(57)【要約】【課題】蛍光体層の柱状構造からの光の漏れ出しを効果的に抑制することができる放射線像変換パネルの製造方法及び放射線像変換パネルを提供する。【解決手段】放射線の露光により発光する蛍光物質を含む蛍光体層１２を備える本発明の放射線像変換パネル１の製造方法は、基材１１の一方の面に蛍光物質を柱状に夫々形成して一群の柱状構造１２ａで構成される蛍光体層を得る工程を含み、柱状構造の外表面を、互いに隣り合う柱状構造間に隙間１２ｂを残して所定波長の光を反射する反射膜１４で夫々覆う反射膜形成工程を更に含み、上記隙間の屈折率が前記柱状構造の屈折率より低い場合、反射膜が、前記柱状構造の屈折率より高い屈折率の無機材料で構成される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線の露光により発光する蛍光物質を含む蛍光体層を備える放射線像変換パネルの製造方法であって、基材の一方の面に蛍光物質を柱状に夫々形成して一群の柱状構造で構成される蛍光体層を得る工程を含むものにおいて、
柱状構造の外表面を、互いに隣り合う柱状構造間に隙間を残して所定波長の光を反射する反射膜で夫々覆う反射膜形成工程を更に含み、前記隙間の屈折率が前記柱状構造の屈折率より低い場合、反射膜が、前記柱状構造の屈折率より高い屈折率の無機材料で構成されることを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の放射線像変換パネルの製造方法であって、前記柱状構造が潮解性を有するものにおいて、
前記反射膜形成工程に先立ち、柱状構造の外表面を防湿膜で覆う防湿膜形成工程を更に有し、防湿膜が、前記反射膜の屈折率より低い屈折率の無機材料で構成されることを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
【請求項３】
放射線の露光により発光する蛍光物質を含む蛍光体層を備える放射線像変換パネルの製造方法であって、基材の一方の面に蛍光物質を柱状に夫々形成して一群の柱状構造で構成される蛍光体層を得る工程を含むものにおいて、
柱状構造の外表面を、互いに隣り合う柱状構造間に隙間を残して所定波長の光を反射する反射膜で夫々覆う反射膜形成工程を更に含み、前記隙間の屈折率が前記柱状構造の屈折率より高い場合、反射膜が、前記柱状構造の屈折率より低い屈折率の無機材料で構成されることを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
【請求項４】
前記隙間に前記柱状構造よりも高い屈折率の反射材を充填する工程を更に含むことを特徴とする請求項３記載の放射線像変換パネルの製造方法。
【請求項５】
請求項３又は４記載の放射線像変換パネルの製造方法であって、前記柱状構造が潮解性を有するものにおいて、
前記反射膜形成工程に先立ち、柱状構造の外表面を防湿膜で覆う防湿膜形成工程を更に有し、防湿膜が、前記反射膜の屈折率より高い屈折率の無機材料で構成されることを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
【請求項６】
前記反射膜形成工程にて、原子層堆積法によって前記反射膜を形成することを特徴とする請求項１〜５の何れか１項記載の放射線像変換パネルの製造方法。
【請求項７】
基材と、基材の一方の面に夫々蛍光物質が柱状に形成してなる一群の柱状構造で構成される蛍光体層とを備える放射線像変換パネルにおいて、
柱状構造の外表面を夫々覆う、所定波長の光を反射する反射膜を更に備え、互いに隣り合う柱状構造間の隙間の屈折率より柱状構造の屈折率が高い場合、反射膜が、前記柱状構造の屈折率より高い屈折率の無機材料で構成されることを特徴とする放射線像変換パネル。
【請求項８】
請求項７記載の放射線像変換パネルであって、前記柱状構造が潮解性を有するものにおいて、
