(57)【要約】【課題】良好な光学特性を有し、かつ、高いガスバリア性などの高性能な機能性フィルムを提供する。【解決手段】基板の上に、有機層および無機層と、有機層と基板との間の粒子を含有する易接着層とを有し、かつ、有機層の無機層側の厚さ１０％の領域における易接着層に由来する粒子の含有量を１５％以下とすることにより、前記課題を解決する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板の上の有機層と、前記有機層の上の無機層と、前記基板と有機層との間に設けられる、粒子が分散された易接着層とを有し、
かつ、前記有機層の無機層側の厚さ１０％の領域における前記易接着層に由来する粒子の含有量が、１５％以下であることを特徴とする機能性フィルム。
【請求項２】
前記易接着層が含有する粒子の粒径が、０．０１〜０．１μｍである請求項１に記載の機能性フィルム。
【請求項３】
前記無機層が窒化珪素からなる請求項１または２に記載の機能性フィルム。
【請求項４】
前記無機層の厚さが１０〜１００ｎｍである請求項１〜３のいずれかに記載の機能性フィルム。
【請求項５】
前記有機層の厚さが０．５〜５μｍである請求項１〜４のいずれかに記載の機能性フィルム。
【請求項６】
水蒸気透過率が１×１０-4[g/(m2・day)]以下である請求項１〜５のいずれかに記載の機能性フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の上に有機層および無機層を成膜してなる、有機／無機積層型の機能性フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
光学素子、有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ）や液晶ディスプレイなどの表示装置、半導体装置、薄膜太陽電池など、各種の装置に、ガスバリアフィルム、保護フィルム、光学フィルタや反射防止フィルム等の光学フィルムなど、各種の機能性フィルム（機能性シート）が利用されている。
このような機能性フィルムは、一例として、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム等のプラスチックフィルムを基板として、その上に、目的とする機能を発現する無機層（無機化合物からなる層）を成膜してなる構成を有する。
【０００３】
例えば、ガスバリアフィルムであれば、プラスチックフィルムの表面に、ガスバリア性を発現する窒化珪素や酸化窒化珪素炭から成る層（膜）を成膜してなるガスバリアフィルムが知られている。
また、より高いガスバリア性が得られる構成として、基板の表面に有機化合物からなる有機層を下地層（アンダーコート層）として有し、この有機層の上に、ガスバリア性を発現する無機化合物からなる無機層を有する、有機／無機積層型のガスバリアフィルムが知られている。さらに、有機層と無機層との積層構造を、複数、有することにより、より高いガスバリア性が得られることも、知られている。
【０００４】
例えば、特許文献１には、プラスチックフィルムの表面に、易接着層、有機層および無機層を順次積層してなる構成を有し、かつ、有機層の無機層側表面の中心線平均粗さＲａが０．５ｎｍ以下であり、かつ、有機層が２個以上のアクリロイル基および２個以上のウレタン基を同一分子内に有するアクリル系モノマーを重合したものであるガスバリアフィルムが記載されている。
また、特許文献２には、有機層と無機酸化物層とを有するガスバリア層を有し、かつ、無機酸化物層と接している有機層は、珪素原子もしくはフッ素原子を含有する化合物を含み、さらに、有機層の厚さが１０ｎｍ〜１μｍで、無機酸化物層の厚さが５〜５００ｎｍであるガスバリアフィルムが記載されている。
【０００５】
特許文献１や特許文献２に示されるように、下地層として有機層を形成した後に、ガスバリア性を発現する無機層を形成することにより、有機層の表面が有する平滑性を利用して、割れや剥離等の欠陥が無い、均一な無機層を形成することができる。
そのため、このような積層型のガスバリア膜によれば、無機層が有するガスバリア性を十分に発揮して、高いガスバリア性を有するガスバリアフィルムを得ることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−３０７８８７号公報
【特許文献２】特開２００９−２６２４９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、ガスバリアフィルムを有機ＥＬディスプレイや液晶ディスプレイ等の光学特性を要求される用途に使用する場合には、高い光透過率等の光学特性と高いガスバリア性能とを両立させる必要が有る。
有機層と無機層とを積層してなる積層型のガスバリアフィルムにおいて、光学特性とガスバリア性とを両立するためには、屈折率が高く、光透過率低下の原因となる無機層を薄くした上で、有機層の表面を適正に覆って、無機層を成膜する必要がある。
【０００８】
ところが、本発明者の検討によれば、積層型のガスバリアフィルムでは、無機層が薄くなると、下地に有機層を有しても、有機層の表面に適正な無機層を成膜することが困難になってしまい、目的とするガスバリア性を得ることができない場合が、多々、生じる。
【０００９】
本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解決することにあり、基板の上に、有機層と無機層とを積層してなる積層型の機能性フィルムにおいて、無機層を薄膜化して高い光学特性を得ることができ、しかも、有機層の表面を適正に覆う無機層を有し、かつ、有機層と基板との密着性にも優れる、光学特性を高い機能とを両立した機能性フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明の機能性フィルムは、基板と、基板の上の有機層と、有機層の上の無機層と、基板と有機層との間に設けられる、粒子が分散された易接着層とを有し、かつ、有機層の無機層側の厚さ１０％の領域における易接着層に由来する粒子の含有量が、１５％以下であることを特徴とする機能性フィルムを提供する。
【００１１】
このような本発明の機能性フィルムにおいて、易接着層が含有する粒子の粒径が、０．０１〜０．１μｍである請求項１にのが好ましい。
また、無機層が窒化珪素からなるのが好ましい。
また、無機層の厚さが１０〜１００ｎｍであるのが好ましい。
また、有機層の厚さが０．５〜５μｍであるのが好ましい。
さらに、水蒸気透過率が１×１０-4[g/(m2・day)]以下であるのが好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
上記構成を有する本発明によれば、基板の上に、下地層としての有機層を有し、その上に目的とする機能を発現する無機層を成膜してなる、有機／無機積層型の機能性フィルムにおいて、無機層を薄膜化して高い光学特性を得ることができ、しかも、有機層を適正に覆う無機層によって高い性能を発揮し、さらに、有機層と基板との密着性にも優れる、光学特性と高い機能とを両立した機能性フィルムを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】（Ａ）および（Ｂ）は、本発明の機能性フィルムを利用するガスバリアフィルムの一例を概念的に示す図である。
