(57)【要約】【課題】前面板の一主面上に高い電磁波遮蔽性能を有する電磁波遮蔽膜を、安価な製造プロセスにより容易に形成することができ、かつ高い透明性を維持することができ、しかも、既設の遊技機に対しても容易に適用可能な電磁波遮蔽膜付き遊技機を提供する。【解決手段】透明性を有する前面板の一主面上に電磁波遮蔽膜１２を設けてなる遊技機であり、この電磁波遮蔽膜１２は、柔軟性を有する透明フィルム２１の一主面上に、プライマー層２２と、金属または合金からなる網目状パターンを有する電磁波遮蔽層２３とを積層し、この電磁波遮蔽層２３における網目状パターンの開口部の面積の割合は７５％以上かつ９５％以下である。【選択図】図３
2015002924.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明性を有する前面板の一主面上に電磁波遮蔽膜を設けてなる遊技機であって、
前記電磁波遮蔽膜は、柔軟性を有する透明基材の一主面上に、下地層と、金属または合金からなる網目状パターンを有する電磁波遮蔽層とを積層してなり、
前記電磁波遮蔽層における前記網目状パターンの開口部の面積の割合は７５％以上かつ９５％以下であることを特徴とする電磁波遮蔽部材付き遊技機。
【請求項２】
前記電磁波遮蔽膜は、入射する電磁波を１／５０以下に減衰することを特徴とする請求項１記載の電磁波遮蔽膜付き遊技機。
【請求項３】
前記電磁波遮蔽膜は、可視光線の全光線透過率が７５％以上であることを特徴とする請求項１または２記載の電磁波遮蔽膜付き遊技機。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁波遮蔽膜付き遊技機に関し、更に詳しくは、パチンコ遊技機、スロットマシン、ゲーム機等の各種遊技機の内部に搭載された電子制御回路基板が外部からの不正電波により誤作動するのを防止する電磁波遮蔽膜付き遊技機に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
パチンコ遊技機の前面板は、法律にて「全体の構造の見通しを妨げるものではないこと」及び「遊技盤上の遊技球の位置を確認することができるものであること」が定められており、通常、この前面板には透明ガラスが使用されている。
しかしながら、この透明ガラスは、電気抵抗が高く、電波を通し易いので、この特性を逆手に取った行為、例えば、外部から不正電波を前面板を通して、遊技機の内部に搭載された電子制御回路基板に放射させることにより、この電子制御回路基板を誤作動させ、意図的に大当たり等を出させるという不正行為が問題となっている。
【０００３】
そこで、上記の不正行為を防止するために、パチンコ遊技機に不正電波検知手段を設けた構造（例えば、特許文献１〜３参照）、前面板に、ガラス板上に酸化錫の導電体膜を形成した電磁波遮蔽ガラスを用いた構造（例えば、特許文献４参照）、導電性の合成繊維織布を透明樹脂板にて挟み込んだ電磁波検出用アンテナと、この電磁波検出用アンテナから出力される信号を受信する電磁波検知装置と、信号を受信した際に警報を発生させる警報装置とを備えた構造（例えば、特許文献５参照）等が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−１１２９９７号公報
【特許文献２】特開平６−３２７８２８号公報
【特許文献３】特開平２−２２４６８８号公報
【特許文献４】特開２０００−２１６５９０号公報
【特許文献５】特開平１１−３３３１２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１〜３に記載された不正電波検知手段を設けた構造では、不正電波検知手段が誤作動した場合、この誤作動により発生する警報音が他の遊技者に迷惑を及ぼす場合があるという問題点があった。また、この構造では、不正電波検知手段を作動させるための電源回路や、この不正電波検知手段を制御するための中央演算装置（ＣＰＵ）等が必要になることから、遊技機内部の改良を行う必要があり、既設のパチンコ遊技機へは容易に適用することができないという問題点があった。
【０００６】
また、特許文献４に記載された酸化錫の導電体膜をガラス板上に形成した構造では、ガラス板上の導電体膜の抵抗値を１５Ω／□以下としているが、この抵抗値では、不正電波に対する遮蔽性能を十分に得ることができないという問題点があった。
また、酸化錫の導電体膜をガラス板上に形成するには、スパッタリングや蒸着法等の薄膜形成技術を用いる必要があるが、これらの薄膜形成技術では、導電体膜をガラス板上に均―に成膜することが難しく、特に、ガラス板が湾曲面を有する場合、均一に成膜することが困難であった。さらに、これらの薄膜形成技術は、製造コストが高くつくという問題点もあった。
【０００７】
また、特許文献５に記載された導電性の合成繊維織布を透明樹脂板にて挟み込んだ電磁波検出用アンテナを用いた構造では、導電性の合成繊維織布の細線化が困難であることから、十分な透明性を確保することができず、したがって、遊技に支障をきたす虞があるという問題点があった。
