(57)【要約】【課題】高温高湿下に曝された後や洗浄後においても保護層と金属反射層との密着性に優れ、高い反射率を維持することができるフィルムミラーの提供。【解決手段】金属反射層と、金属反射層上に隣接して設けられる保護層とを有するフィルムミラーであって、  保護層が、下記式（１）で表される繰返し単位を少なくとも一部に有する樹脂を含有する、フィルムミラー。2015049472.tif 000011（式中、Ｒ1は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ2は水素原子または炭素数１〜６の分岐していてもよいアルキル基を表し、Ｒ3は水素原子または炭素数１〜６の分岐していてもよいアルキル基を表し、Ｌは２価の連結基を表す。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属反射層と、前記金属反射層上に隣接して設けられる保護層とを有するフィルムミラーであって、
前記保護層が、下記式（１）で表される繰返し単位を少なくとも一部に有する樹脂を含有する、フィルムミラー。
【化１】
2015049472.tif 000010
（式中、Ｒ1は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ2は水素原子または炭素数１〜６の分岐していてもよいアルキル基を表し、Ｒ3は水素原子または炭素数１〜６の分岐していてもよいアルキル基を表し、Ｌは２価の連結基を表す。）
【請求項２】
前記保護層が、前記保護層の樹脂固形分に対して前記式（１）で表される繰返し単位を１〜５０質量％含有する、請求項１に記載のフィルムミラー。
【請求項３】
前記金属反射層の表面の算術平均粗さＲａが、５ｎｍ以下である、請求項１または２に記載のフィルムミラー。
【請求項４】
太陽光反射用に用いられる請求項１〜３のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、太陽光反射用フィルムミラーに好適に用いることができるフィルムミラーに関する。
【背景技術】
【０００２】
太陽光の反射装置には、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂塵等に晒されるため、従来、ガラス製ミラーが用いられてきた。
しかしながら、ガラス製ミラーを用いる場合、輸送時に破損する問題や、ミラーを設置する架台に高い強度が要求されるため建設費がかさむといった問題があった。
このような問題を解決するために、近年では、ガラス製ミラーを樹脂製反射シート（フィルムミラー）に置き換えることが提案されている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、「プラスチックフィルムの片面に、アンカー層、金属反射層及び保護樹脂層が積層された構成を有し、該保護樹脂層が、アクリル系樹脂及びヘキサメチレンジイソシアネートを含有することを特徴とする反射フィルム。」が記載されており（［請求項１］）、上記構成により、保護樹脂層と金属反射層との間の密着性が十分に確保されるので、使用時において保護樹脂層の剥離が起きることがなく、金属反射層の腐食を防止することができる旨が記載されている（［００１２］）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１−１７３３６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者らは、特許文献１に記載された反射フィルムについて検討したところ、反射フィルムが高温高湿下に曝された場合には、保護樹脂層（保護層）と金属反射層との間の密着性が劣り、特に高温高湿下に曝した後に反射フィルムの表面を洗浄（特に擦り洗い）した場合には、保護層が金属反射層から脱落してしまう場合があることが明らかになった。また、高温高湿下に曝した場合に、経時ともに反射率が低下する傾向があり、金属反射層の防食性が十分とは言えないことが明らかになった。
【０００６】
そこで、本発明は、高温高湿下に曝された後や洗浄後においても保護層と金属反射層との密着性に優れ、高い反射率を維持することができるフィルムミラーを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意研究した結果、側鎖に窒素原子を有する特定の繰り返し単位を有する樹脂を含有する保護層を金属反射層上に隣接して設けたフィルムミラーが、高温高湿下に曝された後や洗浄後においても保護層と金属反射層との密着性に優れ、高い反射率を維持することができることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。
【０００８】
［１］  金属反射層と、金属反射層上に隣接して設けられる保護層とを有するフィルムミラーであって、
保護層が、下記式（１）で表される繰返し単位を少なくとも一部に有する樹脂を含有する、フィルムミラー。
【化１】
2015049472.tif 000002
（式中、Ｒ1は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ2は水素原子または炭素数１〜６の分岐していてもよいアルキル基を表し、Ｒ3は水素原子または炭素数１〜６の分岐していてもよいアルキル基を表し、Ｌは２価の連結基を表す。）
［２］  保護層が、保護層の樹脂固形分に対して式（１）で表される繰返し単位を１〜５０質量％含有する、［１］に記載のフィルムミラー。
［３］  金属反射層の表面の算術平均粗さＲａが、５ｎｍ以下である、［１］または［２］に記載のフィルムミラー。
［４］  太陽光反射用に用いられる［１］〜［３］のいずれかに記載のフィルムミラー。
【発明の効果】
【０００９】
以下に説明するように、本発明によれば、高温高湿下に曝された後や洗浄後においても保護層と金属反射層との密着性に優れ、高い反射率を維持することができるフィルムミラーを提供することができる。
また、本発明のフィルムミラーは、このような特性を有するため、熱、風雨、砂塵等に長期間晒される太陽光反射用フィルムミラーとして好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明のフィルムミラーの実施態様の一例を模式的に示す断面図である。
【図２】本発明のフィルムミラーの実施態様の他の一例を模式的に示す断面図である。
【図３】本発明のフィルムミラーの実施態様の他の一例を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明のフィルムミラーは、金属反射層と、金属反射層上に隣接して設けられる保護層とを有するフィルムミラーであって、保護層が上記式（１）で表される繰返し単位を少なくとも一部に有する樹脂を含有するフィルムミラーである。
【００１２】
このような構成を有する本発明のフィルムミラーは、高温高湿下に曝された後や洗浄後においても保護層と金属反射層との密着性に優れ、高い反射率を維持することができる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
すなわち、保護層中の上記式（１）に含まれる窒素原子と金属反射層中の金属原子との相互作用により、上記式（１）で表される繰返し単位を少なくとも一部に有する樹脂が金属反射層に強く吸着したためと考えられる。また、湿熱経時により、通常は、金属原子の酸化や、金属原子の移動（マイグレーション）等の影響で金属反射層の腐食が生じると考えられるが、上記式（１）に含まれる窒素原子と金属反射層の金属原子との相互作用により、金属原子の安定化や固定化の作用によって、上記の金属反射層の腐食も抑制されたためと考えられる。
このことは、後述する比較例が示すように、上記式（１）で表される繰返し単位を有さない樹脂のみから保護層が構成される場合には、耐湿熱試験後や洗浄後の密着性が劣ることからも推測することができる。
【００１３】
図１〜図３は、本発明のフィルムミラーの実施態様の一例を模式的に示す断面図である。
図１に示すフィルムミラー１０は、金属反射層１と保護層２とを有する。
また、本発明のフィルムミラーは、図２に示すように、金属反射層１の保護層２が設けられた表面とは反対側の表面に、支持体３を設けるのが好ましい。
更に、本発明のフィルムミラーは、図３に示すように、保護層２の金属反射層１が設けられた表面とは反対側の表面に、表面被覆層４を設けるのが好ましい。
なお、フィルムミラーの層構成はこれらの図面に特に限定されるものではなく、例えば、必要に応じて、支持体と金属反射層との間に後述する樹脂層を設けていてもよく、被着体側にバックコート層を設けていてもよい。
以下に、本発明のフィルムミラーを構成する各層について詳述する。
【００１４】
＜金属反射層＞
本発明のフィルムミラーが有する金属反射層は、後述する保護層側から入射する光を反射する機能を有する層である。
金属反射層の形成材料は、可視光および赤外光を反射する金属材料であれば、特に限定されず、例えば、銀、アルミニウム等が挙げられる。光の反射性能の観点からは、銀、または、銀を含む合金が好ましい。銀または銀を含む合金は、フィルムミラーの可視光領域での反射率を高め、入射角による反射率の依存性を低減できる。可視光領域とは、４００〜７００ｎｍの波長領域を意味する。ここで、入射角とは層面に対して垂直な線に対する角度を意味する。
銀合金としては、金属反射層の耐久性が向上する点から、金属反射層の反射特性に影響がない程度において、他の金属、例えば、金、パラジウム、銅、ニッケル、鉄、ガリウム、インジウム、チタン、およびビスマスからなる群の金属から選ばれる１種以上の金属を含んでいてもよい。銀合金としては、銀と、金、銅、ニッケル、鉄、パラジウムから選ばれる１種以上の金属との合金が、耐湿熱性、反射率等の観点から特に好ましい。
【００１５】
