(57)【要約】【課題】塗布対象領域に対してインクジェットヘッドを相対的に走査移動することによって主走査方向及び副走査方向にドットを配列させて塗布層を形成する際に、塗布対象領域に対する塗布層の主走査方向と副走査方向との間の歪みの発生を抑制して、高精度な塗布層を形成すること。【解決手段】塗布対象領域Ａに対して相対的に走査移動するインクジェットヘッド１のノズル１１から該塗布対象領域Ａに対してインクを吐出させ、主走査方向に沿って複数のドット２を所定の間隔で着弾させてなるドット列３を副走査方向に隣接するように形成することにより、主走査方向及び副走査方向に亘る複数のドット２によって構成される塗布層を形成する際に、主走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｘと、副走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｙとを異ならせる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布対象領域に対して相対的に走査移動するインクジェットヘッドのノズルから該塗布対象領域に対してインクを吐出させ、主走査方向に沿って複数のドットを所定の間隔で着弾させてなるドット列を副走査方向に隣接するように形成することにより、主走査方向及び副走査方向に亘る複数のドットによって構成される塗布層を形成するインクジェット塗布方法において、
主走査方向の前記ドットの着弾間隔と、副走査方向の前記ドットの着弾間隔とを異ならせることを特徴とするインクジェット塗布方法。
【請求項２】
副走査方向の前記ドットの着弾間隔に対する主走査方向の前記ドットの着弾間隔の比を１未満とすることを特徴とする請求項１記載のインクジェット塗布方法。
【請求項３】
主走査方向の前記ドットの着弾間隔に対する副走査方向の前記ドットの着弾間隔の比を１未満とすることを特徴とする請求項１記載のインクジェット塗布方法。
【請求項４】
主走査方向と副走査方向の少なくとも一方において、前記塗布対象領域に着弾した前記ドットの直径が、該ドットの着弾間隔以上であることを特徴とする請求項１、２又は３記載のインクジェット塗布方法。
【請求項５】
前記塗布対象領域は、インク吸収性のない基材の表面に形成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のインクジェット塗布方法。
【請求項６】
前記基材は、表面に凹面又は凸面を有する立体物であることを特徴とする請求項５記載のインクジェット塗布方法。
【請求項７】
前記立体物は、凹レンズ又は凸レンズであることを特徴とする請求項６記載のインクジェット塗布方法。
【請求項８】
前記塗布層は、前記凹レンズ又は前記凸レンズの表面の遮光膜であることを特徴とする請求項７記載のインクジェット塗布方法。
【請求項９】
活性エネルギー線硬化型インクを用い、主走査方向に沿う前記ドット列を形成する毎に活性エネルギー線を照射して前記ドットを硬化させることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載のインクジェット塗布方法。
【請求項１０】
主走査方向に沿う前記ドット列を形成する毎に前記ドットを乾燥させることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載のインクジェット塗布方法。
【請求項１１】
前記インクジェットヘッドのインク吐出周波数を調整して主走査方向の前記ドットの着弾間隔を設定することにより、主走査方向の前記ドットの着弾間隔と副走査方向の前記ドットの着弾間隔とを異ならせることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載のインクジェット塗布方法。
【請求項１２】
前記インクジェットヘッドの前記塗布対象領域に対する相対的な走査移動速度を調整して主走査方向の前記ドットの着弾間隔を設定することにより、主走査方向の前記ドットの着弾間隔と副走査方向の前記ドットの着弾間隔とを異ならせることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載のインクジェット塗布方法。
【請求項１３】
前記インクジェットヘッドの前記ノズルの配列方向の副走査方向に対する交差角度を調整して副走査方向の前記ドットの着弾間隔を設定することにより、主走査方向の前記ドットの着弾間隔と副走査方向の前記ドットの着弾間隔とを異ならせることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載のインクジェット塗布方法。
【請求項１４】
前記塗布対象領域に対する前記インクジェットヘッドの副走査方向の相対的な移動量を調整して副走査方向の前記ドットの着弾間隔を設定することにより、主走査方向の前記ドットの着弾間隔と副走査方向の前記ドットの着弾間隔とを異ならせることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載のインクジェット塗布方法。
【請求項１５】
