(57)【要約】【課題】簡素な構造で被処理水の処理効率を向上させること。【解決手段】被処理水を処理する水処理装置（２０）であって、被処理水が存在する管部（３０）と、気泡を管部（３０）に供給する気泡供給手段（４０）と、気泡に放電反応を生じさせる放電手段（５０）と、を備え、管部（３０）内にて被処理水に対して気泡が相対的に移動すること。【選択図】図２
2015054277.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理水を処理する水処理装置であって、
前記被処理水が存在する管部と、
気泡を前記管部内に供給する気泡供給手段と、
前記気泡に放電反応を生じさせる放電手段と、を備え、
前記管部内にて前記被処理水に対して前記気泡が相対的に移動する、水処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の水処理装置において、
前記管部は、幅狭部と、前記幅狭部よりも幅が大きい幅広部とを有し、
前記気泡供給手段は、前記幅広部に接続されている水処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の水処理装置において、
前記放電手段は、一対の電極と、前記一対の電極間に印加する電源とを有し、
前記気泡供給手段が、
前記一対の電極の間の間隙を含み、前記管部に接続される通路と、
前記通路に配置され、前記管部から前記一対の電極間へ前記被処理水が流入するのを阻止する弁と、
を備える、水処理装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の水処理装置において、
前記気泡供給手段は、前記気泡を前記管部に供給する複数の気泡供給ユニットを有し、
前記放電手段は、前記複数の気泡供給ユニットから供給される前記気泡に前記放電反応を生じさせる複数の放電ユニットを有する、水処理装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の水処理装置において、
前記管部の少なくとも内表面が前記放電反応により前記気泡に生じるヒドロキシラジカルの酸化エネルギーよりも大きな結合解離エネルギーを有する物質にて形成される、水処理装置。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかに記載の水処理装置であって、
前記管部がバラスト水を貯留するタンクに接続された配管に設けられ、前記配管内を流れるバラスト水を処理するために用いられる水処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、各種水を処理するための水処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、酸素に放電反応を生じさせ、当該反応で生じたオゾンによってバラスト水等の被処理水を処理する水処理装置が知られている。このような水処理装置では、被処理水の処理効率を向上ないし安定化させるために様々な開発が行われている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、被処理水が流れるインラインミキサーと、インラインミキサーに流入した被処理水を旋回流とするための翼板と、酸素に放電反応を生じさせることによりオゾンを発生させるオゾン発生装置と、インラインミキサーの内面に設けられたきのこ型突起物とを備える水処理装置が開示されている。きのこ型突起物は、インラインミキサーのうち翼板よりも下流側に設けられている。オゾン発生装置で生成されたオゾンは、翼板によって形成された旋回流中に供給される。そうすると、オゾン（気泡）は旋回流によってインラインミキサーの内面に向かい、きのこ型突起物に衝突して破裂する。このとき、キャビテーション衝撃波が発生する。この衝撃波によって被処理水の処理（被処理水の殺菌や微生物の殺滅等）が効率よく行われる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２００６／１３７１２１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１の水処理装置では、衝撃波の利用により、被処理水の処理効率の向上ないし安定化が図られている。しかし、衝撃波を発生させるためには、被処理水に旋回流を形成するための翼板に加え、オゾンの気泡を破裂させるためのきのこ型突起物が必要であり、装置の構造の複雑化を回避することが困難である。
