(57)【要約】  本発明は、光配向膜製造効率の向上のための光配向膜製造用紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板及びその製造方法に関し、具体的には、基板と、上記基板上に形成された反射防止層と、上記反射防止層上に形成されるパターン化された感光材層と、上記感光材層及び反射防止層上にそれぞれ形成された二重金属薄膜層とを含む光配向膜製造用紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板、及び基板上に反射防止層を形成する段階と、上記反射防止層上に感光液を塗布して感光材層を形成する段階と、レーザー干渉光により形成されるパターンに沿って上記感光材層を選択的に露光してから現像することで、ワイヤグリッドパターンを形成する段階と、上記ワイヤグリッドパターン上に金属を蒸着する段階とを含む光配向膜製造用紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板の製造方法に関する。本発明は、二重ワイヤグリッド偏光板の製造時に反射防止層を利用することで、ワイヤグリッドを滑らかに形成することができ、感光材層のワイヤグリッドを形成してから金属を蒸着することで、従来のワイヤグリッド形成のための乾式エッチング工程が必要ない。乾式エッチング工程は、気体プラズマによる反応を利用して金属層のパターンを形成する方法であり、生産単価が高い。しかし、本発明ではこれを用いないため、生産単価を下げることができる。また、本発明では、薄い二重ワイヤグリッド偏光板を製造することで、従来の単一ワイヤグリッド偏光板より紫外線領域で透過度を向上させると共に、偏光度を向上させて、光配向膜の製造工程の効率を向上させることができる。【選択図】図３
2013505482.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に形成された反射防止層と、
前記反射防止層上に形成されるパターン化された感光材層と、
前記感光材層及び反射防止層上にそれぞれ形成された金属薄膜層と
を含む光配向膜製造用紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板。
【請求項２】
前記基板は、石英（ｑｕａｒｔｚ）基板または紫外線透過ガラス（ＵＶ  ｔｒａｎｓｍｉｔｔｉｎｇ  ｇｌａｓｓ）である請求項１に記載の光配向膜製造用紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板。
【請求項３】
前記反射防止層の厚さは、５０〜５００ｎｍである請求項１に記載の光配向膜製造用紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板。
【請求項４】
前記感光材層の厚さは、５０〜２００ｎｍである請求項１に記載の光配向膜製造用紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板。
【請求項５】
前記金属薄膜層はＡｌ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｃｒ及びこれらのうち２以上の組み合わせによる合金から選択される請求項１に記載の光配向膜製造用紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板。
【請求項６】
前記金属薄膜層の厚さが１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下である請求項１に記載の光配向膜製造用紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板。
【請求項７】
前記グリッドパターンのピッチ（ｐｉｔｃｈ）が１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下である請求項１に記載の光配向膜製造用紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板。
【請求項８】
基板上に反射防止層を形成する段階と、
前記反射防止層上に感光液を塗布して感光材層を形成する段階と、
レーザー干渉光により形成されるパターンに沿って前記感光材層を選択的に露光してから現像することで、ワイヤグリッドパターンを形成する段階と、
金属を蒸着する段階を含む光配向膜製造用紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板の製造方法。
【請求項９】
