(57)【要約】【課題】微細凹凸面の汚れ拭き取り性に優れた反射防止物品が得られる反射防止物品の製造方法、及び微細凹凸面の汚れ拭き取り性を、個人依存性を排除して定量的に評価できる反射防止物品の評価方法を提供する。【解決手段】樹脂組成物の硬化物からなり且つ微細凹凸形状を表面に有する微細凹凸層を備えた反射防止物品の製造方法であり、樹脂組成物を選定する選定工程を有し、当該選定工程が、評価用反射防止物品準備工程と、微細凹凸面に０．２〜０．６ｍｇ／ｃｍ２の範囲内で一定量のトリオレインを付着させる工程と、微細凹凸面を、０．６〜０．７ｋｇ／ｃｍ２の範囲内で一定の圧力で２０〜１５０往復の範囲内で一定回数乾拭きする工程と、反射率測定工程と、測定結果と所定値とを対比してトリオレインの拭き取り性を判定する工程とを有し、拭き取り性が良好であると判定された樹脂組成物を用いて、微細凹凸層を形成する工程を有する、反射防止物品の製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂組成物の硬化物からなり且つ複数の微小突起が密接して配置されてなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を表面に有する微細凹凸層を備え、
前記微小突起が、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起の隣接突起間隔ｄの最大値をｄｍａｘとしたときに、
ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ
なる関係を有し、且つ、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有する反射防止物品の製造方法であり、
前記樹脂組成物を選定する選定工程を有し、当該選定工程が、
評価用樹脂組成物を用いて、前記微細凹凸形状と同様の微細凹凸形状を形成することにより、評価用微細凹凸層が形成された、評価用反射防止物品を準備する工程と、
前記評価用微細凹凸層の前記微細凹凸形状を有する表面に０．２〜０．６ｍｇ／ｃｍ２の範囲内で一定量のトリオレインを付着させる工程と、
前記工程によりトリオレインが付着した前記評価用微細凹凸層の表面を、０．６〜０．７ｋｇ／ｃｍ２の範囲内で一定の圧力で、２０〜１５０往復の範囲内で一定回数乾拭きする工程と、
前記乾拭き後の前記評価用反射防止物品の反射率を測定する工程と、
前記反射率の測定結果と、予め設定された所定値とを対比して、前記反射率の測定結果が前記所定値以下である場合には、前記評価用微細凹凸層の表面に付着したトリオレインの前記乾拭き後の拭き取り性が良好と判定する工程とを有し、
前記選定工程において拭き取り性が良好であると判定された樹脂組成物を用いて、前記微細凹凸層を形成する工程を有することを特徴とする、反射防止物品の製造方法。
【請求項２】
樹脂組成物の硬化物からなり且つ複数の微小突起が密接して配置されてなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を表面に有する微細凹凸層を備え、
前記微小突起が、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起の隣接突起間隔ｄの最大値をｄｍａｘとしたときに、
ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ
なる関係を有し、且つ、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有する反射防止物品の評価方法であり、
前記反射防止物品を準備する工程と、
前記反射防止物品が備える前記微細凹凸層の前記微細凹凸形状を有する表面に０．２〜０．６ｍｇ／ｃｍ２の範囲内で一定量のトリオレインを付着させる工程と、
前記工程によりトリオレインが付着した前記微細凹凸層の表面を、０．６〜０．７ｋｇ／ｃｍ２の範囲内で一定の圧力で、２０〜１５０往復の範囲内で一定回数乾拭きする工程と、
前記乾拭き後の前記反射防止物品の反射率を測定する工程と、
前記測定の結果に基づいて、前記微細凹凸層の表面に付着したトリオレインの前記乾拭きによる拭き取り性を評価する工程とを有することを特徴とする、反射防止物品の評価方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止物品の製造方法及び反射防止物品の評価方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、フィルム形状の反射防止物品である反射防止フィルムに関して、透明基材（透明フィルム）の表面に多数の微小突起を密接して配置することにより、反射防止を図る方法が提案されている（特許文献１〜３参照）。この方法は、入射光に対する屈折率を厚み方向に連続的に変化させ、これにより屈折率の不連続界面を消失させて反射防止を図るものである。
【０００３】
上記のような多数の微小突起を有する反射防止物品は、高い反射防止性能を有する。しかしながら、その表面構造により皮脂等の汚れが付着し易く、また、当該汚れは微小突起間の溝奥まで入り込むため除去が困難である。そのため、上記反射防止物品は、皮脂等の汚れを容易に拭き取ることができる性能の向上が求められている。
反射防止物品が、そのような汚れ拭き取り性能に優れるものであるか否かを判断するための評価方法として、例えば特許文献４に、モスアイパターンが形成された光学素子において、モスアイパターンの形成側の面に指紋を付着した後、１８ｋＰａ程度の圧力で５秒間、１０往復の乾拭きを行い、指紋を付着させる前と乾拭きした後での反射率が同一の値であった場合を乾拭き可能とみなす方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開昭５０−７００４０号公報
【特許文献２】特表２００３−５３１９６２号公報
【特許文献３】特許第４６３２５８９号公報
【特許文献４】特開２０１１−７６０７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来の評価方法では、人が指紋を付着し、人が拭き取りを行って評価をするものであったため、評価者の個人依存性が高かった。例えば、指紋の成分は個人に依存し、同一人物であっても環境に依存して一定ではない。更に指紋の付着のさせ方についても、付着時の圧力、付着量、及び付着面積等は、個人により依存して一定ではない。また、汚れを拭き取る際には、拭き取り範囲、荷重及び拭き取り速度等が個人により依存して一定ではない。このように個人依存性が高い評価方法によれば、評価日時や評価者により評価結果にバラつきが生じるため、汚れの拭き取り性の大雑把な評価をすることは可能であっても、汚れの拭き取り性の微妙な差異までを判断することは困難であった。また、評価日時や評価者が異なる評価結果同士を比較することにより、汚れの拭き取り性を向上した反射防止物品の製造に活かすことは困難であった。
一方で、微細凹凸形状を表面に有する反射防止物品においては、微細凹凸形状を有する面（以下、単に微細凹凸面ということがある。）に付着した汚れを拭き取る際の圧力が強すぎると、微小突起の潰れや、スティッキング等により表面の微細凹凸形状が変形してしまい、また、汚れを拭き取る際の圧力が弱すぎると、汚れを拭き取ることができないか、或いは汚れを拭き取るのに長時間かかってしまうという問題がある。そのため、微細凹凸構造を構成する樹脂組成物の種類や、微細凹凸形状の違いによって適宜評価方法の条件を設定する必要があり、個人依存性を排除して評価方法を定量化することは困難であった。
【０００６】
