(57)【要約】  本発明は、基礎地盤の支圧強度の増加を助ける、構造物を支持するシステムに関する。十分な耐性を有する上部構造物に加えて、構造物基礎も、安定性の要件を満たすために十分な支圧強度を有していなければならない。上部構造物をどれだけ安全に建築しても、基礎の支圧強度が十分でない場合は、構造物の沈下、傾斜、ならびに上部構造物上の亀裂および損傷は回避不能である。言い換えれば、基礎負荷を安全に支えることが可能となるためには、上部構造物の安全性に加えて、下層土の性能も満たさなければならない。
2013502521.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
地盤上に構造物が存在するまたは地盤上に建築物が作製される当該地盤を、改善させるために掘削を必要としない、構造物を支持するシステムであって、
−構造物を支えている、または、構造物をこれから支える少なくとも１つの足場（１）の下に配置された少なくとも１つのロッド（２）、および
−足場（１）が留まる、または、足場（１）を留まらせるレベルへと運搬されるロッド（２）と足場（１）との間に残されたギャップ（１２）
を含み、
また、
−ロッド（２）が配置された後に残るギャップ（１２）を満たし、
−足場（１）およびロッド（２）に対する負荷が満たされていることを確実にし、
液体体積の少なくとも２倍である量まで膨張および固化することができ、かつ、ギャップ（１２）内に注入される
化学薬品（３）も含む、
構造物を支持するシステム。
【請求項２】
請求項１に記載の構造物を支持するシステムであって、
ロッド（２）が、足場（１）の下であって、かつ、その底部表面に対して直角に運搬されることを特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【請求項３】
請求項１に記載の構造物を支持するシステムであって、
ロッド（２）が、足場（１）の下であって、かつ、底部表面に対して直角とは異なる角度で運搬されることを特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【請求項４】
請求項１に記載の構造物を支持するシステムであって、
任意のセクションを有する固体プロファイルが、ロッド（２）の代わりに地盤に運搬されることを特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の構造物を支持するシステムであって、
ロッド（２）の周りの土壌の密度を増加させるための、注入器（４）によって土壌内に注入される化学薬品（３）を特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の構造物を支持するシステムであって、
ロッド（２）に加えられた重量を地盤内の奥深くに位置する硬質地盤（１１）に伝えるために、ロッド（２）が前記層内の受け穴にはめ込まれている、または、岩を圧迫していることを特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【請求項７】
請求項５に記載の構造物を支持するシステムであって、
ロッド（２）に加えられた重量を、化学薬品（３）によって土壌層で対処するために、かつ、ロッド（２）に加えられた重量を硬質地盤（１１）に伝えるために、ロッド（２）が前記層内の受け穴にはめ込まれている、または、前記層上に残されていることを特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【請求項８】
請求項１〜４、６のいずれか一項に記載の構造物を支持するシステムであって、
加えられた重量が原因でロッド（２）が座屈することを防止するための、または、周辺摩擦を増加させるための、注入器（４）によってロッド（２）の周りに注入される化学薬品（３）を特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の構造物を支持するシステムであって、
足場（１）をその現在の状態よりも高いレベルまで持ち上げ、そのようにして構造物を持ち上げることを助けるための、ギャップ（１２）内に注入された化学薬品（３）を特徴とする、前記請求項のいずれか一項に記載の構造物を支持するシステム。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の構造物を支持するシステムであって、
足場（１）の代わりに帯状基礎または基礎スラブ支持するために使用するロッド（２）および化学薬品（３）を特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【請求項１１】
地盤上に構造物が存在するまたは地盤上に建築物を作製される当該地盤を、改善させるために掘削を必要としない、構造物を支持するシステムであって、