【図２】図１に示すガスバリアフィルムを製造する製造装置の一例を概念的に示す図で、（Ａ）は有機成膜装置、（Ｂ）は無機成膜装置である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の機能性フィルムについて、添付の図面に示される好適例を基に、詳細に説明する。
【００１５】
図１（Ａ）に、本発明の機能性フィルムを利用するガスバリアフィルムの一例を概念的に示す。
図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０は、基板１２の上に有機層１４を有し、この有機層１４の上に無機層１６を有する。また、ガスバリアフィルム１０は、基板１２と有機層１４との間に、基板１２と有機層１４との密着性を向上するための易接着層２０を有する。
さらに、ガスバリアフィルム１０は、好ましい態様として、無機層１６の上に、無機層１６を保護するための保護有機層１８を有する。
【００１６】
なお、本発明のガスバリアフィルム（機能性フィルム）は、図１（Ａ）に示される構成に限定はされず、基板１２の上に、有機層１４を有し、有機層１４の上に無機層１６を有し、かつ、基板１２と有機層１４との間に、易接着層２０を有するものであれば、各種の層構成が利用可能である。
【００１７】
例えば、必要な光学特性を確保できるのであれば、より高いガスバリア性能が得られる構成として、図１（Ｂ）に示すガスバリアフィルム２８のように、基板１２の上に易接着層２０および有機層１４を有し、有機層１４の上に、無機層１６を有し、無機層１６の上に中間有機層２４を有し、中間有機層２４の上に無機層１６を有し、無機層１６の上に、保護有機層１８を有する構成であってもよい。
本発明のガスバリアフィルムにおいて、有機層は、ガスバリア性を発現する無機層を適正に形成するための下地層として作用する。すなわち、本発明においては、必要な光透過率等の光学特性を確保できれば、下地となる有機層と、その上の無機層との組み合わせを、複数、有してもよい。
【００１８】
後に詳述するが、本発明のガスバリアフィルム１０（機能性フィルム）において、基板１２の上に形成される有機層１４には、易接着層２０に由来する微粒子２０ａ（有機層１４を成膜する前に易接着層２０に含有されていた微粒子２０ａ）が分散される。
ここで、本発明においては、層（膜）の厚さ方向において、有機層１４の無機層１６側（上側）の厚さ１０％の領域における、微粒子２０ａの含有率が１５％以下である。
本発明のガスバリアフィルム１０は、有機層１４と無機層１６とを積層してなる積層型のガスバリアフィルムにおいて、光透過率等の光学特性を向上するために無機層１６を薄くした場合であっても、易接着層２０に由来する微粒子２０ａに起因する無機層１６の欠陥部の発生を大幅に低減し、光学特性とガスバリア性とを両立して、かつ、有機層１４の密着性にも優れた、高性能なガスバリアフィルム１０を実現している。
【００１９】
但し、本発明の機能性フィルムは、ガスバリアフィルムに限定はされない。
すなわち、本発明は、光学フィルタや光反射防止フィルムなどの各種の光学フィルム等、公知の機能性フィルムに、各種、利用可能である。しかしながら、後述するが、本発明によれば、無機層１６が薄い場合でも、欠陥部が少ない適正な無機層１６を成膜することができる。そのため、本発明は、無機層１６の欠陥等に起因する性能劣化が大きく、また、光透過率等の優れた光学特性を要求される場合が多い、ガスバリアフィルムには、好適に利用される。
【００２０】
本発明のガスバリアフィルム１０において、基板１２（基材／支持体）には限定はなく、ガスバリアフィルム（機能性フィルム）において基板として利用されている、公知のシート状物が、各種、利用可能である。
好ましくは、後述するロール・ツー・ロールでの有機層１４および無機層１６の成膜が可能なように、長尺で、かつ、可撓性を有するシート状の基板１２（可撓性を有するウエブ状の基板１２）が利用される。
【００２１】
基板１２としては、具体的には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリアクリロニトリル、ポリイミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレートなどの、各種のプラスチック（高分子材料）からなるプラスチックフィルムが、好適に例示される。
また、本発明においては、このようなプラスチックフィルムを支持体として、その表面に、保護層、接着層、光反射層、反射防止層、遮光層、平坦化層、緩衝層、応力緩和層等の、各種の機能を得るための層（膜）が成膜されているものを、基板１２として用いてもよい。
【００２２】
ガスバリアフィルム１０は、基板１２の上に、有機層１４を有する。ここで、ガスバリアフィルム１０は、有機層１４と基板１２との間に、易接着層２０を有する。すなわち、有機層１４は、易接着層２０を介して、基板１２の上に成膜（形成）される。
本発明のガスバリアフィルム１０（機能性フィルム）において、易接着層２０は、一般的な光学用フィルムにおいて、表面にハードコート層等を成膜する際などの易接着性を向上するために設けられる、公知の易接着層（易接着処理層）である。この易接着層２０を有することにより、基板１２と有機層１４との密着性を確保できる。
【００２３】
前述のように、本発明のガスバリアフィルム１０において、易接着層２０は、一般的な光学用フィルムに設けられる公知のもので、バインダとして作用する高分子材料（樹脂材料／ポリマー）に、酸化珪素（シリカ）などの無機化合物からなる微粒子２０ａを分散してなるものである。
この易接着層２０に含有される微粒子２０ａ（すなわち、後述する有機層１４に分散される、易接着層２０に由来する微粒子２０ａ）は、粒径（直径）を０．１μｍ以下とするのが好ましい。
易接着層２０に由来する微粒子２０ａの粒径を０．１μｍ以下とすることにより、この微粒子２０ａによる光の散乱でのガスバリアフィルム１０の光透過率の低下等を防止して、光学特性に優れるガスバリアフィルム１０を得ることができる。
なお、微粒子２０ａの下限には、特に限定はない。しかしながら、あまりに微細な微粒子２０ａは、製造や取り扱いが大変であり、また、コストも高くなってしまう。この点を考慮すると、微粒子２０ａの粒径は、０．０１μｍ以上とするのが好ましい。
【００２４】
本発明のガスバリアフィルム１０においては、基板１２として、易接着層２０を有する（易接着処理を施された）、各種の市販のプラスチックフィルムが、好適に利用可能である。中でも、易接着層２０を有する光学用のプラスチックフィルム（高光透過性のプラスチックフィルム）は、好適である。
あるいは、易接着層を有さないプラスチックフィルム等を基板１２として、前述の特許文献１に記載される方法など、公知の方法で易接着層２０を形成してもよい。