前記インクジェットヘッドを主走査方向に沿って複数並列させ、該各インクジェットヘッド相互間の副走査方向のノズル位置のずれ量を調整して副走査方向の前記ドットの着弾間隔を設定することにより、主走査方向の前記ドットの着弾間隔と副走査方向の前記ドットの着弾間隔とを異ならせることを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載のインクジェット塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はインクジェット塗布方法に関し、詳しくは、主走査方向と副走査方向との間で歪みの発生が抑えられた高精度な塗布層を形成することができるインクジェット塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
インクジェットプリンターによる塗布方式には、シングルパス方式とマルチパス方式と呼ばれる２つの方式がある。シングルパス方式は、インクジェットヘッドを固定したまま搬送している基材に１回の走査だけで塗布層を完成させる方式であり、高速塗布が可能となり、高い生産性が求められる産業分野において実用化されている。
【０００３】
一方、マルチパス方式は、基材の１つの塗布対象領域に対して複数回の走査を行って塗布層を完成させる方式であり、シングルパス方式に比べて、より高精度な塗布を行う場合に適している。
【０００４】
このマルチパス方式の代表的な方法として、インターリーブ（分割記録）が知られている（特許文献１）。これは、１つの塗布対象領域をドット（画素）で埋め尽くす際に、隣接ドットを異なるノズルを使用して形成することで、マルチノズルヘッドにおけるノズル位置の誤差やインク射出角度の誤差が分散され、筋状の塗布欠陥等の低減に有効なものである。このようなマルチパス方式は、紙や布等のインク吸収性を有する基材への高画質な印刷にも広く用いられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−１１３３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、基材の表面に塗布層を形成する際にマルチパス方式を適用した場合、該基材上の塗布対象領域と、該塗布対象領域に着弾させたドットによって最終的に形成される塗布層との長さの関係が、インクジェットヘッドのノズルの配列方向（副走査方向）と、これに交差する方向（主走査方向）とで異なってしまう問題があることがわかった。このような問題は、プラスチックや金属等のようにインクを吸収しない基材を使用して、ベタ塗りの塗布層を形成する場合に特に顕著に見られるものであった。
【０００７】
具体的には、ドット数とドットの着弾間隔とが主走査方向と副走査方向とでいずれも同一に設定されたデータを用い、図１０中に破線で示す正方形の塗布対象領域Ａ内に、主走査方向に沿って形成したドット列を副走査方向に配列させることによってベタ塗りの塗布層を形成した場合、最終的に得られる塗布層１００は、例えば図１０（ａ）に示すように主走査方向が塗布対象領域Ａよりも大きくなったり、特に塗布対象領域Ａが凹面である場合には、反対に、図１０（ｂ）に示すように主走査方向が塗布対象領域Ａよりも小さくなったりすることにより、主走査方向の寸法と副走査方向の寸法とが数μｍから１００μｍ程度異なってしまい、本来は正方形であるべき塗布層１００の形状に歪みが発生していた。
【０００８】
このような歪みは極めて微細であるため、多くのグラフィック用途では全く問題にはならなかったが、塗布層によって微細な配線の形成やレンズの遮光膜の形成等を行うエレクトロニクスや光学用途等、歪みのない高精度な塗布層を形成することが要求される分野においては大きな問題である。
【０００９】
そこで、本発明は、塗布対象領域に対してインクジェットヘッドを相対的に走査移動することによって主走査方向及び副走査方向にドットを配列させて塗布層を形成する際に、塗布対象領域に対する塗布層の主走査方向と副走査方向との間の歪みの発生を抑制して、高精度な塗布層を形成することができるインクジェット塗布方法を提供することを課題とする。
【００１０】
本発明の他の課題は、以下の記載により明らかとなる。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は、このような塗布層の歪みの原因について鋭意検討したところ、着弾後に主走査方向に隣り合うドット同士の濡れ広がりやドット同士の寄りによって、主走査方向に沿うドット列の長さが、ドットの本来の着弾間隔（基材上に着弾した時点での間隔）によって形成される理想的なドット列の長さよりも長くなったり短くなったりすることによって、本来あるべき塗布層の形状に対して、最終的に得られる塗布層の形状に歪みが発生することがわかった。
【００１２】
この場合、ドット列中の両端のドットを打つデータを間引いて長さが短くなるように調整したり、反対にドット列の両端にドットを打つデータを付加して長さが長くなるように調整したり、さらには、副走査方向に配列させるドット列を間引いたり付加したりすることで、主走査方向と副走査方向の寸法を調整することも考えられるが、これによって調整できる寸法は、ドットサイズ単位の寸法に限定されてしまい、ドットサイズ未満のμｍオーダーの寸法の微調整ができないばかりでなく、予め設定されたドット数が増減することによって、濃度が設計値から変化してしまい、レンズの遮光膜のようにムラのない均一な濃度が要求される塗布層を形成する場合には不向きであった。
【００１３】
