(57)【要約】【課題】ポリチオフェン系導電剤と導電性粒子とを含み、耐擦過性が高められる導電性シートの製造方法、導電性シート、および、タッチパネルを提供する。【解決手段】導電層の表面にて、ＪＩＳ：Ｂ０６０１−１９９４に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．０８μｍ以上、かつ、０．１８μｍ以下であり、負荷長さ率（ｔｐ）は、切断レベルｃ＝５０％にて、２５％以上、かつ、４５％以下であり、凹凸の平均間隔（Ｓｍ）は、５μｍ以上、かつ、２０μｍ以下であり、塗工液にてポリチオフェン系導電剤の質量部が１００であるとき、導電性粒子の質量部は、２０以上、かつ、１００以下であり、シランカップリング化合物の質量部は、１００以上、かつ、２４０以下であり、導電層の膜厚ａと導電性粒子の短軸径ｂとは、ａ＞１００ｎｍであり、１．５＜ｂ／ａ＜５である。【選択図】図１
2015032071.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材に塗工液を塗工して塗膜を形成する工程と、
前記塗膜を乾燥させて導電層を形成する工程とを含み、
前記導電層の表面にて、
ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．０８μｍ以上、かつ、０．１８μｍ以下であり、
負荷長さ率（ｔｐ）は、切断レベルｃ＝５０％にて、２５％以上、かつ、４５％以下であり、
凹凸の平均間隔（Ｓｍ）は、５μｍ以上、かつ、２０μｍ以下であり、
前記塗工液は、ポリチオフェン系導電剤と、導電性粒子とを含み、
前記導電層の膜厚ａと前記導電性粒子の短軸径ｂとは、下記式１、および、式２を満たす導電性シートの製造方法。
ａ＞１００ｎｍ      …  式１
１．５＜ｂ／ａ＜５  …  式２
【請求項２】
前記塗工液は、バインダーと、シランカップリング化合物とをさらに含み、
前記塗工液にて、前記ポリチオフェン系導電剤の質量部が１００であるとき、
前記導電性粒子の質量部は、２０以上、かつ、１００以下であり、
前記シランカップリング化合物の質量部は、１００以上、かつ、２４０以下である
請求項１に記載の導電性シートの製造方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の導電性シートの製造方法によって製造された導電性シート。
【請求項４】
基材と、
前記基材に設けられた導電層とを備え、
前記導電層の表面にて、
ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．０８μｍ以上、かつ、０．１８μｍ以下であり、
負荷長さ率（ｔｐ）は、切断レベルｃ＝５０％にて、２５％以上、かつ、４５％以下であり、
凹凸の平均間隔（Ｓｍ）は、５μｍ以上、かつ、２０μｍ以下であり、
前記導電層は、ポリチオフェン系導電剤と、導電性粒子とを含み、
前記導電層の膜厚ａと導電性粒子の短軸径ｂとは、下記式１、および、式２を満たす導電性シート。
ａ＞１００ｎｍ      …  式１
１．５＜ｂ／ａ＜５  …  式２
【請求項５】
前記導電層は、バインダーと、シランカップリング化合物、および、シランカップリング化合物の反応物であるカップリング成分とをさらに含み、
前記導電性粒子の含有率は、６質量％以上、かつ、２５質量％以下であり
シリコン元素の含有率は、３質量％以上、かつ、７質量％以下である
請求項４に記載の導電性シート。
【請求項６】
前記導電性粒子は、前記導電層に分散した球状粒子であり、
前記導電性粒子の短軸径ｂと前記導電性粒子の長軸径ｃとは、下記式３を満たす
ｃ／ｂ＜２          …  式３
請求項３から５のいずれか１つに記載の導電性シート。
【請求項７】
前記導電性粒子は、
銀粒子、銅粒子、表面が処理された前記銀粒子、表面が処理された前記銅粒子からなる群から選択される少なくとも１つである
請求項３から６のいずれか１つに記載の導電性シート。
【請求項８】
請求項３から７のいずれか１つに記載の導電性シートを備えるタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、ポリチオフェン系導電剤と導電性粒子とを含む導電性シートの製造方法、導電性シート、および、導電性シートを備えるタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
抵抗膜式タッチパネルは、導電性シートの一部に加わる圧力を電気信号に変換して、導電性シートにおいて圧力の加わった位置を検出する。こうした抵抗膜式タッチパネルは、押下や筆記という動作を電気信号として出力できるため、ゲーム機や電子辞書などの携帯機器に多用されている。
【０００３】
抵抗膜式タッチパネルの備える導電性シートのうち、導電性高分子を導電体として採用するシートは、これによって高い屈曲性を満たしている。例えば、特許文献１に記載の導電性シートは、導電体として、ポリチオフェン系導電剤を含むコーティング組成物を採用している。高い屈曲性を有する導電性シートは、圧力の印加によって割れることが少ないため、抵抗膜式タッチパネルの長寿命化を担っている。
【０００４】
一方で、導電性高分子を利用する導電性シートは、圧力の加わる位置を検出するために、これとは異種の半導体であるＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）などの酸化物半導体層と接触する。この際に、ポリチオフェン系導電剤を含む導電性シートとＩＴＯとの接触抵抗は、ＩＴＯ膜同士の接触抵抗と比べて高いため、抵抗膜式タッチパネルの入力荷重を上昇させる要因となる。
【０００５】
そこで、特許文献２に記載の導電性シートは、こうした入力荷重を抑えることを目的として、導電層に親水性粒子を含み、酸化物半導体層と導電層との接触性を高めている。また、特許文献３から特許文献５に記載の導電性シートは、同じく入力荷重を抑えることを目的として、導電層に導電性粒子を含んでいる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−２８９７８０号公報
【特許文献２】特開２００７−３２１１３１号公報
【特許文献３】特表２００６−５０２２５４号公報
【特許文献４】特開２００９−０３７７５２号公報
【特許文献５】特表２０１１−５００９３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、抵抗膜式タッチパネルには、押下や筆記に対する感度を確保することに加えて、タッチパネルを重ね合わせて使用する液晶ディスプレイなどの画像に悪影響を及ぼさず、より鮮明に映し出すことも求められる。しかし、抵抗膜式タッチパネルは、上・下電極となる２枚の導電面を、光の干渉が生じやすい数百μｍの間隔をあけて対向配置する構造であるため、タッチパネルにニュートンリングが発生し、画像に支障を及ぼしやすい。特に、タッチパネルの感度を高めるには、上・下電極の間隔を狭めると効果的だが、ニュートンリングもより明確に視認される状態となるため、対策が望まれる。
【０００８】
ニュートンリング抑制には、導電面を凹凸化して干渉光を適度に散乱させる対策が有効だが、一方、この導電面の凹凸は、ディスプレイからの透過光も散乱し、画像を歪める「ギラツキ」という現象を招いてしまうため、これらの両立が難しい。
【０００９】
なお、こうした要請は、抵抗膜式タッチパネルの電極に限らず、静電容量式タッチパネルの電極や、タッチパネルにおける電磁波シールドなど、基材に導電層を備え、他の部材と重ね合わせて配置される用途向けの導電性シートにおいて共通する。
【００１０】
本開示の技術は、ポリチオフェン系導電剤と導電性粒子とを含み、高いアンチニュートンリング性と、導電性シートを通して視認される画像のギラツキの抑制との両立が可能である導電性シートの製造方法、導電性シート、および、タッチパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本開示の技術において導電性シートの製造方法の一態様は、基材に塗工液を塗工して塗膜を形成する工程と、塗膜を乾燥させて導電層を形成する工程とを含む。導電層の表面にて、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．０８μｍ以上、かつ、０．１８μｍ以下であり、負荷長さ率（ｔｐ）は、切断レベルｃ＝５０％にて、２５％以上、かつ、４５％以下であり、凹凸の平均間隔（Ｓｍ）は、５μｍ以上、かつ、２０μｍ以下である。塗工液は、ポリチオフェン系導電剤と、導電性粒子とを含み、導電層の膜厚ａと導電性粒子の短軸径ｂとは、下記式１、および、式２を満たす。
【００１２】
ａ＞１００ｎｍ      …  式１
１．５＜ｂ／ａ＜５  …  式２
本開示の技術における上記導電性シートの製造方法にて、塗工液は、バインダーと、シランカップリング化合物とをさらに含み、塗工液にて、ポリチオフェン系導電剤の質量部が１００であるとき、導電性粒子の質量部は、２０以上、かつ、１００以下であり、シランカップリング化合物の質量部は、１００以上、かつ、２４０以下であることが好ましい。
【００１３】
本開示の技術において導電性シートの一態様は、上記導電性シートの製造方法によって製造された導電性シートである。
本開示の技術において導電性シートの一態様は、基材と、基材に設けられた導電層とを備える。導電層の表面にて、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．０８μｍ以上、かつ、０．１８μｍ以下であり、負荷長さ率（ｔｐ）は、切断レベルｃ＝５０％にて、２５％以上、かつ、４５％以下であり、凹凸の平均間隔（Ｓｍ）は、５μｍ以上、かつ、２０μｍ以下である。導電層は、ポリチオフェン系導電剤と、導電性粒子とを含む。導電層の膜厚ａと導電性粒子の短軸径ｂとは、下記式１、および、式２を満たす。
【００１４】
ａ＞１００ｎｍ      …  式１
１．５＜ｂ／ａ＜５  …  式２
本開示の技術における上記導電性シートにて、導電層は、バインダーと、シランカップリング化合物、および、シランカップリング化合物の反応物であるカップリング成分とをさらに含み、導電性粒子の含有率は、６質量％以上、かつ、２５質量％以下であり、シリコン元素の含有率は、３質量％以上、かつ、７質量％以下であることが好ましい。
【００１５】
本開示の技術における上記導電性シートにて、導電性粒子は、導電層に分散した球状粒子であり、導電性粒子の短軸径ｂと導電性粒子の長軸径ｃとは、下記式３を満たすことが好ましい。
【００１６】
ｃ／ｂ＜２          …  式３
本開示の技術における上記導電性シートにて、導電性粒子は、銀粒子、銅粒子、表面が処理された前記銀粒子、表面が処理された前記銅粒子からなる群から選択される少なくとも１つであることが好ましい。
【００１７】
本開示の技術においてタッチパネルの一態様は、導電性シートを備える。
【発明の効果】
【００１８】
本開示の導電性シートの製造方法、導電性シート、および、タッチパネルは、ポリチオフェン系導電剤と導電性粒子とを含む導電性シートにおいて、高いアンチニュートンリング性と、導電性シートを通して視認される画像のギラツキの抑制とが実現可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本開示の導電性シートを具体化した一実施形態において導電性シートの断面構造を示す断面図である。
