(57)【要約】【課題】作業者の労力を軽減でき且つ放射能除染に適用した場合に作業者の安全を確保する。【解決手段】汚水タンク40内の汚水を処理して固体成分を沈殿させるための処理槽50を有し、汚水タンク40内の汚水は、ポンプ64に連結された汚水くみ上げホース62を使って処理槽50に移送される。処理槽50は、フィルタ52で、大気に開放した上方空間54と、気密の下方空間56とに仕切られている。この下方空間56は汚水タンク40と耐圧チューブ70を介して連通され、汚水タンク40の負圧を利用して処理槽50の強制濾過が行われる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
水源から水の供給を受けて高圧水を生成する高圧水生成機と、
負圧を生成するための負圧源と、
負圧源に連結された汚水タンクとを有し、
高圧水生成機の高圧水を吐出しつつ前記汚水タンク内の負圧で吸引して、吸引した汚水を前記汚水タンクに蓄える高圧洗浄システムであって、
前記汚水タンク内の汚水を処理して液体成分と固体成分に分離させて該固体成分を沈殿させるための処理槽と、
前記汚水タンク内の汚水を前記処理槽に移送するために前記汚水タンク内の汚水をくみ上げるポンプに連結された汚水くみ上げホースと、
前記処理槽に配置され、該処理槽を、大気に開放した上方空間と、気密の下方空間とに仕切るフィルタと、
前記処理槽の前記気密の下方空間と前記汚水タンクとを第１の開閉弁を介して連通させる耐圧チューブとを有することを特徴とする高圧洗浄システム。
【請求項２】
前記負圧源がターボブロワーを備え、該ターボブロワーによって負圧を生成する、請求項１に記載の高圧洗浄システム。
【請求項３】
前記処理槽内の汚水に凝集剤を投入して該処理槽内の汚水を固液分離させて固体成分を沈殿させる、請求項１又は２に記載の高圧洗浄システム。
【請求項４】
前記水源が貯水タンクであり、
前記処理槽内の汚水の上水を前記貯水タンクに移送するために前記処理槽内の上水をくみ上げるポンプに連結された上水移送ホースを更に有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の高圧洗浄システム。
【請求項５】
前記上水移送ホースに連結され、前記処理槽内の吸い込み口の高さレベルを任意に変更できる上水吸い込みパイプを更に有する、請求項４に記載の高圧洗浄システム。
【請求項６】
前記処理槽の気密の下方空間がユニット化され、
該ユニットが前記処理槽から脱着可能である、請求項４又は５に記載の高圧洗浄システム。
【請求項７】
前記負圧源に直接又は間接的に連結された真空吸引パイプと、
該真空吸引パイプと前記負圧源との間に配設され、該真空吸引パイプで吸い上げた前記フィルタ上の残留物を捕獲する捕獲容器と、
該真空吸引パイプと前記負圧源との間の連通を開閉する第２の開閉弁とを更に有する請求項１〜６のいずれか一項に記載の高圧洗浄システム。
【請求項８】
前記高圧洗浄システムが放射能除染に適用される、請求項７に記載の高圧洗浄システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、典型的には放射能除染に好適に適用できる高圧洗浄システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
2011年3月の東北地方太平洋沖地震及び津波に伴って発生した福島原子力発電施設の事故は、今現在に至っても環境中に大量の放射性物質を放出し続けるという結果を招いている。福島原子力発電施設の事故によって広範囲に拡散し続けている放射性物質は多種多様な場所に飛散しているため除染対象に分けて効果的な除染技術が種々に提案され、既に実行されている。その一つに、例えば特許文献１に開示のような高圧洗浄機を使って高圧水を壁面や屋根に当てて放射性物質を落とす作業が行われている。しかしながら、この高圧洗浄除染は、作業中に壁面や屋根に当てて除染した後の水が周囲に飛散するという欠点を有し、また、使用後の二次汚染水が下水に流れてしまうという欠点がある。
【０００３】
この問題に対して、ビルのフロアを洗浄するフロア洗浄機を流用することが考えられている。フロア洗浄機は、例えば特許文献２に見られるように、高圧水を噴射しつつ水を吸引する水噴射吸引具であるデッキを備え、デッキをフロアに沿って移動させることで、フロアを高圧水で洗浄しながら水を吸引する機能を有している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１−２３５２５５号公報
