(57)【要約】  本発明は、少なくとも一面にパターンが備えられた基材であって、前記パターンの形状によって前記パターンの下部領域における屈折率と前記パターンの上部領域における屈折率が相違する基材；および前記基材のパターンが備えられた少なくとも一面に備えられた撥水コーティング層を含み、これを含む光学製品および前記基板の製造方法に関する。本発明に係る基板は、反射防止性および撥水性がすべて優れている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
１）少なくとも一面にパターンが備えられた基材であって、前記パターンの形状によって前記パターンの下部領域における屈折率と前記パターンの上部領域における屈折率が相違した基材；および
２）前記基材のパターンが備えられた少なくとも一面に備えられた撥水コーティング層を含むことを特徴とする基板。
【請求項２】
前記基材のパターンが備えられた表面で屈折率が漸進的に変化する、請求項１に記載の基板。
【請求項３】
前記基材上のパターンの下部領域で、上部領域に行くほど屈折率が小さくなる、請求項１に記載の基板。
【請求項４】
前記基材上のパターンは、前記パターンの少なくとも１つの垂直断面において、パターンの下部領域の幅よりもパターンの上部領域の幅が狭い形態を有する、請求項１に記載の基板。
【請求項５】
前記基材上のパターンは、水平断面積がパターンの上部領域に行くほど小さくなる形態を有する、請求項１に記載の基板。
【請求項６】
前記基材上のパターンは、少なくとも１つの垂直断面が１次または２次元の三角形、正弦波、または台形の形態である、請求項１に記載の基板。
【請求項７】
前記基材上のパターンは、線幅が５０〜３００ｎｍであり、深さが１００ｎｍ以上である、請求項１に記載の基板。
【請求項８】
前記基材上のパターンは、干渉リソグラフィ方法によって直接形成されたり、干渉リソグラフィ方法によって形成されたパターンが複製されて形成された、請求項１に記載の基板。
【請求項９】
前記基材は、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、ソーダ石灰ガラス、ブルーガラス、トリアセテートセルロースフィルム、ノボネン系シクロオレフインポリマーフィルム、ポリエステルフィルム、ポリメタアクリレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、またはポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）フィルムであることを特徴とする、請求項１に記載の基板。
【請求項１０】
前記撥水コーティング層は、フッ素系撥水剤およびシラン系撥水剤のうちから選択された１種以上の撥水剤から形成されることを特徴とする、請求項１に記載の基板。
【請求項１１】
前記基板は２％未満の光透過率を有し、１２０゜以上の接触角を有することを特徴とする、請求項１に記載の基板。
【請求項１２】
少なくとも一面にパターンが備えられた基材、および前記基材の少なくとも一面に備えられた撥水コーティング層を含み、２％未満の光透過率および１２０゜以上の接触角を有することを特徴とする、基板。
【請求項１３】
ａ）基材の少なくとも一面に、パターンの下部領域における屈折率とパターンの上部領域における屈折率が相違するようにする形状のパターンを形成する段階、および
ｂ）前記基材のパターンが備えられた少なくとも一面上に撥水コーティング層を形成する段階を含む、請求項１〜１２のうちのいずれか一項に記載の基板の製造方法。
【請求項１４】
前記ａ）段階は干渉リソグラフィ方法によって実行される、請求項１３に記載の基板の製造方法。
【請求項１５】
干渉リソグラフィ工程において、２００〜４００ｎｍ範囲の波長を用いる、請求項１４に記載の基板の製造方法。
【請求項１６】
前記ａ）段階は、ａ１）基材を洗浄する段階、ａ２）前記基材上に反射防止コーティング組成物および感光性樹脂組成物をそれぞれ順にコーティングおよび乾燥する段階、ａ３）形成された反射防止膜および感光成膜を選択的に干渉リソグラフィを利用して露光および現像してパターン化する段階、ａ４）パターン化された反射防止膜および感光成膜をマスクとして基材をエッチングする段階、およびａ５）前記エッチング後にパターン化された反射防止膜および感光成膜を基材から薄利する段階を含む、請求項１３に記載の基板の製造方法。
【請求項１７】
