(57)【要約】電磁的及び機械的エネルギーによる皮膚処置に使用する装置である。エネルギーは、アプリケータを使用して爪板及び通常爪板により覆われる組織に適用される。これは、皮膚真菌症の病原体に影響を与えるのに十分な温度まで爪板及び組織を加熱すれば十分である。
2013523206.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
皮膚真菌症の処置に使用される装置であって、
少なくとも一つのＲＦ電極を含み、ＲＦエネルギー、光放射エネルギー、及び超音波エネルギーからなる群から選択される少なくとも一つの形態のエネルギーを、爪板及び通常爪板により覆われる組織の少なくとも一つに適用するべく動作可能なアプリケータであって、皮膚真菌症の病原体に影響を与えるのに十分な温度まで前記爪板及び組織を加熱するアプリケータと、
通常前記爪板により覆われる前記組織の温度を受信かつ分析するべく動作可能な少なくとも一つの熱モニタリング機構と
を含む装置。
【請求項２】
前記光放射エネルギーは４００ｎｍから２０００ｎｍの波長内にある、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記アプリケータは、前記爪板を通して４００ｎｍから２０００ｎｍの波長を有する放射線を適用するべく動作可能である、請求項１又は２に記載の装置。
【請求項４】
前記アプリケータは、通常前記爪板により覆われる組織に４００ｎｍから２０００ｎｍの波長を有する放射線を適用するべく動作可能である、請求項１又は２に記載の装置。
【請求項５】
前記アプリケータは、前記皮膚にＲＦエネルギーを適用するべく動作可能な少なくとも２つのＲＦ電極をさらに含み、前記ＲＦ電極同士の距離が調整可能である、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記アプリケータはまた、前記皮膚にＲＦエネルギーを適用するべく動作可能な少なくとも２つのＲＦ電極を含み、前記電極は、前記電極と前記皮膚との適切な結合を可能とするべく調整可能である、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記ＲＦエネルギーは、少なくとも２つのばね付勢ＲＦ電極を含むアプリケータにより前記皮膚に適用され、前記電極同士の距離が自動的に調整可能である、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記ＲＦエネルギーは、少なくとも一つのＲＦ電極を含むアプリケータにより適用される、請求項２に記載の装置。
【請求項９】
前記ＲＦエネルギーは、離間パターンに配列された複数の電圧適用素子により適用される、請求項２に記載の装置。
【請求項１０】
前記ＲＦエネルギーは連続又はパルスモードで適用される、請求項２に記載の装置。
【請求項１１】
前記組織に生成される熱は、被処置組織及びまわりの組織に望ましくない損傷をもたらすことなく前記真菌症の病原体に影響を与えるのに十分である、請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
前記超音波エネルギーは、少なくとも一つの超音波トランスデューサを含むアプリケータにより調整可能な角度にて前記組織に適用される、請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
前記超音波エネルギーは、前記組織に適用される超音波ビームを一の入射角にて放出するべく動作可能な少なくとも一つの超音波トランスデューサを含むアプリケータにより適用され、放出された前記ビームの少なくとも一部の伝播が所望組織層においてもたらされる、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
前記超音波エネルギーは、通常爪板により覆われる組織に超音波エネルギーを適用するべく、かつ、前記病原体に影響を与えるのに十分な熱を前記組織に生成するべく動作可能な少なくとも一つの超音波トランスデューサを含むアプリケータにより適用される、請求項１に記載の装置。
【請求項１５】
