(57)【要約】【課題】製造効率の低下を抑制しながら、蒸着のパターニング精度を向上できる蒸着マスクの製造方法を提供する。【解決手段】本発明による蒸着マスクの製造方法においては、まず、金属基材２１を第１面２１ａ側からエッチングし、第１面２１ａ側に、貫通孔２５を画成する第１凹部３０が形成される。続いて、金属基材２１を第２面２１ｂ側からエッチングし、第２面２１ｂ側に、第１凹部３０に連通して貫通孔２５を画成する第２凹部３５が形成される。その後、第２凹部３５の壁面３６に、めっき層４５が形成される。めっき層４５は、金属基材２１の第１面２１ａに沿った方向における貫通孔２５の断面積を最小にする部分を画成する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の貫通孔を有し、前記貫通孔を介して基板に蒸着材料を蒸着するために使用される蒸着マスクの製造方法において、
第１面と、前記第１面とは反対側に設けられるとともに蒸着時には前記基板側に配置される第２面と、を有する金属基材を準備する工程と、
前記金属基材を前記第１面側からエッチングする工程であって、当該第１面側に、前記貫通孔を画成する第１凹部を形成する工程と、
前記金属基材を前記第２面側からエッチングする工程であって、当該第２面側に、前記第１凹部に連通して前記貫通孔を画成する第２凹部を形成する工程と、
前記第２凹部の壁面に、めっき層を形成する工程と、を備え、
前記めっき層は、前記金属基材の前記第１面に沿った方向における前記貫通孔の断面積を最小にする部分を画成することを特徴とする蒸着マスクの製造方法。
【請求項２】
前記金属基材を前記第１面側からエッチングする工程の後、前記金属基材を前記第２面側からエッチングする工程の前に、前記第１凹部の壁面を、樹脂材料により形成された樹脂膜で覆う工程を更に備えたことを特徴とする請求項１に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項３】
前記めっき層を形成する工程の後、前記樹脂膜が除去されることを特徴とする請求項２に記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項４】
前記金属基材の前記第２面に、前記第２凹部を形成するための第２レジスト層開口部を有する第２レジスト層を設ける工程を更に備え、
前記めっき層は、前記第２レジスト層の第２レジスト層開口部を介して形成されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項５】
前記めっき層は、電解ニッケルめっきまたは電解金めっきにより形成されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の蒸着マスクの製造方法。
【請求項６】
複数の貫通孔を有し、前記貫通孔を介して基板に蒸着材料を蒸着するために使用される蒸着マスクにおいて、
第１面と、前記第１面とは反対側に設けられるとともに蒸着時には前記基板側に配置される第２面と、を有する金属基材と、
めっき層と、を備え、
前記金属基材は、前記第１面側に設けられた、前記貫通孔を画成する第１凹部と、前記第２面側に設けられた、前記第１凹部に連通して前記貫通孔を画成する第２凹部と、を有し、
前記めっき層は、前記第２凹部の壁面に設けられ、
前記めっき層は、前記金属基材の前記第１面に沿った方向における前記貫通孔の断面積が最小にする部分を画成していることを特徴とする蒸着マスク。
【請求項７】
前記第１凹部の壁面は、露出されていることを特徴とする請求項６に記載の蒸着マスク。
【請求項８】
前記めっき層は、電解ニッケルめっきまたは電解金めっきにより形成されていることを特徴とする請求項６または７に記載の蒸着マスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、所望のパターンに設けられた複数の貫通孔を介して基板に蒸着材料を蒸着するために使用される蒸着マスクの製造方法に係り、とりわけ、製造効率の低下を抑制しながら蒸着のパターニング精度を向上できる蒸着マスクの製造方法に関する。また、本発明は、所望のパターンに設けられた複数の貫通孔を介して基板に蒸着材料を蒸着するために使用される蒸着マスクに係り、とりわけ、製造効率の低下を抑制しながら蒸着のパターニング精度を向上できる蒸着マスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、所望のパターンで配列された貫通孔を含む蒸着用のマスクを用い、所望のパターンで薄膜を形成する方法が知られている。そして、昨今においては、例えば有機ＥＬ表示装置の製造時において有機材料を基板上に蒸着する場合等、極めて高価な材料を成膜する際に蒸着が用いられることがある。なお、蒸着用のマスクは、一般的に、フォトリソグラフィー技術を用いたエッチングによって金属板に貫通孔を形成することにより、製造され得る（例えば、特許文献１）。
【０００３】
蒸着用のマスクを用いて蒸着材料を基板に成膜する場合、蒸着材料は、貫通孔の形状に沿って基板上に蒸着され、基板上に画素が形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−３９３１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、近年、有機ＥＬ表示装置の解像度を向上させるために、基板上の画素をより一層高精細にする要求が高まっている。このような要求に応じるためには、蒸着用のマスクの貫通孔を微細化することが求められる。
【０００６】
しかしながら、金属板で形成される蒸着用のマスクの貫通孔をエッチングによって微細に形成することが困難になっている。
【０００７】
すなわち、フォトリソグラフィー技術を用いたエッチングにおいては、図１６に示すように、金属板１のうちのレジスト膜で覆われていない領域から浸食が開始される。その後、浸食は、金属板１の厚さ方向のみに進むのではなく、金属板１の板面に沿った方向にも進む。したがって、エッチングによって先細りした２つの凹部２ａ、２ｂを含む貫通孔２が形成されていく。このため、金属板１の両方の側の面からエッチングを行った場合、金属板１の厚さ方向の端部以外において貫通孔２内に張り出し部３が形成される。張り出し部３は、貫通孔２の壁面のうち、金属板１の板面に沿って最も貫通孔２の内側に入り込んだ部分を形成する。したがって、金属板１を厚さ方向から観察した場合には、この張り出し部３が貫通孔２の開孔領域を画成するようになる。
【０００８】
この貫通孔２の開口領域を画成する張り出し部３の平面形状を制御することが困難になっている。すなわち、金属板１の一方の側から形成される凹部２ａが他方の側から形成されている凹部２ｂに到達する際に、エッチング液が貫通孔２内に勢いよく流れ込み始める。このため、凹部２ａが凹部２ｂに到達した直後ではエッチング液による浸食が不安定になり、貫通孔２の張り出し部３を所望の微細な形状とすることが困難になっている。また、このように浸食が不安定になることにより、多数の貫通孔２の各々の張り出し部３を均一に形成することも困難になっている。
