(57)【要約】      （修正有）【課題】ホスフィニルアミジン金属塩錯体を含む触媒系、並びに、オレフィンのオリゴマー化及び／又は重合化するための使用の提供。【解決手段】下記式で表されるＮ２−ホスフィニルアミジン金属錯体及び金属アルキルを使用する触媒系、並びにオレフィンのオリゴマー化及び／又は重合のための、前記の触媒系の使用。並びに、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物、Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体、並びに前記の化合物及び金属塩錯体を製造する方法。2015016470.tif 000113【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式：
【化１】
2015016470.tif 000106
［式中、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ３０オルガニル基であり、
Ｒ２は、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基であり、
Ｒ３は、水素、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基、またはＣ１〜Ｃ３０オルガニル基であり、また、
Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立して本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基である。］を有することを特徴とするＮ２−ホスフィニルアミジン化合物。
【請求項２】
ａ）金属アミジナートを形成することができる条件下で金属アミドをニトリルと接触させるステップ；および
ｂ）Ｎ２−ホスフィニルアミジン基を含む化合物を形成することができる条件下でホスフィンハライドを金属アミジナートと接触させるステップ
を含む、請求項１に記載のＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法。
【請求項３】
式：
【化２】
2015016470.tif 000107
［式中、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ３０オルガニル基であり、
Ｒ２は、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基であり、
Ｒ３は、水素、または本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基であり、
Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立して、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基であり、
ＭＸｐは、Ｍが遷移金属であり、Ｘがモノ陰イオンであり、かつｐが２から６までの範囲である金属塩を表し、
Ｑは、中性配位子であり、また、
ａは０から６までの範囲である。］を有することを特徴とする、請求項１に記載のＮ２−ホスフィニルアミジン化合物の金属塩錯体。
【請求項４】
ａ）請求項１に記載のＮ２−ホスフィニルアミジン化合物と遷移金属塩を接触させるステップ；および
ｂ）Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体を形成するステップ
を含む、請求項３に記載のＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体を調製する方法。
【請求項５】
請求項３に記載のＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体および金属アルキルを含む触媒系。
【請求項６】
請求項３に記載のＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体、および金属アルキルを含む触媒系混合物を形成するステップを含む、請求項５に記載の触媒系を調製する方法。
【請求項７】
ａ）オレフィン、および請求項５に記載の金属アルキルがアルミノキサンである触媒系を接触させるステップ；および
ｂ）オレフィンオリゴマー生成物を形成するステップ
を含むオレフィンオリゴマー化工程。
【請求項８】
ａ）請求項６に記載の金属アルキルがアルミノキサンである触媒系を形成するステップ；
ｂ）触媒系混合物をオレフィンと接触させるステップ；および
ｃ）オレフィンオリゴマー生成物を形成するステップ
を含むオレフィンオリゴマー化工程。
【請求項９】
請求項１から８のいずれかに記載の主題であって、Ｒ１が、金属錯体形成基、および、式：
【化３】
2015016470.tif 000108
［式中、Ｑ１は、金属錯体形成基を表し、またジアルキルアミニル基、ジシクロアルキルアミニル基、ジ（置換シクロアルキル）アミニル基、Ｎ−（アルキル）−Ｎ−（シクロアルキル）アミニル基、Ｎ−（アルキル）−Ｎ−（置換シクロアルキル）アミニル基、Ｎ−（シクロアルキル）−Ｎ−（置換シクロアルキル）アミニル基、ジアリールアミニル基、ジ（置換アリール）アミニル基、Ｎ−アリール−Ｎ−（置換アリール）アミニル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミニル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−（置換アリール）アミニル基、ジアルキルホスフィニル基、ジシクロアルキルホスフィニル基、ジ（置換シクロアルキル）ホスフィニル基）、Ｎ−（アルキル）−Ｎ−（シクロアルキル）ホスフィニル基、Ｎ−（アルキル）−Ｎ−（置換シクロアルキル）ホスフィニル基、Ｎ−（シクロアルキル）−Ｎ−（置換シクロアルキル）ホスフィニル基、ジアリールホスフィニル基、ジ（置換アリール）ホスフィニル基、Ｐ−アリール−Ｐ−（置換アリール）ホスフィニル基、Ｐ−アルキル−Ｐ−アリールホスフィニル基、Ｐ−アルキル−Ｐ−（置換アリール）ホスフィニル基、アルキルエーテリル基、アリールエーテリル基、置換アリールエーテリル基、アルキルスルフィジル基、アリールスルフィジル基、置換アリールスルフィジル基、フラニル基、置換フラニル基、チエニル基、置換チエニル基、テトラヒドロフラニル基、置換テトラヒドロフラニル基、チオファニル基、置換チオファニル基、ピリジニル基、置換ピリジニル基、モルフィリニル基、置換モルフィリニル基、ピラニル基、置換ピラニル基、テトラヒドロピラニル基、置換テトラヒドロピラニル基、キノリニル基、置換キノリニル基、ピロリル基、置換ピロリル基、ピロリジニル基、置換ピロリジニル基、ピペリジニル基、または置換ピペリジニル基であり、また
Ｌ３は、連結基を表し、結合またはＣ１〜Ｃ１０オルガニル基である。］を有することを特徴とするＮ２−ホスフィニルアミジン化合物のＮ２−ホスフィニルアミジン基のN１窒素原子に金属錯体形成基を連結する連結基を含む、主題。
【請求項１０】
Ｒ１が、Ｃ１〜Ｃ１５アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、またはＣ６〜Ｃ２０置換アリール基である、主題。
【請求項１１】
Ｒ１がフェニル基または置換フェニル基である、請求項１から８のいずれかに記載の主題。
【請求項１２】
Ｒ１がフェニル基、２−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、３，５−二置換フェニル基、または２，４，６−三置換フェニル基である請求項１から８のいずれかに記載の主題。
【請求項１３】
置換フェニル基の各置換基が、独立してハライド、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、またはＣ１〜Ｃ５アルコキシ基である、請求項１１または１２に記載の主題。
【請求項１４】
Ｒ１が、フェニル基、２−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−イソプロピル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、４−イソプロピル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、２，６−ジイソプロピルフェニル基、２−メチル−６−イソプロピルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、または２，６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基である、請求項１から８のいずれかに記載の主題。
【請求項１５】
Ｒ２が、Ｃ１〜Ｃ１５アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ１５脂肪族複素環基、Ｃ３〜Ｃ１５置換脂肪族複素環基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリール基、Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル基、Ｃ７〜Ｃ２０置換アラルキル基、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリール基、またはＣ３〜Ｃ２０置換ヘテロアリール基である、請求項１から１４に記載の主題。
【請求項１６】
Ｒ２が、Ｃ６〜Ｃ２０フェニル基またはＣ６〜Ｃ２０置換フェニル基である、請求項１から１５のいずれかに記載の主題。
【請求項１７】
Ｒ２が、Ｃ６〜Ｃ２０ベンジル基、Ｃ６〜Ｃ２０置換ベンジル基、Ｃ６〜Ｃ２０エチルフェニル基、またはＣ６〜Ｃ２０置換エチルフェニル基である、請求項１から１４のいずれかに記載の主題。
【請求項１８】
Ｒ３が、水素、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ１５シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１５置換シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ１５脂肪族複素環基、Ｃ３〜Ｃ１５置換脂肪族複素環基、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基、Ｃ６〜Ｃ１５置換アリール基、Ｃ３〜Ｃ１５ヘテロアリール基、または置換Ｃ３〜Ｃ１５ヘテロアリール基である、請求項１から１７のいずれかに記載の主題。
【請求項１９】
Ｒ３が水素である、請求項１から１７のいずれかに記載の主題。
【請求項２０】
Ｒ４およびＲ５が、独立してＣ１〜Ｃ１５アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ１５脂肪族複素環基、Ｃ３〜Ｃ１５置換脂肪族複素環基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリール基、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリール基、またはＣ３〜Ｃ２０置換ヘテロアリール基である、請求項１から１９のいずれかに記載の主題。
【請求項２１】
Ｒ４およびＲ５が、独立してメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、またはネオペンチル基である、請求項１から２０のいずれかに記載の主題。
【請求項２２】
Ｒ４およびＲ５が、それぞれ独立してシクロペンチル基、置換シクロペンチル基、シクロヘキシル基、または置換シクロヘキシル基である、請求項１から１９のいずれかに記載の主題。
【請求項２３】
Ｒ４およびＲ５が、独立してフェニル基または置換フェニル基である、請求項１から１９のいずれかに記載の主題。。
【請求項２４】
Ｒ４およびＲ５が、独立してフェニル基、２−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、３，５−二置換フェニル基、または２，４，６−三置換フェニル基である、請求項１から１９のいずれかに記載の主題。
【請求項２５】
Ｒ１が、フェニル基または置換フェニル基、であり、
Ｒ２が、Ｃ１〜Ｃ１５アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリール基、Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル基、またはＣ７〜Ｃ２０置換アラルキル基であり、
Ｒ３が水素であり、また、
Ｒ４およびＲ５が、独立してＣ１〜Ｃ１５アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０の置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、またはＣ６〜Ｃ２０の置換アリール基である、
請求項１から８のいずれかに記載の主題。
【請求項２６】
ステップａ）の金属アミジナートが、プロトン性化合物で中和され非金属アミジン化合物を形成する、請求項２に記載の方法。
【請求項２７】
非金属アミジン化合物が、単離され、場合によって、精製され、次いで、金属アルキル化合物と接触されて、アミジナートを形成することができる条件下で金属アミジナートを形成する、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
ステップａ）の金属アミジナートが非金属アミジン化合物を形成せずに、ホスフィンハライドと接触される、請求項２に記載の方法。
【請求項２９】
Ｎ２−ホスフィニルアミジン基を含む化合物が単離され、場合によって、精製される、請求項２に記載の方法。
【請求項３０】
金属アミドが、アミンおよび１族または２族金属アルキルを接触させることにより形成される、請求項２に記載の方法。
【請求項３１】
金属アミドが、構造ＭＡ１を有し、ニトリルが、構造Ｎ１を有し、ホスフィンハライドが構造ＰＨ１を有し、
【化４】
2015016470.tif 000109
また、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基を含む化合物が、式：
【化５】
2015016470.tif 000110
［式中、
ＭＡは、１族または２族金属であり、
Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ３０オルガニル基であり、
Ｒ２は、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基であり、
Ｒ４およびＲ５は、独立して、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基である。］
を有することを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項３２】
金属アミドが、構造ＭＡ１を有し、ニトリルが、構造Ｎ１を有し、ホスフィンハライドが、構造ＰＨ１を有し、
【化６】
2015016470.tif 000111
また、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基を含む化合物が、式：
【化７】
2015016470.tif 000112
［式中、
ＭＡは、１族または２族金属であり、
Ｒ１は、フェニル基または置換フェニル基であり、
Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ１５アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリール基、Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル基、またはＣ７〜Ｃ２０置換アラルキル基であり、
Ｒ３は、水素であり、
Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立してＣ１〜Ｃ１５アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、またはＣ６〜Ｃ２０置換アリール基である。］を有することを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項３３】
金属塩が、３〜１０族遷移金属を含む、請求項３から８のいずれかに記載の主題。
【請求項３４】
金属塩の金属が＋２または＋３の酸化状態にある、請求項３から８のいずれかに記載の主題。
【請求項３５】
金属塩がクロムを含む、請求項３から８のいずれかに記載の主題。
【請求項３６】
金属塩が、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩＩ）β−ジケトナート、またはハロゲン化クロム（ＩＩＩ）である、請求項３から８のいずれかに記載の主題。
【請求項３７】
金属塩が塩化クロム（ＩＩＩ）である、請求項３から８のいずれかに記載の主題。
【請求項３８】
遷移金属塩およびＮ２−ホスフィニルアミジン化合物が、遷移金属塩対Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物の、少なくとも０．９：１の当量比で接触される、請求項４に記載の主題。
【請求項３９】
遷移金属塩およびＮ２−ホスフィニルアミジン化合物が、溶媒中で接触される、請求項４に記載の主題。
【請求項４０】
金属アルキルが、アルミノキサンを含み、また、アルミノキサンが、メチルアルミノキサン（ＭＡＯ）、修飾メチルアルミノキサン（ＭＭＡＯ）、エチルアルミノキサン、ｎ−プロピルアルミノキサン、イソ−プロピルアルミノキサン、ｎ−ブチルアルミノキサン、ｓｅｃ−ブチルアルミノキサン、イソ−ブチルアルミノキサン、ｔ−ブチルアルミノキサン、１−ペンチルアルミノキサン、２−ペンチルアルミノキサン、３−ペンチルアルミノキサン、イソペンチルアルミノキサン、ネオペンチルアルミノキサン、またはその混合物を含む、請求項５から８のいずれかに記載の主題。
【請求項４１】
アルミノキサンが修飾メチルアルミノキサン（ＭＭＡＯ）を含む、請求項４０に記載の主題。
【請求項４２】
アルミノキサンのアルミニウム対金属錯体の金属のモル比が、少なくとも５：１である、請求項４０に記載の主題。
【請求項４３】
混合物が溶媒をさらに含む、請求項６から８に記載の主題。
【請求項４４】
金属アルキルがアルミノキサンであり、また、アルミノキサンが、それを金属錯体と接触させる前に、３０℃から１００ま℃での温度で少なくとも１２時間熱により熟成される、請求項６に記載の方法。
【請求項４５】
触媒系混合物が、オレフィンの実質的に存在しない状態で少なくとも１５分間熟成される、請求項６または８の方法。
【請求項４６】
触媒系混合物が第１の溶媒をさらに含む、請求項８に記載の工程。
【請求項４７】
第１の溶媒が、Ｃ６〜Ｃ２０芳香族炭化水素、Ｃ１〜Ｃ１０ハロゲン化炭化水素、またはその組み合わせである、請求項４６に記載の工程。
【請求項４８】
第１の溶媒が、ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、キシレン、メシチレン、ヘキサメチルベンゼン、またはその任意の組み合わせである、請求項４６に記載の工程。
【請求項４９】
触媒系混合物およびオレフィンが、第２の溶媒中で接触される、請求項４６に記載の工程。
【請求項５０】
第２の溶媒が、Ｃ２〜Ｃ２０脂肪族炭化水素、Ｃ６〜Ｃ２０芳香族炭化水素、またはその組み合わせである、請求項４９に記載の工程。
【請求項５１】
第２の溶媒が、シクロヘキサン、置換シクロヘキサン、またはその組み合わせである、請求項４９に記載の工程。
【請求項５２】
オレフィンオリゴマーが、２０℃から１５０℃までの範囲の温度を含むオレフィンオリゴマーを形成することができる反応条件で形成される、請求項７または８に記載の工程。
【請求項５３】
オレフィンがエチレンを含む、請求項７または８に記載の工程。
【請求項５４】
オレフィンオリゴマーが形成されるエチレン分圧が少なくとも５０ｐｓｉｇである、請求項５３に記載の工程。
【請求項５５】
オレフィンが本質的にエチレンからなり、また液体生成物が少なくとも７０重量％のＣ６およびＣ８オレフィンを含む、請求項７または８に記載の工程。。
【請求項５６】
Ｃ６オレフィン生成物が少なくとも９０重量％の１−ヘキセンを含む、請求項５５に記載の工程。
【請求項５７】
Ｃ８オレフィン生成物が少なくとも９０重量％の１−オクテンを含む、請求項５６に記載の工程。
【請求項５８】
触媒系混合物がオレフィンおよび水素と接触され、かつ、水素分圧が少なくとも５ｐｓｉｇである、請求項８に記載の工程。
【請求項５９】
Ｒ１が、フェニル基または置換フェニル基であり、
Ｒ２が、Ｃ１〜Ｃ１５アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリール基、Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル基、またはＣ７〜Ｃ２０置換アラルキル基であり、
Ｒ３が水素であり、
Ｒ４およびＲ５が、独立してＣ１〜Ｃ１５アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、またはＣ６〜Ｃ２０置換アリール基であり、
ＭＸｐがハロゲン化クロム（ＩＩＩ）を含み、
ＱがＴＨＦであり、
ａが０から６までの範囲である、
請求項７または８に記載の工程。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物およびＮ２−ホスフィニルアミジン化合物の金属錯体、ならびにそれらの製造に関する。その開示はまた、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物およびＮ２−ホスフィニルアミジン化合物の金属錯体を製造する方法に関する。本開示は、さらに、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物の金属錯体を利用する触媒系、および、オレフィンのオリゴマー化または重合におけるそれらの使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にアルケンとしても知られるオレフィンは、重要な工業品目である。それらの多くの用途は、洗剤の製造における中間体として、環境によりやさしい精製油への前駆体として、モノマーとして、および他の多くの製品形態への前駆体としての使用を含む。オレフィンの重要な部分集合はオレフィンオリゴマーであり、オレフィンオリゴマーを製造する１つの方法は、様々な種類の触媒および／または触媒系が関与する触媒反応である、エチレンのオリゴマー化を経由する。オレフィンのオリゴマー化において工業的に使用される触媒および触媒系の例は、アルキルアルミニウム化合物、特定のニッケルホスフィン錯体、ルイス酸（例えば、ジエチルアルミニウムクロリド）を含むチタンハライド、およびクロム含有化合物（例えば、カルボン酸クロム）を含有する選択的１−ヘキセン触媒系、窒素含有配位子（例えば、ピロール）、および金属アルキル（例えば、アルキルアルミニウム化合物）を含む。
【０００３】
いくつかの非工業的なオレフィンオリゴマー化触媒系は、ピリジンビスイミンの金属錯体、金属錯体形成基を有するα−ジイミン化合物の金属錯体、およびジホスフィニルアミニル基を有する化合物の金属錯体を使用する選択的三量化および／または四量化触媒系に基づく。これらの触媒系は、通常、オレフィンオリゴマー化用の金属錯体を活性化するためにアルキルアルミニウム化合物（例えば、アルミノキサン）を使用する。
【０００４】
オレフィンオリゴマー（例えば、アルファオレフィン）に対する用途および需要は、増加し続け、それらを供給する競争は対応して激しくなっている。したがって、オレフィンオリゴマー化のための、さらに新規で改良された触媒および方法が望まれる。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００５】
一態様において、本発明は、１個または複数のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含む化合物に関する。一実施形態において、本化合物は、ただ１個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含んでいてもよい。別の実施形態において、本化合物はただ２個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含んでいてもよい。
【０００６】
一態様において、本発明は、１個または複数のＮ２−ホスフィニルアミジン基を有する化合物と錯体形成した金属塩を含む金属錯体に関する。一実施形態において、本金属錯体は、１個または複数のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含む化合物と錯体形成した４〜１０族金属塩を含んでいてもよい。いくつかの実施形態において、本金属錯体は、ただ１個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含む化合物と錯体形成した４〜１０族金属塩を含んでいてもよい。他の実施形態において、本金属錯体は、ただ２個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含む化合物と錯体形成した４〜１０族金属塩を含んでいてもよい。一実施形態において、本金属塩はクロムを含んでいてもよい。一実施形態において、金属塩は、ハロゲン化クロムまたはクロムβ−ジケトナートであってもよい。
【０００７】
一態様において、本発明は、１個または複数のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含む化合物を調製する方法に関する。一実施形態において、１個または複数のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含む化合物を調製する方法は、ａ）金属アミドをニトリルと接触させるステップと、ｂ）金属アミジナートを形成するステップと、ｃ）ホスフィンハライドを金属アミジナートと接触させるステップと、ｄ）Ｎ２−ホスフィニルアミジン基を含む化合物を形成するステップとを含む。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法は、ａ）−ＮＨ２基を有するアミンおよび−ＮＨ２基からプロトンを抜き取ることができる化合物を接触させるステップと、ｂ）金属アミドを形成するステップと、ｃ）金属アミドおよびニトリルを接触させるステップと、ｄ）金属アミジナートを形成するステップと、ｅ）金属アミジナートおよびホスフィンハライドを接触させるステップと、ｆ）Ｎ２ホスフィニルアミジン化合物を形成するステップとを含んでいてもよい。他の実施形態において、本方法は、ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を調製する方法であり、ａ）金属アミドおよびニトリルを接触させるステップと、ｂ）第１の金属アミジナートを形成するステップと、ｃ）第１の金属アミジナートをハロゲン化化合物と接触させるステップと、ｄ）ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を形成するステップと、ｅ）ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を単離するステップと、ｆ）ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を、ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物からプロトンを抜き取ることができる化合物と接触させるステップと、ｇ）第２の金属アミジナートを形成するステップと、ｈ）第２の金属アミジナートおよびホスフィンハライドを接触させるステップと、ｉ）Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成するステップとを含んでいてもよい。他の実施形態において、本方法は、ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を調製する方法であり、ａ）第１のアミンおよび酸ハライドを接触させるステップと、ｂ）アミドを形成するステップと、ｃ）アミドを五塩化リンと接触させるステップと、ｄ）Ｎ−置換α−クロロイミンを形成するステップと、ｅ）Ｎ−置換α−クロロイミンを第２のアミンと接触させるステップと、ｆ）ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を形成するステップとを含んでいてもよい。
【０００８】
一態様において、本発明は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体を調製する方法に関する。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体を調製する方法は、ａ）金属塩をＮ２−ホスフィニルアミジン化合物と接触させるステップと、ｂ）Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体を形成するステップとを含んでいてもよい。
【０００９】
一態様において、本発明は、１個または複数のＮ２−ホスフィニルアミジン基を有する化合物と錯体形成した金属塩および金属アルキルを含む触媒系に関する。別の態様において、本発明は、金属塩、１個または複数のＮ２−ホスフィニルアミジン基を有する化合物、および金属アルキルを含む触媒系に関する。一実施形態において、本触媒系は、ただ１個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を有する化合物と錯体形成した金属塩を含んでいてもよい。いくつかの実施形態において、本触媒系は、ただ２個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を有する化合物と錯体形成した金属塩を含んでいてもよい。一実施形態において、本化合物は、ただ１個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含んでいてもよい。いくつかの実施形態において、本化合物はただ１つのＮ２−ホスフィニルアミジン基を含んでいてもよい。一実施形態において、金属錯体または触媒系の金属塩は、４〜１０族金属塩を含んでいてもよい。いくつかの実施形態において、金属錯体の金属塩または触媒系は、クロムを含んでいてもよい。他の実施形態において、金属錯体の金属塩または触媒系は、ハロゲン化クロムまたはクロムβ−ジケトナートであってもよい。
【００１０】
一態様において、本発明は、オレフィンオリゴマー化またはオレフィン重合の方法に関する。一実施形態において、オレフィンオリゴマー化またはオレフィン重合の方法は、オレフィン、ｉ）Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体およびｉｉ）金属アルキルを含む触媒系、ならびに、場合によって水素を接触させるステップと、ｂ）オレフィンオリゴマー生成物またはオレフィンポリマー生成物を形成するステップとを含んでいてもよい。別の実施形態において、オレフィンオリゴマー化またはオレフィン重合の方法は、オレフィン、ｉ）Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物、ｉｉ）金属錯体、およびｉｉｉ）金属アルキルを含む触媒系、ならびに、場合によって水素を接触させるステップと、ｂ）オレフィンオリゴマー生成物またはオレフィンポリマー生成物を形成するステップとを含んでいてもよい。さらなる実施形態において、オレフィンオリゴマー化またはオレフィン重合の方法は、ａ）Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体、金属アルキル、および第１の溶媒を含む触媒系混合物を形成するステップと、ｂ）触媒系混合物をオレフィン、第２の溶媒、および、場合によって水素と接触させるステップと、ｃ）オレフィンオリゴマー生成物を形成するステップとを含んでいてもよい。別の実施形態において、オレフィンオリゴマー化またはオレフィン重合の方法は、ａ）Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体を含む組成物の形成するステップと、ｂ）オレフィン、金属アルキル、および、場合によって水素を含む混合物を形成するステップと、ｃ）ステップａ）の組成物およびステップｂ）の混合物を接触させるステップと、ｄ）オレフィンオリゴマー生成物を形成するステップとを含んでいてもよい。また別の実施形態において、オレフィンオリゴマー化またはオレフィン重合の方法は、
ａ）Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物、金属塩、金属アルキル、および第１の溶媒を含む混合物を形成するステップと、ｂ）ステップａ）の混合物を、オレフィン、第２の溶媒、および、場合によって水素と接触させるステップと、ｃ）オレフィンオリゴマー生成物を形成するステップとを含んでいてもよい。さらなる実施形態において、オレフィンオリゴマー化またはオレフィン重合の方法は、ａ）Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物、金属塩、および第１の溶媒を含む混合物を形成するステップと、ｂ）オレフィン、金属アルキル、第２の溶媒、および、場合によって水素を含む混合物を形成するステップと、ｃ）ステップａ）において形成された混合物、およびステップｂ）において形成された混合物を接触させるステップと、ｄ）オレフィンオリゴマー生成物を形成するステップとを含んでいてもよい。
【００１１】
一実施形態において、オレフィンオリゴマー化またはオレフィン重合の方法において使用されるＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体の、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物またはＮ２−ホスフィニルアミジンは、１個または複数のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含んでいてもよく；代替として、ただ１個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含んでいてもよく；または代替として、ただ２個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含んでいてもよい。一実施形態において、オレフィンオリゴマー化またはオレフィン重合の方法において使用される金属塩または、Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体の金属塩は、４〜１０族金属塩；または代替として、クロム塩を含んでいてもよい。いくつかの実施形態において、オレフィンオリゴマー化またはオレフィン重合の方法において使用される金属塩または、Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体の金属塩は、ハロゲン化クロムまたはクロムβ−ジケトナートを含んでいてもよい。一実施形態において、オレフィンオリゴマー化またはオレフィン重合の方法において使用されるオレフィンは、Ｃ２〜Ｃ３０オレフィン；代替として、Ｃ２〜Ｃ３０アルファオレフィン；代替として、Ｃ２〜Ｃ３０ノルマルアルファオレフィン；代替として、エチレンまたはプロピレン；または代替として、エチレンを含む、または、本質的にそれからなることができる。オレフィンがエチレンである実施形態において、オレフィンオリゴマー化は、エチレン三量化および／またはエチレン四量化工程であってもよい。いくつかの実施形態において、オレフィン三量化および／またはオレフィン四量化工程は、少なくとも６０重量％のＣ６およびＣ８オレフィンを含む液体生成物を含むエチレンオリゴマー生成物を生成する。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】アセトニトリルから再結晶し、結果的にアセトニトリルを錯体中のテトラヒドロフランと置き換えたＣｒＣｌ３錯体Ｂ１のＸ線である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本明細書において使用される用語をより明瞭に定義するために、以下の定義が提供される。他に示さない限り、以下の定義が本開示に適用できる。ある用語が本開示において使用されるが、本明細書において具体的に定義されない場合、その定義が、本明細書において適用される他の任意の開示または定義と矛盾しない限り、またはその定義が適用される任意のクレームを不明確または不可能にしない限り、ＩＵＰＡＣ  Ｃｏｍｐｅｎｄｉｕｍ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｔｅｒｍｉｎｏｌｏｇｙ，２ｎｄＥｄ（１９９７）からの定義を適用することができる。参照によって本明細書において組み込まれる任意の文書によって提供される任意の定義または使用が、本明細書において提供される定義または使用と矛盾する範囲では、本明細書において提供される定義または使用が優先する。
【００１４】
元素表の族は、Ｃｈｅｍｉｃａｌ  ａｎｄ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ  Ｎｅｗｓ，６３（５），２７，１９８５に公開された版の元素の周期表に示されている番号体系を使用して示す。いくつかの事例において、元素の族は、族に割り当てられた一般名；例えば、１族元素に対してアルカリ土類金属（またはアルカリ金属）、２族元素に対してアルカリ土類金属（またはアルカリ金属）、３〜１２族元素対して遷移金属、および１７族元素に対してハロゲンを使用して示すことができる。
【００１５】
クレーム移行用語または移行句に関して、「包含する」、「含有する」、「有する」、または「特徴とする」と同義である、「含む」という移行用語は、包括的であり、すなわち、オープンエンドであり、さらなる記述しない要素または方法ステップを除外しない。「からなる」という移行句は、クレーム中の指定されないいかなる要素、ステップ、または原料も除外する。「本質的にからなる」という移行句は、クレームの範囲を、指定された物質またはステップ、ならびに請求された発明の基本的および新規の特性（複数可）に実質的に影響を与えないものに限定する。「本質的にからなる」クレームは、「からなる」書式で書かれたクローズドのクレームと「含む」書式で起草された完全にオープンなクレームとの間の中央領域を占める。化合物または組成物を記載する場合、それとは反対の指示がない限り、「本質的にからなる」は、「含む」と解釈されるものではなく、その用語が適用される組成物または方法を著しく改変しない物質を含む、記述された要素を記載するように意図される。例えば、物質Ａからなる供給原料は、記述された化合物または組成物の工業的に製造されたまたは市販の試料中に、通常、存在する不純物を含むことができる。クレームが、異なる特色および／または特色の種類（なかんずく、例えば、方法ステップ、供給原料の特色、および／または、製品の特色）を含む場合、「含む」、「本質的にからなる」、および「からなる」という移行用語は、使用される特色の種類にのみに当てはまり、クレーム内の異なる特色を含む異なる移行用語または移行句を使用することができる。例えば、ある方法は、いくつかの記述されたステップ（および他の記述されていないステップ）が含むことができるが、特定のステップからなる、または代替として特定のステップからなる触媒系調製物を使用するおよび／または記述された要素および他の記述されていない要素を含む触媒系を使用することができる。
【００１６】
組成物および方法が様々な要素またはステップを「含む」という観点から記載されているが、組成物および方法はまた、様々な要素またはステップ「本質的にからなる」または「からなる」ことができる。
【００１７】
「ａ」、「ａｎ」、および「ｔｈｅ」という用語は、特に他に示されない限り、複数の代替、例えば、少なくとも１つを含むよう意図される。例えば、「トリアルキルアルミニウム化合物」の開示は、別段の定めがない限り、１種のトリアルキルアルミニウム化合物、または複数のトリアルキルアルミニウム化合物の混合物または組み合わせを包含するよう意図される。
【００１８】
本明細書に開示される任意の特定の化合物に関して、提示された一般構造または名称はまた、他に示されない限り、置換基の特定の集合から生じ得る構造異性体、配座異性体、および立体異性体をすべて包含するように意図される。したがって、ある化合物に対する一般的な言及は、他に明示的に示されない限り、すべての構造異性体を含む。例えば、ペンタンに対する一般的な言及は、ｎ‐ペンタン、２−メチル−ブタン、および２，２−ジメチルプロパンを含み、一方、ブチル基に対する一般的な言及は、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソ−ブチル基、およびｔｅｒｔ−ブチル基を含む。さらに、一般的な構造または名称に対する言及は、文脈が認めるまたは必要とする限り、鏡像異性体であろうとまたはラセミ体であろうとすべての鏡像異性体、ジアステレオマー、および他の光学異性体、ならびに立体異性体の混合物を包含する。提示される任意の特定の式または名称について、提示される任意の一般式または名称はまた、置換基の特定の集合から生じ得るすべての配座異性体、位置異性体、および立体異性体を包含する。
【００１９】
化学「基」は、たとえその基がこのようにして文字通りに合成されなくても、例えば、基を生成するために親化合物から形式的に除去された水素原子の数によって、その基が参照または「親」化合物からどのように形式的に由来するかによって記載される。これらの基は、置換基として使用され、または、金属原子に配位もしくは結合され得る。例として、アルカンから１個の水素原子を除去することによって、「アルキル基」を形式的に誘導することができ、一方、アルカンから２個の水素原子を除去することにより「アルキレン基」を形式的に誘導することができる。さらに、より一般的な用語を、親化合物から任意の数（「１個または複数」）の水素原子を除去することにより形式的に誘導される様々な基を包含するために使用することができる。この親化合物は、この例においては「アルカン基」として記載することができ、また、「アルキル基」を包含するが、アルカンから、状況に応じて必要な、3個以上の水素原子が除去される「アルキレン基」を包含する。全体を通じて、置換基、配位子、または、他の化学的な部分が特定の「基」を構成し得るという開示は、記載される通りその基が使用されるとき、化学構造および結合の周知のルールに従うことを示唆する。「によって誘導される」、「から由来する」、「によって形成される」または「から形成される」基を記載する場合、そのような用語は、形式的な意味において使用され、他に指定されまたは文脈が他に必要としない限り、任意の特定の合成法または手順を反映するようには意図されない。
【００２０】
ある基を記載するために、例えば、特定の基の置換された類似体を指すときに使用される場合の「置換された」という用語は、その基の水素を形式的に置き換える任意の非水素部分を記載することが意図され、非限定的であるように意図される。基（複数可）はまた、本明細書において「非置換」または「無置換」などの等価の用語で呼ばれ、これは、非水素部分がその基内の水素を置き換えていない元の基を指す。「置換された」は、非限定的であり、無機置換基または有機置換基を含むように意図される。
【００２１】
他に指定しない限り、炭素原子の数が指定されない任意の炭素含有基は、適当な化学の慣行に従って、１，２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，１９，２０，２１，２２，２３，２４，２５，２６，２７，２８、２９、または３０の炭素原子、またはこれらの値の間の範囲の任意の範囲もしくは組み合わせを有することができる。例えば、別段の定めがない限り、任意の炭素含有基は、１から３０までの炭素原子、１から２５までの炭素原子、１から２０までの炭素原子、１から１５までの炭素原子、１から１０までの炭素原子、１から５までの炭素原子などを有することができる。さらに、他の識別子または制限用語が、特定の置換基の有無、特定の位置化学および／または立体化学、または基礎をなす分枝構造もしくは骨格の有無を示すために使用されてもよい。
【００２２】
アミジン基は、一般構造
【化１】
2015016470.tif 000002
を有する基である。アミジン基内では、中央の炭素原子とともに二重結合に参加する窒素は、Ｎ１窒素と呼ばれ、中央の炭素原子とともに単結合に参加する窒素原子は、Ｎ２窒素と呼ばれる。同様に、Ｎ１およびＮ２窒素原子に結合した基は、Ｎ１基およびＮ２基と呼ばれる。
Ｎ２−ホスフィニルアミジン基は、一般構造
【化２】
2015016470.tif 000003
を有する。Ｎ２−ホスフィニルアミジン基内では、Ｎ１およびＮ２窒素原子およびＮ１およびＮ２基は、アミジン基について記載されたのと同一の意味を有する。したがって、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基は、Ｎ２窒素原子に結合したホスフィニル基を有する。アミジン基およびＮ２−ホスフィニルアミジン基内では、２個の窒素原子間の炭素原子は中央の炭素原子であり、それに結合した任意の置換基は中央炭素基と呼ばれる。本開示および特許請求の範囲の目的に対して、２−アミン基を含むピリジン基を有する化合物（またはその類似体、例えば、ピリミジン環、イミダゾール環、２−アミノピリジン基などを有する化合物）、または２−ホスフィニルアミン基を有する化合物は、アミジン基またはＮ２−ホスフィニルアミジン基をそれぞれ構成するとは考えられない。
【００２３】
「オルガニル基」という用語は、本明細書において、ＩＵＰＡＣによって指定された定義、「官能基の種類に関係なく、炭素原子に遊離の１価を有する有機置換基」に従って使用される。同様に、「オルガニレン基」とは、官能基の種類に関係なく、有機化合物から２個の水素原子、すなわち、１個の炭素原子から２個の水素原子を、または２個の異なる炭素原子それぞれから１個の水素原子を除去することにより誘導されたオルガニック基を指す。「オルガニック基」とは、有機化合物の炭素原子から１個または複数の水素原子を除去することにより形成された一般化された基を指す。したがって、「オルガニル基」、「オルガニレン基」および「オルガニック基」は、有機官能基（複数可）および／または炭素および水素以外の原子（複数可）を含むことができる。すなわち、オルガニック基は、炭素および水素に加えて官能基および／または原子を含むことができる。例えば、炭素および水素以外の原子の非限定的な例は、ハロゲン、酸素、窒素、リンなどを含む。官能基の非限定的な例は、エーテル、アルデヒド、ケトン、エステル、スルフィド、アミン、ホスフィンなどを含む。一態様において、除去されて「オルガニル基」、「オルガニレン基」または「オルガニック基」を形成する水素原子（複数可）は、官能基、なかんずく、例えば、アシル基（−Ｃ（Ｏ）Ｒ）、ホルミル基（−Ｃ（Ｏ）Ｈ）、カルボキシ基（−Ｃ（Ｏ）ＯＨ）、ヒドロカルボキシカルボニル基（−Ｃ（Ｏ）ＯＲ）、シアノ基（−Ｃ≡Ｎ）、カルバモイル基（−Ｃ（Ｏ）ＮＨ２）、Ｎ−ヒドロカルビルカルバモイル基（−Ｃ（Ｏ）ＮＨＲ）、またはＮ，Ｎ’−ジヒドロカルビルカルバモイル基（−Ｃ（Ｏ）ＮＲ２）に属する炭素原子に結合されていてもよい。別の態様において、除去されて「オルガニル基」、「オルガニレン基」または「オルガニック基」を形成する水素原子（複数可）は、官能基、例えば、−ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ３，−ＣＨ２ＮＲ２などに属さず、かつ、そこから遠い炭素原子に結合されていてもよい。「オルガニル基」、「オルガニレン基」または「オルガニック基」は、環式もしくは非環式を含む脂肪族であってもよく、または芳香族であってもよい。「オルガニル基」、「オルガニレン基」および「オルガニック基」はまた、ヘテロ原子含有環、ヘテロ原子含有環系、ヘテロ芳香環、およびヘテロ芳香環系を包含する。「オルガニル基」、「オルガニレン基」および「オルガニック基」は、別段の定めがない限り、直鎖状または分岐状であってもよい。最後に、「オルガニル基」、「オルガニレン基」または「オルガニック基」定義は、「ヒドロカルビル基」、「ヒドロカルビレン基」、「炭化水素基」をそれぞれ、また成員として「アルキル基」、「アルキレン基」および「アルカン基」をそれぞれ含むことが留意される。
【００２４】
本出願の目的に対して、「不活性官能基からなるオルガニル基」という用語または用語の変形は、有機官能基（複数可）、および／または、官能基中に存在する炭素および水素以外の原子（複数可）が、金属化合物と錯体を形成しない、および／または本明細書において定義された工程条件下で不活性である、有機官能基（複数可）、および／または、炭素および水素以外の原子（複数可）に限定されたオルガニル基を指す。したがって、「不活性官能基からなるオルガニル基」という用語または用語の変形は、さらに、不活性官能基からなるオルガニル基内に存在し得る特定のオルガニル基を定義する。さらに、「不活性官能基からなるオルガニル基」という用語は、オルガニル基内の１個または複数の不活性官能基の存在を指すことがある。「不活性官能基からなるオルガニル基」という用語または用語の変形の定義は、（他の基の中でも）成員としてヒドロカルビル基を含む。同様に、「不活性官能基からなるオルガニレン基」とは、不活性官能基からなる有機化合物の１個または２個の炭素原子から２個の水素原子を除去することによって形成されたオルガニック基を指し、また「不活性官能基からなるオルガニック基」とは、不活性官能基からなる有機化合物の１個または２個の炭素原子から２個の水素原子を除去することによって形成された不活性官能基からなる一般化されたオルガニック基を指す。
【００２５】
本出願の目的に対して、「不活性官能基」とは、不活性官能基を有する物質が一部を成す、本明細書に記載される工程と実質的に干渉しない、および／または、金属錯体の金属化合物と錯体を形成しない、基である。「金属化合物と錯体を形成しない」という用語は、金属化合物と錯体を形成し得るが、しかし、特に本明細書に記載される分子は、配位子内のその位置関係により、金属化合物と錯体を形成し得ない基を含んでいてもよい。例えば、エーテル基は金属化合物と錯体を形成し得るが、単一の金属化合物は、同一の金属錯体分子のパラエーテル基およびＮ２−ホスフィニルアミジン基の両方とは錯体を形成することができないので、置換フェニルホスフィニル基のパラ位に位置するエーテル基は、不活性官能基となり得る。したがって、特定の官能基の不活性度は、金属化合物と錯体を形成する官能基の固有の無能力に関係するだけでなく、金属錯体内の官能基の位置にも関係し得る。本明細書において記載される工程と実質的に干渉しない不活性官能基の非限定的な例は、とりわけハロ（フルオロ、クロロ、ブロモ、およびヨード）、ニトロ、ヒドロカルボキシ基（とりわけ、例えば、アルコキシ、および／またはアロキシ）、スルフィジル基、および／またはヒドロカルビル基を含むことができる。
【００２６】
「炭化水素」という用語は、本明細書および特許請求の範囲において使用される場合は常に、炭素および水素のみを含有する化合物を指す。他の識別子は炭化水素中の特定の基の存在を示すために使用することができる（例えば、ハロゲン化炭化水素は、炭化水素中の等しい数の水素原子を置き換えた１個または複数のハロゲン原子の存在を示す）。「ヒドロカルビル基」という用語は、本明細書において、ＩＵＰＡＣによって規定された定義：「炭化水素から水素原子を除去することにより形成された１価の基」に従って使用される。ヒドロカルビル基の非限定的な例は、エチル、フェニル、トリル、プロペニルなどを含む。同様に、「ヒドロカルビレン基」は、炭化水素から２個の水素原子、１個の炭素原子からの２個の水素原子、または、２個の異なる炭素原子のそれぞれから１個の水素原子を除去することにより形成された基を指す。したがって、本明細書において使用される用語論によると、「炭化水素基」は、炭化水素から１個または複数の水素原子を（特定の基に必要なように）除去することによって形成された一般化された基を指す。「ヒドロカルビル基」、「ヒドロカルビレン基」および「炭化水素基」は、非環式または環式の基であってもよく、および／または直鎖状または分枝状であってもよい。「ヒドロカルビル基」、「ヒドロカルビレン基」および「炭化水素基」は、炭素および水素を含む環、環系、芳香環、および芳香環系を含むことができる。「ヒドロカルビル基」、「ヒドロカルビレン基」および「炭化水素基」は、例として、成員として、他の基の中でも、アリール、アリーレン、アレーン、アルキル、アルキレン、アルカン、シクロアルキル、シクロアルキレン、シクロアルカン、アラルキル、アラルキレンおよびアラルカン基を含む。
【００２７】
「アルカン」という用語は、本明細書および特許請求の範囲において使用される場合は常に、飽和炭化水素化合物を指す。他の識別子をアルカン中の特定の基の存在を示すために使用することができる。（例えば、ハロゲン化アルカンは、アルカン中の等しい数の水素原子を置き換えた１個または複数のハロゲン原子の存在を示す）。「アルキル基」という用語は、本明細書においてＩＵＰＡＣによって規定された定義：「アルカンから水素原子を除去することにより形成された１価の基」に従って使用される。同様に、「アルキレン基」とは、アルカンから２個の水素原子（１個の炭素原子からの２個の水素原子、または２個の異なる炭素原子からの１個の水素原子のどちらか）を除去することにより形成された基を指す。「アルカン基」とは、アルカンから１個または複数の水素原子を（特定の基に必要なように）除去することによって形成された基を指す一般的用語である。「アルキル基」、「アルキレン基」および「アルカン基」は、別段の定めがない限り、非環式または環式の基であってもよく、および／または直鎖状または分枝状であってもよい。第一級、第二級、および第三級アルキル基は、アルカンの、それぞれ、第一級、第二級、第三級炭素原子からの水素原子の除去によって誘導される。ｎ−アルキル基は、直鎖状アルカンの末端炭素原子からの水素原子の除去によって誘導することができる。基ＲＣＨ２（Ｒ≠Ｈ）、Ｒ２ＣＨ（Ｒ≠Ｈ）、およびＲ３Ｃ（Ｒ≠Ｈ）は、それぞれ、第一級、第二級、および第三級アルキル基である。
【００２８】
シクロアルカンは、側鎖を含む、または含まない飽和環式炭化水素、例えば、シクロブタンである。１個または複数の二重結合または１個の三重結合を環内に有する不飽和環状炭化水素は、それぞれシクロアルケンおよびシクロアルキンと呼ばれる。ただ１個、ただ２個、ただ３個などの二重結合または三重結合を、それぞれ、環内に有するシクロアルケンおよびシクロアルキンは、「モノ」、「ジ」、「トリ」などの用語の使用によって、シクロアルケンまたはシクロアルキンの名称内で特定することができる。シクロアルケンおよびシクロアルキンは、さらに、環内の二重結合または三重結合の位置を特定することができる。
【００２９】
「シクロアルキル基」は、シクロアルカンの環炭素原子から水素原子を除去することにより誘導される１価の基である。例えば、１−メチルシクロプロピル基および２−メチルシクロプロピル基は、以下のように図示される。
【化３】
2015016470.tif 000004
同様に、「シクロアルキレン基」とは、少なくともその１個が環炭素であるシクロアルカンから２個の水素原子を除去することにより誘導された基を指す。したがって、「シクロアルキルエン基」は、２個の水素原子が同一の環炭素から形式的に除去されたシクロアルカンから誘導された基、２個の水素原子が２個の異なる環炭素から形式的に除去されたシクロアルカンから誘導された基、および、第１の水素原子が環炭素から形式的に除去され、かつ第２の水素原子が環炭素でない炭素原子から形式的に除去されたシクロアルカンから誘導された基のいずれをも含む。「シクロアルカン基」とは、シクロアルカンから１個または複数の水素原子を（特定の基に必要なように、また少なくともその１個は環炭素である）除去することにより形成された一般化された基を指す。本明細書に提供された定義によると、一般的なシクロアルカン基（シクロアルキル基およびシクロアルキレン基を含む）は、シクロアルカン環炭素原子（例えば、メチルシクロプロピル基）に結合した、０、１個または複数のヒドロカルビル置換基を有する基を含み、炭化水素基の群の成員であることが留意されるべきである。しかし、指定された数のシクロアルカン環炭素原子を有するシクロアルカン基（とりわけ、例えば、シクロペンタン基またはシクロヘキサン基）を指す場合、規定された数のシクロアルカン環炭素原子を有するシクロアルカン基の基本名は、非置換シクロアルカン基（シクロアルカン基環炭素原子上に位置するヒドロカルビル基を有しない基を含む）を指す。したがって、指定された数の環炭素原子を有する置換シクロアルカン基（とりわけ、例えば、置換シクロペンタンまたは置換シクロヘキサン）は、シクロアルカン基環炭素原子に結合した１個または複数の置換基を有する各基（他の置換基の中でも、ハロゲン、ヒドロカルビル基、またはヒドロカルボキシ基を含む）を指す。規定された数のシクロアルカン環炭素原子を有する置換シクロアルカン基が、炭化水素基の群の成員（またはシクロアルカン基の一般的な群の成員）である場合、規定された数のシクロアルカン環炭素原子を有する置換シクロアルカン基の各置換基は、ヒドロカルビル置換基に限定される。炭化水素基の成員（またはシクロアルカン基の一般的な基の成員）として使用することができる、特定の数の環炭素原子を有する一般的な基、特定の基、および／または個々の置換シクロアルカン基（複数可）は、容易に識別し選択することができる。
【００３０】
「オレフィン」という用語は、本明細書および特許請求の範囲において使用される場合は常に、芳香環または環系の一部でない、少なくとも１個の炭素炭素二重結合を有する化合物を指す。「オレフィン」という用語は、特に別記しない限り、芳香環または環系の一部でない、少なくとも１個の炭素炭素二重結合を有する、脂肪族および芳香族、環式および環式のｃｙｃｌｉｃ  ａｎｄ  ｃｙｃｌｉｃ、および／または直鎖状および分枝状化合物を含む。「オレフィン」という用語単独では、明示的に示されない限り、ヘテロ原子の有無および／または他の炭素炭素二重結合の有無を示さない。ただ１個、ただ２個、ただ３個などの炭素炭素二重結合を有するオレフィンは、「モノ」、「ジ」、「トリ」などの用語の使用によって、オレフィンの名称内で特定することができる。オレフィンは、炭素炭素二重結合の位置によってさらに特定することができる。
【００３１】
「アルケン」という用語は、本明細書および特許請求の範囲において使用される場合は常に、１個または複数の炭素炭素二重結合を有する直鎖状または分岐状炭化水素オレフィンを指す。ただ１個、ただ２個、ただ３個などのそのような多重結合を有するアルケンは、「モノ」、「ジ」、「トリ」などの用語の使用によって、その名称内で特定することができる。例えば、アルカモノエン、アルカジエンおよびアルカトリエンは、ただ１個の炭素炭素二重結合（一般式ＣｎＨ２ｎ）、ただ２個の炭素炭素二重結合（一般式ＣｎＨ２ｎ−２）、およびただ３個の炭素炭素二重結合（一般式ＣｎＨ２ｎ−４）をそれぞれ有する、直鎖状または分枝状炭化水素オレフィンを指す。アルケンは、さらに、炭素炭素二重結合の位置によって特定することができる。他の識別子はアルケン内の特定の基の有無を示すために使用することができる。例えば、ハロアルケンは、１個または複数の水素原子をハロゲン原子に置き換えたアルケンを指す。
【００３２】
「アルケニル基」は、アルケンの任意の炭素原子からの水素原子の除去によってアルケンから誘導された１価の基である。したがって、「アルケニル基」は、ｓｐ２混成（オレフィン）炭素原子から水素原子が形式的に除去された基、および他の任意の炭素原子から形式的に水素原子が除去された基を含む。例えば、別段の定めがない限り、１−プロペニル（−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３）、２−プロペニル［（ＣＨ３）Ｃ＝ＣＨ２］、および３−プロペニル（−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）基はすべて、「アルケニル基」という用語に包含される。同様に、「アルケニレン基」は、アルケンから形式的に２個の水素原子、すなわち１個の炭素原子からの２個の水素原子または２個の異なる炭素原子からの１個の水素原子を除去することにより形成された基を指す。「アルケン基」とは、アルケンから１個または複数の水素原子を（特定の基に必要なように）除去することにより形成された一般化された基を指す。水素原子が炭素炭素二重結合に参加する炭素原子から除去される場合、水素原子が除去される炭素の位置化学、および炭素炭素二重結合の位置化学はともに指定することができる。アルケン基はまた、複数の炭素炭素二重結合を有することができる。アルケン基はまた、炭素炭素二重結合の位置によってさらに特定することができる。
【００３３】
「アルキン」という用語は、本明細書および特許請求の範囲において使用される場合は常に、１個または複数の炭素炭素三重結合を有する直鎖状または分岐状炭化水素オレフィンを指す。ただ１個、ただ２個、ただ３個などのそのような多重結合を有するアルキンは、「モノ」、「ジ」、「トリ」などの用語の使用によって、その名称内で特定することができる。例えば、アルカモノイン、アルカジインおよびアルカトリインは、ただ１個の炭素炭素三重結合（一般式ＣｎＨ２ｎ−２）、ただ２個の炭素炭素三重結合（一般式ＣｎＨ２ｎ−６）、およびただ３個の炭素炭素三重結合（一般式ＣｎＨ２ｎ−１０）をそれぞれ有する、直鎖状または分枝状炭化水素オレフィンを指す。アルキンは、炭素炭素三重結合の位置によってさらに特定することができる。他の識別子はアルキン内の特定の基の有無を示すために使用することができる。例えば、ハロアルキンは、１個または複数の水素原子をハロゲン原子に置き換えたアルキンを指す。
【００３４】
「アルキニル基」とは、アルキンの任意の炭素原子からの水素原子の除去によってアルキンから誘導された１価の基である。したがって、「アルキニル基」は、ｓｐ混成（アセチレン）炭素原子から水素原子が形式的に除去された基、および他の任意の炭素原子から形式的に水素原子が除去された基を含む。例えば、別段の定めがない限り、１−プロピニル（−Ｃ≡ＣＣＨ３）および３−プロピニル（ＨＣ≡ＣＣＨ２−）基はすべて、「アルキニル基」という用語に包含される。同様に、「アルキニレン基」は、アルキンから２個の水素原子、すなわち、可能ならば１個の炭素原子からの２個の水素原子、または２個の異なる炭素原子からの１個の水素原子のいずれかを、形式的に除去することによって形成された基を指す。「アルキン基」とは、アルキンから１個または複数の水素原子を（特定の基に必要なように）除去することにより形成された一般化された基を指す。他の識別子をアルキン基内の特定の基の有無を示すために使用することができる。アルキン基はまた、複数の炭素炭素三重結合を有することができる。アルキン基はまた、さらに、炭素炭素三重結合の位置によって特定することができる。
【００３５】
本明細書および特許請求の範囲において使用される場合、「アルファオレフィン」という用語は、炭素原子の最長の隣接鎖の１番目および２番目の炭素原子の間に炭素炭素二重結合を有するオレフィンを指す。特に他に明示されない限り、「アルファオレフィン」という用語は、直鎖状および分枝状アルファオレフィンを含む。分枝状アルファオレフィンの場合には、分枝は、オレフィン二重結合に関して２位（ビニリデン）におよび／または３位以上にあってもよい。「ビニリデン」という用語は、本明細書および特許請求の範囲において使用される場合は常に、オレフィン二重結合に関して２位に分枝を有するアルファオレフィンを指す。明示的に示されない限り、「アルファオレフィン」という用語は、それ自体で、ヘテロ原子の有無および／または他の炭素炭素二重結合の有無を示さない。「炭化水素アルファオレフィン」または、「アルファオレフィン系炭化水素」という用語は、水素および炭素のみを含有するアルファオレフィン化合物を指す。
【００３６】
本明細書において使用される場合、「直鎖状アルファオレフィン」という用語は、１番目および２番目の炭素原子の間に炭素炭素二重結合を有する直鎖状のオレフィンを指す。「直鎖状アルファオレフィン」という用語単独では、明示的に示されない限り、ヘテロ原子の有無および／または他の炭素炭素二重結合の有無を示さない。「直鎖状炭化水素アルファオレフィン」または「直鎖状アルファオレフィン炭化水素」という用語は、水素および炭素のみを含有する直鎖状アルファオレフィン化合物を指す。
【００３７】
「ノルマルアルファオレフィン」という用語は、本明細書および特許請求の範囲において使用される場合は常に、１番目および２番目の炭素原子の間に炭素炭素二重結合を有する直鎖状炭化水素モノオレフィンを指す。「直鎖状アルファオレフィン」という用語が、１番目および２番目の炭素原子の間に二重結合を有し、ヘテロ原子および／またはさらなる二重結合を有する直鎖状オレフィン化合物を包含することができるように、「ノルマルアルファオレフィン」は「直鎖状アルファオレフィン」と同義ではないことが留意される。
【００３８】
「本質的にノルマルアルファオレフィン（複数可）からなる」という用語またはその変形は、本明細書および特許請求の範囲において使用される場合は常に、市販のノルマルアルファオレフィン製品（複数可）を指す。市販のノルマルアルファオレフィン製品は、他の不純物の中でも、ビニリデン、内部オレフィン、分枝状アルファオレフィン、パラフィン、およびジオレフィンなどの非ノルマルアルファオレフィン不純物を含むことがあり、これらはノルマルアルファオレフィン製造工程中に除去されない。工業的ノルマルアルファオレフィン製品中に存在する特定の不純物の同一性および量は、工業的ノルマルアルファオレフィン製品の起源に依存することは容易に認識される。したがって、「本質的にノルマルアルファオレフィンからなる」という用語およびその変形は、明示的に示されない限り、特定の工業的ノルマルアルファオレフィン製品中に存在する量／分量（ａｍｏｕｎｔ／ｑｕａｎｔｉｔｙ）より、非直鎖状アルファオレフィン成分の量／分量を厳密に限定するようには意図されない。
【００３９】
「複素環化合物」は、環員原子として少なくとも２種の異なる元素を有する環式化合物である。例えば、複素環化合物は、とりわけ、炭素および窒素（例えば、テトラヒドロピロール）、炭素および酸素（例えば、テトラヒドロフラン）、または炭素および硫黄（例えば、テトラヒドロチオフェン）を含有する環を含んでいてもよい。複素環化合物および複素環基は、脂肪族または芳香族のいずれであってもよい。
【００４０】
「ヘテロシクリル基」は、複素環化合物の複素環または環系炭素原子から水素原子を除去することにより形成された１価の基である。水素原子が複素環または環系炭素原子から除去されることを指定することによって、「ヘテロシクリル基」は、水素原子が複素環または環系ヘテロ原子から除去される「シクロヘテリル基」と識別される。例えば、以下に説明されるピロリジン−２−イル基は、「シクロヘテリル」基の一例であり、以下に説明されるピロリジン−１−イル基は、「シクロヘテリル」基の一例である。
【化４】
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同様に、「ヘテロシクリレン基」、またはより簡単に「ヘテロシクレン基」とは、少なくともその１個が複素環または環系炭素からである、複素環の化合物から２個の水素原子を除去することによって形成された基を指す。したがって、「ヘテロシクリレン基」において、少なくとも１個の水素は複素環または環系炭素原子から除去され、例えば、同一の複素環または環系炭素原子、異なる複素環または環系環炭素原子、または非環炭素原子を包含する他の任意の炭素原子から、他の水素原子を除去することができる。「複素環基」は、複素環化合物から１個または複数の水素原子を（特定の基に必要なように、また少なくともその１個は複素環炭素原子である）除去することにより形成された一般化された基を指す。一般に、複素環化合物は、別段の定めがない限り、脂肪族または芳香族であってもよい。
【００４１】
「シクロヘテリル基」は、説明の通り、複素環化合物の複素環または環系ヘテロ原子から水素原子を除去することにより形成された１価の基である。水素原子が、環炭素原子からではなく、複素環または環系ヘテロ原子から除去されることを指定することによって、「シクロヘテリル基」は、水素原子が、複素環または環系炭素原子から除去される「ヘテロシクリル基」から識別される。同様に、「シクロヘテリレン基」は、少なくともその１個が複素環化合物の複素環または環系ヘテロ原子から除去され、他の水素原子は、例えば、複素環または環系環炭素原子、別の複素環または環系ヘテロ原子、または非環原子（炭素またはヘテロ原子）を包含する他の原子から除去することができる、複素環化合物から２個の水素原子を除去することによって形成された基を指す。「シクロヘテロ基」は、複素環化合物から１個または複数の水素原子を（特定の基に必要なように、またその少なくとも１個は複素環または環系ヘテロ原子からである）除去することにより形成された一般化された基を指す。
【００４２】
脂肪族化合物は、芳香族化合物を除く、非環式または環式の、飽和または不飽和の炭素化合物である。したがって、脂肪族化合物は、芳香族化合物を除く、非環式または環式の、飽和または不飽和の炭素化合物である。すなわち、脂肪族化合物は非芳香族有機化合物である。「脂肪族基」は、脂肪族化合物の炭素原子から１個または複数の水素原子を（特定の基に必要なように）除去することによって形成された一般化された基である。したがって、脂肪族の化合物は、芳香族化合物を除く、非環式または環式の、飽和または不飽和の炭素化合物である。すなわち、脂肪族化合物は、非芳香族有機化合物である。脂肪族化合物と、したがって、脂肪族基は、炭素および水素以外の有機官能基（複数可）および／または原子（複数可）を含んでいてもよい。
【００４３】
芳香族化合物は、ｎが１から５までの整数である、Ｈｕｃｋｅｌ（４ｎ＋２）ルールに従い、（４ｎ＋２）π電子を含む、循環的に共役の二重結合系を含有する化合物である。芳香族化合物は、「アレーン」（炭化水素芳香族化合物）、および「ヘタレーン（ｈｅｔａｒｅｎｅｓ）」（複素芳香族化合物）とも称せられる「ヘテロアレーン」を含む。ヘテロアレーンは、芳香族系の特徴である連続的なπ電子系、およびＨｕｃｋｅｌルール（４ｎ＋２）に対応する数の面外π電子を維持するように、周期的な共役二重結合系の１個または複数のメチン（Ｃ＝）炭素原子を、３価または２価のヘテロ原子と置き換えることによってアレーンから形式的に誘導される。アレーン化合物およびヘテロアレーン化合物は芳香族化合物の群の相互に排他的な成員であるが、アレーン基およびヘテロアレーン基の両方を有する化合物は、一般にヘテロアレーン化合物と考えられる。芳香族化合物、アレーン、およびヘテロアレーンは、別段の定めがない限り、単環（例えば、ベンゼン、トルエン、フラン、ピリジン、メチルピリジン）、または多環であってもよい。多環芳香族化合物、アレーンおよびヘテロアレーンは、別段の定めがない限り、芳香環が縮合されていてよい化合物（例えば、ナフタレン、ベンゾフラン、およびインドール）、芳香族基が分離され結合によって連結されていてよい化合物（例えば、ビフェニルまたは４−フェニルピリジン）、または芳香族基が連結原子を含む基によって連結された化合物（他の連結基の中でも、例えば、炭素−ジフェニルメタン中のメチレン基；酸素−ジフェニルエーテル；窒素−トリフェニルアミン）を含む。本明細書において開示されたように、「置換された」という用語は、非水素部分が形式的に化合物中の水素を交換した、芳香族基、アレーン、またはヘテロアレーンを記載するために使用することができ、非限定的であることが意図される。
【００４４】
「芳香族基」とは、芳香族化合物から１個または複数の水素原子（特定の基に必要なように、また少なくともその１個は芳香環炭素原子である）を除去することにより形成された一般化された基を指す。１価の「芳香族基」に関して、除去された水素原子は芳香環炭素からでなければならない。芳香族化合物から複数の水素原子を除去することにより形成された「芳香族基」に関して、少なくとも１個の水素原子は芳香族炭化水素環炭素からでなければならない。さらに、「芳香族基」は、水素原子が芳香環または環系の同一の環から除去され（例えば、フェン−１，４−イレン、ピリジン−２，３−イレン、ナフト−１，２−イレン、およびベンゾフラン−２，３−イレン）、水素原子が環系の２個の異なる環から除去され（例えば、ナフト−１，８−イレンおよびベンゾフラン−２，７−イレン）、または水素原子が２個の単離した芳香環または環系から除去されていてもよい（例えば、ビス（フェン−４−イレン）メタン）。
【００４５】
アレーンは、側鎖を含む、または含まない芳香族炭化水素である（とりわけ、例えば、ベンゼン、トルエン、またはキシレン）。「アリール基」は、アレーンの芳香環炭素からの水素原子の形式的な除去から誘導された基である。アレーンは、単一の芳香族炭化水素環（例えば、ベンゼン、またはトルエン）を含み、縮合芳香環（例えば、ナフタレンまたはアントラセン）を含み、結合を介して共有結合で連結した１個または複数の単離した芳香環（例えば、ビフェニル）または非芳香族炭化水素基（複数可）（例えば、ジフェニルメタン）を含んでいてもよいことは留意されるべきである。「アリール基」の一例は、オルト−トリル（ｏ−トリル）であり、その構造は次に示される。
【化５】
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同様に、「アリーレン基」とは、アレーンから２個の水素原子（少なくともその１個は芳香環炭素からである）を除去することにより形成された基を指す。「アレーン基」とは、アレーンから１個または複数の水素原子（特定の基に必要なように、またその少なくとも１個は芳香環炭素である）を除去することにより形成された一般化された基を指す。しかし、基が別々の異なったアレーンおよびヘテロアレーン環または環系（例えば、７−フェニルベンゾフラン中のフェニルおよびベンゾフランの部分）を含む場合、その分類は、水素原子が除去された特定の環または環系、すなわち、除去された水素が芳香族炭化水素環または環系炭素原子から来た場合、アレーン基（例えば、６−フェニルベンゾフランのフェニル基中の２−炭素原子）、および除去された水素炭素（ｈｙｄｒｏｇｅｎ  ｃａｒｂｏｎ）がヘテロ芳香環または環系炭素原子から来た場合、ヘテロアレーン基（例えば、ベンゾフラン基または６−フェニルベンゾフランの２−または７−炭素原子）に依存する。本明細書に提供される定義によると、一般的なアレーン基（アリール基およびアリーレンａｒｅｙｌｅｎｅ基を含む）は、芳香族炭化水素環または環系炭素原子に位置する０、１、または複数のヒドロカルビル置換基を有する基（とりわけ、例えば、トルエン基またはキシレン基）を包含し、炭化水素基の群の成員であることが留意されるべきである。しかし、フェニル基（またはフェニレン基）および／またはナフチル基（またはナフチレン基）は、特定の非置換アレーン基（芳香族炭化水素環または環系炭素原子に位置するヒドロカルビル基を有しない）を指す。したがって、置換フェニル基または置換ナフチル基は、芳香族炭化水素環または環系炭素原子に位置する１個または複数の置換基（とりわけ、ハロゲン、ヒドロカルビル基、またはヒドロカルボキシ基を含む）を有する各アレーン基を指す。置換フェニル基および／または、置換ナフチルｎａｐｈｔｙｌ基が、炭化水素基の群の成員（またはアレーン基の一般的な群の成員）である場合、各置換基はヒドロカルビル置換基に限定される。当業者は、炭化水素基の群の成員（またはアレーン基の一般的な群の成員）として使用することができる、一般的フェニルおよび／またはナフチル基、特定のフェニルおよび／またはナフチル基、および／または個々の置換フェニルまたは置換ナフチル基を容易に識別し選択することができる。
【００４６】
ヘテロアレーンは、芳香環または環系内にヘテロ原子を有する、側鎖を含むまたは含まない芳香族化合物である（とりわけ、例えば、ピリジンｐｙｒｉｄｅｎｅ、インドール、またはベンゾフラン）。「ヘテロアリール基」は、「ヘテロシクリル基」の種類であり、ヘテロアレーン化合物のヘテロ芳香環または環系炭素原子から水素原子を除去することにより形成された１価の基である。水素原子が環炭素原子から除去されたことを指定することによって、「ヘテロアリール基」は、水素原子がヘテロ芳香環または環系ヘテロ原子から除去された「アリールヘテリル基」と識別される。例えば、以下に説明されるインドール−２−イル基は、「ヘテロアリール基」の一例であり、以下に説明されるインドール−１−イル基は、「アリールヘテリル」基の一例である。
【化６】
2015016470.tif 000007
同様に、「ヘテロアリーレン基」とは、少なくともその１個がヘテロアレーン環または環系炭素原子からである２個の水素原子を、ヘテロアレーン化合物から除去することにより形成された基を指す。したがって、「ヘテロアリーレン基」において、少なくとも１個の水素が、ヘテロアレーン環または環系炭素原子から除去され、他の水素原子は、例えば、ヘテロアレーン環もしくは環系炭素原子、または非ヘテロアレーン環もしくは環系原子を包含する他の炭素原子から除去することができる。「ヘテロアレーン基」とは、ヘテロアレーン化合物から１個または複数の水素原子（特定の基に必要なように、また少なくともその１個はヘテロアレーン環炭素原子または環系炭素原子である）を除去することによって形成された一般化された基を指す。水素原子が、ヘテロ芳香環もしくは環系ヘテロ原子から、および、ヘテロ芳香環または環系炭素原子、または芳香族炭化水素環もしくは環系炭素原子から除去される場合、この基は、「アリールヘテリレン（ａｒｙｌｈｅｔｅｒｙｌｅｎｅ）基」または「アリールヘテロ基」として分類される。
【００４７】
「アリールヘテリル基」は、「シクロヘテリル基」の種類であり、説明されるように、ヘテロ芳香環または環系ヘテロ原子から水素原子を除去することにより形成された１価の基である。ヘテロ芳香環または環系炭素原子からではなく、水素原子がヘテロ芳香環または環系ヘテロ原子から除去されると指定することによって、「アリールヘテリル基」は、水素原子がヘテロ芳香環または環系炭素原子から除去される「ヘテロアリール基」と識別される。同様に、「アリールヘテリレン基」とは、少なくともその１個がヘテロアリール化合物のヘテロ芳香環または環系ヘテロ原子から除去される２個の水素原子を、ヘテロアリール化合物から除去することにより形成された基を指し；他の水素原子は、例えば、複素芳香族化合物からの、ヘテロ芳香環もしくは環系炭素原子、別のヘテロ芳香環もしくは環系ヘテロ原子、または非環原子（炭素またはヘテロ原子）を包含する他の任意の原子から除去することができる。「アリールヘテロ基」とは、ヘテロアレーン化合物から１個または複数の水素原子（特定の基に必要なように、また少なくともその１個がヘテロ芳香環または環系ヘテロ原子からである）を除去することにより形成された一般化された基を指す。
【００４８】
「アラルキル基」は、非芳香族炭素原子（とりわけ、例えば、ベンジル基、または２−フェニルエタ−１−イル２−ｐｈｅｎｙｌｅｔｈ−１ｙｌ基）に遊離の原子価ｖａｌａｎｃｅを有するアリール置換アルキル基である。同様に、「アラルキレン基」は、１個の非芳香族炭素原子に遊離の２価、または２個の非芳香族炭素原子に遊離の１価を有するアリール置換アルキレン基であるが、「アラルカン基」は、非芳香族炭素原子（複数可）に遊離の１または複数の価を有する一般化されたアリール置換アルカン基である。「ヘテロアラルキル基」は、非ヘテロ芳香環または環系炭素原子に遊離の原子価を有する、ヘテロアリール置換アルキル基である。同様に、「ヘテロアラルキレンｈｅｔｅｒｏａｒａｌｋｙｌｅｎｅ基」は、１個の非ヘテロ芳香環もしくは環系炭素原子に遊離の２価または２個の非ヘテロ芳香環もしくは環系炭素原子に遊離の１価を有するヘテロアリール置換アルキレン基であるが、「ヘテロアラルカン基」は、非ヘテロ芳香環または環系炭素原子に遊離の１または複数の価を有する一般化されたアリール置換アルカン基である。それは留意されるべきである本明細書において提供された定義を与えるそれ、一般的なアラルカン基は、アラルカン芳香族炭化水素環または環系炭素原子に位置する０、１個または複数のヒドロカルビル置換基を有する基を包含し、炭化水素基の群の成員である。しかし、特定のアリール基（とりわけ、例えば、ベンジル基中のフェニル基または２−フェニルエチル基）を指定する特定のアラルカン基は、特定の非置換アラルカン基を指す（アラルカン芳香族炭化水素環または環系炭素原子に位置するヒドロカルビル基を含まない）。したがって、特定のアリール基を指定する置換アラルカン基は、１個または複数の置換基有する各アラルカン基を指す（ハロゲン、ヒドロカルビル基、またはヒドロカルボキシ基をとりわけ含む）。特定のアリール基を指定する置換アラルカン基が炭化水素基の群の成員（またはアラルカン基の一般的な群の成員）である場合、各置換基はヒドロカルビル置換基に限定される。炭化水素基の群の成員（またはアラルカン基の一般的な群の成員）として使用することができる、特定のアリール基を指定する置換アラルカン基は、容易に識別し選択することができる。
【００４９】
「ハライド」はその通常の意味を有する。したがって、ハライドの例は、フルオリド、クロリド、ブロミド、およびヨージドを含む。
【００５０】
「オルガノヘテリル基」は、炭素を含有する１価の基である。したがって、これは有機系であるが、炭素以外の原子にそれらの遊離の原子価を有している。したがって、オルガノヘテリルおよびオルガニル基は相補的で、相互に排他的である。オルガノヘテリル基は、環式または非環式、および／または、脂肪族または芳香族であってもよく、したがって脂肪族「シクロヘテリル基」（とりわけ、例えば、ピロリジン−１−イルまたはモルホリン−１−イル）、芳香族「アリールヘテリル基」（とりわけ、例えば、ピロール−１−イルまたはインドール−１−イル）、および非環式の基（とりわけ、例えば、オルガニルチオ、トリヒドロカルビルシリル、アリールオキシ、またはアルコキシ）を包含する。同様に、「オルガノヘテリレン（ｏｒｇａｎｏｈｅｔｅｒｙｌｅｎｅ）基」は、少なくともその１つはヘテロ原子にある遊離の２価を有する炭素および少なくとも１個のヘテロ原子を含む２価の基である。「オルガノヘテロ基」は、オルガノヘテロ化合物から遊離の１つまたは複数の価を有する（特定の基に必要なように、また少なくともその１つはヘテロ原子にある）炭素および少なくとも１個のヘテロ原子を含む一般化された基である。
【００５１】
「酸素基」は、「酸素結合基」とも呼ばれ、酸素原子に遊離の少なくとも１価を有する化学部分である。例示の「酸素基」は、その置換類似体を包含する、ヒドロキシ（−ＯＨ），−ＯＲ，−ＯＣ（Ｏ）Ｒ，−ＯＳｉＲ３，−ＯＰＲ２，−ＯＡｌＲ２，−ＯＳｉＲ２，−ＯＧｅＲ３，−ＯＳｎＲ３，−ＯＳＯ２Ｒ，−ＯＳＯ２ＯＲ，−ＯＢＲ２，−ＯＢ（ＯＲ）２，−ＯＡｌＲ２，−ＯＧａＲ２，−ＯＰ（Ｏ）Ｒ２，−ＯＡｓ（Ｏ）Ｒ２，−ＯＡｌＲ２などを含むが、これらに限定されない。遊離の複数の価を有する「酸素基」において、他の遊離の原子価は、化学構造および結合の規則に従って、酸素以外の原子（複数可）、例えば、炭素にあってもよい。
【００５２】
「硫黄基」は、「硫黄結合基」とも呼ばれ、硫黄原子に遊離の少なくとも１価を有する化学部分である。例示の「硫黄基（複数可）」は、その置換類似体を包含する、−ＳＲ，−ＳＣＮ，−Ｓ（Ｏ）Ｒ，−ＳＯ２Ｒなどを含むが、これらに限定されない。遊離の複数の価を有する「硫黄基」において、他の遊離の原子価は、化学構造および結合の規則に従って、硫黄以外の原子（複数可）、例えば、炭素にあってもよい。
【００５３】
「窒素基」は、「窒素結合基」とも呼ばれ、窒素原子に遊離の少なくとも１価を有する化学部分である。例示の「窒素基」は、その置換類似体を包含する、アミニル基（−ＮＨ２）、Ｎ−置換アミニル基（−ＮＲＨ）、Ｎ，Ｎ−二置換アミニル基（−ＮＲ２）、ヒドラジド基（−ＮＨＮＨ２）、Ｎ１−置換ヒドラジド基（−ＮＲＮＨ２）、Ｎ２−置換ヒドラジド基（−ＮＨＮＲＨ）、Ｎ２，Ｎ２−二置換ヒドラジド基（−ＮＨＮＲ２）、ニトロ基（−ＮＯ２）、アジド基（−Ｎ３）、アミジル基（−ＮＨＣ（Ｏ）Ｒ）、Ｎ−置換アミド基（−ＮＲＣ（Ｏ）Ｒ）などを含むが、これらに限定されない。遊離の複数の価を有する「窒素基」において、他の遊離の原子価は、化学構造および結合の規則に従って、窒素以外の原子（複数可）、例えば、炭素にあってもよい。
【００５４】
「リン基」は、「リン結合基」とも呼ばれ、リン原子に遊離の少なくとも１価を有する化学部分である。例示の「リン基」は、その置換類似体を包含する、−ＰＲ２，−Ｐ（Ｏ）Ｒ２，−Ｐ（ＯＲ）２，−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ）２，−Ｐ（ＮＲ２）２，−Ｐ（Ｏ）（ＮＲ２）２などを含むが、これらに限定されない。遊離の複数の価を有する「リン基」において、他の遊離の原子価は、化学構造および結合の規則に従って、リン以外の原子（複数可）、例えば、炭素にあってもよい。
【００５５】
遊離の原子価が、「酸素基」、「硫黄基」、「窒素基」、「リン基」などのヘテロ原子（非炭素原子）に位置する特定の基はそれぞれ、一般的な「Ｒ」部分を含むことができる。各事例において、別段の定めがない限り、「酸素基」、「硫黄族」、「窒素族」、「リン基」中のＲは、Ｃ１〜Ｃ２０オルガニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０脂肪族基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０シクロアルキル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０アルケニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０アルキニル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０芳香族基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロシクリル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０シクロヘテリル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０アリールヘテリル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０オルガノヘテリル基；代替として、Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル基；または代替として、Ｃ５〜Ｃ２０ヘテロアラルキル基であってもよい。
【００５６】
「オルガノアルミニウム化合物」は、アルミニウム−炭素結合を含む任意の化合物を記載するために使用される。したがって、オルガノアルミニウム化合物は、トリアルキル、ジアルキルまたはモノアルキルアルミニウム化合物などのヒドロカルビルアルミニウム化合物；ヒドロカルビルアルモキサン化合物、およびテトラキス（ｐ−トリル）アルミナート塩などのアルミニウムオルガニル結合を含むアルミナート化合物を含む。
【００５７】
本開示内では、有機命名法の一般的な規則が優先する。例えば、置換化合物または基を参照する場合、置換パターンに対する言及は、示された基（複数可）は示された位置に位置し、他の示されていないすべての位置は水素であることを示すようになされる。例えば、４−置換フェニル基に対する言及は、４の位置に位置する非水素置換基、および２、３、５、および６の位置に位置する水素があることを示す。別の例として、３−置換ｓｕｂｔｉｔｕｔｅｄナフト−２−イルに対する言及は、３の位置に位置する非水素置換基、および１、４、５、６、７、および８の位置に位置する水素があることを示す。示された位置に追加された位置に置換を有する化合物または基に対する言及は、他のいくつかの代替言語を使用して言及するであろう。例えば、４の位置に置換基を含むフェニル基に対する言及は、４の位置に非水素基、および２、３、５、および６の位置に水素または任意の非水素原子を有する基を指す。
【００５８】
「反応器流出物」という用語およびその派生語（例えば、オリゴマー化反応器流出物）は、反応器を出るすべての物質を一般に指す。「反応器流出物」という用語およびその派生語は、参照されている反応器流出物の部分を限定する他の記述子で前置きする（ｐｒｅｆａｃｅｄ）こともできる。例えば、「反応器流出物」という用語は、反応器を出るすべての物質（とりわけ、例えば、生成物および溶媒または希釈剤）を指すが、「オレフィン反応器流出物」という用語は、オレフィン（すなわち炭素炭素）二重結合を含む反応器の流出物を指す。
【００５９】
「オリゴマー化」という用語およびその派生語は、２から３０までのモノマー単位を含有する少なくとも７０重量パーセントの生成物を含有する生成物の混合物を生成する工程を指す。同様に、「オリゴマー」は、２から３０までのモノマー単位を含有する生成物であるが、「オリゴマー化生成物」は、「オリゴマー」および「オリゴマー」でない生成物（例えば、３０を超えるモノマー単位を含む生成物）を包含する「オリゴマー化」工程によって生成された生成物をすべて含む。「オリゴマー」または「オリゴマー化生成物」中のモノマー単位は、同じである必要がないことが留意されるべきである。例えば、「オリゴマー」またはモノマーとしてエチレンおよびプロピレンを使用する「オリゴマー化」工程の「オリゴマー化生成物」は、エチレンおよび／またはプロピレン単位両方を含むことができる。
【００６０】
「三量化」という用語およびその派生語は、３であって３のみのモノマー単位を含有する少なくとも７０重量パーセントの生成物を含有する生成物の混合物を生成する工程を指す。「三量体」は３であって３のみのモノマー単位を含有する生成物であるが、「三量化生成物」は、三量体および三量体でない生成物（例えば、二量体または四量体）を包含する三量化工程によって生成された生成物をすべて含む。一般に、オレフィン三量化は、モノマーｍｏｎｍｅｒ単位中のオレフィン結合の数、および三量体中のオレフィン結合の数を考慮に入れると、オレフィン結合の数、すなわち、炭素炭素二重結合の数を２だけ減少させる。「三量体」または「三量化生成物」中のモノマー単位は同じである必要がないことは留意されるべきである。例えば、モノマーとしてのエチレンおよびブテンを使用する「三量化」工程の「三量体」は、エチレンおよび／またはブテンモノマー単位を含むことができる。すなわち、「三量体」は、Ｃ６、Ｃ８、Ｃ１０、およびＣ１２生成物を包含するということである。別の例において、モノマーとしてエチレンを使用する「三量化」工程の「三量体」は、エチレン単量体単位を含むことができる。単一の分子が２個のモノマー単位を含むことができることもまた留意されるべきである。例えば、１，３−ブタジエンおよび１，４−ペンタジエンなどのジエンは、１個の分子内に２個のモノマー単位を有する。
