(57)【要約】  本発明のウェハ研磨装置は、ウェハの上面より高い位置に配置される第１回転軸を中心に回転する第１研磨部と、前記ウェハの下面より低い位置に配置される第２回転軸を中心に回転する第２研磨部とを含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハの上面より高い位置に配置される第１回転軸を中心に回転する第１研磨部と、
前記ウェハの下面より低い位置に配置される第２回転軸を中心に回転する第２研磨部と、
を含むウェハ研磨装置。
【請求項２】
前記ウェハの側方に配置される第３回転軸を中心に回転する第３研磨部を含む請求項１に記載のウェハ研磨装置。
【請求項３】
前記第１研磨部、前記第２研磨部及び前記第３研磨部は、前記ウェハのエッジ部と直接接触する請求項２に記載のウェハ研磨装置。
【請求項４】
前記ウェハのエッジ部は、
前記ウェハの上面から延長されるチャンバーＡと、
前記ウェハの下面から延長されるチャンバーＢと、
前記チャンバーＡと前記チャンバーＢとの間に位置するトップと、
を含み、
前記第１研磨部は前記チャンバーＡに直接接触し、
前記第２研磨部は前記チャンバーＢに直接接触し、
前記第３研磨部は前記トップに直接接触する、請求項３に記載のウェハ研磨装置。
【請求項５】
前記第１研磨部、前記第２研磨部及び前記第３研磨部は、ローラ、ディスクまたは円柱形状を有する請求項２に記載のウェハ研磨装置。
【請求項６】
前記第３回転軸は、前記ウェハの上面と前記ウェハの下面との間に位置する請求項２に記載のウェハ研磨装置。
【請求項７】
前記第１研磨部と前記ウェハとの間の間隔を調節する第１間隔調節部を含む請求項１に記載のウェハ研磨装置。
【請求項８】
前記第２研磨部と前記ウェハとの間の間隔を調節する第２間隔調節部を含む請求項１に記載のウェハ研磨装置。
【請求項９】
前記ウェハの上面に対し直交する第４回転軸を中心に前記ウェハが回転し、
前記第１回転軸は、前記第４回転軸と交差する方向に延長され、
前記第２回転軸は、前記第４回転軸と交差する方向に延長される請求項１に記載のウェハ研磨装置。
【請求項１０】
ウェハのエッジ部と直接接触し、第１回転軸を中心に回転する第１研磨部と、
前記ウェハのエッジ部と直接接触し、第２回転軸を中心に回転する第２研磨部と、
を含むウェハエッジの研磨装置。
【請求項１１】
前記ウェハのエッジ部と直接接触し、第３回転軸を中心に回転する第３研磨部を含む請求項１０に記載のウェハエッジの研磨装置。
【請求項１２】
前記第１回転軸は、前記ウェハの上面より高い位置に位置し、
前記第２回転軸は、前記ウェハの下面より低い位置に位置し、
前記第３回転軸は、前記ウェハの上面と前記ウェハの下面との間に位置する請求項１１に記載のウェハエッジの研磨装置。
【請求項１３】
前記第１回転軸は前記ウェハの上面と平行し、
前記第２回転軸は前記ウェハの下面と平行する請求項１０に記載のウェハエッジの研磨装置。
【請求項１４】
前記第１研磨部は前記ウェハの側面上方に配置され、
前記第２研磨部は前記ウェハの側面下方に配置される請求項１０に記載のウェハエッジの研磨装置。
【請求項１５】
前記第３研磨部は前記ウェハの側方に配置される請求項１１に記載のウェハエッジの研磨装置。
【請求項１６】
前記第１研磨部は、
前記第１回転軸を中心に回転する第１研磨ヘッドと、
前記第１研磨ヘッドの外周面に配置される第１研磨パッドと、
を含む請求項１０に記載のウェハエッジの研磨装置。
【請求項１７】
ウェハの一側方に配置される第１研磨部と、
前記第１研磨部に連結される第１シャフトと、
前記第１シャフトを介して前記第１研磨部を回転させる第１回転駆動部と、
を含み、
前記第１研磨部の外周面は、前記ウェハのエッジ部と直接接触するウェハ研磨装置。
【請求項１８】
前記ウェハの他側方に配置される第２研磨部と、
前記第２研磨部に連結される第２シャフトと、
前記第２シャフトを介して前記第２研磨部を回転させる第２回転駆動部と、
を含み、
前記第２研磨部の外周面は、前記ウェハのエッジ部と直接接触する請求項１７に記載のウェハ研磨装置。
【請求項１９】
前記第１研磨部及び前記第１回転駆動部を移動させて、前記第１研磨部と前記ウェハのエッジ部との間の間隔を調節する第１間隔調節部を含む請求項１７に記載のウェハ研磨装置。
【請求項２０】
