(57)【要約】居所に設定された普段のユーザが、ほぼ毎日の皮膚トリートメント処置を、インフラ構造フレームに挿入される様々なモジュールを使用して自分自身で行うことができる装置である。本装置はドッキングステーション及びアプリケータを提示する。本アプリケータは２タイプの皮膚トリートメントモジュールのみを同時に受け入れ、これらは使用後、異なるタイプの皮膚トリートメントを与えるモジュールに置換できる。脱毛器、シェーバー、剥離又はアブレーションモジュール、吸引ヘッド、及びマッサージヘッド等の皮膚トリートメントモジュールが、皮膚に機械的作動を適用する。超音波モジュールが皮膚に超音波を適用する。強パルス光及びＲＦが皮膚に電磁気放射を適用する。脱毛、皮膚リジュベネーション、皮膚剥離、にきびトリートメント、痩身等の皮膚トリートメント等の様々な皮膚トリートメントを与えるべく、これらのモジュールの組み合わせが使用される。
2013512722.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
個人用美容皮膚トリートメントの装置であって、
インフラ構造フレームを含むアプリケータであって、前記フレームは、少なくとも一の美容皮膚トリートメントを行うべく動作可能な少なくとも一の交換可能皮膚トリートメントモジュールを受け入れるべく動作可能に構成された一以上の受け入れベイを含むアプリケータと、
前記アプリケータに電源、アプリケータ動作に必要な流体、及び前記アプリケータの移動制御を供給するべく動作可能な制御ユニットを含むアプリケータドッキングステーションと
を含み、
前記モジュールの各々は、前記モジュールを識別して前記モジュールの動作パラメータを含む少なくとも一の識別タグを含み、
前記制御ユニットは、前記識別タグと通信し、前記受け入れられたモジュールを識別し、及び前記皮膚トリートメントパラメータを自動的に設定する装置。
【請求項２】
前記アプリケータのインフラ構造フレームは、美容皮膚トリートメントを行うべく動作可能な交換可能モジュールの群の少なくとも一を受け入れる一以上の受け入れベイを含み、
前記群は、機械脱毛用モジュール、しわ除去モジュール、皮膚リジュベネーション用モジュール、にきびトリートメント用モジュール、コラーゲン収縮用モジュール、皮膚アブレーションモジュールからなり、
前記交換可能モジュールの各々は、同じ機械的及び電気的インターフェイスを有し、各モジュールが識別タグを有する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記アプリケータは、方向センサ、マイクロスイッチ、温度センサ、及びインピーダンスセンサからなるセンサの群から選択された少なくとも一のセンサをさらに含み、
前記方向センサは、前記アプリケータが対象皮膚に適用されて前記皮膚の上を移動するときに、前記アプリケータの移動方向に応じて前記モジュールの少なくとも一つを作動させるべく動作可能である、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記温度センサは前記モジュールの少なくとも一つの動作モードを、温度の読み又は温度変化率に応じて変更するべく動作可能である、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記モジュール識別タグは、ＲＦＩＤデバイス又はＥＥＰＲＯＭからなる群の一つである、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
個人用美容皮膚トリートメントのアプリケータに結合されてこれとともに使用される皮膚トリートメントモジュールであって、
少なくとも一の美容皮膚トリートメントを行うべく動作可能なデバイスと、
少なくとも一の位置固定形状を含む機械的インターフェイスと、
電気的インターフェイスと、
前記モジュールを識別して前記モジュールの動作パラメータを設定するタグと
を含むモジュール。
【請求項７】
前記デバイスは、脱毛、しわ除去、皮膚リジュベネーション、皮膚アブレーション、にきびトリートメント、コラーゲン収縮、及び皮膚照射からなる美容トリートメントの群の少なくとも一つを行う、請求項６に記載のモジュール。
【請求項８】
前記識別タグは、前記モジュールのタイプ、推奨されたトリートメントのタイプ及び推奨されたトリートメントパラメータ、並びに、前記モジュールが動作可能であった間の事象の量を記録することができる可変データ記録を格納する永久データ記録を含み、
前記タグ内に記録されたデータは、前記タグが前記アプリケータへの挿入のときに前記モジュールの動作を可能とする、請求項６に記載のモジュール。
【請求項９】
前記タグは、ＲＦＩＤデバイス又はＥＥＰＲＯＭからなる群の一つである、請求項６に記載のモジュール。
【請求項１０】
個人用美容皮膚トリートメントのアプリケータであって、
脱毛用モジュール、しわ除去用モジュール、皮膚リジュベネーション用モジュール、にきびトリートメント用モジュール、皮膚アブレーション用モジュール、皮膚マッサージ用モジュール、及びコラーゲン収縮用モジュールからなる美容皮膚トリートメント用モジュールの少なくとも一の群と、
前記デバイスを被トリートメント皮膚セグメントにわたって連続的に移動する機構と
を含み、
前記モジュールの各々は、前記アプリケータから取り外し可能なカートリッジであり、前記モジュールの各々は、モジュール識別タグと、他のモジュールと同じ電気的及び機械的インターフェイスとを有するアプリケータ。
【請求項１１】
皮膚照射モジュールをさらに含み、
前記皮膚照射モジュールは、
白熱ランプ、キセノンランプ、キセノンＩＰＬランプ、レーザダイオード、ＬＥＤ、レーザ、又はこれらの照射源の２以上の組み合わせからなる群の少なくとも一つと、
光放射源を冷却する冷却流を向けるべく動作可能な開口及び要素を有するリフレクタであって、前記照射源により生じた照射を被トリートメント皮膚セグメントに反射させるべく構成されたリフレクタと、
冷却流通路を形成するべく構成された少なくとも一の誘電体被覆保護ウィンドウと、
迷照射を回収して前記被トリートメント皮膚セグメントに向けるべく動作可能な一対のサイドミラーと
を含む使い捨て可能カートリッジである、請求項１０に記載のアプリケータ。
【請求項１２】
前記誘電体被覆保護ウィンドウの少なくとも一つが、フィルタとして機能し、かつ、前記皮膚に向けられた放射のスペクトル及び前記皮膚に放射が放出されるアパチャを画定し、前記照射源は、連続モード、パルスモード、並びに連続モード及びパルスモードの混合からなる動作モードの群から選択される動作モードで動作する、請求項１１に記載のアプリケータ。
【請求項１３】
前記モジュールの各々の識別タグと通信し、かつ、ＲＦパワー、ＩＰＬパルス繰り返し周期、及びＩＰＬパワーからなるトリートメントパラメータの群の少なくとも一つを被トリートメント皮膚タイプに応じて自動的に設定する少なくとも制御ユニットが組み込まれたケースをさらに含む、請求項１０に記載のアプリケータ。
【請求項１４】
方向センサ、マイクロスイッチ、温度センサ、及びインピーダンスセンサからなるセンサの群の少なくとも一つをさらに含み、
前記方向センサは、前記アプリケータが対象皮膚に適用されて前記皮膚にわたって移動されるときに前記アプリケータの移動方向に応じて前記モジュールの少なくとも一つを作動させるべく動作可能である、請求項１０に記載のアプリケータ。
【請求項１５】
前記マイクロスイッチは、前記アプリケータが対象皮膚に適用されて押圧されるときに前記モジュールの少なくとも一つの作動を可能とするべく動作可能である、請求項１４に記載のアプリケータ。
【請求項１６】
前記温度センサは、温度の読み又は温度変化率に応じて前記モジュールの少なくとも一つの動作モードを変更するべく動作可能である、請求項１４に記載のアプリケータ。
【請求項１７】
前記皮膚リジュベネーション用モジュールは、ミニチュアＲＦ電極の２次元マトリクス又は極小ＲＦ電極の３次元マトリクスからなる群の少なくとも一つである、請求項１０に記載のアプリケータ。
【請求項１８】
前記しわ除去用モジュールは、一以上の極小ＲＦ電極からなる群の少なくとも一つであり、
前記ＲＦ電極は、前記電極と接触かつ前記電極の間に位置する皮膚セグメントにＲＦエネルギーを与えるべく動作可能に構成される、請求項１０に記載のアプリケータ。
【請求項１９】
前記ＲＦ電極は、被覆のない又は誘電体被覆の電極からなる群の少なくとも一つであり、
少なくとも一のインピーダンスセンサ又は温度センサが前記皮膚セグメントへ送達されるＲＦエネルギーを制御し、
前記ＲＦエネルギーは、連続モード及びパルスモードで前記皮膚セグメントへ送達される、請求項１８に記載のアプリケータ。
【請求項２０】
前記照射源並びに前記アプリケータの電気及び電子回路を冷却するべく動作可能な冷却構成をさらに含む、請求項１１に記載のアプリケータ。
【請求項２１】
少なくとも一の可視状態インジケータ及び少なくとも一の可聴状態インジケータをさらに含む、請求項１０に記載のアプリケータ。
【請求項２２】
照射による美容皮膚トリートメントの使い捨て可能カートリッジであって、
照射源と、
曲線又は多角形の断面積を有する細長い管状又はプリズム状リフレクタと、
前記リフレクタの頂部まわりであって前記リフレクタの長手軸沿いに位置して前記リフレクタの内側を空気が通れるようにする空気通路開口と、
前記リフレクタの突き合わせ端に位置する突き合わせ排出開口と、
前記リフレクタの開口セクションに隣接する誘電体被覆保護ウィンドウと、
前記カートリッジにおける指定ポイントの温度を検出するべく動作可能に構成された温度センサと、
前記モジュールを識別して前記モジュールの動作パラメータを設定するタグと
を含むカートリッジ。
【請求項２３】
個人用皮膚リジュベネーションデバイスであって、
ＲＦエネルギーを被トリートメント皮膚セグメントに適用するべく動作可能に構成された複数の極小電極を含む皮膚リジュベネーションモジュールと、
ユーザの気に障らない繰り返し周期で低パワー照射パルスが介在配列された高パワー照射パルスを与える皮膚照射モジュールと、
少なくとも前記高パワー照射パルスをカウントするカウンタと、
デバイス移動速度モニタリング構成と、
光放射源を冷却するべく動作可能に構成された冷却構成と、
前記冷却構成における指定ポイントでの温度を検出するべく動作可能に構成された温度センサと
を含む皮膚リジュベネーションデバイス。
【請求項２４】
前記極小電極は２次元又は３次元の表面に位置し、前記高パワーパルスに低パワーパルスが介在配列される補充周期は、少なくとも１６Ｈｚである、請求項２３に記載の皮膚リジュベネーションデバイス。
【請求項２５】
個人用皮膚トリートメントに使用されるアプリケータであって、
パルス又は連続動作モードで動作する光放射付与モジュールと、
アプリケータ移動速度モニタリング構成と、
少なくとも一のモジュールの動作パラメータを含み、前記モジュールの動作を可能として前記光放射付与モジュールから放出されたパルスの数の計数及び記録を行うべく動作可能に構成されたタグと
を含み、
前記タグは、ＲＦＩＤ又はＥＥＰＲＯＭからなる群の一つであり、前記光放射パワー及び光放射パルス繰り返し周期は前記デバイス移動速度を確立するアプリケータ。
【請求項２６】
皮膚にきびトリートメントの使い捨て可能モジュールであって、
被トリートメント皮膚セグメントを照射するべく動作可能な照射源と、
