(57)【要約】【課題】優れた抗菌剤を提供すること。また、前記抗菌剤を配合し、優れた機能を有する化粧料を提供することを課題とする。【解決手段】  アスコルビン酸の２位及び／又は３位の水酸基に、グリシドール、アルキルグリシジルエーテル、アルケニルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、エポキシアルカン、エポキシアルケン等を反応させてエーテル化したアスコルビン酸誘導体又はその塩を抗菌剤および抗アクネ剤として提供する。アスコルビン酸誘導体としては、特に、グリシドールをアスコルビン酸の２位及び／又は３位の水酸基に反応させたものが好ましい。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）または（ＩＩ）で表されるグリセリルアスコルビン酸誘導体又はその塩からなる抗菌剤。
【化１】
2015003894.tif 000035
〔式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基、炭素数２〜２２のアルケニル基、ベンジル基、Ｒ３−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−、Ｒ４−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−およびヒドロキシシクロヘキシル基からなる群から選ばれる基であり、ここで、Ｒ３は、水素原子、炭素数１〜２２のアルキル基、炭素数２〜２２のアルケニル基またはフェニル基であり、Ｒ４は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基またはフェニル基である。但し、Ｒ１が水素原子、炭素数１〜２２のアルキル基、炭素数２〜２２のアルケニル基またはベンジル基のとき、Ｒ２は水素原子、炭素数１〜２２のアルキル基、炭素数２〜２２のアルケニル基およびベンジル基のいずれでもない〕
【化２】
2015003894.tif 000036
［式中、ＲａおよびＲｂはそれぞれ、水素原子、Ｒｅ−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−、又はＲｆ−ＣＯ−で表される基であり〔Ｒｅは水素原子またはＲｆ−ＣＯ−で表される基（Ｒｆは、水素原子、炭素数１〜２２のアルキル基または炭素数２〜２２のアルケニル基）を示す〕、ＲｃおよびＲｄは、水素原子またはＲｅ−で表される基（Ｒｅは前記に同じ）である。但し、ＲａとＲｂの少なくとも一つはＲｅ−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−で表される基であり、ＲｃとＲｄが共に水素原子のときは、Ｒａ又はＲｂの少なくとも一つのＲｅ−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−で表される基のＲｅはＲｅ−ＣＯ−で表される基である。］
【請求項２】
前記一般式（Ｉ）中の、Ｒ１およびＲ２のそれぞれが、水素原子または炭素数６〜１６のアルキル基、炭素数６〜１６のアルケニル基、ベンジル基およびＲ３−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−からなる群から選ばれる基で、Ｒ３が、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数２〜４のアルケニル基またはフェニル基であり、前記一般式（ＩＩ）中の、Ｒａ及びＲｃが、水素原子であり、ＲｂがＲｅ−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−であり、ＲｄがＲｆ−ＣＯ−であり、Ｒｆが炭素数５〜１７のアルキル基または炭素数６〜１６のアルケニル基である、請求項１に記載のグリセリルアスコルビン酸誘導体又はその塩からなる抗菌剤。
【請求項３】
前記一般式（Ｉ）で表されるグリセリルアスコルビン酸誘導体であって、式中の、Ｒ１がＨＯ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−であり、Ｒ２が炭素数６〜１２のアルキル基である、請求項２に記載のグリセリルアスコルビン酸誘導体又はその塩からなる抗菌剤。
【請求項４】
前記一般式（Ｉ）で表されるグリセリルアスコルビン酸誘導体であって、式中の、Ｒ１が炭素数６〜１２のアルキル基であり、Ｒ２がＨＯ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−である、請求項２に記載のグリセリルアスコルビン酸誘導体又はその塩からなる抗菌剤。
【請求項５】
前記一般式（ＩＩ）で表されるグリセリルアスコルビン酸誘導体であって、式中の、Ｒａ及びＲｄが水素原子又はＲｆ−ＣＯ−であり、Ｒｆが炭素数７〜１７のアルキル基、
ＲｂがＲｅ−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−、又はＲｆ−ＣＯ−で表される基であり〔Ｒｅは水素原子またはＲｆ−ＣＯ−で表される基（Ｒｆは、水素原子、炭素数７〜１７のアルキル基または炭素数７〜１７のアルケニル基）を示す〕、Ｒｃが水素原子である、請求項２に記載のグリセリルアスコルビン酸誘導体又はその塩からなる抗菌剤。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載のアクネ菌生成阻害剤。
【請求項７】
請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の抗菌剤を配合した化粧料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、化粧料に利用できる抗菌剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
化粧料において、外部からの微生物汚染による異臭、変敗などを防止する目的で、抗菌剤が使用されている。これまで汎用されてきた抗菌剤として、パラベン（パラオキシ安息香酸エステル）やフェノキシエタノール等が挙げられる。しかし、安全面で不安視されており、そのため、昨今の化粧料における製品開発は、上記のような抗菌剤の配合量を極力減らす、もしくは代替の抗菌剤を使用する等の試みがなされている。例えば、１，２−アルカンジオール（特許文献１）やグリセリルモノアルキルエーテル（特許文献２）などが開発されているが、満足いく効果は得られていない。
【０００３】
さらに、抗菌剤は、ニキビ発症の原因菌であるＰｒｏｐｉｏｎｉｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ａｃｎｅｓ（以下、アクネ菌と略す）に作用するものも多く、抗アクネ化粧料の開発にも有用である（特許文献３）。
【０００４】
ニキビは思春期だけでなく、２０代や３０代の成人男女にも現れる皮膚疾患の１つである。顔面、胸、首、背部などに発症し、その主な原因の１つとして嫌気性皮膚常在菌であるアクネ菌の増殖が挙げられる。アクネ菌が産生する細菌性リパーゼによって分泌される皮脂分解物（遊離脂肪酸）が、毛嚢漏斗部の角化や炎症惹起過程に関与することが知られており、ニキビ発症機序の複数の過程にアクネ菌が関与している。そのため、安全且つ効果のある抗アクネ菌剤の開発が望まれている。
【０００５】
一方、アスコルビン酸は、メラニン産生抑制作用、コラーゲン産生促進作用、抗酸化作用など皮膚に対して多用な生理学的作用を有し、安全性が高いことから様々な化粧料に用いられている。また、抗菌作用についても周知されており、人体に悪影響を与えることなく大腸菌や黄色ブドウ球菌などに対する抗菌作用を有することが報告されているが、効果を示すにはｐＨが３以下の酸性である必要がある（特許文献４）。一般的な化粧料のｐＨは弱酸性から弱アルカリ性であるため、実際の化粧料に配合した際に同様の抗菌作用を示さない可能性が極めて高い。
【０００６】
さらに、アスコルビン酸はアクネ菌に対して直接的な作用がないことも報告されており（非特許文献1）、抗アクネ菌剤としても効果面で満足できるものではなく、より実用的な抗菌剤の開発が望まれている。
【０００７】
また、本発明者らは、グリセリルアスコルビン酸やそのアシル化誘導体の保湿作用、コラーゲン産生促進作用、メラニン産生抑制作用、美白作用に優れる化粧料への配合等に関しては充分に熟知したものであるが（特許文献５、特許文献６）、抗菌作用については充分に検討されておらず、その効果については解明されていなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平１１−３２２５９１号公報
【特許文献２】特許２８９８２４６号公報
【特許文献３】特開２００５−２０６５２１号公報
【特許文献４】特開２００８−２８５４３０号公報
【特許文献５】特許４６８１６７０号公報
【特許文献６】特許２０１１−０７９７７２号公報
【非特許文献１】日本皮膚科学会誌：１１５（１２），１８０５−１８１３（２００５）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、前記従来技術の問題を解決するものであり、優れた抗菌剤を提供することを課題とする。本発明は、又、前記抗菌剤を配合し、優れた機能を有する化粧料を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、上記実情に鑑みて鋭意検討した結果、特定構造のグリセリルアスコルビン酸誘導体及びその塩に、優れた抗菌作用、優れた抗アクネ菌作用を有することを見出した。本発明は、これらの知見に基づき完成されたものである。
【００１１】
なお、本発明でいうグリセリルアスコルビン酸とは、アスコルビン酸の各水酸基の、いずれか又は複数個の酸素にグリセリル基が結合したものであり、グリセリル基とは、ＨＯ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−、を表わす。グリセリルアスコルビン酸の具体例としては、２−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸、３−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸、２，３−ジ−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸が挙げられる。また、グリセリルアスコルビン酸のアシル化誘導体とは、前記グリセリルアスコルビン酸の水酸基にアシル基をエステル結合させ、疎水性を高めた誘導体である。
【００１２】
本発明は、下記一般式（Ｉ）または（ＩＩ）で表されるグリセリルアスコルビン酸誘導体又はその塩からなる抗菌剤である（請求項１）。
【００１３】
【化１】
2015003894.tif 000002
