(57)【要約】【課題】高濃度のオゾン水を生成して、被処理物のオゾン水処理の処理速度を向上させることができるオゾン水処理装置等を提供する。【解決手段】内部を密閉した状態で液体１０を保持する圧力容器１と、圧力容器１内の液体中にて被処理物１００をオゾン水処理する処理部１Ａと、処理部１Ａ内に被処理物１００を保持する保持部１１と、圧力容器１内の液体中に配設され、液体中でオゾンを発生するオゾン発生部８Ａ、８Ｂとを有し、圧力容器１内を加圧した状態で、処理部１Ａによって液体中にオゾンが溶解したオゾン水を被処理物１００の表面に接触させる。【選択図】図１
2015016409.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部を密閉した状態で液体を保持する圧力容器と、
前記圧力容器内の液体中にて被処理物をオゾン水処理する処理部と、
前記処理部内に前記被処理物を保持する保持部と、
前記圧力容器内の液体中に配設され、前記液体中でオゾンを発生するオゾン発生部とを有し、
前記圧力容器内を加圧した状態で、前記処理部によって前記液体中にオゾンが溶解したオゾン水を前記被処理物の表面に接触させることを特徴とするオゾン水処理装置。
【請求項２】
前記圧力容器内を加圧する加圧部を備えることを特徴とする請求項１に記載のオゾン水処理装置。
【請求項３】
前記圧力容器内を真空状態にするためのポンプを備えることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のオゾン水処理装置。
【請求項４】
前記圧力容器内を真空状態にするためのポンプと、
前記圧力容器内を加圧する加圧部とを備え、
前記ポンプにより前記圧力容器内を真空状態に近づけ、その後に、前記圧力容器内を加圧して、前記オゾン発生部により前記液体中にオゾンを発生することを特徴とする請求項１に記載のオゾン水処理装置。
【請求項５】
前記圧力容器内の液体に超音波を与える超音波発振部を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか一項に記載のオゾン水処理装置。
【請求項６】
前記処理部は、前記圧力容器内の液体を冷却する冷却部を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項５の何れか一項に記載のオゾン水処理装置。
【請求項７】
前記処理部は、前記圧力容器内の液体を攪拌する攪拌部を備えることを特徴とする請求項１乃至請求項６の何れか一項に記載のオゾン水処理装置。
【請求項８】
前記攪拌部は、前記圧力容器内の液体出口から液体を取り出して、前記圧力容器内の液体入口から液体を循環するものであり、
前記液体出口が、前記圧力容器の側面であって前記被処理物の位置よりも上方に設置され、
前記オゾン発生部は、前記圧力容器内の液体出口付近に配置されていることを特徴とする請求項７に記載のオゾン水処理装置。
【請求項９】
前記被処理物は多孔質セラミックであることを特徴とする請求項１乃至請求項８の何れか一項に記載のオゾン水処理装置。
【請求項１０】
内部を密閉した状態で液体を圧力容器に保持しておき、
前記液体中に被処理物を浸漬し、
前記圧力容器内を加圧した状態で、前記液体内に配設したオゾン発生部によってオゾンを発生させて、前記液体中にオゾンが溶解したオゾン水を前記被処理物の表面に接触させることを特徴とするオゾン水処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、オゾン水によって被処理物を処理するオゾン水処理装置及びオゾン水処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
オゾン水によって被処理物を処理する技術としては、下記の特許文献１が知られている。
【０００３】
