(57)【要約】【課題】ウエハの回収動作に要する時間を短縮することが可能な基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置１０は、複数のウエハＷをそれぞれ所定の受取位置Ｐ１〜Ｐ１０に収容する置き台４０と、置き台４０の各受取位置Ｐ１〜Ｐ１０にあるウエハＷを受け取るとともに、当該ウエハＷを置き台４０の外方へ搬送するウエハ搬送アーム３１とを備えている。ウエハ搬送アーム３１には、ウエハ搬送アーム３１上にウエハＷが存在するか否かを検知する圧力計５６が設けられている。制御部８０は、ウエハ搬送アーム３１を置き台４０の一の受取位置Ｐ１〜Ｐ１０に移動させ、圧力計５６からの検知信号に基づいて当該受取位置Ｐ１〜Ｐ１０にウエハＷが存在するかを判断し、当該受取位置にウエハＷが存在しないと判断した場合、ウエハ搬送アーム３１を当該受取位置を通過して次の受取位置まで移動させる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理装置において、
複数の基板を配列方向に沿ってそれぞれ所定の受取位置に収容する置き台と、
前記置き台に対して進退可能かつ前記配列方向に沿って移動可能に設けられ、前記置き台の各受取位置にある前記基板を受け取るとともに、当該基板を前記置き台の外方へ搬送する、搬送アームと、
前記搬送アームを制御する制御部とを備え、
前記搬送アームに、前記搬送アーム上に前記基板が存在するか否かを検知する基板検知機構が設けられ、
前記制御部は、前記搬送アームを制御して、前記搬送アームを一の検知位置に移動させ、前記基板検知機構からの検知信号に基づいて、当該検知位置に対応する一の受取位置に前記基板が存在するかを判断し、当該受取位置に前記基板が存在しないと判断した場合、前記搬送アームを前記配列方向に沿って当該受取位置を通過して次の検知位置まで移動させることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記基板検知機構からの検知信号に基づいて前記一の受取位置に前記基板が存在すると判断した場合、前記搬送アームを制御して、当該受取位置で前記基板を受け取るとともに、当該基板を前記置き台の外方へ搬送することを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記搬送アームに、前記基板を吸引する吸引機構が設けられ、前記基板検知機構は、吸引機構による吸引圧を検知することにより、前記搬送アーム上に前記基板が存在するか否かを検知することを特徴とする請求項１または２記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記置き台は複数設けられ、これら複数の置き台が上下方向に積層されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記搬送アームが各検知位置に到達した際、前記搬送アームを一時的に停止させることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項記載の基板処理装置。
【請求項６】
基板処理装置を用いて基板を検知する基板検知方法において、
前記基板処理装置は、
複数の基板を配列方向に沿ってそれぞれ所定の受取位置に収容する置き台と、
前記置き台に対して進退可能かつ前記配列方向に沿って移動可能に設けられ、前記置き台の各受取位置にある前記基板を受け取るとともに、当該基板を前記置き台の外方へ搬送する、搬送アームとを備え、
前記搬送アームに、前記搬送アーム上に前記基板が存在するか否かを検知する基板検知機構が設けられ、
前記基板検知方法は、
前記搬送アームを一の検知位置に移動させる工程と、
前記基板検知機構からの検知信号に基づいて、当該検知位置に対応する一の受取位置に前記基板が存在するかを判断する工程と、
当該受取位置に前記基板が存在しないと判断した場合、前記搬送アームを前記配列方向に沿って当該受取位置を通過して次の検知位置まで移動させる工程とを備えたことを特徴とする基板検知方法。
