(57)【要約】【課題】ＭＲ撮像用のパッドにおいて、つま先の画像や踝の画像のモーションアーチファクトの発生を抑えること。【解決手段】ＭＲ撮像用のパッドＰは、被検体を載置するための載置台Ｐ２と、載置台Ｐ２から立ち上がる背部Ｐ３と、背部Ｐ３の内側に突出する突出部Ｐ４と、を備えた。【選択図】  図４
2015066405.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検体を載置するための載置台と、
前記載置台から立ち上がる背部と、
前記背部の内側に突出する突出部と、
を備えたＭＲ撮像用のパッド。
【請求項２】
前記背部の内側に設けられる前記突出部は、前記背部から離れるに従って厚さが減少する構造を有する請求項１に記載のＭＲ撮像用のパッド。
【請求項３】
前記背部及び前記突出部は、前記突出部が前記背部の高さ方向にスライド可能な構造を有する請求項１又は２に記載のＭＲ撮像用のパッド。
【請求項４】
前記背部及び前記突出部は、前記突出部が前記背部の高さ方向の複数位置に取り付け可能な構造を有する請求項１又は２に記載のＭＲ撮像用のパッド。
【請求項５】
前記載置台の内側底部には、高周波コイルに接続されるケーブルを収容するための底部嵌合溝が形成され、
前記背部には、前記底部嵌合溝に収容された前記ケーブルを貫通させるための背部貫通孔が形成される請求項１乃至４のうちいずれか一項に記載のＭＲ撮像用のパッド。
【請求項６】
前記載置台及び前記背部のそれぞれの内側に前記高周波コイルが設置され、
前記ケーブルが前記背部貫通孔を介して貫通される構造を有する請求項５に記載のＭＲ撮像用のパッド。
【請求項７】
被検体を載置するための載置台と、
前記載置台から立ち上がる背部と、
前記背部の内側に設けられる背補助部と、
前記背補助部の内側に突出する突出部と、
を備えたＭＲ撮像用のパッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の一態様としての本実施形態は、被検体を載置するＭＲ（ｍａｇｎｅｔｉｃ  ｒｅｓｏｎａｎｃｅ）撮像用のパッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気共鳴イメージング装置（ＭＲＩ：ｍａｇｎｅｔｉｃ  ｒｅｓｏｎａｎｃｅ  ｉｍａｇｉｎｇ）装置は、被検体、特に人体の組織を構成する原子核スピンが発生するＮＭＲ信号（エコー信号）を計測し、その頭部、腹部、及び四肢等の形態や機能を２次元的又は３次元的に画像化する装置である。撮影においては、エコー信号には、傾斜磁場によって異なる位相エンコード及び周波数エンコードが付与される。計測されたエコー信号は、２次元又は３次元フーリエ変換されることにより画像に再構成される。
【０００３】
被検体からのＮＭＲ信号を受信する高周波コイルとして、一般的に、頭部用コイル、膝用コイル、足首用コイル等のように、撮像部位ごとに用意されている。また、膝用コイル、足首用コイルを兼ねるコイルが開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
足首用コイルは、被検体の踝やつま先のＮＭＲ信号を受信するものである。そして、足首用コイルは、被検体の脚部（ｌｅｇ）と足部（ｆｏｏｔ）とを略直角な状態に維持するパッド（固定具）に着脱自在で装着される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−２４５７９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
被検体及び足首用コイルの配置に関する操作性を考慮するため、従来技術のパッドには、被検体のつま先（足指）の底部側への押圧が特に実施されていなかった。このため、撮像中に被検体のつま先が自由に動かされると、つま先や踝の画像にモーションアーチファクトが発生してしまう。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本実施形態のＭＲ撮像用のパッドは、上述した課題を解決するために、被検体を載置するための載置台と、前記載置台から立ち上がる背部と、前記背部の内側に突出する突出部と、を備えた。
【０００８】
本実施形態のＭＲ撮像用のパッドは、上述した課題を解決するために、被検体を載置するための載置台と、前記載置台から立ち上がる背部と、前記背部の内側に設けられる背補助部と、前記背補助部の内側に突出する突出部と、を備えた。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本実施形態のＭＲ撮像用のパッドと、ＭＲＩ装置の構成とを示す図。
