(57)【要約】【課題】非定常操作を伴わず、一連の定常操作においてｎ−ブテンからブタジエンを安定に効率良く製造する装置を提供すること。【解決手段】触媒ホッパー、ダウンフロー型反応器、気固分離器、触媒再生器からなる、流動接触酸化脱水素反応によりｎ−ブテンからブタジエンを製造する装置。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
触媒ホッパー、ダウンフロー型反応器、気固分離器、触媒再生器からなる、流動接触酸化脱水素反応によりｎ−ブテンからブタジエンを製造する装置。
【請求項２】
気固分離器で分離した反応ガスから触媒粒子を分離するサイクロンと、気固分離器で分離した触媒から同伴するガスを分離するストリッパーを有する、請求項１記載のブタジエンを製造する装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ブタジエンを製造する装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ｎ−ブテンと分子状酸素と触媒との接触酸化脱水素反応により、対応する共役ジオレフィンである１，３−ブタジエンを製造する方法はよく知られており、また、その反応装置も多数提案されている。
【０００３】
酸化物触媒が用いられる反応装置としては、固定層反応装置、流動層反応装置がある。固定層反応装置は、ガスの流動状態が押し出し流れに近く、反応収率を高くできるという利点を活かし、工業的に多く採用されている。ところが、固定層反応装置は伝熱性が低く、除熱や加熱が必要な発熱反応や吸熱反応には不向きであり、特に酸化反応のような激しい発熱反応では、温度が急激に上昇し制御困難に陥り、反応が暴走する恐れがある。さらに、こうした急激な温度上昇によって、触媒がダメージを受け、早期に劣化してしまうという問題もある。例えば、ブテンから１，３−ブタジエンを合成する酸化脱水素反応は、約３０ｋｃａｌ／ｍｏｌの発熱反応である。
【０００４】
これに対して、流動層反応装置は、反応器内を触媒粒子が激しく流動することで（１）伝熱性が高く、大きな発熱や吸熱を伴う反応においても反応器内温度をほぼ均一に保つことが可能であり、過度の反応進行や転化率の低下を抑制できる、（２）エネルギーの局所蓄積が抑制されるため、爆発範囲内の原料ガスを反応させることが可能で、原料濃度を高めて生産性を向上させられる、という利点がある。従って、流動層反応装置は発熱反応である炭化水素の酸化脱水素反応に適した反応装置であり、特許文献１には製造に流動床反応器を用いた例が記載されている。
【０００５】
また、ブテンから１，３−ブタジエンを製造する場合、経時的に触媒に有機物が付着し、触媒の炭素量が増加してくるが、この炭素量が増加しすぎると、１，３−ブタジエンの選択率の低下、流動性の悪化、触媒の破砕などを引き起こし、１，３−ブタジエンを安定に製造することが困難になる。そのために触媒に含まれる炭素量を規定した方法が特許文献２に、触媒に付着した炭素を除去するための触媒の再生方法が特許文献３に記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１０−１２０９３３号公報
【特許文献２】特開２０１２−６７０４７号公報
【特許文献３】特開２０１２−９２０９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、原料濃度を高めた条件においてｎ−ブテンの酸化脱水素反応を継続すると、触媒への有機物の付着が促進されるため、触媒再生の頻度を上げる必要があるが、特許文献３の方法で触媒を再生する場合、触媒再生設備が必要であり、触媒の抜出し、搬送する工程や、炭素が付着した触媒を高温で処理する工程などの非定常作業が必須であるため、運転が複雑になる。また、生成ガスには窒素、酸素、一酸化炭素、二酸化炭素、水蒸気などの多量の無機ガスが含まれており、この中から１，３−ブタジエンを分離回収する為には回収設備が大型化するという欠点がある。また、モリブデンを含有する酸化物触媒は比較的融点が低いため、炭素が付着した触媒を高温で処理する工程において、熱によってシンタリングを起こし、活性が低下しやすいという問題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、上記の課題を解決するために鋭意検討した結果、触媒ホッパー、ダウンフロー型反応器、気固分離器、触媒再生器からなる、流動接触酸化脱水素反応によりｎ−ブテンからブタジエンを製造する装置により、非定常操作を伴わず、一連の定常操作において安定に製造できる装置を見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
