(57)【要約】      （修正有）【課題】被塗布体における塗布開始側の端部の塗り残しを抑制又は解消する。【解決手段】被塗布体を回転させる回転手段２０と、被塗布体に塗布液１６を吐出する吐出手段３６と、塗布液１６を平滑化させる平滑化手段４０と、吐出手段３６及び平滑化手段４０を被塗布体に対して回転軸方向に沿って相対移動させる移動手段５０を有する塗布装置１０において、吐出手段３６を塗布の開始位置から反転位置まで相対移動しながら塗布し、一旦塗布を停止した後さらに反転位置から他端側に相対移動しながら塗布することにより、塗布開始側の端部に対する塗り残しを抑制または解消する。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被塗布体を回転させる回転手段と、
回転する前記被塗布体に塗布液を吐出する吐出手段と、
前記被塗布体に付着した前記塗布液を平滑化させる平滑化手段と、
前記吐出手段及び前記平滑化手段を前記被塗布体に対して回転軸方向に沿って相対移動させる移動手段と、
前記吐出手段及び前記移動手段を制御し、前記被塗布体の塗布開始側の一端よりも塗布終了側の他端側に定められた開始位置に位置決めされた前記吐出手段を、前記開始位置よりも前記一端側の反転位置まで相対移動させると共に前記反転位置又はその手前で前記塗布液の吐出を停止し、前記反転位置から前記吐出手段を前記他端側に相対移動させると共に前記開始位置又はその手前で前記吐出手段から前記塗布液の吐出を再開させる制御手段と、
を備える塗布装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記被塗布体の軸方向の公差範囲の最少長さに基づいて前記反転位置が前記一端を超えないように前記開始位置に前記吐出手段を位置決めするように設定されている、
請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記制御手段は、
前記吐出手段を、前記開始位置から前記反転位置まで移動する相対移動速度と、前記反転位置から他端側に移動する相対移動速度とが、異なるように制御すると共に、
平滑化された前記塗布液が予め定められた範囲の厚みになるように、前記吐出手段の相対移動速度に応じて、前記吐出手段の吐出量を調整する、
請求項１又は請求項２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記被塗布体は、押出成形によって作製され、
前記制御手段は、前記平滑化手段が押出成形によって前記被塗布体の端部に形成された跳上部を跨いで相対移動するときには、相対移動速度を低下させるように設定されている、
請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記吐出手段が前記開始位置から前記反転位置まで相対移動したのち、前記反転位置から他端側に相対移動し前記塗布液の吐出を再開するまで、前記平滑化手段を相対移動しないように設定されている、
請求項１〜請求項４のいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項６】
ロール部材を保持する保持工程と、
保持された前記ロール部材の外周部を構成する被塗布体の塗布開始側の一端よりも塗布終了側の他端側に定められた開始位置に吐出手段を位置決めする位置決工程と、
前記ロール部材を回転させ前記吐出手段から前記塗布液を吐出して前記被塗布体に付着させた前記塗布液を平滑化手段により平滑化し、前記開始位置よりも前記一端側の反転位置まで前記吐出手段を回転軸方向に沿って相対移動させると共に、前記反転位置又はその手前で前記塗布液の吐出を停止する第一塗布工程と、
前記ロール部材を回転させ前記反転位置から前記吐出手段を前記他端側に回転軸方向に沿って相対移動させると共に、前記開始位置又はその手前で前記吐出手段から前記塗布液の吐出を再開し、前記被塗布体に付着させた前記塗布液を前記平滑化手段により平滑化する第二塗布工程と、
を備えるロール部材の製造方法。
【請求項７】
前記位置決工程では、前記被塗布体の軸方向の公差範囲の最少長さに基づいて前記反転位置が前記一端を超えないように前記開始位置が設定されている、
請求項６に記載のロール部材の製造方法。
【請求項８】
前記第一塗布工程と前記第二工程とで、前記吐出手段の相対移動速度が異なり、
平滑化された前記塗布液が予め定められた範囲の厚みになるように、前記吐出手段の相対移動速度に応じて、前記吐出手段の吐出量を調整する、
請求項６又は請求項７に記載のロール部材の製造方法。
【請求項９】
前記被塗布体は、押出成形によって作製され、