〔式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基、炭素数２〜２２のアルケニル基、ベンジル基、Ｒ３−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−、Ｒ４−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−およびヒドロキシシクロヘキシル基からなる群から選ばれる基であり、ここで、Ｒ３は、水素原子、炭素数１〜２２のアルキル基、炭素数２〜２２のアルケニル基またはフェニル基であり、Ｒ４は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基またはフェニル基である。但し、Ｒ１が水素原子、炭素数１〜２２のアルキル基、炭素数２〜２２のアルケニル基またはベンジル基のとき、Ｒ２は水素原子、炭素数１〜２２のアルキル基、炭素数２〜２２のアルケニル基およびベンジル基のいずれでもない〕
【化２】
2015003894.tif 000003
［式中、ＲａおよびＲｂはそれぞれ、水素原子、Ｒｅ−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−、又はＲｆ−ＣＯ−で表される基であり〔Ｒｅは水素原子またはＲｆ−ＣＯ−で表される基（Ｒｆは、水素原子、炭素数１〜２２のアルキル基または炭素数２〜２２のアルケニル基）を示す〕、ＲｃおよびＲｄはそれぞれ、水素原子またはＲｅ−で表される基（Ｒｅは前記に同じ）である。但し、ＲａとＲｂの少なくとも一つはＲｅ−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−で表される基であり、ＲｃとＲｄが共に水素原子のときは、Ｒａ又はＲｂの少なくとも一つのＲｅ−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−で表される基のＲｅはＲｅ−ＣＯ−で表される基である。］
【００１４】
請求項２の発明は、前記一般式（Ｉ）中の、Ｒ１およびＲ２のそれぞれが、水素原子または炭素数６〜１６のアルキル基、炭素数６〜１６のアルケニル基、ベンジル基およびＲ３−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−からなる群から選ばれる基で、Ｒ３が、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数２〜４のアルケニル基またはフェニル基であり、前記一般式（ＩＩ）中のＲａ及びＲｃが、水素原子であり、ＲｂがＲｅ−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−であり、ＲｄがＲｆ−ＣＯ−であり、Ｒｆが炭素数５〜１７のアルキル基または炭素数６〜１６のアルケニル基である、請求項１に記載のグリセリルアスコルビン酸誘導体又はその塩であり、優れた抗菌作用を有しており、好ましい様態に該当するものである。
【００１５】
請求項３の発明は、前記一般式（Ｉ）で表されるグリセリルアスコルビン酸誘導体であって、式中の、Ｒ１がＨＯ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−であり、Ｒ２が炭素数６〜１２のアルキル基である、請求項２に記載のグリセリルアスコルビン酸誘導体又はその塩である。すなわち、前記一般式（Ｉ）に表される、３−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸の２位水酸基にアルキル基が結合した、３−Ｏ−グリセリル−２−Ｏ−アルキルアスコルビン酸である。請求項３は、特に優れた抗菌作用を有しており、特に好ましい様態に該当するものである。
【００１６】
請求項４の発明は、前記一般式（Ｉ）で表されるグリセリルアスコルビン酸誘導体であって、式中の、Ｒ１が炭素数６〜１２のアルキル基であり、Ｒ２がＨＯ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−である、請求項２に記載のグリセリルアスコルビン酸誘導体又はその塩である。すなわち、一般式（Ｉ）に表される、２−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸の３位水酸基にアルキル基が結合した、２−Ｏ−グリセリル−３−Ｏ−アルキルアスコルビン酸である。請求項４は、特に優れた抗菌作用を有しており、特に好ましい様態に該当するものである。
【００１７】
請求項５の発明は、前記一般式（ＩＩ）で表されるグリセリルアスコルビン酸誘導体であって、式中の、Ｒａが水素原子、ＲｂがＨＯ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−、Ｒｃが水素原子、ＲｄがＲｆ−ＣＯ−であり、Ｒｆが炭素数７〜１７のアルキル基である、請求項２に記載のグリセリルアスコルビン酸誘導体又はその塩である。すなわち、前記一般式（ＩＩ）に表される、２−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸の２、３、６位の水酸基にそれぞれ１ないし複数のアシル基が結合した、２−Ｏ−アシルグリセリルアスコルビン酸、２−Ｏ−グリセリル−３−Ｏ−アシルアスコルビン酸、２−Ｏ−グリセリル−６−Ｏ−アシルアスコルビン酸、２−Ｏ−アシルグリセリル−３−Ｏ−アシルアスコルビン酸、２−Ｏ−アシルグリセリル−６−Ｏ−アシルアスコルビン酸、
２−グリセリル−３，６−ジ−Ｏ−アシルアスコルビン酸、２−Ｏ−アシルグリセリル−３−Ｏ−アシル−６−Ｏ−アシルアスコルビン酸である。請求項５は、特に優れた抗菌作用を有しており、特に好ましい様態に該当するものである。
【００１８】
加えて、請求項６記載の発明は、請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載のグリセリルアスコルビン酸誘導体及びその塩について、優れた抗アクネ菌作用を有しており前記課題を解決するものとして提供する。
【００１９】
さらに加えて、請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載のグリセリルアスコルビン酸誘導体を配合することを特徴とする化粧料を提供する（請求項７）。化粧料への本発明のグリセリルアスコルビン酸誘導体の配合量は、通常０．００１質量％から１０質量％が好ましい。０．００１質量％未満の場合は、本発明が有する抗菌作用を十分に発揮できない場合が多い。一方、１０質量％を超える場合は、配合量に見合った効果が望めない場合が多い。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の抗菌剤である前記一般式（Ｉ）または（ＩＩ）で示されるグリセリルアスコルビン酸誘導体及びその塩は、優れた抗菌作用を有し、抗アクネ菌作用も有する。よって、前記抗菌剤を配合し、優れた機能を有する化粧料を得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明は、前記一般式（Ｉ）または（ＩＩ）で表わされるアスコルビン酸誘導体からなる抗菌剤である。さらに、前記一般式（Ｉ）中のＲ１又はＲ２が水素原子の場合、または前記一般式（ＩＩ）中のＲa又はＲbが水素原子の場合は、この水素原子が解離した水素イオンを、金属イオンやアンモニウムイオン等の陽イオンで置換してなるアスコルビン酸誘導体の塩も本発明に含まれる。
【００２２】
本発明でいうグリセリル基とは、前述の通り、ＨＯ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−、を表し、アルキルグリセリル基とはＲ−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ(ＯＨ)−ＣＨ２−（Ｒはアルキル基、アルケニル基、フェニル基等を示す）を表し、前記一般式（Ｉ）または（ＩＩ）で表されるグリセリルアスコルビン酸は、特許４６８１６７０号公報等の公知の諸種の方法により製造することができる。
【００２３】
グリセリルアスコルビン酸の具体例としては、以下に示す化合物を挙げることができるが、本発明の範囲は以下に示すものに限定されるものではない。
【００２４】
前記一般式（Ｉ）で表されるアスコルビン酸誘導体の具体例を以下に示す。なお、以下の例示において、グリセリル基とは、ＨＯ−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−、アルキルグリセリル基とは、Ｒ−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ(ＯＨ)−ＣＨ２−（Ｒはアルキル基、アルケニル基、フェニル基等を示す）を示し、
アルキル基とは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基、ベヘニル基等を示し、
アルケニル基とは、ビニル基、アリル基、ブテニル基、イソブテニル基、クロチル基、オクテニル基、デセニル基、ドデセニル基等を示し、
ヒドロキシアルキル基とは、Ｒ−ＣＨ(ＯＨ)−ＣＨ２−（Ｒはアルキル基、アルケニル基、フェニル基等を示す。）を示し、例えば、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基、ヒドロキシペンチル基、ヒドロキシヘキシル基、ヒドロキシヘプチル基、ヒドロキシオクチル基、ヒドロキシノニル基、ヒドロキシデシル基、ヒドロキシウンデシル基、ヒドロキシドデシル基、ヒドロキシトリデシル基、ヒドロキシテトラデシル基、ヒドロキシペンタデシル基、ヒドロキシヘキサデシル基、ヒドロキシヘプタデシル基、ヒドロキシオクタデシル基、ヒドロキシノナデシル基、ヒドロキシエイコシル基、ヒドロキシベヘニル基を挙げることができる。
【００２５】
（１）３−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸、
３−Ｏ−アルキルグリセリルアスコルビン酸、例えば３−Ｏ−メチルグリセリルアスコルビン酸、３−Ｏ−エイコシルグリセリルアスコルビン酸、
３−Ｏ−アルケニルグリセリルアスコルビン酸、例えば、３−Ｏ−アリルグリセリルアスコルビン酸、３−Ｏ−クロチルグリセリルアスコルビン酸、３−Ｏ−ビニルグリセリルアスコルビン酸、３−Ｏ−イソブテニルグリセリルアスコルビン酸、３−Ｏ−オクテニルグリセリルアスコルビン酸、３−Ｏ−デセニルグリセリルアスコルビン酸、３−Ｏ−ドデセニルグリセリルアスコルビン酸、及び、３−Ｏ−フェニルグリセリルアスコルビン酸
【００２６】
（２）２−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸、
２−Ｏ−アルキルグリセリルアスコルビン酸、例えば、２−Ｏ−メチルグリセリルアスコルビン酸、２−Ｏ−エイコシルグリセリルアスコルビン酸、