【請求項７】
前記一の受取位置に前記基板が存在すると判断した場合、前記搬送アームが当該受取位置で前記基板を受け取るとともに、当該基板を前記置き台の外方へ搬送する工程を更に備えたことを特徴とする請求項６記載の基板検知方法。
【請求項８】
前記搬送アームに、前記基板を吸引する吸引機構が設けられ、前記基板検知機構は、吸引機構による吸引圧を検知することにより、前記搬送アーム上に前記基板が存在するか否かを検知することを特徴とする請求項６または７記載の基板検知方法。
【請求項９】
前記置き台は複数設けられ、これら複数の置き台が上下方向に積層されていることを特徴とする請求項６乃至８のいずれか一項記載の基板検知方法。
【請求項１０】
前記搬送アームは、各検知位置に到達した際、一時的に停止することを特徴とする請求項６乃至９のいずれか一項記載の基板検知方法。
【請求項１１】
基板処理装置を用いて基板を検知する基板検知方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、
前記基板処理装置は、
複数の基板を配列方向に沿ってそれぞれ所定の受取位置に収容する置き台と、
前記置き台に対して進退可能かつ前記配列方向に沿って移動可能に設けられ、前記置き台の各受取位置にある前記基板を受け取るとともに、当該基板を前記置き台の外方へ搬送する、搬送アームとを備え、
前記搬送アームに、前記搬送アーム上に前記基板が存在するか否かを検知する基板検知機構が設けられ、
前記基板検知方法は、
前記搬送アームを一の検知位置に移動させる工程と、
前記基板検知機構からの検知信号に基づいて、当該検知位置に対応する一の受取位置に前記基板が存在するかを判断する工程と、
当該受取位置に前記基板が存在しないと判断した場合、前記搬送アームを前記配列方向に沿って当該受取位置を通過して次の検知位置まで移動させる工程とを備えたことを特徴とする記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板処理装置、基板処理装置を用いて基板を検知する基板検知方法、および基板検知方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置やフラットディスプレイパネルなどの製造のための一連の処理においては、半導体ウエハ等の基板に処理流体（例えば薬液）を供給することにより、所定の処理（例えば洗浄処理）が施される。
【０００３】
このような基板処理装置（液処理装置）においては、カセットから基板を取り出すアームと、処理部に対して基板を搬送するアームとの間に、基板を仮置きするための置き台（ステージ）が設けられている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−３４４９０号公報
【特許文献２】特開平８−２７４１４３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、このような基板処理装置においては、例えば電源投入時等、装置を初期化した直後は、装置内にウエハが残っている可能性がある。このため、このような基板処理装置においては、残されたウエハを回収するための回収動作が必要となる。
【０００６】
例えば、置き台に残されたウエハを回収する場合、ウエハの有無を確認するために置き台の内部に基板の検知機構を取り付けることが考えられる。しかしながら、置き台を複数積層する場合等、置き台の数が増えると、置き台の数だけ検知機構を設けることが必要となるためコストアップに繋がるおそれがある。
【０００７】
特許文献２の基板処理装置においては、搬送アーム上にウエハが存在するか否かを検知するセンサーが、搬送アームの待機位置近傍に設けられている。すなわち、搬送基台にセンサスタンドを設け、このセンサスタンドの略先端部に設けられたセンサによって、搬送アームがウエハを保持しているか否かを検出している。しかしながら、この場合、置き台に収容されたウエハの有無を確認するために、搬送アームを置き台の各スロットと待機位置近傍と間でスロットの個数分だけ複数回往復させなければならず、作業時間が長くなってしまう。