このような塗布層の歪みの問題は、塗布対象領域が平坦面である場合はもちろんのこと、表面が凸面や凹面の湾曲した面である場合にはさらに顕著となる。凸面では、主走査方向に沿って形成されたドット列が広がる方向に移動し易く、反対に、凹面では互いに寄り合う方向に移動し易くなるためである。
【００１４】
なお、主走査方向に沿うドット列のドットに対して副走査方向に隣り合うドットは、通常、１回の主走査によって主走査方向に沿うドット列が形成された後に僅かながらも時間をおいて形成され、その間にインクは乾燥し、またＵＶインクのような活性エネルギー線硬化型インクの場合では、主走査毎にインクの硬化が行なわれるため、上述のようなドット同士の広がりや寄りは、通常の塗布では副走査方向に隣り合うドット間では発生しにくい。
【００１５】
そこで、本発明者は、かかる課題を以下の構成によって解決した。
【００１６】
１．塗布対象領域に対して相対的に走査移動するインクジェットヘッドのノズルから該塗布対象領域に対してインクを吐出させ、主走査方向に沿って複数のドットを所定の間隔で着弾させてなるドット列を副走査方向に隣接するように形成することにより、主走査方向及び副走査方向に亘る複数のドットによって構成される塗布層を形成するインクジェット塗布方法において、
主走査方向の前記ドットの着弾間隔と、副走査方向の前記ドットの着弾間隔とを異ならせることを特徴とするインクジェット塗布方法。
【００１７】
２．副走査方向の前記ドットの着弾間隔に対する主走査方向の前記ドットの着弾間隔の比を１未満とすることを特徴とする前記１記載のインクジェット塗布方法。
【００１８】
３．主走査方向の前記ドットの着弾間隔に対する副走査方向の前記ドットの着弾間隔の比を１未満とすることを特徴とする前記１記載のインクジェット塗布方法。
【００１９】
４．主走査方向と副走査方向の少なくとも一方において、前記塗布対象領域に着弾した前記ドットの直径が、該ドットの着弾間隔以上であることを特徴とする前記１、２又は３記載のインクジェット塗布方法。
【００２０】
５．前記塗布対象領域は、インク吸収性のない基材の表面に形成されていることを特徴とする前記１〜４のいずれかに記載のインクジェット塗布方法。
【００２１】
６．前記基材は、表面に凹面又は凸面を有する立体物であることを特徴とする前記５記載のインクジェット塗布方法。
【００２２】
７．前記立体物は、凹レンズ又は凸レンズであることを特徴とする前記６記載のインクジェット塗布方法。
【００２３】
８．前記塗布層は、前記凹レンズ又は前記凸レンズの表面の遮光膜であることを特徴とする前記７記載のインクジェット塗布方法。
【００２４】
９．活性エネルギー線硬化型インクを用い、主走査方向に沿う前記ドット列を形成する毎に活性エネルギー線を照射して前記ドットを硬化させることを特徴とする前記１〜８のいずれかに記載のインクジェット塗布方法。
【００２５】
１０．主走査方向に沿う前記ドット列を形成する毎に前記ドットを乾燥させることを特徴とする前記１〜８のいずれかに記載のインクジェット塗布方法。
【００２６】
１１．前記インクジェットヘッドのインク吐出周波数を調整して主走査方向の前記ドットの着弾間隔を設定することにより、主走査方向の前記ドットの着弾間隔と副走査方向の前記ドットの着弾間隔とを異ならせることを特徴とする前記１〜１０のいずれかに記載のインクジェット塗布方法。
【００２７】
１２．前記インクジェットヘッドの前記塗布対象領域に対する相対的な走査移動速度を調整して主走査方向の前記ドットの着弾間隔を設定することにより、主走査方向の前記ドットの着弾間隔と副走査方向の前記ドットの着弾間隔とを異ならせることを特徴とする前記１〜１０のいずれかに記載のインクジェット塗布方法。
【００２８】
１３．前記インクジェットヘッドの前記ノズルの配列方向の副走査方向に対する交差角度を調整して副走査方向の前記ドットの着弾間隔を設定することにより、主走査方向の前記ドットの着弾間隔と副走査方向の前記ドットの着弾間隔とを異ならせることを特徴とする前記１〜１０のいずれかに記載のインクジェット塗布方法。
【００２９】
１４．前記塗布対象領域に対する前記インクジェットヘッドの副走査方向の相対的な移動量を調整して副走査方向の前記ドットの着弾間隔を設定することにより、主走査方向の前記ドットの着弾間隔と副走査方向の前記ドットの着弾間隔とを異ならせることを特徴とする前記１〜１０のいずれかに記載のインクジェット塗布方法。
【００３０】
１５．前記インクジェットヘッドを主走査方向に沿って複数並列させ、該各インクジェットヘッド相互間の副走査方向のノズル位置のずれ量を調整して副走査方向の前記ドットの着弾間隔を設定することにより、主走査方向の前記ドットの着弾間隔と副走査方向の前記ドットの着弾間隔とを異ならせることを特徴とする前記１〜１０のいずれかに記載のインクジェット塗布方法。
【発明の効果】
【００３１】
本発明によれば、塗布対象領域に対してインクジェットヘッドを相対的に走査移動することによって主走査方向及び副走査方向にドットを配列させて塗布層を形成する際に、塗布対象領域に対する塗布層の主走査方向と副走査方向との間の歪みの発生を抑制して、高精度な塗布層を形成することができるインクジェット塗布方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明に係るインクジェット塗布方法によって塗布対象領域に塗布層を形成する際のインク滴の着弾位置の一例をドットで示す図
