(57)【要約】  被覆システム、特に塗装システムの、オーバースプレーを多く含むブース排気からオーバースプレーを分離する方法において、オーバースプレーは空気流によって取り込まれて静電作業式分離装置（４２；１０４２；２０４２）に搬送される。ここで、固形物の少なくとも大部分は、少なくとも１つの分離面（４６，４８；１０４６，１０４８；２０４６，２０４８；３０４６，３０４８；５０４６，５０４８）上でオーバースプレーから分離される。導電性材料又は材料混合物は分離剤として使用され、分離剤は分離装置（４２；１０４２；２０４２）の少なくとも１つの分離面（４６，４８；１０４６，１０４８；２０４６，２０４８；３０４６，３０４８；５０４６，５０４８）に付与され且つ分離装置（４２；１０４２；２０４２）の作業温度でワックス様の稠度を有する。本発明はさらに、このようなワックス様材料を有する分離装置（４２；１０４２；２０４２）と、物品を被覆するためのシステムとに関する。
2013514160.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被覆システム、特に塗装システムの、オーバースプレーを多く含むブース排気から該オーバースプレーを分離する方法であって、
該オーバースプレーが空気流によって取り込まれて静電作業式分離装置（４２；１０４２；２０４２）に搬送され、ここで、固形物の少なくとも大部分が少なくとも１つの分離面（４６，４８；１０４６，１０４８；２０４６，２０４８；３０４６，３０４８；５０４６，５０４８）上で前記オーバースプレーから分離される、方法において、
導電性材料又は材料混合物が分離剤として使用され、該分離剤が前記分離装置（４２；１０４２；２０４２）の少なくとも１つの分離面（４６，４８；１０４６，１０４８；２０４６，２０４８；３０４６，３０４８；５０４６，５０４８）に付与され且つ前記分離装置（４２；１０４２；２０４２）の作業温度でワックス様の稠度を有することを特徴とする、方法。
【請求項２】
前記分離剤の粘度が、前記作業温度で２０００ｍＰａ・ｓよりも大きく、好ましくは２５００ｍＰａ・ｓよりも大きく、より好ましくは３０００ｍＰａ・ｓよりも大きく、特に好ましくは４０００ｍＰａ・ｓよりも大きいことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記分離剤が、前記作業温度で固形パラフィンの稠度と類似した稠度を有することを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記分離剤が前記作業温度でプラスチック稠度を有することを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項５】
前記分離剤が前記作業温度で混練可能又は展延可能であることを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記作業温度が約２８℃未満であることを特徴とする、請求項１から５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記分離剤の粘度が、前記作業温度よりも高い温度で減少することを特徴とする、請求項１から６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記分離剤が前記分離された固形物に対して実質的に不活性であることを特徴とする、請求項１から７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記分離剤が、グリース、パラフィン、石けん、ワックス、又はゲルを含むことを特徴とする、請求項１から８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの分離面（４６，４８；１０４６，１０４８；２０４６，２０４８；３０４６，３０４８；５０４６，５０４８）上に存在する、分離された固形物を有する分離剤が作業時間後に除去され、空荷の分離剤が前記少なくとも１つの分離面（４６，４８；１０４６，１０４８；２０４６，２０４８；３０４６，３０４８；５０４６，５０４８）に付与されることを特徴とする、請求項１から９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
分離された固形物を有する分離剤の前記除去が剥離エレメント（９２；１０９２；２０９２；３０９２；４０９２；５０９２）によって行われ、このために、前記少なくとも１つの分離面（４６，４８；１０４６，１０４８；２０４６，２０４８；３０４６，３０４８；５０４６，５０４８）と、前記剥離エレメント（９２；１０９２；２０９２；３０９２；４０９２；５０９２）とが互いに対して移動せしめられることを特徴とする、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
空荷の分離剤の前記付与が、前記少なくとも１つの分離面（４６，４８；１０４６，１０４８；２０４６，２０４８；３０４６，３０４８；５０４６，５０４８）を、分離剤で充填された浸漬浴（８８；１０８８；２０８８；３０８８）内に移動させ、再び該浸漬浴から外に移動させることによって行われることを特徴とする、請求項１０又は１１に記載の方法。
【請求項１３】
空荷の分離剤の前記付与が、前記少なくとも１つの分離面（４６，４８；１０４６，１０４８；２０４６，２０４８；３０４６，３０４８；５０４６，５０４８）上に前記分離剤を噴霧又は噴射することによって行われることを特徴とする、請求項１０又は１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記作業時間が、約２時間、約４時間、約６時間、約８時間、約１０時間、約１２時間、又は数日間であることを特徴とする、請求項１０から１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
塗装システムの、オーバースプレーを多く含むブース排気から該オーバースプレーを分離するための分離装置であって、
ａ）  少なくとも１つの分離面（４６，４８；１０４６，１０４８；２０４６，２０４８；３０４６，３０４８；５０４６，５０４８）であって、該少なくとも１つの分離面（４６，４８；１０４６，１０４８；２０４６，２０４８；３０４６，３０４８；５０４６，５０４８）に沿って前記ブース排気が搬送されることができ、高電圧源（５８；１０５８；２０５８）の一方の端子に接続される少なくとも１つの分離面（４６，４８；１０４６，１０４８；２０４６，２０４８；３０４６，３０４８；５０４６，５０４８）と；
ｂ）  電極装置（５６；１０５６；２０５６）であって、空気流中に配置され、前記分離面（４６，４８；１０４６，１０４８；２０４６，２０４８；３０４６，３０４８；５０４６，５０４８）と関連付けられ、且つ前記高電圧源（５８；１０５８；２０５８）の他方の端子に接続される電極装置（５６；１０５６；２０５６）と
を有する分離装置において、
ｃ）  導電性材料又は材料混合物が分離剤として前記少なくとも１つの分離面（４６，４８；１０４６，１０４８；２０４６，２０４８；３０４６，３０４８；５０４６，５０４８）に付与され且つ当該分離装置（４２；１０４２；２０４２）の作業温度でワックス様の稠度を有することを特徴とする、分離装置。
【請求項１６】
前記分離剤の粘度が、前記作業温度で２０００ｍＰａ・ｓよりも大きく、好ましくは２５００ｍＰａ・ｓよりも大きく、より好ましくは３０００ｍＰａ・ｓよりも大きく、特に好ましくは４０００ｍＰａ・ｓよりも大きいことを特徴とする、請求項１５に記載の装置。
【請求項１７】
前記分離剤が、前記作業温度で固形パラフィンの稠度と類似した稠度を有することを特徴とする、請求項１５又は１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記分離剤が前記作業温度でプラスチック稠度を有することを特徴とする、請求項１５又は１６に記載の装置。
【請求項１９】
前記分離剤が前記作業温度で混練可能又は展延可能であることを特徴とする、請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
前記分離剤の粘度が、前記作業温度よりも高い温度で減少することを特徴とする、請求項１５から１９のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２１】
前記分離剤が前記分離された固形物に対して実質的に不活性であることを特徴とする、請求項１５から２０のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２２】