【図２】本開示の導電性シートを具体化した一実施形態において導電層以外の他の機能層を有する導電性シートの断面構造の一例を示す断面図である。
【図３】本開示の導電性シートを具体化した一実施形態において導電層以外の他の機能層を有する導電性シートの断面構造の他の例を示す断面図である。
【図４】本開示の導電性シートを具体化した一実施形態において導電層以外の他の機能層を有する導電性シートの断面構造の他の例を示す断面図である。
【図５】本開示のタッチパネルを具体化した一実施形態における抵抗膜式タッチパネルの分解斜視構造を示す分解斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本開示の技術を具体化した一実施形態を図１から図５を参照して説明する。まず、本実施形態における導電性シートを説明する。
［導電性シートの構成］
図１が示すように、導電性シート１０は、基材１１と、基材１１に設けられた導電層１２とを備えている。導電層１２は、ポリチオフェン系導電剤と、導電性粒子とを含む。なお、導電性シート１０において、導電層１２は基材１１の片面に形成されてもよいし、基材１１の両面に形成されてもよい。
【００２１】
導電層１２の有する形状は、導電性シート１０の適用される対象機器に応じて適宜選択される。例えば、導電性シート１０が抵抗膜式タッチパネルの電極に用いられるとき、導電層１２は、基材１１の側面のほぼ全体に広がる層状を有する。また、例えば、導電性シート１０が静電容量式タッチパネルの電極に用いられるとき、導電層１２は、静電容量の検出に適した規則的なパターン形状を有する。
【００２２】
基材１１、および、導電層１２は、無色透明であってもよいし、有色透明であってもよい。導電性シート１０がタッチパネルの電極に用いられる場合には、基材１１、および、導電層１２は、無色で高い透明性を有することが好ましい。導電層１２の導電性は、基材１１よりも高い導電性を示す範囲であれば、特に限定されない。導電性シート１０がタッチパネルの電極に用いられる場合には、導電層１２の表面抵抗は、１０５Ω／ｓｑ以下であることが好ましく、１０３Ω／ｓｑ以下であることが、より好ましい。
【００２３】
導電層１２の表面において、表面粗さ形状パラメーターは下記条件１、条件２、条件３を満たしている。
条件１：ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）として、０．０８μｍ以上、かつ、０．１８μｍ以下である。
【００２４】
条件２：負荷長さ率（ｔｐ）として、切断レベルｃ＝５０％にて、２５％以上、かつ、４５％以下である。
条件３：凹凸の平均間隔（Ｓｍ）として、５μｍ以上、かつ、２０μｍ以下である。
【００２５】
算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０８μｍよりも小さい場合には、導電性シート１０においてニュートンリングの発生を抑制する効果が十分に得られなくなる。算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１８μｍよりも大きい場合には、導電性シート１０に求められる透明性が十分に得られなくなる。
【００２６】
負荷長さ率（ｔｐ）が２５％よりも小さい場合には、導電層１２の表面において、凸部の先端が過度に鋭角となる結果、これもまた、導電性シート１０においてニュートンリングの発生を抑制する効果が十分に得られなくなる。負荷長さ率（ｔｐ）が４５％よりも大きい場合には、導電層１２の表面において、ディスプレイからの透過光を散乱させやすくなるため、画像のギラツキが悪化してしまう。
【００２７】
凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が５μｍよりも大きい場合には、導電層の表面において、凸部が擦過により損傷を受けた際でも、ストレスを回避した凹部によって導電層が正しく機能しやすく、微小な欠陥の影響が最低限に抑制される。凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が２０μｍを越えると、擦過によるストレスが、導電層の表面おいて、凹部にまで及んでしまい、こうした微小の欠陥の影響が抑制され難くなる。
【００２８】
表面粗さ形状パラメーターの値は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４準拠の各種測定機にて計測できる。各種計測機としては、例えば、接触式の各種粗さ計や、光学式のレーザー顕微鏡などが例示できる。光学式の中では、走査型プローブ顕微鏡なども、精密な粗さパラメーターの値の測定が可能であるが、他の測定機に比べて測定範囲が狭くなるため、測定に注意を要する。こうした測定機において、表面粗さ形状パラメーターの値を高い信頼性の下で得るための測定範囲は、１００μｍ角以上、より望ましく２００μｍ角以上である。
【００２９】
導電層１２の表面における凹凸は、導電層１２に含まれる導電性粒子によって形成されてもよいし、基材１１の表面に凹凸を設け、導電層１２の表面形状が基材１１の表面形状に追従することによって形成されてもよい。さらには、基材１１と導電層１２との間に、凹凸を有する下塗層を設け、導電層１２の表面形状が下地層の表面形状に追従することによって形成されてもよい。また、導電層１２の表面に施される賦形処理などの後加工によって、導電層１２の表面に凹凸が形成されてもよい。なお、導電層１２に含まれる導電性粒子などの配合調整によって特定の凹凸を得る構成では、導電層１２の導電性や光学特性を低下させない配慮が必要である。そのため、より簡便で確実な構成としては、凹凸を有する表面に、その凹凸に追従するような導電層１２をほぼ均一な膜厚で形成することが好ましい。
【００３０】
導電性シート１０は、基材１１に、導電層１２のみが設けられる構成であってもよいし、導電層１２以外の他の機能層が基材１１に含まれる構成であってもよい。導電層１２以外の他の機能層は、例えば、光学調整層、アンカー層、バリア層、ハードコート層からなる群から選択される少なくとも１つである。導電層１２以外の他の機能層は、単一の層からなる単層構造を有してもよいし、複数の層の積み重なった積層構造を有してもよい。
【００３１】
光学調整層は、導電性シート１０において、可視光に対する光学的な特性を調整する層であり、例えば、導電性シート１０を構成する複数の層において、層間の屈折率を調整する屈折率調整層である。アンカー層は、導電性シート１０を構成する複数の層において、層間の密着性を高める機能を有し、例えば、イソシアネートなどの反応性物質を含む層である。バリア層は、基材１１に含まれるガスが基材１１から離脱することを抑える機能を有する。ハードコート層は、ハードコート層によって覆われる下地に傷や汚れが生じることを抑える層であり、例えば、硬質な樹脂からなる層である。
【００３２】
図２が示すように、導電層１２以外の他の機能層は、基材１１の表面のうち、導電層１２の形成されない側面に裏面層１３として設けられてもよい。例えば、光学調整層、バリア層、ハードコート層からなる群から選択される少なくとも１つは、基材１１の裏面に裏面層１３として設けられてもよい。また、基材１１の裏面に導電層１２以外の他の機能層が設けられる構成であれば、その機能層と基材１１との間にアンカー層が設けられてもよい。
【００３３】
図３が示すように、導電層１２以外の他の機能層は、基材１１の表面のうち、導電層１２の形成される側面に下塗層１４として設けられてもよい。例えば、光学調整層、バリア層、アンカー層、ハードコート層からなる群から選択される少なくとも１つは、基材１１と導電層１２との間に下塗層１４として設けられてもよい。
【００３４】
図４が示すように、導電層１２以外の他の機能層は、基材１１の表面のうち、導電層１２の形成されない側面に裏面層１３として設けられ、かつ、導電層１２の形成される側面に下塗層１４として設けられてもよい。例えば、光学調整層、バリア層、ハードコート層からなる群から選択される少なくとも１つは、基材１１の裏面に裏面層１３として設けられてもよい。また、基材１１の裏面に導電層１２以外の他の機能層が設けられる構成であれば、その機能層と基材１１との間にアンカー層が設けられてもよい。これに加えて、例えば、他の光学調整層、他のバリア層、他のアンカー層、他のハードコート層からなる群から選択される少なくとも１つは、基材１１と導電層１２との間に下塗層１４として設けられてもよい。
【００３５】
なお、導電性シート１０の透明性は、全光線透過率（ＪＩＳ  Ｋ７１０５）として、７０％以上であることが好ましく、より好ましくは８０％以上である。
［基材１１］
基材１１は、ガラス基板、樹脂フィルム、樹脂板などのシート状に形成されたシート基材を備えている。基材１１は、シート基材のみから構成されていてもよいし、シート基材と、その表面に必要に応じて形成された導電層１２以外の他の機能層とから構成されていてもよい。
【００３６】
基材１１の表面は、平坦面であってもよいし、サンドブラスト処理や溶剤処理などの賦形処理の施された凹凸面であってもよい。基材１１の表面は、コロナ放電処理、クロム酸処理、火炎処理、熱風処理、紫外線照射処理などの表面酸化処理が施されていてもよいし、導電層１２や他の機能層との密着性が十分に得られる場合には、こうした表面酸化処理が施されていなくてもよい。
【００３７】
樹脂フィルムの形成材料、および、樹脂板の形成材料は、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリプロピレンナフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、シクロオレフィンポリマー、アセチルセルロースブチレート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリメチルペンテン、ポリスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリイミド、フッ素樹脂、ポリアミド、（メタ）アクリル樹脂、メチルメタクリレートとスチレンの共重合体からなる群から選択される少なくとも１つである。
【００３８】
透明性、耐候性、および、耐溶剤性が高まり、かつ、低コスト化が図られる観点から、シート基材の形成材料は、ポリエチレンテレフタレートの二軸延伸フィルム、ガラス基板、シクロオレフィンポリマー、ポリカーボネートであることが好ましい。特に、高い屈曲性が得られる観点から、シート基材の形成材料は、ポリエチレンテレフタレートの二軸延伸フィルム、シクロオレフィンポリマー、ポリカーボネートであることが好ましい。また、高い屈曲性が満たされる観点から、シート基材の厚みは、１０μｍ以上、かつ、２００μｍ以下であることが好ましい。
【００３９】
シート基材は、シート基材の透明性を妨げない範囲にて、各種添加剤が含まれてもよい。シート基材に含まれる添加剤は、例えば、酸化防止剤、耐熱安定剤、紫外線吸収剤、有機粒子、無機粒子、顔料、染料、微細繊維、帯電防止剤、核剤、シランカップリング化合物などである。
［下塗層］
導電層１２の下地として形成される下塗層１４の表面形状は、導電層１２の表面形状を凹凸形状にするための凹凸を有することが好ましい。下塗層１４の表面に凹凸を形成する方法としては、下地層形成用の塗工液に粒子を配合する方法、下地層形成用の塗工液に溶解性パラメーター（ＳＰ）値の異なる２つ以上の樹脂成分を含有させて、下塗層形成用の塗工液の塗工後に、一方の樹脂成分を相分離によって析出させる方法などが挙げられる。
【００４０】
