(57)【要約】【課題】優れた応力緩和特性と優れた寸法精度とを両立することのできる電子デバイスパッケージ用基板、電子デバイスパッケージ、電子デバイスおよび電子デバイスの製造方法を提供する。【解決手段】ベース基板３は、セラミック層である第１の層３１と、第１の層３１の一方の面側に配置され、ガラス層、シリコン層および水晶層の少なくとも１つの層を含む第２の層３３と、第２の層３３の第１の層３１と反対側の面に開口している凹部３ａと、を有している。また、凹部３ａは、エッチングにより形成されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
セラミックを含む第１の層と、
前記第１の層の一方の面側に配置され、ガラス、シリコンおよび水晶の少なくとも１つを材料として含み、前記第１の層とは反対側に開口している凹部を備えている第２の層と、
を有していることを特徴とする電子デバイスパッケージ用基板。
【請求項２】
前記凹部は、前記第２の層をエッチングすることで形成されている請求項１に記載の電子デバイスパッケージ用基板。
【請求項３】
前記第１の層は、電子部品と電気的に接続される配線層を有する請求項１または２に記載の電子デバイスパッケージ用基板。
【請求項４】
前記凹部内に配置されていて、前記電子部品が接続される凸部を有する請求項３に記載の電子デバイスパッケージ用基板。
【請求項５】
前記配線層は、前記凸部まで延在して配置されている請求項４に記載の電子デバイスパッケージ用基板。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の電子デバイスパッケージ用基板と、
前記凹部の開口を塞ぐように前記電子デバイスパッケージ用基板に接合されている蓋体と、
を有していることを特徴とする電子デバイスパッケージ。
【請求項７】
前記第２の層は、ガラスを含み、
前記蓋体と前記第２の層とは、ガラス融着によって接合されている請求項６に記載の電子デバイスパッケージ。
【請求項８】
前記蓋体は、前記凹部と繋がっていて前記第２の層側の面に開口している蓋体側凹部を有している請求項６または７に記載の電子デバイスパッケージ。
【請求項９】
前記蓋体側凹部は、エッチングにより形成されている請求項８に記載の電子デバイスパッケージ。
【請求項１０】
請求項６ないし９のいずれか１項に記載の電子デバイスパッケージと、
前記電子デバイスパッケージに収容されている電子部品と、
を有していることを特徴とする電子デバイス。
【請求項１１】
セラミックを含む第１の層と、前記第１の層の一方の面側に配置され、ガラス、シリコンおよび水晶の少なくとも１つを材料として含み、前記第１の層と反対側の面に開口している凹部を備えている第２の層と、を有するベース基板を用意する工程と、
前記凹部内に電子部品を配置する工程と、
前記ベース基板とともに前記電子部品を収容するように前記ベース基板に蓋体を接合する工程と、
を含むことを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【請求項１２】
前記ベース基板を用意する工程では、エッチングによって前記凹部を形成するステップを含む請求項１１に記載の電子デバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子デバイスパッケージ用基板、電子デバイスパッケージ、電子デバイスおよび電子デバイスの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
例えば、特許文献１にはセラミック基板で形成され、凹部を有するキャビティ状の母基板が記載されている。このように、母基板をセラミック基板とすることで、次のような効果を発揮することができる。母基板を回路基板（実装基板）に実装した状態では、母基板と回路基板との熱膨張率の違いから母基板に応力が加わるが、母基板をセラミック基板で形成することで、母基板を比較的柔らかくすることができるため、母基板によって前記応力を吸収・緩和することができる。そのため、前記応力が母基板に搭載されている電子部品に伝達され、電子部品の特性が変動してしまうことを抑制することができる。
【０００３】
このように、セラミック基板で形成された母基板は、電子部品の特性の変動を抑制することができる利点を有しているが、一方で次のような欠点も有している。母基板をセラミック基板で形成する場合には、セラミックグリーンシートの積層体を焼成することで得られるが、このグリーンシートの積層体は、焼成時に収縮を起こす。そのため、母基板（特に凹部）の形状・寸法を高精度に制御することが困難である。また、このような収縮による変形によって、蓋体との接合が不十分となり易く、収容空間の気密性が低下するという問題もある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−１３５７２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、優れた応力緩和特性と優れた寸法精度とを両立することのできる電子デバイスパッケージ用基板、電子デバイスパッケージ、電子デバイスおよび電子デバイスの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の適用例として実現することが可能である。
【０００７】
［適用例１］
本適用例の電子デバイスパッケージ用基板は、セラミックを含む第１の層と、
前記第１の層の一方の面側に配置され、ガラス、シリコンおよび水晶の少なくとも１つを材料として含み、前記第１の層とは反対側に開口している凹部を備えている第２の層と、
を有していることを特徴とする。
【０００８】