前記分離剤が、グリース、パラフィン、石けん、ワックス、又はゲルを含むことを特徴とする、請求項１５から２１のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２３】
当該分離装置が分離剤再生装置（７２；１０７２；２１１０；３１１８）を含み、該分離剤再生装置（７２；１０７２；２１１０；３１１８）によって、前記少なくとも１つの分離面（４６，４８；１０４６，１０４８；２０４６，２０４８；３０４６，３０４８；５０４６，５０４８）上に存在する、分離された固形物を有する分離剤が除去されることができ、且つ／又は、空荷の分離剤が前記少なくとも１つの分離面（４６，４８；１０４６，１０４８；２０４６，２０４８；３０４６，３０４８；５０４６，５０４８）に付与されることができることを特徴とする、請求項１５から２２のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２４】
前記分離剤再生装置（７２；１０７２；２１１０；３１１８）が少なくとも１つの剥離エレメント（９２；１０９２；２０９２；３０９２；４０９２；５０９２）を含み、該剥離エレメント（９２；１０９２；２０９２；３０９２；４０９２；５０９２）が前記少なくとも１つの分離面（４６，４８；１０４６，１０４８；２０４６，２０４８；３０４６，３０４８；５０４６，５０４８）に対して移動せしめられることができることを特徴とする、請求項２３に記載の装置。
【請求項２５】
前記少なくとも１つの剥離エレメント（５０９２）が線状鎖駆動装置（５１４６）に結合されていることを特徴とする、請求項２４に記載の装置。
【請求項２６】
保持手段（５１７２）が設けられており、該保持手段によって、前記少なくとも１つの剥離エレメント（５０９２）が前記少なくとも１つの分離面（５０４６，５０４８）と少なくとも一時的に接触した状態で保持されることができることを特徴とする、請求項２４又は２５に記載の装置。
【請求項２７】
前記保持手段（５１７２）が、磁石（５１７２）、特に電磁石（５１７２）を含むことを特徴とする、請求項２６に記載の装置。
【請求項２８】
前記少なくとも１つの剥離エレメント（４０９２）が、少なくとも１つの出口（４１３２）、特に出口スロットを含み、該出口（４１３２）から、流体、特に圧縮空気が出ることができることを特徴とする、請求項２４から２７のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２９】
前記分離剤再生装置（７２；１０７２；３１１８）が、分離剤（９０；１０９０；３０９０）で充填された浸漬浴（８８；１０８８；３０８８）と、運搬装置（８０，８２，８４；１１０６；３０８０，３０８２，３０８４）とを含み、該運搬装置（８０，８２，８４；１１０６；３０８０，３０８２，３０８４）によって、前記少なくとも１つの分離面（４６，４８；１０４６，１０４８；３０４６，３０４８）が前記浸漬浴（８８；１０８８；３０８８）内に移動せしめられ且つ再び前記浸漬浴の外に移動せしめられることができることを特徴とする、請求項２３から２８のいずれか１項に記載の装置。
【請求項３０】
前記分離剤再生装置（２１１０）がノズル装置（２１１２）を含み、該ノズル装置（２１１２）によって、前記分離剤が前記少なくとも１つの分離面（２０４６，２０４８）上に噴霧又は噴射されることができることを特徴とする、請求項２３から２９のいずれか１項に記載の装置。
【請求項３１】
前記少なくとも１つの分離面（４６，４８；１０４６，１０４８；２０４６，２０４８；３０４６，３０４８；５０４６，５０４８）が板状の分離エレメント（４４；１０４４；２０４４；３０４４；５０４４）の外面であることを特徴とする、請求項１５から３０のいずれか１項に記載の装置。
【請求項３２】
前記電極装置（５６；１０５６；２０５６）がコロナ部分（６６；１０６６；２０６６）と電界部分（６２；１０６２；２０６２）とを有しており、前記コロナ部分（６６；１０６６；２０６６）が、前記オーバースプレーを多く含むブース空気の流れ方向において前記電界部分（６２；１０６２；２０６２）の上流側に配置されていることを特徴とする、請求項１５から３１のいずれか１項に記載の装置。
【請求項３３】
物体、特に車体を被覆、特に塗装するためのシステムであって、
ａ）  被覆ブース（２；１００２；２２０２）であって、該被覆ブース（２；１００２；２２０２）内では物体（４；１００４；２００４）が被覆材料によって作用されることができ、空気流が、該被覆ブースを通って導かれることができ、結果として生じる前記被覆材料のオーバースプレー粒子を取り込み且つ除去する、被覆ブース（２；１００２；２２０２）と；
ｂ）  静電作業式分離装置（４２；１０４２；２０４２）と
を有するシステムにおいて、
ｃ）  前記静電作業式分離装置（４２；１０４２；２０４２）が、請求項１５から３２のいずれか１項に記載のように構成されていることを特徴とする、システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被覆システム、特に塗装システムの、オーバースプレーを多く含むブース排気からオーバースプレーを分離する方法であって、オーバースプレーが空気流によって取り込まれて静電作業式分離装置に搬送され、ここで、固形物の少なくとも大部分が少なくとも１つの分離面上でオーバースプレーから分離される、方法に関する。
【０００２】
本発明はさらに、塗装システムの、オーバースプレーを多く含むブース排気からオーバースプレーを分離するための分離装置であって、
ａ）  少なくとも１つの分離面であって、少なくとも１つの分離面に沿ってブース排気が搬送されることができ且つ高電圧源の一方の端子に接続される少なくとも１つの分離面と；
ｂ）  電極装置であって、空気流中に配置され、分離面と関連付けられ、且つ高電圧源の他方の端子に接続される電極装置と
を有する分離装置に関する。
【０００３】
本発明はさらに、物体、特に車体を被覆、特に塗装するためのシステムであって、
ａ）  被覆ブースであって、被覆ブース内では物体が被覆材料によって作用されることができ、空気流が、被覆ブースを通って導かれることができ、結果として生じる被覆材料のオーバースプレー粒子を取り込み且つ除去する、被覆ブースと；
ｂ）  静電作業式分離装置と
を有するシステムに関する。
【背景技術】
【０００４】
物体に手動又は自動で塗料を付与するときには、一般に固形物及び／又は結合剤、並びに溶剤の両方を含有する塗料部分流は、その物体には付与されない。この部分流は当業者の間では「オーバースプレー」として知られている。オーバースプレーは、塗装ブース内で空気流によって取り込まれ、且つ、必要ならば、空気が好適なコンディショニング後に被覆ブースに戻されるように分離のために供給されることができる。
【０００５】
具体的には、塗料消費量が比較的高いシステム、例えば車体塗装システムにおいて、例えば湿式分離システムを使用するのが好ましい。商業的に周知の湿式分離器では、上方から到来するブース排気と一緒に水が、空気流を加速させるノズルへ流れる。このようなノズル内では、通流するブース排気が水と一緒に渦流形成される。このような動作中、オーバースプレー粒子は大部分が水中に移るので、湿式分離器を出た空気は実質的に清浄化されており、そして、塗料オーバースプレー粒子は分離されて水中に残る。次いでこれらの粒子を水から回収するか又は廃棄することができる。
【０００６】
周知の湿式分離器では、極めて大量の所要の水を循環させるために比較的多量のエネルギーが必要である。洗浄水の処理は、塗料結合化学物質及び脱粘着化学物質を多量に使用すること、及び塗料スラッジを廃棄することに起因して高いコストがかかる。さらに洗浄水と強力に接触する結果、空気は大量の湿分を吸収する。この湿分は再循環空気モードでは、空気の処理のためのエネルギー消費量を高くする。
【０００７】
対照的に、冒頭で述べたタイプの商業的に周知の装置において、乾式分離プロセスが用いられ、この乾式分離プロセスは、流過するブース排気によって同伴される塗料オーバースプレー粒子が電極装置によってイオン化され、そして分離面と電極装置との間に確立された電界に起因して分離面に移動し、この分離面上でこれらの塗料オーバースプレー粒子が分離されることによって行われる。その後、分離面に付着した塗料オーバースプレー粒子を、分離面から機械的に剥離し、例えば搬出することができる。
【０００８】