【０００６】
本発明の目的は、簡素な構造で被処理水の処理効率を向上させることである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決するための手段として、本発明は、被処理水を処理する水処理装置であって、前記被処理水が存在する管部と、気泡を前記管部内に供給する気泡供給手段と、前記気泡に放電反応を生じさせる放電手段と、を備え、前記管部内にて前記被処理水に対して前記気泡が相対的に移動する、水処理装置を提供する。
【０００８】
本発明では、被処理水中に供給される気泡に放電反応が生じることによって生成されるヒドロキシラジカル（・ＯＨ）のうち前記気泡の表面に存在するものが被処理水と接触することによって当該被処理水が処理される。そして、本発明では、管部内にて被処理水に対して気泡が相対的に移動することから、被処理水は気泡の全表面に確実に接触するので、被処理水が気泡の表面のヒドロキシラジカルによって効果的に処理される。よって、本発明によれば、簡単な構造で被処理水の処理効率の向上ないし安定化が達成される。
【０００９】
この場合において、前記管部は、幅狭部と、前記幅狭部よりも幅が大きい幅広部とを有し、前記気泡供給手段は、前記幅広部に接続されていることが好ましい。
【００１０】
幅狭部を設けることにより、効率よく被処理水と気泡とを接触させることができる。気泡供給手段を幅広部に設けることにより、気泡供給手段の設置スペースを確保することができる。
【００１１】
また、本発明において、前記放電手段は、一対の電極と、前記一対の電極間に印加する電源とを有し、前記気泡供給手段が、前記一対の電極の間の間隙を含み、前記管部に接続される通路と、前記通路に配置され、前記管部から前記一対の電極間へ前記被処理水が流入するのを阻止する弁と、を備えることが好ましい。
【００１２】
このようにすれば、管部から一対の電極間への被処理水の流入が防止されるので、当該一対の電極間に被処理水が浸入することに起因する放電効率の低下が防止される。
【００１３】
また、本発明において、前記気泡供給手段は、前記気泡を前記管部に供給する複数の気泡供給ユニットを有し、前記放電手段は、前記複数の気泡供給ユニットから供給される前記気泡に前記放電反応を生じさせる複数の放電ユニットを有することが好ましい。
【００１４】
このようにすれば、被処理水の処理効率がさらに向上する。
【００１５】
また、本発明において、前記管部の少なくとも内表面が前記放電反応により前記気泡に生じるヒドロキシラジカルの酸化エネルギーよりも大きな結合解離エネルギーを有する物質にて形成されることが好ましい。
【００１６】
このようにすれば、ヒドロキシラジカルが管部の内面と反応しないので、換言すれば、ヒドロキシラジカルの酸化エネルギーが管部の内面の酸化に利用されることなく被処理水の処理に利用されるので、管部の内面の腐食ないし劣化の抑制と被処理水の処理効率の向上との双方が達成される。
【００１７】
また、本発明において、前記管部がバラスト水を貯留するタンクに接続された配管に設けられ、前記配管内を流れるバラスト水を処理するために用いられることが好ましい。
【００１８】
本発明によれば、バラスト水をタンクに貯留、またはタンクから排出するための配管を有効利用することにより、すなわち、前記水処理装置の管部を配管に接続するだけで、バラスト水をタンクに貯留するとき、及びバラスト水をタンクから排出するときの双方においてバラスト水が効果的に処理される。
【発明の効果】
【００１９】
以上のように、本発明によれば、簡素な構造で被処理水の処理効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の第一実施形態のバラスト水処理装置の構成の概略を示す図である。
【図２】本発明の第一実施形態の水処理装置の構成の概略を示す図である。
【図３】図１のバラスト水処理装置の駆動動作を示すフローチャートである。
【図４】図２の水処理装置の変形例を示す図である。
【図５】図２の水処理装置の変形例を示す図である。
【図６】本発明の第二実施形態の水処理装置の構成の概略を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
