(57)【要約】      （修正有）【課題】クロック信号の周波数を変更することなく、ステージの加減速中にパターンを描画することが可能な描画装置を提供する。【解決手段】描画装置は、基板１０上の各単位領域１０９に照射するビームの照射量を示す、描画データを作成するデータ作成部２１と、基板１０を保持して駆動するステージ１１の加速と減速の少なくとも一の区間及び定速区間において、クロック信号に基づいてビームを制御するビーム制御部１０４とを有する。データ作成部２１は、駆動データと、加速と減速の少なくとも一の区間及び定速区間において共通のクロック信号とに基づいて描画データを作成し、制御部１０４は描画データに基づいて基板１０上にパターンを描画する。【選択図】図２
2015109310.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上の各単位領域に照射するビームの照射量を示す、描画データを作成するデータ作成部と、
前記基板を保持して駆動するステージの加速と減速の少なくとも一の区間及び定速区間において、クロック信号に基づいて前記ビームを制御するビーム制御部とを有し、
前記データ作成部は、前記ステージの駆動データと、前記加速と減速の少なくとも一の区間及び前記定速区間において共通の前記クロック信号とに基づいて前記描画データを作成し、前記ビーム制御部は前記描画データに基づいて前記基板にパターンを描画することを特徴とする描画装置。
【請求項２】
前記照射量は照射データ及び非照射データの組み合わせによって表され、
前記加速と減速の少なくとも一の区間において描画する前記単位領域に対して、該単位領域を前記定速区間として描画する場合よりも多くの前記非照射データを用いて、前記データ作成部は前記描画データを作成することを特徴とする請求項１に記載の描画装置。
【請求項３】
前記データ作成部は、前記加速と減速の少なくとも一の区間において、前記ステージが前記単位領域分の移動に要する時間を求めることを特徴とする請求項１又は２に記載の描画装置。
【請求項４】
前記データ作成部は、前記単位領域分の移動に要する時間に相当する前記クロック信号の周期回数を用いて前記描画データを作成することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の描画装置。
【請求項５】
前記データ作成部は、前記単位領域分の移動に要する時間に相当する前記クロック信号の周期回数に基づいて、前記加速と減速の少なくとも一の区間において描画する前記単位領域に対する非照射データの量を決定することを特徴とする請求項２に記載の描画装置。
【請求項６】
前記駆動データは、前記ステージの加速度、速度、及び位置の少なくとも１つと、時刻との関係を示すデータであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の描画装置。
【請求項７】
前記加速と減速の少なくとも一の区間において描画する前記単位領域を前記定速区間として描画する場合の仮想描画データと、前記加速と減速の少なくとも一の区間における駆動データと、前記クロック信号とに基づいて前記描画データを作成することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の描画装置。
【請求項８】
前記データ作成部は、前記単位領域に照射予定の照射量を示すデータと、前記駆動データと、前記クロック信号とに基づいて前記描画データを作成することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の描画装置。
【請求項９】
基板上にビームを照射してパターンを描画する描画方法であって、
前記基板上の各単位領域に照射する前記ビームの照射量を示す描画データを、前記基板を保持して駆動するステージの駆動データと該駆動データの前記加速と減速の少なくとも一の区間及び定速区間において共通のクロック信号とに基づいて作成するステップと、
前記描画データに基づいて、前記加速と減速の少なくとも一の区間及び定速区間において描画をするステップとを有することを特徴とする描画方法。
【請求項１０】
