(57)【要約】【課題】本発明の課題は、発光表示パターンの形状精度（鮮鋭度）に優れ、発光パターンの切り替えが可能で、同一表示領域中に異なる画像を個別又は同時に表示することができる発光パネルの製造方法を提供することである。【解決手段】本発明の発光パネルの製造方法は、基板上に透明電極を含む一対の電極と有機機能層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子を構成単位とする発光ユニットを複数積層してなり、かつ当該複数の発光ユニットが、個別に又は同時に、電気的に駆動可能である発光パネルの製造方法であって、  各発光ユニットの有機エレクトロルミネッセンス素子に光を照射して特定の発光パターンを付与する工程と、前記発光パターンを付与された各発光ユニットを積層する工程と、を有することを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に透明電極を含む一対の電極と有機機能層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子を構成単位とする発光ユニットを複数積層してなり、かつ当該複数の発光ユニットが、個別に又は同時に、電気的に駆動可能である発光パネルの製造方法であって、
各発光ユニットの有機エレクトロルミネッセンス素子に光を照射して特定の発光パターンを付与する工程と、前記発光パターンを付与された各発光ユニットを積層する工程と、を有することを特徴とする発光パネルの製造方法。
【請求項２】
前記複数の発光ユニットの発光色が、それぞれ異なることを特徴とする請求項１に記載の発光パネルの製造方法。
【請求項３】
前記複数の発光ユニットが、それぞれ赤色、緑色及び青色を発光する３種の発光ユニットを有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の発光パネルの製造方法。
【請求項４】
発光色が白色であることを特徴とする請求項１に記載の発光パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光パネルの製造方法に関する。より詳しくは、発光表示パターンの形状精度（鮮鋭度）に優れ、同一表示領域中に異なる画像を個別又は同時に表示することができる発光パネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、平面状の光源体として、導光板を用いた発光ダイオード（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ：ＬＥＤ）及び有機発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ：ＯＬＥＤ、以下、「有機エレクトロルミネッセンス素子」ともいう。）が注目されている。導光板ＬＥＤについては、一般照明のみならず、液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ：ＬＣＤ）用バックライトなど、様々な場面、用途で使用されるようになってきた（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
特に、２００８年頃から、スマートデバイス（スマートフォン、タブレット）の生産量が伸び、導光板ＬＥＤが使用されている。
【０００４】
主には、メインディスプレイ（例えば、ＬＣＤ）のバックライト用途であるが、その他の使用用途として、デバイス下部にある共通機能キーボタンのバックライトとしても、導光板ＬＥＤが組み込まれることが多くなっている。
【０００５】
共通機能キーボタンには、主に、ホーム（四角形などのマークで表示）、戻る（矢印マークなどで表示）、検索（虫眼鏡マークなどで表示）の３種類が使用されることが多い。
【０００６】
前述の特許文献１に記載されている方法では、これら共通機能キーボタンは、カバーガラスに表示したいマークのパターンを印刷しておき、カバーガラスの内部に上記のような導光板ＬＥＤを設置し、必要な場面に応じてＬＥＤが発光して光が導光板（フィルム）を通して導光され、パターン部分に印刷されたドット形状の拡散部材を通して表示側へ光を取り出す構成になっている。
【０００７】
しかしながら、特許文献１で開示されている方法では、表示画面上の同一の位置に異なる形状の画像を表示することができない。
【０００８】
一方、有機ＥＬ素子の製造時に、有機機能層あるいは構成電極層の少なくとも一層にフォトマスクを介して、紫外光を照射し、所定のパターン領域の機能を変化させる特定の発光パターンを有する有機発光素子が提案されている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００９】
しかしながら、特許文献２で開示されている方法でも、形成することのできるパターンは、同一平面上の異なる領域には異なるパターンを形成することはできるが、同一の領域内に、異なるパターンを形成することができない。
【００１０】
また、有機エレクトロルミネッセンス素子（以下「有機ＥＬ素子」ともいう。）製膜時に、マスクによりキー表示に対応した形状をパターニングすることも可能ではあるが、場面表示に応じて、同一場所で任意のマーク形状を切り替えるような発光パターンは不可能であった。
【００１１】
さらに、製膜時にマスクを用いたパターニング形成方法では、解像度が低いという問題点もあった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】米国特許第８３３０７２４号明細書
【特許文献２】特開２０１２−２８３３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、発光表示パターンの形状精度（鮮鋭度）に優れ、発光パターンの切り替えが可能で、同一表示領域中に異なる画像を個別又は同時に表示することができる発光パネルの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討した結果、有機ＥＬ素子に光照射して異なる発光パターンを付与した複数の発光ユニットを作製し、その後各発光ユニットを積層することにより、上記課題を解決することを見出し本発明に至った。好ましい態様として前記複数の発光ユニットが、それぞれ赤色、緑色及び青色を発光する３種の発光ユニットを有することにより、フルカラーの画像を表示することも可能になる。
【００１５】
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
【００１６】
１．基板上に透明電極を含む一対の電極と有機機能層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子を構成単位とする発光ユニットを複数積層してなり、かつ当該複数の発光ユニットが、個別に又は同時に、電気的に駆動可能である発光パネルの製造方法であって、
各発光ユニットの有機エレクトロルミネッセンス素子に光を照射して特定の発光パターンを付与する工程と、前記発光パターンを付与された各発光ユニットを積層する工程と、を有することを特徴とする発光パネルの製造方法。
【００１７】
２．前記複数の発光ユニットの発光色が、それぞれ異なることを特徴とする第１項に記載の発光パネルの製造方法。
【００１８】
３．前記複数の発光ユニットが、それぞれ赤色、緑色及び青色を発光する３種の発光ユニットを有することを特徴とする第１項又は第２項に記載の発光パネルの製造方法。
【００１９】
４．発光色が白色であることを特徴とする第１項に記載の発光パネルの製造方法。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の上記手段により、発光表示パターンの形状精度（鮮鋭度）に優れ、発光パターンの切り替えが可能で、同一表示領域中に異なる画像を個別又は同時に表示することができる発光パネルの製造方法を提供することができる。
【００２１】
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、以下のように推察している。
【００２２】
従来のように一つの有機ＥＬ素子に光照射やマスクを用いて複数の発光パターンを有する有機ＥＬ素子を作製するのではなく、複数の有機ＥＬ素子にそれぞれ異なる発光パターンを光照射して付与し、発光ユニットを作製し、その後各発光ユニットを積層することにより、独立に複数の画像を、同一平面領域に表示することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】２種の発光ユニットからなる発光パネルの構成の一例を示す概略断面図
【図２】第１発光ユニット及び第２発光ユニットに形成する２種の表示画像の一例を示す模式図
【図３】２種の異なる画像を表示する方法の一例を説明する模式図
【図４】第１発光ユニット及び第２発光ユニットに形成する他の表示画像の例を示す模式図
【図５】赤色、緑色及び青色を発光する３種の発光ユニットを有する表示画像の一例
【図６】実施例で作製した発光パネルの層構成を示す概略断面図
【図７】実施例で作製した他の発光パネルの層構成を示す概略断面図
【発明を実施するための形態】
【００２４】
本発明の発光パネルの製造方法は、基板上に透明電極を含む一対の電極と有機機能層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子を構成単位とする発光ユニットを複数積層してなり、かつ当該複数の発光ユニットが、個別に又は同時に、電気的に駆動可能である発光パネルの製造方法であって、
各発光ユニットの有機エレクトロルミネッセンス素子に光を照射して特定の発光パターンを付与する工程と、前記発光パターンを付与された各発光ユニットを積層する工程と、を有することを特徴とする。この特徴は、請求項１から請求項４までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
【００２５】
本発明の実施態様としては、前記複数の発光ユニットの発光色が、それぞれ異なることが好ましい。また、前記複数の発光ユニットが、それぞれ赤色、緑色及び青色を発光する３種の発光ユニットを有することが、フルカラーの画像表示が可能となることから、好ましい。
【００２６】
さらに、本発明においては、発光色が白色であることが好ましい。
【００２７】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【００２８】
《有機ＥＬ素子の構成》
（有機ＥＬ素子の全体構成概要）
本発明の発光パネルの製造方法は、基板上に透明電極を含む一対の電極と有機機能層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子を構成単位とする発光ユニットを複数積層してなり、かつ当該複数の発光ユニットが、個別に又は同時に、電気的に駆動可能である発光パネルの製造方法であって、各発光ユニットの有機エレクトロルミネッセンス素子に光を照射して特定の発光パターンを付与する工程と、前記発光パターンを付与された各発光ユニットを積層する工程と、を有することを特徴とする。
【００２９】
本発明者は、同一領域内に、異なる画像を複数表示することができる方法について、検討を進めた結果、例えば３層からなる有機ＥＬ素子に、光照射して複数の発光パターンを有する有機ＥＬ素子を作製しようとしても、３層の中間に位置する有機ＥＬ素子を独立に光照射することができないため不可能であった。複数積層した有機ＥＬ素子に光照射するのではなく、各発光ユニットの構成単位となる有機エレクトロルミネッセンス素子に個別に光を照射して特定の発光パターンを付与する工程と、前記発光パターンを付与された各発光ユニットを積層する工程とを有する製造方法とすることにより、独立に複数の画像を表示することが可能となる。
【００３０】
図１は、本発明の製造方法で製造された発光パネルの構成の一例を示す概略断面図である。
【００３１】
図１に示すように、発光パネル１は、有機ＥＬ素子を構成単位とする２種の発光ユニットからなる。すなわち、基板Ａ１上に、電極（陽極）Ｂ１、有機機能層ユニットＣ１、透明電極（陰極）Ｄ１、透明封止部材Ｅ１からなる第１発光ユニット（１−１Ｕ）と、透明基板Ａ２上に、透明電極（陽極）Ｂ２、有機機能層ユニットＣ２、透明電極（陰極）Ｄ２、透明封止部材Ｅ２からなる第２発光ユニット（１−２Ｕ）とから構成されている。
【００３２】
ここで、本発明において、有機機能層とは有機化合物を含有する層であり、有機機能層ユニットとは複数の有機機能層を含むユニットをいう。
【００３３】
また、本発明において第１発光ユニットとは、発光パネルを観察するとき、最も遠い側の発光ユニットを指し、近くなる順に第２発光ユニット、第３発光ユニットという。
【００３４】
有機機能層ユニットＣ１及び有機機能層ユニットＣ２には、それぞれ異なる表示画像を形成することができる。表示画像の形成方法としては、有機ＥＬ素子を作製した後、透明基板側又は透明電極側から、例えば、マスク部材を介して光照射して、それぞれ異なる画像を有機ＥＬ素子にパターン化して第１発光ユニットと第２発光ユニットを作製し、その後に２種の発光ユニットを、積層する工程において積層し発光パネルを作製することができる。詳細な作製方法については、後述の有機ＥＬ素子の製造方法で説明する。
【００３５】
また、各発光ユニットの電極（陽極）と電極（陰極）間はリード線で配線され、それぞれの接続端子に駆動電源として２〜４０Ｖの範囲内で印加することにより、第１発光ユニットと第２発光ユニットを独立して発光させることができる。このようにして異なる画像を、独立して発光させることができる。発光ユニットが３層以上となっても同様にして異なる画像を有機ＥＬ素子にパターン化して形成した発光ユニットを積層させればよい。
【００３６】
上記のような構成の有機ＥＬ素子においては、発光時にはそれぞれ異なる画像を表示するが、非発光時には、形成した発光パターンは、全く出現しない構成となっている。
【００３７】
（発光ユニットの画像）
次いで、本発明の発光パネルにより表示する異なる画像について説明する。本発明の発光パネルは、異なる画像を有する複数の発光ユニットを個別に又は同時に、電気的に駆動可能である。
【００３８】
図２は、第１発光ユニットと第２発光ユニットとが形成する２種の異なる表示画像の一例を示す模式図である。
【００３９】
例えば、図１における第１発光ユニットの電極Ｂ１と、透明電極Ｄ１間に駆動電圧を印加して、図２（Ａ）で示す画像を表示する。この時、背景２１は、光照射により形成された発光機能が変調されている領域、すなわち非発光領域であり、上向きの矢印画像２２Ａは、光照射を行わなかった変調されていない領域、すなわち発光領域が形成され、表示画像として上向き矢印画像を表示する。
【００４０】
