(57)【要約】【課題】２枚の基板間に間隙を有するタッチパネルにおいて、その間隙側表面に特定表面形状を有する光学フィルムを配置することにより、ニュートンリングの発生を抑制する。【解決手段】表示素子側基板１０とタッチ入力素子２０とが間隙５０を置いて配置され、表示素子側基板１０の間隙５０側表面及びタッチ入力素子２０の間隙５０側表面のうち少なくとも一方に、透明支持体３１，４１と、その上に形成された、断面曲線のスキューネスＰskの絶対値が０.３以下の微細な表面凹凸形状を有する塗工層３２，４２とを備える光学フィルム３０，４０が、その塗工層３２，４２側を上記の間隙５０に向けて配置されている、タッチパネルが提供される。塗工層３２，４２は、算術平均傾斜角Δａが１°以下であること、また算術平均粗さＲａが１００nm以下であることが好ましい。【選択図】図１
2015011425.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示素子側基板とタッチ入力素子とが間隙を置いて配置され、
前記表示素子側基板の間隙側表面及び前記タッチ入力素子の間隙側表面のうち少なくとも一方に、透明支持体と、その上に形成された、断面曲線のスキューネスＰskの絶対値が０.３以下の微細な表面凹凸形状を有する塗工層とを備える光学フィルムが、その塗工層側を前記間隙に向けて配置されていることを特徴とする、タッチパネル。
【請求項２】
前記表示素子側基板の間隙側表面にのみ前記光学フィルムが配置されている、請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項３】
前記表示素子側基板の間隙側表面及び前記タッチ入力素子の間隙側表面のそれぞれに前記光学フィルムが配置されている、請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項４】
前記表示素子側基板が偏光板であり、その表面に前記光学フィルムが配置されている、請求項２又は３に記載のタッチパネル。
【請求項５】
前記光学フィルムの塗工層は、算術平均傾斜角Δａが１°以下の表面形状を有する、請求項１〜４のいずれかに記載のタッチパネル。
【請求項６】
前記光学フィルムの塗工層は、算術平均粗さＲａが１００nm以下の表面形状を有する、請求項１〜５のいずれかに記載のタッチパネル。
【請求項７】
前記光学フィルムは、全ヘーズが３％以下である、請求項１〜６のいずれかに記載のタッチパネル。
【請求項８】
前記光学フィルムは、外部ヘーズが３％以下である、請求項１〜７のいずれかに記載のタッチパネル。
【請求項９】
画像表示素子と、その視認側に配置された請求項１〜８のいずれかに記載のタッチパネルとを備える、タッチ入力式画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ニュートンリングの発生が抑制されたタッチパネル、及びそれを用いた画像表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話（特にスマートフォン）やタブレット型携帯情報端末を中心に、タッチ入力式の画像表示装置が急速に普及してきている。タッチ入力式の画像表示装置においては、画像表示素子の視認側に、タッチ位置情報を検知するタッチパネルが配置される。この場合の画像表示素子としては、液晶セルや有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示素子などが多く用いられる。一方、タッチパネルには各種の方式があるが、現在主流を占めているのは、抵抗膜方式と静電容量方式である。
【０００３】
抵抗膜方式のタッチパネルは、透明電極を有する２枚の基板が間隙を保って、かつそれぞれの透明電極が向かい合うように配置されており、手指などで押圧して２枚の透明電極を接触させることにより、タッチ位置を検知するようになっている。その例としては、特開 2005-11312 号公報（特許文献１）や特開 2012-59245 号公報（特許文献２）に記載のものなどを挙げることができる。抵抗膜方式のタッチパネルはこのように、２枚の基板間に必ず間隙が設けられる。
【０００４】
一方、静電容量方式のタッチパネルは、手指がタッチした部分の表面電荷の変化をとらえて、タッチ位置を検知するようになっている。その例として、特開 2012-48279 号公報（特許文献３）や特開 2012-181828号公報（特許文献４）に記載のものなどを挙げることができる。静電容量方式のタッチパネルにおいては、間隙が必須ではないものの、表示素子側基板との間に間隙を設けることもある（特許文献３の図７参照）。
【０００５】
そして、特に基板間に間隙（ギャップ）がある場合は、操作のために手指などで画面にタッチしたとき、ニュートンリングと呼ばれる干渉縞が発生する。ニュートンリングは、抵抗膜方式のタッチパネルであれば、画面を押圧して上下の透明電極間にある間隙をなくして両者を接触させたときに、また表示素子側基板との間に間隙を有する静電容量方式のタッチパネルであれば、その間隙の距離が変化したり、タッチ入力素子が表示素子側基板と接触したりしたときに、その間隙において多重反射した光が干渉することで発生する。ニュートンリングが発生すると、視認性を低下させるため、その対策が求められている。
【０００６】
特許文献２では、液晶パネルなどの画像表示素子と、タッチパネルの最前面に配置される前面板（同文献では「ウィンドウ」と表示）とを、それぞれの外縁が接着層で直接接着されるようにし、それによって形成される空間内に２枚の基板で構成されるタッチパネルを収め、画像表示素子と画像表示素子側基板との間に間隙が生じないようにして、上記のようなニュートンリングの発生を抑制している。特許文献２には、第２実施例として静電容量方式のタッチパネルも開示されている。
【０００７】
その他にニュートンリングの発生を防止する方策として、電極や画像表示素子の表面を粗面化して表面の反射光を散乱させる方法が知られている。例えば、特開 2008-155387号公報（特許文献５）には、光重合性組成物を硬化して得られる厚さ０.１〜１mm の樹脂成形体の一方の面に透明導電膜が形成され、その樹脂成形体の透明導電膜形成面を、算術平均粗さＲａが５０〜１５０nmである凹凸面とした積層体が開示されており、このような表面凹凸を形成することによりニュートンリングが抑制できるとされている。この積層体をタッチパネル用の透明電極付き基板とすることも開示されている。しかしながら、算術平均粗さＲａの制御だけでは、特にそれが１００nm以下となった場合に、必ずしもニュートンリングを有効に抑制できないことがあった。
【０００８】
また、表面を粗面化する場合は一般に、散乱が強くなるため、画面が白っぽくなるいわゆる白ちゃけが生じたり、コントラストが低下したりするという問題があった。白ちゃけを防止するためには、ヘーズを小さくしたり表面粗さを小さくしたりする必要があるが、その場合には十分なニュートンリング防止効果が得られないことがあった。
【０００９】
一方、電極や画像表示素子の表面に反射防止層を設けて多重反射を低減させ、ニュートンリングの発生を防止することも考えられる。しかしながら反射防止層は、白ちゃけやコントラスト低下の防止には有効であるものの、コスト高になるという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００５−１１３１２号公報
【特許文献２】特開２０１２−５９２４５号公報
【特許文献３】特開２０１２−４８２７９号公報
【特許文献４】特開２０１２−１８１８２８号公報
