(57)【要約】【課題】吐出ヘッドの位置ずれを補正し、検査精度を向上する。【解決手段】基板処理装置の吐出検査部５では、光出射部５１が、予め定められた光存在面に沿って面状光５１０を出射し、検査領域に位置する吐出ヘッド３１の複数の吐出口から吐出された処理液に光を照射する。撮像部５２は、光出射部５１からの面状光５１０を通過する処理液を撮像し、複数の輝点を含む検査画像を取得する。そして、検査画像と、設計検査位置に位置する吐出ヘッド３１から正常吐出が行われている場合の画像である参照画像とに基づいて、検査画像を取得した際の吐出ヘッド３１の位置と設計検査位置との差による画像ずれが補正された後、吐出動作の良否判定が行われる。これにより、検査領域における吐出ヘッド３１の設計検査位置からの位置ずれを補正し、複数の吐出口における吐出動作の検査精度を向上することができる。【選択図】図６
2015065370.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理装置であって、
基板を保持する基板保持部と、
前記基板の上方において複数の吐出口から前記基板に向けて液体を吐出して前記基板に所定の処理を行う吐出ヘッドと、
前記吐出ヘッドを前記基板の上方から検査領域へと移動するヘッド移動機構と、
前記吐出ヘッドの前記複数の吐出口からの液体の吐出動作を検査する吐出検査装置と、
を備え、
前記吐出検査装置が、
予め定められた光存在面に沿って光を出射することにより、前記検査領域に位置する前記吐出ヘッドの前記複数の吐出口から吐出される液体である複数の飛翔体が前記光存在面を通過する際に、前記複数の飛翔体に光を照射する光出射部と、
前記光存在面を通過する前記複数の飛翔体を撮像することにより、前記複数の飛翔体上に現れる複数の輝点を含む検査画像を取得する撮像部と、
前記検査領域内の所定の設計検査位置に位置する前記吐出ヘッドの前記複数の吐出口から液体を正常に吐出した状態で前記光出射部から光を出射しつつ前記撮像部により取得された画像である参照画像を記憶する参照画像記憶部と、
前記参照画像および前記検査画像に基づいて、前記検査画像を取得した際の前記吐出ヘッドの位置と前記設計検査位置との差による前記検査画像の前記参照画像に対する相対的なずれを補正し、前記複数の吐出口における吐出動作の良否を判定する判定部と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置であって、
前記参照画像および前記検査画像に基づいて前記吐出ヘッドを前記設計検査位置へと移動した上で前記複数の吐出口から液体を吐出し、前記光存在面を通過する複数の飛翔体上に現れる複数の輝点を含む検査画像を再取得することにより、前記判定部による前記相対的なずれの補正が行われ、
前記判定部が、再取得された前記検査画像に基づいて前記複数の吐出口における吐出動作の良否を判定することを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の基板処理装置であって、
前記複数の吐出口が、それぞれが吐出口配列方向に直線状に配列された吐出口の集合である複数の吐出口列を含み、
前記複数の吐出口列が、前記吐出口配列方向に対して傾斜する方向に並ぶことを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記ヘッド移動機構により、前記吐出ヘッドが所定の回転軸を中心として回転することにより、前記基板の上方と前記検査領域との間を移動することを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記撮像部における撮像方向が、前記複数の飛翔体の所定の吐出方向に垂直な平面に対して傾斜していることを特徴とする基板処理装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記光存在面が、前記複数の飛翔体の所定の吐出方向に垂直な平面に対して傾斜していることを特徴とする基板処理装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記吐出検査装置が、前記検査画像上において前記複数の吐出口に対応する複数の正常吐出判定枠を設定する判定枠設定部をさらに備え、
前記判定部が、前記検査画像の前記ずれを補正した後、各正常吐出判定枠内における輝点の存否情報を取得し、前記存否情報に基づいて前記各正常吐出判定枠に対応する吐出口における吐出動作の良否を判定することを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
請求項１ないし６のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記判定部が、前記検査画像の前記ずれを補正した後、前記参照画像と前記検査画像との差に基づいて前記複数の吐出口のそれぞれにおける吐出動作の良否を判定することを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体基板（以下、単に「基板」という。）の製造工程では、基板処理装置を用いて酸化膜等の絶縁膜を有する基板に対して様々な処理が施される。例えば、基板の表面に洗浄液を供給することにより、基板の表面上に付着したパーティクル等を除去する洗浄処理が行われる。
【０００３】
特許文献１では、基板の上方に配置された１つの処理液供給ノズルから、基板上にフォトレジスト液を吐出する基板処理装置が開示されている。当該装置では、処理液供給ノズルと基板との間にＣＣＤカメラが向けられており、処理液供給ノズルから吐出される処理液の液柱が撮像される。そして、撮像された処理液の液柱幅（すなわち、処理液供給ノズルからの吐出幅）が、所定の基準幅と比較され、基準幅よりも小さい場合、吐出異常として検出される。
【０００４】
特許文献２では、塗布液ノズルから基板上に塗布液を供給する液処理装置が開示されている。当該装置では、塗布液ノズルが、基板の上方と待機位置であるノズルバスとの間で搬送され、搬送中の塗布液ノズルの先端部が撮像される。撮像に利用されるＣＣＤカメラは、塗布液ノズルと共にノズルヘッド部に固定されている。そして、撮像結果に基づいて、塗布液ノズルの先端部からの液だれ、または、滴下の発生が検出される。
【０００５】
特許文献３では、処理液ノズルから基板上に処理液を供給する液処理装置が開示されている。当該装置では、直線状に１列に配列された１１本のノズルが、ノズルヘッド部により保持されている。また、これらのノズルの先端部から基板表面に至る領域にライン状のレーザ光が照射され、当該領域に向けられたカメラにより、各ノズルから吐出されるレジスト液の液柱が撮像される。そして、撮像結果を、ノズルから正常にレジスト液が吐出されている状態を予め撮像した基準情報と比較することにより、ノズルからのレジスト液の吐出の有無、および、吐出状態の変化の有無が判定される。
【０００６】
一方、特許文献４では、複数の吐出口から処理液の微小液滴を基板に向けて吐出する基板処理装置が開示されている。当該装置では、複数の吐出口が１列に並べられた吐出口列が、複数列設けられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平１１−３２９９３６号公報
【特許文献２】特開２００８−１３５６７９号公報
【特許文献３】特開２０１２−９８１２号公報
【特許文献４】特開２０１２−２０９５１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、特許文献２のようにノズルヘッド部にカメラが固定される構造では、ノズルヘッド部が大型化してしまう。このため、移動中の塗布液ノズルの様子を観察する必要がないのであれば、カメラは、ノズルヘッド部とは独立して待機位置近傍等に設けられることが好ましい。
【０００９】
基板処理装置では、通常、吐出ヘッドが待機位置へと移動する際、設計上の待機位置から僅かにずれた位置にて停止したとしても、基板に対する処理には実質的な影響は生じない。しかしながら、待機位置近傍に固定された撮像部により、吐出ヘッドからの処理液を撮像して吐出動作の良否を検査しようとすると、吐出ヘッドの位置ずれにより検査精度が低下するおそれがある。特に、特許文献４のように、複数の吐出口から微小液滴を吐出する装置では、微小液滴の間隔や各微小液滴の大きさが、撮像部からの距離により変化するため、吐出ヘッドの位置ずれにより検査精度が大きく低下する可能性がある。
【００１０】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、吐出ヘッドの位置ずれを補正し、検査精度を向上することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
請求項１に記載の発明は、基板処理装置であって、基板を保持する基板保持部と、前記基板の上方において複数の吐出口から前記基板に向けて液体を吐出して前記基板に所定の処理を行う吐出ヘッドと、前記吐出ヘッドを前記基板の上方から検査領域へと移動するヘッド移動機構と、前記吐出ヘッドの前記複数の吐出口からの液体の吐出動作を検査する吐出検査装置とを備え、前記吐出検査装置が、予め定められた光存在面に沿って光を出射することにより、前記検査領域に位置する前記吐出ヘッドの前記複数の吐出口から吐出される液体である複数の飛翔体が前記光存在面を通過する際に、前記複数の飛翔体に光を照射する光出射部と、前記光存在面を通過する前記複数の飛翔体を撮像することにより、前記複数の飛翔体上に現れる複数の輝点を含む検査画像を取得する撮像部と、前記検査領域内の所定の設計検査位置に位置する前記吐出ヘッドの前記複数の吐出口から液体を正常に吐出した状態で前記光出射部から光を出射しつつ前記撮像部により取得された画像である参照画像を記憶する参照画像記憶部と、前記参照画像および前記検査画像に基づいて、前記検査画像を取得した際の前記吐出ヘッドの位置と前記設計検査位置との差による前記検査画像の前記参照画像に対する相対的なずれを補正し、前記複数の吐出口における吐出動作の良否を判定する判定部とを備える。
【００１２】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理装置であって、前記参照画像および前記検査画像に基づいて前記吐出ヘッドを前記設計検査位置へと移動した上で前記複数の吐出口から液体を吐出し、前記光存在面を通過する複数の飛翔体上に現れる複数の輝点を含む検査画像を再取得することにより、前記判定部による前記相対的なずれの補正が行われ、前記判定部が、再取得された前記検査画像に基づいて前記複数の吐出口における吐出動作の良否を判定する。
【００１３】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の基板処理装置であって、前記複数の吐出口が、それぞれが吐出口配列方向に直線状に配列された吐出口の集合である複数の吐出口列を含み、前記複数の吐出口列が、前記吐出口配列方向に対して傾斜する方向に並ぶ。
