(57)【要約】【課題】透明性、耐熱性及び耐傷性が高く、キレ性、熱転写性の良いＯＶＤ転写箔を提供する。【解決手段】剥離保護層１２を、６５モル％以上９５モル％以下の範囲内であり且つ分子中にアルキルエステル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーと、５モル％以上３５モル％以下の範囲内であり且つ分子中に水酸基を有する（メタ）アクリル酸ヒドロキシモノマーを反応させた質量平均分子量３０００以下のアクリルポリオールと、分子中に反応性水酸基を有する環状分子、直鎖状分子、ポリロタキサン化合物と、分子中に少なくともイソシアネート基を二つ以上有するイソシアネート化合物からなり、全水酸基数／全イソシアネート基数の比を９０／１０以上５０／５０以下の範囲内で反応させて合成したアクリルウレタン樹脂を主成分とする環動性樹脂の硬化物から形成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、前記透明基材の一方の面上に、剥離保護層と、レリーフ層と、光反射層と、接着層と、を、この順で積層したＯＶＤ転写箔であって、
前記剥離保護層は、アクリルポリオールと、ポリロタキサン化合物と、環動性樹脂の硬化物と、から形成され、
前記アクリルポリオールは、６５モル％以上９５モル％以下の範囲内であり且つ分子中にアルキルエステル基を有する一種類または二種類以上の（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーと、５モル％以上３５モル％以下の範囲内であり且つ分子中に水酸基を有する一種類または二種類以上の（メタ）アクリル酸ヒドロキシモノマーと、を反応させた質量平均分子量３０００以下のアクリルポリオールであり、
前記ポリロタキサン化合物は、分子中に反応性水酸基を有する環状分子と、当該環状分子を串刺し状に貫通する直鎖状分子と、当該直鎖状分子の両末端に配置された前記環状分子の脱離を防止する封止基と、を有するポリロタキサン化合物であり、
前記環動性樹脂の硬化物は、分子中に少なくともイソシアネート基を二つ以上有するイソシアネート化合物からなり、全水酸基数／全イソシアネート基数の比を９０／１０以上５０／５０以下の範囲内で反応させて合成したアクリルウレタン樹脂を主成分とする環動性樹脂の硬化物であることを特徴とするＯＶＤ転写箔。
【請求項２】
前記剥離保護層の膜厚は、０．２μｍ以上１．０μｍ以下の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載したＯＶＤ転写箔。
【請求項３】
前記レリーフ層は、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂の硬化物よりなり、微細凹凸パターンを形成してなることを特徴とする請求項１または請求項２に記載したＯＶＤ転写箔。
【請求項４】
前記微細凹凸パターンは、レリーフ型ホログラムまたは回折格子であることを特徴とする請求項３に記載したＯＶＤ転写箔。
【請求項５】
前記光反射層は、透明被膜層であることを特徴とする請求項１から請求項４のうちいずれか１項に記載したＯＶＤ転写箔。
【請求項６】
前記光反射層は、金属被膜層であることを特徴とする請求項１から請求項４のうちいずれか１項に記載したＯＶＤ転写箔。
【請求項７】
前記光反射層は、透明被膜層と金属被膜層の積層体であることを特徴とする請求項１から請求項４のうちいずれか１項に記載したＯＶＤ転写箔。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明性、耐熱性及び耐傷性を有する被膜形成が可能であり、ポリロタキサン含有アクリルウレタン樹脂を主成分とする環動性樹脂組成物を剥離保護層に用いた微細凹凸パターンを有する回折格子、または、レリーフホログラム等のＯＶＤ転写箔に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年では、ポスポートや査証等の冊子、または、カード等の個人認証媒体に設ける情報、例えば、個人を特定する顔画像や指紋等の画像情報や、その本人の姓名、生年月日等の個人情報を保護するために、ホログラムや回折格子等のＯＶＤの貼付や、情報自体の特殊インキによる印刷、情報自体の回折格子による印字により、個人認証媒体の不正利用や偽造防止を図る場合がある（特許文献１参照）。
【０００３】
特に、ホログラムや回折格子等のＯＶＤ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｖａｒｉａｂｌｅ  Ｄｅｖｉｃｅの略）は、光の干渉を用いて立体画像や特殊な装飾画像を表現し得るもので、通常の印刷物とは異なる視覚効果を有したり、さらに、見る角度によって、色が変化（カラーシフト）したり、光学的に可変な画像を表現する。
ホログラムや回折格子等のＯＶＤを製造する方法は、高度な製造技術を要するため、偽造防止手段として、とても有効である。さらに、その装飾性の高さから、包装材、書籍、パンフレット、ＰＯＰ等への利用も多い。これらのＯＶＤを物品に貼付するための手段としては、従来から、ＯＶＤを転写箔構成にして転写形成するといった方法が採られてきた。
【０００４】
このような転写としては、支持体上に、剥離保護層と、ホログラムや回折格子のＯＶＤ画像パターンを形成されているレリーフ層と、公知の薄膜形成手段により形成される反射層と、接着層とを、順次積層した構成のものが知られている（特許文献２参照）。
