(57)【要約】【課題】  上載せローラによって基板の上面を押圧することによる基板の割れやひびを防止しつつ、基板を搬送することができるようにした基板搬送装置、およびこの基板搬送装置を有する基板処理装置を提供する。【解決手段】  搬送軸２１に設けられ基板Ｗの幅方向両端部の下面を支持する端部支持ローラ２２ａと、搬送軸２１の基板幅方向両端部を除く部分の下面を支持する複数の搬送ローラ２２と、上載せローラ軸３１において一対の端部支持ローラ２２ａと対向する部分に設けられ、端部支持ローラ２２ａによって幅方向の端部下面が支持された基板の幅方向の端部上面を押圧する一対の上載せローラ３２と、を有し、上載せローラ３２には切り欠き部Ｌが形成されている。【選択図】  図３
2015230936.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を所定方向に搬送する搬送装置であって、
軸方向の両端部が回転可能に支持され前記基板の搬送方向に対して軸線を交差させて所定間隔で並行に配置された複数の搬送軸と、
前記搬送軸に設けられ前記基板の幅方向両端部の下面を支持する端部支持ローラと、
前記搬送軸に設けられ前記基板の幅方向両端部を除く部分の下面を支持する複数の搬送ローラと、
前記搬送軸の少なくとも一端部と他端部の上方に軸線を前記搬送軸と平行に対向させて回転可能に支持された上載せローラ軸と、
前記上載せローラ軸の前記一対の端部支持ローラと対向する部分に設けられ、前記端部支持ローラによって幅方向の端部下面が支持された前記基板の幅方向の端部上面を押圧する一対の上載せローラと、を有し、
前記上載せローラには切り欠き部が形成され、
前記切り欠き部は、前記上載せローラの前記基板との当接部が撓み得る形状であることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
前記切り欠き部は、前記上載せローラの径方向に沿って、前記上載せローラと同心円上に形成されていることを特徴とする請求項１記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記切り欠き部は、前記一対の上載せローラそれぞれの前記基板と当接する面において、前記基板の幅方向中央に向かって厚みが薄くなるように傾斜して切り欠いて形成されることを特徴とする請求項１または２記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記基板に処理液を供給して前記基板を処理するノズルを有する請求項１乃至３いずれか記載の基板搬送装置。
【請求項５】
基板を所定方向に搬送装置によって搬送しながら処理する処理装置であって、
前記基板を搬入する搬入口と前記基板を搬出する搬出口とが形成されたチャンバと、
前記搬送装置によって搬送される基板に対して処理液を供給するノズルとを有し、
前記搬送装置は、
軸方向の両端部が回転可能に支持され前記基板の搬送方向に対して軸線を交差させて所定間隔で並行に配置された複数の搬送軸と、
前記搬送軸に設けられ前記基板の幅方向両端部の下面を支持する端部支持ローラと、
前記搬送軸に設けられ前記基板の幅方向両端部を除く部分の下面を支持する複数の搬送ローラと、
前記搬送軸の少なくとも一端部と他端部の上方に軸線を前記搬送軸と平行に対向させて回転可能に支持された上載せローラ軸と、
前記上載せローラ軸の前記一対の端部支持ローラと対向する部分に設けられ、前記端部支持ローラによって幅方向の端部下面が支持された前記基板の幅方向の端部上面を押圧する一対の上載せローラと、を有し、
前記上載せローラには切り欠き部が形成され、
前記切り欠き部は、前記上載せローラの前記基板との当接部が撓み得る形状であることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板搬送装置および基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置等に用いる基板を製造する工程においては、たとえば薄いガラス製の基板をエッチングする工程、エッチング処理後にマスクとして使用されたレジストを剥離する工程、さらにはエッチング工程や剥離工程などの後で汚れた基板を洗浄液によって洗浄する工程などがある。このような基板の処理工程では、基板を一枚ずつ搬送しながら処理する枚葉方式が採用されることがある。
【０００３】
枚葉方式によって基板を処理する場合、基板を搬送しながらその上下面或いは上面にシャワーノズルから処理液を噴射したり、洗浄ブラシを接触させて処理する処理装置が知られている。