【００２５】
基板１２（易接着層２０）の上には、有機層１４が形成される。
なお、図１（Ａ）では、ガスバリアフィルム１０の構成を明瞭にするために、易接着層２０と有機層１４との間に界面を示している。
しかしながら、基板１２の上に形成された易接着層２０は、有機層１４を成膜する際に、有機層１４となる塗料によって表面が溶解する。その結果、有機層１４と易接着層２０とが相溶するため、両者の間には、明確な界面は存在しない。また、この有機層１４を形成する際の易接着層２０の溶解によって、易接着層２０中の微粒子２０ａが有機層１４内に混入入し、分散される。
【００２６】
有機層１４は、有機化合物からなる層（有機化合物を主成分とする層（膜））で、基本的に、モノマーおよび／またはオリゴマーを、架橋（重合）したものである。この有機層１４は、後述する、ガスバリア性を発現する無機層１６を適正に成膜するための、下地層として機能する。
このような有機層１４を有することにより、基板１２の表面の凹凸や、基板１２の表面に付着している異物等を包埋して、有機層１４の表面を平坦化できる。この有機層表面の平坦化によって、基板１２の表面の凹凸や異物の影のような、無機層１６となる無機化合物が着膜し難い領域を無くし、有機層１４の表面全面に、適正に無機層１６を成膜することが可能になる。
【００２７】
有機層１４の厚さには限定は無いが、０．５〜５μｍとするのが好ましい。
有機層１４の厚さを０．５μｍ以上とすることにより、基板１２の表面の凹凸や、基板１２の表面に付着した異物を好適に包埋して、有機層１４の表面を平坦化できる。
また、有機層１４の厚さを５μｍ以下とすることにより、有機層１４が厚すぎることで膜の内部応力が強くなることに起因する、有機層１４のクラックや、ガスバリアフィルム１０のカール等の問題の発生を、好適に抑制することができる。
以上の点を考慮すると、有機層１４の厚さは、１〜３μｍとするのが、より好ましい。
【００２８】
本発明のガスバリアフィルム１０において、有機層１４の成膜材料には、限定はなく、公知の有機化合物（樹脂／高分子化合物）が、各種、利用可能である。
具体的には、ポリエステル、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、セルロースアシレート、ポリウレタン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、脂環式ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、フルオレン環変性ポリエステル、アクリロイル化合物、などの熱可塑性樹脂、あるいはポリシロキサン、その他の有機珪素化合物が好適に例示される。
【００２９】
中でも、Ｔｇや強度に優れる等の点で、ラジカル重合性化合物および／またはエーテル基を官能基に有するカチオン重合性化合物の重合物から構成された有機層１４は、好適である。
中でも特に、上記Ｔｇや強度に加え、屈折率が低い、光学特性に優れる等の点で、アクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマーやオリゴマーの重合体を主成分とするアクリル樹脂やメタクリル樹脂は、有機層１４として好適に例示される。
その中でも特に、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（ＤＰＧＤＡ）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（ＴＭＰＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（ＤＰＨＡ）などの、２官能以上、特に３官能以上のアクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマーやオリゴマーの重合体を主成分とするアクリル樹脂やメタクリル樹脂は、好適に例示される。
【００３０】
なお、以上の有機層１４に関する記載は、後述する保護有機層１８および図１（Ｂ）に示すガスバリアフィルム２８における中間有機層２４も同様である。
また、本発明のガスバリアフィルムにおいて、保護有機層１８や中間有機層２４を有する場合など、複数の有機層を有する場合には、それぞれの有機層の厚さは、同じでも異なってもよい。
【００３１】
このような有機層１４は、通常、塗布法で形成される。
すなわち、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）などの有機溶剤に、有機層１４となる有機化合物（モノマー／オリゴマー）を溶解し、さらに、必要に応じて、界面活性剤やシランカップリング剤等を添加した塗料を調製する。
この塗料を、易接着層２０を有する基板１２の表面（易接着層２０の表面）に塗布し、温風やヒータ等で乾燥する。塗料を乾燥したら、紫外線や可視光等の光照射、ヒータによる加熱等によって、有機化合物を架橋させて、有機層１４を形成する。
【００３２】
ここで、この塗料の有機層１４となる塗料を基板１２に塗布すると、易接着層２０の表面が溶解して塗料と相溶し、かつ、易接着層２０内に分散されていた微粒子２０ａが塗料の中に混入する。
また、周知のように、塗料を乾燥する際の加熱によって塗料内部では対流が生じる。この対流によって、塗料内に流れ込んだ微粒子２０ａが分散され（いわゆるマイグレーションが生じ）、その結果、有機層１４の中に、易接着層２０に由来する微粒子２０ａが分散される。
【００３３】
本発明のガスバリアフィルム１０（機能性フィルム）においては、層（膜）の厚さ方向において、有機層１４の無機層１６側の厚さ１０％の領域は、易接着層２０に由来する微粒子２０ａの含有率を１５％以下とする。すなわち、図１（Ａ）に示すように、厚さがＬの有機層１４において、無機層１６側の厚さＬ／１０の領域は、有機層１４中における微粒子２０ａの含有率を１５％以下とする。
以下、無機層１６側を上、逆の基板１２側を下とも言う。
本発明は、有機層１４と無機層１６とを積層してなる積層型のガスバリアフィルムにおいて、光透過率などの光学特性とガスバリア性（目的性能）との両立を可能にしている。
【００３４】
前述のように、無機層１６の下層に、下地層としての有機層１４を有することにより、無機層１６を適正に成膜して、高いガスバリア性が得られる。
ここで、有機ＥＬディスプレイ等に利用されるガスバリアフィルムには、高いガスバリア性能のみならず、高い光透過率などの優れた光学特性も必要である。そのためには、ガスバリア性を確保した状態で、屈折率が高く、透過率低下の原因となる無機層１６を薄くする必要が有る。
しかしながら、光透過率等を確保するために無機層１６を薄くすると、無機層１６が適正に成膜できず、目的とするガスバリア性が得られない場合が、多々、生じた。
【００３５】
本発明者は、この原因について、鋭意検討を重ねた。
その結果、易接着層２０に含まれて、有機層１４内に分散された微粒子２０ａが、有機層１４の表面（上側表面）や表面近傍に存在することにより、無機層１６に欠陥が生じてしまうことを見出した。