本発明は上記実情に鑑みてなされたものであり、微細凹凸形状を有する表面の汚れ拭き取り性に優れた反射防止物品を製造することができる反射防止物品の製造方法、及び微細凹凸形状を有する表面の汚れ拭き取り性を、個人依存性を排除して、定量的に評価することができる反射防止物品の評価方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る反射防止物品の製造方法は、樹脂組成物の硬化物からなり且つ複数の微小突起が密接して配置されてなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を表面に有する微細凹凸層を備え、
前記微小突起が、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起の隣接突起間隔ｄの最大値をｄｍａｘとしたときに、
ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ
なる関係を有し、且つ、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有する反射防止物品の製造方法であり、
前記樹脂組成物を選定する選定工程を有し、当該選定工程が、
評価用樹脂組成物を用いて、前記微細凹凸形状と同様の微細凹凸形状を形成することにより、評価用微細凹凸層が形成された、評価用反射防止物品を準備する工程と、
前記評価用微細凹凸層の前記微細凹凸形状を有する表面に０．２〜０．６ｍｇ／ｃｍ２の範囲内で一定量のトリオレインを付着させる工程と、
前記工程によりトリオレインが付着した前記評価用微細凹凸層の表面を、０．６〜０．７ｋｇ／ｃｍ２の範囲内で一定の圧力で、２０〜１５０往復の範囲内で一定回数乾拭きする工程と、
前記乾拭き後の前記評価用反射防止物品の反射率を測定する工程と、
前記反射率の測定結果と、予め設定された所定値とを対比して、前記反射率の測定結果が前記所定値以下である場合には、前記評価用微細凹凸層の表面に付着したトリオレインの前記乾拭き後の拭き取り性が良好と判定する工程とを有し、
前記選定工程において拭き取り性が良好であると判定された樹脂組成物を用いて、前記微細凹凸層を形成する工程を有することを特徴とする。
【０００８】
本発明に係る反射防止物品の評価方法は、樹脂組成物の硬化物からなり且つ複数の微小突起が密接して配置されてなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を表面に有する微細凹凸層を備え、
前記微小突起が、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起の隣接突起間隔ｄの最大値をｄｍａｘとしたときに、
ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ
なる関係を有し、且つ、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有する反射防止物品の評価方法であり、
前記反射防止物品を準備する工程と、
前記反射防止物品が備える前記微細凹凸層の前記微細凹凸形状を有する表面に０．２〜０．６ｍｇ／ｃｍ２の範囲内で一定量のトリオレインを付着させる工程と、
前記工程によりトリオレインが付着した前記微細凹凸層の表面を、０．６〜０．７ｋｇ／ｃｍ２の範囲内で一定の圧力で、２０〜１５０往復の範囲内で一定回数乾拭きする工程と、
前記乾拭き後の前記反射防止物品の反射率を測定する工程と、
前記測定の結果に基づいて、前記微細凹凸層の表面に付着したトリオレインの前記乾拭きによる拭き取り性を評価する工程とを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、微細凹凸形状を有する表面の汚れ拭き取り性に優れた反射防止物品を製造することができる反射防止物品の製造方法、及び微細凹凸形状を有する表面の汚れ拭き取り性を、個人依存性を排除して、定量的に評価することができる反射防止物品の評価方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明に用いられる反射防止物品の一例を模式的に示す断面図である。
【図２】ドロネー図の一例を模式的に示す平面図である。
【図３】微細凹凸層の形成方法の一例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明に係る反射防止物品の評価方法、及び反射防止物品の製造方法を順に説明する。
本明細書において「物品」は、「板」、「シート」、「フィルム」等の態様を含む概念であり、「板」、「シート」、「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。
さらに、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。
本発明において（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートの各々を表す。
また、本発明において硬化物とは固化したもののことをいう。
【００１２】
１．反射防止物品の評価方法
本発明に係る反射防止物品の評価方法（以下、単に評価方法ということがある。）は、樹脂組成物の硬化物からなり且つ複数の微小突起が密接して配置されてなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を表面に有する微細凹凸層を備え、
前記微小突起が、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起の隣接突起間隔ｄの最大値をｄｍａｘとしたときに、
ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ
なる関係を有し、且つ、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有する反射防止物品の評価方法であり、
前記反射防止物品を準備する工程（以下、単に反射防止物品準備工程ということがある。）と、
前記反射防止物品が備える前記微細凹凸層の前記微細凹凸形状を有する表面に０．２〜０．６ｍｇ／ｃｍ２の範囲内で一定量のトリオレインを付着させる工程（以下、単にトリオレイン付着工程ということがある。）と、
前記工程によりトリオレインが付着した前記微細凹凸層の表面を、０．６〜０．７ｋｇ／ｃｍ２の範囲内で一定の圧力で、２０〜１５０往復の範囲内で一定回数乾拭きする工程（以下、単に乾拭き工程ということがある。）と、
前記乾拭き後の前記反射防止物品の反射率を測定する工程（以下、単に測定工程ということがある。）と、
前記測定の結果に基づいて、前記微細凹凸層の表面に付着したトリオレインの前記乾拭きによる拭き取り性を評価する工程（以下、単に評価工程ということがある）とを有することを特徴とする。
【００１３】
微細凹凸形状を表面に有する反射防止物品の当該表面に付着した汚れの拭き取り性（以下、単に、拭き取り性ということがある。）の評価においては、表面の微細凹凸形状を破壊しないように評価する必要があることから、微細凹凸構造を構成する樹脂組成物の種類や、微細凹凸形状の違いによって適宜評価方法の条件を設定する必要がある。そのため、従来は、汚れの付着及び拭き取りが人の手によって行われたり等、個人依存性を有する官能評価であった。
それに対し本発明者らは、鋭意検討の結果、反射防止物品の拭き取り性の評価方法において、付着液としてトリオレインを用い、且つトリオレインの付着量、トリオレインを拭き取る際の圧力及び拭き取り回数を特定の範囲内の一定量とし、反射防止物品の反射率に基づいて拭き取り性の評価をすることにより、全ての工程において個人依存性がなく、定量的に拭き取り性の微妙な差異を判断することができることを見出し、本発明を完成させるに至った。本発明に係る評価方法によれば、評価日時や評価者が異なる評価結果同士を比較することが可能になり、汚れの拭き取り性を向上した反射防止物品の開発や製造に活かすことが可能になる。また、本発明に係る評価方法において、乾拭きの条件は、通常、付着したトリオレインが完全に拭き取られる前に終了する条件であるため、拭き取り性の評価に用いられる乾拭き後の反射率は、トリオレインが完全に拭き取られていない状態で測定される値である。そのため、トリオレインの拭き取り過程における除去量の差が明確に表れ、拭き取り性の微妙な差異まで評価することができる。すなわち、従来の評価方法では同じ評価結果となっていた反射防止物品間における微妙な拭き取り性の差異を評価することができる。また、本発明に係る評価方法によれば、乾拭きの際の圧力及び乾拭き回数の条件が、通常、付着したトリオレインが完全に拭き取られる前に終了する条件であり、微細凹凸面に負荷をかけすぎない条件であることから、種々の微細凹凸形状に対して表面の微細凹凸形状を破壊しないように評価することができる。
