(57)【要約】  本発明は、ガラス基材および日射制御性薄膜多層を含んでなる日射制御性板ガラスに関し、前記薄膜多層には、８００ｎｍ超の波長を有する赤外放射線を選択的に吸収する膜が組み込まれており、前記吸収膜は、ＮｂまたはＴａから選択される元素Ｘで置換された酸化チタンからなり、その原子パーセント［Ｘ／Ｔｉ＋Ｘ］は、約４％から約９％の範囲内であり、前記吸収膜の厚さは、約２０から約２００ナノメートルの範囲内である。【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基材、ならびに客室または住居の日射防護および／または遮熱を可能とするように日射に作用する日射制御性薄膜多層を含んでなり、前記薄膜多層には、８００ｎｍ超の波長を有する赤外放射線を選択的に吸収する膜が組み込まれており、前記吸収膜は、ＮｂまたはＴａから選択されるドーパント元素Ｘで置換された酸化チタンから成り、その原子パーセント［Ｘ／Ｔｉ＋Ｘ］は、約４％から約９％の範囲内であり、前記吸収膜の厚さは、約２０ナノメートルから約２００ナノメートルの範囲内である、自動車用または建築用日射制御性板ガラス。
【請求項２】
前記原子パーセント［Ｘ／Ｔｉ＋Ｘ］が、約４％から約７％の範囲内である、請求項１に記載の日射制御性板ガラス。
【請求項３】
前記吸収膜の厚さが、３０から１００ナノメートルの範囲内である、請求項１または２に記載の日射制御性板ガラス。
【請求項４】
Ｘが、ニオビウムである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の日射制御性板ガラス。
【請求項５】
前記多層が、連続する以下の膜からなり、前記ガラス基材の表面から順に：
幾何学的厚さの合計が５から１５０ｎｍの範囲内であり、前記ガラス基材から来るアルカリ金属イオンのマイグレーションから前記吸収膜を保護するための１または複数の下側膜；
ＮｂまたはＴａ、好ましくはＮｂから選択されるドーピング元素Ｘで置換された酸化チタンからなる前記吸収膜；および、
１または複数の膜の幾何学的厚さの合計が５から１５０ｎｍの範囲内である、特に焼き戻しまたはアニーリングなどの熱処理の際に空気中の酸素から前記吸収膜を保護するための１または複数の上側膜、
である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の日射制御性板ガラス。
【請求項６】
前記１または複数の下側保護膜および上側保護膜が：Ａｌ、Ｚｒ、またはＢでドーピングされていてもよい窒化ケイ素Ｓｉ3Ｎ4；窒化アルミニウムＡｌＮ；酸化スズ；スズ亜鉛複合酸化物ＳｎyＺｎzＯx；酸化ケイ素ＳｉＯ2；未ドーピング酸化チタンＴｉＯ2；および、酸窒化ケイ素ＳｉＯxＮyから選択される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の日射制御性板ガラス。
【請求項７】
前記多層が、前記下側および上側保護膜と前記吸収膜との間に、部分的もしくは完全に酸化および／または窒化されていてよく、５ｎｍよりも薄い厚さ、好ましくは３ｎｍよりも薄い厚さを有する金属膜をさらに組み込んでいる、請求項５または６に記載の日射制御性板ガラス。
【請求項８】
前記金属が、ＴｉまたはＮｉＣｒ合金から選択される、請求項７に記載の日射制御性板ガラス。
【請求項９】
前記多層が、連続する以下の膜を含んでなり、前記ガラス基材の表面から順に：
厚さが５から１５０ｎｍの範囲内であり：Ａｌ、Ｚｒ、またはＢでドーピングされていてもよい窒化ケイ素Ｓｉ3Ｎ4；窒化アルミニウムＡｌＮ；酸化スズ；スズ亜鉛複合酸化物ＳｎyＺｎzＯx；酸化ケイ素ＳｉＯ2；未ドーピング酸化チタンＴｉＯ2；および、酸窒化ケイ素ＳｉＯxＮyから選択される下側膜；
Ｎｂで置換された酸化チタンからなる前記吸収膜であって、前記吸収膜中の原子パーセント［Ｎｂ／Ｔｉ＋Ｎｂ］は、約４％から約７％の範囲内であり、その厚さは、３０から１００ｎｍの範囲内である、前記吸収膜；