前記第一塗布工程及び前記第二塗布工程において、前記制御手段は、前記平滑化手段が押出成形によって前記被塗布体の端部に形成された跳上部を跨いで相対移動するときは、相対移動速度を低下させる、
請求項６〜請求項８のいずれか一項に記載のロール部材の製造方法。
【請求項１０】
前記第一塗布工程では、前記平滑化手段を回転軸方向に沿って相対移動させない、
請求項６〜請求項９のいずれか一項に記載のロール部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布装置及びロール部材の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、回転体に塗液を流下して塗布した後、ブレードにより平滑化して塗膜を形成する塗膜形成方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−１４４２９２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、被塗布体における塗布開始側の端部に対する塗り残しを抑制又は解消することが課題である。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
請求項１の発明は、被塗布体を回転させる回転手段と、回転する前記被塗布体に塗布液を吐出する吐出手段と、前記被塗布体に付着した前記塗布液を平滑化させる平滑化手段と、前記吐出手段及び前記平滑化手段を前記被塗布体に対して回転軸方向に沿って相対移動させる移動手段と、前記吐出手段及び前記移動手段を制御し、前記被塗布体の塗布開始側の一端よりも塗布終了側の他端側に定められた開始位置に位置決めされた前記吐出手段を、前記開始位置よりも前記一端側の反転位置まで相対移動させると共に前記反転位置又はその手前で前記塗布液の吐出を停止し、前記反転位置から前記吐出手段を前記他端側に相対移動させると共に前記開始位置又はその手前で前記吐出手段から前記塗布液の吐出を再開させる制御手段と、を備える。
【０００６】
請求項２の発明は、前記制御手段は、前記被塗布体の軸方向の公差範囲の最少長さに基づいて前記反転位置が前記一端を超えないように前記開始位置に前記吐出手段を位置決めするように設定されている。
【０００７】
請求項３の発明は、前記制御手段は、前記吐出手段を、前記開始位置から前記反転位置まで移動する相対移動速度と、前記反転位置から他端側に移動する相対移動速度とが、異なるように制御すると共に、平滑化された前記塗布液が予め定められた範囲の厚みになるように、前記吐出手段の相対移動速度に応じて、前記吐出手段の吐出量を調整する。
【０００８】
請求項４の発明は、前記被塗布体は、押出成形によって作製され、前記制御手段は、前記平滑化手段が押出成形によって前記被塗布体の端部に形成された跳上部を跨いで相対移動するときには、相対移動速度を低下させるように設定されている。
【０００９】
請求項５の発明は、前記制御手段は、前記吐出手段が前記開始位置から前記反転位置まで相対移動したのち、前記反転位置から他端側に相対移動し前記塗布液の吐出を再開するまで、前記平滑化手段を相対移動しないように設定されている。
【００１０】
請求項６の発明は、ロール部材を保持する保持工程と、保持された前記ロール部材の外周部を構成する被塗布体の塗布開始側の一端よりも塗布終了側の他端側に定められた開始位置に吐出手段を位置決めする位置決工程と、前記ロール部材を回転させ前記吐出手段から前記塗布液を吐出して前記被塗布体に付着させた前記塗布液を平滑化手段により平滑化し、前記開始位置よりも前記一端側の反転位置まで前記吐出手段を回転軸方向に沿って相対移動させると共に、前記反転位置又はその手前で前記塗布液の吐出を停止する第一塗布工程と、前記ロール部材を回転させ前記反転位置から前記吐出手段を前記他端側に回転軸方向に沿って相対移動させると共に、前記開始位置又はその手前で前記吐出手段から前記塗布液の吐出を再開し、前記被塗布体に付着させた前記塗布液を前記平滑化手段により平滑化する第二塗布工程と、を備える。
【００１１】
請求項７の発明は、前記位置決工程では、前記被塗布体の軸方向の公差範囲の最少長さに基づいて前記反転位置が前記一端を超えないように前記開始位置が設定されている。
【００１２】
請求項８の発明は、前記第一塗布工程と前記第二工程とで、前記吐出手段の相対移動速度が異なり、平滑化された前記塗布液が予め定められた範囲の厚みになるように、前記吐出手段の相対移動速度に応じて、前記吐出手段の吐出量を調整する。
【００１３】
