(57)【要約】【課題】    より簡便に製造することができる、エレクトロウェッティング効果を利用した光学装置を提供する。【解決手段】  当該液晶光学素子は、対向配置される第１および第２の基板と、前記第１および第２の基板に狭持される枠状の区画部材と、前記第１および第２の基板、ならびに、前記区画部材により画定される閉塞空間に充填され、少なくとも水を含む第１の溶媒、疎水性を有する第２の溶媒、および、該第１および第２の溶媒の界面に分布する界面活性剤を含む液状部材と、を備える。【選択図】  図１
2015038573.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向配置される第１および第２の基板であって、該第１の基板は、該第２の基板に近い表面に、相互に間隙を空けて設けられた第１および第２の電極、ならびに、該第１および第２の電極を覆い、撥水性および電気絶縁性を有する平滑層を含み、該第２の基板は、該第１の基板に近い表面に、該第１および第２の電極と対向して設けられた第３の電極を含む、該第１および第２の基板と、
前記第１および第２の基板に狭持され、該第１および第２の基板の法線方向から見たときに、前記第１および第２の電極と前記第３の電極とが重なる領域を囲んで、画素領域を画定する区画部材と、
前記第１および第２の基板、ならびに、前記区画部材により画定される閉塞空間に充填され、少なくとも水を含む第１の溶媒、疎水性を有する第２の溶媒、および、該第１および第２の溶媒の界面に分布する界面活性剤を含む液状部材と、
を備える光学装置。
【請求項２】
前記液状部材は、前記第１および第２の溶媒が、前記閉塞空間内において、それぞれ偏在している形態を有する請求項１記載の光学装置。
【請求項３】
前記第２の溶媒は、複数の粒状の液滴が群集している形態を有する請求項２記載の光学装置。
【請求項４】
さらに、前記第１および第３の電極の間と、前記第２および第３の電極の間と、にそれぞれ交流電圧を印加することができる電源と、を備える請求項１〜３いずれか１項記載の光学装置。
【請求項５】
さらに、前記閉塞空間を、第１および第２の空間に区分し、該第１および第２の空間の間を往来することができるゲート部を含む仕切り部材と、を備え、
前記第１および第２の基板の法線方向から見たときに、
前記第１の空間は、主に前記第１の電極に対応する領域に画定されており、
前記第２の空間は、主に前記第２の電極に対応する領域に画定されている、
請求項１〜４いずれか１項記載の光学装置。
【請求項６】
前記第１および第２の基板の法線方向から見たときに、前記仕切り部材のゲート部に対応する領域において、
前記第１の電極は前記第２の空間側に張り出しており、
前記第２の電極は前記第１の空間側に張り出している、
請求項５記載の光学装置。
【請求項７】
前記画素領域は、一辺が５００μｍ以下の矩形状である請求項１〜６いずれか１項記載の光学装置。
【請求項８】
ａ）表面に、相互に間隙を空けて設けられた第１および第２の電極、ならびに、該第１および第２の電極を覆い、撥水性および電気絶縁性を有する平滑層が形成され、該第１および第２の電極に跨る第１の領域を有する第１の基板、および、表面に、第３の電極が形成され、該第３の電極を含み、該第１の基板と貼合した際に、該第１の領域と対向する第２の領域を有する第２の基板、を準備する工程と、
ｂ）区画部材を、前記第１の基板表面の前記第１の領域を囲うように形成するか、または、前記第２の基板表面の前記第２の領域を囲うように形成する工程と、
ｃ）少なくとも水を含む第１の溶媒、疎水性を有する第２の溶媒、および、界面活性剤を混合した液状部材を、前記第１の基板表面の第１の領域に滴下するか、または、前記第２の基板表面の第２の領域に滴下する工程と、
