(57)【要約】【課題】隔壁のパターンと画素電極のパターンとの精密なアライメントを要することなくモアレ現象の発現を抑制することが可能な反射型表示装置を提供すること。【解決手段】対向する２枚の基板間に表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に前記表示媒体が所望の表示をする、反射型表示装置であって、一方の基板が透光性を有しており、前記一方の基板と他方の基板との間に、複数のセルを区画する隔壁と、周期的なパターンで配列された複数の画素電極と、当該複数の画素電極に対応する複数の電極構造とが、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て当該順序で設けられており、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て、前記画素電極が設けられている領域の光反射特性と画素電極間の領域の光反射特性とは、略同じであることを特徴とする反射型表示装置。【選択図】図１
2015011327.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
各々電極が形成されている対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に所望の表示をする、反射型表示装置であって、
一方の基板が透光性を有しており、
前記一方の基板と他方の基板との間に、少なくとも表示領域を覆う共通の透光性電極と、複数のセルを区画する隔壁と、周期的なパターンで配列された複数の画素電極と、当該複数の画素電極に対応する複数の電極構造とが、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て当該順序で設けられており、
前記画素電極の各々には、互いに対応する当該画素電極と前記電極構造とを電気的に接続するためのビアホールが形成されており、
前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て、前記画素電極におけるビアホールを除いた領域の光反射特性と画素電極間の領域の光反射特性とは、略同じである
ことを特徴とする反射型表示装置。
【請求項２】
各々電極が形成されている対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に所望の表示をする、反射型表示装置であって、
一方の基板が透光性を有しており、
前記一方の基板と他方の基板との間に、少なくとも表示領域を覆う共通の透光性電極と、複数のセルを区画する隔壁と、周期的なパターンで配列された複数の画素電極と、当該複数の画素電極に対応する複数の電極構造とが、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て当該順序で設けられており、
前記画素電極の各々には、互いに対応する当該画素電極と前記電極構造とを電気的に接続するためのビアホールが形成されており、
前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て、前記画素電極の光反射特性と画素電極間の領域の光反射特性とは、略同じである
ことを特徴とする反射型表示装置。
【請求項３】
前記光反射特性は、色調である
ことを特徴とする請求項１または２に記載の反射型表示装置。
【請求項４】
前記電極構造は、ＴＦＴ電極構造である
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の反射型表示装置。
【請求項５】
前記隔壁は、非周期的なパターンで形成されている
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の反射型表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子ペーパー等に応用されている反射型表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射型表示装置として、最近、表示媒体に含まれる電気応答性材料として電気泳動体を用いた電気泳動表示装置が広く用いられている。電気泳動表示装置とは、空気中または溶媒中の電気泳動体（通常は電気泳動する粒子）の電気的な泳動、すなわち粒子移動を利用して情報を表示する装置である。通常、２枚の基板間に電界を与えることで電気的な泳動の状態が制御され、それによって所望の表示が実現されるように構成される。電気泳動体としては、荷電粒子の他、荷電粉体をも利用され得る。その場合、当該荷電粉体は気体中を電気的に泳動する。
【０００３】
電気泳動表示装置は、近年では特に、電子ペーパーとしての応用が注目されている。電子ペーパーとして応用する場合には、印刷物レベルの視認性（目にやさしい）、情報書き換えの容易性、低消費電力、軽量といった利点を享受できる。
【０００４】
電気泳動表示装置では、しかし、粒子や粉体の沈降や偏在に起因して、表示の不良、特にコントラストの低下が生じることがある。この現象を防止するべく、上下の電極基板間に隔壁を形成して、電気泳動する粒子や粉体の泳動空間、すなわち移動空間を微小な空間に分割することが採用されている。この微小な空間は、セルと呼ばれている。各セルの中に、電気泳動体を含むインキやガス（表示媒体）が封入されている。例えば特許文献１（特開２００５−２４８６８号公報）及び特許文献２（特表２０１１−５２４５４８号公報）には、そのようなタイプの電気泳動表示装置の従来例が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−２４８６８号公報
【特許文献２】特表２０１１−５２４５４８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本件発明者は、一方の基板の側から隔壁越しに他方の基板を観察する反射型表示装置について鋭意研究を重ねるうち、以下のような知見を得るに至った。
【０００７】
前述のような反射型表示装置において、一方の基板と他方の基板との間に、少なくとも表示領域を覆う共通の透光性電極と、複数のセルを区画する隔壁と、周期的なパターンで配列された複数の画素電極とが、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て当該順序で設けられている。そして、各セル毎に、表示媒体に含まれる電気応答性材料の電気的な泳動の状態を制御することで、所望の表示を実現している。画素電極のパターンは、一般的には全体として長方形を成すような、マトリックス状の周期的な整列パターンである。そして一般的には、隔壁も、同様に周期性を有するパターンで形成されている。