（第一実施形態）
図１には、本発明の第一実施形態の水処理装置２０を備えるバラスト水処理装置１０が示されている。バラスト水処理装置１０は、被処理水を貯留するタンク１２と、タンク１２に接続された配管１４と、配管１４に設けられたポンプ１６と、配管１４に接続された複数の水処理装置２０とを備えている。
【００２２】
タンク１２は、被処理水を貯留するものであり、船舶（図示略）の底部に配置される。
【００２３】
配管１４は、その一端がタンク１２に接続されており、そこから船舶の外側、すなわち海側に向かって延びている。
【００２４】
ポンプ１６は、タンク１２内に被処理水（バラスト水）を送り込み、また、タンク１２内の被処理水を船舶外へ送出する。
【００２５】
本バラスト水処理装置１０では、タンク１２に被処理水が送り込まれるとき、および、タンク１２から被処理水が排出されるときの双方において、各水処理装置２０で被処理水（本実施形態ではバラスト水）中の殺菌や、被処理水中の微生物等の殺滅などがわれる。
【００２６】
本実施形態の水処理装置２０の具体的な構造について、図２を参照しながら説明する。
【００２７】
水処理装置２０は、被処理水が存在する管部３０と、酸素を含有する気泡を管部３０内に供給する気泡供給手段を構成する気泡供給ユニット４０と、気泡に放電反応を生じさせる放電手段を構成する放電ユニット５０とを備えている。なお、図２では、被処理水は、管部３０内を上流側（図２の右側）から下流側（図２の左側）に向かって流れている。
【００２８】
管部３０は、円筒状であり、その両端が配管１４に接続されている。管部３０は、相対的に小さな内径を有する円筒状の幅狭部３２と、相対的に大きな内径を有する円筒状の幅広部３４とを有している。幅広部３４と幅狭部３２とは、テーパ部３４ａを介してつながっている。幅広部３４は、幅狭部３２の上流側に設けられている。本実施形態では、タンク１２に被処理水であるバラスト水が貯留されるときとタンク１２から被処理水を排出されるときとで、管部３０内の被処理水の流れが逆向きになることから、幅広部３４の両側（上流側及び下流側の双方）にテーパ部３４ａを介して幅狭部３２が設けられている。
【００２９】
気泡供給ユニット４０は、管部３０内に気泡を供給するため供給管４２と、供給管４２に設けられたポンプ４４と、供給管４２に設けられた開閉弁４６とを有している。
【００３０】
供給管４２は、絶縁材料からなる。供給管４２の一端は、幅広部３４に接続されている。つまり、供給管４２内に形成された通路を通って管部３０（幅広部３４）内に気泡Ｂが供給される。
【００３１】
ポンプ４４は、酸素を含有する気体（例えば空気）を通路を通じて管部３０内に送り込む。
【００３２】
開閉弁４６は、供給管４２のうち当該供給管４２と幅広部３４とが接続されている側の端部の近傍に設けられている。開閉弁４６は、開弁時に気体の通過を許容する一方で閉弁時に被処理水の通過を阻止する。
【００３３】
本実施形態では、幅狭部３２の内径よりも大きく、かつ、幅広部３４の内径よりも小さな径の気泡Ｂが幅広部３４に供給されるように、気泡供給ユニット４０によって被処理水中に供給される気体の流量が制御される。
【００３４】
放電ユニット５０は、一対の電極５２と、電源５４とを有する。
【００３５】
一対の電極５２は、互いに離間した状態で対向する棒状ないし板状の対向電極からなる。一対の電極５２は、前記通路を挟んだ供給管４２の内周面に固定されている。このため、ポンプ４４から一対の電極５２間を通って管部３０内に気泡が供給される。本実施形態では、一対の電極５２は、供給管４２のうち開閉弁４６が設けられている部位よりも気体の流れにおける上流側（図２の上側）に固定されている。なお、一対の電極５２は、一方が円筒状の電極であり、他方が筒状の電極内に当該筒状の電極から離間する状態で配置された棒状の電極であってもよい。この場合、筒状の電極が供給管４２の内周面に固定される。
【００３６】
電源５４は、一対の電極５２間に供給される気体にプラズマ放電反応を生じさせる直流電圧を、配線を介して当該一対の電極５２に印加する。なお、一対の電極５２に印加される電圧は、パルス電圧であってもよい。
【００３７】
図２に示されるように、本実施形態の水処理装置２０は、第一センサ６２と、第二センサ６４と、制御部６６とをさらに備えている。
【００３８】