請求項１乃至８のいずれか１項に記載の描画装置を用いて、基板に対してビームを照射する工程と、
前記基板を現像する工程とを含むことを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、描画装置、描画方法、及び物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板を保持して往復移動をするステージに対してビームを照射し、基板上にパターンを描画する描画装置において、従来はステージが定速で移動している間のみパターンを描画していた。すなわち、ステージが減速、停止、及び逆方向へ定速で移動するための加速中（以下、加減速中と称す）には描画をしておらず、ステージが移動方向を変える度に描画に関与しない時間を要していた。そこで今後はスループットの向上を図るため、加減速中にも描画をする技術が要求されている。
【０００３】
特許文献１には、ビームを照射するタイミングの基準となるクロック信号の周波数をステージの速度に応じて変更することにより、加減速中にも描画をする技術が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特表２００９−５０５３９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載の技術においてクロック信号の周波数を変更するには、クロック信号を変更するための新たな回路が必要となり、従来に比べ回路面積が大きくなってしまうという課題がある。
【０００６】
そこで本発明は上記課題を鑑みてなされたものであり、クロック信号の周波数を変更することなく、ステージの加減速中にパターンを描画することが可能な描画装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
基板上の各単位領域に照射するビームの照射量を示す、描画データを作成するデータ作成部と、前記基板を保持して駆動するステージの加速と減速の少なくとも一の区間及び定速区間において、クロック信号に基づいて前記ビームを制御するビーム制御部とを有し、前記データ作成部は、前記ステージの駆動データと、前記加速と減速の少なくとも一の区間及び前記定速区間において共通の前記クロック信号とに基づいて前記描画データを作成し、前記ビーム制御部は前記描画データに基づいて前記基板にパターンを描画することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の描画装置によれば、クロック信号の周波数を変更することなく、ステージの加減速中にパターンを描画することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】描画の様子を示す図。
【図２】第１の実施形態に係る描画装置の構成図。
【図３】描画データの伝送に関する説明図。
【図４】照射領域における電子線の配列図。
【図５】描画データ作成部における処理工程を説明する図。
【図６】描画データの作成に関する説明図（定速時）。
【図７】第１の実施形態に係るステージの位置プロファイルを説明する図。
【図８】第１の実施形態に係る描画データの作成を説明する図（加減速時＋定速時）。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
［第１の実施形態］
本発明は電子線、イオンビーム、及びレーザビーム等のビームをウエハ（基板）上に照射することでパターンを描画する描画装置に対して適用可能である。以下、ウエハを載置したステージを走査させながら複数の電子線を用いてパターンを描画する描画装置を例に挙げて実施形態を説明する。
【００１１】
（従来の描画方法）
まず、従来の描画方法について図１を用いて説明する。図１（ａ）は、ウエハ１０上にパターンの描画領域であるショット３０が配列している様子を示している。Ｙ軸方向に並んでいるショット３０の集合をショット列３１とする。ショット列３１毎にＸ軸方向に対して順次描画をする。
【００１２】
