(57)【要約】      （修正有）【課題】マイクロメータースケール或いはナノメータスケールといった材料の微小領域における機械強度測定方法を提供する。【解決手段】分析装置１００は、Ａｒガスクラスターイオン３０を生成するイオン源と、Ａｒガスクラスターイオン３０を照射する試料１５と、試料１５にＡｒガスクラスターイオン３０を照射することで発生する解離イオン３０ｆを分析する質量分析器５とを備える。試料１５にイオン３０を照射することで発生する反射イオン３０ｆを分析することによって試料１５の機械強度を測定する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料にイオンを照射することで発生する反射イオンを分析することによって前記試料の機械強度を測定する、材料機械強度測定方法。
【請求項２】
前記試料に照射するイオンとして、クラスターイオンを用いる、請求項１に記載の材料機械強度測定方法。
【請求項３】
前記クラスターイオンとして、気体原子がファンデルワールス力で凝集したガスクラスターイオンを用いる、請求項２に記載の材料機械強度測定方法。
【請求項４】
前記クラスターイオンの原子１個あたりの運動エネルギーを前記試料のスパッタしきいエネルギー以下に設定する、請求項２又は３に記載の材料機械強度測定方法。
【請求項５】
前記反射イオンとして、前記クラスターイオンの分解で発生する解離イオンを用い、前記解離イオンの質量スペクトルに基づいて前記試料の機械強度を測定する、請求項２ないし４のいずれかに記載の材料機械強度測定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、材料機械強度測定方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
材料の機械強度は、一般に、試料に外力を加えたときの試料の変形量を測定することによって求められる。例えば、硬さは、測定対象である試料よりも硬い物質（例えば、ダイヤモンド等）で構成された圧子を、試料に押し付けて試料を塑性変形させ、これにより、試料の変形量から硬度として硬さを決めている。また、引張力や圧縮力などの外力を加えたときの試料の変形量を測定し、試料の単位断面積あたりに働く力（応力）と変形率（ひずみ）の比を弾性率（ヤング率）と定義している（例えば、非特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００３】
【非特許文献１】打越二彌著、「図解 機械材料」第３版  東京電機大学出版局、2007年
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、近年の電子機器や機械部品の微小化に伴い、かかる機器や部品を構成する材料に対して、マイクロメータースケール或いはナノメータスケールといった材料の微小領域における機械強度（例えば、硬度、弾性率等）の把握の必要性が増している。
【０００５】
しかし、従来の材料機械強度の測定方法を用いて、このようなニーズに対応するには、測定器自体の精度向上だけでなく、微小な試料片の製造方法及び保持方法等について抜本的な見直しが不可欠であると考えられる。よって、発明者らは、従来の測定方法の単なる改良では、かかるニーズへの適切な対応は困難であると判断している。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、マイクロメータースケール或いはナノメータスケールといった材料の微小領域における機械強度測定方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため、本発明の第１の態様(aspect)の材料機械強度測定方法は、試料にイオンを照射することで発生する反射イオンを分析することによって試料の機械強度を測定する。
【０００８】
これにより、マイクロメータースケール或いはナノメータスケールといった材料の微小領域における機械強度を測定できる。
【０００９】
また、本発明の第２の態様の材料機械強度測定方法は、第１の態様の材料機械強度測定方法において、試料に照射するイオンとして、クラスターイオンを用いる。
