(57)【要約】【課題】基板の端面を含む周縁部を保護し、基板端部からの塵埃発生を確実に防止するとともに、基板の端面を含む周縁部に膜形成液を薄く且つ均一に塗布することが可能な塗布装置を提供すること。【解決手段】基板２の端面を含む周縁部に液体を塗布する塗布装置１であって、基板２を支持する支持テーブル１０と、基板２の端部を挟み得るように対向配置された一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂを備えた塗布ユニット２０と、塗布ユニット２０を移動させる移動ユニット４０と、一対の各塗布ローラ２２ａ、２２ｂに膜形成液５６を供給する液供給ユニット５０と、支持テーブル１０に支持された基板２の端部を一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂで挟んだ状態で、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂを基板２の周縁部に沿って移動させるように移動ユニット４０を制御する制御部７０とを装備する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の端面を含む周縁部に液体を塗布する塗布装置であって、
基板を支持する支持手段と、
基板の端部を挟み得るように対向配置された一対の塗布ローラを備えた塗布手段と、
該塗布手段を移動させる移動手段と、
前記一対の塗布ローラの回転面に樹脂成分を含む膜形成液を供給する液供給手段と、
前記支持手段に支持された基板の端部を前記一対の塗布ローラで挟んだ状態で、該一対の塗布ローラを前記基板の周縁部に沿って移動させるように前記移動手段を制御する制御手段とを備えていることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記塗布手段が、
前記一対の塗布ローラを回転させる回転機構部と、
該回転機構部を旋回させる旋回機構部とを備えていることを特徴とする請求項１記載の塗布装置。
【請求項３】
前記回転機構部が前記旋回機構部に対して水平方向に移動可能に取り付けられていることを特徴とする請求項２記載の塗布装置。
【請求項４】
前記回転機構部が、
回転駆動部と、
該回転駆動部に連結された回転力伝達部と、
一端側が該回転力伝達部に連結され、他端側が前記塗布ローラに連結された一対の回転軸部とを備え、
前記液供給手段により供給される膜形成液が前記一対の塗布ローラの回転面から吐出されるように、前記一対の回転軸部内及び前記一対の塗布ローラ内に前記膜形成液の流路が形成されていることを特徴とする請求項２又は請求項３記載の塗布装置
【請求項５】
前記一対の塗布ローラ内に形成される前記膜形成液の前記流路が、前記塗布ローラの中央部から放射状に形成されていることを特徴とする請求項４記載の塗布装置。
【請求項６】
前記基板の周縁部に塗布された前記膜形成液を乾燥させる乾燥手段を備えていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかの項に記載の塗布装置。
【請求項７】
基板の端面を含む周縁部に膜形成液を塗布する塗布方法であって、
上下一対に設けられた塗布ローラの間に前記基板の端部を挟んだ状態で前記一対の塗布ローラを回転させながら、該一対の塗布ローラの回転面に前記膜形成液を供給しつつ、前記一対の塗布ローラを前記基板の周縁部に沿って移動させることにより、前記基板の周縁部に前記膜形成液を塗布する塗布工程を備えていることを特徴とする塗布方法。
【請求項８】
硬化後の膜厚が２０μｍ〜６０μｍとなるように前記膜形成液を塗布することを特徴とする請求項７記載の塗布方法。
【請求項９】
前記基板の周縁部に塗布された前記膜形成液を乾燥させる乾燥工程を備えていることを特徴とする請求項７又は請求項８記載の塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は塗布装置及び塗布方法に関し、より詳細には、基板の周縁部に液体を塗布する塗布装置及び塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子部品の実装用基板としてガラスエポキシ部材を使用したプリント基板が一般的に使用されている。ガラスエポキシ部材は、ガラス繊維布を重ねたものにエポキシ樹脂を含浸させたものである。そのためガラスエポキシ部材を切断すると、エポキシ樹脂又はガラス繊維からなる細かい塵埃が発生する。このような細かい塵埃は基板回路の接触不良や品位の低下などを引き起こすおそれがある。そのため、基板の切断時に生じた塵埃はプリント基板の製造時に除去しておく必要がある。
しかし、プリント基板の端面から塵埃を取り除いたとしても、プリント基板の端面部分は脆いため、崩壊して更なる塵埃が発生するおそれがあるという課題があった。
【０００３】
そこで本発明者は先に、プリント基板の端面に膜形成液を塗布して膜を形成することで、端面部分の崩壊を防止することのできる塗布装置を提案した（特許文献１）。
図７は本発明者が先に提案した塗布装置の要部を示した側面断面図であり、図８は塗布装置の内部機構を示すために筐体を省略して示した概略正面図である。
【０００４】
筐体１０１の搬入口１０１ａ及び搬出口１０１ｂにわたって、前後方向に延びるコンベヤ１０２が配設されている。コンベヤ１０２は支持部材（図示せず）によって筐体１０１に支持されている。筐体１０１には複数の操作スイッチ１０３ａを備えた操作部１０３が設けられている。操作スイッチ１０３ａが操作されることによってコンベヤ１０２が駆動及び停止される。
【０００５】
筐体１０１内のコンベヤ１０２の左右に塗布機構１１０、１１０がそれぞれ設けられている。塗布機構１１０は筐体１０１の後面に対向して配設された固定板１０４に固定され、固定板１０４の下部がボールねじ機構１２０に連結されている。ボールねじ機構１２０は支持部材（図示せず）によって筐体１０１に支持されている。
【０００６】
塗布機構１１０は、塗布円盤１１１、モータ１１２、塗布液供給円盤１１３、及びモータ１１４を備えている。塗布円盤１１１回転用のモータ１１２、１１２は、固定板１０４に水平に取付けられた支持部材１０５に固定され、その回転軸１１２ａは鉛直下向きに配設されている。塗布円盤１１１、１１１は、水平方向に配設され、上方に延びる軸１１１ａを備えている。モータ１１２の回転軸１１２ａに塗布円盤１１１の軸１１１ａが連結され、モータ１１２の駆動によって塗布円盤１１１が回転するようになっている。
【０００７】
塗布液供給円盤１１３回転用のモータ１１４、１１４は、前後方向に延びる枢軸１１５を介して固定板１０４に固定され、その回転軸１１４ａが水平方向に配設されている。塗布液供給円盤１１３、１１３は、塗布円盤１１１、１１１を挟んでコンベヤ１０２の反対側に、鉛直方向に配設され、水平方向に延びる軸１１３ａを備えている。モータ１１４の回転軸１１４ａに供給円盤１１３の軸１１３ａが連結され、モータ１１４の駆動によって、供給円盤１１３が回転するようになっている。塗布液供給円盤１１３の軸１１３ａは塗布円盤１１１の下面よりも下方に位置し、塗布液供給円盤１１３の塗布円盤１１１側上部側面は、塗布円盤１１１の周面に接している。
【０００８】
