(57)【要約】【課題】太陽光を効率よく反射することが可能であり、耐久性に優れた太陽光反射フィルムを提供する。【解決手段】本発明の太陽光反射フィルムは、光が入射する側から順に、紫外線の一部を遮断する紫外線遮断層と、少なくとも１種の無機酸化物を含む紫外線反射積層部と、銀反射層と、を有し、前記紫外線遮断層は、波長３５０ｎｍにおける光透過率が１０％以下であり、かつ、波長３７０ｎｍにおける光透過率が５０％以上であることを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光が入射する側から順に、紫外線の一部を遮断する紫外線遮断層と、少なくとも１種の無機酸化物を含む紫外線反射積層部と、銀反射層と、を有し、
前記紫外線遮断層は、波長３５０ｎｍにおける光透過率が１０％以下であり、かつ、波長３７０ｎｍにおける光透過率が５０％以上である、太陽光反射フィルム。
【請求項２】
前記紫外線遮断層が、２，４，６−トリス（４−ビフェニリル）−１，３，５−トリアジンまたはその誘導体を含む、請求項１に記載の太陽光反射フィルム。
【請求項３】
前記紫外線遮断層が、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タングステンの少なくとも１種を含む、請求項１または２に記載の太陽光反射フィルム。
【請求項４】
前記紫外線反射積層部が、高屈折率層と低屈折率層とを積層したユニットを少なくとも１つ含み、
前記高屈折率層および前記低屈折率層はともに少なくとも１種のポリビニルアルコールを含有し、
前記低屈折率層中で最も含有量の多いポリビニルアルコールをポリビニルアルコール（Ａ）とし、前記高屈折率層中で最も含有量の多いポリビニルアルコールをポリビニルアルコール（Ｂ）とした場合に、
前記ポリビニルアルコール（Ａ）の鹸化度と、ポリビニルアルコール（Ｂ）の鹸化度とが異なる、請求項１〜３のいずれか１項に記載の太陽光反射フィルム。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の太陽光反射フィルムを有する、太陽光反射体。
【請求項６】
請求項５に記載の太陽光反射体を有する、太陽光反射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、太陽光を効率よく反射することが可能であり、耐久性に優れた太陽光反射フィルム、ならびにこれを用いた太陽光反射体および太陽光反射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、地球温暖化は一層深刻化しており、その主因は、化石燃料の二酸化炭素といわれている。
【０００３】
化石燃料の代替エネルギーとして、太陽光、風力、地熱等の自然エネルギーを利用した発電技術の開発が行われているが、太陽光を利用した発電は、安定性およびエネルギー量の豊富さから特に注目されている。
【０００４】
太陽熱発電では、太陽光を反射体（鏡）により反射させて一か所に集光する集光装置が用いられる。当該反射体は太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐等に晒されるため、耐久性の観点から従来はガラス製光反射体が用いられてきた。しかしながら、ガラス製光反射体は、輸送時に破損する、重いため設置するのに高強度の架台が必要となりプラントの建設費がかさむ、といった問題を有していた。
【０００５】
上記問題を解決するために、ガラス製光反射体に代えて耐久性を高めた樹脂製光反射フィルムを支持体に貼付して光反射体として用いるという試みがなされている。例えば、特許文献１には、反射性金属層と、多層ポリマーフィルムとを含む金属被覆多層ミラーが開示されている。
【０００６】
さらに、紫外光線エネルギーを発電に利用するために、紫外光を可視光や赤外光と同じ方向に反射させて受光部に集めるべく、紫外光を反射する手段として、特許文献２には高屈折率材料と低屈折率材料を積層させてなる誘電体多層膜（紫外線反射層）を形成する技術が開示されている。このような紫外線反射層と、金属蒸着膜とを有する積層体は、紫外〜赤外領域の光を反射することができるため、太陽光が効果的に反射できる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】米国特許第６０８８１６３号明細書
【特許文献２】欧州特許出願公開第２２０４６２４号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上記特許文献１の金属被覆多層ミラーや、特許文献２の積層体は、太陽光に含まれる紫外線を効率よく反射させて利用することができる。しかしながら、これらの技術による太陽光反射フィルムは、太陽光の反射効率に優れるものの、耐久性のさらなる向上が求められる。
【０００９】
そこで本発明は、太陽光を効率よく反射することが可能であり、耐久性に優れた太陽光反射フィルムを提供することを目的とする。また、本発明の他の目的は、太陽光を効率よく反射することが可能であり、耐久性に優れた太陽光反射体および太陽光反射装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、上記の問題を解決すべく、鋭意研究を行った。その結果、紫外線の一部を遮断する紫外線遮断層と、少なくとも１種の無機酸化物を含む紫外線反射積層部と、銀反射層とが、光が入射する側から順に配置された太陽光反射フィルムにおいて、前記紫外線遮断層の特定の波長における光透過率が特定の範囲内にあることで、太陽光を効率よく反射することが可能であり、耐久性に優れた太陽光反射フィルムが得られることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００１１】
すなわち、本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。
【００１２】
１．光が入射する側から順に、紫外線の一部を遮断する紫外線遮断層と、少なくとも１種の無機酸化物を含む紫外線反射積層部と、銀反射層と、を有し、
紫外線遮断層は、波長３５０ｎｍにおける光透過率が１０％以下であり、かつ、波長３７０ｎｍにおける光透過率が５０％以上である、太陽光反射フィルム。
【００１３】
２．紫外線遮断層が、２，４，６−トリス（４−ビフェニリル）−１，３，５−トリアジンまたはその誘導体を含む、上記１．に記載の太陽光反射フィルム。
【００１４】
３．紫外線遮断層が、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タングステンの少なくとも１種を含む、上記１．または２．に記載の太陽光反射フィルム。
【００１５】
４．紫外線反射積層部が、高屈折率層と低屈折率層とを積層したユニットを少なくとも１つ含み、
高屈折率層および低屈折率層はともに少なくとも１種のポリビニルアルコールを含有し、
低屈折率層中で最も含有量の多いポリビニルアルコールをポリビニルアルコール（Ａ）とし、高屈折率層中で最も含有量の多いポリビニルアルコールをポリビニルアルコール（Ｂ）とした場合に、
ポリビニルアルコール（Ａ）の鹸化度と、ポリビニルアルコール（Ｂ）の鹸化度とが異なる、上記１．〜３．のいずれかに記載の太陽光反射フィルム。
【００１６】
５．上記１．〜４．のいずれかに記載の太陽光反射フィルムを有する、太陽光反射体。
【００１７】
６．上記５．に記載の太陽光反射体を有する、太陽光反射装置。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、太陽光を効率よく反射することが可能であり、耐久性に優れた太陽光反射フィルムが提供されうる。また、本発明によれば、太陽光を効率よく反射することが可能であり、耐久性に優れた太陽光反射体および太陽光反射装置が提供されうる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の実施形態に係る太陽光反射フィルムの一形態を模式的に表す断面図である。
【図２】本発明の実施形態に係る太陽光反射フィルムの他の形態を模式的に表す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の好ましい形態について説明するが、本発明の技術的範囲は特許請求の範囲の記載に基づいて定められるべきであり、以下の形態のみに制限されない。
【００２１】
本発明の第一は、光が入射する側から順に、紫外線の一部を遮断する紫外線遮断層と、少なくとも１種の無機酸化物を含む紫外線反射積層部と、銀反射層と、を有し、紫外線遮断層は、波長３５０ｎｍにおける光透過率が１０％以下であり、かつ、波長３７０ｎｍにおける光透過率が５０％以上である、太陽光反射フィルムを提供する。
【００２２】
本発明の太陽光反射フィルムは、紫外領域の光もまた効率よく発電利用するために、赤外〜可視光線を反射する銀反射層だけでなく、少なくとも１種の無機酸化物を含む紫外線反射積層部を有している。しかしながら、本発明者は、少なくとも１種の無機酸化物を含む層を有する構造の太陽光反射フィルムについて、耐久性が必ずしも十分でなく、長期間太陽光に曝されると、太陽光を反射する効果が低下することがあることを見出した。
【００２３】
そして、上記問題点について検討を進めたところ、太陽光反射フィルムにおいて、特許文献２のように、高屈折率材料と低屈折率材料を積層させてなる誘電体多層膜からなる紫外線反射積層部を有する場合、特にその傾向が顕著になるという知見が得られた。
【００２４】
かような知見に基づき、本発明者は、紫外線反射積層部よりも光の入射側に紫外線遮断層を設け、さらに、当該紫外線遮断層の透過率を上記の通り、ある領域では光透過率を高くし、またある領域は光透過率を低くすることにより、耐久性を向上させられることを見出し、本発明に至った次第である。
【００２５】
上記の本発明の構成による作用効果の発揮のメカニズムは、以下のように推測される。
【００２６】
太陽光反射フィルムでは、紫外線反射積層部において適当な波長の光を効率よく反射させることが求められる。そのため、紫外線反射積層部は、適当な波長の光の反射効率を高くするため、高屈折率層と低屈折率層とを多数積層させた構成が採用される。ここで、紫外線反射積層部を構成する高屈折率層と低屈折率層との間において有意に大きい屈折率差を得ることで効率よく紫外線を反射させるために、高屈折率層と低屈折率層のうち、少なくとも一方は、無機酸化物を用いて形成される。しかしながら、当該無機酸化物に紫外線が照射されると、無機酸化物が触媒作用を示し、その結果、紫外線反射積層部が劣化してしまう。より詳細には、無機酸化物は、適当な樹脂（バインダ）と共に紫外線反射積層部を構成するが、樹脂内に包含された無機酸化物に対して紫外線が照射されると、無機酸化物が触媒として作用し、樹脂（バインダ）を劣化させる反応が進行する。つまり、無機酸化物を含む紫外線反射積層部を設けることによって紫外領域の光を反射させて有効に利用することができる一方で、無機酸化物の触媒作用（光触媒作用）に起因して、紫外線反射積層部の劣化が進行すると考えられる。
【００２７】
そこで本発明者は、紫外線反射積層部よりも光の入射側において、特定の透過率を有する紫外線遮断層を設けることにより、かような触媒作用による紫外線反射積層部の劣化を抑制することができるのではないかと考え、本発明を完成させた。より具体的には、本発明においては、紫外線遮断層において、無機酸化物の触媒作用を促進する波長（３５０ｎｍ）の光を吸収させて、当該波長における光透過率を１０％以下とし、紫外線反射積層部に到達する波長３５０ｎｍの紫外線量（より好ましくは、波長３５０ｎｍ以下の紫外線量）を極力少なくする。一方、太陽光発電利用の際にエネルギー的に有用である、波長３７０ｎｍ以上の光を有効に活用するため、波長３７０ｎｍにおける紫外線遮断層の光透過率を５０％以上とする。かような構成を有する本発明の太陽光反射フィルムは、紫外線反射積層部に含まれる無機酸化物の触媒作用が抑制されるため耐久性が向上し、かつ、可視〜赤外領域だけでなく、一部の紫外領域における光をも効率よく反射することが可能となると推察される。なお、本発明は、上記メカニズムに何ら制限されるものではない。
【００２８】
以下、本発明の太陽光反射フィルムに係る実施の形態を説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。また、図面の寸法比率は、説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。
【００２９】
また、本明細書において、範囲を示す「Ｘ〜Ｙ」は「Ｘ以上Ｙ以下」を意味し、また、「重量」と「質量」、「重量％」と「質量％」および「重量部」と「質量部」は同義語として扱う。特記しない限り、操作および物性等の測定は室温（２０℃）／相対湿度４０〜５０％の条件で測定する。
【００３０】
＜太陽光反射フィルム＞
図１は、本発明の実施形態に係る太陽光反射フィルムの一形態を模式的に表した断面図である。図１に示す太陽光反射フィルム１０は、太陽光１００の入射する側から順に、紫外線遮断層１４と、少なくとも１種の無機酸化物１１ａを含む紫外線反射積層部１１と、銀反射層１３とを有している。
【００３１】
太陽光反射フィルム１０において、太陽光１００は矢印で示すように、紫外線遮断層１４側から、無機酸化物１１ａおよび樹脂１１ｂを含む紫外線反射積層部１１を透過し、銀反射層１３側へと入射する。このとき、太陽光１００に含まれる紫外線の一部（主として波長３５０ｎｍ以下の光）は、紫外線遮断層１４において吸収され、紫外線遮断層１４に吸収されなかった紫外線やその他の波長の光は、紫外線反射積層部１１および銀反射層１３へ透過する。このように、紫外線遮断層１４を設けることにより、無機酸化物１１ａを含む紫外線反射積層部１１に対して、無機酸化物１１ａの触媒作用を促進する波長の光（主として波長３５０ｎｍ以下の光）の入射量を少なくすることができる。その結果、紫外線反射積層部１１の劣化が抑制され、本発明の太陽光反射フィルム１０は、長期間太陽光に曝されても、太陽光を反射する効果が低下することなく、高い耐久性を保持することができる。
【００３２】
そして、本発明の太陽光反射フィルム１０は、太陽光１００が入射する方向から順に供えられる、無機酸化物１１ａおよび樹脂１１ｂを含む紫外線反射積層部１１と、銀反射層１３とにより、赤外〜紫外領域までの幅広い波長領域の光を反射させることができる。さらに、紫外線が無機酸化物１１ａを含む紫外線反射積層部１１によって反射されるため、紫外線が紫外線反射積層部１１よりも更に深部にまで透過するのを防ぎ、太陽光反射フィルム１０の劣化を抑制することができる。
【００３３】
太陽光反射フィルム１０において、無機酸化物１１ａおよび樹脂１１ｂを含む紫外線反射積層部１１は、以下で詳述するように、低屈折率層１１１および高屈折率層１１２が積層されたユニットを有する。
【００３４】
図１に示すように、互いに異なる屈折率を有する層１１１及び１１２を積層させることにより、その境界面で光の反射が起こり、紫外線反射射機能が発現する。なお、図１では、紫外線反射積層部１１として、それぞれ光入射方向から順に高屈折率層１１２、低屈折率層１１１、・・・高屈折率層１１２の多層が積層されているが、紫外線反射積層部１１は低屈折率層１１１および高屈折率層１１２が積層された少なくとも１つのユニットを有していればよく、低屈折率層１１１および高屈折率層１１２の層数や積層順は特に制限されない。
【００３５】
また図１に示す態様では、紫外線反射積層部１１を構成する全ての低屈折率層１１１および高屈折率層１１２に無機酸化物１１ａが含まれている構成を示したが、本発明では、紫外線反射積層部１１を構成する層の少なくとも１層において、少なくとも１種の無機酸化物が含まれていればよい。このとき、高屈折率層１１２中に無機酸化物１１２ａを含む構成とすると、低屈折率層と高屈折率層の屈折率差が大きくなり、界面での紫外線反射効率を高めることができるため、有効である。また、図１に示すように、紫外線反射積層部１１を構成する高屈折率層１１２、低屈折率層１１１ともに無機酸化物１１２ａ，１１１ａを含有することにより、高屈折率層１１２と低屈折率層１１１の屈折率差が大きくなり、紫外線反射効率が高まる結果、より一層、効率よく太陽光を反射させることができる。なお、かような傾向は、図２の態様においても同様である。