【００６１】
「四量化」という用語およびその派生語は、４であって４のみのモノマー単位を含有する少なくとも７０重量パーセントの生成物を含有する生成物の混合物を生成する工程を指す。「四量体」は４であって４のみのモノマー単位を含有する生成物であるが、「四量化生成物」は、四量体および四量体でない生成物（例えば、二量体または三量体）を包含する四量化工程によって生成された生成物をすべて含む。一般に、オレフィン四量化は、モノマーｍｏｎｍｅｒ単位中のオレフィン結合の数、および四量体中のオレフィン結合の数を考慮に入れると、オレフィン結合の数、すなわち、炭素炭素二重結合の数を３だけ減少させる。「四量体」または「四量化生成物」中のモノマー単位は同じである必要がないことは留意されるべきである。例えば、モノマーとしてのエチレンおよびブテンを使用する「四量化」工程の「四量体」は、エチレンおよび／またはブテンモノマー単位を含むことができる。一例において、モノマーとしてエチレンを使用する「四量化」工程の「四量体」は、エチレン単量体単位を含むことができる。単一の分子が２個のモノマー単位を含むことができることもまた留意されるべきである。例えば、１，３−ブタジエンおよび１，４−ペンタジエンなどのジエンは、１個の分子内に２個のモノマー単位を有する。
【００６２】
「三量化および四量化」という用語およびその派生語は、３および／もしくは４であって／または３および／もしくは４のみのモノマー単位を含有する少なくとも７０重量パーセントの生成物を含有する生成物の混合物を生成する工程を指す。「三量化および四量化生成物」は、三量体、四量体、および四量体でない生成物（例えば、二量体）を包含する「三量化および四量化」工程によって生成された生成物をすべて含む。一例において、モノマーとしてエチレンを使用する「三量化および四量化」工程は、少なくとも７０重量パーセントのヘキセンおよび／またはオクテンを含有する生成物の混合物を生成する。
【００６３】
Ｘが０でない正の任意の整数である、「Ｘ炭素原子を有するオリゴマー化生成物」および「ＣＸオリゴマー生成物」という用語または用語の変形は、モノマーのオリゴマー化によって生成されたＸ炭素原子を有する物質を指す。したがって、Ｘ炭素原子を有するオリゴマー化生成物という用語は、オレフィンのオリゴマー化によって生成されなかったＸ炭素原子を有する物質（例えば、溶媒）を除外する。これらの用語はまた、モノマーのオリゴマー化によって生成するＸ炭素原子を有する物質を指す用語の本質を減じることなく、他の記述的な言葉（とりわけ、例えば、オレフィン、液体、および混合物）およびさらなる記述的な用語の適合を含むことができる。
【００６４】
触媒系の活性度は、全部の触媒系をオレフィンと接触させた時間から始めて、オリゴマー化または重合反応の最初の３０分にわたって触媒系において使用された金属塩またはＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体の金属グラム当たり生成した生成物のグラムとして定義される。触媒系の活性度は、オレフィンのオリゴマー化または重合の様々な生成物の点から述べることができる。例えば、クロム系の触媒系を使用するエチレン三量化および四量化工程において、使用することができる触媒系の活性度は、他の活性度の中でも、（ｇＣ６）／（ｇＣｒ）、（ｇＣ８）／（ｇＣｒ）、（Ｃ６＋Ｃ８）／（ｇＣｒ）、（ｇエチレンオリゴマー）／（ｇＣｒ）、（全生成物）／（ｇＣｒ）を含む。
【００６５】
本開示は、他の態様および実施形態の中でも、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を製造する方法、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を含む金属塩錯体、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を含む金属塩錯体を製造する方法、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を含む触媒系、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を含む触媒系を製造する方法、およびＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を含む触媒系を使用するオレフィンをオリゴマー化する方法を包含する。本開示のこれらの態様は、本明細書にさらに記載される。これらの態様はこれらの見出しの下に開示することができるが、見出しは、本明細書に見られる開示に限定するものではない。さらに、本明細書に開示された様々な態様および実施形態は、任意の方式で組み合わせることができる。
【００６６】
一般に、本開示によって包含されるＮ２−ホスフィニルアミジン化合物は、少なくとも１個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を有する。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物はただ１個のＮ２−ホスフィニルアミジンを含み、または代替として、ただ２個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含む。
【００６７】
一態様において、本開示が包含する化合物は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を含む。一般に、本開示が包含するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基を含み；または代替として、２個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含む。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物は、ただ１個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含み；または代替として、ただ２個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含む。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基の数、または構造に関係なく、本化合物は、非金属であってもよい（すなわち、非金属のＮ２−ホスフィニルアミジン化合物またはＮ２−ホスフィニルアミジン基を有する非金属化合物）。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のアミジン基は、非環式のアミジン基（２個の窒素原子およびアミン基の中央の炭素原子が環に含まれていないアミジン基）である。
【００６８】
一態様において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物は、構造ＮＰ１、ＮＰ２、ＮＰ３、ＮＰ４、ＮＰ５、ＮＰ６、ＮＰ７、ＮＰ８、ＮＰ９、ＮＰ１０、ＮＰ１１、ＮＰ１３、ＮＰ１５、ＮＰ１６、ＮＰ１８、もしくはＮＰ２０；代替として、構造ＮＰ１、ＮＰ２、ＮＰ３、ＮＰ４、もしくはＮＰ５；代替として、ＮＰ６、ＮＰ７、ＮＰ８、ＮＰ９、もしくはＮＰ１０；代替として、ＮＰ１１、ＮＰ１３、もしくはＮＰ１５；代替として、ＮＰ１６、ＮＰ１８、もしくはＮＰ２０；代替として、構造ＮＰ１；代替として、構造ＮＰ２；代替として、構造ＮＰ３；代替として、構造ＮＰ４；代替として、構造ＮＰ５；代替として、ＮＰ６；
代替として、ＮＰ７；代替として、ＮＰ８；代替として、ＮＰ９；代替として、ＮＰ１０；
代替として、構造ＮＰ１１；代替として、構造ＮＰ１３；代替として、構造ＮＰ１５；
代替として、ＮＰ１６；代替として、ＮＰ１８；または代替として、ＮＰ２０を有することができる。
【化７−１】
2015016470.tif 000008
【化７−２】
2015016470.tif 000009
一実施形態において、ただ１個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含むＮ２−ホスフィニルアミジン化合物は、構造ＮＰ１、ＮＰ６、ＮＰ１１、もしくはＮＰ１６；代替として、構造ＮＰ１もしくはＮＰ６；代替として、構造ＮＰ１１もしくはＮＰ１６；代替として、構造ＮＰ１もしくはＮＰ１１；または代替として、構造ＮＰ６もしくはＮＰ１６を有することを特徴とすることができる。一実施形態において、ただ２個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含むＮ２−ホスフィニルアミジン化合物は、構造ＮＰ２、ＮＰ３、ＮＰ８、ＮＰ１３、もしくはＮＰ１８；代替として、構造ＮＰ２、ＮＰ３、もしくはＮＰ８；代替として、構造ＮＰ１３、もしくはＮＰ１８；代替として、構造ＮＰ２もしくはＮＰ３；代替として、構造ＮＰ３もしくはＮＰ１３；または代替として、構造ＮＰ８もしくはＮＰ１８を有することを特徴とすることができる。他の実施形態において、少なくとも１個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物は、構造ＮＰ４ＮＰ５、ＮＰ９、ＮＰ１０、ＮＰ１５、もしくはＮＰ２０；代替として、構造ＮＰ４、ＮＰ５、ＮＰ９、もしくはＮＰ１０；代替として、構造ＮＰ１５、もしくはＮＰ２０；代替として、構造ＮＰ４もしくはＮＰ５；代替として、構造ＮＰ９もしくはＮＰ１０；代替として、構造ＮＰ５もしくはＮＰ１５；または代替として、構造ＮＰ１０もしくはＮＰ２０を有することを特徴とすることができる。Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物構造ＮＰ１〜ＮＰ１０、ＮＰ１１、ＮＰ１３、ＮＰ１５、ＮＰ１６、ＮＰ１８、および／またはＮＰ２０内のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｄ１、Ｄ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｑ１、ｑ、およびｒは、独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、構造ＮＰ１−ＮＰ１０、ＮＰ１１、ＮＰ１３、ＮＰ１５、ＮＰ１６、ＮＰ１８、および／またはＮＰ２０を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物をさら記載する。他の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物は、本明細書に開示される任意の特定構造を有することができる。
【００６９】
一般に、Ｒ１は、オルガニル基；代替として、本質的に不活性官能基からなるオルガニル基；または代替として、ヒドロカルビル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ１はＣ１〜Ｃ３０オルガニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０オルガニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５オルガニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０オルガニル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５オルガニル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ１は、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基；代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ２０オルガニル基；代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ１５オルガニル基；代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ１０オルガニル基；または代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ５オルガニル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ３０ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビル基であってもよい。また他の実施形態において、Ｒ１はＣ３〜Ｃ３０芳香族基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０芳香族基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５芳香族基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ１０芳香族基であってもよい。
【００７０】
一態様において、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ３０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ３０脂肪族複素環基、Ｃ３〜Ｃ３０置換脂肪族複素環基、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基、Ｃ６〜Ｃ３０置換アリール基、Ｃ３〜Ｃ３０ヘテロアリール基、もしくはＣ３〜Ｃ３０置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ３０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ３０置換アリール基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基もしくはＣ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０脂肪族複素環基もしくはＣ３〜Ｃ３０置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基もしくはＣ６〜Ｃ３０置換アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０ヘテロアリール基もしくはＣ３〜Ｃ３０置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ３０アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０脂肪族複素環基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０の置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０置換アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０ヘテロアリール基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ３０置換ヘテロアリール基であってもよい。一実施形態において、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ１５アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族複素環基、Ｃ３〜Ｃ２０置換脂肪族複素環基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリール基、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリール基、もしくはＣ３〜Ｃ２０置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ２０置換アリール基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基もしくはＣ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族複素環基もしくはＣ３〜Ｃ２０置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基もしくはＣ６〜Ｃ２０置換アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリール基もしくはＣ３〜Ｃ２０置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族複素環基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリール基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ２０置換ヘテロアリール基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ１５脂肪族複素環基、Ｃ３〜Ｃ１５置換脂肪族複素環の基、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基、Ｃ６〜Ｃ１５置換アリール基、Ｃ３〜Ｃ１５ヘテロアリール基、もしくはＣ３〜Ｃ１５置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ１５置換アリール基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基もしくはＣ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５脂肪族複素環基もしくはＣ３〜Ｃ１５置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基もしくはＣ６〜Ｃ１５置換アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５ヘテロアリール基もしくはＣ３〜Ｃ１５置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５脂肪族複素環基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５置換アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５ヘテロアリール基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ１５の置換ヘテロアリール基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｒ１はＣ１〜Ｃ５アルキル基であってもよい。
【００７１】
一実施形態において、Ｒ１は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、もしくはノナデシル基；または代替として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、もしくはデシル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ１は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、もしくはネオペンチル基；代替として、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、もしくはネオペンチル基；代替として、メチル基；代替として、エチル基；代替として、ｎ−プロピル基；代替として、イソプロピル基；代替として、ｔｅｒｔ−ブチル基；または代替として、ネオペンチル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ１として使用することができるアルキル基は置換されていてもよい。置換アルキル基の各置換基は、独立してハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。置換基として使用することができるハロゲンおよびヒドロカルボキシ基は、独立して本明細書に開示され、限定されることなく使用することができ、Ｒ１として使用することができる置換アルキル基をさらに記載する。
【００７２】
一実施形態において、Ｒ１は、シクロブチル基、置換シクロブチル基、シクロペンチル基、置換シクロペンチル基、シクロヘキシル基、置換シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、置換シクロヘプチル基、シクロオクチル基、または置換シクロオクチル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ１はシクロペンチル基、置換シクロペンチル基、シクロヘキシル基、または置換シクロヘキシル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ１は、シクロブチル基もしくは置換シクロブチル基；代替として、シクロペンチル基もしくは置換シクロペンチル基；代替として、シクロヘキシル基もしくは置換シクロヘキシル基；代替として、シクロヘプチル基もしくは置換シクロヘプチル基；または代替として、シクロオクチル基もしくは置換シクロオクチル基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｒ１は、シクロペンチル基；代替として、置換シクロペンチル基；シクロヘキシル基；または代替として、置換シクロヘキシル基であってもよい。置換シクロアルキル基の置換基は、独立して本明細書において開示され、限定されることなく使用することができ、Ｒ１として使用することができる置換シクロアルキル基をさらに記載する。
【００７３】
一実施形態において、Ｒ１として独立して使用することができる置換シクロアルキル基（一般的または特定の）の各置換基は、ハロゲン、ヒドロカルビル基もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルビル基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ヒドロカルビル基もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ１として独立して使用することができる置換シクロアルキル基（一般的または特定の）の各置換基は、ハロゲン、アルキル基もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲンもしくはアルキル基；代替として、ハロゲンもしくはアルコキシ基；代替として、アルキル基もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、アルキル基；または代替として、アルコキシ基であってもよい。特定の置換基ハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書において開示され、限定されることなく使用することができ、Ｒ１として使用することができる置換シクロアルキル基（一般的または特定の）の置換基をさらに記載する。
【００７４】
一態様において、Ｒ１は、構造Ｇ１：
【化８】
2015016470.tif 000010
［式中、指定されない原子価は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合している。］であってもよい。一般に、Ｒ１１ｃ、Ｒ１２ｃ、Ｒ１３ｃ、Ｒ１４ｃ、およびＲ１５ｃは、独立して水素または非水素置換基であってもよく、ｎは１から５までの整数であってもよい。Ｒ１が構造Ｇ１を有する実施形態において、Ｒ１１ｃ、Ｒ１３ｃ、Ｒ１４ｃ、およびＲ１５ｃは、水素であってもよく、Ｒ１２ｃは、本明細書において開示された任意の非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ１１ｃ、Ｒ１３ｃ、およびＲ１５ｃは、水素であってもよく、Ｒ１２ｃおよびＲ１４ｃは、独立して本明細書において開示された任意の非水素置換基であってもよい。一実施形態において、ｎは１から４まで；または代替として、２から４までの整数であってもよい。他の実施形態において、ｎは２もしくは３；代替として、２；または代替として、３であってもよい。構造Ｇ１を有するＲ１基の置換基は、独立して本明細書において開示され、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ１を有するＲ１基をさらに記載する。
【００７５】
一実施形態において、Ｒ１１ｃ、Ｒ１２ｃ、Ｒ１３ｃ、Ｒ１４ｃ、およびＲ１５ｃは、独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基、またはヒドロカルボキシ基；代替として、水素、ハロゲン、もしくはヒドロカルビル基；代替として、水素、ハロゲン、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、水素、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、水素もしくはハロゲン；代替として、水素もしくはヒドロカルビル基；または、代替として、水素もしくはヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ１１ｃ、Ｒ１２ｃ、Ｒ１３ｃ、Ｒ１４ｃ、およびＲ１５ｃは、独立して水素、ハロゲン、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、水素、ハロゲン、またはアルキル基；代替として、水素、ハロゲン、およびアルコキシ基；代替として、水素もしくはハロゲン；代替として、水素もしくはアルキル基；または代替として、水素もしくはアルコキシ基であってもよい。特定の置換基ハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書において開示され、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ１を有するＲ１基をさらに記載する。
【００７６】
Ｒ１が構造Ｇ１を有する実施形態において、Ｒ１１ｃ、Ｒ１３ｃ、Ｒ１４ｃ、およびＲ１５ｃは、水素であってもよく、また、Ｒ１２ｃは、本明細書に示される任意の非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ１１ｃ、Ｒ１３ｃおよびＲ１５ｃは水素であってもよく、Ｒ１２ｃおよびＲ１４ｃは、本明細書に示される任意の非水素置換基であってもよい。Ｒ１が構造Ｇ１を有するいくつかの実施形態において、Ｒ１１ｃ、Ｒ１３ｃ、Ｒ１４ｃ、およびＲ１５ｃは水素であってもよく、Ｒ１２ｃは、本明細書に示される任意のアルキル基、アルコキシ基、もしくはハロゲンであってもよく；または、代替として、Ｒ１１ｃ、Ｒ１３ｃおよびＲ１５ｃは水素であってもよく、Ｒ１２ｃおよびＲ１４ｃは、本明細書に示される任意のアルキル基、アルコキシ基、もしくはハロゲンであってもよい。Ｒ１が構造Ｇ１を有する他の実施形態において、Ｒ１１ｃ、Ｒ１３ｃ、Ｒ１４ｃ、およびＲ１５ｃは水素であってもよく、Ｒ１２ｃは本明細書に示される任意のアルキル置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ１１ｃ、Ｒ１３ｃおよびＲ１５ｃは水素であってもよく、Ｒ１２ｃおよびＲ１４ｃは、本明細書に示される任意のアルキル置換基であってもよい。Ｒ１が構造Ｇ１を有する別の実施形態において、Ｒ１１ｃ、Ｒ１２ｃ、Ｒ１３ｃ、Ｒ１４ｃ、およびＲ１５ｃは水素であってもよい。一実施形態において、Ｒ１１ｃ、Ｒ１２ｃ、Ｒ１３ｃ、Ｒ１４ｃ、およびＲ１５ｃは、独立して水素、もしくはアルキル基であってもよく；代替として、Ｒ１１ｃ、Ｒ１２ｃ、およびＲ１４ｃは水素であってもよく、Ｒ１３ｃおよびＲ１５ｃは、アルキル基であってもよく；または代替として、Ｒ１１ｃは、水素であってもよく、Ｒ１２ｃ、Ｒ１３ｃ、Ｒ１４ｃ、およびＲ１５ｃは、アルキル基であってもよい。特定の置換基ハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ１を有するＲ１基をさらに記載する。
【００７７】
一態様において、Ｒ１はフェニル基、置換フェニル基、ナフチル基、または置換ナフチル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ１は、フェニル基もしくは置換フェニル基；代替として、ナフチル基もしくは置換ナフチル基；代替として、フェニル基もしくはナフチル基；または代替として、置換フェニル基もしくは置換ナフチル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ１はフェニル基；代替として、置換フェニル基；代替として、ナフチル基；または代替として、置換ナフチル基であってもよい。
【００７８】
一実施形態において、Ｒ１置換フェニル基は、２−置換フェニル基、３−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、３，５−二置換フェニル基、または２，４，６−三置換フェニル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ１置換フェニル基は、２−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、もしくは２，４，６−三置換フェニル基；
代替として、２−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、もしくは２，６−二置換フェニル基；代替として、３−置換フェニル基もしくは３，５−二置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基もしくは４−置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、もしくは２，４，６−三置換フェニル基；代替として、２，６−二置換フェニル基もしくは２，４，６−三置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基もしくは２，６−二置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基；代替として、３−置換フェニル基；代替として、４−置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基；代替として、２，６−二置換フェニル基；代替として、３，５−二置換フェニル基；または代替として、２，４，６−三置換フェニル基であってもよい。
【００７９】
一実施形態において、Ｒ１は、ナフト−１−イル基、置換ナフト−１−イル基、ナフト−２−イル基、または置換ナフト−２−イル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ１は、ナフト−１−イル基もしくは置換ナフト−１−イル基；代替として、ナフト−２−イル基もしくは置換ナフト−２−イル基；代替として、ナフト−１−イル基；代替として、置換ナフト−１−イル基；代替として、ナフト−２−イル基；または代替として、置換ナフト−２−イル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ１は、２−置換ナフト−１−イル基、３−置換ナフト−１−イル基、４−置換ナフト−１−イル基、または８−置換ナフト−１−イル基；代替として、２−置換ナフト−１−イル基；代替として、３−置換ナフト−１−イル基；代替として、４−置換ナフト−１−イル基；または代替として、８−置換ナフト−１−イル基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｒ１は、１−置換ナフト−２−イル基、３−置換ナフト−２−イル基、４−置換ナフト−２−イル基、もしくは１，３−二置換ナフト−２−イル基；代替として、１−置換ナフト−２−イル基；代替として、３−置換ナフト−２−イル基；代替として、４−置換ナフト−２−イル基；または代替として、１，３−二置換ナフト−２−イル基であってもよい。Ｒ１として使用することができる置換フェニルまたは置換ナフチル基の置換基は、独立して本明細書において開示される。これらの置換基は、限定されることなく使用することができ、Ｒ１として使用することができる置換フェニル基または置換ナフチル基をさらに記載する。
【００８０】
一実施形態において、置換フェニルまたは置換ナフチルＲ１基の各置換基は、独立してハロゲン、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルビル基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ヒドロカルビル基もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、置換フェニルまたは置換ナフチルＲ１基の各置換基は、独立してハロゲン、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲンもしくはアルキル基；代替として、ハロゲンもしくはアルコキシ基；代替として、アルキル基もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、アルキル基；または代替として、アルコキシ基であってもよい。特定の置換基ハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書において開示され、限定されることなく使用することができ、置換フェニルまたは置換ナフチルＲ１基の置換基をさらに記載する。
【００８１】
一態様において、Ｒ１は構造Ｇ２：
【化９】
2015016470.tif 000011
［式中、指定されない原子価が、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合している。］を有することができる。一般に、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は、独立して水素または非水素置換基であってもよい。Ｒ１が構造Ｇ２を有する実施形態において、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってよく、Ｒ１２は非水素置換基であってもよく、Ｒ１２、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は水素であってもよく、Ｒ１３は非水素置換基であってもよく、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１４は非水素置換基であってもよい。Ｒ１３、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１２およびＲ１４は非水素置換基であってもよく、Ｒ１３、Ｒ１４、およびＲ１５は水素であってもよく、Ｒ１２およびＲ１６は、非水素置換基であってもよく、Ｒ１２、Ｒ１４、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１３およびＲ１５は非水素置換基であってもよく、または、Ｒ１３およびＲ１５は水素であってもよく、Ｒ１２、Ｒ１４、およびＲ１６は、非水素置換基であってもよい。Ｒ１が構造Ｇ２を有するいくつかの実施形態において、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は水素であってもよく、Ｒ１２は非水素置換基であってもよく、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１４は非水素置換基であってもよく、Ｒ１３、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１２およびＲ１４は、非水素置換基であってもよく、Ｒ１３、Ｒ１４、およびＲ１５は、水素であってもよく、Ｒ１２およびＲ１６は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ１３およびＲ１５は、水素であってもよく、Ｒ１２、Ｒ１４、およびＲ１６は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１２は非水素置換基であってもよく、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１４は非水素置換基であってもよく、Ｒ１３、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１２およびＲ１４は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ１３、Ｒ１４、およびＲ１５は、水素であってもよく、Ｒ１２およびＲ１６は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ１２、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１３は非水素置換基であってもよく、または、Ｒ１２、Ｒ１４、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１３およびＲ１５は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１２は非水素置換基であってもよく、または、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ１３、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１２およびＲ１４は、非水素置換基であってもよく、Ｒ１３、Ｒ１４、およびＲ１５は、水素であってもよく、Ｒ１２およびＲ１６は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ１３およびＲ１５は、水素であってもよく、Ｒ１２、Ｒ１４、およびＲ１６は、非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ１３、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１２およびＲ１４は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ１３、Ｒ１４、およびＲ１５は、水素であってもよく、Ｒ１２およびＲ１６は、非水素置換基であってもよい。Ｒ１が構造Ｇ２を有する他の実施形態において、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は水素であってもよく；代替として、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１２は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ１２、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１３は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ１３、Ｒ１５、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１２およびＲ１４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ１３、Ｒ１４、およびＲ１５は、水素であってもよく、Ｒ１２およびＲ１６は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ１２、Ｒ１４、およびＲ１６は、水素であってもよく、Ｒ１３およびＲ１５は非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ１３およびＲ１５は水素であってもよく、Ｒ１２、Ｒ１４、およびＲ１６は、非水素置換基であってもよい。構造Ｇ２を有するＲ１基の置換基は、独立して本明細書に開示され、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ２を有するＲ１基をさらに記載する。
【００８２】
一実施形態において、構造Ｇ２を有するＲ１基中のＲ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６として使用することができる非水素置換基は、独立してハロゲン、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルビル基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ヒドロカルビル基もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、構造Ｇ２を有するＲ１基中のＲ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、およびＲ１６として使用することができる非水素置換基は、独立してハロゲン、アルキル基、およびアルコキシ基；代替として、ハロゲンもしくはアルキル基；代替として、ハロゲンもしくはアルコキシ基；代替として、アルキル基もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、アルキル基；または代替として、アルコキシ基であってもよい。特定の置換基ハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ２を有するＲ１基をさらに記載する。
【００８３】
一態様において、Ｒ１は、ピリジニル基、置換ピリジニル基、フリル基、置換フリル基、チエニル基、または置換チエニル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ１は、ピリジニル基もしくは置換ピリジニル基；代替として、フリル基もしくは置換フリル基；または代替として、チエニル基もしくは置換チエニル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ１は、ピリジニル基、フリル基、またはチエニル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ１は、ピリジニル基；代替として、置換ピリジニル基；代替として、フリル基；代替として、置換フリル基；代替として、チエニル基；または代替として、置換チエニル基であってもよい。
【００８４】
一実施形態において、ピリジニル（または置換ピリジニル）Ｒ１基は、ピリジン−２−イル基、置換ピリジン−２−イル基、ピリジン−３−イル基、置換ピリジン−３−イル基、ピリジン−４−イル基、もしくは置換ピリジン−４−イル基；代替として、ピリジン−２−イル基、ピリジン−３−イル基、もしくはピリジン−４−イル基であってもよい。いくつかの実施形態において、ピリジニル（または置換ピリジニル）Ｒ１基は、ピリジン−２−イル基もしくは置換ピリジン−２−イル基；代替としてピリジン−３−イル基もしくは置換ピリジン−３−イル基；代替としてピリジン−４−イル基もしくは置換ピリジン−４−イル基；代替として、ピリジン−２−イル基；代替として、置換ピリジン−２−イル基；代替として、ピリジン−３−イル基；代替として、置換ピリジン−３−イル基；代替として、ピリジン−４−イル基；または代替として、置換ピリジン−４−イル基であってもよい。一実施形態において、置換ピリジニルＲ１基は、２−置換ピリジン−３−イル基、４−置換ピリジン−３−イル基、５−置換ピリジン−３−イル基、６−置換ピリジン−３−イル基、２，４−二置換ピリジン−３−イル基、２，６−二置換ピリジン−３−イル基、もしくは２，４，６−三置換ピリジン−３−イル基；代替として、２−置換ピリジン−３−イル基、４−置換ピリジン−３−イル基、もしくは６−置換ピリジン−３−イル基；代替として、２，４−二置換ピリジン−３−イル基もしくは２，６−二置換ピリジン−３−イル基；代替として、２−置換ピリジン−３−イル基；代替として、４−置換ピリジン−３−イル基；代替として、５−置換ピリジン−３−イル基；代替として、６−置換ピリジン−３−イル基；代替として、２，４−二置換ピリジン−３−イル基；代替として、２，６−二置換ピリジン−３−イル基；または代替として、２，４，６−三置換ピリジン−３−イル基であってもよい。一実施形態において、置換ピリジニルＲ１基は、２−置換ピリジン−４−イル基、３−置換ピリジン−４−イル基、５−置換ピリジン−４−イル基、６−置換ピリジン−４−イル基、２，６−二置換ピリジン−４−イル基、もしくは３，５−二置換ピリジン−４−イル基；代替として、２−置換ピリジン−４−イル基もしくは６−置換ピリジン−４−イル基；代替として、３−置換ピリジン−４−イル基もしくは５−置換ピリジン−４−イル基；代替として、２−置換ピリジン−４−イル基；代替として、３−置換ピリジン−４−イル基；代替として、５−置換ピリジン−４−イル基；代替として、６−置換ピリジン−４−イル基；代替として、２，６−二置換ピリジン−４−イル基；または代替として、３，５−二置換ピリジン−４−イル基であってもよい。置換ピリジニル基の置換基は、独立して本明細書に開示され、限定されることなく使用することができ、Ｒ１として使用することができる置換ピリジニル基をさらに記載する。
【００８５】
一実施形態において、フリル（または置換フリル）Ｒ１基は、フル−２−イル基、置換フル−２−イル基、フル−３−イル基、または置換フル−３−イル基；代替として、フル−２−イルまたはフル−３−イル基であってもよい。いくつかの実施形態において、フリル（または置換フリル）Ｒ１基は、フル−２−イル基もしくは置換フル−２−イル基；代替として、フル−３−イル基もしくは置換フル−３−イル基；代替として、フル−２−イル基；代替として、置換フル−２−イル基；代替として、フル−３−イル基；または代替として、置換フル−３−イル基であってもよい。一実施形態において、置換フリルＲ１基は、２−置換フル−３−イル基、４−置換フル−３−イル基、もしくは２，４−二置換フル−３−イル基；代替として、２−置換フル−３−イル基；代替として、４−置換フル−３−イル基；または代替として、２，４−二置換フル−３−イル基であってもよい。置換フリル基の置換基は、独立して本明細書に開示され、限定されることなく使用することができ、Ｒ１として使用することができる置換フリル基をさらに記載する。
【００８６】
一実施形態において、チエニル（または置換チエニル）Ｒ１基は、チエン−２−イル基、置換チエン−２−イル基、チエン−３−イル基、または置換チエン−３−イル基；代替として、チエン−２−イル基またはチエン−３−イル基であってもよい。いくつかの実施形態において、チエニル（または置換チエニル）Ｒ１基は、チエン−２−イル基もしくは置換チエン−２−イル基；代替として、チエン−３−イル基もしくは置換チエン−３−イル基；代替として、チエン−２−イル基；代替として、置換チエン−２−イル基；代替として、チエン−３−イル基；または代替として、置換チエン−３−イル基であってもよい。一実施形態において、置換チエニルＲ１基は、２−置換チエン−３−イル基、４−置換チエン−３−イル基、もしくは２，４−二置換チエン−３−イル基；代替として、２−置換チエン−３−イル基；代替として、４−置換チエン−３−イル基；または代替として、２，４−二置換チエン−３−イル基であってもよい。置換チエニル基の置換基は、独立して本明細書に開示され、限定されることなく使用することができ、Ｒ１として使用することができる置換チエニル基をさらに記載する。
【００８７】
一態様において、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ３０オルガノヘテリル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０オルガノヘテリル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５オルガノヘテリル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０オルガノヘテリル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５オルガノヘテリル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ１は、Ｃ４〜Ｃ３０シクロヘテリル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロヘテリル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロヘテリル基；または代替として、Ｃ４〜Ｃ１０シクロヘテリル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ１として使用することができるシクロヘテリル基は、置換シクロヘテリル基であってもよい。
【００８８】
いくつかの実施形態において、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ３０ヒドロカルビルアミニル基、Ｃ２〜Ｃ３０ジヒドロカルビルアミニル基、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアミニル基、もしくはＣ４〜Ｃ３０置換シクロアミニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ３０ヒドロカルビルアミニル基、もしくはＣ２〜Ｃ３０ジヒドロカルビルアミニル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアミニル基もしくはＣ４〜Ｃ３０置換シクロアミニル基；代替としてＣ２〜Ｃ３０ジヒドロカルビルアミニル基、もしくはＣ４〜Ｃ３０シクロアミニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ３０ヒドロカルビルアミニル基；代替として、Ｃ２〜Ｃ３０ジヒドロカルビルアミニル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアミニル基；または代替として、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアミニル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ２０ヒドロカルビルアミニル基、Ｃ２〜Ｃ２０ジヒドロカルビルアミニル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアミニル基、もしくはＣ４〜Ｃ２０置換シクロアミニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０ヒドロカルビルアミニル基もしくはＣ２〜Ｃ２０ジヒドロカルビルアミニル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアミニル基もしくはＣ４〜Ｃ２０の置換シクロアミニル基；代替としてＣ２〜Ｃ２０ジヒドロカルビルアミニル基もしくはＣ４〜Ｃ２０シクロアミニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０ヒドロカルビルアミニル基；代替として、Ｃ２〜Ｃ２０ジヒドロカルビルアミニル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアミニル基；または代替として、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアミニル基であってもよい。また他の実施形態において、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビルアミニル基、Ｃ２〜Ｃ１５ジヒドロカルビルアミニル基、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアミニル基、もしくはＣ４〜Ｃ１５置換シクロアミニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビルアミニル基もしくはＣ２〜Ｃ１５ジヒドロカルビルアミニル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアミニル基もしくはＣ４〜Ｃ１５置換シクロアミニル基；代替としてＣ２〜Ｃ１５ジヒドロカルビルアミニル基、もしくはＣ４〜Ｃ１５シクロアミニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビルアミニル基；代替として、Ｃ２〜Ｃ１５ジヒドロカルビルアミニル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアミニル基；または代替として、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアミニル基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビルアミニル基、Ｃ２〜Ｃ１０ジヒドロカルビルアミニル基、Ｃ４〜Ｃ１０シクロアミニル基、もしくはＣ４〜Ｃ１０の置換シクロアミニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビルアミニル基もしくはＣ２〜Ｃ１０ジヒドロカルビルアミニル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１０シクロアミニル基もしくはＣ４〜Ｃ１０の置換シクロアミニル基；代替として、Ｃ２〜Ｃ１０ジヒドロカルビルアミニル基もしくはＣ４〜Ｃ１０シクロアミニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビルアミニル基；
代替として、Ｃ２〜Ｃ１０ジヒドロカルビルアミニル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１０シクロアミニル基；または代替として、Ｃ４〜Ｃ１０置換シクロアミニル基であってもよい。
【００８９】
一実施形態において、ヒドロカルビルアミニル基またはジヒドロカルビルアミニル基の各ヒドロカルビル基は、Ｃ１〜Ｃ３０ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビル基であってもよい。一実施形態において、ヒドロカルビルアミニル基またはジヒドロカルビルアミニル基の各ヒドロカルビル基は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、もしくはアラルキル基；代替として、アルキル基；代替として、シクロアルキル基；代替として、アリール基；または代替として、もしくはアラルキル基であってもよい。アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、およびアラルキル基は、可能性のあるＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５基（他の可能性のある基の中でも）として本明細書において記載された。これらのアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、およびアラルキル基は、限定されることなく使用することができ、Ｒ１として使用することができるヒドロカルビルアミニル基および／またはジヒドロカルビルアミニル基をさらに記載する。
【００９０】
一実施形態において、Ｒ１は、ピロリジン−１−イル基、置換ピロリジン−１−イル基、ピペリジンｐｉｐｅｒｄｉｎ−１−イル基、置換ピペリジン−１−イル基、モルフィン−１−イル基、置換ｓｕｓｂｓｔｉｔｕｔｅｄモルフィン−１−イル基、ピロール−１−イル基、または置換ピロールイル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ１は、ピロリジン−１−イル基、置換ピロリジン−１−イル基、ピペリジンｐｉｐｅｒｄｉｎ−１−イル基、もしくは置換ピペリジン−１−イル基；ピロリジン−１−イル基もしくは置換ピロリジン−１−イル基；代替として、ピペリジンｐｉｐｅｒｄｉｎ−１−イル基もしくは置換ピペリジン−１−イル基；代替として、モルフィン−１−イル基もしくは置換モルフィン−１−イル基；代替として、ピロール−１−イル基もしくは置換ピロールイル基；代替として、ピロリジン−１−イル基、ピペリジンｐｉｐｅｒｄｉｎ−１−イル基、モルフィン−１−イル基、もしくはピロール−１−イル基；代替として、ピロリジン−１−イル基もしくはピペリジンｐｉｐｅｒｄｉｎ−１−イル基；代替として、ピロリジン−１−イル基；代替として、置換ピロリジン−１−イル基；代替として、ピペリジンｐｉｐｅｒｄｉｎ−１−イル基；代替として、置換ピペリジン−１−イル基；代替として、モルフィン−１−イル基；代替として、置換モルフィン−１−イル基；代替として、ピロール−１−イル基；または代替として、置換ピロール−イル（ｐｙｒｒｏｌ−ｙｌ）基であってもよい。一般に、これらの特定のシクロアミニル基は、本明細書に記載されるシクロアミニルおよび置換シクロアミニル基と同一の数の炭素原子を有することができる。Ｒ１として使用することができる置換シクロアミニル基（一般的または特定の）の置換基は、独立して本明細書に開示される。これらの置換基は、限定されることなく使用することができ、Ｒ１として使用することができる置換シクロアミニル基（一般的または特定の）をさらに記載する。
【００９１】
一実施形態において、Ｒ１として使用することができる置換ピリジニル、フリルおよび／またはチエニル基（一般的もしくは特定の）の各置換基は、独立してハロゲン、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルビル基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ヒドロカルビル基もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ１として使用することができる置換ピリジニル、フリルおよび／またはチエニル基（一般的もしくは特定の）の各置換基は、独立してハロゲン、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲンもしくはアルキル基；代替として、ハロゲンもしくはアルコキシ基；代替として、アルキル基もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、アルキル基；または代替として、アルコキシ基であってもよい。特定の置換基ハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され、限定されることなく使用することができ、Ｒ１として使用することができる置換ピリジニル、フリル、および／またはチエニル基（一般的または特定の）の置換基をさらに記載する。
【００９２】
一態様において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子が環または環系基（シクロアルカン基、脂肪族複素環基、シクロヘテロ基、芳香族基、アレーン基、ヘテロアレーン基、アリールヘテロ基、または本明細書に開示された他の任意の基）の原子（炭素またはヘテロ原子）に結合している場合、環式のＲ１基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合した原子に隣接する原子に、少なくとも１個の置換基を含むことができる。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子が環または環系基（シクロアルカン基、脂肪族複素環基、シクロヘテロ基、芳香族基、アレーン基、ヘテロアレーン基、もしくはアリールヘテロ基、または本明細書に開示された他の任意の基）の原子（炭素またはヘテロ原子）に結合している場合、環式のＲ１基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合した原子に隣接する各原子に、少なくとも１個の置換基を含むことができる。別の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子が環または環系基（シクロアルカン基、脂肪族複素環基、シクロヘテロ基、芳香族基、アレーン基、ヘテロアレーン基、もしくはアリールヘテロ基、または本明細書に開示された他の任意の基）の原子（炭素またはヘテロ原子）に結合している場合、環式のＲ１基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合した原子に隣接する各原子に、１個の置換基からなることができる。他の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子が環または環系基（シクロアルカン基、脂肪族複素環基、シクロヘテロ基、芳香族基、アレーン基、ヘテロアレーン基、もしくはアリールヘテロ基、または本明細書に開示された他の任意の基）の原子（炭素またはヘテロ原子）に結合している場合、環式のＲ１基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合した原子に隣接する原子に、ただ１個の置換基を含むことができる。別の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子が環または環系基（シクロアルカン基、脂肪族複素環基、シクロヘテロ基、芳香族基、アレーン基、ヘテロアレーン基、もしくはアリールヘテロ基、または本明細書に開示された他の任意の基）の原子（炭素またはヘテロ原子）に結合している場合、環式のＲ１基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合した原子に隣接する各原子に、ただ１個の置換基を含むことができる。また別の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子が環または環系基（シクロアルカン基、脂肪族複素環基、シクロヘテロ基、芳香族基、アレーン基、ヘテロアレーン基、もしくはアリールヘテロ基、または本明細書に開示された他の任意の基）の原子（炭素またはヘテロ原子）に結合している場合、環式のＲ１基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合した原子に隣接する各原子に位置する、ただ１個の置換基からなることができる。
【００９３】
一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子がシクロアルカンまたはアレーン環または環系の炭素原子に結合している場合、環式のＲ１基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合した炭素原子に隣接する炭素原子に位置する少なくとも１個の置換基を含むことができる。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子がシクロアルカンまたはアレーン環または環系の炭素原子に結合している場合、環式のＲ１基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合した炭素原子に隣接する各炭素原子に位置する少なくとも１個の置換基を含むことができる。別の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子がシクロアルカンまたはアレーン環または環系の炭素原子に結合している場合、環式のＲ１基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合した炭素原子に隣接する各炭素原子に位置する１個の置換基からなることができる。他の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子がシクロアルカンまたはアレーン環または環系の炭素原子に結合している場合、環式のＲ１基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合した炭素原子に隣接する炭素原子に位置するただ１個の置換基を含むことができる。別の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子がシクロアルカンまたはアレーン環または環系の炭素原子に結合している場合、環式のＲ１基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合した炭素原子に隣接する各炭素原子に位置するただ１個の置換基を含むことができる。また別の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子がシクロアルカンまたはアレーン環または環系の炭素原子に結合している場合、環式のＲ１基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合した炭素原子に隣接する各炭素原子に位置するただ１個の置換基からなることができる。
【００９４】
任意の置換Ｒ１基の非水素置換基（一般的または特定の）は、独立してヒドロカルビル基または不活性官能基であってもよい。不活性官能基の非限定的な例は、ハロゲンおよびヒドロカルボキシ基を含む。一実施形態において、任意の置換Ｒ１基の各非水素置換基（一般的または特定の）は、独立してハライド、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビル基、もしくはＣ１〜Ｃ１０ヒドロカルボキシ基；代替として、ハライドもしくはＣ１〜Ｃ１０ヒドロカルビル基；代替として、ハライドもしくはＣ１〜Ｃ１０ヒドロカルボキシ基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビル基もしくはＣ１〜Ｃ１０ヒドロカルボキシ基；代替として、ハライド；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルボキシ基であってもよい。他の実施形態において、任意の置換Ｒ１基の各非水素置換基（一般的または特定の）は、独立してハライド、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビル基、もしくはＣ１〜Ｃ５ヒドロカルボキシ基；代替として、ハライドもしくはＣ１〜Ｃ５ヒドロカルビル基；代替として、ハライドもしくはＣ１〜Ｃ５ヒドロカルボキシ基；代替として、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビル基もしくはＣ１〜Ｃ５ヒドロカルボキシ基；代替として、ハライド；代替として、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルボキシ基であってもよい。
【００９５】
一実施形態において、任意の置換Ｒ１基の各ハライド置換基（一般的または特定の）は、独立して、フルオリド、クロリド、ブロミド、またはヨージド；代替として、フルオリドまたはクロリドであってもよい。いくつかの実施形態において任意の置換Ｒ１基の各ハライド置換基（一般的または特定の）は、独立してフルオリド；代替として、クロリド；代替として、ブロミド；または代替として、ヨージドであってもよい。
【００９６】
一実施形態において、任意の置換Ｒ１基の各ヒドロカルビル置換基（一般的または特定の）は、独立してアルキル基、アリール基、もしくはアラルキル基；代替として、アルキル基；代替として、アリール基；または代替として、アラルキル基であってもよい。一実施形態において、任意の置換Ｒ１基の各アルキル置換基（一般的または特定の）は、独立してメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、２−メチル−１−ブチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、３−メチル−１−ブチル基、３−メチル−２−ブチル基、もしくはネオペンチル基；代替として、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、もしくはネオペンチル基；代替として、メチル基；代替として、エチル基；代替として、イソプロピル基；代替として、ｔｅｒｔ−ブチル基；または代替として、ネオペンチル基であってもよい。一実施形態において、任意の置換Ｒ１基の各アリール置換基（一般的または特定の）は、独立してフェニル基、トリル基、キシリル基、もしくは２，４，６−トリメチルフェニル基；代替として、フェニル基；代替として、トリル基；代替として、キシリル基；または代替として、２，４，６−トリメチルフェニル基であってもよい。一実施形態において、任意の置換Ｒ１基の各アラルキル置換基（一般的または特定の）は、独立してベンジル基もしくはエチルフェニル基（２−フェニルエタ−１−イルまたは１−フェニルエタ−１−イル）；代替として、ベンジル基；代替として、エチルフェニル基；代替として、２−フェニルエタ−１−イル基；または代替として、１−フェニルエタ−１−イル基であってもよい。
【００９７】
一実施形態において、任意の置換Ｒ１基の各ヒドロカルボキシ置換基（一般的または特定の）は、独立してアルコキシ基、アリールオキシ基、またはアラルコキシ基；代替として、アルコキシ基；代替として、アリールオキシ基；または代替として、アラルコキシ基であってもよい。一実施形態において、任意の置換Ｒ１基の各アルコキシ置換基（一般的または特定の）は、独立してメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペントキシ基、２−ペントキシ基、３−ペントキシ基、２−メチル−１−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ペントキシ基、３−メチル−１−ブトキシ基、３−メチル−２−ブトキシ基、もしくはネオペントキシ基；代替として、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、もしくはネオペントキシ基；代替として、メトキシ基；代替として、エトキシ基；代替として、イソプロポキシ基；代替として、ｔｅｒｔ−ブトキシ基；または代替として、ネオペントキシ基であってもよい。一実施形態において、任意の置換Ｒ１基の各アロキシ置換基（一般的または特定の）は、独立してフェノキシ基、トロキシ基、キシロキシ基、または２，４，６−トリメチルフェノキシ；代替として、フェノキシ基；代替として、トロキシ基；代替として、キシロキシ基；または代替として、２，４，６−トリメチルフェノキシ基であってもよい。一実施形態において、任意の置換Ｒ１基の各アラルコキシ置換基（一般的または特定の）は、独立してベンゾキシ基であってもよい。
【００９８】
非限定的な実施形態において、Ｒ１は、フェニル基、２−アルキルフェニル基、３−アルキルフェニル基、４−アルキルフェニル基、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル基、３，５−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基、４−アルキルフェニル基、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基もしくは４−アルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基、もしくは２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、２，６−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、３−アルキルフェニル基もしくは３，５−ジアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基もしくは２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基；代替として、３−アルキルフェニル基；代替として、４−アルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基；代替として、２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、３，５−ジアルキルフェニル基；または代替として、２，４，６−トリアルキルフェニル基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、Ｒ１は、ナフトｎａｐｈｔ−１−イル基、ナフト−２−イル基、２−アルキルナフト−１−イル基、１−アルキルナフト−２−イル基、３−アルキルナフトｎａｐｔｈ−２−イル基、もしくは１，３−ジアルキルナフト−２−イル基；代替として、ナフトｎａｐｈｔ−１−イル基もしくは２−アルキルナフト−１−イル基；代替として、ナフト−２−イル基、１−アルキルナフト−２−イル基、３−アルキルナフトｎａｐｔｈ−２−イル基、もしくは１，３−ジアルキルナフト−２−イル基；代替として、ナフトｎａｐｈｔ−１−イル基；代替として、ナフト−２−イル基；代替として、２−アルキルナフト−１−イル基；代替として、１−アルキルナフト−２−イル基；代替として、３−アルキルナフトｎａｐｔｈ−２−イル基；または代替として、１，３−ジアルキルナフト−２−イル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｒ１はシクロヘキシル基、２−アルキルシクロヘキシル基、もしくは２，６−ジアルキルシクロヘキシル基；代替として、シクロペンチル基、２−アルキルシクロペンチル基、または２，５−ジアルキルシクロペンチル基；代替として、シクロヘキシル基；代替として、２−アルキルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジアルキルシクロヘキシル基；代替として、シクロペンチル基；代替として、２−アルキルシクロペンチル基；または代替として、２，５−ジアルキルシクロペンチル基であってもよい。アルキル基置換基は、独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、Ｒ１として使用することができる、アルキルフェニル、ジアルキルフェニル、トリアルキルフェニル、ナフチル、ジアルキルナフチル、アルキルシクロヘキシル、ジアルキルシクロヘキシル、アルキルシクロペンチル、またはジアルキルシクロペンチル基をさらに記載する。一般に、ジアルキルまたはトリアルキルフェニル、ナフチル、シクロヘキシル、またはシクロペンチル基のアルキル置換基は、同一であってもよく；または代替として、ジアルキルまたはトリアルキルフェニル、ナフチル、シクロヘキシル、またはシクロペンチル基のアルキル置換基は異なっていてもよい。
【００９９】
別の非限定的な実施形態において、Ｒ１は、フェニル基、２−アルコキシフェニル基、３−アルコキシフェニル基、４−アルコキシフェニル基、または３，５−ジアルコキシフェニル基；代替として、２−アルコキシフェニル基または４−アルコキシフェニル基；代替として、３−アルコキシフェニル基または３，５−ジアルコキシフェニル基；代替として、２−アルコキシフェニル基；代替として、３−アルコキシフェニル基；代替として、４−アルコキシフェニル基；代替として、３，５−ジアルコキシフェニル基であってもよい。アルコキシ基置換基は独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、Ｒ１として使用することができるアルコキシフェニルまたはジアルコキシフェニル基をさらに記載する。一般に、ジアルコキシフェニル基のアルコキシ置換基は同じであってもよく；または代替として、ジアルコキシフェニル基のアルコキシ置換基は異なっていてもよい。
【０１００】
他の非限定的な実施形態において、Ｒ１は、フェニル基、２−ハロフェニル基、３−ハロフェニル基、４−ハロフェニル基、２，６−ジハロフェニル基、または３，５−ジアルキルフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基、４−ハロフェニル基、もしくは２，６−ジハロフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基もしくは４−ハロフェニル基；代替として、３−ハロフェニル基もしくは３，５−ジハロフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基；代替として、３−ハロフェニル基；代替として、４−ハロフェニル基；代替として、２，６−ジハロフェニル基；または代替として、３，５−ジハロフェニル基であってもよい。ハライドは独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、Ｒ１として使用することができるハロフェニルまたはジハロフェニル基をさらに記載する。一般に、ジハロフェニル基のハライドは同じであってもよく；または、代替として、ジハロフェニル基のハライドは異なっていてもよい。
【０１０１】
非限定的な実施形態において、Ｒ１は、２−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−ｎ−プロピルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、３−メチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、２，６−ジ−ｎ−プロピルフェニル基、２，６−ジイソプロピルフェニル基、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、２−イソプロピル−６−メチルフェニル基、３，５−ジメチル基、または２，４，６−トリメチルフェニル基；代替として、２−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−ｎ−プロピルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、または２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、２，６−ジメチルフェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、２，６−ジ−ｎ−プロピルフェニル基、２，６−ジイソプロピルフェニル基、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、もしくは２−イソプロピル−６−メチルフェニル基；代替として、２−メチルフェニル基；代替として、２−エチルフェニル基；代替として、２−ｎ−プロピルフェニル基；代替として、２−イソプロピルフェニル基；代替として、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、３−メチルフェニル基；代替として、２，６−ジメチルフェニル基；代替として、２，６−ジエチルフェニル基；代替として、２，６−ジ−ｎ−プロピルフェニル基；代替として、２，６−ジイソプロピルフェニル基；代替として、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；
代替として、２−イソプロピル−６−メチルフェニル基；代替として、３，５−ジメチルフェニル基；または代替として、２，４，６−トリメチルフェニル基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、Ｒ１は、２−メチルシクロヘキシル基、２−エチルシクロヘキシル基、２−イソプロピルシクロヘキシル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基、２，６−ジメチルシクロヘキシル基、２，６−ジエチルシクロヘキシル基、２，６−ジイソプロピルシクロヘキシル基、または２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基；代替として、２−メチルシクロヘキシル基、２−エチルシクロヘキシル基、２−イソプロピルシクロヘキシル基、または２−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジメチルシクロヘキシル基、２，６−ジエチルシクロヘキシル基、２，６−ジイソプロピルシクロヘキシル基、または２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基；代替として、２−メチルシクロヘキシル基；代替として、２−エチルシクロヘキシル基；代替として、２−イソプロピルシクロヘキシル基；代替として、２−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジメチルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジエチルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジイソプロピルシクロヘキシル基；または代替として、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、Ｒ１は、２−メチルナフト−１−イル基、２−エチルナフト−１−イル基、２−ｎ−プロピルナフト−１−イル基、２−イソプロピルナフト−１−イル基、もしくは２−ｔｅｒｔ−ブチルナフト−１−イル基；代替として、２−メチルナフト−１−イル基；代替として、２−エチルナフト−１−イル基；代替として、２−ｎ−プロピルナフト−１−イル基；代替として、２−イソプロピルナフト−１−イル基；または代替として、２−ｔｅｒｔ−ブチルナフト−１−イル基であってもよい。
【０１０２】
非限定的な実施形態において、Ｒ１は、３−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、３−イソプロポキシフェニル基、３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、４−イソプロポキシフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、３，５−ジメトキシフェニル基、３，５−ジエトキシフェニル基、３，５−ジイソプロポキシフェニル基、もしくは３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、３−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、３−イソプロポキシフェニル基、もしくは３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、４−メトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、４−イソプロポキシフェニル基、もしくは４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；または代替として、３，５−ジメトキシフェニル基、３，５−ジエトキシフェニル基、３，５−ジイソプロポキシフェニル基、もしくは３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｒ１は、３−メトキシフェニル基；代替として、３−エトキシフェニル基；代替として、３−イソプロポキシフェニル基；代替として、３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、４−メトキシフェニル基；代替として、４−エトキシフェニル基；代替として、４−イソプロポキシフェニル基；代替として、４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、３，５−ジメトキシフェニル基；代替として、３，５−ジエトキシフェニル基；代替として、３，５−ジイソプロポキシフェニル基；または代替として、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基であってもよい。
【０１０３】
一般に、Ｒ２は、本質的に不活性官能基またはヒドロカルビル基からなるオルガニル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３０オルガニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０オルガニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５オルガニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０オルガニル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５オルガニル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ２は、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基；代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ２０オルガニル基；代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ１５オルガニル基；代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ１０オルガニル基；または代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ５オルガニル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３０ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビル基であってもよい。また他の実施形態において、Ｒ２は、Ｃ３〜Ｃ３０芳香族基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０芳香族基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５芳香族基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ１０芳香族基であってもよい。
【０１０４】