即ち、本発明は以下の通りである。
［１］触媒ホッパー、ダウンフロー型反応器、気固分離器、触媒再生器からなる、流動接触酸化脱水素反応によりｎ−ブテンからブタジエンを製造する装置。
［２］気固分離器で分離した反応ガスから触媒粒子を分離するサイクロンと、気固分離器で分離した触媒から同伴するガスを分離するストリッパーを有する、［１］記載のブタジエンを製造する装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明は、非定常操作を伴わず、一連の定常操作においてｎ−ブテンから１，３−ブタジエンを安定に製造できる装置を提供する。更に、供給する原料はｎ−ブテンを含有する炭化水素が主体である為に窒素などの無機ガスの量を大幅に低減できるため、設備のコンパクト化が可能であり、効率的な１，３−ブタジエンの回収も可能な装置である。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本実施形態のブタジエンを製造する装置の一態様を表す概略図である。
【図２】本実施形態のブタジエンを製造する装置の別態様を表す概略図である。
【図３】ブタジエンの製造方法の一態様を表すフロー図である。
【図４】ブタジエンの製造方法の別態様を表すフロー図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明を実施するための形態（以下、「本実施の形態」ともいう。）について詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
【００１３】
〔ブタジエンを製造する装置〕
本発明のブタジエンを製造する装置（流動接触酸化脱水素反応装置）は、触媒ホッパー、ダウンフロー型反応器、気固分離器、触媒再生器を有する（図１参照）。また、気固分離器の後流に反応ガスから触媒を分離するサイクロンを設置すること、気固分離器と触媒再生器の間にストリッパーを設置することは好ましい設備である（図２参照）。
【００１４】
本発明の装置を用いたｎ−ブテンから１，３−ブタジエンの製造は下記の様に行うことができる。
【００１５】
触媒を触媒ホッパーからダウンフロー型反応器に供給し、原料であるｎ−ブテンを含む炭化水素ガスと混合して反応させる。反応したガスは気固分離器において触媒と分離し、急冷工程、吸収回収工程に導かれ、公知の技術により１，３−ブタジエンを回収する。また、気固分離器において分離した触媒は触媒再生器に導入し、酸素を含有するガスにより酸化させて触媒を再生する。この再生した触媒は配管を通して触媒ホッパーに供給する。この触媒の循環とｎ−ブテンとの反応の操作を連続的に行うことにより、ｎ−ブテンから１，３−ブタジエンの製造を安定に行うことが可能になる。
【００１６】
また、気固分離器の後流にサイクロンを設置し、触媒と分離した反応ガスからこのサイクロンにおいて更に触媒粒子を分離した後に、急冷工程、吸収回収工程に導き、１，３−ブタジエンを回収するのも好ましい装置の組み合わせである。また、気固分離器と触媒再生器の間にストリッパーを設置し、気固分離器で反応ガスと分離した触媒から同伴する有機化合物を含むガスを分離した後、触媒再生器に導入し、酸素を含有するガスにより酸化させて触媒を再生するのも好ましい装置の組み合わせである。ストリッピングしたガスは１，３−ブタジエンを回収する系へ導入するか、又は、排ガスとして燃焼させることができる。気固分離器の後流に設置したサイクロンで回収された触媒は気固分離器において分離した触媒と共にストリッパー又は触媒再生器に送られ、酸素を含有するガスにより酸化させて触媒を再生した後、配管を通して触媒ホッパーに供給する。この触媒の循環の操作を連続的に行う装置の組み合わせにより、ｎ−ブテンから１，３−ブタジエンの製造を更に安定に行うことが可能になる。
