(57)【要約】      （修正有）【課題】半導体素子の表面に形成されたトランジスタ及び半導体素子自体の破壊を防止し、かつ大電流に対応可能で信頼性の高い良好な接合部を設けた半導体モジュールを提供する。【解決手段】両面に導電パターン５ａ，５ｂが形成された絶縁基板と、絶縁基板に接合され、対向する面に表面電極１が形成された半導体素子１０と、表面電極１よりも硬度が低くかつ第１の電気伝導率を有する第１導電層３ｂと第１の電気伝導率よりも大きい第２の電気伝導率を有する第２導電層３ａとが接合された二層構造導電端子３と、絶縁基板と半導体素子１０と二層構造導電端子３を封止する樹脂部材と、を備えている半導体モジュール。二層構造導電端子３は第１導電層３ｂを表面電極１と対向させて半導体素子１０に接合されており、二層構造導電端子３と半導体素子１０との接合部に設けられた第２導電層３ａの開口部３ｏに表面電極１と第１導電層３ｂとの接合面３ｊが形成されている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
両面に導電パターンが形成されている絶縁基板と、
前記絶縁基板が一方の面に接合され、前記一方の面と対向する面には表面電極が形成されている半導体素子と、
前記表面電極よりも硬度が低くかつ第１の電気伝導率を有する第１導電層と前記第１の電気伝導率よりも大きい第２の電気伝導率を有する第２導電層とが接合されてなる二層構造導電端子と、
前記絶縁基板と前記半導体素子と前記二層構造導電端子を封止する樹脂部材と、を備え、前記二層構造導電端子は前記第１導電層を前記表面電極と対向させて前記半導体素子に接合されており、
前記二層構造導電端子と前記半導体素子との接合部には、前記第２導電層に開口部が設けられていて、
前記開口部に前記表面電極と前記第１導電層との接合面が形成されていることを特徴とする半導体モジュール。
【請求項２】
前記第１導電層は、前記表面電極よりも厚いことを特徴とする請求項１に記載の半導体モジュール。
【請求項３】
前記開口部は、側方が閉じた形状を有していることを特徴とする請求項１または２に記載の半導体モジュール。
【請求項４】
前記開口部は、側方が開放された形状を有していることを特徴とする請求項１または２に記載の半導体モジュール。
【請求項５】
前記開口部の深さは、前記第２導電層の厚さよりも小さいことを特徴とする請求項３または４に記載の半導体モジュール。
【請求項６】
前記開口部は、盛り上がった前記第１導電層で埋められていることを特徴とする請求項３または４に記載の半導体モジュール。
【請求項７】
両面に導電パターンが形成されている絶縁基板と、
前記絶縁基板が一方の面に接合され、前記一方の面と対向する面には表面電極が形成されている半導体素子と、
前記表面電極よりも硬度が低くかつ第１の電気伝導率を有する第１導電層と前記第１の電気伝導率よりも大きい第２の電気伝導率を有する第２導電層とが接合されてなる二層構造導電端子と、
前記絶縁基板と前記半導体素子と前記二層構造導電端子を封止する樹脂部材と、を備え、前記二層構造導電端子は前記第１導電層を前記表面電極と対向させて前記半導体素子に接合されており、
前記二層構造導電端子と前記半導体素子との接合部では、前記第１導電層は露呈していて、
前記第１導電層が露呈している部分に前記表面電極と前記第１導電層との接合面が形成されていることを特徴とする半導体モジュール。
【請求項８】
両面に導電パターンが形成されている絶縁基板と、
前記絶縁基板が一方の面に接合され、前記一方の面と対向する面には表面電極が形成されている半導体素子と、
前記表面電極よりも硬度が低くかつ第１の電気伝導率を有する第１導電層と前記第１の電気伝導率よりも大きい第２の電気伝導率を有する第２導電層とが重ね接合されてなる重ね
構造導電端子と、
前記絶縁基板と前記半導体素子と前記重ね構造導電端子を封止する樹脂部材と、を備え、前記重ね構造導電端子は前記第１導電層を前記表面電極と対向させて前記半導体素子に接合されており、
前記重ね構造導電端子と前記半導体素子との接合部には、前記表面電極と前記第１導電層との接合面が形成されていることを特徴とする半導体モジュール。
【請求項９】
両面に導電パターンが形成されている絶縁基板と、
前記絶縁基板が一方の面に接合され、前記一方の面と対向する面には表面電極が形成されている半導体素子と、
前記表面電極よりも硬度が低くかつ第１の電気伝導率を有する第１導電層と前記第１の電気伝導率よりも大きい第２の電気伝導率を有する第２導電層とが接合されてなる二層構造導電端子と、
前記絶縁基板と前記半導体素子と前記二層構造導電端子を封止する樹脂部材と、を備え、前記二層構造導電端子は前記第１導電層を前記表面電極と対向させて前記半導体素子に接合されており、
前記二層構造導電端子と前記半導体素子との接合部には開口部が設けられていることを特徴とする半導体モジュール。
【請求項１０】
前記半導体素子の少なくとも一部がワイドバンドギャップ半導体により形成されていることを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の半導体モジュール。
【請求項１１】