【０００９】
以上のことから、金属板をエッチングして貫通孔を形成する場合、多数の貫通孔を微細化するとともにこれらの形状を均一化させることが困難になっている。
【００１０】
そこで、貫通孔の形状精度を高めるために、エッチングにより形成された貫通孔をレーザ加工して、貫通孔の形状を修正し、貫通孔の形状精度を向上させるという取り組みが行われている。
【００１１】
しかしながら、レーザ加工により貫通孔を形成する場合、レーザ光が入射される側とは反対側の面（出射側の面）における貫通孔の縁にバリが形成される。このバリは金属板の外側に突出する。このため、蒸着時に蒸着用のマスクと基板とを密着させることが困難になり、蒸着のパターニング精度が低下するおそれがある。
【００１２】
また、微細な貫通孔に対して、レーザ光の照射位置を位置合わせすることは困難である。このため、レーザ光の照射位置がずれて、貫通孔の形状精度が低下するおそれもある。さらに、レーザ加工すべき貫通孔が多数存在するため、レーザ光の照射位置の位置合わせやレーザ加工に多くの時間が費やされ、製造効率を低下させるという問題もある。
【００１３】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、製造効率の低下を抑制しながら、蒸着のパターニング精度を向上できる蒸着マスクの製造方法および蒸着マスクを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、
複数の貫通孔を有し、前記貫通孔を介して基板に蒸着材料を蒸着するために使用される蒸着マスクの製造方法において、
第１面と、前記第１面とは反対側に設けられるとともに蒸着時には前記基板側に配置される第２面と、を有する金属基材を準備する工程と、
前記金属基材を前記第１面側からエッチングする工程であって、当該第１面側に、前記貫通孔を画成する第１凹部を形成する工程と、
前記金属基材を前記第２面側からエッチングする工程であって、当該第２面側に、前記第１凹部に連通して前記貫通孔を画成する第２凹部を形成する工程と、
前記第２凹部の壁面に、めっき層を形成する工程と、を備え、
前記めっき層は、前記金属基材の前記第１面に沿った方向における前記貫通孔の断面積を最小にする部分を画成することを特徴とする蒸着マスクの製造方法、
を提供する。
【００１５】
本発明による蒸着マスクの製造方法において、前記金属基材を前記第１面側からエッチングする工程の後、前記金属基材を前記第２面側からエッチングする工程の前に、前記第１凹部の壁面を、樹脂材料により形成された樹脂膜で覆う工程を更に備える、ようにしてもよい。
【００１６】
本発明による蒸着マスクの製造方法において、前記めっき層を形成する工程の後、前記樹脂膜が除去される、ようにしてもよい。
【００１７】
本発明による蒸着マスクの製造方法において、前記金属基材の前記第２面に、前記第２凹部を形成するための第２レジスト層開口部を有する第２レジスト層を設ける工程を更に備え、前記めっき層は、前記第２レジスト層の第２レジスト層開口部を介して形成される、ようにしてもよい。
【００１８】
本発明による蒸着マスクの製造方法において、前記めっき層は、電解ニッケルめっきまたは電解金めっきにより形成される、ようにしてもよい。
【００１９】
本発明は、
複数の貫通孔を有し、前記貫通孔を介して基板に蒸着材料を蒸着するために使用される蒸着マスクにおいて、
第１面と、前記第１面とは反対側に設けられるとともに蒸着時には前記基板側に配置される第２面と、を有する金属基材と、
めっき層と、を備え、
前記金属基材は、前記第１面側に設けられた、前記貫通孔を画成する第１凹部と、前記第２面側に設けられた、前記第１凹部に連通して前記貫通孔を画成する第２凹部と、を有し、
前記めっき層は、前記第２凹部の壁面に設けられ、
前記めっき層は、前記金属基材の前記第１面に沿った方向における前記貫通孔の断面積が最小にする部分を画成していることを特徴とする蒸着マスク、
を提供する。
【００２０】
本発明による蒸着マスクにおいて、前記第１凹部の壁面は、露出されている、ようにしてもよい。
【００２１】
本発明による蒸着マスクにおいて、前記めっき層は、電解ニッケルめっきまたは電解金めっきにより形成されている、ようにしてもよい。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、製造効率の低下を抑制しながら、蒸着のパターニング精度を向上できる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】図１は、本発明の一実施の形態を説明するための図であって、蒸着マスクを含む蒸着マスク装置の一例を示す概略平面図である。
【図２】図２は、図１に示す蒸着マスク装置を用いて蒸着する方法を説明するための図である。
【図３】図３は、図１に示す蒸着マスクを示す平面図である。
【図４】図４は、図３に示す蒸着マスクの部分拡大平面図である。
【図５】図５は、図４のＩ−Ｉ線に沿った断面に相当する断面図である。
【図６】図６は、図５のII部拡大図である。
【図７】図７は、図３に示す蒸着マスクの製造方法の一例を全体的に説明するための模式図である。
【図８】図８は、蒸着マスクの製造方法の一例を説明するための図であって、金属板を示す図である。
【図９】図９は、蒸着マスクの製造方法の一例を説明するための図であって、金属板に第１レジスト層および第２レジスト層が形成される工程を説明するための図である。
【図１０】図１０は、蒸着マスクの製造方法の一例を説明するための図であって、金属板が第１面側からエッチングされる工程を説明するための図である。
【図１１】図１１は、蒸着マスクの製造方法の一例を説明するための図であって、第１凹部の壁面が樹脂膜により覆われる工程を説明するための図である。
【図１２】図１２は、蒸着マスクの製造方法の一例を説明するための図であって、金属板が第２面側からエッチングされる工程を説明するための図である。
【図１３】図１３は、蒸着マスクの製造方法の一例を説明するための図であって、めっき層が形成される工程を説明するための図である。
【図１４】図１４は、蒸着マスク装置の製造方法の一例を説明するための図であって、レジスト層および樹脂膜が除去される工程を説明するための図である。
【図１５】図１５は、図５に示す蒸着マスクの変形例を示す断面図である。
【図１６】図１６は、金属板のエッチングを行って形成された貫通孔を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
【００２５】
図１〜図１４は本発明による一実施の形態を説明するための図である。以下の実施の形態およびその変形例では、有機ＥＬディスプレイ装置を製造する際に有機発光材料などの蒸着材料を、後述する複数の貫通孔を介して所望のパターンでガラス基板上に蒸着するために使用される蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法を例にあげて説明する。ただし、このような適用に限定されることなく、種々の用途に用いられる蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法に対し、本発明を適用することができる。