【特許文献２】特開２００６−２６０７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
放射性物質で汚染されたコンクリートやアスファルトの路面、屋根、勝手口や玄関のコンクリート面、駐車場のコンクリート地面を市販のフロア洗浄機を使って除染したところ、周囲への汚染拡散を防止できるがコンクリート面に二次汚染水が残ってしまい当初予想した除染効果が得られないことが判明した。
【０００６】
この問題を解決するには、高圧水を吐出しつつ強力な吸引力で吸い取ればよい。しかし、これを長時間に亘って除染作業するには大量の水を必要とし、また、回収した汚水の量も大量となる。ここで大きな問題となるのが、回収した汚水は放射能汚染水である、ということである。また、除染作業は環境への二次汚染を阻止すると共に、除染に携わる作業者の安全性を確保することも重要な課題となる。
【０００７】
本発明の目的は、作業者の労力を軽減でき且つ放射能除染に適用した場合に作業者の安全を確保することのできる高圧洗浄システムを提供することにある。
【０００８】
本発明の更なる目的は、長時間の洗浄作業を連続して行うことができると共に、この洗浄作業に必要とされる水の量を低減することのできる高圧洗浄システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の技術的課題は、本発明によれば、
水源から水の供給を受けて高圧水を生成する高圧水生成機(30)と、
負圧を生成するための負圧源(44)と、
負圧源(44)に連結された汚水タンク(40)とを有し、
高圧水生成機(30)の高圧水を吐出しつつ汚水タンク(40)内の負圧で吸引して、吸引した汚水を汚水タンク(40)に蓄える高圧洗浄システムであって、
汚水タンク(40)内の汚水を処理して液体成分と固体成分に分離させて該固体成分を沈殿させるための処理槽(50)と、
汚水タンク(40)内の汚水を処理槽(50)に移送するために汚水タンク(40)内の汚水をくみ上げるポンプ(64)に連結された汚水くみ上げホース(62)と、
処理槽(50)に配置され、該処理槽(50)を、大気に開放した上方空間(54)と、気密の下方空間(56)とに仕切るフィルタ(52)と、
処理槽(50)の気密の下方空間(56)と汚水タンク(40)とを第１の開閉弁(72)を介して連通させる耐圧チューブ(70)とを有することを特徴とする高圧洗浄システム(100,200)を提供することにより達成される。
【００１０】
本発明の高圧洗浄システムによれば、汚水タンク(40)で回収した汚水を処理槽で処理し、また、処理槽(50)で強制濾過した水を汚水タンク(40)に戻すことから反復的に汚水を処理することができる。そして、処理槽の下方空間(56)を吸い上げて汚水タンク(40)に水を戻すのに、高圧洗浄に必要とされる負圧源(44)を使用することから、別途、処理槽(50)の下方空間(56)を吸い上げるための負圧源又は真空源を用意する必要がない。更に、処理槽の下方空間(56)から吸い上げて汚水タンク(40)に水を戻す作業を高圧洗浄の作業中に行うことができることから、高圧洗浄を連続的に行いながら汚水の処理及び強制濾過した水の回収を行うことができる。
【００１１】
この高圧洗浄システムを除染に適用した場合には、汚水の処理のために汚水タンク(40)内の汚水を例えばバケツやタンクなどを使って、離れた場所に設置されている処理装置まで運ぶ必要がない。したがって、そのための作業員の労力を軽減できるだけでなく、放射能除染に本発明を適用した場合に除染作業に携わる作業者の安全性を確保することができる。
【００１２】
本発明の好ましい実施形態では、水を蓄える貯水タンク(32)を備え、この貯水タンク(32)から高圧水生成機(30)に水が供給される。更に好ましくは、処理槽(50)内の汚水の上水を貯水タンク(32)に移送するために処理槽(50)内の上水をくみ上げるポンプ(80)に連結された上水移送ホース(82)を備えている。
【００１３】