前記ワイドバンドギャップ半導体は、炭化珪素，窒化ガリウム系材料，ダイヤモンドのいずれかの半導体であることを特徴とする請求項１０に記載の半導体モジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体モジュールに関し、特に、導電端子を半導体素子に接合する技術を用いた半導体モジュールに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体モジュールには、半導体素子と導電端子が封止されている。半導体素子に電流を流す必要があるため、半導体素子と導電端子との接合に、AlのワイヤボンディングもしくはCu端子のはんだ接合が用いられてきた。ワイヤボンディングにおけるワイヤの線径の上限は現在のところ５００μm程度である。ワイヤに流すことが可能な電流量は制限されて
いるため、大電流（〜６００Ａ以上）が流れ得る半導体モジュールにおいては、通電に必要なワイヤの本数が増加する。半導体素子が小型化すると、素子の表面に必要本数のワイヤを確保することが難しくなる。半導体モジュールが使用される温度環境が苛酷化するに従って、ワイヤボンドに要求されている信頼性を満足できなくなってきている。
【０００３】
一方、はんだ接合されるCu端子は、導電端子の厚さと幅を１〜５mm程度まで大きくすることが可能であり、電気導電性および放熱性も良好である。しかしながら、半導体素子の表面にCu端子をはんだ付けするためには、表面電極にはんだ付け可能な金属（例えばCu、Ni、Auなど）のメタライゼーションが必要である。メタライゼーションでは、いくつかの金属が積層される。メタライゼーション用の金属層は、はんだ付けに必要な、バリア性、接合性、濡れ性などを備えている。
【０００４】
はんだ付け用のメタライゼーションは、半導体素子のメタライゼーションとは異なるため、製造プロセスや製造コストを増加させる。また、Cu端子と半導体素子とを接合するはんだに半導体素子と絶縁基板とを接合するはんだと同一のものを用いると、接合時に半導体素子と絶縁基板を繋ぐはんだが再溶融する。それぞれの接合に融点の近いはんだを用いることができないため、複数種のはんだが必要となり、プロセスが複雑になる。
【０００５】
この点、固相接合である超音波接合は、加熱工程を必要としないため、Cu導電端子の接合時に半導体素子と絶縁基板とを接合しているはんだを再溶融させずにCu導電端子を大面積で接合することができる。超音波接合によればはんだ接合と比較しても接合部の信頼性が向上する。
【０００６】
一般的な半導体モジュールでは、半導体素子の表面電極にはAlが、導電端子にはCuが用いられている。これらの金属を直接超音波接合するとAlより硬いCu導電端子によって表面電極が一方的に塑性変形する。その結果として半導体素子に形成されているトランジスタが、場合によっては、半導体素子そのものが破壊される。
【０００７】
そこで、表面に低硬度被覆層が形成されている高硬度材料と超音波工具との間に、他の低硬度材料を挿入し、低硬度被覆層と他の低硬度材料との接合、及び、低硬度被覆層と高硬度材料との接合を行う技術が提案されている。高硬度材料、低硬度被覆層および他の低硬度材料からなる接合部は同時に超音波接合される（例えば特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平８−２５２６７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
超音波接合では、被接合材料を超音波ホーンにより加圧しながら超音波振動させることにより接合界面に形成されている酸化膜や付着している汚れが除去される。酸化膜や汚れが除去された新生面同士は密着するので、接合が進行する。半導体モジュールでは、要求されている電流容量が大きいため、導電端子に必要な断面積の値も大きい。半導体モジュールについては、超音波接合させるための条件として、高い圧力、強い超音波振動、さらには長い接合時間が必要になる。
【００１０】
ここで半導体モジュールの半導体素子の表面に対し導電端子を直接超音波接合することを考えてみる。超音波接合は加圧しながら振動を与えるプロセスであるため、接合される材料の種類が異なると、硬度が低い方の材料が一方的に塑性変形する。一般的な半導体モジュールでは、半導体素子の表面電極にはAlが、導電端子にはCuが用いられている。これらを直接超音波接合すると、硬いCu導電端子によってAl表面電極が塑性変形し、結果として半導体素子に形成されているトランジスタや、場合によっては半導体素子そのものが破壊する。
【００１１】
特許文献１においては、高硬度材料の表面に低硬度被覆層を形成している。接合時には、高硬度材料の表面に形成された低硬度被覆層と低硬度材料の接合が良好に行われることで、十分な接合強度を得ることが可能になる。しかしながら、この技術は、被接合材として半導体素子を用いた場合に、半導体素子の表面に形成されたトランジスタや半導体素子自体が超音波接合によって破壊される点については想定していない。
【００１２】