【００１０】
これにより、試料にクラスターイオンを照射することで発生する反射イオンのイオン強度を十分に確保できる。また、試料に照射するクラスターイオンの原子１個あたりの運動エネルギーを十分に低く設定できる。
【００１１】
また、本発明の第３の態様の材料機械強度測定方法は、第２の態様の材料機械強度測定方法において、クラスターイオンとして、気体原子がファンデルワールス力で凝集したガスクラスターイオンを用いる。
【００１２】
これにより、多数の構成原子数からなるガスクラスターイオンを安定に生成できる。
【００１３】
また、本発明の第４の態様の材料機械強度測定方法は、第２の態様又は第３の態様の材料機械強度測定方法において、クラスターイオンの原子１個あたりの運動エネルギーを試料のスパッタしきいエネルギー以下に設定する。
【００１４】
これにより、試料の損傷を防ぎながら、反射イオンを検出することができる。
【００１５】
また、本発明の第５の態様の材料機械強度測定方法は、第２の態様−第４の態様のいずれかの材料機械強度測定方法において、反射イオンとして、クラスターイオンの分解で発生する解離イオンを用い、解離イオンの質量スペクトルに基づいて試料の機械強度を測定する。
【００１６】
これにより、解離イオンの質量スペクトルに基づいてマイクロメータースケール或いはナノメータスケールといった材料の微小領域における機械強度を測定できる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の一態様によれば、マイクロメータースケール或いはナノメータスケールといった材料の微小領域における機械強度測定方法が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】図１は、本発明の実施形態１の材料機械強度測定方法に用いる分析装置の一例を示した概念図である。
【図２】図２は、図１の分析装置の具体的な構成の一例を示した図である。
【図３】図３は、飛行時間法により調整したＡｒ原子１個あたりの運動エネルギー分布の一例を示した図である。
【図４】図４は、Ａｒガスクラスターイオンの分解で発生する解離イオンの質量スペクトル分布の一例を示した図である。
【図５】図５は、Ａｒ３量体イオン（Ａｒ３＋）とＡｒ２量体イオン（Ａｒ２＋）の和に対するＡｒ２量体イオン（Ａｒ２＋）のイオン強度比の、高エネルギーイオン照射量依存性の一例を示した図である。
【図６】図６は、各種の金属材料について、Ａｒ３量体イオン（Ａｒ３＋）とＡｒ２量体イオン（Ａｒ２＋）の和に対するＡｒ２量体イオン（Ａｒ２＋）のイオン強度比と、金属材料の衝撃応力との関係の一例を示した図である。
【図７】図７は、各種金属材料について、Ａｒ３量体イオン（Ａｒ３＋）とＡｒ２量体イオン（Ａｒ２＋）の和に対するＡｒ２量体イオン（Ａｒ２＋）のイオン強度比と、金属材料のビッカース硬度との関係の一例を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
[本発明に係る一実施形態を得るに至った経緯]
発明者らは、アルゴン(Ａｒ)原子等の希ガス原子が、ファンデルワールス力で数百個−数千個凝集したガスクラスターイオンを試料表面に照射したときに、試料の表面がスパッタリングされて放出される二次イオンの質量を分析する技術（二次イオン質量分析法；ＳＩＭＳ）の開発に取り組んでいる。
【００２０】
このとき、Ａｒ原子からなるガスクラスターイオン（以下、「Ａｒガスクラスターイオン」という）を試料表面に衝突させると、このＡｒガスクラスターイオンは、低質量の解離イオン（例えば、Ａｒ多量体イオン）に分解することが次第に分かってきた。
【００２１】
そして、発明者らは、鋭意研究の結果、Ａｒガスクラスターイオンから分解した解離イオンの構成原子数（以下、「サイズ」という）の分布が、Ａｒガスクラスターイオンのサイズ、その加速電圧、及び照射を受ける試料の種類等に依存することを見出した。その結果、任意の微小な試料にＡｒガスクラスターイオンを照射したときに、Ａｒガスクラスターイオンから分解した解離イオンのサイズ分布の結果に基づいて、試料の機械強度（例えば、硬度、弾性率等）を求める手法を着想するに至った。