柱状構造の外表面と反射膜との間に、柱状構造の外表面を覆う防湿膜を更に備え、防湿膜が、前記反射膜の屈折率よりも低い屈折率の無機材料で構成されることを特徴とする放射線像変換パネル。
【請求項９】
基材と、基材の一方の面に夫々蛍光物質が柱状に形成してなる一群の柱状構造で構成される蛍光体層とを備える放射線像変換パネルにおいて、
柱状構造の外表面を夫々覆う、所定波長の光を反射する反射膜を更に備え、互いに隣り合う柱状構造間の隙間の屈折率より柱状構造の屈折率が低い場合、反射膜が、前記柱状構造の屈折率より低い屈折率の無機材料で構成されることを特徴とする放射線像変換パネル。
【請求項１０】
前記隙間に充填される、前記柱状構造よりも高い屈折率の反射材を更に備えることを特徴とする請求項９記載の放射線像変換パネル。
【請求項１１】
請求項９又は１０記載の放射線像変換パネルであって、前記柱状構造が潮解性を有するものにおいて、
柱状構造の外表面と反射膜との間に、柱状構造の外表面を覆う防湿膜を更に備え、防湿膜が、前記反射膜の屈折率よりも高い屈折率の無機材料で構成されることを特徴とする放射線像変換パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放射線像変換パネルの製造方法及び放射線像変換パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の放射線像変換パネルは、複数個の光電変換素子を有するセンサパネルと共に間接型（間接変換方式）の放射線検出器に用いられる。このような放射線検出器は例えば特許文献１で知られている。このものは、基材の一方の面に夫々蛍光物質が柱状に形成してなる一群の柱状構造で構成される蛍光体層（シンチレータ）を備える。そして、放射線の露光により各柱状構造内で生じた光を柱状構造の屈折率と柱状構造間の隙間（空気）の屈折率との差を利用して柱状構造内にとじ込めながら伝播させ（光閉じ込め効果）、柱状構造に夫々対向配置された光電変換素子に夫々入射させ、光量に応じた電気信号（画像信号）に変換している。
【０００３】
ここで、柱状構造内で生じた光が当該柱状構造内にとじ込められずに外部に漏れ出し、この漏れ出した光が本来入射すべき光電変換素子以外のものに入射すると、本来入射すべき光電変換素子では光量不足が生じる一方で、余計な光が入射した光電変換素子では光量が増加し、結果として、画質の低下を招く。このため、放射線検出器にて鮮明な画像を得るには、柱状構造外部への光の漏れ出しを如何に抑制するかが重要となる。
【０００４】
そこで、上記従来例では、柱状構造の基材側を基端、光電変換素子側を先端とし、一群の柱状構造の先端側を金属や金属合金からなる反射膜で覆うことが提案されている。然し、隣り合う柱状構造の先端部の間に隙間を埋め込むように反射膜が形成されていると、柱状構造と反射膜との界面でしか光が反射されず、しかも、基端側には反射膜が存在しないため、柱状構造外部への光の漏れ出しを効果的に抑制するには限界がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２−１５９３０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記点に鑑み、蛍光体層の柱状構造からの光の漏れ出しを効果的に抑制することができる放射線像変換パネルの製造方法及び放射線像変換パネルを提供することをその課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、放射線の露光により発光する蛍光物質を含む蛍光体層を備える本発明の放射線像変換パネルの製造方法は、基材の一方の面に蛍光物質を柱状に夫々形成して一群の柱状構造で構成される蛍光体層を得る工程を含み、柱状構造の外表面を、互いに隣り合う柱状構造間に隙間を残して所定波長の光を反射する反射膜で夫々覆う反射膜形成工程を更に含み、前記隙間の屈折率が前記柱状構造の屈折率より低い場合、反射膜が、前記柱状構造の屈折率より高い屈折率の無機材料で構成されることを特徴とする。尚、本発明において、「隙間」には、大気（屈折率１）が介在している場合だけを指すのではなく、柱状構造の屈折率より低い材料が埋め込まれているような場合を含む。また、本発明において、反射膜を無機材料で構成するとは、反射膜を無機材料の単一膜で構成する場合だけでなく、異なる無機材料の積層膜で構成する場合を含むものとする。