被トリートメント皮膚セグメントを密封し、かつ、これに真空を適用するべく動作可能な吸引カップと、
前記被トリートメント皮膚セグメントにＲＦエネルギーを適用してこれを加熱するべく動作可能な少なくとも一のＲＦ電極と、
真空源と連通するべく動作可能な真空接続パイプと、
前記モジュールを識別して前記モジュールの動作パラメータを設定するタグと
を含むモジュール。
【請求項２７】
少なくともにきびトリートメントに最適な照射を与えて連続又はパルス動作モードで動作する照射源をさらに含む、請求項２６に記載のモジュール。
【請求項２８】
標的皮膚セグメントから脱毛する方法であって、
毛嚢の少なくとも一部を除去するべく動作可能な機械的脱毛機構を前記標的皮膚セグメントに適用するステップと、
前記標的皮膚セグメントを加熱して毛の皮膚への付着を弱めるべく動作可能な少なくとも一のＲＦ電極を適用するステップと、
前記標的皮膚セグメントを照射かつ加熱するべく動作可能な少なくとも一の照射源を適用するステップと
を含み、
前記標的皮膚セグメントと前記ＲＦ電極との間の有限インピーダンスの存在により、前記ＲＦ電極が前記標的皮膚セグメントを加熱することができ、前記少なくとも一の照射源が前記標的皮膚セグメントを照射することができ、識別タグの可変データ記録セクションに前記照射源の作動データを記録することができる方法。
【請求項２９】
前記標的皮膚セグメントからの毛は剪毛、むしり取り、及び毛抜きにより除去される、請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
前記標的皮膚セグメントは連続モード又はパルスモードで照射される、請求項２８に記載の方法。
【請求項３１】
前記標的皮膚セグメントに、前記ＲＦ及び照射熱エネルギーを適用すること及び機械的手段により脱毛することと前に清浄溶液によるトリートメントを与えるステップと、脱毛の後に発疹低減溶液を適用するステップとをさらに含む、請求項２８に記載の方法。
【請求項３２】
皮膚リジュベネーションの方法であって、
脱毛モジュールと、照射モジュールと、皮膚リジュベネーションモジュールと、移動方向センサとの少なくとも一つを含むアプリケータを標的皮膚セグメントに適用することと、
前記標的皮膚セグメントから脱毛して前記標的皮膚セグメントに複数の極小創傷を生成することと、
早期の創傷治癒を刺激する波長によって前記標的皮膚セグメントを照射することと
を含み、
前記移動方向センサは、前記アプリケータ移動速度が標的値よりも低い場合に少なくとも一のモジュールをスイッチオフする方法。
【請求項３３】
美容皮膚トリートメントの方法であって、
皮膚アブレーションモジュールと、ＲＦエネルギー適用電極を含む皮膚照射モジュールとの少なくとも一を含むアプリケータを標的皮膚セグメントに適用することと、
上皮層を除去してむき出しの表皮層へのアクセスを可能にすることと、
前記むき出しの表皮層に光及びＲＦエネルギーを適用して所望の表皮効果を生じさせることと
を含む方法。
【請求項３４】
前記所望の表皮効果は、脱毛、しわ除去、皮膚リジュベネーション、にきびトリートメント、コラーゲン収縮、皮膚アブレーション、及び皮膚照射からなる群の少なくとも一つである、請求項３３に記載の方法。
【請求項３５】
前記トリートメントのパラメータを、前記モジュールの各々に関連付けられたモジュール識別タグによって設定することをさらに含む、請求項３３に記載の方法。
【請求項３６】
皮膚にきびトリートメントの方法であって、
皮膚アブレーションモジュールと、皮膚照射モジュールと、真空吸引モジュールとの少なくとも一つを含むアプリケータを標的皮膚セグメントに適用することと、
上皮層を除去してむき出しの表皮層にアクセスできるようにすることと、
前記むき出しの表皮層にＲＦエネルギーを適用して前記皮膚を加熱することと、
にきびを吸引により除去することと、
４５０ｎｍ又は５５０ｎｍの波長を有する照射を適用することと
を含む方法。
【請求項３７】
前記にきびトリートメントのパラメータを、前記モジュールの各々に関連付けられたジュール識別タグによって設定することをさらに含む、請求項３６に記載の方法。
【請求項３８】
前記モジュールを標的皮膚セグメントにわたって移動させることにより前記標的皮膚セグメントをマッサージすることをさらに含む、請求項３６に記載の方法。
【請求項３９】
皮膚にきびトリートメントの方法であって、
標的皮膚セグメントに電磁気放射及び吸引開口を適用することと、
前記標的皮膚セグメントを前記放射により加熱して柔らかくすることと、
前記にきびを吸引により除去することと
を含む方法。
【請求項４０】
前記電磁気放射はＲＦエネルギー及び照射からなる群の一つであり、前記標的皮膚セグメントは連続モード又はパルスモードで照射される、請求項３９に記載の方法。
【請求項４１】
前記照射がパルスモードで与えられる場合に皮膚トリートメントアプリケータの位置を視覚で追跡する過程で光パルスの低い繰り返し周期により生じる、皮膚トリートメント処置の間のユーザの気に障る感覚及び眼にかく乱を与える効果を低減することをさらに含み、
前記方法は、
所望の皮膚トリートメント効果を生じさせるのに十分なパワーを有するパルスにより前記アプリケータを動作させることと、
前記トリートメントのパルスに、低い繰り返し周期の光パルスの前記気に障る効果及び眼にかく乱を与える効果を軽減する繰り返し周期を有する低いパワーの光パルスを介在配列することと
を含む方法。
【請求項４２】
皮膚リジュベネーションの方法であって、
標的皮膚セグメントに電磁気放射及び吸引開口を適用することと、
前記標的皮膚セグメントを前記放射により加熱して柔らかくすることと、
前記皮膚セグメントを吸引によりマッサージすることと
を含む方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本明細書に開示される方法及び装置は個人用美容処置の分野に関し、詳しくは脱毛、しわ除去、にきび除去、皮膚引き締め等の美容処置に関する。
【背景技術】
【０００２】
実際のところ誰にとっても外見は重要である。近年、異なる美容及び皮膚科トリートメントのための方法及び装置が開発されている。中でも、脱毛、血管病変トリートメント、しわ除去、皮膚リジュベネーション等がある。これらのトリートメントの中には、皮膚及び組織が、高周波（ＲＦ）及び光放射又は照射のような一以上のタイプの電磁気放射により処置されるものもある。ＲＦは典型的に、皮膚に適用されると当該皮膚を加熱する。照射は単色（レーザ）又は多色であり、異なる波長の狭い又は広いスペクトルを含む。波長に依存する光放射は皮膚を加熱し、外傷を凝固させ、及び光化学効果を生じさせる。所望の効果を達成するべく電磁気放射の時間及び強度が選択される。当該効果は典型的に、トリートメントを受ける皮膚セグメントを３８−６０℃の温度まで加熱することによって達成される。
【０００３】
光放射は、所定寸法のアパチャを有するアプリケータの助けにより皮膚に適用される。皮膚表面全体を「カバー」するべくアパチャは、外されたり又は２度トリートメントを受ける面積が当該皮膚に存在しなくなるように、少なくとも１つのアパチャ寸法に等しいステップに基づく比較的正確な態様で所々に移動させる必要がある。これを回避するべく個人は視覚的にアプリケータ位置を追跡する。光放射はパルスモードで適用されることが多い。光パルスが不可避的に彼／彼女の眼に到達し、当該個人の妨害をし、アプリケータ位置の追跡及び皮膚トリートメントプロセスに影響を与える。光放射デバイスを適用することで所望の効果が達成されるのは、当該皮膚及び／又は組織に所定エネルギー密度が適用される場合のみである。デバイスが当該皮膚全域をあまりにも速く又は遅く移動すると、当該デバイスは効果がなくなるか又は火傷を引き起こす。
【０００４】
光放射は上皮層にトリートメントを与え、ほんの数ミリの比較的浅い深さまで浸透する。高周波（ＲＦ）は、皮膚と接触する必要がある一対以上の電極の助けにより当該皮膚に適用される。ＲＦ電圧が、パルス又は連続波形（ＣＷ）で電極間に適用される。被トリートメント組織の体積又は層にＲＦ誘導電流を生成するべくＲＦ電圧の特性が選択される。この電流は組織を必要な温度まで加熱する。これは典型的に３８−６０℃の範囲である。例えば、当該温度により、毛嚢又は毛根が破壊又は損傷を受け、さらなる発毛が遅延され、被トリートメント皮膚セグメントにわたり皮膚を引き締めるコラーゲン再生が破壊され又は発生する。当該効果はまた、毛幹を弱めること又は毛嚢若しくは毛根までも破壊すること、コラーゲン構造の変化若しくは破壊等でもある。
【０００５】
電磁気放射による皮膚トリートメントは、皮膚マッサージ、機械脱毛、皮膚アブレーション、超音波脂肪組織トリートメント等のような機械的処置と組み合わされることが多い。例えば、発毛遅延のような所望の効果は典型的に、初期に機械的に脱毛された皮膚表面をレーザ、ＬＥＤ、キセノンランプ、強パルス光（Intense Pulsed Light（ＩＰＬ））、又は白熱ランプ放射で照射することにより達成される。これらは一般に照射又は光放射と呼ばれる。痩身は典型的に超音波又はＲＦエネルギーの適用により得られる。マッサージは、血流を刺激することが知られており、ＲＦ又は照射エネルギーとの組み合わせで美容処置を目的として使用されることが多い。
【０００６】
光及びＲＦトリートメント、マッサージ及びＲＦトリートメントの組み合わせのプロフェッショナル機器も存在する。この機器は通常、アパチャの表面とほぼ同様又は同等の画定された対象皮膚セグメントを照射するべく構成される。当該アパチャを通して光放射が皮膚セグメントに向けられる。典型的には電極がアパチャ周囲の近傍に配置される。典型的にはＲＦが、光によって加熱されるよりも深い組織層を加熱する。これにより、毛球及び／又は毛嚢が破壊／損傷を受ける。同じ皮膚セグメントに適用されるＲＦエネルギー量と光放射量との間には繊細な関係が存在する。双方間で光部分が超過すると皮膚火傷が生じる一方、ＲＦエネルギーと光放射との最適比よりも低い適用では所望のトリートメント結果が得られない。
【０００７】
機械的脱毛、ＲＦエネルギー適用、光放射トリートメント、超音波トリートメント等の美容トリートメントはコストがかかり、かつかさばる。さらに、かかる機器は、外来設備において有資格オペレータによって操作されるのが典型的であり、かかるトリートメント専門の医療従事者の存在が必要となることが多い。所定の皮膚トリートメント処置はユーザ自身により行われる。これには、典型的には彼／彼女が典型的には一のタイプの皮膚トリートメントのみを行うことができる市販の機器が使用される。しかしながら、ユーザは、皮膚トリートメントに使用されるプロフェッショナル機器により得られる結果と同様又は同一の結果が得られず、所望の処置のすべてを行う能力がなく、適切なトリートメントパラメータの選択等の機器操作の課題について経験が浅い。
【０００８】
用語集
いくつかの用語が本開示にわたって使用される。これらの用語の定義を便宜のためここに与える。
【０００９】
本開示において使用される用語「照射源」、「光放射源」、及び「光源」は同じ意味を有し、可視放射源及び不可視赤外放射源を含む。
【００１０】
本明細書において使用されているように、用語「皮膚トリートメント」は、完全又は部分的脱毛、発毛遅延、皮膚リジュベネーション、しわ低減、ウエスト引き締め、血管病変除去、きめ（texture）の改善、セルライト低減、皮膚アブレーション、にきび効果低減等のような美容処置を含む。