請求項９の発明は、前記被塗布体は、押出成形によって作製され、前記第一塗布工程及び前記第二塗布工程において、前記制御手段は、前記平滑化手段が押出成形によって前記被塗布体の端部に形成された跳上部を跨いで相対移動するときは、相対移動速度を低下させる。
【００１４】
請求項１０の発明は、前記第一塗布工程では、前記平滑化手段を回転軸方向に沿って相対移動させない。
【発明の効果】
【００１５】
請求項１に記載の発明によれば、吐出手段が一方から他方に相対移動するときにのみ塗布液を吐出する場合と比較し、被塗布体の塗布開始側の端部に対する塗り残しが抑制又は解消される。
【００１６】
請求項２に記載の発明によれば、被塗布体の軸方向の公差範囲の最少長さを考慮しないで吐出手段の開始位置を位置決めする場合と比較し、被塗布体の一端の軸方向外側に塗布液が塗布されることが容易に防止される。
【００１７】
請求項３に記載の発明によれば、吐出手段の吐出量が一定である場合と比較し、塗布膜の厚みのばらつきが抑制される。
【００１８】
請求項４に記載の発明によれば、相対移動速度が一定である場合と比較し、塗布膜の厚みのばらつきが抑制される。
【００１９】
請求項５に記載の発明によれば、平滑化手段が吐出手段と同期して相対移動する場合と比較し、塗布膜の厚みのばらつきが抑制される。
【００２０】
請求項６に記載の発明によれば、吐出手段が一方から他方に相対移動するときにのみ塗布液を吐出する場合と比較し、被塗布体の塗布開始側の端部に対する塗り残しが抑制又は解消される。
【００２１】
請求項７に記載の発明によれば、被塗布体の軸方向の公差範囲の最少長さを考慮しないで吐出手段の開始位置を位置決めする場合と比較し、被塗布体の一端の軸方向の外側に塗布液が塗布されることが容易に防止される。
【００２２】
請求項８に記載の発明によれば、吐出手段の吐出量が一定である場合と比較し、塗布膜の厚みのばらつきが抑制される。
【００２３】
請求項９に記載の発明によれば、平滑化手段の相対移動速度が一定である場合と比較し、塗布膜の厚みのばらつきが抑制される。
【００２４】
請求項１０に記載の発明によれば、平滑化手段が吐出手段と同期して相対移動する場合と比較し、塗布膜の厚みのばらつきが抑制される。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本実施形態に係る塗布装置の構成を示す正面図である。
【図２】本実施形態に係る塗布装置の要部を模式的に示す断面図である。
【図３】（Ａ）は導電性ゴムロールの塗布開始側の端部を示す正面図であり、（Ｂ）は（Ａ）の○（丸）で囲った部分の拡大図である。
【図４】吐出部が開始位置に位置決めされている状態を示す図である。
【図５】吐出部が図４の開始位置から−Ｘ方向（一方側）に移動しながら塗布液を吐出し塗布膜を形成している状態を示す図である。
【図６】吐出部が図５の位置から−Ｘ方向（一方側）の反転位置に移動して塗布液の吐出を停止している状態を示す図である。
【図７】吐出部が図６の位置から＋Ｘ方向（他方側）に移動して図４の開始位置の直前で吐出を再開した状態を示す図である。
【図８】吐出部が図７の位置から＋Ｘ方向（他方方側）に更に移動しながら塗布液を吐出し塗布膜を形成している状態を示す図である。
【図９】比較例の塗布方法で塗布することで、未塗布部が発生した状態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
＜実施形態＞
本発明の一実施形態に塗布装置１０について説明する。
［全体構成］
まず、塗布装置１０の全体構成について説明する。
【００２７】
図１に示すように、塗布装置１０は、ロール部材の一例としての導電性ゴムロール１００（図２も参照）を回転させる回転手段の一例としての回転装置２０と、回転する導電性ゴムロール１００のゴム層１２０の表面１２０Ａに塗布液１４を吐出して付着させる吐出手段の一例としての吐出部３６を有する吐出装置（ディスペンサ）３０（図２も参照）と、導電性ゴムロール１００のゴム層１２０の表面１２０Ａに付着した塗布液１４を平滑化させる平滑化手段の一例としてのブレード４０（図２も参照）と、吐出部３６及びブレード４０を導電性ゴムロール１００に対して回転軸方向に沿って移動させる移動手段の一例としての移動機構部５０と、回転装置２０と吐出装置３０と移動機構部５０を含む塗布装置１０全体を制御する制御手段の一例としての制御装置６０と、を備えている。
【００２８】
［導電性ゴムロール］
図１及び図２に示すように、導電性ゴムロール１００は、金属製の軸部（シャフト）１１０の周りに被塗布体の一例としての導電性ゴムを主成分とするゴム層１２０が押出成形によって形成された構成となっている。なお、ゴム層１２０を構成する導電性ゴムの体積抵抗率は１０７Ω・ｃｍである。また、具体的な材料は、例えば、エピクロルヒドリンゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム等である。
