(57)【要約】【課題】分散染料による捺染において、画像の耐光性に優れ、かつ、白場汚染を低減できる印捺物の製造方法を提供する。【解決手段】本発明に係る印捺物の製造方法は、水と、分散染料と、を含有するインク組成物を準備する工程と、前記インク組成物の液滴を記録ヘッドから噴射して布帛基材の表面に画像を形成する工程と、前記画像を形成した後に、前記布帛基材の表面上の、前記画像が形成されていない部分に対して選択的にプラズマを照射する工程と、前記プラズマを照射した後に、前記布帛基材を洗浄する工程と、を含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
水と、分散染料と、を含有するインク組成物を準備する工程と、
前記インク組成物の液滴を記録ヘッドから噴射して布帛基材の表面に画像を形成する工程と、
前記画像を形成した後に、前記布帛基材の表面上の、前記画像が形成されていない部分に対して選択的にプラズマを照射する工程と、
前記プラズマを照射した後に、前記布帛基材を洗浄する工程と、
を含む、印捺物の製造方法。
【請求項２】
前記画像を形成する工程と前記布帛基材を洗浄する工程との間に、前記画像が形成された布帛基材を湿熱処理する工程をさらに含む、請求項１に記載の印捺物の製造方法。
【請求項３】
前記プラズマを大気圧下で発生させて照射する、請求項１または請求項２に記載の印捺物の製造方法。
【請求項４】
前記布帛基材の所定の位置にプラズマを照射し終えた後、前記布帛基材を洗浄し始めるまでの時間が、２４０秒以下である、請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の印捺物の製造方法。
【請求項５】
前記分散染料が、アゾ骨格またはアントラキノン骨格を含む、請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の印捺物の製造方法。
【請求項６】
前記布帛基材を洗浄する工程における洗浄が、水での洗浄および還元剤を含有する水溶液での洗浄のいずれか一方もしくは両方を含む、請求項１ないし請求項５のいずれか一項に記載の印捺物の製造方法。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のいずれか一項に記載の印捺物の製造方法によって製造された印捺物。
【請求項８】
エージング処理前のＯＤ値を１００％としたときに、エージング処理後のＯＤ値が８０％以上１２０％以下である、請求項７に記載の印捺物。
【請求項９】
前記エージング処理が、光、ガス、および熱による酸化の工程を含む、請求項８に記載の印捺物。
【請求項１０】
水と、分散染料と、を含有するインク組成物の液滴を記録ヘッドから噴射して布帛基材の表面に画像を形成する工程と、
前記画像を形成した後に、前記布帛基材の表面上の、前記画像が形成されていない部分に対して選択的にプラズマを照射する工程と、
前記プラズマを照射した後に、前記布帛基材を洗浄する工程と、
を含む、捺染方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、印捺物の製造方法および印捺物、捺染方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、分散染料を利用して布帛基材に印刷を行う捺染技術が知られている。分散染料は、水に難溶性であり、分散剤により水中に分散させたエマルジョンの形態で使用される。そのため、分散染料は、ポリエステル、アセテート、トリアセテート、ナイロン、アクリル等の疎水性合成繊維が主な染色対象となる。このような分散染料を利用した捺染の技術が、例えば特許文献１に開示されている。
【０００３】
分散染料の定着プロセスは、（１）染色対象となる布帛基材に分散染料を定着させるための前処理剤を塗布し、（２）布帛基材の所定の部分または全体に分散染料を付着させて、（３）それをスチーム等の高温加熱処理を行って染着し、（４）その後、得られた印捺物を水および／または還元剤を含む洗浄液で洗浄するのが一般的な方法である。この洗浄工程では、水で洗い流したり、還元剤で分解したりすることで、布帛基材に染着しきれなかった分散染料を除去することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平０６−１１６８８０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述のように分散染料によって染着された布帛基材を還元洗浄する際にはしばしば白場汚染が発生することがあった。「白場汚染（ｐｏｏｒ  ｒｅｓｅｒｖａｔｉｏｎ  ｏｆ  ｗｈｉｔｅ  ａｒｅａ）」とは、印捺物の洗浄工程において、布帛基材から洗浄液中へ流れ出した分散染料が、捺染模様以外の領域に再吸着することで不本意な染色が起こる現象であり、白場不良とも呼ばれるものである。
【０００６】
この白場汚染は、還元洗浄の工程で還元剤によって分解されやすい分散染料を使用することにより低減させることができるが、その反面、布帛基材に形成された画像の耐光性が低下しやすくなる。一方、還元洗浄の工程で還元剤によって分解されにくい分散染料を使用することにより耐光性を向上させることができるが、その反面、白場汚染は発生しやすくなる。このように、白場汚染の発生と画像の耐光性とはトレードオフの関係がある。
【０００７】
上述の特許文献１には、予め布帛に撥水剤および柔軟撥水剤から選ばれる少なくとも１種と糊材を含有する処理液を付与した後、揉布処理を行ない、しかる後該布帛の表面にインクジェット方式で染料インクを染着させることを特徴とする布帛の捺染方法が開示されている。しかしながら、特許文献１に開示されている技術では、画像の良好な耐光性と白場汚染の低減との両立は困難であった。
【０００８】
本発明に係る幾つかの態様は、上記課題を解決することで、分散染料による捺染において、画像の耐光性に優れ、かつ、白場汚染を低減できる印捺物の製造方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の態
様または適用例として実現することができる。
【００１０】
［適用例１］
本発明に係る印捺物の製造方法の一態様は、
水と、分散染料と、を含有するインク組成物を準備する工程と、
前記インク組成物の液滴を記録ヘッドから噴射して布帛基材の表面に画像を形成する工程と、
前記画像を形成した後に、前記布帛基材の表面上の、前記画像が形成されていない部分に対して選択的にプラズマを照射する工程と、
前記プラズマを照射した後に、前記布帛基材を洗浄する工程と、
を含むことを特徴とする。
【００１１】
適用例１の印捺物の製造方法によれば、布帛基材表面上の画像が形成されていない部分、すなわち白場となる部分に選択的にプラズマを照射することによって、該部分に撥水性を付与することができる。これにより、洗浄の際、白場となる部分に分散染料が染み込みにくくなるため、還元剤によって分解されにくい分散染料を用いた場合であっても白場汚染を低減することが可能となる。その結果、画像の耐光性に優れ、かつ、白場汚染を低減できる印捺物を製造することができる。
【００１２】
［適用例２］
適用例１の印捺物の製造方法において、
前記画像を形成する工程と前記布帛基材を洗浄する工程との間に、前記画像が形成された布帛基材を湿熱処理する工程をさらに含むことができる。
【００１３】
適用例２の印捺物の製造方法によれば、布帛基材の表面に形成された画像をより強固に染着させることが可能となる。
【００１４】
［適用例３］
適用例１または適用例２の印捺物の製造方法において、
前記プラズマを大気圧下で発生させて照射することができる。
【００１５】
適用例３の印捺物の製造方法によれば、大気圧下でプラズマを照射するため、プラズマ処理手段を画像形成工程を行う印刷機に組み込むことが可能となり、インク組成物の液滴を記録ヘッドから噴射して布帛基材の表面に画像を形成する工程と、布帛基材の表面上の画像が形成されていない部分に対して選択的にプラズマを照射する工程と、を連続して行うことが可能となる。
【００１６】
また、大気圧下でのプラズマ処理は、小型の装置で実施することができる。したがって、適用例３の印捺物の製造方法によれば、小規模な印刷機で印捺物を製造することができる。
