(57)【要約】【課題】ゲートバルブにおいて、重量の増加を回避しつつ弁箱の変形を防止し、弁閉時におけるシールを確実且つ安定的に行う。【解決手段】ゲートバルブ１０を構成する弁箱１６には、処理室Ｓ１に臨む一側壁１６ａにバランス室３２が設けられ、該バランス室３２内において第１通路１２を囲むように設けられる第１シール部材３４と、バランス室３２の外縁部に装着される第２シール部材３６を備える。また、バランス室３２には、弁箱１６の内部に形成された収納室２８とを連通するバランスポート３８が形成されている。そして、弁ディスク２４が弁箱１６の弁座３０に着座した弁閉状態において、収納室２８内の圧力とバランス室３２内の圧力とをバランスポート３８を通じて同一とすることで弁箱１６の一側壁１６ａの変形を防止する。【選択図】図３
2015209955.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弁箱と、該弁箱に形成された弁座に対して着座自在に設けられる弁ディスクと、前記弁ディスクに連結され該弁ディスクを直線動作及び該弁座に対して接近・離間させる弁ロッドと、前記弁箱に連結されたハウジングの内部に設けられ前記弁ロッドを軸方向に沿って直線変位させる駆動部とを備えるゲートバルブにおいて、
前記弁箱には、前記弁ディスクの収納される収納室と、
前記収納室を構成し、前記弁ディスクの着座する弁座を有した壁部と、
前記壁部に形成され、前記弁箱に隣接する処理室と前記収納室とを連通する通路と、
前記処理室に臨むように前記壁部に形成されるバランス室と、
前記バランス室と前記収納室とを連通すると共に、前記バランス室内において前記通路と非連通に設けられる連通ポートと、
を備えることを特徴とするゲートバルブ。
【請求項２】
請求項１記載のゲートバルブにおいて、
前記バランス室は、その中央部に前記通路が開口し、前記通路と前記バランス室との間にはシール部材が設けられ、前記シール部材によって前記通路と前記バランス室とが分離されることを特徴とするゲートバルブ。
【請求項３】
請求項１又は２記載のゲートバルブにおいて、
前記通路と前記連通ポートとが略平行に形成されることを特徴とするゲートバルブ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体処理装置における真空チャンバに取り付けられ、該真空チャンバと連通する開口部に開閉自在に設けられるゲートバルブに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、半導体ウェハや液晶基板等の処理装置においては、半導体ウェハや液晶基板等を種々の処理室に通路を介して出し入れすることが行われ、前記通路には、それぞれ、該通路を開閉するゲートバルブが用いられている。
【０００３】
このゲートバルブは、シリンダの駆動作用下に変位する弁ロッドの直進運動によって弁ディスクが弁箱における弁座の対向位置に到達した後、前記弁ディスクが水平移動してシール部材が弁座に押し付けられることにより、弁箱に形成された通路が閉塞されるように設けられている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−３５１４１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
例えば、上述したゲートバルブにおいて、弁ディスクが弁座へと着座した弁閉状態で、弁箱の一端側に接続された一方の処理室が大気圧となり、他端側に接続された他方が真空圧となる場合がある。この場合、一方の処理室と弁箱内とは弁ディスクで分離され、他方の処理室と弁箱内とが連通して真空圧となっているため、前記弁箱の内部と前記弁箱の外側との間において生じる圧力差によって該弁箱の壁部が内側へ押されるように変形してしまうことがある。
【０００６】