【図２】従来技術のパッドの概略を示す斜視図。
【図３】従来技術のパッドと、そのパッドが装着される被検体との概略を示す側面図。
【図４】本実施形態のパッドの概略を示す斜視図。
【図５】本実施形態のパッドと、そのパッドが装着される被検体との概略を示す側面図。
【図６】（Ａ），（Ｂ）は、足首用コイルユニットの一例を示す図。
【図７】足首用コイルユニットを組み込む場合の、本実施形態のパッドの構成を示す図。
【図８】Ｕ字形状に折り曲げられた足首用コイル本体が組み込まれる場合の、本実施形態のパッドを示す斜視図。
【図９】突出部の第１変形例を示す側面図。
【図１０】突出部の第２変形例を示す側面図。
【図１１】突出部の高さ調整機構の第１例を示す斜視図。
【図１２】突出部の高さ調整機構の第２例を示す斜視図。
【図１３】突出部の高さ調整機構の第３例を示す斜視図。
【図１４】（Ａ），（Ｂ）は、突出部の高さ調整機構の第４例を示す図。
【図１５】（Ａ），（Ｂ）は、突出部の高さ調整機構の第５例を示す図。
【図１６】（Ａ），（Ｂ）は、突出部の高さ調整機構の第６例を示す図。
【図１７】（Ａ），（Ｂ）は、突出部の高さ調整機構の第７例を示す図。
【図１８】本実施形態のパッドと、そのパッドが装着される被検体との概略を示す側面図。
【図１９】突出部の高さ調整機構の第１例を示す斜視図。
【図２０】突出部の高さ調整機構の第２例を示す斜視図。
【図２１】突出部の高さ調整機構の第３例を示す斜視図。
【図２２】（Ａ），（Ｂ）は、突出部の高さ調整機構の第４例を示す図。
【図２３】（Ａ），（Ｂ）は、突出部の高さ調整機構の第５例を示す図。
【図２４】（Ａ），（Ｂ）は、突出部の高さ調整機構の第６例を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本実施形態のＭＲ撮像用のパッドについて、添付図面を参照して説明する。
【００１１】
図１は、本実施形態のＭＲ撮像用のパッドと、ＭＲＩ装置の構成とを示す図である。
【００１２】
図１は、本実施形態のＭＲ撮像用のパッドＰと、ＭＲＩ装置１とを示す。ＭＲＩ装置１は、スキャナ装置２及び画像処理装置３を備える。例えば、スキャナ装置２は検査室に設置され、画像処理装置３はコンピュータ室に設置される。
【００１３】
スキャナ装置２は、静磁場磁石２１、傾斜磁場コイル２２、全身コイル２３、及び寝台装置２４を設ける。
【００１４】
静磁場磁石２１は、例えば、永久磁石や超伝導磁石などであり、被検体Ｓが置かれる撮像領域に静磁場を発生させる。
【００１５】
傾斜磁場コイル２２は、静磁場磁石２１の内側に配置される。傾斜磁場コイル２２は、傾斜磁場電源３１から供給される電流により、撮像領域に設定されたＸ軸，Ｙ軸，Ｚ軸の方向に傾斜磁場を発生させる。また、傾斜磁場コイル２２によって発生するＸ，Ｙ，Ｚ各軸の傾斜磁場は、例えば、スライス選択用傾斜磁場Ｇｓ、位相エンコード用傾斜磁場Ｇｅおよびリードアウト用傾斜磁場Ｇｒにそれぞれ対応する。スライス選択用傾斜磁場Ｇｓは、任意に撮像断面を決めるために利用される。位相エンコード用傾斜磁場Ｇｅは、空間的位置に応じて磁気共鳴信号の位相を変化させるために利用される。リードアウト用傾斜磁場Ｇｒは、空間的位置に応じて磁気共鳴信号の周波数を変化させるために利用される。
【００１６】
全身コイル２３は、傾斜磁場コイル２２の内側に配置される高周波コイルである。全身コイル２３の送信用コイルは、撮像領域に置かれた被検体Ｓに対して、送信部３２から送信される高周波パルスを照射する。また、全身コイル２３の受信用コイルは、高周波パルスによる水素原子核の励起によって被検体Ｓから放出されるＮＭＲ信号（エコー信号）を受信して、受信部３３に送る。
【００１７】
さらに、被検体Ｓの足首部には、本実施形態のＭＲ撮像用のパッドＰが装着される。パッドＰは、被検体Ｓの足首部周辺の脚部（ｌｅｇ）や足部（ｆｏｏｔ）から放出されるＮＭＲ信号を受信して受信部３３に送る足首用コイルユニットＵを着脱自在に備えることができる。パッドＰ及び足首用コイルユニットＵの構成については、後述する。
【００１８】
寝台装置２４は、天板２４１を備える。天板２４１は、撮影時に被検体Ｓを載置可能である。寝台装置２４は、寝台コントローラ３５による制御のもと、天板２４１を被検体Ｓとともに撮像領域内に移動させる。
【００１９】
画像処理装置３は、傾斜磁場電源３１、送信部３２、受信部３３、シーケンスコントローラ３４、寝台コントローラ３５、及び計算機システム３６を設ける。
【００２０】
傾斜磁場電源３１は、シーケンスコントローラ３４からの指示に基づいて、傾斜磁場コイル２２に電流を供給する。
【００２１】
送信部３２は、シーケンスコントローラ３４からの指示に基づいて、ラーモア周波数に対応する高周波パルスを全身コイル２３に送信する。