厚さが５から１５０ｎｍの範囲内であり：Ａｌ、Ｚｒ、またはＢでドーピングされていてもよい窒化ケイ素Ｓｉ3Ｎ4；窒化アルミニウムＡｌＮ；酸化スズ；スズ亜鉛複合酸化物ＳｎyＺｎzＯx；酸化ケイ素ＳｉＯ2；未ドーピング酸化チタンＴｉＯ2；および、酸窒化ケイ素ＳｉＯxＮyから選択される上側膜；ならびに、
好ましくは、部分的もしくは完全に酸化および／または窒化されていてもよく、前記保護膜と前記吸収膜との間にあり、厚さが２ｎｍよりも薄い金属チタン膜、
である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の日射制御性板ガラス。
【請求項１０】
前記多層が、連続する以下の膜から成り、前記ガラス基材の表面から順に：
厚さが５から１００ｎｍの範囲内であるＳｉ3Ｎ4膜；
部分的もしくは完全に酸化および／または窒化され、幾何学的厚さが２ｎｍよりも薄い金属チタン膜；
赤外放射線を吸収する前記膜であって、前記膜は、Ｎｂで置換された酸化チタンからなり、前記吸収膜中の原子パーセント［Ｎｂ／Ｔｉ＋Ｎｂ］は、約４％から約７％の範囲内であり、その厚さは、３０から１００ｎｍの範囲内である、前記膜；
部分的または完全に酸化および／または窒化され、幾何学的厚さが２ｎｍよりも薄い金属チタン膜；ならびに、
厚さが５から１００ｎｍの範囲内であるＳｉ3Ｎ4膜、
である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の日射制御性板ガラス。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の日射制御性板ガラスを製造するための方法であって、以下の工程：
ガラス基材を製造する工程；および、
真空マグネトロンスパッタリング法を用いて前記ガラス基材上に薄膜多層を堆積する工程であって、
ここで、ＮｂまたはＴａから選択されるドーピング元素Ｘで置換された酸化チタンからなる前記吸収膜は、ＮｂまたはＴａから選択されるドーパント元素Ｘで置換され、その原子パーセント［Ｘ／Ｔｉ＋Ｘ］が約４％から約９％の範囲内である酸化チタンからなるターゲットを、アルゴンまたはアルゴンと酸素との混合物の残留雰囲気下にてスパッタリングすることによって得られる、工程、
を含んでなる、方法。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の日射制御性板ガラスを製造するための方法であって、以下の工程：
ガラス基材を製造する工程；および、
真空マグネトロンスパッタリング法を用いて前記ガラス基材上に薄膜多層を堆積する工程であって、
ここで、前記吸収膜は、ＮｂまたはＴａから選択されるドーピング元素Ｘで置換された酸化チタンからなり、金属チタンとＮｂまたはＴａから選択される金属Ｘとの混合物からなるターゲットであって、前記ターゲット中の原子パーセント［Ｘ／Ｔｉ＋Ｘ］が約４％から約９％の範囲内であるターゲットを、酸素およびアルゴンの残留雰囲気下にてスパッタリングすることによって得られる、工程、
を含んでなる、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、日射制御特性を提供する薄膜コーティングをその表面に含んでなる建築用または自動車用板ガラスのタイプのガラス基材またはガラス物品の分野に関する。「板ガラス」の用語は、本発明において、１または複数のガラス基材から成り、特に単層板ガラス、二層板ガラス、三層板ガラスなどであるいずれのガラス品をも意味するものと理解される。「日射制御性」の表現は、本発明において、エネルギー流束、特に赤外（ＩＲ）放射線の流束が、外部から住居または客室の内部へとそれを透過して進入することを制限するが、同時に十分な光透過率、すなわち典型的には３０％超、実際には４０％超、またはさらには５０％超を確保する板ガラスの能力を意味するものと理解される。