この特許文献１には、オゾン水に被処理材を浸漬させることにより、被処理材の表面にオゾン水処理を行うオゾン水処理方法が記載されている。このオゾン水処理方法は、被処理材を浸漬させる際に、浸漬させるオゾン水に振動を付与させることにより、少なくとも被処理材の表面及びその近傍のオゾン水に乱流を発生させ、被処理材の表面に対してオゾン水処理を行うものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開2009-097023号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述したオゾン水処理方法は、被処理材を収容した容器にオゾン水を随時供給し、被処理物の表面処理を行うものである。このようなオゾン水処理方法では、処理速度を向上させるためには、高濃度のオゾン水を容器内に供給する必要がある。
【０００６】
しかし、容器に供給する高濃度のオゾン水を生成するためには装置コストが高くなってしまう。また、オゾン水のオゾン濃度を高くしようとしても、液体にオゾン水が溶解する上限が小さいと、オゾンの高濃度化は困難となる。さらに、無理にオゾン濃度を高くしようとすると、オゾンガスが発生して、大規模なオゾン除害装置が必要となってしまう。
【０００７】
そこで、本発明は、上述した実情に鑑みて提案されたものであり、高濃度のオゾン水を生成して、被処理物のオゾン水処理の処理速度を向上させることができるオゾン水処理装置及びオゾン水処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第１の態様に係るオゾン水処理装置は、内部を密閉した状態で液体を保持する圧力容器と、前記圧力容器内の液体中にて被処理物をオゾン水処理する処理部と、前記処理部内に前記被処理物を保持する保持部と、前記圧力容器内の液体中に配設され、前記液体中でオゾンを発生するオゾン発生部とを有し、前記圧力容器内を加圧した状態で、前記処理部によって前記液体中にオゾンが溶解したオゾン水を前記被処理物の表面に接触させることを特徴とする。
【０００９】
本発明の第２の態様に係るオゾン水処理装置は、上記第１の態様のオゾン水処理装置であって、圧力容器内を加圧する加圧部を備えることを特徴とする。
【００１０】
本発明の第３の態様に係るオゾン水処理装置は、上記第１又は第２態様のオゾン水処理装置であって、前記圧力容器内を真空状態にするためのポンプを備えることを特徴とする。
【００１１】
本発明の第４の態様に係るオゾン水処理装置は、上記第１の態様のオゾン水処理装置であって、前記圧力容器内を真空状態にするためのポンプと、前記圧力容器内を加圧する加圧部とを備え、前記ポンプにより前記圧力容器内を真空状態に近づけ、その後に、前記圧力容器内を加圧して、前記オゾン発生部により前記液体中にオゾンを発生することを特徴とする。
【００１２】
本発明の第５の態様に係るオゾン水処理装置は、上記第１乃至第４の何れかの態様のオゾン水処理装置であって、前記圧力容器内の液体に超音波を与える超音波発振部を備えることを特徴とする。
【００１３】
本発明の第６の態様に係るオゾン水処理装置は、上記第１乃至第５の何れかの態様のオゾン水処理装置であって、前記処理部は、前記圧力容器内の液体を冷却する冷却部を備えることを特徴とする。
【００１４】
本発明の第７の態様に係るオゾン水処理装置は、上記第１乃至第６の何れかの態様のオゾン水処理装置であって、前記処理部は、前記圧力容器内の液体を攪拌する攪拌部を備えることを特徴とする。
【００１５】
本発明の第８の態様に係るオゾン水処理装置は、上記第７の態様のオゾン水処理装置であって、前記攪拌部は、前記圧力容器内の液体出口から液体を取り出して、前記圧力容器内の液体入口から液体を循環するものであり、前記液体出口が、前記圧力容器の側面であって前記被処理物の位置よりも上方に設置され、前記オゾン発生部は、前記圧力容器内の液体出口付近に配置されていることを特徴とする。
【００１６】
本発明の第９の態様に係るオゾン水処理装置は、上記第１乃至第８の何れかの態様のオゾン水処理装置であって、前記被処理物は多孔質セラミックであることを特徴とする。