【００１７】
［適用例４］
適用例１ないし適用例３のいずれか一例の印捺物の製造方法において、
前記布帛基材の所定の位置にプラズマを照射し終えた後、前記布帛基材を洗浄し始めるまでの時間が、２４０秒以下であることができる。
【００１８】
適用例４の印捺物の製造方法によれば、プラズマ照射によって得られた撥水効果が高い状態で洗浄することができるので、白場汚染をより効果的に低減することが可能となる。したがって、白場汚染の低減された良好な印捺物を製造することが可能となる。
【００１９】
［適用例５］
適用例１ないし適用例４のいずれか一例の印捺物の製造方法において、
前記分散染料が、アゾ骨格またはアントラキノン骨格を含むことができる。
【００２０】
アゾ骨格またはアントラキノン骨格を含む分散染料は、光によって分解されにくく、還元剤による還元分解も起こりにくい。したがって、適用例５の印捺物の製造方法によれば、画像の良好な耐光性と白場汚染の低減とを両立させやすくなる。
【００２１】
［適用例６］
適用例１ないし適用例５のいずれか一例の印捺物の製造方法において、
前記布帛基材を洗浄する工程における洗浄が、水での洗浄および還元剤を含有する水溶液での洗浄のいずれか一方もしくは両方を含むことができる。
【００２２】
布帛基材を洗浄する工程における洗浄が、水での洗浄および還元剤を含有する水での洗浄のいずれか一方もしくは両方を含むことで、布帛基材に染着しきれなかった分散染料を効果的に除去することができ、白場汚染をより低減することが可能となる。
【００２３】
［適用例７］
本発明に係る印捺物の一態様は、
適用例１ないし適用例６のいずれか一例の印捺物の製造方法によって製造されたものであることを特徴とする。
【００２４】
［適用例８］
適用例７の印捺物において、
エージング処理前のＯＤ値を１００％としたときに、エージング処理後のＯＤ値が８０％以上１２０％以下であることができる。
【００２５】
［適用例９］
適用例８の印捺物において、
前記エージング処理が、光、ガス、および熱による酸化の工程を含むことができる。
【００２６】
適用例７ないし適用例９の印捺物は、適用例１ないし適用例６のいずれか一例の印捺物の製造方法によって製造された印捺物であるため、画像の耐光性に優れ、かつ、白場汚染が低減された印捺物となる。適用例７ないし適用例９の印捺物によれば、屋内耐光性５年程度のエージング処理を行った場合であっても、エージング処理前のＯＤ値に対するエージング処理後のＯＤ値が±２０％以内の範囲とすることが可能となる。このＯＤ値は、耐光性の指標とすることができる。したがって、適用例７ないし適用例９の印捺物は、特に耐光性に優れたものとなる。
【００２７】
［適用例１０］
本発明に係る捺染方法の一態様は、
水と、分散染料と、を含有するインク組成物の液滴を記録ヘッドから噴射して布帛基材の表面に画像を形成する工程と、
前記画像を形成した後に、前記布帛基材の表面上の、前記画像が形成されていない部分に対して選択的にプラズマを照射する工程と、
前記プラズマを照射した後に、前記布帛基材を洗浄する工程と、
を含むことを特徴とする。
【００２８】
適用例１０の捺染方法によれば、布帛基材の表面上の画像が形成されていない部分、すなわち白場となる部分に選択的にプラズマを照射することによって、該部分に撥水性を付
与することができる。これにより、洗浄の際、白場となる部分に分散染料が染み込みにくくなるため、還元剤によって分解されにくい分散染料を用いても白場汚染を低減することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本実施形態に係る印捺物の製造方法に使用可能なインクジェット記録装置を模式的に示す図。
【図２】図１におけるインクジェット記録装置のプラズマ発生部の断面を模式的に示す図。
【図３】図１におけるインクジェット記録装置の平面視における一部分を模式的に示す図。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下に本発明の好適な実施の形態について説明する。以下に説明する実施の形態は、本発明の一例を説明するものである。また、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲において実施される各種の変形例も含む。
【００３１】
１．印捺物の製造方法
本実施形態に係る印捺物の製造方法は、水と、分散染料と、を含有するインク組成物を準備する工程（以下、「インク組成物準備工程」ともいう。）と、前記インク組成物の液滴を記録ヘッドから噴射して布帛基材の表面に画像を形成する工程（以下、「画像形成工程」ともいう。）と、前記画像を形成した後に、前記布帛基材の表面上の、前記画像が形成されていない部分に対して選択的にプラズマを照射する工程（以下、「プラズマ照射工程」ともいう。）と、前記プラズマを照射した後に、前記布帛基材を洗浄する工程（以下、「洗浄工程」ともいう。）と、を含むことを特徴とする。
【００３２】
本実施形態に係る印刷物の製造方法では、布帛基材の表面に形成された画像をより強固に染着させる観点から、前記画像を形成する工程と前記布帛基材を洗浄する工程との間に、前記画像が形成された布帛基材を湿熱処理する工程をさらに含むことが好ましい。
【００３３】
本発明における「印捺物」とは、布帛基材に画像が印捺された染色物のことをいう。
【００３４】
本発明における「洗浄」とは、画像が形成された布帛基材を水で洗浄することおよび還元剤を含む水溶液で洗浄すること（いわゆるソーピング）のいずれか一方もしくは両方を含む概念である。
【００３５】
以下、本実施形態に係る印捺物の製造方法について、これを実施するために使用するインクジェット記録装置の装置構成、印捺物の製造方法、印捺物、捺染方法の順に説明する。
【００３６】
１．１．インクジェット記録装置の装置構成
本実施形態に係る印捺物の製造方法に使用可能なインクジェット記録装置の一例について、図面を参照しながら説明する。なお、本実施形態に係る印捺物の製造方法に使用可能なインクジェット記録装置は、以下の態様に限定されるものではない。
【００３７】
図１は、本実施形態に係る印捺物の製造方法に使用可能なインクジェット記録装置を模式的に表す図である。インクジェット記録装置１０００は、布帛を搬送する搬送手段１０と、プラズマを照射するプラズマ照射手段２０と、処理剤を布帛の表面に付与する処理剤付与手段３０と、インク組成物を用いて画像を形成する画像形成手段４０と、画像を湿熱処理する湿熱処理手段５０と、を備えている。
【００３８】
インクジェット記録装置１０００は、当該インクジェット記録装置１０００全体の動作を制御する制御手段（図示せず）を有している。制御手段は、インクジェット記録装置１０００の任意の位置に設けられ、例えばＰＣやタッチパネル等の入力手段から入力された情報に基づいて、各手段の動作を制御する。
【００３９】
１．１．１．搬送手段
搬送手段１０は、例えばローラー１１によって構成されることができる。搬送手段１０は、複数のローラー１１を有してもよい。搬送手段１０は、図示の例では、布帛基材１の搬送される方向（図中矢印で示した。以下、「布帛搬送方向」ともいう。）において、処理剤付与手段３０より上流側に設けられているが、これに限定されず、布帛基材１が搬送できる限り、設けられる位置や個数は任意である。
【００４０】
さらに、搬送手段１０は、各種のプラテンなどを備えてもよい。図１の例では、搬送手段１０は、ローラー１１に加えて、布帛基材１において画像を印捺する面と反対側の面から布帛基材１を支持するプラテン１２とを備えている。
【００４１】
１．１．２．処理剤付与手段
処理剤付与手段３０は、処理剤を布帛基材１の表面に付与する手段である。処理剤を付与することにより、にじみの防止や布帛基材へのインクの浸透が促進され、布帛基材の表面に良好な画像を形成することができる。
【００４２】
処理剤付与手段３０は、必ずしも印刷機の構成に含まれる必要はなく、必要に応じて設ければよい。図１の例では、処理剤付与手段３０は、画像形成手段４０において必要な機能を布帛基材に付与する観点から、布帛搬送方向において、画像形成手段４０の上流側に設けられているが、画像形成手段４０の下流側かつ湿熱処理手段５０の上流側に設けてもよい。なお、処理剤付与手段は、必ずしも印刷機で行う必要はなく、例えば布帛基材中に処理剤が含まれるようにパッド法、コーティング法、スプレー法等により別途行ってもよい。
