(57)【要約】【課題】  固定子コイルと可動子磁石を用いて被処理体を搭載する移動部材を鉛直方向に駆動する移動装置であって、配置上の制約を緩和しつつ、固定子コイルから被処理体近傍に漏れる磁場を低減するうえで有利な移動装置を提供することを目的とする。【解決手段】  被処理体を搭載した状態で第１の方向に移動可能な移動部材と、前記移動部材を駆動する駆動手段と、磁性材で構成され、前記駆動手段からの磁場の少なくとも一部を遮蔽するための磁場遮蔽手段と、を備え、前記駆動手段は、固定子コイルと、前記移動部材に連結された可動子磁石と、を含み、前記磁場遮蔽手段は、前記移動部材に連結され、前記移動部材と前記可動子磁石との間に配置された板状部材を有し、前記板状部材の第１の方向における長さは、前記可動子磁石の長さよりも長く、前記板状部材は、前記固定子コイルに対向するように配置されることを特徴としている。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体を搭載した状態で、水平面に沿う第１の方向に移動可能な移動部材と、
前記移動部材を鉛直方向に駆動する駆動手段と、
磁性材で構成され、前記駆動手段からの磁場の少なくとも一部を遮蔽するための磁場遮蔽手段と、を備え、
前記駆動手段は、固定子コイルと、前記移動部材に連結された可動子磁石と、を含み、
前記磁場遮蔽手段は、
前記移動部材に連結され、前記移動部材と前記可動子磁石との間に配置されたシールド板を有し、
前記シールド板の前記第１の方向における長さは、前記可動子磁石の長さよりも長く、
前記シールド板は、前記固定子コイルの一部に対向するように配置されることを特徴とする移動装置。
【請求項２】
前記シールド板は、前記第１の方向において、前記移動部材の端面よりも突出して配置されることを特徴とする請求項１に記載の移動装置。
【請求項３】
前記シールド板の前記第１の方向における長さは、前記固定子コイルの前記第１の方向における長さよりも短いことを特徴とする請求項１または２に記載の移動装置。
【請求項４】
基板を搭載した移動部材を第１の方向に走査する動作と、前記第１の方向への走査よりも短い距離で前記移動部材を第２の方向に走査する動作と、を交互に行い、前記基板上にパターンを描画する荷電粒子線描画装置であって、
前記移動部材を鉛直方向に駆動する駆動手段と、
磁性材で構成され、前記駆動手段からの磁場の少なくとも一部を遮蔽するための磁場遮蔽手段と、を備え、
前記駆動手段は、固定子コイルと、前記移動部材に連結された可動子磁石と、を含み、
前記磁場遮蔽手段は、
前記移動部材に連結され、前記移動部材と前記可動子磁石との間に配置された板状部材を有し、
前記板状部材の前記第１の方向における長さは、前記可動子磁石の長さよりも長く、
前記板状部材は、前記固定子コイルに対向するように配置されることを特徴とする荷電粒子線描画装置。
【請求項５】
請求項４に記載された荷電粒子線描画装置を用いて感光剤が塗布された基板上にパターン潜像を描画する工程と、
前記パターン潜像が描画された前記基板を現像する工程と、
現像された基板を加工してパターンを有する物品を製造する工程と、を有することを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は移動装置に関する。また、移動装置を備える荷電粒子線描画装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、フォトマスクの作成ツールの一つとして、電子線を基板に照射してパターンを描画する電子線描画装置が知られている。また、近年では、多数の電子線を同時に基板に照射するマルチビーム型の電子線描画装置により半導体デバイスを製造することも提案されている。