【００２９】
図１及び図３に示すように、導電性ゴムを主成分とするゴム層１２０の軸方向の両端部１２５、１２７は、Ｃ面取りされている。図３に示すように、このＣ面取りされた斜面部をＣ面部１２２とし、平坦部１２６との境界をＣ面稜線１２４とする。なお、図３及び後述する図４以降の各図では、実際よりもＣ面取部分を大きく図示してある。
【００３０】
また、後述するように、ゴム層１２０の表面１２０Ａには、塗布液１４が塗布され膜厚（層厚）が約１０μｍの塗布膜（表面層）１６（図１参照）が形成されている。
【００３１】
なお、本実施形態の導電性ゴムロール１００は、電子写真方式の画像形成装置の帯電ロールや転写ロールとして使用される。また、搬送ロールや現像ロール等にも用いることが出来る。
【００３２】
［回転装置］
図１に示す回転装置２０は、導電性ゴムロール１００の軸部１１０の端部を保持し、導電性ゴムロール１００を回転させる。なお、本実施形態では、導電性ゴムロール１００（の回転軸心）を水平にした状態で保持すると共に、一方向（矢印Ｂ方向）へ回転するように構成されている。
【００３３】
［吐出装置（ディスペンサ）］
図１及び図２に示すように、吐出装置３０は、塗布液１４を貯留する貯留部３２と、ノズル３４から導電性ゴムロール１００のゴム層１２０の表面１２０Ａに向けて塗布液１４を吐出する吐出部３６と、貯留部３２に貯留され塗布液１４を吐出部３６に供給する供給部３８と、を有している。
【００３４】
供給部３８は、貯留部３２と吐出部３６とに接続された供給管３８Ａと、貯留部３２に貯留された塗布液１４を、供給管３８Ａを通じて吐出部３６に向けて送液する送液部の一例としてのポンプ３８Ｂと、を有している。
【００３５】
吐出装置３０では、貯留部３２に貯留された塗布液１４が、ポンプ３８Ｂによって吐出部３６へ送られ、吐出部３６へ送られた塗布液１４が吐出部３６のノズル３４から導電性ゴムロール１００のゴム層１２０の表面１２０Ａに向けて吐出されるようになっている。
【００３６】
［塗布液］
図１及び図２に示すように、塗布液１４は、導電性ゴムロール１００のゴム層１２０の表面１２０Ａに塗布され塗布膜（表面層）１６（図１参照）となる樹脂溶液であり、具体的には、ナイロン樹脂溶液にナイロンフィラーとカーボンを分散した塗液等である。また、本実施形態では、導電性ゴムロール１００を電子写真方式の画像形成装置で使用する際に、トナー中の外添剤等に対する耐汚染性を確保する為に塗布膜（表面層）１６を形成している。
【００３７】
［ブレード］
図１及び図２に示すように、ブレード４０は、板状に形成されており、例えば、ステンレス鋼（ＳＵＳ）等の金属や樹脂等で構成されている。ブレード４０は、ゴム層１２０の表面１２０Ａに吐出され付着した塗布液１４に接触して均し、塗布液１４を平滑化するように構成されている。そして、このようにブレード４０で平滑化することで、塗布液１４によって形成される塗布膜（表面層）１６（図１参照）の膜厚（層厚）が、予め定められた範囲内に収まるようになっている。
【００３８】
［移動機構部］
図１に示すように、移動機構部５０は、吐出部３６及びブレード４０をそれぞれ個別に導電性ゴムロール１００の軸方向に沿って移動させる。なお、吐出部３６及びブレード４０は、回転軸方向の両方向（後述する−Ｘ方向及び＋Ｘ方向の両方向）に移動可能となっていると共に、移動速度が変更できるようになっている。
【００３９】
具体的には、移動機構部５０は、吐出部３６を支持する吐出部支持部（図示略）とブレード４０を支持するブレード支持部（図示略）と、を有し、ボールネジやベルト等の機械要素を用いて、これら吐出部支持部（図示略）及びブレード支持部（支持略）を導電性ゴムロール１００の回転軸方向に沿って移動するように構成されている。
【００４０】
そして、吐出部３６及びブレード４０が、回転装置２０によって回転する導電性ゴムロール１００の回転軸方向へ沿ってそれぞれ移動しながら、吐出部３６が塗布液１４をゴム層１２０の表面１２０Ａに向けて吐出して塗布液１４をらせん状に塗布すると共に、塗布液１４をブレード４０が平滑にするようになっている（図２も参照）。これにより、導電性ゴムロール１００のゴム層１２０の表面１２０Ａに塗布液１４の塗布膜１６が形成される。
【００４１】
［制御装置］
図１に示すように、制御装置６０は、回転装置２０、吐出装置３０、及び移動機構部５０を含む塗布装置１０全体を制御する。制御装置６０は、吐出装置３０のポンプ３８Ｂを制御することで、塗布液１４の吐出量を調整する。また、制御装置６０は、移動機構部５０を制御することで、吐出部３６及びブレード４０の移動方向及び移動速度を、それぞれ個別に制御する。