このような分離装置の清浄化効果は極めて良好である。しかしながら、連続的な作業のためには、分離面と電極装置との間に十分に強い電界が形成され得るのを常に保証することが必要であり、このことは、分離面上の塗料オーバースプレーのある程度の層厚までしか可能ではない。なぜならば、このような層は絶縁効果を有するからである。とはいえ、塗料オーバースプレーを分離面から連続的に除去することは、複雑な構造手段を伴い、故障を招きやすくなる。さらに、オーバースプレーは、分離面上で反応し、硬化し、又は乾燥して、分離面から剥離されることによってはもはや単純に除去されなくなるおそれがある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
従って本発明の目的は、これらの問題点に対処する、冒頭で述べたタイプの方法、分離装置、及びシステムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
この目的は、冒頭で述べたタイプの方法において、導電性材料又は材料混合物が分離剤として使用され、分離剤が分離装置の少なくとも１つの分離面に付与され且つ分離装置の作業温度でワックス様の稠度を有することにより達成される。
【００１１】
従って本発明によれば、分離面とオーバースプレーとの間の分離層としてワックス様材料が使用されるので、オーバースプレーは分離面と接触することができない。分離剤の規定された性質は、分離面から分離剤を容易に剥離し又は削り取ることができることを意味する。この場合、分離剤に付着したオーバースプレーは、分離面から除去され、且つ、廃棄のため、又は必要な場合には処理のために供給されることができる。
【００１２】
分離剤の稠度は、分離剤が所望の使用期間にわたって分離面に付着するが粘着はしないように選択される。ここで、作業温度における材料の粘度が約２０００ｍＰａ・ｓよりも大きい場合、その材料はワックス様であると考えられる。分離剤の粘度は、好ましくは２５００ｍＰａ・ｓよりも大きく、より好ましくは３０００ｍＰａ・ｓよりも大きく、特に好ましくは４０００ｍＰａ・ｓよりも大きい。
【００１３】
分離剤の稠度は好ましくは作業温度で固形パラフィンの稠度に匹敵する。例えばチョコレートの塊も同様の稠度を有している。このことは、分離剤が作業温度で実質的に固形であり且つ分離剤を削ってフレーク状にすることが可能なことを意味する。
【００１４】
分離剤は或いは、作業温度でプラスチック稠度を有している。例えば、好適な稠度は、グリース、パラフィン（例えばワセリン）、石けん、ワックス、又はゲルの稠度に匹敵する。このようなタイプの分離剤は作業温度で混練可能又は展延可能である。
【００１５】
作業温度は通常は約２８℃未満である。
【００１６】
分離剤の粘度が作業温度よりも高い温度で減少するならば、このことは、より高温の状態においてより液状の形態で分離剤を分離面に付与するために利用することができる。この場合、分離剤は、作業温度で粘度が高くなり、そして実質的に寸法安定であり続ける。分離剤がより高温の状態で展延可能であるならば、分離剤は噴霧によって相応に付与されることができる。
【００１７】
分離剤が、分離された固形物に対して実質的に不活性であることが好ましい。このことは、分離剤とオーバースプレーとの間の望ましくない反応を最初から防止する。
【００１８】
分離剤が、グリース、パラフィン、石けん、ワックス、又はゲルを含むならば好都合であることが判っている。
【００１９】
オーバースプレーの連続的な剥離を回避することを目的にするのであれば、ワックス様材料を分離剤として使用すると、少なくとも１つの分離面上に存在する、分離された固形物を有する分離剤が作業時間後に除去され、空荷の分離剤（unladen separating agent）が少なくとも１つの分離面に付与されることが可能である。従って、分離面は所定の時間間隔で清浄化されることができる。
【００２０】
分離された固形物を有する分離剤が剥離エレメントによって除去され、このために、少なくとも１つの分離面と、剥離エレメントとが互いに対して移動せしめられることが有利である。この場合、分離面は、静止した剥離エレメントに対して移動せしめられることが好ましい。しかし、相対的な移動は逆に行われてもよい。
【００２１】
少なくとも１つの剥離エレメントが少なくとも１つの出口、特に出口スロットを含み、出口から、流体、特に圧縮空気が出ることができるならば、剥離エレメントと分離面との直接の接触を回避することが可能である。このことは、時間とともに増大する剥離エレメントの汚染を少なくとも遅らせる。
【００２２】
空荷の分離剤は、少なくとも１つの分離面を、分離剤で充填された浸漬浴内に移動させ、再び浸漬浴から外に移動させることにより、特に有利に付与される。この場合、分離剤は、その粘度が作業温度における粘度よりも低くなるような温度であることが好ましい。
【００２３】
或いは、分離剤は少なくとも１つの分離面上に噴霧又は噴射されることもできる。
【００２４】
作業時間は約２時間、約４時間、約６時間、約８時間、約１０時間、又は約１２時間であることが可能である。分離剤がオーバースプレーをさほど含んでいない場合、数日間までのより長い作業時間も、オーバースプレーの絶縁効果が力線の形成に影響を及ぼして分離装置の適正な作業がもはやできなくなることがない限り可能である。コロナ電流はここでは、分離面に対するオーバースプレーの負荷の指標である。分離剤に付着するオーバースプレーの絶縁効果は、オーバースプレー層の厚さが増大するにつれて、コロナ電流を減少させる。コロナ電流の限界値は、一般に実験的に定められ、通常、高電圧電極当たり数ミリアンペアである。
【００２５】
冒頭で述べたタイプの装置において、上述の目的は、
ｃ）  導電性材料又は材料混合物が分離剤として少なくとも１つの分離面に付与され且つ分離装置の作業温度でワックス様の稠度を有する
ことにより達成される。
【００２６】
上記方法に関して述べたことが分離剤に当てはまる。
【００２７】
装置は有利には、分離装置が分離剤再生装置を含み、分離剤再生装置によって、少なくとも１つの分離面上に存在する、分離された固形物を有する分離剤が除去されることができ、且つ／又は、空荷の分離剤が少なくとも１つの分離面に付与されることができる。
【００２８】
ここで、分離剤再生装置が少なくとも１つの剥離エレメントを含み、剥離エレメントは少なくとも１つの分離面に対して移動せしめられることができることが好ましい。これは、剥離エレメントを静止した分離面に対して移動させることができること、又は分離面を静止した剥離エレメントに対して移動させることができることを意味する。
【００２９】
ここで、少なくとも１つの剥離エレメントが線状鎖駆動装置に結合されていることは有利である。
【００３０】
保持手段が設けられており、保持手段によって、少なくとも１つの剥離エレメントが少なくとも１つの分離面と少なくとも一時的に接触した状態で保持されることができると、剥離効果は有利に増大する。
【００３１】
保持手段が、磁石、特に電磁石を含むことがここでは好ましいことが判っている。
【００３２】
分離剤再生装置が、分離剤で充填された浸漬浴と、運搬装置とを含み、運搬装置によって、少なくとも１つの分離面が浸漬浴内に移動せしめられ且つ再び浸漬浴の外に移動せしめられることができることは特に有利である。
【００３３】
或いは、分離剤再生装置はノズル装置を含み、ノズル装置によって、分離剤は少なくとも１つの分離面上に噴霧又は噴射されることもできる。
【００３４】
少なくとも１つの分離面が板状の分離エレメントの外面であることが好ましい。このタイプの分離エレメントは取り扱いが簡単であり且つその体積に対して大きい分離面を提供する。
【００３５】
電極装置がコロナ部分と電界部分とを有しており、コロナ部分が、オーバースプレーを多く含むブース空気の流れ方向において電界部分の上流側に配置されていると、効果的な分離が達成されることができる。
【００３６】
冒頭で述べたシステムにおいて、上記目的は、
ｃ）  静電作業式分離装置が、請求項１５から３２までのいずれか１項に記載のように構成されている
ことによって達成される。
【００３７】
従って、本発明によるシステムは、装置に関して述べた特徴のうちの１つ以上を有する分離装置を含む。これにより達成することができる利点は、方法及び装置に関して上述した利点に相当する。
【００３８】
図面を参照しながら、本発明の模範実施態様をより詳細に以下に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】図１は、オーバースプレー分離装置の第１模範実施態様を有する表面処理システムの塗装ブースを示す正面図である。
【図２】図２は、図１の分離装置の４つの分離ユニット及び４つの電極装置を示す斜視図である。
【図３】図３Ａ〜３Ｄは、分離剤再生装置を種々異なる作業段階で、図１の断面線ＩＩＩ−ＩＩＩに沿って示す断面図である。