【００１７】
本発明の第１０の態様に係るオゾン水処理方法は、内部を密閉した状態で液体を圧力容器に保持しておき、前記液体中に被処理物を浸漬し、前記圧力容器内を加圧した状態で、前記液体内に配設したオゾン発生部によってオゾンを発生させて、前記液体中にオゾンが溶解したオゾン水を前記被処理物の表面に接触させることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、圧力容器を密閉して加圧し、液体内でオゾンを発生させるので、高濃度のオゾン水を生成して、被処理物のオゾン水処理の処理速度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の実施形態として示すオゾン水処理装置の構成を示すブロック図である。
【図２】本発明の実施形態として示すオゾン水処理装置におけるオゾン発生部の構成を示すブロック図である。
【図３】本発明の実施形態として示すオゾン水処理装置の他の構成を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
【００２１】
本発明の実施形態として示すオゾン水処理装置は、例えば図１に示すように構成される。
【００２２】
このオゾン水処理装置は、圧力容器１、加圧装置２、冷却装置３、電源４、真空ポンプ５、及び、オゾン除害装置６を有する。
【００２３】
圧力容器１は、その内部が密閉できるような容器である。圧力容器１は、オゾンにより変質しないものが望ましく、具体的には、ステンレスなどにより構成することが望ましい。圧力容器１は、その内部に液体１０を保持する。この液体１０は、本実施形態において水であり、後述する構成により水にオゾンが溶解したオゾン水となる。
【００２４】
圧力容器１には、開閉弁２４が開状態とされ、吸水配管Ｌ１１を介して水Ｗ１が供給される。一方、圧力容器１の液体１０は、開閉弁２５が開状態とされ、配管Ｌ２を介して排水Ｗ２として排出可能となっている。
【００２５】
このオゾン水処理装置は、圧力容器１内の液体中にて被処理物１００をオゾン水処理する処理部を有する。この処理部は、圧力容器１に蓄えられて、オゾン水としての液体１０によって被処理物１００をオゾン水処理する。このオゾン水処理は、オゾン水を被処理物１００の表面に接触させる処理である。このオゾン水処理により、被処理物１００の表面を酸化させることができる。また、オゾン水処理により、被処理物１００の表面を洗浄することができる。この実施形態において、圧力容器１に蓄えられたオゾン水としての液体１０が処理部１Ａとして機能することとなる。なお、処理部という概念は、被処理物１００をオゾン水処理するという機能を表していればよい。例えば、処理部は、液体１０そのものであってもよく、被処理物１００をオゾン水処理するものであれば、後述するような構成を包含するものであってもよい。
【００２６】
圧力容器１には、処理部１Ａ内に被処理物１００を保持する保持部１１を有する。このオゾン水処理装置において、被処理物１００は、オゾン水処理時に、液体１０に浸漬される。そして、被処理物１００は、オゾン水処理によって所望の効果が得られるであろう時間に亘ってオゾン水処理が施される。この被処理物１００の浸漬時間に亘って、処理部１Ａとしての液体１０内に被処理物１００を保持するために、オゾン水処理装置は、保持部１１を有する。なお、保持部１１は、被処理物１００が保持できれば、図１に示す形態に限定されるものではない。
【００２７】
さらに、圧力容器１内には、液体１０中にオゾンを発生するオゾン発生部８Ａ、８Ｂを有する。オゾン発生部８Ａ、８Ｂは、圧力容器１内における液体１０に溶解させるオゾンを発生する。オゾン発生部８Ａ、８Ｂには、正極と負極との間に電源４が接続されている。オゾン発生部８Ａ、８Ｂは、オゾン水処理時に、電源４によって所定の電圧が印加させる。これにより、オゾン発生部８Ａ、８Ｂは、電気化学反応（電解反応）によってオゾンを発生させる。
【００２８】