【０００８】
このため、隔壁のパターンと画素電極のパターンとが精密にアライメントされていない反射型表示装置においては、モアレ現象が発現して表示ムラが生じてしまう。特に高精細かつ大画面の反射型表示装置を製造する際には、より一層高い精度でアライメントを行う必要がある。
【０００９】
本発明は、このような事情に基づいて行われたものであり、その目的は、隔壁のパターンと画素電極のパターンとの精密なアライメントを要することなくモアレ現象の発現を抑制することが可能な反射型表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、各々電極が形成されている対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に所望の表示をする、反射型表示装置であって、一方の基板が透光性を有しており、前記一方の基板と他方の基板との間に、少なくとも表示領域を覆う共通の透光性電極と、複数のセルを区画する隔壁と、周期的なパターンで配列された複数の画素電極と、当該複数の画素電極に対応する複数の電極構造とが、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て当該順序で設けられており、前記画素電極の各々には、互いに対応する当該画素電極と前記電極構造とを電気的に接続するためのビアホールが形成されており、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て、前記画素電極におけるビアホールを除いた領域の光反射特性と画素電極間の領域の光反射特性とは、略同じであることを特徴とする反射型表示装置である。
【００１１】
本発明によれば、画素電極におけるビアホールを除いた領域の光反射特性と画素電極間の領域の光反射特性とは、略同じであるため、一方の基板側からの画素電極のパターンの周期の視認性が低減される。これにより、モアレ現象の発現が抑制される。
【００１２】
あるいは、本発明は、各々電極が形成されている対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に所望の表示をする、反射型表示装置であって、一方の基板が透光性を有しており、前記一方の基板と他方の基板との間に、少なくとも表示領域を覆う共通の透光性電極と、複数のセルを区画する隔壁と、周期的なパターンで配列された複数の画素電極と、当該複数の画素電極に対応する複数の電極構造とが、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て当該順序で設けられており、前記画素電極の各々には、互いに対応する当該画素電極と前記電極構造とを電気的に接続するためのビアホールが形成されており、前記一方の基板の側から前記他方の基板の側に向かう方向に見て、前記画素電極の光反射特性と画素電極間の領域の光反射特性とは、略同じであることを特徴とする反射型表示装置である。
【００１３】
本発明によれば、画素電極の光反射特性と画素電極間の領域の光反射特性とは、略同じであるため、一方の基板側からの画素電極のパターンの周期の視認性が低減される。これにより、モアレ現象の発現が抑制される。
【００１４】
例えば、前記光反射特性は、色調である。この場合、当該色調を反射型表示装置で所望の表示を行う時に強調したい色調と同じ色調にすれば、所望の色調が、より鮮明に表示され得る。
【００１５】
好ましくは、前記画素電極間の領域及び各画素電極の他方の基板側の領域には、絶縁膜が設けられており、前記絶縁膜は、光透過率が１０％以下という低透過率の層を含んでおり、前記画素電極は、光透過率が８０％以上という高透過率の材料で形成されている。この場合、画素電極は絶縁膜によって反射される光を十分に透過するため、画素電極が配置されている領域の光反射特性を絶縁膜の光反射特性と略同じにすることが、容易である。この結果、画素電極が形成されている領域の光反射特性と画素電極間の領域の光反射特性とを略同じにすることが、容易である。この場合、例えば、前記画素電極は、インジウム系酸化物ＩＸＯ（Ｘ＝Ｓｎ、Ｚｎ、Ｇａなど）、銀ナノワイヤ、ＰＥＤＯＴ、及び亜鉛系酸化物で形成されている。
【００１６】
好ましくは、前記画素電極間の領域には、絶縁膜が設けられており、前記絶縁膜は、光透過率が１０％以下という低透過率の層を含んでおり、前記画素電極は、光透過率が１０％以下という低透過率の材料で形成されている。この場合、画素電極は絶縁膜によって反射される光を十分に遮るため、画素電極が配置されている領域の光反射特性が絶縁膜の光反射特性の影響を受けることが抑制される。したがって、絶縁膜及び画素電極の材料を適宜に選択することにより、画素電極の光反射特性と絶縁膜の光反射特性とを略同じにすることが、容易である。この結果、画素電極の光反射特性と画素電極間の領域の光反射特性とを略同じにすることが、容易である。この場合、例えば、前記低透過率の層は、酸化チタン系ブラックマトリックスやカーボン系ブラックマトリックスで形成されており、前記画素電極は、カーボンで形成されている。
【００１７】
例えば、前記電極構造は、ＴＦＴ電極構造である。
【００１８】
好ましくは、前記隔壁は、画素電極の周期的なパターンに対してモアレ縞を発生させないパターンで形成されている。この場合、モアレ現象の発現が顕著に抑制される。例えば、前記隔壁は、非周期的なパターンで形成されている。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、隔壁のパターンと画素電極のパターンとの精密なアライメントを要することなくモアレ現象の発現を抑制することが可能な反射型表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】図１は、本発明の一実施の形態による反射型表示装置の構成を概略的に示す断面図である。
【図２】図２は、本発明の一実施の形態による反射型表示装置の製造方法を概略的に示すフロー図である。
【図３】図３は、隔壁形成工程の一例を概略的に示す図である。
【図４】図４は、隔壁のパターンの例を示す図。詳しくは、図４（ａ）が、六角形の単位パターンを規則的に配列してなるハニカム状の周期的なパターンを示す図であり、図４（ｂ）が、矩形の単位パターンを規則的に配列してなる格子状の周期的なパターンを示す図であり、図４（ｃ）が、画素電極のマトリックス状の周期的なパターンに対して、モアレ縞を発生させないような非周期的なパターンを示す図である。