【図４】図４は、変更されたオーバースプレー分離装置を有する塗装ブースを第２模範実施態様として示す、図１に対応する図である。
【図５】図５は、再び変更されたオーバースプレー分離装置を有する塗装ブースを第３模範実施態様として示す、図１及び４に対応する図である。
【図６】図６Ａ〜６Ｄは、変更された分離剤再生装置を種々異なる作業段階で示す、図３Ａ〜３Ｄに対応する断面図である。
【図７】図７Ａ〜７Ｃは、変更された分離剤再生装置を種々異なる作業段階で示す、図３Ａ〜３Ｄに対応する断面図である。
【図８】図８は、剥離装置の剥離エレメントの区分を拡大して示す斜視図であり、前記剥離エレメントは圧縮空気ノズルとして形成されている。
【図９】図９は、図１０の断面線ＩＸ−ＩＸに沿って示す剥離装置を示す断面図である。
【図１０】図１０は、図９の剥離装置を示す側面図である。
【図１１】図１１は、図９及び１０の剥離装置を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
最初に図１〜３を参照する。これらの図面では、符号２は表面処理システムの塗装ブースを全体的に示している。この塗装ブース内では車体４が、これらが例えば、塗装ブース２内の上流側に配置された前処理ステーション（具体的には示さない）内で清浄化されて脱脂された後で、塗装される。塗装ブース２は、それ自体は周知の鋼構造６に設けられている。
【００４１】
塗装ブース２は塗装トンネル８を含んでいる。塗装トンネル８は頂部に配置されており、鉛直方向の側壁１０と、水平方向のブース天井１２とによって仕切られているが、しかし端面で底部に向かって開いているので。オーバースプレーを多く含むブース排気は下方に向かって流れることができる。ブース天井１２は、フィルタ・カバーを有する空気供給チャンバ（図示せず）の下側の仕切りとして、従来の態様において構成されている。
【００４２】
側壁１０の下縁部を側方に有する、塗装トンネル８の下側開口１４の高さには、鋼構造１６が配置されている。鋼構造１６はコンベア・システム１８を支持しており、コンベア・システムはそれ自体周知であり、ここでさらに詳しく説明することはしない。コンベア・システムを使用して、塗装されるべき車体４を塗装トンネル８の入口側から出口側へ搬送することができる。それ自体周知の形式で塗料によって車体４に作用することができる付与装置（具体的には図示しない）が、塗装トンネル８内部に位置している。塗装トンネル８の下側開口１４は、アクセス可能な格子（具体的には図示しない）によって覆われている。
【００４３】
ブース空気によって同伴されたオーバースプレー粒子がブース空気から分離されるシステム領域２０が、塗装ブース２の下方に位置している。システム領域２０はハウジングによって仕切られている。ハウジングは具体的な符号が付けられておらず、図１において破線として示されているにすぎない。
【００４４】
システム領域２０は流動領域２２を含んでいる。流動領域２２は、頂部で塗装ブース２に向かって開いており、２つの空気偏向板２４及び２６によって形成されている。図１の左側の空気偏向板は、外方から内方へ向かって見て、先ず下方に向かって軽く傾斜した区分２４ａを有している。この区分２４ａは、下方に向いた急勾配を有する部分２４ｂに移行する。図１の右側の空気偏向板２６はこれに対応して、比較的僅かな下方勾配を有する部分２６ａと、急勾配の部分２６ｂとを有している。
【００４５】
空気偏向板２４及び２６は下方に向かって偏向領域２８内に延びている。偏向領域２８内では、下側偏向板３０と、空気偏向板２６から続く湾曲部分３２とが、頂部から底部に向かって流れるブース空気が底部から図１の右側に配置された分離チャンバ３４を通って頂部に向かって流れることを保証する。
【００４６】
分離流体は、空気偏向板２４及び２６に側方に隣接して設けられた分配通路３６ａ，３６ｂから、空気偏向板２４及び２６上に流れ、そして下方に向かって、塗装ブース２に向いた外面に沿って、実質的に凝集した層を成して流れる。分離流体は、ブース空気によって同伴されたオーバースプレーのいくらかを取り込み、一方、ブース空気は塗装ブース２から偏向領域２８へ下方に向かって流れる。
【００４７】
オーバースプレーを多く含む分離流体は、下側偏向板３０を介して捕集タンク３８内に流入する。捕集タンク３８は、空気偏向板２４の、分離チャンバ３４から遠い側に配置されている。そこから分離流体を清浄化・処理プロセスに供給することができる。この清浄化・処理プロセスにおいて、それ自体周知の形式で、分離流体から塗料オーバースプレーが取り除かれる。その後、分離流体を循環して分配通路３６に戻すことができる。
【００４８】
静電作業式分離装置４２の分離ユニット４０は分離チャンバ３４内に配置されている。ブース空気は分離ユニット４０を通流した後、分離ユニット４０の上方から空気コンディショニング装置（図示せず）に搬送される。空気コンディショニング装置によって、清浄化済空気は正確な温度及び湿度に戻されるので、清浄化済空気を塗装ブース２の上方の空気供給チャンバに再び導くことができ、ここで清浄化済空気は必要な場合には未使用の新鮮な空気と混合される。捕集タンク３８から遠い側では、第３の分配通路３６ｃが下側偏向板３０に設けられており、この第３の分配通路３６ｃから、分離流体が、分離ユニット４０の下方に延びる下側偏向板３０の部分の上を流れる。
【００４９】
分離ユニット４０は、分離チャンバ３４の長手方向に連続して配置された複数の方形の分離板４４（これらのうち４つが図２に示されている）を含む。分離板４４のそれぞれの対向する外面は分離面４６及び４８を形成する。最も左側に示された分離板４４の分離面だけに、図２において符号が付けられている。
【００５０】
分離板４４の上縁部は各側に複数のローラ５０を支持している。これらのローラのうち１つを両側に図２においてのみ見ることができ、またこの場合も図面の最も左側に示された分離板４４のローラだけが符号を有している。それぞれの分離板４４に対して、分離ユニット４０は、Ｃ字形断面を有する輪郭として形成されたそれぞれのガイドレール５２を含んでいる。ガイドレール５２は水平方向に、そして「Ｃ」の先端の開口が下方に向くように配置されている。分離板４４は、これらのローラ５０と一緒にそれぞれのガイドレール５２内を走行し、図１の右側に向かって分離チャンバ３４から分離剤再生領域５４内に移動せしめられることができる（図１参照）。分離板４４は作業位置では、関連するガイドレール５２内で分離チャンバ３４内に配置され、この分離チャンバ内でロックされる。
【００５１】
分離ユニット４０内で、ガイドレール５２は互いに平行に相並んで配置されて、２つの隣接する分離板４４がこれらの間にそれぞれの電極装置５６を受容するのを可能にするのに十分なそれぞれの間隔が、２つの隣接する分離板４４の間に残されるようになっている。これらの電極装置のうち、図２の最も右側に示された電極装置だけに符号が付けられている。
【００５２】
各電極装置５６は、これと関連する高電圧源５８の一方の端子に接続されている。これらの高電圧源５８のうち１つだけが図１に概略的に示されている。分離板４４は高電圧源５８の他方の端子を介して接地電位にある。
【００５３】
変更形において、全ての電極装置５６は、ただ１つの共通の高電圧源によって給電されることもできる。
【００５４】
各電極装置５６は、線状に互いに平行に延びる２つの電極ストリップ６０ａ，６０ｂを有している。これらの電極ストリップは、電極装置５６の電界部分６２内にグリッド電極６４を保持する。グリッド電極の、電極ストリップ６０ａ，６０ｂ間に延びる縁部は電極ストリップ６０ａ，６０ｂに対して垂直である。電極装置５６のコロナ部分６６内で、電極ストリップ６０ａ，６０ｂは、放電電極として作用する複数のコロナ・ワイヤ６８を保持している。コロナ・ワイヤ６８は、電極ストリップ６０ａ，６０ｂによって規定された平面内に電極ストリップ６０ａ，６０ｂに対して垂直に延びており、互いに同一の間隔を置いて配置されている。
【００５５】
電極装置５６のコロナ・ワイヤ６８の数及び相互の間隔は、オーバースプレー粒子の分離挙動に応じて変化することができる。この模範実施態様では、１つの電極装置５６当たり、４つのコロナ・ワイヤ６８が設けられている。
【００５６】
図１及び２に示されているように、電極装置５６は全体として、分離ユニット４０の分離板４４の延在長さにほぼ相当する延在長さを有している。
【００５７】
各分離板の両分離面４６及び４８には、導電性ワックス様材料又は材料混合物から成るそれぞれの層７０が設けられている。導電性ワックス様材料又は材料混合物は、分離剤として作用し、分離されたオーバースプレーが分離板４４の分離面４６，４８上に堆積するのを防止する。層７０はそれぞれ０．２ｍｍ〜２ｍｍ厚である。実際には１ｍｍ厚の層７０が好都合であることが判っている。