特に、弁ディスクの着座する弁座が設けられた壁部が変形してしまうことで前記弁ディスクにおけるシール部材のシール性が低下してしまうこととなる。そのため、圧力差に起因した弁箱の変形を抑制するために、弁箱の壁部を予め厚く形成しておくことが考えられるが、この場合には、弁箱の重量が増加してしまい、ゲートバルブ全体の重量増加を招くこととなる。
【０００７】
本発明は、前記の課題を考慮してなされたものであり、重量の増加を回避しつつ弁箱の変形を防止し、弁閉時におけるシールを確実且つ安定的に行うことが可能なゲートバルブを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記の目的を達成するために、本発明は、弁箱と、弁箱に形成された弁座に対して着座自在に設けられる弁ディスクと、弁ディスクに連結され弁ディスクを直線動作及び弁座に対して接近・離間させる弁ロッドと、弁箱に連結されたハウジングの内部に設けられ弁ロッドを軸方向に沿って直線変位させる駆動部とを備えるゲートバルブにおいて、
弁箱には、弁ディスクの収納される収納室と、
収納室を構成し、弁ディスクの着座する弁座を有した壁部と、
壁部に形成され、弁箱に隣接する処理室と収納室とを連通する通路と、
処理室に臨むように壁部に形成されるバランス室と、
バランス室と収納室とを連通すると共に、バランス室内において通路と非連通に設けられる連通ポートと、
を備えることを特徴とする。
【０００９】
本発明によれば、ゲートバルブを構成する弁箱には、弁ディスクの収納される収納室と、弁ディスクの着座する弁座を有した壁部と、弁箱に隣接する処理室と収納室とを連通し壁部に形成された通路と、処理室に臨むように形成されたバランス室と、バランス室と収納室とを連通すると共に、バランス室内において通路と非連通に設けられる連通ポートとを備えている。
【００１０】
従って、例えば、弁ディスクが弁座に着座した弁閉状態において、収納室と収納室に隣接する処理室との間に圧力差が生じた場合でも、連通ポートを通じて収納室とバランス室とが同一圧力となることで、収納室と処理室との間に配置された壁部に対する圧力差に起因した荷重の付与が回避される。その結果、弁箱の重量を増加させることなく、圧力差に起因した弁箱の壁部の変形を確実に防止することができ、壁部における弁座の変形が防止されることで、弁閉時において弁ディスクを弁座に対して確実且つ安定的に着座させてシールすることができる。
【００１１】
また、バランス室は、その中央部に通路が開口し、通路とバランス室との間にシール部材を設け、シール部材によって通路とバランス室とを分離させるとよい。
【００１２】
さらに、通路と連通ポートとを略平行に形成するとよい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、以下の効果が得られる。
【００１４】
すなわち、ゲートバルブの弁箱には、弁ディスクの収納される収納室と、弁ディスクの着座する弁座を有した壁部と、弁箱に隣接する処理室と収納室とを連通し壁部に形成された通路と、処理室に臨むように形成されたバランス室と、バランス室と収納室とを連通すると共にバランス室内において通路と非連通な連通ポートとを備えることで、例えば、弁ディスクが弁座に着座した弁閉状態において、収納室と収納室に隣接する処理室との間に圧力差が生じた場合でも、連通ポートを通じて収納室とバランス室とが同一圧力となることで、収納室と処理室との間に配置された壁部に対する圧力差に起因した荷重の付与が回避される。その結果、弁箱の重量を増加させることなく、圧力差に起因した弁箱の壁部の変形を確実に防止することができ、壁部における弁座の変形が防止されることで、弁閉時において弁ディスクを弁座に対して確実且つ安定的に着座させてシールすることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施の形態に係るゲートバルブの一部断面正面図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線に沿った断面図である。
