(57)【要約】【課題】高い感度を有し、視認性に優れたタッチパネルセンサを提供する。【解決手段】網目状に配置された第１導線は、銅を含む第１本体層と、第１本体層よりも観察者側に設けられ、第１本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる第１被覆層と、を含んでいる。第１被覆層は、第１本体層よりも大きい幅を有している。また、網目状に配置された第２導線は、銅を含む第２本体層と、第２本体層よりも観察者側に設けられ、第２本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる第２下地層と、を含んでいる。第２下地層は、第２本体層よりも大きい幅を有している。また、波長６００ｎｍの光を第１本体層、第１被覆層、第２本体層および第２下地層に照射した場合の光の反射率をそれぞれＲ１０、Ｒ１１、Ｒ２０およびＲ２２とする場合、Ｒ１１≦０．５×Ｒ１０、かつ、Ｒ２２≦０．５×Ｒ２０の関係が成立する。【選択図】図６
2015049852.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タッチパネルセンサであって、
観察者側を向く第１面および表示装置側を向く第２面を含む基材と、
前記基材の前記第１面上に設けられた複数の第１検出パターンと、
前記基材の前記第２面上に設けられた複数の第２検出パターンと、を備え、
前記第１検出パターンは、遮光性および導電性を有する第１導線であって、各第１導線の間に開口部が形成されるよう網目状に配置された第１導線から構成されており、
前記第２検出パターンは、遮光性および導電性を有する第２導線であって、各第２導線の間に開口部が形成されるよう網目状に配置された第２導線から構成されており、
前記第１導線は、銅を含む第１本体層と、前記第１本体層よりも観察者側に設けられ、前記第１本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる第１被覆層と、を含み、
前記第１被覆層は、前記第１本体層よりも大きい幅を有し、
前記第２導線は、銅を含む第２本体層と、前記第２本体層よりも観察者側に設けられ、前記第２本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる第２下地層と、を含み、
前記第２下地層は、前記第２本体層よりも大きい幅を有し、
波長６００ｎｍの光を前記第１本体層、前記第１被覆層、前記第２本体層および前記第２下地層に照射した場合の光の反射率をそれぞれＲ１０、Ｒ１１、Ｒ２０およびＲ２２とする場合、
Ｒ１１≦０．５×Ｒ１０、かつ、Ｒ２２≦０．５×Ｒ２０
の関係が成立する、タッチパネルセンサ。
【請求項２】
前記第１本体層および前記第２本体層はいずれも、９９重量％以上の銅を含み、
前記第１被覆層および前記第２下地層はいずれも、５０重量％以下の銅を含む、請求項１または２に記載のタッチパネルセンサ。
【請求項３】
前記第１被覆層および前記第２下地層はいずれも、５０重量％以下の銅と、４０重量％以上のニッケルと、を含む、請求項２に記載のタッチパネルセンサ。
【請求項４】
前記第１被覆層および前記第２下地層はいずれも、５０重量％以下の銅と、４０重量％以上のニッケルと、１０重量％以上のクロムと、を含む、請求項３に記載のタッチパネルセンサ。
【請求項５】
前記第１導線は、前記第１本体層よりも表示装置側に設けられ、前記第１本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる第１下地層をさらに含み、
前記第１下地層は、５０重量％以下の銅を含み、
波長６００ｎｍの光を前記第１下地層に照射した場合の光の反射率をＲ１２とする場合、
Ｒ１２≦０．５×Ｒ１０
の関係が成立する、請求項１乃至４のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。
【請求項６】
前記第２導線は、前記第２本体層よりも表示装置側に設けられ、前記第２本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる第２被覆層をさらに含み、
前記第２被覆層は、５０重量％以下の銅を含み、
波長６００ｎｍの光を前記第２被覆層に照射した場合の光の反射率をＲ２１とする場合、
Ｒ２１≦０．５×Ｒ２０
の関係が成立する、請求項１乃至５のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。
【請求項７】
前記第１本体層の側面、前記第１被覆層の表面および前記第２本体層の側面に、低反射処理が施されている、請求項１乃至６のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。
【請求項８】
表示装置と、
前記表示装置の表示面上に配置されたタッチパネルセンサと、を備え、
前記タッチパネルセンサは、
観察者側を向く第１面および表示装置側を向く第２面を含む基材と、
前記基材の前記第１面上に設けられた複数の第１検出パターンと、
前記基材の前記第２面上に設けられた複数の第２検出パターンと、を備え、
前記第１検出パターンは、遮光性および導電性を有する第１導線であって、各第１導線の間に開口部が形成されるよう網目状に配置された第１導線から構成されており、
前記第２検出パターンは、遮光性および導電性を有する第２導線であって、各第２導線の間に開口部が形成されるよう網目状に配置された第２導線から構成されており、
前記第１導線は、銅を含む第１本体層と、前記第１本体層よりも観察者側に設けられ、前記第１本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる第１被覆層と、を含み、
前記第１被覆層は、前記第１本体層よりも大きい幅を有し、
前記第２導線は、銅を含む第２本体層と、前記第２本体層よりも観察者側に設けられ、前記第２本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる第２下地層と、を含み、
前記第２下地層は、前記第２本体層よりも大きい幅を有し、
波長６００ｎｍの光を前記第１本体層、前記第１被覆層、前記第２本体層および前記第２下地層に照射した場合の光の反射率をそれぞれＲ１０、Ｒ１１、Ｒ２０およびＲ２２とする場合、
Ｒ１１≦０．５×Ｒ１０、かつ、Ｒ２２≦０．５×Ｒ２０
の関係が成立する、タッチ位置検出機能付き表示装置。
【請求項９】
タッチパネルセンサであって、
観察者側を向く第１面および表示装置側を向く第２面を含む基材と、
前記基材の前記第１面上に設けられた複数の検出パターンと、を備え、
前記検出パターンは、遮光性および導電性を有する導線であって、各導線の間に開口部が形成されるよう網目状に配置された導線から構成されており、
前記導線は、本体層と、前記本体層よりも観察者側に設けられ、前記本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる被覆層と、を含み、
前記本体層は、９９重量％以上の銅を含み、
前記被覆層は、５０重量％以下の銅を含み、
波長６００ｎｍの光を前記本体層および前記被覆層に照射した場合の光の反射率をそれぞれＲ１０およびＲ１１とする場合、
Ｒ１１≦０．５×Ｒ１０
の関係が成立し、
前記被覆層は、前記本体層よりも大きい幅を有する、タッチパネルセンサ。
【請求項１０】
表示装置と、
前記表示装置の表示面上に配置されたタッチパネルセンサと、を備え、
前記タッチパネルセンサは、
観察者側を向く第１面および表示装置側を向く第２面を含む基材と、
前記基材の前記第１面上に設けられた複数の検出パターンと、を備え、
前記検出パターンは、遮光性および導電性を有する導線であって、各導線の間に開口部が形成されるよう網目状に配置された導線から構成されており、
前記導線は、本体層と、前記本体層よりも観察者側に設けられ、前記本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる被覆層と、を含み、
前記本体層は、９９重量％以上の銅を含み、
前記被覆層は、５０重量％以下の銅を含み、
波長６００ｎｍの光を前記本体層および前記被覆層に照射した場合の光の反射率をそれぞれＲ１０およびＲ１１とする場合、
Ｒ１１≦０．５×Ｒ１０
の関係が成立し、
前記被覆層は、前記本体層よりも大きい幅を有する、タッチ位置検出機能付き表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネルセンサに関する。また本発明は、タッチパネルセンサと表示装置とを組み合わせることによって得られるタッチ位置検出機能付き表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