例えば、金属反射層が銀合金からなる層である場合、銀の含有量は、金属反射層における銀と他の金属との合計（１００原子％）中、９０〜９９．８原子％が好ましい。また、他の金属の含有量は、耐久性の点から０．２〜１０原子％が好ましい。
【００１６】
金属反射層の表面（すなわち、後述する保護層との界面）の算術平均粗さＲａは、５ｎｍ以下であることが好ましい。この範囲内とすることで、フィルムミラーの反射率がより向上し、太陽光反射用途において太陽光を効率良く反射することが可能となる。また、フィルムミラーを太陽光集光用途に用いる場合、金属反射層の表面の算術平均粗さＲａが低い方が、反射光の広がりを抑制できるので好ましい。反射光の広がりを抑制することは、離れた位置にあるターゲットに反射光を集光する用途において特に重要である。
ここで、算術平均粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４で規定する「算術平均粗さ」をいう。なお、フィルムミラーからの分析は、フィルムミラーの断面を電子顕微鏡で撮影し、汎用ソフト（例えば、ＷｉｎＲＯＯＦ、ＭＡＴＬＡＢ等）による画像処理を施して金属反射層と保護層との界面（線分）を抽出し、抽出した線分から算術平均粗さＲａを算出することができる。
【００１７】
金属反射層の形成方法は、特に限定されず、湿式法または乾式法のいずれを採用してもよい。湿式法としては、例えば、電気めっき法が挙げられる。乾式法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法等が挙げられる。
以下、金属反射層を電気めっき法により形成する場合について、説明する。電気めっき法としては、従来公知の方法を用いることができる。後述するめっき下塗りポリマー層を後述する支持体上に形成する場合、めっき下塗りポリマー層に含まれる金属粒子が電極としての機能を有するため、めっき下塗りポリマー層に対して電気めっきを行なうことにより、支持体との密着性に優れた金属反射層を形成することができる。めっきに用いられる金属化合物としては、例えば、硝酸銀、酢酸銀、硫酸銀、炭酸銀、メタンスルホン酸銀、アンモニア銀、シアン化銀、チオシアン酸銀、塩化銀、臭化銀、クロム酸銀、クロラニル酸銀、サリチル酸銀、ジエチルジチオカルバミン酸銀、ジエチルジチオカルバミド酸銀、ｐ−トルエンスルホン酸銀等の銀化合物が挙げられる。これらの中でも、環境影響や平滑性の観点から、メタンスルホン酸銀が好ましい。
【００１８】
なお、めっき下塗りポリマー層と金属反射層との間には、例えば、銅、ニッケル、クロム、鉄等の他の金属を含有する金属層を下地金属層として有していてもよい。
また、電気めっき法により得られる金属反射層の膜厚は、めっき浴中に含まれる金属濃度、または、電流密度を調整することで制御することができる。適切な厚みの下地金属層を入れることで、表面平滑化による反射率向上やピンホール低減が可能となる。
金属反射層の膜厚は、ピンホールなく反射膜を形成する観点、および、金属反射層の表面に光を散乱させるような凹凸を作らないという観点から、０．０５〜２．０μｍが好ましく、０．０８〜０．５μｍがより好ましい。
【００１９】
また、還元された金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層を利用して真空蒸着等の乾式めっきを行なうことにより、金属反射層を形成してもよい。この方法によれば、めっき下塗りポリマー層の表面が金属で覆われているため、通常の蒸着等よりも密着性がよく、かつ、熱に対しても強い金属反射層を形成することができる。
【００２０】
電気めっきの後、金属反射層の反射性能や耐久性を向上させるために、金属反射層を強酸や強アルカリ等で処理してもよい。また、金属反射層表面に、無機皮膜や金属酸化皮膜を形成してもよい。また、金属反射層表面に、変色防止剤を含有する変色防止剤層を設けてもよい。変色防止剤層は、金属反射層の変色防止に機能する。変色防止剤としては、チオエーテル系、チオール系、Ｎｉ系有機化合物系、ベンゾトリアゾール系、イミダゾール系、オキサゾール系、テトラザインデン系、ピリミジン系、チアジアゾール系等の変色防止剤が挙げられる。変色防止剤層は、大別して、金属を吸着する吸着基を有するものや、酸化防止剤が好ましく用いられる。
【００２１】
このような金属反射層を有する本発明のフィルムミラーは、太陽光の反射用として好適に用いることができる。
その応用態様としては、例えば、太陽光反射板への適用が挙げられる。具体的には、樹脂、金属、およびセラミックのいずれかからなる基板や枠体に、フィルムミラーを固定化することで、金属反射層による鏡面を作製し、太陽光反射板を作製することができる。このようにして作製された複数のミラーユニットを配置して太陽光を効率的に集光することが好ましい。特に、上記ミラーユニットを太陽の日周運動に追尾させる太陽光追尾システムと、を備えることで、より効率的な太陽光の集光を実現できる。
【００２２】
＜保護層＞
本発明のフィルムミラーが有する保護層は、上述した金属反射層上に隣接して設けられる樹脂層である。
本発明においては、上記保護層は、下記式（１）で表される繰返し単位を少なくとも一部に有する樹脂を含有する樹脂層である。なお、上記保護層における下記式（１）で表される繰返し単位は、単独重合体を構成する繰返し単位として含有する場合だけでなく、ブロック共重合体を構成する繰返し単位として含有していてもよく、ランダム共重合体を構成する繰返し単位として含有していてもよい。
このような構成の保護層を有することにより、フィルムミラーは、高温高湿下に曝された後や洗浄後においても保護層と金属反射層との密着性に優れ、高い反射率を維持することができる。
【００２３】
【化２】
2015049472.tif 000003
（上記式（１）中、Ｒ1は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ2は水素原子または炭素数１〜６の分岐していてもよいアルキル基を表し、Ｒ3は水素原子または炭素数１〜６の分岐していてもよいアルキル基を表し、Ｌは２価の連結基を表す。）
【００２４】
ここで、上記式（１）中、Ｒ2としては、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基等）であるのが好ましく、なかでも、水素原子、メチル基またはエチル基であるのがより好ましい。
同様に、上記式（１）中、Ｒ3としては、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基等）であるのが好ましく、なかでも、水素原子、メチル基またはエチル基であるのがより好ましい。
【００２５】
更に、上記式（１）中、２価の連結基を表すＬは、＊−Ｌ1−Ｌ2−（＊は主鎖との連結位置を表す。以下、本段落において同様。）で表される２価の連結基であって、Ｌ1が、＊−Ｃ（＝Ｏ）−、＊−ＣＯＮＨ−、＊−ＣＯＯ−、＊−ＯＣＯ−、または、＊−ＮＨＣＯ−を表し、かつ、Ｌ2が、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基（例えば、エチレン基、プロピレン基など）、炭素数１〜２０のポリオキシアルキレン基、または、これらの基が組み合わされた２価の連結基を表す、２価の連結基であるのが好ましい。
【００２６】
本発明においては、保護層が、保護層を構成する樹脂固形分に対して上記式（１）で表される繰返し単位を１〜５０質量％含有するのが好ましく、５〜３０質量％含有するのがより好ましい。
ここで、上記式（１）で表される繰返し単位の含有量が５０質量％以下であると、併用する樹脂にも依存するが、保護層自身の物理的膜強度が良好となり、密着性試験等において保護層自身の凝集破壊が抑制されるため好ましい。また、上記式（１）で表される繰返し単位の含有量が１質量％以上であると、併用する樹脂にも依存するが、耐湿熱性が向上し、密着性がより良好となるので好ましい。
【００２７】
また、上記式（１）で表される繰返し単位を有する樹脂は、例えば、窒素原子を有するモノマー（以下、「窒素含有モノマー」と略す。）を単独重合させ、硬化させる方法；窒素含有モノマーと他のモノマーとを共重合（ブロック共重合またはランダム共重合）させ、硬化させる方法；等により、調製することができる。
【００２８】
上記窒素含有モノマーとしては、例えば、下記式（２）で表される化合物が挙げられる。
【化３】
2015049472.tif 000004
（上記式（２）中、Ｒ1は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ2は水素原子または炭素数１〜６の分岐していてもよいアルキル基を表し、Ｒ3は水素原子または炭素数１〜６の分岐していてもよいアルキル基を表し、Ｌは２価の連結基を表す。）
【００２９】
ここで、上記式（２）中、Ｒ2としては、上記式（１）と同様、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基等）であるのが好ましく、なかでも、水素原子、メチル基またはエチル基であるのがより好ましい。
同様に、上記式（２）中、Ｒ3としては、上記式（１）と同様、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基等）であるのが好ましく、なかでも、水素原子、メチル基またはエチル基であるのがより好ましい。
【００３０】
更に、上記式（２）中、２価の連結基を表すＬは、上記式（１）と同様、−Ｌ1−Ｌ2−で表される２価の連結基であって、Ｌ1が、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または、−ＮＨＣＯ−を表し、かつ、Ｌ2が、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基（例えば、エチレン基、プロピレン基など）、炭素数１〜２０のポリオキシアルキレン基、または、これらの基が組み合わされた２価の連結基を表す、２価の連結基であるのが好ましい。
