(57)【要約】      （修正有）【課題】窒素原子、硫黄原子さらにはリン原子を含有せず、炭素原子、水素原子、酸素原子のみからなり、紫外ＬＥＤの発する光に対して高感度な分子内開裂型光ラジカル重合開始剤の提供。【解決手段】一般式（１）で表される５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物からなる光ラジカル重合開始剤。５，１１−ジオキソ−６，１２−ジヒドロキシナフタセン化合物をアシル化又はエステル化して、一般式（１）で表わされるナフタセン化合物を製造する方法。2015209408.tif 000008（ＡはＣ１〜９のアルキル基、Ｃ６〜１０のアリール基、Ｃ１〜９のアルコキシ基又はＣ６〜１０のアリールオキシ基；ＸはＨ又はＣ１〜８のアルキル基）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）で表される５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物。
【化１】
2015209408.tif 000006
（一般式（１）において、Ａは炭素数１〜９のアルキル基、炭素数６から１０のアリール基、炭素数１〜９のアルコキシ基又は炭素数６から１０のアリールオキシ基を示す。Ｘは水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を示す。）
【請求項２】
下記一般式（２）の５，１１−ジオキソ−６，１２−ジヒドロキシナフタセン化合物をアシル化又は炭酸エステル化することを特徴とする請求項1記載の５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物の製造方法。
【化２】
2015209408.tif 000007
（一般式（２）において、Ｘは水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を示す。）
【請求項３】
請求項１記載の５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物からなる光ラジカル重合開始剤。
【請求項４】
請求項３記載の光ラジカル重合開始剤とラジカル重合性化合物を含有するラジカル重合性組成物。
【請求項５】
請求項４記載のラジカル重合性組成物を重合してなる重合物。
【請求項６】
請求項４記載のラジカル重合性組成物を、３５０〜４５０ｎｍの波長範囲に含まれる光を照射することにより重合させる重合方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物、及び当該化合物を含有する光ラジカル重合開始剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、エネルギー線硬化樹脂がコーティング、インキ、電子材料などの分野で広く用いられている。エネルギー線硬化樹脂はエネルギー線硬化性組成物に紫外線や電子線などを照射することにより重合、硬化させることによって得られる。このエネルギー線で硬化させる技術は、例えば木工用塗料、金属などのコーティング材、スクリーン印刷やオフセット印刷用インキ、電子基板に用いられるドライフィルムレジスト、また、ホログラム材料、封止剤、オーバーコート材、光造形用樹脂、接着剤などさまざまな用途に用いられている。
【０００３】
そして、このエネルギー線硬化性組成物は主に重合性化合物とエネルギー照射により重合性化合物の重合を開始させる重合開始剤より構成されている。この重合を開始させる方法として、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合があるが、ラジカル重合が古くから最も広く用いられている。エネルギー線、主に紫外線によってラジカルを発生し、重合性化合物の重合を開始させるものが、光ラジカル重合開始剤である。
【０００４】
光ラジカル重合開始剤は、主に分子内開裂型と水素引抜き型に分類される。分子内開裂型の開始剤では、特定波長の光を吸収することで、特定の部位の結合が切断され、その分断された部位にラジカルが発生し、それが開始剤となり重合性化合物の重合が始まる。水素引き抜き型の場合は特定波長の光を吸収し励起状態になり、その励起種が周囲にある水素供与体から水素引き抜き反応を起こし、水素引き抜きによりラジカルが発生し、それが開始剤となり重合性化合物の重合が始まる。
【０００５】
水素引き抜き型ラジカル開始剤は、水素供与体が必要なこと、ラジカル発生効率が悪く感度が低い等の問題がある。一方、分子内開裂型ラジカル開始剤は、ラジカル発生効率は良好で感度が高いため広く用いられている。
【０００６】
よく用いられている分子内開裂型光ラジカル重合開始剤として、ベンジルメチルジメチルケタールやヒドロキシアルキルフェノン類がある。このものはカルボニル基に隣接した結合がα開裂して、ラジカル種を生成するタイプのものである。例えば、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名イルガキュア１８４、イルガキュアはビー・エー・エス・エフ社の登録商標）、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名イルガキュア６５１）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（商品名ダロキュア１１７３、ダロキュアはビー・エー・エス・エフ社の登録商標）（特許文献１など）などが挙げられる。
【０００７】
これらの光ラジカル重合開始剤は、炭素、水素及び酸素のみから構成されており、環境にやさしい化合物と言えるが、光の吸収域がいずれも３００ｎｍ以下にあり、高圧水銀ランプでは光ラジカル重合開始剤としての効果を発揮するが、３００ｎｍより長波長の光源に対しては実用的な活性が得られないという欠点がある。
【０００８】
近年、長寿命、省エネなどの環境性、使用するうえでの操作性などの点から、ＵＶ硬化における光源としてＬＥＤ（発光ダイオード）が用いられるようになってきている。ＬＥＤの特徴としては、水銀ランプと異なり、発熱が少なく、かつ長寿命なことが挙げられ、近年その開発が加速している。このＬＥＤの代表的なものとしては、紫外ＬＥＤ、白色ＬＥＤなどが知られており、特に、紫外ＬＥＤがＵＶ硬化用光源として、インクジェット用または半導体関連のレジスト用に開発が先行している。この紫外ＬＥＤとしては、３６５ｎｍ、３８５ｎｍ、３９５ｎｍを中心波長とするものが実用化されており、中でも照射光の中心波長が３６５ｎｍ又は３９５ｎｍの紫外ＬＥＤが用いられることが多い。
【０００９】
これら長波長の光源に対して活性な光ラジカル重合開始剤として、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（商品名イルガキュア９０７）あるいは２−ベンジルメチル２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１（商品名イルガキュア３６９）、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド（商品名イルガキュア８１９）（特許文献２、３など）などが開発されている。これらの光重合開始剤では、硫黄原子やリン原子を分子内に導入することにより吸収波長域を長波長化する試みがなされている。しかし、これらの化合物は、硫黄原子やリン原子を持つがゆえに、当該光ラジカル重合開始剤を含有するフィルム等を焼却廃棄したとき、硫黄化合物やリン化合物により環境への汚染の問題が懸念される。
【００１０】
また、紫外ＬＥＤなどの長波長の光源に対して高活性で、かつ炭素、水素及び酸素のみから構成されている光ラジカル重合開始効果を持つ化合物として９、１０−ビス（置換カルボニルオキシ）アントラセン化合物が報告されている。しかし、その性能は未だ十分なものではなかった。（特許文献４）
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開平５−１１７５４７号公報
【特許文献２】特開平６−１２３９６６号公報
【特許文献３】特開平１１−２６９４３３号公報
【特許文献４】特開２０１１−４２７４３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