【背景技術】
【０００２】
薄膜多層を備えたそのような板ガラスは、従って、入射する日射に作用し、客室または住居の日射防護および／または遮熱を可能とするものである。さらに、これらのコーティングは、審美的に心地良いものでなければならず、すなわち、それらは、ユーザーが不快に感じないように、透過および反射の両方において十分に無彩色でなければならないか、または別の選択肢として、特に建築の分野において、僅かな青色または緑色の色調でなければならない。これらのコーティングの最も単純なものは、従来から、ＣＶＤ蒸着法を用いるか、またはより一般的には、現在は、特にコーティングがより複雑な連続する膜の多層からなる場合、本分野ではマグネトロンスパッタリングと称されることの多い真空スパッタリング蒸着法を用いて堆積される。
【０００３】
最も一般的には、日射制御特性を有する薄膜多層は、１または実際には２つ以上の活性膜を含んでなる。「活性膜」の表現は、前記板ガラスを透過する日射の流束に対して実質的な効果を有する膜を意味するものと理解される。そのような活性膜は、知られているように、赤外線を反射する主に反射モードにて、または赤外線を吸収する主に吸収モードにて機能してよい。
【０００４】
特に、現時点で市販されている最も効果的な多層には、本質的に反射モードで機能する少なくとも１つの金属銀膜が組み込まれており、入射ＩＲ（赤外）放射線のほとんどを反射する。このような多層は、最も一般的には、Ｌｏｗ‐Ｅ（低放射）多層と称される。しかし、このような膜は、水分に対する感受性が非常に高いので、水分から保護するために、二層板ガラスにおいてその面２または３にしか用いられない。本発明に係る多層は、そのような銀タイプの膜を含まない。
【０００５】
日射制御機能を持つその他の金属膜も、本分野にて報告されており、例えば特許文献１に記載のように、Ｎｂ、Ｔａ、もしくはＷのタイプの、またはこれらの金属の窒化物の機能性膜を含んでなる。しかし、そのような膜内では、この場合は日射が吸収されるが、非選択的であり、すなわち、ＩＲ放射線（すなわち、約７８０ｎｍから２５００ｎｍの範囲内の波長を有する放射線）と可視光線の両方が非選択的に吸収される。従って、そのような板ガラスユニットは、ＴL／ｇ比で記載される選択性が１に近い（標準ＥＮ  ４１０（またはＮＦ  ＥＮ４１０）にて定義されるように、光透過係数／日射透過係数ｇ）。知られているように、光透過係数または光透過率ＴLは、従来から、入射光の流束のパーセント、すなわち、Ｄ65光源下にて板ガラスを透過する、３８０から７８０ｎｍの範囲の波長の入射光の流束のパーセントに相当する。
【０００６】
知られているように、日射透過係数ｇは、板ガラスを透過する（すなわち、建物内に進入する）エネルギーの、入射する日射エネルギーに対する比に等しい。より詳細には、それは、板ガラスを直接透過する流束と、板ガラス（これには、その表面の１つに所望に応じて存在していてもよい薄膜多層も含まれる）によって吸収され、続いて内部（部屋）へ向かって再放射され得る流束との合計に相当する。
【０００７】
概して、本明細書にて提示される光特性は、建物のガラスとして用いられる板ガラスの光および日射特性の測定に関する欧州（およびフランス）標準ＥＮ  ４１０に記載の原理および方法に従って得られる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】国際公開第０１／２１５４０号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