【００２６】
なお、本明細書において、「板」、「シート」、「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「板」はシートやフィルムと呼ばれ得るような部材も含む概念であり、したがって、例えば「金属板」は、「金属シート」や「金属フィルム」と呼ばれる部材と呼称の違いのみにおいて区別され得ない。
【００２７】
また、「板面（シート面、フィルム面）」とは、対象となる板状（シート状、フィルム状）の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となる板状部材（シート状部材、フィルム状部材）の平面方向と一致する面のことを指す。また、板状（シート状、フィルム状）の部材に対して用いる法線方向とは、当該部材の板面（シート面、フィルム面）に対する法線方向のことを指す。
【００２８】
さらに、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」、「同時」、「同心」、「面一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。
【００２９】
まず、製造方法対象となる蒸着マスクを含む蒸着マスク装置の一例について、主に図１〜図６を参照して説明する。ここで、図１は、蒸着マスクを含む蒸着マスク装置の一例を示す概略平面図であり、図２は、図１に示す蒸着マスク装置の使用方法を説明するための図であり、図３は、図１に示す蒸着マスクを示す平面図である。図４は、蒸着マスクの部分拡大平面図であり、図５は、図４のＩ−Ｉ線に沿った断面に相当する図であり、図６は、図５のII部断面図である。
【００３０】
図１および図２に示された蒸着マスク装置１０は、開口部１５ａを有し、枠状に形成された金属製のフレーム１５（金属枠体）と、フレーム１５の開口部１５ａ上に蒸着マスク２０の幅方向（長手方向に直交する方向、横方向）に並列配置された帯状の複数の蒸着マスク２０と、を備えている。このうち蒸着マスク２０は、概略的にはシート状に形成された金属板２１と、後述するめっき層４５と、を有している（図５参照）。このような蒸着マスク２０には、多数の貫通孔２５が設けられている。この蒸着マスク装置１０は、図２に示すように、蒸着マスク２０の第２面２０ｂが蒸着対象物である基板、例えばガラス基板９２に対面するようにして蒸着装置９０内に支持され、ガラス基板９２への蒸着材料の蒸着に使用される。
【００３１】
蒸着装置９０内では、フレーム１５の開口部１５ａ内にガラス基板９２が配置され、不図示の磁石からの磁力によって、蒸着マスク２０と、ガラス基板９２とが密着するようになる。蒸着装置９０内には、この蒸着マスク装置１０を挟んだガラス基板９２の下方に、蒸着材料（一例として、有機発光材料）９８を収容するるつぼ９４と、るつぼ９４を加熱するヒータ９６とが配置されている。るつぼ９４内の蒸着材料９８は、ヒータ９６からの加熱により、気化または昇華してガラス基板９２の表面に付着するようになる。上述したように、蒸着マスク２０には多数の貫通孔２５が形成されており、蒸着材料９８はこの貫通孔２５を介してガラス基板９２に付着する。この結果、蒸着マスク２０の貫通孔２５の位置に対応した所望のパターンで、蒸着材料９８がガラス基板９２の表面に成膜される。
【００３２】
図１および図３に示すように、本実施の形態において、蒸着マスク２０は、平面視において帯状の略四角形形状、さらに正確には平面視において帯状の略矩形状の輪郭を有している。蒸着マスク２０は、蒸着マスク２０の長手方向に配列され、規則的な配列で複数の貫通孔２５が形成された複数の有効領域２２と、各有効領域２２を取り囲む周囲領域２３と、を含んでいる。このうち周囲領域２３は、基板へ蒸着されることを意図された蒸着材料が通過する領域ではない。例えば、有機ＥＬディスプレイ装置用の有機発光材料の蒸着に用いられる蒸着マスク２０においては、有効領域２２は、有機発光材料が蒸着して画素を形成するようになる基板（ガラス基板９２）上の区域、すなわち、作製された有機ＥＬディスプレイ装置用基板の表示面をなすようになる基板上の区域に対面する、蒸着マスク２０内の領域のことである。ただし、種々の目的から、周囲領域２３に貫通孔や凹部が形成されていてもよい。図１に示された例において、各有効領域２２は、平面視において略四角形形状、さらに正確には平面視において略矩形状の輪郭を有している。
【００３３】
図示された例において、複数の有効領域２２は、蒸着マスク２０の長手方向に沿って所定の間隔を空けて配置されている。このような複数の有効領域２２を含む蒸着マスク２０が、その幅方向に配列されて、図１に示す蒸着マスク装置１０が構成されている。一つの有効領域２２が一つの有機ＥＬディスプレイ装置に対応するようになっており、図１に示す蒸着マスク装置１０においては、多面付蒸着が可能となっている。
【００３４】
図４に示すように、図示された例において、各有効領域２２に形成された複数の貫通孔２５は、当該有効領域２２において、互いに直交する二方向に沿ってそれぞれ所定のピッチで配列されている。図４には、各貫通孔２５が、平面視で、略四角形形状、さらに正確には平面視において略矩形状の輪郭を有している例を示している。より具体的には、後述する第１凹部３０および第２凹部３５が、それぞれ、平面視で、略四角形形状あるいは略矩形形状の輪郭を有し、各貫通孔２５に、互いに連通した第１凹部３０および第２凹部３５が一つずつ形成されている。
【００３５】
蒸着マスク２０に形成された貫通孔２５の一例について、図４乃至図６を主に参照して更に詳述する。
【００３６】
図４は、蒸着マスク２０を第１面２０ａ側から示す部分平面図である。また、図５は、図４のＩ−Ｉ線に沿った断面に相当する図であり、図６は、図５のII部断面図である。
【００３７】
図４および図５に示すように、蒸着マスク２０は、第１面２１ａと、第１面２１ａとは反対側に設けられた第２面２１ｂと、を有する金属板（金属基材）２１と、めっき層４５と、を有している。このうち金属板２１の第２面２１ｂは、蒸着時（すなわち、蒸着装置９０内に取り付けられた際）には、ガラス基板９２の側に配置される。めっき層４５は、後述する金属板２１の第２凹部３５の壁面３６に形成されており、第１凹部３０の壁面３１には、めっき層４５が形成されることなく、壁面３１は露出されている。
【００３８】
金属板２１は、３６％Ｎｉインバー材により形成することができ、金属板２１の厚さは、例えば、１０μｍ〜１００μｍとすることが好適である。
【００３９】
複数の貫通孔２５は、蒸着マスク２０の法線方向に沿った一方の側となる第１面２０ａと、蒸着マスク２０の法線方向に沿った他方の側となる第２面２０ｂと、の間を延びている。すなわち、貫通孔２５は蒸着マスク２０を貫通している。
【００４０】