【００１１】
用語「皮膚表面」は、角質層であり得る最外層に関連する。
【００１２】
用語「組織」は、角質層の下に位置する皮膚層に関連する。当該層は、角質層直下であって、角質層の下の６又は７ｍｍもの深さに位置する。
【００１３】
本明細書において使用されているように、用語「脱毛」は、機械的脱毛及び発毛遅延を含む。
【００１４】
二酸化チタン（ＴｉＯ２）は、プラスチック及びコーティングの産業において広く使用されている白色顔料である。ＴｉＯ２は光を有効に散乱させる。
【００１５】
皮膚擦傷法は、皮膚の表面、特に角質層をアブレーションにより除去する美容処置である。当該処置を行うべく使用される機器はダーマブレーダ（dermabrader）と称する。
【００１６】
本明細書にわたって使用される用語「キーコネクタ」は、オプションのモジュール配向及び識別手段と同様にパワーデバイス又はモジュールからのパワーを与えるべく又は信号を受信するべく動作可能なコネクタを意味する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１７】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００９／０１１２２０５（Ａ１）号明細書
【特許文献２】米国特許出願公開第２００８／０２９４１５３（Ａ１）号明細書
【特許文献３】米国特許出願公開第２００５／００４３６５３（Ａ１）号明細書
【特許文献４】米国特許第４，１８２，３２９号明細書
【発明の概要】
【００１８】
美容皮膚トリートメントのための個人用皮膚トリートメント装置である。本装置は、完全又は部分的脱毛及び発毛遅延、しわ除去又は皮膚スムージング、皮膚リジュベネーション、皮膚マッサージ等の処置のような異なる美容処置をユーザに与えることができる。実施例は、様々な交換可能モジュール又は要素の組み合わせを含む。これらは、すべての実施例に含まれて異なる皮膚トリートメント処置を行うがこれらに制限又は要求されない。皮膚に対して（ａ）毛嚢の切断、むしり取り、又は剪毛のための、セルライト低減及び周囲変更を目的とした皮膚マッサージのための、及び、皮膚リジュベネーション及びにきび除去を目的とした皮膚のアブレーション又はマイクロアブレーションのための機械的エネルギー及びプロセスを皮膚に適用することができるモジュール、（ｂ）高周波超音波を皮膚に適用することができるモジュール、（ｃ）皮膚を加熱する異なる波長又はＲＦエネルギーの形態で適用する皮膚照射の形態で電磁気エネルギーの適用を与えるモジュール及び／又はカートリッジ、（ｄ）機械的プロセスの前、後、及び／若しくは間の溶液適用並びに／又はエネルギー適用を含むさらなる皮膚トリートメント技術のいくつかである。上に列記したプロセスの各々が単独で若しくは他のプロセスと組み合わせて又は異なる適用シーケンスで適用される。
【００１９】
所望の美容皮膚トリートメントを行うべくユーザは、アプリケータを皮膚に適用してこれに一以上のタイプのエネルギーを結合する。ユーザは当該アプリケータを皮膚に沿って移動させて異なる皮膚セグメントにトリートメントを与える。オプションの移動速度モニタリング構成が移動速度をモニタリングし、光パワーをデバイス移動速度の関数として確立する。モジュール識別タグと同様に、移動方向センサ、加速度計、インピーダンスセンサのような他のセンサもトリートメントパラメータに影響を与える。全体的には、様々な実施例が、皮膚の一面積にトリートメントを与えるべく動作し、すべて又は一部の毛の除去、さらなる成長の遅延、しわ除去又は皮膚スムージング、にきび低減、脂肪組織散乱、及び皮膚表面のリジュベネーション又は健康維持を容易にする。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
本開示は、添付図面を参照して非限定的な例のみによって与えられる。同じ参照記号が、異なる図にわたり同じ部材を参照する。図面は必ずしも縮尺通りではなく、むしろ本方法の原理を説明する上で強調される。
【００２１】
【図１】皮膚トリートメントの本個人用装置の一実施例を概略的に示す。
【図２】皮膚トリートメントの本個人用装置のドッキングユニットの一実施例を概略的に示す。
【図３】皮膚トリートメントの本個人用装置のドッキングユニットの分解組立を概略的に示す。
【図４】皮膚トリートメントの本個人用装置のアプリケータの一実施例の正面図を概略的に示す。
【図５】皮膚トリートメントの本個人用装置のアプリケータの一実施例の側面図を概略的に示す。
【図６】皮膚トリートメントの本個人用装置のアプリケータ．の一実施例の底面図を概略的に示す。
【図７】皮膚トリートメントの本個人用装置のアプリケータの分解組立を概略的に示す。
【図８】本個人用皮膚トリートメント装置の剪毛モジュールの一実施例を斜視図で概略的に示す。
【図９】本皮膚トリートメント装置の脱毛又は剪毛機構及び当該機構の動作を説明する異なる状態を概略的に示す。
【図１０】本皮膚トリートメント装置の脱毛又は剪毛機構及び当該機構の動作を説明する異なる状態を概略的に示す。
【図１１】本皮膚トリートメント装置の脱毛又は剪毛機構及び当該機構の動作を説明する異なる状態を概略的に示す。
【図１２】本皮膚トリートメント装置の脱毛又は剪毛機構及び当該機構の動作を説明する異なる状態を概略的に示す。
【図１３】毛嚢（毛幹）の切断及び縮退を拡大して概略的に示す。
【図１４】本アプリケータの脱毛機構の他実施例を概略的に示す。
【図１５】本個人用皮膚トリートメント装置の皮膚照射モジュールの一実施例の３次元図を概略的に示す。
【図１６】図１５の皮膚照射モジュールの背面図を概略的に示す。
【図１７】本個人用皮膚トリートメント装置に係る図１５の照射モジュールの側面図を概略的に示す。
【図１８】図１５の照射モジュールの断面を概略的に示し、本個人用皮膚トリートメント装置の照射カートリッジの一実施例の詳細を示す。
【図１９】本個人用皮膚トリートメント装置の照射モジュールを有するアプリケータの一実施例の断面を概略的に示す。
【図２０】本個人用皮膚トリートメント装置の脱毛器モジュールの一実施例を概略的に斜視図で示す。
【図２１】本個人用皮膚トリートメント装置の皮膚リジュベネーションモジュールの一実施例の正面図を概略的に示す。
【図２２】本個人用皮膚トリートメント装置の皮膚リジュベネーションモジュールの皮膚リジュベネーション電極の一実施例を概略的に示す。
【図２３】本個人用皮膚トリートメント装置の皮膚アブレーションモジュールの一実施例の正面図を概略的に示す。
【図２４】本個人用皮膚トリートメント装置の皮膚マッサージモジュールの一実施例の正面図を概略的に示す。
【図２５】本個人用皮膚トリートメント装置の皮膚マッサージモジュールの皮膚マッサージロールの他実施例を概略的に示す。
【図２６】本個人用皮膚トリートメント装置の皮膚マッサージモジュールの皮膚マッサージロールの一追加実施例を概略的に示す。
【図２７】本個人用皮膚トリートメント装置の真空モジュールの一実施例（の正面図）を概略的に斜視図で示す。
【図２８】本個人用皮膚トリートメント装置の真空モジュールの他実施例を概略的に斜視図で示す。
【図２９】本個人用皮膚トリートメント装置のＲＦ及び真空組み合わせモジュールの一実施例を概略的に斜視図で示す。
【図３０】本個人用皮膚トリートメント装置の照射、ＲＦ、及び真空組み合わせモジュールの一実施例を概略的に示す。
【図３１】本個人用皮膚トリートメント装置の照射モジュール及び脱毛器モジュールを有するアプリケータの一実施例を概略的に示す。
【図３２】本アプリケータ／デバイス及び装置を使用する皮膚トリートメント方法の一実施例を概略的に示す。
【図３３】本アプリケータ／デバイス及び装置を使用する皮膚トリートメント方法の他実施例を概略的に示す。
【図３４】本アプリケータ／デバイス及び装置を使用する皮膚トリートメント方法の一追加実施例を概略的に示す。
【図３５】本アプリケータ／デバイス及び装置を使用する皮膚トリートメント方法のさらなる一実施例を概略的に示す。
【図３６】本アプリケータ／デバイス及び装置を使用する皮膚トリートメント方法のさらなる他実施例を概略的に示す。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
図面及びそれに伴う非限定的な実施例の記載を参照して、本明細書に記載される本装置及び本方法の原理及び実施が理解できる。
【００２３】
図１を参照すると、皮膚トリートメントの本個人用装置の一実施例が概略的に示される。装置１００は、対象皮膚上のスライド移動に適したアプリケータ又はデバイス１０４と、ドッキングユニット１０８と、アプリケータ１０４とドッキングユニット１０８とを接続するコード１１２（部分的に示す）とを含む。コード１１２は、アプリケータ１０４とドッキングユニット１０８との電気的及び流体的連通を可能とする。装置１００は、標準の給電ネットワークコンセントから電源を受ける。アプリケータ１０４は、充電可能又は標準バッテリから電源を受ける。ドッキングユニット１０８は典型的には、アプリケータ１０４の充電可能バッテリを充電する。
【００２４】
図２は、皮膚トリートメントの本個人用装置のドッキングユニットの一実施例を概略的に示す。ドッキングユニット１０８は、パネル２０４に配置されてユーザに装置１００（図１）の操作をさせるいくつかのプッシュボタン２００と、装置１００の助けにより行う異なる処置の状態をオペレータに知らせるいつくかの動作状態インジケータ２０８と、アプリケータ１０４を受けるドッキングベイ２１２とを含む。レセプタクル（図示せず）により、ドッキングユニットの標準給電ネットワークへの接続が容易となる。プッシュボタン２００はビルトインＬＥＤ又は他の光源を有し、追加的なプロセス状態インジケータとして機能する。
【００２５】
図３は、皮膚トリートメントの本個人用装置のドッキングユニットの分解組立を概略的に示す。ドッキングユニット１０８は、制御基板３００、電源３０４、冷却ファン３０８、真空ポンプ３１２、及び、選択された皮膚トリートメントに有益な追加機能を与える他の補助ユニットを収容する。電源３０４は、整流器を有する又は有しない変圧器を含む。制御基板３００は、装置１００（図１）のほぼすべての機能を制御し、アプリケータ１０４の制御基板７０８（図７）と通信する。電源３０４は、異なる皮膚トリートメントモジュールの動作に必要な電気出力を与える。
【００２６】