ｄ）前記第１および第２の基板を、前記第１および第２の領域が対向するように貼合する工程であって、前記液状部材が、前記第１および第２の基板、ならびに、前記区画部材によって画定される閉塞空間に封入されるように貼合する工程と、
を有する光学装置の製造方法。
【請求項９】
前記工程ｃ）において、前記液状部材は、前記第１の溶媒中に前記第２の溶媒が一様に分散している形態を有する請求項８記載の光学装置の製造方法。
【請求項１０】
前記工程ｄ）の後、前記液状部材は、前記第１および第２の溶媒が、前記閉塞空間内において、それぞれ偏在している形態となる請求項９記載の光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エレクトロウェッティング効果を利用した光学装置、および、その製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
エレクトロウェッティング（ＥＷ）効果を利用した光学素子（ＥＷ素子）が、たとえば特許文献１，２などに開示されている。ＥＷ素子は、主に、対向配置される一対の基板と、該一対の基板に狭持され、該一対の基板の法線方向から見たときに、所定の領域を囲うような形状を有する隔壁と、該一対の基板および該隔壁により画定される閉塞空間に充填され、互いに相容しない極性溶媒および非極性溶媒を含む液状部材と、を含む構成である。
【０００３】
ＥＷ素子は、一般に、一対の基板のうち一方の基板に、極性溶媒および非極性溶媒をそれぞれ滴下した後、当該一対の基板を貼り合せて製造される。ＥＷ素子を製造するためには、少なくとも、一対の基板のうち一方の基板に、極性溶媒を滴下する工程と、非極性溶媒を滴下する工程と、を要する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特表２００７−５３１９１７号公報
【特許文献２】特開２０１２−２３０１７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の主な目的は、エレクトロウェッティング効果を利用した光学装置をより簡便に製造することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一観点によれば、対向配置される第１および第２の基板であって、該第１の基板は、該第２の基板に近い表面に、相互に間隙を空けて設けられた第１および第２の電極、ならびに、該第１および第２の電極を覆い、撥水性および電気絶縁性を有する平滑層を含み、該第２の基板は、該第１の基板に近い表面に、該第１および第２の電極と対向して設けられた第３の電極を含む、該第１および第２の基板と、前記第１および第２の基板に狭持され、該第１および第２の基板の法線方向から見たときに、前記第１および第２の電極と前記第３の電極とが重なる領域を囲んで、画素領域を画定する区画部材と、前記第１および第２の基板、ならびに、前記区画部材により画定される閉塞空間に充填され、少なくとも水を含む第１の溶媒、疎水性を有する第２の溶媒、および、該第１および第２の溶媒の界面に分布する界面活性剤を含む液状部材と、を備える光学装置、が提供される。
【０００７】
本発明の他の観点によれば、ａ）表面に、相互に間隙を空けて設けられた第１および第２の電極、ならびに、該第１および第２の電極を覆い、撥水性および電気絶縁性を有する平滑層が形成され、該第１および第２の電極に跨る第１の領域を有する第１の基板、および、表面に、第３の電極が形成され、該第３の電極を含み、該第１の基板と貼合した際に、該第１の領域と対向する第２の領域を有する第２の基板、を準備する工程と、ｂ）区画部材を、前記第１の基板表面の前記第１の領域を囲うように形成するか、または、前記第２の基板表面の前記第２の領域を囲うように形成する工程と、ｃ）少なくとも水を含む第１の溶媒、疎水性を有する第２の溶媒、および、界面活性剤を混合した液状部材を、前記第１の基板表面の第１の領域に滴下するか、または、前記第２の基板表面の第２の領域に滴下する工程と、ｄ）前記第１および第２の基板を、前記第１および第２の領域が対向するように貼合する工程であって、前記液状部材が、前記第１および第２の基板、ならびに、前記区画部材によって画定される閉塞空間に封入されるように貼合する工程と、を有する光学装置の製造方法、が提供される。
