(57)【要約】【課題】段差が存在するウエハに対して、当該ウエハの上部にフォトマスクを重ねた状態で行われる露光を、精度よく行うことができるフォトマスクを提供する。【解決手段】フォトマスク１００には、ウエハ２００の段差２１と同じ大きさの段差であって、かつ、フォトマスク１００からウエハ２００までの部間距離を、ウエハ２００の全領域にわたって一定にするための段差である調整段差１１が設けられる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
主面側に段差が存在するウエハの上部に重ねられた状態で、露光のための光が照射されるフォトマスクであって、
前記フォトマスクには、前記ウエハの前記段差と同じ大きさの段差であって、かつ、該フォトマスクから該ウエハまでの距離である部間距離を、該ウエハの全領域にわたって一定にするための段差である調整段差が設けられる
フォトマスク。
【請求項２】
前記調整段差は、前記フォトマスクのうち前記光が照射される面と反対側の面であって、かつ、前記ウエハの前記主面と対向する面である対向面側に設けられる
請求項１に記載のフォトマスク。
【請求項３】
前記調整段差は、前記フォトマスクのうち前記光が照射される面である照射面側と、前記対向面側とに設けられる
請求項２に記載のフォトマスク。
【請求項４】
前記調整段差は、前記フォトマスク全体にわたって該フォトマスクの厚さが同一となるように、該フォトマスクのうち前記光が照射される面である照射面側と、前記対向面側とに設けられる
請求項２に記載のフォトマスク。
【請求項５】
前記部間距離は、前記照射面から前記ウエハの前記主面までの距離である
請求項３または４に記載のフォトマスク。
【請求項６】
前記部間距離は、前記対向面から前記ウエハの前記主面までの距離である
請求項２に記載のフォトマスク。
【請求項７】
前記調整段差は、前記フォトマスクのうち前記光が照射される面である照射面側に設けられる
請求項１に記載のフォトマスク。
【請求項８】
前記部間距離は、前記照射面から前記ウエハの前記主面までの距離である
請求項７に記載のフォトマスク。
【請求項９】
主面側に段差が存在するウエハの上部に重ねられた状態で、露光のための光が照射されるフォトマスクの製造方法であって、
前記フォトマスクに、前記ウエハの前記段差と同じ大きさの段差であって、かつ、該フォトマスクから該ウエハまでの距離である部間距離を、該ウエハの全領域にわたって一定にするための段差である調整段差を形成する工程を含む
フォトマスクの製造方法。
【請求項１０】
前記調整段差を形成する工程では、前記調整段差を、前記フォトマスクのうち前記光が照射される面と反対側の面であって、かつ、前記ウエハの前記主面と対向する面である対向面側に形成する
請求項９に記載のフォトマスクの製造方法。
【請求項１１】
前記調整段差を形成する工程では、前記調整段差を、前記フォトマスクのうち前記光が照射される面である照射面側と、前記対向面側とに形成する
請求項１０に記載のフォトマスクの製造方法。
【請求項１２】
前記調整段差を形成する工程では、前記調整段差を、前記フォトマスク全体にわたって該フォトマスクの厚さが同一となるように、該フォトマスクのうち前記光が照射される面である照射面側と、前記対向面側とに形成する
請求項１０に記載のフォトマスクの製造方法。
【請求項１３】
前記部間距離は、前記照射面から前記ウエハの前記主面までの距離である
請求項１１または１２に記載のフォトマスクの製造方法。
【請求項１４】
前記部間距離は、前記対向面から前記ウエハの前記主面までの距離である
請求項１０に記載のフォトマスクの製造方法。
【請求項１５】
前記調整段差を形成する工程では、前記調整段差を、前記フォトマスクのうち前記光が照射される面である照射面側に形成する
請求項９に記載のフォトマスクの製造方法。
【請求項１６】
前記部間距離は、前記照射面から前記ウエハの主面までの距離である
請求項１５に記載のフォトマスクの製造方法。
【請求項１７】
前記フォトマスクは、ガラス基板を含み、
前記調整段差を形成する工程では、前記ガラス基板をエッチングすることにより前記調整段差を形成する
