(57)【要約】      （修正有）【課題】画像のざらつき感が抑制された電子写真感光体を提供する。【解決手段】一般式（１）で表され、且つ、全固形分に対し５．０％以上２２．０％以下である化合物、並びに特定の式に表わされる構造を含むポリカーボネート共重合体を含む電荷輸送層を有する電子写真感光体。2015090453.tif 000020（Ｒ１乃至Ｒ６はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アリール基を、ｍ０、ｎ０は０または１を、ｎ１乃至ｎ６は０以上５以下の整数を表す。）【選択図】図１
2015090453.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子写真感光体と、
導電性弾性層、並びに前記導電性弾性層上に設けられ、前記電子写真感光体と接する導電性表面層であって、樹脂と、含有量が前記樹脂１００質量部に対して３質量部以上２５質量部以下の多孔質樹脂粒子と、含有量が前記樹脂１００質量部に対して０．１質量部以上１０質量部以下のシリコーンオイルと、を含む導電性表面層を有する帯電部材を備え、該帯電部材を前記電子写真感光体に接触させて前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーを含む現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置に用いられ、
導電性基体と、電荷発生層と、電荷輸送能を有し下記一般式（１）で表され且つ全固形分に対する含有比率が５．０質量％以上２２．０質量％以下である化合物、並びに下記一般式（Ａ）に示す構造および下記一般式（Ｂ）に示す構造を含むポリカーボネート共重合体を含む電荷輸送層と、を有する電子写真感光体。
【化１】
2015090453.tif 000018
（一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、およびＲ６は、それぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、またはアリール基を表す。尚、前記アルキル基、アルコキシ基、およびアリール基は、それぞれ置換基を有していてもよい。ｍ０およびｎ０は、それぞれ独立に、０または１を表す。ｎ１、ｎ２、ｎ３、ｎ４、ｎ５およびｎ６は、それぞれ独立に、０以上５以下の整数を表す。尚、ｎ１が２以上である場合における複数のＲ１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、またＲ２乃至Ｒ６についても同義である。）
【化２】
2015090453.tif 000019
（一般式（Ａ）および一般式（Ｂ）中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、およびＲ１０は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１以上６以下のアルキル基、炭素数５以上７以下のシクロアルキル基、または炭素数６以上１２以下のアリール基を表す。Ｘは、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、直鎖もしくは分岐アルキレン基、またはシクロアルキレン基を表す。尚、前記アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、直鎖もしくは分岐アルキレン基、およびシクロアルキレン基は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい。ｎ７、ｎ８、ｎ９およびｎ１０は、それぞれ独立に、０以上４以下の整数を表す。尚、ｎ７が２以上である場合における複数のＲ７はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、またＲ８乃至Ｒ１０についても同義である。）
【請求項２】
前記電荷輸送層の平均膜厚が２０μｍ以上５０μｍ以下である請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の電子写真感光体と、
導電性弾性層、並びに前記導電性弾性層上に設けられ、前記電子写真感光体と接する導電性表面層であって、樹脂と、含有量が前記樹脂１００質量部に対して３質量部以上２５質量部以下の多孔質樹脂粒子と、含有量が前記樹脂１００質量部に対して０．１質量部以上１０質量部以下のシリコーンオイルと、を含む導電性表面層を有する帯電部材を備え、該帯電部材を前記電子写真感光体に接触させて前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーを含む現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【請求項４】
請求項１または請求項２に記載の電子写真感光体と、
導電性弾性層、並びに前記導電性弾性層上に設けられ、前記電子写真感光体と接する導電性表面層であって、樹脂と、含有量が前記樹脂１００質量部に対して３質量部以上２５質量部以下の多孔質樹脂粒子と、含有量が前記樹脂１００質量部に対して０．１質量部以上１０質量部以下のシリコーンオイルと、を含む導電性表面層を有する帯電部材を備え、該帯電部材を前記電子写真感光体に接触させて前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
を備え、画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式を用いた画像形成装置においては、先ず、無機または有機材料を含む光導電性の電子写真感光体に帯電装置を用いて電荷を形成し、画像信号を変調したレーザ光等で静電濳像を形成した後、帯電したトナーで前記静電濳像を現像して可視化したトナー像が形成される。そして、該トナー像を、中間転写体を介するか又は直接、記録紙等の転写材に静電的に転写し、記録材に定着することにより再生画像が得られる。
また近年は、電子写真感光体を帯電する方法として接触帯電方式が実用化され、盛んに用いられるようになってきている。接触帯電方式は、帯電部材を電子写真感光体表面に接触させ、該帯電部材に電圧を印加することにより、電子写真感光体表面を帯電せしめるものである。
【０００３】
ここで、特許文献１には、「最表面の電荷輸送層がフッ素含有樹脂粒子を含有する機能分離型感光体に、記録ドット密度が４００ドット／インチ以上のデジタル像露光を行って静電潜像を形成し、該静電潜像を、体積平均粒径が２μｍから５．５μｍであり、かつ体積粒径１μｍ以下の粒子の含有割合が１．０体積％以下であるトナーで現像する画像形成画像形成装置」が開示されている。
【０００４】
また、特許文献２には、「像保持体を帯電する帯電手段と、像保持体上に静電潜像を形成するための露光手段と、像保持体上の潜像を潜像と同極性のトナーで現像する現像手段と、トナー像を中間転写体上に転写する第１の転写手段と、前記中間転写体上のトナー像を記録体に転写する第２の転写手段により画像を形成する画像形成装置に使用される感光体であって、像保持体非画像部の電位を−２００Ｖ以下に保持した感光体」が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−２２６８８３号公報
【特許文献２】特許第４８３６６４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の課題は、形成される画像におけるざらつき感が抑制された電子写真感光体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、
電子写真感光体と、
導電性弾性層、並びに前記導電性弾性層上に設けられ、前記電子写真感光体と接する導電性表面層であって、樹脂と、含有量が前記樹脂１００質量部に対して３質量部以上２５質量部以下の多孔質樹脂粒子と、含有量が前記樹脂１００質量部に対して０．１質量部以上１０質量部以下のシリコーンオイルと、を含む導電性表面層を有する帯電部材を備え、該帯電部材を前記電子写真感光体に接触させて前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーを含む現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置に用いられ、
導電性基体と、電荷発生層と、電荷輸送能を有し下記一般式（１）で表され且つ全固形分に対する含有比率が５．０質量％以上２２．０質量％以下である化合物、並びに下記一般式（Ａ）に示す構造および下記一般式（Ｂ）に示す構造を含むポリカーボネート共重合体を含む電荷輸送層と、を有する電子写真感光体。
【０００８】
【化１】
2015090453.tif 000003
【０００９】
（一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、およびＲ６は、それぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、またはアリール基を表す。尚、前記アルキル基、アルコキシ基、およびアリール基は、それぞれ置換基を有していてもよい。ｍ０およびｎ０は、それぞれ独立に、０または１を表す。ｎ１、ｎ２、ｎ３、ｎ４、ｎ５およびｎ６は、それぞれ独立に、０以上５以下の整数を表す。尚、ｎ１が２以上である場合における複数のＲ１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、またＲ２乃至Ｒ６についても同義である。）
【００１０】
【化２】
2015090453.tif 000004
【００１１】
（一般式（Ａ）および一般式（Ｂ）中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、およびＲ１０は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１以上６以下のアルキル基、炭素数５以上７以下のシクロアルキル基、または炭素数６以上１２以下のアリール基を表す。Ｘは、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、直鎖もしくは分岐アルキレン基、またはシクロアルキレン基を表す。尚、前記アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、直鎖もしくは分岐アルキレン基、およびシクロアルキレン基は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい。ｎ７、ｎ８、ｎ９およびｎ１０は、それぞれ独立に、０以上４以下の整数を表す。尚、ｎ７が２以上である場合における複数のＲ７はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、またＲ８乃至Ｒ１０についても同義である。）
【００１２】
請求項２に係る発明は、
前記電荷輸送層の平均膜厚が２０μｍ以上５０μｍ以下である請求項１に記載の電子写真感光体。
【００１３】
請求項３に係る発明は、
請求項１または請求項２に記載の電子写真感光体と、
導電性弾性層、並びに前記導電性弾性層上に設けられ、前記電子写真感光体と接する導電性表面層であって、樹脂と、含有量が前記樹脂１００質量部に対して３質量部以上２５質量部以下の多孔質樹脂粒子と、含有量が前記樹脂１００質量部に対して０．１質量部以上１０質量部以下のシリコーンオイルと、を含む導電性表面層を有する帯電部材を備え、該帯電部材を前記電子写真感光体に接触させて前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーを含む現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【００１４】
請求項４に係る発明は、
少なくとも、回転する請求項１または請求項２に記載の電子写真感光体と、
導電性弾性層、並びに前記導電性弾性層上に設けられ、前記電子写真感光体と接する導電性表面層であって、樹脂と、含有量が前記樹脂１００質量部に対して３質量部以上２５質量部以下の多孔質樹脂粒子と、含有量が前記樹脂１００質量部に対して０．１質量部以上１０質量部以下のシリコーンオイルと、を含む導電性表面層を有する帯電部材を備え、該帯電部材を前記電子写真感光体に接触させて前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
を備え、画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【発明の効果】
【００１５】
請求項１に記載の発明によれば、前記一般式（１）で表され且つ含有比率が前記範囲である化合物並びに前記一般式（Ａ）に示す構造および前記一般式（Ｂ）に示す構造を含むポリカーボネート共重合体を含む電荷輸送層を有しない場合に比べ、形成される画像におけるざらつき感が抑制された電子写真感光体が提供される。
請求項２に記載の発明によれば、電荷輸送層の平均膜厚が前記範囲を外れる場合に比べ、形成される画像におけるざらつき感が抑制された電子写真感光体が提供される。
【００１６】
請求項３、又は４に係る発明によれば、含有量が前記範囲の多孔質樹脂粒子および含有量が前記範囲のシリコーンオイルを含む導電性表面層を有する帯電部材と、前記一般式（１）で表され且つ含有比率が前記範囲である化合物並びに前記一般式（Ａ）に示す構造および前記一般式（Ｂ）に示す構造を含むポリカーボネート共重合体を含む電荷輸送層を有する電子写真感光体と、の少なくとも一方を備えない場合に比べ、画像におけるざらつき感が抑制された、画像形成装置又はプロセスカートリッジが提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本実施形態に係る電子写真感光体の層構成を示す概略断面図である。
【図２】本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【図３】本実施形態に係る画像形成装置の他の態様を示す概略構成図である。