【００３６】
無機層１６として、例えば、窒化珪素からなる無機層１６（窒化珪素からなる膜）を成膜する場合には、プラズマＣＶＤが利用される場合が多い。
ここで、有機層１４の表面や表面近傍に、易接着層２０に由来する微粒子２０ａが存在すると、プラズマＣＶＤでの成膜で不可避的に生じるプラズマによる有機層１４のエッチングによって、微粒子２０ａが放出される。その結果、有機層１４の、この微粒子２０ａが放出された部分は、穴が開いたような状態になってしまう。
【００３７】
無機層１６が十分な厚さを有する場合には、この微粒子２０ａによる穴は大きな問題にはならない。しかしながら、無機層１６が１００μｍ以下の場合など、ガスバリアフィルム１０の光学特性を上げるために、無機層１６を薄くすると、この孔の部分に窒化珪素などの無機化合物が十分に着膜することができず、無機層１６の欠陥部となってしまう。
このような欠陥部を有すると、此処から水分等が通過して、ガスバリア性が低下してしまう。特に、水蒸気透過率が１×１０-4[g/(m2・day)]以下のような、高いガスバリア性能を有するガスバリアフィルムの場合には、小さな欠陥部でも、ガスバリア性能に大きな悪影響を与える。
【００３８】
このような易接着層２０に由来する微粒子２０ａに起因する無機層１６の欠陥、すなわち、この微粒子２０ａに起因するガスバリア性の低下は、有機層１４の上方に存在する微粒子２０ａが多い程、健著になる。
【００３９】
これに対し、本発明のガスバリアフィルム１０は、層の厚さ方向において、有機層１４の上側（無機層１６側）１０％の領域は、易接着層２０に由来する微粒子２０ａの含有率を１５％以下とする。すなわち、厚さがＬの有機層１４において、上側の厚さＬ／１０の領域は、有機層１４中における微粒子２０ａの含有率を１５％以下とする。
本発明は、このような構成を有することにより、無機層１６が１００ｎｍ以下の薄膜である場合であっても、易接着層２０に由来する微粒子２０ａに起因する無機層１６の欠陥を大幅に低減して、高いガスバリア性を得ることができる。そのため、本発明によれば、薄い無機層１６による高い光透過率等の優れた光学特性と、水蒸気透過率が１×１０-4[g/(m2・day)]以下のような、高いガスバリア性能とを両立した、高性能なガスバリアフィルム１０を得ることができる。さらに、易接着層２０を有することによって、基板１２と有機層１４との密着性も十分に確保できる。
【００４０】
本発明のガスバリアフィルム１０において、有機層１４の上側の厚さ１０％の領域における微粒子２０ａの含有率が１５％を超えると、微粒子２０ａに起因する無機層１６の欠陥を十分に抑制できず、目的とするガスバリア性能を安定して得ることができない。
この点を考慮すると、有機層１４の上側の厚さ１０％の領域における微粒子２０ａの含有率は１０％以下、特に、５％以下とするのが好ましい。これにより、微粒子２０ａに起因する無機層１６の欠陥の発生を十分に抑制して、水蒸気透過率が１×１０-4[g/(m2・day)]以下のような、高いガスバリア性能を有するガスバリアフィルムを、より安定して得ることが可能となる。
【００４１】
なお、本発明において、厚さ方向の有機層１４の上側の厚さ１０％の領域における微粒子の含有率は、以下のようにして求める。
すなわち、ガスバリアフィルム１０を任意の位置で厚さ方向に切断して、その断面を顕微鏡等で観察して、形状解析を行い、この断面において、有機層１４の上側の厚さ１０％の領域（図１（Ａ）の『Ｌ／１０』で示す領域）における、微粒子２０ａの面積率を算出する。
すなわち、
『微粒子の面積率＝
有機層上側１０％領域内の微粒子面積／有機層上側１０％領域の面積』
である。
この有機層１４の上側の厚さ１０％の領域における微粒子２０ａの面積率の算出を、任意の１０断面で行い、その平均を、有機層１４の上側の厚さ１０％の領域における微粒子２０ａの含有率とする。
【００４２】
ここで、前述のように、易接着層２０と有機層１４とは、互いに相溶するために明確な界面が存在しない。そのため、本発明においては、上記含有率の計算において、基板１２の表面を、前記断面における有機層１４の下端（基板１２側の端面）とする。
また、前述のように、プラズマＣＶＤによって無機層１６を成膜する際に、有機層１４がエッチングされる。このエッチングによって、有機層１４と無機層１６との間には、有機層１４に由来する成分と無機層１６に由来する成分とが混合された、混合層のような層ができてしまう場合がある。この場合には、この混合層は有機層１４と見なし、厚さ方向において、面方向の全域で有機層１４に由来する成分が無くなった位置（すなわち、面方向の全域で全てが無機層１６に由来する成分になった位置）を、前記断面における有機層１４の上端（無機層１６側の端面）とする。
【００４３】
なお、有機層１４の上側の厚さ１０％の領域における微粒子２０ａの含有率は、後述する、有機層１４の成膜において、塗料の乾燥制御（特に恒率乾燥時）、有機層１４となる塗料への乾燥前の光照射等によって、コントロールできる。
【００４４】
ガスバリアフィルム１０は、有機層１４の上に、無機層１６を有する。
無機層１６は、無機化合物からなる層で、ガスバリアフィルム１０において、主にガスバリア性を発現するものである。
【００４５】
本発明のガスバリアフィルム１０において、無機層１６としては、ガスバリア性を発現する無機化合物からなる層が、各種、利用可能である。
具体的には、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの金属酸化物；  窒化アルミニウムなどの金属窒化物；  炭化アルミニウムなどの金属炭化物；  酸化珪素、酸化窒化珪素、酸炭化珪素、酸化窒化炭化珪素などの珪素酸化物；  窒化珪素、窒化炭化珪素などの珪素窒化物；  炭化珪素等の珪素炭化物；  これらの水素化物；  これら２種以上の混合物；  および、これらの水素含有物等の、無機化合物からなる膜が、好適に例示される。
特に、窒化珪素、酸化珪素、酸窒化珪素、酸化アルミニウムは、透明性が高く、かつ、優れたガスバリア性を発現できる点で、ガスバリアフィルムには、好適に利用される。中でも特に、窒化珪素は、優れたガスバリア性に加え、透明性も高く、好適に利用される。
【００４６】
本発明において、無機層１６の厚さは、１０〜１００ｎｍであるのが好ましい。
無機層１６の厚さが１０ｎｍ以下では、安定して目的とするガスバリア性を得ることが困難になる場合がある。
また、無機層１６は屈折率が高く、光透過率の低下の要因となるが、無機層１６の厚さを１００ｎｍ以下とすることにより、光透過率が高く、光学特性に優れるガスバリアフィルムを、安定して得ることができる。さらに、無機層１６は、硬く、かつ、脆いため、厚くなる程、割れやヒビ、剥がれ等を生じ易くなるが、厚さが１００ｎｍ以下であれば、これらの不都合も、より好適に防止できる。
また、このような点を考慮すると、無機層１６の厚さは、１５〜１００ｎｍにするのがより好ましく、特に、２０〜７５ｎｍとするのが好ましい。
【００４７】