【図３】図２の弁ディスク近傍を示す拡大断面図である。
【図４】図１のＩＶ−ＩＶ線に沿った断面図である。
【図５】図１のゲートバルブにおける駆動変換部の分解斜視図である。
【図６】図１のゲートバルブにおける弁ディスクが移動した弁開状態を示す一部断面正面図である。
【図７】図６のＶＩＩ−ＶＩＩ線に沿った断面図である。
【図８】図７に示すゲートバルブの弁開状態から弁ディスクが弁座に対向する位置まで移動した状態を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明に係るゲートバルブについて好適な実施の形態を挙げ、添付の図面を参照しながら以下詳細に説明する。図１において、参照符号１０は、本発明の実施の形態に係るゲートバルブを示す。
【００１７】
このゲートバルブ１０は、図１及び図２に示されるように、図示しないワーク（例えば、半導体ウェハ）を出し入れするための第１及び第２通路１２、１４（図２参照）が形成された弁箱１６と、前記弁箱１６の下部に連結されたハウジング１８と、前記ハウジング１８の内部に設けられ駆動部として機能するシリンダ部２０と、前記シリンダ部２０の駆動作用下に軸方向（矢印Ａ、Ｂ方向）に沿って変位すると共に、前記軸方向に対して略直交方向に移動する弁ロッド２２と、前記弁ロッド２２の一端部に連結され前記弁箱１６の第１通路１２を閉塞可能な弁ディスク２４と、前記シリンダ部２０の直線変位を前記弁ロッド２２の軸線と直交方向への動作へと変換する駆動変換部２６とを含む。
【００１８】
弁箱１６は、図２及び図３に示されるように、例えば、中空の箱状に形成され、弁ディスク２４が移動可能な収納室２８を内部に有し、この収納室２８に臨む弁箱１６の一側壁（壁部）１６ａ及び他側壁１６ｂには、それぞれ断面長方形状に開口した第１及び第２通路（通路）１２、１４が形成される。弁箱１６における一側壁１６ａの内壁面には、第１通路１２に臨むように弁座３０が形成され、該弁座３０は弁ディスク２４が当接自在に設けられる。なお、弁箱１６における一側壁１６ａと他側壁１６ｂとは、その間に収納室２８を挟んで略平行に形成される（図２参照）。
【００１９】
また、弁箱１６には、その一側壁１６ａ側に一方の処理室Ｓ１が接続され第１通路１２を通じて連通し、他側壁１６ｂ側には他方の処理室Ｓ２が接続され第２通路１４を通じて連通している。
【００２０】
さらに、弁箱１６の一側壁１６ａには、図１〜図３に示されるように、処理室Ｓ１に臨む外壁面に所定深さだけ窪んだバランス室３２が形成される。このバランス室３２は、一側壁１６ａの外縁部に対して所定幅だけ内側となるように形成され、その中心部には第１通路１２が開口している。すなわち、バランス室３２は第１通路１２を中心に有した環状に形成される。
【００２１】
また、バランス室３２には、第１通路１２の外側を覆うように設けられる第１シール部材（シール部材）３４と、前記バランス室３２の外縁部に設けられる第２シール部材３６とを備える。この第１及び第２シール部材３４、３６は、例えば、ゴム等の弾性材料から略長方形状のリング状に形成され、バランス室３２の壁面に形成された環状溝にそれぞれ装着される。この第１及び第２シール部材３４、３６は、それぞれ環状溝に装着された状態で、外壁面から処理室Ｓ１側へと所定高さだけ突出するように設けられている（図３参照）。
【００２２】
すなわち、バランス室３２は、内側に設けられた第１シール部材３４の外側を囲むように第２シール部材３６が設けられた円環状に形成される。
【００２３】
なお、第２シール部材３６は、第１シール部材３４の外周側に設け、該第１シール部材３４との間にバランス室３２を形成する場合に限定されるものではなく、例えば、前記第１シール部材３４の下方に、後述するバランスポート３８を取り囲むように配置することでバランス室３２を形成するようにしてもよい。
【００２４】