前記蒸着する段階は、電子ビーム蒸着法（ｅｌｅｃｔｒｏｎ−ｂｅａｍ  ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）またはスパッタリング法（ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）により行われる請求項８に記載の光配向膜製造用紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板の製造方法。
【請求項１０】
前記基板は、石英（ｑｕａｒｔｚ）基板または紫外線透過基板（ＵＶ  ｔｒａｎｓｍｉｔｔｉｎｇ  ｇｌａｓｓ）である請求項８に記載の光配向膜製造用紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板の製造方法。
【請求項１１】
前記反射防止層の厚さは、５０〜５００ｎｍである請求項８に記載の光配向膜製造用紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板の製造方法。
【請求項１２】
前記感光材層の厚さは、５０〜２００ｎｍである請求項８に記載の光配向膜製造用紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板の製造方法。
【請求項１３】
前記金属薄膜層はＡｌ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｃｒ及びこれらのうち２以上の組み合わせによる合金から選択される請求項８に記載の光配向膜製造用紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板の製造方法。
【請求項１４】
前記金属薄膜層の厚さが１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下である請求項８に記載の光配向膜製造用紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板の製造方法。
【請求項１５】
前記グリッドパターンのピッチ（ｐｉｔｃｈ）が１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下である請求項８に記載の光配向膜製造用紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板の製造方法。
【請求項１６】
請求項１から７の何れか１項の紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板を利用して製造される光配向膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光配向膜製造用紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＴＦＴ−ＬＣＤ水平配向を利用したＴＮモードでは、液晶を一定方向に適切に配向させなければならず、これは表面処理された配向膜により得られる。液晶の配向状態によりＴＦＴ−ＬＣＤの性能が大きく左右されるため、優れた配向膜の開発は、ＴＦＴ−ＬＣＤの製造において非常に重要である。
【０００３】
ＴＦＴ−ＬＣＤは、液晶物質をガラス基板の間に塗布する工程において単に液晶を塗布するだけでは液晶に方向性を付与することが困難であるため、液晶と接する基板内壁に配向膜を形成する必要がある。配向膜は、一定方向に微細なパターンを形成する方式で製造され、一般的に、ＳｉＯ斜方蒸着法（Ｏｂｌｉｑｕｅ  ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ  ｏｆ  ｓｉｌｉｃｏｎ  ｍｏｎｏｘｉｄｅ）、ラビング（ｒｕｂｂｉｎｇ）法、光配向法などが用いられている。
【０００４】
ＳｉＯ斜方蒸着法（Ｏｂｌｉｑｕｅ  ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ  ｏｆ  ｓｉｌｉｃｏｎ  ｍｏｎｏｘｉｄｅ）は、金属、酸化物及びフッ化物などの無機物質を基板に対して斜めに蒸着することであり、蒸着物質としてはＳｉＯが一般的に用いられる。但し、蒸着のために真空装備を使用するため、高コストであるという問題が発生する。また、広範囲にわたった均一な蒸着角（ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ  ａｎｇｌｅ）を得ることが困難であるという短所もある。
【０００５】
ラビング（ｒｕｂｂｉｎｇ）法は、印刷塗布法により基板上に有機高分子、例えば、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）系の薄膜を形成し硬化した後、基板全体を均一な強度の布でラビング（ｒｕｂｂｉｎｇ）し、液晶塗布時の方向を定める方法である。ラビング（ｒｕｂｂｉｎｇ）法は、配向処理が容易で、大量生産に適するが、ラビング（ｒｕｂｂｉｎｇ）によりスクラッチ（ｓｃｒａｔｃｈ）が発生することがあり、特に、大面積ではラビング（ｒｕｂｂｉｎｇ）が均一でなく、液晶分子の整列度が一定でないという問題が発生する。これにより、局所的に異なる光学特性を有するようになり、均一性（ｕｎｉｆｏｒｍｉｔｙ）の不良を齎すことがある。
