(57)【要約】  エアロゾル化処理組成物と接触する表面又は空間に技術的恩典を付与する処理組成物のミスト、すなわち、エアロゾル化処理組成物を発生させる装置を開示する。同じく本発明の装置を利用する表面の処理の方法も開示する。【選択図】      図２４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
エアロゾル化処理組成物と接触する表面又は空間に技術的恩典を付与する処理組成物、すなわち、エアロゾル化処理組成物のミストを生成する装置。
【請求項２】
請求項１に記載の装置を使用して表面を処理する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理組成物を表面、例えば、非生物硬質面又は非生物軟質面に送出するための装置及び方法、及びこのような表面を処理する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表面に技術的恩典をもたらす化学的組成物は、古くからあって当業技術で公知である。主としてその組成が多くの場合に水性である液体組成物は、ある一定量のこのような組成物を表面に単に注ぐか又は分注容器から送出される液滴の形態でそれを送出することを含むいくつかの手段のいずれかにより表面に供給することができる。広く使用される分注容器は、ある一定量の組成物並びに高圧気体を含むエアロゾル容器のような高圧容器、並びにノズルを通じて組成物を分注するのに使用することができる手動式のポンピング可能なスプレーヘッドが装備された非加圧式フラスコ又は容器を含む。このようなものは、多くの状況で有効であるが、短所がないわけではない。一般的に、エアロゾル容器又は手動式のポンピング可能なスプレーヘッドを使用する送出率は有効であるが、このような手段によって送出される比較的大きい液滴は、一般的に、それらが分注される硬質又は軟質面を急速に飽和させる。更に、このような手段によって送出される比較的大きい個々の液滴は、粒径、質量、又は直径も広範囲であることが多く、これは、送出される平均的な液滴粒径の分布に関して非常に低い均一性の度合いをもたらす。これは、多量のこのような処理組成物が表面上に比較的急速に送出されるか又は堆積されように意図される場合に有利であるが、これはまた、粒径が比較的大きい液滴が急速に表面上に落下して硬質又は軟質面上に処理組成物の限られた程度の分布をもたらすので不利でもある。すなわち、硬質又は軟質面を含む表面へ処理組成物の送出のための改良型の方法を提供する現実的な必要性が当業技術に存在する。本発明が関連するのは、そのような必要性である。
【０００３】
同じく空気処理、例えば、空間内への芳香剤、香水、殺虫剤、消臭スプレー、臭気中和剤の分散に主として関連する技術分野で公知であるのは、分散粒子の形態で液体組成物を分注するための様々な装置である。このようなものは、振動板とリザーバから振動板まで液体の送出のための芯又は毛細管とを含む様々な装置を開示するＦｅｒｉａｎｉ他に付与されたＵＳ  ７６９４８９２７、Ｔｏｌｌｅｎに付与されたＵＳ  ２００９／３０８９４５、Ｖａｌｐｅｙ  ＩＩＩ他に付与されたＵＳ  ２００９／２７２８１８、タカハシ他に付与されたＵＳ  ５２９９７３９に開示されたものを含む。更に、Ｃｏｌｌｉｎｓ，Ｊｒ．他に付与されたＵＳ  ２００４／０２５６４８７、Ａｂｅｒｇｅｌ他に付与されたＵＳ  ２００５／０１０３８９１、及びＨｅｓｓ他に付与されたＵＳ  ６８０２４６０は、リザーバからの液体に直接に流体接触している振動板を含むスプレー装置を開示している。ＵＳ  ５２９７７３４は、空間に液体の粒子を送出するための液体が供給される振動板の様々な構成を開示している。これらの米国特許文書の内容は、引用により本明細書に組み込まれる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】米国特許第７６９４８９２７号
【特許文献２】米国特許出願公開第２００９／３０８９４５号
【特許文献３】米国特許出願公開第２００９／２７２８１８号
【特許文献４】米国特許第５２９９７３９号
【特許文献５】米国特許出願公開第２００４／０２５６４８７号
【特許文献６】米国特許出願公開第２００５／０１０３８９１号
【特許文献７】米国特許第６８０２４６０号
【特許文献８】米国特許第５２９７７３４号
【特許文献９】米国特許出願公開第２００９／０１２１０４３号
【特許文献１０】米国特許第７６７３８１２号
【特許文献１１】国際公開第２００９／０５９６６４号
【特許文献１２】米国特許出願公開第２００９／０２５４０２０号
【特許文献１３】米国特許第２００９／０２２４０６６号
【特許文献１４】米国特許第５７４３２５１号
【特許文献１５】米国特許第６２３４１６７号
【特許文献１６】米国特許第６４９１２３３号
【特許文献１７】米国特許第６５０１０５２号
【特許文献１８】米国特許第６５１６７９６号
【特許文献１９】米国特許第６５６８３９０号
【特許文献２０】米国特許第６６４００５０号
【特許文献２１】米国特許第６６８１９９８号
【特許文献２２】米国特許第６７６６２２０号
【特許文献２３】米国特許第６７７２７５７号
【特許文献２４】米国特許第６８０４４５８号
【特許文献２５】米国特許第６８８３５１６号
【特許文献２６】米国特許第６８５４６６２号
【特許文献２７】米国特許第７２２９０２９号
【特許文献２８】米国特許出願公開第２００７／００１１９４０号
【特許文献２９】米国特許出願公開第２００７／０１６９７７５
【特許文献３０】米国特許出願公開第２００８／００４１９２７２号
【特許文献３１】米国特許第２，９７４，１３４号
【特許文献３２】米国特許第３，２１９，６５６号
【特許文献３３】米国特許第３，５９８，８６５号
【特許文献３４】米国特許第３，６４０，９９８号
【特許文献３５】米国特許第３，７０７，５３５号
【特許文献３６】米国特許第３，７７２，２６９号
【特許文献３７】米国特許第３，８３９，３１８号
【特許文献３８】米国特許第３，９７４，１３８号
【特許文献３９】米国特許第４，２２３，１２９号
【特許文献４０】米国特許第４，５２８，１０６号
【特許文献４１】米国特許第７２２９０２８号
【特許文献４２】米国特許第７１００８８９号
【特許文献４３】米国特許第６３２８２７９号
【特許文献４４】米国特許第５３５６１１１号
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】ＭｃＣｕｔｃｈｅｏｎ著「機能材料」（第２巻）、北アメリカ版、１９９８年
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
これらの公知の当業技術の装置にも関わらず、当業技術の処理装置及び処理方法には更なる進歩が依然として必要である。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様において、エアロゾル化処理組成物と接触する表面又は空間に技術的恩典をもたらす処理組成物、すなわち、エアロゾル化処理組成物のミストを発生させる装置を提供する。
【０００８】
本発明の更に別の態様により、硬質面及び軟質面の処理の方法を提供し、本方法は、処理組成物のミストを発生させる装置を準備する段階を含み、処理組成物は、表面に接触してそこに技術的恩典を提供する。
【０００９】
本発明の付加的な態様により、非生物無孔性硬質面の処理の方法を提供し、本方法は、硬質面に接触してそこに技術的恩典を提供する処理組成物のミストを発生させる装置を準備する段階を含む。
【００１０】
本発明の更に別の態様により、軟質面、例えば、カーペット、敷物、カバー、カーテン及び掛け布、布地、織物、及び衣類の処理の方法を提供し、本方法は、処理組成物のミストを発生させる装置を準備する段階を含み、処理組成物は、軟質面に接触し、更に任意的にその１つ又は複数の表面にも浸透し、かつそこに技術的恩典を提供する。
【００１１】
本発明の更に別の態様により、チリダニの発生を制御するか又はその残留糞便を制御する方法を提供し、本方法は、処理組成物のミストを発生させる装置を準備する段階を含み、処理組成物は、表面に接触してそこに技術的恩典を提供する。
【００１２】
本発明の更に別の態様では、アレルゲンを変性させる方法を提供し、本方法は、処理組成物のミストを発生させる装置を準備する段階を含み、処理組成物は、表面に接触してそこに技術的恩典を提供する。
【００１３】
本発明の更に別の態様では、空間への空気処理組成物の送出の方法を提供し、本方法は、処理組成物のミストを発生させる装置を準備する段階を含み、処理組成物は、空間に接触してそこに技術的恩典、例えば、芳香、香水、消臭、悪臭中和、及び空気清浄などを提供する。本方法は、開放空間内、例えば、部屋のようなより大きい容積、建物内部の公共の場、車両内の運転室又は車内、並びに閉じた容器、又は他の比較的より小さい空間、例えば、収容キャビネット、クロゼット、シャワー個室、及び厨芥入れ又はごみ箱などの内部などで実施することができる。
【００１４】
本発明の更に別の態様では、布地、織物、及び衣類などの洗濯処理のために洗濯機内で処理される物品の前処理又は物品の後処理の方法を提供し、本方法は、前処理組成物のミストを発生させる装置を準備する段階を含み、ミストは、上述の布地、織物、及び衣類などに接触し、更に任意的にその１つ又は複数の表面にも浸透し、かつそこに技術的恩典を提供する。このような前処理段階又は後処理段階は、上述の物品に直接に実施することができ、又は洗濯機又は洗濯物乾燥機のような機械を利用して実施することができる。
【００１５】
本発明の更に別の態様により、自動皿洗い機内で処理される皿類物品のような物品の前処理又は物品の後処理の方法を提供し、本方法は、前処理組成物のミストを発生させる装置を準備する段階を含み、この組成物は、皿類、例えば、食器類、ガラス製品、調理用具、及び調理器具などに接触し、かつそこに技術的恩典を提供する。このような前処理段階又は後処理段階は、上述の皿類物品に直接に実施することができ、又は自動皿洗い機のような機械を利用して実施することができる。
【００１６】
本発明の更に別の態様により、身体表面、例えば、皮膚面又は毛髪面への処理組成物の適用の方法を提供し、本方法は、処理組成物のミストを発生させる装置を準備する段階を含み、この組成物は、身体表面に接触してそこに技術的恩典を提供する。
【００１７】
本発明の更に別の態様では、治療を必要とする病気の動物に吸入可能な医薬品組成物を送出する方法を提供し、本方法は、病気の動物（人間、人間以外の動物、特に哺乳類）に治療の恩典をもたらす少なくとも１つの薬学的活性組成物を含む治療組成物のミストを発生させる装置を準備する段階を含み、治療組成物は、病気の動物により吸入又は摂取される。
【００１８】
本発明の上記及び更に別の態様は、以下の明細書及び添付図面の精査からより明らかであろう。
【００１９】
本発明の一態様において、エアロゾル化処理組成物とも呼ばれてエアロゾル化処理組成物と接触する表面又は空間に技術的恩典を与える処理組成物のミストを発生させる装置を提供する。一実施形態により、流体製品をエアロゾル化する装置を提供し、この装置は、ミスト発生器と、ミスト発生器を作動させるための制御回路と、エアロゾル化される流体製品のためのリザーバと、ミスト発生器に流体製品を供給するための手段と、ハウジングと、任意的に、ミスト発生器によって発生したミストの流れを装置から外へ向けるようになった少なくとも１つの流れ誘導ノズル又は流れ誘導オリフィスとを含む。
【００２０】
本発明の第２の態様では、装置は、処理組成物のミストを供給する機能を行うように相互接続することができる２つ又はそれよりも多くの部分に分割される。
【００２１】
本発明の第３の態様では、処理組成物のミストを発生させる装置は、完全に手で保持可能である。
【００２２】
ミスト発生器手段は、中実又は多孔性であるか又はグリッドの形態で又は振動部材を通過する１つ又はそれよりも多くのセグメント又はスロットの形態で微細穿孔された金属又はセラミック板を含む振動部材と、作動時に振動部材に振動運動を引き起こす圧電アクチュエータとを含むことができる。ミスト発生器手段は、上述の振動部材に取り付けられて円環に張られた圧電材料の環状リングとすることができ、これは、起動時に上述の振動部材を振動させる。ミスト発生器手段は、圧電材料の振動運動を受け取って振動運動を上述の振動部材に伝達する非振動要素又は部材に取り付けられるか、隣接するか、又は当接する圧電材料を含むことができる。ミスト発生器手段は、圧電材料の振動運動を受け取って処理組成物を必ずではないが任意的に振動させる振動部材を通して強く押し込む非振動要素又は部材に取り付けられるか、隣接するか、又は当接する圧電材料を含むことができ、メッシュ又は板は振動せず、処理組成物は、圧電材料の振動運動を受け取る、取り付けられたか、隣接するか、又は当接する非振動要素又は部材の移動により、例えば、圧電材料の振動運動による非振動部材とメッシュ又は板の間に位置する処理組成物の圧縮により振動部材を通して駆動される。
【００２３】
ミスト発生器手段は、管状圧電材料とすることができ、これは、起動時に管状圧電材料が振動又は膨張／収縮し、これが、次に振動部材の振動運動を与えるように、圧電材料の端部間でその内部ボアに張られた振動部材を含み、及び／又はその１つ又はそれよりも多くの端部で内部ボアに張られた振動部材を含む。
【００２４】
ミスト発生器手段は、静電スプレー装置とすることができる。ミスト発生器手段は、超音波ノズル装置とすることができる。
【００２５】
ミスト発生器手段は、第１及び第２の端部を有する管と、管を加熱するために管に対して配置された加熱器と、管の第２の端部が連通する蒸発される材料の供給源と、材料供給源と管の第１の端部の間の連通を開閉するために開閉可能である材料供給源と管の間に作動的に位置する弁と、弁が開放位置である時に材料供給源内の材料を材料供給源から管内に導入させる加圧構成とを含む管状エアロゾル発生器とすることができる。ミスト発生器手段は、装置の一部を形成し、かつそれに恒久的に固定することができる。代替的に、ミスト発生器手段は、装置に挿入又は固定された時に装置を完成させてその使用を可能にする補充ユニット又は補充リザーバの一部として設けることができる。更に、ミスト発生器手段は、装置又は補充ユニット又は補充リザーバのうちの１つ又はそれよりも多くにユーザにより必要に応じて又は望むように除去及び／又は設けることができるユーザ交換可能な物品又はユニットとすることができる。更に、いずれの実施形態でも、ミスト発生器は、作動ミスト発生器手段を形成するために組み立てる必要があるいくつかの部分で形成することができ、例えば、圧電アクチュエータは、装置の一部を形成することができ、別の振動部材は、装置及び補充ユニット又は補充リザーバが適正に整列し、又はそうでなければ装置内に設けられるまで作動不能のままであり、従って、圧電アクチュエータとその後にミスト発生器手段として作動する振動部材との間の相互作用を可能にする補充ユニット又は補充リザーバの一部を形成することができる。このような実施形態は、補充ユニット又は補充リザーバの交換で新しい振動部材が装置に設けられるという点で好ましい。
【００２６】
装置は、ミスト発生器手段の作動を制御するコントローラ手段を含む。コントローラ手段は、１つ又はそれよりも多くの機能を提供することができる。コントローラ手段は、ミスト発生器の作動に向けて適切な電気信号を発生させるのに使用される高周波発生器と、特に、それに関連付けられた圧電素子又は装置とを含むことが好ましい。コントローラ手段は、コントローラ手段の作動モードを制御するために本発明によって装置のユーザにより確立することができる１つ又はそれよりも多くのスイッチ又は他の入力手段、例えば、ボタン、接点、又はスイッチを含むことができる。コントローラ手段はまた、処理組成物の計量された量又は投与量が装置から分注された後にユニットの電源を切断するか又はその作動を停止することができるミスト発生器の出力を制御するための手段を含むことができ、処理組成物の量は、例えば、設定値を通じてユーザが制御可能な量とすることができ、又はユーザが変更することができない所定の計量された量とすることができる。装置によって送出される処理組成物の量は、装置の環境条件に応答することができるコントローラ手段によって受信した信号に応答して変えることができる。コントローラ手段はまた、装置に関連付けられた１つ又はそれよりも多くのセンサから受信される１つ又はそれよりも多くの信号入力を受信してそれに応答するように適応させることができる。例えば、コントローラ手段は、リザーバ又は補充ユニット内の処理組成物の量のような装置のいずれかの部分のステータス、装置の物理的向き、並びに分注の頻度及び／又は単位時間間隔にわたって分注される処理組成物の容積に関連する信号又は条件を受信してそれに応答するように適応させることができる。このような応答の非限定的な例は、処理組成物の容積送出速度及び／又は単位時間当たりの処理組成物の送出の頻度のうちの１つ又はそれよりも多くを増加又は低減することを含む。コントローラ手段は、ワイヤのような適切な導体手段を通じて装置の１つ又はそれよりも多くの更に別の要素にそれらの作動を制御するために伝達することができる１つ又はそれよりも多くの出力信号を提供することができる。コントローラ手段は、プログラマブルとすることができ、かつ各々が少なくとも１つ、好ましくは複数の個別のプログラムされた段階を有する１つ又はそれよりも多くのプログラムによる装置の作動のための適切な電子回路を含むことができ、一般的に、このようなものは、少なくとも論理又はプログラムコントローラ、例えば、中心演算処理装置及び１つ又はそれよりも多くのプログラムを格納するためのシステムメモリを含む。コントローラ手段は、好ましくはコントローラ手段への１つ又はそれよりも多くの信号入力に応答する特定の論理に従って作動する非プログラマブル回路とすることができる。コントローラ手段は、流体処理組成物から処理ミストを発生させる際にその作動を制御するためにミスト発生器に適切な電力及び／又は信号出力を供給するために駆動回路を含むことができ、これは、この目的に対して適切な公知の従来技術の駆動回路を含むことができる。コントローラ手段内に存在することができる適切な回路の一例は、その内容が引用により本明細書に組み込まれている公開出願ＵＳ  ２００９／０１２１０４３に開示されているような変圧器変換器を含み、かつ存在する圧電素子及びミスト発生器によって作用される入力を有するパルス幅変調回路（ＰＷＭ）である。適切な回路の更に別の例は、処理組成物が細かい液滴のエアロゾルに形成されるように可変周波数をミスト発生器に供給するマイクロプロセッサ制御式可変発振器を含むものである。可変発振器は、充電及び放電の時間を調節するデジタル抵抗器を含むことが好ましく、このような回路は、その内容が引用により組み込まれるＵＳ  ７６７３８１２に開示されている。
【００２７】
装置は、ユーザによる直接の制御により、例えば、装置上のスイッチを制御することによって作動させることができ、又は代替的に、装置は、間接的に、例えば、遠隔制御ユニットによって作動させることができる。
【００２８】
装置は、装置が携帯型であるように装置と一体化している電力供給源、例えば、１つ又はそれよりも多くのバッテリを含むことができ、又は装置は、装置を電源に、例えば、コントローラ手段に電力を供給する変圧器又は電気幹線に接続するための手段、例えば、ワイヤを含むことができる。バッテリは、消耗した時にユーザにより交換可能にすることができる。バッテリは、適切な電源に接続することによって補充することができる充電式バッテリとすることができる。従って、ある一定の実施形態では、本発明の装置は完全に携帯型であるが、他の実施形態では、本発明の装置又はその一部は、装置が使用中である時に必ずしも移動するか又は携帯型であるというわけではない固定部品とすることができる。このようなものは、例えば、充電ステーション又は流体リザーバを含む装置の一部を含む。装置の更に別の構成も可能である。
【００２９】
装置は、１つ又はそれよりも多くのセンサ手段を含むことができる。センサ手段は、装置内の条件の状態、例えば、処理組成物の存在又は適切な補充容器の存在を評価するために存在することができる。センサ手段は、装置が使用中である環境の状態、例えば、時刻、装置の環境の近くの輝度の程度、光の欠如、光の存在、音センサ、振動センサ、熱センサ、臭気又は匂いセンサ、圧力センサ、及び近接センサなどを評価するために存在することができる。
【００３０】
装置は、装置内及び／又は着脱式リザーバとすることができるリザーバ内に存在する液体の量に応答して装置の作動を制御する充填レベルセンサを含むことができる。
【００３１】
装置は、例えば、レベルセンサ、水平センサ、加速度計、又は水平又は水平線に対して装置の相対位置を確立するのに使用することができるあらゆる他の装置とすることができる装置の物理的向きを判断する１つ又はそれよりも多くの方位感知手段を含むことができる。
【００３２】
装置は、ある一定量の処理組成物を収容するリザーバを含むことができ、このリザーバは、装置の一部又はその要素として一体的に形成することができ、これは、除去されるのではなく、必要とされる時に処理組成物が補充されるように意図している。代替的に、装置は、装置から除去され、かつ装置に新しい量の処理組成物を補充するか又は再供給するためのような必要な時に交換されることが意図される着脱式リザーバを含むことができる。装置のリザーバは、単一の流体処理組成物を収容するように適応させることができ、又は複数の流体処理組成物を収容するように適応させることができる。このような着脱式リザーバは、カートリッジ又はアセンブリの形態を取ることができ、又はこのようなカートリッジ又はアセンブリの一部とすることができる。カートリッジは、補充されることが意図されていない使い捨てカートリッジとすることができる。カートリッジは、大気に任意的に通気することができるバッグ又はプレナムを含むことができる。カートリッジは、ユーザにより補充可能にすることができる。
【００３３】
装置は、リザーバからミスト発生器への流体製品、すなわち、処理組成物の送出速度を制御する少なくとも１つの流体制御手段を含むことができる。流体制御手段は、装置の一部を形成することができ、又は着脱式リザーバの一部とすることができ、又は装置及び着脱式リザーバの両方に存在することができる。流体制御手段は、協働要素によって形成することもでき、その一部は、協働要素が組み立てられた時に協力して流体制御手段を形成するように着脱式リザーバ上に存在し、かつ一部は、装置上に存在する。装置は、１つ又はいくつかの流体制御手段を含むことができる。流体制御手段の非限定的な例は、以下のもの、すなわち、ａ）毛細効果を通じて流体リザーバからミスト発生器手段に処理組成物を供給する１つ又はそれよりも多くの毛細管、ｂ）流体リザーバからミスト発生器手段に処理組成物を供給する流体導管を提供する１つ又はそれよりも多くの管又はチャンネル、ｃ）１つ又はそれよりも多くのポンプ、ｄ）例えば、その端部で露出処理組成物を有する芯又は管が近くにあるが振動部材とは直接に接触していない場合に発生する場合がある例えば処理組成物がその振動（又は揺動）運動の範囲の少なくとも一部分中に振動部材の上面又は底面に供給されるか、又は振動（又は揺動運動）の範囲中に、振動部材がある一定量の処理組成物に接触してそこから放出される前に振動部材内にそれを同伴する振動部材と処理組成物の間の直接的な物理的相互作用、ｅ）ミスト発生器手段への処理組成物の重力給送式流れにようもの、ｆ）手動の供給手段、例えば、ある一定量の処理液体をミスト発生器手段に移送するポンプ又はバルブのような要素のユーザによる手動のポンピング、ｇ）リザーバとミスト発生器手段の中間に存在するアンティチャンバ又は空洞であって、アンティチャンバ又は空洞がリザーバから最初に満たされ、ミスト発生器手段が空洞のアンティチャンバからであるがリザーバから直接ではなく処理組成物を供給されるアンティチャンバ又は空洞を含む。
【００３４】
特に好ましい流体流れ手段は、ｃ）歯車ポンプ、正置換ポンプ、ロータリーポンプ、マイクロポンプ、ダイヤフラムポンプ、及び特に好ましくは、「Ｂａｒｔｅｌｓ  Ｍｉｋｒｏｔｅｃｈｎｉｋ  ＧｍｂＨ」（ドイツ国ドルトムント）から現在市販されているような圧電ダイヤフラムポンプを含むがこれらの限定されない１つ又はそれよりも多くのポンプを含む。このような圧電ダイヤフラムポンプの例は、以下のもの、すなわち、ＷＯ／２００９／０５９６６４のうちの１つ又はそれよりも多くに開示されており、この特許の内容は、引用により本明細書に組み込まれている。それは、本発明の特に好ましい実施形態である。
【００３５】
装置は、リザーバからミスト発生器への流体製品（処理組成物）の送出速度を制御する少なくとも１つの流体制御手段を含むことができる。流体制御手段は、装置の一部を形成することができ、又は着脱式リザーバの一部とすることができ、又は装置及び着脱式リザーバの両方に存在することができる。流体制御手段は、協働要素によって形成することができ、協働要素が組み立てられた時に協力して流体制御手段を形成するように、その一部は、着脱式リザーバ上に存在し、一部は、装置上に存在する。装置は、１つ又はいくつかの流体制御手段を含むことができる。
【００３６】
装置は、空気流発生器手段を含むことができる。空気流発生器手段は、霧化処理組成物の流れを特に装置を出る時に誘発するか又は誘導する空気流を発生させるのに使用することができる。空気流発生器手段は、霧状の処理組成物又は処理組成物のミストを同伴もし、かつ装置から外方に流れを誘導するのに使用することができる。しかし、ある一定の実施形態では、このような更に別の空気流発生器手段は、存在せず、かつ装置から省略される。
【００３７】
装置は、ハウジングにより実質的に限られる単一のユニットとすることができ、又は装置は、１つ又はそれよりも多くの伸張可能な要素、例えば、ミスト発生器及び／又はリザーバを収容する装置のハウジングに接続したワンドを含むことができる。一実施形態では、装置の一部は、処理組成物のリザーバ及びミスト発生器手段を収容し、ミスト発生器手段は、霧化処理組成物が装置を出る流れ誘導ノズルを含む装置の更に別の部分まで霧化処理組成物が通る管により接続され、ユーザは、上述の表面を処理するために硬質面上へ及び／又は軟質面上へ霧化処理組成物の流れを誘導するために流れ誘導ノズルを含む装置の後者の部分を位置決めすることができる。
【００３８】
装置は、補助流れ誘導の恩典をもたらす流れ誘導ノズルと協働するか、又は処理中の表面に相互作用的に接触するための手段をもたらす更に別の流れ誘導要素を含むことができる。しかし、ある一定の実施形態では、このような流れ誘導要素は、存在せず、かつ装置から省略される。
【００３９】
