(57)【要約】【課題】製造工程の流れを簡素にすることのできる透明導電性積層体、タッチパネル、および、透明導電性積層体の製造方法を提供する。【解決手段】透明導電性積層体１０は、基板１１と、第１の透明電極層１２ａと、基板１１を挟んで第１の透明電極層１２ａと対向する第２の透明電極層１２ｂと、を備える。第１の透明電極層１２ａおよび第２の透明電極層１２ｂの各々は、繊維状の金属から構成されて導電性を有する電極部１３ａ，１３ｂと、基板１１に沿って、電極部１３ａ，１３ｂを含めた領域に広がる樹脂部１４ａ，１４ｂと、を含み、第１の透明電極層１２ａおよび第２の透明電極層１２ｂの少なくとも一方が含む樹脂部１４ａ，１４ｂは、可視領域以外に波長を有する光を吸収する機能を有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
第１の透明電極層と、
前記基板を挟んで前記第１の透明電極層と対向する第２の透明電極層と、を備え、
前記第１の透明電極層および前記第２の透明電極層の各々は、繊維状の金属から構成されて導電性を有する電極部と、前記基板に沿って、前記電極部を含めた領域に広がる樹脂部と、を含み、
前記第１の透明電極層および前記第２の透明電極層の少なくとも一方が含む前記樹脂部は、可視領域以外に波長を有する光を吸収する機能を有する
透明導電性積層体。
【請求項２】
前記光を吸収する機能を有する前記樹脂部は、紫外領域の波長の光を吸収する
請求項１に記載の透明導電性積層体。
【請求項３】
前記光を吸収する機能を有する前記樹脂部は、紫外線吸収剤または紫外線吸収機能を有する樹脂を含む
請求項１または２に記載の透明導電性積層体。
【請求項４】
波長４００ｎｍにおける光線透過率が６０％以上であり、かつ、波長３６５ｎｍにおける光線透過率が２０％以下である
請求項１〜３のいずれか一項に記載の透明導電性積層体。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の透明導電性積層体を備える
タッチパネル。
【請求項６】
基板の表面側に、繊維状の金属を含む第１の金属層を形成する工程と、
基板の裏面側に、繊維状の金属を含む第２の金属層を形成する工程と、
前記第１の金属層に樹脂を含む溶液を塗布して、前記第１の金属層と樹脂部とからなる第１の透明導電層を形成する工程と、
前記第２の金属層に樹脂を含む溶液を塗布して、前記第２の金属層と樹脂部とからなる第２の透明導電層を形成する工程と、
前記第１の透明導電層の面上と、前記第２の透明導電層の面上とにレジストを形成する工程と、
前記第１の透明導電層の面上に形成されたレジストと、前記第２の透明導電層の面上に形成されたレジストとを露光する工程と、
感光した前記レジストを現像する工程と、
現像された前記レジストから露出する前記第１の透明導電層をエッチングして前記第１の金属層の一部を除去し、現像された前記レジストから露出する前記第２の透明導電層をエッチングして前記第２の金属層の一部を除去する工程と、を含み、
前記第１の透明導電層および前記第２の透明導電層の少なくとも一方が含む前記樹脂部は、可視領域以外に波長を有する露光光を吸収する機能を有する
透明導電性積層体の製造方法。
【請求項７】
第１の基板の表面側に、繊維状の金属を含む第１の金属層を形成する工程と、
第２の基板の表面側に、繊維状の金属を含む第２の金属層を形成する工程と、
前記第１の金属層に樹脂を含む溶液を塗布して、前記第１の金属層と樹脂部とからなる第１の透明導電層を形成する工程と、
前記第２の金属層に樹脂を含む溶液を塗布して、前記第２の金属層と樹脂部とからなる第２の透明導電層を形成する工程と、
前記第１の基板の裏面と前記第２の基板の裏面とを貼り合わせる工程と、
前記第１の透明導電層の面上と、前記第２の透明導電層の面上とにレジストを形成する工程と、
前記第１の透明導電層の面上に形成されたレジストと、前記第２の透明導電層の面上に形成されたレジストとを露光する工程と、
感光した前記レジストを現像する工程と、
現像された前記レジストから露出する前記第１の透明導電層をエッチングして前記第１の金属層の一部を除去し、現像された前記レジストから露出する前記第２の透明導電層をエッチングして前記第２の金属層の一部を除去する工程と、を含み、
前記第１の透明導電層および前記第２の透明導電層の少なくとも一方が含む前記樹脂部は、可視領域以外に波長を有する露光光を吸収する機能を有する
透明導電性積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示の技術は、透明導電性積層体、透明導電性積層体を備えたタッチパネル、および、透明導電性積層体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子機器の入力デバイスとして、静電容量方式のタッチパネルが広く用いられている。投影型静電容量方式のタッチパネルは、静電容量の変化を検出するための２つの電極を備えている。２つの電極は、例えば特許文献１に記載のように、１枚の透明な基板を挟んで対向している。これらの電極は、基板に成膜された透明な導電膜がパターニングされることによって形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−１９４６７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、基板に成膜された導電膜をパターニングする方法の１つとして、フォトリソグラフィを用いる方法が普及している。こうした方法では、導電膜の上に形成されたレジストが露光・現像されることにより、レジストに電極のパターンに応じたパターンが形成される。そして、レジストのパターンに沿って導電膜がエッチングされることにより、導電膜がパターニングされて、電極が形成される。