【０００８】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、前面板の一主面上に高い電磁波遮蔽性能を有する電磁波遮蔽膜を、安価な製造プロセスにより容易に形成することができ、かつ高い透明性を維持することができ、しかも、既設の遊技機に対しても容易に適用可能な電磁波遮蔽膜付き遊技機を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者等は、既に、各種フラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）等に好適に用いられ、優れた透明性を有し、短工程かつ安価な製造プロセスにて高精度のパターニングが可能な電磁波遮蔽膜を提案している（特開２００８−３００７２４号公報参照）。
この電磁波遮蔽膜は、柔軟性を有する透明基材の一主面上に、下地層及び網目状パターンを有する電磁波遮蔽層を積層したものであり、この電磁波遮蔽層は、触媒インク層と、この触媒インク層上に無電解メッキにより形成した金属層とにより構成されている。この電磁波遮蔽膜は、９９％以上の電磁波遮蔽率と、８０％以上の全光線透過率の両立が可能である。
【００１０】
そこで、この電磁波遮蔽膜をパチンコ遊技機、スロットマシン、ゲーム機等の各種遊技機への適用について鋭意検討した結果、この電磁波遮蔽膜を、遊技機の透明性を有する前面板の一主面上に設ければ、遊戯性を損なうことなく、不正電波による悪質な行為を防止することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１１】
すなわち、本発明の電磁波遮蔽膜付き遊技機は、透明性を有する前面板の一主面上に電磁波遮蔽膜を設けてなる遊技機であって、前記電磁波遮蔽膜は、柔軟性を有する透明基材の一主面上に、下地層と、金属または合金からなる網目状パターンを有する電磁波遮蔽層とを積層してなり、前記電磁波遮蔽層における前記網目状パターンの開口部の面積の割合は７５％以上かつ９５％以下であることを特徴とする。
【００１２】
前記電磁波遮蔽膜は、入射する電磁波を１／５０以下に減衰することが好ましい。
前記電磁波遮蔽膜は、可視光線の全光線透過率が７５％以上であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の電磁波遮蔽膜付き遊技機によれば、透明性を有する前面板の一主面上に設ける電磁波遮蔽膜を、柔軟性を有する透明基材の一主面上に、下地層と、金属または合金からなる網目状パターンを有する電磁波遮蔽層とを積層したものとし、この電磁波遮蔽層における網目状パターンの開口部の面積の割合を７５％以上かつ９５％以下としたので、可視光線の透過率を十分に維持しつつ、外部からの不正電磁波を十分に遮蔽することができる。したがって、不正電磁波による誤作動を防止することができ、しかも、遊戯性を損なうことはない。
また、不正電波検知手段、電磁波検出用アンテナ及び電磁波検知装置等の周辺装置が不要であるから、既設の遊技機に容易に適用することができ、警報音による他の遊技者への影響もない。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の一実施形態の電磁波遮蔽膜付き遊技機を示す模式図である。
【図２】本発明の一実施形態の電磁波遮蔽膜付き遊技機の前面板を示す模式図である。
【図３】本発明の一実施形態の電磁波遮蔽膜を示す平面図である。
【図４】本発明の一実施形態の電磁波遮蔽膜を示す部分拡大断面図である。
【図５】本発明の一実施形態の電磁波遮蔽膜の変形例を示す部分拡大断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明の電磁波遮蔽膜付き遊技機を実施するための形態について説明する。
なお、以下の実施の形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
【００１６】
図１は、本発明の一実施形態の電磁波遮蔽膜付き遊技機を示す模式図であり、図２は、同電磁波遮蔽膜付き遊技機の前面板を示す模式図である。
図において、符号１は電磁波遮蔽膜付き遊技機であり、遊技機本体２の前面側にヒンジ（図示せず）を介して透明性を有する電磁波遮蔽膜付き前面板３が回動自在に設けられている。
この電磁波遮蔽膜付き前面板３は、透明なガラス板等からなる前面板１１の表面（一主面）上に、電磁波遮蔽膜１２が、粘着剤等の固定手段１３を介して一体化されている。
【００１７】
この電磁波遮蔽膜付き遊技機１における遊技機とは、遊技機本体に透明性を有する前面板を設けた構成の遊技機であればよく、例えば、パチンコ遊技機、スロットマシン、あるいはスーパーマーケット等のゲームコーナーやゲームセンター等に設置されている各種ゲーム機等が挙げられる。
【００１８】
この電磁波遮蔽膜１２は、図３及び図４に示すように、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の柔軟性を有する透明フィルム（透明基材）２１の上面全体にプライマー層（下地層）２２が形成され、このプライマー層２２上に網目状パターンを有する電磁波遮蔽層２３が形成されている。
