(57)【要約】【課題】スルーホールの内壁全体を検査することができる検査装置及び検査方法を提供すること。【解決手段】検査装置Ｓは、基板ＣＰ上に形成されたスルーホールＨを検査する検査装置であって、基板ＣＰをその基板面を含む面内で左右方向に移動させる移動手段３と、基板ＣＰを照明光により照明する照明手段４と、基板面に直交する上下方向に沿った光軸Ｏを有して基板ＣＰの像を結像する光学系５と、光学系５による結像を検出する検出手段６と、を有し、スルーホールＨの内壁ＨＷの像を検出手段６に導くために、光学系５の光軸Ｏを上下方向から傾斜させる傾斜手段７を更に有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成されたスルーホールを検査する検査装置であって、
前記基板をその基板面を含む面内で左右方向に移動させる移動手段と、
前記基板を照明光により照明する照明手段と、
前記基板面に直交する上下方向に沿った光軸を有して前記基板の像を結像する光学系と、
前記光学系による結像を検出する検出手段と、を有し、
前記スルーホールの内壁の像を前記検出手段に導くために、前記光学系の光軸を前記上下方向から傾斜させる傾斜手段を、更に有する検査装置。
【請求項２】
前記基板面を含む面内で前記基板を回転させる回転手段を、更に有する請求項１に記載の検査装置。
【請求項３】
前記傾斜手段は、
前記光学系の光軸と共に、前記検出手段と前記照明手段とを傾斜させる、請求項１又は請求項２に記載の検査装置。
【請求項４】
前記照明手段は、
前記基板に対して前記光学系と同側から照明する反射照明手段、又は、
前記基板に対して前記光学系と逆側から拡散板を介して照明する透過照明手段、のいずれか一方である、請求項１から請求項３のうちいずれか１項に記載の検査装置。
【請求項５】
前記光学系を前記光軸に沿って上下移動させる合焦手段を更に有し、
前記傾斜手段が前記光学系を傾斜させたときに、前記合焦手段が、前記光学系を前記光軸に沿って前記基板に近づけるように移動させて前記スルーホールの内壁に合焦させる、請求項１から請求項４のうちいずれか１項に記載の検査装置。
【請求項６】
前記合焦手段は、
前記光学系と共に前記傾斜手段を上下移動させる、請求項５に記載の検査装置。
【請求項７】
基板を、その基板面を含む面内で左右方向に移動させる移動手段と、
前記基板を、前記基板面を含む面内で回転させる回転手段と、
前記基板を照明光により照明する照明手段と、
前記基板面に直交する上下方向に沿った光軸を有して前記基板の像を結像する光学系と、
前記光学系による結像を検出する検出手段と、
前記基板上に形成されたスルーホールの内壁の像を前記検出手段に導くために、前記光学系の光軸を前記上下方向から傾斜させる傾斜手段と、を有する検査装置を用いて、前記スルーホールを検査する検査方法であって、
前記光学系の光軸を前記上下方向から所定角度傾斜させ、前記スルーホールの第１の内壁の像を前記検出手段に導くステップと、
前記光学系の光軸を前記上下方向から前記所定角度と逆側へ同角度傾斜させ、前記スルーホールの第１の内壁と逆側の第２の内壁の像を前記検出手段に導くステップと、
前記回転手段により前記基板を前記基板面を含む面内で９０°回転させるステップと、
前記回転手段による前記基板の回転後に、
前記光学系の光軸を前記上下方向から所定角度傾斜させ、前記スルーホールの第１の内壁と第２の内壁との間の第３の内壁の像を前記検出手段に導くステップと、
前記光学系の光軸を前記上下方向から前記所定角度と逆側へ同角度傾斜させ、前記スルーホールの第３の内壁と逆側の第４の内壁の像を前記検出手段に導くステップと、
を有する検査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、検査装置及び検査方法に係り、特に基板の検査や基板上に形成されたスルーホールの検査に用いる検査装置等に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電子回路基板等の基板の検査が行われている。例えば、基板を搬送しつつラインセンサにより基板表面を検査する検査装置が開示されている（例えば、特許文献１を参照。）。基板上のスルーホールを検査するために撮像手段の光軸を所定角度傾斜させる検査装置も開示されている（例えば、特許文献２を参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−２９６２５４号公報