【０００５】
ここで、互いに対向する２つの導電膜が、互いに異なる形状にパターニングされるとき、まず、一方の導電膜の上にレジストが形成されて、そのレジストがパターニングされる。次いで、他方の導電膜の上に他のレジストが形成されて、他のレジストがパターニングされる。こうしたパターニングの繰り返しでは、互いに異なる工程である露光と現像とが交互に繰り返されるため、透明導電性積層体の製造の煩雑さを増している。
【０００６】
本開示の技術は、製造工程の流れを簡素にすることのできる透明導電性積層体、タッチパネル、および、透明導電性積層体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決する透明導電性積層体は、基板と、第１の透明電極層と、前記基板を挟んで前記第１の透明電極層と対向する第２の透明電極層と、を備え、前記第１の透明電極層および前記第２の透明電極層の各々は、繊維状の金属から構成されて導電性を有する電極部と、前記基板に沿って、前記電極部を含めた領域に広がる樹脂部と、を含み、前記第１の透明電極層および前記第２の透明電極層の少なくとも一方が含む前記樹脂部は、可視領域以外に波長を有する光を吸収する機能を有する。
【０００８】
第１の透明電極層の電極部と第２の透明電極層の電極部とがフォトリソグラフィによって形成される際には、第１の透明電極層の電極部を形成するためのレジストと、第２の透明電極層の電極部を形成するためのレジストとが、基板を挟んで対向する位置に設けられる。上記構成によれば、一方のレジストを露光するために照射された光のうち、レジストに吸収されなかった光を第１の透明電極層の樹脂部、および、第２の透明電極層の樹脂部の少なくとも一方が吸収する。したがって、一方のレジストに対する露光光が他方のレジストに到達することが抑えられるため、２つの透明電極層の電極部が互いに異なるパターンを有する場合であっても、２つのレジストの現像前に、２つのレジストをまとめて露光することができる。その結果、レジストの形成や露光や現像等の工程を、透明電極層が形成される面ごとに繰り返す製造方法と比較して、製造工程の流れを簡素にすることができる。
【０００９】
上記透明導電性積層体において、前記光を吸収する機能を有する前記樹脂部は、紫外領域の波長の光を吸収することが好ましい。
実用上、レジストの露光を紫外領域の波長の光によって行うことには困難が少ない。上記構成によれば、可視領域以外に波長を有する光を吸収する機能が、実用上好ましい形態で実現される。
【００１０】
上記透明導電性積層体において、前記光を吸収する機能を有する前記樹脂部は、紫外線吸収剤または紫外線吸収機能を有する樹脂を含むことが好ましい。
上記構成によれば、樹脂部に紫外領域の波長の光を吸収する機能を適切に付加することができる。
【００１１】
上記透明導電性積層体は、波長４００ｎｍにおける光線透過率が６０％以上であり、かつ、波長３６５ｎｍにおける光線透過率が２０％以下であることが好ましい。
上記構成によれば、樹脂部による紫外領域の波長の光を吸収する機能が適切に実現される。したがって、紫外領域の波長の光を主とする光によってレジストが露光される場合に、一方のレジストに対する露光光が他方のレジストに到達することが適切に抑えられる。
【００１２】
上記課題を解決するタッチパネルは、上記構成を有する透明導電性積層体を備える。  
上記構成によれば、タッチパネルの備える透明導電性積層体を、簡素な流れの製造工程にて製造することができる。
【００１３】
上記課題を解決する透明導電性積層体の製造方法は、基板の表面側に、繊維状の金属を含む第１の金属層を形成する工程と、基板の裏面側に、繊維状の金属を含む第２の金属層を形成する工程と、前記第１の金属層に樹脂を含む溶液を塗布して、前記第１の金属層と樹脂部とからなる第１の透明導電層を形成する工程と、前記第２の金属層に樹脂を含む溶液を塗布して、前記第２の金属層と樹脂部とからなる第２の透明導電層を形成する工程と、前記第１の透明導電層の面上と、前記第２の透明導電層の面上とにレジストを形成する工程と、前記第１の透明導電層の面上に形成されたレジストと、前記第２の透明導電層の面上に形成されたレジストとを露光する工程と、感光した前記レジストを現像する工程と、現像された前記レジストから露出する前記第１の透明導電層をエッチングして前記第１の金属層の一部を除去し、現像された前記レジストから露出する前記第２の透明導電層をエッチングして前記第２の金属層の一部を除去する工程と、を含み、前記第１の透明導電層および前記第２の透明導電層の少なくとも一方が含む前記樹脂部は、可視領域以外に波長を有する露光光を吸収する機能を有する。
【００１４】
上記課題を解決する透明導電性積層体の製造方法は、第１の基板の表面側に、繊維状の金属を含む第１の金属層を形成する工程と、第２の基板の表面側に、繊維状の金属を含む第２の金属層を形成する工程と、前記第１の金属層に樹脂を含む溶液を塗布して、前記第１の金属層と樹脂部とからなる第１の透明導電層を形成する工程と、前記第２の金属層に樹脂を含む溶液を塗布して、前記第２の金属層と樹脂部とからなる第２の透明導電層を形成する工程と、前記第１の基板の裏面と前記第２の基板の裏面とを貼り合わせる工程と、前記第１の透明導電層の面上と、前記第２の透明導電層の面上とにレジストを形成する工程と、前記第１の透明導電層の面上に形成されたレジストと、前記第２の透明導電層の面上に形成されたレジストとを露光する工程と、感光した前記レジストを現像する工程と、現像された前記レジストから露出する前記第１の透明導電層をエッチングして前記第１の金属層の一部を除去し、現像された前記レジストから露出する前記第２の透明導電層をエッチングして前記第２の金属層の一部を除去する工程と、を含み、前記第１の透明導電層および前記第２の透明導電層の少なくとも一方が含む前記樹脂部は、可視領域以外に波長を有する露光光を吸収する機能を有する。