【００５８】
ワックス様材料という用語はここでは、分離装置３８の作業温度でプラスチック稠度（plastic consistency）を有する材料を表すために使用される。分離剤は好ましくは作業温度で混練可能又は展延可能である。ワックス様材料は従って、分離装置３８の作業温度で比較的柔軟ではあるものの、実質的に寸法安定であることが望ましく、また、流動挙動を、これが存在するとしても、極めて制限された状態でのみ呈することが望ましい。分離装置３８の作業温度は、一般に２８℃未満であるが、用途に応じてこれよりも高くてもよい。
【００５９】
ここで、粘度が作業温度を上回る温度でさらに減少し且つ作業温度のときよりも作業温度を上回る温度において低い材料が選択される。
【００６０】
実際には、例えばグリース、特にパラフィン、石けん、ワックス、及びゲルが、分離剤として有用であることが判っている。パラフィンとしては、ワセリンを用いて良好な結果を達成することが可能である。ワックスは、天然源からも合成的にも製造されることができ、いくつかの機械物理特性に従って定義されることができる。ワックスという用語は具体的にはここでは、分離装置４０の作業温度で混練可能であり、より高い温度で分解することなしに溶融し、溶融点を僅かに上回ると粘度が低くなり、すなわち僅かに液状になる材料を表すために使用される。
【００６１】
分離剤の導電率は、本質的に電荷が流れることができるようになっており、好ましくは５０〜５０００μＳ／ｃｍ、特に１０００〜３０００μＳ／ｃｍである。必要な場合には、分離剤の導電率は、添加される物質、例えば塩で調節されることができる。
【００６２】
分離ユニット４０に加えて、分離装置４２は分離剤再生装置７２を有している。分離剤再生装置７２は分離剤再生領域５４内に配置されている（図１参照）。
【００６３】
分離剤再生装置７２はキャリッジ７４を含んでいる。キャリッジ７４はレール対７６上を動くことができる。レール対７６は塗装ブース２の長手方向に延びているので、キャリッジ７４は分離ユニット４０全体に沿って移動することができる。キャリッジ７４はモータ／制御ユニット７８によって駆動される。モータ／制御ユニット７８は同時に、伸縮装置８０を操作するのにも役立ち、伸縮装置８０はキャリッジ７４によって一緒に運ばれる。伸縮装置８０によって、水平方向に延びるレールプロファイル（rail profile）８２を鉛直方向に昇降させることができる。このことは、対応する複矢印によって図１に示されている。レールプロファイル８２は断面が分離ユニット４０のガイドレール５２に対応する。伸縮装置８０は、キャリッジ７４の、分離ユニット４０から遠い側に配置されている。
【００６４】
図１の複矢印によって示されているように、レールプロファイル８２内で締め付けシュー８４が移動可能に案内されている。締め付けシュー８４もモータ／制御ユニット７８によって制御される。キャリッジ７４はさらに浸漬浴８８を支持する。浸漬浴８８は、加熱装置８６によって加熱されることができ、分離剤９０で充填されている。浸漬浴８８内の分離剤９０は、分離板４４が分離剤９０中に浸漬されることによって被覆されるのを可能にする粘度を有するときの温度まで加熱される。キャリッジ７４の運動方向に対して水平方向及び垂直方向に延びる、浸漬浴８８の縁部は、剥離装置９４の剥離エレメント９２を支持している（図３に断面が示されている）。これらの剥離エレメント９２は縁部に対して長手方向に延びている。剥離エレメント９２は浸漬浴８８のそれぞれの縁部に旋回可能に設けられており、剥離エレメントの上側剥離縁部９６は互いに向かう方向及び互いに離れる方向に剥離位置と解放位置との間で移動することができる。剥離位置では、剥離縁部９６間に、分離板４４の厚さに相当する間隔が維持される。
【００６５】
レール対７６の下方には、循環式連続コンベア・ベルト９８が設けられる。この循環式連続コンベア・ベルト９８も、塗装ブース２の長手方向に延びており、そして捕集領域（詳細には図示されていない）に至っている。
【００６６】
上記塗装ブース２は以下のように機能する：
塗装トンネル８内で車体４を塗装すると、そこに位置するブース空気には、塗料オーバースプレー粒子が多く含まれる。これらの粒子はまだ液状且つ／又は粘着性であり、又は、これらは多かれ少なかれ固形であることもある。塗料オーバースプレーを多く含むブース排気は、塗装トンネル８の下側開口１４を通って、下側システム領域２０の第１の流動領域２２内に流入する。この空気は、空気偏向板２４，２６によって偏向領域２８に導かれる。オーバースプレーのいくらかは、空気偏向板２４，２６上に流れ落ちた分離流体によって既に取り込まれている。ブース空気は、偏向領域２８を通って分離装置の分離ユニット４０の方向に偏向される。分離ユニット４０において、ブース空気は、隣接する分離板４４間を通流する。
【００６７】
電極装置５６のコロナ・ワイヤ６８で、それ自体周知の形式でコロナ放電が行われる。その結果、流過するブース排気中のオーバースプレー粒子が効果的にイオン化される。
【００６８】
イオン化されたオーバースプレー粒子は、接地電位にある分離板４４と、電極装置５６の電界区分６２内の、分離板４４間に延びるグリッド電極６４とを通過する。グリッド電極６４と分離板４４との間に電界が形成される結果として、イオン化されたオーバースプレー粒子は、分離板４４上の分離剤層７０上に分離し、そして大部分が分離剤層７０に付着したままとなる。
【００６９】
分離板４４から下方に向かって滴下しうるオーバースプレーは、下側偏向板３０上を流れる分離流体によって取り込まれ、そして捕集タンク３８に導かれる。
【００７０】
イオン化されたオーバースプレー粒子のほとんどは、電極装置５６のコロナ部分６６内で、分離板４４上に既に分離されている。しかしながら、コロナ・ワイヤ６８と、分離ユニット４０のそれぞれの分離板４４との間に存在する電界は、グリッド電極６４の領域内の電界よりも不均質である。それゆえ、イオン化されたオーバースプレー粒子の指向性のより高い分離が、対応する分離板４４で行われる。結果として、コロナ部分６６を通過したオーバースプレー粒子は電界部分６２内で効果的に分離される。
【００７１】
上述のように、分離ユニット４０を通流するにつれて清浄化される空気は、所定のコンディショニング後、塗料トンネル８に戻される。
【００７２】
分離ユニット４０の正確な作業のために、分離板４４と電極装置５６との間に十分に強力な電界を形成し得ることを保証することが必要である。このことは、分離面上の分離済み塗料オーバースプレーのある程度の層厚までしか可能ではない。なぜならば、このような層は絶縁効果を有するからである。蓄積されたオーバースプレー層の絶縁効果の強さは、対応するコロナ電流を発生させる分離ユニット４０の所要電流によって定められることができる。コロナ電流は時間とともに減少する。
【００７３】
さらに、分離されたオーバースプレーに由来する固形粒子及び結合剤成分が、分離剤層７０の表面から分離剤中に移動する。所定の作業時間後、固形粒子が分離面４６，４８まで移動してそこに堆積するおそれがある。このことは、分離ユニット４０の機能能力に実質的な悪影響を及ぼし、高いコストのかかる清浄化及びメンテナンスを必要とすることになる。
【００７４】
従って、分離されたオーバースプレーの絶縁効果があまりにも大きく、且つ／又は、分離ユニットの完全な作業を保証することがもはやできない場合、目下オーバースプレーが付着している分離剤層７０が分離板４４から除去され、そして分離板４４の分離面４６，４８には、新しい未使用の分離剤が施される。
【００７５】
これを目的として、分離剤再生装置７２の伸縮装置８０に設けられたレールプロファイル８２が、清浄化されるべき分離板４４のガイドレール５２と整合させられる位置にもたらされる。この目的のために、一方ではキャリッジ７４がレール対７６上の対応する位置に動かされ、他方では伸縮装置８０が相応に伸長させられる。
【００７６】
締め付けシュー８４が、レールプロファイル８２内で、前方に向かって分離板４４の方向に動かされ、その場所で分離板と係合する。ガイドレール５２内の分離板４４の上述のロック状態は解放される。締め付けシューは今や再び伸縮装置８０の方向に戻され、分離板４４を引っ張って進む。レールプロファイル８２と対応するガイドレール５２との間の間隔は、分離板４４がそのローラ５０上で、容易にガイドレール５２から進出してレールプロファイル８２内に進入すべく十分に小さい。
【００７７】
分離板４４は、レールプロファイル８２内で、剥離装置９４を有する浸漬浴８８の上方にある位置に動かされる。分離板４４のこのような位置は図１において破線によって示されている。