Al表面電極の塑性変形を最小限とすべく超音波接合の接合条件を弱めに設定することも考えられる。接合条件を弱めに設定すると接合部の接合強度が低下し、半導体モジュールの使用時に発生する熱膨張および振動に伴う変形による応力によって接合部が剥離しやすくなる。半導体モジュールの信頼性が低下する懸念も存在する。
【００１３】
半導体モジュールにおいて動作時に半導体素子に流れる電流は、導電端子から接合部を通じてセラミック基板上の導電パターンを通過する。接合部が剥離すると半導体モジュールに電流が流れなくなる。製造後の検査工程における不良判定基準を厳しくすると歩留が低下し、十分なマージンを持った部材を採用するとモジュールの大型化を招く。
【００１４】
本発明は、上記のような課題を鑑みてなされたものである。半導体素子の表面に形成されたトランジスタ及び半導体素子自体の破壊を防止し、かつ大電流に対応可能で信頼性の高い良好な接合部を得ることを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本願に係る半導体モジュールは、両面に導電パターンが形成されている絶縁基板と、絶縁基板が一方の面に接合され、一方の面と対向する面には表面電極が形成されている半導体素子と、表面電極よりも硬度が低くかつ第１の電気伝導率を有する第１導電層と第１の電気伝導率よりも大きい第２の電気伝導率を有する第２導電層とが接合されてなる二層構造導電端子と、絶縁基板と半導体素子と二層構造導電端子を封止する樹脂部材と、を備え、二層構造導電端子は第１導電層を表面電極と対向させて半導体素子に接合されており、二層構造導電端子と半導体素子との接合部には、第２導電層に開口部が設けられていて、開口部に表面電極と第１導電層との接合面が形成されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
この発明によれば、半導体素子の表面電極と二層構造導電端子との超音波接合において、二層構造導電端子の開口部が形成されているエリアに超音波ホーンを接触させている。このことにより製品に必要な接合強度を得るための超音波接合の接合条件をより低い圧力、より短い接合時間とすることができ、その結果、信頼性の高い良好な接合部を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の実施の形態による半導体モジュールの概略構成を示す側断面図である。
【図２】実施の形態１による二層構造導電端子を表す断面図である。
【図３】図３Ａは実施の形態１による第１の二層構造導電端子を表す第１斜視図である。図３Ｂは実施の形態１による第２の二層構造導電端子を表す第２斜視図である。図３Ｃは実施の形態１による第３の二層構造導電端子を表す第３斜視図である。
【図４】図４Ａは実施の形態１にかかる超音波接合工程の第１工程を表す図である。図４Ｂは実施の形態１にかかる超音波接合工程の第２工程を表す図である。図４Ｃは実施の形態１にかかる超音波接合工程の第３工程を表す図である。
【図５】比較の形態にかかる二層構造導電端子を表す斜視図である。
【図６】図６Ａは比較の形態にかかる超音波接合工程の第１工程を表す図である。図６Ｂは比較の形態にかかる超音波接合工程の第２工程を表す図である。図６Ｃは比較の形態にかかる超音波接合工程の第３工程を表す図である。
【図７】実施の形態２による二層構造導電端子を表す斜視図である。
【図８】実施の形態２による二層構造導電端子を表す断面図である。
【図９】図９Ａは実施の形態２にかかる超音波接合工程の第１工程を表す図である。図９Ｂは実施の形態２にかかる超音波接合工程の第２工程を表す図である。図９Ｃは実施の形態２にかかる超音波接合工程の第３工程を表す図である。
【図１０】図１０Ａは実施の形態３による第１の二層構造導電端子を表す第１斜視図である。図１０Ｂは実施の形態３による第２の二層構造導電端子を表す第２斜視図である。
【図１１】実施の形態３による二層構造導電端子を表す断面図である。
【図１２】図１２Ａは実施の形態３にかかる超音波接合工程の第１工程を表す図である。図１２Ｂは実施の形態３にかかる超音波接合工程の第２工程を表す図である。図１２Ｃは実施の形態３にかかる超音波接合工程の第３工程を表す図である。
【図１３】図１３Ａは実施の形態４による第１の二層構造導電端子を表す第１斜視図である。図１３Ｂは実施の形態４による第２の二層構造導電端子を表す第２斜視図である。
【図１４】実施の形態５による二層構造導電端子を表す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明の実施の形態に係る半導体モジュールについて、図を参照しながら以下に説明する。なお、各図において、同一または同様の構成部分については同じ符号を付している。各図間の図示では、対応する各構成部のサイズや縮尺はそれぞれ独立している。例えば構成の一部を変更した断面図の間で、変更されていない同一構成部分を図示する際に、同一構成部分のサイズや縮尺が異なっている場合もある。また、半導体モジュールの構成は、実際にはさらに複数の部材を備えているが、説明を簡単にするため、説明に必要な部分のみを記載し、他の部分については省略している。
【００１９】
実施の形態１．