【００１５】
上記方法によれば、一方のレジストを露光するために照射された光のうちレジストに吸収されなかった光を、第１の透明導電層の樹脂部、および、第２の透明導電層の樹脂部の少なくとも一方が吸収する。したがって、一方のレジストに対する露光光が他方のレジストに到達することが抑えられるため、２つの透明導電層が含む金属層に互いに異なるパターンが形成される場合であっても、一方のレジストに形成されるパターンが他方のレジストに形成されるパターンに影響を与えることが抑えられる。そして、２つのレジストの現像前に、２つのレジストをまとめて露光することが可能となる結果、レジストの形成や露光や現像等の工程を、透明導電層が形成された面ごとに繰り返す製造方法と比較して、製造工程の流れを簡素にすることができる。
【発明の効果】
【００１６】
本開示の技術によれば、透明導電性積層体の製造工程の流れを簡素にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本開示の技術における一実施形態での透明導電性積層体の断面構造を示す断面図である。
【図２】本開示の技術における一実施形態でのタッチパネルの断面構造を示す断面図である。
【図３】一実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、基板の表面側での金属層の形成工程を示す図である。
【図４】一実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、基板の表面側での透明導電層の形成工程を示す図である。
【図５】一実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、基板の裏面側での透明導電層の形成工程を示す図である。
【図６】一実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、レジストの形成工程を示す図である。
【図７】一実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、露光工程を示す図である。
【図８】一実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、露光が行われた後の透明導電性積層体を示す図である。
【図９】一実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、現像工程を示す図である。
【図１０】一実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、エッチング工程を示す図である。
【図１１】一実施形態での透明導電性積層体の製造工程を示す図であって、レジストの除去工程を示す図である。
【図１２】変形例での透明導電性積層体の断面構造を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
図１〜図１１を参照して、透明導電性積層体、タッチパネル、および、透明導電性積層体の製造方法の一実施形態について説明する。本実施形態において、透明導電性積層体は、タッチパネルの構成部材の１つである。
【００１９】
［透明導電性積層体の構成］
図１を参照して、透明導電性積層体の構成について説明する。
図１に示されるように、透明導電性積層体１０は、透明な基板１１と、基板１１の表面に形成された透明電極層１２ａと、基板１１の裏面に形成された透明電極層１２ｂとを備えている。２つの透明電極層１２ａ，１２ｂは、基板１１を挟んで対向している。透明電極層１２ａは第１の透明電極層の一例であり、透明電極層１２ｂは第２の透明電極層の一例である。
【００２０】
基板１１としては、例えば、ガラスや樹脂フィルムが用いられる。樹脂フィルムに用いられる樹脂は、形成されたフィルムが成膜工程および後工程にて基板に要求される強度を有し、表面の平滑性が良好であれば、限定されない。樹脂フィルムに用いられる樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリアリレート、環状ポリオレフィン、または、ポリイミド等が挙げられる。基板１１は、透明導電性積層体１０の薄型化を図るとともに基板１１の可撓性を保持するために、１０μｍ以上２００μｍ以下であることが好ましい。
【００２１】
基板１１は、種々の添加剤や安定剤を含んでもよい。添加剤や安定剤としては、例えば、帯電防止剤、可塑剤、滑剤、または、易接着剤等が挙げられる。基板１１に対しては、基板１１に積層される層と基板１１との密着性を向上させるために、前処理としてコロナ処理、低温プラズマ処理、イオンボンバード処理、または、薬品処理等が施されてもよい。
【００２２】
透明電極層１２ａは、複数の導電領域１３ａと複数の非導電領域１４ａとを有している。同様に、透明電極層１２ｂは、複数の導電領域１３ｂと複数の非導電領域１４ｂとを有している。導電領域１３ａ，１３ｂは、電極部の一例である。
【００２３】
導電領域１３ａ，１３ｂは、金属製のナノワイヤー等の繊維状の金属を含んでいる。繊維状の金属としては、例えば、金、銀、銅、または、コバルト等が用いられる。導電領域１３ａ，１３ｂに含まれる繊維状の金属は、導電領域１３ａ，１３ｂ内で互いに接触しており、これによって、導電領域１３ａ，１３ｂは導電性を有している。
【００２４】