第一センサ６２は、供給管４２のうちの開閉弁４６が設けられた部位よりも上流側（一対の電極５２が設けられている側）の管内の圧力、すなわち、気体の圧力を検知するセンサである。
【００３９】
第二センサ６４は、管部３０内の圧力、すなわち、被処理水の圧力を検知するセンサである。
【００４０】
制御部６６は、各センサ６２，６４の検出値に応じて開閉弁４６の開閉を制御する。具体的に、図３を参照しながら、制御部６６の制御内容を含めた本バラスト水処理装置１０の駆動動作を被処理水を処理するメカニズムと合わせて説明する。以下、初めに、タンク１２に被処理水を貯留するときについて説明する。
【００４１】
まず、開閉弁４６を閉じた状態とする（ステップＳＴ１０）。
【００４２】
そして、ポンプ４４によって一対の電極５２間に酸素を含有する気体を供給する（ステップＳＴ１１）。この状態で一対の電極５２間に電圧を印加する（ステップＳＴ１２）。そうすると、一対の電極５２間の気体にプラズマ放電反応が生じる。具体的には、気体に含まれる酸素が電子（ｅ）の供給を受け、以下の反応式（１）のように反応して酸素ラジカル（・Ｏ）が生成される。
【００４３】
Ｏ２＋２ｅ→２・Ｏ＋２ｅ・・・（１）
なお、ステップＳＴ１１及びステップＳＴ１２は、上記と逆の順で実行されても、あるいは、同時に実行されてもよい。
【００４４】
その後、ポンプ１６を駆動し（ステップＳＴ１３）、配管１４を通じてタンク１２へ被処理水（バラスト水）を送り込む。
【００４５】
この状態において、制御部６６は、第一センサ６２の値が第二センサ６４の値よりも大きいか否かを判断する（ステップＳＴ１４）。その結果、第一センサ６２の値が第二センサ６４の値よりも大きければ、開閉弁４６を開く（ステップＳＴ１５）。
【００４６】
そうすると、酸素ラジカルを含んだ気泡Ｂが幅広部３４内に供給される。このとき、酸素ラジカルは、以下の反応式（２）に示すように、被処理水の水分（Ｈ２Ｏ）と反応してヒドロキシラジカル（・ＯＨ）を発生させる。
【００４７】
・Ｏ＋Ｈ２Ｏ→２・ＯＨ・・・（２）
上記反応式（２）の反応により生成されたヒドロキシラジカルは、活性酸素と呼ばれる分子種のうちで最も反応性が高く、最も強い酸化力を有しているため、殺菌及び微生物等の殺滅に非常に高い効力を発揮する。このヒドロキシラジカルは、気泡Ｂの表面にも存在する。つまり、気泡Ｂの表面に存在するヒドロキシラジカルが被処理水と接触することにより、当該被処理水が処理される。
【００４８】
この気泡Ｂは、被処理水中を下流側（幅広部３４から幅狭部３２側）に移動する。具体的には、気泡Ｂは、被処理水の流速よりも遅い速度で、換言すれば、被処理水が各気泡Ｂを追い越しながらタンク１２へ向かう。
【００４９】
このとき、幅広部３４に供給される気泡Ｂの径は幅狭部３２の内径よりも大きいことから、すなわち、気泡Ｂは幅狭部３２内を塞ぐ程度の大きさであることから、幅狭部３２では、被処理水は気泡Ｂを追い越すときに当該気泡Ｂの全表面に確実に接触する。よって、被処理水は気泡Ｂの表面のヒドロキシラジカルによって効果的に処理される。
【００５０】
その後、第一センサ６２の値が第二センサ６４の値よりも小さくなれば、制御部６６は開閉弁４６を閉じる（ステップＳＴ１６）。このようにすれば、被処理水が管部３０から供給管４２内へ流入して一対の電極５２間へ至ることが防止される。よって、放電ユニット５０への不具合の発生が防止される。具体的には、一対の電極５２間に被処理水が流入することによって一対の電極５２間のインピーダンスが高くなり、当該一対の電極５２間を通過する気体にプラズマ放電反応が生じにくくなることや、一対の電極５２が被処理水（バラスト水）に浸ることによって当該一対の電極５２が腐食すること等が防止される。
【００５１】
タンク１２に被処理水（バラスト水）を貯留するときとタンク１２から被処理水を排出するときとでは、管部３０内の被処理水の流れる向きが互いに反対方向であること以外は上記と同じであるので、タンク１２から被処理水を排出するときについては説明を省略する。
【００５２】
なお、上記反応式（１）の放電反応時には、紫外線も発生する。また、反応式（１）で示される反応時に生成された酸素ラジカルが周囲の酸素と反応することによってオゾン（Ｏ３）が生成される。さらに、例えば、酸素ラジカルと水とが反応することによって過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）が生成されることもある。これらはいずれも、殺菌効果及び微生物等の殺滅効果を有する。よって、被処理水は、ヒドロキシラジカルに加え、紫外線、オゾン及び過酸化水素によっても処理される。