この電磁波遮蔽層２３は、プライマー層２２上にグラビア印刷法により網目状パターンに形成された薄膜状の触媒インク層２４と、この触媒インク層２４上に無電解メッキ法により前記網目状パターンと同一パターン形状に形成された金属層２５とにより構成されている。
【００１９】
図５は、本実施形態の電磁波遮蔽膜の変形例を示す部分拡大断面図であり、この電磁波遮蔽膜３１が、図３及び図４に示す電磁波遮蔽膜１２と異なる点は、網目状パターンを有する電磁波遮蔽層３２をさらに低抵抗とするために、金属層２５上に、電解メッキ法により形成された銅、ニッケル等からなる（第２の）金属層３３を積層した点である。
【００２０】
次に、上記の電磁波遮蔽膜１２、３１についてより詳細に説明する。
透明フィルム２１は、遊技機としての構造上の特性により、可視光線に対して透明である必要がある。このような透明フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリウレタン樹脂等の柔軟性を有する透明フィルムが好ましい。
【００２１】
プライマー層２２は、酸化物微粒子及び有機高分子を含む複合材料により構成されている。
酸化物微粒子としては、アルミナ、チタニア、ジルコニア等の金属酸化物、あるいはシリカ等の無機酸化物が挙げられ、これら２種以上を混合してもよい。
有機高分子としては、金属層２５、３３を無電解メッキで形成する際のメッキ浴に対して耐性を有する樹脂、例えば、耐熱温度が１２０〜１５０℃で耐薬品性に優れた樹脂であれば使用でき、エチルセルロース、プロピルセルロース等のセルロース誘導体、ポリビニルブチラール、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ロジンエステル樹脂等が挙げられ、これら２種類以上を混合してもよい。
【００２２】
特に、ポリウレタン樹脂等の柔軟性を有する樹脂を使用すれば、プライマー層自体が柔軟性を有することとなり、グラビア印刷法にて触媒インクが胴版からプライマー層上に転写される際に、プライマー層が胴版のパターン溝に追従して接触し、かつパターン溝に押し込められることで、転写性も良好となるので好ましい。
【００２３】
これら酸化物微粒子（Ｍ）と有機高分子（Ｒ）との比率（Ｍ／Ｒ）は、質量比で９０／１から１０／９０までの範囲が好ましく、より好ましくは６０／４０から４０／６０までの範囲である。
ここで、酸化物微粒子の比率（Ｍ／Ｒ）が９０／１０より高いと、透明フィルム２１との密着強度が弱くなり、得られた電磁波遮蔽膜１２、３１自体の透過率が低下し、ヘーズ値が高くなり透明性が低下する。一方、比率（Ｍ／Ｒ）が１０／９０より低いと、透明フィルム２１との密着強度が弱くなるに加えて、グラビア印刷法により触媒インク層を形成する際の受容層としての効果が小さく、印刷した触媒インク層に垂れ、滲みを生じる虞がある。
【００２４】
また、このプライマー層２２の厚みは、０．５μｍ以上かつ１０μｍ以下が好ましく、より好ましくは１μｍ以上かつ３μｍ以下である。
プライマー層２２の厚みが０．５μｍより薄いと、グラビア印刷法により触媒インク層を形成する際の受容層としての効果が小さくなる。一方、厚みが１０μｍより厚いと、印刷した触媒インク層に割れ等が生じる虞がある。
【００２５】
触媒インク層２４は、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子と、有機高分子を含む複合材料により構成されており、さらに黒色顔料を含むことが好ましい。
ここで、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子を用いたのは、貴金属微粒子を酸化物微粒子に担持させることにより、印刷に適する触媒インクのチクソトロピー性が得られ、良好な印刷形状が得られるからである。
貴金属微粒子としては、パラジウム、白金、金等の微粒子が挙げられる。これらの貴金属微粒子は２種類以上を混合して用いても良い。
また、酸化物微粒子としては、アルミナ、酸化亜鉛、ジルコニア、チタニア等の金属酸化物微粒子が挙げられる。これらの金属酸化物微粒子は２種類以上を混合して用いても良い。
【００２６】
この貴金属微粒子（Ｎ）と酸化物微粒子（Ｍ）の比率（Ｎ／Ｍ）は、質量比で０．５／９９．５から５／９５までの範囲が好ましく、より好ましくは１／９９から２／９８までの範囲である。貴金属微粒子の比率（Ｎ／Ｍ）が０．５／９９．５よりも低いと、無電解メッキの触媒として機能しない。一方、比率（Ｎ／Ｍ）が５／９５よりも高いと、無電解メッキの触媒としての機能が飽和するとともに、必要以上に高価な貴金属を使用することとなり、コストアップの原因となる。
【００２７】
有機高分子としては、グラビア印刷法に対して適正があり、アルカリ性の無電解メッキ液に対して耐性を有する樹脂であればよく、エチルセルロース、ロジンエステル系樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は２種類以上を混合して用いても良い。
【００２８】