【図４】本実施形態に用いられる帯電部材を示す概略斜視図である。
【図５】本実施形態に用いられる帯電部材を示す概略断面図である。
【図６】本実施形態に用いられる帯電装置の概略斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。
【００１９】
［電子写真感光体］
本実施形態に係る電子写真感光体（以下、単に「感光体」とも称す）は、特定の画像形成装置に用いられる。つまり、電子写真感光体と、帯電部材を前記電子写真感光体に接触させて前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーを含む現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段と、前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える画像形成装置に用いられる。
尚、前記帯電部材は、導電性弾性層と、前記導電性弾性層上に設けられ、前記電子写真感光体と接する導電性表面層であって、樹脂と、含有量が前記樹脂１００質量部に対して３質量部以上２５質量部以下の多孔質樹脂粒子と、含有量が前記樹脂１００質量部に対して０．１質量部以上１０質量部以下のシリコーンオイルと、を含む導電性表面層と、を有する帯電部材である。
上記特定の画像形成装置に用いられる本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体と、電荷発生層と、電荷輸送層と、を有し、且つ該電荷輸送層は、電荷輸送能を有し下記一般式（１）で表され且つ全固形分に対する含有比率が５．０質量％以上２２．０質量％以下である化合物、並びに下記一般式（Ａ）に示す構造および下記一般式（Ｂ）に示す構造を含むポリカーボネート共重合体を含む。
【００２０】
【化３】
2015090453.tif 000005
【００２１】
（一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、およびＲ６は、それぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、またはアリール基を表す。尚、前記アルキル基、アルコキシ基、およびアリール基は、それぞれ置換基を有していてもよい。ｍ０およびｎ０は、それぞれ独立に、０または１を表す。ｎ１、ｎ２、ｎ３、ｎ４、ｎ５およびｎ６は、それぞれ独立に、０以上５以下の整数を表す。尚、ｎ１が２以上である場合における複数のＲ１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、またＲ２乃至Ｒ６についても同義である。）
【００２２】
【化４】
2015090453.tif 000006
【００２３】
（一般式（Ａ）および一般式（Ｂ）中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、およびＲ１０は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１以上６以下のアルキル基、炭素数５以上７以下のシクロアルキル基、または炭素数６以上１２以下のアリール基を表す。Ｘは、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、直鎖もしくは分岐アルキレン基、またはシクロアルキレン基を表す。尚、前記アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、直鎖もしくは分岐アルキレン基、およびシクロアルキレン基は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい。ｎ７、ｎ８、ｎ９およびｎ１０は、それぞれ独立に、０以上４以下の整数を表す。尚、ｎ７が２以上である場合における複数のＲ７はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、またＲ８乃至Ｒ１０についても同義である。）
【００２４】
なお、本明細書において導電性とは、２０℃における体積抵抗率が１×１０１３Ωｃｍ未満であることを意味する。
【００２５】
従来から、感光体に帯電部材を接触させて感光体表面を帯電する接触帯電方式が用いられている。しかし、接触帯電方式を用いた場合、帯電部材と感光体とが接触する直前および直後において両者の間に微小な間隔があく領域、いわゆる微小ギャップがあり、この微小ギャップにて帯電部材から感光体に向かって放電が発生する。この放電が生じる微小ギャップの領域は、ギャップの形状にもよるものの通常ではごく狭い領域であるため、短時間の放電によって急激に感光体表面の電位が上昇することから、非接触帯電方式に比べて微小な帯電ムラが発生しやすくなる。その結果、露光後の潜像電位にもムラが発生し、形成される画像の画質上で、ドットの欠けや飛び散りが発生しざらつき感が増大することがあった。
尚、前記ざらつき感は特にハーフトーン画像において顕著な傾向にある。また、プロセススピードの速い画像形成装置であるほど帯電部材を通過する時間が短く、帯電による電場で開放された感光体中の残留キャリアが表層まで到達する頻度にばらつきが発生しやすいことから、前記ざらつき感が更に顕著になる傾向にある。
【００２６】
これに対して、本実施形態に係る感光体は、前記一般式（１）で表され且つ全固形分に対する含有比率が５．０質量％以上２２．０質量％以下である化合物、並びに前記一般式（Ａ）に示す構造および前記一般式（Ｂ）に示す構造を含むポリカーボネート共重合体を含む電荷輸送層を備える。該構成を備えることで、電荷輸送層における電荷移動度が高められ、感光体表面の電位の上昇が抑制されて、微小な帯電ムラの発生が抑制されるものと考えられる。
また、本実施形態に係る感光体は、含有量が前記樹脂１００質量部に対して３質量部以上２５質量部以下の多孔質樹脂粒子と、含有量が前記樹脂１００質量部に対して０．１質量部以上１０質量部以下のシリコーンオイルと、を含む導電性表面層を有する帯電部材を備えた画像形成装置に用いられる。これにより、メカニズムは明確ではないものの、前記感光体と該帯電部材との相互作用により、更に効果的に微小な帯電ムラの発生が抑制され、その結果画像におけるざらつき感の発生を抑制し得ることが見出された。
【００２７】
次いで、本実施形態に係る感光体の構成について図１を参照して説明するが、本実施形態は図１によって限定されるものではない。
【００２８】
図１は、本実施形態に係る感光体の層構成を示す模式断面図である。
図１に示す感光体は、導電性基体１上に、下引層４、電荷発生層２Ａ、電荷輸送層２Ｂがこの順に積層された層構成を有し、感光層２は電荷発生層２Ａおよび電荷輸送層２Ｂの２層から構成される。図１に示す感光体においては電荷輸送層２Ｂが最外表面を構成する最表面層である。
尚、図１では電荷輸送層２Ｂが最表面層である態様を示したが、更に電荷輸送層２Ｂの外周面側に保護層等の他の層を設けた態様であってもよい。また、図１では導電性基体１上に下引層４を介して電荷発生層２Ａを設けた態様を示したが、下引層４がない態様であってもよい。
【００２９】
以下、本実施形態に係る電子写真感光体の各層について詳細に説明する。なお、符号は省略して説明する。
【００３０】
（導電性基体）
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
【００３１】
導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。
【００３２】
粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。
【００３３】
粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。
【００３４】
陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。
【００３５】
陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。
【００３６】
導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
【００３７】
ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００３８】
（下引層）
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
【００３９】
無機粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ωｃｍ以上１０１１Ωｃｍ以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
【００４０】
無機粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ２／ｇ以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。
【００４１】
無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
【００４２】
無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。
【００４３】
表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好まい、アミノ基を有するシランカップリング剤が好ましい。
【００４４】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４５】
シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４６】
表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。
【００４７】
表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。
【００４８】
ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物（アクセプター化合物）を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。
【００４９】
電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物；２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物；等の電子輸送性物質等が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
【００５０】
電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。
【００５１】
電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着せる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。
【００５２】
乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。
【００５３】
湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。
【００５４】
なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。
【００５５】
電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下がよく、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下である。
【００５６】
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。
【００５７】
これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
【００５８】
下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
【００５９】
添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００６０】
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００６１】
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００６２】
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００６３】
これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００６４】
下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）から１／２λまでに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
【００６５】
下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。
【００６６】
下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
【００６７】
下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。
【００６８】
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【００６９】
下引層の膜厚は、例えば、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。