【０００６】
上記ラビング（ｒｕｂｂｉｎｇ）法に代わる、物理的接触を伴わない光配向法が研究されている。光配向法とは、偏光されたＵＶを高分子フィルムに照射して配向膜を製造する方法であって、偏光されたＵＶに対し、高分子材料が反応して生成された方向性によって配向膜が形成される方法のことである。代表的な光機能性高分子であるポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）に偏光ＵＶを照射すると、偏光されたＵＶにより偏光方向に配向されている光反応器が選択的に反応して方向性を有する配向膜が製造される。
【０００７】
光配向法を利用した配向膜の生産速度は、光機能性高分子の配向速度及び紫外線の強さなどの要素により決まる。特に、偏光された紫外線を使用するためには偏光板が必要で、光機能性高分子の吸収波長で透過率の高い紫外線偏光板を使用するため、同じ光機能性高分子と紫外線ランプを使用する場合でも配向膜の生産速度を向上させることができる。
【０００８】
従来の紫外線偏光板は図１に示されたように、ピッチ（ｐｉｔｃｈ）１５０ｎｍ、高さ（ｈｅｉｇｈｔ）２００ｎｍのアルミニウムワイヤグリッドで構成されており、紫外線領域における偏光度は良好な方であるが、紫外線が偏光板に吸収されて全体透過率は低下するという短所がある。
【０００９】
そこで、本発明者は、光配向法を用いて二重ワイヤグリッド偏光板を製造する際、反射防止層を用いるとワイヤグリッドが滑らかに形成され、薄い二重金属薄膜層を利用して製造された偏光板が紫外線領域で透過度が向上することを見出して本発明を完成した。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ここで、本発明の一側面は、光配向膜の製造効率を向上させるための光配向膜製造用紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板を提供することである。
【００１１】
本発明のさらに他の側面は、このような光配向膜製造用紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板を製造するための方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の一見地によると、基板と、上記基板上に形成された反射防止層と、上記反射防止層上に形成されるパターン化された感光材層と、上記感光材層及び反射防止層上にそれぞれ形成された金属薄膜層とを含む光配向膜製造用紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板が提供される。
【００１３】
本発明の他の見地によると、基板上に反射防止層を形成する段階と、上記反射防止層上に感光液を塗布して感光材層を形成する段階と、レーザー干渉光により形成されるパターンに沿って上記感光材層を選択的に露光してから現像してワイヤグリッドパターンを形成する段階と、上記ワイヤグリッドパターン上に金属を蒸着する段階とを含む紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板の製造方法が提供される。
【００１４】
上記蒸着する段階は、電子ビーム蒸着法（ｅｌｅｃｔｒｏｎ−ｂｅａｍ  ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）またはスパッタリング法（ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）により行われることが好ましい。
【００１５】
上記基板は、石英（ｑｕａｒｔｚ）基板または紫外線透過ガラス（ＵＶ  ｔｒａｎｓｍｉｔｔｉｎｇ  ｇｌａｓｓ）であることが好ましい。
【００１６】
上記反射防止層の厚さは、５０〜５００ｎｍであることが好ましい。
【００１７】
上記感光材層の厚さは、５０〜２００ｎｍであることが好ましい。
【００１８】
上記金属薄膜層はＡｌ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｃｒ及びこれらの２以上の組み合わせによる合金から選択されることが好ましい。
【００１９】
上記金属薄膜層の厚さは、１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００２０】
上記グリッドパターンのピッチ（ｐｉｔｃｈ）は、１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。