−その中で液体の化学薬品（３）が運搬されるチャネルであって、構造物を支えている、または、これから支える少なくとも１つの足場（１）より下に位置するチャネル（８）、および、化学薬品（３）が外に届けられることを可能にする少なくとも１つの穿孔（６）を有する少なくとも１つのパイプ（５）、ならびに
−足場が留まるまたはそれを留まらせるレベルより下に移動させるパイプ（５）によって形成される、ロッドおよび足場（１）の間に残されたギャップ（１２）
を含み、
ここで、化学薬品（３）が、
−パイプ（５）が配置された後に残されるギャップ（１２）を満たし、かつ、足場（１）およびパイプ（５）に加えられた重量を広い表面積で対処することを可能とし、液体体積よりも２倍である量まで膨張および固化し、ギャップおよび地盤内に注入され、さらに
−パイプ（５）内のチャネル（８）に沿って運搬され、穿孔（６）から漏出することによって土壌を圧縮し、パイプ（５）が土壌を保つことを確実にする
ことを特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【請求項１２】
請求項１１に記載の構造物を支持するシステムであって、
パイプ（５）が、足場（１）の下であって、かつ、その底部表面に対して直角に運搬されることを特徴とすることを特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【請求項１３】
請求項１１に記載の構造物を支持するシステムであって、
パイプ（５）が、足場（１）の下に配置されており、かつ、その底部表面に対して直角とは異なる角度で配置されることを特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【請求項１４】
請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の構造物を支持するシステムであって、
重量を地盤内の奥深くに位置する硬質地盤（１１）に伝えるために、パイプ（５）に加えられた重量が、化学薬品（３）によって土壌層で対処され、かつ、パイプ（５）の末端に結合されているロッドが前記層内の受け穴にはめ込まれていることを特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【請求項１５】
請求項１１〜１４のいずれか一項に記載の構造物を支持するシステムであって、
足場（１）をその現在の状態よりも高いレベルまで持ち上げるための、かつ、そのようにして構造物を持ち上げることを助けるための、ギャップ（１２）内に注入される化学薬品（３）を特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【請求項１６】
請求項１１〜１５のいずれか一項に記載の構造物を支持するシステムであって、
足場（１）の代わりに、帯状基礎または基礎スラブを支持するために使用するロッド（２）および化学薬品（３）を特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基礎地盤の支圧強度の増加を助ける、構造物を支持するシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
杭打ち基礎、ミニ杭および注入技法が、現在の構造物基礎の下の地盤を強化するために使用されている伝統的な方法のうちでとりわけ利用されている。しかし、前記強化方法の高い費用に加えて、強化建築段階中に構造物を長期間使用できないこと、および構造物が顕著な様式で破壊されることなどの、重要な悪影響に遭遇する。注入物質として使用されるセメントは、必要なシルト質粘土地盤の貫通をもたらさず、シルト質粘土地盤内に浸透することができず、したがって無効である。
【０００３】
注入技法による高膨張化学薬品の注入を用いて地盤の改善を行う特許が存在する。一例として、ＥＰ０８５１０６４号の特許出願を示すことができる。前記出願では、多数の穴を地盤中に穿孔し、これ内に化学物質を注入する。前記化学物質の反応後、液体体積の５倍を超える膨張が得られ、その化学圧力によって地盤が圧縮され、したがってその耐性が増加する。
【０００４】
別の例は、ＵＳ４５６７７０８号の米国特許出願に開示されている。前記出願では、膨張性の化学物質を基礎スラブの直下に注入することによって基礎土台および地盤の上部表面を充填することによって、基礎を持ち上げる開示が存在する。
【０００５】
しかし、前述の２つの特許に記載されている方法を適用するためには、地盤を締固めによって強化しなければならない。この方法を用いて、注入によって砂礫地盤などの粒状地盤に耐性を容易に与えることができるが、この注入方法は軟弱かつ柔軟性の高い粘土では有効でなく、地盤の支圧強度を増加させることができない。したがって、高い支持力を有する地盤が存在する場合、または基礎のわずか数メートル下の非常に近くに岩層が存在する場合でも、化学薬品の注入は無効であり、強化を得ることができない。