これにより、優れた応力緩和特性と優れた寸法精度（特に凹部の寸法精度）とを両立することのできる電子デバイスパッケージ用基板が得られる。
【０００９】
［適用例２］
本適用例の電子デバイスパッケージ用基板では、前記凹部は、前記第２の層をエッチングすることで形成されていることが好ましい。
これにより、凹部の形成精度をより高めることができる。
【００１０】
［適用例３］
本適用例の電子デバイスパッケージ用基板では、前記第１の層は、電子部品と電気的に接続される配線層を有することが好ましい。
これにより、電子部品との電気的接続を容易に行うことができる。
【００１１】
［適用例４］
本適用例の電子デバイスパッケージ用基板では、前記凹部内に配置されていて、前記電子部品が接続される凸部を有することが好ましい。
【００１２】
これにより、電子部品との間に十分なギャップを形成することができ、電子部品と電子デバイスパッケージ用基板との接触を防止することができる。
【００１３】
［適用例５］
本適用例の電子デバイスパッケージ用基板では、前記配線層は、前記凸部まで延在して配置されていることが好ましい。
これにより、電子部品との電気的接続を容易に行うことができる。
【００１４】
［適用例６］
本適用例の電子デバイスパッケージは、上記適用例の電子デバイスパッケージ用基板と、
前記凹部の開口を塞ぐように前記電子デバイスパッケージ用基板に接合されている蓋体と、
を有していることを特徴とする。
【００１５】
これにより、優れた応力緩和特性と優れた寸法精度（特に凹部の寸法精度）とを両立することのできる電子デバイスパッケージが得られる。
【００１６】
［適用例７］
本適用例の電子デバイスパッケージでは、前記第２の層は、ガラスを含み、
前記蓋体と前記第２の層とは、ガラス融着によって接合されていることが好ましい。
【００１７】
これにより、電子デバイスパッケージ用基板と蓋体とを、簡単に、かつ、強固に接合することができる。また、接合時の熱膨張が抑えられ、内部応力の少ない電子デバイスパッケージとなる。
【００１８】
［適用例８］
本適用例の電子デバイスパッケージでは、前記蓋体は、前記凹部と繋がっていて前記第２の層側の面に開口している蓋体側凹部を有していることが好ましい。
【００１９】
これにより、電子デバイスパッケージ用基板の凹部の高さ（深さ）を抑えることができ、凹部の形成精度がより高くなる。
【００２０】
［適用例９］
本適用例の電子デバイスパッケージでは、前記蓋体側凹部は、エッチングにより形成されていることが好ましい。
これにより、蓋体側凹部の形成精度をより高めることができる。
【００２１】
［適用例１０］
本適用例の電子デバイスは、上記適用例の電子デバイスパッケージと、
前記電子デバイスパッケージに収容されている電子部品と、
を有していることを特徴とする。
【００２２】
これにより、優れた応力緩和特性と優れた寸法精度（特に凹部の寸法精度）とを両立することのできる電子デバイスが得られる。
【００２３】
［適用例１１］
本適用例の電子デバイスの製造方法は、セラミックを含む第１の層と、前記第１の層の一方の面側に配置され、ガラス、シリコンおよび水晶の少なくとも１つを材料として含み、前記第１の層と反対側の面に開口している凹部を備えている第２の層と、を有するベース基板を用意する工程と、
前記凹部内に電子部品を配置する工程と、
前記ベース基板とともに前記電子部品を収容するように前記ベース基板に蓋体を接合する工程と、
を含むことを特徴とする。
【００２４】
これにより、優れた応力緩和特性と優れた寸法精度（特に凹部の寸法精度）とを両立することのできる電子デバイスが得られる。
【００２５】
［適用例１２］
本適用例の電子デバイスの製造方法では、前記ベース基板を用意する工程では、エッチングによって前記凹部を形成するステップを含むことが好ましい。
これにより、凹部の形成精度がより高くなる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の第１実施形態に係る電子デバイスを示す平面図である。
【図２】図１中のＡ−Ａ線断面図である。
【図３】図１に示す電子デバイスが有する振動素子を示す平面図である。
【図４】図１に示す電子デバイスを回路基板に実装した状態を示す断面図である。
【図５】図１に示す電子デバイスの製造方法を説明するための断面図である。
【図６】図１に示す電子デバイスの製造方法を説明するための断面図である。
【図７】図１に示す電子デバイスの製造方法を説明するための断面図である。
【図８】図１に示す電子デバイスの製造方法を説明するための断面図である。
【図９】本発明の第２実施形態に係る電子デバイスを示す断面図である。
【図１０】図９に示す電子デバイスのベース基板の製造方法を説明するための断面図である。
【図１１】本発明の第３実施形態に係る電子デバイスを示す断面図である。
【図１２】本発明の電子デバイスを備えるモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピューターの構成を示す斜視図である。
【図１３】本発明の電子デバイスを備える携帯電話機（ＰＨＳも含む）の構成を示す斜視図である。
【図１４】本発明の電子デバイスを備えるディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。
【図１５】本発明の電子デバイスを備える移動体を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、電子デバイスパッケージ用基板、電子デバイスパッケージ、電子デバイスおよび電子デバイスの製造方法を添付図面に示す実施形態に基づいて詳細に説明する。
【００２８】
＜第１実施形態＞