実施の形態１による半導体モジュールについて、図を参照して説明する。図１に、半導体モジュール１００の全体構成を示す。半導体モジュール１００は、ボンディングワイヤ２、二層構造導電端子３、導電端子（リードフレーム）４、絶縁基板５、放熱部材６、半導体素子（電力用トランジスタ１０ａ、電力用ダイオード１０ｂなど）１０、ケース２０、封止樹脂部材２１などから構成されている。ボンディングワイヤ２、導電端子４、絶縁基板５、放熱部材６、半導体素子１０などが封止樹脂部材２１で封止されている。絶縁基板５は、導電パターン５ａと導電パターン５ｂと絶縁基材５ｃより成る。
【００２０】
二層構造導電端子３は接合部側が半導体素子１０と接合され、他端側はケース２０にインサートモジュールされて、外部に突出している。パッケージタイプの半導体モジュール１００は、ワイヤボンディングの終わった仕掛品を金型にセットして、熱硬化性のエポキシ樹脂を流し込んで成形されている。電力用トランジスタ１０ａには、MOSFET（Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor）、IGBT（Insulated Gate Bipolar Transistor）などが用いられる。電力用トランジスタ１０ａと電力用ダイオード１０ｂは逆並列に接続されている。半導体モジュール１００は二層構造導電端子３、導電端子４などを使って外部機器に接続される。
【００２１】
放熱部材６は、単体または複数枚の絶縁基板５とはんだ７によって接合されている。放熱部材６は、放熱板としての役割を果たすと共に、放熱部材６のはんだで接合される面と対向する面が熱伝導グリス等でヒートシンクへ接続されることで、半導体モジュールで発生した熱を効率よく外部へ放熱させる。そのため、放熱部材６の材料は熱伝導率の大きい金属が好ましく、一般的には厚さ1〜5mm程度のCu、Al、AlSiC等の金属板が用いられる。
はんだ７は絶縁基板５の放熱面側と放熱部材６とを接合する。はんだ７の材料は融点が低く、熱伝導率の大きい金属が好ましく、一般的にはSn、Pｂ、Ag、Cu等を用いた合金が用いられる。その厚さは信頼性と放熱性の観点から、0.1mm〜0.3mm程度が好ましい。
【００２２】
半導体素子１０は、珪素（Si）によって形成されたものの他、珪素に比べてバンドギャップが大きいワイドバンドギャップ半導体によって形成したものも好適に使用することができる。ワイドバンドギャップ半導体としては、炭化珪素（SiC）、窒化ガリウム系材料またはダイヤモンドなどがある。ワイドバンドギャップ半導体を用いた場合、許容電流密度が高く、電力損失も低いため、電力用半導体素子を用いた装置の小型化が可能となる。
【００２３】
図２は半導体モジュール１００の一部を示す側断面図である。半導体素子１０の表面に形成された表面電極１には、二層構造導電端子３が超音波接合されている。表面電極１の下には複数のトランジスタ１２が形成されている。絶縁基板５（または絶縁基材５ｃ）の両側には導電パターン５ａと導電パターン５ｂがそれぞれ形成されている。絶縁基板５は、回路面側（導電パターン５ａ側）に、半導体素子１０がはんだ７によって接合されている。絶縁基板５の放熱面側（導電パターン５ｂ側）には、放熱部材６がはんだ７によって接合される。半導体素子１０は、インバータやコンバータ等を構成する電力用半導体素子である。本発明の半導体モジュール１００は、少なくとも１個以上の半導体素子によって構成されていればよいが、IGBTもしくはMOSFETがダイオードと逆並列に接続されていることが好ましい。トランジスタ１２には凹凸が形成されている。
【００２４】
本実施の形態に係る半導体素子１０の材質はSiとし、定格電圧と電流は、それぞれ、1200Vと175Aである。また、半導体素子１０の大きさは13mm×10.8mm、厚さは0.17mmとしている。半導体素子１０の材料にはSiの他にSiC、GａN等が用いられる。SiCは、Siと比較すると、半導体素子の定格電流に対する表面電極１の面積の比が小さいため、Si半導体よりも高密度の配線技術が求められる。SiCを用いた半導体モジュールにおいては、表面電極１に二層構造導電端子３を超音波接合することで、一度に大面積を接合する本発明のメリットはより効果的なものとなる。
【００２５】
表面電極１は半導体素子１０の表面に形成された電極配線用の金属膜である。表面電極１の材料にはAlが一般的に用いられる。他にはAl合金、Cu、Cu合金等が用いられ、場合によってはTi、Mo、Ni、Au等の金属が積層されていることもある。いずれの場合においても同様の効果を得ることができる。本実施の形態の表面電極１の材料は厚さ4.8μmのAlとしている。二層構造導電端子３は、半導体素子１０と外部機器との通電を行うための電極である。本実施の形態の二層構造導電端子３は、緩衝材層（第１導電層）３ｂと導電層（第２導電層）３ａから構成されている。緩衝材層３ｂは、表面電極１および導電層３ａと同等、或いはそれ以下の硬度を有する。導電層３ａの材料は電気抵抗の小さい金属が好ましく、一般的にはCu、Al等を用いる。ここでは緩衝材層３ｂにAlを用いている。導電層３ａにはエッチングなどの除去加工により開口部３ｏが複数個所に形成されている。
