(57)【要約】【課題】表示装置と組み合わせたときに、電極の配線パターンや干渉縞が視認されにくい静電容量結合方式の入力装置を提供する。【解決手段】入力装置は、複数の画素を有する表示装置に備えられ、使用者の接触位置を検出するように構成されている。この入力装置は、複数の第１の電極と、第１の電極に交差するように配置された複数の第２の電極（１２）と、第２の電極間に配置された複数の第３の電極（１３１）と、を有する。そして、第３の電極間に、第２の電極の延伸方向に対して斜め方向に延伸するスリットが形成されている。【選択図】図９
2015109067.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素を有する表示装置に備えられ、使用者の接触位置を検出するように構成された入力装置であって、
複数の第１の電極と、
前記第１の電極に交差するように配置された複数の第２の電極と、
前記第２の電極間に配置された複数の第３の電極と、を有し、
前記第３の電極間に、前記第２の電極の延伸方向に対して斜め方向に延伸するスリットが形成された
入力装置。
【請求項２】
前記スリットは、前記第２の電極の延伸方向に対して実質的に線対称となる２方向に延伸するように形成された
請求項１に記載の入力装置。
【請求項３】
前記第３の電極は、菱形の形状に形成された
請求項１に記載の入力装置。
【請求項４】
前記第３の電極は、平行四辺形の形状に形成された
請求項１に記載の入力装置。
【請求項５】
前記スリットは、前記第２の電極の延伸方向に対して、１３．６度以上６４．１度以下の範囲で形成された
請求項１に記載の入力装置。
【請求項６】
前記第３の電極の形状および配置位置に合わせて、前記第２の電極の端がジグザグ状に形成された
請求項１に記載の入力装置。
【請求項７】
電気的に１つの電極として動作する前記第２の電極を複数の電極で構成した
請求項１に記載の入力装置。
【請求項８】
前記複数の電極間のスリットは、前記第２の電極と前記第３の電極との間に形成されるジグザグ状のスリットにあわせてジグザグ状に形成された
請求項７に記載の入力装置。
【請求項９】
前記複数の電極の各電極幅が、前記第３の電極の幅と実質的に等しくなるように前記複数の電極が形成された
請求項７に記載の入力装置。
【請求項１０】
前記複数の電極を互いに電気的に接続する接続部が設けられた
請求項７に記載の入力装置。
【請求項１１】
前記第３の電極間に形成されるスリットのうちの同一方向に延伸する連続する複数のスリットは、前記複数のスリットのいずれか１つの延伸方向に延長された１つの架空の直線上から平行にずれた位置に他のスリットが配置されるように前記第３の電極が形成された
請求項１に記載の入力装置。
【請求項１２】
前記第２の電極と前記第３の電極とは、実質的に同じ層に、実質的に同じ材料で形成された
請求項１に記載の入力装置。
【請求項１３】
前記第２の電極と前記第３の電極とは、カラーフィルタ基板上の実質的に同じ層に形成された
請求項１２に記載の入力装置。
【請求項１４】
複数の画素を有する表示部と、
前記表示部における使用者の接触位置を検出するように構成された入力装置と、を備えた表示装置であって、
前記入力装置は、
複数の第１の電極と、
前記第１の電極に交差するように配置された複数の第２の電極と、
前記第２の電極間に配置された複数の第３の電極と、を有し、
前記第３の電極間に、前記第２の電極の延伸方向に対して斜め方向に延伸するスリットが形成された
表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、画面へ座標を入力する静電容量結合方式のタッチセンサ機能を備えた入力装置およびこの入力装置を備えた表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示画面に使用者の指などを接触させて情報を入力する（以下、「タッチ操作」、または単に「タッチ」と記す）画面入力機能をもつ入力装置がある。そのような入力装置を備えた表示装置は、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ａｓｓｉｓｔａｎｃｅ）や携帯端末などのモバイル用電子機器、各種の家電製品、無人受付機等の据置型顧客案内端末に用いられている。このようなタッチによる入力装置として、タッチされた部分の抵抗値変化を検出する抵抗膜方式、あるいは容量変化を検出する静電容量結合方式、タッチにより遮蔽された部分の光量変化を検出する光センサ方式などが知られている。
【０００３】
静電容量結合方式は、抵抗膜方式や光センサ方式と比較した場合に次のような利点がある。例えば、抵抗膜方式や光センサ方式では光の透過率が８０％程度と相対的に低い。これに対し、静電容量結合方式は約９０％と光の透過率が相対的に高く表示画像の画質を低下させにくい。また、抵抗膜方式では抵抗膜の機械的接触によりタッチ位置を検知するため、抵抗膜が劣化または破損するおそれがある。これに対し、静電容量結合方式では検出用電極が他の電極などと接触するような機械的接触がなく、耐久性が相対的に高い。
【０００４】
静電容量結合方式の入力装置としては、例えば、特許文献１で開示されているような方式がある。特許文献１では、画素電極の配置ピッチの自然数倍のピッチで検出電極間に分離配置される浮遊電極の構造が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−１３８１５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本開示は、静電容量結合方式のタッチセンサ機能を有し、表示装置と容易に組み合わせることが可能であり、電極の配線パターンや干渉縞が視認され難い入力装置およびこの入力装置を備えた表示装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示における入力装置は、複数の画素を有する表示装置に備えられ、使用者の接触位置を検出するように構成されている。そして、この入力装置は、複数の第１の電極と、第１の電極に交差するように配置された複数の第２の電極と、第２の電極間に配置された複数の第３の電極と、を有し、第３の電極間に、第２の電極の延伸方向に対して斜め方向に延伸するスリットが形成されている。
【０００８】
本開示における表示装置は、複数の画素を有する表示部と、表示部における使用者の接触位置を検出するように構成された入力装置と、を備えている。そして、この入力装置は、複数の第１の電極と、第１の電極に交差するように配置された複数の第２の電極と、第２の電極間に配置された複数の第３の電極と、を有し、第３の電極間に、第２の電極の延伸方向に対して斜め方向に延伸するスリットが形成されている。
【発明の効果】
【０００９】
本開示における入力装置およびこの入力装置を備えた表示装置は、電極の配線パターンや干渉縞を視認され難くするのに有効である。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、実施の形態１におけるタッチセンサ機能を備えた表示装置の全体構成を示すブロック図である。
【図２】図２は、実施の形態１におけるタッチセンサを構成する駆動電極と検知電極の配列の一例を示す斜視図である。
【図３Ａ】図３Ａは、実施の形態１におけるタッチセンサの構成を概略的に示す図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、図３Ａの等価回路を示す図である。
【図３Ｃ】図３Ｃは、図３Ａのタッチセンサにタッチ操作を行っているときの概略図である。
【図３Ｄ】図３Ｄは、図３Ｃの等価回路を示す図である。
【図４】図４は、図３Ａに示すタッチセンサにタッチ操作を行っていない場合とタッチ操作を行った場合の検出信号の変化を示す波形図である。
【図５】図５は、実施の形態１における液晶パネルの走査信号線の配列構造とタッチセンサの駆動電極および検知電極の配列構造を示す概略図である。
【図６】図６は、実施の形態１における各走査信号線への走査信号の入力と、各駆動電極への駆動信号の入力との関係を概略的に示す図である。
【図７】図７は、実施の形態１における１フレーム期間の走査信号と駆動信号のタイミングチャートである。
【図８】図８は、実施の形態１の１水平走査期間における表示更新期間とタッチ検出期間との関係の一例を示すタイミングチャートである。
【図９】図９は、実施の形態１における表示装置の検知電極と浮遊電極の構成パターンの一例を概略的に示す平面図である。
【図１０】図１０は、評価用に作成した複数のパネルで主観評価を行った結果をまとめた図である。
【図１１】図１１は、実施の形態１における表示装置の画素電極と浮遊電極との配置関係を概略的に示す平面図である。
【図１２】図１２は、実施の形態１における表示装置の検知電極と浮遊電極の構成パターンの他の一例を概略的に示す平面図である。
【図１３】図１３は、実施の形態１における表示装置の検知電極と浮遊電極の構成パターンの他の一例を概略的に示す平面図である。
【図１４】図１４は、実施の形態１における表示装置の検知電極と浮遊電極の構成パターンの他の一例を概略的に示す平面図である。
【図１５】図１５は、実施の形態２における表示装置の検知電極と浮遊電極の構成パターンの一例を概略的に示す平面図である。
【図１６】図１６は、実施の形態２における表示装置の検知電極と浮遊電極の構成パターンの他の一例を概略的に示す平面図である。
【図１７】図１７は、実施の形態３における表示装置の検知電極と浮遊電極の構成パターンの一例を概略的に示す平面図である。
【図１８】図１８は、実施の形態３における表示装置の検知電極と浮遊電極の構成パターンの他の一例を概略的に示す平面図である。
【図１９】図１９は、実施の形態３における表示装置の検知電極と浮遊電極の構成パターンの他の一例を概略的に示す平面図である。
【図２０】図２０は、実施の形態３における表示装置の検知電極と浮遊電極の構成パターンのさらに他の一例を概略的に示す平面図である。
【図２１Ａ】図２１Ａは、実施の形態４における表示装置の浮遊電極の構成パターンの一例を概略的に示す平面図である。
【図２１Ｂ】図２１Ｂは、実施の形態４における表示装置の浮遊電極の構成パターンの一例を概略的に示す平面図である。
【図２２】図２２は、実施の形態４における表示装置の浮遊電極の構成パターンの他の一例を概略的に示す平面図である。
【図２３】図２３は、実施の形態４における表示装置の浮遊電極の構成パターンの他の一例を概略的に示す平面図である。
【図２４】図２４は、実施の形態５における表示装置が有する液晶パネルの断面構造の一例を概略的に示す断面図である。