そこで、窒素原子、硫黄原子さらにはリン原子を含有せず、炭素原子、水素原子、酸素原子のみからなり、紫外ＬＥＤなどの発する高波長の光に対して高感度な分子内開裂型光ラジカル重合開始剤が求められるようになっている。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは、かかる状況に鑑み、これら欠点を排除した技術を提供すべく鋭意検討した結果、炭素原子、水素原子、酸素原子のみからなる５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物が、光エネルギーを吸収して、自らが分解しラジカル種を発生し、重合性化合物をラジカル重合させる開始剤としての効果があることを見出したものである。
【００１４】
上記目的を達成するために、第１発明では、一般式（１）で表される５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物を提供する。
【００１５】
【化１】
2015209408.tif 000002
【００１６】
一般式（１）において、Ａは炭素数１〜９のアルキル基、炭素数６から１０のアリール基、炭素数１〜９のアルコキシ基又は炭素数６から１０のアリールオキシ基のうちのいずれかを示す。Ｘは水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を示す。
【００１７】
第２発明では、下記一般式（２）の５，１１−ジオキソ−６，１２−ジヒドロキシナフタセン化合物をアシル化又は炭酸エステル化することを特徴とする第１発明に記載の５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物の製造方法を提供する。
【００１８】
【化２】
2015209408.tif 000003
【００１９】
一般式（２）において、Ｘは水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を示す。
【００２０】
なお、一般式（２）に示したように、５，１１−ジオキソ−６，１２−ジヒドロキシナフタセン化合物は、５位のカルボニル基の酸素原子と６位に置換した水酸基の水素原子との間及び１１位のカルボニル基の酸素原子と１２位に置換した水酸基の水素原子との間で水素結合を形成していると予想される。
【００２１】
第３発明では、第１発明に記載の５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物からなる光ラジカル重合開始剤を提供する。
【００２２】
第４発明では、第３発明に記載の光ラジカル重合開始剤とラジカル重合性化合物を含有するラジカル重合性組成物を提供する。
【００２３】
第５発明では、第４発明において示すラジカル重合性組成物を重合してなる重合物を提供する。
【００２４】
第６発明では、第４発明において示すラジカル重合性組成物を、３５０〜４５０ｎｍの波長範囲に含まれる光を照射することにより重合させる重合方法を提供する。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物は紫外ＬＥＤ光照射によりラジカルを発生しラジカル重合性化合物の重合を開始することができることから、光ラジカル重合開始剤の有効成分として有用であり、かつ当該化合物は、窒素原子や、硫黄原子さらにはリン原子を含有しない、炭素原子、水素原子、酸素原子のみからなる環境に優しい化合物である。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】合成実施例５で得られた５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）ナフタセンのＵＶスペクトルチャートである。３８７ｎｍに吸収を持つことがわかる。横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は吸光度を表す。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、本発明を詳細に記述する。
【００２８】
（化合物）
まず、一般式（１）で表される５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物について説明する。
【００２９】
【化３】
2015209408.tif 000004
【００３０】
一般式（１）において、Ａは炭素数１〜９のアルキル基、炭素数６から１０のアリール基、炭素数１〜９のアルコキシ基又は炭素数６から１０のアリールオキシ基を示す。Ｘは水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を示す。
【００３１】
一般式（１）で表される５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物において、Ａで示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基等が挙げられ、アリール基としてはフェニル基、トリル基、ナフチル基等が挙げられ、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基等が挙げられ、アリールオキシ基としては、フェノキシ基、トリルオキシ基、ナフチルオキシ基が挙げられる。
【００３２】
また、Ｘで示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基等が挙げられる。
【００３３】
次に、一般式（１）で表される５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物の具体例としては、例えば次のものが挙げられる。すなわち、Ｘが水素原子である場合は次の通りである。Ａがアルキル基の例としては、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（アセチルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（プロピオニルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ブチリルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−ブチリルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−バレリルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−バレリルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ヘキサノイルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ヘプタノイルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）ナフタセンなどが挙げられ、Ａがアリール基の例としては、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ベンゾイルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（メチルベンゾイルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ナフトイルオキシ）ナフタセンなどが挙げられ、Ａがアルコキシ基の例としては、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（メトキシカルボニルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（エトキシカルボニルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ヘプチルオキシカルボニルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−オクチルオキシカルボニルオキシ）ナフタセンなどが挙げられ、Ａがアリールオキシ基の例としては、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（フェノキシカルボニルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（トリリルオキシカルボニルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ナフチルオキシカルボニルオキシ）ナフタセン等が挙げられる。
【００３４】