供給円盤１１３の下方には、樹脂成分を含む膜形成液１１６を収容する箱形の液供給容器１１７が設けられ、供給円盤１１３の下端部が、液供給容器１１７の上方から挿入されて膜形成液１１６に漬けられている。供給円盤１１３の回転に伴い、塗布液供給円盤１１３の下端部から供給円盤１１３の上部に膜形成液１１６が移動し、塗布円盤１１１の外周面に供給されるようになっている。
【０００９】
固定板１０４の下端部には、ボールねじ機構１２０が接続されている。ボールねじ機構１２０は、コンベヤ１０２の下方に配置されたモータ１２１、１２１を備えている。モータ１２１は、コンベヤ１０２から離隔する左右水平方向に延びる回転軸（図示せず）を備えており、該回転軸には左右水平方向に延びる雄ねじ１２２が連結されている。また雄ねじ１２２には筒状の雌ねじ体１２３が嵌合されており、雌ねじ体１２３に固定板１０４の下端中央部が連結されている。モータ１２１の駆動によって、雄ねじ１２２が回転し、雄ねじ１２２の回転に伴い雌ねじ体１２３に連結された固定板１０４が左右に移動可能となっている。
【００１０】
上記した塗布装置によるプリント基板１３０の端面１３０ａへの膜形成液１１６の塗布方法について説明する。まず、操作部１０３の操作スイッチ１０３ａを操作して、モータ１２１を正逆回転させ、プリント基板１３０の左右幅に整合するように、塗布機構１１０，１１０の左右位置を調整する。次に、搬入口１０１ａ側からコンベヤ１０２にプリント基板１３０を載置し、操作スイッチ１０３ａを操作して、コンベヤ１０２、モータ１１２、１１２及びモータ１１４、１１４を駆動させる。
【００１１】
コンベヤ１０２によってプリント基板１３０は塗布機構１１０まで搬送され、塗布円盤１１１、１１１の周面１１１ｂ、１１１ｂに左右端面１３０ａ、１３０ａが当接する。このとき塗布円盤１１１の周面１１１ｂに付着している膜形成液１１６がプリント基板１３０の左右端面１３０ａ、１３０ａに塗布される。そしてプリント基板１３０の搬送にしたがって、プリント基板１３０の左右端面１３０ａ、１３０ａ全体に膜形成液１１６が塗布され、塗布後、搬出口１０１ｂからプリント基板１３０が搬出され、膜形成液１１６に含まれる樹脂成分を硬化させる。
【００１２】
上記塗布装置によれば、塗布円盤１１１、１１１によってプリント基板１３０の両側端面１３０ａ、１３０ａに膜形成液１１６が塗布され、プリント基板１３０の両端面１３０ａ、１３０ａに塗膜を形成することが可能となった。
【００１３】
しかしながら、上記塗布装置では、膜形成液１１６が供給円盤１１３を介して塗布円盤１１１の外周面１１１ｂに供給され、塗布円盤１１１の外周面１１１ｂに付着している膜形成液１１６がプリント基板１３０の端面１３０ａに塗布される構成であるため、塗布円盤１１１の外周面１１１ｂに対する膜形成液１１６の供給状態にバラツキが生じ易い。
【００１４】
塗布円盤１１１の外周面１１１ｂに対する膜形成液１１６の供給状態を安定させるためには膜形成液１１６の粘度を比較的高め（垂れ落ちない程度）に調整する必要があり、膜厚を薄く且つ均一に塗布することが難しいという課題があった。
【００１５】
他方、各種電子機器の薄形化や小型化に対応させるために、近年、厚みが数十μｍ〜数百μｍ程度の薄形の銅張積層基板（パッケージ基板とも言う）の需要が高まってきている。
このような薄形基板に対しては、膜形成液を基板端面にのみ塗布することは容易ではなく、基板の端面を含む周縁部に、例えば、額縁状に塗布するような形態が望ましいと考えられる。
【００１６】
しかしながら上記塗布装置では、プリント基板１３０の端面１３０ａにのみ膜形成液１１６を塗布する構成となっており、基板端面を含む周縁部に膜形成液を額縁状に薄く均一に塗布することができないという課題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１７】
【特許文献１】国際公開第２０１０／１３７４１８号
【発明の概要】
【課題を解決するための手段及びその効果】
【００１８】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであって、基板の端面を含む周縁部を保護し、基板端部からの塵埃の発生を確実に防止するとともに、基板の端面を含む周縁部に膜形成液を薄く且つ均一な膜厚で塗布することが可能な塗布装置及び塗布方法を提供することを目的としている。
【００１９】
上記目的を達成するために本発明に係る塗布装置（１）は、基板の端面を含む周縁部に液体を塗布する塗布装置であって、基板を支持する支持手段と、基板の端部を挟み得るように対向配置された一対の塗布ローラを備えた塗布手段と、該塗布手段を移動させる移動手段と、前記一対の塗布ローラの回転面に樹脂成分を含む膜形成液を供給する液供給手段と、前記支持手段に支持された基板の端部を前記一対の塗布ローラで挟んだ状態で、該一対の塗布ローラを前記基板の周縁部に沿って移動させるように前記移動手段を制御する制御手段とを備えていることを特徴としている。
【００２０】
上記塗布装置（１）によれば、前記支持手段に支持された基板の端部を前記一対の塗布ローラで挟んだ状態で、該一対の塗布ローラの回転面に前記膜形成液を供給しつつ、前記一対の塗布ローラを前記基板の周縁部に沿って移動させることができる。したがって、前記支持手段に支持された基板の周縁部の上下面に前記膜形成液を薄く且つ均一に塗布することができ、また、前記一対の塗布ローラ間に生じる表面張力により前記基板の端面（側面）にも前記膜形成液を塗布することができ、前記基板の周縁部に塗膜を額縁状に薄く且つ均一な膜厚で形成することができる。そのため、前記基板の端面部分の崩壊による塵埃の発生を防止することができるとともに前記基板の周縁部を塗膜で補強することができ、前記基板の取り扱い性を高めることができる。
【００２１】
また本発明に係る塗布装置（２）は、上記塗布装置（１）において、前記塗布手段が、前記一対の塗布ローラを回転させる回転機構部と、該回転機構部を旋回させる旋回機構部とを備えていることを特徴としている。
【００２２】
上記塗布装置（２）によれば、前記旋回機構部によって前記回転機構部を旋回させることができるので、例えば、矩形の基板の周縁部に膜形成液を塗布する場合、該基板の端面に対する前記回転機構部の前記一対の塗布ローラの向きを該基板の各辺共に同じ向きに設定することができ、該基板の各辺共に同じ状態で安定した塗布を行うことができる。
【００２３】
また本発明に係る塗布装置（３）は、上記塗布装置（２）において、前記回転機構部が前記旋回機構部に対して水平方向に移動可能に取り付けられていることを特徴としている。
【００２４】
上記塗布装置（３）によれば、前記回転機構部を前記旋回機構部に対して水平方向に移動させることができる。したがって、前記回転機構部の位置（より具体的には前記一対の塗布ローラの位置）の微調整、すなわち、前記一対の塗布ローラで狭持する前記基板端部の幅の微調整を行うことができ、前記一対の塗布ローラの位置制御をより高精度に行うことができる。
【００２５】
また本発明に係る塗布装置（４）は、上記塗布装置（２）又は（３）において、前記回転機構部が、回転駆動部と、該回転駆動部に連結された回転力伝達部と、一端側が該回転力伝達部に連結され、他端側が前記塗布ローラに連結された一対の回転軸部とを備え、前記液供給手段により供給される膜形成液が前記一対の塗布ローラの回転面から吐出されるように、前記一対の回転軸部内及び前記一対の塗布ローラ内に前記膜形成液の流路が形成されていることを特徴としている。
【００２６】