透明電極層１２ａは、例えば、Ｘ方向に延びる複数の導電領域１３ａが、Ｘ方向と直交するＹ方向に間をあけて並設されたパターンに形成されている。非導電領域１４ａは、複数の導電領域１３ａの間の領域であって、導電領域１３ａの各々と絶縁されている。透明電極層１２ａと対向する透明電極層１２ｂは、例えば、Ｙ方向に延びる複数の導電領域１３ｂが、Ｘ方向に間をあけて並設されたパターンに形成されている。非導電領域１４ｂは、複数の導電領域１３ｂの間の領域であって、導電領域１３ｂの各々と絶縁されている。導電領域１３ａ，１３ｂの各々は、例えば、網目状や、帯状に形成される。
【００２５】
導電領域１３ａ，１３ｂの各々は、導電領域１３ａ，１３ｂに形成される静電容量の変化を、電流の変化によって検出する回路に接続されている。人の指等が導電領域１３ａ，１３ｂに接近すると、静電容量が変化する。この静電容量の変化が検出されることに基づいて、人の指等の接触位置が判定される。
【００２６】
また、透明電極層１２ａは、樹脂を主成分とする樹脂部１５ａを有している。樹脂部１５ａは、基板１１の表面に沿って、導電領域１３ａおよび非導電領域１４ａを含めた透明電極層１２ａの全域に広がっている。同様に、透明電極層１２ｂは、樹脂を主成分とする樹脂部１５ｂを有している。樹脂部１５ｂは、基板１１の裏面に沿って、導電領域１３ｂおよび非導電領域１４ｂを含めた透明電極層１２ｂの全域に広がっている。透明電極層１２ａ，１２ｂが樹脂部１５ａ，１５ｂを有することによって、導電領域１３ａ，１３ｂからの繊維状の金属の脱離が抑えられるとともに、透明導電性積層体１０の機械的強度が向上し、また、繊維状の金属が保護されて耐久性が向上する。
【００２７】
樹脂部１５ａ，１５ｂに含まれる樹脂としては、特に限定されないが、透明性と適度な硬度と機械的強度を有する樹脂が好ましい。具体的な例としては、３次元架橋の期待できる３官能以上のアクリレートを主成分とするモノマーや架橋性オリゴマー等の光硬化性樹脂を用いることが好ましい。
【００２８】
３官能以上のアクリレートモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、または、ポリエステルアクリレート等が用いられることが好ましく、特に、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリアクリレートおよびポリエステルアクリレートのいずれかが用いられることが好ましい。これらのアクリレートモノマーは、単独で用いてもよいし、２種以上のモノマーを併用してもよい。また、これら３官能以上のアクリレートの他に、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリオールアクリレート等のアクリル系樹脂を併用することが可能である。
【００２９】
架橋性オリゴマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、または、シリコーン（メタ）アクリレート等のアクリルオリゴマーを用いることが好ましい。具体的な例としては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート、ポリウレタンのジアクリレート、クレゾールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３０】
樹脂部１５ａ，１５ｂには、重合開始剤等の添加剤が混合されていてもよい。
重合開始剤として光重合開始剤を添加する場合、ラジカル発生型の光重合開始剤として、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルメチルケタール等のベンゾインとそのアルキルエーテル類、アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のアセトフェノン類、メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン等のアントラキノン類、チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類、アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類、ベンゾフェノン、４，４−ビスメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、または、アゾ化合物等が挙げられる。これらの光重合開始剤は、単独で用いてもよく、２種以上の重合開始剤を混合して用いてもよい。さらに、これらの光重合開始剤は、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の第３級アミンや、２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸誘導体等の光開始助剤等と組み合わせて使用することができる。
【００３１】
透明電極層１２ａ，１２ｂは、樹脂部１５ａ，１５ｂにて、レジストを露光するための光を吸収する機能を有する。レジストを露光するための光は、レジストの種類や光源の種類によって異なるが、通常、紫外領域の波長（約２００ｎｍ〜約３８０ｎｍ）と可視領域の波長（約３８０ｎｍ〜約７８０ｎｍ）の光が用いられることが多い。したがって、樹脂部１５ａ，１５ｂは、上記の領域の光を吸収することが好ましい。特に、樹脂部１５ａ，１５ｂが紫外領域の光を吸収すると、実用性が高められるため好ましい。
【００３２】
樹脂部１５ａ，１５ｂが光を吸収する機能を有することによって、基板１１を挟んで形成された２つのレジストを露光する際に、一方のレジストを露光するために照射された光のうち、レジストに吸収されなかった光を樹脂部１５ａ，１５ｂが吸収する。したがって、一方のレジストに対する露光光が他方のレジストに到達することが抑えられる。