同様に、図１における第２発光ユニットの透明電極Ｂ２と、透明電極Ｄ２間に駆動電圧を印加して、図２の（Ｂ）で示す画像を表示する。この時、背景２１は、光照射により形成された発光機能が変調されている領域、すなわち非発光領域であり、右向きの矢印画像２２Ｂは、光照射を行わなかった変調されていない領域、すなわち発光領域が形成され、表示画像として右向き矢印画像を表示する。
【００４１】
図３は、２種の異なる画像を表示する方法の一例を説明する模式図である。
【００４２】
図２に示すような上向き矢印画像及び右向き矢印画像をそれぞれ独立して表示する方法について、更に説明する。
【００４３】
図３において、画像Ｅは、第１発光ユニットの電極Ｂ１と、透明電極Ｄ１に挟まれた、有機機能層ユニットＣ１の発光パターン（上向き矢印）であり、画像Ｆは、第２発光ユニットの透明電極Ｂ２と、透明電極Ｄ２間に挟まれた、有機機能層ユニットＣ２の発光パターン（右向き矢印）である。
【００４４】
図３においては、画像Ｅと画像Ｆとはそれぞれ重なり合わない状態で表示されているが、重なり合って画像表示を行う方法でも良い。
【００４５】
図４は、有機機能層ユニットＣ１及び有機機能層ユニットＣ２に形成する２種の異なる表示画像の他の例を示す模式図である。
【００４６】
図２及び図３においては、表示画像として、上向き及び右向きの矢印画像を例に説明したが、本発明の発光パネルにおいては、その他に、適用する分野に応じて、図４の（１）に記載のような「○」、「×」表示、（２）に記載のような交通標識の異なる種類の表示、（３）に記載のような横断歩道等における信号表示（「進め」と「止まれ」）、（４）に示すような異なる幾何学図形のそれぞれ個別表示と、両者を組み合わせた同時表示（合成パターン）等を挙げることができる。
【００４７】
表示画像の発光色は、白色光であることが好ましい。具体的には、発光ユニットの構成単位となる有機ＥＬ素子に含まれる複数の発光材料により、白色に発光することが好ましい。このような複数の発光色の組み合わせとしては、青色、緑色、青色の３原色の３種の発光極大波長を有する発光材料を含有させたものでもよいし、青色と黄色、青緑と橙色等の補色の関係を利用した２種の発光極大波長を有する発光材料を含有したものでもよい。
【００４８】
発光色は、「新編色彩科学ハンドブック」（日本色彩学会編、東京大学出版会、１９８５）の１０８頁の図４．１６において、分光放射輝度計ＣＳ−２０００（コニカミノルタ（株）製）で測定した結果をＣＩＥ色度座標に当てはめたときの色で求めることができる。
【００４９】
また、発光パネルが白色に発光するとき、白色とは、２度視野角正面輝度を上記方法により測定した際に、１０００ｃｄ／ｍ２でのＣＩＥ１９３１表色系における色度がＸ＝０．３３±０．０７、Ｙ＝０．３３±０．１の領域内にあることが好ましい。
【００５０】
なお、本発明の発光パネルにおいては、上記で例示したような画像形状を変化させることのほかに、第１発光ユニットと第発光ユニットとで発光色をそれぞれ変化させて表示することもできる。
【００５１】
図２及び図３では、２種の異なる画像を個別に又は同時に表示する場合を説明したが、３層以上の画像を同様に個別に又は同時に表示することもできる。
【００５２】
図５は、赤色、緑色及び青色を発光する３種の発光ユニットを有する表示画像の一例である。階調を有する自然画である図５（Ａ）の画像から、赤色（Ｒ）、青色（Ｂ）及び緑色（Ｇ）の３色に分解したＲＢＧの各々の画像データを基に、赤色、青色及び緑に発光する有機ＥＬ素子にそれぞれ、光照射して、第１発光ユニット（図５（Ｒ））、第２発光ユニット（図５（Ｂ））及び第３発光ユニット（図５（Ｇ））を作製し、これらを積層することで自然画を発光パネルに表示することができる。
【００５３】
この場合、階調を有する画像を表示させる必要があるため、光照射は、図２及び図３で説明した光照射とは異なり、非発光と発光の２つの領域からなる発光パターンではなく、例えば、ＲＧＢ用のそれぞれ階調を有するマスクを介して光照射することにより、ＲＧＢに発光する発光ユニットをそれぞれ作製することができる。あるいは、光照射の強度を、画像の階調に合わせて多段階に変えて直接照射することにより階調を有する発光ユニットを作製することもできる。さらには、網点を用いて３色分解し、３色分解した網点画像を介して光照射することにより、階調を有する発光ユニットを作製することもできる。
【００５４】
ＲＢＧの発光ユニットのそれぞれの発光波長は、赤色（Ｒ）の場合５７０〜６５０ｎｍの範囲内、緑色（Ｇ）の場合５００〜５６９ｎｍの範囲内及び青色（Ｂ）の場合、４４０〜４９９ｎｍの範囲内であることが好ましい。
【００５５】
《発光パネルの製造方法》
本発明の発光パネルの製造方法は、基板上に透明電極を含む一対の電極と有機機能層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子を構成単位とする発光ユニットを複数積層してなり、かつ当該複数の発光ユニットが、個別に又は同時に、電気的に駆動可能である発光パネルの製造方法であって、各発光ユニットの有機エレクトロルミネッセンス素子に光を照射して特定の発光パターンを付与する工程と、前記発光パターンを付与された各発光ユニットを積層する工程と、を有することを特徴とする。
【００５６】
なお、ここでいう「発光パターン」とは、発光ユニットにより表示される図２、図４及び図５に例示したような図案（図の柄や模様）、文字、画像等の画像形状情報や、異なる発光色で発光させた色情報を含む。
【００５７】
本発明の製造方法は（１）有機ＥＬ素子製造工程、（２）光照射工程及び（３）積層工程を含むことが好ましい。
【００５８】
（１）有機ＥＬ素子製造工程
有機ＥＬ素子製造工程は発光ユニットを構成する有機ＥＬ素子を製造する工程である。本発明に係る有機ＥＬ素子は、基板上に透明電極を含む一対の電極と有機機能層を備えている。
【００５９】
まず、基板Ａ１を準備し、当該基板１上に、透明電極の形成物質、例えば、陽極用物質からなる薄膜を１μｍ以下、好ましくは１０〜２００ｎｍの範囲内の厚さになるように、蒸着やスパッタリング等の方法により形成させ、電極Ｂ１を形成する。
【００６０】
次に、この電極Ｂ１上に、有機機能層ユニットＣ１として、例えば、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層等を順に積層して形成する。
【００６１】
これらの各層の形成は、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、蒸着法、印刷法等があるが、均質な層が得られやすく、かつ、ピンホールが生成しにくい等の点から、真空蒸着法又はスピンコート法が特に好ましい。さらに、層ごとに異なる形成法を適用してもよい。これらの各層の形成に蒸着法を採用する場合、その蒸着条件は使用する化合物の種類等により異なるが、一般にボート加熱温度５０〜４５０℃、真空度１×１０−６〜１×１０−２Ｐａ、蒸着速度０．０１〜５０ｎｍ／秒、基板温度−５０〜３００℃、層厚０．１〜５μｍの範囲内で、各条件を適宜選択することが望ましい。
【００６２】
これらの層を形成後、その上に透明電極Ｄ１を形成する。
【００６３】
次いで、透明電極Ｄ１の上に透明封止部材Ｅ１を形成して第１発光ユニットを構成する有機ＥＬ素子を製造する。
【００６４】
同様にして、透明基板Ａ２上に、順次電極Ｂ２、有機機能層ユニットＣ２、透明電極Ｄ２及び透明封止部材Ｅ２を形成して第２発光ユニットを構成する有機ＥＬ素子を製造する。
【００６５】
発光ユニットをさらに設けるときは同様にして所望の数の発光ユニットを構成する有機ＥＬ素子を製造すればよい。
【００６６】
ここで、第１発光ユニットにおける基板Ａ１と基板上の電極Ｂ１は透明である必要はないが、第１発光ユニットの電極（陰極）Ｄ１及び第２発光ユニット以降の電極は透明電極であることが好ましい。このような構成とすることで、発光ユニットで発光する発光パターンを効率よく外部に表示することが可能になる。発光ユニットにおける電極、基板を全て透明とすることもできる。
【００６７】
本発明において透明とは、光波長５５０ｎｍでの光透過率が５０％以上であることをいう。好ましくは光透過率が８０％以上で、より好ましくは光透過率が９０％以上である。
【００６８】
（２）光照射工程
光照射工程は、上記のようにして製造した各発光ユニットの有機エレクトロルミネッセンス素子に光を照射して特定の発光パターンを付与する工程である。
【００６９】
本発明においては、有機ＥＬ素子を作製したあと、各有機ＥＬ素子に個別に異なる発光パターンを付与することができる。透明基板、又は透明電極（封止側）のいずれから光照射してもかまわない。光照射により、発光機能が変調されている領域を形成することができる。
【００７０】
ここで、光照射により発光機能を変調させるとは、光照射により、発光パターンを形成する有機機能層、例えば、正孔輸送材料等の機能を変化させることにより、当該発光ユニットの発光機能を変化させることをいう。光照射の光強度又は照射時間等を適宜調整して、光照射量を制御することにより、当該光照射量に応じて光照射部分の発光輝度を変化させることが可能である。光照射量が多いほど発光輝度は減衰し、光照射量が少ないほど発光輝度の減衰率は小さい。したがって、光照射量が０、すなわち、光未照射の場合には、発光輝度は最大となる。
【００７１】
発光パターンは、上記のように光照射するとき、直接光強度又は照射時間等を適宜調整しても良いし、マスクを介して光照射することにより形成することもできる。光照射に対して透過性の低い例えば金属のマスクを用いることにより、光照射が０と１００％の２つの領域に変調することができる。あるいは、光照射の透過率を多段階有するマスクを用いて光照射することにより、階調を有する画像となるよう発光機能を変調することもできる。
【００７２】
このようなマスクの作製は、例えば、フォトレジストを塗布し、フォトマスクを用いて露光した後に現像を行うフォトリソグラフィープロセス、あるいは電子線リソグラフィープロセスにより行うことができる。
【００７３】
また、カラー画像を扱うには、例えばアドビ社製フォトショップなどの画像編集ソフトを使用し、フルカラー画像データを赤色、緑色、青色に、それぞれ色分解した後に、階調を反転し、３色のマスク画像データを作成、その後赤色、緑色、青色のマスク画像データを再びグレースケールデータに変換し赤色、緑色、青色それぞれのマスク画像データを得ることができる。得られたマスク画像データを上記マスク作製法と同様な方法でマスクを作製できる。
【００７４】
本発明においては、光照射工程において照射される光は、紫外線、可視光線又は赤外線を更に含有していてもよいが、特に、紫外線を含む光照射であることが好ましい。
【００７５】
ここで、本発明でいう紫外線とは、その波長がＸ線よりも長く、可視光線の最短波長より短い電磁波をいい、具体的には波長が１〜４００ｎｍの範囲内のものである。
【００７６】
紫外線の発生手段及び照射手段は、従来公知の装置等により紫外線を発生させ、かつ、照射すればよく、特に限定されない。具体的な光源としては、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、水素（重水素）ランプ、希ガス（キセノン、アルゴン、ヘリウム、ネオンなど）放電ランプ、窒素レーザー、エキシマレーザー（ＸｅＣｌ，ＸｅＦ，ＫｒＦ，ＫｒＣｌなど）、水素レーザー、ハロゲンレーザー、各種可視（ＬＤ）−赤外レーザーの高調波（ＹＡＧレーザーのＴＨＧ（Ｔｈｉｒｄ  ＨａｒｍｏｎｉｃＧｅｎｅｒａｔｉｏｎ）光など）等が挙げられる。
【００７７】
以上により、異なる発光パターンを有する発光ユニットを製造することができる。
【００７８】
（３）積層工程
積層工程は、前記発光パターンが付与された各発光ユニットを積層する工程である。各々の発光ユニットを積層する場合は、各発光ユニットが所定の位置となるように、位置合わせした後で固定することが好ましい。
【００７９】
位置合わせする方法は、各発光ユニットとなる有機ＥＬ素子にアライメントマークを形成し、この印を基準として、光照射して積層しても良いし、各発光ユニットにトンボを焼きこみ、各発光ユニットを発光させた状態で位置合わせしてもよい。アライメントマークやトンボは複数あることが好ましい。各発光ユニットを平行移動、回転等を行って位置合わせを行う。
【００８０】
積層したあと、固定する方法は、機械的に固定しても良いし、接着剤等を用いて固定することもできる。
【００８１】
積層に用いる接着剤は透明性の高いものであれば制限はないが、アクリル系粘着剤等を用いることができる。アクリル系粘着剤としては、例えば、３M社製高透明性接着剤転写テープ等を挙げることができる。
【００８２】
このようにして、異なる発光パターンが付与された各発光ユニットが積層された発光パネルを製造することができる。
【００８３】
このようにして作製された発光パネルは、例えば２種の発光ユニットからなる発光パネルの場合、第１発光ユニットのみを駆動すれば、図２の（Ａ）に示す形状の発光パターンが観測され、第２発光ユニットのみを駆動すれば、図２の（Ｂ）に示す形状の発光パターンが観測される。
【００８４】
第１発光ユニット及び第２発光ユニットの各駆動電圧による電気的駆動は、位置センサー等の情報に基づいて、ドライバー（Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔ）で制御することができる。
【００８５】
《発光ユニットの構成材料》
次いで、発光ユニットを構成する有機ＥＬ素子の各構成要素を詳細に説明する。
【００８６】
〔基板〕
本発明にかかる有機ＥＬ素子に適用可能な基板としては、透明基板が好ましく。例えば、ガラス、プラスチック等の透明材料を挙げることができる。好ましく用いられる透明な透明基板１としては、ガラス、石英、樹脂フィルムを挙げることができる。なかでも樹脂フィルムが好ましい。
【００８７】
ガラス材料としては、例えば、シリカガラス、ソーダ石灰シリカガラス、鉛ガラス、ホウケイ酸塩ガラス、無アルカリガラス等が挙げられる。これらのガラス材料の表面には、隣接する層との密着性、耐久性、平滑性の観点から、必要に応じて、研磨等の物理的処理、無機物又は有機物からなる被膜や、これらの被膜を組み合わせたハイブリッド被膜を形成することができる。
【００８８】
樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類及びそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル及びポリアリレート類、アートン（商品名ＪＳＲ社製）及びアペル（商品名三井化学社製）等のシクロオレフィン系樹脂、等の樹脂フィルムを挙げることができる。
【００８９】
基板の表面は、表面活性処理により清浄されていることが好ましい。このような表面活性処理としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、フレーム処理が挙げられる。
【００９０】