一態様において、Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ３０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ３０脂肪族複素環基、Ｃ３〜Ｃ３０置換脂肪族複素環基、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基、Ｃ６〜Ｃ３０置換アリール基、Ｃ７〜Ｃ３０アラルキル基、Ｃ７〜Ｃ３０置換アラルキル基、Ｃ３〜Ｃ３０ヘテロアリール基、もしくはＣ３〜Ｃ３０置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ３０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基、Ｃ６〜Ｃ３０置換アリール基、Ｃ７〜Ｃ３０アラルキル基、もしくはＣ７〜Ｃ３０置換アラルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基もしくはＣ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０の脂肪族の複素環の基もしくはＣ３〜Ｃ３０置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基もしくはＣ６〜Ｃ３０置換アリール基；代替として、Ｃ７〜Ｃ３０アラルキル基もしくはＣ７〜Ｃ３０置換アラルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０ヘテロアリール基もしくはＣ３〜Ｃ３０置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ３０アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０脂肪族複素環基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０置換アリール基；代替として、Ｃ７〜Ｃ３０アラルキル基；代替として、Ｃ７〜Ｃ３０置換アラルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０ヘテロアリール基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ３０置換ヘテロアリール基であってもよい。一実施形態において、Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ１５アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族複素環基、Ｃ３〜Ｃ２０置換脂肪族複素環基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリール基、Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル基、Ｃ７〜Ｃ２０置換アラルキル基、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリール基、もしくはＣ３〜Ｃ２０置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリール基、Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル基、もしくはＣ７〜Ｃ２０置換アラルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基もしくはＣ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族複素環基もしくはＣ３〜Ｃ２０置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基もしくはＣ６〜Ｃ２０置換アリール基；代替として、Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル基もしくはＣ７〜Ｃ２０置換アラルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリール基もしくはＣ３〜Ｃ２０置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族複素環基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリール基；代替として、Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル基；代替としてａｌｔｅｎａｔｉｖｅｌｙに、Ｃ７〜Ｃ２０置換アラルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリール基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ２０置換ヘテロアリール基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ１５脂肪族複素環基、Ｃ３〜Ｃ１５置換脂肪族複素環基、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基、Ｃ６〜Ｃ１５置換アリール基、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキル基、Ｃ７〜Ｃ１５置換アラルキル基、Ｃ３〜Ｃ１５ヘテロアリール基、もしくはＣ３〜Ｃ１５置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基、Ｃ６〜Ｃ１５置換アリール基、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキル基、もしくはＣ７〜Ｃ１５置換アラルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基もしくはＣ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５脂肪族複素環基もしくはＣ３〜Ｃ１５置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基もしくはＣ６〜Ｃ１５置換アリール基；代替として、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキル基もしくはＣ７〜Ｃ１５置換アラルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５ヘテロアリール基もしくはＣ３〜Ｃ１５置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５脂肪族複素環基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５置換アリール基；代替として、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキル基；代替として、Ｃ７〜Ｃ１５置換アラルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５ヘテロアリール基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ１５置換ヘテロアリール基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｒ２は、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基であってもよい。
【０１０５】
一実施形態において、Ｒ２は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、もしくはノナデシル基；または代替として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、もしくはデシル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ２は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、もしくはネオペンチル基；代替として、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、もしくはネオペンチル基；代替として、メチル基；代替として、エチル基；代替として、ｎ−プロピル基；代替として、イソプロピル基；代替として、ｔｅｒｔ−ブチル基；または代替として、ネオペンチル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ２として使用することができるアルキル基は置換されていてもよい。置換アルキル基の各置換基は、独立してハロゲンまたはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。置換基として使用することができるハロゲンおよびヒドロカルボキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、Ｒ２として使用することができる置換アルキル基をさらに記載する。
【０１０６】
一実施形態において、Ｒ２は、シクロブチル基、置換シクロブチル基、シクロペンチル基、置換シクロペンチル基、シクロヘキシル基、置換シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、置換シクロヘプチル基、シクロオクチル基、または置換シクロオクチル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ２は、シクロペンチル基、置換シクロペンチル基、シクロヘキシル基、または置換シクロヘキシル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ２は、シクロブチル基または置換シクロブチル基；代替として、シクロペンチル基もしくは置換シクロペンチル基；代替として、シクロヘキシル基もしくは置換シクロヘキシル基；代替として、シクロヘプチル基もしくは置換シクロヘプチル基；または代替として、シクロオクチル基もしくは置換シクロオクチル基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｒ２は、シクロペンチル基；代替として、置換シクロペンチル基；シクロヘキシル基；または代替として、置換シクロヘキシル基であってもよい。
【０１０７】
一実施形態において、Ｒ２として使用することができる置換シクロアルキル基の各置換基（一般的または特定の）は、独立してハロゲン、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルビル基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ヒドロカルビル基もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ１として使用することができる置換シクロアルキル基の各置換基（一般的または特定の）は、独立してハロゲン、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲンもしくはアルキル基；代替として、ハロゲンもしくはアルコキシ基；代替として、アルキル基もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、アルキル基；または代替として、アルコキシ基であってもよい。置換基としての使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、Ｒ２として使用することができる置換シクロアルキル基（一般的または特定のｓｐｅｃｉｆｃ）の置換基をさらに記載する。
【０１０８】
一態様において、Ｒ２は、構造Ｇ３：
【化１０】
2015016470.tif 000012
［式中、指定されない原子価がＮ２−ホスフィニルアミジン基の中央の炭素原子に結合している。］を有することができる。一般に、Ｒ２１ｃ、Ｒ２３ｃ、Ｒ２４ｃ、およびＲ２５ｃは、独立して水素または非水素置換基であってもよく、また、ｎは１から５までの整数であってもよい。Ｒ２が構造Ｇ３を有する実施形態において、Ｒ２１ｃ、Ｒ２３ｃ、Ｒ２４ｃ、およびＲ２５ｃは、水素であってもよく、Ｒ２２ｃは、本明細書に開示される任意の非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ２１ｃ、Ｒ２３ｃ、およびＲ２５ｃは水素であってもよく、Ｒ２２ｃおよびＲ２４ｃは、独立して本明細書に開示される任意の非水素置換基であってもよい。一実施形態において、ｎは１から４までの；または代替として２から４までの整数であってもよい。他の実施形態において、ｎは、２もしくは３；代替として、２；または代替として、３であってもよい。
【０１０９】
一実施形態において、Ｒ２１ｃ、Ｒ２２ｃ、Ｒ２３ｃ、Ｒ２４ｃ、およびＲ２５ｃは、独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、水素、ハロゲン、もしくはヒドロカルビル基；代替として、水素、ハロゲン、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、水素、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、水素もしくはハロゲン；代替として、水素もしくはヒドロカルビル基；または、代替として、水素もしくはヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ２１ｃ、Ｒ２２ｃ、Ｒ２３ｃ、Ｒ２４ｃ、およびＲ２５ｃは、独立して水素、ハロゲン、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、水素、ハロゲン、もしくはアルキル基；代替として、水素、ハロゲン、もしくはアルコキシ基；代替として、水素、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、水素もしくはハロゲン；代替として、水素もしくはアルキル基；または代替として、水素もしくはアルコキシ基であってもよい。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ３を有するＲ２基をさらに記載する。
【０１１０】
一実施形態において、Ｒ２は、フェニル基または置換フェニル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ２はフェニル基；または代替として、置換フェニル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ２置換フェニル基は、２−置換フェニル基、３−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、３，５−二置換フェニル基、もしくは２，４，６−三置換フェニル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ２置換フェニル基は、２−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、もしくは２，４，６−三置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、または２，６−二置換フェニル基；代替として、３−置換ｓｕｂｓｉｔｕｔｅｄフェニル基もしくは３，５−二置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基もしくは４−置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、もしくは２，４，６−三置換フェニル基；代替として、２，６−二置換フェニル基もしくは２，４，６−三置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基もしくは２，６−二置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基；代替として、３−置換フェニル基；代替として、４−置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基；代替として、２，６−二置換フェニル基；代替として、３，５−二置換フェニル基；または代替として、２，４，６−三置換フェニル基であってもよい。
【０１１１】
一実施形態において、置換フェニルＲ２基の各置換基は、独立してハロゲン、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルビル基；
代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ヒドロカルビル基もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、置換フェニルＲ２基の各置換基は、独立してハロゲン、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲンもしくはアルキル基；代替として、ハロゲンもしくはアルコキシ基；代替として、アルキル基もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、アルキル基；または代替として、アルコキシ基であってもよい。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、置換フェニルＲ２基の置換基をさらに記載する。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ７を有するＲ４基をさらに記載する。
【０１１２】
一態様において、Ｒ２は、構造Ｇ４：
【化１１】
2015016470.tif 000013
［式中、指定されない原子価がＮ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素に結合している。］を有することができる。一般に、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、およびＲ２６は、独立して水素または非水素置換基であってもよい。Ｒ２が構造Ｇ４を有する実施形態において、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４が、Ｒ２５、およびＲ２６は、水素であってもよく、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、および、Ｒ２６は、水素であってもよく、Ｒ２２は非水素置換基であってもよく、Ｒ２２、Ｒ２４、Ｒ２５、およびＲ２６は、水素であってもよく、Ｒ２３は、非水素置換基であってもよく、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２５、およびＲ２６は、水素であってもよく、Ｒ２４は、非水素置換基であってもよい。Ｒ２３、Ｒ２５、およびＲ２６は、水素であってもよく、Ｒ２２およびＲ２４は、非水素置換基であってもよく、Ｒ２３、Ｒ２４、およびＲ２５は、水素であってもよく、Ｒ２２およびＲ２６は、非水素置換基であってもよく、Ｒ２２、Ｒ２４、およびＲ２６は、水素であってもよく、Ｒ２３およびＲ２５は、非水素置換基であってもよく、またはＲ２３およびＲ２５は、水素であってもよく、Ｒ２２、Ｒ２４、およびＲ２６は、非水素置換基であってもよい。Ｒ２が構造Ｇ４を有するいくつかの実施形態において、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、およびＲ２６は、水素であってもよく、Ｒ２２は非水素置換基であってもよく、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２５、およびＲ２６は、水素であってもよく、Ｒ２４は非水素置換基であってもよく、Ｒ２３、Ｒ２５、およびＲ２６は、水素であってもよく、Ｒ２２およびＲ２４は、非水素置換基であってもよく、Ｒ２３、Ｒ２４、およびＲ２５は、水素であってもよく、Ｒ２２およびＲ２６は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ２３およびＲ２５は、水素であってもよく、Ｒ２２、Ｒ２４、およびＲ２６は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、およびＲ２６は、水素であってもよく、Ｒ２２は、非水素置換基であってもよく、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２５、およびＲ２６は、水素であってもよく、Ｒ２４は非水素置換基であってもよく、Ｒ２３、Ｒ２５、およびＲ２６は、水素であってもよく、Ｒ２２およびＲ２４は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ２３、Ｒ２４、およびＲ２５は、水素であってもよく、Ｒ２２およびＲ２６は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ２２、Ｒ２４、Ｒ２５、およびＲ２６は、水素であってもよく、Ｒ２３は非水素置換基であってもよく、または、Ｒ２２、Ｒ２４、およびＲ２６は、水素であってもよく、Ｒ２３およびＲ２５は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、およびＲ２６は、水素であってもよく、Ｒ２２は非水素置換基であってもよく、または、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２５、およびＲ２６は、水素であってもよく、Ｒ２４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ２３、Ｒ２５、およびＲ２６は、水素であってもよく、Ｒ２２およびＲ２４は、非水素置換基であってもよく、Ｒ２３、Ｒ２４、およびＲ２５は、水素であってもよく、Ｒ２２およびＲ２６は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ２３およびＲ２５は、水素であってもよく、Ｒ２２、Ｒ２４、およびＲ２６は、非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ２３、Ｒ２５、およびＲ２６は、水素であってもよく、Ｒ２２およびＲ２４は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ２３、Ｒ２４、およびＲ２５は、水素であってもよく、Ｒ２２およびＲ２６は、非水素置換基であってもよい。Ｒ２が構造Ｇ４を有する他の実施形態において、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、およびＲ２６は、水素であってもよく；代替として、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、およびＲ２６は、水素であってもよく、Ｒ２２は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ２２、Ｒ２４、Ｒ２５、およびＲ２６は、水素であってもよく、Ｒ２３は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２５、およびＲ２６は、水素であってもよく、Ｒ２４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ２３、Ｒ２５、およびＲ２６は、水素であってもよく、Ｒ２２およびＲ２４は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ２３、Ｒ２４、およびＲ２５は、水素であってもよく、Ｒ２２およびＲ２６は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ２２、Ｒ２４、およびＲ２６は、水素であってもよく、Ｒ２３およびＲ２５は、非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ２３およびＲ２５は、水素であってもよく、Ｒ２２、Ｒ２４、およびＲ２６は、非水素置換基であってもよい。
【０１１３】
一実施形態において、構造Ｇ４を有するＲ２基中のＲ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、およびＲ２６として使用することができる非水素置換基は、独立してハロゲン、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルビル基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ヒドロカルビル基もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、構造Ｇ４を有するＲ２基中のＲ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５、およびＲ２６として使用することができる非水素置換基は、独立してハロゲン、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲンもしくはアルキル基；代替として、ハロゲンもしくはアルコキシ基；代替として、アルキル基もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、アルキル基；または代替として、アルコキシ基であってもよい。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ４を有するＲ２基をさらに記載する。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ７を有するＲ４基をさらに記載する。
【０１１４】
一態様において、Ｒ２は、ベンジル基、置換ベンジル基、１−フェニルエタ−１−イル基、置換１−フェニルエタ−１−イル、２−フェニルエタ−１−イル基、または置換２−フェニルエタ−１−イル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ２は、ベンジル基、または置換ベンジル基；代替として、１−フェニルエタ−１−イル基もしくは置換１−フェニルエタ−１−イル；代替として、２−フェニルエタ−１−イル基もしくは置換２−フェニルエタ−１−イル基；または代替として、ベンジル基、１−フェニルエタ−１−イル基、もしくは２−フェニルエタ−１−イル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ２は、ベンジル基；代替として、置換ベンジル基；代替として、１−フェニルエタ−１−イル基；代替として、置換１−フェニルエタ−１−イル；代替として、２−フェニルエタ−１−イル基；または代替として、置換２−フェニルエタ−１−イル基であってもよい。
【０１１５】
一実施形態において、Ｒ２として使用することができる、置換ベンジル基、１−フェニルエタ−１−イル基または２−フェニルエタ−１−イル基の各置換基（一般的または特定の）は、独立してハロゲン、ヒドロカルビル基、またはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲンまたはヒドロカルビル基；代替として、ハロゲンまたはヒドロカルボキシ基；代替として、ヒドロカルビル基またはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ２として使用することができる、置換ベンジル基、１−フェニルエタ−１−イル基または２−フェニルエタ−１−イル基の各置換基（一般的または特定の）は、独立してハロゲン、アルキル基、またはアルコキシ基；代替として、ハロゲンまたはアルキル基；代替として、ハロゲンまたはアルコキシ基；代替として、アルキル基またはアルコキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、アルキル基；または代替として、アルコキシ基であってもよい。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、Ｒ２として使用することができる置換ベンジル基、１−フェニルエタ−１−イル基または２−フェニルエタ−１−イル基の置換基（一般的または特定の）をさらに記載する。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ７を有するＲ４基をさらに記載する。
【０１１６】
一態様において、Ｒ２は、ピリジニル基、置換ピリジニル基、フリル基、置換フリル基、チエニル基、または置換チエニル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ２は、ピリジニル基もしくは置換ピリジニル基；代替として、フリル基もしくは置換フリル基；または代替として、チエニル基または置換チエニル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ２は、ピリジニル基、フリル基、またはチエニル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ２は、ピリジニル基；代替として、置換ピリジニル基；代替として、フリル基；代替として、置換フリル基；代替として、チエニル基；または代替として、置換チエニル基であってもよい。
【０１１７】
一実施形態において、ピリジニル（または置換ピリジニル）Ｒ２基は、ピリジン−２−イル基、置換ピリジン−２−イル基、ピリジン−３−イル基、置換ピリジン−３−イル基、ピリジン−４−イル基、または置換ピリジン−４−イル基；代替として、ピリジン−２−イル基、ピリジン−３−イル基、またはピリジン−４−イル基であってもよい。いくつかの実施形態において、ピリジニル（または置換ピリジニル）Ｒ２基は、ピリジン−２−イル基もしくは置換ピリジン−２−イル基；代替として、ピリジン−３−イル基もしくは置換ピリジン−３−イル基；代替として、ピリジン−４−イル基もしくは置換ピリジン−４−イル基；代替として、ピリジン−２−イル基；代替として、置換ピリジン−２−イル基；代替として、ピリジン−３−イル基；代替として、置換ピリジン−３−イル基；代替として、ピリジン−４−イル基；または代替として、置換ピリジン−４−イル基であってもよい。一実施形態において、置換ピリジニルＲ２基は、２−置換ピリジン−３−イル基、４−置換ピリジン−３−イル基、５−置換ピリジン−３−イル基、６−置換ピリジン−３−イル基、２，４−二置換ピリジン−３−イル基、２，６−二置換ピリジン−３−イル基、もしくは２，４，６−三置換ピリジン−３−イル基；代替として、２−置換ピリジン−３−イル基、４−置換ピリジン−３−イル基、もしくは６−置換ピリジン−３−イル基；代替として、２，４−二置換ピリジン−３−イル基もしくは２，６−二置換ピリジン−３−イル基；代替として、２−置換ピリジン−３−イル基；代替として、４−置換ピリジン−３−イル基；代替として、５−置換ピリジン−３−イル基；代替として、６−置換ピリジン−３−イル基；代替として、２，４−二置換ピリジン−３−イル基；代替として、２，６−二置換ピリジン−３−イル基；または代替として、２，４，６−三置換ピリジン−３−イル基であってもよい。一実施形態において、置換ピリジニルＲ２基は、２−置換ピリジン−４−イル基、３−置換ピリジン−４−イル基、５−置換ピリジン−４−イル基、６−置換ピリジン−４−イル基、２，６−二置換ピリジン−４−イル基、もしくは３，５−二置換ピリジン−４−イル基；代替として、２−置換ピリジン−４−イル基もしくは６−置換ピリジン−４−イル基；代替として、３−置換ピリジン−４−イル基もしくは５−置換ピリジン−４−イル基；代替として、２−置換ピリジン−４−イル基；代替として、３−置換ピリジン−４−イル基；代替として、５−置換ピリジン−４−イル基；代替として、６−置換ピリジン−４−イル基；代替として、２，６−二置換ピリジン−４−イル基；または代替として、３，５−二置換ピリジン−４−イル基であってもよい。
【０１１８】
一実施形態において、フリル（または置換フリル）Ｒ２基は、フル−２−イル基、置換フル−２−イル基、フル−３−イル基、または置換フル−３−イル基；代替として、フル−２−イルまたはフル−３−イル基であってもよい。いくつかの実施形態において、フリル（または置換フリル）Ｒ２基は、フル−２−イル基または置換フル−２−イル基；代替として、フル−３−イル基または置換フル−３−イル基；代替として、フル−２−イル基；代替として、置換フル−２−イル基；代替として、フル−３−イル基；または代替として、置換フル−３−イル基であってもよい。一実施形態において、置換フリルＲ２基は、２−置換フル−３−イル基、４−置換フル−３−イル基、もしくは２，４−二置換フル−３−イル基；代替として、２−置換フル−３−イル基；代替として、４−置換フル−３−イル基；または代替として、２，４−二置換フル−３−イル基であってもよい。
【０１１９】
一実施形態において、チエニル（または置換チエニル）Ｒ２基は、チエン−２−イル基、置換チエン−２−イル基、チエン−３−イル基、または置換チエン−３−イル基；代替として、チエン−２−イル基またはチエン−３−イル基であってもよい。いくつかの実施形態において、チエニル（または置換チエニル）Ｒ２基は、チエン−２−イル基または置換チエン−２−イル基；代替として、チエン−３−イル基または置換チエン−３−イル基；代替として、チエン−２−イル基；代替として、置換チエン−２−イル基；代替として、チエン−３−イル基；または代替として、置換チエン−３−イル基であってもよい。一実施形態において、置換チエニルＲ２基は、２−置換チエン−３−イル基、４−置換チエン−３−イル基、または２，４−二置換チエン−３−イル基；代替として、２−置換チエン−３−イル基；代替として、４−置換チエン−３−イル基；または代替として、２，４−二置換チエン−３−イル基であってもよい。
【０１２０】
一実施形態において、Ｒ２として使用することができる置換ピリジニル、フリル、またはチエニル基（一般的または特定の）の各置換基は、独立してハロゲン、ヒドロカルビル基、またはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲンまたはヒドロカルビル基；代替として、ハロゲンまたはヒドロカルボキシ基；代替として、ヒドロカルビル基またはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ２として使用することができる置換ピリジニル、フリル、および／またはチエニル基の各置換基（一般的または特定の）は、独立してハロゲン、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲンもしくはアルキル基；代替として、ハロゲンもしくはアルコキシ基；代替として、アルキル基もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、アルキル基；または代替として、アルコキシ基であってもよい。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、Ｒ２として使用することができる置換ピリジニル、フリル、および／またはチエニル基の置換基（一般的または特定の）をさらに記載する。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ７を有するＲ４基をさらに記載する。
【０１２１】
置換シクロアルキル基の一般的および特定の非水素置換基（一般的または特定の）、置換脂肪族の複素環基（一般的または特定の）、置換シクロヘテリル基（一般的または特定の）、置換芳香族基（一般的または特定の）、置換アリール基（一般的または特定の）、置換アラルキル基（一般的または特定の）、置換ヘテロアリール基（一般的または特定の）、または、置換アリールヘテリル基（一般的または特定の）は本明細書に開示される。これらの一般的および特定の非水素置換基は、限定されることなく使用することができ、置換シクロアルキル基（一般的または特定の）、置換脂肪族複素環基（一般的または特定の）、置換シクロヘテリル基（一般的または特定の）、置換芳香族基（一般的または特定の）、置換アリール基（一般的または特定の）、置換ヘテロアリール基（一般的または特定の）、置換アリールヘテリル基（一般的または特定の）、またはＲ２として使用することができる他の一般的なまたは特定の基をさらに記載する。
【０１２２】
非限定的な実施形態において、Ｒ２は、フェニル基、２−アルキルフェニル基、３−アルキルフェニル基、４−アルキルフェニル基、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル基、３，５−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基、４−アルキルフェニル基、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基もしくは４−アルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基、もしくは２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、２，６−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、３−アルキルフェニル基もしくは３，５−ジアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基もしくは２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基；代替として、３−アルキルフェニル基；代替として、４−アルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基；代替として、２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、３，５−ジアルキルフェニル基；または代替として、２，４，６−トリアルキルフェニル基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、Ｒ２はフェニル基、２−アルコキシフェニル基、３−アルコキシフェニル基、４−アルコキシフェニル基、または３，５−ジアルコキシフェニル基；代替として、２−アルコキシフェニル基または４−アルコキシフェニル基；代替として、３−アルコキシフェニル基または３，５−ジアルコキシフェニル基；代替として、２−アルコキシフェニル基；代替として、３−アルコキシフェニル基；代替として、４−アルコキシフェニル基；代替として、３，５−ジアルコキシフェニル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｒ２は、フェニル基、２−ハロフェニル基、３−ハロフェニル基、４−ハロフェニル基、２，６−ジハロフェニル基もしくは３，５−ジアルキルフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基、４−ハロフェニル基、もしくは２，６−ジハロフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基もしくは４−ハロフェニル基；代替として、３−ハロフェニル基もしくは３，５−ジハロフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基；代替として、３−ハロフェニル基；代替として、４−ハロフェニル基；代替として、２，６−ジハロフェニル基；または代替として、３，５−ジハロフェニル基であってもよい。ハライド、アルキル基置換基、およびアルコキシ基置換基は、独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、Ｒ２として使用することができるアルキルフェニル、ジアルキルフェニル、トリアルキルフェニル、アルコキシフェニル、ジアルコキシフェニル、ハロフェニル、またはジハロフェニル基をさらに記載する。一般に、ジアルキル、トリアルキルフェニル、ジアルコキシフェニル、またはジハロフェニル基のハライド、アルキル置換基、またはアルコキシ置換基は、同じであってもよく；または代替として、アルキルフェニル、ジアルキルフェニル、トリアルキルフェニル、ジアルコキシフェニル、またはジハロフェニル基のハロ、アルキル置換基、またはアルコキシ置換基は、異っていてもよい。
【０１２３】
非限定的な実施形態において、Ｒ２は、２−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、もしくは４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、２−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、もしくは２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、４−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、もしくは４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、２−メチルフェニル基；代替として、２−エチルフェニル基；代替として、２−イソプロピルフェニル基；代替として、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、４−メチルフェニル基；代替として、４−エチルフェニル基；代替として、４−イソプロピルフェニル基；または代替として、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、Ｒ２は、２−メトキシフェニル基、２−エトキシフェニル基、２−イソプロポキシフェニル基、２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、４−イソプロポキシフェニル基、もしくは４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、２−メトキシフェニル基、２−エトキシフェニル基、２−イソプロポキシフェニル基、もしくは２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、４−メトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、４−イソプロポキシフェニル基、もしくは４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、２−メトキシフェニル基；代替として、２−エトキシフェニル基；代替として、２−イソプロポキシフェニル基；代替として、２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、４−メトキシフェニル基；代替として、４−エトキシフェニル基；代替として、４−イソプロポキシフェニル基；または代替として、４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｒ２は、２−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル基、３−フルオロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−フルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、もしくは３，５−ジクロロフェニル基；代替として、２−フルオロフェニル基もしくは２−クロロフェニル基
代替として、３−フルオロフェニル基もしくは３−クロロフェニル基；代替として、４−フルオロフェニル基もしくは４−クロロフェニル基；代替として、３，５−ジフルオロフェニル基もしくは３，５−ジクロロフェニル基；代替として、３−フルオロフェニル基、３−クロロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基もしくは３，５−ジクロロフェニル基；代替として、３−フルオロフェニル基もしくは３，５−ジフルオロフェニル基；代替として、２−フルオロフェニル基；代替として、２−クロロフェニル基；代替として、３−フルオロフェニル基；代替として、３−クロロフェニル基；代替として、４−フルオロフェニル基；代替として、４−クロロフェニル；代替として、３，５−ジフルオロフェニル基；または代替として、３，５−ジクロロフェニル基であってもよい。
【０１２４】
一態様において、Ｒ３は水素であってもよい。別の態様において、Ｒ３は、本質的に不活性官能基、またはヒドロカルビル基からなるオルガニル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ３０オルガニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０オルガニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５オルガニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０オルガニル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５オルガニル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ３は、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基；代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ２０オルガニル基；代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ１５オルガニル基；代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ１０オルガニル基；または代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ５オルガニル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ３０ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビル基であってもよい。また他の実施形態において、Ｒ３は、Ｃ３〜Ｃ３０芳香族基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０芳香族基；代替として、Ｃ３ｔｏＣ１５芳香族基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ１０芳香族基であってもよい。
【０１２５】
一態様において、Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ３０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ３０脂肪族複素環基、Ｃ３〜Ｃ３０置換脂肪族複素環基、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基、Ｃ６〜Ｃ３０置換アリール基、Ｃ３〜Ｃ３０ヘテロアリール基、もしくはＣ３〜Ｃ３０置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ３０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ３０置換アリール基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基もしくはＣ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０脂肪族複素環の基もしくはＣ３〜Ｃ３０置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基もしくはＣ６〜Ｃ３０置換アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０ヘテロアリール基もしくはＣ３〜Ｃ３０置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ３０アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０脂肪族の複素環基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０の置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０置換アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０ヘテロアリール基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ３０置換ヘテロアリール基であってもよい。一実施形態において、Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ１５アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族複素環基、Ｃ３〜Ｃ２０置換脂肪族複素環基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリール基、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリール基、もしくはＣ３〜Ｃ２０置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ２０置換アリール基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基もしくはＣ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族複素環基もしくはＣ３〜Ｃ２０置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基もしくはＣ６〜Ｃ２０置換アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリール基もしくはＣ３〜Ｃ２０置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族複素環基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリール基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ２０置換ヘテロアリール基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ１５脂肪族複素環基、Ｃ３〜Ｃ１５置換脂肪族複素環基、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基、Ｃ６〜Ｃ１５置換アリール基、Ｃ３〜Ｃ１５ヘテロアリール基、もしくはＣ３〜Ｃ１５置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ１５置換アリール基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基もしくはＣ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５脂肪族複素環基もしくはＣ３〜Ｃ１５置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基もしくはＣ６〜Ｃ１５置換アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５ヘテロアリール基もしくはＣ３〜Ｃ１５置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５脂肪族複素環基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５の置換アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５ヘテロアリール基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ１５置換ヘテロアリール基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基であってもよい。
【０１２６】
一実施形態において、Ｒ３は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、もしくはノナデシル基；または代替として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、またはデシル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ３は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、またはネオペンチル基；代替として、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、またはネオペンチル基；代替として、メチル基；代替として、エチル基；代替として、ｎ−プロピル基；代替として、イソプロピル基；代替として、ｔｅｒｔ−ブチル基；または代替として、ネオペンチル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ３として使用することができるアルキル基は置換されていてもよい。置換アルキル基の各置換基は、独立してハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。置換基として使用することができるハロゲンおよびヒドロカルボキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、Ｒ３として使用することができる置換アルキル基をさらに記載する。
【０１２７】
一実施形態において、Ｒ３は、シクロブチル基、置換シクロブチル基、シクロペンチル基、置換シクロペンチル基、シクロヘキシル基、置換シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、置換シクロヘプチル基、シクロオクチル基、または置換シクロオクチル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ３は、シクロペンチル基、置換シクロペンチル基、シクロヘキシル基、もしくは置換シクロヘキシル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ３は、シクロブチル基もしくは置換シクロブチル基；代替として、シクロペンチル基もしくは置換シクロペンチル基；代替として、シクロヘキシル基もしくは置換シクロヘキシル基；代替として、シクロヘプチル基もしくは置換シクロヘプチル基；または代替として、シクロオクチル基もしくは置換シクロオクチル基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｒ３は、シクロペンチル基；代替として、置換シクロペンチル基；シクロヘキシル基；または代替として、置換シクロヘキシル基であってもよい。
【０１２８】
一実施形態において、Ｒ３として使用することができる置換シクロアルキル基の各置換基（一般的または特定の）は、独立してハロゲン、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルビル基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ヒドロカルビル基もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ３として使用することができる置換シクロアルキル基の各置換基（一般的または特定の）は、ハロゲン、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、アルキル基もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲンもしくはアルキル基；代替として、ハロゲンもしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、アルキル基；または代替として、アルコキシ基であってもよい。置換基としての使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、Ｒ３として使用することができる置換シクロアルキル基の置換基（一般的または特定の）をさらに記載する。
【０１２９】
一態様において、Ｒ３は、構造Ｇ５：
【化１２】
2015016470.tif 000014
［式中、指定されない原子価が、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ２窒素原子に結合している。］を有することができる。一般に、Ｒ３１ｃ、Ｒ３２ｃ、Ｒ３３ｃ、Ｒ３４ｃ、およびＲ３５ｃは、独立して水素または非水素置換基であってもよく、ｎは１から５までの整数であってもよい。Ｒ３が構造Ｇ５を有する実施形態において、Ｒ３１ｃ、Ｒ３３ｃ、Ｒ３４ｃ、およびＲ３５ｃは、水素であってもよく、Ｒ３２ｃは、本明細書に開示される任意の非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ３１ｃ、Ｒ３３ｃ、およびＲ３５ｃは、水素であってもよく、Ｒ３２ｃおよびＲ３４ｃは、独立して本明細書において開示される任意の非水素置換基であってもよい。一実施形態において、ｎは、１から４までの；または代替として、２から４までの整数であってもよい。他の実施形態において、ｎは、２もしくは３；代替として、２；または代替として、３であってもよい。
【０１３０】
一実施形態において、Ｒ３１ｃ、Ｒ３２ｃ、Ｒ３３ｃ、Ｒ３４ｃ、およびＲ３５ｃは、独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、水素、ハロゲン、もしくはヒドロカルビル基；代替として、水素、ハロゲン、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、水素、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、水素もしくはハロゲン；代替として、水素もしくはヒドロカルビル基；または代替として、水素もしくはヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ３１ｃ、Ｒ３２ｃ、Ｒ３３ｃ、Ｒ３４ｃ、およびＲ３５ｃは、独立して水素、ハロゲン、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、水素、ハロゲン、もしくはアルキル基；代替として、水素、ハロゲン、もしくはアルコキシ基；代替として、アルキル基もしくはアルコキシ基；代替として、水素もしくはハロゲン；代替として、水素もしくはアルキル基；または代替として、水素もしくはアルコキシ基であってもよい。それは置換基としての使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ５を有するＲ３基をさらに記載する。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ７を有するＲ４基をさらに記載する。
【０１３１】
一実施形態において、Ｒ３は、フェニル基または置換フェニル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ３は、フェニル基；または代替として、置換フェニル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ３置換フェニル基は、２−置換フェニル基、３−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、３，５−二置換フェニル基、または２，４，６−三置換フェニル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ３置換フェニル基は、２−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、または２，４，６−三置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、または２，６−二置換フェニル基；代替として、３−置換ｓｕｂｓｉｔｕｔｅｄフェニル基または３，５−二置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基または４−置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、または２，４，６−三置換フェニル基；代替として、２，６−二置換フェニル基または２，４，６−三置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基または２，６−二置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基；代替として、３−置換フェニル基；代替として、４−置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基；代替として、２，６−二置換フェニル基；代替として、３，５−二置換フェニル基；または代替として、２，４，６−三置換フェニル基であってもよい。
【０１３２】
一実施形態において、置換フェニルＲ３基の各置換基は、独立してハロゲン、ヒドロカルビル基、またはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲンまたはヒドロカルビル基；代替として、ハロゲンまたはヒドロカルボキシ基；代替として、ヒドロカルビル基またはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、置換フェニルＲ３基の各置換基は、独立してハロゲン、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲンもしくはアルキル基；代替として、ハロゲンもしくはアルコキシ基；代替として、アルキル基もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、アルキル基；または代替として、アルコキシ基であってもよい。置換基としての使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、置換フェニルＲ３基の置換基をさらに記載する。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ７を有するＲ４基をさらに記載する。
【０１３３】
一態様において、Ｒ３は構造Ｇ６：
【化１３】
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［式中、指定されない原子価はＮ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合している。］を有することができる。一般に、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、およびＲ３６は、独立して水素または非水素置換基であってもよい。Ｒ３が構造Ｇ６を有する実施形態において、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、およびＲ３６は、水素であってもよく、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３２は非水素置換基であってもよく、Ｒ３２、Ｒ３４、Ｒ３５、およびＲ３６は、水素であってもよく、Ｒ３３は非水素置換基であってもよく、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３５、およびＲ３６は、水素であってもよく、Ｒ３４は非水素置換基であってもよい。Ｒ３３、Ｒ３５、およびＲ３６は、水素であってもよく、Ｒ３２およびＲ３４は非水素置換基であってもよく、Ｒ３３、Ｒ３４、およびＲ３５は、水素であってもよく、Ｒ３２およびＲ３６は、非水素置換基であってもよく、Ｒ３２、Ｒ３４、およびＲ３６は、水素であってもよく、Ｒ３３およびＲ３５は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ３３およびＲ３５は水素であってもよく、Ｒ３２、Ｒ３４、およびＲ３６は、非水素置換基であってもよい。Ｒ３が構造Ｇ６を有するいくつかの実施形態において、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３２は非水素置換基であってもよく、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３５、およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３４は非水素置換基であってもよく、Ｒ３３、Ｒ３５、およびＲ３６は、水素であってもよく、Ｒ３２およびＲ３４は、非水素置換基であってもよく、Ｒ３３、Ｒ３４、およびＲ３５は、水素であってもよく、Ｒ３２およびＲ３６は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ３３およびＲ３５は水素であってもよく、Ｒ３２、Ｒ３４、およびＲ３６は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、およびＲ３６は、水素であってもよく、Ｒ３２は非水素置換基であってもよく、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３５、およびＲ３６は、水素であってもよく、Ｒ３４は非水素置換基であってもよく、Ｒ３３、Ｒ３５、およびＲ３６は、水素であってもよく、Ｒ３２およびＲ３４は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ３３、Ｒ３４、およびＲ３５は水素であってもよく、Ｒ３２およびＲ３６は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ３２、Ｒ３４、Ｒ３５、およびＲ３６は、水素であってもよく、Ｒ３３は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ３２、Ｒ３４およびＲ３６は、水素であってもよく、Ｒ３３およびＲ３５は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、およびＲ３６は、水素であってもよく、Ｒ３２は非水素置換基であってもよく、または、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３５、およびＲ３６は、水素であってもよく、Ｒ３４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ３３、Ｒ３５、およびＲ３６は水素であってもよく、Ｒ３２およびＲ３４は、非水素置換基であってもよく、Ｒ３３、Ｒ３４、およびＲ３５は、水素であってもよく、および、Ｒ３２およびＲ３６は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ３３およびＲ３５は、水素であってもよい。および、Ｒ３２、Ｒ３４、およびＲ３６は、非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ３３、Ｒ３５、およびＲ３６は、水素であってもよく、Ｒ３２およびＲ３４は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ３３、Ｒ３４、およびＲ３５は、水素であってもよく、Ｒ３２およびＲ３６は、非水素置換基であってもよい。Ｒ３が構造Ｇ６を有する他の実施形態において、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、およびＲ３６は、水素であってもよく；代替として、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、およびＲ３６は、水素であってもよく、Ｒ３２は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ３２、Ｒ３４、Ｒ３５、およびＲ３６は、水素であってもよく、Ｒ３３は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３５、およびＲ３６は、水素であってもよく、Ｒ３４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ３３、Ｒ３５、およびＲ３６は、水素であってもよく、Ｒ３２およびＲ３４は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ３３、Ｒ３４、およびＲ３５は水素であってもよく、Ｒ３２およびＲ３６は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ３２、Ｒ３４、およびＲ３６は、水素であってもよく、Ｒ３３およびＲ３５は、非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ３３およびＲ３５は水素であってもよく、Ｒ３２、Ｒ３４、および、Ｒ３６は、非水素置換基であってもよい。
【０１３４】
一実施形態において、構造Ｇ６を有するＲ３基中のＲ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、およびＲ３６として使用することができる非水素置換基は、独立してハロゲン、ヒドロカルビル基、またはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルビル基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ヒドロカルビル基もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、構造Ｇ６を有するＲ３基中のＲ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、Ｒ３５、およびＲ３６として使用することができる非水素置換基は、独立してハロゲン、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲン、もしくはアルキル基；代替として、ハロゲンもしくはアルコキシ基；代替として、アルキル基もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、アルキル基；または代替として、もしくはアルコキシ基であってもよい。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ６を有するＲ３基をさらに記載する。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ７を有するＲ４基をさらに記載する。
【０１３５】
一態様において、Ｒ３は、ピリジニル基、置換ピリジニル基、フリル基、置換フリル基、チエニル基、もしくは置換チエニル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ３は、ピリジニル基もしくは置換ピリジニル基；代替として、フリル基もしくは置換フリル基；または代替として、チエニル基もしくは置換チエニル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ３は、ピリジニル基、フリル基、またはチエニル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ３は、ピリジニル基；代替として、置換ピリジニル基；代替として、フリル基；代替として、置換フリル基；代替として、チエニル基；または代替として、置換チエニル基であってもよい。
【０１３６】
一実施形態において、ピリジニル（または置換ピリジニル）Ｒ↑３↑基は、ピリジン−２−イル基、置換ピリジン−２−イル基、ピリジン−３−イル基、置換ピリジン−３−イル基、ピリジン−４−イル基、または置換ピリジン−４−イル基；代替として、ピリジン−２−イル基、ピリジン−３−イル基、またはピリジン−４−イル基であってもよい。いくつかの実施形態において、ピリジニル（または置換ピリジニル）Ｒ３基は、ピリジン−２−イル基もしくは置換ピリジン−２−イル基；代替として、ピリジン−３−イル基もしくは置換ピリジン−３−イル基；代替として、ピリジン−４−イル基もしくは置換ピリジン−４−イル基；代替として、ピリジン−２−イル基；代替として、置換ピリジン−２−イル基；代替として、ピリジン−３−イル基；代替として、置換ピリジン−３−イル基；代替として、ピリジン−４−イル基；または代替として、置換ピリジン−４−イル基であってもよい。一実施形態において、置換ピリジニルＲ３基は、２−置換ピリジン−３−イル基、４−置換ピリジン−３−イル基、５−置換ピリジン−３−イル基、６−置換ピリジン−３−イル基、２，４−二置換ピリジン−３−イル基、２，６−二置換ピリジン−３−イル基、もしくは２，４，６−三置換ピリジン−３−イル基；代替として、２−置換ピリジン−３−イル基、４−置換ピリジン−３−イル基、もしくは６−置換ピリジン−３−イル基；代替として、２，４−二置換ピリジン−３−イル基もしくは２，６−二置換ピリジン−３−イル基；代替として、２−置換ピリジン−３−イル基；代替として、４−置換ピリジン−３−イル基；代替として、５−置換ピリジン−３−イル基；代替として、６−置換ピリジン−３−イル基；代替として、２，４−二置換ピリジン−３−イル基；代替として、２，６−二置換ピリジン−３−イル基；または代替として、２，４，６−三置換ピリジン−３−イル基であってもよい。一実施形態において、置換ピリジニルＲ３基は、２−置換ピリジン−４−イル基、３−置換ピリジン−４−イル基、５−置換ピリジン−４−イル基、６−置換ピリジン−４−イル基、２，６−二置換ピリジン−４−イル基、または３，５−二置換ピリジン−４−イル基；代替として、２−置換ピリジン−４−イル基または６−置換ピリジン−４−イル基；代替として、３−置換ピリジン−４−イル基または５−置換ピリジン−４−イル基；代替として、２−置換ピリジン−４−イル基；代替として、３−置換ピリジン−４−イル基；代替として、５−置換ピリジン−４−イル基；代替として、６−置換ピリジン−４−イル基；代替として、２，６−二置換ピリジン−４−イル基；または代替として、３，５−二置換ピリジン−４−イル基であってもよい。
【０１３７】
一実施形態において、フリル（または置換フリル）Ｒ３基は、フル−２−イル基、置換フル−２−イル基、フル−３−イル基、または置換フル−３−イル基；代替として、フル−２−イルまたはフル−３−イル基であってもよい。いくつかの実施形態において、フリル（または置換フリルＲ３基は、フル−２−イル基または置換フル−２−イル基；代替として、フル−３−イル基または置換フル−３−イル基；代替として、フル−２−イル基；代替として、置換フル−２−イル基；代替として、フル−３−イル基；または代替として、置換フル−３−イル基であってもよい。一実施形態において、置換フリルＲ３基は、２−置換フル−３−イル基、４−置換フル−３−イル基、または２，４−二置換フル−３−イル基；代替として、２−置換フル−３−イル基；代替として、４−置換フル−３−イル基；または代替として、２，４−二置換フル−３−イル基であってもよい。
【０１３８】
一実施形態において、チエニル（または置換チエニル）Ｒ３基は、チエン−２−イル基、置換チエン−２−イル基、チエン−３−イル基、または置換チエン−３−イル基；代替として、チエン−２−イル基またはチエン−３−イル基であってもよい。いくつかの実施形態において、チエニル（または置換チエニル）Ｒ３基は、チエン−２−イル基または置換チエン−２−イル基；代替として、チエン−３−イル基または置換チエン−３−イル基；代替として、チエン−２−イル基；代替として、置換チエン−２−イル基；代替として、チエン−３−イル基；または代替として、置換チエン−３−イル基であってもよい。一実施形態において、置換チエニルＲ３基は、２−置換チエン−３−イル基、４−置換チエン−３−イル基、または２，４−二置換チエン−３−イル基；代替として、２−置換チエン−３−イル基；代替として、４−置換チエン−３−イル基；または代替として、２，４−二置換チエン−３−イル基であってもよい。
【０１３９】
一実施形態において、Ｒ３として使用することができる置換ピリジニル、フリル、および／またはチエニル基の各置換基（一般的または特定の）は、独立してハロゲン、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルビル基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ヒドロカルビル基もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ３として使用することができる置換ピリジニル、フリル、および／またはチエニル基の各置換基（一般的または特定の）は、独立してハロゲン、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲンもしくはアルキル基；代替として、ハロゲンもしくはアルコキシ基；
代替として、アルキル基もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、アルキル基；または代替として、アルコキシ基であってもよい。置換基としての使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、Ｒ３として使用することができる置換ピリジニル、フリルおよび／またはチエニル基の置換基（一般的または特定の）をさらに記載する。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ７を有するＲ４基をさらに記載する。
【０１４０】
置換シクロアルキル基（一般的または特定の）、置換脂肪族複素環基（一般的または特定の）、置換シクロヘテリル基（一般的または特定の）、置換芳香族基（一般的または特定の）、置換アリール基（一般的または特定の）、置換ヘテロアリール基（一般的または特定の）、または、置換アリールヘテリル基（一般的または特定の）の一般的および特定の非水素置換基は、本明細書において開示される。これらの一般的および特定の非水素置換基は、限定されることなく使用することができ、置換シクロアルキル基（一般的または特定の）、置換脂肪族複素環基（一般的または特定の）、置換シクロヘテリル基（一般的または特定の）、置換芳香族基（一般的または特定の）、置換アリール基（一般的または特定の）、置換ヘテロアリール基（一般的または特定の）、置換アリールヘテリル基（一般的または特定の）、またはＲ３として使用することができる他の一般的なまたは特定の基をさらに記載する。
【０１４１】
非限定的な実施形態において、Ｒ３は、フェニル基、２−アルキルフェニル基、３−アルキルフェニル基、４−アルキルフェニル基、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル基、３，５−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基、４−アルキルフェニル基、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基もしくは４−アルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基、もしくは２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、２，６−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、３−アルキルフェニル基もしくは３，５−ジアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基もしくは２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基；代替として、３−アルキルフェニル基；代替として、４−アルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基；代替として、２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、３，５−ジアルキルフェニル基；または代替として、２，４，６−トリアルキルフェニル基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、Ｒ３は、フェニル基、２−アルコキシフェニル基、３−アルコキシフェニル基、４−アルコキシフェニル基、もしくは３，５−ジアルコキシフェニル基；代替として、２−アルコキシフェニル基もしくは４−アルコキシフェニル基；代替として、３−アルコキシフェニル基もしくは３，５−ジアルコキシフェニル基；代替として、２−アルコキシフェニル基；代替として、３−アルコキシフェニル基；代替として、４−アルコキシフェニル基；代替として、３，５−ジアルコキシフェニル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｒ１は、ｎフェニル基、２−ハロフェニル基、３−ハロフェニル基、４−ハロフェニル基、２，６−ジハロフェニル基、もしくは３，５−ジアルキルフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基、４−ハロフェニル基、もしくは２，６−ジハロフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基もしくは４−ハロフェニル基；代替として、３−ハロフェニル基もしくは３，５−ジハロフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基；代替として、３−ハロフェニル基；代替として、４−ハロフェニル基；代替として、２，６−ジハロフェニル基；または代替として、３，５−ジハロフェニル基であってもよい。ハロゲン、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に記載され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、Ｒ３として使用することができるアルキルフェニル、ジアルキルフェニル、トリアルキルフェニル、アルコキシフェニル、ジアルコキシフェニル、ハロフェニル、またはジハロフェニル基をさらに記載する。一般に、ジアルキル、トリアルキルフェニル、ジアルコキシフェニル、もしくはジハロフェニル基のハライド、アルキル置換基、もしくはアルコキシ置換基は、同じであってもよく；または代替として、アルキルフェニル、ジアルキルフェニル、トリアルキルフェニル、ジアルコキシフェニル、もしくはジハロフェニル基のハロ、アルキル置換基、もしくはアルコキシ置換基は、異なっていてもよい。
【０１４２】
非限定的な実施形態において、Ｒ３は、２−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、２，６−ジイソプロピルフェニル基、もしくは２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、２−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、もしくは２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、もしくは４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、２−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、もしくは２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、４−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、もしくは４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；または代替として、２，６−ジメチルフェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、２，６−ジ−ｎ−プロピルフェニル基、２，６−ジイソプロピルフェニル基、もしくは２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、Ｒ３は、２−メチルフェニル基；代替として、２−エチルフェニル基；代替として、２−イソプロピルフェニル基；
代替として、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、４−メチルフェニル基；
代替として、４−エチルフェニル基；代替として、４−イソプロピルフェニル基；または代替として、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基であってもよい。
【０１４３】
一態様において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立してｉｎｄｅｐｅｎｄｅｎｄｔｌｙ本質的に不活性官能基、またはヒドロカルビル基からなるオルガニル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立してＣ１〜Ｃ３０オルガニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０オルガニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５オルガニル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０オルガニル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５オルガニル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立して本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニル基；代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ２０オルガニル基；代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ１５オルガニル基；代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ１０オルガニル基；または代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ５オルガニル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立してＣ１〜Ｃ３０ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビル基であってもよい。また他の実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立してＣ３〜Ｃ３０芳香族基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０芳香族基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５芳香族基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ１０の芳香族基から選択することができる。一態様において、Ｒ４およびＲ５は、結合して（特定の種類の基に関係なく−オルガニル、不活性官能基、ヒドロカルビルまたは任意の内部化学種からなるオルガニル）Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のリン原子を含む環を形成することができる。
【０１４４】
別の態様において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立してＣ１〜Ｃ３０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ３０脂肪族複素環基、Ｃ３〜Ｃ３０置換脂肪族複素環基、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基、Ｃ６〜Ｃ３０置換アリール基、Ｃ３〜Ｃ３０ヘテロアリール基、もしくはＣ３〜Ｃ３０置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ３０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ３０置換アリール基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基もしくはＣ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０脂肪族複素環基もしくはＣ３〜Ｃ３０置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基もしくはＣ６〜Ｃ３０置換アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０ヘテロアリール基もしくはＣ３〜Ｃ３０置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ３０アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０脂肪族複素環基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０置換アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０ヘテロアリール基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ３０置換ヘテロアリール基であってもよい。一実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立してＣ１〜Ｃ１５アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族複素環基、Ｃ３〜Ｃ２０置換脂肪族複素環基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリール基、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリール基、もしくはＣ３〜Ｃ２０置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ２０置換アリール基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基もしくはＣ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族複素環基もしくはＣ３〜Ｃ２０置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基もしくはＣ６〜Ｃ２０置換アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリール基もしくはＣ３〜Ｃ２０置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０の置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族複素環基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリール基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ２０置換ヘテロアリール基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立してＣ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ１５脂肪族複素環基、Ｃ３〜Ｃ１５置換脂肪族複素環基、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基、Ｃ６〜Ｃ１５の置換アリール基、Ｃ３〜Ｃ１５ヘテロアリール基、もしくはＣ３〜Ｃ１５置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基、もしくはＣ６〜Ｃ１５置換アリール基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基もしくはＣ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５脂肪族複素環基もしくはＣ３〜Ｃ１５置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基もしくはＣ６〜Ｃ１５置換アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５ヘテロアリール基もしくはＣ３〜Ｃ１５置換ヘテロアリール基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５脂肪族複素環基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５置換脂肪族複素環基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５置換アリール基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５ヘテロアリール基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ１５置換ヘテロアリール基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立してＣ１〜Ｃ５アルキル基であってもよい。