図１（ｂ）は２つのショット３０を有するショット列３１の拡大図である。照射領域１０９の幅がショット３０の幅の１／４の幅の場合、ショット列３１は４つのストライプＩ、ＩＩ、ＩＩＩ、ＩＶに分割できる。照射領域１０９の位置を固定した状態で、ウエハ１０が−Ｙ方向に走査することにより照射領域１０９が１つのストライプＩを描画する。１つのストライプの幅分だけウエハ１０が−Ｘ方向に移動し、次は＋Ｙ方向に移動することで照射領域１０９がストライプＩＩを描画する。同様にストライプＩＩＩ、ＩＶ、及びその他のショット列３１に対しても同様に描画をする。
【００１３】
ショット列３１に描画をするのはウエハ１０が定速で移動するように指示されている時刻区間（以下、定速区間と称す）のみである。そのため、ウエハ１０がＹ軸方向に対する移動方向を変えるための時刻区間、すなわちウエハ１０の加減速区間（加速と減速の少なくとも一の区間）には描画をしない。よって、ウエハ１０の描画領域外において照射領域１０９が相対的に走査するための、冗長な時間を伴うこととなる。
【００１４】
下記の説明における描画データの変換を実行する描画装置によって、本実施形態ではこの冗長な時間を低減することが可能となる。これにより、スループットの向上を図ることが可能となる。
【００１５】
（装置構成）
図２を用いて、第１の実施形態に係る描画装置１の構成について説明する。まず、光学系１００の構成について説明する。電子源１０１は熱電子型の電子源であり、電子線の電子放出材として、例えばＬａＢ６又はＢａＯ／Ｗ等を用いる。電子源１０１から発散し出てくる電子線は、コリメータレンズ１０２によって互いに平行な電子線の束に成形された後、２次元に配列された開孔を有しているアパーチャアレイ１０３に対してほぼ垂直に入射する。アパーチャアレイ１０３は、入射した電子線を開孔数分の電子線に分割する。
【００１６】
ビーム制御部である変調デバイス１０４は、アパーチャアレイ１０３を通過した電子線の配列に対応する後述の複数のブランカ２０３を有している。各ブランカ２０３における電圧印加を切り替えることによって、各々の電子線に対して照射と非照射の２階調の切り替えを行う。電圧を印加しなかった場合、電子線はブランカ２０３をそのまま通過し、電子線の配列に対応した２次元に配列された開孔を有している絞り（不図示）も通過する。一方、電圧を印加した場合は、ブランカ２０３を通過する電子線の軌道が偏向され、絞りによって遮断される。
【００１７】
１本の電子線による単位照射領域である、ウエハ１０上の１つの画素（単位領域）に対して電子線を照射する本数を制御することによって、変調デバイス１０４は１つの画素への照射量を多階調に制御する。
【００１８】
静電レンズ１０５、磁界レンズ１０６は、変調デバイス１０４を通過した各電子線の中間像を形成する。偏向器１０７は、Ｘ軸用とＹ軸用、各々１対の電極板（１対分は不図示）を有している。磁界レンズ１０８は対物レンズとして作用し、照射領域１０９の面積で複数の電子線をウエハ１０上に結像している。
【００１９】
次に光学系１００以外の装置構成について説明する。ステージ１１上に保持部材（不図示）及び保持部材が保持しているウエハ１０を載置している。ステージ１１上にはさらに移動鏡１２を配置している。
【００２０】
干渉計１３は、射出したレーザビームを測定光と参照光とに分割し、測定光を移動鏡１２に、参照光を干渉計１３の内部に設けられている参照鏡（不図示）にそれぞれ入射する。各々の鏡から反射された光を干渉させて、検出部１４がその干渉光の強度を検出することによって、移動鏡１２の位置、すなわちステージ１１の位置を検出する。
【００２１】
不図示のアライメント光学系によりウエハ１０上に形成されている不図示のマークの位置を検出することで既成層のショット３０の配列を求め、次に形成する層のショット３０の配列を決定する。
【００２２】
主制御部２０は、検出部１４、中間データ用のメモリ１７、制御部１８、制御部１９、描画データ作成部２１（データ作成部）、送信部２２、及びメモリ２３と接続している。各々の構成部材を統括的に制御している。例えば、後述の図５に示す描画データの作成のフローチャートに基づいて、描画データを作成するよう描画データ作成部２１に指示する。メモリ２３に対して情報の記憶や、情報の取り出しを行う。
【００２３】