図４は、皮膚トリートメントの本個人用装置のアプリケータの一実施例の正面図を概略的に示す。図示のアプリケータ１０４は、人間工学的に設計されたケーシング４０４を含む。これは、手のひらにフィットし、インフラ構造フレーム４０８が配置される第１端又は遠位端及び第２端４１２を有する。第２端４１２は、コード１１２（図１）の助けによりアプリケータ１０４をドッキングユニット１０８に接続することができるレセプタクル４１６を含む。図示されるのはまた、アプリケータ１０４の両側（図４及び５）に配置されたグリップセンサ４２０と、アプリケータの照射モジュール１５００（図１５）の動作状態をユーザに知らせるオン／オフインジケータ４２４と、アプリケータ１０４に挿入された皮膚（色白又は色黒）トリートメントモジュールのタイプ及びその動作状態をユーザに知らせるインジケータ４２８とである。これは、カートリッジが表示される（例えば、脱毛、皮膚リジュベネーション、にきび処置等）トリートメントのタイプも彼に知らせる。強調すべきなのは、本概念はまた、トリートメントのタイプについてモジュールからなんら表示がなくとも動作できることである。本モジュールは、トリートメントのタイプに応じて動作する。当該タイプに対してカートリッジは専用となり、当該ベース（高、中、又は低パワー）に基づいてなされた設定が、ユーザにとって完全に透明な態様で挿入されるカートリッジに応じて自動的に変更される。（本装置はカートリッジのタイプを自動的に検出する。）その状態に左右されるインジケータは、同じ又は異なる色で光る。複数のインジケータの組み合わせ及びこれらの色が特定の皮膚トリートメントモジュールの存在及び動作の際に表示される。グリップセンサ４２０は安全機能として働く。ユーザがアプリケータ１０４を保持すると、彼又は彼女は自然にグリップセンサ４２０を押し、インフラ構造フレーム４０８に挿入された異なる機能モジュールに異なる電圧を供給できる。アプリケータ１０４の第１端には、図５及び６に示される２つの受け入れベイが設けられる。当該ベイは、異なる美容皮膚トリートメントモジュールを受容する。
【００２７】
図５は、皮膚トリートメントの本個人用装置のアプリケータの一実施例の、矢印Ｅの方向からの側面図を概略的に示す。アプリケータ１０４の遠位端又は第１端４０８は、２つの受け入れベイ５０４及び５０８を含む。当該ベイ５０４及び５０８は、美容皮膚トリートメントを行うための少なくとも一の群のモジュールを受け入れるべく動作可能である。以下に詳細に述べるように、これらは剪毛のためのモジュール、脱毛のためのモジュール又は脱毛器、皮膚照射のためのモジュール、皮膚アブレーションモジュール、皮膚マッサージモジュール等のモジュールである。安全上の理由により、各モジュールの電気コンタクトは、当該モジュールが適切な位置に挿入された場合にのみ当該モジュールへの電気供給が作動するように構成される。プッシュボタン５１２はオン／オフスイッチである。これは、適切な受け入れベイに挿入された場合に皮膚照射１５００（図１５）のためのモジュールの一の作動又はオフへの切り替えを行う。プッシュボタン５１６は他のモジュールも作動させる。これに加え、いくつかのプッシュボタン５１６は、各モジュールに対して異なる動作パラメータを設定することができる。装飾カバー５２０がアプリケータ１０４の空気取り入れ開口を覆う。
【００２８】
図６は、皮膚トリートメントの本個人用装置のアプリケータの一実施例の、矢印Ｇの方向からの底面図を概略的に示す。受け入れベイ５０８は、機械的及び電気的インターフェイスを受け入れ及び与えるべく動作可能である。当該インターフェイスは、同一のインターフェイスを有する皮膚トリートメントモジュールの任意の一つとのインターフェイスである。かかるモジュールは、剪毛のためのモジュール、脱毛のためのモジュール、にきびＲＦ及び真空トリートメントモジュール、皮膚リジュベネーションのためのモジュール、皮膚マッサージモジュール等である。コネクタ６０４は、マッチしないタイプのモジュールの挿入を防止する一種のキー機構を有する。開口６０６が真空ポンプ３１２（図３）への接続機能を果たす。受け入れベイ５０８、照射モジュールの任意の一つとの機械的及び電気的インターフェイスを受け入れ及び与えるべく動作可能である。かかるモジュールは、白熱ランプを含むモジュール、キセノンランプ又はキセノンＩＰＬランプを有するモジュール、レーザダイオード、ＬＥＤ、又は照射源の２以上の組み合わせを有するモジュール、又は、マッチするインターフェイスを有する他のモジュールである。コネクタ６０８はまた、マッチしないタイプのモジュールの挿入を防止する一種のキー機構を有する。さらに、各皮膚トリートメントモジュールは、当該モジュールを識別して当該モジュールの動作パラメータを設定するタグを含む。タグはＲＦＩＤ、ＥＥＰＲＯＭ、又は、抵抗、キャパシタンス等のような一意的な特性を有する簡単な電子回路である。開口６１２は、ガス又は単に空気である冷却流体の流れへの入力チャネルを与える。
【００２９】
図７は、皮膚トリートメントの本個人用装置のアプリケータの分解組立を概略的に示す。アプリケータ１０４は、制御プリント回路基板７０８と、ブロワ又はファン７１２と、グリップセンサ４２０とを組み入れた二部ケース７０４を含む。制御プリント回路基板７０８は、パッケージ目的によりいくつかの電気通信セグメントに分割されている。ブロワ又はファン７１２は、照射モジュール（図示せず）に冷却流体の流れを与える。本開示のいくつかの実施例では、ブロワ７１２はロータリーブロワである。これは、矢印１８２８（図１８）で示される空気を照射又は光放射付与モジュールの一側に吹き込み、使い捨て可能カートリッジ１８００、光放射源１８０８、及びリフレクタ１８１２を冷却し、矢印１８２８で示される光放射付与モジュールの他側から排出する。制御回路基板７０８は、移動方向センサ、加速度計、インピーダンスセンサ等のような異なるセンサを含み、同様に、異なるモジュールの挿入により動作するマイクロスイッチの制御回路、温度センサ処理回路、モジュールタグ識別及びトリートメントパラメータの設定回路等を含む。代替的に、当該センサのいくつかは適切な皮膚トリートメントモジュールに配置され、それらの処理回路は制御基板３０８（図３）上に配置される。皮膚トリートメントプロセスパラメータの状態の信号をユーザに送るブザーのような少なくとも一のオプション可聴状態インジケータが、アプリケータ１０４に取り付けられる。代替的に、ブザーはベースユニット１０８に配置される。
【００３０】
図８は、本個人用皮膚トリートメント装置のシェーバーモジュールの一実施例を斜視図で概略的に示す。シェーバーモジュール８００は、以下で詳細に開示する剪毛又は脱毛機構８０８が組み込まれたケース８０４と、シェーバーモジュールをアプリケータから容易に解放可能とする一対のリリースボタン８１２と、キーコネクタ８１６と、モジュールを識別してモジュール動作パラメータを設定するタグとを含む。タグはＲＦＩＤ、ＥＥＰＲＯＭ、又は、抵抗、キャパシタンス等のような一意的な特性を有する簡単な電子回路である。
【００３１】
図９から１２は、本皮膚トリートメント装置の脱毛又は剪毛機構及び当該機構の動作を説明する異なる状態を概略的に示す。図９は、動作中の例示的な脱毛機構の第１動作状態を示す。図１０は、動作中の例示的な脱毛機構の第２動作状態を示す。図９に示される実施例では脱毛機構９００は、軸９１２まわりに回転するホルダ３１６に取り付けられた少なくとも一の、及びいくつかの実施例では一を超える、セットの複数の毛抜き９０８を含む。同じ軸に取り付けられた複数の毛抜き９０８に隣接して、ブレード９２４を終端とするオプションのレバー９２０が存在する。代替的にレバー９２０は、毛抜き９０８の後を常に追従することが確実となるように毛抜き９０８に剛体結合される。皮膚９３０に対する毛抜き９０８の位置とレバー９２０のブレード９２４の位置との間には、事前設定された差異又はオフセットが存在する。典型的にはブレード９２４は、毛抜き９０８よりも皮膚９３０の近くに配置される。ブレード９２４と毛抜き９０８との位置の差異は、皮膚、毛、及び、特に対象ケーシングの被トリートメントセグメントのタイプに応じて規制される。
【００３２】
毛９０４の除去に対し、毛抜き９０８が皮膚９３０に適用される。ホルダ９１６が、矢印９２８により示される方向に回転し、回転と同時に、矢印９３２により示される方向に皮膚９３０の表面上に直線的に動く。毛抜き９０８が第２状態まで回転し続けると、これらは少なくとも一の毛幹又は毛嚢９０４（図１０）を拾い上げ、それを皮膚９３０から引っ張り始める。毛抜き９０８の回転により生じ、かつ、ホルダー９１６の直線移動により補助される、毛幹９０４に適用される引張力が毛幹９０４、毛幹まわりの皮膚９３０、及び毛嚢をともに引っ張る。この力が皮膚９３０を変形させ、毛嚢まわりの皮膚表面の残りの上に突出する一種の鳥肌又は鳥肌状隆起１０４０を形成する。ブレード９２４は、鳥肌１０４０の頂点に実質的に近い毛９０４（図１１）を切断する。引張力は、毛に対する、毛幹に張力を与えるのに十分ではあるがこれを皮膚から引き出すほどではない特定の張力に設定される。
【００３３】
図１３は、毛嚢又は毛幹の切断及び縮退を拡大して概略的に示す。毛幹９０４の切断に引き続き、鳥肌１０４０を形成した皮膚９３０は、休止状態におけるその通常に縮むか又は戻る。毛幹９０４の残り９０６が元の位置まで縮む。毛幹９０４の残り９０６は、皮膚表面又は角質層９３０よりも深くまで、例えば参照番号１３０４で示す深さまで縮む。これは、毛幹９０４の残り３０６の切断端と皮膚表面９３０との位置の差異を特徴付けている。図に見ることができるように、当該残り９０６は皮膚表面９３０の実質的に下に存在する。参照番号１３０８は下層組織を示す。
【００３４】
図１１は、動作中の例示的な脱毛機構の第３動作状態を示す。図１２は、動作中の例示的な脱毛機構の第４動作状態を示す。ホルダ９１６（図１１及び１２）が、矢印９２８により示される方向に回転し続け、矢印９３２により示される方向に皮膚９３０の表面上を直線的に又は任意の他のタイプの動きで動く。第３状態において毛抜き９０８は他の毛幹９０４を捕捉し、上で説明したものと同様に第４動作状態において隆起１０４０を形成する。次に毛９０４は、上述の毛幹が切断されたのと同様に切断される。毛抜き９０８及びブレード９２４は同じ方向に配向されるか又は異なる方向にねじれて配向される。毛抜き９０８及びブレード９２４のいくつかが異なる方向に配向される場合、ユーザは、先にトリートメントを受けた皮膚セグメントに沿って逆行させてもまだ有効である。毛抜き９０８及びブレード９２４が同じ方向に配向される場合、トリートメント工程の終わりにあるユーザは、アプリケータ１０４（図１及び４）を回転させてこれを反対方向に動かすか又は次の皮膚セグメントにトリートメントを与えるべくこれを単に再配置させる。
【００３５】
代替的に、脱毛機構８０８（図８）は、例えばかみそり、シェービング、又は電気シェーバーのような周知の機械的脱毛機構の任意の一つである。電気シェーバーは例えば、独国ブラウン社からＳｏｆｔｐｅｒｆｅｃｔ（登録商標）モデル３４７０として市販されている女性用電気シェーバーである。このモデルは、むしり取り及び毛抜き機構に係る他の取り外し可能ヘッドも含む。もちろん、同様の又は全く同じ機構は男性用脱毛／シェーバーに適用可能である。単数又は複数の照射ヘッドが、従来のシェーバー若しくは脱毛器に、シェーバー若しくは脱毛器いずれかの一のヘッドのみに、又はかみそりのみに取り付けられて動作する。脱毛機構は交換可能な機構である。当該タスクに最も適切な機構が本アプリケータに組み付けられる。
【００３６】
図１４は、本アプリケータの脱毛機構の他実施例を概略的に示す。コームタイプの保護プレート１４００が皮膚９３０及び特に隆起１０４０を、回転するブレード９２４（図３）による偶発的なダメージから保護する。コームタイプの保護プレート１４００は、アプリケータ１０４に取り付けられるか又はユーザにより独立して保持される。ブレード９２４は固定されたブレードにより置換することができる。固定されたブレードは毛抜き９０８により引っ張られた毛９０４を切断する。かかる実施例では、ホルダ９１６は回転に加えて直線運動もする。代替的に、毛を切断するべく互いに対して直線的にスライドする２つのコーム状ブレードを実装してもよい。
【００３７】