【００１４】
請求項４に記載の発明は、請求項１ないし３のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記ヘッド移動機構により、前記吐出ヘッドが所定の回転軸を中心として回転することにより、前記基板の上方と前記検査領域との間を移動する。
【００１５】
請求項５に記載の発明は、請求項１ないし４のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記撮像部における撮像方向が、前記複数の飛翔体の所定の吐出方向に垂直な平面に対して傾斜している。
【００１６】
請求項６に記載の発明は、請求項１ないし５のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記光存在面が、前記複数の飛翔体の所定の吐出方向に垂直な平面に対して傾斜している。
【００１７】
請求項７に記載の発明は、請求項１ないし６のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記吐出検査装置が、前記検査画像上において前記複数の吐出口に対応する複数の正常吐出判定枠を設定する判定枠設定部をさらに備え、前記判定部が、前記検査画像の前記ずれを補正した後、各正常吐出判定枠内における輝点の存否情報を取得し、前記存否情報に基づいて前記各正常吐出判定枠に対応する吐出口における吐出動作の良否を判定する。
【００１８】
請求項８に記載の発明は、請求項１ないし６のいずれかに記載の基板処理装置であって、前記判定部が、前記検査画像の前記ずれを補正した後、前記参照画像と前記検査画像との差に基づいて前記複数の吐出口のそれぞれにおける吐出動作の良否を判定する。
【発明の効果】
【００１９】
本発明では、吐出ヘッドの位置ずれを補正し、検査精度を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】一の実施の形態に係る基板処理装置の正面図である。
【図２】基板処理装置の平面図である。
【図３】吐出ヘッドの下面を示す底面図である。
【図４】制御ユニットの機能を示すブロック図である。
【図５】吐出ヘッドおよび待機ポッドの側面図である。
【図６】吐出ヘッド、光出射部および撮像部を示す斜視図である。
【図７】検査画像を示す図である。
【図８】検査画像を示す図である。
【図９】吐出ヘッド、面状光および保護液膜の一部を示す概念図である。
【図１０．Ａ】検査画像の一部を示す図である。
【図１０．Ｂ】検査画像の一部を示す図である。
【図１０．Ｃ】検査画像の一部を示す図である。
【図１０．Ｄ】検査画像の一部を示す図である。
【図１０．Ｅ】検査画像の一部を示す図である。
【図１１】補正済検査画像を示す図である。
【図１２】補正済検査画像を示す図である。
【図１３】補正済検査画像を示す図である。
【図１４】補正済検査画像を示す図である。
【図１５】補正済検査画像を示す図である。
【図１６】差分画像を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
図１は、本発明の一の実施の形態に係る基板処理装置１の正面図である。図２は、基板処理装置１の平面図である。図２では、基板処理装置１の向きを図１から変更している。基板処理装置１は、半導体基板９（以下、単に「基板９」という。）を１枚ずつ処理する枚葉式の装置である。基板処理装置１では、基板９に対して液体が吐出されて所定の処理が行われる。本実施の形態では、基板９上に洗浄液の液滴を吐出することにより、基板９上からパーティクル等を除去する洗浄処理が行われる。基板処理装置１では、例えば、直径約２０μｍの液滴が、基板９に向けてスプレー状に吐出される。
【００２２】
図１および図２に示すように、基板処理装置１は、基板保持部２１と、カップ部２２と、基板回転機構２３と、処理液供給部３と、ヘッド移動機構３５と、保護液供給部３６と、待機ポッド４と、吐出検査部５と、チャンバ６と、制御ユニットとを備える。チャンバ６は、基板保持部２１、カップ部２２、基板回転機構２３、処理液供給部３、ヘッド移動機構３５、保護液供給部３６、待機ポッド４および吐出検査部５等の構成を内部空間６０に収容する。チャンバ６は、外部から内部空間６０への光の入射を遮る遮光チャンバである。図１および図２では、チャンバ６を破線にて示し、チャンバ６の内部を図示している。
【００２３】
基板保持部２１は、チャンバ６内において基板９の一方の主面９１（以下、「上面９１」という。）を上側に向けた状態で基板９を保持する。基板９の上面９１には、回路パターン等の微細パターンが形成されている。カップ部２２は、基板９および基板保持部２１の周囲を囲む略円筒状の部材である。基板回転機構２３は、基板保持部２１の下方に配置される。基板回転機構２３は、基板９の中心を通るとともに基板９の上面９１に垂直な回転軸を中心として、基板９を基板保持部２１と共に水平面内にて回転する。
【００２４】
処理液供給部３は、処理液を下方に向けて吐出する吐出ヘッド３１と、吐出ヘッド３１に処理液を供給する処理液配管３２とを備える。図２では、処理液配管３２の図示を省略する。吐出ヘッド３１は、カップ部２２の内側において基板保持部２１の上方に配置される。換言すれば、吐出ヘッド３１の下面は、カップ部２２の上部開口２２０と、基板９の上面９１との間に位置する。吐出ヘッド３１は、後述する複数の吐出口から相互に分離した微小な液滴を連続的に吐出する装置である。吐出ヘッド３１により、基板９の上面９１に向けて処理液が吐出される。処理液としては、純水（好ましくは、脱イオン水（ＤＩＷ：deionized water））、炭酸水、アンモニア水と過酸化水素水との混合液等の液体が利用される。吐出ヘッド３１からの処理液の設計上の吐出方向は、上下方向（すなわち、重力方向）におよそ平行である。
【００２５】
図３は、吐出ヘッド３１の下面３１１を示す底面図である。吐出ヘッド３１の下面３１１には、４つの吐出口列３１３ａ〜３１３ｄを含む複数の吐出口が設けられる。吐出口列３１３ａ〜３１３ｄはそれぞれ、所定の配列ピッチにて図３中の左右方向に略直線状に配列される複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄの集合である。各吐出口３１４ａ〜３１４ｄの直径は、およそ５μｍ〜１０μｍである。図３では、各吐出口３１４ａ〜３１４ｄを実際よりも大きく、吐出口３１４ａ〜３１４ｄの個数を実際よりも少なく描いている。また、図３では、吐出ヘッド３１の下面３１１において複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄが設けられる吐出口配置領域３１６を二点鎖線にて囲む。吐出口配置領域３１６は略矩形である。吐出ヘッド３１では、複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄのそれぞれから、処理液の微小液滴が噴射される。
【００２６】
以下の説明では、各吐出口列３１３ａ〜３１３ｄの吐出口配列方向である図３中の左右方向を「配列方向」という。吐出口列３１３ａ〜３１３ｄはそれぞれ、当該配列方向に延びる直線状である。吐出口列３１３ａ〜３１３ｄは、配列方向に垂直な方向（すなわち、図３中の上下方向）に、互いに平行に並ぶ。なお、吐出口列３１３ａ〜３１３ｄは、必ずしも上記配列方向に垂直に並ぶ必要はなく、配列方向に対して傾斜する方向に並んでいればよい。
【００２７】
以下の説明では、図３中の上側から下側に向かって配列される吐出口列３１３ａ〜３１３ｄをそれぞれ、「第１吐出口列３１３ａ」、「第２吐出口列３１３ｂ」、「第３吐出口列３１３ｃ」および「第４吐出口列３１３ｄ」という。さらに、第１吐出口列３１３ａの複数の吐出口３１４ａを「第１吐出口３１４ａ」といい、第２吐出口列３１３ｂの複数の吐出口３１４ｂを「第２吐出口３１４ｂ」という。第３吐出口列３１３ｃの複数の吐出口３１４ｃを「第３吐出口３１４ｃ」といい、第４吐出口列３１３ｄの複数の吐出口３１４ｄを「第４吐出口３１４ｄ」という。
【００２８】
上記配列方向に垂直な方向において、第１吐出口列３１３ａと第２吐出口列３１３ｂとの間の距離は、第３吐出口列３１３ｃと第４吐出口列３１３ｄとの間の距離に等しく、第２吐出口列３１３ｂと第３吐出口列３１３ｃとの間の距離よりも小さい。第２吐出口列３１３ｂは、第１吐出口列３１３ａから、配列方向の一方側である図３中の右側に所定のシフト距離だけずれて配置される。第４吐出口列３１３ｄは、第３吐出口列３１３ｃから、図３中の右側に上記シフト距離だけずれて配置される。当該シフト距離は、上述の配列ピッチよりも小さい距離であり、例えば、配列ピッチの半分の距離である。
【００２９】
吐出ヘッド３１では、配列方向に垂直、かつ、吐出ヘッド３１の下面３１１に平行な方向から見た場合、複数の第１吐出口３１４ａと複数の第２吐出口３１４ｂとが配列方向に交互に並び、複数の第３吐出口３１４ｃと複数の第４吐出口３１４ｄとが配列方向に交互に並ぶ。また、複数の第１吐出口３１４ａと複数の第３吐出口３１４ｃとがそれぞれ重なり、複数の第２吐出口３１４ｂと複数の第４吐出口３１４ｄとがそれぞれ重なる。
【００３０】
図１および図２に示すように、ヘッド移動機構３５は、アーム３５１と、回転軸３５２と、ヘッド回転機構３５３と、ヘッド昇降機構３５４とを備える。アーム３５１は、回転軸３５２から水平方向に延びる。アーム３５１の先端部には、吐出ヘッド３１が取り付けられる。ヘッド回転機構３５３は、吐出ヘッド３１をアーム３５１と共に回転軸３５２を中心として水平方向に回転移動する。ヘッド昇降機構３５４は、吐出ヘッド３１をアーム３５１と共に上下方向に移動する。ヘッド回転機構３５３は、例えば、電動モータを備える。ヘッド昇降機構３５４は、ボールねじ機構および電動モータを備えており、吐出ヘッド３１を精密に位置決めすることができる。ヘッド昇降機構３５４は、エアシリンダを備えるものであってもよい。
【００３１】
保護液供給部３６は、吐出ヘッド３１に直接的または間接的に固定され、保護液を斜め下方に向けて吐出する。保護液としては、上述の処理液と同様に、純水（好ましくは、脱イオン水）、炭酸水、アンモニア水と過酸化水素水との混合液等の液体が利用される。保護液は処理液と同じ種類の液体でもよく、異なる種類の液体でもよい。基板処理装置１では、保護液供給部３６から基板９の上面９１に向けて液柱状に吐出された保護液が、吐出ヘッド３１の下方において基板９上に広がることにより、吐出ヘッド３１の真下に所定の厚さの保護液の膜（以下、「保護液膜」という。）が形成される。保護液供給部３６は、ヘッド回転機構３５３およびヘッド昇降機構３５４により、吐出ヘッド３１と共に移動する。
【００３２】