また、貴金属微粒子を担持させた酸化物微粒子（ＮＭ）と、有機高分子（Ｒ）との比率（ＮＭ／Ｒ）は、質量比で４０／６０から８０／２０までの範囲が好ましく、より好ましくは６０／４０から７０／３０までの範囲である。貴金属微粒子担持酸化物微粒子の比率（ＮＭ／Ｒ）が４０／６０よりも低いと、含まれている貴金属微粒子が高分子樹脂でほとんど覆われてしまい、無電解メッキの触媒として機能しなくなる。一方、比率（ＮＭ／Ｒ）が８０／２０よりも高いと、印刷性が悪くなり、かつ高分子樹脂による印刷膜の硬化が不足し、透明フィルムとの密着性が得られなくなる。
【００２９】
黒色顔料は、触媒インク層２４を黒色に着色して光反射を防止することで、電磁波遮蔽膜付き前面板３を通しての視認性を向上させるために添加されるものであり、このような黒色顔料としては、例えば、カーボンブラック等が挙げられる。
【００３０】
この触媒インク層２４の厚みは、例えば、０．５μｍ以上かつ３．０μｍ以下が好ましく、より好ましくは１．０μｍ以上かつ２．０μｍ以下である。
触媒インク層２４の厚みが０．５μｍを下回ると、無電解メッキでの金属析出量が低下し、その結果、電磁波を遮蔽するに充分な低抵抗（例えば０．２Ω／□以下）の金属層２５が得られない。一方、触媒インク層２４の厚みが３．０μｍを超えると、網目状の電磁波遮蔽層２３のパターンが厚くなり、電磁波遮蔽層２３が形成されていない部分すなわち開口部との段差（凹凸）が大きくなるために、この段差（凹凸）を平坦にする平坦化処理を行わないと電磁波遮蔽膜１２を光学用途に適用することが難しくなるので好ましくない。
【００３１】
金属層２５は、電磁波遮蔽膜１２に、電磁波を遮蔽する充分な導電性を付与するためのもので、その材質は電気抵抗が低い金属または合金であれば特に限定されず、例えば、金、銀、銅、白金、アルミニウム、ニッケル、スズ、チタン、及びそれらの合金等から選択することができる。これら金属や合金の中では、低抵抗値とコストを考慮すると、銀、銀合金、銅、銅合金等が好ましく、また、無電解メッキ法による形成が容易に行うことができる点を考慮すると、銅、ニッケルが好ましい。これらの理由から、金属層２５は、通常、無電解銅メッキ層またはニッケルメッキ層により構成される。
【００３２】
金属層２５の膜厚は１．０μｍ以上かつ５．０μｍ以下が好ましい。
金属層２５の膜厚を上記の範囲に限定した理由は、膜厚が１．０μｍ未満であると、電磁波を遮蔽するに充分な低抵抗（例えば、表面抵抗が０．２Ω／□以下）の金属層とならない。一方、膜厚が５．０μｍを超えると、網目状の電磁波遮蔽層２３のパターンが厚くなり、電磁波遮蔽層２３が形成されていない部分すなわち開口部との段差（凹凸）が大きくなるために、この段差（凹凸）を平坦にする平坦化処理を行わないと電磁波遮蔽膜１２を光学用途に適用することが難しくなるので好ましくない。
【００３３】
金属層２５の線幅Ｌ及び線間隔Ｓは、この金属層２５が電磁波を遮蔽する充分な導電性を有する必要があることから、例えば、線幅Ｌは５μｍ以上かつ１００μｍ以下、線間隔Ｓは１５０μｍ以上かつ５００μｍ以下とされている。
【００３４】
この金属層２５の頂面及び両側面には、可視光線の反射を抑え、電磁波遮蔽膜付き前面板３を通しての視認性を向上させるために、黒色化層が形成されていることが好ましい。
黒色化層としては、金属層２５の表面に黒色金属層、黒色電着層のうちいれか一方または双方を設けてもよく、金属層２５表面自体に酸化処理や硫化処理を施して黒色化してもよい。例えば、黒色金属層としては、黒色ニッケルメッキ層、黒色クロムメッキ層、ニッケル−スズ合金メッキ層等が挙げられる。また、黒色電着層は、電着により設けられる黒色の層であり、例えば、黒色顔料を電着樹脂中に分散させた黒色塗料を用いて電着塗装することにより、設けることができる。
【００３５】
この電磁波遮蔽層２３における網目状パターンの開口部（金属層２５が設けられていない部分）の面積の割合は、７５％以上かつ９５％以下、すなわち金属層２５の専有面積が５％を超えかつ２５％未満とすることが好ましく、より好ましくは開口部の面積の割合が８５％以上かつ９０％以下、すなわち金属層２５の専有面積が１０％を超えかつ１５％未満である。
ここで、開口部が９５％を超えた場合（金属層２５が５％未満）では、金属層２５が細すぎて十分な導電性が得られず、電磁波遮蔽性能が低下するので好ましくない。一方、開口部が７５％未満（金属層２５が２５％超え）では、透明性が不足し、遊技性を損なってしまう虞があるので好ましくない。
【００３６】
また、この電磁波遮蔽層２３の頂面のプライマー層２２の表面からの高さ、すなわち触媒インク層２４と金属層２５との厚みの合計は、５．０μｍ以下であることが好ましい。
電磁波遮蔽層２３の頂面のプライマー層２２の表面からの高さが５．０μｍ以下であれば、電磁波遮蔽層２３の頂面と、電磁波遮蔽層２３が形成されていない部分、すなわち開口部との段差（凹凸）が小さいことから、この段差（凹凸）を平坦にする平坦化処理を施さなくても電磁波遮蔽層２３の透明性を維持することができ、よって、光学用途に適用することができる。一方、電磁波遮蔽層２３の頂面のプライマー層２２の表面からの高さが５．０μｍを超えた場合、平坦化処理を行わないと電磁波遮蔽膜１２を光学用途に適用することが難しくなるので好ましくない。
【００３７】