図１５は、本個人用皮膚トリートメント装置の皮膚照射モジュールの一実施例の３次元図を概略的に示す。モジュール１５００は、一以上の照射源が組み込まれたケース１５０４、本アプリケータから照射モジュールを容易に解放できる一対のリリースボタン１５１２、及びキーコネクタ１５１６を含む。透明保護ウィンドウ１５２０が照射源を保護する。保護ウィンドウに沿って配置された一対のＲＦ電極１５２４が、被トリートメント皮膚セグメント（図示せず）にＲＦエネルギー又は放射を与えるべく動作可能である。これらの動作中、照射源は大量の熱を放出する。以下で詳述される当該熱は、ブロワ７１２（図７）によって生じる冷却流体流又は空気により排出開口１５２８を通して本モジュールから排出される。上述のように、皮膚照射又は光放射付与モジュール１５００（図１５）をアプリケータ１０４の所定位置に挿入することでモジュールタイプの検出機構が作動する。これにより、ユーザが使用するモジュール１５００等の皮膚トリートメントモジュールの無駄な又は誤った動作を回避することができる。例えば、モジュール１５００のＲＦ電極１５２４において高電圧が存在せずに「生きて」いなければ、当該使い捨て可能カートリッジが取り外される場合に誰も高電圧の危険にさらされることがない。追加の安全対策として、電極１５２４へのＲＦエネルギーの供給が、双方の電極が皮膚に適用され、かつ、当該電極間のインピーダンスが所定しきい値を超える場合にのみ可能となる。モジュール１５００は、照射モジュールのみとして、ＲＦエネルギー適用モジュールとして、又はこれらの双方として動作するべく構成される。いくつかの実施例では、例えば熱電対のような温度センサが一の又は双方の電極に設けられる。
【００３８】
図１６は、図１５の皮膚照射モジュールの背面図を概略的に示す。上述の要素に加えて当該図は、冷却流体取り入れ開口１６０４を示す。これを通して、空気であり得る冷却流体の流れがモジュール１５００に入り、一以上の照射源又は光源を含む使い捨て可能カートリッジの排出開口１５２８（図１５）及び背面１６０８を通して排出される。
【００３９】
照射モジュール１５００（図１５）は、様々な照射源を含む。いくつかの非限定的な例は、白熱ランプ、キセノンランプ、レーザダイオード、ＬＥＤ、レーザダイオード又はこれらの２以上の照射源の組み合わせ等の照射源を含む。照射源は、パルスモード、連続モード、段階的モード、変調モード、振動モード等の動作モード、及びこれらの２以上のモードの組み合わせで動作する。当該源のパワー及び動作時間は、被トリートメント皮膚セグメントへの潜在的ダメージを回避するべく選択される。いくつかの実施例では、各照射源が、照射モジュール１５００から取り外し可能なカートリッジ状パッケージにパッケージ化される。照射源のカートリッジ状パッケージにより、異なる照射源が同じ照射モジュール及びアプリケータで使用できる点が有利である。本カートリッジはさらに、当該モジュールを識別し、かつ、当該モジュール動作パラメータを設定するタグを含む。本タグは、当該モジュールのタイプ、推奨されたトリートメントのタイプ及び推奨されたトリートメントパラメータ、並びに可変データ記録を格納する永久データ記録を含む。動作パラメータは、それぞれがカートリッジ（例えば色白肌脱毛用カートリッジタイプ＃１、色黒肌脱毛用カートリッジタイプ＃２、皮膚リジュベネーション用カートリッジタイプ＃３、にきびトリートメント用カートリッジタイプ＃４等のカートリッジタイプ）に一意的に関連付けられた色白又は色黒皮膚のための及び様々なトリートメントのための光及び／又はＲＦパワー設定、パルス継続時間等を含む。可変データ記録により、本モジュールが動作可能であった間の事象の量を記録することができる。タグに記録されたデータにより、アプリケータにタグが挿入された際に本モジュールの動作を可能とすることができる。タグはＲＦＩＤ、ＥＥＰＲＯＭ、又は、抵抗、キャパシタンス等のような一意的な特性を有する簡単な電子回路である。
【００４０】
異なる皮膚タイプに適用可能にトリートメントパラメータ間に差異が所望されるか又は存在するいくつかの実施例では、本モジュールには、これらを容易に区別し、かつ、本モジュールの誤った使用を回避することができるカラーコードが施される。
【００４１】
図１７は、本個人用皮膚トリートメント装置に係る図１５の照射モジュールの、矢印Ｌの方向からの側面図を概略的に示す。図１８は、図１７の照射モジュールのＤ−Ｄ平面に沿った断面であり、本個人用皮膚トリートメント装置の照射カートリッジの一実施例の詳細を示す。
【００４２】
使い捨て可能カートリッジ１８００は、光放射源１８０８と、被トリートメント皮膚セグメント（図示せず）に放出された光放射を反射するべく構成されたリフレクタ１８１２と、誘電体被覆保護ウィンドウ１８１６とを含む。ウィンドウ１８１６はアパチャを画定する。当該アパチャを通して、光放射が皮膚に放出される。光放射源１８１２は、独国ヴィースバーデン、ヴェンゼル・ヤークシュ通り３１  ６５１９９番のパーキンエルマー（登録商標）オプトエレクトロニクス社から市販されているＡＧＡＣ４６２７高パワー密度キセノン閃光ランプのような白熱ランプ、又は、ＬＥＤ、レーザダイオード、固体レーザ、ガスレーザ、若しくはキセノンＩＰＬ（強パルス光）ランプの群の任意の一つである。
【００４３】
リフレクタ１８１２は、平坦な切子面及び多角形断面又は２乗以上のオプション曲率を有する管状断面を有するプリズムケース又は矩形体である。光放射がウィンドウ１８１６のアパチャ全域に放出され得る単純な円筒断面、放物断面、又は他の任意断面であってよい。当該光放射はウィンドウ１８１６のアパチャを通って皮膚に放出される。ウィンドウ１８１６の誘電体被覆は、光放射スペクトルの関連セクションをトリートメントを受ける皮膚セグメントに透過させ、かつ、他セクションを反射するように選択される。リフレクタ１８１２は、当該リフレクタの内側で空気が通ることを許容する複数の突き合わせ端開口１８２０を有する。リフレクタ１８１２の開放長手方向部位に隣接配置又は当該部位に取り付けられた誘電体被覆保護ウィンドウ１８１６は、当該リフレクタ１８１２とともに空気導通チャネル１８２４を形成する。空気導通チャネル１８２４は一側がリフレクタ１８１２と及び他側がウィンドウ１８１６と境界をなす。冷却ファン７１２（図７）によって生じた矢印１８２８により示される冷却空気の流れの一部が、リフレクタ１８１２の突き合わせ端開口１８２０を通ってチャネル１８２４に入る。光放射源１８１２に沿って空気導通チャネル１８２４内に向けられ、当該光照射源１８１２を冷却する。リフレクタ１８１２の突き合わせ端開口１８２０が、空気導通チャネルをその両端で終端させ、冷却空気排出開口として機能する。リフレクタ１８１２の空気排出開口１５２８の面積は少なくとも、リフレクタ１８１２の内部及び空気導通チャネル１８２４に空気が通る開口１８２０の面積以上である。オプションとして、冷却空気流１８２８の一部が、リフレクタ１８１２の外部セクションまわりを流れるように向けられてリフレクタ１８１２の外側セクションを冷却する。
【００４４】
本開示のいくつかの実施例によれば、ロータリーブロワ７１２（図７）は、矢印１８２８により示される冷却空気を使い捨て可能カートリッジ１８００の一側内に送る。ここで空気は光放射源１８０８及びリフレクタ１８１２に平行に（沿って）流れ、光放射付与モジュール１８００の矢印１８２８により示される対向側から出る。
【００４５】
本開示のいくつかの実施例によれば、図１８にも概略的に示されるように、第２ガラスウィンドウ１５２０がウィンドウ１８１６に平行に設置される。ブロワ７１２により送られる冷却空気の一部であって矢印１８２８により示されるものが当該２つのウィンドウ１５２０と１８１６との間を流れる。図１８に示されるように、傾斜ランプ電極１８４４が光放射源４００の空気取り入れ側に設置され、当該ウィンドウの方向の空気流を促進する。矢印１８２８は、リフレクタ１８１２の内側及び外側並びにウィンドウ１５２０と１８１２との間を流れる冷却空気流を概略的に示す。リフレクタ１８１２の曲がったサポート１８５２により、熱い空気の戻り流が防止される。ウィンドウ１５２０及び１８３８は、パイレックス（登録商標）、サファイア、石英、又は特殊加工ホウケイ酸ガラスから作られる。ウィンドウ１０３０又は双方のウィンドウは誘電体被覆でコーティングされる。当該誘電体被覆は、光放射源１８０８から放出されるＵＶ及び所定のＩＲ波長のような望ましくない波長を反射するフィルタとして機能する。
【００４６】
本開示のいくつかの実施例によれば、サーミスタのような熱センサ、又は他の任意タイプの温度測定センサが、当該冷却手段が機能障害の場合に過熱することへの安全対策として、冷却空気の流入端又は流出端のいずれかに設置される。代替的に、温度センサが、本カートリッジにおける他の任意の指定ポイントに設置され、本カートリッジのかかる指定ポイントの温度を検出するべく動作可能に構成され、及び当該温度をコントローラ基板７０８（図７）へ通信する。本開示のいくつかの実施例によれば、図１８にも示されるように、２つのリフレクタが当該２つのウィンドウ（１５２０及び１８１６）間のその両側面上に設けられる。これにより、トリートメント面積の外側への光の散乱が防止される。代替的に、アプリケータ１０４の使い捨て可能カートリッジ１８００は、当該反射された照射を散乱させるのに十分な量の二酸化チタン（ＴｉＯ２）を含むプラスチック材料から作られる。
【００４７】
照射又は光放射付与モジュール１５００のアーキテクチャ及びこれを冷却する方法により、コンパクトかつ有効な光放射源が皮膚トリートメントのための十分なパワーを生成かつ付与することができる。モジュール１５００は、パルス又は連続動作モードで動作する。光放射又は光パルスの繰り返し周期が低いと、アプリケータ位置を常に視覚的に追跡するユーザにとって気に障ることがわかっている。ユーザの感覚を和らげるべく光放射源は、高パワートリートメントパルス間に介在配列されたいくつかの低パワー光パルスを放出する。これにより、光パルスの繰り返し周期が１６Ｈｚ以上の周波数まで増大し、繰り返し周期が低い光パルスの、気に障る効果及び眼にかく乱を与える効果が軽減される。
【００４８】
本開示のいくつかの実施例によれば、ＲＦＩＤデバイスが、制御回路７０８と通信するカートリッジ１８００に接続される（図７）。ＲＦＩＤデバイスには放出されるべき最大数のパルスがプリロードされ、その後、照射付与モジュール１５００のカートリッジ１７００が、放出されたパルスごとにカウントを置換かつ減少させる必要がある。代替的にＲＦＩＤデバイスには、一のトリートメントで皮膚に適用される全エネルギーがプリロードされ、その後、照射付与モジュール１５００（図１５）のカートリッジ１８００が置換される必要がある。ＲＦＩＤデバイスは、追加安全対策としても機能する。ＲＦＩＤが識別できない場合、すなわち光放射又は照射付与モジュール１５００が正確に設置されていない場合、制御回路７０８は放射付与モジュール１５００にパルスを放出させないようにする。
【００４９】
一追加実施例では、米国ＣＡ  ９４０８６、サニービルのマキシム／ダラス・セミコンダクタ社から市販されているＤＳ２４３１のような１０２４ビットの１−Ｗｉｒｅ（登録商標）ＥＥＰＲＯＭである。カウンタとして動作する１−Ｗｉｒｅ  ＥＥＰＲＯＭは、とりわけ放射付与モジュール１５００を制御する制御プリント回路７０８上に組み付けることができる。ＲＦＩＤと同様に、カウンタに所望の情報をプリロードしてもよい。同じ１−Ｗｉｒｅ  ＥＥＰＲＯＭが、放射付与モジュール１５００の信頼性識別を目的として機能できる。