図４は、制御ユニット７の機能を示すブロック図である。図４では、制御ユニット７以外の構成も併せて描いてる。制御ユニット７は、処理制御部７１と、検査制御部７２と、検査演算部７３とを備える。処理制御部７１により、基板回転機構２３、処理液供給部３、ヘッド移動機構３５および保護液供給部３６等が制御されることにより、基板９の処理が行われる。検査制御部７２により、処理液供給部３、ヘッド移動機構３５および吐出検査部５等が制御されることにより、吐出ヘッド３１の複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄ（図３参照）からの処理液の吐出動作の検査が行われる。
【００３３】
検査演算部７３は、吐出検査部５の一部であり、参照画像記憶部７３１と、判定枠設定部７４と、判定部７５とを備える。参照画像記憶部７３１には、後述する参照画像７３２が予め記憶されている。判定部７５は、位置ずれ補正部７５１と、良否判定部７５２とを備える。参照画像記憶部７３１、判定枠設定部７４および判定部７５は、上述の吐出動作の検査に利用される。
【００３４】
図１および図２に示す基板処理装置１において基板９の処理が行われる際には、まず、基板９がチャンバ６内に搬入されて基板保持部２１により保持される。基板９の搬入時には、吐出ヘッド３１は、図２に二点鎖線にて示すように、カップ部２２の外側に設けられた待機ポッド４上の待機位置にて待機している。図５は、待機位置に位置する吐出ヘッド３１を待機ポッド４と共に拡大して示す側面図である。待機ポッド４は、略直方体の容器であり、上部に開口が設けられる。待機位置では、吐出ヘッド３１の一部が、上記開口を介して待機ポッド４内に挿入される。なお、図５では、保護液供給部３６の図示を省略している。また、後述する検査領域に位置する吐出ヘッド３１を二点鎖線にて示す。図１および図２に示すように、基板９が基板保持部２１により保持されると、処理制御部７１（図４参照）により基板回転機構２３が駆動され、基板９の回転が開始される。
【００３５】
続いて、処理制御部７１により、ヘッド回転機構３５３およびヘッド昇降機構３５４が駆動され、吐出ヘッド３１および保護液供給部３６が、待機位置から上昇し、カップ部２２の上方へと移動した後に下降する。これにより、吐出ヘッド３１および保護液供給部３６が、カップ部２２の上部開口２２０を介してカップ部２２の内側かつ基板保持部２１の上方へと移動する。次に、保護液供給部３６から基板９上への保護液の供給が開始され、基板９の上面９１の一部を覆う保護液膜が形成される。また、吐出ヘッド３１の複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄ（図３参照）から、保護液膜が形成された基板９の上面９１に向けて処理液の吐出（すなわち、微小液滴の噴射）が開始される。保護液膜は、複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄからの処理液の基板９上における設計上の複数の着液点（すなわち、微小液滴の着弾点）を覆う。
【００３６】
吐出ヘッド３１から保護液膜に向けて噴射された多数の微小液滴は、基板９の上面９１上の保護液膜に衝突し、保護液膜を介して基板９の上面９１に間接的に衝突する。そして、基板９の上面９１に付着しているパーティクル等の異物が、処理液の微小液滴の衝突による衝撃により基板９上から除去される。換言すれば、処理液の微小液滴により保護液膜を介して基板９に間接的に付与される運動エネルギーにより、基板９の上面９１の洗浄処理が行われる。
【００３７】
このように、処理液の微小液滴が保護液膜を介して基板９に衝突することにより、微小液滴が直接的に基板に衝突する場合に比べて、基板９の上面９１に形成されたパターン等にダメージを与えることを防止または抑制しつつ、基板９の洗浄処理を行うことができる。また、基板９上の洗浄処理が行われる部位が保護液により覆われているため、基板９上から除去されたパーティクル等が、基板９の上面９１に再付着することを防止または抑制することができる。
【００３８】
基板処理装置１では、保護液および処理液の吐出と並行して、ヘッド回転機構３５３による吐出ヘッド３１および保護液供給部３６の回転移動が行われる。吐出ヘッド３１および保護液供給部３６は、回転中の基板９の中央部の上方と基板９の外縁部の上方との間にて、水平に往復移動を繰り返す。これにより、基板９の上面９１全体に対して洗浄処理が行われる。基板９の上面９１に供給された保護液および処理液は、基板９の回転により、除去された異物と共に基板９のエッジへと移動し、基板９のエッジから外側へと飛散する。基板９から飛散した保護液および処理液は、カップ部２２により受けられて廃棄または回収される。
【００３９】
吐出ヘッド３１からの処理液による所定の処理（すなわち、基板９の洗浄処理）が終了すると、保護液および処理液の吐出が停止される。吐出ヘッド３１および保護液供給部３６は、ヘッド昇降機構３５４によりカップ部２２の上部開口２２０よりも上側まで上昇し、ヘッド回転機構３５３により、基板９の上方から待機ポッド４の上方の検査領域へと回転移動する。
【００４０】
検査領域は、上述の待機位置の上方の領域である。検査領域は、設計上の所定の検査位置（以下、「設計検査位置」という。）を略中心とする小さい領域である。換言すれば、検査領域は、設計検査位置、および、設計検査位置の極近傍の位置を含む。吐出ヘッド３１が基板９の上方から待機ポッド４の上方へと回転移動する場合、吐出ヘッド３１は、検査領域内のいずれかの位置に停止する。当該検査領域において、吐出検査部５により、定期的に、または、必要に応じて、吐出ヘッド３１の複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄからの処理液の吐出動作の検査が行われる。
【００４１】
図６は、検査領域における吐出ヘッド３１、および、吐出ヘッド３１の周囲に配置される吐出検査部５を示す斜視図である。吐出検査部５は、光出射部５１と、撮像部５２とを備える。光出射部５１および撮像部５２は、吐出ヘッド３１の真下を避けて、吐出ヘッド３１の斜め下方に配置される。光出射部５１および撮像部５２は、図４に示すように、制御ユニット７の検査制御部７２により制御される。
【００４２】
図６に示す光出射部５１は、光源と、当該光源からの光を略水平方向に延びる線状光に変換する光学系とを備える。光源としては、例えば、レーザダイオードやＬＥＤ（light emitting diode）素子が利用される。光出射部５１は、予め定められた仮想面である光存在面に沿って、吐出ヘッド３１の下方に向けて光を出射する。図６では、光出射部５１の光軸Ｊ１を一点鎖線にて描き、光出射部５１から出射される面状の光の輪郭を、符号５１０を付す二点鎖線にて示す。
【００４３】
光出射部５１からの面状光５１０は、吐出ヘッド３１の下面３１１近傍にて、吐出ヘッド３１の真下を通過する。基板処理装置１では、検査制御部７２から処理液供給部３に所定の駆動信号が送出され、吐出ヘッド３１の複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄ（図３参照）から待機ポッド４の内部に向けて処理液が吐出される。そして、検査領域に位置する吐出ヘッド３１の複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄから吐出される処理液である複数の飛翔体が、上述の光存在面を通過する（すなわち、面状光５１０を通過する）際に、光出射部５１から当該複数の飛翔体に光が照射される。面状光５１０は、吐出ヘッド３１からの処理液の設計上の吐出方向（すなわち、複数の飛翔体の予め定められた所定の吐出方向）におよそ垂直である。厳密には、面状光５１０（すなわち、光存在面）は、複数の飛翔体の所定の吐出方向に垂直な平面に対して、僅かな角度（例えば、５°〜１０°）だけ傾斜していることが好ましい。
【００４４】
撮像部５２は、上記光存在面よりも下方にて、撮像軸Ｊ２を吐出ヘッド３１の下方に位置する面状光５１０に向けて配置される。撮像部５２における撮像方向（すなわち、撮像軸Ｊ２が向く方向）は、複数の飛翔体の所定の吐出方向に垂直な平面に対して傾斜している。撮像部５２としては、例えば、ＣＣＤ（charge-coupled device）カメラが利用される。撮像部５２は、面状光５１０を通過する処理液（すなわち、複数の飛翔体）を撮像することにより、当該複数の飛翔体上に現れる複数の輝点を含む検査画像を取得する。撮像部５２は、図３中の４つの吐出口列３１３ａ〜３１３ｄのうち、第１吐出口列３１３ａが最も手前側に見える位置に配置される。
【００４５】
吐出検査部５では、撮像部５２による撮像結果から、１フレームの静止画が検査画像として抽出される。検査画像は、制御ユニット７の検査演算部７３（図４参照）に送られる。検査演算部７３では、検査画像に対して２値化処理が行われ、複数の輝点が抽出されるとともに背景のノイズ等が除去される。
【００４６】
図７は、検査画像８を示す図である。検査画像８では、吐出ヘッド３１の複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄにそれぞれ対応する複数の輝点８１が、吐出口３１４ａ〜３１４ｄの配列方向に対応する方向に配列される。吐出検査部５では、面状光５１０が僅かながら厚さを有しているため、各輝点８１は、検査画像８において上下方向に対応する方向に長い略楕円形となる。後述するように、複数の輝点８１のうち一部の輝点８１は、撮像部５２の合焦範囲の外側に位置しており、検査画像８上においてぼやけて（いわゆる、ピントがぼけて）他の輝点８１に比べて大きく広がる。図７では、合焦範囲を符号８０を付した二点鎖線にて囲んで示す。また、合焦範囲８０の外側に位置する輝点８１について、合焦範囲８０の内側に位置していると仮定した場合の輝点の大きさを細線にて示す。図８、図１１ないし図１５においても同様である。
【００４７】
続いて、判定部７５の位置ずれ補正部７５１により、検査画像８と、参照画像記憶部７３１に予め記憶されている参照画像７３２とが比較される。参照画像７３２は、基板処理装置１において、吐出ヘッド３１が上記検査領域内の設計検査位置に位置し、かつ、複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄから処理液を正常に吐出している状態で、光出射部５１から面状光５１０を出射しつつ撮像部５２により取得された画像である。参照画像７３２は、基板処理装置１において基板９の処理が行われるよりも前に（例えば、基板処理装置１の製造現場において基板処理装置１の出荷前に）取得され、検査画像８と同様に２値化処置が行われた後、参照画像記憶部７３１に予め記憶される。
【００４８】