さらに、バランス室３２には、第１シール部材３４と第２シール部材３６との間となる位置にバランスポート（連通ポート）３８が形成され、該バランスポート３８は、例えば、断面略円形状でバランス室３２から収納室２８まで一直線状に貫通している。すなわち、バランスポート３８は、第１通路１２に対して所定間隔離間して略平行に形成される。
【００２５】
ハウジング１８は、図１及び図２に示されるように、弁箱１６の上部に連結されるベースフレーム４０と、シリンダ部２０を挟んで前記ベースフレーム４０の両端部に連結される一組のサイドフレーム４２ａ、４２ｂと、前記サイドフレーム４２ａ、４２ｂの下端部同士を連結するカバーフレーム４４とからなる。ベースフレーム４０は、弁箱１６の下部を覆うように設けられ、その略中央部に形成されるロッド孔４６によって弁箱１６の収納室２８とハウジング１８の内部とが連通する。このロッド孔４６には、後述する弁ロッド２２が変位自在に挿通される。
【００２６】
サイドフレーム４２ａ、４２ｂは、ベースフレーム４０に対して略直交するように形成され、その上部に前記ベースフレーム４０が接続されると共に、シリンダ部２０を構成するシリンダチューブ５０が略平行な状態でそれぞれ固定される。
【００２７】
シリンダ部２０は、図１に示されるように、一対の流体圧シリンダ４８ａ、４８ｂからなり、ベースフレーム４０の長手方向に沿った両端部にそれぞれ設けられ、中空筒状のシリンダチューブ５０と、前記シリンダチューブ５０の内部に軸方向（矢印Ａ、Ｂ方向）に沿って変位自在に設けられるピストン５２と、前記ピストン５２に連結されるピストンロッド５４とをそれぞれ有する。
【００２８】
シリンダチューブ５０は、その一端部がベースフレーム４０に連結されることによって閉塞され、他端部はピストンロッド５４の挿通可能なロッドカバー５６によって閉塞されている。これにより、図示しないポートからシリンダチューブ５０の内部へと供給された圧力流体によってピストン５２が軸方向（矢印Ａ、Ｂ方向）に沿って押圧されピストンロッド５４と共に変位する。
【００２９】
また、ゲートバルブ１０の中心側となるシリンダチューブ５０の側面には、図２、図４及び図５に示されるように、一対のガイドローラ５８ａ、５８ｂが回転自在に設けられると共に、前記ガイドローラ５８ａ、５８ｂと所定間隔離間して凹溝６０が略平行に形成される。
【００３０】
ガイドローラ５８ａ、５８ｂは、シリンダチューブ５０の軸方向（矢印Ａ、Ｂ方向）に沿って所定間隔離間して一直線状に配置されている。
【００３１】
一方、図２及び図５に示されるように、凹溝６０の上端部に水平溝部６２が形成され、該水平溝部６２は、前記凹溝６０の延在方向に対して弁箱１６の弁座３０側に向かって略直交する方向へと延在すると共に、前記凹溝６０には、駆動変換部２６を構成するストッパローラ８４が挿入される。
【００３２】
ピストンロッド５４は、その上端部がピストン５２の中央部に対して連結され、下端部がシリンダチューブ５０の外部へと突出し、後述するヨーク６８に対してそれぞれ連結される。
【００３３】
弁ロッド２２は、ハウジング１８の略中央部に設けられ、ベースフレーム４０のロッド孔４６に挿通されると共に、その軸方向に沿った略中央部が筒状のベローズ６４によって被覆される。ベローズ６４は、蛇腹状の筒体からなり、弁ロッド２２が軸方向（矢印Ａ、Ｂ方向）に沿って変位する際、蛇腹状のベローズ６４が弁ロッド２２を覆った状態で伸縮動作することにより、該弁ロッド２２の一部を常に覆うこととなる。また、弁ロッド２２の上端部は、弁箱１６の内部に挿入され弁ディスク２４が連結される。
【００３４】
この弁ディスク２４は、弁箱１６における第１通路１２の開口部に応じた断面略長方形状のプレートからなり、その略中央部に弁ロッド２２が連結されると共に、弁座３０に臨む側面には環状溝を介してシールリング６６（図２及び図３参照）が装着されている。そして、弁ディスク２４が弁座３０に着座する弁閉状態において、シールリング６６が前記弁座３０に対して当接することによって第１通路１２の連通状態を遮断する。