前記超音波エネルギーは、超音波ビームの前記組織への放出及び前記組織からの受け入れの少なくとも一つを行うべく、かつ、放出され及び受け入れられたビーム信号をコントローラへ通信するべく動作可能な少なくとも一つの超音波トランスデューサを含むアプリケータにより適用され、前記コントローラは、前記組織を通る前記ビームの伝播速度の変化を分析して前記組織の温度の変化を決定する、請求項１に記載の装置。
【請求項１６】
前記装置は、インピーダンス及び超音波伝播速度からなる群から選択される少なくとも一つの温度変化インジケータをさらに含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１７】
前記ＲＦ電極は、離間パターンで配列された複数の電圧適用素子の一パターンを一表面上に有する少なくとも一つのキャリアを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１８】
前記ＲＦ電極は、
離間パターンで配列された複数の電圧適用素子の一パターンを一表面上に有する少なくとも一つのキャリアと、
前記ＲＦ電極を使用して、前記通常爪により覆われる組織にわたる熱領域に直線掃引波効果を適用し、前記真菌症の病原体に影響を与えるべく動作可能なコントローラと
を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１９】
前記加熱された直線領域に適用される連続した掃引組織加熱波効果同士の時間間隔が、人間の皮膚の熱緩和時間よりも長い、請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
温度を感知するべく動作可能な少なくとも一つのセンサと、
インピーダンス及び超音波伝播速度からなる群から選択される少なくとも一つの温度変化指示インジケータと
をさらに含む、請求項１に記載の装置。
【請求項２１】
前記ＲＦエネルギーの周波数は３００ｋＨｚから４０ＭＨｚの範囲にある、請求項１に記載の装置。
【請求項２２】
皮膚真菌症の処置に使用される方法であって、
一以上のＲＦエネルギー供給電極を通常爪板により覆われる組織に適用することと、
皮膚真菌症の病原体に影響を与えるのに十分な温度まで少なくとも通常爪板により覆われる組織を加熱するべくＲＦ誘導電流を生成することと
を含む方法。
【請求項２３】
前記通常爪により覆われる組織を照射して前記真菌症の病原体に影響を与えるのに十分な熱を前記組織に生成することをさらに含む、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記爪板の下に位置する爪板組織を通して照射して当該組織をさらに加熱することをさらに含む、請求項２２に記載の方法。
【請求項２５】
被処置組織に望ましくない損傷をもたらすことなく真菌症の病原体に実質的な熱的影響を与えるのに十分な温度レベルまで前記組織を加熱する、請求項２２に記載の方法。
【請求項２６】
前記エネルギーは連続及びパルス形態で供給される、請求項２２から２４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２７】
さらに超音波エネルギーを前記通常爪により覆われる組織に適用して前記真菌症の病原体に影響を与えるのに十分な熱を前記組織に生成する、請求項２２に記載の方法。
【請求項２８】
さらに温度及び温度変化を受信かつ分析する、請求項２２に記載の方法。
【請求項２９】
さらに超音波ビームの前記組織への放出及び前記組織からの受け入れを行うべく、かつ、前記組織を通る前記ビームの伝播速度の変化を分析して前記組織の温度の変化を決定する、請求項２２に記載の方法。
【請求項３０】
前記変化及び所定処置プロトコルに応じて処置パラメータを調整することをさらに含む、請求項２８又は２９に記載の方法。
【請求項３１】
さらに前記通常爪板により覆われる組織にわたる組織加熱掃引波効果を生成して前記真菌症の病原体に影響を与える、請求項２２に記載の方法。
【請求項３２】
前記加熱された同じ直線領域に適用される連続した掃引組織加熱波効果同士の時間間隔が、人間の皮膚の熱緩和時間よりも長い、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記加熱された同じ直線領域に適用される連続した掃引組織加熱波効果同士の時間間隔を有するパルス形態で前記エネルギーを適用することは、人間の皮膚の熱緩和時間よりも長い、請求項２２から２４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３４】