【図５】図５は、隔壁の頂面の幅の定義について説明する図である。
【図６】図６は、接着層形成工程の一例を概略的に示す図である。
【図７】図７は、表示媒体配置工程の一例を概略的に示す図である。
【図８】図８は、導電性ペーストの機能を説明するための概略図である。
【図９】図９は、他方の基板上にマトリックス状の周期的なパターンで配列された画素電極を示す平面図である。
【図１０】図１０は、画素電極と、当該画素電極に対応するＴＦＴ電極構造と、ＴＦＴ電極構造と画素電極との間に配置された絶縁膜と、を概略的に示す図である。詳しくは、図１０（ａ）が、ＴＦＴ電極構造の上に配置された画素電極を示す平面図であり、図１０（ｂ）が、図１０（ａ）の１０ｂ−１０ｂ線断面図であって、ＴＦＴ電極構造の上に絶縁膜を介して配置された画素電極が、当該画素電極に形成されたビアホールによって対応するＴＦＴ電極構造と電気的に接続されている状態を示す図である。
【図１１】図１１は、モアレ現象の発現のメカニズムを説明するための図である。
【図１２】図１２は、本発明によるモアレ現象の発現を抑制するメカニズムを説明するための図である。
【図１３】図１３は、対向基板配置工程において、一方の基板の隔壁頂面に他方の基板が接着されている様子を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
図１は、本発明の一実施の形態による反射型表示装置の構成を概略的に示す断面図である。本実施の形態による反射型表示装置は、各々電極が形成されている対向する２枚の基板間１１，１６に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体１３が封入されていて、２枚の基板１１，１６間に所定の電界が与えられる際に表示媒体１３が所望の表示をするようになっている。ここで、本件の明細書及び特許請求の範囲において「透光性」とは、光を透過する性質、という程度の意味である。本実施の形態においては、視認側に配置される基板は、全光透過率が５０％以上、好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上となるような透光性を有している。
【００２２】
図１乃至図１３において、一方の基板１１の面上には、電極が設けられているが、それらの電極の図示は省略されている。本実施の形態においては、一方の基板１１が透光性を有していて視認側に配置され、他方の基板１６が非視認側に配置される。
【００２３】
一方の基板１１としては、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等の透光性フィルムや透光性ガラスに、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ）等の透光性を有する電極（透光性電極）を一方の基板１１の少なくとも表示領域を覆うように付したものが、典型的に用いられ得る。ここで、「表示領域」とは、反射型表示装置における所望の表示に利用される領域をいう。
【００２４】
透光性電極は、塗工法やスパッタリング、真空蒸着法、ＣＶＤ法等によって形成され得る。透光性電極は、本実施の形態では、アクティブマトリクス駆動用の共通電極として形成されている。
【００２５】
一方の基板１１の厚みは、１０μｍ〜１ｍｍが好適である。１０μｍよりも薄いと、パネルとしての強度を得ることができず、破損に至る危険度が増す一方、１ｍｍよりも厚いと、パネル重量が重くなり過ぎて取り扱いが不便になるし、コストも高くなるからである。破損しにくく取り扱いが容易である好適な厚みの範囲は、５０μｍ〜３００μｍ程度である。
【００２６】
一方の基板１１は、ロール状でもシート状でもどちらでも適用可能である。
【００２７】
他方の基板１６としては、樹脂フィルム、樹脂板、ガラス、エポキシガラス（ガラエポ）等の基材が用いられ得る。また他方の基板１６は、透光性を有する基材が用いられてもよい。さらに透光性を有しているが不透明な基材であってもよく、電極面とは異なるもう一方の面を粗面化した不透明なガラス基材、樹脂フィルム、樹脂板、ガラス、エポキシガラス（ガラエポ）等が用いられ得る。本実施の形態では、他方の基板１６は、視認側と反対側の位置に配置されるため、透光性を有している必然性はない。しかし、熱膨張特性など一方の基板１１と同じ物性が必要とされる場合は、一方の基板１１と同様の透光性の部材が使用され得る。
【００２８】
他方の基板１６の表示媒体側の面には、後の工程において、複数の画素電極１６１と、当該複数の画素電極に対応する電極構造１６３とが、設けられる。本実施の形態では、電極構造１６３は、アクティブマトリクス駆動用のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）層に対応する電極構造である。
【００２９】
他方の基板１６の厚みも、一方の基板１１の厚みと同様に、１０μｍ〜１ｍｍが好適である。１０μｍよりも薄いと、パネルとしての強度を得ることができず、破損に至る危険度が増す一方、１ｍｍよりも厚いと、パネル重量が重くなり過ぎて取り扱いが不便になるし、コストも高くなるからである。破損しにくく取り扱いが容易である好適な厚みの範囲は、５０μｍ〜３００μｍ程度である。
【００３０】
他方の基板１６も、ロール状でもシート状でもどちらでも適用可能である。
【００３１】
＜反射型表示装置の製造方法＞
図２は、本発明の一実施の形態による反射型表示装置の製造方法を概略的に示すフロー図である。
【００３２】
図３は、隔壁形成工程の一例を概略的に示す図である。図３に示すように、まず、一般には水平方向に載置される一方の基板１１の上面に、例えばフォトリソグラフィ法（紫外線（ＵＶ）照射による露光→現像→焼成）によって、隔壁１２が形成される。隔壁１２は、後述する複数のセルを規定する部材である。
【００３３】
隔壁１２は、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、常温硬化樹脂等によって構成可能であり、隔壁１２の形成方法は、フォトリソグラフィ法の他、エンボス加工などの型転写方法も採用され得る。さらに、所望のパターンの構造物を隔壁として製造しておいて、それを一方の基板１１に貼り付けるという方法も採用され得る。隔壁１２は、後述する画素電極形成工程において他方の基板１６上に形成される画素電極１６１の上に形成されてもよい。
【００３４】