図１は、本発明の第１実施形態に係る電子デバイスを示す平面図である。図２は、図１中のＡ−Ａ線断面図である。図３は、図１に示す電子デバイスが有する振動素子を示す平面図である。図４は、図１に示す電子デバイスを回路基板に実装した状態を示す断面図である。図５ないし図８は、それぞれ、図１に示す電子デバイスの製造方法を説明するための断面図である。なお、以下の説明では、図１中の紙面手前側および図２中の上側を「上」と言い、図１中の紙面奥側および図２中の下側を「下」と言う。
【００２９】
≪電子デバイス≫
図１および図２に示すように、振動子としての電子デバイス１は、パッケージ（電子デバイスパッケージ）２と、このパッケージ２に収容されている振動素子（電子部品）５と、を有している。また、パッケージ２は、凹部３ａを有するキャビティ状のベース基板（電子デバイスパッケージ用基板）３と、凹部３ａの開口を塞ぐようにしてベース基板３に接合されているリッド（蓋体）４と、を有している。
【００３０】
−振動素子−
図３（ａ）、（ｂ）に示すように、振動素子５は、平面視形状が長方形（矩形）の板状をなす水晶基板５１と、水晶基板５１の表面に形成されている１対の導体層５２、５３と、を有している。なお、図３（ａ）は、振動素子５を上方から見た平面図であり、同図（ｂ）は、振動素子５を上方から見た透過図である。
【００３１】
水晶基板５１は、ＡＴカットと呼ばれるカット角で切り出された水晶素板である。また、導体層５２は、水晶基板５１の上面に形成された励振電極５２ａと、水晶基板５１の下面に形成されたボンディングパッド５２ｂと、励振電極５２ａとボンディングパッド５２ｂとを電気的に接続する配線５２ｃと、を有している。同様に、導体層５３は、水晶基板５１の下面に形成された励振電極５３ａと、水晶基板５１の下面に形成されたボンディングパッド５３ｂと、励振電極５３ａおよびボンディングパッド５３ｂを電気的に接続する配線５３ｃと、を有している。このような構成の振動素子５は、励振電極５２ａ、５３ａ間に交番電圧が印加されることで、励振電極５２ａ、５３ａに挟まれた振動領域が厚み滑り振動する。
【００３２】
以上、振動素子５について説明したが、振動素子５の構成は、上記の構成に限定されず、例えば、振動領域が厚肉になっているメサ型のＡＴカット水晶振動素子であってもよいし、反対に、振動領域が薄肉になっている逆メサ型のＡＴカット水晶振動素子であってもよい。また、ＡＴカットに替えてＢＴカットの水晶基板５１を用いてもよい。また、一対の振動腕が屈曲振動する音叉型の振動素子であってもよい。また、水晶基板５１に替えて、例えば、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）や、ニオブ酸リチウム（ＬｉＮｂＯ3）、タンタル酸リチウム（ＬｉＴａＯ３）、チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）、四ホウ酸リチウム（Ｌｉ２Ｂ４Ｏ７）、ランガサイト（Ｌａ３Ｇａ５ＳｉＯ１４）などの酸化物基板や、ガラス基板上に窒化アルミニウムや五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）などの圧電体材料を積層させて構成された積層圧電基板や、圧電セラミック基板を用いてもよい。また、シリコン基板に圧電素子を配置し、通電によって圧電素子を伸縮させることで励振させる非圧電振動素子であってもよい。
【００３３】
−パッケージ−
図１および図２に示すように、パッケージ２は、上面に開放する凹部３ａを有するベース基板３と、凹部３ａの開口を塞ぐリッド４と、を有している。このようなパッケージ２では、リッド４により塞がれた凹部３ａの内側が前述した振動素子５を収容する収容空間Ｓとして機能する。
【００３４】
ベース基板３は、図２に示すように、底部を構成する第１の層３１と、第１の層３１の上面（一方の面）側に配置（積層）され、側壁を構成する第２の層３３と、第１の層３１の下面に配置されている配線層３２と、第１の層３１の上面に配置されている配線層３４と、を有している。
【００３５】
第１の層３１は、セラミック層である。このような第１の層３１は、例えば、セラミック粉末、ガラス粉末（ガラス成分）およびバインダーの混合物をシート状に成形したセラミックグリーンシートを焼成処理して得られる。なお、第１の層３１は、所謂、低温焼成セラミック層であってもよい。このように、第１の層３１にガラス成分を含有させることで、第１の層３１を柔らかくすること、具体的には第２の層３３よりもヤング率を低くすることができる。なお、第１の層３１のセラミック材料としては特に限定されないが、例えば、アルミナ、シリカ、チタニア、ジルコニア等の酸化物系セラミック、窒化珪素、窒化アルミ、窒化チタン等の窒化物系セラミック、炭化珪素等の炭化物系セラミック等の各種セラミックを用いることができる。また、ガラス成分としては特に限定されないが、例えば、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス、ソーダガラス（ソーダ石灰ガラス）、カリウムガラス、等を用いることができる。
【００３６】
そして、このような第１の層３１の上面には第２の層３３が積層されている。第２の層３３は、ガラス材料を主材料として構成されたガラス層である。第２の層３３のガラス材料としては特に限定されず、例えば、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス、ソーダガラス（ソーダ石灰ガラス）、カリウムガラス、無アルカリガラス等を用いることができる。なお、第１の層３１と第２の層３３との接合方法としては、特に限定されないが、例えば、ガラスを溶融させることによる融着、金属膜を介した接合（表面活性化接合）等を用いることができる。