請求項９〜１６のいずれか１項に記載のフォトマスクの製造方法。
【請求項１８】
前記フォトマスクは、ガラス基板と透過性シートとを含み、
前記調整段差を形成する工程は、
前記ガラス基板に前記透過性シートを貼り付ける工程と、
前記透過性シートをエッチングすることにより前記調整段差を形成する工程と、を含む
請求項９〜１６のいずれか１項に記載のフォトマスクの製造方法。
【請求項１９】
前記フォトマスクは、ガラス基板と前記調整段差が形成された透過性シートとを含み、
前記調整段差を形成する工程では、前記ガラス基板に前記透過性シートを貼り付けることにより前記調整段差を形成する
請求項９〜１６のいずれか１項に記載のフォトマスクの製造方法。
【請求項２０】
前記フォトマスクは、ガラス基板と透過性樹脂とを含み、
前記調整段差を形成する工程は、
前記ガラス基板に前記透過性樹脂を塗布する工程と、
前記透過性樹脂をエッチングすることにより前記調整段差を形成する工程と、を含む
請求項９〜１６のいずれか１項に記載のフォトマスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、段差が存在するウエハに対して使用されるフォトマスクおよびフォトマスクの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
露光処理に使用されるフォトマスクの表面は、通常、平坦である。そのため、当該フォトマスクを利用したマスク合せ露光処理を行う際、ウエハ（基板）に存在する段差が大きいほど、マスクと、ウエハの段差部との間の露光距離が変化してしまう。この場合、一部のパターンでフォーカスが合わず、フォトマスクに従ったパターンを正確に形成することができないという問題が生じる。
【０００３】
上記問題を解決するために、特許文献１には、半導体基板（ウエハ）の段差に応じて、レチクル（フォトマスク）に段差を形成する技術（以下、関連技術Ａともいう）が開示されている。また、特許文献２には、表面が平坦でないウエハに対しても、高精度なパターン転写を行うための技術（以下、関連技術Ｂもいう）が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平０５−３１３３４９号公報
【特許文献２】特開平０５−１３４３９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、関連技術Ａ，Ｂは、フォトマスクとウエハとの間にレンズを設けて行われる、プロジェクション方式の露光を対象とした技術である。なお、露光には、ウエハの上部にフォトマスクを重ねた状態で行われる露光（以下、露光Ａともいう）も存在する。露光Ａは、例えば、コンタクト方式またはプロキシミティ方式の露光である。関連技術Ａ，Ｂでは、露光Ａの処理対象となるウエハに段差がある場合に、十分に対応できるとは言えない。
【０００６】
本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、段差が存在するウエハに対して、当該ウエハの上部にフォトマスクを重ねた状態で行われる露光を、精度よく行うことができるフォトマスク等を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の一態様に係るフォトマスクは、主面側に段差が存在するウエハの上部に重ねられた状態で、露光のための光が照射される。前記フォトマスクには、前記ウエハの前記段差と同じ大きさの段差であって、かつ、該フォトマスクから該ウエハまでの距離である部間距離を、該ウエハの全領域にわたって一定にするための段差である調整段差が設けられる。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、前記フォトマスクには、前記ウエハの前記段差と同じ大きさの段差であって、かつ、該フォトマスクから該ウエハまでの部間距離を、該ウエハの全領域にわたって一定にするための調整段差が設けられる。
【０００９】
これにより、段差が存在するウエハに対して、当該ウエハの上部にフォトマスクを重ねた状態で行われる露光を、精度よく行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の実施の形態１に係るフォトマスクの構成を示す断面図である。