【図２５】図２５は、他の実施の形態における表示装置の検知電極と浮遊電極の構成パターンの一例を概略的に示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、適宜図面を参照しながら、実施の形態を詳細に説明する。但し、必要以上に詳細な説明は省略する場合がある。例えば、既によく知られた事項の詳細説明や実質的に同一の構成に対する重複説明を省略する場合がある。これは、以下の説明が不必要に冗長になるのを避け、当業者の理解を容易にするためである。
【００１２】
なお、添付図面および以下の説明は、当業者が本開示を十分に理解するために提供されるのであって、これらにより特許請求の範囲に記載の主題を限定することは意図されていない。
【００１３】
また、各実施の形態では、入力装置を備えた表示装置の一例として液晶表示装置を挙げているが、本開示は何ら液晶表示装置に限定されるものではなく、例えばＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ）表示装置等、液晶以外の表示装置に使用することも可能である。
【００１４】
（実施の形態１）
以下、図１〜図１４を用いて、実施の形態１について説明する。
【００１５】
［１−１．構成］
図１は、実施の形態１におけるタッチセンサ機能を備えた表示装置１００の全体構成を示すブロック図である。
【００１６】
図１に示すように、表示装置１００は、液晶パネル２１、バックライトユニット２２、走査線駆動回路２３、映像線駆動回路２４、バックライト駆動回路２５、信号制御装置２８、タッチコントローラ１４を備えている。また、タッチコントローラ１４は、センサ制御回路１３、センサ駆動回路２６、信号検出回路２７を備えている。
【００１７】
液晶パネル２１では、互いに異なる複数の色（例えば、赤、緑、青の３色）のサブピクセルで１つの画素が構成され、複数の画素が行列状に配列されて表示部が形成されている。
【００１８】
なお、本実施の形態および以降の実施の形態において、入力装置は、駆動電極１１と、検知電極１２と、タッチコントローラ１４とを備えて構成されるものとする。したがって、本実施の形態に示す入力装置は、表示装置１００に備えられており、表示装置１００と一体化しているものとする。以下、入力装置をタッチセンサまたはタッチパネルとも記す。また、入力装置における使用者の指等が接触した位置を、接触位置またはタッチ位置とも記す。そして、入力装置は、液晶パネル２１の表示部における使用者の接触位置を検出するように構成されている。なお、入力装置は、液晶パネル２１と一体になって製造されてもよく、入力装置として単独で製造されたものが液晶パネル２１と一体化される構成であってもよい。
【００１９】
液晶パネル２１は矩形の平板形状であり、ガラス基板などの透明基板からなるＴＦＴ（薄膜トランジスタ）基板と、このＴＦＴ基板に対向するように所定の間隙を設けて配置される対向基板とを有し、ＴＦＴ基板と対向基板との間に液晶材料を封入することにより構成されている。
【００２０】
ＴＦＴ基板は、液晶パネル２１の背面側（バックライト側）に位置し、ＴＦＴ基板を構成する基板に、マトリクス状に配置された画素電極と、画素電極に対応して設けられ画素電極への電圧印加をオンオフ制御するスイッチング素子としての薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と、共通電極などを形成することにより構成されている。
【００２１】
また、対向基板は、液晶パネル２１の前面側（表示面側）に位置し、対向基板を構成する透明な基板に、画素電極に対応する位置に少なくとも赤（Ｒ）緑（Ｇ）青（Ｂ）の３原色からなるカラーフィルタ（ＣＦ）と、ＲＧＢのサブピクセルの間、および／またはサブピクセルから構成される画素間に配置されるコントラストを向上させるための遮光材料からなるブラックマトリクス（ＢＭ）などが形成されている。なお、本実施の形態では、ＴＦＴ基板の各サブピクセルに形成されるＴＦＴは、ｎチャネル型のＴＦＴとする。そして、ドレイン電極およびソース電極を定義して構成を説明する。ただし、これは一例であり、ＴＦＴが何らｎチャネル型に限定されるものではない。
【００２２】
ＴＦＴ基板には、複数の映像信号線２９と複数の走査信号線１０とが互いに概ね直交して形成される。走査信号線１０はＴＦＴの水平列毎に設けられ、水平列の複数のＴＦＴのゲート電極に共通に接続される。映像信号線２９はＴＦＴの垂直列毎に設けられ、垂直列の複数のＴＦＴのドレイン電極に共通に接続される。また、各ＴＦＴのソース電極にはＴＦＴに対応する画素領域に配置された画素電極が接続される。
【００２３】
なお、本実施の形態では、液晶パネル２１の長辺に平行な方向を水平方向とし、液晶パネル２１の短辺に平行な方向を垂直方向とする。
【００２４】
ＴＦＴ基板に形成された各ＴＦＴは、走査信号線１０に印加される走査信号に応じて水平列単位で、オン／オフ動作が制御される。オン状態とされた水平列の各ＴＦＴは、画素電極を映像信号線２９に印加される映像信号に応じた電位（画素電圧）に設定する。そして、液晶パネル２１は、複数の画素電極およびこの画素電極に対向するように設けた共通電極を有し、画素電極と共通電極との間に生じる電界により画素領域毎に液晶の配向を制御して、バックライトユニット２２から入射した光に対する透過率を変えることにより、表示面に画像を形成する。
【００２５】
バックライトユニット２２は、液晶パネル２１の裏面側に配置され、液晶パネル２１の裏面から光を照射するものである。バックライトユニット２２には、例えば、複数の発光ダイオードを配列して面光源を構成する構造や、発光ダイオードの光を導光板と拡散反射板とを組み合わせて用いて面光源を構成する構造のものが知られている。
【００２６】
走査線駆動回路２３は、ＴＦＴ基板に形成された複数の走査信号線１０に接続されている。走査線駆動回路２３は、信号制御装置２８から入力されるタイミング信号１、２に応じて走査信号線１０を順番に選択し、選択した走査信号線１０にＴＦＴをオン状態にする電圧を印加する。例えば、走査線駆動回路２３は、シフトレジスタを含んで構成され、シフトレジスタは信号制御装置２８からのトリガ信号（タイミング信号１、２）を受けて動作を開始し、垂直走査方向に沿った順序で走査信号線１０を順次選択し、選択した走査信号線１０に走査パルスを印加する。
【００２７】
映像線駆動回路２４は、ＴＦＴ基板に形成された複数の映像信号線２９に接続されている。映像線駆動回路２４は、走査線駆動回路２３による走査信号線１０の選択に合わせて、選択された走査信号線１０に接続されるＴＦＴそれぞれに、各サブピクセルの階調値を表す映像信号に応じた電圧を印加する。これにより、選択された走査信号線１０に対応するサブピクセルに映像信号が書き込まれる。
【００２８】
バックライト駆動回路２５は、信号制御装置２８から入力される発光制御信号に応じたタイミングおよび輝度でバックライトユニット２２を発光させる。
【００２９】
液晶パネル２１には、タッチセンサを構成する電極として、複数の駆動電極１１と複数の検知電極１２とが互いに交差するように配置されている。駆動電極１１は特許請求の範囲における第１の電極に、検知電極１２は特許請求の範囲における第２の電極に相当する。そして、第１の電極である駆動電極１１と第２の電極である検知電極１２とは互いに容量結合している。
【００３０】
これらの駆動電極１１および検知電極１２を備えて構成されるタッチセンサは、駆動電極１１と検知電極１２との間で、電気信号の入力および静電容量変化による応答検出（電圧変化の検出）を行い、表示面への物体（例えば、使用者の指）の接触を検出する。この接触を検出する電気回路として、センサ駆動回路２６および信号検出回路２７が設けられている。
【００３１】
センサ駆動回路２６は、交流信号源であり、駆動電極１１に接続される。例えば、センサ駆動回路２６は、センサ制御回路１３からタイミング信号であるセンサ信号が入力されると、液晶パネル２１の画像表示に同期して垂直走査方向に沿った順序で駆動電極１１を順番に選択し、選択した駆動電極１１に矩形状のパルス電圧による駆動信号Ｔｘｖを印加する。例えば、センサ駆動回路２６は、走査線駆動回路２３と同様に、シフトレジスタを含んで構成され、シフトレジスタはセンサ制御回路１３からのトリガ信号（センサ信号）を受けて動作を開始し、垂直走査方向に沿った順序で駆動電極１１を順次選択し、選択した駆動電極１１にパルス電圧による駆動信号Ｔｘｖを印加する。
【００３２】
なお、駆動電極１１および走査信号線１０は、ＴＦＴ基板に、水平方向（列方向）に延伸するように形成され、垂直方向（行方向）に複数本配列されている。これらの駆動電極１１および走査信号線１０に電気的に接続されるセンサ駆動回路２６および走査線駆動回路２３は、サブピクセルが配列される表示領域の垂直な辺に沿って配置されることが望ましい。図１には、左右の辺の一方に走査線駆動回路２３を配置し、他方にセンサ駆動回路２６を配置している例を示す。しかし、左右の辺の一方に走査線駆動回路２３、及びセンサ駆動回路２６の両方を配置しても良いし、液晶パネル２１周辺の配線などにより、その他の辺の方向に引出しても構わない。
【００３３】
信号検出回路２７は、静電容量変化を検出する検出回路を複数備えた構成であり、検知電極１２に接続される。信号検出回路２７は、検知電極１２毎に検出回路を設け、検知電極１２から検出信号Ｒｘｖを検出する構成としている。
【００３４】
表示面上での物体の接触位置は、センサ制御回路１３において、どの駆動電極１１に駆動信号Ｔｘｖを印加したときに、どの検知電極１２で接触時の信号が検出されたかに基づいて求められる。そして、センサ制御回路１３では、それら駆動電極１１と検知電極１２との交点が接触位置として求められる。なお、この接触位置は、例えば、表示装置１００内に接触位置を算出するための演算回路を設けて算出してもよく、あるいは、表示装置１００の外部に設置した演算回路を用いて接触位置を算出してもよい。
【００３５】
信号制御装置２８は、ＣＰＵなどの演算処理回路およびＲＯＭやＲＡＭなどのメモリを備えている。信号制御装置２８は、入力される映像データに基づき、色調整などの各種の映像信号処理を行って各サブピクセルの階調値を示す映像信号を生成し、映像線駆動回路２４に供給する。また、信号制御装置２８は、入力された映像データに基づき、走査線駆動回路２３、映像線駆動回路２４、バックライト駆動回路２５、センサ制御回路の動作の同期をとるためのタイミング信号を生成し、それらの回路に供給する。また、信号制御装置２８は、バックライト駆動回路２５への発光制御信号として、入力された映像データに基づいてバックライト（例えば、発光ダイオード）の輝度を制御するための輝度信号をバックライト駆動回路２５へ供給する。
【００３６】
センサ制御回路１３は、信号制御装置２８から入力されるタイミング信号に応じてセンサ駆動回路２６及び信号検出回路２７を制御する。
【００３７】
