(57)【要約】【課題】互いに異なる出光色の画素に対して光の取り出し効率を高めることの可能なＥＬ表示装置、および、ＥＬ表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】基板１１と、基板１１に設けられた複数の画素と、を備え、複数の画素の各々は、陰極層と、陽極層１６と、陰極層と陽極層１６との間に挟まれたＥＬ層とを備えているＥＬ表示装置である。そして、陰極層とＥＬ層との界面に、微細凹凸構造を有し、複数の画素は、出光色が互いに異なる少なくとも２種類以上の画素を含み、２種類以上の画素の各々における、微細凹凸構造の最頻ピッチは、各々の画素の出光スペクトルにおいて、ピークの半値幅に対応する波長帯のプラズモン光を励起するように設定されている。【選択図】図１
2015090810.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板に設けられた複数の画素と、を備え、
前記複数の画素の各々は、
陰極層と、陽極層と、前記陰極層と前記陽極層との間に挟まれたＥＬ層とを備え、
前記陰極層と前記ＥＬ層との界面に微細凹凸構造を有し、
前記複数の画素は、
出光色が互いに異なる少なくとも２種類以上の画素を含み、
前記２種類以上の画素の各々は、
前記画素の出光スペクトルにおいてピークの半値幅に対応する波長帯に含まれるプラズモン光を励起するようにその最頻ピッチが設定されたプラズモニック構造として前記微細凹凸構造を有する
ＥＬ表示装置。
【請求項２】
前記複数の画素が備える前記ＥＬ層は、白色の光を発光するものであり、
前記２種類以上の画素の各々は、カラーフィルターを有し、
前記カラーフィルターは、前記ＥＬ層が発する白色の光から特定の波長帯を出光するものである
請求項１に記載のＥＬ表示装置。
【請求項３】
前記２種類以上の画素は、
赤色出光画素と、緑色出光画素と、青色出光画素とから構成されている
請求項１または２に記載のＥＬ表示装置。
【請求項４】
前記複数の画素は、白色出光画素を含み、
前記白色出光画素の微細凹凸構造は、前記白色出光画素が出光する波長帯全域にわたるプラズモン光を励起するようにその最頻ピッチが設定されたプラズモニック構造である
請求項３に記載のＥＬ表示装置。
【請求項５】
前記陰極層と前記陽極層のいずれか一方が下部電極層であり、
前記陰極層と前記陽極層のうち、前記下部電極層とは異なる層が上部電極層であり、
前記複数の画素の各々は、
前記基板上に前記下部電極層、前記ＥＬ層、および、前記上部電極層がこの順に積層されて成り、
前記下部電極層と前記ＥＬ層との界面に微細凹凸構造Ａを有し、
前記ＥＬ層と前記上部電極層との界面には、前記微細凹凸構造Ａの形状に追従した形状を有する微細凹凸構造Ｂを有し、
前記微細凹凸構造Ａと前記微細凹凸構造Ｂのうち、前記陰極層と前記ＥＬ層との界面に含まれる構造が、前記微細凹凸構造である
請求項１から４のいずれか１つに記載のＥＬ表示装置。
【請求項６】
前記微細凹凸構造Ａにおける凹凸構造の平均高さは、前記微細凹凸構造Ｂにおける凹凸構造の平均高さ以上である
請求項５に記載のＥＬ表示装置。
【請求項７】
前記基板と前記下部電極層との間に、
前記下部電極層の一部と接続して前記ＥＬ層に電流を供給する画素回路と、
互いに隣接する前記画素の前記画素回路同士を絶縁する絶縁層と、をさらに備え、
前記絶縁層と前記下部電極層との界面には、微細凹凸構造Ｃを有し、
前記下部電極層と前記ＥＬ層との界面に前記微細凹凸構造Ｃの形状に追従した形状を有する前記微細凹凸構造Ａを有する
請求項５または６に記載のＥＬ表示装置。
【請求項８】
前記微細凹凸構造Ｃにおける凹凸構造の平均高さは、前記微細凹凸構造Ａにおける凹凸構造の平均高さ以上である
請求項７に記載のＥＬ表示装置。
【請求項９】
基板と、前記基板上に設けられた出光色の互いに異なる少なくとも２種類以上の画素と、を備えるＥＬ表示装置の製造方法であって、
前記基板上に下部電極層を形成する工程と、
前記下部電極層上にＥＬ層を形成する工程と、
前記ＥＬ層上に上部電極層を形成する工程と、を有し、
前記下部電極層と前記上部電極層のいずれか一方である陰極層と、前記ＥＬ層との界面に微細凹凸構造を形成し、
前記微細凹凸構造の最頻ピッチは、その微細凹凸構造を含む前記画素の出光スペクトルにおいてピークの半値幅に対応する波長帯に含まれるプラズモン光を前記微細凹凸構造が励起するように設定されている
ことを特徴とするＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記基板上に微細凹凸構造Ｄを形成する工程をさらに有し、
前記微細凹凸構造が、前記微細凹凸構造Ｄに追従する形状を有し、前記微細凹凸構造における凹凸構造の平均高さは、前記微細凹凸構造Ｄにおける凹凸構造の平均高さ以下である
請求項９に記載のＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項１１】
前記基板は絶縁層を有し、
前記下部電極層を形成する工程では、前記絶縁層上に前記下部電極層を形成し、
前記微細凹凸構造Ｄを形成する工程では、前記絶縁層上に前記微細凹凸構造Ｄを形成する
請求項１０に記載のＥＬ表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、互いに異なる出光色を出射する複数の画素を備えるＥＬ表示装置、および、ＥＬ表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＥＬ表示装置は、互いに異なる出光色を出射する複数の画素を有し、各画素に光を出射させて画像を形成する。この際に、ＥＬ素子の生成した光の一部は、ＥＬ素子の陰極表面にて表面プラズモンに変換されて熱として消費される。こうした表面プラズモンから熱への変換は、光の取り出し効率を下げる要因の一つとなっている。そこで、ＥＬ表示装置では、光の取り出し効率を高めるために、微細な凹凸の繰り返しである微細凹凸構造を陰極表面に形成することが提案されている。陰極表面に形成される微細凹凸構造は、回折格子として機能して、表面プラズモンをプラズモン光に変換する（例えば、特許文献１、２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−０３１３５０号公報
【特許文献２】特開２００９−１５８４７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、ＥＬ表示装置は、単一の色の光を照射する照明装置とは異なり、互いに異なる出光色の画素から、互いに異なる色の光を出射する。そして、ＥＬ表示装置は、各色の光の輝度を画素ごとに変更して、光の取り出される面に多数の色を表現する。例えば、赤色出光画素は赤色の光を出射し、緑色出光画素は緑色の光を出射し、青色出光画素は青色の光を出射する。そして、ＥＬ表示装置の制御部は、互いに異なる出光色の画素に対し、それぞれ光の輝度を制御して、光の取り出される面にフルカラーの画像を表現する。
【０００５】
ここで、微細な段差部の繰り返しである微細凹凸構造では、表面プラズモンからプラズモン光に変換される出光波長の範囲が、微細凹凸構造ごと異なり、特定の微細凹凸構造によって輝度が高められる出光波長と、高められない出光波長とが存在する。それゆえに、互いに異なる出光色を要するＥＬ表示装置においては、光の取り出し効率を高める観点において、依然として改善の余地が残されている。
【０００６】
本開示は、互いに異なる出光色の画素に対して光の取り出し効率を高めることの可能なＥＬ表示装置、および、ＥＬ表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するＥＬ表示装置は、基板と、前記基板に設けられた複数の画素と、を備える。前記複数の画素の各々は、陰極層と、陽極層と、前記陰極層と前記陽極層との間に挟まれたＥＬ層とを備え、前記陰極層と前記ＥＬ層との界面に、微細凹凸構造を有する。前記複数の画素は、出光色が互いに異なる少なくとも２種類以上の画素を含む。前記２種類以上の画素の各々は、画素の出光スペクトルにおいてピークの半値幅に対応する波長帯に含まれるプラズモン光を励起するようにその最頻ピッチが設定されたプラズモニック構造として前記微細凹凸構造を有する。
【０００８】
上記課題を解決するＥＬ表示装置の製造方法は、基板と、前記基板上に設けられて出光色の互いに異なる少なくとも２種類以上の画素と、を備えるＥＬ表示装置の製造方法である。前記基板上に下部電極層を形成する工程と、前記下部電極層上にＥＬ層を形成する工程と、前記ＥＬ層上に上部電極層を形成する工程と、を有する。前記下部電極層と前記上部電極層のいずれか一方である陰極層と、前記ＥＬ層との界面に微細凹凸構造を形成し、前記微細凹凸構造の最頻ピッチは、その微細凹凸構造を含む前記画素の出光スペクトルにおいてピークの半値幅に対応する波長帯に含まれるプラズモン光を前記微細凹凸構造が励起するように設定されている。
【０００９】
上記ＥＬ表示装置にて、前記複数の画素が備える前記ＥＬ層は、白色の光を発光するものである。前記２種類以上の画素の各々は、カラーフィルターを有し、前記カラーフィルターは、前記ＥＬ層が発する白色の光から特定の波長帯を出光するものであってもよい。
【００１０】
上記ＥＬ表示装置にて、前記２種類以上の画素は、赤色出光画素と、緑色出光画素と、青色出光画素とから構成されていることが好ましい。
上記ＥＬ表示装置にて、前記複数の画素は、白色出光画素を含み、前記白色出光画素の微細凹凸構造は、白色出光画素が出光する波長帯全域にわたるプラズモン光を励起するようにその最頻ピッチが設定されていることが望ましい。
【００１１】
上記ＥＬ表示装置にて、前記陰極層と前記陽極層のいずれか一方が下部電極層である。前記陰極層と前記陽極層のうち、前記下部電極層とは異なる層が上部電極層である。前記複数の画素の各々は、基板上に前記下部電極層、前記ＥＬ層、および、前記上部電極層がこの順に積層されて成る。前記下部電極層と前記ＥＬ層との界面に微細凹凸構造Ａを有し、前記ＥＬ層と前記上部電極層との界面には、前記微細凹凸構造Ａの形状に追従した形状を有する微細凹凸構造Ｂを有する。前記微細凹凸構造Ａと前記微細凹凸構造Ｂのうち、前記陰極層と前記ＥＬ層との界面に含まれる構造が、前記微細凹凸構造であることが好ましい。
【００１２】
上記ＥＬ表示装置にて、前記微細凹凸構造Ａにおける凹凸構造の平均高さは、前記微細凹凸構造Ｂにおける凹凸構造の平均高さ以上であることが好ましい。
上記ＥＬ表示装置にて、前記基板と前記下部電極層との間に、前記下部電極層の一部と接続して前記ＥＬ層に電流を供給する画素回路と、互いに隣接する前記画素の前記画素回路同士を絶縁する絶縁層と、をさらに備える。前記絶縁層と前記下部電極層との界面には、微細凹凸構造Ｃを有し、前記下部電極層と前記ＥＬ層との界面に前記微細凹凸構造Ｃの形状に追従した形状を有する前記微細凹凸構造Ａを有することが好ましい。
【００１３】
上記ＥＬ表示装置にて、前記微細凹凸構造Ｃにおける凹凸構造の平均高さは、前記微細凹凸構造Ａにおける凹凸構造の平均高さ以上であることが好ましい。
上記ＥＬ表示装置の製造方法にて、前記基板上に微細凹凸構造Ｄを形成する工程をさらに有し、前記微細凹凸構造が、前記微細凹凸構造Ｄに追従する形状を有し、前記微細凹凸構造における凹凸構造の平均高さは、前記微細凹凸構造Ｄにおける凹凸構造の平均高さ以下であることが好ましい。
【００１４】
上記ＥＬ表示装置の製造方法にて、前記基板は絶縁層を有し、前記下部電極層を形成する工程では、前記絶縁層上に前記下部電極層を形成し、前記微細凹凸構造Ｄを形成する工程では、前記絶縁層上に前記微細凹凸構造Ｄを形成することが好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
本開示の技術によれば、互いに異なる出光色の画素に対して光の取り出し効率が高められる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本開示の技術におけるＥＬ表示装置が各色用の発光層を備えるＥＬ表示装置に具体化された第１実施形態における赤色出光画素の構成を示す構成図である。
【図２】第１実施形態における緑色出光画素の構成を示す構成図である。
【図３】第１実施形態における青色出光画素の構成を示す構成図である。
【図４】第１実施形態におけるＥＬ表示装置の製造方法を示す工程図である。
【図５】本開示の技術におけるＥＬ表示装置が各色用の発光層を備えるＥＬ表示装置に具体化された第２実施形態における赤色出光画素の構成を示す構成図である。
【図６】第２実施形態におけるＥＬ表示装置の製造方法を示す工程図である。
【図７】本開示の技術におけるＥＬ表示装置が各色用の発光層を備えるＥＬ表示装置に具体化された第３実施形態における赤色出光画素の構成を示す構成図である。
【図８】第３実施形態におけるＥＬ表示装置の製造方法を示す工程図である。
【図９】第３実施形態におけるＥＬ表示装置の層構造の一例を示す断面図である。
【図１０】本開示の技術におけるＥＬ表示装置が白色用の発光層を備えるＥＬ表示装置に具体化された第４実施形態における各色出光画素の構成を示す構成図である。
【図１１】本開示の技術におけるＥＬ表示装置が白色出光画素を備えるＥＬ表示装置に具体化された第５実施形態における各色出光画素の構成を示す構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
［第１実施形態］
図１から図４を参照して、本開示におけるＥＬ表示装置が、互いに異なる三色用の発光層を備えるＥＬ表示装置として具体化された第１実施形態について説明する。第１実施形態におけるＥＬ表示装置は、出光色が互いに異なる三色用の画素である、複数の赤色出光画素と、複数の緑色出光画素と、複数の青色出光画素とを備える。赤色出光画素は赤色の光を出射し、緑色出光画素は緑色の光を出射し、青色出光画素は青色の光を出射する。
【００１８】
［赤色出光画素１０Ｒ］
図１に示されるように、赤色出光画素１０Ｒは、基板１１の上に位置する赤色駆動部２０Ｒと、赤色駆動部２０Ｒの上に位置する赤色用のＥＬ構造体３０Ｒとを備えている。赤色駆動部２０Ｒと赤色用のＥＬ構造体３０Ｒとは、電気的に接続している。
【００１９】
赤色駆動部２０Ｒは、赤色出光画素１０Ｒを発光させる駆動電流を赤色用のＥＬ構造体３０Ｒに供給する。赤色駆動部２０Ｒは、赤色画素回路１２Ｒと、赤色画素回路１２Ｒを覆う絶縁層１３とから構成されている。赤色画素回路１２Ｒは、赤色用のＥＬ構造体３０Ｒに駆動電流を供給する。絶縁層１３は、赤色画素回路１２Ｒと、赤色用のＥＬ構造体３０Ｒとの間に挟まれている。絶縁層１３は、赤色画素回路１２Ｒと赤色用のＥＬ構造体３０Ｒとの電気的な接触を制限し、また、互いに隣り合う画素回路同士を絶縁する。絶縁層１３において赤色用のＥＬ構造体３０Ｒに接触する面は平坦面である。