下地層形成用の塗工液に粒子を配合する方法は、粒子の粒子径や粒子の添加量によって、表面粗さが容易に調整される。ＳＰ値が互いに異なる２つ以上の樹脂成分を下塗層形成用の塗工液が含み、相分離によって下塗層１４に凹凸を形成する方法は、下塗層形成用の塗工液に粒子が含まれないため、凹凸の形成される位置が、粒子の分散の度合いに左右されることがなく、長時間塗工した場合にも、品質の安定性が保たれる。下塗層形成用の塗工液に含まれる粒子によって凹凸を形成する方法と、相分離によって凹凸を形成する方法とは、併用することも可能である。
【００４１】
下塗層形成用の塗工液に含まれる樹脂成分は、例えば、熱硬化性樹脂、または、活性エネルギー線硬化性樹脂である。熱硬化性の樹脂は、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、珪素樹脂、またはポリシロキサン樹脂などである。活性エネルギー線硬化性樹脂は、活性エネルギー線の照射により重合可能な重合性不飽和基を有するモノマーである。活性エネルギー線硬化性樹脂は、光重合開始剤などを含んでもよい。
【００４２】
下塗層１４は、多官能（メタ）アクリルモノマーを含む下塗層形成用の塗工液を活性エネルギー線で硬化した硬化物であることが好ましい。また、下塗層１４は、必要に応じて単官能（メタ）アクリルモノマーを使用することができる。こうした硬化物は、粒子以外の部分である母材が、架橋構造を有する硬質のアクリル系重合体を含むため、表面硬度、透明性、および、耐擦過性などに優れる。
【００４３】
「多官能」は、重合性不飽和基を２つ以上有することを示し、「（メタ）アクリルモノマー」は、重合性不飽和基として少なくとも（メタ）アクリロイル基を有する化合物である。「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基またはメタクリロイル基であることを示す。
【００４４】
多官能（メタ）アクリルモノマーは、例えば、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（好ましくは質量平均分子量４００〜６００）ジ（メタ）アクリレート、変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸ジ（メタ）アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、若しくはイソシアヌレートジ（メタ）アクリレート等の２官能（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジベンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシートリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ポリエーテルトリ（メタ）アクリレート、グリセリンプロポキシートリ（メタ）アクリレート、若しくはトリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等の３官能（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、若しくはペンタエリスリトールトリアクリレート等の４官能（メタ）アクリレート；またはジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の５官能以上の（メタ）アクリレートなどである。これらの多官能（メタ）アクリルモノマーは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００４５】
「単官能」は、重合性不飽和基を１つ有することを示す。単官能（メタ）アクリルモノマーは、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−エトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシートリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−メトキシプロピル（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシートリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、またはポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートなどである。これらの単官能（メタ）アクリルモノマーは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００４６】
多官能（メタ）アクリルモノマーは、４官能以上（好ましくは５官能以上）の（メタ）アクリルモノマーと、２〜３官能（メタ）アクリルモノマーとを含むことが好ましい。４官能以上の（メタ）アクリルモノマーは硬度の向上に寄与し、２〜３官能（メタ）アクリルモノマーは柔軟性の向上に寄与する。そのため、これらを併用することで、得られる下塗層１４が、高い硬度と適度な柔軟性を有する。単官能（メタ）アクリルモノマーは柔軟性の向上に寄与する。また、粘度が低いため塗剤の粘度調整に使用することもできる。
【００４７】
全多官能（メタ）アクリルモノマーのうち、４官能以上の（メタ）アクリルモノマーの割合は、全（メタ）アクリルモノマーの全ての質量に対して５０質量％以上９５質量％未満が好ましく、６０質量％以上９０質量％未満がより好ましい。また、２〜３官能（メタ）アクリルモノマーの割合は、全（メタ）アクリルモノマーの全ての質量に対して５質量％以上５０質量％未満が好ましく、１０質量％以上４０質量％未満がより好ましい。単官能（メタ）アクリルモノマーの割合は、全（メタ）アクリルモノマーの全ての質量に対して１質量％以上５０質量％未満が好ましく、５質量％以上３０質量％未満がより好ましい。
【００４８】
２〜３官能（メタ）アクリルモノマーとしては、ジエチレングリコールジアクリレートなどが挙げられる。４官能以上の（メタ）アクリルモノマーとしては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどが挙げられる。
【００４９】
下塗層１４の表面に相分離によって凹凸を形成する方法にて、下塗層形成用の塗工液に含まれる樹脂成分は、少なくとも２つの異なる組成物の混合物である。この混合物は、多官能（メタ）アクリルモノマー（ａ１）、単官能（メタ）アクリルモノマー（ａ２）を含む組成物（Ａ１）と、多官能（メタ）アクリルモノマー（ｂ１）または単官能（メタ）アクリルモノマー（ｂ２）を含む組成物（Ｂ１）の混合物が好ましい。多官能（メタ）アクリルモノマーまたは単官能（メタ）アクリルモノマーは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用することもできる。また、２つ以上の異なる組成物を混合する前に、多官能（メタ）アクリルモノマーまたは単官能（メタ）アクリルモノマーを重合してもよい。多官能（メタ）アクリルモノマーとしてはペンタエリスリトールトリアクリレート、またはジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが好ましく、単官能モノマーとしてシクロヘキシルメタアクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、メチルメタアクリレート、またはイソボルニルメタアクリレートが好ましい。
【００５０】
下塗層１４の表面に粒子によって凹凸を形成する方法にて、下塗層形成用の塗工液に含まれる粒子は、無機粒子でも有機粒子でもよい。無機粒子としては、硬度が高いものが好ましく、例えば、二酸化ケイ素粒子（シリカ）、二酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子、二酸化スズ粒子、五酸化アンチモン粒子、又は三酸化アンチモン粒子などの無機酸化物粒子からなる群から選択される少なくとも１つである。
【００５１】
無機粒子は、無機酸化物粒子をシランカップリング化合物によって処理した反応性無機酸化物粒子であってもよい。シランカップリング化合物による処理によれば、アクリル系重合体と無機粒子との間の結合力が高まる。その結果、下塗層１４における表面硬度や耐擦過性が高まり、さらに、無機酸化物粒子の分散性も高まる。
【００５２】
シランカップリング化合物は、例えば、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、又はγ−アミノプロピルトリエトキシアルミニウムからなる群から選択される少なくとも１つである。シランカップリング化合物として、これらの１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５３】
シランカップリング化合物の処理量は、無機酸化物粒子１００質量部に対して、０．１〜２０質量部であることが好ましく、１〜１０質量部であることがより好ましい。
有機粒子は、例えば、アクリル樹脂、ポリスチレン、ポリシロキサン、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリテトラフルオロエチレン、セルロースアセテート、ポリカーボネート、ポリアミドなどの樹脂粒子である。
【００５４】
有機粒子は、樹脂粒子をシランカップリング化合物によって処理した反応性樹脂粒子であってもよい。シランカップリング化合物による処理によれば、アクリル系重合体と有機粒子との間の結合力が高まる。その結果、下塗層１４における表面硬度や耐擦過性が高まり、さらに、樹脂粒子の分散性も高まる。
【００５５】
シランカップリング化合物、および、その処理量は、反応性無機酸化物粒子で挙げたシランカップリング化合物、および、その処理量と同様である。
下塗層１４に含まれる粒子の粒子径は、塗膜の透明性（ヘイズ）を維持するうえで、５ｎｍ以上、かつ、１００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは１０ｎｍ以上、かつ、５０ｎｍ以下である。そして、下塗層１４への粒子の添加によって導電層１２の凹凸を形成するうえで、さらに大きな粒子、あるいは、一次粒子が凝集した凝集粒子を用いることが好ましい。具体的に好適な粒子径は、１００ｎｍ以上、かつ、１０μｍ以下であり、より好ましくは２００ｎｍ以上、かつ、５μｍ以下である。ここで、凝集粒子の場合は、凝集径を粒子径とする。なかでも、５００ｎｍ以上、かつ、３μｍ以下のシリカの凝集粒子は、下地層の表面に凹凸を形成するうえで好適である。
【００５６】
下塗層１４に含まれる粒子の一次粒子径は、拡大画像観察にて求められる。例えば、透過型電子顕微鏡などを用いて、塗工層の画像粒子画像の最大長（Ｄｍａｘ：粒子画像の輪郭上の２点における最大長さ）と、最大長垂直長（ＤＶ−ｍａｘ：最大長に平行な２本の直線で粒子画像を挟んだときの、この２本の直線間の最短長さ）を測長し、その相乗平均値（Ｄｍａｘ×ＤＶ−ｍａｘ）１／２を粒子径とする。この方法で１００個の粒子について粒子径を測定し、その算術平均値を平均一次粒子径とする。なお、凝集粒子の粒子径は、粒子の分散液を動的光散乱法やレーザー回折法で測定すると最も正確な値が計測できるが、塗工層の拡大画像観察でも凝集の状態を把握することは可能である。
【００５７】