また、上記の反射層は、屈折率の異なる透明な物質を、真空蒸着法等の公知の薄膜形成手段により形成することで（以下、反射層を「透明薄膜層」と記載する場合がある）、透明ホログラムや透明回折格子形成対となることは、公知の技術である。この場合、レリーフ層と透明薄膜層との間の屈折率差が大きいほど、反射率も大きくなることは、光学的見地からも明らかである。但し、ここで、一般的には、（レリーフ層の屈折率）＜（透明薄膜層の屈折率）の関係がある。
【０００５】
剥離保護層に求められる特性には、転写箔が被転写媒体へ転写される際に、支持体から容易に剥離することが可能な特性や、転写後は転写箔の最表面に露出するために、物理的や化学的な損傷から護ることが可能な特性や、ＯＶＤの光学効果を保持するための透明性を維持することが可能な特性等がある。
特に、偽造改竄を防止して、その真正さを証明する為に用いる場合には、物理的や化学的な損傷に対して高い耐性を有している事が重要である。
【０００６】
一般的に、ＯＶＤ転写箔の剥離保護層は、カード、紙券、帳票類等の媒体表面に使用するためには、耐摩擦性や耐傷性に劣っている。そのため、剥離保護層には、多量の滑材を添加して、耐摩擦性を確保する試みが行われている（特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特許第３９８８４５８号公報
【特許文献２】特許第３１３６７９０号公報
【特許文献３】特開２００６−１２３１７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献３に記載されている技術のように、剥離保護層に多量の滑材を添加した場合、転写時には、剥離保護層に添加した滑材成分が転写箔表面に析出してしまう。このため、滑材成分が析出したカードをＡＴＭ等のカードリーダーで使用すると、カードリーダー内部を汚染し、カード情報の読み取りエラーや搬送不良等の問題を引き起こす。さらに、剥離保護層に添加した滑材成分が転写箔表面に析出すると、外観上も白濁したような曇りが生じ、ＯＶＤの装飾効果や偽造防止効果を損なわせてしまうという問題を引き起こす。
【０００９】
これに対し、最近では、滑材を多用せず、耐摩擦性を得るために、ＵＶ硬化性樹脂や熱硬化性樹脂等の硬化タイプの樹脂を用いる構成も提案されているが、これら硬化タイプの樹脂は、他材料との密着性が悪いという問題が存在する。
そこで、本発明は上記の問題を鑑み、透明性、耐熱性及び耐傷性が高く、キレ性、転写性の良いＯＶＤ転写箔を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の目的を達成するために、本発明の一態様は、透明基材と、前記透明基材の一方の面上に、剥離保護層と、レリーフ層と、光反射層と、接着層と、を、この順で積層したＯＶＤ転写箔であって、
前記剥離保護層は、アクリルポリオールと、ポリロタキサン化合物と、環動性樹脂の硬化物と、から形成され、
前記アクリルポリオールは、６５モル％以上９５モル％以下の範囲内であり且つ分子中にアルキルエステル基を有する一種類または二種類以上の（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーと、５モル％以上３５モル％以下の範囲内であり且つ分子中に水酸基を有する一種類または二種類以上の（メタ）アクリル酸ヒドロキシモノマーと、を反応させた質量平均分子量３０００以下のアクリルポリオールであり、
前記ポリロタキサン化合物は、分子中に反応性水酸基を有する環状分子と、当該環状分子を串刺し状に貫通する直鎖状分子と、当該直鎖状分子の両末端に配置された前記環状分子の脱離を防止する封止基と、を有するポリロタキサン化合物であり、
前記環動性樹脂の硬化物は、分子中に少なくともイソシアネート基を二つ以上有するイソシアネート化合物からなり、全水酸基数／全イソシアネート基数の比を９０／１０以上５０／５０以下の範囲内で反応させて合成したアクリルウレタン樹脂を主成分とする環動性樹脂の硬化物であることを特徴とするＯＶＤ転写箔である。
【００１１】
また、本発明の一態様は、前記剥離保護層の膜厚が、０．２μｍ以上１．０μｍ以下の範囲内であることを特徴とするＯＶＤ転写箔である。
また、本発明の一態様は、前記レリーフ層が、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂の硬化物よりなり、微細凹凸パターンを形成してなることを特徴とするＯＶＤ転写箔である。
また、本発明の一態様は、前記微細凹凸パターンが、レリーフ型ホログラムまたは回折格子であることを特徴とするＯＶＤ転写箔である。
【００１２】
また、本発明の一態様は、前記光反射層が、透明被膜層であることを特徴とするＯＶＤ転写箔である。
また、本発明の一態様は、前記光反射層が、金属被膜層であることを特徴とするＯＶＤ転写箔である。
また、本発明の一態様は、前記光反射層が、透明被膜層と金属被膜層の積層体であることを特徴とするＯＶＤ転写箔である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の一態様であれば、透明性、耐熱性及び耐傷性が高く、キレ性、熱転写性の良いＯＶＤ転写箔を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施形態のＯＶＤ転写箔の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の実施形態のＯＶＤ転写箔を転写した転写物の概略構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態（以下、「本実施形態」と記載する）について、図面を参照しつつ説明する。