【０００８】
本発明によれば、放射線の露光により柱状構造内で生じた光が、柱状構造内の全長に亘って、柱状構造と反射膜との界面だけでなく、当該反射膜の外表面（隙間側の表面）でも反射されながら当該柱状構造内を伝播するため、柱状構造からの光の漏れ出しが効果的に抑制される。その結果、本発明で得られた放射線像変換パネルを放射線検出器に適用すれば、柱状構造内を伝播した光を本来入射すべき光電変換素子に入射させることができるため、画質の向上を図ることができる。
【０００９】
本発明において、柱状構造が潮解性を有する場合、前記反射膜形成工程に先立ち、柱状構造の外表面を防湿膜で覆う防湿膜形成工程を更に有すれば、柱状構造の潮解を防止できてよい。しかも、防湿膜を反射膜の屈折率より低い屈折率の無機材料で構成することで、上記光の漏れ出し抑制効果が損なわれることはない。また、防湿膜が水分との反応により劣化したとしても、防湿膜の外側に反射膜が存在するため、柱状構造の形状ひいては放射線像変換パネルの形状を維持することができる。この場合、防湿膜として酸化アルミニウム膜を用い、反射膜として酸化亜鉛膜を用いることが好ましい。尚、本発明において、防湿膜を無機材料で構成するとは、防湿膜を無機材料の単一膜で構成する場合だけでなく、異なる無機材料の積層膜で構成する場合を含むものとする。
【００１０】
また、上記課題を解決するために、放射線の露光により発光する蛍光物質を含む蛍光体層を備える本発明の放射線像変換パネルの製造方法は、基材の一方の面に蛍光物質を柱状に夫々形成して一群の柱状構造で構成される蛍光体層を得る工程を含み、柱状構造の外表面を、互いに隣り合う柱状構造間に隙間を残して所定波長の光を反射する反射膜で夫々覆う反射膜形成工程を更に含み、前記隙間の屈折率が前記柱状構造の屈折率より高い場合、反射膜が、前記柱状構造の屈折率より低い屈折率の無機材料で構成されることを特徴とする。
【００１１】
本発明によれば、放射線の露光により柱状構造内で生じた光が、柱状構造内の全長に亘って、柱状構造と反射膜との界面だけでなく、当該反射膜の外表面（隙間側の表面）でも反射されながら当該柱状構造内を伝播するため、柱状構造からの光の漏れ出しが効果的に抑制される。その結果、本発明で得られた放射線像変換パネルを放射線検出器に適用すれば、柱状構造内を伝播した光を本来入射すべき光電変換素子に入射させることができるため、画質の向上を図ることができる。
【００１２】
本発明において、前記隙間に前記蛍光物質よりも高い屈折率の反射材を充填する工程を更に含むことが好ましい。
【００１３】
本発明において、柱状構造が潮解性を有する場合、前記反射膜形成工程に先立ち、柱状構造の外表面を防湿膜で覆う防湿膜形成工程を更に有すれば、柱状構造の潮解を防止できてよい。しかも、防湿膜を反射膜の屈折率より高い屈折率の無機材料で構成することで、上記光の漏れ出し抑制効果が損なわれることはない。また、防湿膜が水分との反応により劣化したとしても、防湿膜の外側に反射膜が存在するため、柱状構造の形状ひいては放射線像変換パネルの形状を維持することができる。
【００１４】
本発明において、前記反射膜を原子層堆積法により形成すれば、柱状構造の外表面を無機材料で構成される薄膜の反射膜で覆うことができるため、柱状構造間に間隙を確実に確保できる。
【００１５】