なお、図１（Ｂ）に示すガスバリアフィルム２８のように、複数の無機層１６を有する場合には、各無機層の形成材料は同じでも異なってもよい。また、複数の無機層１６において、厚さも同じでも異なってもよい。
しかしながら、生産性や生産設備等を考慮すると、複数の無機層１６を有する場合には、全ての無機層を同じ無機化合物とするのが好ましい。
【００４８】
無機層１６の成膜方法には、限定はなく、無機層１６を形成する無機化合物に応じて、プラズマＣＶＤ、スパッタリング、真空蒸着等の公知の成膜方法を利用すればよい。例えば、無機層１６として窒化珪素膜を成膜する場合には、プラズマＣＶＤを利用して、無機層１６を成膜すればよい。
中でも、無機層１６を薄膜化した際のガスバリア性低下の抑制効果が大きい等の点で、プラズマＣＶＤが好適に例示される。
【００４９】
図示例のガスバリアフィルム１０は、好ましい態様として、最上層（無機層１６の上）に、無機層１６を保護するための保護有機層１８を有する。
周知のように、無機層１６は、硬く、かつ、脆いので、外部から受ける衝撃等により損傷し易い。
そのため、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０は、好ましい態様として、最上層に、無機層１６を保護する保護有機層１８を有する。このような保護有機層１８を有することにより、無機層１６の損傷を防止して、安定して目的とするガスバリア性を発現できる。
【００５０】
なお、この保護有機層１８（および中間有機層２４）は、易接着層２０に由来する微粒子２０ａを有さない以外は、基本的に、有機層１４と同様で良いのは、前述のとおりである。
【００５１】
図２に、前述のような塗布法による有機層１４の成膜と、プラズマＣＶＤによる無機層１６の成膜を行って、前述のガスバリアフィルム１０（２８）を製造する製造装置の一例を、概念的に示す。
この製造装置は、有機層１４を成膜する有機成膜装置３０と、本発明の製造方法を実施する、無機層１６を成膜する無機成膜装置３２とを有する。
なお、図２において、（Ａ）は、有機成膜装置３０であり、（Ｂ）は、無機成膜装置３２である。また、図２においては、基板１２の上に有機層１４を有し、その上に無機層１６を有する、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０の製造を例示している。
【００５２】
図２に示す有機成膜装置３０および無機成膜装置３２は、いわゆるロール・ツー・ロール(Roll to Roll  以下、ＲｔｏＲとも言う)によって、成膜を行なう装置である。
ＲｔｏＲとは、具体的には、長尺な基板（ウエブ状の基板）１２を巻回してなるロールから、基板を送り出し、基板を長手方向に搬送しつつ成膜を行い、成膜済の基板を、再度、ロール状に巻回する製造方法である。このようなＲｔｏＲを利用することにより、高い生産効率でガスバリアフィルム１０を製造することが可能になる。
【００５３】
なお、本発明のガスバリアフィルムは、易接着層２０を有するカットシート状の基板１２を用いる、いわゆるバッチ式（枚様式）の製造方法でも、製造できる。
ここで、カットシート状の基板を用いた場合でも、各層の成膜方法は、基本的に、以下に説明するＲｔｏＲによる製造方法と、同様である。
【００５４】
図２（Ａ）に示す有機成膜装置３０は、易接着層２０を有する長尺な基板１２を長手方向に搬送しつつ、有機層１４となる塗料を塗布し、乾燥した後、光照射によって塗膜に含まれる有機化合物を架橋して硬化し、有機層１４を成膜する装置である。なお、以下の説明では、特に易接着層２０に触れる必要がない場合には、表面に易接着層２０を有する基板を、単に基板１２とも言う。
有機成膜装置３０は、一例として、塗布手段３６と、乾燥手段３８と、光照射手段４０と、回転軸４２と、巻取り軸４６と、搬送ローラ対４８および５０とを有する。
なお、有機成膜装置３０は、図示した部材以外にも、搬送ローラ対、基板１２等のガイド部材、各種のセンサなど、長尺な被成膜材料を搬送しつつ塗布による成膜を行なう公知の装置に設けられる各種の部材を有してもよい。
【００５５】
有機成膜装置３０において、長尺な基板１２を巻回してなる基板ロールＲは、回転軸４２に装填される。
回転軸４２に基板ロールＲが装填されると、基板１２は、基板ロールＲから引き出され、搬送ローラ対４８を経て、塗布手段３６、乾燥手段３８および光照射手段４０の下部を通過して、搬送ローラ対５０を経て、巻取り軸４６に至る、所定の搬送経路を通される（通紙される）。
【００５６】
有機成膜装置３０では、基板ロールＲからの基板１２の送り出しと、巻取り軸４６における有機層１４を成膜した基板１２の巻き取りとを同期して行なう。これにより、長尺な基板１２を所定の搬送経路で長手方向に搬送しつつ、塗布手段３６によって有機層１４となる塗料を塗布し、乾燥手段３８によって塗料を乾燥し、光照射手段４０によって硬化することによって、有機層１４を成膜する。
【００５７】
塗布手段３６は、基板１２（易接着層２０）の表面に、予め調製した、有機層１４を成膜する塗料を塗布するものである。
前述のように、この塗料は、架橋して重合することによって有機層１４となる有機化合物（モノマー／オリゴマー）、例えば、アクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマーやオリゴマーを、ＭＥＫやシクロヘキサノン等の有機溶剤に溶解（分散）してなるものである。また、この塗料には、界面活性剤（表面調節剤）、シランカップリング剤、重合開始剤（架橋剤）等、有機層１４を成膜するのに必要な各種の添加剤が、適宜、添加される。
【００５８】
塗布手段３６において、基板１２への塗料の塗布方法には、特に限定は無い。
従って、塗料の塗布は、ダイコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法等の公知の塗料の塗布方法が、全て利用可能である。
【００５９】
前述のように、基板１２は、次いで、乾燥手段３８に搬送され、塗布手段３６が塗布した塗料を乾燥される。
乾燥手段３８により塗料の乾燥方法には、限定はなく、基板１２が光照射手段４０に至る前に、塗料を乾燥（有機溶剤を除去）して、架橋が可能な状態にできるものであれば、公知の乾燥手段が全て利用可能である。一例として、ヒータによる加熱乾燥、温風による加熱乾燥等が例示される。
【００６０】
この基板１２（易接着層２０）への塗料の塗布の際に、易接着層２０の表面が溶解して、微粒子２０ａが有機層１４となる塗料中に混入する。
また、塗料の乾燥を行う際に、塗料中で生じる対流によって微粒子２０ａが分散（マイグレーション）され、その結果、有機層１４中に、易接着層２０に由来する微粒子２０ａが分散される。
【００６１】
ここで、有機層１４を形成する塗料の塗布から、塗料（塗膜）の乾燥までの処理を制御することにより、有機層１４中における微粒子２０ａの分布をコントロールして、層の厚さ方向において、有機層１４の上側１０％の領域における、易接着層２０に由来する微粒子２０ａの含有率を１５％以下とすることができる。
【００６２】