位置ずれ補正部７５１では、検査画像８および参照画像７３２に基づいて、検査画像８の参照画像７３２に対する相対的なずれ（以下、「画像ずれ」という。）が求められる。当該画像ずれは、検査画像８を取得した際の吐出ヘッド３１の位置と、設計検査位置との差により生じる。画像ずれの量の算出は、例えば、検査画像８と参照画像７３２との差が最小になるまで（すなわち、検査画像８の複数の輝点８１と参照画像７３２の複数の輝点との重なりの程度が最大になるまで）、検査画像８を図７中の上下方向および左右方向に移動したり、検査画像８に垂直な回転軸を中心として回転させたり、検査画像８を拡大または縮小することにより行われる。検査画像８と参照画像７３２との差が最小になったときの検査画像８の移動量、回転量および変倍量が、検査画像８の画像ずれ量である。画像ずれ量は、一般的なパターンマッチング用の画像処理関数を検査画像８および参照画像７３２に適用することにより求められてもよい。
【００４９】
位置ずれ補正部７５１では、求められた画像ずれ量に基づいて、検査画像８の画像ずれが補正される。具体的には、検査画像８上の複数の輝点８１の位置が、吐出ヘッド３１が検査領域内の設計検査位置に位置した状態で検査画像８が取得されたと仮定した場合の位置へと補正される。こうして画像ずれ量が補正された検査画像（以下、「輝点位置補正検査画像）という。）が生成される。
【００５０】
画像ずれを補正して輝点位置補正検査画像を生成する代わりに、輝点８１を再撮影することにより、画像ずれが補正された検査画像８が取得されてもよい。具体的には、まず、処理制御部７１により、位置ずれ補正部７５１によって求められた画像ずれ量に基づいて、ヘッド移動機構３５のヘッド回転機構３５３およびヘッド昇降機構３５４が制御される。これにより、吐出ヘッド３１が移動され（すなわち、吐出ヘッド３１の位置の微調整が行われ）、吐出ヘッド３１が設計検査位置に位置する。その上で、吐出ヘッド３１の複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄから、処理液の微小液滴が吐出される。そして、複数の微小液滴が面状光５１０を通過する際に発生する複数の輝点８１が、撮像部５２により撮像されることにより、画像ずれが補正された検査画像（以下、「再取得検査画像」という。）が取得される。再取得検査画像は、吐出ヘッド３１、光出射部５１および撮像部５２を、設計上想定された位置関係に位置させた状態で取得されたものであるため、同じく設計上想定された位置に配置される正常吐出判定枠８５（後述）との位置ずれを極めて小さくすることができる。なお、以下の説明では、位置ずれ補正部７５１が画像データ処理により生成した輝点位置補正検査画像と、再撮影により取得された再取得検査画像を総称して、補正済検査画像８ｃという。
【００５１】
次に、図８に示すように、複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄにそれぞれ対応する複数の正常吐出判定枠８５が、判定枠設定部７４（図４参照）により、画像ずれが補正された後の補正済検査画像８ｃ上に設定される。正常吐出判定枠８５の個数は、吐出口３１４ａ〜３１４ｄの個数に等しい。各正常吐出判定枠８５は所定の大きさの略矩形状であり、複数の正常吐出判定枠８５の補正済検査画像８ｃ上における大きさは互いに等しい。本実施の形態では、各正常吐出判定枠８５は略正方形であり、その４辺は、補正済検査画像８ｃの上下方向または左右方向に平行である。各正常吐出判定枠８５は、対応する吐出口から所定の吐出方向へと、あるいは、当該吐出方向から許容範囲内のずれ量で僅かにずれた方向へと、処理液が吐出された場合に通過する面状光５１０上の領域を示す。
【００５２】
各正常吐出判定枠８５の位置（すなわち、補正済検査画像８ｃ上の座標）は、各正常吐出判定枠８５に対応する吐出口からの処理液の輝点基準位置に基づいて決定される。輝点基準位置は、設計検査位置に位置する吐出ヘッド３１の各吐出口から処理液の設計上の吐出方向へと延びる吐出中心線が、面状光５１０（すなわち、上述の光存在面）と交わる点である。各正常吐出判定枠８５は、補正済検査画像８ｃ上における輝点基準位置を中心として設定される。したがって、仮に、複数の正常吐出判定枠８５が参照画像７３２上に設定されるとすると、参照画像７３２の各輝点は、対応する正常吐出判定枠８５の略中央に位置する。
【００５３】
補正済検査画像８ｃ上における輝点基準位置は、様々な方法により求められる。例えば、設計検査位置における吐出ヘッド３１の向き、吐出ヘッド３１における各吐出口３１４ａ〜３１４ｄの位置、設計上の処理液の吐出方向、面状光５１０の位置、並びに、撮像部５２の位置および向きに基づいて、基板処理装置１において設定された３次元座標系における各輝点基準位置の座標が求められる。換言すれば、吐出ヘッド３１、光出射部５１および撮像部５２の相対位置に基づいて、複数の輝点基準位置の座標が求められる。
【００５４】
続いて、複数の輝点基準位置の座標を、ビュー変換行列を用いてビュー変換することにより、撮像部５２を原点とした３次元座標系における複数の輝点基準位置の座標が求められる。次に、ビュー変換された複数の輝点基準位置の座標を、透視投影変換することにより、補正済検査画像８ｃ上の２次元座標系における複数の輝点基準位置の座標が取得される。なお、基板処理装置１では、撮像部５２に非テレセントリック光学系が利用されているため、上述のように、透視投影変換が行われるが、撮像部５２にテレセントリック光学系が利用される場合、ビュー変換された複数の輝点基準位置の座標を正射影（平行射影または平行投影ともいう。）することにより、補正済検査画像８ｃ上における複数の輝点基準位置の座標が取得される。
【００５５】
複数の正常吐出判定枠８５は、補正済検査画像８ｃ上において、上述の配列方向に対応する方向に配列される。以下の説明では、第１吐出口列３１３ａ、第２吐出口列３１３ｂ、第３吐出口列３１３ｃおよび第４吐出口列３１３ｄにそれぞれ対応する正常吐出判定枠８５の列を、「第１正常吐出判定枠列８６ａ」、「第２正常吐出判定枠列８６ｂ」、「第３正常吐出判定枠列８６ｃ」および「第４正常吐出判定枠列８６ｄ」という。
【００５６】
補正済検査画像８ｃ上では、配列方向にて隣接する輝点基準位置間の距離は、観察視点である撮像部５２から離れるに従って（すなわち、手前側から奥側へと向かうに従って）小さくなる。このため、第１正常吐出判定枠列８６ａに含まれる複数の正常吐出判定枠８５の間隔も、同様に、撮像部５２から離れるに従って小さくなる。第２正常吐出判定枠列８６ｂ、第３正常吐出判定枠列８６ｃおよび第４正常吐出判定枠列８６ｄにおいても同様である。
【００５７】
図８に示すように、複数の正常吐出判定枠８５は、互いに重なることなく補正済検査画像８ｃ上に配置される。なお、補正済検査画像８ｃ上において正常吐出判定枠８５同士が重なる場合は、複数の正常吐出判定枠８５が互いに重複しなくなるまで、撮像部５２の位置や向き、光出射部５１からの面状光５１０の位置や向き等が変更され、正常吐出判定枠８５の設定が繰り返される。
【００５８】
正常吐出判定枠８５の設定が終了すると、判定枠設定部７４により、複数の正常吐出判定枠８５の周囲に複数の斜め吐出判定枠８７がそれぞれ設定される。斜め吐出判定枠８７は、正常吐出判定枠８５よりも大きい略矩形状の輪郭を有する判定枠である。各斜め吐出判定枠８７の内側には１つの正常吐出判定枠８５が位置する。略正方形状の各斜め吐出判定枠８７の位置は、対応する正常吐出判定枠８５の位置に基づいて設定される。具体的には、各斜め吐出判定枠８７は、対応する正常吐出判定枠８５が略中心に位置するように、当該正常吐出判定枠８５を囲んで配置される。正常吐出判定枠８５の個数は、斜め吐出判定枠８７の個数に等しい。各斜め吐出判定枠８７は、所定の吐出方向からある程度ずれた方向に吐出された処理液が通過する面状光５１０上の領域を示す。
【００５９】
斜め吐出判定枠８７の設定が終了すると、判定枠設定部７４により、基板９上の保護液膜に対応する１つの保護液膜内吐出判定枠８８が、補正済検査画像８ｃ上において複数の斜め吐出判定枠８７の周囲に設定される。保護液膜内吐出判定枠８８は、吐出口配置領域３１６（図３参照）の外周部に配置される複数の吐出口（以下、「外周吐出口」という。）からの処理液が、基板９上の保護液膜上に着液する場合に通過する面状光５１０上の領域を示す。保護液膜内吐出判定枠８８の設定は、複数の外周吐出口の位置と、基板９上における保護液膜の外周部の位置と、複数の外周吐出口と保護液膜との間に位置する光存在面の位置とに基づいて行われる。
【００６０】
具体的には、図９に示すように、一の外周吐出口３１４ｅから、基板９上の保護液膜９３の外周部（より詳細には、保護液膜９３の外周縁）上の当該外周吐出口３１４ｅに最も近い点に向かって仮想線９４を引き、仮想線９４と光存在面（すなわち、面状光５１０）との交点９５を求める。そして、複数の外周吐出口３１４ｅのそれぞれについて、対応する交点９５を面状光５１０上において求め、これらの交点９５を補正済検査画像８ｃ上に投影して順につなぐことにより、図８に示す保護液膜内吐出判定枠８８が設定される。
【００６１】
保護液膜内吐出判定枠８８の設定が終了すると、判定枠設定部７４により、保護液膜内吐出判定枠８８を囲む１つの最大吐出判定枠８９が補正済検査画像８ｃ上に設定される。最大吐出判定枠８９は、略矩形状であり、複数の吐出判定枠のうち最も外側に位置する外側吐出判定枠である。最大吐出判定枠８９は、吐出ヘッド３１から吐出された処理液が基板９上において着液する可能性がある最大範囲に対応する。最大吐出判定枠８９は、保護液膜内吐出判定枠８８と同様に、当該最大範囲の外周部の位置と、複数の外周吐出口３１４ｅの位置と、光存在面の位置とに基づいて設定される。なお、正常吐出判定枠８５、斜め吐出判定枠８７、保護液膜内吐出判定枠８８および最大吐出判定枠８９の設定順序は適宜変更されてもよい。
【００６２】
各吐出判定枠（すなわち、正常吐出判定枠８５、斜め吐出判定枠８７、保護液膜内吐出判定枠８８および最大吐出判定枠８９）の設定が終了すると、判定部７５の良否判定部７５２により、各吐出判定枠内における輝点８１の存否情報、すなわち、各吐出判定枠内に輝点８１が存在するか否かを示す情報が取得される。良否判定部７５２では、輝点８１の少なくとも一部が吐出判定枠内に位置すれば、輝点８１が当該吐出判定枠内に存在すると判定される。また、輝点８１が、内側および外側の２つの吐出判定枠に跨って位置する場合、輝点８１は、外側の吐出判定枠内には存在せず、内側の吐出判定枠内に存在すると判定される。例えば、輝点８１が正常吐出判定枠８５と斜め吐出判定枠８７とに跨って位置する場合、輝点８１は、斜め吐出判定枠８７内ではなく、正常吐出判定枠８５内に存在すると判定される。一方、輝点８１の少なくとも一部が、斜め吐出判定枠８７内の正常吐出判定枠８５を除く領域に存在し、かつ、輝点８１の全体が正常吐出判定枠８５の外側に位置する場合、輝点８１が斜め吐出判定枠８７内に存在すると判定される。保護液膜内吐出判定枠８８および最大吐出判定枠８９における輝点８１の存否についても同様である。
【００６３】