【０００４】
このような処理装置はチャンバを有し、このチャンバ内には上記基板を所定方向に沿って搬送するための搬送装置が設けられている。また、複数の処理装置を用いて基板を順次搬送処理する場合、隣り合う処理装置間にも、上流側の処理装置から下流側の処理装置に基板を搬送するための搬送装置が用いられる。
【０００５】
上記搬送装置は、基板の搬送方向に沿って複数の搬送軸が所定間隔で回転可能に設けられている。この搬送軸には複数の搬送ローラが軸方向に所定間隔で設けられている。そして、上記搬送軸を回転駆動することで、上記基板を搬送ローラによって搬送するようになっている。
【０００６】
処理装置に用いられる搬送装置において、基板の下面を単に複数の搬送ローラで支持しただけでは、この基板に処理液を噴射したり、洗浄ブラシ接触させたとき、基板は処理液や洗浄ブラシから受ける抵抗によって一定の速度で円滑に搬送できなくなるということがあったり、基板の両端部がばたついて損傷するなどのことがある。
【０００７】
そこで、基板を搬送する際、この基板の下面を搬送軸に設けられた搬送ローラによって支持するだけでなく、基板の端部においては、その下面を端部支持ローラで支持するとともに、この端部支持ローラによって支持された基板の端部上面を上載せローラによって押圧するということが行われている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１１−１１６５２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかし、この上載せローラによって押圧される基板が、上述の通り、薄いガラス製の基板のような場合、上載せローラの押圧による押圧力が過剰になった場合、基板に割れが生じたり、ひびが入ることがある。また、ガラス基板でない場合においても、処理に高温の処理液を用いた場合、上載せローラ自体が膨張したり、変形したりすることによって、基板にかかる負荷が大きくなることがある。
【００１０】
本発明は、上載せローラによって基板の上面に過大な負荷が加わることを防止し、特に基板がガラス基板などの場合には、上載せローラの押圧による基板の割れやひびを防止しつつ、基板を搬送することができるようにした基板搬送装置および基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の基板搬送装置は、
基板を所定方向に搬送する搬送装置であって、
軸方向の両端部が回転可能に支持され前記基板の搬送方向に対して軸線を交差させて所定間隔で並行に配置された複数の搬送軸と、
前記搬送軸に設けられ前記基板の幅方向両端部の下面を支持する端部支持ローラと、
前記搬送軸に設けられ前記基板の幅方向両端部を除く部分の下面を支持する複数の搬送ローラと、
前記搬送軸の少なくとも一端部と他端部の上方に軸線を前記搬送軸と平行に対向させて回転可能に支持された上載せローラ軸と、
前記上載せローラ軸の前記一対の端部支持ローラと対向する部分に設けられ、前記端部支持ローラによって幅方向の端部下面が支持された前記基板の幅方向の端部上面を押圧する一対の上載せローラと、を有し、
前記上載せローラには切り欠き部が形成され、
前記切り欠き部は、前記上載せローラの前記基板との当接部が撓み得る形状であることを特徴とする。
【００１２】
本発明の基板処理装置は、
基板を所定方向に搬送装置によって搬送しながら処理する処理装置であって、
前記基板を搬入する搬入口と前記基板を搬出する搬出口とが形成されたチャンバと、
前記搬送装置によって搬送される基板に対して処理液を供給するノズルとを有し、
前記搬送装置は、
軸方向の両端部が回転可能に支持され前記基板の搬送方向に対して軸線を交差させて所定間隔で並行に配置された複数の搬送軸と、
前記搬送軸に設けられ前記基板の幅方向両端部の下面を支持する端部支持ローラと、
前記搬送軸に設けられ前記基板の幅方向両端部を除く部分の下面を支持する複数の搬送ローラと、
前記搬送軸の少なくとも一端部と他端部の上方に軸線を前記搬送軸と平行に対向させて回転可能に支持された上載せローラ軸と、
前記上載せローラ軸の前記一対の端部支持ローラと対向する部分に設けられ、前記端部支持ローラによって幅方向の端部下面が支持された前記基板の幅方向の端部上面を押圧する一対の上載せローラと、を有し、
前記上載せローラには切り欠き部が形成され、
前記切り欠き部は、前記上載せローラの前記基板との当接部が撓み得る形状であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