【００５０】
図１９は、本個人用皮膚トリートメント装置の照射モジュールを有するアプリケータの一実施例の断面を概略的に示す。使用時、一以上の照射源を含む照射モジュール１５００がアプリケータ１０４の受け入れベイ５０４に挿入される。キーコネクタ１５１６により、適合するモジュールのみがアプリケータ１０４の受け入れベイ５０４に挿入されることが保証される。
【００５１】
図２０は、本個人用皮膚トリートメント装置の脱毛器モジュールの一実施例を概略的に斜視図で示す。脱毛器モジュール２０００は、以下で詳細に開示する除毛又は脱毛機構２００８が組み込まれたケース２００４と、脱毛器モジュールを本アプリケータから容易に解放可能とする一対のリリースボタン２０１２と、キーコネクタ２０１６と、本モジュールを識別してモジュール動作パラメータを設定するタグとを含む。タグはＲＦＩＤ、ＥＥＰＲＯＭ、又は、抵抗、キャパシタンス等のような一意的な特性を有する簡単な電子回路である。脱毛器機構は、例えば独国ブラウン社から市販されているシルク・エピル（登録商標）のようなものである。
【００５２】
図２１は、本個人用皮膚トリートメント装置の皮膚リジュベネーションモジュールの一実施例の正面図を概略的に示す。皮膚リジュベネーションモジュール２１００は、皮膚リジュベネーション電極２１０８のマトリクスが組み込まれたケース２１０４と、脱毛器モジュールを本アプリケータから容易に解放可能とする一対のリリースボタン２１１２と、キーコネクタ２１１６と、本モジュールを識別してモジュール動作パラメータを設定するタグとを含む。タグはＲＦＩＤ、ＥＥＰＲＯＭ、又は、抵抗、キャパシタンス等のような一意的な特性を有する簡単な電子回路である。以下に詳細に述べるように、皮膚アブレーションモジュール２３００（図２３）も皮膚リジュベネーションを目的として使用することができる。
【００５３】
図２２は、本個人用皮膚トリートメント装置の皮膚リジュベネーションモジュールの皮膚リジュベネーション電極の一実施例を概略的に示す。本願と同じ譲受人の２００９年７月２０日に出願された米国特許出願第１２／５０５，５７６号明細書に詳細に開示されている皮膚リジュベネーション電極２１０８はセグメント化された電極であって、約１５から２０ｍｍ幅のサイズの中心セグメント２２０４と、セグメント２２０４の周辺／周囲に沿って配置された２つの周囲セグメントとを含む。中心セグメント２２０４は、球形状又は平坦なＲＦ付与電極２２１２を終端とする複数の小セグメントの集合である。中心セグメント２２０４と周囲セグメント２２０８との熱的かつ電気的絶縁２２１６も示される。典型的には、熱的かつ電気的絶縁は約０．５−１．０ｍｍの幅である。セグメント化されたＲＦ電極の本実施例では、約２から４ｍｍ幅の周囲セグメント２２０８が熱伝導性材料から作られる。電極２２１２は電気伝導性材料から作られ、電極２２０８は電気伝導性又はセラミック材料から作られる。特に、当該電極の試験されたセグメント２２０８は、金属酸化物又はセラミックからなる群から選択される材料から作られた。窒化アルミニウム、窒化ホウ素等が、かかる材料の例である。電極２１０８は、矩形、楕円形等の適切な形状又は単に平坦な表面であってもよい。電極２２０８は、均一の幅又は異なる幅のセクションを有する。いくつかの実施例では、本電極は誘電体被覆でコーティングされる。ＲＦ源が本電極にＲＦエネルギーを与え、各電極には熱センサが組み込まれる。
【００５４】
図２３は、本個人用皮膚トリートメント装置の皮膚アブレーションモジュールの一実施例の正面図を概略的に示す。皮膚アブレーションモジュール２３００は、皮膚アブレーションロール２３０８が組み込まれたケース２３０４と、アブレーションモジュールを本アプリケータから容易に解放可能とする一対のリリースボタン２３１２と、キーコネクタ２３１６と、本モジュールを識別してモジュール動作パラメータを設定するタグとを含む。皮膚アブレーションロール２３０８は、ダイアモンド微粉末で又はスコッチブライト（登録商標）タイプの微小な材料でコーティングされた金属又はプラスチックのロールである。代替的に、アブレーションロール２３０８は、スコッチブライトタイプの微小な材料でコーティングされた柔らかい材料のロールであるか又は完全にスコッチブライトタイプの材料から作られる。
【００５５】
ケース２３０４の内部区画に設けられたＤＣモータ及びギアにより、皮膚アブレーションロール２３０８の回転が与えられる。ユーザが被トリートメント皮膚セグメントに沿って皮膚アブレーションモジュール２３００を動かすと、皮膚アブレーションロール２３０８が、皮膚アブレーションロール２３０８の表面２３２０の直線速度がユーザが当該皮膚アブレーションモジュールを移動する速度よりも大きく又は小さくなるように回転する。一実施例では、皮膚アブレーションロール２３０８は、表面２３２０の直線速度が当該皮膚アブレーションモジュール２３００が移動する方向にマッチする方向に回転する。他実施例では、皮膚アブレーションロール２３０８は、表面２３２０の直線速度が当該皮膚アブレーションモジュール２３００が移動する方向と反対の方向に配向される。
【００５６】
追加実施例では、皮膚アブレーションロール２３０８は、２以上のダイアモンド被覆又はスコッチブライト被覆ロールで置換できる。当該ロールは、異なる速度で回転した後に、異なる被トリートメント皮膚セグメント間を引き込む。アブレーションを受けた、死んだ、又は平坦な角質層皮膚細胞が後に柔らかいパッド及び皮膚冷却ローション又はクリームにより除去される。代替的に、皮膚アブレーションモジュール２３００は、当該皮膚アブレーションロールに実装された真空スリット又は真空開口を有する。これは、アブレーションを受けた角質層粒子を吸引により除去する。
【００５７】
皮膚アブレーションロール２３０８と皮膚との摩擦が大きく、角質層の除去に加えて、本アブレーションモジュールを被トリートメント皮膚セグメント上で移動させる力を生む可能性がある。コントローラ基板７０８（図７）に設けられた移動速度モニタリング構成がモジュール２３００の移動を制御するコントローラと通信し、適切な移動速度を設定する。ユーザには、特定のトリートメント圧力に適切な適用の自由裁量が与えられる。
【００５８】
図２４は、本個人用皮膚トリートメント装置の皮膚マッサージモジュールの一実施例の正面図を概略的に示す。皮膚マッサージモジュール２４００は、皮膚マッサージロール２４０８が組み込まれたケース２４０４と、マッサージモジュールを本アプリケータから容易に解放可能とする一対のリリースボタン２４１２と、キーコネクタ２４１６と、本モジュールを識別してモジュール動作パラメータを設定するタグとを含む。皮膚マッサージロール２４０８は、一連の溝２４２０及び突起又はリブ２４２４が作られた金属又はプラスチックのロールである。一実施例では、ロール２４０８は、被トリートメント皮膚セグメントにわたる皮膚マッサージモジュール２４００の移動に抵抗する一種のブレーキ機構である。モジュール２４００が移動している間、皮膚が溝２４２０に入り突起２４２４によってマッサージされる。
【００５９】
代替的に、ケース２４０４の内部区画に設けられたＤＣモータ及びギアにより、皮膚マッサージロール２４０８の回転が与えられる。ロール２４０８の回転速度は、皮膚の溝２４２０への引き込みを可能とするように選択される。
【００６０】
図２５は、本個人用皮膚トリートメント装置の皮膚マッサージモジュールの皮膚マッサージロールの他実施例を概略的に示す。皮膚マッサージロール２４０８は、一のロールか又は２以上のロール２５０４及び２４０８の一のアセンブリである。ロール２５０４及び２５０８は同一の突起２４２０及び溝２４２４を有する。代替的には図２５Ｂに示すように、ロール２５０４及び２５１２は反対方向に配向された突起を有する。各ロールは、皮膚マッサージの動作を向上させるべく異なる速度で回転する。
【００６１】
図２６は、本個人用皮膚トリートメント装置の皮膚マッサージモジュールの皮膚マッサージロールの一追加実施例を概略的に示す。ロール２１０８は、突起２４２０間の皮膚を溝２６２４に吸い込んで本皮膚マッサージモジュール２４００のマッサージ動作をさらに高めるべく動作可能な複数の真空開口２６１６を含む。上述のようにマッサージモジュールは、マッサージロール２４０８の直線速度とアプリケータ１０４の皮膚上の移動速度との差異をサポートするべく実装される。これにより、マッサージ動作がさらに高まる。交換可能モジュールの一つが超音波付与モジュールである。本願と同じ譲受人の２００９年１０月６日に出願された米国仮特許出願第６１／２４８，９９７号明細書は、皮膚への超音波適用モジュール及び方法を開示する。ここでは、トランスデューサが、被トリートメント皮膚の面積の対向する境界上互いから所定距離離れて、当該皮膚表面に対して所定角度をもって配置される。トランスデューサ間の角度は、業界周知の音響屈折率整合材料から作られたくさびによって維持される。トランスミッタとレシーバとの距離は被トリートメント面積における組織の厚さに依存する。トランスデューサは、通常はパルス形態の超音波ビームを被トリートメント皮膚表面に対して所定角度で放出するべく動作可能である。これにより、放出されたビームの一部がブリュースター入射角で皮膚組織に衝突し、当該皮膚表面にほぼ平行な伝播経路に従う。トリートメントを受けた面積を通して所望の皮膚トリートメント効果が生じる。
【００６２】
図２７は、本個人用皮膚トリートメント装置の真空モジュールの一実施例（の正面図）を概略的に斜視図で示す。モジュール２７００は、ミニチュア真空ポンプ２７０８が組み込まれたケース２７０４と、真空モジュールを本アプリケータから容易に解放可能とする一対のリリースボタン２７１２と、当該ミニチュア真空ポンプにパワーを供給して本モジュールの適切な位置を識別するキーコネクタ２７１６と、本モジュールを識別してモジュール動作パラメータを設定するタグ２７２０とを含む。タグはＲＦＩＤ、ＥＥＰＲＯＭ、又は、抵抗、キャパシタンス等のような一意的な特性を有する簡単な電子回路である。吸引開口２７２４のまわりには、本モジュールを皮膚表面に付着させる吸引カップ２７２８が存在する。カップ２７２４は、例えばポリウレタン、シリコーン等の柔らかい抗アレルギー性材料から作られる。真空吸引により、例えばアブレーションを受けた表皮粒子、にきび、ブラックヘッド及びホワイトヘッド等のデブリが皮膚から除去される。排気は、真空ポンプ３１２（図３０）と開口６０６（図６）を介して連通する排気管２７３２を通して本モジュールから排出される。吸引されたデブリはモジュール２７００の内側に維持されて当該トリートメントの完了時に処分される。追加実施例では、デブリはドッキングユニット１０８（図１及び３）において回収されて定期的に処分される。追加実施例では、デブリは、最も単純な形態では残りの空気とともに排出管２７３２を通して排出される。真空のレベルは、所望の効果を生じてもなお皮膚表面上を本アプリケータが連続移動可能なように選択される。皮膚移動にわたるモジュール２７００により、被トリートメント皮膚面積を優しくマッサージすることができる。これにより、にきびのブラックヘッド又はホワイトヘッドが根から緩められ／柔らかくなる。モジュール２７００は使い捨て可能モジュールであり得る。
【００６３】