２−Ｏ−アルケニルグリセリルアスコルビン酸、例えば、２−Ｏ−アリルグリセリルアスコルビン酸、２−Ｏ−ドデセニルグリセリルアスコルビン酸、及び、２−Ｏ−フェニルグリセリルアスコルビン酸、
（３）２，３−ジ−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸、
２，３−ジ−Ｏ−アルキルグリセリルアスコルビン酸、２，３−ジ−Ｏ−アルケニルグリセリルアスコルビン酸、２，３−ジ−Ｏ−フェニルグリセリルアスコルビン酸
（４）３−Ｏ−ヒドロキシアルキルアスコルビン酸、３−Ｏ−ヒドロキシフェニルエチルアスコルビン酸
（５）２−Ｏ−ヒドロキシアルキルアスコルビン酸、２−Ｏ−ヒドロキシフェニルエチルアスコルビン酸
（６）２，３−ジ−Ｏ−ヒドロキシアルキルアスコルビン酸、２，３−ジ−Ｏ−ヒドロキシフェニルエチルアスコルビン酸
【００２７】
（７）３−Ｏ−グリセリル−２−Ｏ−アルキルグリセリルアスコルビン酸、３−Ｏ−グリセリル−２−Ｏ−アルケニルグリセリルアスコルビン酸、３−Ｏ−グリセリル−２−Ｏ−フェニルグリセリルアスコルビン酸
（８）３−Ｏ−グリセリル−２−Ｏ−ヒドロキシアルキルアスコルビン酸、３−Ｏ−グリセリル−２−Ｏ−ヒドロキシフェニルエチルアスコルビン酸
（９）３−Ｏ−グリセリル−２−Ｏ−アルキルアスコルビン酸、３−Ｏ−グリセリル−２−Ｏ−アルケニルアスコルビン酸、
（１０）３−Ｏ−アルキルグリセリル−２−Ｏ−アルキルグリセリルアスコルビン酸（但し、３−アルキルと２−アルキルは異なっている。）、３−Ｏ−アルキルグリセリル−２−Ｏ−アルケニルグリセリルアスコルビン酸、３−Ｏ−アルキルグリセリル−２−Ｏ−フェニルグリセリルアスコルビン酸、
【００２８】
（１１）３−Ｏ−アルキルグリセリル−２−Ｏ−ヒドロキシアルキルグリセリルアスコルビン酸、３−Ｏ−アルケニルグリセリル−２−Ｏ−ヒドロキシアルキルグリセリルアスコルビン酸、３−Ｏ−アルキルグリセリル−２−Ｏ−ヒドロキシアルケニルグリセリルアスコルビン酸、３−Ｏ−アルケニルグリセリル−２−Ｏ−ヒドロキシアルケニルグリセリルアスコルビン酸、３−Ｏ−アルキルグリセリル−２−Ｏ−フェニルグリセリルアスコルビン酸
（１２）３−Ｏ−アルキルグリセリル−２−Ｏ−アルキルアスコルビン酸、３−Ｏ−アルキルグリセリル−２−Ｏ−アルケニルアスコルビン酸
（１３）３−Ｏ−ヒドロキシアルキル−２−Ｏ−アルキルアスコルビン酸、３−Ｏ−ヒドロキシアルキル−２−Ｏ−アルケニルアスコルビン酸
（１４）３−Ｏ−ヒドロキシアルキル−２−Ｏ−アルキルグリセリルアスコルビン酸、３−Ｏ−ヒドロキシアルキル−２−Ｏ−アルケニルグリセリルアスコルビン酸
（１５）３−Ｏ−ヒドロキシアルキル−２−Ｏ−ヒドロキシアルキルアスコルビン酸、３−Ｏ−ヒドロキシアルキル−２−Ｏ−ヒドロキシフェニルエチルアスコルビン酸
（１６）３−Ｏ−ヒドロキシシクロヘキシルアスコルビン酸、２−Ｏ−ヒドロキシシクロヘキシルアスコルビン酸、３−Ｏ−グリセリル−２−Ｏ−ベンジルアスコルビン酸、２−Ｏ−グリセリル−３−Ｏ−ベンジルアスコルビン酸。
【００２９】
グリセリルアスコルビン酸アシル化誘導体とは、グリセリルアスコルビン酸に疎水性が付与される全てのグリセリルアスコルビン酸アシル化誘導体を含む。
【００３０】
本発明でいうアシル化とは、グリセリルアスコルビン酸にアシル基（Ｒｆ−ＣＯ−）を導入することを意味する。ここで、Ｒｆは直鎖状又は分岐状の飽和又は不飽和のアルキル基を有する、通常炭素数２〜２２のアルキル基が好ましく、更に好ましくは、７〜１７である。したがって、本発明のグリセリルアスコルビン酸アシル化誘導体とは、前述のようにグリセリルアスコルビン酸における１または複数の水酸基、望ましくは、グリセリルアスコルビン酸におけるアスコルビン酸骨格の１つの水酸基にアシル基が結合した化合物全般を表す。
【００３１】
グリセリルアスコルビン酸アシル化誘導体は、特許２０１１−０７９７７２号公報等の公知の諸種の方法により製造することができる。
【００３２】
グリセリルアスコルビン酸アシル化誘導体の具体例としては、以下に示す化合物を挙げることができるが、本発明の範囲は以下に示すものに限定されるものではない。
【００３３】
なお、以下の例示においてアシル基とは、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ノナイル基、デカノイル基、ウンデカノイル基、ドデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、エイコサノイル基、ヘキサデセノイル基、オクタデセノイル基、オレイル基、オクタデカトリエノイル基、イコサテトラエノイル基、イソオクタノイル基、イソパルミトイル基、イソステアロイル基、２−プロピルペンタノイル基、２−ブチルヘキサノイル基、２−ペンチルヘプタノイル基等を示す。
【００３４】
２−Ｏ−グリセリル−６−Ｏ−アシルアスコルビン酸、２−Ｏ−グリセリル−５−Ｏ−アシルアスコルビン酸、２−Ｏ−グリセリル−３−Ｏ−アシルアスコルビン酸、２−Ｏ−アシルグリセリルアスコルビン酸、３−Ｏ−グリセリル−６−Ｏ−アシルアスコルビン酸、３−Ｏ−グリセリル−５−Ｏ−アシルアスコルビン酸、３−Ｏ−グリセリル−２−Ｏ−アシルアスコルビン酸、３−Ｏ−アシルグリセリルアスコルビン酸等のモノアシルグリセリルアスコルビン酸、２−Ｏ−アシルグリセリル−６−Ｏ−アシルアスコルビン酸等のジアシルグリセリルアスコルビン酸、２−Ｏ−アシルグリセリル−３−Ｏ−アシル−６−Ｏ−アシルアスコルビン酸等のトリアシルグリセリルアスコルビン酸等がグリセリルアスコルビン酸アシル化誘導体として挙げられる。なお、ジ体、トリ体のアシル基は同一のものであっても良いし、異なるものであっても良い。
【００３５】
前記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）で表されるグリセリルアスコルビン酸誘導体又はその塩は、化粧料に配合することによって、優れた抗菌作用、優れた抗アクネ菌作用を発揮する。その結果、製品の微生物汚染による異臭、変敗などが抑制され、さらにニキビの予防、改善にも寄与する。さらに従来のアスコルビン酸誘導体に比べて、それ自体の分解・着色といった劣化が少なく、製品の感触・形状に悪影響を及ぼしにくい。
【００３６】
グリセリルアスコルビン酸誘導体又はその塩を用いる場合は、各種化粧料への配合量の範囲は、化粧料の用途により異なり、特に限定できないが、通常、０．００１％〜１０質量％の範囲が好ましい。０．００１％質量未満の場合は、アスコルビン酸誘導体又はその塩が有する抗菌作用、抗アクネ菌作用を十分に発揮できない場合が多い。一方、１０質量％を超える場合は、配合量に見合った効果が望めない場合が多い、また剤系を壊す恐れがある。
【００３７】
本発明の化粧料には、この必須成分の他に、通常、用いられる成分、例えば、油性原料、界面活性剤、保湿剤、高分子化合物、酸化防止剤、美白剤、薬剤、紫外線吸収剤、金属イオン封鎖剤、抗菌剤等を適宜配合することができる。なお、グリセリルアスコルビン酸誘導体又はその塩は、美白剤、保湿剤としても効果を発揮するが、本発明の化粧料には、他の美白剤、保湿剤、抗菌剤も適宜配合することができる。
【００３８】
油性原料としては、例えば、オリーブ油、椿油、マカデミアナッツ油、茶実油、ヒマシ油、トリ（カプリン／カプリル）グリセリル等の油脂類、ホホバ油、カルナウバロウ、キャンデリラロウ、ラノリン、ミツロウ等のロウ類、流動パラフィン、パラフィン、ワセリン、セレシン、マイクロクリスタリンワックス、スクワラン等の炭化水素類、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、イソステアリン酸等の脂肪酸類、セチルアルコール、ステアリルアルコール、イソステアリルアルコール等の高級アルコール類、ミリスチン酸イソプロピル、ミリスチン酸−２−オクチルドデシル、２−エチルへキサン酸セチル、リンゴ酸ジイソステアリル、トリ−２−エチルヘキサノイン等のエステル類、メチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン等のシリコーン類等が挙げられる。
【００３９】
界面活性剤としては、例えば、高級脂肪酸石鹸、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、アシル−Ｎ−メチルタウリン塩、Ｎ−アシルアミノ酸塩、アルキルリン酸エステル塩等のアニオン性界面活性剤、塩化アルキルトリメチルアンモニウム、塩化ジアルキルジメチルアンモニウム等のカチオン性界面活性剤、アルキルジメチルアミノ酢酸ベタイン、アルキルアミドアミノ酢酸ベタイン、２−アルキル−Ｎ−カルボキシ−Ｎ−ヒドロキシイミダゾリニウムベタイン等の両性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、多価アルコール脂肪酸エステル、ポリエーテル変性シリコーン等の非イオン性界面活性剤等が挙げられる。
【００４０】
他の保湿剤としては、例えば、グリセリン、プロピレングリコール、マルチトール、ソルビトール、１,３-ブチレングリコール、乳酸ナトリウム、ポリエチレングリコール、ピロリドンカルボン酸ナトリウム、ヒアルロン酸ナトリウム等が挙げられる。
【００４１】
高分子化合物としては、例えば、カルボキシビニルポリマー、カルボキシメチルセルロースナトリウム、キサンタンガム、ポリビニルアルコール、高分子のジメチルポリシロキサン等が挙げられる。
【００４２】
酸化防止剤としては、例えば、ビタミンＥやタンニン、ＢＨＴ（ブチルヒドロキシトルエン）等を挙げることができる。
【００４３】
他の美白剤としては、例えば、エラグ酸、カミツレエキス、甘草エキス、ルシノール、ローズマリーエキス、アルブチン、トラネキサム酸、４−メトキシサリチル酸カリウム塩、アスコルビン酸、アスコルビン酸グルコシド、アスコルビン酸リン酸マグネシウムといったアスコルビン酸誘導体等を挙げることができる。
【００４４】
他の薬剤としては、肌荒れ防止剤または抗炎症剤を挙げることができる。肌荒れ防止剤または抗炎症剤としては、例えば、グリチルリチン酸ジカリウム、グリチルレチン酸ステアリル、サリチル酸メチル、ピリドキシン塩酸塩、アラントイン、海塩、ソウハクヒエキス、アロエエキス、クチナシエキス、カミツレエキス、カンゾウエキス、ムクロジエキス、キョウニンエキス、オウゴンエキス、甜茶エキス、ビワエキス、イチョウエキス、オトギリソウエキス、セイヨウノコギリソウエキス、ベニバナエキス、トウヒエキス、サルビアエキス、シラカバエキス、チンピエキス、トウニンエキス、ガイヨウエキス、アルテアエキス、アルニカエキス、ニンジンエキス、シャクヤクエキス、センキュウエキス、ゲンチアナエキス、冬虫夏草エキス、オウバクエキス、インチンコウエキス、ゲンノショウコエキス、モモ葉エキス、クマザサエキス、ヨクイニンエキス、マロニエエキス、サンザシエキス、オウレンエキス、レイシエキス、トウキンセンカエキス、ペパーミントエキス、コンフリーエキス、ブッチャーブルームエキス、ウスベニアオイエキス、ヤグルマルソウエキス、トゲナシエキス等が挙げられる。その他、育毛用薬剤、ニキビ用薬剤、ふけ・かゆみ用薬剤、腋臭防止用薬剤等も他の薬剤として挙げることができる。