良否判定部７５２における輝点８１の存否情報の取得では、まず、各正常吐出判定枠８５内における輝点８１の存否情報が取得される。具体的には、補正済検査画像８ｃ上において、一の輝点８１が注目輝点として検出される。続いて、注目輝点に対応する正常吐出判定枠８５および斜め吐出判定枠８７として、注目輝点に最も近接した位置に位置する正常吐出判定枠８５および斜め吐出判定枠８７が抽出される。
【００６４】
そして、注目輝点の位置と抽出された正常吐出判定枠８５および斜め吐出判定枠８７の位置とが比較され、注目輝点が、当該正常吐出判定枠８５内に存在するか否か、および、当該斜め吐出判定枠８７内に存在するか否かが判定される。良否判定部７５２では、上述のように、注目輝点の少なくとも一部が正常吐出判定枠８５内に位置していれば、注目輝点は当該正常吐出判定枠８５内に存在すると判定される。また、注目輝点全体が、正常吐出判定枠８５の外に位置し、注目輝点の少なくとも一部が、斜め吐出判定枠８７内に位置していれば、注目輝点は当該斜め吐出判定枠８７内に存在すると判定される。
【００６５】
一方、注目輝点が正常吐出判定枠８５および斜め吐出判定枠８７内に存在しないと判定された場合、注目輝点の位置と保護液膜内吐出判定枠８８の位置とが比較され、注目輝点が保護液膜内吐出判定枠８８内に存在するか否かが判定される。注目輝点の少なくとも一部が保護液膜内吐出判定枠８８内に位置していれば、注目輝点が保護液膜内吐出判定枠８８内に存在すると判定される。注目輝点が保護液膜内吐出判定枠８８内に存在しないと判定された場合、注目輝点の位置と最大吐出判定枠８９の位置とが比較され、注目輝点が最大吐出判定枠８９内に存在するか否かが判定される。注目輝点の少なくとも一部が最大吐出判定枠８９内に位置していれば、注目輝点が最大吐出判定枠８９内に存在すると判定される。
【００６６】
良否判定部７５２では、輝点８１の存否を判定する際に、補正済検査画像８ｃにおける最大吐出判定枠８９よりも外側の領域について、輝点検出の対象領域から除外される。このように、最大吐出判定枠８９は、その外側の領域をマスクする輝点検出用マスクの役割を果たす。これにより、良否判定部７５２による輝点検出に要する時間が短縮され、吐出検査部５による吐出動作の良否判定に要する時間を短縮することができる。
【００６７】
検査演算部７３では、上述の各正常吐出判定枠８５内、各斜め吐出判定枠８７内、保護液膜内吐出判定枠８８内および最大吐出判定枠８９内における輝点８１の存否情報に基づいて、各正常吐出判定枠８５に対応する吐出口３１４ａ〜３１４ｄにおける吐出動作の良否が、良否判定部７５２により判定される。吐出動作の良否判定の具体例については、図１０．Ａないし図１０．Ｅを参照しつつ以下に説明する。
【００６８】
図１０．Ａないし図１０．Ｅは、補正済検査画像８ｃの一部を概念的に示す図である。図１０．Ａないし図１０．Ｅでは、第１正常吐出判定枠列８６ａの一部の複数の正常吐出判定枠８５と、当該複数の正常吐出判定枠８５に対応する複数の斜め吐出判定枠８７と、保護液膜内吐出判定枠８８の一部と、最大吐出判定枠８９の一部と、輝点８１とを示す。
【００６９】
図１０．Ａの場合、５つの正常吐出判定枠８５のそれぞれの内側に１つの輝点８１が存在するという情報、および、各正常吐出判定枠８５の外側の領域には輝点８１は存在しないという情報が、輝点８１の存否情報として良否判定部７５２により取得される。そして、当該存否情報に基づいて、５つの正常吐出判定枠８５にそれぞれ対応する５つの第１吐出口３１４ａにおける吐出動作は良好（すなわち、正常）であると判定される。
【００７０】
図１０．Ｂの場合、図中の左側から１番目の正常吐出判定枠８５内に輝点８１は存在しておらず、他の４つの正常吐出判定枠８５内にはそれぞれ１つの輝点８１が存在するという情報、および、左側から１番目の斜め吐出判定枠８７内に１つの輝点８１が存在するという情報が、輝点８１の存否情報として良否判定部７５２により取得される。また、保護液膜内吐出判定枠８８および最大吐出判定枠８９内には輝点８１は存在しないという情報も、輝点８１の存否情報として良否判定部７５２により取得される。
【００７１】
良否判定部７５２では、これらの存否情報に基づいて、左側から２〜５番目の正常吐出判定枠８５にそれぞれ対応する４つの第１吐出口３１４ａにおける吐出動作は良好であると判定される。また、左側から１番目の正常吐出判定枠８５に対応する第１吐出口３１４ａについては、当該第１吐出口３１４ａに対応する輝点８１が斜め吐出判定枠８７内に存在することから、処理液が正常な吐出範囲からずれて吐出される吐出不良（いわゆる、斜め吐出）が生じていると判定される。吐出不良の発生は、良否判定部７５２から吐出検査部５のモニタ等の報知部７９（図４参照）を通じて作業者等に通知される。そして、以後に予定されている基板９に対する処理が行われる前に、吐出口３１４ａのクリーニング等、吐出ヘッド３１のメンテナンスが行われる。
【００７２】
図１０．Ｃの場合、図中の左側から１番目の正常吐出判定枠８５および斜め吐出判定枠８７内に輝点８１は存在しておらず、他の４つの正常吐出判定枠８５内にはそれぞれ１つの輝点８１が存在するという情報、および、保護液膜内吐出判定枠８８内に１つの輝点８１が存在するという情報が、輝点８１の存否情報として良否判定部７５２により取得される。良否判定部７５２では、これらの存否情報に基づいて、左側から２〜５番目の正常吐出判定枠８５にそれぞれ対応する４つの第１吐出口３１４ａにおける吐出動作は良好であると判定される。
【００７３】
左側から１番目の正常吐出判定枠８５および斜め吐出判定枠８７に対応する第１吐出口３１４ａについては、当該正常吐出判定枠８５および斜め吐出判定枠８７内に輝点８１が存在せず、保護液膜内吐出判定枠８８内において当該斜め吐出判定枠８７の近傍に輝点８１が存在することから、処理液が斜め吐出判定枠８７に対応する斜め吐出の範囲からずれて、大きく斜め吐出する吐出不良が生じていると判定される。また、当該第１吐出口３１４ａからの処理液は、基板９上に吐出される際に保護液膜９３上に着液すると判定される。吐出不良の発生は、良否判定部７５２から報知部７９を通じて作業者等に通知され、吐出ヘッド３１のメンテナンスが行われる。
【００７４】
なお、良否判定部７５２では、保護液膜内吐出判定枠８８内の輝点８１と対応する吐出口は特定されなくてもよい。この場合、左側から１番目の第１吐出口３１４ａについては、斜め吐出判定枠８７に対応する範囲外への大きな斜め吐出、および、吐出口の詰まり等による不吐出のいずれかの吐出不良が生じていると判定される。また、左側から１番目の第１吐出口３１４ａおよび図示していない他の吐出口３１４ａ〜３１４ｄのうちのいずれかの吐出口から、斜め吐出判定枠８７に対応する領域の外側で保護液膜９３に着液する大きな斜め吐出が生じていると判定される。
【００７５】
図１０．Ｄの場合、図中の左側から１番目の正常吐出判定枠８５および斜め吐出判定枠８７内に輝点８１は存在しておらず、他の４つの正常吐出判定枠８５内にはそれぞれ１つの輝点８１が存在するという情報、保護液膜内吐出判定枠８８内には輝点８１は存在しないという情報、および、最大吐出判定枠８９内に１つの輝点８１が存在するという情報が、輝点８１の存否情報として良否判定部７５２により取得される。良否判定部７５２では、これらの存否情報に基づいて、左側から２〜５番目の正常吐出判定枠８５にそれぞれ対応する４つの第１吐出口３１４ａにおける吐出動作は良好であると判定される。
【００７６】
左側から１番目の正常吐出判定枠８５に対応する第１吐出口３１４ａについては、当該第１吐出口３１４ａに対応する正常吐出判定枠８５および斜め吐出判定枠８７内に輝点８１が存在せず、保護液膜内吐出判定枠８８内にも輝点８１が存在せず、最大吐出判定枠８９内に輝点８１が存在することから、処理液が吐出方向から非常に大きくずれて吐出され、基板９上に吐出される際に保護液膜９３の外側に着液すると判定される。吐出不良の発生は、良否判定部７５２から吐出検査部５のモニタ等の報知部７９を通じて作業者等に通知される。基板９上において保護液膜９３の外側に処理液が着液すると、基板９上のパターンにダメージを与える可能性があるため、吐出ヘッド３１は、例えば、分解メンテナンスされたり、他の吐出ヘッド３１に交換される。
【００７７】
なお、良否判定部７５２では、最大吐出判定枠８９内の輝点８１と対応する吐出口は特定されなくてもよい。この場合、左側から１番目の第１吐出口３１４ａについては、保護液膜９３の外側への非常に大きな斜め吐出、および、不吐出のいずれかの吐出不良が生じていると判定される。また、左側から１番目の第１吐出口３１４ａおよび図示していない他の吐出口３１４ａ〜３１４ｄのうちのいずれかの吐出口から、保護液膜９３の外側への非常に大きな斜め吐出が生じていると判定される。
【００７８】
図１０．Ｅの場合、図中の左側から１番目の正常吐出判定枠８５および斜め吐出判定枠８７内に輝点８１は存在しておらず、他の４つの正常吐出判定枠８５内にはそれぞれ１つの輝点８１が存在するという情報、並びに、保護液膜内吐出判定枠８８および最大吐出判定枠８９内には輝点８１は存在しないという情報が、輝点８１の存否情報として良否判定部７５２により取得される。良否判定部７５２では、これらの存否情報に基づいて、左側から２〜５番目の正常吐出判定枠８５にそれぞれ対応する４つの第１吐出口３１４ａにおける吐出動作は良好であると判定される。また、左側から１番目の正常吐出判定枠８５に対応する第１吐出口３１４ａでは、処理液が吐出されない不吐出の吐出不良が生じていると判定される。
【００７９】
ところで、複数の吐出口における吐出動作の良否を判定する吐出検査部として、上記と同様の検査画像を取得し、検査画像上の複数の輝点の配列方向の間隔を測定するものが考えられる。このような吐出検査部（以下、「比較例の吐出検査部」という。）では、複数の輝点の間隔が、所定の間隔におよそ等しければ各吐出口における吐出動作が良好と判定される。一方、隣接する２つの輝点の間隔が所定の間隔の２倍以上大きい場合、当該２つの輝点に対応する２つの吐出口の間に、不吐出の吐出口が存在すると判定される。
【００８０】
比較例の吐出検査部では、間隔が所定の間隔からある程度以上大きい（または、小さい）隣接する２つの輝点が存在すると、当該２つの輝点に対応する２つの吐出口のうち、どちらか一方または双方に斜め吐出の吐出不良が生じていると判定される。しかしながら、２つの吐出口のうちどちらの吐出口に吐出不良が生じているかを判定することは容易ではない。また、一方の吐出口からの処理液が他方の吐出口から遠ざかるようにずれ、他方の吐出口からの処理液が一方の吐出口から遠ざかるようにずれた場合、各吐出口からの処理液のずれは許容範囲であったとしても、上述のように２つの吐出口の少なくとも一方が、誤って吐出不良と判断されてしまう。さらに、連続する複数の吐出口に吐出不良が生じ、当該複数の吐出口に対応する複数の輝点が、同じ方向におよそ同じ距離だけずれた場合、複数の輝点の間隔は所定の間隔におよそ等しいため、これらの吐出不良は検出されない。