【００３６】
図１に示す太陽光反射フィルム１０の実施形態では、紫外線遮断層１４、紫外線反射積層部１１および銀反射層１３を支持するように、樹脂フィルム状支持体（高分子フィルム）１２が配置されている。即ち、樹脂フィルム状支持体１２の一方の面側（光入射面側）に、紫外線遮断層１４、紫外線反射積層部１１および銀反射層１３が形成されている。
【００３７】
さらに上記樹脂フィルム状支持体１２の他方の面（光入射面とは反対側）上には、支持基材（太陽光反射体の構成部材；図示せず）への貼付のために、粘着層１５が配置されている。更に上記粘着層１５上には、前記支持基材への貼付までの間、保管や輸送や取扱が容易なように剥離材（剥離フィルムや剥離紙など）１６が備えられている。
【００３８】
図２は、本発明の実施形態に係る太陽光反射フィルムの他の形態を模式的に表した断面図である。図２に示す太陽光反射フィルム１０’においても、太陽光１００の入射する側から順に、紫外線遮断層１４と、少なくとも１種の無機酸化物１１ａを含む紫外線反射積層部１１と、銀反射層１３とを有しており、さらに本形態では、紫外線遮断層１４に対して光の入射面側に、ハードコート層１７が配置されている。このようにハードコート層１７を備えることにより、擦傷等から紫外線反射積層部１１を保護し、太陽光反射フィルム１０の耐久性を向上させることができる。
【００３９】
図１と図２は、共に光入射面側から、紫外線遮断層１４、紫外線反射積層部１１、銀反射層１３の順で形成されているが、ハードコート層１７の有無という点で異なる態様（構成）となっている。しかし、図１、２のいずれの構成（態様）も本発明の作用効果を有効かつ効果的に発現し得るものである。図２に示す太陽光反射フィルム１０’は、図１に示す太陽光反射フィルム１０と比較して、ハードコート層１７の有無という点で異なる以外は、図１と同様の構成を有するものである。したがって、重複する部分の説明は省略する。
【００４０】
紫外線遮断層１４、紫外線反射積層部１１、銀反射層１３の積層順を変更せず、かつ、以下で詳述する紫外線遮断層１４および紫外線反射積層部１１の間における光透過率の関係を損なわない限りにおいては、各層（または部分）の間に他の層を設けてもよい。たとえば、銀反射層１３と紫外線反射積層部１１との間に、当該銀反射層１３を構成する銀の腐食を防止するために１層以上の腐食防止層が配置されていてもよい。さらに、樹脂フィルム状支持体１２と、銀反射層１３との間に、アンカーコート層（図示せず）を設けてもよい。アンカーコート層を設けることにより、樹脂フィルム状支持体１２と、当該支持体上に形成される層との接着性を向上させることができる。
【００４１】
上記したように、本発明の太陽光反射フィルムは、図１、２に示す形態に何ら制限されるものではなく、本発明の要件を満足する範囲内において、いかなる構成をも取り得るものである。以下、本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’の各構成部材について詳細に説明する。
【００４２】
[紫外線遮断層１４]
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’は、銀反射層１３および紫外線反射積層部１１よりも光入射面側に紫外線遮断層１４を必須に有する。紫外線遮断層１４は、単層であってもよいし、複数の層を積層して形成されていてもよい。光透過率を所望の範囲内に制御しやすいという観点からは、複数の層が積層された形態が好ましい。
【００４３】
紫外線遮断層１４は、太陽光に含まれる紫外線領域（２８０〜４００ｎｍのうち、主として２８０ｎｍ以上３７０ｎｍ以下の波長領域）の少なくとも一部の波長（光）を吸収する機能を有し、波長３５０ｎｍにおける光透過率が１０％以下であり、かつ、波長３７０ｎｍにおける光透過率が５０％以上である。なお、このとき、波長３５０ｎｍにおける光透過率の下限は０％であり、波長３７０ｎｍにおける光透過率の上限は１００％である。
【００４４】
換言すれば、紫外線遮断層１４は、波長３５０ｎｍの光を９０％超の割合で吸収し、かつ、波長３７０ｎｍの光を５０％未満の割合で吸収する機能を有する。なお、このとき、波長３５０ｎｍにおける吸収率の上限は１００％であり、波長３７０ｎｍにおける吸収率の下限は０％である。
【００４５】
なお、上記光透過率は、紫外線遮断層１４が複数の層を積層した形態の場合は、これら複数の層をすべて積層させた状態での光透過率を指すものとする。
【００４６】
さらに、波長３５０ｎｍにおける紫外線遮断層１４の光透過率は、８％以下であると好ましく、６％以下であるとより好ましく、５％以下であると特に好ましい。また、波長３７０ｎｍにおける紫外線遮断層１４の光透過率は、６０％以上であると好ましく、７０％以上であるとより好ましく、８０％以上であるとさらにより好ましく、９０％以上であると特に好ましい。
【００４７】
太陽光に含まれる紫外線領域（２８０〜４００ｎｍ）の光透過率は、実施例に記載の方法により測定することができる。なお、本明細書中、紫外線遮断層１４の光透過率は、実施例に記載の方法により測定した値を採用するものとする。
【００４８】
上記の光透過率特性を有する紫外線遮断層１４を備えることにより、波長３５０ｎｍの光の大部分が紫外線遮断層１４において吸収される。したがって、以下で詳述する紫外線反射積層部１１にまで到達する波長３５０ｎｍの光量が極めて軽減されるため、紫外線反射積層部１１に含まれる無機酸化物１１ａの触媒作用を効果的に抑制することができる。一方で、紫外線遮断層１４は、無機酸化物１１ａの触媒作用に影響しない波長３７０ｎｍの光を透過させる。その結果、波長３７０ｎｍの光は紫外線反射積層部１１にまで到達し、当該波長の光が紫外線反射積層部１１によって反射される。したがって、本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’によれば、太陽光を効率よく反射し、利用することができるのである。
【００４９】
紫外線遮断層１４は、上記の光透過率特性を有する層であれば、いかなる組成を採用してもよいが、たとえば、（Ｉ）特定の吸収波長を有する有機化合物を含む構成、（ＩＩ）特定の無機酸化物を含む構成のいずれかを含むと好ましい。
【００５０】
また、耐久性をさらに向上させるという観点から、（Ｉ）および（ＩＩ）の構成を有する層を両方含んでいるとさらに好ましい。すなわち、本発明において、紫外線遮断層１４は、特定の吸収波長を有する有機化合物を含む第一の紫外線遮断層と、特定の無機酸化物を含む第二の紫外線遮断層とを含んでいると好ましい。このように、本発明における紫外線遮断層１４が第一の紫外線遮断層と第二の紫外線遮断層とを含む場合、それぞれが一層ずつ積層されてもよいし、それ以上積層されてもよい。また、第一の紫外線遮断層と第二の紫外線遮断層とはそれぞれ同数である必要はなく、一方の層が他方の層よりも多く設けられてもよい。
【００５１】
紫外線遮断層１４の厚みは、特に制限されないが、１〜５０μｍが好ましく、２〜３０μｍがより好ましく、２〜１０μｍであることがより好ましい。１μｍ以上であれば紫外線遮断層１４において十分に紫外線を吸収することができ、さらに、応力による紫外線遮断層１４の割れを防止することができる。また、５０μｍ以下であれば十分な可撓性を維持できる。なお、紫外線遮断層１４が第一の紫外線遮断層と第二の紫外線遮断層とを含む場合は、これら複数の層の厚みの和が上記範囲内であると好ましい。
【００５２】
第一の紫外線遮断層および第二の紫外線遮断層の積層順は特に限定されないが、光の入射面側から、第二の紫外線遮断層（すなわち、構成（ＩＩ）の層）、第一の紫外線遮断層（すなわち、構成（Ｉ）の層）の順で形成されると好ましい。さらにこの場合、第二の紫外線遮断層を最表層とすると好ましい。後述するように、第二の遮断層は、無機酸化物との反応性が低い樹脂を含みうるが、当該樹脂は、ハードコート（耐傷層）に用いられる樹脂と同じものを用いることができる。したがって、第二の遮断層が、ハードコート層の役割もまた果たし、別途ハードコート層を設けなくても、耐久性を向上させることができる。
【００５３】
以下、（Ｉ）および（ＩＩ）の構成について詳説する。
【００５４】
（Ｉ）特定の吸収波長を有する有機化合物を含む構成
本形態の紫外線遮断層１４は、上記光透過率特性を満たすため、特定の吸収波長を有する化合物（有機化合物）を含む。紫外線遮断層１４は、所望の光透過率を得ることができると共に、大面積のフィルムを容易に製造するという観点から、樹脂（透明樹脂）をさらに含んでいると好ましい。
【００５５】
本形態において、紫外線遮断層１４の全質量に対して、特定の吸収波長を有する化合物は、０．１〜１０質量部含まれると好ましく、１〜１０質量部であるとより好ましい。０．１質量部以上であれば、特定の波長領域の光を十分に吸収することができる。一方で、１０質量部以下とすることにより、ブリードアウト（添加剤が時間の経過によりフィルム（層）の表面に浮き出てくる現象）を抑制し、ヘイズ（曇り度）の悪化を防止することができる。
【００５６】
本形態の紫外線遮断層１４の厚みは、特に制限されないが、１〜５０μｍが好ましく、２〜３０μｍがより好ましく、２〜１０μｍであることがより好ましい。１μｍ以上であれば紫外線遮断層１４において十分に紫外線を吸収することができ、さらに、応力による紫外線遮断層１４の割れを防止することができる。また、５０μｍ以下であれば十分な可撓性を維持できる。なお、紫外線遮断層１４が複数の層を積層した形態の場合は、これら複数の層の厚みの和が上記範囲内であると好ましい。
【００５７】
・特定の吸収波長を有する有機化合物
本形態において、紫外線遮断層１４に含まれる化合物は、特定の領域に吸収極大を有する。具体的には、２８０〜３４０ｎｍの範囲に吸収極大を有する化合物であると好ましい。化合物の吸収極大波長（λｍａｘ）は、２９０〜３３０ｎｍの範囲にあるとより好ましく、３００〜３２０ｎｍの範囲にあると特に好ましい。半値幅は、４０〜１００ｎｍであると好ましく、５０〜８０ｎｍであるとより好ましい。
【００５８】
紫外線遮断層１４において含まれる化合物は、上記吸収特性を有する化合物であればいかなる化合物も使用可能であるが、２，４，６−トリス（４−ビフェニリル）−１，３，５−トリアジンまたはその誘導体であると好ましい。
【００５９】
「２，４，６−トリス（４−ビフェニリル）−１，３，５−トリアジンまたはその誘導体」とは、具体的には、下記の一般式（１）で表される化合物である。
【００６０】
【化１】
2015090395.tif 000003
【００６１】
上記式中、Ｒ１〜Ｒ６は、それぞれ独立して、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０個のアルキル基、炭素原子数２〜２０個のアルケニル基、炭素原子数２〜２０個のアルキニル基、炭素原子数１〜２０個のアルコキシ基、エステル基（−ＣＯＯＲ’：Ｒ’は、炭素原子数１〜２０個のアルキル基である）、アミノ基、シアノ基またはニトロ基を表わし、ｋ、ｍ、ｐは、０〜５の整数であり、ｌ、ｎ、ｑは０〜４の整数である。
【００６２】
Ｒ１〜Ｒ６のハロゲン原子は特に制限されるものではなく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子のいずれも選択し得るものである。好ましくは、フッ素原子、塩素原子および臭素原子であり、特に好ましくはフッ素原子である。
【００６３】
Ｒ１〜Ｒ６の炭素原子数１〜２０個のアルキル基は、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれでもよい。Ｒ１〜Ｒ６のアルキル基は、たとえば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉｓｏ−アミル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−へキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−デシル基、などの直鎖状のアルキル基、また、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などの環状のアルキル基が挙げられる。これらの中でも、紫外線遮断層１４をコーティング（塗布法）により製膜する際の溶媒に対する溶解性を向上させるという観点から、炭素原子数１〜８個のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基がより好ましく、メチル基、エチル基がさらに好ましい。
【００６４】
Ｒ１〜Ｒ６の炭素原子数２〜２０個のアルケニル基としては、１個以上の二重結合を有するものであれば、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれでもよい。たとえば、ビニル基、アリル基、１−プロペニル基、イソプロペニル基、２−ブテニル基、１，３−ブタジエニル基、２−ペンテニル基、２−ヘキセニル基等が挙げられる。これらの中でも、溶媒に対する溶解性を向上させるため、炭素原子数２〜８個のものが好ましく、炭素原子数２〜５個のアルケニル基がより好ましく、特に、ビニル基、アリル基が好ましい。
【００６５】
Ｒ１〜Ｒ６の炭素原子数２〜２０個のアルキニル基としては、１個以上の三重結合を有するものであれば、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれでもよい。たとえば、エチニル基、プロパルギル基等が挙げられる。これらの中でも、溶媒に対する溶解性を向上させるため、炭素原子数２〜８個のものが好ましく、炭素原子数２〜５個のアルキニル基がより好ましく、特に、エチニル基が好ましい。
【００６６】
Ｒ１〜Ｒ６の炭素原子数１〜２０個のアルコキシ基は、直鎖状、分枝鎖状又は環状のいずれでもよい。Ｒ１〜Ｒ６のアルコキシ基は、たとえば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、が挙げられる。これらの中でも、溶媒に対する溶解性を向上させるため、炭素原子数１〜８個のものが好ましく、炭素原子数１〜５個のアルコキシ基がより好ましく、特に、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。
【００６７】
Ｒ１〜Ｒ６のエステル基（−ＣＯＯＲ’）について、Ｒ’は、上記Ｒ１〜Ｒ６のアルキル基の説明と同様であるため、その説明を省略するが、溶媒に対する溶解性を向上させるため、Ｒ’は、炭素原子数１〜８個のアルキル基が好ましく、特に、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基が好ましい。
【００６８】
Ｒ１〜Ｒ６のアミノ基は、−ＮＨ２、−ＮＨＲ”または−ＮＲ”２で表される基である。Ｒ”は、炭素原子数１〜２０のアルキル基より選択される。Ｒ”は、上記Ｒ１〜Ｒ６のアルキル基の説明と同様であるため、その説明を省略するが、溶媒に対する溶解性を向上させるため、Ｒ”は、炭素原子数１〜８個のアルキル基が好ましく、特に、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基が好ましい。
【００６９】
ｋ、ｌ、ｍ、ｎ、ｐ、ｑは、Ｒ１〜Ｒ６基がベンゼン環上にそれぞれ結合する数を表し、ｋ、ｍ、ｐは、０〜５の整数であり、ｌ、ｎ、ｑは０〜４の整数である。溶媒に対する溶解性を向上させるため、ｋ、ｍ、ｐは、０〜３が好ましく、０〜１がより好ましく、ｌ、ｎ、ｑは０〜２が好ましく、０または１がより好ましい。
【００７０】
上記一般式（１）で表される化合物は、単独で使用されてもまたは２種以上の混合物の形態で使用されてもよい。
【００７１】
・樹脂（透明樹脂）
本形態において、紫外線遮断層１４は、上記化合物とともに、透明樹脂を含む。本明細書において、「樹脂が透明である」とは、可視光（４００〜７００ｎｍ）の光透過率が８０％以上であることを示す。
【００７２】