装置は、装置の周囲環境に揮発性材料を供給するのに使用される空気処理手段を更に含むことができ、揮発性材料は、ミスト発生器手段とは独立して周囲環境に供給される。空気処理手段は、揮発性材料、例えば、芳香剤、香水、飛翔昆虫の制御又は根絶のための組成物、臭気中和剤、消臭剤、並びに処理組成物とは別々である心身一体的又はアロマセラピーの恩典をもたらすことができるものの１つ又はそれよりも多くを送出するのに使用することができる。例えば、このような揮発性材料は、装置の一部を形成するか又は装置と共に使用することができるある一定量の上述の揮発性材料を含むリザーバ内に設けることができる。このようなリザーバは、あらゆる形状又は適切な形を取ることができ、かつ装置の内部に又は装置の外部に含めることができ、又は装置と別々又は分離可能であるが装置の近くに設けられることが意図される別々の物品又は要素として設けることができる。非限定的な例として、このようなリザーバは、空気処理の恩典をもたらす際に有用な揮発性組成物、リザーバから周囲環境に発することができる揮発性空気処理組成物も含むゲル又は固体組成物で含浸され、又はこれらの組成物が吸収されるパッド又はタブレットか、又はリザーバから周囲環境への揮発性材料送出のための繊維質芯又はパッド又は多孔質膜を含む容器のような多孔質材料を含むことができる。代替的に、リザーバは、単体、例えば、板の形態で、又は揮発性の組成物のためのリザーバとして機能し、かつ周囲環境に送出することができる複数の球体又はビーズとしてある一定量の粒子材料を収容することができる。このような材料の非限定的な例は、芳香セルロースポリマーベースの商品名Ａｕｒａｃｅｌｌ（登録商標）（例えば、Ｒｏｔｕｂａ  Ｅｘｔｒｕｄｅｒｓ）、ＰｏｌｙＩＦＦ（登録商標）（例えば、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｆｌａｖｏｒｓ  ａｎｄ  Ｆｒａｇｒａｎｃｅｓ  Ｉｎｃ．）、並びにＴｅｎｉｔｅ（登録商標）（例えば、Ｅａｓｔｍａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．）で現在市販されているものを含む。
【００４０】
本発明の装置は、処理剤を含む処理組成物の送出のためのミスト発生器手段を含む。ある一定の実施形態では、処理組成物は、単に処理剤で形成することができる。ミスト発生器は、処理組成物の噴霧をもたらすか、又は処理組成物を推進してノズルを通過させてその結果としてそこから離散粒子の形成を引き起こすために処理組成物を直接に加熱するか又は推進剤気体又は液体ポンプの使用を利用することなく処理組成物のエアロゾル化をもたらすあらゆる装置とすることができる。
【００４１】
処理組成物は、直ちに利用可能な形で送出することができ、例えば、装置から噴霧して分注する処理組成物を形成するために水又は他の材料で更に別の希釈が不要であるか、又は代替的に、噴霧化されて装置から分注される前に水又は他の材料での更に別の希釈を必要とする濃縮した形で送出することができる。
【００４２】
ミスト発生器手段は、静電スプレー装置とすることができる。静電スプレー装置は、高い電位を通じて処理組成物にエネルギを与える。このエネルギは、処理組成物を噴霧及び荷電して、細かい荷電粒子のスプレーを作成する役目をする。荷電粒子が噴霧器から離れる方向に搬送されると、共通電荷により荷電粒子を互いに反発させる。これは、スプレーがターゲットに到達する前に２つの効果を有する。第１に、全体的なスプレーミストを拡張する。これは、かなり遠い大きい領域にスプレーする時に特に重要である。第２の効果は、元の粒径の維持である。粒子は、互いに反発するので、共に集まって中性粒子のような大きいより重い粒子になることに抵抗する。このようなことによって重力の影響が減少し、意図するターゲット表面に到達する荷電粒子が増大する。負に帯電した粒子の塊がターゲット表面に接近する時に、ターゲット表面の内側の電子を内方に押し進めて、ターゲットの全ての露出面に一時的な正電荷が残る。粒子とターゲット表面の間の得られる引き付けは、重力及び慣性の影響を無効にしてしまう。各粒子がターゲット表面に堆積すると、ターゲット表面上の上述の点は中性化されてもはや引き付ける力はなくなる。従って、次の単体粒子は、直近の点に引き付けられ、このシーケンスは、ターゲット表面の表面全体が処理組成物の粒子で覆われるまで続く。従って、静電スプレー装置の使用は、処理組成物の直接的な加熱を必要とすることなく、又は処理組成物を引き起こす推進組成物又は液体ポンプを必要とせずに処理組成物のエアロゾル化に実質的に提供する。このような静電スプレー装置は、それ自体当業技術で公知であり、かつ商業的供給元から入手可能である。
【００４３】
ミスト発生器手段は、超音波ノズル装置とすることができる。このような超音波ノズル装置は、商業的供給元、例えば、「Ｓｏｎｏ−Ｔｅｋ，Ｉｎｃ．」（米国ニューヨーク州ミルトン）、並びに「Ｓｏｎａｅｒ  Ｉｎｃ．」（米国ニューヨーク州ファーミンデール）から取得することができ、並びにＵＳ  ２００９／０２５４０２０、ＵＳ  ２００９／０２２４０６６に開示されており、これらの特許の内容は、引用により本明細書に組み込まれている。
【００４４】
ミスト発生器手段は、管状エアロゾル発生器とすることができる。一般的に、このような管状エアロゾル発生器は、第１及び第２の端部を有する管と、管に対して配置された管を加熱する加熱器と、管の第２の端部が連通している蒸発させる材料の供給源と、材料供給源と管の第１の端部の間の連通を開閉するために開閉可能である材料供給源と管の間に作動的に位置する弁と、材料供給源内の材料を材料供給源から管内に導入させる加圧構成とを含む。このような管状エアロゾル発生器は、以下のもの、すなわち、ＵＳ  ５７４３２５１、ＵＳ  ６２３４１６７、ＵＳ  ６４９１２３３、ＵＳ  ６５０１０５２、ＵＳ  ６５１６７９６、ＵＳ  ６５６８３９０、ＵＳ  ６６４００５０、ＵＳ  ６６８１９９８、ＵＳ  ６７６６２２０、ＵＳ  ６７７２７５７、ＵＳ  ６８０４４５８、及びＵＳ  ６８８３５１６のうちの１つ又はそれよりも多くに開示されおり、これらの特許の内容全体は、引用により本明細書に組み込まれている。
【００４５】
好ましい実施形態では、ミスト発生器手段は、使用に向けて一般的に好ましいネブライザ手段である。ネブライザ噴霧器は、エネルギを処理組成物に与え、超音波エネルギは、変換器を通じて供給される。従って、このエネルギにより、処理組成物の直接的な加熱を必要とすることなく、又は処理組成物を引き起こす推進組成物又は手動液体ポンプを必要とすることなく処理組成物の噴霧が得られる。様々なタイプのネブライザには、超音波ネブライザ、気体ネブライザ、ベンチュリネブライザがあるがこれらに限定されない。このようなものは、様々な商業的供給元から取得することができる。
【００４６】
現在「Ｋａｉ−Ｃｈｉｈ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｌｔｄ．」（台湾）から市販されている例示的なネブライザ手段は、ＵＳ  ６８５４６６２の１つ又はそれよりも多くに開示されているもの、ＵＳ  ７２２９０２９に開示されているようなネブライザ及びバッフル板アセンブリ、ＵＳ  ２００７／００１１９４０に開示されているような圧電及びパーカッションボードアセンブリ、ＵＳ  ２００７／０１６９７７５に開示されているようなブロック圧電アクチュエータ及び振動可能板、ＵＳ  ２００８／００４１９２７２に開示されているような圧電セラミックアクチュエータ及び振動板を含む振動部材を含み、上述の特許の各々の内容は、本明細書においてその全内容が引用により組み込まれている。更に別のネブライザ及び／又はミスト発生器には、本特許明細書に引用により組み込まれて説明した米国特許の１つ又はそれよりも多くに開示されたものを含め当業技術で公知であるものがある。
【００４７】
ミスト発生器手段は、電源から通電され、グリッドを高周波数で振動させ、同時に非常に細かい液体粒子のクラウド、すなわち、ミストを放出させ、これは、次に、省略することができる。代替的に「処理ミスト」という処理組成物のミストを形成する非常に細かい液体粒子は、一般的に、比較的広い分布とすることができ、例えば、約０．２５ミクロン〜約５００ミクロンの平均直径を有するが、細かい液体粒子の粒子分布は、約５〜約３００ミクロンの範囲に該当することが好ましく、約１０〜約１００ミクロン間の範囲であることが特に好ましい。処理組成物のミストを形成する非常に細かい液体粒子の多数（＞７５％、好ましくは＞８５％、特に好ましくは＞９５％）は、約５〜７５ミクロン、好ましくは約１０〜５０ミクロンの範囲であることが好ましい。ある一定の好ましい実施形態では、処理組成物のミストを形成する非常に細かい液体粒子の最大約２５％まで、好ましくは最大１０％までは、０．１〜１０ミクロンの範囲であり、処理組成物のミストを形成する非常に細かい液体粒子の約２５％まで、好ましくは１５％までは、１００ミクロンを超え、残りの少なくとも５０％は、処理組成物のミストを形成する非常に細かい液体粒子の少なくとも、７５％は、１０〜５０ミクロンの範囲であることが好ましく、１０〜３０ミクロンの範囲であることが特に好ましい。望ましくはかつ優先度が増大する順に、処理組成物のミストを形成する非常に細かい液体粒子の高々約２２％、２０％、１８％、１６％、１５％、１２％、１０％、９％、８％、７％、６％、５％、４％、３％、２％、１％、かつ最も好ましくは、本質的にいずれもが（０．５％未満）、０．１〜１０ミクロンの範囲ではなく、同時に、かつ優先度が増大する順に、処理組成物のミストを形成する非常に細かい液体粒子の高々約２２％、２０％、１８％、１６％、１５％、１２％、１０％、９％、８％、７％、６％、５％、４％、３％、２％、１％が５０ミクロンを超え、かつ最も好ましくは、本質的に、いずれもが（０．５％未満）、５０ミクロンを超えず、処理組成物のミストを形成する非常に細かい液体粒子の残り〜１００％は、１０ミクロン及び５０ミクロン以内である。
【００４８】
代替的に、装置が、呼吸に適するか又は経皮的により容易に吸収されように意図される処理組成物を供給するように意図される場合、粒径分布は、上述よりも小さい平均直径を有して送出されることに関連する場合がある。このようなネブライザにおいて、ミスト発生器手段は、電源から通電され、グリッドを高周波数で振動させ、同時に、非常に細かい液体粒子、すなわち、ミストのクラウドを放出させ、これは、次に、省略することができる。代替的に「処理ミスト」と呼ばれる処理組成物のミストを形成する非常に細かい液体粒子は、一般的に、比較的広い分布とすることができ、例えば、約０．０１ミクロン〜約２００ミクロンの平均直径を有するが、細かい液体粒子の粒子分布は、約０．１〜約５０ミクロンの範囲に該当し、特に好ましくは約０．１〜約２５ミクロンの間、特に好ましくは約０．１〜約１５ミクロンの範囲であることが好ましい。処理組成物のミストを形成する非常に細かい液体粒子の多数（＞７５％、好ましくは＞８５％、特に好ましくは＞９５％）は、０．１〜１０ミクロンの範囲であることが好ましい。望ましくは、優先度が増大する順に、処理組成物のミストを形成する非常に細かい液体粒子の高々約２２％、２０％、１８％、１６％、１５％、１２％、１０％、９％、８％、７％、６％、５％、４％、３％、２％、１％が１０ミクロンを超え、かつ最も好ましくは、本質的にいずれもが（０．５％未満）、１０ミクロンを超えず、処理組成物のミストを形成する非常に細かい液体粒子の残り〜１００％は、１０ミクロン又はそれ未満である。
【００４９】
更に別の実施形態では、非常に細かい液体粒子の「二峰性」分布がネブライザによって達成され、中心値の又は平均化された液体粒径又は液体粒子質量に関して平均化された非常に細かい液体粒子の分布をもたらす多くの公知のネブライザとは対照的に、上述の好ましい実施形態では、ネブライザは、非常に細かい液体粒子の二峰性分布、すなわち、第１の中心値の又は第１の平均化された液体粒径又は液体粒子質量に関して平均化された第１の粒径分布である液体粒子の第１の部又は比率と、第２の中心値の又は第２の平均化された液体粒径又は液体粒子質量に関して平均化された第２の粒径分布である液体粒子の第２の部又は比率とをもたらすようになっている。このような実施形態では、第１の中心値の又は第１の粒径分布の平均的な液体粒径又は液体粒子質量は、平均的又は中心値の粒径又は質量が第２の中心値の又は第２の粒径分布の平均的な液体粒径又は液体粒子質量よりも小さい。このような二峰性分布の達成は、小さい方の粒径である好ましくは１〜１０ミクロン、好ましくは１〜８ミクロン、更により好ましくは２〜７ミクロンの範囲の第１の中心値又は第１の平均化された液体粒径を有する液体粒子の第１の部又は部分と、比較的より大きい粒径である、好ましくは、１０〜５０ミクロン、好ましくは１０〜４０ミクロン、更により好ましくは１０〜３５ミクロンの範囲の第２の中心値又は第２の平均化された液体粒径を有する液体粒子の第２の部又は部分とをもたらすものである。しかし、任意的に、有利な態様では、第１又は第２の比率に存在する液体粒子の粒子又は質量の少なくとも６０％、かつ優先度が増大する順に、少なくとも７０％、７５％、８０％は、質量又はサイズが±３５％以内であり、かつ優先度が増大する順に、それぞれの中心値又は平均的な液体粒径又は液体粒子質量の±３０％、±２５％、±２０％、±１５％、±１０％以内である。このような二峰性分布の達成は、ネブライザによって送出される液体粒径又は質量の分布の狭域化をもたらすものである。より好ましくは、液体粒子の第１の部又は部分において送出される粒子の質量は、より大きい平均的な粒径又は質量を有する液体粒子の第２の部又は部分において送出される粒子の質量の高々約１／２、好ましくは約１／４よりも大きくない。代替的に、ただし好ましくは、液体粒子の第１の部又は部分において送出された粒子：液体粒子の第２の部又は部分において送出された粒子の質量比は、約１：２の範囲にあり、かつ優先度が増大する順に、約１：３、１：４、１：５、１：６、１：７、１：８、１：９、１：１０のそれぞれの質量比にある。非常に細かい液体粒子の二峰性分布としての液体処理組成物の送出は、処理組成物の分布の制御をもたらすものであり、液体粒子の第１の一部又は比率において送出された液体処理組成物の制御された質量であるが視覚的に非常に目視可能である量又は質量は、液体粒子の第２の一部又は比率において送出された液体処理組成物のより大きい質量と同時に送出される。このような送出により、使用する用途及び方法において小さい方の潜在的に呼吸に適する液滴又は粒子として送出される処理組成物の量が最小にされるか又は低減され、これらは、最小にされることが意図され、上述の粒子は、依然としてなお空気によって運ばれ、かつより大きくて潜在的に呼吸に適していない液滴又は処理組成物の粒子として送出される処理組成物のより大きい質量よりも浮力がある。
【００５０】
処理組成物のミスト（互換的に処理ミストと呼ぶ）は、いくつかの恩典を有する。第１の恩典は、それが流れておりかつ多少浮力があるという点である。それによってミストが放出される場所から必ずしも装置の出口の近くではない表面上への非常に細かい液体粒子の堆積が可能である。これは、手動ポンプ式トリガ噴霧器を通じて付加することができる液体又は更に加圧式エアロゾル容器から分注される液体と比較すると、小さな程度の空中ドリフトをもたらすと共に液体の堆積改善を可能にすることができる。前者の場合に、手動ポンプ式トリガ噴霧器から分注される液体組成物の液滴は、一般的に、このようなミスト発生器によって送出される液滴よりも大きい平均的な液滴サイズ、及び従って同時に液滴当たりにより多くの量を移送して処理表面に浴びせる平均液滴質量を有する。このような特性は、液滴の空中浮力を最小にし、液滴が表面に接触した時に液体組成物の質量が大きいほど、主として吸着によって遥かに急速に表面を湿潤化し、かつ吸収によりその程度が小さくなる。従って、このような液滴の粒径が大きくかつ重たいほど、手動ポンプ式トリガ噴霧器から放出される速度により、一般的に、多くの量の液体配合物が分注され、かつ表面が急速に湿潤化される。後者を参照すると、加圧式エアロゾル容器から液体組成物の送出により、一般的に、類似の送出特性が得られる。一般的にこのような加圧式エアロゾル容器と共に使用されるエアロゾル容器のスプレーアクチュエータのオリフィスサイズ及び内部通路の極めて重要な選択により、平均的な液滴サイズの選択及び制御の多少の余地が得られることが多いが、依然として加圧式エアロゾル容器から分注される液体組成物の一般的な液滴は、典型的には、このような発生器によって送出されるものよりも大きい平均粒径も有し、従って、平均的な液滴質量と、液滴当たりより大きい量の液体組成物を同時に移送して処理表面に浴びせる平均的な液滴サイズのより大きい分布とを有する。このような特性は、液滴の空中浮力を最小にし、液滴が表面に接触した時に液体組成物の質量が大きいほど、主として吸着によって遥かに急速に表面を湿潤化し、かつ吸収によりその程度が小さくなる。更に、加圧式エアロゾル容器から分注される液滴が一般的に手動ポンプ式トリガ噴霧器から放出された液滴よりも高い線速度で放出されるので、このような液滴により、空中浮力及び空中ドリフトの可能性が更に小さくなる。
【００５１】
本発明による装置においてミスト発生器から放出される処理ミストは、特にこのような処理ミストが３次元の特徴を有するか又はそれら自体が３次元の例えば模様面、非平面、又は粗面化面を有する物品に関連付けることができる時に硬質面又は非有孔面への改良型送出をもたらすことができる。このような表面の不規則性は、送出ミストが定着してこのような３次元面に堆積させるように、本発明による装置から又はこのような面の近くに又は隣接して本発明の工程に従ってミストを供給することによって非常に効率的に処理することができる。装置から分注された後の少なくとも数分の１秒間にわたって空気によって運ばれることが予想されるミストの送出により、処理表面上に定着する前に有用な程度の空中ドリフトを示すことが多い。このような空中ドリフトは、特にこのような表面が３次元であるか又は３次元の特徴を有する物品に関連している時に硬質面の対象範囲の改善をもたらすものである。後者に関して、非限定的な例として、このような面は、衛生器具、例えば、蛇口が延びる場合がある台所調理台又はシンクとすることができる。別の非限定的な例は、洗面所器具、例えば、要素、例えば、蛇口、注ぎ口、排水口、及び取手なども含むトイレ、ビデ、シャワー、浴槽、又は浴室流しとすることができる。処理組成物のミストの空中ドリフトは、開放空間、例えば、部屋、建物内部の空間、車両運転室、又は車両車内、並びに閉じた容器、例えば、収容キャビネット、クロゼット、シャワー個室、厨芥入れ、又はごみ箱の内部などに処理組成物を供給する際にも非常に有用である。代替的に、処理組成物の非常に細かい液体の粒子のクラウドとして特徴付けることができる処理組成物の空気によって運ばれるミストの形の処理組成物の送出は、このような要素のものを含むこのような表面上の表面堆積の改善をもたらすものである。このミスト又はクラウドの空気によって運ばれる性質のために、分注ミスト又はクラウドは、まず表面又は物品を取り囲み、次に、非常に細かい液体粒子の定着によりその上に堆積することができる処理組成物の非常に細かい液体の粒子の包囲体又は境界域を形成する。
【００５２】
装置の送出速度は、特定の用途に合うように変えることができ、例えば、有利な態様では、それは、空間の容積が大きいほど時間の単位（例えば、秒、分、時間、日）当たりの処理組成物の高い送出速度を有することとすることができ、及び／又は装置は、配置の密接化及び／又は処理対象の小容量化又は小空間化とは対照的に、処理対象の１つ又は複数の表面から隔てて位置している。有利な態様では、装置から分注される処理ミストは、殆どの用途及び用途に対して約０．５ミリリットル／分〜約１００ミリリットル／分の割合で送出することができる。好ましくは、送出速度は、約１〜５０ミリリットル／分からであり、より好ましくは１〜２５ミリリットル／分、より好ましくは１〜１０ミリリットル／分、特に好ましくは約１〜５ミリリットル／分である。
【００５３】
任意的に、ただし好ましくは、本発明による装置内のミスト発生器から放出される処理ミストは、装置を出た時に水平面に沿って適切な距離を進むことができることが好ましい。ミスト発生器から放出される処理ミストのプルームは、装置に垂直な横方向又は水平方向に最高６０ｃｍまで進むことが好ましく、装置を出た場所から測定した時の方向で１〜５０ｃｍ進むことが好ましい。このようなプルームは、非平面形状、例えば、曲面を有する表面に関して処理ミストの進行、分布及び接触、並びに処理される表面の下側及び裏面を含め処理される表面の側面への処理ミストの進行を可能にするものである。
【００５４】
本発明の装置の使用により又は本発明の工程の実施により特に有用に処理される更に別の３次元の表面は、軟質面である。このような軟質面は、何らかの空隙率を示すことが多く、従って、その面を通る気体の通路が可能である。多くの場合に、このような軟質面は、構造において内部空間又は割れ目も有する。このような軟質面の非限定的な例には、織物、カーペット、及び衣類などがある。上述したようなミスト又はクラウドを通じた処理組成物の送出は、一般的に、処理組成物の非常に細かい液体の粒子がこのような粒子が表面で堆積する前に軟質面の内部に移送されるように、軟質面内のこのような内部空間又は割れ目、例えば、より糸内の繊維間の空間、カーペットのけば又は短柔毛内の隣接糸の間の空間、織り又は不織織物の繊維間の空間のドリフト又は浸透力による軟質面の浸透力の改善をもたらす。このような効果は、軟質面の３次元マトリックスへの処理組成物の非常に細かい液体の粒子のミストの注入と呼ぶことができ、放出された非常に細かい液体粒子の少なくとも一部は、軟質面自体の一部に接触する前に軟質面の内部に移動し、その後になって最初に軟質面と接触して軟質面に堆積する。
【００５５】
処理組成物の空気によって運ばれるミストとしての処理組成物の送出の更に別の重要な技術的特性は、一般的に、処理組成物の表面被覆率が良く、かつ層が均一であるほど硬質面又は軟質面上に堆積し、従って、類似の技術的な効果をもたらすために、手動ポンプ式トリガ噴霧器又は加圧式エアロゾル容器を通じた同じ処理組成物の送出と比較して処理組成物の実質量を低減することができるという点である。より簡単には、ミスト又は処理組成物の非常に細かい液体の粒子のクラウドとして送出される過度の送出又は過剰噴霧のために浪費される処理組成物の量が少なくなる。このような点は、例えば、表面洗浄、消毒、又は抗菌の恩典をもたらす処理組成物の送出が望ましい時に、又は膜形成ポリマーが表面に適用されることを意図された場合に有用である。両方の例において、処理組成物の堆積の均一化をもたらすことができる。多孔質面又は軟質面、特に衣服又は織物に処理組成物を供給した時に、更に別の有用な効果がより良好に現れる。非常に細かい液体粒子のミスト又はクラウドとして送出される処理組成物の量の制御を行うことは、例えば、処理軟質面の点又は領域としての組成物の局所的送出の最小化をもたらすものであり、処理軟質面は、織物又は表面の湿潤部又は飽和部を急速に形成する可能性があり、それによって例えばトリガ噴霧器により又は加圧式エアロゾル容器からなどの組成物の付加された領域の皺発生又は汚れ発生をもたらす可能性がある。それとは対照的に、ミスト又は非常に細かい液体粒子のクラウドとして送出される処理組成物の小さい程度の空中ドリフトは、織物又は衣服上、及び一部の場合に織物又は衣服内でも分布の均一化をもたらすものであり、従って、送出する必要がある処理組成物の実質量の低減又は最小化を可能にする。このような空中ドリフトは、特にこのようなものが衣服、又はカーペット面、敷物のような織物物品、カーテン又は掛け布のような窓処理、シートを含む寝具面、枕、毛布、寝台掛け、寝具、並びに例えばシャワーカーテン、タオルのような浴室に使用される織物又は物品である場合に処理軟質面の湿潤化、飽和、汚れ発生又は皺発生の可能性を最小にするものである。本発明の装置の使用に付随して、洗浄又は消臭又は臭気中和の恩典をもたらす処理組成物は、望ましい洗浄又は消臭又は臭気中和の恩典をもたらすために、処理ミスト、すなわち、十分な量で衣服又は織物物品を処理するのに使用される非常に細かい液体粒子のクラウドとして送出される。言うまでもなく、これらの恩典の２つ又はそれよりも多くは、このような軟質面を処理する工程の実施において提供することができる。
【００５６】
本発明の装置は、非生物の硬質面及び非生物の軟質面、並びに局所的表面を含む表面を処理するのに使用される処理組成物の離散又はエアロゾル化粒子の処理ミストを発生させる。エアロゾル化された形態の処理組成物は、最終的に本発明の装置から分注された後に処理される表面に接触する少なくとも１つの処理剤を含む。処理剤は、処理剤以外の更に別の成分を含む処理組成物の成分として送出することができるが、単に処理剤のみから構成された処理組成物は、本発明の範囲から除外されない。
【００５７】
処理組成物は、少なくとも１つの処理剤を含む。処理組成物は、処理される硬質面又は軟質面に技術的恩典を提供する。非限定的な例として、このような技術的恩典は、洗浄の恩典、ウイルス除去の恩典、消毒の恩典、静菌性効果、抗ウイルス性の恩典、カビ、真菌、胞子のような出現又は再成長の存在を低減する殺胞子の恩典、アレルゲン防止の恩典、反殺ダニの恩典、抗真菌性恩典、再汚染防止の恩典、水垢除去の恩典、しみ除去の恩典、芳香処理、消臭、臭気中和を含むがこれらの限定されない空気処理の恩典、殺虫の恩典、駆虫の恩典、並びに硬質面への表面コーティングの提供のうちの１つ又はそれよりも多くとすることができる。硬質面及び／又は軟質面に適用時の処理組成物は、処理表面上の望ましくない病原体（例えば、バクテリア、ウイルス、カビ）の保持又は成長の可能性を低減するためなどの一時的又は耐久性があるとすることができる技術的恩典を提供し、すなわち、例えば、残留抗菌、殺菌、又は消毒の恩典をもたらすことができる。処理組成物は、硬質面及び／又は軟質面に表面コーティングを提供することができる。処理組成物は、処理表面上の生物膜の蓄積を低減することができる処理後の水垢の出現及び／又はその蓄積の低減を提供することができる。処理組成物は、処理表面に表面の輝きの恩典をもたらすことができる。処理組成物は、再汚染防止の恩典をもたらすことができる。処理組成物は、性質が親水性又は性質が疎水性である硬質面又は軟質面上にコーティングを堆積させることができる。処理組成物は、表面処理の恩典を与えて触知可能な恩典、例えば、布地軟質化などを改善することができる。処理組成物は、芳香、消臭、臭気中和、空気清浄を含むがこれらの限定されない空気処理の恩典、殺虫の恩典、害虫駆除の恩典をもたらすことができる。処理組成物は、人の皮膚又は毛髪のようなあらゆる他の身体表面に局所的に適用した時に皮膚処理の恩典をもたらすことができる。処理組成物は、薬物、ビタミン、製剤、及び食用材料などを含む吸入可能又は呼吸に適する組成物とすることができる。処理ミストに形成される処理組成物は、処理ミストが硬質面又は軟質面に又はその中に適用され、又はあらゆる他の手段で又は他の使用に向けて送出された時に望ましい技術的恩典が与えられるように、必然的に処理組成物内に有効量の１つ又はそれよりも多くの処理剤を含む。
【００５８】
処理ミストの形態に形成される前に、処理組成物は、有利な態様では、本発明の装置が用途を見出す室温（２０℃）及び通常気圧で流動可能な液体である。処理組成物の粘性は、必ずしも極めて重要であるというわけではなく、本発明の装置において噴霧して粉砕又はエアロゾル化粒子のミストとして供給することができることを必要とするに過ぎない。しかし、有利な態様では、処理組成物の粘性は、約０〜２０００ｃＰ、好ましくは約０．５〜１０００ｃＰの間、特に好ましくは約０．５〜５００ｃＰの間の範囲に該当する。処理組成物の特に好ましい実施形態は、自由に流動可能な液体であり、すなわち、「水に薄められた」ものであり、従って、容易に流動可能であり、並びにポンプによりのような機械的手段により、又は毛細管又は小径管のような差圧手段により容易にポンピング可能であり、かつミスト発生器手段によっても容易かつ有効に噴霧化されるものである。
【００５９】