上水を貯水タンク(32)に移送することで、洗浄に使用した水を再利用できる。したがって洗浄作業に必要とされる水の量を大幅に低減できる。そして、処理槽(50)の水を汚水タンク(40)又は貯水タンク(32)に戻す作業は、除染作業を継続しながら行うことができるため、連続した除染作業が可能であり且つ水の実質的な使用量を低減できる。つまり、貯水タンク(32)内の限定的な量の水を使って高圧洗浄を連続的に行いながら汚水の処理及び強制濾過した水の回収を行うことができる。
【００１４】
本発明の他の目的及び作用効果は、次に説明する本発明の好ましい実施例の詳しい説明から明らかになろう。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】第１実施例の高圧洗浄除染システムの全体構成図である。
【図２】図１の高圧洗浄除染システムに組み込まれたデッキの断面図である。
【図３】図１の高圧洗浄除染システムに組み込まれた処理槽での一連の処理を説明するための図である。
【図４】第２実施例の高圧洗浄除染システムの要部を説明するための図である。
【図５】第１、第２の実施例に組み込まれた処理槽の主要部をユニット化する例を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【実施例】
【００１６】
以下に、添付の図面に基づいて本発明の好ましい実施例を説明する。
【００１７】
図１は第１実施例の高圧洗浄システム１００を示す。この高圧洗浄システム１００は放射能除染に適用される。したがって以下の説明において高圧洗浄システム１００を「高圧洗浄除染システム」と呼ぶこととする。高圧洗浄除染システム１００はデッキ２を有し、このデッキ２は回転噴射する高圧水で除染対象面Ｓを洗浄しながら汚水を吸引する機能を有している。
【００１８】
説明の都合上、デッキ２を先に説明すると、このデッキ２は一例に過ぎず、高圧水を吐出し且つ汚水を吸引する機能を有するアタッチメントを採用してもよい。図１を参照して、デッキ２は、作業者が手にして操作するシャフト４の先端に取り付けられている。
【００１９】
図２はデッキ２の構造を説明するための断面図である。デッキ２は、平面視円形の外形輪郭を有する下方に向けて開放したアウター６を有し、アウター６を上下に貫通して延びる鉛直中空管８の下端に水平方向に延びる水平中空管１０が回転自在に組み付けられている。この鉛直中空管８に上記の操作シャフト４が連結されている。
【００２０】
図中、参照符号１２は通水回転機構を示し、この通水回転機構１２を介して鉛直中空管８と水平中空管１０とは互いに連通し且つ鉛直中空管８に対して水平中空管１０は回転自在である。水平中空管１０の両端には、夫々、ノズル１４が下方且つ一方向に傾斜した状態で固設されている。
【００２１】
例えば操作シャフト４を中空管で構成し、この操作シャフト４を通じてデッキ２に高圧水を供給することにより、高圧水は、鉛直中空管８、水平中空管１０を通じて一対の傾斜ノズル１４に供給され、この傾斜ノズル１４から斜め下方に向けて噴射される。そして、この高圧水の噴射の反力で、芝生に散水するスピナーのように、水平中空管１０が一方向に回転する。鉛直中空管８、水平中空管１０、通水回転機構１２は従来から既知であるのでその詳細な説明を省略する。
【００２２】
平面視円形のデッキ２はその周方向に等間隔に離間した例えば３つのキャスター１６を備えているのが除染作業に伴う労力を軽減する上で好ましく、このキャスター１６を図２に示すようにバネを内蔵したクッション機構１８を介してデッキ２に連結することで、凹凸のある除染対象面Ｓでの除染作業を円滑に行うことができる。
【００２３】
図２において、参照符号２０は下方に開放した平面視円形のデッキインナーを示す。デッキ２は、高圧水を噴射する機能と、水を吸引する吸水機構とを有している。具体的には、デッキ２は、そのアウター６及びインナー２０共に下方に垂下するスカート部６ａ、２０ａを備えている。
【００２４】
デッキインナー２０にはそのスカート部２０ａに第１ブラシ２２を有している。他方、デッキアウター６のスカート部６ａには弾発性芯材を備えた蛇腹２４が下方且つ円周方向に連続して設けられるのが好ましく、更に好ましくは、この蛇腹２４の下端に第２ブラシ２６を設けるのが良い。更に好ましくは、デッキアウター６の第２ブラシ２６の周囲及び/又はデッキアウター６のスカート部6aの下端又は蛇腹２４の下端に外部環境との連通を遮断する可撓性シートからなるスクリーンを設けてもよい。