【発明の効果】
【００２１】
本発明は、二重ワイヤグリッド偏光板の製造時に反射防止層を利用することで、ワイヤグリッドを滑らかに形成することができ、感光材層のワイヤグリッドを形成してから金属を蒸着するため、従来のワイヤグリッド形成のための乾式エッチング工程を必要としない。乾式エッチング工程は、気体プラズマによる反応を利用して金属層のパターンを形成する方法であり、生産単価が高い。しかし、本発明ではこれを用いないため、生産単価を下げることができる。また、本発明では、薄い二重ワイヤグリッド偏光板を製造することで、従来の単一ワイヤグリッド偏光板より紫外線領域での透過度を向上させると共に、偏光度を向上させ、光配向膜の製造工程の効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】従来の紫外線ワイヤグリッド偏光板の断面概路図である。
【図２】本発明の感光材パターンを形成するにおいて、干渉露光に用いられるレーザー装置を模式的に示した図面である。
【図３】本発明による紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板構造を示したものである。
【図４】本発明による紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板の走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）写真である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明の一見地によると、基板と、上記基板上に形成された反射防止層と、上記反射防止層上に形成されるパターン化された感光材層と、上記感光材層及び反射防止層上にそれぞれ形成された金属薄膜層とを含む光配向膜製造用紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板が提供される。
【００２４】
図３に示されたように、本発明で用いられる用語「基板」とは、偏光板の基本構成要素であり、紫外線を透過することができる物質であれば、制限されないが、石英（ｑｕａｒｔｚ）基板、紫外線透過ガラス（ＵＶ  ｔｒａｎｓｍｉｔｔｉｎｇ  ｇｌａｓｓ）、プラスチック基板などを用いることが好ましい。
【００２５】
本発明に用いられる用語「反射防止層」とは、感光材層がコーティングされる前に基板上に予めコーティングされる層であり、感光材層にレーザー干渉露光でワイヤグリッドを形成する過程において、レーザーの内部反射または干渉反射などによりグリッドが滑らかに形成されないことを防止する役割をする。反射防止層がないと、レーザーが感光材層の内部反射などによりワイヤグリッドが滑らかに形成されないが、反射防止層があると、内部反射を吸収するため、ワイヤグリッドを滑らかに形成することができる。
【００２６】
本発明に用いられる反射防止層は、レーザーの内部反射が吸収できるものであれば、制限されないが、干渉露光に用いられるレーザーの波長、露光する二つのビーム間の角度、反射防止物質の屈折率などを考慮しなければならず、Ｂｒｅｗｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ社のｉ−ｃｏｎ、ＤＵＶ  ４２ｐ、Ｃｌａｒｉａｎｔ社のＡＺ  ＢＡＲＬｉなどを用いることが好ましい。
【００２７】
反射防止層の厚さは反射防止物質の屈折率、使用するレーザーの種類、干渉露光時の二つのビーム間の角度などにより変わるが、５０〜５００ｎｍであることがスピンコーティングで均一な反射防止層を製造するのに好ましい。
【００２８】
本発明に用いられる用語「感光材層」とは、レーザー干渉露光と反応してワイヤグリッドを形成することができる層であり、上記感光材層をレーザー露光してからＫＯＨを含む現像液（ｄｅｖｅｌｏｐｅｒ）で現像することで、レーザーによる感光有無でパターンを形成することができる。本発明に用いられる感光材層は、レーザー波長に合うＵＶ用感光材であれば、大きく制限されないが、Ｓｈｉｎ−Ｅｔｓｕ社のＳＥＰＲ  ７０１、Ｒｏｈｍ  ａｎｄ  Ｈａｓｓ社のＵＬＴＲＡ  ｉ−１２３、Ｃｌａｒｉａｎｔ社のＡＺ  １５１２などを用いることが好ましい。上記感光材層の厚さは、５０〜２００ｎｍであることが好ましい。
【００２９】
ワイヤグリッド偏光板の偏光度を向上させるためには、ピッチ（ｐｉｔｃｈ）が小さいほど有利であるが、ピッチが１００ｎｍ以下のパターンは干渉露光で製造しにくいため、ワイヤグリッドの間隔（ｐｉｔｃｈ）は１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下に調節することが好ましい。
【００３０】