【図２】（ａ）は図１に示す塗布層を形成する際の１主走査目のドットを着弾させた直後のドット列を示す図、（ｂ）は着弾後にドット列が広がった状態を示す図
【図３】本発明に係るインクジェット塗布方法によって最終的に得られた塗布層を示す図
【図４】本発明に係るインクジェット塗布方法によって塗布対象領域に塗布層を形成する際のインク滴の着弾位置の他の一例をドットで示す図
【図５】（ａ）は図４に示す塗布層を形成する際の１主走査目のドットを着弾させた直後のドット列を示す図、（ｂ）は着弾後にドット列が寄り合った状態を示す図
【図６】（ａ）副走査方向のドット間隔を調整する前のインクジェットヘッドの配置構成を示す図、（ｂ）は副走査方向のドット間隔を調整した後のインクジェットヘッドの配置構成を示す図
【図７】副走査方向のドット間隔を調整する他の一例を示す図
【図８】（ａ）は塗布対象領域が凹面である基材の断面図、（ｂ）は塗布対象領域が凸面である基材の断面図
【図９】実施例で形成した塗布層の平面図
【図１０】（ａ）は従来のインクジェット塗布方法によって塗布層が塗布対象領域よりも主走査方向にはみ出した状態を示す図、（ｂ）は従来のインクジェット塗布方法によって塗布層が塗布対象領域よりも主走査方向に短くなった状態を示す図
【発明を実施するための形態】
【００３３】
以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。
【００３４】
図１は、本発明に係るインクジェット塗布方法によって基材表面の塗布対象領域に塗布層を形成する際に、ノズルから吐出されたインク滴を着弾させるべき着弾位置（目標位置）をドットで示した図である。なお、塗布対象領域の形状は任意であるが、ここでは正方形の塗布対象領域を例に挙げて説明する。
【００３５】
図中、Ａは塗布対象領域、１はインクジェットヘッド、１１はインクジェットヘッド１に配列されたノズル、２はドット（画素）である。ここでは、主走査方向及び副走査方向共に９個ずつのドット２を着弾させてベタ塗りの塗布層を形成するものを例示している。
【００３６】
本発明に係るインクジェット塗布方法は、塗布対象領域Ａに対して相対的に走査移動するインクジェットヘッド１のノズル１１から該塗布対象領域Ａに対してインクを吐出させ、主走査方向に沿って複数のドット２を所定の間隔で着弾させてなるドット列３を副走査方向に隣接するように形成することにより、主走査方向及び副走査方向に亘る複数のドット２によって構成される塗布層を形成する際に、主走査方向に隣り合うドット２の着弾間隔Ｐｘと、副走査方向に隣り合うドット２の着弾間隔Ｐｙとを異ならせるものである。
【００３７】
塗布対象領域Ａは、基材表面において所望の形状の塗布層を形成するために、基材表面に仮想的に設定される領域である。従って、最終的に得られる塗布層は、この塗布対象領域Ａ内を主走査方向及び副走査方向に精度良くドット２を着弾させて埋めることによって、塗布対象領域Ａと同一形状となるように、好ましくは合同な形状となるように形成される。
【００３８】
インクジェットヘッド１は、塗布対象領域Ａと対面するノズル面に、副走査方向に沿って一定の間隔をおいて複数のノズル１１が配列されている。このインクジェットヘッド１を塗布対象領域Ａに対して１回の主走査方向の走査移動（以下、主走査という。）を行うことによって主走査方向に複数のドット２を着弾させてドット列３を形成する。ノズル１１は副走査方向に一定の間隔を有するため、１主走査によってドット列３間にはノズル間隔に相当する空白領域が形成される。このため、１主走査の後、所定量ずつの副走査方向の移動（以下、副走査という。）を行う動作を複数回繰り返すことにより、この空白領域を複数のドット列３で埋めていくように塗布動作を行う。
【００３９】
従来、ベタ塗りの塗布層を形成する際、特に塗布層をレンズの遮光膜とするような場合では、ムラのない塗布層を形成するため、主走査方向と副走査方向とでドットの着弾間隔を同一にしている。図１は、このように主走査方向と副走査方向とでドットの着弾間隔を同一にした際に、図１０（ａ）に示したように、最終的に得られる塗布層の主走査方向の寸法が塗布対象領域の主走査方向の寸法よりも大きくなる状況下で塗布層を形成する場合に採用される本発明の塗布方法を示している。
【００４０】
すなわち、主走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｘを、副走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｙに対して、Ｐｘ＜Ｐｙとなるように異ならせている。これにより、副走査方向のドット間隔Ｐｙに対する主走査方向のドット間隔Ｐｘの比は１未満（Ｐｘ／Ｐｙ＜１）となる。
【００４１】
ここで、ドット２の着弾間隔とは、ノズルから吐出されたインク滴を着弾させてドット２を形成すべき着弾位置（目標位置）の間隔のことである。このドット２の着弾間隔は、主走査方向においては、主走査時のインクジェットヘッド１と塗布対象領域Ａ（基材）との相対的な走査移動速度とノズル１１から吐出されるインクの吐出間隔とによって規定される。また、副走査方向においては、副走査時に移動したインクジェットヘッド１のノズル１１の位置によって規定される。
【００４２】