【００３３】
樹脂部１５ａ，１５ｂは、光吸収材料を含んでいる。紫外領域の光を吸収するために用いられる光吸収材料としては、紫外線吸収剤や紫外線吸収機能を有する樹脂等が挙げられる。光吸収材料は、樹脂部１５ａ，１５ｂに含まれる樹脂への紫外線吸収剤の混合や、樹脂部１５ａ，１５ｂに含まれる樹脂と紫外線吸収機能を有する樹脂との共重合によって、樹脂部１５ａ，１５ｂに付加される。
【００３４】
紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、サリシレート系、トリアジン系、または、シアノアクリルレート系等の紫外線吸収剤が挙げられる。具体例としては、例えば、ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤として、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ｐ−クレゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−［５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチル−６−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−イル）−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール等やこれらの混合物、変性物、重合物、誘導体等が挙げられる。また、例えば、トリアジン系の紫外線吸収剤としては、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシ−４−イソ−オクチルオキシフェニル）−ｓ−トリアジン等やこれらの混合物、変性物、重合物、誘導体等が挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、単独で用いてもよいし、２種以上の紫外線吸収剤を混合して用いてもよい。
【００３５】
紫外線吸収機能を有する樹脂は、上記のベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、サリシレート系、トリアジン系、シアノアクリルレート系等の非反応性紫外線吸収剤に、ビニル基、アクリロイル基、メタアクリロイル基等の重合性二重結合を有する官能基や、アルコール性水酸基、アミノ基、カルボキシル基、エポキシ基、または、イソシアネート基等を導入した化合物である。これらの樹脂と、樹脂部１５ａ，１５ｂに含まれる樹脂とを共重合させることにより、紫外線吸収機能を有する樹脂部１５ａ，１５ｂが得られる。
【００３６】
上記の光吸収材料は、単独で用いてもよいし、２種以上の材料を混合して用いてもよい。例えば、吸収できる光の波長が異なる複数の光吸収材料を用いることによって、広い波長領域で光を吸収することができる。
【００３７】
透明電極層１２ａ，１２ｂの厚みは、繊維状の金属の環境試験に対する耐久性が保持され、また、金属が脱落しない厚みであれば特に限定されない。ただし、透明電極層１２ａ，１２ｂが厚すぎると、金属が樹脂に覆われて導電性が低くなる。これらの理由から、透明電極層１２ａ，１２ｂの厚みは、３０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００３８】
透明導電性積層体１０は、波長４００ｎｍにおける光線透過率が６０％以上であり、かつ、波長３６５ｎｍにおける光線透過率が２０％以下であることが好ましい。光線透過率が上記の範囲であると、紫外領域の波長の光によってレジストが露光される場合に、一方のレジストに吸収されなかった光が他方のレジストに達することが的確に抑えられる。また、こうした効果を高めるためには、透明電極層１２ａ，１２ｂの波長４００ｎｍにおける光線透過率が８０％以上であり、かつ、波長３６５ｎｍにおける光線透過率が２０％以下であることが好ましい。
【００３９】
また、透明導電性積層体１０の積層方向において、透明電極層１２ａの導電領域１３ａと透明電極層１２ｂの導電領域１３ｂとが重なる部分と、透明電極層１２ａの非導電領域１４ａと透明電極層１２ｂの非導電領域１４ｂとが重なる部分との全光線透過率の差が１．５％以下であり、かつ、透過色相ｂ＊差が２．０以下であることが好ましい。全光線透過率および透過色相差が上記の範囲内であれば、透明電極層１２ａの導電領域１３ａと透明電極層１２ｂの導電領域１３ｂとが互いに異なるパターンに形成された場合でも、パターン形状が目立たなくなるため、タッチパネルにおける視認性が向上する。
【００４０】
また、透明導電性積層体１０は、１５０℃３０分間における熱収縮率が０．５％以下であることが好ましい。熱収縮率が上記の範囲内であれば、製造工程で加えられる熱によって積層体が収縮することが抑えられる。その結果、透明電極層１２ａと透明電極層１２ｂとのパターンの位置ずれが抑えられる。
【００４１】
なお、透明導電性積層体１０は、基板１１と透明電極層１２ａとの間や、基板１１と透明電極層１２ｂとの間に、他の層を備えていてもよい。他の層としては、例えば、基板１１と透明電極層１２ａ，１２ｂとの密着性を高めるための層や、透明導電性積層体１０の機械的強度を補強するための層等が挙げられる。
【００４２】
図２に示されるように、基板１１の表面側の透明電極層１２ａには、接着層を介してガラス等からなるカバー層３０等が積層されて、タッチパネル３１が構成される。カバー層３０の表面が、人の指等の接触面となる。さらに、基板１１の裏面側の透明電極層１２ｂには、液晶パネル等の表示パネル３２が積層されて、タッチパネル３１と表示パネル３２とから表示装置３３が構成される。