このオゾン発生部８Ａ、８Ｂは、例えば図２に示すように構成されている。オゾン発生部８Ａ、８Ｂは、給電プレート３１、成膜用基板３２、ダイヤモンド膜３３、イオン交換膜３４、陰極３５の順に積層してなる電解電極デバイスである。このオゾン発生部８Ａ、８Ｂは、給電プレート３１とイオン交換膜３４との間に電源４が接続される。オゾン発生部８Ａ、８Ｂは、オゾン発生時に、給電プレート３１とイオン交換膜３４との間に所定の電圧が供給される。これにより、ダイヤモンド膜３３が陽極として機能し、ダイヤモンド膜３３と陰極３５との間に、オゾンの発生に必要な電圧が印加される。本実施形態において、給電プレート３１と陰極３５との間には電流密度が０．０１〜１Ａ／ｃｍ２の電流を流す。
【００２９】
ダイヤモンド膜３３は、プラズマＣＶＤ法によって、成膜用基板３２上に形成される。成膜用基板３２の他面には給電プレート３１が設けられている。給電プレート３１には、電源４への引き出し線が形成されている。
【００３０】
イオン交換膜３４は、ダイヤモンド膜３３が形成されたダイヤモンド膜３３上に配置される。イオン交換膜３４は、既存のイオン交換フィルムにより構成可能である。イオン交換膜３４は、厚み方向に貫通した通水孔が、複数形成されている。
【００３１】
陰極３５は、イオン交換膜３４上に配置されている。陰極３５は、導線を介して電源４の陰極側と接続されている。陰極３５は、例えばステンレスの電極板からなる。この陰極３５には、イオン交換膜３４と同様に、厚み方向に貫通した通水孔が、複数形成されている。この陰極３５の通水孔は、イオン交換膜３４の通水孔と同一又は互いに近似した開口形状を有する。また、陰極３５の通水孔は、イオン交換膜３４の通水孔の配列と同一ピッチ、同一方向に列設されている。
【００３２】
オゾン発生部８Ａ、８Ｂは、成膜用基板３２に成膜したダイヤモンド膜３３上にイオン交換膜３４を載せ、イオン交換膜３４上に陰極３５を載せて構成されている。イオン交換膜３４及び陰極３５は、液体１０の流れる方向に直交するようなスリット状に形成される。
【００３３】
このオゾン発生部８Ａ、８Ｂは、陰極３５の表面からイオン交換膜３４及び陰極３５により形成される通水孔へ液体１０を受け入れる。また、オゾン発生部８Ａ、８Ｂは、イオン交換膜３４の端部とダイヤモンド膜３３との界面で発生したオゾンを含む液体１０を通水孔から送り出す。すなわち、通水孔の上面が液体１０の受入面となり、オゾン発生部８Ａ、８Ｂは、当該受入面から液体１０を受け入れて、オゾンとともに送り出す。
【００３４】
オゾン発生部８Ａ、８Ｂは、導電成膜としてのダイヤモンド膜３３とイオン交換膜３４との界面の少なくとも一部が水としての液体１０と接触するように構成されている。図１に示す構成例では、イオン交換膜３４及び陰極３５が側面となり、ダイヤモンド膜３３が底部となっている通水孔を形成している。この通水孔において、イオン交換膜３４とダイヤモンド膜３３との界面の少なくとも一部が液体１０と接触する。オゾン発生部８Ａ、８Ｂは、図中左側から右側への流路１０ｂに沿って供給された液体１０に電解処理をする。オゾン発生部８Ａ、８Ｂは、通水孔中で電解処理をして、当該電解処理をした液体１０を送り出す。電解処理した液体１０はオゾン（Ｏ３）を含み、図２に示すように、水流出側に向けて流れる。オゾンは、通水孔から送出されて水流出側に向けて流れる過程で、液体１０に溶解する。
【００３５】
オゾン発生部８Ａ、８Ｂは、イオン交換膜３４からのイオン供給及び電源４からの電流を受けて、ダイヤモンド膜３３とイオン交換膜３４との界面においてオゾンを電気化学的に生成させる電解処理を行う。この電気化学反応は、以下の通りである。
【００３６】
陽極側：３Ｈ２Ｏ→Ｏ３＋６Ｈ＋＋６ｅ−
陰極側：２Ｈ＋＋２ｅ−→Ｈ２
このようなオゾン水処理装置は、圧力容器１内を密閉した状態で、液体１０中にオゾンが溶解したオゾン水を被処理物１００の表面に接触させる。このオゾン水処理装置において、オゾン発生部８Ａ、８Ｂによってオゾンを発生させると、そのオゾンの一部が気泡となって、液体１０外に移動する。また、被処理物１００が液体１０に浸漬されると、被処理物１００の表面に発生した気泡が液体１０外に移動する。これにより、圧力容器１内において加圧が進行することとなる。