隔壁１２は、本実施の形態では、図４（ａ）に示すような六角形の単位パターンを規則的に配列したハニカム状の周期的なパターンで形成される。もっとも、隔壁１２のパターンとしては、他の形状も採用可能であり、例えば、図４（ｂ）に示すような矩形の単位パターンを規則的に配列した正方格子状の周期的なパターンであってもよい。さらに、隔壁１２のパターンは、図４（ｃ）に示すような非周期的なパターン、すなわち後述する画素電極１６１の周期的なパターンに対してモアレ現象を発生させないようなパターンであってもよい。ここで、隔壁１２の非周期的なパターンの具体例としては、例えば、隔壁１２によって区画された複数のセルの互いの形状が異なっている、という隔壁１２のパターンが挙げられる。この場合、全てのセルについて互いの形状が異なっていてもよいし、一部のセルについてのみ互いの形状が異なっていてもよい。また、セルの形状の変化の仕方については、周期性があってもよいし、周期性がなくてもよい。
【００３５】
隔壁１２の頂面の幅は、９μｍ〜５０μｍ、好ましくは９μｍ〜２０μｍである。９μｍというのは、隔壁１２が倒れることなくパターニングできる線幅の下限である。隔壁１２の頂面の幅が９μｍ未満である場合、隔壁１２の長さが６０μｍ以上に亘るようなパターンでは、少なくとも隔壁１２の一部が倒れたり、剥がれたり、剥がれた隔壁１２が基板上を移動したりする。そうなった場合には、隔壁１２による粒子の移動を防ぐという機能が失われ、表示品質が劣化してしまう。一方、好適な範囲の上限である５０μｍというのは、目視したときに隔壁１２が目立ち過ぎない上限である。
【００３６】
ここで、隔壁１２の頂面の幅の定義を、図５に示す。頂面の角が丸まっていなければ、図５（ａ）や図５（ｂ）に示すように、頂面の幅はそのまま定義される。一方、頂面の角が丸まっている場合には、図５（ｃ）や図５（ｄ）に示すように、頂面の延長面と壁面の延長面との交線間の幅として理解される。評価のための測定方法としては、隔壁１２が形成された一方の基板１１を硬化性樹脂にて包埋し、ミクロートーム（大和光機工業株式会社製：ＦＸ−８０１）により隔壁１２の断面を切り出し、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）によって撮影した画像に基づいて各幅を測定することができる。
【００３７】
隔壁１２の厚みは、５〜５０μｍ、好ましくは１０〜５０μｍである。５μｍ以下では、充填するインキ量が少なく、十分な表示特性、特にコントラストが得られない一方、５０μｍ以上では、パネルの厚みが厚すぎて、駆動電圧が上昇し過ぎてしまう。低駆動電圧で良好な表示特性が得られるという観点から、１０〜５０μｍの範囲の厚みが好適である。
【００３８】
セルの開口率は、７０％以上が好ましく、特に９０％以上が好ましい。高開口率であるほど、表示可能エリアが広くなるため、高コントラストを得ることができる。
【００３９】
次に、隔壁１２上に接着層２２が形成される（接着層形成工程：図２の工程（２））。この接着層形成工程では、例えば転写法や印刷法により、ポリエステル系熱可塑性接着剤のような熱可塑性樹脂が、１μｍ〜１００μｍの厚みで形成される。好ましくは、１μｍ〜５０μｍの厚みで形成され、特に好ましくは、１μｍ〜２０μｍの厚みで形成される。
【００４０】
転写法として典型的な熱転写法の一例について具体的な説明を補足すれば、図６に示すように、例えば基材２１としてのＰＥＴフィルム上に２０μｍの厚みでポリエステル系熱可塑性接着剤のような接着剤２２１を形成した転写シート２０を用意する。次に、この転写シート２０を、接着剤２２１の面が一方の基板１１の隔壁１２の頂面上に配置されるように、一方の基板１１と対向して配置する。この状態で、一方の基板１１と転写シート２０とを、常温で１ｋＰａの圧力でラミネートする。ラミネートの後で、一方の基板１１を、一方の基板１１側の隔壁１２の端部が一方の基板１１とは反対の側の当該隔壁１２の頂面よりも高い位置となるように向けられた状態にして、一方の基板１１と転写シート２０とを接着剤２２１の軟化点または融点より高い温度で一方の基板１１と転写シート２０とを１分間加熱する。これにより、隔壁１２上に接着層２２が形成される。
【００４１】
接着層２２を形成するための接着剤２２１としては、熱可塑性材料を用いた接着剤が好ましく、加熱により軟化して、冷却すると固化する性質を有し、冷却と加熱を繰り返した場合に、塑性が可逆的に保たれる材料である。
【００４２】
熱可塑性材料からなる接着剤を接着層として用いた場合には、転写シート基材２１上の固化している接着剤２２１をその軟化点または融点を超える温度にまで加熱することにより軟化させて、隔壁頂面のみに確実に接着剤２２１を熱転写することもできる。また、熱転写後の接着剤２２１は常温まで冷却して再び固化することにより、タック、すなわちねばつきが無くなるため、取り扱いの便宜が極めて良い。また、タック、すなわちねばつきが無いことによって、セル内に充填された表示媒体１３が接着剤２２１と接着してしまうことがない。そして、再び隔壁頂面の接着剤２１をその軟化点または融点を超える温度にまで加熱して軟化させることにより、タック、すなわちねばつきを有するようになるため、他方の基板１６に確実に接着される。他方の基板１６との接着後の接着剤２２１は、再び常温においてはタック、すなわちねばつきが無いため、やはり表示媒体１３が接着剤２２１と接着してしまうことがなく、表示品質の低下のおそれもない。
【００４３】
具体的には、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリウレタンなどの熱可塑性ベースポリマーや、天然ゴム、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−プロピレン−スチレン共重合体などの熱可塑性エラストマーを主成分とし、粘着性付与樹脂や可塑剤を配合した樹脂が主に使用される。
【００４４】
隔壁１２と接着剤２２１との密着性を上げるために、隔壁１２に紫外線照射やプラズマ処理などにより表面処理が施されてもよいし、プライマーが形成されてもよい。あるいは、接着剤２２１の方にシランカップリング剤が添加されてもよい。
【００４５】
次に、一方の基板１１上に表示媒体としてのインキ１３が配置される（表示媒体配置工程：図２の工程（３））。図７は、表示媒体配置工程の一例を概略的に示す図である。ここでは、（１）ディスペンサ３１あるいはインクジェット、ダイコートからインキ１３が滴下され（インキ滴下工程）、（２）アプリケータ３２あるいはドクターブレード、ドクターナイフ、中央スキージによって面内均一となるようにインキ１３が塗布される（インキ塗布工程）。なお、インキ１３は、一方の基板１６上に配置されてもよい。
【００４６】