前記ａ）段階は、干渉リソグラフィを利用してパターンが備えられたマスター（Ｍａｓｔｅｒ）を製造したり、干渉リソグラフィを利用して製造されたパターンが備えられた基材に金属薄膜を蒸着した後にメッキして金属材質で形成されたマスターを製造した後、マスターのパターンを基材上に転写することによって実行される、請求項１３に記載の基板の製造方法。
【請求項１８】
前記ｂ）段階は、撥水コーティング組成物をコーティングする段階および前記撥水コーティング組成物を乾燥する段階を含む、請求項１３に記載の基板の製造方法。
【請求項１９】
請求項１〜１２のうちのいずれか一項に記載の基板を含む光学製品。
【請求項２０】
前記光学製品は、反射防止フィルム、ＬＣＤ用偏光板補償フィルム、またはタッチスクリーン用耐汚染フィルムであることを特徴とする、請求項１９に記載の光学製品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低反射および高接触角を有する基板およびこの製造方法に関する。本出願は、２００９年１０月２９日に韓国特許庁に提出された韓国特許出願第１０−２００９−０１０３６９４号の出願日の利益を主張し、その内容すべては本明細書に含まれる。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、光学製品は、ゴースト（ｇｏｅｓｔ）およびフレア（ｆｌａｒｅ）のような鮮明に反射したイメージを提供するが、綺麗な可視性を与えることができない。したがって、鮮明に反射したイメージと綺麗な可視性を得るために、基板上に反射防止膜を形成する。前記反射防止膜は、通常、高い硬度と低い屈折率を有するケイ素酸化物またはフッ化マグネシウムで構成される。
【０００３】
しかし、ケイ素酸化物またはフッ化マグネシウムで構成された反射防止膜を表面に含む光学製品を水で洗浄した後、十分に拭き取らずに乾燥のためにそのまま置けば、反射防止膜は表面に残っている水のような染みの痕跡である、いわゆる「水跡」によって染みとなり、これは可視性の低下をもたらすようになる。このような染みを防ぐために、反射防止膜表面に硬化可能のポリシロキサンや撥水性を有するシラン化合物などによって撥水処理をすることができる。
【０００４】
このように、反射防止および撥水機能を同時に有する光学製品は、平坦な基材上に、反射防止特性のために屈折率マッチング物質をコーティングし、撥水特性のために撥水物質をコーティングして製造することが一般的である。
しかし、このように反射防止特性と撥水特性を同時に有するためには、反射防止特性と撥水特性を示す多層の薄膜コーティングを繰り返して実行しなければならないという短所があり、前記反射防止層上に撥水物質をコーティングしても、１２０゜以上の接触角を有する基板を得ることが困難である。また、広い波長領域で反射を減らすためには、反射防止コーティングを数回実行するマルチコーティング技法を使用しなければならないが、これはコーティング価格の上昇による製品価格上昇の重要な要因となる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
これにより、本発明は、反射防止特性と撥水特性がすべて優れながらも製造工程が容易な基板およびこれを含む光学製品を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上述した目的を達成するために、本発明の一実施形態は、１）少なくとも一面にパターンが備えられた基材であって、前記パターンの形状によって前記パターンの下部領域における屈折率と前記パターンの上部領域における屈折率が相違した基材；および２）前記基材のパターンが備えられた少なくとも一面に備えられた撥水コーティング層を含むことを特徴とする基板を提供する。
【０００７】
また、本発明の他の実施状態は、ａ）基材の少なくとも一面に、パターンの下部領域における屈折率とパターンの上部領域における屈折率が相違するようにする形状のパターンを形成する段階、およびｂ）前記基材のパターンが備えられた少なくとも一面上に撥水コーティング層を形成する段階を含む基板の製造方法であって、前記基板の製造方法において、前記ａ）段階で基材上にパターンを形成するために干渉リソグラフィ方法を利用することができる。
【０００８】
なお、本発明のさらに他の実施状態は、上述した本発明に係る基板を含む光学製品を提供する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、多層の薄膜コーティングを実行したり別途の反射防止膜を形成しなくても、２％未満の光透過率と１２０゜以上の高接触角を有する基板を提供することができ、工程効率が優れる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明に係る基板の構造において、基材と撥水コーティング層の間の屈折率変化を説明するための模式図である。