図２８は、本個人用皮膚トリートメント装置の真空モジュールの他実施例を概略的に斜視図で示す。モジュール２８００は、ケース２８０４と、モジュールの本アプリケータからの解放を容易にする一対のリリースボタン２８１２と、キーコネクタ２８１６とを含む。いくつかの実施例では、コネクタ２８１６はダミーコネクタである。これは、電気信号を伝えず、主に本モジュールを所定位置に安定化させる手段として機能する。本モジュールを識別してモジュール動作パラメータを設定するタグが本モジュールに含まれる他実施例では、コネクタ２８１６は本タグから電気信号を伝える。接続管２８２０により、開口６０６（図６）を通る真空モジュール２８００が真空ポンプ３１２（図３）に接続することができる。吸引開口２８２４のまわりには、本モジュールを皮膚表面に付着させる吸引カップ２８２８が存在する。カップ２８２４は、例えばポリウレタン、シリコーン等の柔らかい抗アレルギー性材料から作られる。真空吸引により、例えばアブレーションを受けた表皮粒子、にきび、黒にきび等が皮膚から除去される。回収されたデブリはモジュール２８００の内側に維持される。ドッキングステーション１０８（図１及び３）の通常の排出開口を通して本モジュールから吸引空気が排出される。代替的に、デブリもまたドッキングステーションの通常の排出開口を通して排出される。モジュール２８００は使い捨て可能モジュールとして実装される。
【００６４】
図２９は、本個人用皮膚トリートメント装置のＲＦ及び真空組み合わせモジュールの一実施例を概略的に斜視図で示す。モジュール２９００は、被トリートメント皮膚セグメントにＲＦエネルギーを結合するべく動作可能な一対のＲＦ電極２９０８が組み込まれたケース２９０４と、モジュール２９００を本アプリケータから容易に解放可能な一対のリリースボタン２９１２と、キーコネクタ２９１６と、本モジュールを識別して保ジュール動作パラメータを設定するタグ２９２０とを含む。タグはＲＦＩＤ、ＥＥＰＲＯＭ、又は、抵抗、キャパシタンス等のような一意的な特性を有する簡単な電子回路である。吸引開口２９３２のまわりには、本モジュールを皮膚表面に付着させる吸引カップ２９２８が存在する。カップ２９２８は、例えばポリウレタン、シリコーン等の柔らかい抗アレルギー性材料から作られる。接続パイプ又は管２９２４により、真空モジュールの開口６０６（図６）を通しての真空ポンプ３１２（図３）への接続が可能となる。真空吸引により、例えばアブレーションを受けた表皮粒子、にきび、ブラックヘッド及びホワイトヘッド等のデブリが皮膚から除去される。真空のレベルは、所望の効果を生じてもなお皮膚表面上を本アプリケータが連続移動可能なように選択される。このモジュール移動により、にきび除去等の処置を支援しながら被トリートメント皮膚面積を優しくマッサージすることができる。
【００６５】
図３０は、本個人用皮膚トリートメント装置の照射、ＲＦ、及び真空付与モジュールの組み合わせの一実施例を概略的に示す。モジュール３０００は、照射カートリッジ１５００と真空モジュール２７００又は２８００の組み合わせとして実装される。モジュール３０００は、被トリートメント皮膚セグメントに照射を結合するべく動作可能な照射カートリッジを有する照射モジュール３００８及び真空モジュール３０１０が組み込まれたケース３００４を含む。カートリッジ３００８は、カートリッジ１５００とほぼ同様であるが寸法及び構成が異なる。カートリッジ３００８は、被トリートメント皮膚セグメントにＲＦエネルギーを結合するべく動作可能な、カートリッジ１５００の電極１５２４（図１５）と同様の一対のＲＦ電極３０２４と、モジュール３０００を本アプリケータから容易に解放可能な一対のリリースボタン３０１２と、キーコネクタ３０１６とを含む。カートリッジ３００８のまわりには、真空開口３０３２を有する吸引カップ３０２８が存在する。真空開口３０３２はモジュール３０１０を通って、及び開口６０６（図６）を通る真空接続管又はパイプ３０２０を通って真空ポンプ３１２（図３）と連通する。真空が吸引カップ３０２８に供給されると、モジュール３０００又はより詳しくはモジュール３００８が皮膚表面に付着されるべく動作する。カップ３０２８は、例えばポリウレタン、シリコーン等の柔らかい抗アレルギー性材料から作られる。真空吸引により、例えばアブレーションを受けた表皮粒子、にきび、ブラックヘッド及びホワイトヘッド等が除去される。真空が有利なのはデブリの除去においてだけではない。組織への光及びＲＦエネルギーの結合においても有利である。真空のレベルは、所望の効果を生じてもなお皮膚表面上を本アプリケータが連続又は段階状に移動可能なように選択される。モジュール３０００の移動により、にきび除去を支援しながら被トリートメント皮膚面積を優しくマッサージすることができる。真空はまた、照射モジュール３００８の保護ガラスと接触している皮膚を伸ばす。これにより、当該保護ガラスと皮膚との間のギャップが存在する場合に生じる照射散乱及び皮膚の真皮構造による散乱を低減することができるので照射の効果が増す。モジュール３０００は、使い捨て可能照射カートリッジと使い捨て可能真空カートリッジの組み合わせであり、したがって使い捨てモジュールとして実装される。さらに、カップ３０２８は使い捨て可能カップとして実装される。モジュール３０００は、本モジュールを識別してモジュール動作パラメータを設定するタグ３０４０を含む。タグはＲＦＩＤ、ＥＥＰＲＯＭ、又は、抵抗、キャパシタンス等のような一意的な特性を有する簡単な電子回路である。
【００６６】
図３１は、本個人用美容皮膚トリートメント装置１００（図１）の照射モジュール及び脱毛器モジュールを有するアプリケータの一実施例構成を概略的に示す。アプリケータ１０４と結合するべくモジュール１５００及び２０００は、矢印３１００で示されるように各受け入れベイ５０４及び５０８の中にスライドされてそれらの位置に確実に固定される。プリント回路基板７０８（図７）上に配置されたエレクトロニクスが、本モジュールの識別タグを認識してその動作パラメータを設定する。ここでアプリケータ１０４が使用可能状態となり、以下で述べるように、当該挿入されたモジュールにより可能となる少なくとも２つの処置を行うべく設定される。モジュールを交換するには、ユーザはリリースボタン１５１２又は２０１２を押して最初に挿入されたモジュールを取り出し、異なる所望のモジュールを挿入する。
【００６７】
同様にしてユーザは異なるモジュールの他の任意の組み合わせを組み付けて、異なる美容皮膚トリートメントを行うことができる。
【００６８】
図３２は、本アプリケータ／デバイス及び装置を使用する美容皮膚トリートメント方法の一実施例を概略的に示す。皮膚トリートメントを目的としてアプリケータ１０４が被トリートメント皮膚セグメント３２００に適用され、ＲＦ電極１５２４（図１５）と皮膚との堅固な又は少なくともほぼ堅固な接触が可能となる。光放射付与モジュール１５００が作動して、被トリートメント皮膚セクションを照射する。電極１５２４に供給されたＲＦエネルギーが毛根及び毛嚢を弱め又は破壊する。皮膚にわたり本デバイスを連続的に移動させるユーザ又はビルトイン機構が、矢印２４０４で示される所望の方向に、例えば被トリートメント皮膚セグメント沿いにデバイス１０４を移動させる。一実施例では、光放射は照射カートリッジ１５００のアパチャを通して、一定の光放射パワー及びＲＦエネルギーによりトリートメントを受ける皮膚セグメント３２００を照射するべく配向される。当該光放射パワー及びＲＦエネルギーは双方とも、適切なモジュール識別タグによって設定されて、連続又はパルスモードで供給される。アプリケータ１０４が被トリートメント皮膚セグメントに沿って矢印３２０４の方向に移動される。
【００６９】
コントローラ基板７０８（図７）に設けられた移動速度モニタリング構成が適切な移動速度を設定する。移動速度と光放射パワー又はＲＦエネルギーとの依存性は、制御回路７０８又は３００にルックアップテーブル（ＬＵＴ）として用意され及びロードされる。トリートメントが進みデバイス１０４が皮膚にわたり進行すると、これは被トリートメント皮膚セグメントの境界に到達する。デバイス１０４が被トリートメント又は被シェービング皮膚セグメントの端に到達すると、ユーザはデバイス１０４を手動で次の被トリートメント皮膚セグメントに又はトリートメントを受けていない他の皮膚セグメントに再配置し、同じ又は反対の方向に移動させるべく設定する。デバイス１０４による連続的な皮膚トリートメントの間に当該皮膚が冷却される所定時間が存在するので、同じ皮膚セグメントに２回トリートメントを与えることにより皮膚火傷が生じる危険性が低減される。ＲＦエネルギーと結合された光放射により、毛嚢が加熱されて被トリートメント皮膚セグメントの将来の発毛が遅延される。同じ皮膚セグメントに適用されるＲＦエネルギーは、毛球及び毛嚢が位置する深い皮膚層も加熱し、当該光放射によって行われる脱毛プロセスを促進する。弱められた毛が、照射モジュールに追従する脱毛器モジュール２０００によって容易に取り除かれる。
【００７０】
水及びセッケン等の清浄手段によって行われる皮膚清浄のようないくつかの皮膚事前トリートメントが導入される。皮膚トリートメントを目的として適用されるＲＦエネルギーの周波数は典型的には、６．０ＭＨｚから７．０ＭＨｚの範囲である。一般には、電極１５２４と皮膚３２００との電気的接触を向上させるゲルの適用は不要である。
【００７１】
本デバイス及び本装置を使用する皮膚トリートメント方法の追加実施例では、ユーザは本アプリケータ又は皮膚トリートメントデバイス１０４を、脱毛対象の皮膚セグメントに適用する。脱毛器が矢印３２３２で示される方向に動き、例えば脱毛器モジュール２１００のような機械的手段によって毛が皮膚セグメントから除去される。機械的脱毛に追従して、適切なパワー及び波長の光放射が同じ被トリートメント皮膚セグメントに適用される。オプションとして、ＲＦエネルギーも同じ皮膚セグメントに適用される。光放射及びＲＦエネルギーの適用により、さらなる発毛が遅延される。最初に開示された方法と同様に、ユーザがアプリケータ１０４を移動させるか、又はアプリケータ移動機構が自身により自動的に一の被トリートメント皮膚セグメントからトリートメントを受けていない他の皮膚セグメントに移動する。
【００７２】
図３３は、本アプリケータ／デバイス及び装置を使用する皮膚トリートメント方法の他実施例を概略的に示す。皮膚リジュベネーショントリートメントを目的として、アプリケータ又はデバイス１０４が被トリートメント皮膚セグメント３３００に適用され、ＲＦ電極１５２４と皮膚３３００との堅固な又は少なくともほぼ堅固な接触が可能となる。皮膚にわたり本デバイスを連続的に移動させるユーザ又はビルトイン機構が、矢印３３０４で示される所望の方向に、例えば被トリートメント皮膚セグメント沿いにデバイス１０４を移動させる。皮膚リジュベネーションモジュール２１００の電極２２０８及び２２１２（図２２）にＲＦエネルギーが適用される。角質層すなわち上皮層が誘電体であって、これにその絶縁耐力を超えるストレスを与える所定電圧が適用されるまでは当該角質層が電気的破壊に耐えることは周知である。ＲＦ電圧源により供給されるＲＦ電圧が当該電気的破壊のしきい値を超えると、放電が生じる。皮膚２５０４とアプリケータ１０４の電極２２０８及び２２１２との間に導電流体が不在であれば、本デバイスは高い破壊電位を達成することができるので、個々の電圧供給要素２２１２の間の短絡発生を防止することができる。
【００７３】