化学薬品の注入が不十分である場合は、構造物が対費用効果の高い様式で配置されている地盤の支持力を増加させるための、様々な特許出願が開発されている。それらのうちの１つは、金属パイプを足場の下に配置する、ＪＰ２００９０３５９２７号の日本特許出願である。前記金属パイプは、地盤内に埋め込まれた他の基礎杭にはめ込まれており、これらが足場を支える。杭間のねじ継ぎが、すべてのパイプの配置が同じ高さとなることを確実にする。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
発明の簡単な説明
十分な耐性を有する上部構造物に加えて、構造物基礎も、設計建設した構造物が直立に保たれることを確実にするために、十分な支圧強度を有していなければならない。上部構造物をどれだけ安全に建築しても、基礎の支圧強度が十分でない場合は、構造物の沈下、傾斜、ならびに上部構造物上の亀裂および損傷は回避不能である。言い換えれば、上部構造物の安全性に加えて、建築物の基礎を支える地盤の支圧強度が十分なレベルであることを確実にすることも必須である。
【発明を解決するための手段】
【０００７】
設計建設した構造物の設計段階中、基礎システム、寸法および深度は、基礎に掛かっている構造負荷を計算することによって計算する。ここで最も重要な要因は、基礎地盤の支圧強度である。その結果、構造負荷を地盤に届ける基礎は、足場の寸法および深度ならびに基礎地盤の支圧耐性パラメータを考慮することによって設計しなければならない。しかし、ほとんどの場合、現場の状態はプロジェクトデータに一致しておらず、基礎の沈下が原因で、上部構造物上の亀裂および損傷が見られる。この段階では、構造物の安全性を回復させるためには、構造物基礎の下の地盤を強化する必要がある。
【０００８】
柱を支える基礎柱礎がそれ上に配置されている地盤などの構造物基礎は、構造負荷を安全に支える必要がある。このため、静的設計では、構造負荷、基礎の寸法および地盤の支持力パラメータの間に調和が存在する。しかし、生じ得る不慮の事象が原因で、基礎中に沈下が起こり得、亀裂が上部構造物上に見られ得、これは、構造物の安全性に対する脅威をもたらし得る。この場合、基礎の支圧強度を増加させることが必須である。
前記支圧容量を増加させるために、好ましくは金属から作製された細長いプロファイルを使用して、構造物の重量を地盤の深部まで下げる。前記プロファイルによって、重量を地盤のより低い層に向けて支えることができる。これに加えて、膨張特長を有する化学薬品を利用して、プロファイルの周りの地盤の密度を増加させる。プロファイル（Ｔ、Ｌ、四角または同様のセクション）の周りの化学薬品が保持され、プロファイルは、地盤の下の前記化学薬品によって引き起こされた膨張および貫通の効果で地盤を保持する。
【０００９】
地盤内への化学薬品の貫通を容易にするために、化学薬品を、注入器として機能するパイプを通して送り、これらはパイプ上に配置されている穿孔によって放出させることができる。
【００１０】
本発明の目的を達成するために、構造物を支持するシステムを添付の図中に例示する。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の第１の態様である構造物を支持するシステムと地盤との相互作用を示す模式図である。
【図２】本発明の第１の態様である構造物を支持するシステムが岩層上に載せられている状態を示す模式図である。
【図３】本発明の第２の態様である構造物を支持するシステムの模式図である。
【図４】本発明の第２の態様である構造物を支持するシステムに含まれる穿孔したパイプの断面図である。
【図５】本発明の第２の態様である構造物を支持するシステムに含まれる穿孔していないパイプの断面図である。
【００１２】
図中の構成要素はそれぞれ付番されており、これらは以下に示すように対応する。
１．足場
２．ロッド
３．化学薬品
４．注入器
５．穿孔したパイプ
６．穿孔
７．ねじ
８．チャネル
９．軟弱地盤
１０．圧縮地盤
１１．硬質地盤
１２．ギャップ（緩んだ地盤）
【００１３】
本発明の構造物を支持するシステムは、基本的に、構造物を支えているまたはこれから支える足場（１）、それぞれの足場（１）の下に配置された少なくとも１つのロッド（２）、および、ロッドの周りを包み、ロッド（２）と足場（１）との間のギャップを満たす化学薬品（３）を含む。構造物は、複数の足場（１）上で地盤に対して圧力を加える。構造物の重量を地盤に対して均等に分散させるために、足場（１）の数および寸法ならびに足場（１）と一緒に使用するロッド（２）の数を変化させることができる。
【００１４】
上述のように、ロッド（２）は足場の下に配置する。地盤の状態または持ち上げられた構造物の静的および動的な状態に応じたロッドは、直角および角度をつけた様式で配置することができる。しかし、どちらの場合でも、ロッド（２）の一方の末端が足場（１）に近い場合、他方の末端は地盤の深部に向かって動かされる。ロッド（２）の基本的な機能は、足場に加えられた重量を硬い岩層に届けること、または内部地盤土壌層の特長を使用することによって構造物を支持することである。