【００３７】
また、第１の層３１の下面には導電性を有する配線層３２が配置され、この配線層３２は、一対の外部接続端子３２１、３２２を有している。また、第１の層３１の上面（第１の層３１と第２の層３３の間）には導電性を有する配線層３４が配置され、この配線層３４は、一対の内部接続端子３４１、３４２を有している。また、外部接続端子３２１と内部接続端子３４１は、第１の層３１を貫通するビア（貫通電極）３５１を介して電気的に接続されており、外部接続端子３２２と内部接続端子３４２は、第１の層３１を貫通するビア３５２を介して電気的に接続されている。なお、外部接続端子３２１、３２２、内部接続端子３４１、３４２およびビア３５１、３５２の構成材料としては、それぞれ、導電性を有していれば特に限定されず、例えば、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、白金（Ｐｔ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）等の金属材料を用いることができる。
【００３８】
このような構成のベース基板３には、その上面（第２の層３３の上面（第１の層３１と反対側の面））に開口する凹部３ａが設けられており、この凹部３ａに振動素子５が収容されている。また、凹部３ａは、第２の層３３を貫通する貫通孔によって形成され、凹部３ａの側面は貫通孔の内周面で構成され、凹部３ａの底面は第１の層３１の上面で構成されている。これにより、ガラス層である第２の層３３にエッチング加工等によって貫通孔を形成することで凹部３ａが得られるため、凹部３ａの形成が容易となる。また、このような凹部３ａ内には内部接続端子３４１、３４２が位置している。言い換えると、内部接続端子３４１、３４２は、凹部３ａから外部に露出している。そして、導電性接着剤６１、６２によって、振動素子５がベース基板３（凹部３ａの底面）に固定されると共に、内部接続端子３４１、３４２とボンディングパッド５２ｂ、５３ｂとが電気的に接続されている。
【００３９】
以上、ベース基板３について説明した。ここで、第１の層３１の厚さとしては、特に限定されず、例えば、２００μｍ以上、３００μｍ以下程度とすることができる。また、第２の層３３の厚さとしては、特に限定されず、例えば、１００μｍ以上、２００μｍ以下程度とすることができる。
【００４０】
リッド４は、平板状をなしており、凹部３ａの開口を塞ぐようにベース基板３の上面に接合されている。これにより、ベース基板３の内側に気密な収容空間Ｓが画成され、この収容空間Ｓに振動素子５が収容される。言い換えると、ベース基板３と共に振動素子５を収容するように、リッド４がベース基板３に接合されている。なお、収容空間Ｓの環境は、振動素子５の構成によっても異なるが、例えば、減圧状態（好ましくは、真空状態）となっていてもよく、また、窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガスが封入されていてもよい。
【００４１】
このようなリッド４の構成材料としては特に限定されず、例えば、各種セラミック、各種金属、各種ガラス、水晶、シリコン等を用いることができる。また、リッド４とベース基板３との接合方法は、リッド４の構成材料によっても異なり、例えば、接着剤、低融点ガラス、金属層等の接合層を介して接合してもよいし、陽極接合、界面活性化接合、融着等によって接合してもよい。
【００４２】
ただし、リッド４としては、上記の材料の中でもガラスを主材料として構成されていることが好ましく、さらに、ガラス融着によってベース基板３に接合されていることが好ましい。これにより、リッド４と第２の層３３とを共にガラスを主材料として構成することができるため、これらの間の熱膨張差を低減することができ、熱応力が加わり難いパッケージ２とすることができる。また、リッド４と第２の層３３の親和性が向上し、これらをより強固に接合することができる。また、リッド４とベース基板３とを直接接合することができるため、低コスト化を図ることもできる。
【００４３】
以上、電子デバイス１について説明した。このような電子デバイス１では、パッケージ２に、セラミック層とガラス層の積層体であるベース基板３を用いているため、次のような効果を発揮することができる。第１の効果として、優れた応力緩和（吸収）機能を発揮することができる点が挙げられる。具体的には、図４に示すように、半田Ｈ１、Ｈ２を用いて電子デバイス１を回路基板（プリント配線基板）９に実装した状態では回路基板９とパッケージ２との熱膨張率の違いから、ベース基板３（特に第１の層３１）に熱応力が加わるが、第１の層３１が比較的柔らかいセラミック層で構成されているため、第１の層３１において、前記熱応力を緩和・吸収することができる。そのため、前記熱応力がベース基板３を介して振動素子５に伝達されてしまうことが抑制され、振動素子５の振動特性（周波数特性）の変動を防止または低減することができる。また、第２の効果として、優れた寸法精度（加工性）を有している点が挙げられる。具体的には、ベース基板３では凹部３ａが形成されているが、この凹部３ａは、前述したように、第２の層３３を貫通する貫通孔によって形成されている。第２の層３３は、ガラス層で構成されており、例えば、フォトリソグラフィー技法とエッチング技法とを用いるパターニング処理に対して相性がよく、よって、簡単かつ高い寸法精度で凹部３ａを形成することができる。以上のように、セラミック層とガラス層の積層体であるベース基板３によれば、優れた応力緩和特性と優れた寸法精度（加工特性）の両立を図ることができる。
【００４４】
