(57)【要約】  本発明は、ある軸（１１）を中心に回転できる可動プレート（１）であって、この回転軸（１１）に対して当該プレートの両側部に整列配置された２つのアーム（７，９）により静止フレーム（３）に連結され、外周部に導電性のループ（１３）を備える可動プレート（１）と、静止フレーム及び可動プレートにより形成された組立体の下側に、フレームの面において、可動プレートに関し、回転軸に対して斜めである横向きの磁場（５７）を形成するような態様で配列された、それぞれ異なる磁気方向を有する複数の磁石（５１，５３，５５）からなる磁石集合体と、を備える電磁駆動型マイクロシャッターに関する。【選択図】  図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸（１１；７２）を中心にして回転することができる可動プレートであって、この回転軸（１１）に沿って当該可動プレートの両側部に整列配置された２つのアーム（７，９）により静止フレーム（３）に連結され、外周部に導電性のループを有する可動プレートと、
前記静止フレームと前記可動プレートとにより形成された組立体の下側に、前記静止フレームの面において、前記可動プレートに関し、前記回転軸に対して直角である横向きの磁場（５７）を形成するような態様で配列された、それぞれ異なる磁気方向を有する複数の磁石からなる磁石集合体と
を備え、
前記磁石集合体は、上から見た場合に、前記回転軸（１１）に平行なバーの形態で、前記静止フレーム（３）の面に平行な同一面内で並設された３つの磁石（５１，５３，５５）を備え、
中央の前記磁石（５１）は、前記可動プレート（１）の幅と同じ幅を有するとともに、横向きの磁気方向を有し、
外周部の前記磁石（５３，５５）は、前記静止フレームの面に直角である、互いに反対向きの磁気方向を有し、
前記磁石集合体の寸法は、上から見た場合に、前記静止フレームと前記可動プレートとにより形成される組立体の寸法と等しい、電磁駆動型マイクロシャッター。
【請求項２】
前記等しい寸法は、実質的に３０％の範囲に等しいものである、請求項１に記載の電磁駆動型マイクロシャッター。
【請求項３】
前記横向きの磁場（４３）は回転軸（１１）に直角である、請求項１又は２に記載の電磁駆動型マイクロシャッター。
【請求項４】
前記静止フレームは矩形であり、前記アームがこの矩形の２つの相対する側部の中央から延出している、請求項１〜３のいずれか一項に記載の電磁駆動型マイクロシャッター。
【請求項５】
導電性のループ（１３；７６）の端部は、前記アームの一方（７）を通り、前記静止フレーム（３；６５）に形成された接点要素（１５，１７）に接続されている、請求項１〜４のいずれか一項に記載の電磁駆動型マイクロシャッター。
【請求項６】
前記可動プレート（１；６１）の上面は反射性を有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の電磁駆動型マイクロシャッター。
【請求項７】
前記静止フレーム（３）の上方に保護カバーを備える、請求項１〜６のいずれか一項に記載の電磁駆動型マイクロシャッター。
【請求項８】
前記可動プレート（６１）は、可動フレーム（６３）によって前記静止フレームに連結され、前記可動フレームは、前記回転軸に直角な第２の回転軸に沿って前記可動フレームの両側部に整列配置された２つの第２のアーム（７３ａ，７３ｂ）によって、前記静止フレームに接続され、前記可動フレーム（６３）は導電性のループを備え、磁場が、前記回転軸に対して実質的に４５度の角度である、請求項４に記載の電磁駆動型マイクロシャッター。
【請求項９】
前記中央の磁石（８１）は、前記磁場に直角な方向に対して斜めに延びており、
前記外周部の磁石（８３，８５）は、前記中央の磁石により自由端のままとされた構造体の角部に配置されている、請求項８に記載の電磁駆動型マイクロシャッター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）の製造方法により形成された可動マイクロシャッターに関する。本発明は、特に、新規の電磁駆動型マイクロシャッター構造体に関する。本発明の用途の一例は電磁駆動型マイクロミラーに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＭＥＭＳ技術に基づく可動マイクロミラーは、多数のデバイス、例えば小型の投射系や、バーコードリーダーのような赤外線センサに用いられている。本明細書では、軸によりフレームに取り付けられ、電磁手段によりこの軸を中心として可動調整可能である複数のマイクロミラーに注目する。