【００２６】
二層構造導電端子３の片方の先端部は端子曲げ部３ｒで屈曲している。導電層３ａの材料としてAu、Ag、Alなどを、緩衝材層３ｂの材料としてSn、Znなどを、それぞれ採用し、それらのいずれかを組み合わせて用いることも可能である。二層構造導電端子３のサイズは、幅5mm、厚さ0.7mmである。導電層３ａの厚さは0.5mm、緩衝材層３ｂの厚さは0.2mmである。緩衝材層３ｂは超音波接合時に表面電極１と導電層３ａよりも優先的に変形する。緩衝材層３ｂは表面電極１と、直接、超音波接合されており、表面電極１と緩衝材層３ｂとの接合面３ｊが開口部３ｏに形成されている。緩衝材層３ｂは通電可能な材料であることが先ず求められる。超音波接合時に加わる加圧や振動によって、表面電極１より同時もしくは、優先的に変形しなければならないため、表面電極１の材料と同等の硬度を有する材料、もしくはより硬度の低い材料である必要がある。すなわち、緩衝材層３ｂは表面電極１よりも硬度が低い。また導電層３ａの電気伝導率は、緩衝材層３ｂの電気伝導率よりも大きい。ここで、硬度はビッカース硬度を意味している。
【００２７】
絶縁基材５ｃは電気的な絶縁物であり、熱伝導率の大きい材料が好ましく、一般的には厚さ0.32mm（或いは0.635mm）のAlN、Si３N４、Al２O３等のセラミック板が用いられる。導電パターン５ａと導電パターン５ｂは同じ材料が用いられる。このうち、二層構造導電端子３と接合部を形成する導電パターン５ａには、電力用半導体素子（例えばIGBT）が実装される。導電パターン５ａは、電力用半導体素子と外部回路とを電気接続するための配線部材であるため、電気抵抗の小さい金属が好ましい。導電パターン５ａおよび導電パターン５ｂには、一般的に厚さ0.5mm以下のCu、Al等が用いられる。
【００２８】
図３Ａと図３Ｂと図３Ｃに、実施の形態１による二層構造導電端子の先端部分を示す。二層構造導電端子は導電層３ａと緩衝材層３ｂを鍛造、溶接などにより接合したものである。二層構造導電端子３は接合部３ｓで半導体素子１０と接合される。図３Ａは、導電層３ａにエッチングによりくし型の開口部３ｏが形成されていることを表している。この開口部は、側方が閉じた形状を有している。図３Ｂは、導電層３ａにエッチングにより円形の開口部３ｏが形成されている状態を表している。この開口部は、側方が閉じた形状を有している。どちらの場合も緩衝材層３ｂが露呈している。図３Ｃは、導電層３ａおよび緩衝材層３ｂがエッチングにより除去され、側方が解放されたくし型の開口部３ｏが形成されていることを表している。開口部３ｏから表面電極１が露呈しており、超音波接合、圧接、抵抗溶接、摩擦拡散接合などの接触子を導電層３ａに当てる。
【００２９】
二層構造導電端子３は導電層３ａを表面電極１と対向させて半導体素子１０に接合されている。開口部３ｏを加工する位置は二層構造導電端子３の先端部のエッジ部や中心付近などいずれの場所でも可能である。二層構造導電端子３の通電可能な電流を大きくするためには、導電層３ａの断面積が大きいほうが好ましいが、超音波接合時に印加されたパワーを接合面３ｊに伝わり易くするには厚さが薄い方が好ましい。そのため、二層構造導電端子３の内、導電層３ａに、くし型やコの字型などに予め除去加工を施しておく。二層構造導電端子３の端子先端部分の加工は、切削加工やエッチング加工によるものが好ましい。また、二層構造導電端子３の先端部の除去加工面積は、接合強度、導電性効果、熱伝導効果を勘案して決めればよい。
【００３０】
図４Ａ〜図４Ｃは、本実施の形態１における接合工程を示す概略図である。図４Ａは、超音波ホーン９の先端を二層構造導電端子３の緩衝材層３ｂに当接させた状態を表わしている。まず、半導体素子１０の表面電極１に二層構造導電端子３を載置する。この時、半導体素子１０を含む半導体モジュールの全体は超音波接合装置に固定されている。超音波ホーン９は、先端が二層構造導電端子３の緩衝材層３ｂに接触するまで、開口部３ｏを通して下降させる。
【００３１】
図４Ｂは、二層構造導電端子の超音波接合中の状態を表わしている。超音波ホーン９により、二層構造導電端子３を表面電極１に対して加圧している。更に、超音波ホーン９を矢印の方向に超音波振動させる。周波数は例えば20KHzである。これにより、表面電極１と緩衝材層３ｂとの接触面同士が摺れて、接触面を覆っている酸化膜等の、接合を阻害する膜等が除去される。二層構造導電端子３の緩衝材層３ｂの上面には超音波ホーン９の突起部が食い込んでいる。
【００３２】
図４Ｃは、超音波接合が終了した段階を表している。表面電極１と緩衝材層３ｂは、超音波振動により接触面同士が接合されている。緩衝材層３ｂは多少の変形が進んだ状態となっているが、表面電極１は変形していないため、トランジスタ１２が破壊されることはない。表面電極１と緩衝材層３ｂの間には、二層構造導電端子３と半導体素子１０との接合面３ｊが形成されている。
【００３３】
図５は、比較の形態に係る二層構造導電端子を表している。比較の形態では、導電層３ａの除去加工を一切行わず、そのまま二層構造導電端子３を半導体素子１０の表面電極１に超音波接合する。同図は、表面電極１が形成された半導体素子１０の上に二層構造導電端子３が載置された状態を表している。
