(57)【要約】【課題】本体内部での温度変動の影響を抑えるのに有利な増幅装置を提供する。【解決手段】増幅装置１７は、入力信号に応じた出力信号を増幅器１９を介して出力するものであり、増幅器１９を含む本体１７ａとは別に設置され、該本体１７ａから出力された出力信号を検出して、入力信号にフィードバックする検出器２１を有する。【選択図】図２
2015133445.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力信号に応じた出力信号を増幅器を介して出力する増幅装置であって、
前記増幅器を含む本体とは別に設置され、該本体から出力された前記出力信号を検出して、前記入力信号にフィードバックする検出器を有することを特徴とする増幅装置。
【請求項２】
前記本体の内部に、前記増幅器から出力された前記出力信号を検出する内部検出器を有し、
前記検出器は、前記内部検出器とは異なる、
ことを特徴とする請求項１に記載の増幅装置。
【請求項３】
前記検出器で検出された出力信号は、前記入力信号との偏差が取られ、
前記偏差は、前記入力信号にフィードバックされる、
ことを特徴とする請求項１または２に記載の増幅装置。
【請求項４】
前記入力信号を電流指令値とし、前記出力信号を電流値とする電流アンプであることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の増幅装置。
【請求項５】
前記入力信号を電圧指令値とし、前記出力信号を電圧値とする電圧アンプであることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の増幅装置。
【請求項６】
振動源からの振動が対象物へ伝達するのを抑える除振装置であって、
前記振動源と前記対象物との間に設置され、変位を与える駆動部と、
前記駆動部に対して駆動信号を出力する増幅装置と、を備え、
前記増幅装置は、請求項１ないし５のいずれか１項に記載の増幅装置である、
ことを特徴とする除振装置。
【請求項７】
基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記対象物を前記パターンを形成する処理を行う処理部として、該処理部へ振動が伝達するのを抑える請求項６に記載の除振装置を備えることを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項８】
請求項７に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、増幅装置、除振装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィ装置は、半導体デバイスや液晶表示デバイスなどの物品の製造工程に含まれるリソグラフィ工程において、描画や露光などの方法で基板上にパターンを形成する。特にリソグラフィ装置としての電子線描画装置や半導体露光装置では、描画部や露光部などパターン形成処理に直接的に関わる処理部に外部から振動が加わることは、形成精度に影響を及ぼす可能性があるため望ましくない。例えば、半導体露光装置では、基板を保持するステージ装置の位置を計測する干渉計や露光光を生成する鏡筒が設置される鏡筒定盤に床振動が伝わると、重ね合わせ精度を劣化させる可能性がある。そこで、一般的には、リソグラフィ装置は、エアアクチュエータなどを用いた除振装置を備え、鏡筒定盤を数Ｈｚの低固有振動数で支持することで床振動の伝達を抑制し、それと同時に位置決め制御を行う。特許文献１は、この位置決め制御のために除振装置に供給される電流値を、電流アンプ（増幅装置）を介して出力する位置決め装置を開示している。電流アンプは、除振装置に供給される電流値を検出して電流指令値にフィードバックする電流制御を行う。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平８−１１１９９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ここで、特許文献１に示すような電流アンプでは、本体内部の回路からの発熱に起因してその内部で温度が変動し、電流アンプを構成する部品の特性が変化することで、電流値にも変動が生じる場合がある。以下、この温度変動に起因した電流値の変動を「ドリフト」という。特に、電流アンプ内の電流検出部で生じるドリフトは、電流アンプ本体内のフィードバックで抑制することができずに電流アンプの出力に誤差として含まれてしまう。これは、従来であれば無視できるレベルの小さな量であった。しかしながら、近年、リソグラフィ装置においては、重ね合わせ精度の要求がより厳しくなるなどの精度面から、１Ｈｚ以下のさらに低い固有振動数での除振が求められている。これに対して、固有振動数を低くすると、位置決めの制御ゲインを小さく設定する必要があるため、ドリフトにより生じる力を抑制しきれなくなり、結果的に鏡筒定盤の振動振幅が大きくなる。例えば、鏡筒を鏡筒定盤で保持する構成のリソグラフィ装置では、鏡筒と基板との衝突を避けるために鏡筒定盤の可動域を制限するストッパーが設置されているが、鏡筒定盤の振動振幅が大きくなることで、鏡筒定盤とストッパーとが衝突する可能性がある。