【００４３】
［透明導電性積層体の製造方法］
図３〜図１１を参照して、透明導電性積層体の製造方法について説明する。
図３に示されるように、まず、基板１１の表面に金属層１６ａが形成される。金属層１６ａは、繊維状の金属が分散された溶液が基板１１に塗布されることによって形成される。繊維状の金属を分散させる溶剤は、水、もしくは、アルコール系、具体的には、メタノール、エタノール、イソプロパノール等の親水性の高い溶剤が好ましい。これらの溶剤は、単独で用いてもよいし、２種以上の溶剤を併用してもよい。
【００４４】
金属層１６ａの形成方法としては、スピンコート法、ローラコート法、バーコート法、ディップコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、ダイコート法、スプレーコート法、ドクターコート法、または、ニーダーコート法等の塗布方法や、スクリーン印刷法、スプレー印刷法、インクジェット印刷法、凸版印刷法、凹版印刷法、平版印刷法等の印刷方法等の公知の方法が用いられる。
【００４５】
図４に示されるように、次に、金属層１６ａの上に樹脂部１５ａの構成材料を含む溶液が塗布されて、金属層１６ａと樹脂部１５ａとからなる透明導電層１７ａが形成される。樹脂部１５ａの構成材料を溶かす溶剤としては、上述の主成分のアクリレートを溶解する溶剤であれば特に限定されない。溶剤の具体的な例としては、エタノール、イソプロピルアルコール、イソブチルアルコール、ベンゼン、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、または、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。これらの溶剤は、単独で用いてもよいし、２種以上の溶剤を併用してもよい。
【００４６】
金属層１６ａに塗布された溶液は、金属層１６ａが含む繊維状の金属の隙間にも浸透する。塗布方法には、先に例示した金属層１６ａの形成方法と同様の公知の方法が用いられる。塗布方法は、金属層１６ａの形成方法と同じ方法であってもよく、異なる方法であってもよい。
【００４７】
図５に示されるように、次に、基板１１の裏面に金属層１６ｂが形成される。金属層１６ｂは、金属層１６ａと同様の方法で形成される。そして、金属層１６ｂの上に樹脂部１５ｂの構成材料を含む溶液が塗布されて、金属層１６ｂと樹脂部１５ｂとからなる透明導電層１７ｂが形成される。透明導電層１７ｂは、透明導電層１７ａと同様の方法で形成される。なお、金属層１６ａは第１の金属層の一例であり、金属層１６ｂは第２の金属層の一例である。また、透明導電層１７ａは、第１の透明導電層の一例であり、透明導電層１７ｂは、第２の透明導電層の一例である。
【００４８】
図６に示されるように、次に、基板１１の表面側において、透明導電層１７ａの面上にレジスト１８ａが形成され、基板１１の裏面側において、透明導電層１７ｂの面上にレジスト１８ｂが形成される。
【００４９】
レジスト１８ａ，１８ｂとしては、ネガ型のレジストを用いてもよいし、ポジ型のレジストを用いてもよい。レジスト１８ａ，１８ｂには、公知の材料が用いられ、レジスト１８ａ，１８ｂは、公知の方法によって形成される。
【００５０】
図７に示されるように、次に、レジスト１８ａ，１８ｂに光を照射する２つの光源２１ａ，２１ｂの間に、レジスト１８ａ，１８ｂが形成された積層体が配置される。基板１１の表面側において、レジスト１８ａと光源２１ａとの間には、レジスト１８ａに近い方から、透明電極層１２ａの導電領域１３ａのパターンに応じたパターンを有するマスク１９ａと、特定の波長の光を遮断する光学フィルター２０ａとが、この順に配置される。基板１１の裏面側において、レジスト１８ｂと光源２１ｂとの間には、レジスト１８ｂに近い方から、透明電極層１２ｂの導電領域１３ｂのパターンに応じたパターンを有するマスク１９ｂと、特定の波長の光を遮断する光学フィルター２０ｂとが、この順に配置される。
【００５１】
そして、光源２１ａからレジスト１８ａに対して光が照射されてレジスト１８ａが露光されるとともに、光源２１ｂからレジスト１８ｂに対して光が照射されてレジスト１８ｂが露光される。レジスト１８ａの露光とレジスト１８ｂの露光とは同時に行われる。あるいは、レジスト１８ａの露光と、レジスト１８ｂの露光とは、レジスト１８ａの現像前、かつ、レジスト１８ｂの現像前であれば、各別に行われてもよい。このとき、光学フィルター２０ａ，２０ｂによって特定の波長の光が遮断されるため、レジスト１８ａ，１８ｂは、光源２１ａ，２１ｂから発せられた光のうちの特定の波長の光を除いた光によって露光される。
【００５２】
ここで、透明導電層１７ａ，１７ｂの樹脂部１５ａ，１５ｂが光を吸収する機能を有しているため、光源２１ａから光学フィルター２０ａを介してレジスト１８ａに照射された光のうち、レジスト１８ａに吸収されなかった光は、透明導電層１７ａ，１７ｂの樹脂部１５ａ，１５ｂに吸収される。したがって、光源２１ａからレジスト１８ａに照射された光が積層体を透過してレジスト１８ｂを感光させることを抑えることができる。また、光源２１ｂから光学フィルター２０ｂを介してレジスト１８ｂに照射された光のうち、レジスト１８ｂに吸収されなかった光は、透明導電層１７ａ，１７ｂの樹脂部１５ａ，１５ｂに吸収される。したがって、光源２１ｂからレジスト１８ｂに照射された光が積層体を透過してレジスト１８ａを感光させることを抑えることができる。そのため、２つのレジスト１８ａ，１８ｂの露光が、これら両方のレジスト１８ａ，１８ｂの現像前にまとめて行われても、一方のレジストを露光するための光が積層体を透過して他方のレジストを感光させることが抑えられる。