本形態の紫外線遮断層１４に含まれる透明樹脂は特に限定されないが、耐光性に優れていることが好ましく、具体的には、主鎖に芳香環を含まない樹脂であることが好ましく、芳香環を持たないモノマー成分から構成された樹脂であることがより好ましい。また、透明樹脂としては、生産性の観点から、紫外線遮断層１４をコーティングにより形成するため、上記特定の吸収波長を有する化合物と共に、溶媒中における分散性が良好であるものであると好ましい。このような樹脂としては、たとえば、アクリル樹脂、オレフィン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、アクリル・ウレタン系樹脂、含フッ素ポリマー等が挙げられる。
【００７３】
さらに、透明樹脂としては、水および水と相溶性を有する溶剤の少なくとも一方に可溶な樹脂（本明細書中、「水溶性樹脂」とも称することがある）であると好ましい。このような特定の樹脂を含むことにより、紫外線反射積層部１１を大面積で生産することができ、かつ、短時間で生産することができる。すなわち、紫外線遮断層１４をコーティングにより形成するのに水系塗布を用いることが可能になるという観点から、当該樹脂は水溶性樹脂であることが好ましい。
【００７４】
なお、本明細書において、「水と相溶性を有する溶剤」とは水と混合した際に界面を形成せず、その化学構造の中に水酸基、カルボニル基、カルボキシル基、アルデヒド基などを含む溶剤を意味する。また、「水および水と相溶性を有する溶剤の少なくとも一方に可溶な樹脂」とは、水または水と相溶性を有する溶剤と混合し撹拌した後に樹脂の沈降が発生せず白濁や光散乱が目視されない状態となる樹脂を意味する。
【００７５】
水溶性樹脂の重量平均分子量は、特に制限はないが、コーティング可能な粘度に調整して製造する観点から、１０００〜２０００００が好ましく、３０００〜４００００がより好ましい。本明細書において、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて下記測定条件下で測定した値を採用する。
【００７６】
・溶媒：０．２Ｍ  ＮａＮＯＨ３，ＮａＨ２ＰＯ４，ｐＨ７
・カラム：Ｓｈｏｄｅｘ  Ｃｏｌｕｍｎ  Ｏｈｐａｋ  ＳＢ−８０２．５  ＨＱ，８×３００ｍｍとＳｈｏｄｅｘ  Ｃｏｌｕｍｎ  Ｏｈｐａｋ  ＳＢ−８０５  ＨＱ，８×３００ｍｍの組み合わせ
・カラム温度：４５℃
・試料濃度：０．１質量％
・検出器：ＲＩＤ−１０Ａ（株式会社島津製作所製）
・ポンプ：ＬＣ−２０ＡＤ（株式会社島津製作所製）
・流量：１ｍｌ／ｍｉｎ
・校正曲線：  Ｓｈｏｄｅｘ  スタンダード  ＧＦＣ（水系  ＧＰＣ）カラム用  Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｐ−８２  標準物質プルランによる校正曲線を使用。
【００７７】
水溶性樹脂としては、例えば、ポリアクリル酸、アクリル酸−アクリルニトリル共重合体、アクリル酸カリウム−アクリルニトリル共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、もしくはアクリル酸−アクリル酸エステル共重合体等のアクリル系樹脂、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）類、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸共重合体、もしくはスチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体等のスチレンアクリル酸樹脂、スチレン−スチレンスルホン酸ナトリウム共重合体、スチレン−２−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、スチレン−２−ヒドロキシエチルアクリレート−スチレンスルホン酸カリウム共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ビニルナフタレン−アクリル酸共重合体、ビニルナフタレン−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体等の酢酸ビニル系共重合体およびこれらの塩等の合成水溶性樹脂；ゼラチン、増粘多糖類等の天然水溶性樹脂等が挙げられる。これらの中でも、耐候性の観点から、アクリル系樹脂が好ましい。
【００７８】
水溶性樹脂に含まれるアクリル系樹脂を構成するモノマーとしては、たとえば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート等のアルキル（メタ）アクリレートのような側鎖中に官能性基を有しないモノマー（以下、非官能性モノマーという）から選ばれる１種または２種以上のモノマーを主成分とし、これに２−ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、等のモノマーから選ばれる１種または２種以上のモノマーの側鎖中にＯＨやＣＯＯＨ等の官能性基を有するモノマー（以下、官能性モノマーという）の１種または２種以上を組み合せてもよい。
【００７９】
上記モノマーは、溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法、塊状重合法等の公知の重合法により共重合させることができる。また、これにより得られる重量平均分子量は、４万〜１００万、好ましくは１０万〜４０万である。
【００８０】
また、市販のアクリル系樹脂を用いてもよく、例えば、三菱レイヨン製のＢＲ−８５、旭化成ケミカルズ製のデルペットＳＲＢ２１５等を使用することもできる。
【００８１】
なお、上記の樹脂は、単独で使用してもまたは２種以上を混合して使用してもよい。
【００８２】
（ＩＩ）無機酸化物を含む構成
本形態の紫外線遮断層１４は、上記光透過率特性を満たすため、特定の無機酸化物を含む。紫外線遮断層１４は、所望の光透過率を得ることができると共に、大面積のフィルムを容易に製造するという観点から、樹脂（透明樹脂）をさらに含んでいると好ましい。本形態では、紫外線を遮断（吸収）するために用いられる材料が上記（Ｉ）と異なる。また、かような材料の違いに起因して、紫外線遮断層１４に含まれうる樹脂の種類も上記（Ｉ）とは異なることがある。
【００８３】
本形態において、紫外線遮断層１４の全質量に対して、特定の無機酸化物は、１〜２０質量部含まれると好ましく、２〜１０質量部であるとより好ましい。１質量部以上であれば、特定の波長領域の光を十分に吸収することができる。一方で、２０質量部以下とすることにより、ブリードアウトを抑制し、ヘイズ（曇り度）の悪化を防止することができる。
【００８４】
本形態の紫外線遮断層１４の厚みは、特に制限されないが、１〜５０μｍが好ましく、２〜３０μｍがより好ましく、２〜１０μｍであることがより好ましい。１μｍ以上であれば紫外線遮断層１４において十分に紫外線を吸収することができ、さらに、応力による紫外線遮断層１４の割れを防止することができる。また、５０μｍ以下であれば十分な可撓性を維持できる。なお、紫外線遮断層１４が複数の層を積層した形態の場合は、これら複数の層の厚みの和が上記範囲内であると好ましい。
【００８５】
・無機酸化物
本形態において、紫外線遮断層１４に含まれる無機酸化物としては、紫外線遮断層１４の波長３５０ｎｍにおける光透過率を１０％以下、かつ、波長３７０ｎｍにおける光透過率を５０％以上とすることができるものであれば、特に制限されないが、たとえば、金属酸化物を用いることができ、なかでも、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タングステンの少なくとも１種を含んでいると好ましい。より詳細には、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化タングステン（ＷＯ３）の少なくとも１種を含んでいると好ましい。
【００８６】
上記の無機酸化物は、波長３５０ｎｍの光を効率よく吸収する一方で、波長３７０ｎｍにおける光の透過率が高いため、本発明の紫外線遮断層１４に好適に用いられる。波長選択性の観点からは、特に、酸化チタンであると好ましい。
【００８７】
無機酸化物は、紫外線遮断層１４において所望の透過率を得ることができるように、その平均粒径が１〜５０ｎｍの粒子であると好ましい。ここで、本明細書において平均粒径は、一次平均粒径を指す。本明細書でいう一次平均粒径とは、粒子そのものをレーザー回折散乱法、動的光散乱法、あるいは電子顕微鏡を用いて観察する方法や、紫外線遮断層１４の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法により、１０００個の任意の粒子の粒径を測定し、その平均を求めた値である。
【００８８】
・樹脂（透明樹脂）
上記の通り、本形態では、紫外線遮断層１４に無機酸化物を含む一方で、これらの無機酸化物は、波長３５０ｎｍの光を吸収する傍ら、その光触媒作用により、その周囲に存在するバインダ樹脂を劣化させることがある。したがって、本形態において、紫外線遮断層１４の形成に用いられる樹脂は、無機酸化物の触媒作用に影響を受けない透明樹脂であると好ましい。さらに、本形態に用いられる透明樹脂は、生産性の観点から、紫外線遮断層１４をコーティングにより形成するため、無機酸化物と共に、溶媒中における分散性が良好なものであると好ましい。
【００８９】
かような透明樹脂としては、特に制限されないが、ポリシロキサンに代表されるポリマー材料が挙げられる。なかでも、ポリシロキサン系ハードコート（耐傷層）に用いられる材料と同様の材料（シリコーン系樹脂）が好ましく用いられる。したがって、特定の無機酸化物を含む構成（ＩＩ）からなる紫外線遮断層を設ける場合は、ハードコート層としての役割もまた果たすことができる。
【００９０】
ポリシロキサン（シリコーン系樹脂）は、一般式ＡｒＳｉ（ＯＡ’）ｓで示されるものが出発原料である。ＡおよびＡ’は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｒおよびｓは、ｒ＋ｓ＝４（ただし、ｓは１〜４の整数）の関係を満たす整数である。具体的には、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ポロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００９１】
また、紫外線遮断層１４を構成する樹脂（透明樹脂）の形成においては、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−アミノベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメチル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロライドを用いることもできる。これらのメトキシ基、エトキシ基等の加水分解性基が水酸基に置換した状態のものが、一般的にポリオルガノシロキサンといわれており、本形態の紫外線遮断層１４に好適に使用される。これを基板上に塗布し、加熱硬化させることで、脱水縮合反応が促進し、硬化・架橋することで、紫外線遮断層１４が製膜される。これらのポリオルガノシロキサン中でも、加水分解によって脱離しない有機基がメチル基のものが最も耐候性が高い。また、メチル基であれば、紫外線遮断層１４製膜後の表面にメチル基が均一且つ密に分布するため、転落角も低い。そのため、本用途では、メチルポリシロキサンを用いることが好ましい。
【００９２】
紫外線遮断層１４に用いられる材料として具体的には、サーコートシリーズ（動研製）、ＳＲ２４４１（東レ・ダウコーニング社）、ＫＦ−８６（信越シリコーン社）、Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ（登録商標）６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ）等を利用することができる。
【００９３】
（紫外線遮断層１４の形成方法）
上記（Ｉ）および（ＩＩ）のいずれの形態においても、紫外線遮断層１４の形成方法は特に制限されないが、たとえば、上記特定の吸収波長を有する有機化合物（または無機酸化物）および透明樹脂を含む紫外線遮断層形成用組成物（塗布液）を、ワイヤーバーによりコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング等により塗布する方法、蒸着等の乾式製膜法等が挙げられる。また、上記の組成物（塗布液）をダイコーター、グラビアコーター、コンマコーター等の連続塗布装置で塗布・製膜することも可能である。
【００９４】
上記組成物（塗布液）には溶媒が含まれていてもよく、必要に応じて適宜希釈されたものであってもよい。塗布液に含有される溶媒としては、例えば、水、炭化水素類（トルエン、キシレン、）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル）、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中から適宜選択し、またはこれらを混合し利用できる。上記の中でも、生産性の観点から、特に、水および水と相溶性を有する溶剤を用いると好ましい。
【００９５】
上記溶媒を含む塗布液を塗布した後は、形成した塗膜を、３０℃以上で乾燥することが好ましい。例えば、湿球温度５〜５０℃、膜面温度５〜１００℃（好ましくは１０〜９５℃）の範囲で乾燥するのが好ましく、４０〜９０℃で乾燥するとより好ましい。また、乾燥方法は特に制限されず、たとえば、温風乾燥、赤外乾燥、マイクロ波乾燥が用いられるが、なかでも、温風乾燥が好ましい。乾燥時間は、生産性の観点から、０．５〜１０分であると好ましく、１〜５分であるとより好ましい。
【００９６】
また、紫外線遮断層１４を構成する樹脂としてシリコーン系樹脂を用いる場合、塗布後、溶剤を乾燥させた後、当該樹脂の硬化・架橋を促進するため、５０℃以上、１５０℃以下の温度で３０分〜数日間の熱処理を行うことが好ましい。塗布基材の耐熱性やロールにした時の基材の安定性を考慮して、４０℃〜８０℃で２日間以上処理することが好ましい。
【００９７】
塗布および乾燥方法の条件は、特に制限されないが、紫外線遮断層１４が複数の層からなる場合は、例えば、逐次塗布法、同時重層塗布法等を用いることができる。
【００９８】
逐次塗布法を用いる場合は、まず、樹脂フィルム状支持体１２の一方の面に銀反射層１３および紫外線反射積層部１１、さらに任意で設けられるその他の層を形成し、その後、当該紫外線反射積層部１１（または任意で設けられるその他の層）上に、上記特定の有機化合物（または無機酸化物）を含む一の塗布液を塗布して、乾燥する。さらに、次に積層される層を形成するための他の塗布液を前記一方の塗布液からなる塗膜上に塗布、乾燥し、積層膜を形成する。そしてさらに、所望の光透過率を発現するために必要な層数となるまで、前記方法にて逐次塗布、乾燥を繰り返して積層膜を得る。このとき、乾燥条件は上述の単層の場合における条件と同様であるため、詳細な説明を省略する。
【００９９】
同時重層塗布を行う場合は、複数種類の塗布液を３０〜６０℃に加温して、紫外線反射積層部１１（または任意で設けられるその他の層）上に複数種類の塗布液の同時重層塗布を行った後、形成した塗膜の温度を好ましくは１〜１５℃にいったん冷却し（セット）、その後１０℃以上で乾燥することが好ましい。より好ましい乾燥条件は、湿球温度５〜５０℃、膜面温度１０〜９０℃の範囲である。また、乾燥方法は特に制限されず、上記と同様の方法が用いられるが、なかでも、温風乾燥が好ましい。
【０１００】
乾燥時間は、特に制限されるものではないが、たとえば、生産性の観点から、１〜５秒程度が好ましい。また、塗布直後の冷却方式としては、形成された塗膜の均一性向上の観点から、水平セット方式で行うことが好ましい。
【０１０１】
（他の添加剤）
上記（Ｉ）および（ＩＩ）のいずれの形態においても、必要に応じて、可塑剤、塗布助剤等の各種添加剤を用いることができる。以下、紫外線遮断層１４に含まれうる添加剤について説明するが、これらに限定されるものではない。
【０１０２】
・可塑剤
紫外線遮断層１４に含まれうる可塑剤としては、たとえば、一塩基性有機酸エステル、多塩基性有機酸エステル等の有機エステル可塑剤や、有機リン酸可塑剤、有機亜リン酸可塑剤等のリン酸可塑剤等が挙げられ、上記可塑剤は液状可塑剤であることが好ましい。