【図２】実施例１および比較例１の基板の接触角を示すＣＣＤカメラ写真である。
【図３】実施例２および比較例２の基板の反射率を示すグラフである。
【図４】実施例３で製造された基板のうち、基材上に形成されたパターンを示す写真である。
【図５】実施例３〜５および比較例３〜５で製造された基板の反射率を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明を具体的に説明する。
【００１２】
本発明の一実施形態は、１）少なくとも一面にパターンが備えられた基材であって、前記パターンの形状によって前記パターンの下部領域における屈折率と前記パターンの上部領域における屈折率が相違した基材；および２）前記基材のパターンが備えられた少なくとも一面に備えられた撥水コーティング層を含んでいる。
【００１３】
本明細書において、パターンの下部領域とパターンの上部領域とは、位置において互いに相対的な意味であって、前記パターンの下部領域は基材の板面に近い領域を意味し、前記パターンの上部領域は相対的に基材の板面とは遠く、空気層に近い領域を意味する。
【００１４】
本発明では、基材上にこのようなパターンを形成することにより、パターンの下部領域に行くほど屈折率が基材と同じようになるように漸進的に変化させることができ、反射を最小化するようになる。
【００１５】
本発明では、このように基材のパターンが備えられた表面で屈折率が変化することができるように、前記基材上のパターンの形態を調節することによって反射を最小化することができる。
【００１６】
反射の原因は、２つの媒質間の屈折率の差によって発生するようになる。したがって、本発明では、上述したように基材のパターンが備えられた表面で屈折率が変化するように構成することにより、別途の層を形成しなくても反射を防ぐことができる。一例として、ガラス基材を用いる場合、ガラス基材と空気層の界面領域で屈折率が漸進的に変化する構造を説明する。理想的には、空気の屈折率が１であり、ガラス基材の屈折率は１．５であるため、ガラス基材上に図１のような構造のパターンを形成する場合、ガラス基材と空気層の界面領域における屈折率は、１から１．５まで空気層側から基材側に直線的に（Ｌｉｎｅａｒ）漸進的に（Ｇｒａｄｉｅｎｔ）変化させることができる。
【００１７】
しかし、平面基材および平面コーティングを利用する場合、表面における屈折率変化を得ることができず、屈折率が１となる物質がない。このような問題を解決するために、本発明では、撥水コーティング層が備えられた基材の表面の物理的構造を変化させ、図１のようなパターンを形成することができる。これにより、厚さ方向に切断した断面、すなわち、垂直断面で空気層と基材の面積によって屈折率を仮想で計算すれば、図１に示すように、屈折率が１から１．５の間で漸進的に変化するようになる。
【００１８】
前記基材は特別に制限されることはなく、プラスチック、金属、シリコンウエハ、ガラスなどを用いることができ、厚さの制限はない。前記基材の好ましい例としては、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、ソーダ石灰ガラス、ブルーガラス、トリアセテートセルロースフィルム、ノボネン系シクロオレフィンポリマーフィルム、ポリエステルフィルム、ポリメタアクリレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、またはポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）フィルムなどがある。
【００１９】
前記基材上のパターンは、干渉リソグラフィ方法を直接または間接的に利用して形成されることができる。前記基材上のパターンは、上述したように、基材の表面で屈折率を変化することができる形態であれば、特に制限されることはない。例えば、少なくとも１つの垂直断面において、下部領域の幅よりも上部領域の幅が狭い形態を有したり、水平断面積がパターンの上部領域に行くほど小さくなる形態で形成することができる。具体的に、前記基材上のパターンは、１次または２次元の三角形、正弦波、台形などの形態で形成することができる。
【００２０】
前記基材上のパターンの線幅および／またはピッチは５０〜３００ｎｍであることが好ましく、６０ｎｍ〜２００ｎｍであることがより好ましい。パターンの線幅やピッチが小さ過ぎれば工程上の効率性や実現可能性が少なくなり、パターンの線幅やピッチが大き過ぎれば虹が発生し、基板の可視性が低下するという問題が発生することがある。