【００５３】
また、光学フィルター２０ａ，２０ｂによって遮断される光の波長と、樹脂部１５ａ，１５ｂが吸収する光の波長とを調整することによって、レジストを露光するための光の選択的な設定と吸収とが可能になる。例えば、光学フィルター２０ａ，２０ｂが可視領域の波長の光を遮断し、樹脂部１５ａ，１５ｂが紫外領域の波長の光を吸収するように構成される。この場合、露光光は可視領域以外の波長を有する光となり、レジスト１８ａ，１８ｂは、光学フィルター２０ａ，２０ｂを通過した紫外領域の波長の光によって露光される。そして、一方のレジストに吸収されなかった光は、樹脂部１５ａ，１５ｂに吸収される。このように、光学フィルター２０ａ，２０ｂによって遮断される光の波長と、樹脂部１５ａ，１５ｂが吸収する光の波長とを調整することによって、レジスト１８ａ，１８ｂの露光と不要な露光光の吸収とが的確に行われる。
【００５４】
上述のように、光学フィルター２０ａ，２０ｂが可視領域の波長の光を遮断し、樹脂部１５ａ，１５ｂが紫外領域の波長の光を吸収する場合、光学フィルター２０ａ，２０ｂの波長３６５ｎｍにおける光線透過率が８０％以上であることが好ましい。光学フィルター２０ａ，２０ｂの光線透過率が上記の範囲であれば、レジスト１８ａ，１８ｂが紫外領域の波長の光によって露光される。したがって、一方のレジストを露光するために照射された光のうち、レジストに吸収されなかった光が樹脂部１５ａ，１５ｂによって適切に吸収される。
【００５５】
また、レジスト１８ａ，１８ｂの特性によって、光学フィルター２０ａ，２０ｂを通過した光によってレジスト１８ａ，１８ｂが十分に感光しない場合には、光学フィルター２０ａ，２０ｂの波長４００ｎｍにおける光線透過率が、０．１％以上３０％以下の範囲で調整されることが好ましい。
【００５６】
図８に示されるように、レジスト１８ａ，１８ｂが露光されることによって、レジスト１８ａ，１８ｂが感光する。
図９に示されるように、次に、レジスト１８ａ，１８ｂがネガ型の場合には、レジスト１８ａ，１８ｂの感光していない部分が現像液によって除去される。あるいは、レジスト１８ａ，１８ｂがポジ型の場合には、レジスト１８ａ，１８ｂの感光した部分が現像液によって除去される。これにより、レジスト１８ａ，１８ｂに、マスク１９ａ，１９ｂに応じたパターンが形成される。すなわち、レジスト１８ａ，１８ｂに、透明電極層１２ａ，１２ｂにおける導電領域１３ａ，１３ｂのパターンとして設定されたパターンが形成される。
【００５７】
図１０に示されるように、次に、レジスト１８ａのパターンに応じて、透明導電層１７ａの露出部分がエッチングされ、レジスト１８ｂのパターンに応じて、透明導電層１７ｂの露出部分がエッチングされる。エッチング方法は、酸やアルカリへの積層体の浸漬等、公知の方法が用いられる。これにより、透明導電層１７ａ，１７ｂのうち、レジスト１８ａ，１８ｂに覆われていない部分では、繊維状の金属が腐食することによって金属層１６ａ，１６ｂが除去され、樹脂部１５ａ，１５ｂが残る。その結果、透明導電層１７ａ，１７ｂにて、レジスト１８ａ，１８ｂに覆われていない部分に非導電領域１４ａ，１４ｂが形成され、レジスト１８ａ，１８ｂに覆われている部分が導電領域１３ａ，１３ｂとなる。これにより、透明導電層１７ａが含む金属層１６ａがパターニングされて透明電極層１２ａが形成される。また、透明導電層１７ｂが含む金属層１６ｂがパターニングされて透明電極層１２ｂが形成される。なお、非導電領域１４ａ，１４ｂは、導電領域１３ａ，１３ｂと絶縁された状態であればよく、非導電領域１４ａ，１４ｂにおいて、繊維状の金属は完全に除去されていなくてもよい。
【００５８】
図１１に示されるように、次に、レジスト１８ａ，１８ｂが除去される。これにより、透明導電性積層体１０が得られる。
なお、上記の各工程は、ロール・ツー・ロール方式によって行われることが好ましい。これによれば、透明導電性積層体１０を効率よく製造することができるため、透明導電性積層体１０の製造にかかる時間が短縮される。
【００５９】
［作用］
上述の透明導電性積層体、タッチパネル、および、透明導電性積層体の製造方法がもたらす作用について説明する。
【００６０】
上述のように、透明電極層１２ａ，１２ｂが有する樹脂部１５ａ，１５ｂが光を吸収する機能を有しているため、一方のレジストを露光するために照射された光のうち、レジストに吸収されなかった光を樹脂部１５ａ，１５ｂが吸収する。その結果、一方のレジストに対する露光光が他方のレジストに到達することが抑えられる。したがって、２つの透明電極層１２ａ，１２ｂの導電領域１３ａ，１３ｂが互いに異なるパターンを有する場合であっても、一方のレジストに形成されるパターンが他方のレジストに形成されるパターンに影響を与えることなく、基板１１を挟んで対向する２つのレジスト１８ａ，１８ｂを、これら両方のレジスト１８ａ，１８ｂの現像前にまとめて露光できる。結果として、レジストの形成や露光や現像等の工程を、透明導電層１７ａ，１７ｂが形成された面ごとに繰り返す製造方法と比較して、透明導電性積層体１０の製造に要する工程が削減されるため、透明導電性積層体の製造工程の流れが簡素である。
【００６１】
また、２つのレジスト１８ａ，１８ｂがほぼ同時に露光されるため、レジスト１８ａ用の露光マスクの位置と、レジスト１８ｂ用の露光マスクの位置との整合によって、レジスト１８ａのパターンと、レジスト１８ｂのパターンとの位置合わせが可能になる。それゆえに、例えば、先行して形成された一方のレジストの微細なパターンの位置を検出し、その検出結果と、他方のレジスト用の露光マスクの位置とを整合させる位置合わせと比較して、２つのレジスト１８ａ，１８ｂに形成されるパターンの位置合わせが容易になる。したがって、透明電極層１２ａ，１２ｂの導電領域１３ａ，１３ｂを微細なパターンに形成することも可能となり、ひいては、タッチパネルにおける接触位置の検出の感度や精度が向上される。また、導電領域１３ａ，１３ｂが微細なパターンに形成されることによって、パターン形状が目立たなくなるため、タッチパネルの視認性が向上する。