【００２２】
まず、試料の機械強度の一例である試料の弾性率の求め方について説明する。
ガスクラスターイオンが試料に衝突したとき、ガスクラスターイオン及び試料は変形する。試料に衝突するガスクラスターイオンのサイズ及び速度が一定のもとでは、弾性率が大きい試料ほど、試料の変形率が小さいので、ガスクラスターイオンの受ける撃力は大きくなる。その結果、弾性率が大きい試料ほど、ガスクラスターイオンは激しく解離する。
従って、解離イオンのサイズの分布（強度分布）は、試料の弾性率に関する情報を含んでいるはずである。
【００２３】
この場合、弾性率の求め方にはいくつかの方法があり、最も精度の高い方法として、以下の如く、分子動力学計算を援用する方法がある。
【００２４】
試料のポテンシャル関数及び試料に照射するガスクラスターイオンの運動エネルギーが既知であれば、分子動力学計算によって解離イオンの強度分布を求めることができる。逆に、解離イオンの強度分布が判明すれば、試料のポテンシャル関数を求めることができるので、ポテンシャル関数から試料の弾性率を導出できる。
【００２５】
一方、以下の如く、分子動力学計算を援用する方法と比べて簡易に弾性率を求める方法もある。
【００２６】
まず、弾性率が既知である様々な標準試料における解離イオン強度分布を求め、両者の相関関係を経験的に関数化する。次に、未知材料の解離イオン強度分布を求めて上記の相関関数から弾性率を求める。
【００２７】
次に、試料の機械強度の一例である試料の硬度の求め方について説明する。
試料の硬さは、試料の変形に対する抵抗力に依存する値なので、クラスターの解離イオンの強度分布に深く関わっているはずである。元来、硬さは物理的定義が不明瞭な量で、基準となる絶対的な尺度は存在しない。従って、組成、構造の明らかな様々な標準試料に対して、従来の測定法による硬度（ビッカース硬度等）と、解離イオンの強度分布の相関関係が明らかになれば、未知材料の硬度を解離イオン強度分布から求めることができる。
【００２８】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳しく説明する。
【００２９】
（実施形態１）
[装置構成]
図１は、本発明の実施形態１の材料機械強度測定方法に用いる分析装置の一例を示した概念図である。
【００３０】
図１に示すように、分析装置１００は、Ａｒガスクラスターイオン３０を生成するイオン源（図１では図示せず）と、Ａｒガスクラスターイオン３０を照射する試料１５と、試料１５にＡｒガスクラスターイオン３０を照射することで発生する解離イオン３０ｆを分析する質量分析器５と、を備える。
【００３１】
かかる構成により、マイクロメータースケール或いはナノメータスケールといった材料の微小領域における機械強度を知ることができる。
【００３２】
図２は、図１の分析装置の具体的な構成の一例を示した図である。
本分析装置１００は、それぞれ差動排気できる４つの真空室から成っている。ソース室１及びイオン化室２はそれぞれ、排気速度が１０００リットル／秒、及び１４００リットル／秒のターボ分子ポンプ(ＴＭＰ)により排気されている。サイズ選別室３及びビーム照射室４はそれぞれ、排気速度が３５０リットル／秒のＴＭＰにより排気されている。
なお、ソース室１、イオン化室２、サイズ選別室３及びビーム照射室４の到達真空度はそれぞれ、２×１０−６Ｐａ、 ２×１０−６Ｐａ、 １×１０−６Ｐａ、 ２×１０−５Ｐａであった。
【００３３】
ソース室１において、アルゴン（Ａｒ）ガスが、オリフィスを備える真鍮製コニカルノズル６から真空中に断熱膨張される。すると、かかる断熱膨張の冷却効果により超音速のＡｒガスクラスタービームが生成される。なお、Ａｒガスクラスターは、真空室内の残留ガスとの衝突により壊れ、Ａｒガスクラスターのサイズ（構成原子数）や運動エネルギーが変化する。このため、Ａｒガスクラスターのビームを輸送する真空室の真空度は、１０−３Ｐａ以下に保つ必要がある。本例では、上記の到達真空度により、ノズル押し圧１ＭＰａ程度のＡｒガスクラスタービーム条件下での真空度は、イオン化室２、サイズ選別室３及びビーム照射室４において、それぞれ６×１０−４Ｐａ、６×１０−４Ｐａ及び５×１０−５Ｐａであり、Ａｒガスクラスターのビーム輸送において、残留ガスとの衝突を十分に抑制可能な高真空状態を維持できる。