【００２１】
また、前記基材上のパターンの深さ、すなわち、パターンの最高点から最低点までの距離は１００ｎｍ以上、好ましくは１００ｎｍ以上１，０００ｎｍ以下であることが好ましい。パターンの深さが小さ過ぎる場合には光の波長よりも極めて小さく、パターンプロフィール（ｐｒｏｆｉｌｅ）の変化による可視光の屈折率変化が極めて小くなり、反射防止効果が少ない。
【００２２】
前記基材上のパターンの縦横比は１以上、より好ましくは１．５から３であることが好ましい。しかし、必ずしもこれに限定されるものではない。ここで、縦横比とは、パターンの線幅に対するパターンの深さの比を意味する。パターンの線幅は下部線幅を基準にする。
【００２３】
前記基材上にパターンを形成するために、干渉リソグラフィ方法を利用することができる。具体的に、直接干渉リソグラフィ方法を利用して基材上にパターンを形成することができる。また、前記基材上にパターンを形成する以前に、パターン複製のためのマスターを干渉リソグラフィ方法によって形成した後、前記マスターを利用して前記基材上にパターンを形成することができる。例えば、前記マスターをクリシェとして利用し、ロール工程によって基板上にパターンを転写することができる。
【００２４】
前記干渉リソグラフィ工程で用いる光源の波長は、２００〜４００ｎｍであることが好ましい。
【００２５】
前記干渉リソグラフィを利用する場合には、基材上に規則的かつ微細なパターンを形成することが容易であり、特に、基材と空気の間の界面において面積比が漸次的に変わることにより、屈折率が空気と基材の間に漸進的に変わるようになり、反射が極めて少なくなるという特性が現われるようになる。
【００２６】
前記基材のパターンが形成された面上に備えられた撥水コーティング層は、当技術分野に知られている撥水材料を利用して形成することができる。例えば、フッ素系撥水剤およびシラン系撥水剤成分のうちの少なくとも１種を含むコーティング組成物で基材を断面コーティング処理して疎水層を形成することが好ましい。具体的には、ポリテトラフルオロエチレン（Ｐｏｌｙｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｏｅｔｈｙｌｅｎｅ：ＰＴＦＥ）、パーフルオロアルコキシ（Ｐｅｒｆｌｕｏｒａｌｋｏｘｙ：ＰＥＡ）、フルオロエチレンプロピレン（Ｆｌｕｏｒｏｅｔｈｙｌｅｎｅｐｒｏｐｙｌｅｎｅ：ＦＥＰ）、エチレンテトラフルオロエチレン（Ｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｏｅｔｈｙｌｅｎｅ：ＥＴＦＥ）、ポリフッ化ビニル（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｆｌｕｏｒｉｄｅ：ＰＶＦ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（Ｐｏｌｙｃｈｌｏｒｏｔｒｉｆｌｕｏｒｅｔｈｙｌｅｎｅ：ＰＣＴＦＥ）、またはポルリジメチルシロキサン（ｐｏｌｙｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｏｘａｎｅ：ＰＤＭＳ）などの材料を利用することができるが、必ずしもこれに限定されるものではない。
【００２７】
前記撥水コーティング層の厚さは、基材上に形成されたパターンの形状変化を防ぐために１０ｎｍ以下で形成されることが好ましく、１〜１０ｎｍで形成されることがより好ましい。
【００２８】
本発明に係る基板は、２％未満の光透過率および１２０゜以上の接触角を同時に有することができ、接触角は１５０゜以上までも到達することができる。
【００２９】
また、本発明は、ａ）基材の少なくとも一面に、パターンの下部領域における屈折率とパターンの上部領域における屈折率が相違するようにする形状のパターンを形成する段階、およびｂ）前記基材のパターンが備えられた少なくとも一面上に撥水コーティング層を形成する段階を含む基板の製造方法を提供する。
【００３０】
前記ａ）段階は干渉リソグラフィ方法によって実行されることができ、干渉リソグラフィ方法は、当技術分野に知られている方法を利用することができる。
【００３１】
例えば、前記ａ）段階は、ａ１）基材を洗浄する段階、ａ２）前記基材上に反射防止コーティング組成物および感光性樹脂組成物をそれぞれ順にコーティングおよび乾燥する段階、ａ３）形成された反射防止膜および感光成膜を選択的に干渉リソグラフィを利用して露光および現像してパターン化する段階、ａ４）パターン化された反射防止膜および感光成膜をマスクとして基材をエッチングする段階、およびａ５）前記エッチング後にパターン化された反射防止膜および感光成膜を基材から薄利する段階を含む。