今日、入力手段として、タッチパネル装置が広く用いられている。タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ、タッチパネルセンサ上への接触位置を検出する制御回路、配線およびＦＰＣ（フレキシブルプリント基板）を含んでいる。タッチパネル装置は、多くの場合、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等の表示装置が組み込まれた種々の装置等（例えば、券売機、ＡＴＭ装置、携帯電話、ゲーム機）に対する入力手段として、表示装置とともに用いられている。このような装置においては、タッチパネルセンサが表示装置の表示面上に配置されており、これによって、表示装置に対する極めて直接的な入力が可能になっている。タッチパネルセンサのうち表示装置の表示領域に対面する領域は透明になっており、タッチパネルセンサのこの領域が、接触位置（接近位置）を検出し得るアクティブエリアを構成するようになる。
【０００３】
タッチパネルセンサとして、投影型容量結合方式のタッチパネルセンサが知られている。容量結合方式のタッチパネルセンサにおいては、位置を検知されるべき外部導体（典型的には、指）が誘電体を介してタッチパネルセンサに接触（接近）する際、新たに奇生容量が発生する。この奇生容量に起因する静電容量の変化に基づいて、タッチパネルセンサ上における外部導体の位置が検出される。このような投影型容量結合方式のタッチパネルセンサは例えば、基材と、基材の観察者側の面に設けられた複数の第１検出パターンと、基材の表示装置側の面に設けられた複数の第２検出パターンと、を備えている。第１検出パターンおよび第２検出パターンは、例えば、透光性および導電性を有する透明導電材料から構成される。
【０００４】
また第１検出パターンおよび第２検出パターンの電気抵抗値を低くするため、第１検出パターンおよび第２検出パターンを構成する材料として、透明導電材料よりも高い導電性を有する銀や銅などの金属材料を用いることが提案されている（例えば、特許文献１参照）。第１検出パターンおよび第２検出パターンが金属材料から構成される場合、第１検出パターンおよび第２検出パターンには、表示装置からの映像光を適切な比率で透過させるための開口部が形成されている。例えば第１検出パターンおよび第２検出パターンは、金属材料からなり、網目状に配置された導線によって構成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２−７９２３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
第１検出パターンおよび第２検出パターンが金属材料からなる導線によって構成される場合、金属材料が有する金属光沢に起因して第１検出パターンおよび第２検出パターンが観察者（ユーザー）に視認されてしまうことが考えられる。特に、導線の材料として銅が用いられる場合、第１検出パターンおよび第２検出パターンからの反射光として、銅に特有の、赤味を帯びた光が観察者に到達してしまい、これによって、映像の視認性が低下してしまう。
【０００７】
金属光沢に起因するこのような視認性の低下を防ぐため、黒化処理などの低反射処理を導線の表面に施すことが知られている。しかしながら、導線の面のうち基材と接している面に低反射処理を施すことは容易ではない。このため、観察者側から見た場合、基材の表示装置側に設けられた第２検出パターンの導線の面がその金属光沢のために視認され易くなってしまう。
【０００８】
また一般に黒化処理においては、導線を構成する銅などの金属材料を、アルカリ性溶液などを用いて酸化する、という処理が実施される。この場合、導線の表面に、導電性に乏しい酸化物層が形成されることになり、このため、導線の電気抵抗値が低下してしまう。また、導線の面のうち基材と接している面にそのような酸化物層が形成される場合、基材と導線との間の密着性が低下してしまうことも懸念される。
【０００９】
本発明は、このような課題を効果的に解決し得るタッチパネルセンサおよびタッチ位置検出機能付き表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
第１の本発明は、タッチパネルセンサであって、観察者側を向く第１面および表示装置側を向く第２面を含む基材と、前記基材の前記第１面上に設けられた複数の第１検出パターンと、前記基材の前記第２面上に設けられた複数の第２検出パターンと、を備え、前記第１検出パターンは、遮光性および導電性を有する第１導線であって、各第１導線の間に開口部が形成されるよう網目状に配置された第１導線から構成されており、前記第２検出パターンは、遮光性および導電性を有する第２導線であって、各第２導線の間に開口部が形成されるよう網目状に配置された第２導線から構成されており、前記第１導線は、銅を含む第１本体層と、前記第１本体層よりも観察者側に設けられ、前記第１本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる第１被覆層と、を含み、前記第１被覆層は、前記第１本体層よりも大きい幅を有し、前記第２導線は、銅を含む第２本体層と、前記第２本体層よりも観察者側に設けられ、前記第２本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる第２下地層と、を含み、前記第２下地層は、前記第２本体層よりも大きい幅を有し、波長６００ｎｍの光を前記第１本体層、前記第１被覆層、前記第２本体層および前記第２下地層に照射した場合の光の反射率をそれぞれＲ１０、Ｒ１１、Ｒ２０およびＲ２２とする場合、Ｒ１１≦０．５×Ｒ１０、かつ、Ｒ２２≦０．５×Ｒ２０の関係が成立する、タッチパネルセンサである。
【００１１】
第１の本発明によるタッチパネルセンサにおいて、好ましくは、前記第１本体層および前記第２本体層はいずれも、９９重量％以上の銅を含み、前記第１被覆層および前記第２下地層はいずれも、５０重量％以下の銅を含んでいる。
【００１２】
第１の本発明によるタッチパネルセンサにおいて、好ましくは、前記第１被覆層および前記第２下地層はいずれも、５０重量％以下の銅と、４０重量％以上のニッケルと、を含んでいる。さらに好ましくは、前記第１被覆層および前記第２下地層はいずれも、５０重量％以下の銅と、４０重量％以上のニッケルと、１０重量％以上のクロムと、を含んでいる。
【００１３】
第１の本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記第１導線は、前記第１本体層よりも表示装置側に設けられ、前記第１本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる第１下地層をさらに含んでいてもよい。この場合、前記第１下地層は、５０重量％以下の銅を含み、波長６００ｎｍの光を前記第１下地層に照射した場合の光の反射率をＲ１２とする場合、Ｒ１２≦０．５×Ｒ１０の関係が成立している。
【００１４】
第１の本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記第２導線は、前記第２本体層よりも表示装置側に設けられ、前記第２本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる第２被覆層をさらに含んでいてもよい。この場合、前記第２被覆層は、５０重量％以下の銅を含み、波長６００ｎｍの光を前記第２被覆層に照射した場合の光の反射率をＲ２１とする場合、Ｒ２１≦０．５×Ｒ２０の関係が成立している。
【００１５】
第１の本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記第１本体層の側面、前記第１被覆層の表面および前記第２本体層の側面に、低反射処理が施されていてもよい。
【００１６】
第２の本発明は、表示装置と、前記表示装置の表示面上に配置されたタッチパネルセンサと、を備え、前記タッチパネルセンサは、観察者側を向く第１面および表示装置側を向く第２面を含む基材と、前記基材の前記第１面上に設けられた複数の第１検出パターンと、前記基材の前記第２面上に設けられた複数の第２検出パターンと、を備え、前記第１検出パターンは、遮光性および導電性を有する第１導線であって、各第１導線の間に開口部が形成されるよう網目状に配置された第１導線から構成されており、前記第２検出パターンは、遮光性および導電性を有する第２導線であって、各第２導線の間に開口部が形成されるよう網目状に配置された第２導線から構成されており、前記第１導線は、銅を含む第１本体層と、前記第１本体層よりも観察者側に設けられ、前記第１本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる第１被覆層と、を含み、前記第１被覆層は、前記第１本体層よりも大きい幅を有し、前記第２導線は、銅を含む第２本体層と、前記第２本体層よりも観察者側に設けられ、前記第２本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる第２下地層と、を含み、前記第２下地層は、前記第２本体層よりも大きい幅を有し、波長６００ｎｍの光を前記第１本体層、前記第１被覆層、前記第２本体層および前記第２下地層に照射した場合の光の反射率をそれぞれＲ１０、Ｒ１１、Ｒ２０およびＲ２２とする場合、Ｒ１１≦０．５×Ｒ１０、かつ、Ｒ２２≦０．５×Ｒ２０の関係が成立する、タッチ位置検出機能付き表示装置である。