【０００３】
半導体デバイスを製造する場合には、従来に比べて、高い処理能力（スループット）が要求され、そのため、基板を移動させる移動装置の高速性も要求される。
【０００４】
従来のステッパやスキャナなどの光露光装置では、エアガイド機構を用いて移動天板を浮上させて移動部材の移動を案内することが一般的であった。しかしながら、電子線描画装置では、真空環境において電子線を基板に照射する必要があるため、信頼性の観点から、エアガイド機構を用いずに移動を案内することが望まれる。
【０００５】
特許文献１は、エアガイドを用いずに移動部材の移動を案内する露光装置（ＥＵＶ光を用いた露光装置）を記載している。特許文献１に記載される露光装置は、粗動ステージと微動ステージを有し、ボイスコイルモータを用いて微動ステージを浮上させて移動を案内している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１１−３７８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１に記載される露光装置のボイスコイルモータは磁気シールドに覆われていない。そのため、特許文献１の構成を電子線描画装置の移動装置に適用した場合、ボイスコイルモータから生じる磁場が、基板に電子線を照射する際の照射精度（描画精度）に大きな影響を与えてしまう恐れがある。
【０００８】
特に、固定子コイルと可動子磁石により駆動力を発生させて移動部材を浮上させる移動装置の場合には、可動子磁石からの磁場だけでなく、固定子コイルからの磁場も考慮する必要がある。一般には固定子コイルは移動部材の移動ストロークに渡って配置されるが、固定子コイルと可動子磁石の相互作用に干渉しないように固定子コイルを個別に磁気シールドで覆うのは、配置上の制約が大きい。
【０００９】
本発明は、上述の点に鑑みてなされたものであり、固定子コイルと可動子磁石を用いて被処理体を搭載する移動部材を鉛直方向に浮上させる移動装置であって、配置上の制約を緩和しつつ、固定子コイルから被処理体近傍に漏れる磁場を低減するうえで有利な移動装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の移動装置は、被処理体を搭載した状態で、水平面に沿う第１の方向に移動可能な移動部材と、前記移動部材を鉛直方向に駆動する駆動手段と、磁性材で構成され、前記駆動手段からの磁場の少なくとも一部を遮蔽するための磁場遮蔽手段と、を備え、前記駆動手段は、固定子コイルと、前記移動部材に連結された可動子磁石と、を含み、前記磁場遮蔽手段は、前記移動部材に連結され、前記移動部材と前記可動子磁石との間に配置された板状部材を有し、前記板状部材の第１の方向における長さは、前記可動子磁石の長さよりも長く、前記板状部材は、前記固定子コイルの一部に対向するように配置されることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、固定子コイルと可動子磁石を用いて被処理体を搭載する移動部材を鉛直方向に浮上させる移動装置であって、配置上の制約を緩和しつつ、固定子コイルから被処理体近傍に漏れる磁場を低減するうえで有利な移動装置を提供することを目的とする。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】荷電粒子線描画装置の概略構成を示す図