また、主走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｘとは、主走査方向に沿うドット列３内で隣り合うように形成される２つのドット２、２間の間隔のことである。さらに、副走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｙとは、図１のように、塗布層を形成するために塗布対象領域Ａ内に着弾させるべき全てのドット２を想定した際の副走査方向に隣り合うように形成される２つのドット２、２間の間隔のことである。
【００４３】
図２（ａ）は、形成すべき塗布層が図１に示すドット２の着弾位置となるように、１主走査目に形成された３列のドット列３を示している。このとき、着弾直後の各ドット列３は、図１に示したように、主走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｘが副走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｙよりも小さく設定されているため、ドット列３の主走査方向の寸法が塗布対象領域Ａの主走査方向の寸法よりも短くなる。
【００４４】
しかし、着弾後の時間経過に伴い、各ドット列３は、主走査方向に隣り合うドット２、２同士が合一して主走査方向に濡れ広がる結果、図２（ｂ）に示すように、ドット列３の主走査方向の寸法が着弾直後に比べて長くなる。このような現象は、２主走査目以降もドット列３を形成する度に同様に現れる。
【００４５】
従って、塗布層を形成するに際し、主走査方向に隣り合うドット２の着弾間隔Ｐｘを、このようなドット列３の主走査方向の濡れ広がりを考慮して、副走査方向に隣り合うドット２の着弾間隔Ｐｙよりも小さくなるように適切に設定することにより、図３に示すように、最終的に主走査方向に濡れ広がった後の各ドット列３の主走査方向の寸法を塗布対象領域Ａの主走査方向の寸法に合わせることができる。このため、所期の塗布対象領域Ａと同一形状となる歪みのない高精度の塗布層を形成することができる。
【００４６】
図４は、図１と同じく、正方形の塗布対象領域Ａに、主走査方向及び副走査方向共に９個ずつのドット２を着弾させてベタ塗りの塗布層を形成する場合において、主走査方向と副走査方向の着弾間隔を同一にした際に、図１０（ｂ）に示したように、最終的に得られる塗布層の主走査方向の寸法が塗布対象領域の主走査方向の寸法よりも小さくなる状況下で塗布層を形成する場合に採用される本発明の塗布方法を示している。
【００４７】
この場合、主走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｘを、副走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｙに対して、Ｐｘ＞Ｐｙとなるように異ならせている。これにより、主走査方向のドット間隔Ｐｘに対する副走査方向のドット間隔Ｐｙの比は１未満（Ｐｘ／Ｐｙ＜１）となる。
【００４８】
図５（ａ）は、図４に示すドット２の着弾位置となるように、１主走査目に形成された３列のドット列３を示している。このとき、着弾直後の各ドット列３は、図４に示したように、主走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｘが副走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｙよりも大きく設定されているため、ドット列３の主走査方向の寸法は、塗布対象領域Ａの主走査方向の寸法よりも長くなる。
【００４９】
しかし、着弾後の時間経過に伴い、各ドット列３は、主走査方向に隣り合うドット２、２同士が寄り合うように移動する結果、図５（ｂ）に示すように、ドット列３の主走査方向の寸法が着弾直後に比べて短くなる。このような現象は、２主走査目以降もドット列３を形成する度に同様に現れる。
【００５０】
従って、塗布層を形成するに際し、主走査方向に隣り合うドット２の着弾間隔Ｐｘを、このようなドット列３の主走査方向の寄りを考慮して、副走査方向に隣り合うドット２の着弾間隔Ｐｙよりも大きくなるように適切に設定することにより、図３と同様に、最終的に主走査方向に寄り合った後の各ドット列３の主走査方向の寸法を塗布対象領域Ａの主走査方向の寸法に合わせることができる。このため、所期の塗布対象領域Ａと同一形状となる歪みのない高精度の塗布層を形成することができる。
【００５１】
本発明において、１回の主走査によって塗布対象領域Ａに着弾した直後のドット２の径Ｄ（図２参照）は、主走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｘ以上（Ｄ≧Ｐｘ）となっている。これにより、１回の主走査による主走査方向に沿うドット列３を構成する各ドット２は、隣り合うドット２、２同士が一部重なり合うように着弾してドット列３を形成する。このように各ドット２を主走査方向にオーバーラップさせてドット列３を形成する場合は、着弾後のドット２、２同士が速やかに引き合うことにより、ドット列３が乾燥等によって基材に定着する速度よりも主走査方向に濡れ広がったり、寄り合ったりする速度が速くなって塗布対象領域Ａに対する塗布層の歪みが現れやすいため、本発明の適用によって顕著な効果が得られる。
【００５２】