したがって、本発明の１つの目的は、日射制御特性を付与し、上述の意味での高い選択性、すなわち１よりも非常に高いＴL／ｇ比を有する薄膜多層を含んでなる板ガラスを提供することであり、前記多層は、特定のいかなる予防手段も必要とすることなく、耐久性を有する。本発明の別の目的は、日射制御性板ガラスを提供することであり、ここで、前記多層は、特に焼き戻しなどの熱処理の後、特に透過または反射において、特に建築セクターで求められるように、実質的な無彩色、またはそれ以外では、それほど強くない青緑色の色調を保持することができる。本発明における「無彩色」または「青緑色の色調」の表現は、（Ｌ*、ａ*、ｂ*）表色系において、ａ*およびｂ*の値が、１０に近いかまたはそれより低い、および負であることを意味するものとして理解される。
【００１０】
したがって、本発明に係る板ガラスでは、光波、すなわち約３８０から７８０ｎｍの範囲内の波長を有する光波の透過を促進し、赤外放射線、すなわち７８０ｎｍよりも長い波長を有する放射線、特に近赤外放射線、すなわち約７８０ｎｍから約１４００ｎｍの範囲内の波長を有する放射線のほとんどを選択的に吸収することにより、それを透過する放射線を選択することが可能であることが有利である。
【００１１】
したがって、本発明によれば、この板ガラスで保護された部屋または客室では、明るく照らされた状態を維持すると同時に、そこへ進入する熱の量を最小限に抑えることが可能である。
【００１２】
本発明の別の利点によると、本発明に係る多層を備えた板ガラスは、他の公知の日射制御性窓板ガラス、特に銀系多層を含んでなるものと比較して、作製が簡便であり、また作製コストも大きく低減される。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
より正確には、本発明は、ガラス基材および日射制御性薄膜多層を含んでなる日射制御性板ガラスに関し、前記薄膜多層には、８００ｎｍ超の波長を有する赤外放射線を選択的に吸収する膜が組み込まれており、前記吸収膜は、ＮｂまたはＴａから選択される元素Ｘで置換された酸化チタンからなり、その原子パーセント［Ｘ／Ｔｉ＋Ｘ］は、約４％から約９％の範囲内であり、前記吸収膜の厚さは、２０から２００ナノメートルの範囲内である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明の好ましい実施形態によると：
原子パーセント［Ｘ／Ｔｉ＋Ｘ］は、約４％から約７％、より好ましくは、約５から約７％の範囲内であり；
前記吸収膜の厚さは、３０から１００ナノメートルの範囲内であり；および、
Ｘは、ニオビウムである。
【００１５】
好ましくは、本発明によれば、日射制御性板ガラスは、連続する以下の膜からなる多層を含んでなり、ガラス基材の表面から順に：
幾何学的厚さの合計が５から１５０ｎｍの範囲内である、ガラス基材からくるアルカリ金属イオンのマイグレーションから吸収膜を保護するための１または複数の下側膜；
ＮｂまたはＴａ、好ましくはＮｂから選択されるドーピング元素Ｘで置換された酸化チタンからなる前記吸収膜；および、
１もしくは複数の膜の幾何学的厚さの合計が５から１５０ｎｍの範囲内である、特に焼き戻しまたはアニーリングなどの熱処理の際に空気中の酸素から吸収膜を保護するための１または複数の上側膜、
である。
【００１６】
好ましくは、１もしくは複数の下側保護膜および上側保護膜は：Ａｌ、Ｚｒ、またはＢでドーピングされていてもよい窒化ケイ素Ｓｉ3Ｎ4；窒化アルミニウムＡｌＮ；酸化スズ；スズ亜鉛複合酸化物ＳｎyＺｎzＯx；酸化ケイ素ＳｉＯ2；未ドーピング酸化チタンＴｉＯ2；および、酸窒化ケイ素ＳｉＯxＮyから選択される。
【００１７】
本発明の１つの考え得る好ましい実施形態によれば、特に板ガラスが焼き戻しなどの熱処理を受ける必要がある場合、多層には、前記保護膜と吸収膜との間に、部分的または完全に酸化および／または窒化されていてもよく、５ｎｍよりも薄い厚さ、好ましくは３ｎｍよりも薄い厚さ、またはさらには２ｎｍよりも薄い厚さを有する金属膜がさらに組み込まれる。
【００１８】