【図２】（ａ）移動ユニットＸＭＶ、ＹＭＶの上面図、（ｂ）図２（ａ）のＡ−Ａ矢視図
【図３】移動ユニットＹＭＶ周辺の正面図
【図４】図３のＢ−Ｂ矢視図
【図５】描画シーケンスにおける移動ユニットＸＭＶ、ＹＭＶの動作を示す図
【発明を実施するための形態】
【００１３】
（電子線描画装置の構成）
図１は、電子線描画装置（荷電粒子線描画装置）１００の概略構成を示す図である。電子線描画装置１００は、例えば、半導体デバイス製造工程の一つであるリソグラフィ工程において用いられる。図１において、鉛直方向をＺ軸方向とし、水平面内で互いに直交する２方向をＸ軸方向、Ｙ軸方向（第１の方向）とする。
【００１４】
電子線描画装置１００は、チャンバ１０と、電子線照射ユニット１３と、ステージ装置５０とを備える。
【００１５】
チャンバ１０は、ステージ装置５０の周囲の空間を外部の空間から分離する隔壁である。真空ポンプ１１は、チャンバ１０に接続され、チャンバ１０内を排気する。真空ポンプ１１は、例えば、クライオポンプやターボ分子ポンプである。チャンバ１０および真空ポンプ１１は、ステージ装置５０の周囲に真空環境を形成する。
【００１６】
電子線照射ユニット１３は、電子線を発生し、ウエハ（被処理体）上の領域に向けて複数の電子線を照射する。電子線照射ユニット１３は、電子線を発生する電子銃（不図示）、電子銃からの電子線を複数の電子線に分割するアパーチャアレイ（不図示）、複数の電子線の各々のオンオフを制御する制御素子アレイ（不図示）、複数の電子線を偏向する偏向アレイ（不図示）を備え、これらは筐体１３ａに収納される。電子線照射ユニット１３の構成は、この構成に限定されない。複数の電子線を用いてウエハ上にパターンを形成可能であればよく、例えば、制御素子アレイは反射型であってもよい。
【００１７】
ステージ装置（移動装置）５０は、ウエハを所定の位置に位置決めする。ステージ装置５０は、マウント１２を介してチャンバ１０の底面（あるいは床）上に支持されたベース１と、ベース１に対してＸ軸方向に移動可能な移動ユニットＸＭＶと、移動ユニットＸＭＶに対してＹ軸方向に移動な移動ユニットＹＭＶと、を備える。マウント１２は空気ばねを有し、チャンバ１０の底面（あるいは床）からベース１に伝わる振動を低減する。マウント１２は、ベース１の底面の４箇所に配置されている。
【００１８】
電子線描画装置１００は、制御部６０を備える。制御部６０は、ＣＰＵ、メモリ等を有する複数の回路基板を有し、これらの回路基板は制御ラックに収納される。また、制御部６０は、電子線描画装置のシーケンスを制御する主制御部６１と、装置を構成する各ユニットを制御するためのユニット制御部（図１では電子線照射ユニット１３を制御する照射制御部６２と、ステージ装置５０を制御するステージ制御部６３を図示している）とを有する。ステージ制御部６３は、ドライバ（アンプ）、ＣＰＵ、メモリ等を有し、移動ユニットＸＭＶ、ＹＭＶの移動を制御する。ステージ制御部６３は主制御部６１と通信可能であり、主制御部６１からの情報を用いて移動ユニットＸＭＶ、ＹＭＶを制御する。
【００１９】
図２（ａ）は、移動ユニットＸＭＶ、移動ユニットＹＭＶの上面図を示し、図２（ｂ）は、図２（ａ）のＡ−Ａ矢視図（一部の構成の図示を省略）を示す。図３は、移動ユニットＹＭＶ周辺の正面図を示す。図４は、図３のＢ−Ｂ矢視図（一部の構成の図示を省略）を示す。以下、これらの図面を参照しながら、ステージ装置５０を構成する各ユニットの構成を説明する。