【００１７】
第３の本発明は、タッチパネルセンサであって、観察者側を向く第１面および表示装置側を向く第２面を含む基材と、前記基材の前記第１面上に設けられた複数の検出パターンと、を備え、前記検出パターンは、遮光性および導電性を有する導線であって、各導線の間に開口部が形成されるよう網目状に配置された導線から構成されており、前記導線は、本体層と、前記本体層よりも観察者側に設けられ、前記本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる被覆層と、を含み、前記本体層は、９９重量％以上の銅を含み、前記被覆層は、５０重量％以下の銅を含み、波長６００ｎｍの光を前記本体層および前記被覆層に照射した場合の光の反射率をそれぞれＲ１０およびＲ１１とする場合、Ｒ１１≦０．５×Ｒ１０の関係が成立し、前記被覆層は、前記本体層よりも大きい幅を有する、タッチパネルセンサである。
【００１８】
第４の本発明は、表示装置と、前記表示装置の表示面上に配置されたタッチパネルセンサと、を備え、前記タッチパネルセンサは、観察者側を向く第１面および表示装置側を向く第２面を含む基材と、前記基材の前記第１面上に設けられた複数の検出パターンと、を備え、前記検出パターンは、遮光性および導電性を有する導線であって、各導線の間に開口部が形成されるよう網目状に配置された導線から構成されており、前記導線は、本体層と、前記本体層よりも観察者側に設けられ、前記本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる被覆層と、を含み、前記本体層は、９９重量％以上の銅を含み、前記被覆層は、５０重量％以下の銅を含み、波長６００ｎｍの光を前記本体層および前記被覆層に照射した場合の光の反射率をそれぞれＲ１０およびＲ１１とする場合、Ｒ１１≦０．５×Ｒ１０の関係が成立し、前記被覆層は、前記本体層よりも大きい幅を有する、タッチ位置検出機能付き表示装置である。
【発明の効果】
【００１９】
第１および第２の本発明において、基材の観察者側の第１面に設けられる第１検出パターンを構成する第１導線は、銅を含む第１本体層と、第１本体層よりも観察者側に設けられ、第１本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる第１被覆層と、を有している。また、基材の表示装置側の第２面に設けられる第２検出パターンを構成する第２導線は、銅を含む第２本体層と、第２本体層よりも観察者側に設けられ、第２本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる第２下地層と、を有している。第１被覆層は、第１本体層よりも大きい幅を有しており、第２下地層は、第２本体層よりも大きい幅を有している。このため、本体層の側面に低反射処理が施されていない場合であっても、本体層の側面からの反射光に起因して映像の視認性が低下してしまうことを抑制することができる。また、波長６００ｎｍの光を第１本体層、第１被覆層、第２本体層および第２下地層に照射した場合の光の反射率をそれぞれＲ１０、Ｒ１１、Ｒ２０およびＲ２２とする場合、Ｒ１１≦０．５×Ｒ１０、かつ、Ｒ２２≦０．５×Ｒ２０の関係が成立している。このため、第１導線および第２導線における十分な導電性を確保しながら、赤味を帯びた光が観察者に到達してしまうことを抑制することができる。このことにより、映像の視認性が低下することを抑制しながら、タッチ位置の検出精度を十分に確保することができる。
【００２０】
また第３および第４の本発明において、基材の観察者側の第１面に設けられる検出パターンを構成する導線は、本体層と、本体層よりも観察者側に設けられ、本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる被覆層と、を有している。本体層は、９９重量％以上の銅を含んでおり、一方、被覆層は、９９重量％未満の銅を含んでいる。また、波長６００ｎｍの光を本体層および被覆層に照射した場合の光の反射率をそれぞれＲ１０およびＲ１１とする場合、Ｒ１１≦０．５×Ｒ１０の関係が成立している。さらに、被覆層は、本体層よりも大きい幅を有している。このため、本体層の側面に低反射処理が施されていない場合であっても、本体層の側面からの反射光に起因して映像の視認性が低下してしまうことを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】図１は、本発明の第１の実施の形態におけるタッチ位置検出機能付き表示装置を示す展開図。
【図２】図２は、図１のタッチ位置検出機能付き表示装置におけるタッチパネルセンサを示す平面図。
【図３Ａ】図３Ａは、図２において符号IIIが付された一点鎖線で囲まれた部分における第１検出パターンを拡大して示す平面図。
【図３Ｂ】図３Ｂは、図２において符号IIIが付された一点鎖線で囲まれた部分における第２検出パターンを拡大して示す平面図。
【図３Ｃ】図３Ｃは、図３Ａに示す第１検出パターンおよび図３Ｂに示す第２検出パターンを重ねて示す平面図。
【図４】図４は、タッチパネルセンサを図３ＣのIV線に沿って切断した場合を示す断面図。
【図５】図５は、タッチパネルセンサを図３ＣのＶ線に沿って切断した場合を示す断面図。
【図６】図６は、第１導線および第２導線を拡大して示す断面図。
【図７】図７（ａ）〜（ｄ）は、タッチパネルセンサの製造方法を説明するための図。
【図８】図８（ａ）（ｂ）は、積層体の製造方法を説明するための図。
【図９】図９は、第１導線および第２導線の一変形例を示す断面図。
【図１０】図１０は、第１導線および第２導線の一変形例を示す断面図。
【図１１】図１１は、第１導線および第２導線の一変形例を示す断面図。
【図１２】図１２は、本発明の第２の実施の形態におけるタッチパネルセンサを示す断面図。
【図１３】図１３は、本発明の第２の実施の形態におけるタッチパネルセンサを示す断面図。
【図１４】図１４は、第１導線および第２導線を拡大して示す断面図。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
第１の実施の形態
以下、図１乃至図７（ａ）〜（ｄ）を参照して、本発明の第１の実施の形態の一例について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
【００２３】
タッチパネル装置およびタッチ位置検出機能付き表示装置
はじめに図１を参照して、タッチパネルセンサ３０を備えたタッチ位置検出機能付き表示装置１０について説明する。図１に示すように、タッチ位置検出機能付き表示装置１０は、タッチパネルセンサ３０と、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどの表示装置１５とを組み合わせることによって構成されている。図示された表示装置１５は、フラットパネルディスプレイとして構成されている。表示装置１５は、表示面１６ａを有した表示パネル１６と、表示パネル１６に接続された表示制御部（図示せず）と、を有している。表示パネル１６は、映像を表示することができるアクティブエリアＡ１と、アクティブエリアＡ１を取り囲むようにしてアクティブエリアＡ１の外側に配置された非アクティブエリア（額縁領域とも呼ばれる）Ａ２と、を含んでいる。表示制御部は、表示されるべき映像に関する情報を処理し、映像情報に基づいて表示パネル１６を駆動する。表示パネル１６は、表示制御部の制御信号に基づいて、所定の映像を表示面１６ａに表示する。すなわち、表示装置１５は、文字や図等の情報を映像として出力する出力装置としての役割を担っている。
【００２４】
図１に示すように、タッチパネルセンサ３０は、表示装置１５の表示面１６ａに、例えば接着層（図示せず）を介して接着されている。
【００２５】
タッチパネルセンサ
次に図２を参照して、タッチパネルセンサ３０について説明する。図２は、観察者側から見た場合のタッチパネルセンサ３０を示す平面図である。
【００２６】