この発明によれば、上載せローラによって基板の上面に過大な負荷が加わることを防止しつつ、基板を搬送することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る搬送装置の基板の搬送方向に沿う縦断面図。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る搬送装置の基板の搬送方向と交差する方向に沿う縦断面図。
【図３】本発明の第１の実施形態を示す搬送装置が備える上載せローラの側面図。
【図４】従来の搬送装置が備える上載せローラの側面図。
【図５】本発明の第２の実施形態を示す搬送装置が備える上載せローラの側面図。
【図６】本発明の第３の実施形態を示す搬送装置が備える上載せローラの側面図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
（第１の実施形態）
以下、図面を参照しながら本発明の第１の実施形態について説明する。
【００１６】
図１と図２に示すのは、本発明の第１の実施形態に係る搬送装置の断面図である。図１は、基板の搬送方向に沿う縦断面図、図２は、基板の搬送方向と交差する方向に沿う縦断面図である。
【００１７】
図１と図２に示すように、本実施形態に係る搬送装置を備えた処理装置は、チャンバ１を備えている。このチャンバ１は、基板Ｗの搬送方向（図１における矢印Ｘ方向）に沿う長手方向一端に搬入口Ｉ、他端に搬出口Ｏが形成され、内部には基板Ｗを搬送するための搬送装置Ｃが設けられている。この搬送装置Ｃは、上搬送部３０と下搬送部２０と、これら上搬送部３０、下搬送部２０とを駆動させ基板Ｗを搬送させる図示しない駆動部とを有する。下搬送部２０は、上記チャンバ１の長手方向に対して軸線を交差させて所定間隔で配置され回転可能に設けられた複数の搬送軸２１を有する。各搬送軸２１には複数の搬送ローラ２２が軸方向に所定間隔で設けられていて、基板Ｗの幅方向（基板Ｗの搬送方向とは直交する方向で、図２では左右方向）両端部の下面は、搬送ローラ２２と同じ材料によって同じ形状に形成された端部支持ローラ２２ａによって支持されている。
【００１８】
上搬送部３０は、複数の上記搬送軸２１のうち、後述のノズル４０が設けられる領域に対応する複数本、たとえば３本の搬送軸２１のそれぞれ少なくとも一端部と他端部の上方に、軸線を搬送軸２１と平行にして対向させた上載せローラ軸３１が配設され、この上載せローラ軸３１には、上載せローラ３２が設けられている。さらに、この上載せローラ３２は、搬送ローラ２２によって搬送される基板Ｗの搬送方向Ｘとは交差する方向（すなわち、基板Ｗの幅方向）の両端に位置する端部支持ローラ２２ａに対向して位置するように設けられる。上載せローラ軸３１は、一端を上記基板Ｗの搬送方向Ｘとは交差する幅方向の端部上方に位置させ、他端を基板Ｗの幅方向端部よりも外方に突出させている。さらに、搬送装置Ｃの上方にはノズル４０が設けられ、搬送される基板Ｗに対して処理液を供給することができるようになっている。ノズル４０は、シャワーノズル、二流体ノズル、スリットノズル等、公知のノズルである。
【００１９】
各搬送軸２１および各上載せローラ軸３１は、それぞれ図示しない軸受によって回転可能に支持され、図示しない駆動機構によって、回転させられる。この駆動機構については、たとえば、先に挙げた特許文献１の基板の搬送装置が有する機構と同一の、公知の機構である。なお、上載せローラ軸３１は、駆動機構を有していなくても良い。
【００２０】
搬送装置Ｃにより、上記チャンバ１の搬入口Ｉから、例えば液晶表示装置に用いられるガラス製の矩形状の基板Ｗが搬入されると、基板Ｗは、下面を搬送軸２１に設けられた搬送ローラ２２に支持され、さらに上面を上載せローラ軸３１に設けられた上載せローラ３２に押圧された状態で、搬送方向Ｘに沿って搬送される。
【００２１】
なお、搬送軸２１の基板Ｗの幅方向端部よりも外方に位置する部分には、第１の荷重調整ローラ２３が軸方向に移動可能に設けられている。上載せローラ軸３１の軸方向中途部で、第１の荷重調整ローラ２３と対応する位置には第２の荷重調整ローラ３３が軸方向に移動可能に設けられている。これら第１の荷重調整ローラ２３、第２の荷重調整ローラ３３については、たとえば、先に挙げた特許文献１に記載された機構と同一の公知の機構である。
【００２２】
第１の荷重調整ローラ２３、第２の荷重調整ローラ３３にはそれぞれ傾斜面が形成されており、図示では、両ローラ２３と３３との間に隙間を設けて描いてあるが、それぞれの傾斜面が互いに接触するように配置される。第１の荷重調整ローラ２３、第２の荷重調整ローラ３３の軸方向位置を相対的に変更することにより、第１の荷重調整ローラ２３と第２の荷重調整ローラ３３の傾斜面の接触長さが変化し、上載せローラ３２の基板に対する押圧力（荷重）を調整することができるようになっている。