【００２２】
受信部３３は、全身コイル２３や、足首用コイルユニットＵから出力されるＮＭＲ信号をデジタル化することによって生データを生成する。
【００２３】
シーケンコントローラ３４は、計算機システム３６から送信されるシーケンス情報に基づいて、傾斜磁場電源３１、送信部３２、受信部３３を駆動することによって、被検体Ｓをスキャンする際の制御を行なう。そして、シーケンスコントローラ３４は、被検体Ｓのスキャンを行なった結果、受信部３３から生データが送信されると、その生データを計算機システム３６に転送する。
【００２４】
なお、「シーケンス情報」とは、傾斜磁場電源３１が傾斜磁場コイル２２に供給する電源の強さや電源を供給するタイミングや、送信部３２が全身コイル２３に送信する高周波パルスの強さや高周波パルスを送信するタイミング、受信部３３がＮＭＲ信号を検出するタイミングなど、スキャンを行なうための手順を定義した情報である。 
【００２５】
寝台コントローラ３５は、計算機システム３６から送信される位置情報に基づいて、寝台装置２４を介して天板２４１を移動させる。
【００２６】
計算機システム３６は、ＭＲＩ装置１の全体制御や、データ収集、画像再構成などを行なうものである。計算機システム３６は、一般的なコンピュータがもつ構成を有する。
【００２７】
図２は、従来技術のパッドの概略を示す斜視図である。
【００２８】
図２に示すように、従来技術のパッド７０は、被検体Ｓ（図１に図示）の脚部と足部とを略直角な状態に維持するためのものであり、被検体Ｓの足首部を載置するための載置台７２と、載置台７２から立ち上がる背部７３とを備える。載置台７２は、底部及び側部を備える。パッド７０の載置台７２の底部が、被検体Ｓの脚部を踵側から支え、載置台７２の側部が、被検体Ｓの脚部を左右両側から支え、背部７３が、被検体Ｓの足部を足裏側から支える。
【００２９】
図３は、従来技術のパッド７０と、そのパッド７０が装着される被検体Ｓとの概略を示す側面図である。なお、図３において、図２に示す載置台７２の側部の図示は省略する。
【００３０】
図３に示すように、パッド７０の載置台７２の底部が、被検体Ｓの脚部を踵側から支え、背部７３が、被検体Ｓの足部を足裏側から支える。このように、従来技術のパッド７０では、被検体Ｓのつま先（足指）の底部側への押圧が特に実施されていない。このため、撮像中に被検体Ｓのつま先が図示するように自由に動かされると、つま先の画像や踝の画像にモーションアーチファクトが発生してしまう。
【００３１】
図４は、本実施形態のパッドＰの概略を示す斜視図である。
【００３２】
図４に示すように、パッドＰは、被検体Ｓ（図１に図示）の脚部と足部とを略直角な状態に維持するためのものであり、被検体Ｓの足首部を載置するための載置台Ｐ２と、載置台Ｐ２から立ち上がる背部Ｐ３と、背部Ｐ３の内側に突出する突出部Ｐ４とを備える。載置台Ｐ２は、底部及び側部を備える。パッドＰの載置台Ｐ２の底部が、被検体Ｓの脚部を踵側から支え、載置台Ｐ２の側部が、被検体Ｓの脚部を左右両側から支え、背部Ｐ３が、被検体Ｓの足部を足裏側から支える。
【００３３】
図５は、本実施形態のパッドＰと、そのパッドＰが装着される被検体Ｓとの概略を示す側面図である。なお、図５において、図４に示す載置台Ｐ２の側部の図示は省略する。
【００３４】
図５に示すように、パッドＰの載置台Ｐ２の底部が、被検体Ｓの脚部を踵側から支え、背部Ｐ３が、被検体Ｓの足部を足裏側から支える。ここで、背部Ｐ３の高さ方向（上下方向）は、パッドＰが装着された被検体Ｓの足部の踵からつま先への方向に相当する。突出部Ｐ４の高さ（高さ方向の長さ）が被検体Ｓの足部の踵からつま先の間の長さより少し小さくなるような位置に突出部Ｐ４が設けられることで、突出部Ｐ４が被検体Ｓのつま先を底部側に押圧することになる。
【００３５】
図５に示すパッドＰでは、被検体Ｓのつま先の底部側への押圧が実施されている。このため、撮像中に被検体Ｓのつま先が自由に動かされることがないので、つま先の画像や踝の画像にモーションアーチファクトが発生することはない。
【００３６】
続いて、本実施形態のＭＲ撮像用のパッドが足首用コイルユニットＵ（図１に図示）を組み込む場合について図６〜図８を用いて説明する。
【００３７】
図６（Ａ），（Ｂ）は、足首用コイルユニットＵの一例を示す図である。図６（Ａ）は上面図を示し、図６（Ｂ）は側面図を示す。
【００３８】