【図２】本発明の実施の形態１に係る、フォトマスクの製造方法を説明するための図である。
【図３】本発明の実施の形態１に係る、フォトマスクの製造方法の変形例を説明するための図である。
【図４】本発明の実施の形態１に係る、フォトマスクの製造方法の変形例を説明するための図である。
【図５】本発明の実施の形態１に係る、フォトマスクの製造方法の変形例を説明するための図である。
【図６】本発明の実施の形態２に係るフォトマスクの構成を示す断面図である。
【図７】本発明の実施の形態３に係るフォトマスクの構成を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明する。以下の説明では、同一の構成要素には同一の符号を付してある。それらの名称および機能も同じである。したがって、それらについての詳細な説明を省略する場合がある。
【００１２】
なお、実施の形態において例示される各構成要素の寸法、材質、形状、それらの相対配置などは、本発明が適用される装置の構成や各種条件により適宜変更されるものであり、本発明はそれらの例示に限定されるものではない。また、各図における各構成要素の寸法は、実際の寸法と異なる場合がある。
【００１３】
＜実施の形態１＞
図１は、本発明の実施の形態１に係るフォトマスク１００の構成を示す断面図である。なお、図１には、説明のために、フォトマスク１００には含まれないウエハ２００も示している。ウエハ２００は、半導体ウエハである。
【００１４】
フォトマスク１００は、コンタクト方式またはプロキシミティ方式の露光（以下、露光Ａともいう）において使用される。露光Ａは、ウエハ２００の上部にフォトマスク１００を重ねた状態で行われる露光である。すなわち、フォトマスク１００は、ウエハ２００の上部に重ねられた状態で、露光のための光Ｌ１０が照射されるフォトマスクである。光Ｌ１０は、露光Ａで使用される光である。
【００１５】
図１において、Ｘ，Ｙ，Ｚ方向の各々は、互いに直交する。以下の図に示されるＸ，Ｙ，Ｚ方向の各々も、互いに直交する。以下においては、Ｘ方向と、当該Ｘ方向の反対の方向（−Ｘ方向）とを含む方向をＸ軸方向ともいう。また、以下においては、Ｙ方向と、当該Ｙ方向の反対の方向（−Ｙ方向）とを含む方向をＹ軸方向ともいう。また、以下においては、Ｚ方向と、当該Ｚ方向の反対の方向（−Ｚ方向）とを含む方向をＺ軸方向ともいう。また、以下においては、Ｘ軸およびＹ軸を含む面を、ＸＹ平面ともいう。
【００１６】
また、図１では、説明の都合上、フォトマスク１００は、ウエハ２００と離れた位置に示されている。しかしながら、実際には、露光Ａが行われる際、フォトマスク１００は、ウエハ２００に対し僅かな隙間を設けて配置される。隙間のサイズは、プロジェクション方式の露光で使用されるレンズの厚さよりも十分に小さい。
【００１７】
なお、露光Ａが行われる際、フォトマスク１００は、ウエハ２００に密着して配置されてもよい。
【００１８】
ウエハ２００は、主面２０１を有する。ウエハ２００のうち主面２０１側には、段差２１が存在する。以下においては、主面２０１のうち、ウエハ２００の厚みが段差２１の分だけ小さい領域を、主面２０１ａともいう。また、以下においては、主面２０１のうち、ウエハ２００の厚みが最大である領域を、主面２０１ｂともいう。また、以下においては、フォトマスク１００からウエハ２００までのＺ軸方向の距離を、部間距離ともいう。部間距離は、プロジェクション方式の露光に用いられるレンズの厚さより十分に小さい値である。なお、部間距離は、０であってもよい。部間距離が０である場合、コンタクト方式の露光がおこなわれることになる。
【００１９】
また、フォトマスク１００は、ガラス基板１１０と、クロム膜１２０とを含む。ガラス基板１１０は、例えば、石英ガラスで構成される。以下においては、ガラス基板１１０のうち、ウエハ２００の主面２０１と対向する面を、ガラス対向面ともいう。
【００２０】
