(57)【要約】      （修正有）【課題】スパッタリング成膜用スパッタリン材の作製のための焼結装置であって、高い生産性を維持すると共に型の消耗を抑えることが可能な焼結装置、焼結体の製造方法およびターゲット材を提供する。【解決手段】大気中に設置された非可搬部２と、処理物１０を収容可能な型２０を有し、前記非可搬部２に対して着脱可能に装填される可搬部３と、前記非可搬部２に装填された前記可搬部３を通気可能に包囲し、前記可搬部３を概略密閉状態に包囲したまま前記非可搬部２から分離可能な被覆部材４とを備えた焼結装置１。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
大気中に設置された非可搬部と、
処理物を収容可能な型を有し、前記非可搬部に対して着脱可能に装填される可搬部と、
前記非可搬部に装填された前記可搬部を概略密閉状態に包囲し、前記可搬部を概略密閉状態に包囲したまま前記非可搬部から分離可能な被覆部材と
を備えた焼結装置。
【請求項２】
前記可搬部は、
前記型を有する本体と、
前記本体が載置される支持台と
を有する請求項１記載の焼結装置。
【請求項３】
前記被覆部材は、前記本体の上面との面接触により吊支され、
前記被覆部材と前記支持台との間に、通気可能な隙間が設けられている
請求項２記載の焼結装置。
【請求項４】
前記本体の上面または前記被覆部材は、段差を有し、
前記本体の上面に対する前記被覆部材の相対位置関係は、前記段差により規定されている
請求項３記載の焼結装置。
【請求項５】
前記被覆部材は、前記支持台との面接触により支持され、
前記被覆部材と前記本体の側面との間に、通気可能な隙間が設けられている
請求項２記載の焼結装置。
【請求項６】
前記被覆部材は、
前記支持台との面接触により支持された下部被覆部材と、
前記本体の上面との面接触により吊支された上部被覆部材と
を有し、
前記下部被覆部材と前記上部被覆部材との間に、通気可能な隙間が設けられている
請求項２記載の焼結装置。
【請求項７】
前記被覆部材は、石英ガラスにより構成されている
請求項１記載の焼結装置。
【請求項８】
前記被覆部材は、セラミック材料により構成されると共に、側面に温度測定用開口部を有する
請求項１記載の焼結装置。
【請求項９】
前記上部被覆部材は、セラミック材料により構成され、
前記下部被覆部材は、石英ガラスにより構成されている
請求項６記載の焼結装置。
【請求項１０】
前記被覆部材は貫通孔を有し、前記貫通孔にガス導入管が挿着されている
請求項１記載の焼結装置。
【請求項１１】
前記被覆部材は、
前記ガス導入管に結合されると共に前記本体を囲むガス拡散室と、
前記ガス拡散室に設けられたガス吹出し口と
を有する請求項１０記載の焼結装置。
【請求項１２】
前記型は、外側面から内部方向に向かう穴を有する
請求項１記載の焼結装置。
【請求項１３】
前記穴は、前記処理物が前記型に収納されたときに、前記型の高さ方向において前記処理物の収納位置と異なる位置に設けられている
請求項１２記載の焼結装置。
【請求項１４】
前記非可搬部は、
前記型内の処理物を加圧する加圧部材と、
前記型内の処理物を加熱する加熱部と
を有する請求項１記載の焼結装置。
【請求項１５】
前記加熱部は、前記型の外側面を誘導加熱する高周波誘導コイルを有する
請求項１４記載の焼結装置。
【請求項１６】
大気中に設置された非可搬部に、処理物を収容した型を有する可搬部を装填する工程と、
被覆部材により前記可搬部を概略密閉状態に包囲する工程と、
前記被覆部材により前記可搬部を概略密閉状態に包囲した状態で前記型内の処理物を加圧および加熱する工程と、
前記型内の処理物を加圧および加熱したのち、前記被覆部材により前記可搬部を概略密閉状態に包囲した状態で前記可搬部を前記非可搬部から分離する工程と
を含む焼結体の製造方法。
【請求項１７】
前記被覆部材の内側にガスを導入し、
前記ガスを導入する工程を、前記型内の処理物を加圧および加熱する工程の前並びに前記型内の処理物を加圧および加熱する工程の後の一方または両方に行う
請求項１６記載の焼結体の製造方法。
【請求項１８】
前記被覆部材の内側にガスを導入し、
前記ガスを導入する工程を、前記型内の処理物を加圧および加熱する工程の前から後まで連続して行う
請求項１６記載の焼結体の製造方法。
【請求項１９】
前記被覆部材の内側にガスを導入し、
前記ガスとして不活性ガス，窒素または二酸化炭素を導入する
請求項１６記載の焼結体の製造方法。
【請求項２０】
大気中に設置された非可搬部に、ターゲット原料を含む処理物を収容した型を有する可搬部を装填し、被覆部材により前記可搬部を概略密閉状態に包囲した状態で前記型内の処理物を加圧および加熱することにより製造された
ターゲット材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、スパッタリング成膜用のターゲット材等の作製に好適な焼結装置、これを用いた焼結体の製造方法、およびターゲット材に関する。
【背景技術】
【０００２】
スパッタリングによる薄膜成膜プロセスでは、ターゲット材の組成や密度がそのプロセスの特性や成膜によって製造されるデバイスの特性を大きく性格づける。このため、高密度で組成均一性の高いターゲット材が求められてきた。
【０００３】
現在のスパッタリング用ターゲット材の製造には、真空ホットプレス装置（例えば、特許文献１および特許文献２参照。）を用いることが主流となっている。真空ホットプレス装置では、真空または制御雰囲気下で加圧焼結を行うことにより、密度や結晶性、組成などの制御性や均一性が大きく改善されている。
【０００４】
一方、この方式の場合、加熱および焼結部が高真空に耐え得る堅牢な筐体で構成されているので、装置構成が複雑で高価格となる。更に、容器の容積や熱容量が大きくなるため、真空引きや雰囲気置換、加熱、冷却に時間がかかり、タクトタイムが長くなり生産性が低下する。
【０００５】
これに対して、筐体を有さないもしくは簡易的な囲いを設けた程度の大気雰囲気下で焼結を行うホットプレス装置は、雰囲気制御という点では真空ホットプレス機に及ばないものの、構造が簡易で全体の熱容量が少ない。焼結が終了した段階で被焼結材料を型（モールド、ダイス）と共にホットプレス機から取り外すことが可能であり、タクトタイムが短く生産性に富む。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平６−２９７１９８号公報
【特許文献２】特開平９−３１８２７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、大気雰囲気下で焼結を行った場合には、カーボングラファイト製の型が、高温下で大気中の酸素と反応し、型の外径が焼結のたびに小さくなる、いわゆる消耗するという問題があった。
【０００８】
本開示の目的は、高い生産性を維持すると共に型の消耗を抑えることが可能な焼結装置、これを用いた焼結体の製造方法、およびターゲット材を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本開示による焼結装置は、以下の（Ａ）〜（Ｃ）の構成要素を備えたものである。
（Ａ）大気中に設置された非可搬部
（Ｂ）処理物を収容可能な型を有し、非可搬部に対して着脱可能に装填される可搬部
（Ｃ）非可搬部に装填された可搬部を概略密閉状態に包囲し、可搬部を概略密閉状態に包囲したまま非可搬部から分離可能な被覆部材
【００１０】
ここに「非可搬部」とは、建物の床、壁、天井等に固定され、適宜の移動や位置調整が可能であるが、建物から取り外すことが難しく、搬送困難な部材（加圧ラム、高周波誘導コイル、台座など）をいう。「概略密閉状態」とは、被覆部材の内側に閉空間を構成すると共に、この閉空間の内部気体の膨張・収縮に伴う最小限の気体の流出入を許容する状態をいう。
【００１１】
本開示の焼結装置では、可搬部が被覆部材により概略密閉状態に包囲されているので、焼結時の高温下での型と大気中の酸素との反応が抑えられ、型の消耗が抑えられる。焼結が完了すると、可搬部は、被覆部材により概略密閉状態に包囲されたまま非可搬部から分離され、冷却のため別の場所へ移動される。よって、直ちに次の焼結を開始可能となり、生産性が高くなる。
【００１２】
本開示による焼結体の製造方法は、以下の（Ａ）〜（Ｃ）の工程を含むものである。
（Ａ）大気中に設置された非可搬部に、処理物を収容した型を有する可搬部を装填する工程
（Ｂ）被覆部材により可搬部を概略密閉状態に包囲する工程
（Ｃ）被覆部材により可搬部を概略密閉状態に包囲したまま型内の処理物を加圧および加熱する工程
（Ｄ）型内の処理物を加圧および加熱したのち、被覆部材により可搬部を概略密閉状態に包囲したまま可搬部を非可搬部から分離する工程
【００１３】
本開示によるターゲット材は、大気中に設置された非可搬部に、ターゲット原料を含む処理物を収容した型を有する可搬部を装填し、被覆部材により可搬部を概略密閉状態に包囲した状態で型内の処理物を加圧および加熱することにより製造されたものである。
【発明の効果】
【００１４】