【０００５】
本発明は、このような状況に鑑みてなされたものであり、例えば、本体内部での温度変動の影響を抑えるのに有利な増幅装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明は、入力信号に応じた出力信号を増幅器を介して出力する増幅装置であって、増幅器を含む本体とは別に設置され、該本体から出力された出力信号を検出して、入力信号にフィードバックする検出器を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、例えば、本体内部での温度変動の影響を抑えるのに有利な増幅装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の一実施形態に係る電子線描画装置の構成を示す図である。
【図２】一実施形態における除振装置の構成を示すブロック図である。
【図３】他の実施形態における除振装置の構成を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明を実施するための形態について図面などを参照して説明する。
【００１０】
まず、本発明の一実施形態に係る増幅装置について説明する。本実施形態に係る増幅装置は、例えば、エアアクチュエータなどの駆動部を用いて対象物への振動源からの振動の伝達を抑える除振装置に適用され得る。また、この除振装置は、例えば、電子線描画装置や半導体露光装置などのリソグラフィ装置に採用され得る。そこで、本実施形態では、一例として、増幅装置が電子線描画装置に採用されるものとして説明する。
【００１１】
図１は、本実施形態に係る電子線描画装置（以下、単に「描画装置」という。）１の構成を示す概略図である。描画装置１は、荷電粒子線を偏向させ、かつ、荷電粒子線のブランキング（照射のＯＦＦ）を制御することで、所定のパターンを基板４上の所定の位置に描画する。ここで、荷電粒子線は、例えば、電子線やイオン線などをいうが、本実施形態では電子線であるものとして説明する。また、基板４は、例えば、単結晶シリコンからなるウエハであり、表面上には感光性のレジストが塗布されている。なお、図１では、基板４に対する電子線のノミナルの照射方向にＺ軸を取り、Ｚ軸に垂直な平面内に互いに直交するＸ軸およびＹ軸を取っている。
【００１２】
描画装置１は、描画を行う処理部としての電子光学鏡筒３と、基板４が載置されるステージ５と、電子光学鏡筒３を保持する鏡筒定盤６と、鏡筒定盤６を除振装置３０を介して支持する支持部１２と、制御部４０とを備える。電子光学鏡筒３は、その内部に、電子銃７と、不図示の偏向系および光学系とを含む。偏向系および光学系は、電子銃７から下流側にあるステージ５上の基板４に向けて照射される電子線８を制御（ブランキング制御）する。なお、電子光学鏡筒３の内部は、不図示の真空排気系により高真空に維持されている。ステージ５は、例えば静電吸着により基板４を保持しつつ、Ｘ、Ｙ軸方向に移動可能である。また、ステージ５は、その側面端に反射ミラー９を設置している。そして、鏡筒定盤６は、干渉計用の支柱１０を設置し、支柱１０は、その先端に干渉計１１を設置している。干渉計１１は、反射ミラー９にレーザー光を照射し、反射光を受光することで、ステージ５のＸ、Ｙ軸方向の位置を検出する。なお、電子光学鏡筒３、ステージ５、および鏡筒定盤６は、不図示の真空排気系により真空に維持された真空チャンバ２の内部に設置されている。制御部４０は、電子光学鏡筒３内の各構成要素、ステージ５、および除振装置３０などの動作を制御する。描画時の基本動作として、制御部４０は、ステージ５をステップ・アンド・リピート動作またはスキャン動作により移動させながら、照射中の電子線を適宜偏向させることで、基板４上のショット（描画領域）にパターンを描画する。
【００１３】
次に、除振装置３０と、除振装置３０に含まれる増幅装置について詳説する。図２は、除振装置３０の構成を示すブロック図であり、図１に示す構成要素と同一のものには同一の符号を付す。除振装置３０は、例えば、床振動が、対象物としての鏡筒定盤６へ伝達するのを抑えるために設置されるものであり、駆動部１３と、検出部１４と、電流指令生成部１５と、増幅装置１７とを含む。駆動部１３は、例えばエアアクチュエータであり、鏡筒定盤６と複数の支持部１２との間の少なくとも３箇所に設置され、鏡筒定盤６を、床面または不図示の定盤上に低固有振動数で支持するとともに位置決めする。ここでは、説明の簡単化のために、複数の駆動部１３のうちの１つに対して位置決め制御を行うものとする。検出部１４は、例えば変位センサであり、複数の支持部１２においてそれぞれの駆動部１３の近傍に設置され、それぞれ、鏡筒定盤６と支持部１２との相対変位を検出する。電流指令生成部１５は、例えば制御部４０内に構成されるものであり、検出部１４で検出された相対変位と、駆動部１３への位置指令との偏差を位置制御器１６に入力し、駆動部１３に対する電流指令値を生成する。