【００３４】
図６Ａ〜図６Ｃは、導電層３ａの除去加工を一切行わない場合の半導体モジュールにおける接合工程の概略図であり、それぞれ図４Ａ〜図４Ｃに相当する工程を示す。二層構造導電端子３の導電層３ａの除去加工を一切行わない場合の半導体モジュールでは、二層構造導電端子３の厚さは全て一定であり、全面に硬質な導電層３ａが存在している。超音波接合では板厚が厚く、かつ硬い材料ほど接合に必要なエネルギーが多くなるため、荷重、接合時間、振幅等の接合条件を大きく設定する必要がある。
【００３５】
結果として、超音波接合時に十分な接合面積を得るために必要な接合条件で表面電極１が変形する量と比べると、実際の表面電極１の厚さが薄すぎることになる。超音波ホーン９による加圧と超音波振動によって、表面電極１は変形し、一部が排斥され、その下に形成されているトランジスタ１２が破壊される。更に接合が進むと、二層構造導電端子３が半導体素子１０と接触し、半導体素子１０に亀裂１０ｋが生じる。
【００３６】
本発明における半導体モジュールでは、上述のように、超音波接合時に、二層構造導電端子３の緩衝材層３ｂが表面電極１と接触する。そのため、表面電極１と二層構造導電端子３との硬度差を考慮する必要が無くなり、表面電極１と導電層３ａに用いる材料の選択の幅を広げることができる。また、表面電極１と二層構造導電端子３との硬度の差が大きくても、半導体素子１０やトランジスタ１２を破壊することなく表面電極１と二層構造導電端子３とを接合することができる。しかも緩衝材層３ｂが変形しながらトランジスタ１２に形成された凹凸に沿って接合されるため大きな接合面積を得ることが出来る。
【００３７】
二層構造導電端子３の導電層３ａの一部は、予め除去加工されており、二層構造導電端子３の他の部分より薄くなっている。このように、超音波ホーン９で加圧される部分を予め緩衝材層３ｂのみにしておくことで、接合に必要なエネルギーが少なくなる。接合に必要なエネルギーが少なくなれば、接合条件である荷重や振幅を小さくし、さらに接合時間を短くすることができる。接合時間を短くすることで端子曲げ部３ｒに繰返し変形が加わる時間が短くなるため、端子曲げ部３ｒにクラックが生じるのを防ぐことができるうえに超音波ホーン９によって表面電極１が潰れることを防ぐことができる。
【００３８】
緩衝材層３ｂはもともと二層構造導電端子３の一部であるため、蒸着やめっき等を用いることなしに、蒸着やめっきを用いた場合よりも厚い材料を供給することができる。さらに二層構造導電端子３の緩衝材層３ｂの厚さを適切に設定することで、超音波接合時に大きなパワーを印加することができるため、目的の電流を通電させるために十分な接合面積を得ることができる。半導体素子１０の動作時において生じる熱応力についても、二層構造導電端子３の緩衝材層３ｂが優先的に変形するため、熱応力による半導体素子１０やトランジスタ１２の破壊を防止することができる。
【００３９】
超音波接合部では、通電電流は超音波接合部を通じて二層構造導電端子３の厚さ方向に流れる。半導体モジュールでは構造的に超音波接合部の厚さ方向が放熱経路の向きとなっている。そのため二層構造導電端子３の導電層３ａの一部を予め除去加工しても、電流集中する部分をなくす、または極力少なくすることができる。電流集中により異常発熱が生じることもなく、通電可能な電流量を維持することができる。電流の大きさによっては、二層構造導電端子の先端部の除去加工面積を小さくすることによって、通電による発熱を低減することもできる。
【００４０】
以上のように、本発明の実施の形態１にかかる半導体モジュールによれば、二層構造導電端子３は、導電層３ａの一部が予め除去加工されており、露出した緩衝材層３ｂは、他の部分より薄くなっている。このような構造の二層構造導電端子３を備えていることにより、通電可能な電流量を維持したまま、二層構造導電端子３を半導体素子１０の表面電極１に接合するために必要なエネルギーを小さくすることができる。それに加えて、接合時間を短くすることで端子曲げ部３ｒに繰返し変形が加わる時間を短くすることができるため、端子曲げ部３ｒにクラックが生じるのを防ぐことができる。
【００４１】
接合時間が短くなることで、導電端子先端部の略Ｌ字状の曲げ部（端子曲げ部３ｒ）が変形する回数が少なくなるため、導電端子の曲げ部の疲労破壊やクラックを防止することができる。さらに加圧力が小さくなることで、端子接合部の変形は小さくなり、超音波ホーンの振動によって削られる導電端子の量が少なくなり、金属屑の発生を抑制することができる。端子先端部を薄く加工しても、超音波接合部では電流は接合部を通じて導電端子の厚さ方向に流れるため、電流集中により異常発熱が生じることはない。また、二層構造導電端子の導電層の一部のみを露出させるため、通電可能な電流量を十分に維持することができる。
【００４２】