【００１５】
この目的のために、ロッド（２）は、構造物を支持するシステムにおいて２つの異なる方法で使用される。本発明の第１の態様のモデルにおけるロッド（２）を足場の下に配置し、その後、注入器（４）によってその周囲に届けられることによる、化学薬品の注入に供する。注入器（４）で化学薬品（３）を注入した後、化学薬品を土壌の下に残すことができ、また、これらが構造的支持をもたらさない場合は除去することもできる。
【００１６】
前記本発明の第１の態様の範囲内で使用する化学薬品（３）はロッド（２）の外周を包み、その特長のおかげで、液体体積の少なくとも２倍に膨張し、その後、固化する。軟弱地盤（９）は、膨張によって生じる圧力のおかげで、圧縮された層を有する地盤（１０）へと変わる。ロッド（２）の外周が包まれている場合、ロッド（２）の有効な断面積を増加させると同時に軟弱地盤層を圧縮することを助ける化学薬品（３）は、足場（１）の広い底部がロッド（２）および膨張後に固化した化学薬品（３）の両方を押し付けるだけでなく、すべての方向に圧縮された地盤に対しても押し付けるために以前よりも実質的により硬い地盤内に、足場がはめ込まれていることを確実にする。このようにして、いかなる理由での構造負荷または構造物の沈下も防止される。
【００１７】
これに加えて、化学薬品によって提供される利点にもかかわらず、ロッドは、軟弱な土壌層が上部構造物を支えることを助けるために十分な能力を有さない場合がある。これらの状況では、複数のロッド（２）を、それらが土壌の深部に位置する硬質地盤（１１）に向かって支えられるように、ねじ（７）によって次々に付け足すことが可能である。ロッド（２）を硬質地盤（１１）の受け穴内にはめ込むことによって、構造物の重量が硬質地盤に直接届けられる。さらに、受け穴へのはめ込みを用いずにロッド（２）を硬質地盤（１１）上に静置することが、ほとんどの場合において構造の重量を支えるために十分な可能性がある。
【００１８】
これに加えて、ロッド（２）の外周は、加えられた重量が原因でそれらが座屈することを防止するために、上述のように注入器（４）によって施した化学薬品（３）によって満たされる。このようにして、構造物の重量は、ロッド（２）および化学薬品（３）を介して硬質地盤（１１）に移される。
【００１９】
本発明の第２の態様では、ロッド（２）の代わりにパイプ（５）を使用する、またはロッド（２）およびパイプ（５）を一緒に使用する。注入プロセスは、注入器（４）の使用を必要とせずにロッド（２）に類似している、パイプ（５）上に位置する穿孔（６）によって実現される。
【００２０】
パイプ（５）は注入プロセスも行うため、注入器（４）を土壌中に運搬することは不要である。同時に、地盤の検査中に決定された深度への直接注入を行うことが可能である。たとえば、膨張する化学薬品（３）に対して示される耐性がより低く、かつ２つの硬い土壌層の間に位置する体積に注入を行う場合、この注入は、パイプ（５）上に位置しており、関連する深度に対応する穿孔（６）によって実現することができる。
【００２１】
これに加えて、これは、ねじ接続することおよびロッドを硬質地盤（１１）の受け穴にはめ込むことによって、ロッド（２）をパイプ（５）の末端に付け足すことによっても可能な場合がある。そのような応用を用いて、構造物の重量は、軟弱な土壌層を圧縮し、重量がより深い深度で硬質地盤（１１）に届けられる方法によって支えることができる。
【００２２】
ロッド（２）と同様、パイプ（５）も直角または角度をつけた様式で配置することができる。さらに、パイプ（５）はねじ（７）構造を有しており、互いに付け足すことが可能となっているため、これらは、その数および深度に関して、理論上はいかなる様式でも制限されない。パイプ（５）上に位置する穿孔（６）は、パイプ（５）の耐久性を破壊しないような様式で、様々な数および直径で、一列にまたはパイプ（５）の全周囲に開けることができる。
【００２３】
本発明の好ましい実施形態では、穿孔（６）を、それらが事前に決定された深度に対応するように配置するために、２つの異なるパイプ（５）構成要素をねじ（７）によって一緒に結合させることが可能である。これらのうちの一方は、穿孔（６）および液体の化学薬品（３）を運搬することができるチャネル（８）を有するパイプ（５）であり、他方は、単一のチャネル（８）のみを有するパイプ（５）である。両方のパイプ（５）構成要素は、所望に応じて、かつ化学薬品（３）が土壌内に施されることを確実にするように一緒に結合される。
【００２４】