表示媒体１３としては、少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が用いられ得る。電気応答性材料としては、電荷粒子材料、液晶材料があり、電荷粒子材料には白や黒、カラーなどの色づけされた粒子が電場に応答して移動するいわゆる電気泳動材料、または、粒子が二色に色分けされ電場により回転するツイストボールに代表される材料、または、電場により移動するナノ粒子材料等がある。一方、液晶材料は、ＰＤＬＣ（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）で知られる透過と散乱を電気的に制御する材料や、液晶に色素を混合した材料、コレステリック液晶材料などがある。これらの電気応答性を有し光学特性を変化させる材料は、種類を問わずセルに隔離する必要があり、本発明の適用対象である。
【００４７】
図２に戻って、表示媒体配置工程の後で、導電性ペースト塗布工程が実施される（導電性ペースト塗布工程：図２の工程（４））。図８は、導電性ペーストの機能を説明するための概略図である。導電性ペースト１４は、例えば銀ペーストのような金属ペーストであり、例えばディスペンサ４１あるいはインクジェット、タンポ印刷、パット印刷、スタッピング印刷によって所定位置に塗布される。導電性ペースト１４は、図８に示すように、他方の基板１６に電圧をかけるための配線として機能する。一方の基板１１の透光性電極と他方の基板１６の画素電極１６１との間に所定の電界（電圧）が与えられる際、表示媒体であるインキ１３中の電気応答性材料が駆動され、文字パターン等の所望の情報が表示される。その後、電界が与えられなくなっても、新たな電界が両基板間に与えられるまで、当該情報表示状態が維持される。
【００４８】
次に、他方の基板１６上に、ＴＦＴ電極構造１６３と画素電極１６１とが、周期的なパターンで形成される（画素電極形成工程：図２の工程（５））。本実施の形態では、画素電極１６１は、図９に示すような、マトリックス状の周期的なパターンで形成される。
【００４９】
ここで、図１０乃至図１２を参照して、本実施の形態の画素電極１６１とＴＦＴ電極構造１６３との構成について、より詳細に説明する。
【００５０】
図１０は、画素電極１６１と、当該画素電極１６１に対応するＴＦＴ電極構造１６３と、ＴＦＴ電極構造１６３と画素電極１６１との間に配置された絶縁膜１６４と、を概略的に示す図である。詳しくは、図１０（ａ）が、ＴＦＴ電極構造１６３の上に配置された画素電極１６１を示す平面図であり、図１０（ｂ）が、図１０（ａ）の１０ｂ−１０ｂ線断面図であって、ＴＦＴ電極構造１６３の上に絶縁膜１６４を介して配置された画素電極１６１が、当該画素電極１６１に形成されたビアホール１６２によって対応するＴＦＴ電極構造１６３と電気的に接続されている状態を示す図である。
【００５１】
まず、他方の基板１６上に複数のＴＦＴ電極構造１６３が、図９に示す画素電極１６１のマトリックス状のパターンに対応するように配列され、当該複数のＴＦＴ電極構造１６３の上に、当該複数のＴＦＴ電極構造１６３を網羅するように、絶縁膜１６４が形成される。本実施の形態では絶縁膜１６４は、光透過率が高い樹脂で形成されたパッシベーション（ＰＶ）層１６４ｐｖと、光透過率が低い樹脂で形成されたブラックマトリックス（ＢＭ）層１６４ｂｍと、を含んでいる。
【００５２】
ここで、「光透過率」とは、対象物の一方の側から他方の側に向かって、光が当該対象物を通過する割合の平均値をいう。光透過率は、例えば、近赤外顕微分光測定機（オリンパス社製：ＵＳＰＭ−ＲＵ−Ｗ）を用いて測定可能である。本実施の形態においては、波長が４００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲内の光について、波長が１０ｎｍずつ異なる種々の波長の光が対象物を一方の側から他方の側へ通過する割合を各波長の光について測定し、得られた測定値の平均値が、当該対象物の光透過率として定義される。
【００５３】
以下では、各材料の光透過率は、当該材料の一方の基板１１が配置される側から他方の基板１６の側に向かう方向あるいは他方の基板１６の側から一方の基板１１が配置される側に向かう方向における光透過率として記載される。
【００５４】
ＢＭ層１６４ｂｍは、ＴＦＴ電極構造１６３と当該ＴＦＴ電極構造１６３に対応する画素電極１６１とが電気的に接続される部分を除いて、複数のＴＦＴ電極構造１６３を網羅するように形成されている。なお、ＢＭ層１６４ｂｍは、他方の基板１６とＴＦＴ電極構造１６３との間に他方の基板１６の全面を覆うように形成されていてもよい。この場合、ＢＭ層１６４ｂｍは、更に、ＴＦＴ電極構造１６３と画素電極１６１との間に少なくともＴＦＴを覆うように形成されていてもよい。
【００５５】
そして、絶縁膜１６４の上に、各ＴＦＴ電極構造１６３に対応するように、画素電極１６１が形成される。各画素電極１６１には、図１０に示すように、画素電極１６１と、当該画素電極１６１に対応するＴＦＴ電極構造１６３と、を電気的に接続するためのビアホール１６２が形成されている。
【００５６】
画素電極１６１の材料、ないし、画素電極１６１及び絶縁膜１６４の材料は、モアレ現象の発現を抑制するように選択される。ここで、図１１及び図１２を参照して、モアレ現象の発現を効果的に抑制するための、画素電極１６１の材料、ないし、画素電極１６１の材料と絶縁膜１６４の材料との組み合わせについて説明する。
【００５７】
図１１は、モアレ現象の発現のメカニズムを説明するための図である。本件発明者が得た知見によれば、モアレ現象は、図１１に示すように、一方の基板１１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、次の２つの周期的なパターンが視認されることにより生じる。第１のパターンは、隔壁１２の周期的なパターン、あるいは、隔壁１２が光透過率の高い材料で形成されている場合には、周期的なパターンで形成されている隔壁１２に対応して視認される光透過率の高い高透過率部分の周期的なパターンである。また、第２のパターンは、他方の基板１６の絶縁膜１６４の上に周期的に配置されている画素電極１６１の光反射特性が画素電極１６１間の領域１６６の光反射特性と顕著に異なることにより視認される、光反射特性の周期的な変化のパターンである。すなわち、前述の第１のパターンと第２のパターンとが異なる周期及び回転ズレを伴って重なり合うことにより、一方の基板１１側から見て周期的な濃淡が発生し、これがモアレ現象の発現の原因となっていると考えられる。
【００５８】
したがって、図１２に示すように、画素電極１６１が形成されている領域と画素電極１６１間の領域１６６との間の光反射特性の差を低減させて、他方の基板１６上に周期的な光反射特性の変化のパターンが形成されることを抑制すれば、モアレ現象の発現が抑制されると考えられる。