図６（Ａ），（Ｂ）に示すように、足首用コイルユニットＵは、足首用コイル本体Ｕ１及びケーブルＵ２によって構成される。足首用コイル本体Ｕ１は、複数のコイルエレメント（アレイコイル）Ｕ１１と、複数のコイルエレメントＵ１１からＮＭＲ信号を受信して増幅する増幅器等の電子部品Ｕ１２とを備える。ケーブルＵ２は、電子部品Ｕ１２からのＮＭＲ信号を受信部３３（図１に図示）に送る。足首用コイル本体Ｕ１は、足首用コイル本体Ｕ１の長手方向の中心を中心としてＵ字形状に折り曲げることが可能である。
【００３９】
図７は、足首用コイルユニットＵを組み込む場合の、本実施形態のパッドＰの構成を示す図である。
【００４０】
図７は、本実施形態のパッドＰを、下面、正面、側面、背面、及び上面から見た図である。図７に示すように、パッドＰは、載置台Ｐ２、背部Ｐ３、及び突出部Ｐ４を備える。また、図７に示す載置台Ｐ２の内側底部には、足首用コイル本体Ｕ１（図６に図示）のうち電子部品Ｕ１２（図６に図示）の部分を嵌合（緩い嵌合）するための底部嵌合溝ＰＧが形成される。また、図７に示す背部Ｐ３には、底部嵌合溝ＰＧに嵌合された電子部品Ｕ１２に接続されるケーブルＵ３を底部嵌合溝ＰＧから外部に貫通させるための背部貫通孔ＰＨが形成される。さらに、図７に示す載置台Ｐ２の外側底部には、パッドＰと、パッドＰが装着された被検体Ｓ（図５に図示）の脚部とを一体とするための固定帯（図示しない）を巻くための底部溝ＰＩが形成される。
【００４１】
なお、図７に示す載置台Ｐ２の内側は、図４に示す載置台Ｐ２の内側とは異なり、被検体Ｓ（図５に図示）の脚部の形状に合わせて曲線的な形状を有する。載置台Ｐ２の内側の形状については、図４に示すものであっても、図７に示すものであっても、いずれでも構わない。以下、載置台Ｐ２の内側の形状が、図４に示すものである場合を用いて説明する。
【００４２】
図８は、Ｕ字形状に折り曲げられた足首用コイル本体Ｕ１が組み込まれる場合の、本実施形態のパッドＰを示す斜視図である。
【００４３】
図８に示すパッドＰは、電子部品Ｕ１２が底部嵌合溝ＰＧに嵌合されるようにＵ字形状に折り曲げられた足首用コイル本体Ｕ１と、電子部品Ｕ１２に接続され、底部嵌合溝ＰＧにその一部が収容されるケーブルＵ２とを示す。ケーブルＵ２は、背部貫通孔ＰＨ（図７に図示）を介して貫通し、その一部はパッドＰの外部の受信部３３（図１に図示）に接続される。このように本実施形態のパッドＰに足首用コイルユニットＵが組み込まれると、被検体Ｓ（図５に図示）の位置と、ケーブルＵ２と位置とがバッティングしない。
【００４４】
続いて、本実施形態のＭＲ撮像用のパッドにおける突出部Ｐ４の変形例について、図９及び図１０を用いて説明する。
【００４５】
図９は、突出部Ｐ４の第１変形例を示す側面図である。
【００４６】
図９は、図５に示す突出部Ｐ４の変形例である。図９に示す突出部Ｐ４は、背部Ｐ３から離れるに従って厚さが直線的に減少する構造を有する。図９に示す突出部Ｐ４によれば、少ない負担で被検体Ｓのつま先の体勢を維持することができる。
【００４７】
図１０は、突出部Ｐ４の第２変形例を示す側面図である。
【００４８】
図１０は、図５に示す突出部Ｐ４の変形例である。図１０に示す突出部Ｐ４は、背部Ｐ３から離れるに従って厚さが曲線的に減少する構造を有する。図１０に示す突出部Ｐ４によれば、少ない負担で被検体Ｓのつま先の体勢を維持することができる。
【００４９】
続いて、背部Ｐ３及び突出部Ｐ４に設けられる、突出部Ｐ４の高さ調整機構について、図１１〜図１７を用いて説明する。背部Ｐ３の高さ方向は、パッドＰが装着された被検体Ｓ（図５に図示）の足部の踵からつま先への方向に相当する。被検体Ｓの足部の踵からつま先への方向の長さは、被検体Ｓによって異なる。そこで、突出部Ｐ４を背部Ｐ３の高さ方向に調整するための高さ調整機構が設けられる。
【００５０】
図１１は、突出部Ｐ４の高さ調整機構の第１例を示す斜視図である。
【００５１】
図１１は、背部Ｐ３と、突出部Ｐ４と、突出部Ｐ４を高さ方向に調整するための高さ調整機構Ｐ５とを示す。高さ調整機構Ｐ５は、突出部Ｐ４の背部Ｐ３側に設けられるスライダ部Ｐ５１と、背部Ｐ３の内側でスライダ部Ｐ５１がスライド自在に位置決め固定されるように、高さ方向に延びるスライダ受溝Ｐ５２とからなる。
【００５２】
スライダ部Ｐ５１は、弾性率が小さい弾性体であることが好適である。スライダ受溝Ｐ５２の側壁がスライダ部Ｐ５１の側壁に与える応力と、その応力に対抗するスライダ部Ｐ５１の弾性力とによって、スライダ部Ｐ５１がスライダ受溝Ｐ５２の任意の高さに位置決め固定される。スライダ部Ｐ５１がスライダ受溝Ｐ５２を介して高さ方向に任意にスライドされることで、突出部Ｐ４が高さ方向に調整される。なお、図１１に示す突出部Ｐ４は、図９に示すものを用いているが、図５や図１０に示すものであってもよい。また、スライダ受溝Ｐ５２は、背部Ｐ３を貫通しない深さを有するものとして図示するが、背部Ｐ３を貫通する深さを有するものであってもよい。