本発明に係る有機ＥＬ素子においては、上記説明した基板上に、必要に応じて、ガスバリアー層を設ける構成であってもよい。
【００９１】
ガスバリアー層を形成した透明基板としては、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２９−１９９２に準拠した方法で測定された温度２５±０．５℃、相対湿度９０±２％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１×１０−３ｇ／ｍ２・２４ｈ以下であることが好ましく、さらには、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６−１９８７に準拠した方法で測定された酸素透過度が、１×１０−３ｍｌ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ（１ａｔｍは、１．０１３２５×１０５Ｐａである）以下であって、温度２５±０．５℃、相対湿度９０±２％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１×１０−３ｇ／ｍ２・２４ｈ以下であることが好ましい。
【００９２】
ガスバリアー層を形成する材料としては、水分や酸素など、有機ＥＬ素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化ケイ素、二酸化ケイ素、窒化ケイ素などの無機物を用いることができる。更に、ガスバリアー層の脆弱性を改良するため、これら無機層と有機材料からなる有機層の積層構造を持たせることがより好ましい。無機層と有機層の積層順については特に制限はないが、両者を交互に複数回積層させることが好ましい。
【００９３】
〔電極〕
第１発光ユニットにおける基板Ａ１と基板上の電極Ｂ１は透明である必要はないが、第１発光ユニットの電極（陰極）Ｄ１及び第２発光ユニット以降の電極は透明電極である。このような構成とすることで、発光ユニットで発光する発光パターンを効率よく外部に表示することが可能になる。発光ユニットにおける電極、基板を全て透明とすることもできる。この場合発光パネルの両側から発光パターンを観察することができる。
【００９４】
透明電極に用いることのできる材料群としては、通常、有機ＥＬ素子の電極形成に使用可能な全ての金属材料を使用することができる。具体的には、アルミニウム、銀、マグネシウム、リチウム、マグネシウム／同混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、インジウム、リチウム／アルミニウム混合物、希土類金属、ＩＴＯ（酸化インジウム・スズ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ：ＩＴＯ））、ＺｎＯ、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２等の酸化物半導体等が挙げられる。
【００９５】
透明電極が薄膜金属により構成されている場合、電極の厚さとしては、５〜３０ｎｍの範囲内であることが好ましく、更に好ましくは５〜２０ｎｍである。
【００９６】
本発明においては、更には、薄膜金属により形成する電極が、銀又は銀を主成分とする合金を用いて構成された薄銀電極であることが好ましく、厚さとしては５〜３０ｎｍの範囲内であることが好ましく、更に好ましくは５〜２０ｎｍである。本発明でいう銀を主成分とする合金とは、合金を構成する金属のうち、銀が占める比率が６０質量％以上であることをいい、好ましくは８０質量％以上である。
【００９７】
＜下地層＞
下地層は、銀又は銀を主成分とする合金を用いて構成された薄銀電極に隣接した層であり、このような下地層は、窒素原子（Ｎ）又は硫黄原子（Ｓ）を含んだ化合物を用いて構成されている。特に、ルイス塩基を含む層であり、ルイス塩基を有する化合物、すなわち非共有電子対を持っている原子を含む化合物を用いて構成されていることが好ましい。このようなルイス塩基を有する化合物としては、窒素含有化合物又は硫黄含有化合物が例示される。
【００９８】
一例として下地層は、窒素含有化合物及び硫黄含有化合物の少なくとも一方又は両方を用いて構成された層であり、それぞれ複数種類の化合物を含有していても良い。また、下地層を構成する化合物は、窒素と硫黄の両方を含有した化合物であっても良い。
【００９９】
下地層を構成する窒素含有化合物は、窒素原子（Ｎ）を含んだ化合物であれば良いが、特に非共有電子対を有する窒素原子を含む有機化合物であることが好ましい。また下地層を構成する硫黄含有化合物は、硫黄（Ｓ）を含んだ化合物であれば良いが、特に非共有電子対を有する硫黄原子を含む有機化合物であることが好ましい。
【０１００】
また、下地層を構成する窒素含有化合物及び硫黄含有化合物が、銀と安定的に結合する、非共有電子対を有する窒素原子又は硫黄原子を含むとき、この窒素原子又は硫黄原子の非共有電子対を［有効非共有電子対］とした場合、この［有効非共有電子対］の含有率が所定範囲であることが好ましい。
【０１０１】
ここで［有効非共有電子対］とは、化学構造式上化合物に含有される窒素原子又は硫黄原子が有する非共有電子対のうち、芳香族性に関与していない非共有電子対であることとする。ここでの芳香族性とは、π電子を持つ原子が環状に並んだ不飽和環状構造を言い、いわゆる「ヒュッケル則」に従う芳香族性であって、環上のπ電子系に含まれる電子の数が「４ｎ＋２」（ｎ＝０、又は自然数）個であることを条件としている。
【０１０２】
以上のような［有効非共有電子対］は、その非共有電子対を備えた窒素原子又は硫黄原子自体が、芳香環を構成するヘテロ原子であるか否かにかかわらず、窒素原子又は硫黄原子が有する非共有電子対が芳香族性と関与しているか否かによって選択される。例えば、ある窒素原子が芳香環を構成するヘテロ原子であっても、その窒素原子が芳香族性に関与しない非共有電子対を有していれば、その非共有電子対は［有効非共有電子対］の一つとしてカウントされる。これに対して、ある窒素原子が芳香環を構成するヘテロ原子でない場合であっても、その窒素原子の非共有電子対の全てが芳香族性に関与していれば、その窒素原子の非共有電子対は［有効非共有電子対］としてカウントされることはない。硫黄原子についても同様である。尚、各化合物において、上述した［有効非共有電子対］の数ｎは、［有効非共有電子対］を有する窒素原子及び硫黄原子の数と一致する。
【０１０３】
特に本実施形態においては、このような化合物の分子量Ｍに対する［有効非共有電子対］の数ｎを、例えば有効非共有電子対含有率（ｎ／Ｍ）と定義する。そして下地層は、この（ｎ／Ｍ）が、２．０×１０−３≦（ｎ／Ｍ）となるように選択された化合物を用いて構成されていることが好ましい。また下地層は、以上のように定義される有効非共有電子対含有率（ｎ／Ｍ）が、３．９×１０−３≦（ｎ／Ｍ）の範囲であればさらに好ましい。
【０１０４】
また下地層は、有効非共有電子対含有率（ｎ／Ｍ）が上述した所定範囲である窒素含有化合物又は硫黄含有化合物を用いて構成されていれば良く、このような化合物のみで構成されていても良く、またこのような化合物と他の化合物とを混合して用いて構成されていても良い。他の化合物は、窒素原子又は硫黄原子が含有されていてもいなくても良く、さらに有効非共有電子対含有率（ｎ／Ｍ）が上述した所定範囲でなくても良い。
【０１０５】
下地層が、複数の化合物を用いて構成されている場合、例えば化合物の混合比に基づき、これらの化合物を混合した混合化合物の分子量Ｍを求め、この分子量Ｍに対しての［有効非共有電子対］の合計の数ｎを、有効非共有電子対含有率（ｎ／Ｍ）の平均値として求め、この値が上述した所定範囲であることが好ましい。つまり下地層自体の有効非共有電子対含有率（ｎ／Ｍ）が所定範囲であることが好ましい。
【０１０６】
また、下地層は、導電性を有する材料で構成されている場合であっても、主たる電極となることはない。このため下地層は、電極として必要な厚さを備えている必要はなく、下地層を備えた透明電極が用いられる電子デバイス中における透明電極の配置状態によって、適切に設定された厚さを有していれば良い。
【０１０７】
次に、下地層を構成する化合物の詳細を、窒素含有化合物（１）、窒素含有化合物（２）、窒素含有化合物（３）、硫黄含有化合物、及び下地層の成膜方法の順に説明する。
【０１０８】
［窒素含有化合物（１）］
下地層を構成する窒素含有化合物は、窒素原子（Ｎ）を含んだ化合物であれば良い。特に、非共有電子対を有する窒素原子を含む有機化合物であり、次のような化合物であることが好ましい。
【０１０９】
以下に、窒素含有化合物を構成する化合物として、上述した有効非共有電子対含有率（ｎ／Ｍ）が、２．０×１０−３≦（ｎ／Ｍ）となる化合物を用いて下地層を構成することで、「銀の凝集を抑える」効果が確実に得られる下地層を設けることが可能になる。このような下地層上には、９ｎｍといった極薄膜でありながらもシート抵抗の測定が可能な銀の透明電極を形成することが可能である。
【０１１０】
以下に、下地層を構成する窒素含有化合物として、上述した有効非共有電子対含有率（ｎ／Ｍ）が２．０×１０−３≦（ｎ／Ｍ）を満たす窒素含有化合物の具体例（例示化合物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．４５）を示す。また、下記表１には、これらの窒素含有化合物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．４５の分子量（Ｍ）、［有効非共有電子対］の個数（ｎ）、及び有効非共有電子対含有率（ｎ／Ｍ）を示す。下記窒素含有化合物Ｎｏ．３３の銅フタロシアニンにおいては、窒素原子が有する非共有電子対のうち銅に配位していない非共有電子対が［有効非共有電子対］としてカウントされる。
【０１１１】
【化１】
2015046364.tif 000002
【０１１２】
【化２】
2015046364.tif 000003
【０１１３】
【化３】
2015046364.tif 000004
【０１１４】
【化４】
2015046364.tif 000005
【０１１５】
【化５】
2015046364.tif 000006
【０１１６】
【化６】
2015046364.tif 000007
【０１１７】
【表１】
2015046364.tif 000008
【０１１８】
［窒素含有化合物（２）］
また下地層を構成する窒素含有化合物としては、以上のような有効非共有電子対含有率（ｎ／Ｍ）が上述した所定範囲である窒素含有化合物（１）の他、この下地層を備えた透明電極が適用される電子デバイスごとに必要とされる性質を有する化合物が用いられる。例えば、この透明電極が、有機電界発光素子の電極として用いられる場合、その成膜性の観点から、下地層を構成する窒素含有化合物としては、以降に説明する一般式（１）〜（６）他で表される窒素含有化合物（２）が用いられる。
【０１１９】
これらの一般式（１）〜（６）他で示される窒素含有化合物の中には、上述した有効非共有電子対含有率（ｎ／Ｍ）の範囲に当てはまる窒素含有化合物も含まれ、このような窒素含有化合物であれば単独で下地層を構成する化合物として用いることができる（上記表１参照）。一方、下記一般式（１）〜（６）他で示される化合物が、上述した有効非共有電子対含有率（ｎ／Ｍ）の範囲に当てはまらない窒素含有化合物であれば、有効非共有電子対含有率（ｎ／Ｍ）が上述した範囲の窒素含有化合物と混合することで下地層を構成する化合物として用いることが好ましい。
【０１２０】
【化７】
2015046364.tif 000009
【０１２１】
上記一般式（１）中におけるＸ１１は、−Ｎ（Ｒ１１）−又は−Ｏ−を表す。また一般式（１）中におけるＥ１０１〜Ｅ１０８は、各々−Ｃ（Ｒ１２）＝又は−Ｎ＝を表す。Ｅ１０１〜Ｅ１０８のうち少なくとも１つは−Ｎ＝である。上記Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれが水素原子（Ｈ）又は置換基を表す。
【０１２２】
この置換基の例としては、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等）、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基等）、アルキニル基（例えば、エチニル基、プロパルギル基等）、芳香族炭化水素基（芳香族炭素環基、アリール基等ともいい、例えば、フェニル基、ｐ−クロロフェニル基、メシチル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントリル基、アズレニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、フェナントリル基、インデニル基、ピレニル基、ビフェニリル基）、芳香族複素環基（例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、キナゾリニル基、カルバゾリル基、カルボリニル基、ジアザカルバゾリル基（上記カルボリニル基のカルボリン環を構成する任意の炭素原子の一つが窒素原子で置き換わったものを示す）、フタラジニル基等）、複素環基（例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等）、シクロアルコキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等）、シクロアルキルチオ基（例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等）、アミド基（例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、２−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミノウレイド基等）、スルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、２−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、２−ピリジルスルフィニル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等）、アリールスルホニル基又はヘテロアリールスルホニル基（例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基等）、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基、ピペリジル基（ピペリジニル基ともいう）、２，２，６，６−テトラメチルピペリジニル基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、フッ化炭化水素基（例えば、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロフェニル基等）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、シリル基（例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等）、リン酸エステル基（例えば、ジヘキシルホスホリル基等）、亜リン酸エステル基（例えばジフェニルホスフィニル基等）、ホスホノ基等が挙げられる。