上記レーザー干渉露光及び現像によりワイヤグリッドパターンが形成された感光材層上に金属を蒸着すると、上記ワイヤグリッドパターンの感光材層の上部及び上記感光材層の現像後のワイヤグリッドパターンの間に露出された反射防止層上にそれぞれ金属薄膜層が二重に形成されることができる。
【００３１】
上記金属層が過度に厚く形成されると、紫外線透過度が減少することがあるため、紫外線透過率を極大化するために金属層の厚さは３０ｎｍ以下であることが好ましく、厚さが１０ｎｍ以下では、偏光度が低下して所望する方向に光配向を形成することが困難であるという問題がある。よって、上記金属層の厚さは、１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下であることが好ましい。
【００３２】
本発明に用いられる金属はＡｌ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｃｒまたはこれらの２以上の組み合わせによる合金から選択されることができ、紫外線偏光を考慮してアルミニウムを用いることが好ましい。
【００３３】
上記のように、本発明による紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板は、従来の紫外線偏光板より透過率及び偏光度が改善され、光配向膜の製造工程の効率を向上させることができる。
【００３４】
また、本発明の他の見地によると、基板上に反射防止層を形成する段階（段階１）と、上記反射防止層上に感光液を塗布して感光材層を形成する段階（段階２）と、レーザー干渉光により形成されるパターンに沿って上記感光材層を選択的に露光してから現像することで、ワイヤグリッドパターンを形成する段階（段階３）と、金属を蒸着する段階（段階４）とを含む光配向膜製造用紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板の製造方法が提供される。
【００３５】
上記段階１は基板上に反射防止層をコーティングする段階で、基板は偏光板の基本構成要素であり、紫外線を透過することができる物質であれば、制限されないが、石英（ｑｕａｒｔｚ）基板、紫外線透過基板（ＵＶ  ｔｒａｎｓｍｉｔｔｉｎｇ  ｇｌａｓｓ）を用いることが好ましい。
【００３６】
反射防止層は感光材層がコーティングされる前に基板上に予めコーティングされる層であって、感光材層にレーザー干渉露光でワイヤグリッドを形成する過程において、レーザーの内部反射または干渉反射などによりワイヤグリッドが滑らかに形成されないことを防止する役割をする。反射防止層がないと、レーザーが感光材層の内部反射などによりワイヤグリッドが滑らかに形成されず、反射防止層があると、内部反射を吸収するため、ワイヤグリッドを滑らかに形成することができる。本発明に用いられる反射防止層は、レーザーの内部反射を吸収することができるものであれば、制限されないが、Ｂｒｅｗｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ社のｉ−ｃｏｎ、ＤＵＶ  ４２ｐ、Ｃｌａｒｉａｎｔ社のＡＺ  ＢＡＲＬｉなどを用いることが好ましい。
【００３７】
反射防止層の厚さは反射防止物質の屈折率、使用するレーザーの種類、干渉露光時の二つのビーム間の角度などにより変わるが、５０〜５００ｎｍであることが好ましい。
【００３８】
上記段階２は上記反射防止層上に感光材層をコーティングする段階で、上記感光材層はレーザー干渉露光と反応してワイヤグリッドを形成することができる層であり、感光材層をレーザー露光させてから現像すると、レーザーと反応しない部分だけが残り、ワイヤグリッドを形成することができる。本発明はパターンを形成する際、乾式エッチング工程を用いないため、生産単価を下げることができるという利点がある。
【００３９】
本発明に用いられる感光材層は、レーザーと反応するものであれば、制限されないが、Ｓｈｉｎ−Ｅｔｓｕ社のＳＥＰＲ  ７０１、Ｒｏｈｍ  ａｎｄ  Ｈａｓｓ社のＵＬＴＲＡ  ｉ−１２３、Ｃｌａｒｉａｎｔ社のＡＺ  １５１２などを用いることが好ましい。
【００４０】
上記段階３は上記コーティングされた感光材層にレーザー干渉露光でワイヤグリッドパターンを形成する段階であり、レーザーの光経路差（位相差）を利用すると、一定間隔でレーザーの補強及び消滅が発生するため、これを利用して一定間隔のワイヤグリッドを形成することができる。レーザーの波長を調節してワイヤグリッドの間隔を調整することができる。
【００４１】
紫外線領域を偏光させる目的でワイヤグリッドの間隔（ｐｉｔｃｈ）を２００ｎｍ以下に調節することが好ましい。
【００４２】