クロム膜１２０は、露光Ａにより、ウエハ２００にパターンを形成するための膜である。クロム膜１２０は、光Ｌ１０の伝搬を防ぐための膜である。本実施の形態において、光Ｌ１０は、フォトマスク１００の上方から、−Ｚ方向へ伝搬する。すなわち、光Ｌ１０は、Ｚ軸方向に沿って伝搬する。また、光Ｌ１０は、フォトマスク１００の照射面１０２全体に照射される。クロム膜１２０は、後述の調整段差１１が形成された後に、ガラス基板１１０のガラス対向面側に形成される。
【００２１】
また、フォトマスク１００は、照射面１０２と、対向面１０１とを有する。照射面１０２は、光Ｌ１０が照射される面である。対向面１０１は、フォトマスク１００のうち照射面１０２と反対側の面である。また、対向面１０１は、ウエハ２００の主面２０１と対向する面である。
【００２２】
フォトマスク１００には、調整段差１１が設けられる。具体的には、調整段差１１は、対向面１０１側に設けられる。調整段差１１は、段差２１と同じ大きさの段差である。また、調整段差１１は、部間距離を、ウエハ２００の全領域（ＸＹ平面に平行な領域）にわたって一定にするための段差である。
【００２３】
なお、フォトマスク１００に設けられる調整段差１１の数は、ウエハ２００に存在する段差２１の数と同じである。また、ＸＹ平面における複数の調整段差１１の位置は、それぞれ、ＸＹ平面における複数の段差２１の位置と同じである。
【００２４】
以下においては、対向面１０１のうち、調整段差１１により、フォトマスク１００の厚みが変化していない領域を、対向面１０１ａともいう。また、以下においては、対向面１０１のうち、フォトマスク１００の厚みが調整段差１１の分だけ小さい領域を、対向面１０１ｂともいう。また、以下においては、対向面１０１のうちクロム膜１２０が形成されていない領域を、光透過領域ともいう。また、以下においては、対向面１０１のうちクロム膜１２０が形成されている領域を、光遮断領域ともいう。
【００２５】
また、以下においては、主面２０１のうち、光透過領域と対向する領域を、照射領域ともいう。照射領域は、露光Ａにより、光が照射される領域である。すなわち、照射領域は、露光範囲である。また、以下においては、ウエハ２００の主面２０１のうち、光遮断領域と対向する領域を、未照射領域ともいう。未照射領域は、露光Ａが行われる際、光が照射されない領域である。すなわち、未照射領域は、未露光範囲である。
【００２６】
本実施の形態によれば、ウエハ２００の全領域（ＸＹ平面に平行な領域）にわたって、部間距離は、一定である。本実施の形態において、部間距離は、対向面１０１からウエハ２００の主面２０１までのＺ軸方向の距離である。
【００２７】
具体的には、照射領域において、対向面１０１ａからウエハ２００の主面２０１ａまでの距離Ｌ１は、対向面１０１ｂからウエハ２００の主面２０１ｂまでの距離Ｌ２と同じである。また、未照射領域において、対向面１０１ａからウエハ２００の主面２０１ｂまでの距離Ｌ３は、対向面１０１ｂからウエハ２００の主面２０１ａまでの距離Ｌ４と同じである。
【００２８】
以上の構成により、フォトマスク１００の下部からウエハ２００までの距離が一定に保たれる。これにより、露光の焦点深度が、ウエハ２００の全領域にわたって同一となる。そのため、以上の構成のフォトマスク１００を利用して、露光Ａが行われることにより、段差が存在するウエハ２００に対して、精度の高い露光を行うことができる。すなわち、段差が存在するウエハ２００に対して、高精度に、パターンを転写することができる。
【００２９】
例えば、図１（ａ）の構成において、ウエハ２００の主面２０１上にポジ型のレジスト２１０を形成した後、フォトマスク１００を用いた露光Ａが行われたとする。この場合、図１（ｂ）のように、段差２１が存在するウエハ２００の主面２０１上に、クロム膜１２０の形状に応じた形状を有するレジスト２１０を形成することができる。すなわち、段差が存在するウエハ２００に対して、高精度に、パターンを転写することができる。
【００３０】
次に、フォトマスク１００の製造方法（以下、製造方法Ｎ１ともいう）について説明する。図２は、製造方法Ｎ１を説明するための図である。
【００３１】
製造方法Ｎ１では、まず、段差形成工程Ｎ１が行われる。段差形成工程Ｎ１は、フォトマスク１００に、調整段差１１を形成する。少し具体的には、段差形成工程Ｎ１では、調整段差１１を、対向面１０１側に形成する。