【特許文献５】特開２００８−１５５３８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の課題は、２枚の基板間に間隙を有するタッチパネルにおいて、その間隙側表面に特定の表面形状を有する光学フィルムを配置することにより、ニュートンリングの発生を抑制することにある。
【００１２】
かかる課題のもとで研究を重ねた結果、表面に微細な凹凸を有し、その断面曲線の確率密度関数のゆがみ又はひずみの程度を表す指標であるスキューネスＰskの絶対値の小さい光学フィルムを、その凹凸面を間隙側にして配置することが、上記ニュートンリングの抑制に有効であることを見出し、さらに、その光学フィルム表面の算術平均傾斜角Δａを小さくすることが、ニュートンリングの抑制に一層有効であることを見出した。本発明は、かかる知見をもとに、さらに種々の研究を重ね、完成されたものである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
すなわち、本発明によれば、表示素子側基板とタッチ入力素子とが間隙を置いて配置され、表示素子側基板の間隙側表面及びタッチ入力素子の間隙側表面のうち少なくとも一方に、透明支持体と、その上に形成された、断面曲線のスキューネスＰsk の絶対値が０.３以下の微細な表面凹凸形状を有する塗工層とを備える光学フィルムが、その塗工層側を上記の間隙に向けて配置されている、タッチパネルが提供される。
【００１４】
このタッチパネルにおいて、一つの好ましい形態では、上記表示素子側基板の間隙側表面にのみ上記の光学フィルムが配置される。もう一つの好ましい形態では、上記表示素子側基板の間隙側表面及び上記タッチ入力素子の間隙側表面のそれぞれに上記の光学フィルムが配置される。これらいずれの形態においても、上記表示素子側基板が偏光板であり、その表面に上記の光学フィルムが配置されている態様をとることができる。
【００１５】
これらのタッチパネルにおいて、上記光学フィルムの塗工層は、算術平均傾斜角Δａが１°以下であることが好ましい。また上記光学フィルムの塗工層は、算術平均粗さＲａが１００nm以下であることが好ましい。さらに上記の光学フィルムは、全ヘーズが３％以下であることが好ましく、外部ヘーズも３％以下であることが好ましい。
【００１６】
また本発明によれば、液晶セルや有機ＥＬ表示素子に代表される画像表示素子と、その視認側に配置された上記いずれかのタッチパネルとを備える、タッチ入力式画像表示装置も提供される。
【発明の効果】
【００１７】
本発明のタッチパネルは、表示素子側基板とタッチ入力素子との間に間隙を有し、表示素子側基板の間隙側表面及びタッチ入力素子の間隙側表面のうち少なくとも一方に、表面に特定の表面形状を有する微細な凹凸が形成された光学フィルムを、その凹凸面が上記の間隙側となるように配置している。そしてこの光学フィルムは、白ちゃけやコントラストの低下を抑えるために、外部ヘーズを小さくしたり、表面粗さを小さくしたりした場合であっても、タッチ入力のときに発生しやすいニュートンリングを有効に抑制することができる。画像表示素子にこのタッチパネルを組み込んだタッチ入力式画像表示装置も、同様にニュートンリングの発生が有効に抑制されたものとなる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】抵抗膜方式のタッチパネルに本発明を適用した場合の実施形態を示す断面模式図である。
【図２】静電容量方式のタッチパネルに本発明を適用した場合の実施形態を示す断面模式図である。
【図３】断面曲線の算術平均傾斜角Δａの求め方を示す断面曲線の模式図である。
【図４】光学フィルムを連続的に製造する方法について、好ましい形態を示す断面模式図である。
【図５】タッチ入力式画像表示装置の一例を示す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明では、表示素子側基板とタッチ入力素子とを、両者の間に間隙を設けて配置し、表示素子側基板の間隙側表面及びタッチ入力素子の間隙側表面のうち少なくとも一方に、特定の表面形状を有する微細な凹凸が形成された光学フィルムを、その凹凸面が上記の間隙側となるように配置して、タッチパネルとする。図１には、本発明が適用された抵抗膜方式のタッチパネルの実施形態が模式的な断面図で示されている。また図２には、本発明が適用された静電容量方式のタッチパネルの実施形態が模式的な断面図で示されている。
【００２０】
まず、抵抗膜方式のタッチパネルの実施形態を示す図１を参照して、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の各形態に共通する構成を説明すると、表示素子側基板１０及びタッチ入力素子２０が間隙５０を置いて配置されており、表示素子側基板１０の間隙５０側最表面及びタッチ入力素子２０の間隙５０側最表面には、それぞれ電極となる透明導電層１５，２５が形成されている。透明導電層１５，２５は、タッチ入力素子２０側を手指などで押圧したときにその位置で両者が接触し、その位置を検知するための役割を果たす。
【００２１】
そして図１の（ａ）に示される第一の形態では、表示素子側基板１０の間隙５０側に、透明支持体３１とその上に形成された微細な凹凸を有する塗工層３２とで構成される光学フィルム３０が、その塗工層３２側の凹凸面を上記の間隙５０側にして配置されている。この場合には、表示素子側の透明導電層１５は、光学フィルム３０の塗工層３２側凹凸面に形成される。
【００２２】
図１の（ｂ）に示される第二の形態では、タッチ入力素子２０の間隙５０側に、透明支持体４１とその上に形成された微細な凹凸を有する塗工層４２とで構成される光学フィルム４０が、その塗工層４２側の凹凸面を上記の間隙５０側にして配置されている。この場合には、タッチ入力素子側の透明導電層２５は、光学フィルム４０の塗工層４２側凹凸面に形成される。
【００２３】
図１の（ｃ）に示される第三の形態では、表示素子側基板１０の間隙５０側に、透明支持体３１とその上に形成された微細な凹凸を有する塗工層３２とで構成される光学フィルム３０が、その塗工層３２側の凹凸面を上記の間隙５０側にして配置され、タッチ入力素子２０の間隙５０側にも、透明支持体４１とその上に形成された微細な凹凸を有する塗工層４２とで構成される光学フィルム４０が、その塗工層４２側の凹凸面を上記の間隙５０側にして配置されている。この場合、表示素子側の透明導電層１５は光学フィルム３０の塗工層３２側凹凸面に形成され、タッチ入力素子側の透明導電層２５は光学フィルム４０の塗工層４２側凹凸面に形成される。
【００２４】
次に、静電容量方式のタッチパネルの実施形態を示す図２を参照して、（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）の各形態に共通する構成を説明すると、表示素子側基板１０及びタッチ入力素子２０が間隙５０を置いて配置されている。なお、図２に示される静電容量方式においては、同図に示されるタッチ入力素子２０だけをタッチパネルと称することもあるが、本発明では、このタッチ入力素子２０及びそれと間隙を置いて配置される表示素子側基板１０の組合せをもって、タッチパネルと称することとする。
【００２５】
そして図２の（ａ）に示される第一の形態では、表示素子側基板１０の間隙５０側に、透明支持体３１とその上に形成された微細な凹凸を有する塗工層３２とで構成される光学フィルム３０が、その塗工層３２側の凹凸面を上記の間隙５０側にして配置されている。
【００２６】
図２の（ｂ）に示される第二の形態では、タッチ入力素子２０の間隙５０側に、透明支持体４１とその上に形成された微細な凹凸を有する塗工層４２とで構成される光学フィルム４０が、その塗工層４２側の凹凸面を上記の間隙５０側にして配置されている。