【００２０】
赤色用のＥＬ構造体３０Ｒは、赤色用の陰極層１４Ｒと、赤色用のＥＬ層１５Ｒと、陽極層１６とを備えている。赤色用の陰極層１４Ｒは、絶縁層１３を通じて赤色駆動部２０Ｒに接続し、赤色駆動部２０Ｒは、赤色用の陰極層１４Ｒへ駆動電流を供給する。陽極層１６は、コモン電源に接続されている。
【００２１】
陽極層１６と赤色用の陰極層１４Ｒとの間に電流が流れるとき、陽極層１６から赤色用のＥＬ層１５Ｒにホールが注入され、かつ、赤色用の陰極層１４Ｒから赤色用のＥＬ層１５Ｒに電子が注入される。赤色用のＥＬ層１５Ｒに注入されたホールと電子との結合によって、赤色用のＥＬ層１５Ｒは、赤色の光を生成する。赤色の光は、緑色の光、および、青色の光とは異なるスペクトルを有し、例えば、６２０ｎｍと７５０ｎｍとの間でブロードなピークを示す。
【００２２】
赤色用の陰極層１４Ｒは、赤色の光を反射する機能を有してもよいし、赤色の光を透す機能を有してもよい。赤色用の陰極層１４Ｒが、赤色の光を反射する機能を有するとき、陽極層１６は赤色の光を透す光透過性を有し、ＥＬ表示装置は、トップエミッション型として機能する。赤色用の陰極層１４Ｒが、赤色の光を透す機能を有するとき、陽極層１６は赤色の光を反射する光反射性を有し、ＥＬ表示装置は、ボトムエミッション型として機能する。赤色用の陰極層１４Ｒが赤色の光を反射するとき、赤色用の陰極層１４Ｒは、赤色の光を反射する１つの層から構成されてもよいし、赤色の光を透す機能を有する層と、赤色の光を反射する反射層とを含む多層構造であってもよい。
【００２３】
赤色用の陰極層１４Ｒは、赤色用のＥＬ層１５Ｒと赤色用の陰極層１４Ｒとの界面を構成する赤色用の陰極面４ＲＳを有している。赤色用の陰極面４ＲＳは、陰極面４ＲＳにて繰り返される複数の段差部からなる赤色用の微細凹凸構造を有している。赤色用の微細凹凸構造は、プラズモニック構造であり、赤色用のプラズモニック構造にて、互いに隣り合う段差部の間の間隔が、赤色用ピッチ４ＣＲであり、各段差の大きさは、赤色用段差４ＲＨである。赤色用のプラズモニック構造において、赤色用ピッチ４ＣＲは、赤色用の陰極面４ＲＳにて段差部の繰り返される周期長である。
【００２４】
赤色用ピッチ４ＣＲは、赤色の光の生成時に生成される表面プラズモンを、赤色の光として空気中に取り出させる大きさに設定される。赤色用ピッチ４ＣＲの最頻値である最頻ピッチは、赤色用のＥＬ層１５Ｒの発光時に、赤色用のプラズモニック構造がプラズモン光を励起するように設定されている。プラズモニック構造の励起するプラズモン光の波長は、互いに隣り合う段差部の間の間隔によって定められる。そして、赤色用のプラズモニック構造の生成するプラズモン光の波長は、赤色出光画素１０Ｒの出射する光のスペクトルである出光スペクトルにおいて、ピークの半値幅に対応する波長帯に含まれている。なお、赤色出光画素１０Ｒの出光ピークにおいて、輝度の最大値は、最大輝度として定められ、最大輝度の半分の値を示す２つの波長間の間隔は、赤色用ピークの半値幅として定められる。そして、最大輝度の半分の値を示す２つの波長間が、赤色用のピークの半値幅に対応する波長帯として定められる。
【００２５】
赤色用ピッチ４ＣＲの最頻値は、以下のようにして得られる。すなわち、赤色用のプラズモニック構造の形成された陰極面４ＲＳにおいて、赤色用ピッチ４ＣＲの最頻ピッチの凡そ３０倍以上４０倍以下となる正方形の測定対象領域が無作為に抽出される。次いで、測定対象領域に対する原子間力顕微鏡イメージが得られる。例えば、最頻ピッチが１０μｍである場合には、３００μｍ×３００μｍ以上４００μｍ×４００μｍ以下の測定対象領域に対し、原子間力顕微鏡イメージが得られる。なお、ここで得られる原子間力顕微鏡イメージは、プラズモニック構造の平面視によって得られるイメージである。続いて、原子間力顕微鏡イメージがフーリエ変換によって波形分離されて、高速フーリエ変換像が得られる。そして、高速フーリエ変換像のプロファイルにおける０次ピークから１次ピークまでの距離が求められ、こうして求められた距離の逆数が、この測定対象領域における最頻ピッチとして取扱われる。
【００２６】
上述と同様の方法によって、互いに異なる２５ヶ所の測定対象領域の各々に対して、最頻ピッチが求められる。そして、２５カ所の測定対象における最頻ピッチの平均値が、赤色用のプラズモニック構造における最頻ピッチＰｘとして取扱われる。なお、この際、測定対象領域同士は、少なくとも１ｍｍ離れて選択されることが好ましく、５ｍｍ以上１ｃｍ以下離れて選択されることがより好ましい。
【００２７】
赤色の光の生成時に生成される表面プラズモンが、赤色の輻射光に変換される度合いに関し、赤色用段差４ＲＨの寄与は、赤色用ピッチ４ＣＲの寄与に比べて小さい。なお、赤色用段差４ＲＨが、１２ｎｍ未満である構成では、表面プラズモンの回折波そのものが生成されがたいため、表面プラズモンが輻射光として取り出しがたい。赤色用段差４ＲＨが、１８０ｎｍを越える構成では、表面プラズモンが局在するため、表面プラズモンが輻射光として取り出しがたい。また、赤色用段差４ＲＨが、１８０ｎｍを越える構成では、段差が大きいことに起因し、赤色用のＥＬ層１５Ｒが過度に薄い部分において、赤色用の陰極層１４Ｒと陽極層１６とが短絡しやすい。
【００２８】
陽極層１６は、赤色出光画素１０Ｒと、緑色出光画素１０Ｇと、青色出光画素１０Ｂとに共通する層である。陽極層１６は、可視光の光を反射する機能を有してもよいし、可視光の光を透す機能を有してもよい。陽極層１６が、可視光の光を反射する機能を有するとき、赤色用の陰極層１４Ｒは赤色の光を透す光透過性を有し、ＥＬ表示装置は、ボトムエミッション型として機能する。陽極層１６が、可視光の光を透す機能を有するとき、赤色用の陰極層１４Ｒは赤色の光を反射する光反射性を有し、ＥＬ表示装置は、トップエミッション型として機能する。陽極層１６が可視光の光を反射するとき、陽極層１６は、可視光の光を反射する１つの層から構成されてもよいし、可視光の光を透す機能を有する層と、可視光の光を反射する反射層とを含む多層構造であってもよい。
【００２９】
赤色用のＥＬ層１５Ｒは、赤色用の発光層を備えている。赤色用の発光層は、赤色用の陰極層１４Ｒから送られる電子と、赤色用の陽極層から送られるホールとを結合して、赤色の光を生成する。赤色用のＥＬ層１５Ｒは、赤色の光を生成するために、赤色用の発光層以外の他の機能層を含んでもよい。赤色用のＥＬ構造体３０Ｒは、赤色の光の生成効率を高めるために、赤色用の発光層以外の他の機能層を含むことが好ましい。赤色用のＥＬ構造体３０Ｒは、他の機能層を省略して、赤色用の発光層のみから構成されてもよい。赤色用のＥＬ構造体３０Ｒを構成する材料は、赤色の光を生成する材料であれば、特に限定されず、低分子形有機材料でもよいし、高分子系有機材料でもよいし、無機材料でもよいし、公知の材料を用いることができる。
【００３０】
赤色用のプラズモニック構造は、赤色用の陰極面４ＲＳにて複数の段差部が繰り返される段差構造である。赤色用のプラズモニック構造は、一次元方向に沿って複数の段差部が繰り返される一次元の周期構造でもよいが、光の取り出し効率が高まる点において、二次元の周期構造である方が好ましい。
【００３１】
赤色用のプラズモニック構造は、例えば、二次元方向に沿って周期的に位置する格子点に段差部が配置された二次元格子構造である。二次元格子構造とは、少なくとも２つの方向に沿って段差部が並ぶ構造である。二次元格子構造の１つの例は、互いに異なる２つの方向に沿って段差部が並び、段差部の並ぶ２つの方向のなす角度が９０°である正方格子構造である。二次元格子構造の１つの例は、互いに異なる３つの方向に沿って段差部が並び、段差部の並ぶ３つの方向のうち２つの方向のなす角度が６０°である六方格子構造である。
【００３２】
赤色用のプラズモニック構造における段差部は、赤色用の陰極面４ＲＳにて突き出る複数の突部によって構成されてもよいし、赤色用の陰極面４ＲＳにて窪む複数の窪みによって構成されてもよい。
【００３３】
赤色用のプラズモニック構造における段差部が、突部によって構成されるとき、突部の形状は、赤色用の陰極面４ＲＳにて突き出る形状であれば、特に限定されず、例えば、円錐形状、円柱形状、半球形状、角錐形状、角柱形状、円錐台形状、角錐台形状であってもよいし、これらのうちの１つを基本として派生する形状であってもよい。
【００３４】
赤色用のプラズモニック構造における段差部が、窪みによって構成されるとき、窪みの形状は、赤色用の陰極面４ＲＳにて窪む形状であれば、特に限定されない。窪みの形状は、例えば、円形孔形状、角形孔形状、深さ方向に沿って縮径した円形孔形状、深さ方向に沿って縮径した角形孔形状であってもよい。
【００３５】
赤色用の発光層が光を生成するとき、赤色用の発光層の近傍には、近接場光が発生する。赤色用の発光層と赤色用の陰極層１４Ｒとの間の距離は、赤色用の陰極面４ＲＳにて表面プラズモンが生成される程度に、非常に短いため、赤色用の陰極面４ＲＳでは、近接場光が表面プラズモンに変換される。
【００３６】
ここで、赤色用の陰極面４ＲＳに生成される表面プラズモンとは、近接場光によって生じる自由電子の粗密波が、表面電磁場をともなうものである。赤色用の陰極面が平坦面であるとき、平坦な金属面に生成される表面プラズモンの分散曲線と、赤色の光の分散曲線とが交差しないため、表面プラズモンのエネルギーは、光として取り出されず、概ね熱として消費される。
【００３７】
これに対して、赤色用の陰極面４ＲＳが、赤色用のプラズモニック構造を有するとき、赤色用のプラズモニック構造によって回折する光の分散曲線と、赤色用の陰極面４ＲＳに生成される表面プラズモンの分散曲線とが交差する。結果として、赤色の光の生成時に生成された表面プラズモンのエネルギーは、赤色の輻射光として取り出される。
【００３８】
なお、赤色用の陰極面４ＲＳと赤色用の発光層との距離が短いほど、赤色用の発光層の生成する光は、赤色用の陰極面４ＲＳにて、表面プラズモンに変換されやすい。赤色用のＥＬ層１５Ｒは、赤色の光を生成するために、赤色用の発光層以外の他の機能層を含んでもよいが、赤色用の発光層と赤色用の陰極面４ＲＳとの距離は短いほど、赤色の輻射光の取り出される効果は高まる。
【００３９】
［緑色出光画素１０Ｇ］
図２に示されるように、緑色出光画素１０Ｇは、赤色出光画素１０Ｒと共通する基板１１の上に、緑色駆動部２０Ｇと、緑色駆動部２０Ｇの上に位置する緑色用のＥＬ構造体３０Ｇとを備えている。緑色駆動部２０Ｇと緑色用のＥＬ構造体３０Ｇとは、電気的に接続している。
【００４０】
緑色駆動部２０Ｇは、緑色出光画素１０Ｇを発光させる駆動電流を緑色用のＥＬ構造体３０Ｇに供給する。緑色駆動部２０Ｇは、駆動電流を生成する緑色画素回路１２Ｇと、緑色画素回路１２Ｇを覆う絶縁層１３とから構成されている。緑色画素回路１２Ｇは、赤色出光画素１０Ｒにおける赤色画素回路１２Ｒに対応する構成を、緑色出光画素１０Ｇにて有している。絶縁層１３は、赤色出光画素１０Ｒと共通し、赤色出光画素１０Ｒにおける絶縁層１３に対応する構成を、緑色出光画素１０Ｇにて有している。
【００４１】
緑色用のＥＬ構造体３０Ｇは、緑色用の陰極層１４Ｇと、緑色用のＥＬ層１５Ｇと、陽極層１６とを備えている。緑色用の陰極層１４Ｇは、絶縁層１３を通じて緑色駆動部２０Ｇに接続し、緑色駆動部２０Ｇは、緑色用の陰極層１４Ｇへ駆動電流を供給する。陽極層１６と緑色用の陰極層１４Ｇとの間に電流が流れるとき、陽極層１６から緑色用のＥＬ層１５Ｇにホールが注入され、かつ、緑色用の陰極層１４Ｇから緑色用のＥＬ層１５Ｇに電子が注入される。緑色用のＥＬ層１５Ｇに注入されたホールと電子との結合によって、緑色用のＥＬ層１５Ｇは緑色の光を生成する。緑色の光は、赤色の光、および、青色の光とは異なる波長を有し、例えば、４９５ｎｍと５７０ｎｍとの間でブロードなピークを示す。
【００４２】
緑色用の陰極層１４Ｇは、赤色用の陰極層１４Ｒと同じく、緑色の光を反射する機能を有してもよいし、緑色の光を透す機能を有してもよい。緑色用の陰極層１４Ｇが、緑色の光を反射する機能を有するとき、陽極層１６は緑色の光を透す光透過性を有し、ＥＬ表示装置は、トップエミッション型として機能する。緑色用の陰極層１４Ｇが、緑色の光を透す機能を有するとき、陽極層１６は緑色の光を反射する光反射性を有し、ＥＬ表示装置は、ボトムエミッション型として機能する。
【００４３】
緑色用の陰極層１４Ｇは、緑色用のＥＬ層１５Ｇと緑色用の陰極層１４Ｇとの界面を構成する緑色用の陰極面４ＧＳを有している。緑色用の陰極面４ＧＳは、陰極面４ＧＳにて繰り返される複数の段差部からなる緑色用の微細凹凸構造を有している。緑色用の微細凹凸構造は、プラズモニック構造であり、緑色用のプラズモニック構造にて、互いに隣り合う段差部の間の間隔が、緑色用ピッチ４ＣＧであり、各段差の大きさは、緑色用段差４ＧＨである。緑色用のプラズモニック構造において、緑色用ピッチ４ＣＧは、段差部の繰り返される周期長である。
【００４４】
緑色用ピッチ４ＣＧは、緑色の光の生成時に生成される表面プラズモンを緑色の光として空気中に取り出させる大きさである。緑色用ピッチ４ＣＧの最頻値である最頻ピッチは、緑色用のＥＬ層１５Ｇの発光時に、緑色用のプラズモニック構造がプラズモン光を励起するように設定されている。プラズモニック構造の励起するプラズモン光の波長は、互いに隣り合う段差部の間の間隔によって定められる。そして、緑色用のプラズモニック構造の生成するプラズモン光の波長は、緑色出光画素１０Ｇの出射する光のスペクトルである出光スペクトルにおいて、ピークの半値幅に対応する波長帯に含まれている。
【００４５】
なお、緑色出光画素１０Ｇの出光ピークにおいて、輝度の最大値は、最大輝度として定められ、最大輝度の半分の値を示す２つの波長間の間隔は、緑色用ピークの半値幅として定められる。そして、最大輝度の半分の値を示す２つの波長間が、緑色用のピークの半値幅に対応する波長帯として定められる。緑色用ピッチ４ＣＧの最頻ピッチは、赤色用ピッチ４ＣＲの最頻ピッチと同様に得られる値であり、赤色用ピッチ４ＣＲの最頻ピッチよりも小さい。
【００４６】