下塗層１４における粒子の配合量は、下塗層用の塗工液の固形分、すなわち、下塗層１４に対して、１質量％以上、かつ、１０質量％以下含まれている。下塗層用の塗工液の固形分とは、溶剤を含まない場合は下塗層用の塗工液を構成する全成分の合計を示し、溶剤を含む場合は溶剤を除いた全成分の合計を示す。こうした粒子の配合量が多いほど、表面粗さが大きくなる傾向があり、１質量％以上、かつ、１０質量％以下の範囲であれば、所望の表面粗さが得られやすい。特に、１質量％以上であると、ニュートンリングの形成を抑えるアンチニュートンリング性が高まり、１０質量％以下であると、充分な量の多官能（メタ）アクリルモノマーを配合できるため、下塗層１４の硬度が良好となる。
【００５８】
下塗層形成用の塗工液は、硬化を促進させるために、多官能（メタ）アクリルモノマー及び粒子とともに、光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、公知のものが使用でき、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−２（ヒドロキシ−２−プロプル）ケトン、ベンゾフェノン、またはｐ−フェニルベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、プロピオフェノン、ジクロロベンゾフェノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ターシャリーブチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、ｐ−ジメチルアミン安息香酸エステルなどが挙げられる。これら光重合開始剤は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５９】
光重合開始剤の配合量は、下塗層用の塗工液の固形分中、溶剤を含まない場合は下塗層用の塗工液を構成する全成分の質量に対して、溶剤を含む場合は溶剤を除いた全成分の質量に対して、０．５〜１０質量％が好ましく、２〜８質量％がより好ましい。０．５質量％以上であると硬化不良が生じにくい。１０質量％を超えて配合しても、配合量に見合った硬化促進効果は得られず、コストも高くなる。また、硬化物中に残留して黄変やブリードアウトなどの原因となるおそれがある。
【００６０】
光重合開始剤に加えて、光増感剤をさらに含むこともできる。光増感剤としては、たとえば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、またはトリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。
【００６１】
下塗層形成用の塗工液は、溶剤を含有してもよい。溶剤は、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、トルエン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ブチルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、エチルブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどである。これらは１種以上を単独で使用してもよいし、２種以上を混合して使用してもよい。
【００６２】
特に、塗工ムラを軽減できることから、蒸発速度の異なる２種以上の溶剤を併用することが好ましい。例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルからなる群から選ばれる少なくとも２種の溶剤を混合して使用することが好ましい。
【００６３】
下塗層用の塗工液の塗工量は、下塗層１４の厚みに応じて設定される。下塗層１４の厚みは、０．１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、０．２μｍ以上８μｍ以下であることがより好ましい。
［ポリチオフェン系導電剤］
導電層１２を構成するポリチオフェン系導電剤は、炭素同士の二重結合、および、炭素同士の単結合が交互に並ぶπ共役系の主鎖を有して、主鎖において導電性を発現するポリチオフェン系化合物を含む。ポリチオフェン系化合物は、導電性を示す一方で、可視光領域の光の吸収をほとんど示さない高い透明性を示す導電剤である。
【００６４】
ポリチオフェン系化合物は、３−ヘキシルチオフェンの重合体、３，４−エチレンジオキシチオフェン（以下、ＥＤＯＴと示す）の重合体（以下、ＰＥＤＯＴと示す）、および、これらの誘導体からなる群から選択される少なくとも１つであることが好ましい。ポリチオフェン系化合物は、１種類の重合体から構成されてもよいし、２種類以上の重合体の混合物として構成されてもよい。ポリチオフェン系化合物は、３−ヘキシルチオフェンの重合体、および、ＰＥＤＯＴに限らず、これら以外のポリチオフェン系誘導体であってもよい。ポリチオフェン系導電剤におけるポリチオフェン系化合物の種類や組成は、導電性シート１０の用途などに応じて適宜選択される。
【００６５】
なお、３−ヘキシルチオフェンの重合体の誘導体は、例えば、主鎖にスルホン酸基を有する自己ドープ型ポリチオフェンである。ＰＥＤＯＴの誘導体は、例えば、ポリエチレングリコールなどのフレキシブルなポリマーとＥＤＯＴとが共重合した有機溶媒分散型ＰＥＤＯＴである。
【００６６】
ポリチオフェン系導電剤を含む導電層１２の形成方法は、基材１１に対する塗工や印刷を用いる。塗工に用いられる原材料、および、印刷に用いられる原材料は、ポリチオフェン系導電剤を含む液状体、すなわち、塗工液である。
【００６７】
導電層形成用の塗工液は、導電層１２の導電性を高めるドーパントや、ポリチオフェン系化合物の分散性を高める分散媒を含むことが好ましい。ポリスチレンスルホン酸（以下、ＰＳＳと示す）やポリビニルスルホン酸（以下、ＰＶＳと示す）は、ドーパントとしての機能に加え、水中で粒子状となるＰＥＤＯＴを水中で分散させる分散媒としての機能も有する。導電層形成用の塗工液、および、導電層形成用の塗工液から形成される導電層１２において、ポリチオフェン系導電剤は、ポリチオフェン系化合物とそれの導電性を高めるドーパントを含んでもよい。
【００６８】
ＰＥＤＯＴを含む塗工液は、導電層１２の導電性を高める高沸点溶媒を２次ドーパントとしてさらに含んでもよい。２次ドーパントが導電層１２に含まれる構成であれば、導電層１２の導電性がさらに高まる。２次ドーパントは、例えば、ポリエチレングリコール、メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドンからなる群から選択される少なくとも１つである。導電層形成用の塗工液にける２次ドーパントの配合量は、導電層形成用の塗工液に対して、１質量％以上、かつ、１０質量％以下が好ましく、２質量％以上、かつ、８質量％以下がより好ましい。２次ドーパントの添加量が１質量％よりも低い構成では、２次ドーパントとしての効果が十分に得られない。また、２次ドーパントの添加量が１０質量％よりも高い構成では、高沸点溶媒である２次ドーパントの量が導電層１２において過剰になってしまい、２次ドーパントがブリード（溶出）する場合がある。
【００６９】
ＰＥＤＯＴを含む塗工液の調整は、例えば、ＰＳＳの存在下でＥＤＯＴを重合し、水分散体としてＰＥＤＯＴ−ＰＳＳを得る方法が好適である。また、ＰＶＳの存在下でＥＤＯＴを重合し、水分散体としてＰＥＤＯＴ−ＰＶＳを得る方法も好適である。特に、高い導電性が得られる点において、ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳを得る方法は、より好適である。
【００７０】
導電層１２の導電性が高まる観点から、導電層１２におけるポリチオフェン系導電剤の配合量は、高いほど好ましい。導電層１２においてポリチオフェン系導電剤の配合量は、導電層１２の導電性が高まり、かつ、導電層１２の塗工の容易性が高まる観点から、導電層１２の質量成分に対して、１０質量％以上、かつ、９０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以上、かつ、７０質量％以下であることがより好ましい。
［バインダー］
導電層１２を構成するバインダーは、ポリチオフェン系導電剤の状態を、導電層１２にて固定する樹脂である。導電層１２の導電性が高まる観点から、導電層１２におけるポリチオフェン系導電剤の配合量は、高いほど好ましい。一方で、導電層１２におけるポリチオフェン系導電剤の配合量が高いほど、温度、湿度、溶剤、擦過などの各種のストレスによる導電性の低下の度合いも高い。バインダーは、ポリチオフェン系導電剤の状態を、導電層１２にて固定して、こうした各種のストレスによる導電性の低下を抑える機能を有する。
【００７１】
バインダーは、例えば、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリエステル系樹脂、アルキド樹脂、ウレタン樹脂、アミド樹脂、これらの変性樹脂、これらの共重合樹脂からなる群から選択される少なくとも１つである。バインダーは、１種類の樹脂であってもよいし、互いに異なる２種類以上の樹脂の混合物であってもよい。バインダーは、ポリチオフェン系導電剤の構成や基材１１の構成などによって適宜選択される。低い吸湿性、高い耐酸性、優れた塗工適性が得られる観点から、バインダーは、ポリエステル系樹脂であることが好ましい。
【００７２】
バインダーは、それの原料であるモノマー、あるいは、オリゴマーを含んでもよいし、さらには、重合開始剤や架橋剤などを含んでもよい。導電層１２を形成するための塗工液は、少なくともバインダーの原料としてモノマー、あるいは、オリゴマーを含み、かつ、重合開始剤を含む。
【００７３】
バインダーの原料は、例えば、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレートである。以下、単官能は、重合性不飽和基を１つ有することを示し、２官能は、重合性不飽和基を２つ有することを示し、３官能は、重合性不飽和基を３つ有することを示す。
【００７４】
バインダーがラジカル重合体であるとき、バインダーの原料は、単官能として、例えば、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、フェノールエチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、ノニルフェノールエチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、アクリロイルモルホリン、イソボルニル（メタ）アクリレート、Ｎ―ビニルピロリドンからなる群から選択される少なくとも１つである。
【００７５】
バインダーがラジカル重合体であるとき、バインダーの原料は、２官能として、例えば、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールエチレンオキサイド変性ジアクリレート、ネオペンチルグリコールポリエチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレートからなる群から選択される少なくとも１つである。
【００７６】
バインダーがラジカル重合体であるとき、バインダーの原料は、３官能以上として、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、グリセリンプロポキシートリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレートからなる群から選択される少なくとも１つである。