前記通常爪板により覆われる組織層に超音波エネルギーを適用して皮膚真菌症の病原体に影響を与えるのに十分な熱を前記組織に生成することをさらに含む、請求項２２から２４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３５】
さらに前記通常爪板により覆われる組織のまわりに組織加熱掃引波効果を生成して前記真菌症の病原体に影響を与える、請求項２４に記載の方法。
【請求項３６】
前記加熱された同じ直線領域に適用される連続した掃引組織加熱波効果同士の時間間隔が、人間の皮膚の熱緩和時間よりも長い、請求項３５に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本方法及び装置は、皮膚真菌症の処置に使用されるデバイスの分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
表在性真菌症は、表皮、毛、及び爪のような皮膚の角化層に影響を与える病気である。皮膚真菌症は、真皮、皮下組織、筋肉、及び筋膜のように深いところにある皮膚の深層に影響を与える病気である。これらの感染は慢性的であって処置が難しく、デブリドマンのような外科的介入、すなわち患者の患部組織の医療的除去、が必要とされる場合さえある。真菌症はたびたび爪床組織に影響を与える。これに対する唯一の治療は当該爪板を除去することである。
【０００３】
爪板及び爪床は、身体の中で真菌症の処置が最も難しい領域である。爪板は電気的に非伝導性であり、かつ、投薬に対して高度に不浸透性なので爪板及び爪床双方は局所的抗真菌投薬がアクセスできない。経口抗真菌投薬は重篤な副作用を引き起こすことが時々あり、その使用が制限される。
【０００４】
他の処置形態は主に、光線力学療法（ＰＤＴ）、所定波長の光により励起される化学物質の使用、皮膚の爪板等の領域に適用される光エネルギー、及び紫外（ＵＶ）光のような他の形態の光エネルギーの適用を含む。特許文献１に記載のような、爪板を通して電磁エネルギーを適用する試みもなされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００８／００７６９５８号明細書
【発明の概要】
【０００６】
皮膚真菌症の処置に使用される本方法及び装置では、一以上のエネルギー適用電極、例えばＲＦ電極、を含むアプリケータが与えられる。当該電極は自動的に調整可能なので、指がアプリケータの中に完全に挿入されると、当該電極が当該指の爪板の互いに対向する側部に置かれるようになるか又は、当該爪板がない場合、通常当該爪板により覆われる爪床組織の互いに対向する側部に置かれるようになる。
【０００７】
当該電極間の電圧により誘導される電流が、爪床組織を通って流れ、そのセグメントを、爪床組織及び／又は爪板に望ましくない損傷をもたらすことなく、その中の真菌症の病原体に実質的な熱的影響を与えるのに十分な温度レベルまで加熱する。
【０００８】
本方法及び装置の他実施例によれば、アプリケータはまた、放射エネルギービームを生成し、かつ、爪板を通して爪床組織を照射する光放射源を含む。当該放射は、ＲＦ電極によるＲＦエネルギーの適用と同時に又は交互に適用されて、爪床組織が加熱される。代替的に、爪床組織は、ＲＦエネルギーの適用なしで照射される。
【０００９】
本方法及び装置のさらなる他実施例によれば、ＲＦ電極は、一以上の電圧適用素子キャリアを含む。これは、その表面上に複数の電圧適用素子を離間パターンで有し、ＲＦ電圧を直線掃引波効果で爪床組織に適用する。代替的に、当該離間した素子は、ＬＥＤ、ＶＣＳＥＬ、レーザダイオード、レーザダイオードバー等のような発光素子である。
【００１０】
本方法及び装置のさらなる他実施例によれば、ＲＦ電極は、一以上の超音波トランスデューサに交換できる。当該超音波トランスデューサは、超音波エネルギー源による供給を受けかつ爪板及び／又は爪床組織の互いに対向する側部に位置決めされ、爪床組織及び／又は爪板に損傷をもたらすことなく真菌症の病原体に実質的な熱的影響を与えるのに十分な波長にある超音波ビームを爪床組織のセグメントの中に放出するべく動作可能である。