【００４３】
処理剤としては、にじみ防止や布帛基材へのインクの浸透促進を目的として、水溶性高分子類（糊剤）、カチオン性物質、撥水剤等を含有する処理剤を使用することができる。また、インクが付着する面と反対面に浸透させることを目的として、表面張力調整剤、水溶性有機溶剤等を添加することもできる。
【００４４】
カチオン性物質としては、例えば水溶性金属塩、ポリカチオン化合物等が挙げられる。水溶性金属塩としては、塩化カリウム、塩化カルシウム等のアルカリ金属またはアルカリ土類金属の無機塩や有機酸塩などを用いることができる。ポリカチオン化合物としては、各種の４級アンモニウム塩のポリマーまたはオリゴマー、ポリアミン塩などを用いることができる。
【００４５】
水溶性高分子の１種である天然水溶性高分子としては、トウモロコシ、小麦等のデンプン類、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチセルロース等のセルロース誘導体；アルギン酸ナトリウム、グアーガム、タマリンドガム、ローカストビーンガム、アラビアゴム等の多糖類；ゼラチン、カゼイン、ケラチン等の蛋白質物質が挙げられる。合成水溶性高分子としては、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、アクリル酸系ポリマー等が挙げられる。
【００４６】
表面張力調整剤としては、例えばアニオン性界面活性剤、両性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤等が挙げられる。また、撥水剤としては、例えばシリ
コーン系、フッ素系およびワックス系のものが挙げられる。
【００４７】
処理剤を布帛基材の表面に付与する方法としては、例えば、処理剤中に布帛基材を浸漬させる方法、処理剤をロールコーター等で塗布する方法、処理剤を噴射する方法（例えば、インクジェット法、スプレー法）等が挙げられ、いずれの方法も使用できる。図１の例では、処理剤をロールコーターで塗布する方法を示すものである。
【００４８】
処理剤の付与量としては、５ｍｇ／ｉｎｃｈ2以上２００ｍｇ／ｉｎｃｈ2以下であることが好ましく、１０ｍｇ／ｉｎｃｈ2以上１００ｍｇ／ｉｎｃｈ2以下であることがより好ましい。処理剤の付与量が上記範囲内にあることで、分散染料の染着性を向上させる効果が一層発揮される。なお、処理剤の付与量とは、布帛基材に付与した処理剤の重量（乾燥前の重量）の合計を、処理剤を付与した領域の面積で割ったものをいう。
【００４９】
インクジェット記録装置１０００は、布帛基材に付与した処理剤を乾燥させる処理剤乾燥手段（図示せず）を備えていてもよい。処理剤乾燥手段は、図１の例では、処理剤付与手段３０の直後に設けることが好ましい。このような乾燥手段としては、例えば、布帛基材に熱を加える手段、布帛基材に風を吹きつける手段、さらにそれらを組み合わせる手段等が挙げられる。具体的には、強制空気加熱、輻射加熱、電導加熱、高周波乾燥、マイクロ波乾燥等が好ましく用いられる。
【００５０】
１．１．３．画像形成手段
画像形成手段４０は、布帛基材１の表面にインク組成物の液滴を付着させて、画像を形成する手段である。画像形成手段４０は、インク組成物を噴射（吐出）するノズルを備えたインクジェット記録用ヘッド（記録ヘッド）４１を備えている。図１に示すように、画像形成手段４０は、処理剤付与手段３０の下流側に設けられていることが好ましい。
【００５１】
インク組成物を記録ヘッド４１のノズルから吐出させる方式としては、以下のものが挙げられる。すなわち、ノズルとノズルの前方に置いた加速電極の間に強電界を印加し、ノズルから液滴状のインクを連続的に吐出させ、インクの液滴が偏向電極間を飛翔する間に記録情報信号を偏向電極に与えて記録する方式又はインクの液滴を偏向することなく記録情報信号に対応して吐出させる方式（静電吸引方式）、小型ポンプでインクに圧力を加え、ノズルを水晶振動子等で機械的に振動させることにより、強制的にインクの液滴を吐出させる方式、インクに圧電素子で圧力と記録情報信号を同時に加え、インクの液滴を吐出・記録させる方式（ピエゾ方式）、インクを記録情報信号にしたがって微小電極で加熱発泡させ、インクの液滴を吐出・記録させる方式（サーマルジェット方式）等が挙げられる。
【００５２】
記録ヘッド４１は、図３の例では、いわゆるシリアル型の記録ヘッドである。シリアル型の記録ヘッドは、記録ヘッドを布帛基材１に対して相対的に移動させつつインク組成物を噴射させる走査（パス）を、複数回行うことによって印捺を行うものである。図３の例では、シリアル型の記録ヘッドを例示したが、これに限定されず、いわゆるライン型の記録ヘッドを使用してもよい。ライン型の記録ヘッドを備えたインクジェット記録装置は、記録ヘッドを布帛基材に対して相対的に移動させつつインク組成物を噴射させる走査（パス）を１回行うことにより印捺を行うものである。ライン型の記録ヘッドの具体例としては、記録ヘッドが布帛の幅よりも広く形成され、記録ヘッドが移動せずに布帛上に液滴を噴射するものが挙げられる。
【００５３】
１．１．４．プラズマ照射手段
プラズマ照射手段２０は、プラズマを発生させる機構を備えたプラズマ発生部２１と、該プラズマ発生部２１に供給するガスを貯留するガス貯留部２９と、を備える。図１の例
では、プラズマ照射手段２０は、画像形成手段４０に対して布帛搬送方向（図１の矢印方向）の下流側に設けられている。図１では、布帛基材表面に画像が形成された後に、布帛基材表面の画像が形成されていない領域にプラズマを照射することを理解しやすくするために、画像形成手段４０とプラズマ照射手段２０とを隔離しているが、実際のところは図３に示すようにプラズマ照射手段２０は記録ヘッド４１に搭載されている。
【００５４】
図３は、図１のインクジェット記録装置１０００の平面視における一部分を模式的に示す図である。図３の例では、プラズマ照射手段２０は、記録ヘッド４１に４つのプラズマ発生部２１を搭載することによって実現させている。このようにシリアル型の記録ヘッド４１にプラズマ発生部を搭載することにより、布帛基材の表面に画像を形成する工程と、布帛基材の表面上の画像が形成されていない部分に対して選択的にプラズマを照射する工程と、を連続的に行うことができる。これにより、生産性が向上すると共に、印刷機が小型化するためインライン化が容易となる。
【００５５】
また、プラズマ照射手段２０は、画像形成手段４０で用いる記録ヘッド４１にプラズマ発生部２１を搭載させるのではなく、別途シリアル型のキャリッジを準備し、そのキャリッジにプラズマ発生部２１を搭載させた構成としてもよい。また、プラズマ照射手段２０は、布帛基材１の幅方向（布帛の表面において、布帛搬送方向と交差する方向）に延びるリニア形状としてもよい。プラズマ照射手段２０がリニア形状である場合、プラズマ照射ノズル２５は、布帛基材１の幅方向の全域から任意の領域を選択的にプラズマ照射できるように、布帛基材１の幅方向に沿って複数配列されていてもよい。また、プラズマ照射量を増加させるという観点から、プラズマ照射手段２０を布帛搬送方向に沿って複数設けたり、プラズマ照射ノズル２５を布帛搬送方向に沿って複数設けたりしてもよい。
【００５６】
図２は、プラズマ発生部２１の断面を模式的に示す図である。プラズマ発生部２１は、ガス貯留部２９と接続されたガス供給室２２と、ガス供給室２２の少なくとも一部に対向するように設けられた電極対２３と、電源２４と、プラズマ照射ノズル２５と、排気管２６と、を備える。
【００５７】
ガス供給室２２は、図示しないガス供給管によってガス貯留部２９と接続されており、ガス貯留部２９に貯留されたガスが流入可能な状態になっている。ガス供給室２２の任意の位置には、電極対２３が設けられている。電極対２３は、対向するように設置された電極２３ａおよび電極２３ｂを備える。電極２３ａおよび電極２３ｂには、電圧が印加できるように、電源２４が接続されている。
【００５８】
プラズマ照射ノズル２５は、ガス供給管（図示せず）とは異なる位置でガス供給室２２に設けられている。プラズマ照射ノズル２５は、電極２３ａおよび電極２３ｂの間を通過して発生したプラズマを照射するためのノズル孔を備えている。プラズマ照射ノズル２５は、布帛基材１と対向する位置に設けられている。