【０１４５】
さらなる態様において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立してメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、もしくはノナデシル基；または代替として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、もしくはデシル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立してメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、またはネオペンチル基；代替として、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、またはネオペンチル基；代替として、メチル基；代替として、エチル基；代替として、ｎ−プロピル基；代替として、イソプロピル基；代替として、ｔｅｒｔ−ブチル基；または代替として、ネオペンチル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５として使用することができるアルキル基は、置換されていてもよい。置換アルキル基の各置換基は、独立してハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、Ｒ４および／またはＲ５として使用することができる置換アルキル基をさらに記載する。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ７を有するＲ４基をさらに記載する。
【０１４６】
さらなる態様において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立してシクロブチル基、置換シクロブチル基、シクロペンチル基、置換シクロペンチル基、シクロヘキシル基、置換シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、置換シクロヘプチル基、シクロオクチル基、または置換シクロオクチル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立してシクロペンチル基、置換シクロペンチル基、シクロヘキシル基、もしくは置換シクロヘキシル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、シクロブチル基もしくは置換シクロブチル基；代替として、シクロペンチル基もしくは置換シクロペンチル基；代替として、シクロヘキシル基もしくは置換シクロヘキシル基；代替として、シクロヘプチル基もしくは置換シクロヘプチル基；または代替として、シクロオクチル基もしくは置換シクロオクチル基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立してシクロペンチル基；代替として、置換シクロペンチル基；シクロヘキシル基；または代替として、置換シクロヘキシル基であってもよい。
【０１４７】
一実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５として使用することができる置換シクロアルキル基の各置換基（一般的または特定の）は、独立してハロゲン、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルビル基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ヒドロカルビル基もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５として使用することができる置換シクロアルキル基の各置換基（一般的または特定の）は、独立してハロゲン、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲンもしくはアルキル基；代替として、ハロゲンもしくはアルコキシ基；代替として、アルキル基もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、アルキル基；または代替として、アルコキシ基であってもよい。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、Ｒ４および／またはＲ５として使用することができる置換シクロアルキル基の置換基（一般的または特定の）をさらに記載する。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ７を有するＲ４基をさらに記載する。
【０１４８】
一態様において、Ｒ４は構造Ｇ７：
【化１４】
2015016470.tif 000016
［式中、指定されない原子価がＮ２−ホスフィニルアミジン基のリン原子に結合している。］を有することができる。一般に、Ｒ４１ｃ、Ｒ４２ｃ、Ｒ４３ｃ、Ｒ４４ｃ、およびＲ４５ｃは、独立して水素または非水素置換基であってもよく、ｎは、１から５までの整数であってもよい。ここで、Ｒ４には構造Ｇ７実施形態において、Ｒ４１ｃ、Ｒ４３ｃ、Ｒ４４ｃおよびＲ４５ｃは、水素であってもよく、Ｒ３２ｃは、本明細書に開示された任意の非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ４１ｃ、Ｒ４３ｃ、およびＲ４５ｃは、水素であってもよく、Ｒ４２ｃおよびＲ４４ｃは、独立して本明細書に開示される任意の非水素置換基であってもよい。一実施形態において、ｎは１から４まで；または代替として２から４までの整数であってもよい。他の実施形態において、ｎは、２もしくは３；代替として、２；または代替として、３であってもよい。
【０１４９】
一実施形態において、Ｒ４１ｃ、Ｒ４２ｃ、Ｒ４３ｃ、Ｒ４４ｃ、およびＲ４５ｃは、独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、水素、ハロゲン、もしくはヒドロカルビル基；代替として、水素、ハロゲン、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ヒドロカルビル基もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、水素もしくはハロゲン；代替として、水素もしくはヒドロカルビル基；または、代替として、水素もしくはヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ４１ｃ、Ｒ４２ｃ、Ｒ４３ｃ、Ｒ４４ｃ、およびＲ４５ｃは、独立して水素、ハロゲン、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、水素、ハロゲン、もしくはアルキル基；代替として、水素、ハロゲン、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、水素、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、水素もしくはハロゲン；代替として、水素もしくはアルキル基；または代替として、水素もしくはアルコキシ基であってもよい。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ７を有するＲ４基をさらに記載する。
【０１５０】
一態様において、Ｒ５は構造Ｇ８：
【化１５】
2015016470.tif 000017
［式中、指定されない原子価が、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のリン原子に結合している。］を有することができる。一般に、Ｒ５１ｃ、Ｒ５２ｃ、Ｒ５３ｃ、Ｒ５４ｃ、およびＲ５５ｃは、独立して水素または非水素置換基であってもよく、ｎは１から５までの整数であってもよい。Ｒ５が構造Ｇ８を有する実施形態において、Ｒ５１ｃ、Ｒ５３ｃ、Ｒ５４ｃおよびＲ５５ｃは、水素であってもよく、Ｒ３２ｃは、本明細書に開示される任意の非水素置換基であってもよく；
または、代替として、Ｒ５１ｃ、Ｒ５３ｃ、およびＲ５５ｃは水素であってもよく、Ｒ５２ｃおよびＲ５４ｃは、独立して本明細書において開示された任意の非水素置換基であってもよい。一実施形態において、ｎは１から４まで；または代替として２から４までの整数であってもよい。他の実施形態において、ｎは、２もしくは３；代替として、２；または代替として、３であってもよい。
【０１５１】
一実施形態において、Ｒ５１ｃ、Ｒ５２ｃ、Ｒ５３ｃ、Ｒ５４ｃ、およびＲ５５ｃは、独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、水素、ハロゲン、もしくはヒドロカルビル基；代替として、水素、ハロゲン、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ヒドロカルビル基もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、水素もしくはハロゲン；代替として、水素もしくはヒドロカルビル基；または、代替として、水素またはヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ５１ｃ、Ｒ５２ｃ、Ｒ５３ｃ、Ｒ５４ｃ、およびＲ５５ｃは、独立して水素、ハロゲン、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、水素、ハロゲン、もしくはアルキル基；代替として、水素、ハロゲン、もしくはアルコキシ基；代替として、水素、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、水素もしくはハロゲン；代替として、水素もしくはアルキル基；または代替として、水素もしくはアルコキシ基であってもよい。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ８を有するＲ５基をさらに記載する。
【０１５２】
一態様において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立してフェニル基、置換フェニル基、ナフチル基、または置換ナフチル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立してフェニル基もしくは置換フェニル基；代替として、ナフチル基もしくは置換ナフチル基；代替として、フェニル基もしくはナフチル基；または代替として、置換フェニル基もしくは置換ナフチル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立してフェニル基；代替として、置換フェニル基；代替として、ナフチル基；または代替として、置換ナフチル基であってもよい。
【０１５３】
一実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５置換フェニル基は、２−置換フェニル基、３−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、３，５−二置換フェニル基、または２，４，６−三置換フェニル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５置換フェニル基は、２−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、もしくは２，４，６−三置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、もしくは２，６−二置換フェニル基；代替として、３−置換ｓｕｂｓｉｔｕｔｅｄフェニル基もしくは３，５−二置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基もしくは４−置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、もしくは２，４，６−三置換フェニル基；代替として、２，６−二置換フェニル基もしくは２，４，６−三置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基もしくは２，６−二置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基；代替として、３−置換フェニル基；代替として、４−置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基；代替として、２，６−二置換フェニル基；代替として、３，５−二置換フェニル基；または代替として、２，４，６−三置換フェニル基であってもよい。
【０１５４】
一実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立してナフト−１−イル基、置換ナフト−１−イル基、ナフト−２−イル基、または置換ナフト−２−イル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立してナフト−１−イル基もしくは置換ナフト−１−イル基；代替として、ナフト−２−イル基もしくは置換ナフト−２−イル基；代替として、ナフト−１−イル基；代替として、置換ナフト−１−イル基；代替として、ナフト−２−イル基；または代替として、置換ナフト−２−イル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立して２−置換ナフト−１−イル基、３−置換ナフト−１−イル基、４−置換ナフト−１−イル基、もしくは８−置換ナフト−１−イル基；代替として、２−置換ナフト−１−イル基；代替として、３−置換ナフト−１−イル基；代替として、４−置換ナフト−１−イル基；または代替として、８−置換ナフト−１−イル基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立して１−置換ナフト−２−イル基、３−置換ナフト−２−イル基、４−置換ナフト−２−イル基、または１，３−二置換ナフト−２−イル基；代替として、１−置換ナフト−２−イル基；代替として、３−置換ナフト−２−イル基；代替として、４−置換ナフト−２−イル基；代替として、１，３−二置換ナフト−２−イル基であってもよい。
【０１５５】
一実施形態において、置換フェニルまたは置換ナフチルＲ４および／またはＲ５基の各置換基は、独立してハロゲン、ヒドロカルビル基、またはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲンまたはヒドロカルビル基；代替として、ハロゲンまたはヒドロカルボキシ基；代替として、ヒドロカルビル基またはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、置換フェニルまたは置換ナフチルＲ４および／またはＲ５基の各置換基は、独立してハロゲン、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲンもしくはアルキル基；代替として、ハロゲンもしくはアルコキシ基；代替として、アルキル基もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、アルキル基；または代替として、アルコキシ基であってもよい。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、置換フェニルまたは置換ナフチルＲ４および／またはＲ５基の置換基をさらに記載する。
【０１５６】
一態様において、Ｒ４は構造Ｇ９：
【化１６】
2015016470.tif 000018
［式中、指定されない原子価が、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のリン原子に結合している。］を有することができる。一般に、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６は、独立して水素または非水素置換基であってもよい。Ｒ４が構造Ｇ９を有する実施形態において、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４２は非水素置換基であってもよく、Ｒ４２、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４３は非水素置換基であってもよく、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４４は非水素置換基であってもよく、Ｒ４３、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４２およびＲ４４は、非水素置換基であってもよく、Ｒ４３、Ｒ４４、およびＲ４５は、水素であってもよく、Ｒ４２およびＲ４６は、非水素置換基であってもよく、Ｒ４２、Ｒ４４、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４３およびＲ４５は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ４３およびＲ４５は水素であってもよく、Ｒ４２、Ｒ４４、およびＲ４６は非水素置換基であってもよい。Ｒ４が構造Ｇ９を有するいくつかの実施形態において、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４２は非水素置換基であってもよく、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４４は非水素置換基であってもよく、Ｒ４３、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４２およびＲ４４は、非水素置換基であってもよく、Ｒ４３、Ｒ４４、およびＲ４５は、水素であってもよく、Ｒ４２およびＲ４６は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ４３およびＲ４５は水素であってもよく、Ｒ４２、Ｒ４４、およびＲ４６は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６は水素であってもよく、Ｒ４２は非水素置換基であってもよく、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４５、およびＲ４６は水素であってもよく、Ｒ４４は非水素置換基であってもよく、Ｒ４３、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４２およびＲ４４は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ４３、Ｒ４４、およびＲ４５は、水素であってもよく、Ｒ４２およびＲ４６は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ４２、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４３は非水素置換基であってもよく、または、Ｒ４２、Ｒ４４、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４３およびＲ４５は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４２は非水素置換基であってもよく、または、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ４３、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４２およびＲ４４は、非水素置換基であってもよく、Ｒ４３、Ｒ４４、およびＲ４５は、水素であってもよく、Ｒ４２およびＲ４６は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ４３およびＲ４５は、水素であってもよく、Ｒ４２、Ｒ４４、およびＲ４６は、非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ４３、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４２およびＲ４４は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ４３、Ｒ４４、およびＲ４５は、水素であってもよく、Ｒ４２およびＲ４６は、非水素置換基であってもよい。Ｒ４が構造Ｇ９を有する他の実施形態において、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく；代替として、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４２は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ４２、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４３は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ４２、Ｒ４３、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ４３、Ｒ４５、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４２およびＲ４４は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ４３、Ｒ４４、およびＲ４５は、水素であってもよく、Ｒ４２およびＲ４６は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ４２、Ｒ４４、およびＲ４６は、水素であってもよく、Ｒ４３およびＲ４５は、非水素置換基であってもよく；または代替として、Ｒ４３およびＲ４５は水素であってもよく、Ｒ４２、Ｒ４４、およびＲ４６は、非水素置換基であってもよい。
【０１５７】
一実施形態において、構造Ｇ９を有するＲ１基中のＲ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６として使用することができる非水素置換基は、独立してハロゲン、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルビル基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ヒドロカルビル基もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、構造Ｇ９を有するＲ１基中のＲ４２、Ｒ４３、Ｒ４４、Ｒ４５、およびＲ４６として使用することができる非水素置換基は、独立してハロゲン、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲン、もしくはアルキル基；代替として、ハロゲンもしくはアルコキシ基；代替として、アルキル基もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、アルキル基；または代替として、アルコキシ基であってもよい。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ９を有するＲ４基をさらに記載する。
【０１５８】
一態様において、Ｒ５は構造Ｇ１０：
【化１７】
2015016470.tif 000019
［式中、指定されない原子価が、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のリン原子に結合している。］を有することができる。一般に、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６は、独立して水素または非水素置換基であってもよい。Ｒ５が構造Ｇ１０を有する実施形態において、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５２は非水素置換基であってもよく、Ｒ５２、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５３は非水素置換基であってもよく、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５４は非水素置換基であってもよく、Ｒ５３、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５２およびＲ５４は非水素置換基であってもよく、Ｒ５３、Ｒ５４、およびＲ５５は、水素であってもよく、Ｒ５２およびＲ５６は、非水素置換基であってもよく、Ｒ５２、Ｒ５４、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５３およびＲ５５は、非水素置換基であってもよく、またはＲ５３およびＲ５５は、水素であってもよく、Ｒ５２、Ｒ５４、およびＲ５６は、非水素置換基であってもよい。Ｒ５が構造Ｇ１０を有するいくつかの実施形態において、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６は水素であってもよく、Ｒ５２は非水素置換基であってもよく、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５４は非水素置換基であってもよく、Ｒ５３、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５２およびＲ５４は、非水素置換基であってもよく、Ｒ５３、Ｒ５４、およびＲ５５は、水素であってもよく、Ｒ５２およびＲ５６は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ５３およびＲ５５は、水素であってもよく、Ｒ５２、Ｒ５４、およびＲ５６は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５２は非水素置換基であってもよく、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５４は非水素置換基であってもよく、Ｒ５３、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５２およびＲ５４は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ５３、Ｒ５４、およびＲ５５は、水素であってもよく、Ｒ５２およびＲ５６は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ５２、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５３は非水素置換基であってもよく、または、Ｒ５２、Ｒ５４、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５３およびＲ５５は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５２は非水素置換基であってもよく、または、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ５３、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５２およびＲ５４は、非水素置換基であってもよく、Ｒ５３、Ｒ５４、およびＲ５５は、水素であってもよく、Ｒ５２およびＲ５６は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ５３およびＲ５５は、水素であってもよく、Ｒ５２、Ｒ５４、およびＲ５６は、非水素置換基であってもよく；または代替として、Ｒ５３、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５２およびＲ５４は、非水素置換基であってもよく、または、Ｒ５３、Ｒ５４、およびＲ５５は、水素であってもよく、Ｒ５２およびＲ５６は、非水素置換基であってもよい。Ｒ５が構造Ｇ１０を有する他の実施形態において、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく；代替として、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５２は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ５２、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５３は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ５２、Ｒ５３、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５４は非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ５３、Ｒ５５、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５２およびＲ５４は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ５３、Ｒ５４、およびＲ５５は、水素であってもよく、Ｒ５２およびＲ５６は、非水素置換基であってもよく；代替として、Ｒ５２、Ｒ５４、およびＲ５６は、水素であってもよく、Ｒ５３およびＲ５５は、非水素置換基であってもよく；または、代替として、Ｒ５３およびＲ５５は、水素であってもよく、Ｒ５２、Ｒ５４、および、Ｒ５６は、非水素置換基であってもよい。
【０１５９】
一実施形態において、構造Ｇ２を有するＲ５基中のＲ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６として使用することができる非水素置換基は、独立してハロゲン、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルビル基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ヒドロカルビル基もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、構造Ｇ２を有するＲ５基中のＲ５２、Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５、およびＲ５６として使用することができる非水素置換基は、独立してハロゲン、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲンもしくはアルキル基；代替として、ハロゲンもしくはアルコキシ基；代替として、アルキル基もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、アルキル基；または代替として、アルコキシ基であってもよい。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、構造Ｇ１０を有するＲ５基をさらに記載する。
【０１６０】
一態様において、Ｒ４およびＲ５は、独立してピリジニル基、置換ピリジニル基、フリル基、置換フリル基、チエニル基、または置換チエニル基であってもよい。一実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立してピリジニル基または置換ピリジニル基であってもよく；代替として、フリル基または置換フリル基；または代替として、チエニル基または置換チエニル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、独立してピリジニル基、フリル基、またはチエニル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ４およびＲ５は、ピリジニル基；代替として、置換ピリジニル基；代替として、フリル基；代替として、置換フリル基；代替として、チエニル基；または代替として、置換チエニル基であってもよい。
【０１６１】
一実施形態において、ピリジニル（または置換ピリジニル）Ｒ４および／またはＲ５基は、独立してピリジン−２−イル基、置換ピリジン−２−イル基、ピリジン−３−イル基、置換ピリジン−３−イル基、ピリジン−４−イル基、または置換ピリジン−４−イル基；代替として、ピリジン−２−イル基、ピリジン−３−イル基、またはピリジン−４−イル基であってもよい。いくつかの実施形態において、ピリジニル（または置換ピリジニル）Ｒ４および／またはＲ５基は、独立してピリジン−２−イル基または置換ピリジン−２−イル基；代替として、ピリジン−３−イル基もしくは置換ピリジン−３−イル基；代替として、ピリジン−４−イル基もしくは置換ピリジン−４−イル基；代替として、ピリジン−２−イル基；代替として、置換ピリジン−２−イル基；代替として、ピリジン−３−イル基；
代替として、置換ピリジン−３−イル基；代替として、ピリジン−４−イル基；または代替として、置換ピリジン−４−イル基であってもよい。一実施形態において、置換ピリジニルＲ４および／またはＲ５基は、独立して２−置換ピリジン−３−イル基、４−置換ピリジン−３−イル基、５−置換ピリジン−３−イル基、６−置換ピリジン−３−イル基、２，４−二置換ピリジン−３−イル基、２，６−二置換ピリジン−３−イル基、もしくは２，４，６−三置換ピリジン−３−イル基；代替として、２−置換ピリジン−３−イル基、４−置換ピリジン−３−イル基、もしくは６−置換ピリジン−３−イル基；代替として、２，４−二置換ピリジン−３−イル基もしくは２，６−二置換ピリジン−３−イル基；代替として、２−置換ピリジン−３−イル基；代替として、４−置換ピリジン−３−イル基；代替として、５−置換ピリジン−３−イル基；代替として、６−置換ピリジン−３−イル基；代替として、２，４−二置換ピリジン−３−イル基；代替として、２，６−二置換ピリジン−３−イル基；または代替として、２，４，６−三置換ピリジン−３−イル基であってもよい。一実施形態において、置換ピリジニルＲ４および／またはＲ５基は、独立して２−置換ピリジン−４−イル基、３−置換ピリジン−４−イル基、５−置換ピリジン−４−イル基、６−置換ピリジン−４−イル基、２，６−二置換ピリジン−４−イル基、もしくは３，５−二置換ピリジン−４−イル基；代替として、２−置換ピリジン−４−イル基もしくは６−置換ピリジン−４−イル基；代替として、３−置換ピリジン−４−イル基もしくは５−置換ピリジン−４−イル基；代替として、２−置換ピリジン−４−イル基；代替として、３−置換ピリジン−４−イル基；代替として、５−置換ピリジン−４−イル基；代替として、６−置換ピリジン−４−イル基；代替として、２，６−二置換ピリジン−４−イル基；または代替として、３，５−二置換ピリジン−４−イル基であってもよい。
【０１６２】
一実施形態において、各フリル（または置換フリル）Ｒ４および／またはＲ５基は、独立してフル−２−イル基、置換フル−２−イル基、フル−３−イル基、または置換フル−３−イル基；代替として、フル−２−イルまたはフル−３−イル基から選択することができる。いくつかの実施形態において、フリル（または置換フリル）Ｒ４および／またはＲ５基は、独立してフル−２−イル基もしくは置換フル−２−イル基；代替として、フル−３−イル基もしくは置換フル−３−イル基；代替として、フル−２−イル基；代替として、置換フル−２−イル基；代替として、フル−３−イル基；または代替として、置換フル−３−イル基から選択することができる。一実施形態において、置換フリルＲ４および／またはＲ５基は、２−置換フル−３−イル基、４−置換フル−３−イル基、もしくは２，４−二置換フル−３−イル基；代替として、２−置換フル−３−イル基；代替として、４−置換フル−３−イル基；または代替として、２，４−二置換フル−３−イル基であってもよい。
【０１６３】
一実施形態において、チエニル（または置換チエニル）Ｒ４および／またはＲ５基は、独立してチエン−２−イル基、置換チエン−２−イル基、チエン−３−イル基、または置換チエン−３−イル基；代替として、チエン−２−イル基またはチエン−３−イル基から選択することができる。いくつかの実施形態において、チエニル（または置換チエニル）Ｒ４および／またはＲ５基は、独立してチエン−２−イル基もしくは置換チエン−２−イル基；代替として、チエン−３−イル基もしくは置換チエン−３−イル基；代替として、チエン−２−イル基；代替として、置換チエン−２−イル基；代替として、チエン−３−イル基；または代替として、置換チエン−３−イル基から選択することができる。一実施形態において、置換チエニルＲ４および／またはＲ５基は、２−置換チエン−３−イル基、４−置換チエン−３−イル基、もしくは２，４−二置換チエン−３−イル基；代替として、２−置換チエン−３−イル基；代替として、４−置換チエン−３−イル基；または代替として、２，４−二置換チエン−３−イル基であってもよい。
【０１６４】
一実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５として使用することができる置換ピリジニル、フリル、および／またはチエニル基の置換基（一般的または特定の）は、独立してハロゲン、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルビル基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ヒドロカルビル基もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５として使用することができる置換ピリジニル、フリル、および／またはチエニル基の置換基（一般的または特定の）は、独立してハロゲン、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲンもしくはアルキル基；代替として、ハロゲンもしくはアルコキシ基；代替として、アルキル基もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、アルキル基；または代替として、アルコキシ基であってもよい。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、Ｒ４および／またはＲ５として使用することができる置換ピリジニル、フリルおよび／またはチエニル基の置換基（一般的または特定の）をさらに記載する。
【０１６５】
置換シクロアルキル基（一般的または特定の）の一般的および特定の非水素置換基、置換脂肪族複素環基（一般的または特定の）、置換シクロヘテリル基（一般的または特定の）、置換芳香族基（一般的または特定の）、置換アリール基（一般的または特定の）、置換ヘテロアリール基（一般的または特定の）、または置換アリールヘテリル基（一般的または特定の）は、本明細書に開示される。これらの一般的および特定の非水素置換基は、限定されることなく使用することができ、置換シクロアルキル基（一般的または特定の）、置換脂肪族複素環基（一般的または特定の）、置換シクロヘテリル基（一般的または特定の）、置換芳香族基（一般的または特定の）、置換アリール基（一般的または特定の）、置換ヘテロアリール基（一般的または特定の）、置換アリールヘテリル基（一般的または特定の）、またはＲ４および／またはＲ５として使用することができる他の任意の一般的なまたは特定の基をさらに記載する。
【０１６６】
一態様において、Ｒ４およびＲ５が結合してＮ２−ホスフィニルアミジン基のリン原子を含む環式基を形成する場合、ホスフィニル基は、ホスホル−１−イル基、置換ホスホル−１−イル基、２，３−ジホスホル−１−イル基、置換２，３−ジホスホル−１−イル基、３，５−ジホスホル−１−イル基、置換３，５−ジホスホル−１−イル基、ホスホラン−１−イル基、置換ホスホラン−１−イル基、１，２−ジホドロホスフィニン−１−イル基、置換、１，２−ジホドロホスフィニン−１−イル基、１，４−ジホドロホスフィニン−１−イル基、置換１，４−ジホドロホスフィニン−１−イル基、１，２，３，４−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基、置換１，２，３，４−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基、１，２，３，６−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基、置換１，２，３，６−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基、ホスフィナン−１−イル基、または置換ホスフィナン−１−イル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ４およびＲ５が結合してＮ２−ホスフィニルアミジン基のリン原子を含む環式基を形成する場合、ホスフィニル基は、ホスホル−１−イル基もしくは置換ホスホル−１−イル基；代替として、２，３−ジホスホル−１−イル基もしくは置換２，３−ジホスホル−１−イル基；代替として、３，５−ジホスホル−１−イル基もしくは置換３，５−ジホスホル−１−イル基；代替として、ホスホラン−１−イル基もしくは置換ホスホラン−１−イル基；代替として、１，２−ジヒドロホスフィニン−１−イル基もしくは置換１，２−ジヒドロホスフィニン−１−イル基；代替として、１，４−ジヒドロホスフィニン−１−イル基もしくは置換１，４−ジヒドロホスフィニン−１−イル基；代替として、１，２，３，４−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基、もしくは置換１，２，３，４−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基；代替として、１，２，３，６−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基、もしくは置換１，２，３，６−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基；または代替として、ホスフィナン−１−イル基もしくは置換ホスフィナン−１−イル基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｒ４およびＲ５が結合してＮ２−ホスフィニルアミジン基のリン原子を含む環式基を形成する場合、ホスフィニル基は、ホスホル−１−イル基、２，３−ジホスホル−１−イル基、３，５−ジホスホル−１−イル基、ホスホラン−１−イル基、１，２−ジヒドロホスフィニン−１−イル基、１，４−ジヒドロホスフィニン−１−イル基、１，２，３，４−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基、１，２，３，６−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基、またはホスフィナン−１−イル基であってもよい。他の実施形態において、Ｒ４およびＲ５が結合してＮ２−ホスフィニルアミジン基のリン原子を含む環式基を形成する場合、ホスフィニル基は、置換ホスホル−１−イル基、置換２，３−ジホスホル−１−イル基、置換３，５−ジホスホル−１−イル基、置換ホスホラン−１−イル基、置換１，２−ジヒドロホスフィニン−１−イル基、置換１，４−ジヒドロホスフィニン−１−イル基、置換１，２，３，４−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基、置換１，２，３，６−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基、または置換ホスフィナン−１−イル基であってもよい。また他の実施形態において、ホスホラン−１−イル基、置換ホスホラン−１−イル基、ホスフィナン−１−イル基、もしくは置換ホスフィナン−１−イル基；代替として、ホスホラン−１−イル基もしくはホスフィナン−１−イル基；または代替として、置換ホスホラン−１−イル基もしくは置換ホスフィナン−１−イル基。さらなる実施形態において、Ｒ４およびＲ５が結合してＮ２−ホスフィニルアミジン基のリン原子を含む環式基を形成する場合、ホスフィニル基は、ホスホル−１−イル基；代替として、置換ホスホル−１−イル基；代替として、２，３−ジホスホル−１−イル基；代替として、置換２，３−ジホスホル−１−イル基；代替として、３，５−ジホスホル−１−イル基；代替として、置換３，５−ジホスホル−１−イル基；代替として、ホスホラン−１−イル基；代替として、置換ホスホラン−１−イル基；代替として、１，２−ジヒドロホスフィニン−１−イル基；代替として、置換、１，２−ジヒドロホスフィニン−１−イル基；代替として、１，４−ジヒドロホスフィニン−１−イル基；代替として、置換１，４−ジヒドロホスフィニン−１−イル基；代替として、１，２，３，４−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基；代替として、置換１，２，３，４−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基；代替として、１，２，３，６−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基；代替として、置換１，２，３，６−テトラヒドロホスフィニン−１−イル基；代替として、ホスフィナン−１−イル基；または代替として、置換ホスフィナン−１−イル基であってもよい。
【０１６７】
一実施形態において、Ｒ４およびＲ５が結合してＮ２−ホスフィニルアミジン基のリン原子を含む環式基を形成する場合、リン原子を含む環式基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ２窒素原子に結合したリン原子に隣接する炭素原子上の少なくとも１個の置換基を含むことができる。いくつかの実施形態において、Ｒ４およびＲ５が結合してＮ２−ホスフィニルアミジン基のリン原子を含む環式基を形成する場合、リン原子を含む環式基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ２窒素原子に結合したリン原子に隣接する各炭素原子上の少なくとも１個の置換基を含むことができる。他の実施形態において、Ｒ４およびＲ５が結合してＮ２−ホスフィニルアミジン基のリン原子を含む環式基を形成する場合、リン原子を含む環式基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ２窒素原子に結合したリン原子に隣接する炭素原子上のただ１個の置換基を含む、またはそれからなることができる。また他の実施形態において、Ｒ４およびＲ５が結合してＮ２−ホスフィニルアミジン基のリン原子を含む環式基を形成する場合、リン原子を含む環式基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ２窒素原子に結合したリン原子に隣接する各炭素原子上のただ１個の置換基を含む、またはそれからなることができる。
【０１６８】
一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のリン原子を含む環式基の各置換基は、独立してハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン、ヒドロカルビル基；代替として、ハロゲンまたはヒドロカルボキシ基；代替として、ヒドロカルビル基またはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のリン原子を含む環式基に使用することができる置換シクロアルキル基の各置換基は、独立してハロゲン、アルキル基、およびアルコキシ基；代替として、ハロゲンおよびアルキル基；代替として、ハロゲンもしくはアルコキシ基；代替として、アルキル基もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、アルキル基；または代替として、アルコキシ基であってもよい。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のリン原子を含む環式基の置換基をさらに記載する。
【０１６９】
一実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立してフェニル基、２−アルキルフェニル基、３−アルキルフェニル基、４−アルキルフェニル基、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル基、３，５−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基、４−アルキルフェニル基、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基もしくは４−アルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基、もしくは２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、２，６−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、３−アルキルフェニル基もしくは３，５−ジアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基もしくは２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基；代替として、３−アルキルフェニル基；代替として、４−アルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基；代替として、２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、３，５−ジアルキルフェニル基；または代替として、２，４，６−トリアルキルフェニル基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立してナフトｎａｐｈｔ−１−イル基、２−ナフト−２−イル基、２−アルキルナフト−１−イル基、１−アルキルナフト−２−イル基、３−アルキルナフトｎａｐｔｈ−２−イル基、または１，３−ジアルキルナフト−２−イル基；代替として、ナフトｎａｐｈｔ−１−イル基または２−アルキルナフト−１−イル基；代替として、ナフト−２−イル基、１−アルキルナフト−２−イル基、３−アルキルナフトｎａｐｔｈ−２−イル基、または１，３−ジアルキルナフト−２−イル基；代替として、ナフトｎａｐｈｔ−１−イル基；代替として、２−ナフト−２−イル基；代替として、２−アルキルナフト−１−イル基；代替として、１−アルキルナフト−２−イル基；代替として、３−アルキルナフトｎａｐｔｈ−２−イル基；または代替として、１，３−ジアルキルナフト−２−イル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立してシクロヘキシル基、２−アルキルシクロヘキシル基、もしくは２，６−ジアルキルシクロヘキシル基；代替として、シクロペンチル基、２−アルキルシクロペンチル基、もしくは２，５−ジアルキルシクロペンチル基；代替として、シクロヘキシル基；代替として、２−アルキルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジアルキルシクロヘキシル基；代替として、シクロペンチル基；代替として、２−アルキルシクロペンチル基；または代替として、２，５−ジアルキルシクロペンチル基であってもよい。アルキル基置換基は、独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができる、Ｒ４および／またはＲ５として使用することができるアルキルフェニル、ジアルキルフェニル、トリアルキルフェニル、ナフチル、ジアルキルナフチル、アルキルシクロヘキシル、ジアルキルシクロヘキシル、アルキルシクロペンチル、またはジアルキルシクロペンチル基をさらに記載する。一般に、ジアルキルまたはトリアルキルフェニル、ナフチル、シクロヘキシル、またはシクロペンチル基のアルキル置換基は、同一であってもよく；または代替として、ジアルキルまたはトリアルキルフェニル、ナフチル、シクロヘキシル、もしくはシクロペンチル基のアルキル置換基は、異なっていてもよい。
【０１７０】
別の非限定的な実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立してフェニル基、２−アルコキシフェニル基、３−アルコキシフェニル基、４−アルコキシフェニル基、または３，５−ジアルコキシフェニル基；代替として、２−アルコキシフェニル基または４−アルコキシフェニル基；代替として、３−アルコキシフェニル基または３，５−ジアルコキシフェニル基；代替として、２−アルコキシフェニル基；代替として、３−アルコキシフェニル基；代替として、４−アルコキシフェニル基；代替として、３，５−ジアルコキシフェニル基であってもよい。アルコキシ基置換基は、独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、なるＲ４および／またはＲ５使用することができるアルコキシフェニルまたはジアルコキシフェニル基をさらに記載する。一般に、ジアルコキシフェニル基のアルコキシ置換基は同一であってもよく；または代替として、ジアルコキシフェニル基のアルコキシ置換基は、異なっていてもよい。
【０１７１】
他の非限定的な実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立してフェニル基、２−ハロフェニル基、３−ハロフェニル基、４−ハロフェニル基、２，６−ジハロフェニル基、もしくは３，５−ジアルキルフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基、４−ハロフェニル基、もしくは２，６−ジハロフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基もしくは４−ハロフェニル基；代替として、３−ハロフェニル基もしくは３，５−ジハロフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基；代替として、３−ハロフェニル基；代替として、４−ハロフェニル基；代替として、２，６−ジハロフェニル基；または代替として、３，５−ジハロフェニル基であってもよい。ハライドは、独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、Ｒ４および／またはＲ５として使用することができるハロフェニルまたはジハロフェニル基をさらに記載する。一般に、ジハロフェニル基のハライドは同じであってもよく；または、代替として、ジハロフェニル基のハライドは異なっていてもよい。
【０１７２】
非限定的な実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立して２−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、３−メチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、２，６−ジイソプロピルフェニル基、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、３，５−ジメチル基、もしくは２，４，６−トリメチルフェニル基；代替として、２−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、もしくは２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、２，６−ジメチルフェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、２，６−ジイソプロピルフェニル基、もしくは２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、２−メチルフェニル基；代替として、２−エチルフェニル基；代替として、２−イソプロピルフェニル基；代替として、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、３−メチルフェニル基；代替として、２，６−ジメチルフェニル基；代替として、２，６−ジエチルフェニル基；代替として、２，６−ジイソプロピルフェニル基；代替として、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、３，５−ジメチル基；または代替として、２，４，６−トリメチルフェニル基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立してシクロヘキシル基、２−メチルシクロヘキシル基、２−エチルシクロヘキシル基、２−イソプロピルシクロヘキシル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基、２，６−ジメチルシクロヘキシル基、２，６−ジエチルシクロヘキシル基、２，６−ジイソプロピルシクロヘキシル基、もしくは２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基；代替として、２−メチルシクロヘキシル基、２−エチルシクロヘキシル基、２−イソプロピルシクロヘキシル基、もしくは２−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジメチルシクロヘキシル基、２，６−ジエチルシクロヘキシル基、２，６−ジイソプロピルシクロヘキシル基、もしくは２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基；代替として、シクロヘキシル基；代替として、２−メチルシクロヘキシル基；代替として、２−エチルシクロヘキシル基；代替として、２−イソプロピルシクロヘキシル基；代替として、２−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジメチルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジエチルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジイソプロピルシクロヘキシル基；または代替として、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立して２−メチルナフト−１−イル基、２−エチルナフト−１−イル基、２−ｎ−プロピルナフト−１−イル基、２−イソプロピルナフト−１−イル基、または２−ｔｅｒｔ−ブチルナフト−１−イル基；代替として、２−メチルナフト−１−イル基；代替として、２−エチルナフト−１−イル基；代替として、２−ｎ−プロピルナフト−１−イル基；代替として、２−イソプロピルナフト−１−イル基；または代替として、２−ｔｅｒｔ−ブチルナフト−１−イル基であってもよい。
【０１７３】
非限定的な実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立して２−メトキシフェニル基、２−エトキシフェニル基、２−イソプロポキシフェニル基、２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、３−イソプロポキシフェニル基、３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、４−イソプロポキシフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、２，４−ジメトキシフェニル基、２，４−ジエトキシフェニル基、２，４−ジイソプロポキシフェニル基、２，４−じ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、３，５−ジメトキシフェニル基、３，５−ジエトキシフェニル基、３，５−ジイソプロポキシフェニル基、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、２，６−ジメトキシフェニル基、２，６−ジエトキシフェニル基、２，６−ジイソプロポキシフェニル基、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、もしくは２，４，６−トリメトキシフェニル基；代替として、２−メトキシフェニル基、２−エトキシフェニル基、２−イソプロポキシフェニル基、もしくは２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、３−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、３−イソプロポキシフェニル基、もしくは３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、４−メトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、４−イソプロポキシフェニル基、もしくは４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、２，４−ジメトキシフェニル基、２，４−ジエトキシフェニル基、２，４−ジイソプロポキシフェニル基、もしくは２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、３，５−ジメトキシフェニル基、３，５−ジエトキシフェニル基、３，５−ジイソプロポキシフェニル基、もしくは３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；または代替として、２，６−ジメトキシフェニル基、２，６−ジエトキシフェニル基、２，６−ジイソプロポキシフェニル基、もしくは２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立して２−メトキシフェニル基；代替として、２−エトキシフェニル基；代替として、２−イソプロポキシフェニル基；代替として、２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、３−メトキシフェニル基；代替として、３−エトキシフェニル基；代替として、３−イソプロポキシフェニル基；代替として、３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、４−メトキシフェニル基；代替として、４−エトキシフェニル基；代替として、４−イソプロポキシフェニル基；代替として、４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、２，４−ジメトキシフェニル基；代替として、２，４−ジエトキシフェニル基；代替として、２，４−ジイソプロポキシフェニル基；代替として、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、３，５−ジメトキシフェニル基；代替として、３，５−ジエトキシフェニル基；代替として、３，５−ジイソプロポキシフェニル基；代替として、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、２，６−ジメトキシフェニル基；代替として、２，６−ジエトキシフェニル基；代替として、２，６−ジイソプロポキシフェニル基；代替として、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；または代替として、２，４，６−トリメトキシフェニル基であってもよい。
【０１７４】
別の非限定的な実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立して２−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル基、３−フルオロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−フルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、もしくは３，５−ジクロロフェニル基；代替として、２−フルオロフェニル基もしくは２−クロロフェニル基；代替として、３−フルオロフェニル基もしくは３−クロロフェニル基；代替として、４−フルオロフェニル基もしくは４−クロロフェニル基；代替として、３，５−ジフルオロフェニル基もしくは３，５−ジクロロフェニル基；代替として、３−フルオロフェニル基、３−クロロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基もしくは３，５−ジクロロフェニル基；または代替として、３−フルオロフェニル基もしくは３，５−ジフルオロフェニル基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、Ｒ４および／またはＲ５は、独立して２−フルオロフェニル基；代替として、２−クロロフェニル基；代替として、３−フルオロフェニル基；代替として、３−クロロフェニル基；代替として、４−フルオロフェニル基；代替として、４−クロロフェニル；代替として、３，５−ジフルオロフェニル基；または代替として、３，５−ジクロロフェニル基であってもよい。
【０１７５】
一般に、ホスフィニル基のＲ４および／またはＲ５基は、独立して本明細書に記載され、任意の組み合わせにおいて使用することができる任意のＲ４またはＲ５基であってもよく、本明細書において記載される任意のＮ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基をさらに記載する。一実施形態において、Ｒ４およびＲ５は同じであってもよい。他の実施形態において、Ｒ４およびＲ５は異なっていてもよい。
【０１７６】
一態様において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、ジフェニルホスフィニル基、ジアルキルホスフィニル基、ビス（モノハロ置換フェニル）ホスフィニル基、ビス（モノアルキル置換フェニル）ホスフィニル基、もしくはビス（モノアルコキシ置換フェニル）ホスフィニル基；代替として、ジフェニルホスフィニル基；代替として、ジアルキルホスフィニル基；代替として、ビス（モノハロ置換フェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（モノアルキル置換フェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（モノアルコキシ置換フェニル）ホスフィニル基であってもよい。別の態様において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、（アルキル）（フェニル）ホスフィニル基、（モノハロ置換フェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（モノアルキル置換フェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（モノアルコキシ置換フェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（モノアルキル置換フェニル）（モノハロ置換フェニル）ホスフィニル基、または（モノアルキル置換フェニル）（モノアルコキシ置換フェニル）ホスフィニル基；代替として、（アルキル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（モノハロ置換フェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（モノアルキル置換フェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（モノアルコキシ置換フェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（モノアルキル置換フェニル）（モノハロ置換フェニル）ホスフィニル基；または代替として、（モノアルキル置換フェニル）（モノ−アルコキシ置換フェニル）ホスフィニル基であってもよい。別の態様において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、ビス（ジハロ置換フェニル）ホスフィニル基、ビス（ジアルキル置換フェニル）ホスフィニル基、ビス（ジアルコキシ置換フェニル）ホスフィニル基、ビス（トリアルキルフェニル）ホスフィニル基、またはビス（トリアルコキシフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（ジハロ置換フェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（ジアルキル置換フェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（ジアルコキシ置換フェニル）ホスフィニル基；
代替として、ビス（トリアルキルフェニル）ホスフィニル基；または代替として、ビス（トリアルコキシフェニル）ホスフィニル基であってもよい。ハロゲン、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に記載され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物において使用することができるホスフィニル基をさらに記載する。
【０１７７】
非限定的な態様において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、ジメチルホスフィニル基、ジエチルホスフィニル基、ジイソプロピルホスフィニル基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィニル基、またはジネオペンチルホスフィニル基であってもよい。非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基はジメチルホスフィニル基；代替として、ジエチルホスフィニル基；代替として、ジイソプロピルホスフィニル基；代替として、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィニル基；または代替として、ジネオペンチルホスフィニル基であってもよい。
【０１７８】
非限定的な態様において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、（メチル）（フェニル）ホスフィニル基、（エチル）（フェニル）ホスフィニル基、（イソプロピル）（フェニル）ホスフィニル基、（ｔｅｒｔ−ブチル）（フェニル）ホスフィニル基、または（ネオ−ペンチル）（フェニル）ホスフィニル基であってもよい。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、（メチル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（エチル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（イソプロピル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（ｔｅｒｔ−ブチル）（フェニル）ホスフィニル基；または代替として、（ネオペンチル）（フェニル）ホスフィニル基であってもよい。
【０１７９】
いくつかの非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、ジシクロペンチルホスフィニル基、ジシクロヘキシルホスフィニル基；代替として、ジシクロペンチルホスフィニル基；または代替として、ジシクロヘキシルホスフィニル基であってもよい。
【０１８０】
また別の非限定的ｎｏｎ  ｎｏｎ−ｌｉｍｉｔｉｎｇな態様において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、ビス（２−フルオロフェニル）ホスフィニル基、ビス（２−クロロフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−フルオロフェニル）ホスフィニル基、ビス（４−フルオロフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−クロロフェニル）ホスフィニル基またはビス（４−クロロフェニル）ホスフィニル基であってもよい。いくつかの非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、ビス（２−フルオロフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−フルオロフェニル）ホスフィニル基、もしくはビス（４−フルオロフェニル）ホスフィニル基；または代替として、ビス（２−クロロフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−クロロフェニル）ホスフィニル基またはビス（４−クロロフェニル）ホスフィニル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、ビス（２−フルオロフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（２−クロロフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（３−フルオロフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（３−クロロフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（４−フルオロフェニル）ホスフィニル基；または代替として、ビス（４−クロロフェニル）ホスフィニル基であってもよい。
【０１８１】
また別の非限定的ｎｏｎ  ｎｏｎ−ｌｉｍｉｔｉｎｇな態様において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、（２−フルオロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（２−クロロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−フルオロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−クロロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（４−フルオロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、または（４−クロロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基であってもよい。いくつかの非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、（２−フルオロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−フルオロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、もしくは（４−フルオロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；または代替として、（２−クロロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−クロロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、もしくは（４−クロロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、（２−フルオロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（２−クロロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（３−フルオロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（３−クロロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（４−フルオロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；または代替として、（４−クロロフェニル）（フェニル）ホスフィニル基であってもよい。
【０１８２】
また別の非限定的ｎｏｎ  ｎｏｎ−ｌｉｍｉｔｉｎｇな態様において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、ジフェニルホスフィニル基、ビス（２−メチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（２−エチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（２−イソプロピルフェニル）ホスフィニル基、ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−メチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−エチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−イソプロピルフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィニル基、ジフェニルホスフィニル基、ビス（４−メチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（４−エチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（４−イソプロピルフェニル）ホスフィニル基、またはビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィニル基であってもよい。非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、ビス（２−メチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（２−エチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（２−イソプロピルフェニル）ホスフィニル基、もしくはビス（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィニル基；代替として、ジフェニルホスフィニル基、ビス（３−メチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−エチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−イソプロピルフェニル）ホスフィニル基、もしくはビス（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィニル基；または代替として、ジフェニルホスフィニル基、ビス（４−メチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（４−エチルフェニル）ホスフィニル基、ビス（４−イソプロピルフェニル）ホスフィニル基、もしくはビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィニル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、ジフェニルホスフィニル基；代替として、ビス（２−メチルフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（２−エチルフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（２−イソプロピルフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（３−メチルフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（３−エチルフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（３−イソプロピルフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィニル基；代替として、ジフェニルホスフィニル基；代替として、ビス（４−メチルフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（４−エチルフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（４−イソプロピルフェニル）ホスフィニル基；または代替として、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィニル基であってもよい。
【０１８３】
また別の非限定的ｎｏｎ  ｎｏｎ−ｌｉｍｉｔｉｎｇな態様において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、ジフェニルホスフィニル基、（２−メチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（２−エチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（２−イソプロピルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−メチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−エチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−イソプロピルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、ジフェニルホスフィニル基、（４−メチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（４−エチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（４−イソプロピルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、または（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基であってもよい。非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、（２−メチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（２−エチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（２−イソプロピルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、または（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、ジフェニルホスフィニル基、（３−メチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−エチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−イソプロピルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、もしくは（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；または代替として、ジフェニルホスフィニル基、（４−メチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（４−エチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（４−イソプロピルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、もしくは（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、ジフェニルホスフィニル基；代替として、（２−メチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（２−エチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（２−イソプロピルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（３−メチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（３−エチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（３−イソプロピルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、ジフェニルホスフィニル基；代替として、（４−メチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（４−エチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（４−イソプロピルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；または代替として、（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（フェニル）ホスフィニル基であってもよい。
【０１８４】
また別の非限定的なｎｏｎ  ｎｏｎ−ｌｉｍｉｔｉｎｇ態様において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、ジフェニルホスフィニル基、ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（２−エトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（２−イソプロポキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−メトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−エトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−イソプロポキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ホスフィニル基、ジフェノキシホスフィニル基、ビス（４−メトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（４−エトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（４−イソプロポキシフェニル）ホスフィニル基、またはビス（４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ホスフィニル基であってもよい。非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（２−エトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（２−イソプロポキシフェニル）ホスフィニル基、もしくはビス（２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ホスフィニル基；代替として、ジフェノキシホスフィニル基、ビス（３−メトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−エトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（３−イソプロポキシフェニル）ホスフィニル基、もしくはビス（３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ホスフィニル基；または代替として、ジフェノキシホスフィニル基、ビス（４−メトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（４−エトキシフェニル）ホスフィニル基、ビス（４−イソプロポキシフェニル）ホスフィニル基、もしくはビス（４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ホスフィニル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、ジフェニルホスフィニル基；代替として、ビス（２−メトキシフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（２−エトキシフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（２−イソプロポキシフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（３−メトキシフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（３−エトキシフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（３−イソプロポキシフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ホスフィニル基；代替として、ジフェノキシホスフィニル基；代替として、ビス（４−メトキシフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（４−エトキシフェニル）ホスフィニル基；代替として、ビス（４−イソプロポキシフェニル）ホスフィニル基；または代替として、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）ホスフィニル基であってもよい。