【０００３】
図１は、電磁駆動型可動マイクロミラーを含む、シリコンウェハに形成されたＭＥＭＳ構造体を概略的に示している。この構造体は、静止フレームに取り付けられた反射性を有する小さな可動プレート１、すなわちマイクロミラーを備える。可動プレート１とフレーム３との間には間隙５が延びている。プレート１は、同一の軸１１に沿ってプレート１の両側部に整列配置された２つのアーム７，９によってフレーム３と連結されている。したがって、プレート１は、アーム７，９により形成される軸１１を中心にして回転可能である。また、プレート１の動作は、アーム７，９にねじり作用をもたらす。
【０００４】
導電路１３がプレート１の前面の外周部に沿って設けられている。この導電路１３はアーム７を通り、フレーム３に形成された接点１５，１７にて終端する。接点１５，１７は、電流が導電路１３を矢印１９で示す方向（直流電流の場合）に流れるような態様で、電源（図示しない）に接続されるのに適している。
【０００５】
フレーム３とプレート１の組立体は、矢印２１で示す横向きの磁場を受ける。その磁場の磁力線は、軸１１に対して実質的に直角であり、フレーム３の面に対して実質的に平行である。
【０００６】
電流が導電路１３を流れると、互いに反対向きのローレンツ力（Lorentz force）が、軸１１に平行な導電路１３の複数の部分（これら部分では互いに反対向きの電流が流れている）にて、フレームの面に対して直角に及ぼされる。これらの結合力が、特に電流の方向と強さにより決定される角度で、軸１１を中心としてプレート１を回転させる。したがって、接点１７と接点１７との間に印加される電圧の符号と値により、プレート１の向きと傾斜を調節することができる。
【０００７】
図２は、図１に関連して述べたタイプの電磁駆動型マイクロミラーを含むＭＥＭＳ構造体を概略的に示す断面図である。この図から、可動プレート１が形成されている部位の下側でシリコンウェハが空洞化されていることが分かる。支持体２３がこの空所を閉じている。また、マイクロミラーの上側にはカバー（図示しない）が設けられることが一般的であり、このカバーは汚染物質の侵入からプレート１を保護するよう透明であることが好ましい。
【０００８】
２つの磁石２５，２７が軸１１の両側にて対照的に配置されている。横向きの磁気方向を有する磁石２５，２７は、可動プレート１の領域において磁場を形成し、この磁場の磁力線は軸１１に対して直角であり、フレーム３の面に対して平行である。
【０００９】
図１及び図２に関連して述べたタイプのマイクロミラー構造体の問題点は、磁石２５，２７の設置に関連するサイズにある。
【００１０】
実際には、可動プレート１は一辺が約１ｍｍである正方形であり、間隙５は約５０μｍ、フレームは約１ｍｍ幅となろう。
【００１１】
磁石２５，２７の表面積（上から見たもの）が、フレーム３の表面積に加えられる。なおかつ、磁石２５，２７は可動プレート１から比較的離れている。したがって、可動プレート１の領域に十分な磁場を確保するたには、磁石２５，２７は２ｍｍの幅、２ｍｍの厚さ、３ｍｍのオーダーの寸法を有しなければならない。したがって、この構造体の全表面積は、磁石２５，２７の存在により少なくとも２倍となる。
【００１２】
図３は、電磁駆動型マイクロミラーを含む他のＭＥＭＳ構造体を概略的に示している。明瞭化の目的で、図２に対して異なる点のみを詳細に説明する。
【００１３】
サイズを制限するために、横向きの磁気方向を有する図２の磁石２５，２７を、
垂直の磁気方向を有する磁石３１に置き換え、この磁石３１を可動プレート１とフレーム３とにより形成される組立体の下側に配置することが提案されている。磁石３１は、可動プレートに関し、フレーム３の面に対して直角な磁力線を有する磁場を形成する。
【００１４】
相反する方向の２つの別個独立の翼部３３，３５に分けられた導電性のコイルが設けられており、２つの翼部３３，３５は、回転軸１１に平行であるプレート１の縁部のそれぞれの側にて、プレート１の前面に配置される。このコイルは、電源に接続されるのに適している。
【００１５】
このコイルに電流が流れると、磁石３１と、翼部３３，３５のそれぞれとの間に、相反する吸引力と反発力が作用し、その結果、軸１１を中心にして可動プレート１が回転する。
【００１６】
このタイプのマイクロミラーの問題点は、可動プレート１の前面における使用可能な面が減じられるという点にあり、これは翼部３３，３５の寸法に関係される。また、可動部分の質量をより大きくすると、それは、変位をもたらすためにより大きな電流を必要とする。更に、質量の増加のために、可動プレートは衝撃や加速に対する耐性が低くなる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