【００６２】
また、繊維状の金属から導電領域１３ａ，１３ｂが形成されるため、透明電極層１２ａ，１２ｂとなる金属層１６ａ，１６ｂを塗布によって形成することができる。その結果、スパッタリング等によって膜を形成する場合と比較して、簡易に成膜ができることに加え、ロール・ツー・ロール方式による成膜が可能となるため、透明導電性積層体１０の生産効率が高められる。
【００６３】
また、本実施形態では、透明電極層１２ａ，１２ｂの樹脂部１５ａ，１５ｂに、光を吸収する機能が付与されている。従来から、透明電極層１２ａ，１２ｂの導電領域１３ａ，１３ｂが繊維状の金属から形成される場合、導電領域１３ａ，１３ｂを保護するために、繊維状の金属の上に樹脂が塗布される。こうして形成される樹脂部１５ａ，１５ｂに光を吸収する機能を付与することによって、光を吸収する機能のみを有する層を別に設けて構成部材を増やすことなく、透明導電性積層体１０による露光光の吸収が可能となる。
【００６４】
以上説明したように、本実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１）一方のレジストに対する露光光のうち、レジストに吸収されなかった光を透明電極層１２ａ，１２ｂの樹脂部１５ａ，１５ｂが吸収する。したがって、一方のレジストに対する露光光が他方のレジストに到達することが抑えられるため、２つのレジストを、これら両方の現像前にまとめて露光できる。その結果、製造工程の流れを簡素にすることができる。
【００６５】
（２）実用上、レジスト１８ａ，１８ｂの露光は、紫外領域の波長の光と可視領域の波長の光を発する光源２１ａ，２１ｂによって行われることが好ましい。したがって、樹脂部１５ａ，１５ｂが紫外領域の波長の光を吸収する機能を有すると、樹脂部１５ａ，１５ｂにおける可視領域以外の波長を有する露光光を吸収する機能が、実用上好ましい形態で実現される。また、樹脂部１５ａ，１５ｂに紫外線吸収剤または紫外線吸収機能を有する樹脂が含有されることによって、紫外領域の波長の光を吸収する機能を樹脂部１５ａ，１５ｂに適切に付加することができる。また、透明導電性積層体１０の波長４００ｎｍにおける光線透過率が６０％以上であり、かつ、波長３６５ｎｍにおける光線透過率が２０％以下であると、樹脂部１５ａ，１５ｂによる紫外領域の波長の光を吸収する機能が適切に実現される。
【００６６】
（３）光学フィルター２０ａ，２０ｂの波長３６５ｎｍにおける光線透過率が８０％以上であって、透明導電性積層体１０の波長４００ｎｍにおける光線透過率が６０％以上であり、かつ、波長３６５ｎｍにおける光線透過率が２０％以下である。こうした構成によれば、光学フィルター２０ａ，２０ｂを透過する光の波長と、樹脂部１５ａ，１５ｂが吸収する光の波長とが合わせられるため、レジスト１８ａ，１８ｂの露光と不要な露光光の吸収とが的確に行われる。
【００６７】
上記の実施形態は、以下のように変更して実施することが可能である。
・図１２に示されるように、基板１１が複数の層を有していてもよい。図１２に示される透明導電性積層体２２では、基板１１が２つの副基板１１ａ，１１ｂと、副基板１１ａと副基板１１ｂとを貼り合わせる粘着層２３とから構成される。副基板１１ａは、第１の基板の一例であり、副基板１１ｂは、第２の基板の一例である。粘着層２３に用いられる樹脂としては、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、または、ゴム系樹脂等が挙げられる。粘着層２３には、クッション性や透明性に優れた樹脂を用いることが好ましい。
【００６８】
こうした透明導電性積層体の製造方法では、副基板１１ａの表面に金属層１６ａが形成され、金属層１６ａに樹脂部１５ａの構成材料を含む溶液が塗布されて透明導電層１７ａが形成される。また、副基板１１ｂの表面に金属層１６ｂが形成され、金属層１６ｂに樹脂部１５ｂの構成材料を含む溶液が塗布されて透明導電層１７ｂが形成される。そして、副基板１１ａの裏面と副基板１１ｂの裏面とが粘着層２３によって貼り合わせられる。以後、先の図６〜図１１に示される工程と同様の工程を経て透明導電性積層体２２が製造される。すなわち、この場合も、基板１１を挟んで対向する２つのレジスト１８ａ，１８ｂが現像前にまとめて露光されるため、製造工程の流れを簡素にすることができる。
【００６９】
・２つの樹脂部１５ａ，１５ｂのうち、一方の樹脂層のみが光を吸収する機能を有していてもよい。こうした構成によっても、上記（１）の効果は得られる。
・２つの樹脂部１５ａ，１５ｂが吸収する光の波長が互いに異なってもよい。こうした構成によれば、広い波長領域で光を吸収することができる。
【符号の説明】
【００７０】
１０，２２…透明導電性積層体、１１…基板、１１ａ，１１ｂ…副基板、１２ａ，１２ｂ…透明電極層、１３ａ，１３ｂ…導電領域、１４ａ，１４ｂ…非導電領域、１５ａ，１５ｂ…樹脂部、１６ａ，１６ｂ…金属層、１７ａ，１７ｂ…透明導電層、１８ａ，１８ｂ…レジスト、１９ａ，１９ｂ…マスク、２０ａ，２０ｂ…光学フィルター、２１ａ，２１ｂ…光源、２３…粘着層、３０…カバー層、３１…タッチパネル、３２…表示パネル、３３…表示装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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