【００５９】
排気管２６は、余剰ガスを吸引、排気しながらプラズマ照射を行うことで、プラズマ照射ノズル２５から放射されるプラズマ照射範囲を適正化し、所望の範囲を局地的に処理するために設置される。排気管２６の設置位置は、特に限定されるものではないが、例えば図２の例では、２つの排気管２６ａおよび排気管２６ｂを備えており、ガス供給室２２に沿って設けられている。
【００６０】
電源２４によって電極２３ａおよび電極２３ｂに電圧が印加されると、電極２３ａと電極２３ｂとの間に放電が生じる（図２の「放電部分Ｄ」）。このように放電が生じている状態で、ガス供給室２２にガスを供給して、電極２３ａおよび電極２３ｂとの間にガスを通過させることで、ガスのプラズマが生じる（すなわち、ガスの少なくとも一部がプラズ
マ化する）。このようにして発生したプラズマは、プラズマ照射ノズル２５に送られて、プラズマ照射ノズル２５から布帛基材１の表面に向けて照射される。すなわち、プラズマ発生部２１で発生させたプラズマは、放電部分Ｄが布帛基材１に接触しない状態で布帛基材１の表面に照射される。換言すれば、布帛基材１は、放電部分Ｄを通過しないので、放電部分Ｄに直接接触することがない。このようなプラズマ発生機構は、リモートジェット方式と呼ばれている。これに対して、プラズマ発生機構のうち、放電部分Ｄに布帛基材１が接触する方式は、ダイレクト方式と呼ばれている。
【００６１】
本発明で使用するプラズマ発生機構としては、リモートジェット方式およびダイレクト方式のどちらでも構わないが、放電部分に布帛基材を接触させないリモートジェット方式のプラズマ照射手段を用いることで、布帛基材の表面を細かく荒らして、微細な凹凸を周期的に形成することができる。これにより、布帛基材の表面にいわゆるロータス効果が付与されて、布帛基材の表面の撥水性をより高めることができる。
【００６２】
ダイレクト方式でも布帛基材の表面を荒らすことはできるが、リモートジェット方式に比べると細かく荒らすことは困難であり、十分な撥水性が得られない場合がある。また、ダイレクト方式では、布帛基材が放電部分に直接接触してしまうので、布帛基材表面に放電損傷が生じやすい。以上のことから、リモートジェット方式のプラズマ照射手段を用いることが好ましい。
【００６３】
プラズマ照射手段２０は、真空下でプラズマを発生させて照射する機構を備えたものであってもよいし、大気圧下でプラズマを発生させて照射する機構を備えたものであってもよいが、大気圧下でプラズマを発生させて照射する機構を備えたものが好ましい。大気圧下でプラズマを発生させる場合には、プラズマ照射手段に減圧機構を設けることが不要となって装置の小型化が図れることから、後述するプラズマ照射工程をインラインで行うことができる（すなわち、プラズマ照射工程、画像形成工程、等の工程を連続で行える）という利点がある。ここで、プラズマを発生させる際の圧力とは、プラズマを発生させる際のガス供給室２２内の圧力のことをいう。
【００６４】
プラズマを発生させる際の電力量としては、供給したガスからプラズマを発生できるのであれば特に限定されるものではないが、例えば１００Ｗｈ以上２００Ｗｈ以下とすることができる。
【００６５】
プラズマを発生させる際の電源２４の周波数としては、供給したガスからプラズマを発生できるのであれば特に限定されるものではないが、例えば５０ｋＨｚ以上である。
【００６６】
ガス供給室２２には、１種類のガスが供給されてもよいし、２種以上のガスを混合して得られる混合ガスが供給されるようにしてもよい。このようなガス種としては、布帛基材１の表面を細かく荒らすことができる(ロータス効果を付与できる)ガス種であれば特に制限されるものではない。例えば窒素（Ｎ2）、アンモニア（ＮＨ3）、四フッ化炭素（ＣＦ4）、アルゴン（Ａｒ）、ヘリウム（Ｈｅ）、ネオン（Ｎｅ）、およびこれらの混合ガスが挙げられる。これらのガス種の中でも、フッ素を含む混合ガスは、布帛基材の表面を十分に荒らすことができるため、優れた撥水効果を付与できる点で好ましい。なお、ガス供給室２２に供給されるガスの流量は、ガス供給室２２の容量、ガス種、布帛基材の種類、印刷速度等に応じて適宜設定することができ、特に制限されるものではない。
【００６７】
１．１．５．湿熱処理手段５０
湿熱処理手段５０は、布帛基材１の表面に形成された画像を湿熱処理する手段である。これにより、布帛基材１の表面における分散染料の染着性が一層向上する。湿熱処理手段５０は、必ずしも印刷機の構成に含まれる必要はなく、必要に応じて設ければよい。湿熱
処理手段５０は、布帛搬送方向において、画像形成手段４０およびプラズマ照射手段２０の下流側に設けられていればよい。湿熱処理としては、従来公知の方法を用いることができ、例えばＨＴ法（高温スチーミング法）、ＨＰ法（高圧スチーミング法）等が挙げられる。
【００６８】
１．１．６．その他の手段
本実施形態で用いられるインクジェット記録装置１０００は、さらに、布帛基材を洗浄する洗浄手段（図示せず）を有していてもよい。洗浄手段は、例えば、水を用いたり、還元剤を含有する水溶液を用いたりして、未染着の分散染料等を洗い流すための手段である。洗浄手段としては、公知の手段を使用することができる。洗浄手段は、例えば上記の湿熱処理手段５０の布帛搬送方向の下流側に設けることができる。
【００６９】
本実施形態で用いられるインクジェット記録装置１０００は、さらに、布帛を乾燥させる布帛乾燥手段（図示せず）を有していてもよい。布帛乾燥手段としては、上記の処理剤乾燥手段で挙げた乾燥手段と同様のものを用いることができる。布帛乾燥手段は、例えば、湿熱手段の下流側（洗浄手段による布帛の洗浄を行う場合には、洗浄手段の下流側）に設けることができる。
【００７０】
１．２．製造工程
次に、本実施形態に係る印捺物の製造方法について、工程毎に詳細に説明する。
【００７１】
１．２．１．インク組成物準備工程
インク組成物準備工程は、分散染料と、水と、を含有するインク組成物を準備する工程である。当該インク組成物は、後述する画像形成工程に使用するインクジェット捺染用のインクである。
【００７２】
インク組成物準備工程で準備するインク組成物に含まれる成分、インク組成物の調製方法、インク組成物の物性について以下に説明する。
【００７３】
１．２．１．１．インク組成物の成分
＜分散染料＞
上記インク組成物に含まれる分散染料は、特に制限されるものではないが、水に難溶性であり、アゾ骨格またはアントラキノン骨格を含む分散染料が好ましい。アゾ骨格またはアントラキノン骨格を含む分散染料は、光によって分解されにくく、還元剤による還元分解も起こりにくい。そのため、これらの分散染料は、洗浄工程において白場汚染を発生させやすいのであるが、本実施形態に係る印捺物の製造方法によれば、白場に撥水性が付与されるので白場汚染の発生を低減することができる。
【００７４】
分散染料の具体例としては、例えばＣ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ  Ｙｅｌｌｏｗ  ３、４、５、７、９、１３、２４、３０、３３、３４、４２、４４、４９、５０、５１、５４、５６、５８、６０、６３、６４、６６、６８、７１、７４、７６、７９、８２、８３、８５、８６、８８、９０、９１、９３、９８、９９、１００、１０４、１１４、１１６、１１８、１１９、１２２、１２４、１２６、１３５、１４０、１４１、１４９、１６０、１６２、１６３、１６４、１６５、１７９、１８０、１８２、１８３、１８６、１９２、１９８、１９９、２０２、２０４、２１０、２１１、２１５、２１６、２１８、２２４等；Ｃ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ  Ｏｒａｎｇｅ  １、３、５、７、１１、１３、１７、２０、２１、２５、２９、３０、３１、３２、３３、３７、３８、４２、４３、４４、４５、４７、４８、４９、５０、５３、５４、５５、５６、５７、５８、５９、６１、６６、７１、７３、７６、７８、８０、８９、９０、９１、９３、９６、９７、１１９、１２７、１３０、１３９、１４２等、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ  Ｒｅｄ  １、４、５、７、１１、
