(57)【要約】【課題】繰り返しの露光処理に供する複数のマスクを一体化した構成により露光処理するようにして、十分な光量により精度良く露光できるようにする。【解決手段】露光工程２０は、搬送ローラ２１に巻き付けて基材２を搬送しながら、搬送ローラ２１に対向するように保持したマスク２２を使用して光配向材料膜を露光処理し、マスク２２は、搬送ローラ２１の円周に沿った折れ線形状又は曲面形状に断面形状が形成され、基材２の搬送方向の上流側から下流側に第１及び第２の領域（１６Ａ及び１６Ｂ）が順次設けられ、第１の領域（１６Ａ）には、露光に供するスリットＳが複数設けられ、第２の領域（１６Ｂ）には、第１の領域（１６Ａ）のスリットＳとは異なる部位の露光に供するスリットＳが複数設けられ、露光工程２０は、第１及び第２の領域（１６Ａ及び１６Ｂ）で偏光面の異なる直線偏光による紫外線を照射して光配向材料膜を順次露光処理する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺透明フィルムによる基材を搬送しながら順次処理して光学フィルムを作製する光学フィルムの製造方法において、
前記基材に光配向材料膜を作製する光配向材料膜作製工程と、
前記光配向材料膜の露光処理により前記基材に光配向膜を作製する露光工程と、
前記光配向膜の上に位相差層を作製する位相差層作製工程とを備え、
前記露光工程は、
搬送ローラに巻き付けて前記基材を搬送しながら、前記搬送ローラに対向するように保持したマスクを使用して前記光配向材料膜を露光処理し、
前記マスクは、
前記搬送ローラの円周に沿った折れ線形状又は曲面形状に断面形状が形成され、
前記基材の搬送方向の上流側から下流側に第１及び第２の領域が順次設けられ、
前記第１の領域には、露光に供するスリットが複数設けられ、
前記第２の領域には、前記第１の領域のスリットとは異なる部位の露光に供するスリットが複数設けられ、
前記露光工程は、
前記第１及び第２の領域で偏光面の異なる直線偏光による紫外線を照射して前記光配向材料膜を順次露光処理する
光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記光学フィルムが、パターン位相差フィルムである
請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
長尺透明フィルムによる基材を搬送しながら、前記基材に設けられた光配向材料膜を順次露光処理して光配向膜を作製する露光装置において、
搬送ローラに巻き付けて前記基材を搬送しながら、前記搬送ローラに対向するように保持したマスクを使用して前記光配向材料膜を露光処理し、
前記マスクは、
前記搬送ローラの円周に沿った折れ線形状又は曲面形状に断面形状が形成され、
前記基材の搬送方向の上流側から下流側に第１及び第２の領域が順次設けられ、
前記第１の領域には、露光に供するスリットが複数設けられ、
前記第２の領域には、前記第１の領域のスリットとは異なる部位の露光に供するスリットが複数設けられ、
前記露光装置は、
前記第１及び第２の領域で偏光面の異なる直線偏光による紫外線を照射して前記光配向材料膜を順次露光処理する
露光装置。
【請求項４】
搬送ローラに巻き付けられて搬送される長尺透明フィルムによる基材の露光処理に供するマスクにおいて、
前記搬送ローラの円周に沿った折れ線形状又は曲面形状に断面形状が形成され、
前記基材の搬送方向の上流側から下流側に第１及び第２の領域が順次設けられ、
前記第１の領域には、露光に供するスリットが複数設けられ、
前記第２の領域には、前記第１の領域のスリットとは異なる部位の露光に供するスリットが複数設けられた
マスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パッシブ方式による３次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムの製造方法等に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、パッシブ方式により３次元画像を表示する画像表示装置が提供されている。ここで図７は、液晶表示パネルを使用したパッシブ方式の画像表示装置を示す概略図である。パッシブ方式の画像表示装置は、垂直方向又は水平方向（この図７の例では、垂直方向）に連続する液晶表示パネルの画素を、順次交互に、右目用及び左目用に割り当て、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動し、これにより右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。また液晶表示パネルのパネル面（視聴者側面）にパターン位相差フィルムを配置し、右目用の画素及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で方向の異なる円偏光に変換する。これによりパッシブ方式では、対応する偏光フィルタを備えてなる眼鏡を装着して、右目用の画像と左目用の画像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供し、３次元画像を表示する。