更に、Ｘがアルキル基である場合は次の通りである。Ａがアルキル基の例としては、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（アセチルオキシ）ナフタセン、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（プロピオニルオキシ）ナフタセン、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ブチリルオキシ）ナフタセン、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−ブチリルオキシ）ナフタセン、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−バレリルオキシ）ナフタセン、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−バレリルオキシ）ナフタセン、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ヘキサノイルオキシ）ナフタセン、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ヘプタノイルオキシ）ナフタセン、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）ナフタセン、２−エチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（アセチルオキシ）ナフタセン、２−エチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（プロピオニルオキシ）ナフタセン、２−エチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ブチリルオキシ）ナフタセン、２−エチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−ブチリルオキシ）ナフタセン、２−エチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−バレリルオキシ）ナフタセン、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−バレリルオキシ）ナフタセン、２−エチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ヘキサノイルオキシ）ナフタセン、２−エチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ヘプタノイルオキシ）ナフタセン、２−エチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−オクタノイルオキシ）ナフタセン等が挙げられる。Ａがアリール基の例としては、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ベンゾイルオキシ）ナフタセン、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（メチルベンゾイルオキシ）ナフタセン、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ナフトイルオキシ）ナフタセン、２−エチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ベンゾイルオキシ）ナフタセン、２−エチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（メチルベンゾイルオキシ）ナフタセン、２−エチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ナフトイルオキシ）ナフタセン等が挙げられる。
【００３５】
次に、Ａがアルコキシ基の例としては、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（メトキシカルボニルオキシ）ナフタセン、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（エトキシカルボニルオキシ）ナフタセン、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）ナフタセン、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）ナフタセン、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）ナフタセン、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）ナフタセン、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）ナフタセン、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオキシ）ナフタセン、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ヘプチルオキシカルボニルオキシ）ナフタセン、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−オクチルオキシカルボニルオキシ）ナフタセン、２−エチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（メトキシカルボニルオキシ）ナフタセン、２−エチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（エトキシカルボニルオキシ）ナフタセン、２−エチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）ナフタセン、２−エチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）ナフタセン、２−エチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ブトキシカルボニルオキシ）ナフタセン、２−エチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）ナフタセン、２−エチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ペンチルオキシカルボニルオキシ）ナフタセン、２−エチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルオキシ）ナフタセン、２−エチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ヘプチルオキシカルボニルオキシ）ナフタセン、２−エチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−オクチルオキシカルボニルオキシ）ナフタセンなどが挙げられ、Ａがアリールオキシ基の例としては、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（フェノキシカルボニルオキシ）ナフタセン、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（トリリルオキシカルボニルオキシ）ナフタセン、２−メチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ナフチルオキシカルボニルオキシ）ナフタセン、２−エチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（フェノキシカルボニルオキシ）ナフタセン、２−エチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（トリリルオキシカルボニルオキシ）ナフタセン、２−エチル−５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ナフチルオキシカルボニルオキシ）ナフタセン等が挙げられる。
【００３６】
上記に挙げた化合物の中でも、合成の容易さとラジカル重合開始剤としての性能の高さから、特に、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（メトキシカルボニルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（エトキシカルボニルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ブチリルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−バレリルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ヘプタノイルオキシ）ナフタセンが好ましい。重合性化合物との相溶性という点では、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ブチリルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−バレリルオキシ）ナフタセン、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ヘプタノイルオキシ）ナフタセンが好ましい。