【００３４】
ソース室１からの中性のＡｒガスクラスタービームは、ニッケル製スキマー７によりビーム中心部が切り出され、イオン化室２へと導入される。そして、このイオン化室２において、イオン化室２に配されたイオン源の電子衝撃によりイオン化される。具体的には、Ａｒガスクラスターは、イオン化室２のタングステンフィラメント８から放出される熱電子によりイオン化され、加速電極９により加速される。イオン源はそれぞれ同一開口径のグランド電極部（接地電位）、引き出し電極部、加速電極９からなる。
【００３５】
本分析装置１００では、イオン化室２の第１偏向電極１０及びサイズ選別室３の第２偏向電極１２の間を、エネルギーの等しいイオンが飛行する時間がイオンの質量で決まること（飛行時間法）を利用して、Ａｒガスクラスターイオン３０のサイズを所望の原子数に選別している。具体的には、第１偏向電極１０でＡｒガスクラスターイオン３０のビームをパルス化してから適切な遅延時間（飛行時間）を設けて、第２偏向電極１２にパルス電圧を印加して、本ビームを再びチョッピングすることで、所望のサイズのＡｒガスクラスターイオン３０を選別して通過させている。
【００３６】
なお、第１偏向電極１０と第２偏向電極１２との間には、マグネット１１が配されている。これにより、Ａｒガスクラスターイオン３０のビーム中に含まれる単原子イオンを除去できる。
【００３７】
このようにして、本例では、分析装置１００の構成及び電圧を適切に設定することにより、サイズ選別前の幅広い分布を持つＡｒガスクラスターイオン３０から任意のサイズのＡｒガスクラスターイオン３０を、所望の半値幅で選別できる。そして、図３に示すように、Ａｒ原子１個あたりの運動エネルギーＥａｔｏｍ（Ａｒガスクラスターイオン３０の加速エネルギーをＡｒ構成原子数で割った値）を、例えば、１ｅＶ〜１０ｅＶ付近の範囲で制御することが可能となった。
【００３８】
サイズ選別室３からのＡｒガスクラスターイオン３０は、ビーム照射室４において試料１５に照射される。試料１５にＡｒガスクラスターイオン３０を照射することで反射イオンが発生する。なお、上記のとおり、本例では、Ａｒガスクラスターイオン３０の分解で解離イオン３０ｆが発生する。そして、解離イオン３０ｆは、ゲート電極１３でパルス化された後、質量分析器５（リフレクトロン型質量分析器）により質量分析される。
【００３９】
[材料機械強度測定の実施例]
図４は、Ａｒガスクラスターイオンの分解で発生する解離イオンの質量スペクトル分布の一例を示した図である。ここでは、試料１５として、板厚が０．５ｍｍの銀板（Ａｇ）を用い、構成原子数が１０００個、１５００個、３０００個のＡｒガスクラスターイオン３０を５ｋＶの電圧で加速して（Ａｒ原子１個あたりの運動エネルギーＥａｔｏｍに換算すると、それぞれＥａｔｏｍ＝５．０ｅＶ、３．３３ｅＶ、１．６７ｅＶ）、銀板に照射した。そして、Ａｒガスクラスターイオン３０の銀板への照射で発生する解離イオン（Ａｒ多量体イオン）の質量スペクトルの分布を測定した。
【００４０】
図４に示すように、運動エネルギーＥａｔｏｍが大きくなるにつれて、Ａｒガスクラスターイオン３０の解離が進行し、質量が小さな解離イオン３０ｆの相対強度が大きくなっているのが分かる。つまり、Ａｒガスクラスターイオン３０から分解した解離イオン３０ｆのサイズの分布は、Ａｒガスクラスターイオン３０のサイズや加速電圧に依存することを検証できた。
【００４１】
図５は、Ａｒ３量体イオン（Ａｒ３＋）とＡｒ２量体イオン（Ａｒ２＋）の和に対するＡｒ２量体イオン（Ａｒ２＋）のイオン強度比の、高エネルギーイオン照射量依存性の一例を示した図である。つまり、図５の解離イオン強度比として、Ａｒ２量体１価イオン（Ａｒ２＋）の強度を、Ａｒ３量体１価イオン（Ａｒ３＋）の強度とＡｒ２量体１価イオン（Ａｒ２＋）の強度との和で割った値「Ａｒ２＋／（Ａｒ２＋＋Ａｒ３＋）」が用いられ、本数値は、照射初期の値で規格化されている。