【００４５】
紫外線吸収剤としては、例えば、パラメトキシ桂皮酸エチル、パラメトキシ桂皮酸イソプロピル、パラメトキシ桂皮酸オクチル、パラメトキシ桂皮酸２−エトキシエチル、パラメトキシ桂皮酸２−エチルヘキシル、パラメトキシ桂皮酸カリウム、パラメトキシ桂皮酸モノ−２−エチルヘキサン酸グリセリル、ジパラメトキシ桂皮酸グリセリルオクチル、トリメトキシ桂皮酸メチルビス（トリメチルシロキシ）シリルイソペンチル、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸、ジヒドロキシジメトキシベンゾフェノン、ジヒドロキシジメトキシベンゾフェノン−スルホン酸ナトリウム、パラアミノ安息香酸、パラアミノ安息香酸エチル、パラアミノ安息香酸グリセリル、サリチル酸オクチル、サリチル酸フェニル、サリチル酸エチレングリコール、サリチル酸ミリスチル、サリチル酸メチル、ウロカニン酸、ウロカニン酸エチル、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、アントラニル酸メチル等が挙げられる。
【００４６】
金属イオン封鎖剤としては、例えば、エチレンジアミン四酢酸、アラニン、エデト酸ナトリウム、リン酸、クエン酸、アスコルビン酸、コハク酸、グルコン酸等が挙げられる。
【００４７】
他の抗菌剤としては、例えば、パラオキシ安息香酸アルキルエステル、安息香酸、安息香酸ナトリウム、ソルビン酸、ソルビン酸カリウム、フェノキシエタノール等が挙げられる。
【００４８】
タンパク加水分解物としては、例えば、乳タンパク、絹タンパク、小麦タンパク、米タンパク、エンドウタンパク、コラーゲン、ケラチン、大豆、ゴマ、コンキオリン、海洋コラーゲン等のタンパク加水分解物ならびにその誘導体等が挙げられる。
【００４９】
アミノ酸又はそれらの誘導体としては、例えば、グリシン、バリン、ロイシン、イソロイシン、セリン、トレオニン、フェニルアラニン、アルギニン、リジン、アスパラギン、アスパラギン酸、グルタミン、グルタミン酸、シスチン、システイン、メチオニン、トリプトファン、プロリン、ヒスチジン等のアミノ酸とその誘導体が挙げられる。
【００５０】
ｐＨ調整剤としては、例えば、乳酸、クエン酸、グリコール酸、コハク酸、酒石酸、リンゴ酸、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素アンモニウム等が挙げられる。
【００５１】
増粘剤としては、例えば、アラビアガム、トラガカントガム、キャブロガム、グアーガム、ペクチン、寒天、クインスシード、デンプン、アルゲコロイド、キサンタンガム、デキストラン、サクシノグルカン、コラーゲン、ゼラチン、カゼイン、アルブミン、カルボキシメチルデンプン、メチルセルロース、エチルセルロース、メチルヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ニトロセルロース、セルロース硫酸ナトリウム、カルボキシメチルセルロースナトリウム、アルギニン酸ナトリウム、ポリビニルメチルエーテル、カルボキシビニルポリマー、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチレンアクリレート、ポリアクリルアミド、カチオンポリマー等が挙げられる。
【００５２】
色素としては、タール色素、天然色素、無機顔料、高分子粉体等が挙げられる。香料としては、天然香料、合成香料、調合香料等が挙げられる。
【００５３】
本発明の化粧料の剤系は任意であり、溶液系、可溶化系、乳化系、ゲル系、粉末分散系、水−油二層系等いずれも可能であり、目的とする製品に応じて前記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）で表されるグリセリルアスコルビン酸誘導体又はその塩と上記任意配合成分とを配合して製造することができる。
【実施例】
【００５４】
本発明を実施するための具体的な形態を実施例によって説明するが、本発明の範囲は以下の実施例によって限定されるものではない。なお、実施例に先立って、グリセリルアスコルビン酸誘導体の製造例を示す。
【００５５】
製造例１  ３−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸の合成
アルゴン雰囲気下、水に、Ｌ−アスコルビン酸（３００ｇ）、炭酸水素ナトリウム（４２．９ｇ）を加え、室温で３０分攪拌した後、グリシドール（１２６ｇ）を加えた。その後、加温して５０℃とし５時間攪拌を行った。メタノールを加えろ過し、ろ液を減圧下に濃縮し、得られた残渣４５７ｇを、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。クロロホルム／メタノール／水＝６５／３５／５で溶出し、減圧下にて濃縮を行い、化３で示される３−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸（２９６ｇ）を得た。
【００５６】
得られた生成物について、1Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、この測定結果より、この生成物は、下記構造式で表される３−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸であることが確認された。
【００５７】
なお、以下に示す製造例でも、得られた生成物について、1Ｈ−ＮＭＲ、及び／又は１３Ｃ−ＮＭＲ測定を行い、その測定結果を示す。
【００５８】
【化３】
2015003894.tif 000004
【００５９】
なお、この式においては、炭素原子、及び該炭素原子に結合する水素原子は省略されている。例えば、この式における１〜４の位置は炭素であり、６、７、９の位置はＣＨ２基（メチレン）であり、５、８の位置はＣＨ基である。以下の式においても同様である。
【００６０】
ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果は以下のとおりであった。
1Ｈ−ＮＭＲ（６００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）：
δ  ｐｐｍ  ３．５９（２Ｈ，ｍ），３．６６（２Ｈ，ｍ），３．８９（１Ｈ，ｍ），３．９２（１Ｈ，ｍ），４．４５／４．４９（１Ｈ，ｄｄ），４．５９／４．６２（１Ｈ，ｄｄ），４．８２（１Ｈ，ｄ）
１３Ｃ−ＮＭＲ  （１５０ＭＨｚ，  ＣＤ３ＯＤ）：
δ  ｐｐｍ  ６３．４，６３．７，７０．５６，７０．６１，７１．７９，７１．８９，７３．４，７３．６,７６．９，１２１．１７，１２１．２４，１５１．８４，１５１．８８，１７３．０４，１７３．０７
【００６１】
製造例２  ２−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸の合成
アルゴン雰囲気下、水に、Ｌ−アスコルビン酸（１０．０ｇ）、炭酸水素ナトリウム（９．５４ｇ）を加え、室温で３０分攪拌し、グリシドール（８．４１ｇ）を加えた。加温して６０℃として５時間攪拌を行った。メタノールを加えろ過し、ろ液を減圧下に濃縮し、得られた残渣１９．０ｇを、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。クロロホルム／メタノール／水＝６／４／１で溶出し、減圧下にて濃縮を行い、化４で示される２−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸（１．２１ｇ）を得た。1Ｈ−ＮＭＲと１３Ｃ−ＮＭＲにより同定を行った。
【００６２】
【化４】
2015003894.tif 000005
【００６３】
ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果は以下のとおりであった。
1Ｈ−ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，  ＣＤ３ＯＤ）：  δ  ｐｐｍ  ３．６１（２Ｈ，ｍ），３．６７（２Ｈ，ｍ），３．９０（１Ｈ，ｍ），３．９２（１Ｈ，ｄｔ−ｌｉｋｅ），３．９２（１Ｈ，ｍ），４．０７／４．０９（１Ｈ，ｄｄ），４．８６（１Ｈ，ｄ）
１３Ｃ−ＮＭＲ  （１００ＭＨｚ，  ＣＤ３ＯＤ）：  δ  ｐｐｍ  ６３．３，６３．７，７０．４，７２．０，７４．６，７６．８，１２２．２，１６１．６，１７２．９
【００６４】
製造例３  ２，３−ジ−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸の合成
アルゴン雰囲気下、水に、Ｌ−アスコルビン酸（１００ｇ）、炭酸水素ナトリウム（１４．４ｇ）を加え、室温で３０分攪拌し、グリシドール（４２．０ｇ）を加えた。加温して５０℃とし５時間攪拌を行った。その後、グリシドール（５７．５ｇ）を加え８０℃に加温し４時間攪拌を行った後、減圧下に濃縮した。得られた残渣２３２ｇをアルミナカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム／メタノール／水＝６／４／１混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、化５で示される２，３−ジグリセリルアスコルビン酸（２３．０ｇ）を得た。1Ｈ−ＮＭＲと１３Ｃ−ＮＭＲにより同定を行った。
【００６５】
【化５】
2015003894.tif 000006
【００６６】
ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果は以下のとおりであった。
1Ｈ−ＮＭＲ  （４００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）：
δ  ｐｐｍ  ３．５８（２Ｈ，ｍ），３．６１（２Ｈ，ｍ），３．６５（２Ｈ，ｍ），３．８８（１Ｈ，ｍ），３．９１（１Ｈ，ｍ），３．９３（１Ｈ，ｍ），３．９９（１Ｈ，ｍ），４．１６（１Ｈ，ｍ），４．５３（１Ｈ，ｍ），４．６５（１Ｈ，ｄｄ），４．８８（１Ｈ，ｍ）
１３Ｃ−ＮＭＲ  （１００ＭＨｚ，  ＣＤ３ＯＤ）：
δ  ｐｐｍ  ６３．２２，６３．６０，６３．６３，６３．９５，６３．９８，６４．４４，７０．５７，７０．６０，７１．６８，７１．９４，７１．９８，７３．８７，７４．２７，７４．３３，７５．０６，７６．８３，１２３．０２，１５９．４８，１７２．２９
【００６７】
製造例４  ３−Ｏ−ブチルグリセリルアスコルビン酸の合成
