(57)【要約】【課題】プローブの接触位置を特定する特定処理の効率を向上させる。【解決手段】導体パターン上におけるプローブの接触位置を特定する特定処理を実行する処理部を備え、処理部は、特定処理において、導体パターンの形状を表す多角形Ｐｏ１の各線分（Ｌ１〜Ｌ８）を周回方向に沿った向きのベクトル（Ｖ１〜Ｖ８）に変換する第１処理と、多角形Ｐｏ１の頂点（Ｔ１〜Ｔ８）における一対のベクトルの外積のベクトルの向きが周回方向を回転方向とする右ねじの前進方向と一致するときにその頂点を第１頂点（Ｔｆ１〜Ｔｆ６）に設定し、一致しないときにその頂点を第２頂点（Ｔｓ１，Ｔｓ２）に設定する第２処理と、２つの第２頂点の間に第２頂点と線分で繋がれている第１頂点が存在するときに各第２頂点同士を線分で繋いだ新たな多角形とする第３処理とを第２頂点が存在しなくなるまで実行し、実行後における多角形の重心を接触位置として特定する。【選択図】図４
2015049038.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導体パターンが形成された回路基板に対する検査を行う際に検査用のプローブを接触させる当該導体パターン上の接触位置を当該導体パターンの形状を特定可能なベクタデータに基づいて特定する特定処理を実行する処理部を備えた処理装置であって、
前記処理部は、前記特定処理において、前記ベクタデータに基づいて前記形状を表す多角形を特定すると共に当該多角形を構成する各線分を当該多角形を周回する周回方向に沿った向きのベクトルに変換する第１処理と、
前記多角形の頂点で繋がる一対の前記ベクトルを当該頂点を始点としかつ前記周回方向に沿った順番で並べた状態での当該一対のベクトルの外積を求めると共に、当該頂点における当該外積のベクトルの向きが前記周回方向を回転方向とする右ねじの前進方向と一致するときに当該頂点を第１頂点に設定し、当該外積のベクトルの向きが当該前進方向と一致しないときに当該頂点を第２頂点に設定する処理を全ての当該頂点について行う第２処理と、
前記多角形内に前記第２頂点が複数存在しかつ前記周回方向に沿った並び順序が最も近い２つの当該第２頂点の間に当該各第２頂点と前記線分で繋がれている前記第１頂点が存在するときには当該２つの第２頂点同士を線分で繋いだ新たな多角形とし、前記多角形内に前記第２頂点が複数存在しかつ前記周回方向に沿った並び順序が最も近い２つの当該第２頂点の間に当該各第２頂点と前記線分で繋がれている前記第１頂点が存在しないときおよび当該多角形内に前記第２頂点が１つだけ存在するときには当該第２頂点に前記線分で繋がれていない前記第１頂点のうちの最も近い第１頂点と当該第２頂点とを線分で繋いだ新たな多角形とする第３処理とを前記第２頂点が存在しなくなるまで実行し、実行後における前記多角形の重心を前記接触位置として特定する処理装置。
【請求項２】
前記処理部は、前記特定処理において、前記第２処理で求めた前記外積の絶対値が予め決められた基準を満たすときには、その時点で前記第２処理の対象としている前記多角形の重心を前記接触位置として特定する請求項１記載の処理装置。
【請求項３】
導体パターンが形成された回路基板に対する検査を行う際に検査用のプローブを接触させる当該導体パターン上の接触位置を当該導体パターンの形状を特定可能なベクタデータに基づいて特定する特定処理を実行する処理方法であって、
前記特定処理において、前記ベクタデータに基づいて前記形状を表す多角形を特定すると共に当該多角形を構成する各線分を当該多角形を周回する周回方向に沿った向きのベクトルに変換する第１処理と、
前記多角形の頂点で繋がる一対の前記ベクトルを当該頂点を始点としかつ前記周回方向に沿った順番で並べた状態での当該一対のベクトルの外積を求めると共に、当該頂点における当該外積のベクトルの向きが前記周回方向を回転方向とする右ねじの前進方向と一致するときに当該頂点を第１頂点に設定し、当該外積のベクトルの向きが当該前進方向と一致しないときに当該頂点を第２頂点に設定する処理を全ての当該頂点について行う第２処理と、
前記多角形内に前記第２頂点が複数存在しかつ前記周回方向に沿った並び順序が最も近い２つの当該第２頂点の間に当該各第２頂点と前記線分で繋がれている前記第１頂点が存在するときには当該２つの第２頂点同士を線分で繋いだ新たな多角形とし、前記多角形内に前記第２頂点が複数存在しかつ前記周回方向に沿った並び順序が最も近い２つの当該第２頂点の間に当該各第２頂点と前記線分で繋がれている前記第１頂点が存在しないときおよび当該多角形内に前記第２頂点が１つだけ存在するときには当該第２頂点に前記線分で繋がれていない前記第１頂点のうちの最も近い第１頂点と当該第２頂点とを線分で繋いだ新たな多角形とする第３処理とを前記第２頂点が存在しなくなるまで実行し、実行後における前記多角形の重心を前記接触位置として特定する処理方法。
【請求項４】
前記特定処理において、前記第２処理で求めた前記外積の絶対値が予め決められた基準を満たすときには、その時点で前記第２処理の対象としている前記多角形の重心を前記接触位置として特定する請求項３記載の処理方法。
【請求項５】
導体パターンが形成された回路基板に対する検査を行う際に検査用のプローブを接触させる当該導体パターン上の接触位置を当該導体パターンの形状を特定可能なベクタデータに基づいて特定する特定処理を処理装置に実行させる処理プログラムであって、
前記特定処理において、前記ベクタデータに基づいて前記形状を表す多角形を特定すると共に当該多角形を構成する各線分を当該多角形を周回する周回方向に沿った向きのベクトルに変換する第１処理と、
