(57)【要約】【課題】ノズルの洗浄工程を簡素化することができるスパイラル塗布装置を提供することである。【解決手段】実施形態によれば、ステージと、ノズルと、移動ユニットと、気体供給部と、洗浄液供給部と、ノズル洗浄部と、を備えたスパイラル塗布装置が提供される。ステージは、塗布対象物が載置される載置面を有する。ノズルは、ステージに載置された塗布対象物に液を吐出する。移動ユニットは、ステージに対して相対的にノズルを移動させる。気体供給部は、気体を供給する。洗浄液供給部は、洗浄液を供給する。ノズル洗浄部は、気体供給口と洗浄液供給口とを有し、気体供給部から供給された気体を気体供給口からノズルへ向かって噴射し、洗浄液供給部から供給された洗浄液を洗浄液供給口からノズルへ向かって吐出する。【選択図】図２
2015060932.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布対象物が載置される載置面を有するステージと、
前記ステージに載置された前記塗布対象物に液を吐出するノズルと、
前記ステージに対して相対的に前記ノズルを移動させる移動ユニットであって、前記ステージの回転軸に対して平行な方向に前記ノズルを移動させる第１の移動機構部と、前記回転軸と交差する方向に前記載置面に沿って前記ノズルを移動させる第２の移動機構部と、を有する前記移動ユニットと、
気体を供給する気体供給部と、
洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
気体供給口と洗浄液供給口とを有し、前記気体供給部から供給された前記気体を前記気体供給口から前記ノズルへ向かって噴射し、前記洗浄液供給部から供給された前記洗浄液を前記洗浄液供給口から前記ノズルへ向かって吐出するノズル洗浄部と、
を備えたスパイラル塗布装置。
【請求項２】
前記ノズル洗浄部は、前記気体供給口および前記洗浄液供給口が設けられたハウジングであって、前記ノズルの外周のうちの少なくとも一部を覆う前記ハウジングを有する請求項１記載のスパイラル塗布装置。
【請求項３】
前記気体供給口は、前記洗浄液供給口よりも上に設けられた請求項１または２に記載のスパイラル塗布装置。
【請求項４】
前記ノズル洗浄部は、前記ハウジングを保持する第３の移動機構部であって、前記ノズルに対して相対的に前記ハウジングを前記ノズルの軸に対して平行な方向に移動させる前記第３の移動機構部を有する請求項１〜３のいずれか１つに記載のスパイラル塗布装置。
【請求項５】
前記第３の移動機構部は、前記第２の移動機構部に保持され、前記回転軸と交差する方向に前記載置面に沿って前記ノズルとともに移動可能とされた請求項４記載のスパイラル塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、スパイラル塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば半導体などの分野において、基板上に膜を形成する装置としてスパイラル塗布装置がある。スパイラル塗布装置は、円盤状の基板を固定した円形状の回転ステージを回転させ、塗布ノズルから材料を吐出させながら、塗布ノズルを基板中央から基板外周に向かって直線状に移動させ、らせん状（渦巻き状）の塗布軌跡を描くことで基板全面に膜の形成を行う。このとき、塗布ノズル先端面（吐出面）と基板表面との間の距離を精度良く略一定に制御することで、より均一な厚さの膜を形成することができる。
【０００３】
塗布ノズルの先端が汚れていると膜の厚さにばらつきが生ずるため、一般的に、スパイラル塗布装置は、膜を形成した後に塗布ノズルに付着した付着物を例えば有機溶媒などの洗浄液で洗浄している。しかし、塗布ノズルの先端に洗浄液が残っていると塗布開始部の膜の厚さにばらつきが生ずる。塗布ノズルの洗浄工程は、煩雑である。そのため、塗布ノズルの洗浄工程の簡素化が望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平５−３０９３０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明が解決しようとする課題は、ノズルの洗浄工程を簡素化することができるスパイラル塗布装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