前記第１研磨部、前記第１回転駆動部及び前記第１間隔調節部を移動させる第２間隔調節部を含む請求項１９に記載のウェハ研磨装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェハ研磨装置（WAFER POLISHING APPARATUS）に関する。
【背景技術】
【０００２】
シリコン単結晶などの半導体素材を原材料としたIC、LSIまたは超LSIなどの電子部品は、シリコンまたはその他の化合物半導体の単結晶インゴットを薄い円盤状にスライスしたウェハに、繊細な電気回路を設置して製造されるものである。インゴットからスライスされたAs-Cutウェハは、ラッピング、エッチング及び研磨工程を経て、少なくともその片面が鏡面加工されて鏡面ウェハに加工される。ウェハは、その後のデバイス工程で、その鏡面加工された表面に微細な電気回路が設置されるが、半導体素子チップに分割されるまでは、ウェハは最初の円盤形状を維持したまま加工され、各加工工程では洗浄、乾燥、返送などが行われる。その間、ウェハの外周側面エッジの形状がカットされたまま、また未加工の粗い状態の面であると、それが各工程において装置やその他の物体と接触して微小破壊されて微細粒子が発生したり、その粗い状態の面の中に汚染粒子が入り込み、その後の工程で散逸などが発生して精密加工を施した面を汚染させてしまい、製品の収率や品質に大きい影響を与える場合が多い。これを防止するために、ウェハ加工の初期段階でエッジ部分を面取り及び鏡面加工(エッジ研磨)などが一般的に行われている。
【０００３】
上述したエッジ研磨は、一般的には回転可能なドラムの表面に、合成樹脂発泡体、不織布、不織布の樹脂加工品、合成皮革、またはこれらの複合品、または合成皮革などからなる研摩器付きの研磨加工機に、工作物である面取り済のシリコンウェハなどのエッジ部分を回転させながら一定の傾斜角度で押付け、コロイダルシリカを主成分とした研磨用組成物溶液を供給しながら、エッジ部分の研磨加工を行っている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、ウェハのエッジ部の形状を効率的に制御できるウェハ研磨装置を提供しようとする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明のウェハ研磨装置は、ウェハの上面より高い位置に配置される第１回転軸を中心に回転する第１研磨部と、前記ウェハの下面より低い位置に配置される第２回転軸を中心に回転する第２研磨部とを含む。
【０００６】
本発明のウェハエッジの研磨装置は、ウェハのエッジ部と直接接触し、第１回転軸を中心に回転する第１研磨部と、前記ウェハのエッジ部と直接接触し、第２回転軸を中心に回転する第２研磨部とを含む。
【０００７】
本発明のウェハ研磨装置は、ウェハの一側方に配置される第１研磨部と、前記第１研磨部に連結される第１シャフトと、前記第１シャフトを介して前記第１研磨部を回転させる第１回転駆動部とを含み、前記第１研磨部の外周面は前記ウェハのエッジ部と直接接触する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によるウェハ研磨装置は、第１研磨部及び第２研磨部を用いてウェハのエッジ部を研磨することができる。特に、第１回転軸ウェハの上面より高い位置に配置されるので、第１研磨部はウェハのエッジ部のチャンバーＡを主に研磨することができる。また、第２回転軸はウェハの下面より低い位置に配置されるので、第２研磨部はウェハのエッジ部のチャンバーＢを主に研磨することができる。
【０００９】
即ち、本発明によるウェハ研磨装置は、チャンバーＡ及びチャンバーＢを同時に研磨することができる。また、本発明によるウェハ研磨装置は、ウェハのエッジ部に配置される第３回転軸を中心に回転する第３研磨部を含むことができる。この時、第３研磨部はウェハのエッジ部のトップを研磨することができる。従って、本発明によるウェハ研磨装置は、チャンバーＡ、チャンバーＢ及びトップを同時に研磨することができる。
【００１０】
また、本発明によるウェハ研磨装置は、第１研磨部、第２研磨部及び第３研磨部を移動させる間隔調節部をさらに含むことができる。これによって、第１研磨部、第２研磨部及び第３研磨部の位置を容易に移動でき、ウェハのエッジ部の形状を容易に調節することができる。
【００１１】
よって、本発明によるウェハ研磨装置は、所望の形状にチャンバーＡ、チャンバーＢ及びトップを同時に研磨することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】実施例に係るウェハエッジ部の研磨装置を示した図面である。