上記段階４は上記ワイヤグリッドパターン上に金属を蒸着する段階であり、上記段階３によりワイヤグリッドパターンが形成され、該パターン上に金属を蒸着すると、図３に示されたように、グリッドの上部とグリッドの間に露出された反射防止層に二重に金属層が形成されることができる。金属は電子ビーム蒸着法（ｅｌｅｃｔｒｏｎ−ｂｅａｍ  ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）またはスパッタリング（ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）方法を用いて蒸着してよい。蒸着の効率及び蒸着の配向性の観点から電子ビーム蒸着法が好ましい。
【００４３】
上記金属層が過度に厚く形成されると、紫外線透過に影響を与えるため、紫外線透過率を極大化するために金属層の厚さは３０ｎｍ以下であることが好ましい。本発明に用いられる金属は紫外線偏光を考慮してアルミニウムであることが好ましい。
【００４４】
以下では、本発明の理解を助けるために好ましい実施例を提示する。しかし、下記の実施例は本発明をさらに理解しやすくするために提供されるものであって、実施例により本発明の内容は限定されない。
【００４５】
実施例１：本発明による紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板の製造
【００４６】
１．反射防止層と感光材層の形成
本実施例において、基板としては１０ｃｍ×１０ｃｍの石英（ｑｕａｒｔｚ）基板を、反射防止層としてはＤＵＶ４２ｐ（Ｂｒｅｗｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ社）を、感光材としてはＵｌｔｒａ  ｉ−１２３（Ｒｏｈｍ  ａｎｄ  Ｈａｓｓ  社）を使用した。
【００４７】
上記石英（ｑｕａｒｔｚ）基板上に反射防止層ＤＵＶ  ４２ｐを６０ｎｍ厚さでコーティングした。反射防止層をコーティングした後、Ｕｌｔｒａ  ｉ−１２３を６０ｎｍでコーティングして感光材層を形成した。
【００４８】
２．レーザー干渉露光によりワイヤグリッドパターン形成
上記１．で製造された基板にワイヤグリッドパターンを形成するために、干渉露光システムを使用した。図２に示されたように、干渉露光システムは２６６ｎｍのレーザービームをビームスプリッター（ｂｅａｍ  ｓｐｌｉｔｔｅｒ）を利用して二つのビームに分け、オブジェクティブレンズ（ｏｂｊｅｃｔｉｖｅ  ｌｅｎｓ）でそれぞれのビームを拡大させて感光材層を露光した。このとき、外部環境の変化による二つのビームの光経路差（位相差）の変化をフォトダイオードで読み取り、ＰＩＤ回路とＰＺＴミラーを利用して光経路差を一定に保持した。干渉露光及び現像後に、レーザー波長より短い、ピッチ（ｐｉｔｃｈ）が１５０ｎｍであるワイヤグリッドパターンを形成することができた。
【００４９】
３．ワイヤグリッドパターンに金属蒸着
次に、上記２．で製造された感光材ワイヤグリッドパターンにアルミニウム１５ｎｍを電子ビーム（ｅ−ｂｅａｍ）蒸着して図３のような紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板を製造した。
【００５０】
上記製造された紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板のグリッド及び金属蒸着の程度を確認するために、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）写真を撮影して図４に示した。図４を参考すると、反射防止層を用いたため、ワイヤグリッドが滑らかに形成されており、アルミニウムの蒸着も均一な模様で形成されていることが確認できる。
【００５１】
実験例１：透過度の測定
上記実施例１で製造された紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板を使用して透過度を測定した。３１０ｎｍ波長において、対照群である図１に示された従来の単層偏光板は、非偏光光源（ｒａｎｄｏｍ  ｐｏｌａｒｉｚｅｄ  ｌｉｇｈｔ）の光が入射されたとき、透過率が４０％であるが、本発明による偏光板は、透過率が６０％であることを確認した。上記のように、本発明によるワイヤグリッド偏光板を使用すると、透過率が４０％から６０％と１．５倍向上することを確認した。
【００５２】
実験例２：液晶の配向性の測定
ＣＯＣ（ｃｙｃｌｏｏｌｅｆｉｎ  ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）フィルムに実施例１で製造された紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板を使用して配向膜を形成し、液晶の配向性を測定した。製造された液晶の配向性を観察したところ、単層偏光板を使用して製造した配向膜と同等水準の配向膜が製造できることを確認した。
【００５３】