実施形態によれば、ステージと、ノズルと、移動ユニットと、気体供給部と、洗浄液供給部と、ノズル洗浄部と、を備えたスパイラル塗布装置が提供される。前記ステージは、塗布対象物が載置される載置面を有する。前記ノズルは、前記ステージに載置された前記塗布対象物に液を吐出する。前記移動ユニットは、前記ステージに対して相対的に前記ノズルを移動させる。前記移動ユニットは、第１の移動機構部と、第２の移動機構部と、を有する。前記第１の移動機構部は、前記ステージの回転軸に対して平行な方向に前記ノズルを移動させる。前記第２の移動機構部は、前記回転軸と交差する方向に前記載置面に沿って前記ノズルを移動させる。前記気体供給部は、気体を供給する。前記洗浄液供給部は、洗浄液を供給する。前記ノズル洗浄部は、気体供給口と洗浄液供給口とを有し、前記気体供給部から供給された前記気体を前記気体供給口から前記ノズルへ向かって噴射し、前記洗浄液供給部から供給された前記洗浄液を前記洗浄液供給口から前記ノズルへ向かって吐出する。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明の実施の形態にかかるスパイラル塗布装置を表す模式的平面図である。
【図２】本実施形態のノズル洗浄部を表す模式図である。
【図３】ノズル洗浄部の作用およびノズルの洗浄方法を説明する模式的平面図である。
【図４】比較例にかかるノズルの洗浄方法を説明する模式的平面図である。
【図５】本実施形態のノズル洗浄部の変形例を例示する模式的平面図である。
【図６】本実施形態の拭き取り部の具体例を例示する模式的平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。なお、各図面中、同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。  
図１は、本発明の実施の形態にかかるスパイラル塗布装置を表す模式的平面図である。
【０００９】
図１に表したスパイラル塗布装置１００は、ステージ１０１と、ノズル１０２と、塗布液供給部１０３と、検出部１０４と、移動ユニット１０５と、ノズル洗浄部１１０と、気体供給部１４と、洗浄液供給部２０と、拭き取り部３０と、を備える。
【００１０】
ステージ１０１の載置面１０１ａには、塗布対象物としての基板Ｗが載置される。ステージ１０１は、載置された基板Ｗを保持する。ステージ１０１は、例えば円形状に形成され、駆動部１０７により水平面内（載置面１０１ａに沿う面内）において回転可能とされている。基板Ｗは、例えば、図示しない真空ポンプなどを用いた吸着機構によりステージ１０１に保持される。
【００１１】
駆動部１０７は、ステージ１０１を水平面内で回転可能に支持し、ステージ１０１の中心を回転中心としてステージ１０１を例えばモータなどにより水平面内で回転させる。これにより、ステージ１０１の上に載置された基板Ｗは、水平面内で回転する。
【００１２】
ノズル１０２は、基板Ｗの表面に向けて塗布液Ｌを先端から吐出する。ノズル１０２は、塗布液Ｌを連続的に吐出し、塗布液Ｌを基板Ｗの表面に塗布する。例えば、基板Ｗは、半導体ウェーハなどである。例えば、塗布液Ｌは、レジスト液などである。
【００１３】
塗布液供給部１０３は、ノズル１０２を介して、塗布液Ｌを基板Ｗの表面に供給する。例えば、塗布液供給部１０３は、タンクと、ポンプと、供給弁と、吐出弁と、を有する。タンクは、塗布液Ｌを収納する。ポンプは、塗布液Ｌをノズル１０２へ供給する。供給弁および吐出弁は、図示しない制御部から送信される信号に基づいて開閉し、基板Ｗの表面への塗布液Ｌの供給を制御する。
【００１４】