上記塗布装置（４）によれば、前記膜形成液が前記一対の回転軸内及び前記一対の塗布ローラ内に形成された前記流路を流れて、前記一対の各塗布ローラの回転面から吐出されるので、前記基板の周縁部に前記膜形成液を直接的に供給でき、ムラなく塗布することができる。
【００２７】
また本発明に係る塗布装置（５）は、上記塗布装置（４）において、前記一対の塗布ローラ内に形成される前記膜形成液の前記流路が、前記塗布ローラの中央部から放射状に形成されていることを特徴としている。
【００２８】
上記塗布装置（５）によれば、前記一対の塗布ローラ内に形成される前記膜形成液の前記流路が、前記塗布ローラの中央部から放射状に形成されているので、前記一対の各塗布ローラの回転面全周に前記膜形成液を安定的に供給することができる。
【００２９】
また本発明に係る塗布装置（６）は、上記塗布装置（１）〜（５）のいずれかにおいて、前記基板の周縁部に塗布された前記膜形成液を乾燥させる乾燥手段を備えていることを特徴としている。
【００３０】
上記塗布装置（６）によれば、前記乾燥手段によって、前記膜形成液の塗布後すぐに前記膜形成液を乾燥させることができ、その後の作業性を高めることができ、また前記膜形成液のはがれ等の塗布不良を防止する効果を高めることができる。
【００３１】
また本発明に係る塗布方法（１）は、基板の端面を含む周縁部に膜形成液を塗布する塗布方法であって、上下一対に設けられた塗布ローラの間に前記基板の端部を挟んだ状態で前記一対の塗布ローラを回転させながら、該一対の塗布ローラの回転面に前記膜形成液を供給しつつ、前記一対の塗布ローラを前記基板の周縁部に沿って移動させることにより、前記基板の周縁部に前記膜形成液を塗布する塗布工程を備えていることを特徴としている。
【００３２】
上記塗布方法（１）によれば、前記基板の端部を前記一対の塗布ローラで挟んだ状態で、該一対の塗布ローラの回転面に前記膜形成液を供給しつつ、前記一対の塗布ローラを前記基板の周縁部に沿って回転させながら移動させることにより前記基板の周縁部に前記膜形成液が塗布される。したがって、前記基板の周縁部の上下面に前記膜形成液を薄く且つ均一に塗布することができ、また、前記一対の塗布ローラ間に生じる表面張力により前記基板の端面（側面）にも前記膜形成液を塗布することができ、前記基板の周縁部に塗膜を額縁状に薄く且つ均一な膜厚で形成することができる。そのため、前記基板の端面部分の崩壊による塵埃の発生を防止することができるとともに前記基板の周縁部を塗膜で補強することができ、前記基板の取り扱い性を高めることができる。
【００３３】
また本発明に係る塗布方法（２）は、上記塗布方法（１）において、硬化後の膜厚が２０μｍ〜６０μｍとなるように前記膜形成液を塗布することを特徴としている。
【００３４】
上記塗布方法（２）によれば、前記塗布工程が、硬化後の膜厚が２０μｍ〜６０μｍとなるように膜形成液を塗布するので、厚みが数十μｍから数百μｍの薄形基板に対して、該基板の周縁部に薄い膜厚の塗膜を形成するのに適した方法とすることができる。
【００３５】
また本発明に係る塗布方法（３）は、上記塗布方法（１）又は（２）において、前記基板の周縁部に塗布された前記膜形成液を乾燥させる乾燥工程を備えていることを特徴としている。
【００３６】
上記塗布方法（３）によれば、前記基板の周縁部に塗布された前記膜形成液を乾燥させる乾燥工程を備えているので、前記膜形成液の塗布後すぐに前記膜形成液を乾燥させることができ、その後の作業性を高めることができ、また前記膜形成液のはがれ等の塗布不良を防止する効果を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の実施の形態に係る塗布装置の要部を示すために筐体を省略して示した概略側面図である。
【図２】実施の形態に係る塗布装置の塗布ユニット周辺の要部を示すために筐体を省略して示した概略正面図である。
【図３】実施の形態に係る塗布装置を構成する塗布ユニットの構造を概略的に示した正面部分断面図である。
【図４】図３におけるIV−IV線拡大断面図である。
【図５】実施の形態に係る塗布装置の塗布ローラの動作を説明するための平面図である。
【図６】実施の形態に係る塗布装置を用いて塗布された基板の周縁部付近を示した図であり、（ａ）は部分斜視図、（ｂ）は（ａ）におけるｂ−ｂ線断面図である。
【図７】従来の塗布装置の概略側面図である。
【図８】従来の塗布装置の内部機構を示すために筐体を省略して示した概略正面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３８】
以下、本発明に係る塗布装置及び塗布方法の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１は、実施の形態に係る塗布装置の要部を示すために筐体を省略して示した概略側面図であり、図２は塗布装置の塗布ユニット周辺の要部を示すために筐体を省略して示した概略正面図である。図３は、塗布ユニットの構造を概略的に示した正面部分断面図である。
【００３９】
塗布装置１は、基板２を支持する支持テーブル１０、上下一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂを備えた塗布ユニット２０、及び塗布ユニット２０を移動させる移動ユニット４０を含んで構成されている。
【００４０】
また、塗布装置１には、各塗布ローラ２２ａ、２２ｂの回転面２２ｃ（図３参照）に樹脂成分を含む膜形成液５６を供給する液供給ユニット５０、基板２に塗布された膜形成液５６の乾燥を行う乾燥炉６０、装置各部の駆動を制御する制御部７０及び操作部８０が装備されている。
【００４１】
支持テーブル１０は、基板２の搬送方向に平行に配設された搬送レール１２の間に配設されている。搬送レール１２は、リニア機構などによって、基板２の搬送方向に平行に配設された固定レール１１上をスライド移動可能に構成されている。支持テーブル１０は昇降機構１３によって昇降可能に支持され、昇降機構１３は固定レール１１の間に設置された支持部材１４に取り付けられている。固定レール１１は、筐体（図示せず）に固定されている。
【００４２】
搬送レール１２が固定レール１１上をスライド移動して、搬送レール１２に載置された基板２が支持テーブル１０の上まで搬送されると、次に昇降機構１３が作動して、搬送レール１２の上面より下に位置させていた支持テーブル１０が上昇し、基板２が支持テーブル１０の上に支持された状態で所定の塗布位置まで上昇する。また塗布後、昇降機構１３が作動し、支持テーブル１０が降下し、基板２が搬送レール１２上に載置されるようになっている。
【００４３】
また、支持テーブル１０には吸着機構（図示せず）が設けられており、基板２を支持テーブル１０の上面に吸着させることが可能となっている。吸着機構としては、支持テーブル１０に複数のエア吸気孔を設け、これらエア吸気孔にエアチューブを介して真空ポンプが連結された構成などが採用できる。
【００４４】
移動ユニット４０は、塗布ユニット２０を２軸（ＸＹ軸）方向に水平移動させる２軸（ＸＹ軸）直動機構で構成され、筐体（図示せず）に固定されたＸ軸シリンダ４１、Ｘ軸シリンダ４１に一端側がスライド移動可能に連結されたＹ軸シリンダ４２、Ｙ軸シリンダ４２上をスライド移動するＹ軸スライダ４３、及びＹ軸シリンダ４２の他端側を支持する支持ガイド４４を含んで構成されている。Ｙ軸スライダ４３には塗布ユニット２０が取付けられている。支持ガイド４４は筐体（図示せず）に固定されている。Ｙ軸シリンダ４２及びＹ軸スライダ４３の動作は制御部７０で制御されるようになっている。