なお、例えば、従来のようにベース基板３がセラミック層で構成されている場合には第１の効果を発揮することができても第２の効果を発揮することができない（本明細書の「背景技術」を参照）。反対に、ベース基板３がガラス層で構成されている場合には第２の効果を発揮することができても、第１の効果を発揮することができない。すなわち、ベース基板３をガラス層で構成した場合には、ベース基板３が硬くなり過ぎ、前記熱応力を緩和・吸収することができず、振動素子５の振動特性の変動を抑えることができない。また、パッケージ２の破損（クラックの発生）や、それに伴う収容空間Ｓの気密性低下等の問題が生じる。
【００４５】
また、本実施形態のベース基板３では、第２の層３３がガラスで構成されているが、第２の層３３の構成材料としては、ガラスに替えて、シリコン（単結晶シリコン、多結晶シリコン、アモルファスシリコン）または水晶を用いてもよい。このように、第２の層３３をシリコンや水晶で構成しても、ガラスで構成した場合と同様の効果（すなわち、優れた寸法精度）を発揮することができる。また、第２の層３３は、ガラス層、シリコン層、水晶層から選択される２つ以上の層が積層した構成となっていてもよい。なお、第２の層３３をシリコンで構成した場合には、第１の層３１と第２の層３３とを、例えば、陽極接合で接合することができる。
【００４６】
≪電子デバイスの製造方法≫
次に、電子デバイス１の製造方法について説明する。
【００４７】
電子デバイス１の製造方法は、セラミック層で構成され、複数の個片化領域Ｓ１を有する第１の層３１０を準備し、この第１の層３１０の下面上に配線層３２を形成する配線層形成工程と、第１の層３１０の上面に、ガラス層である第２の層３３０を形成する第２の層形成工程と、第２の層３３０の上面に開口する凹部３ａをエッチングにより複数形成する凹部形成工程と、凹部３ａ内に配線層３４を形成する内部配線層形成工程と、凹部３ａ内に振動素子５を搭載する振動素子搭載工程と、リッド４を接合するリッド接合工程と、個片化領域Ｓ１毎に個片化する個片化工程と、を含んでいる。
【００４８】
［配線層形成工程］
まず、図５（ａ）に示すように、複数の個片化領域Ｓ１をマトリックス状に有する第１の層３１０を準備する。第１の層３１０は、未焼成のセラミック層であり、例えば、アルミナ粉末と、ホウケイ酸ガラス粉末と、有機樹脂バインダーとの混合物をシート状に成形し、さらに、ビア３５１、３５２用の貫通孔３１１、３１２をパンチング等によって形成したセラミックグリーンシートである。次に、図５（ｂ）に示すように、第１の層３１０の貫通孔３１１、３１２内および第１の層３１０の下面に、タングステン、モリブテン等の高融点金属を含む導体ペーストからなる導体パターンＰを、ビア３５１、３５２および外部接続端子３２１、３２２の形状に合わせて配置する。次に、第１の層３１０を焼成し、その後、導体パターンＰに金めっきを施すことで、図５（ｃ）に示すように、焼成セラミック層からなる第１の層３１０に、ビア３５１、３５２および外部接続端子３２１、３２２（配線層３２）が形成された状態となる。
【００４９】
［第２の層形成工程］
次に、図６（ａ）に示すように、ガラス材料で構成された板状の第２の層３３０を用意し、この第２の層３３０を第１の層３１０の上面に重ね合わせる。次に、図６（ｂ）に示すように、加圧しながら、第１の層３１０と第２の層３３０の境界部にレーザーＬＬを照射し、当該境界部およびその付近のガラス（第１、第２の層３１０、３３０に含まれるガラス成分）を溶融することで、第１の層３１０と第２の層３３０とを融着によって接合する。このような方法によれば、第１の層３１０と第２の層３３０とを簡単に接合することができる。特に、第１の層３１０にもガラス成分が含まれていることで、第１の層３１０と第２の層３３０の親和性が高まり、より強固に第１の層３１０と第２の層３３０を接合することができる。また、レーザーＬＬを前記境界部に局所的に照射するため、第１の層３１０および第２の層３３０の昇温を抑えることができるので、接合時の第１、第２の層３１０、３３０の熱膨張を小さく抑えることができる。そのため、残留応力が小さく抑えられたベース基板３を得ることができ、第２の層３３０の剥離や、クラックの発生等をより効果的に抑制することができる。
【００５０】
ここで、第２の層３３０のガラス転移点（Ｔｇ）としては、特に限定されないが、６００℃以下であることが好ましい。これにより、十分に低い温度で第２の層３３０のガラスを溶融することができ、レーザー照射時における第１、第２の層３１０、３３０の昇温（熱膨張）が効果的に抑えられ、残留応力がより小さくなる。
【００５１】
なお、第２の層３３０は、設計値よりも厚いものを用意し、第１の層３１０に接合した後に、研磨やエッチング等によって設計値まで薄くしてもよい。このような方法によれば、第２の層３３０の強度を高めることができるため、ハンドリング性が良くなり、作業中の第２の層３３０の破損等を効果的に抑制することができる。
【００５２】
［凹部形成工程］
次に、個片化領域Ｓ１毎に凹部３ａを形成する。具体的には、まず、図７（ａ）に示すように、第２の層３３０の上面に凹部３ａに対応する開口を有するマスクＭを形成する。次に、図７（ｂ）に示すように、マスクＭを介してウエットエッチングし、第２の層３３０を貫通する貫通孔３３１を形成する。これにより凹部３ａが形成される。このとき、貫通孔内にビア３５１、３５２の上端が露出するように貫通孔３３１を形成する。このように、エッチング処理を用いることで、所望の寸法の凹部３ａを簡単かつ精度よく形成することができる。なお、ウエットエッチングでは、第２の層３３０が等方的にエッチングされるため、形成される凹部３ａの側面は湾曲凹面となる。そのため、第１の層３１０と第２の層３３０の接合面積を広く確保しつつ、凹部３ａの体積を広くすることができ、凹部３ａを形成することによる機械的強度の低下を小さく抑えることができる。なお、エッチング方法としては、ウエットエッチングに限定されず、例えば、ドライエッチングを用いてもよい。ドライエッチングにより形成された凹部３ａは、上述のウエットエッチングの場合と異なり、ほぼ垂直に切り立った側面となる。