さらに、本発明に係る評価方法は、トリオレインのみからなる付着液を選択して使用している。トリオレインは、皮脂に近似した物理特性を有するため、トリオレインの拭き取り性の評価結果を、皮脂等の汚れの拭き取り性の指標とすることができる。
【００１４】
＜反射防止物品準備工程＞
本発明に係る反射防止物品の評価方法は、まず、反射防止物品を準備する反射防止物品準備工程を有する。本発明に係る評価方法に用いられる反射防止物品は、樹脂組成物の硬化物からなり且つ複数の微小突起が密接して配置されてなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を表面に有する微細凹凸層を備えるものであれば特に限定されない。
図１は、本発明に用いられる反射防止物品の一例を模式的に示す断面図である。図１に示す反射防止物品１０は、透明基材１の一面側に、微細凹凸層２を有し、微細凹凸層２は、複数の微小突起３が密接して配置されてなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を表面に有する。
本発明に係る評価方法に用いられる反射防止物品としては、例えば、後述する本発明に係る反射防止物品の製造方法において用いられる評価用反射防止物品、及び後述する製造方法に記載されたような製法で得られた反射防止物品、並びに市販の反射防止物品等を挙げることができる。
【００１５】
本発明に係る評価方法に用いられる反射防止物品は、特に限定はされないが、反射防止性能の観点から、５°正反射率が０．３％以下であることが好ましい。また、５°正反射率が前記上限値以下であると、後述する評価工程において、反射率の対比に基づく評価を容易に行うことができる。ここで、反射防止物品の５°正反射率は、ＪＩＳ Ｚ８７０１−１９９９により測定することができる。
【００１６】
＜トリオレイン付着工程＞
トリオレイン付着工程では、反射防止物品の微細凹凸層２の微細凹凸形状を有する表面にトリオレインを付着させる。
トリオレインの付着量は、０．２〜０．６ｍｇ／ｃｍ２の範囲内で一定量であり、０．３〜０．５ｍｇ／ｃｍ２の範囲内で一定量であることがより好ましい。一般的に、５°正反射率が０％の基板に指紋を付着すると、指紋付着後の基板の５°正反射率は０％超過且つ４％以下の範囲内となる。一方、５°正反射率が０％の基板に、前記範囲内の量でトリオレインを付着すると、トリオレイン付着後の基板の５°正反射率は１％以上且つ３％以下の範囲内となる。よって、トリオレインの付着量を前記範囲内とすることにより、前記付着量のトリオレインは、指紋による汚れに相当すると考えられる。
【００１７】
トリオレイン付着工程におけるトリオレインの付着方法は、前記範囲内の付着量で一定量のトリオレインを付着させることができる方法であれば特に限定されないが、付着時圧力、付着量、及び付着面積を一定にしやすい点から、機器を用いた方法であることが好ましい。例えば、付着時圧力、付着量、及び付着面積を一定に制御可能な、スタンプにより押し付ける方法、ディスペンサー等を用いて滴下する方法、離型フィルムに均一厚みに塗工した後に転写させる方法等が挙げられる。
中でも、指紋が付着する際の条件に近い点から、スタンプにより押し付ける方法が好ましい。スタンプにより押し付ける方法でトリオレインを付着させる場合は、微細凹凸形状の変形を防止する点から、付着させる際の圧力は、０．８〜１．２ｋｇ／ｃｍ２であることが好ましい。前記押し付ける際の圧力は、例えば、重し等の荷重道具を用いて調整することができる。
トリオレインを付着するスタンプの転写部の材料は、特に限定はされないが、入手し易く、微細凹凸形状の変形を防止する点から、例えばシリコンゴムが挙げられる。
【００１８】
トリオレインを付着させるトリオレイン付着部の面積は、特に限定はされないが、７８．５〜７８５０ｍｍ２であることが好ましく、２００〜４５０ｍｍ２であることがより好ましい。
前記トリオレイン付着部の形状は、特に限定されず、例えば円形、楕円形、三角形等の多角形等が挙げられ、中でも、トリオレインを均一に付着させやすく、乾拭きが容易である点から、直径０．５〜５ｃｍの円形又は略円形であることが好ましい。トリオレインの付着をスタンプを用いて行う場合は、トリオレインを付着させる範囲の形状は、スタンプの転写部の形状に対応する形状となる。
【００１９】
＜乾拭き工程＞
次に、乾拭き工程において、前記トリオレイン付着工程によりトリオレインが付着した微細凹凸層２の表面を、０．６〜０．７ｋｇ／ｃｍ２の範囲内の一定の圧力で、２０〜１５０往復の範囲内で一定回数乾拭きする。中でも２０〜１２０往復の範囲内で一定回数乾拭きすることが好ましい。
なお、本発明において複数回往復乾拭きするとは、一方方向における乾拭きの回数と、その反対方向における乾拭きの回数の差が１回以下であればよく、一方方向とその反対方向における乾拭きを、交互に行う場合と、交互に行わない場合とを含む意味である。
また、前記乾拭きの際の圧力が前記範囲内であることにより、微細凹凸層２の微細凹凸形状を維持しつつ、トリオレインが徐々に拭き取られていくので、拭き取り性の微妙な差異を評価することができる。また、圧力が前記下限値未満であると、反射率が変化するまでトリオレインを拭き取るのに長時間要し、ひいては評価結果を得るのにも長時間要する場合がある。また、圧力が前記上限値を超えると、微小突起の変形やスティッキングが生じることにより、評価不能となるおそれや、乾拭きの際の微細凹凸面との摩擦が非常に大きくなり、断続的に表面を拭き取ることになるおそれがある。
【００２０】
前記乾拭きは、例えば、織布、不織布等の布を用いて行うことができ、特に限定はされず、所謂ワイピングクロスとして用いられている布の中から適宜選択して用いることができる。例えば、ポリアミド樹脂及びポリエステル樹脂の少なくとも１種からなる織布であることが好ましい。また、繊維が容易に脱落しない点から、自己発塵が少ない織布が好ましく、具体的には例えば、ＫＢセーレン株式会社のザヴィーナミニマックス（登録商標）等が挙げられる。
【００２１】
前記乾拭きは、圧力及び速度等の乾拭きの条件の制御が容易であり、個人依存性が排除される点から、前記乾拭き時に用いる布を保持し、平坦面に対して前記範囲内の一定の圧力をかけながら、水平方向に往復運動が可能なスライド装置を用いて行うことが好ましい。前記スライド装置としては、例えば、摩擦測定機等を用いることができ、具体的には、ＨＥＩＤＯＮ社製の往復摩耗試験機等を挙げることができる。
【００２２】
前記乾拭きの速度は、特に限定されないが、トリオレインを徐々に拭き取ることができ、且つ乾拭き工程に要する時間が長くなりすぎないことから、３〜２０ｃｍ／秒であることが好ましく、３〜１５ｃｍ／秒であることがより好ましく、３〜１０ｃｍ／秒であることが更により好ましい。前記乾拭きの速度が前記上限値を超えると、乾拭きの際の微細凹凸面との摩擦が非常に大きくなり、断続的に表面を拭き取ることになるおそれがある。
【００２３】
前記乾拭きを行う拭き取り部の面積は、特に限定されないが、トリオレイン付着部の面積よりも大きいことが好ましい。