本開示の焼結装置によれば、非可搬部に装填された可搬部を概略密閉状態に包囲し、この概略密閉状態を保ちながら非可搬部から分離可能な被覆部材を有するようにしている。また、本開示の焼結体の製造方法によれば、被覆部材により可搬部を概略密閉状態に包囲した状態で型内の処理物を加圧および加熱したのち、概略密閉状態を保ったまま可搬部を非可搬部から分離するようにしている。よって、高い生産性を維持すると共に型の消耗を抑えることが可能となる。
【００１５】
本開示のターゲット材によれば、被覆部材により可搬部を概略密閉状態に包囲した状態で型内の処理物を加圧および加熱することにより製造されているので、生産性が高いことおよび型の消耗が抑えられることにより、コスト低減が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本開示の参考例１に係る焼結装置の構成を表す断面図である。
【図２】図１に示した参考例１の型の直径と使用回数との関係を調べた実験結果を表す図である。
【図３】図１に示した参考例１の型の一定時間経過後の中心部温度差と使用回数との関係を調べた実験結果を表す図である。
【図４】本開示の第１の実施の形態に係る焼結装置の構成を表す断面図である。
【図５】図４に示した焼結装置を上方から見た構成を表す平面図である。
【図６】図４に示した可搬部を固定部から分離した状態を表す断面図である。
【図７】図４に示した焼結装置を用いた焼結体の製造方法の流れを表す図である。
【図８】図４に示した型の直径と使用回数との関係を調べた実験結果を表す図である。
【図９】図４に示した型の一定時間経過後の中心部温度差と使用回数との関係を調べた実験結果を表す図である。
【図１０】図７に示した焼結体の製造方法により製造されたターゲットの一例を表す平面図である。
【図１１】ターゲットの他の例を表す平面図である。
【図１２】本開示の第２の実施の形態に係る焼結装置の構成を表す断面図である。
【図１３】図１２に示した可搬部を固定部から分離した状態を表す断面図である。
【図１４】本開示の第３の実施の形態に係る焼結装置の構成を表す断面図である。
【図１５】図１４に示した可搬部を固定部から分離した状態を表す断面図である。
【図１６】本開示の第４の実施の形態に係る焼結装置の構成を表す断面図である。
【図１７】図１６に示した可搬部を固定部から分離した状態を表す断面図である。
【図１８】本開示の第５の実施の形態に係る焼結装置の構成を表す断面図である。
【図１９】図１８に示した可搬部を固定部から分離した状態を表す断面図である。
【図２０】本開示の第６の実施の形態に係る焼結装置の構成を表す断面図である。
【図２１】図２０に示した可搬部を固定部から分離した状態を表す断面図である。
【図２２】本開示の第７の実施の形態に係る焼結装置の構成を表す断面図である。
【図２３】図２２に示した可搬部を固定部から分離した状態を表す断面図である。
【図２４】図２２に示した焼結装置を用いた焼結体の製造方法の流れを表す図である。
【図２５】図２４に示した四つの製造方法におけるガスの導入／停止をまとめた表である。
【図２６】本開示の第８の実施の形態に係る焼結装置の構成を表す断面図である。
【図２７】図２６に示した可搬部を固定部から分離した状態を表す断面図である。
【図２８】本開示の第９の実施の形態に係る焼結装置の構成を表す断面図である。
【図２９】図２８に示した可搬部を固定部から分離した状態を表す断面図である。
【図３０】本開示の第１０の実施の形態に係る焼結装置の構成を表す断面図である。
【図３１】図３０に示した可搬部を固定部から分離した状態を表す断面図である。
【図３２】本開示の第１１の実施の形態に係る焼結装置の構成を表す断面図である。
【図３３】図３２に示した可搬部を固定部から分離した状態を表す断面図である。
【図３４】変形例１に係る焼結装置の構成を表す断面図である。
【図３５】変形例２に係る焼結装置の構成を表す断面図である。
【図３６】変形例３に係る焼結装置の構成を表す断面図である。
【図３７】変形例４に係る焼結装置の構成を表す断面図である。
【図３８】図３７に示した焼結装置を上方から見た構成を表す平面図である。
【図３９】変形例５に係る焼結装置の構成を表す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本開示の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．参考例１の実験結果
２．第１の実施の形態（被覆部材を、本体の上面との面接触により吊支し、被覆部材と支持台との間に隙間を設ける例）
３．第２の実施の形態（第１の実施の形態において、本体の上面に段差を設けて被覆部材の位置決めを行う例）
４．第３の実施の形態（第１の実施の形態において、被覆部材に、本体の上面の角部に倣う段差を設ける例）
５．第４の実施の形態（被覆部材を２ピース構成とし、筒状の下部被覆部材に蓋状の上部被覆部材を被せる例）
６．第５の実施の形態（被覆部材を２ピース構成とし、筒状の下部被覆部材に、円盤状の上部被覆部材を遊嵌する例）
７．第６の実施の形態（被覆部材を、支持台との面接触により支持し、被覆部材と本体の側面との間に隙間を設ける例）
８．第７の実施の形態（第１の実施の形態において、被覆部材にガス導入管を接続する例）
９．第８の実施の形態（第７の実施の形態において、ガス拡散室およびガス吹出し口を設ける例）
１０．第９の実施の形態（第５の実施の形態において、上部被覆部材にガス導入管を接続し、ガス拡散室およびガス吹出し口を設ける例）
１１．第１０の実施の形態（第６の実施の形態において、被覆部材にガス導入管を接続し、ガス拡散室およびガス吹出し口を設ける例）
１２．第１１の実施の形態（第５の実施の形態において、下部被覆部材の下方にガス導入管を接続し、ガス拡散室およびガス吹出し口を設ける例）
１３．変形例１（第１の実施の形態において、被覆部材をセラミック製とし、側面に温度測定用開口部を設ける例）
１４．変形例２（第５の実施の形態において、上部被覆部材および下部被覆部材をセラミック製とし、下部被覆部材の側面に温度測定用開口部を設ける例）
１５．変形例３（第５の実施の形態において、上部被覆部材をセラミック製、下部被覆部材を石英ガラス製とする例）
１６．変形例４（第１の実施の形態において、型の外側面から内部方向に向かう穴を設ける例）
１７．変形例５（変形例４において、穴を、型の高さ方向において処理物と異なる位置に設ける例）
【００１８】
最初に、個々の具体的な実施の形態の説明に入る前に、これらに共通して本開示の基礎をなす前提事項として、大気雰囲気下での焼結時における型の消耗について実験結果に基づいて説明する。
【００１９】
（参考例１の装置構成）
図１に示したような焼結装置１０１を用いた。その構成としては、被焼結材料である処理物１１０を収容する型１２０と、処理物１１０を上下方向に一軸加圧するパンチ１３０および加圧ラム１０２Ａと、高周波誘導コイル１４１を有する加熱部１０２Ｂとを備えたものとした。型１２０は支持台１０３Ｂおよび台座１０２Ｃの上に載置した。型１２０としては、ダイス（外型）１２１の中にインサートダイス（内型）を嵌め込むことにより、処理物１０の平面形状を規定するようにした。パンチ１３０は、下部パンチ１３１および上部パンチ１３２で処理物１１０を上下から挟み込むようにした。
【００２０】
ここで、図１において、下部パンチ１３１および上部パンチ１３２による加圧方向（上下方向）をＺ方向とし、これに直交する平面をＸＹ平面とする。
【００２１】
下部パンチ１３１と処理物１１０との間には、厚さ調整用の下部スペーサ１３３を設けた。上部パンチ１３２と処理物１１０との間には、厚さ調整用の上部スペーサ１３４を設けた。
【００２２】
ダイス１２１、インサートダイス１２２、下部パンチ１３１、上部パンチ１３２、下部スペーサ１３３および上部スペーサ１３４は、カーボン（具体的には、カーボングラファイト）により構成した。
【００２３】
更に、パンチ１３０を、セラミック製の下部断熱板１５１および上部断熱板１５２により上下から挟み込んだ。型１２０およびパンチ１３０の表面（側面、上面および下面）には、セラミックファイバー等よりなる断熱材１５３を巻装した。
【００２４】
（実験および結果）
この焼結装置１０１を用いて１２００℃で焼結を繰り返し、その際の型１２０の直径と使用回数との関係を調べた。その結果を図２に示す。
【００２５】
図２から分かるように、参考例１では、焼結のたびに約５ｍｍずつ型１２０が消耗していき、加圧に耐えうる最低限の肉厚に到達して寿命を迎えることになる。セラミック材などの高温焼結の場合には、とくに消耗の度合いが激しくなり、型１２０の消耗度合いや在庫の管理などが煩雑となる。また、高価な型１２０の消耗費が焼結体ひいては最終製品の製造コストを上げる原因にもなる。
【００２６】