さらに、ウエハ１０の動きと変調デバイス１０４による電子線の照射制御とを同期させるためのクロック信号を発生している。クロック信号は時間の間隔が均一な信号であり、本実施形態では加減速区間と定速区間において共通の周波数のクロック信号を発生する。
【００２４】
メモリ１５は、ユーザが設計した所望の描画パターンのデータを記憶するメモリである。中間データ作成部１６は１つの画素に照射すべき電子線の階調数を定めたビットマップデータ（以下、中間データと称す）を作成する。中間データ作成部１６はメモリ１７と接続されており、作成した中間データをメモリ１７に記憶する。
【００２５】
偏向器１０７を制御する制御部１８は、Ｘ軸用、Ｙ軸用の偏向器に対して偏向度合いを指示する。偏向器１０７はＸ軸用、Ｙ軸用の偏向器を独立して制御することができ、照射領域１０９とウエハ１０との相対位置が予定の照射位置からずれた場合に複数の電子線の照射位置を一括してずらすことで照射位置の補正をする。
【００２６】
検出部１４から送られたステージ１１の位置情報と主制御部２０から送られるクロック信号とに基づいて、制御部１９はステージ１１をＸ、Ｙ、Ｚ軸方向に移動させる。定速区間はステージ１１が制御部１９から定速駆動指示を受けて駆動する時刻区間であり、実際の速度は所定の速度指令値に対して多少の誤差も含んでも良い。加減速区間では、ステージ１１は制御部１９より所定の加速度での駆動指示を受けて駆動する。
【００２７】
描画データ作成部２１は、メモリ１７に記憶されている中間データを取得して中間データを描画データに変換する。描画データとは単位領域に照射するビームの照射量を示すデータであり、画素の位置、その画素に対して照射する電子線、及び照射時刻の関係を示すデータである。電子線が照射又は非照射の２階調で制御されるため、各画素に対する照射量は照射ＯＮの指令（照射データ）及び照射ＯＦＦの指令（非照射データ）の組み合わせによって規定される。
【００２８】
送信部２２は主制御部２０から送られるクロック信号と描画データ作成部２１で作成した描画データとを変調デバイス１０４に送信する。メモリ２３は、時刻とステージ１１の駆動状態を表す駆動データが記憶されている。駆動データは、ステージ１１の加速度、速度、位置のうち少なくとも１つの駆動状態を表す情報を有している。
【００２９】
図３は、変調デバイス１０４の詳細な構成である。変調デバイス１０４は受信部２０１、描画データの搬送部２０２、及び５行２５列のブランカ２０３を有している。これらの部品は１つのＩＣチップ上で一体となって構成されている。受信部２０１は、送信部２２から送られる描画データとクロック信号とを受信し、それらを搬送部２０２に対して送信する。搬送部２０２は、作成された描画データ通りのタイミングで所定の画素に所定の照射量で照射するように、クロック信号のタイミングに同期してブランカ２０３に対して照射のＯＮ／ＯＦＦ指示を送信する。
【００３０】
（本実施形態の描画方法）
描画に先立ち、描画データ作成部２１は変調デバイス１０４に送る描画データを作成する。作成した描画データに基づいてウエハ１０に対して描画をするため、描画データの作成方法を中心に説明をする。本実施形態は定速区間でのみ描画する場合の駆動状態と定速区間でのみ描画する場合の描画データに基づいて、ステージ１１の加減速区間と定速区間における描画データを作成する形態である。メモリ２３にはウエハ１０上の全てのショット３０を定速区間でのみ描画する場合のステージ１１の駆動状態を示す駆動データが記憶されている。
【００３１】
図４はウエハ１０に結像される照射領域１０９拡大図である。全ての電子線に照射指示が出されている場合、描画装置１はブランカ２０３と同じ配列の５行×２５列の計１２５本を用いて電子線をウエハ１０に対して照射する。ステージ１１の駆動方向を−Ｙ方向とすると、ウエハ１０の１つの画素に対して、最大５本の電子線を照射することが可能である。１つの画素に対して照射可能な電子線の総本数が総照射量に相当するため、変調デバイス１０４は０〜５の６階調で照射量を調節することが可能である。−Ｙ方向に移動するウエハ１０の１つの画素に照射する電子線を、照射順にｊ、ｋ、ｌ、ｍ、ｎ行の電子線とする。