アルゴン雰囲気下、水に、Ｌ−アスコルビン酸（１００ｇ）、炭酸水素ナトリウム（１４．３ｇ）、を加え、室温で３０分攪拌し、ブチルグリシジルエーテル（７３．８ｇ）を加えた。８０℃に加温し１２時間攪拌を行った。その後、ｎ−ブタノールで抽出した。抽出液を、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた残渣９６．８ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。クロロホルム／メタノール／水＝２０／３／０．３混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、化６で示される３−Ｏ−ブチルグリセリルアスコルビン酸（７４．２ｇ）を得た。1Ｈ−ＮＭＲと１３Ｃ−ＮＭＲにより同定を行った。
【００６８】
【化６】
2015003894.tif 000007
【００６９】
ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果は以下のとおりであった。
1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）：
δ  ｐｐｍ  ０．９３（３Ｈ，ｍ），  １．３８（２Ｈ，ｍ），１．５６（２Ｈ，ｍ），３．４９（２Ｈ，ｍ），３．５０（２Ｈ，ｍ），３．６６（２Ｈ，ｍ），３．８８（１Ｈ，ｍ），４．０３（１Ｈ，ｍ），４．４４（１Ｈ，ｄｄ），４．４６（１Ｈ，ｄｄ），４．５９（１Ｈ，ｄｄ），４．６２（１Ｈ，ｄｄ），４．８１（１Ｈ，ｄ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）：
δ  ｐｐｍ  １４．２，２０．３，３２．８，６３．３６，６３．３９，７０．２，７０．４，７０．５６，７０．６１，７２．４，７２．５，７２．６，７３．８，７３．９，７６．８，１２１．１，１２１．２，１５１．７，１５１．８，１７２．９，１７３．０
【００７０】
製造例５  ３−Ｏ−（２−ヒドロキシヘキシル）アスコルビン酸の合成
アルゴン雰囲気下、Ｌ-アスコルビン酸（５．００ｇ）にＤＭＦ３０ｍｌを加え、さらに１，２−エポキシへキサン（３．４５ｇ）を加えた。８０℃に加温し２４時間攪拌した後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮した。得られた残渣７．５６ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム／メタノール／水＝２０／３／０．３混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、化７で示される３−Ｏ−（２−ヒドロキシヘキシル）アスコルビン酸（１．９３ｇ）を得た。1Ｈ−ＮＭＲと１３Ｃ−ＮＭＲにより同定を行った。
【００７１】
【化７】
2015003894.tif 000008
【００７２】
ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果は以下のとおりであった。
1Ｈ−ＮＭＲ（６００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）：
δ  ｐｐｍ  ０．９３（３Ｈ，ｍ），  １．３６（２Ｈ，ｍ），１．４８（４Ｈ，ｍ），３．６５（２Ｈ，ｍ），３．８８（１Ｈ，ｍ），４．２７（１Ｈ，ｄｄ），４．３１（１Ｈ，ｄｄ），４．５１（１Ｈ，ｄｄ），４．５３（１Ｈ，ｄｄ），４．８１（１Ｈ，ｄ）
１３Ｃ−ＮＭＲ  （１５０ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）：
δ  ｐｐｍ  １４．３，２３．６８，２３．７０，２６．６８，２８．７５，３３．７０，３３．７４，６３．３６，６３．４０，７０．６，７０．７，７０．９，７１．１，７６．３，７６．４，７６．８，１２０．９，１２１．０，１５１．８，１５１．９，１７２．９６，１７３．０２
【００７３】
製造例６  ２−Ｏ−ブチルグリセリルアスコルビン酸の合成
アルゴン雰囲気下、水に、Ｌ−アスコルビン酸（５．００ｇ）、炭酸ナトリウム（６．０２ｇ）を加え室温で３０分攪拌を行い、その後ブチルグリシジルエーテル（１４．８ｇ）を加え８０℃に加温し１２時間攪拌した。その後、メタノールを加えろ過し、ろ液を減圧下に濃縮して得られた残渣２０．１ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。クロロホルム／メタノール／水＝７５／３５／５混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、化８で示される２−Ｏ−ブチルグリセリルアスコルビン酸（１．７４ｇ）を得た。1Ｈ−ＮＭＲと１３Ｃ−ＮＭＲにより同定を行った。
【００７４】
【化８】
2015003894.tif 000009
【００７５】
ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果は以下のとおりであった。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）：
δ  ｐｐｍ  ０．９２（３Ｈ，ｔ），１．３７（２Ｈ，ｍ），１．５５（２Ｈ，ｍ），３．４９（４Ｈ，ｍ），３．６７（２Ｈ，ｂｒｄ），３．９２（２Ｈ，ｍ），３．９９（１Ｈ，ｍ），４．０６／４．０７（１Ｈ，ｄｄ），４．８１(１Ｈ,ｂｒｓ)
１３Ｃ−ＮＭＲ  （１００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）：
δ  ｐｐｍ  １４．２４，２０．２５，３２．７７，６３．２９，７０．５５，７０．６１，７２．３４，７２．６４，７２．６６，７５．０１，７５．０９，７７．１０，１２１．７８，１２１．８２，１６３．７６，１６３．８４，１７３．３２，１７３．３４
【００７６】
製造例７  ３−Ｏ−グリセリル−２−Ｏ−オクチルアスコルビン酸の合成
アルゴン雰囲気下、製造例１で得られた３−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸（５４．１ｇ）をＤＭＳＯ（２００ｍＬ）中で攪拌し、さらに炭酸水素ナトリウム（１８．５ｇ）を加え室温で３０分攪拌を行った。その後臭化オクチル（６３．７ｇ）を加え１００℃に加温し３時間攪拌した後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮をした。得られた残渣１３１ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。クロロホルム／メタノール／水＝１０／３／０．４混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、化９で示される３−Ｏ−グリセリル−２−Ｏ−オクチルアスコルビン酸（４８．０ｇ）を得た。1Ｈ−ＮＭＲと１３Ｃ−ＮＭＲにより同定を行った。
【００７７】
【化９】
2015003894.tif 000010
【００７８】
ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果は以下のとおりであった。
1Ｈ−ＮＭＲ（６００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）：
δ  ｐｐｍ  ０．９０（３Ｈ，ｔ），１．３２（８Ｈ，ｍ），１．４２（２Ｈ，ｍ），１．７０（２Ｈ，ｍ），３．６０（２Ｈ，ｂｒｄ）,３．６５（２Ｈ，ｍ），３．８９（１Ｈ，ｍ），３．９１（１Ｈ，ｍ），４．０２（１Ｈ，ｍ），４．４７（１Ｈ，ｄｄ），４．４８（１Ｈ，ｄｄ），４．５７（１Ｈ，ｄｄ），４．５９（１Ｈ，ｄｄ），４．８６（１Ｈ，ｄ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１５０ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）：
δ  ｐｐｍ  １４．４，２３．７，２６．９，３０．３７，３０．４４，３０．８，３３．０，６３．２，６３．５６，６３．５９，７０．５，７０．６，７１．５，７１．６，７４．０１，７４．０４，７４．１，７６．７，１２３．２７，１２３．３０，１５９．２，１５９．３，１７２．２
【００７９】
製造例８  ３−Ｏ−グリセリル−２−Ｏ−ベンジルアスコルビン酸の合成
アルゴン雰囲気下、製造例１で得られた３−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸（２．９３ｇ）に、水と炭酸水素ナトリウム（１．４２ｇ）を加え室温で３０分間攪拌した後、臭化ベンジル（２．６１ｇ）を加え５０℃に加温し２時間攪拌した。その後、減圧下に濃縮しメタノールに溶解した。得られた溶液を、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮し、得られた残渣６．１３ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。クロロホルム／メタノール／水＝１０／３／０．４混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、化１０で示される３−Ｏ−グリセリル−２−Ｏ−ベンジルアスコルビン酸（２．４７ｇ）を得た。1Ｈ−ＮＭＲと１３Ｃ−ＮＭＲにより同定を行った。
【００８０】
【化１０】
2015003894.tif 000011
【００８１】
ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果は以下のとおりであった。
1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）：
δ  ｐｐｍ  ３.４９（２Ｈ，ｍ），３．６５（２Ｈ，ｍ），３．８１（１Ｈ，ｍ），３．８８（１Ｈ，ｍ），４．４７（１Ｈ，ｄｄ），４．２８（１Ｈ，ｄｄ），４．３６（１Ｈ，ｄｄ），４．３７（１Ｈ，ｄｄ），４．８５（１Ｈ，ｂｒｓ），５．０５（２Ｈ，ｍ），７．３５（３Ｈ，ｍ），７．４３（２Ｈ，ｍ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１７５ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）：
δ  ｐｐｍ  ６３．２１，６３．５１，６３．５４，７０．５４，７０．５７，７１．４２，７１．４９，７４．１２，７４．２０，７５．２５，７５．２８，７６．８０，７６．８２，１２２．２７，１２２．３１，１２９．６０，１２９．９５，１３０．１１，１３７．６１，１５９．９０，１５９．９４，１７２．１７
【００８２】
製造例９  ３−Ｏ−ブチルグリセリル−２−Ｏ−アリルアスコルビン酸の合成