【００５３】
［内部配線層形成工程］
次に、図７（ｃ）に示すように、凹部３ａの底面（第１の層３１０の上面）に、内部接続端子３４１、３４２（配線層３４）を形成する。内部接続端子３４１、３４２の形成は、特に限定されないが、例えば、凹部３ａの底面に金属層を成膜し、この金属層をフォトリソグラフィー技法およびエッチング技法を用いてパターニングすることで形成することができる。
【００５４】
［振動素子搭載工程・リッド接合工程］
次に、図８（ａ）に示すように、導電性接着剤６１、６２（導電性接着剤６１は、不図示）を用いて各凹部３ａ内に振動素子５を搭載した後、第２の層３３０の上面に、複数のリッド４が一体的に含まれているリッド基板４０を接合して、凹部３ａの開口を塞ぐ。例えば、リッド基板４０がガラス基板で構成されている場合には、リッド基板４０をベース基板３の第２の層３３０に重ね合わせた状態で、リッド基板４０と第２の層３３０の境界部にレーザーＬＬを照射し、前記境界部およびその付近のガラスを溶融させ、これらを融着によって接合する。このような方法によれば、リッド基板４０をベース基板３に簡単に接合することができる。特に、リッド基板４０および第２の層３３０が共にガラスであるため、これらの親和性が高く、より強固に接合することができる。また、レーザーＬＬを前記境界部に局所的に照射するため、リッド４やベース基板３の過度な昇温を抑えることができ、接合時の熱膨張を小さく抑えることができる。そのため、残留応力が小さく抑えられたパッケージ２を得ることができ、リッド４の剥離や、クラックの発生等をより効果的に抑制することができる。また、昇温時の第１の層３１０と第２の層３３０の剥離等も抑制することができる。
【００５５】
なお、図示しないが、第１の層３１０には、収容空間Ｓの内外を連通する封止孔が形成されており、第２の層３３０にリッド基板４０を接合した後、前記封止孔を介して収容空間Ｓ内を減圧とし、Ａｕ−Ｇｅ系合金等で封止孔を封止することで、収容空間Ｓ内を減圧状態に維持することができる。
【００５６】
［個片化工程］
次に、ダイシングソー等の切断手段を用いて個片化領域Ｓ１毎に個片化することで、図８（ｂ）に示すように、複数の電子デバイス１が得られる。このように、複数の電子デバイス１を一体形成した後に個片化することで、電子デバイス１の製造効率が向上する。ただし、個片化工程の順番は、上記の順番に限定されず、例えば、内部配線層形成工程、振動素子搭載工程およびリッド接合工程のいずれかに先立って行ってもよい。
【００５７】
以上、電子デバイス１の製造方法について説明した。このような製造方法によれば、優れた応力緩和特性と優れた寸法精度とを両立することのできる電子デバイス１（ベース基板３）を簡単に製造することができる。
【００５８】
＜第２実施形態＞
図９は、本発明の第２実施形態に係る電子デバイスを示す断面図である。図１０は、図９に示す電子デバイスのベース基板の製造方法を説明するための断面図である。
【００５９】
以下、本発明の第２実施形態に係る電子デバイスについて説明するが、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項はその説明を省略する。
【００６０】
第２実施形態の電子デバイスは、パッケージの構成が異なること以外は、前述した第１実施形態と同様である。なお、前述した実施形態と同様の構成には同一符号を付してある。
【００６１】
図９に示すように、本実施形態のベース基板３では、凹部３ａ内に、凹部３ａの底面から突出する一対の凸部３９１、３９２が設けられている。そして、凸部３９１、３９２に導電性接着剤６１、６２を介して振動素子５が固定されている。このように、凸部３９１、３９２を設けて、そこに振動素子５を固定することで、振動素子５と凹部３ａの底面との間に十分なギャップ（空隙）を形成することができ、振動素子５とベース基板３との意図しない接触を低減することができる。
【００６２】
また、配線層３４は、第１の層３１の上面から凸部３９１、３９２の上面まで延びて配置され、導電性接着剤６１、６２を介して振動素子５と電気的に接続されている。具体的には、配線層３４は、凸部３９１の上面に配置されている内部接続端子３４１と、凸部３９２の上面に配置されている内部接続端子３４２と、ビア３５１と内部接続端子３４１とを電気的に接続する配線３４３と、ビア３５２と内部接続端子３４２とを電気的に接続する配線３４４と、を有している。そして、内部接続端子３４１が導電性接着剤６１を介して振動素子５のボンディングパッド５２ｂに接続され、内部接続端子３４２が導電性接着剤６２を介してボンディングパッド５３ｂに接続されている。
【００６３】
なお、凸部３９１、３９２は、凹部３ａの形成と同じ工程で形成することができる。すなわち、図１０（ａ）に示すように、まず、第２の層３３０の上面に凹部３ａおよび凸部３９１、３９２の形状に対応したマスクＭを形成する。次に、図１０（ｂ）に示すように、マスクＭを介してウエットエッチングすることで、凹部３ａと凸部３９１、３９２が同時に形成される。次に、凸部３９１、３９２のみを上面側からエッチングすることで、図１０（ｃ）に示すように、凸部３９１、３９２の高さを調整する。このような方法によれば、凸部３９１、３９２を簡単かつ精度よく形成することができる。
【００６４】