【００２０】
（移動ユニットＸＭＶの構成）
図２（ａ）を参照しながら、移動ユニットＸＭＶの構成を説明する。移動ユニットＸＭＶは、天板２と、天板２の下面に設けられたリニアモータＸＬＭ１の可動子（不図示）と、天板２の上面に設けられたリニアモータＹＬＭ１、ＹＬＭ２の固定子と、リニアモータＺＬＭ１、ＺＬＭ２、ＺＬＭ３、ＺＬＭ４の固定子と、リニアモータＸＬＭ２の固定子と、を有する。リニアモータＸＬＭ１の固定子は、ベース１上に、Ｘ軸方向に沿って配置される。移動ユニットＸＭＶは、リニアモータＸＬＭ１が発生する推力によりＸ軸方向に移動可能である。移動ユニットＸＭＶはリニアガイドＸＬＧによってベース１上に支持され、リニアガイドは、移動ユニットＸＭＶのＸ軸方向の移動を案内する。リニアガイドＸＬＧは、転動ガイドあるいは転がり軸受と称されることもあり、ボール（鋼球）やローラーなどの転動体を用いたガイドである。
【００２１】
また、移動ユニットＸＭＶのＸ軸方向における位置は位置センサ（不図示）によって計測される。ステージ制御部６３は、位置センサの出力と、主制御部からの情報にもとづいてリニアモータＸＬＭ１を駆動し、移動ユニットＸＭＶの位置を制御する。位置センサとして、例えば、リニアエンコーダや干渉計が用いられる。
【００２２】
（移動ユニットＹＭＶの構成）
図２（ａ）、図３を参照しながら、移動ユニットＹＭＶの構成を説明する。移動ユニットＹＭＶは、ウエハを搭載する天板３（移動部材）を有する。天板３上には、ウエハ保持面が形成されたウエハチャック４が取り付けられている。天板３の材質はケイ素鋼板やセラミックである。さらに、移動ユニットＹＭＶは、Ｘ軸方向の端部から順に、リニアモータＹＬＭ１、ＹＬＭ２の可動子と、リニアモータＺＬＭ１、ＺＬＭ２、ＺＬＭ３、ＺＬＭ４の可動子と、リニアモータＸＬＭ２の可動子と、を有する。これらのリニアモータの具体的な構成については後述する。
【００２３】
移動ユニットＹＭＶは、リニアモータＹＬＭ１、ＹＬＭ２が発生する推力によりＹ軸方向に移動可能であり、リニアモータＸＬＭ２が発生する推力によりＸ軸方向に移動可能であり、リニアモータＺＬＭ１、ＺＬＭ２、ＺＬＭ３、ＺＬＭ４が発生する推力によりＺ軸方向に移動可能である。また、移動ユニットＹＭＶは、リニアモータＹＬＭ１、ＹＬＭ２が発生する推力の差に応じてθｚ方向（Ｚ軸回りの回転方向）に移動可能であり、リニアモータＺＬＭ１、ＺＬＭ２、ＺＬＭ３、ＺＬＭ４が発生する推力の差に応じてθｘ方向（Ｘ軸回りの回転方向）、θｙ方向（Ｙ軸回りの回転方向）に移動可能である。
【００２４】
移動ユニットＹＭＶの位置は干渉計を用いて計測される。天板３の上面には、移動ユニットＹＭＶの位置を計測するためのミラーＸＢＭ、ＹＢＭが取り付けられている。ミラーＸＢＭは、ＹＺ平面に沿う反射面を有し、干渉計ＸＩＦからの計測光を反射し、反射光を干渉計ＸＩＦに導くように構成される。ミラーＹＢＭは、ＸＺ平面に沿う反射面を有し、干渉計ＹＩＦ１、ＹＩＦ２からの計測光を反射し、反射光を干渉計ＹＩＦ１、ＹＩＦ２に導くように構成される。干渉計ＸＩＦ、ＹＩＦ１、ＹＩＦ２は、検出した光にもとづいて、移動ユニットＹＭＶのＸ軸方向、Ｙ軸方向、θｚ方向の位置を計測する。また、ミラーＸＢＭは、その上面にＸＹ平面に沿う反射面を有し、不図示の干渉計を用いて移動ユニットＹＭＶのＺ軸方向、θｘ方向、θｙ方向の位置を計測する。ステージ制御部６３は、干渉計の出力と、主制御部からの情報にもとづいて各リニアモータを駆動し、移動ユニットＹＭＶの位置を制御する。また、移動ユニットＹＭＶは、リニアモータＺＬＭ１、ＺＬＭ２、ＺＬＭ３、ＺＬＭ４からの磁場の少なくとも一部を遮蔽するためのシールド板３２（磁場遮蔽手段）を有する。