【０１０３】
上記有機エステル可塑剤は特に限定されず、従来公知のものが使用可能であり、たとえば、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルブチレート、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキサノエート、トリエチレングリコールジカプリレート、アジピン酸ジヘキシル、アジピン酸ジオクチル、アジピン酸ヘキシルシクロヘキシル、セバシン酸ジブチル、油変性セバシン酸アルキド、リン酸エステルとアジピン酸エステルとの混合物等が挙げられる。
【０１０４】
上記リン酸可塑剤は特に限定されず、たとえば、トリブトキシエチルホスフェート、イソデシルフェニルホスフェート、トリイソプロピルホスフェート等が挙げられる。
【０１０５】
・塗布助剤
紫外線遮断層１４に含まれうる塗布助剤としては、たとえば、シロキサン系界面活性剤を用いることができる。
【０１０６】
これらシロキサン系界面活性剤は、市販品として入手することができ、たとえば、ビックケミー社のＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３２０、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３４０、ＢＹＫ−３７７、ＢＹＫ−ＵＶ３５００、信越化学社のＫＦ−９４５、ＫＦ−３５２Ａ、Ｘ−２２−４２７２、ＥＦＫＡ社のＥＦＫＡ−３０３０、ＥＦＫＡ−３２３２、ＥＦＫＡ−３０３５、ＥＦＫＡ−３５８０、ＥＦＫＡ−３８８３、ＥＦＫＡ−３５２２などを挙げることができる。
【０１０７】
・その他の添加剤
本発明に係る紫外線遮断層１４に適用可能な各種の添加剤を、以下に列挙する。たとえば、特開昭５７−７４１９２号、特開昭５７−８７９８９号公報、特開昭６０−７２７８５号公報、特開昭６１−１４６５９１号公報、特開平１−９５０９１号公報、および特開平３−１３３７６号公報等に記載されている退色防止剤、アニオン、カチオンまたはノニオンの各種界面活性剤、特開昭５９−４２９９３号公報、特開昭５９−５２６８９号公報、特開昭６２−２８００６９号公報、特開昭６１−２４２８７１号公報、および特開平４−２１９２６６号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のｐＨ調整剤、消泡剤、潤滑剤、防腐剤、防黴剤、帯電防止剤、マット剤、熱安定剤、酸化防止剤、難燃剤、結晶核剤、減粘剤、滑剤等の公知の各種添加剤などが挙げられる。
【０１０８】
［紫外線反射積層部１１］
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’は、銀反射層１３よりも光入射面側に配置された紫外線反射積層部１１を必須に有する。また、紫外線反射積層部１１は、銀反射層１３と紫外線遮断層１４との間に形成される。
【０１０９】
紫外線反射積層部１１は、太陽光に含まれる紫外線領域（２８０〜４００ｎｍ）の少なくとも一部の波長（光）を反射する機能を有し、好ましくは、３５０〜４００ｎｍの紫外線の５０％以上、好ましくは６０％以上、より好ましくは７０％以上、特に好ましくは８０％以上を反射する機能を有する。太陽光に含まれる紫外線領域（２８０〜４００ｎｍ）の反射率は、積分球を持つ分光光度計により測定することができる。
【０１１０】
また、光入射面側に設けられる紫外線反射積層部１１は、より下層の銀反射層１３によって太陽光（特に可視光〜赤外線領域の光線）を反射させることができるように、特に可視光〜赤外線領域の光を透過するのが望ましい。かかる観点から、紫外線反射積層部１１の可視〜赤外線領域の光線（４００〜２５００ｎｍの波長）の透過率は、５０％以上が好ましく、より好ましくは６０％以上、更に好ましくは７０％以上、特に好ましくは８０％以上の範囲である。波長４００〜２５００ｎｍの透過率は、積分球を持つ分光光度計により測定することができる。
【０１１１】
紫外線反射積層部１１は、低屈折率層１１１および高屈折率層１１２が積層されたユニットを少なくとも１つ有するのが好ましい。
【０１１２】
紫外線反射積層部１１は、低屈折率層１１１および高屈折率層１１２が交互に積層された交互積層体の形態を有する。このような低屈折率層１１１および高屈折率層１１２の屈折率差により紫外線反射機能が発現される。なお、本明細書において、「低屈折率層」および「高屈折率層」とは、隣接した２層の屈折率差を比較した場合に、屈折率が低い方の屈折率層を低屈折率層とし、高い方の屈折率層を高屈折率層とすることを意味する。
【０１１３】
（樹脂１１ｂ（１１１ｂまたは１１２ｂ））
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’は、紫外線反射積層部１１を構成する低屈折率層１１１または高屈折率層１１２の少なくとも１層が水および水と相溶性を有する溶剤の少なくとも一方に可溶な樹脂（水溶性樹脂）１１ｂ（１１１ｂまたは１１２ｂ）を含むと好ましい。このような特定の樹脂を含むことにより、紫外線反射積層部１１を大面積で生産することができ、かつ、短時間で生産することができる。なお、「水および水と相溶性を有する溶剤の少なくとも一方に可溶な樹脂」の定義は上述の通りである。
【０１１４】
水溶性樹脂１１ｂは、低屈折率層１１１と高屈折率層１１２のいずれか一方のみに含まれていてもよいし、両方に含まれていても構わない。なお、低屈折率層１１１または高屈折率層１１２の少なくとも１層が水および水と相溶性を有する溶剤の少なくとも一方に可溶な樹脂を含む限りにおいては、低屈折率層１１１および／または高屈折率層１１２が水および水と相溶性を有する溶剤のいずれにも不溶な樹脂を微量で含んでもよいことは勿論である。
【０１１５】
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’においては、当該樹脂１１ｂは耐光性に優れていることが好ましく、具体的には、主鎖に芳香環を含まない樹脂であることが好ましく、芳香環を持たないモノマー成分から構成された樹脂であることがより好ましい。このような樹脂としては、例えば、シリコーン系樹脂、アクリル系樹脂、オレフィン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、アクリル・ウレタン系樹脂、含フッ素ポリマー等が挙げられる。これらのなかでも、後述のように水溶性樹脂を使用することが好ましいが、水溶性樹脂以外の樹脂の中では、特に耐候性に優れる材料として、シロキサン結合を持ったシリコーン系樹脂、または少なくとも２種以上のアクリル系モノマーを共重合したアクリル系共重合体であるアクリル系樹脂（水溶性樹脂に含まれないもの）が好適に用いられる。
【０１１６】
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’において、紫外線反射積層部１１（各屈折率層１１１、１１２）は、コーティングにより形成されてなるものである。紫外線反射積層部１１（各屈折率層１１１、１１２）をコーティングにより形成するのに水系塗布を用いることが可能になるという観点から、当該樹脂１１ｂは水溶性樹脂であることが好ましい。紫外線反射積層部１１をコーティングにより形成するのに水系塗布を用いることにより、被塗布層の有機溶剤による溶解を抑制することができる。水溶性樹脂の重量平均分子量は、特に制限はないが、コーティング可能な粘度に調整して製造する観点から、１０００〜２０００００が好ましく、３０００〜４００００がより好ましい。
【０１１７】
上記水溶性樹脂としては、上述の紫外線遮断層１４の（Ｉ）の形態において挙げた樹脂と同様のものが使用可能であるが、なかでも、製造時のハンドリング性と膜の柔軟性の点から、ポリビニルアルコール類、およびこれを含有する共重合体、ゼラチン、増粘多糖類（特にセルロース類）が好ましく、なかでも、光学特性の観点からポリビニルアルコール類であることがより好ましい。これらの水溶性樹脂は、１種のみを単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用しても構わない。
【０１１８】
本形態で使用されるポリビニルアルコール類としては、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、一部が変性された変性ポリビニルアルコールも使用することができる。なお、以下で特に断りがない限り、変性ポリビニルアルコールと区別して、「ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコール」を単に「ポリビニルアルコール」とも称する。本形態の太陽光反射フィルム１０においては、低屈折率層１１１および高屈折率層１１２が、ともに少なくとも１種のポリビニルアルコールを含有する際、低屈折率層１１１中で最も含有量の多いポリビニルアルコールをポリビニルアルコール（Ａ）とし、高屈折率層１１２中で最も含有量の多いポリビニルアルコールをポリビニルアルコール（Ｂ）とした場合に、ポリビニルアルコール（Ａ）の鹸化度と、ポリビニルアルコール（Ｂ）の鹸化度とが異なることが好ましい。ここで鹸化度とはポリビニルアルコール中のアセチルオキシ基（原料の酢酸ビニル由来のもの）と水酸基の合計数に対する水酸基の割合のことである。このように鹸化度の異なるポリビニルアルコールを用いることにより、高屈折率層１１２と低屈折率層１１１の層間混合が小さく、高反射率を得ることができる。詳しくは、水系の重層塗布により各屈折率層１１１、１１２を形成した場合の層間混合が抑制され、界面の乱れが小さくなることにより、所望の波長の紫外線反射性に優れ、ヘイズの少ない紫外線反射積層部１１を形成することができる。
【０１１９】
各屈折率層１１１、１１２中で鹸化度の相違を比較するポリビニルアルコールは、各屈折率層が複数のポリビニルアルコールを含む場合（すなわち、鹸化度または重合度が異なるポリビニルアルコールを２種以上含む場合）には、屈折率層中で最も含有量の多いポリビニルアルコールである。ここで、「屈折率層中で最も含有量が多いポリビニルアルコール」という際には、鹸化度の差が３ｍｏｌ％以内のポリビニルアルコールは同一のポリビニルアルコールであるとし、重合度を算出する。ただし、重合度１０００以下の低重合度ポリビニルアルコールは異なるポリビニルアルコールとする（仮に鹸化度の差が３ｍｏｌ％以内のポリビニルアルコールがあったとしても同一のポリビニルアルコールとはしない）。具体的には、鹸化度が９０ｍｏｌ％、鹸化度が９１ｍｏｌ％、鹸化度が９３ｍｏｌ％のポリビニルアルコールが同一層内にそれぞれ１０質量％、４０質量％、５０質量％含まれる場合には、これら３つのポリビニルアルコールは同一のポリビニルアルコールとし、これら３つの混合物をポリビニルアルコール（Ａ）または（Ｂ）とする。また、上記「鹸化度の差が３ｍｏｌ％以内のポリビニルアルコール」とは、いずれかのポリビニルアルコールに着目した場合に３ｍｏｌ％以内であれば足り、例えば、９０、９１、９２、９４ｍｏｌ％のビニルアルコールを含む場合には、９１ｍｏｌ％のビニルアルコールに着目した場合にいずれのポリビニルアルコールも３ｍｏｌ％以内なので、同一のポリビニルアルコールとなる。
【０１２０】
本形態において、含有量が最も高いポリビニルアルコールが、鹸化度差が３ｍｏｌ％以内の複数のポリビニルアルコール種から構成される場合、含有量が最も高いポリビニルアルコールの鹸化度は、含有量が最も高いポリビニルアルコールを構成する各ポリビニルアルコールの鹸化度に該ポリビニルアルコールの含有量を乗じたものの和を、各ポリビニルアルコール含有量の和で割ったものとする。具体的には以下のように平均鹸化度を算出する。含有量が最も高いポリビニルアルコールがポリビニルアルコール（１）およびポリビニルアルコール（２）から構成され、ポリビニルアルコール（１）（屈折率層全量（固形分）に対するポリビニルアルコール（１）の含有量：Ｗａ、鹸化度：Ｓａ（ｍｏｌ％））およびポリビニルアルコール（２）（屈折率層全量（固形分）に対するポリビニルアルコール（２）の含有量：Ｗｂ、鹸化度：Ｓｂ（ｍｏｌ％））である場合、含有量が最も高いポリビニルアルコールの平均鹸化度は下記式のようになる。
【０１２１】
【数１】
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【０１２２】
１層内に鹸化度が３ｍｏｌ％を超える異なるポリビニルアルコールが含まれる場合、異なるポリビニルアルコールの混合物とみなし、それぞれに重合度と鹸化度を算出する。例えば、ＰＶＡ１０３：５質量％、ＰＶＡ１１７：２５質量％、ＰＶＡ２１７：１０質量％、ＰＶＡ２２０：１０質量％、ＰＶＡ２２４：１０質量％、ＰＶＡ２３５：２０質量％、ＰＶＡ２４５：２０質量％が含まれる場合、最も含有量の多いＰＶＡはＰＶＡ２１７〜２４５の混合物であり（ＰＶＡ２１７〜２４５の鹸化度の差は３ｍｏｌ％以内なので同一のポリビニルアルコールである。ここで、ＰＶＡ１０３〜ＰＶＡ２４５は、いずれも株式会社クラレの商品名（クラレポバール（登録商標）＝ＰＶＡ）と銘柄（１０３〜２４５）を表しており、銘柄の始めの数字は鹸化度の分類を表し、次の二つの数字に１００を掛けたものが重合度の目安を表す。銘柄の始めの数字１＝鹸化度９８〜９９ｍｏｌ％、平均値９８．５ｍｏｌ％、銘柄の始めの数字２＝鹸化度８７〜８９ｍｏｌ％、平均値８８ｍｏｌ％を表している。また、次の二つの数字が、例えば０３＝重合度３００、１７＝重合度１７００、４５＝重合度４５００を表している。）、この混合物がポリビニルアルコール（Ａ）または（Ｂ）となる。そして、ＰＶＡ２１７〜２４５の混合物（ポリビニルアルコール（Ａ）／（Ｂ））においては、重合度は、（１７００×０．１＋２０００×０．１＋２４００×０．１＋３５００×０．２＋４５００×０．２）／０．７＝３２００であり、鹸化度は、８８ｍｏｌ％となる。
【０１２３】
また、含有量が最も高いポリビニルアルコール（群）が同一の含有量で複数存在する場合には、いずれか一つのポリビニルアルコール（群）の組合せが、低屈折率層１１１と高屈折率層１１２との異なる鹸化度に該当すればよい。例えば、低屈折率層１１１中に、ポリビニルアルコールとして、ポリビニルアルコール（１）（鹸化度９８．５ｍｏｌ％）：２０質量％、ポリビニルアルコール（２）（鹸化度８８ｍｏｌ％）：２０質量％、ポリビニルアルコール（３）（鹸化度７９．５ｍｏｌ％）：２０質量％、が含有されている場合（含有量が最も高いポリビニルアルコール（群）が同一の含有量で複数存在する場合）、ポリビニルアルコール（１）、（２）及び（３）のいずれかが、高屈折率層１１２中に含有される最も含有量の高いポリビニルアルコール（Ｂ）の鹸化度と異なっていればよい。
【０１２４】
ポリビニルアルコール（Ａ）とポリビニルアルコール（Ｂ）との鹸化度の絶対値の差は、１ｍｏｌ％以上であることが好ましく、３ｍｏｌ％以上であることがより好ましい。さらに好ましくは５ｍｏｌ％以上である。また、さらに好ましくは８ｍｏｌ％以上であり、最も好ましくは１０ｍｏｌ％以上である。かような範囲であれば、低屈折率層１１１と高屈折率層１１２との層間混合状態を好ましいレベルにするために好ましい。ポリビニルアルコール（Ａ）とポリビニルアルコール（Ｂ）との鹸化度の差は大きいほど好ましいが、ポリビニルアルコールの水への溶解性の点からは２０ｍｏｌ％以下であることが好ましい。
【０１２５】
ポリビニルアルコール（Ａ）およびポリビニルアルコール（Ｂ）の鹸化度は水への溶解性の点で７５ｍｏｌ％以上が好ましい。さらにポリビニルアルコール（Ａ）およびポリビニルアルコール（Ｂ）のうち一方が鹸化度９０ｍｏｌ％以上であり、他方が該鹸化度９０ｍｏｌ％以上のポリビニルアルコールの鹸化度より低い鹸化度であることが好ましい。かような形態であると、層間混合がより抑制される。さらに、ポリビニルアルコール（Ａ）およびポリビニルアルコール（Ｂ）のうち一方が鹸化度９０ｍｏｌ％以上であり、他方が９０ｍｏｌ％以下であることが低屈折率層１１１と高屈折率層１１２との層間混合状態をより好ましい状態とし、特定の波長（紫外線）の反射率が向上するために好ましい。ポリビニルアルコール（Ａ）およびポリビニルアルコール（Ｂ）のうち一方が鹸化度９５ｍｏｌ％以上であり、他方が９０ｍｏｌ％以下であることが特定波長（紫外線）の反射率向上の観点からより好ましい。なお、ポリビニルアルコールの鹸化度の上限は特に限定されるものではないが、通常１００ｍｏｌ％未満であり、９９．９ｍｏｌ％以下程度である。