【発明の効果】
【０００８】
エレクトロウェッティング効果を利用した光学装置をより簡便に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１Ａおよび図１Ｂは、実施例によるＥＷ素子の基本的な構造を示す断面図および平面図であり、図１Ｃは、実施例によるＥＷ素子の他の構造を示す断面図である。
【図２】図２Ａは、実施例によるＥＷ素子の製造工程を示すフローチャートであり、図２Ｂおよび図２Ｃは、液状部材滴下工程において用いられる液状部材を示す写真である。
【図３】図３Ａおよび図３Ｂは、実施例によるＥＷ素子を駆動する様子を示す断面図である。
【図４】図４Ａ〜図４Ｃは、実施例によるＥＷ素子の他の構造を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、図１〜図３を参照して、本発明の実施例によるＥＷ素子１の構造、製造方法および駆動方法について説明する。なお、図中に示す各構成要素の相対的なサイズは、実際のものとは異なっている。
【００１１】
図１Ａおよび図１Ｂは、ＥＷ素子１の基本的な構造を概略的に示す断面図および平面図である。図１ＢにおけるＩＡ−ＩＡ断面は、図１Ａに示す断面図に対応する。なお、図１Ｂにおいて、一部の構成要素（遮光層２３，液状部材４０等）は、便宜的に省略されている。
【００１２】
ＥＷ素子１は、主に、下側基板１０、上側基板２０、区画部材３０、および、液状部材４０を含む構成である。
【００１３】
下側基板１０は、図１Ａに示すように、下側ベース基板１１表面に、相互に間隙を空けて設けられる第１および第２下側電極１２，１３と、第１および第２下側電極１２，１３を覆い、撥水性および電気絶縁性を有する平滑層１４と、を備えている。なお、下側ベース基板１１裏面に、光反射板１５を設けてもよい。第１および第２下側電極１２，１３は、図１Ｂに示すように、たとえばストライプ状に形成されている。
【００１４】
下側ベース基板１１には、たとえば、青板ないし白板ガラス基板を用いることができる。第１および第２下側電極１２，１３には、たとえば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）膜などを用いることができる。平滑層１４には、たとえば、テフロン（登録商標）膜などを用いることができる。
【００１５】
上側基板２０は、図１Ａに示すように、下側基板１０と対向して配置されており、上側ベース基板２１表面に設けられる上側電極２２と、上側電極２２表面の一部に形成される遮光層２３と、を備えている。遮光層２３は、概ね、下側基板１０の第２下側電極１３に対向する領域に設けられている。なお、遮光層２３は、上側ベース基板２１裏面に設けられていてもかまわない。
【００１６】
上側ベース基板２１には、たとえば、青板ないし白板ガラス基板を用いることができる。上側電極２２は、たとえば、ＩＴＯ膜などを用いることができる。遮光層２３には、たとえば、アルミニウム層やモリブデン層を用いることができる。
【００１７】
区画部材３０は、図１Ａに示すように、下側および上側基板１０，２０に狭持されている。また、図１Ｂに示すように、第１および第２下側電極１２，１３と上側電極２２とが重なる領域を囲む枠状の形状を有している。区画部材３０には、たとえば紫外線硬化性樹脂が用いられる。
【００１８】