本発明において、主走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｘを副走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｙよりも小さく又は大きくなるように調整する方法としては、主走査時のインクジェットヘッド１のインク吐出周波数を調整する方法、主走査時の走査速度を調整する方法等が挙げられる。
【００５３】
前者のインク吐出周波数を調整する方法では、主走査時の走査速度を一定とした場合、インク吐出周波数を高くする程インクの吐出間隔は短くなるため、塗布対象領域Ａへのドット２の着弾間隔Ｐｘを小さくする方向に調整することができる。逆に、インク吐出周波数を低くする程インクの吐出間隔は長くなるため、塗布対象領域Ａへのドット２の着弾間隔Ｐｘを大きくする方向に調整することができる。
【００５４】
また、後者の主走査時の走査速度を調整する方法では、インク吐出周波数を一定とした場合、走査速度を速くする程インクが着弾する間隔は長くなるため、塗布対象領域Ａへのドット２の着弾間隔Ｐｘを大きくする方向に調整することができる。逆に、走査速度を遅くする程インクが着弾する間隔は短くなるため、塗布対象領域Ａへのドットの着弾間隔Ｐｘを小さくする方向に調整することができる。
【００５５】
さらに、以上のインク吐出周波数の調整と主走査時の走査速度の調整との２つの方法を併用することにより、主走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｘを調整するようにしてもよい。
【００５６】
なお、本発明において、主走査時及び副走査時のインクジェットヘッド１と塗布対象領域Ａ（基材）との間の移動は相対的であればよい。例えばインクジェットヘッド１のみを塗布対象領域Ａ（基材）に対して主走査方向及び副走査方向に移動させる態様、塗布対象領域Ａ（基材）のみをインクジェットヘッド１に対して主走査方向及び副走査方向に移動させる態様、主走査時はインクジェットヘッド１のみを塗布対象領域Ａ（基材）に対して主走査方向に移動させ、副走査時は塗布対象領域Ａ（基材）のみをインクジェットヘッド１に対して副走査方向に移動させる態様、インクジェットヘッド１と塗布対象領域Ａ（基材）の両方を主走査時と副走査時のいずれか又は両方に互いに反対方向に移動させる態様等があり、本発明はいずれの態様でもよい。
【００５７】
以上説明した２つの実施形態は、主走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｘを、副走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｙよりも小さく又は大きく調整することにより、所期の塗布対象領域Ａと合同となる歪みのない高精度の塗布層を形成する最も好ましい実施形態を示しているが、最終的に得られる塗布層を所期の塗布対象領域Ａと相似となるように形成することもできる。
【００５８】
例えば、図１０（ａ）に示したように、最終的に得られる塗布層の主走査方向の寸法が塗布対象領域の主走査方向の寸法よりも大きくなる状況下で塗布層を形成する場合では、主走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｘを副走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｙよりも小さくする代わりに、副走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｙを主走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｘよりも大きくすることによって塗布層を形成するようにしてもよい。
【００５９】
また、図１０（ｂ）に示したように、最終的に得られる塗布層の主走査方向の寸法が塗布対象領域の主走査方向の寸法よりも小さくなる状況下で塗布層を形成する場合では、主走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｘを副走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｙよりも大きくする代わりに、副走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｙを主走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｘよりも小さくすることによって塗布層を形成するようにしてもよい。
【００６０】
副走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｙを調整する方法としては、副走査時のインクジェットヘッド１と塗布対象領域Ａ（基材）との相対的な走査移動時の移動量（移動ピッチ）を調整する方法が挙げられる。これは図１０（ａ）（ｂ）のいずれの場合にも適用できる。
【００６１】
また、その他の方法として、図６（ａ）に示すように、通常はノズル１１の配列方向が副走査方向に平行となるように配置されているインクジェットヘッド１を、ノズル面と塗布対象領域Ａとの間の平行度を維持したまま、図６（ｂ）に示すように、ノズル１１の配列方向が副走査方向に対して所定の傾斜角度θで交差するように傾斜させる方法が挙げられる。これにより、主走査方向からインクジェットヘッド１を観察した場合、ノズル間隔Ｌ２は、通常時のノズル間隔Ｌ１よりも小さくなり、副走査方向のドット間隔Ｐｙを短くすることができる。これは図１０（ｂ）の場合に適用できる。