【００５３】
図１２は、突出部Ｐ４の高さ調整機構の第２例を示す斜視図である。
【００５４】
図１２は、背部Ｐ３と、突出部Ｐ４と、突出部Ｐ４を高さ方向に調整するための高さ調整機構Ｐ５とを示す。高さ調整機構Ｐ５は、突出部Ｐ４の背部Ｐ３側に設けられる突起部（例えば、左右２個の突起部）Ｐ５３と、背部Ｐ３の内側で突起部Ｐ５３が着脱自在に固定されるように、高さ方向に複数の突起受溝Ｐ５４とからなる。
【００５５】
突起部Ｐ５３が、複数の突起受溝Ｐ５４のうち任意の高さの突起受溝に着脱自在に固定されることで、突出部Ｐ４が高さ方向に調整される。なお、図１２に示す突出部Ｐ４は、図９に示すものを用いているが、図５や図１０に示すものであってもよい。また、複数の突起受溝Ｐ５４は、背部Ｐ３を貫通しない深さを有するものとして図示するが、背部Ｐ３を貫通する深さを有するものであってもよい。
【００５６】
図１３は、突出部Ｐ４の高さ調整機構の第３例を示す斜視図である。
【００５７】
図１３は、背部Ｐ３と、突出部Ｐ４と、突出部Ｐ４を高さ方向に調整するための高さ調整機構Ｐ５とを示す。高さ調整機構Ｐ５は、突出部Ｐ４の背部Ｐ３側に設けられる、面ファスナーの結合側Ｐ５５と、背部Ｐ３の内側で結合側５５に結合するような幅で、高さ方向に延びる被結合側Ｐ５６とからなる。
【００５８】
結合側Ｐ５５が被結合側Ｐ５６の任意の高さに結合されることで、突出部Ｐ４が高さ方向に調整される。なお、図１３に示す突出部Ｐ４は、図９に示すものを用いているが、図５や図１０に示すものであってもよい。
【００５９】
図１４（Ａ），（Ｂ）は、突出部Ｐ４の高さ調整機構の第４例を示す図である。図１４（Ａ）は側面図を示し、図１４（Ｂ）は斜視図を示す。
【００６０】
図１４（Ａ），（Ｂ）は、背部Ｐ３と、突出部Ｐ４と、突出部Ｐ４を高さ方向に調整するための高さ調整機構Ｐ５とを示す。高さ調整機構Ｐ５は、突出部Ｐ４の背部Ｐ３側に設けられるネジ受部Ｐ５７（図１４（Ａ）に図示）と、ネジ受部Ｐ５７に係合するつまみネジＰ５８（図１４（Ａ）に図示）と、つまみネジＰ５８のネジ部が貫通されるような幅で、高さ方向に延びるネジ貫通孔Ｐ５９（図１４（Ｂ）に図示）とからなる。
【００６１】
つまみネジＰ５８が緩められ、つまみネジＰ５８がネジ貫通孔Ｐ５９を介して高さ方向にスライドされ、任意の高さでつまみネジＰ５８が締められてつまみネジＰ５８の座金が背部Ｐ３を押圧することで、突出部Ｐ４が高さ方向に調整される。なお、図１４（Ａ）に示す突出部Ｐ４は、図９に示すものを用いているが、図５や図１０に示すものであってもよい。
【００６２】
図１５（Ａ），（Ｂ）は、突出部Ｐ４の高さ調整機構の第５例を示す図である。図１５（Ａ）は上面図を示し、図１５（Ｂ）は斜視図を示す。
【００６３】
図１５（Ａ），（Ｂ）は、背部Ｐ３と、突出部Ｐ４と、突出部Ｐ４を高さ方向に調整するための高さ調整機構Ｐ５とを示す。高さ調整機構Ｐ５は、突出部Ｐ４の背部Ｐ３側に設けられ、幅方向に伸縮する左右２個のバネＳＰを有するバネ付スライダ部Ｐ５ａ（図１５（Ａ）に図示）と、背部Ｐ３の内側でバネ付スライダ部Ｐ５ａがスライド自在に位置決め固定されるように、高さ方向に延びるバネ付スライダ受溝Ｐ５ｂとからなる。また、バネ付スライダ受溝Ｐ５ｂの側壁は、バネ付スライダ部Ｐ５ａのスライドに従ってバネＳＰへの応力が変わる形状（波形状、シグザグ形状、及び凹凸形状）を有する。図１５（Ｂ）に示すバネ付スライダ受溝Ｐ５ｂの側壁は、波形状を示す。
【００６４】
バネ付スライダ部Ｐ５ａがバネ付スライダ受溝Ｐ５ｂを介して高さ方向に任意にスライドされることで、突出部Ｐ４が高さ方向に調整される。なお、バネ付スライダ受溝Ｐ５ｂは、背部Ｐ３を貫通しない深さを有するものとして図示するが、背部Ｐ３を貫通する深さを有するものであってもよい。
【００６５】
図１５（Ａ），（Ｂ）に示す構成によると、バネ付スライダ部Ｐ５ａがバネ付スライダ受溝Ｐ５ｂの最深部に位置決めされれば、突出部Ｐ４が不意に下降し難くなるし、被検体Ｓのつま先が突出部Ｐ４を上方に押圧する場合でも突出部Ｐ４が不意に上昇し難くなる。
【００６６】
図１６（Ａ），（Ｂ）は、突出部Ｐ４の高さ調整機構の第６例を示す図である。図１６（Ａ）は上面図を示し、図１６（Ｂ）は斜視図を示す。
【００６７】
図１６（Ａ），（Ｂ）は、背部Ｐ３と、突出部Ｐ４と、突出部Ｐ４を高さ方向に調整するための高さ調整機構Ｐ５とを示す。高さ調整機構Ｐ５は、突出部Ｐ４の背部Ｐ３側に設けられ、幅方向に伸縮する左右２個のバネＳＰを有するバネ付スライダ部Ｐ５ｃ（図１６（Ａ）に図示）と、背部Ｐ３の内側でバネ付スライダ部Ｐ５ｃがスライド自在に位置決め固定されるように、高さ方向に延びるバネ付スライダ受溝Ｐ５ｄとからなる。また、バネ付スライダ受溝Ｐ５ｄの側壁は、バネ付スライダ部Ｐ５ｃのスライドに従ってバネＳＰへの応力が変わる形状（のこぎり形状）を有する。