（全体構成）
図１は、本実施形態のＯＶＤ転写箔の概略構成を示す図であり、ＯＶＤ転写箔を側方から見た断面図である。
【００１６】
図１中に示すように、ＯＶＤ転写箔１０は、透明基材１１と、剥離保護層１２と、レリーフ層１３と、光反射層１４と、接着層１５を備えている。
また、ＯＶＤ転写箔１０は、透明基材１１の一方の面上（図１中では、上側の面上）に、剥離保護層１２と、レリーフ層１３と、光反射層１４と、接着層１５とを、この順番で積層して形成されている。
【００１７】
（透明基材１１の構成）
透明基材１１の材料としては、例えば、ポリエステル系樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等）、ポリアミド系樹脂（例えば、ナイロン６、ナイロン６６の脂肪族系ポリアミド、ポリメタキシリレンアジパミド等の芳香族ポリアミド等）、ビニル系樹脂（例えば、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体等）、ポリオレフィン系樹脂（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、プロピレン−エチレン共重合体等のポリＣ２−１０オレフィン系樹脂等）、アクリル系樹脂（例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニトリル等の（メタ）アクリル系単量体の単独又は共重合体）、セロファン等からなるフィルムを用いることが可能である。
【００１８】
また、上述した樹脂は、単独で、または、二種以上組み合わせて用いることが可能である。
基材フィルムとしては、単一の樹脂で構成された単層フィルムや、複数の樹脂を用いた単層または積層フィルムを用いることが可能である。また、これらの樹脂を、他の基材（金属、木材、紙、セラミックス等）に積層した積層基材を用いてもよい。また、基材フィルムとしては、ポリオレフィン系樹脂フィルム（特に、ポリプロピレンフィルム等）、ポリエステル系樹脂フィルム（特に、ポリエチレンテレフタレート系樹脂フィルム）、ポリアミド系樹脂フィルム（特に、ナイロンフィルム）を用いることが好ましい。厚さとしては、１０μｍ以上１００μｍ以下の範囲内程度が一般的であるが、特に、ＯＶＤ転写箔の透明基材１１では、転写性を向上させるために薄い方が好適であるため、１０μｍ以上１５μｍ以下の範囲内程度であると、さらに好適である。
【００１９】
（剥離保護層１２の構成）
剥離保護層１２は、アクリルポリオールと、ポリロタキサン化合物と、環動性樹脂の硬化物と、から形成されている。
上記のアクリルポリオールは、６５モル％以上９５モル％以下の範囲内であり且つ分子中にアルキルエステル基を有する一種類または二種類以上の（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーと、５モル％以上３５モル％以下の範囲内であり且つ分子中に水酸基を有する一種類または二種類以上の（メタ）アクリル酸ヒドロキシモノマーを反応させた、質量平均分子量３０００以下のアクリルポリオールである。
【００２０】
また、上記のポリロタキサン化合物は、分子中に反応性水酸基を有する環状分子と、その環状分子を串刺し状に貫通する直鎖状分子と、直鎖状分子の両末端に配置された環状分子の脱離を防止する封止基と、を有するポリロタキサン化合物である。
また、上記の環動性樹脂の硬化物は、分子中に少なくともイソシアネート基を二つ以上有するイソシアネート化合物を反応させて合成したアクリルウレタン樹脂が、主成分である。
【００２１】
分子中にアルキルエステル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーとしては、特に限定なく、公知のものを用いることが可能である。具体的には、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸−ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸−ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸−ｎ−プロピル等を用いることが可能である。これらの（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーは、単独で用いても、二種類以上を組み合わせて用いることも可能である。
【００２２】
分子中に水酸基を有する（メタ）アクリル酸ヒドロキシモノマーとしては、特に限定なく、公知のものを用いることが可能である。具体的には、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸−４−ヒドロキシブチル等の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキル類、前記（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキル類のε−カプロラクトン縮合物、モノ（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコール、モノ（メタ）アクリル酸ポリプロピレングリコール、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシフェノキシプロピル、トリ（メタ）アクリル酸ペンタエリスリトール、ペンタ（メタ）アクリル酸ジペンタエリスリトール等がある。これらの（メタ）アクリル酸ヒドロキシモノマーは、単独で用いても、二種類以上を組み合わせて用いることも可能である。また、他のビニルモノマーを添加することも可能である。