前記多角形の頂点で繋がる一対の前記ベクトルを当該頂点を始点としかつ前記周回方向に沿った順番で並べた状態での当該一対のベクトルの外積を求めると共に、当該頂点における当該外積のベクトルの向きが前記周回方向を回転方向とする右ねじの前進方向と一致するときに当該頂点を第１頂点に設定し、当該外積のベクトルの向きが当該前進方向と一致しないときに当該頂点を第２頂点に設定する処理を全ての当該頂点について行う第２処理と、
前記多角形内に前記第２頂点が複数存在しかつ前記周回方向に沿った並び順序が最も近い２つの当該第２頂点の間に当該各第２頂点と前記線分で繋がれている前記第１頂点が存在するときには当該２つの第２頂点同士を線分で繋いだ新たな多角形とし、前記多角形内に前記第２頂点が複数存在しかつ前記周回方向に沿った並び順序が最も近い２つの当該第２頂点の間に当該各第２頂点と前記線分で繋がれている前記第１頂点が存在しないときおよび当該多角形内に前記第２頂点が１つだけ存在するときには当該第２頂点に前記線分で繋がれていない前記第１頂点のうちの最も近い第１頂点と当該第２頂点とを線分で繋いだ新たな多角形とする第３処理とを前記第２頂点が存在しなくなるまで実行させ、実行後における前記多角形の重心を前記接触位置として特定させる処理を前記処理装置に実行させる処理プログラム。
【請求項６】
前記特定処理において、前記第２処理で求めた前記外積の絶対値が予め決められた基準を満たすときには、その時点で前記第２処理の対象としている前記多角形の重心を前記接触位置として前記処理装置に特定させる請求項５記載の処理プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、検査用のプローブを接触させる接触位置を特定する特定処理を実行する処理装置および処理方法、並びに特定処理を処理装置に実行させる処理プログラムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種の装置として、特開２０１０−１０７２６５号公報において出願人が開示したデータ生成装置が知られている。このデータ生成装置は、電子部品における各接続端子の先端部の位置を特定可能な情報を含んだ電子部品データ、電子部品を回路基板に実装するときの回路基板上の電子部品の位置等を示す情報を含んだマウンタデータ、および回路基板上における配線パターンの位置や幅（形状）を特定可能な情報を含んだ配線パターンデータ（ＣＡＤデータやガーバデータ）に基づき、電子部品が実装されている回路基板に対する検査を行う際に検査用プローブを接触（プロービング）させるプロービング位置（接触位置）を特定してその位置データを生成する。具体的には、このデータ生成装置では、実装状態における電子部品における接続端子の先端部の位置を電子部品データおよびマウンタデータに基づいて特定すると共に、配線パターンデータに基づいて配線パターンの位置を特定して、接続端子の先端部の位置に配線パターンが存在すると判別したときにその配線パターンの位置をプロービング位置として特定する。
【０００３】
一方、電子部品が実装されていない回路基板（ベアボード）については、電子部品における接続端子の先端部の位置からプロービング位置を特定することができないため、上記の方法とは異なる方法でプロービング位置の特定が行われる。具体的には、例えば、上記した配線パターンデータに基づいて配線パターンの位置および形状（輪郭）を特定する。次いで、特定した形状の重心を求め、その重心をプロービング位置とする。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−１０７２６５号公報（第５−６頁、第１図）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところが、ベアボードについてのプロービング位置を特定する機能を備えた上記のデータ生成装置には、改善すべき以下の課題がある。すなわち、このデータ生成装置では、配線パターンの重心をプロービング位置としている。ここで、図１７に示すように、凹凸部を有する形状の配線パターン２０１では、重心Ｇｏの位置が配線パターン２０１の外側となることがあり、このような配線パターン２０１については、重心Ｇｏをプロービング位置とすることができないこととなる。また、重心Ｇｏが配線パターン２０１内に位置していたとしても、その位置が配線パターン２０１内の外周縁部近傍の場合には、その位置をプロービング位置としたときに、プロービングを確実に行うことができないおそれがある。このため、このような配線パターン２０１については、配線パターン２０１上における適切な位置を図面を参照しつつ探してプロービング位置とする作業を手動で行っている。したがって、上記のデータ生成装置には、このような配線パターン２０１についてのプロービング位置を特定する特定処理の効率が悪いという課題が存在し、この点の改善が望まれている。
【０００６】
一方、図１８に示すように、平滑化処理（スムージング）を行って配線パターン２０１の元の形状における凸部を取り除き、その変更後の形状（同図における、矩形の形状）の重心Ｇｒをプロービング位置とする方法が考えられる。しかしながら、この方法では、一般的に、ベクタデータである配線パターンデータ（ＣＡＤデータやガーバデータ）をラスタデータに変換して平滑化処理を行い、その後に、そのラスタデータをベクタデータに再度変換して重心Ｇｒを求める工程が行われる。この場合、一般的に、ベクタデータからラスタデータへの変換、およびラスタデータからベクタデータへの変換には多くの時間を要する。このため、この方法によっても特定処理の効率向上は困難である。
【０００７】