したがって、本発明の一実施形態の目的は、従来の電磁駆動型マイクロミラーの問題点の全て又は一部を解消する電磁駆動型マイクロミラー構造体を提案することである。
【００１８】
また、本発明の一実施形態の目的は、小さな表面寸法を有する前記電磁駆動型マイクロミラー構造体を提案することである。
【００１９】
更に、本発明の一実施形態の目的は、製造が簡易である前記電磁駆動型マイクロミラー構造体を提案することである。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
したがって、本発明の一実施形態は、ある軸を中心に回転可能であるプレートであって、この回転軸に沿って当該プレートの両側部に整列配置された２つのアームにより静止フレームに連結され、外周部に導電性のループを備えるプレートと、前記静止フレーム及び可動の前記プレートにより形成された組立体の下側に、フレームの面において、可動プレートに関し、回転軸に対して斜めである横向きの磁場を形成するような態様で配列された、それぞれ異なる磁気方向の複数の磁石からなる磁石集合体と、を備える電磁駆動型マイクロシャッターを提供するものである。
【００２１】
本発明の一実施形態によれば、上から見た状態では、磁石集合体の寸法は、静止フレームと可動フレームとにより形成された組立体の寸法と正確に等しくされている。
【００２２】
また、本発明の一実施形態によれば、横向きの磁場は回転軸に対して直角である。
【００２３】
更に、本発明の一実施形態によれば、磁石集合体は、上から見た場合に、回転軸に平行なバー（ｂａｒ）の形態で、静止フレームの面に平行な同一面内で並設された３つの磁石からなり、中央の磁石は、可動プレートの幅と同じ幅を有するとともに、横向きの磁気方向を有し、外周部の磁石は、静止フレームの面に直角である、互いに反対向きの磁気方向を有する。
【００２４】
更にまた、本発明の一実施形態によれば、導電性ループの端部は２つのアームのうちの一方を横断し、静止フレーム上に形成された接点要素に接続される。
【００２５】
本発明の一実施形態によれば、可動プレートの状面は反射性を有する。
【００２６】
また、本発明の一実施形態によれば、このマイクロシャッターは、静止フレームの上方に保護カバーを有する。
【００２７】
更に、本発明の一実施形態によれば、可動プレートは、可動フレームにより静止フレームに連結され。可動フレームは、前記軸に直角である第２の回転軸に対して該可動フレームの両側部に整列配置された２つのアームによって静止フレームに連結され、可動フレームは導電性のループを有する。
【００２８】
更にまた、本発明の一実施形態によれば、横向きの磁場は回転軸に対して実質的に４５度の角度とされる。
【００２９】
上記の目的、特徴及び利点、その他について、添付図面に沿って、非制限的な例として挙げた以下の特定の実施形態の説明において詳細に述べる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】電磁駆動型マイクロミラーを含む上述した構造体を概略的に示す図である。
【図２】図１に関連して上述したタイプの構造体を示す断面図である。
【図３】電磁駆動型マイクロミラーを含む上述した他の構造体を概略的に示す断面図である。
【図４】電磁駆動型マイクロミラーを含む例示的な構造体を概略的に示す断面図である。
【図５】本発明の他の実施形態による電磁駆動型マイクロミラーを含む例示的な構造体を概略的に示す断面図である。
【図６Ａ】本発明の設計変更形態による電磁駆動型マイクロミラーを含む構造体の概略平面図である。
【図６Ｂ】図６Ａの上から見た水平断面図である。
【図７】図５に関連して説明した構造体の一部の他の適用例を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
明瞭化の目的で、同一要素は全図を通して同一符号により示し、また、微小要素を示す場合に一般的であるように、幾つかの図は縮尺通りには描いていない。
【００３２】
図４は、シリコンウェハに形成された、電磁駆動型マイクロミラーを含む例示的な構造体を概略的に示す断面図である。この構造体は、図２に関連して述べた構造体と同様に、静止フレーム３に固定された反射性を有する可動プレート１を備える。間隙５がフレーム３から可動プレート１を分離している。可動プレート１は、同一の軸１１に沿ってプレート１の両側部に整列配置された２つのないしは対のアーム（図示しない）によってフレーム３と連結されている。したがって、プレート１は、軸１１を中心にして回転可能である。
