(57)【要約】  手指の爪および足指の爪をバフ研磨および艶出しするためのネイルケアシステムが開示される。このシステムは、液体シリコーン樹脂調合物および砥粒の層を含むネイルケア材を備える。
2013514872.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体シリコーン樹脂調合物および砥粒の層を含むネイルケア材を含む、手指の爪および足指の爪をバフ研磨および艶出しするためのネイルケアシステム。
【請求項２】
パッケージングが、研磨片材に関連した販売伝達事項を提供する、前記ネイルケア材のための保持区画を有するパッケージをさらに備える請求項１に記載のネイルケアシステム。
【請求項３】
前記パッケージングと共に入れられる、ユーザーに前記ネイルケア材を手指の爪および足指の爪上で利用するように指示する印刷された取扱説明をさらに含む、請求項２に記載のネイルケアシステム。
【請求項４】
前記印刷された取扱説明が、ユーザーに爪を前記ネイルケア材でバフ研磨するように指示する、請求項３に記載のネイルケアシステム。
【請求項５】
前記印刷された取扱説明が、ユーザーに爪を前記ネイルケア材で艶出しするように指示する、請求項３に記載のネイルケアシステム。
【請求項６】
前記液体シリコーン樹脂が二液シリコーンゴムから形成され、一液が架橋剤を含有する、請求項１に記載のネイルケアシステム。
【請求項７】
前記ネイルケア材が、前記調合物の全重量に基づいて前記砥粒を少なくとも約３０重量％で含有する、請求項１〜６のいずれか一項に記載のネイルケアシステム。
【請求項８】
前記砥粒が窒化物、炭化物、酸化物、およびそれらのブレンドからなる群から選択される、請求項１〜７のいずれか一項に記載のネイルケアシステム。
【請求項９】
前記砥粒が、シリカ、アルミナ、ジルコニア、ジルコニア／アルミナ酸化物、炭化ケイ素、ガーネット、ダイアモンド、立方晶窒化ホウ素、窒化ケイ素、セリア、二酸化チタン、二ホウ化チタン、炭化ホウ素、酸化スズ、炭化タングステン、炭化チタン、酸化鉄、クロミア、フリント、エメリー、およびそれらの任意の組み合わせからなる群から選択される、請求項１〜７のいずれか一項に記載のネイルケアシステム。
【請求項１０】
前記砥粒が凝結体の形態である、請求項１〜９のいずれか一項に記載のネイルケアシステム。
【請求項１１】
前記ネイルケア材が、強化微粒子をさらに含有する、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のネイルケアシステム。
【請求項１２】
前記強化微粒子が、前記調合物の全重量の少なくとも約３重量％の量において含有される、請求項１１に記載のネイルケアシステム。
【請求項１３】
前記強化微粒子がシリカを含有する、請求項１１に記載のネイルケアシステム。
【請求項１４】
前記ネイルケア材が研磨シートの形態であり、前記ネイルケア材が裏材層を含まない、請求項１〜１３のいずれか一項に記載のネイルケアシステム。
【請求項１５】
前記ネイルケア材が主面を有するシートの形態であり、前記主面が表面突起の集成体を有する、請求項１〜１４のいずれか一項に記載のネイルケアシステム。
【請求項１６】
表面突起の前記集成体がパターンにおいて配列される、請求項１５に記載のネイルケアシステム。
【請求項１７】
前記表面突起が、傾斜側壁を有する表面突起である、請求項１５に記載のネイルケアシステム。
【請求項１８】
前記表面突起が、垂直壁を有する表面突起である、請求項１５に記載のネイルケアシステム。
【請求項１９】
前記ネイルケア材が艶出剤をさらに含有する、請求項１〜１８のいずれか一項に記載のネイルケアシステム。
【請求項２０】
前記ネイルケア材が約５００ミル以下の厚さを有する、請求項１〜１９のいずれか一項に記載のネイルケアシステム。
【請求項２１】
前記厚さが約３５０ミル以下である、請求項２０に記載のネイルケアシステム。
【請求項２２】
手指の爪、足指の爪、またはそれらの組合せを清浄化する工程と、前記手指の爪、足指の爪、またはそれらの組合せを、液体シリコーン樹脂調合物および砥粒の層を含むネイルケア材でバフ研磨する工程とを含む、手指の爪および足指の爪をバフ研磨する方法。
【請求項２３】
前記液体シリコーン樹脂が二液シリコーンゴムから形成され、一液が架橋剤を含有する、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記ネイルケア材が、前記調合物の全重量に基づいて前記砥粒を少なくとも約３０重量％で含有する、請求項２２または２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記砥粒が窒化物、炭化物、酸化物、およびそれらのブレンドからなる群から選択される、請求項２２〜２４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６】
前記砥粒が炭化物を含有する、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記炭化物が、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化タングステン、炭化チタン、およびそれらの組合せからなる群から選択される、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記炭化物が炭化ケイ素を含有する、請求項２６に記載の方法。
【請求項２９】
前記砥粒が窒化物を含有する、請求項２５に記載の方法。
【請求項３０】
前記窒化物が、立方晶窒化ホウ素、窒化ケイ素、およびそれらの組合せからなる群から選択される、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
前記砥粒が酸化物を含有する、請求項２５に記載の方法。
【請求項３２】