【００８１】
これに対し、基板処理装置１の吐出検査部５では、判定枠設定部７４により、補正済検査画像８ｃ上において複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄにそれぞれ対応する複数の正常吐出判定枠８５が設定される。そして、判定部７５により、各正常吐出判定枠８５内における輝点８１の存否情報が取得され、当該存否情報に基づいて各正常吐出判定枠８５に対応する吐出口３１４ａ〜３１４ｄにおける吐出動作の良否が判定される。これにより、複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄのそれぞれにおける吐出動作の良否を、個別に（すなわち、他の吐出口３１４ａ〜３１４ｄの吐出動作の良否から独立して）精度良く判定することができる。その結果、吐出不良による基板９に対する処理への悪影響を抑制または防止することができる。当該悪影響としては、例えば、処理液の不吐出による基板９に対する処理の質の低下や、処理液の斜め吐出による基板９上のパターンの損傷が考えられる。
【００８２】
また、基板処理装置１では、判定部７５の位置ずれ補正部７５１により、参照画像７３２および検査画像８に基づいて、検査画像８を取得した際の吐出ヘッド３１の位置と設計検査位置との差による画像ずれが補正された後、良否判定部７５２により、上述の存否情報の取得、および、吐出動作の良否判定が行われる。これにより、検査領域における吐出ヘッド３１の設計検査位置からの位置ずれを補正し、複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄにおける吐出動作の検査精度を向上することができる。
【００８３】
上述のように、吐出ヘッド３１は、ヘッド回転機構３５３により基板９の上方と検査領域との間を回転移動する。このため、ヘッド回転機構３５３による回転量の僅かなずれにより、検査画像８上の輝点８１の位置が大きくかつ複雑にずれる。基板処理装置１では、上述のように、吐出ヘッド３１の位置ずれを補正して吐出動作の検査を精度良く行うことができるため、基板処理装置１の構造は、吐出ヘッドが回転移動する基板処理装置の構造に特に適している。
【００８４】
吐出ヘッド３１には、図３に示すように、多数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄが設けられる。このため、参照画像７３２および検査画像８のそれぞれに多数の輝点が存在する。したがって、検査時の吐出ヘッド３１に不吐出の吐出口が存在し、検査画像８上の輝点８１の数が参照画像７３２上の輝点の数よりも少ない場合であっても、検査画像８上の残りの多数の輝点８１の位置と参照画像７３２上の輝点の位置とを比較することにより、検査画像８の画像ずれ量を精度良く取得することができる。
【００８５】
上述のように、吐出ヘッド３１の複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄは、それぞれが配列方向に略直線状に延びるとともに配列方向に対して傾斜する方向に並ぶ吐出口列３１３ａ〜３１３ｄを含む。このため、１つの吐出口列の端部の吐出口が不吐出である場合であっても、画像ずれの検出の際に、検査画像８が不吐出の吐出口側に配列ピッチに対応する距離だけ参照画像７３２からずれた位置にて、検査画像８と参照画像７３２との差が最小と判断されることが防止される。これにより、検査画像８の画像ずれ量をより一層精度良く取得することができる。
【００８６】
吐出検査部５では、判定枠設定部７４により、補正済検査画像８ｃ上に複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄにそれぞれ対応する複数の斜め吐出判定枠８７が設定される。そして、判定部７５により、各斜め吐出判定枠８７内における輝点８１の存否情報が取得され、当該存否情報に基づいて各斜め吐出判定枠８７に対応する吐出口３１４ａ〜３１４ｄにおける斜め吐出の発生の有無が判定される。これにより、複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄにおける斜め吐出、より詳細には、斜め吐出判定枠８７に対応する領域内への軽度の斜め吐出を、個別に精度良く判定することができる。
【００８７】
また、吐出検査部５では、判定枠設定部７４により、補正済検査画像８ｃ上に保護液膜９３に対応する保護液膜内吐出判定枠８８が設定される。そして、判定部７５により、保護液膜内吐出判定枠８８内における輝点８１の存否情報が取得され、当該存否情報に基づいて斜め吐出判定枠８７に対応する領域外、かつ、保護液膜９３が形成される領域内への、より大きい斜め吐出の発生の有無が検出される。これにより、より大きい斜め吐出の発生を、精度良く判定することができる。
【００８８】
なお、基板９上に形成される保護液膜９３の外周部において、保護液膜９３の膜厚が所定の厚さよりも薄い場合には、上述の保護液膜内吐出判定枠８８の設定時に基準の１つとされる保護液膜９３の外周部は、保護液膜９３の所定の厚さを有する部位の外周縁とされてもよい。これにより、吐出方向から大きくずれて吐出された処理液が、保護液膜９３の所定の厚さを有する部位に着液したか、当該部位よりも外側の領域に着液したかを判定することができる。
【００８９】
さらに、吐出検査部５では、判定枠設定部７４により、補正済検査画像８ｃ上に保護液膜内吐出判定枠８８を囲む最大吐出判定枠８９が設定される。そして、判定部７５により、最大吐出判定枠８９内における輝点８１の存否情報が取得され、当該存否情報に基づいて保護液膜９３が形成される領域外への、非常に大きい斜め吐出の発生の有無が検出される。これにより、保護液膜９３の外側に着液する斜め吐出の発生を、精度良く判定することができる。
【００９０】
吐出検査部５では、撮像部５２における撮像方向が、吐出ヘッド３１からの処理液の所定の吐出方向に垂直な平面に対して傾斜している。これにより、補正済検査画像８ｃ上において複数の輝点８１が互いに重なることを抑制することができる。また、補正済検査画像８ｃ上において、複数の正常吐出判定枠８５が互いに重なることを抑制し、複数の斜め吐出判定枠８７が互いに重なることも抑制することができる。その結果、複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄにおける吐出動作の良否判定精度を向上することができる。このような吐出検査部５の構造は、互いに平行に配列される複数の吐出口列を有する吐出ヘッドにおける吐出動作の良否判定に特に適している。
【００９１】
上述のように、吐出検査部５では、光存在面が処理液の所定の吐出方向に垂直な平面に対して傾斜している。これにより、補正済検査画像８ｃ上において複数の輝点８１、複数の正常吐出判定枠８５、および、複数の斜め吐出判定枠８７が互いに重なることを抑制することができる。その結果、複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄにおける吐出動作の良否判定精度をさらに向上することができる。このような吐出検査部５の構造も、互いに平行に配列される複数の吐出口列を有する吐出ヘッドにおける吐出動作の良否判定に特に適している。
【００９２】
上述の例では、画像ずれが補正された後の補正済検査画像８ｃ上に正常吐出判定枠８５が設定されるが、画像ずれが補正されていない検査画像８上に正常吐出判定枠８５が設定され、正常吐出判定枠８５の位置が、画像ずれに基づいて位置ずれ補正部７５１により補正されてもよい。この場合であっても、参照画像７３２および検査画像８に基づいて画像ずれを補正した後、良否判定部７５２により、各正常吐出判定枠８５内における輝点８１の存否情報に基づいて、各正常吐出判定枠８５に対応する吐出口３１４ａ〜３１４ｄにおける吐出動作の良否が精度良く判定される。
【００９３】
また、上述の例では、正常吐出判定枠８５と同数の斜め吐出判定枠８７が設定される場合について説明しているが、図１１に示すように、判定枠設定部７４により、複数の正常吐出判定枠８５が内側に位置する比較的大きな斜め吐出判定枠８７ａが、補正済検査画像８ｃ上に設定されてもよい。図１１に示す例では、第１吐出口列３１３ａの全ての第１吐出口３１４ａ（図３参照）に対応する複数の正常吐出判定枠８５（すなわち、第１正常吐出判定枠列８６ａ）の周囲に、略矩形状の１つの斜め吐出判定枠８７ａが設定される。また、第２正常吐出判定枠列８６ｂ、第３正常吐出判定枠列８６ｃおよび第４正常吐出判定枠列８６ｄのそれぞれの周囲に、上記斜め吐出判定枠８７ａとおよそ同様の形状の斜め吐出判定枠８７ａが設定される。補正済検査画像８ｃ上における各斜め吐出判定枠８７ａの位置は、対応する正常吐出判定枠列の位置に基づいて設定される。４つの斜め吐出判定枠８７ａの周囲には、上記と同様の保護液膜内吐出判定枠８８が設定され、保護液膜内吐出判定枠８８の周囲には外側吐出判定枠である最大吐出判定枠８９が設定される。
【００９４】
検査演算部７３では、上述の各正常吐出判定枠８５内、斜め吐出判定枠８７ａ内、保護液膜内吐出判定枠８８内および最大吐出判定枠８９内における輝点８１の存否情報に基づいて、各正常吐出判定枠８５に対応する吐出口３１４ａ〜３１４ｄにおける吐出動作の良否が、良否判定部７５２により判定される。
【００９５】
ところで、基板処理装置１では、撮像部５２と処理液との間の距離が異なると、補正済検査画像８ｃ上における輝点８１の大きさ、すなわち、輝点８１の見かけの大きさも変化する。例えば、撮像部５２から遠い輝点８１の見かけの大きさは、撮像部５２に近い輝点８１に比べて小さくなり、斜め吐出による輝点８１の見かけの移動量も小さくなる。このため、正常吐出判定枠８５等の吐出判定枠内における輝点８１の存否判定において、撮像部５２から遠い輝点８１は、斜め吐出により輝点基準位置からずれた場合であっても、撮像部５２から近い輝点８１に比べて吐出判定枠内に存在すると判定されやすくなる可能性がある。
【００９６】
一方、撮像部５２に近い輝点８１の見かけの大きさは、撮像部５２から遠い輝点８１よりも大きいため、輝点８１の重心が吐出判定枠の外側に位置する場合であっても、輝点８１の一部が吐出判定枠内に位置する可能性が高くなる。その結果、撮像部５２から近い輝点８１は、重心が吐出判定枠外に位置する場合に、撮像部５２から遠い輝点８１に比べて吐出判定枠内に存在すると判定されやすくなる可能性がある。
【００９７】
また、基板処理装置１では、吐出ヘッド３１、光出射部５１および撮像部５２の配置によっては、複数の輝点８１のうち一部の輝点８１が、撮像部５２の合焦範囲８０の外側に位置する。この場合、当該一部の輝点８１は、補正済検査画像８ｃ上においてぼやけて（いわゆる、ピントがぼけて）、合焦範囲８０内の輝点８１に比べて大きく広がる。広がった輝点８１は、その一部が吐出判定枠内に位置する可能性が高くなるため、正常吐出判定枠８５等の吐出判定枠内における輝点８１の存否判定において、他の輝点８１に比べて吐出判定枠内に存在すると判定されやすくなる可能性がある。