検出部１０４は、基板Ｗの表面またはステージ１０１の載置面１０１ａまでの距離を検出する。ノズル１０２の先端面（吐出面）１０２ａと、基板Ｗの表面と、の間の距離は、検出された基板Ｗの表面までの距離に基づいて図示しない制御部により制御される。あるいは、ノズル１０２の先端面１０２ａと、ステージ１０１の載置面１０１ａと、の間の距離は、検出されたステージ１０１の載置面１０１ａまでの距離に基づいて図示しない制御部により制御される。検出部１０４としては、例えば、反射型レーザセンサなどが挙げられる。
【００１５】
移動ユニット１０５は、昇降部（第１の移動機構部）１０５ａと、移動部（第２の移動機構部）１０５ｂと、を有し、ステージ１０１に対して相対的にノズル１０２を移動させる。昇降部１０５ａは、ノズル１０２を保持し、ノズル１０２を昇降させる。つまり、昇降部１０５ａは、ステージ１０１の回転軸に対して平行な方向にノズル１０２を移動させる。移動部１０５ｂは、昇降部１０５ａを保持し、昇降方向に直交する方向にノズル１０２を移動させる。つまり、移動部１０５ｂは、ステージ１０１の回転軸に対して垂直な方向に載置面１０１ａに沿ってノズル１０２を移動させる。移動ユニット１０５としては、例えば、２軸制御のロボットなどが挙げられる。
【００１６】
ノズル洗浄部１１０は、気体供給部１４から供給される気体２０２と、洗浄液供給部２０から供給される洗浄液２０１と、によりノズル１０２の先端部を洗浄する。ノズル洗浄部１０の詳細については、後述する。
【００１７】
気体供給部１４は、供給部１４ａと、圧力制御部１４ｂと、開閉弁１４ｃと、を有し、気体供給流路１４ｄを通してノズル洗浄部１１０へ気体２０２を供給する。供給部１４ａは、例えば、高圧の気体２０２が収納されたタンクや、工場配管などである。圧力制御部１４ｂは、供給部１４ａから供給された気体２０２の圧力が所定の範囲内となるように制御する。開閉弁１４ｃは、気体２０２の供給と停止を制御する。
【００１８】
この場合、圧力制御部１４ｂと開閉弁１４ｃとを有する組が、複数設けられていてもよい。圧力制御部１４ｂと開閉弁１４ｃとを有する組が複数設けられている場合には、ノズル１０２に付着した付着物の粘度などに応じて、噴射される気体２０２の流速を切り替えることができる。  
例えば、粘度の低い付着物に対しては、圧力設定を低くした圧力制御部１４ｂを介して気体２０２を噴射させることができる。また、粘度の高い付着物に対しては、圧力設定を高くした圧力制御部１４ｂを介して気体２０２を噴射させることができる。これによれば、粘度の高い付着物の除去を容易とすることができ、粘度の低い付着物が飛び散るのを抑制することができる。
【００１９】
洗浄液供給部２０は、収納部２２と、送液部２３と、流量制御部２４と、を有し、洗浄液供給流路２０ａを通して洗浄液２０１をノズル洗浄部１１０へ供給する。  
収納部２２は、洗浄液２０１を収納する。洗浄液２０１については、特に限定はなく、付着物の材質に応じて適宜選定することができる。例えば、付着物がレジストである場合には、洗浄液２０１は、ケトン系溶剤やアルコール系溶剤などを含む。
【００２０】
送液部２３は、収納部２２の内部に気体を供給することで、収納部２２に収納された洗浄液２０１をノズル洗浄部１１０に向けて圧送する。  
送液部２３は、圧力制御部２３ａと、開閉弁２３ｂと、供給部２３ｃと、を有する。  
圧力制御部２３ａは、供給部２３ｃから収納部２２の内部に供給される気体の圧力を制御する。供給部２３ｃから供給される気体については、特に限定はなく、例えば、空気や窒素ガスなどを含む。  
開閉弁２３ｂは、収納部２２への気体の供給と停止を行う。  
供給部２３ｃは、例えば、高圧の気体が収納されたタンクや、工場配管などである。
【００２１】
流量制御部２４は、流量調整弁２４ａと開閉弁２４ｂを有する。  
流量調整弁２４ａは、ノズル洗浄部１１０に供給される洗浄液２０１の流量を調整する。  
開閉弁２４ｂは、ノズル洗浄部１１０への洗浄液２０１の供給と停止を行う。
【００２２】
図２は、本実施形態のノズル洗浄部を表す模式図である。  
図２（ａ）は、本実施形態のノズル洗浄部を表す模式的平面図である。図２（ｂ）は、図２（ａ）に表した切断面Ａ−Ａにおける模式的断面図である。
【００２３】