【０１２６】
さらに各屈折率層は、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、一部が変性された変性ポリビニルアルコールを含んでもよい。かような変性ポリビニルアルコールを含むと、膜（各屈折率層）の密着性や耐水性、柔軟性が改良される場合がある。このような変性ポリビニルアルコールとしては、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール、ビニルアルコール系ポリマーが挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコールは、重合度や変性の種類違うもの２種類以上を併用することもできる。
【０１２７】
本形態においては、上記鹸化度の異なる２種のポリビニルアルコールは、屈折率層の全ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールの全質量に対し、４０質量％以上、１００質量％以下の範囲で含有させることが好ましく、６０質量％以上、９５質量％以下がより好ましい。含有量が４０質量％以上であると、層間混合が抑制され界面の乱れが小さくなるという効果が顕著に表れる。一方、含有量が９５質量％以下であれば、塗布液の安定性が向上する。
【０１２８】
本形態では、水溶性樹脂を硬化させるための硬化剤を使用してもよい。硬化剤の種類は特に制限はなく、水溶性樹脂と硬化反応を起こすものであればいずれの硬化剤も使用可能である。
【０１２９】
水溶性樹脂がポリビニルアルコールの場合の硬化剤としては、ホウ素原子を有するホウ酸、ホウ酸塩、およびホウ砂等が挙げられる。これらを使用した場合、より優れた紫外線反射特性が発揮されうる。特に、低屈折率層１１１と高屈折率層１１２の多層重層をコーターで塗布後、一旦塗膜の膜面温度を１５℃程度に冷やした後、膜面を乾燥させるセット系塗布プロセスを用いた場合には、より好ましく効果を発現することができる。
【０１３０】
ホウ酸またはホウ酸塩とは、ホウ素原子を中心原子とする酸素酸およびその塩のことをいい、具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸および八ホウ酸およびこれらの塩が挙げられる。
【０１３１】
ホウ砂とは、Ｎａ２Ｂ４Ｏ５（ＯＨ）４・８Ｈ２Ｏ（四ホウ酸ナトリウム  Ｎａ２Ｂ４Ｏ７の十水和物）で表される鉱物である。
【０１３２】
ホウ酸、ホウ酸塩、およびホウ砂は、１種のみを単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用しても構わない。
【０１３３】
これ以外にも、ポリビニルアルコールと反応し得る基を有する化合物あるいはポリビニルアルコールが有する異なる基同士の反応を促進するような化合物が硬化剤として適宜用いられる。具体例としては、エポキシ系硬化剤、活性ハロゲン系硬化剤、活性ビニル系化合物、アルミニウムミョウバン等が挙げられる。
【０１３４】
上記硬化剤の総使用量は、ポリビニルアルコール系樹脂１ｇ当たり１〜６００ｍｇが好ましく、１００〜５００ｍｇがより好ましい。
【０１３５】
各屈折率層中の樹脂の含有量は、各屈折率層中に無機酸化物（１１１ａないし１１２ａ）を含有しない場合においては、コーティング時の粘度調節の観点から、各屈折率層中の固形分の総量に対して５０〜１００質量％であることが好ましく、８０〜１００質量％であることが好ましい。５０質量％以上であれば層形成が可能である。一方、各屈折率層中の樹脂の含有量は、各屈折率層中に無機酸化物（１１１ａないし１１２ａ）を含有する場合においては、各屈折率層中の固形分の総量に対して５〜７０質量％であることが好ましく、８〜５０質量％であることが好ましい。無機酸化物（１１１ａないし１１２ａ）を含有する場合でも、樹脂の含有量が３質量％以上であれば層形成が可能である。
【０１３６】
（無機酸化物１１ａ（１１１ａまたは１１２ａ））
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’における紫外線反射部１１の少なくとも１層は、少なくとも１種の無機酸化物を含む。かかる構成とすることで、紫外線反射積層部１１が紫外線を効率的に反射し、太陽光の効率的利用が図られる。また紫外線を反射することで、さらに下層に配置される材料の劣化を防止し、耐久性を高めることができる。特に無機酸化物１１ａにより、無機酸化物１１ａを含有する層（屈折率層）を高屈折率化することができる。また、無機酸化物１１ａを含有する層（屈折率層）の形成に用いる塗布液（屈折率層用塗布液）の粘度を調整することができる点で優れている。好ましくは、前記紫外線線反射部１１を構成する低屈折率層１１１または高屈折率層１１２の少なくとも一方は、それぞれ無機酸化物１１ａ（１１１ａないし１１２ａ）および上述の樹脂１１ｂを含むのが好ましい。更に低屈折率層１１１または高屈折率層１１２の少なくとも一方は、それぞれ無機酸化物１１ａ（１１１ａないし１１２ａ）および樹脂成分を含む溶液を塗布することにより形成されてなることが好ましい。これにより、紫外線反射積層部１１がコーティングによって形成し得るため、大面積生産を短時間で行うことが可能である。
【０１３７】
無機酸化物粒子１１ａは、紫外線反射に適するように、平均粒径が１００ｎｍ以下であることが好ましい。用いる無機酸化物粒子の平均粒径が１００ｎｍ以下であることで、光散乱を抑制し、また紫外線反射フィルムにおける各屈折率層の膜厚制御の際の精度を向上させることができる。ここで、本明細書において平均粒径は、一次平均粒径を指す。なお、当該一次平均粒径は、上記紫外線遮断層に含まれうる無機酸化物粒子の一次平均粒径の測定方法と同様の方法を用いて測定される値である。無機酸化物粒子１１ａの平均粒径は、無機酸化物粒子１１ａが被覆処理されている場合（例えば、後述のシリカ付着二酸化チタンゾル等）、無機酸化物粒子１１ａの平均粒径とは母体（上記シリカ付着二酸化チタンゾルの場合は、処理前の二酸化チタン）の平均粒径を指すものとする。本実施形態において、低屈折率層１１１中の無機酸化物１１１ａ（例えば、コロイダルシリカ粒子など）は低屈折率材料として機能し、高屈折率層１１２中の無機酸化物１１２ａ（例えば、酸化チタン粒子など）は高屈折率材料として機能する。
【０１３８】
（低屈折率層１１１中の無機酸化物１１１ａ）
高屈折率層１１２に無機酸化物１１２ａを含む場合、低屈折率層１１１には、無機酸化物１１１ａを含んでいなくともよいが、低屈折率層１１１においても、無機酸化物１１１ａが含まれていると好ましい。このとき、無機酸化物１１１ａとしてシリカ（二酸化ケイ素）を用いることが好ましく、具体的な例として合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等が挙げられる。これらのうち、酸性のコロイダルシリカゾルを用いることがより好ましく、屈折率が低く小粒径であり更に透明性が高く、二次粒子を作らず扱いやすい観点から、有機溶媒に分散させたコロイダルシリカを用いることが特に好ましい。また、屈折率をより低減させるために、低屈折率層１１１の無機酸化物微粒子１１１ａとして、粒子の内部に空孔を有する中空微粒子を用いてもよく、特にシリカ（二酸化ケイ素）の中空微粒子が好ましい。また、シリカ以外の公知の無機酸化物粒子も使用することができる。低屈折率層１１１において、無機酸化物１１１ａとしては、屈折率が低く小粒径である観点から、二酸化ケイ素を用いることが好ましく、屈折率が低く小粒径であり更に透明性が高く、二次粒子を作らず扱いやすい観点から、コロイダルシリカを用いることが特に好ましい。
【０１３９】
本形態で用いられるコロイダルシリカは、珪酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであり、たとえば、特開昭５７−１４０９１号公報、特開昭６０−２１９０８３号公報などに記載されているものである。
【０１４０】
この様なコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、日産化学工業（株）から販売されているスノーテックスシリーズ（スノーテックスＯＳ、ＯＸＳ、Ｓ、ＯＳ、２０、３０、４０、Ｏ、Ｎ、Ｃ等）が挙げられる。
【０１４１】
コロイダルシリカは、その表面をカチオン変性されたものであってもよく、また、Ａｌ、Ｃａ、ＭｇまたはＢａ等で処理された物であってもよい。
【０１４２】
低屈折率層１１１における無機酸化物粒子１１１ａの含有量は、低屈折率層の固形分１００質量％に対して、２０〜９０質量％であることが好ましく、３０〜８５質量％であることがより好ましく、４０〜７０質量％であることがさらに好ましい。２０質量％以上であると、所望の屈折率が得られ９０質量％以下であると塗布性が良好となり好ましい。
【０１４３】
（高屈折率層１１２中の無機酸化物１１２ａ）
本形態に係る高屈折率層１１２の無機酸化物粒子１１２ａとしては、例えば、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズなどが挙げられる。中でも、透明でより屈折率の高い高屈折率層１１２を形成することのできる、二酸化チタン、酸化ジルコニウム等の無機酸化物粒子１１２ａが好ましい。
【０１４４】
二酸化チタンとしては、ルチル型（正方晶形）酸化チタン粒子が好ましい。
【０１４５】
高屈折率層１１２で用いられる無機酸化物粒子１１２ａに用いられる無機酸化物粒子１１２ａの一次平均粒径は、３０ｎｍ以下であることが好ましく、１〜３０ｎｍであることがより好ましく、５〜１５ｎｍであることがさらに好ましい。一次平均粒径が１ｎｍ以上３０ｎｍ以下であれば、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。
【０１４６】
本形態の酸化チタン粒子としては、水系の酸化チタンゾルの表面を変性して分散状態を安定にしたものを用いることが好ましい。
【０１４７】
さらに、酸化チタン粒子を含ケイ素の水和酸化物で被覆した、コアシェル構造を有する粒子を用いてもよい。ここで、「被覆」とは、酸化チタン粒子の表面の少なくとも一部に、含ケイ素の水和酸化物が付着されている状態を意味する。すなわち、無機酸化物粒子１１２ａとして用いられる酸化チタン粒子の表面が、完全に含ケイ素の水和酸化物で被覆されていてもよく、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素の水和酸化物で被覆されていてもよい。被覆された酸化チタン粒子の屈折率が含ケイ素の水和酸化物の被覆量により制御される観点から、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素の水和酸化物で被覆されることが好ましい。以下ではこのような被覆された酸化チタン粒子を「シリカ付着二酸化チタンゾル」とも称する。
【０１４８】
含ケイ素の水和酸化物で被覆された酸化チタン粒子の酸化チタンはルチル型であってもアナターゼ型であってもよいが、ルチル型がより好ましい。これは、ルチル型の酸化チタン粒子が、アナターゼ型の酸化チタン粒子より光触媒活性が低いため、高屈折率層１１２や隣接した低屈折率層１１１の耐候性が高くなり、さらに屈折率が高くなるためである。
【０１４９】
本明細書における「含ケイ素の水和酸化物」とは、無機ケイ素化合物の水和物、有機ケイ素化合物の加水分解物および／または縮合物のいずれでもよいが、本形態の効果を得るためにはシラノール基を有することがより好ましい。
【０１５０】
含ケイ素の水和酸化物の被覆量は、３〜３０質量％、好ましくは３〜１０質量％、より好ましくは３〜８質量％である。被覆量が３０質量％以下であると、高屈折率層の所望の屈折率化が得られ、被覆量が３％以上であると粒子を安定に形成することができるからである。
【０１５１】
酸化チタン粒子を含ケイ素の水和酸化物で被覆する方法としては、従来公知の方法により製造することができ、例えば、特開平１０−１５８０１５号公報、特開２０００−２０４３０１号公報、特開２００７−２４６３５１号公報等に記載された事項を参照することができる。
【０１５２】
高屈折率層１１２における無機酸化物粒子１１２ａの含有量としては、高屈折率層１１２の固形分１００質量％に対して、１５〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８５質量％であることがより好ましく、３０〜８５質量％であることが反射率向上の観点から、さらに好ましい。
【０１５３】
（他の添加剤）
各屈折率層（１１１、１１２）は、塗布により形成する場合の塗布性の観点から界面活性剤等の他の添加剤を含有することが好ましい。塗布時の表面張力調整のため用いられる界面活性剤として、公知のアニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤等を用いることができるが、アニオン系界面活性剤がより好ましい。好ましい化合物としては、１分子中に炭素数８〜３０の疎水性基とスルホン酸基またはその塩を含有するものが挙げられる。
【０１５４】
各屈折率層における界面活性剤の含有量は、各屈折率層中の固形分の総量に対して、０．００１〜０．５質量％であることが好ましく、０．００５〜０．３質量％であることがより好ましい。
【０１５５】
各屈折率層（１１１、１１２）は、塗布液の分散安定性の観点から公知の高分子分散剤を含有することが好ましい。高分子分散剤とは、重量平均分子量が１０，０００以上の高分子の分散剤を指す。高分子分散剤の含有量は屈折率層に対して固形分換算で０．１〜１０質量％であることが好ましい。
【０１５６】
各屈折率層は、エマルジョン樹脂をさらに含有していてもよい。エマルジョン樹脂を含むことにより、膜の柔軟性が高くなりガラスへの貼りつけ等の加工性がよくなる。
【０１５７】
各屈折率層は、上記以外にも、他の添加剤を含んでいてもよい。当該他の添加剤としては、上述の紫外線遮断層１４の（Ｉ）の形態において挙げた「その他の添加剤」と同様のものが使用可能である他、ヒンダードアミン系などの光安定剤等の公知の各種添加剤を使用することができる。
【０１５８】
（膜設計）
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’は、低屈折率層１１１および高屈折率層１１２が積層されたユニットを少なくとも１つ有する紫外線反射積層部１１を有する。低屈折率層１１１および高屈折率層１１２の総層数の範囲は、１００層以下、より好ましくは４５層以下である。下限は特に限定されるものではないが、５層以上であることが好ましい。光散乱および反射強度を考慮すると、１つの紫外線反射積層部１１あたりの低屈折率層１１１および高屈折率層１１２の総層数の範囲は、７〜２３層であることが好ましい。
【０１５９】
また、低屈折率層１１１と高屈折率層１１２との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で所望の光線である紫外線に対する反射率を高くすることができるという観点から好ましい。本形態においては、少なくとも隣接した２層（低屈折率層１１１および高屈折率層１１２）の屈折率差が０．１以上であることが好ましく、より好ましくは０．２５以上であり、さらに好ましくは０．３以上であり、よりさらに好ましくは０．３５以上である。また、上限には特に制限はないが通常１．４以下である。ただし、例えば、最表層はフィルムを保護するための層として形成される場合または最下層が基板との接着性改良層として形成される場合等において、最表層や最下層に関しては、上記好適な屈折率差の範囲外の構成であってもよい。なお、紫外線反射積層部１１における各屈折率層間の屈折率差と、必要な層数とについては、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。
【０１６０】
低屈折率層１１１は、屈折率が１．１０〜１．６０であることが好ましく、より好ましくは１．３０〜１．５５である。高屈折率層１１２は、屈折率が１．８０〜２．５０であることが好ましく、より好ましくは１．８０〜２．２０である。
【０１６１】