【００２７】
図２の（ｃ）に示される第三の形態では、表示素子側基板１０の間隙５０側に、透明支持体３１とその上に形成された微細な凹凸を有する塗工層３２とで構成される光学フィルム３０が、その塗工層３２側の凹凸面を上記の間隙５０側にして配置され、タッチ入力素子２０の間隙５０側にも、透明支持体４１とその上に形成された微細な凹凸を有する塗工層４２とで構成される光学フィルム４０が、その塗工層４２側の凹凸面を上記の間隙５０側にして配置されている。
【００２８】
以上いずれの形態においても、表示素子側基板１０のタッチ入力素子２０と反対側（各図では下側）に、画像表示素子（図示せず）が配置され、タッチ入力式画像表示装置となる。以下、本発明のタッチパネルを構成する各部材について順次説明し、さらに本発明で規定する光学フィルムの好適な製造方法について説明し、その後、タッチパネルに関する補足説明及びタッチ入力式画像表示装置に関する説明へと進んでいく。
【００２９】
［表示素子側基板］
表示素子側基板１０は、ガラス板や各種の透明樹脂フィルムで構成することができる。特に、画像表示素子として液晶セルや有機ＥＬ表示素子を採用する場合は、その視認側に配置される偏光板を、図１及び図２における表示素子側基板１０とすることができる。偏光板は、ポリビニルアルコール系樹脂に二色性色素が吸着配向して直線偏光能が付与された偏光フィルムの少なくとも片面、好ましくは両面に透明樹脂からなる保護フィルムが貼合されたもので構成することができる。偏光板の表示素子側に、さらに位相差板を配置することもある。また、偏光板の一方の保護フィルム、特に表示素子側となる保護フィルムを、位相差が付与された位相差板で構成することもできる。画像表示素子が液晶セルである場合は、その液晶セルの種類に合わせて、所定の位相差値を有する位相差板が用いられる。一方、画像表示素子が有機ＥＬ表示素子である場合は、その位相差板を１／４波長位相差板で構成し、偏光フィルムとの組合せで円偏光板としたものが、反射防止機能を兼ねて好適に用いられる。
【００３０】
位相差板は、延伸などによって位相差が付与された光学フィルムであり、その光学特性は、面内遅相軸方向の屈折率をｎx 、面内で遅相軸と直交する方向（進相軸方向）の屈折率をｎy、厚み方向の屈折率をｎz、そしてフィルムの厚さをｄとして、以下の式（Ｉ）で定義される面内位相差値Ｒo 、及び以下の式（II）で定義される厚み方向位相差値Ｒthによって表すことができる。
【００３１】
Ｒo ＝（ｎx−ｎy）×ｄ                  （Ｉ）
Ｒth＝〔(ｎx＋ｎy)／２−ｎz〕×ｄ       （II）
【００３２】
液晶セル又は有機ＥＬ表示素子との組み合わせで、適当な位相差値を示す位相差板を採用すればよい。なお、溶融押出法によって製膜されるフィルムは、押出方向に光学軸が形成されて面内に若干の位相差が発現し、また溶液キャスト法によって製膜されるフィルムは、厚み方向に光学軸が形成されてその方向にある程度の位相差が発現する。このような不可避的に生じる位相差をさらに小さくし、面内及び厚み方向とも位相差値をほぼゼロにしたフィルムも市販されており、このように面内及び厚み方向の位相差値をほぼゼロにしたフィルムも、位相差板と称されることがある。
【００３３】
［タッチ入力素子］
タッチ入力素子２０も、ガラス板や各種の透明樹脂フィルムで構成することができる。図１に示される抵抗膜方式のタッチパネルにおいては、このタッチ入力素子２０にタッチすることによりそれが撓んで、その裏面に設けられた透明導電層２５が、表示素子側基板２０の表面に設けられた透明導電層１５に接触し、それによってタッチ位置を検知するので、このタッチ入力素子２０は、ポリエチレンテレフタレートフィルムのような可撓性のある透明な樹脂フィルムで構成することが多い。一方、図２に示される静電容量方式のタッチパネルにおいては、可撓性は特に要求されないので、ガラス板及び透明樹脂フィルムのいずれも、タッチ入力素子２０とすることができる。
【００３４】
［凹凸を有する光学フィルム］
本発明では、表示素子側基板１０とタッチ入力素子２０とを、両者の間に間隙５０を保って配置し、かつ表示素子側基板１０の当該間隙５０側表面及びタッチ入力素子２０の当該間隙５０側表面の少なくとも一方に、微細な凹凸が形成され、特定の表面形状を有する光学フィルム３０，４０を、その凹凸面が上記の間隙側となるように配置して、ニュートンリングの発生が抑制されたタッチパネルとする。表示素子側基板１０に設けられる光学フィルム３０は、透明支持体３１とその上に形成された微細な凹凸を有する塗工層３２とで構成される。タッチ入力素子２０に設けられる光学フィルム４０も、透明支持体４１とその上に形成された微細な凹凸を有する塗工層４２とで構成される。
【００３５】
〈透明支持体〉
透明支持体３１，４１は透光性のものであればよく、例えば、ガラスや透明樹脂フィルムなどを用いることができる。樹脂フィルムは、適度の透明性及び機械強度を有していればよい。透明支持体３１，４１を構成する樹脂として、具体的には例えば、トリアセチルセルロースに代表されるセルロースアセテート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチエンテレフタレートに代表されるポリエステル系樹脂などを用いることができる。透明支持体３１，４１の厚さは、例えば１０〜５００μm 程度の範囲とすることができるが、好ましくは２０〜３００μm の範囲である。
【００３６】
〈塗工層〉
透明支持体３１，４１の表面には微細な凹凸を有する塗工層３２，４２を形成して、ニュートンリング防止機能が付与された光学フィルム３０，４０とする。塗工層３２，４２は、透光性樹脂の塗布により形成することができる。そして塗工層３２，４２の表面は、断面曲線のスキューネスＰsk の絶対値が０.３以下となるようにする。微細な凹凸面の形成は、透光性樹脂中に微粒子を含有させる方法や、透光性樹脂の塗布層に凹凸面を有する型（エンボス型）を密着させて、その凹凸面を塗布層に転写する方法などによって行うことができる。
【００３７】
塗工層３２，４２の形成に用いる透光性樹脂は、透光性を有するものであればよく、例えば、紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂のような活性エネルギー線硬化性樹脂の硬化物、熱硬化性樹脂の硬化物、熱可塑性樹脂、金属アルコキシドの硬化物などで構成することができる。これらの中でも、高い硬度及び高い耐擦傷性を付与できることから、活性エネルギー線硬化性樹脂が好適である。活性エネルギー線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂又は金属アルコキシドを用いる場合は、活性エネルギー線の照射又は加熱により当該樹脂を硬化させ、塗工層３２，４２が形成される。
【００３８】
活性エネルギー線硬化性樹脂としては、多価アルコールのアクリル酸又はメタクリル酸エステルのような多官能（メタ）アクリレート；ジイソシアネートと多価アルコールの反応によって得られる末端イソシアナト基ウレタンプレポリマーにアクリル酸又はメタクリル酸のヒドロキシアルキルエステルを反応させることにより合成されるもののような多官能のウレタン（メタ）アクリレートなどが挙げられる。ここで「（メタ）アクリレート」は、アクリレート又はメタクリレートを意味する。これらのほか、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂なども、活性エネルギー線硬化性樹脂となりうる。
【００３９】