【００４５】
塗布ユニット２０は、回転機構部２１及び旋回機構部２３を含んで構成されている。図３に示すように、回転機構部２１は上下一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂを回転させるように構成されている。旋回機構部２３は、旋回モータ２５の回転軸２５ａを中心に回転機構部２１を旋回させるように構成されている。
【００４６】
旋回機構部２３は、Ｙ軸スライダ４３に連結された連結部材２４、連結部材２４に取り付けられた旋回モータ２５、鉛直方向に延びた旋回モータ２５の回転軸２５ａと連結された回転軸部２６及び回転軸部２６に連結された旋回アーム２７を含んで構成されている。
【００４７】
回転軸部２６は、回転軸２６ａ及び回転軸２６ａを回転可能に支持する玉軸受（図示せず）を含んで構成され、回転軸２６ａの上端側が旋回モータ２５の回転軸２５ａに連結され、回転軸２６ａの下端側が旋回アーム２７に連結されている。
【００４８】
旋回アーム２７は、水平方向に延設された腕部２７ａを備え、腕部２７ａの下面中間部には、回転機構部２１を腕部２７ａの長手方向（水平方向）にスライド移動させるためのスライド機構２８が設けられている。スライド機構２８には、回転機構部２１を取り付けるための連結部材２９が取り付けられている。スライド機構２８には、電動式の直動案内機構などが採用され得る。
【００４９】
また、旋回アーム２７の旋回停止位置を検出するためのセンサ（例えばコの字型フォトセンサ）（図示せず）が、回転軸部２６の周囲に９０度間隔で配設され、旋回アーム２７が９０度旋回すると、旋回アーム２７に設置された遮光板（図示せず）が前記センサの受光部を遮ることで、停止位置が検出されるように構成されている。
【００５０】
回転機構部２１は、回転モータ３０、水平方向に延びた回転モータ３０の回転軸３０ａに連結された歯車機構３１（平歯車３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ）、回転軸３２ａ、３２ｂ、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂ、各塗布ローラ２２ａ、２２ｂが回転可能に保持される保持部材３３ａ、３３ｂを含んで構成され、これら部品が取付部材３４ａ、３４ｂに組み付けられている。回転機構部２１は連結部材２９を介して旋回アーム２７のスライド機構２８に取付けられている。
【００５１】
回転軸３２ａは、一端側が平歯車３１ｃの中心孔３１ｅに挿着され、他端側が塗布ローラ２２ａの中心部分に連結され、玉軸受やベアリングスペーサ（いずれも図示せず）を介して取付部材３４ａに回転可能に取り付けられている。
回転軸３２ｂは、一端側が平歯車３１ｄの中心孔３１ｅに挿着され、他端側が塗布ローラ２２ｂの中心部分に連結され、玉軸受やベアリングスペーサ（いずれも図示せず）を介して取付部材３４ａに回転可能に取り付けられている。なお、塗布ローラ２２ａ及び回転軸３２ａが一体的に形成されたものを採用することができ、同様に、塗布ローラ２２ｂ及び回転軸３２ｂが一体的に形成されたものを採用することができる。
【００５２】
また、回転軸３２ａ、３２ｂは、それぞれ軸孔３２ｄを備えた管状部材で構成され、平歯車３１ｃ、３１ｄ側の端部には、液供給ユニット５０を構成するノズル部（管継手）５１ａ、５１ｂがそれぞれ接続されている。
また、平歯車３１ａと平歯車３１ｃとの間に設けられた平歯車３１ｂの中心孔３１ｅには、玉軸受（図示せず）を介して軸材３２ｃが挿着され、軸材３２ｃの他端が取付部材３４ａに固定されている。
回転モータ３０の回転力が、歯車機構３１（平歯車３１ａ、３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ）、回転軸部３２ａ、３２ｂを介して塗布ローラ２２ａ、２２ｂに伝達されるようになっている。
【００５３】
図４は、図３における一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂ付近のIV−IV線拡大断面図を示している。塗布ローラ２２ａ、２２ｂは円盤状の外形を有し、略中央部に回転軸３２ａ、３２ｂの各軸孔３２ｄと連通する穴部２２ｄが形成され、穴部２２ｄから放射状に複数の流路孔２２ｅが形成されている。なお、塗布ローラ２２ａ、２２ｂの直径は１５ｍｍ〜５０ｍｍ程度、幅は１０ｍｍ〜３０ｍｍ程度に設計することが好ましい。
【００５４】
液供給ユニット５０は、回転軸３２ａに膜形成液５６を供給するノズル部５１ａと、液収容部５２からノズル部５１ａに膜形成液５６を供給する電動式の供給ポンプ５３と、回転軸３２ｂに膜形成液５６を供給するノズル部５１ｂと、液収容部５２からノズル部５１ｂに膜形成液５６を供給する電動式の供給ポンプ５４とを含んで構成されている。
【００５５】
供給ポンプ５３及びノズル部５１ａは液収容部５２からチューブ５５で連結され、同様に供給ポンプ５４及びノズル部５１ｂも液収容部５２からチューブ５５で連結されている。液供ユニット５０により液収容部５２内の膜形成液５６が、供給ポンプ５３、ノズル部５１ａ、回転軸３２ａの軸孔３２ｄ、塗布ローラ２２ａの穴部２２ｄ及び流路孔２２ｅを経由して、塗布ローラ２２ａの回転面２２ｃに吐出されるようになっている。
【００５６】
また、同様に液収容部５２内の膜形成液５６が、供給ポンプ５４、ノズル部５１ｂ、回転軸３２ｂの軸孔３２ｄ、塗布ローラ２２ｂの穴部２２ｄ及び流路孔２２ｅを経由して、塗布ローラ２２ｂの回転面２２ｃに吐出されるようになっている。なお、制御部７０では、供給ポンプ５３、５４をともに駆動させる制御の他、いずれか一方の供給ポンプ（５３又は５４）を駆動させる制御を行うことも可能となっている。
【００５７】
膜形成液５６としては、基板処理工程（エッチング工程やメッキ工程など）で剥がれない特性（酸及び／又はアルカリに対する耐性）があり、基板表面への付着性等に優れるように複数の樹脂成分が混合されたものを使用することが好ましい。また、膜形成液５６を塗布する膜厚に応じて適宜粘度を調整する、例えば、膜厚を薄くする場合は粘度を下げることが好ましい。また、旋回モータ２５の駆動タイミング、回転モータ３０の回転速度や駆動タイミングなどは制御部７０で制御されるようになっている。
【００５８】
また、図１に示すように、塗布ユニット２０の後方に乾燥炉６０が設けられている。塗布ユニット２０によって塗布された基板２が搬送レール１２の上に載せられて乾燥炉６０内に搬送され、所定の乾燥時間の経過後、乾燥炉６０から搬出されるようになっている。
乾燥炉６０の内壁面には断熱材６１が配設され、乾燥炉６０内には棒状のフィンヒータ６２が井桁状に配設され、乾燥炉６０内の内側面には、空気を乾燥炉６０内に送り込むための供給孔（図示せず）が所定間隔毎に形成された供給配管６３が周設されている。供給配管６３は、乾燥炉６０外部のエアポンプ６４に接続されている。
【００５９】
制御部７０は、搬送レール１２のスライド移動制御、移動ユニット４０のＸＹ軸直動制御、塗布ユニット２０の回転・旋回・スライド移動制御、昇降機構１３による支持テーブル１０の昇降制御、吸着制御、液供給ユニット５０の供給ポンプ５３、５４の駆動制御、及び乾燥炉６０の温度制御など、塗布装置１各部の制御を行う機能を有しており、マイコン、ドライバ回路、記憶部及び電源部など（いずれも図示せず）を含んで構成されている。なお、制御部７０は１つ又は複数の制御ユニットで構成することができる。