【０１２３】
これらの置換基の一部は、上記の置換基によってさらに置換されていてもよい。また、これらの置換基は複数が互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１２４】
【化８】
2015046364.tif 000010
【０１２５】
上記一般式（１ａ）で示される化合物は、上記一般式（１）で示される化合物の一形態であり、一般式（１）におけるＸ１１を−Ｎ（Ｒ１１）−とした化合物である。
【０１２６】
【化９】
2015046364.tif 000011
【０１２７】
上記一般式（１ａ−１）で示される化合物は、上記一般式（１ａ）で示される化合物の一形態であり、一般式（１ａ）におけるＥ１０４を−Ｎ＝とした化合物である。
【０１２８】
【化１０】
2015046364.tif 000012
【０１２９】
上記一般式（１ａ−２）で示される化合物は、上記一般式（１ａ）で示される化合物の他の一形態であり、一般式（１ａ）におけるＥ１０３及びＥ１０６を−Ｎ＝とした化合物である。
【０１３０】
【化１１】
2015046364.tif 000013
【０１３１】
上記一般式（１ｂ）で示される化合物は、上記一般式（１）で示される化合物の他の一形態であり、一般式（１）におけるＸ１１を−Ｏ−とし、Ｅ１０４を−Ｎ＝とした化合物である。
【０１３２】
【化１２】
2015046364.tif 000014
【０１３３】
上記一般式（２）は、一般式（１）の一形態でもある。上記一般式（２）の式中、Ｙ２１は、アリーレン基、ヘテロアリーレン基又はそれらの組み合わせからなる２価の連結基を表す。Ｅ２０１〜Ｅ２１６、Ｅ２２１〜Ｅ２３８は、各々−Ｃ（Ｒ２１）＝又は−Ｎ＝を表す。Ｒ２１は水素原子（Ｈ）又は置換基を表す。ただし、Ｅ２２１〜Ｅ２２９の少なくとも１つ、及びＥ２３０〜Ｅ２３８の少なくとも１つは−Ｎ＝を表す。ｋ２１及びｋ２２は０〜４の整数を表すが、ｋ２１＋ｋ２２は２以上の整数である。
【０１３４】
一般式（２）において、Ｙ２１で表されるアリーレン基としては、例えば、ｏ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基、ナフタレンジイル基、アントラセンジイル基、ナフタセンジイル基、ピレンジイル基、ナフチルナフタレンジイル基、ビフェニルジイル基（例えば、［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジイル基、３，３’−ビフェニルジイル基、３，６−ビフェニルジイル基等）、テルフェニルジイル基、クアテルフェニルジイル基、キンクフェニルジイル基、セキシフェニルジイル基、セプチフェニルジイル基、オクチフェニルジイル基、ノビフェニルジイル基、デシフェニルジイル基等が例示される。
【０１３５】
また一般式（２）において、Ｙ２１で表されるヘテロアリーレン基としては、例えば、カルバゾール環、カルボリン環、ジアザカルバゾール環（モノアザカルボリン環ともいい、カルボリン環を構成する炭素原子のひとつが窒素原子で置き換わった構成の環構成を示す）、トリアゾール環、ピロール環、ピリジン環、ピラジン環、キノキサリン環、チオフェン環、オキサジアゾール環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、インドール環からなる群から導出される２価の基等が例示される。
Ｙ２１で表されるアリーレン基、ヘテロアリーレン基又はそれらの組み合わせからなる２価の連結基の好ましい態様としては、ヘテロアリーレン基の中でも、３環以上の環が縮合してなる縮合芳香族複素環から導出される基を含むことが好ましく、また、当該３環以上の環が縮合してなる縮合芳香族複素環から導出される基としては、ジベンゾフラン環から導出される基又はジベンゾチオフェン環から導出される基が好ましい。
【０１３６】
一般式（２）において、Ｅ２０１〜Ｅ２１６、Ｅ２２１〜Ｅ２３８で各々表される−Ｃ（Ｒ２１）＝のＲ２１が置換基である場合、その置換基の例としては、一般式（１）のＲ１１，Ｒ１２として例示した置換基が同様に適用される。
【０１３７】
一般式（２）において、Ｅ２０１〜Ｅ２０８のうちの６つ以上、及びＥ２０９〜Ｅ２１６のうちの６つ以上が、各々−Ｃ（Ｒ２１）＝で表されることが好ましい。
【０１３８】
一般式（２）において、Ｅ２２５〜Ｅ２２９の少なくとも１つ、及びＥ２３４〜Ｅ２３８の少なくとも１つが−Ｎ＝を表すことが好ましい。
【０１３９】
さらには、一般式（２）において、Ｅ２２５〜Ｅ２２９のいずれか１つ、及びＥ２３４〜Ｅ２３８のいずれか１つが−Ｎ＝を表すことが好ましい。
【０１４０】
また、一般式（２）において、Ｅ２２１〜Ｅ２２４及びＥ２３０〜Ｅ２３３が、各々−Ｃ（Ｒ２１）＝で表されることが好ましい態様として挙げられる。
【０１４１】
さらに、一般式（２）で表される化合物において、Ｅ２０３が−Ｃ（Ｒ２１）＝で表され、かつＲ２１が連結部位を表すことが好ましく、さらに、Ｅ２１１も同時に−Ｃ（Ｒ２１）＝で表され、かつＲ２１が連結部位を表すことが好ましい。
【０１４２】
さらに、Ｅ２２５及びＥ２３４が−Ｎ＝で表されることが好ましく、Ｅ２２１〜Ｅ２２４及びＥ２３０〜Ｅ２３３が、各々−Ｃ（Ｒ２１）＝で表されることが好ましい。
【０１４３】
【化１３】
2015046364.tif 000015
【０１４４】
上記一般式（３）は、一般式（１ａ−２）の一形態でもある。上記一般式（３）の式中、Ｅ３０１〜Ｅ３１２は、各々−Ｃ（Ｒ３１）＝を表し、Ｒ３１は水素原子（Ｈ）又は置換基を表す。また、Ｙ３１は、アリーレン基、ヘテロアリーレン基又はそれらの組み合わせからなる２価の連結基を表す。
【０１４５】
上記一般式（３）において、Ｅ３０１〜Ｅ３１２で各々表される−Ｃ（Ｒ３１）＝のＲ３１が置換基である場合、その置換基の例としては、一般式（１）のＲ１１，Ｒ１２として例示した置換基が同様に適用される。
【０１４６】
また一般式（３）において、Ｙ３１で表されるアリーレン基、ヘテロアリーレン基又はそれらの組み合わせからなる２価の連結基の好ましい態様としては、一般式（２）のＹ２１と同様のものが挙げられる。
【０１４７】
【化１４】
2015046364.tif 000016
【０１４８】
上記一般式（４）は、一般式（１ａ−１）の一形態でもある。上記一般式（４）の式中、Ｅ４０１〜Ｅ４１４は、各々−Ｃ（Ｒ４１）＝を表し、Ｒ４１は水素原子（Ｈ）又は置換基を表す。またＡｒ４１は、置換あるいは無置換の、芳香族炭化水素環あるいは芳香族複素環を表す。さらにｋ４１は３以上の整数を表す。
【０１４９】
上記一般式（４）において、Ｅ４０１〜Ｅ４１４で各々表される−Ｃ（Ｒ４１）＝のＲ４１が置換基である場合、その置換基の例としては、一般式（１）のＲ１１、Ｒ１２として例示した置換基が同様に適用される。
【０１５０】
また一般式（４）において、Ａｒ４１が芳香族炭化水素環を表す場合、この芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフタレン環、アズレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ピレン環、クリセン環、ナフタセン環、トリフェニレン環、ｏ−テルフェニル環、ｍ−テルフェニル環、ｐ−テルフェニル環、アセナフテン環、コロネン環、フルオレン環、フルオラントレン環、ナフタセン環、ペンタセン環、ペリレン環、ペンタフェン環、ピセン環、ピレン環、ピラントレン環、アンスラアントレン環等が挙げられる。これらの環は、さらに一般式（１）のＲ１１、Ｒ１２として例示した置換基を有しても良い。
【０１５１】
また一般式（４）において、Ａｒ４１が芳香族複素環を表す場合、この芳香族複素環としては、フラン環、チオフェン環、オキサゾール環、ピロール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、ベンゾイミダゾール環、オキサジアゾール環、トリアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、インドール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノキサリン環、キナゾリン環、フタラジン環、カルバゾール環、アザカルバゾール環等が挙げられる。尚、アザカルバゾール環とは、カルバゾール環を構成するベンゼン環の炭素原子が１つ以上窒素原子で置き換わったものを示す。これらの環は、さらに一般式（１）において、Ｒ１１、Ｒ１２として例示した置換基を有しても良い。
【０１５２】
【化１５】
2015046364.tif 000017
【０１５３】
上記一般式（５）の式中、Ｒ５１は置換基を表す。Ｅ５０１，Ｅ５０２、Ｅ５１１〜Ｅ５１５、Ｅ５２１〜Ｅ５２５は、各々−Ｃ（Ｒ５２）＝又は−Ｎ＝を表す。Ｅ５０３〜Ｅ５０５は、各々−Ｃ（Ｒ５２）＝を表す。Ｒ５２は、水素原子（Ｈ）又は置換基を表す。Ｅ５０１及びＥ５０２のうちの少なくとも１つは−Ｎ＝であり、Ｅ５１１〜Ｅ５１５のうちの少なくとも１つは−Ｎ＝であり、Ｅ５２１〜Ｅ５２５のうちの少なくとも１つは−Ｎ＝である。
【０１５４】
上記一般式（５）において、Ｒ５１が表す置換基及びＲ５２が置換基を表す場合、これらの置換基の例としては、一般式（１）のＲ１１、Ｒ１２として例示した置換基が同様に適用される。
【０１５５】
【化１６】
2015046364.tif 000018
【０１５６】
上記一般式（６）の式中、Ｅ６０１〜Ｅ６１２は、各々−Ｃ（Ｒ６１）＝又は−Ｎ＝を表し、Ｒ６１は水素原子（Ｈ）又は置換基を表す。またＡｒ６１は、置換あるいは無置換の、芳香族炭化水素環あるいは芳香族複素環を表す。
【０１５７】
上記一般式（６）において、Ｅ６０１〜Ｅ６１２で各々表される−Ｃ（Ｒ６１）＝のＲ６１が置換基である場合、その置換基の例としては、一般式（１）のＲ１１、Ｒ１２として例示した置換基が同様に適用される。
【０１５８】
また一般式（６）において、Ａｒ６１が表す、置換あるいは無置換の、芳香族炭化水素環あるいは芳香族複素環は、一般式（４）のＡｒ４１と同様のものが挙げられる。
【０１５９】
［窒素含有化合物（３）］
また下地層を構成するさらに他の窒素含有化合物（３）として、以上のような一般式（１）〜（６）やその他の一般式で表される化合物の他、下記に具体例を示す化合物１〜１３４が例示される。これらの化合物は、電子輸送性又は電子注入性を備えた材料である。
【０１６０】
尚、これらの化合物１〜１３４の中には、上述した有効非共有電子対含有率（ｎ／Ｍ）の範囲に当てはまる化合物も含まれ、このような化合物であれば単独で下地層を構成する化合物として用いることができる。さらに、これらの化合物１〜１３４の中には、上述した一般式（１）〜（６）やその他の一般式に当てはまる化合物もある。
【０１６１】
【化１７】
2015046364.tif 000019
【０１６２】
【化１８】
2015046364.tif 000020
【０１６３】
【化１９】
2015046364.tif 000021
【０１６４】
【化２０】
2015046364.tif 000022
【０１６５】
【化２１】
2015046364.tif 000023
【０１６６】
【化２２】
2015046364.tif 000024
【０１６７】
【化２３】
2015046364.tif 000025
【０１６８】
【化２４】
2015046364.tif 000026
【０１６９】
【化２５】
2015046364.tif 000027
【０１７０】
【化２６】
2015046364.tif 000028
【０１７１】
【化２７】
2015046364.tif 000029
【０１７２】
【化２８】
2015046364.tif 000030
【０１７３】
【化２９】
2015046364.tif 000031
【０１７４】
【化３０】
2015046364.tif 000032
【０１７５】
【化３１】
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【０１７６】
【化３２】
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【０１７７】
【化３３】
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【０１７８】
【化３４】
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【０１７９】
【化３５】
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【０１８０】
【化３６】
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【０１８１】
【化３７】
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【０１８２】
【化３８】
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【０１８３】
【化３９】
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【０１８４】
【化４０】
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【０１８５】
【化４１】
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【０１８６】
【化４２】
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【０１８７】
【化４３】
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【０１８８】
【化４４】
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【０１８９】
【化４５】
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【０１９０】
【化４６】
2015046364.tif 000048
【０１９１】
［窒素含有化合物の合成例］
以下に代表的な化合物の合成例として、化合物５の具体的な合成例を示すが、これに限定されない。
【０１９２】
【化４７】