【００３７】
オゾン水処理装置において、液体１０から気体として排出されるオゾンは、圧力容器１内における液体１０上の空間に蓄積される。オゾン水処理装置は、圧力容器１内の気体オゾンを除去するために、オゾン除害装置６を備える。このオゾン除害装置６は、排気Ａ４のオゾン濃度を所定の許容濃度以下とするよう構成されている。オゾン除害装置６は、触媒、活性炭、熱分解によって、排気Ａ４中のオゾンを除害する。
【００３８】
オゾン水処理装置は、圧力容器１とオゾン除害装置６とを配管Ｌ２を介して接続している。気体オゾンの排出時において、オゾン水処理装置は、配管Ｌ２に設けられた開閉弁２２を開状態に動作させる。また、オゾン水処理装置は、真空ポンプ５によって圧力容器１内を真空に近づける場合に、真空ポンプ５からの排気を配管Ｌ４を介してオゾン除害装置６に供給する。
【００３９】
以上のように、このオゾン水処理装置は、内部を密閉した状態で液体１０を保持する圧力容器１と、圧力容器１内の液体中にて被処理物１００をオゾン水処理する処理部１Ａと、処理部１Ａ内に被処理物１００を保持する保持部１１とを有する。さらに、オゾン水処理装置は、圧力容器１内に配設され、液体１０中にオゾンを発生するオゾン発生部８Ａ、８Ｂを有する。これにより、オゾン水処理装置は、圧力容器１内を加圧した状態で、液体１０中にオゾンが溶解したオゾン水を被処理物１００の表面に接触させる。
【００４０】
さらに、この本実施形態は、内部を密閉した状態で液体１０を圧力容器１に保持しておき、液体１０中に被処理物１００を浸漬し、圧力容器１内を加圧した状態で、液体１０内に配設したオゾン発生部８Ａ、８Ｂによってオゾンを発生させる。これにより、液体１０中にオゾンが溶解したオゾン水を被処理物１００の表面に接触させるオゾン水処理方法を実施する。
【００４１】
このようなオゾン水処理装置は、圧力容器１内部を密閉し、オゾン水処理時に圧力容器１内を加圧することができる。さらに、オゾン水処理装置は、液体１０内でオゾンを発生させる。これにより、オゾン水処理装置は、効率よく高濃度のオゾン水を生成して、液体１０のオゾン濃度を高めることができる。その結果、オゾン水処理装置によれば、被処理物１００のオゾン水処理の所要時間を短縮でき、被処理物１００に対するオゾン水処理を高速化できる。これにより、被処理物１００の酸化及び洗浄の所要時間を短縮できる。
【００４２】
上述したオゾン水処理装置において、被処理物１００は多孔質セラミックであってもよい。多孔質セラミックは、オゾン水処理の対象面積が大きい。したがって、オゾン水処理装置のように、高い濃度のオゾン水を生成することによりオゾン水処理が高速化となる効果が大きい。
【００４３】
上述したオゾン水処理装置において、図１に示したように、圧力容器１内を能動的に加圧状態にする加圧装置（加圧部）２を備えることが望ましい。この加圧装置２は、例えば配管Ｌ１を介して圧縮空気Ａ１を圧力容器１に導入する。配管Ｌ１には、開閉弁２１が設けられている。開閉弁２１は、図示しないコントローラの制御にしたがって開閉動作する。
【００４４】
オゾン水処理装置は、圧力容器１内を加圧するに際して、開閉弁２１を開状態にし、加圧装置２から圧力容器１内に圧縮空気Ａ１を導入する。これにより、オゾン水処理装置は、上述したオゾン水処理装置よりも、さらに圧力容器１内の圧力を高くすることができる。したがって、オゾン水処理装置は、オゾンの濃度がさらに高いオゾン水を生成して、被処理物１００に対してオゾン水処理を行うことができる。
【００４５】
上述したオゾン水処理装置において、図１に示したように、圧力容器１内を真空状態にするための真空ポンプ５を備えることが望ましい。この真空ポンプ５は、圧力容器１内の気体Ａ３を取り込む。このとき、オゾン水処理装置は、圧力容器１と真空ポンプ５とを接続する配管Ｌ３に設けた開閉弁２３を開状態にする。