【００３５】
駆動変換部２６は、図１〜図５に示されるように、ピストンロッド５４の他端部に固定されるヨーク６８と、前記ヨーク６８と一体的に変位する変位ブロック７０とを有する。
【００３６】
ヨーク６８は、例えば、ピストンロッド５４の軸線と直交するように設けられたベース部７２と、該ベース部７２に対して直交するように立設された一対のカムフレーム７４とからなり、前記ベース部７２の両端部に一対の流体圧シリンダ４８ａ、４８ｂにおけるピストンロッド５４がそれぞれ連結される。これにより、ヨーク６８は、圧力流体の供給作用下にピストンロッド５４がピストン５２と共に変位する際に一体的に変位することとなる。
【００３７】
カムフレーム７４には、図４及び図５に示されるように、長手方向に沿って延在するガイド溝７６と、該ガイド溝７６と略平行に形成され前記長手方向に沿って互いに所定間隔離間した一組のカム溝７８ａ、７８ｂとを有している。カム溝７８ａ、７８ｂは、その上部がボディの弁座３０から離間する方向に向かうように傾斜して形成される。
【００３８】
変位ブロック７０は、その略中央部に弁ロッド２２が挿通され一体的に連結され、該変位ブロック７０の下部とヨーク６８との間には、例えば、コイルスプリングからなるスプリング８０が介装される。そして、スプリング８０の弾発力がヨーク６８と変位ブロック７０とを互いに離間させる方向（矢印Ａ、Ｂ方向）に付勢している。
【００３９】
また、変位ブロック７０には、両側面から外側に突出するように二対のカムローラ８２ａ、８２ｂが設けられ回転自在に軸支されている。そして、カムローラ８２ａ、８２ｂは、ヨーク６８におけるカム溝７８ａ、７８ｂにそれぞれ挿入されると共に、ベース部７２から離間した一方のカムローラ８２ａと同軸で設けられたストッパローラ８４が、前記カム溝７８ａを通じてシリンダチューブ５０の凹溝６０に挿入される。なお、ストッパローラ８４は、カムローラ８２ａに対して小径で形成される。
【００４０】
そして、シリンダ部２０の駆動作用下にヨーク６８と共に変位ブロック７０が上昇した際、前記ヨーク６８がガイド溝７６に挿入されたシリンダチューブ５０のガイドローラ５８ａ、５８ｂによる案内作用下に鉛直方向（矢印Ｂ方向）に沿って移動し、ストッパローラ８４が凹溝６０の上端部において水平溝部６２へと移動して水平方向に移動することで、変位ブロック７０を介して弁ロッド２２及び弁ディスク２４が弁座３０側（図２及び図３中、矢印Ｃ１方向）に向かって水平方向に移動する。
【００４１】
本発明の実施の形態に係るゲートバルブ１０は、基本的には以上のように構成されるものであり、次にその動作並びに作用効果について説明する。なお、以下の説明では、図６に示されるように、シリンダ部２０を構成する一対のピストン５２が下方（矢印Ａ方向）へと移動し、図６及び図７に示されるように、弁ディスク２４が弁箱１６内において下方に変位して第１通路１２と第２通路１４とが連通した弁開状態を初期位置として説明する。
【００４２】
先ず、この初期位置において、図示しない圧力流体供給源から一方のポートへ圧力流体を供給することにより、シリンダチューブ５０内に導入された圧力流体によってピストン５２が上方（矢印Ｂ方向）へと押圧されて変位する。
【００４３】
このピストン５２の変位に伴ってヨーク６８及び変位ブロック７０が一体的に上昇し、それに伴って、弁ロッド２２及び弁ディスク２４が上昇する。この際、ヨーク６８は、シリンダ部２０のガイドローラ５８ａ、５８ｂに対してガイド溝７６が係合されているため、鉛直上方向へと案内されると共に、一対のカムローラ８２ａ、８２ｂはそれぞれカム溝７８ａ、７８ｂにおける上端部に当接したままの状態で移動する。
【００４４】