アルゴン雰囲気下、製造例４で得られた３−Ｏ−ブチルグリセリルアスコルビン酸（３．５６ｇ）に、水、炭酸水素ナトリウム（０．９８ｇ）を加え室温で３０分間攪拌した。その後、臭化アリル（１．６８ｇ）を加え、６０℃に加温し５時間攪拌した後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮をし得られた残渣３．５３ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。クロロホルム／メタノール／水＝３０／３／０．３混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、化１１で示される３−Ｏ−ブチルグリセリル−２−Ｏ−アリルアスコルビン酸（３．００ｇ）を得た。1Ｈ−ＮＭＲと１３Ｃ−ＮＭＲにより同定を行った。
【００８３】
【化１１】
2015003894.tif 000012
【００８４】
ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果は以下のとおりであった。
1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）：
δ  ｐｐｍ  ０．９３（３Ｈ，ｔ），１．３９（２Ｈ，ｍ），１．５５（２Ｈ，ｍ），３．４８（４Ｈ，ｍ），３．６５（２Ｈ，ｍ），３．８９（１Ｈ，ｍ），４．０１（１Ｈ，ｍ），４．４５７／４．４６４（１Ｈ，ｄｄ），４．５４（２Ｈ，ｍ），４．５８６／４．５９４（１Ｈ，ｄｄ），４．８７（１Ｈ，１ｄ），５．２５（１Ｈ，ｍ），５．３５（１Ｈ，ｍ），６．０４（１Ｈ，ｍ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１７５ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）：
δ  ｐｐｍ  １４．２４，  ２０．３３，  ３２．８３，  ６３．１９，  ７０．００，  ７０．１０，  ７０．５０，  ７０．５４，  ７２．４２，  ７２．４５，  ７２．５０，  ７４．１４，  ７４．６３，  ７４．６３，  ７６．７７，  ７６．７９，  １１９．２５，  １２２．５０，  １２２．５４，  １３４．５２，  １５９．６７，  １５９．７２，  １７２．０８
【００８５】
製造例１０  ３−Ｏ−オクチルグリセリル−２−Ｏ−ヘキサデシルアスコルビン酸の合成
アルゴン雰囲気下、Ｌ−アスコルビン酸（１００ｇ）に、炭酸水素ナトリウム（１４．３ｇ）及びＤＭＳＯ２００ｍｌを加え、さらにオクチルグリシジルエーテル（１２７ｇ）を加えた。８０℃に加温し２４時間攪拌した後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮して得られた残渣１５０ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。その後、クロロホルム／メタノール／水＝３０／３／０．３混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、３−Ｏ−オクチルグリセリルアスコルビン酸（３６ｇ）を得た。得られた３−Ｏ−オクチルグリセリルアスコルビン酸（５．１７ｇ）をアルゴン雰囲気下、ＤＭＳＯ（１０ｍＬ）中で攪拌し、炭酸水素ナトリウム（１．２０ｇ）、臭化ヘキサデシル（５．２２ｇ）を加え、１００℃に加温し３時間攪拌した。その後、酢酸エチルで抽出した。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮して得られた残渣９．０６ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム／メタノール／水＝５０／３／０．３混液にて溶出し、減圧下にて濃縮を行い、化１２で示される３−Ｏ−オクチルグリセリル−２−Ｏ−ヘキサデシルアスコルビン酸（３．４１ｇ）を得た。1Ｈ−ＮＭＲと１３Ｃ−ＮＭＲにより同定を行った。
【００８６】
【化１２】
2015003894.tif 000013
【００８７】
ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果は以下のとおりであった。
1Ｈ−ＮＭＲ（６００ＭＨｚ，ｄ６−ＤＭＳＯ）：
δ  ｐｐｍ  ０．９０（６Ｈ，ｍ），１．２４（３４Ｈ，ｂｒｓ），１．３４（２Ｈ，ｍ），１．４８（２Ｈ，ｍ），１．６０（２Ｈ，ｍ），３．３８（４Ｈ，ｍ），３．４６（２Ｈ，ｍ），３．７２（１Ｈ，ｍ），３．８７（１Ｈ，ｍ），３．９４（２Ｈ，ｍ），４．２５（１Ｈ，ｄｄ），４．３１（１Ｈ，ｄｄ）,４．４２（１Ｈ，ｄｄ），４．４５（１Ｈ，ｄｄ），４．８２（１Ｈ，ｄ）
１３Ｃ−ＮＭＲ（１５０ＭＨｚ，ｄ６−ＤＭＳＯ，４０℃）：
δ  ｐｐｍ  １３．９５，２２．１３，２５．４０，２５．４２，２５．６３，２５．７１，２８．７４，２８．７８，２８．８７，２８．９７，２９．０９，２９．２０，２９．２８，２９．３０，３１．３４，６１．７２，６８．０４，６８．０９，６８．８１，７０．８８，７１．４８，７１．５２，７２．１４，７３．２４，７３．４３，７４．５５，１２１．２９，１５７．７１，１５７．８５，１６９．４２
【００８８】
製造例１１  ２−Ｏ−グリセリル−６−Ｏ−ブタノイルアスコルビン酸の合成
アルゴン雰囲気下、２−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸（５０ｍｇ）にピリジン５ｍＬを加え、ｎ−ブタン酸無水物（５７ｍｇ）を加え、６０℃で３時間攪拌を行った。その後、酢酸エチルを加え水により抽出を行った。抽出液を減圧下にて濃縮し、得られた残渣９８ｍｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。クロロホルム／メタノール／水＝７／３／０．３混液にて溶出し精製を行い、減圧下にて濃縮を行い、化１３で示される２−Ｏ−グリセリル−６−Ｏ−ブタノイルアスコルビン酸（４３ｍｇ）を得た。1Ｈ−ＮＭＲと１３Ｃ−ＮＭＲにより同定を行った。
【００８９】
【化１３】
2015003894.tif 000014
【００９０】
ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果は以下のとおりであった。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）：
δ  ｐｐｍ  ０．９５（３Ｈ，ｔ），１．６０（２Ｈ，ｍ），２．３４（２Ｈ，ｍ），３．６０（２Ｈ，ｔ），３．９０（２Ｈ，ｍ），４．１３（３Ｈ，ｍ），４．７９（１Ｈ，ｄ）
１３Ｃ−ＮＭＲ  （１５０ＭＨｚ，  ＣＤ３ＯＤ）：
δ  ｐｐｍ  １３．９，１９．３，３６．７，６３．７，６５．６，６７．９，７２．０，７４．６５，７４．７０，７７．１９，１２２．２９，１２２．３２，１６１．５０，１６１．５４，１７２．６，１７４．９
【００９１】
製造例１２  ２−Ｏ−グリセリル−６−Ｏ−オクタノイルアスコルビン酸の合成
アルゴン雰囲気下、２−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸（５０ｍｇ）にピリジン５ｍＬを加え、ｎ−オクタン酸無水物（９７ｍｇ）を加え、６０℃で３時間攪拌を行った。その後、酢酸エチルを加え水により抽出を行った。抽出液を減圧下にて濃縮し、得られた残渣１３４ｍｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。クロロホルム／メタノール／水＝７／３／０．３混液にて溶出し精製し、減圧下にて濃縮を行い、化１４で示される２−Ｏ−グリセリル−６−Ｏ−オクタノイルアスコルビン酸（６７．０ｍｇ）を得た。1Ｈ−ＮＭＲと１３Ｃ−ＮＭＲにより同定を行った。
【００９２】
【化１４】
2015003894.tif 000015
【００９３】
ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果は以下のとおりであった。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）：
δ  ｐｐｍ  ０．８９（３Ｈ，ｔ），１．３１（８Ｈ，ｍ），１．６０（２Ｈ，ｍ），２．３６（２Ｈ，ｍ），３．６０（２Ｈ，ｔ），３．８７（１Ｈ，ｍ），３．９４（１Ｈ，ｍ），４．０９（２Ｈ，ｍ），４．１７（１Ｈ，ｍ），４．２７（１Ｈ，ｍ），４．７９（１Ｈ，ｄ）
１３Ｃ−ＮＭＲ  （１００ＭＨｚ，  ＣＤ３ＯＤ）：
δ  ｐｐｍ  １４．４，２３．６，２５．９，３０．０，３０．１，，３２．８，３４．８，６３．８，６５．６，６７．９，７２．１，７４．７０，７４．７０，７４．７４，７７．２，１２２．４，１６１．３，１７２．６，１７５．４
【００９４】
製造例１３  ２−Ｏ−グリセリル−６−Ｏ−ヘキサデカノイルアスコルビン酸の合成
アルゴン雰囲気下、２−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸（５０ｍｇ）にピリジン５ｍＬを加え、ｎ−ヘキサデカン酸無水物（１７６ｍｇ）を加え、６０℃で３時間攪拌を行った。その後、水を加え酢酸エチルにより抽出を行った。抽出液を減圧下にて濃縮し、得られた残渣１３４ｍｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。クロロホルム／メタノール／水＝７／３／０．３混液にて溶出し精製し、減圧下にて濃縮を行い、化１５で示される２−Ｏ−グリセリル−６−Ｏ−ヘキサデカノイルアスコルビン酸（６５ｍｇ）を得た。1Ｈ−ＮＭＲと１３Ｃ−ＮＭＲにより同定を行った。
【００９５】
【化１５】
2015003894.tif 000016
【００９６】
ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果は以下のとおりであった。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）：
δ  ｐｐｍ  ０．９５（３Ｈ，ｔ），１．６０（２Ｈ，ｍ），２．３４（２Ｈ，ｍ），３．６０（２Ｈ，ｔ），３．９０（２Ｈ，ｍ），４．１３（３Ｈ，ｍ），４．７９（１Ｈ，ｄ）
１３Ｃ−ＮＭＲ  （１５０ＭＨｚ，  ＣＤ３ＯＤ）：
δ  ｐｐｍ  １４．４，２３．７，２６．０，３０．２，３０．４，３０．５，３０．７，３３．０，３５．０，６３．７，６５．６，６７．８，７１．９，７４．７，７４．８，７７．３，１２２．３，１６１．６，１７２．９，１７５．１
【００９７】
製造例１４  ２−Ｏ−（３’−Ｏ−オクタノイルグリセリル）−６−Ｏ−オクタノイルアスコルビン酸の合成
アルゴン雰囲気下、２−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸（５０ｍｇ）にピリジン５ｍＬを加え、ｎ−オクタン酸無水物（１９４ｍｇ）を加え、６０℃で３時間攪拌を行った。その後、水を加え酢酸エチルにより抽出を行った。抽出液を減圧下にて濃縮し、得られた残渣２３２ｍｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。クロロホルム／メタノール／水＝７／３／０．３混液にて溶出し精製し、減圧下にて濃縮を行い、化１６で示される２−Ｏ−（３’−オクタノイルグリセリル）−６−Ｏ−オクタノイルアスコルビン酸（８３．０ｍｇ）を得た。1Ｈ−ＮＭＲと１３Ｃ−ＮＭＲにより同定を行った。