１２、１３、１５、１７、２７、４３、４４、５０、５２、５３、５４、５５、５６、５８、５９、６０、６５、７２、７３、７４、７５、７６、７８、８１、８２、８６、８８、９０、９１、９２、９３、９６、１０３、１０５、１０６、１０７、１０８、１１０、１１１、１１３、１１７、１１８、１２１、１２２、１２６、１２７、１２８、１３１、１３２、１３４、１３５、１３７、１４３、１４５、１４６、１５１、１５２、１５３、１５４、１５７、１５９、１６４、１６７、１６９、１７７、１７９、１８１、１８３、１８４、１８５、１８８、１８９、１９０、１９１、１９２、２００、２０１、２０２、２０３、２０５、２０６、２０７、２１０、２２１、２２４、２２５、２２７、２２９、２３９、２４０、２５７、２５８、２７７、２７８、２７９、２８１、２８８、２８９、２９８、３０２、３０３、３１０、３１１、３１２、３２０、３２４、３２８等；Ｃ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ  Ｖｉｏｌｅｔ  １、４、８、２３、２６、２７、２８、３１、３３、３５、３６、３８、４０、４３、４６、４８、５０、５１、５２、５６、５７、５９、６１、６３、６９、７７等、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ  Ｇｒｅｅｎ  ９等；Ｃ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ  Ｂｒｏｗｎ  １、２、４、９、１３、１９等、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ Ｂｌｕｅ  ３、７、９、１４、１６、１９、２０、２６、２７、３５、４３、４４、５４、５５、５６、５８、６０、６２、６４、７１、７２、７３、７５、７９、８１、８２、８３、８７、９１、９３、９４、９５、９６、１０２、１０６、１０８、１１２、１１３、１１５、１１８、１２０、１２２、１２５、１２８、１３０、１３９、１４１、１４２、１４３、１４６、１４８、１４９、１５３、１５４、１５８、１６５、１６７、１７１、１７３、１７４、１７６、１８１、１８３、１８５、１８６、１８７、１８９、１９７、１９８、２００、２０１、２０５、２０７、２１１、２１４、２２４、２２５、２５７、２５９、２６７、２６８、２７０、２８４、２８５、２８７、２８８、２９１、２９３、２９５、２９７、３０１、３１５、３３０、３３３等；Ｃ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ
Ｂｌａｃｋ  １、３、１０、２４等が挙げられる。これらの分散染料は、１種単独で使用してもよいし、２種以上併用してもよい。
【００７５】
上記インク組成物中の分散染料の含有量は、インク組成物の全質量（１００質量％）に対して、好ましくは０．１質量％以上１０質量％以下、より好ましくは０．５質量％以上８質量％以下、特に好ましくは１質量％以上７質量％以下である。
【００７６】
＜水＞
上記インク組成物に含まれる水は、インク組成物の主成分となる液状媒体である。水は、イオン交換水、限外濾過水、逆浸透水、蒸留水等の純水又は超純水のようなイオン性不純物を極力除去したものであることが好ましい。水の含有量は、インク組成物の全質量（１００質量％）に対して、例えば５０質量％以上とすることができる。
【００７７】
上記インク組成物は、分散剤、水溶性有機溶剤、界面活性剤、尿素類、糖類、ｐＨ調整剤、キレート化剤、防腐剤、防かび剤、防錆剤等を含有してもよい。
【００７８】
＜分散剤＞
上記分散染料を分散させるための分散剤は、特に限定されず、例えばノニオン性やアニオン性の分散剤を挙げることができる。アニオン性の分散剤としては、高級脂肪酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、芳香族スルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、芳香族スルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩のホルマリン縮合物等が挙げられる。芳香族スルホン酸塩としては、アルキルフェニルスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、アルキルフェニルエーテルスルホン酸塩等が挙げられる。芳香族スルホン酸塩のホルマリン縮合物としては、ナフタレンスルホン酸塩のホルマリン縮合物、特殊芳香族スルホン酸塩のホルマリン縮合物（ブチルナフタレン等のアルキルナフタレンスルホン酸ナトリウムとナフタレンスルホン酸ナトリウムとのホルマリン縮合物、クレゾールスルホン酸ナトリウムと２−ナフトール−６−スルホン酸ナトリウムのホルマリン縮合物、クレゾー
ルスルホン酸ナトリウムのホルマリン縮合物、クレオソート油スルホン酸ナトリウムのホルマリン縮合物等が挙げられる。また、これらの分散剤は、１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００７９】
さらに上記のノニオン性やアニオン性の分散剤の他に、いわゆる高分子分散剤を用いることができ、例えばスチレンおよびその誘導体、ビニルナフタレンおよびその誘導体、α，β−不飽和カルボン酸の脂肪族アルコールエステル等、アクリル酸およびその誘導体、マレイン酸およびその誘導体、イタコン酸およびその誘導体、フマール酸およびその誘導体、酢酸ビニル、ビニルアルコール、ビニルピロリドン、アクリルアミド、およびその誘導体等から選ばれる少なくとも２つ以上の単量体（このうち少なくとも１つは親水性単量体）からなるブロック共重合体、ランダム共重合体およびグラフト共重合体、並びにこれらの塩等を挙げることができる。これらの樹脂は、塩基を溶解させた水溶液に可溶なアルカリ可溶型樹脂であることが好ましい。
【００８０】
上記インク組成物に含まれる分散剤の含有割合は、特に限定されないが、分散染料の含有量１００質量部に対して５〜２００質量部であることが好ましく、１０〜１００質量部であることがより好ましい。
【００８１】
分散染料を分散させる方法としては、特に限定されず、ボールミル、サンドミル、高圧ホモジナイザー等の方法で分散させることができる。上記インク組成物中に含有される分散染料の平均粒径の範囲は、分散安定性やインク供給系およびインク吐出部分等の目詰まり防止等の観点から、好ましくは０．０５μｍ以上１．０μｍ以下、より好ましくは０．０７μｍ以上０．５μｍ以下である。
【００８２】
＜水溶性有機溶剤＞
上記インク組成物は、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が１ｇ／１００ｇ以上の水溶性有機溶剤を含むことが好ましい。上記インク組成物が水溶性有機溶剤を含有することにより、インク組成物の布帛基材に対する濡れ性を高めたり、ノズルの保湿性を高める等の機能を付与することができる。
【００８３】
水溶性有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類；アセトン、ジアセトンアルコール等のケトンまたはケトアルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキシレングリコール等のグリコール類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル等のグリコールの低級アルキルエーテル類；ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のヒドロキシ基を持つアミン類；グリセリン、２−ピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられる。これらの中でも、グリセリン、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテルを好適に用いることができる。また、これらの水溶性有機溶剤は、１種類または２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００８４】