【００３２】
具体的には、段差形成工程Ｎ１では、まず、図２（ａ）のように、ガラス基板１１０上にエッチングを行うためのエッチングマスク３１０を形成する。次に、エッチングマスク３１０が形成されたガラス基板１１０をエッチングする。なお、実行されるエッチングの種類は、例えば、ドライエッチングである。これにより、段差形成工程Ｎ１では、調整段差１１を形成する（図２（ｂ）参照）。
【００３３】
次に、パターン形成工程Ｎが行われる。パターン形成工程Ｎでは、ガラス基板１１０のガラス対向面にクロム膜１２０を形成する。以上により、フォトマスク１００が製造される。
【００３４】
なお、フォトマスク１００は、後述の透過性シート３２０を使用した以下の製造方法Ｎ２により製造されてもよい。図３は、製造方法Ｎ２を説明するための図である。なお、製造方法Ｎ２により製造されたフォトマスク１００は、透過性シート３２０を含む。
【００３５】
製造方法Ｎ２は、製造方法Ｎ１と比較して、段差形成工程Ｎ１の代わりに段差形成工程Ｎ２が行われる点が異なる。製造方法Ｎ２のそれ以外の工程は、製造方法Ｎ１と同様なので詳細な説明は繰り返さない。本実施の形態の段差形成工程Ｎ２では、調整段差１１を、対向面１０１側に形成する。
【００３６】
段差形成工程Ｎ２は、貼り付け工程Ｎ２と、エッチング工程Ｎ２とを含む。
【００３７】
貼り付け工程Ｎ２では、図３（ａ）のように、ガラス基板１１０のガラス対向面に透過性シート３２０を貼り付ける。透過性シート３２０は、光を透過させるシートである。
【００３８】
次に、エッチング工程Ｎ２が行われる。エッチング工程Ｎ２では、透過性シート３２０上にエッチングマスク３１０を形成する（図３（ａ）参照）。次に、エッチング工程Ｎ２では、調整段差１１を形成するために、エッチングマスク３１０および透過性シート３２０をエッチングする。これにより、段差形成工程Ｎ２では、調整段差１１を形成する（図３（ｂ）参照）。
【００３９】
その後、前述のパターン形成工程Ｎが行われる。そして、製造方法Ｎ２が終了する。以上により、フォトマスク１００が製造される。製造方法Ｎ２により製造されたフォトマスク１００は、透過性シート３２０により形成された調整段差１１を含む。
【００４０】
また、フォトマスク１００は、調整段差１１が予め形成された透過性シート３２０を使用した以下の製造方法Ｎ３により製造されてもよい。図４は、製造方法Ｎ３を説明するための図である。なお、製造方法Ｎ３により製造されたフォトマスク１００は、透過性シート３２０を含む。
【００４１】
製造方法Ｎ３は、製造方法Ｎ１と比較して、段差形成工程Ｎ１の代わりに段差形成工程Ｎ３が行われる点が異なる。製造方法Ｎ３のそれ以外の工程は、製造方法Ｎ１と同様なので詳細な説明は繰り返さない。本実施の形態の段差形成工程Ｎ３では、調整段差１１を、対向面１０１側に形成する。
【００４２】
具体的には、段差形成工程Ｎ３では、図４のように、ガラス基板１１０のガラス対向面に調整段差１１が予め形成された透過性シート３２０を貼り付ける。これにより、段差形成工程Ｎ３では、調整段差１１を形成する。
【００４３】
その後、前述のパターン形成工程Ｎが行われる。そして、製造方法Ｎ３が終了する。以上により、フォトマスク１００が製造される。製造方法Ｎ３により製造されたフォトマスク１００は、透過性シート３２０により形成された調整段差１１を含む。
【００４４】
また、フォトマスク１００は、後述の透過性樹脂３３０を使用した以下の製造方法Ｎ４により製造されてもよい。図５は、製造方法Ｎ４を説明するための図である。なお、製造方法Ｎ４により製造されたフォトマスク１００は、透過性樹脂３３０を含む。透過性樹脂３３０は、光を透過させる樹脂で構成される。
【００４５】
製造方法Ｎ４は、製造方法Ｎ１と比較して、段差形成工程Ｎ１の代わりに段差形成工程Ｎ４が行われる点が異なる。製造方法Ｎ４のそれ以外の工程は、製造方法Ｎ１と同様なので詳細な説明は繰り返さない。本実施の形態の段差形成工程Ｎ４では、調整段差１１を、対向面１０１側に形成する。
【００４６】
段差形成工程Ｎ４は、塗布工程Ｎ４と、エッチング工程Ｎ４とを含む。