緑色の光の生成時に生成される表面プラズモンが、緑色の輻射光に変換される度合いに関し、緑色用段差４ＧＨの寄与は、緑色用ピッチ４ＣＧの寄与に比べて小さい。なお、緑色用段差４ＧＨが１２ｎｍ以上１８０ｎｍ以下であるとき、緑色の光の生成時に生成される表面プラズモンは、緑色の輻射光として取り出されやすい。緑色用段差４ＧＨが、１２ｎｍ未満である構成では、表面プラズモンの回折波そのものが生成されがたいため、表面プラズモンが輻射光として取り出しがたい。緑色用段差４ＧＨが、１８０ｎｍを越える構成では、表面プラズモンが局在するため、表面プラズモンが輻射光として取り出しがたい。また、緑色用段差４ＧＨが、１８０ｎｍを越える構成では、段差が大きいことに起因し、緑色用のＥＬ層１５Ｇが過度に薄い部分において、緑色用の陰極層１４Ｇと陽極層１６とが短絡しやすい。
【００４７】
緑色用のＥＬ層１５Ｇは、緑色用の発光層を備えている。緑色用の発光層は、緑色用の陰極層１４Ｇから送られる電子と、緑色用の陽極層から送られるホールとを結合して、緑色の光を生成する。緑色用のＥＬ層１５Ｇは、緑色の光を生成するために、緑色用の発光層以外の他の機能層を含んでもよい。緑色用のＥＬ構造体３０Ｇは、緑色の光の生成効率を高めるために、緑色用の発光層以外の他の機能層を含むことが好ましい。緑色用のＥＬ構造体３０Ｇは、他の機能層を省略して、緑色用の発光層のみから構成されてもよい。緑色用のＥＬ構造体３０Ｇを構成する材料は、緑色の光を生成する材料であれば、特に限定されず、低分子形有機材料でもよいし、高分子系有機材料でもよいし、無機材料でもよいし、公知の材料を用いることができる。
【００４８】
緑色用のプラズモニック構造は、緑色用の陰極面４ＧＳにて複数の段差部が繰り返される段差構造である。緑色用のプラズモニック構造は、一次元方向に沿って複数の段差部が繰り返される一次元の周期構造でもよいが、光の取り出し効率が高まる点において、二次元の周期構造である方が好ましい。
【００４９】
緑色用のプラズモニック構造は、例えば、赤色用のプラズモニック構造と同じく、二次元方向に沿って周期的に位置する格子点に段差部が配置された二次元格子構造である。緑色用のプラズモニック構造における段差部は、緑色用の陰極面４ＧＳにて突き出る複数の突部によって構成されてもよいし、緑色用の陰極面４ＧＳにて窪む複数の窪みによって構成されてもよい。
【００５０】
緑色用のプラズモニック構造における段差部が、突部によって構成されるとき、突部の形状は、緑色用の陰極面４ＧＳにて突き出る形状であれば、特に限定されず、例えば、円錐形状、円柱形状、半球形状、角錐形状、角柱形状、円錐台形状、角錐台形状であってもよいし、これらのうちの１つを基本として派生する形状であってもよい。
【００５１】
緑色用のプラズモニック構造における段差部が、窪みによって構成されるとき、窪みの形状は、緑色用の陰極面４ＧＳにて窪む形状であれば、特に限定されない。窪みの形状は、例えば、円形孔形状、角形孔形状、深さ方向に沿って縮径した円形孔形状、深さ方向に沿って縮径した角形孔形状であってもよい。
【００５２】
緑色用の発光層が光を生成するとき、緑色用の発光層の近傍には、近接場光が発生する。緑色用の発光層と緑色用の陰極層１４Ｇとの間の距離は、緑色用の陰極面４ＧＳにて近接場光が発生する程度に、非常に短いため、緑色用の陰極面４ＧＳでは、近接場光が表面プラズモンに変換される。緑色用の陰極面４ＧＳは、赤色出光画素１０Ｒにおける赤色用の陰極面４ＲＳの機能に準じた機能を緑色出光画素１０Ｇにて有し、緑色用の陰極面４ＧＳにて変換された表面プラズモンは、緑色の輻射光として取り出される。
【００５３】
なお、緑色用の陰極面４ＧＳと緑色用の発光層との距離が短いほど、緑色用の発光層の生成する光は、緑色用の陰極面４ＧＳにて、表面プラズモンに変換されやすい。緑色用のＥＬ層１５Ｇは、緑色の光を生成するために、緑色用の発光層以外の他の機能層を含んでもよいが、緑色用の発光層と緑色用の陰極面４ＧＳとの距離は、短絡しない範囲で可能な限り短いほど好ましい。
【００５４】
［青色出光画素１０Ｂ］
図３に示されるように、青色出光画素１０Ｂは、赤色出光画素１０Ｒと共通する基板１１の上に、青色駆動部２０Ｂと、青色駆動部２０Ｂの上に位置する青色用のＥＬ構造体３０Ｂとを備えている。青色駆動部２０Ｂと青色用のＥＬ構造体３０Ｂとは、電気的に接続している。
【００５５】
青色駆動部２０Ｂは、青色出光画素１０Ｂを発光させる駆動電流を青色用のＥＬ構造体３０Ｂに供給する。青色駆動部２０Ｂは、駆動電流を生成する青色画素回路１２Ｂと、青色画素回路１２Ｂを覆う絶縁層１３とから構成されている。青色画素回路１２Ｂは、赤色出光画素１０Ｒにおける赤色画素回路１２Ｒに対応する構成を、青色出光画素１０Ｂにて有している。絶縁層１３は、赤色出光画素１０Ｒと共通し、赤色出光画素１０Ｒにおける絶縁層１３に対応する構成を、青色出光画素１０Ｂにて有している。
【００５６】
青色用のＥＬ構造体３０Ｂは、青色用の陰極層１４Ｂと、青色用のＥＬ層１５Ｂと、陽極層１６とを備えている。青色用の陰極層１４Ｂは、絶縁層１３を通じて青色駆動部２０Ｂに接続し、青色駆動部２０Ｂは、青色用の陰極層１４Ｂへ駆動電流を供給する。陽極層１６と青色用の陰極層１４Ｂとの間に電流が流れるとき、陽極層１６から青色用のＥＬ層１５Ｂにホールが注入され、かつ、青色用の陰極層１４Ｂから青色用のＥＬ層１５Ｂに電子が注入される。青色用のＥＬ層１５Ｂに注入されたホールと電子との結合によって、青色用のＥＬ層１５Ｂは青色の光を生成する。青色の光は、赤色の光、および、緑色の光とは異なる波長を有し、例えば、４５０ｎｍと４９５ｎｍとの間でブロードなピークを示す。
【００５７】
青色用の陰極層１４Ｂは、赤色用の陰極層１４Ｒと同じく、青色の光を反射する機能を有してもよいし、青色の光を透す機能を有してもよい。青色用の陰極層１４Ｂが、青色の光を反射する機能を有するとき、陽極層１６は青色の光を透す光透過性を有し、ＥＬ表示装置は、トップエミッション型として機能する。青色用の陰極層１４Ｂが、青色の光を透す機能を有するとき、陽極層１６は青色の光を反射する光反射性を有し、ＥＬ表示装置は、ボトムエミッション型として機能する。
【００５８】
青色用の陰極層１４Ｂは、青色用のＥＬ層１５Ｂと青色用の陰極層１４Ｂとの界面を構成する青色用の陰極面４ＢＳを有している。青色用の陰極面４ＢＳは、陰極面４ＢＳにて繰り返される複数の段差部からなる青色用の微細凹凸構造を有している。青色用の微細凹凸構造は、プラズモニック構造であり、青色用のプラズモニック構造にて、互いに隣り合う段差部の間の間隔が、青色用ピッチ４ＣＢであり、各段差の大きさは、青色用段差４ＢＨである。青色用のプラズモニック構造において、青色用ピッチ４ＣＢは、段差部の繰り返される周期長である。
【００５９】
青色用ピッチ４ＣＢは、青色の光の生成時に生成される表面プラズモンを青色の光として空気中に取り出させる大きさである。青色用ピッチ４ＣＢの最頻値である最頻ピッチは、青色用のＥＬ層１５Ｂの発光時に、青色用のプラズモニック構造がプラズモン光を励起するように設定されている。プラズモニック構造が励起するプラズモン光の波長は、互いに隣り合う段差部の間の間隔によって定められる。そして、青色用のプラズモニック構造の生成するプラズモン光の波長は、青色出光画素１０Ｂの出射する光のスペクトルである出光スペクトルにおいて、ピークの半値幅に対応する波長帯に含まれている。
【００６０】
なお、青色出光画素１０Ｂの出光ピークにおいて、輝度の最大値は、最大輝度として定められ、最大輝度の半分の値を示す２つの波長間の間隔は、青色用ピークの半値幅として定められる。そして、最大輝度の半分の値を示す２つの波長間が、青色用のピークの半値幅に対応する波長帯として定められる。青色用ピッチ４ＣＢの最頻値は、赤色用ピッチ４ＣＲの最頻値や緑色用ピッチ４ＣＧと同様に得られる値であり、赤色用ピッチ４ＣＲの最頻ピッチよりも小さく、さらに、緑色用ピッチ４ＣＧの最頻ピッチよりも小さい。
【００６１】
青色の光の生成時に生成される表面プラズモンが、青色の輻射光に変換される度合いに関し、青色用段差４ＢＨの寄与は、青色用ピッチ４ＣＢの寄与に比べて小さい。なお、青色用段差４ＢＨが、１２ｎｍ未満である構成では、表面プラズモンの回折波が生成されがたいため、表面プラズモンが輻射光として取り出しがたい。青色用段差４ＢＨが、１８０ｎｍを越える構成では、表面プラズモンが局在するため、表面プラズモンが輻射光として取り出しがたい。また、青色用段差４ＢＨが、１８０ｎｍを越える構成では、段差が大きいことに起因し、青色用のＥＬ層１５Ｂが過度に薄い部分において、青色用の陰極層１４Ｂと陽極層１６とが短絡しやすい。
【００６２】
青色用のＥＬ層１５Ｂは、青色用の発光層を備えている。青色用の発光層は、青色用の陰極層１４Ｂから送られる電子と、青色用の陽極層から送られるホールとを結合して、青色の光を生成する。青色用のＥＬ層１５Ｂは、青色の光を生成するために、青色用の発光層以外の他の機能層を含んでもよい。青色用のＥＬ構造体３０Ｂは、青色の光の生成効率を高めるために、青色用の発光層以外の他の機能層を含むことが好ましい。青色用のＥＬ構造体３０Ｂは、他の機能層を省略して、青色用の発光層のみから構成されてもよい。青色用のＥＬ構造体３０Ｂを構成する材料は、青色の光を生成する材料であれば、特に限定されず、低分子形有機材料でもよいし、高分子系有機材料でもよいし、無機材料でもよいし、公知の材料を用いることができる。
【００６３】
青色用のプラズモニック構造は、青色用の陰極面４ＢＳにて複数の段差部が繰り返される段差構造である。青色用のプラズモニック構造は、一次元方向に沿って複数の段差部が繰り返される一次元の周期構造でもよいが、光の取り出し効率が高まる点において、二次元の周期構造である方が好ましい。
【００６４】
青色用のプラズモニック構造は、例えば、赤色用のプラズモニック構造と同じく、二次元方向に沿って周期的に位置する格子点に段差部が配置された二次元格子構造である。青色用のプラズモニック構造における段差部は、青色用の陰極面４ＢＳにて突き出る複数の突部によって構成されてもよいし、青色用の陰極面４ＢＳにて窪む複数の窪みによって構成されてもよい。
【００６５】
青色用のプラズモニック構造における段差部が、突部によって構成されるとき、突部の形状は、青色用の陰極面４ＢＳにて突き出る形状であれば、特に限定されず、例えば、円錐形状、円柱形状、半球形状、角錐形状、角柱形状、円錐台形状、角錐台形状であってもよいし、これらのうちの１つを基本として派生する形状であってもよい。
【００６６】
青色用のプラズモニック構造における段差部が、窪みによって構成されるとき、窪みの形状は、青色用の陰極面４ＢＳにて窪む形状であれば、特に限定されない。窪みの形状は、例えば、円形孔形状、角形孔形状、深さ方向に沿って縮径した円形孔形状、深さ方向に沿って縮径した角形孔形状であってもよい。
【００６７】
青色用の発光層が光を生成するとき、青色用の発光層の近傍には、近接場光が発生する。青色用の発光層と青色用の陰極層１４Ｂとの間の距離は、青色用の陰極面４ＢＳにて近接場光が発生する程度に、非常に短いため、青色用の陰極面４ＢＳでは、近接場光が表面プラズモンに変換される。青色用の陰極面４ＢＳは、赤色出光画素１０Ｒにおける赤色用の陰極面４ＲＳの機能に準じた機能を青色出光画素１０Ｂにて有し、青色用の陰極面４ＢＳにて変換された表面プラズモンは、青色の輻射光として取り出される。
【００６８】
なお、青色用の陰極面４ＢＳと青色用の発光層との距離が短いほど、青色用の発光層の生成する光は、青色用の陰極面４ＢＳにて、表面プラズモンに変換されやすい。青色用のＥＬ層１５Ｂは、青色の光を生成するために、青色用の発光層以外の他の機能層を含んでもよいが、青色用の発光層と青色用の陰極面４ＢＳとの距離は、短いほど好ましい。
【００６９】
［各色用のプラズモニック構造］
赤色用ピッチ４ＣＲは、赤色用の陰極面４ＲＳの平面視にて、赤色用の陰極面４ＲＳの有する突部の中心間の距離、あるいは、赤色用の陰極面４ＲＳの有する窪みの中心間の距離である。緑色用ピッチ４ＣＧは、緑色用の陰極面４ＧＳの平面視にて、緑色用の陰極面４ＧＳの有する突部の中心間の距離、あるいは、緑色用の陰極面４ＧＳの有する窪みの中心間の距離である。青色用ピッチ４ＣＢは、青色用の陰極面４ＢＳの平面視にて、青色用の陰極面４ＢＳの有する突部の中心間の距離、あるいは、青色用の陰極面４ＧＳの有する窪みの中心間の距離である。各色用ピッチ４ＣＲ，４ＣＧ，４ＣＢの測定方法には、原子間力顕微鏡イメージを用いる方法の他、例えば、二次元格子構造の格子定数として各色用ピッチ４ＣＲ，４ＣＧ，４ＣＢを間接的に測定する、いわゆるレーザー回折法が用いられる。
【００７０】
赤色用ピッチ４ＣＲ、および、赤色用段差４ＲＨは、厳密結合解析（ＲＣＷＡ：Ｒｉｇｏｒｏｕｓ  Ｃｏｕｐｌｅｄ−Ｗａｖｅ  Ａｎａｌｙｓｉｓ）を用いた数値計算結果に基づいて設定されてもよい。また、赤色用ピッチ４ＣＲ、および、赤色用段差４ＲＨは、互いに異なる複数の赤色用ピッチ４ＣＲと赤色用段差４ＲＨとの組み合わせに対し、赤色出光画素１０Ｒにおける輝度を直接測定する各種の実験に基づいて設定されてもよい。
【００７１】
厳密結合解析は、電場・磁場がベクトル場であることを前提とする格子構造の厳密的な電磁界解析方法のうち、微分法の一種である。厳密結合解析では、回折格子がフーリエ級数展開で表現され、回折格子と電磁場との結合方程式が求められ、これが境界条件の下で数値的に解かれることによって回折効率が算出される（例えば、L,Li “New formulation of Fourier modal method for crossed surface-relief gratings,”J.Opt.Soc.Am.A 14,2758-2767(1997)参照）
厳密結合解析が用いられる場合には、例えば、赤色用のＥＬ層１５Ｒにて生成された赤色の光が、赤色用の陰極面４ＲＳに対して、平面波として垂直に入射することが前提とされる。次いで、互いに異なる複数の条件において、厳密結合解析による反射率が算出される。互いに異なる複数の条件の各々では、赤色用ピッチ４ＣＲ、および、赤色用段差４ＲＨが、統計的に変更される。そして、全ての赤色用ピッチ４ＣＲと赤色用段差４ＲＨとのうち、相対的に小さい反射率を示す赤色用ピッチ４ＣＲと赤色用段差４ＲＨとの組み合わせが、表面プラズモンの変換に有効な構成であると定められる。
【００７２】
緑色用ピッチ４ＣＧ、および、緑色用段差４ＧＨも、赤色用ピッチ４ＣＲ、および、赤色用段差４ＲＨと同じ方法によって定められる。青色用ピッチ４ＣＢ、および、青色用段差４ＢＨも、赤色用ピッチ４ＣＲ、および、赤色用段差４ＲＨと同じ方法によって定められる。
【００７３】
そして、厳密結合解析が用いられる場合であれ、各種の実験等が用いられる場合であれ、各色出光画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの表現する色の波長帯が短波長側に位置するほど、二次元周期構造における周期が短いという構成にて、各波長での輝度は高められる。