【００７０】
（中間層）
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００７１】
これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。
【００７２】
中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【００７３】
中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。
【００７４】
（電荷発生層）
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含む層である。また、電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着層であってもよい。電荷発生材料の蒸着層は、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）イメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合に好適である。
【００７５】
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料；ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；ペリレン顔料；ピロロピロール顔料；フタロシアニン顔料；酸化亜鉛；三方晶系セレン等が挙げられる。
【００７６】
これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることが好ましい。具体的には、例えば、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン；特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン；特開平５−１４０４７２号公報、特開平５−１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン；特開平４−１８９８７３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより好ましい。
【００７７】
一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；チオインジゴ系顔料；ポルフィラジン化合物；酸化亜鉛；三方晶系セレン；特開２００４−７８１４７号公報、特開２００５−１８１９９２号公報に開示されたビスアゾ顔料等が好ましい。
【００７８】
４５０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下に発光の中心波長があるＬＥＤ，有機ＥＬイメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合にも、上記電荷発生材料を用いてもよいが、解像度の観点より、感光層を２０μｍ以下の薄膜で用いるときには、感光層中の電界強度が高くなり、基材からの電荷注入による帯電低下、いわゆる黒点と呼ばれる画像欠陥を生じやすくなる。これは、三方晶系セレン、フタロシアニン顔料等のｐ−型半導体で暗電流を生じやすい電荷発生材料を用いたときに顕著となる。
【００７９】
これに対し、電荷発生材料として、縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、アゾ顔料等のｎ−型半導体を用いた場合、暗電流を生じ難く、薄膜にしても黒点と呼ばれる画像欠陥を抑制し得る。ｎ−型の電荷発生材料としては、例えば、特開２０１２−１５５２８２号公報の段落［０２８８］〜［０２９１］に記載された化合物（ＣＧ−１）〜（ＣＧ−２７）が挙げられるがこれに限られるものではない。
なお、ｎ−型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをｎ−型とする。
【００８０】
電荷発生層に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、結着樹脂としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ以上であることをいう。
これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。
【００８１】
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、質量比で１０：１から１：１０までの範囲内であることが好ましい。
【００８２】
電荷発生層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【００８３】
電荷発生層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。なお、電荷発生層の形成は、電荷発生材料の蒸着により行ってもよい。電荷発生層の蒸着による形成は、特に、電荷発生材料として縮環芳香族顔料、ペリレン顔料を利用する場合に好適である。
【００８４】
電荷発生層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等が挙げられる。これら溶剤は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いる。
【００８５】
電荷発生層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式等が挙げられる。
なお、この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、更に好ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。
【００８６】
電荷発生層形成用塗布液を下引層上（又は中間層上）に塗布する方法としては、例えばブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【００８７】
電荷発生層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、より好ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内に設定される。
【００８８】
（電荷輸送層）
電荷輸送層は、電荷輸送材料が結着樹脂中に分散して形成される。尚、電荷輸送層は、電荷輸送能を有し前記一般式（１）で表され且つ全固形分に対する含有比率が５．０質量％以上２２．０質量％以下である化合物を含み、また前記一般式（Ａ）に示す構造および前記一般式（Ｂ）に示す構造を含むポリカーボネート共重合体を含む。
【００８９】
・電荷輸送材料
電荷輸送層は、電荷輸送材料として前記一般式（１）で表される化合物を含む。
【００９０】
尚、前記一般式（１）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、およびＲ６は、それぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、またはアリール基を表す。尚、前記アルキル基、アルコキシ基、およびアリール基は、それぞれ置換基を有していてもよい。ｍ０およびｎ０は、それぞれ独立に、０または１を表す。ｎ１、ｎ２、ｎ３、ｎ４、ｎ５およびｎ６は、それぞれ独立に、０以上５以下の整数を表す。尚、ｎ１が２以上である場合における複数のＲ１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、またＲ２乃至Ｒ６についても同義である。
【００９１】
一般式（１）において、Ｒ１乃至Ｒ６が表すアルキル基としては、炭素数１以上２０以下のアルキル基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、オクタデシル基などの直鎖のものや、イソプロピル基、ｔ−ブチル基などの分岐鎖が挙げられ、これらの中でもメチル基、エチル基、イソプロピル基が望ましい。
【００９２】
一般式（１）において、Ｒ１乃至Ｒ６が表すアルコキシ基としては、炭素数１以上２０以下のアルコキシ基が好ましく、例えばメトキシ基、エトキシ基などが挙げられ、これらの中でもメトキシ基が望ましい。
【００９３】
一般式（１）において、Ｒ１乃至Ｒ６が表すハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などが挙げられ、これらの中でもフッ素、塩素が望ましい。
【００９４】
一般式（１）において、Ｒ１乃至Ｒ６が表すアリール基としては、炭素数６以上３０以下のアリール基が好ましく、例えばフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ビフェニリル基などが挙げられ、これらの中でもフェニル基、ナフチル基が望ましい。
【００９５】
また、Ｒ１乃至Ｒ６が表すアルキル基、アルコキシ基、およびアリール基は、それぞれ置換基を有していてもよい。該置換基としては、例えば上記例示したハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基、アリール基が挙げられる。
【００９６】
尚、Ｒ１乃至Ｒ６の置換位置としては、ｐ位またはｍ位が好ましい。
【００９７】
Ｒ１乃至Ｒ６で表される置換基の数であるｎ１、ｎ２、ｎ３、ｎ４、ｎ５およびｎ６は、それぞれ独立に０以上５以下の整数を表す。ｎ１乃至ｎ６は、それぞれ独立に０または１が好ましく、０が更に好ましい。
【００９８】
一般式（１）において、（Ｒ１）ｎ１、（Ｒ２）ｎ２、（Ｒ３）ｎ３、（Ｒ４）ｎ４、（Ｒ５）ｎ５、および（Ｒ６）ｎ６としては、それぞれ独立に、ｎ１乃至ｎ６が０（つまり置換基がなく全てが水素原子）であるか又はｎ１乃至ｎ６が１で且つＲ１乃至Ｒ６がアルキル基もしくはアルコキシ基であることが望ましく、更にはｎ１乃至ｎ６が０であるか又はｎ１乃至ｎ６が１で且つＲ１乃至Ｒ６が炭素数１以上３以下のアルキル基もしくは炭素数１以上３以下のアルコキシ基であることがより望ましい。また、ｎ１乃至ｎ６が０であるか又はｎ１乃至ｎ６が１で且つＲ１乃至Ｒ６がメチル基もしくはメトキシ基であることが更に望ましい。
【００９９】
ｍ０およびｎ０は、それぞれ独立に０または１を表す。中でも、ｍ０が０且つｎ０が１であるか、ｍ０が１且つｎ０が１であることがより好ましく、ｍ０が１且つｎ０が１であることが更に好ましい。
【０１００】
ここで、一般式（１）で表される化合物における各基の好ましい具体例として、例示化合物１−１乃至１−２０を以下に示す。尚、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、およびＲ６において「Ｈ」と記載されている箇所はつまり「ｎ１、ｎ２、ｎ３、ｎ４、ｎ５、またはｎ６が０」であることを表し、その他の置換基が記載されている箇所は「ｎ１、ｎ２、ｎ３、ｎ４、ｎ５、またはｎ６が１」であることを表す。また、置換基に記載されている数値は置換位置を表し、即ち「４−Ｍｅ」とはメチル基が４位に置換していることを表す。
但し、本実施形態はこれら化合物に限定されるものではない。
【０１０１】
【化５】
2015090453.tif 000007
【０１０２】
一般式（１）で表される化合物は、電荷輸送層の全固形分に対する含有比率が５．０質量％以上２２．０質量％以下である。５．０質量％未満では電荷輸送能に劣り、特にプロセススピードの速い画像形成装置（いわゆる高速機）では充分な潜像電位が確保し得ず、中間から高濃度域の画像で画像濃度が低下する。一方２２．０質量％を超えると電荷輸送層の強度が低下し、画像形成サイクルの繰り返しによる電荷輸送層の摩耗が生じ、耐久性に劣る。
【０１０３】
電荷輸送層には、一般式（１）で表される化合物以外にも、他の電荷輸送材料を併用してもよい。また、他の電荷輸送材料として高分子電荷輸送材料を併用してもよい。以下、他の電荷輸送材料について説明する。
【０１０４】
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物；キサントン系化合物；ベンゾフェノン系化合物；シアノビニル系化合物；エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。電荷輸送材料としては、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物も挙げられる。これらの電荷輸送材料は１種を単独で又は２種以上で用いられるが、これらに限定されるものではない。
【０１０５】
電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体が好ましい。
【０１０６】
【化６】
2015090453.tif 000008
【０１０７】
構造式（ａ−１）中、ＡｒＴ１、ＡｒＴ２、及びＡｒＴ３は、各々独立に置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（ＲＴ４）＝Ｃ（ＲＴ５）（ＲＴ６）、又は−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）を示す。ＲＴ４、ＲＴ５、ＲＴ６、ＲＴ７、及びＲＴ８は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
【０１０８】
【化７】
2015090453.tif 000009
【０１０９】
構造式（ａ−２）中、ＲＴ９１及びＲＴ９２は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、又は炭素数１以上５以下のアルコキシ基を示す。ＲＴ１０１、ＲＴ１０２、ＲＴ１１１及びＲＴ１１２は各々独立に、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ（ＲＴ１２）＝Ｃ（ＲＴ１３）（ＲＴ１４）、又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）を示し、ＲＴ１２、ＲＴ１３、ＲＴ１４、ＲＴ１５及びＲＴ１６は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。Ｔｍ１、Ｔｍ２、Ｔｎ１及びＴｎ２は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