【００２５】
（リニアモータＹＬＭ１、ＹＬＭ２の構成）
図２（ａ）、図３、図４を参照しながら、リニアモータＹＬＭ１、ＹＬＭ２の構成を説明する。リニアモータＹＬＭ１とＹＬＭ２はＸ軸方向に離間して配置される。以下、リニアモータＹＬＭ１の構成について説明し、リニアモータＹＬＭ２の構成についてはリニアモータＹＬＭ１と同様であるとして説明を省略する。
【００２６】
リニアモータＹＬＭ１は、可動子と固定子とを含む。可動子は、天板３の底面に設けられた磁石列ＹＭＡ１、ＹＭＡ２を有し、固定子は、天板２の上面に設けられたコイル列ＹＣＡを有する。
【００２７】
磁石列ＹＭＡ１、ＹＭＡ２は、所定の間隔を隔てて対向するように支持部材２２、２３、２４に支持されている。磁石列ＹＭＡ１、ＹＭＡ２はそれぞれＹ軸方向に配列された複数の永久磁石を有する。各磁石列を構成する複数の永久磁石は、下面がＮ極である永久磁石と、下面がＳ極である永久磁石とを有し、Ｎ極とＳ極が交互に配置されるように構成される。本実施形態では各磁石列は４個の永久磁石を有する。また、磁石列ＹＭＡ１を構成する永久磁石と磁石列ＹＭＡ２を構成する永久磁石は、異極が対面するように構成される。
【００２８】
支持部材は、磁石列ＹＭＡ１の上面に固定されたヨーク２２と、磁石列ＹＭＡ２の下面に固定されたヨーク２３と、ヨーク２２とヨーク２３のＸ軸方向の両端を連結する一対の連結部材２４とで構成される。これらのヨーク２２、２３は、軟鉄板であり、磁石列ＹＭＡ１、ＹＭＡ２間の磁束を強化する。
【００２９】
コイル列ＹＣＡは、Ｙ軸方向に沿って配置されている（Ｙ軸方向を長手方向としている）。コイル列ＹＣＡはＹ軸方向に配列された複数のコイルを有し、複数のコイルの各々は、Ｘ軸方向に沿う直線状の２つの導体部分を有し、複数のコイルは、Ｙ軸方向において、磁石列ＹＭＡ１を構成する永久磁石の配置に関連づけられたピッチで配置される。複数のコイルは、Ｘ軸方向の両端において支持部材２１によって支持され、支持部材２１は、Ｙ軸方向を長手方向とし、Ｙ軸方向の両端において天板２に固定される。
【００３０】
このような構成により、磁石列ＹＭＡ１、ＹＭＡ２によって形成される磁束と、コイルの導体部に流れる電流との相互作用により、移動ユニットＹＭＶ（天板３）にＹ軸方向の推力を付与する。
【００３１】
リニアモータＹＬＭ１、ＹＬＭ２は、ステージ制御部６３により制御される。本実施形態では、多相励磁駆動式（本実施形態では２相）により制御され、ドライバは各相のコイルに移動ユニットＹＭＶのＹ軸方向の位置に応じた電流を供給する。また、ステージ制御部６３は、移動ユニットＹＭＶのＹ軸方向の位置に応じて励磁コイルを切り替える切り替え回路６４（切り替え手段）を有する。切り替え回路は、磁石列ＹＭＡ１、ＹＭＡ２あるいは天板３に対向するコイルのみに通電し、これにより、推力に寄与しないコイルあるいは天板３により覆われていないコイルから磁場が生じないようにしている。
【００３２】
また、リニアモータＹＬＭ１、ＹＬＭ２が発生する推力を異ならせることで、移動ユニットＹＭＶをθｚ方向に駆動することができる。
【００３３】