また、上記課題を解決するために、基材と、基材の一方の面に夫々蛍光物質が柱状に形成してなる一群の柱状構造で構成される蛍光体層とを備える本発明の放射線像変換パネルは、柱状構造の外表面を夫々覆う、所定波長の光を反射する反射膜を更に備え、互いに隣り合う柱状構造間の隙間の屈折率より柱状構造の屈折率が高い場合、反射膜が、前記柱状構造の屈折率より高い屈折率の無機材料で構成されることを特徴とする。
【００１６】
本発明において、前記柱状構造が潮解性を有する場合、柱状構造の外表面と反射膜との間に、柱状構造の外表面を覆う防湿膜を更に備え、防湿膜が、前記反射膜の屈折率よりも低い屈折率の無機材料で構成されることが好ましい。
【００１７】
また、上記課題を解決するために、基材と、基材の一方の面に夫々蛍光物質が柱状に形成してなる一群の柱状構造で構成される蛍光体層とを備える本発明の放射線像変換パネルは、柱状構造の外表面を夫々覆う、所定波長の光を反射する反射膜を更に備え、互いに隣り合う柱状構造間の隙間の屈折率より柱状構造の屈折率が低い場合、反射膜が、前記柱状構造の屈折率より低い屈折率の無機材料で構成されることを特徴とする。尚、本発明は、前記隙間に柱状構造よりも高い屈折率の反射材が充填される場合を含むものとする。
【００１８】
本発明において、前記柱状構造が潮解性を有する場合、柱状構造の外表面と反射膜との間に、柱状構造の外表面を覆う防湿膜を更に備え、防湿膜が、前記反射膜の屈折率よりも高い屈折率の無機材料で構成されることが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の実施形態の放射線像変換パネルを適用した放射線検出器を示す模式的断面図。
【図２】放射線像変換パネルの製造に用いられる製造装置を示す断面図。
【図３】図２に示す処理室Ｂを具体的に説明する図。
【図４】（ａ）〜（ｃ）は、本発明の実施形態の放射線像変換パネルの製造工程を説明する図。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、図面を参照して、間接型の放射線検出器に適用されるものを例に、本発明の実施形態の放射線像変換パネルについて説明する。尚、各図において共通する要素には、同一の符号を付して重複する説明を省略する。
【００２１】
図１を参照して、ＲＤは、放射線検出器であり、放射線検出器ＲＤは、放射線像変換パネル１とセンサパネル２とで構成される。放射線像変換パネル１は、基材１１と、基材１１の一方の面に形成される蛍光体層（シンチレータ）１２とを備える。基材１１としては、カーボン板、ガラス板、石英基板、サファイア基板等を用いることができるが、これに限定されず、後述する柱状構造１２ａを形成し得るものを用いることができる。蛍光体層１２は、蛍光物質が夫々柱状に形成してなる一群の柱状構造１２ａで構成され、この柱状構造１２ａは、例えば、結晶成長により得られる柱状結晶で構成できる。柱状構造１２ａを構成する蛍光物質としては、ＣｓＩ：Ｔｌ、ＮａＩ：Ｔｌ、ＧＯＳ（Ｇｄ２Ｏ２Ｓ）等から選択される１種を用いることができる。以下、柱状構造１２ａを構成する蛍光材料として、発光波長が５４０ｎｍであり、屈折率が１．７９であり、潮解性を有するＣｓＩ：Ｔｌを用いる場合を例に説明する。
【００２２】
上記放射線像変換パネル１は、ＣｓＩ：Ｔｌからなる柱状構造１２ａの外表面が、互いに隣り合う柱状構造１２ａ間に隙間１２ｂを残して、防湿性を有する防湿膜１３で覆われている。さらに、防湿膜１３の表面は、互いに隣り合う柱状構造１２ａ間に隙間１２ｂを残して、所定波長の光（可視光）を反射する反射膜１４で覆われている。本実施形態では、柱状構造１２ａ間の隙間１２ｂが屈折率１の空気で満たされるため、隙間１２ｂの屈折率が柱状構造１２ａの屈折率より低くなっている。