【００１１】
本方法及び装置によれば、上述の実施例のいずれか一つはまた、温度を感知するべく動作可能な一以上のセンサと、インピーダンス及び超音波伝播速度からなる群から選択される一以上の温度変化指示インジケータとを含む。
【００１２】
本方法及び装置の他実施例によれば、アプリケータはまた、アプリケータにおける指の正確な配置並びに処置開始前の電極及び光源の最適な配置を確実にするべく、一以上の指接触及び／又は指位置決めセンサを含む。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
本方法及び装置は、図面と組み合わせて以下の詳細な説明から理解及び認識される。
【００１４】
【図１】本方法及び装置の一実施例に係る簡略的な、高い所から見た斜視図及び断面図である。
【図２Ａ】本方法及び装置の他実施例に係る簡略的な断面図である。
【図２Ｂ】本方法及び装置の他実施例に係る簡略的な断面図である。
【図３Ａ】本方法及び装置のさらなる他実施例に係る直線掃引波効果の簡略的な断面図及び平面図である。
【図３Ｂ】本方法及び装置のさらなる他実施例に係る直線掃引波効果の簡略的な断面図及び平面図である。
【図３Ｃ】本方法及び装置のさらなる他実施例に係る直線掃引波効果の簡略的な断面図及び平面図である。
【図３Ｄ】本方法及び装置のさらなる他実施例に係る直線掃引波効果の簡略的な断面図及び平面図である。
【図３Ｅ】本方法及び装置のさらなる他実施例に係る直線掃引波効果の簡略的な断面図及び平面図である。
【図３Ｆ】本方法及び装置のさらなる他実施例に係る直線掃引波効果の簡略的な断面図及び平面図である。
【図４】本方法及び装置のさらなる他実施例に係る簡略的な断面図である。
【図５】本方法及び装置の他実施例に係る断面図である。
【図６】本方法及び装置のさらなる他実施例に係る断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本開示を目的として、以下で使用される用語「指」は、手の指（finger）、手足の指（digit）、又はその双方を意味する。
【００１６】
ここで、皮膚真菌症の処置に使用される本方法及び装置の一実施例に係る簡略的な、高い所から見た斜視図及び断面図である図１を参照する。アプリケータ１００はベース１０２及びカバー１０４を有し、対象の指１５０すなわち手又は足の指を快適に収容するべく動作可能である。また、カバー１０４にアパチャ１０６を有し、対象の指がアプリケータ１００に完全に挿入されると、アパチャ１０６を通して及び爪板１１０を通して爪床組織１１２に適用される光エネルギーに被処置組織がさらされる。詳細は以下で説明する。
【００１７】
付加的に、アプリケータ１００はまた、一以上のＲＦ電極１０８を含む。当該電極間の距離は自動的に調整可能である。指がアプリケータ１００に完全に挿入されると、電極１０８は当該指の爪板１１０の互いに対向する側部に置かれるようになるか又は、爪板１１０がない場合、通常爪板１１０により覆われる爪床組織１１２の互いに対向する側部に置かれるようになる。これを目的として、電極１０８は、例えば、ばね１１４によりばね付勢されるか又は他の適切な手段により調整可能とされる。電極１０８は、様々なサイズの指を収容するべく調整可能である。また、当該電極を皮膚に対して適切に結合することもできる。
【００１８】
アプリケータ１００はまた、ＲＦ電極１０８の電気リード１１８等の必要な配線を収容するケーブル１１６により、電源及びコントローラ（図示せず）に接続される。
【００１９】
ここで、本方法及び装置の実施例に係る簡略的な断面図である図２Ａ及び２Ｂを参照する。図２Ａに示されるように、ＲＦ電極１０８は、爪板１１０及び通常爪板１１０により覆われる爪床組織１１２の互いに対向する側部に置かれる。爪板１１０はケラチンすなわち高度に非伝導性の物質からできているので、ＲＦ電極１０８間の電圧により誘導される電流は最短移動経路を通って流れ、この場合、皮膚の一以上の層を含む爪床組織１１２のセグメント１２０を通る。セグメント１２０は、爪床組織１１２及び／又は爪板１１０に望ましくない実質的な損傷をもたらすことなく、その中の真菌症の病原体に実質的な熱的影響を与えるのに十分な温度レベルまで加熱される。適用されるＲＦエネルギーは連続モード及び／又はパルスモードで供給され、３００ｋＨｚから４０ＭＨｚの範囲にある周波数を有する。