熱硬化性樹脂としては、アクリルポリオールとイソシアネートプレポリマーとからなる熱硬化型ウレタン樹脂のほか、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられる。
【００４０】
熱可塑性樹脂としては、アセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、及びメチルセルロースのようなセルロース誘導体；酢酸ビニルの単独重合体又は共重合体、塩化ビニルの単独重合体又は共重合体、及び塩化ビニリデンの単独重合体又は共重合体のような、ビニル系樹脂；ポリビニルホルマールやポリビニルブチラールのようなアセタール系樹脂；アクリル樹脂又はアクリル酸エステル系共重合体、及びメタクリル樹脂又はメタクリル酸エステル系共重合体のようなアクリル系樹脂；ポリスチレン系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂などが挙げられる。
【００４１】
金属アルコキシドとしては、アルコキシシラン系の材料を使用することができ、加水分解や脱水縮合により酸化珪素系などのマトリックスを形成するものである。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどであり、加水分解や脱水縮合により無機系又は有機無機複合系マトリックスを形成し、透光性樹脂となる。
【００４２】
これらのうち、活性エネルギー線硬化性樹脂や熱硬化性樹脂（いずれも硬化前のもの）には液体状態で用意されるものがあり、また金属アルコキシドは多くの場合液体である。このように液体状態で用意される樹脂は、そのまま塗工層３２，４２を形成するための塗工液として用いることができるが、必要により、溶媒などにより希釈した状態で塗工液としてもよい。一方、熱可塑性樹脂を含む固体で用意される樹脂は、適当な溶媒に溶かした状態で塗工液とされる。これらの活性エネルギー線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、金属アルコキシド又は熱可塑性樹脂を含む塗工液は、レベリング剤や分散剤など、適宜の添加剤を含んでいてもよい。
【００４３】
透光性樹脂を含む塗工液、例えば活性エネルギー線硬化性樹脂を含む塗工液には、ギラツキの低減などを目的として内部ヘーズを付与するために、透光性微粒子を添加してもよい。また、表面凹凸の形成のために、透光性微粒子を用いることもある。添加される透光性微粒子は、この目的のために従来から防眩フィルムなどの分野で知られているものを用いることができる。例えば、アクリル系樹脂、メラミン樹脂、ポリエチレン、ポリスチレン、有機シリコーン樹脂、アクリル酸エステル−スチレン共重合体などからなる有機微粒子や、炭酸カルシウム、シリカ、酸化アルミニウム、炭酸バリウム、硫酸バリウム、酸化チタン、ガラスなどからなる無機微粒子が、透光性微粒子として用いられる。有機重合体のバルーンやガラス中空ビーズを使用することもできる。これらの透光性微粒子は、１種類を単独で使用してもよいし、２種類以上を混合して使用してもよい。透光性微粒子の形状は、球状、扁平状、板状、針状、不定形状などのいずれでもよい。
【００４４】
透光性樹脂、例えば活性エネルギー線硬化性樹脂に、透光性微粒子を含有させる場合、用いる透光性微粒子の粒子径や屈折率は特に制限されないが、内部ヘーズの発現を目的とする場合も表面凹凸形成を目的とする場合も、その粒子径は０.５〜２０μmの範囲にあることが好ましい。粒子径がこの範囲にあれば、効果的に内部ヘーズを発現させることができる。また同様の理由から、内部ヘーズの発現を目的とする場合は、活性エネルギー線硬化性樹脂の硬化後の屈折率と透光性微粒子の屈折率との差は０.０４〜０.１５の範囲にあることが好ましい。透光性微粒子の含有量は、活性エネルギー線硬化性樹脂１００重量部に対して、通常３〜６０重量部であり、好ましくは５〜５０重量部である。透光性微粒子の含有量が、活性エネルギー線硬化性樹脂１００重量部に対して３重量部未満では、ギラツキ低減のための十分な内部ヘーズが得られにくい。一方、その含有量が活性エネルギー線硬化性樹脂１００重量部に対して６０重量部を超えると、得られる光学フィルム３０，４０の透明性が損なわれることがあり、またこの光学フィルムが組み込まれたタッチパネルを画像表示素子に適用した場合に、光散乱が強すぎるため、例えば、黒表示において画像表示装置の正面方向に対して斜めに漏れ出してくる光が塗工層３２，４２により正面方向へ強く散乱されてしまうなどの理由により、コントラストを低下させることもある。
【００４５】
〈光学フィルムの表面形状〉
本発明では、表示素子側基板１０及び／又はタッチ入力素子２０の間隙５０側に配置される光学フィルム３０，４０として、塗工層３２，４２が、その断面曲線のスキューネスＰsk の絶対値が０.３以下の表面形状を有するものを採用する。ここで、断面曲線のスキューネスＰskは、JIS B0601:2013「製品の幾何特性仕様（ＧＰＳ）−表面性状：輪郭曲線方式−用語，定義及び表面性状パラメータ」（ISO 4287:1997, Amd.1:2009 に対応する）の４.２.３に規定される値であって、次式（III）で定義される。
【００４６】
【数１】
2015011425.tif 000003
【００４７】
式中、Ｚ（ｘ）は任意の位置ｘにおける断面曲線の高さであり、Ｌp は断面曲線の基準長さ（評価長さに等しい）であり、Ｐq は断面曲線の二乗平均平方根高さであって、やはり JIS B0601:2013 の４.２.２において次式（IV）のとおり定義されている。
【００４８】
【数２】
2015011425.tif 000004
【００４９】
これらの式からわかるように、断面曲線のスキューネスＰskは、断面曲線の二乗平均平方根高さＰq の三乗によって無次元化した基準長さＬp におけるＺ（ｘ）の三乗平均である。なお、上記の JIS B0601:2013 において、基準長さＬは、小文字斜体のエル（ｌ）で表示されているが、本明細書では、数字のいち（１）と区別しやすくするため、大文字のエル（Ｌ）で表示している。
【００５０】
断面曲線のスキューネスＰskは、断面曲線を構成する山部と谷部の分布状態のゆがみ度（ひずみ度）を規定するパラメータ、すなわち、断面曲線の確率密度関数の非対称性の度合いを示すパラメータで、統計用語では「わい（歪）度」と呼ばれるものである。正規分布であれば、断面曲線のスキューネスＰskはゼロ（０）になる。
【００５１】
このように定義される断面曲線のスキューネスＰskの絶対値が ０.３以下であれば、タッチパネルのタッチ入力素子２０を手指などで押圧したときに、ニュートンリングが視認されにくくなり、逆にその値が ０.３を超えると、ニュートンリングが視認されるようになる。断面曲線のスキューネスＰskの絶対値は、ゼロ（０）に近いほど好ましく、例えば０.２以下であるのが一層好ましい。
【００５２】
また、光学フィルム３０，４０の塗工層３２，４２は、その断面曲線における算術平均傾斜角Δａが１°以下の表面形状を有することが好ましい。ここで、算術平均傾斜角Δａとは、断面曲線を一定間隔ΔＸで横方向に区切り、各区間内における断面曲線の始点と終点を結ぶ線分の傾き（角度）の絶対値を求め、その値を平均したものをいう（インターネット〈URL : http://www.fujimfg.co.jp/benri/roughness_del-a.htm〉参照、平成２５年６月１７日検索）。断面曲線の算術平均傾斜角Δａの求め方を示す断面曲線の模式図である図３を参照して説明すると、基準長さＬにおける測定のための区切りをｎ個〔測定個所は（ｎ−１）個〕とし、ｉ番目の測定区間ΔＸにおける断面曲線の縦方向高さをΔＹi として、個々の測定区間ΔＸにおける傾斜角は、tan-1（ΔＹi／ΔＸ）となり、算術平均傾斜角Δａは、下式（Ｖ）により求められる。