前記酸化物が、シリカ、アルミナ、ジルコニア、ジルコニア／アルミナ酸化物、セリア、二酸化チタン、酸化スズ、酸化鉄、クロミア、およびそれらの組合せからなる群から選択される、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記砥粒が、シリカ、アルミナ、ジルコニア、ジルコニア／アルミナ酸化物、炭化ケイ素、ガーネット、ダイアモンド、立方晶窒化ホウ素、窒化ケイ素、セリア、二酸化チタン、二ホウ化チタン、炭化ホウ素、酸化スズ、炭化タングステン、炭化チタン、酸化鉄、クロミア、フリント、エメリー、およびそれらの任意の組み合わせからなる群から選択される、請求項２２〜２４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３４】
前記砥粒が凝結体の形態である、請求項２２〜３３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３５】
前記ネイルケア材が強化微粒子をさらに含有する、請求項２２〜３４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３６】
前記強化微粒子が、前記調合物の全重量の少なくとも約３重量％の量において含有される、請求項３５に記載の方法。
【請求項３７】
前記強化微粒子がシリカを含有する、請求項３５に記載の方法。
【請求項３８】
前記ネイルケア材が少なくとも約１００％の破断点伸びを有する、請求項２２〜３７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項３９】
前記ネイルケア材が約５００ミル以下の厚さを有する、請求項２２〜３８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４０】
前記厚さが約３５０ミル以下である、請求項３９に記載の方法。
【請求項４１】
前記ネイルケア材が一組の突起を有する主面を備える、請求項２２〜４０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４２】
前記一組の突起がパターンにおいて配列される、請求項４１に記載の方法。
【請求項４３】
前記一組の突起が、傾斜側壁を有する表面突起である、請求項４１に記載の方法。
【請求項４４】
前記一組の突起が、垂直壁を有する表面突起である、請求項４１に記載の方法。
【請求項４５】
前記ネイルケア材が自立式である、請求項２２〜４４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４６】
バフ研磨の前、バフ研磨の間、またはそれらの組合せで溶剤を前記爪に提供する工程をさらに含む、請求項２２〜４５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４７】
前記ネイルケア材が艶出剤をさらに含有する、請求項２２〜４６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項４８】
清浄化剤を前記ネイルケア材に添加して一切の微生物を前記ネイルケア材から除去する工程をさらに含む、請求項２２〜４７のいずれか一項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、一般的には、手指の爪および足指の爪をバフ研磨および艶出しするためのネイルケアシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
手指の爪および足指の爪をケアするとき、自生および人工爪は清浄にされ、やすりで磨かれ、滑らかにされ、艶出しされる。典型的な爪やすりを用いて、手指の爪および足指の爪の表面の末端と上部との両方を滑らかにする。典型的に、サンドペーパーのテキスチャーを有する爪やすりは長くて剛性の細片材である。
【０００３】
市販されている爪やすりは、多数の欠点がある。何度か使用した後、爪やすりは明らかに劣化し、不均一になり、汚れる傾向があり、製品はまだかなりの回数使用できても目障りな外観を示す。さらに、多くの爪やすりは、手指の爪および足指の爪の表面からやすりで削り落される爪の粒子およびバクテリアを捕捉する。したがって、保養施設およびネイルケア施設において、爪やすりは、バクテリアおよび爪の粒子を他の消費者に移す可能性があるため、二人以上の消費者が使用することはできない。
【０００４】
さらに、多くの爪やすりは、剛性である一般に厚いブロックとして構成され、その結果、爪の表面に容易に合致しない。爪やすりの厚さおよび剛性のために、皮膚と手指の爪との間の輪郭領域など、達しにくい領域を滑らかにしようとすると、過度の圧力を爪の表面に加えることになるが、その割にはその領域の磨きはわずかしかできない場合がある。
【０００５】
それ故、改良されたネイルケアシステムが望ましい。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
特定の実施形態において、手指の爪および足指の爪をバフ研磨および艶出しするためのネイルケアシステムが開示される。システムは、液体シリコーン樹脂調合物および砥粒の層を含むネイルケア材を備える。
【０００７】
別の実施形態において、手指の爪および足指の爪をバフ研磨する方法が提供される。方法は、爪を清浄化する工程と、爪をネイルケア材でバフ研磨する工程とを有する。ネイルケア材は、液体シリコーン樹脂調合物および砥粒の層を含む。
【０００８】
本願開示は、添付した図面を参照することによってよりよく理解することができ、その多数の特徴および利点は当業者に明白であろう。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】典型的なネイルケアシステムを示す略図である。
【図２】典型的な構造化ネイルケア材の断面図の説明図である。
【００１０】
異なった図面において同じ参照符号の使用は、同様なまたは同一の品目を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