図示された例では、後に詳述するように、金属板２１の第１面２１ａの側に第１凹部３０が設けられ、金属板２１の第２面２１ｂの側に第２凹部３５が設けられている。すなわち、蒸着マスク２０の法線方向における一方の側となる金属板２１の第１面２１ａの側から金属板２１にエッチングによって第１凹部３０が形成され、金属板２１の法線方向における他方の側となる第２面２１ｂの側から金属板２１にエッチングによって第２凹部３５が形成されている。これらの第１凹部３０および第２凹部３５は、略同心状に互いに接続されている。この第１凹部３０および第２凹部３５は貫通孔２５を形成している。
【００４１】
このように、金属板２１の第１面２１ａの側に形成された第１凹部３０と、金属板２１の第２面２１ｂの側に形成された第２凹部３５とを接続して、貫通孔２５を画成することにより、金属板２１の強度を確保することができる。すなわち、第２凹部３５を形成することなく第１凹部３０によって貫通孔２５を画成する場合には、第１凹部３０をエッチングによって深く形成することにより、金属板２１の浸食量が多くなり、金属板２１の強度が低下し得る。しかしながら、上述したように、第１凹部３０と第２凹部３５とによって貫通孔２５を画成することにより、第１凹部３０および第２凹部３５を形成するためのエッチングによる金属板２１の浸食量を抑制することができ、金属板２１の強度を確保することができる。
【００４２】
図５に示すように、蒸着マスク２０の法線方向における一方の側から他方の側へ向けて、すなわち、蒸着マスク２０の第１面２０ａの側から第２面２０ｂの側へ向けて、蒸着マスク２０の法線方向に沿った各位置における蒸着マスク２０の板面に沿った断面での各第１凹部３０の断面積は、しだいに小さくなっていく。言い換えると、蒸着マスク２０の法線方向に沿った断面において、蒸着マスク２０の法線方向に沿った各位置における蒸着マスク２０の板面に沿った各第１凹部３０の幅は、蒸着マスク２０の第１面２０ａの側から第２面２０ｂの側に向けて、しだいに小さくなっていく。とりわけ図示された例では、蒸着マスク２０の第１面２０ａの側から第２面２０ｂの側に向け、各第１凹部３０の断面積は、小さくなるように変化し続けている。
【００４３】
同様に、蒸着マスク２０の法線方向に沿った各位置における蒸着マスク２０の板面に沿った断面での各第２凹部３５の断面積は、蒸着マスク２０の法線方向における他方の側から一方の側へ向けて、すなわち、蒸着マスク２０の第２面２０ｂの側から第１面２０ａの側へ向けて、しだいに小さくなっていく。言い換えると、蒸着マスク２０の法線方向に沿った断面において、蒸着マスク２０の法線方向に沿った各位置における蒸着マスク２０の板面に沿った各第２凹部３５の幅は、蒸着マスク２０の第２面２０ｂの側から第１面２０ａの側に向けて、しだいに小さくなっていく。とりわけ図示された例では、蒸着マスク２０の第２面２０ｂの側から第１面２０ａの側に向け、各第２凹部３５の断面積は、小さくなるように変化し続けている。
【００４４】
図５に示すように、貫通孔２５は、蒸着マスク２０の第１面２０ａの側から形成された先細りする第１凹部３０と、蒸着マスク２０の第２面２０ｂの側から形成された先細りする第２凹部３５とが接続することによって、画成されている。図４および図５に示すように、図示された例では、一つの貫通孔２５に対して、第１凹部３０および第２凹部３５がそれぞれ一つずつ形成されている。したがって、一つの第１凹部３０と、当該第１凹部３０に対応して設けられた第２凹部３５とが接続することにより、各貫通孔２５が形成されている。
【００４５】
なお、図５に示すように、第１凹部３０の壁面３１と、第２凹部３５の壁面３６とは、周状の金属接続部４１を介して接続されている。金属接続部４１は、蒸着マスクの法線方向に対して傾斜した第１凹部３０の壁面３１と、蒸着マスクの法線方向に対して傾斜した第２凹部３５の壁面３６とが合流する張り出し部の稜線によって、画成されている。
【００４６】
図５に示すように、蒸着マスク２０の第１面２０ａ上において、隣り合う二つの貫通孔２５は、蒸着マスク２０の板面に沿って互いから離間している。すなわち、後述する製造方法のように、蒸着マスク２０の第１面２０ａに対応するようになる金属板２１の第１面２１ａ側から当該金属板２１をエッチングして第１凹部３０を形成する場合、隣り合う二つの第１凹部３０の間に金属板２１の第１面２１ａが残存するようになる。
【００４７】
図５に示すように、蒸着マスク２０の第２面２０ｂ上において、隣り合う二つの貫通孔２５は、蒸着マスクの板面に沿って互いから離間している。すなわち、後述する製造方法のように、蒸着マスク２０の第２面２０ｂに対応するようになる金属板２１の第２面２１ｂ側から当該金属板２１をエッチングして第２凹部３５を形成する場合、隣り合う二つの第２凹部３５の間に金属板２１の第２面２１ｂが残存するようになる。
【００４８】
隣り合う二つの貫通孔２５が蒸着マスク２０の板面に沿って互いから離間しているため、蒸着マスクの強度を向上させることができる。このことにより、蒸着マスク２０をフレーム１５に張設した場合における蒸着マスク２０の有効領域２２内での変形を効果的に抑制することができ、これにより、所望のパターンでの蒸着を効果的に実施することができる。また、この場合、後述する長尺金属板７１の搬送や切断、フレーム１５への取付といった取り扱い処理中に、多数の貫通孔２５が形成された有効領域２２の変形を効果的に抑制することができる。
【００４９】
図２に示すようにして蒸着マスク装置１０が蒸着装置９０に収容された場合、図５に二点鎖線で示すように、蒸着マスク２０の第１面２０ａが蒸着材料９８を保持したるつぼ９４側に位置し、蒸着マスク２０の第２面２０ｂがガラス基板９２に対面する。したがって、蒸着材料９８は、まず、次第に断面積が小さくなっていく第１凹部３０を通過し、その後、第２凹部３５を通過してガラス基板９２に付着する。
【００５０】
第１凹部３０は、後に詳述するように、金属板２１の第１面２１ａをエッチングすることにより形成される。エッチングによって形成される凹部の壁面は、一般的に、浸食方向に向けて凸となる曲面状となる。したがって、エッチングによって形成された凹部の壁面は、エッチングの開始側となる領域において切り立ち、エッチングの開始側とは反対側となる領域、すなわち凹部の最も深い側においては、金属板２１の法線方向に対して比較的に大きく傾斜するようになる。
【００５１】
図５および図６に示すように、第２凹部３５の壁面３６には、めっき層４５が設けられている。めっき層４５は、第２凹部３５の壁面３６に対して層状に、所定の厚さを有するように形成されている。また、めっき層４５は、図６に示すように、金属板２１の第１面２１ａの側を向く第１めっき面４５ａと、貫通孔２５の内側を向く第２めっき面４５ｂと、金属板２の第２面２１ｂと略面一な第３めっき面４５ｃと、を有している。このうち第１めっき面４５ａと第２めっき面４５ｂとは、蒸着マスクの法線方向に対して傾斜している。これら第１めっき面４５ａと第２めっき面４５ｂとが、周状のめっき接続部４６を介して接続されている。めっき接続部４６は、第１めっき面４５ａと第２めっき面４５ｂとが合流するは張り出し部の稜線によって画成されている。そして、めっき接続部４６は、蒸着マスク２０の板面に沿った方向における貫通孔２５の断面積が最も小さくなる部分を画成している。すなわち、めっき層４５は、蒸着マスク２０の板面（金属板２１の第１面２１ａまたは第２面２１ｂ）に沿った方向における貫通孔２５の断面積が最も小さくなる部分を画成している。