【００３２】
前記ａ２段階において、反射防止膜はパターン化段階で微細なパターンを製造するために適用され、前記感光成膜は基材のマスクの役割をするために適用される。
【００３３】
前記反射防止コーティング組成物および感光性樹脂組成物は、当業界に知られた一般的な材料または組成を有することができる。
【００３４】
前記ａ３）段階において、干渉リソグラフィは、一般的にレーザ光源から出るレーザの位相差による干渉を利用するものであって、本発明の干渉リソグラフィ工程においては２００〜４００ｎｍ範囲の波長を用いることが好ましい。
【００３５】
前記ａ４）段階は、前記ａ３）段階で製造されたパターンをマスクとして基材をエッチングする段階であって、乾式または湿式エッチング方式を利用することができる。前記基材をエッチングするための組成物はＣＨＦ３、ＣＦ４、またはＣ４Ｆ８などを用いることができるが、必ずしもこれにのみ限定されるものではない。
【００３６】
前記ａ５）段階は前記ａ４）段階においてエッチング工程後にパターン化された反射防止膜および感光成膜を基材から薄利する段階であって、前記反射防止膜および感光成膜の剥離は、Ｏ２ガスを利用した乾式エッチング工程によって実行することが好ましいが、必ずしもこれにのみ限定されるものではない。
【００３７】
追加で、前記パターンが形成された基材を大量に生産するために、前記パターンが備えられた基材をロールプリンティング、ロールエンボシング、ホット（ｈｏｔ）エンボシング、またはＵＶエンボシングなどの方法によって複製することができる。具体的に、干渉リソグラフィを利用してＰＤＭＳ、ＰＥＴ、ＰＶＣ、ＰＭＭＡ、またはＰＵＡ材質で形成されたマスター（Ｍａｓｔｅｒ）を製造したり、干渉リソグラフィを利用して製造されたパターンが備えられた基材に金属薄膜を蒸着した後にメッキして金属材質で形成されたマスターを製造し、マスターのパターンを基材上に転写することができる。例えば、オフ−セット（Ｏｆｆ−ｓｅｔ）またはグラビア（Ｇｒａｖｕｒｅ）などのロールプリンティング方法によって基材上の反射防止膜および感光成膜を前記マスターによってパターン化し、この後にエッチング工程を経てパターンが備えられた基材を容易に複製することができる。
【００３８】
前記ｂ）段階は、前記ａ）段階で製造されたパターンが備えられた基材上に撥水コーティング層を形成する段階である。前記撥水コーティング層は、撥水コーティング組成物をコーティングした後、乾燥する方式によって実行されることができる。前記撥水コーティング組成物のコーティングは、当技術分野で知られた方法、例えば、スピンコーティング、ディープコーティング、またはドクターブレーディング、および気相蒸着などによって実行されることができるが、これに限定されるものではない。
【００３９】
前記撥水コーティング組成物の乾燥は、９０〜１２０℃から１時間乾燥した後、２４時間の常温乾燥によって行われることができるが、これによって本発明の範囲が限定されるものではない。
【００４０】
また、本発明は、上述したパターンが備えられた基材および撥水コーティング層を含む基板を含む光学製品を提供する。
【００４１】
前記光学製品としては、反射防止フィルム、ＬＣＤ用偏光板補償フィルム、およびタッチスクリーン用耐汚染フィルムなどがある。
【００４２】
以下、本発明の好ましい実施例を記載する。ただし、下記の実施例は本発明の好ましい一実施例に過ぎず、本発明が後述する実施例によって限定されるものではない。
【実施例】
【００４３】
実施例１
パイレックス（登録商標）ガラス上にＢＡＲＣ（ｂｏｔｔｏｍ  ａｎｔｉｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ  ｃｏａｔｉｎｇ）（Ｂｒｅｗｅｒ  ｓｃｉｅｎｃｅ社のｉ−ｃｏｎ１６）を３０００ＲＰＭで３０秒間スピンコーティングした後、２０５℃のホットプレートで１分間乾燥して１００ｎｍの反射防止膜を形成した後、感光性樹脂組成物であるＵｌｔｒａ−ｉ１２３（Ｒｏｈｍ  ａｎｄ  Ｈａｓｓ社）をコーティングして２００ｎｍ厚さの感光成膜を形成した。以後、３５１．１ｎｍの波長を利用して干渉リソグラフィ方法によって露光し、現像およびエッチングして下部線幅１００ｎｍ、上部線幅５０ｎｍ、および縦横比２．５である台形パターンを有する基材を製造した。以後、前記パターンを有する基材上にフッ素系化合物（ＯＰＴＯＯＬ：商品名）を含む撥水コーティング組成物をコーティングし、１２０℃で１時間乾燥し、５ｎｍ厚さを有する撥水コーティング層を積層して基板を製造した。