【０１８５】
また別の非限定的ｎｏｎ  ｎｏｎ−ｌｉｍｉｔｉｎｇな態様において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、ジフェニルホスフィニル基、（２−メトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（２−エトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（２−イソプロポキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−メトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−エトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−イソプロポキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、ジフェノキシホスフィニル基、（４−メトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（４−エトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（４−イソプロポキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、または（４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基であってもよい。非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、（２−メトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（２−エトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（２−イソプロポキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、もしくは（２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、ジフェノキシホスフィニル基、（３−メトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−エトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（３−イソプロポキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、もしくは（３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；または代替として、ジフェノキシホスフィニル基、（４−メトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（４−エトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（４−イソプロポキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、もしくは（４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のホスフィニル基は、ジフェニルホスフィニル基；代替として、（２−メトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（２−エトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（２−イソプロポキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（２−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（３−メトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（３−エトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（３−イソプロポキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、ジフェノキシホスフィニル基；代替として、（４−メトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；代替として、（４−エトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基、（４−イソプロポキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基；または代替として、（４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル）（フェニル）ホスフィニル基であってもよい。
【０１８６】
一般に、Ｄ１は、ｑ価のオルガニック基；代替として、本質的に不活性官能基からなるｑ価のオルガニック基；または代替として、ｑ価の炭化水素基であってもよい。一態様において、Ｄ１は、ｑ価のＣ１〜Ｃ３０オルガニック基；代替として、ｑ価のＣ１〜Ｃ２０オルガニック基；代替として、ｑ価のＣ１〜Ｃ１５オルガニック基；代替として、ｑ価のＣ１〜Ｃ１０オルガニック基；または代替として、ｑ価のＣ１〜Ｃ５オルガニック基であってもよい。別の態様において、Ｄ１は、本質的に不活性官能基からなるｑ価のＣ１〜Ｃ３０オルガニック基；代替として、本質的に不活性官能基からなるｑ価のＣ１〜Ｃ２０オルガニック基；代替として、本質的に不活性官能基からなるｑ価のＣ１〜Ｃ１５オルガニック基；代替として、本質的に不活性官能基からなるｑ価のＣ１〜Ｃ１０オルガニック基；または代替として、本質的に不活性官能基からなるｑ価のＣ１〜Ｃ５オルガニック基であってもよい。また別の態様において、Ｄ１は、ｑ価のＣ１〜Ｃ３０ヒドロカルビル基；代替として、ｑ価のＣ１〜Ｃ２０ヒドロカルビル基；代替として、ｑ価のＣ１〜Ｃ１５ヒドロカルビル基；代替として、ｑ価のＣ１〜Ｃ１０ヒドロカルビル基；または代替として、ｑ価のＣ１〜Ｃ５ヒドロカルビル基であってもよい。また他の態様において、Ｄ１は、ｑ価のＣ３〜Ｃ３０芳香族基；代替として、ｑ価のＣ３〜Ｃ２０芳香族基；代替として、ｑ価のＣ３ｔｏＣ１５芳香族基；または代替として、ｑ価のＣ３〜Ｃ１０芳香族基であってもよい。
【０１８７】
一態様において、ｑは０を超える整数であってもよい。いくつかの実施形態において、ｑは、１から５までの整数；代替として、１から４までの整数；または代替として、２もしくは３であってもよい。他の実施形態において、ｑは、１；代替として、２；代替として、３；代替として、４；または代替として、５であってもよい。
【０１８８】
一態様において、Ｌ１は、Ｃ１〜Ｃ３０オルガニレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０オルガニレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５オルガニレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０オルガニレン基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５オルガニレン基であってもよい。別の態様において、Ｌ１は、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニレン基；代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ２０オルガニレン基；代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ１５オルガニレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０オルガニレン基；または代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ５オルガニレン基であってもよい。また別の態様において、Ｌ１は、Ｃ１〜Ｃ３０ヒドロカルビレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０ヒドロカルビレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５ヒドロカルビレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビレン基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビレン基であってもよい。また他の態様において、Ｌ１は、Ｃ３〜Ｃ３０芳香族基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０芳香族基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５芳香族基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ１０芳香族基であってもよい。
【０１８９】
一態様において、Ｌ１は、Ｃ１〜Ｃ３０アルキレン基、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキレン基、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキレン基、Ｃ３〜Ｃ３０脂肪族ヘテロシクリレン基、Ｃ３〜Ｃ３０置換脂肪族ヘテロシクリレン基、Ｃ６〜Ｃ３０アリーレン基、Ｃ６〜Ｃ３０置換アリーレン基、Ｃ３〜Ｃ３０ヘテロアリーレン基、もしくはＣ３〜Ｃ３０置換ヘテロアリーレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ３０アルキレン基、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキレン基、Ｃ４〜Ｃ３０の置換シクロアルキレン基、Ｃ６〜Ｃ３０アリーレン基、もしくはＣ６〜Ｃ３０の置換アリーレン基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキレン基もしくはＣ４〜Ｃ３０置換シクロアルキレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０脂肪族ヘテロシクリレン基もしくはＣ３〜Ｃ３０置換脂肪族ヘテロシクリレン基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０アリーレン基もしくはＣ６〜Ｃ３０置換アリーレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０ヘテロアリーレン基もしくはＣ３〜Ｃ３０置換ヘテロアリーレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ３０アルキレン基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキレン基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０脂肪族ヘテロシクリレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０置換脂肪族ヘテロシクリレン基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０アリーレン基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０置換アリーレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０ヘテロアリーレン基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ３０置換ヘテロアリーレン基であってもよい。一実施形態において、Ｌ１は、Ｃ１〜Ｃ１５アルキレン基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキレン基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキレン基、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族ヘテロシクリレン基、Ｃ３〜Ｃ２０置換脂肪族ヘテロシクリレン基、Ｃ６〜Ｃ２０アリーレン基、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリーレン基、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリーレン基、もしくはＣ３〜Ｃ２０置換ヘテロアリーレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５アルキレン基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキレン基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキレン基、Ｃ６〜Ｃ２０アリーレン基、もしくはＣ６〜Ｃ２０置換アリーレン基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキレン基もしくはＣ４〜Ｃ２０置換シクロアルキレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族ヘテロシクリレン基もしくはＣ３〜Ｃ２０置換脂肪族ヘテロシクリレン基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリーレン基もしくはＣ６〜Ｃ２０置換アリーレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリーレン基もしくはＣ３〜Ｃ２０置換ヘテロアリーレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５アルキレン基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキレン基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族ヘテロシクリレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０置換脂肪族ヘテロシクリレン基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリーレン基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリーレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリーレン基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ２０置換ヘテロアリーレン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ１は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキレン基、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキレン基、Ｃ３〜Ｃ１５脂肪族ヘテロシクリレン基、Ｃ３〜Ｃ１５置換脂肪族ヘテロシクリレン基、Ｃ６〜Ｃ１５アリーレン基、Ｃ６〜Ｃ１５置換アリーレン基、Ｃ３〜Ｃ１５ヘテロアリーレン基、もしくはＣ３〜Ｃ１５置換ヘテロアリーレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキレン基、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキレン基、Ｃ６〜Ｃ１５アリーレン基、もしくはＣ６〜Ｃ１５置換アリーレン基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキレン基もしくはＣ４〜Ｃ１５置換シクロアルキレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５脂肪族ヘテロシクリレン基もしくはＣ３〜Ｃ１５置換脂肪族ヘテロシクリレン基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５アリーレン基もしくはＣ６〜Ｃ１５置換アリーレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５ヘテロアリーレン基もしくはＣ３〜Ｃ１５置換ヘテロアリーレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキレン基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５の置換シクロアルキレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５脂肪族ヘテロシクリレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５置換脂肪族ヘテロシクリレン基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５アリーレン基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５置換アリーレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５ヘテロアリーレン基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ１５置換ヘテロアリーレン基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｌ１は、Ｃ１〜Ｃ５アルキレン基であってもよい。
【０１９０】
一実施形態において、Ｌ１は、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシレン基、オクタデシレン基、もしくはノナデシレン基；または代替として、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１は、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、またはペンチレン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ１は、メチレン基；代替として、エチレン基；代替として、プロピレン基；代替として、ブチレン基；代替として、ペンチレン基；代替として、ヘキシレン基；代替として、ヘプチレン基；代替として、オクチレン基；代替として、ノニレン基；代替として、デシレン基；代替として、ウンデシレン基；代替として、ドデシレン基；代替として、トリデシレン基；代替として、テトラデシレン基；代替として、ペンタデシレン基；代替として、ヘキサデシレン基；代替として、ヘプタデシレン基；代替として、オクタデシレン基；または代替として、ノナデシレン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１は、エタ−１，２−イレン基、プロパ−１，３−イレン基、ブタ−１，４−イレン基、ブタ−２，３−イレン基、ペンタ−１，５−イレン基、２，２−ジメチルプロパ−１，３−イレン基、ヘキサ−１，６−イレン基、もしくは２，３−ジメチルブタ−２，３−イレン基；代替として、エタ−１，２−イレン基、プロパ−１，３−イレン基、ブタ−１，４−イレン基、ペンタ−１，５−イレン基、もしくはヘキサ−１，６−イレン基；代替として、エタ−１，２−イレン基；代替として、プロパ−１，３−イレン基；代替として、ブタ−１，４−イレン基；代替として、ブタ−２，３−イレン基；代替として、ペンタ−１，５−イレン基；代替として、２，２−ジメチルプロパ−１，３−イレン基；代替として、ヘキサ−１，６−イレン基；または代替として、２，３−ジメチルブタ−２，３−イレン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１として使用することができるアルキレン基は、置換されていてもよい。置換アルキレン基の各置換基は、独立してハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。置換基として使用することができるハロゲンおよびヒドロカルボキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）で、限定されることなく使用することができ、Ｌ１として使用することができる置換アルキレン基をさらに記載する。
【０１９１】
一態様において、Ｌ１は、式−ＣＲ１ａＲ２ａ（ＣＨ２）ｔＣＲ３ａＲ４ａ−［式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３ａ、およびＲ４ａはそれぞれ、独立して水素、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、または、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシ基であってもよく、ｔはゼロまたは１から２８までの範囲の整数であってもよい。］を有することができる。一実施形態において、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３ａ、およびＲ４ａは、独立して水素、ハロゲン、およびＣ１〜Ｃ５アルキル基；代替として、水素、ハロゲン、もしくはＣ１〜Ｃ５アルコキシ基；代替として、水素、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、もしくはＣ１〜Ｃ５アルコキシ基；代替として、水素もしくはハロゲン；代替として、水素もしくはＣ１〜Ｃ５アルキル基；代替として、水素もしくはＣ１〜Ｃ５アルコキシ基；代替として、水素；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基であってもよい。一実施形態において、ｔは、１から１８；代替として、１から１３；代替として、１から８；または代替として、１から３の範囲の整数であってもよい。他の実施形態において、ｔはゼロであってもよい。置換基としての使用することができるハロゲン、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、およびＣ１〜Ｃ５アルコキシ基は、独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、式−ＣＲ１ａＲ２ａ（ＣＨ２）ｔＣＲ３ａＲ４ａ−を有するＬ１をさらに記載する。別の態様において、Ｌ１は、ｓが１から３０の範囲の整数であってもよい式−（ＣＨ２）ｓ−を有することができる。一実施形態において、ｓは、１から２０まで；代替として、１から１５まで；代替として、１から１０まで；または代替として、１から５までの範囲の整数であってもよい。
【０１９２】
一態様において、Ｌ１は、本明細書に記載される任意のＬ１基であってもよく（または、Ｄ１は本明細書に記載される任意のＤ１基であってもよく）、ここで、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合したＬ１の１個もしくは複数の炭素原子（Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合したＤ１の１個もしくは複数の炭素原子）は、第三級炭素原子もしくは第四級炭素原子；代替として、第三級炭素原子；または代替として、第四級炭素原子であってもよい。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合したＬ１の各炭素原子（またはＮ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合したＤ１の各炭素原子）は、第三級炭素原子もしくは第四級炭素原子；代替として、第三級炭素原子；または代替として、第四級炭素原子であってもよい。
【０１９３】
一実施形態において、Ｌ１は、シクロブチレン基、置換シクロブチレン基、シクロペンチレン基、置換シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、置換シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基、置換シクロヘプチレン基、シクロオクチレン基、または置換シクロオクチレン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１は、シクロペンチレン基、置換シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、置換シクロヘキシレン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ１は、シクロブチレン基もしくは置換シクロブチレン基；代替として、シクロペンチレン基もしくは置換シクロペンチレン基；代替として、シクロヘキシレン基もしくは置換シクロヘキシレン基；代替として、シクロヘプチレン基もしくは置換シクロヘプチレン基；または代替として、シクロオクチレン基、もしくは置換シクロオクチレン基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｌ１は、シクロペンチレン基；代替として、置換シクロペンチレン基；シクロヘキシレン基；または代替として、置換シクロヘキシレン基であってもよい。
【０１９４】
一実施形態において、Ｌ１は、シクロペンタ−１，３−イレン基、置換シクロペンタ−１，３−イレン基、シクロヘキサ−１，３−イレン基、置換シクロヘキサ−１，３−イレン基、シクロヘキサ−１，４−イレン基、または置換シクロヘキサ−１，４−イレン基；代替として、シクロペンタ−１，３−イレン基、シクロヘキサ−１，３−イレン基、またはシクロヘキサ−１，４−イレン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１は、シクロペンタ−１，３−イレン基もしくは置換シクロペンタ−１，３−イレン基；代替として、シクロヘキサ−１，３−イレン基、置換シクロヘキサ−１，３−イレン基、シクロヘキサ−１，４−イレン基、もしくは置換シクロヘキサ−１，４−イレン基；代替として、シクロヘキサ−１，３−イレン基もしくは置換シクロヘキサ−１，３−イレン基；代替として、シクロヘキサ−１，４−イレン基もしくは置換シクロヘキサ−１，４−イレン基；代替として、シクロペンタ−１，３−イレン基、シクロヘキサ−１，３−イレン基、もしくはシクロヘキサ−１，４−イレン基；または代替として、置換シクロペンタ−１，３−イレン基、置換シクロヘキサ−１，３−イレン基、もしくは置換シクロヘキサ−１，４−イレン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ１は、シクロペンタ−１，３−イレン基；代替として、置換シクロペンタ−１，３−イレン基；代替として、シクロヘキサ−１，３−イレン基；代替として、置換シクロヘキサ−１，３−イレン基；代替として、シクロヘキサ−１，４−イレン基；または代替として、置換シクロヘキサ−１，４−イレン基であってもよい。
【０１９５】
非限定的な実施形態において、Ｌ１は、２−置換シクロペンタ−１，３−イレン基、４，５−二置換シクロペンタｃｙｃｌｏｐｅｎ−１，３−イレン基、２，５−二置換シクロペンタｃｙｃｌｏｐｅｎ−１，３−イレン基、または２，４，５−三置換シクロペンタｃｙｃｌｏｐｅｎ−１，３−イレン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１は、２−置換シクロペンタｃｙｃｌｏｐｅｎ−１，３−イレン基；代替として、４，５−二置換シクロペンタｃｙｃｌｏｐｅｎ−１，３−イレン基；代替として、２，５−二置換シクロペンタｃｙｃｌｏｐｅｎ−１，３−イレン基；代替として２，４，５−三置換シクロペンタｃｙｃｌｏｐｅｎ−１，３−イレン基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、Ｌ１は、２，６−二置換シクロヘキサ−１，４−イレン基、２，３−二置換シクロヘキサ−１，４−イレン基、２，５−二置換シクロヘキサ−１，４−イレン基、または２，３，５，６−四置換シクロヘキサ−１，４−イレン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１は、２，６−二置換シクロヘキサ−１，４−イレン基もしくは２，５−二置換シクロヘキサ−１，４−イレン基；代替として、２，６−二置換シクロヘキサ−１，４−イレン基；代替として、２，３−二置換シクロヘキサ−１，４−イレン基；代替として、２，５−二置換シクロヘキサ−１，４−イレン基；または代替として、２，３，５，６−四置換シクロヘキサ−１，４−イレン基であってもよい。また別の非限定的な実施形態において、Ｌ１は、２−置換シクロヘキサ−１，３−イレン基、２，４−二置換シクロヘキサ−１，３−イレン基、４，６−二置換シクロヘキサ−１，３−イレン基、または２，４，６−三置換シクロヘキサ−１，３−イレン基であってもよいであってもよい。さらなる非限定的な実施形態において、Ｌ１は、２−置換シクロヘキサ−１，３−イレン基；代替として、２，４−二置換シクロヘキサ−１，３−イレン基；代替として、４，６−二置換シクロヘキサ−１，３−イレン基；または代替として、２，４，６−三置換シクロヘキサ−１，３−イレン基であってもよい。
【０１９６】
一態様において、Ｌ１は、ビシクリレン基、置換ビシクリレン基、ビス（シクリレン）メタン基、置換ビス（シクリレン）メタン基、ビス（シクリレン）エタン基、もしくは置換ビス（シクリレン）エタン基；代替として、ビシクリレン基、ビス（シクリレン）メタン基、もしくはビス（シクリレン）エタン基；または代替として、置換ビシクリレン基、置換ビス（シクリレン）メタン基、もしくは置換ビス（シクリレン）エタン基であってもよい。一実施形態において、Ｌ１は、ビシクリレン基もしくは置換ビシクリレン基；代替として、ビス（シクリレン）メタン基もしくは置換ビス（シクリレン）メタン基；または代替として、ビス（シクリレン）エタン基もしくは置換ビス（シクリレン）エタン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１は、ビシクリレン基；代替として、置換ビシクリレン基；代替として、ビス（シクリレン）メタン基；代替として、置換ビス（シクリレン）メタン基；代替として、ビス（シクリレン）エタン基；または代替として、置換ビス（シクリレン）エタン基であってもよい。一般に本明細書に開示される任意のビス（シクリレン）エタン基（置換または非置換）は、ビ１，１−（シクリレン）エタン基もしくはビ１，２−（シクリレン）エタン基；代替として、ビス−１，１−（シクリレン）エタン基；または代替として、ビス−１，２−（シクリレン）エタン基であってもよい。
【０１９７】
一態様において、Ｌ１は、ビシクロヘキシレン基、置換ビシクロヘキシレン基、ビス（シクロヘキシレン）メタン基、置換ビス（シクロヘキシレン）メタン基、ビス（シクロヘキシレン）エタン基、もしくは置換ビス（シクロヘキシレン）エタン基；代替として、ビシクロヘキシレン基、ビス（シクロヘキシレン）メタン基、もしくはビス（シクロヘキシレン）エタン基；または代替として、置換ビシクロヘキシレン基、置換ビス（シクロヘキシレン）メタン基、もしくは置換ビス（シクロヘキシレン）エタン基であってもよい。一実施形態において、Ｌ１は、ビシクロヘキシレン基もしくは置換ビシクロヘキシレン基；代替として、ビス（シクロヘキシレン）メタン基もしくは置換ビス（シクロヘキシレン）メタン基；または代替として、ビス（シクロヘキシレン）エタン基もしくは置換ビス（シクロヘキシレン）エタン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１は、ビシクロヘキシレン基；代替として、置換ビシクロヘキシレン基；代替として、ビス（シクロヘキシレン）メタン基；代替として、置換ビス（シクロヘキシレン）メタン基；代替として、ビス（シクロヘキシレン）エタン基；または代替として、置換ビス（シクロヘキシレン）エタン基であってもよい。一般に、本明細書に開示される任意のビス（シクロヘキシレン）エタン基（置換または非置換）は、ビス−１、１−（シクロヘキシレン）エタン基、ビス−１，２−（シクロヘキシレン）エタン基；代替として、ビス−１，１−（シクロヘキシレン）エタン基；または代替として、ビス−１，２−（シクロヘキシレン）エタン基であってもよい。
【０１９８】
一実施形態において、Ｌ１は、ビシクロヘキサ−４，４’−イレン基、３，３’−二置換ビシクロヘキサ−４，４’−イレン基、３，３’，５，５’−四置換ビシクロヘキサ−４，４’−イレン基、ビス（シクロヘキサ−４−イレン）基、ビス（３−置換シクロヘキサ−４−イレン）メタン基、ビス（３，５−二置換シクロヘキサ−４−イレン）メタン基、ビス−１，２−（シクロヘキサ−４−イレン）エタン基、ビス−１，２−（３−置換シクロヘキサ−４−イレン）エタン基、ビス−１，２−（３，５−二置換シクロヘキサ−４−イレン）エタン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１は、ビシクロヘキサ−４，４’−イレン基、３，３’−二置換ビシクロヘキサ−４，４’−イレン基または３，３’，５，５’−四置換ビシクロヘキサ−４，４’−イレン基；代替として、ビス（シクロヘキサ−４−イレン）メタン基、ビス（３−置換シクロヘキサ−４−イレン）メタン基、ビス（３，５−二置換シクロヘキサ−４−イレン）メタン基；代替として、ビス−１，２−（シクロヘキサ−４−イレン）エタン基、ビス−１，２−（３−置換シクロヘキサ−４−イレン）エタン基、ビス−１，２−（３，５−二置換シクロヘキサ−４−イレン）エタン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ１は、ビシクロヘキサ−４，４’−イレン基；代替として、３，３’−二置換ビシクロヘキサ−４，４’−イレン基；代替として、３，３’，５，５’−四置換ビシクロヘキサ−４，４’−イレン基；代替として、ビス（シクロヘキサ−４−イレン）メタン基；代替として、ビス（３−置換シクロヘキサ−４−イレン）メタン基；代替として、ビス（３，５−二置換シクロヘキサ−４−イレン）メタン基；代替として、ビス−１，２−（シクロヘキサ−４−イレン）エタン基；代替として、ビス−１，２−（３−置換シクロヘキサ−４−イレン）エタン基；または代替として、ビス−１，２−（３，５−二置換シクロヘキサ−４−イレン）エタン基であってもよい。
【０１９９】
一態様において、Ｌ１は、フェニレン基または置換フェニレン基であってもよい。一実施形態において、Ｌ１は、フェニレン基；または代替として、置換フェニレン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１は、フェン−１，２−イレン基もしくは置換フェン−１，２−イレン基；代替として、フェン−１，２−イレン基；または代替として、置換フェン−１，２−イレン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ１は、フェン−１，３−イレン基または置換フェン−１，３−イレン基；代替として、フェン−１，３−イレン基；または代替として、置換フェン−１，３−イレン基であってもよい。また他の実施形態において、Ｌ１は、フェン−１，４−イレン基もしくは置換フェン−１，４−イレン基；
代替として、フェン−１，４−イレン基；または代替として、置換フェン−１，４−イレン基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｌ１は、フェン−１，２−イレン基、フェン−１，３−イレン基、またはフェン−１，４−イレン基；代替として、フェン−１，３−イレン基、またはフェン−１，４−イレン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ１は、置換フェン−１，２−イレン基、置換フェン−１，３−イレン基、または置換フェン−１，４−イレン基；代替として、置換フェン−１，３−イレン基、または置換フェン−１，４−イレン基であってもよい。
【０２００】
非限定的な実施形態において、Ｌ１は、２，６−二置換フェン−１，４−イレン基、２，３−二置換フェン−１，４−イレン基、２，５−二置換フェン−１，４−イレン基、または２，３，５，６−四置換フェン−１，４−イレン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１は、２，６−二置換フェン−１，４−イレン基もしくは２，５−二置換フェン−１，４−イレン基；代替として、２，６−二置換フェン−１，４−イレン基；代替として、２，３−二置換フェン−１，４−イレン基；代替として、２，５−二置換フェン−１，４−イレン基；または代替として、２，３，５，６−四置換フェン−１，４−イレン基であってもよい。また別の非限定的な実施形態において、Ｌ１は、２−置換フェン−１，３−イレン基、２，４−二置換フェン−１，３−イレン基、４，６−二置換フェン−１，３−イレン基、または２，４，６−三置換フェン−１，３−イレン基であってもよい。さらなる非限定的な実施形態において、Ｌ１は、２−置換フェン−１，３−イレン基；代替として、２，４−二置換フェン−１，３−イレン基；代替として、４，６−二置換フェン−１，３−イレン基；または代替として、２，４，６−三置換フェン−１，３−イレン基であってもよい。
【０２０１】
一態様において、Ｌ１は、ナフチレン基または置換ナフチレン基であってもよい。一実施形態において、Ｌ１は、ナフチレン基；または代替として、置換ナフチレン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１は、ナフト−１，３−イレン基、置換ナフト−１，３−イレン基、ナフト−１，４−イレン基、置換ナフト−１，４−イレン基、ナフト−１，５−イレン基、置換ナフト−１，５−イレン基、ナフト−１，６−イレン基、置換ナフト−１，６−イレン基、ナフト−１，７−イレン基、置換ナフト−１，７−イレン基、ナフト−１，８−イレン基、または置換ナフト−１，８−イレン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ１は、ナフト−１，３−イレン基もしくは置換ナフト−１，３−イレン基；代替として、ナフト−１，４−イレン基もしくは置換ナフト−１，４−イレン基；代替として、ナフト−１，５−イレン基もしくは置換ナフト−１，５−イレン基；代替として、ナフト−１，６−イレン基もしくは置換ナフト−１，６−イレン基；代替として、ナフト−１，７−イレン基もしくは置換ナフト−１，７−イレン基；または代替として、ナフト−１，８−イレン基もしくは置換ナフト−１，８−イレン基であってもよい。また他の実施形態において、Ｌ１は、ナフト−１，３−イレン基；代替として、置換ナフト−１，３−イレン基；代替として、ナフト−１，４−イレン基；代替として、置換ナフト−１，４−イレン基；代替として、ナフト−１，５−イレン基；代替として、置換ナフト−１，５−イレン基；代替として、ナフト−１，６−イレン基；代替として、置換ナフト−１，６−イレン基；代替として、ナフト−１，７−イレン基；代替として、置換ナフト−１，７−イレン基；代替として、ナフト−１，８−イレン基；または代替として、置換ナフト−１，８−イレン基であってもよい。
【０２０２】
一態様において、Ｌ１は、ビフェニレン基、置換ビフェニレン基、ビス（フェニレン）メタン基、置換ビス（フェニレン）メタン基、ビス（フェニレン）エタン基、もしくは置換ビス（フェニレン）エタン基；代替として、ビフェニレン基、ビス（フェニレン）メタン基、もしくはビス（フェニレン）エタン基；または代替として、置換ビフェニレン基、置換ビス（フェニレン）メタン基、もしくは置換ビス（フェニレン）エタン基であってもよい。一実施形態において、Ｌ１は、ビフェニレン基もしくは置換ビフェニレン基；代替として、ビス（フェニレン）メタン基もしくは置換ビス（フェニレン）メタン基；または代替として、ビス（フェニレン）エタン基もしくは置換ビ（フェニレン）エタン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１は、ビフェニレン基；代替として、置換ビフェニレン基；代替として、ビス（フェニレン）メタン基；代替として、置換ビス（フェニレン）メタン基；代替として、ビス（フェニレン）エタン基；または代替として、置換ビス（フェニレン）エタン基であってもよい。一般に、本明細書に開示された任意のビス（フェニレン）エタン基に（置換または非置換）は、ビス−１，１−（フェニレン）エタン基、ビス−１，２−（フェニレン）エタン基；代替として、ビス−１，１−（フェニレン）エタン基；または代替として、ビス−１，２−（フェニレン）エタンビス−１，２−基であってもよい。
【０２０３】
一実施形態において、Ｌ１は、ビフェン−２−イレン基、置換ビフェン−２−イレン基、ビフェン−３−イレン基、置換ビフェン−３−イレン基、ビフェン−４−イレン基、もしくは置換ビフェン−４−イレン基；または代替として、ビフェン−３−イレン基、置換ビフェン−３−イレン基、ビフェン−４−イレン基、もしくは置換ビフェン−４−イレン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１は、ビフェン−２−イレン基もしくは置換ビフェン−２−イレン基；代替として、ビフェン−３−イレン基もしくは置換ビフェン−３−イレン基；または代替として、ビフェン−４−イレン基もしくは置換ビフェン−４−イレン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ１は、ビフェン−２−イレン基；代替として、置換ビフェン−２−イレン基；代替として、ビフェン−３−イレン基；代替として、置換ビフェン−３−イレン基；代替として、ビフェン−４−イレン基；または代替として、置換ビフェン−４−イレン基であってもよい。
【０２０４】
一実施形態において、Ｌ１は、ビス（フェン−２−イレン）メタン基、置換ビス（フェン−２−イレン）メタン基、ビス（フェン−３−イレン）メタン基、置換ビス（フェン−３−イレン）メタン基、ビス（フェン−４−イレン）メタン基、もしくは置換ビス（フェン−４−イレン）メタン基；または代替として、ビス（フェン−３−イレン）メタン基、置換ビス（フェン−３−イレン）メタン基、ビス（フェン−４−イレン）メタン基、もしくは置換ビス（フェン−４−イレン）メタン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１は、ビス（フェン−２−イレン）メタン基もしくは置換ビス（フェン−２−イレン）メタン基；代替として、ビス（フェン−３−イレン）メタン基もしくは置換ビス（フェン−３−イレン）メタン基；または代替として、ビス（フェン−４−イレン）メタン基もしくは置換ビス（フェン−４−イレン）メタン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ１は、ビス（フェン−２−イレン）メタン基；代替として、置換ビス（フェン−２−イレン）メタン基；代替として、ビス（フェン−３−イレン）メタン基；代替として、置換ビス（フェン−３−イレン）メタン基；代替として、ビス（フェン−４−イレン）メタン基；または代替として、置換ビス（フェン−４−イレン）メタン基であってもよい。
【０２０５】
一実施形態において、Ｌ１は、ビス（フェン−２−イレン）エタン基、置換ビス（フェン−２−イレン）エタン基、ビス（フェン−３−イレン）エタン基、置換ビス（フェン−３−イレン）エタン基、ビス（フェン−４−イレン）エタン基、もしくは置換ビス（フェン−４−イレン）エタン基；または代替として、ビス（フェン−３−イレン）エタン基、置換ビス（フェン−３−イレン）エタン基、ビス（フェン−４−イレン）エタン基、もしくは置換ビス（フェン−４−イレン）エタン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１は、ビス（フェン−２−イレン）エタン基もしくは置換ビス（フェン−２−イレン）エタン基；代替として、ビス（フェン−３−イレン）エタン基もしくは置換ビス（フェン−３−イレン）エタン基；または代替として、ビス（フェン−４−イレン）エタン基もしくは置換ビス（フェン−４−イレン）エタン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ１は、ビス（フェン−２−イレン）エタン基；代替として、置換ビス（フェン−２−イレン）エタン基；代替として、ビス（フェン−３−イレン）エタン基；代替として、置換ビス（フェン−３−イレン）エタン基；代替として、ビス（フェン−４−イレン）エタン基；または代替として、置換ビス（フェン−４−イレン）エタン基であってもよい。一般に、本明細書に開示された任意のビス（フェニレン）エタン基（置換または非置換）は、ビス−１，１−（フェニレン）エタン基もしくはビス−１，２−（フェニレン）エタン基；代替として、ビス−１，１−（フェニレン）エタン基；または代替として、ビス−１，２−（フェニレン）エタン基であってもよい。
【０２０６】
一実施形態において、Ｌ１は、３，３’−二置換ビフェン−４，４’−イレン基、３，３’，５，５’−四置換ビフェン−４，４’−イレン基、ビス（３−置換フェン−４−イレン）メタン基、ビス（３，５−二置換フェン−４−イレン）メタン基、ビス−１，２−（３−置換フェン−４−イレン）エタン基、ビス−１，２−（３，５−二置換フェン−４−イレン）エタン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１は、３，３’−二置換ビフェン−４，４’−イレン基、もしくは３，３’，５，５’−四置換ビフェン−４，４’−イレン基；代替として、ビス（３−置換フェン−４−イレン）メタン基、ビス（３，５−二置換フェン−４−イレン）メタン基；代替として、ビス−１，２−（３−置換フェン−４−イレン）エタン基、ビス−１，２−（３，５−二置換フェン−４−イレン）エタン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ１は、３，３’−二置換ビフェン−４，４’−イレン基；代替として、３，３’，５，５’−四置換ビフェン−４，４’−イレン基；代替として、ビス（３−置換フェン−４−イレン）メタン基；代替として、ビス（３，５−二置換フェン−４−イレン）メタン基；代替として、ビス−１，２−（３−置換フェン−４−イレン）エタン基；または代替として、ビス−１，２−（３，５−二置換フェン−４−イレン）エタン基であってもよい。
【０２０７】
一実施形態において、Ｌ１は、ジ（メチレン）シクロアルカン基もしくは置換ジ（メチレン）シクロアルカン基；代替として、ジ（メチレン）シクロアルカン基であってもよい。ジ（メチレン）シクロアルカン基のシクロアルカン基は、シクロブタン基、置換シクロブタン基、シクロペンタン基、置換シクロペンタン基、シクロヘキサン基、置換シクロヘキサン基、シクロヘプタン基、置換シクロヘプタン基、シクロオクタン基、もしくは置換シクロオクタン基；代替として、シクロペンタン基、置換シクロペンタン基、シクロヘキサン基、もしくは置換シクロヘキサン基；代替として、シクロブタン基もしくは置換シクロブタン基；代替として、シクロペンタン基もしくは置換シクロペンタン基；代替として、シクロヘキサン基もしくは置換シクロヘキサン基；代替として、シクロヘプタン基もしくは置換シクロヘプタン基；または代替として、シクロオクタン基、もしくは置換シクロオクタン基であってもよい。いくつかの実施形態において、ジ（メチレン）シクロアルカン基のシクロアルカン基は、シクロブタン基、シクロペンタン基、シクロヘキサン基、シクロヘプタン基もしくはシクロオクタン基；または代替として、シクロペンタン基もしくはシクロヘキサン基であってもよい。他の実施形態において、ジ（メチレン）シクロアルカン基のシクロアルカン基はシクロペンタン基；代替として、置換シクロペンタン基；シクロヘキサン基；または代替として、置換シクロヘキサン基であってもよい。
【０２０８】
一実施形態において、Ｌ１は、１，３−ジ（メチレン）シクロペンタン基、置換１，３−ジ（メチレン）シクロペンタン基、１，３−ジ（メチレン）シクロヘキサン基、置換１，３−ジ（メチレン）シクロヘキサン基、１，４−ジ（メチレン）シクロヘキサン基、または置換１，４−ジ（メチレン）シクロヘキサン基；代替として、１，３−ジ（メチレン）シクロペンタン基、（１，３−ジ（メチレン）シクロヘキサン）基、または１，４−ジ（メチレン）シクロヘキサン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１は、１，３−ジ（メチレン）シクロペンタン基もしくは置換１，３−ジ（メチレン）シクロペンタン基；代替として、１，３−ジ（メチレン）シクロヘキサン基、置換１，３−ジ（メチレン）シクロヘキサン基、１，４−ジ（メチレン）シクロヘキサン基、もしくは置換１，４−ジ（メチレン）シクロヘキサン基；代替として、１，３−ジ（メチレン）シクロヘキサン基、もしくは置換１，３−ジ（メチレン）シクロヘキサン基；代替として、１，４−ジ（メチレン）シクロヘキサン基、もしくは置換１，４−ジ（メチレン）シクロヘキサン基；代替として、１，３−ジ（メチレン）シクロペンタン基；代替として、１，３−ジ（メチレン）シクロヘキサン基；または代替として、１，４−ジ（メチレン）シクロヘキサン基であってもよい。
【０２０９】
一態様において、Ｌ１は、ジ（メチレン）ベンゼン基または置換ジ（メチレン）ベンゼン基；代替として、ジ（メチレン）ベンゼン基であってもよい。一実施形態において、Ｌ１は、１，２−ジ（メチレン）ベンゼン基、置換１，２−ジ（メチレン）ベンゼン基、１，３−ジ（メチレン）ベンゼン基、１，４−ジ（メチレン）ベンゼン置換基、１，３−ジ（メチレン）ベンゼン基、または置換１，４−ジ（メチレン）ベンゼン基；代替として、１，２−ジ（メチレン）ベンゼン基、１，３−ジ（メチレン）ベンゼン基、または１，４−ジ（メチレン）ベンゼン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１は、１，２−ジ（メチレン）ベンゼン基もしくは置換１，２−ジ（メチレン）ベンゼン基；代替として、１，３−ジ（メチレン）ベンゼン基、もしくは置換１，３−ジ（メチレン）ベンゼン基；代替として、１，４−ジ（メチレン）ベンゼン基、もしくは置換１，４−ジ（メチレン）ベンゼン基；代替として、１，２−ジ（メチレン）ベンゼン基；代替として、１，３−ジ（メチレン）ベンゼン基；または代替として、１，４−ジ（メチレン）ベンゼン基であってもよい。
【０２１０】
一実施形態において、任意の置換Ｌ１基の各置換基（一般的または特定の）は、独立してハロゲン、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルビル基；代替として、ヒドロカルビル基もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、任意の置換Ｌ１基の各置換基（一般的または特定の）は、独立してハロゲン、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲンもしくはアルキル基；代替として、アルキル基もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、アルキル基；または代替として、アルコキシ基であってもよい。置換基としての使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、置換Ｌ１基をさらに記載する。
【０２１１】
一態様において、Ｌ１は、表１中の任意の構造を有することができる。一実施形態において、Ｌ１は、構造１Ｌ、２Ｌ、３Ｌ、４Ｌ、５Ｌ、６Ｌ、または７Ｌ；または代替として、８Ｌ、９Ｌ、１０Ｌ、１１Ｌ、１２Ｌ、１３Ｌ、または１４Ｌであってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１は、構造１Ｌ、２Ｌ、または３Ｌ；代替として、構造４Ｌ、５Ｌ、６Ｌ、または７Ｌ；代替として、構造８Ｌ、９Ｌ、または１０Ｌ；または代替として、構造１１Ｌ、１２Ｌ、１３Ｌ、または１４Ｌであってもよい。他の実施形態において、Ｌ１は、構造２Ｌまたは３Ｌ；代替として、構造９Ｌまたは１０Ｌ；代替として、構造４Ｌまたは５Ｌ；代替として、構造６Ｌまたは７Ｌ；または代替として、構造１１Ｌまたは１２Ｌ；または代替として、構造１３Ｌまたは１４Ｌであってもよい。さらなる実施形態において、Ｌ１は、構造１Ｌ；代替として、構造２Ｌ；代替として、構造３Ｌ；代替として、構造４Ｌ；代替として、構造５Ｌ；代替として、構造６Ｌ；代替として、構造７Ｌ；代替として、構造８Ｌ；代替として、構造９Ｌ；代替として、構造１０Ｌ；代替として、構造１１Ｌ；代替として、構造１２Ｌ；代替として、構造１３Ｌ；または代替として、構造１４Ｌを有することができる。
【表１】
2015016470.tif 000020
【０２１２】
一実施形態において、Ｌ１構造６Ｌ、７Ｌ、１３Ｌ、または１４Ｌ内のＬａは、−（ＣＲＬＲＬ）ｍ−［式中、各ＲＬは、独立して水素、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、または、ブチル基であってもよく、またｍは１から５までの整数であってもよい。］であってもよい。一実施形態において、Ｌ１構造６Ｌ、７Ｌ、１３Ｌ、または１４Ｌ内のＬａは、−ＣＲＬＲＬ（ＣＨ２）ｎＣＲＬＲＬ−［式中、各ＲＬは、独立して水素、メチル基、エチル基、プロピル基ｇｏｒｕｐ、イソプロピル基、またはブチル基であってもよく、またｎは０から３までの整数であってもよい。］であってもよい。いくつかの実施形態において、各ＲＬは、独立して水素またはメチル基；代替として、水素であってもよい。他の実施形態において、Ｌａは、メチレン基（−ＣＨ２−）、エチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）、プロピレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−基、−Ｃ（ＣＨ３）２−基、またはブチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）であってもよい。いくつかの非限定的な実施形態において、Ｌａは、メチレン基（−ＣＨ２−）、エチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）または−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−基；または代替として、エチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−基であってもよい。また他の実施形態において、Ｌａは、メチレン基；代替として、エチレン基；代替として、プロピレン基；代替として、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−基；または代替として、−Ｃ（ＣＨ３）２−基であってもよい。
【０２１３】
一般に、Ｌ１構造１Ｌ、２Ｌ、３Ｌ、４Ｌ、５Ｌ、６Ｌ、７Ｌ、８Ｌ、９Ｌ、１０Ｌ、１１Ｌ、１２Ｌ、１３Ｌ、または１４Ｌ内で、Ｒ１Ｌ〜Ｒ１１Ｌ，Ｒ２１Ｌ〜Ｒ３１Ｌ，Ｒ２１Ｌ’〜Ｒ３１Ｌ’，Ｒ４１Ｌ〜Ｒ５１Ｌ，Ｒ４１Ｌ’〜Ｒ５１Ｌ’，Ｒ６２Ｌ〜Ｒ６６Ｌ，Ｒ７２Ｌ〜Ｒ７６Ｌ，Ｒ７２Ｌ’〜Ｒ７６Ｌ’，Ｒ８２Ｌ〜Ｒ８６Ｌ，Ｒ８２Ｌ’〜Ｒ８６Ｌ’（示された構造中に存在する場合）は、独立して水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、水素、ハロゲン、もしくはヒドロカルビル基；代替として、水素、ハロゲン、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、水素、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、水素もしくはハロゲン；代替として、水素もしくはヒドロカルビル基；または、代替として、水素もしくはヒドロカルボキシ基であってもよい。一実施形態において、Ｒ１Ｌ〜Ｒ１１Ｌ，Ｒ２１Ｌ〜Ｒ３１Ｌ，Ｒ２１Ｌ’〜Ｒ３１Ｌ’，Ｒ４１Ｌ〜Ｒ５１Ｌ，Ｒ４１Ｌ’〜Ｒ５１Ｌ’，Ｒ６２Ｌ〜Ｒ６６Ｌ，Ｒ７２Ｌ〜Ｒ７６Ｌ，Ｒ７２Ｌ’〜Ｒ７６Ｌ’，Ｒ８２Ｌ〜Ｒ８６Ｌ，Ｒ８２Ｌ’〜Ｒ８６Ｌ’は、任意の１Ｌ〜１４Ｌ構造中に存在する場合、独立して水素、ハロゲン、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、水素、ハロゲン、およびアルキル基；代替として、水素、ハロゲン、もしくはアルコキシ基；代替として、水素、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、水素もしくはハロゲン；代替として、水素もしくはアルキル基；または代替として、水素もしくはアルコキシ基であってもよい。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、任意の１Ｌ〜１４Ｌ構造を有するＬ１をさらに記載する。
【０２１４】
一態様において、Ｌ１は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合した１個または複数の炭素原子が、第三級炭素原子または第四級炭素原子；第三級炭素原子；または代替として、第四級炭素原子であってもよい式（または構造）を有することができる。一実施形態において、Ｌ１は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合した各炭素原子が、第三級炭素原子または第四級炭素原子；代替として、第三級炭素原子；または代替として、第四級炭素原子であってもよい式（または構造）を有することができる。
【０２１５】
一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子がＬ１基の環原子に結合している場合、（例えば、シクロアルキレン、アリーレン、ジシクロアルキルエン、ジシクロアルキレンメチレン、ジアリーレン、ジアリーレンメチレン、構造１Ｌ〜１４Ｌを有するＬ１、または他の本明細書に開示されたＬ１基）、Ｌ１基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合した環炭素原子に隣接する炭素原子上に位置する少なくとも１個の置換基を含むことができ；または代替として、Ｌ１基はＮ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合した環炭素原子に隣接する各炭素原子での少なくとも１個の置換基を含むことができる。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子がＬ１基の環原子に結合している場合、（例えば、シクロアルキレン、アリーレン、ジシクロアルキルエン、ジシクロアルキレンメチレン、ジアリーレン、ジアリーレンメチレン、構造１Ｌ〜１４Ｌを有するＬ１、または他の本明細書に開示されたＬ１基）、Ｌ１基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合した環炭素原子に隣接する炭素原子上に位置する１個の置換基からなることができる。Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子がＬ１基の環原子に結合している場合、（例えば、シクロアルキレン、アリーレン、ジシクロアルキルエン、ジシクロアルキレンメチレン、ジアリーレン、ジアリーレンメチレン、構造１Ｌ〜１４Ｌを有するＬ１、または他の本明細書に開示されたＬ１基）、Ｌ１基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合した環炭素原子に隣接する炭素原子上に位置するただ１個の置換基を含むことができ；または代替として、Ｌ１基はＮ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に結合した環炭素原子に隣接する各炭素原子でのただ１個の置換基を含む、またはそれからなることができる。
【０２１６】
非限定的な実施形態において、Ｌ１は、フェン−１，４−イレン基、２，６−ジメチルフェン−１，４−イレン基、２，６−ジエチルフェン−１，４−イレン基、２，６−ジイソプロピルフェン−１，４−イレン基、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェン−１，４−イレン基、２，５−ジメチルフェン−１，４−イレン基、２，５−ジエチルフェン−１，４−イレン基、２，５−イソプロピルフェン−１，４−イレン基、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェン−１，４−イレン基、または２，３，５，６−テトラメチルフェン−１，４−イレン基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、Ｌ１は、フェン−１，４−イレン基、２，６−ジメチルフェン−１，４−イレン基、２，６−ジエチルフェン−１，４−イレン基、２，６−ジイソプロピルフェン−１，４−イレン基、もしくは２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェン−１，４−イレン基；または代替として、２，５−ジメチルフェン−１，４−イレン基、２，５−ジエチルフェン−１，４−イレン基、２，５−イソプロピルフェン−１，４−イレン基、もしくは２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェン−１，４−イレン基であってもよい。またさらなる非限定的な実施形態において、Ｌ１は、フェン−１，４−イレン基；代替として、２，６−ジメチルフェン−１，４−イレン基；代替として、２，６−ジエチルフェン−１，４−イレン；代替として、２，６−ジイソプロピルフェン−１，４−イレン基；代替として、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェン−１，４−イレン基；代替として、２，５−ジメチルフェン−１，４−イレン基；代替として、２，５−ジエチルフェン−１，４−イレン基；代替として、２，５−ジイソプロピルフェン−１，４−イレン基；代替として、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェン−１，４−イレン基；または代替として、２，３，５，６−テトラメチルフェン−１，４−イレン基であってもよい。
【０２１７】
非限定的な実施形態において、Ｌ１は、３，３’−ジメチルビフェン−４，４’−イレン基、３，３’−ジエチルビフェン−４，４’−イレン基、３，３’−ジイソプロピルビフェン−４，４’−イレン基、３，３’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルビフェン−４，４’−イレン基、３，３’，５，５’−テトラメチルビフェン−４，４’−イレン基、３，３’，５，５’−テトラエチルビフェン−４，４’−イレン基、３，３’，５，５’−テトライソプロピルビフェン−４，４’−イレン基、または３，３’，５，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルビフェン−４，４’−イレン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１は、３，３’−ジメチルビフェン−４，４’−イレン基、３，３’−ジエチルビフェン−４，４’−イレン基、３，３’−ジイソプロピルビフェン−４，４’−イレン基、もしくは３，３’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルビフェン−４，４’−イレン基；または代替として、３，３’，５，５’−テトラメチルビフェン−４，４’−イレン基、３，３’，５，５’−テトラエチルビフェン−４，４’−イレン基、３，３’，５，５’−テトライソプロピルビフェン−４，４’−イレン基、もしくは３，３’，５，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルビフェン−４，４’−イレン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ１は、３，３’−ジメチルビフェン−４，４’−イレン基；代替として、３，３’−ジエチルビフェン−４，４’−イレン基；代替として、３，３’−ジイソプロピルビフェン−４，４’−イレン基；代替として、３，３’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルビフェン−４，４’−イレン基；代替として、３，３’，５，５’−テトラメチルビフェン−４，４’−イレン基；代替として、３，３’，５，５’−テトラエチルビフェン−４，４’−イレン基；代替として、３，３’，５，５’−テトライソプロピルビフェン−４，４’−イレン基；または代替として、３，３’，５，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルビフェン−４，４’−イレン基であってもよい。
【０２１８】
非限定的な実施形態において、Ｌ１は、ビス（３−メチルフェン−４−イレン）メタン基、ビス（３−エチルフェン−４−イレン）メタン基、ビス（３−イソプロピルフェン−４−イレン）メタン基、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェン−４−イレン）メタン基、ビス（３，５−ジメチルフェン−４−イレン）メタン基、ビス（３，５−ジエチルフェン−４−イレン）メタン基、ビス（３，５−ジイソプロピルフェン−４−イレン）メタン基、またはビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェン−４−イレン）メタン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１は、ビス（３−メチルフェン−４−イレン）メタン基、ビス（３−エチルフェン−４−イレン）メタン基、ビス（３−イソプロピルフェン−４−イレン）メタン基、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェン−４−イレン）メタン基；または代替として、ビス（３，５−ジメチルフェン−４−イレン）メタン基、ビス（３，５−ジエチルフェン−４−イレン）メタン基、ビス（３，５−ジイソプロピルフェン−４−イレン）メタン基、もしくはビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェン−４−イレン）メタン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ１は、ビス（３−メチルフェン−４−イレン）メタン基；代替として、ビス（３−エチルフェン−４−イレン）メタン基；代替として、ビス（３−イソプロピルフェン−４−イレン）メタン基；代替として、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェン−４−イレン）メタン基；代替として、ビス（３，５−ジメチルフェン−４−イレン）メタン基；代替として、ビス（３，５−ジエチルフェン−４−イレン）メタン基；代替として、ビス（３，５−ジイソプロピルフェン−４−イレン）メタン基；または代替として、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェン−４−イレン）メタン基であってもよい。
【０２１９】
非限定的な実施形態において、Ｌ１は、ビス（３−メチルフェン−４−イレン）エタン基、ビス（３−エチルフェン−４−イレン）エタン基、ビス（３−イソプロピルフェン−４−イレン）エタン基、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェン−４−イレン）エタン基、ビス（３，５−ジメチルフェン−４−イレン）エタン基、ビス（３，５−ジエチルフェン−４−イレン）エタン基、ビス（３，５−ジイソプロピルフェン−４−イレン）エタン基、またはビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェン−４−イレン）エタン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ１は、ビス（３−メチルフェン−４−イレン）エタン基、ビス（３−エチルフェン−４−イレン）エタン基、ビス（３−イソプロピルフェン−４−イレン）エタン基、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェン−４−イレン）エタン基；または代替として、ビス（３，５−ジメチルフェン−４−イレン）エタン基、ビス（３，５−ジエチルフェン−４−イレン）エタン基、ビス（３，５−ジイソプロピルフェン−４−イレン）エタン基、もしくはビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェン−４−イレン）エタン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ１は、ビス（３−メチルフェン−４−イレン）エタン基；代替として、ビス（３−エチルフェン−４−イレン）エタン基；代替として、ビス（３−イソプロピルフェン−４−イレン）エタン基；代替として、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチルフェン−４−イレン）エタン基；代替として、ビス（３，５−ジメチルフェン−４−イレン）エタン基；代替として、ビス（３，５−ジエチルフェン−４−イレン）エタン基；代替として、ビス（３，５−ジイソプロピルフェン−４−イレン）エタン基；または代替として、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェン−４−イレン）エタン基であってもよい。
【０２２０】
一般に、Ｄ２は、ｒ価のオルガニック基；代替として、本質的に不活性官能基からなるｒ価のオルガニック基；または代替として、ｒ価の炭化水素基であってもよい。一態様において、Ｄ２は、ｒ価のＣ１〜Ｃ３０オルガニック基；代替として、ｒ価のＣ１〜Ｃ２０オルガニック基；代替として、ｒ価のＣ１〜Ｃ１５オルガニック基；代替として、ｒ価のＣ１〜Ｃ１０オルガニック基；または代替として、ｒ価のＣ１〜Ｃ５オルガニック基であってもよい。別の態様において、Ｄ２は、本質的に不活性官能基からなるｒ価のＣ１〜Ｃ３０オルガニック基；代替として、本質的に不活性官能基からなるｒ価のＣ１〜Ｃ２０オルガニック基；代替として、本質的に不活性官能基からなるｒ価のＣ１〜Ｃ１５オルガニック基；代替として、本質的に不活性官能基からなるｒ価のＣ１〜Ｃ１０オルガニック基；または代替として、本質的に不活性官能基からなるｒ価のＣ１〜Ｃ５オルガニック基であってもよい。また別の態様において、Ｄ２は、ｒ価のＣ１〜Ｃ３０ヒドロカルビル基；代替として、ｒ価のＣ１〜Ｃ２０ヒドロカルビル基；代替として、ｒ価のＣ１〜Ｃ１５ヒドロカルビル基；代替として、ｒ価のＣ１〜Ｃ１０ヒドロカルビル基；または代替として、ｒ価のＣ１〜Ｃ５ヒドロカルビル基であってもよい。また他の実施形態において、Ｄ２は、ｒ価のＣ３〜Ｃ３０芳香族基；代替として、ｒ価のＣ３〜Ｃ２０芳香族基；代替として、ｒ価のＣ３ｔｏＣ１５芳香族基；または代替として、ｒ価のＣ３〜Ｃ１０芳香族基であってもよい。
【０２２１】
一態様において、ｒは、０を超える整数であってもよい。いくつかの実施形態において、ｒは１から５までの整数；代替として、１から４までの整数；または代替として、２もしくは３であってもよい。他の実施形態において、ｒは、１；代替として、２；代替として、３；代替として、４；または代替として、５であってもよい。
【０２２２】
一態様において、Ｌ２は、Ｃ１〜Ｃ３０オルガニレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０オルガニレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５オルガニレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０オルガニレン基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５オルガニレン基であってもよい。別の態様において、Ｌ２は、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ３０オルガニレン基；代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ２０オルガニレン基；代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ１５オルガニレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０オルガニレン基；または代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ５オルガニレン基であってもよい。また別の態様において、Ｌ２は、Ｃ１〜Ｃ３０ヒドロカルビレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０ヒドロカルビレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５ヒドロカルビレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビレン基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビレン基であってもよい。また他の実施形態において、Ｌ２は、Ｃ３〜Ｃ３０芳香族基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０芳香族基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５芳香族基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ１０芳香族基であってもよい。
【０２２３】
一態様において、Ｌ２は、Ｃ１〜Ｃ３０アルキレン基、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキレン基、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキレン基、Ｃ３〜Ｃ３０脂肪族ヘテロシクリレン基、Ｃ３〜Ｃ３０置換脂肪族ヘテロシクリレン基、Ｃ６〜Ｃ３０アリーレン基、Ｃ６〜Ｃ３０置換アリーレン基、Ｃ３〜Ｃ３０ヘテロアリーレン基、もしくはＣ３〜Ｃ３０の置換ヘテロアリーレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ３０アルキレン基、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキレン基、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキレン基、Ｃ６〜Ｃ３０アリーレン基、またはＣ６〜Ｃ３０置換アリーレン基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキレン基もしくはＣ４〜Ｃ３０置換シクロアルキレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０脂肪族ヘテロシクリレン基もしくはＣ３〜Ｃ３０置換脂肪族ヘテロシクリレン基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０アリーレン基もしくはＣ６〜Ｃ３０置換アリーレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０ヘテロアリーレン基もしくはＣ３〜Ｃ３０置換ヘテロアリーレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ３０アルキレン基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０シクロアルキレン基；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０置換シクロアルキレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０脂肪族ヘテロシクリレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０置換脂肪族ヘテロシクリレン基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０アリーレン基；代替として、Ｃ６〜Ｃ３０置換アリーレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０ヘテロアリーレン基；
または代替として、Ｃ３〜Ｃ３０置換ヘテロアリーレン基であってもよい。一実施形態において、Ｌ２は、Ｃ１〜Ｃ１５アルキレン基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキレン基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキレン基、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族ヘテロシクリレン基、Ｃ３〜Ｃ２０置換脂肪族ヘテロシクリレン基、Ｃ６〜Ｃ２０アリーレン基、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリーレン基、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリーレン基、もしくはＣ３〜Ｃ２０の置換ヘテロアリーレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５アルキレン基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキレン基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキレン基、Ｃ６〜Ｃ２０アリーレン基、もしくはＣ６〜Ｃ２０置換アリーレン基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキレン基またはＣ４〜Ｃ２０置換シクロアルキレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族ヘテロシクリレン基もしくはＣ３〜Ｃ２０置換脂肪族ヘテロシクリレン基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリーレン基もしくはＣ６〜Ｃ２０置換アリーレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリーレン基もしくはＣ３〜Ｃ２０置換ヘテロアリーレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５アルキレン基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキレン基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族ヘテロシクリレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０置換脂肪族ヘテロシクリレン基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリーレン基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリーレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリーレン基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ２０置換ヘテロアリーレン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ２は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキレン基、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキレン基、Ｃ３〜Ｃ１５脂肪族ヘテロシクリレン基、Ｃ３〜Ｃ１５置換脂肪族ヘテロシクリレン基、Ｃ６〜Ｃ１５アリーレン基、Ｃ６〜Ｃ１５置換アリーレン基、Ｃ３〜Ｃ１５ヘテロアリーレン基、もしくはＣ３〜Ｃ１５置換ヘテロアリーレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキレン基、Ｃ４〜Ｃ１５の置換シクロアルキレン基、Ｃ６〜Ｃ１５アリーレン基、もしくはＣ６〜Ｃ１５置換アリーレン基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキレン基もしくはＣ４〜Ｃ１５置換シクロアルキレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５脂肪族ヘテロシクリレン基もしくはＣ３〜Ｃ１５置換脂肪族ヘテロシクリレン基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５アリーレン基もしくはＣ６〜Ｃ１５置換アリーレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５ヘテロアリーレン基もしくはＣ３〜Ｃ１５置換ヘテロアリーレン基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキレン基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキレン基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５脂肪族ヘテロシクリレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５置換脂肪族ヘテロシクリレン基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５アリーレン基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５置換アリーレン基；代替として、Ｃ３〜Ｃ１５ヘテロアリーレン基；または代替として、Ｃ３〜Ｃ１５置換ヘテロアリーレン基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｌ２は、Ｃ１〜Ｃ５アルキレン基であってもよい。
【０２２４】
一実施形態において、Ｌ２は、結合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基、ウンデシレン基、ドデシレン基、トリデシレン基、テトラデシレン基、ペンタデシレン基、ヘキサデシレン基、ヘプタデシレン基、オクタデシレン基、もしくはノナデシレン基；または代替として、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、ヘプチレン基、オクチレン基、ノニレン基、デシレン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ２は、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、またはペンチレン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ２は、結合；代替として、メチレン基；代替として、エチレン基；代替として、プロピレン基；代替として、ブチレン基；代替として、ペンチレン基；代替として、ヘキシレン基；代替として、ヘプチレン基；代替として、オクチレン基；代替として、ノニレン基；代替として、デシレン基；代替として、ウンデシレン基；代替として、ドデシレン基；代替として、トリデシレン基；代替として、テトラデシレン基；代替として、ペンタデシレン基；代替として、ヘキサデシレン基；代替として、ヘプタデシレン基；代替として、オクタデシレン基；または代替として、ノナデシレン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ２は、結合、メチレン基、エタ−１，２−イレン基、プロパ−１，３−イレン基、ブタ−１，４−イレン基、ブタ−２，３−イレン基、ペンタ−１，５−イレン基、２，２−ジメチルプロパ−１，３−イレン基、ヘキサ−１，６−イレン基、もしくは２，３−ジメチルブタ−２，３−イレン基；代替として、エタ−１，２−イレン基、プロパ−１，３−イレン基、ブタ−１，４−イレン基、ペンタ−１，５−イレン基、もしくはヘキサ−１，６−イレン基；代替として、結合；代替として、メチレン基；代替として、エタ−１，２−イレン基；代替として、プロパ−１，３−イレン基；代替として、ブタ−１，４−イレン基；代替として、ブタ−２，３−イレン基；代替として、ペンタ−１，５−イレン基；代替として、２，２−ジメチルプロパ−１，３−イレン基；代替として、ヘキサ−１，６−イレン基；または代替として、２，３−ジメチルブタ−２，３−イレン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ２として使用することができるアルキレン基は置換されていてもよい。置換アルキレン基の各置換基は、独立してハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。置換基として使用することができるハロゲンおよびヒドロカルボキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、Ｌ２として使用することができる置換アルキレン基をさらに記載する。
【０２２５】
一態様において、Ｌ２は、式−ＣＲ１ａＲ２ａ（ＣＨ２）ｔＣＲ３ａＲ４ａ−［式中、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３ａ、およびＲ４ａは、それぞれ独立して水素、ハロゲン、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、または、Ｃ１〜Ｃ５アルコキシ基であってもよく、またｔは、ゼロまたは１から２８までの範囲の整数であってもよい。］を有することができる。一実施形態において、Ｒ１ａ、Ｒ２ａ、Ｒ３ａ、およびＲ４ａは、独立して水素、ハロゲン、もしくはＣ１〜Ｃ５アルキル基；代替として、水素、ハロゲン、もしくはＣ１〜Ｃ５アルコキシ基；代替として、水素、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、もしくはＣ１〜Ｃ５アルコキシ基；代替として、水素もしくはハロゲン；代替として、水素もしくはＣ１〜Ｃ５アルキル基；代替として、水素もしくはＣ１〜Ｃ５アルコキシ基；代替として、水素；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基であってもよい。一実施形態において、ｔは１から１８までの範囲の整数；代替として、１から１３；代替として、１から８；または代替として、１から３であってもよい。他の実施形態において、ｔはゼロであってもよい。置換基として使用することができるハロゲン、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、およびＣ１〜Ｃ５アルコキシ基は、独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、式−ＣＲ１ａＲ２ａ（ＣＨ２）ｔＣＲ３ａＲ４ａ−を有するＬ２をさらに記載する。別の態様において、Ｌ２は、ｓが１から３０までの範囲の整数であってもよい式−（ＣＨ２）ｓ−を有することができる。一実施形態において、ｓは１から２０までの範囲の整数；代替として、１から１５；代替として、１から１０；または代替として、１から５であってもよい。
【０２２６】
一実施形態において、Ｌ２は、シクロブチレン基、置換シクロブチレン基、シクロペンチレン基、置換シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、置換シクロヘキシレン基、シクロヘプチレン基、置換シクロヘプチレン基、シクロオクチレン基、または置換シクロオクチレン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ２は、シクロペンチレン基、置換シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、置換シクロヘキシレン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ２は、シクロブチレン基もしくは置換シクロブチレン基；代替として、シクロペンチレン基もしくは置換シクロペンチレン基；代替として、シクロヘキシレン基もしくは置換シクロヘキシレン基；代替として、シクロヘプチレン基もしくは置換シクロヘプチレン基；または代替として、シクロオクチレン基、もしくは置換シクロオクチレン基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｌ２は、シクロペンチレン基；代替として、置換シクロペンチレン基；シクロヘキシレン基；または代替として、置換シクロヘキシレン基であってもよい。