【００７４】
すなわち、各色出光画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの表現する色の波長帯が短波長側に位置するほど、微細凹凸構造において互いに隣り合う段差部の間の間隔が小さいという構成にて、各波長での輝度が高められる。そして、赤色用ピッチ４ＣＲ、緑色用ピッチ４ＣＧ、青色用ピッチ４ＣＢの順に小さくなる構成によって、赤色出光画素１０Ｒ、緑色出光画素１０Ｇ、青色出光画素１０Ｂの各々にて、表面プラズモンの輻射光への変換が進められ、各々の画素における光の取り出し効率が高まる。なお、光の取り出し効率とは、各色用の発光層が生成する光のうち、その発光層に対応する画素にて、画素の前面に出射される光の占める割合である。
【００７５】
［ＥＬ表示装置の製造方法］
図４に示されるように、ＥＬ表示装置の製造方法は、画素回路形成工程Ｓ１１、絶縁層形成工程Ｓ１２、陰極層形成工程Ｓ１３、プラズモニック構造形成工程Ｓ１４、ＥＬ層形成工程Ｓ１５、陽極層形成工程Ｓ１６を含む。
【００７６】
画素回路形成工程Ｓ１１では、複数の赤色画素回路１２Ｒ、複数の緑色画素回路１２Ｇ、および、複数の青色画素回路１２Ｂが、基板１１に形成される。画素回路を形成する方法は、特に限定されず、画素回路に含まれる素子の構成に応じて、各種の材料、成膜方法、パターニング方法などの公知の回路形成技術を用いる。
【００７７】
絶縁層形成工程Ｓ１２では、複数の赤色画素回路１２Ｒ、複数の緑色画素回路１２Ｇ、および、複数の青色画素回路１２Ｂの全体を、１つの絶縁層１３が覆うように、まず、絶縁層１３が形成される。次いで、複数の赤色画素回路１２Ｒの各々、複数の緑色画素回路１２Ｇの各々、および、複数の青色画素回路１２Ｂの各々に通じる複数のコンタクトホールが、画素回路１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂごとに、絶縁層１３に形成される。絶縁層１３を形成する方法は、特に限定されず、プラズマＣＶＤ法や塗布法などの公知の成膜技術を用いる。
【００７８】
陰極層形成工程Ｓ１３では、陰極層を構成する材料が、複数のコンタクトホールの各々に埋め込まれ、かつ、画素回路１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂごとに陰極層が独立するような構成で、陰極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂが形成される。
【００７９】
複数の赤色画素回路１２Ｒの各々の上方には、赤色画素回路１２Ｒに接続する赤色用の陰極層１４Ｒが、赤色画素回路１２Ｒごとに形成される。複数の緑色画素回路１２Ｇの各々の上方には、緑色画素回路１２Ｇに接続する緑色用の陰極層１４Ｇが、緑色画素回路１２Ｇごとに形成される。複数の青色画素回路１２Ｂの各々の上方には、青色画素回路１２Ｂに接続する青色用の陰極層１４Ｂが、青色画素回路１２Ｂごとに形成される。
【００８０】
各色用の陰極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂを形成する方法は、特に限定されず、成膜方法やパターニング方法などの公知の電極形成技術を用いる。例えば、各色用の陰極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂは、陰極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂの平面形状に対応した開口を有するメタルマスクを用いたスパッタ法によって形成される。あるいは、各色用の陰極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂは、各色用の陰極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂを構成する材料からなる導電膜がスパッタ法によって形成され、その導電膜が、フォトレジストによるパターニングと、それに引き続いて行われるエッチングとによって形成される。
【００８１】
プラズモニック構造形成工程Ｓ１４では、赤色用の陰極層１４Ｒにおける陰極面４ＲＳに、赤色用のプラズモニック構造が形成される。また、緑色用の陰極層１４Ｇにおける陰極面４ＧＳに、緑色用のプラズモニック構造が形成される。さらに、青色用の陰極層１４Ｂにおける陰極面４ＢＳに、青色用のプラズモニック構造が形成される。
【００８２】
なお、各色用の陰極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂの外形形状が、上述した導電膜のパターニングによって形成されるとき、プラズモニック構造の形成に含まれるエッチングは、各色用の陰極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂの外形形状を形成するエッチングであってもよい。
【００８３】
赤色用のプラズモニック構造は、赤色用の陰極面４ＲＳの一部を覆うマスクが、赤色用の陰極面４ＲＳに形成され、そのマスクを用いた赤色用の陰極面４ＲＳのエッチングによって形成される。緑色用のプラズモニック構造は、緑色用の陰極面４ＧＳの一部を覆うマスクが、緑色用の陰極面４ＧＳに形成され、そのマスクを用いた緑色用の陰極面４ＧＳのエッチングによって形成される。青色用のプラズモニック構造は、青色用の陰極面４ＢＳの一部を覆うマスクが、青色用の陰極面４ＢＳに形成され、そのマスクを用いた青色用の陰極面４ＢＳのエッチングによって形成される。
【００８４】
赤色用の陰極面４ＲＳに適用されるマスクは、赤色用のプラズモニック構造に対応する周期構造を有し、レジストマスク、単粒子膜、レジストマスクと単粒子膜との積層体のいずれかであることが好ましい。赤色用のプラズモニック構造に対応する周期構造とは、赤色用のプラズモニック構造における突部のみを覆う構造である。
【００８５】
緑色用の陰極面４ＧＳに適用されるマスクは、緑色用のプラズモニック構造に対応する周期構造を有し、これもまた、レジストマスク、単粒子膜、レジストマスクと単粒子膜との積層体のいずれかであることが好ましい。緑色用のプラズモニック構造に対応する周期構造とは、緑色用のプラズモニック構造における突部のみを覆う構造である。
【００８６】
青色用の陰極面４ＢＳに適用されるマスクは、青色用のプラズモニック構造に対応する周期構造を有し、これもまた、レジストマスク、単粒子膜、レジストマスクと単粒子膜との積層体のいずれかであることが好ましい。青色用のプラズモニック構造に対応する周期構造とは、青色用のプラズモニック構造における突部のみを覆う構造である。
【００８７】
各色用の陰極面４ＲＳ，４ＧＳ，４ＢＳに適用されるマスクが、レジストマスクであるか、単粒子膜であるか、レジストマスクと単粒子膜との積層体であるかは、画素の表現する色ごとに異なってもよいし、全ての画素にて共通していてもよい。
【００８８】
光学機器を用いるマスクの作製では、プラズモニック構造における段差部の周期長が短くなるほど、基板１１に対する振動、基板１１の熱収縮、基板１１の熱膨張、雰囲気の揺らぎなどの外乱因子の影響が大きく、マスクの寸法精度が低い。そのため、プラズモニック構造における段差部の周期が短くなるほど、レジストマスクよりも、単粒子膜がマスクとして用いられる方が好ましい。
【００８９】
各色用の陰極面４ＲＳ，４ＧＳ，４ＢＳに適用されるマスクが、いずれもレジストマスクであるとき、各色用の陰極面４ＲＳ，４ＧＳ，４ＢＳに適用されるマスクは、互いに同時に形成されてもよいし、画素の表現する色ごとに形成されてもよい。
【００９０】
各色用の陰極面４ＲＳ，４ＧＳ，４ＢＳに適用されるマスクが、いずれもレジストマスクであるとき、各色用の陰極面４ＲＳ，４ＧＳ，４ＢＳに形成されるレジストの塗布膜は、公知のリソグラフィー技術によってパターニングされてもよいし、ナノインプリント技術によってパターニングされてもよい。この際に、ナノインプリント技術に用いられるナノインプリントスタンプは、赤色用のプラズモニック構造を形成するためのスタンプ部分と、緑色用のプラズモニック構造を形成するためのスタンプ部分と、青色用のプラズモニック構造を形成するためのスタンプ部分とを１つのスタンプに有してもよい。このようなナノインプリントスタンプを用いる方法であれば、各色用の陰極面４ＲＳ，４ＧＳ，４ＢＳに、同時にレジストマスクを形成することも可能である。
【００９１】
各色用の陰極面４ＲＳ，４ＧＳ，４ＢＳに形成されるレジストの塗布膜が、ナノインプリント技術によってパターニングされるとき、ナノインプリントスタンプの原版は、単粒子膜をマスクとした原版基材のエッチングによって形成されることが好ましい。光学機器を用いるマスクの作製では、プラズモニック構造における段差部の周期長が短くなるほど、原版基材に対する振動、原版基材の熱収縮、原版基材の熱膨張、雰囲気の揺らぎなどの外乱因子の影響が大きく、マスクの寸法精度が低い。そのため、ナノインプリントスタンプの原版作製においても、プラズモニック構造における段差部の周期長が短くなるほど、レジストマスクよりも、単粒子膜をマスクとしてエッチングする方法が好ましい。
【００９２】
各色用の陰極面４ＲＳ，４ＧＳ，４ＢＳに適用されるマスクが、その単粒子膜であるとき、単粒子膜の形成方法には、ラングミュア−ブロジェット法（ＬＢ法）、粒子吸着法、バインダー層固定法が用いられる。
【００９３】
ＬＢ法では、水よりも比重が低い溶剤のなかに粒子が分散した分散液が用いられ、まず、水の液面に分散液が滴下される。次いで、分散液から溶剤が揮発することによって、粒子からなる単粒子膜が水面に形成される。そして、水面に形成された単粒子膜が、各色用の陰極面４ＲＳ，４ＧＳ，４ＢＳに移し取られることによって、単粒子膜からなるマスクが形成される。
【００９４】
粒子吸着法では、まず、コロイド粒子の懸濁液のなかに基板１１が浸漬される。次いで、各色用の陰極面４ＲＳ，４ＧＳ，４ＢＳと静電気的に結合した第１層目の粒子層のみが残されるように、第２層目以上の粒子が除去される。これによって、単粒子膜からなるマスクが形成される。
【００９５】
バインダー層固定法では、まず、各色用の陰極面４ＲＳ，４ＧＳ，４ＢＳにバインダー層が形成されて、バインダー層上に粒子の分散液が塗布される。次いで、バインダー層が加熱によって軟化して、第１層目の粒子層のみが、バインダー層のなかに埋め込まれ、２層目以上の粒子が洗い落とされる。これによって、単粒子膜からなるマスクが形成される。
【００９６】
ＥＬ層形成工程Ｓ１５では、赤色用のプラズモニック構造に、赤色用のＥＬ層１５Ｒが積層される。また、緑色用のプラズモニック構造に、緑色用のＥＬ層１５Ｇが積層され、青色用のプラズモニック構造に、青色用のＥＬ層１５Ｂが積層される。
【００９７】
赤色用のＥＬ層１５Ｒを形成する方法、緑色用のＥＬ層１５Ｇを形成する方法、および、青色用のＥＬ層１５Ｂを形成する方法は、特に限定されず、別々に、真空蒸着や塗布など、ＥＬ層の形成に際して一般的に用いられる公知の成膜技術を用いる。
【００９８】
陽極層形成工程Ｓ１６では、複数の赤色用のＥＬ層１５Ｒ、複数の緑色用のＥＬ層１５Ｇ、および、複数の青色用のＥＬ層１５Ｂの各々を覆う１つの陽極層１６が形成される。陽極層１６を形成する方法は、特に限定されず、スパッタ法など、電極層の形成に際して一般的に用いられる公知の成膜技術を用いる。
【００９９】
以上、第１実施形態によれば、以下に列記される効果が得られる。
（１）赤色の光を出射する赤色出光画素１０Ｒは、赤色用ピッチ４ＣＲを有した赤色用のプラズモニック構造を有する。赤色用ピッチ４ＣＲの最頻値によって定められるプラズモン光の波長は、赤色出光画素１０Ｒの出光スペクトルにおいて、ピークの半値幅に対応する波長帯に含まれる。緑色の光を出射する緑色出光画素１０Ｇは、緑色用ピッチ４ＣＧを有した緑色用のプラズモニック構造を有する。緑色用ピッチ４ＣＧの最頻値によって定められるプラズモン光の波長は、緑色出光画素１０Ｇの出光スペクトルにおいて、ピークの半値幅に対応する波長帯に含まれる。それゆえに、赤色出光画素１０Ｒと、緑色出光画素１０Ｇとの双方にて、光の取り出し効率が高められる。
【０１００】
（２）青色の光を出射する青色出光画素１０Ｂは、青色用ピッチ４ＣＢを有した青色用のプラズモニック構造を有する。青色用ピッチ４ＣＢの最頻値によって定められるプラズモン光の波長は、青色出光画素１０Ｂの出光スペクトルにおいて、ピークの半値幅に対応する波長帯に含まれる。それゆえに、青色出光画素１０Ｂにおいても、光の取り出し効率が高められる。
【０１０１】
（３）緑色用ピッチ４ＣＧの最頻値は、赤色用ピッチ４ＣＲの最頻値よりも小さく、かつ、青色用ピッチ４ＣＢは、緑色用ピッチ４ＣＧよりも小さい。それゆえに、赤色出光画素１０Ｒ、緑色出光画素１０Ｇ、青色出光画素１０Ｂの各々にて、光の取り出し効率が高められる。
【０１０２】
（４）赤色用のプラズモニック構造を有する赤色用の陰極層１４Ｒは、平坦面である絶縁層１３のうえに位置する。そして、赤色用のプラズモニック構造を形成するための加工は、平坦面である赤色用の陰極面４ＲＳに対して施される。そのため、赤色用ピッチ４ＣＲや赤色用段差４ＲＨの寸法精度が得られやすい。
【０１０３】
（５）緑色用のプラズモニック構造を有する緑色用の陰極層１４Ｇは、平坦面である絶縁層１３のうえに位置する。そして、緑色用のプラズモニック構造を形成するための加工は、平坦面である緑色用の陰極面４ＧＳに対して施される。そのため、緑色用ピッチ４ＣＧや緑色用段差４ＧＨの寸法精度が得られやすい。
【０１０４】
（６）青色用のプラズモニック構造を有する青色用の陰極層１４Ｂは、平坦面である絶縁層１３のうえに位置する。そして、青色用のプラズモニック構造を形成するための加工は、平坦面である青色用の陰極面４ＢＳに対して施される。そのため、青色用ピッチ４ＣＢや青色用段差４ＢＨの寸法精度が得られやすい。
【０１０５】
［第２実施形態］
図５および図６を参照して、本開示におけるＥＬ表示装置が互いに異なる三色用の発光層を備えるＥＬ表示装置として具体化された第２実施形態について説明する。第２実施形態におけるＥＬ表示装置は、第１実施形態におけるＥＬ表示装置と以下の点が主に異なる。
【０１０６】