【００３７】
本発明の５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物は、ケトン基を二つ持つナフタセン骨格を有し、昇華性が低く、当該化合物を含む組成物やその重合物は、その保存時等において、ブルーミングやマイグレーションが起きにくい。
【００３８】
（製造方法）
次に、上記一般式（１）で表される５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物の製造方法について説明する。
【００３９】
本発明の５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物は、５，１１−ジオキソ−６，１２−ジヒドロキシナフタセン化合物とアシル化剤又は炭酸エステル化剤を塩基性化合物の存在下に反応させることにより得ることができる。
【００４０】
原料の５，１１−ジオキソ−６，１２−ジヒドロキシナフタセン化合物は、たとえば、１，４−ナフトヒドロキノンと無水フタル酸を酸の存在下加熱することにより得られる。特開２００７−８８６９号公報にその合成法が記載されている。
【００４１】
５，１１−ジオキソ−６，１２−ジヒドロキシナフタセン化合物との反応に用いるアシル化剤としては、ハロゲン化アルカノイル、ハロゲン化アリーロイル、無水アルカン酸等が挙げられ、炭酸エステル化剤としてはハロゲン化炭酸エステルが挙げられる。
【００４２】
ハロゲン化アルカノイルとしては、塩化アセチル、塩化プロピオニル、塩化ブチリル、塩化ペンタノオノイル、塩化ヘキサノイル、塩化ヘプタノイル、塩化オクタノイル、塩化ノナノイル、臭化アセチル、臭化プロピオニル、臭化ブチリル等が挙げられる。ハロゲン化アリーロイルとしては塩化ベンゾイル、塩化ナフトイル、臭化ベンゾイル等が挙げられる。無水アルカン酸としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水安息香酸等が挙げられる。
【００４３】
次に、炭酸エステル化剤としては、ハロゲン化炭酸アルキル、ハロゲン化炭酸アリール及び二炭酸ジアルキル等が使用可能である。ハロゲン化炭酸アルキルとしては、クロロ炭酸メチル、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸ｎ−プロピル、クロロ炭酸ｉ−プロピル、クロロ炭酸ｎ−ブチル、クロロ炭酸ｉ−ブチル等が挙げられる。ハロゲン化炭酸アリールとしては、クロロ炭酸フェニル、クロロ炭酸ナフチル等が挙げられ、二炭酸ジアルキル、二炭酸ジアリールとしては、二炭酸ジメチル、二炭酸ジエチル、二炭酸ジ（ｔ−ブチル）、二炭酸ジフェニル等が挙げられる。
【００４４】
使用する塩基としては、一級アミン、二級アミン、三級アミン及びピリジン類が挙げられる。一級アミンとしては、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン等が挙げられる。二級アミンとしては、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、ピペリジン等が挙げられる。３級アミンとしてはトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン等が挙げられる。ピリジン類としては、ピリジン、α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコリン、ルチジン等が挙げられる。
【００４５】
使用する溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族系溶媒、塩化メチレン、ジクロロエタン、ジクロロエチレンのようなハロゲン化炭素系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンのようなケトン系溶媒、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンのようなエーテル系溶媒が好適に用いられる。特に、原料の５，１１−ジオキソ−６，１２−ジヒドロキシナフタセン化合物に対する溶解度の高さから、テトラヒドロフラン、ジメチルアセトアミドが好ましい。
【００４６】
５，１１−ジオキソ−６，１２−ジヒドロキシナフタセン化合物に対するアシル化剤又は炭酸エステル化剤の添加量は２．０モル倍から５．０モル倍、好ましくは２．５モル倍から４．０モル倍である。塩基の添加量は５，１１−ジオキソ−６，１２−ジヒドロキシナフタセン化合物の２．０モル倍から５．０モル倍、好ましくは２．５モル倍から４．０モル倍添加する。
【００４７】
反応温度は０℃から８０℃、好ましくは０℃から２０℃である。反応時間は反応温度にもよるが、通常１５分から６０分程度である。反応終了後、水またはメタノールを加えて未反応のアシル化剤又は炭酸エステル化剤を水和した後、水を添加して晶析し、析出した結晶をロ別・洗浄し、必要に応じて再結晶することにより、純度良く目的物を得ることができる。
【００４８】
得られた化合物の同定は、１Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトルを用いて行い、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物であることを確認した。
【００４９】
（光ラジカル重合開始剤）
本発明の５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物は、光ラジカル重合開始剤として用いることができる。すなわち、本発明の５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物は、光エネルギーを吸収して、自らが分解しラジカル種を発生する。
【００５０】
このラジカル種がラジカル重合性化合物を重合することができることから、本発明の５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物を光ラジカル重合開始剤として、ラジカル重合性化合物に添加することによりラジカル重合性組成物を調製することができる。
【００５１】
本発明の５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物は、溶媒等に溶解させ、ラジカル重合性化合物に添加することも可能であるが、溶媒の代りにラジカル重合性化合物に溶解させて用いることもできる。
【００５２】
（ラジカル重合性化合物）
当該光ラジカル重合開始剤を添加するラジカル重合性化合物としては、例えば、スチレン、酢酸ビニル、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル等を用いることが出来る。アクリル酸エステル、メタクリル酸エステルとしては、アクリル酸メチル、アクリル酸−ｎ−ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸−ｎ−ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、エポキシアクリレート、エポキシメタクリレート、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエステルメタクリレート、ポリブタジエンアクリレート、ポリブタジエンメタクリレート、ポリオールアクリレート、ポリエーテルアクリレート、シリコーン樹脂アクリレート、イミドアクリレート等が挙げられる。これらラジカル重合性化合物は、単独でも二種以上の混合物であってもよく、これらのオリゴマーであってもよい。
【００５３】
（ラジカル重合性組成物）
ラジカル重合性組成物中のラジカル重合性化合物に対する５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物の添加量は０．０１重量％から３重量％が好ましく、さらに好ましくは０．０５重量％から１．０重量％である。５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物の濃度が低すぎれば、硬化速度が遅くなり、また５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物の濃度が多すぎると硬化物の物性が悪化する。