【００３２】
主制御部２０の指示を受けて描画データ作成部２１が実行する、描画データを作成するための処理内容を表すフローチャートを図５に示す。まずＳ１０１において、描画データ作成部２１はメモリ１７に記憶されている中間データを取得する。中間データの例を図６（ａ）に示す。図６（ａ）は、照射領域１０９のｊ〜ｎ行１列のビームを用いて順に照射する画素Ｎｏ．１、２、３、４、５、６の各画素に対する照射の階調数を示している。
【００３３】
図５におけるＳ１０２では、中間データを元に照射に寄与するビームの割り当てデータを作成する。図６（ｂ）にビームの割り当てデータの例を示す。中間データ通りの照射量となるように、各画素に対してどのビームを用いて照射を行うのかを示すデータである。なお、図６（ｂ）はｊ〜ｎの順で照射に寄与する電子線の優先順位を定めているが、優先順位さえ決めてあれば順位はこの通りでなくても構わない。
【００３４】
再び図５に戻り、描画データ作成部２１はＳ１０３で、定速区間でのみ描画する場合の描画データ（仮想描画データ）を作成する。図６（ｃ）は、ステージ１１が定速区間でのみ描画をする場合の描画データである。Ｓ１０２で作成したデータに従い、クロック信号で表される時間軸に対して、ｊ〜ｎ行１列の電子線における照射のＯＮ／ＯＦＦ指示を示している。照射制御のクロック信号とステージ１１の移動のクロック信号が同期しており、ステージ１１の定速区間において、１つの画素の移動に要する時間を１クロックとして定めている。
【００３５】
例えば、時刻Ｔ１でｊ行の電子線で画素Ｎｏ．１に照射したあと、１クロック後の時刻Ｔ２はｊ行の電子線は画素Ｎｏ，２に対して照射をする。一方、ｋ列の電子線は、時刻Ｔ２において１画素分ずれた位置に移動した画素Ｎｏ．１に対して照射をすることを示している。同様の方法で、他の２４列分の描画データも作成する。
【００３６】
図４におけるＳ１０４では、Ｓ１０３で作成した描画データを元に、ステージ１１の加減速区間でも描画をする場合の描画データを作成する。図５に示すフローチャートのＳ１０４では、加減速区間でも描画するための描画データを作成する。Ｓ１０４における処理内容について、図７及び図８を用いて説明する。図７は、ストライプＩとストライプＩに隣接するストライプＩＩに対して描画を行う場合の、加速度、速度、及びステージ１１の位置と時刻との関係を示している。以下、時刻とステージ１１の位置の関係を位置プロファイルと称す。なお、位置０は、描画領域の開始地点となるショット列３１の端を示している。
【００３７】
図７（ａ）はステージ１１が定速区間でのみ描画をする場合の、図７（ｂ）はステージ１１が加減速区間も定速区間でも描画をする場合のグラフである。加減速区間でも描画をすることで、ストライプＩ及びストライプＩＩを描画する間の加減速に要する、時間ΔＴを短縮することができる。加減速区間と定速区間とで共通のクロック信号に従って図７（ａ）と図７（ｂ）の場合とで同一の描画結果を得るためには、１つの画素の移動に要するクロック信号の数は、定速区間よりも加減速区間中のほうが多くなる点に考慮してＳ１０３で作成した描画データを変換する必要がある。
【００３８】
描画データ作成部２１が実行する描画データの変換方法について、図８を用いてブランカ２０３のｊ行１列の電子線に対する描画データを例に挙げて説明する。
【００３９】
図８（ａ）に、定速区間のステージ１１の位置プロファイル、及びＳ１０３で作成したｊ行１列に対する描画データを示す。図８（ｂ）は加速区間における位置プロファイル、及び加速区間で描画する場合のｊ行１列に対する描画データを示す。この描画データの変換は図７（ａ）の位置プロファイルを用いて次の手順により行う。
【００４０】
まず、図７（ａ）の加速区間におけるステージ１１の位置プロファイルから１つの画素の移動に要する時間を求め、その時間に相当するクロック信号の周期回数（単位領域分の移動に要する時間に相当するクロック信号の周期回数）を求める。本実施形態は、画素Ｎｏ．１では５クロック、画素Ｎｏ．２では４クロック、画素Ｎｏ．３では３クロック、画素Ｎｏ．４では２クロック、画素Ｎｏ．５以降は定速区間に入り１クロックずつ要する例を示している。