【００５３】
【数３】
2015011425.tif 000005
【００５４】
先に説明した断面曲線のスキューネスＰskの絶対値が ０.３以下であることとともに、算術平均傾斜角Δａを１°以下とすることで、ニュートンリングが一層視認されにくくなる。
【００５５】
さらに塗工層３２，４２は、算術平均粗さＲａが１００nm以下の表面形状を有することも好ましい。ここでいう算術平均粗さＲａも、JIS B0601:2013の４.２.１に規定される値であり、基準長さにおける高さＺ（ｘ）の絶対値の平均値を意味する。先に説明した断面曲線のスキューネスＰskの絶対値が ０.３以下であることとともに、あるいはさらに算術平均傾斜角Δａが１°以下であることとともに、算術平均粗さＲａを１００nm以下とすることで、ニュートンリングが一層視認されにくくなる。
【００５６】
表面形状のパラメータである断面曲線のスキューネスＰsk又はその絶対値、算術平均傾斜角Δａ及び算術平均粗さＲａは、市販の三次元形状測定装置や粗さ計などを用いて測定することができる。後述する実施例では、SENSOFAR 社製の三次元顕微鏡“PLμ 2300”を用いて測定を行った。この装置は、測定サンプルについて、指定されたパラメータを自動的に計算するようになっている。
【００５７】
以上説明したとおり、ニュートンリングの発生を抑制するうえで塗工層３２，４２は、断面曲線のスキューネスＰskの絶対値がゼロ（０）に近づくようにするとともに、算術平均傾斜角Δａ及び／又は算術平均粗さＲａを小さくすることが好ましいが、微細な凹凸を有することは必要である。そこで、微細な表面凹凸形状を有することの目安として、算術平均傾斜角Δａは ０.３°以上であることが好ましく、また算術平均粗さＲａは３０nm以上であることが好ましい。
【００５８】
〈表面形状の調整方法〉
本発明で採用する光学フィルム３０，４０は、以上説明した特定の表面形状を有するものであるが、かかる表面形状自体は、例えば、表面凹凸によって外光の写り込みやギラツキを防止するために用いられる防眩フィルムの分野において公知であり、それらに準じて塗工層３２，４２の表面形状を調整すればよい。表面形状調整の例を挙げると、透光性微粒子を含む塗工液を用いる場合は、塗工液の設計、すなわち、その微粒子の粒径、塗工層を構成する樹脂、例えば活性エネルギー線硬化性樹脂に対する微粒子の添加量、塗工層の膜厚、溶媒、乾燥条件などを調節する方法がある。また、表面凹凸形状が付与された型を樹脂の塗布層に押し当ててその表面形状を転写する場合は、当該型として、所定の表面形状が付与されたものを採用すればよい。
【００５９】
〈光学フィルムの光学特性〉
本発明で規定する光学フィルム３０，４０において、先述したようにギラツキの低減などを目的として内部ヘーズを付与する場合、その内部ヘーズは、例えば２０％を超えることも可能であり、通常は４０％以下程度となるようにすることが好ましい。一方、高い透明性が要求される場合、光学フィルム３０，４０の全ヘーズは、３％以下であることが好ましい。ヘーズは、フィルムの表面凹凸などに起因する外部ヘーズと、フィルム内部に存在する屈折率の異なる物質との界面などに起因する内部ヘーズに分けられる。本発明で規定する光学フィルム３０，４０は、その塗工層３２，４２側に微細な凹凸が付与されることから、ある程度の外部ヘーズを有するものとなるが、高い透明性が要求される場合はその外部ヘーズも３％以下となるようにすることが好ましい。
【００６０】
フィルムのヘーズは、市販のヘーズメーターを用いて測定することができ、フィルムそのままの状態で、あるいは平滑面を透明なガラス基板に貼り付けた状態で測定されるヘーズが、全ヘーズとなる。また、表面凹凸の影響を打ち消すため、その凹凸表面に透明な粘着剤を貼った状態で、あるいは表面凹凸を有するフィルムごとほぼ同じ屈折率を有する有機液体に浸漬した状態で測定されるヘーズが、内部ヘーズとなるので、全ヘーズから内部ヘーズを差し引いた値として、外部ヘーズを求めることができる。
【００６１】
［光学フィルムの製造方法］
先述のとおり、本発明で採用する光学フィルムは、透光性樹脂中に透光性微粒子が配合された塗工液を透明支持体３１，４１上に塗布した後、溶媒を除去する（熱可塑性樹脂を用いる場合）か、又は必要に応じて乾燥して溶媒を除去し、活性エネルギー線の照射（活性エネルギー線硬化性樹脂を用いる場合）若しくは加熱（熱硬化性樹脂又は金属アルコキシドを用いる場合）により、その樹脂を硬化させて、当該透光性微粒子に基づく凹凸を塗工層３２，４２上に発現させる方法や、透光性樹脂を含む塗工液を透明支持体３１，４１上に塗布し、その塗布層に凹凸を有する型（エンボス型）を密着させて、その凹凸面を塗布層に転写する方法などによって、製造することができる。
【００６２】
これらの中でも好ましいものは、後者の方法である。そこで次に、透光性樹脂の塗布層にエンボス型を用いて凹凸を転写し、本発明で規定する光学フィルムを製造する方法について説明する。エンボス型を用いて凹凸を転写する場合であっても、塗工層３２，４２を形成するための塗工液に透光性微粒子を配合することは差し支えない。この方法は、基本的に以下の（Ａ）及び（Ｂ）の工程を経ることになる。
（Ａ）透明支持体３１，４１上に、透光性樹脂を含む塗工液を塗布する工程、及び、
（Ｂ）上記塗工液が塗布された層の表面に、転写用型（エンボス型）の凹凸面を転写する工程。
【００６３】
上記工程（Ａ）で用いる塗工液は、透光性樹脂又はこれを形成する樹脂（例えば、電離放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂又は金属アルコキシド）を含み、必要に応じて透光性微粒子、また必要に応じて溶媒等のその他の成分を含む。透光性樹脂を形成する樹脂として紫外線硬化性樹脂を用いる場合、この塗工液は、さらに光重合開始剤（ラジカル重合開始剤）を含む。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、トリアジン系光重合開始剤、オキサジアゾール系光重合開始剤などが用いられる。また例えば、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニル−１，２′−ビイミダゾール、１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２−エチルアントラキノン、ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物なども、光重合開始剤として用いることができる。光重合開始剤の使用量は、塗工液に含有される紫外線硬化性樹脂１００重量部に対して、通常 ０.５〜２０重量部であり、好ましくは１〜５重量部である。透光性微粒子を含む塗工液を用いる場合、得られる光学フィルム３０，４０の光学特性及び表面形状を均質なものとするために、塗工液中の透光性微粒子の分散は等方分散であることが好ましい。
【００６４】
塗工液の透明支持体３１，４１上への塗布は、例えば、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、ロッドコート法、ナイフコート法、エアーナイフコート法、キスコート法、ダイコート法などによって、行うことができる。
【００６５】
塗工液の塗布性の改良又は得られる塗工層３２，４２との接着性の改良を目的として、透明支持体３１，４１の塗工表面には各種表面処理を施してもよい。表面処理としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、酸表面処理、アルカリ表面処理、紫外線照射処理などが挙げられる。また、透明支持体３１，４１上に、例えばプライマー層等の他の層を形成し、その上に塗工液を塗布するようにしてもよい。