そして、変位ブロック７０のストッパローラ８４が凹溝６０の上端部まで移動することで変位終端位置となり、さらなる上昇動作が規制され、図８に示されるように、該弁ディスク２４が弁箱１６内において第１通路１２及び弁座３０に臨む位置となる。この場合、スプリング８０の弾発力がヨーク６８による押圧力と比較して大きいため、前記スプリング８０が前記ヨーク６８によって圧縮されることがなく、前記ヨーク６８と変位ブロック７０とが相対変位せずに一体的に変位する。
【００４５】
なお、この時点では、弁ディスク２４がまだ弁座３０に着座しておらず弁閉状態となっていないため、弁箱１６における第１通路１２と第２通路１４とが若干の隙間を通じて連通状態にある。
【００４６】
この図８に示される弁ディスク２４が弁座３０に臨む位置に配置された状態から、さらに圧力流体がシリンダチューブ５０内へと導入されることにより、ピストン５２がさらに上昇してヨーク６８がピストンロッド５４によって上方（矢印Ｂ方向）へと引張される。この際、変位ブロック７０は、そのストッパローラ８４が凹溝６０の上端部で係止され移動することがないため、前記ヨーク６８のみがスプリング８０を圧縮しながら上方へと変位することとなる。すなわち、ヨーク６８が変位ブロック７０に対して相対変位する。
【００４７】
そして、ヨーク６８の上昇に伴ってストッパローラ８４が凹溝６０の水平溝部６２へと移動することで、変位ブロック７０が弁座３０側（矢印Ｃ１方向）へと接近するように、軸線と直交する方向、すなわち、水平方向に移動し、前記変位ブロック７０に保持された弁ロッド２２及び弁ディスク２４が一体的に水平方向に移動する。これにより、図２及び図３に示されるように、弁ディスク２４が弁座３０にシールリング６６を押圧しながら着座し、弁箱１６の第１通路１２が閉塞された弁閉状態となる。
【００４８】
これにより、例えば、半導体ウェハ等のワークは、第１通路１２の閉塞された一方の処理室Ｓ１内においてプロセス処理が行われる。
【００４９】
次に、弁ディスク２４を弁座３０から離間させ、再び収納室２８を通じて第１通路１２と第２通路１４とを連通させた弁開状態とする場合には、図示しない切換手段の切換作用下に他方のポートからシリンダ部２０のシリンダチューブ５０内へと圧力流体を供給することにより、ピストン５２が下降し、該ピストン５２に連結されるピストンロッド５４、ヨーク６８が一体的に下降する。これにより、スプリング８０が伸張してストッパローラ８４が水平溝部６２から離脱すると共にカムローラ８２ａ、８２ｂがそれぞれカム溝７８ａ、７８ｂの上端部へと当接した状態となる。これにより、弁ディスク２４が弁ロッド２２と共に弁座３０から離間する方向（矢印Ｃ２方向）へと水平に移動し、該弁ディスク２４が弁座３０より離間することで第１通路１２の閉塞状態が解除される。
【００５０】
そして、圧力流体がさらにシリンダチューブ５０内へと導入されピストン５２が下降することによってピストンロッド５４と共にヨーク６８、変位ブロック７０、弁ロッド２２及び弁ディスク２４が一体的に下降し、前記弁ディスク２４が弁箱１６内において第１通路１２に臨む位置から下方へと離間することによって弁開状態となる初期位置へと復帰する（図６及び図７参照）。
【００５１】
これにより、弁箱１６における第１通路１２と第２通路１４とが連通した状態となり、図示しない半導体ウェハ等のワーク等が前記第１通路１２を通じて移動可能な状態となる。例えば、処理室Ｓ１内でプロセス処理のなされたワークが、第１通路１２から収納室２８、第２通路１４を経て隣接する他方の処理室Ｓ２へと移動して別の処理作業が行われる。
【００５２】
また、上述した他方の処理室Ｓ２へワークを移動させ、前記弁ディスク２４を弁座３０へと再び着座させた弁閉状態において、一方の処理室Ｓ１が大気圧で、弁箱１６の背面側に接続された他方の処理室Ｓ２が真空圧となる場合がある。この場合、弁箱１６の収納室２８は第２通路１４を通じて他方の処理室Ｓ２と連通しているため、該収納室２８の内部も真空圧となっており、弁ディスク２４を挟んで一方の処理室Ｓ１と収納室２８内との間に圧力差が生じている。
【００５３】