明細書および請求の範囲において、用語「含める（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」および「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」は広い解釈ができる用語であり、「〜などを含めるがそれらに限定されない（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ，ｂｕｔ  ｎｏｔ  ｌｉｍｉｔｅｄ  ｔｏ．．．．）」を意味すると解釈されるべきである。これらの用語は、より制限的な用語「本質的に〜からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ  ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ  ｏｆ）」および「からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ  ｏｆ）」を包含する。
【００１２】
手指の爪、足指の爪、またはそれらの組合せの表面を処理するために使用可能なネイルケアシステムが提供される。例えば、ネイルケアシステムは、手指の爪および足指の爪をサンディング、清浄化、バフ研磨、および艶出しするためのネイルケア材を備える。典型的な実施形態において、ネイルケア材は、液体シリコーン樹脂および砥粒の層を含む。ネイルケア材は、爪の上面または端面を処理することができる再利用可能な可撓性の細片材である。本明細書中で用いられるとき「爪（Ｎａｉｌ）」は、手指の爪、足指の爪、またはそれらの組合せを指す。
【００１３】
１つの典型的な実施形態において、ネイルケアシステム１００は、商業販売用の商品である。図１は、ネイルケア材１０２とパッケージング１０４とを備えるネイルケアシステム１００を示す。パッケージング１０４は、ネイルケア材１０２のための保持区画１０６を備える。パッケージング１０４は、ネイルケア材１０８の販売伝達事項、タイトルまたは説明およびバーコード１１０もしくは販売価格または販売取引を促進するものの他の表示を備えてもよい。
【００１４】
さらに、ネイルケアシステム１００は、一組の印刷された取扱説明１１２を備えてもよい。印刷された取扱説明１１２は、パッケージング１０４上に印刷されるか、またはパッケージング１０４およびネイルケア材１０２と共に別個のシートとして入れられてもよい。１つの典型的な実施形態において、取扱説明が、ユーザーにネイルケア材１０２を手指の爪または足指の爪の表面上に置くように指示する。別の典型的な実施形態において、取扱説明１１２が、ユーザーに手指の爪および足指の爪をネイルケア材でバフ研磨するように指示する。別の典型的な実施形態において、取扱説明１１２が、ユーザーに手指の爪および足指の爪をネイルケア材で艶出しするように指示する。
【００１５】
ネイルケア材は、表面特徴の層を形成する研磨剤調合物から形成される。実施形態において、ネイルケア材は裏張りがなく（すなわち、構造裏材層を含まない）、その結果、ネイルケア材は自立式である。特に、表面特徴の層を形成する調合物は自立式であり、その結果、層は、研磨性質が消耗される前に構造的劣化がなく使用に耐える。研磨特徴層は、表面突起の集成体を含む。表面突起の集成体はランダムであってもよく、１つの実施形態において、パターンを形成する。さらに、横断面の表面績は、例えば傾斜側壁を有する表面突起（角錐、円錐、角柱等の表面突起）の場合におけるように、ネイルケア材の摩耗の間に変化する（一般に、増加する）ことがあり、または例えば垂直壁を有する突起（矩形、四角形、ロッド等の突起）の場合におけるように、摩耗の間、ほぼ一定の横断面の表面績を有することがある。典型的な実施形態において、ネイルケア材はまた、接着層を含まなくてもよい。
【００１６】
典型的な実施形態において、ネイルケア材は、シリコーン樹脂と砥粒とから形成された研磨特徴層を含む。例えば、シリコーン樹脂は、高稠度シリコーンゴム（ＨＣＲ）または液体シリコーンゴム（ＬＳＲ）から形成されてもよい。実施形態において、高稠度シリコーンゴム（ＨＣＲ）または液体シリコーンゴム（ＬＳＲ）は、強化微粒子をさらに含むことができる。特定の実施例において、シリコーン樹脂はＬＳＲから形成される。一般的には、シリコーンゴム、例えばＬＳＲまたはＨＣＲは、架橋してシリコーン樹脂を形成し、砥粒が分配または分散されてもよい母材を形成する。このような架橋されたシリコーン樹脂は、砥粒のためのバインダーとして役立ち、ネイルケア材の表面に移動するように設定される未架橋シリコーンと対照的である。
【００１７】
また、シリコーン樹脂は、シリコーン油から形成されてもよく、それは一般にヒュームドシリカを含有せずに得られる。典型的な実施形態において、シリコーン油のＡおよびＢ液は、触媒、強化微粒子、例えばヒュームドシリカ、および砥粒とブレンドされ、次いで、硬化されてシリコーン樹脂生成物を形成する。特定の実施形態において、シリコーン樹脂は液体シリコーンゴムであり、そこにおいてＡおよびＢ液が触媒、強化微粒子、例えばヒュームドシリカ、および砥粒とブレンドされ、次いで、硬化されてシリコーン樹脂生成物を形成する。
【００１８】
典型的なシリコーン油またはシリコーンゴムは、官能基が結合してもよいシロキサンポリマー主鎖を含む。実施例において、官能基には、非反応性官能基、例えばハロゲン基、フェニル基、またはアルキル基、もしくはそれらの任意の組み合わせなどが挙げられる。例えば、フルオロシリコーンは、主鎖に結合したフッ素官能基を含んでもよい。別の典型的な実施形態において、シロキサン主鎖は、メチル、エチル、プロピル基、またはそれらの任意の組み合わせに結合していてもよい。さらに、シロキサン主鎖は、架橋を促進するように機能する反応性官能基を含んでもよい。典型的な反応性官能基は、水素化物基、ヒドロキシル基、ビニル基、またはそれらの任意の組み合わせを含む。例えば、シロキサンポリマーには、ポリフルオロシロキサン、ポリフェニルシロキサン、ポリアルキルシロキサン、またはそれらの任意の組み合わせなどが挙げられ、それらはビニル末端などの反応性官能基を有する。特定の実施例において、シリコーン樹脂は、基礎ポリシロキサンとクロスカップリング剤とから形成される。基礎ポリシロキサンは、ジメチルシロキサン、ジエチルシロキサン、ジプロピルシロキサン、メチルエチルシロキサン、メチルプロピルシロキサン、またはそれらの組合せなどの先駆物質から形成されたシリコーンポリマーなどのポリアルキルシロキサンであってもよい。特定の実施形態において、ポリアルキルシロキサンには、ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）などのポリジアルキルシロキサンを含める。例えば、シリコーン樹脂は、第一液がビニル末端またはグラフトポリアルキルシロキサンを含有する液体シリコーンゴム（ＬＳＲ）である。