有利な態様では、処理組成物は、液体の殆ど、少なくとも５０重量％を含む。ある一定の好ましい実施形態では、処理組成物は、少なくとも６０重量％、及び優先度が増大する順に液体の７０重量％、８０重量％、９０重量％、９５重量％、９７重量％、９８重量％、９９重量％、及び１００重量％までである。液体は、上述のように室温及び通常の一般的な大気条件下で自由に流れる液体であることが好ましい。有利な態様では、液体は、水とすることができ、又は１つ又はそれよりも多くの非水溶溶剤、例えば、１つ又はそれよりも多くの有機溶剤とすることができ、又は水及び１つ又はそれよりも多くの更に別の非水性溶剤、例えば、１つ又はそれよりも多くの有機溶剤を含む混合物又は組成物とすることができる。水は、水道水とすることができるが、好ましくは蒸留水、最も好ましくは純水である。非限定的な例として、処理組成物内に含めることができる例示的な有用な有機溶剤は、アルコール類、（例えば、エタノール、プロパノール、イソプロパノールのような低分子量アルコール）、グリコール（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコールなど）、水溶性エーテル（例えば、ジ、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル）、水溶性グリコールエーテル（例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル）、エチレングリコール又はプロピレングリコールのモノアルキルエーテルの下位エステル（例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）及びそれらの混合物のような少なくとも部分的に水溶性であるものを含む。グリコールエーテルは、一般構造Ｒa−Ｒb−ＯＨを有し、Ｒaは、１〜２０の炭素原子のアルコキシ又は少なくとも６つの炭素原子のアリールオキシであり、Ｒbは、プロピレングリコールのエーテル凝縮水であり、及び／又は１〜１０のグリコールモノマー単位を有するエチレングリコールである。言うまでもなく、２つ又はそれよりも多くの有機溶剤の混合物を同時に使用することができる。
【００６０】
処理組成物内に含めることができる１つの好ましい有機溶剤は、トリエチレングリコールであり、トリエチレングリコールは、トリエチレングリコールの最高粒子が存在する空間に臭気浄化又は臭気中和の恩典をもたらすと考えられる。従って、ある一定の実施形態では、このような技術的恩典が所望され、トリエチレングリコールの介在は、その有利な恩典が得られるように考慮することができる。存在する時に、それは、望ましい程度の空気清浄を行うために有効量で含めることができる。ある一定の実施形態では、トリエチレングリコールは、処理組成物に存在する優勢な成分又は処理組成物に存在する唯一の成分でさえあることも明示的に考えられている。
【００６１】
処理組成物はまた、１つ又はそれよりも多くの界面活性剤を含むことができる。有利に含められる１つ又はそれよりも多くのこのような界面活性剤の存在は、一般的に本発明の装置で処理される表面上に存在する可能性がある土壌又は他の疎水性物質の弛緩をもたらす。
【００６２】
陰イオン界面活性剤及び／又はその塩の形は、本発明の組成物の一部を形成することができる。陰イオン界面活性剤の非限定的な例は、アルコール硫酸塩及びスルホン酸塩、アルコール燐酸塩及びホスホン酸塩、アルキルエステル硫酸塩、アルキルジフェニルエーテルスルホン酸塩、アルキル硫酸塩、アルキルエーテル硫酸塩、アルキルフェノキシ樹脂ポリオキシエチレンエタノールの硫酸エステル、アルキルモノグリセリド硫酸塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルエーテル硫酸塩、アルファ−オレフィンスルホン酸塩、β−アルコキシアルカンスルホン酸塩、アルキルエーテルスルホン酸塩、エトキシル化アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルアリール硫酸塩、アルキルモノグリセリドスルホン酸塩、アルキルカルボン酸塩、アルキルエーテルカルボン酸塩、１〜５モルのエチレンオキシドを有するアルキルアルコキシカルボン酸塩、アルキルポリグリコール−  エーテル硫酸塩（最大１０モルまでのエチレンオキシドを含む）、スルホサクシネート、オクトキシノール又はノノキシノール燐酸塩、タウリン酸塩、脂肪酸タウリド、脂肪酸アミドポリオキシエチレン硫酸塩、アシルグリセリンスルホン酸塩、脂肪オレイルグリセロール硫酸塩、アルキルフェノールエチレンオキシドエーテル硫酸塩、パラフィンスルホン酸塩、アルキル燐酸塩、イセチオン酸塩、Ｎ−アシルタウリン酸塩、アルキルコハク酸塩及びスルホサクシネート、アルキル多糖硫酸塩、アルキルポリグルコシド硫酸塩、アルキルポリエトキシカルボン酸塩、及びサルコシン酸塩、又はそれらの混合物を含む。陰イオン性石鹸も、本発明の組成物に使用することができる。上述の陰イオン界面活性剤の例は、以下の商品名、すなわち、Ｒｈｏｄａｐｏｎ（登録商標）、Ｓｔｅｐａｎｏｌ（登録商標）、Ｈｏｓｔａｐｕｒ（登録商標）、Ｓｕｒｆｉｎｅ（登録商標）、Ｓａｎｄｏｐａｎ（登録商標）及びＢｉｏｓｏｆｔ（登録商標）の商品名で入手可能である。
【００６３】
例示的な有用な非イオン界面活性剤は、長鎖アルキル基又はアルキル化アリール基、非イオン界面活性剤を水中で少なくとも部分的に可溶性又は分散可能にするのに十分な数のエトオキシ及び／又はプロポキシ成分を含む親水鎖部分のような疎水性塩基部分を含むものである。非限定的な例として、このような非イオン界面活性剤は、エトキシル化アルキルフェノール、エトキシル化脂肪アルコール及びプロポキシル化脂肪アルコール、メチルグルコースのポリエチレングリコールエーテル、ソルビトールのポリエチレングリコールエーテル、エチレンオキシド、プロピレンオキシドブロックコポリマー、脂肪（Ｃ6−Ｃ24）酸のエトキシル化エステル、長鎖アミン又はアミドを有するエチレンオキシドの凝縮生成物、及びそれらの混合物を含む。更に別の有用な非イオン界面活性剤は、酸化アルキレンの凝縮物、特に、ソルビタン脂肪酸エステルを有するエチレンオキシド、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミタート、及びポリオキシエチレントリオレイン酸ソルビタンを含む。更に別の有用な非イオン界面活性剤には、アルコキシル化アルカノールアミド、例えば、Ｃ8−Ｃ24アルキルジ（Ｃ2−Ｃ3アルカノールアミド）を含む。有用な非イオン界面活性剤の例は、Ｔｏｍａｄｏｌ（登録商標）、Ｎｅｏｄｏｌ（登録商標）、Ｒｈｏｄａｓｕｒｆ（登録商標）、Ｇｅｎａｐｏｌ（登録商標）、Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）及びＡｌｆｏｎｉｃ（登録商標）の商品名で入手可能である材料を含む。更に別の有用な非イオン界面活性剤は、Ｌｕｔｅｎｓｏｌ（登録商標）ＯＮの商品名のオキソアルコールエトキシレート（例えば、ＢＡＳＦ）、並びにＥｍｕｌｇｅｎ（登録商標）の商品名で入手可能なポリオキシエチレンアルキルエーテル（例えば、花王グループ、日本）を含む。更に有用な非イオン界面活性剤は、アルキルモノグリコシドを含み、アルキルポリグルコシドは、単糖、又は単糖に加水分解性である化合物を酸媒体中の脂肪アルコールのようなアルコールと反応させることによって一般的に調製される。様々なグリコシド及びアルコキシル化グリコシドを含むポリグリコシド化合物及びそれらの製造工程は、ＵＳ  ２，９７４，１３４、ＵＳ  ３，２１９，６５６、ＵＳ  ３，５９８，８６５、ＵＳ  ３，６４０，９９８、ＵＳ  ３，７０７，５３５、ＵＳ  ３，７７２，２６９、ＵＳ  ３，８３９，３１８、ＵＳ  ３，９７４，１３８、ＵＳ  ４，２２３，１２９、及びＵＳ  ４，５２８，１０６に開示されており、これらの特許の内容は、引用により組み込まれている。有用なアルキルグリコシドの例は、例えば、Ｄ−グルコピラノシドとも一般的に呼ばれる５０％Ｃ9−Ｃ11アルキルポリグリコシドとして説明された「ＡＰＧ  ３２５  ＣＳ  Ｇｌｙｃｏｓｉｄｅ（登録商標）」（例えば、Ｈｅｎｋｅｌ  ＫＧａＡ）、及び一般的にＤ−グルコピラノシドとも呼ばれる５０％Ｃ10−Ｃ16アルキルポリグリコシドとして説明されたＧｌｕｃｏｐｏｎ（登録商標）「６２５  ＣＳ」（例えば、Ｈｅｎｋｅｌ）を含む。
【００６４】
処理組成物は、１つ又はそれよりも多くの両性の界面活性剤、特に、以下のもの、すなわち、直鎖又は分岐の脂肪族ラジカルを有する第２及び第３アミンの誘導体を含むことができ、脂肪族置換基の１つは、約８〜１８個の炭素原子を含み、脂肪族置換基の少なくとも１つは、陰イオン性水可溶化基（例えば、カルボキシ、スルホン酸塩又は硫酸基）を含む。この説明に該当する化合物の非限定的な例は、ナトリウム３−（ドデシルアミノ）プロピオン酸塩及びナトリウム３−（ドデシルアミノ）プロパン−１−スルホン酸塩を含む。更に別の例示的な有用な両性界面活性剤は、サルコシン酸塩及びタウリン酸塩、アミドスルホサクシネート、及びホスホベタインを含むベタインを含む。例示的なベタインは、ドデシル基ジメチルベタイン、セチル基ジメチルベタイン、及びドデシル基アミドプロピルジメチルベタインを含む。
【００６５】
処理組成物は、１つ又はそれよりも多くの陽イオン界面活性剤成分、特に好ましくは、かなりの殺菌恩典をもたらす陽イオン性界面活性剤を含むことができる。処理組成物内に含めることができる好ましい陽イオン性界面活性剤組成物の非限定的な例は、かなりの殺菌の恩典をもたらすものであり、特に好ましいのは、一般構造式：
2013527020.tif 000003
により特徴付けることができる第４アンモニウム化合物及びその塩類であり、ここで、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、及びＲ4の少なくとも１つは、６〜２６個の炭素原子のアルキル、アリール、又はアルキルアリール置換基であり、分子の全ての陽イオン部分は、少なくとも１６５の分子量を有する。アルキル置換基は、長鎖アルキル、長鎖アルコキシアリール、長鎖アルキルアリール、ハロゲン置換長鎖アルキルアリール、長鎖アルキルフェノキシアルキル、アリールアルキルなどとすることができる。上述のアルキル置換基以外の窒素原子上の残りの置換基は、通常１２個の炭素原子のみを含有する炭化水素である。置換基Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、及びＲ4は、直鎖状とすることができ、又は分岐状とすることができるが、好ましくは直鎖状であり、かつ１つ又はそれよりも多くのアミド、エーテル、又はエステル結合を含むことができる。対イオンＸは、四級アンモニウム錯体の水溶性又は水混和性を可能にするあらゆる塩形成陰イオンとすることができる。上述の式に従って殺菌剤として作用する好ましい四級アンモニウム化合物は、Ｒ2及びＲ3が同じか又は異なるＣ8−Ｃ12アルキルであり、又はＲ2は、Ｃ12-16アルキル、Ｃ8-18アルキルエトオキシ、Ｃ8-18アルキルフェノールエトキシであり、Ｒ3は、ベンジルであり、Ｘは、ハロゲン化物、例えば、塩化物、臭化物、又は沃化物であるか、又はメソ硫酸陰イオンである。Ｒ2及びＲ3に説明されたアルキル基は、直鎖状又は分岐状とすることができるが、実質的に直鎖状であることが好ましい。
【００６６】
特に有用な四級殺菌剤は、単一の四級化合物、並びに２つ又はそれよりも多くの異なる四級化合物の混合物を含む組成物を含む。このような有用な四級化合物は、ＢＡＲＤＡＣ（登録商標）、ＢＡＲＱＵＡＴ（登録商標）、ＨＹＡＭＩＮＥ（登録商標）、ＬＯＮＺＡＢＡＣ（登録商標）及びＯＮＹＸＩＤＥ（登録商標）の登録商標で入手可能であり、これらは、例えば、ＭｃＣｕｔｃｈｅｏｎ著「機能材料」（第２巻）、北アメリカ版、１９９８年、並びに以下で識別する納入業者のそれぞれの製品文献においてより完全に説明されている。かなりの殺菌の恩典をもたらす１つ又はそれよりも多くの陽イオン性界面活性剤が存在する時に、それらは、これより以降に説明する更に別の抗菌剤と共に共同抗菌剤として存在することができる。かなりの殺菌の恩典をもたらす１つ又はそれよりも多くの陽イオン性界面活性剤が存在する時に、好ましくは、陰イオン界面活性剤及び更に任意的に両性界面活性剤は、本発明の処理組成物から除外される。本明細書で特に開示していないが当業技術で公知である他の界面活性剤も、本発明の処理組成物に使用することができる。
【００６７】
組成物の処理はまた、１つ又はそれよりも多くのフッ素系界面活性剤を含むことができる。好ましいフッ化炭素系界面活性剤は、過フルオロ脂肪族オキシベンゾンスルホン酸の陰イオン性塩類及び直鎖過フルオロアルキル−オキシ安息香酸の陰イオン性塩類を含む。前者の等級のフッ化炭素系界面活性剤の例は、以下の式：
2013527020.tif 000004
により表すことができ、ここで、Ｒfは、アルキル基又はアルケニル基とすることができる脂肪族基内の約５〜約１５個の炭素原子、好ましく約８〜約１２個の炭素原子のパーフルオロ脂肪族基であり、Ａは、アルカリ金属、アンモニウム基、又はアミンのような陽イオンである。
【００６８】
後者の等級のフッ化炭素系界面活性剤の例は、以下の式：
2013527020.tif 000005
により表すことができ、ここで、ｎは、約２〜約１６の数であり、ｍは、約３〜約３４の数である。
【００６９】
他の適切なフッ化炭素系界面活性剤は、以下のものである。
（ａ）ＲfＣＨ2ＣＨ2ＳＣＨ2ＣＯ2Ｍ、ここで、Ｒfは、Ｆ（ＣＦ2ＣＦ2）であり、ｎは、約３〜約８であり、Ｍは、アルカリ金属（例えば、ナトリウム又はカリウム）又はアンモニウムである。
（ｂ）ＣnＦ2n+1ＳＯ3Ｍ、ここで、ＣnＦ2n+1は、直鎖フッ化炭素ラジカルであり、ｎは、約８〜約１２であり、ｍは、アルカリ金属又はアンモニウムである。
（ｃ）ＣnＦ2n+1ＳＯ3Ｍ、ここで、ＣnＦ2n+1は、直鎖フッ化炭素ラジカルであり、ｎは、約８〜約１２であり、ｍは、アルカリ金属陽イオンである。
（ｄ）ＲfＣＨ2ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2）nＨ、ここで、Ｒｆは、直鎖Ｆ（ＣＦ2ＣＦ2）ｎラジカルであり、ｎは、約３〜約８である。
（ｅ）Ｒf（ＯＣＨ2ＣＨ2）nＯＲf、ここで、Ｒfは、式Ｃ8Ｆ15+Ｃ10Ｆ19又はＣ12Ｆ23の分岐鎖ラジカルであり、ｎは、約１０〜約３０である。
（ｆ）Ｒf（ＯＣＨ2ＣＨ2）mＯＲ、ここで、Ｒfは、式Ｃ8Ｆ15+Ｃ10Ｆ19又はＣ12Ｆ23の分岐鎖ラジカルであり、ｍは、約２〜約２０であり、Ｒは、Ｃ1〜Ｃ3アルキルである。
【００７０】
フッ素化炭化水素系界面活性剤は、商標登録済み製品として多くの市販のソースから入手可能である。例は、「Ｅ．Ｉ．ｄｕＰｏｎｔ  ｄｅ  Ｎｅｍｏｕｒｓ  ＆Ｃｏ．」からのＺＯＮＹＬフッ素系界面活性剤、３ＭカンパニーからのＦＬＵＯＲＡＤフッ素系界面活性剤、例えば、「ＦＬＵＯＲＡＤ  ＦＣ−１２９」（ＲfＳＯ2Ｎ（Ｃ2Ｈ5）ＣＨ2ＣＯ2−Ｋ+であり、ここで、Ｒfは、ＣnＦ2n+1であり、ｎは、約８）であり、「Ｉ．Ｃ．Ｉ．Ａｍｅｒｉｃａｓ，Ｉｎｃ．」からのＭＯＮＯＦＬＯＲフッ化炭素系界面活性剤である。１つ又はそれよりも多くのこのようなフッ素化炭化水素系界面活性剤は、処理組成物内に含めることができ、いずれも有効量に対して望ましいものである。
【００７１】
処理組成物は、上述の１つ又はそれよりも多くの陽イオン性界面活性剤以外の抗菌剤を更に含むことができる。このような抗菌剤は、かなりの殺菌の恩典をもたらす１つ又はそれよりも多くの陽イオン性界面活性剤以外の１つ又はそれよりも多くの化合物、すなわち、上述の陽イオン殺菌剤である。このような抗菌剤は、望ましくは、硬質面、軟質面、又は皮膚面、すなわち、人又は動物の表皮に適用された組成物の抗菌効果の評価に関する容認及び標準化された試験プロトコルに従って黄色ブドウ球菌、大腸菌、緑膿菌、及び腸内連鎖球菌から構成される群から選択された微生物のうちの少なくとも２つ、好ましくは、少なくとも３つ、最も好ましくは、少なくとも４つの６０秒の接触時間での本発明の装置によって送出される処理組成物が、好ましくは少なくとも３ｌｏｇ10殺傷効果、好ましくは少なくとも４ｌｏｇ10殺傷効果を示すように、陽イオン殺菌剤以外に処理表面に有効な抗菌の恩典をもたらす。
【００７２】
抗菌剤は、亜鉛ピリチオンのようなピリチオン、ジメチルジメチルオールヒダントイン、メチルクロロイソチアゾリノン／メチルクロロイソチアゾリノン亜硫酸ソーダ、重亜硫酸ソーダ、イミダゾリジニル尿素、ジアゾリジニル尿素、ベンジルアルコール、２つの−ブロモ−２つの−ニトロプロパン−１，３−ジオール、ホルマリン（ホルムアルデヒド）、ブチルカルバミド酸ヨードプロピニル、クロロアセトアミド、メタンアミン、メチルジブロモニトリルグルタロニトリル、グルタルアルデヒド、５−ブロモ−５−ニトロ−１，３−ジオキサン、フェネチルアルコール、ｏ−フェニルフェノール／ナトリウムｏ−フェニルフェノール、ヒドロキシメチルグリシン酸ナトリウム、ポリメトキシ二環式オキサゾリジン、ジメトキサン、チメロサールジクロロベンジルアルコール、カプタン、クロルフェネシン、ジクロロフェン、クロロブタノール、ラウリン酸グリセリルのようなハロヒダントイン、２，４，４−トリクロロ−２−ヒドロキシ−ジフェニルエーテル（Ｔｒｉｃｌｏｓａｎ（登録商標））及び２，２−ジヒドロキシ−５，５−ジブロモ−ジフェニルエーテルのようなハロゲン置換ジフェニルエーテル、モノアルキル及びポリアルキルのようなフェノール類抗菌の化合物、及びｐ−クロロフェノール、メチルｐ−クロロフェノール、４−クロロ−３，５−ジメチルフェノール、２，４−ジクロロ−３，５−ジメチルフェノール、３，４，５，６−テトラブロモ−２−メチルフェノール、５−メチル２ペンチルフェノール、４−イソプロピル−３−メチルフェノール、パラ−クロロメタキシレノール、ジクロロメタキシレノール、クロロチモール及び５−クロロ２ヒドロキシジフェニルメタン、レゾルシノール及びその誘導体のような芳香族ハロフェノール、２，２−メチレンビス（４−クロロフェノール）及び硫化ビス（２−ヒドロキシ−５−クロロベンジル）、安息香酸エステル（パラベン），のようなビスフェノールの化合物、３−トリフルオロメチル−４，４’−ジクロロカルバニリド（トリクロカルバン）、３−トリフルオロメチル−４，４−ジクロロカルバニリド及び３，３，４−トリクロロカルバニリドのようなハロゲン化カルバニリドの１つ又はそれよりも多くを含むことができる。
【００７３】
抗菌剤は、ポリヘキサメチレンビグアニド（ｐ−クロロフェニルビグアニド）のようなビグアニド、４クロロベンズヒドリルビグアニド、１，６−ビス−（４−クロロベンジルビグアニド）−ヘキサン（Ｆｌｕｏｒｈｅｘｉｄｉｎｅ（登録商標））、クロルヘキシジンを含むがこれに限定されないハロゲン化ヘキシジン（１，１’−ヘキサメチレン−ビス−５−（４−クロロフェニルビグアニド）（Ｃｈｌｏｒｏｈｅｘｉｄｉｎｅ（登録商標））、並びに上述のあらゆる塩類、例えば、塩酸ポリヘキサメチレンビグアニドのうちの１つ又はそれよりも多くを含むことができる。
【００７４】
本発明の処理組成物は、処理組成物のｐＨをターゲット範囲又はレベルに調節し、及び／又は抗菌の恩典をもたらすために、使用することができる１つ又はそれよりも多くの有機酸又は無機酸を含むことができる。酸は、水溶性無機酸、鉱酸、又は有機酸のうちの１つ又はそれよりも多くとすることができ、実質的に全てのこのような公知の材料は、処理組成物において有用であると考えられる。非限定的な例として、有用な無機酸は、鉱酸、塩化水素酸、リン酸、及び硫酸などを含む。
【００７５】
ある一定の実施形態では、本発明の組成物は、抗菌の恩典も与える１つ又はそれよりも多くの有機酸を含む。例示的な有機酸は、一般的に少なくとも１つの炭素原子を含み、かつ構造が少なくとも１つのカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）を含む。上述の有機酸の誘導体も、有用であると考えられる。例示的な有機酸は、酢酸のような直鎖脂肪酸、ジカルボン酸、酸性アミノ酸、及びグリコール酸、乳酸、ヒドロキシアクリル酸、アルファ−ヒドロキシ酪酸、グリセリン酸、リンゴ酸、酒石酸及びクエン酸のようなヒドロキシ酸、並びにこれらの有機酸の酸性塩を含む。これらのうちのクエン酸、ソルビン酸、酢酸、硼酸、蟻酸、マレイン酸、アジピン酸、乳酸、リンゴ酸、マロン酸、グリコール酸、サリチル酸やその誘導体、例えば、エチルヘキシルサリシレート、ジプロピレングリコールサリシレート、ＴＥＡサリシレート、サリチル酸２−エチルヘキシルエステル、サリチル酸４−イソプロピルベンジルエステル、サリチル酸ホモメンチルエステルのようなサリチル酸のエステルのようなサリチル酸誘導体が好ましい。言うまでもなく、１つ又はそれよりも多くの酸の混合物は、有用であると考えられる。
【００７６】
処理組成物は、同様に１つ又はそれよりも多くの多価アルコールを含むことができ、このような１つ又はそれよりも多くの多価アルコールは、特に好ましくは処理組成物が付加される表面に消毒又ウイルス除去の恩典をもたらす際に有効である量で処理組成物に存在する。非限定的な例として、好ましいものは、２〜約６つの水酸基を含む多価アルコールである。好ましい多価アルコールは、水溶性である。多価アルコールの特定のただし非限定的な例は、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、三プロピレングリコール、ヘキシレングリコール、ブチレングリコールを含み、存在する時に、多価アルコールは、少なくとも一部を形成する抗菌の成分が処理組成物で処理される表面に有効な消毒又はウイルス除去恩典をもたらすように十分な濃度に存在すべきである。
【００７７】
処理組成物は、二原子酸素（Ｏ−Ｏ）接合を含む本質的にあらゆる化合物とすることができる過酸素化合物を含むことができる。二原子酸素接合、特に二価Ｏ−Ｏ接合は、容易に切断可能であり、従って、これらの過酸素化合物を含有する化合物は、強力な酸化剤として作用することができる。様々な等級の過酸素化合物の非限定的な例は、過酸類、過酸塩類、及び過酸化水素のような過酸化物を含む。過酸素は、本発明の実施形態により消毒薬の目的に対して機能的であるあらゆる脂肪族又は芳香族過酸（又はペルオキソ酸）とすることができる。あらゆる機能的なペルオキソ酸を使用することができるが、１〜７個の炭素を含むペルオキソ酸は、使用に最も実際的である。これらのペルオキソ酸は、ペルオキシギ酸、ペルオキシ酢酸、ペルオキシ蓚酸、ペルオキシプロピオン酸、過酢酸、ペルオキシブタン酸、ペルオキシペンタン酸、ペルオキシヘキサン酸、過酸化アジピン酸、過酸化クエン酸、及び／又はペルオキシ安息香酸を含むことができるがこれらに限定されない。例示的な過酸塩類は、過マンガン酸塩、過ホウ酸塩、過塩素酸塩、過酢酸塩、過炭酸塩、及び過硫酸塩などを含む。例示的な過酸化物化合物は、過酸化水素、金属過酸化物、及び過酸化水和物を含む。使用することができる金属過酸化物は、過酸化ナトリウム、過酸化マグネシウム、過酸化カルシウム、過酸化バリウム、及び／又は過酸化ストロンチウムを含むがこれらに限定されない。関連の過酸化水素を有する他の塩類（例えば、ナトリウム過炭酸塩）も過酸化水素の供給源であり、それによって原位置で過酸化水素を生成すると考えられる。
【００７８】
本発明の処理組成物は、ハロゲン漂白剤とすることができる酸化剤を含むこともできる。酸化剤は、様々な次亜ハロゲン酸塩生成種から選択することができるハロゲン漂白剤源、例えば、次亜ハロゲン酸塩、ハロアミン、ハロイミン、ハロイミド及びハロアミドのアルカリ金属塩類、及びアルカリ土金属塩類から構成される群から選択された漂白剤であることが好ましい。これらの全ては、原位置で次亜ハロゲン漂白種を生成すると考えられる。酸化剤は、次亜ハロゲン漂白種を生成することができる次亜ハロゲン酸塩又は次亜ハロゲン酸塩発生剤であることが好ましい。以下、「次亜ハロゲン酸塩」という用語は、特に断らない限り、次亜ハロゲン酸塩又は次亜ハロゲン酸塩発生剤を説明するのに使用する。次亜ハロゲン酸塩酸化剤は、水溶液中の次亜塩素酸塩又は次亜塩素酸塩の発生剤であることが好ましい。次亜臭素酸塩又は次亜臭素酸塩発生剤も適切である。代表的な次亜塩素酸塩発生剤として、次亜塩素酸ソーダ、次亜塩素酸カリウム、次亜塩素酸リチウム、次亜塩素酸マグネシウム及び次亜塩素酸カルシウム、塩素化燐酸三ナトリウム十二水化物、二塩化イソシアヌル酸カリウム及びジクロロイソシアヌル酸ナトリウム、及びトリクロロシアヌル酸を含む。使用に適する有機漂白剤源は、トリクロロシアヌル酸及び三ブロモシアヌル酸、ジブロモシアヌル酸及びジクロロシアヌル酸のような複素環式Ｎブロモ及びＮクロロイミド及びそのカリウム塩及びソーダ塩、Ｎ臭素化及びＮ塩素化スクシンイミド、マロンアミド、フタルイミド及びナフタルイミドを含む。ジブロモジメチル−ヒダントイン及びジクロロジメチル−ヒダントイン（クロロジメチルヒダントイン、Ｎ−クロロスミファミド（ハロアミド）及びクロラミン（ハロアミン）のようなヒダントインも適切である。存在する時に、有利な態様では、次亜ハロゲン酸塩酸化剤は、アルカリ金属次亜塩素酸塩、次亜塩素酸塩のアルカリ土金属塩、又はその混合物である。
【００７９】
本発明の処理組成物は、処理される表面、特に織物又は繊維の表面に静電防止又は表面軟化の恩典をもたらす処理剤を含むことができる。繊維、織物、又は布地軟化の恩典をもたらす処理剤として考慮されたのは、織物軟化剤化合物として当業技術で公知である１つ又はそれよりも多くの化合物である。非限定的な例として、このような織物軟化剤化合物は、全ての現在の市販の四級長鎖軟化剤及び好ましくは少なくとも部分的に不飽和エステルクアットを含む。例示的な適切な織物軟化剤は、陽イオンである繊維軟化化合物、極性頭基及び２つの長いヒドロカルビル成分（好ましくはアルキル、アルケニル、及びそれらの混合物から選択）を含む水不溶性四級アンモニウム化合物を含み、各このようなヒドロカルビル成分は、Ｃ12に等しいかそれを超え、好ましくはＣ14よりも大きく、より好ましくは、Ｃ16よりも大きい平均的な鎖長を有する。更により好ましくは、各長鎖アルキル又はアルケニル基の少なくとも５０％は、主に直鎖状である。好ましい全体的な鎖長は、約Ｃ18であるが、より低い例えば、Ｃ14、Ｃ16、及び部分的により高いＣ20鎖のゼロ以外の比率を有する鎖長の混合物を望ましい。陽イオン軟化剤は、適切に塩化ジステアリルジメチルアンモニウム又はその不飽和類似物とすることができるが、選択した四級アンモニウム布地軟化剤は、生物分解可能であることが好ましい。このような特性は、ジ（カノリルオキシエチル）ジメチル塩化アンモニウムのような多くの市販のエステルクアット織物軟化剤に共通である。好ましい実施形態では、繊維軟化化合物は、少なくとも１つのエステル成分、好ましくは、２つのこのようなエステル成分を通じて四級アンモニウム成分に結合された２つのＣ12-22アルキル又はアルケニル基を有する四級アンモニウムエステルクアット化合物である。勿論、２つ又はそれよりも多くの織物軟化剤化合物の混合物もある。
【００８０】
本発明の処理組成物は、空気処理技術の恩典をもたらす処理剤を含むこともできる。非限定的な例として、このような処理剤は、芳香剤、香水、飛翔昆虫の制御又は根絶のための組成物、臭気中和剤、消臭剤、並びに心身一体的な又はアロマセラピーの恩典をもたらすことができるものを含む。
【００８１】