本発明は、かかる課題に鑑みてなされたものであり、回路基板に対する検査を行う際にプローブを接触させる接触位置を特定する特定処理の効率を向上し得る処理装置および処理プログラムを提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成すべく請求項１記載の処理装置は、導体パターンが形成された回路基板に対する検査を行う際に検査用のプローブを接触させる当該導体パターン上の接触位置を当該導体パターンの形状を特定可能なベクタデータに基づいて特定する特定処理を実行する処理部を備えた処理装置であって、前記処理部は、前記特定処理において、前記ベクタデータに基づいて前記形状を表す多角形を特定すると共に当該多角形を構成する各線分を当該多角形を周回する周回方向に沿った向きのベクトルに変換する第１処理と、前記多角形の頂点で繋がる一対の前記ベクトルを当該頂点を始点としかつ前記周回方向に沿った順番で並べた状態での当該一対のベクトルの外積を求めると共に、当該頂点における当該外積のベクトルの向きが前記周回方向を回転方向とする右ねじの前進方向と一致するときに当該頂点を第１頂点に設定し、当該外積のベクトルの向きが当該前進方向と一致しないときに当該頂点を第２頂点に設定する処理を全ての当該頂点について行う第２処理と、前記多角形内に前記第２頂点が複数存在しかつ前記周回方向に沿った並び順序が最も近い２つの当該第２頂点の間に当該各第２頂点と前記線分で繋がれている前記第１頂点が存在するときには当該２つの第２頂点同士を線分で繋いだ新たな多角形とし、前記多角形内に前記第２頂点が複数存在しかつ前記周回方向に沿った並び順序が最も近い２つの当該第２頂点の間に当該各第２頂点と前記線分で繋がれている前記第１頂点が存在しないときおよび当該多角形内に前記第２頂点が１つだけ存在するときには当該第２頂点に前記線分で繋がれていない前記第１頂点のうちの最も近い第１頂点と当該第２頂点とを線分で繋いだ新たな多角形とする第３処理とを前記第２頂点が存在しなくなるまで実行し、実行後における前記多角形の重心を前記接触位置として特定する。
【０００９】
また、請求項２記載の処理装置は、請求項１記載の処理装置において、前記処理部は、前記特定処理において、前記第２処理で求めた前記外積の絶対値が予め決められた基準を満たすときには、その時点で前記第２処理の対象としている前記多角形の重心を前記接触位置として特定する。
【００１０】
また、請求項３記載の処理方法は、導体パターンが形成された回路基板に対する検査を行う際に検査用のプローブを接触させる当該導体パターン上の接触位置を当該導体パターンの形状を特定可能なベクタデータに基づいて特定する特定処理を実行する処理方法であって、前記特定処理において、前記ベクタデータに基づいて前記形状を表す多角形を特定すると共に当該多角形を構成する各線分を当該多角形を周回する周回方向に沿った向きのベクトルに変換する第１処理と、前記多角形の頂点で繋がる一対の前記ベクトルを当該頂点を始点としかつ前記周回方向に沿った順番で並べた状態での当該一対のベクトルの外積を求めると共に、当該頂点における当該外積のベクトルの向きが前記周回方向を回転方向とする右ねじの前進方向と一致するときに当該頂点を第１頂点に設定し、当該外積のベクトルの向きが当該前進方向と一致しないときに当該頂点を第２頂点に設定する処理を全ての当該頂点について行う第２処理と、前記多角形内に前記第２頂点が複数存在しかつ前記周回方向に沿った並び順序が最も近い２つの当該第２頂点の間に当該各第２頂点と前記線分で繋がれている前記第１頂点が存在するときには当該２つの第２頂点同士を線分で繋いだ新たな多角形とし、前記多角形内に前記第２頂点が複数存在しかつ前記周回方向に沿った並び順序が最も近い２つの当該第２頂点の間に当該各第２頂点と前記線分で繋がれている前記第１頂点が存在しないときおよび当該多角形内に前記第２頂点が１つだけ存在するときには当該第２頂点に前記線分で繋がれていない前記第１頂点のうちの最も近い第１頂点と当該第２頂点とを線分で繋いだ新たな多角形とする第３処理とを前記第２頂点が存在しなくなるまで実行し、実行後における前記多角形の重心を前記接触位置として特定する。
【００１１】
また、請求項４記載の処理方法は、請求項３記載の処理方法において、前記特定処理において、前記第２処理で求めた前記外積の絶対値が予め決められた基準を満たすときには、その時点で前記第２処理の対象としている前記多角形の重心を前記接触位置として特定する。
【００１２】
また、請求項５記載の処理プログラムは、導体パターンが形成された回路基板に対する検査を行う際に検査用のプローブを接触させる当該導体パターン上の接触位置を当該導体パターンの形状を特定可能なベクタデータに基づいて特定する特定処理を処理装置に実行させる処理プログラムであって、前記特定処理において、前記ベクタデータに基づいて前記形状を表す多角形を特定すると共に当該多角形を構成する各線分を当該多角形を周回する周回方向に沿った向きのベクトルに変換する第１処理と、前記多角形の頂点で繋がる一対の前記ベクトルを当該頂点を始点としかつ前記周回方向に沿った順番で並べた状態での当該一対のベクトルの外積を求めると共に、当該頂点における当該外積のベクトルの向きが前記周回方向を回転方向とする右ねじの前進方向と一致するときに当該頂点を第１頂点に設定し、当該外積のベクトルの向きが当該前進方向と一致しないときに当該頂点を第２頂点に設定する処理を全ての当該頂点について行う第２処理と、前記多角形内に前記第２頂点が複数存在しかつ前記周回方向に沿った並び順序が最も近い２つの当該第２頂点の間に当該各第２頂点と前記線分で繋がれている前記第１頂点が存在するときには当該２つの第２頂点同士を線分で繋いだ新たな多角形とし、前記多角形内に前記第２頂点が複数存在しかつ前記周回方向に沿った並び順序が最も近い２つの当該第２頂点の間に当該各第２頂点と前記線分で繋がれている前記第１頂点が存在しないときおよび当該多角形内に前記第２頂点が１つだけ存在するときには当該第２頂点に前記線分で繋がれていない前記第１頂点のうちの最も近い第１頂点と当該第２頂点とを線分で繋いだ新たな多角形とする第３処理とを前記第２頂点が存在しなくなるまで実行させ、実行後における前記多角形の重心を前記接触位置として特定させる処理を前記処理装置に実行させる。