【００４７】
塗布工程Ｎ４では、図５（ａ）のように、ガラス基板１１０のガラス対向面に透過性樹脂３３０を均一に塗布する。
【００４８】
次に、エッチング工程Ｎ４が行われる。エッチング工程Ｎ４では、透過性樹脂３３０上にエッチングマスク３１０を形成する（図５（ａ）参照）。次に、エッチング工程Ｎ４では、調整段差１１を形成するために、エッチングマスク３１０および透過性樹脂３３０をエッチングする。これにより、段差形成工程Ｎ４では、調整段差１１を形成する（図５（ｂ）参照）。
【００４９】
その後、前述のパターン形成工程Ｎが行われる。そして、製造方法Ｎ４が終了する。以上により、フォトマスク１００が製造される。製造方法Ｎ４により製造されたフォトマスク１００は、透過性樹脂３３０により形成された調整段差１１を含む。
【００５０】
以上説明したように、本実施の形態によれば、フォトマスク１００には、ウエハ２００の段差２１と同じ大きさの段差であって、かつ、フォトマスク１００からウエハ２００までの部間距離を、ウエハ２００の全領域にわたって一定にするための段差である調整段差１１が設けられる。
【００５１】
これにより、段差が存在するウエハに対して、当該ウエハの上部にフォトマスクを重ねた状態で行われる露光を、精度よく行うことができる。
【００５２】
また、本実施の形態によれば、ウエハに存在する段差による、露光の焦点深度（露光マージン）を、ウエハの全領域にわたって均一にすることができる。そのため、露光の際において、ピンボケ等の発生を防ぐことができる。
【００５３】
＜実施の形態２＞
実施の形態１では、調整段差１１は、対向面１０１側に設けられる構成としたが、本実施の形態では、調整段差１１は、照射面１０２側と、対向面１０１側とに設けられる。
【００５４】
図６は、本発明の実施の形態２に係るフォトマスク１００Ａの構成を示す断面図である。図６を参照して、フォトマスク１００Ａは、フォトマスク１００と比較して、さらに、照射面１０２側にも調整段差１１が形成されている点が異なる。フォトマスク１００Ａのそれ以外の構成は、フォトマスク１００と同様なので詳細な説明は繰り返さない。
【００５５】
具体的には、フォトマスク１００Ａにおいて、調整段差１１は、フォトマスク１００Ａ全体（ＸＹ平面に平行な領域）にわたってフォトマスク１００Ａの厚さが同一となるように、照射面１０２側と、対向面１０１側とに設けられる。
【００５６】
以下においては、対向面１０１側に設けられた調整段差１１を、調整段差１１Ｄとも表記する。また、以下においては、照射面１０２側に設けられた調整段差１１を、調整段差１１Ｕとも表記する。
【００５７】
なお、フォトマスク１００Ａに設けられる調整段差１１Ｄの数は、ウエハ２００に存在する段差２１の数と同じである。また、ＸＹ平面における複数の調整段差１１Ｄの位置は、それぞれ、ＸＹ平面における複数の段差２１の位置と同じである。また、フォトマスク１００Ａに設けられる調整段差１１Ｕの数は、フォトマスク１００Ａに設けられる調整段差１１Ｄの数と同じである。また、ＸＹ平面における複数の調整段差１１Ｕの位置は、それぞれ、ＸＹ平面における複数の調整段差１１Ｄの位置と同じである。
【００５８】
以下においては、調整段差１１Ｕが形成されたにも関わらす、照射面１０２のうちＺ軸方向の位置が変化していない領域を、照射面１０２ａともいう。また、以下においては、照射面１０２のうち、クロム膜１２０のみの形成に関連して、Ｚ軸方向の位置が変化した領域も、照射面１０２ａともいう。また、以下においては、調整段差１１Ｕの形成に関連して、照射面１０２のうちＺ軸方向の位置が変化した領域を、照射面１０２ｂともいう。
【００５９】
また、前述したように、対向面１０１のうちクロム膜１２０が形成されていない領域を、光透過領域ともいう。また、前述したように、対向面１０１のうちクロム膜１２０が形成されている領域を、光遮断領域ともいう。また、前述したように、主面２０１のうち、光透過領域と対向する領域を、照射領域ともいう。照射領域は、露光Ａにより、光が照射される領域である。
【００６０】