【０００３】
このためパターン位相差フィルムは、液晶表示パネルにおける画素の設定に対応して、遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）が直交する２種類の帯状領域が順次交互に形成される。なおここでこの隣接する帯状領域の遅相軸方向は、液晶表示パネルに用いられる偏光板の透過軸の向きにより選択され、液晶表示パネルに用いられる偏光板の透過軸が水平方向に対して０度と＋９０度の組合せで用いられる場合は、水平方向に対して、＋４５度と−４５度の組み合わせが採用され、液晶表示パネルに用いられる偏光板の透過軸が水平方向に対して＋４５度と−４５度の組合せで用いられる場合は、０度と＋９０度の組み合わせが採用される。なおこの図７の例では、通常の画像表示装置における呼称に習って画面の長辺方向を水平方向として示す。
【０００４】
このパッシブ方式は、応答速度の遅い画像表示装置でも適用することができ、さらにパターン位相差フィルムと円偏光メガネとを用いた簡易な構成で３次元表示することができる。なおパッシブ方式の画像表示装置では、図７の例による垂直方向に代えて、水平方向に連続する画素を順次交互に右目用及び左目用に振り分ける方法も採用される。
【０００５】
このパッシブ方式に係るパターン位相差フィルムは、画素の割り当てに対応して透過光に位相差を与えるパターン状の位相差層が必要である。パターン位相差フィルムでは、このパターン状の位相差層に対応するように配向能が設定された配向膜が作製される。またこの配向膜の上に、重合性液晶化合物の塗工液を塗工して乾燥硬化させることにより、配向膜の配向規制力で配向させた状態で液晶材料を硬化（固化）させ、これにより位相差層が作製される。また配向膜は、いわゆる光配向の手法を適用して作製する方法（特許文献１）、微細凹凸形状を転写（賦型）して作製する方法が採用されている。
【０００６】
ここで光配向の手法を適用して配向層を作製する場合、上述した２種類の帯状領域に対応する２回の露光処理が必要であり、この２回の露光処理により右目用の画素及び左目用の画素にそれぞれ対応する配向能を設定する。またこのような２回の露光処理による光配向層を作製する方法には、１回目及び２回目の露光処理の１方のみマスクを使用する方法と、１回目及び２回目の露光処理の双方でマスクを使用する方法とがある。
【０００７】
また１回目及び２回目の露光処理の１方のみマスクを使用する方法では、１回目の露光処理でマスクを使用し、２回目の露光処理で全面に紫外線を照射する方法、１回目の露光処理で全面に紫外線を照射し、２回目の露光処理でマスクを使用する方法がある。この１回目及び２回目の１方のみマスクを使用する方法の場合、１回目及び２回目の露光処理で光量のバランスを調整することが必要になり、その結果、光源の能力を十分に生かして十分な配向能を確保できない欠点がある。１回目及び２回目の双方でマスクを使用する方法の場合、１回目及び２回目の１方のみマスクを使用する場合の欠点を解消できるものの、マスクの数が増大することになり、マスクの配置に、高度なアライメントが必要になる欠点がある。
【０００８】
特許文献２には、光配向膜を作製するフィルム材をドラムに押し付けて搬送するようにして、このドラムに対向するようにマスクを配置して露光処理する方法が開示されている。また特許文献３には、この２回の露光処理に供するマスクを一体化することにより、精度良く光配向膜を作製する方法が提案されている。
【０００９】
ところでこの種の光配向膜の作製に供する露光処理では照射対象の温度上昇を避け得ないことにより、冷却機能を備えた大径の搬送ローラに巻き付けてフィルム材を搬送しながら、この搬送ローラに対向するようにマスクを配置して露光処理する。これによりこの冷却機能を備えた搬送ローラによる露光処理の構成に、引用文献３に開示の構成を適用すれば、フィルム材の熱による損傷を有効に回避して一段と高い精度によりパターン位相差フィルムを生産できると考えられる。しかしながら引用文献３に開示の構成を単純に適用したのでは、十分な光量により精度良く露光することが困難になる問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００５−４９８６５号公報
【特許文献２】特開２０１２−０４２５３０号公報