【００６８】
バネ付スライダ部Ｐ５ｃがバネ付スライダ受溝Ｐ５ｄを介して高さ方向に任意にスライドされることで、突出部Ｐ４が高さ方向に調整される。なお、バネ付スライダ受溝Ｐ５ｄは、背部Ｐ３を貫通しない深さを有するものとして図示するが、背部Ｐ３を貫通する深さを有するものであってもよい。
【００６９】
図１６（Ａ），（Ｂ）に示す構成によると、バネ付スライダ部Ｐ５ｃがバネ付スライダ受溝Ｐ５ｄの最深部に位置決めされれば、突出部Ｐ４が不意に下降し難くなるし、被検体Ｓのつま先が突出部Ｐ４を上方に押圧する場合でも突出部Ｐ４が不意に上昇することはない。
【００７０】
図１７（Ａ），（Ｂ）は、突出部Ｐ４の高さ調整機構の第７例を示す図である。図１７（Ａ）は上面図を示し、図１７（Ｂ）は斜視図を示す。
【００７１】
図１７（Ａ），（Ｂ）は、背部Ｐ３と、突出部Ｐ４と、突出部Ｐ４を高さ方向に調整するための高さ調整機構Ｐ５とを示す。高さ調整機構Ｐ５は、突出部Ｐ４の背部Ｐ３側に設けられる凸型スライダ部Ｐ５ｅ（図１７（Ａ）に図示）と、背部Ｐ３の内側で凸型スライダ部Ｐ５ｅがスライド自在に位置決め固定されるように、高さ方向に延びる凸型スライダ受溝Ｐ５ｆとからなる。
【００７２】
凸型スライダ部Ｐ５ｅは、弾性率が小さい弾性体であることが好適である。凸型スライダ受溝Ｐ５ｆの側壁が凸型スライダ部Ｐ５ｅの側壁に与える応力と、その応力に対抗する凸型スライダ部Ｐ５ｅの弾性力とによって、凸型スライダ部Ｐ５ｅが凸型スライダ受溝Ｐ５ｆの任意の高さに位置決め固定される。凸型スライダ部Ｐ５ｅが凸型スライダ受溝Ｐ５ｆを介して高さ方向に任意にスライドされることで、突出部Ｐ４が高さ方向に調整される。なお、凸型スライダ部Ｐ５ｅの台座部分は、バネ付スライダ部Ｐ５ａ（図１５（Ｂ）に図示）や、バネ付スライダ部Ｐ５ｃ（図１６（Ｂ）に図示）であってもよい。その場合、凸型スライダ部Ｐ５ｅの台座部分が接する、凸型スライダ受溝Ｐ５ｆの側壁は、凸型スライダ部Ｐ５ｅのスライドに従って凸型スライダ部Ｐ５ｅのバネへの応力が変わる形状（波形状、シグザグ形状、凹凸形状、及びのこぎり形状）を有する。
【００７３】
図１７（Ａ），（Ｂ）に示す構成によると、突出部Ｐ４が背部Ｐ３から離脱し難くなる。
【００７４】
続いて、本実施形態のＭＲ撮像用のパッドが背補助部を備える場合について説明する。特に被検体Ｓのつま先を撮像する場合、パッドが背補助部を備えることで、つま先を足首用コイルユニットＵ（図１に図示）の中心に配置することができる。
【００７５】
図１８は、本実施形態のパッドＰと、そのパッドＰが装着される被検体Ｓとの概略を示す側面図である。なお、図１８において、図４に示す載置台Ｐ２の側部の図示は省略する。
【００７６】
図１８に示すように、パッドＰは、載置台Ｐ２と、載置台Ｐ２から立ち上がる背部Ｐ３と、背部Ｐ３の内側に設けられる背補助部Ｐ６と、背補助部Ｐ６の内側に突出する突出部Ｐ７とを備える。図１８に示すように、パッドＰの載置台Ｐ２の底部が、被検体Ｓの脚部を踵側から支え、背補助部Ｐ６が、被検体Ｓの足部を足裏側から支える。ここで、背補助部Ｐ６の高さ方向は、パッドＰが装着された被検体Ｓの足部の踵からつま先への方向に相当する。突出部Ｐ７の高さ（高さ方向の長さ）が被検体Ｓの足部の踵からつま先の間の長さより少し小さくなるような位置に突出部Ｐ７が設けられることで、突出部Ｐ７が被検体Ｓのつま先を底部側に押圧することになる。
【００７７】
図１８に示すパッドＰでは、被検体Ｓのつま先の底部側への押圧が実施されている。このため、撮像中に被検体Ｓのつま先が自由に動かされることがないので、つま先の画像にモーションアーチファクトが発生することはない。
【００７８】
なお、図９及び図１０で示した突出部Ｐ４の変形例は、図１８に示す突出部Ｐ７の変形例としても利用できる。
【００７９】
続いて、図１８に示す背補助部Ｐ６及び突出部Ｐ７に設けられる、突出部Ｐ７の高さ調整機構について、図１９〜図２４を用いて説明する。背補助部Ｐ６の高さ方向は、パッドＰが装着された被検体Ｓの足部の踵からつま先への方向に相当する。被検体Ｓの足部の踵からつま先への方向の長さは、被検体Ｓによって異なる。そこで、突出部Ｐ７を背補助部Ｐ６の高さ方向に調整するための高さ調整機構が設けられる。
【００８０】
図１９は、突出部Ｐ７の高さ調整機構の第１例を示す斜視図である。
【００８１】
図１９は、背部Ｐ３と、背補助部Ｐ６と、突出部Ｐ７と、突出部Ｐ７を高さ方向に調整するための高さ調整機構Ｐ８とを示す。高さ調整機構Ｐ８は、突出部Ｐ７の背補助部Ｐ６側に設けられるスライダ部Ｐ８１と、背補助部Ｐ６の内側でスライダ部Ｐ８１がスライド自在に位置決め固定されるように、高さ方向に延びるスライダ受溝Ｐ８２とからなる。