【００２５】
デッキアウター６に弾発性の芯材付きの蛇腹２４を設けたことから、この蛇腹２４によってデッキ２内の負圧を維持することができると共に凹凸のある除染対象面Ｓの凹凸に追従して蛇腹２４が伸縮し、そしてこれに追従してクッション機構１８によってキャスター１６が上下動することから、作業者は除染対象面Ｓの多少の凹凸を気にすることなくスピーディに除染作業を進めることができる。なお、蛇腹２４は周方向に連続していても良いが、変形例として周方向に分割していてもよい。
【００２６】
上記のデッキ２によれば、一対のノズル１４によって噴射された高圧水を、大きな負圧によって吸引することができるため、ほぼその全量を回収することができる。したがって、高圧水で除染対象面Ｓを洗浄する除染作業で問題となる周囲への汚染拡散を防止できるだけでなく、除染対象面Ｓに残留する放射能汚染水の殆どを回収することができる。すなわち、高圧水を使った除染の際に発生し易い二次汚染水の周囲への飛散を防止しつつ二次汚染水の残留無しに除染作業を行うことができる。
【００２７】
図１に戻って、高圧洗浄除染システム１００は、デッキ２に高圧水を供給する高圧水生成機３０を有している。この高圧水生成機３０は、一般的には「高圧洗浄機」と呼ばれている。高圧水生成機３０に供給する水は水道水でもよいが、典型的には搬送可能な貯水タンク３２が用意され、この貯水タンク３２の水が可撓性チューブ３４を通じて高圧水生成機３０に吸い上げされる。高圧水生成機３０及び貯水タンク３２は例えばトラックに搭載して搬送可能である。高圧水生成機３０は、生成した高圧水を第１の耐圧チューブ３６を通じてデッキ２に供給する。第１の耐圧チューブ３６は可撓性である。
【００２８】
高圧洗浄除染システム１００は、前述したように、除染対象面Ｓを高圧洗浄した直後の汚水をデッキ２を通じて回収する機能を有している。デッキ２で回収した汚水は第２の耐圧チューブ３８を通じて吸い上げられ、そして、この汚水は汚水タンク４０に蓄えられる。汚水タンク４０は高い負圧に耐えることのできる圧力タンクで構成されている。汚水タンク４０は第３の耐圧チューブ４２を通じて負圧源４４に接続され、負圧源４４によって汚水タンク４０の内部に負圧が生成される。第２、第３の耐圧チューブ３８、４２は可撓性である。
【００２９】
高圧洗浄除染システム１００は、汚水タンク４０の内部空間に大きな負圧を生成する負圧源４４を有し、この実施例では、負圧源４４として電動モータにファンを取り付けたターボブロワー、具体的には神奈川県横浜市港北区の真空企業株式会社が製造販売するDMシリーズのブロワーが採用されている。もちろん、内燃エンジン式のブロワーであってもよい。負圧源４４としてターボブロワーを採用することにより除染作業に伴う故障がほとんど無いという利点がある。
【００３０】
負圧源４４によって汚水タンク４０の内部空間に負圧が生成され、この負圧を使ってデッキ２は汚水を吸い上げ、デッキ２で吸い上げた汚水が汚水タンク４０の中に収容される。汚水タンク４０の中にはフィルタ４６が脱着可能に設置されている。デッキ２で吸い上げた汚水は、第２の耐圧チューブ３８を通じて汚水タンク４０の中に吐出された直後にサンドフィルタ４６によって、汚水に混入している砂、小石などが捕獲される。
【００３１】
高圧洗浄除染システム１００は、汚水タンク４０の中の汚水を取り込んで、汚水を水と固体とに分離させる処理槽５０を更に有している。
【００３２】
処理槽５０は脱水フィルタ５２によって仕切られた上方空間５４と下方空間５６とを有し、上方空間５４は開放空間である。他方、下方空間５６は気密空間である。脱水フィルタ５２は、多孔のベースプレート５８と、その上の濾布６０とで構成されている。処理槽５０は車両で搬送可能である。
【００３３】
処理槽５０には、汚水汲み上げホース６２を通じて汚水タンク４０内の汚水が供給される。汚水汲み上げホース６２は電動ポンプ６４に組み付けられており、この電動ポンプ６４によって汚水タンク４０内の汚水が処理槽５０に移送される。電動ポンプ６４は第１のスイッチ６６によってＯＮ/ＯＦＦ制御される。この第１のスイッチ６６はマニュアル式のスイッチであってもよいが、この実施例では、汚水タンク４０内に配置されたフロート（図示せず）の上下変位に連動してＯＮ／ＯＦＦする自動スイッチが採用されている。これにより汚水タンク４０内の水位が所定の第１レベルを超えたときに第１のスイッチ６６がＯＮして汚水が処理槽５０に移送され、所定の第２レベルを下回ったときに第１スイッチ６６がＯＦＦする。