【０００８】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、基板の回収動作に要する時間を短縮することが可能な、基板処理装置、基板検知方法および記憶媒体を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一実施の形態による基板処理装置は、基板処理装置において、複数の基板を配列方向に沿ってそれぞれ所定の受取位置に収容する置き台と、前記置き台に対して進退可能かつ前記配列方向に沿って移動可能に設けられ、前記置き台の各受取位置にある前記基板を受け取るとともに、当該基板を前記置き台の外方へ搬送する、搬送アームと、前記搬送アームを制御する制御部とを備え、前記搬送アームに、前記搬送アーム上に前記基板が存在するか否かを検知する基板検知機構が設けられ、前記制御部は、前記搬送アームを制御して、前記搬送アームを一の検知位置に移動させ、前記基板検知機構からの検知信号に基づいて、当該検知位置に対応する一の受取位置に前記基板が存在するかを判断し、当該受取位置に前記基板が存在しないと判断した場合、前記搬送アームを前記配列方向に沿って当該受取位置を通過して次の検知位置まで移動させることを特徴とする。
【００１０】
本発明の一実施の形態による基板検知方法は、基板処理装置を用いて基板を検知する基板検知方法において、前記基板処理装置は、複数の基板を配列方向に沿ってそれぞれ所定の受取位置に収容する置き台と、前記置き台に対して進退可能かつ前記配列方向に沿って移動可能に設けられ、前記置き台の各受取位置にある前記基板を受け取るとともに、当該基板を前記置き台の外方へ搬送する、搬送アームとを備え、前記搬送アームに、前記搬送アーム上に前記基板が存在するか否かを検知する基板検知機構が設けられ、前記基板検知方法は、前記搬送アームを一の検知位置に移動させる工程と、前記基板検知機構からの検知信号に基づいて、当該検知位置に対応する一の受取位置に前記基板が存在するかを判断する工程と、当該受取位置に前記基板が存在しないと判断した場合、前記搬送アームを前記配列方向に沿って当該受取位置を通過して次の検知位置まで移動させる工程とを備えたことを特徴とする。
【００１１】
本発明の一実施の形態による記憶媒体は、基板処理装置を用いて基板を検知する基板検知方法を実行させるためのコンピュータプログラムを格納した記憶媒体において、前記基板処理装置は、複数の基板を配列方向に沿ってそれぞれ所定の受取位置に収容する置き台と、前記置き台に対して進退可能かつ前記配列方向に沿って移動可能に設けられ、前記置き台の各受取位置にある前記基板を受け取るとともに、当該基板を前記置き台の外方へ搬送する、搬送アームとを備え、前記搬送アームに、前記搬送アーム上に前記基板が存在するか否かを検知する基板検知機構が設けられ、前記基板検知方法は、前記搬送アームを一の検知位置に移動させる工程と、前記基板検知機構からの検知信号に基づいて、当該検知位置に対応する一の受取位置に前記基板が存在するかを判断する工程と、当該受取位置に前記基板が存在しないと判断した場合、前記搬送アームを前記配列方向に沿って当該受取位置を通過して次の検知位置まで移動させる工程とを備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、基板の回収動作に要する時間を短縮することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１は、本発明の一実施の形態による基板処理装置の全体構成を示す平面図。
【図２】図２は、本発明の一実施の形態による基板処理装置の搬送機構および置き台を示す斜視図。
【図３】図３は、本発明の一実施の形態による基板検知方法を示す概略図。