【００５３】
ここで、図４に示されるように、管部３０の少なくとも内表面３０ａは、気泡Ｂの表面に存在するヒドロキシラジカルの酸化エネルギー（１２０．６ｋｃａｌ／ｍｏｌ）よりも大きな結合解離エネルギーを有する物質にて形成されることが好ましい。このような物質としては、例えば酸化チタン（ＴｉＯ２）や酸化ケイ素（ＳｉＯ２）が挙げられる。酸化チタンの結合解離エネルギーは１４５ｋｃａｌ／ｍｏｌであり、酸化ケイ素のそれは１５０ｋｃａｌ／ｍｏｌである。なお、管部３０自体を上記物質で構成してもよいし、溶射やコーティングにより管部３０の内周面に上記物質からなる被覆層を設け、この被覆層が内表面３０ａを構成するようにしてもよい。
【００５４】
このようにすれば、ヒドロキシラジカルが管部３０の内面を構成する物質と反応しない。換言すれば、ヒドロキシラジカルの酸化エネルギーが管部３０の内面を構成する物質の酸化に利用されることなく被処理水の処理に利用される。このため、管部３０の内面の腐食ないし劣化の抑制と被処理水の処理効率の向上との双方が達成される。
【００５５】
なお、供給管４２のうち開閉弁４６が設けられた部位よりも下流側の内表面（被処理水が接触する面）も、上記物質で形成されることが好ましい。このことは、以下の実施形態についても同様である。
【００５６】
また、本実施形態では、気泡供給手段が単一の気泡供給ユニット４０から構成され、放電手段が単一の放電ユニット５０から構成された例が示されているが、これに限られない。例えば、図５に示されるように、気泡供給手段が複数の（図５では４つの）気泡供給ユニット４０ａ〜４０ｄから構成されており、放電手段が複数の（図５では４つの）放電ユニット５０から構成されていてもよい。各放電ユニット５０の構成は、上記と同様であるので、その説明を省略する。
【００５７】
この態様では、複数の気泡供給ユニット４０ａ〜４０ｄは、第一気泡供給ユニット４０ａ〜第四気泡供給ユニット４０ｄから構成される。各気泡供給ユニット４０ａ〜４０ｄは、供給管４２と、ポンプ４４と、供給管４２に設けられたバルブ４３とを有している。なお、図５では、開閉弁４６、第一センサ６２、第二センサ６４及び制御部６６が省略され、一対の電極５２が供給管４２の内周面のうち当該供給管４２と幅広部３４とが接続されている側の端部に固定された例が示されている。
【００５８】
第一気泡供給ユニット４０ａの供給管４２は、幅広部３４の所定の部位に接続されている。第二気泡供給ユニット４０ｂの供給管４２は、第一気泡供給ユニット４０ａの供給管４２と幅広部３４の軸方向、換言すれば、幅広部３４の延びる方向に離間した状態で当該幅広部３４に接続されている。第三気泡供給ユニット４０ｃの供給管４２は、第一気泡供給ユニット４０ａの供給管４２と幅広部３４の周方向に離間、換言すれば、幅広部３４の延びる方向に垂直な面内にて離間した状態で当該幅広部３４に接続されている。第四気泡供給ユニット４０ｄの供給管４２は、第一気泡供給ユニット４０ａの供給管４２と幅広部３４の軸方向および周方向に離間した状態で当該幅広部３４に接続されている。
【００５９】
バルブ４３は、ポンプ４４から送出された気体の流量が所定値に達したときに開くように構成されている。なお、バルブ４３の開閉は、当該バルブ４３の開閉を制御可能なコントローラ４８によって行われてもよい。コントローラ４８は、各バルブ４３に接続されている。
【００６０】
本実施形態では、各気泡供給ユニット４０から幅広部３４に供給されたそれぞれの気泡Ｂが互いに離間しながら順次幅狭部３２に導入されるように、各気泡供給ユニット４０から管部３０に気泡Ｂを供給する間隔、すなわち、各バルブ４３の開くタイミングが設定されている。例えば、被処理水の流れる方向（幅広部３４の軸方向）と直交する方向について互いに対向する一対の気泡供給ユニット４０からは、交互に気泡Ｂが供給され、幅広部３４の軸方向に互いに離間する一対の気泡供給ユニット４０からは、互いの軸方向の間隔や被処理水の流速等を踏まえて各気泡Ｂが合体することなく離間した状態が維持されるタイミングで気泡Ｂが供給される。
【００６１】