【特許文献３】特表２０１２−５１７０２４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、繰り返しの露光処理に供する複数のマスクを一体化した構成により露光処理するようにして、十分な光量により精度良く露光することができる光学フィルムの製造方法、露光装置及びマスクを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、搬送ローラの円周に沿った折れ線形状又は曲面形状にマスクの断面形状を設定する、との着想に至り、本発明を完成するに至った。
【００１３】
（１）  長尺透明フィルムによる基材を搬送しながら順次処理して光学フィルムを作製する光学フィルムの製造方法において、
前記基材に光配向材料膜を作製する光配向材料膜作製工程と、
前記光配向材料膜の露光処理により前記基材に光配向膜を作製する露光工程と、
前記光配向膜の上に位相差層を作製する位相差層作製工程とを備え、
前記露光工程は、
搬送ローラに巻き付けて前記基材を搬送しながら、前記搬送ローラに対向するように保持したマスクを使用して前記光配向材料膜を露光処理し、
前記マスクは、
前記搬送ローラの円周に沿った折れ線形状又は曲面形状に断面形状が形成され、
前記基材の搬送方向の上流側から下流側に第１及び第２の領域が順次設けられ、
前記第１の領域には、露光に供するスリットが複数設けられ、
前記第２の領域には、前記第１の領域のスリットとは異なる部位の露光に供するスリットが複数設けられ、
前記露光工程は、
前記第１及び第２の領域で偏光面の異なる直線偏光による紫外線を照射して前記光配向材料膜を順次露光処理する。
【００１４】
（１）によれば、基材の搬送方向の上流側から下流側に第１及び第２の領域が順次設けられていることにより、第１及び第２の領域に係る露光処理では、一体化されたマスクにより順次露光処理して精度を向上することができる。また搬送ローラの円周に沿った折れ線形状又は曲面形状に断面形状が形成されてマスクが作製されていることにより、露光精度の低下を有効に回避して、第１及び第２の領域のスリットの長さを十分に長くして露光に供する光量を増大させることができ、これらにより十分な光量により精度良く露光することができる。
【００１５】
（２）  （１）において、
前記光学フィルムが、パターン位相差フィルムである。
【００１６】
（２）によれば、パターン位相差フィルムの製造に関して、十分な光量により精度良く露光することができる。
【００１７】
（３）  長尺透明フィルムによる基材を搬送しながら、前記基材に設けられた光配向材料膜を順次露光処理して光配向膜を作製する露光装置において、
搬送ローラに巻き付けて前記基材を搬送しながら、前記搬送ローラに対向するように保持したマスクを使用して前記光配向材料膜を露光処理し、
前記マスクは、
前記搬送ローラの円周に沿った折れ線形状又は曲面形状に断面形状が形成され、
前記基材の搬送方向の上流側から下流側に第１及び第２の領域が順次設けられ、
前記第１の領域には、露光に供するスリットが複数設けられ、
前記第２の領域には、前記第１の領域のスリットとは異なる部位の露光に供するスリットが複数設けられ、
前記露光装置は、
前記第１及び第２の領域で偏光面の異なる直線偏光による紫外線を照射して前記光配向材料膜を順次露光処理する。
【００１８】
（３）によれば、基材の搬送方向の上流側から下流側に第１及び第２の領域が順次設けられていることにより、第１及び第２の領域に係る露光処理では、一体化されたマスクにより順次露光処理して精度を向上することができる。また搬送ローラの円周に沿った折れ線形状又は曲面形状に断面形状が形成されてマスクが作製されていることにより、露光精度の低下を有効に回避して、第１及び第２の領域のスリットの長さを十分長くして露光に供する光量を増大させることができ、これらにより十分な光量により精度良く露光することができる。
【００１９】
（４）  搬送ローラに巻き付けられて搬送される長尺透明フィルムによる基材の露光処理に供するマスクにおいて、
前記搬送ローラの円周に沿った折れ線形状又は曲面形状に断面形状が形成され、
前記基材の搬送方向の上流側から下流側に第１及び第２の領域が順次設けられ、
前記第１の領域には、露光に供するスリットが複数設けられ、
前記第２の領域には、前記第１の領域のスリットとは異なる部位の露光に供するスリットが複数設けられた。
【００２０】
（４）によれば、基材の搬送方向の上流側から下流側に第１及び第２の領域が順次設けられていることにより、第１及び第２の領域に係る露光処理では、一体化されたマスクにより順次露光処理して精度を向上することができる。また搬送ローラの円周に沿った折れ線形状又は曲面形状に断面形状が形成されてマスクが作製されていることにより、露光精度の低下を有効に回避して、第１及び第２の領域のスリットの長さを十分長くして露光に供する光量を増大させることができ、これらにより十分な光量により精度良く露光することができる。