芳香剤は、処理組成物の一部を形成することができ、芳香剤は、天然及び合成芳香剤ベースとすることができ、最も一般的には、任意的に有機溶剤又は芳香剤が溶解、懸濁、又は分散された有機溶剤の混合物のような担体に関連付けられた複数のこのような芳香剤の混合物又は配合物である。一般的に、芳香剤は、３つの主な群、すなわち、（１）これらの油から隔離された精油及び生成物、（２）動物を起源とする生成物、及び（３）合成化学物質に分割することができる１つ又はそれよりも多くの原料から導出される。非限定的な例として、天然の芳香剤、並びに特定の精油は、花（ユリ、ラベンダー、バラ色、ジャスミン、ネロリ油、イランイラン）のエキス、茎及び葉（ゼラニウム、パチョリ、プチグレン油）、果物（アニス、コリアンダ、キャラウェー、ビャクシン）、果物の皮（ベルガモット、レモン、オレンジ）、根（ナツメグ、アンゼリカ、セロリ、カルダモン、コスタス、アイリス、菖蒲）、木（松材料、ビャクダン、グアヤク木、シーダー材料、紫檀）、薬草及び草（タラゴン、レモン草、サルビア、ジャコウソウ）、針状葉及び枝（トウヒ材料、モミ、松、矮性松）、樹脂及び香油（ガルバヌム、エレミ、安息香樹脂、ミルラ、乳香、オポポナックス）を含む。動物原料、例えば、ジャコウネコ及びビーバーを使用することができる。一般的な合成香料化合物は、エステル、エーテル、アルデヒド、ケトン、アルコール、及び炭化水素タイプの製品である。エステルタイプの香水化合物の例は、酢酸ベンジル、イソ酪酸フェノキシエチル、酢酸第３級ブチルシクロヘキシル、酢酸リナリル、酢酸ジメチルベンジルカルビニル、酢酸フェニルエチル、安息香酸リナリル、蟻酸ベンジル、アミノ酢酸メチルエチルフェニル、プロピオン酸アリルシクロヘキシル、プロピオン酸スチラリル及びサリチル酸ベンジルである。エーテルは、例えば、ベンジルエチルエーテルを含み、一方、アルデヒドは、例えば、８〜１８個の炭素原子を含む直鎖アルカナール、シトラール、シトロネラール、シトロネリルオキシアセトアルデヒド、シクラメンアルデヒド、ヒドロキシシトロネラール、リリアール及びブルゲオナールを含む。適切なケトンの例は、イオノン、α−イソメチルイオノン、及びメチルセドリルケトンである。適切なアルコール類は、アネトール、シトロネロール、オイゲノール、イソオイゲノール、ゲラニオール、リナロオール、フェニルエチルアルコール、及びテルピネオールである。炭化水素は、主としてテルペン及び香油を含む。しかし、互いに気持ちのよい芳香剤を発生させる異なる香水化合物の混合物を使用することが好ましい。他の適切な香油は、殆どは香り成分として使用される揮発性が比較的低い精油である。例は、サルビア油、カモミール油、ちょうじ油、メリッサ油、ミント油、シナモン葉油、ライム−花油、利尿薬、ベチバー油、オリバナム油、ガルバヌム油、ラボラナム油、及びラバンジン油である。存在する時に、このような芳香剤成分は、あらゆる有効量で処理組成物に存在することができる。有利な態様では、芳香剤又は香水は、一部を形成する処理組成物の総重量に基づいて約０．００００１重量％〜約５０重量％の量で存在するが、このような成分の熱劣化を与えないミ���ト発生器手段の送出方式のために、処理組成物の約１００重量％までの更により高い量での介在も、本発明のある一定の実施形態において可能でありかつ実際に有利であると考えられる。
【００８２】
本発明の処理組成物は、１つ又はそれよりも多くの心身一体的成分を含むことができ、特に、ユーザにいわゆる「アロマセラピーの恩典」を与えるように選択された１つ又はそれよりも多くの精油を含むことができる。このような精油は、芳香族の植物の花、茎、葉、根、及び木皮のような自然に発生する植物源から抽出されることが多い。精油を単独で使用することができるが、精油の混合物を利用して連結的な香り恩典を与え、一部の場合に同様に治療の恩典をもたらすことも一般的である。１つ又はそれよりも多くの精油を含むことができる芳香剤組成物と同様に、効能のために、精油は、精油が溶解又は分散された１つ又はそれよりも多くの有機溶剤中のような液体担体中に分散状態で供給されることが多い。アロマセラピーの恩典をもたらす好ましい精油は、カモミール油、ラバンジン油、ラベンダー油、グレープフルーツ油、レモン油、ライム油、マンダリンオレンジ油、オレンジ花精油、及びオレンジ油から選択された１つ又はそれよりも多くの油を含む。存在する時に、アロマセラピー恩典をもたらすこれらの１つ又はそれよりも多くの精油は、あらゆる有効量で存在し、有利な態様では、一部を形成する処理組成物の総重量に基づいて約０．００００１重量％〜約５０重量％の量で存在するが、このような心身一体的成分又は精油の熱劣化を与えないミスト発生器手段の送出方式のために、処理組成物の約１００重量％までの更により高い量での介在も、本発明のある一定の実施形態において可能でありかつ実際に有利であると考えられる。アロマセラピーの恩典をもたらすこれらの１つ又はそれよりも多くの精油は、先に説明した任意的な芳香処理成分の有無に関わらず使用することができ、又は上述の芳香処理成分の代わりに全体的、部分的に関わらず使用することができることは理解されるものとする。
【００８３】
処理組成物の望ましいｐＨを維持又は確立するために、１つ又はそれよりも多くのｐＨバッファの使用が考えられている。本発明による処理組成物は、任意的に但し望ましくは、ある一定量のｐＨ調節剤又はｐＨバッファ組成物を含む。このような組成物は、当業技術で公知であり、かつ従来より使用されている多くを含む。非限定的な例として、ｐＨ調節剤として、燐含有化合物、ケイ酸塩、炭酸塩及び硼酸塩、特定の酸及び塩基、酒石酸塩及び特定のアセテートのような一価及び多価の塩類を含む。更に別の例示的なｐＨ調節剤は、一般的に少量でのみ必要とされる鉱酸、塩基組成物、及び有機酸を含む。更に別の非限定的な例として、ｐＨ緩衝組成物は、アルカリ金属燐酸塩、ポリリン酸塩、ピロ燐酸塩、三リン酸エステル、四リン酸エステル、ケイ酸塩、メタ珪酸塩、多珪酸塩、炭酸塩、水酸化物、及びそれらの混合物を含む。ｐＨ緩衝組成物は、アルカリ金属燐酸塩、ポリリン酸塩、ピロ燐酸塩、三リン酸塩、四リン酸塩、ケイ酸塩、メタ珪酸塩、多珪酸塩、炭酸塩、水酸化物、及びそれらの混合物を含む。アルカリ土金属燐酸塩、炭酸塩、水酸化物のようなある一定の塩類も緩衝塩として機能することができる。アルミノ珪酸塩（ゼオライト）、硼酸塩、アルミン酸塩のような材料、及びグルコン酸、コハク酸塩、マレイン酸塩、及びそれらのアルカリ金属塩のようなある一定の有機物を緩衝塩として使用することも適切である場合がある。望ましくは、本発明による組成物は、望ましいｐＨ範囲に本発明の処理組成物のｐＨを調節及び維持するのに使用することができる有効量の有機酸及び／又はその無機の塩の形を含む。特に有用なのは、クエン酸、及び広く利用可能であってこれらのｐＨ調節及び緩衝効果を与える際に有効であるクエン酸ナトリウムのようなその金属塩である。
【００８４】
本発明の処理組成物は、１つ又はそれよりも多くのアルカノールアミン類を含むこともでき、１つ又はそれよりも多くのアルカノールアミン類は、改善された洗浄の恩典をもたらすだけでなく、同時に処理組成物のｐＨを調節するために使用することもできる。非限定的な例として、このようなアルカノールアミン類は、モノアルカノールアミン類、ジアルカノールアミン類、トリアルカノールアミン類、及びアルキル−ジアルカノールアミン類のようなアルキルアルカノールアミン類、及びジアルキル−モノアルカノールアミン類を含む。アルカノール基及びアルキル基は、一般的に短から中程度の鎖長、すなわち、長さが１〜７個の炭素である。ジアルカノールアミン類及びトリアルカノールアミン類及びジアルキル−モノアルカノールアミン類に対して、これらの基を同じアミン上で結合すると、例えば、メチルエチルヒドロキシプロピルヒドロキシルアミンを生成することができる。当業者は、この基の他のメンバを容易に確認することができる。
【００８５】
本発明の処理組成物は、１つ又はそれよりも多くの屈水性誘発物質、好ましくは１つ又はそれよりも多くの陰イオン性屈水性誘発物質化合物を含むこともできる。例示的な屈水性誘発物質は、例えば、ベンゼンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、Ｃ1−Ｃ11アルキルベンゼンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、Ｃ5−Ｃ11アルキルスルホン酸塩、Ｃ6−Ｃ11アルキル硫酸塩、アルキルジフェニル酸化物二スルホン酸塩、及び燐酸エステル屈水性誘発物質を含む。本発明の屈水性化合物は、１つ又はそれよりも多くのアルカリ、又はナトリウム、又はカリウム、特にナトリウムのようなアルカリ土類金属のような適切な対イオンを有する塩の形態で供給されることが多い。しかし、アンモニウム、モノ、ジ、及びトリの下位アルキル、すなわち、Ｃ1-4アルカノールアンモニウム基のような他の水溶性陽イオンは、アルカリ金属陽イオンの代わりに使用することができる。例示的なアルキルベンゼンスルホン酸塩は、例えば、イソプロピルベンゼンスルホン酸塩、キシレンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩、クメンスルホン酸塩、並びにそれらの混合物を含む。例示的なＣ5−Ｃ11アルキルスルホン酸塩は、ヘキシルスルホン酸塩（オクチルスルホン酸塩）及びヘキシル／オクチルスルホン酸塩、及びそれらの混合物を含む。特に有用な屈水性誘発物質化合物は、ベンゼンスルホン酸塩、ｏ−トルエンスルホン酸塩、ｍ−トルエンスルホン酸塩及びｐ−トルエンスルホン酸塩、２，３−キシレンスルホン酸塩、２，４−キシレンスルホン酸塩及び４，６−キシレンスルホン酸塩、クメンスルホン酸塩を含み、このような例示的な屈水性誘発物質は、一般的に、ナトリウム及びカリウム塩の形を含め塩の形態である。
【００８６】
本発明の更に別の態様により、硬質面及び軟質面の処理の方法を提供し、本方法は、処理組成物のミストを発生させる装置を準備する段階を含み、処理組成物は、表面に接触してそこに技術的恩典を提供する。
【００８７】
本発明の付加的な態様により、非生物無孔性硬質面の処理の方法を提供し、本方法は、処理組成物のミストを発生させる装置を準備する段階を含み、処理組成物は上述の硬質面に接触してそこに技術的恩典を提供する。一般的に、本方法に従って装置によって送出される処理組成物は、水及び／又は有機溶剤のような１つ又はそれよりも多くの溶剤、及び１つ又はそれよりも多くの更に別の成分、特に、１つ又はそれよりも多くの界面活性剤又は処理表面にウイルス除去の恩典、消毒恩典、又は抗菌の恩典をもたらす他の材料を含む。一般的に、与えられる技術的恩典は、洗浄の恩典、ウイルス除去の恩典、消毒の恩典、静菌性効果、抗ウイルス性の恩典、カビ、真菌、胞子のような存在、発生、又は再成長を低減する殺胞子の恩典、アレルゲン防止の恩典、反殺ダニの恩典、抗真菌性恩典、再汚染防止の恩典、外観、例えば、表面の輝きを改善する表面処理の恩典、芳香処理、消臭、臭気中和、空気清浄を含むがこれらの限定されない空気処理の恩典、殺虫の恩典、駆虫の恩典、並びに硬質面への表面コーティングの実施のうちの１つ又はそれよりも多くである。非限定的な例として、硬質面には、施釉タイル及び無釉タイル、レンガ、磁器、セラミック、並びに大理石、花崗岩及び他の石面を含む石、ガラス、金属、プラスチック、例えば、ポリエステル、ビニール、繊維ガラス、Ｆｏｒｍｉｃａ（登録商標）、Ｃｏｒｉａｎ（登録商標）、及び業界で公知の他の硬質面のような耐火物で構成された表面を含む。説明することになる更に別の硬質面は、食器戸棚及び調理台面を含む食品調製に関連付けられた台所環境及び他の環境に関連付けられたもの、並びに壁及び床面、特に、耐火物、プラスチック、Ｆｏｒｍｉｃａ（登録商標）、Ｃｏｒｉａｎ（登録商標）、及び石を含むものである。更に別の硬質面は、フローリング面、例えば、木、タイル、ガラス、セラミック、セメント面、グラウト、リノリューム、カーペット、及び敷物などを含む。
【００８８】
本発明の更に別の態様により、軟質面、例えば、布地、織物、及び衣類などの処理の方法を提供し、本方法は、処理組成物のミストを発生させる装置を準備する段階を含み、処理組成物は、上述の布地、織物、及び衣類などに接触し、更にその１つ又は複数の表面にも任意的に浸透し、そこに技術的恩典を提供する。上記と同様に、一般的に、本方法に従って装置によって送出される処理組成物は、水及び／又は有機溶剤のような１つ又はそれよりも多くの溶剤及び１つ又はそれよりも多くの更に別の成分、特に、１つ又はそれよりも多くの界面活性剤、又は処理表面にウイルス除去の恩典、消毒の恩典又は抗菌の恩典をもたらす他の材料を含む。一般的に、与えられる技術的恩典は、芳香処理、香水処理、臭気中和、悪臭処理又は消臭、洗浄、消毒、殺菌、衣類又は織物のような織物又は繊維軟化、皺防止、並びに処理軟質面への膜形成組成物の処理又はコーティングの実施、例えば、衣類、織物、カバー、カーペットを敷かれた表面、敷物、並びにこのような軟質面の生成に使用された縫糸及び繊維などを含む特にこのような処理表面のその後の汚染に抗するための処理組成物を含むフッ化ポリマー界面活性剤の適用のうちの１つ又はそれよりも多くである。
【００８９】
本発明の更に別の態様により、チリダニの発生を制御し、及び／又はその残留糞便、並びにアレルゲン、例えば、「ｄｅｒ−ｐ」アレルゲン及び「ｄｅｒ−ｆ」アレルゲンの変性を制御する方法を提供し、本方法は、処理組成物のミストを発生させる装置を準備する段階を含み、処理組成物は、表面に接触してそこに技術的恩典を提供する。一般的に、本方法に従って装置によって送出される処理組成物は、一般的に、水及び／又は有機溶剤のような１つ又はそれよりも多くの溶剤、及び１つ又はそれよりも多くの更に別の成分、特に有機酸及び特に乳酸、クエン酸、界面活性剤、精油及び酵素のうちの１つ又はそれよりも多くを含むことができる。
【００９０】
本発明の更に別の態様により、医療器具、例えば、人体の各部と直接に接触し、かつ定期的洗浄、殺菌、消毒、又は滅菌を必要とする医療処置に使用される外科器具、歯科器具、又は他の器具の処理の方法を提供し、本方法は、処理組成物のミストを発生させる装置を準備する段階を含み、処理組成物は、上述の医療器具に接触して、処理された医療器具に対して洗浄、殺菌、消毒、又は滅菌の恩典をもたらす。
【００９１】
本発明の更に別の態様では、空間への空気処理組成物の送出の方法を提供し、本方法は、処理組成物のミストを発生させる装置を準備する段階を含み、処理組成物は、上述の空間に接触してそこに技術的恩典を提供する。一般的に、与えられる技術的恩典は、芳香処理、香水処理、臭気中和、悪臭処理又は消臭、空気清浄のうちの１つ又はそれよりも多くである。一般的に、本方法に従って装置によって送出される処理組成物は、水及び／又は有機溶剤のような１つ又はそれよりも多くの溶剤、及び１つ又はそれよりも多くの更に別の成分を含む。
【００９２】
本発明の更に別の態様では、洗浄処理、例えば、ドライクリーニング又は洗濯処理、例えば、布地、織物、及び衣類などの水洗濯のための洗濯機内で処理すべき物品の前処理又は後処理の方法を提供し、本方法は、処理組成物のミストを発生させる装置を準備する段階を含み、処理組成物は、上述の布地、織物、及び衣類などに接触し、更にその１つ又は複数の表面にも任意的に浸透し、かつそこに技術的恩典を提供する。
【００９３】
本発明の更に別の態様では、封入空間への空気処理組成物の送出の方法を提供し、本方法は、処理組成物のミストを発生させる装置を準備する段階を含み、処理組成物は、上述の封入空間に接触してそこに技術的恩典を提供し、例えば、芳香処理、香水処理、消臭、悪臭中和、空気清浄などを提供する。このような封入空間の例は、より大きい又は開放空間、例えば、部屋のようなより大きい容積、建物内部の公共の場、車両内の運転室又は車内、及び閉じた容器又は他の比較的より小さい空間内、例えば、収容キャビネット、クロゼット、シャワー個室、厨芥入れ又はごみ箱の内部などを含む。缶、ドラム、瓶、及び篭などである剛性容器、又は袋、封筒のような柔軟な容器を含む廃棄物、生ごみ、又はごみを回収及び保管する容器の内部に芳香処理、消臭、香水処理、臭気中和、ウイルス除去、消毒又は他のそこに技術的恩典を提供する処理組成物のミストの送出は、本発明の考えられている好ましい実施形態である。
【００９４】
本発明の更に別の態様により、皿洗い工程、例えば、手動皿洗い工程又は自動皿洗い機において処理すべき皿類物品のような物品の前処理又は後処理の方法を提供し、本方法は、処理組成物のミストを発生させる装置を準備する段階を含み、上述の組成物は、皿類、例えば、食器類、ガラス製品、調理具、及び調理器具などに接触し、かつそこに技術的恩典を提供する。一般的に、本方法に従って装置によって送出される処理組成物は、水及び／又は有機溶剤のような１つ又はそれよりも多くの溶剤、及び１つ又はそれよりも多くの更に別の成分、特に１つ又はそれよりも多くの界面活性剤、又は処理表面にウイルス除去の恩典、消毒の恩典、又は抗菌の恩典をもたらす他の材料を含む。一般的に、与えられる技術的恩典は、特にこのような処理表面のその後の汚染に抗するために処理された硬質面に膜形成組成物のコーティングを提供することなどによる洗浄、消毒、殺菌、表面処理のうちの１つ又はそれよりも多くである。
【００９５】
本発明の更に別の態様により、身体表面、例えば、皮膚面又は毛髪面への処理組成物の適用の方法を提供し、本方法は、処理組成物のミストを発生させる装置を準備する段階を含み、処理組成物は、身体表面に接触してそこに技術的恩典を提供する。例示的な身体表面には、表皮、例えば、手、腕、脚、面、頭皮、並びに他の身体の領域を含む。一般的に、本方法に従って装置によって送出される処理組成物は、水及び／又は有機溶剤のような１つ又はそれよりも多くの溶剤、及び１つ又はそれよりも多くの更に別の成分、特に、１つ又はそれよりも多くの界面活性剤、又は処理された身体表面にウイルス除去の恩典、消毒の恩典、抗菌の恩典、脱臭の恩典、芳香の恩典、香水の恩典、皮膚栄養の恩典、皮膚調節の恩典、傷処理の恩典をもたらす他の材料を含む。好ましい方法において、にきび防止又は肌の汚れ落としの恩典をもたらすことができる処理組成物を供給するために、にきび防止又は肌の汚れ落とし組成物を身体表面、好ましくは頭、顔面、及び首の皮膚面に適用する。にきび防止恩典をもたらす処理組成物は、発生を改善することができる有効な量のサリチル酸又は他のにきび防止有効成分又は組成物を含むことができる。
【００９６】
本発明の更に別の態様では、毛髪成長が存在する可能性がある皮膚への脱毛組成物の送出の方法を提供し、本方法は、皮膚面に脱毛組成物又は脱毛成分を含む組成物、例えば、チオグリコール酸を供給する段階を含む。
【００９７】
本発明の更に別の態様では、表面への又は封入空洞、容積、又は空間への噴霧化又は霧化流体処理組成物、すなわち、「処理ミスト」の送出の方法を提供する。非限定的な例として、このような封入内部、空洞、容積、又は他の封入空間は、一例として、体腔、例えば口腔、部屋及び建物などの封入内部、車、バス、トラック、航空機、ボート、及び船などのような車両の閉鎖内部、保管ロッカー、戸棚、押入れ、及び箱などの封入内部を含む。
【００９８】
本発明の更に別の態様では、噴霧化又は霧化流体処理組成物の装置からの処理組成物のミストの送出により殺虫の恩典、殺ダニの恩典、殺ウイルスの恩典、抗菌の恩典、又は消毒の恩典をもたらす処理組成物のミストの送出のための装置及び方法を提供し、処理組成物は、殺虫の恩典、殺ダニの恩典、殺ウイルスの恩典、抗菌の恩典、又は消毒の恩典をもたらす１つ又はそれよりも多くの成分を含む。
【００９９】
本発明のある一定の好ましい実施形態を含む本発明の様々な実施形態を示す図面をここで参照する。添付図面において、図を通して同様の数字を使用して同様の要素を示している。
【図面の簡単な説明】
【０１００】
【図１】ミスト発生器手段の実施形態を示す図である。
【図２】ミスト発生器手段の他の実施形態を示す図である。
【図２Ａ】異なる構成のミスト発生器手段の実施形態を示す図である。
【図２Ｂ】異なる構成のミスト発生器手段の実施形態を示す図である。
【図２Ｃ】異なる構成のミスト発生器手段の実施形態を示す図である。
【図３Ａ】通常の作動条件の振動板の一部分の作動を示すより詳細な断面図である。
【図３Ｂ】通常の作動条件の振動板の一部分の作動を示すより詳細な断面図である。
【図３Ｃ】通常の作動条件の振動板の一部分の作動を示すより詳細な断面図である。
【図４】本発明の振動板の更に別の実施形態を示す図である。
【図５】本発明によるミスト発生器手段の更に別の実施形態を示す図である。
【図６】本発明によるミスト発生器手段の代替的な実施形態を示す図である。
【図７】本発明によるミスト発生器手段の更に別の実施形態を示す図である。
【図８】ミスト発生器手段の一部の実施形態を示す図である。
【図９Ａ】処理組成物の２つの供給源との使用に適合されたミスト発生器手段の実施形態を示す図である。
【図９Ｂ】処理組成物の２つの供給源を示す図である。
【図１０】ミスト発生器手段の更に別の実施形態を示す図である。
【図１１】本発明のミスト発生器手段の更に別の実施形態を示す図である。
【図１２】本発明のミスト発生器手段の更に別の実施形態を示す図である。
【図１３】本発明の装置において有用なミスト発生器手段の代替形態を示す図である。
【図１４】本発明のミスト発生器手段の有用な装置の更に別の代替形態を示す図である。
【図１４Ａ】本発明の装置において有用なミスト発生器手段の更に別の実施形態を示す図である。
【図１５】第１の本体部分に存在する噴霧化チャンバの更に別の実施形態を示す図である。
【図１６】装置の一部分の更に別の実施形態を示す図である。
【図１７】重力の効果を用いてミスト発生器に処理組成物を供給する実施形態を示す図である。
【図Ａ１】好ましい処理ミスト粒径二峰性分布又は粒子質量二峰性分布を示す図である。
【図Ａ２】好ましい処理ミスト粒径二峰性分布又は粒子質量二峰性分布を示す図である。
【図１８Ａ】本発明の装置及び噴霧化チャンバの実施形態の一部分を示す図である。
【図１８Ｂ】本発明の装置及び噴霧化チャンバの実施形態の一部分を示す図である。
【図１８Ｃ】本発明の装置及び噴霧化チャンバの実施形態の一部分を示す図である。
【図１９Ａ】噴霧化チャンバに関連して取り付けられたミスト発生器の更に別の実施形態の代替図を示す図である。
【図１９Ｂ】噴霧化チャンバに関連して取り付けられたミスト発生器の更に別の実施形態の代替図を示す図である。
【図１９Ｃ】噴霧化チャンバに関連して取り付けられたミスト発生器の更に別の実施形態の代替図を示す図である。
【図１９Ｄ】噴霧化チャンバに関連して取り付けられたミスト発生器の更に別の実施形態の代替図を示す図である。
【図２０Ａ】噴霧化チャンバ及びミスト発生器の更に別の実施形態を簡略化された構造で示す図である。
【図２０Ｂ】噴霧化チャンバ及びミスト発生器の更に別の実施形態を簡略化された構造で示す図である。
【図２０Ｃ】噴霧化チャンバ及びミスト発生器の更に別の実施形態を簡略化された構造で示す図である。
【図２０Ｄ】ミスト発生器手段を含むミスト発生器アセンブリの好ましい実施形態を示す図である。
【図２０Ｅ】ミスト発生器手段を含むミスト発生器アセンブリの好ましい実施形態を示す図である。
【図２０Ｆ】ミスト発生器アセンブリの更に好ましい実施形態を示す図である。
【図２０Ｇ】ミスト発生器アセンブリの更に好ましい実施形態を示す図である。
【図２０Ｈ】ミスト発生器アセンブリの更に好ましい実施形態を示す図である。
【図２０Ｉ１】ミスト発生器手段の振動板の３つの異なる作動モードのミスト発生器アセンブリを示す図である。
【図２０Ｉ２】ミスト発生器手段の振動板の３つの異なる作動モードのミスト発生器アセンブリを示す図である。
【図２０Ｉ３】ミスト発生器手段の振動板の３つの異なる作動モードのミスト発生器アセンブリを示す図である。
【図２０Ｊ１】ミスト発生器アセンブリを示す図である。
【図２０Ｊ２】ミスト発生器アセンブリを示す図である。
【図２０Ｊ３】ミスト発生器アセンブリを示す図である。
【図２０Ｋ１】直立垂直向きで、すなわち、水平面に対して９０°上方のミスト発生器アセンブリを示す図である。
【図２０Ｋ２】上方に傾斜した向きで、すなわち、ほぼ水平面に対して４５°のミスト発生器アセンブリを示す図である。
【図２０Ｋ３】水平向きで、すなわち、水平面に対して０°のミスト発生器アセンブリを示す図である。
【図２０Ｋ４】下方に傾斜した向きで、すなわち、水平面に対してほぼ４５°下方のミスト発生器アセンブリを示す図である。
【図２０Ｋ５】下方の垂直向きで水平面に対して９０°下方のミスト発生器アセンブリを示す図である。
【図２０Ｌ１】本発明のミスト発生器アセンブリの好ましい実施形態を示す図である。
【図２０Ｌ２】本発明のミスト発生器アセンブリの好ましい実施形態を示す図である。
【図２０Ｌ３】本発明のミスト発生器アセンブリの好ましい実施形態を示す図である。
【図２０Ｍ】本発明の装置の一部を形成する装着板に固定された図２０Ｄ、図２０Ｆ、図２０Ｉ１、図２０Ｊ１、及び／又は図２０Ｌ１によるミスト発生器アセンブリの代表図を示スズである。
【図２１】ミスト発生器、リザーバ、及び噴霧化チャンバの実施形態を示す図である。
【図２２】本発明による装置の要素の更に別の代替的な実施形態を示す図である。
【図２３】本発明の装置の要素の更に別の環境を示し、部分図でリザーバを示す図である。
【図２４】本発明による装置の一実施形態を示す図である。
【図２５】第１のアセンブリの代替的な実施形態を示す図である。
【図２６】図２５を参照して全体的に示すような第１のアセンブリを含む本発明による装置を示す図である。
【図２７】本発明による装置の更に別の実施形態を示す図である。
【図２８】断面図で図２６及び図２７の実施形態による制御ハンドル又は制御「ワンド」の簡単な実施形態を示す図である。
【図２９】自己内蔵型かつ携帯型のアセンブリ内の装置の更に別の実施形態の断面図である。
【図２９Ａ】自己内蔵型かつ携帯型のアセンブリ内の装置の更に別の実施形態の斜視図である。
【図３０】織物表面を処理する簡略化された方法を示す図である。
【図３１】織物表面、洗面所機械を処理する簡略化された方法を示す図である。
【図３２】本発明による携帯型装置の更に別の実施形態を示す図である。
【図３３】断面図で本発明による携帯型装置の更に別の実施形態の側面を示す図である。
【図３４】装置の外部側面及び部分断面を示す図である。
【図３５Ａ】図３４を参照して説明した装置と同様に利用することができる補助ノズルの更に別の代替的な実施形態を示す図である。
【図３５Ｂ】図３４を参照して説明した装置と同様に利用することができる補助ノズルの更に別の代替的な実施形態を示す図である。
【図３５Ｃ】図３４を参照して説明した装置と同様に利用することができる補助ノズルの更に別の代替的な実施形態を示す図である。
【図３５Ｄ】図３４を参照して説明した装置と同様に利用することができる補助ノズルの更に別の代替的な実施形態を示す図である。
【図３６】携帯型自己内蔵型物品として構成された本発明による装置の更に別の実施形態を示す図である。
【図３７】図３６の装置の内部実施形態の断面視図である。
【図３８】図３６の装置の代替内部実施形態の断面視図である。
【図３９】図３６の装置の更に別の代替内部環境の断面視図である。
【図３９Ａ】図３６の装置の更に別の代替内部環境の断面視図である。
【図４０】本発明による更に別の装置の代替的な実施形態を示す図である。
【図４１】本発明による更に別の装置の代替的な実施形態を示す図である。
【図４２】本発明による更に別の装置の代替的な実施形態を示す図である。