また、制御部７０は、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂの間に、支持テーブル１０に支持された基板２の端部を挟ませて、その状態で一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂを基板２の周縁部に沿って回転移動させるように移動ユニット４０や塗布ユニット２０の各部を駆動制御する機能を有している。
【００６０】
操作部８０は、液晶操作パネル８１を備えており、筐体（図示せず）に取り付けられている。液晶操作パネル８１を通じて、塗布装置１各部の動作条件の設定、各部の動作指示、動作モード（手動、自動など）の切り替えなどの各種操作を行うことが可能となっている。操作パネル８１を介して入力された操作信号や設定信号が制御部７０などに送信されるようになっている。
例えば、操作部８０では、移動ユニット４０のＸＹ軸直動機構による塗布ユニット２０の水平移動速度、塗布ユニット２０の回転モータ３０の回転速度、液供給ユニット５０の供給ポンプ５３、５４による膜形成液５６の送り速度などの動作条件の設定、乾燥炉６０のフィンヒータ６２による炉内温度設定や乾燥時間設定などを行うことができるようになっている。
【００６１】
次に、実施の形態に係る塗布装置１を用いた基板２の周縁部への膜形成液５６の塗布方法について説明する。なお、被塗布対象として、矩形をした薄形の銅張積層基板を用いた場合について説明する。
【００６２】
まず、搬入側に移動させた搬送レール１２上の所定の位置に基板２を載置し、操作部８０を操作して、搬送レール１２を塗布ユニット２０側にスライド移動させる。
搬送レール１２が移動して基板２が支持テーブル１０の上の位置に運ばれて来ると、搬送レール１２の移動が停止し、次に昇降機構１３が作動して、支持テーブル１０が上昇してゆき、支持テーブル１０上に基板２が支持され、さらに所定の位置（塗布ユニット２０の一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂ間の高さ位置）まで支持テーブル１０が上昇する。また、吸着機構（図示せず）も作動して、支持テーブル１０上に基板２が吸着された状態で支持される。
【００６３】
次の塗布工程は、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂで基板２の端部を挟んだ状態のまま一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂを回転させながら、その回転面２２ｃから膜形成液５６を吐出しつつ、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂを基板２の４辺の周縁部に沿って移動させる工程である。
【００６４】
図５は、基板２の周縁部を一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂで塗布する工程を説明するための図である。図中の破線は、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂの移動軌跡を示している。なお図５には上側の塗布ローラ２２ａのみ示している。
まず、移動ユニット４０のＹ軸シリンダ４２及びＹ軸スライダ４３を駆動させて一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂをＡの位置にセットし、また、塗布ユニット２０の旋回モータ２５を駆動させて、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂの回転方向と、塗布ローラ２２ａ、２２ｂの進行方向とが一致するように回転機構部２１を旋回させる。
【００６５】
その後、Ｙ軸シリンダ４２をＸ軸シリンダ４１に沿ってａ方向に移動させることにより、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂをａ方向に移動させて、図５における基板２の右辺２ａの周縁部に膜形成液５６を塗布していく。
【００６６】
すなわち、基板右辺２ａの周縁部を一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂで挟んだ状態（図４に示した状態）で、回転モータ３０を駆動させて一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂを回転させながら、供給ポンプ５３、５４を駆動させてノズル部５１ａ、５１ｂから回転軸３２ａ、３２ｂを介して一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂの回転面２２ｃから膜形成液５６を吐出させながら移動させる。なお、塗布時には、基板２の端部が一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂの横幅からはみ出さないように、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂの位置が制御されている。
【００６７】
一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂがＢ位置（基板２の角部手前）に到達すると、塗布ユニット２０の旋回アーム２７に設けられたスライド機構２８を作動させて、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂを基板２から離す方向（ｄ方向）に回転機構部２１を数ｍｍ程度スライド移動させ、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂを基板２から離して、基板右辺２ａの塗布を終える。なお、Ｂ位置で一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂを基板２から離すのは、基板角部への膜形成液５６の２度塗りを防止するためであるが、Ｂ位置で一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂを基板２から離さずに、基板右辺２ａ全体を塗布することも可能である。
【００６８】
その後、移動ユニット４０を駆動させて一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂをＣ位置まで移動させた後、スライド機構２８でスライド移動させた回転機構部２１をもとの位置に戻し、旋回機構部２３の旋回モータ２５を駆動させて、回転機構部２１を９０度左回りに旋回させ、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂの回転方向と、塗布ローラ２２ａ、２２ｂの進行方向とを一致させる。
【００６９】
その後、移動ユニット４０を駆動させて塗布ローラ２２ａ、２２ｂをＤ位置にセットし、Ｙ軸スライダ４３をＹ軸シリンダ４２に沿ってｂ方向に移動させることにより、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂをｂ方向に移動させて、基板右辺２ａと同様の動作で基板上辺２ｂの周縁部に膜形成液５６を塗布する。