隣接した層界面での反射は、層間の屈折率比に依存するのでこの屈折率比が大きいほど、反射率が高まる。また、単層膜でみたとき層表面における反射光と、層底部における反射光の光路差を、ｎ・ｄ＝波長／４、で表される関係にすると位相差により反射光を強めあうよう制御でき、反射率を上げることができる。ここで、ｎは屈折率、またｄは層の物理膜厚、ｎ・ｄは光学膜厚である。この光路差を利用することで、反射を制御できる。この関係を利用して、各層の屈折率と膜厚を制御して、可視光の透過や、紫外線の反射を制御する。
【０１６２】
また、高屈折率層１１２の平均厚さｄＨと、低屈折率層１１１の平均厚さｄＬとの関係が、下記式（１）および（２）を満たすことが好ましい。
【０１６３】
｜ｄＨ−ｄＬ｜＜４０ｎｍ      式（１）
｜ｄＨ＋ｄＬ｜＜１５０ｎｍ    式（２）
上記式（１）および（２）を満たすことで、紫外域の反射率を高くすることができる。｜ｄＨ−ｄＬ｜は２５ｎｍ以下であることがより好ましい。｜ｄＨ−ｄＬ｜の下限は特に限定されないが、光路差を確保するために、５ｎｍ以上であることが好ましい。また、｜ｄＨ＋ｄＬ｜は１３０ｎｍ以下であることがより好ましい。｜ｄＨ＋ｄＬ｜の下限は通常１００ｎｍ以上となる。
【０１６４】
高屈折率層１１２の１層あたりの厚み（乾燥後の厚み）は、２０〜８０ｎｍであることが好ましく、３０〜７０ｎｍであることがより好ましく、４０〜６０ｎｍであることがより好ましい。低屈折率層１１１の１層あたりの厚み（乾燥後の厚み）は、４０〜１００ｎｍであることが好ましく、５０〜９０ｎｍであることがより好ましく、６０〜８０ｎｍであることがより好ましい。
【０１６５】
（紫外線反射積層部１１の製造方法）
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’における紫外線反射積層部１１の製造方法は特に制限はないが、大面積かつ大量生産が可能であること、および好適には水溶性樹脂を含むことから、塗布による膜形成法が好ましい。また、塗布の方法としては、逐次塗布でも同時重層塗布でもよいが、生産性が向上することから、同時重層塗布であることが好ましい。
【０１６６】
塗布方式としては、例えば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、カーテン塗布方法、あるいは米国特許第２，７６１，４１９号、同第２，７６１，７９１号公報に記載のホッパーを使用するスライドビード塗布方法、エクストルージョンコート法等が好ましく用いられる。
【０１６７】
低屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液および樹脂層塗布液を調製するための溶媒は、特に制限されないが、水、有機溶媒、またはその混合溶媒が好ましい。本形態においては、好適な樹脂として水溶性樹脂を用いることができるために、水系溶媒を用いることができる。水系溶媒は、有機溶媒を用いる場合と比較して、大規模な生産設備を必要とすることがないため、生産性の点で好ましく、また環境保全の点でも好ましい。
【０１６８】
前記有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のエーテル類、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノン等のケトン類等が挙げられる。これら有機溶媒は、単独でもまたは２種以上混合して用いてもよい。環境面、操作の簡便性等から、塗布液の溶媒としては、特に水、または水とメタノール、エタノール、もしくは酢酸エチルとの混合溶媒が好ましく、水がより好ましい。
【０１６９】
低屈折率層用塗布液中の樹脂（水溶性樹脂等）の濃度は、０．５〜１０質量％であることが好ましい。また、低屈折率層用塗布液中の無機酸化物粒子の濃度は、１〜５０質量％であることが好ましい。高屈折率層用塗布液中の樹脂（水溶性樹脂等）の濃度は、０．５〜１０質量％であることが好ましい。また、高屈折率層用塗布液中の無機酸化物粒子の濃度は、１〜５０質量％であることが好ましい。
【０１７０】
低屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液の調製方法は、特に制限されず、例えば、無機酸化物粒子、樹脂（水溶性樹脂など）、および必要に応じて添加されるその他の添加剤を添加し、攪拌混合する方法が挙げられる。この際、各成分の添加順も特に制限されず、攪拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、攪拌しながら一度に添加し混合してもよい。必要に応じて、さらに溶媒を用いて、適当な粘度に調製される。
【０１７１】
同時重層塗布を行う際の低屈折率層用塗布液および高屈折率層用塗布液の温度は、スライドビード塗布方式、カーテン塗布方式を用いる場合は、２５〜６０℃の温度範囲が好ましく、３０〜４５℃の温度範囲がより好ましい。
【０１７２】
塗布および乾燥方法の条件は、特に制限されないが、例えば、逐次塗布法、同時重層塗布法等を用いることができる。
【０１７３】
［銀反射層１３］
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’における銀反射層１３は、特に可視光〜赤外線領域の光；２８０〜２５００ｎｍの波長を反射する機能を有する銀もしくは銀を主成分とする層である。銀反射層１３は、図１、２に示すように、光入射面側の紫外線反射積層部１１よりも下層側に設けられていればよい。ここで、銀を主成分とするとは、銀反射層１３を構成する銀含有合金の中で最も銀の含有量が大きければよく、好ましくは銀の含有量が７０質量％以上、より好ましくは８０質量％以上、更に好ましくは９０質量％以上であり、最も好ましくは１００質量％である。なお、銀含有合金に含まれる他合金成分としては、製膜時の温度、太陽光反射率、耐食性の観点から、Ａｌ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｒｈ、Ｐｔ及びＡｕからなる元素群の中から選ばれるいずれかの元素を含む材料が好ましく、より好ましくはＡｌである。
【０１７４】
銀反射層１３の表面反射率（詳しくは、可視光〜赤外線領域の反射率；４００〜２５００ｎｍの波長の反射率）は好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。銀反射層１３の上記表面反射率は、市販の分光光度計を用いて測定することができる。
【０１７５】
また、銀反射層１３上にＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の金属酸化物からなる層（図１、２中には図示せず）を設けてさらに反射率を向上させてもよい。
【０１７６】
本発明における銀反射層１３の形成法としては、例えば、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。
【０１７７】
湿式法とは、めっき法または金属錯体溶液塗布法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例を挙げると銀鏡反応や、銀錯体インクの焼成（詳しくは銀錯体化合物を含有する銀コーティング液組成物を塗布して形成した塗布膜の焼成）による銀層形成等がある。
【０１７８】
一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的には、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法等がある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロールツーロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。すなわち、本発明の太陽光反射フィルム１０の製造方法においては、銀反射層１３を銀の蒸着により形成することが好ましい。
【０１７９】
銀反射層１３の厚さは、太陽光反射率、耐食性等の観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍである。
【０１８０】
（気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物）
銀反射層１３を形成する際に、配位子が気化・脱離しうる銀錯体化合物を含有する塗布膜を加熱焼成することにより銀反射層１３を形成するようにしてもよい。
【０１８１】
「気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物」とは、溶液中では銀が安定に溶解するための配位子を有するが、溶媒を除去し、加熱焼成することによって、配位子が熱分解し、ＣＯ２や低分子量のアミン化合物となり、気化・脱離し、金属銀のみが残存することのできる銀錯体化合物のことをいう。
【０１８２】
このような銀錯体化合物およびその製造方法については、例えば、公知である特開２０１２−１３７５７９号公報の段落「００６４」〜「００８９」に記載の銀錯体化合物およびその製造方法を適宜用いることができる。
【０１８３】
［樹脂フィルム状支持体１２］
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’は、上記の紫外線遮断層１４、紫外線反射積層部１１、銀反射層１３が、光の入射面側からこの順に形成されていれば、これらの各層（または部分）の間に樹脂フィルム状支持体１２を含んでいてもよい。
【０１８４】
樹脂フィルム状支持体１２としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、特開２０１２−４８１０２号公報の段落「００２１」に記載のフィルムを用いることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルム、アクリルフィルムが好ましい。特にポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム又はアクリルフィルムを用いることが好ましく、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
【０１８５】
図１に示すように、銀反射層１３よりも光入射面側から遠い位置に樹脂フィルム状支持体１２を配置する場合（すなわち、光の入射面側から紫外線遮断層１４、紫外線反射積層部１１、銀反射層１３、樹脂フィルム状支持体１２の順で積層されている場合）には、紫外線が樹脂フィルム状支持体１２に到達しにくい。特に、樹脂フィルム状支持体１２よりも光入射面側にある紫外線遮断層１４および紫外線反射部１１により紫外線を吸収・反射させることができるため、紫外線は樹脂フィルム状支持体１２に、より到達しにくくなる。従って、樹脂フィルム状支持体１２は、紫外線に対して劣化しやすい樹脂であっても用いることが可能となる。つまり、樹脂フィルム状支持体１２は、紫外線に対する耐性によって制限されることなく、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。このような観点から、樹脂フィルム状支持体１２として、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルムを用いることが可能となる。
【０１８６】
一方、樹脂フィルム状支持体１２の光入射面側とは反対側に銀反射層１３を設ける場合（すなわち、光の入射面側から紫外線遮断層１４、紫外線反射積層部１１、樹脂フィルム状支持体１２、銀反射層１３の順で積層されている場合）には、当該樹脂フィルム状支持体１２が太陽光（特に可視光〜赤外線領域の光線）を透過させることのできる樹脂フィルムを用いるのが望ましい。かかる観点から、樹脂フィルム状支持体１２の太陽光（特に可視光〜赤外線領域の光線；４００〜２５００ｎｍの波長）の透過率は、７０％以上が好ましく、より好ましくは８０％以上、更に好ましくは９０％以上、特に好ましくは９５％以上の範囲である。太陽光（４００〜２５００ｎｍの波長）の透過率は、積分球を持つ分光光度計により測定することができる。
【０１８７】
樹脂フィルム状支持体１２の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、１０〜２５０μｍの範囲内である。好ましくは２０〜２００μｍである。
【０１８８】
［その他の層］
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’は、上記の紫外線遮断層１４、紫外線反射積層部１１、銀反射層１３が、光の入射面側からこの順に形成されていれば、これらの各層（または部分）の間、または上下に他の層を含んでいてもよい。本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’において、含まれうる他の層について詳細に説明するが、以下に挙げる層は例示であり、これらに限定されない。
【０１８９】
（ハードコート層１７）
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’は、紫外線反射積層部１１を擦傷から保護する目的で、紫外線反射積層部１１の光が入射する面側に、ハードコート層（ＨＣ層；耐傷層）１７をさらに有していてもよい。すなわち、図２の態様であってもよい。
【０１９０】
以下では、紫外線遮断層１４の光入射面側に設けられるハードコート層１７の構成について説明する。
【０１９１】
ハードコート層１７で使用される硬化樹脂としては、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられるが、紫外線反射積層部の劣化を抑制する観点から、熱硬化性樹脂が好ましい。かような硬化性樹脂は、単独でもまたは２種以上組み合わせても用いることができる。また、硬化型樹脂は市販品を用いてもよいし、合成品を用いてもよい。
【０１９２】
熱硬化性樹脂としては、ポリシロキサンに代表される無機系材料が挙げられる。
【０１９３】
ポリシロキサン系ハードコート（ＨＣ層１７）は、上記の紫外線遮断層の（ＩＩ）の形態において、無機酸化物と共に用いられる透明樹脂と同様のものを用いることができる。なかでも、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等が好ましく用いられる。これらのメトキシ基、エトキシ基等の加水分解性基が水酸基に置換した状態のものが、一般的にポリオルガノシロキサン系ハードコートといわれている。これを基板上に塗布し、加熱硬化させることで、脱水縮合反応が促進し、硬化・架橋することで、ハードコート（ＨＣ層１７）が製膜される。これらのポリオルガノシロキサン系ハードコート中でも、加水分解によって脱離しない有機基がメチル基のものが最も耐候性が高い。また、メチル基であれば、ハードコート製膜後の表面にメチル基が均一且密に分布するため、転落角も低い。そのため、本用途では、メチルポリシロキサンを用いることが好ましい。
【０１９４】
ポリシロキサン系ハードコート（ＨＣ層１７）の膜厚として、厚すぎれば、応力によってハードコート層１７が割れる危険性があり、薄すぎれば硬度を維持することが難しい。そのため、厚さとして、１〜５μｍが好ましく、１．５〜３μｍであることが好ましい。
【０１９５】
ポリオルガノシロキサン系ハードコート（ＨＣ層１７）として具体的には、サーコートシリーズ（動研製）、ＳＲ２４４１（東レ・ダウコーニング社）、ＫＦ−８６（信越シリコン社）、Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ（登録商標）６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ）等を利用することができる。
【０１９６】
ハードコート層１７の厚みは０．１〜２０μｍが好ましく、１〜１５μｍがより好ましく、３〜１０μｍであることがより好ましい。０．１μｍ以上であればハードコート性が向上する傾向にあり、２０μｍ以上であればハードコート層のカールが大きく、耐屈曲性が低下する傾向にある。
【０１９７】