【００４６】
これにより、オゾン水処理装置は、圧力容器１を真空状態に近づけた上でオゾンが溶解した液体１０に被処理物１００を沈めて浸漬するときに被処理物１００の表面に気泡が生じても、当該気泡を取り除きやすくすることができる。特に、被処理物１００の表面が多孔質である場合に、表面に気泡が残りにくくなる。例えば圧力容器１内の圧力を１０〜１０４Ｐａ（パスカル）の範囲とすれば、表面に気泡が残りにくくなる効果を得ることができる。
【００４７】
さらに、このオゾン水処理装置によれば、被処理物１００が多孔質体の場合において、液体１０を圧力容器１に供給する以前に真空ポンプ５によって圧力容器１内を真空状態に近づけておいてもよい。これにより、多孔質体内部に溜まった気泡が液体１０から浮かび上がって、気泡を除去しやすくなる。
【００４８】
オゾン水処理装置によれば、真空ポンプ５によって圧力容器１内を真空状態に近づけることにより、被処理物１００の表面に気泡が残ることを抑制することができる。したがって、このオゾン水処理装置は、例えば被処理物１００として多孔質体を処理する場合であっても、多孔質体の内部の気泡が抜けずに処理むらが発生することを抑制できる。
【００４９】
上述したオゾン水処理装置において、加圧装置２と真空ポンプ５とは、併存していてもよい。このようなオゾン水処理装置は、先ず真空ポンプ５によって圧力容器１内の気体を取り込んで、圧力容器１内を真空状態に近づける。そして、オゾン水処理装置は、オゾン水処理の対象となる被処理物１００を液体１０内に沈めて浸漬させる。これにより、被処理物１００を液体１０に浸漬させたときに被処理物１００の表面に発生した気泡を、被処理物１００から除去しやすくできる。その後、オゾン水処理装置は、真空ポンプ５を停止させると共に開閉弁２３を閉状態に動作させ、開閉弁２１を開状態に動作させると共に加圧装置２を動作させる。これにより、加圧装置２から圧力容器１には、圧縮空気が導入されて、圧力容器１内の圧力が高くなる。このような状態で、オゾン水処理装置は、電源４によってオゾン発生部８Ａ、８Ｂに電圧印加を行って、オゾン発生部８Ａ、８Ｂによってオゾンを発生させる。このとき、圧力容器１内は加圧されていることから、液体１０におけるオゾン濃度を高めることができる。
【００５０】
上述したオゾン水処理装置は、圧力容器１内の液体１０に超音波を与える超音波発振部７を備えていることが望ましい。この超音波発振部７は、本実施形態において圧力容器１の内壁に取り付けられている。超音波発振部７は、図１に示すように、被処理物１００の近傍に設けられることが望ましい。これにより、超音波発振部７は、被処理物１００を液体１０に浸漬したときに生じる気泡を取り除くことができる。超音波発振部７は、図示しない電源から電圧が供給されることによって発振して、圧力容器１内の液体１０に超音波を与える。
【００５１】
このようなオゾン水処理装置によれば、被処理物１００を液体１０に浸漬した後に、超音波発振部７を動作させる。これにより、オゾン水処理装置は、超音波によって被処理物１００の表面に発生した気泡を壊して、取り除くことができる。また、オゾン水処理装置は、オゾン発生部８Ａ、８Ｂによって発生したオゾンの気泡が被処理物１００に付着したときでも、超音波発振部７によって気泡を除去できる。したがって、このオゾン水処理装置によれば、被処理物１００の表面に気泡が残ることによってオゾン水処理にムラが生じることを抑制することができる。特に、被処理物１００が多孔質体であるときには多孔質体の表面や内部に気泡が溜まりやすいが、当該気泡を超音波によって除去できる。
【００５２】
さらに、上述したオゾン水処理装置において、被処理物１００にオゾン水処理を行う処理部は、圧力容器１内の液体１０を冷却する冷却装置３（冷却部）を有していることが望ましい。図１に示した本実施形態のオゾン水処理装置において、冷却装置３は、液体１０を循環させる循環式のものである。冷却装置３は、圧力容器１内の液体１０（Ｗ３）を配管Ｌ１４から引き込み、引き込んだ液体１０を冷却する。冷却装置３は、冷却した液体１０（Ｗ４）を配管Ｌ１３から圧力容器１に導入する。