本実施形態のノズル洗浄部１１０は、ハウジング１１１と、昇降機構部（第３の移動機構部）１１９と、を有する。  
ハウジング１１１は、例えば容器などであり、中空形状を呈する。図２（ａ）および図２（ｂ）に表したように、ノズル１０２のうちの少なくとも一部は、ハウジング１１１の内部に挿入されている。つまり、ハウジング１１１は、ノズル１０２の外周のうちの少なくとも一部を覆う。  
昇降機構部１１９は、ハウジング１１１を保持し、ハウジング１１１を昇降させる。つまり、昇降機構部１１９は、ノズル１０２に対して相対的にハウジング１１１をノズル１０２の軸に対して平行な方向に昇降させる。昇降機構部１１９は、移動部１０５ｂに保持され、昇降方向に直交する方向に移動することができる。つまり、昇降機構部１１９は、ステージ１０１の回転軸に対して垂直な方向に載置面１０１ａに沿ってノズル１０２とともに移動することができる。これにより、本実施形態のノズル洗浄部１１０は、ノズル１０２に対して相対的に昇降方向に移動できる一方で、ステージ１０１の回転軸に対して垂直な方向に載置面１０１ａに沿ってノズル１０２とともに移動することができる。
【００２４】
ハウジング１１１は、気体通路１１３と、洗浄液通路１１５と、を有する。  
気体通路１１３の一端は、気体供給流路１４ｄに接続されている。気体通路１１３の他端は、気体供給口１１３ａを形成する。例えば、気体通路１１３は、ノズル１０２の全周にわたって環状に設けられている。あるいは、気体通路１１３は、所定の間隔をおいてノズル１０２の全周にわたって複数配置されていてもよい。図２（ａ）に表した矢印Ａ１およびＡ２のように、気体供給流路１４ｄおよび気体通路１１３を通って供給された気体２０２は、気体供給口１１３ａからノズル１０２の先端部へ向かって噴射される。
【００２５】
洗浄液通路１１５の一端は、洗浄液供給流路２０ａに接続されている。洗浄液通路１１５の他端は、洗浄液供給口１１５ａを形成する。例えば、洗浄液通路１１５は、ノズル１０２の全周にわたって環状に設けられている。あるいは、洗浄液通路１１５は、所定の間隔をおいてノズル１０２の全周にわたって複数配置されていてもよい。図２（ａ）に表した矢印Ａ３およびＡ４のように、洗浄液供給流路２０ａおよび洗浄液通路１１５を通って供給された洗浄液は、洗浄液供給口１１５ａからノズル１０２の先端部へ向かって吐出される。
【００２６】
図２（ａ）に表したように、気体供給口１１３ａは、洗浄液供給口１１５ａよりも上に設けられている。
【００２７】
図３は、ノズル洗浄部の作用およびノズルの洗浄方法を説明する模式的平面図である。  図４は、比較例にかかるノズルの洗浄方法を説明する模式的平面図である。
【００２８】
まず、図４（ａ）〜図４（ｆ）を参照しつつ、比較例にかかるノズルの洗浄方法を説明する。  
図４（ａ）に表したように、付着物２１１が付着したノズル１０２の先端部に気体を適宜噴射する。続いて、図４（ｂ）に表したように、移動ユニット１０５によりノズル１０２を移動させ、洗浄槽２２１に収納された洗浄液２０１の中にノズル１０２の先端部を入れる。そして、ノズル１０２から塗布液Ｌを吐出させる。ノズル１０２の先端部を洗浄液２０１中に入れることで、ノズル１０２の先端部にある塗布液Ｌに洗浄液２０１が混入する。そのため、洗浄液２０１が混入した塗布液Ｌを排出する。
【００２９】
続いて、図４（ｂ）に表した矢印Ａ１１および図４（ｃ）に表したように、移動ユニット１０５によりノズル１０２を移動させ、ブロー容器２２３の中に挿入する。そして、図４（ｃ）に表した矢印Ａ１３および矢印Ａ１４のように、ブロー容器２２３の噴射孔２２３ａからノズル１０２の先端部に気体を噴射する。
【００３０】
続いて、図４（ｃ）に表した矢印Ａ１２のように、移動ユニット１０５によりノズル１０２を拭き取り部３０の上方に移動させる。そして、図４（ｄ）に表した矢印Ａ１５および矢印Ａ１６のように、ノズル１０２の先端面１０２ａを拭き取り部３０の布部に接触させ、接触させた状態のまま拭き取り部３０の布部の上を移動させることで、ノズル１０２の先端面１０２ａを拭く。
【００３１】