すなわち、第２実施形態にて、赤色用のＥＬ構造体３０Ｒと絶縁層１３との界面は、赤色用のプラズモニック構造として、赤色用の陰極面に形成するための微細凹凸構造を有する。緑色用のＥＬ構造体３０Ｇと絶縁層１３との界面は、緑色用のプラズモニック構造として、緑色用の陰極面に形成するための微細凹凸構造を有する。青色用のＥＬ構造体３０Ｇと絶縁層１３との界面は、青色用のプラズモニック構造として、青色用の陰極面に形成するための微細凹凸構造を有する。以下では、こうした相違点を、赤色出光画素１０Ｒを用いて主に説明し、赤色出光画素１０Ｒと同様の構成を有する緑色出光画素１０Ｇ、および、青色出光画素１０Ｂについては説明を省略する。
【０１０７】
図５に示されるように、赤色出光画素１０Ｒは、絶縁層１３とＥＬ構造体３０Ｒとの境界面として、絶縁層１３に段差面３ＲＳを有する。段差面３ＲＳは、赤色用のプラズモニック構造を形成するための複数の段差部からなる微細凹凸構造を有する。ＥＬ構造体３０Ｒを構成する赤色用の陰極層１４Ｒの上部（図中４ＲＳ部：陰極部）および赤色用のＥＬ層１５Ｒと陽極層１６の界面形状は、段差面３ＲＳの形状に追従した形状を有している。
【０１０８】
段差面３ＲＳの有する微細凹凸構造は、段差面３ＲＳにて複数の段差部が繰り返される周期構造であり、微細凹凸構造Ｃ、あるいは、微細凹凸構造Ｄとして機能する。段差面３ＲＳの有する周期構造は、一次元方向に沿って複数の段差部が繰り返される一次元の周期構造でもよいが、光の取り出し効率が高まる点において、二次元の周期構造である方が好ましい。
【０１０９】
段差面３ＲＳの有する周期構造における段差部は、段差面３ＲＳにて突き出る複数の突部によって構成されてもよいし、段差面３ＲＳにて窪む複数の窪みによって構成されてもよい。段差面３ＲＳの有する周期構造における段差部が、突部によって構成されるとき、突部の形状は、段差面３ＲＳにて突き出る形状であれば、特に限定されず、例えば、円錐形状、円柱形状、半球形状、角錐形状、角柱形状、円錐台形状、角錐台形状であってもよいし、これらのうちの１つを基本として派生する形状であってもよい。
【０１１０】
段差面３ＲＳの有する周期構造における段差部が、窪みによって構成されるとき、窪みの形状は、段差面３ＲＳにて窪む形状であれば、特に限定されない。窪みの形状は、例えば、円形孔形状、角形孔形状、深さ方向に沿って縮径した円形孔形状、深さ方向に沿って縮径した角形孔形状であってもよい。
【０１１１】
赤色用の陰極層１４Ｒは、赤色用のＥＬ層１５Ｒと赤色用の陰極層１４Ｒとの界面を構成する赤色用の陰極面４ＲＳを有している。赤色用の陰極面４ＲＳは、赤色用のプラズモニック構造を有している。
【０１１２】
段差面３ＲＳの周期構造にて、互いに隣り合う段差部の間の間隔は、赤色用ピッチ４ＣＲである。赤色用のプラズモニック構造にて、互いに隣り合う段差部の間の間隔は、これもまた、赤色用ピッチ４ＣＲである。赤色用のプラズモニック構造が有する段差部の周期長の最頻値は、段差面３ＲＳの周期構造が有する段差部の周期長の最頻値と略等しい。
【０１１３】
基板１１の平面視にて、絶縁層１３の段差面３ＲＳが突部を有する位置は、赤色用の陰極層１４Ｒが突部を有する位置である。基板１１の平面視にて、段差面３ＲＳが窪みを有する位置は、赤色用の陰極層１４Ｒが窪みを有する位置である。すなわち、段差面３ＲＳの周期構造は、陰極面４ＲＳに転写され、その平面視方向から見た構造を赤色用のプラズモニック構造に追従させている。
【０１１４】
段差面３ＲＳの周期構造にて、各段差の高さの平均値である平均高さは、赤色用下地段差３ＲＨである。赤色用のプラズモニック構造にて、各段差の高さの平均値が赤色用段差４ＲＨである。赤色用段差４ＲＨは、赤色用下地段差３ＲＨよりも小さくてもよいし、赤色用下地段差３ＲＨと同じであってもよい。
【０１１５】
赤色用下地段差３ＲＨは、赤色用段差４ＲＨ以上であることが好ましい。赤色用下地段差３ＲＨが、赤色用段差４ＲＨ以上である構成であれば、段差面３ＲＳに積み重なる層の厚が厚いときにも、段差が埋まりにくいため、赤色用のプラズモニック構造に必要な赤色用段差４ＲＨが得られやすい。
【０１１６】
なお、基板１１の平面視にて、緑色用の段差面が突部を有する位置は、緑色用の陰極層１４Ｇが突部を有する位置である。緑色用の段差面が窪みを有する位置は、緑色用の陰極層１４Ｇが窪みを有する位置である。緑色用の段差面が有する周期構造にて、互いに隣り合う段差部の間の間隔は、緑色用ピッチ４ＣＧであり、緑色用ピッチ４ＣＧの最頻ピッチは、赤色用ピッチ４ＣＲの最頻ピッチよりも小さい。
【０１１７】
また、基板１１の平面視にて、青色用の段差面が突部を有する位置は、青色用の陰極層１４Ｂが突部を有する位置である。青色用の段差面が窪みを有する位置は、青色用の陰極層１４Ｂが窪みを有する位置である。青色用の段差面が有する周期構造にて、互いに隣り合う段差部の間の間隔は、青色用ピッチ４ＣＢであり、青色用ピッチ４ＣＢの最頻ピッチは、赤色用ピッチ４ＣＲの最頻ピッチよりも小さく、かつ、緑色用ピッチ４ＣＧの最頻ピッチよりも小さい。
【０１１８】
［ＥＬ表示装置の製造方法］
図６に示されるように、ＥＬ表示装置の製造方法は、画素回路形成工程Ｓ２１、絶縁層形成工程Ｓ２２、周期構造形成工程Ｓ２３、陰極層形成工程Ｓ２４、ＥＬ層形成工程Ｓ２５、陽極層形成工程Ｓ２６を含む。
【０１１９】
画素回路形成工程Ｓ２１では、第１実施形態と同じく、複数の赤色画素回路１２Ｒ、複数の緑色画素回路１２Ｇ、および、複数の青色画素回路１２Ｂが、基板１１に形成される。
【０１２０】
絶縁層形成工程Ｓ２２では、第１実施形態と同じく、複数の赤色画素回路１２Ｒ、複数の緑色画素回路１２Ｇ、および、複数の青色画素回路１２Ｂの全体を、１つの絶縁層１３が覆うように、まず、絶縁層１３が形成される。次いで、複数の赤色画素回路１２Ｒの各々、複数の緑色画素回路１２Ｇの各々、および、複数の青色画素回路１２Ｂの各々に通じる複数のコンタクトホールが、画素回路１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂごとに、絶縁層１３に形成される。
【０１２１】
周期構造形成工程Ｓ２３では、絶縁層１３の上面に、画素ごとの周期構造が形成される。すなわち、絶縁層１３の上面のうち、赤色出光画素１０Ｒに相当する部分を覆うマスクが形成され、そのマスクを用いた絶縁層１３のエッチングによって、赤色用の微細凹凸構造Ｄである周期構造が形成される。また、絶縁層１３の上面のうち、緑色出光画素１０Ｇに相当する部分を覆うマスクが形成され、そのマスクを用いた絶縁層１３のエッチングによって、これもまた微細凹凸構造Ｄである緑色用の周期構造が形成される。また、絶縁層１３の上面のうち、青色出光画素１０Ｂに相当する部分を覆うマスクが形成され、そのマスクを用いた絶縁層１３のエッチングによって、これもまた微細凹凸構造Ｄである青色用の周期構造が形成される。
【０１２２】
なお、絶縁層１３に対する周期構造の形成は、上述したコンタクトホールの形成と同時に行われてもよい。周期構造の形成に含まれるエッチングは、コンタクトホールを形成するエッチングであってもよい。周期構造の形成に用いられるマスクは、コンタクトホールの形成に用いられるマスクと一体に形成されてもよい。そして、周期構造形成工程Ｓ２３は、絶縁層形成工程Ｓ２２の一部として含まれてもよいし、周期構造形成工程Ｓ２３と絶縁層形成工程Ｓ２２とは、互いに異なる工程であってもよい。
【０１２３】
絶縁層１３に対する周期構造の形成に適用されるマスクは、前述の絶縁層１３の周期構造（段差面３ＲＳ、陰極面４ＲＳ）に対応する周期構造を有し、その構成は、レジストマスク、単粒子膜、レジストマスクと単粒子膜との積層体のいずれかであることが好ましい。周期構造形成工程Ｓ２３が、絶縁層形成工程Ｓ２２の一部として含まれるとき、絶縁層１３に対する周期構造の形成に適用されるマスクは、上述の絶縁層１３の周期構造に対応する周期構造に加えて、コンタクトホールの開口形状に対応する構造を有する。また、絶縁層１３の周期構造に対応する前述の周期構造とは、絶縁層１３の周期構造における突部のみを覆う構造である。コンタクトホールの開口形状に対応する構造とは、コンタクトホールの開口になる部分のみを曝す構造である。
【０１２４】
絶縁層１３に適用されるマスクが、レジストマスクであるか、単粒子膜であるか、レジストマスクと単粒子膜との積層体であるかは、画素の表現する色ごとに異なってもよいし、全ての画素にて共通していてもよい。プラズモニック構造における段差部の周期長が短くなるほど、レジストマスクよりも、単粒子膜がマスクとして用いられる方が好ましい。
【０１２５】
絶縁層１３に適用されるマスクが、いずれの画素に対してもレジストマスクであるとき、絶縁層１３に適用されるマスクは、互いに同時に形成されてもよいし、画素の表現する色ごとに形成されてもよい。
【０１２６】
絶縁層１３に適用されるマスクが、いずれの画素に対してもレジストマスクであるとき、絶縁層１３に形成されるレジストの塗布膜は、公知のリソグラフィー技術によってパターニングされてもよいし、ナノインプリント技術によってパターニングされてもよい。この際に、ナノインプリント技術に用いられるナノインプリントスタンプは、赤色用の周期構造を形成するためのスタンプ部分と、緑色用の周期構造を形成するためのスタンプ部分と、青色用の周期構造を形成するためのスタンプ部分とを１つのスタンプに有してもよい。このようなナノインプリントスタンプを用いる方法であれば、各色出光画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに対応する領域に、同時にナノインプリントマスクで形成することも可能である。
【０１２７】
絶縁層１３に形成されるレジストの塗布膜が、ナノインプリント技術によってパターニングされるとき、ナノインプリントスタンプの原版は、単粒子膜をマスクとした原版基材のエッチングによって形成されることが好ましい。ナノインプリントスタンプの原版作製においても、単粒子膜がマスクとして用いられる方が好ましい。
【０１２８】
絶縁層１３適用されるマスクが、単粒子膜であるとき、その単粒子膜の形成方法には、先に説明されたＬＢ法、粒子吸着法、バインダー層固定法が用いられる。
陰極層形成工程Ｓ２４では、陰極層を構成する材料が、複数のコンタクトホールの各々に埋め込まれ、かつ、画素回路１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂごとに陰極層が独立するような構成で、陰極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂが形成される。各色用の陰極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂを形成する方法は、特に限定されず、成膜方法やパターニング方法などの公知の電極形成技術を用いる。
【０１２９】
絶縁層１３上に形成された赤色用の周期構造に、赤色用の陰極層１４Ｒが積み重ねられることによって、赤色用の周期構造に追従する凹凸の繰り返しが、赤色用の陰極層１４Ｒに自己整合的に形成される。そして、赤色用の陰極層１４Ｒに対してエッチングなどの後処理が加えられることなく、赤色用のプラズモニック構造が、赤色用の陰極面４ＲＳに形成される。
【０１３０】
また、緑色用の陰極層１４Ｇ、および、青色用の陰極層１４Ｂにおいても、赤色用の陰極層１４Ｒと同様に、陰極層に対してエッチングなどの後処理が加えられることなく、各色用のプラズモニック構造が形成される。
【０１３１】
ＥＬ層形成工程Ｓ２５では、赤色用のプラズモニック構造に、赤色用のＥＬ層１５Ｒが積層される。また、緑色用のプラズモニック構造に、緑色用のＥＬ層１５Ｇが積層され、青色用のプラズモニック構造に、青色用のＥＬ層１５Ｂが積層される。赤色用のＥＬ層１５Ｒ、緑色用のＥＬ層１５Ｇ、および、青色用のＥＬ層１５Ｂを形成する方法は、特に限定されず、真空蒸着や塗布など、ＥＬ層の形成に際して一般的に用いられる公知の成膜技術を用いる。
【０１３２】
陽極層形成工程Ｓ２６では、複数の赤色用のＥＬ層１５Ｒ、複数の緑色用のＥＬ層１５Ｇ、および、複数の青色用のＥＬ層１５Ｂの各々を覆う１つの陽極層１６が形成される。陽極層１６を形成する方法は、特に限定されず、スパッタ法など、電極層の形成に際して一般的に用いられる公知の成膜技術を用いる。
【０１３３】
以上、第２実施形態によれば、以下に列記される効果が得られる。
（１）各色用の陰極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂの陰極面に対してエッチングなどの後処理が施されることなく、各色用の陰極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂの陰極面に、各色用のプラズモニック構造が形成される。それゆえに、各色用のＥＬ層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂと接触する界面に対して、エッチングなどの後処理によるダメージが抑えられる。
【０１３４】
（２）また、各色用の陰極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂに対して、その加工面からの制約が抑えられもする。
（３）絶縁層１３の有する周期構造での段差の平均高さは、陰極層１４におけるプラズモニック構造の有する段差の平均高さよりも大きい。こうした構成であれば、絶縁層１３の周期構造にて、突部の先端に積み重なる陰極層の厚さが、窪みの底部に積み重なる陰極層の厚よりも薄いときにも、プラズモニック効果の発現に必要な段差が得られやすい。
【０１３５】
［第３実施形態］
図７から図９を参照して、本開示におけるＥＬ表示装置が各色用の発光層を備えるＥＬ表示装置に具体化された第３実施形態について説明する。第３実施形態におけるＥＬ表示装置は、第１実施形態におけるＥＬ表示装置と以下の点が主に異なる。
【０１３６】
すなわち、第３実施形態では、赤色用のＥＬ構造体３０Ｒにて、赤色用のＥＬ層１５Ｒと絶縁層１３との間に、赤色用の陽極層１６Ｒが挟まれ、赤色用の陽極層１６Ｒと陰極層１４との間に、赤色用のＥＬ層１５Ｒが挟まれている。また、緑色用のＥＬ構造体３０Ｇにて、緑色用のＥＬ層１５Ｇと絶縁層１３との間に、緑色用の陽極層が挟まれ、緑色用の陽極層と陰極層１４との間に、緑色用のＥＬ層１５Ｇが挟まれている。そして、青色用のＥＬ構造体３０Ｂにて、青色用のＥＬ層１５Ｂと絶縁層１３との間に、青色用の陽極層が挟まれ、青色用の陽極層と陰極層１４との間に、青色用のＥＬ層１５Ｂが挟まれている。以下では、こうした相違点を、赤色出光画素１０Ｒを用いて主に説明し、赤色出光画素１０Ｒと同様の構成を有する緑色出光画素１０Ｇ、および、青色出光画素１０Ｂについては説明を省略する。
【０１３７】
