(57)【要約】【課題】  高硬度で屈曲性に優れ、干渉縞とフィルムカールが抑制された、良好な光学フィルムを提供することを目的とする。【解決手段】  透明基材の一方の面にハードコート層Ｂとハードコート層Ａを順次積層し、他方の面にハードコート層Ｃを形成してなる光学フィルムであって、前記ハードコート層Ａ、Ｂ、Ｃはいずれも電離放射線硬化性樹脂を含有するハードコート層形成用樹脂組成物からなり、前記ハードコート層Ａは、ビッカース硬度７０〜２００、前記ハードコート層Ｂは、屈折率１．５０〜１．６０、前記ハードコート層Ｃは、ビッカース硬度１５〜５０、算術平均粗さＲａが０．００３〜０．０２μｍであることを特徴とする光学フィルムである。【選択図】図１
2015106033.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の一方の面にハードコート層Ｂとハードコート層Ａを順次積層し、他方の面にハードコート層Ｃを形成してなる光学フィルムであって、
前記ハードコート層Ａ、Ｂ、Ｃはいずれも電離放射線硬化性樹脂を含有するハードコート層形成用樹脂組成物からなり、
前記ハードコート層Ａは、ビッカース硬度７０〜２００、
前記ハードコート層Ｂは、屈折率１．５０〜１．６０、
前記ハードコート層Ｃは、ビッカース硬度１５〜５０、算術平均粗さＲａが３〜２０ｎｍであることを特徴とする光学フィルム。
【請求項２】
前記透明基材は、厚さ４０〜３００μｍのポリエチレンテレフタレートであることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記ハードコート層Ａの厚さは５〜３０μｍで、
ハードコート層Ａ形成用樹脂組成物が粒径５０〜１５０ｎｍの微粒子を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記ハードコート層Ｂの厚さは１〜１０μｍで、
ハードコート層Ｂ形成用樹脂組成物が、２官能以下の（メタ）アクリレート、２官能以下のウレタン（メタ）アクリレートのうち一つ以上を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記ハードコート層Ｃの厚さは５〜３０μｍで、
ハードコート層Ｃ形成用樹脂組成物が、２官能以下の（メタ）アクリレート、２官能以下のウレタン（メタ）アクリレートのうち一つ以上と、
粒径２００〜８００ｎｍの微粒子を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光学フィルム。
【請求項６】
前記ハードコート層形成用樹脂組成物の硬化に紫外線を用いたことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ、例えば、液晶ディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ等の表面を保護する目的等で使用される、透明基材上にハードコート層を設けた光学フィルム、及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）又は陰極管表示装置（ＣＲＴ）等の画像表示装置における画像表示面は、取り扱い時に傷がつかないように、耐擦傷性を付与することが要求される。これに対して、基材フィルムにハードコート（ＨＣ）層を形成させた光学積層体（以下、光学フィルムと呼称する。）を利用することにより、画像表示装置の画像表示面の耐擦傷性を向上させることが一般になされている。
【０００３】
一般的にプラスチック表面を硬質化する技術としては、オルガノシロキサン系、メラミン系等の熱硬化性樹脂をコーティングしたり、真空蒸着法やスパッタリング法等で金属薄膜を形成する方法、あるいは多官能アクリレート系の活性エネルギー線硬化性樹脂をコーティングする方法などが挙げられる。透明性の高いプラスチック基材フィルムの中でも、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムや、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）フィルム、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材は、透明性に優れている点から、主に液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）用の光学積層体の基材フィルムとして用いられる。
【０００４】
近年、各種デバイス、特に持ち運びでの使用を主体とするモバイルでは、軽量化、薄型化が要求されており、ガラスでは材質、加工性の点から軽量化、薄型化には限界がある。また、ガラスでは落下時の衝撃により破損する可能性が高いことが指摘されている。そこで、ガラス同等の特性を有し、加工性や耐衝撃性を有した光学フィルムの適用が提案されている。
【０００５】
ガラス同等の特性を得るためにはハードコート層の硬度の向上が必須となる。ハードコート層の膜厚を制御することによって硬度の向上は可能であるが、ハードコート層形成時の硬化収縮によってハードコート層側への反り（カール）が発生する問題がある。また、加工性の点から硬度を向上させることによって、フィルムの柔軟性が低下し、屈曲性が問題となる。また、透明基材の種類によっては、ハードコート層との密着性や、ハードコート層との屈折率差によって生じる干渉縞についても課題となる。
【０００６】