続いて、図４（ｅ）に表したように、移動ユニット１０５によりノズル１０２を移動させ、そのまま放置する。これにより、ノズル１０２の先端面１０２ａおよびノズル１０２の先端部に付いた洗浄液２０１を乾燥させる。続いて、図４（ｆ）に表したように、移動ユニット１０５によりノズル１０２をステージ１０１の上に移動させ、スパイラル塗布を行う。
【００３２】
このように、比較例にかかるノズル１０２の洗浄方法では、ノズル１０２を放置し、ノズル１０２の先端面１０２ａおよびノズル１０２の先端部に付いた洗浄液２０１を乾燥させる。そのため、ノズル１０２の洗浄工程において、比較的長い時間がかかることがある。また、例えば、洗浄槽２２１からブロー容器２２３へノズル１０２を移動させる場合のように、ノズル１０２の移動に比較的長い時間がかかることがある。
【００３３】
これに対して、本実施形態では、スパイラル塗布装置１００は、ノズル洗浄部１１０を備える。図２に関して前述したように、ノズル洗浄部１１０は、ノズル１０２に対して相対的に昇降方向に移動できる一方で、ステージ１０１の回転軸に対して垂直な方向に載置面１０１ａに沿ってノズル１０２とともに移動することができる。
【００３４】
図３（ａ）〜図３（ｆ）を参照しつつ、本実施形態のノズル１０２の洗浄方法を説明する。  
図３（ａ）に表したように付着物２１１がノズル１０２の先端部に付着した状態において、図３（ｂ）に表した矢印Ａ２１および矢印Ａ２２のように、気体供給口１１３ａからノズル１０２の先端部へ向かって気体２０２を噴射させる。
【００３５】
続いて、例えば図３（ｃ）に表した矢印Ａ２１および矢印Ａ２２のように気体供給口１１３ａからノズル１０２の先端部へ向かって気体２０２を噴射させつつ、図３（ｃ）に表した矢印Ａ２３および矢印Ａ２４のように洗浄液供給口１１５ａからノズル１０２の先端部へ向かって洗浄液２０１を吐出する。これにより、洗浄液２０１は、ノズル１０２の先端部の略全周に行きわたる。
【００３６】
続いて、図３（ｄ）に表した矢印Ａ２１、矢印Ａ２２および矢印Ａ２５のように、気体供給口１１３ａからノズル１０２の先端部へ向かって気体２０２を噴射させつつ、昇降機構部１１９がハウジング１１１をノズル１０２の先端部へ向かって下降させる。これにより、ノズル１０２の先端部の略全周に付着した洗浄液２０１が飛ばされる。
【００３７】
続いて、気体供給口１１３ａからノズル１０２の先端部へ向かって気体２０２を噴射させつつ、移動ユニット１０５によりノズル１０２を拭き取り部３０の上方に移動させる。前述したように、気体供給口１１３ａは、洗浄液供給口１１５ａよりも上に設けられている。これにより、ノズル１０２の先端部に付着した洗浄液２０１を気体２０２により飛ばした後に、洗浄液２０１がノズル１０２の先端部に再び付着し残ることを抑えることができる。
【００３８】
図３（ｅ）に表した矢印Ａ２１、矢印Ａ２２および矢印Ａ２６のように、気体供給口１１３ａからノズル１０２の先端部へ向かって気体２０２を噴射させつつ、昇降機構部１１９がハウジング１１１をノズル１０２の先端部とは反対側へ向かって上昇させる。続いて、例えば図３（ｅ）に表した矢印Ａ２１および矢印Ａ２２のように気体供給口１１３ａからノズル１０２の先端部へ向かって気体２０２を噴射させつつ、図３（ｅ）に表した矢印Ａ２７のようにノズル１０２の先端面１０２ａを拭き取り部３０の布部に接触させ、接触させた状態のまま拭き取り部３０の布部の上を移動させることで、ノズル１０２の先端面１０２ａを拭く。
【００３９】
続いて、図３（ｆ）に表したように、気体供給口１１３ａから噴射させていた気体２０２を停止させ、移動ユニット１０５によりノズル１０２をステージ１０１の上に移動させ、スパイラル塗布を行う。
【００４０】
本実施形態によれば、ノズル１０２を放置してノズル１０２の先端部を乾燥させる工程を省略することができる。そのため、ノズル１０２の洗浄工程にかかる時間を短縮化し、ノズル１０２の洗浄工程を簡素化することができる。また、ノズル１０２を移動させている途中や、ノズル１０２の先端面１０２ａを拭き取り部３０で拭いている途中などに、気体供給口１１３ａからノズル１０２の先端部へ向かって気体２０２を噴射させ続けることができる。これにより、乾燥の促進を図り、ノズル１０２の洗浄工程にかかる時間を短縮化することができる。