ここで、下側および上側基板１０，２０、ならびに、区画部材３０により画定される空間を、閉塞空間５１と呼ぶこととする。また、平面視において、第１および第２下側電極１２，１３と上側電極２２とが重なり、区画部材３０により囲まれる領域を、画素領域５２と呼ぶこととする。
【００１９】
液状部材４０は、図１Ａに示すように、閉塞空間５１内に充填されており、少なくとも水を含む第１の溶媒４１、疎水性を有し、第１の溶媒４１と相分離する第２の溶媒４２、および、第１および第２の溶媒４１，４２の界面に分布する界面活性剤を含んでいる。第１および第２の溶媒４１，４２は、相互に混ざり合っておらず、閉塞空間５１内において、それぞれ偏在している。平滑層１４は撥水性を有しているため、通常、第１の溶媒４１は平滑層１４から離れて定位しており、第２の溶媒４２は平滑層１４に接して定位している。
【００２０】
第１の溶媒４１には、純水が好適に用いられる。第２の溶媒４２には、たとえば石油を主成分としたオイルなどが用いられる。なお、第１ないし第２の溶媒４１，４２には、染料（色素）が溶解されていてもよい。界面活性剤は、第１および第２の溶媒４１，４２を乳化させうるものであればよい。
【００２１】
図１Ｃは、液状部材４０の他の構成を示す断面図である。液状部材４０において、界面活性剤の添加量が比較的多い場合、第２の溶媒４２は、複数の粒状の液滴が群集する形態となる。なお、このような場合であっても、第１および第２の溶媒４１，４２は、閉塞空間５１内において、それぞれ偏在している。
【００２２】
図２Ａは、ＥＷ素子１の製造工程を示すフローチャートである。以下、図１Ａ〜図１Ｃを参照しながら、図２Ａに基づいて、ＥＷ素子１の製造方法について説明する。
【００２３】
最初に、ＩＴＯ電極付きガラス基板を２枚用意する。ＩＴＯ電極の厚みは８０ｎｍ程度であり、ガラス基板の厚みは０．７ｍｍｔ程度である。なお、一方のガラス基板は下側ベース基板１１に対応し、他方のガラス基板は上側ベース基板２１に対応する。
【００２４】
下側基板１０を作製する（工程Ｓ１０１）。
【００２５】
一方のガラス基板（下側ベース基板１１）表面に形成されたＩＴＯ電極を、マスクを用いたエッチング法などにより、ストライプ状に成形（パターニング）する。これにより、下側ベース基板１１表面に、相互に間隔を空けて配置される第１および第２下側電極１２，１３が形成される。
【００２６】
続いて、第１および第２下側電極１２，１３を覆うように、テフロン（登録商標）系材料（デュポン社製）を塗布し、熱処理する。テフロン（登録商標）系材料の塗布には、たとえばスピンコート法などを用いることができる。これにより、第１および第２下側電極１２，１３を覆う平滑層１４が形成される。なお、平滑層１４は、電気絶縁性を有する絶縁層および撥水性を有する撥水層が積層する積層構造であってもかまわず、第１および第２下側電極１２，１３を覆う絶縁層を形成した後に、当該絶縁層表面に撥水層を形成してもかまわない。
【００２７】
以上により、下側基板１０が完成する。
【００２８】
上側基板２０を作製する（工程Ｓ１０２）。
【００２９】
他方のガラス基板（上側ベース基板２１）表面には、ＩＴＯ電極（上側電極２２）が形成されている。必要に応じて、上側電極２２を、エッチング法やレーザアブレーション法などにより、所望の平面形状にパターニングする。上側電極２２表面の一部の領域に、アルミニウム膜ないしモリブデン膜を成膜し、遮光層２３を形成する。なお、上側電極２２表面ないし遮光層２３表面に絶縁層を形成してもかまわない。絶縁層は、たとえばポリイミドなどにより形成することができる。
【００３０】
以上により、上側電極２０が完成する。
【００３１】