【００１３】
また、請求項６記載の処理プログラムは、請求項５記載の処理プログラムにおいて、前記特定処理において、前記第２処理で求めた前記外積の絶対値が予め決められた基準を満たすときには、その時点で前記第２処理の対象としている前記多角形の重心を前記接触位置として前記処理装置に特定させる。
【発明の効果】
【００１４】
請求項１記載の処理装置、請求項３記載の処理方法、および請求項５記載の処理プログラムでは、特定処理において、第１処理、第２処理および第３処理を実行し、実行後における多角形の重心を接触位置として特定する。この場合、これらの処理を実行することで、導体パターンの形状に凹凸部が存在するときには、その凹凸部を除去した多角形に成形（簡略化）させて、その多角形の重心を接触位置として特定することができる。このため、この処理装置、処理方法および処理プログラムによれば、凹凸部が存在するために導体パターンの外側または導体パターン内の外周縁部近傍（接触位置としては不適切な位置）に重心が存在する場合においても、導体パターン内の適切な位置を接触位置として自動的に設定することができる。また、第１処理、第２処理および第３処理が単純なアルゴリズムであるため、接触位置を短時間で特定することができる。したがって、この処理装置、処理方法および処理プログラムによれば、接触位置を特定する特定処理の効率を十分に向上させることができる。
【００１５】
また、  請求項２記載の処理装置、請求項４記載の処理方法、および請求項６記載の処理プログラムでは、特定処理において、第２処理で求めた外積の絶対値が予め決められた基準を満たすときには、その時点で第２処理の対象としている多角形の重心を接触位置として特定する。したがって、この処理装置、処理方法および処理プログラムによれば、特定処理の一部の工程を省略することができるため、接触位置を特定する特定処理の効率をさらに向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】処理装置１の構成を示す構成図である。
【図２】導体パターン１０１ａの構成を示す構成図である。
【図３】特定処理５０のフローチャートである。
【図４】特定処理５０を説明する第１の説明図である。
【図５】特定処理５０を説明する第２の説明図である。
【図６】特定処理５０を説明する第３の説明図である。
【図７】導体パターン１０１ｂの構成を示す構成図である。
【図８】特定処理５０を説明する第４の説明図である。
【図９】特定処理５０を説明する第５の説明図である。
【図１０】特定処理５０を説明する第６の説明図である。
【図１１】特定処理５０を説明する第７の説明図である。
【図１２】特定処理５０を説明する第８の説明図である。
【図１３】導体パターン１０１ｃの構成を示す構成図である。
【図１４】特定処理５０を説明する第９の説明図である。
【図１５】特定処理５０を説明する第１０の説明図である。
【図１６】特定処理５０を説明する第１１の説明図である。
【図１７】従来のデータ生成装置によるプロービング位置の特定方法を説明する第１の説明図である。
【図１８】従来のデータ生成装置によるプロービング位置の特定方法を説明する第２の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、処理装置、処理方法および処理プログラムの実施の形態について、図面を参照して説明する。
【００１８】
最初に、処理装置の一例としての図１に示す処理装置１の構成について説明する。この処理装置１は、操作部２、表示部３、記憶部４および処理部５を備えて、例えば、図２，４〜１６に示す回路基板１００に対する電気的検査を行う際に、検査用のプローブ（図示せず）を接触させる導体パターン１０１ａ，１０１ｂ，１０１ｃ（以下、区別しないときには「導体パターン１０１」ともいう）上の接触位置（図６，１２，１６にそれぞれ示す接触位置Ｐｃ１，Ｐｃ２，Ｐｃ３であって、以下、区別しないときには「接触位置Ｐｃ」ともいう）を特定すると共に、その接触位置Ｐｃを示す接触位置データＤｐを生成可能に構成されている。なお、図２，４〜１６では、回路基板１００の一部のみを図示している。
【００１９】
操作部２は、キーボード等の入力装置を備えて構成されて、操作に応じて、処理部５に対して操作信号を出力する。表示部３は、処理部５の制御に従い、各種の画像を表示する。
【００２０】
記憶部４は、例えば、磁気記憶媒体やＲＡＭなどを備えて構成され、処理部５に対して特定処理５０（図３参照）を実行させる処理プログラムＰｒを記憶する。また、記憶部４は、回路基板１００の設計データＤｄを記憶する。この設計データＤｄは、特定処理５０において用いられるデータであって、導体パターン１０１の形状（輪郭）および回路基板１００上における導体パターン１０１の位置を特定可能なベクタデータを含んで構成されている。この場合、設計データＤｄは、一例としてガーバフォーマット形式で記述されている。また、記憶部４は、特定処理５０において処理部５によって生成される接触位置データＤｐを記憶する。
【００２１】
処理部５は、操作部２から出力される操作信号に従って処理装置１を構成する各部を制御する。また、処理部５は、図３に示す特定処理５０を実行することにより、上記した接触位置Ｐｃを特定すると共に、その接触位置Ｐｃを示す接触位置データＤｐを生成して記憶部４に記憶させる。
【００２２】
次に、処理装置１を用いて、一例として、図２，７，１３に示す回路基板１００の導体パターン１０１ａ，１０１ｂ，１０１ｃにおける接触位置Ｐｃ１，Ｐｃ２，Ｐｃ３を特定して接触位置データＤｐを生成する手順、およびその際の処理装置１の動作について、図面を参照して説明する。この場合、上記した処理プログラムＰｒ、および回路基板１００についての設計データＤｄが記憶部４に既に記憶されているものとする。