【００６２】
傾斜角度θの調整は、インクジェットヘッド１と塗布対象領域Ａ（基材）のいずれを傾斜させてもよい。また、インクジェットヘッド１と塗布対象領域Ａ（基材）の両方を互いに反対方向となるように傾斜させてもよい。
【００６３】
また、さらに他の方法として、図７に示すように、複数のインクジェットヘッド１を主走査方向に沿って並列させると共に、副走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｙが所望の間隔となるように、各インクジェットヘッド１のノズル１１の位置を副走査方向にずらして配置するようにしてもよい。ノズル１１の位置のずれ量によって副走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｙを調整することができる。これは図１０（ａ）（ｂ）のいずれの場合にも適用できる。
【００６４】
なお、以上説明した主走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｘを調整する方法と、副走査方向のドット２の着弾間隔Ｐｙを調整する方法とを適宜組み合わせることにより、着弾間隔Ｐｘ、Ｐｙの両方を調整して塗布層を形成してもよい。
【００６５】
具体的な着弾間隔Ｐｘ、Ｐｙの調整は、歪みが発生した塗布層の主走査方向と副走査方向の寸法差（Δ）を求め、この寸法差を解消するように、上述したいずれかの調整方法によって着弾間隔Ｐｘ、Ｐｙの少なくとも一方を調整した後、再度形成した塗布層の主走査方向と副走査方向の寸法差を求める作業を、この寸法差が０又は０に近くなるまで繰り返していくことによって行うことができる。
【００６６】
また、その他、歪みが発生した塗布層の主走査方向と副走査方向の寸法差（Δ）の値から、予め規定しておいた着弾間隔Ｐｘ、Ｐｙの調整量と寸法差との相関に基づいて着弾間隔Ｐｘ、Ｐｙの調整量を決定し、その調整後の着弾間隔Ｐｘ、Ｐｙによって塗布層を形成するようにしてもよい。この場合は、寸法差（Δ）を測定する工程、着弾間隔Ｐｘ、Ｐｙの調整量を決定する工程、調整後に塗布層を再度形成する工程のうちのいずれか１以上の工程を塗布装置において自動化するようにしてもよい。
【００６７】
本発明において表面に塗布対象領域Ａを有する基材は特に限定されないが、塗布対象領域Ａは、インク吸収性のない基材表面に形成されているものであることが好ましい。インク吸収性がない基材は、紙や布等のようなインク吸収性を有する基材に比べて、塗布対象領域Ａに着弾した後のドット２が濡れ広がったり寄り合ったりし易いため、本発明の適用によって顕著な効果が得られる。
【００６８】
インク吸収性がない基材としては、合成樹脂、ガラス、シリコン、金属等が挙げられる。
【００６９】
このようなインク吸収性のない基材は、表面に凹面又は凸面を有する立体物であることも好ましい。凹面ではドット列３において隣り合うドット２、２同士が寄り合い易く、また、凸面ではドット列３において隣り合うドット２、２同士が広がり易く、いずれも得られる塗布層に歪みが生じ易いため、本発明の適用によって一層顕著な効果が得られる。
【００７０】
このような立体物の具体例としては、凹レンズ又は凸レンズが挙げられる。特に、これら凹レンズ又は凸レンズの表面に、黒色インク等の遮光性を有するインクを使用して塗布層を形成し、この塗布層によって遮光膜を形成する際に本発明を適用することにより、歪みの抑えられた高精度の遮光膜を形成することができるために好ましい。
【００７１】
本発明において使用されるインクは特に問わないが、活性エネルギー線硬化型インクを用い、１主走査によってドット列３を形成する毎に、ＵＶ光等の活性エネルギー線を照射してドット２を硬化させることは好ましい態様である。１主走査によってドット列３を形成する度に、活性エネルギー線を照射してドット２を硬化させることにより、塗布対象領域Ａの副走査方向に隣接するドット２、２同士の濡れ広がりや寄りをほとんど無視することができる。
【００７２】
また、本発明において、主走査方向の１走査によって主走査方向に沿うドット列３を形成する毎にドット２を乾燥させることも好ましい。このように１主走査によってドット列３を形成する度にドット２を乾燥させることによっても、塗布対象領域Ａの副走査方向に隣接するドット２、２同士の濡れ広がりや寄りをほとんど無視することができる。
【００７３】
ドット２の乾燥は、基材上に温風等の乾燥風を吹き付ける乾燥装置を使用したり、基材を所定温度に加温したりすることによって行うことができる。
【実施例】
【００７４】
以下に、本発明の実施例について説明するが、本発明はかかる実施例により限定されない。
【００７５】
１．塗布対象領域
表面に塗布対象領域を有する基材として、表面形状が平坦面の基材（平面基材）、図８（ａ）に示すように凹レンズ状の凹面が形成された基材（凹面基材）、図８（ｂ）に示すように凸レンズ状の凸面が形成された基材（凸面基材）の３種類の基材を用意した。いずれの基材もポリカーボネート製である。
【００７６】
各基材の表面に、平面視で直径３０６０μｍとなる円形状の塗布対象領域を設定した。
【００７７】
なお、凹面基材及び凸面基材は、いずれも半球面状に湾曲した凹面及び凸面であり、塗布対象領域の中心は、凹面及び凸面の各頂点Ｔと一致するように設定した。