一例として、有機層１４を形成するための塗料の乾燥温度を調節することにより、微粒子２０ａが対流に乗って、表面や表面近傍に至ること（以下、表出とも言う）を抑制して、有機層１４の上側の厚さ１０％の領域における微粒子２０ａの含有率を１５％以下に制御する方法が例示される。
あるいは、同じく有機層１４を形成するための塗料の乾燥において、低温／低湿度中の乾燥雰囲気中で、塗料の粘度が低いまま乾燥する方法も、好適に利用可能である。
すなわち、本発明においては、有機層１４の上側の厚さ１０％の領域における微粒子２０ａの含有率を１５％以下に制御する方法として、有機層１４となる塗料の乾燥温度あるいはさらに乾燥湿度の調節が例示され、これにより、塗膜内の対流を抑制して微粒子２０ａの表出を抑制する方法、および、塗膜の粘度を調節して微粒子２０ａの表出を抑制する方法が、利用可能である。
【００６３】
また、塗布手段３６と乾燥手段３８との間に、後述する光照射手段４０と同様の光照射手段を設けて、塗料の乾燥に先立って、塗布した塗料に紫外線（ＵＶ光）や可視光などを照射して、塗料に含まれる有機化合物の架橋を、若干、進める方法も利用可能である。
これにより、塗料の粘度を向上して、微粒子２０ａの表出を抑制して、有機層１４の上側の厚さ１０％の領域における微粒子２０ａの含有率を１５％以下に制御できる。
【００６４】
それ以外にも、塗料に高粘度材料を添加して微粒子２０ａの表出を抑制する方法や、易接着層に含まれる微粒子量を、有機層１４と基板１２との密着性を悪化させない程度まで減らす方法等も利用可能である。
【００６５】
塗料を乾燥された基板１２は、次いで、光照射手段４０に搬送される。光照射手段４０は、塗布手段３６が塗布し乾燥手段３８が乾燥した塗料に紫外線や可視光などを照射して、塗料に含まれる有機化合物（有機化合物のモノマーやオリゴマー）を架橋（重合）して硬化し、有機層１４とするものである。
ここで、光照射手段４０による塗膜の硬化時には、必要に応じて、基板１２における光照射手段４０による光照射領域を、窒素置換等による不活性雰囲気（無酸素雰囲気）とするようにしてもよい。また、必要に応じて、裏面に当接するバックアップローラ等を用いて、硬化時に基板１２すなわち塗膜の温度を調節するようにしてもよい。
【００６６】
なお、本発明において、有機層１４となる有機化合物の架橋は、光重合に限定はされない。すなわち、有機化合物の架橋は、加熱重合、電子ビーム重合、プラズマ重合等、有機層１４となる有機化合物に応じた、各種の方法が利用可能である。
本発明においては、前述のように、有機層１４としてアクリル樹脂やメタクリル樹脂などのアクリル系樹脂が好適に利用されるので、光重合が好適に利用される。
【００６７】
このようにして有機層１４を成膜された基板１２（以下、有機層１４を成膜された基板１２を、『基板１２ｏ』とする）は、搬送ローラ対５０に挟持搬送されて巻取り軸４６に至り、巻取り軸４６によって、再度、ロール状に巻き取られ、基板１２ｏを巻回してなるロール１２ｏＲとされる。
【００６８】
このロール１２ｏＲは、図２（Ｂ）に示す無機成膜装置３２に供給される。
図２（Ｂ）に示す無機成膜装置３２は、プラズマＣＶＤによって無機層１６を成膜するもので、基本的に、真空チャンバ６０と、この真空チャンバ６０内の、巻出し室６２および成膜室６４と、ドラム６８とを有して構成される。
なお、図２（Ｂ）においては、成膜室６４に配置されるシャワー電極８０の一部を断面で示している。また、無機成膜装置３２は、図示した部材以外にも、搬送ローラ対やガイド部材、各種のセンサなど、長尺な被成膜材料を搬送しつつ気相堆積法による成膜を行なう公知の装置に設けられる各種の部材を有してもよい。
【００６９】
無機成膜装置３２において、基板１２ｏを巻回してなるロール１２ｏＲは、巻出し室６２に装填される。
基板１２ｏは、巻出し室６２でロール１２ｏＲから引き出され、ドラム６８に巻き掛けられた状態で長手方向に搬送されつつ、成膜室６４で無機層１６を成膜され、その後、再度、巻出し室６２に搬送されて、巻き取られる（ロール状に巻回される）。
【００７０】
ドラム６８は、中心線を中心に図中反時計方向に回転する円筒状の部材である。
ドラム６８は、後述する巻出し室６２のガイドローラ７６ａよって所定の経路で案内された基板１２ｏを、周面の所定領域に掛け回して、所定位置に保持しつつ長手方向に搬送して、成膜室６４内に搬送して、再度、巻出し室６２のガイドローラ７６ｂに送る。
【００７１】
ここで、ドラム６８は、後述する成膜室６４のシャワー電極８０（成膜電極）の対向電極としても作用する。すなわち、図示例の無機成膜装置３２においては、ドラム６８とシャワー電極８０とで、電極対を構成する。
そのため、図示例においては、ドラム６８は、アース（接地）されている。しかしながら、本発明は、これに限定はされず、必要に応じて、ドラム６８には、ドラム６８にバイアスを印加するためのバイアス電源を接続してもよい。あるいは、アースとバイアス電源との接続を、切り替え可能に接続してもよい。
また、ドラム６８は、成膜中の基板１２ｏ（すなわち成膜温度）の温度調節手段を兼ねてもよい。そのため、ドラム６８は、公知の温度調節手段を内蔵するのが好ましい。
【００７２】
前述のように、真空チャンバ６０内には、巻出し室６２と、成膜室６４とを有する。図示例において、巻出し室６２と成膜室６４とは、巻出し室６２を上にして、上下方向（天地方向）に配列される。
巻出し室６２と成膜室６４とは、ドラム６８と、真空チャンバ６０の側面側の内壁面６０ａからドラム６８の周面近傍まで延在する隔壁７０ａおよび７０ｂとによって、（略）気密に分離される。
なお、巻出し室６２と成膜室６４とを好適に分離するためには、隔壁７０ａおよび７０ｂの先端（真空チャンバ６０の内壁面と逆端）は、搬送される基板１２ｏに接触しない可能な位置まで、ドラム６８の周面に近接するのが好ましい。
【００７３】
巻出し室６２は、回転軸７２と、巻取り軸７４と、ガイドローラ７６ａおよび７６ｂと、真空排気手段７８とを有する。
【００７４】
回転軸７２は、ロール１２ｏＲを軸支して回転する、公知の物である。また、巻取り軸７４は、成膜済みの基板１２ｏを巻き取る、公知の長尺物の巻取り軸である。
さらに、ガイドローラ７６ａおよび７６ｂは、基板１２ｏを所定の搬送経路で案内する通常のガイドローラである。
【００７５】
ロール１２ｏＲは、回転軸７２に装着される。
ロール１２ｏＲが、回転軸７２に装着されると、基板１２ｏは、ガイドローラ７６ａ、ドラム６８、および、ガイドローラ７６ｂを経て、巻取り軸７４に至る、所定の経路を通される（挿通される）。
無機成膜装置３２においては、ロール１２ｏＲからの基板１２ｏの送り出しと、巻取り軸７４における成膜済み基板１２ｏの巻き取りとを同期して行なって、長尺な基板１２ｏを所定の搬送経路で長手方向に搬送しつつ、成膜室６４における成膜を行なう。
【００７６】
真空排気手段７８は、巻出し室６２内を所定の真空度に減圧するためのものである。
無機成膜装置３２においては、巻出し室６２にも真空排気手段７８を設け、巻出し室６２内を所定の真空度に保つことにより、巻出し室６２の圧力が成膜室６４での無機層１６の成膜に影響を与えることを防止している。