【００１９】
実施例において、液体シリコーンゴムなどのシリコーン樹脂は、クロスカップリング剤をさらに含有する。実施形態において、クロスカップリング剤は、有機クロスカップリング剤であってもよい。特定の実施例において、クロスカップリング剤は、反応性水素化物官能基を含むシリコーン系クロスカップリング剤である。例えば、架橋剤には、水素化物基またはヒドロキシル基などの反応性官能基に結合したシロキサン主鎖を有するシロキサン系架橋剤が挙げられる。特定の実施形態において、架橋剤はポリヒドロアルキルシロキサンであってもよい。実施形態において、シリコーン樹脂は第二液が架橋剤を含有する液体シリコーンゴムである。
【００２０】
特定の実施形態において、研磨特徴層は、液体シリコーンゴム（ＬＳＲ）を含有する未硬化調合物から形成されてもよい。例えば、未硬化液体シリコーンゴムは、約１０ｓ−１の剪断速度および約２１℃の温度において試験方法ＤＩＮ５３  ０１９を用いて測定された時に約６００，０００ｃｐｓ以下の粘度を有してもよい。例えば、粘度は約４５０，０００ｃｐｓ以下、例えば約４００，０００ｃｐｓ以下であってもよい。典型的に、粘度は少なくとも約５０，０００ｃｐｓ、例えば少なくとも約１００，０００ｃｐｓである。さらなる実施例において、強化微粒子がない時のシリコーン油の粘度は約５ｃｐｓ〜約１６５，０００ｃｐｓであってもよい。
【００２１】
硬化された調合物の場合、硬化する前に様々な硬化剤、触媒、および熱開始剤または光開始剤および増感剤をシリコーン樹脂に添加してもよい。１つの実施例において、調合物は、過酸化物触媒を用いて硬化されてもよい。別の実施例において、調合物は、白金触媒を用いて硬化されてもよい。実施形態において、触媒は、過酸化物触媒と白金触媒との組み合わせであってもよい。特定の実施例において、液体シリコーンゴムの第一液は、触媒および抑制剤をさらに含有する。例えば、シリコーン樹脂は、白金触媒二液液体シリコーンゴム（ＬＳＲ）を含有し、Ａ液がビニル末端またはグラフトポリアルキルシロキサン、触媒および抑制剤を含有し、Ｂ液が、反応性水素化物官能基を含むシリコーン系クロスカップリング剤を含有する。
【００２２】
硬化されたシリコーン樹脂から形成されたシリコーン母材は望ましい機械的性質を示すことができ、その結果、このようなシリコーン樹脂から形成されたネイルケア材は自立式であり、裏張りのないネイルケア材の形成を可能にする。特に、シリコーン樹脂を用いて、研磨性質が消耗される前に構造的劣化がなく使用に耐えるネイルケア材を形成することができる。例えば、砥粒がない時のシリコーン母材は、望ましい破断点伸び、引張強さ、または引張弾性率を示すことができる。例えば、砥粒がない時のシリコーン母材は、ＤＩＮ  ５３  ５０４  Ｓ１を用いて測定された時に少なくとも約５０％、例えば少なくとも約１００％、少なくとも約２００％、少なくとも約３００％、少なくとも約３５０％、少なくとも約４５０％、またはさらに少なくとも約５００％の破断点伸びを示すことができる。砥粒がない時の実施形態において、強化シリカ充填剤を有するシリコーン樹脂は、ＤＩＮ  ５３  ５０４  Ｓ１を用いて測定された時に少なくとも約３５０％、例えば少なくとも約４５０％またはさらに、少なくとも約５００％の破断点伸びを有することができる。別の実施例において、砥粒がない時の硬化されたシリコーン樹脂は、少なくとも約１０ＭＰａの引張強さを有することができる。
【００２３】
調合物は、砥粒をさらに含有する。硬化された調合物の場合、シリコーン樹脂は、硬化する前に砥粒とブレンドされてもよい。典型的に、砥粒をブレンドして、シリコーン樹脂の全体にわたって砥粒の均質混合物を形成する。砥粒は、シリカ、アルミナ（溶融または焼結された）、ジルコニア、ジルコニア／アルミナ酸化物、炭化ケイ素、ガーネット、ダイアモンド、立方晶窒化ホウ素、窒化ケイ素、セリア、二酸化チタン、二ホウ化チタン、炭化ホウ素、酸化スズ、炭化タングステン、炭化チタン、酸化鉄、クロミア、フリント、エメリー、またはそれらの任意の組み合わせなどの砥粒のいずれか一つまたは組み合わせから形成されてもよい。例えば、砥粒は、シリカ、アルミナ、ジルコニア、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素、ガーネット、ダイアモンド、共溶融アルミナジルコニア、セリア、二ホウ化チタン、炭化ホウ素、フリント、エメリー、窒化アルミナ、またはそれらのブレンドからなる群から選択されてもよい。特に、砥粒は、窒化物、酸化物、炭化物、またはそれらの任意の組み合わせからなる群から選択されてもよい。実施例において、窒化物は、立方晶窒化ホウ素、窒化ケイ素、またはそれらの任意の組み合わせからなる群から選択されてもよい。別の実施例において、酸化物は、シリカ、アルミナ、ジルコニア、ジルコニア／アルミナ酸化物、セリア、二酸化チタン、酸化スズ、酸化鉄、クロミア、またはそれらの任意の組み合わせからなる群から選択されてもよい。さらなる実施例において、炭化物は、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化タングステン、炭化チタン、またはそれらの任意の組み合わせからなる群から選択されてもよく、特に、炭化シリコーンを含めてもよい。特定の実施形態は、主にアルファ−アルミナからなる高密度砥粒を使用する。別の特定の実施例において、砥粒は炭化シリコーンを含有する。
【００２４】
また、砥粒は特定の形状を有してもよい。このような形状の例には、ロッド、三角形、角錐、円錐、中実球、中空球等がある。あるいは、砥粒は不規則な形状であってもよい。
【００２５】