【００５４】
また、当該ラジカル重合性組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で分散剤や重合禁止剤などを添加してもよい。
【００５５】
また、本発明の効果を損なわない範囲において、本発明の５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（置換カルボニルオキシ）ナフタセン化合物以外の他のラジカル重合開始剤を含有していてもよい。このような他のラジカル重合開始剤としては、特に限定されないが、ラジカル重合開始剤として公知の化合物等が挙げられる。
【００５６】
（光重合方法）
当該ラジカル重合性組成物は、紫外線等の光エネルギーを照射することによりラジカル重合させることができる。重合はフィルム状で行うことも出来るし、塊状に重合させることも可能である。フィルム状に重合させる場合は、たとえばポリエステルフィルムの基材にラジカル重合性組成物をバーコーター用いて塗布し、ついで光照射する。
【００５７】
また、フィルム状に重合させるときは、酸素存在下では酸素阻害のためフィルム表面のべたつきがなかなか取れず、開始剤の大量添加が必要となる。よって酸素非存在下で重合させることが望ましい。そのような重合方法としては、窒素ガス、ヘリウムガス等の雰囲気で行うことが挙げられる。また、酸素非過性の膜をかぶせて光重合させる方法も有効である。
【００５８】
用いる光源としては高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、白熱灯、紫外ＬＥＤ、青色ＬＤ、白色ＬＥＤ、フュージョン社製のＨ−バルブ、Ｄ−バルブ、Ｖ−バルブ等が挙げられる。太陽光の使用も可能である。好ましいランプとしては、安全性、環境に対する面から、３５０〜４５０ｎｍの波長範囲に含まれる光を照射できる紫外ＬＥＤが好ましい。
【００５９】
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本発明はその趣旨を超えない限り、以下の記載例に限定されるものではない。特記しない限り、すべての部および百分率は重量％である。
【００６０】
生成物の確認は下記の機器による測定により行った。
（１）融点：ゲレンキャンプ社製の融点測定装置、型式ＭＦＢ−５９５（ＪＩＳ  Ｋ００６４に準拠）
（２）赤外線（ＩＲ）分光光度計：日本分光社製、型式ＩＲ−８１０
（３）核磁気共鳴装置（ＮＭＲ）：日本電子社製、型式ＧＳＸ  ＦＴ  ＮＭＲ  Ｓｐｅｃｔｏｒｏｍｅｔｅｒ
【００６１】
重合状態の判定は、タックフリーテスト（指触テスト）に基づいて行った。すなわち、光照射により重合するとフィルム表面のラジカル重合性組成物のタック（べたつき）が取れるので、フィルム表面を指で触り、タック（表面のべたつき）がなくなった時間をタックフリータイム（硬化時間）とした。
【実施例】
【００６２】
（合成実施例１）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（メトキシカルボニルオキシ）ナフタセンの合成
温度計、冷却器付きの１００ｍｌ三口フラスコ中、窒素雰囲気下、５，１１−ジオキソ−６，１２−ジヒドロキシナフタセン ２．９０ｇ（１０ミリモル）、トリエチルアミン３．０ｇ（３０ミリモル）をジメチルアセトアミド２０ｍｌに加え、赤色スラリーとした。次いで、氷水で冷やしながらのクロロ炭酸メチル２．８４ｇ（３０ミリモル）のジメチルアセトアミド１０ｍｌ溶液を加えた。室温で１時間攪拌後、得られた溶液を水５０ｇに投入し、黄緑色の沈殿が生じるので、スラリーを吸引ろ過し、乾燥し、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（メトキシカルボニルオキシ）ナフタセンの黄緑色の粉末３．７８ｇ（９．０ミリモル）を得た。原料の５，１１−ジオキソ−６，１２−ジヒドロキシナフタセンに対する収率は９０モル％であった。
【００６３】
（１） 融点：２２９−２３０℃
（２）ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：１７７２，１６６８，１５９２，１４４２、１４１２，１３６０，１２７７，１２４０，１２１８，１１７８，９９２，９３２，７３８，５９０．
（３）１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨｚ）：δ＝４．０７（s，６Ｈ），７．７３−７．８４（ｍ，４Ｈ），８．２４−８．３５（ｍ，４Ｈ）．
【００６４】
（合成実施例２）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（エトキシカルボニルオキシ）ナフタセンの合成
クロロ炭酸メチル２．８４ｇ（３０ミリモル）をクロロ炭酸エチル３．２５ｇ（３０ミリモル）に変えたこと以外は合成実施例１と同様にして反応させ、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（エトキシカルボニルオキシ）ナフタセンの黄緑色の粉末３．４７ｇ（８．０ミリモル）を得た。原料の５，１１−ジオキソ−６，１２−ジヒドロキシナフタセンに対する収率は８０モル％であった。
【００６５】
（１） 融点：１６２−１６３℃
（２）ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：３００２，２９７０，２９４０，１７７３，１６７７，１６２０，１５９７，１４１８，１３６０，１２７４，１２３０，１２１６，１１８０，１０１０，７６４，７４２，５９０．
（３）１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨｚ）：δ＝１．５０（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，６Ｈ），４．６０（ｑ，Ｊ＝８Ｈｚ，４Ｈ），７．７３−７．７８（ｍ，２Ｈ），７．７８−７．８３（ｍ，２Ｈ），８．２４−８．３０（ｍ，２Ｈ）、８．３０−８．３５（ｍ、２Ｈ）．
【００６６】
（合成実施例３）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）ナフタセンの合成
クロロ炭酸メチル２．８４ｇ（３０ミリモル）をクロロ炭酸−ｎ−プロピル３．６８ｇ（３０ミリモル）に変えたこと以外は合成実施例１と同様にして反応させ、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）ナフタセンの黄緑色の粉末３．５６ｇ（７．７ミリモル）を得た。原料の５，１１−ジオキソ−６，１２−ジヒドロキシナフタセンに対する収率は７７モル％であった。
【００６７】
（１） 融点：１４５−１４６℃
（２）ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：２９５０，１７６２，１６８０，１４１２，１３６０，１２７８，１２１２，１２０７，１１８０、９８２，７３９．
（３）１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨｚ）：δ＝１．１０（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，６Ｈ），１．８６−１．９６（ｍ，４Ｈ），４．４０（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，４Ｈ），７．７３−７．７８（ｍ，２Ｈ），７．７８−７．８３（ｍ，２Ｈ），８．２４−８．３０（ｍ，２Ｈ），８．３０−８．３５（ｍ，２Ｈ）．
【００６８】
（合成実施例４）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）ナフタセンの合成
クロロ炭酸メチル２．８４ｇ（３０ミリモル）をクロロ炭酸−ｉ−プロピル３．６８ｇ（３０ミリモル）に変えたこと以外は合成実施例１と同様にして反応させ、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）ナフタセンの黄緑色の粉末３．７９ｇ（８．２ミリモル）を得た。原料の５，１１−ジオキソ−６，１２−ジヒドロキシナフタセンに対する収率は８２モル％であった。
【００６９】
（１） 融点：２２４−２２６℃