【００３１】
上記式（２）で表される化合物としては、例えば、下記式で表される化合物Ａ（ジメチルアクリルアミド（ＤＭＡＡ））、化合物Ｂ（ジエチルアクリルアミド（ＤＥＡＡ））、化合物Ｃ（イソプロピルアクリルアミド（ＮＩＰＡＭ））、化合物Ｄ（ジメチルアミノプロピルアクリルアミド（ＤＭＡＰＡＡ））等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。なかでも、下記化合物Ａであるのが好ましい。
【化４】
2015049472.tif 000005
【００３２】
一方、他のモノマーとしては、（メタ）アクリル酸エステル類、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、クロルエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンモノ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、メトキシベンジル（メタ）アクリレート、フルフリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アセト酢酸エチル（メタ）アクリレート等の窒素原子を有していない（メタ）アクリレートモノマーが挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との表現は、アクリレートまたはメタクリレートを表す表現をいい、同様に、「（メタ）アクリル酸」という表現についても、アクリル酸またはメタクリル酸を表す表現をいう。
【００３３】
保護層の厚みは特に制限されないが、保護層と金属反射層との密着性がより良好となり、また、金属反射層の防食性が向上し、より高い反射率を維持することができる理由から、０．１μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上であることがより好ましく、５μｍ以上であることがさらに好ましく、１０μｍ以上であることが特に好ましい。上限は特に制限されないが、通常、１００μｍ以下であることが好ましく、５０μｍ以下であることがより好ましい。
【００３４】
保護層の形成方法は特に限定されないが、例えば、上述した窒素含有モノマー、他のモノマー、後述する溶媒および添加剤等を含有する保護層形成用組成物を上述した金属反射層の表面に塗布した後、加熱による乾燥や、紫外線照射による硬化させる方法などが挙げられる。
保護層の形成方法としては、上記以外にも上記保護層形成用組成物を用いて予めフィルム状に成形し、接着剤を介して得られたフィルムを金属反射層に貼り合わせるか、または、熱ラミネート等の方法で金属反射層に融着させるなどの方法により保護層を形成する方法等が挙げられる。
以下では、上述した保護層形成用組成物を用いる態様について詳述する。
【００３５】
保護層形成用組成物の塗布方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法、ブレードコーター、ロールコーター、エアナイフコーター、スクリーンコーター、バーコーター、カーテンコーター等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
金属反射層の表面に塗布した保護層形成用組成物を硬化させる方法は、特に限定されず、加熱やＵＶ照射等、保護層を形成するために用いた樹脂材料に応じた方法を適宜選択すればよい。
【００３６】
保護層形成用組成物は、上述した成分以外に、他の樹脂、溶媒、各種添加剤を含有していてもよい。
保護層形成用組成物に含有していてもよい他の樹脂としては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート樹脂、ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂、シリコーン（メタ）アクリレート樹脂、エポキシ（メタ）アクリレート樹脂などの光硬化性樹脂；ウレタン樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂（尿素樹脂）、フェノキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フラン樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアネート樹脂などの熱硬化性樹脂；ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、飽和ポリエステル樹脂、ポリロタキサン樹脂、メラミン樹脂；等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
なお、このような他の樹脂を含有する場合、他の樹脂の含有量は、保護層の樹脂固形分に対して１０〜９９質量％であることが好ましく、２０〜５０質量％であることがより好ましい。
【００３７】
保護層形成用組成物に含有していてもよい溶媒は特に限定されず、例えば、水、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、グリセリン、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール系溶媒、酢酸などの酸、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒、ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネートなどのカーボネート系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒、この他にも、エーテル系溶媒、グリコール系溶媒、アミン系溶媒、チオール系溶媒、ハロゲン系溶媒などが挙げられる。この中でも、アミド系溶媒、ケトン系溶媒、ニトリル系溶媒、カーボネート系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒が好ましく、具体的には、アセトン、ジメチルアセトアミド、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトニトリル、プロピオニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルカーボネート、トルエンが好ましい。
密着性に優れた保護層を均一に形成するという観点からは、保護層形成用組成物の固形分濃度は、１〜３０質量％の範囲であることが好ましい。
【００３８】
保護層形成用組成物は、更に架橋剤を含有してもよい。架橋剤を含有することで、保護層中に架橋構造が形成されることにより、強度がより向上し、さらに、隣接する金属反射層との密着性がより向上するなどの利点を有することになる。架橋剤としては、保護層を構成する樹脂との相関により選択することができ、例えば、カルボジイミド化合物、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、オキセタン化合物、メラミン化合物、ビスビニルスルオン化合物などが挙げられ、効果の観点からは、カルボジイミド化合物、イソシアネート化合物、およびエポキシ化合物からなる群より選ばれ少なくとも１種の架橋剤が好ましい。
【００３９】
＜支持体＞
本発明のフィルムミラーは、金属反射層の保護層が設けられた表面とは反対側の表面に、金属反射層を平滑な面として担持する目的や、フィルムミラーのハンドリング性を向上させる観点から、任意の支持体を設けるのが好ましい。
支持体は特に限定されず、その構成材料としては、例えば、フレキシブル性や軽量化の観点から、ガラスエポキシ、ポリエステル、ポリイミド、熱硬化型ポリフェニレンエーテル、ポリアミド、ポリアラミド、液晶ポリマー等をフィルム状に成形した樹脂フィルム；ガラスフィルム；紙；等が挙げられる。なかでも、取扱い性に優れる点で、樹脂フィルム（樹脂支持体）が好ましい。
樹脂フィルム中の樹脂材料としては、フィルム状に成型できる樹脂であればすべて使用することができるが、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミドトリアジン（ＢＴ）樹脂、ポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）樹脂、テトラフルオロエチレン樹脂、液晶樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、アラミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテルスルホン、トリアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリアセチレン等が好適に挙げられる。中でも、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂であるのが好ましい。
【００４０】
本発明においては、支持体の形状としては、平面、拡散面、凹面、凸面等の各種のフィルム基材として求められる形状であれば、いずれの形状であってもよい。
また、支持体の厚みとしては、生産時の作業性や成型の観点から、１０μｍ〜５ｍｍ程度が好ましく、２０μｍ〜１ｍｍであるのがより好ましく、２５μｍ〜５００μｍであるのが更に好ましい。
【００４１】
また、本発明においては、支持体は、支持体の上に後述する任意の樹脂層を形成しやすくするために、あらかじめ表面処理を施してもよい。