【００４２】
ここでは、Ａｒガスクラスターイオン３０の運動エネルギーＥａｔｏｍを高エネルギーに設定して（Ｅａｔｏｍ＝１０ｅＶ）、Ａｒガスクラスターイオン３０を銀板（板厚：０．５ｍｍ）に一定量、照射を行った後、Ａｒガスクラスターイオン３０の運動エネルギーＥａｔｏｍを３．３３ｅＶに戻し、その後、Ａｒガスクラスターイオン３０を再び銀板に照射し、解離イオン３０ｆの質量スペクトルの分布を測定した。すると、解離イオン３０ｆのイオン強度に変化が見られた。
【００４３】
具体的には、図５に示すように、高エネルギーイオンの照射初期に、上記イオン強度比のプロファイルは、いったん上昇してから下がり、その後、安定値を取ることが分かった。
更に、銀板への高エネルギーイオンの照射初期には、銀板から放出される二次イオンスペクトルにおいて、炭化水素類等の表面汚染物のイオンが検出されることを確認した。
【００４４】
以上の知見により、図５のイオン強度比のプロファイルは、高エネルギーイオン照射によるスパッタリング効果よって、上記汚染層に続いて酸化層が除去されて、安定な銀板の表面に至ったことを表していると解釈される。そして、このような実験データは、Ａｒガスクラスターイオン３０の解離反応が試料１５の表面薄層の機械的性質をも検知できる可能性を示唆する。
【００４５】
例えば、半導体デバイスやマイクロマシン等の開発においては、真空蒸着、スパッタリング、めっき等により作成した薄膜材料の２次元或いは３次元の機械強度の分布を測定できる手法の実用化が求められている。本実施形態では、照射イオンビームを薄膜材料の面内にスポット的に当てて、薄膜材料の２次元の機械強度の分布を測定可能であるとともに、上記知見によれば、本実施形態は、薄膜材料の深さ方向の機械強度（三次元の機械強度）の分布測定にも有益であると考えられる。
【００４６】
図６は、各種の金属材料について、Ａｒ３量体イオン（Ａｒ３＋）とＡｒ２量体イオン（Ａｒ２＋）の和に対するＡｒ２量体イオン（Ａｒ２＋）のイオン強度比と、金属材料の衝撃応力との関係の一例を示した図である。
【００４７】
図６の衝撃応力は、Ａｒクラスターイオン及び金属板を弾性体とし、これらが弾性衝突すると仮定して求めた。この場合、Ａｒクラスターイオンの衝突速度をＶ０, 金属板及びＡｒクラスターイオンの弾性率（ヤング率）と密度をそれぞれ、Ｅｍ、Ｅｃとρｍ、ρcとすると、衝撃応力(σ)は、以下の式（１）で表される。
σ ＝ Ｖ０・(Ｅｃρc)1/2(Ｅｍρｍ)1/2 / {(Ｅｃρc)1/2 + (Ｅｍρｍ)1/2} …（１）
なお、金板（Ａｕ）、白金板（Ｐｔ）、モリブデン板（Ｍｏ）、タングステン板（Ｗ）（いずれも、板厚：０．５ｍｍ）について、上記の銀板と同じ測定を行ったところ、いずれの金属材料でも、高エネルギーイオン照射をある照射量行うと、上記イオン強度比が一定の安定値を示すことが分かった。
【００４８】
そこで、図６では、金属板への衝撃応力を横軸にとり、上記イオン強度比の安定値を縦軸にとり、両者の関係がプロットされている。
【００４９】
図６に示すように、両者は、良好な相関関係があることがわかる。これにより、解離イオンの質量スペクトル（例えば、解離イオン強度比の測定）に基づいて、材料の機械強度の一例である弾性率を評価できることを実証できた。
【００５０】
図７は、各種金属材料について、Ａｒ３量体イオン（Ａｒ３＋）とＡｒ２量体イオン（Ａｒ２＋）の和に対するＡｒ２量体イオン（Ａｒ２＋）のイオン強度比と、金属材料のビッカース硬度との関係の一例を示した図である。
図７では、金属材料のビッカース硬度を横軸にとり、上記イオン強度比の安定値を縦軸にとり、両者の関係がプロットされている。
図７に示すように、両者は、相関関係があることがわかる。これにより、解離イオンの質量スペクトル（例えば、解離イオン強度比の測定）に基づいて、材料の機械強度の一例であるビッカース硬度を評価できることを実証できた。
【００５１】
（実施形態２）