【００６６】
表示素子側基板１０上に配置される光学フィルム３０は、偏光フィルムの保護フィルムとして機能するものであってもよい。この場合には、透明支持体３１と偏光フィルムとの接着性を向上させるために、透明支持体３１の表面（塗工層３２とは反対側の表面）を各種表面処理によって親水化しておくことが好ましい。
【００６７】
上記工程（Ｂ）においては、上で説明した塗工液を塗布して得られる層の表面に金型の凹凸面を転写する。具体的には、上記の塗工液を塗布して得られる層の表面に、凹凸面を有する型（エンボス型）の凹凸面を密着させて、その凹凸面を転写する。このようにエンボス型の凹凸面を塗布層の表面に転写することによって、所望の表面形状を有する塗工層３２，４２を形成することができる。
【００６８】
透光性樹脂を形成する樹脂として活性エネルギー線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂又は金属アルコキシドを用いる場合は、上記の塗工液から塗布層を形成し、必要により乾燥して溶媒を除去した後、その塗布層の表面にエンボス型の凹凸面を密着させた状態で、活性エネルギー線の照射（活性エネルギー線硬化性樹脂を用いる場合）又は加熱（熱硬化性樹脂又は金属アルコキシドを用いる場合）により塗布層を硬化させる。活性エネルギー線は、塗工液に含まれる樹脂の種類に応じて、電子線、紫外線、近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線、Ｘ線などから適宜選択することができる。これらの中では、紫外線又は電子線が好ましく、とりわけ取扱いが簡便で高いエネルギーが得られることから、紫外線が好ましく用いられる。
【００６９】
紫外線を採用する場合、その光源としては、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセノンランプ、メタルハライドランプなどを用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザー、エキシマランプ、シンクロトロン放射光なども用いることができる。これらの中でも、超高圧、高圧、中圧及び低圧を含む水銀灯、キセノンランプ、又はメタルハライドランプが好ましく用いられる。
【００７０】
また、電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧型、直線型、ダイナミトロン型、又は高周波型のような各種電子線加速器から放出される５０〜１,０００keV、好ましくは１００〜３００keV のエネルギーを有する電子線を挙げることができる。
【００７１】
次に、本発明で規定する光学フィルムを製造する方法の好ましい形態について、図４を参照して説明する。この好ましい形態は、ロール状に巻かれた透明支持体３１を連続的に送り出す工程、送り出された透明支持体３１の表面に透光性樹脂を含む塗工液を塗布し、必要に応じて乾燥させる工程、塗工液の塗布によって形成された層を硬化させる工程、及び、得られる光学フィルム３０を巻き取る工程を含む。
【００７２】
図４において、実線の片矢印は、フィルムの進行方向を意味する。まず、巻き出しロール６０から、透明支持体３１が連続的に巻き出される。次いで、巻き出された透明支持体３１上に、塗工手段６１及びこれに対向するバックアップロール６２を使用して、塗工液が塗布される。塗工液に溶媒が含まれる場合はその後、乾燥機６３を通過させることにより乾燥される。塗工液の塗布層が設けられた透明支持体３１は、エンボスロール６４とニップロール６５との間へ、その塗布層がエンボスロール６４と密着するように巻き掛けられる。これにより、塗布層の表面にエンボスロール６４の凹凸面が転写される。次に、塗布層を形成した透明支持体３１がエンボスロール５６に巻き掛けられた状態で、紫外線照射手段６６，６６から透明支持体３１を介して紫外線を照射することにより、塗布層を硬化させる。紫外線照射により照射面が高温になるため、エンボスロール６４は、表面温度を室温から８０℃程度までの間に調節するための冷却手段を、その内部に備えることが好ましい。紫外線照射手段６６は、１機だけ配置してもよいし、複数機配置してもよく、図４には紫外線照射手段６６を２機配置した例が示されている。塗工層が形成された光学フィルム３０は、剥離ロール６７によって、エンボスロール６４から剥がされる。こうして製造された光学フィルム３０は、巻き取りロール６９に巻き取られる。図４においては、剥離ロール６７の後、巻き取りロール６９の前に設けられたピンチロール６８を破線両矢印で示す如く可動とすることで、フィルムにたるみや過大張力の付加が生じないようにしている。得られる光学フィルム３０は、塗工層を保護する目的で、再剥離性を有する粘着剤層を介して、塗工層表面にポリエチレンテレフタレートやポリエチレンなどからなる保護フィルムを貼着しながら巻き取ってもよい。
【００７３】
塗工層が形成された光学フィルム３０を剥離ロール６７によりエンボスロール６４から剥がした後、追加の紫外線照射を行ってもよい。また、エンボスロール６４に巻き掛けられた状態で紫外線照射を行う代わりに、未硬化の塗工液が塗布された層を有する透明支持体３１をエンボスロール６４から剥がした後、紫外線を照射して硬化させる方法を採用することもできる。
【００７４】
［エンボス型の成型方法］
塗工層３２，４２に表面凹凸形状を転写するために用いる型（エンボス型）は、光学フィルム３０，４０に所望される形状に対応する表面形状を有している。その表面形状を、透光性樹脂を含む塗布層表面に押し当てながらその塗布層を硬化させることにより、エンボス型の表面形状を塗布層表面に転写できる。
【００７５】
エンボス型における凹凸形状のパターンは、規則的なパターンであってもよいし、ランダムパターン、あるいは特定サイズの１種類以上のランダムパターンを敷き詰めた、擬似ランダムパターンであってもよい。しかし、表面形状に起因する反射光の干渉により反射像が虹色に色づくことを防止する観点からは、ランダムパターン又は擬似ランダムパターンであることが好ましい。
【００７６】
エンボス型の外形形状は特に制限されるものではなく、平板状であってもよいし、円柱状又は円筒状のロールであってもよいが、連続生産性の点からは、図４に示したような、円柱状又は円筒状の型、すなわちエンボスロールであることが好ましい。この場合、円柱状又は円筒状の鋳型の側面に所定の表面形状が形成される。
【００７７】
エンボス型を構成する基材も特に制限されるものでなく、例えば、金属、ガラス、カーボン、樹脂、あるいはそれらの複合体から適宜選択できるが、加工性などの点から金属が好ましい。エンボス型に好適に用いられる金属材料は、特にコストの観点から、アルミニウム、鉄、又はアルミニウム若しくは鉄を主体とする合金である。
【００７８】
エンボス型を得る方法としては、例えば、基材を研磨し、サンドブラスト加工を施した後、無電解ニッケルめっきを施す方法（特開 2006-53371 号公報）；基材に銅めっき又はニッケルめっきを施した後、研磨し、次いでサンドブラスト加工を施し、さらにクロムめっきを施す方法（特開 2007-187952号公報）；銅めっき又はニッケルめっきを施した後、研磨し、次いでサンドブラスト加工を施し、さらにエッチング工程又は銅めっき工程を経た後クロムめっきを施す方法（特開 2007-237541号公報）；基材の表面に銅めっき又はニッケルめっきを施した後、研磨し、研磨された面に感光性樹脂膜を形成し、その感光性樹脂膜上にパターンを露光し、次いで現像し、現像された感光性樹脂膜をマスクとして用いてエッチング処理を行い、感光性樹脂膜を剥離し、さらにエッチング処理して凹凸面を鈍らせた後、形成された凹凸面にクロムめっきを施す方法（特開 2010-76385 号公報や、特開 2012-68474 号公報の実施例１）；旋盤等の工作機械を用いて、切削工具により鋳型となる基材を切削する方法（国際公開第 2007/077892号パンフレット）などが挙げられる。