金属層２５の形状、寸法、材質を上記のように制御することにより、電磁波遮蔽層２３の抵抗値を電磁波を遮蔽するに充分な低抵抗、例えば、表面抵抗が０．２Ω／□以下とすることができ、よって電磁波遮蔽膜１２における電磁波の減衰率を入射電磁波の１／５０以下に抑えることができる。電磁波の減衰率は、入射電磁波の１／７０以下がより好ましく、１／１００以下がさらに好ましい。
【００３８】
また、触媒インク層２４及び金属層２５の形状、寸法、材質を上述したように制御することにより、電磁波遮蔽膜１２における可視光線の全光線透過率を７５％以上に維持することができる。この可視光線の全光線透過率は、８０％以上であればより好ましく、９０％以上であればさらに好ましい。
【００３９】
一方、図５にて示される本実施形態の電磁波遮蔽膜の変形例では、電磁波遮蔽膜３１にて用いられる（第２の）金属層３３は、金属層２５上に必要に応じて設けられ、電解メッキ法により形成された金属や合金からなるもので、その材質は、金属層２５と同様、例えば、金、銀、銅、白金、アルミニウム、ニッケル、スズ、チタン、及びそれらの合金等から選択することができる。
この金属層３３は電解メッキにより形成されるから、無電解メッキ法ではなく電解メッキ法による形成が容易な材質が好ましい。なお、金属層２５と金属層３３の材質は同一でもよく異なっていてもよい。
【００４０】
ここで、金属層３３を設ける理由は、この金属層３３は電解メッキ法で形成されるので、金属層２５と比べてより緻密で低抵抗の金属層が得られるからである。したがって、電磁波遮蔽層２３における導電性網目状パターン部が金属層２５のみであっても、この電磁波遮蔽層２３が十分な電磁波遮蔽能力を有している場合には、金属層３３を設ける必要はない。
【００４１】
一方、上述した通り金属層の膜厚には上限があることから、電磁波遮蔽層２３における導電性を有する網目状パターンを金属層２５のみとした場合、金属層２５の膜厚を最大の５．０μｍとしても、この電磁波遮蔽層２３の抵抗値が十分低くならず（例えば、表面抵抗が０．２Ω／□を超えてしまう等）電磁波遮蔽能力が不十分な場合には、金属層２５の膜厚を減じて、この金属層２５上にさらに金属層３３を設けることにより、金属層全体としての抵抗値を減じさせ、電磁波遮蔽層３２の電磁波遮蔽能力を向上させることができる。
【００４２】
この金属層３３の線幅Ｌ及び線間隔Ｓは、上記の金属層２５と同様、例えば、線幅Ｌは５μｍ以上かつ１００μｍ以下、線間隔Ｓは１５０μｍ以上かつ５００μｍ以下とされている。
【００４３】
この電磁波遮蔽層３２における網目状パターンの開口部（金属層２５、３３が設けられていない部分）の面積の割合は、上記の電磁波遮蔽層２３と同様、７５％以上かつ９５％以下、すなわち金属層２５、３３の専有面積が５％を超えかつ２５％未満とすることが好ましく、より好ましくは開口部の面積の割合が８５％以上かつ９０％以下、すなわち金属層２５、３３の専有面積が１０％を超えかつ１５％未満である。
この網目状パターンの開口部の面積の割合を上記の範囲とした理由は、上記の電磁波遮蔽層２３と全く同様である。
【００４４】
また、金属層２５と金属層３３を合わせた２層構造全体の厚みは１．０μｍ以上かつ５．０μｍ以下であることが好ましい。
金属層２５及び金属層３３の形状、寸法、材質を上記のように制御することにより、電磁波遮蔽層３２の抵抗値を電磁波を遮蔽するに充分な低抵抗、例えば、表面抵抗が０．２Ω／□以下とすることができ、よって電磁波遮蔽膜３１における電磁波の減衰率を入射電磁波の１／５０以下に抑えることができる。
電磁波の減衰率は、入射電磁波の１／７０以下がより好ましく、１／１００以下がさらに好ましい。
【００４５】
さらに、電磁波遮蔽層３２の頂面のプライマー層２２の表面からの高さ、すなわち触媒インク層２４と金属層２５と金属層３３との厚みの合計は、５．０μｍ以下であることが好ましい。
触媒インク層２４、金属層２５及び金属層３３の形状、寸法、材質を上述したように制御することにより、電磁波遮蔽膜３１における可視光線の全光線透過率を７５％以上に維持することができる。この可視光線の全光線透過率は、８０％以上であればより好ましく、９０％以上であればさらに好ましい。
【００４６】
以上説明したように、本実施形態の電磁波遮蔽膜付き遊技機１によれば、前面板１１の表面上に電磁波遮蔽膜１２を設け、この電磁波遮蔽膜１２を、柔軟性を有する透明フィルム２１の上面全体にプライマー層２２を形成し、このプライマー層２２上に網目状パターンを有する電磁波遮蔽層２３を形成した構成とし、この電磁波遮蔽層２３を、網目状パターンの触媒インク層２４と、この網目状パターンと同一パターン形状の金属層２５とにより構成し、さらに、この電磁波遮蔽層２３における網目状パターンの開口部の面積の割合を７５％以上かつ９５％以下としたので、可視光線の透過率を十分に維持しつつ、外部からの不正電磁波を十分に遮蔽することができる。したがって、不正電磁波による誤作動を防止することができ、しかも、遊戯性を損なうことはない。
【００４７】
また、不正電波検知手段、電磁波検出用アンテナ及び電磁波検知装置等の周辺装置が不要であるから、既設の遊技機に容易に適用することができ、警報音による他の遊技者への影響もない。