【００４１】
また、図４（ｂ）に関して前述した洗浄槽２２１が不要となるため、省スペース化を図り、スパイラル塗布装置１００を簡素化することができる。さらに、ノズル１０２の先端部に洗浄液２０１を吐出し気体２０２を噴射するため、洗浄槽２２１に収納された洗浄液２０１の中にノズル１０２の先端部を入れる場合と比較すると、ノズル１０２の洗浄効率を向上させることができる。
【００４２】
図５は、本実施形態のノズル洗浄部の変形例を例示する模式的平面図である。  
図５（ａ）は、ノズル洗浄部の変形例の一例を例示する模式的平面図である。図５（ｂ）は、ノズル洗浄部の変形例の他の一例を例示する模式的平面図である。
【００４３】
図５（ａ）に表したノズル洗浄部１１０ａは、洗浄液通路１１７を有する。洗浄液通路１１７は、ハウジング１１１の下端部の外周部に設けられている。洗浄液通路１１７の一端は、洗浄液供給流路２０ａに接続されている。洗浄液通路１１７の他端は、洗浄液供給口１１７ａを形成する。例えば、洗浄液通路１１７は、ノズル１０２の先端部の全周にわたって環状に設けられている。あるいは、洗浄液通路１１７は、所定の間隔をおいてノズル１０２の先端部の全周にわたって複数配置されていてもよい。図５（ａ）に表した矢印Ａ３１および矢印Ａ３２のように、洗浄液供給流路２０ａおよび洗浄液通路１１７を通って供給された洗浄液は、洗浄液供給口１１７ａからノズル１０２の先端部へ向かって噴射される。その他の構造は、図２に関して前述したノズル洗浄部１１０の構造と同様である。
【００４４】
本変形例によれば、ノズル洗浄部１１０ａは、洗浄液供給口１１７ａからノズル１０２の先端部へ向かって洗浄液２０１を噴射する。そのため、ノズル１０２の先端部の略全周に洗浄液２０１をより確実に行きわたらせることができる。  
なお、気体供給口１１３ａから噴射されハウジング１１１の中を通る気体２０２の流れは、層流となることがより好ましい。これによれば、ノズル１０２の先端部にある塗布液Ｌが気体２０２の流れによりノズル１０２から引きずり出されることを抑えることができる。
【００４５】
図５（ｂ）に表したノズル洗浄部１１０ｂは、図５（ａ）に表したノズル洗浄部１１０ａに対して、台座１１８をさらに有する。これによれば、気体供給口１１３ａから噴射されハウジング１１１の中を通る気体２０２の流れを、より容易に層流にすることができる。これにより、ノズル１０２の先端部にある塗布液Ｌが気体２０２の流れによりノズル１０２から引きずり出されることをより容易に抑えることができる。
【００４６】
次に、本実施形態の拭き取り部３０の具体例について、図面を参照しつつ説明する。  
図６は、本実施形態の拭き取り部の具体例を例示する模式的平面図である。  
なお、図６（ａ）は、図６（ｂ）に表した切断面Ｃ−Ｃにおける模式的断面図である。図６（ｂ）は、図６（ａ）に表した切断面Ｂ−Ｂにおける模式的断面図である。
【００４７】
図６（ａ）および図６（ｂ）に示すように、拭き取り部３０は、基台３１と、支持部３２と、案内部３３と、保持部３４と、パッド３５と、弾性部３６と、支持板３７と、押さえ板３８と、布部３９と、供給部４０と、巻き取り部４１と、を有する。
【００４８】
基台３１は、板状を呈し、供給部４０と巻き取り部４１との間に設けられている。  
支持部３２は、基台３１の長手方向の両端部にそれぞれ設けられている。支持部３２は、柱状を呈している。  
案内部３３は、支持部３２に設けられている。案内部３３は、支持部３２の軸方向に延びている。  
保持部３４は、パッド３５を保持するとともに、案内部３３に沿って移動する。  
パッド３５は、布部３９のノズル１０２の先端面が接触する側とは反対側に接触する。パッド３５は、板状を呈し、両端部が保持部３４に保持されている。パッド３５の長手方向は、基台３１の長手方向と同じである。
【００４９】
弾性部３６は、基台３１とパッド３５との間に設けられ、パッド３５を布部３９に向けて付勢する。弾性部３６は、例えば、圧縮バネなどである。  