【００８２】
スライダ部Ｐ８１は、弾性率が小さい弾性体であることが好適である。スライダ受溝Ｐ８２の側壁がスライダ部Ｐ８１の側壁に与える応力と、その応力に対抗するスライダ部Ｐ８１の弾性力とによって、スライダ部Ｐ８１がスライダ受溝Ｐ８２の任意の高さに位置決め固定される。スライダ部Ｐ８１がスライダ受溝Ｐ８２を介して高さ方向に任意にスライドされることで、突出部Ｐ７が高さ方向に調整される。なお、スライダ受溝Ｐ８２は、背補助部Ｐ６を貫通しない深さを有するものとして図示するが、背補助部Ｐ６を貫通する深さを有するものであってもよい。また、図１９に示す突出部Ｐ７は、図９に示すものを用いているが、図５や図１０に示すものであってもよい。
【００８３】
図２０は、突出部Ｐ７の高さ調整機構の第２例を示す斜視図である。
【００８４】
図２０は、背部Ｐ３と、背補助部Ｐ６と、突出部Ｐ７と、突出部Ｐ７を高さ方向に調整するための高さ調整機構Ｐ８とを示す。高さ調整機構Ｐ８は、突出部Ｐ７の背補助部Ｐ６側に設けられる突起部（例えば、左右２個の突起部）Ｐ８３と、背補助部Ｐ６の内側で突起部Ｐ８３が着脱自在に固定されるように、高さ方向に複数の突起受溝Ｐ８４とからなる。
【００８５】
突起部Ｐ８３が、複数の突起受溝Ｐ８４のうち任意の高さの突起受溝に着脱自在に固定されることで、突出部Ｐ７が高さ方向に調整される。なお、複数の突起受溝Ｐ８４は、背補助部Ｐ６を貫通しない深さを有するものとして図示するが、背補助部Ｐ６を貫通する深さを有するものであってもよい。また、図２０に示す突出部Ｐ７は、図９に示すものを用いているが、図５や図１０に示すものであってもよい。
【００８６】
図２１は、突出部Ｐ７の高さ調整機構の第３例を示す斜視図である。
【００８７】
図２１は、背部Ｐ３と、背補助部Ｐ６と、突出部Ｐ７と、突出部Ｐ７を高さ方向に調整するための高さ調整機構Ｐ８とを示す。高さ調整機構Ｐ８は、突出部Ｐ７の背補助部Ｐ６側に設けられる、面ファスナーの結合側Ｐ８５と、背補助部Ｐ６の内側で結合側８５に結合するような幅で、高さ方向に延びる被結合側Ｐ８６とからなる。
【００８８】
結合側Ｐ８５が被結合側Ｐ８６の任意の高さに結合されることで、突出部Ｐ７が高さ方向に調整される。なお、図２１に示す突出部Ｐ７は、図９に示すものを用いているが、図５や図１０に示すものであってもよい。
【００８９】
図２２（Ａ），（Ｂ）は、突出部Ｐ７の高さ調整機構の第４例を示す図である。図１５（Ａ）は上面図を示し、図１５（Ｂ）は斜視図を示す。
【００９０】
図２２（Ａ），（Ｂ）は、背部Ｐ３と、背補助部Ｐ６と、突出部Ｐ７と、突出部Ｐ７を高さ方向に調整するための高さ調整機構Ｐ８とを示す。高さ調整機構Ｐ８は、突出部Ｐ７の背補助部Ｐ６側に設けられ、幅方向に伸縮する左右２個のバネＳＰを有するバネ付スライダ部Ｐ８ａ（図２２（Ａ）に図示）と、背補助部Ｐ６の内側でバネ付スライダ部Ｐ８ａがスライド自在に位置決め固定されるように、高さ方向に延びるバネ付スライダ受溝Ｐ８ｂとからなる。また、バネ付スライダ受溝Ｐ８ｂの側壁は、バネ付スライダ部Ｐ８ａのスライドに従ってバネＳＰへの応力が変わる形状（波形状、シグザグ形状、及び凹凸形状）を有する。図２２（Ｂ）に示すバネ付スライダ受溝Ｐ８ｂの側壁は、波形状を示す。
【００９１】
バネ付スライダ部Ｐ８ａがバネ付スライダ受溝Ｐ８ｂを介して高さ方向に任意にスライドされることで、突出部Ｐ７が高さ方向に調整される。なお、バネ付スライダ受溝Ｐ８ｂは、背補助部Ｐ６を貫通しない深さを有するものとして図示するが、背補助部Ｐ６を貫通する深さを有するものであってもよい。
【００９２】
図２２（Ａ），（Ｂ）に示す構成によると、バネ付スライダ部Ｐ８ａがバネ付スライダ受溝Ｐ８ｂの最深部に位置決めされれば、突出部Ｐ７が不意に下降し難くなるし、被検体Ｓのつま先が突出部Ｐ７を上方に押圧する場合でも突出部Ｐ７が不意に上昇し難くなる。
【００９３】
図２３（Ａ），（Ｂ）は、突出部Ｐ７の高さ調整機構の第５例を示す図である。図２３（Ａ）は上面図を示し、図２３（Ｂ）は斜視図を示す。
【００９４】
図２３（Ａ），（Ｂ）は、背部Ｐ３と、背補助部Ｐ６と、突出部Ｐ７と、突出部Ｐ７を高さ方向に調整するための高さ調整機構Ｐ８とを示す。高さ調整機構Ｐ８は、突出部Ｐ７の背補助部Ｐ６側に設けられ、幅方向に伸縮する左右２個のバネＳＰを有するバネ付スライダ部Ｐ８ｃ（図２３（Ａ）に図示）と、背補助部Ｐ６の内側でバネ付スライダ部Ｐ８ｃがスライド自在に位置決め固定されるように、高さ方向に延びるバネ付スライダ受溝Ｐ８ｄとからなる。また、バネ付スライダ受溝Ｐ８ｄの側壁は、バネ付スライダ部Ｐ８ｃのスライドに従ってバネＳＰへの応力が変わる形状（のこぎり形状）を有する。