ここでは、タッチパネルセンサ３０が、投影型の静電容量結合方式のタッチパネルセンサとして構成される例について説明する。なお、「容量結合」方式は、タッチパネルの技術分野において「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等とも呼ばれており、本件では、これらの「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等と同義の用語として取り扱う。典型的な静電容量結合方式のタッチパネルセンサは、透光性を有する導電性のパターンを有しており、外部の導体（典型的には人間の指）がタッチパネルセンサに接近することにより、外部の導体とタッチパネルセンサの導電性のパターンとの間でコンデンサ（静電容量）が形成される。そして、このコンデンサの形成に伴った電気的な状態の変化に基づき、タッチパネルセンサ上において外部導体が接近している位置の位置座標が特定される。
【００２７】
図２に示すように、タッチパネルセンサ３０は、観察者側を向く第１面３２ａおよび表示装置側を向く第２面３２ｂを含み、透光性を有する基材３２と、基材３２の第１面３２ａ上に設けられ、第１方向に延びる複数の第１検出パターン４１と、基材３２の第２面３２ｂ上に設けられ、第１方向に交差する、例えば第１方向に直交する第２方向に延びる複数の第２検出パターン４６と、を備えている。図２に示すように、第１検出パターン４１および第２検出パターン４６はそれぞれ帯状に延びている。また、複数の第１検出パターン４１は一定の配列ピッチで第２方向に並べられており、複数の第２検出パターン４６も一定の配列ピッチで第１方向に並べられている。通常は、第２方向における第１検出パターン４１の配列ピッチと、第１方向における第２検出パターン４６の配列ピッチとは同一になっている。第１検出パターン４１および第２検出パターン４６の配列ピッチは、タッチ位置の検出に関して求められる分解能に応じて定められるが、例えば数ｍｍになっている。なお図２においては、基材３２の第１面３２ａ側に設けられている構成要素が実線で表され、基材３２の第２面３２ｂ側に設けられている構成要素が点線で表されている。
【００２８】
図１に示すように、タッチパネルセンサ３０の基材３２は、タッチ位置を検出され得る領域に対応する矩形状のアクティブエリアＡａ１と、アクティブエリアＡａ１の周辺に位置する矩形枠状の非アクティブエリアＡａ２と、を含んでいる。アクティブエリアＡａ１および非アクティブエリアＡａ２はそれぞれ、表示パネル１６のアクティブエリアＡ１および非アクティブエリアＡ２に対応して区画されたものである。
【００２９】
上述の第１検出パターン４１および第２検出パターン４６は、アクティブエリアＡａ１内に配置されている。また非アクティブエリアＡａ２のうち基材３２の第１面３２ａ上には、各第１検出パターン４１に電気的に接続された複数の第１額縁配線４３と、基材３２の外縁近傍に配置され、各第１額縁配線４３に電気的に接続された複数の第１端子部４４と、が設けられている。さらに、非アクティブエリアＡａ２のうち基材３２の第２面３２ｂ上には、各第２検出パターン４６に電気的に接続された複数の第２額縁配線４８と、基材３２の外縁近傍に配置され、各第２額縁配線４８に電気的に接続された複数の第２端子部４９と、が設けられている。
【００３０】
以下、タッチパネルセンサ３０の各構成要素について説明する。
【００３１】
（基材）
基材３２は、タッチパネルセンサ３０において誘電体として機能するものである。基材３２を構成する材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）やガラスなど、十分な透光性を有する材料が用いられる。なお第１検出パターン４１、第２検出パターン４６、額縁配線４３，４８や端子部４４，４９を適切に保持することができる限りにおいて、基材３２の具体的な構成が特に限られることはない。例えば基材３２は、タッチパネルセンサ３０における光の反射率や透過率を調整するためのインデックスマッチング層をさらに含んでいてもよい。他にも、ＰＥＴ層などの表面に設けられたハードコート層がさらに基材３２に含まれていてもよい。すなわち本実施の形態において、基材３２とは、何らかの具体的な構造や材料を意味するものではなく、タッチパネルセンサ３０を構成する第１検出パターン４１や第２検出パターン４６などのパターンの下地となるものを意味するに過ぎない。
【００３２】
（第１検出パターン）
次に図３Ａ乃至図５を参照して、第１検出パターン４１について説明する。図３Ａは、図２において符号IIIが付された一点鎖線で囲まれた部分における第１検出パターン４１を、観察者側から見た場合を示す平面図であり、図３Ｂは、図２において符号IIIが付された一点鎖線で囲まれた部分における第２検出パターン４６を、観察者側から見た場合、すなわち基材３２を透かして第２検出パターン４６を見た場合を示す平面図である。また図３Ｃは、図３Ａに示す第１検出パターンおよび図３Ｂに示す第２検出パターンを重ねて示す平面図である。また図４および図５はそれぞれ、タッチパネルセンサ３０を図３ＣのIV線およびＶ線に沿って切断した場合を示す断面図である。なお図３Ｃにおいては、第１導線５１が実線で示され、第２導線５６が点線で示されている。
【００３３】
本実施の形態において、第１検出パターン４１は、遮光性および導電性を有する第１導線５１であって、各第１導線５１の間に開口部５１ａが形成されるよう網目状に配置された第１導線５１から構成されている。同様に、第２検出パターン４６は、遮光性および導電性を有する第２導線５６であって、各第２導線５６の間に開口部５６ａが形成されるよう網目状に配置された第２導線５６から構成されている。
【００３４】
第１検出パターン４１全体の面積のうち開口部５１ａによって占められる面積の比率（以下、開口率と称する）が十分に高くなり、これによって、表示装置１５からの映像光が適切な透過率でタッチパネルセンサ３０のアクティブエリアＡａ１を透過することができる限りにおいて、第１導線５１の寸法や形状が特に限られることはない。例えば図３Ａおよび図３Ｃに示す例において、第１検出パターン４１は、菱形に形成された第１導線５１を第１方向に沿って並べることによって構成されている。この場合、菱形の内角のうち鋭角になる内角が第１方向に沿って並ぶよう、第１導線５１が構成されている。開口率の範囲は、表示装置から放出される映像光の特性などに応じて適宜設定される。
【００３５】
第１導線５１の線幅は、求められる開口率などに応じて設定されるが、例えば第１導線５１の幅は１〜１０μｍの範囲内、より好ましくは２〜７μｍの範囲内に設定されている。これによって、観察者が視認する映像に対して第１導線５１が及ぼす影響を、無視可能な程度まで低くすることができる。第１導線５１の厚みは、第１検出パターン４１に対して求められる電気抵抗値などに応じて適宜設定されるが、例えば０．１〜０．５μｍの範囲内となっている。
【００３６】
（第２検出パターン）
第１導線５１の場合と同様に、第２導線５６においても、第２検出パターン４６全体の面積のうち開口部５６ａによって占められる面積の比率を十分に確保することができる限りにおいて、第２導線５６の寸法や形状が特に限られることはない。例えば図３Ｂおよび図３Ｃに示す例において、第２検出パターン４６は、菱形に形成された第２導線５６を第２方向に沿って並べることによって構成されている。この場合、菱形の内角のうち鈍角になる内角が第２方向に沿って並ぶよう、第２導線５６が構成されている。
【００３７】
好ましくは、図３Ｃに示すように、第１導線５１の一部と第２導線５６の一部とが平面視で重なるよう、第１導線５１および第２導線５６が構成されている。これによって、第２導線５６が基材３２を介して観察者から視認されてしまうことを部分的に抑制することができる。
【００３８】
（第１導線および第２導線の層構成）
次に図６を参照して、第１検出パターン４１を構成する第１導線５１および第２検出パターン４６を構成する第２導線５６の層構成について説明する。なお図６は、第１導線５１および第２導線５６の層構成を説明するために描かれた図であり、実際のタッチパネルセンサ３０における第１導線５１および第２導線５６の位置関係には必ずしも対応していない。
【００３９】
〔第１導線〕
図６に示すように、第１導線５１は、第１本体層６１と、第１本体層６１よりも観察者側に設けられた第１被覆層６２と、第１本体層６１よりも表示装置側に設けられた第１下地層６３と、を含んでいる。
【００４０】
このうち第１本体層６１は、第１導線５１における導電性を主に実現するための層である。第１本体層６１は、９９重量％以上の銅を含んでおり、かつ、０．３〜２．０μｍの範囲内の厚みを有している。このような構成の第１本体層６１が第１導線５１に設けられることにより、第１導線５１における高い導電性を確保することができる。
【００４１】