また、前記拭き取り部の長さは、特に限定されないが、付着したトリオレインを均一に拭き取ることが容易になる点から、前記拭き取り部における拭き取り方向の距離が、当該拭き取り方向に沿ったトリオレイン付着部の幅の２倍以上であることが好ましい。また、前記拭き取り方向の距離は、乾拭きに要する時間を短縮する観点から、１０倍以下であることが好ましく、５倍以下であることがより好ましい。
【００２４】
前記乾拭き工程は、特に限定はされないが、評価結果の精度を向上させるために、トリオレインを付着させてから、１５分以内に乾拭きを開始することが好ましい。
【００２５】
＜反射率測定工程＞
前記乾拭き工程後、反射率測定工程において、反射防止物品表面の乾拭きをした範囲のうち、トリオレインが付着していたトリオレイン付着部の反射率を測定する。
測定する反射率は、正反射率及び全反射率のいずれであってもよい。本発明においては、中でも、入射光を１〜６°の範囲内とした正反射率とすることが好ましく、５°入射光に対する正反射率（５°正反射率）とすることが特に好ましい。正反射率の測定条件としては、例えば、後述の実施例に記載した条件が挙げられる。なお、後述する評価工程において、トリオレインの拭き取り性を評価する際に対比する反射率は同じ測定法で測定した反射率とする。
【００２６】
また、反射率の測定は、反射防止物品表面の乾拭きをした範囲のうち、トリオレインが付着していたトリオレイン付着部の中央又は中央付近において測定することが好ましい。トリオレイン付着部において、中央に付着したトリオレインが最も除去されにくいため、拭き取り性の差がより現れ、より一層正確に拭き取り性を測定することができる。
【００２７】
＜評価工程＞
次に、評価工程において、前記反射率測定工程により得られた測定の結果に基づいて、前記微細凹凸層の表面に付着したトリオレインの前記乾拭きによる拭き取り性を評価する。
トリオレインの付着量が多いほど、反射防止物品の反射率は増大する。よって、乾拭き後の反射防止物品の反射率に基づくトリオレインの除去量から、トリオレインの拭き取り性を評価することができる。
乾拭きによる拭き取り性の評価は、乾拭き後の反射防止物品の反射率と予め設定された所定値とを対比することにより行うことができる。前記所定値は、後述する製造方法の判定工程に記載のものと同様に適宜設定される。
【００２８】
２．反射防止物品の製造方法
本発明に係る反射防止物品の製造方法は、樹脂組成物の硬化物からなり且つ複数の微小突起が密接して配置されてなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を表面に有する微細凹凸層を備え、
前記微小突起が、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起の隣接突起間隔ｄの最大値をｄｍａｘとしたときに、
ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ
なる関係を有し、且つ、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有する反射防止物品の製造方法であり、
前記樹脂組成物を選定する選定工程（以下、単に選定工程ということがある。）を有し、当該選定工程が、
評価用樹脂組成物を用いて、前記微細凹凸形状と同様の微細凹凸形状を形成することにより、評価用微細凹凸層が形成された、評価用反射防止物品を準備する工程（以下、単に評価用反射防止物品準備工程ということがある。）と、
前記評価用微細凹凸層の前記微細凹凸形状を有する表面に０．２〜０．６ｇ／ｃｍ２のトリオレインを付着させる工程（以下、単にトリオレイン付着工程ということがある。）と、
前記工程によりトリオレインが付着した前記評価用微細凹凸層の表面を、０．６〜０．７ｋｇ／ｃｍ２の範囲内で一定の圧力で、２０〜１５０往復の範囲内で一定回数乾拭きする工程（以下、単に乾拭き工程ということがある。）と、
前記乾拭き後の前記評価用反射防止物品の反射率を測定する工程（以下、単に反射率測定工程ということがある。）と、
前記反射率の測定結果と、予め設定された所定値とを対比して、前記反射率の測定結果が前記所定値以下である場合には、前記評価用微細凹凸層の表面に付着したトリオレインの前記乾拭き後の拭き取り性が良好と判定する工程（以下、単に判定工程ということがある。）とを有し、
前記選定工程において拭き取り性が良好であると判定された樹脂組成物を用いて、前記微細凹凸層を形成する工程（以下、単に微細凹凸層形成工程ということがある。）を有することを特徴とする。
【００２９】
本発明に係る反射防止物品の製造方法は、少なくとも前記選定工程と、当該選定工程において拭き取り性が良好であると判定された樹脂組成物を用いて、微細凹凸層を形成する微細凹凸層形成工程を有する。
本発明に係る製造方法によれば、微細凹凸層を構成する樹脂組成物が、前記選定工程において拭き取り性が良好であると判定されたものであるため、得られる反射防止物品は、微細凹凸面に付着したトリオレインの拭き取り性に優れ、ひいては汚れ拭き取り性に優れる。
以下、本発明に係る反射防止物品の製造方法が有する選定工程及び微細凹凸層形成工程について、詳細に説明する。
【００３０】
＜選定工程＞
選定工程では、微細凹凸層の形成に用いられる樹脂組成物を選定する。本発明に係る製造方法においては、選定工程により、評価用反射防止物品の評価用微細凹凸層の表面に付着したトリオレインの拭き取り性が良好と判定された樹脂組成物を用いて、微細凹凸層を形成することにより、汚れ拭き取り性に優れた反射防止物品を製造することができる。
【００３１】
前記選定工程は、上述の通り、評価用反射防止物品準備工程、トリオレイン付着工程、乾拭き工程、反射率測定工程及び判定工程を有する。これらの工程のうち、トリオレイン付着工程、乾拭き工程及び反射率測定工程は、上述した本発明に係る反射防止物品の評価方法と共通する工程であり、前記と同様であるため、ここでの説明は省略する。
以下においては、評価用反射防止物品準備工程及び判定工程について説明する。
【００３２】
（評価用反射防止物品準備工程）
評価用反射防止物品準備工程は、評価用樹脂組成物を用いて、最終的に得たい反射防止物品の微細凹凸形状と同様の微細凹凸形状を形成することにより、評価用微細凹凸層が形成された、評価用反射防止物品を準備する工程である。
評価用樹脂組成物は、特に限定されず、少なくとも樹脂を含み、必要に応じて重合開始剤等その他の成分を含有する。
前記樹脂としては、特に限定されないが、例えば、（メタ）アクリレート系、エポキシ系、ポリエステル系等の電離放射線硬化性樹脂、（メタ）アクリレート系、ウレタン系、エポキシ系、ポリシロキサン系等の熱硬化性樹脂、（メタ）アクリレート系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系等の熱可塑性樹脂等の各種材料及び各種硬化形態の賦型用樹脂等が挙げられる。なお、電離放射線とは、分子を重合させて硬化させ得るエネルギーを有する電磁波または荷電粒子を意味し、例えば、すべての紫外線（ＵＶ−Ａ、ＵＶ−Ｂ、ＵＶ−Ｃ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線等が挙げられる。
【００３３】
前記樹脂としては、中でも微細凹凸形状の成形性及び機械的強度に優れる点から電離放射線硬化性樹脂が好ましく用いられる。なお、電離放射線硬化性樹脂とは、分子中にラジカル重合性及び／又はカチオン重合性結合を有する単量体、低重合度の重合体、反応性重合体を適宜混合したものであり、重合開始剤によって硬化されるものである。なお、非反応性重合体を含有してもよい。
【００３４】
前記評価用樹脂組成物は、さらに必要に応じて、重合開始剤、離型剤、光増感剤、酸化防止剤、重合禁止剤、架橋剤、赤外線吸収剤、帯電防止剤、粘度調整剤、密着性向上剤等を含有するものであってもよい。
【００３５】