さらに、電磁波遮蔽膜１２は、柔軟性を有する透明フィルム２１を基材としていることから、ガラス板等からなる前面板１１に対する貼り付け作業が容易になるばかりか、この前面板１１が湾曲面を有する場合においても、この前面板１１に対して容易に貼り付けを行うことができる。
【００４８】
なお、本実施形態の電磁波遮蔽膜付き遊技機１においては、電磁波遮蔽膜１２の透明フィルム２１側を前面板１１と対向させてもよく、電磁波遮蔽膜１２の電磁波遮蔽層２３側を前面板１１と対向させてもよい。例えば、透明フィルム２１側を前面板１１と対向させた場合には、平面性の高い透明フィルム２１と、透明なガラス板等の前面板１１とを、直接貼り合わせることができ、接着強度を向上させることができる。一方、電磁波遮蔽層２３側を前面板１１と対向させた場合には、電磁波遮蔽層２３が、ガラス板等の前面板１１と透明フィルム２１により挟まれて保護される形となるので、耐擦傷性を向上させることができる。この場合、電磁波遮蔽膜１２の貼り直しは、電磁波遮蔽層２３を傷め易いので、好ましくない。
【００４９】
また、前面板１１の表面上に、電磁波遮蔽膜１２を、粘着剤等の固定手段１３を介して一体化した構成としたが、前面板１１の表面に電磁波遮蔽膜１２が設けられた構成であればよく、この構成に特段の限定はない。例えば、前面板１１の表面上に、電磁波遮蔽膜１２の全面が、粘着剤や接着剤等を介して密着固定されていてもよく、電磁波遮蔽膜１２の一部が粘着剤や接着剤等を介して密着固定され、他の部分は単に接していてもよい。
また、電磁波遮蔽膜１２の一部が密着固定され、他の部分は、前面板１１の表面と電磁波遮蔽膜１２との間に空隙を有していることとしてもよく、前面板１１の表面と、電磁波遮蔽膜１２とを、一定の間隔を置いて対向配置した状態で、これらを固定してもよい。さらに、電磁波遮蔽膜１２を他の透明基材に固定した後に、この電磁波遮蔽膜１２を固定した透明基材と、前面板１１とを固定してもよい。
【００５０】
さらに、固定手段１３についても特段の限定は無く、公知の粘着剤や接着剤を用いればよい。
また、電磁波遮蔽膜１２を構成している材質自体が粘着性や接着性を有するものであってもよい。さらには、前面板１１と電磁波遮蔽膜１２とを、物理的な固定手段、例えば、ネジ、固定ピン等を用いて一体化してもよい。
【実施例】
【００５１】
以下、実施例及び比較例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
【００５２】
［実施例１］
「プライマー層形成用塗料の作製及びプライマー層の形成」
アルミナ（酸化アルミニウム）粉体２４０ｇ及びリン酸エステル系分散剤２８ｇをトルエン１３３２ｇに投入し、サンドミルを用いて分散させ、アルミナ分散液を作製した。
【００５３】
次いで、エチルセルロース２４０ｇをトルエン１８０８ｇに溶解させ、この溶液に、上記のアルミナ分散液とシクロヘキサノン５５２ｇとメチルエチルケトン（ＭＥＫ）１８００ｇを加え、ホモジナイザーにて混合し、プライマー層形成用塗料を作製した。
次いで、このプライマー層形成用塗料を、厚みが１２５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上にマイクログラビア印刷により塗工し、その後乾燥し、ＰＥＴフィルムの表面にプライマー層が形成された透明フィルムを得た。得られたプライマー層の膜厚は２μｍであった。
【００５４】
「触媒インクの作製及び触媒インク層の形成」
パラジウム微粒子３．５ｇとγ−アルミナ１７１．５ｇをエタノール中で分散、凝集させ、次いで固液分離し、その後乾燥させ、パラジウム微粒子を担持させたγ−アルミナ微粒子を得た。
次いで、α−テルピネオール４７２ｇ及びブチルカルビトールアセテート２３６ｇを混合した溶液に、エチルセルロース９０ｇを溶解させ、さらに上記のパラジウム微粒子を担持させたγ−アルミナ微粒子とカーボンブラック９ｇを加え、三本ロールミルにて混合、分散し、触媒インクを作製した。
【００５５】
次いで、上記の透明フィルムのプライマー層上に、上記の触媒インクを用いて線幅Ｌ／線間隔Ｓ＝１８μｍ／１４７μｍのメッシュパターンをグラビア印刷し、次いで、８０℃にて５分間、乾燥し、厚みが１．５μｍの網目状の触媒インク層が形成されたメッシュフィルムを得た。このメッシュフィルムの網目状パターンの形状は非常に良好で、外観上の問題は無かった。
【００５６】
「金属層の形成」
上記のメッシュフィルムを、２５℃の無電解銅メッキ液 ＯＰＣ−７５０（奥野製薬社製）中に４０分間浸漬させ、網目状パターン上に銅を析出させ、金属層を形成した。
その後、この金属層上に、厚みが２．０μｍのニッケル／スズの合金メッキを施し、網目状パターンの表面を黒色化させ、金属メッシュ膜を作製した。
以上により、実施例１の電磁波遮蔽膜を得た。
この電磁波遮蔽膜における電磁波遮蔽層は、Ｌ／Ｓ＝２０μｍ／１４５μｍの網目状であり、開口率は７７％であった。
【００５７】
「電磁波遮蔽膜付き遊技機の作製」
パチンコ遊技機として、「ＣＲ大海物語スペシャル」（登録商標）（三洋物産社製）を用い、このパチンコ遊技機の透明ガラスからなる前面板に、上記の電磁波遮蔽膜を、両面テープにて貼り合わせて電磁波遮蔽膜付き前面板とし、実施例１の電磁波遮蔽膜付き遊技機を作製した。