【図４】図４は、基板処理装置の変形例を示す概略図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、図１〜図３を参照して、本発明の一実施の形態について説明する。
【００１５】
図１は本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の概略構成を示す平面図である。
【００１６】
図１に示すように、基板処理装置（液処理装置）１０は、複数のウエハＷ（被処理体である基板）を収容するウエハキャリアＣを載置し、ウエハＷの搬入・搬出を行う搬入出ステーション（基板搬入出部）１６と、ウエハＷに洗浄処理を施すための処理ステーション（液処理部）１８とを備えており、これらは互いに隣接して設けられている。
【００１７】
このうち搬入出ステーション１６は、複数のウエハＷを水平状態で収容するウエハキャリアＣを載置するキャリア載置部１１と、ウエハＷの搬送を行う搬送部１２と、ウエハＷの受け渡しを行う受け渡し部１３と、搬送部１２および受け渡し部１３が収容される筐体１４とを有している。
【００１８】
キャリア載置部１１には４個のウエハキャリアＣが載置可能であり、載置されたウエハキャリアＣは筐体１４の垂直壁部に密着された状態とされ、大気に触れることなくその中のウエハＷが搬送部１２に搬入可能となっている。
【００１９】
搬送部１２は第１の搬送機構３０（以下、単に搬送機構３０という）を有しており、搬送機構３０は、ウエハＷを保持する第１のウエハ搬送アーム３１（以下、単にウエハ搬送アーム３１という）を有している。さらに、搬送機構３０は、このウエハ搬送アーム３１を前後（Ｘ方向）に移動させる機構、ウエハキャリアＣの配列方向であるＹ方向に延在する水平ガイド１７に沿って移動させる機構、垂直方向に移動させる機構、および水平面内で回転させる機構を有している。この搬送機構３０により、ウエハキャリアＣと受け渡し部１３との間でウエハＷが搬送される。
【００２０】
受け渡し部１３は、その上に設けられたウエハＷを載置可能な載置部（スロット）を複数備えた置き台４０を有しており、この置き台４０を介して処理ステーション１８との間でウエハＷの受け渡しが行われる。置き台４０は複数設けられていても良く、この場合、複数の置き台４０が上下方向に積層されていても良い。なお、搬送機構３０および置き台４０の詳細な構成については後述する。
【００２１】
処理ステーション１８は直方体状をなす筐体２１を有し、筐体２１内には、その中央上部にウエハキャリアＣの配列方向であるＹ方向に直交するＸ方向に沿って延びる搬送路を構成する搬送室２１ａと、搬送室２１ａの両側に設けられた２つのユニット室２１ｂ、２１ｃとを有している。ユニット室２１ｂ、２１ｃにはそれぞれ搬送室２１ａに沿って６個ずつ合計１２個の処理ユニット２２が水平に配列されている。
【００２２】
搬送室２１ａの内部には第２の搬送機構６０（以下、単に搬送機構６０という）が設けられている。搬送機構６０は、ウエハＷを保持する第２ウエハ搬送アーム６１（以下、単にウエハ搬送アーム６１という）を有しており、このウエハ搬送アーム６１を前後に移動させる機構、搬送室２１ａに設けられた水平ガイド２５（図１参照）に沿ってＸ方向に移動させる機構、垂直方向に沿って移動させる機構、および水平面内で回転させる機構を有している。この搬送機構６０により、各処理ユニット２２に対するウエハＷの搬入出を行う。
【００２３】
処理ユニット２２は、例えば、ウエハＷをスピンチャックに保持し、ウエハＷを回転させた状態でウエハＷの表面または表裏面に処理液を供給して処理を行う、公知の枚葉式の液処理ユニットからなっていても良い。
【００２４】
なお、基板処理装置１０は、その全体の動作を統括制御する制御部（コントローラ）８０を有している。制御部８０は、基板処理装置１０の全ての機能部品の動作を制御する。制御部８０は、ハードウエアとして例えば（汎用）コンピュータと、ソフトウエアとして当該コンピュータを動作させるためのプログラム（装置制御プログラムおよび処理レシピ等）とにより実現することができる。ソフトウエアは、コンピュータに固定的に設けられたハードディスクドライブ等の記憶媒体に格納されるか、あるいはＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ、フラッシュメモリ等の着脱可能にコンピュータにセットされる記憶媒体に格納される。このような記憶媒体が参照符号８１で示されている。