【００９８】
【化１６】
2015003894.tif 000017
【００９９】
ＮＭＲ（核磁気共鳴分光法）による分析結果は以下のとおりであった。
1Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ）：
δ  ｐｐｍ  ０．８９（６Ｈ，ｔ），１．３０（１６Ｈ，ｂｒｓ），１．５９（４Ｈ，ｍ），（２Ｈ，ｍ），２．３０（４Ｈ，ｍ），３．９８（１Ｈ，ｍ），４．０６（２Ｈ，ｍ），４．１５（３Ｈ，ｍ），４．２６（１Ｈ，ｍ），４．７６（１Ｈ，ｄ）
１３Ｃ−ＮＭＲ  （１００ＭＨｚ，  ＣＤ３ＯＤ）：
δ  ｐｐｍ  １４．４，２３．５，２６．０，３０．０，３０．１，，３２．７，３４．９，６５．４，６５．８，６７．９，６９．３，７４．０，７７．１，１２２．０，１６１．５，１７２．３，１７４．８
【０１００】
製造例１５  ２−Ｏ−グリセリル−６−Ｏ−ドデカノイルアスコルビン酸の合成
アルゴン雰囲気下、２−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸（５０ｍｇ）にピリジン５ｍＬを加え、ｎ−ドデカン酸無水物（１３８ｍｇ）を加え、６０℃で３時間攪拌を行った。その後、酢酸エチルを加え水により抽出を行った。抽出液を減圧下にて濃縮し、得られた残渣１３４ｍｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。クロロホルム／メタノール／水＝７／３／０．３混液にて溶出し精製し、減圧下にて濃縮を行い、化１７で示される２−Ｏ−グリセリル−６−Ｏ−ドデカノイルアスコルビン酸（７３ｍｇ）を得た。得られたこの生成物を、下記のＭＡＳＳ分析条件１により質量分析〔ＥＳＩ、ＦＩＤ（試料直接導入）〕を行ったところ、ＥＳＩマススペクトルより下記に示すピークが得られ、下記化合物１８で示される、２−Ｏ−グリセリル−６−Ｏ−ドデカノイルアスコルビン酸であることが確認された。
【０１０１】
［ＭＡＳＳ分析条件１］
移動相                  ：０．１％ギ酸水溶液／アセトニトリル＝１０／９０
流量                    ：０．２ｍＬ／ｍｉｎ
検出器電圧              ：１．１５ｋＶ
インターフェイス電圧    ：４．５ｋＶ
ヒートブロック温度      ：２００℃
インターフェイス温度    ：３００℃
ネプライザガス          ：１．５Ｌ／ｍｉｎ
ドライングガス          ：１５Ｌ／ｍｉｎ
イオン化モード          ：ＥＳＩ−ポジティブ又はネガティブ
測定モード              ：スキャンモード
【０１０２】
［ＥＳＩマススペクトル測定結果：検出されたピーク］
ポジティブイオン：４３３（［Ｍ＋Ｈ］＋に相当），４５５(［Ｍ＋Ｎａ］＋に相当)
ネガティブイオン：４３２（［Ｍ−Ｈ］−に相当）
【０１０３】
【化１７】
2015003894.tif 000018
【０１０４】
製造例１６  ２−Ｏ−グリセリル−６−Ｏ−（２−エチルヘキサノイル）アスコルビン酸の合成
アルゴン雰囲気下、２−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸（５０ｍｇ）にピリジン５ｍＬを加え、２−エチルへキサン酸無水物（１１８ｍｇ）を加え、６０℃で３時間攪拌を行った。その後、酢酸エチルを加え水により抽出を行った。抽出液を減圧下にて濃縮し、得られた残渣１３４ｍｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。クロロホルム／メタノール／水＝７／３／０．３混液にて溶出し精製し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（５５ｍｇ）を得た。下記のＭＡＳＳ分析条件１により質量分析〔ＥＳＩ、ＦＩＤ（試料直接導入）〕を行ったところ、ＥＳＩマススペクトルより下記に示すピークが得られ、下記化合物１８で示される、２−Ｏ−グリセリル−６−Ｏ−（２−エチルヘキサノイル）アスコルビン酸であることが確認された。
【０１０５】
［ＥＳＩマススペクトル測定結果：検出されたピーク］
ポジティブイオン：３７７（［Ｍ＋Ｈ］＋），３９９(［Ｍ＋Ｎａ］＋)
ネガティブイオン：３７５（［Ｍ−Ｈ］−に相当）
【０１０６】
【化１８】
2015003894.tif 000019
【０１０７】
製造例１７  ２−Ｏ−グリセリル−６−Ｏ−テトラデカノイルアスコルビン酸の合成
２−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸（１．００ｇ）にＤＭＳＯ１０ｍＬを加え、トリエチルアミン（０．８５ｇ）、テトラデカン酸クロリド（１．４８ｇ）を加え、５０℃で１時間攪拌を行った。その後、水を加え酢酸エチルにより抽出を行った。抽出液を減圧下にて濃縮し、得られた残渣２．２０ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。クロロホルム／メタノール／水＝２０／３／０．３〜６／４／１混液にて溶出し精製し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．３５ｇ）を得た。上記のＭＡＳＳ分析条件１により質量分析〔ＥＳＩ、ＦＩＤ（試料直接導入）〕を行ったところ、ＥＳＩマススペクトルより下記に示すピークが得られ、化１９で示される２−Ｏ−グリセリル−６−Ｏ−（テトラデカノイルアスコルビン酸であることが確認された。
【０１０８】
［ＥＳＩマススペクトル測定結果：検出されたピーク］
ポジティブイオン：４６１（［Ｍ＋Ｈ］＋），４８３(［Ｍ＋Ｎａ］＋)
ネガティブイオン：４５９（［Ｍ−Ｈ］−）
【０１０９】
【化１９】
2015003894.tif 000020
【０１１０】
製造例１８  ２−Ｏ−グリセリル−６−Ｏ−イソステアリルアスコルビン酸の合成
テトラデカン酸クロリド（１．４８ｇ）の代わりにイソステアリン酸クロリド（０．９７ｇ）を用い、トリエチルアミン（０．８５ｇ）の代わりにトリエタノールアミン（０．９５ｇ）を用いた以外は製造例１７と同条件で反応を行い、０．２８ｇの生成物を得た。
【０１１１】
製造例１９  ２−Ｏ−グリセリル−６−Ｏ−オクタデカノイルアスコルビン酸の合成
ＤＭＳＯ１０ｍＬの代わりにＤＭＦ１０ｍＬを用い、テトラデカン酸クロリド（１．４８ｇ）の代わりにオクタデカン酸クロリド（１．９４ｇ）を用い、トリエチルアミン（０．８５ｇ）の代わりにトリエチルアミン（０．４０ｇ）と炭酸水素ナトリウム（０．２１ｇ）を用い、５０℃を８０℃にした以外は製造例１７と同条件で反応を行い、０．３６ｇの生成物を得た。
【０１１２】
製造例２０  ２−Ｏ−グリセリル−６−Ｏ−オレオイルアスコルビン酸の合成
ＤＭＳＯ１０ｍＬとトリエチルアミン（０．８５ｇ）の代わりに濃硫酸（２０ｍＬ）を用い、テトラデカン酸クロリド（１．４８ｇ）の代わりにオレイン酸（２．０３ｇ）を用い、５０℃１時間を室温２４時間にし、酢酸エチル抽出後飽和重曹水で洗浄した以外は製造例１７と同条件で反応を行い、０．１５ｇの生成物を得た。
【０１１３】
製造例２１  ２−Ｏ−（３’−Ｏ−ブタノイルグリセリル）−６−Ｏ−ブタノイル−アスコルビン酸の合成
ＤＭＳＯ１０ｍＬの代わりにＤＭＦ１０ｍＬを用い、テトラデカン酸クロリド（１．４８ｇ）の代わりにブタン酸アミド（１．７４ｇ）を用い、さらに濃硫酸（０．０２ｇ）を加えた以外は製造例１７と同条件で反応を行い、０．２４ｇの生成物を得た。
【０１１４】
製造例２２  ２−Ｏ−グリセリル−６−Ｏ−ブタノイルアスコルビン酸の合成
テトラデカン酸クロリド（１．４８ｇ）の代わりにブタン酸エチル（０．９３ｇ）を用い、トリエチルアミン（０．８５ｇ）の代わりに硫酸（０．０２ｇ）を用い、５０℃を８０℃にした以外は製造例１７と同条件で反応を行い、０．１０ｇの生成物を得た。
【０１１５】
製造例２３  ２−Ｏ−（３’−Ｏ−ブタノイルグリセリル）−３，６−ジ−Ｏ−ブタノイルアスコルビン酸の合成
テトラデカン酸クロリド（１．４８ｇ）の代わりにブタン酸クロリド（２．１４ｇ）を用い、トリエチルアミン（０．８５ｇ）の代わりにトリエチルアミン（０．８０ｇ）と炭酸ナトリウム（１．２７ｇ）を用いた以外は製造例１７と同条件で反応を行い、０．３７ｇの生成物を得た。
【０１１６】
製造例２４  ２−Ｏ−（３’−Ｏ−ヘキサデカノイルグリセリル）−３，６−ジ−Ｏ−ヘキサデカノイルアスコルビン酸の合成
テトラデカン酸クロリド（１．４８ｇ）の代わりにヘキサデカン酸クロリド（５．５０ｇ）を用い、トリエチルアミン（０．８５ｇ）の代わりにトリエチルアミン（２．８３ｇ）を用いた以外は製造例１７と同条件で反応を行い、０．５０ｇの生成物を得た。
【０１１７】
上記のようにして得られた製造例１８〜２４の反応生成物のそれぞれについて、実施例７と同じＭＡＳＳ分析条件１により質量分析（ＥＳＩ、ＦＩＤ）を行った。その測定結果（ＥＳＩマススペクトルのピーク）及び得られた生成物の構造を表１および表２に示す。
【０１１８】
【表１】
2015003894.tif 000021
【０１１９】
【表２】
2015003894.tif 000022
【０１２０】
製造例２５  ２−Ｏ−（３’−Ｏ−オクタノイルグリセリル）−６−Ｏ−ブタノイルアスコルビン酸の合成
アルゴン雰囲気下、２−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸（１．００ｇ）にＤＭＦ１０ｍＬを加え、トリエチルアミン（１．０１ｇ）、ブタン酸クロリド（０．３４ｇ）を加え、５０℃で１時間攪拌を行った。その後、さらにオクタン酸クロリド（０．６５ｇ）を加え５０℃で１時間攪拌を行った。水を加え酢酸エチルにより抽出を行った。抽出液を減圧下にて濃縮し、得られた残渣２．１０ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。クロロホルム／メタノール／水＝２０／３／０．３〜６／４／１混液にて溶出し精製し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．３４ｇ）を得た。上記のＭＡＳＳ分析条件１により質量分析〔ＥＳＩ、ＦＩＤ（試料直接導入）〕を行ったところ、ＥＳＩマススペクトルより下記に示すピークが得られ、下記化合物２０で示される、２−Ｏ−（３’−Ｏ−オクタノイルグリセリル）−６−Ｏ−ブタノイルアスコルビン酸であることが確認された。
【０１２１】
［ＥＳＩマススペクトル測定結果：検出されたピーク］
ポジティブイオン：４４７（［Ｍ＋Ｈ］＋），４６９(［Ｍ＋Ｎａ］＋)
ネガティブイオン：４４５（［Ｍ−Ｈ］−）
【０１２２】
【化２０】