表面処理としては、ＵＶ照射、オゾン処理、プラズマ処理、コロナ処理、火炎処理などの表面を分解活性化させる処理；ヒドラジン、Ｎ−メチルピロリドン、水酸化ナトリウム溶液、水酸化カリウム溶液のようなアルカリ性溶液での処理；硫酸、塩酸、硝酸のような酸性溶液での処理；などが挙げられる。
また、支持体表面の汚れを落として清浄にする処理としては、メタノール、エタノール、トルエン、酢酸エチル、アセトン等の有機溶剤による処理；付着したゴミを落とすための水洗処理；等が挙げられる。
これらの表面処理は複数種を組み合わせて行ってもよい。
【００４２】
更に、本発明においては、フィルムミラーの反射能を向上させる観点から、支持体の表面粗さ（Ｒａ）が５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがより好ましく、５ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
【００４３】
＜表面被覆層＞
本発明のフィルムミラーは、保護層の金属反射層が設けられた表面とは反対側の表面に、耐候性、耐傷性、砂付着性、防汚性等が良好となる理由から、任意の表面被覆層を設けるのが好ましい。
表面被覆層は、フィルムミラーの最表面に存在することで、フィルムミラー表面の物理的または化学的な損傷を防止しうるものであれば、従来公知の樹脂層などを従来公知の形成方法で用いることができる。
表面被覆層としては、例えば、マルテンス硬度が１００Ｎ／ｍｍ2以下であり、かつ、弾性回復率が６０％以上である軟質な層であってもよく、表面が硬質なハードコート層であってもよい。
表面被覆層の厚みは特に限定されないが、例えば、上述した軟質な層を形成する場合は、フィルムミラーの耐傷性がより良好となり、ヘイズ値および反射率の維持率もより高くなる理由から、１μｍ〜５０μｍであることが好ましく、３μｍ〜３０μｍであることがより好ましい。一方、硬質なハードコート層を形成する場合は、防汚性および耐傷性の観点から、０．１μｍ〜５０μｍであることが好ましく、０．１μｍ〜１５μｍであることがより好ましい。
【００４４】
表面被覆層を形成する材料としては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート樹脂、ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂、シリコーン（メタ）アクリレート樹脂、エポキシ（メタ）アクリレート樹脂などの光硬化性樹脂；ウレタン樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂（尿素樹脂）、フェノキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フラン樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアネート樹脂などの熱硬化性樹脂；ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、飽和ポリエステル樹脂、ポリロタキサン樹脂、メラミン樹脂等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４５】
＜樹脂層＞
本発明のフィルムミラーは、金属反射層と任意の支持体との間に、主に両者の密着性を向上させる機能を有する任意の樹脂層を設けていてもよい。
樹脂層としては、金属を接着しやすくするための接着層や、金属反射層をめっき法により形成する場合に有用なめっき下塗りポリマー層などが挙げられ、これらは単層構成であっても２層以上の複数層から構成されるものであってもよい。
【００４６】
（接着層）
接着層は、支持体と金属反射層との接着性を向上させる層である。また、接着層上に後述するめっき下塗りポリマー層を設ける場合には、接着層が支持体とめっき下塗りポリマー層との接着性を向上させることで、結果として、支持体と金属反射層との接着性がより向上する。
【００４７】
接着層は、隣接する支持体との接着性の観点から、支持体を構成する樹脂と同じ樹脂、または、支持体を構成する樹脂と親和性を有する樹脂を含んでいることが好ましい。接着層に含まれる樹脂は、例えば、熱硬化性樹脂でも熱可塑性樹脂でもまたそれらの混合物でもよい。熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ビスマレイミド樹脂、メラミン樹脂、イソシアネート系樹脂等が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリオレフィン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニルエーテル、ポリエーテルイミド等が挙げられる。熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂とは、それぞれ単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。２種以上の樹脂の併用は、それぞれの欠点が補うことでより優れた効果を発現させる目的で行われる。
【００４８】
接着層を、めっき下塗りポリマー層と支持体との間に設ける場合には、後述するめっき下塗りポリマー層に含まれる、金属前駆体と相互作用する官能基および重合性基を有する高分子化合物との間で、相互作用し得る活性点を発生する活性種を含有することが好ましい。このような接着層は、例えば、ラジカル重合開始剤を含有する重合開始層や、重合開始可能な官能基を有する樹脂からなる重合開始層が好ましい。より具体的には、接着層は、高分子化合物とラジカル重合開始剤とを含む層や、重合性化合物とラジカル重合開始剤とを含む層、または、重合開始可能な官能基を有する樹脂からなる層が好ましい。重合開始可能な官能基を有する樹脂からなる層としては、例えば、特開２００５−３０７１４０号公報の段落［００１８］〜［００７８］に記載の重合開始部位を骨格中に有するポリイミドが挙げられる。
【００４９】
さらに、接着層を形成する際に、層内での架橋を進めるために重合性の二重結合を有する化合物、具体的には、アクリレート化合物、メタクリレート化合物を用いてもよく、特に、多官能のものを用いることが好ましい。その他、重合性の二重結合を有する化合物として、熱硬化性樹脂、または、熱可塑性樹脂、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂等に対し、その一部を、メタクリル酸やアクリル酸等を用いて、（メタ）アクリル化させた樹脂を用いてもよい。
接着層には、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、接着性付与剤、シランカップリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の各種添加剤を１種または２種以上添加してもよい。
接着層の厚みは、一般に、０．１〜１０μｍの範囲であることが好ましく、０．２〜５μｍの範囲であることがより好ましい。
【００５０】
（めっき下塗りポリマー層）
金属反射層を金属めっきにより作製する場合、金属反射層と支持体との間にめっき下塗りポリマー層を設けることが好ましい。めっき下塗りポリマー層は、上述しためっき（電気めっきなど）を行う際に、電極として作用する成分（例えば、金属粒子）を含む層である。
めっき下塗りポリマー層を形成するために用いられるめっき下塗りポリマーは、重合性基、および、金属前駆体と相互作用する官能基（以後、適宜「相互作用性基」と称する。）を少なくとも有する。めっき下塗りポリマーの主骨格としては、アクリルポリマー、ポリエーテル、アクリルアミド、ポリアミド、ポリイミド、アクリルポリマー、ポリエステル等が好ましいが、アクリルポリマーがより好ましい。
めっき下塗りポリマーは、目的に応じて、重合性基を含む構成単位、および、相互作用性基を含む構成単位以外の構成単位を含んでいてもよい。重合性基を含む構成単位、および、相互作用性基を含む構成単位以外の構成単位（以下、適宜、他の構成単位と称する。）を含むことによって、めっき下塗りポリマー形成用組成物としたときに、水または有機溶剤への溶解性に優れ、均一なめっき下塗りポリマー層を形成することができる。
【００５１】
めっき下塗りポリマーの好ましい態様として、相互作用性基として酸性基と、重合性基とを側鎖に有するアクリルポリマーが挙げられる。以下、めっき下塗りポリマーに含まれる重合性基、相互作用性基、およびその特性等について詳述する。
【００５２】
−重合性基−
めっき下塗りポリマーが有する重合性基は、エネルギー付与により、ポリマー同士、または、ポリマーと支持体（支持体上に上記接着層が形成されている場合には、接着層）との間で化学結合を形成し得る官能基であればよい。重合性基としては、例えば、ラジカル重合性基、カチオン重合性基等が挙げられる。なかでも、反応性の観点から、ラジカル重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、例えば、メタクリロイル基、アクリロイル基、イタコン酸エステル基、クロトン酸エステル基、イソクロトン酸エステル基、マレイン酸エステル基、スチリル基、ビニル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基等が挙げられる。なかでも、メタクリロイル基、アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アクリルアミド基、または、メタクリルアミド基が好ましく、中でも、ラジカル重合反応性および合成汎用性の点から、メタクリロイル基、アクリロイル基、アクリルアミド基またはメタクリルアミド基が好ましく、耐アルカリ性の観点からアクリルアミド基またはメタクリルアミド基が更に好ましい。なかでも、アクリルポリマーに導入される重合性基としては、（メタ）アクリレート基または（メタ）アクリルアミド基等の（メタ）アクリル基、カルボン酸のビニルエステル基、ビニルエーテル基、アリルエーテル基等の各種重合性基が好ましい。