【００２３】
まず、操作部２を操作して処理の実行を指示する。これに応じて、処理部５が、記憶部４から処理プログラムＰｒを読み出す。次いで、処理部５は、処理プログラムＰｒに従い、図３に示す特定処理５０を実行する。この特定処理５０では、処理部５は、設計データＤｄを記憶部４から読み出す（ステップ５１）。
【００２４】
続いて、処理部５は、輪郭特定処理を実行する（ステップ５２）。この輪郭特定処理では、処理部５は、読み出した設計データＤｄに含まれている導体パターン１０１ａの形状を特定可能なベクタデータに基づいて、図２に示す導体パターン１０１ａの形状（輪郭）を特定する。この場合、処理部５は、同図に示すように、輪郭に曲線（同図に破線で示す曲線）が含まれているときには、その曲線の両端を線分Ｌ（同図における線分Ｌ２）で繋ぐ。つまり、処理部５は、複数の線分Ｌ（この例では、８つの線分Ｌ１〜Ｌ８）が各頂点Ｔ（この例では、８つの頂点Ｔ１〜Ｔ８）で繋がれている多角形Ｐｏ１で構成された輪郭を特定する。
【００２５】
次いで、処理部５は、変換処理を実行する（ステップ５３）。この変換処理では、処理部５は、ステップ５２（輪郭特定処理）で特定した多角形Ｐｏ１を構成する各線分Ｌ１〜Ｌ８（図２参照）を、図４に示すように、例えば左向き（反時計回り）に多角形Ｐｏ１を周回する周回方向に沿った向きのベクトルＶ１〜Ｖ８（以下、区別しないときには「ベクトルＶ」ともいう）に変換する。なお、上記したステップ５２（輪郭特定処理）およびステップ５３（変換処理）が、第１処理に相当する。
【００２６】
続いて、処理部５は、仕訳処理を実行する（ステップ５４）。この仕訳処理では、処理部５は、図４に示すように、上記した多角形Ｐｏ１の頂点Ｔ１〜Ｔ８で繋がる一対のベクトルＶを頂点Ｔを始点としかつ周回方向に沿った順番で並べた状態での一対のベクトルＶの外積を求める。また、処理部５は、頂点Ｔにおける外積のベクトル（以下、「外積ベクトルＶｐ」ともいう）の向きが周回方向を回転方向とする右ねじの前進方向（この例では、同図における紙面手前側に向かう向き：以下単に「前進方向」ともいう）と一致するときには、その頂点Ｔを第１頂点Ｔｆに設定し、外積ベクトルＶｐの向きが上記した前進方向と一致しないときには、その頂点Ｔを第２頂点Ｔｓに設定する。つまり、処理部５は、各頂点Ｔを第１頂点Ｔｆおよび第２頂点Ｔｓのいずれかに設定（分類）する仕訳を行う。
【００２７】
一例として、処理部５は、最初に図４に示す頂点Ｔ１について仕訳処理を実行する。この場合、頂点Ｔ１で繋がるベクトルＶ１，Ｖ２を頂点Ｔ１を始点としかつ周回方向に沿った順番で並べた状態でのベクトルＶ１，Ｖ２の外積ベクトルＶｐの向き（同図における紙面手前側に向かう向き）が上記した前進方向と一致するため、処理部５は、頂点Ｔ１を第１頂点Ｔｆ１に設定する。
【００２８】
次いで、全ての頂点Ｔについて仕訳処理が完了しているか否かを判別する（ステップ５５）。この場合、仕訳処理を実行していない（未処理の）頂点Ｔが存在しているため、処理部５は、未処理の頂点Ｔ（例えば、頂点Ｔ２）を対象として仕訳処理（ステップ５４）を実行する。この場合、頂点Ｔ２で繋がるベクトルＶ２，Ｖ３を頂点Ｔ２を始点としかつ周回方向に沿った順番で並べた状態でのベクトルＶ２，Ｖ３の外積ベクトルＶｐの向きが前進方向と一致するため、処理部５は、頂点Ｔ２を第１頂点Ｔｆ２に設定する（図４参照）。
【００２９】
続いて、処理部５は、上記したように、ステップ５５を実行し、未処理の頂点Ｔが存在しているため、未処理の頂点Ｔ（例えば、頂点Ｔ３）を対象として仕訳処理（ステップ５４）を実行する。この場合、頂点Ｔ３で繋がるベクトルＶ３，Ｖ４を頂点Ｔ３を始点としかつ周回方向に沿った順番で並べた状態でのベクトルＶ４，Ｖ５の外積ベクトルＶｐの向きが前進方向と一致していないため、処理部５は、頂点Ｔ４を第２頂点Ｔｓ１に設定する（図２参照）。
【００３０】
以下、処理部５は、未処理の頂点Ｔがなくなるまでステップ５４，５５を繰り返して実行する。この場合、処理部５は、図４に示すように、頂点Ｔ４，Ｔ５，Ｔ７，Ｔ８を対象とする仕訳処理の際には、これらの頂点Ｔ４，Ｔ５，Ｔ７，Ｔ８を第１頂点Ｔｆ３〜Ｔｆ６にそれぞれ設定し、頂点Ｔ６を対象とする仕訳処理の際には、頂点Ｔ６を第２頂点Ｔｓ２に設定する。なお、上記したステップ５４（仕訳処理）およびステップ５５が、第２処理に相当する。
【００３１】
次いで、処理部５は、全ての頂点Ｔについて仕訳処理を完了したとき（未処理の頂点Ｔが存在しないとき）には、ステップ５５においてその旨を判別し、続いて、多角形Ｐｏ１内に第２頂点Ｔｓが存在しているか否かを判別する（ステップ５６）。この導体パターン１０１ａでは、図４に示すように、多角形Ｐｏ１内に第２頂点Ｔｓ（第２頂点Ｔｓ１，Ｔｓ２）が存在しているため、処理部５は、ステップ５６においてその旨を判別し、次いで、第３処理に相当する成形処理を実行する（ステップ５７）。
【００３２】
この成形処理では、処理部５は、多角形Ｐｏ１内に第２頂点Ｔｓが複数存在するか否かを判別する。図４に示すように、この多角形Ｐｏ１では、複数（２つ）の第２頂点Ｔｓ１，Ｔｓ２が存在しているため、処理部５は、その旨を判別し、続いて、第２頂点Ｔｓ１，Ｔｓ２（周回方向に沿った並び順序が最も近い２つの第２頂点Ｔｓ）の間に、これらの第２頂点Ｔｓ１，Ｔｓ２と線分Ｌ（ベクトルＶ）で繋がれている第１頂点Ｔｆが存在するか否かを判別する。この場合、第２頂点Ｔｓ１に対して線分Ｌ４で繋がれている第１頂点Ｔｆ３が存在し、第２頂点Ｔｓ２に対して線分Ｌ６で繋がれている第１頂点Ｔｆ４が存在している。この際には、処理部５は、第２頂点Ｔｓ１，Ｔｓ２同士（周回方向に沿った並び順序が最も近い２つの第２頂点Ｔｓ同士）を線分Ｌで繋いで、図５に示すように、新たな多角形Ｐｏ２（この例では、長方形）を作成する。なお、同図に示すように、新たな多角形Ｐｏ２の各頂点Ｔを頂点Ｔ１１〜Ｔ１４とし、新たな多角形Ｐｏ２を構成する線分Ｌを線分Ｌ１１〜Ｌ１４とする。