上記インク組成物中における水溶性有機溶剤の含有量は、ノズルの目詰まり防止や滲み防止の観点から５〜５０質量％とすることが好ましい。
【００８５】
＜界面活性剤＞
界面活性剤は、インク組成物の表面張力を低下させ、布帛との濡れ性を調整する機能を有する。界面活性剤の中でも、アセチレングリコール系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、およびフッ素系界面活性剤を好ましく用いることができる。
【００８６】
アセチレングリコール系界面活性剤としては、特に限定されないが、例えばサーフィノール１０４、１０４Ｅ、１０４Ｈ、１０４Ａ、１０４ＢＣ、１０４ＤＰＭ、１０４ＰＡ、１０４ＰＧ−５０、１０４Ｓ、４２０、４４０、４６５、４８５、ＳＥ、ＳＥ−Ｆ、５０４、６１、ＤＦ３７、ＣＴ１１１、ＣＴ１２１、ＣＴ１３１、ＣＴ１３６、ＴＧ、ＧＡ、ＤＦ１１０Ｄ（以上全て商品名、Air Products and Chemicals. Inc.社製）、オルフィンＢ、Ｙ、Ｐ、Ａ、ＳＴＧ、ＳＰＣ、Ｅ１００４、Ｅ１０１０、ＰＤ−００１、ＰＤ−００２Ｗ、ＰＤ−００３、ＰＤ−００４、ＰＤ−００５、ＥＸＰ．４００１、ＥＸＰ．４０３６、ＥＸＰ．４０５１、ＡＦ−１０３、ＡＦ−１０４、ＡＫ−０２、ＳＫ−１４、ＡＥ−３（以上全て商品名、日信化学工業社製）、アセチレノールＥ００、Ｅ００Ｐ、Ｅ４０、Ｅ１００（以上全て商品名、川研ファインケミカル社製）が挙げられる。
【００８７】
シリコーン系界面活性剤としては、特に限定されないが、ポリシロキサン系化合物が好ましく挙げられる。当該ポリシロキサン系化合物としては、特に限定されないが、例えばポリエーテル変性オルガノシロキサンが挙げられる。当該ポリエーテル変性オルガノシロキサンの市販品としては、例えばＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３４１、ＢＹＫ−３４５、ＢＹＫ−３４６、ＢＹＫ−３４８（以上商品名、ＢＹＫ社製）、ＫＦ−３５１Ａ、ＫＦ−３５２Ａ、ＫＦ−３５３、ＫＦ−３５４Ｌ、ＫＦ−３５５Ａ、ＫＦ−６１５Ａ、ＫＦ−９４５、ＫＦ−６４０、ＫＦ−６４２、ＫＦ−６４３、ＫＦ−６０２０、Ｘ−２２−４５１５、ＫＦ−６０１１、ＫＦ−６０１２、ＫＦ−６０１５、ＫＦ−６０１７（以上商品名、信越化学工業社製）が挙げられる。
【００８８】
フッ素系界面活性剤としては、フッ素変性ポリマーを用いることが好ましく、具体例としては、ＢＹＫ−３４０（ビックケミー・ジャパン社製）が挙げられる。
【００８９】
界面活性剤を含有する場合には、その含有量は、インク組成物の全質量に対して、０．０５質量％以上１．５質量％以下とすることができる。
【００９０】
＜尿素類＞
尿素類は、インクの保湿剤として機能したり、染料の染着性を向上させる染着助剤として機能する。尿素類の具体例としては、尿素、エチレン尿素、テトラメチル尿素、チオ尿素、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等が挙げられる。尿素類を含有する場合には、その含有量は、インク組成物の全質量に対して、１質量％以上１０質量％以下とすることができる。
【００９１】
＜糖類＞
糖類は、インクの固化、乾燥を抑制する保湿剤として機能する。糖類の具体例としては、グルコース、マンノース、フルクトース、リボース、キシロース、アラビノース、ガラクトース、アルドン酸、グルシトール（ソルビット）、マルトース、セロビオース、ラクトース、スクロース、トレハロース、およびマルトトリオース等が挙げられる。
【００９２】
＜ｐＨ調整剤＞
ｐＨ調整剤としては、例えば、リン酸二水素カリウム、リン酸水素二ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化カリウム、アンモニア、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、トリスヒドロキシメチルアミノメタン（ＴＨＡＭ）、４−（２−ヒド
ロキシエチル)−１−ピペラジンエタンスルホン酸（ＨＥＰＥＳ）、モルホリノエタンスルホン酸（ＭＥＳ）、カルバモイルメチルイミノビス酢酸（ＡＤＡ）、ピペラジン−１，４−ビス（２−エタンスルホン酸）（ＰＩＰＥＳ）、Ｎ−（２−アセトアミド）−２−アミノエタンスルホン酸（ＡＣＥＳ）、コラミン塩酸、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−２−アミノエタンスルホン酸（ＢＥＳ）、Ｎ−トリス（ヒドロキシメチル）メチル−２−アミノエタンスルホン酸（ＴＥＳ）、アセトアミドグリシン、トリシン、グリシンアミド、ビシン等のグッドバッファー、リン酸緩衝液、トリス緩衝液などが挙げられる。
【００９３】
＜キレート化剤＞
キレート化剤としては、例えば、エチレンジアミン四酢酸およびそれらの塩類（エチレンジアミン四酢酸二水素二ナトリウム塩等）等が挙げられる。
【００９４】
＜防腐剤、防かび剤＞
防腐剤、防かび剤としては、例えば安息香酸ナトリウム、ペンタクロロフェノールナトリウム、２−ピリジンチオール−１−オキサイドナトリウム、ソルビン酸ナトリウム、デヒドロ酢酸ナトリウム、１，２−ジベンゾイソチアゾリン−３−オン（ゼネカ社のプロキセルＣＲＬ、プロキセルＢＤＮ、プロキセルＧＸＬ、プロキセルＸＬ．２、プロキセルＴＮ、プロキセルＬＶ）、４−クロロ−３−メチルフェノール（バイエル社のプリベントールＣＭＫ等）などが挙げられる。
【００９５】
＜防錆剤＞
防錆剤としては、例えばベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【００９６】
１．２．１．２．インク組成物の調製方法
上記インク組成物は、前述した成分を任意な順序で混合し、必要に応じて濾過等をして不純物を除去することにより得られる。各成分の混合方法としては、メカニカルスターラー、マグネチックスターラー等の撹拌装置を備えた容器に順次材料を添加して撹拌混合する方法が好適に用いられる。濾過方法としては、遠心濾過、フィルター濾過等を必要に応じて行なうことができる。
【００９７】
１．２．１．３．インク組成物の物性
上記インク組成物は、画像品質とインクジェット捺染用のインク組成物としての信頼性とのバランスの観点から、２０℃における表面張力が２０ｍＮ／ｍ以上４０ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２３ｍＮ／ｍ以上３８ｍＮ／ｍ以下であることがより好ましい。なお、表面張力の測定は、例えば、自動表面張力計ＣＢＶＰ−Ｚ（商品名、協和界面科学株式会社製）を用いて、２０℃の環境下で白金プレートをインクで濡らしたときの表面張力を確認することにより測定することができる。
【００９８】
また、同様の観点から、上記インク組成物の２０℃における粘度は、１．５ｍＰａ・ｓ以上１０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、２ｍＰａ・ｓ以上８ｍＰａ・ｓ以下であることがより好ましい。なお、粘度の測定は、例えば粘弾性試験機ＭＣＲ−３００（商品名、Ｐｙｓｉｃａ社製）を用いて、２０℃の環境下での粘度を測定することができる。
【００９９】
１．２．２．画像形成工程
画像形成工程は、上記のインク組成物の液滴を記録ヘッドから噴射して、布帛基材の表面に画像を形成（印捺）する工程であり、上述の画像形成手段４０によって行うことができる。
【０１００】
上記のインクジェット記録装置１０００を用いる場合には、まずインクジェット記録装置１０００に布帛基材１をセットして、布帛基材１を搬送手段１０によって搬送可能な状
態にする。次いで、搬送手段１０を作動させて、上記のインク組成物の液滴を記録ヘッド４１から噴射して、布帛基材１の表面に画像を形成する。記録ヘッドから噴射されたインク組成物の液滴を布帛基材の所定領域に付着させることで、画像が形成（印捺）される。なお、画像形成工程は、捺染工程と言い換えることもできる。
【０１０１】
布帛基材を構成する素材としては、ポリエステル、アセテート、トリアセテート、ナイロン、アクリル等の疎水性合成繊維が挙げられる。布帛基材としては、上記に挙げた繊維を、織物、編物、不織布等いずれの形態にしたものでもよい。
【０１０２】