【００４２】
［塗布方法］
つぎに、本実施形態の塗布装置１０を用いて、導電性ゴムロール１００のゴム層１２０の表面１２０Ａに塗布液１４を塗布して塗布膜１６を形成する塗布方法について説明する。なお、以下の制御は、上述したように制御装置６０が制御し行っている。
【００４３】
各図における導電性ゴムロール１００の軸方向の左側を一方側（塗布開始側）とし、左側方向を−Ｘ方向（逆走方向）とする（図１を参照）。また、各図における右側を他方側（塗布終了側）とし、右側方向を＋Ｘ方向（順走方向）とする（図１を参照）。また、ゴム層１２０の一方側の端部１２５の端（はし）を一端１２５Ａとし、他方側の端部１２７の端を他端１２７Ａとする（図１等を参照）。
【００４４】
（導電性ゴムロールの製造工程）
図１及び図３（Ａ）に示すように、押出成形によって軸部１１０の周りに導電性ゴムを主成分とするゴム層１２０を形成し、軸方向の両端部１２５、１２７をＣ面取りする。
【００４５】
なお、ゴム層１２０の軸方向の長さ（一端１２５Ａと他端１２５Ｂとの間の長さ）Ｌの公差（ばらつき）αは例えば±０．５ｍｍである。また、このゴム層１２０の軸方向の長さＬの公差（ばらつき）により、図３に示すように、位置決基準である軸部１１０の端面１１０ＡからＣ面稜線１２４までの距離Ｍの公差（ばらつき）βが例えば±０．５ｍｍとなっている。
【００４６】
また、押出成形の場合、ゴム層１２０の端部１２５、１２７が跳ね上がる形状になりやすい。このため本実施形態の場合も、図３（Ｂ）に示すように、Ｃ面稜線１２４の近傍に跳上部１２７が形成されている。
【００４７】
（位置決工程）
図４に示すように、導電性ゴムロール１００を塗布装置１０に取り付ける。吐出装置３０の吐出部３６のノズル３４を、導電性ゴムロール１００のゴム層１２０の端部１２５における一端１２５Ａよりも他端１２５Ｂ側に定められた開始位置Ｋ１に移動して位置決めする。
【００４８】
なお、この開始位置Ｋ１は、ゴム層１２０のＣ面稜線１２４から＋Ｘ方向に距離ｎの位置に設定されている。また、本実施形態においては、この距離ｎは、０．５ｍｍであり、軸部１１０の端面１１０ＡからＣ面稜線１２４までの距離Ｍの公差（ばらつき）の最大値＋β（図３（Ａ）を参照）となっている。
【００４９】
また、ブレード４０を、Ｃ面稜線１２４にかかるように移動して固定する。
【００５０】
（第一塗布工程）
図４及び図５に示すように、導電性ゴムロール１００を回転させた状態で、吐出部３６のノズル３４から塗布液１４を吐出してゴム層１２０の表面１２０Ａに付着させて塗布液１４をブレード４０により平滑化し塗布膜１６を形成する。また、吐出部３６（ノズル３４）を開始位置Ｋ１から−Ｘ方向（一方側）に移動させる。なお、塗布液１４の吐出幅は、約４００μｍである。
【００５１】
図５及び図６に示すように、吐出部３６（ノズル３４）を反転位置Ｋ２まで移動させる。なお、図６に示すように、反転位置Ｋ２又はその手前（直前）で塗布液１４の吐出を停止する。
【００５２】
また、吐出部３６は、開始位置Ｋ１から反転位置Ｋ２には移動速度Ｖ１で移動する。また、制御装置６０（図１参照）は、吐出部３６の移動速度Ｖ１に応じて、塗布膜１６の膜厚が予め定められた範囲内に収まるようにポンプ３８Ｂ（図１を参照）を制御して塗布液１４の吐出量を調整する。
【００５３】
なお、第一塗布工程では、ブレード４０は移動させないで、固定したままである。
【００５４】
（第二塗布工程）
図６及び図７に示すように、導電性ゴムロール１００を回転させた状態で、吐出部３６を反転位置Ｋ２から＋Ｘ方向（他方側）に移動させる。なお、このとき塗布液１４の吐出を停止したまま吐出部３６を移動させる。
【００５５】
しかし、図７に示すように、開始位置Ｋ１又はその手前（直前）で塗布液１４の吐出を再開する。なお、この図７に示す塗布液１４の吐出を再開する位置である開始位置Ｋ１又はその手前（直前）とは、吐出を再開した塗布液１４が、第一塗布工程で塗布された塗布膜１６（塗布液１４）に重ならないようにする位置である。
【００５６】
また、吐出部３６は、反転位置Ｋ２から＋Ｘ方向には、移動速度Ｖ１よりも速い移動速度Ｖ２で移動する。また、制御装置６０（図１参照）は、吐出部３６の移動速度Ｖ２に応じて、塗布膜１６の膜厚が予め定められた範囲内に収まるようにポンプ３８Ｂ（図１を参照）を制御して塗布液１４の吐出量を調整する。つまり、第一塗布工程よりも塗布液１４の吐出量を多くする。
【００５７】