【００３４】
処理槽５０の下方空間５６は第４の耐圧チューブ７０を通じて汚水タンク４０に連通されている。高圧洗浄除染システム１００は、処理槽５０の下方空間５６と汚水タンク４０との連通関係をＯＮ/ＯＦＦする開閉弁７２を更に有する。この実施例では、処理槽５０の下方空間５６に通じるパイプ７４にマニュアル式の上記開閉弁７２が介装され、このパイプ７４に上記第４の耐圧チューブ７０が接続されている。処理槽５０のマニュアル式開閉弁７２を開くことにより、汚水タンク４０の負圧によって処理槽５０の下方空間５６に負圧が生成され、後に説明する濾過水が下方空間５６から汚水タンク４０に吸い上げられる。
【００３５】
処理槽５０で固液分離した上水は上水移送ポンプ８０によって汲み上げることができ、この上水はホース８２を通じて貯水タンク３２に供給される。これにより処理槽５０の上水は再び高圧洗浄除染に再利用される。すなわち、高圧洗浄除染システム１００は、貯水タンク３２の中の水を高圧洗浄に使用し、そしてこれを直ちに回収し、回収した汚水を固液分離した後に再び高圧洗浄に利用するという水の循環系が作られている。
【００３６】
図２、図３を参照して処理槽５０内の汚水処理を説明する。前述したように汚水タンク４０内の汚水は所定のレベルに達するとポンプ６４が動作して処理槽５０に移送される。図３の（Ｉ）は、処理槽５０の水位が所定のレベルに達した状態を示す。作業員が処理槽５０の水位レベルを目視で確認し、所定のレベルに達したと判断したときには所定量の凝集剤を処理槽５０に投入すると共に攪拌機６８を動作させる（図３の（II））。
【００３７】
凝集剤を処理槽５０に投入することにより、汚水は固体成分と液体成分に分離し、固体成分が沈殿する。この状態を図３の（III）に示す。図中、参照符号８６は上水を示し、８８は固体成分を示す。固体成分８８が十分に沈殿したら、上水移送ポンプ８０を動作させて、処理槽５０内の上水を貯水タンク３２に移動させる。上水移送ポンプ８０の動作はスイッチ９０のＯＮ/ＯＦＦによって制御される。好ましくは、このスイッチ９０はマニュアル式であるのが良い。
【００３８】
上水移送ポンプ８０に接続した上水吸い込みパイプ９２は上下に変位可能であるのが好ましく、上水８６の水位レベルが低下するに応じて上水吸い込みパイプ９２の吸い込み口９２ａを下方に変位させるのがよい。上水吸い込みパイプ９２を使って適当なレベルまで上水を貯水タンク３２に移したら、上水移送ポンプ８０の動作を停止させる。この状態を図３の（IV）に図示してある。
【００３９】
次いで、処理槽５０の気密の下方空間５６に関係したマニュアル式開閉弁７２を開く。開閉弁７２が開弁することにより、下方空間５６は汚水タンク４０に連通し、汚水タンク４０の負圧によって処理槽５０内の残留液は濾布６０を通じて強制的に濾過される。これにより処理槽５０の液体成分は、濾布６０を通過して下方空間５６に入り、また、汚水タンク４０に吸引される。この強制濾過が完了したらマニュアル式開閉弁７２を閉じる。
【００４０】
図３の（V）は強制濾過後の汚水タンク４０の状態を示す。濾布６０の上の固体成分８８は殆ど乾燥した緻密なケーク状の残留物９４になっている。このケーク状の残留物９４は、好ましくは後に説明する真空吸引パイプ９６（図４）によって濾布６０の上から取り除くことができる（図３の（VI））。
【００４１】
上述した第１実施例の高圧洗浄除染システム１００によれば、貯水タンク３２の水を何回も除染に使用することができる。換言すれば、除染のために必要とされる水の量を低減することができる。また、除染作業中にこの除染作業を中断することなく、汚水タンク４０内の汚水を処理槽５０に移送し、また、この処理槽５０でケーク状の残留物９４を生成し、また、汚水タンク４０内の水を除染に再利用することができる。したがって、長時間に亘って作業を中断することなく除染作業をおこなうことができる。
【００４２】