【００５２】
めっき接続部４６は、第１凹部３０の壁面３１と第２凹部３５の壁面３６とが合流する金属接続部４１よりも、貫通孔２５の内側に配置されている。すなわち、めっき接続部４６により画成される領域の幅（あるいは面積）は、金属接続部４１により画成される領域の幅（あるいは面積）よりも小さくなっている。このことにより、貫通孔２５の最も狭小な部分の断面積をより一層小さくすることができ、貫通孔２５を微細化させることができる。
【００５３】
第１めっき面４５ａは、第１凹部３０の壁面３１に沿うように当該壁面３１の延長上に形成されている。しかも、第１めっき面４５ａは、第１凹部３０の壁面３１のうち金属板２１の法線方向に対して比較的大きく傾斜している部分の延長上に形成されている。このことにより、金属板２１の第２面２１ｂからめっき接続部４６までの高さが、第２面２１ｂから金属接続部４１までの高さより大きく低減することを抑制できる。このため、第２面２１ｂからめっき接続部４６までの高さを、第２面２１ｂから金属接続部４１までの高さと略等しくすることができる。
【００５４】
このようなめっき層４５は、電解ニッケルめっきにより形成されることが好適であるが、これに限られることはなく、電解金めっきや、金属板２１と同じ３６％Ｎｉインバー材を用いた電解めっきにより形成されていてもよい。
【００５５】
上述したように、本実施の形態では、貫通孔２５が各有効領域２２において所定のパターンで配置されている。一例として、蒸着マスク２０（蒸着マスク装置１０）が携帯電話やデジタルカメラ等のディスプレイ（２〜５インチ程度）を作製するために用いられる場合、貫通孔２５の配列ピッチＰは、５８μｍ（４４０ｐｐｉ）以上２５４μｍ（１００ｐｐｉ）以下程度とすることができる。なお、カラー表示を行いたい場合には、貫通孔２５が配列されている方向に沿って蒸着マスク２０（蒸着マスク装置１０）とガラス基板９２とを少しずつ相対移動させ、赤色用の有機発光材料、緑色用の有機発光材料および青色用の有機発光材料を順に蒸着させていってもよい。また、蒸着マスク２０（蒸着マスク装置１０）が携帯電話のディスプレイを作製するために用いられる場合、各貫通孔２５が配列されている方向に沿った幅（スリット幅）Ｗは、２８μｍ以上８４μｍ以下程度とすることができる。
【００５６】
なお、蒸着マスク装置１０は、高温雰囲気となる蒸着装置９０の内部に保持される。したがって、蒸着マスク２０およびフレーム１５は、蒸着マスク２０やフレーム１５に撓みや熱応力が発生することを防止するため、熱膨張率が低い同一の材料によって形成されていることが好ましい。このような材料として、例えば、３６％Ｎｉインバー材を用いることができる。
【００５７】
以上のような蒸着マスク２０によれば、貫通孔２５の一部を画成する第２凹部３５の壁面３６にめっき層４５が形成され、めっき層４５が、金属板２１の第１面２１ａに沿った方向における貫通孔２５の断面積を最小にする部分を画成している。このことにより、貫通孔２５の最も狭小な部分の断面積を小さくして、貫通孔２５を微細化することができる。すなわち、めっき層４５の第１めっき面４５ａと第２めっき面４５ｂとが合流するめっき接続部４６によって画成される領域の面積を、第１凹部３０の壁面３１と第２凹部３５の壁面３６とが合流する金属接続部４１によって画成される領域の面積よりも小さくすることができる。このことにより、貫通孔２５を微細化することができる。
【００５８】
この場合、金属接続部４１によって画成される領域の面積が、めっき接続部４６によって画成される領域の面積より大きい。ここで、第２凹部３５が第１凹部３１に到達した直後では、エッチング液が貫通孔２５内に勢いよく流れ込むことによりエッチング液による浸食が不安定になり得るが、金属接続部４１によって画成される領域の面積を大きくすることにより、浸食が進んで金属接続部４１が所望の形状をなすようになる際には、エッチング液による浸食が安定化する。このため、エッチングによって形成される金属接続部４１の形状精度が損なわれることを防止できる。そして、この金属接続部４１に合流する第２凹部３５の壁面３６にめっき層４５が形成されて、これにより、小さな面積を有する領域を画成するめっき接続部４６を形成することができる。めっき層は、めっき条件やめっき時間を管理することにより、所定の厚さで精度良く形成することができる。このため、貫通孔２５の最も狭小な部分、すなわち金属板２１の第１面２１ａに沿った方向における貫通孔２５の断面積が最も小さくなる部分を、精度良く形成することができる。
【００５９】
この結果、貫通孔２５を精度良く微細化し、蒸着のパターニング精度を向上させることができる。とりわけ、有機ＥＬディスプレイ装置では、高価な蒸着材料９８を高精細なパターンで基板９２上にパターニングすることが所望されている。このため、本実施の形態の蒸着マスク２０は、有機ＥＬディスプレイ装置を製造するために用いられる蒸着マスクに特に適している。
【００６０】
次に、このような蒸着マスク２０の製造方法について、主に図７〜図１４を用いて説明する。
【００６１】
図７には、蒸着マスク２０を作製するための製造装置６０が示されている。図７に示すように、まず、長尺金属板７１を供給コア６１に巻き取った巻き体６２が準備される。そして、この供給コア６１が回転して巻き体６２が巻き戻されることにより、図７に示すように帯状に延びる長尺金属板７１が供給される。長尺金属板７１に貫通孔２５が形成されて、その後切断されることにより枚葉状の蒸着マスク２０が得られる。したがって、上述したように、長尺金属板７１は、例えば３６％Ｎｉインバー材からなる。ただし、これに限られず、ステンレス、銅、鉄、アルミニウムからなるシートを長尺金属板７１として用いることも可能である。
【００６２】
供給された長尺金属板７１は、搬送ローラ６５によって、巻き体６２から巻き戻されて（図８参照）、エッチング装置（エッチング手段）６４に搬送される。エッチング手段６４によって、図９〜図１４に示された各処理が施される。
【００６３】
エッチング手段６４においては、まず、巻き戻された長尺金属板７１が表面処理されて、当該長尺金属板７１の第１面７１ａおよび第２面７１ｂが脱脂される。
【００６４】
続いて、図９に示すように、長尺金属板７１の第１面７１ａ上に第１レジスト層８１が形成されるとともに、長尺金属板７１の第２面７１ｂ上に第２レジスト層８２が形成される。具体的には、長尺金属板７１の第１面７１ａ上および長尺金属板７１の第２面７１ｂ上に、感光性レジスト材料としてドライフィルムレジスト（例えば、旭化成製のＡＱ−１８５）がラミネートされる。このようにして、長尺金属板７１上に第１レジスト層８１および第２レジスト層８２が形成される。なお、これらのレジスト層８１、８２は、液状の感光性レジストを塗布して硬化させることにより形成することもできる。
【００６５】