【００１４】
増幅装置１７は、いわゆる電流アンプであり、電流指令値（入力信号）を増幅し、駆動部１３へ電流値（出力信号）を出力する。駆動部１３は、駆動信号としての電流値に基づいて制御力を作用させて、鏡筒定盤６に変位を与える。増幅装置１７は、電流制御器１８と、増幅器１９と、第１電流検出器２０とを含む本体１７ａ、および第２電流検出器２１を含む。まず、第１電流検出器（内部検出器）２０は、駆動部１３への電流値を検出し、検出した電流値を電流指令値にフィードバックする。次に、電流制御器１８は、増幅器１９への入力信号を演算する。そして、増幅器１９は、増幅した電流値を出力する。第２電流検出器（検出器）２１は、第１電流検出器とは異なり、増幅装置１７の外側に、すなわち増幅装置１７とは別体で設けられ、増幅装置１７から出力された電流値を検出する。この場合、制御部４０は、電流指令生成部１５からの電流指令値と、第２電流検出器２１からの電流値に増幅装置１７の逆特性１／Ｇを乗じた信号との偏差を演算する。ここで、増幅装置１７の逆特性１／Ｇを乗じるのは、電流値を電流指令値の次元に換算するためである。そして、得られた偏差信号は、電流指令値にフィードバックされ、増幅装置１７に入力される。
【００１５】
増幅装置１７の本体１７ａに基本構成が対応する従来の増幅装置では、その内部で図２に示すようにドリフト（内部の温度変動に起因した電流値の変動）が生じると、増幅器１９からの出力信号を検出する第１電流検出器２０の出力値に影響を及ぼし得る。これは、出力信号の振幅の増大など意図しない結果を招き得る。これに対して、本実施形態では、第１電流検出器２０とは別に、同様に増幅器１９から（この場合本体１７ａから）の出力信号を検出する第２電流検出器２１を、本体１７ａの外側に設けている。これにより、本体１７ａの内部でドリフトが生じたとしても、第２電流検出器２１は、その影響を受けることがないので、上記のような意図しない結果を抑制できる。
【００１６】
以上のように、本実施形態によれば、本体内部での温度変動の影響を抑えるのに有利な増幅装置を提供することができる。また、本実施形態に係る増幅装置を用いることで、位置制御の精度面で有利な除振装置を提供することができる。さらに、本実施形態に係る除振装置を用いることで、パターン形成の精度面で有利なリソグラフィ装置を提供することができる。
【００１７】
なお、上記説明では、増幅装置１７が電流アンプである場合について例示したが、本発明は、これに限らず、例えば電圧アンプであっても同様に実施可能である。この場合、上記説明でいう電流指令値が電圧指令値となり、電流値が電圧値となる。
【００１８】
また、上記説明では、電流指令生成部１５からの電流指令値と、第２電流検出器２１からの電流値に増幅装置１７の逆特性１／Ｇを乗じた信号との偏差を演算する処理を制御部４０で実行するものとした。しかしながら、本発明は、これに限定されず、例えば、図３に示すように、この演算処理を増幅装置１７の本体１７ａの内部で実行するものとしてもよい。この場合、本体１７ａに端子２２を設け、第２電流検出器２１で検出した電流値を端子２２を介して内部に入力する。さらに、第２電流検出器２１からの電流値を電流指令値の次元に換算するために増幅装置１７の逆特性１／Ｇを乗じるものとしているが、この換算機能を第２電流検出器２１自体に持たせるものとしても構わない。
【００１９】
（物品の製造方法）
一実施形態に係る物品の製造方法は、例えば、半導体デバイスなどのマイクロデバイスや微細構造を有する素子などの物品を製造するのに好適である。当該製造方法は、物体（例えば、感光剤を表面に有する基板）上に上記のリソグラフィ装置を用いてパターン（例えば潜像パターン）を形成する工程と、該工程でパターンを形成された物体を処理する工程（例えば、現像工程）とを含み得る。さらに、該製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど）を含み得る。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００２０】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、これらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形または変更が可能である。
【符号の説明】
【００２１】
１７    増幅装置
１７ａ  本体
１９    増幅器
２１    第２電流検出器
【図１】
2015133445.tif 000003
【図２】
2015133445.tif 000004
【図３】
2015133445.tif 000005