【特許文献２】特開２００７−１２７４８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
基板上に形成されたスルーホールの検査は重要であるもののその検査品質を確保することが難しい。スルーホールは一般的に基板表面に対し直交する方向（表面と裏面とを接続する方向。）に沿って形成されるからである。検査用の光学系は、その光軸を基板表面に直交する方向（すなわち、スルーホールの形成方向と同方向。）とする場合が多く、スルーホール壁面を光学系で臨むのは困難である。
【０００５】
例えば、特許文献１は、検査領域における基板の平面性を確保するために搬送路を円弧状にするものであり、基板上のスルーホールの検査にまで思想が及んでいない。また、特許文献２は、光学系の光軸を傾斜させるものであるが、このものでは、基板表面の検査に適用することが難しい。また、スルーホールの特定方向における内面のみを検査対象とし、内壁全体を検査することも難しい。
【０００６】
本発明は、上記の事情に鑑みて為されたもので、スルーホールの内壁全体を検査することができる検査装置及び検査方法を提供することを例示的課題とする。また、基板表面の検査にも適用し得る検査装置等を提供することも他の例示的課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するために、本発明の例示的側面としての検査装置は、基板上に形成されたスルーホールを検査する検査装置であって、基板をその基板面を含む面内で左右方向に移動させる移動手段と、基板を照明光により照明する照明手段と、基板面に直交する上下方向に沿った光軸を有して基板の像を結像する光学系と、光学系による結像を検出する検出手段と、を有し、スルーホールの内壁の像を検出手段に導くために光学系の光軸を上下方向から傾斜させる傾斜手段を、更に有する。
【０００８】
検査装置は、基板面を含む面内で基板を回転させる回転手段を更に有してもよい。
【０００９】
傾斜手段は、光学系の光軸と共に、検出手段と照明手段とを傾斜させてもよい。
【００１０】
照明手段は、基板に対して光学系と同側から照明する反射照明手段、又は、基板に対して光学系と逆側から拡散板を介して照明する透過照明手段、のいずれか一方であってもよい。
【００１１】
検査装置は、光学系を光軸に沿って上下移動させる合焦手段を更に有し、傾斜手段が光学系を傾斜させたときに、合焦手段が、光学系を光軸に沿って基板に近づけるように移動させてスルーホールの内壁に合焦させてもよい。
【００１２】
合焦手段は、光学系と共に傾斜手段を上下移動させてもよい。
【００１３】
本発明の他の例示的側面としての検査方法は、基板を、その基板面を含む面内で左右方向に移動させる移動手段と、基板を、基板面を含む面内で回転させる回転手段と、基板を照明光により照明する照明手段と、基板面に直交する上下方向に沿った光軸を有して基板の像を結像する光学系と、光学系による結像を検出する検出手段と、基板上に形成されたスルーホールの内壁の像を検出手段に導くために光学系の光軸を上下方向から傾斜させる傾斜手段と、を有する検査装置を用いて、スルーホールを検査する検査方法であって、光学系の光軸を上下方向から所定角度傾斜させ、スルーホールの第１の内壁の像を検出手段に導くステップと、光学系の光軸を上下方向から所定角度と逆側へ同角度傾斜させ、スルーホールの第１の内壁と逆側の第２の内壁の像を検出手段に導くステップと、回転手段により基板面を含む面内で基板を９０°回転させるステップと、回転手段による基板の回転後に光学系の光軸を上下方向から所定角度傾斜させ、スルーホールの第１の内壁と第２の内壁との間の第３の内壁の像を検出手段に導くステップと、回転手段による回転後に光学系の光軸を上下方向から所定角度と逆側へ同角度傾斜させ、スルーホールの第３の内壁と逆側の第４の内壁の像を検出手段に導くステップと、を有する。
【００１４】