2015046364.tif 000049
【０１９３】
工程１：（中間体１の合成）
窒素雰囲気下、２，８−ジブロモジベンゾフラン（１．０モル）、カルバゾール（２．０モル）、銅粉末（３．０モル）、炭酸カリウム（１．５モル）を、ＤＭＡｃ（ジメチルアセトアミド）３００ｍｌ中で混合し、１３０℃で２４時間撹拌した。これによって得た反応液を室温まで冷却後、トルエン１Ｌを加え、蒸留水で３回洗浄し、減圧雰囲気下において洗浄物から溶媒を留去し、その残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ｎ−ヘプタン：トルエン＝４：１〜３：１）にて精製し、中間体１を収率８５％で得た。
【０１９４】
工程２：（中間体２の合成）
室温、大気下で中間体１（０．５モル）をＤＭＦ（ジメチルホルムアミド）１００ｍｌに溶解し、ＮＢＳ（Ｎ−ブロモコハク酸イミド）（２．０モル）を加え、一晩室温で撹拌した。得られた沈殿を濾過し、メタノールで洗浄し、中間体２を収率９２％で得た。
【０１９５】
工程３：（化合物５の合成）
窒素雰囲気下、中間体２（０．２５モル）、２−フェニルピリジン（１．０モル）、ルテニウム錯体［（η６−Ｃ６Ｈ６）ＲｕＣｌ２］２（０．０５モル）、トリフェニルホスフィン（０．２モル）、炭酸カリウム（１２モル）を、ＮＭＰ（Ｎ−メチル−２−ピロリドン）３Ｌ中で混合し、１４０℃で一晩撹拌した。
【０１９６】
反応液を室温まで冷却後、ジクロロメタン５Ｌを加え、反応液を濾過した。次いで減圧雰囲気下（８００Ｐａ、８０℃）において濾液から溶媒を留去し、その残渣をシリカゲルフラッシュクロマトグラフィー（ＣＨ２Ｃｌ２：Ｅｔ３Ｎ＝２０：１〜１０：１）にて精製した。
【０１９７】
減圧雰囲気下において、精製物から溶媒を留去した後、その残渣をジクロロメタンに再び溶解し、水で３回洗浄した。洗浄によって得られた物質を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧雰囲気下において乾燥後の物質から溶媒を留去することにより、化合物５を収率６８％で得た。
【０１９８】
［硫黄含有化合物］
下地層を構成する硫黄含有化合物は、分子内にスルフィド結合（チオエーテル結合ともいう。）、ジスルフィド結合、メルカプト基、スルホン基、チオカルボニル結合等を有していればよく、特に、スルフィド結合、メルカプト基であることが好ましい。
【０１９９】
具体的には、下記一般式（７）〜一般式（１０）で表される硫黄含有化合物を挙げることができる。
【０２００】
【化４８】
2015046364.tif 000050
【０２０１】
【化４９】
2015046364.tif 000051
【０２０２】
【化５０】
2015046364.tif 000052
【０２０３】
【化５１】
2015046364.tif 000053
【０２０４】
上記一般式（７）において、Ｒ７１及びＲ７２は、各々置換基を表す。
【０２０５】
Ｒ７１及びＲ７２で表される置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基等が挙げられる。
【０２０６】
上記一般式（８）において、Ｒ７３及びＲ７４は、置換基を表す。
【０２０７】
Ｒ７３及びＲ７４で表される置換基としては、Ｒ７１及びＲ７２と同様の置換基が挙げられる。
【０２０８】
上記一般式（９）において、Ｒ７５は、置換基を表す。
【０２０９】
Ｒ７５で表される置換基としては、Ｒ７１及びＲ７２と同様の置換基が挙げられる。
【０２１０】
上記一般式（１０）において、Ｒ７６は、置換基を表す。
【０２１１】
Ｒ７６で表される置換基としては、Ｒ７１及びＲ７２と同様の置換基が挙げられる。
【０２１２】
以下に、本発明に係る下地層に適用可能な硫黄原子を含有する有機化合物の具体例を挙げる。
【０２１３】
また、一般式（７）で表される化合物の具体例としては、下記１−１〜１−９が挙げられる。
【０２１４】
【化５２】
2015046364.tif 000054
【０２１５】
また、一般式（８）で表される化合物の具体例としては、下記２−１〜２−１１が挙げられる。
【０２１６】
【化５３】
2015046364.tif 000055
【０２１７】
また、一般式（９）で表される化合物の具体例としては、下記３−１〜３−２３が挙げられる。
【０２１８】
【化５４】
2015046364.tif 000056
【０２１９】
【化５５】
2015046364.tif 000057
【０２２０】
また、一般式（１０）で表される化合物の具体例としては、下記４−１が挙げられる。
【０２２１】
【化５６】
2015046364.tif 000058
【０２２２】
［下地層の成膜方法］
以上のような下地層の成膜方法としては、塗布法、インクジェット法、コーティング法、ディップ法などのウェットプロセスを用いる方法や、蒸着法（抵抗加熱法、ＥＢ法など）、スパッタ法、ＣＶＤ法などのドライプロセスを用いる方法などが挙げられる。なかでも蒸着法が好ましく適用される。
【０２２３】
特に、複数の化合物を用いて下地層を成膜する場合であれば、複数の蒸着源から複数の化合物を同時に供給する共蒸着が適用される。また化合物として高分子材料を用いる場合であれば、塗布法が好ましく適用される。この場合、化合物を溶媒に溶解させた塗布液を用いる。化合物を溶解させる溶媒が限定されることはない。さらに、複数の化合物を用いて下地層を成膜する場合であれば、複数の化合物を溶解させることが可能な溶媒を用いて塗布液を調製すれば良い。
【０２２４】
下地層の層厚の上限としては、５０ｎｍ未満であることが好ましく、３０ｎｍ未満であることがより好ましく、１０ｎｍ未満であることが更に好ましく、５ｎｍ未満であることが特に好ましい。層厚を５０ｎｍ未満とすることにより、光学的ロスを最小限に抑えられる。一方、層厚の下限としては、０．０５ｎｍ以上であることが好ましく、０．１ｎｍ以上であることがより好ましく、０．３ｎｍ以上であることが特に好ましい。層厚を０．０５ｎｍ以上とすることにより、下地層の成膜を均一とし、その効果（銀の凝集抑制）を均一とすることができる。
【０２２５】
〔有機機能層〕
次いで、各有機機能層について、電荷注入層、発光層、正孔輸送層、電子輸送層及び阻止層の順に説明する。
【０２２６】
（電荷注入層）
本発明において、電荷注入層は、駆動電圧低下や発光輝度向上のために、電極と発光層の間に設けられる層のことで、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３〜１６６頁）にその詳細が記載されており、正孔注入層と電子注入層とがある。
【０２２７】
電荷注入層としては、正孔注入層であれば、陽極と発光層又は正孔輸送層との間、電子注入層であれば陰極と発光層又は電子輸送層との間に存在させることができる。
【０２２８】
本発明に係る正孔注入層は、駆動電圧低下や発光輝度向上のために、透明電極である陽極に隣接して配置される層であり、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３〜１６６頁）に詳細に記載されている。
【０２２９】
正孔注入層は、特開平９−４５４７９号公報、同９−２６００６２号公報、同８−２８８０６９号公報等にもその詳細が記載されており、正孔注入層に用いられる材料としては、例えば、ポルフィリン誘導体、フタロシアニン誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、トリアリールアミン誘導体、カルバゾール誘導体、インドロカルバゾール誘導体、イソインドール誘導体、アントラセンやナフタレン等のアセン系誘導体、フルオレン誘導体、フルオレノン誘導体、及びポリビニルカルバゾール、芳香族アミンを主鎖又は側鎖に導入した高分子材料又はオリゴマー、ポリシラン、導電性ポリマー又はオリゴマー（例えば、ＰＥＤＯＴ（ポリエチレンジオキシチオフェン）：ＰＳＳ（ポリスチレンスルホン酸）、アニリン系共重合体、ポリアニリン、ポリチオフェン等）等が挙げられる。
【０２３０】
トリアリールアミン誘導体としては、α−ＮＰＤ（４，４′−ビス〔Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ〕ビフェニル）に代表されるベンジジン型や、ＭＴＤＡＴＡ（４，４′，４″−トリス〔Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン）に代表されるスターバースト型、トリアリールアミン連結コア部にフルオレンやアントラセンを有する化合物等が挙げられる。
【０２３１】
また、特表２００３−５１９４３２号公報や特開２００６−１３５１４５号公報等に記載されているようなヘキサアザトリフェニレン誘導体も同様に正孔輸送材料として用いることができる。
【０２３２】
電子注入層は、駆動電圧低下や発光輝度向上のために、陰極と発光層との間に設けられる層のことであり、陰極が本発明に係る透明電極で構成されている場合には、当該透明電極に隣接して設けられ、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３〜１６６頁）に詳細に記載されている。
【０２３３】
電子注入層は、特開平６−３２５８７１号公報、同９−１７５７４号公報、同１０−７４５８６号公報等にもその詳細が記載されており、電子注入層に好ましく用いられる材料の具体例としては、ストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム等に代表されるアルカリ金属化合物、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム等に代表されるアルカリ金属ハライド層、フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類金属化合物層、酸化モリブデン、酸化アルミニウム等に代表される金属酸化物、リチウム８−ヒドロキシキノレート（Ｌｉｑ）等に代表される金属錯体等が挙げられる。
【０２３４】
電子注入層はごく薄い膜であることが望ましく、構成材料にもよるが、その層厚は０．１〜１０μｍの範囲が好ましい。
【０２３５】
（発光層）
本発明の有機ＥＬ素子の有機機能層ユニットを構成する発光層は、発光材料としてリン光発光材料、又は蛍光発光材料が含有されている構成が好ましい。
【０２３６】
この発光層は、電極又は電子輸送層から注入された電子と、正孔輸送層から注入された正孔とが再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層の層内であっても発光層と隣接する層との界面であってもよい。
【０２３７】
このような発光層としては、含まれる発光材料が発光要件を満たしていれば、その構成には特に制限はない。また、同一の発光スペクトルや発光極大波長を有する層が複数層あってもよい。この場合、各発光層間には非発光性の中間層を有していることが好ましい。
【０２３８】
発光層の厚さの総和は、１〜１００ｎｍの範囲内にあることが好ましく、より低い駆動電圧を得ることができることから１〜３０ｎｍの範囲内がさらに好ましい。なお、発光層の厚さの総和とは、発光層間に非発光性の中間層が存在する場合には、当該中間層も含む厚さである。
【０２３９】
本発明においては、発光層の厚さとしては、１〜５０ｎｍの範囲内に調整することが好ましく、さらに好ましくは１〜２０ｎｍの範囲内に調整することがより好ましい。
【０２４０】
以上のような発光層は、後述する発光材料やホスト化合物を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法（ラングミュア・ブロジェット、Ｌａｎｇｍｕｉｒ  Ｂｌｏｄｇｅｔｔ法）及びインクジェット法等の公知の方法により形成することができる。
【０２４１】
また発光層は、複数の発光材料を混合してもよく、リン光発光材料と蛍光発光材料とを同一発光層中に混合して用いてもよい。発光層の構成としては、ホスト化合物及び発光材料を含有し、発光材料より発光させることが好ましい。
【０２４２】
〈ホスト化合物〉
発光層に含有されるホスト化合物としては、室温（２５℃）におけるリン光発光のリン光量子収率が０．１未満の化合物が好ましい。さらにリン光量子収率が０．０１未満であることが好ましい。また、発光層に含有される化合物の中で、その層中での体積比が５０％以上であることが好ましい。
【０２４３】
ホスト化合物としては、公知のホスト化合物を単独で用いてもよく、あるいは、複数種のホスト化合物を用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機電界発光素子を高効率化することができる。また、後述する発光材料を複数種用いることで、異なる発光を混ぜることが可能となり、これにより任意の発光色を得ることができる。
【０２４４】
発光層に用いられるホスト化合物としては、従来公知の低分子化合物でも、繰り返し単位をもつ高分子化合物でもよく、ビニル基やエポキシ基のような重合性基を有する低分子化合物（蒸着重合性ホスト化合物）でもよい。
【０２４５】
公知のホスト化合物としては、正孔輸送能又は電子輸送能を有しつつ、発光の長波長化を防ぎ、かつ高Ｔｇ（ガラス転移点）化合物が好ましい。ここでいうガラス転移点（Ｔｇ）とは、ＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ  Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｃｏｌｏｒｉｍｅｔｒｙ：示差走査熱量法）を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−７１２１に準拠した方法により求められる値である。
【０２４６】
本発明に適用可能なホスト化合物としては、例えば、特開２００１−２５７０７６号公報、同２００２−３０８８５５号公報、同２００１−３１３１７９号公報、同２００２−３１９４９１号公報、同２００１−３５７９７７号公報、同２００２−３３４７８６号公報、同２００２−８８６０号公報、同２００２−３３４７８７号公報、同２００２−１５８７１号公報、同２００２−３３４７８８号公報、同２００２−４３０５６号公報、同２００２−３３４７８９号公報、同２００２−７５６４５号公報、同２００２−３３８５７９号公報、同２００２−１０５４４５号公報、同２００２−３４３５６８号公報、同２００２−１４１１７３号公報、同２００２−３５２９５７号公報、同２００２−２０３６８３号公報、同２００２−３６３２２７号公報、同２００２−２３１４５３号公報、同２００３−３１６５号公報、同２００２−２３４８８８号公報、同２００３−２７０４８号公報、同２００２−２５５９３４号公報、同２００２−２６０８６１号公報、同２００２−２８０１８３号公報、同２００２−２９９０６０号公報、同２００２−３０２５１６号公報、同２００２−３０５０８３号公報、同２００２−３０５０８４号公報、同２００２−３０８８３７号公報、米国特許公開第２００３／０１７５５５３号明細書、米国特許公開第２００６／０２８０９６５号明細書、米国特許公開第２００５／０１１２４０７号明細書、米国特許公開第２００９／００１７３３０号明細書、米国特許公開第２００９／００３０２０２号明細書、米国特許公開第２００５／２３８９１９号明細書、国際公開第２００１／０３９２３４号、国際公開第２００９／０２１１２６号、国際公開第２００８／０５６７４６号、国際公開第２００４／０９３２０７号、国際公開第２００５／０８９０２５号、国際公開第２００７／０６３７９６号、国際公開第２００７／０６３７５４号、国際公開第２００４／１０７８２２号、国際公開第２００５／０３０９００号、国際公開第２００６／１１４９６６号、国際公開第２００９／０８６０２８号、国際公開第２００９／００３８９８号、国際公開第２０１２／０２３９４７号、特開２００８−０７４９３９号公報、特開２００７−２５４２９７号公報、ＥＰ第２０３４５３８号明細書等に記載されている化合物を挙げることができる。