ここで、液晶パネル２１の各信号線および電極に接続される走査線駆動回路２３、映像線駆動回路２４、センサ駆動回路２６、センサ制御回路１３および信号検出回路２７は、フレキシブル配線板やプリント配線板やガラス基板に各回路の半導体チップを搭載することにより構成している。しかし、走査線駆動回路２３、映像線駆動回路２４、センサ駆動回路２６、センサ制御回路１３は、ＴＦＴ基板に、ＴＦＴなどとともに同時に形成することにより搭載してもよい。
【００３８】
タッチコントローラ１４は、センサ駆動回路２６、信号検出回路２７、センサ制御回路１３を備え、信号制御装置２８より入力されるタイミング信号に基づいて、タッチセンサを制御する。センサ駆動回路２６、信号検出回路２７、センサ制御回路１３はそれぞれ個別の半導体であってもよいし、まとめて１つの半導体としてもよい。
【００３９】
図２は、実施の形態１におけるタッチセンサを構成する駆動電極と検知電極の配列の一例を示す斜視図である。図２に示すように、入力装置としてのタッチセンサは、図２の左右方向に延伸する複数本のストライプ状の電極パターンである駆動電極１１と、駆動電極１１の電極パターンの延伸方向と交差する方向に延びる複数本の略ストライプ状の電極パターンである検知電極１２とを備えて構成されている。それぞれの駆動電極１１と検知電極１２とが互いに交差した交差部分それぞれに、静電容量を持つ容量素子が形成されている。
【００４０】
また、駆動電極１１は、走査信号線１０が延伸する方向に対して平行な方向に延伸するように配列されている。そして、駆動電極１１は、後で詳細に説明するが、互いに隣接するＭ（Ｍは自然数）本の走査信号線１０を１つのラインブロックとしたとき、複数のＮ（Ｎは自然数）本のラインブロックそれぞれに対応するように配置され、ラインブロック毎に駆動信号を印加するように構成している。
【００４１】
タッチ検出動作を行う際は、センサ駆動回路２６から駆動電極１１に対し、ラインブロック毎に時分割的に順次走査するように駆動信号Ｔｘｖを印加する。これにより、検出対象となる１つのラインブロックが順次選択される。また、信号検出回路２７が検知電極１２から検出信号Ｒｘｖを受信することにより、１つのラインブロックのタッチ検出が行われるように構成されている。
【００４２】
次に、静電容量方式のタッチセンサにおけるタッチ検出の原理（電圧検知方式）について、図３、図４を用いて説明する。
【００４３】
図３Ａは、実施の形態１におけるタッチセンサの構成を概略的に示す図である。図３Ｂは、図３Ａの等価回路を示す図である。図３Ｃは、図３Ａのタッチセンサにタッチ操作を行っているときの概略図である。図３Ｄは、図３Ｃの等価回路を示す図である。
【００４４】
図４は、図３Ａに示すタッチセンサにタッチ操作を行っていない場合とタッチ操作を行った場合の検出信号の変化を示す波形図である。
【００４５】
静電容量方式のタッチセンサは、図２に示すように、互いに交差するようにマトリクス状に配置された一対の駆動電極１１と検知電極１２とが、図３Ａに示すように、誘電体Ｄを挟んで対向配置していることにより、その交差部に容量素子を構成している。等価回路は、図３Ｂのように表わされ、駆動電極１１、検知電極１２および誘電体Ｄによって、容量素子Ｃ１が構成される。容量素子Ｃ１は、その一端が交流信号源としてのセンサ駆動回路２６に接続され、他端Ｐは抵抗器Ｒを介して接地されるとともに、電圧検出器としての信号検出回路２７に接続される。
【００４６】
交流信号源としてのセンサ駆動回路２６から駆動電極１１（容量素子Ｃ１の一端）に、数十ｋＨｚ〜数百ｋＨｚ程度の周波数（所定の周波数）のパルス電圧波形の駆動信号Ｔｘｖ（図４）を印加すると、検知電極１２（容量素子Ｃ１の他端Ｐ）に、図４に示すような出力波形（検出信号Ｒｘｖ）が現れる。
【００４７】
指が接触（または近接）していない状態では、図３Ｂに示すように、容量素子Ｃ１に対する充放電に伴って、容量素子Ｃ１の容量値に応じた電流Ｉ０が流れる。このときの容量素子Ｃ１の他端Ｐの電位波形は、図４の波形Ｖ０のようになり、これが電圧検出器である信号検出回路２７によって検出される。
【００４８】
一方、指が接触（または近接）した状態では、図３Ｄに示すように、等価回路は、指によって形成される容量素子Ｃ２が容量素子Ｃ１に直列に追加された形となる。この状態では、容量素子Ｃ１、Ｃ２に対する充放電に伴って、それぞれ電流Ｉ１、Ｉ２が流れる。このときの容量素子Ｃ１の他端Ｐの電位波形は、図４の波形Ｖ１のようになり、これが電圧検出器である信号検出回路２７によって検出される。このとき、点Ｐの電位は、容量素子Ｃ１、Ｃ２を流れる電流Ｉ１、Ｉ２の値によって定まる分圧電位となる。このため、波形Ｖ１は、非接触状態での波形Ｖ０よりも低い電圧値となる。
【００４９】
信号検出回路２７は、検知電極１２それぞれから出力される検出信号Ｒｘｖの電位を所定のしきい値電圧Ｖｔｈと比較し、検出信号Ｒｘｖが、このしきい値電圧Ｖｔｈ以上であれば非接触状態と判断し、しきい値電圧Ｖｔｈ未満であれば接触状態と判断する。このようにして、タッチ検出が可能となる。なお、本実施の形態は何らタッチ検出を電圧検出に限定しない。これ以外の静電容量の変化を検知する方法として、例えば、電流を検知する方法等がある。
【００５０】
［１−２．動作］
次に、本実施の形態におけるタッチセンサの駆動方法の一例について、図５〜図８を用いて説明する。
【００５１】
図５は、実施の形態１における液晶パネル２１の走査信号線１０の配列構造とタッチセンサの駆動電極１１および検知電極１２の配列構造を示す概略図である。図５に示すように、水平方向に延伸するＸ本の走査信号線１０は、互いに隣接するＭ（Ｍは自然数）本の走査信号線１０（例えば、走査信号線Ｇ１−１、Ｇ１−２・・・Ｇ１−Ｍ、等）を１つのラインブロックとし、複数のＮ（Ｎは自然数）本のラインブロック１０−１、１０−２・・・１０−Ｎに分割して配列されている。
【００５２】
なお、図５および以降の図面では、走査信号線１０を、「走査信号線Ｇａ−ｂ」とも記す。「ａ」は、その走査信号線１０が上からａ番目のラインブロックに含まれることを示す。また、「ｂ」は、その走査信号線１０が、そのラインブロックでｂ番目に配置されていることを示す。すなわち、「走査信号線Ｇａ−ｂ」とは、ラインブロック１０−ａに含まれるｂ番目の走査信号線１０のことである。なお、Ｎ×Ｍは、走査信号線１０の総数Ｘに等しい。
【００５３】
タッチセンサの駆動電極１１は、ラインブロック１０−１、１０−２・・・１０−Ｎに対応させて、Ｎ本の駆動電極１１−１、１１−２・・・１１−Ｎが水平方向に延伸するように配列される。そして、Ｎ本の駆動電極１１−１、１１−２・・・１１−Ｎと交差するように、複数本の検知電極１２が垂直方向に延伸して配列されている。
【００５４】
図６は、実施の形態１における各走査信号線１０への走査信号の入力と、各駆動電極１１への駆動信号の入力との関係を概略的に示す図である。なお、各走査信号線１０へ走査信号を順次印加するのは、液晶パネル２１における表示画像の更新（以下、「表示更新」と記す）を行うためであり、各駆動電極１１へ駆動信号を順次印加するのはタッチセンサのタッチ検出を行うためである。なお、本実施の形態および以降の実施の形態では、１つのラインブロックを構成する複数の走査信号線１０の全てに走査信号を印加するのに要する時間を「１ラインブロック走査期間」と記す。図６では、（１）から（６）へと時間が経過し、図６の（１）〜（６）それぞれが１ラインブロック走査期間における状態を示している。
【００５５】
本実施の形態では、図６の（１）に示すように、一番上のラインブロック１０−１を構成する走査信号線Ｇ１−１〜Ｇ１−Ｍのそれぞれに走査信号を順次印加しているラインブロック走査期間においては、一番下のラインブロック１０−Ｎに対応する駆動電極１１−Ｎに駆動信号を印加している。この後に続くラインブロック走査期間では、図６の（２）に示すように、上から２番目のラインブロック１０−２を構成する走査信号線Ｇ２−１〜Ｇ２−Ｍのそれぞれに走査信号を順次印加する。そして、このラインブロック走査期間においては、直前のラインブロック走査期間に走査信号を印加したラインブロック１０−１に対応する駆動電極１１−１に駆動信号を印加している。
【００５６】
そして、図６の（３）〜（６）に示すように、ラインブロック１０−３、１０−４、１０−５、・・・、１０−Ｎを構成する走査信号線Ｇ３−１〜ＧＮ−Ｍのそれぞれに走査信号を順次印加して、ラインブロック走査期間が順次進行する。一方、各ラインブロック走査期間では、直前のラインブロック走査期間において走査信号を印加したラインブロック１０−２、１０−３、１０−４、・・・、１０−（Ｎ−１）に対応する駆動電極１１−２、１１−３、１１−４、・・・、１１−（Ｎ−１）に駆動信号を順次印加する。本実施の形態では、各走査信号線１０に走査信号を印加する順番と、各駆動電極１１に駆動信号を印加する順番をこのように構成している。
【００５７】
すなわち、本実施の形態においては、各駆動電極１１へ駆動信号を印加するときに、各ラインブロック走査期間において、走査信号を印加する走査信号線１０が属するラインブロックとは異なるラインブロックに対応する駆動電極１１を選択して駆動信号を印加するように構成している。
【００５８】
なお、図６では、直前のラインブロック走査期間に走査信号を印加したラインブロックに対応する駆動電極１１に駆動信号を印加する例を示したが、本実施の形態は何らこの構成に限定されない。本実施の形態では、走査信号を印加するラインブロックに対応する駆動電極１１に駆動信号を印加しないように設定すればよい。例えば、走査信号を印加するラインブロックと、駆動信号を印加する駆動電極１１との間に、１つまたは２つ以上のラインブロックをはさむように構成してもよい。
【００５９】
図７は、実施の形態１における１フレーム期間の走査信号と駆動信号のタイミングチャートである。なお、図７には、図６に示した例にもとづくタイミングチャートを示している。
【００６０】
図７に示すように、１フレーム期間のそれぞれの水平走査期間（１Ｈ）において、各走査信号線１０に、ラインブロック１０−１、１０−２、・・・、１０−Ｎの順番で走査信号が順次（図７に示す例では、走査信号線Ｇ１−１、Ｇ１−２、・・・、ＧＮ−Ｍ、の順番で）印加されて表示更新が行われる。この走査信号が印加されている期間内に、ラインブロック１０−Ｎ、１０−１、１０−２、…、１０−（Ｎ−１）に対応する駆動電極１１−Ｎ、１１−１、１１−２、…、１１−（Ｎ−１）に、タッチ検出のための駆動信号がラインブロック走査期間単位で順次印加される。
【００６１】