一方、リッド４は、下面に開口する凹部４ａを有するキャビティ状を有しており、凹部４ａが凹部３ａと連通する（繋がる）ようにベース基板３に接合されている。すなわち、凹部３ａと凹部４ａとで収容空間Ｓが画成され、この収容空間Ｓに振動素子５が収容されている。このように、リッド４に凹部４ａを設けることで、その分、凹部３ａを低くすることができる。そのため、凹部３ａを形成する際のエッチング量を減らすことができ、より高い寸法精度で凹部３ａを形成することができる。なお、凹部４ａの形成方法としては、特に限定されないが、エッチング（ウエットエッチング、ドライエッチング）加工によって形成することが好ましい。これにより、凹部３ａと同様に、凹部４ａを優れた寸法精度で形成することができる。
【００６５】
以上のような第２実施形態によっても、前述した第１実施形態と同様の効果を発揮することができる。
【００６６】
なお、本実施形態では、凸部３９１、３９２の上面が第２の層３３の上面よりも下側に位置しているが、凸部３９１、３９２の高さとしては、これに限定されず、凸部３９１、３９２の上面が第２の層３３の上面と面一となっていてもよい。
【００６７】
＜第３実施形態＞
図１１は、本発明の第３実施形態に係る電子デバイスを示す断面図である。
【００６８】
以下、本発明の第３実施形態に係る電子デバイスについて説明するが、前述した実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項はその説明を省略する。
【００６９】
第３実施形態の電子デバイスは、ベース基板の構成が異なること以外は、前述した第１実施形態と同様である。なお、前述した実施形態と同様の構成には同一符号を付してある。
【００７０】
図１１に示すように、本実施形態のベース基板３は、第１の層３１が２つのセラミック層３１Ａ、３２Ｂを積層した積層体で構成されている。また、セラミック層３１Ａ、３１Ｂの間には内部配線層３８が設けられており、この内部配線層３８は、内部接続端子３４１と外部接続端子３２１とを接続する配線３８１と、内部接続端子３４２と外部接続端子３２２とを接続する配線３８２とを有している。
【００７１】
外部接続端子３２１と配線３８１は、セラミック層３１Ａを貫通して設けられているビア３５３を介して電気的に接続され、内部接続端子３４１と配線３８１は、セラミック層３１Ｂを貫通して設けられているビア３５５を介して電気的に接続されている。また、ビア３５３、３５５は、平面視で重ならないようにずれて配置されている。同様に、外部接続端子３２２と配線３８２は、セラミック層３１Ａを貫通して設けられているビア３５４を介して電気的に接続され、内部接続端子３４２と配線３８２は、セラミック層３１Ｂを貫通して設けられているビア３５６を介して電気的に接続されている。また、ビア３５４、３５６は、平面視で重ならないようにずれて配置されている。このように、ビア３５３、３５５をずらして配置し、ビア３５４、３５６をずらして配置することで、ビア３５３〜３５６を介した収容空間Ｓの内外の連通がより効果的に防止され、収容空間Ｓの気密性を高めることができる。
【００７２】
以上のような第３実施形態によっても、前述した第１実施形態と同様の効果を発揮することができる。
【００７３】
なお、本実施形態では、第１の層３１が２層のセラミック層３１Ａ、３１Ｂを積層した構成となっているが、第１の層３１が有するセラミック層の数としては、これに限定されず、３層以上であってもよい。
【００７４】
次に、電子デバイス１を備えた電子機器について説明する。
図１２は、本発明の電子デバイスを備えたモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピューターの構成を示す斜視図である。この図において、パーソナルコンピューター１１００は、キーボード１１０２を備えた本体部１１０４と、表示部１１０８を備えた表示ユニット１１０６とにより構成され、表示ユニット１１０６は、本体部１１０４に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。このようなパーソナルコンピューター１１００には発振器として電子デバイス１が内蔵されている。
【００７５】
図１３は、本発明の電子デバイスを備えた携帯電話機（ＰＨＳも含む）の構成を示す斜視図である。この図において、携帯電話機１２００は、複数の操作ボタン１２０２、受話口１２０４および送話口１２０６を備え、操作ボタン１２０２と受話口１２０４との間には、表示部１２０８が配置されている。このような携帯電話機１２００には発振器として電子デバイス１が内蔵されている。
【００７６】
図１４は、本発明の電子デバイスを備えたディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ１３００は、被写体の光像をＣＣＤ（Charge Coupled Device）などの撮像素子により光電変換して撮像信号（画像信号）を生成する。
【００７７】
ディジタルスチルカメラ１３００におけるケース（ボディー）１３０２の背面には、表示部１３１０が設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、表示部は、被写体を電子画像として表示するファインダーとして機能する。また、ケース１３０２の正面側（図中裏面側）には、光学レンズ（撮像光学系）やＣＣＤなどを含む受光ユニット１３０４が設けられている。
【００７８】