【００２３】
図３に上搬送部３０の一部を拡大した図を示す。上載せローラ３２は、たとえば、ポリテトラフルオロエチレン（polytetrafluoroethylene）等の耐薬液性を有する樹脂素材で形成され、幅方向中央部外周面には、外周面に耐薬液性を有する弾性材料によって形成されたＯリング３２Ａを備える。Ｏリング３２Ａは、基板との当接部を形成する。また、上載せローラ３２は、その一側面（図３では左側面）だけに、上載せローラ３２の回転中心軸からの半径距離Ｒ、幅Ｔ（軸線方向に沿って一定）、奥行きＤとする円形リング状の切り欠き部Ｌを有する。つまり、上載せローラ３２と同心円上に切り欠き部Ｌが形成されている。
【００２４】
ここで、図４を用いて、従来の上載せローラ３２０と第１の実施形態に係る上載せローラ３２との違いを説明する。図４には、従来の搬送装置が採用する上搬送部３００の一部を拡大した図を示す。従来の上載せローラ３２０は、切り欠き部を有さない中実である剛性の高いローラが上載せローラ軸３１０を介して設けられ、その外周面にはＯリング３２０Ａが設けられる。この上載せローラ３２０は、上述の実施形態で説明した荷重調整ローラ２３、３３と同様の機構によって荷重が調整され、調整当初は、最適な荷重にて基板Ｗの上面を押圧し、基板Ｗを搬送させることができるように設定される。ところが、高温の処理液を基板Ｗに供給しながら搬送した場合、処理液の熱によって上載せローラ３２０が膨張し、上載せローラ３２０の基板Ｗに当接する側の厚みＴが増加することによって、基板Ｗに対して荷重がかかりすぎてしまい、基板Ｗに割れやひびが生じてしまう。またこの現象は、搬送されてくる基板自体の厚み誤差に起因することもある。
【００２５】
図３に戻って、第１の実施形態に係る上載せローラ３２について説明する。この切り欠き部Ｌを形成することにより、上載せローラ３２において、切り欠き部Ｌより半径方向外方部分はＯリング３２Ａを保持するＯリング保持部として機能し、その部分の厚みＴＬは、従来の上載せローラ３２０よりも薄くなることになる。従って、切り欠き部Ｌは、厚みＴＬが薄くなることにより基板Ｗ搬送時に、上載せローラ３２の膨張などによって基板Ｗに過負荷がかかりそうになったとしても、厚みＴＬの部分（以下、「Ｏリング保持部」ともいう）が、上乗せローラ３２における切り欠き部が設けられていない他側面を支点として撓み、これにより、基板への過負荷が防止される。従って、このために厚みＴＬは、上載せローラ３２の材質などを考慮し、上乗せローラの膨張などの原因によって基板Ｗに少なくとも過負荷がかかるときにはこの部分が撓むような厚さに、実験などにより求め、設定される。
【００２６】
もちろん、厚みＴＬの部分が撓んだことによって、上載せローラ３２が割れたり、基板Ｗの搬送が不可能になったりすることがない寸法形状に形成される。さらに上述の通り、上載せローラ３２は樹脂材料で形成されている。これによって、クッション性を有している。そのため、ノズル４０から高温の処理液を基板Ｗに供給させた状態で基板Ｗを搬送した場合において、上載せローラ３２が膨張しても、上載せローラ３２自体が若干撓むので、膨張した上載せローラ３２による基板Ｗ上面の押圧により、基板の割れやひびが生じることをより確実に防止し、基板を搬送することができる。
（第２の実施形態）
次に、第２の実施形態について、図５を参照して説明する。
【００２７】
第２の実施形態は基本的に第１の実施形態と同様である。このため、第２の実施形態では、第１の実施形態との相違点について説明し、第１の実施形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明も省略する。
【００２８】
図５に示すように、第２の実施形態に係る上載せローラ３５は、その一側面だけに、基板Ｗの幅方向中央に向かって厚みＴＬが厚くなるように傾斜して切り欠いた、切り欠き部Ｌ１を有している。すなわち、図５中において、切り欠きＬ１の形成によってＯリング保持部とされる部分の厚さは、上載せローラ３５の左側の厚みをＴＬ、右側の厚みをＴＲとした場合、ＴＬはＴＲよりも薄い。このような形状とすることで、第１の実施形態と同様、基板Ｗに過負荷がかかりそうになったときには、Ｏリング保持部が、上乗せローラ３５における切り欠き部が設けられていない他側面を支点として撓み、これにより、基板への過負荷が防止される。もちろん、上載せローラ３５のクッション性は保ちつつも、基板Ｗ搬送時に上載せローラ３５が割れたり、基板Ｗの搬送が不可能になったりすることがない寸法形状に形成される。