【０２４７】
〈発光材料〉
本発明で用いることのできる発光材料としては、リン光発光材料及び蛍光発光材料が挙げられる。
【０２４８】
〈リン光発光材料〉
リン光発光材料とは、励起三重項からの発光が観測される化合物であり、具体的には室温（２５℃）にてリン光発光する化合物であり、リン光量子収率が２５℃において０．０１以上の化合物であると定義されるが、好ましいリン光量子収率は０．１以上である。
【０２４９】
上記リン光量子収率は、第４版実験化学講座７の分光ＩＩの３９８頁（１９９２年版、丸善）に記載の方法により測定できる。溶液中でのリン光量子収率は、種々の溶媒を用いて測定できるが、本発明においてリン光発光材料を用いる場合、任意の溶媒のいずれかにおいて、上記リン光量子収率として０．０１以上が達成されればよい。
【０２５０】
リン光発光材料の発光の原理としては、二つの方法が挙げられる。一つの方法は、キャリアが輸送されるホスト化合物上で、キャリアの再結合が起こってホスト化合物の励起状態が生成し、このエネルギーをリン光発光材料に移動させることでリン光発光材料からの発光を得るというエネルギー移動型である。もう一つの方法は、リン光発光材料がキャリアトラップとなり、リン光発光材料上でキャリアの再結合が生じ、リン光発光材料からの発光が得られるというキャリアトラップ型である。いずれの場合においても、リン光発光材料の励起状態のエネルギーは、ホスト化合物の励起状態のエネルギーよりも低いことが条件となる。
【０２５１】
リン光発光材料は、一般的な有機ＥＬ素子の発光層に使用される公知のものの中から適宜選択して用いることができるが、好ましくは元素の周期表で８〜１０族の金属を含有する錯体系化合物であり、さらに好ましくはイリジウム化合物、オスミウム化合物、白金化合物（白金錯体系化合物）又は希土類錯体であり、中でも最も好ましいのはイリジウム化合物である。
【０２５２】
本発明においては、少なくとも一つの発光層が、二種以上のリン光発光材料が含有されていてもよく、発光層におけるリン光発光材料の濃度比が発光層の厚さ方向で変化している態様であってもよい。
【０２５３】
本発明に使用できる公知のリン光発光材料の具体例としては、以下の文献に記載されている化合物等が挙げられる。
【０２５４】
Ｎａｔｕｒｅ  ３９５，１５１（１９９８）、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．７８，１６２２（２００１）、Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．１９，７３９（２００７）、Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．１７，３５３２（２００５）、Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．１７，１０５９（２００５）、国際公開第２００９／１００９９１号、国際公開第２００８／１０１８４２号、国際公開第２００３／０４０２５７号、米国特許公開第２００６８３５４６９号明細書、米国特許公開第２００６０２０２１９４号明細書、米国特許公開第２００７００８７３２１号明細書、米国特許公開第２００５０２４４６７３号明細書等に記載の化合物を挙げることができる。
【０２５５】
また、Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４０，１７０４（２００１）、Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．１６，２４８０（２００４）、Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．１６，２００３（２００４）、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．ｌｎｔ．Ｅｄ．２００６，４５，７８００、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．８６，１５３５０５（２００５）、Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．３４，５９２（２００５）、Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．２９０６（２００５）、Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４２，１２４８（２００３）、国際公開第２００９／０５０２９０号、国際公開第２００２／０１５６４５号、国際公開第２００９／０００６７３号、米国特許公開第２００２／００３４６５６号明細書、米国特許第７３３２２３２号明細書、米国特許公開第２００９０１０８７３７号明細書、米国特許公開第２００９００３９７７６号、米国特許第６９２１９１５号、米国特許第６６８７２６６号明細書、米国特許公開第２００７０１９０３５９号明細書、米国特許公開第２００６０００８６７０号明細書、米国特許公開第２００９０１６５８４６号明細書、米国特許公開第２００８００１５３５５号明細書、米国特許第７２５０２２６号明細書、米国特許第７３９６５９８号明細書、米国特許公開第２００６０２６３６３５号明細書、米国特許公開第２００３０１３８６５７号明細書、米国特許公開第２００３０１５２８０２号明細書、米国特許第７０９０９２８号明細書等に記載の化合物を挙げることができる。
【０２５６】
また、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．ｌｎｔ．Ｅｄ．４７，１（２００８）、Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．１８，５１１９（２００６）、Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４６，４３０８（２００７）、Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ  ２３，３７４５（２００４）、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．７４，１３６１（１９９９）、国際公開第２００２／００２７１４号、国際公開第２００６／００９０２４号、国際公開第２００６／０５６４１８号、国際公開第２００５／０１９３７３号、国際公開第２００５／１２３８７３号、国際公開第２００５／１２３８７３号、国際公開第２００７／００４３８０号、国際公開第２００６／０８２７４２号、米国特許公開第２００６／０２５１９２３号明細書、米国特許公開第２００５０２６０４４１号明細書、米国特許第７３９３５９９号明細書、米国特許第７５３４５０５号明細書、米国特許第７４４５８５５号明細書、米国特許公開第２００７０１９０３５９号明細書、米国特許公開第２００８０２９７０３３号明細書、米国特許第７３３８７２２号明細書、米国特許公開第２００２０１３４９８４号明細書、米国特許第７２７９７０４号明細書、米国特許公開第２００６０９８１２０号明細書、米国特許公開第２００６１０３８７４号明細書等に記載の化合物も挙げることができる。
【０２５７】
さらには、国際公開第２００５０７６３８０号、国際公開第２０１００３２６６３号、国際公開第２００８１４０１１５号、国際公開第２００７０５２４３１号、国際公開第２０１１１３４０１３号、国際公開第２０１１１５７３３９号、国際公開第２０１００８６０８９号、国際公開第２００９１１３６４６号、国際公開第２０１２０２０３２７号、国際公開第２０１１０５１４０４号、国際公開第２０１１００４６３９号、国際公開第２０１１０７３１４９号、特開２０１２−０６９７３７号公報、特開２００９−１１４０８６号公報、特開２００３−８１９８８号公報、特開２００２−３０２６７１号公報、特開２００２−３６３５５２号公報等である。
【０２５８】
本発明においては、好ましいリン光発光材料としてはＩｒを中心金属に有する有機金属錯体が挙げられる。さらに好ましくは、金属−炭素結合、金属−窒素結合、金属−酸素結合、金属−硫黄結合の少なくとも１つの配位様式を含む錯体が好ましい。
【０２５９】
上記説明したリン光発光材料は、例えば、Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｅｔｔｅｒ誌、ｖｏｌ３、Ｎｏ．１６、２５７９〜２５８１頁（２００１）、Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第３０巻、第８号、１６８５〜１６８７頁（１９９１年）、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１２３巻、４３０４頁（２００１年）、Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第４０巻、第７号、１７０４〜１７１１頁（２００１年）、Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第４１巻、第１２号、３０５５〜３０６６頁（２００２年）、Ｎｅｗ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ．，第２６巻、１１７１頁（２００２年）、Ｅｕｒｏｐｅａｎ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第４巻、６９５〜７０９頁（２００４年）、さらにこれらの文献中の参考文献等に記載されている方法を適用することにより合成できる。
【０２６０】
〈蛍光発光材料〉
蛍光発光材料としては、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素又は希土類錯体系蛍光体等が挙げられる。
【０２６１】
（正孔輸送層）
正孔輸送層とは正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層及び電子阻止層も正孔輸送層の機能を有する。正孔輸送層は単層又は複数層設けることができる。
【０２６２】
正孔輸送材料としては、正孔の注入又は輸送、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物、無機物のいずれであってもよい。例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、導電性高分子オリゴマー及びチオフェンオリゴマー等が挙げられる。
【０２６３】
正孔輸送材料としては、上記のものを使用することができるが、ポルフィリン化合物、芳香族第３級アミン化合物及びスチリルアミン化合物を用いることができ、特に芳香族第３級アミン化合物を用いることが好ましい。
【０２６４】
芳香族第３級アミン化合物及びスチリルアミン化合物の代表例としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−〔１，１′−ビフェニル〕−４，４′−ジアミン（略称：ＴＰＤ）、２，２−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラ−ｐ−トリル−４，４′−ジアミノビフェニル、１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）−４−フェニルシクロヘキサン、ビス（４−ジメチルアミノ−２−メチルフェニル）フェニルメタン、ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）フェニルメタン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ジ（４−メトキシフェニル）−４，４′−ジアミノビフェニル、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノジフェニルエーテル、４，４′−ビス（ジフェニルアミノ）クオードリフェニル、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ（ｐ−トリル）アミン、４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−〔４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル〕スチルベン、４−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ−（２−ジフェニルビニル）ベンゼン、３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン及びＮ−フェニルカルバゾール等が挙げられる。
【０２６５】
さらには、米国特許第５０６１５６９号明細書に記載されている２個の縮合芳香族環を分子内に有するもの、例えば、４，４′−ビス〔Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ〕ビフェニル（略称：ＮＰＤ）、特開平４−３０８６８８号公報に記載されているトリフェニルアミンユニットが三つスターバースト型に連結された４，４′，４″−トリス〔Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン（略称：ＭＴＤＡＴＡ）等が挙げられる。
【０２６６】
さらに、これらの材料を高分子鎖に導入した、あるいはこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。また、ｐ型−Ｓｉ、ｐ型−ＳｉＣ等の無機化合物も正孔注入材料、正孔輸送材料として使用することができる。
【０２６７】