【００３３】
次いで、処理部５は、新たな多角形Ｐｏ２を処理対象として、上記したステップ５３（変換処理）を実行して、図６に示すように、線分Ｌ１１〜Ｌ１４をベクトルＶ１１〜Ｖ１４にそれぞれ変換し、続いて、ステップ５４（仕訳処理）およびステップ５５を未処理の頂点Ｔがなくなるまで繰り返して実行する。これにより、同図に示すように、多角形Ｐｏ２における４つの頂点Ｔ１１〜Ｔ１４が４つの第１頂点Ｔｆ１１〜Ｔｆ１４にそれぞれ設定される。次いで、処理部５は、上記したステップ５６を実行する。
【００３４】
この場合、図６に示すように、多角形Ｐｏ２内に第２頂点Ｔｓが存在しないため、処理部５はステップ５６においてその旨を判別し、続いて、重心特定処理（ステップ５８）を実行して多角形Ｐｏ２の重心Ｇｒ１（後述する重心Ｇｒ１，Ｇｒ２，Ｇｒ３と区別しないときには「重心Ｇｒ」ともいう）を特定する。この場合、一般的に、多角形Ｐｏ内に第２頂点Ｔｓが存在しないときには、その多角形Ｐｏには、凸部や凹部が存在しないため、その多角形Ｐｏの重心は、多角形Ｐｏ内に存在することとなる。図６に示すように、この多角形Ｐｏ２においても、第２頂点Ｔｓが存在せず、凸部や凹部が存在しないため、重心Ｇｒ１が多角形Ｐｏ２内に位置している。なお、重心Ｇｒの特定方法については、周知の各種方法を用いることができるため、詳細な説明を省略する。
【００３５】
次いで、処理部５は、特定した重心Ｇｒ１を接触位置Ｐｃ１として規定して、その接触位置Ｐｃ１を示す接触位置データＤｐを生成して（ステップ５９）、記憶部４に記憶させる。以上により、導体パターン１０１ａの接触位置Ｐｃの特定が終了する。
【００３６】
続いて、処理部５は、接触位置Ｐｃの特定が完了していない（未処理の）導体パターン１０１が存在するか否かを判別する（ステップ６０）。この場合、未処理の導体パターン１０１ｂが存在するため、処理部５は、図７に示す導体パターン１０１ｂを対象として上記したステップ５２〜６０を実行する。
【００３７】
この場合、処理部５は、ステップ５２（輪郭特定処理）において、図７に示すように、複数の線分Ｌ（この例では、８つの線分Ｌ２１〜Ｌ２８）が頂点Ｔ（この例では、８つの頂点Ｔ２１〜Ｔ２８）で繋がれている多角形Ｐｏ３で構成された導体パターン１０１ｂの形状（輪郭）を設計データＤｄに基づいて特定する。
【００３８】
また、処理部５は、ステップ５３（変換処理）において、特定した多角形Ｐｏ３を構成する各線分Ｌ２１〜Ｌ２８（図７参照）を、図８に示すように、例えば左向き（反時計回り）に多角形Ｐｏ３を周回する周回方向に沿った向きのベクトルＶ２１〜Ｖ２８（以下、区別しないときには「ベクトルＶ」ともいう）に変換する。
【００３９】
また、処理部５は、ステップ５４（仕訳処理）およびステップ５５を繰り返して実行することにより、図８に示すように、多角形Ｐｏ３の頂点Ｔ２１〜Ｔ２８における外積ベクトルＶｐの向きと、周回方向を回転方向とする右ねじの前進方向とを比較して各頂点Ｔを第１頂点Ｔｆおよび第２頂点Ｔｓのいずれかに設定する（仕訳をする）。この多角形Ｐｏ３では、同図に示すように、頂点Ｔ２１〜Ｔ２３，Ｔ２６〜Ｔ２８が第１頂点Ｔｆ２１〜Ｔｆ２６にそれぞれ設定され、頂点Ｔ２４，Ｔ２５が第２頂点Ｔｓ２１，Ｔｓ２２にそれぞれ設定される。
【００４０】
また、処理部５は、ステップ５６において、多角形Ｐｏ３内に第２頂点Ｔｓが存在している旨を判別し、ステップ５７（成形処理）を実行する。この場合、図８に示すように、この多角形Ｐｏ３では、複数（２つ）の第２頂点Ｔｓ２１，Ｔｓ２２が存在しているため、処理部５は、その旨を判別し、第２頂点Ｔｓ２１，Ｔｓ２２の間に、これらの第２頂点Ｔｓ２１，Ｔｓ２２と線分Ｌ（ベクトルＶ）で繋がれている第１頂点Ｔｆが存在するか否かを判別する。この場合、同図に示すように、多角形Ｐｏ３内には、このような第１頂点Ｔｆが存在していない。
【００４１】
この際には、処理部５は、図８に示すように、第２頂点Ｔｓ２１，Ｔｓ２２に線分Ｌで繋がれていない第１頂点Ｔｆ（同図に示す第１頂点Ｔｆ２１，Ｔｆ２２，Ｔｆ２５，Ｔｆ２６）を特定し、その中から各第２頂点Ｔｓ２１，Ｔｓ２２に最も近い（互いの離間距離が最短の）第１頂点Ｔｆを選択する。この場合、第２頂点Ｔｓ２１については、第１頂点Ｔｆ２２を選択し、第２頂点Ｔｓ２２については、第１頂点Ｔｆ２５を選択する。次いで、処理部５は、第２頂点Ｔｓ２１と第１頂点Ｔｆ２２とを線分Ｌで繋ぎ、第２頂点Ｔｓ２２と第１頂点Ｔｆ２５とを線分Ｌで繋いで、図９に示すように、新たな多角形Ｐｏ４を作成する。なお、同図に示すように、新たな多角形Ｐｏ４の各頂点Ｔを頂点Ｔ３１〜Ｔ３６とし、新たな多角形Ｐｏ４を構成する線分Ｌを線分Ｌ３１〜Ｌ３６とする。
【００４２】
続いて、処理部５は、新たな多角形Ｐｏ４を処理対象として、上記したステップ５３（変換処理）を実行して、図１０に示すように、線分Ｌ３１〜Ｌ３６をベクトルＶ３１〜Ｖ３６にそれぞれ変換し、次いで、ステップ５４（仕訳処理）およびステップ５５を未処理の頂点Ｔがなくなるまで繰り返して実行する。これにより、同図に示すように、多角形Ｐｏ４における４つの頂点Ｔ３１，Ｔ３２，Ｔ３５，Ｔ３６が４つの第１頂点Ｔｆ３１〜Ｔｆ３４にそれぞれ設定（仕訳）され、２つの頂点Ｔ３３，Ｔ３４が２つの第２頂点Ｔｓ３１，３２にそれぞれ設定される。続いて、処理部５は、上記したステップ５６を実行する。
【００４３】