【００５３】
−相互作用性基−
めっき下塗りポリマーが有する相互作用性基は、金属前駆体と相互作用する官能基（例えば、配位性基、金属イオン吸着性基等）であり、金属前駆体と静電相互作用を形成可能な官能基、または、金属前駆体と配位形成可能な含窒素官能基、含硫黄官能基、含酸素官能基等を使用することができる。
相互作用性基としてより具体的には、アミノ基、アミド基、イミド基、ウレア基、トリアゾール環、イミダゾール基、ピリジン基、ピリミジン基、ピラジン基、トリアジン基、ピペリジン基、ピペラジン基、ピロリジン基、ピラゾール基、アルキルアミン構造を含む基、シアノ基、シアネート基（Ｒ−Ｏ−ＣＮ）等の含窒素官能基；エーテル基、水酸基、フェノール性水酸基、カルボキシル基、カーボネート基、カルボニル基、エステル基、Ｎ−オキシド構造を含む基、Ｓ−オキシド構造を含む基、Ｎ−ヒドロキシ構造を含む基等の含酸素官能基；チオフェン基、チオール基、チオウレア基、スルホキシド基、スルホン酸基、スルホン酸エステル構造を含む基等の含硫黄官能基；ホスフォート基、ホスフォロアミド基、ホスフィン基、リン酸エステル構造を含む基等の含リン官能基；塩素、臭素等のハロゲン原子を含む基等が挙げられ、塩構造をとり得る官能基においては、それらの塩も使用することができる。
相互作用性基としては、非解離性官能基であっても、イオン性極性基であってもよく、これらが同時に含まれていてもよいが、イオン性極性基が好ましい。
【００５４】
イオン性極性基からなる相互作用性基としては、上記相互作用性基の中でも、めっき下塗りポリマーの支持体（支持体上に上記接着層が形成されている場合には、接着層）に対する密着性の観点から、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、または、ボロン酸基が挙げられ、なかでも、適度な酸性（他の官能基を分解しない）を有する点、他の官能基に影響を与える懸念が少ない点、金属反射層との親和性に優れる点、および、原料が入手容易であるという点から、カルボン酸基が特に好ましい。
【００５５】
カルボン酸基等のイオン性極性基は、酸性基を有するラジカル重合性化合物を共重合させることにより、めっき下塗りポリマーに導入することができる。めっき下塗りポリマーの好適な構成については、ラジカル重合性基と非解離性官能基からなる相互作用性基を有するポリマーとして、特開２００９−００７５４０号公報の段落［０１０６］〜［０１１２］に記載のポリマー等が使用できる。また、ラジカル重合性基とイオン性極性基からなる相互作用性基とを有するポリマーとしては、特開２００６−１３５２７１号公報の段落［００６５］〜［００７０］に記載のポリマー等が使用できる。ラジカル重合性基と、非解離性官能基からなる相互作用性基と、イオン性極性基からなる相互作用性基とを有するポリマーとしては、特開２０１０−２４８４６４号公報の段落［００１０］〜［０１２８］、特開２０１０−８４１９６号公報、及び米国特許出願公開２０１０−０８０９６４号明細書の段落［００３０］〜［０１０８］に記載のポリマー等が使用できる。
【００５６】
なお、後述する金属前駆体は、めっき下塗りポリマー層形成後に付与してもよく、また、めっき下塗りポリマー層形成用組成物に当初から含有させてもよい。
【００５７】
めっき下塗りポリマー層は、エネルギー付与に対する感度を高めるために、光重合開始剤、熱重合開始剤等のラジカル重合開始剤を含有することが好ましい。ラジカル重合開始剤としては、特に限定されず、一般に公知のものが使用される。但し、エネルギー付与により、めっき下塗りポリマーが支持体や接着層と相互作用する活性点を生成し得る場合、即ち、上述したポリマー骨格中に重合開始部位を有するポリマーを用いるような場合には、これらのラジカル重合開始剤を添加しなくてもよい。
めっき下塗りポリマー層形成用組成物に含有させるラジカル重合開始剤の量は、めっき下塗りポリマー層形成用組成物の構成に応じて選択されるが、一般的には、めっき下塗りポリマー層形成用組成物中に、０．０５〜３０質量％程度であることが好ましく、０．１〜１０．０質量％程度であることがより好ましい。
【００５８】
めっき下塗りポリマー層は、めっき下塗りポリマーを含むポリマー層形成用組成物を支持体上（支持体上に上記接着層が形成されている場合には、接着層上）に塗布し、エネルギーを付与することにより形成することができる。支持体上にめっき下塗りポリマー層を直接設ける場合には、予め支持体の表面にエネルギーを付与する等の易接着処理を施しておくことが好ましい。支持体上にめっき下塗りポリマー層を設ける方法は特に限定されず、めっき下塗りポリマーを含むめっき下塗りポリマー層形成用組成物中に支持体を浸漬する方法や、めっき下塗りポリマーを含むめっき下塗りポリマー層形成用組成物を支持体上に塗布する方法などが挙げられる。得られるめっき下塗りポリマー層の厚みを制御しやすい点から、めっき下塗りポリマーを含むめっき下塗りポリマー層形成用組成物を支持体上に塗布する方法が好ましい。
【００５９】
めっき下塗りポリマーを含むポリマー層形成用組成物の塗布量は、後述する金属前駆体との充分な相互作用形成性の観点から、固形分換算で０．０５〜１０ｇ／ｍ2が好ましく、特に０．３〜５ｇ／ｍ2がより好ましい。支持体等へ塗布しためっき下塗りポリマーを含むめっき下塗りポリマー層形成用組成物の塗布液は、２０〜６０℃で１秒から２時間乾燥した後、６０℃を超える温度で１秒〜２時間乾燥することが好ましく、２０〜６０℃で１秒〜２０分乾燥した後、６０℃を超える温度で１秒〜２０分乾燥することがより好ましい。
【００６０】
めっき下塗りポリマー層形成用組成物は、上記支持体（支持体上に上記接着層が形成されている場合には、接着層）と接触させた後、エネルギーを付与することで、エネルギー付与領域においてポリマーが有する重合性基同士、または、ポリマーが有する重合性基と上記支持体（支持体上に上記接着層が形成されている場合には、接着層）との間に相互作用が形成され、支持体上（支持体上に上記接着層が形成されている場合には、接着層上）に固定化されためっき下塗りポリマー層が形成される。これにより、支持体とめっき下塗りポリマー層とが強固に密着する。
【００６１】
エネルギー付与方法としては、例えば、加熱や露光が挙げられる。露光によるエネルギー付与方法としては、具体的には、ＵＶランプ、可視光線等による光照射が可能である。露光で使用する光源としては、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ等がある。放射線としては、電子線、Ｘ線、イオンビーム、遠赤外線等がある。また、ｇ線、ｉ線、Ｄｅｅｐ−ＵＶ光、高密度エネルギービーム（レーザービーム）も使用される。露光パワーは、重合を容易に進行させるため、また、ポリマーの分解を抑制するため、あるいは、ポリマーが良好な相互作用を形成するため、といった観点から１０〜８０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲であることが好ましく、１００〜３０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲であることがより好ましい。なお、露光は、窒素、ヘリウム、二酸化炭素等の不活性ガスによる置換を行ない、酸素濃度を６００ｐｐｍ以下、好ましくは４００ｐｐｍ以下に抑制した雰囲気中で行なってもよい。
【００６２】
加熱によるエネルギー付与は、例えば、一般の熱ヒートローラー、ラミネーター、ホットスタンプ、電熱板、サーマルヘッド、レーザー、送風乾燥機、オーブン、ホットプレート、赤外線乾燥機、加熱ドラム等により行なうことができる。また、加熱によりエネルギー付与を行なう場合、その温度は、重合を容易に進行させるため、また、支持体の熱変性を抑制するため、２０〜２００℃の範囲であることが好ましく、４０〜１２０℃の範囲であることがより好ましい。
【００６３】
エネルギー付与後は、更に適宜、未反応のポリマーを除去する工程を設けてもよい。めっき下塗りポリマー層の膜厚は、特に限定されないが、支持体等との密着性の観点から、０．０５〜１０μｍであることが好ましく、０．３〜５μｍであることがより好ましい。また、上記方法により得られるめっき下塗りポリマー層の表面粗さ（Ｒａ）は、反射性能の観点から、２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００６４】
めっき下塗りポリマー層は、還元された金属粒子を含む。めっき下塗りポリマー層に含まれる還元された金属粒子は、めっき下塗りポリマー層に金属前駆体を付与し、この金属前駆体を還元して、金属前駆体を還元された金属粒子とすることによって得られる。金属前駆体をめっき下塗りポリマー層に付与すると、上記相互作用性基に、金属前駆体が相互作用により付着する。
本発明において用いられる金属前駆体は、還元反応により金属に変化させることで電極として機能するものであれば、特に限定されない。また、金属前駆体としては、金属反射層の形成において、めっきの電極として機能するものが好ましく挙げられる。そのため、金属前駆体は、金属に還元させることで電極として機能するものが好ましい。具体的には、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｏなどの金属イオンが用いられる。金属前駆体である金属イオンは、めっき下塗りポリマーを含む組成物（めっき下塗りポリマー層形成用組成物）に含まれており、支持体上に層を形成した後、還元反応によって０価の金属粒子となる。金属前駆体である金属イオンは、金属塩としてめっき下塗りポリマー層形成用組成物に含まれることが好ましい。