本発明の更なる目的又はその他の特徴を、以下添付図面を参照して説明される好ましい実施の形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、スルーホールの内壁全体を検査することができる。また、スルーホールの検査装置を基板表面の検査にも適用し得る。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】実施形態に係る検査装置の全体構成の概略図である。
【図２】基板の平面及び側面を示す図である。
【図３Ａ】照明手段を側方から見た概略構成図であって反射照明手段を示す。
【図３Ｂ】照明手段を側方から見た概略構成図であって透過照明手段を示す。
【図４】傾斜手段により、光学系、検出手段、照明手段を傾斜させた状態を示す図である。
【図５】合焦手段、光学系、傾斜手段の概略構造図である。
【図６】基板表面の検査手順を説明するフローチャートである。
【図７】スルーホールの内壁面の検査手順を説明するフローチャートである。
【図８】スルーホールを斜め上方から見た斜視図であって、第１〜第４の内壁の位置と光学系の傾斜位置との関係を示す図である。
【実施するための形態】
【００１７】
以下、実施形態を、添付図面を用いて説明する。図１は、実施形態に係る検査装置Ｓの全体構成の概略図である。検査装置Ｓは、全体として躯体１上に構成され、ステージ２、移動手段３、照明手段４、光学系５、検出手段６、傾斜手段７、回転手段８、合焦手段９、コンピュータ１０を有している。
【００１８】
躯体１は、全体として直方体状の構造物であり、検査装置Ｓの主要部を載置する載置台として機能する。躯体１は、例えばキャスター１ａを有しており、検査装置Ｓが移動可能となっていてもよい。
【００１９】
ステージ２は、基板ＣＰを載置するための盤状部材である。基板ＣＰは、図２に示すように、平板状の電子回路基板であって各所にスルーホールＨが形成されている。本検査装置Ｓで検査する基板ＣＰは、電子部品実装前の基板である。平板状の基板ＣＰを高い平面性を確保して載置するために、ステージ２の表面は平面とされている。ステージ２の表面（ステージ面）に基板ＣＰの表面又は裏面（基板面）が接触するように載置される。したがって、ステージ面と基板面とは同一面又は平行面である。ステージ２には、例えば、盤状の金属部材やガラスが適用されてもよい。
【００２０】
また、ステージ２上に基板ＣＰを固定するために、固定手段（不図示）が用いられる。この固定手段は、例えば、エアバキュームによる負圧を利用して基板ＣＰをステージ２上に固定するものであってもよいし、基板ＣＰを挟み込んで固定するためのクランプであってもよい。
【００２１】
移動手段３は、基板ＣＰを基板面内で前後左右に移動させるためのものである。本実施形態では、移動手段３は、基板ＣＰを固定したステージ２をステージ面内でＸＹ方向に移動させる。図１において、Ｘ方向が左右方向であり、Ｙ方向が前後方向である。なお、ステージ面を基準として、左右方向がＸ、前後方向がＹ、上下方向がＺである。ステージ面は、水平面の場合もあるが、図１に示すように前後に傾斜している場合もある。移動手段３は、例えばボールねじと駆動モータによって構成されてもよい。
【００２２】
照明手段４は、基板ＣＰを照明光により照明するためのものである。図３Ａ，Ｂは、照明手段４の概略構成図である。図３Ａは、反射照明手段１４を示し、図３Ｂは透過照明手段２４を示す。いずれの照明手段１４，２４も光源４ａを有している。光源４ａには、ＬＥＤ、ハロゲンランプ等を適用することができる。
【００２３】
反射照明手段１４においては、光源４ａは基板ＣＰの上方（すなわち、光学系５と同側）から基板ＣＰの表面を照明する。その反射光が光学系５へと至り、基板ＣＰの像が光学系５により結像されるようになっている。
【００２４】
透過照明手段２４においては、光源４ａは基板ＣＰの下方（すなわち、光学系５と逆側であって、ステージ２側）から基板ＣＰの裏面を照明する。透過照明手段２４では、光源４ａと基板ＣＰの裏面との間に拡散板１２が配置され、光源４ａからの照明光が拡散されるようになっている。透過照明手段２４による照明光は、スルーホールＨを通過して光学系５へと至るようになっている。透過照明手段２４による照明光は、拡散板１２により拡散され、スルーホールＨの内壁をも照明するようになっている。