【００５８】
「評価」
この電磁波遮蔽膜付き遊技機について、以下の評価を行った。評価方法は次のとおりである。
（電磁波遮蔽率）
電磁波遮蔽膜付き前面板について、ＫＥＣ法を用いて１ＭＨｚ〜１０ＧＨｚまでの電磁波遮蔽率を測定し、その測定結果を５段階にて評価した。
ここでは、電磁波遮蔽率が９９．０％以上のものを「５」、９８．０％以上かつ９９．０％未満のものを「４」、９５．０％以上かつ９８．０％未満のものを「３」、９２．０％以上かつ９５．０％未満のものを「２」、９２．０％未満のものを「１」とした。
【００５９】
（透明性）
電磁波遮蔽膜付き前面板の全光線透過率を、ヘーズメーター ＮＤＨ２０００（日本電色工業社製）を用いて測定し、その測定結果を４段階にて評価した。
ここでは、全光線透過率が８０％以上のものを「◎」、７５％以上かつ８０％未満のものを「○」、７０％以上かつ７５％未満のものを「△」、７０％未満のものを「×」とした。
【００６０】
（不正電波による誤作動）
不正行為に使用される電波放射器は、センサー部が遊技機の漏洩ノイズを感知することで、ランプが点滅し、このランプ点滅のタイミングに合わせて、不正電波、特に周波数１４４ＭＨｚ、４４０ＭＨｚ、１２００ＭＨｚの電波を放射している。
そこで、実際に不正行為に使用された電波放射器と同等の仕様の電波放射器を用い、（１）電磁波遮蔽膜付き前面板上にて遊技機の漏洩ノイズを感知することができるか否か、（２）電磁波遮蔽膜付き遊技機に対して上記の３種類の周波数の電波を放射し、遊技機の誤動作が発生するか否か、の２項目について評価した。
これらの評価結果を表１に示す。
【００６１】
［実施例２］
触媒インク層形成時におけるグラビア印刷のメッシュパターン寸法を変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２の電磁波遮蔽膜を得た。この電磁波遮蔽膜における電磁波遮蔽層は、Ｌ／Ｓ＝２０μｍ／１８０μｍの網目状であり、開口率は８１％であった。
次いで、この電磁波遮蔽膜を使用した以外は、実施例１と同様にして、実施例２の電磁波遮蔽膜付き遊技機を作製し、評価を行った。評価結果を表１に示す。
【００６２】
［実施例３］
触媒インク層形成時におけるグラビア印刷のメッシュパターン寸法を変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例３の電磁波遮蔽膜を得た。この電磁波遮蔽膜における電磁波遮蔽層は、Ｌ／Ｓ＝２０μｍ／２８０μｍの網目状であり、開口率は８７％であった。
次いで、この電磁波遮蔽膜を使用した以外は、実施例１と同様にして、実施例３の電磁波遮蔽膜付き遊技機を作製し、評価を行った。評価結果を表１に示す。
【００６３】
［実施例４］
触媒インク層形成時におけるグラビア印刷のメッシュパターン寸法を変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例４の電磁波遮蔽膜を得た。この電磁波遮蔽膜における電磁波遮蔽層は、Ｌ／Ｓ＝２０μｍ／３８０μｍの網目状であり、開口率は９０％であった。
次いで、この電磁波遮蔽膜を使用した以外は、実施例１と同様にして、実施例４の電磁波遮蔽膜付き遊技機を作製し、評価を行った。評価結果を表１に示す。
【００６４】
［実施例５］
触媒インク層形成時におけるグラビア印刷のメッシュパターン寸法をＬ／Ｓ＝９／３９１μｍに変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例５の電磁波遮蔽膜を得た。この電磁波遮蔽膜における電磁波遮蔽層は、Ｌ／Ｓ＝１０μｍ／３９０μｍの網目状であり、開口率は９５％であった。
次いで、この電磁波遮蔽膜を使用した以外は、実施例１と同様にして、実施例５の電磁波遮蔽膜付き遊技機を作製し、評価を行った。評価結果を表１に示す。
【００６５】
［比較例１］
触媒インク層形成時におけるグラビア印刷のメッシュパターン寸法をＬ／Ｓ＝１８μｍ／８５μｍに変更した以外は、実施例１と同様にして、比較例１の電磁波遮蔽膜を得た。この電磁波遮蔽膜における電磁波遮蔽層は、Ｌ／Ｓ＝２０μｍ／８３μｍの網目状であり、開口率は６５％であった。
次いで、この電磁波遮蔽膜を使用した以外は、実施例１と同様にして、比較例１の電磁波遮蔽膜付き遊技機を作製し、評価を行った。評価結果を表１に示す。
【００６６】
［比較例２］
触媒インク層形成時におけるグラビア印刷のメッシュパターン寸法をＬ／Ｓ＝７μｍ／３９３μｍに変更した以外は、実施例１と同様にして、比較例２の電磁波遮蔽膜を得た。この電磁波遮蔽膜における電磁波遮蔽層は、Ｌ／Ｓ＝８μｍ／３９２μｍの網目状であり、開口率は９６％であった。
次いで、この電磁波遮蔽膜を使用した以外は、実施例１と同様にして、比較例２の電磁波遮蔽膜付き遊技機を作製し、評価を行った。評価結果を表１に示す。
【００６７】
［比較例３］