ハードコート層１７は、硬化樹脂層形成用組成物（塗布液）をワイヤーバーによるコーティング、スピンコーティング、ディップコーティングにより塗布することで作製することができ、蒸着等の乾式製膜法でも作製することができる。また、上記の組成物（塗布液）をダイコーター、グラビアコーター、コンマコーター等の連続塗布装置でも塗布・製膜することは可能である。ポリシロキサン系ハードコートの場合、塗布後、溶剤を乾燥させた後、該ハードコートの硬化・架橋を促進するため、５０℃以上、１５０℃以下の温度で３０分〜数日間の熱処理を必要とする。塗布基材の耐熱性やロールにした時の基材の安定性を考慮して、４０℃以上８０℃以下で２日間以上処理することが好ましい。活性エネルギー線硬化樹脂の場合、活性エネルギー線の照射波長、照度、光量によってその反応性が変わるため、使用する樹脂によって最適な条件を選択する必要がある。
【０１９８】
硬化樹脂層形成用組成物（塗布液）には溶媒が含まれていてもよく、必要に応じて適宜含有し、希釈されたものであってもよい。塗布液に含有される有機溶媒としては、例えば、炭化水素類（トルエン、キシレン、）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−プロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル）、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中から適宜選択し、またはこれらを混合し利用できる。
【０１９９】
ハードコート層１７の下層への密着性が得られない場合、硬化樹脂層を積層する前にプライマー層（図１、２中に図示せず）を形成することができる。プライマー層の膜厚は特に限定されるものではないが、０．１〜１０μｍ程度である。好適な例として、プライマー層を構成する樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂が挙げられる。
【０２００】
（粘着層１５）
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’は、後述の支持基材（太陽光反射体の構成部材である自己支持性の基材）に接合するための粘着層１５を有していてもよい。粘着層１５を構成する粘着剤としては、特に制限されず、例えば、アクリル系粘着剤、シリコン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤等を例示することができる。
【０２０１】
アクリル系粘着剤としては、溶剤系およびエマルジョン系どちらでも良いが、粘着力等を高め易いことから、溶剤系粘着剤が好ましく、その中でも溶液重合で得られたものが好ましい。このような溶剤系アクリル系粘着剤を溶液重合で製造する場合の原料としては、例えば、骨格となる主モノマーとして、特開２０１２−５３３８２号公報の段落「００７７」に記載のものが挙げられる。さらに架橋を促進し、安定した粘着力を付与させ、また水の存在下でもある程度の粘着力を保持するために官能基含有モノマーとして、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート等が挙げられる。該積層フィルムの粘着剤層には、主ポリマーとして、特に高タック性を要するため、ブチルアクリレート等のような低いガラス転移温度（Ｔｇ）を有するものが特に有用である。
【０２０２】
この粘着層１５には、添加剤として、例えば安定剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、難燃剤、帯電防止剤、抗酸化剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色剤、接着調整剤等を含有させることもできる。
【０２０３】
粘着層１５の厚みは１μｍ〜１００μｍが好ましく、より好ましくは３〜５０μｍである。１μｍ以上であれば粘着性が向上する傾向にあり、十分な粘着力が得られる。１００μｍよりも厚い場合には粘着層の局所的な収縮や膨張に影響され銀反射層の平面性が失われる傾向にあるため、１００μｍ以下が望ましい。
【０２０４】
（剥離材１６）
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’は、粘着層１５の光入射面側と逆側に剥離材１６を有していてもよい。例えば、太陽光反射フィルム１０の出荷時には剥離材１６が粘着層１５に張り付いた状態で出荷し、剥離材１６から粘着層１５を有する太陽光反射フィルム１０を剥離し、太陽光反射体の構成部材である自己支持性の基材（支持基材）に貼り合わせて太陽光反射体、更には太陽光反射装置を形成することができる。
【０２０５】
剥離材１６としては、粘着層１５の保護性を付与できるものであればよく、例えば、アクリルフィルム又はシート、ポリカーボネートフィルム又はシート、ポリアリレートフィルム又はシート、ポリエチレンナフタレートフィルム又はシート、ポリエチレンテレフタレートフィルム又はシート、フッ素フィルムなどのプラスチックフィルム又はシート、又は酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルム又はシート、これらが練り込まれた樹脂をコーティングした樹脂フィルム又はシート、アルミニウム等の金属を用いて金属蒸着などで表面加工を施した樹脂フィルム又はシート等が用いられる。
【０２０６】
剥離材１６の厚さは、特に制限はないが、通常１２〜２５０μｍの範囲であることが好ましい。
【０２０７】
また、これらの剥離材１６を太陽光反射フィルム１０（剥離材１６を除く）と貼り合わせる前に凹部や凸部を設けてから貼り合せてもよく、貼り合せた後で凹部や凸部を有するように成形してもよく、貼り合わせと凹部や凸部を有するように成形することを同時にしてもよいものである。
【０２０８】
（腐食防止層）
空気中の水分や化学物質等の銀反射層１３（ミラー面）への侵入を防止（ひいては銀反射層１３の銀や銀含有合金材料（特に銀）の腐食を防止）し、更には外部からの機械的な圧力、例えば衝撃や引っ掻き等から保護する目的で、腐食防止層が設けられていてもよい。即ち、腐食防止層により、銀反射層１３の銀の腐食を防止して太陽光の反射を維持することができる。その結果、太陽光反射フィルム１０、１０’の耐久性を向上させることができる。上記目的から、腐食防止層は、銀反射層３に隣接して設けられているのが望ましい。但し、上記目的を達成し得る範囲内であれば、銀反射層１３から離して（隣接することなく）設けられていてもよく、そうした場合にも銀の腐食防止剤を含有していることが好ましい。
【０２０９】
腐食防止層は、１層のみからなっていてもよいし、複数層からなっていてもよい。
【０２１０】
腐食防止層の厚さ（２層以上の場合は合計厚さ）は、１〜１０μｍが好ましく、より好ましくは２〜８μｍである。腐食防止層の厚さが１μｍ以上であれば、空気中の水分や化学物質等の銀反射層１３（ミラー面）への侵入、更には外部からの機械的な圧力、例えば衝撃や引っ掻き等から保護することができる。腐食防止層の厚さが１０μｍ以下であれば、フレキシブル性を十分に維持することができるため、クラックや割れを効果的に防止することができる。
【０２１１】
（アンカーコート層）
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’では、アンカーコート層（図１、２中に図示せず）を設けてもよい。かかるアンカーコート層は、樹脂からなり、樹脂フィルム状支持体１２と銀反射層１３とを密着させるために設けられる層である。従って、アンカーコート層は樹脂フィルム状支持体１２と銀反射層１３とを密着させる密着性、銀反射層１３を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び銀反射層１３が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性、透明性（太陽光透過率）が必要である。
【０２１２】
アンカーコート層に使用する樹脂は、上記の密着性、耐熱性、透明性及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂又はポリエステル系樹脂とアクリル系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
【０２１３】
アンカーコート層の厚さは、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜２μｍである。この範囲を満たすことにより、密着性を保ちつつ、樹脂フィルム状支持体１１表面の凹凸を覆い隠すことができ、平滑性を良好にでき、アンカーコート層の硬化も十分に行えるため、結果として本形態の太陽光反射フィルム１０の反射率を高めることが可能となる。
【０２１４】
また、アンカーコート層は、上述の腐食防止層に含まれる腐食防止剤と同様の腐食防止剤を含有することが好ましい。
【０２１５】
（ガスバリア層）
銀反射層１３よりも光入射面側にガスバリア層（図１、２中に図示せず）を設けてもよい。ハードコート層１７と銀反射層１３の間にガスバリア層を設けることが好ましい。更には、粘着層１５と腐食防止層の間にガスバリア層を設けることが好ましい。ガスバリア層の詳細については、例えば、公知である国際公開番号ＷＯ２０１１／０９６１５１  Ａ１公報の段落「００４４」〜「００９６」を適用することができる。
【０２１６】
また、本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’は、使用される環境や用途に応じて、易接着層（接着層）、導電性層、帯電防止層、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層等の機能層の１つ以上を有していてもよい。
【０２１７】
＜太陽光反射体＞
本発明の第二は、上述の太陽光反射フィルム１０、１０’を有する太陽光反射体を提供する。太陽反射体は、粘着層１５を介して太陽光反射フィルム１０、１０’が自己支持性の基材（支持基材）に接合されてなる構造を有する。ここで、「自己支持性の基材」という場合の、「自己支持性」とは、太陽光反射体の基材として用いられる大きさに断裁された場合において、その対向する端縁部分を支持することで、基材を担持することが可能な程度の剛性を有することを表す。太陽光反射体の基材が自己支持性を有することで、後述の太陽光反射装置に設置する際に取り扱い性に優れるとともに、太陽光反射体を保持するための保持部材を簡素な構成とすることが可能となるため、太陽光反射装置を軽量化することが可能となり、例えば、太陽熱発電の太陽光反射装置として用いた際、太陽追尾の際の消費電力を抑制することが可能となる。
【０２１８】
［自己支持性の基材（支持基材）］
自己支持性の基材（支持基材）は、単層であってもよく、複数の層を積層させた形状であってもよい。また、単一構造であってもよく、複数に分割されていてもよい。当該支持基材の形状としては、凹面状の形状を有する又は凹面状の形状になり得ることが好ましい。そのために、平板状から凹面状の形状に可変である支持基材を用いてもよいし、凹面状の形状に固定されている支持基材を用いてもよい。凹面状の形状に可変である支持基材は、該支持基材の曲率を調整することで、接合されている太陽光反射フィルム１０、１０’の曲率も任意に調整することが可能となるため、反射効率を調整し高い正反射率を得ることができるため好ましい。凹面状の形状が固定されている支持基材は、曲率を調整する必要がなくなるため、調整費用の観点から好ましい。
【０２１９】
自己支持性の基材（支持基材）の素材としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板等の金属板、ベニヤ板（好ましくは防水処理がされたもの）等の木板、繊維強化プラスチック（ＦＲＰ）板、樹脂板、等が挙げられる。前記材料の中でも金属板を用いることが、熱伝導率が高いという観点から好ましい。さらに好ましくは、高い熱伝導率だけでなく耐腐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などにすることである。最も好ましくは、樹脂と金属板を組み合わせた鋼板を用いることである。
【０２２０】
＜太陽光反射装置＞
本発明の第三は、太陽光反射体を有する太陽光反射装置を提供する。本形態の太陽光反射装置は、太陽熱発電において太陽光を集光に好適に用いられる。本形態の太陽光反射装置は、太陽光反射体および該太陽光反射体を保持する保持部材を有する。
【０２２１】
好ましい形態としては、当該太陽光反射装置を太陽熱発電用として場合、内部に流体を有する筒状部材を集熱部として太陽光反射フィルム（フィルムミラー）１０の近傍に設け、筒状部材に太陽光を反射させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する、一般的にトラフ型と呼ばれる形態が挙げられる。また、その他の形態として、タワー型と呼ばれる形態も挙げられる。タワー型の形態は、少なくとも一つの集熱部と、太陽光を反射して集熱部に照射するための少なくとも一つの太陽熱発電用太陽光反射装置を有しており、集熱部に集められた熱を用いて液体を加熱しタービンを回して発電するものがある。なお、集熱部の周囲に、太陽熱発電用太陽光反射装置が複数配置されていることが好ましい。また、それぞれの太陽熱発電用太陽光反射装置が同心円状や、同心の扇状に複数配置されていることが好ましい。また、支持タワーの周囲に設置された太陽光反射体（太陽光反射用ミラー）により、太陽光が集光鏡へと反射され、その後、集光鏡によりさらに反射し、集熱部へと送られ熱交換施設へ送られる。本形態の太陽光反射装置はトラフ型、タワー型のどちらにも用いることができる。もちろん、それ以外の種々の太陽熱発電に用いることができる。
【０２２２】
太陽光反射装置は、太陽光反射体を保持する保持部材を有する。保持部材は、太陽光反射体が太陽を追尾可能な状態で保持する事が好ましい。保持部材の形態としては、特に制限はないが、例えば、太陽光反射体が所望の形状を保持できるように、複数個所を棒状の保持部材により、保持する形態が好ましい。保持部材は太陽を追尾可能な状態で太陽光反射体を保持する構成を有することが好ましいが、太陽追尾に際しては、手動で駆動させてもよいし、別途駆動装置を設けて自動的に太陽を追尾する構成としてもよい。
【実施例】
【０２２３】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」または「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」または「質量％」を表す。また、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温（２０℃）／相対湿度４０〜５０％の条件で測定した。
【０２２４】
［塗布液の調製］
（低屈折率層用塗布液Ｌ１の調製）
３質量％ホウ酸水溶液１０質量部を４５℃で加熱・撹拌している中に、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−２３５、重合度３５００、鹸化度８８ｍｏｌ％、株式会社クラレ製）の５質量％水溶液８０質量部を添加した後、界面活性剤（ラピゾールＡ３０、日油株式会社製）の１質量％水溶液１質量部を添加し、純水９質量部を加えて低屈折率層用塗布液Ｌ２を調製した。
【０２２５】
低屈折率層用塗布液Ｌ１により得られる低屈折率層の屈折率は１．５０であった。なお、屈折率の測定方法は下記の通りである。
【０２２６】
（シリカ付着二酸化チタンゾルの調製）
１５．０質量％酸化チタンゾル（ＳＲＤ−Ｗ、体積平均粒径５ｎｍ、ルチル型二酸化チタン粒子、堺化学工業株式会社製）０．５質量部に純水２質量部を加えた後、９０℃に加熱した。次いで、ケイ酸水溶液（ケイ酸ソーダ４号（日本化学工業株式会社製）をＳｉＯ２濃度が２．０質量％となるように純水で希釈したもの）１．３質量部を徐々に添加し、ついでオートクレーブ中、１７５℃で１８時間加熱処理を行い、冷却後、限外濾過膜にて濃縮することにより、ＳｉＯ２を表面に付着させた（含ケイ素の水和物被覆量は４質量％）二酸化チタンゾル（以下シリカ付着二酸化チタンゾル）を固形分濃度で２０質量％得た。
【０２２７】
（高屈折率層用塗布液Ｈ１の調製）