作製した下側および上側基板１０，２０のどちらか一方の基板、たとえば上側基板２０に、区画部材３０を形成する（工程Ｓ１０３）。上側電極２２および遮光層２３を覆うように、光硬化性樹脂（ポジ型感光性レジスト）を塗布する。光硬化性樹脂の塗布には、たとえばスピンコート法などを用いることができる。その後、当該光硬化性樹脂を、所定の遮光パターンを有するマスクを用いて露光処理し、さらに現像処理する。これにより、上側基板２０表面に、区画部材３０が形成される。
【００３２】
作製した下側および上側基板１０，２０のどちらか一方の基板、たとえば下側基板１０に、ディスペンサやマイクロピペットなどを用いて、液状部材４０を滴下する（工程Ｓ１０４）。実施例では、液状部材４０に、純水（第１の溶媒４１）、オイル（第２の溶媒４２）、および、界面活性剤を混合・撹拌したものを用いた。なお、実施例では、黒色染料を溶解したオイル（第２の溶媒４２）を用いた。界面活性剤は、純水（第１の溶媒）およびオイル（第２の溶媒）に対して、０．０１〜１．０Ｖｏｌ％の割合で添加されることが好ましい。
【００３３】
液状部材４０が滴下された下側基板１０に、区画部材３０が形成された上側基板２０を貼り合せる（工程Ｓ１０５）。このとき、下側および上側基板１０，２０は、下側および上側基板１０，２０、ならびに、区画部材３０により包囲される空間（閉塞空間５１）に、液状部材４０が収容されるように貼合される。また、平面視において、第１および第２下側電極１２，１３と上側電極２２とが重なり、かつ、第２下側電極１３と遮光層２３とが重なるように貼合される。その後、貼合された下側および上側基板１０，２０の側端面に、シール部材を張り付けるか、または、接着剤を塗布して、下側および上側基板１０，２０の相対的位置関係を固定するとともに、液状部材４０の横溢を抑止する。これにより、ＥＷ素子１が完成する。なお、実施例では、下側基板１０裏面に、光反射板１５を配置している。
【００３４】
図２Ｂおよび図２Ｃは、液状部材滴下工程（工程Ｓ１０４）において用いる液状部材を示す写真である。図２Ｂに、撹拌状態における液状部材を示し、図２Ｃに、安定状態における液状部材を示す。なお、安定状態における液状部材とは、撹拌状態における液状部材を、５分以上安定放置した後の液状部材を言うものとする。写真に示す液状部材は、１ｍｌの純水（第１の溶媒）、２ｍｌのオイル（第２の溶媒）、および、６μｌの界面活性剤が混合したものであり、試験用小瓶の中に収容されている。
【００３５】
図２Ｂに示す写真から、撹拌状態における液状部材は、全体的に黒くなっていることがわかる。つまり、撹拌により、無色透明の純水（第１の溶媒）中に、黒色染料が溶解したオイル（第２の溶媒）が一様に分散していることがわかる。
【００３６】
図２Ｃに示す写真から、安定状態における液状部材は、黒い領域（小瓶中の上側）と透明な領域（小瓶中の下側）とに分離していることがわかる。つまり、無色透明な純水（第１の溶媒）と黒色染料が溶解したオイル（第２の溶媒）とが、小瓶中において、それぞれ偏在していることがわかる。
【００３７】
液状部材滴下工程（工程Ｓ１０４）において、界面活性剤が混合されておらず、第１および第２の溶媒が完全に相分離している液状部材を用いる場合、所望の分量で、かつ、１つの工程で、第１および第２の溶媒を基板に滴下することは困難である。このため、液状部材滴下工程（工程Ｓ１０４）を２つの工程、つまり、所望量の第１の溶媒を基板に滴下する工程と、所望量の第２の溶媒を基板に滴下する工程とに分ける必要がある。
【００３８】
これに対し、液状部材滴下工程（工程Ｓ１０４）において、界面活性剤が混合されており、第１および第２の溶媒が撹拌されている液状部材（撹拌状態における液状部材）を用いる場合、第１の溶媒中に第２の溶媒が一様に分散しているため、所望の分量で、かつ、１つの工程で、第１および第２の溶媒を基板に滴下することが可能である。なお、当該液状部材は、基板貼合工程（工程Ｓ１０５）の後、安定放置されることにより、図１Ａないし図１Ｃに示す状態、つまり、閉塞空間内において第１および第２の溶媒が分離（偏在）する状態となる（安定状態の液状部材）。