反射膜１４は、柱状構造１２ａの屈折率より高い屈折率を有する酸化亜鉛、窒化硅素、酸化チタン、硫化亜鉛、酸化ニオブ等の無機材料で構成され、また、防湿膜１３は、反射膜１４の屈折率より低い屈折率を有する酸化アルミニウム、酸化硅素等の無機材料で構成される。これら防湿膜１３及び反射膜１４は、上記無機材料の単一膜で構成されるだけでなく、異なる無機材料の積層膜で構成することもできる。これら防湿膜１３及び反射膜１４の形成方法としては、原子層堆積法（ＡＬＤ法）を用いることが好ましいが、ＣＶＤ等の他の形成方法を用いることができる。柱状構造１２ａをＣｓＩ：Ｔｌで構成する場合、反射膜１４を反射率１．９〜２．０の酸化亜鉛膜で構成し、防湿膜１３を反射率１．６３の酸化アルミニウム膜で構成することが好ましい。これによれば、水分と反応しない酸化亜鉛膜１４で酸化アルミニウム膜１３を覆うことで、酸化アルミニウム膜１３が水分と反応して劣化することを防止でき、また、たとえ酸化アルミニウム膜１３が劣化したとしても、柱状構造１２ａの形状ひいては放射線像変換パネル１の形状を維持することができる。
【００２３】
上記センサパネル２は、基板２１と、基板２１表面に形成される複数個の光電変換素子２２と、これら光電変換素子２２を覆う保護膜２３とを備える。光電変換素子２２は、柱状構造１２ａに夫々対向配置され、柱状構造１２ａ内を伝播した光が入射すると、入射光の光量に応じた電気信号（画像信号）に変換するように構成されている。センサパネル２としては、公知の構造を有するものを用いることができるため、ここでは詳細な説明を省略する。
【００２４】
次に、上記放射線像変換パネル１の製造に用いる放射線像変換パネル製造装置（以下「製造装置」という）ＲＭについて説明する。図２に示す製造装置ＲＭは、中央の搬送室Ｔを備え、この搬送室Ｔには基材１１を搬送する搬送ロボットＲが配置されている。搬送ロボットＲとしては、図示した所謂フロッグレッグ式のほか他の公知のものを用いることができるため、ここでは詳細な説明を省略する。搬送室Ｔには図外の真空排気手段が接続され、搬送室Ｔ内を所定の真空度に保持できるようになっている。搬送室Ｔは、平面視四角形状に形成され、その周囲には、ロードロック室Ｌと各処理室Ａ〜ＣとがゲートバルブＧＶを介在させて装着されている。処理室Ａにて真空蒸着法により蛍光体層１２が形成され、処理室Ｂにて原子層堆積法により防湿膜１３が形成され、処理室Ｃにて原子層堆積法により反射膜１４が形成される。尚、防湿膜１３及び反射膜１４は、同一の処理室にて形成してもよい。真空蒸着法による蛍光体層１２を形成する処理室Ａとしては、公知の構造を有するものを用いることができるため、ここでは詳細な説明を省略する。
【００２５】
図３を更に参照して、上記処理室Ｂを具体的に説明する。尚、上記処理室Ｃは、処理室Ｂと同様の構成を有するため、ここでは説明を省略する。上記製造装置ＲＭは、処理室Ｂを画成する真空チャンバ３１を備え、真空チャンバ３１の天井部には天板３１ａが取り付けられている。以下においては、図３中、真空チャンバ３１の天井部側を向く方向を「上」とし、その底部側を向く方向を「下」として説明する。真空チャンバ３１の底部には、基材１１を支持する、図示省略のヒータ等の加熱手段を内蔵する支持部材（ステージ）３２が設けられ、この支持部材３２に昇降自在な上板３３が対向配置されている。上板３３の上面には、図示省略の駆動手段の駆動軸３４が接続されており、駆動軸３４を上下方向に駆動することにより、上板３３が実線で示すプロセス位置と仮想線で示す搬送位置との間で移動できるようになっている。支持部材３２は、昇降自在なリフトピン３２ａを備え、上板３３が搬送位置に上昇した状態で、リフトピン３２ａを上昇させることで、基材１１を搬送することができる。支持部材３２の周縁部には側壁３２ｂが立設され、この側壁３２ｂの上面に、プロセス位置に下降した上板３３の下面が接すると、処理室Ｂ内で容積の小さい反応空間Ｓｐが画成される。
【００２６】