【００２０】
ここで図２Ｂを参照すると、アプリケータ１００はまた、放射エネルギービーム２０４を生成する光放射源２０２を含み、爪床組織１１２のセグメント１２０を、爪板１１０を通して照射する。当該放射は、ＲＦ電極１０８によるＲＦエネルギーの適用に対して同時に又は交互に適用され、爪床１１２のセグメント１２０を加熱する。代替的に、セグメント１２０はＲＦエネルギーの適用なしで照射される。
【００２１】
光源２０２により適用される放射エネルギーは特徴的に、約４００ｎｍを超える波長を有する。これは通常、約４００ｎｍから約２０００ｎｍの範囲にあり、約２Ｊ／ｃｍ２から約２０Ｊ／ｃｍ２以上の範囲にある有効フルエンスを有し、約２ｍｍから約２０ｍｍの範囲にあるスポットサイズを有する。
【００２２】
ここで、本方法及び装置のさらなる他実施例に係る直線掃引波効果の簡略的な断面図及び平面図である図３Ａ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｄ、及び３Ｅを参照する。
【００２３】
真菌症の病原体に影響を与えるのに十分な、上述の電磁エネルギーの形態により生成される熱のレベルは摂氏約５０度を超え、エネルギー適用周期同士の間において被処置組織を冷却する必要がある。これは、出願人の米国特許出願公開第２００６／００４７２８１号明細書に記載されているように、電極１０８に取り付けられたチューブを通る冷却流体循環を使用して電極１０８及び被処置組織を動的に冷却することによって達成される。代替的に、当該組織に対し、皮膚の熱緩和時間よりも長い、冷却に十分な時間を許容することによって冷却を達成することもできる。
【００２４】
図３Ａに示されるように、電極１０８は、出願人の国際特許出願第ＷＯ２００９／０７２１０８号明細書に記載されているタイプのものである。これは、出願人の米国仮特許出願第６１／３０７，５１７号明細書に記載されている直線掃引加熱波効果を用いる。これらの開示は本明細書に参照として組み入れられる。
【００２５】
図３Ａにおいて、ＲＦ電極１０８は一以上の電圧適用素子キャリア３００を含む。電圧適用素子キャリア３００は、一表面上に複数の電圧適用素子３０２を有する。複数の電圧適用素子３０２は離間パターンにあり、例えば行（３０２−１）、（３０２−２）、（３０２−３）、（３０２−４）、及び（３０２−５）に沿って配列される。代替的に、素子３０２は、ＬＥＤ、ＶＣＳＥＬ、レーザダイオード、レーザダイオードバー等のような発光素子である。
【００２６】
図３Ｂ、３Ｃ、３Ｄ、３Ｅ、及び３Ｆは、本方法及び装置のさらなる他実施例に係る直線掃引波効果を示す。
【００２７】
電極１０８は、爪床及び／又は爪板の互いに対向する側部に配置され、電源及びコントローラ（図示せず）に接続される。各電極１０８は、一表面上に複数の電圧適用素子３０２を有する一以上の電圧適用素子キャリア３００を含む。
【００２８】
図３Ｂにおいて、例えば、２つの電圧適用素子キャリア３１０及び３２０が、指１５０の爪床１１２のいずれかの側部に位置決めされる。図３Ｂから３Ｆにおいて、爪板１１０は説明目的のため除外されている。
【００２９】
コントローラは、直線掃引加熱波効果を生成する所定プロトコルによって設定された順序で行（３０２−１）、（３０２−２）、（３０２−３）、（３０２−４）、及び（３０２−５）のＲＦ電圧適用素子３０２をアクティブにするべく動作可能である。例えば、図３Ｂにおいて、コントローラ（図示せず）は、行（３０２−１）のみにあるキャリア３００及び３１０の電圧適用素子３０２をアクティブにしている。これは黒塗りで示されている。ＲＦ電流は、キャリア３００の行（３０２−１）にある素子３０２から、被処置組織を通って、キャリア３１０の行（３０２−１）にある素子３０２まで流れ、当該間にある爪床組織１１２の直線領域３２０−１を加熱する。
【００３０】