ところで銅などの金属材料は、高い導電性を有する一方で、上述のように金属光沢を示す。このため、未処理の金属材料が第１導線５１として用いられると、表示装置１５からの映像光の視認性が、第１導線５１の金属光沢によって妨げられることになる。特に銅は、銅に特有の赤味を帯びた色を示すため、銀などのその他の金属材料に比べて目立ち易く、このため表示装置１５からの映像光の視認性がより妨げられることになる。このような銅特有の金属光沢を和らげるため、例えば上述の特許文献１においては、銅層に酸化処理を施して銅層の表面に酸化銅の層を形成し、これによって銅層の表面を黒色化（黒化）することが提案されている。しかしながら、酸化銅などの酸化物の導電性は一般に乏しい。このため、酸化処理によって金属光沢を和らげる場合、第１導線５１の導電性の低下を引き起こすことになる。また、酸化処理は通常は、銅層を含む積層体をエッチングによってパターニングして第１導線５１を形成した後に実施される。従って、第１導線５１を構成する銅層の面のうち基材３２と接している面に対してそのような酸化処理を施すことは困難である。
【００４２】
このような課題を考慮し、本件発明者らは、第１導線５１の第１本体層６１の黒化処理ではなく、第１本体層６１の観察者側の面に、および任意には第１本体層６１の表示装置側の面に、第１本体層６１に比べて金属光沢が抑制された薄い層を設けることにより、第１導線５１の金属光沢を軽減することを提案する。すなわち上述の第１被覆層６２および第１下地層６３はそれぞれ、第１導線５１の金属光沢を軽減するために、第１本体層６１の観察者側の面上および表示装置側の面上に設けられる層である。以下、第１被覆層６２および第１下地層６３について詳述する。
【００４３】
第１被覆層６２および第１下地層６３はいずれも、その銅の含有量が、第１本体層６１における銅の含有量よりも少なくなるよう構成された層である。例えば第１被覆層６２および第１下地層６３はいずれも、５０重量％以下の銅を含むよう構成されている。このため、第１被覆層６２および第１下地層６３における金属光沢は、第１本体層６１における金属光沢に比べて軽減されており、特に、銅に特有の赤味を帯びた色が軽減されている。具体的には、波長６００ｎｍの光を第１本体層６１、第１被覆層６２および第１下地層６３に照射した場合の光の反射率をそれぞれＲ１０、Ｒ１１およびＲ１２とする場合、Ｒ１１≦０．５×Ｒ１０、かつ、Ｒ１２≦０．５×Ｒ１０の関係が成立している。ここで「波長６００ｎｍ」の光は、赤味に対応する光として選択されたものである。なお、波長６００ｎｍの光に対する第１本体層６１、第１被覆層６２および第１下地層６３の反射率は、例えば、村上色彩技術研究所（株）製の反射・透過率計ＨＲ−１００型を用いて測定することができる。
【００４４】
このように本実施の形態においては、銅に対する黒化処理ではなく、銅に比べて赤味が低減された金属材料を用いることにより、第１導線５１からの反射光によって映像の視認性が低下することを抑制している。このため、第１導線５１における十分な導電性を確保することができ、これによって、タッチパネルセンサ３０によるタッチ位置の検出精度を十分に高くすることができる。また本実施の形態においては、上述の第１被覆層６２および第１下地層６３がいずれも、銅を含んでいる。このため、第１本体層６１、第１被覆層６２および第１下地層６３をエッチングによってパターニングして第１導線５１を形成する工程において、同一のエッチング液を用いて第１本体層６１、第１被覆層６２および第１下地層６３を同時にエッチングすることができる。このことにより、少ない工数で第１導線５１を得ることができる。
【００４５】
反射率Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２に関する上述の関係が成立する限りにおいて、第１被覆層６２および第１下地層６３の具体的な組成は特には限られないが、例えば第１被覆層６２および第１下地層６３はいずれも、５０重量％以下の銅と、４０重量％以上のニッケルと、を含んでいる。これによって、第１被覆層６２および第１下地層６３における赤味を、第１本体層６１に比べて十分に低減することができる。より好ましくは、第１被覆層６２および第１下地層６３はいずれも、５０重量％以下の銅と、４０重量％以上のニッケルと、１０重量％以上のクロムと、を含んでいてもよい。第１被覆層６２および第１下地層６３が、銅−ニッケル−クロムの三元合金からなる場合、その組成として例えば、銅５０重量％、ニッケル４０重量％およびクロム１０重量％というものを採用することができる。銅、ニッケルおよびクロムを含む三元合金は、銅に比べて高い耐腐食性および耐変色性を有している。
【００４６】
なお第１被覆層６２および第１下地層６３の役割は、外光や表示装置１５からの光が第１本体層６１に到達することを抑制することである。ここで上述のように第１被覆層６２および第１下地層６３は金属材料から構成されているため、第１被覆層６２および第１下地層６３が第１本体層６１に比べて非常に小さい厚みを有する場合であっても、光が第１本体層６１に到達することを十分に抑制することができる。例えば第１被覆層６２および第１下地層６３の厚みは、１００ｎｍ以下や２０ｎｍ以下になっていてもよく、さらに薄く、例えば９ｎｍになっていてもよい。このような薄い第１被覆層６２および第１下地層６３は、後述するように、スパッタリング法を用いることによって形成され得る。
【００４７】
なお上述の説明においては、波長６００ｎｍの光に対する反射率に基づいて第１本体層６１、第１被覆層６２および第１下地層６３の光学特性を規定したが、銅特有の金属光沢を軽減することができる限りにおいて、光学特性の規定法が特に限られることはない。例えば第１被覆層６２および第１下地層６３の光学特性が、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系に基づいて規定されてもよい。Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系においては、Ｌ＊が明度を表し、ａ＊が赤緑の色相と彩度を表し、ｂ＊が黄青の色相と彩度を表している。銅に特有の赤味は、主にａ＊に反映される。従って、ａ＊に基づいて、第１本体層６１、第１被覆層６２および第１下地層６３を規定することもできる。例えば、好ましくは、第１被覆層６２および第１下地層６３におけるａ＊は、第１本体層６１におけるａ＊の１／２以下になっている。具体的には、９９重量％以上の銅を含む第１本体層６１におけるａ＊の値は１５．７〜１６．７の範囲内になっており、一方、５０重量％以下の銅と、４０重量％以上のニッケルとを含む第１被覆層６２および第１下地層６３におけるａ＊の値は約１．５になっている。ａ＊は、例えば日本電色工業（株）製の測色色差計ＺＥ−２０００型を用いて測定することができる。
【００４８】
次に第１本体層６１、第１被覆層６２および第１下地層６３の形状について説明する。図６に示すように、第１被覆層６２は、第１本体層６１よりも大きい幅を有していてもよい。例えば図６に示すように、第１被覆層６２は、第１本体層６１の側面よりもΔＷ１だけ側方に突出していてもよい。この場合、後述するように、基材３２の法線方向に対して傾斜した方向からタッチパネルセンサ３０に入射した外光が第１本体層６１の側面に到達することを、第１被覆層６２によって防ぐことができる。このため、第１本体層６１に起因する、赤味を帯びた反射光が生成されることを防ぐことができる。
【００４９】
第１本体層６１に対する第１被覆層６２の突出幅ΔＷ１は、想定される外光の入射角の範囲や、第１本体層６１の厚みに応じて適宜設定されるが、好ましくは、突出幅ΔＷ１は第１本体層６１の厚み以上となっている。この場合、０〜４５°の範囲内の入射角で第１導線５１に到達する外光は、第１本体層６１の側面に到達することなく第１被覆層６２によって反射されることになる。このため、赤味を帯びた反射光が生成されて観察者によって視認されてしまうことを十分に抑制することができる。
【００５０】
第１被覆層６２と同様に、第１下地層６３も、第１本体層６１よりも大きい幅を有していてもよい。これによって、後述するように、基材３２の法線方向に対して傾斜した方向からタッチパネルセンサ３０に入射した表示装置１５からの映像光が第１本体層６１の側面に到達することを、第１下地層６３によって防ぐことができる。第１本体層６１に対する第１下地層６３の突出幅は、第１被覆層６２の場合と同等に設定され得る。
【００５１】
〔第２導線〕
次に第２導線５６について説明する。図６に示すように、第２導線５６は、第２本体層６６と、第２本体層６６よりも観察者側に設けられた第２下地層６８と、第２本体層６６よりも表示装置側に設けられた第２被覆層６７と、を含んでいる。
【００５２】