【００５９】
したがって、モアレ現象の発現を抑制するために、画素電極１６１の光反射特性と画素電極１６１間の領域１６６の光反射特性とが略同じとなるように、画素電極１６１の材料、ないし、画素電極１６１及び絶縁膜１６４の材料を選択する。
【００６０】
ここで、本実施の形態では、光反射特性は色調である。色調の違いは、例えば、近赤外顕微分光測定機（オリンパス社製：ＵＳＰＭ−ＲＵ−Ｗ）を用いて測定可能である。本実施の形態においては、波長が４００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲内の光について、波長が１０ｎｍずつ異なる種々の波長の光の対象物における反射率を各波長の光について測定し、得られた測定値の平均値が、当該対象物の平均反射率として定義される。また、同様に、２つの対象物について、４００ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲の光であって波長が１０ｎｍずつ異なる種々の波長の光の各対象物における反射率を各波長の光について測定し、同一波長の光毎に当該２つの対象物の反射率の差の絶対値を求め、得られた絶対値の平均値が、当該２つの対象物の平均反射率の差として定義される。平均反射率の差は、２つの対象物の色調の違いが小さいほど小さいため、当該２つの対象物の色調の違いを表す値として用いることができる。本実施の形態では、この色調の違いを表す値である平均反射率の差が３０％以内である場合に、当該２つの対象物の色調は略同じであると評価される。
【００６１】
本実施の形態においては、絶縁膜１６４のＢＭ層１６４ｂｍは、光透過率が１０％以下、好ましくは５％以下という低透過率の材料で形成されているため、ＢＭ層１６４ｂｍよりも他方の基板１６の側に配置されている要素及び他方の基板１６による反射光を十分に遮断する。したがって、絶縁膜１６４が形成された他方の基板１６の色調は、絶縁膜１６４が形成されている側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、ビアホール１６２が電気的に接続される部分を除いて、ＢＭ層１６４ｂｍの色調と略同じとなる。そして、このようなＢＭ層１６４ｂｍを含む絶縁膜１６４の上に配置される画素電極１６１の材料として、光透過率が８０％以上という高透過率の材料を選択すれば、画素電極１６１は絶縁膜１６４によって反射される光を十分に透過するため、画素電極１６１におけるビアホール１６２を除いた領域の色調と画素電極１６１間の領域１６６の色調とは、略同じとなる。ここで、高透過率の画素電極１６１を形成する材料としては、例えば、インジウム系酸化物、亜鉛系酸化物、ＰＥＤＯＴなどの透明導電性ポリマー、及び、銀ナノワイヤーを含んだ樹脂が挙げられる。
【００６２】
この場合、ＢＭ層１６４ｂｍの色調として、反射型表示装置の所望の表示を行う時に強調したい色調を選択すれば、当該所望の色調が、鮮明に表示され得る。
【００６３】
なお、画素電極１６１が形成されている基板１６の、画素電極１６１が形成されている領域の光反射特性と画素電極１６１間の領域１６６の光反射特性とが略同じとなるような、画素電極１６１の材料、ないし、画素電極１６１及び絶縁膜１６４の材料としては、他の材料も採用可能である。
【００６４】
例えば、本実施例と同様にＢＭ層１６４ｂｍが光透過率１０％以下という低透過率の材料で形成されている場合、画素電極１６１の材料として、ＢＭ層１６４ｂｍと略同じ光反射特性を有している材料であって、光透過率１０％以下という低透過率の材料が、選択され得る。この場合、画素電極１６１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て、画素電極１６１は絶縁膜１６４によって反射される光を十分に遮るため、画素電極１６１が配置されている領域の色調が絶縁膜１６４の色調の影響を受けることが抑制される。例えば、ＢＭ層１６４ｂｍが酸化チタン系ブラックマトリックスで形成されている場合、画素電極１６１の材料としてカーボンが選択されれば、酸化チタン系ブラックマトリックスとカーボンとは同じ色調を有し、且つ、カーボン製の画素電極１６１は当該画素電極１６１の側から他方の基板１６の側に向かう方向に見て絶縁膜１６４の側からの反射光を十分に遮って絶縁膜１６４の色調の影響を受けないため、画素電極１６１の色調と絶縁膜１６４の色調とが、略同じになる。この結果、画素電極１６１の色調と画素電極１６１間の領域１６６の色調とは、略同じになる。さらに、この場合、ＴＦＴ電極構造１６３のビアホール１６２が電気的に接続される部分、すなわちＢＭ層１６４ｂｍで覆われていない部分も、画素電極１６１側から視認されないようにすることが可能である。
【００６５】
さらに、この場合も、ＢＭ層１６４ｂｍ及び画素電極１６１の色調として、反射型表示装置の所望の表示を行う時に強調したい色調を選択すれば、当該所望の色調が、鮮明に表示され得る。
【００６６】
その後、隔壁１２上の接着層２２と一方の基板１１に対して対向する他方の基板１６とが、隔壁１２内のセル容積を超える余剰のインクを押し出しながら接着される（対向基板配置工程：図２の工程（６））。これにより、表示媒体（インキ１３）が各セル内に封止される。なお、一方の基板１１と他方の基板１６との位置決めは、顕微鏡などを用いて精密に行うものでなくてよく、例えば、一方の基板１１に設けられたアライメント用のマークと、他方の基板１６に設けられたアライメント用のマークと、を肉眼で観察して一致させながら行うものでよい。
【００６７】
対向基板接着工程は、図１３に示すように、接着層２２として転写された接着剤２２１を加熱させて接着力を得るようになっている。具体的には、ラミネータ９１によって所定の熱圧着圧力（ラミネート圧力）を付与しながら、接着剤２２１を周辺からその軟化温度を超える温度にまで加熱して軟化させることによって、隔壁１２と他方の基板１６とを接着する。もっとも、他の熱圧着の態様が採用されてもよい。
【００６８】
更に、本実施の形態では、ラミネータ９１による接着の後で、さらに両基板１１、１６の四辺（周辺部）を熱圧着する四辺熱圧着工程が実施される。具体的には、両基板１１、１６の四辺（周辺部）の下方にホットプレート９２を敷いておいて、両基板１１、１６の四辺部を内側から外側に金属片９３でラミネート圧を加えることで実施される。
【００６９】
その後、図２に示すように、ギロチン、上刃スライド装置、レーザカット装置、レーザーカッター等の断裁装置５１によって所定のサイズに断裁され（断裁工程：図２の工程（７））、所望の反射型表示装置の製造が完了する。