また、半導体素子の表面電極および、導電端子と同等以下の硬度を有する金属材料が表面電極と接触するため、超音波接合時に表面電極のみを一方的に塑性変形させずに接合できる。結果として、半導体表面に形成されたトランジスタや半導体素子が超音波接合時に破壊されるのを防止することができる。さらに、表面電極と二層構造導電端子との接合が良好に行われることで、十分な接合面積を得ることができる。本接合技術を適用することにより、コンパクトで高信頼性を有する半導体モジュールを得ることができる。なお、ここでは表面電極と二層構造導電端子との接合を超音波接合によって行っているが、圧接、抵抗溶接、摩擦拡散接合によっても同様の効果が得られる。
【００４３】
実施の形態２．
実施の形態２による半導体モジュールについて、図を参照して説明する。図７に、実施の形態２による二層構造導電端子の端子先端部分を示す。本実施の形態では二層構造導電端子３における導電層３ａの除去加工の深さが実施の形態１よりも浅くなっている。すなわち、導電層３ａに形成されている開口部３ｏの深さは、導電層３ａの厚さよりも小さい。ここでは開口部３ｏの底面に導電層３ａが残る程度に、導電層３ａをエッチングなどの
方法により除去加工する。二層構造導電端子３は、導電層材料と緩衝材層材料を圧接、鍛造、溶接、もしくは、ろう付けによって接合したものである。
【００４４】
図８は、半導体モジュール１００の一部を示す側断面図である。半導体素子１０の表面に形成された表面電極１に、二層構造導電端子３が超音波接合されている状態を表している。二層構造導電端子３の除去加工の際に残しておく導電層３ａの厚さは、半導体素子１０と二層構造導電端子３の間に必要な接合強度と電流量を勘案して決める。残しておく導電層３ａの厚さは、緩衝材層３ｂの厚さよりも小さい、もしくは、同等の厚みであることが好ましい。本実施の形態の二層構造導電端子３のサイズは、幅5mm、厚さ0.7mmであり、除去加工後の導電層３ａの厚さは0.1mmである。
【００４５】
図９Ａ〜図９Ｃは、本実施の形態における接合工程を示す概略図である。図９Ａは、超音波ホーン９の先端を二層構造導電端子３に当接させた状態を表わしている。まず、半導体素子１０の表面電極１に二層構造導電端子３を載置する。この時、半導体素子１０を含む半導体モジュールの全体は超音波接合装置に固定されている。超音波ホーン９は、先端が導電層３ａの底面に接触するまで、開口部３ｏを通して下降させる。
【００４６】
図９Ｂは、二層構造導電端子の超音波接合中の状態を表わしている。超音波ホーン９により、二層構造導電端子３を表面電極１に対して加圧する。更に、超音波ホーン９を矢印の方向に超音波振動させる。周波数は例えば20KHzである。これにより、表面電極１と緩
衝材層３ｂとの接触面同士が摺れて、接触面を覆っている酸化膜等の、接合を阻害する膜等が除去される。二層構造導電端子３の導電層３ａの上面には超音波ホーン９の突起部が食い込んでいる。超音波ホーン９の当接部に未除去の薄い導電層３ａがあるため、実施の形態１と比較して緩衝材層３ｂの潰れ量が大きくなる
【００４７】
図９Ｃは、超音波接合が終了した段階を表している。表面電極１と緩衝材層３ｂは、超音波振動により接触面同士が接合されている。緩衝材層３ｂは多少の変形が進んだ状態となっているが、表面電極１は変形していないため、トランジスタ１２が破壊されることはない。表面電極１と緩衝材層３ｂの間には接合面３ｊが形成されている。超音波ホーン９の当接部に未除去の薄い導電層３ａがあるため、緩衝材層３ｂは実施の形態１と比較して変形が進んだ状態となっているが、緩衝材層３ｂが導電層３ａよりも厚いため超音波接合時の応力をほとんど吸収する。結果として、表面電極１は変形せず、トランジスタ１２が破壊されることはない。
【００４８】
以上のように、本発明の実施の形態にかかる半導体モジュールによれば、二層構造導電端子３は、導電層３ａの一部が予め除去加工されており、この加工された部分の導電層３ａは、他の部分より薄くなっている。このような構造の二層構造導電端子３を備えていることにより、通電可能な電流量を維持したまま、二層構造導電端子３を半導体素子１０の表面電極１に接合するために必要なエネルギーを小さくすることができる。それに加えて、接合時間を短くすることで端子曲げ部３ｒに繰返し変形が加わる時間を短くすることができるため、端子曲げ部３ｒにクラックが生じるのを防ぐことができる。
【００４９】
実施の形態３．
実施の形態３による半導体モジュールについて、図を参照して説明する。図１０Ａと図１０Ｂに、本実施の形態による二層構造導電端子の端子先端部分を示す。本実施の形態では、二層構造導電端子３の導電層３ａは接合部３ｓの全てで除去加工が施工されている。残しておく導電層３ａの厚さが大きければ、その分、半導体素子１０と二層構造導電端子３の間に大きな電流を流すことが可能になる。しかし、硬質な導電層３ａは超音波接合時に直下の緩衝材層３ｂを押しつぶすので、本実施の形態では緩衝材層３ｂが完全に露呈している。図１０Ａに示す二層構造導電端子３は、導電層材料と緩衝材層材料を圧接するこ
とによって得られる。導電層材料の長さは、緩衝材層材料よりも短めに設定しておく。図１０Ｂに示す二層構造導電端子３は、導電層材料と緩衝材層材料を鍛造後、先端部分をエッチングすることによって得られる。
【００５０】