第１、第２のタイミング信号は液晶パネル２１の動作のために、信号制御装置２８により生成される。図７において、第１のタイミング信号であるタイミング信号１は各走査信号の生成のタイミングを表す信号であり、第２のタイミング信号であるタイミング信号２は１フレーム期間における最初の走査信号の生成開始タイミングを表す信号である。タイミング信号１は実質的に毎水平走査期間（毎Ｈ）発生する信号であり、タイミング信号２は１フレーム期間に１回発生する信号である。図７の例では、ラインブロック１０−１から走査を始める場合を示している。
【００６２】
センサ信号はセンサ駆動回路２６の動作のために作られる信号であり、センサ制御回路１３が信号制御装置２８より入力されるタイミング信号１、２に基づいて生成する。センサ駆動回路２６は、センサ制御回路１３が生成するセンサ信号に基づいて、駆動電極１１に駆動信号を印加する。図７に示すように、センサ信号は走査信号に同期した信号となる。
【００６３】
図８は、実施の形態１の１水平走査期間における表示更新期間とタッチ検出期間との関係の一例を示すタイミングチャートである。
【００６４】
図８に示すように、表示更新期間においては、走査信号線１０に走査信号が順次印加されるとともに、各サブピクセルの画素電極のスイッチング素子に接続される映像信号線２９には、入力される映像信号に応じた画素信号が入力される。
【００６５】
本実施の形態においては、この表示更新期間にもとづくタイミングでタッチ検出期間を設けており、表示更新期間から遷移期間を除いた期間をタッチ検出期間としている。すなわち、走査信号が所定の電位に立ち上がり、各電極の電圧の変位が収束した時点で、駆動電極１１に駆動信号としてパルス電圧を印加する。そして、パルス電圧の立上りによる電位の変位点からタッチ検出期間を開始している。また、タッチ検出タイミングＳは、パルス電圧の立下りポイント直前とタッチ検出期間終了ポイントの２箇所に存在している。ここで、遷移期間には、画素信号が変位する期間ｔ１と、画素信号の変位に伴い共通電極の電位が変位し収束する期間ｔ１＋ｔ２とを設定している。これは、画素信号の遷移期間ｔ１に、パネル内寄生容量の容量結合により、共通電極の電位の変動が生じるためであり、それらの変動がタッチ検出期間で起こらないようにするためである。
【００６６】
なお、図８には、タッチ検出タイミングの一例を示したが、タッチ検出タイミングは、図８に示すタイミングに限定されるものではなく、表示更新動作によって表示装置１００にノイズが生じる期間を避けて設定することが望ましい。
【００６７】
なお、タッチ検出期間におけるタッチ検出動作は、図３、図４を用いて説明した通りである。
【００６８】
なお、図１、図６〜８を用いた説明は、インセル（ｉｎ−ｃｅｌｌ）方式のタッチパネルを想定したものであるが、本実施の形態はインセル方式に限定されるものではなく、アウトセル（ｏｕｔ−ｃｅｌｌ）方式のタッチパネルであってもよい。アウトセル方式のタッチパネルでは、走査線駆動回路２３とセンサ駆動回路２６は動作時に同期していなくてもよい。
【００６９】
［１−３．構造］
次に、本実施の形態におけるタッチセンサの電極構造について図９〜図１３を用いて説明する。
【００７０】
本実施の形態の検知電極１２は、図２で示したように、略ストライプ状の配線パターンで構成され、各検知電極１２は所定の間隔を開けて液晶パネル２１に配置されている。この間隔は、タッチ検出の検出感度（水平方向の分解能）をどの程度にするのか、その仕様にもとづき設定される。そして、本実施の形態においては、検知電極１２と検知電極１２との間の領域に、所定の形状で形成された複数の浮遊電極を配置している。浮遊電極は、特許請求の範囲における第３の電極に相当する。そして、浮遊電極間に、検知電極１２の延伸方向に対して斜め方向に延伸するスリットを形成している。
【００７１】
なお、本実施の形態及び以降の実施の形態に示す各浮遊電極の平面図においては、略ストライプ状に配置された検知電極の水平方向の１周期分（図面には、この１周期をＲｘＴと記す）を概略的に示している。液晶パネル２１では、検知電極および浮遊電極は、各図に示すパターンを水平方向に繰返す形で配置される。また、垂直方向については、一部を抜粋して図示しているが、垂直方向に関しても各図に示すパターンが繰返される。
【００７２】
図９は、実施の形態１における表示装置１００の検知電極１２と浮遊電極１３１の構成パターンの一例を概略的に示す平面図である。
【００７３】
図９に示すように、略ストライプ状の検知電極１２は、所定の間隔を開けて液晶パネル２１に配列されている。そして、本実施の形態では、図示しない隣接する検知電極１２との間に、菱形の形状に形成された複数の浮遊電極１３１が配列されている。
【００７４】
図９に示す菱形の浮遊電極１３１は、垂直方向の長さ（以下、「高さ」とも記す）Ｈが約８１５μｍ、水平方向の長さ（以下、「幅」とも記す）Ｗが約４００μｍに設定されている。なお、垂直方向とは、検知電極１２が延伸する方向のことであり、水平方向とは、検知電極１２が延伸する方向に直交する方向のことである。また、図９に示すように、隣接する浮遊電極１３１間には垂直方向に対して斜め方向に延伸するスリットが設けられており、図９に示す例では、隣接する浮遊電極１３１間のスリットＤ１は約１３．４μｍ、水平方向に隣接する浮遊電極１３１の頂点間のスリットＤ２は約２０μｍ、垂直方向に隣接する浮遊電極１３１の頂点間のスリットＤ３は約２０μｍ、浮遊電極１３１と検知電極１２との間のスリットＤ４は約１０μｍ、に設定されている。
【００７５】
また、図９に示す例では、ＲｘＴの長さは、浮遊電極１３１を約１０個配置可能な約４．２ｍｍに設定されており、検知電極１２の水平方向の幅ＲｘＷは、浮遊電極１３１を約２個配置可能な８２０μｍに設定されている。したがって、図９に示す例では、隣り合う検知電極１２間に８個の浮遊電極１３１が配置されている。そして、浮遊電極１３１は、上述した間隔で検知電極１２間に敷き詰められている。
【００７６】
なお、浮遊電極間のスリットは、隣接する浮遊電極間に間隙を設けて各浮遊電極を配置することにより、結果的に形成されるものである。しかし、本実施の形態および以降の実施の形態では説明を簡易化するために、「スリットを形成する」または「スリットを配置する」と記すこともある。
【００７７】
本実施の形態において、図９に示すように、検知電極１２間に複数の浮遊電極１３１を配列し、浮遊電極１３１間に垂直方向に対して斜め方向に延伸するスリットを形成しているのは、以下の理由による。
【００７８】
タッチパネルを一体化した液晶パネル２１では、検知電極１２が配置されている領域と配置されていない領域との間で光の透過率に差が生じ、検知電極１２の配線パターンが縞模様として視認される可能性がある。そして、そのような縞模様は、画像の表示品質を劣化させる可能性がある。
【００７９】
そこで、本実施の形態では、検知電極１２が配置されていない領域（検知電極１２間の領域）の光の透過率を、検知電極１２が配置された領域と実質的に同等にするために、検知電極１２間に浮遊電極１３１を設ける。また、浮遊電極１３１を、検知電極１２と実質的に同じ材料で形成する。これにより、タッチパネルにおける光の透過率の均一化を図り、検知電極１２の配線パターンによる縞模様を視認されにくくしている。なお、液晶パネル２１における各種動作に電気的な影響を与えないようにするために、浮遊電極１３１は、検知電極１２や他の電極等との間に電気的な接続を設けておらず、電気的に浮遊状態（フローティング状態）になっている。
【００８０】
しかし、浮遊電極の形状によっては、浮遊電極間に形成されるスリットと、液晶パネル２１に形成された電極、カラーフィルタ、またはブラックマトリクスとの間にモアレと呼ばれる干渉縞を生じるおそれがある。したがって、浮遊電極の形状、大きさ、および配置間隔は、光の透過率の均一化を図りつつ、そのような干渉縞が生じないように、また、スリット自体が視認されないように、適切に設定することが望ましい。
【００８１】
そこで、本願発明者らは、検知電極間に複数の浮遊電極を配列した評価用のパネルを、浮遊電極の形状および大きさを変えて複数作成し、主観評価を行った。
【００８２】
図１０は、評価用に作成した複数のパネルで主観評価を行った結果をまとめた図である。この実験では、３人の評価者（評価者Ａ、Ｂ、Ｃ）が、以下の２つの内容で主観評価を行った。
評価テストＡ：検知電極の配線パターンによる縞模様がどの程度視認されるかを採点する。
評価テストＢ：干渉縞がどの程度視認されるかを採点する。
採点の基準は、点数１〜５の範囲で、検知電極の配線パターンや干渉縞が視認されにくいほど点数を小さくし、視認できるかどうかの境界では点数２、実質的に視認できないときは点数１、とした。なお、評価テストＢにおける干渉縞は、液晶パネルに形成された電極、カラーフィルタ、ブラックマトリクスのいずれか１つまたは複数と浮遊電極（スリット）との間の干渉によって生じるものであるが、この主観評価では何が原因で干渉縞が発生しているかは問わないものとした。
【００８３】
この実験では、１４枚のパネル（パネルＮｏ．１〜Ｎｏ．１４）を作成し、パネル毎に浮遊電極の形状、大きさを変えた。浮遊電極の形状は、図１０に示すように、矩形、波型、十字型、六角形、菱形、の５種類とし、大きさは、パネルに形成した画素の大きさを基準にして設定した。基準となる画素の大きさは１１７．７５μｍであり、図１０には、各浮遊電極が、基準となる画素の何倍の大きさで形成されたかを記載している。なお、図１０には、浮遊電極の形状、垂直方向（検知電極の延伸方向）の大きさ×水平方向（検知電極の延伸方向に直交する方向）の大きさ、を記載している。例えば、「矩形１×２」と記載されたパネルＮｏ．１は、垂直方向の高さが１１７．７５μｍ、水平方向の幅が２３５．５μｍの矩形形状の浮遊電極を形成したパネルであることを表す。そして、各パネルでは、検知電極間に、図１０に記載した形状および大きさの複数の浮遊電極を、隣り合う浮遊電極との間に約１５μｍのスリットを設けて配列した。
【００８４】
この主観評価では、図１０に示すように、菱形の形状で浮遊電極を形成したパネルＮｏ．１３、Ｎｏ．１４において、評価テストＡ、評価テストＢのいずれにおいても、評価者３人の採点結果の平均値が２点未満という良い結果が得られた。
【００８５】
パネルＮｏ．１３、Ｎｏ．１４では、菱形の大きさが異なるにもかかわらず同様の結果が得られたため、さらに実験を重ねた結果、垂直方向に対して斜め方向にスリットが形成されることで、上述の検知電極の配線パターンや干渉縞を視認されにくくする効果が得られることがわかった。この実験では、垂直方向に対して約１３．６度以上、約６４．１度以下の範囲でスリットを形成することで、それらの効果が得られることが確認された。
【００８６】
なお、この垂直方向とは、検知電極１２の延伸方向、または液晶パネル２１の長手方向に直交する方向、または同一色のサブピクセルの配列方向、である。
【００８７】
さらに、実質的に１つの方向にのみスリットを設けるのではなく、垂直方向に対して略線対称となる実質的に２つの方向に延伸するようにスリットを設ける方がよいことも確認された。