導電流体の不在はまた、ドームタイプのコンタクト２２１２から皮膚接触点のみに照射されるＲＦ電圧又はエネルギーによって発生するフラクタルな皮膚ダメージを容易に制限することができる。当該放電により角質層がアブレーションを受けるが、ドーム２２１２を終端とする電圧供給要素と皮膚２５００との結合は導電結合なので、ドーム２２１２の頂部から高導電性の表皮及び真皮並びに深く位置する皮膚層へ電流が流れることができる。皮膚の破壊により可能となることだが、電流は、ドーム２２１２と最初に接触し、かつ、ドーム２２１２の直近にある標的皮膚セクション２８００の所定体積を加熱し及び凝固させて微視的な皮膚創傷のアレイ又はマトリクスを生成する。電圧適用要素２２１２のドーム形状フォームにより、ドーム形状要素２２１２の頂部と皮膚３２００上の接触スポットとの間に発生する放電が促される。しかし、ドーム１２０は皮膚に浸透しない。これらの創傷が治癒することにより、ダメージを受けた皮膚セグメントにリジュベネーションが与えられ（引き締められ）、この皮膚セグメントに存在するしわが低減又は除去される。照射モジュール１５００には、例えば４５０ｎｍ又は５５０ｎｍのような、早期の創傷治癒を刺激する波長を有する照射源が設けられる。
【００７４】
上述のように、照射モジュール１５００（図１５）とともに複数のカートリッジを使用することができる。可視、赤外（ＩＲ）、青色、又は紫外の光放射を異なる強度レベルで与えるべく光放射源を選択することができる。例えば、にきびトリートメントを目的としてユーザは、彼又は彼女のにきびトリートメントモードに最もマッチした適切な照射カートリッジを試験して選択することができる。光放射源は、連続又はパルス動作モードで、かつ、色白又は色黒肌設定に応じて動作する。動作モード設定は、皮膚タイプセンサにより皮膚のタイプを検出することにより自動的に若しくは手動設定により、又はカートリッジタイプに応じたプリセットにより行われる。
【００７５】
トリートメントは、同じ皮膚セグメントに高周波エネルギーを適用することによって向上させることができる。ＲＦエネルギーは、皮膚及び組織を、当該皮膚にアブレーションを与えることなく有効なトリートメント温度まで加熱するべく選択される。適切なスペクトル範囲の光放射と高周波（ＲＦ）とを組み合わせたエネルギーにより、皮脂腺及びにきびバクテリアを高度に選択的に標的とすることができる。赤外及びＲＦエネルギーにより、皮脂腺活動が低減される一方で青色発光が同時に活性にきびを破壊する。
【００７６】
図３４は、本アプリケータ／デバイス及び装置を使用する皮膚トリートメント方法の一追加実施例を概略的に示す。アプリケータ１０４は、皮膚アブレーションモジュール２３００（図２３）及び照射モジュール１５００（図１５）を含む。この構成では、皮膚リジュベネーション、しわ除去、にきびトリートメント、皮膚色素沈着トリートメント等の皮膚トリートメントのような美容皮膚トリートメント処置を目的としてアプリケータ１０４が使用される。皮膚トリートメントを目的として、アプリケータ又はデバイス１０４が、被トリートメント皮膚セグメント３４００に適用され、ユーザによって移動される。または上述のように、皮膚アブレーションモジュール２３００を作動させることによって、アプリケータ１０４が、例えば被トリートメント皮膚セグメント沿いの矢印３４０４で示される所望の方向に移動される。皮膚アブレーションモジュール２３００の動作により、電気的に絶縁された角質層が除去されてむき出しの表皮層に容易にアクセスすることができる。剥離した角質層の粒子が真空により除去される。皮膚の剥離プロセスにより、被トリートメント皮膚セグメントへの血液及び間質液の流れが増加し、当該皮膚の電気抵抗が著しく低減する。皮膚照射モジュール１５００がアブレーションモジュール２３００の直後に従う。むき出しの表皮の低抵抗により、ＲＦ電極１５２４と皮膚３３００との堅固な又は少なくともほぼ堅固な接触が可能となる。被トリートメント皮膚の低電気抵抗により、比較的低い周波数３００ｋＨｚから７００ｋＨｚの皮膚の深くに浸透するＲＦエネルギーを適用することができる。ＲＦエネルギーの浸透深さにより、コラーゲン及び脂肪組織を含む層のトリートメントが可能となる。これらの周波数は、セルライトのトリートメント及び破壊にも有効である。トリートメントが（照射モジュール１５００の電極１５２４間の距離に対応して）高度に局所化され、及び、例えば二重顎の除去、小さな皮膚色素沈着スポットの除去、にきびスムージング等のトリートメントが標的とされる。
【００７７】
皮膚剥離プロセスにより、被トリートメント皮膚セグメントへの血液及び間質液の流れ（刺激循環）が増加し、熱吸収がさらに増加し、所望の表皮効果の出現が加速される。
【００７８】
むき出しの表皮層へのＲＦ及び光エネルギーの適用に追従する皮膚アブレーショントリートメントにより、死んだ細胞が除去され、組織内の熱伝導及び熱拡散を促進する血液循環が刺激される。老いたくすんだ皮膚を新鮮な若い細胞で置換することによって、及び、引き締まった健康に見える皮膚のためのコラーゲン及びエラスチンの再生を促進することによって、当該皮膚構造にリジュベネーションが与えられる。
【００７９】
にきびは、アブレーションモジュール２３００と照射モジュール１５００との組み合わせによってトリートメントを受ける。アブレーションモジュールにより、薄い表皮層が除去される。皮膚治癒プロセスを加速させるべく５００−５５０ｎｍの適切な照射波長が使用される。
【００８０】
さらに、ポリフェノールフラボノイド及びポリフェノールジテルペン（例えばエピガロカテキン、ウルソル酸）を含むポリフェノール系抗酸化血清のような局所薬を適用することによって本トリートメントを補うことができる。もちろんこれは、本トリートメントの結果をさらに向上させる。例えば、ブルース・Ｍ・フリードマン、「Topical antioxidant application augments the effects of intense pulsed light therapy」、Journal of Cosmetic Dermatology, 8, 254-259, 2009を参照のこと。
【００８１】
図３５は、本アプリケータ／デバイス及び装置を使用する皮膚トリートメント方法のさらなる一実施例を概略的に示す。アプリケータ１０４は、真空モジュール２７００（図２７）又は２８００（図２８）及び照射モジュール１５００（図１５）を含む。この構成では、にきびトリートメント、ウエスト引き締め、皮膚色素沈着トリートメント等の皮膚トリートメントのような美容皮膚トリートメント処置を目的としてアプリケータ１０４が使用される。皮膚トリートメントを目的として、ユーザは、アプリケータ又はデバイス１０４を被トリートメント皮膚セグメント３５００に適用して皮膚照射モジュール１５００を作動させる。ユーザによって、アプリケータ１０４が、例えば被トリートメント皮膚セグメントに沿って又はわたって矢印３４０４で示される所望の方向に移動される。パルス又は連続モードでの皮膚照射モジュール１５００により、皮膚３５００が加熱され、柔らかくされ、及び、照射モジュール１５００に追従する真空モジュール２７００又は２８００によって適用された真空が、皮膚のにきび、ホワイトヘッド、ブラックヘッド等の不純物を有効に引っ張り出すことができる。にきびに加え、同じプロセスは、例えば、小さな皮膚色素沈着スポット除去等のトリートメントも標的とする。上述のように吸引により、皮膚の照射ウィンドウ及び電極に対する良好な結合を可能とし、このため良好なトリートメント結果が得られる。
【００８２】
図３６は、本アプリケータ／デバイス及び装置を使用する皮膚トリートメント方法のさらなる他実施例を概略的に示す。アプリケータ１０４は、照射及びＲＦ組み合わせモジュール１５００（図１５）並びに真空モジュール２８００を含む。この構成では、にきびトリートメント、皮膚色素沈着トリートメント、発毛遅延、皮膚リジュベネーション、皮膚引き締め等の皮膚トリートメントのような美容皮膚トリートメント処置を目的としてアプリケータ１０４が使用される。皮膚トリートメントを目的として、アプリケータ又はデバイス３６００が、被トリートメント皮膚セグメントに適用され、ユーザによって当該皮膚セグメントにわたって移動される。電極にＲＦエネルギーが供給されて、皮膚に電流が誘導される。当該電流が皮膚を加熱して柔らかくする。ＲＦエネルギーは、連続又はパルスモードで供給される。柔らかくされかつ加熱された皮膚により、同じモジュールによって適用された真空が、皮膚のにきび、ホワイトヘッド、ブラックヘッド等の不純物を有効に引っ張り出すことができる。照射モジュールは、例えば異なる波長の複数のＬＥＤのような一以上の光源を含む。皮膚表面加熱を加速させるべく所定の波長が適用される。皮膚治癒及びスムージング又は皮膚リジュベネーションを加速するべく、例えば青色又は紫外のような他の波長が適用されて、被トリートメント皮膚セグメントを殺菌してもよい。
【００８３】
開示の装置により、居所に設定された普段のユーザが、ほぼ毎日の皮膚トリートメント処置を、インフラ構造フレームに挿入される様々なモジュールを使用して自分自身で行うことができる。本アプリケータは２タイプの皮膚トリートメントモジュールのみを同時に受け入れるが、これらは使用後、異なるタイプの皮膚トリートメントを与えるモジュールに置換することができる。脱毛器、シェーバー、剥離、又はアブレーションモジュール及びマッサージヘッドのような皮膚トリートメントモジュールが、皮膚に機械的作動を適用する。超音波モジュールが皮膚に超音波を適用する。強パルス光及びＲＦが皮膚に電磁気放射を適用する。脱毛、皮膚リジュベネーション、皮膚剥離、にきびトリートメント、痩身等の皮膚トリートメントのような様々な皮膚トリートメントを与えるべく、これらのモジュールの組み合わせが使用される。
【００８４】
当該トリートメントのいくつかの効果は、皮膚が清潔かつ柔らかい風呂又はシャワーの後に当該トリートメントを適用することによってさらに向上される。例えば熱及び真空、機械脱毛及び照射等のような異なるトリートメントを同じ皮膚セグメントに与える異なるモジュールの組み合わせは、トリートメントを受ける皮膚のタイプに関係なく、ほぼすべてのタイプの皮膚疾患への対処に役立つ。
【００８５】
例示により与えられ制限を意図しない詳細な説明を使用して、いくつかの実施例を記載してきた。記載の実施例は異なる特徴を含み、そのすべてがすべての実施例に必要なわけではない。いくつかの実施例は、当該特徴のいくつか又は当該特徴の可能な組み合わせのみを利用する。記載の実施例の変更、及び記載の実施例にて注記された特徴の異なる組み合わせを含む実施例が当業者に想到される。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５Ａ】
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【図２５Ｂ】
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【図２６Ａ】
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【図２６Ｂ】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【国際調査報告】
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