（２）ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：２９９８，２９４０，１７７０，１６７４，１６００，１４１６，１３６０，１２８０，１２４０，１１８０，１１０４，９８０，９０２，７３２，７１２，５８８．
（３）１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨｚ）：δ＝１．５０（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１２Ｈ），５．０６−５．１６（m，２Ｈ），７．７１−７．８３（ｍ，４Ｈ），８．２０−８．３６（ｍ，４Ｈ）．
【００７０】
（合成実施例５）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）ナフタセンの合成
クロロ炭酸メチル２．８４ｇ（３０ミリモル）をクロロ炭酸−ｉ−ブチル４．１０ｇ（３０ミリモル）に変えたこと以外は合成実施例１と同様にして反応させ、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）ナフタセンの黄緑色の粉末４．１７ｇ（８．５ミリモル）を得た。原料の５，１１−ジオキソ−６，１２−ジヒドロキシナフタセンに対する収率は８５モル％であった。
【００７１】
（１） 融点：１３９−１４０℃
（２）ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：２９８０，２９４０，１７７０，１６８１，１６２１，１５９８，１４１８，１３６２，１２７５，１２４０，１２２０，１１８２，９８１，９５８，７４４．
（３）１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨｚ）：δ＝１．０９（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１２Ｈ），２．１３−２．２６（ｍ，２Ｈ），４．２１（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，４Ｈ），７．７１−７．７８（ｍ，２Ｈ），７．７８−７．８５（ｍ，２Ｈ），８．２０−８．２８（ｍ，２Ｈ）、８．２８−８．３７（ｍ，２Ｈ）．
【００７２】
（合成実施例６）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（フェノキシカルボニルオキシ）ナフタセンの合成
クロロ炭酸メチル２．８４ｇ（３０ミリモル）をクロロ炭酸フェニル４．７０ｇ（３０ミリモル）に変えたこと以外は合成実施例１と同様にして反応させ、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（フェノキシカルボニルオキシ）ナフタセンの黄緑色の粉末４．２９ｇ（９．２ミリモル）を得た。原料の５，１１−ジオキソ−６，１２−ジヒドロキシナフタセンに対する収率は９２モル％であった。
【００７３】
（１） 融点：＞２６０℃
（２）ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：１７９０，１７８０，１６７８，１５９２，１４９４，１４１８，１３６０，１２８０，１２２８，１２１０，１１７３，７３８．
（３）１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨｚ）：δ＝７．７４−７．８３（ｍ，２Ｈ），７．８３−７．９２（ｍ，２Ｈ），８．２９−８．３９（ｍ，２Ｈ），８．３９−８．４８．
【００７４】
（合成実施例７）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ブチリルオキシ）ナフタセンの合成
クロロ炭酸メチル２．８４g（３０ミリモル）を塩化ブチリル３．２０ｇ（３０ミリモル）に変えたこと以外は合成実施例１と同様にして反応させ、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ブチリルオキシ）ナフタセンの黄緑色の粉末３．６１ｇ（８．４ミリモル）を得た。原料の５，１１−ジオキソ−６，１２−ジヒドロキシナフタセンに対する収率は８４モル％であった。
【００７５】
（１） 融点：１８６−１８７℃
（２）ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：２９７０，２９３０，２８８０，１７６３，１６７５，１４１３，１３５８，１２７４，１１３０，１０９５，９９０，７４２，５９２．
（３）１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨｚ）：δ＝１．１８（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，６Ｈ）、１．９３−２．０４（ｍ，４Ｈ），２．９６（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，４Ｈ），７．７０−７．８０（ｍ，４Ｈ），８．１２−８．１９（ｍ，２Ｈ），８．１９−８．２５（ｍ，２Ｈ）
【００７６】
（合成実施例８）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−バレリルオキシ）ナフタセンの合成
クロロ炭酸メチル２．８４ｇ（３０ミリモル）を塩化ｎ−バレリル３．６２ｇ（３０ミリモル）に変えたこと以外は合成実施例１と同様にして反応させ、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−バレリルオキシ）ナフタセンの黄緑色の粉末３．４８ｇ（７．６ミリモル）を得た。原料の５，１１−ジオキソ−６，１２−ジヒドロキシナフタセンに対する収率は７６モル％であった。
【００７７】
（１） 融点：１６１−１６２℃
（２）ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：２９６０，２９３０，２８７８，１７６８，１６７５，１５９２，１４１３，１３６０，１２７２，１１３０，１１１０，１０９４，９９２，７４２，７２３，５９５．
（３）１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨｚ）：δ＝１．０６（ｔ、Ｊ＝８Ｈｚ，６Ｈ），１．５２−１．６５（ｍ，４Ｈ），１．８８−１．９９（ｍ，４Ｈ），２．９８（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，４Ｈ），７．６８−７．８２（ｍ，４Ｈ），８．０９−８．１８（ｍ，２Ｈ），８．１８−８．２６（ｍ，２Ｈ）．
【００７８】
（合成実施例９）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−バレリルオキシ）ナフタセンの合成
クロロ炭酸メチル２．８４ｇ（３０ミリモル）を塩化ｉ−バレリル３．６２ｇ（３０ミリモル）に変えたこと以外は合成実施例１と同様にして反応させ、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−バレリルオキシ）ナフタセンの黄緑色の粉末３．６６ｇ（８．０ミリモル）を得た。原料の５，１１−ジオキソ−６，１２−ジヒドロキシナフタセンに対する収率は８０モル％であった。
【００７９】
（１） 融点：１８５−１８６℃
（２）ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：２９６０，２９３０，２８７５，１７７２，１６７６，１４１２，１３５８，１２７２，１１４０，１０８０，１００８，７４２，５９２．
（３）１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨｚ）：δ＝１．２０（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１２Ｈ）、２．３７−２．４８（ｍ，２Ｈ），２．８８（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，４Ｈ），７．６９−７．７９（ｍ，４Ｈ），８．１２−８．１８（ｍ，２Ｈ），８．１８−８．２６（ｍ，２Ｈ）
【００８０】
（合成実施例１０）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ヘキサノイルオキシ）ナフタセンの合成
クロロ炭酸メチル２．８４ｇ（３０ミリモル）を塩化ｎ−ヘキサノイル４．０４ｇ（３０ミリモル）に変えたこと以外は合成実施例１と同様にして反応させ、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ヘキサノイルオキシ）ナフタセンの黄緑色の粉末４．２８ｇ（８．８ミリモル）を得た。原料の５，１１−ジオキソ−６，１２−ジヒドロキシナフタセンに対する収率は８８モル％であった。