無機酸化物微粒子１１２ａとして上述のようにして得られたシリカ付着二酸化チタンゾル（固形分２０．０質量％）４５質量部に、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０３、重合度３００、鹸化度９８．５ｍｏｌ％、株式会社クラレ製）の５質量％水溶液２質量部、３質量％ホウ酸水溶液１０質量部、２質量％クエン酸水溶液１０質量部をそれぞれ添加した後、４５℃に加熱し、撹拌しながら、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１１７、重合度１７００、鹸化度９８．５ｍｏｌ％、株式会社クラレ製）の５質量％水溶液２０質量部、界面活性剤（ラピゾールＡ３０、日油株式会社製）の１質量％水溶液１質量部を添加し、純水１２質量部を加えて高屈折率層用塗布液Ｈ１を調製した。
【０２２８】
高屈折率層用塗布液Ｈ１により得られる高屈折率層の屈折率は１．９５であった。なお、屈折率の測定方法は下記の通りである。
【０２２９】
（ハードコート層用塗布液の調製）
合成容器に水２０質量部と酢酸２質量部とを入れ、液温度を０〜１０℃に保ちつつ充分に攪拌した。この中にメチルトリメトキシシラン（化学式：ＣＨ３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、関東化学株式会社製）５０質量部とフッ素結合基及びメトキシ基含有ＦＡＳ（ＫＢＭ−７８０３、信越化学工業株式会社製）０．５質量部とを迅速に添加し、液温度を１０℃に保ちつつ１６時間攪拌した。その後、液温度を２０℃とし、シリコーン系表面調整剤（ＢＹＫ−３００（有機変性ポリシロキサン）、ビックケミージャパン株式会社製）を０．１質量部と、酢酸ナトリウム０．０５質量部と、ｎ−プロパノール１５質量部とを含有させ、ハードコート層用塗布液を得た。
【０２３０】
［太陽光反射フィルムの作製］
（銀蒸着フィルムの作製）
樹脂フィルム状支持体１２として、２軸延伸ポリエステルフィルム（厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（Ａ４３００：両面易接着層を有するフィルム、東洋紡株式会社製））を用いた。
【０２３１】
ポリエステル樹脂（ポリエスター  ＳＰ−１８１、日本合成化学工業株式会社製）、メラミン樹脂（スーパーベッカミンＪ−８２０、ＤＩＣ株式会社製）、ＴＤＩ系イソシアネート（２，４−トリレンジイソシアネート）、ＨＤＭＩ系イソシアネート（１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で２０：１：１：２（質量比）とし、固形分濃度１０質量％となるようにトルエン中に混合した樹脂を、上記フィルムの片面に、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍのアンカーコート層を形成した。
【０２３２】
次に、上記アンカーコート層上に、銀反射層１３として、真空蒸着法により銀を蒸着スピード１００ｍ／ｓｅｃで真空蒸着し、厚さ８０ｎｍの銀反射層１３とした。
【０２３３】
実施例１（太陽光反射フィルム１０Ａの作製）
剥離フィルム１６（アクリプレンＨＢＳ０１０Ｐ、厚さ１００μｍ、三菱レイヨン株式会社製）に、アクリル系の粘着剤（ニッセツＳＺ−７１０３、日本カーバイド工業株式会社製）を乾燥後２５μｍの膜厚になるように塗布した。当該剥離フィルム１６を、上記銀蒸着フィルム１０ａの銀反射層１３を蒸着した面とは反対側の面にラミネートして粘着層１５を形成した。
【０２３４】
次に、樹脂フィルム状支持体１２上に形成された銀反射層１３上に、同時重層塗布法により、高屈折率層１１２および低屈折率層１１１を形成した。具体的には、高屈折率層１１２として高屈折率層用塗布液Ｈ１、低屈折率層１１１として低屈折率層用塗布液Ｌ１を用い、２１層を重層塗布可能なスライドホッパー塗布装置を使用して各層を形成した。このとき、低屈折率層用塗布液Ｌ１および高屈折率層用塗布液Ｈ１を４５℃に保温しながら、４５℃に加温した樹脂フィルム状支持体１２上に塗布した。なお、Ｈ１は銀反射層１３に接するように、次いで、Ｈ１上にＬ１が形成されるように、かつ、Ｈ１とＬ１はそれぞれ交互に積層するように、同時重層塗布を行った。塗布直後、５℃の冷風を５分吹き付けたのち、８０℃の温風を吹き付けて乾燥させて、２１層（低屈折率層１０層、高屈折率層１１層）からなる紫外線反射積層部１１を形成した。乾燥後の膜厚は、低屈折率層用塗布液Ｌ１を塗布した低屈折率層１１１は各層６４ｎｍ、高屈折率用塗布液Ｈ１を塗布した高屈折率層１１２は各層４７ｎｍであった。
【０２３５】
上記の通り形成した紫外線反射積層部１１上に、紫外線遮断層１４を以下の通り作製した。すなわち、メチルエチルケトンに、紫外線吸収剤である２，４，６−トリス（４−ビフェニリル）−１，３，５−トリアジン（上記一般式（１）において、ｋ、ｍ、ｐ、ｌ、ｎ、ｑ＝０である化合物）と、ポリメチルメタクリレート（ＢＲ−８５、三菱レイヨン株式会社製）が２０質量％となるように溶解させた塗布液を調製した。このとき、紫外線吸収剤であるトリアジンが、紫外線遮断層１４の全質量に対して５質量％となるように塗布液を調製した。当該塗布液をマイクログラビアコーターによって塗布した後、これを８５℃の温風を１分間吹き付けて乾燥させた。なお、この際、乾燥後の膜厚が３μｍになるよう塗布した。
【０２３６】
続いて、ハードコート層１７を以下の通り作成した。
【０２３７】
上記の通り形成した紫外線遮断層１４の表面に、上記の通り調製したハードコート層用塗布液を、乾燥膜厚３μｍになるように塗布し、９０℃で１分間乾燥させた。その後、４５℃の恒温環境下に７日間置きハードコート層１７を形成した。
【０２３８】
以上のようにして、太陽光反射フィルム（試料１）を得た。
【０２３９】
実施例２
上記実施例１において、紫外線遮断層１４の形成方法を以下のように変更すると共に、ハードコート層１７を形成しなかったこと以外は、実施例１と同様にして太陽光反射フィルム（試料２）を得た。
【０２４０】
紫外線遮断層１４の作製は、以下のように行った。すなわち、二酸化チタン（平均粒径８ｎｍ）８質量部と、ポリオルガノシロキサン樹脂３０質量部をメタノールに分散させ、紫外線遮断層用塗布液を調製した。このとき、紫外線吸収剤である酸化チタンが、紫外線遮断層１４の全質量に対して５質量％となるように塗布液を調製した。当該塗布液を、実施例１と同様にして作製した紫外線反射積層部１１上にグラビアコーターにより塗布した。このとき、乾燥後の膜厚が３μｍになるよう塗布した。これを９０℃の温風を１分間吹き付けて乾燥させた。その後、４５℃の恒温環境下に７日間置き紫外線遮断層１４を形成した。
【０２４１】
実施例３
上記実施例１において、ハードコート層１７を形成しなかったこと以外は、実施例１と同様にして太陽光反射フィルム（試料３）を得た。
【０２４２】
実施例４
上記実施例１において、紫外線遮断層１４の形成を二回連続して繰り返す（逐次塗布する）と共に、ハードコート層１７を形成しなかったこと以外は、実施例１と同様にして太陽光反射フィルム（試料４）を得た。すなわち、本実施例では、紫外線遮断層（１）および紫外線遮断層（２）からなる紫外線遮断層１４を二層形成した。
【０２４３】
実施例５
実施例１において、２，４，６−トリス（４−ビフェニリル）−１，３，５−トリアジンを含む紫外線遮断層（１）を作製した後、当該層の上に二酸化チタンを含む紫外線遮断層（２）を形成すると共に、ハードコート層を形成しなかったこと以外は、実施例１と同様にして太陽光反射フィルム（試料５）を得た。なお、紫外線遮断層（２）の形成方法は、実施例２と同様の方法で行い、厚さ３μｍの紫外線遮断層（２）を形成した。
【０２４４】
実施例６
上記実施例２において、紫外線遮断層１４に含まれる二酸化チタンを二酸化ジルコニウム（平均粒径１０ｎｍ）５質量部に変更したこと以外は、実施例２と同様にして太陽光反射フィルム（試料６）を得た。
【０２４５】
実施例７
上記実施例２において、紫外線遮断層１４に含まれる酸化チタンを酸化タングステン（平均粒径１０ｎｍ）５質量部に変更したこと以外は、実施例２と同様にして太陽光反射フィルム（試料７）を得た。
【０２４６】
比較例１
上記実施例１において、紫外線遮断層１４を形成しなかったこと以外は、実施例１と同様にして太陽光反射フィルム（試料８）を得た。
【０２４７】
比較例２
上記実施例３において、紫外線吸収剤である２，４，６−トリス（４−ビフェニリル）−１，３，５−トリアジンをＴｉｎｕｖｉｎ２３４（ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、チバ・ジャパン株式会社製）に変更したこと以外は、実施例３と同様にして太陽光反射フィルム（試料９）を得た。
【０２４８】
比較例３
上記実施例１において、紫外線吸収剤である２，４，６−トリス（４−ビフェニリル）−１，３，５−トリアジンをＴｉｎｕｖｉｎ２３４（ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、チバ・ジャパン株式会社製）に変更したこと以外は、実施例１と同様にして太陽光反射フィルム（試料１０）を得た。
【０２４９】
比較例４
上記実施例３において、紫外線吸収剤である２，４，６−トリス（４−ビフェニリル）−１，３，５−トリアジンをＴｉｎｕｖｉｎ１５７７（下記化学式Ａで表される化合物、チバ・ジャパン株式会社製）に変更したこと以外は、実施例３と同様にして太陽光反射フィルム（試料１１）を得た。
【０２５０】
【化２】
2015090395.tif 000005
【０２５１】
比較例５
上記実施例１において、紫外線吸収剤である２，４，６−トリス（４−ビフェニリル）−１，３，５−トリアジンをＴｉｎｕｖｉｎ１５７７（上記化学式Ａで表される化合物、チバ・ジャパン株式会社製）に変更したこと以外は、実施例１と同様にして太陽光反射フィルム（試料１２）を得た。
【０２５２】
比較例６
上記実施例４において、紫外線遮断層（１）に含まれる紫外線吸収剤をＴｉｎｕｖｉｎ１５７７（上記化学式Ａで表される化合物、チバ・ジャパン株式会社製）に変更すると共に、紫外線遮断層（２）に含まれる紫外線吸収剤をＴｉｎｕｖｉｎ２３４（ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、チバ・ジャパン株式会社製）に変更したこと以外は、実施例４と同様にして太陽光反射フィルム（試料１３）を得た。
【０２５３】
［太陽光反射フィルムの評価］
上記で作製した各太陽光反射フィルム（試料１〜１３）について、下記の性能評価を行った。
【０２５４】
（各層の単膜屈折率の測定）
紫外線反射積層部を構成する高屈折率層および低屈折率層の屈折率は、以下の方法で測定した。
【０２５５】
基材上に屈折率を測定するため各層を単層で塗布したサンプルを作製し、このサンプルを１０ｃｍ×１０ｃｍに裁断した後、下記の方法に従って屈折率を求めた。日立製作所製の分光光度計  Ｕ−４１００（固体試料測定システム）を用いて、各サンプルの測定面とは反対側の面（裏面）を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、５度正反射の条件にて５５０ｎｍの反射率を測定して平均値を求め、その結果より平均反射率を求め、さらに屈折率を求めた。
【０２５６】
（光透過率の測定）
光透過率の測定は、以下のようにして行った。まず、ガラス基板上に紫外線遮断層（紫外線遮断層が複数の層からなる場合は、その全ての層）のみからなる単膜を作製し試料（単膜サンプル）を得た。当該試料について、分光光度計（装置名：日立、Ｕ−４１００社製）を用い、測定波長を３５０ｎｍおよび３７０ｎｍとして、光透過率を測定した。このとき、試料（作製した単膜サンプル）と同じ基材（ガラス基板）をベースラインとした。
【０２５７】
（初期の５度正反射率の測定）
上記作製した各太陽光反射フィルムの透過率と光入射面側における５度正反射率（入射角を５度としたときの正反射率）を測定した。測定は日立製作所製の分光光度計  Ｕ−４１００（固体試料測定システム）を用いた。反射率の波長範囲は３５０〜２５００ｎｍで測定した。反射率の波長範囲３５０〜２５００ｎｍの測定値から算出された平均反射率Ｒ（波長３５０〜２５００ｎｍ）を測定した。
【０２５８】
（耐候性の評価：紫外線照射後の５度正反射率の測定）
上記作製した各太陽光反射フィルムに、メタルハライドランプ方式の耐候性試験機（ダイプラ・ウィンテス社製）を使用し、試料面放射強度：２．１６ＭＪ／ｍ２以下、ブラックパネル温度６３℃、相対湿度：５０％、照射時間５００時間の条件で紫外線を照射した（耐候性試験）。次いで、上記と同様の方法で５度正反射率の測定を測定し、初期の反射率と紫外線照射後の反射率とを比較し、下記評価にしたがって、フィルムを評価した。
【０２５９】
≪初期最大反射率に対する耐候性試験後の最大反射率の低下（＝初期最大反射率−耐候性試験後の最大反射率（％））≫
５：最大反射率低下が１％未満
４：最大反射率低下が１％以上２％未満
３：最大反射率低下が２％以上３％未満
２：最大反射率低下が３％以上５％未満
１：最大反射率低下が５％以上。
【０２６０】
（耐候性の評価：密着性の評価）
上記作製した各太陽光反射フィルムに、メタルハライドランプ方式の耐候性試験機（ダイプラ・ウィンテス社製）を使用し、試料面放射強度：２．１６ＭＪ／ｍ２以下、ブラックパネル温度６３℃、相対湿度：５０％、照射時間５００時間の条件で紫外線を照射した。次いで、当該フィルムを６０℃、９０％ＲＨの条件下で２００時間保存した。
【０２６１】
上記フィルムについて、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−６：１９９９に準拠した碁盤目試験を行った。具体的には、各太陽光反射フィルムの光入射面側に、１ｍｍ間隔で縦、横に１１本の切れ目を入れ、１ｍｍ角の碁盤目を１００個作製した。この上にセロハンテープを貼り付け、９０度の角度で素早く剥がし、剥がれずに残った碁盤目の数を測定し、下記の基準に従って、紫外線反射積層部と銀反射層との密着性を評価した。
【０２６２】
５：剥離がまったく認められない
４：剥離した碁盤目数が、１個以上、５個以下である
３：剥離した碁盤目数が、６個以上、１０個以下である
２：剥離した碁盤目数が、１１個以上、２０個以下である
１：剥離した碁盤目数が、２１個以上である。
【０２６３】
上記評価の結果を以下の表１に示す。なお、「紫外線遮断層の構成」について、「紫外線遮断層（２）」とは、樹脂フィルム状支持体（基材）を基準として、紫外線遮断層（１）の上に設けられるものであり、光入射面側に形成された層を指す。また、紫外線遮断層（１）および紫外線遮断層（２）の欄が分かれていないものは、単層の紫外線遮断層が形成されたことを示す。
【０２６４】
【表１】
2015090395.tif 000006
【０２６５】
表１の結果から明らかなように、本発明に係る太陽光反射フィルムは、耐久性試験後であっても９０％以上の反射率を維持していることから、反射率が高く、かつ、耐久性に優れていることが明らかとなった。また、試料２、６および７の比較から、紫外線遮断層に含まれる無機酸化物を酸化チタンとすると、特に良好な結果が得られることが示された。さらに、試料１〜７の比較により、試料５のように、紫外線遮断層を二層以上の構成とし、且つ、酸化チタンを含む紫外線遮断層を設けた場合、上記傾向が顕著となることが示された。
【０２６６】
一方、試料９〜１３のように、一般的な紫外線吸収剤である、Ｔｉｎｕｖｉｎ２３４およびＴｉｎｕｖｉｎ１５７７を用いた場合、十分な耐久性を得ることは難しいことが示された。
【符号の説明】
【０２６７】
１０、１０’  太陽光反射フィルム、
１１  紫外線反射積層部、
１１ａ  紫外線反射積層部内の無機酸化物（粒子）、
１１ｂ  樹脂、
１２  樹脂フィルム状支持体、
１３  銀反射層、
１４  紫外線遮断層、
１５  粘着層、
１６  剥離材（剥離フィルム）、
１７  ハードコート層、
１００  太陽光、
１１１  低屈折率層、
１１１ａ  低屈折率層内の無機酸化物粒子、
１１２  高屈折率層、
１１２ａ  高屈折率層内の無機酸化物粒子。
【図１】
2015090395.tif 000007
【図２】
2015090395.tif 000008