【０２２７】
一実施形態において、Ｌ２は、シクロペンタ−１，３−イレン基、置換シクロペンタ−１，３−イレン基、シクロヘキサ−１，３−イレン基、置換シクロヘキサ−１，３−イレン基、シクロヘキサ−１，４−イレン基、または置換シクロヘキサ−１，４−イレン基；代替として、シクロペンタ−１，３−イレン基、シクロヘキサ−１，３−イレン基、またはシクロヘキサ−１，４−イレン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ２は、シクロペンタ−１，３−イレン基、もしくは置換シクロペンタ−１，３−イレン基；代替として、シクロヘキサ−１，３−イレン基、置換シクロヘキサ−１，３−イレン基、シクロヘキサ−１，４−イレン基、もしくは置換シクロヘキサ−１，４−イレン基；代替として、シクロヘキサ−１，３−イレン基もしくは置換シクロヘキサ−１，３−イレン基；代替として、シクロヘキサ−１，４−イレン基もしくは置換シクロヘキサ−１，４−イレン基；代替として、シクロペンタ−１，３−イレン基、シクロヘキサ−１，３−イレン基、もしくはシクロヘキサ−１，４−イレン基；または代替として、置換シクロペンタ−１，３−イレン基、置換シクロヘキサ−１，３−イレン基、もしくは置換シクロヘキサ−１，４−イレン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ１は、シクロペンタ−１，３−イレン基；代替として、置換シクロペンタ−１，３−イレン基；代替として、シクロヘキサ−１，３−イレン基；代替として、置換シクロヘキサ−１，３−イレン基；代替として、シクロヘキサ−１，４−イレン基；または代替として、置換シクロヘキサ−１，４−イレン基であってもよい。
【０２２８】
一態様において、Ｌ２は、ビシクリレン基、置換ビシクリレン基、ビス（シクリレン）メタン基、置換ビス（シクリレン）メタン基、ビス（シクリレン）エタン基、もしくは置換ビス（シクリレン）エタン基；代替として、ビシクリレン基、ビス（シクリレン）メタン基、もしくはビス（シクリレン）エタン基；または代替として、置換ビシクリレン基、置換ビス（シクリレン）メタン基、もしくは置換ビス（シクリレン）エタン基であってもよい。一実施形態において、Ｌ２は、ビシクリレン基もしくは置換ビシクリレン基；代替として、ビス（シクリレン）メタン基もしくは置換ビス（シクリレン）メタン基；または代替として、ビス（シクリレン）エタン基もしくは置換ビス（シクリレン）エタン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ２は、ビシクリレン基；代替として、置換ビシクリレン基；代替として、ビス（シクリレン）メタン基；代替として、置換ビス（シクリレン）メタン基；代替として、ビス（シクリレン）エタン基；または代替として、置換ビス（シクリレン）エタン基であってもよい。一般に、本明細書に開示される任意のビス（シクリレン）エタン基（置換または非置換）は、ビス−１，１−（シクリレン）エタン基もしくはビス−１，２−（シクリレン）エタン基；代替として、ビス−１，１−（シクリレン）エタン基；または代替として、ビス−１，２−（シクリレン）エタン基であってもよい。
【０２２９】
一態様において、Ｌ２は、ビシクロヘキシレン基、置換ビシクロヘキシレン基、ビス（シクロヘキシレン）メタン基、置換ビス（シクロヘキシレン）メタン基、ビス（シクロヘキシレン）エタン基、または置換ビス（シクロヘキシレン）エタン基；代替として、ビシクロヘキシレン基、ビス（シクロヘキシレン）メタン基、またはビス（シクロヘキシレン）エタン基；または代替として、置換ビシクロヘキシレン基、置換ビス（シクロヘキシレン）メタン基、または置換ビス（シクロヘキシレン）エタン基であってもよい。一実施形態において、Ｌ２は、ビシクロヘキシレン基もしくは置換ビシクロヘキシレン基；代替として、ビス（シクロヘキシレン）メタン基もしくは置換ビス（シクロヘキシレン）メタン基；または代替として、ビス（シクロヘキシレン）エタン基もしくは置換ビス（シクロヘキシレン）エタン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ２は、ビシクロヘキシレン基；代替として、置換ビシクロヘキシレン基；代替として、ビス（シクロヘキシレン）メタン基；代替として、置換ビス（シクロヘキシレン）メタン基；代替として、ビス（シクロヘキシレン）エタン基；または代替として、置換ビス（シクロヘキシレン）エタン基であってもよい。一般に、本明細書に開示される任意のビス−１，１−（シクロヘキシレン）エタン基（置換または非置換）は、ビス（シクロヘキシレン）エタン基もしくはビス−１、２−（シクロヘキシレン）エタン基；代替として、ビス−１，１−（シクロヘキシレン）エタン基；または代替として、ビス−１，２−（シクロヘキシレン）エタン基であってもよい。
【０２３０】
一実施形態において、Ｌ２は、ビシクロヘキサ−４，４’−イレン基、３，３’−二置換ビシクロヘキサ−４，４’−イレン基、３，３’，５，５’−四置換ビシクロヘキサ−４，４’−イレン基、ビス（シクロヘキサ−４−イレン）基、ビス（３−置換シクロヘキサ−４−イレン）メタン基、ビス（３，５−二置換シクロヘキサ−４−イレン）メタン）基、ビス−１，２−（シクロヘキサ−４−イレン）エタン基、ビス−１，２−（３−置換シクロヘキサ−４−イレン）エタン基、またはビス−１，２−（３，５−二置換シクロヘキサ−４−イレン）エタン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ２は、ビシクロヘキサ−４，４’−イレン基、３，３’−二置換ビシクロヘキサ−４，４’−イレン基もしくは３，３’，５，５’−四置換ビシクロヘキサ−４，４’−イレン基；代替として、ビス（シクロヘキサ−４−イレン）メタン基、ビス（３−置換シクロヘキサ−４−イレン）メタン）基もしくはビス（３，５−二置換シクロヘキサ−４−イレン）メタン）基；または代替として、ビス−１，２−（シクロヘキサ−４−イレン）エタン基、ビス−１，２−（３−置換シクロヘキサ−４−イレン）エタン基もしくはビス−１，２−（３，５−二置換シクロヘキサ−４−イレン）エタン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ２は、ビシクロヘキサ−４，４’−イレン基；代替として、３，３’−二置換ビシクロヘキサ−４，４’−イレン基；代替として、３，３’，５，５’−四置換ビシクロヘキサ−４，４’−イレン基；代替として、ビス（シクロヘキサ−４−イレン）メタン基；代替として、ビス（３−置換シクロヘキサ−４−イレン）メタン基；代替として、ビス（３，５−二置換シクロヘキサ−４−イレン）メタン基；代替として、ビス−１，２−（シクロヘキサ−４−イレン）エタン基；代替として、ビス−１、２−（３−置換シクロヘキサ−４−イレン）エタン基；または代替として、ビス−１，２−（３，５−二置換シクロヘキサ−４−イレン）エタン基であってもよい。
【０２３１】
一実施形態において、Ｌ２は、ジ（メチレン）シクロアルカン基もしくは置換ジ（メチレン）シクロアルカン基；または代替として、ジ（メチレン）シクロアルカン基であってもよい。ジ（メチレン）シクロアルカン基のシクロアルカン基は、シクロブタン基、置換シクロブタン基、シクロペンタン基、置換シクロペンタン基、シクロヘキサン基、置換シクロヘキサン基、シクロヘプタン基、置換シクロヘプタン基、シクロオクタン基、もしくは置換シクロオクタン基；代替として、シクロペンタン基、置換シクロペンタン基、シクロヘキサン基、もしくは置換シクロヘキサン基；代替として、シクロブタン基もしくは置換シクロブタン基；代替として、シクロペンタン基もしくは置換シクロペンタン基；代替として、シクロヘキサン基もしくは置換シクロヘキサン基；代替として、シクロヘプタン基もしくは置換シクロヘプタン基；または代替として、シクロオクタン基、もしくは置換シクロオクタン基であってもよい。いくつかの実施形態において、ジ（メチレン）シクロアルカン基のシクロアルカン基は、シクロブタン基、シクロペンタン基、シクロヘキサン基、シクロヘプタン基、もしくはシクロオクタン基；または代替として、シクロペンタン基もしくはシクロヘキサン基であってもよい。他の実施形態において、ジ（メチレン）シクロアルカン基のシクロアルカン基は、シクロペンタン基；代替として、置換シクロペンタン基；シクロヘキサン基；または代替として、置換シクロヘキサン基であってもよい。
【０２３２】
一実施形態において、Ｌ２は、１，３−ジ（メチレン）シクロペンタン基、置換１，３−ジ（メチレン）シクロペンタン基、１，３−ジ（メチレン）シクロヘキサン基、置換１，３−ジ（メチレン）シクロヘキサン基、１，４−ジ（メチレン）シクロヘキサン基、もしくは置換１，４−ジ（メチレン）シクロヘキサン基；または代替として、１，３−ジ（メチレン）シクロペンタン基、１，３−ジ（メチレン）シクロヘキサン基、もしくは１，４−ジ（メチレン）シクロヘキサン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ２は、１，３−ジ（メチレン）シクロペンタン基、置換１，３−ジ（メチレン）シクロペンタン基；代替として、１，３−ジ（メチレン）シクロヘキサン基、置換１，３−ジ（メチレン）シクロヘキサン基、１，４−ジ（メチレン）シクロヘキサン基、もしくは置換１，４−ジ（メチレン）シクロヘキサン基；代替として、１，３−ジ（メチレン）シクロヘキサン基、置換１，３−ジ（メチレン）シクロヘキサン基；代替として、１，４−ジ（メチレン）シクロヘキサン基、もしくは置換１，４−ジ（メチレン）シクロヘキサン基；代替として、１，３−ジ（メチレン）シクロペンタン基；代替として、１，３−ジ（メチレン）シクロヘキサン基；または代替として、１，４−ジ（メチレン）シクロヘキサン基であってもよい。
【０２３３】
一態様において、Ｌ２は、フェニレン基または置換フェニレン基であってもよい。一実施形態において、Ｌ２は、フェニレン基；または代替として、置換フェニレン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ２は、フェン−１，２−イレン基もしくは置換フェン−１，２−イレン基；代替として、フェン−１，２−イレン基；または代替として、置換フェン−１，２−イレン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ２は、フェン−１，３−イレン基もしくは置換フェン−１，３−イレン基；代替として、フェン−１，３−イレン基；または代替として、置換フェン−１，３−イレン基であってもよい。また他の実施形態において、Ｌ２は、フェン−１，４−イレン基もしくは置換フェン−１，４−イレン基；代替として、フェン−１，４−イレン基；または代替として、置換フェン−１，４−イレン基であってもよい。さらなる実施形態において、Ｌ２は、フェン−１，２−イレン基、フェン−１，３−イレン基、もしくはフェン−１，４−イレン基；代替として、フェン−１，３−イレン基またはフェン−１，４−イレン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ２は、置換フェン−１，２−イレン基、置換フェン−１，３−イレン基、もしくは置換フェン−１，４−イレン基；代替として、置換フェン−１，３−イレン基、または置換フェン−１，４−イレン基であってもよい。
【０２３４】
一態様において、Ｌ２は、ナフチレン基または置換ナフチレン基であってもよい。一実施形態において、Ｌ２は、ナフチレン基；または代替として、置換ナフチレン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ２は、ナフト−１，３−イレン基、置換ナフト−１，３−イレン基、ナフト−１，４−イレン基、置換ナフト−１，４−イレン基、ナフト−１，５−イレン基、置換ナフト−１，５−イレン基、ナフト−１，６−イレン基、置換ナフト−１，６−イレン基、ナフト−１，７−イレン基、置換ナフト−１，７−イレン基、ナフト−１，８−イレン基、または置換ナフト−１，８−イレン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ２は、ナフト−１，３−イレン基もしくは置換ナフト−１，３−イレン基；代替として、ナフト−１，４−イレン基もしくは置換ナフト−１，４−イレン基；代替として、ナフト−１，５−イレン基もしくは置換ナフト−１，５−イレン基；代替として、ナフト−１，６−イレン基もしくは置換ナフト−１，６−イレン基；代替として、ナフト−１，７−イレン基もしくは置換ナフト−１，７−イレン基；または代替として、ナフト−１，８−イレン基もしくは置換ナフト−１，８−イレン基であってもよい。また他の実施形態において、Ｌ２は、ナフト−１，３−イレン基；代替として、置換ナフト−１，３−イレン基；代替として、ナフト−１，４−イレン基；代替として、置換ナフト−１，４−イレン基；代替として、ナフト−１，５−イレン基；代替として、置換ナフト−１，５−イレン基；代替として、ナフト−１，６−イレン基；代替として、置換ナフト−１，６−イレン基；代替として、ナフト−１，７−イレン基；代替として、置換ナフト−１，７−イレン基；代替として、ナフト−１，８−イレン基；または代替として、置換ナフト−１，８−イレン基であってもよい。
【０２３５】
一態様において、Ｌ２は、ビフェニレン基、置換ビフェニレン基、ビス（フェニレン）メタン基、置換ビス（フェニレン）メタン基、ビス（フェニレン）エタン基、もしくは置換ビス（フェニレン）エタン基；もしくは代替として、ビフェニレン基、ビス（フェニレン）メタン基、もしくはビス（フェニレン）エタン基；または代替として、置換ビフェニレン基、置換ビス（フェニレン）メタン基、もしくは置換ビス（フェニレン）エタン基であってもよい。一実施形態において、Ｌ２は、ビフェニレン基もしくは置換ビフェニレン基；代替として、ビス（フェニレン）メタン基もしくは置換ビス（フェニレン）メタン基；または代替として、ビス（フェニレン）エタン基もしくは置換ビス（フェニレン）エタン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ２は、ビフェニレン基；代替として、置換ビフェニレン基；代替として、ビス（フェニレン）メタン基；代替として、置換ビス（フェニレン）メタン基；代替として、ビス（フェニレン）エタン基；または代替として、置換ビス（フェニレン）エタン基であってもよい。一般に、本明細書に開示される任意のビス（フェニレン）エタン基（置換または非置換）、ビス−１，１−（フェニレン）エタン基もしくはビス−１，２−（フェニレン）エタン基；代替として、ビス−１，１−（フェニレン）エタン基；または代替として、ビス−１，２−（フェニレン）エタン基であってもよい。
【０２３６】
一実施形態において、Ｌ２は、ビフェン−３−イレン基、置換ビフェン−３−イレン基、ビフェン−４−イレン基、または置換ビフェン−４−イレン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ２は、ビフェン−３−イレン基もしくは置換ビフェン−３−イレン基；または代替として、ビフェン−４−イレン基もしくは置換ビフェン−４−イレン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ１は、ビフェン−３−イレン基；代替として、置換ビフェン−３−イレン基；代替として、ビフェン−４−イレン基；または代替として、置換ビフェン−４−イレン基であってもよい。
【０２３７】
一実施形態において、Ｌ２は、ビス（フェン−３−イレン）メタン基、置換ビス（フェン−３−イレン）メタン基、ビス（フェン−４−イレン）メタン基、または置換ビス（フェン−４−イレン）メタン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ２は、ビス（フェン−３−イレン）メタン基または置換ビス（フェン−３−イレン）メタン基；または代替として、ビス（フェン−４−イレン）メタン基または置換ビス（フェン−４−イレン）メタン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ２は、ビス（フェン−３−イレン）メタン基；代替として、置換ビス（フェン−３−イレン）メタン基；代替として、ビス（フェン−４−イレン）メタン基；または代替として、置換ビス（フェン−４−イレン）メタン基であってもよい。
【０２３８】
一実施形態において、Ｌ２は、ビス（フェン−３−イレン）エタン基、置換ビス（フェン−３−イレン）エタン基、ビス（フェン−４−イレン）エタン基、または置換ビス（フェン−４−イレン）エタン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ２は、ビス（フェン−３−イレン）エタン基もしくは置換ビス（フェン−３−イレン）エタン基；または代替として、ビス（フェン−４−イレン）エタン基もしくは置換ビス（フェン−４−イレン）エタン基であってもよい。他の実施形態において、Ｌ２は、ビス（フェン−３−イレン）エタン基；代替として、置換ビス（フェン−３−イレン）エタン基；代替として、ビス（フェン−４−イレン）エタン基；または代替として、置換ビス（フェン−４−イレン）エタン基であってもよい。一般に、本明細書に開示される任意のビス（フェニレン）エタン基（置換または非置換）は、ビス−１，１−（フェニレン）エタン基もしくはビス−１，２−（フェニレン）エタン基；代替として、ビス−１，１−（フェニレン）エタン基；または代替として、ビス−１，２−（フェニレン）エタン基であってもよい。
【０２３９】
一態様において、Ｌ２は、ジ（メチレン）ベンゼン基、または置換ジ（メチレン）ベンゼン基；代替として、ジ（メチレン）ベンゼン基であってもよい。一実施形態において、Ｌ２は、１，２−ジ（メチレン）ベンゼン基、置換１，２−ジ（メチレン）ベンゼン基、１，３−ジ（メチレン）ベンゼン基、置換１，３−ジ（メチレン）ベンゼン基、１，４−ジ（メチレン）ベンゼン基、または置換１，４−ジ（メチレン）ベンゼン基；代替として、１，２−ジ（メチレン）ベンゼン基、１，３−ジ（メチレン）ベンゼン基、または１，４−ジ（メチレン）ベンゼン基であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｌ２は、１，２−ジ（メチレン）ベンゼン基もしくは置換１，２−ジ（メチレン）ベンゼン基；代替として、１，３−ジ（メチレン）ベンゼン基もしくは置換１，３−ジ（メチレン）ベンゼン基；代替として、１，４−ジ（メチレン）ベンゼン基もしくは置換１，４−ジ（メチレン）ベンゼン基；代替として、１，２−ジ（メチレン）ベンゼン基；代替として、１，３−ジ（メチレン）ベンゼン基；または代替として、１，４−ジ（メチレン）ベンゼン基であってもよい。
【０２４０】
一実施形態において、任意の置換Ｌ２基の各置換基（一般的または特定の）は、独立してハロゲン、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルビル基；代替として、ヒドロカルビル基もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、任意の置換Ｌ２基の各置換基（一般的または特定の）は、独立してハロゲン、アルキル基、もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲンもしくはアルキル基；代替として、アルキル基もしくはアルコキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、アルキル基；または代替として、アルコキシ基であってもよい。置換基として使用することができるハロゲン、ヒドロカルビル基、ヒドロカルボキシ基、アルキル基、およびアルコキシ基は、独立して本明細書に開示され（例えば、置換Ｒ１基の置換基として）、限定されることなく使用することができ、置換Ｌ２基をさらに記載する。
【０２４１】
一実施形態において、Ｌ２は、表１中の任意の構造を有することができる。一実施形態において、Ｌ２は、構造１Ｌ、２Ｌ、３Ｌ、４Ｌ、５Ｌ、６Ｌ、もしくは７Ｌ；または代替として、８Ｌ、９Ｌ、１０Ｌ、１１Ｌ、１２Ｌ、１３Ｌ、もしくは１４Ｌを有することができる。いくつかの実施形態において、Ｌ２は、構造１Ｌ、２Ｌ、もしくは３Ｌ；代替として、４Ｌ、５Ｌ、６Ｌ、もしくは７Ｌ；代替として、８Ｌ、９Ｌ、もしくは１０Ｌ；または代替として、１１Ｌ、１２Ｌ、１３Ｌ、もしくは１４Ｌを有することができる。他の実施形態において、Ｌ２は、構造２Ｌもしくは３Ｌ；代替として、９Ｌ、もしくは１０Ｌ；代替として、４Ｌもしくは５Ｌ；代替として、６Ｌもしくは７Ｌ；または代替として、１１Ｌもしくは１２Ｌ；または代替として、１３Ｌもしくは１４Ｌを有することができる。さらなる実施形態において、Ｌ２は、構造１Ｌ；代替として、２Ｌ；代替として、３Ｌ；代替として、４Ｌ；代替として、５Ｌ；代替として、６Ｌ；代替として、７Ｌ；代替として、８Ｌ；代替として、９Ｌ；代替として、１０Ｌ；代替として、１１Ｌ；代替として、１２Ｌ；代替として、１３Ｌ；または代替として、１４Ｌを有することができる。一般に、Ｌ２は、本明細書において記載される構造１Ｌ〜１４Ｌの任意の実施形態を有することができる。一般に、Ｌ２は、Ｌ１について記載された表１の構造の任意の態様または実施形態を有することができる。
【０２４２】
一態様において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基および金属塩錯体形成基を含むことができる。別の態様において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基、金属塩錯体形成基、および金属塩錯体形成基をＮ２−ホスフィニルアミジン基に連結する連結基を含むことができる。また別の態様において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基、金属塩錯体形成基、および金属塩錯体形成基をＮ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に連結する連結基を含むことができる。一般に、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基および金属塩錯体形成基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基を含むＮ２−ホスフィニルアミジン化合物、および金属塩錯体形成基の独立した要素である。したがって、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基を含むＮ２−ホスフィニルアミジン化合物、および金属塩錯体形成基は、本明細書に記載されるＮ２−ホスフィニルアミジン基、および本明細書に記載される金属塩錯体形成基の態様および実施形態の任意の組み合わせを使用して記載することができる。さらに、Ｎ２ホスフィニルアミジン基、金属塩錯体形成基、および金属塩錯体形成基をＮ２−ホスフィニルアミジン基に連結する連結基（または金属塩錯体形成基をＮ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に連結する連結基）は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基を含むＮ２−ホスフィニルアミジン化合物、金属塩錯体形成基、およびＮ２−ホスフィニルアミジン基に金属塩錯体形成基を連結する連結基の独立した要素である。したがって、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基を含むＮ２−ホスフィニルアミジン化合物、金属塩錯体形成基、および金属塩錯体形成基をＮ２−ホスフィニルアミジン基に連結する連結基（または金属塩錯体形成基をＮ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に連結する連結基）は、本明細書に記載されるＮ２−ホスフィニルアミジン基、本明細書に記載される金属塩錯体形成基、および本明細書に記載される連結基の態様および実施形態の任意の組み合わせを使用して、記載することができる。
【０２４３】
実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基を含むＮ２−ホスフィニルアミジン化合物、金属塩錯体形成基、および金属塩錯体形成基をＮ２−ホスフィニルアミジン基に連結する連結基は、構造ＮＰ１１、構造ＮＰ１３、構造ＮＰ１５、構造ＮＰ１６、構造ＮＰ１８、もしくは構造ＮＰ２０；代替として、構造ＮＰ１１、構造ＮＰ１３、もしくは構造ＮＰ１５；代替として、構造ＮＰ１６、構造ＮＰ１８、もしくは構造ＮＰ２０；代替として、構造ＮＰ１１；代替として、構造ＮＰ１３；代替として、構造ＮＰ１５；代替として、構造ＮＰ１６；代替として、構造ＮＰ１８；または代替として、構造ＮＰ２０を有することができる。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｌ２、Ｄ、およびｒは、本明細書に記載されるＮ２−ホスフィニルアミジン化合物の特色として独立して記載され、限定されることなく使用することができ、構造ＮＰ１１、構造ＮＰ１３、構造ＮＰ１５、構造ＮＰ１６、構造ＮＰ１８、および／または構造ＮＰ２０を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物中のＲ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｌ２、Ｄ、およびｒを記載する。
【０２４４】
金属塩錯体形成基、Ｑ１は、金属塩と錯体形成できるヘテロ原子を含む任意の基であってもよい。連結基、Ｌ３は、金属塩錯体形成基をＮ２−ホスフィニルアミジン基に連結することができる任意の基であってもよい。いくつかの実施形態において、連結基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子と、金属塩錯体形成基との間の原子をすべて含む。金属塩錯体形成基が非環式である場合、連結基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基の原子と金属錯体形成基のヘテロ原子との間；または、代替として、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子と金属塩錯体形成官能基のヘテロ原子との間の原子をすべて含む。例えば、Ｎ１−（２−（ジメチルアミノ）エチル）−Ｎ２−（ジフェニルホスフィノ）において、連結基は−ＣＨ２ＣＨ２−であり、金属塩錯体形成基はＮ，Ｎ−ジメチルアミニル基であり、また、Ｎ１−（２−（フェニルチオ）フェニル）−Ｎ２−（ジイソプロピルホスフィノ）において、連結基は、フェニル−１，２−エン基であり、金属塩錯体形成基は、フェニルチオ基である。しかし、金属塩錯体形成基のヘテロ原子が環または環系内に含まれている場合、連結基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基の原子と、金属錯体形成基のヘテロ原子を含有する環または環系の第１の原子との間；または代替として、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子と、金属錯体形成基のヘテロ原子を含有する環または環系の第１の原子との間の原子をすべて含む。例えば、Ｎ１−（２−（モルホリン−１−イル）エチル）−Ｎ２−（ジイソプロピルホスフィノ）において、連結基は−ＣＨ２ＣＨ２−であり、金属塩錯体形成基はモルホリン−１−イル基であり、また、Ｎ１−（チアゾール−２−イル）−Ｎ２−（ジフェニルホスフィノ）において、連結基は、結合であり、金属塩錯体形成基は、チアゾール−２−イル基である。
【０２４５】
金属塩錯体形成基、Ｑ１は、金属塩と錯体形成できるヘテロ原子を含む任意の基であってもよい。実施形態において、金属塩錯体形成基は、ヘテロ原子を含むＣ１〜Ｃ３０基；代替として、ヘテロ原子を含むＣ１〜Ｃ２０基；代替として、ヘテロ原子を含むＣ１〜Ｃ１５基；代替として、ヘテロ原子を含むＣ１〜Ｃ１０基；または代替として、ヘテロ原子を含むＣ１〜Ｃ５基であってもよい。いくつかの実施形態において、金属塩錯体形成基の金属塩錯体形成ヘテロ原子は、酸素、硫黄、窒素、またはリンであってもよい。他の実施形態において、金属塩錯体形成基の金属塩錯体形成ヘテロ原子は、酸素または硫黄であってもよい。また他の実施形態において、金属塩錯体形成基の金属塩錯体形成ヘテロ原子は、窒素、またはリンであってもよい。さらなる実施形態において、金属塩錯体形成基の金属塩錯体形成ヘテロ原子は、酸素；代替として、硫黄；代替として、窒素；または代替として、リンであってもよい。場合によって、金属塩錯体形成基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体において、不活性ヘテロ原子（例えば、ハライド、またはシリコン）および／または金属塩（例えば、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物内の非錯体形成金属錯体形成基における位置のために）と錯体を形成しない、さらなる金属塩錯体形成ヘテロ原子などの金属塩と錯体を形成しないさらなるヘテロ原子を含むことができる。
【０２４６】
一実施形態において、金属塩錯体形成基は、ジヒドロカルビルアミニル基、ジヒドロカルビルホスフィニル基、ヒドロカルビルエーテリル基、またはヒドロカルビルスルフィジル基であってもよい。いくつかの実施形態において、金属塩錯体形成基は、ジヒドロカルビルアミニル基；代替として、ジヒドロカルビルホスフィニル基；代替として、ヒドロカルビルエーテリル基；または代替として、ヒドロカルビルスルフィジル基であってもよい。一実施形態において、金属塩錯体形成基として使用されるジヒドロカルビルアミニル基、ジヒドロカルビルホスフィニル基、ヒドロカルビルエーテリル基、または、ヒドロカルビルスルフィジル基の各ヒドロカルビル基は、Ｃ１〜Ｃ３０ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビル基であってもよい。いくつかの実施形態において、金属塩錯体形成基として使用されるジヒドロカルビルアミニル基、ジヒドロカルビルホスフィニル基、ヒドロカルビルエーテリル基、または、ヒドロカルビルスルフィジル基の各ヒドロカルビル基は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、またはアラルキル基；代替として、アルキル基；代替として、シクロアルキル基；代替として、アリール基；または代替として、アラルキル基であってもよい。アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、およびアラルキル基は、独立して本明細書に開示され、限定されることなく使用することができ、金属塩錯体形成基をさらに記載する。
【０２４７】
いくつかの実施形態において、金属錯体形成基は、ジアルキルアミニル基、ジシクロアルキルアミニル基、ジ（置換シクロアルキル）アミニル基、Ｎ−（アルキル）−Ｎ−（シクロアルキル）アミニル基、Ｎ−（アルキル）−Ｎ−（置換シクロアルキル）アミニル基、Ｎ−（シクロアルキル）−Ｎ−（置換シクロアルキル）アミニル基、ジアリールアミニル基、ジ（置換アリール）アミニル基、Ｎ−アリル−Ｎ−（置換アリール）アミニル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリルアミニル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−（置換アリール）アミニル基、ジアルキルホスフィニル基、ジシクロアルキルホスフィニル基、ジ（置換シクロアルキル）ホスフィニル基、Ｎ−（アルキル）−Ｎ−（シクロアルキル）ホスフィニル基、Ｎ−（アルキル）−Ｎ−（置換シクロアルキル）ホスフィニル基、Ｎ−（シクロアルキル）−Ｎ−（置換シクロアルキルホスフィニル基、ジアリールホスフィニル基、ジ（置換アリール）ホスフィニル基、Ｐ−アリル−Ｐ−（置換アリール）ホスフィニル基、Ｐ−アルキル−Ｐ−アリルホスフィニル基、Ｐ−アルキル−Ｐ−（置換アリール）ホスフィニル基、アルキルエーテリル基、アリールエーテリル基、置換アリールエーテリル基、アルキルスルフィジル基、アリールスルフィジル基、置換アリールスルフィジル基、フラニル基、置換フラニル基、チエニル基、置換チエニル基、テトラヒドロフラニル基、置換テトラヒドロフラニル基、チオファニル基、置換チオファニル基、ピリジニル基、置換ピリジニル基、モルフィリニル基、置換モルフィリニル基、ピラニル基、置換ピラニル基、テトラヒドロピラニル基、置換テトラヒドロピラニル基、キノリニル基、置換キノリニル基、ピロリル基、置換ピロリル基、ピロリジニル基、置換ピロリジニル基、ピペリジニル基、または置換ピペリジニル基であってもよい。実施形態において、金属塩錯体形成基は、ジアルキルアミニル基、ジシクロアルキルアミニル基、ジアリールアミニル基、ジアルキルホスフィニル基、ジシクロアルキルホスフィニル基、ジアリールホスフィニル基、アルキルエーテリル基、アリールエーテリル基、アルキルスルフィジル基、アリールスルフィジル基、フラニル基、チエニル基、テトラヒドロフラニル基、チオファニル基、ピリジニル基、モルフィリニル基、ピラニル基、テトラヒドロピラニル基、キノリニル基、ピロリル基、ピロリジニル基、またはピペリジニル基であってもよい。いくつかの実施形態において、金属塩錯体形成基は、ジアルキルアミニル基、ジシクロアルキルアミニル基、ジ（置換シクロアルキル）アミニル基、ジアリールアミニル基、ジ（置換アリール）アミニル基、ジアルキルホスフィニル基、ジシクロアルキルホスフィニル基、ジ（置換シクロアルキル）ホスフィニル基、ジアリールホスフィニル基、ジ（置換アリール）ホスフィニル基、アルキルエーテリル基、アリールエーテリル基、置換アリールエーテリル基、アルキルスルフィジル基、アリールスルフィジル基、置換アリールスルフィジル基、ピリジニル基、置換ピリジニル基、モルフィリニル基、もしくは置換モルフィリニル基；代替として、ジアルキルアミニル基、ジアリールアミニル基、ジアルキルホスフィニル基、ジアリールホスフィニル基、アルキルエーテリル基、アリールエーテリル基、アルキルスルフィジル基、アリールスルフィジル基、ピリジニル基、もしくはモルフィリニル基；代替として、ジアルキルアミニル基、ジシクロアルキルアミニル基、ジ（置換シクロアルキル）アミニル基、ジアリールアミニル基、ジ（置換アリール）アミニル基、ジアルキルホスフィニル基、ジシクロアルキルホスフィニル基、ジ（置換シクロアルキル）ホスフィニル基、ジアリールホスフィニル基、もしくはジ（置換アリール）ホスフィニル基；代替として、ジアルキルアミニル基、ジアリールアミニル基、ジアルキルホスフィニル基、ジアリールホスフィニル基；または代替として、ジアリールアミニル基、ジ（置換アリール）アミニル基、もしくはＮ−アリル−Ｎ−（置換アリール）アミニル基、ジアリールホスフィニル基、ジ（置換アリール）ホスフィニル基、もしくはＰ−アリル−Ｐ−（置換アリール）ホスフィニル基；代替として、ジアリールアミニル基、ジ（置換アリール）ホスフィニル基、もしくはＮ−アリル−Ｎ−（置換アリール）アミニル基ジアリールホスフィニル基、ジ（置換アリール）ホスフィニル基、もしくはＰ−アリル−Ｐ−（置換アリール）ホスフィニル基、アリールスルフィジル基、置換アリールスルフィジル基、ピリジニル基、もしくは置換ピリジニル基；または代替として、ジアリールアミニル基、ジアリールホスフィニル基、アリールスルフィジル基、もしくはピリジニル基であってもよい。他の実施形態において、金属塩錯体形成基は、ジアルキルアミニル基もしくはジアルキルホスフィニル基；代替として、ジアリールアミニル基もしくはジアリールホスフィニル基；代替として、ジ（置換アリール）アミニル基もしくはジ（置換アリール）ホスフィニル基；代替として、２−ピリジニル基もしくは置換２−ピリジニル基；代替として、アルキルエーテリル基、フェニルエーテリル基、置換アリールエーテリル基、アルキルスルフィジル基、アリールスルフィジル基、もしくは置換スルフィジル基；代替として、アルキルエーテリル基もしくはアルキルスルフィジル基；代替として、アリールエーテリル基、置換アリールエーテリル基、アリールスルフィジル基、もしくは置換スルフィジル基；代替として、アリールエーテリル基もしくは置換アリールエーテリル基；代替として、アリールスルフィジル基、もしくは置換アリールスルフィジル基；代替として、アリールスルフィジル基もしくは置換アリールスルフィジル基；代替として、フラニル基、置換フラニル基、チエニル基もしくは置換チエニル基；代替として、１−モルフィリニル基もしくは置換１−モルフィリニル基；代替として、２−モルフィリニル基、もしくは置換２−モルフィリニル基；代替として、２−ピラニル基
もしくは置換２−ピラニル基；代替として、２−テトラヒドロピラニル基、置換２−テトラヒドロピラニル基；代替として、１−ピペリジニル基もしくは置換１−ピペリジニル基；代替として、１−ピロリジニル基、置換１−ピロリジニル基；代替として、２−ピロリジニル基、置換２−ピロリジニル基；代替として、２−ピペリジニル基、もしくは置換２−ピペリジニル基；代替として、２−キノリニル基もしくは置換２−キノリニルｑｕｉｏｌｉｎｙｌ基；代替として、１−ピロリル基もしくは置換１−ピロリル基；代替として、２−ピロリル基もしくは置換２−ピロリル基；代替として、２−テトラヒドロフラニル基もしくは置換２−テトラヒドロフラニル基；または代替として、２−チオファニル基もしくは置換２−チオファニル基であってもよい。また他の実施形態において、金属塩錯体形成基は、ジアリールアミニル基；代替として、ジ（置換アリール）アミニル基；代替として、ジアリールホスフィニル基；または代替として、ジ（置換アリール）ホスフィニル基であってもよい。置換金属錯体形成基について使用することができるアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、およびアラルキル基、および置換基は、独立して本明細書に開示され、限定されることなく使用することができ、金属塩錯体形成基をさらに記載する。
【０２４８】
本明細書に記載される任意の態様または実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各アルキル基は、独立してＣ１〜Ｃ３０アルキル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基であってもよい。本明細書に記載される任意の態様または実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各シクロアルキル基は、独立してＣ４〜Ｃ３０シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基；または代替として、Ｃ４〜Ｃ１０シクロアルキル基であってもよい。本明細書に記載される任意の態様または実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各置換シクロアルキル基は、独立してＣ４〜Ｃ３０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基；または代替として、Ｃ４〜Ｃ１０置換シクロアルキル基であってもよい。本明細書に記載される任意の態様または実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各アリール基は、独立してＣ６〜Ｃ３０アリール基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基；または代替として、Ｃ６〜Ｃ１０アリール基であってもよい。本明細書に記載される任意の態様または実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各置換アリール基は、独立してＣ６〜Ｃ３０の置換アリール基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリール基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５置換アリール基；または代替として、Ｃ６〜Ｃ１０置換アリール基であってもよい。本明細書に記載される任意の態様または実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各アラルキル基は、独立してＣ７〜Ｃ３０アラルキル基；代替として、Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル基；代替として、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキル基；または代替として、Ｃ７〜Ｃ１０アラルキル基であってもよい。本明細書に記載される任意の態様または実施形態において、金属錯体形成基のヘテロ原子に結合した各置換アリール基は、独立してＣ７〜Ｃ３０置換アラルキル基；代替として、Ｃ７〜Ｃ２０置換アラルキル基；代替として、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキル基；または代替として、Ｃ７〜Ｃ１０置換アラルキル基であってもよい。一般的なシクロアルキル基、一般的なアリール基、および／または、一般的なアラルキル基の各置換基は、ハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。置換基ハロゲン、置換基ヒドロカルビル基、および置換基ヒドロカルボキシ基は、独立して本明細書に開示される（例えば、他の場所の中でも、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物中のＲ１基の非水素置換基として）。これらの置換基ハロゲン、置換基ヒドロカルビル基、および置換基ヒドロカルボキシは、限定されることなく使用することができ、金属塩錯体形成基をさらに記載する。
【０２４９】
一実施形態において、金属塩錯体形成基（Ｑ１）を有する任意のＮ２−ホスフィニルアミジン化合物の金属塩錯体形成基（Ｑ１）は、表２に提供される金属錯体形成基構造を有することができる。
【表２】
2015016470.tif 000021
いくつかの実施形態において、金属塩錯体形成基は、構造Ｑ１、構造Ｑ２、構造Ｑ３、構造Ｑ４、構造Ｑ５、構造Ｑ６、構造Ｑ７、構造Ｑ８、構造Ｑ９、構造Ｑ１０、構造Ｑ１１、構造Ｑ１２、構造１３、構造Ｑ１６、構造Ｑ１７、構造Ｑ１８、構造Ｑ１９、または構造Ｑ２０を有することができる。他の実施形態において、金属塩錯体形成基は、構造Ｑ１、構造Ｑ２、構造Ｑ３、もしくは構造Ｑ４；代替として、構造Ｑ１もしくは構造Ｑ２；代替として、構造Ｑ３もしくは構造Ｑ４；代替として、構造Ｑ５もしくは構造Ｑ６；代替として、構造Ｑ７もしくは構造Ｑ１０；代替として、構造Ｑ８もしくは構造Ｑ９；代替として、構造Ｑ１１もしくは構造Ｑ１２；代替として、構造Ｑ１１もしくは構造Ｑ１３；代替として、構造Ｑ１９もしくは構造Ｑ２０；代替として、構造Ｑ１；代替として、構造Ｑ２；代替として、構造Ｑ３；代替として、構造Ｑ４；代替として、構造Ｑ５；代替として、構造Ｑ６；代替として、構造Ｑ７；代替として、構造Ｑ８；代替として、構造Ｑ９；代替として、構造Ｑ１０；代替として、構造Ｑ１１；代替として、構造Ｑ１２；代替として、構造１３；代替として、構造Ｑ１６；代替として、構造Ｑ１７；代替として、構造Ｑ１８；代替として、構造Ｑ１９；または代替として、構造Ｑ２０を有することができる。さらなる実施形態において、金属塩錯体形成基は、構造Ｑ１４、構造Ｑ１５、構造Ｑ２１、もしくは構造Ｑ２２；代替として、構造Ｑ１４もしくは構造Ｑ１５；代替として、構造Ｑ２１もしくは構造Ｑ２２；代替として、構造Ｑ１４；代替として、構造Ｑ１５；代替として、構造Ｑ２１；または代替として、構造Ｑ２２を有することができる。
【０２５０】
一態様において、構造Ｑ１、構造Ｑ２、構造Ｑ３および／または構造Ｑ４内のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、およびＲｑ６は、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ２０オルガニル基；代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ２０オルガニル基；代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ１０オルガニル基；または代替として、本質的に不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ５オルガニル基であってもよい。別の態様において、構造Ｑ１、構造Ｑ２、構造Ｑ３および／または構造Ｑ４内のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、およびＲｑ６は、Ｃ１〜Ｃ２０ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビル基であってもよい。
【０２５１】
一実施形態において、構造Ｑ１、構造Ｑ２、構造Ｑ３および／または構造Ｑ４内のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、およびＲｑ６は、独立してＣ１〜Ｃ２０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２０置換アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリール基、Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル基、もしくはＣ７〜Ｃ２０置換アラルキル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、もしくはＣ７〜Ｃ２０アラルキル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基もしくはＣ１〜Ｃ２０置換アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基もしくはＣ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基もしくはＣ６〜Ｃ２０置換アリール基；代替として、Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル基もしくはＣ７〜Ｃ２０置換アラルキル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０置換アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０置換アリール基；代替として、Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル基；または代替として、Ｃ７〜Ｃ２０置換アラルキル基であってもよい。いくつかの実施形態において、構造Ｑ１、構造Ｑ２、構造Ｑ３および／または構造Ｑ４内のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、およびＲｑ６は、独立してＣ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０置換アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基、Ｃ６〜Ｃ１５置換アリール基、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキル基、もしくはＣ７〜Ｃ１５置換アラルキル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基、もしくはＣ７〜Ｃ１５アラルキル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基もしくはＣ１〜Ｃ１０置換アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基もしくはＣ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基もしくはＣ６〜Ｃ１５置換アリール基；代替として、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキル基もしくはＣ７〜Ｃ１５置換アラルキル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０置換アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５置換アリール基；代替として、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキル基；または代替として、Ｃ７〜Ｃ１５置換アラルキル基であってもよい。いくつかの実施形態において、構造Ｑ１、構造Ｑ２、構造Ｑ３および／または構造Ｑ４内のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、およびＲｑ６は、独立してＣ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ１〜Ｃ５置換アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１０シクロアルキル基、Ｃ４〜Ｃ１０置換シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ１０アリール基、Ｃ６〜Ｃ１０置換アリール基、Ｃ７〜Ｃ１０アラルキル基、もしくはＣ７〜Ｃ１０置換アラルキル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１０シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ１０アリール基、もしくはＣ７〜Ｃ１０アラルキル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基もしくはＣ１〜Ｃ１０置換アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１０シクロアルキル基もしくはＣ４〜Ｃ１０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１０アリール基もしくはＣ６〜Ｃ１０置換アリール基；代替として、Ｃ７〜Ｃ１０アラルキル基もしくはＣ７〜Ｃ１０置換アラルキル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ５置換アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１０シクロアルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１０置換シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１０アリール基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１０置換アリール基；代替として、Ｃ７〜Ｃ１０アラルキル基；または代替として、Ｃ７〜Ｃ１０置換アラルキル基であってもよい。
【０２５２】
一実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各基、または、構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有する金属錯体形成基のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／またはＲｑ６は、独立してメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、もしくはノナデシル基；または代替として、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、もしくはデシル基であってもよい。いくつかの実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各基、または、構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有する金属錯体形成基のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／またはＲｑ６は、独立してメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、もしくはネオペンチル基；代替として、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、もしくはネオペンチル基；代替として、メチル基；代替として、エチル基；代替として、ｎ−プロピル基；代替として、イソプロピル基；代替として、ｔｅｒｔ−ブチル基；または代替として、ネオペンチル基であってもよい。独立して、金属錯体形成基のヘテロ原子に結合することができるこれらのアルキル基は、第一級アルキル基、第二級ヒドロカルビル基、もしくは第三級アルキル基；代替として、第一級アルキル基；代替として、第二級アルキル基；または代替として、第三級アルキル基であってもよい。いくつかの実施形態において、構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／または、Ｑ４を有する金属塩錯体形成基のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／またはＲｑ６として使用することができるアルキル基は置換されていてもよい。置換アルキル基の各置換基は、独立してハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。置換基ハロゲンおよび置換基ヒドロカルボキシ基は、独立して本明細書に開示される（他の場所の中でも、例えば、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物中のＲ１基の非水素置換基として）。これらの置換基ハロゲンおよび置換基ヒドロカルボキシ基は、限定されることなく使用することができ、Ｒｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／またはＲｑ６として使用することができる置換アルキル基をさらに記載する。
【０２５３】
一実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各基、または、構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有する金属塩錯体形成基のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／またはＲｑ６は、独立してシクロブチル基、置換シクロブチル基、シクロペンチル基、置換シクロペンチル基、シクロヘキシル基、置換シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、置換シクロヘプチル基、シクロオクチル基、または置換シクロオクチル基であってもよい。いくつかの実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各シクロアルキル基は、シクロペンチル基、置換シクロペンチル基、シクロヘキシル基、または置換シクロヘキシル基であってもよい。他の実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各基、または、構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有する金属塩錯体形成基のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／またはＲｑ６は、独立してシクロブチル基または置換シクロブチル基；代替として、シクロペンチル基もしくは置換シクロペンチル基；代替として、シクロヘキシル基もしくは置換シクロヘキシル基；代替として、シクロヘプチル基もしくは置換シクロヘプチル基；または代替として、シクロオクチル基、もしくは置換シクロオクチル基であってもよい。さらなる実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各基、または、構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有するＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／もしくはＲｑ６は、独立してシクロペンチル基；代替として、置換シクロペンチル基；シクロヘキシル基；または代替として、置換シクロヘキシル基であってもよい。指定の数の環炭素原子を有するシクロアルキル基の各置換基は、独立してハロゲン、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルビル基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。置換基ハロゲン、置換基ヒドロカルビル基、および置換基ヒドロカルボキシ基は、独立して本明細書に開示される（他の場所の中でも、例えば、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物中のＲ１基の非水素置換基として）。これらの置換基ハロゲン、置換基ヒドロカルビル基、および置換基ヒドロカルボキシは、限定されることなく使用することができ、金属錯体形成基のヘテロ原子に結合した基として、または構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有するＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／もしくはＲｑ６として使用することができる置換アルキル基をさらに記載する。
【０２５４】
他の非限定的な実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各基、または、構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有するＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／もしくはＲｑ６は、独立して２−アルキルシクロヘキシル基、または２，６−ジアルキルシクロヘキシル基；代替として、シクロペンチル基、２−アルキルシクロペンチル基、または２，５−ジアルキルシクロペンチル基；代替として、シクロヘキシル基；代替として、２−アルキルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジアルキルシクロヘキシル基；代替として、シクロペンチル基；代替として、２−アルキルシクロペンチル基；または代替として、または２，５−ジアルキルシクロペンチル基であってもよい。アルキル置換基は、独立して本明細書に記載される（他の場所の中でも、例えば、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物中のＲ１基のアルキル置換基として）。これらのアルキル置換基は、限定されることなく使用することができ、金属錯体形成基のヘテロ原子に結合した基として、または構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有するＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／もしくはＲｑ６として使用することができる、アルキルシクロヘキシル、ジアルキルシクロヘキシル、アルキルシクロペンチル、および／またはジアルキルシクロペンチル基をさらに記載する。一般に、二置換シクロヘキシルまたはシクロペンチル基のアルキル置換基は同一であってもよく；または代替として、ジアルキルシクロヘキシルまたはシクロペンチル基のアルキル置換基は異なっていてもよい。
【０２５５】
非限定的な実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各基、または、構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有する金属錯体形成基のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／もしくはＲｑ６は、独立して２−メチルシクロヘキシル基、２−エチルシクロヘキシル基、２−イソプロピルシクロヘキシル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基、２，６−ジメチルシクロヘキシル基、２，６−ジエチルシクロヘキシル基、２，６−ジイソプロピルシクロヘキシル基、または２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基であってもよい。非限定的な実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各基、または、構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有する金属錯体形成基のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／もしくはＲｑ６は、独立して、２−メチルシクロヘキシル基、２−エチルシクロヘキシル基、２−イソプロピルシクロヘキシル基、もしくは２−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジメチルシクロヘキシル基、２，６−ジエチルシクロヘキシル基、２，６−ジイソプロピルシクロヘキシル基、もしくは２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基；代替として、２−メチルシクロヘキシル基；代替として、２−エチルシクロヘキシル基；代替として、２−イソプロピルシクロヘキシル基；代替として、２−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジメチルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジエチルシクロヘキシル基；代替として、２，６−ジイソプロピルシクロヘキシル基；または代替として、もしくは２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル基であってもよい。
【０２５６】
一実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各基、または、構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有する金属錯体形成基のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／もしくはＲｑ６は、独立してフェニル基、置換フェニル基、ナフチル基、もしくは置換ナフチル基；代替として、フェニル基もしくは置換フェニル基；代替として、ナフチル基もしくは置換ナフチル基；代替として、フェニル基もしくはナフチル基；代替として、フェニル基；代替として、置換フェニル基；代替として、ナフチル基；または代替として、置換ナフチル基であってもよい。一実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各基、または、構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有する金属錯体形成基のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／もしくはＲｑ６は、独立して２−置換フェニル基、３−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、２，６−二置換フェニル基、３，５−二置換フェニル基、または２，４，６−三置換フェニル基であってもよい。他の実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各基、または、構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有する金属錯体形成基のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／もしくはＲｑ６は、独立して２−置換フェニル基、４−置換フェニル基、２，４−二置換フェニル基、もしくは２，６−二置換フェニル基；代替として、３−置換ｓｕｂｓｉｔｕｔｅｄフェニル基もしくは３，５−二置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基もしくは４−置換フェニル基；代替として、２，４−二置換フェニル基もしくは２，６−二置換フェニル基；代替として、２−置換フェニル基；代替として、３−置換フェニル基；代替として、４−置換フェニル基；
代替として、２，４−二置換フェニル基；代替として、２，６−二置換フェニル基；代替として、３，５−二置換フェニル基；または代替として、２，４，６−三置換フェニル基であってもよい。置換フェニル基（一般的または特定の）または、置換ナフチル基（一般的または特定の（ｇｅｎｅｒａｌ  ｏｆ  ｓｐｅｃｉｆｉｃ））の各置換基は、独立してハロゲン、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルビル基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。置換基ハロゲン、置換基ヒドロカルビル基、および置換基ヒドロカルボキシ基は、独立して本明細書に開示される（他の場所の中でも、例えば、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物中のＲ１基の非水素置換基として）。これらの置換基ハロゲン、置換基ヒドロカルビル基、および置換基ヒドロカルボキシは、限定されることなく使用することができ、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した基、または、構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有する金属塩錯体形成基のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／もしくはＲｑ６として使用することができる置換フェニル基（一般的または特定の）または置換ナフチル基（一般的または特定の）をさらに記載する。
【０２５７】
非限定的な実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各基、または、構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有する金属錯体形成基のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／もしくはＲｑ６は、独立してフェニル基、２−アルキルフェニル基、３−アルキルフェニル基、４−アルキルフェニル基、２，４−ジアルキルフェニル基２，６−ジアルキルフェニル基、３，５−ジアルキルフェニル基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル（基、４−アルキルフェニル基、２，４−ジアルキルフェニル基、２，６−ジアルキルフェニル）（基、もしくは２，４，６−トリアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基、もしくは４−アルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基、もしくは２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、３−アルキルフェニル基、もしくは３，５−ジアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基もしくは２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、２−アルキルフェニル基；代替として、３−アルキルフェニル基；代替として、４−アルキルフェニル基；代替として、２，４−ジアルキルフェニル基；代替として、２，６−ジアルキルフェニル基；代替として、３，５−ジアルキルフェニル基；または代替として、２，４，６−トリアルキルフェニル基であってもよい。アルキル置換基は、独立して本明細書に記載される（他の場所の中でも、例えば、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物中のＲ１基のアルキル置換基として）。これらのアルキル置換基は、限定されることなく使用することができ、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合する基として使用することができる、または構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４有する金属塩錯体形成基のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／もしくはＲｑ６として使用することができるアルキルフェニル、ジアルキルフェニル、および／またはトリアルキルフェニル基をさらに記載する。一般にジアルキルフェニル基もしくはトリアルキル基のアルキル置換基は、同一であってもよく；または代替として、ジアルキルフェニル基のアルキル置換基は、異なっていてもよい。
【０２５８】
いくつかの非限定的な実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各基、または、構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有する金属錯体形成基のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／もしくはＲｑ６は、独立してフェニル基、２−アルコキシフェニル基、３−アルコキシフェニル基、４−アルコキシフェニル基、または３，５−ジアルコキシフェニル基；代替として、２−アルコキシフェニル基または４−アルコキシフェニル基；代替として、３−アルコキシフェニル基または３，５−ジアルコキシフェニル基；代替として、２−アルコキシフェニル基；代替として、３−アルコキシフェニル基；代替として、４−アルコキシフェニル基；代替として、３，５−ジアルコキシフェニル基であってもよい。アルコキシ基置換基は、独立して本明細書に記載される（他の場所の中でも、例えば、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物中のＲ１基のアルコキシ置換基として）。これらのアルコキシ置換基は、限定されることなく使用することができ、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した基として使用することができる、または、構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有する金属錯体形成基のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／もしくはＲｑ６として使用することができる、アルコキシフェニル基（複数可）および／もしくはジアルコキシフェニル基（複数可）をさらに記載する。一般に、ジアルコキシフェニルのアルコキシ置換基は同一であってもよく；または代替として、ジアルコキシフェニル基のアルコキシ置換基は異なっていてもよい。
【０２５９】
他の非限定的な実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各基、または、構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有する金属錯体形成基のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／もしくはＲｑ６は、独立してフェニル基、２−ハロフェニル基、３−ハロフェニル基、４−ハロフェニル基、２，６−ジハロフェニル基、もしくは３，５−ジアルキルフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基、４−ハロフェニル基、もしくは２，６−ジハロフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基もしくは４−ハロフェニル基；代替として、３−ハロフェニル基もしくは３，５−ジハロフェニル基；代替として、２−ハロフェニル基；代替として、３−ハロフェニル基；代替として、４−ハロフェニル基；代替として、２，６−ジハロフェニル基；または代替として、３，５−ジハロフェニル基であってもよい。ハライド置換基は、独立して本明細書に記載される（他の場所の中でも、例えば、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物中のＲ１基のハライド置換基として）。これらのハライド置換基は、限定されることなく使用することができ、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した基として使用することができる、または構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有する金属錯体形成基のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／またはＲｑ６として使用することができる、ハロフェニル基および／もしくはジハロフェニル基をさらに記載する。一般に、ジハロフェニル基のハライドは同じであってもよく；または、代替として、ジハロフェニル基のハライドは異なることができる。
【０２６０】
非限定的な実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各基、または、構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有する金属錯体形成基のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／もしくはＲｑ６は、独立してフェニル基、２−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−ｎ−プロピルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、３−メチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、２，６−ジ−ｎ−プロピルフェニル基、２，６−ジイソプロピルフェニル基、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、２−イソプロピル−６−メチルフェニル基、３，５−ジメチル基、もしくは２，４，６−トリメチルフェニル基；代替として、２−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−ｎ−プロピルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、もしくは２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、２，６−ジメチルフェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、２，６−ジ−ｎ−プロピルフェニル基、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、もしくは２−イソプロピル−６−メチルフェニル基；代替として、２−メチルフェニル基；代替として、２−エチルフェニル基；代替として、２−ｎ−プロピルフェニル基；代替として、２−イソプロピルフェニル基；代替として、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、３−メチルフェニル基；代替として、２，６−ジメチルフェニル基；代替として、２，６−ジエチルフェニル基；代替として、２，６−ジ−ｎ−プロピルフェニル基；代替として、２，６−ジイソプロピルフェニル基；代替として、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基；代替として、２−イソプロピル−６−メチルフェニル基；代替として、３，５−ジメチルフェニル基；または代替として、２，４，６−トリメチルフェニル基であってもよい。いくつかの非限定的な実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各基、または、構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有する金属錯体形成基のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／もしくはＲｑ６は、独立してフェニル基、３−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、３−イソプロポキシフェニルｐｈｅｎｙ基、３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、４−イソプロポキシフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基、３，５−ジメトキシフェニル基、３，５−ジエトキシフェニル基、３，５−ジイソプロポキシフェニル基、もしくは３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、３−メトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、３−イソプロポキシフェニル基、もしくは３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、４−メトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、４−イソプロポキシフェニル基、もしくは４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；または代替として、３，５−ジメトキシフェニル基、３，５−ジエトキシフェニル基、３，５−ジイソプロポキシフェニル基、もしくは３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基であってもよい。他の非限定的な実施形態において、金属錯体形成基のヘテロ原子に結合した各基、または、構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有する金属錯体形成基のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／または、Ｒｑ６は、独立して３−メトキシフェニル基；代替として、３−エトキシフェニル基；代替として、３−イソプロポキシフェニル基；代替として、３−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、４−メトキシフェニル基；代替として、４−エトキシフェニル基；代替として、４−イソプロポキシフェニル基；代替として、４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基；代替として、３，５−ジメトキシフェニル基；代替として、３，５−ジエトキシフェニル基；代替として、３，５−ジイソプロポキシフェニル基；または代替として、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基であってもよい。
【０２６１】
一実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各基、または、構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有する金属錯体形成基のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／もしくはＲｑ６は、独立してベンジル基、置換ベンジル基、２−フェニルエチル基、または１−フェニルエチル基であってもよい。いくつかの実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した各基、または、構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有する金属錯体形成基のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／もしくはＲｑ６は、独立してベンジル基または置換ベンジル基；代替として、ベンジル基；代替として、置換ベンジル基；代替として、２−フェニルエチル基；または代替として、１−フェニルエチル基であってもよい。置換ベンジル基（一般的または特定の）の各置換基は、独立してハロゲン、ヒドロカルビル基、もしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルビル基；代替として、ハロゲンもしくはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。置換基ハロゲン、置換基ヒドロカルビル基、および置換基ヒドロカルボキシ基は、独立して本明細書に開示される（他の場所の中でも、例えば、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物中のＲ１基の非水素置換基として）。これらの置換基は、限定されることなく使用することができ、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した基、または、構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有する金属錯体形成基のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／もしくはＲｑ６として使用することができる、置換ベンジル基（一般的または特定の）をさらに記載する。
【０２６２】
一態様において、構造Ｑ８、構造Ｑ９、または構造Ｑ１０を有する金属塩錯体形成基のＲｑ２１は、Ｃ１〜Ｃ２０ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１５ヒドロカルビル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビル基であってもよい。いくつかの実施形態において、構造Ｑ８、構造Ｑ９、または構造Ｑ１０を有する金属塩錯体形成基のＲｑ２１は、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、もしくはＣ７〜Ｃ２０アラルキル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基；または代替として、Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル基であってもよい。いくつかの実施形態において、構造Ｑ８、構造Ｑ９、または構造Ｑ１０を有する金属塩錯体形成基のＲｑ２１は、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基、もしくはＣ７〜Ｃ１５アラルキル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１５シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１５アリール基；または代替として、Ｃ７〜Ｃ１５アラルキル基であってもよい。他の実施形態において、構造Ｑ８、構造Ｑ９、または構造Ｑ１０を有する金属塩錯体形成基のＲｑ２１は、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基、Ｃ４〜Ｃ１０シクロアルキル基、Ｃ６〜Ｃ１０アリール基、またはＣ７〜Ｃ１０アラルキル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ５アルキル基；代替として、Ｃ４〜Ｃ１０シクロアルキル基；代替として、Ｃ６〜Ｃ１０アリール基；または代替として、Ｃ７〜Ｃ１０アラルキル基であってもよい。一般的および特定のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、およびアラルキル基は、金属塩錯体形成基のヘテロ原子に結合した基として、または構造Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、および／もしくはＱ４を有する金属錯体形成基のＲｑ１、Ｒｑ２、Ｒｑ３、Ｒｑ４、Ｒｑ５、および／またはＲｑ６として使用することができる基として本明細書において記載された。これらの一般的および特定のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、およびアラルキル基は、限定されることなく、構造Ｑ８、構造Ｑ９、または構造Ｑ１０を有する金属塩錯体形成基のＲｑ２１として使用することができる。
【０２６３】
一態様において、構造Ｑ５〜Ｑ２２のＲｑ１１，Ｒｑ１２，Ｒｑ１３，Ｒｑ１４，Ｒｑ１５，Ｒｑ１６，Ｒｑ１７，Ｒｑ１８，Ｒｑ１９，Ｒｑ２０，Ｒｑ３１，Ｒｑ３２，Ｒｑ３３，Ｒｑ３４，Ｒｑ３５，Ｒｑ４１，Ｒｑ４２，Ｒｑ４３，Ｒｑ４４，Ｒｑ４５，Ｒｑ５１，Ｒｑ５２，Ｒｑ５３，Ｒｑ５４，Ｒｑ６１，Ｒｑ６２，Ｒｑ６３，Ｒｑ７１，Ｒｑ７２，Ｒｑ７３，Ｒｑ７４，Ｒｑ７５，Ｒｑ７６，Ｒｑ７７，Ｒｑ７８，Ｒｑ７９，および／またはＲｑ８０はそれぞれ、独立して水素または非水素置換基であってもよい。構造Ｑ５〜Ｑ２２を有する金属塩錯体形成基において使用される各Ｒｑ１１〜Ｒｑ２０，Ｒｑ３１〜Ｒｑ３５，Ｒｑ４１〜Ｒｑ４５，Ｒｑ５１〜Ｒｑ５４，Ｒｑ６１〜Ｒｑ６３，および／またはＲｑ７１〜Ｒｑ８０非水素置換基は、ハロゲン、ヒドロカルビル基、またはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲンまたはヒドロカルビル基；代替として、ハロゲンまたはヒドロカルボキシ基；代替として、ハロゲン；代替として、ヒドロカルビル基；または代替として、ヒドロカルボキシ基であってもよい。置換基ハロゲン、置換基ヒドロカルビル基、および置換基ヒドロカルボキシ基は、独立して本明細書に開示される（他の場所の中でも、例えば、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物中の非水素置換基Ｒ１として）。これらの置換基ハロゲン、置換基ヒドロカルビル基、および置換基ヒドロカルボキシは、限定されることなく使用することができ、構造Ｑ５〜Ｑ２２を有する金属錯体形成基において使用されるＲｑ１１〜Ｒｑ２０、Ｒｑ３１〜Ｒｑ３５、Ｒｑ４１〜Ｒｑ４５、Ｒｑ５１〜Ｒｑ５４、Ｒｑ６１〜Ｒｑ６３、および／またはＲｑ７１〜Ｒｑ８０非水素置換基をさらに記載する。
【０２６４】
金属塩錯体形成基をＮ２−ホスフィニルアミジン基に連結する、または金属塩錯体形成基をＮ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に連結する、連結基（Ｌ３）は、結合またはオルガニル基；代替として、結合または不活性官能基からなるオルガニル基；または代替として、結合またはヒドロカルビル基であってもよい。他の実施形態において、連結基は、結合；代替として、オルガニル基；代替として、不活性官能基からなるオルガニル基；または代替として、ヒドロカルビル基であってもよい。本明細書において開示される任意の態様または実施形態において、金属塩錯体形成基をＮ２−ホスフィニルアミジン基に連結する、または金属塩錯体形成基をＮ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に連結するオルガニル連結基は、Ｃ１〜Ｃ１０オルガニル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５オルガニル基であってもよい。本明細書において開示された任意の態様または実施形態において、金属塩錯体形成基をＮ２−ホスフィニルアミジン基に連結する、または金属塩錯体形成基をＮ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に連結する、不活性官能基からなるオルガニル連結基は、不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ１０オルガニル基；または代替として、不活性官能基からなるＣ１〜Ｃ５オルガニル基であってもよい。本明細書において開示された任意の態様または実施形態において、金属塩錯体形成基をＮ２−ホスフィニルアミジン基に連結する、または金属塩錯体形成基をＮ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に連結するヒドロカルビル連結基は、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５ヒドロカルビル基であってもよい。
【０２６５】