【００７８】
剥離装置９４の剥離エレメント９２は剥離位置にもたらされ、分離板４４は伸縮装置８０によって、浸漬浴８８内の加熱された分離剤９０中に浸漬される。このことは図３Ａに示されている。
【００７９】
この図に見ることができるように、分離板４４は下方に向かう行程において、剥離エレメント９２の傍らを移動する。結果として、分離板４４に付着している分離剤層７０は、分離剤層上に分離されたオーバースプレー１００とともに、分離板４４から剥離され、そしてコンベア・ベルト９８上に落下する。このことは図３Ａ〜３Ｄには示されていない。
【００８０】
上述のように、オーバースプレーとともに分離板４４から落下した分離剤は、コンベア・ベルト９８によって捕集領域に搬送される。その場所から、分離剤は処理のために供給される。これを目的として、材料混合物を加熱することができ、例えば分離剤を液状にすることができる。結果として得られた、液化された分離剤とオーバースプレーとの材料混合物は次いで例えば適宜のフィルタによって除去されることができる。
【００８１】
代替的に、分離剤／オーバースプレー混合物を場合によっては加圧下で遠心分離することもでき、そして結果として得られた相をその後、互いに分離することができる。こうして清浄化された分離剤は次いで、対応する熱供給によって流動可能な状態に保たれ、循環させて浸漬浴８８に戻るように案内されることができる。濾過により除去されたオーバースプレーは、それ自体周知のように、必要な場合には更なる処理のために、又は廃棄のために供給されることができる。
【００８２】
図１において破線によって示された最も下側の位置で、分離板４４からは今や、オーバースプレー１００が付着した使用済み分離剤層７０が取り除かれ、そして分離板４４は浸漬浴８８内の分離剤９０中に浸漬される。
【００８３】
剥離エレメント９２は今や解放位置にもたらされる（図３Ｂ及び３Ｃ参照）。
【００８４】
伸縮装置８０をここで使用して分離板４４を再び上昇させ、そしてこれを分離剤９０から進出させる（図３Ｄ参照）。分離板４４に付着した分離剤は、浸漬浴よりも低温の環境下で素早く冷めるので、この分離剤は、分離剤浴を出たときにはその作業粘度にあり、そして分離板４４が浸漬浴８８から完全に進出したときには、新しい分離剤層７０として分離板４４に付着している。
【００８５】
新しい空荷の分離剤層７０を今や施された分離板４４は、伸縮装置８０を相応に伸長させ、そして締め付けシュー８４を分離ユニット４０の方向に動かすことによって、分離板と関連する分離ユニット４０のガイドレール５２内に戻される。分離板４４はそのガイドレール５２の作業位置を占めると、そこでロックされ、締め付けシュー８４が分離板４４を解放する。次いで、この動作を、オーバースプレーが付着した分離剤を取り除かなければならない別の分離板４４で繰り返すことができる。
【００８６】
変更形では、分離剤再生装置は複数の浸漬浴８８と、レールプロファイル８２を備えた複数の伸縮装置８０とを含んでいるので、複数の分離板４４を同時に処理することができる。
【００８７】
第２の模範実施態様として、図４は、分離装置１０４２が関連付けられる塗装ブース１００２を示している。図１〜３に対応する構成部分は同じ符号の数字に１０００を足したものを有している。
【００８８】
塗装ブース２とは異なり、下側システム領域１０２０内に偏向領域はない。代わりに、空気偏向板１０２４及び１０２６によって形成された流動領域１０２２に続いて、分離ユニット１０４０が配置された分離チャンバ１０３４が配置されている。下側ブース開口１０１４はここでは空気偏向板１０２４及び１０２６の上端部の間に延びている。これらの空気偏向板１０２４及び１０２６は次いで、下方に分離チャンバ１０３４に向かって互いに離れる方向に延びている。
【００８９】
下側ブース開口１０１４は分離シート１１０２を側方に有する。これらの分離シート１１０２は、外側に向かって軽く下向きに傾斜しており、その外側は、捕集通路１１０２ａを形成するように成形されている。分配通路１０３６から分離シート１１０２へ分離流体を供給することができる。これらの分配通路１０３６は、空気偏向板１０２４及び１０２６に隣接して配置されている。
【００９０】
この模範実施態様の場合、ブース空気は頂部から底部へ分離ユニット１０４０を通って流れる。それゆえ電極装置１０５６は、コロナ部分１０６６が頂部にあり、そして電界部分１０６２が底部にあるように相応に配置されている。
【００９１】
分離板１０４４は水平方向のガイドレール内で案内されるのではなく、保持ユニット１１０４内に取り外し可能に懸架される。保持ユニット１１０４は、空気偏向板１０２４及び１０２６の下端部の下方に短い距離を置いて配置されている。保持ユニット１１０４は、分離板１０４４を任意に保持又は解放するように制御されることができる。
【００９２】
図１及び３に示された分離剤再生装置７２とは異なり、分離剤再生装置７２は伸縮装置を含まない。その代わりに、水平方向の回転軸線を中心として回転可能な被駆動締め付けローラ対１１０６が、分離板１０４４を昇降させるために設けられている。締め付けローラ対１１０６は、分離板１０４４の縁部領域を搬送位置において、対向する分離面１０４６，１０４８上で締め付け、そして相応の方向に回転することによってこれらの分離板を昇降させることができる。側方のガイドレール１１０１が、分離板１０４４が横方向で案内されるのを保証する。
【００９３】
或いは、分離板１０４４の縁部領域には例えば付加的に溝を形成するか又は切欠きを設けることができ、そして締め付けローラ対１１０６の代わりに溝又は切欠き内に係合するピニオンを使用して、分離板１０４４の搬送をフィルムの搬送と同様に行うことも可能である。この場合には、分離板１０４４が鉛直方向のガイドレール１１０１なしで横方向に案内されるのを保証することもできる。
【００９４】
キャリッジ１０７４を塗装ブース１００２の長手方向に動かすときに、締め付けローラ対１１０６が妨害しないようにするために、締め付けローラ対１１０６をさらに水平方向において側方に分離ユニット１０４０と並ぶように動かすこともできる。
【００９５】
従って、分離板１００４が清浄化される必要がある場合には、締め付けローラ対１１０６は搬送位置に動かされ、分離板１０４４は保持ユニット１１０４から解放され、そして締め付けローラ対１１０６の相応の回転によって、下方に向かって浸漬浴１０８８内に動かされる。剥離エレメント１０９２はここで剥離位置を占める。
【００９６】
その他の点では、分離板１０４４は、図１〜３を参照しながら上述した手順と同様に、清浄化され、そして新たに分離剤で被覆される。
【００９７】
第３の模範実施態様として、図５には、分離装置２０４２が関連付けられる塗装ブース２００２が示されている。図１〜３に対応する構成部分は同じ符号の数字に２０００を足したものを有している。
【００９８】
基本構造は、図１に示された塗装ブース２に相当する。しかしこれとは異なり、分離剤再生領域２０５４は、分離ユニット２０４０の上方に配置されている。これを目的として、分離ユニット２０４０の上方の右側及び左側に、それぞれ水平方向レール２１０８が設けられており、この水平方向レール２１０８は、変更された分離剤再生装置２１１０を支持して、この分離剤再生装置が塗装ブース２００２の長手方向に移動できるようになっている。
【００９９】
分離剤再生装置２１１０は、剥離エレメント２０９２を有する下方に向いた剥離装置２０９４を含んでいる。剥離エレメント２０９２のうちの１つだけを図５において見ることができる。これらの剥離エッジ（図５には示されていない）は下方に向いている。さらに、複数のノズル２１１４を含むノズル装置２１１２が設けられている。これらのノズルは破線で描かれた円として示されており、貫通スロットの両側に配置されている。この貫通スロットを通して分離板２０４４を案内することができる。図５では、ノズルのうちの１つだけに符号が付けられている。
【０１００】
分離板２０４４を昇降させるために、剥離装置２０９２の下方に配置された２つの締め付けローラ対２１０６ａと、ノズル装置２１１２の上方に配置された２つの締め付けローラ対２１０６ｂとが設けられているので、下側締め付けローラ対２１０６ａから上側締め付けローラ対２１０６ｂへ且つその逆に分離板を移すことができる。ここでは下側締め付けローラ対２１０６ａの下方に保持ユニット２１０４が配置されている。
【０１０１】
清浄化されるべき分離板２０４４を昇降させるために、分離剤再生装置２１１０は先ず分離板２０４４の上方の位置に移される。分離板２０４４は次いで、下側締め付けローラ対２１０６ａによって把持され、そして保持ユニット２１０４が分離板２０４４を解放した後に上方に向かって搬送される。剥離エレメント２０９２はここで剥離位置を占めるので、オーバースプレーが付着した分離剤は分離板２０４４から剥離されてコンベア・ベルト２０９８上に落下する。