【００２３】
アクリルポリオールは、上述した各モノマーと重合開始剤を有機溶媒に投入し、反応させることにより製造することが可能である。
ここで、反応温度は、通常１０℃以上２５０℃以下の範囲内であり、さらに、６０℃以上１２０℃以下の範囲内とすることが好ましい。また、反応時間は、通常１０分間から２４時間の範囲内であり、さらに、１時間以上６時間以下の範囲内とすることが好ましい。
【００２４】
有機溶媒としては、例えば、炭化水素系、ケトン系、エーテル系、エステル系等の各種溶媒を用いることが可能である。また、重合開始剤としては、例えば、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスー２，４−ジメチルバレロニトリル等のアゾ化合物、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、ペルオキソニ硫酸塩、クメンヒドロペルオキシド、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ジーｔ−ブチルペルオキシド等の過酸化物、過酸化水素−有機金属アルキル（トリエチルアルミニウム、トリエチルホウ素、ジエチル亜鉛）、酸素−有機金属アルキル等の有機金属化合物等を用いることが可能である。
【００２５】
また、アクリルポリオールは、（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーと（メタ）アクリル酸ヒドロキシモノマーの比を６５／３５モル％以上９５／５モル％以下の範囲内で共重合する必要がある。
ここで、共重合は二元以上であることが好ましく、さらに、共重合体の質量平均分子量３０００以下であることが好ましい。
【００２６】
また、アクリルポリオールの構成比において、（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーが６５モル％よりも小さくなり、（メタ）アクリル酸ヒドロキシモノマーが３５％よりも大きくなると、アクリルポリオールの親水性が大きくなるため、ポリロタキサンとの相溶性が低くなり、剥離保護層の透明性が低下してしまう。さらに、（メタ）アクリル酸ヒドロキシモノマーが過剰となるため、架橋したアクリルウレタン樹脂からなる環動性樹脂が硬くなってしまい、耐傷性が低下してしまう。
【００２７】
一方、アクリルポリオールの構成比で、（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーが９５モル％よりも大きくなり、（メタ）アクリル酸ヒドロキシモノマーが５％よりも小さくなると、アクリルポリオールの親水性が小さくなりすぎ、ポリロタキサンとの相溶性が低くなり、剥離保護層の透明性が低下する。さらに、（メタ）アクリル酸ヒドロキシモノマーが過少となるため、ポリロタキサンとの架橋点が少ない環動性樹脂となり、耐傷性が低下してしまう。また、アクリルポリオールの質量分子量が３０００よりも大きい場合は、ポリロタキサンとの相溶性が低下してしまい、剥離保護層のコーティング液の調整時に溶液中でゲル化が起きたり、剥離保護層を形成する際に架橋反応が不均一になり、均一な層にならなかったり、形成した剥離保護層の透明性が低かったりと、多々の問題が生じてしまう。
【００２８】
上述したように、アクリルポリオールの構成比によって、他成分との相溶性が低下したり、架橋後の特性が低下したりと問題が生じてしまう。
分子中にアルキルエステル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルモノマーと、分子中に水酸基を有する（メタ）アクリル酸ヒドロキシモノマーからなるアクリルポリオールとの質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ、別称：サイズ排除クロマトグラフィー、ＳＥＣ）にて測定する。
【００２９】
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーは、分子サイズの差に基づいて分離を行なう液体クロマトグラフィーの一種であり、高分子物質の分子量分布、及び平均分子量分布を測定する手法である。すなわち、標準物質として分子量の異なる複数のポリスチレンを用いて、アクリルポリオールの質量平均分子量を求める。
分子中に水酸基を有する環状分子としては、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリン、ジメチル−シクロデキストリンなどのシクロデキストリン類、クラウンエーテル類などを用いることが可能である。
【００３０】
この場合、上述した環状分子の中でも、特に、α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ−シクロデキストリンなどのシクロデキストリン類を用いることが好適である。また、環状分子の有する反応性水酸基には、−ＮＨ２基や−ＮＣＯ基との反応性を有することが好ましい。また、これらのシクロデキストリンの水酸基の少なくとも一つが他の有機基（疎水基）によって置換された修飾デキストリン類は、その溶剤への溶解性が向上するため、さらに好ましく用いられる。
【００３１】