【００２５】
次に、図２を参照して搬送機構３０および置き台４０の構成について更に説明する。
【００２６】
図２に示すように、置き台４０は、筐体４１と、筐体４１内に設けられ、それぞれウエハＷを配列方向である上下方向（Ｚ方向）に沿って所定の受取位置Ｐ１〜Ｐ１０に収容する複数のスロット（載置部）４２ａ〜４２ｊとを有している。このうち筐体４１は、前後方向（Ｘ方向）に移動する搬送機構３０のウエハ搬送アーム３１が通過する第１の開口４１ａと、第１の開口４１ａに対向して設けられ、搬送機構６０のウエハ搬送アーム６１（図１参照）が通過する第２の開口４１ｂとを有している。
【００２７】
また、スロット４２ａ〜４２ｊは、ウエハＷの配列方向である上下方向（Ｚ方向）に沿って筐体４１内に等間隔に配置されている。これらスロット４２ａ〜４２ｊは、それぞれウエハ搬送アーム３１が置き台４０からウエハＷを受け取る位置である、受取位置Ｐ１〜Ｐ１０に対応している。例えば、最下方に位置するスロット４２ａは、ウエハＷを受取位置Ｐ１に収容するスロットであり、最上方に位置するスロット４２ｊは、ウエハＷを受取位置Ｐ１０に収容するスロットである。なお、図２において、１０個のスロット４２ａ〜４２ｊを示しているが、実際には、例えば２０個〜５０個のスロットが設けられていても良い。
【００２８】
一方、搬送機構３０は、搬送基台３２と、搬送基台３２上に配置され、搬送基台３２に対して前後方向（Ｘ方向）に進退可能なウエハ搬送アーム３１と、搬送基台３２に連結され、搬送基台３２を左右方向（Ｙ方向）、上下方向（Ｚ方向）、回転方向（θ方向）に移動させる駆動部３３とを有している。
【００２９】
このうちウエハ搬送アーム３１は、平面略Ｕ字形状を有しており、ウエハＷを載置する載置面３１ａを有している。このウエハ搬送アーム３１は、載置面３１ａにウエハＷを載置した状態で、第１の開口４１ａから置き台４０内に進入し、置き台４０の各受取位置Ｐ１〜Ｐ１０にウエハＷを載置する。
【００３０】
また、ウエハ搬送アーム３１は、載置面３１ａにウエハＷを載置していない状態で、第１の開口４１ａから置き台４０内に進入し、置き台４０の各受取位置Ｐ１〜Ｐ１０にあるウエハＷを受け取るとともに、受け取ったウエハＷを置き台４０の外方（例えば、図示しない他の置き台）へ搬送することも可能である。なお、図２において１つのウエハ搬送アーム３１を示しているが、搬送機構３０は、互いに独立して移動可能な複数（例えば２個）のウエハ搬送アーム３１を有していても良い。
【００３１】
また、ウエハ搬送アーム３１には、ウエハＷを吸引する吸引機構５０が設けられている。この吸引機構５０は、ウエハ搬送アーム３１の載置面３１ａに複数（例えば４個）形成された吸引孔５１と、ウエハ搬送アーム３１の内部に形成され、吸引孔５１に連通する吸引通路５２とを有している。さらに、吸引機構５０は、吸引通路５２に接続された吸引管５３と、真空ポンプ５４からの真空吸引をオンオフするバルブ５５と、吸引機構５０による吸引圧を検知し、これを検知信号として送信可能な圧力計（吸引圧検知機構）５６とを有している。また、吸引管５３は吸引源である真空ポンプ５４に接続されている。
【００３２】
この場合、真空ポンプ５４が作動することにより、吸引管５３および吸引通路５２を介して吸引孔５１から空気が吸引され、これによりウエハ搬送アーム３１を介してウエハＷを真空吸着することができる。これにより、ウエハ搬送アーム３１が移載している途中でウエハＷが脱落することを防止することができる。
【００３３】
さらに吸引管５３の途中には、上述したバルブ５５と圧力計５６とが配置されている。真空ポンプ５４、バルブ５５および圧力計５６は、それぞれ制御部８０に接続され、制御部８０は、バルブ５５を制御可能となっている。