布帛基材の形状としては、特に限定されず、単票であってもよいし、図１に示すような連続体であってもよい。
【０１０３】
なお、記録ヘッドからインク組成物を噴射する前（すなわち画像形成工程の前）に、処理剤付与手段３０によって、布帛基材１の表面に上述の処理剤を付与する処理剤付与工程を行ってもよい。なお、上述したように処理剤付与手段は、必ずしも印刷機で行う必要はなく、例えば布帛基材中に処理剤が含まれるようにパッド法、コーティング法、スプレー法等により別途行ってもよい。布帛基材の表面に処理剤を付与することで、インク組成物に含まれる分散染料の染着性を向上できる。
【０１０４】
１．２．３．プラズマ照射工程
プラズマ照射工程は、画像形成工程の後であって湿熱処理工程の前に、もしくは湿熱処理工程の後であって洗浄工程の前に、プラズマ照射手段により発生させたプラズマを布帛基材表面上の画像が形成されていない部分に選択的に照射することによって、該部分に撥水性を付与する工程である。
【０１０５】
プラズマ照射工程では、放電部分に布帛基材を接触させないリモートジェット方式のプラズマ照射手段を用いることで、布帛基材の表面を非常に細かく荒らして、微細な凹凸を周期的に形成することができる。これにより、布帛基材の表面にいわゆるロータス効果が付与されて、布帛基材の表面の撥水性をより高めることができる。画像が形成されていない部分の撥水性を高めることにより、後続する洗浄工程において分散染料が該部分に再付着しにくくなるため、白場汚染を効果的に低減することが可能となる。
【０１０６】
１．２．４．湿熱処理工程
本実施形態に係る印捺物の製造方法は、湿熱処理工程を含むことが好ましい。湿熱処理工程は、画像形成工程後に行われ、形成された画像に対して湿熱処理を行う工程であり、例えば上記の湿熱処理手段５０によって行うことができる。これにより、分散染料の染着性が一層向上する。
【０１０７】
湿熱処理工程は、従来公知の方法を用いることができ、例えばＨＴ法（高温スチーミング法）、ＨＰ法（高圧スチーミング法）等が挙げられる。
【０１０８】
湿熱処理工程時の加熱温度としては、染着性の向上および布帛基材のダメージの低減を両立させるために、８０℃以上１２０℃以下であることが好ましく、９０℃以上１１０℃以下であることがより好ましい。湿熱処理工程における加熱時間としては、例えば３分以上３０分以下とすることができる。
【０１０９】
１．２．５．洗浄工程
洗浄工程は、上記プラズマ照射工程の後もしくは湿熱処理工程の後に、画像が形成された布帛基材を洗浄して、布帛基材に染着していない分散染料を除去する工程である。洗浄工程では、水を用いて行ってもよいし、還元剤を含有する水溶液を用いて行ってもよい。
【０１１０】
上記の還元剤を含有する水溶液には、還元剤、アルカリ剤、ソーピング剤、水を含有することが好ましい。還元剤としては、例えばハイドロサルファイト、二酸化チオ尿素等を２〜１０ｇ／Ｌの量で使用することができる。また、アルカリ剤としては、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム等を２〜１０ｇ／Ｌの量で使用することができる。ソーピング剤としては、市販されている界面活性剤を使用することができ、例えばサンモールＢＫ２０Ｌ（日華化学株式会社製）、アデカノールＴＳ−８００コンク（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、アートリンＡ−１３２（共栄社化学株式会社製）、グランアップＡＸ−０８（三洋化成工業株式会社製）、ダイヤノール３３０、ティーポールＢ−８１、トライポールＲＣ、モノゲン１７０Ｔ、モノゲンＳＳ、モノゲン２ＮＴ（以上、第一工業製薬株式会社製）、ラッコールＳＴＡ（明成化学工業株式会社製）等が挙げられる。
【０１１１】
本実施形態に係る印捺物の製造方法では、水での洗浄および還元剤を含有する水溶液での洗浄を併用することが好ましい。水での洗浄および還元剤を含有する水溶液での洗浄を併用することで、布帛基材に染着しきれなかった分散染料を効果的に除去することができ、白場汚染をより低減することが可能となる。
【０１１２】
具体的には、まず、画像が形成された布帛基材を水で洗浄することにより、染着しきれなかった分散染料の大部分を除去することができる。その後、還元剤を含有する水溶液からなる還元洗浄処理浴にて、６０〜９５℃で１０〜３０分間処理し、その後還元洗浄された布帛基材中に残留するアルカリ剤の中和、水洗、乾燥等の工程を経ることにより、分散染料が効果的に除去され、白場汚染の低減された印捺物を得ることができる。
【０１１３】
なお、プラズマ照射工程の後、布帛基材を洗浄し始めるまでの時間が、２４０秒以下であることが好ましい。上記の時間が２４０秒以下であると、プラズマ照射工程によって得られた撥水効果が高い状態で洗浄工程に移行されるので、白場汚染をより効果的に低減することが可能となる。したがって、白場汚染の低減された良好な印捺物を製造することが可能となる。
【０１１４】
２．印捺物
本実施の形態に係る印捺物は、上述の印捺物の製造方法によって製造されたものであることを特徴とする。上述の印捺物の製造方法によって得られた印捺物は、画像の耐光性に優れ、かつ、白場汚染が低減された印捺物となる。
【０１１５】
印捺物のＯＤ値は、耐光性の指標とすることができる。上述の印捺物の製造方法によって得られた印捺物は、光、ガス、および熱による酸化の工程を含む（例えば、屋内耐光性５年程度の）エージング処理を行った場合であっても、エージング処理前のＯＤ値を１００％としたときに、エージング処理後のＯＤ値を８０％以上１２０％以下とすることが可能となる。このことは、上述の印捺物の製造方法によって得られた印捺物が耐光性に優れていることを示している。
【０１１６】
３．捺染方法
本実施の形態に係る捺染方法は、水と、分散染料と、を含有するインク組成物の液滴を記録ヘッドから噴射して布帛基材の表面に画像を形成する工程と、前記画像を形成した後に、前記布帛基材の表面上の、前記画像が形成されていない部分に対して選択的にプラズマを照射する工程と、前記プラズマを照射した後に、前記布帛基材を洗浄する工程と、を含むことを特徴とする。
【０１１７】
本実施の形態に係る捺染方法によれば、布帛基材の表面上の画像が形成されていない部分、すなわち白場となる部分に選択的にプラズマを照射することによって、該部分に撥水
性を付与することができる。これにより、洗浄の際、白場となる部分に分散染料が染み込みにくくなるため、還元剤によって分解されにくい分散染料を用いても白場汚染を低減することが可能となる。
【０１１８】
本実施の形態に係る捺染方法は、上記で説明した印捺物の製造方法に基づいて実施することができるので、その説明を省略する。
【０１１９】
４．実施例
以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【０１２０】
４．１．インク組成物の調製
表１の組成となるように各成分を容器に入れて、マグネチックスターラーで２時間混合および攪拌した後、孔径５μｍのメンブランフィルターで濾過することにより、インク１〜インク４を得た。なお、表１中の数値は、質量％を表す。表１中の「−」は、その成分を添加していないことを表す。
【０１２１】
【表１】
2015155579.tif 000003
【０１２２】
なお、表１中の成分について下記に説明を補足する。
・Ｃ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ  Ｒｅｄ  ５８（アゾ骨格を含む分散染料、耐光性３−４）・Ｃ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ  Ｒｅｄ  １３（アゾ骨格を含む分散染料、耐光性５−６）・Ｃ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ  Ｒｅｄ  ４（アントラキノン骨格を含む分散染料、耐光性７）
・Ｃ．Ｉ．Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｒｅｄ  ５３（モノアゾ（ビニルスルホニル誘導体）、反応染料）
・ＰＤ−００２Ｗ（商品名、日信化学工業社製、アセチレングリコール系界面活性剤）