なお、前記評価用樹脂組成物は、評価用微細凹凸層を形成する際には、塗工性の観点等から必要に応じて溶剤を含有させてもよい。当該溶剤は、組成物中の各成分とは反応せず、当該各成分を溶解乃至分散可能な溶剤の中から適宜選択して用いることができる。このような溶剤の具体例としては、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＭＥ）等のエーテル系溶剤、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶剤、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶剤、シクロヘキサン等のアノン系溶剤、メタノール、エタノール、およびプロパノール等のアルコール系溶剤を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、樹脂組成物に用いられる溶剤は、１種類単独で用いてもよく、２種類以上の溶剤の混合溶剤でもよい。
【００３６】
本発明に係る反射防止物品の製造方法においては、後述する判定工程において、トリオレインの拭き取り性が良好であると判定されるように、評価用樹脂組成物の組成を適宜調整することができる。前記評価用樹脂組成物の組成を変更することにより、トリオレインの拭き取り性を向上する方法としては、例えば、前述の樹脂に、エチレンオキシド（ＥＯ）変性、プロピレンオキシド（ＰＯ）変性を行ってソフトセグメントが導入されたＥＯ又はＰＯ変性樹脂を用いる方法が挙げられる。ＥＯ又はＰＯ変性樹脂としては、ＥＯ又はＰＯ変性（メタ）アクリレート系電離放射線硬化性樹脂が好適に用いられる。なお、ＥＯ又はＰＯ変性とは、エチレンオキシドユニット（−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−）又はプロピレンオキシドユニット（−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ３）−Ｏ−）のブロック構造を有することを意味する。
【００３７】
評価用微細凹凸層は、前記評価用樹脂組成物を用いて、後述する微細凹凸形状と同様の微細凹凸形状を、後述する微細凹凸層の形成方法と同様の方法により形成することができる。微細凹凸形状及び微細凹凸層の形成方法については後に説明する。
【００３８】
（判定工程）
判定工程では、前記反射率測定工程により測定された前記反射率の測定結果と、予め設定された所定値とを対比して、前記反射率の測定結果が前記所定値以下である場合には、前記評価用微細凹凸層の表面に付着したトリオレインの前記乾拭き後の拭き取り性が良好と判定する。
評価用反射防止物品の表面に付着したトリオレインの量が多いほど、当該評価用反射防止物品の反射率は増大する。また、評価用反射防止物品によりそのものの反射率が異なる。そのため、前記判定工程では、典型的には、乾拭き後に測定された評価用反射防止物品の反射率と、トリオレイン付着前に測定された当該評価用反射防止物品の反射率との差（ΔＹ）が、予め設定された所定値以下である場合、トリオレインの拭き取り性が良好であると判定することができる。
前記所定値の設定においては、例えば、１０人中１０人が拭き取り性良好と官能評価するような、統計的に拭き取り性が良好と官能評価されている反射防止物品を指標として、設定することができる。
前記所定値は、乾拭きの往復回数に応じて定めることができ、例えば、乾拭きを２０往復したときは前記ΔＹが１．００以下のとき、乾拭きを５０往復したときは前記ΔＹが０．８０以下のとき、乾拭きを１００往復したときは前記ΔＹが０．６０以下のときに、それぞれトリオレインの拭き取り性が良好であると判定することができる。
なお、予め設定された所定値自身の反射防止物品、例えばΔＹが０．８０の時の反射防止物品が、必ずしもトリオレインの拭き取り性が良好であるというわけではなく、所定の条件下で乾拭きを５０往復したときに前記ΔＹが０．８０以下の反射防止物品は、拭き取り性が許容される状態にあることを表す。
【００３９】
なお、前記ΔＹとしては平均値が用いられる。ΔＹの平均は、例えば以下のようにして算出される。すなわち、１つの反射防止物品において、１０点以上の異なる部分の反射率を測定し、測定された各反射率から算出した平均値を当該反射防止物品の反射率の平均値とする。このようにして求められた、乾拭き後に測定された評価用反射防止物品の反射率の平均値と、トリオレイン付着前に測定された当該評価用反射防止物品の反射率の平均値との差を、ΔＹの平均とすることができる。
【００４０】
＜微細凹凸層形成工程＞
本発明に係る反射防止物品の製造方法においては、前記選定工程において拭き取り性が良好であると判定された樹脂組成物を用いて、前記微細凹凸層を形成する微細凹凸層形成工程を有する。
以下、微細凹凸層及び微細凹凸層の形成方法について説明する。
【００４１】
（微細凹凸層）
微細凹凸層は、樹脂組成物の硬化物からなり且つ複数の微小突起が密接して配置されてなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を表面に有し、前記微小突起は、反射防止を図る光の波長帯域の最短波長をΛｍｉｎ、当該微小突起の隣接突起間隔ｄの最大値をｄｍａｘとしたときに、
ｄｍａｘ≦Λｍｉｎ
なる関係を有し、且つ、前記微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有している。微細凹凸層がこのような構造を有することにより、本発明に係る製造方法により得られる反射防止物品は、Λｍｉｎ以上の波長を有する光の反射防止を図ることができる。
【００４２】
［微細凹凸形状］
前記微細凹凸層は、複数の微小突起が密接して配置されてなる微小突起群を備えた微細凹凸形状を表面に有する。微小突起の形状は、当該微小突起の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微小突起の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する構造を有するものの中から適宜選択すればよい。このような微小突起の形状の具体例としては、半円状、半楕円状、三角形状、放物線状、釣鐘状、台形状等の垂直断面形状を有するものが挙げられる。複数ある微小突起は同一の形状を有していても異なる形状を有していてもよい。微小突起が上記の形状を有することにより、微細凹凸等の深さ方向に屈折率が連続的に変化するため、反射防止性が付与される。
【００４３】
本発明において隣接突起間隔ｄ及び微小突起の高さＨは以下の方法により測定される。
（１）先ず、原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope:AFM）又は走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope:SEM）を用いて突起の面内配列（突起配列の平面視形状）を検出する。
【００４４】
（２）続いてこの求められた面内配列から各突起の高さの極大点（以下、単に極大点と称する。）を検出する。なお極大点を求める方法としては、平面視形状と対応する断面形状の拡大写真とを逐次対比して極大点を求める方法、平面視拡大写真の画像処理によって極大点を求める方法等、種々の手法を適用することができる。
【００４５】
（３）次に検出した極大点を母点とするドロネー図（Ｄｅｌａｕｎａｒｙ  Ｄｉａｇｒａｍ）を作成する。図２にドロネー図の一例を示す模式平面図を示す。図２の例に示されるようにドロネー図とは、微小突起の各極大点を母点としてボロノイ分割を行った場合に、ボロノイ領域が隣接する母点同士を隣接母点と定義し、各隣接母点同士を線分で結んで得られる３角形の集合体からなる網状図形である。各３角形は、ドロネー３角形と呼ばれ、各３角形の辺（隣接母点同士を結ぶ線分）は、ドロネー線と呼ばれる。
【００４６】