【００３４】
ところで、本実施の形態において、吸引機構５０は、ウエハＷを真空吸着するのみならず、ウエハ搬送アーム３１上にウエハＷが存在するか否かを検知する役割を果たす。
【００３５】
具体的には、ウエハ搬送アーム３１上にウエハＷが載置されていない場合、真空ポンプ５４が作動し、バルブ５５が開放されることにより、吸引孔５１から空気が吸引され、圧力計５６の値は略一定の吸引圧（負圧）となる。一方、ウエハ搬送アーム３１上にウエハＷが載置されている場合、真空ポンプ５４が作動し、バルブ５５が開放された際、吸引孔５１が塞がれていることにより、圧力計５６の値は上記吸引圧より小さい値（負圧）となる。したがって、制御部８０は、圧力計５６によって検知された吸引圧（負圧）が所定の閾値より大きければ、ウエハ搬送アーム３１上にウエハＷが載置されていないと判断し、圧力計５６によって検知された吸引圧（負圧）が所定の閾値より小さければ、ウエハ搬送アーム３１上にウエハＷが載置されていると判断することができる。このように、本実施の形態による圧力計５６は、基板検知機構としての役割も果たしている。
【００３６】
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について、図２および図３（ａ）〜（ｆ）を参照して説明する。
【００３７】
具体的には、例えば電源投入時等、基板処理装置１０を初期化した直後に、置き台４０内に残されたウエハＷを回収する回収動作時の作用（基板検知方法）について説明する。以下において、基板処理装置１０の搬送機構３０および吸引機構５０は、制御部８０の記憶媒体８１に記録されたプログラムに従って駆動制御される。
【００３８】
まず、ウエハ搬送アーム３１が置き台４０の前方（Ｘ方向マイナス側）であって、受取位置Ｐ１の手前に移動する（図３（ａ）参照）。また、吸引機構５０の真空ポンプ５４が作動するとともにバルブ５５が開放されることにより、吸引管５３および吸引通路５２を介して吸引孔５１から空気が吸引される。このとき、ウエハ搬送アーム３１上にウエハＷが載置されていないため、圧力計５６の値は、所定の閾値より大きい略一定の吸引圧（負圧）となる。
【００３９】
次に、ウエハ搬送アーム３１が、置き台４０に対して前進（Ｘ方向プラス側に移動）し、置き台４０内に進入する。続いてウエハ搬送アーム３１は、置き台４０の受取位置Ｐ１（検知位置）に移動する（図３（ｂ）参照）。なお、この場合、ウエハＷが受取位置Ｐ１にあるか否かを検知する検知位置は、受取位置Ｐ１に一致する。
【００４０】
次に、制御部８０は、置き台４０の受取位置Ｐ１にウエハＷが存在するか否かを判断する。すなわち、制御部８０は、受取位置Ｐ１にあるウエハ搬送アーム３１上にウエハＷが載置されているか否かを判断する。
【００４１】
具体的には、ウエハ搬送アーム３１が受取位置Ｐ１にある状態で、圧力計（基板検知機構）５６が吸引機構５０による吸引圧を検知し、これを検知信号として制御部８０に対して送信する。この際、制御部８０は、当該吸引圧（検知信号）が所定の閾値より大きければ、ウエハ搬送アーム３１上にウエハＷが載置されていないと判断する。これに対して、吸引圧（検知信号）が所定の閾値より小さければ、ウエハ搬送アーム３１上にウエハＷが載置されていると判断する。
【００４２】
図３（ｂ）において、受取位置Ｐ１にはウエハＷが存在しないため、圧力計５６によって検知された吸引圧は所定の閾値より大きくなる。したがって、制御部８０は、置き台４０の受取位置Ｐ１にウエハＷが存在しないと判断する。
【００４３】
続いて、ウエハ搬送アーム３１は、Ｚ方向プラス側に上昇し、受取位置Ｐ１を通過して、置き台４０外方へ出ることなく受取位置Ｐ１から直接受取位置Ｐ２（検知位置）へと移動する（図３（ｃ）参照）。この場合、ウエハＷが受取位置Ｐ２にあるか否かを検知する検知位置は、受取位置Ｐ２に一致する。
【００４４】
次に、制御部８０は、受取位置Ｐ２にウエハＷが存在するか否かを判断する。なお、制御部８０が受取位置Ｐ２にウエハＷが存在するかを判断する方法は、上記と同一である。