【００７７】
本発明において、真空排気手段７８には、特に限定はなく、ターボポンプ、メカニカルブースターポンプ、ロータリーポンプ、ドライポンプなどの真空ポンプ、さらには、クライオコイル等の補助手段、到達真空度や排気量の調節手段等を利用する、真空成膜装置に用いられている公知の（真空）排気手段が、各種、利用可能である。
この点に関しては、後述する真空排気手段９２も同様である。
【００７８】
前述のように、無機成膜装置３２において、巻出し室６２の下（隔壁７０ａおよび７０ｂの下）は、成膜室６４になっている。
成膜室６４は、シャワー電極８０と、原料ガス供給部８６と、高周波電源９０と、真空排気手段９２とを有する。この成膜室６４は、一例として、ＣＣＰ−ＣＶＤ（Capacitively Coupled Plasma  容量結合プラズマＣＶＤ）によって、基板１２ｏの表面すなわち有機層１４の上に無機層１６を成膜するものである。
【００７９】
シャワー電極８０は、成膜電極であり、前述のドラム６８（対向電極）と共にＣＣＰ−ＣＶＤにおける電極対を構成する。
図示例において、シャワー電極８０は、一例として、アルミニウム製で、最大面をドラム６８の周面に対面して配置される、略直方体状の形状を有する。また、シャワー電極８０は、好ましい態様として、ドラム６８との対向面が、ドラム６８の周面と一定間隔離間した平行面となるように、曲面状となっている。
【００８０】
シャワー電極８０の内部には、中空部８０ａが成膜される。
この中空部８０ａからドラム６８（基板１２ｏ）との対向面まで連通して、原料ガスを供給するためのガス供給孔８０ｂが、多数、成膜される。シャワー電極８０において、このガス供給孔８０ｂは、ドラム６８との対向面に全面的に成膜される。
【００８１】
本発明において、シャワー電極８０は、プラズマＣＶＤによる成膜等を行う装置に用いられる、公知のシャワー電極（シャワープレート）が利用可能である。
また、シャワー電極８０のドラム６８との対向面は、堆積した成膜物の剥離を防止するために、溶射膜の成膜やブラスト処理等によって粗面化されていてもよい。
【００８２】
原料ガス供給部８６は、原料ガス（プロセスガス／成膜ガス）を供給する、プラズマＣＶＤ装置に利用される公知のガス供給手段である。なお、原料ガスは、成膜する無機層１６に応じて、プラズマＣＶＤで目的とする膜を成膜可能な公知のガスを、適宜、選択すればよい。例えば、無機層１６として、窒化珪素膜を成膜する場合には、原料ガスとして、シランガス、アンモニアガス、水素ガス（および／または窒素ガス）を用いて、無機層１６を成膜すればよい。
原料ガス供給部８６は、原料ガスをシャワー電極８０の中空部８０ａに供給する。従って、原料ガスは、中空部８０ａからガス供給孔８０ｂに流入し、ガス供給孔８０ｂから、シャワー電極８０とドラム６８（基板１２ｏ）との間、すなわちＣＣＰ−ＣＶＤにおける電極対間に供給される。
【００８３】
高周波電源９０も、プラズマＣＶＤ装置に利用される公知の高周波電源である。
高周波電源９０は、プラズマ励起電力（成膜電力）を、成膜電極であるシャワー電極８０に供給する。
【００８４】
成膜室６４においては、原料ガス供給部８６から原料ガスをシャワー電極８０の中空部８０ａに供給し、中空部８０ａに連通するガス供給孔８０ｂから原料ガスを排出することにより、シャワー電極８０とドラム６８（基板１２ｏ）との間に原料ガスを供給し、さらに、高周波電源９０からシャワー電極８０にプラズマ励起電力を供給することにより、ＣＣＰ−ＣＶＤによって基板１２ｏ（有機層１４）の表面に無機層１６を成膜する。
なお、成膜条件は、無機層１６の厚さ、成膜する無機層１６の種類、目的とする成膜速度、無機層１６の膜厚、使用する原料ガス等に応じて、適宜、設定すればよい。
【００８５】
成膜室６４で無機層１６を成膜された基板１２ｏは、再度、巻出し室６２に搬送され、ガイドローラ７６ｂに案内されて巻取り軸７４に搬送され、ロール状に巻回される。
【００８６】
以下、無機成膜装置３２の作用を説明する。
前述のように、基板１２の上に有機層１４を成膜してなる基板１２ｏを巻回してなるロール１２ｏＲが、回転軸７２に装填されると、ロール１２ｏＲから基板１２ｏが引き出され、ガイドローラ７６ａ、ドラム６８、およびガイドローラ７６ｂを経て、巻取り軸７４に至る所定の搬送経路を挿通される。
【００８７】
基板１２ｏが挿通されたら、真空チャンバ６０を閉塞して、真空排気手段７８および６２を駆動して、各室の排気を開始する。
巻出し室６２、および、成膜室６４が、所定の真空度以下まで排気されたら、次いで、原料ガス供給部８６を駆動して、成膜室６４に原料ガスを供給する。
【００８８】
全ての室の圧力が所定圧力で安定したら、ドラム６８等の回転を開始して、基板１２ｏの搬送を開始し、さらに、高周波電源９０とを駆動して、基板１２ｏを長手方向に搬送しつつ、成膜室６４における基板１２ｏへの無機層１６の成膜を開始し、長尺な基板１２ｏに連続的に無機層１６を成膜する。
ここで、有機層１４は、有機層１４の上側の厚さ１０％の領域における易接着層２０に由来する微粒子２０ａの含有率を１５％以下に制御されているので、この微粒子２０ａに起因する欠陥が少ない、高いガスバリア性を発現する無機層１６を成膜できる。
【００８９】
ガスバリアフィルム１０のように、無機層１６の上に、保護有機層１８（中間有機層２４）を成膜する場合には、無機層１６を成膜した基板１２ｏを巻回してなるロールを、再度、有機成膜装置３０の回転軸４２に装填して、先と同様にして、無機層１６の上に保護有機層１８を成膜すればよい。
なお、この保護有機層１８の成膜の際には、前述のような、有機層１４中における微粒子２０ａの分布のコントロール（微粒子２０ａの上昇抑制）は、不要である。
【００９０】
以上、本発明の機能性フィルムについて詳細に説明したが、本発明は、上記実施例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行なってもよいのは、もちろんである。
【実施例】
【００９１】
以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明を、より詳細に説明する。
【００９２】
［実施例１］
機能性フィルムとして、図１（Ａ）に示すような、基板１２の表面に有機層１４および無機層１６を有するガスバリアフィルム１０を作成した。
【００９３】
基板１２は、幅が１０００ｍｍで厚さが１００μｍの長尺なＰＥＴフィルム（東洋紡社製  コスモシャインＡ８３００）を用いた。
このＰＥＴフィルムには、粒径が約５０ｎｍの微粒子２０ａが分散された易接着層２０が形成されている。
【００９４】
有機溶剤に有機化合物を投入、攪拌して、有機層１４となる塗料を調製した。
有機化合物は、ＤＰＨＡ（ダイセル・サイテック社製）を用いた。有機溶剤は、ＭＥＫを用いた。塗料には、光重合開始剤（チバガイギー社製  イルガキュア）を添加した。
塗料は、有機化合物が２０質量部、有機溶剤が７９質量部、光重合開始剤が１質量部となるように調製した。