【００２９】
また、この第２の実施形態に係る上載せローラ３５の切り欠き部Ｌ１の形状を採用する場合には、Ｏリング３５Ａは、上載せローラ３５の幅方向中央部に形成されていても良いが、切り欠きの形成された一側面側に偏った位置に備える方が好ましい。これにより、Ｏリング３５Ａを上載せローラ３５の幅方向中央部に設けた場合に比べて、Ｏリング保持部の撓み性が増すので、過負荷を逃す上で好ましい。
（第３の実施形態）
次に、第３の実施形態について、図６を参照して説明する。
【００３０】
第３の実施形態は、基本的に第１の実施形態と同様である。このため、第３の実施形態では、第１の実施形態との相違点について説明し、第１の実施形態で説明した部分と同一部分は同一符号で示し、その説明も省略する。
【００３１】
図６に示すように、第３の実施形態に係る上載せローラ３６は、その一側面だけに、基板Ｗの幅方向中央に向かって厚みＴＬが薄くなるように傾斜して切り欠いた、切り欠き部Ｌ２有している。すなわち、図６中において、切り欠きＬ２の形成によってＯリング保持部とされる部分の厚さは、上載せローラ３６の左側の厚みをＴＬ、右側の厚みをＴＲとした場合、ＴＬはＴＲよりも厚い。このような形状とすることで、第１の実施形態と同様、基板Ｗに過負荷がかかりそうになったときには、Ｏリング保持部が、上乗せローラ３６における切り欠き部が設けられていない他側面を支点として撓み、これにより、基板への過負荷が防止される。もちろん、上載せローラ３６のクッション性は保ちつつも、基板Ｗ搬送時に上載せローラ３６が割れたり、基板Ｗの搬送が不可能になったりすることがない寸法形状に形成される。
【００３２】
また、この第３の実施形態に係る上載せローラ３６の切り欠き部Ｌ２の形状を採用する場合には、Ｏリング３６Ａは、上載せローラ３６の幅方向中央部に設けられていても良いが、切り欠きの形成された一側面側に偏った位置に備える方が好ましい。これにより、Ｏリング３６Ａを上載せローラ３６の幅方向中央部に設けた場合に比べて、Ｏリング保持部の撓み性が増すので、過負荷を逃す上で好ましい。
【００３３】
（その他の実施形態）
上記第１の実施形態において、上載せローラ軸３１は、一端を上記基板Ｗの搬送方向Ｘと交差する幅方向の端部上方に位置させ、他端を基板Ｗの幅方向端部よりも外方に突出させているとしたが、これに限らず、搬送軸２１と同様、基板Ｗ幅方向全体に有していても良い。ただし、実施例に示したように、一端を上記基板Ｗの幅方向の端部上方に位置させ、他端を基板Ｗの幅方向端部よりも外方に突出させて備える場合においては、ノズル４０からの処理液が上載せローラ軸３１に妨げられることなく基板Ｗ表面に供給されるため、より効率良く処理が行える。
【００３４】
また、上記第１の実施形態において、基板Ｗは上面のみノズル４０から供給される処理液によって処理を行うとしたが、これに限らず、下面においても処理を行えるように搬送軸２１側に処理液を供給するノズルを有していても良い。また、ノズルから供給される処理液は特に限定されず、必要な処理を行い得る液体、あるいは気体と液体の混合体であれば良い。
【００３５】
また、上載せローラの外周にＯリングを設けて基板との当接部としたが、上載せローラの外周部に径方向に沿って突出するツバ部（鍔部）を一体に設け、これを当接部としても良い。
【００３６】
また、上載せローラに設ける切り欠き部は、ストレートまたは傾斜面を有するものを説明したが、これに限らず上載せローラとして基板を押圧可能な形状かつクッション性を有する形状であれば良い。つまり、切り欠き部は、上載せローラの基板との当接部が撓み得る形状であれば良い。
【００３７】
以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００３８】
１        チャンバ
Ｃ        搬送装置
２１      搬送軸
２２      搬送ローラ
３１      上載せローラ軸
３２      上載せローラ
４０      ノズル
Ｌ        切り欠き部
Ｗ        基板
【図１】
2015230936.tif 000003
【図２】
2015230936.tif 000004
【図３】
2015230936.tif 000005
【図４】
2015230936.tif 000006
【図５】
2015230936.tif 000007
【図６】
2015230936.tif 000008