（４）次に、各ドロネー線の線分長の度数分布、すなわち隣接する極大点間の距離（隣接突起間距離）の平面視の拡大写真から、５〜２０個程度の互いに隣接する前記微細構造を有しない微小突起を選んで、その隣接突起間距離の値を標本抽出し、この標本抽出して求められる数値範囲から明らかに外れる値（通常、標本抽出して求められる隣接突起間距離平均値に対して、値が１／２以下のデータ）を除外して度数分布を検出する。
【００４７】
（５）このようにして求めた隣接突起間距離ｄの度数分布を正規分布とみなして平均値ｄＡＶＧ及び標準偏差σｄを求める。本発明においては、隣接突起間距離ｄの最大値ｄｍａｘをｄｍａｘ＝ｄＡＶＧ＋２σｄと定義して算出する。
【００４８】
同様の手法を適用して突起の高さを定義する。この場合、上述の（２）により求められる極大点から、特定の基準位置からの各極大点位置の相対的な高さの差を取得してヒストグラム化する。このヒストグラムによる度数分布から突起高さの平均値ＨＡＶＧ、標準偏差σＨを求める。なお突起の頂部に凹部が存在する微細構造、或いは、頂部が複数の峰に分裂している微細構造を有する微小突起が含まれる場合は、１つの微小突起が頂点を複数有していることにより、１つの突起に対してこれら複数のデータが突起高さＨのヒストグラムにおいて混在することになる。そこでこの場合は麓部が同一の微小突起に属するそれぞれ複数の頂点の中から高さの最も高い頂点を、当該微小突起の突起高さとして採用して度数分布を求める。
【００４９】
なお、微小突起の高さを測る際の基準位置は、突起付け根位置、すなわち隣接する微小突起の間の谷底（高さの極小点）を高さ０の基準とする。但し、係る谷底の高さ自体が場所によって異なる場合、例えば、各微小突起間の谷底を連ねた包絡面が、微小突起の隣接突起間距離に比べて大きな周期でうねった凹凸形状を有する場合等は、（１）先ず、微細凹凸層の微細凹凸面とは反対側の面から測った各谷底の高さの平均値を、該平均値が収束するに足る面積の中で算出する。（２）次いで、該平均値の高さを有し、且つ微細凹凸層の微細凹凸面とは反対側の面と平行な面を基準面として考える。（３）その後、該基準面を改めて高さ０として、該基準面からの各微小突起の高さを算出する。
【００５０】
前記微小突起群中の各微小突起が同一の高さＨを有し、当該微小突起が一定周期で規則正しく配置されている場合、隣接突起間隔ｄは、微小突起配列の周期ｐと一致するため、ｄｍａｘ＝ｐとなる。よって、反射防止効果を奏し得る条件は、ｄｍａｘ＝ｐ≦Λｍｉｎであり、微小突起配列の周期ｐ以上の波長を有する光に対して反射防止効果を奏することができる（例えば、特開昭５０−７００４０号公報、特許第４６３２５８９号公報、特許第４２７０８０６号公報を参照することができる）。従って、例えば、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を得るためには、可視光線帯域の最短波長を３８０ｎｍとした場合、微小突起配列の周期を３８０ｎｍ以下とすればよい。また、微小突起の高さＨは、反射防止効果を得ようとする波長のうち最長波長Λｍａｘの０．２倍以上であることが好ましい（Ｈ≧０．２×Λｍａｘ）。従って、例えば可視光線帯域の全波長に対して優れた反射防止効果を得ようとするためには、可視光線帯域の最長波長を７８０ｎｍとした場合、Ｈ≧０．２×７８０ｎｍ＝１５６ｎｍであることが好ましい。
【００５１】
突起が不規則に配置されている場合には、上述のようにして求めた隣接突起間距離ｄの最大値ｄｍａｘ＝ｄＡＶＧ＋２σｄが、ｄｍａｘ≦Λｍｉｎを満たすことが必要であり、微小突起の高さＨの平均値ＨＡＶＧが、ＨＡＶＧ≧０．２×Λｍａｘを満たすことが好ましい。例えば、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を奏し得るためには、ｄｍａｘ＝ｄＡＶＧ＋２σｄ≦３８０ｎｍとすればよい。
可視光線帯域の全波長に対する反射防止効果をより確実に奏し得る観点から、好ましくは、ｄｍａｘ≦３００ｎｍとされ、更に好ましくは、ｄｍａｘ≦２００ｎｍとされる。また反射防止効果の発現及び反射率の等方性（低角度依存性）の確保等の理由から、通常、ｄｍａｘ≧５０ｎｍとされ、好ましくは、ｄｍａｘ≧１００ｎｍとされる。また突起高さＨについては、十分な反射防止効果を発現する為に、好ましくは、反射防止を図る光の波長帯域の最長波長をΛｍａｘとしたときにＨＡＶＧ≧０．２×Λｍａｘとされ、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を奏し得るために、好ましくはＨＡＶＧ≧０．２×７８０ｎｍ＝１５６ｎｍとされ、より好ましくはＨＡＶＧ≧１７０ｎｍとされる。突起の高さＨＡＶＧは、反射防止効果の点から、通常３５０ｎｍ以下とされる。また、突起の高さの分布は、通常５０〜３５０ｎｍである。
【００５２】
微細突起のアスペクト比（平均突起高さＨＡＶＧ／平均隣接突起間隔ｄＡＶＧ）は、特に限定されないが、反射防止性能の観点から、好ましくは０．８〜２．５とされ、更に好ましくは０．８〜２．１とされる。
【００５３】
微細凹凸層の厚み（図１におけるＴ）は、適宜調整すればよいが、３μｍ〜３０μｍであることが好ましく、５μｍ〜１０μｍであることがより好ましい。なお、本発明において微細凹凸層の厚みＴは、図１に示すように、微細凹凸層の一方の面が微細凹凸面である場合は、当該微細凹凸層の微細凹凸面とは反対側の面から、微細凹凸面が有する最も高い微小突起の頂部までの厚みである。本発明においては、微細凹凸層の両面が微細凹凸面でもよく、その場合の微細凹凸層の厚みは、一方の微細凹凸面において最も高い微小突起の頂部が接する水平面から、他方の微細凹凸面において最も高い微小突起の頂部が接する水平面までの垂線方向における距離である。
【００５４】
［微細凹凸層の形成方法］
微細凹凸層の形成方法は、特に限定はされず、微細凹凸形状を有する微細凹凸層を形成する従来公知の方法の中から適宜選択すればよい。
例えば、まず透明基材上に、微細凹凸層形成用の樹脂組成物を塗布し、所望の微細凹凸形状を有する微細凹凸層形成用原版の凹凸形状を、前記樹脂組成物の塗膜に賦型した後、該樹脂組成物を硬化させることにより微細凹凸層を形成し、前記微細凹凸層形成用原版から剥離する方法等が挙げられる。前記樹脂組成物を硬化させる方法は、該樹脂組成物の種類等に応じて適宜選択することができる。
【００５５】
前記微細凹凸層形成用原版としては、繰り返し使用した際に変形および摩耗するものでなければ、特に限定されるものではなく、金属製であっても良く、樹脂製であっても良いが、通常、金属製が好適に用いられる。耐変形性および耐摩耗性に優れているからである。
前記微細凹凸層形成用原版の微細凹凸形状を有する面は、特に限定されないが、酸化されやすく、陽極酸化による加工が容易である点から、アルミニウムからなることが好ましい。
前記微細凹凸層形成用原版は、具体的には、例えば、ステンレス、銅、アルミニウム等の金属製の母材の表面に、直接に又は各種の中間層を介して、スパッタリング等により純度の高いアルミニウム層が設けられ、当該アルミニウム層に凹凸形状を形成したものが挙げられる。前記母材は、前記アルミニウム層を設ける前に、電解溶出作用と、砥粒による擦過作用の複合による電解複合研磨法によって母材の表面を超鏡面化しても良い。
前記微細凹凸層形成用原版に微細凹凸形状を形成する方法としては、例えば、陽極酸化法によって前記アルミニウム層の表面に複数の微細孔を形成する陽極酸化工程と、前記アルミニウム層をエッチングすることにより前記微細孔の開口部にテーパー形状を形成する第１エッチング工程と、前記アルミニウム層を前記第１エッチング工程のエッチングレートよりも高いエッチングレートでエッチングすることにより前記微細孔の孔径を拡大する第２エッチング工程とを順次繰り返し実施することによって形成することができる。
微細な凹凸形状を形成する際には、アルミニウム層の純度（不純物量）や結晶粒径、陽極酸化処理及び／又はエッチング処理の諸条件を適宜調整することによって、所望の形状とすることができる。前記陽極酸化処理において、より具体的には、液温、印加する電圧、陽極酸化に供する時間等の管理により、微細な孔をそれぞれ目的とする深さ及び微小突起形状に対応する形状に作製することができる。