【００７９】
ランダムパターン又は擬似ランダムパターンからなるエンボス型の表面凹凸形状は、例えば、ＦＭスクリーン法、ＤＬＤＳ（Dynamic Low-Discrepancy Sequence）法、ブロック共重合体のミクロ相分離パターンを利用する方法、バンドパスフィルター法などによって作成されたランダムパターンを感光性樹脂膜上に露光し、現像して、現像された感光性樹脂膜をマスクとしてエッチング処理を行う方法により、形成することができる。
【００８０】
［タッチパネル］
以上のようにして得られる光学フィルム３０，４０は、タッチパネルにおけるニュートンリング防止フィルムとして適用される。このタッチパネルは、先に説明した図１又は図２のように構成される。例えば、図１に示すように、光学フィルム３０，４０の凹凸面を構成する塗工層３２，４２上に、さらに透明導電膜１５，２５を形成することで、抵抗膜方式のタッチパネルの透明電極板として使用できる。透明導電膜１５，２５は、抵抗膜方式のタッチパネルにおいて周知のＩＴＯ（酸化インジウムスズ）などで構成することができる。また図２に示すように、静電容量方式のタッチパネルにおける表示素子側基板１０とタッチ入力素子２０のいずれかに対し、それぞれ対向する面に光学フィルム３０，４０を適用することもできる。
【００８１】
いずれの場合においても、光学フィルム３０，４０を配置することで、タッチパネルのタッチ入力素子２０を手指などで押圧してタッチ入力したときに、表示素子側基板１０とタッチ入力素子２０との間に存在する間隙５０の長さ（距離）の変化に伴って発生しやすいニュートンリングを効果的に防止し、表示品位の低下を防ぐことができる。抵抗膜方式及び静電容量方式のいずれにおいても、図１（ｃ）及び図２（ｃ）に示すように、その間隙の両面に本発明で規定する光学フィルム３０，４０を備えることで、より効果的にニュートンリングの発生を防止できる。
【００８２】
［タッチ入力式画像表示装置］
本発明のタッチ入力式画像表示装置は、以上説明したタッチパネルが、画像表示素子の視認側に配置されたものである。画像表示素子は、液晶セルや有機ＥＬ表示素子で構成することができる。図５は、本発明に係るタッチ入力式画像表示装置の一例を示す断面模式図であって、この例では、図２の（ａ）に示される静電容量方式のタッチパネルが、液晶セル７１に適用されている。図５においては、図２の（ａ）に示されるタッチパネル全体に対し、符号７０が付されている。またこの例では、表示素子側基板１０が液晶表示装置における前面側（視認側）偏光板７３を兼ねている。
【００８３】
上述のとおりこの例では、画像表示素子として液晶セル７１を採用し、その視認側に、前面側偏光板７３を有するタッチパネル７０が配置されている。液晶セル７１は、２枚の透明基板間に液晶層を挟持し、電圧印加によって当該液晶層の配向状態を制御し、表示を可能とするもので、液晶表示の分野において周知のものを採用することができる。このように液晶セルを画像表示素子とする場合は、その背面側に背面側偏光板７４が配置され、さらにその背面側に表示用の光を供給するためのバックライト７６が配置される。
【００８４】
図１の（ａ）、（ｂ）又は（ｃ）、また図２の（ｂ）又は（ｃ）に示されるタッチパネルを、図５におけるタッチパネル７０の代わりに配置しても、同様にタッチ入力式画像表示装置とすることができる。
【００８５】
一方、画像表示素子として有機ＥＬ表示素子を採用する場合、有機ＥＬ表示素子は自発光型なので、図５における液晶セル７１、背面側偏光板７４及びバックライト７６の代わりに、この有機ＥＬ表示素子を配置すればよい。この場合は先に述べたとおり、表示素子側基板１０は、偏光板で構成することもできるし、偏光板以外の透明基板で構成することもできる。有機ＥＬ表示素子は、有機発光材料を含む発光体を１対の電極で挟持したものであり、やはりこの分野で周知のものを採用することができる。
【実施例】
【００８６】
以下に実施例を示して、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。例中、含有量ないし使用量を表す％及び部は、特記ない限り重量基準である。
【００８７】
［実施例１］
（Ａ）光学フィルムの作製
（Ａ１）光学フィルム用金型の作製
特開 2012-68474 号公報の実施例１（Ｂ）に記載される方法に準ずるが、凹凸形成のためのエッチング量を変えることで、光学フィルムに凹凸形状を付与するための金型を作製した。すなわち、まず直径２００mmのアルミニウムロール（ＪＩＳによる A5056）の表面に銅バラードめっきが施されたものを用意した。銅バラードめっきは、銅めっき層／薄い銀めっき層／表面銅めっき層からなるもので、めっき層全体の厚みが約２００μm のものを用いた。その銅めっき表面を鏡面研磨し、研磨された銅めっき表面にポジ型感光性樹脂を塗布し、乾燥して感光性樹脂膜を形成した。次いで、所定のパターン（同公報の図１６に示されるパターン）が繰り返されるよう、感光性樹脂膜上にレーザ光を露光し、その後現像した。レーザ光の露光及び現像は、（株）シンク・ラボラトリー製の“Laser Stream FX” を用いて行った。
【００８８】
現像後、塩化第二銅水溶液で第１のエッチング処理を行った。次に第１のエッチング処理後のロールから感光性樹脂膜を除去し、再び塩化第二銅水溶液で第２のエッチング処理を行った。このとき、その後の処理により得られる光学フィルムの断面曲線のスキューネスＰsk及び算術平均傾斜角Δａを所定の値に調整するため、第１のエッチング処理量（エッチングにより削られる厚さ）が４μm 、第２のエッチング処理量（同じくエッチングにより削られる厚さ）が１２μm となるように設定した。その後、クロムめっき加工を行った。クロムめっきの厚さは４μm となるように設定した。こうして、表面に微細な凹凸を有する金型ロールを作製した。
【００８９】
（Ａ２）紫外線硬化性樹脂組成物の調製
紫外線硬化性樹脂組成物の原料として、以下のものを用意した。
・紫外線硬化性樹脂：ペンタエリスリトールトリアクリレート６０部、及び多官能ウレタン化アクリレート（ヘキサメチレンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートの反応生成物）４０部の混合物。
・光重合開始剤：ＢＡＳＦ社から販売されている“ルシリン TPO”（化学名：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド）。
【００９０】
上記の紫外線硬化性樹脂１００部に対し、上記の光重合開始剤５部及び希釈溶媒として酢酸エチル１５０部を混合して、塗工層を形成するための紫外線硬化性樹脂組成物を調製した。
【００９１】
（Ａ３）光学フィルムの作製
上で調製した紫外線硬化性樹脂組成物を、トリアセチルセルロースフィルムからなる透明支持体上に乾燥後の膜厚が５μm となるようダイコーターで塗工し、透明支持体と紫外線硬化性樹脂組成物の塗布層とからなる積層体を得た。この積層体を乾燥炉で乾燥させた後、上の（Ａ１）で作製した金型ロールに、塗布層側が金型と接するようにニップロールで押し当てて密着させた。この状態で透明支持体側から、最大照度が７００mW／cm2 、積算光量が３００mJ／cm2 となるように紫外線を照射して、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させた。その後、金型ロールから積層体を剥離することで、表面に凹凸を有する塗工層が形成された光学フィルムを作製した。