【０１１０】
ここで、構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び前記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度の観点で好ましい。
【０１１１】
高分子電荷輸送材料としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報等に開示されているポリエステル系の高分子電荷輸送材は特に好ましい。
【０１１２】
他の電荷輸送材料の具体例としては、例えば、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン、トリ（ｐ−メチルフェニル）アミニル−４−アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン等の芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４’−ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４’−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジン等の１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよびその誘導体などの正孔輸送物質、クロラニル、ブロモアントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノンジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物等の電子輸送物質、および上記した化合物からなる基を主鎖または側鎖に有する重合体などが挙げられる。
【０１１３】
一般式（１）で表される化合物と他の電荷輸送材料とを併用する場合の、一般式（１）で表される化合物と他の電荷輸送材料の質量比としては、例えば１：５から５：１の範囲が挙げられる。すなわち、一般式（１）で表される化合物と他の電荷輸送材料とを併用する場合、電荷輸送材料全体における一般式（１）で表される化合物の含有量としては、例えば１７質量％以上８３質量％以下の範囲が挙げられる。
【０１１４】
電荷輸送層中における結着樹脂と電荷輸送材料との質量比としては、例えば２：８から８：２の範囲が挙げられる。すなわち、電荷輸送層全体に対する電荷輸送材料の含有量としては、例えば２０質量％以上８０質量％以下の範囲が挙げられ、４０質量％以上６０質量％以下の範囲であってもよい。
【０１１５】
・結着樹脂
電荷輸送層は、結着樹脂として前記一般式（Ａ）に示す構造および前記一般式（Ｂ）に示す構造を含むポリカーボネート共重合体（以下単に「特定のポリカーボネート樹脂」と称す）を含む。
【０１１６】
尚、一般式（Ａ）および一般式（Ｂ）において、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、およびＲ１０は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１以上６以下のアルキル基、炭素数５以上７以下のシクロアルキル基、または炭素数６以上１２以下のアリール基を表す。Ｘは、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、直鎖もしくは分岐アルキレン基、またはシクロアルキレン基を表す。尚、前記アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、直鎖もしくは分岐アルキレン基、およびシクロアルキレン基は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい。ｎ７、ｎ８、ｎ９およびｎ１０は、それぞれ独立に、０以上４以下の整数を表す。尚、ｎ７が２以上である場合における複数のＲ７はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、またＲ８乃至Ｒ１０についても同義である。
【０１１７】
一般式（Ａ）において、（Ｒ７）ｎ７および（Ｒ８）ｎ８は、それぞれ独立に、ｎ７およびｎ８が０（つまり置換基がなく全てが水素原子）であるかまたはｎ７およびｎ８が１で且つＲ７およびＲ８が炭素数１以上６以下のアルキル基もしくは炭素数６以上１２以下のアリール基であることが望ましく、更にはｎ７およびｎ８が０であるかまたはｎ７およびｎ８が１で且つＲ７およびＲ８がメチル基もしくはフェニル基であることがより望ましい。
【０１１８】
一般式（Ａ）で表される構造単位として、具体的には、下記構造式（Ａ１）で表される構造単位であることが望ましい。
【０１１９】
【化８】
2015090453.tif 000010
【０１２０】
一般式（Ｂ）において、（Ｒ９）ｎ９および（Ｒ１０）ｎ１０は、それぞれ独立に、ｎ９およびｎ１０が０（つまり置換基がなく全てが水素原子）であるかまたはｎ９およびｎ１０が１で且つＲ９およびＲ１０が炭素数１以上６以下のアルキル基もしくは炭素数６以上１２以下のアリール基であることが望ましく、更にはｎ９およびｎ１０が０であるかまたはｎ９およびｎ１０が１で且つＲ９およびＲ１０がメチル基もしくはフェニル基であることがより望ましい。
【０１２１】
一般式（Ｂ）において、Ｘは、−ＣＲ１１Ｒ１２−基（但し、Ｒ１１およびＲ１２は、各々独立に水素原子、トリフルオロメチル基、炭素数１以上６以下のアルキル基、または炭素数６以上１２以下のアリール基を表す。）、炭素数５以上１１以下の１，１−シクロアルキレン基、炭素数２以上１０以下のα，ω−アルキレン基を表すことが好ましく、−ＣＲ１１Ｒ１２−基、炭素数５以上１１以下の１，１−シクロアルキレン基がより好ましく、−ＣＲ１１Ｒ１２−基が更に望ましい。
【０１２２】
また、−ＣＲ１１Ｒ１２−中のＲ１１およびＲ１２は、各々独立に、炭素数１以上６以下のアルキル基または炭素数６以上１２以下のアリール基が望ましく、その中でもメチル基またはフェニル基がより望ましい。
【０１２３】
一般式（Ｂ）で表される構造単位として、具体的には、下記構造式（Ｂ１）〜（Ｂ３）で表される構造単位であることが望ましい。
【０１２４】
【化９】
2015090453.tif 000011
【０１２５】
ここで、一般式（Ａ）で表される構造単位と、一般式（Ｂ）で表される構造単位と、を含む共重合体であるポリカーボネート樹脂は、例えば、下記一般式（２Ａ）で表される４，４’−ジヒドロキシビフェニル化合物および下記一般式（２Ｂ）で表されるビスフェノール化合物を原料として用い、ホスゲン等の炭酸エステル形成性化合物との重縮合またはビスアリールカーボネートとのエステル交換反応等の方法によって得られる。
【０１２６】
【化１０】
2015090453.tif 000012
【０１２７】
一般式（２Ａ）および（２Ｂ）中、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、ｎ７、ｎ８、ｎ９、ｎ１０、Ｘは、一般式（Ａ）および一般式（Ｂ）中のものと同義である。
【０１２８】
ここで、一般式（２Ａ）で表される４，４’−ジヒドロキシビフェニル化合物として具体的には、４，４’−ジヒドロキシビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−２，２’−ジメチルビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジシクロヘキシルビフェニル、３，３’−ジフルオロ−４，４’−ジヒドロキシビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジフェニルビフェニル等が挙げられる。これら４，４’−ジヒドロキシビフェニル化合物は、１種単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。
【０１２９】
一方、一般式（２Ｂ）で表されるビスフェノール化合物として具体的には、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）イソブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−１−フェニルメタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−アミル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１−フェニル−１，１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エーテル、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン等が挙げられる。これらビスフェノール化合物は、１種単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。
【０１３０】
特定のポリカーボネート樹脂において、一般式（Ａ）で表される構造単位の共重合比は、ポリカーボネート樹脂を構成する全構造単位に対して５モル％以上９５モル％以下の範囲がよく、望ましくは５モル％以上５０モル％以下の範囲、さらに望ましくは１５モル％以上２５モル％以下の範囲である。
【０１３１】
また、特定のポリカーボネート樹脂において、一般式（Ａ）で表される構造単位と一般式（Ｂ）で表される構造単位との共重合モル比（下記例示化合物におけるｍ：ｎ比に相当）は、例えば、一般式（Ａ）：一般式（Ｂ）＝９５：５以上５：９５以下の範囲がよく、望ましくは５０：５０以上５：９５以下の範囲、さらに望ましくは３０：７０以上１０：９０以下の範囲である。
【０１３２】
特定のポリカーボネート樹脂の具体例としては、例えば、以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。なお、例示化合物中、ｍ、ｎは共重合比を示す。
【０１３３】
【化１１】
2015090453.tif 000013
【０１３４】
特定のポリカーボネート樹脂の重量平均分子量としては、２００００以上１２０００００以下の範囲が望ましく、４００００以上１０００００以下の範囲がより望ましく、６００００以上８００００以下の範囲が更に望ましい。
【０１３５】
尚、特定のポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量の測定は、以下の方法で行われる。即ち、樹脂１ｇをメチレンクロライド１００ｃｍ３に溶解し、２５℃の測定環境下でウベローデ粘度計で、その比粘度ηｓｐを測定し、ηｓｐ／ｃ＝〔η〕＋０．４５〔η〕２ｃの関係式（ただしｃは濃度（ｇ／ｃｍ３）より極限粘度〔η〕（ｃｍ３／ｇ）をもとめ、Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌによって与えられている式、〔η〕＝１．２３×１０−４Ｍｖ０．８３の関係式より粘度平均分子量Ｍｖをもとめる一点測定法が用いられる。
【０１３６】
尚、機能を損ねない範囲で、特定のポリカーボネート樹脂と共に、他の結着樹脂を併用してもよい。当該他の結着樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡタイプあるいはビスフェノールＺタイプ等のポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、塩素ゴム等の絶縁性樹脂、およびポリビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン等の有機光導電性ポリマー等が挙げられる。これらの他の結着樹脂は、単独または２種以上混合して用いてもよい。
【０１３７】
ここで、特定のポリカーボネート樹脂は、電荷輸送層の固形分全量に対して例えば１０質量％以上９０質量％以下であることがよく、望ましくは３０質量％以上９０質量％以下であり、より望ましくは５０質量％以上９０質量％以下である。
また。結着樹脂（特定のポリカーボネート樹脂＋他の結着樹脂）と電荷輸送材料との配合比（質量比）は１０：１乃至１：５が望ましい。
【０１３８】
電荷輸送層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
例えば電荷輸送層は、フッ素粒子を含んでもよい。
フッ素粒子としては、例えばフッ素樹脂の粒子が挙げられ、フッ素樹脂としては例えば４フッ化エチレン樹脂、３フッ化塩化エチレン樹脂、６フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、２フッ化２塩化エチレン樹脂およびそれらの共重合体等が挙げられる。これらの中でも特に、４フッ化エチレン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂が好ましい。
【０１３９】
フッ素粒子の一次粒径としては、例えば０．０５μｍ以上１μｍ以下の範囲が挙げられ、０．１μｍ以上０．５μｍ以下の範囲であってもよい。
【０１４０】
電荷輸送層中におけるフッ素粒子の含有量としては、例えば２質量％以上１５質量％以下の範囲が挙げられる。
【０１４１】
上記電荷輸送層形成用の塗布液中にフッ素粒子を分散させるための分散方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー、ナノマイザー等のメディアレス分散機を利用する方法が挙げられる。さらに、高圧ホモジナイザーとして、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
【０１４２】