【００７０】
以上のように、本実施の形態によれば、画素電極１６１における少なくともビアホール１６２を除いた領域の光反射特性と画素電極１６１間の領域１６６の光反射特性とは、略同じであるため、一方の基板１１側からの画素電極１６１のパターンの周期の視認性が低減される。これにより、モアレ現象の発現が抑制される。
【００７１】
また、画素電極１６１間の領域１６６及び各画素電極１６１の他方の基板１６側の領域には、絶縁膜１６４が設けられており、絶縁膜１６４は、光透過率１０％以下という低透過率の層１６４ｂｍを含んでおり、画素電極１６１は、光透過率８０％以上という高透過率の材料で形成されている。この場合、画素電極１６１は絶縁膜１６４によって反射される光を十分に透過するため、画素電極１６１が配置されている領域の光反射特性を絶縁膜１６４の光反射特性と略同じにすることが、容易である。この結果、画素電極１６１が形成されている領域の光反射特性と画素電極１６１間の領域１６６の光反射特性とを略同じにすることが、容易である。
【００７２】
なお、画素電極１６１は、光透過率１０％以下という低透過率の材料で形成されていても、本発明の目的を達成し得る。すなわち、画素電極が当該低透過率の材料で形成されていれば、画素電極１６１は絶縁膜１６４によって反射される光を十分に遮るため、画素電極１６１が配置されている領域の光反射特性が絶縁膜１６４の光反射特性の影響を受けることが抑制される。したがって、画素電極１６１の光反射特性と絶縁膜１６４の光反射特性とが、略同じにされ得る。この結果、画素電極１６１の光反射特性と画素電極１６１間の領域１６６の光反射特性とを略同じにすることが、容易である。
【００７３】
また、ＢＭ層１６４ｂｍの色調として、ないし、ＢＭ層１６４及び画素電極１６１の色調として、反射型表示装置で所望の表示を行う時に強調したい色調と同じ色調にすれば、所望の色調が、より鮮明に表示され得る。
【００７４】
さらに、隔壁１２が画素電極の周期的なパターンに対してモアレ縞を発生させないパターン、例えば非周期的なパターンで形成されていれば、モアレ現象の発現が顕著に抑制される。
【００７５】
次に、実際に行われた実施例について説明する。
【００７６】
＜反射型表示装置の実施例＞
＜実施例１＞
一方の基板１１として、３００ｍｍ×４００ｍｍ×厚さ０．１ｍｍのＰＥＴ基板（東洋紡Ａ４１００）の一方の面に透光性電極として酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）蒸着膜（厚さ０．２μｍ）が設けられた基板が用意された。透光性電極は、スパッタリング、真空蒸着法、ＣＶＤ法などの一般的な成膜方法によって形成され、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）の他に、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ）等によっても形成され得る。
【００７７】
次に、当該一方の基板１１に、ネガ型感光性樹脂材料（デュポンＭＲＣドライフィルムレジスト（株）製のドライフィルムレジスト）を２０μｍの厚さにラミネートして１００℃、１分間の条件で加熱し、次いで露光マスクを使用して露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ２  ）し、その後、１％ＫＯＨ水溶液を用いた現像を３０秒行い、２００℃、６０分間の条件で焼成することで、線幅が２０μｍの隔壁１２が形成された。隔壁１２のパターンは、正六角形の単位パターンが規則的に配列されたハニカムパターン（ピッチ３００μｍ）が採用された。
【００７８】
そして、転写フィルム基材２１として厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム２１（帝人・デュポン社製）が用いられ、これに接着層２２形成用の接着材２２１としてヒートシール剤２２１（東洋紡製バイロン６３０）が厚さ２０μｍでダイコーダにて塗布され、乾燥された。これにより、１０μｍの接着層を有するロール状の転写シート２０が作製された。なお、ヒートシール剤２２１の軟化温度は約１１０℃であった。
【００７９】
そして、転写シート２０の上に、一方の基板１１が、その隔壁１２が形成されている側の面を下にした状態で載せられ、この状態で、１ｋＰａ程度の押圧力で常温でラミネートされた。その後、ヒートシール剤２２１の周辺がその軟化温度を超える温度、例えば１３０℃程度にまで加熱され、その状態で一方の基板１１が、転写シート２０から剥離された。その結果、ヒートシール剤２２１が隔壁１２の頂面の全面に熱転写された。隔壁１２の頂面に転写されたヒートシール剤２２１の高さ、すなわち、隔壁１２の頂面からヒートシール剤２２１の頭頂部までの高さは、約７μｍであった。
【００８０】
続いて、表示媒体として、以下の成分を有するインキ１３が用いられ、ディスペンサ３１から滴下されて、中央スキージ３２（ニューロング製のスキージ１：ウレタン樹脂製）にてスキージ処理されて、各セル内に充填された。基板幅方向にはみ出した余剰インキは、別の両端スキージ３３ａ、３３ｂ（ニューロング製のスキージ２：ウレタン樹脂製）にて掻き取られ、さらにロールワイパ３４にて拭き取られた。  
＜インキ成分＞
・電気泳動粒子（二酸化チタン）・・・６０重量部
・分散液                     ・・・４０重量部
【００８１】
続いて、隔壁パターン外周の一部（２ｍｍ×２ｍｍの正方形領域）に、銀ペースト（藤倉化成製）がディスペンサ４１によって点塗布された。
【００８２】
次いで、他方の基板１６として、３００ｍｍ×４００ｍｍ×厚さ０．５ｍｍの無アルカリガラス（日本電気硝子製ＯＡ−１０Ｇ）の一方の面に、有機ＴＦＴアレイが形成された基板が用意された。有機ＴＦＴアレイは、３００ｎｍ×３００ｎｍの正方形のＩＴＯ画素電極１６１（光透過率８０％）と、当該画素電極１６１に対応するように形成されたＴＦＴ電極構造１６３と、ＰＶ層１６４ｐｖとしてのアクリル樹脂（アデカ製ＦＸ−Ｖ５５０）（厚さ４μｍ、光透過率９３％）と、ＢＭ層１６４ｂｍとしての樹脂（新日鐵化学社製Ｖ２５９−ＢＫ７３９Ｐ）（厚さ１μｍ、光透過率０．０１％以下）と、を含むように形成された。ＰＶ層１６４ｐｖとＢＭ層１６４ｂｍとを併せた透過率は、０．０１％以下であった。画素電極１６１は、６００個×８００個、行列方向に整列されて成るマトリックス状の周期的なパターンで形成された。
【００８３】