図８に示すように、吐出部３６をさらに＋Ｘ方向に移動させる。このときブレード４０も吐出部３６に同期させて＋Ｘ方向に移動させる。そして、他方の端部１２７まで吐出部３６とブレード４０とを移動させてゴム層１２０の軸方向の全域に亘って塗布膜１６を形成する（図１も参照）。
【００５８】
（仕様の一例）
なお、下記に本実施形態における各種仕様の一例を示す。また、下記「トラバース」とは、吐出部３６及びブレード４０の移動のことである。「逆走」とは、−Ｘ方向の移動を表している。また、図２に示すＪがブレード４０の「たわみ量」である。
【００５９】
吐出開始位置（距離ｎ（開始位置Ｋ１））：Ｃ面稜線１２４から０．５ｍｍ
塗布開始端部吐出時間（第一塗布工程の吐出時間）：０．１５ｓ
逆走トラバース量（開始位置Ｋ１から反転位置Ｋ２までの距離）：１．０ｍｍ
逆走トラバース速度（第一塗布工程の移動速度Ｖ１）：２０ｍｍ／ｓ
吐出開始タイマー（反転位置Ｋ２から吐出を再開するまでの時間）：０．０５ｓ
第二塗布工程のポンプ回転数（ポンプ３８Ｂの回転数）：１５０ｒｐｍ
第二塗液工程の吐出量（測定値）：１．０ｇ／１０ｓ
塗布速度（トラバース速度）（第二工程の移動速度Ｖ２）：４３ｍｍ／ｓ
導電性ゴムロール回転数：８００ｒｐｍ
ブレードの長さ/厚み/幅/たわみ量：５０ｍｍ／０．０８ｍｍ／９ｍｍ／０．５ｍｍ
【００６０】
＜作用＞
つぎに、本実施形態の作用について説明する。
【００６１】
（比較例）
まず、本発明が適用されていない塗布方法で塗布した場合の比較例について説明する。
【００６２】
比較例の塗布方法は、図９に示すように、反転位置Ｋ２に吐出部３６及びブレード４０を位置決めし、吐出部３６及びブレード４０を同期させて＋Ｘ方向に移動し、塗布液１４を吐出して塗布を行う。なお、他の各種仕様は、本実施形態の第二塗布工程と同様である。
【００６３】
この比較例のように塗布すると、導電性ゴムロール１００のゴム層１２０の塗布開始側の端部１２５に対して三角形状の未塗布部分Ｓが発生する場合があることが、本発明者らの実験で判った。また、吐出部３６及びブレード４０の移動速度が速いほど、未塗布部分Ｓが大きくなる（顕著になる）ことが判った。更に、Ｃ面取りしてある場合、Ｃ面稜線１２４の＋Ｘ方向側に発生することが判った。
【００６４】
これは、開始位置がＣ面部１２２の場合は、塗布液１４がブレード４０によって平滑化されないでＣ面部１２２に残り、平坦部１２６に塗布液１４が充分にまわらないまま塗布が進行することで、三角形状の未塗布部分Ｓが発生すると考えられる。
【００６５】
また、導電性ゴムロール１００のゴム層２０は押出成形のため、図３（Ｂ）に示すように、Ｃ面稜線１２４の近傍に跳上部１２７が形成される。よって、ブレード４０を高速で移動させると跳上部１２７にブレード４０の端部が干渉し撓んでいるブレード４０が暴れ（あばれ）、塗布液１４と接触しない部分が瞬間的に発生することで、塗布膜１６を除去する作用が働くことも原因と考えられる。
【００６６】
（本実施形態）
しかし、本実施形態の塗布方法で塗布を行うと、未塗布部分Ｓは発生しないことが本発明者らの実験で判った。また、平坦部１２６全体に亘って膜厚（層厚）約１０μｍの均一な塗布膜が形成されることが確認された。
【００６７】
これは本実施形態における第一塗布工程で、開始位置Ｋ１から−Ｘ方向（一方側）に移動して、未塗布部分Ｓ（図９参照）となる部分を予め塗布したのち、第二塗布工程で＋Ｘ方向に移動して塗布するからである。
【００６８】
また、本実施形態では、第一塗布工程では、ブレード４０は移動しないで固定されている。よって、ブレード４０が、ゴム層１２０に跳上部１２７があったとしても、ブレード４０が暴れることが抑制され、この結果、塗布膜１６を除去する作用が働かない。
【００６９】
したがって、導電性ゴムロール１００のゴム層１２０における塗布開始側の端部１２５に対する塗り残し（未塗布部分Ｓ）が抑制又は解消される。
【００７０】
また、本実施形態では、開始位置Ｋ１（Ｃ面稜線１２４から＋Ｘ方向に距離ｎの位置）は、位置決基準である軸部１１０の端面１１０ＡからＣ面稜線１２４まで距離Ｍの公差（ばらつき）の最大値＋βとなっている。これは位置決基準である端面１１０Ａからの距離Ｍが公差範囲（ゴム層１２０の長さＬが公差範囲）であれば、吐出部３６が−Ｘ方向に移動する距離を調整しなくも、軸部１１０に塗布液１４が付着しない位置となっている。言い換えると、ゴム層１２０の長さＬが公差範囲であれば、反転位置Ｋ２が一端１２５Ａを超えないように設定されている。よって、仮に開始位置Ｋ１が−Ｘ方向に０．５ｍｍずれてＣ面稜線１２４となったとしても、吐出部３６が一方側に移動しすぎて一端１２５Ａを超え、塗布液１４が軸部１１０に吐出されてしまうことが防止されている。
【００７１】