カールを抑制する手法として、ハードコート層設置面の反対面についてもカールが得られるような処理をすることで光学フィルムとしてのカールを抑制する手法が提案されている。
【０００７】
特許文献１には、基材フィルムのハードコート層設置面の反対面にアルカリ溶液を塗布することで、カールの抑制を試みている。しかしこの手法ではよりハードコート層の膜厚をさらに厚くしたときにカールを抑制しきれない。また、ハードコート層の厚みを増加させた際に十分なクラック耐性を得られない。
【０００８】
特許文献２には、ポリエチレンテレフタレート基材の両面にハードコート層を設置することでカールの抑制を試みているが、屈曲性についても十分に検討されていない。また、Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌでの加工に際してブロッキング耐性についても十分に検討されていない。
【０００９】
特許文献３には、フィルム基材の両面にハードコート層を設置し、膜厚の比率を規定することでカールの抑制を試みているが、Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌでの加工に際してブロッキング耐性、干渉縞ついて十分に検討されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００９−２８８４１３号公報
【特許文献２】特開２０１１−７５７０５号公報
【特許文献３】特開２０１３−１３２７８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、高硬度で屈曲性に優れ、干渉縞とフィルムカールが抑制された、良好な光学フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の請求項１に係る発明は、透明基材の一方の面にハードコート層Ｂとハードコート層Ａを順次積層し、他方の面にハードコート層Ｃを形成してなる光学フィルムであって、
前記ハードコート層Ａ、Ｂ、Ｃはいずれも電離放射線硬化性樹脂を含有するハードコート層形成用樹脂組成物からなり、
前記ハードコート層Ａは、ビッカース硬度７０〜２００、
前記ハードコート層Ｂは、屈折率１．５０〜１．６０、
前記ハードコート層Ｃは、ビッカース硬度１５〜５０、算術平均粗さＲａが３〜２０ｎｍであることを特徴とする光学フィルムである。
【００１３】
請求項２に係る発明は、前記透明基材は、厚さ４０〜３００μｍのポリエチレンテレフタレートであることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルムである。
【００１４】
請求項３に係る発明は、前記ハードコート層Ａの厚さは５〜３０μｍで、
ハードコート層Ａ形成用樹脂組成物が粒径５０〜１５０ｎｍの微粒子を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルムである。
【００１５】
請求項４に係る発明は、前記ハードコート層Ｂの厚さは１〜１０μｍで、
ハードコート層Ｂ形成用樹脂組成物が、２官能以下の（メタ）アクリレート、２官能以下のウレタン（メタ）アクリレートのうち一つ以上を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光学フィルムである。
【００１６】
請求項５に係る発明は、前記ハードコート層Ｃの厚さは５〜３０μｍで、
ハードコート層Ｃ形成用樹脂組成物が、２官能以下の（メタ）アクリレート、２官能以下のウレタン（メタ）アクリレートのうち一つ以上と、
粒径２００〜８００ｎｍの微粒子を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光学フィルムである。
【００１７】
請求項６に係る発明は、前記ハードコート層形成用樹脂組成物の硬化に紫外線を用いて形成したことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルムである。
【発明の効果】
【００１８】
請求項１〜６に記載の本発明によれば、透明基材の一方の面にハードコート層Ｂとハー
ドコート層Ａを順次積層し、他方の面にハードコート層Ｃを形成することで、優れた表面硬度と屈曲性、密着性を有し、ハードコート層と透明基材の干渉縞とフィルムカールが抑制された光学フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明に係る光学フィルムの層構成を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、まず本発明の光学フィルムについて説明する。  
【００２１】
図１に示した本発明に係る光学フィルムは、透明基材（１）の両面にハードコート層を備えたことを特徴とする。具体的には、透明基材（１）の一方の面に、ハードコート層Ｂ（３）、ハードコート層Ａ（２）を順次積層し、他方の面にハードコート層Ｃ（４）を形成した光学フィルムである。
【００２２】
前記ハードコート層Ａ（２）はビッカース硬度が７０〜２００の範囲であり、電離放射線硬化性樹脂と粒径５０〜１５０ｎｍの微粒子を含有するハードコート層Ａ形成用樹脂組成物から形成される。
【００２３】
また、前記ハードコート層Ｂ（３）は屈折率が１．５０〜１．６０の範囲であり、２官能以下の（メタ）アクリレート、２官能以下のウレタン（メタ）アクリレートのうち一つ以上を含有するハードコート層Ｂ形成用樹脂組成物から形成される。
【００２４】