第２本体層６６は、第１導線５１の第１本体層６１と同様に、第２導線５６における導電性を主に実現するための層である。第２本体層６６は、９９重量％以上の銅を含んでおり、かつ、０．３〜２．０μｍの範囲内の厚みを有している。
【００５３】
また第２被覆層６７および第２下地層６８は、第１導線５１の第１被覆層６２および第１下地層６３と同様に、第２導線５６の金属光沢を軽減するために、第２本体層６６の観察者側の面上および表示装置側の面上に設けられる層である。すなわち、第２被覆層６７および第２下地層６８はいずれも、５０重量％以下の銅を含むよう構成されている。このため、波長６００ｎｍの光を第２本体層６６、第２被覆層６７および第２下地層６８に照射した場合の光の反射率をそれぞれＲ２０、Ｒ２１およびＲ２２とする場合、Ｒ２１≦０．５×Ｒ２０、かつ、Ｒ２２≦０．５×Ｒ２０の関係が成立している。
【００５４】
反射率Ｒ２０、Ｒ２１およびＲ２２に関する上述の関係が成立する限りにおいて、第２被覆層６７および第２下地層６８の具体的な組成は特には限られないが、例えば第２被覆層６７および第２下地層６８はいずれも、５０重量％以下の銅と、４０重量％以上のニッケルと、を含んでいる。これによって、第２被覆層６７および第２下地層６８における赤味を、第２本体層６６に比べて十分に低減することができる。より好ましくは、第２被覆層６７および第２下地層６８はいずれも、５０重量％以下の銅と、４０重量％以上のニッケルと、１０重量％以上のクロムと、を含んでいてもよい。第２被覆層６７および第２下地層６８が、銅−ニッケル−クロムの三元合金からなる場合、その組成として例えば、銅５０重量％、ニッケル４０重量％およびクロム１０重量％というものを採用することができる。
【００５５】
第１被覆層６２および第１下地層６３と同様に、第２被覆層６７および第２下地層６８は、第２本体層６６に比べて非常に小さい厚みを有している。例えば第２被覆層６７および第２下地層６８の厚みは、１００ｎｍ以下や２０ｎｍ以下になっていてもよく、さらに薄く、例えば９ｎｍになっていてもよい。
【００５６】
なお第１被覆層６２および第１下地層６３と同様に、第２被覆層６７および第２下地層６８の光学特性がａ＊などによって規定されていてもよい。例えば、第１被覆層６２および第１下地層６３の場合と同様に、第２被覆層６７および第２下地層６８におけるａ＊は、第２本体層６６６におけるａ＊の１／２以下になっている。
【００５７】
また図６に示すように、第２下地層６８は、第２本体層６６よりも大きい幅を有していてもよい。例えば図６に示すように、第２下地層６８は、第２本体層６６の側面よりもΔＷ２だけ側方に突出していてもよい。この場合、後述するように、基材３２の法線方向に対して傾斜した方向からタッチパネルセンサ３０に入射した外光が第２本体層６６の側面に到達することを、第２下地層６８によって防ぐことができる。このため、第２本体層６６に起因する赤味を帯びた反射光が生成されることを防ぐことができる。
【００５８】
第２本体層６６に対する第２下地層６８の突出幅ΔＷ２は、上述の突出幅ΔＷ１の場合と同様に、好ましくは第２本体層６６の厚み以上となっている。また図６に示すように、第２被覆層６７も、第２本体層６６よりも大きい幅を有していてもよい。第２本体層６６に対する第２被覆層６７の突出幅は、第２下地層６８の場合と同等に設定され得る。
【００５９】
（額縁配線および端子部）
第１検出パターン４１に接続されている第１額縁配線４３および第１端子部４４、並びに、第２検出パターン４６に接続されている第２額縁配線４８および第２端子部４９は、第１検出パターン４１並びに第２検出パターン４６からの信号をタッチパネルセンサ３０の外部に取り出すために設けられたものである。信号を適切に伝達することができる限りにおいて、第１額縁配線４３および第１端子部４４並びに第２額縁配線４８および第２端子部４９の具体的な構成が特に限られることはない。例えば第１額縁配線４３および第１端子部４４は、第１導線５１と同一の層構成で第１導線５１と同時に形成されるものであってもよい。同様に、第２額縁配線４８および第２端子部４９は、第２導線５６と同一の層構成で第２導線５６と同時に形成されるものであってもよい。
【００６０】
タッチパネルセンサの製造方法
次に、以上のような構成からなるタッチパネルセンサ３０を製造する方法について、図７（ａ）〜（ｄ）および図８（ａ）（ｂ）を参照して説明する。
【００６１】
はじめに図７（ａ）に示すように、タッチパネルセンサ３０を作製するための元材としての積層体６０（ブランクとも呼ばれる）を準備する。積層体６０は、基材３２と、基材３２の第１面３２ａ側に、基材３２から観察者側に向かって順に設けられた第１下地層６３、第１本体層６１および第１被覆層６２と、基材３２の第２面３２ｂ側に、基材３２から表示装置１５側に向かって順に設けられた第２下地層６８、第２本体層６６および第２被覆層６７と、を含んでいる。
【００６２】
以下、図８（ａ）（ｂ）を参照して、積層体６０を作製するための方法の一例について説明する。ここでは、スパッタリング法によって積層体６０を作製する方法について説明する。図８（ａ）（ｂ）に示すように、積層体６０を作製するための積層体作製装置８０は、第１ロール８１と、第２ロール８２と、第１ロール８１と第２ロール８２との間で第１ロール８１から第２ロール８２に向かって順に並べられた第１ターゲット８３、第２ターゲット８４および第３ターゲット８５と、を備えている。
【００６３】
第１ロール８１および第２ロール８２が時計回りに回転する場合、第１ロール８１が、基材３２を巻き出す巻出部となり、第２ロール８２が、第１ロール８１からの基材３２を巻き取る巻取部となる。一方、第１ロール８１および第２ロール８２が反時計回りに回転する場合、第２ロール８２が、基材３２を巻き出す巻出部となり、第１ロール８１が、第２ロール８２からの基材３２を巻き取る巻取部となる。
【００６４】
第１ターゲット８３は、第１被覆層６２、第１下地層６３、第２被覆層６７および第２下地層６８の原料となるものである。例えば第１ターゲット８３は、銅５０重量％、ニッケル４０重量％およびクロム１０重量％という三元合金から構成されている。一方、第２ターゲット８４および第３ターゲット８５は、第１本体層６１および第２本体層６６の原料となるものである。例えば第２ターゲット８４および第３ターゲット８５は、銅から構成されている。
【００６５】
積層体６０を作製する工程においては、はじめに、各ターゲット８３，８４，８５の周囲の気体を排出し、各ターゲット８３，８４，８５の周囲を真空状態とする。次に、各ターゲット８３，８４，８５の周囲にアルゴンなどの不活性ガスを導入する。その後、図８（ａ）に示すように、第１ロール８１および第２ロール８２を時計回りに回転させ、第１ロール８１から第２ロール８２に向かって基材３２を送り出す。このとき、図示しない放電装置によって各ターゲット８３，８４，８５に放電電力を印加する。これによって、図８（ａ）に示すように、基材３２が第１ターゲット８３の近傍を通るとき、基材３２の第１面３２ａ上に第１下地層６３が成膜される。また、基材３２が第２ターゲット８４および第３ターゲット８５の近傍を通るとき、第１下地層６３上に第１本体層６１が成膜される。
【００６６】
次に、第１ロール８１および第２ロール８２を反時計回りに回転させ、第１下地層６３および第１本体層６１が積層された基材３２を第２ロール８２から第１ロール８１に向かって送り出す。これによって、図８（ｂ）に示すように、基材３２が第３ターゲット８５および第２ターゲット８４の近傍を通るとき、銅がさらに積層されて第１本体層６１の厚みが増大する。また、基材３２が第１ターゲット８３の近傍を通るとき、第１本体層６１上に第１被覆層６２が成膜される。このようにして、基材３２の第１面３２ａ上に順に第１下地層６３、第１本体層６１および第１被覆層６２を形成することができる。
【００６７】
その後、基材３２の表裏を反転させた後、図８（ａ）（ｂ）に示す成膜工程と同様にして、基材３２の第２面３２ｂ上に順に第２下地層６８、第２本体層６６および第２被覆層６７を形成する。このようにして、図７（ａ）に示す積層体６０を得ることができる。
【００６８】
本実施の形態によれば、積極的に酸素を導入はしない環境下において、金属材料からなる第１ターゲット８３を用いてスパッタリングを実施することにより、第１被覆層６２、第１下地層６３、第２被覆層６７および第２下地層６８が形成される。このため、第１被覆層６２、第１下地層６３、第２被覆層６７および第２下地層６８を、導電性を有するとともに酸化物ではないもの、すなわち金属膜として形成することができる。従って、第１被覆層６２、第１下地層６３、第２被覆層６７および第２下地層６８が酸化銅などの酸化物からなる場合に比べて、第１被覆層６２、第１下地層６３、第２被覆層６７および第２下地層６８の導電性を高くすることができる。また、基材３２や本体層６１，６６との間の密着性を高めることができる。