【００１７】
尚、本製造装置はｎ−ブテンから１，３−ブタジエンを製造することに加えて、イソペンテン、イソペンタンからイソプレンの製造、イソブテンからメタクロレインの製造、プロピレンからアクロレインの製造、プロピレンとアンモニアからアクリロニトリルの製造も可能である。
【００１８】
触媒ホッパーは触媒の温度を４００〜６００℃の温度に保持できる構造とすることが好ましい。
【００１９】
ホッパー内は窒素ガスなどのイナートガスを供給して流動化させておくことにより、触媒温度の均一化とダウンフロー型反応器への供給を安定に行うことができる。
【００２０】
ダウンフロー型反応器における反応温度は、好ましくは３００〜６００℃であり、より好ましくは３５０〜５５０℃であり、触媒／ｎ−ブテン比（重量基準）は、好ましくは１０〜５００であり、より好ましくは２０〜３００、更に好ましくは３０〜２００であり、ダウンフロー型反応器におけるｎ−ブテンの滞留時間は、好ましくは０．１〜５．０秒であり、より好ましくは０．２〜４．０秒であり、更に好ましくは０．３〜３．０秒である。反応圧力は、好ましくは０〜５００ｋＰａ／Ｇであり、より好ましくは１０〜４００ｋＰａ／Ｇであり、更に好ましくは２０〜３００ｋＰａ／Ｇである。反応器以外の装置もこの圧力に対応した圧力で操作することが好ましい。
【００２１】
原料はｎ−ブテン（１−ブテン、２−ブテン）を含む炭化水素ガスが用いられるが、１−ブテンのみ、または、２−ブテンのみでもよく、更に、これらの混合物でもよい。原料のｎ−ブテンはスチームや伝熱コイルなどの加熱部を有するガス化装置を用いてガス化した後、反応器に供給することが好ましい。原料のｎ−ブテンは特に高純度である必要がなく、任意の混合物や工業グレードを使用することができる。例えば、ナフサ熱分解で副生するＣ４留分から１，３−ブタジエンを抽出した残留成分（ラフィネート−１）やさらにイソブチレンを抽出した残留成分（ラフィネート−２）、ｎ−ブタンの脱水素反応又は酸化脱水素反応により得られるｎ−ブテン、エチレンの２量化により得られるｎ−ブテン、更に、エタン熱分解やエタノールの脱水反応により得られるエチレンの接触転化反応で副生するｎ−ブテンなどを使用することができる。エタノールとしてはエチレンの水和により得られるエタノール、バイオマスエタノールなどが挙げられる。後者については、サトウキビやトウモロコシ等の発酵により得られるエタノールや廃材、間伐材、稲わら、農作物等の木質資源から得られるエタノールが該当する。
【００２２】
ｎ−ブテンを含む炭化水素ガスは、エチレン、プロピレン、ペンテン、ヘキセン、ヘプテン、オクテン、ノネンなどまた、アセチレン、メチルアセチレン、エチルアセチレン、ビニルアセチレンなどのアセチレン類、ブタジエンなども少量であれば存在してもよい。
【００２３】
気固分離器は触媒と反応ガスを分離する装置であり、サイクロンの原理で気固を分離する設備であることが好ましい。
【００２４】
気固分離器で分離した触媒は触媒再生器に導入されるが、気固分離器と触媒再生器の間に設置したストリッパーにおいて、同伴する有機化合物を含むガスを分離した後に触媒再生器に導入することも好ましい装置の組み合わせである。ストリッパーは、好ましくは２００〜６００℃、より好ましくは２５０〜５５０℃の温度で操作する。また、ストリッパー内の触媒の滞留時間は、好ましくは０．１〜１０分であれば十分なストリッピング効果が得られる。ストリッピングガスの流速は、好ましくは０．０５〜１．０ｍ／秒、より好ましくは０．１〜０．８ｍ／秒、更に好ましくは０．２〜０．６ｍ／秒である。尚、ストリッピングガスとしては窒素、ＣＯ2、水蒸気、アルゴンなどの不活性ガスを使用することができ、ストリッピングしたガスは炭化水素化合物を含む為に排ガス焼却炉に導入して燃焼処理することが好ましい。燃焼後のガスはその一部を触媒再生器に供給して利用することも可能である。
【００２５】