また、本実施形態では、第一塗布工程の吐出部３６の移動速度Ｖ１は第二塗布工程の吐出部３６の移動速度Ｖ１よりも遅いが、その分、吐出量を低下させているので、塗布膜１６の膜厚（層厚）が予め定められ範囲内に容易に収まるようになっている（膜厚（層厚）のばらつきが抑制される）。
【００７２】
＜その他＞
尚、本発明は、上記実施形態に限定されない。
【００７３】
例えば、上記実施形態では、吐出部３６及びブレード４０を導電性ゴムロール１００の回転軸方向に沿って移動させたが、これに限定されない。吐出部３６及びブレード４０が固定され、導電性ゴムロール１００を回転軸方向に沿って移動させてもよい。或いは、吐出部３６及びブレード４０と導電性ゴムロール１００との両方を移動させてもよい。
【００７４】
また、例えば、導電性ゴムロール１００のゴム層１２０の端部は、Ｃ面取りされていたが、これに限定されない。Ｃ面取りされていなくてもよい。なお、Ｃ面取りされていない場合の開始位置Ｋ１の位置決めも、位置決基準と軸方向の長さＬの公差とを考慮して設定する。つまり、長さＬが公差範囲であれば、軸部１１０に塗布液１４が付着しない位置に設定する。
【００７５】
また、例えば、上記実施形態では、第一塗布工程ではブレード４０は固定されていたが、これに限定されない。吐出部３６と同期又は非同期で−Ｘ方向に移動させてもよい。なお、この場合は、第二塗布工程でのブレード４０の移動速度よりも遅くすることで、ゴム層１２０に跳上部１２７があったとしても、ブレード４０の暴れが抑制されるようにしてもよい。
【００７６】
また、例えば、本実施形態では、導電性ゴムロール１００のゴム層１２０の表面１２０Ａに塗布液１４を塗布して塗布膜１６を形成したが、これに限定されない。例えば、ゴム以外のアルミニウム、ニッケル合金、ステンレス鋼等の金属製の円筒形状又は円柱形状の被塗布体に塗布液を塗布してもよい。
【００７７】
また、本実施形態の導電性ゴムロール１００は、電子写真方式の画像形成装置の帯電ロールや転写ロールとして使用される際には、軸部１１０の端部を支持してゴム層１２０を潜像保持体（感光体）に押圧して接触（ニップ）させる。よって、導電性ゴムロール１００は、使用状態においては、ゴム層１２０の軸方向の両端部１２５、１２７（本実施形態ではＣ面稜線１２４近傍）の応力が中央部よりも高くなる。したがって、両端部１２５、１２７の吐出部３６の移動速度を遅くする等して両端部１２５、１２７の塗布膜１６の膜厚を厚くし、高い応力（ストレス）による破損に対して強化するようにしてもよい。
【００７８】
更に、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、種々なる態様で実施し得ることは言うまでもない。
【符号の説明】
【００７９】
１０  塗布装置、１４  塗布液、１６  塗布膜、２０  回転装置（回転手段の一例）、３６  塗布部（吐出手段の一例）、４０  ブレード（平滑化手段の一例）、５０  移動機構部（移動手段の一例）、６０  制御装置（制御手段の一例）、１００  導電性ゴムロール（ロール部材の一例）、１１０  ゴム層（被塗布体の一例）
【図１】
2015033654.tif 000003
【図２】
2015033654.tif 000004
【図３】
2015033654.tif 000005
【図４】
2015033654.tif 000006
【図５】
2015033654.tif 000007
【図６】
2015033654.tif 000008
【図７】
2015033654.tif 000009
【図８】
2015033654.tif 000010
【図９】
2015033654.tif 000011
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月31日(2014.10.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被塗布体を回転させる回転手段と、
回転する前記被塗布体に塗布液を吐出する吐出手段と、
前記被塗布体に付着した前記塗布液を平滑化させる平滑化手段と、
前記吐出手段及び前記平滑化手段を前記被塗布体に対して回転軸方向に沿って相対移動させる移動手段と、
前記吐出手段及び前記移動手段を制御し、前記被塗布体の塗布開始側の一端よりも塗布終了側の他端側に定められた開始位置に位置決めされた前記吐出手段を、前記開始位置よりも前記一端側の反転位置まで相対移動させると共に前記反転位置又はその手前で前記塗布液の吐出を停止し、前記反転位置から前記吐出手段を前記他端側に相対移動させると共に前記開始位置又はその手前で前記吐出手段から前記塗布液の吐出を再開させる制御手段と、