金属イオンとしては、配位可能な官能基の種類、数、および、触媒能の点で、Ａｇイオン、Ｃｕイオン、Ｐｄイオンが好ましい。Ａｇイオンとしては、以下に示す銀化合物が解離したものを好適に用いることができる。銀化合物の具体例としては、硝酸銀、酢酸銀、硫酸銀、炭酸銀、シアン化銀、チオシアン酸銀、塩化銀、臭化銀、クロム酸銀、クロラニル酸銀、サリチル酸銀、ジエチルジチオカルバミン酸銀、ジエチルジチオカルバミド酸銀、ｐ−トルエンスルホン酸銀が挙げられる。この中でも、水溶性の観点から硝酸銀が好ましい。Ｃｕイオンを用いる場合、以下に示すような銅化合物が解離したものを好適に用いることができる。銅化合物の具体例としては、硝酸銅、酢酸銅、硫酸銅、シアン化銅、チオシアン酸銅、塩化銅、臭化銅、クロム酸銅、クロラニル酸銅、サリチル酸銅、ジエチルジチオカルバミン酸銅、ジエチルジチオカルバミド酸銅、ｐ−トルエンスルホン酸銅が挙げられる。この中でも、水溶性の観点から硫酸銅が好ましい。
【００６５】
金属前駆体は、分散液または溶液（金属前駆体液）として、めっき下塗りポリマー層に付与されることが好ましい。付与の方法としては、例えば、めっき下塗りポリマー層を備える支持体上に金属前駆体液を塗布する方法、めっき下塗りポリマー層を備える支持体を金属前駆体液に浸漬する方法などが挙げられる。
金属前駆体のめっき下塗りポリマー層への付与に金属前駆体液を用いる場合、金属前駆体の粒子径は、１〜２００ｎｍが好ましく、１〜１００ｎｍがより好ましく、１〜６０ｎｍであることが更に好ましい。この粒子径とすることで、還元された金属粒子の粒子径を所望の大きさに制御することができる。
【００６６】
めっき下塗りポリマー層に付与した金属前駆体である金属イオンは、金属活性化液（還元液）により還元する。金属活性化液は、金属前駆体（主に金属イオン）を０価金属に還元できる還元剤と、該還元剤を活性化するためのｐＨ調製剤からなる。金属活性化液全体に対する還元剤の濃度は、０．０５〜５０質量％であることが好ましく、０．１〜３０質量％であることがより好ましい。還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、ジメチルアミンボランのようなホウ素系還元剤、ホルムアルデヒド、次亜リン酸等の還元剤を用いることが可能である。特に、ホルムアルデヒドを含有するアルカリ水溶液で還元することが好ましい。
【００６７】
金属活性化液全体に対するｐＨ調整剤の濃度は、０．０５〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜５質量％であることがより好ましい。
ｐＨ調整剤としては、酢酸、塩酸、硫酸、硝酸、炭酸水素ナトリウム、アンモニア水、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等を使用することが可能である。還元時の温度は、１０〜１００℃が好ましく、２０〜７０℃がより好ましい。これら濃度や温度範囲は、還元の際の、金属前駆体の粒子径、ポリマー層の表面粗さ、導電性（表面抵抗値）、還元液の劣化の観点からこの範囲であることが好ましい。
【００６８】
還元された金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層の表面抵抗値は、０．００１〜１００Ω／□であることが好ましく、０．０３〜５０Ω／□であることがより好ましい。この範囲内であると、均一および平滑にめっき面が形成され反射率が良好となる。
また、還元された金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層の表面粗さ（Ｒａ）は、反射性能の観点から、２０ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましい。
このようにして得られた金属粒子を含むめっき下塗りポリマー層は、上述した金属反射層を湿式法であるめっき法により形成する際に好適に用いられ、めっき下塗りポリマー層を用いてめっき法により形成された金属反射層は、支持体との密着性と表面平滑性に優れる。
【００６９】
＜他の機能層＞
本発明のフィルムミラーは、上述した層構成に加えて、所望の用途に合わせて、紫外線吸収層、紫外線反射層、ガスバリア層、粘着剤層、支持体裏面保護層、白色層等の他の機能層を設置してもよい。
【００７０】
＜添加剤＞
本発明においては、上述した保護層、支持体（特に樹脂支持体）、表面被覆層、樹脂層（接着層、めっき下塗りポリマー層）、および、他の機能層（以下、これらの層および支持体をまとめて「機能層」とも略す。）、または、機能層を形成する組成物に、必要に応じて、例えば、光重合開始剤、熱重合開始剤、カチオン重合開始剤、アニオン重合開始剤、帯電防止剤、表面調整剤（例えばレベリング剤、フッ素系防汚添加剤など）、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、可塑剤、ラジカル補足剤、消泡剤、増粘剤、沈降防止剤、顔料、分散剤、シランカップリング剤などの添加剤を含有していてもよい。
【００７１】
（表面調整剤）
表面調整剤は、上述した機能層において、表面平滑性や防汚性を付与する観点から、機能層を形成する組成物に任意に添加することができる成分である。
表面調整剤として一般的に使用される物質としては、例えば、ポリアルキルアクリレートなどのポリアクリレート系ポリマー；ポリアルキルビニルエーテルなどのポリビニルエーテル系ポリマー；ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、ポリエーテル、ポリエステル、アラルキルなどが導入された有機変性ポリシロキサンなどのシリコーン系ポリマー；これらのポリマーにフッ素原子を含有するもの；等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
フッ素原子を有する表面調整剤としては、例えば、フッ素含有基を有するモノマーを共重合させることにより得ることができる。特に、フッ素系表面調整剤を含んでなる膜（層）においては、膜表面の表面エネルギーが下がることで撥水・撥油性の表面を成し、膜表面に防汚性を付与することができる。
具体的な商品としては、例えば、サーフロン「Ｓ−３８１」、「Ｓ−３８２」、「ＳＣ−１０１」、「ＳＣ−１０２」、「ＳＣ−１０３」、「ＳＣ−１０４」（いずれも旭硝子株式会社製）、フロラード「ＦＣ−４３０」、「ＦＣ−４３１」、「ＦＣ−１７３」（いずれもフロロケミカル−住友スリーエム製）、エフトップ「ＥＦ３５２」、「ＥＦ３０１」、「ＥＦ３０３」（いずれも新秋田化成株式会社製）、シュベゴーフルアー「８０３５」、「８０３６」（いずれもシュベグマン社製）、「ＢＭ１０００」、「ＢＭ１１００」（いずれもビーエム・ヒミー社製）、メガファック「Ｆ−１７１」、「Ｆ−４７０」、「Ｆ−７８０−Ｆ」、「ＲＳ−７５」、「ＲＳ−７２−Ｋ」（いずれもＤＩＣ社製）、ＢＹＫ３４０（ビックケミー・ジャパン社製）、「ＺＸ−０４９」、「ＺＸ−００１」、「ＺＸ−０１７」（何れも富士化成工業社製）等を挙げることができる。
【００７２】
（紫外線吸収剤）
紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、トリアジン系、サリチル酸フェニル系、ヒンダードアミン系、シアノアクリレート系等の紫外線吸収剤や、酸化チタン等の無機粒子型の紫外線吸収剤等が挙げられ、こられを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７３】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、具体的には、例えば、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシ−ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−ベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン等が挙げられる。
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、具体的には、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【００７４】
サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤としては、具体的には、例えば、フェニルサルチレート、２−４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。
ヒンダードアミン系紫外線吸収剤としては、具体的には、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート等が挙げられる。
【００７５】
トリアジン系紫外線吸収剤としては、具体的には、例えば、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。
【００７６】
紫外線吸収剤としては、上記以外に紫外線の保有するエネルギーを、分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを、熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物が含まれる。
【００７７】
（光安定剤）
光安定剤は、光（主に紫外線）による酸化劣化を防止する観点から、機能層を形成する組成物に任意に添加することができる成分である。
光安定剤としては、例えば、ヒンダードアミン系光安定剤、ベンゾエート系光安定剤などが好ましく、中でも、ヒンダードアミン光安定剤（ＨＡＬＳ）が好ましい。光安定剤は１種または２種以上を併用することができる。