【００８８】
これらの結果にもとづき、本実施の形態では、図９に示したように、菱形の形状に形成された複数の浮遊電極１３１を検知電極１２間に配列するものとする。
【００８９】
なお、図９に示す例では、浮遊電極１３１は、高さ８１５μｍ×幅４００μｍの菱形の形状に形成されており、このときの垂直方向に対するスリットの角度θは、約２６．１度である。
【００９０】
また、実験により、浮遊電極の垂直方向の大きさ（高さ）は１６５０μｍ以下に設定することが望ましいことが確認された。浮遊電極を菱形にする構成では、高さが１６５０μｍであれば、幅を４００μｍにすることで、垂直方向に対するスリットの角度θを、上述した下限の約１３．６度にできる。
【００９１】
また、実験により、浮遊電極の水平方向の大きさ（幅）は８２０μｍ以下に設定することが望ましいことが確認された。浮遊電極を菱形にする構成では、幅が８２０μｍであれば、高さを３９７．５μｍにすることでと、垂直方向に対するスリットの角度θを、上述した上限の６４．１度にできる。
【００９２】
なお、図９には、検知電極１２間に８個の浮遊電極１３１を配置する構成例を示したが、本実施の形態は何らこの数値に限定されない。検知電極１２間に配置する浮遊電極の数は、検知電極１２の電極幅、検知電極１２間の幅、浮遊電極１３１の大きさ、スリットの幅、等によって最適に設定することが望ましい。
【００９３】
なお、浮遊電極１３１の大きさや浮遊電極１３１間に形成するスリットの大きさは、何ら上述した数値に限定されるものではない。浮遊電極およびスリットは、上述した検知電極の配線パターンや干渉縞を視認されにくくする効果が得られ、かつスリット自体が視認されにくく、かつ浮遊電極１３１同士に電気的な接触が生じない範囲で、形成することが望ましい。本実施の形態では、スリット自体を視認されにくくするために、２５μｍ以下の幅でスリットを形成するものとする。また、浮遊電極１３１同士に電気的な接触を生じさせないようにしているのは、液晶パネル２１やタッチ入力装置における電気的な動作に影響を与える容量をできるだけ小さくするためである。
【００９４】
図１１は、実施の形態１における表示装置１００の画素電極と浮遊電極１３１との配置関係を概略的に示す平面図である。
【００９５】
図１１に示すように、表示装置１００の液晶パネル２１には、複数のサブピクセルＲ、サブピクセルＧ、サブピクセルＢが、水平方向と垂直方向に行列配置されている。液晶パネル２１では、垂直方向に同色のサブピクセルが並んでいる。また、互いに異なる３色のサブピクセルが水平方向に並んで１つの画素を形成している。
【００９６】
上述したように、隣接する浮遊電極１３１間に形成されたスリットは、２５μｍ以下の幅であり、その方向は、図１１に示すように、垂直方向（同一色のサブピクセルの配列方向）に対して角度θの斜め方向である。すなわち、画素が配列された方向（水平方向、垂直方向）のいずれに対しても、非平行であり、かつ、直交しない。
【００９７】
なお、図１１に示すように、浮遊電極１３１の配置周期は、画素周期の自然数倍でなくても構わない。同様に、検知電極１２の配置周期も、画素周期の自然数倍でなくても構わない。これは、本実施の形態では、浮遊電極１３１間のスリットが斜め方向に形成されることにより、上述の検知電極の配線パターンや干渉縞を視認されにくくする効果が得られるためである。
【００９８】
図１２は、実施の形態１における表示装置の検知電極１２と浮遊電極１３１の構成パターンの他の一例を概略的に示す平面図である。
【００９９】
図９には、浮遊電極１３１と検知電極１２との間のスリットが、浮遊電極１３１の菱形の頂角同士を結ぶ対角線に沿って形成されるように、浮遊電極１３１と検知電極１２との相対的な配置関係を設定する例を示したが、本実施の形態は何らこの構成に限定されない。
【０１００】
例えば図１２に示すように、浮遊電極１３１と検知電極１２との間のスリットが、浮遊電極１３１の菱形の頂角同士を結ぶ対角線からずれた位置に生成されてもかまわない。図１２に一例を示すように、浮遊電極１３１と検知電極１２との相対的な配置関係は、任意に設定してかまわない。このような構成でも、浮遊電極１３１間のスリットは図９の構成例と実質的に同様に形成されるので、図９で説明した効果と同様の効果を得ることができる。
【０１０１】
図１３は、実施の形態１における表示装置の検知電極と浮遊電極の構成パターンの他の一例を概略的に示す平面図である。
【０１０２】
図９、図１２には、浮遊電極１３１を菱形の形状で形成する例を示したが、本実施の形態は、浮遊電極の形状を何ら菱形に限定するものではない。本実施の形態では、例えば図１３に示すように、平行四辺形の形状で浮遊電極１３２を形成してもよい。
【０１０３】
なお、図１３に示す浮遊電極１３２は、図９、図１２に示した菱形の浮遊電極１３１を２つ接続した形状に実質的に等しい。図１３には、図９、図１２に示した菱形の形状を破線で示す。
【０１０４】
図９、図１２に示した構成例では、浮遊電極１３１間のスリットは、右斜め方向および左斜め方向のそれぞれに連続して延伸していた。一方、図１３に示す構成例では、右斜め方向（浮遊電極１３２の長辺に沿う方向）に延伸するスリットは連続して形成されているが、左斜め方向（浮遊電極１３２の短辺に沿う方向）に延伸するスリットは浮遊電極１３２によって遮られ連続していない。
【０１０５】
しかし、このような形状のスリットであっても、図９で説明した条件が満たされていれば、すなわち、垂直方向に対して約１３．６度以上、約６４．１度以下の範囲で、かつ２５μｍ以下の幅でスリットが形成されるように浮遊電極１３２が形成されていれば、図９で説明した効果と同様の効果を得ることができる。
【０１０６】
また、図１２を用いて説明したように、浮遊電極１３２と検知電極１２との相対的な配置関係は、何ら図１３に示した構成に限定されない。図１４は、実施の形態１における表示装置の検知電極と浮遊電極の構成パターンの他の一例を概略的に示す平面図である。浮遊電極１３２と検知電極１２との相対的な配置関係は、例えば図１４に示すように任意に設定してかまわない。このような構成でも図９で説明した効果と同様の効果を得ることができる。
【０１０７】
［１−４．効果等］
以上のように、本実施の形態の入力装置は、複数の画素を有する表示装置１００に備えられ、使用者の接触位置を検出するように構成されている。そして、この入力装置は、複数の第１の電極（駆動電極１１）と、第１の電極に交差するように配置された複数の第２の電極（検知電極１２）と、第２の電極間に配置された複数の第３の電極（浮遊電極）と、を有し、第３の電極間に、第２の電極（検知電極１２）の延伸方向に対して斜め方向に延伸するスリットが形成されている。
【０１０８】
また、第３の電極（浮遊電極）間のスリットは、第２の電極（検知電極１２）の延伸方向に対して実質的に線対称となる２方向に延伸するように形成されていてもよい。
【０１０９】
また、第３の電極（浮遊電極）間のスリットは、第２の電極（検知電極１２）の延伸方向に対して、１３．６度以上６４．１度以下の範囲で形成されていてもよい。
【０１１０】
また、第３の電極（浮遊電極）は、菱形または平行四辺形の形状に形成されていてもよい。
【０１１１】
本実施の形態では、第２の電極（検知電極１２）間に複数の第３の電極（浮遊電極）を設けることにより、入力装置における第２の電極（検知電極１２）が配置された領域と配置されていない領域との光の透過率の均一化を図り、検知電極１２の配線パターンが縞模様として視認されることを抑制することができる。
【０１１２】
このとき、第３の電極（浮遊電極）間に形成されるスリットは、液晶パネル２１に形成された電極、カラーフィルタ、またはブラックマトリクスとの間に干渉縞を生じるおそれがある。
【０１１３】
例えば、第３の電極（浮遊電極）間のスリットが、画素の配列方向に対して平行な方向に形成されると、この干渉縞が生じやすくなる。これは、画素の配列方向とスリットの延伸方向が平行になることで、画素の配列周期とスリットの配列周期との間にわずかなずれが生じるだけでも、そのずれが干渉縞となってしまうためである。そして、そのような干渉縞はノイズとして視認されやすい。
【０１１４】
しかし、本実施の形態では、第３の電極（浮遊電極）間のスリットを、第２の電極（検知電極１２）の延伸方向に対して斜め方向に延伸するように形成する。これにより、そのような干渉縞の発生を低減することができる。
【０１１５】
すなわち、本実施の形態によれば、タッチパネルにおける光の透過率の均一化を図って電極の配線パターンが視認されることを抑制しつつ、スリットと、電極、カラーフィルタ、またはブラックマトリクスとの干渉によって生じる干渉縞の発生を低減することができる。
【０１１６】
なお、第２の電極（検知電極１２）の延伸方向は、液晶パネル２１の長手方向に直交する方向、または同一色のサブピクセルの配列方向、と言い換えてもよい。
【０１１７】
なお、液晶パネルの大型化と高精細化が進むと、液晶パネルの軽量化と透明電極の低抵抗化とが重要となる。そして、軽量化のために、液晶セルを生成した基板を研磨する手法が採られることがある。しかしながら、基板を研磨して軽量化すると、透明電極は研磨後に成膜する必要があり、液晶セルの耐熱温度は一般的に１００℃以下の低温に制限される。そのため、そのような手法で軽量化した液晶パネルでは、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）による透明電極（ＩＴＯ電極）を形成する際に、ＩＴＯの高温生成は困難であり、低温で生成されるアモルファスＩＴＯによる透明電極が形成されることが多い。しかし、アモルファスＩＴＯは、高温生成される結晶性のＩＴＯ電極に比べてシート抵抗が高い。したがって、アモルファスＩＴＯによる透明電極を低抵抗化するためには、ＩＴＯ電極の厚膜化が必要となる。しかしながら、アモルファスＩＴＯは、結晶性のＩＴＯ電極に比べて光の透過率が低いため、ＩＴＯ電極を厚膜化すると、光の透過率はより低下する。そのため、上述した検知電極の配線パターンや干渉縞がより視認されやすくなる。
【０１１８】
しかし、本実施の形態における入力装置は、そのような研磨により軽量化された液晶パネルにおいても、上述した検知電極の配線パターンや干渉縞を視認されにくくすることが可能である。
【０１１９】
（実施の形態２）
実施の形態１では、検知電極１２の延伸方向に伸びる直線状の端を有する検知電極１２を示したが、検知電極は何らこの形状に限定されるものではない。検知電極は、直線以外の端を有する形状で形成されてもよい。本実施の形態では、実施の形態１に示した検知電極１２とは異なる形状で形成された検知電極について、図１５、図１６を用いて説明する。
【０１２０】
［２−１．構成］