以下、実施形態１のＡｒガスクラスターに代えて、クリプトン（Ｋｒ）ガスクラスターを用いる例を説明する。
ノズル押し圧０．５ＭＰａ程度でノズル６からＫｒガスを噴射させると、Ｋｒガスの断熱膨張の冷却効果により、構成原子数が１５００〜７０００個程度のＫｒガスクラスターを生成できる。
本実施形態の構成及び動作は、上記以外は、実施形態１と同様であってもよい。
【００５２】
なお、実施形態１−２の如く、Ａｒ又はＫｒ等の希ガス原子から構成される希ガスクラスターイオンは、試料１５に衝突後、試料に付着することなく、直ちに脱離する。よって、かかる希ガスクラスターイオンを用いることにより、これらが試料１５中に残存する可能性を低減できるので、試料１５の汚染抑制の点において有益である。
【００５３】
（変形例１）
上記の実施形態１−２では、試料１５に照射するイオンとして、気体原子がファンデルワールス力で凝集したガスクラスターを説明したが、これに限らない。
ガスクラスターに代えて、金属クラスターを用いてもいいし、ＣＯ２等の分子を用いてもいい。
【００５４】
但し、実施形態１−２の如く、試料１５に照射するイオンとして、多数の構成原子が凝集したガスクラスターイオンを用いると、以下のような様々な効果がある。
第１に、気体原子がファンデルワールス力で凝集したガスクラスターでは、加速電圧５．０ｋＶで、構成原子数が１００００個を超えるものを安定に生成できる。
【００５５】
第２に、試料１５にクラスターイオンを照射することで発生する解離イオンのイオン強度を十分に確保できる。これにより、解離イオンのイオン強度に基づいて、材料の機械強度を測定する際の精度を向上できる。
【００５６】
第３に、試料１５に照射するクラスターイオンの原子１個あたりの運動エネルギーを十分に低く設定できる。この場合、例えば、試料１５に照射するクラスターイオンの原子１個あたりの運動エネルギーを試料１５のスパッタのしきいエネルギー以下に設定するとよい。
【００５７】
なお、試料１５のスパッタのしきいエネルギーは、照射イオンがＡｒであれば、１０ｅＶ程度であることが経験的に分かっているので、この値を用いてもいいし、試料１５にクラスターイオンを照射したとき、試料１５からの二次イオン放出の有無を検証する実験を行い、二次イオン放出開始時の照射イオンの入射エネルギーから実験的に求めてもいい。
【００５８】
以上により、試料１５の損傷を防ぎながら、反射イオン（解離イオン）を検出することができる。そして、このことは、実施形態１−２の測定が、試料１５の非破壊測定であることを意味する。これにより、デバイス等に組み込まれた薄膜の材料であってもそのままで測定できる。
【００５９】
また、試料１５の損傷を防止し得ることは、照射イオンと試料１５との衝突が、より弾性的に行われることになり、反射イオン強度と材料の機械強度との相関を簡易に分析できる。
【００６０】
このように、実施形態１−２の材料機械強度測定法は、従来の測定方法に比べて、測定のための工程を簡素化でき、測定時間も短縮できる。
【００６１】
（変形例２）
上記の実施形態１−２では、試料１５にイオンを照射することで発生する反射イオンの質量スペクトルに基づいて試料１５の機械強度を測定する例を説明したが、これに限らない。
【００６２】
例えば、試料１５にイオンを照射することで発生する反射イオンの速度に基づいて、試料１５の機械強度を測定することも可能である。
【産業上の利用可能性】
【００６３】
本発明の一態様によれば、マイクロメータースケール或いはナノメータスケールといった材料の微小領域における機械強度測定方法が得られる。よって、本発明の一態様は、例えば、半導体デバイスやマイクロマシン等の微小材料の機械強度測定に利用できる。
【符号の説明】
【００６４】
１  ソース室
２  イオン化室
３  サイズ選別室
４  ビーム照射室
５  質量分析器
１５  試料
３０  Ａｒガスクラスターイオン
３０ｆ  解離イオン
１００  分析装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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