また、前記ハードコート層Ｃ（４）はビッカース硬度が１５〜５０の範囲であり、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．００３〜０．０２μｍの範囲であり、２官能以下の（メタ）アクリレート、２官能以下のウレタン（メタ）アクリレートのうち一つ以上を含有するハードコート層Ｃ形成用樹脂組成物から形成される。
【００２５】
以下、本発明に係る光学フィルムについて詳細に説明する。
【００２６】
本発明に使用できる透明基材は、透明性（光透過性）の高いプラスチックフィルムであり、耐熱性、機械強度、耐薬品性、柔軟性などに優れているものであれば特に限定するものではない。例えば、シクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、アクリレート系ポリマー、又はポリエステルを主体とするものが挙げられる。ここで、「主体とする」とは、基材構成成分の中で最も含有割合が高い成分を示すものである。中でも、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が好ましい。また必要に応じて可塑剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤等の各種添加剤が添加されていてもよい。
【００２７】
前記透明基材の厚さは、４０〜３００μｍの範囲、好ましくは７０〜２００μｍの範囲である。４０μｍ未満ではハードコート層Ａにおいて十分な硬度が得られず、３００μｍを超えるとハードコート層Ｂ、ハードコート層Ｃにおいて十分な屈曲性が得られない。
【００２８】
また、透明基材に接着性を向上させる目的で、表面処理、例えば鹸化処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理などを施してもよい。
【００２９】
一般にハードコート層とは、一般にＪＩＳ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すものをいうが、本発明に用いられるハードコート層、特にハードコート層Ａは「４Ｈ」以上であることを特注とする。以下、ハードコート層Ａ、Ｂ、Ｃについて具体的に説明する。
【００３０】
本発明に係るハードコート層Ａは、ビッカース硬度が７０〜２００の範囲、好ましくは９０〜１８０の範囲であることを特徴とする。ビッカース硬度が７０未満の場合、十分な表面硬度が得られず、鉛筆硬度が低下してしまう。また、ビッカース硬度が２００を超えると、十分な表面硬度を得ることができるが、屈曲性が悪化することで取扱が困難となる。
【００３１】
前記ハードコート層Ａ（２）は、電離放射線硬化性樹脂と粒径５０〜１５０ｎｍの微粒子を含有するハードコート層Ａ形成用樹脂組成物から形成され、その膜厚は５〜３０μｍ、好ましくは１０〜２５μｍである。厚さが５μｍ未満の場合には十分な硬度が得られず、鉛筆硬度が低下してしまう。厚さが３０μｍを超えると、鉛筆硬度は得られるが、屈曲性が悪化してしまう。ハードコート層Ａ形成用樹脂組成物には、他に光重合開始剤を含み、必要に応じて溶剤、帯電防止剤、防眩剤、その他添加剤を含有してもよい。上記のハードコート層Ａ形成用樹脂組成物を透明基材上に、公知の方法で塗布・乾燥し、更に電離放射線、中でも紫外線照射により硬化させることでハードコート層Ａを形成する。
【００３２】
前記微粒子としては、二酸化ケイ素粒子、二酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化錫粒子、炭酸カルシウム粒子、硫酸バリウム粒子のような無機微粒子が挙げられる。また、ポリスチレン粒子のような有機微粒子を含んでもよい。また、微粒子の粒径は５０〜１５０ｎｍ、好ましくは７５〜１３０ｎｍのものがよい。５０ｎｍ未満の微粒子、１５０ｎｍよりも大きい微粒子では十分な硬度が得られず、鉛筆硬度が低下してしまう。
【００３３】
前記電離放射線硬化性樹脂とは、化学放射線によりラジカルを発生する重合開始剤の存在下、化学放射線照射により高分子化または架橋反応するラジカル重合性を有する化合物で、例えば、構造単位中にエチレン性の不飽和結合を少なくとも１個以上含むものであり、１官能であるビニルモノマーの他に二官能、三官能以上の（メタ）アクリレートモノマーかウレタンアクリレートを含むものであり、またこれらの混合物であってもよい。
【００３４】
単官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、リン酸（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、ヘキサフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される１価のモノ（メタ）アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３５】
前記二官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどのジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３６】
前記三官能以上の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の３官能以上の多官能（メタ）アクリレート化合物や、これら（メタ）アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。