図７に示されるように、赤色出光画素１０Ｒは、赤色用のＥＬ構造体３０Ｒを備え、ＥＬ構造体３０Ｒは、赤色用の陽極層１６Ｒと、赤色用のＥＬ層１５Ｒと、陰極層１４とを備えている。赤色用の陽極層１６Ｒは、絶縁層１３を通じて赤色駆動部２０Ｒに積層され、赤色駆動部２０Ｒは、赤色用の陽極層１６Ｒへ駆動電流を供給する。陰極層１４は、緑色出光画素１０Ｇ、および、青色出光画素１０Ｂと共通する電極であり、赤色出光画素１０Ｒ以外の外部電源線に接続されている。
【０１３８】
赤色出光画素１０Ｒは、赤色用の陽極層１６Ｒと、赤色用のＥＬ層１５Ｒとの境界面として、下部電極層の一例である赤色用の陽極層１６Ｒに、赤色用の陽極面６ＲＳを有する。赤色用の陽極面６ＲＳは、赤色用のプラズモニック構造を形成するための段差部からなる微細凹凸構造Ａを有する。陰極層１４のうち、赤色出光画素１０Ｒに対応する部分は、赤色用の陽極面６ＲＳの形状に追従する形状を有している。
【０１３９】
赤色用の陽極面６ＲＳの有する微細凹凸構造Ａは、赤色用の陽極面６ＲＳにて複数の段差部が繰り返される周期構造である。赤色用の陽極面６ＲＳの有する周期構造は、一次元方向に沿って複数の段差部が繰り返される一次元の凹凸構造でもよいが、光の取り出し効率が高まる点において、二次元の周期構造である方が好ましい。
【０１４０】
赤色用の陽極面６ＲＳの有する周期構造における段差部は、赤色用の陽極面６ＲＳにて突き出る複数の突部によって構成されてもよいし、赤色用の陽極面６ＲＳにて窪む複数の窪みによって構成されてもよい。赤色用の陽極面６ＲＳの有する周期構造における段差部が、突部によって構成されるとき、突部の形状は、赤色用の陽極面６ＲＳにて突き出る形状であれば、特に限定されず、例えば、円錐形状、円柱形状、半球形状、角錐形状、角柱形状、円錐台形状、角錐台形状であってもよいし、これらのうちの１つを基本として派生する形状であってもよい。
【０１４１】
赤色用の陽極面６ＲＳの有する周期構造における段差部が、窪みによって構成されるとき、窪みの形状は、赤色用の陽極面６ＲＳにて窪む形状であれば、特に限定されない。窪みの形状は、例えば、円形孔形状、角形孔形状、深さ方向に沿って縮径した円形孔形状、深さ方向に沿って縮径した角形孔形状であってもよい。
【０１４２】
赤色用のＥＬ層１５Ｒは、赤色用の発光層を備えている。赤色用の発光層は、赤色用の陽極面６ＲＳの形状に追従する形状を有している。基板１１の平面視にて、赤色用のＥＬ層１５Ｒが突部を有する位置は、赤色用の陽極層１６Ｒが突部を有する位置である。基板１１の平面視にて、赤色用のＥＬ層１５Ｒが窪みを有する位置は、赤色用の陽極層１６Ｒが窪みを有する位置である。すなわち、赤色用の陽極面６ＲＳの周期構造は、その平面視方向から見た構造を赤色用のＥＬ層１５Ｒにおける段差構造に追従させている。
【０１４３】
陰極層１４は、赤色用のＥＬ層１５Ｒと、上部電極層の一例である陰極層１４との界面を構成する赤色用の陰極面４ＲＳを下面として有している。赤色用の陰極面４ＲＳは、下部電極層の一例である赤色用の陽極面６ＲＳの形状に追従する形状からなる微細凹凸構造Ｂである赤色用のプラズモニック構造を有している。
【０１４４】
赤色用の陽極面６ＲＳの周期構造にて、互いに隣り合う段差部の間の間隔は、赤色用ピッチ４ＣＲである。赤色用のプラズモニック構造にて、互いに隣り合う段差部の間の間隔は、これもまた、赤色用ピッチ４ＣＲである。赤色用のプラズモニック構造が有する段差部間の周期長は、赤色用の陽極面６ＲＳの周期構造が有する段差部間の周期長と略等しい。
【０１４５】
基板１１の平面視にて、赤色用の陽極面６ＲＳが突部を有する位置は、赤色用の陰極層１４Ｒが窪みを有する位置である。基板１１の平面視にて、赤色用の陽極面６ＲＳが窪みを有する位置は、赤色用の陰極層１４Ｒが突部を有する位置である。すなわち、赤色用の陽極面６ＲＳの周期構造は、その平面視方向から見た構造を赤色用のプラズモニック構造に追従させている。
【０１４６】
赤色用の陽極面６ＲＳの周期構造にて、各段差の平均高さは、陽極段差６ＲＨである。赤色用のプラズモニック構造にて、各段差の平均高さは、赤色用段差４ＲＨである。赤色用段差４ＲＨは、陽極段差６ＲＨよりも小さくてもよいし、陽極段差６ＲＨと同じであってもよい。
【０１４７】
陽極段差６ＲＨは、赤色用段差４ＲＨよりも大きいことが好ましい。陽極段差６ＲＨが、赤色用段差４ＲＨよりも大きい構成であれば、赤色用の陽極面６ＲＳに積み重なる層の厚が厚いときにも、段差が埋まりにくいため、赤色用のプラズモニック構造に必要な赤色用段差４ＲＨが得られやすい。
【０１４８】
なお、基板１１の平面視にて、緑色用の陽極面が突部を有する位置は、緑色用の陰極層１４Ｇが窪みを有する位置である。緑色用の陽極面が窪みを有する位置は、緑色用の陰極層１４Ｇが突部を有する位置である。緑色用の陽極面が有する周期構造にて、互いに隣り合う段差部の間の間隔は、緑色用ピッチ４ＣＧであり、赤色用ピッチ４ＣＲよりも小さい。
【０１４９】
また、基板１１の平面視にて、青色用の陽極面が突部を有する位置は、青色用の陰極層１４Ｂが窪みを有する位置である。青色用の陽極面が窪みを有する位置は、青色用の陰極層１４Ｂが突部を有する位置である。青色用の陽極面が有する周期構造にて、互いに隣り合う段差部の間の間隔は、青色用ピッチ４ＣＢであり、赤色用ピッチ４ＣＲよりも小さく、かつ、緑色用ピッチ４ＣＧよりも小さい。
【０１５０】
［ＥＬ表示装置の製造方法］
図８に示されるように、ＥＬ表示装置の製造方法は、画素回路形成工程Ｓ３１、絶縁層形成工程Ｓ３２、陽極層形成工程Ｓ３３、周期構造形成工程Ｓ３４、ＥＬ層形成工程Ｓ３５、陰極層形成工程Ｓ３６を含む。
【０１５１】
画素回路形成工程Ｓ３１では、第１実施形態と同じく、複数の赤色画素回路１２Ｒ、複数の緑色画素回路１２Ｇ、および、複数の青色画素回路１２Ｂが、基板１１に形成される。
【０１５２】
絶縁層形成工程Ｓ３２では、第１実施形態と同じく、複数の赤色画素回路１２Ｒ、複数の緑色画素回路１２Ｇ、および、複数の青色画素回路１２Ｂの全体を、１つの絶縁層１３が覆うように、まず、絶縁層１３が形成される。次いで、複数の赤色画素回路１２Ｒの各々、複数の緑色画素回路１２Ｇの各々、および、複数の青色画素回路１２Ｂの各々に通じる複数のコンタクトホールが、画素回路１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂごとに、絶縁層１３に形成される。
【０１５３】
陽極層形成工程Ｓ３３では、陽極層を構成する材料が、複数のコンタクトホールの各々に埋め込まれ、かつ、画素回路１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂごとに陽極層が独立するような構成で、各色用の陽極層が形成される。各色用の陽極層を形成する方法は、特に限定されず、成膜方法やパターニング方法などの公知の電極形成技術を用いる。
【０１５４】
周期構造形成工程Ｓ３４では、各色用の陽極層における陽極面に、微細凹凸構造Ａとして、各色用の周期構造が形成される。
各色用の陽極層に適用されるマスクは、各色用の波長域を強調するプラズモニック構造に対応する周期構造を有し、レジストマスク、単粒子膜、レジストマスクと単粒子膜との積層体のいずれかであることが好ましい。周期構造形成工程Ｓ３４が、陽極層形成工程Ｓ３３の一部として含まれるとき、各色用の陽極面に適用されるマスクは、各色用のプラズモニック構造に対応する周期構造に加えて、各色用の陽極面の外形形状に対応する構造を有する。各色用のプラズモニック構造に対応する周期構造とは、各色用のプラズモニック構造における窪みのみを覆う構造である。各色用の陽極面の外形形状に対応する構造とは、各色用の陽極面になる部分のみを覆う構造である。
【０１５５】
各色用の陽極面に適用されるマスクが、レジストマスクであるか、単粒子膜であるか、レジストマスクと単粒子膜との積層体であるかは、画素の表現する色ごとに異なってもよいし、全ての画素にて共通していてもよい。
【０１５６】
ＥＬ層形成工程Ｓ３５では、赤色用の陽極面６ＲＳの周期構造に、赤色用のＥＬ層１５Ｒが積層される。また、緑色用の陽極面の周期構造に、緑色用のＥＬ層１５Ｇが積層され、青色用の陽極面の周期構造に、青色用のＥＬ層１５Ｂが積層される。赤色用のＥＬ層１５Ｒを形成する方法、緑色用のＥＬ層１５Ｇを形成する方法、および、青色用のＥＬ層１５Ｂを形成する方法は、特に限定されず、別々に、真空蒸着や塗布など、ＥＬ層の形成に際して一般的に用いられる公知の成膜技術を用いる。
【０１５７】
陰極層形成工程Ｓ３６では。複数の赤色用のＥＬ層１５Ｒ、複数の緑色用のＥＬ層１５Ｇ、および、複数の青色用のＥＬ層１５Ｂの各々を覆う１つの陰極層１４が形成される。陰極層１４を形成する方法は、特に限定されず、スパッタ法など、電極層の形成に際して一般的に用いられる公知の成膜技術を用いる。これによって、赤色用のＥＬ層１５Ｒと陰極層１４との界面に、微細凹凸構造Ｂとして、赤色用のプラズモニック構造が形成される。また、緑色用のＥＬ層１５Ｇと陰極層１４との界面に、微細凹凸構造Ｂとして、緑色用のプラズモニック構造が形成される。そして、青色用のＥＬ層１５Ｂと陰極層１４との界面に、微細凹凸構造Ｂとして、青色用のプラズモニック構造が形成される。
【０１５８】
以上、第３実施形態によれば、以下に列記される効果が得られる。
（１）各色用のプラズモニック構造に対応する周期構造の上に、各色用のＥＬ層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂが積み重ねられる。そして、各色用のＥＬ層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの上面にプラズモニック構造が形成される。それゆえに、熱的なダメージや化学的なダメージを受けやすいＥＬ層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂに対して、エッチングなどの後処理を施すことなく、プラズモニック構造が形成される。
【０１５９】
（２）陽極層の有する周期構造での段差（６ＲＳ）の平均高さは、プラズモニック構造の有する段差（４ＲＳ）の平均高さよりも大きい。こうした構成であれば、陽極層の周期構造によって、プラズモニック構造に必要な段差が得られやすい。
【０１６０】
なお、第３実施形態は、以下のように変更して実施することもできる。
・図９に示されるように、絶縁層１３の上面には、赤色用の陽極層１６Ｒ、緑色用の陽極層１６Ｇ、および、青色用の陽極層１６Ｂが、互いに隙間を空けて位置している。赤色用の陽極層１６Ｒの上面は、赤色用のプラズモニック構造を形成するための周期構造を有する赤色用の陽極面６ＲＳである。緑色用の陽極層１６Ｇの上面は、緑色用のプラズモニック構造を形成するための周期構造を有する緑色用の陽極面６ＧＳである。青色用の陽極層１６Ｂの上面は、青色用のプラズモニック構造を形成するための周期構造を有する青色用の陽極面６ＢＳである。
【０１６１】
絶縁層１３の上面には、互いに隣り合う陽極層の間には、これらの隙間を埋めるように構成された複数の陽極間絶縁層１７が位置している。例えば、赤色用の陽極層１６Ｒと緑色用の陽極層１６Ｇとの間には、これらの隙間を埋めるように構成された陽極間絶縁層１７が位置している。緑色用の陽極層１６Ｇと青色用の陽極層１６Ｂとの間には、これらの隙間を埋めるように構成された陽極間絶縁層１７が位置している。赤色用の陽極層１６Ｒと青色用の陽極層１６Ｇとの間には、これらの隙間を埋めるように構成された陽極間絶縁層１７が位置している。
【０１６２】
複数の陽極間絶縁層１７の各々は、陽極間絶縁層１７と隣り合う陽極層に対し、陽極面６ＲＳ，６ＧＳ，６ＢＳに接続する陽極間斜面１７Ｓを有している。例えば、１つの陽極間斜面１７Ｓは、１つの赤色用の陽極面６ＲＳに接続している。１つの陽極間斜面１７Ｓは、１つの緑色用の陽極面６ＧＳに接続している。１つの陽極間斜面１７Ｓは、１つの青色用の陽極面６ＢＳに接続している。複数の陽極間斜面１７Ｓの各々は、各色用の陽極面６ＲＳ，６ＧＳ，６ＢＳの上方が広げられるような構成で、それと接続する陽極面から斜め上方に向かって延びている。
【０１６３】
赤色用の陽極面６ＲＳに接続する陽極間斜面１７Ｓは、赤色用の陽極面６ＲＳと同じく、赤色用のプラズモニック構造を形成するための段差部からなる周期構造を有する。緑色用の陽極面６ＧＳに接続する陽極間斜面１７Ｓは、緑色用の陽極面６ＧＳと同じく、緑色用のプラズモニック構造を形成するための段差部からなる周期構造を有する。青色用の陽極面６ＢＳに接続する陽極間斜面１７Ｓは、青色用の陽極面６ＲＳと同じく、青色用のプラズモニック構造を形成するための段差部からなる周期構造を有する。
【０１６４】
このような構成によれば、プラズモニック構造を形成するための周期構造が、各色用の陽極面６ＲＳ，６ＧＳ，６ＢＳにのみ形成される構成と比べて、プラズモニック構造の形成される範囲が広がる。そのため、光の取出し効率は、さらに高まる。
【０１６５】
・第２実施形態の陰極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂと同じく、各色用の陽極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂが有する周期構造は、絶縁層１３の上面に形成される周期構造（微細凹凸構造Ｄ）に追従する構造であってもよい。すなわち、絶縁層１３の上面のうち、各色出光画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに相当する部分に、プラズモニック構造を形成するための周期構造が形成され、絶縁層１３の周期構造の上に、各色用の陽極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂが位置する構成であってもよい。
【０１６６】
［第４実施形態］
図１０を参照して、本開示におけるＥＬ表示装置を白色用の発光層を備えるＥＬ表示装置として具体化した第４実施形態について説明する。第４実施形態におけるＥＬ表示装置は、第１実施形態におけるＥＬ表示装置と以下の点が主に異なる。すなわち、第４実施形態におけるＥＬ表示装置は、赤色出光画素と、緑色出光画素と、青色出光画素とが、白色用の発光層を備える。以下では、こうした相違点を主に説明し、第１実施形態と同様の構成については説明を省略する。
【０１６７】