【００４１】
次に、１つの画素の移動にＮクロック（Ｎは２以上の整数）要する場合は、加減速区間においても電子線の照射量が変更しないように、その画素の描画データに対して（Ｎ−１）個の照射ＯＦＦの指令を追加する。
【００４２】
すなわち、画素Ｎｏ．１には４つ、画素Ｎｏ，２には３つ、画素Ｎｏ．３には２つ、画素Ｎｏ．４には１つの照射ＯＦＦのデータを追加する。これにより、図８（ｂ）に示す描画データを得る。なお、１つの画素の移動にＮクロック（Ｎは２以上の整数）要する場合に、照射する１つのＯＮデータの位置はどのタイミングでも構わない。図８（ａ）から図８（ｂ）への変換前後における、各画素に対する照射ＯＮデータの数が変わらなければ良い。
【００４３】
加速区間で計ｎ画素（本実施形態では４画素）移動し、かつ減速区間でもｎ画素移動すると、定速区間における移動量が計２ｎ画素分減ることになる。そのため、定速区間では２ｎクロック数分描画データを減らして描画データを作成する。さらに減速区間では、加速区間と同様の描画データの変換処理を行う。以上の処理によって、加減速区間でも描画を行う場合の描画データを作成することが可能となる。なお、ｊ行１列以外のブランカ２０３に対する描画データの変換は同様の手法であるため説明を省略する。
【００４４】
最後に、描画データ作成部２１はＳ１０５において作成した描画データを送信部２２に送信する。加減速区間でも描画できるようにするには、当然、定速区間における時間を減らした位置プロファイルが別途必要となる。この位置プロファイルの作成は主制御部２０やステージ１１を制御する制御部１９等が作成する。
【００４５】
従来の描画方法におけるステージ１１の駆動状態と描画データに基づいて作成した、ステージ１１の加減速区間と定速区間における描画データに従ってパターンを描画する方法について説明した。
【００４６】
本実施形態は、照射ＯＮの指令の回数が変化しないように、加減速区間で描画する任意の画素を定速区間中に描画する場合よりも多くの照射ＯＦＦの指令を用いて描画データを作成する。このように描画データを作成することにより、ステージ１１の加減速区間中でも描画をすることが可能であり、１枚のウエハ１０に対して約（ΔＴ／２）×（ストライプ本数分の時間）を短縮してパターンを描画することが可能となる。さらに、クロック信号の周波数を変更させずに描画データを変換するため、クロック信号の周波数を変更するための回路面積が不要となる効果も得られる。
【００４７】
［第２の実施形態］
本実施形態はＳ１０４において、図６（ａ）に示す中間データと図７（ｂ）に示す加減速区間で描画する場合の位置プロファイルとから、加減速時も描画するための描画データを直接作成する形態である。メモリ２３には加減速区間及び定速区間で描画する場合のステージ１１の駆動状態を示す駆動データ（図７（ｂ））が記憶されている。従来の方法で作成する描画データ（図６（ｃ））や従来のステージ１１の位置プロファイル（図７（ａ））が不要である点で第１の実施形態とは異なる。
【００４８】
以下、例として、図４における左から１列目の＋ｙ方向に並んでいる各々の画素Ｎｏ．１〜６に対する描画データの作成方法について説明する。ただし、ｊ〜ｎ行の電子線による計６階調の照射は、ｊ、ｋ、ｌ、ｍ、ｎ行の優先順位で電子線を使用するものとする。図５のフローチャートに示すＳ１０１、及びＳ１０５の処理内容は第１の実施形態と同様のため説明を省略する。
【００４９】
最初に、図７（ｂ）に示す位置プロファイルから、１つの画素の移動に要する時間を求める。そして、その時間が何クロック分に相当するかを換算する。換算した結果、各々の画素Ｎｏ．１〜６の移動に要するクロック数は順に５、４、３、２、１、１とする。
【００５０】
全ての画素の移動に要するクロック数分のデータに対して、照射ＯＦＦのデータ（本実施形態の場合は計１６個）を当てはめる。続いて、各画素に照射予定の階調数を示す中間データから、各電子線において照射ＯＮにすべきデータの位置を判断する。
【００５１】
ｊ〜ｎ行の順で優先的に電子線を使用するため、ｊ行のビームは階調数１以上の場合に必ず使用する。また、ｋ行の電子線は、階調数２以上の時は必ず使用する。以下、ｌ、ｍ、ｎ行の電子線も同様に各画素に照射予定の階調数に基づいて、その行の各々の電子線が照射をするか否かの判断をする。