【００５３】
冷却装置３から圧力容器１に導入された液体１０は、例えば、圧力容器１中の点線で示すような流路１０ａ、１０ｂを形成する。冷却された液体１０がオゾン発生部８Ａ、８Ｂ付近に供給されることにより、オゾン発生部８Ａ、８Ｂの電極反応に伴う温度上昇を抑制する。これにより、オゾン水処理装置は、オゾン発生部８Ａ、８Ｂ付近における液体１０の温度上昇にともなうオゾン分解を抑制する。これにより、オゾン水処理装置は、液体１０におけるオゾンの溶解度を向上し、オゾン濃度を維持することができる。すなわち、上述したように圧力容器１内を加圧して液体１０におけるオゾン濃度を高めても、液体１０を冷却することによってオゾン濃度の低下を抑制できる。
【００５４】
さらに、上述したオゾン水処理装置は、圧力容器１内の液体１０を攪拌する攪拌部を備えていることが望ましい。この攪拌部は、圧力容器１内の液体１０を攪拌して、オゾン発生部８Ａ、８Ｂ付近における液体１０によって流路を形成できればよい。例えば図１において、オゾン発生部８Ａ、８Ｂ上を流れる流路１０ｂを形成する冷却装置３が、攪拌部として機能する。この攪拌部は、オゾンが溶解された液体１０を被処理物１００に接触させてオゾン水処理をする処理部としても機能する。
【００５５】
また、攪拌部としての形態は、冷却装置３に限らず、その他の形態であってもよいことは勿論である。例えば、冷却装置３は、液体１０の一部を冷却するものであってもよい。これにより、冷却装置３は、圧力容器１内において液体１０の密度差を生じさせる。これによっても、冷却装置３は、圧力容器１内において液体１０の流路を形成することができる。
【００５６】
このようなオゾン水処理装置によれば、攪拌部により生じた水流によってオゾン発生部８Ａ、８Ｂの表面に発生する気泡を除去でき、オゾン発生部８Ａ、８Ｂの電解効率を向上させることができる。
【００５７】
さらに、オゾン水処理装置は、図３に示すように、圧力容器１からの液体出口が、圧力容器１の側面であって被処理物１００の位置よりも上方に設置されていてもよい。このオゾン水処理装置において、攪拌部としての冷却装置３は、圧力容器１内の液体出口から液体を取り出して、圧力容器１内の液体入口から液体１０を導入する。このオゾン水処理装置において、オゾン発生部８Ａ、８Ｂは、圧力容器１内の液体出口付近に配置する。
【００５８】
このようなオゾン水処理装置は、液体１０の出口付近にオゾン発生部８Ａ、８Ｂを設けたので、オゾン発生部８Ａ、８Ｂ付近に液体１０の流れを形成することができる。さらに、このオゾン水処理装置によれば、被処理物１００よりも上方にオゾン発生部８Ａ、８Ｂを設置したので、オゾン発生部８Ａ、８Ｂから発生した気泡が被処理物１００に付着することを抑制することができる。したがって、被処理物１００に気泡が溜まってオゾン水処理がされない箇所の発生を抑制できる。
【００５９】
なお、上述の実施の形態は本発明の一例である。このため、本発明は、上述の実施形態に限定されることはなく、この実施の形態以外であっても、本発明に係る技術的思想を逸脱しない範囲であれば、設計等に応じて種々の変更が可能であることは勿論である。
【符号の説明】
【００６０】
１  圧力容器
１Ａ  処理部
２  加圧装置
３  冷却装置
４  電源
５  真空ポンプ
６  オゾン除害装置
７  超音波発振部
８Ａ  オゾン発生部
１０  液体
１１  保持部
１００  被処理物
【図１】
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【図２】
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【図３】
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