いくつかの実施形態において、金属塩錯体形成基をＮ２−ホスフィニルアミジン基に連結する、または金属塩錯体形成基をＮ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に連結する連結基は、−（ＣＲ１ｍＲ１ｍ’）ｍ−［式中、Ｒ１ｍおよびＲ１ｍ’は、それぞれ独立して水素、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、または、ｎ−ブチル基であってもよく、またｍは、１から５までの整数であってもよい。］であってもよい。他の実施形態において、連結する基は、メチレン基（−ＣＨ２−）、エタ−１，２−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）、プロパ−１，３−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、１−メチルエタ−１，２−イレン基（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−）、ジメチルメチレン基（−Ｃ（ＣＨ３）２−）、ブタ−１，４−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）、またはフェン−１，２−イレン基であってもよい。いくつかの非限定的な実施形態において、金属塩錯体形成基をＮ２−ホスフィニルアミジン基に連結する、または金属塩錯体形成基をＮ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に連結する連結基は、メチレン基（−ＣＨ２−）、エタ−１，２−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）、プロパ−１，３−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）、もしくはフェン−１，２−イレン基；代替として、メチレン基（−ＣＨ２−）、エタ−１，２−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）、もしくはフェン−１，２−イレン基；代替として、エチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）もしくはプロピレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）；代替として、エタ−１，２−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）もしくはフェン−１，２−イレン基；代替として、メチレン基（−ＣＨ２−）；代替として、エタ−１，２−イレン（基（−ＣＨ２ＣＨ２−）；代替として、プロパ−１，３−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）；または代替として、フェン−１，２−イレン基であってもよい。
【０２６６】
いくつかの実施形態において、連結基は、表３に示す任意の構造を有することができる。表３の構造内で、指定されない原子価ｖａｌａｎｃｉｅｓは、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基（またはＮ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子）および金属塩錯体形成基に対する結合点であり；各Ｒ２ｍおよび／またはＲ２ｍ’は、独立して水素、メチル基、またはエチル基であってもよく；また、ｍは、１から５までの範囲の整数であってもよい。さらなる実施形態において、ｍは、１から３までの範囲の整数であってもよく；代替として、ｍは２もしくは３であってもよく；代替として、ｍは１であってもよく；代替として、ｍは２であってもよく；または、代替として、ｍは３であってもよい。
【表３】
2015016470.tif 000022
いくつかの実施形態において、連結基は、構造１ＱＬ、構造２ＱＬ、構造３ＱＬ、構造４ＱＬまたは構造５ＱＬであってもよい。いくつかの実施形態において、連結基は、構造４ＱＬまたは構造５ＱＬであってもよい。他の実施形態において、連結基は、構造２ＱＬ；代替として、構造３ＱＬ；代替として、構造４ＱＬ；または代替として、構造５ＱＬであってもよい。
【０２６７】
一般に、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物が金属塩錯体形成基および連結基を含む場合、金属塩錯体形成基および連結基は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物に依存しない要素である。したがって、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物は、本明細書に記載される金属塩錯体形成基および本明細書に記載される連結基の任意の組み合わせを有するとして記載することができる。非限定的な実施形態において、金属錯体形成のヘテロ原子が環または環系に含まれない場合、金属塩錯体形成基をＮ２−ホスフィニルアミジン基に連結する、または金属塩錯体形成基をＮ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に連結する連結基は、メチレン基（−ＣＨ２−）エタ−１，２−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）、プロパ−１，３−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）、もしくはフェン−１，２−イレン基；代替として、エチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）、もしくはプロピレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）；代替として、エタ−１，２−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）もしくはフェン−１，２−イレン基；代替として、メチレン基（−ＣＨ２−）；代替として、エタ−１，２−イレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）；プロパ−１，３−イレン代替として、基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）；または代替として、フェン−１，２−イレン基であってもよい。別の非限定的な実施形態において、金属塩錯体形成基のヘテロ原子が環内に含まれる場合、金属塩錯体形成基をＮ２−ホスフィニルアミジン基に連結するまたは金属塩錯体形成基をＮ２−ホスフィニルアミジン基のＮ１窒素原子に連結する連結基は、結合またはメチレン基；代替として、結合；または代替として、メチレン基であってもよい。
【０２６８】
一態様において、本開示は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体を提供する。一般に、Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物に錯体形成した金属塩を含むことができる。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体は、中性配位子Ｑをさら含むことができる。Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物は、一般に、本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物に錯体形成した金属塩を含むＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体をさらに記載する。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体は、構造ＭＣ１、ＭＣ２、ＭＣ３、ＭＣ４、ＭＣ５、ＭＣ６、ＭＣ７、ＭＣ８、ＭＣ９、ＭＣ１０、ＭＣ１１、ＭＣ１３、ＭＣ１５、ＭＣ１６、ＭＣ１８、もしくはＭＣ２０；代替として、構造ＭＣ１、ＭＣ２、ＭＣ３、ＭＣ４、もしくはＭＣ５；代替として、ＭＣ６、ＭＣ７、ＭＣ８、ＭＣ９、もしくはＭＣ１０；代替として、ＭＣ１１、ＭＣ１３、もしくはＭＣ１５；代替として、ＭＣ１６、ＭＣ１８、もしくはＭＣ２０；代替として、構造ＭＣ１；代替として、構造ＭＣ２；代替として、構造ＭＣ３；代替として、構造ＭＣ４；代替として、構造ＭＣ５；代替として、ＭＣ６；代替として、ＭＣ７；代替として、ＭＣ８；代替として、ＭＣ９；代替として、ＭＣ１０；代替として、構造ＭＣ１１；代替として、構造ＭＣ１３；代替として、構造ＭＣ１５；代替として、ＭＣ１６；代替として、ＭＣ１８；または代替として、ＭＣ２０を有することができる。一実施形態において、金属塩に錯体形成したただ１個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含むＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体は、構造ＭＣ１、ＭＣ６、ＭＣ１１、もしくはＭＣ１６；代替として、構造ＭＣ１もしくはＭＣ６；代替として、構造ＭＣ１１もしくはＭＣ１６；代替として、構造ＭＣ１もしくはＭＣ１１；または代替として、構造ＭＣ６もしくはＭＣ１６を有することを特徴とすることができる。一実施形態において、金属塩に錯体形成したただ２個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含むＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体は、構造ＭＣ２、ＭＣ３、ＭＣ８、ＭＣ１３、もしくはＭＣ１８；代替として、構造ＭＣ２、ＭＣ３、もしくはＭＣ８；代替として、構造ＭＣ１３、もしくはＭＣ１８；代替として、構造ＭＣ２もしくはＭＣ３；代替として、構造ＭＣ３もしくはＭＣ１３；または代替として、構造ＭＣ８もしくはＭＣ１８を有することを特徴とすることができる。他の実施形態において、金属塩に錯体形成した少なくとも１個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を有するＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体化合物は、構造ＭＣ４、ＭＣ５、ＭＣ９、ＭＣ１０、ＭＣ１５、もしくはＭＣ２０；代替として、構造ＭＣ４、ＭＣ５、ＭＣ９、もしくはＭＣ１０；代替として、構造ＭＣ１５、もしくはＭＣ２０；代替として、構造ＭＣ４もしくはＭＣ５；代替として、構造ＭＣ９もしくはＭＣ１０；代替として、構造ＭＣ５もしくはＭＣ１５；または代替として、構造ＭＣ１０もしくはＭＣ２０を有することを特徴とすることができる。
【化１８−１】
2015016470.tif 000023
【化１８−２】
2015016470.tif 000024
Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体構造ＭＣ１〜ＭＣ１０、ＭＣ１１、ＭＣ１３、ＭＣ１５、ＭＣ１６、ＭＣ１８、および／またはＭＣ２０内のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｄ１、Ｄ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｑ１、ｑ、ｒ、Ｍ、Ｘ、Ｑ、ｐ、およびａは、独立して本明細書に記載され、これらの記載は、任意の組み合わせで使用することができ、本開示のＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体をさらに記載する。一般に、ＭＸｐまたはＭＸｐＱａは、金属錯体の金属塩を表し、Ｑは中性配位子を表し、ａは、Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体中の中性配位子の数を表す。構造構造Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅｓ  ＳｔｒｕｃｔｕｒｅｓＮＰ１〜ＮＰ１０、ＮＰ１１、ＮＰ１３、ＮＰ１５、ＮＰ１６、ＮＰ１８、および／またはＮＰ２０を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物について記載される、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物の特徴であるＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｄ１、Ｄ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｑ１、ｑ、およびｒは、限定されることなく使用することができ、構造構造Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅｓ  ＳｔｒｕｃｔｕｒｅｓＭＣ１〜ＭＣ１０、ＭＣ１１、ＭＣ１３、ＭＣ１５、ＭＣ１６、ＭＣ１８、および／またはＭＣ２０を有するＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体を記載する。
【０２６９】
一般に、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物に錯体形成した金属塩を含むＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体の金属塩、ＭＸＰまたはＭＸｐＱａは、陽イオン性金属Ｍ、およびモノ陰イオン性配位子Ｘを含むことができる。いくつかの実施形態において、金属塩は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物に錯体形成した金属塩を含むＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体中に存在してもしなくてもよい中性配位子をさらに含むことができる。
【０２７０】
一般に金属塩、ＭＸｐまたはＭＸｐＱａの金属原子は、任意の金属原子であってもよい。一態様において、金属塩の金属原子は、遷移金属であってもよい。一実施形態において、適切な金属塩は、３〜１２族遷移金属；代替として、４〜１０族遷移金属；代替として、６〜９族遷移金属；代替として、７〜８族遷移金属；代替として、４族遷移金属；代替として、５族遷移金属代替として、６族遷移金属；代替として、７族遷移金属；代替として、８族遷移金属；代替として、９族遷移金属；または代替として、１０族遷移金属を含む、または、本質的にそれからなることができる。いくつかの実施形態において、金属塩は、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、パラジウム、白金、銅、または亜鉛を含むことができる。他の実施形態において、金属塩は、チタン、ジルコニウム、バナジウム、クロム、モリブデン、タングステン、鉄、コバルト、ニッケル、パラジウム、もしくは白金；代替として、クロム、鉄、コバルト、もしくはニッケル；代替として、チタン、ジルコニウムもしくはハフニウム；代替として、バナジウムもしくはニオブ；代替として、クロム、モリブデンもしくはタングステン；代替として、鉄もしくはコバルト；または代替として、ニッケル、パラジウム、白金、銅、もしくは亜鉛を含むことができる。他の実施形態において、金属塩は、チタン；代替として、ジルコニウム；代替として、ハフニウム；代替として、バナジウム；代替として、ニオブ；代替として、タンタル；代替として、クロム；代替として、モリブデン；代替として、タングステン；代替として、マンガン；代替として、鉄；代替として、コバルト；代替として、ニッケル；代替として、パラジウム；代替として、白金；代替として、銅；または代替として、亜鉛を含むことができる。
【０２７１】
一般に、遷移金属塩、ＭＸｐまたはＭＸｐＱａの金属原子は、金属原子に利用可能な任意の正の酸化状態を有することができる。一実施形態において、遷移金属は、＋２から＋６までの；代替として、＋２から＋４までの；または代替として、＋２から＋３までの酸化状態を有することができる。いくつかの実施形態において、遷移金属塩、ＭＸｐまたはＭＸｐＱａの金属原子は、＋１；代替として、＋２；代替として、＋３；または代替として、＋４の酸化状態を有することができる。
【０２７２】
遷移金属塩の陰イオンＸは、任意のモノ陰イオンであってもよい。一実施形態において、モノ陰イオンＸは、ハライド、カルボン酸塩、β−ジケトナート、ヒドロカルボキシドｈｙｄｒｃａｒｂｏｘｉｄｅ、硝酸塩、または塩素酸塩であってもよい。いくつかの実施形態において、モノ陰イオンＸは、ハライド、カルボン酸塩、β−ジケトナート、またはヒドロカルボキシドであってもよい。任意の態様または実施形態において、ヒドロカルボキシドは、アルコキシドａｌｏｘｉｄｅ、アリーロキシド（ａｒｙｌｏｘｉｄｅ）、またはアラルコキシド（ａｒａｌｋｏｘｉｄｅ）であってもよい。一般に、ヒドロカルボキシド（およびヒドロカルボキシドの下位区分）は、ヒドロカルボキシ基の陰イオン類似体である。他の実施形態において、モノ陰イオンＸは、ハライド、カルボン酸塩、β−ジケトナート、もしくはアルコキシド；または代替として、ハライドもしくはβ−ジケトナートであってもよい。他の実施形態において、モノ陰イオンＸは、ハライド；代替として、カルボン酸塩；代替として、β−ジケトナート；代替として、ヒドロカルボキシド；代替として、アルコキシド；または代替として、アリーロキシドであってもよい。一般に、モノ陰イオンＸの数ｐは、金属原子の酸化状態と等しくてもよい。一実施形態において、モノ陰イオンＸの数ｐは、２から６までの；代替として、２から４までの；代替として、２から３までの；代替として、１；代替として、２；代替として、３；または代替として、４であってもよい。
【０２７３】
一般に、各ハライドモノ陰イオンは、独立してｉｄｅｐｅｎｄｅｎｔｌｙフッ素、塩素、臭素、もしくはヨウ素；または代替として、塩素、臭素、またはヨウ素であってもよい。一実施形態において、各ハライドモノ陰イオンは、塩素；代替として、臭素；または代替として、ヨウ素であってもよい。
【０２７４】
一般に、カルボン酸塩、β−ジケトナート、ヒドロカルボキシド（アルコキシド、アリーロキシド、またはアラルコキシドもまた）は、任意のＣ１〜Ｃ２０カルボン酸塩、β−ジケトナート、ヒドロカルボキシド（アルコキシド、アリーロキシドまたはアラルコキシドもまた）；または代替として、任意のＣ１〜Ｃ１０カルボン酸塩、β−ジケトナート、ヒドロカルボキシド（アルコキシド、アリーロキシド、もしくはアラルコキシドもまた）であってもよい。いくつかの実施形態において、陰イオンＸは、Ｃ１〜Ｃ２０カルボン酸塩；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０カルボン酸塩；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０β−ジケトナート；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０β−ジケトナート；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０ヒドロカルボキシド；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルボキシド；代替として、Ｃ１〜Ｃ２０アルコキシド；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシド；代替として、Ｃ６〜Ｃ２０アリーロキシド；または代替として、Ｃ６〜Ｃ１０アリーロキシドであってもよい。
【０２７５】
一態様において、各カルボン酸モノ陰イオンは、独立してアセタート、プロピオナート、ブチラート、ペンタノアート、ヘキサノアート、ヘプタノアート、オクタノアート、ノナノアート、デカノアート、ウンデカノアート、ドデカノアート、トリデカノアート、テトラデカノアート、ペンタデカノアート、ヘキサデカノアート、ヘプタデカノアート、もしくはオクタデカノアート；または代替として、ペンタノアート、ヘキサノアート、ヘプタノアート、オクタノアート、ノナノアート、デカノアート、ウンデカノアート、もしくはドデカノアートであってもよい。一実施形態において、各カルボン酸モノ陰イオンは、独立してアセタート、プロピオナート、ｎ−ブチラート、バレラート（ｎ−ペンタノアート）、ネオペンタノアート、カプロナート（ｎ−ヘキサノアート）、ｎ−ヘプタノアート、カプリラート（ｎ−オクタノアート）、２−エチルヘキサノアート、ｎ−ノナノアート、カプラート（ｎ−デカノアート）、ｎ−ウンデカノアート、ラウラート（ｎ−ドデカノアート）、もしくはステアラート（ｎ−オクタデカノアート）；代替として、バレラート（ｎ−ペンタノアート）、ネオペンタノアート、カプロナート（ｎ−ヘキサノアート）、ｎ−ヘプタノアート、カプリラート（ｎ−オクタノアート）、２−エチルヘキサノアート、ｎ−ノナノアート、カプラート（ｎ−デカノアート）、ｎ−ウンデカノアート、もしくはラウラート（ｎ−ドデカノアート）；代替として、カプロナート（ｎ−ヘキサノアート）；代替として、ｎ−ヘプタノアート；代替として、カプリラート（ｎ−オクタノアート）；または代替として、２−エチルヘキサノアートであってもよい。いくつかの実施形態において、カルボン酸陰イオンは、トリフラート（トリフルオロアセタート）であってもよい。
【０２７６】
一態様において、各β−ジケトナートは、独立してアセチルアセトナート（代替として、２，４−ペンタンジオナート）、ヘキサフルオロアセチルアセトン（代替として、１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロ−２，４−ペンタンジオナートｐｅｎｔａｎｅｄｉｕｏｎａｔｅ、またはベンゾイルアセトナート）；代替として、アセチルアセトナート；代替として、ヘキサフルオロアセチルアセトン；または代替として、ベンゾイルアセトナートであってもよい。一態様において、各アルコキシドモノ陰イオンは、独立してメトキシド、エトキシド、プロポキシド、またはブトキシドであってもよい。一実施形態において、各アルコキシドモノ陰イオンは、独立してメトキシド、エトキシド、イソプロポキシド、もしくはｔｅｒｔ−ブトキシド；代替として、メトキシド；代替として、エトキシド；代替として、イソプロポキシド；または代替として、ｔｅｒｔ−ブトキシドであってもよい。一態様において、アリーロキシドはフェノキシドであってもよい。
【０２７７】
一般に、遷移金属塩の、または存在する場合、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物に錯体形成した遷移金属塩を含むＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体の中性配位子は、独立して、金属塩、またはＮ２−ホスフィニルアミジン化合物に錯体形成した遷移金属塩を含むＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体の単離可能な化合物を形成する任意の中性配位子であってもよい。一態様において、各中性配位子は、独立してニトリルまたはエーテルであってもよい。一実施形態において、中性配位子は、ニトリル；または代替として、エーテルであってもよい。金属塩またはＮ２−ホスフィニルアミジン化合物に錯体形成した遷移金属塩を含むＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体の中性配位子の数ａは、単離可能な金属塩またはＮ２−ホスフィニルアミジン化合物に錯体形成した遷移金属塩を含むＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体を形成する任意の数であってもよい。一態様において、中性配位子の数は、０から６まで；代替として、０から３まで；代替として、０；代替として、１；代替として、２；代替として、３；または代替として、４であってもよい。Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物に錯体形成した遷移金属塩を含むＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体の中性配位子は、存在する場合、Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体を形成するために使用される遷移金属塩の中性配位子として、同一である必要がないことは留意されるべきである。さらに、中性配位子ｌｉｇａｎを有しない金属塩は、中性配位子を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物に錯体形成した遷移金属塩を含むＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体を調製するために使用することができる。
【０２７８】
一般に、各中性ニトリル配位子は、独立してＣ２〜Ｃ２０ニトリル；または代替として、Ｃ２〜Ｃ１０ニトリルであってもよい。一実施形態において、各中性ニトリル配位子は、独立してＣ２〜Ｃ２０脂肪族ニトリル、Ｃ７〜Ｃ２０芳香族ニトリル、Ｃ８〜Ｃ２０アラルカンニトリル、もしくはその任意の組み合わせ；代替として、Ｃ２〜Ｃ２０脂肪族ニトリル；代替として、Ｃ７〜Ｃ２０芳香族ニトリル；または代替として、Ｃ８〜Ｃ２０アラルカンニトリルであってもよい。いくつかの実施形態において、各中性ニトリル配位子は、独立してＣ２〜Ｃ１０脂肪族ニトリル、Ｃ７〜Ｃ１０芳香族ニトリル、Ｃ８〜Ｃ１０アラルカンニトリル、もしくはその任意の組み合わせ；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０脂肪族ニトリル；代替として、Ｃ７〜Ｃ１０芳香族ニトリル；または代替として、Ｃ８〜Ｃ１０アラルカンニトリルであってもよい。
【０２７９】
一実施形態において、各脂肪族ニトリルは、独立してアセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、またはその任意の組み合わせ；代替として、アセトニトリル；代替として、プロピオニトリル；代替として、またはブチロニトリルであってもよい。一実施形態において、各芳香族ニトリルは、独立してベンゾニトリル、２−メチルベンゾニトリル、３−メチルベンゾニトリル、４−メチルベンゾニトリル、２−エチルベンゾニトリル、３−エチルベンゾニトリル、４−エチルベンゾニトリル、もしくはその任意の組み合わせ；代替として、ベンゾニトリル；代替として、２−メチルベンゾニトリル；代替として、３−メチルベンゾニトリル；代替として、４−メチルベンゾニトリル；代替として、２−エチルベンゾニトリル；代替として、３−エチルベンゾニトリル；または代替として、４−エチルベンゾニトリルであってもよい。
【０２８０】
一般に、各中性エーテル配位子は、独立してＣ２〜Ｃ４０エーテル；代替として、Ｃ２〜Ｃ３０エーテル；または代替として、Ｃ２〜Ｃ２０エーテルであってもよい。一実施形態において、中性配位子は、独立してｉｎｄｅｎｄｅｎｔｌｙＣ２〜Ｃ４０脂肪族非環式エーテル、Ｃ３〜Ｃ４０脂肪族環式エーテル、Ｃ４〜Ｃ４０芳香環エーテル、もしくはＣ１２〜Ｃ４０ジアリールエーテル；代替として、Ｃ２〜Ｃ４０脂肪族非環式エーテル；代替として、Ｃ３〜Ｃ４０脂肪族環式エーテル；代替として、Ｃ４〜Ｃ４０芳香環エーテル；または代替として、Ｃ１２〜Ｃ４０ジアリールエーテルであってもよい。いくつかの実施形態において、各中性配位子は、独立してＣ２〜Ｃ３０脂肪族非環式エーテル、Ｃ３〜Ｃ３０脂肪族環式エーテル、Ｃ４〜Ｃ３０芳香環エーテル、もしくはＣ１２〜Ｃ３０ジアリールエーテル；代替として、Ｃ２〜Ｃ３０脂肪族非環式エーテル；代替として、Ｃ３〜Ｃ３０脂肪族環式エーテル；代替として、Ｃ４〜Ｃ３０芳香環エーテル；または代替として、Ｃ１２〜Ｃ３０ジアリールエーテルであってもよい。他の実施形態において、各中性配位子は、独立してＣ２〜Ｃ２０脂肪族非環式エーテル、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族環式エーテル、Ｃ４〜Ｃ２０芳香環エーテル、もしくはＣ１２〜Ｃ２０ジアリールエーテル；代替として、Ｃ２〜Ｃ２０脂肪族非環式エーテル；代替として、Ｃ３〜Ｃ２０脂肪族環式エーテル；代替として、Ｃ４〜Ｃ２０芳香環エーテル；または代替として、Ｃ１２〜Ｃ２０ジアリールエーテルであってもよい。
【０２８１】
一実施形態において、脂肪族非環式エーテルは、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、メチルエチルエーテル、メチルプロピルエーテル、メチルブチルエーテル、またはその任意の組み合わせであってもよい。いくつかの実施形態において、脂肪族非環式エーテルは、ジメチルエーテル；代替として、ジエチルエーテル；代替として、ジプロピルエーテル；代替として、ジブチルエーテル；代替として、メチルエチルエーテル；代替として、メチルプロピルエーテル；または代替として、メチルブチルエーテルであってもよい。
【０２８２】
一実施形態において、脂肪族環式エーテルは、テトラヒドロフラン、置換テトラヒドロフラン、ジヒドロフラン、置換ジヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、置換１，３−ジオキソラン、テトラヒドロピラン、置換テトラヒドロピラン、ジヒドロピラン、置換ジヒドロピラン、ピラン、置換ピラン、ジオキサン、もしくは置換ジオキサン；代替として、テトラヒドロフランもしくは置換テトラヒドロフラン；代替として、ジヒドロフランもしくは置換ジヒドロフラン；代替として、１，３−ジオキソランもしくは置換１，３−ジオキソラン；代替として、テトラヒドロピランもしくは置換テトラヒドロピラン；代替として、ジヒドロピランもしくは置換ジヒドロピラン；代替として、ピランもしくは置換ピラン；または代替として、ジオキサンもしくは置換ジオキサンであってもよい。いくつかの実施形態において、脂肪族環式エーテルは、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、もしくはジオキサン、もしくはその任意の組み合わせ；代替として、テトラヒドロフラン；
代替として、テトラヒドロピラン；または代替として、ジオキサンであってもよい。
【０２８３】
一実施形態において、芳香環エーテルは、フラン、置換フラン、ベンゾフラン、置換ベンゾフラン、イソベンゾフラン、置換イソベンゾフラン、ジベンゾフラン、置換ジベンゾフラン、もしくはその任意の組み合わせ；代替として、フランもしくは置換フラン；代替として、ベンゾフランもしくは置換ベンゾフラン；代替として、イソベンゾフランもしくは置換イソベンゾフラン；または代替として、ジベンゾフランもしくは置換ジベンゾフランであってもよい。いくつかの実施形態において、芳香環エーテルは、フラン、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、ジベンゾフラン、もしくはその任意の組み合わせ；代替として、フラン；代替として、ベンゾフラン；代替として、イソベンゾフラン；または代替として、ジベンゾフランであってもよい。
【０２８４】
一実施形態において、ジアリールエーテルは、ジフェニルエーテル、置換ジフェニルエーテル、ジトリルエーテル、置換ジトリルエーテル、もしくはその任意の組み合わせ；代替として、ジフェニルエーテルもしくは置換ジフェニルエーテル；または代替として、ジトリルエーテルもしくは置換ジトリルエーテルであってもよい。いくつかの実施形態において、ジアリールエーテルは、ジフェニルエーテルもしくはジトリルエーテル；代替として、ジフェニルエーテル；またはジトリルエーテルであってもよい。
【０２８５】
一般に、本明細書に記載される任意の置換ｓｕｂｔｉｔｕｔｅｄ中性配位子Ｑの各置換基は、独立してハライドおよびＣ１〜Ｃ１０ヒドロカルビル基；代替として、ハライドおよびＣ１〜Ｃ６ヒドロカルビル基；代替として、ハライド；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０ヒドロカルビル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ６ヒドロカルビル基であってもよい。一般に、本明細書に記載される任意の置換ｓｕｂｔｉｔｕｔｅｄ中性配位子Ｑの各置換基は、独立してハライドおよびＣ１〜Ｃ１０アルキル基；代替として、ハライドおよびＣ１〜Ｃ６アルキル；代替として、ハライド；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基であってもよい。一般に、各ハライド置換基は、独立して独立してフルオリド、クロリド、ブロミド、もしくはヨージド；代替として、フルオリド；代替として、クロリド；代替として、ブロミド；または代替として、ヨージドであってもよい。一般に、各ヒドロカルビル置換基は、独立してメチル基、エチル基プロピル基、ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、もしくはフェニル基；代替として、シクロペンチル基；シクロヘキシル基；または代替として、フェニル基であってもよい。一般に、各アルキル置換基は、独立してメチル基、エチル基プロピル基、ブチル基、もしくはペンチル基；代替として、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、もしくはネオペンチル基；代替として、メチル基；代替として、エチル基；代替として、イソプロピル基；代替として、ｔｅｒｔ−ブチル基；または代替として、ネオペンチル基であってもよい。
【０２８６】
遷移金属塩の特色は、独立して本明細書に記載され、任意の組み合わせで使用することができ、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物に錯体形成した遷移金属塩を含むＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体の遷移金属塩を記載する。
【０２８７】
非限定的な実施形態において、使用することができる遷移金属塩は、ハロゲン化クロム（ＩＩ）、ハロゲン化クロム（ＩＩＩ）、カルボン酸クロム（ＩＩ）、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩ）β−ジケトナート、クロム（ＩＩＩ）β−ジケトナート、ハロゲン化クロム（ＩＩ）（ＴＨＦ）錯体、ハロゲン化クロム（ＩＩＩ）（ＴＨＦ）錯体、ハロゲン化鉄（ＩＩ）、ハロゲン化鉄（ＩＩＩ）、鉄（ＩＩ）カルボン酸塩、鉄（ＩＩＩ）カルボン酸塩、鉄（ＩＩ）β−ジケトナート、鉄（ＩＩＩ）β−ジケトナート、ハロゲン化コバルト（ＩＩ）、ハロゲン化コバルト（ＩＩＩ）、カルボン酸コバルト（ＩＩ）、カルボン酸コバルト（ＩＩＩ）、コバルト（ＩＩ）β−ジケトナート、コバルト（ＩＩＩ）β−ジケトナート、ハロゲン化ニッケル（ＩＩ）、カルボン酸ニッケル（ＩＩ）、ニッケル（ＩＩ）β−ジケトナート、ハロゲン化パラジウム（ＩＩ）、カルボン酸パラジウム（ＩＩ）、パラジウム（ＩＩ）β−ジケトナート、ハロゲン化白金（ＩＩ）、ハロゲン化白金（ＩＶ）、カルボン酸白金（ＩＩ）、またはカルボン酸白金（ＩＶ）を含む。いくつかの非限定的な実施形態において、遷移金属塩は、ハロゲン化クロム（ＩＩ）、ハロゲン化クロム（ＩＩＩ）、カルボン酸クロム（ＩＩ）、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩ）β−ジケトナート、
クロム（ＩＩＩ）β−ジケトナート、ハロゲン化クロム（ＩＩ）（ＴＨＦ）錯体、もしくはハロゲン化クロム（ＩＩＩ）（ＴＨＦ）錯体；代替として、ハロゲン化鉄（ＩＩ）、ハロゲン化鉄（ＩＩＩ）、カルボン酸鉄（ＩＩ）、カルボン酸鉄（ＩＩＩ）、鉄（ＩＩ）β−ジケトナート、もしくは鉄（ＩＩＩ）β−ジケトナート；代替として、ハロゲン化コバルト（ＩＩ）、ハロゲン化コバルト（ＩＩＩ）、カルボン酸コバルト（ＩＩ）、カルボン酸コバルト（ＩＩＩ）、コバルト（ＩＩ）β−ジケトナート、もしくはコバルト（ＩＩＩ）β−ジケトナート；代替として、ハロゲン化ニッケル（ＩＩ）、カルボン酸ニッケル（ＩＩ）、もしくはニッケル（ＩＩ）β−ジケトナート；代替として、ハロゲン化パラジウム（ＩＩ）、カルボン酸パラジウム（ＩＩ）、もしくはパラジウム（ＩＩ）β−ジケトナート；または代替として、ハロゲン化白金（ＩＩ）、ハロゲン化白金（ＩＶ）、カルボン酸白金（ＩＩ）、もしくはカルボン酸白金（ＩＶ）であってもよい。いくつかの実施形態において、遷移金属塩は、ハロゲン化クロム（ＩＩＩ）、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩＩ）β−ジケトナート、ハロゲン化クロム（ＩＩＩ）（ＴＨＦ）錯体；代替として、ハロゲン化鉄（ＩＩＩ）、カルボン酸鉄（ＩＩＩ）、もしくは鉄（ＩＩＩ）β−ジケトナート；または代替として、ハロゲン化コバルト（ＩＩＩ）、カルボン酸コバルト（ＩＩＩ）、もしくはコバルト（ＩＩＩ）β−ジケトナートであってもよい。他の実施形態において、遷移金属塩は、ハロゲン化クロム（ＩＩ）；代替として、ハロゲン化クロム（ＩＩＩ）；代替として、カルボン酸クロム（ＩＩ）；代替として、カルボン酸クロム（ＩＩＩ）；代替として、クロム（ＩＩ）β−ジケトナート；代替として、クロム（ＩＩＩ）β−ジケトナート；代替として、ハロゲン化クロム（ＩＩ）（ＴＨＦ）錯体；代替として、ハロゲン化クロム（ＩＩＩ）（ＴＨＦ）錯体；代替として、ハロゲン化鉄（ＩＩ）；代替として、ハロゲン化鉄（ＩＩＩ）；代替として、カルボン酸鉄（ＩＩ）；代替として、カルボン酸鉄（ＩＩＩ）；代替として、鉄（ＩＩ）β−ジケトナート；代替として、鉄（ＩＩＩ）β−ジケトナート；代替として、ハロゲン化コバルト（ＩＩ）；代替として、ハロゲン化コバルト（ＩＩＩ）；代替として、カルボン酸コバルト（ＩＩ）；代替として、カルボン酸コバルト（ＩＩＩ）；代替として、コバルト（ＩＩ）β−ジケトナート；代替として、コバルト（ＩＩＩ）β−ジケトナート；代替として、ハロゲン化ニッケル（ＩＩ）；代替として、カルボン酸ニッケル（ＩＩ）；代替として、ニッケル（ＩＩ）β−ジケトナート；代替として、ハロゲン化パラジウム（ＩＩ）；代替として、カルボン酸パラジウム（ＩＩ）；代替として、パラジウム（ＩＩ）β−ジケトナート；代替として、ハロゲン化白金（ＩＩ）；代替として、ハロゲン化白金（ＩＶ）；代替として、カルボン酸白金（ＩＩ）；または代替として、カルボン酸白金（ＩＶ）であってもよい。
【０２８８】
いくつかの非限定的な実施形態において、使用することができる遷移金属塩は、塩化クロム（ＩＩ）、塩化クロム（ＩＩＩ）、フッ化クロム（ＩＩ）、フッ化クロム（ＩＩＩ）、臭化クロム（ＩＩ）、臭化クロム（ＩＩＩ）、ヨウ化クロム（ＩＩ）、ヨウ化クロム（ＩＩＩ）、塩化クロム（ＩＩＩ）（ＴＨＦ）錯体、酢酸クロム（ＩＩ）、酢酸クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩ）２−エチルヘキサノアート、クロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノアート、クロム（ＩＩ）トリフラート、クロム（ＩＩＩ）トリフラート、硝酸クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート、クロム（ＩＩＩ）ヘキサフルオロアセチルアセトナート、クロム（ＩＩＩ）ベンゾイルアセトナート、塩化鉄（ＩＩ）、塩化鉄（ＩＩＩ）、フッ化鉄（ＩＩ）、フッ化鉄（ＩＩＩ）、臭化鉄（ＩＩ）、臭化鉄（ＩＩＩ）、ヨウ化鉄（ＩＩ）、ヨウ化鉄（ＩＩＩ）、酢酸鉄（ＩＩ）、酢酸鉄（ＩＩＩ）、鉄（ＩＩ）アセチルアセトナート、鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトナート、鉄（ＩＩ）２−エチルヘキサノアート、鉄（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノアート、鉄（ＩＩ）トリフラート、鉄（ＩＩＩ）トリフラート、硝酸鉄（ＩＩＩ）、塩化コバルト（ＩＩ）、塩化コバルト（ＩＩＩ）、フッ化コバルト（ＩＩ）、フッ化コバルト（ＩＩＩ）、臭化コバルト（ＩＩ）、臭化コバルト（ＩＩＩ）、ヨウ化コバルト（ＩＩ）、ヨウ化コバルト（ＩＩＩ）、酢酸コバルト（ＩＩ）、酢酸コバルト（ＩＩＩ）、コバルト（ＩＩ）アセチルアセトナート、コバルト（ＩＩＩ）アセチルアセトナート、コバルト（ＩＩ）２−エチルヘキサノアート、コバルト（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノアート、コバルト（ＩＩ）トリフラート、コバルト（ＩＩＩ）トリフラート、硝酸コバルト（ＩＩＩ）、塩化ニッケル（ＩＩ）、フッ化ニッケル（ＩＩ）、臭化ニッケル（ＩＩ）、ヨウ化ニッケル（ＩＩ）、酢酸ニッケル（ＩＩ）、ニッケル（ＩＩ）２−エチルヘキサノアート、ニッケル（ＩＩ）トリフラート、硝酸ニッケル（ＩＩ）、ニッケル（ＩＩ）アセチルアセトナート、ニッケル（ＩＩ）ベンゾイルアセトナート、ニッケル（ＩＩ）ヘキサフルオロアセチルアセトナート、塩化パラジウム（ＩＩ）、フッ化パラジウム（ＩＩ）、臭化パラジウム（ＩＩ）、ヨウ化パラジウム（ＩＩ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）、パラジウム（ＩＩ）アセチルアセトナート、硝酸パラジウム（ＩＩ）、塩化白金（ＩＩ）、臭化白金（ＩＩ）、ヨウ化白金（ＩＩ）、または塩化白金（ＩＶ）であってもよい。他の実施形態において、遷移金属塩は、塩化クロム（ＩＩ）、塩化クロム（ＩＩＩ）、フッ化クロム（ＩＩ）、フッ化クロム（ＩＩＩ）、臭化クロム（ＩＩ）、臭化クロム（ＩＩＩ）、ヨウ化クロム（ＩＩ）、ヨウ化クロム（ＩＩＩ）、塩化クロム（ＩＩＩ）（ＴＨＦ）錯体、酢酸クロム（ＩＩ）、酢酸クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩ）２−エチルヘキサノアート、クロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノアート、クロム（ＩＩ）トリフラート、クロム（ＩＩＩ）トリフラート、硝酸クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート、クロム（ＩＩＩ）ヘキサフルオロアセチルアセトナート、またはクロム（ＩＩＩ）ベンゾイルアセトナート；代替として、塩化鉄（ＩＩ）、塩化鉄（ＩＩＩ）、フッ化鉄（ＩＩ）、フッ化鉄（ＩＩＩ）、臭化鉄（ＩＩ）、臭化鉄（ＩＩＩ）、ヨウ化鉄（ＩＩ）、ヨウ化鉄（ＩＩＩ）、酢酸鉄（ＩＩ）、酢酸鉄（ＩＩＩ）、鉄（ＩＩ）アセチルアセトナート、鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトナート、鉄（ＩＩ）２−エチルヘキサノアート、鉄（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノアート、鉄（ＩＩ）トリフラート、鉄（ＩＩＩ）トリフラート、もしくは硝酸鉄（ＩＩＩ）；代替として、塩化コバルト（ＩＩ）、塩化コバルト（ＩＩＩ）、フッ化コバルト（ＩＩ）、フッ化コバルト（ＩＩＩ）、臭化コバルト（ＩＩ）、臭化コバルト（ＩＩＩ）、ヨウ化コバルト（ＩＩ）、ヨウ化コバルト（ＩＩＩ）、酢酸コバルト（ＩＩ）、酢酸コバルト（ＩＩＩ）、コバルト（ＩＩ）アセチルアセトナート、コバルト（ＩＩＩ）アセチルアセトナート、コバルト（ＩＩ）２−エチルヘキサノアート、コバルト（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノアート、コバルト（ＩＩ）トリフラート、コバルト（ＩＩＩ）トリフラート、もしくは硝酸コバルト（ＩＩＩ）；代替として、塩化ニッケル（ＩＩ）、フッ化ニッケル（ＩＩ）、臭化ニッケル（ＩＩ）、ヨウ化ニッケル（ＩＩ）、酢酸ニッケル（ＩＩ）、ニッケル（ＩＩ）２−エチルヘキサノアート、ニッケル（ＩＩ）トリフラート、硝酸ニッケル（ＩＩ）、ニッケル（ＩＩ）アセチルアセトナート、ニッケル（ＩＩ）ベンゾイルアセトナート、もしくはニッケル（ＩＩ）ヘキサフルオロアセチルアセトナート；代替として、塩化パラジウム（ＩＩ）、フッ化パラジウム（ＩＩ）、臭化パラジウム（ＩＩ）、ヨウ化パラジウム（ＩＩ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）、パラジウム（ＩＩ）アセチルアセトナート、もしくは硝酸パラジウム（ＩＩ）；または代替として、塩化白金（ＩＩ）、臭化白金（ＩＩ）、ヨウ化白金（ＩＩ）、もしくは塩化白金（ＩＶ）であってもよい。また他の実施形態において、遷移金属塩は、塩化クロム（ＩＩＩ）、フッ化クロム（ＩＩＩ）、臭化クロム（ＩＩＩ）、ヨウ化クロム（ＩＩＩ）、塩化クロム（ＩＩＩ）（ＴＨＦ）錯体、酢酸クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノアート、クロム（ＩＩＩ）トリフラート、硝酸クロム（ＩＩＩ）、クロム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート、クロム（ＩＩＩ）ヘキサフルオロアセチルアセトナートもしくはクロム（ＩＩＩ）ベンゾイルアセトナート；または代替として、塩化鉄（ＩＩＩ）、フッ化鉄（ＩＩＩ）、臭化鉄（ＩＩＩ）、ヨウ化鉄（ＩＩＩ）、酢酸鉄（ＩＩＩ）、鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトナート、鉄（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノアート、鉄（ＩＩＩ）トリフラート、もしくは硝酸鉄（ＩＩＩ）であってもよい。さらなる実施形態において、遷移金属塩は、塩化クロム（ＩＩＩ）、塩化クロム（ＩＩＩ）（ＴＨＦ）錯体、もしくはクロム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート；または代替として、塩化鉄（ＩＩＩ）、もしくは鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトナートであってもよい。
【０２８９】
いくつかの非限定的な実施形態において、使用することができる、遷移金属塩は塩化クロム（ＩＩ）；代替として、塩化クロム（ＩＩＩ）；代替として、フッ化クロム（ＩＩ）；代替として、フッ化クロム（ＩＩＩ）；代替として、臭化クロム（ＩＩ）；代替として、臭化クロム（ＩＩＩ）；代替として、ヨウ化クロム（ＩＩ）；代替として、ヨウ化クロム（ＩＩＩ）；代替として、塩化クロム（ＩＩＩ）（ＴＨＦ）錯体；代替として、酢酸クロム（ＩＩ）；代替として、酢酸クロム（ＩＩＩ）；代替として、クロム（ＩＩ）２−エチルヘキサノアート；代替として、クロム（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノアート；代替として、クロム（ＩＩ）トリフラート；代替として、クロム（ＩＩＩ）トリフラート；代替として、硝酸クロム（ＩＩＩ）；代替として、クロム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート；代替として、クロム（ＩＩＩ）ヘキサフルオロアセチルアセトナート；代替として、クロム（ＩＩＩ）ベンゾイルアセトナート；代替として、塩化鉄（ＩＩ）；代替として、塩化鉄（ＩＩＩ）；代替として、フッ化鉄（ＩＩ）；代替として、フッ化鉄（ＩＩＩ）；代替として、臭化鉄（ＩＩ）；代替として、臭化鉄（ＩＩＩ）；代替として、ヨウ化鉄（ＩＩ）；代替として、ヨウ化鉄（ＩＩＩ）；代替として、酢酸鉄（ＩＩ）；代替として、酢酸鉄（ＩＩＩ）；代替として、鉄（ＩＩ）アセチルアセトナート；代替として、鉄（ＩＩＩ）アセチルアセトナート；代替として、鉄（ＩＩ）２−エチルヘキサノアート；代替として、鉄（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノアート；代替として、鉄（ＩＩ）トリフラート；代替として、鉄（ＩＩＩ）トリフラート；代替として、硝酸鉄（ＩＩＩ）；代替として、塩化コバルト（ＩＩ）；代替として、塩化コバルト（ＩＩＩ）；代替として、フッ化コバルト（ＩＩ）；代替として、フッ化コバルト（ＩＩＩ）；代替として、臭化コバルト（ＩＩ）；代替として、臭化コバルト（ＩＩＩ）；代替として、ヨウ化コバルト（ＩＩ）；代替として、ヨウ化コバルト（ＩＩＩ）；代替として、酢酸コバルト（ＩＩ）；代替として、酢酸コバルト（ＩＩＩ）；代替として、コバルト（ＩＩ）アセチルアセトナート；代替として、コバルト（ＩＩＩ）アセチルアセトナート；代替として、コバルト（ＩＩ）２−エチルヘキサノアート；代替として、コバルト（ＩＩＩ）２−エチルヘキサノアート；代替として、コバルト（ＩＩ）トリフラート；代替として、コバルト（ＩＩＩ）トリフラート；代替として、硝酸コバルト（ＩＩＩ）；代替として、塩化ニッケル（ＩＩ）；代替として、フッ化ニッケル（ＩＩ）；代替として、臭化ニッケル（ＩＩ）；代替として、ヨウ化ニッケル（ＩＩ）；代替として、酢酸ニッケル（ＩＩ）；代替として、ニッケル（ＩＩ）２−エチルヘキサノアート；代替として、ニッケル（ＩＩ）トリフラート；代替として、硝酸ニッケル（ＩＩ）；代替として、ニッケル（ＩＩ）アセチルアセトナート；代替として、ニッケル（ＩＩ）ベンゾイルアセトナート；代替として、ニッケル（ＩＩ）ヘキサフルオロアセチルアセトナー；代替として、塩化パラジウム（ＩＩ）；代替として、フッ化パラジウム（ＩＩ）；代替として、臭化パラジウム（ＩＩ）；代替として、ヨウ化パラジウム（ＩＩ）；代替として、酢酸パラジウム（ＩＩ）；代替として、パラジウム（ＩＩ）アセチルアセトナート；代替として、硝酸パラジウム（ＩＩ）；代替として、塩化白金（ＩＩ）；代替として、臭化白金（ＩＩ）；代替として、ヨウ化白金（ＩＩ）；または代替として、塩化白金（ＩＶ）を含む。
【０２９０】
所与のＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体を製造するために使用された金属塩が中性配位子を有しない場合でも、Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体が１個または複数の中性配位子を有することができることは理解されるべきである。
【０２９１】
一態様において、本開示は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物および金属塩；代替として、Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体を含む触媒系に関する。一実施形態において、触媒系はＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体および金属アルキル；または代替として、Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体およびアルミノキサンを含む、または、本質的にそれからなることができる。別の態様、において触媒系は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物、金属塩、および金属アルキル；または代替として、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物、金属塩、およびアルミノキサンを含む、または、本質的にそれからなることができる。触媒系の様々な態様および／または実施形態において使用することができるＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体、金属塩、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物、金属アルキルａｌｋｙ、およびアルミノキサンは、独立して本明細書にて記載され、任意の組み合わせで、また限定されることなく使用することができ、本開示の様々な触媒系を記載する。
【０２９２】
本開示の様々な触媒系において使用することができるＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体（複数可）および金属アルキルは、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物に錯体形成した金属塩を含むことができる。Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体、金属塩、およびＮ２−ホスフィニルアミジン化合物は、独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、本開示の様々な触媒系において使用することができるＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体を記載する。
【０２９３】
一般に、本開示の触媒系において使用することができる金属アルキル化合物は、任意のヘテロレプティックｈｅｔｅｒｏｌｅｐｔｉｃまたはホモレプティックｈｏｍｏｌｅｐｔｉｃな金属アルキル化合物であってもよい。一実施形態において、金属アルキルは、非ハライド金属アルキル、金属アルキルハライド、もしくはその任意の組み合わせ;代替として、非ハライド金属アルキル;または代替として、金属アルキルハライドを含む、本質的にそれからなる、またはそれからなることができる。
【０２９４】
一実施形態において、金属アルキルの金属は、１、２、１１、１２、１３、もしくは１４族の金属；または代替として、１３もしくは１４族の金属；または代替として、１３族の金属を含む、本質的にそれからなる、もしくはそれからなることができる。いくつかの実施形態において、金属アルキル（非ハロゲン化金属アルキルまたはハロゲン化金属アルキル）の金属は、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、亜鉛、カドミウム、ホウ素、アルミニウム、またはスズ；代替として、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、亜鉛、ホウ素、アルミニウム、またはスズ；代替として、リチウム、ナトリウム、またはカリウム；代替として、マグネシウム、カルシウム；代替として、リチウム；代替として、ナトリウム；代替として、カリウム；代替として、マグネシウム；代替として、カルシウム、；代替として、亜鉛；代替として、ホウ素；代替として、アルミニウム；または代替として、スズであってもよい。いくつかの実施形態において金属アルキル(非ハライド金属アルキルまたは金属アルキルハライド)は、リチウムアルキル、ナトリウムアルキル、マグネシウムアルキル、ホウ素アルキル、アルキル亜鉛、またはアルミニウムアルキルを含む、本質的にそれからなる、またはそれからなることができる。いくつかの実施形態において、金属アルキル(非ハライド金属アルキルまたは金属アルキルハライド)は、アルミニウムアルキルを含む、本質的にそれからなる、またはそれからなることができる。
【０２９５】
一実施形態において、アルミニウムアルキルは、トリアルキルアルミニウム、アルキルアルミニウムハライド、アルキルアルミニウムアルコキシド、アルミノキサン、またはその任意の組み合わせであってもよい。いくつかの実施形態において、アルミニウムアルキルは、トリアルキルアルミニウム、アルキルアルミニウムハライド、アルミノキサン、もしくはその任意の組み合わせ；または代替として、トリアルキルアルミニウム、アルミノキサン、もしくはその任意の組み合わせであってもよい。他の実施形態において、アルミニウムアルキルは、トリアルキルアルミニウム；代替として、アルキルアルミニウムハライド；代替として、アルキルアルミニウムアルコキシド；または代替として、アルミノキサンであってもよい。
【０２９６】
非限定的な実施形態、において、アルミノキサンは、Ｒ’が直鎖状または分岐状アルキル基である式Ｉ：
【化１９】
2015016470.tif 000025
を特徴とする反復単位を有することができる。金属アルキルのアルキル基は、独立して本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、式Ｉを有するアルミノキサンをさらに記載する。一般に、式Ｉのｎは、１より大きい；または代替として、２より大きい。一実施形態において、ｎは、２から１５までの；または代替として、３から１０までの範囲であってもよい。
【０２９７】
一態様において、本明細書に開示される任意の金属アルキルハライドの各ハライドは、独立してフルオリド、クロリド、ブロミド、またはヨージド；代替として、クロリド、ブロミド、またはヨージドであってもよい。一実施形態において、本明細書に開示される任意の金属アルキルハライドの各ハライドは、フルオリド；代替として、クロリド；代替として、ブロミド；または代替として、ヨージドであってもよい。
【０２９８】
一態様において、本明細書に開示される任意の金属アルキルハライドの各アルキル基（非ハロゲン化金属アルキルまたは金属アルキルハライド）は、独立してＣ１〜Ｃ２０アルキル基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ６アルキル基であってもよい。一実施形態において、各アルキル基は、独立してメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、もしくはオクチル基；代替として、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基、もしくはオクチル基であってもよい。いくつかの実施形態において、アルキル基は、独立してメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ヘキシル基、もしくはｎ−オクチル基；代替として、メチル基、エチル基、ｎ−ブチル基、もしくはイソブチル基；代替として、メチル基；代替として、エチル基；代替として、ｎ−プロピル基；代替として、ｎ−ブチル基；代替として、イソブチル基；代替として、ｎ−ヘキシル基；または代替として、ｎ−オクチル基であってもよい。
【０２９９】
一態様において、本明細書に開示される任意の金属アルキルアルコキシドのアルコキシド基は、独立してＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基；代替として、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基；または代替として、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基であってもよい。一実施形態において、本明細書に開示される任意の金属アルキルアルコキシドの各アルコキシド基は、独立してメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基、ヘキソキシ基、ヘプトキシ基、またはオクトキシ基；代替として、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、ヘキソキシ基、またはオクトキシ基であってもよい。いくつかの実施形態において、本明細書に開示される任意の金属アルキルアルコキシドのアルコキシド基は、独立してメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｎ−ヘキソキシ基、もしくはｎ−オクトキシ基；代替として、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基、もしくはイソブトキシ基；代替として、メトキシ基；代替として、エトキシ基；代替として、ｎ−プロポキシ基；代替として、ｎ−ブトキシ基；代替として、イソブトキシ基；代替として、ｎ−ヘキソキシ基；または代替として、ｎ−オクトキシ基であってもよい。
【０３００】
非限定的な実施形態、において、有用な金属アルキルはメチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、ジエチルマグネシウム、ジｎ−ブチルマグネシウム、エチルマグネシウムクロリド、ｎ−ブチルマグネシウムクロリド、およびジエチル亜鉛を含むことができる。
【０３０１】
非限定的な実施形態において、有用なトリアルキルアルミニウム化合物は、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、またはその混合物を含むことができる。いくつかの非限定的な実施形態において、トリアルキルアルミニウム化合物は、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリｎ−ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリｎ−オクチルアルミニウム、またはその混合物；代替として、トリエチルアルミニウム、トリｎ−ブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリｎ−オクチルアルミニウム、またはその混合物；代替として、トリエチルアルミニウム、トリｎ−ブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリｎ−オクチルアルミニウム、またはその混合物を含むことができる。他の非限定的な実施形態において、有用なトリアルキルアルミニウム化合物は、トリメチルアルミニウム；代替として、トリエチルアルミニウム；代替として、トリプロピルアルミニウム；代替として、トリｎ−ブチルアルミニウム；代替として、トリイソブチルアルミニウム；代替として、トリヘキシルアルミニウム；または代替として、トリｎ−オクチルアルミニウムを含むことができる。
【０３０２】
非限定的な実施形態において、有用なアルキルアルミニウムハライドは、ジエチルアルミニウムクロリド、ジエチルアルミニウムブロミド、エチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、およびその混合物を含むことができる。いくつかの非限定的な実施形態において、有用なアルキルアルミニウムハライドは、ジエチルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムセスキクロリド、およびその混合物を含むことができる。他の非限定的な実施形態において、有用なアルキルアルミニウムハライドは、ジエチルアルミニウムクロリド；代替として、ジエチルアルミニウムブロミド；代替として、エチルアルミニウムジクロリド；または代替として、エチルアルミニウムセスキクロリドを含むことができる。
【０３０３】
非限定的な実施形態において、有用なアルミノキサンは、メチルアルミノキサン（ＭＡＯ）、エチルアルミノキサン、修飾メチルアルミノキサン（ＭＭＡＯ）、ｎ−プロピルアルミノキサン、イソプロピルアルミノキサン、ｎ−ブチルアルミノキサン、ｓｅｃ−ブチルアルミノキサン、イソブチルアルミノキサン、ｔ−ブチルアルミノキサン、１−ペンチルアルミノキサン、２−ペンチルアルミノキサン、３−ペンチルアルミノキサン、イソペンチルアルミノキサン、ネオペンチルアルミノキサン、またはその混合物を含むことができる。非限定的な実施形態において、いくつかの有用なアルミノキサンは、メチルアルミノキサン（ＭＡＯ）、修飾メチルアルミノキサン（ＭＭＡＯ）、イソブチルアルミノキサン、ｔ−ブチルアルミノキサン、またはその混合物を含むことができる。他の非限定的な実施形態において、有用なアルミノキサンは、メチルアルミノキサン（ＭＡＯ）；代替として、エチルアルミノキサン；代替として、修飾メチルアルミノキサン（ＭＭＡＯ）；代替として、ｎ−プロピルアルミノキサン；代替として、イソプロピルアルミノキサン；代替として、ｎ−ブチルアルミノキサン；代替として、ｓｅｃ−ブチルアルミノキサン；代替として、イソブチルアルミノキサン；代替として、ｔ−ブチルアルミノキサン；代替として、１−ペンチルアルミノキサン；代替として、２−ペンチルアルミノキサン；代替として、３−ペンチルアルミノキサン；代替として、イソペンチルアルミノキサン；または代替として、ネオペンチルアルミノキサンを含むことができる。
【０３０４】
一態様において、アルキル金属およびＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体は、活性な触媒系を形成する任意の比率で組み合わることができる。一実施形態において、金属アルキルの金属対Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体の金属のモル比は、５：１以上；代替として１０：１以上；代替として２５：１以上；代替として５０：１以上；または代替として１００：１以上であってもよい。いくつかの実施形態において、アルキル金属の金属対Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体の金属のモル比は、５：１から１００，０００：１までの範囲；代替として、１０：１から５０，０００：１までの範囲；代替として、２５：１から１０，０００：１までの範囲；代替として、５０：１から５，０００：１までの範囲；または代替として、１００：１から２，５００：１までの範囲であってもよい。特定の金属を有する金属アルキルおよび特定の金属を有するＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体が使用される場合、アルキル金属の金属対Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体の金属のモル比は、アルキル金属の特定の金属対Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体の特定の金属のモル比として述べることができる。例えば、金属アルキルがアルキルアルミニウム化合物（例えば、トリアルキルアルミニウム、アルキルアルミニウムハライド、アルキルアルミニウムアルコキシド、および／またはアルミノキサン）であり、Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体がＮ２−ホスフィニルアミジンクロム塩錯体である場合、アルキル金属の金属対金属塩の金属は、アルミニウム対クロムのモル比であってもよい。いくつかの非限定的な実施形態において、アルミニウム対クロムのモル比は、５：１以上；代替として、１０：１以上；代替として、２５：１以上；代替として、５０：１以上；代替として、１００：１以上；代替として、５：１から１００，０００：１までの範囲；代替として、１０：１から５０，０００：１までの範囲；代替として、２５：１から１０，０００：１までの範囲；代替として、５０：１から５，０００：１までの範囲；または代替として、１００：１から２，５００：１までの範囲であってもよい。
【０３０５】
別の態様において、金属アルキル、金属塩、およびＮ２−ホスフィニルアミジン化合物は、活性触媒系を形成する任意の比率で組み合わせることができる。一般に、金属アルキル、金属塩、およびＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を含む、本質的にそれからなる、またはそれからなる触媒系の成分の比率は、金属アルキルの金属対金属塩の金属のモル比、およびＮ２−ホスフィニルアミジン化合物対金属塩の当量比として与えることができる。
【０３０６】
一実施形態において、金属アルキルの金属対金属塩の金属のモル比は、５：１以上；代替として、１０：１以上；代替として、２５：１以上；代替として、５０：１以上；または代替として、１００：１以上であってもよい。いくつかの実施形態において、金属アルキルの金属対金属塩の金属のモル比は、５：１から１００，０００：１までの範囲；代替として、１０：１から５０，０００：１までの範囲；代替として、２５：１から１０，０００：１までの範囲；代替として、５０：１から５，０００：１までの範囲；または代替として、１００：１から２，５００：１までの範囲であってもよい。特定の金属を有する金属アルキルおよび特定の金属を有する金属塩が使用される場合、アルキル金属の金属と金属塩の金属とのモル比は、アルキル金属の特定の金属と金属塩の特定の金属とのモル比として述べることができる。例えば、金属アルキルがアルキルアルミニウム化合物（例えば、トリアルキルアルミニウム、アルキルアルミニウムハライド、アルキルアルミニウムアルコキシド、および／またはアルミノキサン）であり、金属塩がクロム塩である場合、金属アルキルの金属対金属塩の金属は、アルミニウム対クロムのモル比であってもよい。いくつかの非限定的な実施形態において、アルミニウム対クロムのモル比は、５：１以上；代替として、１０：１以上；代替として、２５：１以上；代替として、５０：１以上；または代替として、１００：１以上；代替として、５：１から１００，０００：１までの範囲；代替として、１０：１から５０，０００：１までの範囲；代替として、２５：１から１０，０００：１までの範囲；代替として、５０：１から５，０００：１までの範囲；または代替として、１００：１から２，５００：１までの範囲であってもよい。
【０３０７】
一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物対金属塩の当量比は、０．８：１以上；代替として、０．９：１以上；または代替として、０．９５：１以上；または代替として、０．９８：１以上であってもよい。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物対金属塩の当量比は、０．８：１から５：１までの範囲；代替として、０．９：１から４：１までの範囲；または代替として、０．９５：１から３：１までの範囲；または代替として、０．９８：１から２．５：１までの範囲であってもよい。他の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物対金属塩の当量比は、約１：１であってもよい。
【０３０８】
一態様において、本開示は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物および／またはＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体を調製する方法に関する。Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物およびＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体は、一般に本明細書に記載され、それらを調製する方法は、一般に、本明細書に記載される任意のＮ２−ホスフィニルアミジン化合物および／またはＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体に適用することができる。
【０３０９】
一態様において、本開示は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法に関する。一般に、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法は、ａ）ホスフィンハライドを金属アミジナートと接触させるステップ、ｂ）Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを形成するステップを含むことができる。一般に、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン基を形成することができる条件下に形成することができる。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物は、単離し；代替として、精製し；または代替として単離し、かつ精製することができる。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物は、本明細書に記載される任意の構造であってもよい。
【０３１０】
一般にＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法において使用される金属アミジナートは、構造ＭＡＭ１、ＭＡＭ２、ＭＡＭ３、ＭＡＭ４、ＭＡＭ５、ＭＡＭ６、ＭＡＭ７、ＭＡＭ８、ＭＡＭ９、ＭＡＭ１０、ＭＡＭ１１、ＭＡＭ１３、ＭＡＭ１５、ＭＡＭ１６、ＭＡＭ１８、もしくはＭＡＭ２０；代替として、構造ＭＡＭ１、ＭＡＭ２、ＭＡＭ３、ＭＡＭ４、もしくはＭＡＭ５；代替として、構造ＭＡＭ６、ＭＡＭ７、ＭＡＭ８、ＭＡＭ９、もしくはＭＡＭ１０；代替として、構造ＭＡＭ１１、ＭＡＭ１３、もしくはＭＡＭ１５；代替として、構造ＭＡＭ１６、ＭＡＭ１８、もしくはＭＡＭ２０；代替として、構造ＭＡＭ１；代替として、構造ＭＡＭ２；代替として、構造ＭＡＭ３；代替として、構造ＭＡＭ４；代替として、構造ＭＡＭ５；代替として、構造ＭＡＭ１１；代替として、ＭＡＭ６；代替として、ＭＡＭ７；代替として、ＭＡＭ８；代替として、ＭＡＭ９；代替として、ＭＡＭ１０；代替として、構造ＭＡＭ１３；代替として、構造ＭＡＭ１５；代替として、ＭＡＭ１６；代替として、ＭＡＭ１８；または代替として、ＭＡＭ２０を有することができる。一実施形態において、金属塩に錯体形成したただ１個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含むＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体は、構造ＭＡＭ１、ＭＡＭ６、ＭＡＭ１１、もしくはＭＡＭ１６；代替として、構造ＭＡＭ１もしくはＭＡＭ６；代替として、構造ＭＡＭ１１もしくはＭＡＭ１６；代替として、構造ＭＡＭ１もしくはＭＡＭ１１；または代替として、構造ＭＡＭ６もしくはＭＡＭ１６を有することを特徴とすることができる。一実施形態において、金属塩に錯体形成したただ２個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含Ｎ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体は、構造ＭＡＭ２、ＭＡＭ３、ＭＡＭ８、ＭＡＭ１３、もしくはＭＡＭ１８；代替として、構造ＭＡＭ２、ＭＡＭ３、もしくはＭＡＭ８；代替として、構造ＭＡＭ１３、もしくはＭＡＭ１８；代替として、構造ＭＡＭ２もしくはＭＡＭ３；代替として、構造ＭＡＭ３もしくはＭＡＭ１３；または代替として、構造ＭＡＭ８もしくはＭＡＭ１８を有することを特徴とすることができる。他の実施形態において、金属塩に錯体形成した少なくとも１個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を有するＮ２−ホスフィニルアミジン金属塩錯体化合物は、構造ＭＡＭ４、ＭＡＭ５、ＭＡＭ９、ＭＡＭ１０、ＭＡＭ１５、もしくはＭＡＭ２０；代替として、構造ＭＡＭ４、ＭＡＭ５、ＭＡＭ９、もしくはＭＡＭ１０；代替として、構造ＭＡＭ１５、もしくはＭＡＭ２０；代替として、構造ＭＡＭ４もしくはＭＡＭ５；代替として、構造ＭＡＭ９もしくはＭＡＭ１０；代替として、構造ＭＡＭ５もしくはＭＡＭ１５；または代替として、構造ＭＡＭ１０もしくはＭＡＭ２０を有することを特徴とすることができる。
【化２０−１】
2015016470.tif 000026
【化２０−２】
2015016470.tif 000027
一般に、記号ＭＡＭで前置きされた金属アミジナート構造は、同一の番号記号を有する記号ＮＰで前置きされたＮ２−ホスフィニルアミジン構造に対応する。金属アミジン構造ＭＡＭ１〜ＭＡＭ１０、ＭＡＭ１１、ＭＡＭ１３、ＭＡＭ１５、ＭＡＭ１６、ＭＡＭ１８、および／またはＭＡＭ２０内のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｄ１、Ｄ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｑ１、ｑ、およびｒは、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物構造ＮＰ１〜ＮＰ１０、ＮＰ１１、ＮＰ１３、ＮＰ１５、ＮＰ１６、ＮＰ１８、および／またはＮＰ２０の特色として独立して記載される。金属アミジン構造ＭＡＭ１〜ＭＡＭ１０、ＭＡＭ１１、ＭＡＭ１３、ＭＡＭ１５、ＭＡＭ１６、ＭＡＭ１８、および／またはＭＡＭ２０は、構造ＮＰ１〜ＮＰ１０、ＮＰ１１、ＮＰ１３、ＮＰ１５、ＮＰ１６、ＮＰ１８、および／またはＮＰ２０を有する、Ｎ２ホスフィニルアミジン化合物の実施形態を調製するために使用されるので、Ｎ２ホスフィニルアミジン化合物のためのＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｄ１、Ｄ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｑ１、ｑ、およびｒの記載は、限定されることなく使用することができ、金属アミジン構造ＭＡＭ１〜ＭＡＭ１０、ＭＡＭ１１、ＭＡＭ１３、ＭＡＭ１５、ＭＡＭ１６、ＭＡＭ１８、および／またはＭＡＭ２０をさらに記載する。
【０３１１】
一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法で使用されるホスフィンハライドは、構造ＰＨ１を有することができる。
【化２１】
2015016470.tif 000028
構造ＰＨ１を有するホスフィンハライドのＲ４およびＲ５は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物の構造ＮＰ１〜ＮＰ１０、ＮＰ１１、ＮＰ１３、ＮＰ１５、ＮＰ１６、ＮＰ１８、および／またはＮＰ２０の実施形態のＲ４およびＲ５に対応する。構造ＰＨ１を有するホスフィンハライドは、構造ＮＰ１〜ＮＰ１０、ＮＰ１１、ＮＰ１３、ＮＰ１５、ＮＰ１６、ＮＰ１８、および／またはＮＰ２０を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物の実施形態を調製するために使用されるので、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物についてのＲ４およびＲ５の記載は、限定されることなく使用することができ、構造ＰＨ１を有するホスフィンハライドをさらに記載する。一実施形態において、ホスフィンハライドのＸ１は、フルオロ、クロロ、ブロモ、またはヨード；代替として、フルオロ；代替として、クロロ；代替として、ブロモ；または代替として、ヨードであってもよい。ホスフィンハライドは本明細書に開示され、限定されることなく使用することができ、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法をさらに記載する。
【０３１２】
一般に、ホスフィンハライドおよび金属アミジナートは、ホスフィンハライド対金属アミジナートを少なくとも０．９：１の当量比で組み合わせることができる。いくつかの実施形態において、ホスフィンハライドおよび金属アミジナートは、ホスフィンハライド対金属アミジナートを少なくとも０．９５：１；代替として、少なくとも０．９７５：１；または代替として、少なくとも０．９９：１の当量比で組み合わせることができる。いくつかの実施形態において、ホスフィンハライドおよび金属アミジナートは、ホスフィンハライド対金属アミジナートを０．９：１から１．２５：１の範囲；代替として、０．９５：１から１．２０：１の範囲；代替として、０．９７５：１から１．１５：１の範囲；または代替として、０．９９：１から１．１０：１の範囲の当量比で組み合わせることができる。他の実施形態において、ホスフィンハライドおよび金属アミジナートは、ホスフィンハライド対金属アミジナートを約１：１の当量比で組み合わせることができる。
【０３１３】
一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジンを形成することができる条件は、少なくとも０℃；代替として、少なくとも５℃；代替として、少なくとも１０℃；または代替として、少なくとも１５℃の反応温度を含むことができる。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジンを形成することができる条件は、０℃から６０℃までの範囲；代替として、５℃から５０℃までの範囲；代替として、１０℃から４５℃までの範囲；または代替として、１５℃から４０℃までの範囲の反応温度を含むことができる。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジンを形成することができる条件は、少なくとも５分；代替として、少なくとも１０分；代替として、少なくとも１５分；または代替として、少なくとも２０分の反応時間を含むことができる。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジンを形成することができる条件は、５分から６時間までの範囲；代替として、１０分から５時間までの範囲；代替として、１５分から４．５時間までの範囲；または代替として、２０分から４時間までの範囲の反応時間を含むことができる。
【０３１４】
一実施形態において、ホスフィンハライドおよび金属アミジナートは、非プロトン性溶媒中で接触させることができる。いくつかの実施形態において、ホスフィンハライドおよび金属アミジナートは、極性の非プロトン性溶媒中で接触させることができる。使用することができる非プロトン性溶媒は、炭化水素溶剤およびエーテル溶媒を含む。使用することができる極性の非プロトン性溶媒は、エーテル溶媒を含む。溶媒は、一般に本明細書に開示され、本明細書に記載される任意の一般的なまたは特定の、非プロトン性溶媒および／または、極性非プロトン性溶媒を使用することができ、ホスフィンハライドを金属アミジナートと接触させてＮ２−ホスフィニルアミジナートを形成することを含むＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法をさらに記載する。
【０３１５】
一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物は、さらなる単離または精製をしないで使用することができる。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物は単離し；または代替として、単離し、かつ精製することができる。Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物が溶媒（非プロトン性または極性の非プロトン性）中で調製することができる実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法は、溶媒を蒸発させることによりＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を単離するステップを含むことができる。Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物が溶媒（非プロトン性または極性の非プロトン性）中で調製することができる一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法は、粒子物質および／または反応の副生物を除去するために溶液を濾過し、溶媒を蒸発させることによってＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を単離するステップを含むことができる。実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物が溶媒にＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を溶解し、粒子物質および／または反応の副生物を除去するために溶液を濾過することにより精製することができる精製ステップを含むことができる。Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を精製するために使用される溶媒は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成するために使用されるのと同一の溶媒であってもよく、または、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成するために使用される溶媒と異なっていてもよい。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を溶媒で洗浄する精製ステップを含むことができる。他の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を再結晶する精製ステップを含むことができる。
【０３１６】
一般に、溶媒の蒸発は、任意の適切な方法を使用して行うことができる。いくつかの実施形態において、溶媒は、常温（１５〜３５℃−外部熱源は用いない。）で蒸発させることができる。他の実施形態において、溶媒は、緩やかに加熱して（例えば、２５℃から５０℃までの範囲の温度で）蒸発させることができる。さらなる実施形態において、溶媒は常温減圧下で蒸発させることができる。また他の実施形態において、溶媒は、緩やかに加熱しながら減圧下で蒸発させることができる。
【０３１７】
一態様において、Ｎ２−ホスフィニルアミジンを調製する方法で使用される金属アミジナートは、ａ）アミジン化合物から水素原子を抜き取ることができる金属化合物とＮ２水素原子を有するアミジン化合物（非金属）を接触させるステップ；およびｂ）金属アミジナートを形成するステップによって形成することができる。一般に、金属アミジナートは、金属アミジナートを形成することができる条件下に形成することができる。いくつかの実施形態において、金属アミジナートは、単離し；代替として、精製し；または代替として、単離しかつ精製することができる。
【０３１８】
一実施形態において、アミジン化合物（非金属）は、構造ＡＭ１、ＡＭ２、ＡＭ３、ＡＭ４、ＡＭ５、ＡＭ６、ＡＭ７、ＡＭ８、ＡＭ９、ＡＭ１０、ＡＭ１１、ＡＭ１３、ＡＭ１５、ＡＭ１６、ＡＭ１８、もしくはＡＭ２０；代替として、構造ＡＭ１、ＡＭ２、ＡＭ３、ＡＭ４、もしくはＡＭ５；代替として、ＡＭ６、ＡＭ７、ＡＭ８、ＡＭ９、もしくはＡＭ１０；代替として、ＡＭ１１、ＡＭ１３、もしくはＡＭ１５；代替として、ＡＭ１６、ＡＭ１８、もしくはＡＭ２０；代替として、構造ＡＭ１；代替として、構造ＡＭ２；代替として、構造ＡＭ３；代替として、構造ＡＭ４；代替として、構造ＡＭ５；代替として、構造ＡＭ１１；代替として、構造ＡＭ６；代替として、構造ＡＭ７；代替として、構造ＡＭ８；代替として、構造ＡＭ９；代替として、構造ＡＭ１０；代替として、構造ＡＭ１１；代替として、構造ＡＭ１３；代替として、構造ＡＭ１５；代替として、ＡＭ１６；代替として、ＡＭ１８；または代替として、ＡＭ２０を有することができる。一実施形態において、金属塩に錯体形成したただ１個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含むアミジン化合物（非金属）は、構造ＡＭ１、ＡＭ６、ＡＭ１１、もしくはＡＭ１６；代替として、構造ＡＭ１もしくはＡＭ６；代替として、構造ＡＭ１１もしくはＡＭ１６；代替として、構造ＡＭ１もしくはＡＭ１１；または代替として、構造ＡＭ６もしくはＡＭ１６を有すことを特徴とすることができる。一実施形態において、金属塩に錯体形成したただ２個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含むアミジン化合物（非金属）は、構造ＡＭ２、ＡＭ３、ＡＭ８、ＡＭ１３、もしくはＡＭ１８；代替として、構造ＡＭ２、ＡＭ３、もしくはＡＭ８；代替として、構造ＡＭ１３、もしくはＡＭ１８；代替として、構造ＡＭ２もしくはＡＭ３；代替として、構造ＡＭ３もしくはＡＭ１３；または代替として、構造ＡＭ８もしくはＡＭ１８を有すことを特徴とすることができる。他の実施形態において、金属塩に錯体形成した少なくとも１個のＮ２−ホスフィニルアミジン基を含むアミジン化合物（非金属）は、構造ＡＭ４、ＡＭ５、ＡＭ９、ＡＭ１０、ＡＭ１５、またはＡＭ２０；代替として、構造ＡＭ４、ＡＭ５、ＡＭ９、またはＡＭ１０；代替として、構造ＡＭ１５、またはＡＭ２０；代替として、構造ＡＭ４またはＡＭ５；代替として、構造ＡＭ９またはＡＭ１０；代替として、構造ＡＭ５またはＡＭ１５；代替として、構造ＡＭ１０またはＡＭ２０を有することを特徴とすることができる。いくつかの実施形態において、アミジン化合物は、ただ１個のＮ２水素原子を有することができる（すなわち、Ｒ３はアミジン化合物中の非水素基である。）。他の実施形態において、アミジンは、２個のＮ２水素原子を有することができる（すなわち、Ｒ３はアミジン化合物中の非水素基である。）。
【化２２−１】
2015016470.tif 000029
【化２２−２】
2015016470.tif 000030
一般にＡＭで前置きされたアミジン構造は、同一の数字記号有するＭＡＭで前置きされた金属アミジナート構造に対応する。しかしながら、それが留意されるべきである。本明細書に記載される方法は、構造ＡＭ６〜ＡＭ１０、ＡＭ１６、ＡＭ１８、をおよび／またはＡＭ２０（式中、Ｒ３は水素である）を有するアミジン化合物の構造ＡＭ１〜ＡＭ５、ＡＭ１１、ＡＭ１３、および／またはＡＭ１５（式中、Ｒ３は水素ではない）有するアミジン化合物それぞれへの変換を与える。アミジン化合物構造ＡＭ１〜ＡＭ１０、ＡＭ１１、ＡＭ１３、ＡＭ１５、ＡＭ１６、ＡＭ１８、および／またはＡＭ２０内のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｄ１、Ｄ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｑ１、ｑ、およびｒは、独立してＮ２ホスフィニルアミジン化合物構造ＮＰ１〜ＮＰ１０、ＮＰ１１、ＮＰ１３、ＮＰ１５、ＮＰ１６、ＮＰ１８、および／またはＮＰ２０の特色として記載される。アミジン構造ＡＭ１〜ＡＭ１０、ＡＭ１１、ＡＭ１３、ＡＭ１５、ＡＭ１６、ＡＭ１８、および／または、ＡＭ２０は、構造ＮＰ１〜ＮＰ１０、ＮＰ１１、ＮＰ１３、ＮＰ１５、ＮＰ１６、ＮＰ１８、および／またはＮＰ２０を有するＮ２ホスフィニルアミジン化合物の実施形態を調製するために使用することができるので、Ｎ２ホスフィニルアミジン化合物のためのＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｄ１、Ｄ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｑ１、ｑ、およびｒの記載は、限定されることなく使用することができ、アミジン構造ＡＭ１〜ＡＭ１０、ＡＭ１１、ＡＭ１３、ＡＭ１５、ＡＭ１６、ＡＭ１８、および／またはＡＭ２０をさらに記載する。
【０３１９】
一実施形態において、アミジン化合物（非金属）からプロトンを抜き取ることができる金属化合物は、水素化金属もしくは金属アルキル；代替として、水素化金属；もしくは代替として、金属アルキルであってもよい。実施形態において、水素化金属は、水素化ナトリウム、水素化カルシウム、水素化リチウムアルミニウムもしくは水素化ホウ素ナトリウム；代替として、水素化ナトリウムもしくは水素化カルシウム；代替として、水素化リチウムアルミニウムもしくは水素化ホウ素ナトリウム；代替として、水素化ナトリウム；代替として、水素化カルシウム；代替として、水素化リチウムアルミニウム；または代替として、水素化ホウ素ナトリウムであってもよい。金属アルキル化合物は、アミジン化合物（非金属）からのプロトンを抜き取るためのアルキル金属として、本明細書に記載され、限定されることなく使用することができる。アミジン化合物（非金属）からプロトンを抜き取るための特に有用な金属アルキルは、水素化１族金属物もしくは１族金属アルキル；代替として、水素化１族金属；または代替として、１族金属アルキルであってもよい。一実施形態において、金属アルキルは、アルキルリチウム、アルキルナトリウム、もしくはアルキルカリウム；代替として、リチウムアルキルもしくはナトリウムアルキル；代替として、アルキルリチウム；代替として、アルキルナトリウム；または代替として、アルキルカリウムであってもよい。金属アルキルのアルキル基は、本明細書に記載され、限定されることなく使用することができ、アミジン化合物と接触させることができる金属アルキルをさらに記載する。いくつかの例示の実施形態において、金属アルキルは、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、もしくはｔｅｒｔ−ブチルリチウム；代替として、メチルリチウム；代替として、ｎ−ブチルリチウム；代替として、ｓｅｃ−ブチルリチウム；または代替として、ｔｅｒｔ−ブチルリチウムであってもよい。