【００９５】
バネ付スライダ部Ｐ８ｃがバネ付スライダ受溝Ｐ８ｄを介して高さ方向に任意にスライドされることで、突出部Ｐ７が高さ方向に調整される。なお、バネ付スライダ受溝Ｐ８ｄは、背補助部Ｐ６を貫通しない深さを有するものとして図示するが、背補助部Ｐ６を貫通する深さを有するものであってもよい。
【００９６】
図２３（Ａ），（Ｂ）に示す構成によると、バネ付スライダ部Ｐ８ｃがバネ付スライダ受溝Ｐ８ｄの最深部に位置決めされれば、突出部Ｐ７が不意に下降し難くなるし、被検体Ｓのつま先が突出部Ｐ７を上方に押圧する場合でも突出部Ｐ７が不意に上昇することはない。
【００９７】
図２４（Ａ），（Ｂ）は、突出部Ｐ７の高さ調整機構の第６例を示す図である。図２４（Ａ）は上面図を示し、図２４（Ｂ）は斜視図を示す。
【００９８】
図２４（Ａ），（Ｂ）は、背部Ｐ３と、背補助部Ｐ６と、突出部Ｐ７と、突出部Ｐ７を高さ方向に調整するための高さ調整機構Ｐ８とを示す。高さ調整機構Ｐ８は、突出部Ｐ７の背補助部Ｐ６側に設けられる凸型スライダ部Ｐ８ｅ（図２４（Ａ）に図示）と、背補助部Ｐ６の内側で凸型スライダ部Ｐ８ｅがスライド自在に位置決め固定されるように、高さ方向に延びる凸型スライダ受溝Ｐ８ｆとからなる。
【００９９】
凸型スライダ部Ｐ８ｅは、弾性率が小さい弾性体であることが好適である。凸型スライダ受溝Ｐ８ｆの側壁が凸型スライダ部Ｐ８ｅの側壁に与える応力と、その応力に対抗する凸型スライダ部Ｐ８ｅの弾性力とによって、凸型スライダ部Ｐ８ｅが凸型スライダ受溝Ｐ８ｆの任意の高さに位置決め固定される。凸型スライダ部Ｐ８ｅが凸型スライダ受溝Ｐ８ｆを介して高さ方向に任意にスライドされることで、突出部Ｐ７が高さ方向に調整される。なお、凸型スライダ部Ｐ８ｅの台座部分は、バネ付スライダ部Ｐ８ａ（図２２（Ｂ）に図示）や、バネ付スライダ部Ｐ８ｃ（図２３（Ｂ）に図示）であってもよい。その場合、凸型スライダ部Ｐ８ｅの台座部分が接する、凸型スライダ受溝Ｐ８ｆの側壁は、凸型スライダ部Ｐ８ｅのスライドに従って凸型スライダ部Ｐ８ｅのバネへの応力が変わる形状（波形状、シグザグ形状、凹凸形状、及びのこぎり形状）を有する。
【０１００】
図２４（Ａ），（Ｂ）に示す構成によると、突出部Ｐ７が背補助部Ｐ６から離脱し難くなる。
【０１０１】
本実施形態のＭＲ撮像用のパッドＰによれば、被検体Ｓのつま先の底部側への押圧が実施されるので、撮像中に被検体Ｓのつま先が自由に動かされることがないので、つま先の画像や踝の画像のモーションアーチファクトの発生を抑えることができる。
【０１０２】
以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の省略、置き換え、変更を行なうことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【０１０３】
１  ＭＲＩ装置
Ｐ  パッド
Ｐ２  載置台
Ｐ３  背部
Ｐ４，Ｐ７  突出部
Ｐ５，Ｐ８  高さ調整機構
Ｐ６  背補助部
Ｕ  足首用コイルユニット
Ｕ１  足首用コイル本体
Ｕ２  ケーブル
【図１】
2015066405.tif 000003
【図２】
2015066405.tif 000004
【図３】
2015066405.tif 000005
【図４】
2015066405.tif 000006
【図５】
2015066405.tif 000007
【図６】
2015066405.tif 000008
【図７】
2015066405.tif 000009
【図８】
2015066405.tif 000010
【図９】
2015066405.tif 000011
【図１０】
2015066405.tif 000012
【図１１】
2015066405.tif 000013
【図１２】
2015066405.tif 000014
【図１３】
2015066405.tif 000015
【図１４】
2015066405.tif 000016
【図１５】
2015066405.tif 000017
【図１６】
2015066405.tif 000018
【図１７】
2015066405.tif 000019
【図１８】
2015066405.tif 000020
【図１９】
2015066405.tif 000021
【図２０】
2015066405.tif 000022
【図２１】
2015066405.tif 000023
【図２２】
2015066405.tif 000024
【図２３】
2015066405.tif 000025
【図２４】
2015066405.tif 000026