【図２】ウェハのエッジ部を示した断面図である。
【図３】ウェハが研磨される過程を示した平面図である。
【図４】図３のＡ−Ｃ線に沿って切断した断面図である。
【図５】図３のＢ−Ｃ線に沿って切断した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
実施例の説明において、各部、チャック、ウェハ及びパッドなどが、各部、チャック、ウェハ及びパッドなどの「上」または「下」に形成されると記載される場合、その「上」と「下」は「直接」または「他の構成要素を介在して」形成されるものを全部含むものとする。また、各構成要素の上部または下部に対する基準は、図面を基準として説明する。図面における各構成要素の大きさは、説明の便宜を図り誇張して図示される場合があるが、実際適用される大きさを意味するものではない。
【００１４】
図１は、実施例に係るウェハエッジ部の研磨装置を示した図面である。図２は、ウェハのエッジ部を示した断面図である。図３はウェハが研磨される過程を示した平面図である。図４は、図３のＡ−Ｃ線に沿って切断した断面図である。図５は、図３のＢ−Ｃ線に沿って切断した断面図である。
【００１５】
図１ないし図５に示すように、実施例に係るエッジ部１３の研磨装置は、第１研磨ユニット１００、第２研磨ユニット２００、第３研磨ユニット３００、第１間隔調節部４００、第２間隔調節部５００、第３間隔調節部６００及び第４駆動部７００を含む。
【００１６】
図２に示すように、ウェハＷのエッジ部１３は、前記ウェハＷの外周縁部である。前記エッジ部１３は、前記ウェハＷの外周面を含むことができる。前記エッジ部１３は、ラウンド形状を有することができる。即ち、前記ウェハＷのエッジ部１３は、前記ウェハＷの外周縁部のラウンド形状を有する部分である。前記エッジ部１３は、チャンバーＡ１３ａ、チャンバーＢ１３ｂ及びトップ(top)１３ｃを含む。
【００１７】
前記チャンバーＡ１３ａは、前記ウェハＷの上面１１から延長される。即ち、前記チャンバーＡ１３ａは、前記ウェハＷの上面１１と直接連結される。前記チャンバーＡ１３ａは、前記エッジ部１３の上部に位置する。
【００１８】
前記チャンバーＢ１３ｂは、前記ウェハＷの下面１２から延長される。即ち、前記チャンバーＢ１３ｂは、前記ウェハＷの下面１２と直接連結される。前記チャンバーＢ１３ｂは、前記エッジ部１３の下部に位置する。
【００１９】
前記トップ１３ｃは、前記チャンバーＡ１３ａと前記チャンバーＢ１３ｂとの間に位置する。前記トップ１３ｃは、前記チャンバーＡ１３ａ及び前記チャンバーＢ１３ｂと直接連結される。前記トップ１３ｃは、前記チャンバーＡ１３ａから下方に延長されると共に、前記チャンバーＢ１３ｂから上方に延長される部分である。前記トップ１３ｃは、前記エッジ部１３の中間部分に位置する。前記トップ１３ｃは、前記ウェハＷの最外側周縁部からなることができる。
【００２０】
図１、図３及び図４に示すように、前記第１研磨ユニット１００はウェハＷの横に配置される。より具体的には、前記第１研磨ユニット１００は前記ウェハＷの側面上方に配置される。前記第１研磨ユニット１００は、前記ウェハＷのエッジ部１３の上側方部分を研磨することができる。即ち、前記第１研磨ユニット１００はチャンバーＡ１３ａを主に研磨することができる。
【００２１】
前記第１研磨ユニット１００は、第１駆動シャフト１１０、第１研磨部１２０及び第１回転駆動部１３０を含む。
【００２２】
前記第１駆動シャフト１１０は、前記ウェハＷ上に配置される。より具体的には、前記第１駆動シャフト１１０は、前記ウェハＷの側面上方に配置される。前記第１駆動シャフト１１０は、前記ウェハＷの上面１１より高い位置に配置される。即ち、前記第１駆動シャフト１１０は、前記ウェハＷの側方に、前記ウェハＷの上面１１より高い位置に配置される。
【００２３】
前記第１駆動シャフト１１０は第１方向に延長される。この時、前記第１方向は、前記ウェハＷの上面１１が延長される方向に対応する。より具体的には、前記第１方向は、前記ウェハＷの上面１１と相互平行する。
【００２４】
前記第１駆動シャフト１１０は、前記第１回転駆動部１３０の回転力を前記第１研磨部１２０に伝達する。前記第１駆動シャフト１１０は、前記第１研磨部１２０に挿入固定され、前記第１回転駆動部１３０のメイン軸に固定されて回転駆動される。
【００２５】