【００４５】
図３（ｃ）において、受取位置Ｐ２にはウエハＷが存在しない。このため、ウエハ搬送アーム３１は更に上昇し、受取位置Ｐ２を通過して、置き台４０外方へ出ることなく受取位置Ｐ２から直接受取位置Ｐ３（検知位置）へと移動する（図３（ｄ）参照）。この場合、ウエハＷが受取位置Ｐ３にあるか否かを検知する検知位置は、受取位置Ｐ３に一致する。
【００４６】
次に、制御部８０は、上記と同様にして受取位置Ｐ３にウエハＷが存在するか否かを判断する。
【００４７】
図３（ｄ）において、受取位置Ｐ３にウエハＷが存在する。このとき、受取位置Ｐ３にあるウエハ搬送アーム３１の載置面３１ａは、ウエハＷの裏面に密着する。このため、ウエハ搬送アーム３１に形成された吸引孔５１は全て塞がれ、圧力計５６によって検知される吸引圧は所定の閾値より小さくなる。したがって、制御部８０は、置き台４０の受取位置Ｐ３にウエハＷが存在すると判断する。
【００４８】
次に、ウエハ搬送アーム３１は、受取位置Ｐ３のウエハＷを受け取る。すなわち、ウエハ搬送アーム３１の載置面３１ａ上にウエハＷが載置され、吸引孔５１によってウエハＷが吸引される。そしてウエハ搬送アーム３１は、載置面３１ａにウエハＷを載置した状態のまま、受取位置Ｐ３の上方の引出位置まで上昇した後、上昇を停める。その後、置き台４０に対して後退（Ｘ方向マイナス側に移動）し、置き台４０の外方へ移動する（図３（ｅ）参照）。続いて、ウエハ搬送アーム３１は、受け取ったウエハＷを、基板処理装置１０内に残されたウエハＷを収容するためのウエハキャリアへと搬送する。
【００４９】
続いてウエハ搬送アーム３１は、置き台４０の前方（Ｘ方向マイナス側）に再度移動する。次に、ウエハ搬送アーム３１は、置き台４０に対して前進（Ｘ方向プラス側に移動）し、受取位置Ｐ４（検知位置）に到達する（図３（ｆ）参照）。この場合、受取位置Ｐ１〜Ｐ３にはウエハＷが存在しないことが判明しているので、ウエハ搬送アーム３１が受取位置Ｐ４に直接移動することにより、ウエハＷの回収動作に要する時間を短縮することができる。
【００５０】
このようにして、制御部８０は、ウエハ搬送アーム３１を受取位置Ｐ４〜Ｐ１０（検知位置）に順次移動しながら、各受取位置Ｐ４〜Ｐ１０にウエハＷが存在するか否かを判断する。制御部８０は、各受取位置Ｐ４〜Ｐ９にウエハＷが存在しないと判断した場合、ウエハ搬送アーム３１を直接次の受取位置Ｐ５〜Ｐ１０（検知位置）へ移動させる。なお、制御部８０は、最後の受取位置Ｐ１０にウエハＷが存在しないと判断した場合、ウエハ搬送アーム３１を置き台４０の外方へ移動し、一連のウエハＷの回収動作が完了する。
【００５１】
一方、制御部８０は、各受取位置Ｐ４〜Ｐ１０にウエハＷが存在すると判断した場合、ウエハ搬送アーム３１を制御して、各受取位置Ｐ４〜Ｐ１０でウエハＷを受け取るとともに、このウエハＷを置き台４０の外方へと搬送する。
【００５２】
なお、上記において、制御部８０は、ウエハ搬送アーム３１が各受取位置Ｐ１〜Ｐ１０（検知位置）に到達した際、ウエハ搬送アーム３１を各受取位置Ｐ１〜Ｐ１０（検知位置）で都度一時的に停止させて、各受取位置Ｐ１〜Ｐ１０にウエハＷが存在するか否かを判断している。この場合、ウエハＷの検知精度をより向上させることができる。あるいは、ウエハ搬送アーム３１を受取位置Ｐ１（検知位置）から受取位置Ｐ１０（検知位置）まで連続的に移動しながら、各受取位置Ｐ１〜Ｐ１０にウエハＷが存在するか否かを判断しても良い。この場合、ウエハＷの回収動作に要する時間を短縮することができる。
【００５３】
以上に説明したように、本実施の形態によれば、制御部８０は、ウエハ搬送アーム３１を制御して、ウエハ搬送アーム３１を置き台４０の受取位置Ｐ１〜Ｐ９（検知位置）に移動させ、圧力計５６からの検知信号に基づいて当該受取位置Ｐ１〜Ｐ９にウエハＷが存在するかを判断し、当該受取位置Ｐ１〜Ｐ９にウエハＷが存在しないと判断した場合、ウエハ搬送アーム３１を直接次の受取位置Ｐ２〜Ｐ１０（検知位置）へ移動させる。一方、制御部８０は、圧力計５６からの検知信号に基づいて受取位置Ｐ１〜Ｐ１０にウエハＷが存在すると判断した場合、ウエハ搬送アーム３１を制御して、当該受取位置Ｐ１〜Ｐ１０でウエハＷを受け取るとともに、当該ウエハＷを置き台４０の外方へ搬送する。