【００９２】
（Ｂ）光学フィルムの表面形状の測定
SENSOFAR 社製の三次元顕微鏡“PLμ 2300”を用い、対物レンズの倍率を５０倍とし、共焦点モードにて、上で得られた光学フィルムの表面形状（断面曲線のスキューネスＰskの絶対値、算術平均傾斜角Δａ及び算術平均粗さＲａ）を求めた。測定面積は２５５μm ×１８５μm とした。また、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて、光学フィルムの凹凸面とは反対側の面をガラス基板に貼合して（凹凸面が表面となる）、測定を行った。その結果、断面曲線のスキューネスＰskの絶対値は ０.１８７、算術平均傾斜角Δａは０.５２°、算術平均粗さＲａは６５nmであった。
【００９３】
（Ｃ）光学フィルムの光学特性（ヘーズ）の測定
光学的に透明な粘着剤を用いて、先に得られた光学フィルムの凹凸面とは反対側の面をガラス基板に貼合し、 JIS K 7136:2000「プラスチック−透明材料のヘーズの求め方」に準拠した（株）村上色彩技術研究所製のヘーズメーター“HM-150”型を用いて、ガラス基板側から光を入射し、光学フィルムの全ヘーズを求めた。また、上と同様にガラス基板に貼合したフィルムの凹凸面に、透明粘着剤層が形成されたトリアセチルセルロースフィルムの透明粘着剤層側を貼合し、凹凸面による透過光の散乱（外部ヘーズ）をなくした状態のフィルムについて、上と同じヘーズメーターで内部散乱によるヘーズ（内部ヘーズ）を測定し、全ヘーズから内部ヘーズの値を差し引くことにより、光学フィルムの外部ヘーズを求めた。その結果、全ヘーズは０.７％、外部ヘーズは０.５％であった。
【００９４】
（Ｄ）偏光フィルムの作製
平均重合度約２,４００、ケン化度９９.９モル％以上で厚さ７５μm のポリビニルアルコールフィルムを、３０℃の純水に浸漬した後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の重量比が０.０２／２／１００ の水溶液に３０℃で浸漬して染色した。その後、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の重量比が１２／５／１００の水溶液に ５６.５℃で浸漬して架橋処理を行った。引き続き、８℃の純水で洗浄した後、６５℃で乾燥して、ポリビニルアルコールにヨウ素が吸着配向している偏光フィルムを得た。延伸は、ヨウ素染色及びホウ酸架橋処理の工程で主に行い、トータル延伸倍率は５.３倍であった。
【００９５】
（Ｅ）偏光フィルム用接着剤の調製
別途、水１００部に対して、（株）クラレから販売されているカルボキシル基変性ポリビニルアルコール“クラレポバール KL318”（変性度２モル％）を １.８部溶解し、さらにそこに、水溶性ポリアミドエポキシ樹脂である住化ケムテックス（株）から販売されている“スミレーズレジン 650」（固形分３０％の水溶液）を １.５部加えて溶解し、ポリビニルアルコール系接着剤を調製した。
【００９６】
（Ｆ）偏光板（光学フィルムが設けられた表示素子側基板）の作製
上の（Ａ３）で作製した光学フィルムの凹凸を有する塗工層が形成された面とは反対側のトリアセチルセルロースフィルム面にケン化処理を施した後、上の（Ｅ）で調製したポリビニルアルコール系接着剤を１０μm バーコータで塗工し、その上に、上の（Ｄ）で作製したポリビニルアルコール−ヨウ素偏光フィルムを貼合した。また、ポリビニルアルコール−ヨウ素偏光フィルムの他面に貼合する透明保護フィルムとして、厚さ４０μm のトリアセチルセルロースフィルム（コニカミノルタアドバンストレイヤー（株）から販売されている“KC4UE”、厚さ４０μm、Ｒo＝０.７nm、Ｒth＝−０.１nm） を用意した。この保護フィルムにケン化処理を施した後、そのケン化処理面に上の（Ｃ）で調製したポリビニルアルコール系接着剤を１０μm バーコータで塗工し、その塗工面を、上の偏光フィルムの光学フィルムが貼合された面とは反対側の面に貼合した。その後８０℃で５分間乾燥し、さらに常温で１日間養生した。こうして、（凹凸面）光学フィルム／ポリビニルアルコール−ヨウ素偏光フィルム／トリアセチルセルロースフィルムの層構成からなる偏光板を作製した。
【００９７】
（Ｇ）ニュートンリングの評価
（Ｇ１）単層構成
上の（Ｆ）で作製した偏光板の光学フィルム凹凸面側に、静電容量方式のタッチパネルを備えたガラス基板を、そのガラス基板と偏光板との間の間隙が０.３mm となるように調節して配置した。タッチパネルを手指で押して、ニュートンリングが発生するかどうかを観察した。このタッチパネルは、図２の（ａ）に示される構成となる。
（Ｇ２）二層構成
静電容量方式のタッチパネルを備えたガラス基板の片面に、上の（Ａ３）で作製した光学フィルムを、その凹凸面が外側となるようにアクリル系透明粘着剤を用いて貼合した。次に、上の（Ｆ）で作製した偏光板の凹凸面と、上記ガラス基板の光学フィルム貼合面とが向かい合わせになるように、かつそのガラス基板と偏光板との間の間隙が０.３mm となるように調節して配置した。タッチパネルを指で押して、ニュートンリングが発生するかどうかを観察した。このタッチパネルは、図２の（ｃ）に示される構成となる。
【００９８】
（Ｇ３）評価基準
それぞれの結果は、以下の３段階で評価した。
○：  ニュートンリングが観察されない。
△：  ニュートンリングがわずかに観察されるが、視認に問題ないレベルである。
×：  ニュートンリングが顕著に観察される。
【００９９】
［比較例１］
この例では、日本製紙ケミカル（株）から販売されている防眩フィルム“NC-1”を光学フィルムとした。このフィルムの表面形状を実施例１と同じ方法で測定したところ、断面曲線のスキューネスＰskの絶対値は０.７５９、算術平均傾斜角Δａは０.５７°、算術平均粗さＲａは６１nmであった。また、このフィルムのヘーズを実施例１と同じ方法で測定したところ、全ヘーズは０.８％、外部ヘーズは０.５％であった。このフィルムを用いる以外は実施例１と同様にして、偏光板を作製した。ニュートンリングの評価は、実施例１と同様にして単層構成及び二層構成それぞれで行った。
【０１００】
実施例１及び比較例１で行ったニュートンリングの評価結果を、用いた光学フィルムの物性値とともに表１に示した。
【０１０１】
【表１】
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【符号の説明】
【０１０２】
１０……表示素子側基板、
１５……透明導電層、
２０……タッチ入力素子、
２５……透明導電層、
３０，４０……光学フィルム、
３１，４１……透明支持体、
３２，４２……塗工層、
５０……間隙、
６０……巻き出しロール、
６１……塗工手段、
６２……バックアップロール、
６３……乾燥機、
６４……エンボスロール、
６５……ニップロール、
６６……紫外線照射手段、
６７……剥離ロール、
６８……可動のピンチロール、
６９……巻取りロール、
７０……タッチパネル、
７１……液晶セル（画像表示素子）、
７３……前面側偏光板、
７４……背面側偏光板、
７６……バックライト。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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