【００３７】
ウレタン（メタ）アクリレート化合物としては、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマーなどを用いることができる。
【００３８】
前記光重合開始剤としては、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンジルメチルケタール類、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン等のα−ヒドロキシケトン類、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１等のα−アミノケトン類、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド等のビスアシルフォスフィンオキサイド類、２，２‘−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４‘，５，５‘−テトラフェニル−１，１‘−ビイミダゾール、ビス（２，４，５−トリフェニル）イミダゾール等のビスイミダゾール類、Ｎ−フェニルグリシン等のＮ−アリールグリシン類、４，４‘−ジアジドカルコン等の有機アジド類、３，３‘，４，４‘−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボキシル）ベンゾフェノン等の有機過酸化物類をはじめ、Ｊ．Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍ．Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．，２，２８３（１９８７）．に記載される化合物、具体的には鉄アレーン錯体、トリハロゲノメチル置換ｓ−トリアジン、スルフォニウム塩、ジアゾニウム塩、フォスフォニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩、ヨードニウム塩等が挙げられる。また、ヨードニウム塩としては、Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ、１０、１３０７（１９７７）．に記載の化合物、例えば、ジフェニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、フェニル（ｐ−アニシル）ヨードニウム、ビス（ｍ−ニトロフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ  −クロロフェニル）ヨードニウムなどのヨードニウムのクロリド、ブロミド、あるいはホウフッ化塩、ヘキサフルオロフォスフェート塩、ヘキサフルオロアルセネート塩、芳香族スルホン酸塩等や、ジフェニルフェナシルスルホニウム（ｎ−ブチル）トリフェニルボレート等のスルホニウム有機ホウ素錯体類を挙げることが出来る。
【００３９】
前記ハードコート層Ａ形成用樹脂組成物には、上記（メタ）アクリル系樹脂のほかに、他の樹脂を含有していてもよい。例えば、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテル樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエーテル樹脂からなる群から選択される一種または二種以上の樹脂を含むことができる。
【００４０】
また、前記ハードコート層Ａ形成用樹脂組成物には、必要に応じて公知の一般的な塗料添加剤を配合することができる。例えばレベリング、表面スリップ性等を付与するシリコーン系、フッソ系の添加剤は硬化膜表面の傷つき防止性に効果があることに加えて、活性エネルギー線として紫外線を利用する場合は前記添加剤の空気界面へのブリードによって、酸素による樹脂の硬化阻害を低下させることができ、低照射強度条件下に於いても有効な硬化度合を得ることができる。これらの添加量はハードコート層形成用樹脂組成物１００重量部に対し０．０１〜０．５重量部が適当である。
【００４１】
さらには公知の添加剤、例えば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加し、機能を付与させたものも使用できる。
【００４２】
尚、ハードコート層Ａ形成用樹脂組成物に用いられる溶剤は、上記光硬化性樹脂の固形分を溶解もしくは分散させることができる溶媒であれば特に限定されるものではない。
【００４３】
前記ハードコート層Ｂ（３）は、２官能以下の（メタ）アクリレート、２官能以下のウレタン（メタ）アクリレートのうち一つ以上から選ばれる電離照射線硬化性樹脂及び光重合開始剤を含有するハードコート層Ｂ形成用樹脂組成物からなり、屈折率が１．５０〜１．６０、好ましくは１．５４〜１．５８であることを特徴とする。屈折率が１．５０未満の場合、透明基材との屈折率差によっては干渉縞が視認されてしまう。また、屈折率が１．６０以上の場合、ハードコート層Ａとの屈折率差によっては干渉縞が視認されてしまう。
【００４４】
また、前記ハードコート層Ｂ形成用樹脂組成物は、必要に応じて溶剤、帯電防止剤、防眩剤、その他添加剤を含有することもできる。上記のハードコート層Ｂ形成用樹脂組成物を用いて、透明基材上に公知の方法で塗布・乾燥し、更に電離放射線、中でも紫外線照射により硬化させることでハードコート層Ｂを形成する。ハードコート層Ｂの膜厚は１〜１０μｍ、好ましくは２〜５μｍである。厚さが１μｍ未満の場合、場合には十分な屈曲性が得られない。また、厚さが１０μｍ以上の場合には十分な鉛筆硬度が得られない。