この場合、図１０に示すように、多角形Ｐｏ４内に第２頂点Ｔｓが存在するため、処理部５はステップ５６においてその旨を判別し、ステップ５７（成形処理）を実行する。この場合、同図に示すように、この多角形Ｐｏ４では、複数（２つ）の第２頂点Ｔｓ３１，Ｔｓ３２が存在しているため、処理部５は、その旨を判別し、第２頂点Ｔｓ３１，Ｔｓ３２の間に、これらの第２頂点Ｔｓ３１，Ｔｓ３２と線分Ｌ（ベクトルＶ）で繋がれている第１頂点Ｔｆが存在するか否かを判別する。この場合、同図に示すように、多角形Ｐｏ４内には、このような第１頂点Ｔｆが存在していない。
【００４４】
この際には、処理部５は、図１０に示すように、第２頂点Ｔｓ３１，Ｔｓ３２に線分Ｌで繋がれていない第１頂点Ｔｆ（同図に示す第１頂点Ｔｆ３１，Ｔｆ３４）を特定し、第２頂点Ｔｓ３１，Ｔｓ３２にそれぞれ最も近い（互いの離間距離が最短の）第１頂点Ｔｆを選択する。この場合、第２頂点Ｔｓ３１については、第１頂点Ｔｆ３１を選択し、第２頂点Ｔｓ３２については、第１頂点Ｔｆ３４を選択する。次いで、処理部５は、第２頂点Ｔｓ３１と第１頂点Ｔｆ３１とを線分Ｌで繋ぎ、第２頂点Ｔｓ３２と第１頂点Ｔｆ３３とを線分Ｌで繋いで、図１１に示すように、新たな多角形Ｐｏ５を作成する。なお、同図に示すように、新たな多角形Ｐｏ５の各頂点Ｔを頂点Ｔ４１〜Ｔ４４とし、新たな多角形Ｐｏ４を構成する線分Ｌを線分Ｌ４１〜Ｌ４４とする。
【００４５】
続いて、処理部５は、新たな多角形Ｐｏ５を処理対象として、上記したステップ５３（変換処理）を実行して、図１２に示すように、線分Ｌ４１〜Ｌ４４をベクトルＶ４１〜Ｖ４４にそれぞれ変換し、次いで、ステップ５４（仕訳処理）およびステップ５５を未処理の頂点Ｔがなくなるまで繰り返して実行する。これにより、同図に示すように、多角形Ｐｏ５における４つの頂点Ｔ４１〜Ｔ４４が４つの第１頂点Ｔｆ４１〜Ｔｆ４４にそれぞれ設定（仕訳）される。続いて、処理部５は、上記したステップ５６を実行する。
【００４６】
この場合、図１２に示すように、多角形Ｐｏ５内に第２頂点Ｔｓが存在しないため、処理部５はステップ５６においてその旨を判別し、次いで、重心特定処理を実行して多角形Ｐｏ５の重心Ｇｒ２を特定する（ステップ５８）。この多角形Ｐｏ５においても、第２頂点Ｔｓが存在せず、凸部や凹部が存在しないため、同図に示すように、重心Ｇｒ２が多角形Ｐｏ５内に位置している。
【００４７】
続いて、処理部５は、特定した重心Ｇｒ２を接触位置Ｐｃ２として規定して、その接触位置Ｐｃを示す接触位置データＤｐを生成して（ステップ５９）記憶部４に記憶させる。以上により、導体パターン１０１ｂの接触位置Ｐｃの特定が終了する。
【００４８】
次いで、処理部５は、ステップ６０を実行する。この場合、未処理の導体パターン１０１ｃが存在するため、処理部５は、図１３に示す導体パターン１０１ｃを対象として上記したステップ５２〜６０を実行する。
【００４９】
この場合、処理部５は、ステップ５２（輪郭特定処理）において、図１３に示すように、複数の線分Ｌ（この例では、７つの線分Ｌ５１〜Ｌ５７）が複数の頂点Ｔ（この例では、７つの頂点Ｔ５１〜Ｔ５７）で繋がれている多角形Ｐｏ６で構成された導体パターン１０１ｃの形状（輪郭）を設計データＤｄに基づいて特定する。
【００５０】
また、処理部５は、ステップ５３（変換処理）において、特定した多角形Ｐｏ６を構成する各線分Ｌ５１〜Ｌ５７を、図１４に示すように、例えば左向き（反時計回り）に多角形Ｐｏ６を周回する周回方向に沿った向きのベクトルＶ５１〜Ｖ５７（以下、区別しないときには「ベクトルＶ」ともいう）に変換する。
【００５１】
また、処理部５は、ステップ５４（仕訳処理）およびステップ５５を繰り返して実行することにより、図１４に示すように、多角形Ｐｏ６の頂点Ｔ５１〜Ｔ５７（以下、区別しないときには「頂点Ｔ」ともいう）における外積ベクトルＶｐの向きと、周回方向を回転方向とする右ねじの前進方向とを比較して各頂点Ｔを第１頂点Ｔｆおよび第２頂点Ｔｓのいずれかに設定する（仕訳をする）。この多角形Ｐｏ６では、同図に示すように、頂点Ｔ５１〜Ｔ５３，Ｔ５５〜Ｔ５７が第１頂点Ｔｆ５１〜Ｔｆ５６にそれぞれ設定され、頂点Ｔ５４が第２頂点Ｔｓ５１に設定される。
【００５２】
また、処理部５は、ステップ５６において、多角形Ｐｏ６内に第２頂点Ｔｓが存在している旨を判別し、ステップ５７（成形処理）を実行する。この場合、図１４に示すように、この多角形Ｐｏ６内には第２頂点Ｔｓ５１が１つだけ存在しているため、処理部５は、その旨を判別する。
【００５３】
この際には、処理部５は、図１４に示すように、第２頂点Ｔｓ５１に対して線分Ｌで繋がれていない第１頂点Ｔｆ（同図に示す第１頂点Ｔｆ５１，Ｔｆ５２，Ｔｆ５５，Ｔｆ５６）を特定し、その中から第２頂点Ｔｓ５１に最も近い（互いの離間距離が最短の）第１頂点Ｔｆ５１，Ｔｆ５６を選択して、第２頂点Ｔｓ２１と第１頂点Ｔｆ５１，Ｔｆ５６とを線分Ｌで繋いで、図１５に示すように、新たな多角形Ｐｏ７を作成する。なお、同図に示すように、新たな多角形Ｐｏ７の各頂点Ｔを頂点Ｔ６１〜Ｔ６３とし、新たな多角形Ｐｏ７を構成する線分Ｌを線分Ｌ６１〜Ｌ６３とする。
【００５４】
続いて、処理部５は、新たな多角形Ｐｏ７を処理対象として、上記したステップ５３（変換処理）を実行して、図１６に示すように、線分Ｌ６１〜Ｌ６３をベクトルＶ６１〜Ｖ６３にそれぞれ変換し、次いで、ステップ５４（仕訳処理）およびステップ５５を未処理の頂点Ｔがなくなるまで繰り返して実行する。これにより、同図に示すように、多角形Ｐｏ７における３つの頂点Ｔ６１〜Ｔ６３が３つの第１頂点Ｔｆ６１〜Ｔｆ６３にそれぞれ設定（仕訳）される。続いて、処理部５は、上記したステップ５６を実行する。
【００５５】
この場合、図１６に示すように、多角形Ｐｏ７内に第２頂点Ｔｓが存在しないため、処理部５はステップ５６においてその旨を判別し、次いで、重心特定処理を実行して多角形Ｐｏ７の重心Ｇｒ３を特定する（ステップ５８）。この多角形Ｐｏ７においても、第２頂点Ｔｓが存在せず、凸部や凹部が存在しないため、同図に示すように、重心Ｇｒ３が多角形Ｐｏ内に位置している。
【００５６】