砥粒は一般に、２０００ミクロン以下、例えば約１５００ミクロン以下の平均粒度を有する。別の実施例において、砥粒の粒度は、約７５０ミクロン以下、例えば約３５０ミクロン以下である。例えば、砥粒の粒度は、少なくとも０．１ミクロン、例えば約０．１ミクロン〜約１５００ミクロン、より典型的に約０．１ミクロン〜約２００ミクロンまたは約１ミクロン〜約１００ミクロンであってもよい。砥粒の粒度は典型的に、砥粒の最長寸法であると規定される。一般に、或る範囲の粒度の分布がある。いくつかの場合、粒度分布は厳しく制御される。実施形態において、砥粒はさらに砥粒の凝結体を含有する。典型的に、砥粒のタイプおよび砥粒の大きさは、爪の表面の望ましい研磨レベルに応じて選択されてもよい。
【００２６】
典型的な調合物において、砥粒は、調合物の全重量の約１０％〜約９０％、例えば約３０％〜約８０％になる。典型的な実施形態において、調合物は、調合物の全重量に基づいて砥粒を少なくとも約３０重量％で含有する。例えば、調合物は、砥粒を少なくとも約４５重量％、例えば砥粒を少なくとも約５５重量％で含有してもよい。一般的には、調合物は、砥粒を９０重量％以下、例えば砥粒を８５重量％以下で含有する。
【００２７】
典型的な実施形態において、ネイルケア材を形成する調合物は、強化微粒子を含有してもよい。硬化された調合物の場合、任意選択の強化微粒子が典型的には、硬化前に添加される。典型的に、強化微粒子をブレンドして、シリコーン樹脂の全体にわたって強化微粒子の均質混合物を形成する。例えば、強化微粒子がシリコーン樹脂に混入されてもよい。あるいは、強化微粒子は、例えば砥粒を添加する直前に、調合物を調製するのと一緒にシリコーン油に添加されてもよい。典型的な強化微粒子は、シリカ微粒子、アルミナ微粒子、またはそれらの任意の組み合わせを含む。特定の実施例において、強化微粒子は、シリカ、例えばヒュームドシリカを含有する。典型的なシリカ微粒子は、Ｄｅｇｕｓｓａから商品名Ａｅｒｏｓｉｌ、例えばＡｅｒｏｓｉｌＲ８１２Ｓとして、またはＣａｂｏｔ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから例えばＣａｂｏｓｉｌＭ５ヒュームドシリカとして入手可能である。別の典型的な実施形態において、強化シリカが液体シリコーンゴム調合物、例えばＷａｃｋｅｒ  Ｓｉｌｉｃｏｎｅｓから入手可能なＥｌａｓｔｏｓｉｌ３００３調合物に混入されてもよい。実施形態において、強化微粒子は典型的にシリコーン母材中に分散され、典型的に単一分散され、実質的に凝集塊を含有しない。別の実施形態において、強化微粒子は、凝結体および凝集塊としてシリコーン母材中に分散される。
【００２８】
別の典型的な実施形態において、ゾルで形成されたおよびゾル−ゲルで形成されたセラミックなどの溶液系プロセスで形成された強化微粒子は、調合物において使用するために特に適している。適したゾルは市販されている。例えば、コロイドシリカ水溶液は、このような商品名「ＬＵＤＯＸ」（Ｅ．Ｉ．ＤｕＰｏｎｔ  ｄｅ  Ｎｅｍｏｕｒｓ  ａｎｄ  Ｃｏ．，Ｉｎｃ．（Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，Ｄｅｌ．））、「ＮＹＡＣＯＬ」（Ｎｙａｃｏｌ  Ｃｏ．  ，Ａｓｈｌａｎｄ，Ｍａ．）または「ＮＡＬＣＯ」（Ｎａｌｃｏ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．，Ｏａｋ  Ｂｒｏｏｋ，Ｉｌｌ．）として市販されている。多くの市販されているゾルは、塩基性であり、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、または水酸化アンモニウムなどのアルカリによって安定化されている。適したコロイドシリカのさらに別の例は、米国特許第５，１２６，３９４号明細書（参照によって本願に組み込む）に記載されている。特によく適しているのは、ゾルで形成されたシリカおよびゾルで形成されたアルミナである。ゾルは、１つまたは複数の適切な表面処理剤をゾル中の無機酸化物基材粒子と反応させることによって官能化されうる。
【００２９】
特定の実施形態において、強化微粒子はサブミクロンの大きさである。強化微粒子は、約５０ｍ２／ｇ〜約５００ｍ２／ｇの範囲、例えば約１００ｍ２／ｇ〜約４００ｍ２／ｇの範囲内の表面績を有してもよい。強化微粒子は、ナノサイズの微粒子、例えば約３ｎｍ〜約５００ｎｍの平均粒度を有する微粒子であってもよい。典型的な実施形態において、強化微粒子は、約３ｎｍ〜約２００ｎｍ、例えば約３ｎｍ〜約１００ｎｍ、約３ｎｍ〜約５０ｎｍ、約８ｎｍ〜約３０ｎｍ、または約１０ｎｍ〜約２５ｎｍの平均粒度を有する。特定の実施形態において、平均粒度は約５００ｎｍ以下、例えば約２００ｎｍ以下、または約１５０ｎｍ以下である。強化微粒子について、平均粒度は、小角中性子散乱（ＳＡＮＳ）分布曲線においてピーク体積分率に相当する粒度またはＳＡＮＳ分布曲線の０．５累積体積分率に相当する粒度として定義されてもよい。
【００３０】
また、強化微粒子は、平均粒度の約２．０倍以下の半値幅を有する狭い分布曲線を特徴とすることができる。例えば、半値幅は約１．５以下または約１．０以下であってもよい。分布の半値幅は、その最大高さの半分、例えば分布曲線のピークの粒子分率の半分においての分布曲線の幅である。特定の実施形態において、粒度分布曲線は単峰である。別の実施形態において、粒度分布は二峰であるか、または粒度分布において１つより多いピークを有する。
【００３１】
実施例において、強化微粒子は、シリコーン、強化微粒子、および砥粒の総合重量に基づいた量において調合物に含有される。例えば、強化微粒子は、強化微粒子、シリコーン樹脂、および砥粒を含めて、調合物の全重量に基づいて少なくとも約３重量％の量において調合物に含有されてもよい。特に、調合物は、強化微粒子または微粒子を少なくとも約５重量％、例えば強化微粒子を少なくとも約１０重量％、またはさらに強化微粒子を少なくとも約１３重量％で含有してもよい。さらに、調合物は、強化微粒子を約６０重量％以下、例えば強化微粒子を約５０重量％以下で含有してもよい。
【００３２】