実施の形態２における表示装置は、実施の形態１に示した表示装置１００と実質的に同じ構成であるので、説明を省略する。また、本実施の形態における垂直方向、水平方向の定義も、実施の形態１で示した垂直方向、水平方向の定義と実質的に同じである。
【０１２１】
［２−２．動作］
実施の形態２における表示装置は、実施の形態１に示した表示装置１００と実質的に同じ動作をするので、説明を省略する。
【０１２２】
［２−３．構造］
次に、本実施の形態におけるタッチセンサの電極構造について図１５、図１６を用いて説明する。
【０１２３】
図１５は、実施の形態２における表示装置の検知電極１２１と浮遊電極１３１の構成パターンの一例を概略的に示す平面図である。
【０１２４】
図１５に示す浮遊電極１３１は、実施の形態１で図９に示した浮遊電極１３１と実質的に同じものであり、本実施の形態で浮遊電極を形成するときの条件も実施の形態１に示した条件と実質的に等しいので説明を省略する。また、図１５に示す浮遊電極１３１間に形成されるスリットは、実施の形態１で図９に示した浮遊電極１３１間に形成されるスリットと実質的に同じであり、本実施の形態で各スリットを形成するときの条件も実施の形態１に示した条件と実質的に等しいので説明を省略する。
【０１２５】
本実施の形態において、図１５に示す検知電極１２１は、図９に示した検知電極１２とは異なり、浮遊電極１３１に隣接する端の部分が、浮遊電極１３１の形状および配置位置に合わせてジグザグ状に形成されている。
【０１２６】
このように、検知電極１２１の端を浮遊電極１３１の形状および配置位置に合わせてジグザグ状の形状にすることで、本実施の形態では、検知電極１２１と浮遊電極１３１との間に形成されるスリットを、浮遊電極１３１間に形成されるスリットと実質的に同様の形状にしている。
【０１２７】
図１６は、実施の形態２における表示装置の検知電極１２２と浮遊電極１３２の構成パターンの他の一例を概略的に示す平面図である。
【０１２８】
図１６に示す浮遊電極１３２は、実施の形態１で図１３に示した浮遊電極１３２と実質的に同じものであり、図１６に示す浮遊電極１３２間に形成されるスリットも、実施の形態１で図１３に示した浮遊電極１３２間に形成されるスリットと実質的に同じである。
【０１２９】
そして、図１５に示した構成と同様に、図１６に示す検知電極１２２も、浮遊電極１３２に隣接する端の部分を、浮遊電極１３２の形状および配置位置に合わせてジグザグ状に形成している。そして、検知電極１２２と浮遊電極１３２との間に形成されるスリットを、浮遊電極１３２間に形成されるスリットと実質的に同様の形状にしている。
【０１３０】
［２−４．効果等］
以上のように、本実施の形態の入力装置では、第３の電極（浮遊電極）の形状および配置位置に合わせて、第２の電極（検知電極）の端がジグザグ状に形成される。
【０１３１】
これにより、第２の電極（検知電極）と第３の電極（浮遊電極）との間のスリットを、第３の電極（浮遊電極）間に形成されるスリットと実質的に同じ形状で形成することができる。
【０１３２】
実施の形態１に示した構成例では、検知電極１２の端が直線状であったため、図９や図１３に示したように、検知電極１２と浮遊電極との間に形成されるスリットは、実質的に直線状であった。
【０１３３】
しかし、本実施の形態における入力装置では、検知電極（例えば、検知電極１２１または検知電極１２２）と浮遊電極との間に形成されるスリットが検知電極の延伸方向に対して斜め方向に形成されるので、実施の形態１と比較して直線状に形成されるスリットの数が低減される。これにより、実施の形態１で説明した検知電極の配線パターンや干渉縞を視認されにくくする効果をより高めることができる。
【０１３４】
（実施の形態３）
実施の形態２では、浮遊電極の形状および配置位置に合わせて、端をジグザグ状に形成した検知電極を図１５、図１６に示した。この検知電極は、各検知電極のそれぞれが、電気的に１つの電極として動作するように形成されているが、例えば、電気的に１つの電極として動作する検知電極を２本の検知電極で形成してもよい。本実施の形態では、電気的に１つの電極として動作する検知電極を２本の電極で形成する構成例について、図１７、図１８を用いて説明する。
【０１３５】
［３−１．構成］
実施の形態３における表示装置は、実施の形態１に示した表示装置１００と実質的に同じ構成であるので、説明を省略する。また、本実施の形態における垂直方向、水平方向の定義も、実施の形態１で示した垂直方向、水平方向の定義と実質的に同じである。
【０１３６】
［３−２．動作］
実施の形態３における表示装置は、実施の形態１に示した表示装置１００と実質的に同じ動作をするので、説明を省略する。
【０１３７】
［３−３．構造］
次に、本実施の形態におけるタッチセンサの電極構造について図１７、図１８を用いて説明する。
【０１３８】
図１７は、実施の形態３における表示装置の検知電極１２３と浮遊電極１３１の構成パターンの一例を概略的に示す平面図である。
【０１３９】
図１７に示す浮遊電極１３１は、実施の形態１で図９に示した浮遊電極１３１と実質的に同じものであり、本実施の形態で浮遊電極を形成するときの条件も実施の形態１に示した条件と実質的に等しいので説明を省略する。また、図１７に示す浮遊電極１３１間に形成されるスリットは、実施の形態１で図９に示した浮遊電極１３１間に形成されるスリットと実質的に同じであり、本実施の形態で各スリットを形成するときの条件も実施の形態１に示した条件と実質的に等しいので説明を省略する。
【０１４０】
本実施の形態において、図１７に示す検知電極１２３は、図１５に示した検知電極１２１と同様に、浮遊電極１３１に隣接する端の部分が、浮遊電極１３１の形状および配置位置に合わせてジグザグ状に形成されている。
【０１４１】
ただし、図１７に示す検知電極１２３は、図１５に示した検知電極１２１とは異なり、電気的に１つの検知電極が、垂直方向に延伸する２本の検知電極１２３で形成されている。すなわち、図１７に示す２本の検知電極１２３は、電気的に互いに接続され、電気的には１つの検知電極として動作するが、検知電極１２３間に設けてあるスリットにより、見かけ上２本に分けられている。
【０１４２】
そして、検知電極１２３間のスリットが、検知電極１２３と浮遊電極１３１との間のジグザグ状のスリットと実質的に同様の形状になるように、各検知電極１２３は、検知電極１２３同士が隣接する端の部分がジグザグ状に形成されている。すなわち、検知電極１２３間のスリットは、検知電極１２３と浮遊電極１３１との間に形成されるジグザグ状のスリットにあわせて、ジグザグ状に形成されている。さらに、各検知電極１２３は、幅ＲｘＷが、浮遊電極１３１の幅Ｗと実質的に同じ大きさになるように形成されている。
【０１４３】
これにより、浮遊電極１３１間に形成されるスリット同士の間隔と、検知電極１２３と浮遊電極１３１との間に形成されるスリット、および検知電極１２３間に形成されるスリットの間隔を実質的に同等にし、各スリットの間隔を実質的に互いに揃えることができる。さらに、検知電極１２３の形状を、垂直方向に配列した複数の浮遊電極１３１の包絡線が形成する形状（図１７に破線で示す）に近似させることができる。
【０１４４】
図１８は、実施の形態３における表示装置の検知電極１２４と浮遊電極１３２の構成パターンの他の一例を概略的に示す平面図である。
【０１４５】
図１８に示す浮遊電極１３２は、実施の形態１で図１３に示した浮遊電極１３２と実質的に同じものであり、図１８に示す浮遊電極１３２間に形成されるスリットも、実施の形態１で図１３に示した浮遊電極１３２間に形成されるスリットと実質的に同じである。
【０１４６】
また、図１８に示す検知電極１２４は、図１６に示した検知電極１２２と同様に、浮遊電極１３２に隣接する端の部分が、浮遊電極１３２の形状および配置位置に合わせてジグザグ状に形成されている。
【０１４７】
そして、図１７に示した構成と同様に、図１８に示す検知電極１２４も、電気的に１つの検知電極が、垂直方向に延伸する２本の検知電極１２４で形成されている。すなわち、図１８に示す２本の検知電極１２４は、電気的に互いに接続され、電気的には１つの検知電極として動作するが、検知電極１２４間に設けてあるスリットにより、見かけ上２本に分けられている。
【０１４８】
そして、検知電極１２４間のスリットが、検知電極１２４と浮遊電極１３２との間のジグザグ状のスリットと実質的に同様の形状になるように、各検知電極１２４は、検知電極１２４同士が隣接する端の部分がジグザグ状に形成されている。さらに、各検知電極１２４は、幅ＲｘＷが、浮遊電極１３２の幅Ｗと実質的に同じ大きさになるように形成されている。
【０１４９】
これにより、浮遊電極１３２間に形成されるスリット同士の間隔と、検知電極１２４と浮遊電極１３２との間に形成されるスリット、および検知電極１２４間に形成されるスリットの間隔を実質的に同等にし、各スリットの間隔を実質的に互いに揃えることができる。さらに、検知電極１２４の形状を、垂直方向に配列した複数の浮遊電極１３２の包絡線が形成する形状（図１８に破線で示す）に近似させることができる。
【０１５０】
［３−４．効果等］
以上のように、本実施の形態の入力装置では、電気的に１つの電極として動作する第２の電極（検知電極）を複数の電極（例えば、検知電極１２３または検知電極１２４）で構成する。
【０１５１】
また、複数の電極（例えば、検知電極１２３または検知電極１２４）間のスリットは、第２の電極（検知電極）と第３の電極（浮遊電極）との間に形成されるスリットにあわせてジグザグ状に形成される。
【０１５２】
これにより、検知電極と浮遊電極との間に、浮遊電極間に形成されるスリットと同様の形状を有するスリットを形成し、さらに、検知電極間にもジグザグ状のスリットを形成することができる。
【０１５３】
これにより、本実施の形態では、実施の形態１で説明した検知電極の配線パターンや干渉縞を視認されにくくする効果をより高めることができる。
【０１５４】
また、複数の電極（例えば、検知電極１２３または検知電極１２４）の各電極幅ＲｘＷが、第３の電極（浮遊電極）の幅Ｗと実質的に等しくなるように複数の電極（例えば、検知電極１２３または検知電極１２４）が形成されてもよい。
【０１５５】
これにより、浮遊電極間に形成されるスリット同士の間隔と、検知電極と浮遊電極との間に形成されるスリット、および検知電極間に形成されるスリットの間隔を実質的に同等にし、各スリットの間隔を実質的に互いに揃えることができる。
【０１５６】
すなわち、タッチパネルには、実質的に同じ形状のスリットが実質的に同じ間隔で形成される。
【０１５７】
これにより、本実施の形態では、実施の形態１で説明した検知電極の配線パターンや干渉縞を視認されにくくする効果をより高めることができる。
【０１５８】