【００９８】
そこで、吐出検査部５では、撮像部５２と輝点８１との間の距離、および、合焦範囲８０外の輝点８１のぼやけによる吐出動作の良否判定に対する影響を低減するための調整が、必要に応じて行われる。以下では、当該調整の２通りの方法について説明する。第１の調整方法では、判定枠設定部７４による正常吐出判定枠８５の設定の際に、正常吐出判定枠８５の大きさが調整される。第２の調整方法では、判定部７５による吐出動作の良否判定よりも前に、輝点８１の補正済検査画像８ｃ上における大きさが調整される。
【００９９】
第１の調整方法では、まず、図８に示す各正常吐出判定枠８５に対応する輝点基準位置と、撮像部５２の撮像軸Ｊ２の始点との間の距離である検査距離が求められる。続いて、検査距離が大きくなるに従って正常吐出判定枠８５が小さくなるように、正常吐出判定枠８５の大きさが調整される。具体的には、各正常吐出判定枠８５の検査距離が大きくなるに従って小さくなる検査距離の所定の関数を枠縮小率とし、各正常吐出判定枠８５の中心位置（すなわち、輝点基準位置）を変更することなく、各正常吐出判定枠８５の４つの辺の長さにそれぞれ枠縮小率を乗算することにより、図１２に示すように、各正常吐出判定枠８５の大きさがが調整される。図１２では、正常吐出判定枠８５以外の吐出判定枠の図示を省略する（図１３ないし図１５においても同様）。
【０１００】
次に、各正常吐出判定枠８５の大きさが、撮像部５２の合焦距離と各正常吐出判定枠８５に対応する検査距離との差（以下、「焦点ずれ量」という。）が大きくなるに従って小さくなるようにさらに調整される。具体的には、焦点ずれ量が大きくなるに従って大きくなる焦点ずれ量の所定の関数をぼけ量とし、各正常吐出判定枠８５の中心位置を変更することなく、各正常吐出判定枠８５の４つの辺の長さから、ぼけ量をそれぞれ減算することにより、図１３に示すように、各正常吐出判定枠８５が設定される。
【０１０１】
そして、大きさが調整された正常吐出判定枠８５内における輝点８１の存否情報に基づいて、各吐出口３１４ａ〜３１４ｄにおける吐出動作の良否判定が行われる。正常吐出判定枠８５の調整では、上述のように、各正常吐出判定枠８５に対応する検査距離が大きくなるに従って、各正常吐出判定枠８５を小さくする調整が行われる。これにより、撮像部５２と輝点８１との間の距離による吐出動作の良否判定に対する影響を低減することができ、吐出動作の良否判定の精度を向上することができる。
【０１０２】
また、各正常吐出判定枠８５に対応する検査距離と撮像部５２の合焦距離との差である焦点ずれ量が大きくなるに従って、各正常吐出判定枠８５を小さくする調整が行われる。これにより、合焦範囲８０外の輝点８１のぼやけによる吐出動作の良否判定に対する影響を低減することができ、吐出動作の良否判定の精度をさらに向上することができる。
【０１０３】
なお、上述の例では、各正常吐出判定枠８５に対して検査距離に基づく調整、および、焦点ずれ量に基づく調整が行われるが、必ずしも両方の調整を行う必要はなく、必要に応じて、いずれか一方の調整のみが行われてもよい。
【０１０４】
上述の第２の調整方法では、各輝点８１に対応する検査距離が小さくなるに従って各輝点８１が小さくなるように、輝点８１の大きさが補正される。具体的には、検査距離が小さくなるに従って小さくなる検査距離の所定の関数を輝点縮小率とし、各輝点８１の重心位置を変更することなく、各輝点８１を当該輝点縮小率にて縮小することにより、図１４に示すように、各輝点８１の大きさが補正される。続いて、焦点ずれ量が大きくなるに従って各輝点８１が小さくなるように、輝点８１の大きさが補正される。具体的には、焦点ずれ量が大きくなるに従って大きくなる焦点ずれ量の所定の関数を輝点ぼけ量とし、各輝点８１の重心位置を変更することなく、各輝点８１の縦横それぞれの長さから輝点ぼけ量を減算することにより、図１５に示すように、各輝点８１の大きさが補正される。
【０１０５】
そして、大きさが補正された輝点８１の正常吐出判定枠８５内における存否情報（すなわち、補正後の輝点８１の少なくとも一部が存在するか否かを示す情報）に基づいて、各吐出口３１４ａ〜３１４ｄにおける吐出動作の良否判定が行われる。輝点８１の補正では、上述のように、各輝点８１に対応する検査距離が小さくなるに従って、各輝点８１を縮小する補正が行われる。これにより、輝点８１の大部分が正常吐出判定枠８５の外側に位置するにもかかわらず、一部のみが正常吐出判定枠８５内に位置することが抑制または防止される。その結果、撮像部５２と輝点８１との間の距離による吐出動作の良否判定に対する影響を低減することができ、吐出動作の良否判定の精度を向上することができる。
【０１０６】
また、各輝点８１に対応する検査距離と撮像部５２の合焦距離との差である焦点ずれ量が大きくなるに従って、各輝点８１を縮小する補正が行われる。これにより、合焦範囲８０外の輝点８１のぼやけによる吐出動作の良否判定に対する影響を低減するすることができ、吐出動作の良否判定の精度をさらに向上することができる。
【０１０７】
なお、上述の例では、各輝点８１に対して検査距離に基づく補正、および、焦点ずれ量に基づく補正が行われるが、必ずしも両方の補正を行う必要はなく、必要に応じて、いずれか一方の補正のみが行われてもよい。
【０１０８】
基板処理装置１では、光出射部５１から出射される面状光５１０の上下方向の厚さが厚くなると、撮像部５２により取得される検査画像８において、各輝点８１が上下方向（すなわち、処理液の設計上の吐出方向）に大きくなる。光出射部５１からの面状光５１０の厚さは、吐出ヘッド３１から吐出される処理液に照射される領域においておよそ一定であるが、当該領域内であっても、光出射部５１から出射された面状光５１０の吐出方向の厚さが最も小さくなる位置（すなわち、面状光５１０が上下方向に最も絞り込まれた位置であり、以下、「光最薄位置」という。）からの距離が大きくなるに従って僅かずつ増大する。このため、光最薄位置から遠い輝点８１は、光最薄位置に近い輝点８１に比べて、上下方向に大きくなる。その結果、正常吐出判定枠８５等の吐出判定枠内における輝点８１の存否判定において、光最薄位置から遠い輝点８１は、光最薄位置に近い輝点８１に比べて吐出判定枠内に存在すると判定されやすくなる。
【０１０９】
そこで、吐出検査部５では、光最薄位置と輝点８１との間の距離による吐出動作の良否判定に対する影響を低減するための調整が行われる。以下では、当該調整の２通りの方法について説明する。上述の第１および第２の調整方法と区別するために、当該２通りの調整方法をそれぞれ、「第３の調整方法」および「第４の調整方法」という。第３の調整方法では、判定枠設定部７４による正常吐出判定枠８５の設定の際に、正常吐出判定枠８５の大きさが調整される。第４の調整方法では、判定部７５による吐出動作の良否判定よりも前に、補正済検査画像８ｃ上における輝点８１の大きさが補正される。
【０１１０】
第３の調整方法では、光出射部５１の光軸Ｊ１の始点と各正常吐出判定枠８５に対応する輝点基準位置との間の光軸Ｊ１に平行な方向における距離（以下、「照射距離」という。）と、光出射部５１の光軸Ｊ１の始点と光最薄位置との間の光軸Ｊ１に平行な方向における距離（以下、「光最薄距離」という。）との差である判定枠照射距離誤差に基づいて、各正常吐出判定枠８５の上下方向（すなわち、処理液の設計上の吐出方向）の高さが調整される。具体的には、各正常吐出判定枠８５に係る判定枠照射距離誤差が大きくなるに従って、各正常吐出判定枠８５が上下方向に縮小される。これにより、判定枠照射距離誤差による吐出動作の良否判定に対する影響を低減することができ、吐出動作の良否判定の精度を向上することができる。
【０１１１】
第４の調整方法では、各輝点８１の照射距離（すなわち、光出射部５１の光軸Ｊ１の始点と各輝点８１に対応する輝点基準位置との間の光軸Ｊ１に平行な方向における距離）と光最薄距離との差である輝点照射距離誤差に基づいて、各輝点８１の上下方向の高さが調整される。具体的には、各輝点８１に係る輝点照射距離誤差が大きくなるに従って、各輝点８１が上下方向に縮小される。これにより、輝点照射距離誤差による吐出動作の良否判定に対する影響を低減することができ、吐出動作の良否判定の精度を向上することができる。
【０１１２】
上述の４つの調整方法は、適宜組み合わされて実施されてよい。例えば、第１および第３の調整方法が実施されて、正常吐出判定枠８５の大きさが調整されてもよい。あるいは、第２および第４の調整方法が実施されて、輝点８１の大きさが補正されてもよい。また、第１ないし第４の調整方法のうち、２つ以上の調整方法のいずれの組み合わせが実施されてもよい。
【０１１３】
上記説明では、良否判定部７５２による正常吐出判定枠８５等の吐出判定枠内における輝点８１の存否判定において、輝点８１の少なくとも一部が吐出判定枠内に位置すれば、輝点８１が当該吐出判定枠内に存在すると判定されるが、輝点８１の半分以上が吐出判定枠内に位置する場合に、輝点８１が当該吐出判定枠内に存在すると判定されてもよい。
【０１１４】
あるいは、輝点８１の全体が吐出判定枠内に位置する場合のみ、輝点８１が当該吐出判定枠内に存在すると判定されてもよい。この場合、上述の第１の調整方法による正常吐出判定枠８５の調整では、焦点ずれ量が大きくなるに従って、正常吐出判定枠８５の各辺にぼけ量が加算されて正常吐出判定枠８５が拡大される。これにより、合焦範囲８０外の輝点８１のぼやけによる吐出動作の良否判定に対する影響を低減するすることができ、吐出動作の良否判定の精度をさらに向上することができる。また、上述の第３の調整方法による正常吐出判定枠８５の調整では、判定枠照射距離誤差が大きくなるに従って正常吐出判定枠８５が上下方向に拡大される。これにより、判定枠照射距離誤差による吐出動作の良否判定に対する影響を低減することができ、吐出動作の良否判定の精度を向上することができる。
【０１１５】
また、良否判定部７５２では、補正済検査画像８ｃ上において複数の輝点８１のそれぞれの重心が求められ、各正常吐出判定枠８５内における輝点８１の重心の存否が、各正常吐出判定枠８５内における輝点８１の存否情報として取得されてもよい。これにより、例えば、合焦範囲８０の外側に位置する輝点８１のぼやけて広がった部分のみが正常吐出判定枠８５内に位置することにより、輝点８１が正常吐出判定枠８５内に存在すると判定されることが防止される。他の吐出判定枠内における輝点８１の存否判定においても同様である。その結果、複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄにおける吐出動作の良否判定精度を、より向上することができる。当該重心の存否による輝点８１の存否判定は、上述の第１の調整方法や第３の調整方法と共に行われてもよい。ただし、上述の第２の調整方法や第４の調整方法は、重心の存否による輝点８１の存否判定と共には行われない。