【発明の効果】
【００２１】
パッシブ方式による３次元画像表示に適用するパターン位相差フィルム等に関して、十分な光量により精度良く露光することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の第１実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。
【図２】図１のパターン位相差フィルムの製造工程を示すフローチャートである。
【図３】図２の露光工程の説明に供する図である。
【図４】図３の露光工程の説明に供する図である。
【図５】他の実施形態に係るマスクの説明に供する図である。
【図６】図５とは異なる他の実施形態に係るマスクの説明に供する図である。
【図７】パッシブ方式による３次元画像表示の説明に供する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
〔第１実施形態〕
図１は、本発明の第１実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。この第１実施形態に係る画像表示装置は、垂直方向（図１においては左右方向）に連続する液晶表示パネルの画素が、順次交互に、右目用の画像を表示する右目用画素、左目用の画像を表示する左目用画素に振り分けられて、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動される。これにより画像表示装置は、右目用の画像を表示する帯状の領域と、左目用の画像を表示する帯状の領域とに表示画面が交互に区分され、右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。この画像表示装置は、この液晶表示パネルのパネル面に、この図１に示すパターン位相差フィルム１が配置され、このパターン位相差フィルム１により右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。これによりこの画像表示装置は、パッシブ方式により所望の立体画像を表示する。
【００２４】
パターン位相差フィルム１は、例えばトリアセチルセルロースやアクリルフィルム等の透明フィルム材による基材２に配向膜３、位相差層４が順次作製される。パターン位相差フィルム１は、位相差層４が液晶材料により形成され、この液晶材料の配向を配向膜３の配向規制力によりパターンニングする。なおこの液晶分子の配向を図１では細長い楕円により示す。このパターンニングにより、パターン位相差フィルム１は、液晶表示パネルにおける画素の割り当てに対応して、一定の幅により、右目用の領域Ａと、左目用の領域Ｂとが順次交互に帯状に形成され、右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。なお透明フィルム材は配向膜３、位相差層４を作製する面の反対側の面に反射防止膜の作製処理等を実行したものを用いることができる。
【００２５】
パターン位相差フィルム１は、光配向材料による光配向材料膜が作製された後、いわゆる光配向の手法によりこの光配向材料膜に直線偏光による紫外線を照射して配向膜３が形成される。ここでこの光配向材料膜に照射する紫外線は、その偏光の方向が右目用の領域Ａと左目用の領域Ｂとで９０度異なるように設定され、これにより位相差層４に設けられる液晶材料に関して、右目用の領域Ａ及び左目用の領域Ｂとで対応する向きに液晶分子を配向させ、透過光に対応する位相差を与える。
【００２６】
図２は、このパターン位相差フィルム１の製造工程を示すフローチャートである。パターン位相差フィルム１の製造工程は、ロールに巻き取った長尺透明フィルム材により基材２が提供され、この基材２をローラより送り出して光配向材料膜が順次作製される（ステップＳＰ１−ＳＰ２）。ここで光配向材料膜は、各種の製造方法を適用することができるものの、この実施の形態では、光配向材料をベンゼン等の溶媒に溶解させた成膜用液体をダイにより塗布した後、乾燥して作製される。なお光配向材料は、光配向の手法を適用可能な各種の材料を適用することができるものの、この実施形態では、例えば光二量化型の材料を使用する。なおこのような光二量化型材料として、シンナメート、クマリン、ベンジリデンフタルイミジン、ベンジリデンアセトフェノン、ジフェニルアセチレン、スチルバゾール、ウラシル、キノリノン、マレインイミド、又はシンナミリデン酢酸誘導体を有するポリマーが挙げられる。