次に、第１レジスト層８１および第２レジスト層８２が露光されて現像される。この場合、まず、レジスト層８１、８２のうちの除去したい領域に光を透過させないようにした第１ガラス乾板（第１露光マスク、図示せず）および第２ガラス乾板（第２露光マスク、図示せず）を準備する。続いて、第１ガラス乾板が第１レジスト層８１の上方に配置され、第２ガラス乾板が第２レジスト層８２の下方に配置される。この際、第１ガラス乾板および第２ガラス乾板は、互いに位置合わせされる。次に、露光光を照射して、第１レジスト層８１を第１ガラス乾板を介して露光し、第２レジスト層８２を、第２ガラス乾板を介して露光する。この際、第１レジスト層８１と第２レジスト層８２とは、同時に露光することが好適である。その後、第１レジスト層８１および第２レジスト層８２を炭酸ナトリウム溶液を用いて現像する。このことにより、レジスト層８１、８２のうち露光されていない領域が除去されて、第１レジスト層８１に所望のパターンで第１レジスト層開口部８１ａが形成されるとともに、第２レジスト層８２に所望のパターンで第２レジスト層開口部８２ａが形成される。この際、第１レジスト層開口部８１ａは、第１凹部３０の平面形状に対応する平面形状を有し、第２レジスト層開口部８２ａは、第２凹部３５の平面形状に対応する平面形状を有する。
【００６６】
次に、図１０に示すように、長尺金属板７１が第１面７１ａの側からエッチングされる。この場合、長尺金属板７１は、第１レジスト層８１をマスクとして、噴射されるエッチング液（例えば塩化第二鉄溶液）によって長尺金属板７１の第１面７１ａ側からエッチングされる。この結果、図１０に示すように、第１レジスト層開口部８１ａを介して長尺金属板７１がエッチングされ、長尺金属板７１の第１面７１ａ側に第１凹部３０が形成される。すなわち、長尺金属板７１のうち第１レジスト層開口部８１ａの領域で、エッチング液による浸食が進む。以上のようにして、第１面７１ａの側から長尺金属板７１に多数の第１凹部３０が形成される。エッチング液による浸食は、長尺金属板７１の法線方向（厚み方向）のみに進むのではなく、第１レジスト層開口部８１ａから長尺金属板７１の板面に沿った方向にも進む。このため、長尺金属板７１の第１面７１ａ上における第１凹部３０の平面視の輪郭は、第１レジスト層開口部８１ａの輪郭より大きくなる。
【００６７】
その後、図１１に示すように、第１凹部３０の壁面３１が、樹脂材料により形成された樹脂膜６９で覆われる。このことにより、第１凹部３０が封止される。この際、樹脂膜６９は、第１凹部３０に埋め込まれるように形成される。すなわち、樹脂膜６９は、第１凹部３０に埋め込まれる樹脂埋設部６９ａを含むように形成されるとともに、第１レジスト層８１を覆うように形成される。このような樹脂膜６９は、例えば、樹脂材料を第１凹部３０の壁面３１および第１レジスト層８１に塗布して硬化させることにより、形成することができる。樹脂材料としては、長尺金属板７１のエッチング液に対する耐性を有し、レジスト層８１、８２を除去するアルカリ系剥離剤により除去することが可能であれば任意の材料を用いることができ、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、酸系ワックスを好適に用いることができる。
【００６８】
次に、図１２に示すように、長尺金属板７１に対して第２回目のエッチングが行われ、長尺金属板７１が第２面７１ｂの側からエッチングされる。この場合、長尺金属板７１は、第２レジスト層８２をマスクとして、噴射されるエッチング液（例えば、塩化第二鉄水溶液）によって長尺金属板７１の第２面７１ｂの側からエッチングされる。この結果、図１２に示すように、第２レジスト層開口部８２ａを介して長尺金属板７１の第２面７１ｂがエッチングされ、長尺金属板７１の第２面７１ｂ側に第２凹部３５が形成される。すなわち、第２レジスト層開口部８２ａの領域で、エッチング液による浸食が進む。このようにして、第２面７１ｂの側から長尺金属板７１に多数の第２凹部３５が形成される。エッチング液による浸食は、長尺金属板７１の法線方向（厚み方向）のみに進むのではなく、第２レジスト層開口部８２ａから長尺金属板７１の板面に沿った方向にも進む。このため、長尺金属板７１の第２面７１ｂ上における第２凹部３５の平面視の輪郭は、第２レジスト層開口部８２ａの輪郭よりも大きくなる。
【００６９】
なお、長尺金属板７１の第１面７１ａの側には、第１レジスト層８１とともに、エッチング液に対する耐性を有した樹脂膜６９が形成されているため、第２回目のエッチングの際、長尺金属板７１の第１面７１ａの側からはエッチングが行われない。このことにより、第１回目のエッチングにより所望の形状に形成された第１凹部３０の形状が損なわれてしまうことを防止している。
【００７０】
このようにして、長尺金属板７１の第２面７１ｂの側からのエッチングが予め設定した量だけ進んで、長尺金属板７１に対する第２回目のエッチングが終了する。このとき、第２凹部３５は長尺金属板７１の厚さ方向に沿って第１凹部３０に到達する位置まで延びており、これにより、長尺金属板７１に、互いに通じ合っている第１凹部３０および第２凹部３５によって貫通孔２５が形成される。この際、第１凹部３０の壁面３１を覆っている樹脂膜６９の一部である樹脂埋設部６９ａは、第２凹部３５に露出する。すなわち、樹脂埋設部６９ａの露出された部分の外表面は、第２回目のエッチングが行われる前の第１凹部３０の壁面３１に沿った形状を有し、第１凹部３０のエッチング時の浸食方向に向けて（すなわち、第２面７１ｂの側に向けて）凸となる形状を有している。このため、第２回目のエッチングが行われた後には、樹脂埋設部６９ａは、第２凹部３５内に突出するようになる。
【００７１】
次に、図１３に示すように、第２凹部３５の壁面３６に、めっき層４５が形成される。めっき層４５は、第２レジスト層８２をめっき用のマスクとして形成される。すなわち、長尺金属板７１のうち第２レジスト層開口部８２ａから第２凹部３５の壁面３６が露出されている。このことにより、この第２レジスト層開口部８２ａを介して第２凹部３５の壁面３６にめっき層４５が形成される。この際、めっき層４５の第１めっき面４５ａ（図６参照）は、樹脂膜６９の樹脂埋設部６９ａの外表面に沿って形成されると共に、第３めっき面４５ｃは、第２レジスト層８２の上面（長尺金属板７１の側の面）に沿って形成され、めっき層４５は、第２凹部３５の壁面３６に対して層状に形成される。なお、この場合、第１凹部３０の壁面３１は、樹脂膜６９によって覆われているため、当該壁面３１にめっき層は形成されない。
【００７２】
なお、上述したように、長尺金属板７１の第２面７１ｂ上における第２凹部３５の平面視の輪郭は、第２レジスト層開口部８２ａの輪郭よりも大きくなっている。このことにより、めっき層４５の第３めっき面４５ｃ（下面）は、第２レジスト層８２の長尺金属板７１の側の面に沿って形成され、第３めっき面４５ｃは、第２レジスト層８２の長尺金属板７１の側の面、すなわち、長尺金属板７１の第２面７１ｂに略面一になる。このため、めっき層４５が、第２面２１ｂから外方（図１３における下方）に突出することが防止できる。
【００７３】