コイル列ＹＣＡのＹ軸方向の長さは、ウエハ保持面のＹ軸方向の寸法（本実施形態では３００ｍｍウエハ）の２倍以上であり、例えば、６００ｍｍ以上１５００ｍｍ未満である。また、ステージ装置のサイズの小型化、キャリブレーションや搬送等の移動ストロークの観点から、好適には、７００ｍｍ以上１２００ｍｍ未満である。
【００３４】
（リニアモータＺＬＭ１、ＺＬＭ２、ＺＬＭ３、ＺＬＭ４の構成）
図２（ａ）、図２（ｂ）、図３、図４を参照しながら、リニアモータ（駆動手段）ＺＬＭ１、ＺＬＭ２、ＺＬＭ３、ＺＬＭ４の構成を説明する。リニアモータＺＬＭ１、ＺＬＭ２、ＺＬＭ３、ＺＬＭ４はＸ軸方向に離間して配置される。以下、リニアモータＺＬＭ１の構成について説明し、リニアモータＺＬＭ２、ＺＬＭ３、ＺＬＭ４の構成についてはリニアモータＺＬＭ１と同様であるとして説明を省略する。
【００３５】
リニアモータＺＬＭ１は、可動子と固定子とを含む。可動子は、天板３の底面側に連結された磁石列（可動子磁石）ＺＭＡを有し、固定子は、天板２の上面に設けられたコイル（固定子コイル）ＺＣを有する。
【００３６】
磁石列ＺＭＡ１、ＺＭＡ２は、所定の間隔を隔てて対向するように支持部材２８、２９、３０に支持されている。各磁石列ＺＭＡ１、ＺＭＡ２はそれぞれＸ軸方向に配列された複数の永久磁石を有する。各磁石列を構成する永久磁石は、右側面（＋Ｘ側の側面）がＮ極である永久磁石と、左側面（−Ｘ側の側面）がＳ極である永久磁石とを有する。本実施形態では各磁石列は２個の永久磁石を有する。また、磁石列ＺＭＡ１を構成する永久磁石と磁石列ＺＭＡ２を構成する永久磁石は、異極が対面するように構成される。
【００３７】
支持部材は、磁石列ＺＭＡ１の右側面（裏面）に固定（配置）されたヨーク２８と、磁石列ＺＭＡ２の左側面（裏面）に固定（配置）されたヨーク２９と、ヨーク２８とヨーク２９のＺ軸方向の両端を連結する一対の連結部材３０とで構成される。これらのヨーク２８、２９は軟鉄板であり、磁石列ＺＭＡ１、ＺＭＡ２間の磁束を強化する。
【００３８】
コイルＺＣは、Ｙ軸方向に沿って配置されている（Ｙ軸方向を長手方向としている）。コイルＺＣは支持部材により支持され、支持部材は、コイルＺＣのＹ軸方向の両端において移動ユニットＸＭＶに固定される。コイルＺＣは、Ｙ軸方向に沿う直線状の２つの導体部分を有する。２つの導体部分の各々は、Ｚ軸方向に配列された磁石列ＺＭＡ１（ＺＭＡ２）を構成する２個の永久磁石の各々と対向するように配置される。
【００３９】
このような構成により、磁石列ＺＭＡ１、ＺＭＡ２によって形成される磁束が鎖交するコイルＺＣの導体部への通電により、このような構成により、磁石列ＹＭＡ１、ＹＭＡ２によって形成される磁束と、コイルの導体部に流れる電流との相互作用により、移動ユニットＹＭＶ（天板３）にＺ軸方向の推力を付与する。
【００４０】
リニアモータＺＬＭ１、ＺＬＭ２、ＺＬＭ３、ＺＬＭ４は、移動ユニットＹＭＶを位置決めするための推力に加えて、定常的に移動ユニットＹＭＶを浮上させるための推力を発生させる。したがって、リニアモータＸＬＭ２を構成するコイルＸＣへの通電量よりも、リニアモータＺＬＭ１（リニアモータＺＬＭ２、ＺＬＭ３、ＺＬＭ４も同様）を構成するコイルＺＣへの通電量の方が大きい。また、リニアモータＺＬＭ１、ＺＬＭ２、ＺＬＭ３、ＺＬＭ４による天板３のＺ軸方向における移動ストロークは、リニアモータＹＬＭ１、ＹＬＭ２による天板３のＹ軸方向における移動ストロークよりも短い。
【００４１】