この薄膜は、例えば、Ｓｉ3Ｎ4上側保護膜の堆積の場合と同様に、上側膜が窒素の存在下で反応性スパッタリングによって堆積される場合に、部分的もしくは完全に酸化または窒化され、このようにして吸収膜を保護するものであり、またはそれ以外では、焼き戻し型の熱処理の際に酸化されることになる。前記薄膜は、好ましくは、ニオビウム  Ｎｂ、タンタル  Ｔａ、チタン  Ｔｉ、クロム  Ｃｒ、ニッケル  Ｎｉ、またはＮｉＣｒ合金などの前記金属の少なくとも２つの合金、などの金属をベースとするものである。「犠牲」膜として作用することのみが意図される場合は、光透過率という点で多層に対してできる限り不利とならないように、それは極めて薄くてよく、特に約０．２から１．５ｎｍ、好ましくは０．５から１．５ｎｍの厚さであってよい。また、特にＴLを低下させた日射制御性板ガラスの製造が意図される場合に、透過光の量を所望されるレベルへ調節するためにもそれが用いられる場合は、場合によってはそれを最大で５ｎｍの厚さとすることも可能である。
【００１９】
好ましくは、金属は、ＴｉまたはＮｉＣｒ合金から選択される。
【００２０】
１つの良好に実行される実施形態によれば、多層は、連続する以下の膜を含んでなり、ガラス基材の表面から順に：
厚さが５から１５０ｎｍの範囲内であり：Ａｌ、Ｚｒ、またはＢでドーピングされていてもよい窒化ケイ素Ｓｉ３Ｎ４；窒化アルミニウムＡｌＮ；酸化スズ；スズ亜鉛複合酸化物ＳｎｙＺｎｚＯｘ；酸化ケイ素ＳｉＯ２；未ドーピング酸化チタンＴｉＯ２；および、酸窒化ケイ素ＳｉＯｘＮｙから選択される下側膜；
Ｎｂで置換された酸化チタンからなる前記吸収膜であって、前記吸収膜中の原子パーセント［Ｎｂ／Ｔｉ＋Ｎｂ］は、約４％から約７％の範囲内であり、その厚さは、３０から１００ｎｍの範囲内である、前記吸収膜；
厚さが５から１５０ｎｍの範囲内であり：Ａｌ、Ｚｒ、またはＢでドーピングされていてもよい窒化ケイ素Ｓｉ３Ｎ４；窒化アルミニウムＡｌＮ；酸化スズ；スズ亜鉛複合酸化物ＳｎｙＺｎｚＯｘ；酸化ケイ素ＳｉＯ２；未ドーピング酸化チタンＴｉＯ２；および、酸窒化ケイ素ＳｉＯｘＮｙから選択される上側膜；ならびに、
好ましくは、部分的または完全に酸化および／または窒化されていてもよく、前記保護膜と前記吸収膜との間にあり、厚さが３ｎｍよりも薄い金属チタン膜、
である。
【００２１】
例として、本発明に係る日射制御性板ガラスは、連続する以下の膜からなる多層を含んでなり、ガラス基材の表面から順に：
厚さが５から１００ｎｍ、特に５から７０ｎｍの範囲内であるＳｉ3Ｎ4膜；
部分的または完全に酸化および／または窒化され、幾何学的厚さが２ｎｍよりも薄い金属チタン膜；
赤外放射線を吸収する前記膜であって、Ｎｂで置換された酸化チタンから成り、前記吸収膜中の原子パーセント［Ｎｂ／Ｔｉ＋Ｎｂ］は、約４％から約７％の範囲内であり、その厚さは、３０から１００ｎｍの範囲内である膜；
部分的または完全に酸化および／または窒化され、幾何学的厚さが２ｎｍよりも薄い金属チタン膜；ならびに、
厚さが５から１００ｎｍ、特に５から７０ｎｍの範囲内であるＳｉ３Ｎ４膜、
である。
【００２２】
本発明はまた、日射制御性板ガラスを製造するための方法にも関し、その方法は、以下の工程：
ガラス基材を製造する工程；および、
真空マグネトロンスパッタリング法を用いてガラス基材上に薄膜多層を堆積する工程であって、ここで、ＮｂまたはＴａから選択されるドーピング元素Ｘで置換された酸化チタンからなるこの吸収膜は、ＮｂまたはＴａから選択される元素Ｘで置換され、その原子パーセント［Ｘ／Ｔｉ＋Ｘ］が約４％から約９％の範囲内である酸化チタンからなるターゲットを、アルゴンまたはアルゴンと酸素との混合物の残余雰囲気下にてスパッタリングすることによって得られる、工程、
を含んでなる。
【００２３】
本発明に係る日射制御性板ガラスを製造するための別の選択肢としての方法は、以下の工程：
ガラス基材を製造する工程；および、