図１１は、半導体モジュール１００の一部を示す側断面図である。半導体素子１０の表面に形成された表面電極１に、二層構造導電端子３が超音波接合されている状態を表している。二層構造導電端子３は、導電層材料と緩衝材層材料を圧接、鍛造、溶接、もしくは、ろう付けによって接合したものである。本実施の形態の二層構造導電端子３のサイズは、幅5mm、厚さ0.7mmであり、除去加工後の緩衝材層３ｂの厚さは0.2mmである。
【００５１】
図１２Ａ〜図１２Ｃは、本実施の形態における接合工程を示す概略図である。図１２Ａは、超音波ホーン９の先端を緩衝材層３ｂが露呈した部分に当接させた状態を表している。まず、半導体素子１０の表面電極１に緩衝材層３ｂが完全に露出した二層構造導電端子３を載置する。この時、半導体素子１０を含む半導体モジュールの全体は超音波接合装置に固定されている。その後、二層構造導電端子３の緩衝材層３ｂに、超音波ホーン９を下降させる。
【００５２】
図１２Ｂは、二層構造導電端子３（および緩衝材層３ｂ）の超音波接合中の状態を表している。超音波ホーン９により、二層構造導電端子３の緩衝材層３ｂを表面電極１に対して加圧する。更に、超音波ホーン９を矢印の方向に超音波振動させる。周波数は例えば20KHzである。これにより、表面電極１と緩衝材層３ｂとの接触面同士が摺れて、接触面を
覆っている酸化膜等の、接合を阻害する膜等が除去される。超音波ホーン９の当接部に緩衝材層３ｂの潰れが生じ始めている。
【００５３】
図１２Ｃは、超音波接合が終了した段階を表している。表面電極１と緩衝材層３ｂは、超音波振動により接触面同士が接合されている。超音波ホーン９の当接部では、緩衝材層３ｂの変形が進んだ状態となっているが、緩衝材層３ｂが表面電極１よりも厚いため超音波接合時の応力をほとんど吸収する。結果として、表面電極１は変形せず、トランジスタ１２が破壊されることはない。
【００５４】
このように、本実施の形態による半導体モジュールでは、二層構造導電端子３の接合部３ｓにおいて、緩衝材層３ｂが完全に露呈していても、半導体素子１０と二層構造導電端子３の間に大電流を流すことが可能になる。
【００５５】
実施の形態４．
実施の形態４による半導体モジュールについて、図を参照して説明する。図１３Ａと図１３Ｂに、本実施の形態による二層構造導電端子の端子先端部分を示す。二層構造導電端子３は、導電層材料と緩衝材層材料を圧接または鍛造によって接合したものである。開口部３ｏは、導電層材料と緩衝材層材料を接合する前に、導電層３ａにエッチングなどにより形成しておく。緩衝材層３ｂは、開口部３ｏから盛り上がっていて、開口部３ｏを一部或いは全部を埋めている。
【００５６】
図１３Ａと図１３Ｂに示す二層構造導電端子３は、導電層材料と緩衝材層材料を圧接することによって得られる。導電層３ａには、圧接する前に、先端部分をエッチングすることにより、開口部３ｏを形成しておく。本実施の形態による二層構造導電端子によれば、超音波ホーン９は、開口部３ｏから盛り上がっている緩衝材層３ｂに接触する。本実施の形態による接合工程は、図１２Ａ〜図１２Ｃと同様に進行する。二層構造導電端子３は、厚さがほぼ均一であるため、半導体素子１０と二層構造導電端子３の間に大きな電流を流すことが可能になる。
【００５７】
実施の形態５．
実施の形態５による半導体モジュールについて、図を参照して説明する。図１４に、本実施の形態による二層構造導電端子の端子先端部分を示す。導電層３ａと緩衝材層３ｂは溶接、もしくは、ろう付けによって重ね接合されている。本実施の形態による二層構造導電端子３は、二層構造を有するが重ね構造導電端子とも呼ぶべきもので、この重ね構造導電端子によれば、接合部３ｓは緩衝材層材料で構成されている。除去加工を施さなくても、接合部３ｓに緩衝材層３ｂが露呈している。
【００５８】
図１４に示す二層構造導電端子３は、導電層材料と緩衝材層材料をはんだ付けにより重ね接合することによって得られる。本実施の形態による二層構造導電端子によれば、超音波ホーン９は、緩衝材層３ｂに接触する。本実施の形態による接合工程は、図１２Ａ〜図１２Ｃと同様に進行する。二層構造導電端子３は、厚さがほぼ均一であるため、半導体素子１０と二層構造導電端子３の間に大きな電流を流すことが可能になる。
【００５９】
なお、本発明は、その発明の範囲内において、実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。
【符号の説明】
【００６０】
１  表面電極、２  ボンディングワイヤ、３  二層構造導電端子、３ａ  導電層、３ｂ  緩衝材層、３ｏ  開口部、３ｊ  接合面、３ｒ  端子曲げ部、３ｓ  接合部、４  導電端子、５  絶縁基板、５ａ  導電パターン、５ｂ  導電パターン、５ｃ  絶縁基材、６  放熱部材、７  はんだ、９  超音波ホーン、１０  半導体素子、１０ａ  電力用トランジスタ、１０ｂ  電力用ダイオード、１０ｋ  亀裂、１２  トランジスタ、２０  ケース、２１  封止樹脂部材、１００  半導体モジュール
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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