工業社製）をとり、５０℃で攪拌した。内温を５０℃に保ちながら、ＭＤＨＰ２．６ｇ（２５．８ｍｍｏｌ）を３０分かけて滴下し、１時間攪拌を続けた後、室温まで冷却した。飽和炭酸ナトリウム水溶液２０ｍｌで２回、蒸留水２０ｍｌで２回、飽和食塩水２０ｍｌで１回洗浄した。有機層を濃縮した後、シリカゲルクロマトグラフィーで精製し、保護体Ｄ２．６ｇを得た。
【００５６】
実施例９（保護体Ｅの合成）
ナスフラスコにデカンアミド１７．２ｇ（０．１ｍｏｌ、和光純薬工業社製）、ＭＤＨＰ１９．６ｇ（０．２ｍｏｌ）、トルエン２５ｍｌ（和光純薬工業社製）をとり、２５℃で攪拌した。ここに、塩化水素１ｍｏｌ／Ｌジエチルエーテル溶液０．５ｍｌ（東京化成工業社製）を加え、８０℃で３時間攪拌を続けた後、室温まで冷却した。１０質量％水酸化ナトリウム水溶液２５ｍｌで１回、蒸留水２５ｍｌで３回、飽和食塩水２５ｍｌで１回洗浄した。有機層を濃縮した後、シリカゲルクロマトグラフィーで精製し、保護体Ｅ１８．９ｇを得た。
【００５７】
実施例１０（保護体Ａ−１の脱保護）
ナスフラスコに保護体Ａ−１を１．０ｇ（５．８ｍｍｏｌ）、メタノール３０ｍｌをとり、２５℃で撹拌した。ここに、パラトルエンスルホン酸１水和物１１．０ｍｇ（０．０５８ｍｍｏｌ、和光純薬工業社製）を加え、２５℃で４時間撹拌を続けた後、室温まで冷却した。保護体Ａ−１の脱保護により生成した１−ブタノールの反応収率は、９４．４％であった。
【産業上の利用可能性】
【００５８】
本発明の保護基は、有機合成反応における官能基の保護に利用できる。