を備える塗布装置。
【請求項２】
前記制御手段は、前記被塗布体の軸方向の公差範囲の最少長さに基づいて前記反転位置が前記一端を超えないように前記開始位置に前記吐出手段を位置決めするように設定されている、
請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記制御手段は、
前記吐出手段を、前記開始位置から前記反転位置まで移動する相対移動速度と、前記反転位置から他端側に移動する相対移動速度とが、異なるように制御すると共に、
平滑化された前記塗布液が予め定められた範囲の厚みになるように、前記吐出手段の相対移動速度に応じて、前記吐出手段の吐出量を調整する、
請求項１又は請求項２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記被塗布体は、押出成形によって作製され、
前記制御手段は、前記平滑化手段が押出成形によって前記被塗布体の端部に形成された跳上部を跨いで相対移動するときには、相対移動速度を低下させるように設定されている、
請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記吐出手段が前記開始位置から前記反転位置まで相対移動したのち、前記反転位置から他端側に相対移動し前記塗布液の吐出を再開するまで、前記平滑化手段を相対移動しないように設定されている、
請求項１〜請求項４のいずれか一項に記載の塗布装置。
【請求項６】
ロール部材を保持する保持工程と、
保持された前記ロール部材の外周部を構成する被塗布体の塗布開始側の一端よりも塗布終了側の他端側に定められた開始位置に吐出手段を位置決めする位置決工程と、
前記ロール部材を回転させ前記吐出手段から前記塗布液を吐出して前記被塗布体に付着させた前記塗布液を平滑化手段により平滑化し、前記開始位置よりも前記一端側の反転位置まで前記吐出手段を回転軸方向に沿って相対移動させると共に、前記反転位置又はその手前で前記塗布液の吐出を停止する第一塗布工程と、
前記ロール部材を回転させ前記反転位置から前記吐出手段を前記他端側に回転軸方向に沿って相対移動させると共に、前記開始位置又はその手前で前記吐出手段から前記塗布液の吐出を再開し、前記被塗布体に付着させた前記塗布液を前記平滑化手段により平滑化する第二塗布工程と、
を備えるロール部材の製造方法。
【請求項７】
前記位置決工程では、前記被塗布体の軸方向の公差範囲の最少長さに基づいて前記反転位置が前記一端を超えないように前記開始位置が設定されている、
請求項６に記載のロール部材の製造方法。
【請求項８】
前記第一塗布工程と前記第二塗布工程とで、前記吐出手段の相対移動速度が異なり、
平滑化された前記塗布液が予め定められた範囲の厚みになるように、前記吐出手段の相対移動速度に応じて、前記吐出手段の吐出量を調整する、
請求項６又は請求項７に記載のロール部材の製造方法。
【請求項９】
前記被塗布体は、押出成形によって作製され、
前記第一塗布工程及び前記第二塗布工程において、前記制御手段は、前記平滑化手段が押出成形によって前記被塗布体の端部に形成された跳上部を跨いで相対移動するときは、相対移動速度を低下させる、
請求項６〜請求項８のいずれか一項に記載のロール部材の製造方法。
【請求項１０】
前記第一塗布工程では、前記平滑化手段を回転軸方向に沿って相対移動させない、
請求項６〜請求項９のいずれか一項に記載のロール部材の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項８の発明は、前記第一塗布工程と前記第二塗布工程とで、前記吐出手段の相対移動速度が異なり、平滑化された前記塗布液が予め定められた範囲の厚みになるように、前記吐出手段の相対移動速度に応じて、前記吐出手段の吐出量を調整する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
吐出開始位置（距離ｎ（開始位置Ｋ１））：Ｃ面稜線１２４から０．５ｍｍ
塗布開始端部吐出時間（第一塗布工程の吐出時間）：０．１５ｓ
逆走トラバース量（開始位置Ｋ１から反転位置Ｋ２までの距離）：１．０ｍｍ
逆走トラバース速度（第一塗布工程の移動速度Ｖ１）：２０ｍｍ／ｓ
吐出開始タイマー（反転位置Ｋ２から吐出を再開するまでの時間）：０．０５ｓ
第二塗布工程のポンプ回転数（ポンプ３８Ｂの回転数）：１５０ｒｐｍ
第二塗液工程の吐出量（測定値）：１．０ｇ／１０ｓ
塗布速度（トラバース速度）（第二塗布工程の移動速度Ｖ２）：４３ｍｍ／ｓ
導電性ゴムロール回転数：８００ｒｐｍ
ブレードの長さ/厚み/幅/たわみ量：５０ｍｍ／０．０８ｍｍ／９ｍｍ／０．５ｍｍ