本実施の形態によれば、ウエハ２００の全領域（ＸＹ平面に平行な領域）にわたって、部間距離は、一定である。本実施の形態において、部間距離は、照射面１０２からウエハ２００の主面２０１までのＺ軸方向の距離である。
【００６１】
具体的には、照射領域において、照射面１０２ａからウエハ２００の主面２０１ａまでの距離Ｌ１ａは、照射面１０２ｂからウエハ２００の主面２０１ｂまでの距離Ｌ２ａと同じである。また、未照射領域において、照射面１０２ａからウエハ２００の主面２０１ｂまでの距離Ｌ３ａは、照射面１０２ｂからウエハ２００の主面２０１ａまでの距離Ｌ４ａと同じである。
【００６２】
以上の構成により、フォトマスク１００の上部からウエハ２００までの距離が一定に保たれる。これにより、露光の焦点深度が、ウエハ２００の全領域にわたって同一となる。また、フォトマスク１００Ａ全体にわたってフォトマスク１００Ａの厚さが同一となるように構成される。
【００６３】
そのため、以上の構成のフォトマスク１００Ａを利用して、露光Ａが行われることにより、段差が存在するウエハ２００に対して、実施の形態１よりもさらに精度の高い露光を行うことができる。すなわち、段差が存在するウエハ２００に対して、実施の形態１よりもさらに高精度に、パターンを転写することができる。
【００６４】
例えば、図６（ａ）の構成において、ウエハ２００の主面２０１上にポジ型のレジスト２１０を形成した後、フォトマスク１００Ａを用いた露光Ａが行われたとする。この場合、図６（ｂ）のように、段差２１が存在するウエハ２００の主面２０１上に、クロム膜１２０の形状に応じた形状を有するレジスト２１０を形成することができる。すなわち、段差が存在するウエハ２００に対して、高精度に、パターンを転写することができる。
【００６５】
次に、フォトマスク１００Ａの製造方法（以下、製造方法ＮＡともいう）について説明する。図２は、製造方法ＮＡを説明するための図でもある。
【００６６】
製造方法ＮＡでは、まず、段差形成工程ＮＡが行われる。段差形成工程ＮＡは、フォトマスク１００Ａに、調整段差１１を形成する。少し具体的には、段差形成工程ＮＡでは、調整段差１１を、フォトマスク１００Ａ全体にわたってフォトマスク１００Ａの厚さが同一となるように、照射面１０２側と、対向面１０１側とに形成する。
【００６７】
具体的には、まず、段差形成工程ＮＡでは、図２を用いて説明した、前述の段差形成工程Ｎ１と同様な処理により、調整段差１１を、対向面１０１側に形成する。
【００６８】
次に、前述のパターン形成工程Ｎが行われる。次に、段差形成工程ＮＡにおいて、調整段差１１を、フォトマスク１００Ａ全体にわたってフォトマスク１００Ａの厚さが同一となるように照射面１０２側に形成する。なお、照射面１０２側の調整段差１１の形成は、前述の段差形成工程Ｎ１と同様な処理により、行われる。
【００６９】
なお、照射面１０２側の調整段差１１は、例えば、以下のようにして形成される。まず、対向面１０１側に調整段差１１が形成され、かつ、クロム膜１２０が形成されたフォトマスク１００Ａ全体の−Ｚ方向の高さを測定する。そして、測定された各位置の高さに基づいて、照射面１０２側の調整段差１１が形成される。以上により、フォトマスク１００Ａが製造される。
【００７０】
なお、段差形成工程ＮＡにおける、対向面１０１側の調整段差１１と照射面１０２側の調整段差１１との形成の処理（以下、段差両面形成処理ともいう）は、段差形成工程Ｎ１と同様な処理で実現されることに限定されない。
【００７１】
例えば、段差両面形成処理は、図３を用いて説明した、前述の製造方法Ｎ２の段差形成工程Ｎ２の処理で実現されてもよい。また、例えば、段差両面形成処理は、図４を用いて説明した、前述の製造方法Ｎ３の段差形成工程Ｎ３の処理で実現されてもよい。また、例えば、段差両面形成処理は、図５を用いて説明した、前述の製造方法Ｎ４の段差形成工程Ｎ４の処理で実現されてもよい。
【００７２】
以上説明したように、本実施の形態によれば、実施の形態１と同様な効果が得られる。すなわち、段差が存在するウエハに対して、当該ウエハの上部にフォトマスクを重ねた状態で行われる露光を、精度よく行うことができる。
【００７３】