【００６９】
以下、図７に戻って、タッチパネルセンサ３０の製造方法について説明する。
【００７０】
積層体６０を準備した後、図７（ｂ）に示すように、第１被覆層６２上に第１感光層７１を所定のパターンで形成するとともに、第２被覆層６７上に第２感光層７６を所定のパターンで形成する。第１感光層７１および第２感光層７６は、特定波長域の光、例えば紫外線に対する感光性を有している。感光層７１，７６のタイプが特に限られることはない。例えば光溶解型の感光層が用いられてもよく、若しくは光硬化型の感光層が用いられてもよい。ここでは、光溶解型の感光層が用いられる例について説明する。
第１感光層７１は、第１導線５１のパターンに対応したパターンで形成されている。また第２感光層７６は、第２導線５６のパターンに対応したパターンで形成されている。感光層７１，７６は、例えば、はじめに、積層体６０の表面上にコーターを用いて感光性材料をコーティングし、次に、感光性材料を所定のパターンで露光して現像することによって形成される。
【００７１】
次に、第１感光層７１をマスクとして第１被覆層６２、第１本体層６１および第１下地層６３をエッチングするとともに、第２感光層７６をマスクとして第２被覆層６７、第２本体層６６および第２下地層６８をエッチングする。なお上述のように、基材３２の第１面３２ａ側の各層６１〜６３および基材３２の第２面３２ｂ側の各層６６〜６８のいずれも、銅を含むよう構成されている。このため、銅を溶解させることができるエッチング液を用いて、各層６１〜６３および各層６６〜６８を同時にエッチングすることができる。エッチング液としては、銅を選択的に溶解させることができる液が用いられ、例えば塩化第２鉄溶液が用いられる。
【００７２】
ところで上述のように、第１被覆層６２および第１下地層６３における銅の含有量は、第１本体層６１における銅の含有量よりも小さくなっている。同様に、第２被覆層６７および第２下地層６８における銅の含有量は、第２本体層６６における銅の含有量よりも小さくなっている。このため、塩化第２鉄溶液などの、銅を選択的に溶解させるエッチング液が用いられる場合、第１本体層６１および第２本体層６６のエッチング速度は、その他の層６２，６３，６７，６８のエッチング速度に比べて高くなっている。例えば、塩化第２鉄溶液を用いて同一条件下で各層６１〜６３および各層６６〜６８をエッチングした場合、第１本体層６１および第２本体層６６のエッチング速度Ｒ１は、その他の層６２，６３，６７，６８のエッチング速度Ｒ２の１．４倍以上となっている。すなわち、第１本体層６１および第２本体層６６のエッチングの方が、その他の層６２，６３，６７，６８のエッチングに比べて速く進行する。この結果、図７（ｃ）に示すように、第１被覆層６２および第１下地層６３は、第１本体層６１よりも大きい幅を有するようになる。同様に、第２被覆層６７および第２下地層６８は、第２本体層６６よりも大きい幅を有するようになる。
【００７３】
次に、被覆層６２，６７上に残っている感光層７１，７６に対して露光光を照射する。その後、感光層７１，７６を現像する。これによって、図７（ｄ）に示すように、感光層７１，７６を除去することができる。このようにして、第１本体層６１、第１被覆層６２および第１下地層６３から構成された第１導線５１と、第２本体層６６、第２被覆層６７および第２下地層６８から構成された第２導線５６と、を備えるタッチパネルセンサ３０を得ることができる。
【００７４】
次に図６を参照して、このようにして得られたタッチパネルセンサ３０の作用効果について説明する。
【００７５】
はじめに図６において符号Ｌ１およびＬ２で示すように、基材３２の法線方向に沿ってタッチパネルセンサ３０に入射した外光が第１導線５１および第２導線５６に到達する場合について説明する。この場合、第１導線５１に到達した外光Ｌ１は、第１導線５１の第１被覆層６２によって反射されて反射光Ｌ１’となる。同様に、第２導線５６に到達した外光Ｌ２は、第２導線５６の第２下地層６８によって反射されて反射光Ｌ２’となる。ここで上述のように、第１被覆層６２および第２下地層６８はいずれも、波長６００ｎｍの光に対する反射率Ｒ１１およびＲ２２が、第１本体層６１および第２本体層６６における反射率Ｒ１０およびＲ２０の０．５以下になるよう構成されたものである。このため、赤味を帯びた反射光が観察者に到達してしまうことを抑制することができる。
【００７６】
次に図６において符号Ｌ３およびＬ４で示すように、基材３２の法線方向から傾斜した方向に沿ってタッチパネルセンサ３０に入射した外光が第１導線５１および第２導線５６に到達する場合について説明する。ここで上述のように、第１被覆層６２は、第１本体層６１の側面よりもΔＷ１だけ側方に突出している。このため、第１導線５１に到達した外光Ｌ３は、第１本体層６１に到達することなく第１被覆層６２によって反射される。同様に、第２下地層６８は、第２本体層６６の側面よりもΔＷ２だけ側方に突出している。このため、第２導線５６に到達した外光Ｌ３は、第２本体層６６に到達することなく第２下地層６８によって反射される。このため、赤味を帯びた反射光が観察者に到達してしまうことを抑制することができる。
【００７７】
次に図６において符号Ｌ５およびＬ６で示すように、基材３２の法線方向に沿ってタッチパネルセンサ３０に入射した表示装置１５からの映像光が第１導線５１および第２導線５６に到達する場合について説明する。この場合、第１導線５１に到達した映像光Ｌ５は、第１導線５１の第１下地層６３によって反射されて反射光Ｌ５’となる。同様に、第２導線５６に到達した映像光Ｌ６は、第２導線５６の第２被覆層６７によって反射されて反射光Ｌ６’となる。このため、赤味を帯びた光が表示装置１５側に戻った後に表示装置１５の構成要素によって再び反射されて観察者に到達してしまうことを抑制することができる。
【００７８】
次に図６において符号Ｌ７およびＬ８で示すように、基材３２の法線方向から傾斜した方向に沿ってタッチパネルセンサ３０に入射した表示装置１５からの映像光が第１導線５１および第２導線５６に到達する場合について説明する。ここで上述のように、第１下地層６３は、第１本体層６１の側面よりも側方に突出している。このため、第１導線５１に到達した映像光Ｌ７は、第１本体層６１に到達することなく第１下地層６３によって反射される。同様に、第２被覆層６７は、第２本体層６６の側面よりも側方に突出している。このため、第２導線５６に到達した映像光Ｌ８は、第２本体層６６に到達することなく第２被覆層６７によって反射される。このため、赤味を帯びた光が表示装置１５側に戻った後に表示装置１５の構成要素によって再び反射されて観察者に到達してしまうことを抑制することができる。
【００７９】
なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、図面を参照しながら、いくつかの変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。また、上述した実施の形態において得られる作用効果が変形例においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。
【００８０】
上述の本実施の形態においては、第１導線５１の第１被覆層６２および第１下地層６３を構成する金属材料の組成、並びに、第２導線５６の第２被覆層６７および第２下地層６８を構成する金属材料の組成を適切に設定することにより、第１本体層６１および第２本体層６６に起因する銅特有の金属光沢を和らげる例を示した。ここで、銅特有の金属光沢をさらに和らげ、かつ、第１導線５１および第２導線５６の反射率をさらに低減するため、各層６１〜６３をパターニングすることによって得られた第１導線５１、並びに、各層６６〜６８をパターニングすることによって得られた第２導線５６に対して、黒化処理などの低反射処理をさらに施してもよい。この場合、第１導線５１の第１本体層６１の側面、第１被覆層６２の表面および第１下地層６３の側面、並びに、第２導線５６の第２本体層６６の側面、第２被覆層６７の表面および第２下地層６８の側面に対して主に低反射処理が施されることになる。
【００８１】
具体的な低反射処理は特には限られないが、例えば、ギ酸を含む液を用いて銅の結晶粒界をエッチングすることによって、第１導線５１および第２導線５６の各層の面を荒らすという方法が考えられる。また、第１導線５１および第２導線５６の各層の面を荒らした後、第１導線５１および第２導線５６の各層の面に黒色の層をめっきしたり、第１導線５１および第２導線５６の各層を酸化処理または硫化処理したりして黒色化するという黒化処理がさらに施されてもよい。
【００８２】