続いて、処理部５は、特定した重心Ｇｒ３を接触位置Ｐｃ３として規定して、その接触位置Ｐｃを示す接触位置データＤｐを生成して（ステップ５９）記憶部４に記憶させる。以上により、導体パターン１０１ａの接触位置Ｐｃの特定が終了する。なお、この例では、第２頂点Ｔｓ５１および第１頂点Ｔｆ５１の間の距離と、第２頂点Ｔｓ５１および第１頂点Ｔｆ５６の間の距離とが等しいため、第２頂点Ｔｓ５１と２つの第１頂点Ｔｆ５１，Ｔｆ５６とを線分Ｌで繋いで新たな多角形Ｐｏ７を作成してステップ５３〜５６を実行しているが（図１４，１５参照）、第２頂点Ｔｓ５１と第１頂点Ｔｆ５１，Ｔｆ５６の一方とだけを繋いで新たな多角形Ｐｏを作成してステップ５３〜５６を実行し、次に、第２頂点Ｔｓ２１と第１頂点Ｔｆ５１，Ｔｆ５６の他方を繋いで新たな多角形Ｐｏを作成してステップ５３〜５６を実行してもよい。
【００５７】
この処理装置１、処理方法および処理プログラムＰｒでは、凹凸部が存在するために導体パターン１０１の外側または導体パターン１０１内の外周縁部近傍（接触位置Ｐｃとしては不適切な位置）に重心（図２，７，１３にそれぞれ示す重心Ｇｏ１，Ｇｏ２，Ｇｏ３であって、以下「重心Ｇｏ」ともいう）が存在する場合においても、上記の各処理を処理部５が実行する（処理部５に実行させる）ことで、導体パターン１０１内の適切な位置を接触位置Ｐｃ（図６，１２，１６にそれぞれ示す接触位置Ｐｃ１，Ｐｃ２，Ｐｃ３）として設定することが可能となっている。また、この処理装置１、処理方法および処理プログラムＰｒでは、特定処理５０において、設計データＤｄに含まれているベクタデータをそのまま用いて（ラスタデータに変換することなく）、かつ単純なアルゴリズムでの処理を行っている。このため、接触位置Ｐｃを短時間で特定することが可能となっている。
【００５８】
次いで、処理部５は、ステップ６０を実行する。この場合、未処理の導体パターン１０１が存在しないため、処理部５は、特定処理５０を終了する。なお、処理部５は、上記した特定処理５０の実行中に、処理の進行状況を示す情報を表示部３に表示させる。また、処理部５は、特定処理５０の終了後に、特定した接触位置Ｐｃを示す情報を表示部３に表示させる。
【００５９】
このように、この処理装置１、処理方法および処理プログラムＰｒでは、特定処理５０において、第１処理、第２処理および第３処理を実行し、実行後における多角形Ｐｏの重心Ｇｒを接触位置Ｐｃとして特定する。この場合、これらの処理を実行することで、導体パターン１０１の形状に凹凸部が存在するときには、その凹凸部を除去した多角形Ｐｏに成形（簡略化）させて、その多角形Ｐｏの重心Ｇｒを接触位置Ｐｃとして特定することができる。このため、この処理装置１、処理方法および処理プログラムＰｒによれば、凹凸部が存在するために導体パターン１０１の外側または導体パターン１０１内の外周縁部近傍（接触位置Ｐｃとしては不適切な位置）に重心Ｇｏが存在する場合においても、導体パターン１０１内の適切な位置を接触位置Ｐｃとして自動的に設定することができる。また、第１処理、第２処理および第３処理が単純なアルゴリズムであるため、接触位置Ｐｃを短時間で特定することができる。したがって、この処理装置１、処理方法および処理プログラムＰｒによれば、接触位置Ｐｃを特定する特定処理の効率を十分に向上させることができる。
【００６０】
なお、処理装置、処理方法および処理プログラムにおいて、次のような処理を行う構成および方法を採用することもできる。この構成および方法では、導体パターン１０１に存在する凹凸部が他の部と比較して小さいときに、上記した特定処理５０の一部の工程を省略して接触位置Ｐｃを特定する。具体的には、上記した導体パターン１０１ａ（図２参照）のように凸部が存在する場合には、上記した特定処理５０のステップ５４において第２頂点Ｔｓとして設定された頂点Ｔ（凸部の基端部に位置する頂点Ｔ）の次の頂点Ｔにおける外積の絶対値（一対のベクトルＶを隣り合う辺とする平行四辺形の面積）が予め決められた規定値（一例として、その時点でステップ５４の対象としている多角形Ｐｏの面積の５％程度）以下であるか否かを判別する処理を全ての第２頂点Ｔｓについて実行し、全ての外積の絶対値が規定値以下のとき（予め決められた基準を満たすとき）には、その時点でステップ５４（第２処理）の対象としている多角形Ｐｏの重心を接触位置Ｐｃとして設定（特定）する。
【００６１】
また、上記した導体パターン１０１ｂ，１０１ｃ（図７，１３参照）のように凹部が存在する場合には、ステップ５４において第２頂点Ｔｓとして設定された頂点Ｔ（凹部の底部に位置する頂点Ｔ）における外積の絶対値が上記の規定値以下であるか否かを判別する処理を全ての第２頂点Ｔｓについて実行し、全ての外積の絶対値が規定値以下のとき（予め決められた基準を満たすとき）には、その時点でステップ５４（第２処理）の対象としている多角形Ｐｏの重心を接触位置Ｐｃとして設定（特定）する。この処理装置、処理方法および処理プログラムによれば、特定処理５０の一部の工程（上記の例では、ステップ５６，５７）を省略することができるため、接触位置Ｐｃを特定する特定処理の効率をさらに向上させることができる。
【符号の説明】
【００６２】
１  処理装置
１００  回路基板
１０１ａ，１０１ｂ，１０１ｃ  導体パターン
Ｄｄ  設計データ
Ｌ１〜Ｌ６３  線分
Ｐｃ１，Ｐｃ２，Ｐｃ３  接触位置
Ｐｏ１〜Ｐｏ７  多角形
Ｐｒ  処理プログラム
Ｔ１〜Ｔ６３  頂点
Ｔｆ１〜Ｔｆ６３  第１頂点
Ｔｓ１〜Ｔｓ５１  第２頂点
Ｖ１〜Ｖ６３  ベクトル
【図１】
2015049038.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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