【００７７】
バインダーがカチオン重合体であるとき、バインダーの原料は、例えば、グリシジルエーテル化合物や脂環式エポキシ化合物などのエポキシ化合物、オキセタン化合物、ビニルエーテル化合物からなる群から選択される少なくとも１つであるが、これらに限定されるものではない。
【００７８】
重合開始剤は、例えば、アゾビスイソブチロニトリルなどのアゾ化合物、過酸化ベンゾイルなどの有機過酸化物、ジハロゲン化合物であり、これら以外の公知のものでもよい。ポリチオフェン系導電剤の導電性が高まる観点から、導電層１２におけるバインダーの配合量は、少ない方が好ましい。なお、バインダーの配合量が過少であるときには、塗工液の塗工に対する適性が低くなる。これらの観点から、ポリチオフェン系導電剤が１００質量部であるとき、バインダーの配合量は、５００質量部以下が好ましく、３００質量部以下がより好ましい。また、バインダーの配合量は、１０質量部以上が好ましく、２０質量部以上がより好ましい。
［導電性粒子］
導電層１２を構成する導電性粒子の形状、および、大きさは、導電層１２の膜厚ａと導電性粒子の短軸径ｂとにおいて、下記式１、および、式２を満たす形状の範囲内にて、特に限定されない。電性粒子の形状は、球形状、平板形状、フレーク形状、線形状、不定形状であってもよい。さらに、導電層１２の外観に対する影響が少なく、かつ、耐擦過性が高まる観点から、導電性粒子の形状は、導電性粒子の短軸径ｂと導電性粒子の長軸径ｃとにおいて、下記式３を満たすことが好ましく、粒子表面に凹凸が少ない形状である球状がより好ましく、真球形状はさらに好ましい。
【００７９】
ａ＞１００ｎｍ      …  式１
１．５＜ｂ／ａ＜５  …  式２
ｃ／ｂ＜２          …  式３
ｂ／ａが１．５よりも小さいとき、導電層１２の形成の過程において、導電性粒子が凝集しやすく、また、導電層１２の表面から深い部位に、導電性粒子が埋もれる可能性が高い。一方で、ｂ／ａが５よりも大きいとき、導電性粒子が導電層１２から脱落しやすく、導電性粒子の添加による効果が得られ難い。
【００８０】
なお、導電層の膜厚ａは、導電層１２において互いに異なる部位から得られる膜厚の平均値であり、走査型電子顕微鏡や光学顕微鏡などの観察画像から得られる。導電層の膜厚ａは、例えば、導電層１２において互いに異なる２０箇所の各々の膜厚から得られる平均値である。導電性粒子の短軸径ｂは、複数の導電性粒子の各々から得られる短軸方向の一次粒子径の平均値であり、導電層１２の表面観察画像、および、導電層１２の断面観察画像から得られる。導電性粒子の短軸径ｂは、例えば、導電層の膜厚ａの算出に用いられた部位において、互いに異なる１００個の導電性粒子の短軸径が求められ、その短軸径の平均値として求められる。
【００８１】
導電性シート１０が抵抗膜式タッチパネルの電極として用いられるとき、導電性粒子の表面形状の有する凹凸は、導電層１２と対向する対向電極の表面を擦傷し得る。球形状を有する導電性粒子や真球形状を有する導電性粒子は、こうした可能性を抑える。線形状を有する導電性粒子は、導電層１２内において導電性のバラツキを大きくする可能性があるが、球形状を有する導電性粒子や真球形状を有する導電性粒子は、こうした可能性も抑える。
【００８２】
導電性粒子の形成材料は、導電性を示す材料の範囲内にて、特に限定されない。電性粒子の形成材料は、例えば、金、銀、銅などの金属、ＩＴＯやＡＴＯなどの金属酸化物、金属酸化物以外の金属化合物、ポリアニリンやポリピロールなどの有機導電性高分子、炭素からなる群から選択される少なくとも１つである。導電性、耐擦過性、および、耐腐食性が高まる観点から、導電性粒子の形成材料は、金、銀、銅などの金属であることが好ましい。
【００８３】
１つの導電性粒子は、１種類の形成材料から形成されてもよいし、互いに異なる２種類以上の形成材料から形成されてもよい。１つの導電性粒子は、例えば、銅粒子の表面が銀によって覆われた銀被覆銅粒子であってもよい。また、導電性粒子は、耐酸化性や耐腐食性を高めるために、被覆以外の表面処理が施された粒子であってもよい。導電性、耐擦過性、および、耐腐食性が高まる観点から、銀は表面材料として好ましく、形成材料のコストが抑えられる観点から、銅はバルク材料として好ましい。
【００８４】
導電層１２に含まれる導電性粒子は、１種類の導電性粒子であってもよいし、互いに異なる形成材料から形成された２種類以上の導電性粒子の混合物であってもよい。導電層１２に含まれる導電性粒子は、例えば、銀被覆銅粒子と銀粒子との混合物であってもよいし、銀被覆銅粒子と銅粒子との混合物であってもよい。
【００８５】
導電層１２に含まれる導電性粒子の分布は、導電層１２と他の導電部材との接触する特定部位に導電性粒子が偏るように構成されてもよいし、導電層１２の全体に導電性粒子が均一に分散するように構成されてもよいし、導電層１２の表面全体に導電性粒子が均一に分散するように構成されてもよい。導電性粒子を含む導電層１２と、その導電層１２と対向する他の導電部材とが接触するとき、導電層１２の表面の一部は、他の導電部材の表面と擦れる。導電層１２の表面全体に導電性粒子が分散する構成であれば、導電性粒子と他の導電部材とが点接触し、上述の擦れに際して、導電層１２と他の導電部材との導通が特に安定する。上記式１、および、式２を満たす導電性粒子であれば、こうした導電層１２の保護、および、導通の安定が高められ、さらに、導電層１２の表面に導電性粒子が均一に分散するように構成であれば、その効果は著しい。
【００８６】
導電性粒子として好適な銀粒子の代表的な製法は、例えば、アトマイズ法や湿式還元法である。球形状の導電性粒子が得られやすく、かつ、導電性粒子が均一に分散しやすい観点から、湿式還元法は好ましい。導電性粒子として好適な銀粒子は、例えば、特開２００４−１０００１３号公報、特開２００５−０９３３８０号公報などに例示され、特開平１１−１８９８１２号公報に記載されているように、導電性を大きく低下させない範囲で、他の金属成分を含むことも可能である。
【００８７】
なお、導電性粒子の過度な凝集を抑えるために、導電性粒子の製造に際して、導電性粒子を保護する保護コロイドが用いられてもよいし、導電性粒子の分散状態を安定させる安定化剤が用いられてもよい。保護コロイドや安定化剤としては、ゼラチン、アラビアゴム、ポリビニルアルコール、アスコルビン酸などのカルボン酸系化合物、アミン系化合物、チオール系化合物などが用いられる。なお、アミン系化合物やチオール系化合物は、ポリチオフェン系導電剤が共存するときに、銀粒子の表面に強く結合して、銀粒子の表面に絶縁性の被覆層を形成したり、銀粒子同士の凝集を引き起こしたりしやすいため、銀粒子以外の導電性粒子、および、表面に銀を有する粒子以外の導電性粒子との組合わせとして用いることが好ましい。
【００８８】
導電層１２に含まれる導電性粒子は、導電層１２の表面に少なからず凹凸を形成するため、導電性粒子の配合量が過剰になると、導電層１２に必要とされる透過率などの光学特性を、過剰な導電性粒子は低下させてしまう。導電層１２の表面の保護、および、導通の安定が導電性粒子によって高められ、かつ、導電層１２に必要とされる光学特性が保たれる導電性粒子の配合量の範囲は、下記（ａ）、および、（ｂ）の少なくとも１つである。すなわち、押下や筆記に対する感度、および、押下や筆記の繰返しに対する耐性が高められる導電性粒子の配合量の範囲は、下記（ａ）、および、（ｂ）の少なくとも１つである。
【００８９】
（ａ）塗工液において、ポリチオフェン系導電剤の質量部が１００であるとき、導電性粒子の質量部は、２０以上、かつ、１００以下である。
（ｂ）導電層１２において、導電層１２の質量に対する導電性粒子の質量である含有率は、６質量％以上、かつ、２５質量％以下である。
［カップリング成分］
導電層１２を構成するカップリング成分は、シランカップリング化合物、および、シランカップリング化合物の反応物から構成されている。シランカップリング化合物の反応物は、シランカップリング化合物の脱水縮合によって得られる生成物である。カップリング成分は、バインダー同士を架橋する機能を有している。カップリング成分は、導電層１２の塗工の容易性や、導電層１２の硬度などを架橋によって高め、また、導電層１２とそれの下地との密着性を架橋によって高める。
【００９０】
例えば、シリコン成分を多く含む基材１１や、シリコン成分を含むハードコート層を表面に有する基材１１に導電層１２が形成されるとき、カップリング成分は、導電層１２とそれの下地との間の密着性を高める。特に、基材１１としてＰＥＴフィルムが用いられ、ＰＥＴフィルムの表面にシリコン成分を含む接着層が形成され、その接着層上に導電層１２が形成されるとき、カップリング成分は、導電層１２と基材１１との間の密着性を高める。
【００９１】
シランカップリング化合物は、例えば、エポキシ系、ビニル系、メタクリル系、アクリル系、スルフィド系からなる群から選択される少なくとも１つであり、これらの中でも、導電層１２とそれの下地との密着性が高まる観点から、エポキシ系のシランカップリング化合物は好ましい。
【００９２】
ポリチオフェン系導電剤による導電性が高まる観点から、導電層１２に含まれるカップリング成分の配合量は、少ない方が好ましい。一方で、カップリング成分の配合量が過少である場合には、導電層１２の塗工の容易性や導電層１２の硬度が低下し、かつ、導電層１２とそれの下地との密着性も低下する。導電層１２の塗工の容易性、導電層１２の保護性、および、導電層１２とそれの下地との密着性が高められ、かつ、導電層１２に必要とされる導電性が得られるカップリング成分の配合量の範囲は、下記（ｃ）、および、（ｄ）の少なくとも１つであることが好ましい。すなわち、押下や筆記に対する感度、および、押下や筆記の繰返しに対する耐性が高められるカップリング成分の配合量の範囲は、下記（ｃ）、および、（ｄ）の少なくとも１つであることが好ましい。
【００９３】
（ｃ）塗工液において、ポリチオフェン系導電剤の質量部が１００であるとき、シランカップリング化合物の質量部は、１００以上、かつ、２４０以下である。
（ｄ）導電層１２において、導電層１２の質量に対するシリコン元素の含有率は、３質量％以上、かつ、７質量％以下である。
［添加剤］
導電層１２を形成するための導電層形成用の塗工液は、ポリチオフェン系導電剤、バインダー、導電性粒子、カップリング成分の他に、導電性を大きく低下させることのない範囲にて、添加剤が含まれてよい。導電層形成用の塗工液から形成される導電層１２もまた、こうした添加剤を含んでもよい。
【００９４】
添加剤は、酸化防止剤、耐熱安定剤、紫外線吸収剤、金属腐食防止剤、ｐＨ調整剤、有機粒子、無機粒子、顔料、染料、微細繊維、帯電防止剤、核剤などの添加剤、および、濡れ剤や消泡剤などの塗工助剤からなる群から選択される少なくとも１つである。
【００９５】
塗工助剤は、導電層１２に空孔などの欠陥が生じることを抑える機能を有する。塗工助剤は、例えば、シリコーン系、長鎖アルキル系、フッ素系などの界面活性剤などである。導電層１２と基材１１との間の密着性が高まる観点から、塗工助剤の配合量は、下地に対する塗工液の接触角を、５０°以上１００°以下、より好ましくは６０°以上９０°以下に設定する構成が好ましい。なお、塗工助剤の有する界面活性機能は、バインダー、あるいは、シランカップリング化合物が有していてもよい。
【００９６】