なお、図１７、図１８には、電気的に１つの検知電極を２本の検知電極で形成する例を示したが、図１９、図２０に示すように、各検知電極を互いに電気的に接続するための接続部を設けてもよい。
【０１５９】
図１９は、実施の形態３における表示装置の検知電極１２３と浮遊電極１３１の構成パターンの他の一例を概略的に示す平面図である。
【０１６０】
図２０は、実施の形態３における表示装置の検知電極１２４と浮遊電極１３２の構成パターンのさらに他の一例を概略的に示す平面図である。
【０１６１】
図１９に示す検知電極１２３および浮遊電極１３１は、図１７に示した検知電極１２３および浮遊電極１３１と実質的に同じ構成である。ただし、図１９に示す検知電極１２３には、検知電極１２３同士を互いに電気的に接続するための接続部１２５が設けてある。なお、接続部１２５は図１９に示すように周期的に設けてあってもよい。
【０１６２】
図２０に示す検知電極１２４および浮遊電極１３２は、図１８に示した検知電極１２４および浮遊電極１３２と実質的に同じ構成である。ただし、図２０に示す検知電極１２４には、検知電極１２４同士を互いに電気的に接続するための接続部１２６が設けてある。なお、接続部１２６は図２０に示すように周期的に設けてあってもよい。
【０１６３】
このように、電気的に１つの第２の電極（検知電極）を複数の電極（例えば、検知電極１２３または検知電極１２４）で形成するときに、それら複数の電極（例えば、検知電極１２３または検知電極１２４）を互いに電気的に接続する接続部（例えば、接続部１２５または接続部１２６）を設けてもよい。
【０１６４】
これにより、上述した検知電極の配線パターンや干渉縞を視認されにくくする効果を維持しつつ、検知電極の電気的な動作の安定性を高めてタッチ検出を安定に行うことができる。例えば、検知電極に部分的な断線が生じたとしても、接続部を通して電気信号の導通経路を確保することができる。
【０１６５】
なお、本実施の形態では、電気的に１つの検知電極を２本の検知電極で形成し、その検知電極間に１つのジグザグ状のスリットを設ける例を説明したが、電気的に１つの検知電極を３本またはそれ以上の数の検知電極で形成し、その検知電極間に２つまたはそれ以上のジグザグ状のスリットを設けてもよい。また、各検知電極を互いに電気的に接続するための接続部を設けてもよい。
【０１６６】
（実施の形態４）
実施の形態１〜３では、浮遊電極間に形成されるスリットの互いの相対的な配置位置について特に説明しなかったが、スリット同士の相対的な配置位置に工夫を施すことで、上述した検知電極の配線パターンや干渉縞を視認されにくくする効果をより高められることが確認された。本実施の形態では、浮遊電極間に形成されるスリットの互いの相対的な配置位置に関する構成例について、図２１Ａ、２１Ｂ、図２２、図２３を用いて説明する。
【０１６７】
なお、本実施の形態に示す構成は、上述した実施の形態１〜３に適用可能である。
【０１６８】
［４−１．構成］
実施の形態４における表示装置は、実施の形態１に示した表示装置１００と実質的に同じ構成であるので、説明を省略する。また、本実施の形態における垂直方向、水平方向の定義も、実施の形態１で示した垂直方向、水平方向の定義と実質的に同じである。
【０１６９】
［４−２．動作］
実施の形態４における表示装置は、実施の形態１に示した表示装置１００と実質的に同じ動作をするので、説明を省略する。
【０１７０】
［４−３．構造］
次に、本実施の形態における浮遊電極間に形成されるスリットの配置位置について、図２１Ａ、２１Ｂ、図２２、図２３を用いて説明する。
【０１７１】
本実施の形態において、各浮遊電極は、次の条件が満たされるように配置位置が設定されている。すなわち、同一方向に延伸する連続する複数のスリット（浮遊電極間に形成されるスリット）は、それら複数のスリットのいずれか１つの延伸方向に延長された１つの架空の直線上に配置されるのではなく、その直線から平行にずれた位置に各スリットが配置されるように、各浮遊電極の配置位置を設定する。
【０１７２】
図２１Ａ、図２１Ｂは、実施の形態４における表示装置の浮遊電極の構成パターンの一例を概略的に示す平面図である。
【０１７３】
図２１Ａ、２１Ｂに示す浮遊電極１３１は、実施の形態１で図９に示した浮遊電極１３１と実質的に同じものであり、本実施の形態で浮遊電極を形成するときの条件も実施の形態１に示した条件と実質的に等しいので説明を省略する。また、図２１Ａ、２１Ｂに示す浮遊電極１３１間に形成されるスリット３１は、実施の形態１で図９に示した浮遊電極１３１間に形成されるスリットと実質的に同じであり、本実施の形態で各スリット３１を形成するときの条件も実施の形態１に示した条件と実質的に等しいので説明を省略する。
【０１７４】
本実施の形態において、図２１Ａ、２１Ｂに示す各浮遊電極１３１は、次のように配置位置が設定されている。
【０１７５】
例えば、図２１Ａに示す例では、浮遊電極１３１ａ、１３１ｂ間に形成されるスリット３１ａと、浮遊電極１３１ｃ、１３１ｄ間に形成されるスリット３１ｂとは、同一方向に延伸する連続するスリットである。しかし、スリット３１ｂは、スリット３１ａの延伸方向に延長された架空の直線（図２１Ａに破線で示す）上ではなく、その直線から平行にずれた位置に形成されている。
【０１７６】
この「ずれ」の程度（以下、「ずれ量」とも記す）の一例を、図２１Ｂに示す。
【０１７７】
図２１Ｂに示す例では、浮遊電極１３１ａ、１３１ｂ間に形成されるスリット３１ａと、浮遊電極１３１ｃ、１３１ｄ間に形成されるスリット３１ｂと、浮遊電極１３１ｅ、１３１ｆ間に形成されるスリット３１ｃと、浮遊電極１３１ｇ、１３１ｈ間に形成されるスリット３１ｄとは、同一方向に延伸する連続するスリットである。しかし、スリット３１ｂ、３１ｃ、３１ｄは、スリット３１ａの延伸方向に延長された架空の直線（図２１Ｂに破線で示す）上ではなく、その直線から平行にずれた位置にそれぞれが形成されている。
【０１７８】
そして、各浮遊電極１３１は、図２１Ｂに示すように、浮遊電極１３１ａの、スリット３１ａを形成する側の辺の延長上に、浮遊電極１３１ｈの、スリット３１ｄを形成する側の辺が位置するように、配置されている。
【０１７９】
これは、同一方向に延伸する連続する複数のスリットは、連続する２つのスリット（例えば、スリット３１ａ、３１ｂ）間で互いにスリット幅の３分の１ずれた位置に配置され、２つのスリット（例えば、スリット３１ｂ、３１ｃ）を間に挟む２つのスリット（例えば、スリット３１ａ、３１ｄ）は互いに１スリット幅ずれた位置に配置される、と言い換えることができる。
【０１８０】
図２２は、実施の形態４における表示装置の浮遊電極の構成パターンの他の一例を概略的に示す平面図である。
【０１８１】
図２２に示す浮遊電極１３２は、実施の形態１で図１３に示した浮遊電極１３２と実質的に同じものであり、図２２に示す浮遊電極１３２間に形成されるスリット３２も、実施の形態１で図１３に示した浮遊電極１３２間に形成されるスリットと実質的に同じである。
【０１８２】
図２２に示す例では、浮遊電極１３２ａ、１３２ｂ間に形成されるスリット３２ａと、浮遊電極１３２ｃ、１３２ｄ間に形成されるスリット３２ｂと、浮遊電極１３２ｅ、１３２ｆ間に形成されるスリット３２ｃとは、同一方向に延伸する連続するスリットである。しかし、スリット３２ｂ、３２ｃは、スリット３２ａの延伸方向に延長された架空の直線（図２２に破線で示す）上ではなく、その直線から平行にずれた位置にそれぞれが形成されている。
【０１８３】
そして、各浮遊電極１３２は、図２２に示すように、浮遊電極１３２ａの、スリット３２ａを形成する側の辺の延長上に、浮遊電極１３２ｆの、スリット３２ｃを形成する側の辺が位置するように、配置されている。
【０１８４】
これは、同一方向に延伸する連続する複数のスリットは、連続する２つのスリット（例えば、スリット３２ａ、３２ｂ）間で互いにスリット幅の２分の１ずれた位置に配置され、１つのスリット（例えば、スリット３２ｂ）を間に挟む２つのスリット（例えば、スリット３２ａ、３２ｃ）は互いに１スリット幅ずれた位置に配置される、と言い換えることができる。
【０１８５】
図２３は、実施の形態４における表示装置の浮遊電極の構成パターンの他の一例を概略的に示す平面図である。
【０１８６】
図２３に示す浮遊電極１３３は、図２１に示した浮遊電極１３１と同じ形状の２つの菱形（図２３に破線で示す）をつなぎ合わせて形成されており、図２２に示した浮遊電極１３２の平行四辺形を変形した形状を有する。
【０１８７】
図２３に示す例では、浮遊電極１３３ａ、１３３ｂ間に形成されるスリット３３ａと、浮遊電極１３３ｃ、１３３ｄ間に形成されるスリット３３ｂと、浮遊電極１３３ｅ、１３３ｆ間に形成されるスリット３３ｃとは、同一方向に延伸する連続するスリットであるが、スリット３３ｂ、３３ｃは、スリット３３ａの延伸方向に延長された架空の直線（図２３に破線で示す）上ではなく、その直線から平行にずれた位置にそれぞれが形成されている。
【０１８８】
そして、各浮遊電極１３３は、図２３に示すように、浮遊電極１３３ａの、スリット３３ａを形成する側の辺の延長上に、浮遊電極１３３ｆの、スリット３３ｃを形成する側の辺が位置するように、配置されている。すなわち、同一方向に延伸する連続する複数のスリットは、連続する２つのスリット（例えば、スリット３３ａ、３３ｂ）間で互いにスリット幅の３分の２ずれた位置に配置され、１つのスリット（例えば、スリット３３ｂ）を間に挟む２つのスリット（例えば、スリット３３ａ、３３ｃ）は互いにスリット幅の３分の４ずれた位置に配置される。
【０１８９】
なお、図２２に示す例では、図２２に一点鎖線で示すように、例えば浮遊電極１３２ｃ、１３２ｄは、同一直線上に位置する辺を有しており、これにより、スリット３２とは異なる方向に延伸するスリットに関しては、同一方向に延伸する連続する複数のスリットが、そのうちのいずれか１つのスリットの延伸方向に延長された架空の直線上に配置されている。
【０１９０】
しかし、図２３に示す例では、図２２に示した例とは異なり、スリット３３とは異なる方向に延伸するスリット３４に関しても、同一方向に延伸する連続する複数のスリットが、そのうちのいずれか１つのスリットの延伸方向に延長された架空の直線上から平行にずれた位置に配置されている。例えば、浮遊電極１３３ｃ、１３３ｇ間に形成されるスリット３４ａと、浮遊電極１３３ｄ、１３３ｈ間に形成されるスリット３４ｂとは、互いに同一方向に延伸する連続するスリットであるが、スリット３４ｂは、スリット３４ａの延伸方向に延長された架空の直線（図２３に一点鎖線で示す）上ではなく、その直線から平行にずれた位置に形成されている。
【０１９１】
なお、本実施の形態は、各スリットの配置位置に関する互いのずれ量が、何ら図２１Ａ〜図２３に示したずれ量に限定されるものではない。
【０１９２】
［４−４．効果等］