【図４３】自動皿洗い機の内部及び内容物、例えば、皿類、用具などを処理するのに使用される本発明による装置の実施形態を示す図である。
【図４４】シャワー個室の内部を処理するのに使用される本発明による装置の更に別の実施形態を示す図である。
【図４５】ごみ容器の開口部の近くの内部に取り付けられた本発明による装置の更に別の実施形態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０１０１】
図１は、ここでは貫通する複数の微孔隙２１を有する微細穿孔金属ふるい又はシートで形成された振動板２２を含むミスト発生器手段２０の実施形態を示している。振動板２２は、ほぼ円形であり、かつ周囲圧電素子２４を含む。圧電素子が振動板２２の周縁２６にありかつ周縁２６に固定されていると実施形態に示されているが、圧電素子２４は、振動板２２のあらゆる部分に固定することができ、かつ必ずしもその周囲にある必要があるというわけではないことは理解されるものとする。更に、１対の電流搬送手段４０、すなわち、回路制御手段（図示せず）から電流を供給する１対のワイヤが図に示されており、回路制御手段は、その振動板２２内の振動を誘発することによってミスト発生器手段２０を作動させるように作用し、ミスト発生器手段２０は、参照矢印「ＴＭ」によって示すように振動板２２から処理組成物のミストＴＭを励起するように作動する。
【０１０２】
図２は、振動板２２も含むミスト発生器手段２０の代替的な実施形態を示すが、この実施形態では、一連のセグメント２３が振動板を貫通する。このような要素も示すＵＳ  ７２２９０２８を参照するが、この特許の内容全体は、引用により本明細書に組み込まれている。同様に、圧電素子２４は、振動板２２の周縁２６に示されており、同様にそこに固定される。電流搬送手段４０、すなわち、回路制御手段（図示せず）から圧電素子２４に電流を移送して、参照矢印ＴＭの方向にミストＴＭの形内の処理組成物をポンピングするようにミスト発生器手段２０内の振動を誘発するための手段をもたらす１対の線も示されている。
【０１０３】
図２Ａ、図２Ｂ、及び図２Ｃは、液滴又は粒子、すなわち、処理組成物の処理ミスト）の二峰性分布を提供するようになった異なる構成のミスト発生器手段２０の実施形態示している。図２Ａに示す実施形態は、図１及び図２による実施形態と殆どの点において類似のものであるが、微細穿孔金属ふるい又はシートで形成された振動板２２は、異なる構成又はサイズ、例えば、断面又は直径である貫通する第１の一連の微孔隙２１Ａと、貫通する第２の一連の微孔隙２１Ｂとを含み、各一連の微孔隙は、他の又は異なる連続とは異なる構成又はサイズ、例えば、断面又は直径であるという点において異なる。処理組成物は、ミスト発生器手段２０により噴霧化され、液滴又は液体粒子の二峰性分布を有する処理ミストとして供給される。図２Ｂの実施形態は、矩形構成を有するミスト発生器手段２０の更に別の実施形態を示しており、微細穿孔金属ふるい又はシートで形成された振動板２２を含み、貫通する第１の一連の微孔隙２１Ａと、貫通する第２の一連の微孔隙２１Ｂと、貫通する第３の一連の微孔隙２１Ｃとを含み、各一連の微孔隙は、別の一連のものとは異なる構成又はサイズ、例えば、断面又は直径である。処理組成物は、ミスト発生器手段２０により噴霧化され、液滴又は液体粒子の三峰性分布を有する処理ミストとして供給される。図２Ｃの実施形態は、矩形構成を有するミスト発生器手段２０の更に別の実施形態を示しており、微細穿孔金属ふるい又はシートで形成された振動板２２を含み、貫通する第１の一連の微孔隙２１Ａと、貫通する第２の一連の微孔隙２１Ｂとを含み、各一連の微孔隙は、別の一連のものとは異なる構成又はサイズ、例えば、断面又は直径であり、処理組成物は、ミスト発生器手段２０により噴霧化され、液滴又は液体粒子の二峰性分布を有する処理ミストとして供給される。
【０１０４】
しかし、多くの有用な実施形態では、ミスト発生器手段２０は、図１及び図２に示す実施形態のような全て同様の大きさである貫通する単一の一連の微孔隙２１のみを含む振動板２２を含み、図１及び図２は、本発明のあらゆる実施形態に使用することができ、かつ単峰性粒子分布を有する処理ミストＴＭを送出する非常に適切なミスト発生器手段２０を示すことは理解されるものとする。
【０１０５】
図３Ａ、図３Ｂ、及び図３Ｃは、より詳細な断面図で通常の作動条件の振動板２２の一部分の作動を示している。一般的に、適切な電流が圧電素子２４に通電された時に、適切な電流は、圧電素子２４の構成又は膨張及び収縮を誘発する。少なくとも一部が少なくとも圧電素子２４の一部に機械的、化学的に、又はそうでなければ物理的に接合された振動板２２は、同様に振動するが、振動板２２のより可撓性の性質のために、揺動パターンが、振動板２２内に導入される。振動板２２が、図１及び図２に開示するように性質が一般的に円形であり、かつ圧電素子２４に周囲で結合された場合に、一般的に、周囲からかつ振動板２２の中心の方向に延びる波打つ波形が現れるが、振動板２２が、ほぼ矩形であるか又は側面の１つのみ又は端部の１つのみで圧電素子２４に接合された時に、振動板２２と圧電２４の間の接続点から延びる一般的に波打つ波形が現れる。後者は、振動板２２の一部が機械的に結合されていない場合に、その上のこのような点での振動板２２のより多くの移動の自由をもたらすという事実によるものである。依然として、このような構成において、波形は、振動板２２全のあらゆる点にわたる波、又は波形の一部の通過中にこのような点を取り囲む領域が、振動板２２が静的状態である時の同じ点の条件と比較して同じ点に対して上方へ又は下方へ屈曲するように振動板２２の屈曲を誘発する。図３Ａ、図３Ｂ、及び図３Ｃは、様々な作動条件の振動板２２の小区画の断面図を示している。図３Ａは、このような静的状態の振動板２２の小区画の断面図を示している。図３Ａで分るように、振動板２２は、貫通する一連の微孔隙又はチャンネル２５を含み、チャンネル２５は、任意的に、しかし、好ましくは、振動板２２の底面２２ａの方で僅かに広い直径又は幅のチャンネル入口２５ａと、振動板２２の上面２２ｂの方で僅かに狭い直径又は幅のチャンネル出口２５ｂとを有する。これは、ミスト発生器手段２０の一部として作動する時に振動板２２を通る処理組成物のポンピング作用を改善すると考えられる。ここで図３Ｂを参照すると、振動板２２の同じ部分は、振動板２２の揺動中の波形の一部の「トラフ」である状態に示されている。振動板２２の底面２２ａの通路入口２５ａに存在する処理組成物の１対の微細液滴「ＭＤ」も示されている。例えば、１対の微細液滴「ＭＤ」は、液体の形態で供給された時のような振動板２２下での処理組成物の存在によって形成することができる。図３Ｃをここで参照すると、振動板２２の同じ部分は、振動板２２の揺動中の波形の一部の「ピーク」にある状態に示されている。図３Ｃで分るように、振動板の屈曲の方向が、ここでは図３Ｃに示すものに対して逆転され、斜めの外方に曲げられた方向にある時に、通路出口２５ｂは、従って、図３Ｂに従ってトラフ位置である振動板２２の１つと比較すると、図３Ａに従って静的位置である時でさえも多少増大した幅又は直径を有する。同時に、振動板２２の底面２２ａでの通路入口２５ａの直径又は幅は、従って、図３Ｂに従ってトラフ位置である振動板２２の１つと比較すると、図３Ａに従って静的位置にある時でさえも短縮され、それによって処理組成物の微細液滴ＭＤは参照矢印ＴＣの方向に外方に振動板２２から放出される。このようにして、液体組成物のポンピング、ここでは、本発明の処理組成物は、振動板２２の厚み方向にわたって達成することができる。
【０１０６】
しかし、振動板２２の厚み方向に沿ったポンピングを提供することによって処理組成物を噴霧してそれによってミストの形態で処理組成物を供給する優れた手段が得られるが、処理組成物は、代替的に、振動板２２の上面２２ｂに直接に送出することができ、振動板２２の振動性振動のために、処理組成物の微細液滴ＭＤも、直前で上述したように振動板２２を必然的に通過することなく形成されることが予想されることに注意されたい。
【０１０７】
図４は、図１及び図２に示す実施形態といくつかの点においては類似のものである本発明の振動板２２の更に別の実施形態を示している。ここではボウル状の微細穿孔金属ふるい又はシートで形成された振動板２２を含むミスト発生器手段２０が図１及び図２に示されている。振動板２２は、ほぼ円形であり、かつ周囲圧電素子２４を含む。底面２２ａの一部は、ここでは液体の形態の処理組成物ＴＣの表面と接触しているか又は処理組成物ＴＣで部分的に浸漬される。作動時に、ミスト発生器手段２０は、ボウル状の振動板２２の内部から外方に、参照矢印ＴＭの方向に上方へ及び外方に処理組成物の微細液滴をポンピングする。
【０１０８】
図５は、本発明によるミスト発生器手段２０の更に別の実施形態を示している。図示の実施形態では、ここではほぼ円形でありかつ周囲圧電素子２４を含むボウル状の微細穿孔金属ふるい又はシートで形成された振動板２２が設けられる。底面２２ａの一部は、処理組成物ＴＣの表面に接触しているか、又は流体導管３０、ここでは円形管によって送出された流れ中の液体の柱の形態の処理組成物ＴＣで部分的に浸漬される。処理組成物ＴＣは、管３０の開放端３２から流れ出て処理組成物のメニスカス又は層をこの開放端３２に維持する。作動時に、ミスト発生器手段２０は、ボウル状の振動板２２の内部から外方に、参照矢印ＴＭの方向に上方へ及び外方に処理組成物の微細液滴をポンピングし、振動の一部の最中の振動板２２は、処理組成物ＴＣと接触して上述の方法で振動板を通じてかつ振動板２２から外方にポンピングする。管３０を出る量の処理組成物を再循環させて振動板２２に再供給することができ、又は回収又は排出及び廃棄することができる。このようにして、ミスト発生器手段２０の作動特性及び処理組成物ＴＣが送出される速度の制御により、流体移送手段としての毛細管又は芯の使用を除外し、すなわち、装置から除外することができる。
【０１０９】
図６は、本発明によるミスト発生器手段２０の代替的な実施形態を示している。ミスト発生器手段２０は、ここでは構成がほぼ矩形である微細穿孔金属ふるい又はシートで形成された圧電素子２４及び振動板２２を含む。この実施形態では、振動板２２の一端のみが、圧電素子２４に接合されており、ミスト発生器手段２０の作動中に、振動板２２の近位端部２２Ｐからその長さに沿って遠位端部２２Ｄに延びる典型的なリップル波形が現れる。後者は、振動板２２の各部が特に遠位端部２２Ｄ内に機械的に結合されていないので、これは、振動板２２のより多くの移動の自由をもたらすという事実によるものである。図示の実施形態では、振動板２２は、ほぼ矩形であるが、３つの相互接続部分、すなわち、近位端部２７Ｄ、中間部２７Ｉ、及び遠位端部２７Ｄを定めるためにこのように屈曲状態でもある。図示の実施形態では、近位端部２７Ｐ及び遠位端部２７Ｄは、全てほぼ平行であるが、近位端部２７Ｄ及び遠位端部２７Ｄに角度形成する中間部２７Ｉを通じて互いから離間している。ここでは、角度は、ほぼ等しく、かつほぼ円弧の３０度と４５度の間である。図に示す角度よりも大きい及び小さい角度が考えられている。更に、１対の電流搬送手段４０、すなわち、１対のワイヤが図に示されており、１対のワイヤは、コントローラ手段（図示せず）から電流を供給し、コントローラ手段（図示せず）は、その振動板２２内の振動を誘発することによってミスト発生器手段２０を作動させるように作用し、その振動板２２は、参照矢印「ＴＭ」によって示すように振動板２２から外方に処理組成物をポンピングするように作動する。この図に示すように、振動板２２の遠位端部２７Ｄは、処理組成物ＴＣに接触しているか、又はここでは液体の形態で存在するある一定量の処理組成物ＴＣ内に浸漬される。図面では分らないが、遠位端部２７Ｄは、図１、図２、図２Ａ、図２Ｂ、又は図２Ｃを参照して上述したように通路又は微孔隙を含む。ミスト発生器手段２０の作動中に、振動板２２の揺動により、処理組成物の微細液滴が参照矢印ＴＭの方向に振動板２２から外方にポンピングされる。処理ミストＴＭ内の粒径分布は、単峰性分布、二峰性分布、三峰性分布、又はあらゆる他の分布とすることができる。
【０１１０】
図７は、図６に示す実施形態と一部の点において類似のものであるミスト発生器手段２０の更に別の実施形態を示している。この図では、矩形振動板２２の一部は、圧電素子２４に固定、装着、又は接合され、矩形振動板２２は、そこから外方に延びる。振動板２２は、遠位端部２７Ｄに中間角度を通じて延びる近位端部２７Ｐを有し、遠位端部２７Ｄは、図１及び図２を参照して上述したように通路又は微孔隙を含む。従って、通路又は微孔隙を含む振動板２２の一部は、傾斜状態である。液体の形態の処理組成物は、ここでは多孔繊維要素として示す毛細手段７０によって供給され、多孔繊維要素は、処理組成物を含むリザーバから毛細手段７０の末端７２の方向に処理組成物を移送する（図示せず）。代替的に、多孔繊維要素は、セラミック要素と置換することができ、又は適切な毛細手段４０を形成するために束ねることができる複数の細径管のような複数の細径管とすることができる。作動中に、毛細手段７０は、処理組成物を移送し、処理組成物が保持される末端４２で薄膜層又はメニスカスを形成する。振動板２２の振動運動中に、通路又は微孔隙を含む振動板２２の一部は、処理組成物を同伴してその後に参照矢印ＴＭの方向に振動板２２から上方に及び外方にポンピングする。
【０１１１】
図８は、ミスト発生器手段２０の一部の実施形態を示しており、処理組成物ＴＭは、流体導管３０、ここでは円形管によって供給された流れ中の液体の柱として振動板２２に供給され、十分な量の処理組成物が、管の開放端でのメニスカスとして存在するか、又は溢れる場合を含む。振動の一部の最中に、振動板２２は、処理組成物ＴＣと接触し、参照矢印ＴＭの方向に振動板を通じてかつ振動板２２から外方にポンピングする。
【０１１２】
図９Ａは、処理組成物の２つの供給源との使用に適合されたミスト発生器手段２０の実施形態を示している。図９Ａで分るように、一般的に矩形構成の振動板２２は、中心部分に圧電素子２４を含む。振動板２２は、２つの遠位端部２７Ｄを有し、その各々は、図１及び図２、図２Ａ、図２Ｂ、及び図２Ｃを参照して上述したように通路又は微孔隙を含む。
【０１１３】
このようなミスト発生器手段２０の作動は、図９Ｂに示す側面図でより明瞭に開示するが、図９Ｂは、ミスト発生器手段２０及び同じか又は異なることができる処理組成物ＴＣの２つの供給源を示している。処理組成物ＴＣの第１の供給源は、流体導管３０、ここでは円形管によって供給された流れ中の液体の柱であり、処理組成物ＴＣは、振動の一部の最中に、振動板２２は、処理組成物ＴＣと接触して参照矢印ＴＭの方向に振動板を通じてかつ振動板２２から外方にポンピングするように図８に説明した方法で提供される。処理組成物の第２の供給源は、液体の形態の処理組成物が毛細手段７０によって供給される場所であり、毛細手段７０は、図９Ａを参照して上述したように処理組成物を含むリザーバから毛細手段７０の末端７２の方向に処理組成物を移送する。振動板２２の振動運動中に、通路又は微孔隙を含む振動板２２の一部は、処理組成物を同伴してその後に参照矢印ＴＭの方向に振動板２２から上方に及び外方にポンピングする。このような実施形態では、単一の圧電素子２４は、図１及び図２に関して上述したように各々が通路又は微孔隙を含む１つ又はそれよりも多くの領域を有する１つ又はそれよりも多くの振動板２２に振動を誘発するのに使用され、又は図１及び図２に関して上述したように、通路又は微孔隙を含む１つ又はそれよりも多くの領域を有する単一の振動板及びその結果同じか又は異なる場合がある１つ又はそれよりも多くの処理組成物ＴＣを供給するのに使用することができる。例えば、一方の処理組成物は、主として、表面に処理恩典をもたらすものとして供給することができ、他方の処理組成物は、主として空間に処理の恩典をもたらすものとして供給することができる。本発明による装置からの処理組成物の供給も考慮され、第１の処理組成物ＴＣ及び第２の異なる処理組成物ＴＣは、別々に個別のリザーバ内に貯蔵されるが、同時に供給されてその後に接触した時にそこに技術的恩典を提供する処理組成物を形成するために、ミストの形態である時に化学反応する。更に、振動板２２は、２つ又はそれよりも多くの大きさ又は構成が異なる一連の微孔隙を有することができ、各一連は、図２Ａ、図２、及び図２Ｃを参照して上述したように、別の一連と異なる構成又はサイズ、例えば、断面又は直径であるように考えられている。図９Ａ及び図９Ｂに従ってミスト発生器手段２０により噴霧化される処理組成物又は２つの異なる処理組成物は、液滴又は液体粒子の少なくとも二峰性分布を有する処理ミストとして供給することができるが、必要に応じて、図９Ａ及び図９Ｂによるミスト発生器手段２０は、液滴又は液体粒子の単峰性分布を提供することができる。
【０１１４】
図１０は、ミスト発生器手段２０の更に別の実施形態を示している。図１０では、圧電素子２４は、僅かに離間しているが振動板２２と平行である上面３２Ｂの反対側にある伝達要素３２Ｔの底面３２Ａ上に取り付けられる。振動板２２は、装置の一部の第１の本体要素４０Ａに周囲装着フレーム３４を通じて装着される。周囲装着フレーム３４は、剛性であり、本質的に振動板２２にいずれの振動運動も導入しない。この本体要素４０Ａは、伝達要素３２の上部３２Ｄが通って延びる円形ボア４２を含む。図示の実施形態では、伝達要素３２は、ほぼ円形であり、かつ図示のように「段付き円筒体」を形成するために上部３２Ｄ、並びに下部３２Ｃの中心を通って延びる垂直中心軸に関して対称形である。下部３２Ｃは、適切な装着手段、ここでは周囲Ｏリング５３により第２の本体部分５０のボア５２内に部分的に取り付けられ、周囲Ｏリング５３は、エラストマー性であり、それによって液密シールがもたらされ、しかも同時に、中心軸に沿ったかつ振動板２２の方向の伝達要素３２Ｔの移動が可能である。処理組成物ＴＣの供給分は、第１の本体要素４０と第２の本体部分５０の間に位置決めされた流体導管６０を通じて円形ボア４２及び振動板２２に供給される。従って、処理組成物ＴＣは、上面３２Ｂと振動板２２の間の領域に供給することができる。圧電素子２４が作動された時に、振動運動が伝達要素３２内で誘発され、伝達要素３２は、次に、振動板２２に向けて及び振動板２２から離れるように交互に振動する。このような運動により、処理組成物ＴＣのミストが形成されて参照矢印ＴＭの方向に外方に振動板２２から放出されるように、振動板２２に存在する通路又は微孔隙を通る処理組成物ＴＣのポンピングが引き起こされる。伝達要素のこのような運動は、同様に振動板内に振動を誘発することができ、ここでもまた、振動板を通る処理組成物ＴＣのポンピング及び処理組成物ＴＣのミストＴＭの形成が引き起こされる。上述の実施形態では、第１の本体部分４０Ａ及び第２の本体部分５０への言及は、必ずしも装置の個別のかつ別々の部分に限定する必要があるわけではなく、図を参照して説明するように、適切な構成を有する複合又は単体要素とすることができることを理解されたい。
【０１１５】
図１１は、以前の図１０による実施形態といくつかの点において類似のものである本発明のミスト発生器手段２０の更に別の実施形態を示している。図１１では、第１の本体部分４０Ａは、振動板２２が横断方向に装着フレーム３４内に取り付けられている底部で又はそれ近くに下方へ傾斜した円形側壁４１を含む。円形側壁４１及び振動板２２内の領域は、堰４３（又は、ミスト発生器手段２０が反転されたか又は図示の水平構成から離れる方向に回転した場合は「角状突起４３」）を形成し、堰４３内では、処理組成物ＴＣを供給することができるか又は回収することができる。振動板２２の下には、段付き円筒体の形態の伝達要素３２Ｔを含み、伝達要素３２Ｔ下側には、圧電素子２４が装着される。図１０と同様に、伝達要素３２Ｔは、適切な装着手段、ここでは弾性ゴムシール５３通じて第２の本体部分５０の円形ボア５２内に取り付けられ、弾性ゴムシール５３は、可撓性であるが伝達要素３２Ｔの下部３２Ｃとボア５２の間に液密シールをもたらす嵌合式Ｏリングとすることができる。処理組成物ＴＣは、第１の本体要素４０と第２の本体部分５０の間に位置決めされた流体導管６０を通じて伝達要素３２と振動板２２の間に供給される。圧電素子２４が作動された時に、振動運動が伝達要素３２内で誘発され、伝達要素３２は、次に、振動板２２に向けて及び振動板２２から離れるように交互に振動し、振動板を通る処理組成物ＴＣのポンピング及び処理組成物のミストの形成が引き起こされる。
【０１１６】
図１２は、以前の図１０及び図１１による実施形態といくつかの点において類似のものである本発明のミスト発生器手段２０の更に別の実施形態を示している。図示の実施形態では、第１の本体部分４０Ａは、貫通するボア４２を含む。振動板２２は、ボア４２の一部にわたって周囲装着フレーム３４を通じて横断方向に取り付けられる。処理組成物ＴＣは、流体導管６０を通じて振動板２２の下側に供給され、次に、処理組成物ＴＣは、振動板２２の底面２２ａに接触する。振動板２２の反対側には、伝達要素３２Ｔが取り付けられる。伝達要素３２Ｔは、一端に取り付けられた圧電素子２４を有する段付き円筒体の形態であり、その反対端には、振動板２２の上面２２ｂと物理的に接触している延長されたピン３５を含む。図示していないが、伝達要素３２Ｔは、圧電素子２４が作動された時にピン３５が振動して振動板３２内に入り、かつ振動板３２から離れることができるように適切な装着手段により適切に取り付けられる。ピン３５と振動板２２間のこの物理的接触のために、振動又は揺動運動は、振動板２２内で誘発され、振動板を通る処理組成物ＴＣのポンピングが引き起こされ、処理組成物のミストの形成が形成される。
【０１１７】
図１３は、本発明の装置において有用なミスト発生器手段２０の代替形態を示している。ＵＳ  ２００７０１６９７７５及びＵＳ  ２００９０１２１０４３を参照するが、これらの特許の内容全体は、引用により本明細書に組み込まれている。第１の本体部分４０Ａは、本明細書では堰４３及び圧電素子２４が存在する基部４４とより形成された噴霧化チャンバ４５と、図６を参照して説明している構成がほぼ矩形であるここでは微細穿孔金属ふるい又はシートで形成された振動板２２とを含む。処理組成物ＴＣの供給分は、第１の本体部分４０内の流体導管を通じて噴霧化チャンバ４５に入り、圧電素子２４が作動された時に、振動板２２は、振動又は揺動し、従って、処理組成物のミストＴＭが形成され、処理組成物のミストＴＭは、噴霧化チャンバ４５から外方に放出される。噴霧化チャンバ４５は、処理組成物ＴＭがミスト発生器手段２０の作用によって処理ミストＴＭに変換される装置のいずれかの部分とすることができ、噴霧化チャンバの更に別の実施形態は、更に別の図で開示する。
【０１１８】
図１４は、本発明のミスト発生器手段２０有用な装置の更に別の代替形態を示している。周囲圧電素子２４に接合されるか、取り付けられるか、又は他の方法で固定された振動板２２は、全体的に図１又は図２のいずれかに示されており、装置の第１の本体部分４０に存在する堰４３の基部４４よりも僅かに上方に位置決めされる。流体導管６０は、ある一定量の処理組成物ＴＣを振動板２２の上面２２ｂに供給する。振動板２２の底面２２ａと基部４４の間に小さい空隙が存在することができ、従って、基部空洞４６が定められる。圧電素子２４が作動された時に、振動板２２内の振動運動により、噴霧化チャンバ４５内に処理組成物ＴＣの霧化粒子のミストＴＭの形成が引き起こされ、霧化粒子がそこから放出される。従って、図は、処理組成物ＴＣを噴霧するために処理組成物ＴＣが必ずしも振動板を通じてポンピングされる必要があるというわけではないことを示している。有利な態様では、この基部空洞４６内に集まることができるあらゆる液体又は流体処理組成物ＴＣは、振動板２２内の振動運動により最終的に噴霧化され、それはまた、噴霧化チャンバ４５を出る。
【０１１９】
図１４Ａは、本発明の装置において有用なミスト発生器手段２０の更に別の実施形態を示している。しかし、図１、図２、図２Ａ、図２Ｂ、及び図２Ｃを参照して説明するように、単に任意的にただし好ましくは貫通する微孔隙２１、２５を含む振動板２２は、周囲圧電素子２４に接合されるか、取り付けられるか、又は他の方法で固定され、全体的に図１又は図２のいずれかに示されており、堰４３を左右に移動する噴霧化チャンバ４５に位置決めされる。貫通する複数の穿孔２１を有する穿孔スクリーン要素２７は、振動板２２と平行でありかつ振動板２２から離間している。作動面において、振動板２２は、処理組成物を個別の液滴又は粒子に噴霧化するように作動し、個別の液滴又は粒子は、穿孔スクリーン要素２７の方向に誘導され、しかし、特定の液滴サイズ又は粒子質量を超えない個別の液滴又は粒子のみが処理ミストＴＭとして放出され、一方、特定の液滴サイズ又は粒子質量を超える個別の液滴又は粒子ＴＣは、振動板２２に戻される。このようにして、処理ミストの個別の液滴又は粒子の最大粒径の制御を確立することができる。
【０１２０】
図１３及び図１４及び図１４Ａで開示する実施形態では、以下の図のいくつかで開示されるように、ボア、空洞、又は少なくとも１つの傾斜した側壁を有する堰以外の他の構成を噴霧化チャンバ４５の一部として使用することができる。
【０１２１】
図１５をここで参照すると、第１の本体部分４０Ａに存在する噴霧化チャンバ４５の更に別の実施形態、ここでは、開放端４８の反対側に基部４４を有するほぼ円形のボア４２が示されている。図４に示すような振動板２２及び圧電素子２４は、僅かに凹状の基部４４よりも上方にかつボア４２の一部にわたって横断方向に取り付けられる。処理組成物ＴＣの供給分は、上面２２ｂに接触するように流体導管を通じて及び振動板２２よりも上方で噴霧化チャンバ４５に入る。圧電素子が作動された時に、振動が振動板２２内で誘発され、それによって噴霧化チャンバ４５内に処理組成物ＴＣの霧化粒子のミストＴＭの形成が引き起こされ、処理組成物ＴＣの霧化粒子は、開放端４８を通じて放出される。振動板２２と僅かに凹状の基部４４の間に集まることができるあらゆる液体又は流体処理組成物ＴＣは、振動板２２内の振動運動によっても噴霧化され、これはまた、噴霧化チャンバ４５を出る。図１５は、センサ手段、ここではミストセンサ手段を示している。図示の実施形態では、ミストセンサ手段７１は、送信機ユニット７１Ａと、ボア４５にわたって及び好ましくはその開放端４８の近くで互いから横断方向に取り付けられた受信機ユニット７１Ａとを含む。送信機ユニットは、信号、例えば、受信機ユニットによって受信することができる光信号、音響信号、又は他の信号などを発生させ、矢印７３により表されるように、送信機ユニット７１Ａと受信機ユニット７２Ｂの間に空隙を通過する処理組成物の霧化粒子、すなわち、ミストの量又は存在の品質により移送される信号の品質のあらゆる変動が受信機ユニットにより検出される。適切な信号をコントローラ手段（図示せず）に送信することができ、コントローラ手段は、コントローラ手段及び装置の１つ又はそれよりも多くの更に別の部分により応答作用を開始することができる。例えば、ミストセンサ手段が処理組成物の霧化粒子を生成している量が不十分であるように判断した場合、この状態を表す信号をコントローラ手段に送信することができ、コントローラ手段は、例えば、電源を増大させるか又は圧電素子２４に送信された周波数信号を増大させ、それによって揺動又は振動の速度及び／又は処理組成物ＴＣの質量流量を増大させることができる。ポンピングを通じて供給することができる処理組成物ＴＣは増大させることができる。代替的に、ミストセンサ手段は、噴霧化チャンバ４５が処理組成物の流体の形態で溢れているか否かを判断することができ、それを表す信号をコントローラに送ると、コントローラは、適切な応答、例えば、装置の停止又はミスト発生器２０の作動の中断を引き起こすことができる。更に代替的に、ミストセンサ手段は、噴霧化チャンバ４５内の処理組成物のミストの有無を判断することができ、後者が感知された場合に、それを表す信号をコントローラに送ることができ、制御システムは、適切な応答、例えば、装置の停止又はミスト発生器２０の中断作動を引き起こすことができる。