このようにして、前記微細凹凸層形成用原版は、深さ方向に徐々に孔径が小さくなる多数の微細孔が密に作製される。当該微細凹凸層形成用原版を用いて製造される微細凹凸層には、前記微細孔に対応して、頂部に近付くに従って徐々に径が小さくなる微小突起群を備えた微細凹凸が形成され、すなわち、当該微細凹凸の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微細凹凸を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微細凹凸の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する微細凹凸形状が形成される。
【００５６】
また、前記微細凹凸層形成用原版の形状としては、所望の形状を賦型することができるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、平板状であっても良く、ロール状であっても良いが、前記微細凹凸層形成用原版は、生産性向上の観点からは、ロール状の金型（以下、「ロール金型」と称する場合がある。）を用いることが好ましい。
本発明において用いられるロール金型としては、例えば、母材として、円筒形状の金属材料を用い、当該母材の周側面に、直接に又は各種の中間層を介して設けられたアルミニウム層に、上述したように、陽極酸化処理、エッチング処理の繰り返しにより、微細な凹凸形状が作製されたものが挙げられる。
【００５７】
図３に、微細凹凸層形成用の樹脂組成物として光硬化性樹脂組成物を用い、微細凹凸層形成用原版としてロール金型を用いた場合に、透明基材上に微細凹凸層を形成する方法の一例を示す。
図３に示す方法では、樹脂供給工程において、ダイ１１により帯状フィルム形態の透明基材１に、未硬化で液状の光硬化性樹脂組成物を塗布し、微小突起形状の受容層２’を形成する。なお光硬化性樹脂組成物の塗布については、ダイ１１による場合に限らず、各種の手法を適用することができる。続いて、押圧ローラ１３により、微細凹凸層形成用原版であるロール金型１２の周側面に透明基材１を加圧押圧し、これにより透明基材１に受容層２’を密着させると共に、ロール金型１２の周側面に作製された微細な凹凸形状の凹部に、受容層２’を構成する光硬化性樹脂組成物を充分に充填する。この状態で、紫外線の照射により光硬化性樹脂組成物を硬化させ、これにより透明基材１の表面に微細凹凸層２を作製する。続いて剥離ローラ１４を介してロール金型１２から、硬化した微細凹凸構造体２と一体に透明基材１を剥離する。必要に応じてこの透明基材１に粘着層等を作製した後、所望の大きさに切断して反射防止物品１を作製する。これにより反射防止物品は、ロール材による長尺の透明基材１に、微細凹凸層形成用原版であるロール金型１２の周側面に作製された微細凹凸形状を順次賦型して、効率良く大量生産される。
【００５８】
また上述の実施形態では、ロール金型を使用した賦型処理によりフィルム形状の反射防止物品を生産する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、反射防止物品の形状に係る透明基材の形状に応じて、例えば平板、特定の曲面形状による微細凹凸層形成用原版を使用した賦型処理等により、枚葉状の反射防止物品を作成する場合等、賦型処理に係る工程、微細凹凸層形成用原版は、反射防止物品の形状に係る透明基材の形状に応じて適宜変更することができる。
また、本発明に係る製造方法により得られる反射防止物品においては、製造に使用した透明基材は必要に応じて剥離して、微細凹凸層のみとしてもよいし、微細凹凸層用の樹脂組成物として、透明基材の材料と同じものを用いることにより、微細凹凸層と透明基材が一体化したものであってもよい。
【００５９】
（透明基材）
本発明に係る製造方法により得られる反射防止物品は、支持体として透明基材を含むものであっても良い。前記透明基材は、反射防止物品に用いられる公知の透明基材の中から用途に応じて適宜選択して用いることができる。透明基材に用いられる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の透明樹脂や、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛ガラス等の硝子、ジルコン酸チタン酸鉛ランタン（ＰＬＺＴ）等のセラミックス、石英、蛍石等の透明無機材料等が挙げられる。
【００６０】
前記透明基材は、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、透明基材の透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
【００６１】
前記透明基材の厚みは、本発明の反射防止物品の用途に応じて適宜設定することができ、特に限定されないが、通常２０〜５０００μｍであり、前記透明基材は、ロールの形で供給されるもの、巻き取れるほどには曲がらないが負荷をかけることによって湾曲するもの、完全に曲がらないもののいずれであってもよい。
本発明に用いられる透明基材の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。
【００６２】
（その他の層）
本発明に係る製造方法により得られる反射防止物品は、更にその他の層を有していてもよい。透明基材の微細凹凸層を有しない面側には、光学フィルム用途に用いられる従来公知の各種層を有していてもよい。例えば、従来公知の単層或いは多層構成の反射防止層、光拡散による防眩性（或いは反射防止）を付与する層、傷付き防止等の為に従来公知のハードコート層等が挙げられる。
【００６３】
本発明に係る製造方法により得られる反射防止物品は、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、反射防止物品の透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
【実施例】
【００６４】
以下、本発明について実施例を示して具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。
（１）評価用反射防止物品準備工程
＜評価用反射防止物品１の作製＞
平均間隔２００ｎｍで、深さ方向に徐々に孔径が小さくなる多数の微細孔が密に形成された微細凹凸層形成用金型の微細凹凸面が覆われるように、下記組成の評価用樹脂組成物１をメチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて固形分４５質量％となるように調整したものを、硬化後の評価用微細凹凸層の厚さが１０μｍとなるように塗布、充填した。その上に、厚さ６０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムを斜めから貼り合わせた後、貼り合わせられた貼合体をゴムローラーで１０Ｎ／ｃｍ２の加重で圧着した。金型全体に均一な組成物が塗布されたことを確認し、ＴＡＣフィルム側から２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーで紫外線を照射して樹脂組成物を硬化させた。その後、金型より剥離し、評価用反射防止物品１を得た。得られた評価用反射防止物品１の評価用微細凹凸層が備える微小突起群は、平均隣接突起間隔ｄＡＶＧが２００ｎｍ（標準偏差σｄ：３８ｎｍ）であり、平均高さＨＡＶＧが１６０ｎｍであった。
【００６５】
［評価用樹脂組成物１の組成］
ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート  ３０質量部
ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート  ２０質量部
トリデシルアクリレート  ５質量部