従って、偏光度が一部減少したにもかかわらず、同等水準の配向膜が製造できることが確認できた。さらに、本発明の紫外線高透過二重ワイヤグリッド偏光板は、透過率が改善されたため、配向膜の生産速度を向上させることができる。よって、光配向法を利用した配向膜の製造工程の効率を向上させることができる。
【図１】
2013505482.tif 000003
【図２】
2013505482.tif 000004
【図３】
2013505482.tif 000005
【図４】
2013505482.tif 000006
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月10日(2012.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に形成された反射防止層と、
前記反射防止層上に形成されるパターン化された感光材層と、
前記感光材層及び反射防止層上にそれぞれ形成された金属薄膜層と
を含むワイヤグリッド偏光板。
【請求項２】
前記基板は、石英（ｑｕａｒｔｚ）基板または紫外線透過ガラス（ＵＶ  ｔｒａｎｓｍｉｔｔｉｎｇ  ｇｌａｓｓ）である請求項１に記載のワイヤグリッド偏光板。
【請求項３】
前記反射防止層の厚さは、５０〜５００ｎｍである請求項１または２に記載のワイヤグリッド偏光板。
【請求項４】
前記感光材層の厚さは、５０〜２００ｎｍである請求項１から３の何れか１項に記載のワイヤグリッド偏光板。
【請求項５】
前記金属薄膜層はＡｌ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｃｒ及びこれらのうち２以上の組み合わせによる合金から選択される請求項１から４の何れか１項に記載のワイヤグリッド偏光板。
【請求項６】
前記金属薄膜層の厚さが１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下である請求項１から５の何れか１項に記載のワイヤグリッド偏光板。
【請求項７】
前記感光材層はグリッドパターン状に形成され、
前記グリッドパターンのピッチ（ｐｉｔｃｈ）が１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下である請求項１から６の何れか１項に記載のワイヤグリッド偏光板。
【請求項８】
基板上に反射防止層を形成する段階と、
前記反射防止層上に感光液を塗布して感光材層を形成する段階と、
レーザー干渉光により形成されるパターンに沿って前記感光材層を選択的に露光してから現像することで、ワイヤグリッドパターンを形成する段階と、
金属を蒸着する段階と
を含むワイヤグリッド偏光板の製造方法。
【請求項９】
前記蒸着する段階は、電子ビーム蒸着法（ｅｌｅｃｔｒｏｎ−ｂｅａｍ  ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）またはスパッタリング法（ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）により行われる請求項８に記載のワイヤグリッド偏光板の製造方法。
【請求項１０】
前記基板は、石英（ｑｕａｒｔｚ）基板または紫外線透過基板（ＵＶ  ｔｒａｎｓｍｉｔｔｉｎｇ  ｇｌａｓｓ）である請求項８または９に記載のワイヤグリッド偏光板の製造方法。
【請求項１１】
前記反射防止層の厚さは、５０〜５００ｎｍである請求項８から１０の何れか１項に記載のワイヤグリッド偏光板の製造方法。
【請求項１２】
前記感光材層の厚さは、５０〜２００ｎｍである請求項８から１１の何れか１項に記載のワイヤグリッド偏光板の製造方法。
【請求項１３】
前記金属を蒸着する段階において蒸着された金属薄膜層はＡｌ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｃｒ及びこれらのうち２以上の組み合わせによる合金から選択される請求項８から１２の何れか１項に記載のワイヤグリッド偏光板の製造方法。
【請求項１４】
前記金属を蒸着する段階において蒸着された金属薄膜層の厚さが１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下である請求項８から１３の何れか１項に記載のワイヤグリッド偏光板の製造方法。
【請求項１５】
前記グリッドパターンのピッチ（ｐｉｔｃｈ）が１００ｎｍ以上２００ｎｍ以下である請求項８から１４の何れか１項に記載のワイヤグリッド偏光板の製造方法。
【請求項１６】
請求項１から７の何れか１項のワイヤグリッド偏光板を利用して製造される光配向膜。
【国際調査報告】
2013505482.tif 000007
2013505482.tif 000008
2013505482.tif 000009
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