疎水基の具体例としては、例えば、アルキル基、ベンジル基、ベンゼン誘導体含有基、アシル基、シリル基、トリチル基、硝酸エステル基、トシル基、光硬化部位としてアルキル置換エチレン性不飽和基、熱硬化部位としてアルキル置換エポキシ基などを用いることが可能であるが、これに限定されるものではない。また、上記の疎水性修飾ポリロタキサンにおいては、上述の疎水基の一種を単独で、または、二種以上を組み合わせて有していてもよい。さらに、機能層が反射防止機能を付与されている場合には、疎水基がフッ素化合物（置換されていてもよいフッ化アルキル基など）で形成されていることが好ましい。
【００３２】
直鎖状分子としては、ポリエチレングリコール、ポリピレングリコール、ポリビニルアルコール、ポロビニルアセタール、ポリ（メタ）アクリル酸、ポリシロキサンなどを用いることが可能である。この場合、上述した直鎖状分子の中でも、ポリエチレングリコールを用いることが好適である。また、直鎖状分子の分子量は１，０００，０００以下が好適であり、さらには、１０，０００以上３０，０００以下の範囲内がより好適である。
【００３３】
また、直鎖状分子の末端の封止基は、環状分子が直鎖状分子から脱離することを防ぐ役割を有するため、嵩高い構造を有していることが必要である。そのため、ジニトロフェニル基、ピレン基、アダマンタン基、シクロデキストリン類を用いることが好適である。この場合、上述した封止基の中でも、アダマンタン基を用いることが、より好適である。
分子中に少なくともイソシアネート基を２つ以上有するイソシアネート系化合物としては、特に限定なく、公知のものを用いることが可能である。具体的には、例えば、モノマー系イソシアネートとして、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）などの芳香族系イソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、ビスイソシアネートメチルシクロヘキサン（Ｈ６ＸＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート（Ｈ１２ＭＤＩ）などの脂肪族系イソシアネート、キシレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、テトラメチルキシリレンジイソシアネート（ＴＭＸＤＩ）などの芳香脂肪族系イソシアネートなどを用いることが可能である。
【００３４】
また、上述したモノマー系イソシアネートの重合体、または、誘導体も使用可能である。この場合、例えば、３量体のヌレート型、１，１，１−トリメチロールプロパンなどと反応させたアダクト型、ビウレットと反応させたビウレット型などがある。
イソシアネート系化合物は、上記のイソシアネート系化合物、または、その重合体、誘導体から任意に選択してよく、一種類または二種類以上組み合わせて用いることが可能である。
【００３５】
上記のアクリルポリオール、ポリロタキサン化合物及びイソシアネート系化合物などの各化合物を有機溶媒中で相溶させて調整した剥離保護層溶液を、透明基材１１上に塗布乾燥することで、環動性樹脂からなる剥離保護層１２を形成することが可能である。
ここで、有機溶媒としては、例えば、炭化水素系、ケトン系、エーテル系、エステル系などの各種溶媒を用いることが可能である。
【００３６】
また、有機溶媒には、必要に応じて反応触媒を添加することが可能であり、例えば、オレイン酸鉛、テトラブチルスズ、三塩化アンチモン、トリフェニルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、ナフテン酸亜鉛、ナフテン酸ジルコニウム、ジブチルスズジラウレート、テトラ−ｎ−ブチル−１，３−ジアセチルオキシジスタノキサン、１，４−ジアザ［２，２，２］ビシクロオクタン、Ｎ−エチルモルホリンなどを用いることが可能である。
【００３７】
剥離保護層１２の膜厚は、０．２μｍ以上１．０μｍ以下の範囲内とすることが好適である。
これは、剥離保護層１２の膜厚が０．２μｍ未満であると、熱や傷に対する耐久性が劣り、転写後の箔表面に傷が付いたり、転写時の加熱でＯＶＤの視覚効果が低下したり、各種問題が生じるためである。また、剥離保護層１２の膜厚が１．０μｍより厚いと、転写時の箔切れ性や転写性が劣化し、正確な転写ができなくなってしまうなどの問題が生じるためである。
なお、ＯＶＤ転写箔１０には、部分的かつ正確に熱転写させるために、剥離保護層１２の箔キレ性が求められる。そのため、上記した材料にシリカ等の無機微粒子を加えることが、好適である。
【００３８】
（レリーフ層１３の構成）
レリーフ層１３は、光硬化性樹脂または熱硬化性樹脂を用い、所望の微細な凹凸パターンを賦型して光硬化させることで形成する。すなわち、レリーフ層１３は、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂の硬化物よりなり、微細凹凸パターンを形成してなる。
【００３９】
光硬化性樹脂を用いた場合、硬化した樹脂の屈折率は１．５程度を示す。また、このような光硬化性樹脂をレリーフ層１３に用いると、ＯＶＤ転写箔１０を被転写基材へ熱転写する際に加わる熱と圧力による、レリーフ層１３に形成した微細な凹凸パターン形状の変形が起き難くなり、ＯＶＤの視認性も良くなる。
また、レリーフ層１３の膜厚としては、０．８μｍ以上１．５μｍ以下の範囲内であることが好適である。
【００４０】