【０１０２】
分離板２０４４から分離剤が取り除かれた後、分離板は下方に戻される。このときノズル装置２１１２が作動させられる。ノズル２１１４は、加熱可能な分離剤リザーバ２１１６から分離剤を供給され、分離剤を分離板２０４４の両分離面２０４６，２０４８上に噴霧又は噴射する。必要な場合には、ノズル２１１４を加熱することにより、分離剤を、噴霧又は噴射することのできる温度に保つこともできる。
【０１０３】
ここで具体的には図示されていない変更形において、ノズル装置２１１２の代わりに、ローラ装置又はドクタ・ブレード装置（doctor-blade arrangement）が設けられており、これらの装置によって、ローラ又はドクタ・ブレードにより分離板２０４４に分離剤を付与することができる。
【０１０４】
相応のローラ装置の場合、例えばその都度分離剤浴内に浸かるそれぞれの回転ローラが、分離板２０４４のそれぞれの側に配置されることが可能である。分離板２０４４はこれらの回転ローラの間に押し通される。回転ローラは、分離面２０４６及び２０４８が分離剤で均一に湿潤されるように配置されている。
【０１０５】
相応のドクタ・ブレード装置の場合、分離剤は好ましくは、ドクタ・ブレードによってペースト状に分離面２０４６及び２０４８に付与される。
【０１０６】
作業時間、つまりその作業時間にわたって、新たに分離剤で被覆された分離板４４，１０４４，２０４４を使用することができ、そしてその作業時間後に、分離された固形物を有する既存の分離剤が除去され、そして空荷の分離剤が分離板４４，１０４４，２０４４に付与されるような作業時間は、とりわけ、オーバースプレーの挙動に依存する。実際には２時間、４時間、６時間、８時間、１０時間、１２時間、又は数日間の作業時間が可能であることが判っている。
【０１０７】
図６Ａ〜６Ｄ及び図７Ａ〜７Ｃは、分離剤再生装置７２の変更形としての分離剤再生装置３１１８を示している。これらの図面において、分離剤再生装置７２の構成部分に相当する構成部分は、同じ符号の数字に３０００を足したものを有している。図示の分離板３０４４の分離面３０４６及び３０４８は、図６Ａにおいてのみ符号が付けられている。
【０１０８】
分離剤再生装置３１１８において、浸漬浴３０８８及び剥離装置３０９４は、塗装ブース２の長手方向で見て連続してキャリッジ３０７４上に配置されている。これを目的として、キャリッジ３０７４は分離剤再生装置７２のキャリッジ７４よりも相応に大きい寸法を有している。
【０１０９】
剥離装置３０９４は分離剤及びオーバースプレーのための受容領域３１２０を含んでいる。受容領域３１２０は剥離エレメント３０９２の下方に配置されており、保護ボックス３１２２を形成する４つの側壁３１２４によって仕切られている。保護ボックス３１２２は頂部及び底部で開いている。
【０１１０】
キャリッジ３０７２はさらに貫通口３１２６を有している。この貫通口３１２６は、保護ボックス３１２２の内側断面を補完する。
【０１１１】
伸縮装置３０８０は位置決めキャリッジ３１２８上に位置している。位置決めキャリッジ３１２８はキャリッジ３０７４上で、キャリッジの運動方向に対して平行に動くことができる。位置決めキャリッジ３１２８は、図６及び７において概略的に破線で示されているにすぎない。
【０１１２】
分離剤再生装置３１１８において、分離板３０４４は、レールプロファイル３０８２内で、剥離装置３０９４を備えた保護ボックス３１２２の上方にある位置に移動される。これを目的として、位置決めキャリッジ３１２８はキャリッジ３０７４上の相応の位置に動かされる。
【０１１３】
剥離装置３０９４の剥離エレメント３０９２は先ず解放位置にある。伸縮装置３０８０を使用して、分離板３０４４を、下方に向かって保護ボックス３１２２内の剥離エレメント３０９２の間に、剥離エレメント３０９２が分離剤層３０７０又はこれに付着したオーバースプレー３１００と接触することなしに動かす。このことは図６Ａに示されている。
【０１１４】
分離板３０４４がその最も低い位置を占めると（図６Ｂに示されている）、剥離エレメント３０９２は剥離位置にもたらされる。
【０１１５】
分離板３０４４は次いで、伸縮装置３０８０によって上方に向かって戻され、そしてその上方へ向かう行程で、剥離エレメント３０９２の傍らを移動する。剥離エレメントは今や、それらの剥離エッジ３０９６が分離板３０４４に当て付けられた状態にある。分離板３０４４に付着した分離剤層３０７０は、これらに付着したオーバースプレー３１００と一緒に、こうして分離板３０４４から剥離され、そして保護ボックス３１２２と、キャリッジ３０７４に設けられた貫通口３１２６とを通して、図６Ａ〜６Ｄには示されていないコンベア・ベルト９８，１０９８，２０９８上に落下する。このことは材料片３１３０によって示されている（図６Ｃ及び６Ｄ参照）。
【０１１６】
使用済み分離剤層３０７０及びこれに付着したオーバースプレー３１００が取り除かれた分離板３０４４は今や剥離装置３０９４の上方の最も高い位置に位置している。
【０１１７】
位置決めキャリッジ３１２８は次いで、分離板３０４４が浸漬浴３０８８の上方に配置されるような位置に動かされる（図６Ｄ及び７Ａ参照）。分離板３０４４は先ず、伸縮装置３０８０によって、分離剤３０９０を含有する浸漬浴３０８８内に浸漬され（図７Ｂ参照）、次いでこれから戻される（図７Ｃ参照）。
【０１１８】
すでに上述したように、分離板３０４４に付着した分離剤は、浸漬浴よりも低温の環境下で素早く冷めるので、分離剤浴を出たときにはその作業粘度にあり、そして分離板３０４４が浸漬浴３０８８から完全に進出したときには、新しい分離剤層３０７０として分離板３０４４に付着している。
【０１１９】
図８は、図１及び図３〜７に示された剥離装置９４，１０９４，２０９４及び３０９４の代わりとして用いることができる変更形としての剥離エレメント４０９２を示している。
【０１２０】
剥離エレメント４０９２は、剥離縁部４０９６に沿って延びる空気出口スロット４１３２を含んでいる。この空気出口スロット４１３２は圧縮空気接続物４１３４と連通している。この圧縮空気接続物４１３４によって剥離エレメント４０９２に圧縮空気源４１３６から圧縮空気を供給することができる。圧縮空気は次いで空気出口スロット４１３２から放出される。このことは図８の矢印によって示されている。この圧縮空気は、分離剤が、加熱された圧縮空気と接触するとより液状になるような温度に、任意に加熱されることができる。
【０１２１】
このようなタイプの剥離エレメント４０９２が、オーバースプレーを多く含む分離剤層を剥離するために使用されるならば、剥離縁部４０９６は、それぞれの分離板４４，１０４４，２０４４又は３０４４ともはや機械的に接触する必要はなくなる。その代わりに、空気出口スロット４１３２を有するそれぞれの剥離縁部４０９６と分離板４４，１０４４，２０４４又は３０４４との間には所定の間隔が残されてもよい。オーバースプレーを多く含む分離剤層はいわば、発生した空気流によって分離板４４，１０４４，２０４４又は３０４４から吹き飛ばされる。残された間隔は、分離剤及びオーバースプレーと直接に接触する剥離エレメント９２，１０９２，２０９２，又は３０９２と比較して、剥離エレメント４０９２の汚染が低減されることを可能にする。
【０１２２】
分離板４４，１０４４，２０４４又は３０４４から、オーバースプレーを多く含む分離剤層を除去するための別の選択肢は、分離剤を加熱によって変化させて分離剤がそれぞれの分離板４４，１０４４，２０４４又は３０４４からオーバースプレーとともに流れ去る液体状態にすることにある。このことは、剥離エレメント９２，１０９２，２０９２，３０９２又は４０９２の代わりに、又はこれに加えて、例えば加熱エレメント又はＩＲ線への曝露を利用することによって行うことができる。分離板４４，１０４４，２０４４又は３０４４の誘導加熱も考えられる。
【０１２３】
図９〜１１において、剥離装置の更なる模範実施態様が符号５０９４によって示されている。上記剥離装置９４，１０９４，２０９４及び３０９４では、分離板４４，１０４４，２０４４及び３０４４が、それぞれ定置の剥離エレメント９２，１０９２，２０９２及び３０９２に対して動かされるのに対して、剥離装置５０９４では、関連する剥離エレメント５０９２ａ，５０９２ｂが、清浄化されるべき分離板５０４４に対して頂部から底部に動かされる。
【０１２４】