【００２５】
光学系５は、基板面に直交する上下方向（Ｚ方向）に沿った光軸Ｏを有して、基板ＣＰの像を結像する機能を有する。光学系５は、レンズ、スリット、ミラー、プリズム等の光学素子のうちいずれか、又はこれらの組合せによって構成されている。照明手段４によって照明された基板ＣＰの像を検出手段６の検出面上に結像するようになっている。もちろん、検出手段６の検出面上に直接結像するものでなく、検出面に光を導光するライトガイド等の端面であって、検出面と等価な位置に配置される面に結像してもよい。
【００２６】
検出手段６は、光学系５による結像を検出するためのものである。検出手段６は、典型的にはラインＣＣＤセンサである。基板ＣＰを固定したステージ２がＸ方向に走査（スキャン）することにより、ラインセンサである検出手段６により基板ＣＰの表面像が検出される。
【００２７】
傾斜手段７は、光学系５の光軸ＯをＺ方向から所定角度θ傾斜させる機能を有する。図４は、傾斜手段７により、光学系５、検出手段６、照明手段４が角度θ傾斜した状態を示す図である。傾斜手段７は、例えば、精密回転ステージとそれを回転駆動する駆動モータとを有して構成されてもよい。このように、傾斜手段７によって光学系５が傾斜することにより、光学系５がスルーホールＨの内壁ＨＷに臨み、内壁ＨＷの像を検出手段６に導くことができるようになっている。
【００２８】
なお、傾斜手段７により光軸Ｏを傾斜させることなく基板ＣＰ表面をスキャンすることにより、基板ＣＰの表面検査を実行することができる。その後、傾斜手段７により光軸Ｏを角度θだけ傾斜させてスキャンすることにより、スルーホールＨの内壁ＨＷの状態検査を実行することができる。
【００２９】
傾斜手段７は、本実施形態では、光学系５、検出手段６、照明手段４を傾斜させるが、これらすべてを必ずしも傾斜させる必要はない。光学系５がライトガイドの端面に基板像を結像する構成の場合は、検出手段６は傾斜せず、ライトガイドの端面が光学系５と共に傾斜すればよい。照明手段４は、傾斜しなくても内壁ＨＷを充分に照明している場合は、傾斜手段７によって傾斜させる必要がない。ただし、反射照明手段１４の場合は、傾斜手段７によって光学系５と共に傾斜させることで、より内壁ＨＷへの照明効率が向上することが期待されるので、傾斜させることが好ましい。
【００３０】
ここで、傾斜手段７による傾斜動作の回転中心は、光学系５の合焦点Ｆと一致していることが望ましい。それにより、傾斜手段７によって光学系５が傾斜しても、光学系５の合焦点Ｆが移動してしまうのを防止することができる。
【００３１】
基板ＣＰ表面の検査の際は、光学系５の合焦点Ｆは基板面上に設定される。そして、スルーホールＨの内壁ＨＷの状態検査の際は、光学系５の合焦点Ｆは内壁ＨＷに設定される。内壁ＨＷは、基板面より下方に位置するので、傾斜手段７による傾斜と共に、合焦手段９による光学系５の下方移動を実行することが望ましい。
【００３２】
回転手段８は、基板面内で基板ＣＰを回転させる機能を有する。本実施形態では、基板ＣＰを固定するステージ２全体を、ステージ面内でα方向に（図１参照）９０°回転させる。それにより、基板ＣＰの縦横を入れ替えることができる。後述するように、スルーホールＨの内壁ＨＷの検査の際に、内壁ＨＷの一部のみでなく、内壁ＨＷの内周全体の検査に寄与する。回転手段８は、精密回転ステージとそれを回転駆動する駆動モータとを有して構成されてもよい。
【００３３】
合焦手段９は、光学系５をＺ方向に沿って上下移動させる機能を有する。それにより、光学系５の合焦点Ｆを基板ＣＰの表面上に設定することができる。また、厚さの異なる基板ＣＰに対応して合焦点Ｆを基板表面に設定することができる。本実施形態では、合焦手段９は、光学系５が傾斜していても、Ｚ方向、すなわち、傾斜していない状態での光軸Ｏの方向に沿って光学系５を上下移動させる。合焦手段９が、常に（傾斜した場合でも）光学系５の光軸Ｏに沿って光学系５を上下移動させる構成であってもよい。
【００３４】