また、塗布液中におけるフッ素粒子の分散安定剤として、例えば、フッ素系界面活性剤や、フッ素系グラフトポリマーを用いてもよい。フッ素系グラフトポリマーとしては、例えば、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、スチレン化合物等からなるマクロモノマー及びパーフルオロアルキルエチルメタクリレートよりグラフト重合された樹脂等が挙げられる。
【０１４３】
上記フッ素系界面活性剤やフッ素系グラフトポリマーの添加量としては、例えば、フッ素粒子の質量に対して１質量％以上５質量％以下の質量が挙げられる。
【０１４４】
電荷輸送層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
【０１４５】
電荷輸送層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、２−ブタノン等のケトン類；塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類；テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状又は直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
【０１４６】
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１４７】
電荷輸送層の膜厚は、例えば、好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下、より好ましくは２０μｍ以上４０μｍ以下の範囲内に設定される。
膜厚が上記下限値以上であることにより、本実施形態の電荷輸送層による移動度の向上が顕著となり、画像のざらつき感をより抑制し得る。更に電荷輸送層の膜減り代が確保され長期に渡り画像のざらつき感を抑制し得る。一方上記上限値以下であることにより、本実施形態の電荷輸送層内の電荷輸送材料と結着樹脂の偏析、所謂海島状態が低減され、移動度の向上が顕著となり、画像のざらつき感をより抑制し得る。
【０１４８】
・感光層への添加剤
さらに、本実施形態の電子写真感光体には、画像形成装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光、熱による感光体の劣化を防止する目的で、感光層（電荷発生層または電荷輸送層）中に酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤などの添加剤を添加してもよい。
【０１４９】
たとえば、酸化防止剤としてはヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物などが挙げられる。
【０１５０】
酸化防止剤の具体的な化合物例として、フェノール系酸化防止剤では２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、スチレン化フェノール、ｎ−オクタデシル−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−ｔ−ブチル−６−（３’−ｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデン−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチル−フェノール）、４，４’−チオ−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート］−メタン、３，９−ビス［２−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンなどが挙げられる。ヒンダードアミン系化合物ではビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−３−オクチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、コハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイミル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，３，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン−２，４−ビス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６，−ペンタメチル−４ピペリジル）アミノ］−６−クロロ−１，３，５−トリアジン縮合物などが挙げられる。有機イオウ系酸化防止剤としてジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオネート、２−メルカプトベンズイミダゾールなどが挙げられる。有機燐系酸化防止剤としてトリスノニルフェニルフォスフィート、トリフェニルフォスフィート、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−フォスフィートなどが挙げられる。
【０１５１】
有機硫黄系および有機燐系酸化防止剤は２次酸化防止剤と言われ、フェノール系あるいはアミン系などの１次酸化防止剤と併用することにより相乗効果が得られる。
【０１５２】
光安定剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ジチオカルバメート系、テトラメチルピペリジン系などの誘導体が挙げられる。
【０１５３】
ベンゾフェノン系光安定剤として２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。ベンゾトリアゾール系光安定剤として２−（−２’−ヒドロキシ−５’メチルフェニル−）−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（３’’，４’’，５’’，６’’−テトラ−ヒドロフタルイミド−メチル）−５’−メチルフェニル］−ベンゾトリアゾール、２−（−２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル−）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル−）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ｔ−ブチルフェニル−）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル−）−ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。その他の化合物として２，４，ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、ニッケルジブチル−ジチオカルバメートなどがある。
【０１５４】
また、少なくとも１種の電子受容性物質を本実施形態の電子写真感光体に含有せしめてもよい。本実施形態の感光体に使用される電子受容性物質としては、例えば無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸などが挙げられる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系や、Ｃｌ、ＣＮ、ＮＯ２等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特によい。
【０１５５】
また、塗布液には、塗膜の平滑性向上のためのレベリング剤としてシリコーンオイルを添加してもよい。
【０１５６】
（保護層）
保護層は、必要に応じて感光層上に設けられる。保護層は、例えば、帯電時の感光層の化学的変化を防止したり、感光層の機械的強度をさらに改善する目的で設けられる。
そのため、保護層は、硬化膜（架橋膜）で構成された層を適用することがよい。これら層としては、例えば、下記１）又は２）に示す層が挙げられる。
【０１５７】
１）反応性基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に有する反応性基含有電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり当該反応性基含有電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含む層）
２）非反応性の電荷輸送材料と、電荷輸送性骨格を有さず、反応性基を有する反応性基含有非電荷輸送材料と、を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり、非反応性の電荷輸送材料と、当該反応性基含有非電荷輸送材料の重合体又は架橋体と、を含む層）
【０１５８】
反応性基含有電荷輸送材料の反応性基としては、連鎖重合性基、エポキシ基、−ＯＨ、−ＯＲ［但し、Ｒはアルキル基を示す］、−ＮＨ２、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳｉＲＱ１３−Ｑｎ（ＯＲＱ２）Ｑｎ［但し、ＲＱ１は水素原子、アルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表し、ＲＱ２は水素原子、アルキル基、トリアルキルシリル基を表す。Ｑｎは１〜３の整数を表す］等の周知の反応性基が挙げられる。
【０１５９】
連鎖重合性基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基である。具体的には、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基等が挙げられる。なかでも、その反応性に優れることから、連鎖重合性基としては、ビニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基であることが好ましい。
【０１６０】
反応性基含有電荷輸送材料の電荷輸送性骨格としては、電子写真感光体における公知の構造であれば特に限定されるものではなく、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が好ましい。
【０１６１】
これら反応性基及び電荷輸送性骨格を有する反応性基含有電荷輸送材料、非反応性の電荷輸送材料、反応性基含有非電荷輸送材料は、周知の材料から選択すればよい。
【０１６２】
保護層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１６３】
保護層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた保護層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱等の硬化処理することで行う。
【０１６４】
保護層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル等のセロソルブ系溶剤；イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
なお、保護層形成用塗布液は、無溶剤の塗布液であってもよい。
【０１６５】
保護層形成用塗布液を感光層（例えば電荷輸送層）上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１６６】
保護層の膜厚は、例えば、好ましくは１μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上１０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１６７】
［画像形成装置（及びプロセスカートリッジ）］
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、帯電部材を前記電子写真感光体に接触させて前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像をトナーを含む現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段と、前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。
尚、電子写真感光体として前述の本実施形態に係る電子写真感光体を用いる。
また、帯電部材として、導電性弾性層、並びに前記導電性弾性層上に設けられ、前記電子写真感光体と接する導電性表面層であって、樹脂と、含有量が前記樹脂１００質量部に対して３質量部以上２５質量部以下の多孔質樹脂粒子と、含有量が前記樹脂１００質量部に対して０．１質量部以上１０質量部以下のシリコーンオイルと、を含む導電性表面層を有する帯電部材を用いる。
【０１６８】
本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー像の転写後、帯電前の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置；トナー像の転写後、帯電前に像保持体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置；電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。
【０１６９】
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、像保持体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。
【０１７０】
なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体および帯電手段を備える部分が、画像形成装置に対して脱着されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る電子写真感光体および帯電手段を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体および帯電手段以外に、例えば、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。
【０１７１】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主用部を説明し、その他はその説明を省略する。
【０１７２】
図２は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図２に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を被転写体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。
【０１７３】
図２におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材の一例）１３１を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード１３１の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード１３１と併用してもよい。
【０１７４】
なお、図２には、潤滑材１４を電子写真感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、及び、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。
【０１７５】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。
【０１７６】
−帯電部材−
図４は、本実施形態における帯電部材を示す概略斜視図である。図５は、本実施形態における帯電部材の概略断面図である。なお、図５は、図４のＡ−Ａ断面図である。
【０１７７】
本実施形態における帯電部材１２１は、図４及び図５に示すように、例えば、導電性支持体３０（以下「支持体３０」と称する）と、導電性支持体３０の外周面上に設けられた導電性弾性層３１（以下「弾性層３１」と称する）と、導電性弾性層３１の外周面上に設けられ、像保持体と接する導電性表面層３２（以下「表面層３２」と称する）と、を有するロール部材である。なお、支持体３０と弾性層３１との間は、例えば、接着層（不図示）が設けられている。
そして、表面層３２は、樹脂と、導電剤と、含有量が樹脂１００質量部に対して３質量部以上２５質量部以下の多孔質樹脂粒子と、含有量が前記樹脂１００質量部に対して０．１質量部以上１０質量部以下のシリコーンオイルと、を含んでいる。
【０１７８】
像保持体（感光体）と接する表面層３２を有する帯電部材（接触方式の帯電部材）において、目的とする表面粗さを付与し、表面層３２へのトナーの外添剤の被覆（フィルミング）を抑制する目的で、表面層３２に多孔質樹脂粒子を配合することが知られている。多孔質樹脂粒子を表面層３２に配合すると、多孔質樹脂粒子が樹脂との密着性が高いことから、粒子の表面層３２からの離脱と共に、表面層３２の割れの発生が抑制され易くなる。
【０１７９】
しかしながら、各成分を含む塗布液の塗膜の加熱を経て、表面層３２を形成するとき、加熱により、塗膜内部で渦流が生じ、その結果、セル構造が現れるベナードセルと呼ばれる現象が生じることがある。このベナードセル現象が生じると、セル構造の境界部に多孔質樹脂粒子が偏在し、目的とする表面粗さが付与されないばかりでなく、表面層の抵抗均一性が低下する。その結果、像保持体に対する均一帯電性も低下し、画像の粒状性が悪化する。特に、高いプロセス速度で画像を形成する場合、又は解像度が高い高画質の画像を形成するときに、画像の粒状性の悪化が顕著に現れる。
【０１８０】
そこで、本実施形態における帯電部材１２１では、表面層３２に、多孔質樹脂粒子を樹脂１００質量部に対して３質量部以上２５質量部以下で配合すると共に、シリコーンオイルを樹脂１００質量部に対して０．１質量部以上１０質量部以下で配合する。この量で、多孔質樹脂粒子及びシリコーンオイルを表面層３２に配合することにより、表面層３２を形成するときに生じるベナードセル現象の発生が抑制される。
【０１８１】
このため、本実施形態における帯電部材１２１では、表面層３２において、多孔質樹脂粒子の分散性が高まり、抵抗均一性の悪化が抑制される。その結果、粒状性に優れた画像が得られる。
【０１８２】
但し、本実施形態における帯電部材１２１は、ロール部材に限られず、弾性層３１及び表面層３２を有していれば、ブレード部材、ブラシ部材、フィルム部材のいずれでもあってもよい。また、本実施形態における帯電部材１２１は、上記層構成に限られず、例えば、支持体３０と弾性層３１との間に中間層を設けた構成、又は、弾性層３１と表面層３２との間に抵抗調整層若しくは移行防止層を設けた構成であってもよい。
【０１８３】
以下、本実施形態における帯電部材１２１の詳細について説明する。なお、以下、符号は省略して説明する。
【０１８４】
（支持体）
支持体は、帯電部材の電極および支持部材として機能するものであり、例えば、その材質としては鉄（快削鋼等），銅，真鍮，ステンレス，アルミニウム，ニッケル等の金属又は合金；クロム、ニッケル等で鍍金処理を施した鉄；等が挙げられる。導電性支持体としては、外周面にメッキ処理を施した部材（例えば樹脂、セラミック部材）、導電剤が分散された部材（例えば樹脂、セラミック部材）等も挙げられる。支持体は、中空状の部材（筒状部材）であってもよし、非中空状の部材であってもよい。
【０１８５】
（接着層）
接着層の材質としては、支持体と弾性層とを接着し、導電性を有する組成物である公知の接着剤が挙げられる。この接着剤としては、例えば、電子導電剤を含有する樹脂組成物、導電性樹脂を含む樹脂組成物が挙げられる。
【０１８６】
（弾性層）
弾性層は、弾性材料と、導電剤と、を含む。弾性層は、必要に応じて、その他の添加剤を含んでもよい。なお、弾性層は、抵抗調整層を兼ねていることがよい。
【０１８７】
弾性材料としては、例えば、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、エピクロルヒドリンゴム、ブチルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、スチレン−ブタジエンゴム、ブタジエンゴム、ニトリルゴム、エチレンプロピレンゴム、エピクロロヒドリン−エチレンオキサイド共重合ゴム、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル共重合ゴム、エチレン−プロピレン−ジエン共重合ゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム、天然ゴム、これらを混合したゴム等が挙げられる。
これらの弾性材料の中でも、シリコーンゴム、エチレンプロピレンゴム、エピクロロヒドリン−エチレンオキサイド共重合ゴム、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル共重合ゴム、これらを混合したゴムが好ましい。
ゴム材料は、発泡したものであっても無発泡のものであってもよい。
【０１８８】
導電剤としては、電子導電性物質、イオン導電性物質が挙げられる。
電子導電性物質としては、例えば、ケッチェンブラック、アセチレンブラック等のカーボンブラック、熱分解カーボン、グラファイト、亜鉛、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、クロム、チタニウム等の金属、ＺｎＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２−Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、ＺｎＯ−ＴｉＯ２、ＭｇＯ−Ａｌ２Ｏ３、ＦｅＯ−ＴｉＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の公知の金属酸化物が挙げられる。
イオン導電性物質としては、例えば、四級アンモニウム塩、アルカリ金属の過塩素酸塩、アルカリ土類金属の過塩素酸塩等の公知の塩が挙げられる。
【０１８９】
これらの導電剤は、１種単独で使用してもよいし、２種以上併用してもよい。
【０１９０】
導電剤の含有量は、弾性層の目的とする特性が得られる範囲内であれば、特に制限はない。
具体的には、電子導電性物質の場合、導電剤の含有量は、弾性材料１００質量部に対して、１質量部以上９０質量部以下であることが好ましい。
一方、イオン導電性物質の場合、導電剤の含有量は、弾性材料１００質量部に対して、０．０１質量部以上１０質量部以下であることが好ましい。
【０１９１】
弾性層におけるその他の添加剤としては、軟化剤、可塑剤、加硫剤、加硫促進剤、酸化防止剤、界面活性剤、カップリング剤等の周知の添加剤が挙げられる。
【０１９２】
弾性層の体積抵抗率は、例えば、弾性層が抵抗調整層を兼ねる場合、例えば、１０３Ωｃｍ以上１０１４Ωｃｍ以下がよく、好ましくは１０５Ωｃｍ以上１０１２Ωｃｍ以下、より好ましくは１０７Ωｃｍ以上１０１２Ωｃｍ以下である。
【０１９３】
弾性層の体積抵抗率は、次に示す方法により測定された値である。弾性層からシート状の測定試料を採取し、その測定試料に対し、ＪＩＳ−Ｋ−６９１１（１９９５）に従って、測定治具（Ｒ１２７０２Ａ／Ｂレジスティビティ・チェンバ：アドバンテスト社製）と高抵抗測定器（Ｒ８３４０Ａデジタル高抵抗／微小電流計：アドバンテスト社製）とを用い、電場（印加電圧／組成物シート厚）が１０００Ｖ／ｃｍになるよう調節した電圧を３０秒印加した後、その流れる電流値より、下記式を用いて算出する。
体積抵抗率（Ωｃｍ）＝（１９．６３×印加電圧（Ｖ））／（電流値（Ａ）×測定試料厚（ｃｍ））
【０１９４】
弾性層の表面粗さＲｚは、トナー又はゴミが表面層の凹部に溜まることを抑制する点から、例えば、２０μｍ以下がよい。
【０１９５】
弾性層の表面粗さＲｚは、次に示す方法により測定された値である。ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１（１９９４）に従って、弾性層（帯電部材）の軸方向両端２０ｍｍ位置及び中央部の３か所を測定し、その平均値とした。測定装置としては、東京精密株式会社製、サーフコム１４００を用いる。測定条件は、カットオフ：０．８ｍｍ、測定長：２．４ｍｍ、トラバーススピード：０．３ｍｍ／ｓｅｃとする。
【０１９６】
弾性層の厚みは、帯電部材を適用する装置によって異なるが、例えば、１ｍｍ以上１０ｍｍ以下がよく、好ましくは２ｍｍ以上５ｍｍ以下である。
【０１９７】
弾性層の厚みは、次に示す方法により測定された値である。弾性層（帯電部材）の軸方向両端２０ｍｍ位置及び中央部の３か所を片刃ナイフで切り取り、切り取った試料の断面を５から５０倍の厚みに応じて適切な倍率で観察して、膜厚を測定してその平均値とした。測定装置は、キーエンス社製、デジタルマイクロスコープＶＨＸ−２００を用いる。
【０１９８】
（表面層）
表面層は、樹脂と、多孔質樹脂粒子と、シリコーンオイル（以下「ポリシロキサン」と称する場合もある）と、を含む。表面層は、必要に応じて、その他の添加剤を含んでもよい。
【０１９９】
樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、フッ素変性アクリル樹脂、シリコーン変性アクリル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、共重合ナイロン、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、エチレンテトラフルオロエチレン樹脂、メラミン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリビニル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリチオフェン樹脂。ポリエチレンテレフタレート樹脂（ＰＥＴ）、フッ素樹脂（ポリフッ化ビニリデン樹脂、４フッ化エチレン樹脂、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）等）が挙げられる。また、樹脂は、硬化性樹脂を硬化剤若しくは触媒により硬化又は架橋したものが好ましい。
ここで、共重合ナイロンは、６１０ナイロン、１１ナイロン、１２ナイロン、の内のいずれか１種又は複数種を重合単位として含む共重合体である。なお、共重合ナイロンには、６ナイロン、６６ナイロン等の他の重合単位を含んでいてもよい。
【０２００】
これらの中でも、汚れ防止の観点から、樹脂としては、ポリフッ化ビニリデン樹脂、４フッ化エチレン樹脂、ポリアミド樹脂が好ましく、表面層の耐摩耗性、多孔質樹脂粒子の離脱抑制の点から、ポリアミド樹脂がより好ましい。
【０２０１】
特に、ポリアミド樹脂としては、表面層の耐摩耗性、多孔質樹脂粒子の離脱抑制の点から、アルコキシメチル化ポリアミド（アルコキシメチル化ナイロン）が好ましく、より好ましくはメトキシメチル化ポリアミド（Ｎ−メトキシメチル化ナイロン）である。
【０２０２】
なお、樹脂は、表面層の機械的強度を向上させ、表面層の割れの発生を抑制する点から、架橋構造を有することがよい。樹脂が架橋構造を有する場合、表面層のゲル分率は５０％以上１００％以下が好ましく、より好ましくは６０％以上１００％以下である。
【０２０３】
ゲル分率の測定は、ＪＩＳ  Ｋ６７９６に準じて行われる。具体的には、表面層から測定試料を採取する。採取した測定試料の質量を測定し、これを溶剤抽出前の質量とする。次に、測定試料を、表面層形成用の塗布液を調製するのに用いる溶剤中に２４時間浸漬した後、溶剤をろ過し、残留した残留物をろ過し、重量を測定する。この重量を抽出後の質量とする。そして、下記式に従って、ゲル分率を算出する。
・式：ゲル分率＝１００×（溶剤抽出後の質量）／（溶剤抽出前の質量）