触媒再生器は流動床型であることが好ましく、触媒再生温度は、好ましくは３００〜６００℃であり、より好ましくは３５０〜５５０℃であり、更に好ましくは４００〜５００℃である。供給ガスの酸素濃度は、好ましくは０．５〜２５体積％であり、より好ましくは２．０〜２３体積％であり、更に好ましくは５．０〜２１体積％である。さらに、流速は、好ましくは０．０５〜１．０ｍ／秒であり、より好ましくは０．１〜０．８ｍ／秒であり、更に好ましくは０．２〜０．６ｍ／秒である。また、触媒の滞留時間は、好ましくは１〜１８０分であり、より好ましくは５〜１２０分であり、更に好ましくは１０〜６０分である。この範囲であれば触媒を十分に再生することができる。再生した触媒は触媒ホッパーに移送し、１，３−ブタジエンの生成反応に供する。
【００２６】
本発明ではダウンフロー型反応器へはガスとしての分子状酸素の供給は基本的に実施する必要はないが、少量であれば供給することができる。しかしながら、酸素は１，３−ブタジエンの重合を促進することから、後工程での酸素の分離操作の負荷を軽減、もしくは、分離操作自体を不要とする為に、気固分離器の生成ガス流において、好ましくは１．０体積％以下であり、より好ましくは０．５体積％以下であり、更に好ましくは０．１体積％以下であり、最も好ましくは０．０１体積％以下である。
【００２７】
特許文献１には、反応器に原料であるｎ−ブテンと共に酸素を供給し、上昇流の中で反応させている例が記載されているが、本発明は反応器に供給する原料であるｎ−ブテンを含む炭化水素を下降流の中で反応させる為に滞留時間分布をシャープにすることが可能であり、従って、逆混合による滞留時間の広がりによる選択率の低下の影響を避けることができる。
【００２８】
反応器のダウナー部の滞留時間、ＬＶを調整する目的で、窒素、飽和炭化水素、二酸化炭素、アルゴン、水蒸気などのイナートガスを原料であるｎ−ブテンに対して体積比で、好ましくは５０％以下として、より好ましくは３０％以下、更に好ましくは１０％以下として供給することも可能である。また、触媒ホッパーを加圧するための窒素、飽和炭化水素、二酸化炭素、アルゴン、水蒸気などのイナートガスの触媒供給時の同伴についても同様である。飽和炭化水素としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン等から選ばれた１種以上のガスが使用できる。
【００２９】
これにより、流動接触酸化脱水素反応装置に供給するガス量を低減することができ、コンパクトな回収設備による１，３−ブタジエンの回収が可能になる。
【００３０】
〔触媒〕
本発明に用いられる触媒は、担体に担持されたＭｏを含む酸化物触媒が挙げられ、主としてこの触媒の格子酸素を利用して酸化脱水素反応により、ｎ−ブテンから１，３−ブタジエンを製造する。触媒は、好ましくはＭｏ、Ｂｉ及びＦｅを含む酸化物であり、更に好ましくは下記の実験式で表される。
Ｍｏ12ＢｉpＦｅqＡaＢbＣcＤdＥeＯx
（式中、Ａはニッケル及びコバルトからなる群より選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｂはアルカリ金属元素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｃはマグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、亜鉛及びマンガンからなる群より選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｄは少なくとも１種の希土類元素であり、Ｅはクロム、インジウム及びガリウムからなる群より選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｏは酸素であり、ｐ、ｑ、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、及びｘは、それぞれ、モリブデン１２原子に対するビスマス、鉄、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ及び酸素の原子比を表し、０．１≦ｐ≦５．０、０．５≦ｑ≦８．０、０≦ａ≦１０、０．０２≦ｂ≦２．０、０≦ｃ≦５．０、０≦ｄ≦５．０、０≦ｅ≦５．０であり、ｘは存在する他の元素の原子価要求を満足させるのに必要な酸素の原子数である。）