合焦手段９は、光学系５と共に傾斜手段７も上下移動させる機能を有する。図５は、合焦手段９、光学系５、傾斜手段７の概略構造図である。合焦手段９が光学系５と共に傾斜手段７も上下移動させる構成となっているので、合焦手段９により光学系が上下移動した後であっても、傾斜手段７の回転中心と合焦点Ｆとがずれないようになっている。厚さの異なる基板ＣＰを検査する際にも、傾斜手段７による傾斜によって合焦点Ｆが移動してしまうことがない。
【００３５】
なお、もちろん、合焦手段９に加えて常に光軸Ｏに沿った方向に光学系５を上下移動させる第２の合焦手段を有してもよい。
【００３６】
コンピュータ１０は、演算処理装置、メモリ（記憶装置）を有して各種演算処理を実行する。具体的には、検出手段６からのスキャン画像を画像形成したり画像表示したり画像認識したりする。また、メモリ内に格納された検査プログラムの実行に基づき、一連の検査手順を実行処理する。
【００３７】
以下、この検査装置Ｓによる検査手順について、図６及び図７のフローチャートを用いて説明する。
【００３８】
まず、基板表面の検査の手順について図６に基づき説明する。基板ＣＰをステージ２上に載置する（Ｓ１）。このとき基板ＣＰは図示しない固定手段により、ステージ面上に固定される。検査プログラムを実行（Ｓ２）することにより、まず基板ＣＰ表面の検査が実行される。具体的には、傾斜手段７により、光学系５の光軸Ｏが上下方向（Ｚ方向）に設定される（Ｓ３）。つまり傾斜手段７により、光軸Ｏが傾斜していない状態に設定される。照明手段４により基板ＣＰの表面又は裏面が照明される（Ｓ４）。
【００３９】
合焦手段９により、光学系５の合焦点Ｆが基板ＣＰの表面に設定される（Ｓ５）。移動手段３によりステージ２が左右方向（Ｘ方向）に移動され、基板ＣＰ表面のスキャンが行われる（Ｓ６）。基板ＣＰ表面の像が光学系５により検出手段６へと導かれ、検出手段６によって基板ＣＰ表面の結像が検出される（Ｓ７）。検出手段６により検出された基板面の結像が、コンピュータ１０により画像形成、画像認識される（Ｓ８）。そして、検査プログラムの機能に基づき、基板面のキズ、不良等の検査が行われる。
【００４０】
続いて、この検査装置ＳによるスルーホールＨの内壁ＨＷの検査手順について、図７に基づき説明する。基板ＣＰをステージ２上に載置する（Ｓ２１）。基板ＣＰは図示しない固定手段により、ステージ面上に固定される。検査プログラムを実行する（Ｓ２２）。なお、この内壁ＨＷの検査を基板面の検査に引き続き行う場合は、上記Ｓ２１，Ｓ２２の手順は不要となる場合がある。
【００４１】
スルーホールＨの内壁ＨＷの検査が実行される。具体的には、照明手段４により基板ＣＰの表面又は裏面が照明される（Ｓ２３）。合焦手段９により、光学系５の合焦点Ｆが基板ＣＰの表面に設定される（Ｓ２４）。そして、傾斜手段７により、光学系５の光軸Ｏが上下方向（Ｚ方向）から所定角度（角度θ）傾斜した状態に設定される（Ｓ２５）。
【００４２】
傾斜手段７により、光軸Ｏが角度θ傾斜しても、合焦点Ｆの位置は変化しない。その後、合焦手段９により、内壁ＨＷのうち特に合焦が必要な高さ位置に応じて光学系５が上下方向（Ｚ方向）に沿って下方移動される（Ｓ２６）。例えば、基板ＣＰの厚さの半分に相当する距離分だけ光学系５を下げることで、スルーホールＨの中央深さ位置に合焦点Ｆを移動させることができる。それにより、スルーホールＨの上下にわたって良好なピントの画像を得ることができる。
【００４３】
移動手段３によりステージ２が左右方向（Ｘ方向）に移動され、第１の内壁ＨＷ１のスキャンが行われる（Ｓ２７）。第１の内壁ＨＷ１の像が光学系５により検出手段６へと導かれ、検出手段６によって第１の内壁ＨＷ１の結像が検出される。検出手段６により検出された第１の内壁ＨＷ１の結像が、コンピュータ１０により画像形成、画像認識される。そして、検査プログラムの機能に基づき、内壁面のキズ、不良等の検査が行われる。
【００４４】
なお、光学系５による内壁像の結像、検出手段６による結像の検出、コンピュータ１０による検出画像の画像形成、画像認識、内壁面のキズ、不良等の検査のプロセスは、第１〜第４の内壁ＨＷ１〜ＨＷ４のいずれに対しても、各々のスキャン後に行われるので、以後の説明を省略する。
【００４５】