上記製造装置ＲＭは、反応空間Ｓｐを臨むガスノズル３５を備える。ガスノズル３５には、異なるガス源に通じる２本のガス管３６ａ，３６ｂが接続されており、反応空間Ｓｐに第１及び第２の原料ガスをパルス状に供給できるようになっている。例えば、ガス管３６ａから供給する第１の原料ガスとしては、トリメチルアルミニウムガスを用いることができ、ガス管３６ｂから供給する第２の原料ガスとしては、Ｈ２Ｏガス、酸素またはオゾンを用いることができる。原料ガスのキャリアガスとしては、アルゴンガスや窒素ガス等の不活性ガスを用いることができる。
【００２７】
真空チャンバ３１の底部には、図示省略の真空ポンプ等の真空排気手段に通じる排気管３７が設けられており、処理室Ｂ内を真空引きできると共に、反応空間Ｓｐの圧力を所定圧力に制御できるようになっている。
【００２８】
上記製造装置ＲＭは、特に図示しないが、マイクロコンピュータやシーケンサ等を備えた公知の制御手段を有し、制御手段により、搬送ロボットＲの稼働、リフトピン３２ａや上板３３の稼働、原料ガスの供給や真空排気手段の稼働等を統括管理するようになっている。以下、上記製造装置ＲＭを用い、上記放射線像変換パネルＲＰの製造方法について説明する。
【００２９】
先ず、基材１１をロードロック室Ｌに収容し、ロードロック室Ｌを真空引きする。その後、搬送ロボットＲにより基材１１を処理室Ａのステージにセットした後、真空排気手段を作動させて処理室Ａ内を所定の真空度（例えば、１×１０−５Ｐａ）まで真空引きした後、真空蒸着法により、基材１１の表面に、ＣｓＩ：Ｔｌからなる一群の柱状構造１２ａを１００〜１０００μｍの長さで形成して蛍光体層１２を形成する（図４（ａ）参照）。
【００３０】
上記蛍光体層１２が形成された基材１１を搬送ロボットＲにより処理室Ｂの支持部材３２にセットした後、上板３３を下降させて反応空間Ｓｐを画成する。そして、基材１１を８０〜１５０℃の温度に加熱し、反応空間Ｓｐにトリメチルアルミニウムガス（キャリアガス：Ｎ２ガス）とＨ２Ｏガスとをパルス状に供給することで、図４（ｂ）に示すように、互いに隣り合う柱状構造１２ａ間に隙間１２ｂを残して、柱状構造１２ａの外表面を防湿膜１３たる酸化アルミニウム膜で夫々覆う（防湿膜形成工程）。防湿膜１３の厚みは、１０〜１００ｎｍの範囲内で設定できる。酸化アルミニウム膜１３形成後、反応空間Ｓｐへのガス導入を停止し、上板３３を上昇させると共に、リフトピン３２ａを上昇させる。
【００３１】
上記酸化アルミニウム膜１３が形成された基材１１を搬送ロボットＲにより処理室Ｃの支持部材３２にセットした後、上記処理室Ｂでの成膜と同様に、上板３３を下降させて反応空間Ｓｐを画成する。そして、反応空間Ｓｐにジエチル亜鉛ガス（キャリアガス：Ｎ２ガス）とＨ２Ｏガスとを交互にパルス状に供給することで、図４（ｂ）に示すように、互いに隣り合う柱状構造１２ａ間に隙間１２ｂを残して、酸化アルミニウム膜１３の表面を反射膜１４たる酸化亜鉛膜で夫々覆う（反射膜形成工程）。反射膜１４の厚みは、２００〜３００ｎｍの範囲内で設定することができる。その後、柱状構造１２ａの基材１１側を基端部、柱状構造１２ａの成長端側を先端部とし、化学機械研磨法等により柱状構造１２ａの先端部を除去することにより、図４（ｃ）に示す構造を有する放射線像変換パネル１が得られる。尚、防湿膜１３及び反射膜１４を単一膜で構成するのではなく、積層膜で夫々構成してもよい。この場合、積層膜を構成する各膜の膜厚は適宜調整することができる。
【００３２】
以上説明したように、本実施形態によれば、互いに隣り合う柱状構造１２ａ間に隙間１２ｂを残して柱状構造１２ａの外表面を防湿膜１３及び反射膜１４で覆うことで、放射線の露光により柱状構造１２ａ内で生じた光が、柱状構造１２ａ内の全長に亘って、柱状構造１２ａと防湿膜１３との界面、防湿膜１３と反射膜１４との界面だけでなく、当該反射膜１４の外表面（隙間１２ｂ側の表面）でも反射されながら当該柱状構造１２ａ内を伝播するため、柱状構造１２ａからの光の漏れ出しが効果的に抑制される。その結果、本発明で得られた放射線像変換パネル１を放射線検出器ＲＤに適用すれば、柱状構造１２ａ内を伝播した光を本来入射すべき光電変換素子２２に入射させることができるため、画質の向上を図ることができる。