【００８１】
（１）融点：１６５−１６６℃
（２）ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：２９４０，２８６０，１７６８，１６７８，１６２０，１５９７，１４１８，１３６０，１２７６，１１３０，９９２，７４３
（３）１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨｚ）：δ＝０．９８（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，６Ｈ），１．４０−１．６１（ｍ，８Ｈ），１．９０−２．０１（ｍ，４Ｈ），２．９６（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，４Ｈ），７．７０−７．７９（ｍ，４Ｈ），８．１１−８．１８（ｍ、２Ｈ）、８．１８−８．２５（ｍ、２Ｈ）  
【００８２】
（合成実施例１１）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ヘプタノイルオキシ）ナフタセンの合成
クロロ炭酸メチル２．８４ｇ（３０ミリモル）を塩化ｎ−ヘプタノイル４．４６ｇ（３０ミリモル）に変えたこと以外は合成実施例１と同様にして反応させ、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ヘプタノイルオキシ）ナフタセンを４．０１ｇ（７．８ミリモル）得た。原料の５，１１−ジオキソ−６，１２−ジヒドロキシナフタセンに対する収率は７８モル％であった。
【００８３】
（１）融点：１４８−１４９℃
（２）ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：２９６０，２９３０，２８７０，１７６８，１６７２，１４１２，１３６０，１２７５，１１３０，１１１８，９９０，７４３，５９２．
（３）１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨｚ）：δ＝０．９６（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，６Ｈ），１．３６−１．４７（ｍ，８Ｈ），１．５１−１．６０（ｍ，４Ｈ），１．９０−２．００（ｍ，４Ｈ），２．９８（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，４Ｈ），７．７２−７．７８（ｍ，４Ｈ），８．１２−８．１８（ｍ、２Ｈ）、８．１８−８．２４（ｍ、２Ｈ）．
【００８４】
（合成実施例１２）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ノナノイルオキシ）ナフタセンの合成
クロロ炭酸メチル２．８４ｇ（３０ミリモル）を塩化ｎ−ノナノイル５．２８ｇ（３０ミリモル）に変えたこと以外は合成実施例１と同様にして反応させ、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ノナノイルオキシ）ナフタセンを４．８４ｇ（８．５ミリモル）得た。原料の５，１１−ジオキソ−６，１２−ジヒドロキシナフタセンに対する収率は８５モル％であった。
【００８５】
（１）融点：１１４３−１４４℃
（２）ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：２９３０，２８６０，１７６８，１６７８，１４１６，１３６０，１２７８，１１３２，１１２０，９９２，７４２．
（３）１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨｚ）：δ＝０．８９（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，６Ｈ），１．２２−１．４８（ｍ，１６Ｈ），１．４８−１．５９（ｍ，４Ｈ），１．８７−１．９８（ｍ，４Ｈ），２．９５（ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ，４Ｈ），７．６９−７．７８（ｍ，４Ｈ），８．１０−８．１７（ｍ，２Ｈ）、８．１７−８．２６（ｍ，２Ｈ）．
【００８６】
（合成実施例１３）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ベンゾイルオキシ）ナフタセンの合成
クロロ炭酸メチル２．８４ｇ（３０ミリモル）を塩化ベンゾイル４．３５ｇ（３０ミリモル）に変えたこと以外は合成実施例１と同様にして反応させ、５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ベンゾイルオキシ）ナフタセンを４．４８ｇ（９．０ミリモル）得た。原料の５，１１−ジオキソ−６，１２−ジヒドロキシナフタセンに対する収率は９０モル％であった。
【００８７】
（１）融点：＞２５０℃
（２）ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：１７５６，１７４０，１６７５，１５９０，１４１１，１３５７，１２７２，１２４３，１１７２，１１１２，１０５３，１０２３，７６０，７２３，６９７，５９２．
（３）１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，２７０ＭＨｚ）：δ＝７．５６−７．７９（ｍ，１０Ｈ），８．１２−８．１８（ｍ，４Ｈ），８．３８−８．４６（ｍ，４Ｈ）．
【００８８】
（評価実施例１）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（メトキシカルボニルオキシ）ナフタセンを光ラジカル重合開始剤とするラジカル重合性組成物の光ラジカル重合性評価実験
ペンタエリスリトールテトラアクリレート１００重量部に対し、合成実施例１と同様にして得た５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（メトキシカルボニルオキシ）ナフタセンを０．５重量部添加し光ラジカル重合性組成物を調製した。次に、ポリエステルフィルム（東レ製ルミラー膜厚１００ミクロン、ルミラーは東レ株式会社の登録商標）上に調製した組成物を膜厚が３０ミクロンとなるようにバーコーターを使用して塗布した。この塗布膜に窒素雰囲気下、３９５紫外ＬＥＤ（Ｐｈｏｓｅｏｎ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製  ＲＸ  Ｆｉｒｅｆｌｙ、中心波長  ３９５ｎｍ、照射強度４００ｍｗ／ｃｍ２）の放射光を照射したところ、硬化していることを確認した。タックフリータイムは２秒であった。
【００８９】
（評価実施例２）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（エトキシカルボニルオキシ）ナフタセンを光ラジカル重合開始剤とするラジカル重合性組成物の光ラジカル重合性評価実験
５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（メトキシカルボニルオキシ）ナフタセンを合成実施例２と同様にして得られた５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（エトキシカルボニルオキシ）ナフタセンとしたこと以外は評価実施例１と全く同様にしてラジカル重合性組成物を調製し、塗布・光照射した。タックフリータイムは２．５秒であった。
【００９０】
（評価実施例３）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）ナフタセンを光ラジカル重合開始剤とするラジカル重合性組成物の光ラジカル重合性評価実験
５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（メトキシカルボニルオキシ）ナフタセンを合成実施例３と同様にして得られた５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−プロポキシカルボニルオキシ）ナフタセンとしたこと以外は評価実施例１と全く同様にしてラジカル重合性組成物を調製し、塗布・光照射した。タックフリータイムは２．５秒であった。
【００９１】
（評価実施例４）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）ナフタセンを光ラジカル重合開始剤とするラジカル重合性組成物の光ラジカル重合性評価実験