また、このことは、単に型１２０の寿命だけにかかわらない。例えば高周波誘導加熱によって型１２０を加熱する場合には、まず型１２０の外表面が加熱されたのち、型１２０の内部へ向かって加熱が進行する。型１２０が消耗して厚みが薄くなるにつれて、型１２０の発熱点（型１２０の外表面）と処理物１１０との距離が、型１２０の使用回数ごとに変化し、型１２０の中心部温度がより早く上昇する。そのため、図３に示したように、目標温度に到達するまでの時間および温度勾配に変化をもたらす。つまり、焼結回数ごとに温度履歴が異なり、出来上がった焼結体の特性は品質にばらつきが生じる。なお、図３は、型１２０の一定時間経過後の中心部付近の温度について、型１２０の使用回数１回目の温度を基準としたときの、２回目以降の温度と１回目の温度との差をプロットしたものである。
【００２７】
（結果の分析）
このように、大気焼成型の焼結装置１０１では、型１２０の消耗が、製造コストの上昇、焼結体の品質のばらつき等の重大な影響を与えることが分かった。一方で、大気焼成型の焼結装置１０１は、焼結が終了した段階で被焼結材料を型１２０と共に取り外すことが可能であり、タクトタイムが短く生産性に富むという利点を有しており、この利点を損なうことなく型１２０の消耗を抑えることが望ましい。
【００２８】
すなわち、非可搬部（加圧ラム１０２Ａ、加熱部１０２Ｂ等）に装着された型１２０を含む可搬部を、被覆部材により概略密閉状態に包囲するようにすれば、焼結時の高温下での型１２０と大気中の酸素との反応を抑制し、型の消耗を抑えることが可能となる。焼結終了後は、被覆部材が可搬部を概略密閉状態に包囲したまま非可搬部から分離可能であるようにすれば、大気焼成型の高い生産性は維持される。
【００２９】
以下、この実験結果およびその分析に基づいて、具体的な実施の形態（第１ないし第１１）について説明する。
【００３０】
（第１の実施の形態）
（焼結装置）
図４は、本開示の第１の実施の形態に係る焼結装置の断面構成を表し、図５は、図４に示した焼結装置を上方から見た平面構成を表したものである。この焼結装置１は、例えばスパッタリング成膜用のターゲット材の製造に用いられるホットプレス装置（加圧加熱炉）であり、例えば、非可搬部２と、可搬部３とを有している。
【００３１】
非可搬部２は、例えば、後述する型２０内の処理物１０を加圧する金属製の加圧ラム（加圧部材）２Ａと、型２０内の処理物１０を加熱する加熱部２Ｂとを有している。また、非可搬部２は、可搬部３が設置される台座２Ｃを有している。非可搬部２の構成要素すなわち加圧ラム２Ａ，加熱部２Ｂおよび台座２Ｃはいずれも、大気中に設置され、大気中で稼働される。非可搬部２の構成要素のうち、加圧ラム２Ａおよび加熱部２Ｂは、焼結装置１から取り外しはしないものの、上下方向に移動可能である。これにより、加圧ラム２Ａおよび加熱部２Ｂは、焼結時には図４に示した動作位置にあり、可搬部３の取り付け・取り外しを行う際には邪魔にならないよう、動作位置よりも上方の退避位置（図示せず）に一時的に上昇可能となっている。
【００３２】
加熱部２Ｂは、型２０の後述するダイス２１の外側面２０Ａを誘導加熱する高周波誘導コイル４１を有している。すなわち、この焼結装置１は、大気焼成誘導加熱方式の開放型ホットプレス装置である。
【００３３】
可搬部３は、被焼結材料である処理物１０を収容可能な型２０を有し、非可搬部２に対して着脱可能に装填される。処理物１０は、例えば、セラミック系材料のスパッタリングターゲットの原料である粉体、またはその焼成物（焼結体）である。
【００３４】
より詳しくは、可搬部３は、本体３Ａと、この本体３Ａが載置される金属製の支持台３Ｂとを有している。本体３Ａは、例えば、型２０と、この型２０内の処理物１０を加圧するパンチ３０とを有している。
【００３５】
型２０は、例えば、ダイス（外型）２１の中に、処理物１０の平面形状を規定するインサートダイス（内型）２２を有している。ダイス２１は例えば中空の円柱状の部材であり、パンチ３０による圧力を閉じ込めるための等圧容器としての機能を有している。ダイス２１の寸法（外径）は概ね誘導加熱であれば誘導コイルとの距離、ヒータ加熱であればヒータからの距離により定めることが多い。従って、ダイス２１の外径よりも小さい径の焼結体を形成したい場合や、方形の焼結体を形成したい場合には、ダイス２１内にインサートダイス２２を配置する。処理物１０または作製したい焼結体のサイズがダイス２１の内径と同等で良い場合は、ダイス２１のみを使用し、インサートダイス２２は使用しないこともある。インサートダイス２２は、ダイス２１内に着脱可能に嵌め込まれる一部材または複数の部材の組み合わせにより構成されており、処理物１０の形状・寸法に応じてさまざまな形状・寸法のものが用意されている。例えば、処理物１０または作製したい焼結体が円形の場合には、インサートダイス２２は、図５に示したように一つの円筒状の部材により構成される。一方、処理物１０または作製したい焼結体が方形の場合は、インサートダイス２２は、複数の部材の組合せ（図示せず）で構成される。インサートダイス２２は、ダイス２１内において作製したい焼結体の外形より少し大きめの開口をなすように配置される。
【００３６】
パンチ３０は、型２０のインサートダイス２２内に嵌め込まれた下部パンチ３１および上部パンチ３２を有しており、これらの間に処理物１０が挟み込まれて上下方向（図４および図５におけるＺ方向）に一軸加圧されるようになっている。
【００３７】
以下の説明において、下部パンチ３１および上部パンチ３２による加圧方向（図４において上下方向）をＺ方向とし、これに直交する平面をＸＹ平面とする。
【００３８】
下部パンチ３１と処理物１０との間には、厚さ調整用の下部スペーサ３３が設けられている。上部パンチ３２と処理物１０との間には、厚さ調整用の上部スペーサ３４が設けられている。なお、処理物１０と下部スペーサ３３との間、または処理物１０と上部スペーサ３４との間、インサートダイス２２の内側などに、カーボン製のシート（図示せず）を挿入する場合もある。
【００３９】
ここまでに挙げた構成要素（処理物１０、ダイス２１、インサートダイス２２、下部パンチ３１、上部パンチ３２、下部スペーサ３３および上部スペーサ３４）は、焼結時には均一に高温となることが望ましい。そのため、これらのうち処理物１０以外は、カーボン（具体的には、カーボングラファイト）により構成されている。
【００４０】
本体３Ａは、更に、下部断熱板５１と、上部断熱板５２と、断熱材５３とを有している。
【００４１】
下部断熱板５１および上部断熱板５２は、本体３Ａを上下から挟み込むことにより、本体３Ａから金属製の支持台３Ｂまたは加圧ラム２Ａに熱が容易に逃げるのを抑え、断熱性を確保するものである。下部断熱板５１は、下部パンチ３１と支持台３Ｂとの間に設けられている。上部断熱板５２は、上部パンチ３２の上に設置され、上部断熱板５２の上面に加圧ラム２Ａが接触するようになっている。下部断熱板５１および上部断熱板５２はいずれも、例えばセラミック製である。
【００４２】
断熱材５３は、ダイス２１の外表面で発熱した熱が外方拡散するのを抑えるものであり、下部断熱板５１と上部断熱板５２との間の部材すなわち型２０およびパンチ３０の表面（側面、上面および下面）に巻装されている。断熱材５３は、セラミックファイバーなどにより構成されている。
【００４３】
また、この焼結装置１は、被覆部材４を有している。被覆部材４は、非可搬部２に装填された可搬部３を概略密閉状態に包囲し、図６に示したように、可搬部３を概略密閉状態に包囲した状態で非可搬部２から分離可能である。これにより、この焼結装置１では、高い生産性を維持すると共に型２０の消耗を抑えることが可能となっている。
【００４４】
すなわち、被覆部材４が可搬部３を概略密閉状態に包囲していることにより、焼結時の高温下での型２０と大気中の酸素との反応が抑えられ、型２０の消耗を抑えることが可能となる。また、焼結が完了すると、可搬部３を、被覆部材４により概略密閉状態に包囲された状態で固定部２から分離し、冷却のため別の場所へ移動させることが可能となる。よって、直ちに次の焼結を開始可能となり、大気加圧焼結型の高い生産性が維持される。
【００４５】
被覆部材４は、例えば、本体３Ａの上面（すなわち上部断熱板５２の上面５２Ａ）との面接触により吊支されていることが好ましい。焼結の進行に伴って処理物１０の厚みが減少し、上部パンチ３２および上部断熱板５２が下降した場合にも、被覆部材４の自重により気密性を維持することが可能となる。
【００４６】
被覆部材４と本体３Ａの上面（すなわち上部断熱板５２の上面５２Ａ）との接面性については、被覆部材４と本体３Ａの上面（すなわち上部断熱板５２の上面５２Ａ）との隙間Ｇ１から加熱された内部気体が通り抜けることを最小限とするため、可能な限り平面と平面とで接面し、かつ接触面積は大きいほうが好ましい。
【００４７】
また、被覆部材４の下端部と支持台３Ｂの側面との間に、通気可能な隙間Ｇ２が設けられていることが好ましい。被覆部材４内部の気体が隙間Ｇ２から最小限で流出入することが可能となり、被覆部材４の破損を抑えることが可能となる。
【００４８】
隙間Ｇ２は、内部気体の膨張・収縮に伴う最小限の気体の流出入が行われればよく、これにより被覆部材４の破損を抑えることが可能となる。隙間Ｇ２は、例えば０．５ｍｍとすることが可能である。しかしながら、隙間Ｇ２はこの数値に限ったものではなく、焼結装置１全体の径と効果により最適値は異なりうる。