【０１２２】
図１６は、装置の一部分の更に別の実施形態を示している。ここでは、流体の形態、好ましくは液体の形態である一定量の処理組成物を含む中空容器８１の形態のリザーバ８０は、装置の第１の本体部分４０に取外し可能に固定される。リザーバ８０は、ここでは貫通する毛細手段７０を有するキャップ８２、すなわち、毛細手段４０の末端７２の方向に処理組成物を移送する多孔繊維要素を含む。本体部分４０は、噴霧化チャンバの基部が、第１の本体部分４０との液密シールを形成するキャップ８２の一部で置換されたという点を除き、図１３に示す実施形態に殆どの点で類似のものである噴霧化チャンバ４５を含む。これも、毛細手段４０内の毛管力のために、ある一定量の処理組成物が、処理組成物をミスト発生器２０により噴霧することができる末端７２に絶えず供給されるように毛細手段７０の末端７２のアラインメントを可能にするものである。処理組成物の霧化粒子は、ミストＴＭを形成し、ミストＴＭは、噴霧化チャンバ４５の開放端４８を通じて出る。送信機ユニット７１と、ボア４５にわたって及び好ましくはその開放端４８の近くで互いから横断方向に取り付けられた受信機ユニット７２とを含むミストセンサ手段も示されている。
【０１２３】
図１７は、重力の効果を用いてミスト発生器２０に処理組成物ＴＣを供給する実施形態を示している。中空容器８１、すなわち、開放ネック端部８３を有する瓶は、処理組成物が重力を受けて逆さ状態の容器８１から流れ出るように逆さ状態であり、かつ第１の本体部分４０内に取り付けられる。流体導管６０は、実質的に図１４を参照して上述したように、噴霧化チャンバ４５を含む噴霧化チャンバ４５に開放ネック端部８３を接続する。流体導管６０の中間に存在しかつ流体導管６０と一線に並ぶ流体制御手段９０は、通過する流体処理組成物の量又は品質の制御を提供することができるあらゆる装置とすることができる。最も簡単な場合に、このような装置は、手動で但しより望ましくはコントローラ手段（図示せず）により制御することができるあらゆる弁とすることができる。流体制御手段９０の適切な制御を使用して、ミスト発生器２０の望ましい作動を保証するために確実に流体処理組成物ＴＣの最適供給分が噴霧化チャンバ４５に移送されるようにすることができる。
【０１２４】
図示していないが適切な電気的又は信号ユニット伝導手段、すなわち、ワイヤを使用して、必要な場合に、ミストセンサ手段、流体制御手段、コントローラ手段の様々な要素、並びにあらゆる他の装置、この装置の要素又は部分を接続することができるが、このようなものは、必ずしも本明細書に示す図に示されているというわけではないことは更に理解されるものとする。
【０１２５】
図Ａ１及び図Ａ２は、グラフ表示により、好ましい処理ミスト粒径二峰性分布又は粒子質量二峰性分布を示している。図Ａ１は、便利な時間間隔、例えば、１秒又はそれよりも長く又は１分又はそれよりも長い間隔にわたって通常の定常状態作動中にミスト発生器により分注される個別の液滴のサイズ（ミクロン単位）の質量分布又は％分布を示している。図Ａ１で分るように、１０〜２０ミクロンの範囲の粒子よりも大きい量の０〜１０ミクロンの範囲の粒子が分注され、一方、２０〜３０ミクロンの連続的範囲の粒子の量は、以前の２つの範囲で分注されるものよりも大きい。粒径がより高い範囲、すなわち、３０〜４０ミクロン及び４０〜５０ミクロンに増加する時に、この量は連続的に減少する。図Ａ１からも分るように、０〜１０の範囲の分注粒子の全質量は、２０ミクロン及びそれよりも大きい範囲の分注粒子の全質量よりも実質的に小さい。図Ａ２は、ここでは「Ｃ１」（実線で）により表された第１の二峰性分布、及び「Ｃ２」（点線で）により表された第２の二峰性分布として表された本発明の好ましい実施形態による２つの更に他の二峰性分布を示している。曲線は、ｘ軸上に示すように特定のミクロン粒径範囲の液滴に対してｙ軸上に示すように重量％、すなわち、形成された処理ミストに存在する処理組成物のそれぞれの個別の液滴又は粒子の質量又は百分率により分布を表している。線Ｃ１を参照すると、第１の中心値又は第１の平均化液体粒径は、線分Ｃ１１に対応し、線分Ｃ１１は、線分Ｃ１１の左右に対して曲線Ｃ１の下にある二峰性分布の第１の部分内の粒径分布でほぼ４ミクロンにあり、第２の中心値又は第２の平均化液体粒径は、線分Ｃ１２に対応し、線分Ｃ１２は、線分Ｃ１１の左右に対して曲線Ｃ１の下にある二峰性分布の第２の部分内の粒径分布でほぼ２９ミクロンにあることが見出される。Ｃ２により表された更に別の二峰性分布は、多くの点において類似のものであるが、第１の中心値又は第１の平均化液体粒径は、線分Ｃ２１に対応し、線分Ｃ２１は、線分Ｃ２１の左右に対して曲線Ｃ２の下にある二峰性分布の第１の部分内の粒径分布でほぼ５ミクロンにあり、第２の中心値又は第２の平均化液体粒径は、線分Ｃ２２に対応し、線分Ｃ２２は、線分の左右に対して曲線Ｃ２の下にある二峰性分布の第２の部分内の粒径分布でほぼ２２ミクロンにある。
【０１２６】
図１８Ａ、図１８Ｂ、及び図１８Ｃは、本発明の装置、及び図中の線分「Ｈ」により表されるように水平面から傾斜した時の中に含まれた流体処理組成物の流出に抵抗する噴霧化チャンバ４５の実施形態の一部分を示している。図１８Ａでは、噴霧化チャンバ４５は、一端で圧電素子２４に固定された１対の振動板２２が、噴霧化チャンバ４５の基部４４の近くである一定量の処理組成物ＴＣの中に下方へ垂直に延びるような向きに配置される。この実施形態では、噴霧化チャンバ４５は、上方へ基部４４の中心を通り、かつ噴霧化チャンバ４５の反対端で開放端４８を通る中心軸に関して同心であるが、これは、必要な要件でない。噴霧化チャンバ４５は、その基部４４、すなわち、ほぼ円形の基部部分４５Ａから上方に方向付けられた状態で延び、一般的に円形基部部分４５Ａは、中間部に延びて、ベル形の又は切頭円錐形部分４５Ｂの中に外方に延び、ベル形の又は切頭円錐形部分４５Ｂは、次の逆ベル形又は切頭円錐形部分４５Ｃの中に延び、逆ベル形又は切頭円錐形部分４５Ｃは、内方に端部４８の中に延びて統合される。これらの図から分るように、噴霧化チャンバ４５は、装置内に形成された不規則なボア４２の形態である。図１８Ａで分るように、これらの区画は、噴霧化チャンバ４５の内部容積を形成し、噴霧化チャンバ４５は、処理組成物ＴＣの量の少なくとも一部と、ミスト発生器２０の少なくとも一部とを含むようになっている。同じく見ることができるように、噴霧化チャンバ４５の内部は、図示の実施形態では、対向した点４５Ｘ間を延びると定義することができる最大横断面又は最大横断寸法も有する。この最大横断寸法は、開放端４８の最大横断寸法よりも大きいことが最も好ましい。有利な態様では、高さ又は基部４４の間の距離は、開放端４８の最大横断寸法の少なくとも１．１倍、好ましくは、少なくとも１．２倍、かつ優先度が増大する順に、少なくとも１．３倍、１．４倍、１．５倍、１．７倍、２倍、２．２倍、２．５倍、又はそれよりも大きい。開放端４８の最大横断寸法は、図示の実施形態では、対向した点４８Ｘの間の距離とすることができる。このようにして、「井戸形の」かつ噴霧化のチャンバ４５を生成することができ、これは、装置及び／又は噴霧化チャンバ４５が水平面「Ｈ」から傾斜し又は再方向付けされた時に、図１８Ａ及び図１８Ｂに示す向きにあるような処理組成物ＴＣの容積が、開放端４８を通じて外方に装置から流出せずにむしろ噴霧化チャンバ４５内に保持されるような寸法を有する。更に、噴霧化チャンバが水平面に垂直である図１８の説明とは対照的に噴霧化チャンバ４５が水平面に対して角度形成されているあらゆるこのような向きにおいて、振動板２２の少なくとも１つの少とも一部は、圧電素子２４が通電された時に、振動板又は板２２が、処理組成物ＴＣを霧状にし、処理組成物ＴＣが処理ミストＴＭを形成し、開放端４８を通じて出て空気流導管１００に入るように、処理組成物ＴＣと接触したままである。圧電素子２４のマウント２９、並びに圧電素子２４は、空気流導管１００を通じて及び開放端４８にわたって気体、好ましくは、空気の流れの迂回を可能にするように構成されているので、矢印１０２により表された流動気体は、処理ミスト１１０を同伴し、処理ミスト１１０は、装置の出口（図示せず）に向けて流れる。
【０１２７】
上述の実施形態では、流体導管６０が第１の部分４０Ａ又は第２の部分５０の一体型部分であると示されているが、ミスト発生器２０と接触するように流体の形態で処理組成物を移送することができる別々のチャンネル、導管、管、又はパイプ要素を含めあらゆる流体を向けるための手段として、単に例示的に理解されるように、例えばボア又はチャンネルとして他の装置を明瞭に考えており、本発明のあらゆる実施形態に使用することができることに注意されたい。
【０１２８】
図１９Ａ、図１９Ｂ、図１９Ｃ、及び図１９Ｄは、装置の噴霧化チャンバ４５の再方向付け、例えば、傾斜又は逆さ配置の後に処理組成物ＴＣの流出に対する改善した抵抗を有する噴霧化チャンバ４５に関連して取り付けられたミスト発生器２０の更に別の実施形態の代替図を示している。明瞭さを期すために、流体導管６０は、図から省略したが、上述のように第１の本体部分４０Ａの不可欠の部分として存在することができ、又は例えば噴霧化チャンバ４５の内部に処理組成物ＴＣを供給するパイプ又は管として個別の別々の要素とすることができるが、上述の要素は、この図では示されていない。噴霧化チャンバ４５は、基部４４、ほぼ垂直な側壁４５Ａを有し、側壁４５Ａは、例えば、非円形噴霧化チャンバ４５、例えば、正方形又は矩形の形状の噴霧化チャンバ４５に必要と思われるような単一の円形側壁とすることができ、又は複数の平坦又はパネル式側壁とすることができる。側壁４５Ｚは、上部４５Ｔで終端し、上部４５Ｔは、側壁４５Ｚから内側側壁４５Ｉに延び、内側側壁４５Ｉは、上部４５Ｔにほぼ垂直であり、かつそこから下方へ又は内方に基部４４に向けて延び、次に、内側側壁４５Ｉは、内側側壁基部４５Ｋで終端する。内側側壁４５Ｉは、単一の円形側壁とすることができ、又は上部４５Ｔから垂れ下がり、かつ基部４５に向けて下方へ又は内方に延びて、内側側壁基部４５Ｋで終端する複数の平坦な壁又はパネルとすることができる。内側側壁４５Ｉ、上部４５Ｔ、及び側壁４５Ａの間に形成される空間は、噴霧化チャンバ４５及び／又は装置が図１９Ａ上に示す以外に線分「Ｈ」によって示された水平面に対する位置で方向付けされた時に処理組成物ＴＣを含むようになったチャンバを形成する。内側側壁基部４５Ｋは、基部４４とほぼ平行であることが好ましく、有利な態様では、開口部ボア区画４９の底部を形成し、これは、延びて噴霧化チャンバ４５の内部から及び開放端４８を通じて外方に通過するように処理組成物の霧化粒子の移動を可能にする通路をもたらす。同じく見ることができるように、ミスト発生器２０が存在し、圧電素子２４及び垂れ下がるＬ字形振動要素２２は、図１、図２、図２Ａ、図２Ｂ、及び図２Ｃに関して上述したように通路又は微孔隙を有する振動板２２の一部が流体処理組成物ＴＣと接触するように取り付けられる。従って、ミスト発生器２０を作動させた時に、振動板２２は、処理組成物ＴＭのミストを形成し、処理組成物ＴＭのミストは、開口部ボア区画４９を通じて上方へ及び開放端４８から外方に出る。同じく図から分るように、この実施形態では、開放端４８の寸法と一致する開口部ボア区画４９の最大横断寸法は、点４８Ｘ間の距離として判断され、点４８Ｘの間の距離は、点４５Ｘの間の距離として判断される噴霧化チャンバ４５の最大横断寸法よりも小さい。
【０１２９】
図１９Ｂ及び図１９Ｃは、ある一定量の処理組成物ＴＣを収容する噴霧化チャンバ４５の傾斜状態の向きを示し、一方、図１９Ｄは、ある一定量の処理組成物ＴＣを収容する逆さ状態の噴霧化チャンバ４５を示している。これらの図の各々から分るように、ある一定量の処理組成物は、噴霧化チャンバ４５の領域、特に少なくとも部分的に内側側壁基部４５Ｋにより形成されたチャンバ４５Ｚ、すなわち、内側側壁４５Ｉ、上部４５Ｔ、及び側壁４５Ａの間に形成された空間内に保持される。このような空間は、点線「Ｖ」と上部４５Ｔの間の領域によっても示されている。図１９Ｄによる実施形態では、噴霧化チャンバ４５は、水平面、すなわち、線分「Ｈ」に対して逆さ状態であり、ある一定量の処理組成物ＴＣは、チャンバ４５Ｚ内に閉じ込められる。これらの４つの図から分るように、開示する実施形態は、ある一定の技術的恩典を提供する。第１の恩典は、噴霧化チャンバ４５を完全に逆さ状態にした時でさえも流体処理組成物の実際の流出が発生することになるように噴霧化チャンバを傾斜又は再方向付けさせることは特に困難であるという点である。第２の恩典は、振動板２２が噴霧化チャンバ４５内で選択した位置になると、噴霧化チャンバ４５の向きに対する作動の有用な程度の制御を確立することができるという点である。例えば、図１９Ｄに示すように噴霧化チャンバ４５が逆さ状態の時に、ミスト発生器２０は作動させることができるが、処理組成物ＴＭのミストは生成されないことになる。図１９Ｃに示すように水平面から９０°のような急な角度で傾斜させた時にも、ミスト発生器２０は作動しない。しかし、図１９Ｂに示すように水平面に対して傾斜させた角度が小さくなった時に、ミスト発生器２０は、作動して処理組成物のミストＴＭを生成し続ける。従って、噴霧化チャンバ４５及びミスト発生器２０の適切な構成により、装置の全体的な設計に対して装置の向きに対するミスト発生の有用な程度の制御をもたらすことができる。
【０１３０】
装置の噴霧化チャンバ４５の再方向付け、例えば、傾斜又は逆さ配置の後に処理組成物ＴＣの流出に対する抵抗が小さくなる噴霧化チャンバ４５及びミスト発生器２０の更に別の実施形態を簡略化された構造であるが図２０Ａ、図２０Ｂ、及び図２０Ｃに示している。図２０Ａは、基準線「Ｈ」により表された水平面と「同一面」であると考えられる向きである噴霧化チャンバ４５を示し、一方、図２０Ｂ及び図２０Ｃは、水平面に対して「傾斜状態」と考えることができる向きの噴霧化チャンバ４５を示している。図で分るように、噴霧化チャンバ４５は、上部の直通する側壁、すなわち、開放端４８に向けて内方に延びる上部４５Ｔまで延びる側壁４５を有する基部４４により形成される。噴霧化チャンバ４５は、最大横断寸法、ここでは対抗する点間の距離４５Ｘと、最大横断寸法、ここでは対抗する点間の距離４８Ｘとしての開放端４８とを有し、この距離は、２つのうちで小さい方である。また、側壁又は側壁４５の高さは、開口部の最大横断寸法よりも小さいが、噴霧化チャンバ４５の最大横方向は、対向する点間の距離４８Ｘと少なくとも同じ大きさか、又は対向した点間の距離４８Ｘよりも大きいことが好ましい。図１９Ａ、図１９Ｄに示す実施形態と同様に、圧電素子２４及びＬ字形振動板を含むミスト発生器２０は、振動板２２の一部が噴霧化チャンバ４５の内部に存在する処理組成物ＴＣと接触するように噴霧化チャンバ４５に対して取り付けられる。図２０Ａ、図２０Ｂ、及び図２０Ｃの各々から分るように、ミスト発生器２０は、水平面と「同一面」の向きに配置されるか又は水平面に対して傾斜した時に処理組成物ＴＭのミストを供給するように作動し続ける。しかし、この実施形態は、噴霧化チャンバ４５が更に傾斜状態であるか又は水平面に対して逆さ状態である場合に、開放端４８を通じた流体処理組成物ＴＣの漏出を可能にすることができる。
【０１３１】
以前の図１８Ａ〜図１８Ｃ、図１９Ａ〜図１９Ｄ又は図２０Ａ〜図２０Ｃでは開示していないが、図１、図２、図２Ａ、図２Ｂ、及び図２Ｃを参照して開示して説明するようなミスト発生器２０は、これらの図で開示する図示のミスト発生器２０の代わりに使用することができることは理解されるものとする。図１、図２、図２Ａ、図２Ｂ、及び図２Ｃによるミスト発生器２０は、適切に噴霧化チャンバ３５の内部に、好ましくは、基部４４の近くに設けることができる。以前の図１８Ａ〜図１８Ｃ、図１９Ａ〜図１９Ｄ又は図２０Ａ〜図２０Ｃで開示する噴霧化チャンバの構成は、装置の噴霧化チャンバ４５の再方向付け、例えば、傾斜又は逆さ配置の後の処理組成物ＴＣの流出に対する類似の抵抗をもたらすように考えられている。
【０１３２】
図２０Ｄ及び図２０Ｅは、ミスト発生器手段２０を含むミスト発生器アセンブリ４００の好ましい実施形態を示しており、ミスト発生器手段２０は、図１、図２、図２Ａ、図４、図１４Ａ、及び／又は図１５を参照して説明した実施形態と殆どの点で類似のものである周囲圧電素子に固定されたか、接合されたか、又は他の方法で取り付けられた振動板２２を含むが、具体的に開示していない他のミスト発生器手段を使用に向けて適応させることができる。図示の実施形態では、ミスト発生器アセンブリ４００は、張られて開放端４８を有する第１の本体要素４０Ａを含み、第１の本体要素４０Ａは、ここでは、ミスト発生器手段２０にわたって取り付けられ、圧電素子２４の周縁２６は、第１の本体要素４０Ａのボア４２内に取り付けられて噴霧化チャンバ４５を形成し、かつ第１の本体要素４０Ａ内の及びミスト発生器手段２０の後方に基部空洞４６も形成する。ミスト発生器手段２０は、液密に第１の本体要素４０Ａに取り付けられる。１対の電流搬送手段４０、すなわち、１対のワイヤが更に図に示されており、１対のワイヤは、回路制御手段（図示せず）から電流を供給し、回路制御手段（図示せず）は、その振動板２２内の振動を誘発することによってミスト発生手段２０を作動させるように作用し、その振動板２２は、ミスト発生器アセンブリ４００から処理組成物のミストＴＭをポンピングするように作動し、手段４０（ワイヤ）は、適切な穿孔を通じて、又はミスト発生器アセンブリ４００の要素のあらゆる他の適切な構成により第１の本体要素４０Ａの一部を通過することができる。図２０Ｄの側面断面図から分るように、流体導管３０も存在しており、流体導管３０は、開放端３２を有し、開放端３２は、供給ボア３１を通じて基部空洞４６に延び、処理組成物ＴＣは、あらゆる適切な手段、例えば、毛管流、重力流によってであるが、最も好ましくは、処理組成物及びミスト発生器アセンブリ４００のリザーバの中間に存在するポンピングを通じて流体導管３０から供給ボア３１に供給される。好ましい作動モードにおいて、コントローラ手段は、基部空洞４６に処理組成物を供給するのに使用されるポンピング手段の体積流量を制御し、同時に処理ミストＴＭの満足な送出速度は、発生したようにミスト発生器手段２０及びその出力の作動を制御するように作動され、同時に十分な量の処理組成物ＴＣは、ＴＣの十分な供給分がその中で存在するようにミスト発生器アセンブリ４００に供給されるが、同時に処理組成物ＴＣの過剰分のポンピング及び基部空洞４６の「溢れ」は、望ましくは回避される。図２０Ｅは、ミスト発生器手段２０、貫通する微孔隙２１を含む板２２の構成を示すミスト発生器アセンブリ４００の底部平面図を示している。
【０１３３】
第１の本体要素４０Ａは、金属、合成ポリマー、及びセラミック材料などのようなあらゆる適切な材料で形成又は製造することができるが、有利な態様では、少なくとも、ミスト発生器手段２０が固定されたミスト発生器アセンブリ４００の第１の本体要素４０Ａの部分は、性質が少なくともエラストマー性又は部分的にエラストマー性である。これは、ミスト発生器手段２０を液密シールをもたらすと共に振動板の運動を可能にするように取り付けることを可能にし、更に、画面２２の微孔隙２１を通じるものを除き、ミスト発生器アセンブリ４００を出るための基部空洞４６に存在するあらゆる処理組成物の通過を拒否するものである。このような構造の恩典は、ミスト発生器アセンブリ４００が後出の図でより詳細に説明するようにあらゆる様々な向きに使用されることを可能にするものである。特に好ましい実施形態では、ミスト発生器アセンブリ４００の第１の本体要素４０Ａは、ゴム、シリコーン、又は他の可撓性材料のようなエラストマー材料のモノリシック質量体で構成又は形成することができ、エラストマー材料のモノリシック質量体を同時に使用して図示の方法でミスト発生器手段２０を取り付けて保持することができる。第１の本体要素４０Ａの一部又は全部は、作動しているミスト発生器手段２０から装置の他の部分まで発するか、及び／又は装置のユーザにより感じられる振動性衝撃を吸収するようにも作用することが好ましい。
【０１３４】
図２０Ｆ、図２０Ｇ、及び図２０Ｈは、そのいくつかの図において以前の図２０Ｄ及び図２０Ｆを参照して説明した特徴の多くを含むミスト発生器アセンブリ４００の更に好ましい実施形態を示している。図２０Ｆによって示す断面図を参照すると、図示のように、ミスト発生器アセンブリ４００は、開放端４８を有する第１の本体要素４０Ａを含み、ミスト発生器手段２０が開放端にわたって張られて取り付けられ、ここでは圧電素子２４の周縁２６は、第１の本体要素４０Ａのボア４２内に取り付けられて噴霧化チャンバ４５を形成し、かつ第１の本体要素４０Ａ内の及びミスト発生器手段２０の後方に基部空洞４６も形成する。ミスト発生器手段２０は、液密に第１の本体要素４０Ａに取り付けられる。１対の電流搬送手段４０、例えば、１対のワイヤが更に示されており、１対のワイヤは、回路制御手段（図示せず）から電流を供給し、回路制御手段（図示せず）は、その振動板２２内の振動を誘発することによってミスト発生手段２０を作動させるように作用し、その振動板２２は、ミスト発生器アセンブリ４００から処理組成物のミストＴＭをポンピングするように作動し、手段４０（ワイヤ）は、適切な穿孔を通じて第１の本体要素４０Ａの一部を通過することができ、又はあらゆる他の経路によりミスト発生器から外方にアセンブリ４００を他の方法で通過することができる。図示の実施形態に存在するのに対して、基部空洞４６から内方に、すなわち、ミスト発生器手段２０から離れる方向に延びる第１の本体要素４０Ａ内のトラフ４６Ｔも設けられ、ミスト発生器手段２０内では、ミスト発生器アセンブリ４００が完全に又は部分的に逆さ状態の時に、処理組成物ＴＣの一部は、トラフ４６Ｔ内に集まることができる。任意的に、しかし、好ましくは、図２０Ｆ、図２０Ｇの実施形態に示すように、ミスト発生器アセンブリ４００は、溢れ導管４６Ｃを更に含み、溢れ導管４６Ｃは、トラフ４６Ｔに存在する場合がある処理組成物ＴＣのいずれも排水され、又は他の方法でミスト発生器アセンブリ４００を出るようにトラフ４６Ｔと流体連通にしている。有利な態様では、溢れ導管４６Ｃは、適切な溢れ管４７Ｔに更に接続され、溢れ管４７Ｔを使用して、出ている処理組成物ＴＣをミスト発生器アセンブリ４００から離れるように更に誘導することができる。開放端３２を有する流体導管３０は、ミスト発生器アセンブリ４００の基部空洞４６に延び、処理組成物ＴＣは、あらゆる適切な手段、例えば、毛管流、重力流により上述の流体導管３０を通じて基部空洞４６に供給されるが、ここでもまた、処理組成物のリザーバとミスト発生器アセンブリ４００との中間に存在する１つ又は複数のポンプを通じて供給されることが最も好ましい。図２０Ｄ及び図２０Ｅの実施形態の場合と同様に、コントローラ手段は、ミスト発生器アセンブリ４００の基部空洞４６に処理組成物を供給するのに使用されるポンプ手段の体積流量を制御し、同時に処理ミストＴＭの満足な送出速度が発生するようにミスト発生器手段２０及びその出力の作動を制御するように作動され、同時に十分な量の処理組成物ＴＣが、ＴＣの十分な供給分が中に存在するようにミスト発生器アセンブリ４００に供給されるが、同時に処理組成物ＴＣの過剰分のポンピング及び基部空洞４６の「溢れ」は、望ましくは回避されることが好ましい。この実施形態では、上述の装置の望ましくない溢れ発生の危険性は、通常、トラフ４６Ｔに接続した溢れ導管４６Ｃの作用により回避されるが、その理由には、過剰な体積流量での基部空洞４６に入る処理組成物ＴＣのあらゆる過剰分は、ミスト発生器アセンブリ４００に届かないようにかつミスト発生器アセンブリ４００から外に分流することができるからである。図２０Ｇは、ミスト発生器手段２０の構成を示すミスト発生器アセンブリ４００の底面図を示しており、板２２は、貫通する微孔隙２１を含み、ミスト発生器手段２０は、板の周縁２６でボア４２内に取り付けられる。図２０Ｈは、斜視図でミスト発生器アセンブリ４００の基部を示すが、ミスト発生器手段２０の図示は、この図では明瞭さを期すために省略されている。図２０Ｈから分るように、トラフ４６Ｔは、同心であり、かつ供給ボア３１の周りに延び、供給ボア３１を通じて処理組成物ＴＣは、流体導管３０から供給され、かつ基部空洞４６に入る。
【０１３５】
図２０ＩＡ、図２０ＩＢ、及び図２０ＩＢは、全体的に図２０Ｆを参照して上述したように、ミスト発生器手段２０の振動板２２の３つの異なる作動モードのミスト発生器アセンブリ４００を示している。これらの図では、ミスト発生器アセンブリ４００は、線「Ｈ」により表された水平面に対して方向付けされる。図の第１の図では、すなわち、図２０Ｉ１では、標示付きの矢印により表されるように、基部空洞４６に流体導管３０を通じて供給されるある一定量の処理組成物ＴＣが示されている。処理組成物ＴＣの送出速度は、基部空洞４６に存在する処理組成物ＴＣの容積が基部空洞４６を満たさないように制御され、基部空洞４６内の処理組成物ＴＣよりも上方の上部空間「ＨＳ」が存在する。振動板２２は、図示のように外方に延長され、処理ミストＴＭの粒子が発生される。図の次の図では、すなわち、図２０Ｉ２では、ミスト発生器手段２０の振動板２２は、その中間位置にある。図の最終図では、すなわち、図２０Ｉ３では、振動板２２は、内方に延長（屈曲）されて示されており、それによって基部空洞６４内の処理組成物ＴＣのレベルは僅かに上昇するが、十分な上部空間ＨＳが基部空洞６４に存在し、ミスト発生器アセンブリ４００は、溢れ状態ではなく、正常に作動する。
【０１３６】
図２０Ｊ１、図２０Ｊ２、及び図２０Ｊ３は、全体的に図２０Ｆを参照して、並びに図２０Ｉ１、図２０Ｉ２、及び図２０Ｉ３を参照して上述したようなミスト発生器アセンブリ４００を示している。それらの図と同様に、振動板２２は、３つの異なる状態に示されているが、以前の図２０Ｉ１、図２０Ｉ２、及び図２０Ｉ３に示すように異なる周波数で揺動する。しかし、それらの図と同様に、板２２の構成は、対応する図２０Ｉ１、図２０Ｉ２、及び図２０Ｉ３のものとは異なるが、それらの図と同様に、各構成において、十分な上部空間ＨＳが基部空洞６４内に残り、ミスト発生器アセンブリ４００は、溢れ状態ではなく、正常に作動する。図２０Ｊ１、図２０Ｊ２、及び図２０Ｊ３の実施形態では、振動板２２の異なる揺動パターンは、処理組成物ＴＭのミストの送出の異なるパターンを提供する。
【０１３７】