なお、上記の分散染料の耐光性については、「ＩＳＯ  １０５  Ｂ０２」に準じて評価した値である。
【０１２３】
４．２．評価試験
４．２．１．評価試験用サンプルの作製
以下の評価試験用サンプルを作製するにあたり、インクジェットプリンターＰＸ−Ｇ９３０（商品名、セイコーエプソン社製）を改造した印刷機を使用した。具体的には、インクジェットプリンターＰＸ−Ｇ９３０の記録ヘッドの側面に４つのプラズマ照射手段を搭載した。このような印刷機の構成とすることで、記録ヘッドからインク組成物の液滴を吐
出して布帛基材の表面に画像を形成した後、連続して布帛基材の表面の画像が形成されていない領域にプラズマ照射を行うことができるようにした。このようにして、図１ないし図３と同様の構成を備えたインクジェットプリンターを製造した。
【０１２４】
評価試験用サンプルは、次のようにして作製した。まず、上記のように改造したインクジェットプリンターを用いて、布帛基材表面の所定の領域に画像を形成すると共に（画像形成工程）、下記の条件で布帛基材表面の画像が形成されていない領域にプラズマ照射処理を行った（プラズマ照射工程）。次いで、湿熱処理手段によって１００℃で１０分間スチーミングを行った（湿熱処理工程）。次いで、画像の形成された布帛基材をインクジェットプリンターから取り出し、それを水で洗浄し、さらに染色試験機（マチス社製、型式「Ｔｕｒｂｙ  ｔｙｐｅ  Ｔ」）を用いて下記の条件で還元洗浄を行った。その後、８０℃で３０分間乾燥させたものを評価試験用サンプルとした。
【０１２５】
＜布帛基材の種類＞
使用した布帛基材は、ポリエステル（生地色：白、素材：ポリエステル１００％）、アセテート（生地色：白、素材：ジアセテート１００％）、ビニロン（生地色：白、素材：ビニロン１００％）、ナイロン（生地色：白色、素材：ナイロン１００％、平織り）、アクリル（生地色：白、素材：アクリル１００％）である。
【０１２６】
＜画像形成条件＞
・印刷速度：表２に記載の速度で印刷を行った。
・画像解像度：１４４０×１４４０ｄｐｉ
・ｄｕｔｙ：１００％
【０１２７】
＜プラズマ照射条件＞
・ガス種：表２中のガス種は以下の通りである。
ガス１：アルゴン１００体積％
ガス２：窒素１００体積％
ガス３：窒素９９体積％＋四フッ化炭素１体積％
・ガス流量：３０Ｌ／ｍｉｎ
・プラズマ照射手段：大気圧下でのリモートジェット方式を採用。
・照射ギャップ（プラズマ照射ノズルの先端部と布帛基材との距離）：２．５ｍｍ
・照射時間：印刷速度に依存する。すなわち、印刷速度が速ければ速いほど、記録ヘッドの移動速度が速くなるため、プラズマ照射時間は短くなる。
・電力量１００Ｗｈ
・周波数１３．５６ＭＨｚ
・なお、表２中の比較例１では、ガスを流すだけでプラズマの照射は行わなかった。すなわち、図２に示すプラズマ照射装置において、電極２３ａと電極２３ｂ間での放電を行わずに、ガスを通過させるだけにした。
【０１２８】
＜還元洗浄条件＞
・温度条件：昇温速度２℃／ｍｉｎにて２５℃から８５℃に昇温し、８５℃で１０分間保持した後、降温速度３℃／ｍｉｎにて８５℃から２５℃に降温。
・撹拌：回転速度８００ｒｐｍ（回転：５５ｓ、左回転５５ｓのサイクル）
・洗浄液：水１５０ｇ、ラッコールＳＴＡ０．３ｇ（ソーピング剤、明成化学工業株式会社製）、ハイドロサルファイト０．３ｇ（和光純薬工業株式会社製）、１０規定の水酸化ナトリウム水溶液０．３ｇ
【０１２９】
４．２．２．評価方法
＜発色（ＯＤ値）＞
上記で得られた評価用サンプルのｄｕｔｙ１００％の画像形成領域について、測色器（製品名「Ｇｒｅｔａｇ  Ｍａｃｂｅｔｈ  Ｓｐｅｃｔｒｏｌｉｎｏ」、Ｘ−ＲＩＴＥ社製）を用いてＯＤ値を測定した。評価基準は、以下の通りである。その結果を表２に併せて示す。
Ａ：ＯＤ値が１．５０以上
Ｂ：ＯＤ値が１．４０以上１．５０未満
Ｃ：ＯＤ値が１．４０未満
【０１３０】
＜白場汚染＞
上記で得られた評価試験用サンプルの画像が形成されていない（白場）領域について、洗浄工程前後におけるＯＤ値を測色器（製品名「Ｇｒｅｔａｇ  Ｍａｃｂｅｔｈ  Ｓｐｅｃｔｒｏｌｉｎｏ」、Ｘ−ＲＩＴＥ社製）を用いて測定した。洗浄前のＯＤ値に対して洗浄後のＯＤ値がどれだけ変化したかによって、白場汚染の評価を行った。評価基準は、以下の通りである。その結果を表２に併せて示す。
Ａ：ＯＤ値の変化が１０％未満
Ｂ：ＯＤ値の変化が１０％以上２０％未満
Ｃ：ＯＤ値の変化が２０％以上
【０１３１】
＜耐光性＞
耐光性の評価は、「ＩＳＯ  １０５  Ｂ０２」に準じて行った。すなわち、上記で得られた評価試験用サンプルを１０ｍｍ×４０ｍｍ以上の大きさの試験片とし、キセノンランプ（３００〜４００ｎｍ）を用いて、標準退色までの放射露光量を測定することにより評価した。
Ａ：放射露光量が２８７００ｍＪ／ｃｍ2より大きい（耐光性７以上）。
Ｂ：放射露光量が３８００ｍＪ／ｃｍ2より大きく、２８７００ｍＪ／ｃｍ2以下（耐光性５〜６）。
Ｃ：放射露光量が３８００ｍＪ／ｃｍ2以下（耐光性４以下）。
【０１３２】
４．３．評価結果
上記の評価試験の結果を表２に示す。
【０１３３】
【表２】
2015155579.tif 000004
【０１３４】
表２に記載の実施例１〜１１の評価結果によれば、いずれの分散染料を含有するインク組成物を使用した場合であっても、布帛基材表面の画像が形成されていない領域にプラズマを照射して撥水性を高めておくことで、多種多様な布帛基材に対して、画像の良好な耐光性と白場汚染の低減とを両立できることが判った。
【０１３５】
実施例１〜２の評価結果によれば、どちらもアゾ骨格を含む分散染料を使用しているが、光や還元剤によって分解されにくいＣ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ  Ｒｅｄ  １３を使用した場合であっても、白場汚染を効果的に低減でき、かつ、画像の耐光性も良好であることが判った。
【０１３６】
実施例３の評価結果によれば、光や還元剤によって非常に分解されにくい、アントラキノン骨格を含むＣ．Ｉ．Ｄｉｓｐｅｒｓｅ  Ｒｅｄ  ４を使用した場合であっても、白場汚染を低減でき、かつ、画像の耐光性も良好であることが判った。
【０１３７】
実施例２と実施例４〜５の評価結果を比較すると、プラズマ照射の際に使用するガス種にフッ素が含まれている方が、撥水効果がより高くなり、白場汚染を低減する効果が高いことが判った。
【０１３８】
実施例２と実施例６〜７の評価結果を比較すると、記録ヘッドの側面にプラズマ照射手段が搭載されているため、印刷速度が遅くなるにつれてプラズマ照射時間が長くなり、その結果撥水効果が高くなり、白場汚染の低減効果が大きくなる傾向が認められた。
【０１３９】
一方、比較例１ではプラズマ照射を行っていないため、撥水効果が得られず、白場汚染が発生してしまうことが判った。
【０１４０】
比較例２の評価結果によれば、反応性染料であるＣ．Ｉ．Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｒｅｄ  ５３を使用したことにより、定着性が分散染料よりも落ちてしまい、白場汚染は発生しないものの、発色性が得られないことが判った。
【０１４１】
本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、本発明は、実施形態で説明した構成と実質的に同一の構成（例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成）を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
【符号の説明】
【０１４２】
１…布帛基材、１０…搬送手段、１１…ローラー、１２…プラテン、２０…プラズマ照射手段、２１…プラズマ発生部、２２…ガス供給室、２３…電極対、２３ａ，２３ｂ…電極、２４…電源、２５…プラズマ照射ノズル、２６（２６ａ，２６ｂ）…排気管、２９…ガス貯留部、３０…処理剤付与手段、４０…画像形成手段、４１…インクジェット記録用ヘッド、５０…湿熱処理手段、１０００…インクジェット記録装置、Ｄ…放電部分
【図１】
2015155579.tif 000005
【図２】
2015155579.tif 000006
【図３】
2015155579.tif 000007