【００４９】
被覆部材４は、例えば、石英ガラスにより構成されていることが好ましい。石英ガラスは、型２０の温度を測定するための放射温度計６１からの赤外線を通過させ、絶縁性、耐熱性に優れているからである。更に、被覆部材４は、内部に気泡を含有することにより保温性を高めた石英材料により構成されていることも可能である。
【００５０】
図７は、この焼結装置１を用いた焼結体の製造方法の流れを表したものである。
【００５１】
まず、例えば、主原料粉および添加物原料粉を混合および乾燥し、処理物１０を調製する（ステップＳ１０１）。
【００５２】
次いで、型２０内に下部パンチ３１および下部スペーサ３３を設置し、処理物１０を充填し、上部スペーサ３４および上部パンチ３２を載せる。これにより、型２０に処理物１０が収容される（ステップＳ１０２）。パンチ３０を下部断熱板５１および上部断熱板５２で上下から挟み込み、型２０の周りに断熱材５３を巻き付けて、本体３Ａを形成する。この本体３Ａを支持台３Ｂ上に載せることにより、可搬部３が形成される。
【００５３】
続いて、大気中に設置された非可搬部２に、可搬部３を装填する（ステップＳ１０３）。
【００５４】
そののち、可搬部３に被覆部材４を被せ、図４に示したように、被覆部材４により可搬部３を概略密閉状態に包囲する（ステップＳ１０４）。
【００５５】
可搬部３に被覆部材４を被せたのち、加圧ラム２Ａおよび高周波誘導コイル４１のセッティングおよび軸（位置）調整を同時に行い、被覆部材４のセッティングを完了する。
【００５６】
続いて、加圧ラム２Ａに圧力を加えて初期加圧を行い（ステップＳ１０５）、加熱を開始する。このようにして、被覆部材４により可搬部３を概略密閉状態に包囲した状態で可搬部３内の処理物１０を加圧および加熱し、所望の焼結工程を行う（ステップＳ１０６）。その際、型２０の温度を、放射温度計６１により測定する。被覆部材４は石英材料により構成されているので、放射温度計６１からの赤外線を透過させることが可能となる。
【００５７】
ここでは、非可搬部２に装填された可搬部３を被覆部材４により概略密閉状態に包囲するようにしたので、被覆部材４の内部と外部との通気が最小限になり、焼結時の高温下での型２０と大気中の酸素との反応が抑えられ、型２０の消耗が抑えられる。
【００５８】
被覆部材４は、例えば、本体３Ａの上面（すなわち上部断熱板５２の上面５２Ａ）との面接触により吊支されている。よって、被覆部材４と本体３Ａの上面（すなわち上部断熱板５２の上面５２Ａ）との隙間Ｇ１から加熱された内部気体が通り抜けることは最小限に抑えられる。また、焼結の進行に伴って処理物１０の厚みが減少し、上部パンチ３２および上部断熱板５２が下降した場合にも、被覆部材４の自重により被覆部材４と本体３Ａの上面（すなわち上部断熱板５２の上面５２Ａ）との面接触が維持され、気密性が維持される。
【００５９】
被覆部材４の下端部と支持台３Ｂの側面との間には、通気可能な隙間Ｇ２が設けられている。よって、隙間Ｇ２により内部気体の最小限の流出入が確保され、被覆部材４の破損が回避される。
【００６０】
焼結（ここで言う「焼結」とは、所望の加圧加熱を指す。加圧しない冷却時間は含まない。）が完了すると、冷却を行う（ステップＳ１０７）。真空下もしくは特定の雰囲気下で焼結を行った場合には、少なくとも上記したカーボン製の構成要素（型２０、パンチ３０等）が酸化しない温度、または雰囲気の変化が処理物１０または焼結体に影響を与えなくなる温度帯に下がるまで真空容器から取り出すことが極めて困難である。
【００６１】
一方、大気加圧焼結の場合には、もともと大気雰囲気で焼結を行うので、焼結後、冷却が完了するまで可搬部３を焼結装置１内においておかなくてもよい。よって本実施の形態では、焼結完了と共に加圧ラム２Ａおよび高周波誘導コイル４１を上方に退避させ、図６に示したように、被覆部材４により可搬部３を概略密閉状態に包囲した状態で可搬部３を非可搬部２から分離し、別の場所に移動し、そこで冷却する。従って、既に焼結が完了して冷却中の可搬部３が焼結装置１を占有することなく、すぐに次の焼結を開始することが可能となり、処理能力が向上する。
【００６２】
冷却完了後、型２０から焼結体を取り出す（ステップＳ１０８）。以上により、本実施の形態による焼結体の製造方法が完了する。
【００６３】
上述した製造方法と同様にして、図４に示した焼結装置１を用い、１２００℃で焼結を繰り返した。図８は、その際の型２０の直径と使用回数との関係を調べた実験結果を表したものである。また、図８には、上述した参考例１の実験結果を併せて示す。参考例１の焼結装置１０１は、上述したように、被覆部材４０を設けないことを除いては本実施の形態と同様の構成を有している。
【００６４】
図８から分かるように、被覆部材４を用いる本実施の形態では、型２０の消耗度は参考例１の約１０分の１（１／１０）以下に抑えられていた。これは、被覆部材４の内部に外気が容易に流入または通過しにくく、真空または制御雰囲気下で加圧焼結を行う場合に近い、擬似的な密閉空間が形成されているからであると考えられる。
【００６５】
すなわち、焼結時に可搬部３を被覆部材４で概略密閉状態に包囲するようにすれば、焼結時の高温下での型２０と大気中の酸素との反応を抑え、型２０の消耗を抑えることが可能となることが分かった。
【００６６】
図９は、上記の焼結実験において、型２０の一定時間経過後の中心部付近の温度について、型２０の使用回数１回目の温度を基準としたときの、２回目以降の温度と１回目の温度との差を調べた結果を表したものである。また、図９には、上述した参考例１の実験結果を併せて示す。
【００６７】
図９から分かるように、被覆部材４を用いる本実施の形態では、型２０の中心部付近の温度が、焼結回数を重ねてもほとんど変化しなくなっていた。すなわち、焼結時に可搬部３を被覆部材４で概略密閉状態に包囲するようにすれば、焼結回数にかかわらず温度履歴をほぼ同じにすることが可能となることが分かった。これにより、型２０内の処理物１０を焼結して得られた焼結体の密度や結晶性、組成などの制御性や均一性の改善が期待される。
【００６８】
（ターゲット）
図１０は、図４に示した焼結装置１を用いて製造されたターゲット材を有するターゲットの平面構成の一例を表したものである。このターゲット７１は、半導体装置やフラットパネル表示装置の製造工程においてスパッタリング成膜に用いられるものであり、ターゲット材７１Ａをバッキングプレート（裏板）７１Ｂにボンディング材（図示せず）を用いて貼り付けた構成を有している。
【００６９】
このターゲット材７１Ａは、図７に示した焼結体の製造方法により製造されたものである。すなわち、このターゲット材７１Ａは、大気中に設置された非可搬部２に、ターゲット原料を含む処理物１０を収容した型２０を有する可搬部３を装填し、被覆部材４により可搬部３を概略密閉状態に包囲した状態で型２０内の処理物１０を加圧および加熱することにより製造されたものである。これにより、このターゲット材７１Ａは、生産性が高いことおよび型２０の消耗が抑えられることにより、コスト低減が可能となっている。また、被覆部材４により形成された疑似的な密閉空間内で焼結されているので、密度や結晶性、組成などの制御性や均一性が改善されている。
【００７０】
バッキングプレート７１Ｂは、例えば銅（Ｃｕ）により構成されている。バッキングプレート７１Ｂの周縁部には、取り付け用ねじ孔７１Ｃが設けられている。ボンディング材は、例えばインジウム（Ｉｎ）により構成されている。
【００７１】
なお、ターゲット材７１Ａおよびターゲット７１は、図１０に示したような円形に限らず、方形などの他の形状でもよい。図１１は、ターゲットの平面構成の他の例を表したものである。このターゲット７２は、方形の複数枚（例えば４枚）のターゲット材７２Ａをバッキングプレート（裏板）７２Ｂにボンディング材（図示せず）を用いて貼り付けた構成を有している。ターゲット材７２Ａは、ターゲット材７２Ａの熱膨張を吸収する程度の微少な隙間（例えば１ｍｍ未満）を設けてバッキングプレート７２Ｂ上に並べられている。このことを除いては、ターゲット７２は、図１０に示したターゲット７１と同様である。
【００７２】
このように本実施の形態の焼結装置１では、被覆部材４を設け、この被覆部材４は、非可搬部２に装填された可搬部３を概略密閉状態に包囲し、可搬部３を概略密閉状態に包囲した状態で非可搬部２から分離可能としている。また、本実施の形態の焼結体の製造方法では、被覆部材４により可搬部３を概略密閉状態に包囲した状態で型２０内の処理物１０を加圧および加熱したのち、被覆部材４により可搬部３を概略密閉状態に包囲した状態で可搬部３を非可搬部２から分離するようにしている。このように可搬部３に被覆部材４を被せて可搬部３を覆うことにより、可搬部３の周囲に持ち運び可能な略密閉空間を形成し、高い生産性を維持すると共に型２０の消耗を抑えることが可能となる。
【００７３】
本実施の形態のターゲット材７１Ａ，７２Ａでは、被覆部材４により可搬部３を概略密閉状態に包囲した状態で型２０内の処理物１０を加圧および加熱することにより製造されているので、生産性を維持した状態で型２０の消耗が抑えられることにより、コスト低減が可能となる。また、密度や結晶性、組成などの制御性や均一性を改善し、高性能・高品質なターゲット材７１Ａ，７２Ａを得ることが可能となる。