これは、レリーフ層１３の膜厚が０．８μｍ未満であると、レリーフ層１３の耐熱性が劣り、微細な凹凸パターンが崩れてしまうなどの問題が生じるためである。また、レリーフ層１３の膜厚が１．５μｍより厚いと、転写時の箔切れ性や転写性が劣化し、正確な転写ができなくなってしまうなどの問題が生じるためである。
また、ＯＶＤ転写箔１０は、部分的かつ正確に熱転写させるため、レリーフ層１３にも、剥離保護層１２と同様、箔キレ性が求められる。そのため、上記した材料にシリカ等の無機微粒子を加えることが、さらに好適である。
【００４１】
光硬化性樹脂は、単官能、または、多官能アクリレートなどの反応性希釈剤と、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレートなどのオリゴマーと、ベンゾフェノン系、アセトフェノン系、チオチサントン系などの光重合開始剤と、３級アミン系などの光重合促進剤を主成分とする。
光硬化性樹脂の未硬化塗膜面に光を照射すると、末端のメタクリロイル基がラジカル重合反応を起こし、架橋して硬化する。また、分子内の水酸基の水素結合による強い分子間力が作用し、光照射後は硬く、耐熱性に優れた硬化物が出来上がる。これは、分子内の水酸基が多ければ多いほど効果的である。
【００４２】
熱硬化性樹脂としては、エポキシ基を有するエポキシ樹脂や、グリシジル基を有する（メタ）アクリレートにポリアミドを添加して架橋させたエポキシ樹脂やアクリル樹脂、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートやポリアミドを添加して架橋させたウレタン樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂などを用いることが可能である。
【００４３】
（光反射層１４の構成）
光反射層１４は、材料として、透明被膜材料、または、金属被膜材料等を用いることが可能である。
光反射層１４の材料として透明皮膜材料を用いる場合、レリーフ層１３と光反射層１４の屈折率差が必要となる。
【００４４】
レリーフ層１３と光反射層１４の屈折率差は、０．５より小さいと、レリーフ層１３に形成した微細な凹凸パターンによる回折光の視覚効果が弱まってしまう。そのため、レリーフ層１３と光反射層１４の屈折率差は、０．５以上であることが好適であり、透明材料の屈折率が２．０以上である、ＺｎＳ、ＴｉＯ２、ＰｂＴｉＯ２、ＺｒＯ、ＺｎＴｅ、ＰｂＣｒＯ４等を用いることがより好ましい。
【００４５】
また、光反射層１４の膜厚は、５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲内とすることが好適である。
これは、光反射層１４の膜厚が５０ｎｍ未満であると、光の反射にムラが生じてしまい十分な視覚効果を発揮することができなくなってしまうためである。また、光反射層１４の膜厚が１００ｎｍよりも大きいと、転写時の箔キレ性が劣化してしまい、正確な転写ができなくなってしまうためである。
【００４６】
また、光反射層１４の材料として金属皮膜材料を用いる場合は、クロム、ニッケル、アルミニウム、鉄、チタン、銀、金、銅の中から選択される、単体、または、それらの混合物、合金等を用いることが可能である。
この場合も、光反射層１４の膜厚は、５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲内とすることが好適である。
【００４７】
これは、光反射層１４の膜厚が５０ｎｍ未満であると、光の反射にムラが生じてしまい十分な視覚効果を発揮することができなくなってしまうためである。また、光反射層１４の膜厚が１００ｎｍよりも大きいと、転写時の箔キレ性が劣化してしまい、正確な転写ができなくなってしまうなどの問題が生じるためである。
【００４８】
（接着層１５の構成）
接着層１５は、材料として、プロプロピレン樹脂、ポリエチレンテレフタラート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリエステル樹脂等の熱可塑性樹脂等を用いることが可能である。
また、接着層１５の材料としては、透明被膜材料や、その他の樹脂との密着力、加刷性のあるものであれば、特に限定はしない。また、接着層１５の材料には、熱転写の際の箔キレ性も無ければならないので、上記の樹脂に、シリカ等の無機材料を含めるとなお良い。
接着層１５の膜厚は、特に限定は無いが、０．５μｍ以上１．５μｍ以下の範囲内程度であると好適である。
【００４９】
これは、接着層１５の膜厚が０．５μｍよりも小さいと、被転写体の表面が粗い場合に、被転写体と十分な接着強度を保つことができないなどの問題が生じる可能性があるためである。また、接着層１５の膜厚が１．５μｍよりも大きいと、転写時の熱伝導が均一にならず、転写不良を起こしたり、転写時の箔キレ性が悪くなったり、正確な転写ができないなどの問題が生じてしまうためである。
【００５０】
（ＯＶＤ転写箔１０の製造方法）
以下、ＯＶＤ転写箔１０の製造方法について説明する。
まず、透明基材１１上に、剥離保護層１２とレリーフ層１３を順に、公知の湿式コーティング方法により塗工した後、溶媒成分を乾燥除去する。ただし、レリーフ層１３は次工程の凹凸パターン形成と同時に作製することも可能である。
ここで、湿式コーティング方法としては、ロールコート、グラビアコート、リバースコート、ダイコート、スクリーン印刷、スプレーコートなどを用いることが可能である。これらの湿式コーティング方法を用いて、透明基材１１の片面に、剥離保護層１２の材料とレリーフ層１３の材料を塗布する。溶媒成分を乾燥させる方法としては、熱風乾燥、熱ロール乾燥、赤外線照射など、公知の乾燥法を用いることが可能である。