また、特開平１１−２５１０６７号公報、Ｊ．Ｈｕａｎｇ  ｅｔ．ａｌ．，Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，８０（２００２），ｐ．１３９に記載されているような、いわゆるｐ型正孔輸送材料を用いることもできる。本発明においては、より高効率の発光素子が得られる観点から、これらの材料を用いることが好ましい。
【０２６８】
正孔輸送層は、上記正孔輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法及びＬＢ法（ラングミュア・ブロジェット、Ｌａｎｇｍｕｉｒ  Ｂｌｏｄｇｅｔｔ法）等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。正孔輸送層の層厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍ程度、好ましくは５〜２００ｎｍの範囲である。この正孔輸送層は、上記材料の一種又は二種以上からなる一層構造であってもよい。
【０２６９】
また、正孔輸送層の材料に不純物をドープすることにより、ｐ性を高くすることもできる。その例としては、特開平４−２９７０７６号公報、特開２０００−１９６１４０号公報、同２００１−１０２１７５号公報及びＪ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，９５，５７７３（２００４）等に記載されたものが挙げられる。
【０２７０】
このように、正孔輸送層のｐ性を高くすると、より低消費電力の素子を作製することができるため好ましい。
【０２７１】
（電子輸送層）
電子輸送層は、電子を輸送する機能を有する材料から構成され、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。電子輸送層は、単層構造又は複数層の積層構造として設けることができる。
【０２７２】
単層構造の電子輸送層及び積層構造の電子輸送層において、発光層に隣接する層部分を構成する電子輸送材料（正孔阻止材料を兼ねる）としては、カソードより注入された電子を発光層に伝達する機能を有していれば良い。このような材料としては、従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン、アントロン誘導体及びオキサジアゾール誘導体等が挙げられる。さらに、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送層の材料として用いることができる。さらにこれらの材料を高分子鎖に導入した高分子材料又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。
【０２７３】
また、８−キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス（８−キノリノール）アルミニウム（略称：Ａｌｑ３）、トリス（５，７−ジクロロ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５，７−ジブロモ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（２−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）亜鉛（略称：Ｚｎｑ）等及びこれらの金属錯体の中心金属がＩｎ、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｃａ、Ｓｎ、Ｇａ又はＰｂに置き替わった金属錯体も、電子輸送層の材料として用いることができる。
【０２７４】
その他、メタルフリー又はメタルフタロシアニン若しくはそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基等で置換されているものも、電子輸送層の材料として好ましく用いることができる。また、発光層の材料としても例示されるジスチリルピラジン誘導体も電子輸送層の材料として用いることができるし、正孔注入層及び正孔輸送層と同様にｎ型−Ｓｉ、ｎ型−ＳｉＣ等の無機半導体も電子輸送層の材料として用いることができる。
【０２７５】
電子輸送層は、上記材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法及びＬＢ法等の公知の方法により、薄膜化することで形成することができる。電子輸送層の層厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍ程度、好ましくは５〜２００ｎｍの範囲内である。電子輸送層は上記材料の一種又は二種以上からなる単一構造であってもよい。
【０２７６】
また、電子輸送層に不純物をドープし、ｎ性を高くすることもできる。その例としては、特開平４−２９７０７６号公報、同１０−２７０１７２号公報、特開２０００−１９６１４０号公報、同２００１−１０２１７５号公報及びＪ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，９５，５７７３（２００４）等に記載されたものが挙げられる。さらに、電子輸送層には、カリウムやカリウム化合物などを含有させることが好ましい。カリウム化合物としては、例えば、フッ化カリウム等を用いることができる。このように、電子輸送層のｎ性を高くすることにより、より低消費電力の有機ＥＬ素子を得ることができる。
【０２７７】
また、電子輸送層の材料（電子輸送性化合物）として、上述した中間層を構成する材料と同様のものを用いても良い。これは、電子注入層を兼ねた電子輸送層であっても同様であり、上述した中間層を構成する材料と同様のものを用いても良い。
【０２７８】
（阻止層）
阻止層としては、正孔阻止層及び電子阻止層が挙げられ、上記説明した有機機能層ユニット３の各構成層の他に、必要に応じて設けられる層である。例えば、特開平１１−２０４２５８号公報、同１１−２０４３５９号公報、及び「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の２３７頁等に記載されている正孔阻止（ホールブロック）層等を挙げることができる。
【０２７９】
正孔阻止層とは、広い意味では、電子輸送層の機能を有する。正孔阻止層は、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい正孔阻止材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、電子輸送層の構成を必要に応じて、正孔阻止層として用いることができる。正孔阻止層は、発光層に隣接して設けられていることが好ましい。
【０２８０】
一方、電子阻止層とは、広い意味では、正孔輸送層の機能を有する。電子阻止層は、正孔を輸送する機能を有しつつ、電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、正孔輸送層の構成を必要に応じて電子阻止層として用いることができる。本発明に適用する正孔阻止層の層厚としては、好ましくは３〜１００ｎｍの範囲であり、さらに好ましくは５〜３０ｎｍの範囲である。
【０２８１】
〔透明封止部材〕
本発明の有機ＥＬ素子を封止するのに用いられる封止手段としては、例えば、封止部材Ｅ１と透明電極Ｄ１とを接着剤で接着する方法を挙げることができる。
【０２８２】
透明封止部材としては、有機ＥＬ素子の表示領域を覆うように配置されていればよい。凹板状でも、平板状でもよいが平板状であることが積層工程において位置合わせを容易にできるので好ましい。また透明であることが好ましい。さらに、前記説明した透明基板を透明封止部材として用いても良い。
【０２８３】
本発明に適用可能な透明封止部材としては、例えば、ガラス板、ポリマー板、フィルム、金属板、フィルム等が挙げられる。ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。また、ポリマー板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリサルフォン等を挙げることができる。金属板としては、ステンレス、鉄、銅、アルミニウム、マグネシウム、ニッケル、亜鉛、クロム、チタン、モリブテン、シリコーン、ゲルマニウム及びタンタルからなる群から選ばれる一種以上の金属又は合金が挙げられる。
【０２８４】
透明封止部材としては、有機ＥＬ素子を薄膜化することできる観点から、ポリマーフィルムを好ましく使用することができる。さらに、ポリマーフィルムは、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２９−１９９２に準拠した方法で測定された温度２５±０．５℃、相対湿度９０±２％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１×１０−３ｇ／ｍ２・２４ｈ以下であることが好ましく、さらには、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６−１９８７に準拠した方法で測定された酸素透過度が、１×１０−３ｍｌ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ（１ａｔｍは、１．０１３２５×１０５Ｐａである）以下であって、温度２５±０．５℃、相対湿度９０±２％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１×１０−３ｇ／ｍ２・２４ｈ以下であることが好ましい。
【０２８５】
透明封止部材を凹状に加工するのは、サンドブラスト加工又は化学エッチング加工等が使われる。接着剤としては、具体的には、アクリル酸系オリゴマー、メタクリル酸系オリゴマー等の反応性ビニル基を有する光硬化及び熱硬化型接着剤並びに２−シアノアクリル酸エステル等の湿気硬化型等の接着剤を挙げることができる。また、エポキシ系等の熱及び化学硬化型（二液混合）を挙げることができる。また、ホットメルト型のポリアミド、ポリエステル及びポリオレフィンを挙げることができる。また、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤を挙げることができる。
【０２８６】
なお、有機ＥＬ素子が熱処理により劣化する場合があるので、室温から８０℃までに接着硬化できる接着剤が好ましい。また、接着剤中に乾燥剤を分散させておいてもよい。封止部材への接着剤の塗布は、市販のディスペンサーを使ってもよいし、スクリーン印刷のように印刷してもよい。
【０２８７】
封止部材と有機ＥＬ素子の表示領域との間隙には、気相及び液相では窒素、アルゴン等の不活性気体やフッ化炭化水素、シリコンオイルのような不活性液体を注入することが好ましい。また、封止部材と有機ＥＬ素子の表示領域との間隙を真空とすることや、間隙に吸湿性化合物を封入することもできる。吸湿性化合物としては、例えば、金属酸化物（例えば、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム又は酸化アルミニウム等）、硫酸塩（例えば、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム又は硫酸コバルト等）、金属ハロゲン化物（例えば、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、フッ化セシウム、フッ化タンタル、臭化セリウム、臭化マグネシウム、ヨウ化バリウム又はヨウ化マグネシウム等）及び過塩素酸類（例えば、過塩素酸バリウム又は過塩素酸マグネシウム等）等が挙げられ、硫酸塩、金属ハロゲン化物及び過塩素酸類においては無水物が好適に用いられる。
【０２８８】
《発光パネル》
本発明に係る発光パネルは、透明電極を含む一対の電極と有機機能層を備えた有機ＥＬ素子を構成単位とする発光ユニットを複数積層してなり、かつ当該複数の発光ユニットが、個別に又は同時に、電気的に駆動可能である。具体的には各有機ＥＬ素子の陽極及び陰極に導電性材料（部材）が接続され、更に、配線基板等に接続された、それ自体が独立の機能を有する実装体のことをいう。
【０２８９】
発光パネルには、偏光板、ハーフミラーあるいは黒色フィルター等を具備することにより、非発光時に黒色となることから好ましい。
【０２９０】
〈偏光部材〉
本発明の有機ＥＬモジュールを構成する偏光部材としては、市販の偏光板又は円偏光板が挙げられる。
【０２９１】
偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、代表的なものとして、ポリビニルアルコール系偏光フィルムがある。これは、主に、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと２色性染料を染色させたものとがある。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。偏光膜の厚さとしては、５〜３０μｍの範囲内、好ましくは８〜１５μｍの範囲内である偏光膜が好ましく用いられており、本発明においては、このような偏光膜も好適に用いることができる。偏光板により入射した光の電極による反射を防止することができる。
【０２９２】
また、市販の偏光板保護フィルムを用いることも好ましく、具体的には、ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ４ＵＥＷ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＣＲ−５、ＫＣ４ＦＲ−１、ＫＣ４ＦＲ−２、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ４ＵＥ（以上、コニカミノルタ（株）製）等が挙げられる。
【０２９３】
偏光部材と支持基板とを貼り合わせるために用いられる粘着剤は、光学的に透明であることはもとより、適度な粘弾性や粘着特性を示すものが好ましい。
【０２９４】
具体的には、アクリル系共重合体やエポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーン系ポリマー、ポリエーテル、ブチラール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、合成ゴム等が挙げられる。中でも、アクリル系共重合体は、最も粘着物性を制御しやすく、かつ透明性や耐候性、耐久性などに優れていることから好ましく用いることができる。
【０２９５】
これら粘着剤は、基板上に塗設後、乾燥法、化学硬化法、熱硬化法、熱熔融法、光硬化法等により膜形成させ、硬化させることができる。
【実施例】
【０２９６】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量％」を表す。
【０２９７】
〔実施例１〕
《２種の発光ユニットを有する発光パネルの作製》
図６の構成で示される発光パネル１０を作製した。