【００７０】
一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂがＥ位置（基板２の角部手前）に到達すると、上記したＢ位置における動作と同様に、塗布ユニット２０の旋回アーム２７に設けられたスライド機構２８を作動させて、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂを基板２から離す方向に回転機構部２１を数ｍｍ程度スライド移動させ、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂを基板２から離して、基板上辺２ｂの塗布を終える。
【００７１】
その後、移動ユニット４０を駆動させて一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂをＦ位置まで移動させた後、スライド機構２８でスライド移動させた回転機構部２１をもとの位置に戻し、旋回機構部２３の旋回モータ２５を駆動させて、回転機構部２１を９０度左回りに旋回させ、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂの回転方向と、塗布ローラ２２ａ、２２ｂの進行方向とを一致させる。
【００７２】
その後、移動ユニット４０を駆動させて一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂをＧ位置にセットし、Ｙ軸シリンダ４２をＸ軸シリンダ４１に沿ってｃ方向に移動させることにより、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂをｃ方向に移動させて、基板上辺２ｂと同様の動作で基板左辺２ｃの周縁部に膜形成液５６を塗布する。
【００７３】
一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂがＨ位置（基板２の角部手前）に到達すると、上記したＢ位置における動作と同様に、塗布ユニット２０の旋回アーム２７に設けられたスライド機構２８を作動させて、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂを基板２から離す方向に回転機構部２１を数ｍｍ程度スライド移動させ、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂを基板２から離して、基板左辺２ｃの塗布を終える。
【００７４】
その後、移動ユニット４０を駆動させて一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂをＩ位置まで移動させた後、スライド機構２８でスライド移動させた回転機構部２１をもとの位置に戻し、旋回機構部２３の旋回モータ２５を駆動させて、回転機構部２１を９０度左回りに旋回させ、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂの回転方向と、塗布ローラ２２ａ、２２ｂの進行方向とを一致させる。
【００７５】
その後、移動ユニット４０を駆動させて一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂをＪ位置にセットし、Ｙ軸スライダ４３をＹ軸シリンダ４２に沿ってｄ方向に移動させることにより、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂをｄ方向に移動させて、基板左辺２ｃと同様の動作で基板下辺２ｄの周縁部に膜形成液５６を塗布する。
【００７６】
一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂがＫ位置（基板２の角部手前）に到達すると、上記したＢ位置における動作と同様に、塗布ユニット２０の旋回アーム２７に設けられたスライド機構２８を作動させて、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂを基板２から離す方向に回転機構部２１を数ｍｍ程度スライド移動させ、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂを基板２から離して、基板下辺２ｄの塗布を終え、その後、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂをＬ位置まで移動させた後、スライド機構２８でスライド移動させた回転機構部２１をもとの位置に戻し、基板２の４辺の塗布作業を終える。
【００７７】
上記した塗布工程の終了後、次に乾燥工程に進む。まず、塗布終了後、昇降機構１３が作動して、支持テーブル１０が降下してゆき、基板２が搬送レール１２上に載置される。その後、搬送レール１２が乾燥炉６０方向にスライド移動し、所定の温度に設定された乾燥炉６０内に基板２が搬送される。所定の乾燥時間が経過すると、搬送レール１２が移動し、基板２が乾燥炉６０から搬出され、乾燥工程を終える。
【００７８】
図６は、実施の形態に係る塗布装置１を用いて塗布された基板２の周縁部付近を示した図であり、（ａ）は部分斜視図、（ｂ）は（ａ）におけるｂ−ｂ線断面図である。
基板２の周縁部には、樹脂成分からなる塗膜５６ａが額縁状（端面及び上下面）に形成されている。塗膜５６ａの膜厚は、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂの移動速度、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂの回転速度、膜形成液５６の送り速度、膜形成液５６の粘度などを調整することにより、２０μｍ〜６０μｍの厚さに制御することが可能となっている。また、上下面の塗布幅は、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂと基板２端部との重ね幅で調整することができ、１ｍｍ〜１０ｍｍ程度に調整可能となっている。
【００７９】
なお、制御部７０では、供給ポンプ５３、５４をともに駆動させる制御の他、いずれか一方の供給ポンプ（５３又は５４）を駆動させる制御を行うことができる。したがって、供給ポンプ５３のみを駆動させることにより、基板２の周縁部の上面及び端面部分のみに膜形成液５６を塗布することができ、また、供給ポンプ５４のみを駆動させることにより、基板２の周縁部の下面及び端面部分にのみに膜形成液５６を塗布することができる。
【００８０】
上記実施の形態に係る塗布装置１によれば、支持テーブル１０に支持された基板２の端部を一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂで挟んだ状態で、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂの回転面２２ｃに膜形成液５６を供給しつつ、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂを基板２の周縁部に沿って移動させることができる。したがって、支持テーブル１０に支持された基板２の周縁部の上下面に膜形成液５６を薄く且つ均一に塗布することができる。
【００８１】