図２０Ｋ１、図２０Ｋ２、図２０Ｋ３、図２０Ｋ４、及び図２０Ｋ５は、５つの異なる向きで、すなわち、図２０Ｋ１では直立垂直向きで、すなわち、水平面に対して９０°上方に、図２０Ｋ２では上方に傾斜した向きで、すなわち、ほぼ水平面に対して４５°で、図２０Ｋ３では水平向きで、すなわち、水平面に対して０°で、図２０Ｋ４では下方に傾斜した向きで、すなわち、ほぼ４５°下方で、かつ水平面に対して最後に図２０Ｋ５では下方の垂直向きで９０°下方で、かつ水平面に対して図２０Ｆによるミスト発生器アセンブリ４００をそれぞれ示しており、各向きは、図中で「Ｈ」と説明したそれぞれの線によって示されている。最初に図２０Ｋ１を参照すると、図２０Ｋ１で分るように、処理組成物ＴＣは、ミスト発生器アセンブリ４００に流体導管３０を通じてポンピングされる。処理組成物ＴＣの一部は、基部空洞６４の一部を占有し、一方、基部空洞６４の残りは、処理組成物ＴＣよりも上方の上部空間ＨＳを含む。振動板２２が作動すると、処理組成物ＴＭのミストが形成されてミスト発生器アセンブリ４００から離れる水平方向に出る。基部空洞６４内からのあらゆる余分な処理組成物ＴＣは、溢れ導管４６Ｃを通じてミスト発生器アセンブリ４００から外方に（「ＯＦ」と説明した矢印の方向に）出ることができる。図２０Ｋ２では、この傾斜した向きにおいて、流体導管３０を通じてポンピングされて基部空洞６４に存在する処理組成物ＴＣは、基部空洞６４の一部を占有し、占有されていない基部空洞６４の残りの部分は、処理組成物ＴＣよりも上方に上部空間ＨＳを形成する。振動板２２が作動すると、処理組成物ＴＭのミストが形成され、下方の傾斜方向にミスト発生器アセンブリ４００を出る。基部空洞６４内からのあらゆる余分な処理組成物ＴＣは、溢れ導管４６Ｃを通じて「ＯＦ」と説明した矢印の方向にミスト発生器アセンブリ４００を出ることができる。ここで図２０Ｋ３を参照すると、この水平の向きにおいて、流体導管３０を通じてポンピングされて基部空洞６４に存在する処理組成物ＴＣは、基部空洞６４の一部を占有し、占有されていない基部空洞６４の残りの部分は、処理組成物ＴＣよりも上方に上部空間ＨＳを形成する。振動板２２が作動すると、処理組成物ＴＭのミストが形成され、下方にミスト発生器アセンブリ４００を出る。基部空洞６４内からのあらゆる余分な処理組成物ＴＣは、溢れ導管４６Ｃを通じて「ＯＦ」と説明した矢印の方向にミスト発生器アセンブリ４００を出ることができる。ここで図２０Ｋ４を考慮すると、この下方に傾斜した向きにおいて、流体導管３０を通じてポンピングされて基部空洞６４に存在する処理組成物ＴＣは、基部空洞６４の一部を占有し、占有されていない基部空洞６４の残りの部分は、処理組成物ＴＣよりも上方に上部空間ＨＳを形成する。振動板２２が作動すると、処理組成物ＴＭのミストが形成され、角度形成した方向に下方にミスト発生器アセンブリ４００を出る。基部空洞６４内からのあらゆる余分な処理組成物ＴＣは、溢れ導管４６Ｃを通じてミスト発生器アセンブリ４００を出ることができる。ここで図２０Ｋ５を考慮すると、この下方の垂直向きにおいて、流体導管３０を通じてポンピングされて基部空洞６４に��在する処理組成物ＴＣは、基部空洞６４の一部を占有し、占有されていない基部空洞６４の残りの部分は、処理組成物ＴＣよりも上方に上部空間ＨＳを形成する。振動板２２が作動すると、処理組成物ＴＭのミストが形成され、水平方向にミスト発生器アセンブリ４００を出る。基部空洞６４内からのあらゆる余分な処理組成物ＴＣは、溢れ導管４６Ｃを通じてミスト発生器アセンブリ４００を出ることができる。
【０１３８】
ここで上述の図面の考慮に続いて認めることができるように、ミスト発生器アセンブリ４００の実施形態は、環境に対して及び／又は本発明の装置を利用して処理される表面に対してその向きに関して比較的影響を受けず、その理由は、それが、その向きと無関係に、ミスト発生器手段２０の振動板２２が作動する間、処理ミストＴＭがミスト発生器アセンブリ４００から形成されて送出することができるように、処理組成物ＴＣの十分な量がミスト発生器アセンブリ４００で内部に、すなわち、基部空洞６４に存在する限り作動したままに留まることになるからである。ここではトラフ４６Ｔ（トラフは必要というわけではないが）を通じて基部空洞６４と流体連通している溢れ導管４６Ｃの具備は、基部空洞６４が余分な処理組成物ＴＣで溢れないことを保証するための手段を可能にする。あらゆる余分な処理組成物ＴＣの流出は、溢れ導管４６Ｃの具備により制御することができ、実際、複数の溢れ導管４６Ｃが予想される。更に、溢れ導管４６Ｃからの処理組成物の流出の速度は、下流弁を設けることにより、又は他の流れを制御するか又は流れを向けるための手段（図示せず）によるなどで制御することができる。このようにして、コントローラ（図示せず）及び／又はポンプ（図示せず）を使用して、流体導管３０を通じた処理組成物の容積測定送出速度、及び／又は他方でミスト発生器２０が作動した時に処理組成物ＴＣの十分な量が基部空洞６４に存在して振動板２２と接触し、同時にミスト発生器アセンブリ４００及び特にミスト発生器２０の不要な溢れ発生がミスト発生器手段の向きと無関係に水平面に対して回避されるように過剰な量の処理組成物ＴＣが基部空洞６４に存在しないようにミスト発生器アセンブリ４００を出る溢れ処理組成物の容積測定流出速度を制御する。このようにして、ミスト発生器手段４００及び処理組成物ＴＭのミストの方向の制御における広い許容範囲を設けることを本発明の装置及び本発明の方法において達成することができる。同様に、このような恩典は、図２０Ｄ及び図２０Ｅに示すミスト発生器アセンブリ４００の実施形態のような溢れ導管を含まないミスト発生器アセンブリ４００に与えることができることは理解されるものとする。このような実施形態では、最適作動特性を与えて溢れ発生の可能性を最小にするために処理組成物ＴＣの進入又は供給の慎重な制御が必要である。
【０１３９】
図２０Ｌ１、図２０Ｌ２、及び図２０Ｌ３は、いくつかの代替図により、図２０Ｆの実施形態と殆どの点において類似のものであるミスト発生器アセンブリ４００の好ましい実施形態を示している。図２０Ｌ１に示す断面図に示すように、第１の本体要素４０Ａには、基部空洞６４に対して当接するミスト発生器手段２０が中に取り付けられる。供給流体導管３０は、基部空洞６４の中に延び、一方、溢れ導管４６Ｃは、トラフ４６Ｔの一部を通じて基部空洞６４と流体連通している。ミスト発生器手段２０は、第１の本体要素４０Ａと密封気密接続しており、可撓性エラストマー材料で製造された１対の延長突出部４０２によりその中に保持され、図示の実施形態では、第１の本体要素４０Ａ全体は、可撓性又はエラストマー性の材料で形成され、ここでは、ゴムのような材料で形成されることが好ましく、ゴムのような材料は、例えば、ゴム、シリコーン材料、シリコンエラストマー、又はそれに関して第１の本体要素４０Ａとミスト発生器手段２０の間に液体密封も形成しかつ保持するのに使用することができる構造的な流体シール面をもたらすあらゆる他のエラストマー材料とすることができる。図２０Ｌ２は、斜視図でミスト発生器アセンブリ４００及びその要素を示しており、ワイヤ空洞「ＷＰ」も見出され、ワイヤ空洞「ＷＰ」内では、ミスト発生器手段２０に接続されたワイヤ４０（又は他の電流搬送導体）がミスト発生器アセンブリ４００を出ることができる。図２０Ｌ３は、平面図で発生器アセンブリ４００と同じものを示している。
【０１４０】
図２０Ｍは、１対のミスト発生器アセンブリ４００、好ましくは本発明の装置の一部を形成する装着板「ＭＰ」に固定された図２０Ｄ、図２０Ｆ、図２０Ｉ１、図２０Ｊ１、及び／又はや図２０Ｌ１によるミスト発生器アセンブリの１つ又はそれよりも多くの代表図を示している。この図では、１対の流体制御手段９０が示されており、１対の流体制御手段９０は、リザーバ８０から外方に通過する流体処理組成物の量又は品質の制御を行うことができるあらゆる装置とすることができる。リザーバ８０は、ある一定量の処理組成物ＴＣを含むための補充可能なリザーバ、着脱式補充パッケージ、カートリッジ、又はあらゆる他の容器とすることができる。図示の実施形態では、流体制御手段は、最も都合よくは１対のポンプ、特に好ましくは、ミスト発生器アセンブリ４００の各々に処理組成物ＴＣの制御された量を供給するためにコントローラ手段（図示せず）により作動してそれにより制御することができる１対の圧電ポンプである。ミスト発生器アセンブリ４００の各々への処理組成物供給の量は、必ずしも同じというわけではなく、コントローラからの入力に応答して変えることができるが、多くの作動又は作動モードにおいてこのような量は、本質的に同一になる。コントローラ（図示せず）は、装着板ＰＭ内の角状突起又は他の穿孔ＰＰを通じてミスト発生器アセンブリ４００を出る処理組成物ＴＭのミストのプルームを発生させるために流体制御手段９０及びミスト発生器アセンブリ４００を作動させる。
【０１４１】
図２１は、ミスト発生器２０及びここでは内部にある一定量の処理組成物ＴＣを収容する矩形容器８２の形態であるリザーバ８０、内部に一体的に形成された噴霧化チャンバ４５の実施形態を示す。開示する実施形態は、必要とされる時に容器８２の内部にある一定量の流体処理組成物ＴＣを供給する交換可能なプラグ要素８３Ａを取り外すことによって補充することができる。噴霧化チャンバ４５は、容器８２の一部として一体成形される。図示の実施形態では、噴霧化チャンバ４５は、容器８２の底部８４の近くに又はそれに隣接する基部４５を含む。外方にテーパ付きであるか又は角状突起形の側壁４５Ａが、基部４４から上方に延び、容器８２の上部８５と一致する開放端４８で終端する。例えば、図１、図２、図２Ａ、図２Ｂ、及び図２Ｃに示すように、振動板２２と圧電素子２４とを含むミスト発生器２０手段は、基部４４に横断方向に取り付けられる。通路又は微孔隙の寸法は、振動板２２が起動されずかつ振動させず休止又は静止状態である時に処理組成物ＴＣの表面張力がそれをこれらの通路又は微孔隙を通さないように、十分に小さいものであることが好ましい。従って、静的振動板２２は、処理組成物の流れを制御する弁として作用する。しかし、ミスト発生器２０が作動した時に、処理組成物ＴＭのミストが振動板２２によって形成されて上方に噴霧化チャンバ４５を通過して開放端４８を過ぎ、流れの中の気体１００、好ましくは空気により同伴されて空気流導管１００を通る。霧化処理組成物を同伴する気体は、処理ミストも表す矢印１１０によって示されている。図示の実施形態では、静的振動板２２がリザーバ８０からの処理組成物ＴＣの通路を制御する弁として作用するので、実施形態は、その装置からの流体処理組成物ＴＣの想定外の流出に対して殆ど危険なく実質的にあらゆる位置に使用することができることが予想される。更に、図示の実施形態は、ある一定量の処理組成物ＴＣが振動板２２と接触している限り、あらゆる向きでのミスト発生器２０の作動を可能にすることが予想される。
【０１４２】
図２２は、本発明による装置の要素の更に別の代替的な実施形態を示している。リザーバ８０が設けられ、流体の形態、好ましくは液体の形態のある一定量の処理組成物を収容する中空容器８１が取外し可能に固定された８２キャップに取り付けられる。キャップは、貫通する毛細手段、すなわち、流体導管６０、ここでは制御可能なポンプ９２と流体連通する撓み管を有し、制御可能なポンプ９２は、コントローラ手段（図示せず）及び適切な電力供給源（図示せず）と連通している。キャップ８２は、処理組成物ＴＣがリザーバ８０からポンピングされる間に外気の進入を可能にする通気弁８３Ｂも含む。流体導管６０は、コントローラ手段及び電力供給源とも連通している流体制御手段９０に続き、電力供給源を使用して、ミスト発生器２０の望ましい作動を保証するために流体処理組成物ＴＣの最適供給分が噴霧化チャンバ４５に移送されることを保証することができる。図で分るように、流体導管６０は、第１の部分４０とは別のものであり、コントローラ手段からの適切な信号又は制御入力に応答して処理組成物ＴＣの制御された量をミスト発生器２０に供給する。図中のミスト発生器２０は、図１４に示すものと類似のものであるが、ミスト発生器２０のあらゆる他の実施形態を交換可能に使用することができることが理解される。
【０１４３】
図２３は、本発明の装置の要素の更に別の環境を示し、部分図でリザーバ８０、ここでは着脱式キャップ８２により閉じられた中空容器８１を示している。着脱式キャップ８２と一体となっている例えば図１又は図２の実施形態によるミスト発生器２０を含む噴霧化チャンバ４５が断面に示されている。装着リング８６によって支持されたキャップの通過部分は、毛細手段７０であり、毛細手段７０の末端７２は、ミスト発生器２０が作動された時に末端端７２で存在する処理組成物が振動板を通じてポンピングされ、処理ミストＴＭを形成するために噴霧化されるように振動板２２の下にある。図示していないが、コントローラ手段及び電源手段との適切な接続部、例えば、ワイヤを設けることができる。
【０１４４】
図２４は、本発明による装置１の一実施形態を示している。装置１は、リザーバ８０内のある一定量の流体処理組成物ＴＣを含む第１のアセンブリ１２０と、ミスト発生器２０を引き起こすのに必要とされる電力も伝達される１５０での１つ又は複数の中間ワイヤによってコントローラ手段１４０に取り付けられている処理組成物ＴＣ内に浸漬されたミスト発生器２０とを含む。第１のアセンブリ１２０は、上部カバー１２２を通じて開放可能であり、上部カバー１２２は、貫通する２つのコネクタポート、すなわち、空気流入口コネクタポート１２３とミスト出力コネクタポート１２４とを有する。図では示めされていないが、空気流発生器手段が「Ｇ」と説明される矢印によりに表されている空気流発生器手段は、空気流管１２３Ａを通じた気体、好ましくは空気の流れを供給し、空気流管１２３Ａは、容器８０の内部内で高圧を発生させる。容器８０に存在するミストＴＭの形態の処理組成物は、ミスト管１２４Ａを通じて外へ強制的に推し進められ、ミスト管１２４Ａは、それを制御ハンドル１６０又は制御「ワンド」に誘導し、制御ハンドル１６０は、遠位端１６１で流れ誘導ノズル１６２を有し、流れ誘導ノズル１６２から処理組成物ＴＭのミストが出る。制御ハンドル１６０は、人により把持され、ミスト管１２４Ａは可撓性であり、第１のアセンブリ１２０と別のものであるので、ミスト管１２４Ａを便利に使用して、望ましい位置に処理組成物ＴＭのある一定量のミストを供給することができる。
【０１４５】
図２５は、第１のアセンブリ１２０の代替的な実施形態を示しており、第１のアセンブリ１２０は、コントローラ手段、電力供給源、及び空気流発生器が第１のアセンブリ１２０の一部を形成するハウジング１２９内に含まれているという点において自己内蔵型であり、例えば、ミスト管１２４Ａを通る処理組成物のミストの流れを引き起こすためにリザーバ８０の内部に十分な圧力を供給する際にバッテリ式送風機又はファンを使用することができる。このような自己内蔵型の第１のアセンブリは、本発明による装置１の携帯化をもたらすものである。
【０１４６】
図２６は、図２５を参照して全体的に示すような第１のアセンブリ１２０を含む本発明による装置を示しており、第１のアセンブリ１２０には可撓性ストラップ１２８が取り付けられ、可撓性ストラップ１２８を使用して肩のような身体の部分から第１のアセンブリ１２０を吊り下げることができる。装置１は、中間可撓性ミスト管１２４Ａにより第１のアセンブリ１２０に接続した制御ハンドル１６０も含み、中間可撓性ミスト管１２４Ａからミストの形態の処理組成物を供給することができる。制御ボタン１６３を次に使用して、流れ誘導ノズル１６２からの処理組成物の放出を制御することができる。
【０１４７】
図２７は、本発明による装置１の更に別の実施形態を示しており、ミストの形態の大量の処理組成物を分注する必要がある時に望ましい場合があるように、第１のアセンブリ１２０には車輪付きのカート１２５が設けられている。図示の実施形態は、図２６に説明したものと殆どの点において類似のものであり、図は、ここでは吊着中のカーテンＴＳとして示された「軟質面」を処理することができる方法を示している。使用時に、ユーザは、単に制御ハンドル１６０の流れ誘導ノズル１６２からのエアロゾル化処理組成物、すなわち、処理ミストＴＭの放出を誘導する。
【０１４８】
図２８は、断面図で図２６及び図２７の上述の実施形態による制御ハンドル１６０又は制御「ワンド」の簡単な実施形態を示している。この図では、ミスト管１２４は、制御ハンドル１６０の近位端１６４を通って放出弁１６３ａまで延び、放出弁１６３ａは、放出弁１６３ａが「開」状態である時に、処理組成物のミストが管ノズル１２４Ｂを通り、かつ流れ誘導ノズル１６２に至り、流れ誘導ノズル１６２からエアロゾル化処理組成物又は処理組成物のミストが出るように制御ボタン１６３により手動で制御することができる。制御ハンドル１６０の手による把持は、制御ハンドル１６０を保持してその中で作動させる人のオペレータの１つ又はそれよりも多くの指を包み込む凹部１６４Ｂを僅かに把持することによって改善することができる。
【０１４９】
図２９は、自己内蔵型かつ携帯型のアセンブリ内の装置１の更に別の実施形態の断面図を示している。成形ハウジング１７０は、一端でハウジング１７０の内部と連通している流れ誘導ノズル１６２を含み、反対端でリザーバ８０及び電力供給源１９０、ここでは、１つ又はそれよりも多くの電気バッテリを成形ハウジング１７０内に挿通することができる着脱式カバー１７１を含む。有利な態様では、吸気格子１７２も、ハウジング１７０に存在し、吸気格子１７２は、流れ誘導ノズルの反対端で又はその近くに形成されることが好ましい。ハウジング１７０の内部には制御回路手段（図示せず）、及びここでは送風機２００の形態である空気流発生器も位置し、送風機２００は、小さい電気モータ２０２によって駆動され、小さい電気モータ２０２は、送風機２００の駆動軸（図示せず）に適切に機械的に結合される。毛細手段７０は、リザーバ８０から外方に延び、かつミスト発生器２０が作動されるとリザーバの内部に存在するエアロゾル化処理組成物のミストＴＭが発生するようにミスト発生器２０の十分近くにある。処理組成物の飛翔ミストの移動及び供給を補助するために、送風機２００は、出口２０３からの移動中の空気の流れを誘導して装置１の流れ誘導ノズル１６２から外へ流れるように空気を誘導する。このような装置は、携帯型かつコンパクトであり、リザーバ８０の補充又は交換を必要とせずに及び／又は１つ又はそれよりも多くのバッテリ１９０の交換又は充電を必要とせずに多くの場合に１つ又はそれよりも多くの処理作業を行うことができるので実際的でもある。更に、処理組成物のミストの発生がミスト発生器２０の起動と本質的にほぼ同時なので、制御手段及び結果的に送風機２００及びミスト発生器２０を通電する制御ボタン１６３は、実際に表面を処理する時に装置１を起動かつ作動させるために使用する必要があるのみであるから、表面処理作業と作業の間で電力を節約することができる。
【０１５０】
図２９Ａは、自己内蔵型かつ携帯型のアセンブリ内の装置１の更に別の実施形態の斜視図を示している。成形ハウジング１７０は、ハウジング１７０の一部を形成する装着板ＭＰを通って延びる複数の流れ誘導ノズル１６２を含み、ノズル１６２の各々の背後には、ミスト発生器２０（好ましくは、ミスト発生アセンブリ４００）が取り付けられる。装置１の一部は、ハウジング１７０に嵌入されたカートリッジ形のリザーバ８０である。図では示していないが、ハウジング内には、少なくとも電力供給源、好ましくは、１つ又はそれよりも多くの電気バッテリ（充電式又は非充電式）制御回路手段（図示せず）、及び同時にミスト発生器２０も作動させるための制御回路手段からの適切な制御信号に応答してミスト発生器２０の各々に供給すべきカートリッジ形のリザーバ８０に存在する処理組成物の供給をもたらすために少なくとも１つであるが２つ又はそれよりも多くのポンプ及び必要な配管又は他の流体導管も存在することができる。ミスト発生器２０が、ミスト発生アセンブリ４００、特に図２０Ｋ１、図２０Ｋ２、図２０Ｋ３、図２０Ｋ４、及び図２０Ｋ５の１つ又はそれよりも多くにおいて概説した原理に従って作動させることができるミスト発生アセンブリ４００の一部を形成する場合に、装置１は、上述のように水平面に対して様々な傾斜又は向きで作動させることができる。このような装置１は、携帯型かつコンパクトであり、リザーバ８０の補充又は交換を必要とせずに及び／又は１つ又はそれよりも多くのバッテリ１９０の交換又は充電を必要とせずに多くの場合に１つ又はそれよりも多くの処理作業を行うことができるので実際的でもある。更に、処理組成物のミストの発生がミスト発生器２０の起動と本質的にほぼ同時であり、かつ処理組成物のミストの有向送出の方向は広く変えることができるので、装置１は、使用において有効かつ便利でもある。
【０１５１】
図３０は、織物表面、ここでは、椅子ＴＵの布張りをした表面を処理する簡略化された方法を示している。本発明による装置１、例えば、図２９による実施形態は、エアロゾル化処理組成物、すなわち、ミストＴＭが、装置１が作動する間に流れ誘導ノズル１６２の適切な配置により織物表面に接触するように使用されるように作動される。ミストＴＭは、織物の表面に接触するだけでなく、織物内に浸透して織物を貫通し、技術的恩典、例えば、洗浄の恩典、消毒の恩典、ウイルス除去の恩典、芳香の恩典、脱臭の恩典、臭気中和の恩典、アレルゲン防止の恩典、治療の恩典、及び／又は他の技術的恩典を提供することができる。
【０１５２】
図３１は、織物表面、洗面所機械、ここでは大便器ＴＴを処理する簡略化された方法を示している。本発明による装置１、すなわち、図２９による実施形態は、エアロゾル化処理組成物、すなわち、ミストＴＭが、装置１が作動する間に流れ誘導ノズル１６２の適切な配置により織物表面に接触するように使用されるように作動される。空気によって運ばれるミストＴＭは、図示のように大便器の内部に、並びに大便器の外部硬質面のいずれかに供給することができる。装置１は、同様に類似の方法で他の無孔性硬質面を処理するのに使用することができる。ミストＴＭの空気によって運ばれる性質のために、一般的に、ミストＴＭは、ミストＴＭが適用された軌跡で表面に均一に堆積する前に少なくとも数秒間に空気によって運ばれるままであり、すなわち、浮遊する。
【０１５３】
図３２は、本発明による携帯型装置１の更に別の実施形態を示しており、携帯型装置１は、補充可能なリザーバ８０と共に使用されるようになっており、補充可能なリザーバ８０は、ある一定量の流体処理組成物ＴＣを収容する従来のポリマー瓶８１とすることができる。一端でハウジング１７０の内部と連通している流れ誘導ノズル１６２を有する成形ハウジング１７０は、空気流発生器として、電気モータ２０２と、電力供給源１９０と、コントローラ手段２２０と、制御可能なポンプ９２と、流体導管６０と、制御ボタン１６３とに結合された送風機２００を含み、図示していないが、１つ又はそれよりも多くのワイヤは、装置１の電気的な又は電気的に作動可能な要素を相互接続するのに使用されることは理解されるものとする。リザーバ８０は、ハウジング１７０の一部との回転による離脱などにより取り外すことができる。適切なコネクタは、例えば、嵌め合わせたボルト、摩擦取付具、スナップコネクタ取付具、差し込みピンタイプ取付具を含む。仮想現実的だが、使用することができるあらゆる液体コネクタが考慮される。作動面において、ユーザ（人間）は、ハウジング１７０の一部を集め、必要な時に、コントローラ手段２２０を作動させる。コントローラ手段２２０は、ミスト発生器２０に通電及び作動させると共に電気モータ２０２に通電するように作動し、電気モータ２０２は、送風機２００を駆動し、従って、空気流がミスト発生器２０を左右に移動して発生した霧化空気の処理組成物のミストＴＭを同伴する。必要に応じて、コントローラ手段２２０は、流体処理組成物ＴＣの必要な量を供給し、リザーバ８０から流体処理組成物ＴＣを引き出してミスト発生器２０に供給するために制御可能なポンプ９２に通電することができる。
【０１５４】
図３３は、断面図で本発明による携帯型装置１の更に別の実施形態の側面を示している。装置１は、流体形態のある一定量の処理組成物を収容する瓶８１として供給されることを意図する補充可能なリザーバ８０を含み、瓶８１は、ハウジング１７０（明瞭さを期すために点線で図示）内でスクリュー式コネクタ取付具又は一体型キャップ８２を通じて取外し可能に装着可能である。流体処理組成物は、ハウジング１７０に存在するコントローラ手段（図示せず）により作動される制御可能なポンプ９２に接続された流体導管６０を通じて瓶８１の内部から引き抜かれ、かつミスト発生器２０を供給するのに使用される６０と共通の更に別のものを通じて計量されて供給される。ミスト発生器２０は、説明したタイプのいずれかと類似のものとすることができるが、有利な態様では、図１、図２、図２Ａ、図２Ｂ、又は図２Ｃを参照して説明した実施形態に従うことができる。ミスト発生器手段２０は、図２１を参照して説明した噴霧化チャンバとほぼ類似の寸法を有する霧化チャンバ４５の構造内に含まれている。ここでもまた、噴霧化チャンバ４５、並びにミスト発生器２０の他の実施形態及び構成は、この図で示す装置を含むがこれに限定されない本発明による装置１内に組み込むことができる。ミスト発生器２０が作動した時に、噴霧化チャンバ４５のボア４５Ａにわたってかつ好ましくはその開放端４８の近くに互いから横断方向に取り付けられた送信機ユニット７１及び受信機ユニット７２も存在しており、図１５を参照して上述したような方法で作動させることができる。送風機２００も存在しており、送風機２００は、ハブ内に一体型電動モータを含み、かつ空気流を強制的に空気流導管１００に通すために使用することができ、空気流は、ある一定量の処理組成物を同伴し、ある一定量の処理組成物は、ミスト発生器２０により霧化又は噴霧化され、粒子は、開放端４８を通じて出て、処理組成物のこの空気によって運ばれるミストＴＭを流れ誘導ノズル１６２の出口を通じて装置１から外方に運ぶ。装置１の処理を補助するために、その一部は、制御ハンドル１６０を保持してその中で作動させる人のオペレータの１つ又はそれよりも多くの指を包み込む凹部１６４Ｂを含むことができる。制御可能なポンプ９２、送風機２００、及びミスト発生器２０の作動を調節するコントローラ手段の作動を制御することによって流れ誘導ノズル１６２からの処理組成物の放出を制御するのに使用される制御ボタン１６３が、更に制御ハンドル１６０内に含まれており、コントローラ手段は、装置１の作動に関連した１つ又はそれよりも多くの状況、例えば、霧化処理組成物の質量流量及び／又は送信機７１と受信機７２の間を通過して開放端４８を通じて出る霧化粒子の粒径又は粒径分布に関連する信号入力を受信機７２から受信することができる。このような状況は、コントローラ手段にフィードバックとして戻される適切な信号により表すことができ、コントローラ手段は、適切な制御信号を伝達し、及び／又は１つ又は複数の望ましい作動状態に装置１の作動パラメータを戻すように作動特性を修正するように装置１、例えば、ミスト発生器２０、制御可能なポンプ９２、又は送風機２００の関連の要素に供給される電力を変えるためにその後使用することができる。装置１及び要素、特にコントローラ手段１６８、送風機２００、制御可能なポンプ９２、及びミスト発生器２０への電力は、ハウジング１７０に存在する１つ又はそれよりも多くのバッテリ１９０によって供給することができる。言うまでもなく、壁本線のような電源への１つ又はそれよりも多くのワイヤを通じた又は装置に供給される電圧又は電流を制御する中間変圧器を通じた直接的接続部のような外部電力供給源も、図示の実施形態におけるバッテリ１９０の代わりに又はそれに加えて考えられることが認められる。装置１は、充電式バッテリ１９０を含むことができる。言うまでもなく、本発明による他の装置１に対して同様の置換を行うことができるが、バッテリの使用は、装置１の可搬性を改善し、かつ消費者による使い易さを補助するものとして好ましい。
【０１５５】