ｐＨ調整剤は、ｐＨの変動によるポリチオフェン系導電剤の劣化を抑える機能を有する。例えば、ポリチオフェン系導電剤がＰＥＤＯＴ−ＰＳＳであるとき、ＰＥＤＯＴの酸化反応やＰＳＳの加水分解反応は、ｐＨ調整剤の添加によって抑えられる。ｐＨ調整剤は、例えば、酢酸―酢酸ナトリウム混合物、リン酸―リン酸ナトリウム混合物、クエン酸―クエン酸ナトリウム混合物、グリシン−塩酸混合物からなる群から選択される少なくとも１つである。
［導電性シート１０の製造方法］
導電性シート１０の製造方法では、まず、基材１１の表面のうち、下塗層１４の形成される対象となる側面に、下塗層用の塗工液を用いた塗工、あるいは、印刷が施されて、下塗層が形成される。次いで、下塗層の表面に、導電層形成用の塗工液を用いた塗工、あるいは、印刷が施されて、塗膜が形成される。次いで、基材１１に形成された塗膜が硬化することによって、導電層１２が形成される。
【００９７】
ポリチオフェン系導電剤の導電性は、酸性下において高いため、導電層形成用の塗工液のｐＨは、１以上、かつ、６以下であることが好ましい。塗工液のｐＨが高いときには、例えば、硫酸や塩酸などの酸性溶液を塗工液に添加してもよいし、ｐＨ調整剤を塗工液に添加してもよい。
【００９８】
塗工の方式は、例えば、ブレードコーター、エアナイフコーター、ロールコーター、バーコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ロッドブレードコーター、リップコーター、ダイコーター、カーテンコーターなどを用いる方式が挙げられる。塗工に用いられる塗工液が少ないときには、マイクログラビアコーターを用いることが好ましい。印刷の方式は、例えば、スクリーン印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、グラビアオフセット印刷、インクジェット印刷が挙げられる。
【００９９】
塗膜の硬化の方式には、例えば、加熱送風乾燥機や真空乾燥機などによる塗膜の乾燥が挙げられる。なお、塗工液に含まれるバインダーが熱硬化性の樹脂であるとき、塗膜の硬化に際して、加熱炉や赤外線ランプなどを用いる加熱を塗膜に施してもよい。また、塗工液に含まれるバインダーが活性エネルギー線硬化性の樹脂であるとき、塗膜の硬化に際して、活性エネルギー線を塗膜に照射してもよい。
【０１００】
なお、活性エネルギー線は、例えば、紫外線、あるいは、電子線であり、汎用性が高い観点から、紫外線であることが好ましい。紫外線の光源には、例えば、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク、無電極紫外線ランプなどが用いられる。電子線には、例えば、コックロフトワルト型、バンデクラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型などの各種電子線加速器から放出される電子線が用いられる。活性エネルギー線の照射による硬化は、大気中の酸素による硬化阻害を回避するため、窒素などの不活性ガス存在下で行うことが好ましく、コストの観点から窒素ガスが好適に利用できる。また、活性エネルギー線照射工程は、予備硬化工程と本硬化工程の２段階に分けて行ってもよい。
【０１０１】
導電層１２以外の他の機能層が設けられる構成においても、他の機能層の形成には、例えば、機能層用の塗工液を用いた塗工、あるいは、印刷が施されて、それによって形成された塗膜が硬化することによって、導電層１２以外の他の機能層が形成される。
【０１０２】
導電層１２に対するパターニングは、基材１１の表面のうち、導電層１２の形成されるべき箇所にのみ塗膜を形成する方法であってもよいし、導電層１２に対して、さらにエッチングが施される方法であってもよい。導電層１２の形成されるべき箇所にのみ塗膜を形成する方法には、例えば、グラビアコーターや各種の印刷が用いられる。導電層１２のエッチングには、例えば、湿式のエッチングや、レーザー光によるアブレーションを含む乾式のエッチングが用いられる。
［タッチパネル］
導電性シート１０を備えるタッチパネルは、導電層１２を電極として用いる抵抗膜式タッチパネルであってもよいし、導電層１２をシールド層として用いる抵抗膜式タッチパネルであってもよい。また、導電性シート１０を備えるタッチパネルは、導電層１２を電極として用いる静電容量式タッチパネルであってもよいし、導電層１２をシールド層として用いる静電容量式タッチパネルであってもよい。導電層１２が担う電極は、タッチパネルの上部電極であってもよいし、タッチパネルの下部電極であってもよいし、これら上部電極と下部電極との両方であってもよい。
【０１０３】
なお、導電層１２以外の他の電極を有するタッチパネルにて、導電層１２以外の他の電極は、ＩＴＯやＡＴＯなどの酸化金属化合物層であってもよいし、メッシュ状を有する銀や銅などの金属層であってもよいし、ナノワイヤー素材の塗工によって形成される電極であってもよい。また、導電層１２以外の他の電極は、導電性を有するカーボンナノワイヤー、グラフェンなどの炭素系化合物から構成されてもよい。
【０１０４】
以下、タッチパネルの一例である抵抗膜式タッチパネルの上部電極に導電層１２が用いられる例について説明する。
図５が示すように、抵抗膜式タッチパネル２０は、導電性シート１０とＩＴＯガラス２１との積層体である。導電性シート１０の導電層１２はＩＴＯガラス２１と対向し、導電層１２とＩＴＯガラス２１との間には、図示されないドットスペーサーが配置されて、所定の隙間が空けられている。導電性シート１０の導電層１２は、抵抗膜式タッチパネル２０の上部電極として機能し、ＩＴＯガラス２１は、抵抗膜式タッチパネル２０の下部電極として機能する。
【０１０５】
導電層１２においてＩＴＯガラス２１と対向する側面は、互いに対向する２つの導電層用の引出電極Ｐ１を有している。２つの導電層用の引出電極Ｐ１は、導電層１２の縁を構成する１つの辺に沿った線形状を有している。一方の引出電極Ｐ１は、導電層１２の縁を構成する一辺の近傍に形成され、他方の引出電極Ｐ１は、導電層１２の縁を構成する他辺の近傍に形成されている。２つの導電層用の引出電極Ｐ１は、引出電極Ｐ１とＩＴＯガラス２１とが直接接触しないように、絶縁性の粘着材Ｇ１によって覆われている。２つの導電層用の引出電極Ｐ１は、異方導電性粘着材や異方導電性ペーストなどと通じて、外部の検出回路に別々に接続する。引出電極Ｐ１の形成材料は、導電層１２よりも安定した導通が確保できる状態であれば、特に限定されない。引出電極Ｐ１は、例えば、導電性の高い金属である銀、銅、アルミニウム、モリブテンなどである。
【０１０６】
ＩＴＯガラス２１において導電層１２と対向する側面は、互いに対向する２つのＩＴＯガラス用の引出電極Ｐ２を有している。２つのＩＴＯガラス用の引出電極Ｐ２は、ＩＴＯガラス２１の縁を構成する１つの辺に沿った線形状を有している。一方の引出電極Ｐ２は、ＩＴＯガラス２１の縁を構成する一辺の近傍に形成され、他方の引出電極Ｐ２は、ＩＴＯガラス２１の縁を構成する他辺の近傍に形成されている。２つのＩＴＯガラス用の引出電極Ｐ２は、導電層用の引出電極Ｐ１と互いに直交する方向に沿って位置する。２つのＩＴＯガラス用の引出電極Ｐ２は、引出電極Ｐ２と導電層１２とが直接接触しないように、絶縁性の粘着材Ｇ２によって覆われている。２つのＩＴＯガラス用の引出電極Ｐ２は、異方導電性粘着材や異方導電性ペーストなどと通じて、外部の検出回路に別々に接続する。引出電極Ｐ２の形成材料は、ＩＴＯガラス２１よりも安定した導通が確保できる状態であれば、特に限定されない。引出電極Ｐ２は、例えば、導電性の高い金属である銀、銅、アルミニウム、モリブテンなどである。
【０１０７】
導電層１２とＩＴＯガラス２１との間の距離は、粘着材Ｇ１，Ｇ２の厚みによって調整される。粘着材Ｇ１，Ｇ２は、粘着層から構成されてもよいし、粘着材Ｇ１，Ｇ２の母材の両面に粘着層を有して構成されてもよい。粘着材Ｇ１，Ｇ２の形成材料は、例えば、天然ゴム系粘着剤、合成ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤などであり、溶剤系、エマルジョン系、水系などいずれであってもよい。なかでも、透明度、耐候性、および、耐久性が高まり、かつ、低コスト化が図られる観点から、溶剤系のアクリル系粘着剤が特に好ましい。さらに、高い粘着性が得られる観点から、粘着材Ｇ１，Ｇ２の形成材料は、エチルヘキシルアクリレートやブチルアクリレートをモノマー単位として含む重合体が特に好ましい。また、必要に応じて粘着剤に助剤が添加されてもよい。助剤としては、紫外線吸収剤、増粘剤、ｐＨ調整剤、タッキファイヤ、バインダー成分、カップリング成分、粘着性粒子、消泡剤、防腐防黴剤などが、一例として挙げられる。
【実施例】
【０１０８】
本開示における導電性シートの製造方法、導電性シート、および、タッチパネルの一例である実施例を以下に説明する。なお、実施例に示される「％」は、特に断わらない限り質量％を示す。
［実施例１］
［導電性シートの作製］
基材１１として、両面に易接着層を有する二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（商品名：ルミラーＵ４８、東レ株式会社製、厚さ１８８μｍ））を用いた。二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、乾燥後の膜厚が５μｍになるように、ハードコート剤（商品名：紫光ＵＶ−７６００Ｂ、日本合成化学株式会社製）を、バーコーターで塗工し、その後に、塗膜を８０℃の熱風で乾燥した。次いで、高圧水銀ランプ紫外線照射機（アイグラフィックス社製）にて３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を窒素雰囲気下で塗膜に照射して裏面用ハードコート層を形成した。
【０１０９】
次いで、ＡＧハードコート剤（商品名：フォルシードＮｏ．３３０  Ｍ、中国塗料株式会社製）とクリアハードコート剤（商品名：フォルシードＮｏ．３００Ｃ、中国塗料株式会社製）の６：４混合物を、実施例１の下塗層形成用の塗工液として調整した。基材において、裏面用ハードコート層を形成した側面とは反対の側面に、乾燥後の膜厚が２．５μｍとなるように、下塗層形成用の塗工液をバーコーターによって塗工し、その後に、８０℃の雰囲気で６０秒間加熱して塗膜を乾燥した。また、高圧水銀ランプ紫外線照射機によって３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を窒素雰囲気下で塗膜に照射し、塗膜を硬化することによって、下塗層を形成した。
【０１１０】
ポリチオフェン系導電材として、３，４−エチレンジオキシチオフェンをポリスチレンスルホン酸の存在下で重合させたＰＥＤＯＴ−ＰＳＳを用い、バインダーとしてポリエステル径樹脂（商品名：ペスレジンＡー６４５ＧＨ、アクリル変性ポリエステルの３０％水分散液、高松油脂株式会社製）を用いた。また、シランカップリング化合物として、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン（商品名：ＫＢＥ−４０３、信越化学工業株式会社製）を用い、導電性粒子として湿式銅粉（商品名：１０３０Ｙ、三井金属鉱業株式会社製）を用いた。
【０１１１】