【００３３】
導電性のループ（ループ状導電路）１３がプレート１の前面の外周部に沿って設けられている。この導電路１３の両端部は、例えば、プレート１の取付アームの一方を越えて延び、フレーム３に形成され電源との接続に適した接点（図示しない）にて終端する。
【００３４】
横向きの磁気方向を有する磁石４１が、可動プレート１とフレーム３とにより形成された組立体の下側に配置されている。かかる磁石は、可動プレート１に関し、回転軸１１に実質的に直角である磁場を形成する。この磁場は、一方の磁極から他方の磁極への戻り磁力線に接続されており、矢印４３で示すその方向は磁石４１の磁気方向に対して実質的に反対向きとなっている。
【００３５】
電流が導電路１３を流れると、互いに反対向きのローレンツ力が、軸１１に平行な導電路１３の複数の部分（これら部分では互いに反対向きの電流が流れている）に及ぼされる。これにより、電流の方向と強さにより決定される角度に従って、軸１１を中心として可動プレート１が回転する。
【００３６】
しかしながら、このような構造体は純粋に理論的なものである。実際には、磁石によって形成される磁場はその周囲全域に分散され、可動プレート１に関して言うと、磁場はプレート１の大きな変位を得るには不十分である。したがって、可動プレート１の大きな変位を得るためにはループ１３に相当に強い電流を流す必要があり、これはエネルギーを過度に消費することとなろう。
【００３７】
図５は、本発明の一実施形態による電磁駆動型マイクロミラーを含む構造体を概略的に示す断面図である。明瞭化のために、ここでは図４に示された構造体との相違点のみを詳細に説明する。
【００３８】
横向きの磁気方向を有する磁石４１の代わりに、それぞれ異なる磁気方向を有する３つの磁石からなる１つの磁石集合体が設けられる。これらの磁石は、可動プレート１に関し、フレーム３の面に対して平行で、回転軸１１に対しては直角である磁場を、過度のエネルギー消費を生ずることなく可動プレート１の変位を得るのに十分となるように形成する態様で配置される。
【００３９】
好適な実施形態によれば、上から見た状態で、軸１１に平行なバーの形状であり且つフレーム３に平行な同一面内に置かれた３個の磁石５１，５３，５５が設けられる。磁石５１は、可動プレート１と実質的に同じ幅（例えば１ｍｍのオーダー）を有し、フレーム３とプレート１とにより形成される組立体と実質的に同じ長さ（例えば３ｍｍのオーダー）を有する。３個の磁石からなる集合体は、フレーム３と実質的に同じ幅を有する。勿論、これらの寸法は例示の目的でのみ与えられたものであることは理解されよう。例えば、中央の磁石５１の幅は、可動プレート１の幅よりも僅かに小さく、或いは僅かに大きくされ得る。好ましくは、サイズを制限するために、磁石集合体の寸法は、静止フレームと可動プレートとにより形成される組立体の寸法と、正確に等しくされ、或いは僅かに小さくされる。なお、前述において、「実質的に同じ幅」は概ねプラス・マイナス３０％に等しい幅を意味する。
【００４０】
中央の磁石５１は、横向きの磁気方向を有し、別言するならば、フレーム３の面に実質的に平行であり軸１１に実質的に直角である磁気方向を有する。
【００４１】
外周部の磁石５３，５５は、垂直の磁気方向を有し、別言するならば、フレーム３の面に実質的に直角である磁気方向を有する。磁石５３，５５の磁気方向は実質的に反対向きとなっている。
【００４２】
したがって、磁石集合体の中央部分の上方及び可動プレート１については、各磁石５１，５３，５５により形成される磁力線は実質的に横向きであり、互いに同じ方向にある。結局、これらの要素は、エネルギーの消費を低減した状態で可動プレート１の変位を可能とするのに十分な横向きの磁場（矢印５７で示す）を形成する。なお、可動プレート１の反対側の磁石集合体に関しては、磁力線は互いに相殺する傾向がある。これにより、特に、あるデバイスの他の要素との電磁的な相互作用を制限することができる。
【００４３】
勿論、磁力線の横方向成分が可動プレートの側に集まり、磁石の下側では（その逆の上側ではない）互いに相殺されるよう、外周部の磁石及び中央の磁石の磁気方向の向きは適宜な態様で選択されることは理解されるべきである。
【００４４】
図６Ａ及び図６Ｂは、本発明の変形形態を概略的に示している。これらの図は、電磁駆動型マイクロシャッターを含むＭＥＭＳ構造体を示し、このマイクロシャッターは２本の異なる回転軸、例えば直交する回転軸に対して可動である。
【００４５】