【００３９】
なお、純水（第１の溶媒）、オイル（第２の溶媒）、および、界面活性剤の分量が、それぞれ、１ｍｌ、２ｍｌ、および、６μｌ程度である場合、安定状態において、オイルは、図１Ｃに示す形態、つまり、多数の粒状の液滴が群集する形態となる。また、たとえば、純水（第１の溶媒）、オイル（第２の溶媒）、および、界面活性剤の分量が、それぞれ、１ｍｌ、２ｍｌ、および、２μｌ程度である場合には、安定状態において、オイルは、図１Ａに示す形態、つまり、単一の液滴により構成される形態となる。
【００４０】
図３Ａおよび図３Ｂは、ＥＷ素子１を駆動する様子を示す断面図である。図３Ａに、第１下側電極１２と上側電極２２との間に電圧を印加した際の第１および第２の溶媒４１，４２の様子を示し、図３Ｂに、第２下側電極１３と上側電極２２との間に電圧を印加した際の第１および第２の溶媒４１，４２の様子を示す。第１および第２下側電極１２，１３と上側電極２２とに接続される電源６０には、たとえば交流電圧（振幅１０Ｖ〜２０Ｖ，周波数１０ｋＨｚ〜１ＭＨｚ）を出力することができる電源を用いることができる。
【００４１】
図３Ａに示すように、第１下側電極１２と上側電極２２との間に、電源６０を接続して、交流電圧を印加すると、第１の溶媒４１（純水）が第１下側電極１２上方に引き寄せられるように移動する。このとき、上側基板２０側から入射される光は、無色透明である第１の溶媒４１（純水）を透過し、光反射板１５に反射され、再び上側基板２０側から出射される。つまり、画素領域５２の遮光層２３が配置されていない領域において、明状態が実現される。これにより、ＥＷ素子１の明表示が実現される。なお、画素領域５２の遮光層２３が配置される領域は、常に暗状態である。
【００４２】
図３Ｂに示すように、第２下側電極１３と上側電極２２との間に、電源６０を接続して、交流電圧を印加すると、第１の溶媒４１（純水）が第２下側電極１３上方に引き寄せられるように移動する。上側基板２０から入射される光は、黒色染料が溶解した第２の溶媒４２（オイル）に吸収される。つまり、画素領域５２の遮光層２３が配置されていない領域において、暗状態が実現される。これにより、ＥＷ素子１の暗表示が実現される。なお、画素領域５２の遮光層２３が配置される領域は、常に暗状態である。
【００４３】
このように、第１下側電極１２と上側電極２２との間、ないし、第２下側電極１３と上側電極２２との間、に印加する電圧を制御することにより、ＥＷ素子１の明／暗表示を切り替える（スイッチングする）ことができる。このようなＥＷ素子１は、たとえば表示素子に応用することが可能であろう。また、光反射板１５を設けなければ、たとえば光シャッター素子として利用することも可能であろう。
【００４４】
なお、本発明者らによるさらなる検討によれば、第１および第２の溶媒４１，４２に界面活性剤が混合されている場合であって、また、印加する電圧が直流電圧である場合、第１の溶媒４１の移動が鈍くなる、つまり、応答速度が遅くなることがわかっている。また、画素領域５２が一辺５００μｍよりも大きいと、第１の溶媒４１の応答速度が遅くなることがわかっている。
【００４５】
さらに、第２の溶媒４２が、図１Ａに示す形態、つまり、単一の液滴により構成される形態である場合には、印加する交流電圧の周波数が低くなるにしたがって、第１の溶媒４１の応答速度が速くなることがわかっている。一方、第２の溶媒４２が、図１Ｃに示す形態、つまり、多数の液滴が群集する形態である場合には、印加する交流電圧の周波数が高くなるにしたがって、第１の溶媒４１の応答速度が速くなることがわかっている。
【００４６】