パチンコ遊技機として、「ＣＲ大海物語スペシャル」（登録商標）（三洋物産社製）を用い、このパチンコ遊技機の透明ガラスからなる前面板上に、化学気相法を用いて厚み１μｍの酸化スズ（ＳｎＯ２）膜を形成して電磁波遮蔽層とすることにより、電磁波遮蔽膜付き前面板とした。この電磁波遮蔽膜付き前面板を上記のパチンコ遊技機に取り付け、比較例３の電磁波遮蔽膜付き遊技機を作製した。
次いで、この電磁波遮蔽膜付き遊技機について、実施例１と同様にして評価を行った。評価結果を表１に示す。
【００６８】
［比較例４］
ポリエステルを主成分とする合成繊維に無電解銅メッキを施した後、さらに電気メッキによりニッケルを被覆させ、線幅３２μｍの導電性繊維メッシュを作製した。
次いで、この導電性繊維メッシュを、厚み１ｍｍの透明な２枚のポリカーボネート板にて挟み込んで積層させ、比較例４の電磁波遮蔽膜を得た。
【００６９】
次いで、パチンコ遊技機である「ＣＲ大海物語スペシャル」（登録商標）（三洋物産社製）の透明ガラスからなる前面板に、上記の電磁波遮蔽膜を装着し、比較例４の電磁波遮蔽膜付き遊技機を作製した。
次いで、この電磁波遮蔽膜付き遊技機について、実施例１と同様にして評価を行った。評価結果を表１に示す。
【００７０】
【表１】
2015002924.tif 000003
【００７１】
上記の評価結果によれば、実施例１〜５においては、高い電磁波遮蔽性と良好な光透過性が共存した電磁波遮蔽膜付き前面板が形成されていた。そして、これらの電磁波遮蔽膜付き前面板を装着した電磁波遮蔽膜付き遊技機においては、遊技機の漏洩ノイズは感知されず、また、電波を放射しても遊技機の誤動作は発生しなかった。したがって、不正電波に対して良好な耐性を有することが確認された。
また、実施例１〜５各々における電磁波遮蔽膜は、電磁波遮蔽率９８％と入射する電波の減衰率１／５０とが等価であることを考慮すると、これらの電磁波遮蔽膜は入射する電波を１／５０以下に減衰していることが分かった。
【００７２】
なお、実施例１の電磁波遮蔽膜付き前面板では、全光線透過率が実施例２〜５と比べて低下していたが、これは、開口率が低いことによるものと考えられる。
また、実施例５では、電磁波遮蔽率が実施例１〜４と比べて低下していたが、これは、開口率が高く、かつ電磁波遮蔽層の網目状の金属層の線幅が細いことによるものと考えられる。
【００７３】
一方、比較例１の電磁波遮蔽膜付き前面板では、電磁波遮蔽性は良好であったが、光透過性が悪化していた。これは、電磁波遮蔽膜の開口率が低すぎることによるものと考えられる．
また、比較例２の電磁波遮蔽膜付き前面板では、光透過性は良好であったが、電磁波遮蔽性が悪化していた。これは、電磁波遮蔽膜の開口率が高すぎる上、電磁波遮蔽層の網目状金属層の線幅も細いことから、電磁波遮蔽層の抵抗値が十分低くならず、電磁波の吸収能が不足していることによると考えられる．なお、比較例２の電磁波遮蔽膜付き遊技機では、遊技機の漏洩ノイズは感知されず、また、電波を放射しても遊技機の誤動作は発生しなかったが、不正行為に対する対策である点を考慮すると、やはり、電磁波遮蔽率９８％以上（入射する電波の減衰率が１／５０以下）は必要と考えられる。
【００７４】
また、比較例３の電磁波遮蔽膜付き遊技機では、電磁波遮蔽能が明らかに不足しており、遊技機からの漏洩ノイズが、微弱ではあるが時折感知された。また、電波を放射させた際に遊技機内のＣＰＵの誤作動と思われる異常動作が若干確認され、不正電波防止を目的とした遊技機としては、不十分な評価結果であった。
また、比較例４の電磁波遮蔽膜付き前面板では、電磁波遮蔽性は良好であったが、構造上、開口率が低くかつ導電性繊維の径が太いことにより、光透過性が悪化しており、遊戯性に問題が生じる虞があった。
【産業上の利用可能性】
【００７５】
本発明の電磁波遮蔽膜付き遊技機は、透明性を有する前面板の一主面上に設けられた電磁波遮蔽膜を、柔軟性を有する透明基材の一主面上に、下地層と、金属または合金からなる網目状パターンを有する電磁波遮蔽層とを積層した構造とし、この電磁波遮蔽層における網目状パターンの開口部の面積の割合を７５％以上かつ９５％以下としたことにより、可視光線の透過率を十分に維持しつつ、外部からの不正電磁波を十分に遮蔽することができ、したがって、不正電磁波による誤作動を防止することができ、しかも、遊戯性を損なうことのないものであるから、パチンコ遊技機、スロットマシン、ゲーム機等の各種遊技機への適用はもちろんのこと、これらの各種遊技機以外の不正電磁波による誤作動を防止する必要のある各種機器へ適用することが可能であり、その工業的価値は大きい。
【符号の説明】
【００７６】
１  電磁波遮蔽膜付き遊技機
２  遊技機本体
３  電磁波遮蔽膜付き前面板
１１  前面板
１２  電磁波遮蔽膜
１３  固定手段
２１  透明フィルム（透明基材）
２２  プライマー層（下地層）
２３  電磁波遮蔽層
２４  触媒インク層
２５  金属層
３１  電磁波遮蔽膜
３２  電磁波遮蔽層
３３  （第２の）金属層
【図１】
2015002924.tif 000004
【図２】
2015002924.tif 000005
【図３】
2015002924.tif 000006
【図４】
2015002924.tif 000007
【図５】
2015002924.tif 000008