５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（メトキシカルボニルオキシ）ナフタセンを合成実施例４と同様にして得られた５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−プロポキシカルボニルオキシ）ナフタセンとしたこと以外は評価実施例１と全く同様にしてラジカル重合性組成物を調製し、塗布・光照射した。タックフリータイムは２秒であった。
【００９２】
（評価実施例５）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）ナフタセンを光ラジカル重合開始剤とするラジカル重合性組成物の光ラジカル重合性評価実験
５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（メトキシカルボニルオキシ）ナフタセンを合成実施例５と同様にして得られた５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−ブトキシカルボニルオキシ）ナフタセンとしたこと以外は評価実施例１と全く同様にしてラジカル重合性組成物を調製し、塗布・光照射した。タックフリータイムは１．５秒であった。
【００９３】
（評価実施例６）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（フェノキシカルボニルオキシ）ナフタセンを光ラジカル重合開始剤とするラジカル重合性組成物の光ラジカル重合性評価実験
５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（メトキシカルボニルオキシ）ナフタセンを合成実施例６と同様にして得られた５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（フェノキシカルボニルオキシ）ナフタセンとしたこと以外は評価実施例１と全く同様にしてラジカル重合性組成物を調製し、塗布・光照射した。タックフリータイムは１１秒であった。
【００９４】
（評価実施例７）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ブチリルオキシ）ナフタセンを光ラジカル重合開始剤とするラジカル重合性組成物の光ラジカル重合性評価実験
５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（メトキシカルボニルオキシ）ナフタセンを合成実施例７と同様にして得られた５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ブチリルオキシ）ナフタセンとしたこと以外は評価実施例１と全く同様にしてラジカル重合性組成物を調製し、塗布・光照射した。タックフリータイムは７秒であった。
【００９５】
（評価実施例８）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−バレリルオキシ）ナフタセンを光ラジカル重合開始剤とするラジカル重合性組成物の光ラジカル重合性評価実験
５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（メトキシカルボニルオキシ）ナフタセンを合成実施例８と同様にして得られた５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−バレリルオキシ）ナフタセンとしたこと以外は評価実施例１と全く同様にしてラジカル重合性組成物を調製し、塗布・光照射した。タックフリータイムは５秒であった。
【００９６】
（評価実施例９）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−バレリルオキシ）ナフタセンを光ラジカル重合開始剤とするラジカル重合性組成物の光ラジカル重合性評価実験
５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（メトキシカルボニルオキシ）ナフタセンを合成実施例９と同様にして得られた５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｉ−バレリルオキシ）ナフタセンとしたこと以外は評価実施例１と全く同様にして、ラジカル重合性組成物を調整し、塗布・光照射した。タックフリータイムは８秒であった。
【００９７】
（評価実施例１０）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ヘキサノイルオキシ）ナフタセンを光ラジカル重合開始剤とするラジカル重合性組成物の光ラジカル重合性評価実験
５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（メトキシカルボニルオキシ）ナフタセンを合成実施例１０と同様にして得た５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ヘキサノイルオキシ）ナフタセンとしたこと以外は評価実施例１と全く同様にしてラジカル重合性組成物を調製し、塗布・光照射した。タックフリータイムは６秒であった。
【００９８】
（評価実施例１１）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ヘプタノイルオキシ）ナフタセンを光ラジカル重合開始剤とするラジカル重合性組成物の光ラジカル重合性評価実験
５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（メトキシカルボニルオキシ）ナフタセンを合成実施例１１と同様にして得られた５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ヘプタノイルオキシ）ナフタセンとしたこと以外は評価実施例１と全く同様にして、ラジカル重合性組成物を調整し、塗布・光照射した。タックフリータイムは３．５秒であった。
【００９９】
（評価実施例１２）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ノナノイルオキシ）ナフタセンを光ラジカル重合開始剤とするラジカル重合性組成物の光ラジカル重合性評価実験
５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（メトキシカルボニルオキシ）ナフタセンを合成実施例１２と同様にして得られた５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ｎ−ノナノイルオキシ）ナフタセンとしたこと以外は評価実施例１と全く同様にしてラジカル重合性組成物を調製し、塗布・光照射した。タックフリータイムは８秒であった。
【０１００】
（評価実施例１３）５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ベンゾイルオキシ）ナフタセンを光ラジカル重合開始剤とするラジカル重合性組成物の光ラジカル重合性評価実験
５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（メトキシカルボニルオキシ）ナフタセンを合成実施例１３と同様にして得られた５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（ベンゾイルオキシ）ナフタセンとしたこと以外は評価実施例１と全く同様にしてラジカル重合性組成物を調製し、塗布・光照射した。タックフリータイムは１５秒であった。
【０１０１】
（比較例１）１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを光ラジカル重合開始剤とするラジカル重合性組成物の光ラジカル重合性評価実験
５，１１−ジオキソ−６，１２−ビス（メトキシカルボニルオキシ）ナフタセンを１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンとしたこと以外は評価実施例１と全く同様にしてラジカル重合性組成物を調製し、塗布・光照射した。タックフリータイムは３７秒であった。
【０１０２】
評価実施例１〜１３と比較例１の結果を下記に示す表1に纏めた。炭素原子、水素原子、酸素原子のみから構成される従来の光ラジカル重合開始剤である１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンと比較して本願発明の９，１０−ビス（置換カルボニルオキシ）アントラセン化合物を添加したラジカル重合性組成物は、紫外ＬＥＤ光照射により容易にラジカル重合性化合物の重合を開始し、重合物とすることができる。
【０１０３】
【表１】
2015209408.tif 000005
【図１】
2015209408.tif 000009