2015003894.tif 000023
【０１２３】
製造例２６  ２−Ｏ−（３’−Ｏ−ヘキサデカノイルグリセリル）−６−Ｏ−ブタノイルアスコルビン酸の合成
ＤＭＦ１０ｍＬの代わりにＴＨＦ１０ｍＬを用い、オクタン酸クロリド（０．６５ｇ）の代わりにヘキサデカン酸クロリド（１．１０ｇ）を用い、トリエチルアミン（１．０１ｇ）の代わりにｔ−ブトキシカリウム（０．４５ｇ）を用い、さらにテトラブチルアンモニウムブロミド（０．１３ｇ）を加え、５０℃１時間を６０℃２４時間にした以外は製造例２５と同条件で反応を行い、０．１４ｇの生成物を得た。
【０１２４】
製造例２７  ２−Ｏ−（３’−Ｏ−ブタノイルグリセリル）−６−Ｏ−ドデカノイルアスコルビン酸の合成
ブタン酸クロリド（０．３４ｇ）の代わりにドデカン酸クロリド（０．７０ｇ）を用い、オクタン酸クロリド（０．６５ｇ）の代わりにブタン酸クロリド（０．４２ｇ）用いた以外は製造例２５と同条件で反応を行い、０．２０ｇの生成物を得た。
【０１２５】
製造例２８  ２−Ｏ−グリセリル−３−Ｏ−オクタノイルアスコルビン酸の合成
アルゴン雰囲気下、２−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸（１．００ｇ）にＤＭＳＯ１０ｍＬを加え、トリエチルアミン（０．１２ｇ）、オクタン酸クロリド（０．６５ｇ）を加え、２５℃で５時間攪拌を行った。その後、水を加え酢酸エチルにより抽出を行い飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水後濾過した。抽出液を減圧下にて濃縮し、得られた残渣１．９５ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。クロロホルム／メタノール／水＝２０／３／０．３〜６／４／１混液にて溶出し精製し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．３０ｇ）を得た。
【０１２６】
製造例２９  ２−Ｏ−グリセリル−３−Ｏ−ドデカノイル−６−Ｏ−オクタノイルアスコルビン酸の合成
２−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸（１．００ｇ）にＤＭＦ１０ｍＬを加え、トリエチルアミン（０．１２ｇ）、ドデカン酸クロリド（０．７０ｇ）を加え、５０℃で５時間攪拌を行った。その後、さらにトリエチルアミン（０．４８ｇ）、オクタン酸無水物（１．３０ｇ）を加え、５０℃で５時間攪拌を行った。水を加え酢酸エチルにより抽出を行い飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで脱水後濾過した。抽出液を減圧下にて濃縮し、得られた残渣３．２５ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付した。クロロホルム／メタノール／水＝２０／３／０．３〜６／４／１混液にて溶出し精製し、減圧下にて濃縮を行い、生成物（０．４５ｇ）を得た。
【０１２７】
製造例３０  ３−Ｏ−グリセリル−６−Ｏ−ブタノイルアスコルビン酸の合成
２−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸（１．００ｇ）の代わりに３−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸（１．００ｇ）を用い、オクタン酸クロリド（０．６５ｇ）の代わりにブタン酸クロリド（０．４２ｇ）を用いた以外は製造例１７と同条件で反応を行い、０．２５ｇの生成物を得た。
【０１２８】
製造例３１  ３−Ｏ−グリセリル−６−Ｏ−オクタノイルアスコルビン酸の合成
２−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸（１．００ｇ）の代わりに３−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸（１．００ｇ）を用い、ＤＭＳＯ１０ｍＬの代わりにＤＭＦ１０ｍＬを用い、オクタン酸クロリド（０．６５ｇ）の代わりにオクタン酸無水物（１．０８ｇ）を用いた以外は製造例１７と同条件で反応を行い、０．３０ｇの生成物を得た。
【０１２９】
製造例３２  ３−Ｏ−グリセリル−６−Ｏ−ヘキサデカノイルアスコルビン酸の合成
２−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸（１．００ｇ）の代わりに３−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸（１．００ｇ）を用い、ＤＭＳＯ１０ｍＬの代わりにピリジン１０ｍＬを用い、オクタン酸クロリド（０．６５ｇ）の代わりにヘキサデカン酸無水物（１．７８ｇ）を用い、トリエチルアミン（０．８５ｇ）を用いなかった以外は製造例１７と同条件で反応を行い、０．４０ｇの生成物を得た。
【０１３０】
製造例３３  ３−Ｏ−（３’−Ｏ−ドデカノイルグリセリル）−６−Ｏ−ブタノイルアスコルビン酸の合成
２−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸（１．００ｇ）の代わりに３−Ｏ−グリセリルアスコルビン酸（１．００ｇ）を用い、オクタン酸クロリド（０．６５ｇ）の代わりにドデカン酸クロリド（１．６４ｇ）を用いた以外は製造例１７と同条件で反応を行い、０．４２ｇの生成物を得た。
【０１３１】
上記のようにして得られた製造例２６〜３３の反応生成物のそれぞれについて、製造例１７と同じＭＡＳＳ分析条件１により質量分析（ＥＳＩ、ＦＩＤ）を行った。その測定結果（ＥＳＩマススペクトルのピーク）及び得られた生成物の構造を表３および表４に示す。
【０１３２】
【表３】
2015003894.tif 000024
【０１３３】
【表４】
2015003894.tif 000025
【０１３４】
実施例１  抗菌性試験
大腸菌（Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ
ｃｏｌｉ）、緑濃菌（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ａｅｒｕｇｉｎｏｓａ）、黄色ブドウ球菌（Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ ａｕｒｅｕｓ）、及びカンジダ菌（Ｃａｎｄｉｄａ
ａｌｂｉｃａｎｓ）の４種の菌（ＡＴＣＣ株）を用いて、下記の手順により本発明のグリセリルアスコルビン酸誘導体について抗菌性試験の評価を行った。比較品として、メチルパラベン、フェノキシエタノール、アスコルビン酸ナトリウム、アスコルビン酸−２−グルコシド、リン酸−Ｌ−アスコルビン酸マグネシウムを用いた。
【０１３５】
（１）ツイン８０（モノオレイン酸ポリオキシエチレンソルビタン）１．０ｇを加えた試験管に、各種サンプルを所定の濃度になるように秤量し、ＳＣＤ（ソイビーン・カゼイン・ダイジェスト）寒天培地（和光純薬工業）を添加、ボルテックスでよく撹拌した。その後、サンプルを含有する培地を高圧蒸気滅菌（１２１℃で１５分）で滅菌し、４５℃になるまで冷却し、培地を滅菌済みシャーレに静かに流し込み、底部外面に４区分の記しを付けたシャーレ全体に広げ、静置し培地を固化させた。
（２）その後、（１）で作製したサンプルを含む培地に、予め菌数が１．０×１０４〜５．０×１０４ｃｆｕ／ｍＬとなるように調製しておいた各種菌液を、シャーレの１区分に１菌種ずつ、４箇所に各々１０μＬずつ接種した。（すなわち、１サンプルに４種の菌について３濃度となるので、１サンプルあたり１２検体となる。）
（３）３０℃の恒温槽で７日間培養を行った。
（４）肉眼により菌の有無の判定を行った。
【０１３６】
その結果を、下記基準で分類し表５〜表８に示す。
△：菌が確認された検体数が、１０検体以上
○：菌が確認された検体数が、６〜９
◎：菌が確認された検体数が、５以下
【０１３７】
【表５】
2015003894.tif 000026
【０１３８】
【表６】
2015003894.tif 000027
【０１３９】
【表７】
2015003894.tif 000028
【０１４０】
【表８】
2015003894.tif 000029
【０１４１】
表５〜表８から明らかなように、本発明のグリセリルアスコルビン酸誘導体は、汎用の抗菌剤、公知のアスコルビン酸誘導体と比較して、同等もしくはそれ以上の抗菌作用を有していた。
【０１４２】
実施例２  抗アクネ菌性試験
Ｐｒｏｐｉｏｎｉｂａｃｔｅｒｉｕｍ  ａｃｎｅｓ（ＪＣＭ６４１５：ＡＴＣＣ株）をＧＡＭブイヨン培地（日水製薬）に移植し、３７℃、嫌気条件下で２４時間培養した。その後、ＧＡＭブイヨン培地で希釈し、終菌体濃度がＯＤ６２０＝０．１になるように調製し、これを試験菌液とした。グリセリルアスコルビン酸誘導体は、終濃度が所定の濃度になるように秤量し、ＧＡＭブイヨン培地に溶解した後、濾過滅菌を行い、これを試料溶液とした。９６穴マイクロプレート（住友ベークライト）に試験菌液を３０μＬ、試料溶液を１２０μＬ添加した後、直ちに嫌気ジャー（三菱ガス化学）にマイクロプレートとアネロパック・ケンキ（三菱ガス化学）を入れ、３７℃、嫌気条件下で４８時間培養を行った。その後、マイクロプレートリーダーにより、ＯＤ６２０を測定した。なお、比較品として、メチルパラベン、フェノキシエタノール、アスコルビン酸ナトリウム、アスコルビン酸−２−グルコシド、リン酸−Ｌ−アスコルビン酸マグネシウムを用いて同様の試験を行った。
【０１４３】
その結果を、下記基準で分類し表９〜表１２に示す。
△：ＯＤ６２０＝０．６以上
○：ＯＤ６２０＝０．３〜０．６
◎：ＯＤ６２０＝０．３以下
【０１４４】
【表９】
2015003894.tif 000030
【０１４５】
【表１０】
2015003894.tif 000031
【０１４６】
【表１１】
2015003894.tif 000032
【０１４７】
【表１２】
2015003894.tif 000033
【０１４８】
表９〜表１２から明らかなように、本発明のグリセリルアスコルビン酸誘導体は、汎用の抗菌剤、公知のアスコルビン酸誘導体と比較して、同等もしくはそれ以上の抗アクネ菌作用を有していた。
【０１４９】
実施例３  クリームの作製
表１３に示す組成の（１）〜（５）の油相部の原料、および（６）〜（１０）の水相部の原料をそれぞれ７０℃に加温し溶解して、油相および水相をそれぞれ調製した。その後、水相に油相を加え予備乳化を行い、ホモミキサーで均一に乳化した後、よく攪拌しながら室温まで冷却することにより、クリームを調製することができた。このクリームは、グリセリルアスコルビン酸誘導体を含むため、抗菌作用、抗アクネ菌作用に加えて、使用感、保湿作用、美白作用に優れており、皮膚用化粧料として好適に使用できると考えられる。
【０１５０】
【表１３】
2015003894.tif 000034