一般に、シリコーン樹脂、砥粒、および任意選択の強化微粒子を含有する調合物がネイルケア材の研磨特徴層を形成する。砥粒のタイプおよびいずれかの任意選択の強化微粒子は、爪の表面に望ましい研磨レベルに応じて選択されてもよい。いくつかの実施形態において、ネイルケア材は本質的に、上述の液体シリコーンゴムおよび砥粒からなる。本明細書中で用いられるとき、ネイルケア材に関連して用いられた「本質的に〜からなる（ｃｏｎｓｉｓｔｓ  ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ  ｏｆ）」という語句は、ネイルケア材の基本的および新規な特性に影響を与えるポリマーの存在を排除するが、様々な硬化剤、触媒、および熱開始剤または光開始剤、増感剤、および強化微粒子がネイルケア材において使用されてもよい。
【００３３】
調合物は、層に形成されるとき、調合物から形成されたネイルケア材の性能を有利に強化する機械的性質を示す。特に、調合物は、破断点伸び、硬度、引張弾性率、または引張強さなどの望ましい機械的性質を示すことができる。さらに、ネイルケア材は、例えば、滑かさ、艶、光沢等の爪の表面のために望ましい表面特性を生じる性能について評価されうる。
【００３４】
典型的な実施形態において、調合物は、試験方法ＡＳＴＭＤ４１２または試験方法ＤＩＮ５３  ５０４Ｓ１を用いて測定されたとき、少なくとも約５０％の破断点伸びを示す。特に、破断点伸びは、少なくとも約１００％、例えば少なくとも約１２５％、またはさらに少なくとも約１３５％であってもよい。
【００３５】
また、硬化された調合物は望ましい硬度、例えば、試験方法ＤＩＮ５３  ５０５に基づいて約５０ショアーＡ〜約７５ショアーＤの範囲の硬度を有することができる。例えば、硬度は、約７５ショアーＤ以下、例えば約６０ショアーＤ以下、または約５０ショアーＤ以下であってもよい。硬化された調合物の硬度は、可撓性材料を示す。
【００３６】
別の典型的な実施形態において、調合物は、ＡＳＴＭ  Ｄ４１２に基づいて１００％の歪において約８．０ＭＰａ以下の望ましい引張弾性率を示す。例えば、引張弾性率は、約７．６ＭＰａ以下、例えば約７．５ＭＰａ以下であってもよい。さらに、硬化された調合物は、ＡＳＴＭ  Ｄ４１２に基づいて少なくとも約７．０ＭＰａの望ましい引張強さを有することができる。例えば、硬化された調合物は、少なくとも約７．５ＭＰａ、例えば少なくとも約８．０ＭＰａの引張強さを有することができる。あるいは、調合物は、少なくとも約８ＭＰａ、例えば少なくとも約１４ＭＰａ、またはさらに少なくとも約３０ＭＰａの引張弾性率を示すことができる。特定の調合物は、１００ＭＰａより大きい引張弾性率を示すことができる。
【００３７】
典型的な実施形態において、調合物は、ネイルケア材の研磨特徴層を形成する。図２は、典型的な構造化ネイルケア材２００の説明図を示す。あるいは、調合物は、他の構造化されていない、コートされたネイルケア材または接着されたネイルケア材を形成する時に用いられてもよい。典型的に、構造化されたコートされたネイルケア材は、典型的にパターンに配列された突起表面構造物の集成体を有するコートされたネイルケア材を含む。
【００３８】
工学的研磨物品とも呼ばれる構造化ネイルケア材は、ネイルケア材上にまたはその全体にわたってパターンにおいてまたはランダムな配列においてどちらかで分散的な三次元単位に形成された、バインダー中に分散された複数の砥粒を含有する。実施形態において、これらのネイルケア材は、新しい研磨剤を研削境界面に連続的に暴露して磨り減るように設計されている。
【００３９】
図２に示された典型的なネイルケア材２００は、研磨特徴層２０２を備える。研磨特徴層２０２は突起構造物２０８を備え、それらはパターンにおいて配列されてもよい。図示された実施形態において、突起構造物２０８は、傾斜側面表面を有する突起の場合におけるように、摩耗に応じて増加する接触面積を提供するように構成されている。例えば、構造物２０８は、研磨特徴層２０２の基部から増加した距離によって減少する横断面を有してもよい。典型的に、研磨特徴層２０２は、液体シリコーンゴム調合物、砥粒、および任意選択の強化微粒子を含有する調合物から形成される。特に、砥粒は研磨特徴層２０２の厚さにわたって分散され、その結果、研磨特徴層は自己先鋭化する。本明細書中で用いられるとき「自己先鋭化（Ｓｅｌｆ−ｓｈａｒｐｅｎｉｎｇ）」は、清浄化物品が使用されるときおよび研磨特徴層２０２の厚さが摩耗の間に減少させられるときに研磨特徴層２０２がその研磨特性を維持することを指す。例えば、調合物は、パターン化層に形成され、キュアまたは硬化されて、構造物２０８を有する研磨特徴層２０２を製造することができる。
【００４０】
典型的な実施形態において、研磨特徴層２０２は、裏材または支持層と共に形成されてもよい。裏材は典型的に、研磨特徴層２０２に直接に接着され、直接に接触する。例えば、研磨特徴層２０２は裏材上に押し出されるかまたはカレンダー処理されてもよい。裏材または支持体はポリマーフィルム、ポリマーフォーム、または繊維織物を含有してもよい。特定の実施例において、裏材または支持体は布、紙、またはそれらの任意の組み合わせを含んでもよい。典型的に、裏材または支持層は、砥粒を含有しない非研磨層である。実施形態において、裏材または支持層は一般に、付加的な構造的支持を提供するか、またはそれがなければ研磨特徴層２０２が十分に機能しない機械的性質をネイルケア材に与える。
【００４１】
あるいは、ネイルケア材２００は裏材層を含まなくてもよい。研磨特徴層２０２を形成するために用いられた特定の調合物は望ましい機械的性質を提供し、自立式でありうる。すなわち、研磨特徴層２０２は、使用中または製造の間に裏材層に依存しないように構成されうる。例えば、自立式研磨特徴層２０２は、研磨性質が消耗される前に構造的劣化を起こさずに使用に耐えることができる。特に、調合物中のポリマーの性質は、裏材層のないネイルケア材２００の形成を可能にする場合があり、それは、コーティングプロセスにわたって研磨層を保持すると共に使用中に機械的結着性または可撓性を提供する裏材の使用を一般に必要とする最新技術よりも特定の利点を有する場合がある。特に、研磨特徴層２０２は、下にある支持体または裏材層がなく自立式でありうる。このような下にある支持体または裏材層は、従来より、従来の研磨層の引張特性よりもすぐれている引張特性、例えば強度と可撓性との組み合わせを有する。この特定の実施形態において、ネイルケア材２００は、研磨特徴層２０２の引張特性よりもすぐれた引張特性を有する層を含まない。