前記第１研磨部１２０は、前記第１駆動シャフト１１０に連結される。より具体的には、前記第１研磨部１２０は、前記第１駆動シャフト１１０の外周面を囲むことができる。前記第１研磨部１２０は、前記第１駆動シャフト１１０を通じて伝達される回転力によって回転する。
【００２６】
前記第１研磨部１２０は、ローラ形状を有することができる。また、前記第１研磨部１２０は、円柱形状またはディスク形状を有することができる。前記第１研磨部１２０には、前記第１駆動シャフト１１０が挿入されるホールが形成される。
【００２７】
前記第１研磨部１２０は、前記ウェハＷのエッジ部１３と直接接触する。より具体的には、前記第１研磨部１２０の外周面は、前記チャンバーＡ１３ａに直接接触することになる。また、前記第１研磨部１２０は、前記第１駆動シャフト１１０を通じて伝達される回転力によって、前記第１駆動シャフト１１０を回転軸として回転する。
【００２８】
即ち、前記第１研磨部１２０は、第１回転軸Ａ１を中心に回転する。この時、前記第１回転軸Ａ１は、前記第１駆動シャフト１１０に対応する。また、前記第１回転軸Ａ１は、前記ウェハＷの上面１１より高い位置に位置し、前記ウェハＷの上面１１に対して実質的に平行することになる。
これとは違うよう、前記第１回転軸Ａ１は前記ウェハＷの上面１１が延長される方向に対し交差することができる。
【００２９】
これによって、前記第１研磨部１２０は、前記ウェハＷのエッジ部１３を研磨することができる。より具体的には、前記第１研磨部１２０は自己回転によって、前記ウェハＷのチャンバーＡ１３ａを主に研磨することができる。
【００３０】
前記第１研磨部１２０は、第１研磨ヘッド１２１及び第１研磨パッド１２２を含む。
【００３１】
前記第１研磨ヘッド１２１は、前記第１駆動シャフト１１０に連結される。前記第１研磨ヘッド１２１は前記第１回転軸Ａ１を中心に回転する。前記第１研磨ヘッド１２１は、前記第１駆動シャフト１１０と一体で形成することができる。前記第１研磨ヘッド１２１は円柱形状を有することができる。
【００３２】
前記第１研磨パッド１２２は、前記第１研磨ヘッド１２１の外周面に配置される。前記第１研磨パッド１２２は、前記第１研磨ヘッド１２１を囲むことができる。前記第１研磨パッド１２２は、前記ウェハＷのエッジ部１３に直接接触される。前記第１研磨パッド１２２は、不織布及びポリウレタン系樹脂などを含むことができる。
【００３３】
前記第１回転駆動部１３０は、前記第１駆動シャフト１１０を介して前記第１研磨部１２０に回転力を伝達する。前記第１回転駆動部１３０は、回転力を発生させるモータなどを含むことができる。
【００３４】
図１、図３及び図５に示すように、前記第２研磨ユニット２００は、ウェハＷの横に配置される。より具体的には、前記第２研磨ユニット２００は、前記ウェハＷの側面下方に配置される。前記第２研磨ユニット２００は、前記ウェハＷのエッジ部１３の下側方部分を研磨することができる。即ち、前記第２研磨ユニット２００は、前記チャンバーＢ１３ｂを主に研磨することができる。
【００３５】
前記第２研磨ユニット２００は、第２駆動シャフト２１０、第２研磨部２２０及び第２回転駆動部２３０を含む。
【００３６】
前記第２駆動シャフト２１０は、前記ウェハＷの下に配置される。より具体的には、前記第２駆動シャフト２１０は、前記ウェハＷの側面下方に配置される。前記第２駆動シャフト２１０は、前記ウェハＷの下面１２より低い位置に配置される。即ち、前記第２駆動シャフト２１０は前記ウェハＷの側方に、前記ウェハＷの下面１２より低い位置に配置される。
【００３７】
前記第２駆動シャフト２１０は、第２方向に延長される。この時、前記第２方向は、前記ウェハＷの下面１２が延長される方向に対応する。より具体的には、前記第２方向は前記ウェハＷの下面１２と相互平行する。
【００３８】
前記第２駆動シャフト２１０は、前記第２回転駆動部２３０の回転力を前記第２研磨部２２０に伝達する。前記第２駆動シャフト２１０は、前記第２研磨部２２０に挿入固定され、前記第２回転駆動部２３０のメイン軸に固定されて回転駆動される。
【００３９】
前記第２研磨部２２０は、前記第２駆動シャフト２１０に連結される。より具体的には、前記第２研磨部２２０は、前記第２駆動シャフト２１０の外周面を囲むことができる。前記第２研磨部２２０は、前記第２駆動シャフト２１０を通じて伝達される回転力によって回転する。
【００４０】