【００５１】
次に、エンボスロールに巻きつけた所望の凹凸パターンを有する金属版を用いて、凹凸パターン成形を行う。
ここで、レリーフ層１３に熱硬化性樹脂を用いる場合は、加熱した金属版をレリーフ層１３に押圧することで、レリーフ層１３に凹凸パターンを形成する。一方、レリーフ層１３に光硬化性樹脂を用いる場合は、金属版の押圧と同時に光照射を行い、樹脂を硬化させて、レリーフ層１３にパターンを形成する。
【００５２】
次に、凹凸パターン成形したレリーフ層１３に光反射層１４を積層させる。
ここで、光反射層１４を設ける方法としては、例えば、真空蒸着、スパッタリング等の気相堆積法を用いることが可能である。この際、レリーフ層１３と光反射層１４との密着性を上げるため、レリーフ層１３上にコロナ処理をしておくとより好適である。
次に、光反射層１４上に、上記と同様に公知の湿式コーティング方法を用いて、接着層１５の材料を塗工した後、溶媒成分を乾燥除去する。このとき、接着層１５を所望の巾にスリットすることで、ＯＶＤ転写箔１０を製造する。
【実施例】
【００５３】
以下、本発明の実施例について説明する。
なお、実施例及び比較例に使用した具体的な材料については、以下に記載する。
アクリル酸アルキルエステルモノマーは、メタアクリル酸メチル（ＭＭＡ）、アクリル酸エチル（ＥＡ）、メタアクリル酸−ｎ−ブチル（ｎ−ＢＭＡ）であり、アクリル酸ヒドロキシモノマーは、メタアクリル酸（ＭＡ）、メタアクリル酸−２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）、メタアクリル酸−２−ヒドロキシプロピル（ＨＰＭＡ）である。
【００５４】
（実施例１〜８）
透明基材１１として、厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを用い、剥離保護層１２の材料には、アクリルポリオール（ＡＰ１、ＡＰ２、ＡＰ３、ＡＰ６、ＡＰ７、ＡＰ８、ＡＰ１０のうちいずれか）と、ポリロタキサンと、ＴＤＩまたはＨ６ＸＤＩからなる剥離保護層溶液を用いた。また、レリーフ層１３の材料には、エポキシ樹脂ＥＰ１００１とアミン化合物からなる熱硬化性樹脂溶液を用いた。
【００５５】
そして、順次グラビアコーターで印刷後、オーブンで乾燥して、剥離保護層１２とレリーフ層１３を形成した。さらに、この積層フィルムを、固定柄回折格子金属版を用いてロールエンボス装置にて熱プレスを行い、レリーフ層１３に固定柄回折格子の凹凸を成形した。
次に、レリーフ層１３上にＺｎＳ蒸着を行い、透明皮膜材料からなる光反射層１４を形成した。最後に、接着層１５の材料をグラビアコーターで印刷後、オーブンで乾燥して、接着層１５を設け、実施例１〜８のＯＶＤ転写箔１０を製造した。
【００５６】
（実施例９）
透明基材１１として、厚さ２０μｍのポリプロピレンフィルムを用い、剥離保護層１２の材料には、アクリルポリオールＡＰ３と、ポリロタキサンと、ＸＤＩからなる剥離保護層溶液を用い、グラビアコーターで印刷後、オーブンで乾燥して、剥離保護層１２を形成した。
【００５７】
次に、レリーフ層１３の材料としてアクリルオリゴマーＵＮ９５２と光開始剤からなる光硬化性樹脂液をロールコーターで印刷し、回折格子金属版を用いてロールエンボス装置でプレス後、直ぐにＵＶ照射し、レリーフ層１３に回折格子の凹凸を形成した。さらに、レリーフ層１３にアルミニウム蒸着を行い、金属皮膜材料からなる光反射層１４を形成した。最後に、接着層１５の材料をグラビアコーターで印刷後、オーブンで乾燥し、接着層１５を設け、実施例９のＯＶＤ転写箔１０を製造した。
【００５８】
（実施例１０）
透明基材１１として、厚さ２０μｍのポリプロピレンフィルムを用い、剥離保護層１２の材料には、アクリルポリオールＡＰ１と、ポリロタキサンと、Ｈ６ＸＤＩのいずれかからなる剥離保護層溶液を用い、グラビアコーターで印刷後、オーブンで乾燥して、剥離保護層１２を形成した。
【００５９】
次に、レリーフ層１３の材料として、アクリルオリゴマーＵＮ９５２と光開始剤からなる光硬化性樹脂液をロールコーターで印刷し、回折格子金属版を用いてロールエンボス装置でプレスした後、直ぐにＵＶ照射し、レリーフ層１３に回折格子の凹凸を形成した。さらに、レリーフ層１３にアルミニウム蒸着を行い、金属皮膜材料からなる光反射層１４を形成した。最後に、接着層１５の材料をグラビアコーターで印刷後、オーブンで乾燥し、接着層１５を設け、実施例１０のＯＶＤ転写箔１０を製造した。
【００６０】
（比較例１〜４及び６〜８）
透明基材１１として、厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを用い、剥離保護層１２の材料には、アクリルポリオール（ＡＰ１、ＡＰ３、ＡＰ４、ＡＰ５、ＡＰ９、ＡＰ１１、ＡＰ１２のいずれか）と、ポリロタキサンと、ＴＤＩ、Ｈ６ＸＤＩ及びＸＤＩのうちいずれかからなる剥離保護層溶液を用いた。また、レリーフ層１３の材料には、エポキシ樹脂ＥＰ１００１とアミン化合物からなる熱硬化性樹脂溶液を用いた。そして、順次グラビアコーターで印刷後、オーブンで乾燥して、剥離保護層１２とレリーフ層１３を形成し、この積層フィルムを、固定柄回折格子金属版を用いてロールエンボス装置にて熱プレスを行い、レリーフ層１３に固定柄回折格子の凹凸を成形した。
次に、レリーフ層１３上にＺｎＳ蒸着を行い、透明皮膜材料からなる光反射層１４を設けた。最後に、接着層１５の材料をグラビアコーターで印刷後、オーブンで乾燥して、接着層１５を設け、比較例１〜４及び６〜８のＯＶＤ転写箔１０を製造した。