【０１１６】
基板処理装置１の検査演算部７３では、正常吐出判定枠８５等の吐出判定枠を利用することなく、吐出動作の検査が行われてもよい。この場合、検査演算部７３から判定枠設定部７４が省略される。吐出判定枠を利用しない検査が行われる際には、まず、上記と同様に、検査画像８が取得され、検査画像８に対して２値化処理が行われた後、判定部７５の位置ずれ補正部７５１により、検査画像８と参照画像７３２とが比較されて上述の画像ずれが求められる。位置ずれ補正部７５１では、求められた画像ずれ量に基づいて、上述のように検査画像８の画像ずれが補正され、補正済検査画像８ｃが生成される。
【０１１７】
続いて、判定部７５の良否判定部７５２により、参照画像７３２と補正済検査画像８ｃとの差分画像８２が、図１６に示すように生成される。具体的には、まず、参照画像７３２の各画素の画素値から、補正済検査画像８ｃにおいて対応する画素の画素値を減算する。参照画像７３２および補正済検査画像８ｃでは、各輝点に含まれる画素の画素値はプラスであり、背景に含まれる画素の画素値はゼロである。したがって、参照画像７３２の輝点と補正済検査画像８ｃの輝点８１とが重なる位置では、参照画像７３２の画素値から検査画像８の画素値を減算した値である差分値はゼロとなる。また、参照画像７３２の背景と補正済検査画像８ｃの背景とが重なる位置においても、差分値はゼロとなる。一方、参照画像７３２の輝点は存在するが補正済検査画像８ｃの輝点８１は存在しない位置では、差分値はプラスとなる。検査画像８の輝点８１は存在するが参照画像７３２の輝点は存在しない位置では、差分値はマイナスとなる。
【０１１８】
良否判定部７５２では、差分値がマイナスの画素の階調値を最も暗いゼロとし、差分値がゼロの画素の階調値を中間の明るさの１２７とし、差分値がプラスの画素の階調値を最も明るい２５５として、差分画像８２が生成される。図１６では、階調値が２５５の画素の集合である第１領域８２１については輪郭のみを図示する。また、階調値が１２７の画素の集合である第２領域８２２には平行斜線を付す。階調値がゼロの画素の集合である第３領域８２３は塗りつぶして示す。
【０１１９】
次に、良否判定部７５２により、差分画像８２から第１領域８２１および第３領域８２３が抽出される。図１６では、差分画像８２の左側の領域には、１つの第１領域８２１と、当該第１領域８２１に近接する１つの第３領域８２３とが存在する。また、参照画像７３２の右側の領域には、１つの第１領域８２１が存在する。
【０１２０】
左側の１つの第１領域８２１は、参照画像７３２上の１つの輝点に対応し、補正済検査画像８ｃ上には当該輝点に対応する位置に輝点８１が存在しないことを示す。また、当該第１領域８２１に近接する１つの第３領域８２３は、検査画像８上の１つの輝点８１に対応し、参照画像７３２上には、当該輝点８１に対応する位置に輝点が存在しないことを示す。したがって、良否判定部７５２では、第１領域８２１に対応する吐出口において、設計上の吐出方向に処理液の吐出が行われず、第３領域８２３に向かう方向へと処理液が吐出されていると判定される。
【０１２１】
良否判定部７５２では、第１領域８２１と第３領域８２３との間の距離（例えば、重心間の距離）が求められる。当該距離は、補正済検査画像８ｃ上において第３領域８２３に対応する１つの輝点８１と、参照画像７３２上において当該１つの輝点８１に対応する輝点との間の距離である。そして、当該距離が所定の距離よりも大きい場合、上記１つの輝点８１に対応する吐出口において、斜め吐出の吐出不良が生じていると判定される。吐出不良の発生は、報知部７９（図４参照）を通じて作業者等に通知される。一方、上記距離が所定の距離以下の場合、上記１つの輝点８１に対応する吐出口からの処理液は、設計上の吐出方向から許容範囲内のずれ量で僅かにずれた方向へと吐出されていると判定される。このとき、報知部７９を通じての作業者等への通知は行われない。
【０１２２】
差分画像８２上の右側の１つの第１領域８２１も、参照画像７３２上の１つの輝点に対応し、補正済検査画像８ｃ上には当該輝点に対応する位置に輝点８１が存在しないことを示す。当該第１領域８２１の近傍には第３領域８２３が存在しないため、良否判定部７５２では、第１領域８２１に対応する吐出口において、処理液が吐出されない不吐出の吐出不良が生じていると判定される。吐出不良の発生は、報知部７９（図４参照）を通じて作業者等に通知される。
【０１２３】
以上のように、判定部７５の良否判定部７５２では、参照画像７３２と補正済検査画像８ｃとの差に基づいて、複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄのそれぞれにおける吐出動作の良否が判定される。これにより、吐出動作の良否判定を簡素化することができる。また、良否判定部７５２では、検査画像８の画像ずれを補正した後に、上述の複数の正常吐出判定枠８５等が設定され、あるいは、上述の参照画像７３２と検査画像８との差が求められ、吐出動作の良否判定が行われる。これにより、検査領域における吐出ヘッド３１の設計検査位置からの位置ずれを補正し、複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄにおける吐出動作の検査精度を向上することができる。
【０１２４】
検査画像８の画像ずれの補正は、検査画像８を画像データ処理により補正することによって行ってもよく、吐出ヘッド３１を設計検査位置に位置させた上で複数の輝点８１を再撮影し再取得検査画像を取得することにより行ってもよい。
【０１２５】
上記基板処理装置１では、様々な変更が可能である。
【０１２６】
上述の吐出検査部５では、判定枠設定部７４により補正済検査画像８ｃに吐出判定枠が設定される場合、正常吐出判定枠８５は必ず設定されるが、正常吐出判定枠８５以外の吐出判定枠は必ずしも設定される必要はない。吐出検査部５では、参照画像７３２および検査画像８に基づいて画像ずれの補正が行われた後に行われる吐出動作の良否判定は、必ずしも、上述の正常吐出判定枠８５や差分画像８２を利用するものには限定されず、様々な方法により行われてよい。
【０１２７】
上記説明では、処理液の不吐出および斜め吐出が良否判定部７５２により吐出不良と判定されるが、他の吐出動作も吐出不良と判定されてよい。例えば、吐出ヘッド３１から吐出された液滴が飛翔中に分裂して複数の極小液滴になる可能性がある。このような極小液滴は、基板９の上面９１に十分な運動エネルギーを付与することができず、基板９を適切に洗浄できない可能性がある。したがって、このような極小液滴の吐出も、吐出口の吐出不良と判定されてもよい。極小液滴の吐出を吐出不良と判定する場合は、例えば、検査画像８において、正常吐出判定枠８５内に１つの輝点８１が検出されるケースを正常吐出と判定し、正常吐出判定枠８５内に複数の輝点８１が検出されるケースを吐出不良と判定する。あるいは、差分画像８２において、通常よりも小さい第３領域８２３が第１領域８２１の近傍に検出されるケースを吐出不良と判定する。
【０１２８】
光出射部５１では、必ずしも面状に光が出射される必要はなく、光存在面に沿って光出射部５１から前方に直線状に延びる光が出射され、当該光が光存在面に沿ってポリゴンミラー等の光走査手段により走査されてもよい。これにより、複数の吐出口３１４ａ〜３１４ｄから吐出された処理液である複数の飛翔体が光存在面を通過する際に、当該複数の飛翔体に光が照射される。また、光存在面は、吐出ヘッド３１からの処理液の設計上の吐出方向に垂直であってもよく、撮像部５２における撮像方向は、当該設計上の吐出方向に垂直な平面に平行であってもよい。
【０１２９】
光出射部５１および撮像部５２は、吐出ヘッド３１の斜め下方以外の位置、例えば、吐出ヘッド３１の斜め上方に配置されてもよい。上述の検査領域は、待機ポッド４の上方以外の領域に設定されてもよい。この場合、光出射部５１および撮像部５２は、当該検査領域の近傍に配置される。
【０１３０】
吐出ヘッド３１の複数の吐出口は、必ずしも、互いに平行に並ぶ複数の吐出口列を含む必要はない。また、吐出ヘッド３１を基板９の上方と検査領域との間にて移動するヘッド移動機構は、必ずしも、吐出ヘッド３１を回転移動させる機構である必要はなく、例えば、吐出ヘッド３１を直線移動する機構であってもよい。
【０１３１】
基板処理装置１は、基板９の洗浄以外の様々な処理に利用されてよい。また、基板処理装置１では、半導体基板以外に、液晶表示装置、プラズマディスプレイ、ＦＥＤ（field emission display）等の表示装置に使用されるガラス基板の処理に利用されてもよい。あるいは、基板処理装置１は、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板および太陽電池用基板等の処理に利用されてもよい。
【０１３２】
上述の光出射部５１、撮像部５２、参照画像記憶部７３１および判定部７５を備える装置は、基板処理装置１の他の構成から独立する吐出検査装置として使用されてもよい。当該吐出検査装置は、例えば、上述の様々な基板に対して複数の吐出口から液体を吐出する装置において、複数の吐出口からの液体の吐出動作の検査に利用される。
【０１３３】
上記実施の形態および各変形例における構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わされてよい。
【符号の説明】
【０１３４】
１    基板処理装置
８，８ｃ    検査画像
９    基板
２１    基板保持部
３１    吐出ヘッド
３５    ヘッド移動機構
５１    光出射部
５２    撮像部
７５    判定部
８１    輝点
８２    差分画像
８５    正常吐出判定枠
３１３ａ〜３１３ｄ    吐出口列
３１４ａ〜３１４ｄ    吐出口
３５２    回転軸
５１０    面状光
７３１    参照画像記憶部
７３２    参照画像
７５１    位置ずれ補正部
７５２    良否判定部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０．Ａ】
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【図１０．Ｂ】
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【図１０．Ｃ】
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【図１０．Ｄ】
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【図１０．Ｅ】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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