真空マグネトロンスパッタリング法を用いてガラス基材上に薄膜多層を堆積する工程であって、ここで、この吸収膜は、ＮｂまたはＴａから選択されるドーピング元素Ｘで置換された酸化チタンからなるものであり、金属チタンとＮｂまたはＴａから選択される金属Ｘとの混合物からなるターゲットであって、ターゲット中の原子パーセント［Ｘ／Ｔｉ＋Ｘ］が約４％から約９％の範囲内であるターゲットを、酸素およびアルゴンの残余雰囲気下にてスパッタリングすることによって得られる、工程、
を含んでなる。
【実施例】
【００２４】
以下の例は、単に説明のために与えられるものであり、記載されるそれらのいずれの態様においても、本発明の範囲を限定するものではない。比較の目的で、以下の例の多層はすべて、二層板ガラスとして組み付けられるガラス基材上に合成した。多層の膜はすべて、従来のマグネトロンスパッタリング真空蒸着法を用いて堆積した。これらの性能を直接比較する目的で、以下の例で最終的に得られた板ガラスユニットはすべて、厚さが６ｍｍであり、アルゴンを充填した１６ｍｍ厚の空隙によって分離された２つのPlanilux（登録商標）ガラス基材からなる二層板ガラスユニットである（６／１６Ａｒ／６）。
【００２５】
実施例１：
本発明に係る本例では、以下の一連の膜からなる多層を、従来のマグネトロン法を用いてPlanilux（登録商標）ガラス基材上へ堆積した：
ガラス／Ｓｉ3Ｎ4（４０ｎｍ）／Ｔｉ（１ｎｍ）／ＴｉＯ2：Ｎｂ（５０ｎｍ）／Ｔｉ（１ｎｍ）／Ｓｉ3Ｎ4（４０ｎｍ）。
【００２６】
ＴｉＯ2膜は、６原子％のニオビウムを含んでなるＴｉＯ2ターゲット（［Ｎｂat／（Ｔｉat＋Ｎｂat）＝０．０６］）のマグネトロンスパッタリングを用いて得た。ＥＰＭＡ（電子プローブマイクロ分析）およびＳＩＭＳ（二次イオン質量分析）を用いて、最終的に得られた膜中のドーピングレベルがターゲットの組成のそれと実質的に同じかどうかを確認した。
【００２７】
次に、その多層を備えた基材に、数分間の６５０℃への加熱、および続いての焼き戻しからなる熱処理を施した。この処理は、板ガラスに、焼き戻し、またはそれ以外では曲げ処理を施す必要がある場合に板ガラスが受ける条件を代表するものである。
【００２８】
基材を、薄膜多層が多層の面２に位置するように、別のPlanilux（登録商標）基材と共に、二層板ガラスユニットに組み付けた（６／１６Ａｒ／６）。
【００２９】
この二層板ガラスの選択性を判定するために、そのＴLおよびｇの係数を測定した。
【００３０】
比較例１：
本例では、例１と実質的に同じ多層を、ＴｉＯ2膜を堆積するために用いたターゲットが、この場合はニオビウムを含有していなかったこと以外は同じ方法によって得た。
【００３１】
この二層板ガラスの選択性を判定するために、そのＴLおよびｇの係数を、上記と同じ条件下にて測定した。
【００３２】
比較例２：
本例では、Cool Lite KN 164のレファレンス名にてSaint-Gobain Glass Franceから市販されている二層板ガラスユニット（６／１６Ａｒ／６）を用い、その活性膜、すなわち、前記板ガラスを透過する日射に作用する膜は、厚さが約１０ナノメートルの銀膜であり、前記銀膜は、二層板ガラスの面２上に堆積された多層中に配置されていた。
【００３３】
この市販の二層板ガラスの選択性を判定するために、そのＴLおよびｇの係数を、上記と同じ条件下にて測定した。
【００３４】
比較例３：
本例では、Cool Lite ST 167のレファレンス名にてSaint-Gobain Glass Franceから市販されている二層板ガラスユニット（６／１６Ａｒ／６）を用い、その活性膜、すなわち、前記板ガラスを透過する日射に作用する膜は、厚さが約１５ナノメートルの窒化ニオビウム膜であり、前記窒化ニオビウム膜は、二層板ガラスの面２上に堆積された多層中に配置されていた。
【００３５】