図４Ａ〜図４Ｃは、ＥＷ素子１における区画部材３０ないし下側電極１２，１３の他の形状を示す平面図である。なお、区画部材３０ないし下側電極１２，１３の平面形状は、区画部材形成工程（工程Ｓ１０３）ないし下側基板作製工程（工程Ｓ１０１）において用いるマスクパターンを変更することにより、容易に調整することが可能である。
【００４７】
図４Ａに示すように、ＥＷ素子１は、さらに、区画部材３０と一体的に形成され、ゲート部３１ａを備える仕切り部材３１を含む構成としてもよい。このような仕切り部材３１を設けることにより、ＥＷ素子１にメモリー性を具備させることができる。
【００４８】
仕切り部材３１は、閉塞空間５１内を２つの空間、つまり第１および第２の空間５１ａ，５１ｂに区分する。第１の空間５１ａは、主に、第１下側電極１２上方に画定され、第２の空間５１ｂは、主に、第２下側電極１３上方に画定される。第１ないし第２下側電極１２，１３と上側電極２２との間に交流電圧を印加すると、閉塞空間５１内に充填する第１および第２の溶媒４１，４２は、仕切り部材３１のゲート部３１ａを通って、第１および第２の空間５１ａ，５１ｂの間を往来することができる。
【００４９】
たとえば、第１下側電極１２と上側電極２２との間に電圧を印加すると、第１の溶媒４１は、第１下側電極１２上方に引き寄せられる、つまり、第１の空間５１ａに移動する。そして、当該電圧の印加を停止すると、第１の溶媒４１は、その一部が第２の空間５１ｂに移動して、定常状態（図１Ａないし図１Ｃに示す状態）に復元しようとする。しかし、このとき、仕切り部材３１が設けられていると、第１の溶媒４１の第２の空間５１ｂへの移動が制限され、第１の溶媒４１が第１の空間５１ａに留まる。
【００５０】
このように、仕切り部材３１を設けることにより、第１の溶媒４１（ないし第２の溶媒４２）を従前に占有していた空間に留める、つまり第１の溶媒４１の従前の配置状態を保持することが可能となる。このため、ＥＷ素子１がメモリー性を具備するようになる。
【００５１】
なお、仕切り部材３１を設ける場合、図４Ｂに示すように、仕切り部材３１のゲート部３１ａに対応する領域において、第１下側電極１２が第２の空間５１ｂ側に張り出し（張り出し部１２ａ）、第２下側電極１３が第１の空間５１ａ側に張り出す（張り出し部１３ａ）ようにすることが好ましい。これにより、第１ないし第２下側電極１２，１３と上側電極２２との間に電圧を印加した際に、第１の溶媒４１の、第１ないし第２の空間５１ａ，５１ｂへの移動が円滑になる。
【００５２】
また、仕切り部材３１は、閉塞空間５１を等分するように設けられていなくてもかまわない。たとえば、図４Ｃに示すように、閉塞空間５１を、当該閉塞空間５１の大よそ１／４の空間を画定する第１の空間５１ａと、当該閉塞空間５１の大よそ３／４の空間を画定する第２の空間５１ｂと、に区分するように設けられていてもよい。なお、このとき、第１下側電極１２は、第１の空間５１ａに対応するように設けられ、第２下側電極１３は、第２の空間５１ｂに対応するように設けられることが望ましい。
【００５３】
以上、本発明を実施するための形態について説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。
【符号の説明】
【００５４】
１…エレクトロウェッティング素子（ＥＷ素子）、１０…下側基板、１１…下側ベース基板、１２…第１下側電極、１３…第２下側電極、１４…平滑層、１５…光反射板、２０…上側基板、２１…上側ベース基板、２２…上側電極、２３…遮光層、３０…区画部材、３１…仕切り部材、４０…液状部材、４１…第１の溶媒、４２…第２の溶媒、５１…画素領域、５２…閉塞空間、６０…交流電源。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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