【００７４】
（第２の実施の形態）
図１２は、本開示の第２の実施の形態に係る焼結装置１Ａの断面構成を表したものである。本実施の形態は、上記第１の実施の形態において、本体３Ａの上面（上部断熱板５２の上面５２Ａ）に段差を設けるようにしたものである。このことを除いては、この焼結装置１Ａは、上記第１の実施の形態の焼結装置１と同様の構成、作用および効果を有している。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。
【００７５】
非可搬部２は、第１の実施の形態と同様に構成されている。
【００７６】
可搬部３の上部断熱板５２以外の構成要素は、第１の実施の形態と同様に構成されている。
【００７７】
この焼結装置１Ａは、第１の実施の形態と同様に、被覆部材４を有している。被覆部材４は、第１の実施の形態と同様に、非可搬部２に装填された可搬部３を概略密閉状態に包囲し、図１３に示したように、可搬部３を概略密閉状態に包囲したまま非可搬部２から分離可能である。これにより、この焼結装置１Ａでは、第１の実施の形態と同様に、高い生産性を維持すると共に型２０の消耗を抑えることが可能となっている。
【００７８】
被覆部材４は、第１の実施の形態と同様に、本体３Ａの上面（すなわち上部断熱板５２の上面５２Ａ）との面接触により吊支されている。被覆部材４の下端部と支持台３Ｂの側面との間には、第１の実施の形態と同様に、通気可能な隙間Ｇ２が設けられている。
【００７９】
本体３Ａの上面（すなわち上部断熱板５２の上面５２Ａ）は、被覆部材４と面接触する外周部５２Ｂと、外周部５２Ｂよりも内側の内周部５２Ｃとの間に段差５２Ｄを有している。本体３Ａの上面に対する被覆部材４の相対位置関係は、段差５２Ｄにより規定されている。外周部５２Ｂと内周部５２Ｃとは同心円状の平面形状をなしている。これにより、この焼結装置１Ａでは、本体３Ａの上面における被覆部材４の位置決めが容易になる。よって、例えば可搬部３に被覆部材４を被せる際に、被覆部材４の下端部と支持台３Ｂの側面との間に微小な隙間Ｇ２を作りやすくなる。また、例えば焼結完了後に可搬部３に被覆部材４を被せて移動させる際に、被覆部材４が位置ずれを起こすことが回避される。
【００８０】
段差５２Ｄの高さ（外周部５２Ｂと内周部５２Ｃとの高さの差）は大きくとらなくても、被覆部材４の位置決めが可能な厚さであればよく、概略被覆部材４の厚さ以上であれば足りる。
【００８１】
（第３の実施の形態）
図１４は、本開示の第３の実施の形態に係る焼結装置１Ｂの断面構成を表したものである。本実施の形態は、上記第１の実施の形態において、被覆部材４に、本体３の上面（上部断熱板５２の上面）の角部に倣う段差４Ａを設けるようにしたものである。このことを除いては、この焼結装置１Ｂは、上記第１の実施の形態の焼結装置１と同様の構成、作用および効果を有している。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。
【００８２】
非可搬部２および可搬部３は、第１の実施の形態と同様に構成されている。
【００８３】
この焼結装置１Ｂは、第１の実施の形態と同様に、被覆部材４を有している。被覆部材４は、第１の実施の形態と同様に、非可搬部２に装填された可搬部３を概略密閉状態に包囲し、図１５に示したように、可搬部３を概略密閉状態に包囲したまま非可搬部２から分離可能である。これにより、この焼結装置１Ｂでは、第１の実施の形態と同様に、高い生産性を維持すると共に型２０の消耗を抑えることが可能となっている。
【００８４】
被覆部材４は、第１の実施の形態と同様に、本体３Ａの上面（すなわち上部断熱板５２の上面５２Ａ）との面接触により吊支されている。被覆部材４の下端部と支持台３Ｂの側面との間には、第１の実施の形態と同様に、通気可能な隙間Ｇ２が設けられている。
【００８５】
被覆部材４は、本体３Ａの上面（すなわち上部断熱板５２の上面５２Ａ）の角部に倣う段差４Ａを有している。本体３Ａの上面に対する被覆部材４の相対位置関係は、段差４Ａにより規定されている。これにより、この焼結装置１Ｂでは、本体３Ａの上面における被覆部材４の位置決めが容易になる。よって、例えば可搬部３に被覆部材４を被せる際に、被覆部材４の下端部と支持台３Ｂの側面との間に微小な隙間Ｇ２を作りやすくなる。また、例えば焼結完了後に可搬部３に被覆部材４を被せたまま移動させる際に、被覆部材４が位置ずれを起こすことが回避される。とくに、上部断熱板５２の上面５２Ａに何らかの理由で段差５２Ｄを設けることが難しい場合に好適である。
【００８６】
段差４Ａの高さは大きくとらなくても、被覆部材４の位置決めが可能な厚さであればよく、概略被覆部材４の厚さ以上であれば足りる。
【００８７】
（第４の実施の形態）
図１６は、本開示の第４の実施の形態に係る焼結装置１Ｃの断面構成を表したものである。本実施の形態は、被覆部材４を２ピース構成とし、筒状の下部被覆部材４Ｂに蓋状の上部被覆部材４Ｃを被せるようにしたものである。このことを除いては、この焼結装置１Ｃは、上記第１の実施の形態の焼結装置１と同様の構成、作用および効果を有している。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。
【００８８】
非可搬部２および可搬部３は、第１の実施の形態と同様に構成されている。
【００８９】
この焼結装置１Ｃは、第１の実施の形態と同様に、被覆部材４を有している。被覆部材４は、第１の実施の形態と同様に、非可搬部２に装填された可搬部３を概略密閉状態に包囲し、図１７に示したように、可搬部３を概略密閉状態に包囲した状態で非可搬部２から分離可能である。これにより、この焼結装置１Ｃでは、第１の実施の形態と同様に、高い生産性を維持すると共に型２０の消耗を抑えることが可能となっている。
【００９０】
被覆部材４は、下部被覆部材４Ｂと、上部被覆部材４Ｃとの二つに分かれた構成を有している。下部被覆部材４Ｂは、支持台３Ｂとの面接触により支持されている。上部被覆部材４Ｃは、本体３Ａの上面（上部断熱板５２の上面５２Ａ）との面接触により吊支されている。下部被覆部材４Ｂと上部被覆部材４Ｃとの間に、通気可能な隙間Ｇ２が設けられている。このように被覆部材４を２ピース構成とすることにより、被覆部材４を小型化し製造を容易にすることが可能となる。また、被覆部材４の全体を本体３Ａの上面（上部断熱板５２の上面５２Ａ）との面接触により吊支する場合に比べて、被覆部材４の厚みを薄くしながら耐久性を確保することが可能となる。
【００９１】
下部被覆部材４Ｂは、支持台３Ｂの上に載置され、円筒壁面を形成している。下部被覆部材４Ｂと支持台３Ｂとの接面性については、下部被覆部材４Ｂと支持台３Ｂとの隙間Ｇ１から加熱された内部気体が通り抜けることを最小限とするため、可能な限り平面と平面とで接面し、かつ接触面積は大きいほうが好ましい。
【００９２】
上部被覆部材４Ｃは、加圧ラム２Ａを通過させるため中心部が中空な円盤状部材である。上部被覆部材４Ｃの外周部は、下部被覆部材４Ｂの外側で下方に折り曲げられている。
【００９３】
上部被覆部材４Ｃは、上述したように、本体３Ａの上面（すなわち上部断熱板５２の上面５２Ａ）との面接触により吊支されていることが好ましい。焼結の進行に伴って処理物１０の厚みが減少し、上部パンチ３２および上部断熱板５２が下降した場合にも、上部被覆部材４Ｃの自重により気密性を維持することが可能となる。
【００９４】
上部被覆部材４Ｃおよび下部被覆部材４Ｂは、本体３Ａの側面に沿って互いに重なり合う二重部分４Ｄを有している。隙間Ｇ２は、二重部分４Ｄにおける上部被覆部材４Ｃと下部被覆部材４Ｂとの間に設けられている。
【００９５】
隙間Ｇ２は、内部気体の膨張・収縮に伴う最小限の気体の流出入が行われればよく、これにより被覆部材４の破損を抑えることが可能となる。隙間Ｇ２は、例えば０．５ｍｍとすることが可能である。しかしながら、隙間Ｇ２はこの数値に限ったものではなく、焼結装置１Ｃ全体の径と効果により最適値は異なりうる。
【００９６】
（第５の実施の形態）
図１８は、本開示の第５の実施の形態に係る焼結装置１Ｄの断面構成を表したものである。本実施の形態は、被覆部材４を２ピース構成とし、筒状の下部被覆部材４Ｂに、円盤状の上部被覆部材４Ｅを遊嵌するようにしたものである。このことを除いては、この焼結装置１Ｄは、上記第５の実施の形態の焼結装置１と同様の構成、作用および効果を有している。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。
【００９７】
非可搬部２および可搬部３は、第１の実施の形態と同様に構成されている。
【００９８】
この焼結装置１Ｄは、第１の実施の形態と同様に、被覆部材４を有している。被覆部材４は、第１の実施の形態と同様に、非可搬部２に装填された可搬部３を概略密閉状態に包囲し、図１９に示したように、可搬部３を概略密閉状態に包囲したまま非可搬部２から分離可能である。これにより、この焼結装置１Ｂでは、第１の実施の形態と同様に、高い生産性を維持すると共に型２０の消耗を抑えることが可能となっている。