【００３３】
また、本実施形態によれば、潮解性を有する柱状構造１２ａが防湿膜１３で覆われるため、柱状構造１２ａの潮解を防止することができる。また、防湿膜１３が反射膜１４で覆われるため、防湿膜１３が水分と反応して劣化することを防止することができ、たとえ防湿膜１３が劣化したとしても、柱状構造１２ａの形状ひいては放射線像変換パネル１の形状を維持することができる。
【００３４】
上記効果を確認するために、以下の実験を行った。本実験では、ガラス基板上に柱状の蛍光材料（柱状構造）１２ａとしてＣｓｌを真空蒸着法により６００ｎｍ形成した。次に、蛍光材料１２ａの表面をＡＬＤ法を用いて５０ｎｍの厚みの酸化アルミニウム膜１３で覆った後、酸化アルミニウム膜１３の表面にＡＬＤ法を用いて３００ｎｍの厚みの酸化亜鉛膜１４を形成した。このようにして得られた構造を６０℃、９０％ＲＨの環境試験下に配置したところ、２４時間以上経過しても蛍光材料１２ａが潮解していないことが確認された。それに対して、酸化亜鉛膜１４を形成しない点以外は、上記と同様の方法で製造した放射線像変換パネルを同様の環境試験下に配置したところ、１時間経過した時点で蛍光材料１２ａが潮解していることが確認された。これにより、酸化亜鉛膜１４を形成することで、酸化アルミニウム膜１３の水分との反応による劣化を防止できることが判った。
【００３５】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記に限定されるものではない。上記実施形態においては、柱状構造１２ａと反射膜１４との間に防湿膜１３を介在させる場合を例に説明したが、柱状構造１２ａが潮解性を有しない場合には、防湿膜１３を省略することができる。この場合、互いに隣り合う柱状構造１２ａ間に隙間１２ｂを残して、柱状構造１２ａの外表面が反射膜１４で覆われる。これによれば、放射線の露光により柱状構造１２ａ内で生じた光が、柱状構造１２ａ内の全長に亘って、柱状構造１２ａと反射膜１４との界面だけでなく、当該反射膜１４の外表面（隙間１２ｂ側の表面）でも反射されながら当該柱状構造１２ａ内を伝播するため、柱状構造１２ａからの光の漏れ出しが効果的に抑制される。
【００３６】
また、上記実施形態においては、隙間１２ｂの屈折率が柱状構造１２ａの屈折率より低い場合を例に説明したが、隙間１２ｂに屈折率２．２〜２．６の酸化チタンを埋め込み、柱状構造１２ａを屈折率１．７９のＣｓｌで構成する場合のように、隙間１２ｂの屈折率が柱状構造１２ａの屈折率より高い場合にも、本発明を適用することができる。この場合、柱状構造１２ａの外表面を柱状構造１２ａの屈折率より低い屈折率の無機材料（例えば、酸化硅素）で構成される反射膜で覆うことで、上記実施形態と同様に、柱状構造と反射膜との界面で高い反射率を得ることができ、柱状構造からの光の漏れ出しを防止することができる。また、柱状構造１２ａが潮解性を有する場合には、上記実施形態と同様に、柱状構造１２ａと反射膜との間に、柱状構造１２ａの外壁面を覆う、反射膜の屈折率よりも高い屈折率の無機材料で構成される防湿膜を介在させることが好ましい。
【符号の説明】
【００３７】
１…放射線像変換パネル、１１…基材、１２…蛍光体層、１２ａ…柱状構造、１２ｂ…隙間、１３…防湿膜、１４…反射膜。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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