商業的に入手可能なヒンダードアミン光安定剤としては、例えば、コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物である光安定剤として、「ＴＩＮＵＶＩＮ ６２２」（チバ・ジャパン社製）；コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物とＮ，Ｎ’，Ｎ’’，Ｎ’’’−テトラキス−（４，６−ビス−（ブチル−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ）−トリアジン−２−イル）−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミンとの１対１の反応生成物である光安定剤として「ＴＩＮＵＶＩＮ １１９」（チバ・ジャパン社製）；ジブチルアミン・１，３−トリアジン・Ｎ， Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル−１，６−へキサメチレンジアミンとＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物である光安定剤として「ＴＩＮＵＶＩＮ ２０２０」（チバ・ジャパン社製）；ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝へキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］である光安定剤として「ＴＩＮＵＶＩＮ ９４４」（チバ・ジャパン社製）；ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケートとメチル１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルセバケートとの混合物である光安定剤として「ＴＩＮＵＶＩＮ ７６５」（チバ・ジャパン社製）；ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケートである光安定剤として「ＴＩＮＵＶＩＮ ７７０」（チバ・ジャパン社製）；デカン二酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−１ −（オクチルオキシ）−４−ピペリジニル）エステル（１，１−ジメチルエチルヒドロペルオキシド）とオクタンとの反応生成物である光安定剤として「ＴＩＮＵＶＩＮ １２３ 」（チバ・ジャパン社製）；ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル］メチル］ブチルマロネートである光安定剤として「ＴＩＮＵＶＩＮ １４４」（チバ・ジャパン社製）；シクロへキサンと過酸化Ｎ−ブチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジンアミン−２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとの反応生成物と２−アミノエタノールとの反応生成物である光安定剤として「ＴＩＮＵＶＩＮ １５２」（チバ・ジャパン社製）；ビス（１，２，２，６， ６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケートとメチル−１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルセバケートとの混合物である光安定剤として「ＴＩＮＵＶＩＮ ２９２」（チバ・ジャパン社製）；等が挙げられる。
【００７８】
（酸化防止剤）
酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤等が挙げられる。
【００７９】
フェノール系酸化防止剤としては、具体的には、例えば、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、テトラキス−〔メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（３’ ，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンジル）−Ｓ−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコールビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、３，９−ビス［１，１−ジ−メチル−２−〔β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン等が挙げられる。特に、フェノール系酸化防止剤としては、分子量が５５０以上のものが好ましい。
【００８０】
チオール系酸化防止剤としては、具体的には、例えば、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）等が挙げられる。ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト等が挙げられる。
【実施例】
【００８１】
以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００８２】
＜実施例１〜９＞
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡製、コスモシャインＡ−４３００、厚さ：２５０μｍ）上に、下記工程により電気めっきにて銀含有金属反射層を設けた。
【００８３】
（銀反射層が形成されたＰＥＴフィルムの作製）
下記構造のアクリルポリマー１（２２．０２質量部）、１−メトキシ−２−プロパノール（７２．７３質量部）、および、シクロヘキサノン（４．７４質量部）の混合溶液に、界面活性剤（Ｆ−７８０−Ｆ、固形分３０％、ＤＩＣ社製）（０．１６重量部）、および、光重合開始剤（エサキュアＫＴＯ−４６、ランベルディー社製）（０．３５質量部）を添加し、撹拌することにより、めっき下塗りポリマー層形成用塗布液を調製した。
【００８４】
【化５】
2015049472.tif 000006
【００８５】
次いで、ＰＥＴフィルム（Ａ４３００、東洋紡社製）上に、調製した上記めっき下塗りポリマー層形成用塗布液を、バーコート法により塗布し、２５℃にて５分間乾燥し、次いで８０℃にて５分間乾燥して塗膜を得た。
上記塗膜に対して、三永電機製のＵＶ露光機（型番：ＵＶＦ−５０２Ｓ、ランプ：ＵＸＭ−５０１ＭＤ）を用いて、２５４ｎｍの波長で６００ｍＪ／ｃｍ2の積算露光量にて照射を行い、めっき下塗りポリマー層（厚み：０．５５μｍ）を形成した。
その後、上記めっき下塗りポリマー層付きＰＥＴフィルムを１ｗｔ％炭酸水素ナトリウム水溶液中に５分間浸漬し、めっき下塗りポリマー層から未反応のポリマーを除去した。
次いで、めっき下塗りポリマー層付きＰＥＴフィルムを純水で洗浄し、さらに風乾した。
【００８６】
（金属反射層の形成）
次に、上記めっき下塗りポリマー層付きＰＥＴフィルムを１ｗｔ％硝酸銀水溶液中に５分間浸漬し、次いで純水で洗浄、風乾することで、銀イオンを付与しためっき下塗りポリマー層付きＰＥＴフィルムを得た。
上記銀イオンを付与しためっき下塗りポリマー層付きＰＥＴフィルムを、０．０５ｗｔ％のＮａＯＨと０．２５ｗｔ％のホルマリンとを含むアルカリ水溶液に１分間浸漬し、その後純水で洗浄し、風乾することで、めっき下塗りポリマー層表面近傍に還元銀層（膜厚約２０ｎｍ）が形成され、還元銀層付きＰＥＴフィルムを得た。
次に、上記還元銀層付きＰＥＴフィルムに対して、以下の電気めっき処理を行い、還元銀層上に厚み５０ｎｍの銀層を有する銀層付きＰＥＴフィルムを得た。
電気めっき液として、ダインシルバーブライトＰＬ５０（大和化成社製）を用い、８Ｍ水酸化カリウムによりｐＨ７．８に調整した。還元銀層付きＰＥＴフィルムを電気めっき液に浸漬し、０．３３Ａ／ｄｍ2にて１５秒間めっきし、その後、純水で１分間掛け流しにより洗浄し、風乾した。
【００８７】
得られた銀層付きＰＥＴフィルムを、チオ尿素水溶液（チオ尿素：１００質量ｐｐｍ）に６０秒間浸漬することにより、銀層の表面を処理を行った。表面処理後に純水で洗浄し、風乾した。
【００８８】
次に、表面処理後の銀層に対して、以下の電気めっき処理を行い、表面処理後の銀層上に厚み７５ｎｍの銀層をさらに形成し、銀反射層を得た。
電気めっき液として、ダインシルバーブライトＰＬ５０（大和化成社製）を用い、８Ｍ水酸化カリウムによりｐＨ７．８に調整した。表面処理後の銀層付きＰＥＴフィルムを、電気銀めっき液に浸漬し、０．５Ａ／ｄｍ2にて１５秒間めっきし、その後、純水で１分間掛け流しにより洗浄し、風乾した。
さらに、酸化皮膜を除去するために、電気めっき後処理として、ダインシルバーＡＣＣ（大和化成社製）の１０質量％水溶液（メタンスルホン酸：６質量％）に９０秒間浸漬した。その後、純水で１分間掛け流しにより洗浄し、風乾した。
【００８９】
このようにして、銀反射層が形成されたＰＥＴフィルムを得た。形成された銀層の表面の算術平均粗さＲａを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて測定したところ、７．８ｎｍであった。
【００９０】
（保護層の形成）
まず、保護層形成用塗布液として、アクリレートポリマー（ユニディックＥＫＳ−６７５、ＤＩＣ（株）製）（固形分として３０質量部）、下記第１表に示す上記化合物Ａ〜Ｄ（上記式（１）で表される繰返し単位の含有量（質量％）が形成後の保護層の樹脂固形分に対して下記第１表に示す値となる質量部）、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（ＴＩＮＵＶＩＮ４０５、ＢＡＳＦ（株）製）（３質量部）、ヒンダードアミン系光安定剤（ＴＩＮＵＶＩＮ２９２、ＢＡＳＦ（株）製）（０．３質量部）、シクロヘキサノン（１．５質量部）、メチルイソブチルケトン（５５質量部）、および、フッ素系界面活性剤（メガファックＦ−７８０−Ｆ、ＤＩＣ（株）製）（固形分として０．０１質量部）の混合溶液を調製した。