本願発明では、バランスポート３８を通じて収納室２８内とバランス室３２とが連通しているため、前記収納室２８と同様に前記バランス室３２の内部を真空圧、すなわち、前記収納室２８と同一圧力とすることができる。そのため、弁箱１６における一側壁１６ａの外壁面と内壁面とにかかる圧力が同じとなり、弁箱１６の一側壁１６ａに隣接した一方の処理室Ｓ１が大気圧で、弁箱１６の収納室２８が真空圧となった場合でも、前記一側壁１６ａの内側及び外側に圧力差に起因した荷重が付与されることがない。
【００５４】
その結果、圧力差に起因した弁箱１６における一側壁１６ａの変形を防止でき、それに伴って、前記一側壁１６ａに形成された弁座３０の変形が回避されるため、弁座３０に弁ディスク２４が着座した弁閉状態においても、変形によって弁ディスク２４と弁座３０との間に隙間が生じてしまうことなく、前記弁ディスク２４によって確実且つ安定的に第１通路１２の連通状態を遮断することができる。
【００５５】
以上のように、本実施の形態では、一方の処理室Ｓ１に臨む弁箱１６の一側壁１６ａに、所定深さだけ窪んだバランス室３２と、該バランス室３２と収納室２８とを連通するバランスポート３８とを備え、前記バランス室３２における第１通路１２の外側を第１シール部材３４で囲い、該バランス室３２の外縁部を第２シール部材３６で囲むように構成している。これにより、弁ディスク２４が弁座３０に着座した弁閉状態において、一方の処理室Ｓ１と収納室２８との間に圧力差が生じた場合でも、バランスポート３８を通じて前記収納室２８とバランス室３２とを連通させることで、前記弁箱１６における一側壁１６ａの内側と外側とを同一の圧力とすることができる。
【００５６】
その結果、弁箱１６の重量を増加させることなく、圧力差に起因した弁箱１６における一側壁１６ａの変形が確実に防止され、前記一側壁１６ａに形成された弁座３０も変形することがないため、平板状に形成された弁ディスク２４を弁座３０に対して確実且つ安定的に着座させてシールすることができる。
【００５７】
また、バランス室３２において、第１通路１２との連通が第１シール部材３４によって遮断され非連通となっているため、前記バランス室３２を通じて一方の処理室Ｓ１と収納室２８とが連通して同一圧力となってしまうことが防止される。
【００５８】
なお、本発明に係るゲートバルブは、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。
【符号の説明】
【００５９】
１０…ゲートバルブ                  １２…第１通路
１４…第２通路                      １６…弁箱
１６ａ…一側壁                      １６ｂ…他側壁
１８…ハウジング                    ２０…シリンダ部
２２…弁ロッド                      ２４…弁ディスク
２６…駆動変換部                    ２８…収納室
３０…弁座                          ３２…バランス室
３４…第１シール部材                ３６…第２シール部材
３８…バランスポート                ４８ａ、４８ｂ…流体圧シリンダ
５０…シリンダチューブ              ５８ａ、５８ｂ…ガイドローラ
６０…凹溝                          ６２…水平溝部
６８…ヨーク                        ７０…変位ブロック
７４…カムフレーム                  ８０…スプリング
８２ａ、８２ｂ…カムローラ          ８４…ストッパローラ
Ｓ１、Ｓ２…処理室
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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