即ち、前記第２研磨部２２０は第２回転軸Ａ２を中心に回転する。この時、前記第２回転軸Ａ２は前記第２駆動シャフト２１０に対応する。また、前記第２回転軸Ａ２は前記ウェハＷの下面１２より低い位置に位置し、前記ウェハＷの下面１２と実質的に平行することになる。
【００４１】
これとは違うように、前記第２回転軸Ａ２は前記ウェハＷの下面１２が延長される方向と交差することができる。
【００４２】
前記第２研磨部２２０は、ローラ形状を有することができる。また、前記第２研磨部２２０は、円柱形状またはディスク形状を有することができる。前記第２研磨部２２０には、前記第２駆動シャフト２１０が挿入されるホールが形成される。
【００４３】
前記第２研磨部２２０は、前記ウェハＷのエッジ部１３と直接接触する。より具体的には、前記第２研磨部２２０の外周面は、前記チャンバーＢ１３ｂに直接接触する。また、前記第２研磨部２２０は、前記第２駆動シャフト２１０を通じて伝達される回転力によって、前記第２駆動シャフト２１０を回転軸として回転する。
【００４４】
即ち、前記第２研磨部２２０は第２回転軸Ａ２を中心に回転する。この時、前記第２回転軸Ａ２は前記第２駆動シャフト２１０に対応する。また、前記第２回転軸Ａ２は前記ウェハＷの下面１２より低い位置に位置し、前記ウェハＷの下面１２に対し実質的に平行することになる。
【００４５】
これとは違うように、前記第２回転軸Ａ２は前記ウェハＷの下面１２が延長される方向に対し交差することができる。
【００４６】
前記第１研磨部１２０と前記第２研磨部２２０は、相互同じ方向またはそれぞれ異なる方向に回転することができる。また、前記第１研磨部１２０と前記第２研磨部２２０は、時計回り方向または反時計回り方向に回転することができる。
【００４７】
これによって、前記第２研磨部２２０は、前記ウェハＷのエッジ部１３を研磨することができる。より具体的には、前記第２研磨部２２０は自己回転によって、前記ウェハＷのチャンバーＢ１３ｂを主に研磨することができる。
【００４８】
前記第２研磨部２２０は、第２研磨ヘッド２２１及び第２研磨パッド２２２を含む。
【００４９】
前記第２研磨ヘッド２２１は前記第２駆動シャフト２１０に連結される。前記第２研磨ヘッド２２１は前記第２回転軸Ａ２を中心に回転する。前記第２研磨ヘッド２２１は前記第２駆動シャフト２１０と一体で形成することができる。前記第２研磨ヘッド２２１は円柱形状を有することができる。
【００５０】
前記第２研磨パッド２２２は前記第２研磨ヘッド２２１の外周面に配置される。前記第２研磨パッド２２２は前記第２研磨ヘッド２２１を囲むことができる。前記第２研磨パッド１２２は前記ウェハＷのエッジ部１３に直接接触される。前記第２研磨パッド１２２は、不織布及びポリウレタン系樹脂などを含むことができる。
【００５１】
前記第２回転駆動部２３０は、前記第２駆動シャフト２１０を介して前記第２研磨部２２０に回転力を伝達する。前記第２回転駆動部２３００は回転力を生成するためのモータを含むことができる。
【００５２】
図１及び図３〜図５に示すように、前記第３研磨ユニット３００はウェハＷの横に配置される。より具体的には、前記第３研磨ユニット３００は、前記ウェハＷの側方に配置される。前記第３研磨ユニット３００は、前記ウェハＷのエッジ部１３の中央部分を研磨することができる。即ち、前記第３研磨ユニット３００は、前記トップ１３ｃを主に研磨することができる。
【００５３】
前記第３研磨ユニット３００は、第３駆動シャフト３１０、第３研磨部３２０及び第３回転駆動部３３０を含む。
【００５４】
前記第３駆動シャフト３１０は、前記ウェハＷの横に配置される。より具体的には、前記第３駆動シャフト３１０は、前記ウェハＷの側方に配置される。例えば、前記第３駆動シャフト３１０は、前記ウェハＷの上面１１と下面との間の位置に配置される。即ち、前記第３駆動シャフト３１０は、前記ウェハＷの側方に、前記ウェハＷと同じ位置に配置される。例えば、前記第３駆動シャフト３１０の回転軸は、前記ウェハＷの上面１１と下面１２との間の位置される。
【００５５】
前記第３駆動シャフト３１０は、第３方向に延長される。この時、前記第３方向は、前記ウェハＷの上面１１及び下面１２が延長される方向に対応する。より具体的には、前記第３方向は、前記ウェハＷの上面１１及び下面１２と相互平行する。
【００５６】
前記第３駆動シャフト３１０は、前記第３回転駆動部３３０の回転力を前記第３研磨部３２０に伝達する。前記第３駆動シャフト３１０は、前記第３研磨部３２０に挿入固定され、前記第３回転駆動部３３０のメイン軸に固定されて回転駆動される。