図３４は、図３４に示す装置１の外部側面図並び部分断面図を示している。断面図では、補助ノズル２４０と装置１の流れ誘導ノズル１６２間の相互関係が示されている。この実施形態では、コネクタ端部２４２は、すべり落ちてその間に解除可能か又は摩擦の嵌めを形成するように流れ誘導ノズル１６２の最大寸法よりも僅かに大きいように寸法決めされる。補助ノズル２４０の排出端部２４４は、開いており、図示の実施形態においてほぼ釣鐘状である。このような構成は、例えば、表面上の小さい部位に逃げた処理のある一定の量を供給するのに使用することができる。排出端部２４４により包含することができる領域内のある一定の量の処理組成物を送出することが望ましい場合に、椅子張り、布地、及び衣類などのような織物又は他の多孔性表面のスポット処理が考慮される。排出端部２４４は、処理される表面に隣接して又は処理される表面と接触してさえ設けることができる。軟質又は多孔性表面の場合に、短い時間間隔にわたって排出端部２４４を滞留させると、霧化処理組成物が軟質面の内部に入ってその反対側を通って軟質面を支持する基板又は物品に至ることができるように、軟質面上又は軟質面内への処理ミストの供給を改善することができる。釣鐘状補助ノズル２４０は、ミストの形態の空気によって運ばれる処理組成物が漂う傾向の限界を制御するが、ノズル２４０の領域によって保持される。
【０１５６】
図３５Ａ、図３５Ｂ、図３５Ｃ、及び図３５Ｄは、図３４を参照して説明した装置１と同様に利用することができる補助ノズル２４４の更に別の代替的な実施形態を示している。
【０１５７】
図３５Ａの補助ノズル２４６は、流れ誘導ノズル１６２の一部に取外し可能に結合されるようになった同様に寸法決めされたコネクタ端部２４２を含み、流れ誘導ノズル１６２は、出口端２４４まで延び、出口端２４４は、コネクタ端部２４２よりも小さい開口部を有する。このような実施形態は、流れ誘導ノズル１６２を出てかつ出口ノズル２４６の出口端２４４を出る前の霧化処理組成物の何らかの平行化及び集中をもたらす。このような構成は、有利な態様では、小さい空間又は収縮された領域が処理される場合に使用することができる。例えば、このような構成は、蛇口及びそれらのハンドル、浴槽、シャワー個室、カーテン、ベネチアンブラインドのような窓処理、並びに食事用具又は調理具のような用具、医療及び歯科器具を含む工具又は器具、洗面所又は台所面の付属品の周りの近く又は領域を含むことができる。
【０１５８】
図３５Ｂに示す補助ノズル２４６は、装置１の流れ誘導ノズル１６２の一部に取外し可能に固定されて、反対端でファン状出口端２４４まで延びるように構成されたコネクタ端部２４２も含む。このような構成は、装置１を出る霧化処理組成物の層状の供給をもたらすために使用することができる。このような構成は、有利な態様では、例えば、一般的に平坦水平面又は垂直面、例えば、台所又は洗面所調理台、食器戸棚、壁のような硬質面、並びに軟質面、例えば、吊り下げるカーテン又は掛け布、毛布、シーツ、枕、マットレス、マットレスカバー、椅子、ソファー上の座面、及び一般家庭、市販の環境内、並びに車、トラック、バス、ボート、及び航空機のような車両内にあるものを含む他の着座面の処理に使用することができる。補助ノズルの更に別の実施形態は、図３５Ｃに示されている。同様に補助ノズル２５０は、流れ誘導ノズル１６２の一部に取外し可能に結合されるようになったコネクタ端部２４２を含み、流れ誘導ノズル１６２は、取外し可能にパッド又は拭き取り繊維物品２５４をその上に支えるようになったほぼ平面支持板２５２と一致する出口端２４４まで延びる。パッド又は拭き取り繊維２５４は、装置１を利用することによって処理される表面に有用な接触又は表面の研磨材料効果を与える例えば「洗浄」を行うことができるあらゆる物品又は材料とすることができる。マイクロ繊維拭き取り繊維又はパッド、洗浄パッド、スポンジ、合成繊維、天然繊維、又は混合繊維で形成することができる織布及び不織布拭き取り繊維物品を含む繊維又は非繊維材料で形成された拭き取り繊維、織物、並びにブラシなどが考慮される。このようなものは、一体成形して支持板２５２の常設部分を形成することができるが、便利な態様では、このようなものは、着脱式及び交換可能であり、かつ図３５Ｃに示す実施形態のような使い捨て物品とすることができる。更に、パッド又は拭き取り繊維物品２５４は、処理組成物以外の化学組成物で前処理することができ、異なる処理組成物の使用は、パッド又は拭き取り繊維物品２５４に存在する処理組成物が装置１による霧化処理組成物ＴＣ（処理ミストＴＭとして供給される）と接触した時に補助的な恩典又は相乗的な恩典をもたらすことができ、霧化処理組成物ＴＣは、補助ノズル２５０を通り、出口端２４４を通じて出ると、存在する化学的に前処理されたパッド又は拭き取り繊維２５４と接触する。任意的に但し望ましくは、多くの例において、支持板２５２は、取外し可能に支持板２５２に取り付けられているパッド又は拭き取り繊維２５４を保持及び／又は位置決めするのに使用される１つ又はそれよりも多くの把持要素２５６を含む。
【０１５９】
図３５Ｄは、断面図で補助ノズル２５８の更に別の実施形態を示しており、補助ノズル２５８は、流れ誘導ノズル１６２の一部に取外し可能に結合されるようになったコネクタ端部２４２を含み、流れ誘導ノズル１６２は、複数の出口２４５、ここでは、剛毛２４７の基部の穴を通じた霧化処理組成物の放出を可能にする一連の穴２４５を有する内部空洞２６０まで延びる。実施形態では、内部空洞２６０は、コネクタ端部２４２の近くのほぼ円筒形区画２６４から通過した後に半球区画２６２で終端するが、他の構成も考えられ、かつ有用である。図示のこの構成は、特定の表面、例えば、大便器、並びに他の平坦又は湾曲な表面の洗浄に有利とすることができる円筒方向及び半球方向に延びる一連の剛毛２４７をもたらす。
【０１６０】
図３６は、携帯型自己内蔵型物品として構成された本発明による装置１の更に別の実施形態を示している。装置１は、ハウジング１７０と、流れ誘導ノズル１６２と、制御ボタン１６３の代わりに蝶番式又は着脱式及び交換式とすることができる開放可能なカバー部１７３と、摺動可能なスイッチ１６３ａと、本発明の実施形態において複数の発光ダイオードである１つ又はそれよりも多くのステータスインジケータ手段１６７とを含む。摺動可能なスイッチ１６３ａは、２つ又はそれよりも多くの位置の間で移動可能であり、その最も簡単な形で「オン」及び「オフ」スイッチとしてのみ作動するが、少なくとも１つ又はそれよりも多くの中間設定を含むことが好ましい。１つ又はそれよりも多くの中間設定を用いて、処理組成物のミストの送出速度を制御すること、及び１つ又はそれよりも多くの予め選択された時間間隔で装置１の作動を係合及び分離してそれによって装置１の無人時の作動をもたらすタイマ手段のような装置１の様々な作動パラメータ又は他の作動パラメータを確立することができる。同様に、ステータスインジケータ手段１６７は、発光ダイオード以外とすることができ、ユーザに装置１の作動条件を含む装置のステータスに関する情報を提供するあらゆる目視で識別可能、音響的に識別可能、触知で識別可能なインジケータとすることができる。例えば、ステータスインジケータ手段１６７は、絵文字、アイコン、書き言葉、及び数字インジケータなどのような装置の作動条件に関連付けられた記号を適切に表示する小さいＬＣＤ又はＬＥＤパネルとすることができる。
【０１６１】
図３６の装置の内部実施形態を図３７の断面視図に示している。図３７で分るように、ハウジング１７０は、その内部実施形態に、ミスト発生器２０と、図２１を参照して説明したものと殆どの点において類似のものであるここでは内部にある一定量の処理組成物ＴＣを収容する矩形容器８２の形態であるリザーバ８０内に一体的に形成された噴霧化チャンバ４５とを含む。矩形容器８２は、着脱式カバー１７１を通じてハウジング１７０内に挿入することができる。噴霧化チャンバ４５の開放端４８は、空気流導管１００内で開き、これは、一端を追加せずにラジアル電気ファン２０１を含み、他端で流れ誘導ノズル１６２内で終端する。吸気格子１７２も、ハウジング１７０に存在する。コントローラ手段１６８は、装置１の作動特性、及び特にファン２０１及びミスト発生器２０の作動パラメータを制御する。電力は、ハウジング１７０のカバー部１７３の下に位置することができる１つ又はそれよりも多くの電気バッテリ１９０を通じて装置に供給することができる。装置は、更に装置の物理的向きを判断する方位感知手段１６９を含み、方位感知手段１６９は、例えば、レベルセンサ、水平センサ、加速度計、又は水平又は水平線に対して装置の相対位置を確立するのに使用することができるあらゆる他の装置とすることができる。有利な態様では、方位感知手段１６９は、「傾斜」を示す適切な信号を供給し、一方、装置１が水平面又は水平線に対して信号を適切な信号又は電力伝達手段、例えば、ワイヤ（図示せず）を通じてコントローラ手段１６８に伝達することができる。コントローラ手段は、容易さ及び受信信号に応答して、装置１の作動特性、例えば、過度の傾斜として又は装置１が突然落とされたか又はひっくり返された場合に、装置の１つ又はそれよりも多くの部分を遮断することを制御することができる。ファン回転速度を含むがこれに限定されない装置の他の作動特性、並びにミスト発生器２０の作動特性は、コントローラ手段１６８により独立して又は同時に制御することができ、コントローラ手段１６８は、ハードウエア回路又は論理プロセッサ、又はコントローラカードの上で存在する揮発性、好ましくは不揮発性メモリ手段に記憶することができる予め設定されたプログラムに応答して装置１を作動させることができる中心演算処理装置を含む１つ又はそれよりも多くの電子部品を含むことができる。コントローラ手段１６８は、１つの予めプログラムされた作動モードに従って作動させることができ、又は摺動可能なスイッチ１６３ａの適切な配置により選択することができる２つ又はそれよりも多くの予めプログラムされた作動モードに従って作動させることができる。更に、装置の作動条件は、ステータスインジケータ手段１６７により表示することができる。
【０１６２】
図３６の装置の代替内部実施形態を図３８の断面視図に示している。図示の実施形態は、以前の図３７のものといくつかの点において類似のものである。しかし、この実施形態では、空気流導管１００に空気流を供給する自己内蔵型送風機モータ２００が含まれている。ミスト発生器２０は、図１３を参照して説明した実施形態と類似のものである。流体処理組成物ＴＣは、容器８２の内部に含まれ、ある一定量の処理組成物ＴＣをプラグ８３Ａの除去を通じて補充することができる。流体導管６０は、容器８２の内部及びコントローラ手段１６８により制御される制御可能なポンプ９２内から連通している。制御可能なポンプ９２は、ミスト発生器２０に必要な時にある一定量の流体処理組成物を供給する。ミスト発生器２０は、図１３を参照して説明した実施形態と類似のものであり、かつこれと同様に機能する。ミスト発生器２０の作動も、コントローラ手段１６８により制御される。処理組成物ＴＭのミストは、送風機２００によって生成された空気流内に同伴され、流れ誘導ノズル１６２を通じて装置１から外方に誘導される。必要な電力は、バッテリ１９０を通じて装置１の構成要素に供給される。装置の電動又は作動可能な構成要素間の必要な相互接続は、適切な信号及び／又は電力伝達手段、例えば、ワイヤ（明瞭さを期すために図中では図示せず）を通じて供給される。装置は、装置の物理的向きを判断する１対の方位感知手段１６９を更に含み、方位感知手段１６９、１６９は、例えば、レベルセンサ、水平センサ、加速度計、又は水平又は水平線に対して装置の相対位置を確立するのに使用することができるあらゆる他の装置とすることができる。感知手段１６９、１６９の対は、例えば、空気流導管１００の長さ方向に沿って横断する第１の垂直基準平面での水平面に対する装置の「上又は下の傾斜」を示す信号、並びに例えば空気流導管１００の長さ方向に沿って横断する第１の垂直基準平面に垂直な第２の垂直基準平面での水平面に対する装置の「側面から側面の傾斜」を示す信号のように装置１内の互いに垂直な向きに配置することができる。そのようなものは、作動環境に関する装置１の位置に関する改良型信号入力をもたらす。
【０１６３】
図３６の装置の更に別の代替内部環境を図３９の断面視図に示している。図示の実施形態は、以前の図３７及び図３８のものといくつかの点において類似のものである。この実施形態では、空気流発生器手段は、空気流導管１００にエアロゾル容器２３０からある一定量の高圧気体又は加圧気体を放出するように作動されたコントローラ手段１６８からの適切な信号入力に応答して、制御式弁手段２３２と密封気密関係で保持されたアクチュエータ２３１を有する推進剤又は加圧気体を含むエアロゾル容器２３０を含む。このような放出は、装置の作動中に周期的又は連続的とすることができる。制御弁手段３２は、この作動機能を行うあらゆる装置とすることができ、かつ例えばアクチュエータ２３１を作動させるプランジャとして作動する単一のソレノイドとすることができ、又は特許、すなわち、ＵＳ  ７１００８８９、ＵＳ  ６３２８２７９、ＵＳ  ５３５６１１１のうちの１つ又はそれよりも多くに開示されたもののような電動電磁弁とすることができ、これらの特許の内容全体は、引用により本明細書に組み込まれている。エアロゾル容器２３０からの放出気体は、ミスト発生器２０によって生成された処理組成物ＴＭのミストを同伴する。制御可能なポンプ９２は、流体導管６０を通じて、容器８２内に閉じ込められたある一定量の処理組成物ＴＭをミスト発生器２０に供給する。ミスト発生器２０を図１３を参照して説明した実施形態を参照して全体的に開示する。容器８２及びエアロゾル容器２３０は、着脱式カバー１７１を通じてハウジング１７０の内部から取外し可能及びこの内部で交換可能である補充カートリッジ８７の一部として供給される。更に別の類似の着脱式カバー１７１も、装置１の構成要素に電力を供給するのに使用される１つ又はそれよりも多くのバッテリ１９０の交換を可能にするために存在することができる。装置は、１つ又はそれよりも多くの感知手段１６９を更に含むことができる。
【０１６４】
図３６の装置の更に別の代替内部環境を図３９Ａの断面視図に示している。図示の実施形態は、以前の図３７、図３８、及び図３９のものといくつかの点で類似のものであり、かつ共通特徴を含む。この実施形態では、リザーバ８０の一部は、振動板２２の片側がリザーバ８０に存在するある一定量の処理組成物ＴＣと直接接触するように垂直に配置された図１、図２、又は図２Ａを参照して説明したものとすることができる垂直に配置されたミスト発生器２０を含む。リザーバ８０は、着脱式かつ交換可能なプラグ８３Ａを通じて補充することができる。作動している間、ミスト発生器手段２０の振動板２２は、処理ミストＴＭを発生させ、処理ミストＴＭは、空気流導管１００に入り、送風機２００によって発生した流れにより空気に同伴され、従って、処理組成物ＴＭのミストは、装置１の外へ誘導されて流れ誘導ノズル１６２を通じて出る。図に示す装置１の実施形態は、ミスト発生器２０に流体処理組成物を供給するポンプが不要である実施形態を示している。
【０１６５】
本発明による更に別の装置１の代替的な実施形態を図４０、図４１、及び図４２に示している。図示の実施形態は、静止中の位置において配置可能であり、装置１の領域又はその付近に処理組成物ＴＭのミストを生成して供給するように作動される携帯型装置１のためのものである。図４０の断面図を最初に参照すると、装置は、ある一定量の流体処理組成物ＴＣを収容する容器８０の交換ためのアクセスをもたらす着脱式カバー部１７３を含むハウジング１７０を含む。容器８０は、逆さ状態であり、コントローラ手段１６８からの適切な信号に応答する制御可能な滴下弁９３を構造内に組み込むキャップ８２を含む。滴下弁９３は、流体処理組成物ＴＣからの測定後の放出をミスト発生器２０に提供し、ミスト発生器２０は、その上に挟まれた流体処理組成物ＴＣが噴霧化されて処理組成物ＴＭのミストを形成するようにそのすぐ下に設けられる。ミスト発生器２０の下には、ハウジング１７０内の空気流をもたらすラジアル電気ファン２０１が位置決めされる。空気は、格子１７２を通じてハウジング１７０に入り、ファン２０１により加速され、圧力の増大により、処理組成物ＴＭのミストが強制的に出口オリフィス１６２Ａを通じてハウジング１７０の内部から外へ押し出され、出口オリフィス１６２Ａは、以前の実施形態の流れ誘導ノズルとして機能する。図示のように、複数のルーバ状の出口オリフィス１６２Ａは、ハウジング１７０の周囲に存在し、処理組成物ミストＴＭの下方の多方向の流れをもたらす。装置１は、ハウジング１７０内に１つ又はそれよりも多くのバッテリ１９０のような電力供給源を含むことができるが、このような電力供給源は、代替電源、例えば、幹線又は変圧器への有線接続部により置換することができる。図示の実施形態は、装置の周囲環境に揮発性材料を供給するのに使用される空気処理手段２７０の実施形態を含み、揮発性材料は、ミスト発生器手段とは独立して周囲環境に供給される。この実施形態では、空気処理手段２７０は、芳香剤組成物が含浸した貫通する繊維パッド２７６を収容する複数の穿孔２７４を有するカプセル２７２を含む。芳香剤組成物は、カプセル２７２内で蒸発し、複数の穿孔２７４を通じて出て、装置１の近くの空間は、蒸発した芳香剤組成物により処理される。
【０１６６】
図４１は、装置１の作動の１つのモード及び環境を示している。装置１は、台所調理台「Ｋ」の表面に設けられ、かつ処理組成物ＴＭのミストを生成及び供給するように作動され、処理組成物ＴＭのミストは、出口オリフィス１６２Ａを出ると、空気によって運ばれて装置１から外方に漂うことができる。処理組成物ＴＭのミストは、台所調理台「ＫＴ」の水平な上面、ほぼ垂直な垂直台所調理台汚れ止め板「ＫＢ」に接触し、台所調理台Ｋから下向きに漂って下に位置決めされた台所戸だな「ＫＤ」の面に接触することができる。処理組成物ＴＭの空気によって運ばれるミストは、最終的に定着してこれらの接触面に合体し、そこに技術的恩典を提供する例えば洗浄、消毒、ウイルス除去、消臭、臭気中和などを行うことができる。
【０１６７】
図４２は、装置１の代替モード及び環境を示している。装置１は、空洞の内部、ここでは流し「ＫＳ」内に設けられ、処理組成物ＴＭのミストを生成及び供給するように作動され、出口オリフィス１６２Ａを出ると、空気によって運ばれて流しＫＳの空洞を満たすことができる。周囲環境の周囲の空気とは対照的に処理組成物ＴＭのミストの一般的により大きい密度のために、上述のミストＴＭは、主としてＫＳの空洞の領域内に留保されやすく、かつ最終的に定着して流しＫＳの空洞で合体する。固定したミストＴＭは、流しＫＳ、並びに流し空洞に位置決めされたあらゆる物品、例えば、食器類、調理具、及び皿類などに技術的恩典を提供する例えば洗浄、消毒、ウイルス除去、消臭、臭気中和などを行う。
【０１６８】
図４３は、自動皿洗い機３２０の内部及び内容物、例えば、皿類、用具などを処理するのに使用される本発明による装置１の実施形態を示している。便利な態様においては、装置１は、機械３２０のラック３２２内に設けられ、かつ処理ミストＴＭを放出するために皿洗いサイクルの前、皿洗いサイクル中、又は皿洗いサイクルの後に使用することができる。
【０１６９】
図示していないが、本発明の装置は、洗濯機、並びに衣類乾燥機の内部及び内容物を処理するのに使用することができ、装置は、処理ミストＴＭを放出するために衣類洗濯又は乾燥サイクルの前、衣類洗濯又は乾燥サイクル中、又は衣類洗濯又は乾燥サイクルの後に使用することができるように考えられている。
【０１７０】
図４４は、ここではシャワー個室３４０の内部を処理するのに使用される本発明による装置の更に別の実施形態を示している。ここでは、装置１は、適切なハンガー手段によりシャワーヘッド供給管３４２から吊される。装置１は、更に空気処理手段２７０を含む。装置１は、シャワー個室３４０に処理組成物のミストを分注するように作動させることができる。
【０１７１】
図４５は、ここではごみ容器３６０の開口部３６４の近くの内部３６２に取り付けられた本発明による装置１の更に別の実施形態を示している。使用時に、ごみ容器３６０のカバー３６６は、任意的に但し好ましくは閉じられ、装置１は、ごみ容器の内部に処理ミストを放出するように作動される。
【０１７２】
当然のことながら、上述の図中に説明した実施形態は例示であり、限定するものではないことは理解されるものとする。開示した実施形態に示す様々な要素は、異なる実施形態の同様又は類似の要素と置換することができることも同じく明確に理解されるものとする。特に、本明細書に示した装置１の異なる実施形態において異なる形態のミスト発生器２０で置き換えることができることが事実予想される。
【符号の説明】
【０１７３】
１  本発明による装置
２０  ミスト発生器
８０  リザーバ
１２０  第１のアセンブリ
ＴＣ  流体処理組成物
【図１】
2013527020.tif 000006
【図２】
2013527020.tif 000007
【図２Ａ】
2013527020.tif 000008
【図２Ｂ】
2013527020.tif 000009
【図２Ｃ】
2013527020.tif 000010
【図３Ａ】
2013527020.tif 000011
【図３Ｂ】
2013527020.tif 000012
【図３Ｃ】
2013527020.tif 000013
【図４】
2013527020.tif 000014
【図５】
2013527020.tif 000015
【図６】
2013527020.tif 000016
【図７】
2013527020.tif 000017
【図８】
2013527020.tif 000018
【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１４Ａ】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図Ａ１】
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【図Ａ２】
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【図１８Ａ】
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【図１８Ｂ】
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【図１８Ｃ】
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【図１９Ａ】
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【図１９Ｂ】
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【図１９Ｃ】
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【図１９Ｄ】
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【図２０Ａ】
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【図２０Ｂ】
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【図２０Ｃ】
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【図２０Ｄ】
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【図２０Ｅ】
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【図２０Ｆ】
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【図２０Ｇ】
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【図２０Ｈ】
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【図２０Ｉ１】
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【図２０Ｉ２】
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【図２０Ｉ３】
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【図２０Ｊ１】
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【図２０Ｊ２】
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【図２０Ｊ３】
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【図２０Ｋ１】
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【図２０Ｋ２】
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【図２０Ｋ３】
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【図２０Ｋ４】
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【図２０Ｋ５】
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【図２０Ｌ１】
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【図２０Ｌ２】
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【図２０Ｌ３】
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【図２０Ｍ】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図２９Ａ】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５Ａ】
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【図３５Ｂ】
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【図３５Ｃ】
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【図３５Ｄ】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図３９Ａ】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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【図４３】
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【図４４】
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【図４５】
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【国際調査報告】
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2013527020.tif 000094
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