従来のステッパやスキャナなどの光露光装置は、大気雰囲気で露光を行うため、長ストロークで移動する移動ユニットを静圧軸受により浮上させる構成が一般的である。しかしながら、電子線描画装置のように真空雰囲気で露光を行う場合には、ステージ装置の周囲に気体が漏れてしまうと真空度が低下してしまう恐れがある。本実施形態では電磁力を用いて移動ユニットに浮上力を付与しているため、装置の信頼性を向上させることが可能となる。
【００４２】
（リニアモータＸＬＭ２の構成）
図２（ａ）、図３、図４を参照しながら、リニアモータＸＬＭ２の構成を説明する。
【００４３】
リニアモータＸＬＭ２は、可動子と固定子とを含む。可動子は、天板３の底面に設けられた磁石列ＸＭＡ１、ＸＭＡ２を有し、固定子は、天板２の上面に設けられたコイルＸＣを有する。
【００４４】
磁石列ＸＭＡ１、ＸＭＡ２は、所定の間隔を隔てて対向するように支持部材２５、２６、２７に支持されている。各磁石列ＸＭＡ１、ＸＭＡ２はそれぞれＸ軸方向に配列された複数の永久磁石を有する。各磁石列を構成する永久磁石は、上面がＮ極である永久磁石と、下面がＳ極である永久磁石とを有する。本実施形態では各磁石列は２個の永久磁石を有する。また、磁石列ＸＭＡ１を構成する永久磁石と磁石列ＸＭＡ２を構成する永久磁石は、異極が対面するように構成される。
【００４５】
支持部材は、磁石列ＸＭＡ１の上面に固定されたヨーク２５と、磁石列ＸＭＡ２の下面に固定されたヨーク２６と、ヨーク２５とヨーク２６のＸ軸方向の両端を連結する一対の連結部材２７とで構成される。これらのヨーク２５、２６は軟鉄板であり、磁石列ＺＭＡ１、ＺＭＡ２間の磁束を強化する。
【００４６】
コイルＸＣは、Ｙ軸方向に沿って配置されている（Ｙ軸方向を長手方向としている）。コイルＸＣは支持部材により支持され、支持部材は、コイルＸＣのＹ軸方向の両端において移動ユニットＸＭＶに固定される。コイルＸＣは、Ｙ軸方向に沿う直線状の２つの導体部分を有する。２つの導体部分の各々は、Ｘ軸方向に配列された磁石列ＸＭＡ１（ＸＭＡ２）を構成する２個の永久磁石の各々と対向するように配置される。
【００４７】
このような構成により、磁石列ＸＭＡ１、ＸＭＡ２によって形成される磁束が鎖交するコイルＸＣの導体部への通電により、移動ユニットＹＭＶ（天板３）にＸ軸方向の推力を付与する。リニアモータＸＬＭ２による天板３のＸ軸方向における移動ストロークは、リニアモータＹＬＭ１、ＹＬＭ２による天板３のＹ軸方向における移動ストロークよりも短い。
【００４８】
（描画シーケンスにおける移動ユニットＸＭＶ、ＹＭＶの動作）
図５を参照しながら、描画シーケンスにおける移動ユニットＸＭＶ、ＹＭＶの動作を説明する。以下に説明する描画シーケンスは制御部６０（ステージ制御部６３、照射制御部６２）により実行される。
【００４９】
電子線描画装置１００に搬入され、ウエハチャック４の保持面に載置されたウエハＷに対して、描画シーケンスが実行される。
【００５０】
ステージ制御部６３は、複数の電子線をウエハＷに照射しながらＹ軸方向（第１の方向）に移動ユニットＹＭＶを走査し、１回の走査が終了すると、移動ユニットＸＭＶと移動ユニットＹＭＶをともにＸ軸方向（第２の方向）に移動し、再び複数の電子線をウエハＷに照射しながらＹ軸方向（先の走査とは反対方向）に移動ユニットＹＭＶを走査する。このように、ウエハＷ（天板２）をＹ軸方向に走査する動作とＸ軸方向に走査する動作とを交互に行う（繰り返す）ことにより、レジストが塗布されたウエハＷ上にパターン（パターン潜像）を形成することが可能となる。
【００５１】
（シールド板の構成）