図３Ｃに示されるように、コントローラ（図示せず）は、行（３０２−２）のみにあるキャリア３００及び３１０の電圧適用素子３０２をアクティブにしている。これは黒塗りで示されている。ＲＦ電流は、キャリア３００の行（３０２−２）にある素子３０２から、被処置組織を通って、キャリア３１０の行（３０２−２）にある素子３０２まで流れ、当該間にある爪床組織１１２の直線領域３２０−２を加熱する。
【００３１】
図３Ｃにおいてコントローラ（図示せず）は、行（３０２−３）のみにあるキャリア３００及び３１０の電圧適用素子３０２をアクティブにしている。これは黒塗りで示されている。ＲＦ電流は、キャリア３００の行（３０２−３）にある素子３０２から、被処置組織を通って、キャリア３１０の行（３０２−３）にある素子３０２まで流れ、当該間にある爪床組織１１２の領域３２０−３を加熱する。
【００３２】
図３Ｄに示されるように、コントローラ（図示せず）は、行（３０２−４）のみにあるキャリア３００及び３１０の電圧適用素子３０２をアクティブにしている。これは黒塗りで示されている。ＲＦ電流は、キャリア３００の行（３０２−４）にある素子３０２から、被処置組織を通って、キャリア３１０の行（３０２−４）にある素子３０２まで流れ、当該間にある爪床組織１１２の領域３２０−４を加熱する。
【００３３】
図３Ｅにおいて、コントローラ（図示せず）は、行（３０２−５）のみにあるキャリア３００及び３１０の電圧適用素子３０２をアクティブにしている。これは黒塗りで示されている。ＲＦ電流は、キャリア３００の行（３０２−５）にある素子３０２から、被処置組織を通って、キャリア３１０の行（３０２−５）にある素子３０２まで流れ、当該間にある爪床組織１１２の直線領域３２０−５を加熱する。
【００３４】
ＲＦエネルギーの順次適用により、爪床組織１１２を通る加熱領域３２０の直線進行効果が得られ、例えばアプリケータ１００又は電極１０８の物理的又は機械的移動なしで直線掃引組織加熱波効果がもたらされる。これにより、迅速な加熱及び冷却の高度に局所的な領域を形成することができる。
【００３５】
付加的に、同じ加熱直線領域３２０に適用される、連続した掃引組織加熱波効果同士の時間間隔を、人間の皮膚の熱緩和時間よりも長く維持することにより、自然冷却が可能となる。これにより、危険な延長時間周期により皮膚を過熱すること及び対象に不快感を与えることが防止される。
【００３６】
上述の掃引組織加熱波効果の進行方向は、図面の平面に対して与えられる。本装置が任意の特定平面に限られず任意の配向方向にて動作可能であることがわかる。
【００３７】
当業者は、当該掃引組織加熱波効果はまた、上述の図２Ｂにおいて説明された光放射源２０２の使用により生成することもできることがわかる。
【００３８】
ここで、本方法及び装置のさらなる他実施例に係る簡略的な断面図である図４を参照する。当該実施例では、ＲＦ電極１０８は、超音波エネルギー源による供給を受けて爪板１１０及び／又は爪床組織１１２の互いに対向する側部に位置決めされる一以上の超音波トランスデューサ４０２に交換される。超音波トランスデューサ４０２の一方又は双方は、爪床組織１１２及び／又は爪板１１０に損傷をもたらすことなく真菌症の病原体に実質的な熱的影響を与えるのに十分な波長にある超音波ビームを爪床組織１１２のセグメント１２０に放出する。
【００３９】
代替的に、トランスデューサ４０２はＲＦ電極１０８に近接して置かれ、爪床組織セグメント１２０へのＲＦエネルギーの適用に対して同時に及び／又は交互に超音波ビームを適用する。オプションとして、トランスデューサ４０２は、爪板１１０を通して爪床組織セグメント１２０を照射する光放射源２０２により生成される放射エネルギービームの適用に対して同時に及び／又は交互に超音波ビームを適用する。
【００４０】
熱のほとんどは、通常爪板１１０により覆われる爪床組織１１２セグメント１２０に生成されるので、その中における温度変化を、サーミスタ又は熱電対のような従来の熱センサにより測定することは難しい。したがって、爪床組織１１２セグメント１２０における温度変化には、組織温度変化により影響を受ける爪床組織インピーダンス又は超音波伝播速度の変化のようなインジケータの使用による間接測定が必要となる。これは、出願人の米国仮特許出願第６１／２４８，９９７号明細書に記載されている。これの開示は本明細書に参照として組み入れられる。