図１０に示されるように、赤色出光画素１０Ｒにおける陰極面４ＲＳは、第１実施形態と同じく、赤色用のプラズモニック構造を有する。緑色出光画素１０Ｇにおける陰極面４ＧＳは、第１実施形態と同じく、緑色用のプラズモニック構造を有する。青色出光画素１０Ｂにおける陰極面４ＢＳは、第１実施形態と同じく、青色用のプラズモニック構造を有する。これら赤色出光画素１０Ｒ、緑色出光画素１０Ｇ、および、青色出光画素１０Ｂは、それぞれ白色の光を生成する白色発光層を、共通する発光層として有する。
【０１６８】
赤色出光画素１０Ｒは、カラーフィルターの一例として、白色の光を赤色の光に変換する赤色用カラーフィルター２５Ｒを有する。緑色出光画素１０Ｇは、カラーフィルターの一例として、白色の光を緑色の光に変換する緑色用カラーフィルター２５Ｇを有する。青色出光画素１０Ｂは、カラーフィルターの一例として、白色の光を青色の光に変換する青色用カラーフィルター２５Ｂを有する。
【０１６９】
赤色出光画素１０Ｒは、白色発光層の生成する白色の光のうち、赤色の光の生成時に生成される表面プラズモンを、赤色用のプラズモニック構造によって、赤色の輻射光に変換し、赤色の強調された白色の光を、最終的に赤色用カラーフィルター２５Ｒによって赤色の光に変換して出射する。すなわち、赤色出光画素１０Ｒは、白色発光層の生成する白色の光のうち赤色の光を強調して、出光色を赤色とする。
【０１７０】
緑色出光画素１０Ｇは、白色発光層の生成する白色の光のうち、緑色の光の生成時に生成される表面プラズモンを、緑色用のプラズモニック構造によって、緑色の輻射光に変換し、緑色の強調された白色の光を、最終的に緑色用カラーフィルター２５Ｇによって緑色の光に変換して出射する。すなわち、緑色出光画素１０Ｇは、白色発光層の生成する白色の光のうち緑色の光を強調して、出光色を緑色とする。
【０１７１】
青色出光画素１０Ｂは、白色発光層の生成する白色の光のうち、青色の光の生成時に生成される表面プラズモンを、青色用のプラズモニック構造によって、青色の輻射光に変換し、青色の強調された白色の光を、最終的に青色用カラーフィルター２５Ｂによって青色の光に変換して出射する。すなわち、青色出光画素１０Ｂは、白色発光層の生成する白色の光のうち青色の光を強調して、出光色を青色とする。
【０１７２】
以上、第４実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１）上述した構成であれば、赤色出光画素１０Ｒ、緑色出光画素１０Ｇ、および、青色出光画素１０Ｂにおいて、発光層の共通化が図られる。各画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの表現する色に対応した光が輻射される。
【０１７３】
なお、第４実施形態は、以下のように変更して実施することもできる。
・第２実施形態の陰極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂと同じく、各色用の陰極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂが有する周期構造は、絶縁層１３の上面に形成される周期構造（微細凹凸構造Ｄ）に追従する構造であってもよい。すなわち、絶縁層１３の上面のうち、各色出光画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに相当する部分に、プラズモニック構造を形成するための周期構造が形成され、絶縁層１３の周期構造の上に、各色用の陰極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂが位置する構成であってもよい。
【０１７４】
・第３実施形態と同じく、絶縁層１３の上に、各色用の陽極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂが形成されて、各色用のＥＬ層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの上に、共通する１つの陰極層１４が形成されてもよい。そして、陰極層１４の有するプラズモニック構造が、各色用の陽極層１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂの有する周期構造に追従する構成であってもよい。
【０１７５】
［第５実施形態］
図１１を参照して、本開示におけるＥＬ表示装置を、白色出光画素を備えるＥＬ表示装置として具体化した第５実施形態について説明する。第５実施形態におけるＥＬ表示装置は、第４実施形態におけるＥＬ表示装置と以下の点が主に異なる。すなわち、第５実施形態におけるＥＬ表示装置は、赤色出光画素と、緑色出光画素と、青色出光画素とに加えて、白色の光を出射する白色出光画素を備える。以下では、こうした相違点を主に説明し、第４実施形態と同様の構成については説明を省略する。
【０１７６】
図１１に示されるように、ＥＬ表示装置は、白色の光を出射する白色出光画素１０Ｗを有する。白色出光画素１０Ｗは、白色出光画素１０Ｗを発光させるための駆動電流を供給する白色画素回路１２Ｗを有している。白色画素回路１２Ｗは、他の色画素回路１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂと同じく、絶縁層１３に覆われている。
【０１７７】
白色出光画素１０Ｗは、白色用の陰極層１４Ｗと、白色用のＥＬ層１５Ｗと、他の色出光画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂと共通する陽極層１６とを備えている。白色用の陰極層１４Ｗは、絶縁層１３を通じて白色画素回路１２Ｗに接続し、白色画素回路１２Ｗは、白色用の陰極層１４Ｗへ駆動電流を供給する。陽極層１６と白色用の陰極層１４Ｗとの間に電流が流れるとき、陽極層１６から白色用のＥＬ層１５Ｗにホールが注入され、かつ、白色用の陰極層１４Ｗから白色用のＥＬ層１５Ｗに電子が注入される。白色用のＥＬ層１５Ｗに注入されたホールと電子との結合によって、白色用のＥＬ層１５Ｗは白色の光を生成する。
【０１７８】
白色用の陰極層１４Ｗは、他の色用の陰極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｇと同じく、白色の光を反射する機能を有してもよいし、白色の光を透過する機能を有してもよい。白色用の陰極層１４Ｗが、白色の光を反射する機能を有するとき、陽極層１６は白色の光を透過する光透過性を有し、ＥＬ表示装置は、トップエミッション型として機能する。白色用の陰極層１４Ｗが、白色の光を透過する機能を有するとき、陽極層１６は白色の光を反射する光反射性を有し、ＥＬ表示装置は、ボトムエミッション型として機能する。
【０１７９】
白色用の陰極層１４Ｗは、白色用のＥＬ層１５Ｗと白色用の陰極層１４Ｗとの界面を構成する白色用の陰極面４ＷＳを有している。白色用の陰極面４ＷＳは、陰極面４ＷＳの広がる方向に沿って繰り返される複数の段差部からなる白色用の微細凹凸構造を有している。白色用の微細凹凸構造は、プラズモニック構造であり、白色用のプラズモニック構造における段差部は、白色用の陰極面４ＷＳにて突き出る複数の突部によって構成されてもよいし、白色用の陰極面４ＷＳにて窪む複数の窪みによって構成されてもよい。
【０１８０】
白色用のプラズモニック構造における段差部が、突部によって構成されるとき、突部の形状は、白色用の陰極面４ＷＳにて突き出る形状であれば、特に限定されず、例えば、円錐形状、円柱形状、半球形状、角錐形状、角柱形状、円錐台形状、角錐台形状であってもよいし、これらのうちの１つを基本として派生する形状であってもよい。
【０１８１】
白色用のプラズモニック構造における段差部が、窪みによって構成されるとき、窪みの形状は、白色用の陰極面４ＷＳにて窪む形状であれば、特に限定されない。窪みの形状は、例えば、円形孔形状、角形孔形状、深さ方向に沿って拡径した円形孔形状、深さ方向に沿って縮径した円形孔形状、深さ方向に沿って拡径した角形孔形状、深さ方向に沿って縮径した角形孔形状であってもよい。
【０１８２】
白色用のプラズモニック構造では、白色用の陰極面４ＷＳにおける段差部が、陰極面４ＷＳ上にてランダムに位置している。なお、ランダムに位置している状態とは、段差部の中心間の間隔、および、段差部の並ぶ方向が一定ではない状態を示す。白色用のプラズモニック構造では、段差部が二次元にランダムに位置することによって、白色用のＥＬ層１５Ｗが発光するとき、白色出光画素が出光する波長帯全域にわたる光が効率よく取出される。白色用のプラズモニック構造では、互いに隣り合う段差部の間の間隔が、白色用のピッチであり、各段差の平均高さは、白色用段差である。白色用のプラズモニック構造において、白色用ピッチは、互いに隣り合う段差部の間の距離である。なお、白色用段差は、１５ｎｍ以上７０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上４０ｎｍ以下であることがより好ましい。白色用のプラズモニック構造では、白色用段差が、１５ｎｍ未満であると、光の取出し効率が十分に得られがたくなる。また、白色用段差が、１５０ｎｍを越えると、ＥＬ層が過度に薄い部分で短絡しやすい。
【０１８３】
白色用の発光層が光を生成するとき、白色用の発光層の近傍には、近接場光が発生する。白色用の発光層と白色用の陰極層１４Ｗとの間の距離は、白色用の陰極面４ＷＳにて近接場光が発生する程度に、非常に短いため、白色用の陰極面４ＷＳでは、近接場光が表面プラズモンに変換される。白色用の陰極面４ＷＳにて変換された表面プラズモンは、広範囲の出光波長を備えた白色の輻射光として取り出される。
【０１８４】
なお、赤色出光画素１０Ｒは、白色の光を赤色の光に変換する赤色用カラーフィルター２５Ｒを有し、緑色出光画素１０Ｇは、白色の光を緑色の光に変換する緑色用カラーフィルター２５Ｇを有する。青色出光画素１０Ｂは、白色の光を青色の光に変換する青色用カラーフィルター２５Ｂを有する。これに対して、白色出光画素１０Ｗは、白色の光を透す白色透過層２５Ｗを有する。
【０１８５】
以上、第５実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１）赤色出光画素１０Ｒ、緑色出光画素１０Ｇ、および、青色出光画素１０Ｂに加えて、白色出光画素１０Ｗにおいても、表現する色に対応した光が輻射される。
【０１８６】
なお、第５実施形態は、以下のように変更して実施することもできる。
・第２実施形態の陰極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂと同じく、白色用の陰極層１４Ｗが有するプラズモニック構造は、絶縁層１３の上面に形成される微細凹凸構造Ｃに追従する構造であってもよい。すなわち、絶縁層１３の上面のうち、白色出光画素１０Ｗに相当する部分に、白色用のプラズモニック構造を形成するための微細凹凸構造Ｃが形成され、絶縁層１３の微細凹凸構造Ｃの上に、白色用の陰極層１４Ｗが位置する構成であってもよい。
【０１８７】
・第３実施形態と同じく、絶縁層１３の上に、白色用の陽極層が形成されて、白色用のＥＬ層１５Ｗの上に、他の色出光画素と共通する１つの陰極層１４が形成されてもよい。そして、陰極層１４の有するプラズモニック構造が、各色用の陽極層の有する微細凹凸構造Ａに追従する構成であってもよい。
【０１８８】
上記各実施形態のＥＬ表示装置を構成する各層の一例を以下に説明する。
［基板１１］
・基板１１を構成する材料は、無機材料であってもよいし、有機材料であってもよいし、これらの組み合わせであってもよい。基板１１を構成する材料が無機材料であるとき、その無機材料は、例えば、石英ガラス、無アルカリガラス、白板硝子などの各種のガラスや、マイカなどの透明無機好物などである。基板１１を構成する材料が有機材料であるとき、その有機材料は、例えば、シクロオレフィン系フィルム、ポリエステル系フィルムなどの樹脂フィルム、樹脂フィルムのなかにセルロースナノファイバーなどの微細繊維が混ぜられた繊維強化プラスチック素材などである。
【０１８９】
・ＥＬ表示装置がボトムエミッション型であるとき、基板１１の可視光透過率は高いほど好ましく、可視光の範囲である３８０ｎｍ以上８００ｎｍ以下の範囲に対し、透過率が７０％以上であることが好ましく、８０以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。
【０１９０】
［画素回路１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ，１２Ｗ］
・各色画素回路１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ，１２Ｗは、駆動電流を供給する回路であれば、特に限定されず、公知の回路を用いることができる。各色画素回路１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ，１２Ｗは、外部で生成される駆動電流を接続先のＥＬ構造体に供給する回路であってもよい。あるいは、各色画素回路１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ，１２Ｗは、自身で駆動電流を生成し、その駆動電流を供給する回路であってもよい。
【０１９１】
・各色画素回路１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ，１２Ｗが、自身で駆動電流を生成する構成では、各色画素回路１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ，１２Ｗは、例えば、薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタに電源を供給する電源線、薄膜トランジスタの駆動を制御する制御線などを含む。各色画素回路１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ，１２Ｗの外部で駆動電流が生成される構成では、各色画素回路１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ，１２Ｗは、薄膜トランジスタ、電源線、制御線などを省略し、駆動電流を供給する電流供給線のみから構成されてもよい。
【０１９２】
［絶縁層１３］
・絶縁層１３を構成する材料は、各色画素回路１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ，１２Ｗと、それに対応するＥＬ構造体との間を電気的に絶縁することの可能な材料であれば、特に限定されない。絶縁層１３を構成する材料は、無機材料であってもよいし、有機材料であってもよいし、これらの組み合わせであってもよい。絶縁層１３を構成する材料が無機材料であるとき、その無機材料は、例えば、シリコン酸化物やシリコン窒化物である。絶縁層１３を構成する材料が有機材料であるとき、その有機材料は、例えば、ポジ型のレジスト材料やネガ型のレジスト材料である。