また、本実施の形態によれば、フォトマスク１００Ａ全体にわたってフォトマスク１００Ａの厚さが同一となるように、調整段差１１が形成される。そのため、実施の形態１よりもさらに精度の高い露光を行うことができる。すなわち、段差が存在するウエハ２００に対して、実施の形態１よりもさらに高精度に、パターンを転写することができる。
【００７４】
なお、本実施の形態では、フォトマスク１００Ａ全体にわたって該フォトマスク１００Ａの厚さが同一となるように、調整段差１１が形成されるとしたが、これに限定されない。例えば、フォトマスク１００Ａの一部において該フォトマスク１００Ａの厚さが同一となるように、調整段差１１が形成されてもよい。
【００７５】
＜実施の形態３＞
実施の形態２では、調整段差１１は、照射面１０２側と、対向面１０１側とに設けられるとしたが、本実施の形態では、調整段差１１は、照射面１０２側のみに設けられる。
【００７６】
図７は、本発明の実施の形態３に係るフォトマスク１００Ｂの構成を示す断面図である。図７を参照して、フォトマスク１００Ｂは、図６（ａ）のフォトマスク１００Ａと比較して、照射面１０２側のみに調整段差１１が形成されている点が異なる。フォトマスク１００Ｂのそれ以外の構成は、フォトマスク１００Ａと同様なので詳細な説明は繰り返さない。具体的には、フォトマスク１００Ｂにおいて、調整段差１１は、照射面１０２側に設けられる。
【００７７】
本実施の形態によれば、ウエハ２００の全領域（ＸＹ平面に平行な領域）にわたって、部間距離は、一定である。本実施の形態において、部間距離は、照射面１０２からウエハ２００の主面２０１までのＺ軸方向の距離である。なお、前述したように、調整段差１１は、部間距離を、ウエハ２００の全領域にわたって一定にするための段差である。
【００７８】
次に、フォトマスク１００Ｂの製造方法（以下、製造方法ＮＢともいう）について説明する。
【００７９】
製造方法ＮＢでは、まず、前述のパターン形成工程Ｎが行われる。次に、段差形成工程ＮＢが行われる。段差形成工程ＮＢは、フォトマスク１００Ｂに、調整段差１１を形成する。少し具体的には、段差形成工程ＮＢでは、調整段差１１を、フォトマスク１００Ｂの照射面１０２側に形成する。
【００８０】
具体的には、段差形成工程ＮＢでは、図２を用いて説明した前述の段差形成工程Ｎ１と同様な処理により、調整段差１１を、照射面１０２側に形成する。以上により、フォトマスク１００Ｂが製造される。
【００８１】
なお、段差形成工程ＮＢにおける、照射面１０２側の調整段差１１の形成の処理（以下、段差両面形成処理Ｂともいう）は、段差形成工程Ｎ１と同様な処理で実現されることに限定されない。
【００８２】
例えば、段差両面形成処理Ｂは、図３を用いて説明した、前述の製造方法Ｎ２の段差形成工程Ｎ２の処理で実現されてもよい。また、例えば、段差両面形成処理Ｂは、図４を用いて説明した、前述の製造方法Ｎ３の段差形成工程Ｎ３の処理で実現されてもよい。また、例えば、段差両面形成処理Ｂは、図５を用いて説明した、前述の製造方法Ｎ４の段差形成工程Ｎ４の処理で実現されてもよい。
【００８３】
以上説明したように、本実施の形態によれば、実施の形態１と同様な効果が得られる。すなわち、段差が存在するウエハに対して、当該ウエハの上部にフォトマスクを重ねた状態で行われる露光を、精度よく行うことができる。
【００８４】
また、本実施の形態によれば、調整段差１１が照射面１０２側に形成される。そのため、精度の高い露光を行うことができる。すなわち、段差が存在するウエハ２００に対して、高精度に、パターンを転写することができる。
【００８５】
なお、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。
【符号の説明】
【００８６】
１１  調整段差、２１  段差、１００，１００Ａ，１００Ｂ  フォトマスク、１１０  ガラス基板、１２０  クロム膜、２００  ウエハ、２１０  レジスト、３１０  エッチングマスク、３２０  透過性シート、３３０  透過性樹脂。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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