図６Ａは上から見た図である。可動プレート６１は、可動フレーム６３に連結され、可動フレーム６３は静止フレーム６５に連結されている。２つの間隙６７，６９がそれぞれ、可動プレート６１と可動フレーム６３の間、及び、可動フレーム６３と静止フレーム６５の間で延びている。プレート６１は、同一の軸７２に沿ってプレート６１の両側部に整列配置された２つのアーム７１ａ，７１ｂによって、可動フレーム６３に連結されている。したがって、プレート６１は、軸７２を中心にして回転可能である。可動フレーム６３は、例えば軸７２に直角である同一の軸７４に沿って可動フレーム６３の両側部に整列配置された２つのアーム７３ａ，７３ｂによって、静止フレーム６５に連結されている。よって、可動フレーム６３は、軸７４を中心にして回転可能である。したがって、プレート６１は、可動フレーム６３を介して、２つの直交する回転軸７２，７４に関して可動となる。
【００４６】
図１，図２、図４及び図５に関連して説明した例と同様に、導電路７６が可動プレート６１の前面の外周部に沿って設けられている。この導電路７６の両端は、プレート６１の取付アームの一方と、可動フレーム６３の取付アームの一方とを通り、フレーム６５上にて、電源との接続に適した接点で終端する。
【００４７】
更に、導電路７８が可動フレーム６３の前面の外周部に沿って設けられている。この導電路７８の両端は、可動フレーム６３の取付アームの一方を通り、フレーム６５上にて、電源との接続に適した接点で終端する。
【００４８】
フレーム６５、可動フレーム６３及びプレート６１からなる組立体は、フレームの面に対して実質的に平行で、回転軸７２，７４に対して実質的に４５度の角度で向けられた磁場（矢印８０で示す）を受ける。
【００４９】
導電路７６，７８のそれぞれに与えられた電流の符号と値を変化させることにより、軸７２，７４のそれぞれを個別に作動させることができる。軸７２に関するプレート６１の回転動作は、軸７２に直角である磁場８０の成分に関連される。軸７４に関する可動フレーム６３の回転動作は、軸７４に直角である磁場８０の成分に関連される。
【００５０】
図６Ｂは、図６ＡのＭＥＭＳ構造体の上から見た水平断面図であり、それぞれ異なる磁気方向を有する３つの磁石からなる磁石集合体を概略的に示している。この磁石集合体は、可動プレート６１、可動フレーム６３及びフレーム６５により形成された図６Ａに示す組立体の下側に配置されている。磁石集合体は、プレート６１と可動フレーム６３について、フレーム６５の面に対して実質的に平行で、回転軸７２，７４に対して実質的に４５度の角度となる磁場８０を形成するのに適している。
【００５１】
図５に関して説明した実施形態と同様に、上から見て、磁場８０の方向に直角であるバー状の３つの磁石８１，８３，８５が設けられ、これらはフレーム６５に平行な同一面内に並べられている。バー状の磁石８１，８３，８５は、磁石集合体が、フレーム６５、可動フレーム６３及びプレート６１からなる組立体を越えることがないような態様で、切断されていることが好適である。
【００５２】
中央の磁石８１は、フレーム６５の面に実質的に平行であり回転軸７２，７４に対して実質的に４５度となっている横向きの磁気方向を有する。外周部の磁石８３，８５は、フレーム６５の面に実質的に直角である垂直の磁気方向を有する。磁石８３，８５の磁気方向は実質的に反対向きとなっている。
【００５３】
プレート６１及び可動フレーム６３に関し、磁石８１，８３，８５のそれぞれにより形成される磁力線は、フレーム６５の面に実質的に平行であり、軸７２，７４に対して実質的に４５度の角度となっており、更に、互いに実質的に同じ方向となっている。結局、これらの要素は、図６Ａにおいて矢印８０で示す磁場を形成する。
【００５４】
本提案の実施形態の利点は、磁石が可動プレート及びフレームにより形成された組立体の下側に配置され、これらの磁石がこの組立体を越えて飛び出ていないことである。これにより、図２に示すタイプの従来の構造体に対してマイクロミラーの表面積を少なくとも２倍、減じることができる。更に、フレームの両側で、シリコンの厚さよりも大きな厚さの磁石がないことにより、マイクロミラーの場合では、光線の入射角度を大きくできる。
【００５５】
図６Ａ及び図６Ｂに示す構造体の特別な利点は、ミラーが一方の側に配置された場合に、ミラーは光線を水平及び垂直に反射するように向けられ、実際に頻繁に望まれる偏向方向に対応するということである。
【００５６】