【００５７】
前記第３研磨部３２０は、前記第３駆動シャフト３１０に連結される。より具体的には、前記第３研磨部３２０は、前記第３駆動シャフト３１０の外周面を囲むことができる。前記第３研磨部３２０は、前記第３駆動シャフト３１０を通じて伝達される回転力によって回転する。この時、前記第３研磨部３２０の回転軸は、前記ウェハＷの上面１１と前記ウェハＷの下面１２との間に位置する。
【００５８】
前記第３研磨部３２０は、ローラ形状を有することができる。また、前記第３研磨部３２０は、円柱形状またはディスク形状を有することができる。前記第３研磨部３２０には、前記第３駆動シャフト３１０が挿入されるホールが形成される。
【００５９】
前記第３研磨部３２０は、前記ウェハＷのエッジ部１３と直接接触する。より具体的には、前記第３研磨部３２０の外周面は前記トップ１３ｃに直接接触する。また、前記第３研磨部３２０は、前記第３駆動シャフト３１０を通じて伝達される回転力によって、前記第３駆動シャフト３１０を回転軸として回転する。
【００６０】
即ち、前記第３研磨部３２０は第３回転軸Ａ３を中心に回転する。この時、前記第３回転軸Ａ３は前記第３駆動シャフト３１０に対応する。また、前記第３回転軸Ａ３は前記ウェハＷの上面１１及び下面１２との間に位置する。また、前記第３回転軸Ａ３は前記ウェハＷの上面１１及び下面１２に実質的に平行することになる。
これとは違うように、前記第３回転軸Ａ３は前記ウェハＷの上面１１または下面１２が延長される方向に対し交差することができる。
【００６１】
これによって、前記第３研磨部３２０は、前記ウェハＷのエッジ部１３を研磨することができる。より具体的には、前記第３研磨部３２０は自己回転によって、前記ウェハＷのトップ１３ｃを主に研磨することができる。
【００６２】
前記第３研磨部３２０は、第３研磨ヘッド３２１及び第３研磨パッド３２２を含む。
【００６３】
前記第３研磨ヘッド３２１は前記第３駆動シャフト３１０に連結される。前記第３研磨ヘッド３２１は前記第３回転軸Ａ３を中心に回転する。前記第３研磨ヘッド３２１は前記第３駆動シャフト３１０と一体で形成することができる。前記第３研磨ヘッド３２１は円柱形状を有することができる。
【００６４】
前記第３研磨パッド３２２は前記第３研磨ヘッド３２１の外周面に配置される。前記第３研磨パッド３２２は前記第３研磨ヘッド３２１を囲むことができる。前記第３研磨パッド３２２は前記ウェハＷのエッジ部１３に直接接触される。前記第３研磨パッド３２２は、不織布及びポリウレタン系樹脂などを含むことができる。
【００６５】
前記第３回転駆動部３３０は、前記第３駆動シャフト３１０を通じて前記第３研磨部３２０に回転力を伝達する。前記第３回転駆動部３３０は回転力を生成するモータなどを含む。
【００６６】
前記第１間隔調節部４００は、前記第１研磨ユニット１００を上下に移送する。即ち、前記第１間隔調節部４００は、前記第１研磨ユニット１００の位置を上下方向に変化させることができる。前記第１間隔調節部４００は、支持プレート８００に固定される。前記第１間隔調節部４００は、第４回転駆動部４１０及び第１スクリュー４２０を含む。
【００６７】
前記第４回転駆動部４１０は前記支持プレート８００に固定されて、前記第１スクリュー４２０を回転させる。前記第４回転駆動部４１０は、前記第１スクリュー４２０の回転を微細に制御するステッピングモータからなることができる。
【００６８】
前記第１スクリュー４２０は、前記第４回転駆動部４１０の回転力を利用して、前記第１研磨ユニット１００を上下方向に移動させる。例えば、前記第１スクリュー４２０は、前記第１回転駆動部１３０に連結されるナット４０１に挿入され、前記第４回転駆動部４１０の回転力によって前記第１研磨ユニット１００を上下方向に移送する。
【００６９】
また、実施例に係るウェハエッジ部の研磨装置は、前記第１間隔調節部４００によって前記第１研磨ユニット１００が上下方向に移送される時、前記第１研磨ユニット１００をガイドするためのガイドロードまたはガイドレールなどのような第１ガイド部４０２をさらに含むことができる。前記第１ガイド部４０２は前記支持プレート８００に固定される。
【００７０】
前記第２間隔調節部５００は、前記第２研磨ユニット２００を上下に移送する。即ち、前記第２間隔調節部５００は、前記第２研磨ユニット２００の位置を上下方向に変化させることができる。前記第２間隔調節部５００は、前記支持プレート８００に固定される。前記第２間隔調節部５００は、第５回転駆動部５１０及び第２スクリュー５２０を含む。