図８は、スルーホールＨを斜め上方から見た斜視図であって、第１〜第４の内壁ＨＷ１〜ＨＷ４の位置と光学系５の傾斜位置との関係を示すものである。光学系５が所定角度θ傾斜したときに、内壁ＨＷのうちその略１／４内周に相当する第１の内壁ＨＷ１の像を得ることができる。光学系５が所定角度θと逆に−θ傾斜したときに、内壁ＨＷのうちその略１／４内周に相当する第２の内壁ＨＷ２の像を得ることができる。基板ＣＰを９０°回転させた状態で、光学系５が所定角度θ傾斜したときに、内壁ＨＷのうちその略１／４内周に相当する第３の内壁ＨＷ３の像を得ることができる。第３の内壁ＨＷ３は、第１の内壁ＨＷ１と第２の内壁ＨＷ２との間に位置する。基板ＣＰを９０°回転させた状態で、光学系５が所定角度θと逆に−θ傾斜したときに、内壁ＨＷのうちその略１／４内周に相当する第４の内壁ＨＷ４の像を得ることができる。この４ステップを実行することにより、内壁ＨＷの略全周にわたって検査を行うことができる。
【００４６】
もちろん、基板ＣＰを回転させる角度αは９０°に限られない。ステップ数を増加させてもより精密な検査を要望する場合には、９０°よりも小さな角度αで基板ＣＰを回転させてもよい。例えば、角度αを６０°とした場合は、６ステップで内壁ＨＷの略全周の検査を実行することができる。
【００４７】
第１の内壁ＨＷ１の検査が終了すると、傾斜手段７により、光学系５の光軸Ｏが上下方向（Ｚ方向）から所定角度と逆方向の同角度（角度−θ）傾斜した状態に設定される（Ｓ２８）。移動手段３によりステージ２が左右方向（Ｘ方向）に移動され、第２の内壁ＨＷ２のスキャンが行われる（Ｓ２９）。
【００４８】
第２の内壁ＨＷ２の検査が終了すると、回転手段８によってステージ２がステージ面内で９０°回転される。それにより、基板ＣＰも基板面内で９０°回転する（Ｓ３０）。その後、傾斜手段７により、光学系５の光軸Ｏが上下方向（Ｚ方向）から所定角度（角度θ）傾斜した状態に設定される（Ｓ３１）。移動手段３によりステージ２が左右方向（Ｘ方向）に移動され、第３の内壁ＨＷ３のスキャンが行われる（Ｓ３２）。
【００４９】
そして、傾斜手段７により、光学系５の光軸Ｏが上下方向（Ｚ方向）から所定角度と逆方向の同角度（角度−θ）傾斜した状態に設定される（Ｓ３３）。移動手段３によりステージ２が左右方向（Ｘ方向）に移動され、第４の内壁ＨＷ４のスキャンが行われる（Ｓ３４）。
【００５０】
なお、図７において説明した第１の内壁ＨＷ１〜第４の内壁ＨＷ４の検査は、１つのスルーホールＨを事前に特定した上で、その１つのスルーホールＨに対して行う。「第１の内壁ＨＷ１の検査」は、「第１の内壁ＨＷ１を矢視する方向における検査」と換言することができる。他の内壁ＨＷ２〜ＨＷ４についても同様である。
【００５１】
もちろん、１つのスルーホールＨにおける第１の内壁ＨＷ１〜第４の内壁ＨＷ４の検査を行った後に、他のスルーホールにおける第１の内壁ＨＷ１〜第４の内壁ＨＷ４の検査を行ってもよい。また、すべてのスルーホールにおける第１の内壁ＨＷ１の検査を行った後に、引き続きすべてのスルーホールにおける第２の内壁ＨＷ２の検査を行い、その後にすべてのスルーホールにおける第３の内壁ＨＷ３の検査、第４の内壁の検査ＨＷ４を行ってもよい。複数のスルーホールにおける第１の内壁ＨＷ１から第４の内壁ＨＷ４の検査の順序については、事情に応じて適宜選択し得る。
【００５２】
以上、本発明の実施の形態を説明したが、本発明はこれに限定されることなく、その要旨の範囲内で様々な変形や変更が可能である。また、角度θは、例えば、３０°，４５°，６０°等、適宜選択して設定され得る。
【符号の説明】
【００５３】
方向：Ｘ，Ｙ，Ｚ
角度：θ，α
基板：ＣＰ
合焦点：Ｆ
スルーホール：Ｈ
内壁：ＨＷ
光軸：Ｏ
検査装置：Ｓ
躯体：１
キャスター：１ａ
ステージ：２
移動手段：３
照明手段：４
光源：４ａ
光学系：５
検出手段：６
傾斜手段：７
回転手段：８
合焦手段：９
コンピュータ：１０
拡散板：１２
反射照明手段：１４
透過照明手段：２４
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
2015036654.tif 000006
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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