【００７８】
２．塗布層の形成
インクとしてＵＶインク（コニカミノルタ社製カチオン重合型ＵＶ硬化インクジェットインク）を使用し、インクジェットヘッド（コニカミノルタ社製ＫＭ５１２ＳＨＸ型、副走査方向の５１２ノズル数、印字幅３６ｍｍ、液滴量４ｐＬ）を固定して、基材側のみを主走査移動することによって、主走査方向に沿う複数のドット列を、副走査方向にノズル間隔で離間するように形成した後、インクジェットヘッドを所定量だけ副走査方向に移動させ、再度主走査を行う動作を複数回繰り返しながら、塗布対象領域にドットを主走査方向及び副走査方向に配列させてベタ塗り層からなる塗布層を形成した。
【００７９】
なお、前記走査の繰り返しは、インターリーブ方式によるマルチパス塗布に基づいており、塗布パターンを副走査方向に４分割、主走査方向に２分割して走査し塗布層を形成した。
【００８０】
主走査時に形成されるドット列を構成する各ドットは、隣り合うドット同士がオーバーラップするように着弾させることにより行った。着弾時のドット径は８６μｍであった。
【００８１】
塗布層の形成に際しては、１回の主走査によってドット列を形成する毎にＵＶ光を照射して着弾したドットを硬化させた。
【００８２】
主走査時の走査速度は、０．２ｍ／ｓで固定した。
【００８３】
３．塗布層の歪みの評価
得られた塗布層の歪みは、図９に示すように、円形状の塗布層の主走査方向の直径と副走査方向の直径を顕微鏡観察によって計測し、その寸法差Δを求めることによって評価した。Δの値が小さい程、塗布層に歪みが発生しておらず、高精度の塗布層が形成されていることを示している。
【００８４】
（実施例１〜３）
平面基材（実施例１）、凹面基材（実施例２）、凸面基材（実施例３）の各々の塗布対象領域に対し、主走査方向のドットの着弾間隔Ｐｘ及び副走査方向のドットの着弾間隔Ｐｙを表１となるように設定して塗布層を形成した。インクジェットヘッドは、ノズル配列方向が副走査方向と平行になるように設置した。
【００８５】
ドットの着弾間隔Ｐｘ、Ｐｙは、インクジェットヘッドのインク吐出周波数を調整することによって異ならせた。インク吐出周波数は、実施例１：５．７５ＫＨｚ、実施例２：５．４６ＫＨｚ、実施例３：５．８８ＫＨｚとした。
【００８６】
その結果、得られた塗布層の主走査方向の直径と副走査方向の直径の差Δは、３〜５μｍに収まり、歪みが抑えられた良好な精度を有する塗布層を形成することができた。
【００８７】
（実施例４）
実施例３と同一の凸面基材の塗布対象領域に対し、主走査方向のドットの着弾間隔Ｐｘ及び副走査方向のドットの着弾間隔Ｐｙを表１となるように設定した以外は、実施例１〜３の場合と同様にして塗布層を形成した。
【００８８】
ドットの着弾間隔Ｐｘ、Ｐｙは、インクジェットヘッドのノズル配列方向を副走査方向に対して８．６°傾斜させて設置することによって、副走査方向のドットの着弾間隔Ｐｙのみを調整することにより異ならせた。インク吐出周波数は５．６８ＫＨｚとした。
【００８９】
その結果、得られた塗布層の主走査方向の直径と副走査方向の直径の差Δは５μｍに収まり、歪みが抑えられた良好な精度を有する塗布層を形成することができた。
【００９０】
（比較例１〜３）
実施例１〜４と同様の平面基材（比較例１）、凹面基材（比較例２）、凸面基材（比較例３）の各々の塗布対象領域に対し、主走査方向のドットの着弾間隔Ｐｘ及び副走査方向のドットの着弾間隔Ｐｙを表１となるように設定した以外は、実施例１〜３の場合と同様にして塗布層を形成した。
【００９１】
ドットの着弾間隔Ｐｘ、Ｐｙは、インクジェットヘッドのインク吐出周波数を５．６８ＫＨｚに固定し、主走査方向のドット間隔Ｐｘと副走査方向のドット間隔Ｐｙとが同一となるようにした。
【００９２】
その結果、得られた塗布層の主走査方向の直径と副走査方向の直径の差Δは、平面基材（比較例１）では、副走査方向に対して主走査方向の直径が大きくなった。これは、ドット列が主走査方向に濡れ広がって、塗布対象領域からはみ出したことによるものと推定される。
【００９３】
また、凹面基材（比較例２）では、主走査方向に対して副走査方向の直径が大きくなった。これは、ドット列が凹面に沿って主走査方向に互いに寄り合って、塗布対象領域よりも小さくなったことによるものと推定される。
【００９４】
さらに、凸面基材（比較例３）では、副走査方向に対して主走査方向の直径が大きくなった。これは、ドット列が凸面に主走査方向に沿ってさらに広がって、塗布対象領域からはみ出したことによるものと推定される。
【００９５】
以上のように、主走査方向のドットの着弾間隔Ｐｘと副走査方向のドットの着弾間隔Ｐｙとを異ならせることにより、塗布対象領域に対する塗布層の歪みが抑えられた高精度の塗布層を形成することができた。
【表１】
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【符号の説明】
【００９６】
１：インクジェットヘッド
１１：ノズル
２：ドット
３：ドット列
Ａ：塗布対象領域
Ｐｘ：主走査方向のドットの着弾間隔
Ｐｙ：副走査方向のドットの着弾間隔
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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