支持板３７は、布部３９のノズル１０２の先端面が接触する側とは反対側に接触する。支持板３７は、パッド３５の長手方向と直交する方向に、パッド３５を挟んで２つ設けられている。支持板３７は、例えば、支持部３２に保持されている。  
押さえ板３８は、２つの支持板３７の上方にそれぞれ設けられている。すなわち、押さえ板３８は、布部３９を挟んで、支持板３７と対峙させて設けられている。押さえ板３８は、図示しない弾性部により支持板３７に向けて付勢されている。
【００５０】
なお、支持板３７と押さえ板３８が２組設けられる場合を例示したが、組数は適宜変更することができる。例えば、支持板３７と押さえ板３８とが１組設けられていてもよいし、３組以上設けられていてもよい。
【００５１】
布部３９は、帯状を呈している。布部３９は、一端が供給部４０の巻心４０ａに保持され、他端が巻き取り部４１の巻心４１ａに保持されている。  
布部３９は、供給部４０側の支持板３７と押さえ板３８との間、パッド３５の上面、および、巻き取り部４１側の支持板３７と押さえ板３８との間を通過している。  
ノズル１０２の先端面を布部３９に接触させ、接触させた状態のまま布部３９上を移動させることで、ノズル１０２の先端面を拭くことができる。この際、弾性部３６の作用により、パッド３５を介して布部３９がノズル１０２の先端面に押し付けられる。そのため、布部３９と、ノズル１０２の先端面と、の間の密着性を維持することができる。
【００５２】
供給部４０は、布部３９が巻かれた巻心４０ａを保持する。また、巻心４０ａが回転できるようになっている。  
巻き取り部４１は、巻心４１ａを保持する。また、図示しない駆動装置により巻心４１ａを回転させて布部３９を巻き取るようになっている。
【００５３】
本実施形態の拭き取り部３０では、布部３９は、支持板３７と押さえ板３８との間に挟まれている。そのため、ノズル１０２に押されてパッド３５の位置が下方に移動したとしても、供給部４０側と、巻き取り部４１側と、の間で布部３９が撓むことを抑制することができる。そのため、ノズル１０２に付着した付着物を効果的に除去することができる。
【００５４】
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００５５】
１０ ノズル洗浄部、  １４ 気体供給部、  １４ａ 供給部、  １４ｂ 圧力制御部、  １４ｃ 開閉弁、  １４ｄ 気体供給流路、  ２０ 洗浄液供給部、  ２０ａ 洗浄液供給流路、  ２２ 収納部、  ２３ 送液部、  ２３ａ 圧力制御部、  ２３ｂ 開閉弁、  ２３ｃ 供給部、  ２４ 流量制御部、  ２４ａ 流量調整弁、  ２４ｂ 開閉弁、  ３０ 拭き取り部、  ３１ 基台、  ３２ 支持部、  ３３ 案内部、  ３４ 保持部、  ３５ パッド、  ３６ 弾性部、  ３７ 支持板、  ３８ 押さえ板、  ３９ 布部、  ４０ 供給部、  ４０ａ 巻心、  ４１ 巻き取り部、  ４１ａ 巻心、  １００ スパイラル塗布装置、  １０１ ステージ、  １０１ａ 載置面、  １０２ ノズル、  １０２ａ 先端面、  １０３ 塗布液供給部、  １０４ 検出部、  １０５ 移動ユニット、  １０５ａ 昇降部、  １０５ｂ 移動部、  １０７ 駆動部、  １１０、１１０ａ、１１０ｂ ノズル洗浄部、  １１１ ハウジング、  １１３ 気体通路、  １１３ａ 気体供給口、  １１５ 洗浄液通路、  １１５ａ 洗浄液供給口、  １１７ 洗浄液通路、  １１７ａ 洗浄液供給口、  １１８ 台座、  １１９ 昇降機構部、  ２０１ 洗浄液、  ２０２ 気体、  ２１１ 付着物、  ２２１ 洗浄槽、  ２２３ ブロー容器、  ２２３ａ 噴射孔
【図１】
2015060932.tif 000003
【図２】
2015060932.tif 000004
【図３】
2015060932.tif 000005
【図４】
2015060932.tif 000006
【図５】
2015060932.tif 000007
【図６】
2015060932.tif 000008