【００９５】
基板１２を巻回してなる基板ロールＲを、図２（Ａ）に示す有機成膜装置３０の回転軸４２に装填して、基板１２の表面に、調製した塗料を塗布手段３６で塗布／乾燥し、光照射手段４０によって架橋／硬化して、有機層１４を成膜した基板１２（基板１２ｏ）を巻回してなるロール１２ｏＲを得た。
塗布手段３６は、ダイコータを用いた。塗料の塗布量は、乾膜での膜厚が３μｍとなるようにした。すなわち、有機層１４の膜厚は略３μｍである。
乾燥手段３８での乾燥は、温風を用いて３０℃で行った。光照射手段４０は、紫外線照射装置を用い、１０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。
【００９６】
次いで、ロール１２ｏＲを図２（Ｂ）に示す無機成膜装置３２に装填して、有機層１４を成膜した基板１２ｏの表面に、ＣＣＰ−ＣＶＤによって、無機層１６として膜厚４０ｎｍの窒化珪素膜を成膜し、有機層１４の上に無機層１６を成膜したガスバリアフィルム１０を巻回してなる、ロール１０ａＲを作製した。
【００９７】
ドラム６８はステンレス製で、直径１０００ｍｍの物を用いた。
高周波電源９０は、周波数１３．５ＭＨｚの高周波電源を用い、シャワー電極８０に供給するプラズマ励起電力は３ｋＷとした。
【００９８】
成膜ガスは、シランガス(ＳｉＨ4）、アンモニアガス(ＮＨ3）、および水素ガス(Ｈ2）を用いた。供給量は、シランガスが５０sccm、アンモニアガスが１００sccm、水素ガスが１５０sccmとした。また、成膜圧力は１００Ｐａとした。
【００９９】
以上のようにして、保護有機層１８を有さない以外は、図１（Ａ）に示されるガスバリアフィルム１０と同様のガスバリアフィルムを２００ｍ作製した。
【０１００】
作製したガスバリアフィルムを幅方向に切断して、断面を走査型電子顕微鏡によって観察して、形態解析を行い、この断面における有機層１４の上側の厚さ１０％領域における、易接着層２０に由来する微粒子２０ａの面積率を算出した。
この面積率の算出を、任意の１０カ所の断面で行って、平均を算出し、有機層１４の上側の厚さ１０％領域における微粒子の含有率を算出した。
その結果、有機層１４の上側の厚さ１０％領域における微粒子の含有率は０．２％であった。
【０１０１】
［実施例２］
有機層１４の成膜における塗料の乾燥温度を４０℃にした以外は、実施例１と同様にガスバリアフィルムを作製した。
実施例１と同様に有機層１４の上側の厚さ１０％領域における微粒子の含有率を算出したところ、５％であった。
【０１０２】
［実施例３］
有機層１４の成膜における塗料の乾燥温度を６０℃にした以外は、実施例１と同様にガスバリアフィルムを作製した。
実施例１と同様に有機層１４の上側の厚さ１０％領域における微粒子の含有率を算出したところ、１２％であった。
【０１０３】
［比較例１］
有機層１４の成膜における塗料の乾燥温度を８０℃にした以外は、実施例１と同様にガスバリアフィルムを作製した。
実施例１と同様に有機層１４の上側の厚さ１０％領域における微粒子の含有率を算出したところ、２０％であった。
【０１０４】
［比較例２］
有機層１４の成膜に先立ち、基板１２の表面に形成された易接着層２０を、ＭＥＫを用いて除去した以外は、実施例１と同様にガスバリアフィルムを作製した。
実施例１と同様に有機層１４の上側の厚さ１０％領域における微粒子の含有率を算出したところ、０％であった。
【０１０５】
［密着試験］
作製したガスバリアフィルムの無機層１６の表面に、両面粘着テープ（日東電工社製「Ｎｏ．５０２」）の片面を貼り付けて５０ｍｍ×３００ｍｍにカットした後、２３℃、５０％ＲＨの雰囲気下に１時間放置した。
放置後、放置時と同じ雰囲気下で、インストロン型引張試験機を使用し、引張速度３００ｍｍ／分の条件下にて１８０度方向に、両面粘着テープを剥離した。
全面で有機層１４の剥離が生じなかった場合を『優良』、一部でも剥離が認められた場合を『不可』と評価した。
その結果、実施例１〜３および比較例１は『優良』、比較例２は『不可』であった。
【０１０６】
［ガスバリア性の測定］
作製した各ガスバリアフィルムについて、水蒸気透過率[g/(m2・day)]を、カルシウム腐食法（特開２００５−２８３５６１号公報に記載される方法）によって、測定した。
その結果、
実施例１が１×１０-4[g/(m2・day)]未満、
実施例２が１×１０-4[g/(m2・day)]未満、
実施例３が１×１０-4[g/(m2・day)]未満、
比較例１が１×１０-3[g/(m2・day)]、
比較例２が１×１０-4[g/(m2・day)]未満、
であった。
【０１０７】
［総合評価］
水蒸気透過率が１×１０-4[g/(m2・day)]未満で、かつ、密着試験の結果が『優良』のものを『優良』；
水蒸気透過率が１×１０-4[g/(m2・day)]未満で、かつ、密着試験の結果が『不可』のものを『良』；
密着試験の結果に関わらず、水蒸気透過率が１×１０-4[g/(m2・day)]以上のものを『不可』；  と、評価した。
結果を、下記表に示す。
【表１】
2015231667.tif 000003
【０１０８】
上記表に示すように、易接着層２０を有し、かつ、層の厚さ方向において、有機層１４の上側の厚さ１０％の領域における易接着層２０に由来する微粒子の含有率が１５％以下である本発明のガスバリアフィルムは、いずれも、水蒸気透過率が１×１０-4[g/(m2・day)]未満という高いガスバリア性を有し、しかも、基板１２と有機層１４との密着性にも優れる。
これに対し、有機層１４の上側の厚さ１０％の領域における易接着層２０に由来する微粒子の含有率が２０％である比較例１は、基板１２と有機層１４との密着性は良好であるが、有機層１４の表面（表面近傍）に存在する微粒子に起因して、無機層１６の欠陥が多く発生したと考えられ、本発明に比して、ガスバリア性が低い。
また、易接着層２０を有さない比較例２は、ガスバリア性には優れるが、基板１２と有機層１４との密着性が低い。
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。
【産業上の利用可能性】
【０１０９】
太陽電池や有機ＥＬディスプレイ等に用いられるガスバリアフィルム等の機能性フィルム、および、その製造に、好適に利用可能である。
【符号の説明】
【０１１０】
１０，２８  ガスバリアフィルム
１２  基板
１４  有機層
１６  無機層
１８  保護有機層
２０  易接着層
２０ａ  微粒子
２４  中間有機層
３０  有機成膜装置
３２  無機成膜装置
３６  塗布手段
３８  乾燥手段
４０  光照射手段
４２，７２  回転軸
４６，７４  巻取り軸
４８，５０  搬送ローラ対
６０  真空チャンバ
６２  巻出し室
６４  成膜室
６８  ドラム
７０ａ，７０ｂ  隔壁
７６ａ，７６ｂ  ガイドローラ
７８，９２  真空排気手段
８０  シャワー電極
８６  原料ガス供給部
９０  高周波電源
【図１】
2015231667.tif 000004
【図２】
2015231667.tif 000005