図１〜３に示された分離剤再生装置７２を参照しながら、以下に剥離装置５０９４について説明する。しかしながら、分離剤再生装置７２は、剥離装置１０９４，２０９４及び３０９４の代わりに、分離剤再生装置１０７２，２１１０又は３１１８において相応に使用されることもできる。便宜上、分離剤再生装置７２のレールプロファイル８２だけが図９及び１０に示されている。
【０１２５】
剥離装置５０９４は支持フレーム５１３８を含んでいる。支持フレーム５１３８はキャリッジ７４によって一緒に運ばれ、レールプロファイル８２の最も高い位置の上方に静止して配置されている。
【０１２６】
支持フレーム５１３８は、支持フレーム５１３８の組立状態においてレールプロファイル８２の長手方向軸線を通って延びる鉛直方向平面に対して対称的である。支持フレーム５１３８は、この平面に対して垂直に延びる２つの外側横方向ビーム５１４０を含んでいる。これらの横方向ビーム５１４０の間に、２つの外側長手方向ビーム５１４２ａ，５１４２ｂ及び２つの内側連結ビーム５１４４が延びている。このことは図１１において特に明らかに示されている。
【０１２７】
長手方向ビーム５１４２ａ，５１４２ｂは、２つの剥離エレメント５０９２ａ，５０９２ｂのそれぞれ１つに対してそれぞれ１つの上昇／下降装置５１４６ａ，５１４６ｂを支持している。各上昇／下降装置５１４６ａ，５１４６ｂは、長手方向ビーム５１４２に対して平行に延びる回転軸５１５０ａ，５１５０ｂを駆動する。回転軸５１５０ａ，５１５０ｂはそれぞれの端部で、それぞれの駆動ブロック５１５２ａ，５１５２ｂ内に延びている。駆動ブロック５１５２ａ，５１５２ｂはそれぞれの線状鎖５１５４ａ，５１５４ｂを動かす。上昇／下降装置５１４６ａは従って２つの線状鎖５１５４ａを有しており、そして上昇／下降装置５１４６ｂは従って２つの線状鎖５１５４ｂを有している。上昇／下降装置５１４６ａ，５１４６ｂはこうして、剥離エレメント５０９２ａ，５０９２ｂのための線状鎖駆動装置を形成する。
【０１２８】
駆動ブロック５１５２ａ，５１５２ｂが回転軸５１５０ａ，５１５０ｂの回転運動を周知の形式で線状鎖５１５４ａ，５１５４ｂに伝達するので、これらの線状鎖は、回転軸５１５０ａ，５１５０ｂの回転方向に従って駆動される。線状鎖５１５４ａ，５１５４ｂは、力を引張り方向及び押し出し方向の両方に伝達できるように周知の形式で構成されている。
【０１２９】
２つの線状鎖５１５４ａのそれぞれは一方の端部で支持フレーム５１３８に連結され且つ他方の端部で剥離エレメント５０９２ａに連結されている。相応に、２つの線状鎖５１５４ｂのそれぞれは一方の端部で支持フレーム５１３８に連結され且つ他方の端部で剥離エレメント５０９２ｂに連結されている。
【０１３０】
上昇／下降装置５１４６ａの駆動ブロック５１５２ａは、長手方向ビーム５１４２ａ上において、長手方向ビーム５１４２ｂ上の駆動ブロック５１５２ｂ同士よりも、互いに近接して配置されているので、線状鎖５１５４ａ及び５１５４ｂは、横方向ビーム５１４０の方向で見て互いにずらされた状態で延びている。このことは図１１において特に明らかに示されている。
【０１３１】
線状鎖５１５４ａ，５１５４ｂは、支持フレーム５１３８の上方の駆動ブロック５１５２ａ，５１５２ｂからそれぞれ鉛直方向下向きに、アイドル・ローラ（idle roller）５１５６ａ，５１５６ｂを介して、それぞれ関連する剥離エレメント５０９２ａ及び５０９２ｂに向かって走行する。
【０１３２】
剥離エレメント５０９２ａ及び５０９２ｂは、同一の構造を有しており、以下、図９において右側に示された剥離エレメント５０９２ｂの例を用いて説明される。剥離エレメント５０９２ａと５０９２ｂとの間に配置された分離板５０４４が基準として用いられる。
【０１３３】
剥離エレメント５０９２ｂは剥離シート５１５８を含んでおり、剥離シート５１５８は、使用時には水平方向に延び、そして分離板５０４４を両側で超えて張り出すのに十分に長い。剥離シート５１５８は、分離板５０４４に向かって所定の角度を成して下向きに延びる固定用部分５１６０を含み、そして傾斜がより少ない縁部分５１６２に移行する。この縁部分は最後に剥離縁部５０９６に至る。
【０１３４】
剥離シート５１５８を保持ストリップ５１６６に固定用部分５１６０を介してねじ固定するために、締め付けストリップ５１６４が使用される。保持ストリップ５１６６は、分離板５０４４から遠い縁部で、隣接して配置された２つの鉛直方向の支持板５１６８に固定されている（図１０も参照）ので、保持ストリップ５１６６と分離板５０４４との間に間隙が残る（図９参照）。
【０１３５】
保持ストリップ５１６４は剥離シート５１５８から遠い側で剥離ストリップ５１７０を支持している。剥離ストリップ５１７０は剥離エレメント５０９２ｂの剥離効果を高める。
【０１３６】
支持板５１６８は、分離板５０４４に面した側で複数の電磁石５１７２を支持している。これらの電磁石は、長手方向に配置されていて、分離板５０４４の対向する側に配置された剥離エレメント５０９２ａの対応電磁石と協働することができる。
【０１３７】
支持板５１６８は上縁領域でカップリング・ウェブ５１７４に連結されている。このカップリング・ウェブ５１７４を介して、線状鎖５１５４ｂは剥離エレメント５０９２ｂに結合されている。
【０１３８】
剥離エレメント５０９２が分離板５０４４に沿って走行できるように、カップリング・ウェブ上に４つのローラ５１７６が回転可能に取り付けられている。
【０１３９】
剥離シート５１５８の代わりに、図８に示された剥離エレメント４０９２の事例のように、剥離エレメント５０９２内には、空気流を使用する剥離構成部分が存在していてもよい。
【０１４０】
剥離装置５０９４は下記のように機能する：
最初に、剥離エレメント５０９２ａ及び５０９２ｂの電磁石５１７２が不活化される。分離剤及び分離剤上に分離しているオーバースプレーが取り除かれるべき分離板５０４４は、締め付けシュー８４によってレールプロファイル８２内に引き込まれるので、分離板５０４４は剥離エレメント５０９２ａと５０９２ｂとの間に位置するようになる（図９参照）。必要な場合には、剥離エレメント５０９２ａ，５０９２ｂを互いに所定の間隔を置いて保持することができるので、分離板５０４４がレールプロファイル８２内に走入する時に、剥離エレメント５０９２ａ又は５０９２ｂに衝突するおそれはない。これを目的として、剥離エレメント５０９２ａ，５０９２ｂは、例えば少なくともレールプロファイル８２の下流側の領域において、側方のガイドレール内で走行する。これらのガイドレールは、２つの剥離エレメント５０９２ａ，５０９２ｂを互いに離反する方向に案内する。
【０１４１】
分離板５０４４がレールプロファイル８２内において所望の位置を占めると、電磁石５１７２が作動させられる。剥離エレメント５０９２ａ，５０９２ｂはこうして分離板５０４４に引き付けられる。
【０１４２】
上昇／下降装置５１４６ａの電動モータ５１４８は次いで、剥離エレメント５０９２ａ，５０９２ｂが線状鎖５１５４ａ，５１５４ｂによって分離板５０４４に沿って下方に向かって押されるように作動させられる。剥離エレメント５０９２ａ，５０９２ｂの剥離シート５１５８は、磁力によって分離板５０４４との不変の接触状態を保たれ、剥離エレメント５０９２ａ，５０９２ｂのローラ５１７６は分離板５０４４の分離面５０４６及び５０４８上を転動する。
【０１４３】
剥離エレメント５０９２ａ，５０９２ｂの下方に向かう行程において、分離剤が、分離剤上に分離されたオーバースプレーとともに、分離板５０４４の分離面５０４６及び５０４８から掻き取られる。
【０１４４】
剥離エレメント５０９２ａ，５０９２ｂが最も低い位置に達すると、電動モータ５１４８は反対方向に操作されるので、剥離エレメント５０９２ａ，５０９２ｂは、線状鎖５１５４ａ及び５１５４ｂによって上方に向かって引き戻される。
【０１４５】
分離板５０４４にまだ付着しているおそれのある分離剤残留物は、分離ストリップ５１７０によって検出されて除去されることができる。
【０１４６】
分離板５０４４上の分離剤層の再生は、その他の点では図１〜８を参照して上述したように行われる。
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図３Ｄ】
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【図４】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図６Ｄ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図７Ｃ】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【国際調査報告】
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