以上のように、本実施の形態の入力装置では、第３の電極（浮遊電極）間に形成されるスリットのうちの同一方向に延伸する連続する複数のスリット（例えば、スリット３１）は、複数のスリットのいずれか１つ（例えば、スリット３１ａ）の延伸方向に延長された１つの架空の直線上から平行にずれた位置に他のスリット（例えば、スリット３１ｂ、３１ｃ、３１ｄ））が配置されるように第３の電極（浮遊電極）が形成されている。
【０１９３】
これにより、本実施の形態では、実施の形態１で説明した検知電極の配線パターンや干渉縞を視認されにくくする効果をより高めることができる。
【０１９４】
（実施の形態５）
本実施の形態では、表示装置１００が有する液晶パネル２１の構造および製造工程について説明する。なお、本実施の形態に示す液晶パネル２１の構造および製造工程は、上述した実施の形態１〜４に適用可能である。
【０１９５】
［５−１．構成］
図２４は、実施の形態５における表示装置１００が有する液晶パネル２１の断面構造の一例を概略的に示す断面図である。
【０１９６】
液晶パネル２１では、ＴＦＴ基板６７側にアクティブマトリクス方式の電極部６５が形成されている。アクティブマトリクス方式の電極部６５の中に、共通電極（Ｖｃｏｍ電極）１１０と画素電極１９が形成されている。
【０１９７】
カラーフィルタ（ＣＦ）基板６８側には、Ｒ、Ｇ、Ｂ各色のカラーフィルタ（ＣＦ）２１０と、ブラックマトリクス（ＢＭ、図示せず）、及びオーバーコート（ＯＣ）層（図示せず）が形成されている。
【０１９８】
これらＴＦＴ基板６７とＣＦ基板６８の内面側（互いに対向する面）に配向膜層（図示せず）がそれぞれ形成され、ＴＦＴ基板６７とＣＦ基板６８との間に液晶層６４が注入されている。
【０１９９】
このようにして、液晶パネル２１に液晶セルが形成されている。ここでは、ＣＦ基板６８からＴＦＴ基板６７までの各構成要素により液晶セルが形成されるものとする。
【０２００】
ＣＦ基板６８の上（液晶層６４と反対側の面）に上偏光板６３が配置され、ＴＦＴ基板６７の共通電極１１０が形成されている面と反対側の面に下偏光板６６が配置されている。すなわち、液晶セルは、上偏光板６３と下偏光板６６とによって挟まれている。さらに、ＣＦ基板６８の上偏光板６３上には、液晶パネル２１の割れ防止などの保護機能を有するカバーガラス６１が接着層６２によって取り付けられている。
【０２０１】
液晶パネル２１を製造するときは、液晶セルを形成後、上偏光板６３をＣＦ基板６８に取り付ける前に、ＣＦ基板６８の表面にＩＴＯによる透明電極（ＩＴＯ電極）を成膜し、成膜したＩＴＯ電極を例えばフォトリソグラフィーにより所望のパターンにパターニングして、検知電極１２と浮遊電極１３０を形成する。
【０２０２】
こうして、ＣＦ基板６８の表示面側に、実質的に一定の間隔で並ぶ複数の検知電極１２が形成され、複数の検知電極１２の間に複数の浮遊電極１３０が形成される。
【０２０３】
［５−２．動作］
実施の形態５における表示装置１００は、実施の形態１に示した表示装置１００と実質的に同じ動作をするので、説明を省略する。
【０２０４】
［５−３．効果等］
以上のように、本実施の形態の入力装置では、第２の電極（検知電極）と第３の電極（浮遊電極）とは、実質的に同じ層（例えば、ＣＦ基板６８の表面）に、実質的に同じ材料で形成されている。
【０２０５】
これにより、液晶パネルの製造時に、第２の電極（検知電極）と第３の電極（浮遊電極）とを、実質的に同じ材料を用いて同じ工程で形成することができる。したがって、本実施の形態では、第２の電極（検知電極）と第３の電極（浮遊電極）とで、光の反射率および透過率を実質的に互いに等しくすることができる。
【０２０６】
すなわち、本実施の形態の入力装置では、検知電極間に、検知電極と実質的に同じ材料で形成された複数の浮遊電極が配列されるので、検知電極が配置された領域と配置されていない領域とで、光の反射率および透過率の均一化を図ることができ、検知電極１２の配線パターンをより視認されにくくすることができる。
【０２０７】
なお、スマートフォンやタブレットＰＣなどの軽量化が望まれる製品向けに液晶パネルを製造するときには、液晶セルを形成後、ＴＦＴ基板６７とＣＦ基板６８を化学研磨して軽量化することがある。その場合、軽量化後のＣＦ基板６８の表面にＩＴＯ電極を成膜し、各電極のパターンを形成する。このＩＴＯ電極を成膜する際、液晶セルは、耐熱温度が一般的に低温に制限されるため、通常は１００℃程度までしか加熱することができない。そのため、成膜されるＩＴＯ電極はアモルファスＩＴＯとなる。
【０２０８】
実施の形態１でも説明したように、アモルファスＩＴＯは、高温成膜される結晶性のＩＴＯ電極に比べて、シート抵抗が高い。したがって、アモルファスＩＴＯによる透明電極を低抵抗化するためには、ＩＴＯ電極の厚膜化が必要となる。そして、アモルファスＩＴＯは、結晶性のＩＴＯ電極に比べて光の透過率が低いため、ＩＴＯ電極を厚膜化すると、光の透過率はより低下する。
【０２０９】
したがって、アモルファスＩＴＯによって検知電極が形成されると、検知電極が配置された領域と配置されていない領域とで光の透過率の差はより大きくなり、検知電極の配線パターンはより視認されやすくなる。しかし、本実施の形態では、検知電極１２と浮遊電極１３０は、ともにＣＦ基板６８上の同じ層（例えば、ＣＦ基板６８の表面）に、同じ材料で形成されるため、光の反射率および透過率も互いにほぼ等しい。そのため、本実施の形態によれば、高温成膜が困難なプロセスで形成した液晶パネルにおいても、検知電極１２の配線パターンを視認され難くすることができる。
【０２１０】
なお、本実施の形態では、インセル方式のタッチパネルを例に挙げその断面図を用いて説明を行ってきたが、本実施の形態はインセル方式に限定されるものではなく、アウトセル方式のタッチパネルに用いることも可能である。アウトセル方式のタッチパネルでは、ガラス基板上や樹脂シート上に検知電極と浮遊電極が配置されたタッチパネルが、表示装置に、画素に対向する様に配置される。アウトセル方式においては、タッチパネルと表示装置の間にエアギャップを設けたり、接着層を介してタッチパネルと表示装置を貼り合せたりする。その為、ＣＦ基板表面に検知電極を形成するインセル方式に比べて、画素と検知電極との間の距離が離れる。これにより、検知電極の配線パターンによる縞模様やＣＦやＢＭとの干渉縞は相対的に軽減される。また、アウトセル方式であれば、ＩＴＯ成膜時に電極を形成するガラス基板の耐熱温度が相対的に高く、加熱温度を相対的に高められるため、結晶化した低抵抗なＩＴＯ電極を形成できる。したがって、本開示に示す構成は、インセル方式のタッチパネルにおいてより高い効果を得ることができる。
【０２１１】
（他の実施の形態）
以上のように、本出願において開示する技術の例示として、実施の形態１〜５を説明した。しかしながら、本開示における技術は、これに限定されず、変更、置き換え、付加、省略等を行った実施の形態にも適用できる。また、上記実施の形態１〜５で説明した各構成要素を組み合わせて、新たな実施の形態とすることも可能である。
【０２１２】
そこで、以下、他の実施の形態を例示する。
【０２１３】
検知電極と浮遊電極の配置のパターンは各実施の形態で示した構成例に限定されるものではなく、各実施の形態で示した構成例を組み合わせてもよい。
【０２１４】
図２５は、他の実施の形態における表示装置の検知電極と浮遊電極の構成パターンの一例を概略的に示す平面図である。
【０２１５】
図２５には、図２３に示した構成例と図１８に示した構成例とを組み合わせた構成例を示す。例えば、このように、各実施の形態で示した構成例を組み合わせてもかまわない。
【０２１６】
なお、本実施の形態では、信号制御装置２８が出力するタイミング信号１、２にもとづきセンサ制御回路１３がセンサ駆動回路２６および信号検出回路２７を制御する例を示したが、信号制御装置２８がセンサ駆動回路２６および信号検出回路２７を直接制御するように構成されていてもよい。
【０２１７】
なお、浮遊電極は各実施の形態で図示した形状、大きさに限定されるものではない。浮遊電極の形状は、スリットに関して開示された条件を満たす範囲で任意に設定可能である。
【０２１８】
なお、実施の形態１〜５では、１つの検知電極１２に対して１つの検出回路を設けて信号検出回路２７を構成する例を説明したが、例えば、複数の検知電極１２群に１つの検出回路を設けて信号検出回路２７を構成してもよい。このときは、駆動電極１１に印加される複数回のパルス電圧に関して、複数の検知電極１２で検出信号Ｒｘｖの監視を時分割で行い、検出信号Ｒｘｖを検出するように構成してもよい。
【０２１９】
なお、上述の実施の形態に示した数値、例えば、浮遊電極の大きさを示す数値等は、単なる一例に過ぎず、本開示は何らこれらの数値に限定されるものではない。
【産業上の利用可能性】
【０２２０】
本開示は、静電容量結合方式の入力装置に適用可能である。具体的には、タッチパネルを備えた液晶テレビや液晶ディスプレイ、ディスプレイ一体型のコンピュータや入力端末、タブレット端末、スマートフォン、タッチパネルを備えた各種家電製品、等に本開示は適用可能であり、タッチパネルと表示装置とが一体となった各種電気機器に本開示は適用可能である。
【符号の説明】
【０２２１】
１０    走査信号線
１０−１、１０−２、・・・、１０−Ｎ    ラインブロック
１１    駆動電極
１２，１２１，１２２，１２３，１２４    検知電極
１３    センサ制御回路
１４    タッチコントローラ
１９    画素電極
２１    液晶パネル
２２    バックライトユニット
２３    走査線駆動回路
２４    映像線駆動回路
２５    バックライト駆動回路
２６    センサ駆動回路
２７    信号検出回路
２８    信号制御装置
２９    映像信号線
３１，３２，３３，３４    スリット
６１    カバーガラス
６２    接着層
６３    上偏光板
６４    液晶層
６５    電極部
６６    下偏光板
６７    ＴＦＴ基板
６８    ＣＦ基板
１００    表示装置
１１０    共通電極
１２５，１２６    接続部
１３０，１３１，１３２，１３３    浮遊電極
２１０    カラーフィルタ
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図３Ｄ】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１Ａ】
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【図２１Ｂ】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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