【００３１】
上記式において、より好ましい組成としては、０．２≦ｐ≦３．０、０．７≦ｑ≦５．０、１．０≦ａ≦９．０、０．０５≦ｂ≦１．０、１．０≦ｃ≦４．０、０．１≦ｄ≦３．０、０≦ｅ≦４．０であり、さらに好ましい組成としては、Ｂがルビジウム、カリウム及びセシウムからなる群より選ばれる少なくとも１種の元素であり、Ｃがマグネシウムであり、Ｄがセリウム、ランタン、プラセオジム、ネオジム、及びイットリウムからなる群より選ばれる少なくとも１種の元素であり、０．３≦ｐ≦２．０、１．０≦ｑ≦３．０、２．０≦ａ≦８．０、０．１≦ｂ≦０．５、１．５≦ｃ≦３．５、０．２≦ｄ≦２．０、０≦ｅ≦３．０である。
【００３２】
担体はシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニアが好ましく、更に好ましくはシリカである。シリカは他の担体に比べ不活性な担体であり、目的生成物に対する触媒の活性や選択性を低下させることなく、触媒と良好な結合作用を有する。加えて、酸化物を担体に担持することによって、粒子形状・大きさ・分布、流動性、機械的強度といった、流動層反応に好適な物理的特性を付与することできる。担体の比率は、担体と酸化物の合計に対して３０〜７０質量％、好ましくは４０〜６０質量％の範囲である。
【００３３】
（触媒の製造方法）
Ｍｏ、Ｂｉ及びＦｅを含有する酸化物を含む担持触媒は、公知の方法、例えば原料スラリーを調製する第１の工程、該原料スラリーを噴霧乾燥する第２の工程、および第２の工程で得られた乾燥品を焼成する第３の工程を包含する方法によって得ることができる。
【００３４】
第１の工程では、触媒原料を調製して原料スラリーを得るが、モリブデン、ビスマス、鉄、ニッケル、コバルト、アルカリ金属元素、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、亜鉛、マンガン、希土類元素、クロム、インジウム、ガリウムの各元素の元素源としては、水または硝酸に可溶なアンモニウム塩、硝酸塩、塩酸塩、硫酸塩、有機酸塩などを挙げることができる。特にモリブデン源としてはアンモニウム塩が、ビスマス、鉄、ニッケル、アルカリ元素、マグネシウム、亜鉛、マンガン、希土類元素が、各元素の元素源としては、それぞれの硝酸塩が好ましい。上述の通り、酸化物の担体としてシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア等の酸化物を用いることができるが、好適な担体としてはシリカが用いられ、シリカ源としてはシリカゾルが好ましい。シリカゾルの不純物に関して、好ましくは、ケイ素１００原子当たり０．０４原子以下のアルミニウムを含むシリカゾルを用い、さらに好ましくは、ケイ素１００原子当たり０．０２原子以下のアルミニウムを含むシリカゾルを用いる。原料スラリーの調製は、水に溶解させたモリブデンのアンモニウム塩をシリカゾルに添加し、次に、ビスマス、希土類元素、鉄、ニッケル、マグネシウム、亜鉛、マンガン、アルカリ元素の各元素の硝酸塩を水または硝酸水溶液に溶解させた溶液を加えることによって行うことができる。このようにして、原料スラリーを調製することができる。その際、上記の添加の順序を変えることもできる。
【００３５】
第２の工程では、上記の第１工程で得られた該原料スラリーを噴霧乾燥して、球状粒子を得る。原料スラリーの噴霧化は、通常工業的に実施される遠心方式、二流体ノズル方式および高圧ノズル方式等の方法によって行うことができるが、特に遠心方式で行うことが望ましい。次に、得られた粒子を乾燥するが、乾燥熱源としては、スチーム、電気ヒーター等によって加熱された空気を用いることが好ましい。乾燥機入口の温度は１００〜４００℃、好ましくは１５０〜３００℃である。
【００３６】
第３の工程では、第２の工程で得られた乾燥粒子を焼成することで所望の触媒を得る。乾燥粒子の焼成は、必要に応じて１５０〜５００℃で前焼成を行い、その後、５００〜７００℃の温度範囲で１〜２０時間行うのが好ましい。焼成は回転炉、トンネル炉、マッフル炉等の焼成炉を用いて行うことができる。触媒の平均粒子径は４０〜７０μｍ、好ましくは５０〜６０μｍの範囲であり、９０質量％以上の触媒粒子が１０〜１５０μｍの範囲に分布していることが好ましい。