そして、ＰＥＤＯＴ−ＰＳＳの固形分濃度１％水分散液と、水で希釈したポリエステル系樹脂の１％分散液と、メタノールで希釈した３−グリシドキシプロピルトリエトキシシランの１％液と、水とメタノールの等量混合液に分散した湿式銅粉の１％分散液と、水とメタノールの等量混合液にて希釈した界面活性剤（商品名：サーフロンＳ−３８６、ＡＧＣセイミケミカル株式会社製、有効成分１００％）の１％溶液とを混合した。この際に、導電性ポリマー：バインダー樹脂：シランカップリング化合物：導電性粒子：界面活性剤＝１００：１００：１１０：３０：１０の比率で混合し、混合液Ａを得た。この混合液Ａに対して３％のジメチルスルホキシド（関東科学株式会社製、試薬）を配合して、導電層形成用の塗工液を得た。
【０１１２】
下塗層の表面に対してコロナ処理を施した後、導電層形成用の塗工液をバーコーターで塗工し、塗膜を１００℃で乾燥して導電層を形成し、これによって、実施例１における導電性シートを得た。なお、導電層の表面抵抗が約４００Ω／ｓｑとなるように、導電層形成用の塗工液の塗工量によって、導電層の膜厚を調整した。この際に、表面抵抗の測定は、三菱化学アナリテック株式会社製ロレスタＥＰ：ＭＣＰ−Ｔ３６０を用いて、ＪＩＳ  Ｋ７１９４準拠の手法にて行った。
［タッチパネルの作製］
得られた導電性シートを７０ｍｍ×１００ｍｍに切り出し、同じ大きさのドットスペーサー付きＩＴＯガラス（表面抵抗約４００Ω／ｓｑ）を準備した。上記引出電極Ｐ１，Ｐ２の形成材料として、銀ペースト（商品名：ドータイトＦＡ−４０１ＣＡ、藤倉化成株式会社製）を用いた。そして、導電層の導電面に、引出電極Ｐ１に対応するパターンを銀ペーストで形成し、ＩＴＯガラスの導電面に引出電極Ｐ２に対応するパターンを銀ペーストで形成した。次いで、銀ペーストのパターンに対し、１４０℃で１５分間の加熱による焼成処理を施して、引出電極Ｐ１，Ｐ２を形成した。さらに、引出電極Ｐ１，Ｐ２の各々に導電性銅箔テープを貼り合わせ、検出回路の接続先となる端子を形成して、抵抗膜式タッチパネルにおける上部電極と、抵抗膜式タッチパネルの下部電極とを得た。続いて、粘着材Ｇ１，Ｇ２として、厚さが８０μｍの絶縁性の粘着テープを用い、導電層の導電面とＩＴＯガラスの導電面とが互いに向かい合う位置で、上部電極の周辺部と下部電極の周辺部を貼り合わせて、実施例１における評価用の抵抗膜式タッチパネルを得た。
［実施例２］
下塗層形成用の塗工液に含まれる多官能（メタ）アクリレートとして、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（６官能アクリレート、商品名：ＤＰＨＡ、ダイセル・サイテック株式会社製）を用いた。また、下塗層形成用の塗工液に含まれる多官能（メタ）アクリレートとして、ジエチレングリコールジアクリレート（２官能アクリレート、商品名：ＳＲ２３０、サートマー社製）を用いた。また、下塗層形成用の塗工液に含まれる粒子として、粒子径１．４μｍのシリカ粒子（商品名：サイリシア３１０、富士シリシア化学株式会社製）を用いた。下塗層形成用の塗工液に含まれる重合開始剤として、光重合開始剤（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＢＡＳＦ社製）を用いた。下塗層形成用の塗工液に含まれる添加剤として、光安定化剤（商品名：ＴＩＮＵＶＩＮ１５２、ＢＡＳＦ社製）を用いた。下塗層形成用の塗工液に含まれる希釈溶剤として、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとを１：１（重量比）で混合した混合溶剤を用いた。
【０１１３】
そして、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを３０質量部、ジエチレングリコールジアクリレートを６１質量部、シリカ粒子を３質量部、光重合開始剤を３質量部、光安定化剤を３質量部、希釈溶剤を、固形分が５０質量％となるように混合して、実施例２の下塗層形成用の塗工液を調製した。次いで、実施例１の下塗層形成用の塗工液に代わり、実施例２の下塗層形成用の塗工液を用いて下塗層を形成した。
【０１１４】
導電層形成用の塗工液に含まれるシランカップリング化合物として、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（商品名：ＫＢＭ−４０３、信越化学工業株式会社製）と３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン（商品名：ＫＢＭ−８０３、信越化学工業株式会社製）の８：２混合物を用いた。また、導電層形成用の塗工液に含まれる導電性粒子として、銀粉（商品名：ＳＰＱ０３Ｒ、三井金属鉱業株式会社製）を用いた。
【０１１５】
そして、実施例１の３−グリシドキシプロピルトリエトキシシランに代わり、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランと３−メルカプトプロピルトリメトキシシランを用い、実施例１の湿式銅粉に代わり、銀粉を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、実施例２の導電性シートと、実施例２の抵抗膜式タッチパネルとを作製した。
［実施例３］
導電層形成用の塗工液に含まれるシランカップリング剤として、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（商品名：ＫＢＭ−４０３、信越化学工業株式会社製）を用いた。また、導電層形成用の塗工液に含まれる導電性粒子として、銀粉（商品名：ＳＰＱ０３Ｒ、三井金属鉱業株式会社製）を用いた。
【０１１６】
そして、実施例１の３−グリシドキシプロピルトリエトキシシランに代わり、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランを用い、実施例１の湿式銅粉に代わり、銀粉を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、実施例３の導電性シートと、実施例３の抵抗膜式タッチパネルとを作製した。
［実施例４］
導電層形成用の塗工液にて、シランカップリング化合物と導電性粒子の１％液の配合比率を、１１０：３０から１４０：５０に変更し、この変更以外は、実施例３と同様にして、実施例４の導電性シートと、実施例４の抵抗膜式タッチパネルとを作製した。
［実施例５］
下塗層形成用の塗工液に含まれるアクリル系ポリマーＸを以下に示す方法によって生成した。すなわち、単官能アクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、メタクリル酸、分子量調整剤、重合開始剤、および、溶剤を、窒素ガス導入缶と攪拌装置と温度計とを備えた反応容器に仕込み、窒素ガスを流通させながら、反応混合物を攪拌して８０℃に加温し、重量平均分子量７２００のアクリル系ポリマーＸを得た。
【０１１７】
この際に、単官能アクリレートとして、シクロヘキシルメタクリレート（商品名：ライトエステルＣＨ、共栄社化学株式会社製）を９０．０質量部とした。ｎ−ブチルメタクリレート（商品名：ライトエステルＮＢ、共栄社化学株式会社製）を１．３質量部とした。メタクリル酸（商品名：ライトエステルＡ、共栄社化学株式会社製）を４．７質量部とした。分子量調整剤としてｎ−ドデシルメルカプタン（商品名：チオカルコール２０花王株式会社製）を３．７質量部とした。重合開始剤として２，２´−アゾビスイソブチロニトリル（東京化成工業株式会社製）を０．３質量部とした。溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを２８６質量部とした。アクリル系ポリマーＸのＳＰ値は１０．０であり、ガラス転移点Ｔｇは６５℃であった。
【０１１８】
下塗層形成用の塗工液に含まれる多官能（メタ）アクリレートとして、ペンタエリスリトールトリアクリレート（商品名：Ｍ−３０５、東亞合成株式会社製、ＳＰ値１２．７、Ｔｇ：２５０℃）を用いた。下塗層形成用の塗工液に含まれる重合開始剤として、光重合開始剤（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、ＢＡＳＦ社製）を用いた。下塗層形成用の塗工液に含まれる添加剤として、光安定剤（商品名：ＴＩＮＵＶＩＮ１５２、ＢＡＳＦ社製）を用いた。下塗層形成用の塗工液に含まれる希釈溶剤として、イソプロピルアルコールとイソブチルアルコールとを１：１（重量比）で混合した混合溶剤を用いた。
【０１１９】
そして、アクリル系ポリマーＸを５質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレートを８７質量部、光重合開始剤を４質量部、光安定剤を４質量部、希釈溶剤を、固形分が４０質量％となるように混合して、実施例５の下塗層形成用の塗工液を調製した。実施例４の下塗層形成用の塗工液に代わり、実施例５の下塗層形成用の塗工液を用いた以外は、実施例４と同様にして、実施例５の導電性シートと、実施例５の抵抗膜式タッチパネルとを作製した。
［比較例１］
裏面用ハードコート層を形成した基材の、裏面用ハードコート層とは反対の側面に、下塗層を形成すること、および、コロナ処理を施すことを省略した。そして、裏面用ハードコート層とは反対の側面に、直接、導電層形成用の塗工液を塗工して導電層を形成した。これら下塗層、および、下塗層に対するコロナ処理を省略すること以外は、実施例４と同様にして、比較例１の導電性シートと、比較例１の抵抗膜式タッチパネルとを作製した。
［比較例２］
下塗層形成用の塗工液として、クリアハードコート剤（商品名：フォルシードＮｏ．３００Ｃ、中国塗料株式会社製）を用い、これ以外は実施例４と同様にして、比較例２の導電性シートと、比較例２の抵抗膜式タッチパネルとを作製した。
［比較例３］
下塗層形成用の塗工液によって形成した塗膜を１００℃で乾燥して下塗層を形成したこと以外は、実施例４と同様にして、比較例３の導電性シートと、比較例３の抵抗膜式タッチパネルとを作製した。
［比較例４〜５］
シランカップリング化合物と導電性粒子の配合量を、表１に示す通りに変更したこと以外は、実施例４と同様にして、導電層形成用の塗工液を調製し、比較例４および比較例５の導電性シートと、比較例４および比較例５の抵抗膜式タッチパネルとを作製した。
【０１２０】
上記実施例１から実施例５、および、比較例１から比較例５において得られた導電性シートにおける導電層の表面、および、導電層の断面を走査型電子顕微鏡で観察し、導電層の膜厚である導電層の膜厚ａ、下塗層の膜厚、導電性粒子の短軸径ｂ、導電性粒子の長軸径ｃを測定した。導電層の膜厚は、導電層の断面の画像に基づいて、導電性粒子の凸部を除く導電層の膜厚を１０箇所測定し、測定結果の平均値を導電層の膜厚ａとした。下塗層の膜厚も、同様に１０点測定の平均値を採用した。また、下塗層の表面粗さは、超深度形状測定顕微鏡（商品名：ＶＫ−８５００、株式会社キーエンス製）を用いて、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４準拠の手法にて、測定領域２７８μｍ×２１０μｍに対して、算術平均粗さ（Ｒａ）、最大高さ（Ｒｙ）、負荷長さ率（ｔｐ、切断レベルｃ＝５０％）、凹凸の平均間隔（μｍ）、局部山頂の平均間距離（Ｓ）を光学的に測定した。これらの測定結果と、導電層中のシリコン元素含有率、導電性粒子の含有率、下塗層の表面粗さ、下塗層の膜厚を表１、および、表２に示す。
【０１２１】
なお、表１において、シランカップリング化合物と導電性粒子は下記記号で表記した。
Ａ１：３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン
Ａ２：３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランと３−メルカプトプロピルトリメトキシシランの８：２混合物