本発明の上述のどちらの実施形態においても、基本的には、ロッド（２）、パイプ（５）および化学薬品（３）が、足場（１）が配置される地盤の改善を確実にする。しかし、本発明の別の重要な目的は、新しく建築する構造物上の事前に決定された高さで足場（１）を支持する、または既存の構造物上の所用の高さまで足場（１）を持ち上げることである。このため、ロッド（２）およびパイプ（５）の予測できないほどに不安定かつ様々な深度構造のために、ならびに、狭く区分されたロッド（２）上で広い加圧表面が得られるために、足場（１）とロッド（２）との間にギャップ（１２）を残す必要がある。
【００２５】
プラットフォームを形成する以外に、前記ギャップ（１２）を用いることによって所望の高度に足場（１）を支持するために、構造物をその足場（１）から持ち上げることが可能である。化学薬品（３）の注入は、それ自体に加えられた重量を分散するため、または構造物を持ち上げるために、ギャップ（１２）の内部に行わなければならない。
注入する化学薬品（３）の特長および量は、ロッド（２）またはパイプ（５）上に配置されているギャップ（１２）の体積、化学薬品（３）の膨張係数で生じる圧力、および構造物が持ち上げられる高さなどの変数を考慮することによって決定することができる。
【００２６】
前記化学薬品（３）の構造は、ロッド（２）およびパイプ（５）の周りに使用した化学薬品の構造に類似していることができるか、または異なる組成を有することができる。
【００２７】
前化学薬品（３）は建築部門で知られており、これらは一般にはポリマー基材を有する。化学薬品は、様々な膨張率、固体密度および様々な要件のために提供することができる。
【００２８】
前述の本発明の実施形態では、構造物が足場（１）によって支持される開示が存在する。これにもかかわらず、現在の建築部門で知られているように、ロッド（２）、パイプ（５）および化学薬品（３）によって構造物の重量を地盤に届けるおよび／または分散する、帯状基礎および基礎スラブなどの建築要素を支持することも可能である。
【００２９】
これに加えて、好ましくは建築物の要件に従って金属から作製されているロッド（２）およびパイプ（５）の直径は、ギャップ（１２）の体積とは異なるものであることができる。しかし、基本的には、ロッド（２）、パイプ（５）および注入器（４）の直径は、掘削を必要とせずにそれらが土壌内に挿入されることを可能にし、槌打／推進／取出中にそれらが損傷することを防止するような寸法を有していなければならない。
【００３０】
本発明の構造物を支持するシステムは、説明を明白にするために上述した例に限定することはできない。本発明は、主に、特許請求の範囲に記述したとおりである。
【図１】
2013502521.tif 000003
【図２】
2013502521.tif 000004
【図３】
2013502521.tif 000005
【図４】
2013502521.tif 000006
【図５】
2013502521.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月2日(2012.5.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
地盤上に構造物が存在するまたは地盤上に建築物が作製される当該地盤を、改善させるために掘削を必要としない、構造物を支持するシステムであって、
−構造物を支えている、または、構造物をこれから支える少なくとも１つの足場（１）の下に配置された少なくとも１つのロッド（２）、および
−足場（１）が留まる、または、足場（１）を留まらせるレベルへと運搬されるロッド（２）と足場（１）との間に残されたギャップ（１２）
を含み、
ロッド（２）に加えられた重量を硬質地盤（１１）に伝えるために、ロッド（２）が、硬質地盤（１１）内の受け穴にはめ込まれている、または、硬質地盤（１１）を圧迫していることを特徴とし、
また、
−ロッド（２）が配置された後に残るギャップ（１２）を満たし、
−足場（１）およびロッド（２）に対する負荷が満たされていることを確実にし、
液体体積の少なくとも２倍である量まで膨張および固化することができ、かつ、ギャップ（１２）内に注入される
化学薬品（３）も含む、
構造物を支持するシステム。
【請求項２】
請求項１に記載の構造物を支持するシステムであって、
ロッド（２）が、足場（１）の下であって、かつ、その底部表面に対して直角に運搬されることを特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【請求項３】
請求項１に記載の構造物を支持するシステムであって、
ロッド（２）が、足場（１）の下であって、かつ、底部表面に対して直角とは異なる角度で運搬されることを特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【請求項４】
請求項１に記載の構造物を支持するシステムであって、
任意のセクションを有する固体プロファイルが、ロッド（２）の代わりに地盤に運搬されることを特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の構造物を支持するシステムであって、