また上述の本実施の形態において、第１被覆層６２および第１下地層６３が第１本体層６１よりも大きい幅を有し、第２被覆層６７および第２下地層６８が第２本体層６６よりも大きい幅を有する例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図９に示すように、第１被覆層６２および第１下地層６３の幅が第１本体層６１の幅とほぼ同一であり、第２被覆層６７および第２下地層６８の幅が第２本体層６６の幅とほぼ同一であってもよい。この場合も、図９に示すように、基材３２の法線方向に沿ってタッチパネルセンサ３０に入射した外光Ｌ１，Ｌ２に起因して、赤味を帯びた反射光が観察者に到達してしまうことを、第１被覆層６２および第２下地層６８によって抑制することができる。また、基材３２の法線方向に沿ってタッチパネルセンサ３０に入射した表示装置１５からの映像光Ｌ５，Ｌ６に起因して、赤味を帯びた光が表示装置１５側に戻ってしまうことを、第１下地層６３および第２被覆層６７によって抑制することができる。
【００８３】
また上述の本実施の形態において、第１導線５１が、第１本体層６１よりも表示装置側に設けられた第１下地層６３を含み、第２導線５６が、第２本体層６６よりも表示装置側に設けられた第２被覆層６７を含む例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図１０または図１１に示すように、第１導線５１は、第１本体層６１と、第１本体層６１よりも観察者側に設けられた第１被覆層６２と、を少なくとも含んでいればよい。また第２導線５６は、第２本体層６６と、第２本体層６６よりも観察者側に設けられた第２下地層６８と、を少なくとも含んでいればよい。これによって、図１０または図１１に示すように、基材３２の法線方向に沿ってタッチパネルセンサ３０に入射した外光Ｌ１，Ｌ２に起因して、赤味を帯びた光が観察者に到達してしまうことを、第１被覆層６２および第２下地層６８によって抑制することができる。また図１０に示すように、第１被覆層６２が第１本体層６１よりも大きい幅を有し、第２下地層６８が第２本体層６６よりも大きい幅を有する場合、基材３２の法線方向から傾斜した方向に沿ってタッチパネルセンサ３０に入射した外光Ｌ３，Ｌ４に起因して、赤味を帯びた光が観察者に到達してしまうことを、第１被覆層６２および第２下地層６８によって抑制することができる。
【００８４】
また図示はしないが、タッチパネルセンサ３０は、隣接する２つの第１検出パターン４１の間に設けられ、かつ第１検出パターン４１および第１額縁配線４３のいずれにも電気的に接続されていないダミーパターンをさらに備えていてもよい。同様に、タッチパネルセンサ３０は、隣接する２つの第２検出パターン４６の間に設けられ、かつ第２検出パターン４６および第２額縁配線４８のいずれにも電気的に接続されていないダミーパターンをさらに備えていてもよい。
【００８５】
なお、上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。
【００８６】
第２の実施の形態
次に図１２乃至図１４を参照して、本発明の第２の実施の形態について説明する。図１２乃至図１４に示す第２の実施の形態において、タッチ位置を検出するための検出パターンは、基材の観察者側の面上にのみ設けられており、基材の表示装置側の面上には設けられていない。図１２乃至図１４に示す第２の実施の形態において、上述の第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。また、第１の実施の形態において得られる作用効果が本実施の形態においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。
【００８７】
本実施の形態によるタッチパネルセンサ３０の、平面視の場合の構成は、図２乃至３Ｃに示す上述の第１の実施の形態におけるタッチパネルセンサ３０と同一であるので、説明を省略する。一方、本実施の形態におけるタッチパネルセンサ３０は、第１の実施の形態におけるタッチパネルセンサ３０とは異なる断面構成を有している。図１２および図１３はそれぞれ、本実施の形態によるタッチパネルセンサ３０を図３ＣのIV線およびＶ線に沿って切断した場合に対応する断面図である。
【００８８】
本実施の形態において、タッチパネルセンサ３０は、第１タッチパネルセンサ３０Ａおよび第２タッチパネルセンサ３０Ｂを、接着層３４などを介して接合することによって構成されている。このうち第１タッチパネルセンサ３０Ａは、図１２および図１３に示すように、観察者側を向く第１面３２ａおよび表示装置側を向く第２面３２ｂを含む基材３２と、基材３２の第１面３２ａ上に設けられた複数の第１検出パターン４１と、を備えている。また第２タッチパネルセンサ３０Ｂは、図１２および図１３に示すように、観察者側を向く第１面３３ａおよび表示装置側を向く第２面３３ｂを含む基材３３と、基材３３の第１面３３ａ上に設けられた複数の第２検出パターン４６と、を備えている。このように本実施の形態において、タッチ位置を検出するための第１検出パターン４１および第２検出パターン４６はいずれも、基材３２および基材３３の観察者側の第１面３２ａ，３３ａ上に設けられている。
【００８９】
第１検出パターン４１は、遮光性および導電性を有する第１導線５１であって、各第１導線５１の間に開口部５１ａが形成されるよう網目状に配置された第１導線５１から構成されている。同様に、第２検出パターン４６は、遮光性および導電性を有する第２導線５６であって、各第２導線５６の間に開口部５６ａが形成されるよう網目状に配置された第２導線５６から構成されている。
【００９０】
次に図１４を参照して、第１検出パターン４１を構成する第１導線５１および第２検出パターン４６を構成する第２導線５６の層構成について説明する。なお図１４は、第１導線５１および第２導線５６の層構成を説明するために描かれた図であり、実際のタッチパネルセンサ３０における第１導線５１および第２導線５６の位置関係には必ずしも対応していない。
【００９１】
図１４に示すように、第１導線５１および第２導線５６はいずれも、本体層６１と、本体層６１よりも観察者側に設けられた被覆層６２と、を含んでいる。また第１導線５１および第２導線５６において、被覆層６２の幅は、本体層６１の幅よりも大きくなっている。本体層６１および被覆層６２の光学特性や形状は、上述の第１の実施の形態における第１本体層６１および第１被覆層６２と同一であるので、詳細な説明を省略する。
【００９２】
本実施の形態によれば、図１４に示すように、基材３２の法線方向に沿ってタッチパネルセンサ３０に入射した外光Ｌ１，Ｌ２に起因して、赤味を帯びた反射光が観察者に到達してしまうことを、第１導線５１の被覆層６２および第２導線５６の被覆層６２によって抑制することができる。また、基材３２の法線方向から傾斜した方向に沿ってタッチパネルセンサ３０に入射した外光Ｌ３，Ｌ４に起因して、赤味を帯びた反射光が観察者に到達してしまうことを、第１導線５１の被覆層６２および第２導線５６の被覆層６２によって抑制することができる。このため、本体層６１の側面に黒化処理などの低反射処理が施されていない場合であっても、映像の視認性が低下することを、広い視野角にわたって抑制することができる。
【符号の説明】
【００９３】
１０  タッチ位置検出機能付き表示装置
１５  表示装置
３０  タッチパネルセンサ
３０Ａ  第１タッチパネルセンサ
３０Ｂ  第２タッチパネルセンサ
３２  基材
３３  基材
４１  第１検出パターン（検出パターン）
４６  第２検出パターン（検出パターン）
５１  第１導線（導線）
５６  第２導線（導線）
６０  積層体
６１  第１本体層（本体層）
６２  第１被覆層（被覆層）
６３  第１下地層
６６  第２本体層
６７  第２被覆層
６８  第２下地層
【図１】
2015049852.tif 000003
【図２】
2015049852.tif 000004
【図３Ａ】
2015049852.tif 000005
【図３Ｂ】
2015049852.tif 000006
【図３Ｃ】
2015049852.tif 000007
【図４】
2015049852.tif 000008
【図５】
2015049852.tif 000009
【図６】
2015049852.tif 000010
【図７】
2015049852.tif 000011
【図８】
2015049852.tif 000012
【図９】
2015049852.tif 000013
【図１０】
2015049852.tif 000014
【図１１】
2015049852.tif 000015
【図１２】
2015049852.tif 000016
【図１３】
2015049852.tif 000017
【図１４】
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