次いで、調製した保護層形成用塗布液を、上記銀反射層上に、乾燥後の膜厚が１０μｍとなるように、バーコート法により塗布し、１３０℃で２分間乾燥した後、ＵＶ照射装置（ＧＳユアサ社製、ＵＶランプ：メタルハライドランプ）により、２５４ｎｍの波長において５０ｍＪ／ｃｍ2の照射量で紫外線露光を行い、保護層を形成した。
【００９１】
（表面被覆層の形成）
まず、表面被覆層形成用塗布液として、フッ素系ＵＶ硬化樹脂（ディフェンサＦＨ−７００、ＤＩＣ（株）製）（固形分として２２質量部）、シクロヘキサノン（５質量部）、メチルエチルケトン（７２質量部）、フッ素系界面活性剤（メガファックＦ−７８０−Ｆ、ＤＩＣ（株）製）（固形分として０．０４質量部）の混合溶液を調製した。
次いで、調製した表面被覆層形成用塗布液を、上記保護層の上に、乾燥膜厚が１０μｍとなるようにバーコート法により塗布し、１３０℃で２分間乾燥した後、ＵＶ照射装置（ＧＳユアサ社製、ＵＶランプ：メタルハライドランプ）により、２５４ｎｍの波長において１００ｍＪ／ｃｍ2の照射量で紫外線露光を行い、表面被覆層を形成し、フィルムミラーを作製した。
【００９２】
＜比較例１＞
保護層形成用塗布液において、上記化合物Ａを用いなかった以外は、実施例１と同様にして、フィルムミラーを作製した。
【００９３】
＜比較例２＞
以下に示す方法により保護層を形成した以外は、実施例１と同様にして、フィルムミラーを作製した。なお、比較例２においては、以下に示す方法により保護層を形成した後に、実施例１と同様の方法で、保護層上に表面被覆層を形成し、フィルムミラーを作製した。
（保護層の形成）
まず、アクリル系樹脂（ＵＨＡ１２；アルファー化研社製）とビュレット型ＨＭＤＩ系イソシアネート（タケネートＤ−１６５Ｎ；三井化学社製）とを質量比率１０：１で混合し、メチルエチルケトンで希釈して樹脂固形分比率を１０質量％とした樹脂溶液を調製した。
次いで、調製した樹脂溶液をリバースコート法でコーティングして、厚み３μｍの保護樹脂層を形成した。
【００９４】
＜評価＞
作製した各フィルムミラーについて、保護層と金属反射層との密着性、および、反射率を評価した。以下、各々の評価に関して記載する。結果を下記第１表にまとめて示す。
【００９５】
＜密着性＞
（１）湿熱後
各フィルムミラーを恒温恒湿槽（エスペック社製、ＰＲ−３Ｊ）内に配置して、温度６５℃、湿度８５％ＲＨの環境条件下で２０００時間放置した。
その後、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−６の手順に従い、フィルムミラーの表面にカッターを用いて１ｍｍ間隔で切り込みを入れ２５個の碁盤の目を作成した。次いで、接着テープ（ニチバン製）をフィルムミラーの表面にしっかりと貼り、テープを勢いよくはがした後に、フィルムミラーの表面の膜の剥がれ方を観察して、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−６に基づく０〜５の点数付けを行った。実用上２点以下であることが必要である。なお、比較例２で作製したフィルムミラーの密着性の評価（点数５）は、テープ側に表面被覆層と保護層とが張り付き、支持体側に金属反射層が残った状態であるため、保護層と金属反射層との密着性が劣ることが分かった。
（２）湿熱および洗浄後
各フィルムミラーを恒温恒湿槽（エスペック社製、ＰＲ−３Ｊ）内に配置して、温度６５℃、湿度８５％ＲＨの環境条件下で２０００時間放置した。
その後、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−６の手順に従い、フィルムミラーの表面にカッターを用いて１ｍｍ間隔で切り込みを入れ２５個の碁盤の目を作成した。次いで、１分間以上水をかけ流した後、水をかけ続けた状態でウレタン製スポンジによりフィルムミラーの表面の擦り洗いを行った。なお、擦り洗いは、１０ｃｍ幅で２０往復擦った後、スポンジ擦りを止め、１分間以上水をかけ流して試験を終了する。
その後、フィルムミラーの表面の膜の剥がれ方を観察して、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−６に基づく０〜５の点数付けを行った。実用上２点以下であることが必要である。なお、比較例１および２で作製したフィルムミラーの密着性の評価（点数５）は、保護層と表面被覆層が擦り洗いにより全面に渡って脱落した状態であったため、保護層と金属反射層との密着性が劣ることが分かった。
【００９６】
＜反射率（維持）＞
作製した各フィルムミラーについて、紫外可視近赤外分光光度計ＵＶ−３１００（島津製作所社製）を用いて、波長２８０ｎｍから波長１７００ｎｍの範囲反射率を１ｎｍ間隔で測定し、得られた反射率のスペクトルをＲs(λ)として表した（λ：波長）。地表（エアマス１．５）における太陽光の基準放射照度スペクトルＳｉは、ASTMG173-03により定義されており、波長２８０ｎｍから波長１７００ｎｍまでの１ｎｍおきのＳｉをＳｉ（λ）として表した際、太陽光エネルギー反射率（Ｒtotal）を下記式で定義して算出した。
なお、Rtotalは太陽光の各波長における照射強度を加味した、実効的な太陽光エネルギーの反射効率を意味する。
【数１】
2015049472.tif 000007
【００９７】
次いで、各フィルムミラーを恒温恒湿槽（エスペック社製、ＰＲ−３Ｊ）内に配置して、温度６５℃、湿度８５％ＲＨの環境条件下で２０００時間放置した後に、上記と同様の方法で反射率を測定し、湿熱経時前後の反射率を下記の評価基準で評価した。実用上、ＡおよびＢであることが必要である。
（評価基準）
Ａ：反射率の低下が１％未満である。
Ｂ：反射率の低下が１％以上３％未満である。
Ｃ：反射率の低下が３％以上である。
【００９８】
【表１】
2015049472.tif 000008
【００９９】
第１表に示す結果から、上記式（１）で表される繰返し単位を有さない樹脂を保護層として用いた場合は、保護層と金属反射層との密着性が洗浄後に劣っており、また、反射率も湿熱経時後に低下することが分かった（比較例１）。
また、特許文献１（特開２０１１−１７３３６５号公報）と同様、ビュレット型ＨＭＤＩ系イソシアネート（タケネートＤ−１６５Ｎ；三井化学社製）を保護層に用いた場合は、保護層と金属反射層との密着性が湿熱後や洗浄後においていずれも劣ることが分かった（比較例２）。
これに対し、上記式（１）で表される繰返し単位を有する樹脂を保護層に用いた場合には、湿熱後やその後の洗浄後においても保護層と金属反射層との密着性が良好となり、また、反射率も維持できることが分かった（実施例１〜９）。
また、実施例５〜９の対比から、保護層の樹脂固形分に対して上記式（１）で表される繰返し単位を１０〜５０質量％含有すると、保護層と金属反射層との密着性がより良好となることが分かった（実施例５〜７）。
【０１００】
＜実施例１０＞
実施例１の金属反射層の形成工程において、イオンを付与しためっき下塗りポリマー層付きＰＥＴフィルムをホルマリンを含むアルカリ水溶液に１分間浸漬させる工程におけるアルカリ水溶液中のＮａＯＨの含有量を、０．１４ｗｔ％に変更した以外は実施例１と同様の方法で金属反射層を形成し、銀反射層が形成されたＰＥＴフィルムを得た。
形成された銀層の表面の算術平均粗さＲａを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて測定したところ、３．４ｎｍであった。
その後の作業も実施例１と同様に進め、フィルムミラーを作製した。
【０１０１】
＜比較例３＞
比較例１の金属反射層の形成工程において、イオンを付与しためっき下塗りポリマー層付きＰＥＴフィルムをホルマリンを含むアルカリ水溶液に１分間浸漬させる工程におけるアルカリ水溶液中のＮａＯＨの含有量を、０．１４ｗｔ％に変更した以外は比較例１と同様の方法で金属反射層を形成し、銀反射層が形成されたＰＥＴフィルムを得た。
形成された銀層の表面の算術平均粗さＲａを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて測定したところ、３．４ｎｍであった。
その後の作業も比較例１と同様に進め、フィルムミラーを作製した。
【０１０２】
実施例１０および比較例３で作製したフィルムミラーについて、保護層と金属反射層との密着性、および、反射率を上述した方法で評価した。この結果を実施例１および比較例１の結果とともに下記第２表に示す。
【０１０３】
【表２】
2015049472.tif 000009
【０１０４】
第２表に示す結果から、金属反射層の算術平均粗さＲａが５ｎｍ以下であると、比較例１と比較例３との対比から、保護層の密着性を維持することが困難であることが分かる。これは、表面粗さによるアンカー効果が失われたことによる密着性の悪化であると考えられる。
一方、実施例６と実施例１０との対比から、上記式（１）で表される繰返し単位を有する樹脂を保護層に用いた場合には、金属反射層の算術平均粗さＲａが５ｎｍ以下であっても保護層の密着性を維持することができることが分かる。
【符号の説明】
【０１０５】
１  金属反射層
２  保護層
３  支持体
４  表面被覆層
１０  フィルムミラー
【図１】
2015049472.tif 000012
【図２】
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【図３】
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