ドデシルアクリレート  ３５質量部
メチルメタクリレート  ５質量部
ヘキシルメタクリレート  ５質量部
ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホシフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ）１質量部
【００６６】
＜評価用反射防止物品２の作製＞
前記評価用反射防止物品１の作製において、評価用樹脂組成物１の代わりに、下記組成の評価用樹脂組成物２を用いたこと以外は、前記評価用反射防止物品１と同様にして、評価用反射防止物品２を作製した。
［評価用樹脂組成物２の組成］
ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート  ４５質量部
ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート  ３０質量部
トリデシルアクリレート  ５質量部
ドデシルアクリレート  １０質量部
メチルメタクリレート  ５質量部
ヘキシルメタクリレート  ５質量部
ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホシフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ）１質量部
【００６７】
＜評価用反射防止物品３の作製＞
前記評価用反射防止物品１の作製において、評価用樹脂組成物１の代わりに、下記組成の評価用樹脂組成物３を用いたこと以外は、前記評価用反射防止物品１と同様にして、評価用反射防止物品３を作製した。
［評価用樹脂組成物３の組成］
ペンタエリスリトールトリアクリレート  ３０質量部
ポリエチレングリコールジアクリレート  ２０質量部
１，４−ブタンジオールジアクリレート  ５０質量部
ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホシフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ）１質量部
【００６８】
＜従来の拭き取り性官能評価＞
前記評価用反射防止物品１〜３の評価用微細凹凸層の表面に指を押し付けて指紋を付着させ、ザヴィーナミニマックス（登録商標）（ＫＢセーレン（株）製、１５ｃｍ×１５ｃｍ）を用いて、人の手により１０往復乾拭きを行った。乾拭き後の評価用反射防止物品の表面を目視により観察し、以下の評価基準により評価した。
［評価基準］
Ａ：指紋が完全に除去されたか、又は指紋がほとんど目立たない。
Ｂ：指紋がはっきりと残っている。
【００６９】
＜トリオレイン付着前の反射率の測定＞
前記評価用反射防止物品１〜３を、微細凹凸面を上面にして、粘着層つきの黒アクリル板に貼り付け、紫外可視分光光度計（日本分光社製、商品名「Ｖ−７１００」）を用いて、ＪＩＳ Ｚ８７０１−１９９９に準拠して２度視野（Ｄ６５光源）により５°正反射率を測定した。当該正反射率の測定は、以下の実施例においてトリオレインを付着させる部分の異なる１０点において測定し、その平均を算出した。
【００７０】
（２）トリオレイン付着工程
５ｃｍ×５ｃｍのクリーンペーパーにトリオレインを３滴滴下して１日放置したものを準備した。また、トリオレインの付着に用いるスタンプとして、直径１ｃｍの円筒状のシリコンゴムを準備した。前記シリコンゴムに８００ｇの荷重をかけ、１．０ｋｇ／ｃｍ２の圧力がかかるようにして、前記トリオレインを滴下したクリーンペーパーに３秒間押しつけることにより、前記シリコンゴムにトリオレインを付着させた。トリオレインを付着させたシリコンゴムに８００ｇの荷重をかけ、１．０ｋｇ／ｃｍ２の圧力がかかるようにして、前記従来の拭き取り性官能評価を行っていない前記評価用反射防止物品１〜３の評価用微細凹凸層の表面に押しつけることにより、０．４ｍｇ／ｃｍ２のトリオレイン（関東化学（株）製）を直径１ｃｍの円形となるように付着させた。
【００７１】
（３）乾拭き工程
トリオレインを付着させた直後に、評価用微細凹凸層表面のトリオレインが付着した部分を、ザヴィーナミニマックス（登録商標）（ＫＢセーレン（株）製、１５ｃｍ×１５ｃｍ）により、往復摩耗試験機（ＨＥＩＤＯＮ社製、トライボギアＴＹＰＥ３０Ｓ）を用いて、１．０ｋｇの荷重をかけ、０．６７ｋｇ／ｃｍ２の圧力、５．２ｃｍ／秒の速度で１００往復乾拭きした。乾拭きをした範囲は、長さ５ｃｍ、幅３ｍｍとした。同様にして、５０往復、２０往復乾拭きしたものもそれぞれ用意した。
【００７２】
（４）反射率測定工程
前記乾拭き後、トリオレインが付着していた部分の異なる１０点において、上記と同様に５°正反射率を測定してその平均を算出した。
次いで、各評価用反射防止物品において、トリオレイン付着前の反射率の平均（Ｙ０）を乾拭き後の反射率の平均（Ｙ１）から差し引いた値（ΔＹ＝Ｙ１−Ｙ０）を表１に示す。
【００７３】
【表１】
2015190997.tif 000002
【００７４】
（５）評価工程
＜所定値の設定＞
従来の拭き取り性官能評価を１０人の人が行い、評価用反射防止物品１及び評価用反射防止物品２は１０人の人が拭き取り性が良好であると評価し、評価用反射防止物品３は拭き取り性が良好でないと評価した。よって、拭き取り性が良好であると判定される所定値は、１００往復乾拭きをしたときはΔＹが０．６０以下、５０往復乾拭きをしたときはΔＹが０．８０以下、２０往復乾拭きをしたときはΔＹが１．００以下と定めた。
【００７５】
＜評価用反射防止物品４の評価＞
前記評価用反射防止物品１の作製において、評価用樹脂組成物１の代わりに、下記組成の評価用樹脂組成物４を用いたこと以外は、前記評価用反射防止物品１と同様にして、評価用反射防止物品４を作製した。
［評価用樹脂組成物４の組成］
ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート  ５０質量部
ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート  ３０質量部
トリデシルアクリレート  ５質量部
ドデシルアクリレート  ５質量部
メチルメタクリレート  ５質量部
ヘキシルメタクリレート  ５質量部
ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホシフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ）１質量部
【００７６】
前記評価用反射防止物品４について、評価用反射防止物品１〜３と同様にしてΔＹを測定したところ、１００往復乾拭きをしたときはΔＹが０．２０であり、５０往復乾拭きをしたときはΔＹが０．３０であり、２０往復乾拭きをしたときはΔＹが０．３８であった。従って、評価用反射防止物品４は、拭き取り性が良好であると評価することができた。
なお、前記評価用反射防止物品４について、前記従来の拭き取り性官能評価を行ったところ、指紋が完全に除去されており、前記官能評価基準ではＡ評価であった。
【００７７】
（６）反射防止物品の製造
前記評価用反射防止物品１〜４のうち、ΔＹが最も小さい評価用反射防止物品４に用いた評価用樹脂組成物４を選定して用いて、平均隣接突起間隔ｄＡＶＧが２００ｎｍ（標準偏差σｄ：３８ｎｍ）であり、平均高さＨＡＶＧが１６０ｎｍの微細凹凸層をＴＡＣフィルムの一面に形成することにより、拭き取り性がより向上した反射防止物品を製造することができた。
【符号の説明】
【００７８】
１    透明基材
２    微細凹凸層
２ａ  微細凹凸面
２’  受容層
３    微小突起
１０  反射防止物品
１１  ダイ
１２  ロール金型
１３  押圧ローラ
１４  剥離ローラ
【図１】
2015190997.tif 000003
【図３】
2015190997.tif 000004
【図２】
2015190997.tif 000005