【００４２】
研磨特徴層２０２に加えて、ネイルケア材２００が接着層２０４を含んでもよい。実施形態において、接着層２０４が感圧接着剤または硬化された接着剤を含有してもよい。接着剤を用いてネイルケア材を爪清浄具に接着するとき、剥離フィルムが研磨特徴層を被覆して早期接着を防いでもよい。このような剥離フィルムは典型的に、ネイルケア材２００を爪清浄具に付着させる直前に除去される。実施形態において、接着層は感圧接着面などの下面（図示せず）を形成してもよく、研磨特徴層は、研磨上面を形成する表面特徴を有してもよい。特定の実施形態において、接着層は、例えば構造層を介在させずに、研磨特徴層と直接に接触している。
【００４３】
別の典型的な実施形態において、接着剤層２０２は、ファスナーシート２０６に接着してもよい。例えば、ファスナーシート２０６は、フックアンドループ締結システムの１つの構成要素であってもよい。このような締結システムを用いてネイルケア材２００を爪清浄具に結合してもよい。
【００４４】
ネイルケア材２００の構造物２０８はパターンにおいて配列されてもよい。例えば、研磨構造物はグリッドパターンにおいて配列されてもよい。別の典型的な実施形態において、研磨構造物は平行な線において配列されてもよい。あるいは、構造物は不規則に、画定されたパターンをもたずに配列されてもよく、または要素が交互の横列または縦列において互いにずらされてもよい。さらに別の実施例において、構造物は、傾斜側壁を有する分散的な突起であってもよい。別の実施例において、構造物は、略垂直な側壁を有する分散的な突起であってもよい。構造物は、パターンを有する配置において配列されてもよく、または不規則な配置において配列されてもよい。
【００４５】
１つの実施形態において、研磨特徴層から突き出る研磨構造物は、摩耗に応じて接触面積を増加させるように構成される。例えば、研磨構造物は、三角形の横断面を有してもよい。最初の摩耗度によって、接触面積は付加的な摩耗から生じる接触面積よりも小さい。典型的に垂直高さの減少によって、概して水平面から形成された接触面積は増加する。別の典型的な実施形態において、構造物は半円形の横断面を有してもよい。構造物または突起は、規則的な形状または不規則な形状である垂直横断面を有してもよい。規則的な形状である場合、突起は円形または多角形などの水平断面を有してもよい。
【００４６】
図２に戻ると、上述の調合物は、特定の構造化ネイルケア材、特に、支持体または裏材層のない、および薄い構造物を有するネイルケア材を形成する時に特に有用であることがわかった。典型的な実施形態において、研磨特徴層２０２の、アルファベット「ｂ」によって示された全高が約５００ミル以下、例えば約３５０ミル以下、約２００ミル以下、約１００ミル以下、約５０ミル以下、またはさらに約３５ミル以下である。アルファベット「ａ」によって示された研磨構造物２０８は、約２０ミル以下、例えば約１５ミル以下であってもよい。さらに、アルファベット「ｃ」によって示された、研磨構造物２０８を含まない研磨特徴層２０２の幅は約１５ミル以下、例えば約１０ミル以下であってもよい。
【００４７】
ネイルケア材２００は、用途に応じて任意の適当な大きさに切断および造形されてもよい。例えば、ネイルケア材は、四角形、矩形、円形、楕円形、三角形、円筒形、または任意の他の適当な形状として造形されてもよい。さらに、ネイルケア材は、手または任意の適当な爪清浄具に適合するように造形されてもよい。実施形態において、ネイルケア材、用具、またはそれらの組合せは、必要に応じて摩耗性を変化させるように選択されうる。微粒子の実施形態において、ネイルケア材は、清浄化、衛生化、またはそれらの組合せのために用具から取り外されてもよい。さらに、ネイルケア材２００は可撓性を有し、それは手指の爪および足指の爪の形状および輪郭表面を清浄化するために望ましい。例えば、清浄化物品の硬度は、試験方法ＤＩＮ５３５０５に基づいて約５０ショアーＡ〜約７５ショアーＤの範囲である。例えば、硬度は、約７５ショアーＤ以下、例えば約６０ショアーＤ以下、または約５０ショアーＤ以下であってもよい。
【００４８】
特定の実施形態において、手指の爪または足指の爪をバフ研磨する方法が開示される。手指の爪および足指の爪をバフ研磨する典型的な方法が提供される。１つの特定の実施形態において、ネイルケア材を使用して手指の爪および足指の爪の研磨を促進する。方法は、爪を清浄化する工程を有する。実施形態において、爪は、考えられる任意の適当な方法によって清浄化される。例えば、爪は水、例えば水道水、蒸留水、脱イオン水、およびそれらの組合せなどによって清浄化される。さらに、任意の適当なセッケン、洗剤、溶剤、クレンザー等を使用して、ネイル上に存在しうる汚れ、ほこり、マニキュア液、爪の破片等の一切の異物を除去し、自然な、きれいな爪の表面を提供することができる。典型的な溶剤には任意の適当な除光液が挙げられる。実施形態において、溶剤は化学クレンザーを含有する。実施形態において、ネイルケア材は一切の付加的な化学クレンザーを含有しない。特定の実施形態において、ネイルケア材を用いて、手指の爪または足指の爪から一切の爪の破片および異物を落とすことができる。
【００４９】
手指の爪、足指の爪、またはそれらの組合せの表面がネイルケア材でバフ研磨される。表面をバフ研磨することは、拭い、スクラビング等によって爪の表面を研磨して滑らかな爪の表面を提供することを含める。実施形態において、手指の爪または足指の爪は、溶剤を用いてまたは用いずにバフ研磨されてもよい。典型的な溶剤は、爪の表面のバフ研磨を助けることができる。溶剤は、手指の爪または足指の爪をバフ研磨する前、手指の爪または足指の爪の研磨の間に、またはそれらの任意の組み合わせで提供されてもよい。溶剤には水、例えば水道水、蒸留水、脱イオン水、およびそれらの組合せなどが挙げられる。溶剤は、任意の適当な艶出剤、例えばワックス、潤滑剤、緩衝液等、およびそれらの組合せなどをさらに含有してもよい。例えば、艶出剤粉末がネイルケア材と一緒に混入される。典型的な実施形態において、艶出剤粉末は水と反応する。