【００５４】
このことにより、置き台４０内にウエハＷが存在するか否かを短時間で確認することができ、ウエハＷの回収動作に必要な時間を短縮することができる。他方、比較例として、置き台４０にウエハＷが存在するか否かを確認するために、ウエハ搬送アーム３１を、各受取位置Ｐ１〜Ｐ１０と置き台４０外方に設けられているセンサーと間で複数回往復させた場合、ウエハＷの回収動作に必要な時間が長くなってしまう。
【００５５】
また、本実施の形態によれば、置き台４０にウエハＷを検知する検知機構を新たに取り付けることなくウエハＷの有無を検知することができるので、基板処理装置１０のコスト上昇を抑えることができる。
【００５６】
なお、上記実施の形態では、基板検知機構として吸引圧を検知する圧力計（吸引圧検知機構）５６を用いる場合を例にとって説明した。しかしながら、これに限らず、基板検知機構としては、センサー等、ウエハＷを機械的又は光学的に検知する機構を用いても良い。
【００５７】
また、上記実施の形態では、搬送機構３０のウエハ搬送アーム３１が、置き台４０内に残されたウエハＷを検知する場合を例にとって説明した。しかしながら、これに限らず、ウエハ搬送アーム３１に代えて、またはウエハ搬送アーム３１とともにウエハ搬送アーム６１（図１参照）が、同様の方法を用いて置き台４０内に残されたウエハＷを検知しても良い。
【００５８】
例えば、図４に示すように、複数の置き台４０が上下方向に積層され、搬送機構３０のウエハ搬送アーム３１を用いて一の置き台４０内に残されたウエハＷを検知するとともに、搬送機構６０のウエハ搬送アーム６１を用いて他の置き台４０内に残されたウエハＷを検知しても良い。この場合、複数のウエハ搬送アーム３１、６１を用いてウエハＷを検知することにより、ウエハＷの回収動作に要する時間を更に短縮することができる。
【００５９】
さらに、上記実施の形態では、ウエハ搬送アーム３１がウエハＷを検知する検知位置と、ウエハＷの受取位置Ｐ１〜Ｐ１０とが一致する場合を例にとって説明した。しかしながら、これに限らず、ウエハＷを検知する検知位置が、ウエハＷの受取位置Ｐ１〜Ｐ１０と異なる位置であっても良い。例えば、基板検知機構として光学センサーを用いる場合には、ウエハＷを検知する検知位置がウエハＷの受取位置Ｐ１〜Ｐ１０よりも下方に位置していても良い。
【００６０】
さらにまた、上記実施の形態では、置き台４０内でのウエハＷの配列方向が上下方向（Ｚ方向）である場合を例にとって説明した。しかしながら、これに限らず、ウエハＷの配列方向は、水平方向であっても良い。
【符号の説明】
【００６１】
１０        基板処理装置
３０        搬送機構
３１        ウエハ搬送アーム
３２        搬送基台
４０        置き台
４１        筐体
４２ａ〜４２ｊ  スロット
５０        吸引機構
５１        吸引孔
５２        吸引通路
５３        吸引管
５４        真空ポンプ
５５        バルブ
５６        圧力計
６０        搬送機構
６１        ウエハ搬送アーム
８０        制御部
８１        記憶媒体
【図１】
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【図４】
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【図２】
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【図３】
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