【００５２】
ある行において照射が必要と判断された画素では、１クロック分を照射ＯＦＦの指令から照射ＯＮの指令に置き換える。すなわち、ｊ行は画素Ｎｏ．１〜６の全ての画素において１クロックをＯＮのデータに置き換えをし、ｋ行は画素Ｎｏ．４（階調数１）以外の画素において１クロック分のＯＮのデータに置き換えをする。ｌ、ｍ、ｎの行の電子線も同様にデータの置き換えを行う。
【００５３】
これらの置き換えを、５行２５列分、及びウエハ１０の全ての画素分について行うことで加減速中も描画できる描画データを作成することが可能となる。これにより、実施形態１と同様、加減速中も描画することによって、ステージ１１が冗長に走査する時間を従来に比べて短縮することができ、スループットの向上につながる。なお、ｊ〜ｎ行の電子線のうち制御不能になりやすい電子線が有る場合は、使用する電子線の優先順位を適宜変更して描画データを作成すると良い。
【００５４】
第２の実施形態でも、加減速区間及び定速区間において共通のクロック信号を用いて、加減速区間において描画できるようにするための描画データを作成する。そのためクロック信号の周波数を変更する回路を必要とせず、さらに加減速区間でも描画することによりスループットを向上させることが可能となる。
【００５５】
［その他の実施形態］
前述の実施形態は全て複数本の電子線でウエハ１０に描画をする形態であったが、描画データの作成方法や描画方法は１本の電子線でパターンを描画する場合にも適用可能である。変調デバイス１０４における複数のブランカ２０３の配列も一例であり、適宜配列を変更しても良い。さらに、照射する１クロックあたりの電子線の照射量が多階調である場合には、１画素を移動する時間がＮクロックの場合に照射量を１／Ｎに落とすような描画データを作成しても構わない。
【００５６】
また、変調デバイス１０４はこれに限られず、作成した描画データに基づいて複数本の電子線の露光量や照射の有無を個別に制御できるデバイスであれば他の形式のデバイスを使用しても良い。
【００５７】
作成した描画データと連動するウエハ１０の位置プロファイルは、必ずしも図７（ｂ）に示す位置プロファイルのように初期位置と描画開始位置が一致していなくても構わない。クロック信号を変えずに、ステージ１１の加減速中に描画するのであれば、それに連動する位置プロファイルにおけるウエハ１０の初期位置が０でなくてもスループットを向上させる効果を得ることが可能となる。また、当然、加速中、減速中、どちらか一方の間のみ描画をするように描画データを変更するだけでもスループットの向上につながる。
【００５８】
ステージ１１の移動に使用するクロック信号と、描画データの制御のタイミングを示すクロック信号とが同期するのであれば、主制御部２０から発生した共通のクロック信号ではなく、別の場所から発生しクロック信号を用いても構わない。
【００５９】
また、描画装置１は光学系１００を複数有していることや、主制御部２０を介して描画パターンをメモリ２３に記憶しておき、同一ロット内の全てのウエハに対して同一の描画パターンを適用することが好ましい。これらにより、スループットを向上させることが可能となる。
【００６０】
［物品の製造方法］
本発明の物品（半導体集積回路素子、液晶表示素子、ＣＤ−ＲＷ、光露光装置用のマスク等）の製造方法は、前述の描画装置１を用いてＳｉウエハやガラス等の基板上にパターンを描画する工程と、パターンを描画した基板を現像する工程とを有している。さらに、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含んでも良い。
【符号の説明】
【００６１】
１０  ウエハ
１１  ステージ
２０  主制御部
２１  描画データ作成部
２３  メモリ（駆動データ等用）
１０４  変調デバイス
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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