【００４５】
前記ハードコート層Ｂで用いられる（メタ）アクリレートおよび２官能以下のウレタン（メタ）アクリレート樹脂は、前記ハードコート層Ａに挙げた樹脂から選ばことができる。
【００４６】
前記ハードコート層Ｃはビッカース硬度が１５〜５０の範囲、好ましくは２０〜４０の範囲で、算術平均粗さ（Ｒａ）３〜２０ｎｍの範囲、好ましくは５〜１５ｎｍの範囲であることを特徴とする。ビッカース硬度が１５未満の場合、十分なフィルムカールが得られず、本発明の光学フィルムとした際にフィルムカールが発生してしまう。また、ビッカース硬度が５０よりも大きい場合、十分なフィルムカールを得ることができるが、屈曲性が悪化することで取扱が困難となる。また、算術平均粗さ（Ｒａ）が３ｎｍ未満の場合、十分なブロッキング耐性が得られず、ｒｏｌｌ  ｔｏ  ｒｏｌｌでフィルムを作製した場合にブロッキングが発生してしまう。算術平均粗さ（Ｒａ）が２０ｎｍを超える場合、表面での光の散乱が起きることでヘイズが上昇してしまう。
【００４７】
前記ハードコート層Ｃ（４）は、電離放射線硬化性樹脂、光重合開始剤及び微粒子を含有するハードコート層Ｃ形成用樹脂組成物により形成される。また、ハードコート層Ｃ形成用樹脂組成物には、必要に応じて溶剤、帯電防止剤、防眩剤、その他添加剤を含有することもできる。
【００４８】
ハードコート層Ｃは、前記ハードコート層Ｃ形成用樹脂組成物を用いて、透明基材上に公知の方法で塗布・乾燥し、更に紫外線照射して硬化することにより形成される。ハードコート層Ｃの膜厚は５〜３０μｍが好ましく、１０〜２５μｍがより好ましい。膜厚が５μｍ未満の場合には十分な屈曲性が得られず、また、３０μｍを超えると十分なブロッキング耐性が得られない。
【００４９】
前記電離放射線硬化性樹脂としては、２官能以下の（メタ）アクリレート、２官能以下のウレタン（メタ）アクリレートのうち一つ以上から選ばれ、前記ハードコート層Ａに挙げた樹脂を用いることができる。また、光重合開始剤も前記ハードコート層Ａに挙げたものを用いることができる。
【００５０】
前記微粒子としては、二酸化ケイ素粒子、二酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化錫粒子、炭酸カルシウム粒子、硫酸バリウム粒子のような無機微粒子を用いることができる。また、ポリスチレン粒子のような有機微粒子でもよい。前記微粒子の粒径は２００〜８００ｎｍが好ましく、３００〜６００ｎｍがより好ましい。２００ｎｍ未満の微粒子では十分な算術拝金粗さ（Ｒａ）が得られず、ブロッキング耐性が低下してしまう。また、８００ｎｍを超えるとヘイズが上昇してしまう。
【００５１】
以下、本発明の光学フィルムの製造方法について説明する。
【００５２】
本発明に係るハードコート層Ａ、Ｂ、Ｃを形成するための、各種ハードコート層形成用樹脂組成物の塗工方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター等が使用することが、特に限定するものではない。
【００５３】
また、上記方法で塗布した塗膜を硬化するための電離放射線源としては、電子線なども使用できるが、装置コスト、操作性、安全性などの面で優れている紫外線が好ましい。具体的な光源としては、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等が利用できる。例えば、フィラーを含まないクリア塗
膜の硬化には高圧水銀灯、フィラーを含む場合や厚膜の硬化にはメタルハライドランプが好ましい。
【実施例】
【００５４】
以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。尚、実施例中、特別の断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
【００５５】
＜実施例１＞
基材としてはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ社製：Ｕ４８  １００μｍ）を用いた。また、以下の組成でハードコート層Ａ、Ｂ、Ｃ形成用樹脂組成物を調整した。
【００５６】
（ハードコート層Ａ形成用樹脂組成物）
・三官能ウレタンアクリレート：                                ３０部
（日本合成化学社製：ＵＶ７５５０−Ｂ）
・多官能モノマー：ペンタエリスリトールトリアクリレート        ４０部
（大阪有機化学社製：商品名Ｖ＃３００）
・コロイダルシリカ分散溶液：                                  ３０部
（日産化学社製：平均粒径１００ｎｍ，固形分３０％，分散溶媒メチルエチルケトン）
・光重合開始剤：（ＢＡＳＦ社製：イルガキュア１８４）            ５部
・溶媒：メチルイソブチルケトン                              １００部
【００５７】
（ハードコート層Ｂ形成用樹脂組成物）
・二官能ウレタンアクリレート：                                ３０部
（日本合成化学社製：ＵＶ６６３０−Ｂ）
・単官能モノマー：イソアミルアクリレート（共栄社化学社製）    ３０部
・フルオレン含有アクリレート：                                ４０部