【００９９】
被覆部材４は、第４の実施の形態と同様に、下部被覆部材４Ｂと、上部被覆部材４Ｃとの二つに分かれた構成を有している。下部被覆部材４Ｂは、支持台３Ｂとの面接触により支持されている。上部被覆部材４Ｃは、本体３Ａの上面（上部断熱板５２の上面５２Ａ）との面接触により吊支されている。下部被覆部材４Ｂと上部被覆部材４Ｃとの間に、通気可能な隙間Ｇ２が設けられている。このように被覆部材４を２ピース構成とすることにより、被覆部材４を小型化し製造を容易にすることが可能となる。また、被覆部材４の全体を本体３Ａの上面との面接触により吊支する場合に比べて、被覆部材４の厚みを薄くしながら耐久性を確保することが可能となる。
【０１００】
下部被覆部材４Ｂは、第４の実施の形態と同様に構成されている。
【０１０１】
上部被覆部材４Ｅは、本体３Ａの上面（上部断熱板５２の上面５２Ａ）に面接触する円盤部４Ｆと、円盤部４Ｆの外端に円盤部４Ｆに対して垂直に設けられた鍔部４Ｇとを有している。隙間Ｇ２は、鍔部４Ｇと下部被覆部材４Ｂとの間に設けられている。これにより、焼結の進行に伴って処理物１０の厚みが減少した際に、処理物１０の収縮量と下部被覆部材４Ｂのサイズとの関係の制約を緩くすることが可能となる。
【０１０２】
すなわち、処理物１０の収縮量は、処理物１０の材料種、充填量または枚数に依存し、これらが多ければ多いほど収縮量が大きくなる可能性が高い。よって処理物１０の枚数が少ない時と多い時とで下部被覆部材４Ｂのサイズを変更することが望ましい。更に、上部被覆部材４Ｅの鍔部４Ｇと下部被覆部材４ＢとのＺ方向の重なり量すなわち隙間Ｇ２の長さＬ２が、処理物１０の収縮量に依って変化し、このことから気体の流出入をつかさどるコンダクタンスが変化するおそれもある。
【０１０３】
本実施の形態では、隙間Ｇ２が、下部被覆部材４Ｂの内壁側、すなわち鍔部４Ｇと下部被覆部材４Ｂとの間に設けられているので、処理物１０の量や枚数などに依らず、隙間Ｇ２のコンダクタンスの変動を小さく抑えることが可能となる。
【０１０４】
（第６の実施の形態）
図２０は、本開示の第６の実施の形態に係る焼結装置１Ｅの断面構成を表したものである。本実施の形態は、被覆部材４を、支持台３Ｂとの面接触により支持し、被覆部材４と本体３Ａの側面（上部断熱板５２の側面５２Ｆ）との間に隙間Ｇ２を設けるようにしたものである。このことを除いては、この焼結装置１Ｅは、上記第１の実施の形態の焼結装置１と同様の構成、作用および効果を有している。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。
【０１０５】
非可搬部２は、第１の実施の形態と同様に構成されている。
【０１０６】
可搬部３の上部断熱板５２以外の構成要素は、第１の実施の形態と同様に構成されている。
【０１０７】
この焼結装置１Ｅは、第１の実施の形態と同様に、被覆部材４を有している。被覆部材４は、第１の実施の形態と同様に、非可搬部２に装填された可搬部３を概略密閉状態に包囲し、図２１に示したように、可搬部３を概略密閉状態に包囲したまま非可搬部２から分離可能である。これにより、この焼結装置１Ｅでは、第１の実施の形態と同様に、高い生産性を維持すると共に型２０の消耗を抑えることが可能となっている。
【０１０８】
被覆部材４は、支持台３Ｂとの面接触により支持されている。被覆部材４と本体３Ａの側面（上部断熱板５２の側面５２Ｆ）との間に、通気可能な隙間Ｇ２が設けられている。これにより、被覆部材４を第１の実施の形態と同様の１ピース構成としながらも、被覆部材４を本体３Ａの上面（上部断熱板５２の上面５２Ａ）で吊支する場合に比べて被覆部材４の支持の負担を軽減することが可能となる。
【０１０９】
上部断熱板５２は、隙間Ｇ２を形成するため、第１の実施の形態よりも厚みを厚くすることが好ましい。または、図２０および図２１に示したように、第１上部断熱板５２Ｇと第２上部断熱板５２Ｈとの２枚以上の積層構成とすることが好ましい。
【０１１０】
（第７の実施の形態）
図２２は、本開示の第７の実施の形態に係る焼結装置１Ｆの断面構成を表したものである。本実施の形態は、上記第１の実施の形態において、被覆部材４にガス導入管５を接続するようにしたものである。このことを除いては、この焼結装置１Ｆは、上記第１の実施の形態の焼結装置１と同様の構成、作用および効果を有している。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。
【０１１１】
非可搬部２および可搬部３は、第１の実施の形態と同様に構成されている。
【０１１２】
この焼結装置１Ｆは、第１の実施の形態と同様に、被覆部材４を有している。被覆部材４は、第１の実施の形態と同様に、非可搬部２に装填された可搬部３を概略密閉状態に包囲し、図２３に示したように、可搬部３を概略密閉状態に包囲したまま非可搬部２から分離可能である。これにより、この焼結装置１Ｂでは、第１の実施の形態と同様に、高い生産性を維持すると共に型２０の消耗を抑えることが可能となっている。
【０１１３】
被覆部材４は貫通孔４Ｈを有し、この貫通孔４Ｈにガス導入管５が挿着されている。被覆部材４は、可搬部３の周囲に概略密閉状態を構成するものであるが、被覆部材４の内側に残留した酸素によってある程度の酸化が進行し、型２０がある程度消耗するおそれがある。被覆部材４にガス導入管５を取り付けることにより、被覆部材４の内側に不活性ガスなどを導入し、酸化による型２０の消耗を更に抑制することが可能となる。
【０１１４】
図２４は、この焼結装置１Ｆを用いた焼結体の製造方法の流れを表したものである。
【０１１５】
まず、例えば、主原料粉および添加物原料粉を混合および乾燥し、処理物１０を調製する（ステップＳ１０１）。
【０１１６】
次いで、型２０内に下部パンチ３１および下部スペーサ３３を設置し、処理物１０を充填し、上部スペーサ３４および上部パンチ３２を載せる。これにより、型２０に処理物１０が収容される（ステップＳ１０２）。パンチ３０を下部断熱板５１および上部断熱板５２で上下から挟み込み、型２０の周りに断熱材５３を巻き付けて、本体３Ａを形成する。この本体３Ａを支持台３Ｂ上に載せることにより、可搬部３が形成される。
【０１１７】
続いて、大気中に設置された非可搬部２に、可搬部３を装填する（ステップＳ１０３）。
【０１１８】
そののち、可搬部３に被覆部材４を被せ、図２２に示したように、被覆部材４により可搬部３を概略密閉状態に包囲する（ステップＳ１０４）。
【０１１９】
可搬部３に被覆部材４を被せたのち、加圧ラム２Ａおよび高周波誘導コイル４１のセッティングおよび軸（位置）調整を同時に行い、被覆部材４のセッティングを完了する。そののち、加圧ラム２Ａに圧力を加えて初期加圧を行う（ステップＳ１０５）。
【０１２０】
続いて、ガス導入管５により被覆部材４の内側にガスを導入する。ガスの導入方式には、連続導入と、ステップ導入の二通りがある。以下、順次説明する。
【０１２１】
（ガス連続導入）
ガスを連続して導入する場合には、初期加圧を行ったのち、例えばＡｒガスを一定時間導入し、被覆部材４の内側のガスの置換を行う（ステップＳ２０１）。このとき、ガスとしては、Ａｒ，Ｈｅ，Ｎｅ，Ｋｒ，Ｘｅなどの不活性ガス，窒素（Ｎ2）または二酸化炭素（ＣＯ2）を導入することが好ましい。
【０１２２】
ガス置換を行ったのち、ガスを流した状態を維持して加熱を開始する。このようにして、被覆部材４により可搬部３を概略密閉状態に包囲したまま可搬部３内の処理物１０を加圧および加熱し、所望の焼結工程を行う（ステップＳ２０２）。
【０１２３】
焼結が完了すると、ガスを流した状態を維持したまま、冷却を行う（ステップＳ２０３）。焼結完了と共に加圧ラム２Ａを上方に退避させ、図２３に示したように、被覆部材４により可搬部３を概略密閉状態に包囲した状態で可搬部３を非可搬部２から分離し、別の場所に移動し、そこで冷却する。冷却時もガスを流した状態を維持する。
【０１２４】
冷却完了後、型２０から焼結体を取り出す（ステップＳ１０８）。以上により、本実施の形態による焼結体の製造方法（ガス連続導入の場合）が完了する。
【０１２５】
（ガスステップ導入）
ガスをステップ導入する場合は、図２５に示したように、更に三つの場合に分けられる。第１の場合は、ガス置換時および冷却時はガスを導入し、焼結時はガスを停止する。第２の場合は、冷却時のみガスを導入し、ガス置換は行わず、焼結時はガスを停止する。第３の場合は、ガス置換のみ行い、焼結時および冷却時はガスを停止する。なお、図２４は第１の場合のみを表し、第２および第３の場合については省略している。
【０１２６】
（第１の場合：ガス置換時および冷却時のみガスを導入する）
この場合には、初期加圧を行ったのち、例えばＡｒガスを一定時間導入し、被覆部材４の内側のガスの置換を行う（ステップＳ３０１）。ガス置換が完了したら、ガスを停止する（ステップＳ３０２）。必要に応じてガス導入管５からガス管をはずし、簡易的なキャップを施すことも可能である。これは加圧加熱プロセス中の熱や振動などがガス配管に破損をきたすのを抑えるための予防策である。