この市販の二層板ガラスの選択性を判定するために、そのＴLおよびｇの係数を、上記と同じ条件下にて測定した。
【００３６】
比較例４：
本例は、以下の改変部分以外は実施例１と同様に行った：
ＴｉＯ2膜を、約１．７原子％のニオビウムを含んでなるＴｉＯ2ターゲットを用いたマグネトロンスパッタリング法によって得たこと；および、
マグネトロンチャンバーを通すガラス基材の移動速度を、堆積されるＴｉＯ2：Ｎｂ膜の厚さが３００ｎｍに等しくなるように調節したこと。
【００３７】
この二層板ガラスの選択性を判定するために、そのＴLおよびｇの係数を、上記と同じ条件下にて測定した。
【００３８】
得られた種々の板ガラスユニットの特性を、標準ＥＮ  ４１０にしたがって測定し、以下の表１に示す：
【００３９】
【表１】
2013535403.tif 000002
【００４０】
表１に示されるデータの比較から、厚さ５０ｎｍの未ドーピングＴｉＯ2膜（比較例１）は、選択性を持たず、可視光および熱の両方に対して、特に熱赤外に対して、比較的透過性を有すると思われる。しかし、本発明に従い、ドーパントのＮｂを、約６％の高濃度でこの膜へ導入すると（実施例１）、膜厚を同様に薄く維持することで、板ガラスの選択性を大きく高めることが可能となる。したがって、こうして得られた選択性レベルは、銀膜をベースとするＬｏｗ‐Ｅ多層（比較例２）で見られた選択性レベルに近づいているが、しかしそれは、近赤外反射モードで作動するものであり、近赤外吸収モードではない。この点で、このような結果は非常に驚くべきものである。
【００４１】
本発明に係る例１と比較例３を比較すると、本発明に係る、主として日射の吸収によって機能する活性膜を備えた板ガラスユニットは、同じ原理に従って機能する他の公知の日射制御性膜、特にニオビウム系膜または窒化ニオビウム系膜と比較して、非常に高い選択性を有していることが示される。
【００４２】
最後に、本発明に係る例１と比較例４を比較すると、６％に近いニオビウムによるドーピングレベルと薄い膜厚（５０ｎｍ）とを組み合わせることで、最終的には、ドーピングレベルはより低いが厚さが６倍厚い活性膜を含んでなる多層と比較して、選択性がより高い多層を得ることが可能となることが示される。そのような結果は、ＴｉＯ2などの透明酸化物膜の赤外反射特性が、その厚さと共に大きく増加することが知られているという点で、予想外なものである。
【００４３】
（Ｌ*、ａ*、ｂ*）系における板ガラスの測色値も、透過、内反射（客室側）、および外反射（外側）について測定し、以下の表２に示す。
【００４４】
【表２】
2013535403.tif 000003
【００４５】
表２に列記したデータは、本発明に係る多層を備えた板ガラスの理想的な測色特性を示しており、例１におけるパラメータａ*およびｂ*は、透過においても反射においても、観測者の位置および視る角度に関わらず、すべて負であり、比較的低い。
【００４６】
これらの特性は、建築の分野において現在所望されているような、僅かな青緑色または無彩色を有する板ガラスをもたらす。
【００４７】
別の利点によると、その活性膜が比較的薄い厚さ、すなわち数十ナノメートルを有するドーピングされた酸化チタンをベースとするものである本発明に係る日射制御性多層は、その製造が、特にマグネトロンスパッタリング真空蒸着法を用いることで、極めて単純であり、安価である。特に、酸化チタン膜の厚さが薄いことは、蒸着チャンバーを通す基材の移動速度が、前記膜の所望される厚さに直接関係することから、生産性の些細とは言えない増加をもたらす。
【００４８】
さらに、追加で行った耐久性試験では、そのような膜の単層板ガラスユニットの面２への堆積を、化学的作用（水分）または機械的作用（多層の摩耗）によって劣化するリスクなしに、容易に行うことができることが示された。
【国際調査報告】
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