【０２９８】
〔有機ＥＬ素子１０の作製〕
下記の方法に従って、図６の構成で示される第１発光ユニット（１０−１Ｕ）を構成する有機ＥＬ素子１を作製した。
【０２９９】
（透明基板の準備）
厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、極高透明品ＰＥＴ  Ｔｙｐｅ  Ｋ）を透明基板として準備した。
【０３００】
下記ポリシラザン含有液を、ワイヤレスバーにて、乾燥後の平均の厚さが３００ｎｍとなるように塗布し、温度８５℃、湿度５５％ＲＨの雰囲気下で１分間加熱処理して乾燥させた。次いで、温度２５℃、湿度１０％ＲＨ（露点温度−８℃）の雰囲気下に１０分間保持し、除湿処理を行って、透明基板上にポリシラザン含有層を形成した。
【０３０１】
次に、ポリシラザン含有層を形成した透明基板を、エキシマ照射装置ＭＥＣＬ−Ｍ−１−２００（株式会社エム・ディ・コム製）の稼動ステージ上に固定し、下記の改質処理条件１で改質処理を行い、３００ｎｍからなるポリシラザン改質層（不図示）を形成し、ガスバリアー層を設けた透明基板１−１を得た。
【０３０２】
〈ポリシラザン含有液〉
ポリシラザン含有液としては、パーヒドロポリシラザン（アクアミカ  ＮＮ１２０−１０、無触媒タイプ、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ（株）製）の１０質量％ジブチルエーテル溶液を調製した。
【０３０３】
〈改質処理条件１〉
照射波長：１７２ｎｍ
ランプ封入ガス：Ｘｅ
エキシマランプ光強度：１３０ｍＷ／ｃｍ２（１７２ｎｍ）
試料と光源の距離：１ｍｍ
ステージ加熱温度：７０℃
照射装置内の酸素濃度：０．５％
エキシマランプ照射時間：５秒
（下地層１−２の形成）
次に、透明基板１−１を、市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定した。また、窒素含有化合物である例示化合物Ｎｏ．７をタンタル製の抵抗加熱ボートに入れた。これらの基板ホルダーと抵抗加熱ボートとを真空蒸着装置の第１真空槽に取り付けた。また、タングステン製の抵抗加熱ボートに銀（Ａｇ）を入れ、真空蒸着装置の第２真空槽内に取り付けた。
【０３０４】
次いで、第１真空槽を４×１０−４Ｐａまで減圧した後、化合物の入った加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／秒〜０．２ｎｍ／秒で基板上に例示化合物Ｎｏ．７で構成された厚さ５ｎｍの下地層１−２を形成した。
【０３０５】
（透明電極１−３の形成）
次に、下地層１−２まで形成した基板を真空のまま第２真空槽に移し、第２真空槽を４×１０−４Ｐａまで減圧した後、銀の入った加熱ボートを通電して加熱した。これにより、蒸着速度０．１ｎｍ／秒〜０．２ｎｍ／秒で、厚さ９ｎｍの銀からなる、発光面積が３０×３０ｍｍの透明電極１−３を形成した。
【０３０６】
（正孔輸送層１−４〜電子輸送層１−６の形成）
有機機能性ユニットＣ１に対応する正孔輸送層１−４〜電子輸送層１−６を以下の順で形成した。
【０３０７】
銀からなる透明電極１−３を有する透明基板１−１をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、ＵＶオゾン洗浄を５分間行った後、この透明基板１−１を市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定した。
【０３０８】
真空蒸着装置内の蒸着用るつぼの各々に、各層の構成材料を、各々素子の作製に最適量を充填した。蒸着用るつぼはモリブデン製又はタングステン製の抵抗加熱用材料で作製されたものを用いた。
【０３０９】
〈正孔輸送層１−４の形成〉
真空度１×１０−４Ｐａまで減圧した後、化合物Ｍ−２の入った蒸着用るつぼに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／秒で透明支持基板に蒸着し、厚さ４０ｎｍの正孔輸送層を形成した。
【０３１０】
〈蛍光発光層１−５ａの形成〉
次いで、化合物ＢＤ−１及び化合物Ｈ−１を用い、化合物ＢＤ−１が５容積％、化合物Ｈ−１が９５容積％になるように蒸着速度０．１ｎｍ／秒で共蒸着し、厚さ１５ｎｍの青色発光を呈する蛍光発光層１−５ａを形成した。
【０３１１】
〈リン光発光層１−５ｂの形成〉
次いで、化合物ＧＤ−１、化合物ＲＤ−１及び化合物Ｈ−２を用い、化合物ＧＤ−１が１７容積％、ＲＤ−１が０．８容積％、化合物Ｈ−２が８２．２容積％となるように蒸着速度０．１ｎｍ／秒で共蒸着し、厚さ１５ｎｍの黄色を呈するリン光発光層１−５ｂを形成した。
【０３１２】
〈電子輸送層１−６の形成〉
その後、化合物Ｅ−１を蒸着速度０．１ｎｍ／秒で蒸着し、厚さ３０ｎｍの電子輸送層１−６を形成した。
【０３１３】
【化５７】
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【０３１４】
（ＬｉＦ層１−７の形成）
さらに、ＬｉＦを厚さ１．５ｎｍとなるように蒸着して、電子注入層であるＬｉＦ層１−７を形成した。
【０３１５】
（Ａｌ層１−８の形成）
さらに、蒸着法によりアルミニウム膜を厚さ１０ｎｍで蒸着して、Ａｌ層１−８を形成した。
【０３１６】
（透明電極１−９の形成）
Ａｌ層１−８の上に透明電極１−３と同様にして、４×１０−４Ｐａまで減圧した後、銀の入った加熱ボートを通電して加熱した。これにより、蒸着速度０．１ｎｍ／秒〜０．２ｎｍ／秒で、厚さ９ｎｍの銀からな透明電極１−９を形成した。
【０３１７】
（透明封止基板１−１０の形成）
前記透明基板と同様に、厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、極高透明品ＰＥＴ  Ｔｙｐｅ  Ｋ）上に、前記と同様のポリシラザン含有液を塗布し、エキシマランプで処理してガスバリアー層を形成して、ガスバリアー層付の透明封止部材１−１０を得た。
【０３１８】
（有機ＥＬ素子１の封止）
透明封止部材１−１０の接着は、接着剤としてエポキシ系熱硬化型接着剤（巴川製紙所社製エレファンＣＳ）を用い、酸素濃度１０ｐｐｍ以下、水分濃度１０ｐｐｍ以下のグローブボックス内で、８０℃、０．０４ＭＰａ荷重下、減圧（１×１０−３ＭＰａ以下）吸引を２０秒、プレスを２０秒の条件で、真空プレスした。
【０３１９】
その後、グローブボックス内で、１１０℃のホットプレート上で３０分間加熱して接着層を熱硬化させ、有機ＥＬ素子１を得た。
【０３２０】
〔光照射工程〕
作製した有機ＥＬ素子１に光照射して第１発光ユニット（１０−１Ｕ）を作製した。
【０３２１】
作製した有機ＥＬ素子１の封止されている側の面上に、図２（Ａ）に対応する矢印のパターンマスク及び紫外線吸収フィルター（五鈴精工硝子株式会社製）を配置した状態で減圧密着させ、ＵＶテスター（岩崎電気株式会社製、ＳＵＶ−Ｗ１５１：１００ｍＷ／ｃｍ２）を用いて、封止されている側から紫外線を３時間照射し、パターニングして第１発光ユニット（１０−１Ｕ）を作製した。
【０３２２】
なお、紫外線吸収フィルターは、３２０ｎｍ以下の波長成分の光透過率が５０％以下のもの（カット波長：３２０ｎｍ）を用いた。
【０３２３】
〔有機ＥＬ素子２の作製〕
下記の方法に従って、図６の構成で示される第２発光ユニット（１０−２Ｕ）を構成する有機ＥＬ素子２を作製した。
【０３２４】
有機ＥＬ素子１の作製と同様にして基板１−１〜封止部材１−１０に対応する基板２−１〜封止部材２−１０からなる有機ＥＬ素子を作製し、これを有機ＥＬ素子２とした。
【０３２５】
〔光照射工程〕
作製した有機ＥＬ素子２に光照射して第２発光ユニット（１０−２Ｕ）を作製した。
【０３２６】
作製した有機ＥＬ素子２の封止されている側の面上に、第１発光ユニットの作製と同様にして図２（Ｂ）に対応する矢印のパターンマスク及び紫外線吸収フィルター（五鈴精工硝子株式会社製）を配置した状態で減圧密着させ、ＵＶテスター（岩崎電気株式会社製、ＳＵＶ−Ｗ１５１：１００ｍＷ／ｃｍ２）を用いて、封止されている側から紫外線を３時間照射し、パターニングして第２発光ユニット（１０−２Ｕ）を作製した。
【０３２７】
なお、紫外線吸収フィルターは、３２０ｎｍ以下の波長成分の光透過率が５０％以下のもの（カット波長：３２０ｎｍ）を用いた。
【０３２８】
〔積層工程〕
上記作製した第１発光ユニット（１０−１Ｕ）の封止部材と第２発光ユニット（１０−２Ｕ）を積層し、発光パネル１０を作製した。具体的には、第１発光ユニットの封止部材と第２発光ユニットの基板側とを接着剤（３M社製高透明性接着剤転写テープ）を用いて接着した。
【０３２９】
《発光パネル１０の評価》
このようにして作製した各発光ユニットを個別に駆動し、図２（Ａ）及び（Ｂ）に示すような発光パターンが、形状精度よく各々発光することを確認できた。
【０３３０】
〔実施例２〕
《３種の発光ユニットを有する発光パネル２０の作製》
図７の構成で示される発光パネル２０を作製した。
【０３３１】
〔有機ＥＬ素子３の作製〕
下記の方法に従って、図７の構成で示される第１発光ユニット（２０−１Ｕ）を構成する有機ＥＬ素子３を作製した。
【０３３２】
有機ＥＬ素子１の作製において、発光層である１−５ａ及び１−５ｂの代わりに以下のように発光層３−５Ｒに代え、それ以外は有機ＥＬ素子１と同様にして赤色に発光する有機ＥＬ素子３を作製した。
【０３３３】
（リン光発光層３−５Ｒの形成）
化合物ＲＤ−１及び化合物Ｈ−２を用い、ＲＤ−１が０．９６容積％、化合物Ｈ−２が９９．０容積％となるように蒸着速度０．１ｎｍ／秒で共蒸着し、厚さ１２．５ｎｍの赤色を呈するリン光発光層３−５Ｒを形成した。
【０３３４】
〔光照射工程〕
作製した有機ＥＬ素子３に光照射して第１発光ユニット（２０−１Ｕ）を作製した。
【０３３５】
作製した有機ＥＬ素子３の封止されている側の面上に、図５（Ａ）に対応する画像から赤色成分を分解したネガマスクを減圧密着させ、ＵＶテスター（岩崎電気株式会社製、ＳＵＶ−Ｗ１５１：１００ｍＷ／ｃｍ２）を用いて、封止されている側から紫外線を３時間照射し、パターニングして第１発光ユニットを作製した。なお画像外の４隅に＋印の位置合わせマークも同時にパターニングして第１発光ユニット（２０−１Ｕ）を作製した。
【０３３６】
なお画像外の４隅に＋印の位置合わせマークも同時にパターニングした。
【０３３７】
〔有機ＥＬ素子４の作製〕
下記の方法に従って、図７の構成で示される第２発光ユニット（２０−２Ｕ）を構成する有機ＥＬ素子４を作製した。
【０３３８】
有機ＥＬ素子１の作製において、発光層である１−５ｂの層を設けなかった。青色発光層１−５ａを４−５Ｂとして用い、それ以外は有機ＥＬ素子１と同様にして青色に発光する有機ＥＬ素子４を作製した。
【０３３９】
〔光照射工程〕
作製した有機ＥＬ素子４に光照射して第２発光ユニットを作製した。
【０３４０】
作製した有機ＥＬ素子４の封止されている側の面上に、図５（Ａ）に対応する画像から青色成分を分解したネガマスクを減圧密着させ、ＵＶテスター（岩崎電気株式会社製、ＳＵＶ−Ｗ１５１：１００ｍＷ／ｃｍ２）を用いて、封止されている側から紫外線を３時間照射し、パターニングして第２発光ユニット（２０−２Ｕ）を作製した。なお画像外の４隅に＋印の位置合わせマークも同時にパターニングした。
【０３４１】
〔有機ＥＬ素子５の作製〕
下記の方法に従って、図７の構成で示される第３発光ユニット（２０−３Ｕ）を構成する有機ＥＬ素子５を作製した。
【０３４２】
有機ＥＬ素子１の作製において、発光層である１−５ａ及び１−５ｂの代わりに以下のように発光層５−５Ｇに代え、それ以外は有機ＥＬ素子１と同様にして緑色に発光する有機ＥＬ素子５を作製した。
【０３４３】
（リン光発光層５−５Ｇの形成）
化合物ＧＤ−１及び化合物Ｈ−２を用い、化合物ＧＤ−１が１７．１容積％、化合物Ｈ−２が８２．９容積％となるように蒸着速度０．１ｎｍ／秒で共蒸着し、厚さ１４．９ｎｍの黄色を呈するリン光発光層５−５Ｇを形成した。
【０３４４】
〔光照射工程〕
作製した有機ＥＬ素子５に光照射して第３発光ユニットを作製した。
【０３４５】
作製した有機ＥＬ素子５の封止されている側の面上に、図５（Ａ）に対応する画像から緑色成分を分解したネガマスクを減圧密着させ、ＵＶテスター（岩崎電気株式会社製、ＳＵＶ−Ｗ１５１：１００ｍＷ／ｃｍ２）を用いて、封止されている側から紫外線を３時間照射し、パターニングして第３発光ユニットを作製した。なお画像外の４隅に＋印の位置合わせマークも同時にパターニングした。
【０３４６】
〔積層工程〕
上記作製した第１発光ユニットの封止部材と第２発光ユニットの基板。及び第２発光ユニットの封止部材と第３発光ユニットの基板を積層し、発光パネル２０を作製した。具体的には、それぞれの発光ユニットを接着剤（３M社製高透明性接着剤転写テープ）を用いて接着した。このとき発光ユニットを通電しながら、４隅に設けた位置合わせ用の＋マークが重なるように目視にて確認して接着した。
【０３４７】
《発光パネル２０の評価》
このようにして作製した各発光ユニットを個別に駆動し、図５（Ｒ）、図５（Ｂ）及び（Ｇ）に示す発光パターンが、形状精度よく各々発光することが確認された。また、３種の発光ユニットを同時に発光させることにより図５（Ａ）の自然画像が、形状精度よく得られることが確認された。
【０３４８】
また、上記作製した発光パネルの封止部材側に、偏光部材、ハーフミラー部材又は黒色フィルターを、接着剤を介して設けて、その機能を評価した結果、良好な表示性能を発現することができることを確認することができた。
【符号の説明】
【０３４９】
１，１０，２０  発光パネル
Ａ１、Ａ２  基板
Ｂ１、Ｂ２  電極（陽極）
Ｃ１、Ｃ２  有機機能層ユニット
Ｄ１、Ｄ２  電極（陰極）
Ｅ１、Ｅ２  透明封止部材
１−１、２−１、３−１、４−１、５−１  基板
１−２、２−２、３−２、４−２、５−２  下地層
１−３、２−３、３−３、４−３、５−３  電極（陽極）
１−４、２−４、３−４、４−５、５−５  正孔輸送層
１−５ａ、１−５ｂ、３−５Ｒ、４−５Ｂ、５−５Ｇ  発光層
１−６、２−６、３−６、４−６、５−６  電子輸送層
１−７、２−７、３−７、４−７、５−７  ＬｉＦ層
１−８、２−８、３−８、４−８、５−８  Ａｌ層
１−９、２−９、３−９、４−９、５−９  電極（陰極）
１−１０、２−１０、３−１０、４−１０、５−１０  封止部材
２１  背景
２２Ａ、２２Ｂ  矢印画像
Ｅ、Ｆ  画像
【図１】
2015046364.tif 000060
【図２】
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【図３】
2015046364.tif 000062
【図４】
2015046364.tif 000063
【図６】
2015046364.tif 000064
【図７】
2015046364.tif 000065
【図５】
2015046364.tif 000066