【０１２７】
ガス置換が完了してガスを停止したのち、加熱を開始する。このようにして、被覆部材４により可搬部３を概略密閉状態に包囲した状態で可搬部３内の処理物１０を加圧および加熱し、所望の焼結工程を行う（ステップＳ３０３）。このように焼結工程ではガス導入を停止するのは、昇温時には内部気体が熱膨張し、外部からの空気の進入がごく限定されるので、ガスを流し続けなくてもある程度の効果が得られるからである。
【０１２８】
焼結が完了すると、ガス導入管のキャップを外し、ガス管を接続したのちにガス導入を再開し（ステップＳ３０４）、冷却を行う（ステップＳ３０５）。焼結完了と共に加圧ラム２Ａおよび高周波誘導加熱コイル４１を上方に退避させ、図２３に示したように、被覆部材４により可搬部３を概略密閉状態に包囲したまま可搬部３を非可搬部２から分離し、別の場所に移動し、そこで冷却する。冷却時にガス導入を再開する理由は、焼結完了後は外部からの空気の流入が発生するので、被覆部材４の内側の環境維持のためにはその流入量を上回る流量の雰囲気ガスを導入することが望ましいからである。
【０１２９】
冷却完了後、型２０から焼結体を取り出す（ステップＳ１０８）。以上により、本実施の形態による焼結体の製造方法（ガスステップ導入の場合）が完了する。
【０１３０】
ガスステップ導入の場合、ガス導入は、上述したように焼結工程の前後両方に行ってもよいが、図２５に示したように、焼結工程の前のガス置換のみを行うことも可能である。あるいは、同じく図２５に示したように、焼結工程の後の冷却時のみガス導入を行うことも可能である。
【０１３１】
（第８の実施の形態）
図２６は、本開示の第８の実施の形態に係る焼結装置１Ｇの断面構成を表したものである。図２７は、図２６に示した可搬部３を非可搬部２から分離した状態を表している。本実施の形態は、第７の実施の形態において、ガス拡散室６Ａおよびガス吹出し口６Ｂを設けるようにしたものである。このことを除いては、この焼結装置１Ｇは、上記第７の実施の形態の焼結装置１Ｆと同様の構成、作用および効果を有している。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。
【０１３２】
ガス拡散室６Ａは、被覆部材４の上面を二重構造としたものであり、ガス導入管５に結合されると共に本体３Ａを囲んで設けられている。ガス吹出し口６Ｂは、ガス拡散室６Ａの下面側すなわち本体３Ａに接する側に設けられ、多数の孔を有している。このようにガス拡散室６Ａおよびガス吹出し口６Ｂを設けることにより、置換効率改善すなわちガスを均等に分配することが可能となる。なお、孔の径や個数、レイアウトなどは適宜最適設計される。
【０１３３】
（第９の実施の形態）
図２８は、本開示の第９の実施の形態に係る焼結装置１Ｈの断面構成を表したものである。図２９は、図２８に示した可搬部３を非可搬部２から分離した状態を表している。本実施の形態は、第５の実施の形態において、上部被覆部材４Ｃにガス導入管５を接続し、ガス拡散室６Ａおよびガス吹出し口６Ｂを設けるようにしたものである。このことを除いては、この焼結装置１Ｇは、上記第７および第８の実施の形態の焼結装置１Ｆ，１Ｇと同様の構成、作用および効果を有している。
【０１３４】
（第１０の実施の形態）
図３０は、本開示の第１０の実施の形態に係る焼結装置１Ｉの断面構成を表したものである。図３１は、図３０に示した可搬部３を非可搬部２から分離した状態を表している。本実施の形態は、第６の実施の形態において、被覆部材４にガス導入管５を接続し、ガス拡散室６Ａおよびガス吹出し口６Ｂを設けるようにしたものである。このことを除いては、この焼結装置１Ｉは、上記第７および第８の実施の形態の焼結装置１Ｆ，１Ｇと同様の構成、作用および効果を有している。
【０１３５】
（第１１の実施の形態）
図３２は、本開示の第１１の実施の形態に係る焼結装置１Ｊの断面構成を表したものである。図３３は、図３２に示した可搬部３を非可搬部２から分離した状態を表している。本実施の形態は、第５の実施の形態において、下部被覆部材４Ｂの下方にガス導入管５を接続し、ガス拡散室６Ａおよびガス吹出し口６Ｂを設けるようにしたものである。このことを除いては、この焼結装置１Ｇは、上記第７および第８の実施の形態の焼結装置１Ｆ，１Ｇと同様の構成、作用および効果を有している。
【０１３６】
（変形例１）
図３４は、変形例１に係る焼結装置１Ｋの構成を表したものである。本変形例は、第１の実施の形態において、被覆部材４をセラミック製とし、側面に温度測定用開口部４Ｉを設けるようにしたものである。これにより、放射温度計６１からの赤外線を通過させることが可能となり、放射温度計６１による型２０の温度測定が可能となる。
【０１３７】
（変形例２）
図３５は、変形例２に係る焼結装置１Ｌの断面構成を表したものである。本変形例は、第５の実施の形態において、上部被覆部材４Ｃおよび下部被覆部材４Ｂをセラミック製とし、下部被覆部材４Ｂの側面に温度測定用開口部４Ｉを設けるようにしたものである。このことを除いては、この焼結装置１Ｌは、上記変形例１と同様の構成、作用および効果を有している。
【０１３８】
（変形例３）
図３６は、変形例３に係る焼結装置１Ｍの断面構成を表したものである。本変形例は、第５の実施の形態において、上部被覆部材４Ｃをセラミック製、下部被覆部材４Ｂを石英ガラス製とし、温度測定用開口部４Ｉを省略可能としたものである。このことを除いては、この焼結装置１Ｍは、上記変形例２と同様の構成、作用および効果を有している。
【０１３９】
（変形例４）
図３７は、変形例４に係る焼結装置１Ｎの断面構成を表したものである。図３８は、図３７に示した焼結装置１Ｎを上方から見た平面構成を表している。本変形例は、第１の実施の形態において、型２０の外側面から内部方向に向かう穴２３を設けるようにしたものである。このことを除いては、この焼結装置１Ｎは、上記第１の実施の形態の焼結装置１と同様の構成、作用および効果を有している。
【０１４０】
穴２３は、型２０の外側面２０Ａから内部方向に向かって設けられた、温度計測用の穴である。穴２３を設けることにより、この穴２３の奥の端面２３Ａにおける第１の温度Ｔ１を放射温度計６１で計測し、型２０の外表面の変質の影響を抑え、安定した温度計測を行うことが可能となっている。
【０１４１】
すなわち、温度計測は、処理物１０により近い部位で行うことが望ましいが、パンチ３０やインサートダイス２２など、追加加圧によって可動する部材の定点測定は困難である。また、開放型ホットプレス装置の場合には、ダイス２１の外側面２０Ａは酸化によって表面や周縁部の状態が変化するので、より安定した測定部位が求められる。このようなことから、ダイス２１に穴２３を開孔し、型２０の内部で、かつインサートダイス２２に最も近い部位で温度計測を行うことが望ましい。すなわち、穴２３は、穴２３において露出しているインサートダイス２２の外側面２２Ａの温度を測定できるように設けられていることが好ましい。ただし、ダイス２１に対して加圧方向（Ｚ方向）に穴２３を設けた場合には、穴２３の長さ（奥行き）が長くなり、強度的に不利になる。また、ダイス２１の上下方向には構造物が多いことから、放射温度計６１による測定に際しては反射ミラー等の測定光軸路を屈曲させるなどの構造物が必要となり、装置構成が複雑になると共に測定精度の問題も生じるおそれがある。従って、型２０の外側面２０Ａから中心に向かって、加圧方向（Ｚ方向）に垂直な方向（型２０の直径方向）に、型２０の厚み方向の一部に穴２３を設けることが、装置構成の簡素さ、ダイス２１の強度保持、温度測定の精度向上のいずれの観点でも有利である。
【０１４２】
とりわけ、石英ガラスよりなる被覆部材４、または側面に温度測定用開口部４Ｉを有するセラミック製の被覆部材４と、穴２３とを組み合わせて用いることにより、型２０の内部の温度を計測することが可能となる。また、被覆部材４により概略密閉状態を保てるので、雰囲気が変わっても容易に対応可能となる。
【０１４３】
具体的には、穴２３は、ダイス２１の外側面２０Ａから内側面２０Ｂまで設けられていることが好ましい。言い換えれば、穴２３はダイス２１を貫通しているが、ダイス２１とインサートダイス２２とに連通してはいないことが好ましい。穴２３が型２０の全体を貫通している場合には、加圧に伴って処理物１０が穴２３から外部に出てきてしまうおそれがあるからである。また、穴２３がダイス２１とインサートダイス２２とに連通している場合には、加圧しているうちにダイス２１内の穴２３とインサートダイス２２内の穴２３とがずれてしまうおそれがあるからである。
【０１４４】
なお、穴２３の周方向における位置は特に限定されないが、例えば、インサートダイス２２の比較的厚みが大きい位置に設けられていることが望ましい。型２０に巻いてある断熱材５３は、穴２３をよけて巻装されていることが好ましい。
【０１４５】