また、この一連の作業は作業者の手を汚すことのないクローズドシステムによって行われるため作業者の安全性を確保することができる。更に、本来的に除染作業のために必要とされる負圧源４４を使って処理槽５０でケーク状の残留物９４を生成することから、このケーク状の残留物９４を生成するために、別途、負圧源（真空源）を必要としない。
【００４３】
図４は、第２実施例の高圧洗浄除染システム２００を示す。上述した第１実施例の高圧洗浄除染システム１００と同じ要素には同じ参照符号を付すことによりその説明を省略し、この第２実施例のシステム２００の特徴部分だけを説明する。
【００４４】
第２実施例の高圧洗浄除染システム２００は、前述した真空吸引パイプ９６を備えている。この真空吸引パイプ９６は気密のケーク捕獲容器２０２を有し、このケーク捕獲容器２０２はマニュアル式の開閉弁２０４を介して耐圧チューブ２０６を通じて汚水タンク４０に連通されている。変形例として、ケーク捕獲容器２０２を開閉弁２０４を介して負圧源４４に連通させてもよい。開閉弁２０４を開くことで、真空吸引パイプ９６は汚水タンク４０の負圧を使って真空引きすることができる。
【００４５】
図３の（VI）を参照して前述したように、このケーク状の残留物９４は真空吸引パイプ９６を使って吸引することで、ケーク捕獲容器２０２の濾布２０８上に捕獲される（図４）。ケーク捕獲容器２０２の中に所定量のケーク状残留物９４が溜まったら、ケーク捕獲容器２０２から濾布２０８と一緒に取り出す。そして、取り出したケーク状残留物９４を濾布２０８と一緒に遮蔽容器（図示せず）に収容するのが好ましい。
【００４６】
この第２実施例によれば、捕獲したケーク状残留物９４を遮蔽容器に収容するまで作業者の手を汚すことはない。勿論、遮蔽容器に収容した後も作業者の手を汚すことはない。したがって、作業者の安全性を確保することができる。また、ケーク状残留物９４を捕集するのに、本来的に除染作業のために必要とされる負圧源４４を使って真空引きすることから、このケーク状の残留物９４を捕集するために、別途、負圧源（真空源）を必要としない。
【００４７】
図５は、処理槽５０の好ましい具体例を示す。処理槽５０の気密の下方空間５６は、開放タンク２１０の上から脱着可能なユニット２１２で構成するのが良い。勿論、このユニット２１２は濾布６０及び気密室２１４、パイプ７４を有し、この気密室２１４は、ユニット２１２を開放タンク２１０の中に収容した後にパイプ７４に第４の耐圧チューブ７０（図１）を接続することにより汚水タンク４０と連通可能になる。
【００４８】
以上、本発明の実施例を説明したが、デッキ２に供給する高圧水を加温して温水で除染するのが除染効果を高める上で好ましい。また、使用する水に酢酸を添加し酢酸水（例えば３％程度の酢酸水）を使用するのがセシウムを除去するのに好ましい。
【産業上の利用可能性】
【００４９】
本発明の高圧洗浄システムは、例えば火山噴火地帯での火山灰の除去にも適用できる。
【符号の説明】
【００５０】
１００  高圧洗浄システム（高圧洗浄除染システム）
２  デッキ
Ｓ  除染対象面
３０  高圧水生成機
３２  貯水タンク
３４  可撓性チューブ（貯水タンク−高圧水生成機）
３６  第１の耐圧チューブ（高圧水供給）
３８  第２の耐圧チューブ（デッキから吸引）
４０  汚水タンク
４２  第３の耐圧チューブ（負圧源と汚水タンク）
４４  負圧源
５０  処理槽（固液分離槽）
５２  脱水フィルタ
５４  上方空間（開放空間）
５６  下方空間（気密空間）
６２  汚水汲み上げホース
６４  ポンプ（汚水汲み上げホース）
６８  攪拌機
７０  第４の耐圧チューブ（強制濾過）
７２  開閉弁
７４  下方空間に連通したパイプ
８０  上水移送ポンプ
８２  上水移送ホース
８６  上水（固液分離槽）
８８  固体成分（固液分離槽）
９２  上水吸い込みパイプ
９２ａ  吸い込み口
９４  ケーク状の残留物
９６  残留物を吸い取るための真空吸引パイプ
２００  第２実施例の高圧洗浄除染システム
２０２  ケーク捕獲容器
２０４  開閉弁（マニュアル）
２１０  処理槽の開放タンク
２１２  処理槽内に脱着可能なユニット
２１４  ユニットの気密室
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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