【００７１】
前記第５回転駆動部５１０は前記支持プレート８００に固定され、前記第２スクリュー５２０を回転させる。前記第５回転駆動部５１０は、前記第２スクリュー５２０の回転を微細に制御するステッピングモータからなることができる。
【００７２】
前記第２スクリュー５２０は、前記第５回転駆動部５１０の回転力を利用して、前記第２研磨ユニット２００を上下方向に移動させる。例えば、前記第２スクリュー５２０は、前記第２回転駆動部２３０に連結されるナット５０１に挿入され、前記第５回転駆動部５１０の回転力によって前記第２研磨ユニット２００を上下方向に移送する。
【００７３】
また、実施例に係るウェハエッジ部の研磨装置は、前記第２間隔調節部５００によって前記第２研磨ユニット２００が上下方向に移送される時、前記第２研磨ユニット２００をガイドするためのガイドロードまたはガイドレールなどのような第２ガイド部５０２をさらに含むことができる。前記第２ガイド部５０２は、前記支持プレート８００に固定される。
【００７４】
前記第３間隔調節部６００は、前記第３研磨ユニット３００を水平方向に移送する。即ち、前記第３間隔調節部６００は、前記第３研磨ユニット３００の位置を水平方向に変化させることができる。即ち、前記第３間隔調節部６００は、前記第３研磨ユニット３００と前記ウェハＷとの間の水平距離を調節することができる。前記第３間隔調節部６００は、第６回転駆動部６１０及び第３スクリュー６２０を含む。
【００７５】
前記第６回転駆動部６１０は、前記第３スクリュー６２０を回転させる。前記第６回転駆動部６１０は、前記第３スクリュー６２０の回転を微細に制御するステッピングモータからなることができる。
【００７６】
前記第３スクリュー６２０は、前記第６回転駆動部６１０の回転力を利用して、前記第３研磨ユニット３００を水平方向に移動させる。例えば、前記第３スクリュー６２０は、前記第３回転駆動部３３０と連結されるナット６０１に挿入され、前記第６回転駆動部６１０の回転力によって前記第３研磨ユニット３００を水平方向に移送する。
【００７７】
また、実施例に係るウェハエッジ部の研磨装置は、前記第３間隔調節部６００によって前記第３研磨ユニット３００が水平方向に移送される時、前記第３研磨ユニット３００をガイドするためのガイドロードまたはガイドレールなどのような第３ガイド部６０２をさらに含むことができる。
【００７８】
また、実施例に係るウェハエッジ部の研磨装置は、前記第３間隔調節部６００を支持、固定するためのフレームなどを含むことができる。
【００７９】
前記第４駆動部７００は、前記支持プレート８００を水平方向に移送する。即ち、前記第４駆動部７００は、前記支持プレート８００の位置を水平方向に変化させることができる。結局、前記第１研磨ユニット１００及び前記第２研磨ユニット２００は、前記第４駆動部７００によって水平方向に移送される。即ち、前記第４駆動部７００は、前記第１研磨ユニット１００と前記ウェハＷとの間の水平距離、及び前記第２研磨ユニット２００と前記ウェハＷとの間の水平距離を調節することができる。前記第４駆動部７００は、第７回転駆動部７１０及び第４スクリュー７２０を含む。
【００８０】
前記第７回転駆動部７１０は、前記第４スクリュー７２０を回転させる。前記第７回転駆動部７１０は、前記第４スクリュー７２０の回転を微細に制御するステッピングモータからなることができる。
【００８１】
前記第４スクリュー７２０は、前記第７回転駆動部７１０の回転力を利用して、前記支持プレート８００を水平方向に移動させる。例えば、前記第４スクリュー７２０は、前記支持プレート８００に連結されるナットに挿入され、前記第７回転駆動部７１０の回転力によって前記支持プレート８００を水平方向に移送する。
【００８２】
また、実施例に係るウェハエッジ部の研磨装置は、前記第４駆動部７００によって前記支持プレート８００が水平方向に移送される時、前記支持プレート８００をガイドするための第４ガイド部(図示されない)をさらに含むことができる。
【００８３】
また、実施例に係るウェハエッジ部の研磨装置は、前記第４駆動部７００を支持、固定するためのフレーム(図示されない)等を含むことができる。
【００８４】
また、実施例に係るウェハエッジ部研磨装置は、前記ウェハＷを支持して前記ウェハＷを回転させるためのウェハ回動部(図示されない)等をさらに含むことができる。前記ウェハ回動部は、前記ウェハＷを真空圧などによって吸着して、第４回転軸を中心に前記ウェハＷを回転させることができる。