中でも、配向規制力が良好である点で、シンナメート、クマリンの一方又は両方を有するポリマーが好ましく用いられる。このような光二量化型材料の具体例としては、例えば特開平９−１１８７１７号公報、特表平１０−５０６４２０号公報、特表２００３−５０５５６１号公報及びＷＯ２０１０／１５０７４８号公報、「Ｍ．Ｓｃｈａｄｔ，Ｋ．Ｓｃｈｍｉｔｔ，Ｖ．Ｋｏｚｉｎｋｏｖ  ａｎｄ  Ｖ．Ｃｈｉｇｒｉｎｏｖ：Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，３１，２１５５（１９９２）」、「Ｍ．Ｓｃｈａｄｔ，Ｈ．Ｓｅｉｂｅｒｌｅ  ａｎｄ  Ａ．Ｓｃｈｕｓｔｅｒ：Ｎａｔｕｒｅ，３８１，２１２（１９９６）」に記載された化合物を挙げることができる。
【００２７】
続いてこの製造工程は、露光工程により紫外線を照射して光配向膜が作製される（ステップＳＰ３）。続いてこの製造工程は、位相差層作製工程において、ダイ等により液晶材料を塗布した後、紫外線の照射によりこの液晶材料を硬化させ、位相差層４が作製される（ステップＳＰ４）。続いてこの製造工程は、必要に応じて反射防止膜の作製処理等を実行した後、切断工程において、所望の大きさに切り出してパターン位相差フィルム１が作製される（ステップＳＰ５−ＳＰ６）。
【００２８】
図３は、この露光工程の詳細を示す図である。この製造工程は、右目用の領域Ａ又は左目用の領域Ｂに対応する部位を遮光したマスク１６Ａを介して、直線偏光による紫外線（偏光紫外線）を照射することにより、遮光されていない側の、左目用の領域Ｂ又は右目用の領域Ａについて、光配向材料膜を所望の方向に配向させる（図３（Ａ））。これによりこの製造工程は、１回目の露光処理を実行する。続いてこの製造工程は、１回目の露光処理とは逆に、左目用領域Ｂ又は右目用領域Ａに対応する部位を遮光したマスク１６Ｂを介して、１回目の露光処理とは偏光方向が９０度異なる直線偏光により、右目用領域Ａ又は左目用領域Ｂを露光処理し、右目用の領域Ａ又は左目用の領域Ｂについて、光配向材料膜を所望の方向に配向させる（図４（Ｂ））。これによりこの製造工程では、それぞれマスクを使用した２回の露光処理により、右目用の領域Ａと左目用の領域Ｂとを順次露光処理して配向膜３を作製する。
【００２９】
図４は、図３のマスク１６Ａ及び１６Ｂに係る露光工程の説明に供する斜視図である。露光工程２０は、冷却機能を備えた大径の搬送ローラ２１に基材２を巻き付けて搬送しながら、この搬送ローラ２１に対向するように配置したマスク２２を使用して露光処理する。
【００３０】
ここでマスク２２は、搬送ローラ２１の回転軸に沿った方向については、同一の断面形状により形成される。またマスク２２は、搬送ローラ２１の円周方向については、搬送ローラ２１の円周に沿った円弧形状により形成される。またマスク２２は、この円弧形状に係る曲面の中心がほぼ搬送ローラ２１の回転中心と一致するように配置される。これにより露光工程２０では、マスク２２の各部で搬送ローラ２１までの距離が同一になるように設定される。
【００３１】
マスク２２は、基材２の搬送に係る上流側と下流側とに２つの領域が設けられ、この上流側の領域に、第１の露光処理に対応するスリットＳが繰り返し形成される。また下流側の領域に、第１の領域のスリットとは異なる部位の露光に供するスリットである、第２の露光処理に対応するスリットＳが繰り返し形成される。これによりマスク２２は、マスク１６Ａ及びマスク１６Ｂを一体化した形状により形成される。
【００３２】
マスク２２は、平板形状の石英ガラスがプレス加工等によりマスク２２の形状に対応する断面円弧形状に加工された後、スパッタリング等により内面側にクロムメッキによる遮光膜が作製され、この遮光膜をエッチングして作製される。マスク２２は、このエッチング処理により、搬送方向の上流側に第１の露光処理に係るマスク１６ＡのスリットＳが作製され、下流側に第２の露光処理に係るマスク１６ＢのスリットＳが作製され、これらにより第１及び第２の露光処理に供するマスク１６Ａ及び１６Ｂが一体化されて、搬送ローラ２１の円周に沿った曲面形状によりマスク２２が作製される。
【００３３】
露光工程２０は、このマスク１６Ａに係る部位とマスク１６Ｂに係る部位とで、それぞれ対応する直線偏光により紫外線を照射し、これにより第１及び第２の露光処理を１枚のマスク２２を使用して実行する。なおこの露光処理においては、第１及び第２の露光処理の１方の露光処理に係る紫外線が他方の露光処理に係るマスク側に漏れ込まないように、例えば遮光板等の遮光手段が適宜設けられる。
【００３４】