【００６１】
（比較例５及び１０）
透明基材１１として、厚さ２０μｍのポリプロピレンフィルムを用い、剥離保護層１２の材料には、アクリルポリオール（ＡＰ４とＡＰ１２のいずれか）と、ＴＤＩまたはＸＤＩからなる剥離保護層溶液をグラビアコーターで印刷後、オーブンで乾燥して、剥離保護層１２を形成した。
【００６２】
次に、レリーフ層１３の材料として、アクリルオリゴマーＵＮ９５２と光開始剤からなる光硬化性樹脂液をロールコーターで印刷し、回折格子金属版を用いてロールエンボス装置でプレスした後、直ぐにＵＶ照射して、レリーフ層１３に回折格子の凹凸を形成した。さらに、レリーフ層１３にアルミニウム蒸着を行い、金属皮膜材料からなる光反射層１４を設けた。最後に、接着層１５の材料をグラビアコーターで印刷後、オーブンで乾燥し、接着層１５を設け、比較例５及び１０のＯＶＤ転写箔１０を製造した。
【００６３】
（比較例９）
透明基材１１として、厚さ２０μｍのポリプロピレンフィルムを用い、剥離保護層１２の材料には、アクリルポリオールＡＰ１とＸＤＩからなる剥離保護層溶液をグラビアコーターで印刷後、オーブンで乾燥して、剥離保護層１２を形成した。
次に、レリーフ層１３の材料として、アクリルオリゴマーＵＮ９５２と光開始剤からなる光硬化性樹脂液をロールコーターで印刷し、回折格子金属版を用いてロールエンボス装置でプレスした後、直ぐにＵＶ照射して、レリーフ層１３に回折格子の凹凸を形成した。さらに、レリーフ層１３にアルミニウム蒸着を行い、金属皮膜材料からなる光反射層１４を設けた。最後に、接着層１５の材料をグラビアコーターで印刷後、オーブンで乾燥し、接着層１５を設け、比較例９のＯＶＤ転写箔１０を製造した。
なお、アクリルポリオールの配合比率は、表１中に示す比率である。
【００６４】
【表１】
2015066883.tif 000003
【００６５】
表１中におけるポリロタキサンは、修飾ポリロタキサン‐グラフト‐ポリカプロラクトン（アドバンストソフトマテリアル社製セルムスーパーポリマーＡ１０００）である。
また、ＯＶＤ転写箔１０の構成材料及び配合比等は、表２中に示すとおりである。
【００６６】
【表２】
2015066883.tif 000004
【００６７】
（熱転写試験及び評価結果）
上記の方法で製造したＯＶＤ転写箔１０を、被転写媒体のプラスチックカード上に、熱プレス機を用いて、転写温度１２０℃、プレス圧２５ｋｇｆ／ｃｍ２、プレス時間０．２秒の条件で、熱転写試験を行った。
そして、上記の熱転写試験で転写した転写物（ＯＶＤ転写物）の耐久性を以下の方法で評価した。なお、評価結果は、表３中に示すとおりである。
【００６８】
【表３】
2015066883.tif 000005
【００６９】
耐熱性については、熱転写後の剥離保護層１２の透明性を目視評価した。評価の結果、表３中に示すように、耐熱性が不十分であると、白濁や黄変などの着色変化が起き、レリーフ層の光学効果が低下してしまうことが確認された。
また、耐傷性については、微小スクラッチ試験機を用いて、曲率半径１μｍの圧子を荷重０．２ｇｆ以上１０ｇｆ以下の範囲内で１０往復させて、スクラッチ傷を付けた。その後、スクラッチした転写物の表面を光学顕微鏡による顕微観察と、ＡＦＭによる傷深さ測定で評価した。評価の結果、表３中に示すように、実施例１及び２は、比較例１及び２と異なり、スクラッチ傷が付かないことが確認された。
【００７０】
以上により、環動分子をＯＶＤ転写箔１０に適用することで、本発明では、熱や傷などに対する耐久性および後加工適性を満足することができる転写媒体を提供することが可能であることが確認された。
なお、環動分子は、環状分子が動くという意味であり、滑車効果を奏する。
【００７１】
また、滑車効果を奏する構造は、物理架橋構造であり、この物理架橋構造は、ポリロタキサンを構成する直鎖状分子が串刺し貫通した環状分子と他間をポリマー等で結合することで、形成することが可能である。ここで、他分子と結合して架橋構造を形成しているのは、環状分子であるため、環状分子を貫通している直鎖状分子は、架橋構造に関与していない。そのため、過剰な負荷が架橋点にかかった場合、環状分子を貫通している直鎖状分子が動くことで、負荷を分散し、架橋構造を保つことが可能になる。また、物理架橋構造は、トポロジカルな構造を有する化合物を用いた構造であり、この物理架橋構造では、過剰な負荷がかかっても負荷を分散し、架橋構造を保つことが可能である。このような材料としては、特にポリロタキサンが用いられている。
【００７２】
ここで、上記の熱転写試験で転写したＯＶＤ転写物２０は、図２中に示す構造である。なお、図２は、ＯＶＤ転写物の概略構成を示す図であり、ＯＶＤ転写物を側方から見た断面図である。また、図２中では、接着層１５により接着した被転写媒体のプラスチックカードを、符号「２１」で示す。
【産業上の利用可能性】
【００７３】
偽造改竄を防止しその真正さを証明するためには、物理的や化学的な損傷に対して高い耐性を有していることが必要である。本発明により得られるＯＶＤ転写箔は、透明性、耐熱性および耐傷性が高く、キレ性、転写性の良いＯＶＤ転写箔である。
【符号の説明】
【００７４】
１０  ＯＶＤ転写箔
１１  透明基材
１２  剥離保護層
１３  レリーフ層
１４  光反射層
１５  接着層
２０  ＯＶＤ転写物
２１  プラスチックカード
【図１】
2015066883.tif 000006
【図２】
2015066883.tif 000007