（大阪ガスケミカル社製：ＥＡ−０２００）
・光重合開始剤：（ＢＡＳＦ社製：イルガキュア１８４）            ５部
・溶媒：メチルイソブチルケトン                              １００部
【００５８】
（ハードコート層Ｃ形成用樹脂組成物）
・二官能ウレタンアクリレート：                                ４５部
（日本合成化学社製：ＵＶ６６３０−Ｂ）
・単官能モノマー：イソアミルアクリレート（共栄社化学社製）    ４０部
・コロイダルシリカ分散溶液：                                  １５部
（日産化学社製：平均粒径５００ｎｍ，固形分３０％，分散溶媒メチルエチルケトン）
・光重合開始剤：（ＢＡＳＦ社製：イルガキュア１８４）            ５部
・溶媒：メチルイソブチルケトン                              １００部
【００５９】
次にＰＥＴ基材の一方の面に、ハードコート層Ｂ形成用組成物を熱乾燥後の膜厚が３μｍとなるように塗布し、その後、塗膜側より高圧水銀ＵＶランプ（１２０ｗ／ｃｍ２）を用いて、積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２の条件で紫外線を照射して硬化し、ハードコート層Ｂを形成した。
【００６０】
次に、上記ハードコート層Ｂの上に、ハードコート層Ａ形成用組成物を熱乾燥後の膜厚が５μｍとなるように塗布し、その後、塗膜側より高圧水銀ＵＶランプ（１２０ｗ／ｃｍ２）を用いて、積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２の条件で紫外線を照射して硬化し、ハードコート層Ａを形成した。
【００６１】
次に、ＰＥＴ基材の他方の面に、ハードコート層Ｃ形成用組成物を熱乾燥後の膜厚が２０μｍとなるように塗布し、その後、塗膜側より高圧水銀ＵＶランプ（１２０ｗ／ｃｍ２）を用いて、積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２の条件で紫外線を照射して硬化し、ハードコート層Ｃを形成して光学フィルムを作製した。
【００６２】
＜実施例２＞
ハードコート層Ａの膜厚を２０μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００６３】
＜実施例３＞
ハードコート層Ａの膜厚を３０μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００６４】
＜実施例４＞
ハードコート層Ａ形成用樹脂組成物のコロイダルシリカの平均粒径を５０ｎｍ、ハードコート層Ａの膜厚を２０μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００６５】
＜実施例５＞
ハードコート層Ａ形成用樹脂組成物のコロイダルシリカの平均粒径を１５０ｎｍ、ハードコート層Ａの膜厚を２０μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００６６】
＜実施例６＞
ハードコート層Ａの膜厚を２０μｍ、ハードコート層Ｃの膜厚を５μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００６７】
＜実施例７＞
ハードコート層Ａの膜厚を２０μｍ、ハードコート層Ｃの膜厚を３０μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００６８】
＜実施例８＞
ハードコート層Ａの膜厚を２０μｍ、ハードコート層Ｃ形成用樹脂組成物のコロイダルシリカの平均粒径を２００ｎｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００６９】
＜実施例９＞
ハードコート層Ａの膜厚を２０μｍ、ハードコート層Ｃ形成用樹脂組成物のコロイダルシリカの平均粒径を４００ｎｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００７０】
＜実施例１０＞
ハードコート層Ａの膜厚を２０μｍ、ハードコート層Ｃ形成用樹脂組成物のコロイダルシリカの平均粒径を８００ｎｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００７１】
＜実施例１１＞
ハードコート層Ａの膜厚を２０μｍ、ハードコート層Ｂの膜厚を８μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００７２】
＜実施例１２＞
下記のハードコート層Ｂ形成用樹脂組成物を用いて、ハードコート層Ｂの屈折率を１．５２とし、さらにハードコート層Ａの膜厚を２０μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
（（ハードコート層Ｂ形成用樹脂組成物）
・二官能ウレタンアクリレート：                                ５０部
（日本合成化学社製：ＵＶ６６３０−Ｂ）
・単官能モノマー：イソアミルアクリレート（共栄社化学社製）    ５０部
・光重合開始剤：（ＢＡＳＦ社製：イルガキュア１８４）            ５部
・溶媒：メチルイソブチルケトン                              １００部
【００７３】
＜実施例１３＞