また、この焼結装置１Ｎは、一端に閉端面２４Ａを有し、他端が開放された閉端管２４を有している。閉端管２４は、閉端面２４Ａをインサートダイス２２の外側面２２Ａに接触させて穴２３に嵌め込まれている。その理由は以下の通りである。密閉型の場合には、真空または不活性ガス中で焼結を行うので、穴２３の奥の端面２３Ａにおける第１の温度Ｔ１を放射温度計６１で計測することが可能である。これに対して、開放型の場合には、大気雰囲気によって焼結のたびに穴２３の最外周（入口近傍）が拡大し、あるいは穴２３そのものが拡大してしまうおそれがある。穴２３に閉端管２４を嵌め込むことにより、穴２３の内部が酸化によって劣化するのを抑え、長期的に安定した温度計測を行うことが可能となる。
【０１４６】
穴２３または閉端管２４の直径ｒと奥行き（長さ）ｄとの比は、例えば、概ね１：１０以上であることが好ましい。これにより、穴２３または閉端管２４内部を擬似的な黒体空洞とみなすことができ、温度計測における絶対値精度を向上させることが可能となる。なお、図３７および図３８では、直径ｒおよび奥行きｄを閉端管２４の直径ｒおよび奥行きｄとして表している。
【０１４７】
このような閉端管２４は、耐酸化性を有する材料により構成されていることが好ましい。具体的には、閉端管２４の構成材料としては、例えば、酸化アルミニウム（アルミナ），酸化ジルコニウム（ジルコニア），酸化ハフニウム（ハフニア）あるいはこれらの複合材料（例えば、サイアロン，コージライト）、炭化ケイ素（シリコンカーバイド）が挙げられる。また、上記の材料によりカーボングラファイトをコーティングまたは被覆した材料でもよい。
【０１４８】
（変形例５）
図３９は、変形例５に係る焼結装置１Ｏの断面構成を表したものである。本変形例は、変形例４において、穴２３を、処理物１０が型２０に収納されたときに、型２０の高さ方向（Ｚ方向）において処理物１０の収納位置と異なる位置に設けるようにしたことを除いては、上記変形例４と同様の構成、作用および効果を有している。従って、同一の構成要素については適宜説明を省略する。
【０１４９】
穴２３は、上述したように、処理物１０が型２０に収納されたときに、型２０の高さ方向（Ｚ方向）において処理物１０の収納位置からずらした位置に設けられている。換言すれば、穴２３は、処理物１０の収納位置の直径方向延長線上を回避して設けられている。これは、応力シミュレーションの結果から、処理物１０の焼結時にインサートダイス２２およびダイス２１に及ぼす応力が、処理物１０の直径方向外方に集中することが分かったからである。このように穴２３をＺ方向において処理物１０の収納位置とは異なる高さに設けることにより、処理物１０からの応力が穴２３に直接加わるのを回避することが可能となる。
【０１５０】
なお、穴２３は、図３９に示したようにＺ方向において処理物１０の収納位置よりも下（低い位置）に設けてもよいし、図示しないがＺ方向において処理物１０の収納位置よりも上（高い位置）に設けてもよい。
【０１５１】
以上、実施の形態を挙げて本開示を説明したが、本開示は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態では、処理物１０の充填量が一段である場合について説明したが、本開示は、処理物１０が一段充填されている場合に限ったことではなく、処理物１０を複数段充填した場合にも適用可能である。その場合、変形例５における穴２３の位置は処理物１０の充填位置や間隔に応じて変更する必要がある。
【０１５２】
また、上記実施の形態では、処理物１０と下部パンチ３１または上部パンチ３２との間に、同じ材料で構成されたカーボンペーパーや上部スペーサ，下部スペーサなどが挟まれている場合について説明した。しかしながら、処理物１０に下部パンチ３１および上部パンチ３２が直接接していてもよい。
【０１５３】
加えて、例えば、上記実施の形態では、焼結装置１，１Ａ〜１Ｏの構成を具体的に挙げて説明したが、全ての構成要素を備える必要はなく、また、他の構成要素を更に備えていてもよい。
【０１５４】
本開示は、主としてセラミック系材料のスパッタリングターゲット用焼結装置およびこれを用いた焼結体の製造方法について有効であり、ターゲット材料を限定するものではない。
【０１５５】
なお、本技術は以下のような構成を取ることも可能である。
（１）
大気中に設置された非可搬部と、
処理物を収容可能な型を有し、前記非可搬部に対して着脱可能に装填される可搬部と、
前記非可搬部に装填された前記可搬部を概略密閉状態に包囲し、前記可搬部を概略密閉状態に包囲したまま前記非可搬部から分離可能な被覆部材と
を備えた焼結装置。
（２）
前記可搬部は、
前記型を有する本体と、
前記本体が載置される支持台と
を有する前記（１）記載の焼結装置。
（３）
前記被覆部材は、前記本体の上面との面接触により吊支され、
前記被覆部材と前記支持台との間に、通気可能な隙間が設けられている
前記（２）記載の焼結装置。
（４）
前記本体の上面または前記被覆部材は、段差を有し、
前記本体の上面に対する前記被覆部材の相対位置関係は、前記段差により規定されている
前記（３）記載の焼結装置。
（５）
前記被覆部材は、前記支持台との面接触により支持され、
前記被覆部材と前記本体の側面との間に、通気可能な隙間が設けられている
前記（２）記載の焼結装置。
（６）
前記被覆部材は、
前記支持台との面接触により支持された下部被覆部材と、
前記本体の上面との面接触により吊支された上部被覆部材と
を有し、
前記下部被覆部材と前記上部被覆部材との間に、通気可能な隙間が設けられている
前記（２）記載の焼結装置。
（７）
前記被覆部材は、石英ガラスにより構成されている
前記（１）ないし（６）のいずれか１項に記載の焼結装置。
（８）
前記被覆部材は、セラミック材料により構成されると共に、側面に温度測定用開口部を有する
前記（１）ないし（６）のいずれか１項に記載の焼結装置。
（９）
前記上部被覆部材は、セラミック材料により構成され、
前記下部被覆部材は、石英ガラスにより構成されている
前記（６）記載の焼結装置。
（１０）
前記被覆部材は貫通孔を有し、前記貫通孔にガス導入管が挿着されている
前記（１）ないし（９）のいずれか１項に記載の焼結装置。
（１１）
前記被覆部材は、
前記ガス導入管に結合されると共に前記本体を囲むガス拡散室と、
前記ガス拡散室に設けられたガス吹出し口と
を有する前記（１０）記載の焼結装置。
（１２）
前記型は、外側面から内部方向に向かう穴を有する
前記（１）ないし（１１）のいずれか１項に記載の焼結装置。
（１３）
前記穴は、前記処理物が前記型に収納されたときに、前記型の高さ方向において前記処理物の収納位置と異なる位置に設けられている
前記（１２）記載の焼結装置。
（１４）
前記非可搬部は、
前記型内の処理物を加圧する加圧部材と、
前記型内の処理物を加熱する加熱部と
を有する前記（１）ないし（１３）のいずれか１項に記載の焼結装置。
（１５）
前記加熱部は、前記型の外側面を誘導加熱する高周波誘導コイルを有する
前記（１４）記載の焼結装置。
（１６）
大気中に設置された非可搬部に、処理物を収容した型を有する可搬部を装填する工程と、
被覆部材により前記可搬部を概略密閉状態に包囲する工程と、
前記被覆部材により前記可搬部を概略密閉状態に包囲した状態で前記型内の処理物を加圧および加熱する工程と、
前記型内の処理物を加圧および加熱したのち、前記被覆部材により前記可搬部を概略密閉状態に包囲した状態で前記可搬部を前記非可搬部から分離する工程と
を含む焼結体の製造方法。
（１７）
前記被覆部材の内側にガスを導入し、
前記ガスを導入する工程を、前記型内の処理物を加圧および加熱する工程の前並びに前記型内の処理物を加圧および加熱する工程の後の一方または両方に行う
前記（１６）記載の焼結体の製造方法。
（１８）
前記被覆部材の内側にガスを導入し、
前記ガスを導入する工程を、前記型内の処理物を加圧および加熱する工程の前から後まで連続して行う
前記（１６）記載の焼結体の製造方法。
（１９）
前記被覆部材の内側にガスを導入し、
前記ガスとして不活性ガス，窒素または二酸化炭素を導入する
前記（１６）ないし（１８）のいずれか１項に記載の焼結体の製造方法。
（２０）
大気中に設置された非可搬部に、ターゲット原料を含む処理物を収容した型を有する可搬部を装填し、被覆部材により前記可搬部を概略密閉状態に包囲した状態で前記型内の処理物を加圧および加熱することにより製造された
ターゲット材。
【符号の説明】
【０１５６】
１，１Ａ〜１Ｏ…焼結装置、２…固定部、２Ａ…加圧ラム、２Ｂ…加熱部、２Ｃ…基礎、３…可搬部、３Ａ…本体、３Ｂ…支持台、４…被覆部材、４Ａ…段差、５…ガス導入管、６Ａ…ガス拡散室、６Ｂ…ガス吹出し口、１０…処理物、２０…型、２１…ダイス、２２…インサートダイス、２３…穴、２４…閉端管、３０…パンチ、３１…下部パンチ、３２…上部パンチ、５１…下部断熱板、５２…上部断熱板、５３…断熱材、６１…放射温度計。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
2015001022.tif 000010
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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