【０３２０】
一般に、アミジン化合物（非金属）および金属化合物は、アミジン化合物対金属化合物を少なくとも０．９：１の当量比で組み合わせることができる。一実施形態において、アミジン化合物対金属化合物を少なくとも０．９５：１；代替として、少なくとも０．９７５：１；または代替として、少なくとも０．９９：１の当量比で組み合わせることができる。いくつかの実施形態において、アミジン化合物（非金属）および金属化合物は、アミジン化合物対金属化合物を０．９：１から１．２５：１までの範囲；代替として、０．９５：１から１．２０：１までの範囲；代替として、０．９７５：１から１．１５：１までの範囲；または代替として、０．９９：１から１．１０：１までの範囲の当量比で組み合わせることができる。他の実施形態において、アミジン化合物（非金属）および金属化合物は、アミジン化合物対金属化合物を約１：１の当量比で組み合わせることができる。
【０３２１】
一実施形態において、金属アミジナートを形成することができる条件は、少なくとも−４５℃；代替として、少なくとも−３０℃；代替として、少なくとも−２５℃；または代替として、少なくとも−２０℃の温度を含むことができる。いくつかの実施形態において、金属アミジナートを形成することができる反応条件は、−４５℃から６０℃まで範囲；代替として、−３０℃から５０℃まで範囲；代替として、−２５℃から４５℃まで範囲；または代替として、−２０℃から４０℃までの範囲の温度を含むことができる。
【０３２２】
いくつかの実施形態において、金属アミジナートを形成することができる条件は、初めの金属化合物およびアミジン化合物の接触温度、ならびに金属アミジナートを形成する第２の温度を含むことができる。金属アミジナートを形成することができる条件が、２つの温度（金属化合物およびアミジン化合物の接触のためが１つ、および金属アミジナートの形成のためが１つ）での出現として記載される場合、この記載は、接触温度で金属アミジナートを形成することができるという見込みを除外しないことは、留意されるべきである。この記載は、いくつかの実施形態において、金属アミジナート形成が、金属化合物およびアミジン化合物の間の最初の接触がある温度で行われ、金属アミジナートの形成は第２の異なる温度で完了する場合、よりよく進むことができることと関係する。
【０３２３】
一実施形態において、金属化合物およびアミジン化合物は、−４５℃から２０℃までの範囲；代替として、−３０℃から１５℃までの範囲；代替として、−２５℃から４５℃までの範囲；または代替として、−２０℃から４０℃までの範囲の温度で接触させることができる。一実施形態において、金属アミジナートは、０℃から２０℃まで範囲；代替として、５℃から１５℃までの範囲；代替として、１０℃から４５℃までの範囲；または代替として、１５℃から４０℃まで範囲の温度で形成することができる。
【０３２４】
一実施形態において、金属アミジナートを形成することができる条件は、少なくとも５分；代替として、少なくとも１０分；代替として、少なくとも１５分；または代替として、少なくとも２０分の金属アミジナート形成時間を含むことができる。いくつかの実施形態において、金属アミジナートを形成することができる条件は、５分から６時間までの範囲；代替として、１０分から５時間までの範囲；代替として、１５分から４．５時間までの範囲；または代替として、２０分から４時間までの範囲の金属アミジナート形成時間を含むことができる。
【０３２５】
一実施形態において、金属化合物およびアミジン化合物（非金属）は、非プロトン性溶媒中で接触させることができる。いくつかの実施形態において、金属化合物およびアミジン化合物（非金属）は、極性の非プロトン性溶媒中で接触させることができる。使用することができる非プロトン性溶媒は、炭化水素溶剤およびエーテル溶媒を含む。使用することができる極性非プロトン性溶媒は、エーテル溶媒を含む。溶媒は、一般に、本明細書に開示され、本明細書に記載される任意の一般的なまたは特定の非プロトン性溶媒、および／または、極性非プロトン性溶媒が、使用することができ、金属化合物およびアミジン化合物を接触させて金属アミジナートを形成することにより、金属アミジナートを調製する方法をさらに記載する。
【０３２６】
一実施形態において、金属アミジナートは、さらなる単離または精製をしないで使用することができる。いくつかの実施形態において、金属アミジナートは単離し；代替として、精製し；または代替として、単離しかつ精製することができる。一実施形態において、金属アミジナートを調製する方法は、金属アミジナートａｍｉｄａｔｅを溶液から濾過することにより金属アミジナートを単離するステップを含むことができる。いくつかの実施形態において、金属アミジナートを調製する方法は、金属アミジナートを溶媒で洗浄することにより金属アミジナートを精製するステップを含むことができる。一般に、洗浄溶媒は、非プロトン性溶媒であってもよい。他の実施形態において、洗浄溶媒は、極性非プロトン性溶媒であってもよい。他の実施形態において、洗浄溶媒は、無極性非プロトン性溶媒であってもよい。
【０３２７】
一態様において、Ｎ２−ホスフィニルアミジンを調製するために使用することができる金属アミジナートは、ａ）金属アミドおよびニトリルを接触させるステップ；およびｂ）金属アミジナートを形成するステップを含む方法によって調製することができる。一般に、金属アミジナートは、金属アミジナートを形成することができる条件下に形成することができる。いくつかの実施形態において、金属アミジナートは、単離し；代替として、精製し；または代替として、単離し、かつ精製することができる。この方法は、Ｎ２水素原子を有する金属アミジナートを調製する（すなわち、Ｒ３は水素である）ことが留意されるべきである。非水素Ｒ３基を有する金属アミジナートを調製する他の方法は、本明細書に開示される。
【０３２８】
一実施形態において、金属アミドは、構造ＭＡ１、ＭＡ２、ＭＡ３、またはＭＡ４；代替として、ＭＡ１；代替として、ＭＡ２；代替として、ＭＡ３；または代替として、ＭＡ４を有する。
2015016470.tif 000031
【０３２９】
一実施形態において、ニトリルは、構造Ｎ１、Ｎ２、またはＮ３；代替として、Ｎ１；代替として、Ｎ２；または代替として、Ｎ３を有することができる。
2015016470.tif 000032
【０３３０】
一般に、本開示を使用して、特定の金属アミジナートを製造するのに必要な金属アミド構造、およびニトリル構造を容易に認識することができる。例えば、構造ＡＭ６を有する金属アミジナートは、構造ＭＡ１を有する金属アミド、および構造Ｎ１を有するニトリルから調製することができ、構造ＡＭ７を有する金属アミジナートは、構造ＭＡ２を有する金属アミド、および構造Ｎ１を有するニトリルから調製することができ、構造ＡＭ８を有する金属アミジナートは、構造ＭＡ１を有する金属アミド、および構造Ｎ２を有するニトリルから調製することができ、構造ＡＭ９を有する金属アミジナートは、構造ＭＡ３を有する金属アミド、および構造Ｎ１を有するニトリルから調製することができ、構造ＡＭ１０を有する金属アミジナートは、構造ＭＡ１を有する金属アミド、および構造Ｎ３を有するニトリルから調製することができ、構造ＡＭ１６を有する金属アミジナートは、構造ＭＡ４を有する金属アミド、および構造Ｎ１を有するニトリルから調製することができ、構造ＡＭ１８を有する金属アミジナートは、構造ＭＡ４を有する金属アミド、および構造Ｎ２を有するニトリルから調製することができ、また、構造ＡＭ２０を有する金属アミジナートは、構造ＭＡ４を有する金属アミド、および構造Ｎ３を有するニトリルから調製することができる。金属アミド構造ＭＡ１〜ＭＡ４およびニトリル構造Ｎ１〜Ｎ３内のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｄ１、Ｄ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｑ１、ｑ、およびｒは、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物構造ＮＰ１〜ＮＰ１０、ＮＰ１１、ＮＰ１３、ＮＰ１５、ＮＰ１６、ＮＰ１８、および／またはＮＰ２０の特色として独立して記載される。構造ＭＡ１〜ＭＡ４を有する金属アミドおよび構造Ｎ１〜Ｎ３を有するニトリルは、構造ＮＰ１〜ＮＰ１０、ＮＰ１１、ＮＰ１３、ＮＰ１５、ＮＰ１６、ＮＰ１８、および／またはＮＰ２０を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物の実施形態を究極的に調製するために使用されるので、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｄ１、Ｄ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｑ１、ｑ、およびｒのＮ２ホスフィニルアミジン化合物のための記載は、限定されることなく使用することができ、構造ＭＡ１〜ＭＡ４を有する金属アミド、および構造Ｎ１〜Ｎ３を有するニトリルをさらに記載する。一般的および特定の金属アミド（またはそれらが由来するアミン）およびニトリルは、本明細書において与えられ、限定されることなく使用することができ、さらなる本明細書において開示される金属アミジナートを調製する方法をさらに記載する。
【０３３１】
一般に、ニトリルおよび金属アミドは、ニトリル対金属アミドの、少なくとも０．９：１の当量比で組み合わせることができる。一実施形態において、ニトリルおよび金属アミドは、ニトリル対金属アミドの、少なくとも０．９５：１；代替として、少なくとも０．９７５：１；または代替として、少なくとも０．９９：１の当量比で組み合わせることができる。いくつかの実施形態において、ニトリルおよび金属アミドは、ニトリル対金属アミドの、０．９：１から１．２５：１までの範囲；代替として、０．９５：１から１．２０：１までの範囲；代替として、０．９７５：１から１．１５：１までの範囲；または代替として、０．９９：１から１．１０：１までの範囲の当量比で組み合わせることができる。他の実施形態において、ニトリルおよび金属アミドは、ニトリル対金属アミドの、約１：１の当量比で組み合わせることができる。
【０３３２】
一実施形態において、金属アミジナートを形成することができる条件は、少なくとも１０℃；代替として、少なくとも１５℃；代替として、少なくとも２０℃；または代替として、少なくとも２５℃の反応温度を含むことができる。いくつかの実施形態において、金属アミジナートを形成することができる条件は、１０℃から１００℃までの範囲；代替として、１５℃から９０℃までの範囲；代替として、２０℃から８５℃までの範囲；または代替として、２５℃から８０℃までの範囲の反応温度を含むことができる。一実施形態において、金属アミジナートを形成することができる条件は、少なくとも１５分；代替として、少なくとも３０分；代替として、少なくとも４５分；または代替として、少なくとも１時間の反応時間を含むことができる。いくつかの実施形態において、金属アミジナートを形成することができる条件は、１５分から３６時間までの範囲；代替として、３０分から３０時間までの範囲；代替として、４５分から２４時間までの範囲；または代替として、１時間から１８時間までの範囲の反応時間を含むことができる。
【０３３３】
一実施形態において、ニトリルおよび金属アミドは、非プロトン性溶媒中で接触させることができる。いくつかの実施形態において、ニトリルおよび金属アミドは、極性非プロトン性溶媒中で接触させることができる。使用することができる非プロトン性溶媒は、炭化水素溶剤およびエーテル溶媒を含む。使用されてもよい極性非プロトン性溶媒は、エーテル溶媒を含む。溶媒は、一般に本明細書に開示され、本明細書において記載される任意の一般的なまたは特定の非プロトン性溶媒および／または、極性非プロトン性溶媒を使用することができ、ニトリルおよび金属アミドを接触させて金属アミジナートを形成することにより、金属アミジナートを調製する方法をさらに記載する。
【０３３４】
一実施形態において、金属アミジナートは、さらなる単離または精製をしないで使用することができる。いくつかの実施形態において、金属アミジナートは、単離し；代替として、精製し；または代替として、単離し、かつ精製することができる。一実施形態において、金属アミジナートを調製する方法は、金属アミジナートａｍｉｄａｔｅを溶液から濾過することにより金属アミジナートを単離するステップを含むことができる。いくつかの実施形態において、金属アミジナートを調製する方法は、金属アミジナートを溶媒で洗浄する金属アミジナートを精製するステップを含むことができる。一般に、洗浄溶媒は、非プロトン性溶媒であってもよい。他の実施形態において、洗浄溶媒は、極性非プロトン性溶媒であってもよい。他の実施形態において、洗浄溶媒は、無極性非プロトン性溶媒であってもよい。
【０３３５】
一態様において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成するために使用することができるアミジン化合物は、ａ）金属アミドおよびニトリルを接触させるステップ；ｂ）金属アミジナートを形成するステップ；およびｃ）形成した金属アミジナートをプロトン性化合物で中和して非金属アミジン化合物を形成するステップを含む方法によって調製することができる。この方法のステップａ）およびｂ）は、金属アミドおよびニトリルと接触させ金属アミジナートを形成するステップを含む金属アミジナートを調製する方法と同一である。したがって、本明細書において記載される金属アミドおよびニトリルを接触させ、金属アミジナートを形成するステップに関係する実施形態は、限定されることなく使用することができ、ａ）金属アミドおよびニトリルを接触させるステップ；ｂ）金属アミジナートを形成するステップ；およびｃ）生成金属アミジナートを中和するステップを含むアミジナート化合物を製造する方法をさらに記載する。いくつかの実施形態において、非金属アミジン化合物は、単離し；代替として、精製し；または代替として単離し、かつ精製することができる。
【０３３６】
一実施形態において、プロトン性化合物は、プロトンを供給し金属アミジナートを中和することができる任意の化合物であってもよい。いくつかの実施形態において、プロトン性化合物はブレーンステッド酸であってもよい。他の実施形態において、プロトン性化合物は、水、無機酸、カルボン酸、アルコール、もしくはアミンハロゲン酸塩；代替として、水；代替として、無機酸；代替として、カルボン酸；代替として、アルコール；または代替として、アミンハロゲン酸塩であってもよい。一実施形態において、無機酸は、塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸、もしくはホウ酸；代替として、塩酸；代替として、硫酸；代替として、硝酸；代替として、リン酸；または代替として、ホウ酸であってもよい。一実施形態において、カルボン酸は、Ｃ１〜Ｃ５カルボン酸であってもよい。いくつかの実施形態において、カルボン酸は、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、もしくは酪酸；代替として、ギ酸もしくは酢酸；代替として、ギ酸；代替として、酢酸；代替として、プロピオン酸；または代替として、酪酸であってもよい。一実施形態において、アルコールは、Ｃ１〜Ｃ１０アルコール；または代替として、Ｃ１〜Ｃ５アルコールであってもよい。いくつかの実施形態において、アルコールは、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、もしくはペンタノール；代替として、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、もしくはｔｅｒｔ−ブタノール；代替として、メタノール；代替として、エタノール；代替として、ｎ−プロパノール；代替として、イソプロパノール；代替として、ｎ−ブタノール；または代替として、もしくはｔｅｒｔ−ブタノールであってもよい。一実施形態において、アミンハロゲン酸塩は、Ｃ１〜Ｃ１５ハロゲン酸塩であってもよい。いくつかの実施形態において、アミンハロゲン酸塩は、メチルアミンハロゲン酸塩、ジメチルアミンハロゲン酸塩、トリメチルアミンハロゲン酸塩、エチルアミンハロゲン酸塩、ジエチルアミンハロゲン酸塩、もしくはトリエチルアミンハロゲン酸塩、またはトリエタノールアミン塩酸塩；代替として、メチルアミンハロゲン酸塩；代替として、ジメチルアミンハロゲン酸塩；代替として、トリメチルアミンハロゲン酸塩；代替として、エチルアミンハロゲン酸塩；代替として、ジエチルアミンハロゲン酸塩；代替として、トリエチルアミンハロゲン酸塩；代替として、エタノールアミンハロゲン酸塩；代替として、ジエタノールアミンハロゲン酸塩；または代替として、トリエタノールアミン塩酸塩であってもよい。いくつかの実施形態において、アミンハロゲン酸塩は、アミン塩酸塩、臭化水素酸塩、もしくはヨウ化水素酸塩；または代替として、塩酸塩であってもよい。いくつかの実施形態において、アミンハロゲン酸塩は、メチルアミン塩酸塩、メチルアミン臭化水素酸塩、ジメチルアミン塩酸塩、ジメチルアミン臭化水素酸塩、トリメチルアミン塩酸塩、トリメチルアミン臭化水素酸塩、エチルアミン塩酸塩、エチルアミン臭化水素酸塩、ジエチルアミン塩酸塩、ジエチルアミン臭化水素酸塩、トリエチルアミン塩酸塩、トリエチルアミン臭化水素酸塩、エタノールアミン塩酸塩、エタノールアミン臭化水素酸塩、ジエタノールアミン塩酸塩、ジエタノールアミン臭化水素酸塩、トリエタノールアミン塩酸塩、トリエタノールアミン臭化水素酸塩；代替として、メチルアミン塩酸塩、ジメチルアミン塩酸塩、トリメチルアミン塩酸塩、エチルアミン塩酸塩、ジエチルアミン塩酸塩、トリエチルアミン塩酸塩、エタノールアミン塩酸塩、ジエタノールアミン塩酸塩、もしくはトリエタノールアミン塩酸塩；代替として、メチルアミン塩酸塩；代替として、ジメチルアミン塩酸塩；代替として、トリメチルアミン塩酸塩；代替として、エチルアミン塩酸塩；代替として、ジエチルアミン塩酸塩；代替として、トリエチルアミン塩酸塩；代替として、エタノールアミン塩酸塩；代替として、ジエタノールアミン塩酸塩；または代替として、トリエタノールアミン塩酸塩であってもよい。
【０３３７】
一実施形態において、非金属アミジン化合物は、さらなる単離または精製をしないで使用することができる。いくつかの実施形態において、非金属アミジン化合物は、単離し；代替として、精製し；または代替として単離し、かつ精製することができる。アミジン化合物が溶媒（非プロトン性または極性の非プロトン性）中で調製することができる実施形態において、アミジン化合物を調製する方法は、溶媒を蒸発させることによりアミジン化合物を単離するステップを含むことができる。非金属アミジン化合物が溶媒（非プロトン性または極性の非プロトン性）中で調製することができる実施形態において、非金属アミジン化合物を調製する方法は、粒子物質および／または反応の副生物を除去するために溶液を濾過し、溶媒を蒸発させることによってアミジン化合物を単離するステップを含むことができる。実施形態において、非金属アミジン化合物を調製する方法は、非金属アミジン化合物が非金属アミジン化合物を溶媒に溶解し、粒子物質および／または反応の副生物を除去するために溶液を濾過することにより精製することができる精製ステップを含むことができる。非金属アミジン化合物を精製するために使用される溶媒は、非金属アミジン化合物を形成するために使用されるのと同一の溶媒であってもよく、または、それは非金属アミジン化合物を形成するために使用される溶媒と異なっていてもよい。いくつかの実施形態において、非金属アミジン化合物を調製する方法は、非金属アミジン化合物が溶媒で洗浄することにより精製することができる精製ステップを含んでいてもよい。他の実施形態において、非金属アミジン化合物を調製する方法は、アミジン化合物を再結晶する精製ステップを含むことができる。
【０３３８】
一般に、溶媒の蒸発は、任意の適切な方法を使用して行うことができる。いくつかの実施形態において、溶媒は、常温（１５〜３５℃−外部熱源は適用されない）で蒸発させることができる。他の実施形態において、溶媒は、緩やかに加熱しならが（例えば、２５℃から５０℃までの範囲の温度で）蒸発させることができる。さらなる実施形態において、溶媒は、常温、減圧下で蒸発させることができる。また他の実施形態において、溶媒は、減圧下で緩やかに加熱しながら蒸発させることができる。
【０３３９】
一態様において、本明細書に記載される金属アミジナートおよびアミジン化合物のいくつかの調製において使用される金属アミドは、ａ）−ＮＨ２基を有するアミンおよびアミン−ＮＨ２基からプロトンを抜き取ることができる化合物を接触させるステップ；およびｂ）金属アミドを形成するステップを含む方法により調製することができる。一般に、金属アミドは、金属アミドを形成することができる条件下で形成することができる。いくつかの実施形態において、金属アミドは、単離し；代替として、精製し；または代替として、単離し、かつ精製することができる。
【０３４０】
一実施形態において、アミンは、構造Ａ１、Ａ２、Ａ３、もしくはＡ４；代替として、Ａ１；代替として、Ａ２；代替として、Ａ３；または代替として、Ａ４を有することができる。一般に、本開示を使用して、特定の金属アミジナートを製造するのに必要な金属アミン構造、およびニトリル構造を容易に認識することができる。
2015016470.tif 000033
例えば、構造Ａ１を有するアミンは、構造ＭＡＭ６、ＭＡＭ８、もしくはＭＡＭ１０を有する金属アミジナート、および／または構造ＡＭ６、ＡＭ８、もしくはＡＭ１０を有するアミジン化合物調製する場合に使用することができ、構造Ａ２を有するアミンは、構造ＭＡＭ７を有する金属アミジナート、および／または構造ＡＭ７を有するアミジン化合物を調製する場合に使用され、構造Ａ３を有するアミンは、構造ＭＡＭ９を有する金属アミジナート、および／または構造ＡＭ９を有するアミジン化合物を調製する場合に使用され、構造Ａ４を有するアミンは、構造ＭＡＭ１６、ＭＡＭ１８、もしくはＭＡＭ２０を有する金属アミジナートを調製する場合に使用される。および／または構造ＡＭ１６、ＡＭ１８、もしくはＡＭ２０を有するアミジン化合物を調製する場合に使用される。しかし、本明細書に記載される方法は、構造ＡＭ６〜１０、ＡＭ１６、ＡＭ１８、および／もしくはＡＭ２０を有するアミジン化合物（ここで、Ｒ３は水素である）または構造ＭＡＭ６〜ＭＡＭ１０、ＭＡＭ１６、ＭＡＭ１８、および／もしくはＭＡＭ２０有する金属アミジナート（ここで、Ｒ３は水素である）の、構造ＮＰ１〜ＮＰ５、ＮＰ１１、ＮＰ１３、および／またはＮＰ１５を有するアミジン化合物（ここで、Ｒ３は水素ではない）への変換を提供することが留意されるべきである。構造Ａ１〜Ａ４内のＲ１、Ｄ１、Ｌ１、Ｌ３、アミンＱ１、およびｑは、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物構造ＮＰ１〜ＮＰ１０、ＮＰ１１、ＮＰ１３、ＮＰ１５、ＮＰ１６、ＮＰ１８、および／またはＮＰ２０の特色として独立して記載される。アミン構造Ａ１〜Ａ４は、構造ＮＰ１〜ＮＰ１０、ＮＰ１１、ＮＰ１３、ＮＰ１５、ＮＰ１６、ＮＰ１８、および／またはＮＰ２０を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物の実施形態を調製するために究極的に使用されるので、Ｒ１、Ｄ１、Ｌ１、Ｌ３、Ｑ１、およびｑという、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のための記載は、限定されることなく使用することができ、アミン構造Ａ１〜Ａ４をさらに記載する。アミンは本明細書に開示され、限定されることなく使用することができ、アミジン化合物を調製する方法をさらに記載する。
【０３４１】
一実施形態において、−ＮＨ２基を有するアミンからプロトンを抜き取ることができる金属化合物は、水素化金属または金属アルキルであってもよい。一般に、−ＮＨ２基を有するアミンからプロトンを抜き取ることができる水素化金属および金属アルキルは、アミジン化合物（本明細書に記載される）からプロトンを抜き取ることができるものと同じであってもよい。したがって、アミジン化合物からプロトンを抜き取ることができるｃａｐａｂｌｅ  ｏｆ  ｃａｐａｂｌｅ  ｏｆと本明細書に記載される、水素化金属および金属アルキルは、限定されることなく使用することができ、金属アミドを調製する方法をさらに記載する。
【０３４２】
一般に、アミンおよび金属化合物は、アミン対金属化合物の、少なくとも０．９：１の当量比で組み合わせることができる。一実施形態において、アミンおよび金属化合物は、アミン対金属化合物の、少なくとも０．９５：１；代替として、少なくとも０．９７５：１；または代替として、少なくとも０．９９：１の当量比で組み合わせることができる。いくつかの実施形態において、アミンおよび金属化合物は、アミン対金属化合物の、０．９：１から１．２５：１までの範囲；代替として、０．９５：１から１．２０：１までの範囲；代替として、０．９７５：１から１．１５：１までの範囲；または代替として、０．９９：１から１．１０：１までの範囲の当量比で組み合わせることができる。他の実施形態において、アミンおよび金属化合物は、アミン対金属化合物を約１：１の当量比で組み合わせることができる。
【０３４３】
一実施形態において、金属アミドを形成することができる条件は、少なくとも−４５℃；代替として、少なくとも−３０℃；代替として。少なくとも−２５℃；または代替として、少なくとも−２０℃の温度を含むことができる。いくつかの実施形態において、金属アミドを形成することができる反応条件は、−４５℃から６０℃までの範囲こと；代替として、−３０℃から５０℃までの範囲；代替として、−２５℃から４５℃までの範囲；または代替として、−２０℃から４０℃まで範囲の温度を含むことができる。
【０３４４】
いくつかの実施形態において、金属アミドを形成することができる条件は、最初の金属化合物とアミンとの接触温度、および金属アミドを形成する第２の温度を含むことができる。金属アミドを形成することができる条件が、２つの温度（金属化合物およびアミン化合物の接触のためが１つ、および金属アミドの形成のためが１つ）での出現として記載される場合、この記載は、接触温度で金属アミドを形成することができるという見込みを除外しないことは、留意されるべきである。この記載は、いくつかの実施形態において、その形成が、金属化合物およびアミンの間の最初の接触がある温度で行われ、金属アミドの形成は第２の異なる温度で完了する場合、よりよく進むことができることと関係する。
【０３４５】
一実施形態において、金属化合物およびアミンは、−４５℃から２０℃までの範囲；代替として、−３０℃から１５℃までの範囲；代替として、−２５℃から４５℃までの範囲；または代替として、−２０℃から４０℃まで範囲の温度で接触させることができる。一実施形態において、金属アミドは、０℃から２０℃までの範囲；代替として、５℃から１５℃までの範囲；代替として、１０℃から４５℃までの範囲；または代替として、１５℃から４０℃までの範囲の温度で形成することができる。
【０３４６】
一実施形態において、金属アミドを形成することができる条件は、少なくとも５分；代替として、少なくとも１０分；代替として、少なくとも１５分；または代替として、少なくとも２０分の金属アミド形成時間を含むことができる。いくつかの実施形態において、金属アミドを形成することができる条件は、５分から６時間までの範囲；代替として、１０分から５時間までの範囲；代替として、１５分から４．５時間までの範囲；または代替として、２０分から４時間までの範囲の金属アミド形成時間を含むことができる。
【０３４７】
一実施形態において、金属化合物およびアミンは、非プロトン性溶媒中で接触させることができる。いくつかの実施形態において、金属化合物およびアミンは、極性非プロトン性溶媒中で接触させることができる。使用することができる非プロトン性溶媒は、炭化水素溶剤およびエーテル溶媒を含む。使用することができる極性の非プロトン性溶媒はエーテル溶媒を含む。溶媒は、一般に本明細書に開示され、本明細書に記載される任意の一般的なまたは特定の非プロトン性溶媒、および／または極性の非プロトン性溶媒を使用することができ、金属化合物およびアミン化合物を接触させて金属アミドを形成することにより、金属アミドを調製する方法をさらに記載する。
【０３４８】
一実施形態において、金属アミドは、さらなる単離または精製しないで使用することができる。いくつかの実施形態において、金属アミドは、単離し；代替として、精製し；または代替として、単離し、かつ精製することができる。一実施形態において、本方法は、金属アミドを溶液から濾過することにより金属アミドを単離するステップを含むことができる。いくつかの実施形態において、本方法は、金属アミドを溶媒で洗浄することにより金属アミドを精製するステップを含むことができる。一般に、洗浄溶媒は、非プロトン性溶媒である。他の実施形態において、洗浄溶媒は、極性の非プロトン性溶媒であってもよい。他の実施形態において、洗浄溶媒は、無極性の非プロトン性溶媒であってもよい。
【０３４９】
一般に、金属アミドおよびニトリルを使用するアミジン化合物を調製する方法は、２個のＮ２水素を有するアミジン化合物を生成し（例えば、構造ＡＭ６〜ＡＭ１０、ＡＭ１６、ＡＭ１８、および／またはＡＭ２０を有するアミジン化合物）、次いで、これは、本明細書に記載される方法を使用して、Ｎ２水素原子を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物
（例えば、構造ＮＰ６−ＮＰ１０、ＮＰ１６、ＮＰ１８、および／またはＮＰ２０をそれぞれ有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物）を調製するために使用することができる。しかし、いくつかの事例において、非水素Ｎ２基を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物；例えば、Ｒ３が非水素基である、構造ＮＰ１〜ＮＰ５、ＮＰ１１、ＮＰ１３、および／またはＮＰ１５を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物、を有することが望まれる場合がある。非水素Ｎ２基を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製するいくつかの方法は、以下を含む：ａ）Ｎ２水素原子を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物（例えば、構造ＮＰ６〜ＮＰ１０、ＮＰ１６、ＮＰ１８、および／またはＮＰ２０を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物）をアルキル化するステップ、ｂ）本明細書に記載される方法を使用して、金属アミジナート（例えば、構造ＭＡＭ６〜ＭＡＭ１０、ＭＡＭ１６、ＭＡＭ１８、および／ＭＡＭ２０を有するアミジナート）をアルキル化し、Ｒ３が非水素基である構造ＡＭ１〜ＡＭ５、ＡＭ１１、ＡＭ１３、ＡＭ１５を有するアミジン化合物を生成し、アミジン化合物をＮ２−ホスフィニルアミジン化合物（例えば、構造ＮＰ１〜ＮＰ５、ＮＰ１１、ＮＰ１３、および／またはＮＰ１５を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物）に変換するステップ、および、ｃ）本明細書に記載される方法を使用して、Ｎ−置換α−クロロイミンをアミンと接触させることによりただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を調製し、アミジン化合物をＮ２−ホスフィニルアミジン化合物（例えば、構造ＮＰ１〜ＮＰ５、ＮＰ１１、ＮＰ１３、および／またはＮＰ１５を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物）に変換するステップ。
【０３５０】
一態様において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法は、ａ）Ｎ２水素を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物、およびＮ２−ホスフィニルアミジン化合物からプロトンを抜き取ることができる金属化合物を接触させるステップ；ｂ）金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを形成するステップ；ｃ）ハロゲン化化合物を形成した金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートと接触させるステップ、およびｄ）Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成するステップ。一般に、Ｎ２−ホスフィニル金属アミジナートは金属アミジナートを形成することができる条件の下に形成することができるを含むことができる。一実施形態において、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートは、単離し；代替として、精製し；または代替として単離し、かつ精製することができる。一般に、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成することができる条件下で形成することができる。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物は、単離し；代替として、精製し；または代替として、単離し、かつ精製することができる。
【０３５１】
一実施形態において、Ｎ２水素を有するアミジン化合物は、構造ＮＰ６、ＮＰ７、ＮＰ８、ＮＰ９、ＮＰ１０、ＮＰ１６、ＮＰ１８、もしくはＮＰ２０；代替として、ＮＰ６、ＮＰ７、ＮＰ８、ＮＰ９、もしくはＮＰ１０；代替として、ＮＰ１６、ＮＰ１８、もしくはＮＰ２０；代替として、ＮＰ６もしくはＮＰ１６；代替として、ＮＰ８もしくはＮＰ１８；代替として、ＮＰ１０もしくはＮＰ２０；代替として、ＮＰ６；代替として、ＮＰ７；代替として、ＮＰ８；代替として、ＮＰ９；代替として、ＮＰ１０；代替として、ＮＰ１６；代替として、ＮＰ１８；または代替として、ＮＰ２０を有することができる。構造ＮＰ６−ＮＰ１０、ＮＰ１６、ＮＰ１８、および／またはＮＰ２０を有するＮ２水素を有するアミジン化合物内のＲ１、Ｒ２、Ｄ１、Ｄ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｑ１、ｑ、およびｒは、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物構造ＮＰ１〜ＮＰ１０、ＮＰ１１、ＮＰ１３、ＮＰ１５、ＮＰ１６、ＮＰ１８、および／またはＮＰ２０の特色として独立して記載される。Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物構造ＮＰ６〜ＮＰ１０、ＮＰ１６、ＮＰ１８および／またはＮＰ２０は、構造ＮＰ１〜ＮＰ５、ＮＰ１１、ＮＰ１３、およびＮＰ１５（それぞれ）を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製するために使用されるので、Ｒ１、Ｒ２、Ｄ１、Ｄ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｑ１、ｑ、およびｒという、構造ＮＰ１〜ＮＰ１０、ＮＰ１１、ＮＰ１３、ＮＰ１５、ＮＰ１６、ＮＰ１８、および／またはＮＰ２０を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物のための記載は、限定されることなく使用することができ、構造ＮＰ６〜ＮＰ１０、ＮＰ１６、ＮＰ１８、および／またはＮＰ２０を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物をさらに記載する。
【０３５２】
一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物からプロトンを抜き取ることができる金属化合物は、金属水素化物または金属アルキルであってもよい。一般に、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物からプロトンを抜き取ることができる、水素化金属および金属アルキルは、アミジン化合物からプロトンを抜き取ることができるものと同じである。したがって、アミジン化合物からプロトンを抜き取ることができると本明細書に記載される水素化金属および金属アルキルは、限定されることなく使用することができ、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法をさらに記載する。
【０３５３】
一般に、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物および金属化合物は、アミジン対金属化合物の、少なくとも０．９：１の当量比で組み合わせることができる。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物および金属化合物は、アミジン対金属化合物の、少なくとも０．９５：１；代替として、少なくとも０．９７５：１；または代替として、少なくとも０．９９：１の当量比で組み合わせることができる。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物および金属化合物は、アミジン対金属化合物の、０．９：１から１．２５：１までの範囲；代替として、０．９５：１から１．２０：１までの範囲；代替として、０．９７５：１から１．１５：１までの範囲；または代替として、０．９９：１から１．１０：１までの範囲の当量比で組み合わせることができる。他の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物および金属化合物は、アミジン対金属化合物の、約１：１の当量比で組み合わせることができる。
【０３５４】
一実施形態において、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを形成することができる条件は、少なくとも−４５℃；代替として、少なくとも−３０℃；代替として、少なくとも−２５℃；または代替として、少なくとも−２０℃の温度を含むことができる。いくつかの実施形態において、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを形成することができる反応条件は、−４５℃から６０℃までの範囲；代替として、−３０℃から５０℃までの範囲；代替として、−２５℃から４５℃までの範囲；または代替として、−２０℃から４０℃までの範囲の温度を含むことができる。
【０３５５】
いくつかの実施形態において、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを形成することができる条件は、最初の金属化合物およびアミジンとの接触温度、および金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを形成するための第２の温度を含むことができる。金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを形成することができる条件が、２つの温度（金属化合物およびアミジンの接触のためが１つ、および金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートの形成のためが１つ）での出現として記載される場合、この記載は、接触温度で金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを形成することができるという見込みを除外しないことは、留意されるべきである。この記載は、いくつかの実施形態において、その形成が、金属化合物およびアミジン化合物の間の最初の接触がある温度で行われ、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートの形成は第２の異なる温度で完了する場合、よりよく進むことができることと関係する。
【０３５６】
一実施形態において、金属化合物およびアミジンは、−４５℃から２０℃までの範囲；代替として、−３０℃から１５℃までの範囲；代替として、−２５℃から４５℃までの範囲；または代替として、−２０℃から４０℃までの範囲の温度で接触させることができる。一実施形態において、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートは、０℃から２０℃までの範囲；代替として、５℃から１５℃までの範囲；代替として、１０℃から４５℃までの範囲；または代替として、１５℃から４０℃までの範囲の温度で形成することができる。
【０３５７】
一実施形態において、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを形成することができる条件は、少なくとも５分；代替として、少なくとも１０分；代替として、少なくとも１５分；または代替として、少なくとも２０分の金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナート形成時間を含むことができる。いくつかの実施形態において、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを形成することができる条件は、５分から６時間までの範囲；代替として、１０分から５時間までの範囲；代替として、１５分から４．５時間までの範囲；または代替として、２０分から４時間までの範囲の金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナート形成時間を含むことができる。
【０３５８】
一実施形態において、金属化合物およびＮ２−ホスフィニルアミジンは、非プロトン性溶媒中で接触することができる。いくつかの実施形態において、金属化合物およびＮ２−ホスフィニルアミジンは、極性の非プロトン性溶媒中で接触させることができる。使用することができる非プロトン性溶媒は、炭化水素溶剤およびエーテル溶媒を含む。使用することができる極性の非プロトン性溶媒は、エーテル溶媒を含む。溶媒は、一般に本明細書に開示され、本明細書に記載される任意の一般的なまたは特定の非プロトン性溶媒および／または、極性の非プロトン性溶媒を使用することができ、金属化合物およびＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を接触させて金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを形成することにより、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを調製する方法をさらに記載する。
【０３５９】
一実施形態において、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートは、さらなる単離または精製をしないで使用することができる。いくつかの実施形態において金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートは、単離し、代替として、精製し；または代替として単離し、かつ精製することができる。一実施形態において、本方法は、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを溶液から濾過することにより金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを単離させるステップを含むことができる。いくつかの実施形態において、本方法は、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを溶媒で洗浄することにより金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを精製するステップを含むことができる。一般に、洗浄溶媒は、非プロトン性溶媒である。他の実施形態において、洗浄溶媒は、極性の非プロトン性溶媒であってもよい。他の実施形態において、洗浄溶媒は、無極性の非プロトン性溶媒であってもよい。
【０３６０】
一実施形態において、ハロゲン化化合物は、構造ＨＣ１を有することができる。
Ｘ２Ｒ３  構造ＨＣ１
構造ＨＣ１のＸ２はハライドを表す。一実施形態において、ハロゲン化化合物のＸ２は、フルオリド、クロリド、ブロミド、またはヨージド；代替として、フルオリド；代替として、クロリド；代替として、ブロミド；または代替として、ヨージドであってもよい。ハロゲン化化合物構造ＨＣ１内のＲ３は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物構造ＮＰ１〜ＮＰ１０、ＮＰ１１、ＮＰ１３、ＮＰ１５、ＮＰ１６、ＮＰ１８、および／またはＮＰ２０の特色として独立して記載される。ハロゲン化化合物ＨＣ１は、構造ＮＰ１〜ＮＰ５、ＮＰ１１、ＮＰ１３、および／またはＮＰ１５を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物の実施形態を調製するために使用されるので、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のためのＲ３の記載は、限定されることなく使用することができ、構造ＨＣ１を有するハロゲン化化合物をさらに記載する。ハロゲン化化合物は、本明細書に開示され、限定されることなく使用することができ、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法をさらに記載する。
【０３６１】
一般に、ハロゲン化化合物および金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートは、ハロゲン化化合物対金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートａｍｉｄａｔｅの、少なくとも０．９：１の当量比で組み合わせることができる。いくつかの実施形態において、ハロゲン化化合物および金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートは、ハロゲン化化合物対金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートａｍｉｄａｔｅの、少なくとも０．９５：１；代替として、少なくとも０．９７５：１；または代替として、少なくとも０．９９：１の当量比で組み合わせることができる。いくつかの実施形態において、ハロゲン化化合物および金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートは、ハロゲン化化合物対金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートａｍｉｄａｔｅの、０．９：１から１．２５：１までの範囲；代替として、０．９５：１から１．２０：１までの範囲；代替として、０．９７５：１から１．１５：１までの範囲；または代替として、０．９９：１から１．１０：１までの範囲の当量比で組み合わせることができる。他の実施形態において、ハロゲン化化合物および金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートは、ハロゲン化化合物対金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートａｍｉｄａｔｅの、約１：１の当量比で組み合わせることができる。
【０３６２】
一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成することができる条件は、少なくとも０℃；代替として、少なくとも５℃；代替として、少なくとも１０℃；または代替として、少なくとも１５℃の反応温度を含むことができる。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成することができる条件は、０℃から６０℃までの範囲；代替として、５℃から５０℃までの範囲；代替として、１０℃から４５℃までの範囲；または代替として、１５℃から４０℃までの範囲の反応温度を含むことができる。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成することができる条件は、少なくとも５分；代替として、少なくとも１０分；代替として、少なくとも１５分；または代替として、少なくとも２０分の反応時間を含むことができる。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成することができる条件は、５分から６時間までの範囲；代替として、１０分から５時間までの範囲；代替として、１５分から４．５時間までの範囲；または代替として、２０分から４時間までの範囲の反応時間を含むことができる。
【０３６３】
一実施形態において、ハロゲン化化合物および金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートは、非プロトン性溶媒中で接触させることができる。いくつかの実施形態において、ハロゲン化化合物および金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートは、極性の非プロトン性溶媒中で接触させることができる。使用することができる非プロトン性溶媒は、炭化水素溶剤およびエーテル溶媒を含む。使用することができる極性の非プロトン性溶媒は、エーテル溶媒を含む。溶媒は、一般に本明細書に開示され、本明細書に記載される任意の一般的なまたは特定の非プロトン性溶媒および／または、極性の非プロトン性溶媒を使用することができ、ハロゲン化化合物を金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートと接触させ、Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを形成することを含むＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法をさらに記載する。
【０３６４】
一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物は、さらなる単離または精製をしないで使用することができる。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物は、単離し、代替として、精製し；または代替として、単離し、かつ精製することができる。Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物が溶媒（非プロトン性または極性の非プロトン性）中で調製することができる一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法は、溶媒を蒸発させることによりＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を単離するステップを含むことができる。Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物が溶媒（非プロトン性または極性の非プロトン性）中で調製することができる実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法は、粒子物質および／または反応の副生物を除去するために溶液を濾過し、溶媒を蒸発させることによってＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を単離するステップを含むことができる。実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を溶媒に溶解し粒子物質および／または反応の副生物を除去するために溶液を濾過することにより、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を精製することができる精製ステップを含むことができる。Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を精製するために使用される溶媒は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成するために使用される溶媒と同じであってもよく、または、それはＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成するために使用される溶媒と異なっていてもよい。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を溶媒で洗浄することによりＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を精製する精製ステップを含むことができる。他の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を再結晶する精製ステップを含むことができる。
【０３６５】
一般に、溶媒の蒸発は任意の適切な方法も使用して行うことができる。いくつかの実施形態において、溶媒は常温（１５〜３５℃−外部熱源は用いない。）で蒸発させることができる。他の実施形態において、溶媒は、緩やかな加熱（例えば、２５℃から５０℃までの範囲の温度で）で蒸発させることができる。さらなる実施形態において、溶媒は常温減圧下で蒸発させることができる。また他の実施形態において、溶媒は緩やかに加熱しながら減圧下で蒸発させることができる。
【０３６６】
一態様において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法は、ａ）Ｎ２水素を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物、およびＮ２−ホスフィニルアミジン化合物からプロトンを抜き取ることができる金属化合物を接触させるステップ；ｂ）金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを形成するステップ；ｃ）ハロゲン化化合物を形成した金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートと接触させるステップ；およびｄ）Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成するステップを含むことができる。一般に、金属アミジナートは、金属アミジナートを形成することができる条件下で形成することができる。一実施形態において、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートは、単離し；代替として、精製し；または代替として、単離し、かつ精製することができる。一般に、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成することができる条件下で形成することができる。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物は、単離し；代替として、精製し；または代替として、単離し、かつ精製することができる。
【０３６７】
一実施形態において、Ｎ２水素を有するアミジン化合物は、構造ＮＰ６、ＮＰ７、ＮＰ８、ＮＰ９、ＮＰ１０、ＮＰ１６、ＮＰ１８もしくはＮＰ２０；代替として、ＮＰ６；代替として、ＮＰ７；代替として、ＮＰ８；代替として、ＮＰ９；代替として、ＮＰ１０；代替として、ＮＰ１６；代替として、ＮＰ１８；または代替として、ＮＰ２０を有することができる。構造ＮＰ６〜ＮＰ１０、ＮＰ１６、ＮＰ１８、およびＮＰ２０を有するＮ２水素を有するアミジン化合物内のＲ１、Ｒ２、Ｄ１、Ｄ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｑ１、ｑ、およびｒは、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物構造ＮＰ１〜ＮＰ５の特色として独立して記載される。Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物構造ＡＭ１〜ＡＭ１０、ＡＭ１６、ＡＭ１８およびＡＭ２０は、構造ＮＰ１〜ＮＰ１０、ＮＰ１６、ＮＰ１８、およびＮＰ２０を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製するために使用されるので、Ｒ１、Ｒ２、Ｄ１、Ｄ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｑ１、ｑ、およびｒという、構造ＮＰ１〜ＮＰ５を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物のための記載は、限定されることなく使用することができ、構造ＮＰ６〜ＮＰ１０、ＮＰ１６、ＮＰ１８、およびＮＰ２０、代替として、構造ＮＰ６；代替として、構造ＮＰ７；代替として、構造ＮＰ８；代替として、ＮＰ９；代替として、構造ＮＰ１０；代替として、構造ＮＰ１６；代替として、構造ＮＰ１８；または代替として、構造ＮＰ２０を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物をさらに記載する。
【０３６８】
一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物からプロトンを抜き取ることができる金属化合物は、水素化金属または金属アルキルであってもよい。一般に、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物からプロトンを抜き取ることができる、金属水素化物および金属アルキルは、アミジン化合物からプロトンを抜き取ることができるものと同じである。したがって、アミジン化合物からプロトンを抜き取ることができると本明細書に記載される水素化金属および金属アルキルは、限定されることなく使用することができ、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法をさらに記載する。
【０３６９】
一般に、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物および金属化合物は、アミジン対金属化合物の、少なくとも０．９：１の当量比で組み合わせることができる。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物および金属化合物は、アミジン対金属化合物の、少なくとも０．９５：１；代替として、少なくとも０．９７５：１；または代替として、少なくとも０．９９：１の当量比で組み合わせることができる。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物および金属化合物は、アミジン対金属化合物の、０．９：１から１．２５：１までの範囲；代替として、０．９５：１から１．２０：１までの範囲；代替として、０．９７５：１から１．１５：１までの範囲；または代替として、０．９９：１から１．１０：１までの範囲の当量比で組み合わせることができる。他の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物および金属化合物は、アミジン対金属化合物の、約１：１の当量比で組み合わせることができる。
【０３７０】
一実施形態において、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを形成することができる条件は、少なくとも−４５℃の；代替として、少なくとも−３０℃の；代替として、少なくとも−２５℃の；または代替として、少なくとも−２０℃の温度を含むことができる。いくつかの実施形態において、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを形成することができる反応条件は、−４５℃から６０℃までの範囲；代替として、−３０℃から５０℃までの範囲；代替として、−２５℃から４５℃までの範囲；または代替として、−２０℃から４０℃までの範囲の温度を含むことができる。
【０３７１】
いくつかの実施形態において、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを形成することができる条件は、最初の金属化合物およびアミジンとの接触温度、および金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを形成する第２の温度を含むことができる。金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを形成することができる条件が、２つの温度（金属化合物およびアミジンの接触のためが１つ、および金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートの形成のためが１つ）での出現として記載される場合、この記載は、接触温度で金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを形成することができるという見込みを除外しないことは、留意されるべきである。この記載は、いくつかの実施形態において、その形成が、金属化合物およびアミジン化合物の間の最初の接触がある温度で行われ、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートの形成は第２の異なる温度で完了する場合、よりよく進むことができることと関係する。
【０３７２】
一実施形態において、金属化合物およびアミジンは、−４５℃から２０℃までの範囲；代替として、−３０℃から１５℃までの範囲；代替として、−２５℃から４５℃までの範囲；または代替として、−２０℃から４０℃までの範囲の温度で接触させることができる。一実施形態において、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートは、０℃から２０℃までの範囲；代替として、５℃から１５℃までの範囲；代替として、１０℃から４５℃までの範囲；または代替として、１５℃から４０℃までの範囲の温度で形成される。
【０３７３】
一実施形態において、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを形成することができる条件は、少なくとも５分；代替として、少なくとも１０分；代替として、少なくとも１５分；または代替として、少なくとも２０分の金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナート形成時間を含むことができる。いくつかの実施形態において、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを形成することができる条件は、５分から６時間までの範囲；代替として、１０分から５時間までの範囲；代替として、１５分から４．５時間までの範囲；または代替として、２０分から４時間までの範囲の金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナート形成時間を含むことができる。
【０３７４】
一実施形態において、金属化合物およびＮ２−ホスフィニルアミジンは、非プロトン性溶媒中で接触させることができる。いくつかの実施形態において、金属化合物およびＮ２−ホスフィニルアミジンは、極性の非プロトン性溶媒中で接触させることができる。使用されてもよい非プロトン性溶媒は、炭化水素溶剤およびエーテル溶媒を含む。使用されてもよい極性の非プロトン性溶媒は、エーテル溶媒を含む。溶媒は、一般に本明細書に開示され、本明細書に記載される任意の一般的なまたは特定の非プロトン性溶媒、および／または、極性の非プロトン性溶媒を使用することができ、金属化合物およびＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を接触させて金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを形成することにより、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを調製する方法をさらに記載する。
【０３７５】
一実施形態において、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートは、さらなる単離または精製をしないで使用することができる。いくつかの実施形態において、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートは、単離し；代替として、精製し；または代替として、単離し、かつ精製することができる。一実施形態において、本方法は、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを溶液から濾過することにより金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを単離するステップを含むことができる。いくつかの実施形態において、本方法は、金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを溶媒で洗浄することにより金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートを精製するステップを含むことができる。一般に、洗浄溶媒は、非プロトン性溶媒である。他の実施形態において、洗浄溶媒は、極性の非プロトン性溶媒であってもよい。他の実施形態において、洗浄溶媒は、無極性の非プロトン性溶媒であってもよい。
【０３７６】
一実施形態において、ハロゲン化化合物は、構造ＨＣ１を有することができる。
Ｘ２Ｒ３  構造ＨＣ１
構造ＨＣ１のＸ２はハライドを表す。一実施形態において、ハロゲン化化合物のＸ２は、フルオリド、クロリド、ブロミド、またはヨージド；代替として、フルオリド；代替として、クロリド；代替として、ブロミド；または代替として、ヨージドであってもよい。ハロゲン化化合物構造ＨＣ１内のＲ３は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物構造ＮＰ１−ＮＰ５の特色として独立して記載される。ハロゲン化化合物ＨＣ１は、構造ＮＰ１−ＮＰ５を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物の実施形態を調製するために使用されるので、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物のためのＲ３の記載は、限定されることなく使用することができ、構造ＨＣ１を有するハロゲン化化合物をさらに記載する。ハロゲン化化合物は、本明細書に開示され、限定されることなく使用することができ、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法をさらに記載する。
【０３７７】
一般に、ハロゲン化化合物および金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートは、ハロゲン化化合物対金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートａｍｉｄａｔｅの、少なくとも０．９：１の当量比で組み合わせることができる。いくつかの実施形態において、ハロゲン化化合物および金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートは、ハロゲン化化合物対金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートａｍｉｄａｔｅの、少なくとも０．９５：１；代替として、少なくとも０．９７５：１；または代替として、少なくとも０．９９：１の当量比で組み合わせることができる。いくつかの実施形態において、ハロゲン化化合物および金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートは、ハロゲン化化合物対金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートａｍｉｄａｔｅの、０．９：１から１．２５：１までの範囲；代替として、０．９５：１から１．２０：１までの範囲；代替として、０．９７５：１から１．１５：１までの範囲；または代替として、０．９９：１から１．１０：１までの範囲の当量比で組み合わせることができる。他の実施形態において、ハロゲン化化合物および金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートは、ハロゲン化化合物対金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートａｍｉｄａｔｅの、約１：１の当量比で組み合わせることができる。
【０３７８】
一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成することができる条件は、
少なくとも０℃；代替として、少なくとも５℃；代替として、少なくとも１０℃；または代替として、少なくとも１５℃の反応温度を含むことができる。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成することができる条件は、０℃から６０℃までの範囲；代替として、５℃から５０℃までの範囲；代替として、１０℃から４５℃までの範囲；または代替として、１５℃から４０℃までの範囲の反応温度を含むことができる。一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成することができる条件は、少なくとも５分；代替として、少なくとも１０分；代替として、少なくとも１５分；または代替として、少なくとも２０分の反応時間を含むことができる。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成することができる条件は、５分から６時間までの範囲；代替として、１０分から５時間までの範囲；代替として、１５分から４．５時間までの範囲；または代替として、２０分から４時間までの範囲のの反応時間を含むことができる。
【０３７９】
一実施形態において、ハロゲン化化合物および金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートは、非プロトン性溶媒中で接触させることができる。いくつかの実施形態において、ハロゲン化化合物および金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートは、極性の非プロトン性溶媒中で接触させることができる。使用することができる非プロトン性溶媒は、炭化水素溶剤およびエーテル溶媒を含む。使用することができる極性の非プロトン性溶媒は、エーテル溶媒を含む。溶媒は、一般に本明細書に開示され、本明細書に記載される任意の一般的なまたは特定の非プロトン性溶媒、および／または極性の非プロトン性溶媒を使用することができ、ハロゲン化化合物を金属Ｎ２−ホスフィニルアミジナートと接触させてＮ２−ホスフィニルアミジナートを形成することを含むＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法をさらに記載する。
【０３８０】
一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物は、さらなる単離または精製をしないで使用することができる。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物は、単離し；代替として、精製し；または代替として単離し、かつ精製することができる。Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物が溶媒（非プロトン性または極性の非プロトン性）中で調製される実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法は、溶媒を蒸発させることによりＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を単離するステップを含むことができる。Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物が溶媒（非プロトン性または極性の非プロトン性）中で調製される実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法は、粒子物質および／または反応の副生物を除去するために溶液を濾過し、溶媒を蒸発させることによってＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を単離するステップを含むことができる。実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物が、溶媒にＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を溶解し粒子物質および／または反応の副生物を除去するために溶液を濾過することにより精製する精製ステップを含むことができる。Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を精製するために使用される溶媒はＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成するために使用される溶媒と同じであってもよく、または、それはＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成するために使用される溶媒と異なっていてもよい。いくつかの実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を溶媒で洗浄することによりＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を精製する精製ステップを含むことができる。他の実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を再結晶する精製ステップを含むことができる。
【０３８１】
一般に、溶媒の蒸発は、任意の適切な方法を使用して行うことができる。いくつかの実施形態において、溶媒は、常温（１５−３５℃−外部熱源は用いない。）で蒸発させることができる。他の実施形態において、溶媒は、緩やかに加熱して（例えば、２５℃から５０℃までの範囲の温度で）蒸発させることができる。さらなる実施形態において、溶媒は常温減圧下で蒸発させることができる。また他の実施形態において、溶媒は、緩やかに加熱しながら減圧下で蒸発させることができる。
【０３８２】
一態様において、ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を調製する方法は、ａ）金属アミジナートおよびハロゲン化化合物を接触させるステップ；およびｂ）ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を形成するステップを含むことができる。金属アミジナートを調製する方法は、本明細書に開示され、限定されることなく使用され、ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を調製する方法をさらに記載する。一般に、ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物は、ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を形成することができる条件下で形成することができる。一実施形態において、ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物は単離し；代替として、精製し；または代替として単離し、かつ精製することができる。
【０３８３】
一実施形態において、金属アミジナートは、構造ＭＡＭ６、ＭＡＭ７、ＭＡＭ８、ＭＡＭ９、ＭＡＭ１０；ＭＡＭ１６；ＭＡＭ１８、またはＭＡＭ２０；代替として、ＭＡＭ６；代替として、ＭＡＭ７；代替として、ＭＡＭ８；代替として、ＭＡＭ９；代替として、ＭＡＭ１０；代替として、ＭＡＭ１６；代替として、ＭＡＭ１８または代替として、ＭＡＭ２０を有することができる。金属アミジン構造ＭＡＭ６〜ＭＡＭ１０、ＭＡＭ１６、ＭＡＭ１８およびＭＡＭ２０内のＲ１、Ｒ２、Ｄ１、Ｄ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｑ１、ｑ、およびｒは、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物構造ＮＰ１〜ＮＰ５の特色として独立して記載される。金属アミジン構造ＭＡＭ６〜ＭＡＭ１０ＭＡＭ１６、ＭＡＭ１８、およびＭＡＭ２０が、構造ＮＰ６〜ＮＰ１０、ＮＰ１６およびＮＰ１８を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物の実施形態を調製するために使用されるので、Ｒ１、Ｒ２、Ｄ１、Ｄ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｑ１、ｑ、およびｒというＮ２−ホスフィニルアミジン化合物のための記載は、限定されることなく使用することができ、金属アミジン構造ＭＡＭ６〜ＭＡＭ１０、ＭＡＭ１６、ＭＡＭ１８、およびＭＡＭ２０をさらに記載する。
【０３８４】
ハロゲン化化合物は、Ｎ２−ホスフィニルアミジナートと反応する成分として本明細書に記載された。一般に、Ｎ２−ホスフィニルアミジナートと反応するのに有用なハロゲン化化合物は、金属アミジナートと反応するのに使用することができるものと同じである。したがって、Ｎ２−ホスフィニルアミジナートとの可能性のある反応体として本明細書に記載されるハロゲン化化合物は、限定されることなく使用することができ、金属アミジナートと接触させることができるハロゲン化化合物をさらに記載する。
【０３８５】
一般に、ハロゲン化化合物および金属アミジナートは、ハロゲン化化合物対金属アミジナートの、少なくとも０．９：１の当量比で組み合わせることができる。いくつかの実施形態において、ハロゲン化化合物および金属アミジナートは、ハロゲン化化合物対金属アミジナートの、少なくとも０．９５：１；代替として、少なくとも０．９７５：１；または代替として、少なくとも０．９９：１の当量比で組み合わせることができる。いくつかの実施形態において、ハロゲン化化合物および金属アミジナートは、ハロゲン化化合物対金属アミジナートの、０．９：１から１．２５：１の範囲；代替として、０．９５：１から１．２０：１の範囲；代替として、０．９７５：１から１．１５：１の範囲；または代替として、０．９９：１から１．１０：１の範囲の当量比で組み合わせることができる。他の実施形態において、ハロゲン化化合物および金属アミジナートは、ハロゲン化化合物対金属アミジナートの、約１：１の当量比で組み合わせることができる。
【０３８６】
一実施形態において、ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を形成することができる条件は、少なくとも０℃；代替として、少なくとも５℃；代替として、少なくとも１０℃；または代替として、少なくとも１５℃の反応温度を含むことができる。いくつかの実施形態において、ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を形成することができる条件は、０℃から６０℃までの範囲；代替として、５℃から５０℃までの範囲；代替として、１０℃から４５℃までの範囲；または代替として、１５℃から４０℃までの範囲の反応温度を含むことができる。一実施形態において、ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を形成することができる条件は、少なくとも５分；代替として、少なくとも１０分；代替として、少なくとも１５分；または代替として、少なくとも２０分の反応時間を含むことができる。いくつかの実施形態において、ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を形成することができる条件は、５分から６時間までの範囲；代替として、１０分から５時間までの範囲；代替として、１５分から４．５時間までの範囲；または代替として、２０分から４時間までの範囲のの反応時間を含むことができる。
【０３８７】
一実施形態において、ハロゲン化化合物および金属アミジナートは、非プロトン性溶媒中で接触させることができる。いくつかの実施形態において、ハロゲン化化合物および金属アミジナートは、極性の非プロトン性溶媒中で接触させることができる。使用することができる非プロトン性溶媒は、炭化水素溶剤およびエーテル溶媒を含む。使用することができる極性の非プロトン性溶媒は、エーテル溶媒を含む。溶媒は、一般に本明細書に開示され、本明細書において記載される任意の一般的なまたは特定の非プロトン性溶媒、および／または極性の非プロトン性溶媒を使用することができ、ハロゲン化化合物を金属アミジナートと接触させ、ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を形成することを含む、ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を調製する方法をさらに記載する。
【０３８８】
一実施形態において、ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物は、さらなる単離または精製をしないで使用することができる。いくつかの実施形態において、ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物は、単離し；または代替として、単離し、かつ精製することができる。ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物が溶媒（非プロトン性または極性の非プロトン性）中で調製することができる一実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法は、溶媒を蒸発させることによりただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を単離するステップを含むことができる。ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物が溶媒（非プロトン性または極性の非プロトン性）中で調製することができる実施形態において、ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を調製する方法は、粒子物質および／または反応の副生物を除去するために溶液を濾過し、溶媒を蒸発させることによってただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を単離させるステップを含むことができる。いくつかの実施形態において、ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を調製する方法は、ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物が、ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を溶媒に溶解し粒子物質および／または反応の副生物を除去するために溶液を濾過することにより精製することができる精製ステップを含むことができる。ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を精製するために使用される溶媒は、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成するために使用される溶媒と同じであってもよく、または、それはただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を形成するために使用される溶媒と異なっていてもよい。いくつかの実施形態において、ただ１個の水素原子を有するアミジン化合物を調製する方法は、ただ１個の水素原子を有するアミジン化合物を溶媒で洗浄することによって、ただ１個の水素原子を有するアミジン化合物を精製するステップを含むことができる。他の実施形態において、ただ１個の水素原子を有するアミジン化合物を調製する方法は、再結晶化によってただ１個の水素原子を有するアミジン化合物を精製するステップを含むことができる。
【０３８９】
一般に、溶媒の蒸発は、任意の適切な方法を使用して行うことができる。いくつかの実施形態において、溶媒は、常温（１５〜３５℃−外部熱源は用いない。）で蒸発させることができる。他の実施形態において、溶媒は、緩やかに加熱して（例えば、２５℃から５０℃までの範囲の温度で）蒸発させることができる。さらなる実施形態において、溶媒は常温減圧下で蒸発させることができる。また他の実施形態において、溶媒は、緩やかに加熱しながら減圧下で蒸発させることができる。
【０３９０】
一般に、金属アミド、アミジン化合物、金属アミジナート、およびＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成する方法は、様々な実施形態において組み合わせることができる。アミン、ニトリル、−ＮＨ２基からプロトンを抜き取ることができる化合物、アルキル化化合物、およびホスフィンハライドを使用して、ただ１つのＮ２水素原子を有するＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成する方法を提供する。非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法は、ａ）金属アミドおよびニトリルを接触させるステップ；ｂ）第１の金属アミジナートを形成するステップ；ｃ）第１の金属アミジナートをハロゲン化化合物と接触させるステップ；ｄ）ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を形成するステップ；ｅ）ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を単離するステップ；ｆ）ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を、ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物からプロトンを抜き取ることができる化合物と接触させるステップ；ｇ）第２の金属アミジナートを形成するステップ；ｊ）第２の金属アミジナートおよびホスフィンハライドを接触させるステップ；およびｈ）Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成するステップを含む、または、本質的にそれからなる、またはそれからなることができる。一実施形態において、ステップｂ）において形成された金属アミジナートは、非金属アミジン化合物の形成をしないでハロゲン化化合物と接触される。他の実施形態において、ステップｂ）において形成された第１の金属アミジナートは、プロトン性の化合物と中和されて非金属アミジン化合物を形成し、次いで、これは、単離されてもよく、場合によって、精製され、次いで、非金属アミジン化合物を金属アルキルと接触させることにより、第１アミジナートを再形成するために使用することができる。さらなる非限定的な実施形態において、Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法は、以下を含むことができる：ａ）−ＮＨ２基を有するアミンおよび−ＮＨ２基からプロトンを抜き取ることができる化合物を接触させるステップ；ｂ）金属アミドを形成するステップ；ｃ）金属アミドおよびニトリルを接触させるステップ；ｄ）第１の金属アミジナートを形成するステップ；ｅ）第１の金属アミジナートをハロゲン化化合物と接触させるステップ；ｆ）ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を形成するステップ；ｇ）ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を単離するステップ；ｈ）ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物からプロトンを抜き取ることができる化合物と、ただ１個のＮ２水素原子を有するアミジン化合物を接触させるステップ；ｉ）第２の金属アミジナートを形成するステップ；ｊ）第２の金属アミジナートおよびホスフィンハライドを接触させるステップ；およびｋ）Ｎ２−ホスフィニルアミジン化合物を形成するステップ。一実施形態において、ステップｄ）において形成された金属アミジナートは、非金属アミジン化合物の形成をしないでハロゲン化化合物と接触される。他の実施形態において、ステップｄ）において形成された第１金属アミジナートは、プロトン性の化合物と中和されて非金属アミジン化合物を形成し、これは、次いで、単離することができ、場合によって精製され、次いで、非金属アミジン化合物を金属アルキルと接触させることにより、第１のアミジナートを再形成するために使用される。これらの方法は、本明細書にに記載される金属アミドを調製する方法、本明細書に記載される金属アミジナートを調製する方法、本明細書に記載されるアミジン化合物を調製する方法、本明細書に記載されるアミジン化合物（または金属アミジナート）をアルキル化する方法、および本明細書において記載されるＮ２−ホスフィニルアミジン化合物を調製する方法において記述されたもの以外のステップを含むことができ、これらはこれらの方法をさらに記載するために使用することができる。これらのステップのそれぞれのさらなる特色（他の考慮すべき点の中でも、例えば、試薬比率、形成条件）は、本明細書に記載され、方法をさらに記載するために使用することができる。
【０３９１】
一般に、金属アミド、アミジン化合物、金属アミジナート、およびＮ