【０１９３】
［陰極層１４，１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂ，１４Ｗ］
・各色用の陰極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂ，１４Ｗが、可視光を透過する電極であるとき、その透明導電材料は、特に限定されず、透明導電材料として公知の材料を用いることができる。例えば、可視光を透過する透明導電材料は、インジウム−スズ酸化物（Indium Tin Oxide（ＩＴＯ））、インジウム−亜鉛酸化物(Indium Zinc Oxide（ＩＺＯ）)、酸化亜鉛（Zinc Oxide（ＺｎＯ））、亜鉛−スズ酸化物（Zinc Tin Oxide（ＺＴＯ））からなる群から選択される１つである。
【０１９４】
・各色用の陰極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂ，１４Ｗが、可視光を反射する電極であり、１つの層から構成されるとき、可視光を反射する材料は、銀マグネシウム合金のように、銀の含有率が７０質量％以上である合金、アルミニウム、銀からなる群のいずれか１つであることが好ましい。各色用の陰極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂ，１４Ｗが、可視光を透過する層と、反射層とを含むとき、可視光を透過する透明導電材料は、特に限定されず、透明導電材料として公知の材料を用いることができる。反射層は、銀マグネシウム合金のように、銀の含有率が７０質量％以上である合金、アルミニウム、銀からなる群のいずれか１つであることが好ましい。
【０１９５】
・各色用の陰極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂ，１４Ｗの厚さは、５０ｎｍ〜３０００ｎｍであることが好ましい。
［陽極層１６，１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂ］
・陽極層１６，１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂが、可視光を透過する電極であるとき、透明導電材料は、特に限定されず、透明導電材料として公知の材料を用いることができる。例えば、可視光を透過する透明導電材料は、インジウム−スズ酸化物（Indium Tin Oxide（ＩＴＯ））、インジウム−亜鉛酸化物(Indium Zinc Oxide（ＩＺＯ）)、酸化亜鉛（Zinc Oxide（ＺｎＯ））、亜鉛−スズ酸化物（Zinc Tin Oxide（ＺＴＯ））からなる群から選択される１つである。
【０１９６】
・陽極層１６，１６Ｒ，１６Ｇ，１６Ｂが、可視光を反射する電極であり、１つの層から構成されるとき、可視光を反射する材料は、銀やアルミニウムであることが好ましい。陽極層１６が、可視光を透過する層と、反射層とを含むとき、可視光を透過する透明導電材料は、特に限定されず、透明導電材料として公知の材料を用いることができる。反射層は、銀やアルミニウムであることが好ましい。
【０１９７】
・陽極層１６の厚さは、５０ｎｍ〜３０００ｎｍであることが好ましい。
［ＥＬ層の層構造］
・赤色用のＥＬ層１５Ｒ、緑色用のＥＬ層１５Ｇ、青色用のＥＬ層１５Ｂ、白色用のＥＬ層１５Ｗからなる群から選択される少なくとも１つＥＬ層は、以下の多層構造であることが好ましい。すなわち、ＥＬ層は、発光層に加えて、ホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層、および、電子注入層を備えることが好ましい。ホール注入層は、陽極層からホールを注入される。ホール輸送層は、ホール注入層から発光層にホールを輸送し、また、発光層から入る電子を遮断する。電子注入層は、陰極層から電子を注入される。電子輸送層は、電子注入層から発光層に電子を輸送し、また、発光層から入るホールを遮断する。
【０１９８】
・ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、および、電子注入層は、各層の機能が１つであってもよいし、少なくとも１つの層が省略されて、省略された層以外の他の層が２つの機能を兼ねてもよい。
【０１９９】
・赤色用のＥＬ層１５Ｒ、緑色用のＥＬ層１５Ｇ、青色用のＥＬ層１５Ｂ、および、白色用のＥＬ層１５Ｗの各々は、少なくとも、各層に対応付けられた色を発光する発光材料を含む発光層を含む層であればよい。赤色用のＥＬ層１５Ｒは、赤色用の発光層のみから構成されてもよいし、緑色用のＥＬ層１５Ｇは、緑色用の発光層のみから構成されてもよい。青色用のＥＬ層１５Ｂは、青色用の発光層のみから構成されてもよいし、白色用のＥＬ層１５Ｗは、白色用の発光層のみから構成されてもよい。画素に対応付けられた色の光をその画素が出射するうえで、発光層はＥＬ構造体のなかで最も重要な層であり、発光層以外の他の層は省略されてもよい。
【０２００】
・白色用のＥＬ層１５Ｗにおける発光層は、赤色用の発光層を構成する材料と、緑色用の発光層を構成する材料と、青色用の発光層を構成する材料との混合体から形成される１つの層であってもよい。あるいは、白色用のＥＬ層１５Ｗにおける発光層は、発光する光の色が互いに異なる材料から形成された複数の層からなる多層体であってもよい。例えば、白色用のＥＬ層１５Ｗにおける発光層は、赤色用の発光層と、緑色用の発光層と、青色用の発光層とからなる多層体であってもよい。
【０２０１】
［ＥＬ層の形成材料］
・赤色用のＥＬ層１５Ｒ、緑色用のＥＬ層１５Ｇ、青色用のＥＬ層１５Ｂ、および、白色用のＥＬ層１５Ｗを構成する材料は、有機材料であってもよいし、無機材料であってもよい。発光層を形成する有機材料は、蛍光性色素化合物や燐光発光性材料をホスト材料である他の物質に添加した材料であってもよい。なお、ホスト材料は、ホール輸送層を構成する材料や電子輸送層を構成する材料であることが好ましい。赤色用のＥＬ層１５Ｒ、緑色用のＥＬ層１５Ｇ、青色用のＥＬ層１５Ｂ、および、白色用のＥＬ層１５Ｗを構成する材料は、特に限定されず、公知の材料が用いられる。
【０２０２】
・白色用のＥＬ層１５Ｗにおける発光層を構成する材料は、発光する光の色が互いに異なる材料の混合体であってもよい。例えば、白色用のＥＬ層１５Ｗにおける発光層は、赤色用の発光層を構成する材料と、緑色用の発光層を構成する材料と、青色用の発光層を構成する材料との混合体であってもよい。
【０２０３】
・赤色用の発光層を形成する低分子系有機物質は、例えば、4-(Dicyanomethylene)-2-methyl-6-julolidyl-9-enyl-4H-pyran、(5,6,11,12)-Tetraphenylnaphthacene、Bis[1-(9,9-dimethyl-9H-fluoren-2-yl)-isoquinoline](acetylacetonate)iridium(III)である。
【０２０４】
・緑色用の発光層を形成する低分子系有機物質は、例えば、Tris(2-phenylpyridine)iridium(III)、Tris[2-(p-tolyl)pyridine]iridium(III)、9,10-Bis[phenyl(m-tolyl)-amino]anthraceneである。
【０２０５】
・青色用の発光層を形成する低分子系有機物質は、例えば、Perylene、1,4-Bis[2-(3-N-ethylcarbazoryl)vinyl]benzene、4-(Di-p-tolylamino)-4'-[(di-p-tolylamino)styryl]stilbene、4,4'-Bis[4-(diphenylamino)styryl]biphenylである。
【０２０６】
［画素の表現する色］
・画素は、白色以外の光を受けて、その光の色を調整するカラーフィルターをさらに備えてもよい。例えば、赤色出光画素１０Ｒは、赤色の光を受けて、その光の色の波長帯を赤色の帯域でさらに狭くするカラーフィルターを備えてもよし、緑色出光画素１０Ｇは、緑色の光を受けて、その光の色の波長帯を緑色の帯域でさらに狭くするカラーフィルターを備えてもよい。青色出光画素１０Ｂは、青色の光を受けて、その光の色の波長帯を青色の帯域でさらに狭くするカラーフィルターを備えてもよい。この際に、赤色出光画素１０Ｒは、白色用の発光層が生成した光を赤色の光に変換するカラーフィルターを備えていてもよいし、緑色出光画素１０Ｇは、白色用の発光層が生成した光を緑色の光に変換するカラーフィルターを備えていてもよい。青色出光画素１０Ｂは、白色用の発光層が生成した光を青色の光に変換するカラーフィルターを備えていてもよい。
【０２０７】
［画素の形状と配置］
・光の取り出し面から見た各色出光画素の形状は、特に限定されず、例えば、矩形形状であってもよいし、矩形以外の多角形形状であってもよい。光の取り出し面から見た各色出光画素の大きさは、特に限定されず、例えば、赤色出光画素１０Ｒと緑色出光画素１０Ｇと青色出光画素１０Ｂとが、互いに等しい大きさ有してもよい。あるいは、赤色出光画素１０Ｒが緑色出光画素１０Ｇよりも大きく、かつ、青色出光画素１０Ｂが緑色出光画素１０Ｇよりも大きくてもよい。光の取り出し面から見た各色出光画素の形状や、光の取り出し面から見た各色出光画素の大きさは、ＥＬ表示装置の形式、ＥＬ表示装置に必要とされる解像度、ＥＬ表示装置の製造方法に起因する制約などに従って、適宜設定されるものである。
【０２０８】
・光の取り出し面から見た画素の配置は、特に限定されず、例えば、１つの直線上に並ぶ画素から１つの画素列が構成され、画素列の延びる方向とは交差する方向に沿って、複数の画素列が繰り返されてもよい。あるいは、赤色出光画素１０Ｒ、緑色出光画素１０Ｇ、青色出光画素１０Ｂから１つの画素群が構成され、１つの直線上に複数の画素群が配置される構成であってもよい。また、赤色出光画素１０Ｒ、緑色出光画素１０Ｇ、青色出光画素１０Ｂ、白色出光画素１０Ｗから１つの画素群が構成され、１つの直線上に複数の画素群が配置される構成であってもよい。
【０２０９】
また、画素列における画素の並びは、特に限定されず、赤色出光画素１０Ｒ、緑色出光画素１０Ｇ、青色出光画素１０Ｂの順に繰り返されてもよいし、赤色出光画素１０Ｒ、青色出光画素１０Ｂ、緑色出光画素１０Ｇの順に繰り返されてもよい。画素群における画素の並びは、特に限定されず、直線上に画素が並んでもよいし、多角形の頂点に画素が配置されてもよい。例えば、互いに等しい矩形形状を有する画素が二次元方向に沿ってならぶ単純なマトリックス状であってもよいし、表現する色ごとに互いに異なる大きさを有する画素が二次元方向に沿って並ぶことによって白色の表現を高めるペンタイルマトリックス状であってもよい。光の取り出し面から見た画素の配置は、ＥＬ表示装置の形式、ＥＬ表示装置に必要とされる解像度、ＥＬ表示装置の製造方法に起因する制約などに従って、適宜設定されるものである。
【０２１０】
上記各実施形態は、以下のように変更して実施できる。
・互いに異なる出光色を出射する画素の各々にて、出射される光の波長の一部は、互いに重なってもよい。互いに異なる出光色を出射する画素の各々にて、出光スペクトルにおけるピークの半値幅に対応する波長帯が、互いに異なることが最も重要であり、出射する光が互いに重なる波長を有しなくてもよい。要は、複数の画素の各々におけるプラズモニック構造が有する最頻ピッチは、プラズモン光を励起する大きさであり、かつ、プラズモン光の波長が、出光スペクトルのピークにおける半値幅に対応する波長帯に含まれる構成であればよい。そして、半値幅に対応する波長帯が短波長側に位置するほど、プラズモニック構造における周期長が小さい構成であればよい。複数の画素の各々にて、出光スペクトルにおいて半値幅の波長帯が短波長側に位置するほど、互いに隣り合う段差部の間の間隔が小さい構成であればよい。
【０２１１】
・ＥＬ表示装置に備えられる複数の画素が、互いに異なる３色以上を出射するとき、少なくとも互いに異なる２色を出射する画素にて、プラズモニック構造の最頻ピッチは、プラズモン光を励起する大きさであり、かつ、プラズモン光の波長が、出光スペクトルのピークにおける半値幅に対応する波長帯に含まれる構成であればよい。そして、出光色の波長帯が短波長側に位置するほど、互いに隣り合う段差部の間の間隔が小さい構成であればよい。ＥＬ表示装置では、互いに異なる２色を出射する画素にて、プラズモン光の波長が、半値幅に対応する波長帯に含まれることが最も重要であり、２色以外の色を出射する画素では、プラズモニック構造そのものが省略されてもよい。ＥＬ表示装置では、出光色の波長帯が互いに異なる画素間で、互いに隣り合う段差部の間の間隔が等しいという構成が含まれてもよい。また、ＥＬ表示装置では、出光色の波長帯が短波長側に位置する画素ほど、互いに隣り合う段差部の間の間隔が大きいという構成が含まれてもよい。
【符号の説明】
【０２１２】
Ｓ１１，Ｓ２１，Ｓ３１…画素回路形成工程、Ｓ１２，Ｓ２２，Ｓ３２…絶縁層形成工程、Ｓ１３，Ｓ２４，Ｓ３６…陰極層形成工程、Ｓ１４…プラズモニック構造形成工程、Ｓ１５，Ｓ２５，Ｓ３５…ＥＬ層形成工程、Ｓ１６，Ｓ２６，Ｓ３３…陽極層形成工程、Ｓ２３，Ｓ３４…周期構造形成工程、３ＲＨ…赤色用下地段差、３ＲＳ…段差面、４ＢＨ…青色用段差、４ＢＳ，４ＧＳ，４ＲＳ，４ＷＳ…陰極面、４ＣＢ…青色用ピッチ、４ＣＧ…緑色用ピッチ、４ＣＲ…赤色用ピッチ、４ＧＨ…緑色用段差、４ＲＨ…赤色用段差、６ＢＳ，６ＧＳ，６ＲＳ…陽極面、６ＲＨ…陽極段差、１０Ｂ，１０Ｇ，１０Ｒ，１０Ｗ…画素、１１…基板、１２Ｂ，１２Ｇ，１２Ｒ，１２Ｗ…画素回路、１３…絶縁層、１４，１４Ｂ，１４Ｇ，１４Ｒ…陰極層、１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒ，１５Ｗ…ＥＬ層、１６，１６Ｂ，１６Ｇ，１６Ｒ…陽極層、１７…陽極間絶縁層、１７Ｓ…陽極間斜面、２０Ｂ，２０Ｇ，２０Ｒ…画素駆動部、２５Ｂ，２５Ｇ，２５Ｒ…カラーフィルター、２５Ｗ…白色透過層、３０Ｂ，３０Ｇ，３０Ｒ…ＥＬ構造体。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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