また、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂの隙間に生じる表面張力により基板２の端面にも膜形成液５６を塗布することができ、基板２の周縁部に塗膜を額縁状に薄く且つ均一な膜厚で形成することができる。
そのため、基板２の端面部分の崩壊による塵埃の発生を確実に防止することができるとともに、基板２の周縁部を塗膜で補強することができ、後工程における基板２の取り扱い性を高めることができる。
【００８２】
また、酸やアルカリに耐性のある膜形成液５６を使用することで、基板処理工程（エッチング工程やメッキ工程など）における作業性の向上やコストダウンを図ることができる。例えば、めっき耐性を備えた膜形成液５６を使用することにより、基板２の周縁部にめっきが付着することを防止でき、基板周縁部のマスキングを行うことができ、マスキングの作業効率の向上を図ることができる。
【００８３】
また、塗布装置１によれば、旋回機構部２３によって回転機構部２１を旋回させることができるので、矩形の基板２の周縁部に膜形成液５６を塗布する場合、基板２の端面に対する回転機構部２１の向きを基板２の各辺共に同じ向きに設定することができ、基板２の各辺共に同じ状態で安定した塗布を行うことができる。
【００８４】
また、スライド機構２８によって回転機構部２１を旋回機構部２３に対して水平方向に移動させることができる。したがって、回転機構部２１の位置（一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂの位置）の微調整、すなわち、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂによる基板２の端面の挟持幅の微調整を行うことができ、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂの位置制御をより高精度に行うことができる。
【００８５】
また、塗布装置１によれば、液供給ユニット５０により供給される膜形成液５６が各塗布ローラ２２ａ、２２ｂの回転面２２ｃから吐出されるように、各回転軸部３２ａ、３２ｂに軸孔３２ｄが形成され、各塗布ローラ２２ａ、２２ｂに穴部２２ｄ及び流路孔２２ｅが形成されているので、膜形成液５６を各回転軸３２ａ、３２ｂ内及び各塗布ローラ２２ａ、２２ｂ内に流して、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂの回転面２２ｃから吐出させることができ、基板２の周縁部に膜形成液５６を直接的に供給でき、塗りムラなく塗布することができる。
【００８６】
また、一対の塗布ローラ２２ａ、２２ｂ内に形成される流路孔２２ｅが、塗布ローラ２２ａ、２２ｂの中央の穴部２２ｄから放射状に形成されているので、各塗布ローラ２２ａ、２２ｂの回転面２２ｃ全周に膜形成液５６を安定的に供給することができる。
【００８７】
また塗布装置１は、乾燥炉６０を備えているので、乾燥炉６０によって、膜形成液５６の塗布後すぐに膜形成液５６を乾燥させることができ、その後の作業性を高めることができ、また膜形成液５６のはがれ等の塗布不良を防止する効果を高めることができる。
【００８８】
なお、塗布装置１で対応できる被塗布対象となる基板の種類は特に限定されないが、厚さ数百μｍ〜数十μｍ程度の薄板状又はフィルム状の各種材質から構成される基板に好適に適用することができる。
【００８９】
また、塗布ローラ２２ａ、２２ｂの回転面２２ｃから吐出された膜形成液５６は、下方に垂れ落ちないように、膜形成液５６の供給速度や粘度を調整することが好ましいが、別の実施の形態では、塗布ローラ２２ａ、２２ｂの下方に、塗布ローラ２２ａ、２２ｂの回転面２２ｃから吐出された膜形成液５６を受ける液受け部（図示せず）を設け、該液受け部で受けた膜形成液５６を液収容部５２に移送する移送手段（ポンプなど）をさらに装備する構成とすることにより、膜形成液５６を回収して再利用することができる装置とすることができる。
【符号の説明】
【００９０】
１    塗布装置
１０  支持テーブル
１１  固定レール
１２  搬送レール
１３  昇降機構
２０  塗布ユニット
２１  回転機構部
２２ａ、２２ｂ  塗布ローラ
２３  旋回機構部
４０  移動ユニット
４１  Ｘ軸シリンダ
４２  Ｙ軸シリンダ
４３  Ｙ軸スライダ
５０  液供給ユニット
５１ａ、５１ｂ  ノズル部
５２  液供給部
５３、５４  供給ポンプ
５６  膜形成液
６０  乾燥炉
７０  制御部
８０  操作部
【図１】
2015003303.tif 000003
【図２】
2015003303.tif 000004
【図３】
2015003303.tif 000005
【図４】
2015003303.tif 000006
【図５】
2015003303.tif 000007
【図６】
2015003303.tif 000008
【図７】
2015003303.tif 000009
【図８】
2015003303.tif 000010
【手続補正書】
【提出日】平成26年8月8日(2014.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
上記目的を達成するために本発明に係る塗布装置（１）は、基板の端面を含む周縁部に液体を塗布する塗布装置であって、基板を支持する支持手段と、基板の端部を挟み得るように対向配置された一対の塗布ローラを備えた塗布手段と、該塗布手段を移動させる移動手段と、前記一対の塗布ローラの回転面に樹脂成分を含む膜形成液を供給する液供給手段と、前記支持手段に支持された基板の端部を前記一対の塗布ローラで挟んだ状態で、該一対の塗布ローラを前記基板の周縁部に沿って移動させるように前記移動手段を制御する制御手段とを備え、前記塗布手段が、前記一対の塗布ローラを回転させる回転機構部と、該回転機構部を旋回させる旋回機構部とを備えていることを特徴としている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また上記塗布装置（１）によれば、前記旋回機構部によって前記回転機構部を旋回させることができるので、例えば、矩形の基板の周縁部に膜形成液を塗布する場合、該基板の端面に対する前記回転機構部の前記一対の塗布ローラの向きを該基板の各辺共に同じ向きに設定することができ、該基板の各辺共に同じ状態で安定した塗布を行うことができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また本発明に係る塗布装置（２）は、上記塗布装置（１）において、前記回転機構部が前記旋回機構部に対して水平方向に移動可能に取り付けられていることを特徴としている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