更に、前記実施形態において、可動プレートに関して形成された磁場は、電気の消費を抑えた状態でプレートを変位させるのに十分なものとなる。これは、従来の構造体に比して磁石が導電路の非常に近くに配置されるという事実に、特に関連される。磁石と導電路との間の距離を更に減じるために、薄いシリコンウェハを使用することができる。
【００５７】
また、プレートの動作は、プレートの外周部に配置された単純なループ状導電路に電流を流すことで制御される。したがって、導電路に関連されるプレート上の有効表面積のロスが最小化される。より一般的には、上述した３つの磁石を有する構造体は、サイズが小さく、局所的な空間において強い横向きの磁場を形成するという利点を有する。
【００５８】
図７は、上述したタイプの３つの磁石を有する構造体の他の応用例を示している。この例において、磁石集合体は、磁性微粒子ないしは磁性マイクロビーズ（ｍａｇｎｅｔｉｃ  ｍｉｃｒｏｂｅａｄ）と相互作用させるために、又は、生物学的分析装置内で懸濁されている細胞と相互作用させるために使用される。
【００５９】
この装置は、仕切りで画成されたチャネル９０を備えている。このチャネル９０の下側には、このチャネルに関して横向きの磁場を形成するように、それぞれが異なる磁気方向を有する３つの磁石９１，９３，９５が配置されている。この例では、図において矢印で示されるこれらの磁石の磁気方向は、図５の３つの磁石からなる組立体のものと同一である。
【００６０】
チャネル９０内にて、磁性マイクロビーズ（通常は「超常磁性ビーズ“ｓｕｐｅｒ−ｐａｒａ−ｍａｇｎｅｔｉｃ  ｂｅａｄｓ”」という技術用語で称される）９７、例えば酸化鉄粒子を含む直径が５０ｎｍ〜３μｍのビーズを包含する流体が流れる。生物学的標的（分子、細胞、ウイルス等）を捕捉するのに適した粒子が、最初にビーズ９７にグラフト（ｇｒａｆｔ：結合）されるとよい。種々のタイプの生物学的標的を捕捉するために適当な、種々のタイプのビーズ及び／又は種々のタイプのグラフトされた粒子が用意されるとよい。
【００６１】
チャネル９０が受ける磁場勾配及び磁場により、生物学的標的を捕捉したビーズを捕捉していないビーズから分離するようにビーズを捉えることができる。これにより、例えば、流体内の当該生物学的標的の濃度を計測することが可能となる。更に、磁場勾配により、異なる生物学的標的を捕捉したビーズを分離させることができる。
【００６２】
また、細胞の反磁性又は常磁性に起因して、磁石構造体により形成される磁場勾配と磁場により直接引き寄せ又は反発されるその細胞を流体内で循環させることができる。その場合、これらの細胞に作用するビーズ９７を省略することができる。
【００６３】
以上、本発明の特定の実施形態について説明した。様々な変形や変更が可能なことは当業者にとり明らかとなろう。特に、本発明は、上記の用途、すなわち可動マイクロミラーに限定されない。また、電磁駆動型可動マイクロシャッターを備えるいかなるデバイスにも、所望の機能を与えることができる。また、本発明を、電磁場を用いる動作検出や電磁駆動の原理に基づいて、シャッター、薄膜、或いは、例えば加速度センサ、ジャイロスコープ、圧力センサ、マイクロフォンのような他の可動構造体に適用することができる。
【００６４】
更に、図５及び図６Ｂに関連して、本発明の好適な実施形態は、横向きの磁気方向を有する中央の磁石と、互いに反対向きの垂直の磁気方向を有する２つの外周部の磁石とを備えるものと説明したが、当業者であれば、他の構成を用いることで、所望の機能を如何すれば実現できるかは分かるであろう。
【００６５】
図５並びに図６Ａ及び図６Ｂに関連して説明した実施形態は、垂直の磁気方向を有する外周部の２つの磁石を備える。可動プレートに関して横向きの磁場の強さを最適化するために、必要ならば、垂直に対して僅かに斜めの磁気方向を有する外周部の磁石を用いることができる。同様に、中央の磁石は、フレームの面に対して僅かに斜めで且つ互いに対して僅かに斜めである磁気方向を有する２つの磁石半体に分割されてもよい。３つの磁石からなる組立体において、可動プレートに関して横向きの磁場を最適化するために、色々な幅を有する磁石を設けることもできる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７】
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【国際調査報告】
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2013508785.tif 000012
2013508785.tif 000013
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