このようにして露光処理するにつき、この実施形態では第１及び第２の露光処理に供するマスク１６Ａ及び１６Ｂが一体化されていることにより、マスク１６Ａ及び１６Ｂ間の熱収縮の相違による露光精度の低下を有効に回避することができる。また搬送ローラ２１の円周に沿った曲面形状によりマスク２２が作製されていることにより、搬送ローラ２１に対向する部位の長さを十分に長くして各スリットＳの長さを長くしても、マスクと露光対象との間距離の変化による露光精度の低下を有効に回避することができ、これにより露光光量を十分に確保して高い精度により光配向膜を作製することができる。
【００３５】
この実施形態では、第１及び第２の露光処理に係るマスクを一体化するようにして、搬送ローラの円周に沿った曲面形状にこのマスクの断面形状を設定することにより、十分な光量により精度良く露光することができる。
【００３６】
〔第２実施形態〕
図５は、第２実施形態に係るマスクを示す斜視図である。この実施形態では、マスク２２に代えて、この図５に示すマスク２３が適用される点を除いて、第１実施形態と同様に構成される。
【００３７】
ここでマスク２３は、搬送ローラの円周に沿った折れ線形状に断面形状が形成される。またマスク２３は、平板形状による石英ガラスを貼り合せて一体化した後、内側面にクロムメッキによる遮光膜が形成され、この遮光膜をエッチング処理して作製される。また基材２の搬送に係る上流側及び下流側にそれぞれ第１及び第２の露光処理に係るマスク１６Ａ及び１６Ｂのスリットが形成される。なおマスク２３では、搬送ローラ（搬送ローラに巻き付いて搬送される基材）とマスクのギャップが流れ方向（基材２の搬送方向）で変化するため、スリットの幅をギャップに応じて細くするなどの補正をしても良い。
【００３８】
この実施形態によれば、搬送ローラの円周に沿った折れ線形状に断面形状を設定してマスクを作製するようにして、第１実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００３９】
〔第３実施形態〕
図６は、第３実施形態に係るマスクを示す斜視図である。この実施形態ではこの図６に示すマスク２４が適用される点を除いて、上述の実施形態と同様に構成される。
【００４０】
ここでマスク２４は、第１及び第２の露光処理に係る平板形状によるマスク１６Ａ及び１６Ｂを端部で接続した形状により形成され、これにより搬送ローラの円周に沿った折れ線形状に断面形状が形成される。
【００４１】
この実施形態のように、第１及び第２の露光処理に係る平板形状によるマスク１６Ａ及び１６Ｂを端部で接続した形状により、搬送ローラの円周に沿った折れ線形状に断面形状を形成しても、第１実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００４２】
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に組み合わることができ、上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
【００４３】
すなわち上述の実施形態では、平板形状による石英ガラスを曲げ加工して、又は接続して所望の形状によるマスクを作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、マスクの作製方法には種々の手法を広く適用することができる。また実用上十分な精度を確保できる場合には、金具等により平板形状によるマスク１６Ａ及び１６Ｂを端部で接続して作製してもよい。
【００４４】
また上述の実施形態では、２種類の帯状領域の露光処理に係る構成に本発明を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、３種類以上の帯状領域の露光処理に係る構成に適用するようにしてもよい。
【００４５】
また上述の実施形態では、パターン位相差フィルムに係る光学フィルムに本発明を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、各種の光学フィルムを生産する場合に広く適用することができる。
【符号の説明】
【００４６】
１  パターン位相差フィルム
２  基材
３  配向膜
４  位相差層
１６Ａ、１６Ｂ、２２、２３、２４  マスク
２１  搬送ローラ
【図１】
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【図２】
2015049389.tif 000004
【図３】
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【図４】
2015049389.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
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