上記塗布装置（２）によれば、前記回転機構部を前記旋回機構部に対して水平方向に移動させることができる。したがって、前記回転機構部の位置（より具体的には前記一対の塗布ローラの位置）の微調整、すなわち、前記一対の塗布ローラで狭持する前記基板端部の幅の微調整を行うことができ、前記一対の塗布ローラの位置制御をより高精度に行うことができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また本発明に係る塗布装置（３）は、上記塗布装置（１）又は（２）において、前記回転機構部が、回転駆動部と、該回転駆動部に連結された回転力伝達部と、一端側が該回転力伝達部に連結され、他端側が前記塗布ローラに連結された一対の回転軸部とを備え、前記液供給手段により供給される膜形成液が前記一対の塗布ローラの回転面から吐出されるように、前記一対の回転軸部内及び前記一対の塗布ローラ内に前記膜形成液の流路が形成されていることを特徴としている。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
上記塗布装置（３）によれば、前記膜形成液が前記一対の回転軸内及び前記一対の塗布ローラ内に形成された前記流路を流れて、前記一対の各塗布ローラの回転面から吐出されるので、前記基板の周縁部に前記膜形成液を直接的に供給でき、ムラなく塗布することができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
また本発明に係る塗布装置（４）は、上記塗布装置（３）において、前記一対の塗布ローラ内に形成される前記膜形成液の前記流路が、前記塗布ローラの中央部から放射状に形成されていることを特徴としている。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
上記塗布装置（４）によれば、前記一対の塗布ローラ内に形成される前記膜形成液の前記流路が、前記塗布ローラの中央部から放射状に形成されているので、前記一対の各塗布ローラの回転面全周に前記膜形成液を安定的に供給することができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
また本発明に係る塗布装置（５）は、上記塗布装置（１）〜（４）のいずれかにおいて、前記基板の周縁部に塗布された前記膜形成液を乾燥させる乾燥手段を備えていることを特徴としている。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
上記塗布装置（５）によれば、前記乾燥手段によって、前記膜形成液の塗布後すぐに前記膜形成液を乾燥させることができ、その後の作業性を高めることができ、また前記膜形成液のはがれ等の塗布不良を防止する効果を高めることができる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
また本発明に係る塗布方法（１）は、基板の端面を含む周縁部に膜形成液を塗布する塗布方法であって、上下一対に設けられた塗布ローラの間に前記基板の端部を挟んだ状態で前記一対の塗布ローラを回転させながら、該一対の塗布ローラの回転面に前記膜形成液を供給しつつ、前記一対の塗布ローラを前記基板の周縁部に沿って移動させることにより、前記基板の周縁部に前記膜形成液を塗布する塗布工程を備え、該塗布工程において、前記一対の塗布ローラを前記基板のある辺から他の辺に移動させるときに、前記一対の塗布ローラを回転させる回転機構部を旋回させる旋回機構部によって前記回転機構部を旋回させて、前記基板の各辺の端面に対する前記一対の塗布ローラの回転方向が同じ向きとなるように制御することを特徴としている。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
上記塗布方法（１）によれば、前記基板の端部を前記一対の塗布ローラで挟んだ状態で、該一対の塗布ローラの回転面に前記膜形成液を供給しつつ、前記一対の塗布ローラを前記基板の周縁部に沿って回転させながら移動させることにより前記基板の周縁部に前記膜形成液が塗布される。また、前記一対の塗布ローラを前記基板のある辺から他の辺に移動させるときに、前記旋回機構部によって前記回転機構部を旋回させて、前記基板の各辺の端面に対する前記一対の塗布ローラの回転方向が同じ向きとなるように制御されるので、前記基板各辺の周縁部の上下面に前記膜形成液を薄く且つ均一に塗布することができ、また、前記一対の塗布ローラ間に生じる表面張力により前記基板の端面（側面）にも前記膜形成液を塗布することができ、前記基板各辺の周縁部に塗膜を額縁状に薄く且つ均一な膜厚で形成することができる。そのため、前記基板の端面部分の崩壊による塵埃の発生を防止することができるとともに前記基板の周縁部を塗膜で補強することができ、前記基板の取り扱い性を高めることができる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の端面を含む周縁部に液体を塗布する塗布装置であって、
基板を支持する支持手段と、
基板の端部を挟み得るように対向配置された一対の塗布ローラを備えた塗布手段と、
該塗布手段を移動させる移動手段と、
前記一対の塗布ローラの回転面に樹脂成分を含む膜形成液を供給する液供給手段と、
前記支持手段に支持された基板の端部を前記一対の塗布ローラで挟んだ状態で、該一対の塗布ローラを前記基板の周縁部に沿って移動させるように前記移動手段を制御する制御手段とを備え、
前記塗布手段が、
前記一対の塗布ローラを回転させる回転機構部と、
該回転機構部を旋回させる旋回機構部とを備えていることを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記回転機構部が前記旋回機構部に対して水平方向に移動可能に取り付けられていることを特徴とする請求項１記載の塗布装置。
【請求項３】
前記回転機構部が、
回転駆動部と、
該回転駆動部に連結された回転力伝達部と、
一端側が該回転力伝達部に連結され、他端側が前記塗布ローラに連結された一対の回転軸部とを備え、
前記液供給手段により供給される膜形成液が前記一対の塗布ローラの回転面から吐出されるように、前記一対の回転軸部内及び前記一対の塗布ローラ内に前記膜形成液の流路が形成されていることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の塗布装置
【請求項４】
前記一対の塗布ローラ内に形成される前記膜形成液の前記流路が、前記塗布ローラの中央部から放射状に形成されていることを特徴とする請求項３記載の塗布装置。
【請求項５】
前記基板の周縁部に塗布された前記膜形成液を乾燥させる乾燥手段を備えていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかの項に記載の塗布装置。
【請求項６】
基板の端面を含む周縁部に膜形成液を塗布する塗布方法であって、
上下一対に設けられた塗布ローラの間に前記基板の端部を挟んだ状態で前記一対の塗布ローラを回転させながら、該一対の塗布ローラの回転面に前記膜形成液を供給しつつ、前記一対の塗布ローラを前記基板の周縁部に沿って移動させることにより、前記基板の周縁部に前記膜形成液を塗布する塗布工程を備え、
該塗布工程において、
前記一対の塗布ローラを前記基板のある辺から他の辺に移動させるときに、前記一対の塗布ローラを回転させる回転機構部を旋回させる旋回機構部によって前記回転機構部を旋回させて、前記基板の各辺の端面に対する前記一対の塗布ローラの回転方向が同じ向きとなるように制御することを特徴とする塗布方法。
【請求項７】
硬化後の膜厚が２０μｍ〜６０μｍとなるように前記膜形成液を塗布することを特徴とする請求項６記載の塗布方法。
【請求項８】
前記基板の周縁部に塗布された前記膜形成液を乾燥させる乾燥工程を備えていることを特徴とする請求項６又は請求項７記載の塗布方法。