【００４１】
本方法及び装置によれば、上述の実施例のいずれか一つはまた、温度を受信かつ分析するべく動作可能な一以上の熱モニタリング機構と、インピーダンス及び超音波伝播速度からなる群から選択される一以上の温度変化インジケータとを含む。
【００４２】
本方法及び装置の他実施例に係る断面図である図５において、超音波トランスデューサ５０８−１は、被処置爪床組織１１２の表面に対する調整可能角度（図示せず）にて通常はパルス形態で超音波ビームを放出するべく動作可能である。その結果、放出されたビームの少なくとも一部が、当該超音波の全反射をもたらしかつ当該超音波の所望組織層への伝播を可能にする所定入射角、ブリュースター入射角としても知られる、にて爪床組織１１２の表面に衝突する。これは、米国仮特許出願第６１／２４８，９９７号明細書に記載されており、これの開示は本明細書に参照として組み入れられる。
【００４３】
ブリュースター入射角にて組織に導入された超音波ビームが一般に２つの異なる音屈折率を有する２つの媒体間の境界に沿って伝播するという原理に照らせば、超音波ビームの一部は、矢印５００により示されるように、爪床組織１１２の表面沿いにかつこれと平行に伝播し、最終的には超音波トランスデューサ（受信器として動作する）５０８−２によって受信されるように放出される。受信された信号はその後、コントローラ（図示せず）まで通信される。
【００４４】
コントローラ（図示せず）は、受信された超音波ビーム信号から、当該ビームが伝播した爪床組織１１２の温度変化を示す当該ビームの伝播速度の変化に関する情報を得るべく動作可能である。コントローラは、当該温度変化及び所定処置プロトコルに基づいて処置パラメータを変更し又は当該処置をすべて停止させる。
【００４５】
使用の安全性を高めるべく、本方法及び装置は、上述の熱センサのような安全機能と、アプリケータ１００における指の正しい配置並びに処置開始前の電極１０８及び光源２０２の最適な配置を確実にする指接触センサ及び／又は指位置センサとを組み入れる。例えば、図１に示されるタイプのアプリケータ６００の断面図である図６に示されるように、接触センサ６０２は、指１５０がアプリケータ１００に完全に挿入されて接触センサ６０２を押圧してアクティブにすると適切な指位置が示されて動作可能となる。接触センサ６０２のアクティベーションにより、ビーム２０４を生成してアパチャ６０６を通して爪床組織１１２を照射する光源２０２がアクティブになる。付加的に又は代替的に、接触センサ６０２は、ＲＦ電極（図示せず）による爪床組織１１２のセグメント１２０へのＲＦエネルギー適用をアクティブにする。指１５０をアプリケータ１００から抜き取ると、接触センサ６０２から圧力が解放されて、すべての形態のエネルギー適用が直ちに停止される。
【００４６】
接触センサ６０２は、ばね付勢マイクロスイッチ、容量センサ等の、指１５０の先がアプリケータ６００と接触するのを検出するべく動作可能なセンサである。
【００４７】
付加的に又は代替的に、例えば、電極１０８に近接して配置され、爪床組織１１２及び／又は爪板１１０の互いに対向する側部に係合し、その上の電極１０８の正しい配置を確実にする他の位置センサ、並びに他の指接触センサ及び／又は指位置センサが使用できる。
【００４８】
当業者には本方法及び装置が具体的に図示され上述されたものに限られないことがわかる。むしろ、本発明の範囲は、上述の様々な特徴のコンビネーション及びサブコンビネーションの双方並びにその修正例及び変形例を含む。これらは、上述の記載を読むことで当業者に想起され、かつ、従来技術には存在しない。
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図３Ｄ】
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【図３Ｅ】
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【図３Ｆ】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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