なお、第一気泡供給ユニット４０ａ〜第四気泡供給ユニット４０ｄのうちいずれか一つ、あるいはいずれか二つは省略されてもよい。
【００６２】
このようにすれば、各気泡Ｂが互いに離間した状態で、すなわち、複数の気泡Ｂが合体してその表面積を減少させることなく気泡Ｂと被処理水との接触面積が十分に確保された状態で各気泡Ｂが順次幅狭部３２に導入されるので、単一の気泡供給ユニット４０のみで気泡Ｂを供給する場合に比べて幅狭部３２での気泡Ｂ間の間隔が狭まる。よって、幅狭部３２での被処理水の処理効率が向上する。
【００６３】
（第二実施形態）
本発明の第二実施形態の水処理装置２０について、図６を参照しながら説明する。なお、この第二実施形態では、第一実施形態と異なる部分についてのみ説明を行い、第一実施形態と同じ構造、作用及び効果の説明は省略する。
【００６４】
第二実施形態では、管部３０は、その軸方向が鉛直方向と平行となる姿勢で配置されている。管部３０は、幅狭部３２と、その軸方向と直交する方向の断面積が幅狭部３２のそれよりも大きな幅広部３４と、幅狭部３２と幅広部３４とを接続するテーパ部３４ａとを有している。管部３０は、幅広部３４が下方に位置し、当該幅広部３４の上方に幅狭部３２が位置する姿勢で配置されている。幅広部３４は、円筒状の周壁３４ｂを有し、この周壁３４ｂの下端は、当該周壁３４ｂの軸方向と直交する底壁３４ｃにより塞がれている。つまり、管部３０は、幅狭部３２の上部３２ａ（幅広部３４とつながっている側と反対側の端部）が外部に開放された形状を呈する。
【００６５】
本実施形態では、気泡供給ユニット４０により供給された気泡Ｂは、自身に作用する浮力によって幅狭部３２内に留まっている被処理水中を上昇する。なお、被処理水の比重の方が気泡Ｂの比重よりも大きいため、幅狭部３２内の被処理水は気泡Ｂによって幅狭部３２の上部３２ａまで運ばれることはなく、上昇する気泡Ｂの周囲と幅狭部３２の内周面との間を通って相対的に下方へ流れる。
【００６６】
よって、本実施形態においても、幅狭部３２では、被処理水は気泡Ｂの全表面に確実に接触するので、被処理水が気泡Ｂの表面のヒドロキシラジカルによって効果的に処理される。
【００６７】
本実施形態の水処理装置２０は、第一実施形態のようにバラスト水処理装置１０に適用されることも可能であるが、管部３０内に貯留された一定量の被処理水のバッチ処理に特に適している。この場合、タンク１２、配管１４及びポンプ１６は省略される。
【００６８】
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。
【００６９】
例えば、上記各実施形態では、水処理装置２０がバラスト水を処理する例が示されたが、水処理装置２０は、バラスト水以外に種々の被処理水を処理することが可能である。例えば、被処理水としては、各種工場や事業所での排水、上下水の処理場の水、飲料水等が挙げられる。
【００７０】
また、開閉弁４６は、一対の電極５２間を通過した気体の管部３０への通過を許容するとともに管部３０から一対の電極５２間への被処理水の流入を阻止する逆止弁であってもよい。この場合、各センサ６２，６４及び制御部６６は省略される。気泡供給ユニット４０の数は５以上でもよい。管部３０の幅狭部および幅広部は必ずしも円筒状である必要はない。第一実施形態では、水処理装置２０の管部３０が配管１４の内部に設けられてもよい。また、水処理装置２０はタンク１２内に設けられてよい。
【符号の説明】
【００７１】
１０    バラスト水処理装置
１２    タンク
１４    配管
１６    ポンプ
２０    水処理装置
３０    管部
３０ａ  内表面
３２    幅狭部
３４    幅広部
４０    気泡供給ユニット（気泡供給手段）
４２    供給管
４３    バルブ
４４    ポンプ
４６    開閉弁
５０    放電ユニット（放電手段）
５２    一対の電極
５４    電源
６２    第一センサ
６４    第二センサ
６６    制御部
Ｂ      気泡
【図１】
2015054277.tif 000003
【図２】
2015054277.tif 000004
【図３】
2015054277.tif 000005
【図４】
2015054277.tif 000006
【図５】
2015054277.tif 000007
【図６】
2015054277.tif 000008