ロッド（２）の周りの土壌の密度を増加させるための、注入器（４）によって土壌内に注入される化学薬品（３）を特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【請求項６】
請求項５に記載の構造物を支持するシステムであって、
ロッド（２）に加えられた重量を、化学薬品（３）によって土壌層で対処するために、かつ、ロッド（２）に加えられた重量を硬質地盤（１１）に伝えるために、ロッド（２）が前記層内の受け穴にはめ込まれている、または、前記層上に残されていることを特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【請求項７】
請求項１〜４、６のいずれか一項に記載の構造物を支持するシステムであって、
加えられた重量が原因でロッド（２）が座屈することを防止するための、または、周辺摩擦を増加させるための、注入器（４）によってロッド（２）の周りに注入される化学薬品（３）を特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の構造物を支持するシステムであって、
足場（１）をその現在の状態よりも高いレベルまで持ち上げ、そのようにして構造物を持ち上げることを助けるための、ギャップ（１２）内に注入された化学薬品（３）を特徴とする、前記請求項のいずれか一項に記載の構造物を支持するシステム。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の構造物を支持するシステムであって、
足場（１）の代わりに帯状基礎または基礎スラブ支持するために使用するロッド（２）および化学薬品（３）を特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【請求項１０】
地盤上に構造物が存在するまたは地盤上に建築物を作製される当該地盤を、改善させるために掘削を必要としない、構造物を支持するシステムであって、
−その中で液体の化学薬品（３）が運搬されるチャネルであって、構造物を支えている、または、これから支える少なくとも１つの足場（１）より下に位置するチャネル（８）、および、化学薬品（３）が外に届けられることを可能にする少なくとも１つの穿孔（６）を有する少なくとも１つのパイプ（５）、ならびに
−足場が留まるまたはそれを留まらせるレベルより下に移動させるパイプ（５）によって形成される、ロッドおよび足場（１）の間に残されたギャップ（１２）
を含み、
ここで、
パイプ（５）が足場（１）の下であって、かつ、その底部表面に対して直角に運搬されることを特徴とし、また、化学薬品（３）が、
−パイプ（５）が配置された後に残されるギャップ（１２）を満たし、かつ、足場（１）およびパイプ（５）に加えられた重量を広い表面積で対処することを可能とし、液体体積よりも２倍である量まで膨張および固化し、ギャップおよび地盤内に注入され、さらに
−パイプ（５）内のチャネル（８）に沿って運搬され、穿孔（６）から漏出することによって土壌を圧縮し、パイプ（５）が土壌を保つことを確実にする
ことを特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【請求項１１】
請求項１０に記載の構造物を支持するシステムであって、
パイプ（５）が、足場（１）の下に配置されており、かつ、その底部表面に対して直角とは異なる角度で配置されることを特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【請求項１２】
請求項１０から１１のいずれか一項に記載の構造物を支持するシステムであって、
重量を地盤内の奥深くに位置する硬質地盤（１１）に伝えるために、パイプ（５）に加えられた重量が、化学薬品（３）によって土壌層で対処され、かつ、パイプ（５）の末端に結合されているロッドが前記層内の受け穴にはめ込まれていることを特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【請求項１３】
請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の構造物を支持するシステムであって、
足場（１）をその現在の状態よりも高いレベルまで持ち上げるための、かつ、そのようにして構造物を持ち上げることを助けるための、ギャップ（１２）内に注入される化学薬品（３）を特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【請求項１４】
請求項１０から１３のいずれか一項に記載の構造物を支持するシステムであって、
足場（１）の代わりに、帯状基礎または基礎スラブを支持するために使用するロッド（２）および化学薬品（３）を特徴とする、
構造物を支持するシステム。
【国際調査報告】
2013502521.tif 000008
2013502521.tif 000009