Ａ３：３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
Ｂ１：湿式銅粉
Ｂ２：銀粉
［導電性シートおよびタッチパネルの評価］
各実施例、および、各比較例において、各例にて得られた導電性シートと抵抗膜式タッチパネルを、下記に示す方法にて評価し、その評価結果を表３に示す。
［透過率、ヘイズ］
導電性シートを５ｃｍ×１０ｃｍに切り出し、日本電色工業株式会社製ヘーズメーターを用いて、全光線透過率とヘイズをＪＩＳ−Ｋ７１０５準拠の手法にて測定した。
［アンチニュートンリング性（ＡＮ性）］
抵抗膜式タッチパネルにおいて、上部電極と下部電極が所定の間隔を開けて位置する静置状態と、上部電極と下部電極が接するまで導電性シートの中央部に０．８Ｒのポリアセタールペンを押し当てた押圧状態とを観察した。そして、観察時におけるニュートンリングの発生状態を、下記判定基準に従って４段階に評価した。
［判定基準］
Ａ：ニュートンリングは全く発生しなかった。
【０１２２】
Ｂ：電極間を狭めたときのみ、ニュートンリングが発生した。
Ｃ：そのままの状態でも、視野角によってはニュートンリングが見えた。
Ｄ：そのままの状態で、ニュートンリングが見えた。
［画像のギラツキ］
液晶ディスプレイ（画面サイズ：１３．３インチ、２９３．５ｍｍ×１６５ｍｍ、最大解像度：１３６６×７６８、０．２１ｍｍピッチ）の表示面に、文字、および、画像を表示した。この際に、液晶ディスプレイの表示面上に抵抗膜式タッチパネルを載せ、抵抗膜式タッチパネルを通して視認される文字、および、画像を、初期状態として確認した。次いで、液晶ディスプレイ上に抵抗膜式タッチパネルを載せたまま、導電性シートの中央部を中心として、抵抗膜式タッチパネルを徐々に１８０°回転させて、抵抗膜式タッチパネルを通して視認される文字、および、画像の変化を、下記判定基準に従って評価した。
［判定基準］
Ａ：常に、ほぼ均一な画像であり、文字や画像の視認性にも全く問題がなかった。
【０１２３】
Ｂ：タッチパネルを回転させていくと、角度によっては、白色ベタ部で若干ＲＧＢのずれが感じられたが、文字や画像の視認性には問題なかった。
Ｃ：ギラツキ（画像の輝度ムラ）があり、画像のイメージを損なう状態であった。
【０１２４】
Ｄ：非常にギラツキ（画像の輝度ムラ）が大きく、文字の視認性に支障をきたすレベルであった。
［筆記耐久性］
タッチパネル評価機（株式会社タッチパネル研究所、型式：００１型−２９）に、各例にて得られた抵抗膜式タッチパネルと０．８Ｒポリアセタールペンを取り付け、２．５Ｎ荷重にて、筆記試験前のタッチパネルのリニアリティを測定した。その後、５Ｎ荷重にて、タッチパネルの中央が含まれるように、ほぼ対角方向となる斜め４５°の角度で長さ５０ｍｍの往復線を５０万回筆記した。こうした筆記の後、抵抗膜式タッチパネルのリニアリティを測定し、劣化の度合いを下記判定基準に従って３段階に評価した。なお、リニアリティの測定は、抵抗膜式タッチパネル内全面に順次に加圧を入力し、入力位置に対する検知位置の最大ずれの大きさにより、抵抗膜式タッチパネルの精度を評価する手法である。
［判定基準］
Ａ：リニアリティの変化率は、３％未満であった。
【０１２５】
Ｂ：リニアリティの変化率は、３％以上５％未満であった。
Ｃ：リニアリティの変化率は、５％以上１０％未満であった。
Ｄ：リニアリティの変化率は、１０％以上であった。
［接触抵抗測定］
各例にて得られた抵抗膜式タッチパネルにおいて、タッチパネルの中央部に０．８Ｒポリアセタールペンを用いて２．５Ｎの荷重を入力し、荷重の入力開始から１分間経過した後に、引出電極Ｐ１と引出電極Ｐ２との間の抵抗を接触抵抗として測定した。
【０１２６】
【表１】
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【０１２７】
【表２】
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【０１２８】
【表３】
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表１が示すように、実施例１から実施例５の導電性シートは、塗工液に含まれる導電性粒子の大きさ、および、形状が、上記式１および式３を満たす水準であり、その塗工液によって形成された導電層は、式２を満たす水準である。
【０１２９】
また、実施例１から実施例５の導電性シートは、塗工液に含まれる導電性粒子の配合量として上記（ａ）を満たす水準であり、その塗工液によって形成された導電層は、導電層に含まれる導電性粒子の配合量として上記（ｂ）を満たす水準である。
【０１３０】
また、実施例１から実施例５の導電性シートは、塗工液に含まれるカップリング成分の配合量として上記（ｃ）を満たす水準であり、その塗工液によって形成された導電層は、導電層に含まれるカップリング成分の配合量として上記（ｄ）を満たす水準である。
【０１３１】
表２が示すように、実施例１から実施例５の導電性シートは、接触抵抗、すなわち、タッチパネルの感度と、耐擦過性とを非常に高レベルで両立する。また、導電層と他の導電部材との接触抵抗が抑えられるため、π共役結合由来の色を有するポリチオフェン系導電剤の含有率が抑えられ、導電性シートにおける透過率も高められる。さらに、ポリチオフェン系導電剤は、導電層を構成する成分の中で最も高価であるため、導電性シートの低コスト化、ひいては、タッチパネルの低コスト化が可能である。
【０１３２】
しかも、実施例１から実施例５の導電性シートは、８８％以上の高い透過率と、かつ、良好なアンチニュートンリング性を有し、そのうえ、表示画像に対する導電性シートの相対的な変位において、画像のギラツキを抑えている。すなわち、導電層の表面において、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．０８μｍ以上、かつ、０．１８μｍ以下であり、負荷長さ率（ｔｐ）が、切断レベルｃ＝５０％にて、２５％以上、かつ、４５％以下であり、凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が、５μｍ以上、かつ、２０μｍ以下である水準であれば、低い接触抵抗と高い耐擦過性とに加えて、良好なアンチニュートンリング性と、画像のギラツキの抑制とが実現可能である。
【０１３３】
これに対し、下塗層の省略された水準である比較例１では、低い接触抵抗と高い耐擦過性とが得られる一方で、アンチニュートンリング性が十分ではない。導電層の表面がほぼ平坦である比較例２でも、低い接触抵抗と高い耐擦過性とが得られるものの、アンチニュートンリング性が十分ではない。また、導電層の表面において算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１８μｍを越える比較例３でも、低い接触抵抗と高い耐擦過性とが得られるものの、アンチニュートンリング性が十分ではない。なお、導電性粒子の含有率が６％未満の３．８％である比較例４は、十分な耐擦過性が得られず、また、シランカップリング化合物の配合量が過剰である比較例５は、高い接触抵抗と、低い耐擦過性とを示す。
【０１３４】
なお、上記実施例に限らず、導電層形成用の塗工液において、ポリチオフェン系導電剤の質量部が１００であるとき、導電性粒子の質量部が、２０以上、かつ、１００以下の範囲であって、かつ、導電層の表面粗さ形状パラメーターが上記条件１から３を満たす構成であれば、上記（ｃ）が満たされる水準にて、上記実施例１から実施例５と同程度の効果は認められた。
【０１３５】
また、上記実施例に限らず、導電層形成用において、導電層の質量に対する導電性粒子の質量である含有率が、６質量％以上、かつ、２５質量％以下であって、かつ、導電層の表面粗さ形状パラメーターが上記条件１から３を満たす構成であれば、上記（ｄ）が満たされる水準にて、上記実施例１から実施例５と同程度の効果は認められた。また、導電層において、導電層の質量に対する導電性粒子の含有率が６質量％未満となる水準では、接触抵抗が急激に低下する傾向も認められ、導電層の質量に対する導電性粒子の含有率が２５％を越える水準では、耐擦過性、および、導電性が急激に低下する傾向も認められた。
【０１３６】
また、上記実施例に限らず、導電層形成用の塗工液において、ポリチオフェン系導電剤の質量部が１００であるとき、シランカップリング化合物の質量部が、１００以上、かつ、２４０以下の範囲であって、かつ、導電層の表面粗さ形状パラメーターが上記条件１から３を満たす構成であれば、上記（ａ）が満たされる水準にて、上記実施例１から実施例５と同程度の効果は認められた。
【０１３７】
また、上記実施例に限らず、導電層において、導電層の質量に対するシリコン元素の含有率が、３質量％以上、かつ、７質量％以下の範囲であって、かつ、導電層の表面粗さ形状パラメーターが上記条件１から３を満たす構成であれば、上記（ｂ）が満たされる水準にて、上記実施例１から実施例５と同程度の効果は認められた。また、導電層において、導電層の質量に対するシリコン元素の含有率が３質量％未満となる水準では、耐擦過性が急激に低下する傾向も認められ、導電層の質量に対するシリコン元素の含有率が７質量％を越える水準では、耐擦過性、および、導電性が急激に低下する傾向も認められた。
【０１３８】
以上、上記実施形態によれば以下に列記する効果が得られる。
（１）導電層の表面にて、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．０８μｍ以上、かつ、０．１８μｍ以下であり、負荷長さ率（ｔｐ）は、切断レベルｃ＝５０％にて、２５％以上、かつ、４５％以下であり、凹凸の平均間隔（Ｓｍ）は、５μｍ以上、かつ、２０μｍ以下である。こうした導電層を備える導電性シート、および、その導電性シートを備えるタッチパネルによれば、高いアンチニュートンリング性と、画像のギラツキの抑制とが実現可能である。
【０１３９】
（２）導電層形成用の塗工液において、ポリチオフェン系導電剤の質量部が１００であるとき、導電性粒子の質量部は、２０以上、かつ、１００以下である。また、導電層形成用の塗工液において、ポリチオフェン系導電剤の質量部が１００であるとき、シランカップリング化合物の質量部は、１００以上、かつ、２４０以下である。こうした塗工液によって形成される導電層を備える導電性シート、および、その導電性シートを備えるタッチパネルによれば、導電層と他の導電性部材との接触抵抗、すなわち、タッチパネルの感度が高められ、かつ、導電層における耐擦過性が高められる。
【０１４０】
（３）導電層において、導電層の質量に対する導電性粒子の質量である含有率は、６質量％以上、かつ、２５質量％以下である。また、導電層において、導電層の質量に対するシリコン元素の含有率は、３質量％以上、かつ、７質量％以下である。こうした導電層を備える導電性シート、および、その導電性シートを備えるタッチパネルによれば、導電層と他の導電性部材との接触抵抗、すなわち、タッチパネルの感度が高められ、かつ、導電層における耐擦過性が高められる。
【符号の説明】
【０１４１】
１０…導電性シート、１１…基材、１２…導電層、１３…裏面層、１４…下塗層、２０…抵抗膜式タッチパネル。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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