撮影者が表示部に表示された被写体像を確認し、シャッターボタン１３０６を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、メモリー１３０８に転送・格納される。また、このディジタルスチルカメラ１３００においては、ケース１３０２の側面に、ビデオ信号出力端子１３１２と、データ通信用の入出力端子１３１４とが設けられている。そして、図示されるように、ビデオ信号出力端子１３１２にはテレビモニター１４３０が、データ通信用の入出力端子１３１４にはパーソナルコンピューター１４４０が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、メモリー１３０８に格納された撮像信号が、テレビモニター１４３０や、パーソナルコンピューター１４４０に出力される構成になっている。このようなディジタルスチルカメラ１３００には、発振器として電子デバイス１が内蔵されている。
【００７９】
なお、電子デバイスを備える電子機器は、図１２のパーソナルコンピューター（モバイル型パーソナルコンピューター）、図１３の携帯電話機、図１４のディジタルスチルカメラの他にも、例えば、インクジェット式吐出装置（例えばインクジェットプリンター）、ラップトップ型パーソナルコンピューター、テレビ、ビデオカメラ、ビデオテープレコーダー、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳（通信機能付も含む）、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニター、電子双眼鏡、ＰＯＳ端末、医療機器（例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電図計測装置、超音波診断装置、電子内視鏡）、魚群探知機、各種測定機器、計器類（例えば、車両、航空機、船舶の計器類）、フライトシミュレーター等に適用することができる。
【００８０】
次に、電子デバイス１を備えた移動体について説明する。
図１５は、本発明の電子デバイスを備えた移動体を示す斜視図である。自動車（移動体）１５００には、電子デバイス１が搭載されている。電子デバイス１は、例えば、キーレスエントリー、イモビライザー、カーナビゲーションシステム、カーエアコン、アンチロックブレーキシステム（ＡＢＳ）、エアバック、タイヤ・プレッシャー・モニタリング・システム（ＴＰＭＳ：Tire Pressure Monitoring System）、エンジンコントロール、ハイブリッド自動車や電気自動車の電池モニター、車体姿勢制御システム、等の電子制御ユニット（ＥＣＵ：electronic control unit）に広く適用できる。
【００８１】
以上、電子デバイスパッケージ用基板、電子デバイスパッケージ、電子デバイスおよび電子デバイスの製造方法について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、本発明に、他の任意の構成物が付加されていてもよい。また、各実施形態を適宜組み合わせてもよい。
【００８２】
また、前述した実施形態では、電子部品として振動素子を収容しているが、電子部品としては、振動素子に限定されず、例えば、ＩＣ等の各種回路（回路基板）であってもよい。
【００８３】
また、前述した実施形態では、ベース基板において、第１の層の下面に配線層（外部接続端子）が配置されているが、第１の層と配線層との間に別の層（例えば、ガラス層）が介在していてもよい。
【符号の説明】
【００８４】
１……電子デバイス
２……パッケージ
３……ベース基板
３ａ……凹部
３１、３１０……第１の層
３１１、３１２……貫通孔
３１Ａ、３１Ｂ……セラミック層
３２……配線層
３２１、３２２……外部接続端子
３３、３３０……第２の層
３３１……貫通孔
３４……配線層
３４１、３４２……内部接続端子
３４３、３４４……配線
３５１、３５２、３５３、３５４、３５５、３５６……ビア
３８……内部配線層
３８１、３８２……配線
３９１、３９２……凸部
４……リッド
４ａ……凹部
４０……リッド基板
５……振動素子
５１……水晶基板
５２、５３……導体層
５２ａ、５３ａ……励振電極
５２ｂ、５３ｂ……ボンディングパッド
５２ｃ、５３ｃ……配線
６１、６２……導電性接着剤
９……回路基板
１１００……パーソナルコンピューター
１１０２……キーボード
１１０４……本体部
１１０６……表示ユニット
１１０８……表示部
１２００……携帯電話機
１２０２……操作ボタン
１２０４……受話口
１２０６……送話口
１２０８……表示部
１３００……ディジタルスチルカメラ
１３０２……ケース
１３０４……受光ユニット
１３０６……シャッターボタン
１３０８……メモリー
１３１０……表示部
１３１２……ビデオ信号出力端子
１３１４……入出力端子
１４３０……テレビモニター
１４４０……パーソナルコンピューター
１５００……自動車
Ｈ１、Ｈ２……半田
ＬＬ……レーザー
Ｍ……マスク
Ｐ……導体パターン
Ｓ……収容空間
Ｓ１……個片化領域
【図１】
2015231010.tif 000003
【図２】
2015231010.tif 000004
【図３】
2015231010.tif 000005
【図４】
2015231010.tif 000006
【図５】
2015231010.tif 000007
【図６】
2015231010.tif 000008
【図７】
2015231010.tif 000009
【図８】
2015231010.tif 000010
【図９】
2015231010.tif 000011
【図１０】
2015231010.tif 000012
【図１１】
2015231010.tif 000013
【図１２】
2015231010.tif 000014
【図１３】
2015231010.tif 000015
【図１４】
2015231010.tif 000016
【図１５】
2015231010.tif 000017