【０２０４】
多孔質樹脂粒子としては、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアクリル酸樹脂、ポリメタクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等の多孔質粒子が挙げられる。
【０２０５】
多孔質樹脂粒子の個数平均粒径は、例えば、０．１μｍ以上３０μｍ以下がよく、好ましくは０．５μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上１５μｍ以下である。
多孔質樹脂粒子の個数平均粒径は、次の方法により測定された値である。まず、多孔質樹脂粒子をＳＥＭ試料台に貼りつけた導電性両面テープ上に保持し、これをサンプルとする。このサンプルをＳＥＭ（透過型電子顕微鏡）により観察する。例えば、多孔質樹脂粒子サンプルをＦＥ−ＳＥＭ（日本電子製  ＪＳＭ−６７００Ｆ），加速電圧５ｋＶの条件下二次電子像を観察する。そして、多孔質樹脂粒子５０個の各々の投影面積に等しい円の直径を粒子径として、その平均値を個数平均粒径とする。
【０２０６】
多孔質樹脂粒子の含有量は、樹脂１００質量部に対して３質量部以上２５質量部以下であり、好ましくは５質量部以上２０質量部以下、より好ましくは５質量部以上１５質量部以下である。
多孔質樹脂粒子の含有量を３質量％以上とすると、目的とする表面層の表面粗さが実現され易くなり、粒状性の向上と共に、トナーの外添剤の被覆（フィルミング）が抑制され難くなる。一方、多孔質樹脂粒子の含有量を２５質量部以下とすると、表面層の抵抗均一性の低下が抑えられ、粒状性が向上する。
【０２０７】
シリコーンオイルとしては、例えば、ジメチルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイル、ジフェニルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、クロルフェニルシリコーンオイル等のストレートシリコーン；アルキル変性シリコーンオイル、アラルキル変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、ポリエステル変性シリコーンオイル、フルオロアルキル変性シリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイル、アルコキシ変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、カルボキシル基変性シリコーンオイル等の変性シリコーンオイル；が挙げられる。
【０２０８】
これらのシリコーンオイルの中でも、画像の粒状性を向上させる点から、ポリエーテル変性シリコーンオイル、ポリエステル変性シリコーンオイルからなる群から選択される少なくとも一種が好ましい。
【０２０９】
ポリエーテル変性シリコーンオイルとしては、例えば、ポリシロキサン鎖の側鎖、両末端、及び方末端の少なくとも一つを、ポリアルキレンオキサイドで変性したシリコーンオイルが挙げられる。
【０２１０】
脂肪酸エステル変性シリコーンオイルとしては、例えば、ポリシロキサン鎖の側鎖、両末端、及び方末端の少なくとも一つを、ポリエステルで変性したシリコーンオイルが挙げられる。
【０２１１】
シリコーンオイルの含有量は、樹脂１００質量部に対して０．１質量部以上１０質量部以下であり、好ましくは０．３質量部以上５質量部以下、より好ましくは０．５質量部以上３質量部以下である。
シリコーンオイルの含有量を０．１質量部以上とすると、表面層３２を形成するときに生じるベナードセル現象の発生が抑制され、粒状性に優れた画像が得られる。一方、シリコーンオイルの含有量を１０質量部以下とすることで、表面層からシリコーンオイルが染み出す現象（ブリード）の発生が抑制され易くなり、帯電部材の保管特性が向上する。
【０２１２】
表面層におけるその他の添加剤としては、例えば、導電剤、多孔質粒子以外の充填剤、硬化剤、加硫剤、加硫促進剤、酸化防止剤、界面活性剤、カップリング剤等の通常表面層に添加され得る周知の添加剤が挙げられる。
【０２１３】
表面層の体積抵抗率は、例えば、１０３Ωｃｍ以上１０１４Ωｃｍ以下がよく、好ましくは１０５Ωｃｍ以上１０１２Ωｃｍ以下、より好ましくは１０７Ωｃｍ以上１０１２Ωｃｍ以下がよい。
【０２１４】
表面層の体積抵抗率は、次に示す方法により測定された値である。表面層をアルミやステンレス等の金属の平板又は体積抵抗が１０Ωｃｍ以下のシート状のゴム材等に塗布し、測定試料を得る。その測定試料に対し、ＪＩＳ−Ｋ−６９１１（１９９５）に従って、測定治具（Ｒ１２７０２Ａ／Ｂレジスティビティ・チェンバ：アドバンテスト社製）と高抵抗測定器（Ｒ８３４０Ａデジタル高抵抗／微小電流計：アドバンテスト社製）とを用い、電場（印加電圧／組成物シート厚）が１０００Ｖ／ｃｍになるよう調節した電圧を３０秒印加した後、その流れる電流値より、下記式を用いて算出する。
体積抵抗率（Ωｃｍ）＝（１９．６３×印加電圧（Ｖ））／（電流値（Ａ）×測定試料膜厚（ｃｍ））
【０２１５】
ここで、フルデバイス（部材全体）の抵抗としては、シート状に形成した弾性層上に表面層を片面のみ形成して、測定試料を得る。その測定試料に対し、ＪＩＳ−Ｋ−６９１１（１９９５）に従って、測定治具（Ｒ１２７０２Ａ／Ｂレジスティビティ・チェンバ：アドバンテスト社製）と高抵抗測定器（Ｒ８３４０Ａデジタル高抵抗／微小電流計：アドバンテスト社製）とを用い、電場（印加電圧／測定試料の厚み）が１０００Ｖ／ｃｍになるよう調節した電圧を３０秒印加した後、その流れる電流値より、下記式を用いて算出する。
式：  体積抵抗率（Ωｃｍ）＝（１９．６３×印加電圧（Ｖ））／（電流値（Ａ）×測定試料の厚み（ｃｍ））
【０２１６】
表面層の表面粗さＲｚは、画像の粒状性を向上させると共に、トナーの外添剤の被覆（フィルミング）を抑制する点から、２μｍ以上１０μｍ以下がよく、好ましくは３μｍ以上８μｍ以下、より好ましくは３μｍ以上６μｍ以下である。
【０２１７】
表面層の表面粗さＲｚは、次に示す方法により測定された値である。ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１（１９９４）に従って、表面層（帯電部材）の軸方向両端２０ｍｍ位置及び中央部の３か所を測定し、その平均値とした。測定装置としては、東京精密株式会社製、サーフコム１４００を用いる。測定条件は、カットオフ：０．８ｍｍ、測定長：２．４ｍｍ、トラバーススピード：０．３ｍｍ／ｓｅｃとする。
【０２１８】
表面層の表面自由エネルギーは、繰り返し画像を形成しても、粒状性に優れた画像を得られる点から、例えば、５０ｍＮ／ｍ以上９０ｍＮ／ｍ以下がよく、好ましくは５５ｍＮ／ｍ以上９０ｍＮ／ｍ以下である。
【０２１９】
表面層の表面自由エネルギーは、次に示す方法により測定された値である。常温常湿（２２℃、５５％ＲＨ）環境下で、表面自由エネルギーの双極子成分、分散成分および水素結合成分が既知である試薬として純水、ヨウ化メチレン、α−ブロモナフタレン、エチレングリコールを使用し、接触角計ＣＡ−Ｘ（商品名；協和界面株式会社製）を用いて、表面層の表面に対する接触角を測定し、測定結果に基づき表面自由エネルギー解析ソフトＥＧ−１１（商品名；協和界面株式会社製）を用いて、Ｆｏｗｋｅｓの式に基づく表面自由エネルギーを算出する。但し、試薬の滴下量は２．５μＬとし、接触角測定までの時間は試薬を滴下してから６０秒後の接触角を測定する。
【０２２０】
ここで、帯電部材の表面のダイナミック超微小硬度は、汚染や割れの点から、例えば、０．０４以上０．５以下がよく、好ましくは０．０８以上０．３以下である。
【０２２１】
帯電部材の表面のダイナミック超微小硬度（以下、「ＤＨ」とも称する）は、圧子を試料に一定の押込み速度（ｍＮ／ｓ）で進入させたときの試験荷重をＰ（ｍＮ）、押込み深さをＤ（μｍ）としたとき、下記式より算出された硬度である。但し、下記式において、αは圧子形状による定数を表す。
式：ＤＨ＝α×Ｐ／Ｄ２
なお、ダイナミック超微小硬度の測定は、ダイナミック超微小硬度計ＤＵＨ−Ｗ２０１Ｓ（（株）島津製作所社製）により行った。ダイナミック超微小硬度は、軟質材料測定により、三角錐圧子（頂角：１１５°、α：３．８５８４）を、帯電部材の表面層に押込み速度０．１４ｍＮ／ｓ、試験荷重１．０ｍＮで進入させた時の押込み深さＤを測定することにより求められる。
【０２２２】
表面層の厚みは、弾性層からのブリード物（滲み出す液状物）及びブルーム物（析出する固形物）の帯電部材の表面への移動を抑制すると共に、表面層の抵抗安定性の点から、例えば、２μｍ以上２５μｍ以下がよく、好ましくは３μｍ以上２０μｍ以下であり、より好ましくは３μｍ以上１５μｍ以下であり、更に好ましくは５μｍ以上１５μｍ以下である。
【０２２３】
表面層の厚みは、次に示す方法により測定された値である。表面層（帯電部材）の軸方向両端２０ｍｍ位置及び中央部の３か所を片刃ナイフで切り取り、切り取った試料の断面を倍率１０００倍で観察して、膜厚を測定してその平均値とした。測定装置は、キーエンス社製、デジタルマイクロスコープＶＨＸ−２００を用いる。
【０２２４】
表面層は、各成分を溶剤に分散させて塗布液を調製し、先立って形成した弾性層上に、この塗布液を塗布した後、加熱することで形成する。
塗布液の塗布方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法、フロー塗布法、リング塗布法、ダイ塗布法、インクジェット塗布法等が挙げられる。
塗布液に用いる溶剤としては、特に限定されず一般的なものが使用され、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール類；アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類；テトラヒドロフラン；ジエチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル類などの溶媒を使用してもよい。また、これらの他、種々の溶媒を使用してもよいが、電子写真感光体の生産に一般的に使用される浸漬塗布法を適用するためには、アルコール溶剤若しくはケトン溶剤、又はそれらの混合溶剤が挙げられる。
【０２２５】
−帯電装置−
以下、本実施形態における帯電装置について説明する。
図６は、本実施形態における帯電装置の概略斜視図である。
【０２２６】
本実施形態における帯電装置は、帯電部材として、上記本実施形態における帯電部材を適用した形態である。
具体的には、本実施形態における帯電装置１２は、図６に示すように、例えば、帯電部材１２１と、クリーニング部材１２２と、が特定の食い込み量で接触して配置されている。そして、帯電部材１２１の基材３０およびクリーニング部材１２２の基材１２２Ａの軸方向両端は、各部材が回転自在となるように導電性軸受け１２３（導電性ベアリング）で保持されている。導電性軸受け１２３の一方には電源１２４が接続されている。
なお、本実施形態における帯電装置は、上記構成に限られず、例えば、クリーニング部材１２２を備えない形態であってもよい。
【０２２７】
クリーニング部材１２２は、帯電部材１２１の表面を清掃するための清掃部材であり、例えば、ロール状で構成されている。クリーニング部材１２２は、例えば、円筒状または円柱状の基材１２２Ａと、基材１２２Ａの外周面に弾性層１２２Ｂと、で構成される。
【０２２８】
基材１２２Ａは、導電性の棒状部材であり、その材質は例えば、鉄（快削鋼等），銅，真鍮，ステンレス，アルミニウム，ニッケル等の金属が挙げられる。また、基材１２２Ａとしては、外周面にメッキ処理を施した部材（例えば樹脂や、セラミック部材）、導電剤が分散された部材（例えば樹脂や、セラミック部材）等も挙げられる。基材１２２Ａは、中空状の部材（筒状部材）であってもよし、非中空状の部材であってもよい。
【０２２９】
弾性層１２２Ｂは、多孔質の３次元構造を有する発泡体からなり、内部や表面に空洞や凹凸部（以下、セルという。）が存在し、弾性を有していることがよい。弾性層１２２Ｂは、ポリウレタン、ポリエチレン、ポリアミド、オレフィン、メラミンまたはポリプロピレン、ＮＢＲ（アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム）、ＥＰＤＭ（エチレン−プロピレン−ジエン共重合ゴム）、天然ゴム、スチレンブタジエンゴム、クロロプレン、シリコーン、ニトリル、等の発泡性の樹脂材料またはゴム材料を含んで構成される。
【０２３０】
これらの発泡性の樹脂材料またはゴム材料のなかでも、帯電部材１２１との従動摺擦によりトナーや外添剤などの異物を効率的にクリーニングすると同時に、帯電部材１２１の表面にクリーニング部材１２２の擦れによるキズをつけ難くするために、また、長期にわたり千切れや破損が生じ難くするために、引き裂き、引っ張り強さなどに強いポリウレタンが特に好適に適用される。
【０２３１】
ポリウレタンとしては、特に限定するものではなく、例えば、ポリオール（例えばポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、アクリルポリオールなど）と、イソシアネート（２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネートや４，４−ジフェニルメタンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートなど）の反応物が挙げられ、これらの鎖延長剤（例えば１，４−ブタンジオール、トリメチロールプロパンなど）による反応物であってもよい。なお、ポリウレタンは、発泡剤（水やアゾ化合物（アゾジカルボンアミド、アゾビスイソブチロニトリル等）を用いて発泡させるのが一般的である。
【０２３２】
弾性層１２２Ｂのセル数としては、２０／２５ｍｍ以上８０／２５ｍｍ以下であることが好ましく、３０／２５ｍｍ以上８０／２５ｍｍ以下であることがさらに好ましく、３０／２５ｍｍ以上５０／２５ｍｍ以下であることが特に好ましい。
【０２３３】