下記のハードコート層Ｂ形成用樹脂組成物を用いて、ハードコート層Ｂの屈折率を１．６０とし、さらにハードコート層Ａの膜厚を２０μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
（（ハードコート層Ｂ形成用樹脂組成物）
・二官能ウレタンアクリレート：                                １０部
（日本合成化学社製：ＵＶ６６３０−Ｂ）
・単官能モノマー：イソアミルアクリレート（共栄社化学社製）    １０部
・フルオレン含有アクリレート：                                ８０部
（大阪ガスケミカル社製：ＥＡ−０２００）
・光重合開始剤：（ＢＡＳＦ社製：イルガキュア１８４）            ５部
・溶媒：メチルイソブチルケトン                              １００部
【００７４】
＜比較例１＞
ハードコート層Ａの膜厚を３μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００７５】
＜比較例２＞
ハードコート層Ａの膜厚を３５μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００７６】
＜比較例３＞
ハードコート層Ａ形成用樹脂組成物のコロイダルシリカの平均粒径を３０ｎｍ、ハードコート層Ａの膜厚を２０μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００７７】
＜比較例４＞
ハードコート層Ａ形成用樹脂組成物のコロイダルシリカの平均粒径を１７５ｎｍ、ハードコート層Ａの膜厚を２０μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００７８】
＜比較例５＞
ハードコート層Ａ形成用樹脂組成物の三官能ウレタンアクリレートを４５部、多官能モノマーを４５部、コロイダルシリカを１０部、光重合開始剤を１部とし、さらにハードコート層Ａの膜厚を２０μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００７９】
＜比較例６＞
ハードコート層Ａ形成用樹脂組成物の三官能ウレタンアクリレートを１０部、多官能モノマーを６０部、コロイダルシリカを３０部、光重合開始剤を１５部とし、さらにハードコート層Ａの膜厚を２０μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００８０】
＜比較例７＞
ハードコート層Ａの膜厚を２０μｍ、ハードコート層Ｃの膜厚を３μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００８１】
＜比較例８＞
ハードコート層Ａの膜厚を２０μｍ、ハードコート層Ｃの膜厚を３５μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００８２】
＜比較例９＞
ハードコート層Ｃ形成用樹脂組成物のコロイダルシリカの平均粒径を１５０ｎｍ、ハードコート層Ａの膜厚を２０μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００８３】
＜比較例１０＞
ハードコート層Ｃ形成用樹脂組成物のコロイダルシリカの平均粒径を１０００ｎｍ、ハードコート層Ａの膜厚を２０μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００８４】
＜比較例１１＞
ハードコート層Ｃ形成用樹脂組成物の二官能ウレタンアクリレートを１５部、単官能モノマーを７０部とし、さらにハードコート層Ａの膜厚を２０μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００８５】
＜比較例１２＞
ハードコート層Ｃ形成用樹脂組成物の二官能ウレタンアクリレートを７０部、単官能モノマーを１５部とし、さらにハードコート層Ａの膜厚を２０μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００８６】
＜比較例１３＞
ハードコート層Ａの膜厚を２０μｍ、ハードコート層Ｂの膜厚を１μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００８７】
＜比較例１４＞
ハードコート層Ａの膜厚を２０μｍ、ハードコート層Ｂの膜厚を１２μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
【００８８】
＜比較例１５＞
下記のハードコート層Ｂ形成用樹脂組成物を用いて、ハードコート層Ｂの屈折率を１．４９とし、さらにハードコート層Ａの膜厚を２０μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
（（ハードコート層Ｂ形成用樹脂組成物）
・二官能ウレタンアクリレート：                                ４０部
（日本合成化学社製：ＵＶ６６３０−Ｂ）
・単官能モノマー：イソアミルアクリレート（共栄社化学社製）    ４０部
・コロイダルシリカ分散溶液：                                  ３０部
（日産化学社製：平均粒径１５０ｎｍ，固形分３０％，分散溶媒メチルエチルケトン）
・光重合開始剤：（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）            ５部