【００５０】
ネイルケアシステムの実施形態は、自然に伸びた手指の爪および足指の爪に対して有用であるが、清浄化されうる他の表面には、例えば一切の人工爪の表面がある。典型的な実施形態において、人工爪の表面は、爪の破片、異物がなく、一切のマニキュア液を含有しない。
【００５１】
ネイルケア材の特定の実施形態は有利には、使用されるとき、改良された表面特性を示す。例えば、ネイルケア材の特定の実施形態の使用は、手指の爪および足指の爪の荒さおよび光沢の改良を示すことができる。典型的な実施形態において、ネイルケア材は手指の爪および足指の爪の表面にある深い引っ掻きまたは表面きずを残さずに手指の爪および足指の爪をバフ研磨する。特定の実施形態において、このようなネイルケア材は、後続のコーティングプロセスが使用されない場合には有用であり、ネイルケア材によるバフ研磨は、磨き面に防汚または防塵性を与えることができる。別の実施形態において、このようなネイルケア材は、後でネイルが任意の適当なマニキュア液でコートされる場合に有用である。
【００５２】
さらに、ネイルケア材を容易に清浄化し、再利用することができる。特定の実施形態において、ネイルケア材は、水で一切の残りの爪の破片および異物を清浄化される。典型的な実施形態において、ネイルケア材は爪の破片および異物をその構造物内に保持せず、したがって、爪の破片および異物を他の表面に広げない。さらに、ネイルケア材は再利用可能であり、すなわち、ネイルケア材としてのその効率を低下したり失ったりせずに複数回、再利用されうる。例えば、ネイルケア材は、ネイルケア材の可視的な劣化を伴わずに少なくとも約３〜約５回、例えば少なくとも約１０回、またはさらに少なくとも約２０回、使用可能である。実施形態において、任意の適当な清浄化剤をネイルケア材と共に用いて一切の微生物、バクテリア等を死なせるかまたは除去することができる。典型的な清浄化剤にはアルコール、抗細菌剤等がある。例えば、清浄化剤を任意の適当な方法によってネイルケア材に添加して、一切の微生物、バクテリア等を死なせるかまたは除去することができる。実施形態において、ネイルケア材を清浄化剤に浸漬して、一切の微生物、バクテリア等を死なせるかまたは除去する。
【００５３】
ネイルケア材の構造のさらなる詳細は、米国特許出願公開第２００８／００１４８４０Ａ１号明細書（米国特許出願公開第‘８４０号）（参照によって本願に組み込む）に見いだされる。米国特許出願公開第‘８４０号は一般に、ネイルケア材、および同ネイルケア材を混入して手指の爪および足指の爪をバフ研磨する方法の文脈においてではなく、自動車ペイント修復の文脈において利用される研磨構造物に関することが指摘される。
【００５４】
上に開示された主題は実例であり制限的ではないと考えられなければならず、添付した請求項は、全てのかかる変更、改良、および他の実施形態にわたることが意図され、それらは本発明の真の範囲内にある。従って、法律によって許容される最大限まで、本発明の範囲は、以下の請求項およびそれらの等価物の最も広い許容される解釈によって決定されなければならず、前述の詳細な説明によって制限または限定されないものとする。
【図１】
2013514872.tif 000003
【図２】
2013514872.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月20日(2012.6.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体シリコーン樹脂調合物と砥粒との層を含むネイルケア材を含む、手指の爪および足指の爪をバフ研磨および艶出しするためのネイルケアシステム。
【請求項２】
前記液体シリコーン樹脂が二液シリコーンゴムから形成され、一液が架橋剤を含有する、請求項１に記載のネイルケアシステム。
【請求項３】
前記ネイルケア材が、前記調合物の全重量に基づいて前記砥粒を少なくとも約３０重量％で含有する、請求項１〜２のいずれか一項に記載のネイルケアシステム。
【請求項４】
前記砥粒が凝結体の形態である、請求項１に記載のネイルケアシステム。
【請求項５】
前記ネイルケア材が、強化微粒子をさらに含有する、請求項１に記載のネイルケアシステム。
【請求項６】
前記ネイルケア材が主面を有するシートの形態であり、前記主面が表面突起の集成体を有する、請求項１に記載のネイルケアシステム。
【請求項７】
前記ネイルケア材が艶出剤をさらに含有する、請求項１に記載のネイルケアシステム。
【請求項８】
前記ネイルケア材が約５００ミル以下の厚さを有する、請求項１に記載のネイルケアシステム。
【請求項９】
手指の爪、足指の爪、またはそれらの組合せを清浄化する工程と、前記手指の爪、足指の爪、またはそれらの組合せを、液体シリコーン樹脂調合物と砥粒との層を含むネイルケア材でバフ研磨する工程とを含む、手指の爪および足指の爪をバフ研磨する方法。
【請求項１０】
前記液体シリコーン樹脂が二液シリコーンゴムから形成され、一液が架橋剤を含有する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記ネイルケア材が、前記調合物の全重量に基づいて前記砥粒を少なくとも約３０重量％で含有する、請求項９〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
前記砥粒が凝結体の形態である、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
前記ネイルケア材が強化微粒子をさらに含有する、請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
前記ネイルケア材が一組の突起を有する主面を備える、請求項９に記載の方法。
【請求項１５】
清浄化剤を前記ネイルケア材に添加して一切の微生物を前記ネイルケア材から除去する工程をさらに含む、請求項９に記載の方法。
【国際調査報告】
2013514872.tif 000005
2013514872.tif 000006
2013514872.tif 000007