本実施形態のシールド板（磁場遮蔽手段）について説明する。本実施形態では、リニアモータＺＬＭ１の上方に位置するシールド板３２について説明をするが、他のリニアモータＺＬＭ２、ＺＬＭ３、ＺＬＭ４の上方にも同様のシールド板が設けられている。
【００５２】
シールド板３２は、天板３に連結され、天板３と磁石列ＺＭＡ１、ＺＭＡ２との間に配置される。シールド板３２はＺ軸方向を板厚方向とし、ＸＹ平面に沿う平面を有する。シールド板３２は磁性材から構成され、磁性材としてパーマロイなどの軟磁性材料が好適に用いられる。シールド板３２のＹ軸方向における長さｙ３は、磁石列ＺＭＡ１、ＺＭＡ２の長さｙ１よりも長く、シールド板３２は、コイルＺＣの一部に対向するように配置される。好適には、長さｙ３は、天板３のＹ軸方向における長さｙ２よりも長く、シールド板３２は、天板３の端面よりも突出して構成される。長さｙ３は、天板３を含む移動ユニットの軽量化のために、コイルＺＣのＹ軸方向の長さよりも短くすることが好ましく、バーミラーＸＢＭのＹ軸方向における長さよりも短くしてもよい。
【００５３】
このように本実施形態は、コイルＺＣによる磁場がウエハの周辺に与える影響を低減するためのシールド板３２を天板３に連結させている。本実施形態によれば、天板３の移動に応じてシールド板３２が移動するため、コイルＺＣの全部をシールドで覆わずにウエハの周辺への磁場の影響を低減できる。
【００５４】
本明細書において、「連結」なる用語は、２つの物体が直接的に（２つの物体が接触している状態で）連結される形態に限定されず、２つの物体が間接的に（物体間に他の部材を介在させた状態で）連結されている形態も含む意味で使用される。
【００５５】
本実施形態のシールド板３２は平板状であるが、コイルＺＣを囲むように下端が解放されたコの字形状としてもよく、コイルＺＣを囲むようなロの字形状としてもよい。
【００５６】
本実施形態ではコイルＺＣからの磁場を遮蔽するためのシールド板以外のシールドについて説明を省略しているが、別途磁石などの磁場発生部材に対してシールドを設けてもよい。
【００５７】
以上、本実施形態では、電子線描画装置用の移動装置を説明したが、電子線に限らず荷電粒子線を用いて描画を行う装置用であってもよい。また、マルチビーム型に限定されず、単一ビームを用いた描画装置にも適用可能である。また、移動装置は、被処理体を移動させながら所定の処理をする装置であって、被処理体の周辺における磁場変動を低減すべき装置に適用可能である。
【００５８】
（電子線描画装置を用いた物品の製造方法）
本発明の物品（半導体集積回路素子、液晶表示素子、ＣＤ−ＲＷ、フォトマスク、ＭＥＭＳ等）の製造方法を説明する。物品の製造方法は、前述の実施形態の荷電粒子線描画装置を用いてレジストが塗布された基板上にパターン潜像を形成する工程と、パターン潜像が形成された基板を現像する工程とを含む。さらに、他の周知の加工工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含んでも良い。
【符号の説明】
【００５９】
５０  ステージ装置
３  天板
ＹＬＭ１、ＹＬＭ２  リニアモータ
ＺＬＭ１、ＺＬＭ２、ＺＬＭ３、ＺＬＭ４  リニアモータ
ＸＬＭ２  リニアモータ
ＺＣ  コイル、ＺＭＡ１、ＺＭＡ２  磁石列
４１、４２、４３、４４  シールド板
１００  電子線描画装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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