・溶媒：メチルイソブチルケトン                              １００部
【００８９】
＜比較例１６＞
下記のハードコート層Ｂ形成用樹脂組成物を用いて、ハードコート層Ｂの屈折率を１．６２とし、さらにハードコート層Ａの膜厚を２０μｍにした以外は、実施例１と同様にして光学フィルムを作製した。
（（ハードコート層Ｂ形成用樹脂組成物）
・フルオレン含有アクリレート：                              １００部
（大阪ガスケミカル社製：ＥＡ−０２００）
・光重合開始剤：（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）            ５部
・溶媒：メチルイソブチルケトン                              １００部
【００９０】
＜評価＞
上記の実施例及び比較例で得られた光学フィルムついて、以下の（ａ）光学特性及び（ｂ）機械強度の評価を行い、その結果を下記表１に示した。
【００９１】
（ａ）光学特性
・ヘイズ値測定
写像性測定器（日本電色工業社製、ＮＤＨ−２０００）を使用して、ＪＩＳ−Ｋ７１０５−１９８１に準拠して、ヘイズ値を測定し、測定値０．３未満：○、０．３以上：×と評価した。
【００９２】
（ｂ）機械強度
・微小硬度
微小硬度計（アカシ社製Ｍ−１２４）を用いて、荷重４．９０４ｍＮ、保持時間２０秒にて圧痕の対角線長さを読み取り、ビッカース硬度を測定した。
【００９３】
・表面粗さ
非接触表面層断面計測システム（菱化システム社製、Ｒ３３００Ｈ  Ｌｉｔｅ）を使用して、ハードコート層Ｃの表面の算術平均粗さ（Ｒａ）を測定した。（下記表１に記載の単位はｎｍ）
【００９４】
・密着性試験
塗料一般試験法ＪＩＳ−Ｋ５４００−１９９０の付着性試験方法（碁盤目テープ法）に準拠して、光学フィルム表面の塗膜の残存数を目視で観察し、以下の評価をした。
○：剥離が確認することが出来ない、△：２０マス以下の剥離が確認できる、×：２０マス以上の剥離が確認できる
【００９５】
・鉛筆硬度試験
クレメンス型引掻き硬度試験機（テスター産業社製、ＨＡ−３０１）を用いて、ＪＩＳ−Ｋ５４００−１９９０に準拠して実施し、以下の評価をした。
○：外観の変化が確認することが出来ない、×：外観の変化が目立つ
【００９６】
・屈曲性評価
ＪＩＳ−Ｋ５６００−５−１に準拠してマンドレル試験を実施し、クラックの発生した曲率半径が、７ｍｍ未満：○、７ｍｍ以上：×とした。
【００９７】
・カール評価
幅２ｍｍ、長さ５０ｍｍのフィルム片を切り出し、フィルムが婉曲する曲率半径を目視にて確認し、フィルムの曲率半径が８０ｍｍ以上：○、８０ｍｍ未満：×とした。
【００９８】
・ブロッキング評価
幅５０ｍｍ、長さ５０ｍｍのフィルム片を切り出し、表裏を５枚重ねて１００℃のオーブンで２時間加熱し、ブロッキングの有無を目視にて確認し評価した。フィルムのブロッキングがブロッキング無し：○、ブロッキング有り：×とした。
【００９９】
【表１】
2015106033.tif 000003
【０１００】
＜比較結果＞
実施例１〜１３において、フィルムカールが良好で、鉛筆硬度４Ｈを満たし、屈曲性に優れ、干渉縞とブロッキング耐性が良好な光学フィルムを得ることができた。
【０１０１】
比較例１においてハードコート層Ａの膜厚が３μｍのときに鉛筆硬度の悪化がみられた。
【０１０２】
比較例２においてハードコート層Ａの膜厚が３５μｍのときに屈曲性の悪化がみられた。
【０１０３】
比較例３においてハードコート層Ａのコロイダルシリカ平均粒径を３０ｎｍとすることで鉛筆硬度の低下がみられた。
【０１０４】
比較例３においてハードコート層Ａのコロイダルシリカ平均粒径を１５０ｎｍとすることでヘイズの上昇がみられた。
【０１０５】
比較例５においてハードコート層Ａのビッカース硬度が５８にて鉛筆硬度の低下がみられ、比較例６においてビッカース硬度２２０にて屈曲性の悪化がみられた。
【０１０６】
比較例７においてハードコート層Ｃの膜厚が３μｍのときに屈曲性の悪化がみられた。
【０１０７】
比較例８においてハードコート層Ｃの膜厚が３５μｍのときに表面粗さの低下とブロッキング耐性の悪化がみられた。
【０１０８】
比較例９においてハードコート層Ｃのコロイダルシリカ平均粒径を１５０ｎｍとすることで表面粗さの低下とブロッキング耐性の悪化がみられた。
【０１０９】
比較例１０においてハードコート層Ｃのコロイダルシリカ平均粒径を１０００ｎｍとすることでヘイズの上昇がみられた。
【０１１０】
比較例１１においてハードコート層Ｃのビッカース硬度が１０にてカールとブロッキング耐性の悪化がみられた。
【０１１１】
比較例１２においてハードコート層Ｃのビッカース硬度が６０にて屈曲性の悪化がみられた。
【０１１２】
比較例１３においてハードコート層Ｃの膜厚が１μｍのときに屈曲性の悪化がみられた。
【０１１３】
比較例１４においてハードコート層Ｂの膜厚が１２μｍのときに鉛筆硬度の低下がみら
れた。
【０１１４】
比較例１５においてハードコート層Ｂの屈折率が１．４９のときに干渉縞の悪化がみられた。
【０１１５】
比較例１６においてハードコート層Ｂの屈折率が１．６２のときに干渉縞の悪化、鉛筆硬度の低下がみられた。
【符号の説明】
【０１１６】
１…透明基材  ２…ハードコート層Ａ  ３…ハードコート層Ｂ  ４…ハードコート層Ｃ
【図１】
2015106033.tif 000004