めっき層４５を形成する場合、まず、第２凹部３５の壁面３６が酸性脱脂される。この際、脱脂処理と酸洗処理が行われる。脱脂処理の場合には、酸性脱脂液（例えば、メルテックス(株)メルプレートＰＣ−３１６）を用いた酸性脱脂処理と、アルカリ脱脂液（例えば、日本マルセル(株)マルクリーンＳＰ）を用いたアルカリ脱脂処理とが行われる。酸洗処理は、塩酸、硫酸などを用いて行われる。これら酸性脱脂処理、アルカリ脱脂処理および酸洗処理は、それぞれ、４５℃で６０秒間、行われることが好適である。続いて、第２凹部３５の壁面３６が、電解脱脂される。この際、リン酸液を用いて、３０℃で３０秒間、４．５Ｖの電圧を印加して、第２凹部３５の壁面３６が電解脱脂されることが好適である。その後、長尺金属板７１がめっき浴槽に浸漬される。めっき浴槽には、例えば、スルファミン酸ニッケル、塩化ニッケルおよび硼酸が所定の量で混合されて作成されためっき液が、５３℃で貯蔵されている。このめっき浴槽に、０．３Ａの電流を印加しながら第２凹部３５の壁面３６を７４２秒間浸漬させる。このことにより、第２凹部３５の壁面３６にめっき層４５をなす金属材料が析出して、図１３に示すように、当該壁面３６に、めっき層４５が形成される。
【００７４】
めっき層４５が形成された後、図１４に示すように、長尺金属板７１から樹脂膜６９が、第１レジスト層８１および第２レジスト層８２とともに除去される。樹脂膜６９およびレジスト層８１、８２は、例えばアルカリ系剥離剤により、除去することができる。
【００７５】
以上のようにして多数の貫通孔２５が形成された長尺金属板７１は、図７に示すように、当該長尺金属板７１を狭持した状態で回転する搬送ローラ６５、６５により、切断装置（切断手段）６６へ搬送される。切断装置６６において、長尺金属板７１が所定の長さに切断される。このようにして、枚葉状の蒸着マスク２０が得られる。なお、この搬送ローラ６５、６５の回転によって長尺金属板７１に作用するテンション（張力）を介し、上述した供給コア６１が回転させられ、巻き体６２から長尺金属板７１が供給されるようになっている。
【００７６】
以上のようにして、多数の貫通孔２５が形成された蒸着マスク２０が得られる。そして、得られた蒸着マスク２０は、フレーム１５に取り付けられる。なお、フレーム１５は、蒸着マスク２０の第１面２０ａに取り付けられる。
【００７７】
蒸着マスク２０をフレーム１５に取り付ける際、蒸着マスク２０が撓んでしまうことを防止するために、蒸着マスク２０に張力を負荷して蒸着マスク２０を張った状態に保持して、例えばスポット溶接によりフレーム１５に対して固定される。スポット溶接は、蒸着マスク２０の第２面２０ｂの側からフレーム１５に向けてＹＡＧレーザ光を照射することにより行うことができる。
【００７８】
このようにして、蒸着マスク２０がフレーム１５に取り付けられた蒸着マスク装置１０が得られる。蒸着マスク装置１０を蒸着装置９０に取り付けることにより、ガラス基板９２への蒸着材料９８の蒸着を行うことが可能となる。
【００７９】
以上のような本実施の形態による蒸着マスクの製造方法によれば、第２凹部３５の壁面３６にめっき層４５が形成され、めっき層４５が、金属板２１の第１面２１ａに沿った方向における貫通孔２５の断面積を最小にする部分を画成することができる。このことにより、貫通孔２５の最も狭小な部分の断面積を小さくして、貫通孔２５を微細化することができる。すなわち、比較的大きい面積を有する領域を画成する金属接続部４１を、エッチングによって形成することができ、当該金属接続部４１の形状精度が損なわれることを防止できる。そして、この金属接続部４１に合流する第２凹部３５の壁面３６にめっき層４５が形成される。これにより、小さな面積を有する領域を画成するめっき接続部４６を形成することができる。このため、貫通孔２５の最も狭小な部分を、精度良く形成することができる。この結果、貫通孔２５を精度良く微細化し、蒸着のパターニング精度を向上させることができる。
【００８０】
また、本実施の形態による蒸着マスクの製造方法によれば、第１凹部３０の壁面３１を樹脂膜６９で覆った状態で、第２凹部３５の壁面３６にめっき層４５が形成される。このことにより、第１凹部３０の壁面３１に、めっき層４５が形成されることを防止し、第１凹部３０における貫通孔２５の蒸着マスク２０の板面に沿った断面積が小さくなることを防止できる。このため、蒸着マスク２０の法線方向に対して傾斜した方向から蒸着材料９８が貫通孔２５に進入できなくなることを抑制し、蒸着材料９８の利用効率の低下を防止できる。
【００８１】
また、本実施の形態による蒸着マスクの製造方法によれば、めっき層４５は、電解めっきにより形成される。このことにより、第１凹部３０や第２凹部３５を形成するためのエッチング処理と同様に、めっき層４５を液処理で形成することができる。このため、めっき層４５を形成するための工程を、第１凹部３０や第２凹部３５のエッチング処理に続けて連続的に行うことができ、蒸着マスクの製造効率の低下を抑制するとともに、生産コストの増大を抑制できる。また、めっき層４５が形成される第２凹部３５の壁面３６は、比較的表面積が小さいため、めっき層４５をなす金属材料の使用量を少なくすることができ、この点においても生産コストの増大を抑制できる。
【００８２】
また、本実施の形態による蒸着マスクの製造方法によれば、上述しためっき層４５は、エッチングにより第２凹部３５を形成する際にマスクとして使用される第２レジスト層８２をめっき用のマスクとして使用して形成される。このことにより、第２レジスト層８２は、めっき用のマスクを兼用することができる。このため、めっき層４５を形成するために、第２レジスト層８２とは異なるめっき専用のマスクを用意することを不要とし、製造効率の低下を抑制できる。
【００８３】
また、本実施の形態による蒸着マスクの製造方法によれば、上述したように、第２レジスト層８２が、第２凹部３５を形成するためのエッチング用のマスクとして使用されるとともに、めっき層４５を形成するためのめっき用のマスクとして使用される。このことにより、第２凹部３５に対するめっき層４５の位置精度を向上させることができる。
【００８４】
また、本実施の形態による蒸着マスクの製造方法によれば、第１凹部３０が形成された後にめっき層４５が形成されるまで、長尺金属板７１にレジスト層８１、８２が形成されている。このことにより、長尺金属板７１は、レジスト層８１、８２によって支持されるため、貫通孔２５が多数形成された有効領域２２の変形を抑制できる。
【００８５】
さらに、本実施の形態による蒸着マスクの製造方法によれば、第２レジスト層８２をめっき用のマスクとしてめっき層４５を形成する場合、めっき層４５の第３めっき面４５ｃ（下面）を、長尺金属板７１の第２面７１ｂと略面一にすることができる。このため、めっき層４５が、長尺金属板７１の第２面７１ｂから下方に突出することを防止でき、蒸着時に蒸着マスク２０と基板９２とを確実に密着させて、蒸着のパターニング精度を向上させることができる。
【００８６】
以上、本発明の実施の形態について詳細に説明してきたが、本発明による蒸着マスクの製造方法および蒸着マスクは、上記実施の形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能である。