弾性層１２２Ｂの硬さとしては、１００Ｎ以上５００Ｎ以下が好ましく１００Ｎ以上４００Ｎ以下がさらに好ましく、１５０Ｎ以上４００Ｎ以下が特に好ましい。
【０２３４】
導電性軸受け１２３は、帯電部材１２１とクリーニング部材１２２とを一体で回転自在に保持すると共に、当該部材同士の軸間距離を保持する部材である。導電性軸受け１２３は、導電性を有する材料で製造されていればいかなる材料および形態でもよく、例えば、導電性のベアリングや導電性の滑り軸受けなどが適用される。
【０２３５】
電源１２４は、導電性軸受け１２３へ電圧を印加することにより帯電部材１２１とクリーニング部材１２２とを同極性に帯電させる装置であり、公知の高圧電源装置が用いられる。
【０２３６】
本実施形態における帯電装置１２では、例えば、電源１２４から導電性軸受け１２３に電圧が印加されることで、帯電部材１２１とクリーニング部材１２２とが同極性に帯電する。
【０２３７】
−露光装置−
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
【０２３８】
−現像装置−
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
【０２３９】
現像装置１１に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。
【０２４０】
−クリーニング装置−
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
【０２４１】
−転写装置−
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０２４２】
−中間転写体−
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
【０２４３】
図３は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図３に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【実施例】
【０２４４】
以下、本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが、本発明は下記実施例により限定されるものではない。なお、特に断りがない限り「部」および「％」は質量基準を意味する。
【０２４５】
（帯電ローラＡの作製）
−弾性層の形成−
表１に示した組成の混合物（表１の配合比は部）をオープンロールで混練りし、ＳＵＳ３０３を材質とする直径８ｍｍの導電性支持体表面に接着層を介してプレス成形機を用いて直径１２．５ｍｍのロールを形成した。その後、研磨により直径１２ｍｍの導電性弾性ロールを得た。
【０２４６】
【表１】
2015090453.tif 000014
【０２４７】
−表面層の形成−
表２に示した組成の混合物（表２の配合比は部）１５部をメタノール８５部で希釈し、ビーズミルにて分散し得られた分散液を、得られた導電性弾性ロールの弾性層の外周面に浸漬塗布した後、１４０℃で３０分間加熱して架橋させ、乾燥し、厚さ１０μｍの表面層を形成し、帯電ロールＡを得た。
【０２４８】
【表２】
2015090453.tif 000015
【０２４９】
（帯電ローラＢの作製）
多孔質ポリアミドフィラーの配合比を３．３部、シリコーンオイルＢＹＫ−３０７の配合比を８部とした以外は、帯電ローラＡと同様に形成し帯電ローラＢとした。
【０２５０】
（帯電ローラＣの作製）
多孔質ポリアミドフィラーの配合比を２０部、シリコーンオイルＢＹＫ−３０７の配合比を０．２部とした以外は、帯電ローラＡと同様に形成し帯電ローラＣとした。
【０２５１】
（帯電ローラＤの作製（比較用））
多孔質ポリアミドフィラーの配合比を２５部、シリコーンオイルＢＹＫ−３０７の配合比を０部とした以外は、帯電ローラＡと同様に形成し帯電ローラＤとした。
【０２５２】
（帯電ローラＥの作製（比較用））
多孔質ポリアミドフィラーの配合比を１部、シリコーンオイルＢＹＫ−３０７の配合比を１２部とした以外は、帯電ローラＡと同様に形成し帯電ローラＥとした。
【０２５３】
（感光体Ａの作製）
−下引層−
酸化亜鉛（平均粒子径：７０ｎｍ、テイカ社製、比表面積値：１５ｍ２／ｇ）１００部をメタノール５００部と攪拌混合し、シランカップリング剤として、ＫＢＭ６０３（信越化工業学社製）０．７５部を添加し、２時間攪拌した。その後、メタノールを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛粒子を得た。
【０２５４】
前記表面処理を施した酸化亜鉛粒子６０部と、アクセプターとしてヒドロキシアントラキノン１．２部と、硬化剤としてブロック化イソシアネート（スミジュール３１７３、住友バイエルンウレタン社製）１３．５部と、ブチラール樹脂（エスレックＢＭ−１、積水化学社製）１５部と、をメチルエチルケトン８５部に溶解した溶液３８部と、メチルエチルケトン２５部と、を混合し、直径１ｍｍのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間の分散を行い、分散液を得た。得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５部と、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）４．０部と、を添加し、下引層形成用塗布液を得た。下引層形成用塗布液の塗布温度２４℃における粘度は２３５ｍＰａ・ｓであった。
この塗布液を、浸漬塗布法にて塗布速度２２０ｍｍ／ｍｉｎで直径４０ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１８０℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ２４μｍの下引層を得た。
【０２５５】
−電荷発生層−
次に、電荷発生材料として、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．５゜、９．９゜、１２．５゜、１６．３゜、１８．６゜、２５．１゜及び２８．３゜に強い回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶１５部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイト社製）１０部およびｎ−ブチルアルコール３００部からなる混合物を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散して電荷発生層形成用塗布液を得た。電荷発生層形成用塗布液の塗布温度２４℃における粘度は１．８ｍＰａ・ｓであった。
この塗布液を前記下引層上に浸漬塗布法にて塗布速度６５ｍｍ／ｍｉｎで塗布し、１５０℃で１０分間乾燥して電荷発生層を得た。
【０２５６】
−電荷輸送層−
次に、４フッ化エチレン樹脂粒子８部（平均一次粒径：０．２μｍ）と、フッ化アルキル基含有メタクリルコポリマー（重量平均分子量３００００）０．０１部と、をテトラヒドロフラン４部、トルエン１部とともに２０℃の液温に保ち、４８時間攪拌混合し、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液（Ａ液）を得た。
【０２５７】
次に、電荷輸送材料として、前記一般式（１）においてｎ０＝１、ｍ０＝１、ｎ１、ｎ２、ｎ３、ｎ４、ｎ５及びｎ６が全て０の化合物（例示化合物１−１１）を１．２部、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミンを２．６部、結着樹脂として、一般式（Ａ）および一般式（Ｂ）の繰り返し単位からなるポリカーボネート共重合体（例示化合物（Ａ−３）、一般式（Ａ）に示す構造と一般式（Ｂ）に示す構造とのモル比（ｍ：ｎ比）＝２５：７５、重量平均分子量４００００、（以下「ポリカーボネート１」と称す））６部、酸化防止剤として２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．１部を混合して、テトラヒドロフラン２４部及びトルエン１１部を混合溶解して、混合溶解液（Ｂ液）を得た。
【０２５８】
前記Ｂ液に前記Ａ液を加えて攪拌混合した後、微細な流路を持つ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー（吉田機械興行株式会社製）を用いて、５００ｋｇｆ／ｃｍ２まで昇圧しての分散処理を６回繰り返した液に、フッ素変性シリコーンオイル（商品名：ＦＬ−１００  信越化学工業社製）を５ｐｐｍ添加し、十分に攪拌して電荷輸送層形成用塗布液を得た。
この塗布液を電荷発生層上に塗布して１４３℃で４０分間乾燥して３２μｍの厚さの電荷輸送層を形成し、目的の電子写真感光体を得た。このようにして得た電子写真感光体を感光体Ａとした。
【０２５９】
（感光体Ｂの作製）
例示化合物１−１１の量を１．９部、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミンの量を２．１部とした以外は、感光体Ａと同様に作製したものを感光体Ｂとした。
【０２６０】
（感光体Ｃの作製）
例示化合物１−１１の量を３．８部、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミンの量を０部とした以外は、感光体Ａと同様に作製したものを感光体Ｃとした。
【０２６１】
（感光体Ｄの作製（比較用））
例示化合物１−１１の量を０部、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミンを４部とした以外は、感光体Ａと同様に作製したものを感光体Ｄとした。
【０２６２】
（感光体Ｅの作製（比較用））
例示化合物１−１１の量を４部、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミンの量を０部、結着樹脂としてポリカーボネート１の量を５．８部とした以外は、感光体Ａと同様に作製したものを感光体Ｅとした。
【０２６３】
（感光体Ｆの作製（比較用））
例示化合物１−１１の量を０．５部、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミンの量を３．５部とした以外は、感光体Ａと同様に作製したものを感光体Ｆとした。
【０２６４】
（感光体Ｇの作製（比較用））
電荷輸送材料を、下記化学式で表されるトリフェニルアミン誘導体１．２部に変更した以外は、感光体Ａと同様に作製したものを感光体Ｇとした。
【０２６５】
【化１２】
2015090453.tif 000016
【０２６６】
（感光体Ｈ〜Ｋの作製）
電荷輸送層の膜厚を下記表３に示した値に変更した以外は、感光体Ａと同様に作製したものを感光体Ｈ、Ｉ、Ｊ、Ｋとした。
【０２６７】
＜評価＞
以上により作製した帯電ローラおよび感光体を、富士ゼロックス社製７００  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｃｏｌｏｒ  Ｐｒｅｓｓに搭載し、以下の評価を行った。結果を表３に示す。
【０２６８】
・カラーノイズ（ざらつき感）
カラーノイズの評価は、各２０ｍｍ×２０ｍｍの大きさのパッチを、画像密度１０％から１００％まで、１０％毎に採取し、最もざらつき感の大きいパッチを選択した。次に、当該パッチを、セイコーエプソン社製ＥＳ−１００００スキャナを用いて、２００ｄｐｉの解像度にてスキャンし、その出力値を反射濃度Ｄに換算し、縦方向に平均化することで、濃度ムラプロファイルを採取した。当該プロファイルの最大値と最小値の差分を、カラーノイズ値とした。
Ｇ１：ざらつき感がない。カラーノイズ値０以上０．０１以下
Ｇ２：わずかにざらつき感がある。カラーノイズ値０．０１超０．０２以下
Ｇ３：ざらつき感がある。カラーノイズ値０．０２超０．０４以下
Ｇ４：大きなざらつき感がある。カラーノイズ値０．０４超
【０２６９】
・帯電スジ
帯電スジの評価は、画像密度５％のランダムチャートを１００００枚採取したのち、画像密度３０％の全面ハーフトーン画像を出力し、ハーフトーン上の白抜けスジ本数を確認することにより評価した。
Ｇ１：白抜けスジなし
Ｇ２：１本以上３本以下の白抜けスジ発生
Ｇ３：４本以上２０本以下の白抜けスジ発生
Ｇ４：２０本を超える白抜けスジ発生
【０２７０】
・感光体摩耗
感光体摩耗量の評価は、画像密度５％のランダムチャートを１００００枚採取したのち、感光体表面膜厚を測定することで評価した。渦電流式膜厚測定装置（フィッシャー・インストルメンツ社製）を用いて感光体の膜厚を測定し、予め測定しておいた感光体の膜厚との差（μｍ）を求めた。
【０２７１】
【表３】
2015090453.tif 000017
【０２７２】
尚、上記表３における「多孔質樹脂粒子含有量」および「シリコーンオイル含有量」は樹脂１００部に対する含有量を、「一般式（１）化合物含有比率」は電荷輸送層の全固形分に対する含有比率を表す。
【符号の説明】
【０２７３】
１  導電性基体、２  感光層、２Ａ  電荷発生層、２Ｂ  電荷輸送層、４  下引層、７  電子写真感光体、８  帯電装置、９  露光装置、１１  現像装置、１２  帯電装置、１３  クリーニング装置、１４  潤滑材、３０  導電性支持体、３１  導電性弾性層、３２  導電性表面層、４０  転写装置、５０  中間転写体、１００  画像形成装置、１２０  画像形成装置、１２１  帯電部材、１２２  クリーニング部材、１２２Ａ  基材、１２２Ｂ  弾性層、１２３  導電性軸受け、１２４  電源、１３１  クリーニングブレード、１３２  繊維状部材、１３３  繊維状部材、３００  プロセスカートリッジ
【図２】
2015090453.tif 000021
【図１】
2015090453.tif 000022
【図３】
2015090453.tif 000023
【図４】
2015090453.tif 000024
【図５】
2015090453.tif 000025
【図６】
2015090453.tif 000026