そして、大気中にて、一方の基板１１の隔壁１２上の接着層２２の上に他方の基板１６を、一方の基板１１に設けられたアライメント用のマークと、他方の基板１６に設けられたアライメント用のマークと、を肉眼で観察して一致させながら重ね合わせた。重ね合わせた一方の基板１１及び他方の基板１６にラミネータ９１で一定の熱圧着圧力をさらに付与しつつ、隔壁１２内のセル容積を超える余剰のインクを押し出しながら、一方の基板１１の隔壁１２と他方の基板１６とが密着された。
【００８４】
熱圧着時の温度は、ヒートシール剤２２１の軟化点または融点付近より高い温度が好ましく、８０℃〜１５０℃、好ましくは８０℃〜９０℃であり、本実施例では８０℃であった。また、熱圧着圧力は、０．０１ＭＰａ〜０．７ＭＰａが好ましく、特には０．１ＭＰａ〜０．４ＭＰａが好ましく、本実施例では０．３ＭＰａであった。
【００８５】
その後、断裁装置５１によって所定のサイズに断裁され、両方の基板１１，１６の周辺にディスペンサ（不図示）を用いて紫外線硬化樹脂（イー・エッチ・シー（株）製：ＬＣＢ−６１０）を塗工して封止し、紫外線を露光（露光量７００ｍＪ／ｃｍ２  ）して硬化させた（外周封止処理）。以上により表示パネルが作製された。
【００８６】
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなく、一様な表示であった。
【００８７】
また、画素電極１６１が形成されている領域及び画素電極１６１間の領域１６６に対して、近赤外顕微分光測定機（オリンパス社製：ＵＳＰＭ−ＲＵ−Ｗ）を用いて、波長が４００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲内の光について、波長が１０ｎｍずつ異なる種々の波長の光の当該２つの領域における反射率を各波長の光について測定した。そして、各領域について、得られた測定値の平均値、すなわち色調を表す値、を求めたところ、画素電極１６１が形成されている領域の色調を表す値は２０％であり、画素電極１６１間の領域１６６の色調を表す値は１５％であった。更に、画素電極１６１が形成されている領域及び画素電極１６１間の領域１６６の、同一波長の光毎の反射率の差の絶対値を求め、得られた絶対値の平均値を計算したところ、当該絶対値の平均値、すなわち色調の違いを示す値は、約５％以内であった。すなわち、当該２つの領域の色調差は、略同一であった。
【００８８】
＜実施例２＞
前記実施例１に対して、画素電極１６１としてカーボン電極を印刷法により形成し、その他は同じ工程で、表示パネルを作製した。
【００８９】
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなく、一様な表示であった。
【００９０】
また、実施例１と同様の方法で、画素電極１６１が形成されている領域及び画素電極１６１間の領域１６６の色調を表す値、並びに、当該２つの領域の色調の違いを示す値、を求めたところ、画素電極１６１が形成されている領域の色調を表す値は４％であり、画素電極１６１間の領域１６６の色調を表す値は１５％であり、当該２つの領域の色調の違いを表す値は約１０％以内であった。すなわち、当該２つの領域の色調差は、略同一であった。
【００９１】
＜実施例３＞
前記実施例１に対して、隔壁１２を図４（ｃ）に示すような非周期的なパターンで形成し、その他は同じ工程で、表示パネルを作製した。
【００９２】
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなく、実施例１におけるよりもさらに一様な表示であった。
【００９３】
また、実施例１と同様の方法で、画素電極１６１が形成されている領域及び画素電極１６１間の領域１６６の色調を表す値、並びに、当該２つの領域の色調の違いを示す値、を求めたところ、画素電極１６１が形成されている領域の色調を表す値は２０％であり、画素電極１６１間の領域１６６の色調を表す値は１５％であり、当該２つの領域の色調の違いを表す値は約５％以内であった。すなわち、当該２つの領域の色調差は、略同一であった。
【００９４】
＜比較例＞
前記実施例１に対して、画素電極１６１として他方の基板１６の側から一方の基板１１が配置される側に向かってＴｉ層／Ａｌ層／Ｔｉ層を当該順序で有する電極を形成し、その他は同じ工程で、表示パネルを作製した。
【００９５】
以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したところ、モアレ現象によるムラが発生した。これは、画素電極１６１の一方の基板１１の側のＴｉ層の光反射特性と、画素電極１６１間の領域１６６の光反射特性と、の違いが大きすぎて、一方の基板１１側から他方の基板１６の光反射特性の周期的な変化のパターンが、隔壁１２の周期的なパターンの高透過率部分のパターンに対してモアレ現象を発現させる程度に明確に視認されたためである、と考えられる。
【００９６】
また、実施例１と同様の方法で、画素電極１６１が形成されている領域及び画素電極１６１間の領域１６６の色調を表す値、並びに、当該２つの領域の色調の違いを示す値、を求めたところ、画素電極１６１が形成されている領域の色調を表す値は８０％であり、画素電極１６１間の領域１６６の色調を表す値は１５％であり、当該２つの領域の色調の違いを表す値は約６０％以上であった。すなわち、当該２つの領域の色調は、顕著に異なっていた。
【符号の説明】
【００９７】
１１  一方の基板
１２  隔壁
１３  インキ（表示媒体）
１４  導電性ペースト
１６  他方の基板
１６１  画素電極
１６２  ビアホール
１６３  ＴＦＴ電極構造
１６４  絶縁膜
１６４ｐｖ  パッシベーション（ＰＶ）層
１６４ｂｍ  ブラックマトリックス（ＢＭ）層
１６６  画素電極間領域
２０  転写シート
２１  ＰＥＴフィルム
２２  接着層
２２１  ヒートシール剤
３１  ディスペンサ
３２  アプリケータ
３３ａ  スキージ
３３ｂ  スキージ
３４  ロールワイパ
５１  断裁装置
９１  ラミネータ
９２  ホットプレート
９３  金属片
【図１】
2015011327.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2015011327.tif 000009
【図８】
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【図９】
2015011327.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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