【００８７】
例えば、上述した本実施の形態においては、蒸着マスク２０に形成される貫通孔２５のパターンは、図４に示される形態に限られることはない。図４に示した貫通孔２５の配列パターンは例示に過ぎず、種々のパターンにて貫通孔２５が配列されていてもよい。
【００８８】
さらに、貫通孔２５の形状は、図４に示す平面形状に限られることはない。例えば、各貫通孔２５は、平面視で、帯状の略四角形形状、さらに正確には平面視において帯状の略矩形状の輪郭、あるいはスリット状に細長い輪郭を有していてもよい。この場合、第１凹部３０および第２凹部３５が、それぞれ、平面視で、帯状の略四角形形状、さらに正確には帯状の略矩形形状の輪郭、あるいはスリット状に細長い輪郭を有し、細長状の貫通孔２５に、第１凹部３０および第２凹部３５が一つずつ形成される。なお、この場合、各貫通孔２５は、蒸着マスク２０の長手方向に延びるように形成されることが好適である。
【００８９】
さらに、上述した本実施の形態においては、蒸着マスク２０の第１面２０ａ上において、隣り合う二つの貫通孔２５が、蒸着マスク２０の板面に沿って互いから離間している例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、図１５に示すように、隣り合う二つの貫通孔２５が、互いに接続されていてもよい。
【００９０】
図１５に示された例では、有効領域２２のすべての第１凹部３０の壁面３１の先端縁（上縁、蒸着マスクの法線方向に沿って一方の側に位置する端縁）３２が、当該第１凹部３０に隣り合う他の第１凹部３０の壁面３１の先端縁３２と合流している。
【００９１】
ここでは、蒸着マスク２０の有効領域２２内の全領域において、蒸着マスク２０の第１面２０ａが、蒸着マスクの法線方向における一方の側に向いた第１凹部３０の壁面３１によって形成されている。この結果、蒸着マスク２０の有効領域２２内の全領域において、蒸着マスク２０の第１面２０ａが凹凸面をなしている。
【００９２】
このような蒸着マスク２０によれば、有効領域２２の全域において第１凹部３０の壁面３１が蒸着マスクの法線方向に対してなす傾斜角度θ１を効果的に増大させることができる。すなわち、蒸着マスク２０のシート面に直交する図１５の断面において、貫通孔２５の最小断面積を持つ部分となるめっき接続部４６と、第１凹部３０の壁面３１の他の任意の位置と、を通過する直線Ｘが、蒸着マスク２０の法線方向に対してなす最小角度θ１を、十分に大きくすることができ、これにより、蒸着材料９８の利用効率を効果的に改善しながら、所望のパターンでの蒸着を高精度に安定して実施することができる。
【００９３】
また、蒸着マスク２０の第１面２０ａに対応するようになる金属板２１の第１面２１ａ側から当該金属板２１をエッチングして第１凹部３０を作製する場合、蒸着マスク２０の有効領域２２をなすようになる金属板２１の全領域において、当該金属板２１の第１面２１ａがエッチングにより浸食される。すなわち、蒸着マスクの法線方向に沿った有効領域２２内の最大厚みＴａは、蒸着マスクの法線方向に沿った周囲領域２３内の最大厚みＴｂの１００％未満となる。このように有効領域２２内での厚みが全体的に薄くなることは、蒸着材料の利用効率を向上させる観点から好ましい。その一方で、蒸着マスクの強度の観点から、蒸着マスクの法線方向に沿った有効領域２２内の最大厚みＴａは、蒸着マスクの法線方向に沿った周囲領域２３内の最大厚みＴｂの５０％以上となることが好ましい。有効領域２２内の最大厚みＴａが周囲領域２３内の最大厚みＴｂの５０％以上となっている場合には、蒸着マスク２０をフレーム１５に張設した場合における蒸着マスク２０の有効領域２２内での変形を効果的に抑制することができ、これにより、所望のパターンでの蒸着を効果的に実施することができる。また、この場合、長尺金属板７１の搬送や切断、フレーム１５への取付といった取り扱い処理中に、多数の貫通孔２５を形成された有効領域２２の変形を効果的に防止することができる。
【００９４】
さらに、図示された例においては、上述した製造方法に起因して、蒸着マスクの法線方向に沿った断面において、二つの第１凹部３０の壁面３１の先端縁３２が合流する部分３３の外輪郭が、面取された形状となっている。上述したように、一般的に、エッチングで形成される穴の壁面は、エッチングによる主たる進行方向に向けて凸となる曲面状となる。したがって、エッチングで形成された二つの第１凹部３０を単純に部分的に重ね合わせると、図１５に二点鎖線で示すように、合流部分３３は、エッチングの開始側となる蒸着マスクの法線方向に沿った一方の側へ向けて、尖った形状となる。これに対して図示された蒸着マスク２０では、合流部分３３における尖った部分が面取されている。図１５から理解されるように、この面取によって、蒸着マスク２０の法線方向に対して壁面３１がなす上述の角度θ１を、効果的に増大することができる。これにより、より効果的に蒸着材料９８の利用効率を改善し且つ所望のパターンでの蒸着を高精度且つ安定して実施することができる。
【００９５】
なお結果として、蒸着マスクの法線方向に沿った断面において、二つの第１凹部３０の壁面３１の先端縁３２が合流する部分３３の外輪郭は、蒸着マスクの法線方向に沿った一方の側へ向けて膨出した曲線状となる。
【００９６】
図１５に示す第１凹部３０を形成する工程において、エッチングを進めていくと、隣り合う二つの第１凹部３０が合流してなる合流部分３３が第１レジスト層８１から離間して、第１レジスト層８１下となる当該合流部分３３において、エッチングによる浸食が長尺金属板７１の法線方向（厚さ方向）にも進む。これにより、蒸着マスクの法線方向に沿った一方の側へ向けて尖っていた合流部分３３が、蒸着マスクの法線方向に沿った一方の側からエッチングされ、面取される。この際、合流部分３３が第１レジスト層８１から離間することにより、有効領域２２における第１レジスト層８１は除去され得る。第１レジスト層８１が除去された場合であっても、第１凹部３０が形成された後、第１凹部３０の壁面３１が樹脂膜６９によって覆われるため、その後の第２凹部３５を形成する際のエッチング液によって第１凹部３０が浸食することが防止されるとともに、さらにその後のめっき層４５を形成する際のめっき液によって第１凹部３０の壁面３１に、金属材料が析出されてめっき層４５が形成されることが防止される。
【符号の説明】
【００９７】
２０    蒸着マスク
２０ａ  第１面
２０ｂ  第２面
２１    金属板
２１ａ  第１面
２１ｂ  第２面
２５    貫通孔
３０    第１凹部
３１    壁面
３５    第２凹部
３６    壁面
４５    めっき層
６９    樹脂膜
６９ａ  樹脂埋設部
７１    長尺金属板
７１ａ  第１面
７１ｂ  第２面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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