【００８５】
この時、前記第１回転軸Ａ１は前記第４回転軸と交差する。より具体的には、前記第１回転軸Ａ１は、前記第４回転軸と実質的に垂直で交差することができる。また、前記第２回転軸Ａ２は前記第４回転軸と交差する。より具体的には、前記第２回転軸Ａ２は、前記第４回転軸と実質的に垂直で交差することができる。また、前記第３回転軸Ａ３は前記第４回転軸と交差する。より具体的には、前記第３回転軸Ａ３は前記第４回転軸と実質的に垂直で交差することができる。
【００８６】
また、実施例に係るウェハエッジ部の研磨装置は、前記ウェハＷにスラリーなどのような研磨液を噴射するスラリー噴射部(図示されない)をさらに含むことができる。この時、前記スラリー噴射部は、前記ウェハＷの上面１１にスラリーを噴射することができる。これとは違うように、前記スラリー噴射部は、前記第１研磨部１２０と前記ウェハＷのエッジ部１３が接触する部分、前記第２研磨部２２０と前記ウェハＷのエッジ部１３が接触する部分、及び前記第３研磨部３２０と前記ウェハＷのエッジ部１３が接触する部分に、直接スラリーを噴射することができる。
【００８７】
前記ウェハＷは自己回転し、前記第１研磨部１２０、前記第２研磨部２２０及び前記第３研磨部３２０も、前記ウェハＷのエッジ部１３に直接接触しながら自己回転する。
【００８８】
これによって、前記ウェハＷのエッジ部１３は、前記第１研磨ユニット１００、前記第２研磨ユニット２００及び前記第３研磨ユニット３００によって研磨される。より具体的には、前記チャンバーＡ１３ａは前記第１研磨部１２０によって、前記チャンバーＢ１３ｂは前記第２研磨部２２０によって、前記トップ１３ｃは前記第３研磨部３２０によって、同時に研磨される。
【００８９】
従って、実施例係るウェハエッジ部の研磨装置は、一度の工程で前記チャンバーＡ１３ａ、前記チャンバーＢ１３ｂ及び前記トップ１３ｃを同時に研磨することができる。よって、実施例に係るウェハエッジ部の研磨装置は、効率的に前記ウェハＷのエッジ部１３を研磨でき、工程時間及び工程費用などを減少させることができる。
【００９０】
また、前記第１研磨ユニット１００は、前記第１間隔調節部４００、前記第４駆動部７００によって上下方向及び水平方向に自在に移送される。これによって、前記第１研磨ユニット１００は、前記ウェハＷのチャンバーＡ１３ａを所望の形状に研磨することができる。
【００９１】
同様に、前記第２研磨ユニット２００は、前記第２間隔調節部５００、前記第４駆動部７００によって上下方向及び水平方向に自在に移送される。これによって、前記第２研磨ユニット２００は、前記ウェハＷのチャンバーＢ１３ｂを所望の形状に研磨することができる。
【００９２】
また、前記第３研磨ユニット３００は、前記第３間隔調節部６００によって水平方向に自在に移送される。これによって、前記第３研磨ユニット３００は、前記ウェハＷのトップ１３ｃを所望の形状に研磨することができる。
【００９３】
よって、実施例に係るウェハエッジ部の研磨装置は、前記ウェハＷのエッジ部１３の形状を所望の形状に制御することができる。
【００９４】
以上のように、実施例に係るウェハエッジ部の研磨装置は、前記ウェハＷのエッジ部１３を効率的に研磨できると共に、前記ウェハＷのエッジ部１３の形状を制御することができる。よって、実施例に係るウェハエッジ部の研磨装置は、工程時間及び工程費用を減少できると共に、高品質のウェハを提供することができる。
【００９５】
以上の実施例で説明された特徴、構造、効果などは、一つの実施例に限定されるものではなく、他の実施例に対して組合または変形して実施可能なことは、当業者にとって自明である。また、このような組合と変形に係る内容も本発明の範囲に含まれるものと解釈されるべきである。
【００９６】
以上、本発明を実施例に基づいて説明したが、これは単なる例示であり、本発明は以上の実施例に限定されるものではなく、本発明の本質的な特性の範囲内で多様な変形と応用が可能であることは、当業者にとって自明である。また、このような変形と応用に係る差異点も、本発明の請求の範囲で規定する実施例の範囲に含まれるものと解釈されるべきである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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