【００３７】
〔ブタジエンの製造方法〕
次に、本実施形態のブタジエンの製造方法について説明する。図３及び４にブタジエンの製造方法の態様を表すフロー図を示す。
【００３８】
本実施形態のブタジエンの製造方法は、触媒及びｎ−ブテンを含む炭化水素ガスを反応器に供給する供給工程と、前記反応器内で前記触媒を用いた接触酸化脱水素反応によりブタジエンを生成する反応工程と、生成された前記ブタジエンを含む気相と、前記触媒と、を分離する第１の分離工程と、酸素含有ガスを用いて、分離された前記触媒を再生する再生工程と、再生された前記触媒を前記反応器に再供給する再供給工程と、を有する。
【００３９】
本実施形態のブタジエンの製造方法によれば、接触酸化脱水素反応の酸素源として、触媒を構成する酸素を有効に利用することにより、接触酸化脱水素反応の酸素源として用い得る酸素含有ガスの使用量を低減でき、引いてはその後のブタジエンの精製効率をより向上させることができる。また、触媒の循環とｎ−ブテンとの反応の操作を連続的に行うことにより、ｎ−ブテンから１，３−ブタジエンの製造を安定に行うことが可能となる。
【００４０】
本実施形態のブタジエンの製造方法は、反応器内に供給される触媒を加熱する加熱工程を有することが好ましい。また、反応工程においては、加熱された触媒を用いて接触酸化脱水素反応を行なうことが好ましい。
【００４１】
また、本実施形態のブタジエンの製造方法は、再生工程後に、触媒と、酸素含有ガスと、を分離する第２の分離工程を有することが好ましい。
【００４２】
さらに、本実施形態のブタジエンの製造方法は、第１の分離工程で分離された気相中に含まれ得る触媒と、ブタジエンと、をさらに分離する第３の分離工程を有することが好ましい。また、本実施形態のブタジエンの製造方法は、第１の分離工程、及び必要に応じて第３の分離工程で分離された触媒に同伴するブタジエンと、触媒と、をさらに分離する第４の分離工程を有することが好ましい。
【００４３】
上記製造方法は、上述した製造装置により、実施することができるが、装置の構成はこれに限定されない。以下、製造方法の各工程と装置の構成とを関連付けて説明する。まず、ダウンフロー型反応器に触媒を供給する触媒ホッパーと、炭化水素ガス供給機を用いて、触媒及びｎ−ブテンを含む炭化水素ガスを反応器に供給する（供給工程）。次に、ダウンフロー型反応器内で、触媒を用いて、流動接触酸化脱水素反応によりｎ−ブテンからブタジエンを生成する（反応工程）。さらに、ダウンフロー型反応器から流出するブタジエンを含む気相と触媒とを気固分離器を用いて分離する（第１の分離工程）。次に、気固分離器で分離された触媒を触媒再生器を用いて再生する（再生工程）。最後に、再生された触媒を供給機構を用いて触媒ホッパーに供給する（再供給工程）。この一連のサイクルにより、非定常操作を伴わず、一連の定常操作においてｎ−ブテンからブタジエンを安定に製造することができる。また、供給する原料は、ｎ−ブテンを含有する炭化水素が主体である為に窒素などのガスの量を大幅に低減できるため、得られるブタジエンと他のガスとの分離がより容易となり、設備のコンパクト化も可能でとなる。
【００４４】
尚、本実施形態の製造方法によれば、ｎ−ブテンから１，３−ブタジエンを製造することに加えて、同様に、イソペンテンを原料にしてイソプレンを製造することができ、イソブテンを原料にしてメタクロレインを製造することができ、プロピレンを原料にしてアクロレインを製造することができ、プロピレンとアンモニアを原料にしてアクリロニトリルを製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【００４５】
本発明のブタジエンを製造する装置は、触媒ホッパー、ダウンフロー型反応器、気固分離器、触媒再生器からなり、流動接触酸化脱水素反応によりｎ−ブテンから１，３−ブタジエンを製造する装置として、産業上の利用可能性を有する。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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