製造された基板上に注射器を利用して１０ｍｌの水玉を吐出した後の形状をＣＣＤカメラで撮影し、図２に示した。図２に示すように、接触角が１５０゜以上と極めて大きいことが分かった。
【００４４】
実施例２
前記実施例１でパイレックス（登録商標）ガラスをＰＭＭＡ（Ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌ  Ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）フィルムに代替したことを除いては、実施例１と同じ方法によって基板を製造した。
【００４５】
製造された基板を前記ＣＣＤカメラで撮影した写真から測定された接触角は、１２０゜以上であることを確認した。
【００４６】
製造された基板の反射率は積分球光線透過率測定器を用いて測定し、この結果を図３に示した。図３の横軸はｎｍ単位の波長であり、縦軸は％単位の反射率を示す。図３に示すように、実施例２で製造された基板は、２％以下の反射率を有することが分かる。
【００４７】
実施例３〜５
前記実施例１でパイレックス（登録商標）ガラスをＰＭＭＡ（Ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌ  Ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）フィルムに代替し、基板上に突出したパターンの断面形状を三角形で製作した。前記パターンのピッチ、すなわち、隣接するパターンの頂点間の距離は２００ｎｍで製作し、パターンの深さ、すなわち、パターンの最高点と最低点の間の垂直距離をそれぞれ１５０ｎｍ（実施例３）、２００ｎｍ（実施例４）、および２５０ｎｍ（実施例５）で製作した。続いて、実施例１と同じように撥水コーティング層を形成した。
【００４８】
実施例３で製造されたパターンが形成された基材の表面のＳＥＭ写真を図４に示した。実施例３〜５で製造された基板の反射率を測定して図５に示した。
【００４９】
比較例１
ソーダ石灰ガラス（Ｓｏｄａ  ｌｉｍｅ  Ｇｌａｓｓ）上にフッ素系化合物（ＯＰＴＯＯＬ：商品名）を含む撥水コーティング組成物をコーティングして１２０℃で１時間乾燥し、５ｎｍの厚さを有する撥水コーティングが積層された基板を製造した。
製造された基板上に注射器を利用して１０ｍｌの水玉を吐出した後の形状をＣＣＤカメラで撮影し、図２に示した。図２に示すように、実施例１の基板に比べて接触角が小さいことが分かった。
【００５０】
比較例２
前記比較例１でソーダ石灰ガラスをＰＭＭＡ（Ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌ  Ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）フィルムに代替したことを除いては、同じ方法によって基板を製造した。
製造された基板の反射率は積分球光線透過率測定器を用いて測定し、この結果を図３に示した。図３に示すように、比較例２で製造された基板は、測定された波長範囲で４．５％程度の反射率を有することが分かった。
【００５１】
比較例３〜５
前記実施例３との比較のために、各基板上に突出したパターンの断面形状が四角形であり、下記の図によって定義されるＦｉｌｌ  ｆａｃｔｏｒ（ａ／ｂ）が０．５であるパターンの深さを１５０ｎｍ（比較例３）、２００ｎｍ（比較例４）、および２５０ｎｍ（比較例５）でそれぞれ形成した。続いて、実施例１と同じように撥水コーティング層を形成した。
【００５２】
前記基板の反射率を測定し、測定された反射率を図５に示した。
2013509610.tif 000003
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【手続補正書】
【提出日】平成24年5月8日(2012.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１）少なくとも一面にパターンが備えられた基材であって、前記パターンの形状によって前記パターンの下部領域における屈折率と前記パターンの上部領域における屈折率が相違した基材；および
２）前記基材のパターンが備えられた少なくとも一面に備えられた撥水コーティング層を含むことを特徴とする基板。
【請求項２】
前記基材のパターンが備えられた表面で屈折率が漸進的に変化する、請求項１に記載の基板。
【請求項３】
前記基材上のパターンの屈折率は、前記下部領域から前記上部領域に行くほど小さくなる、請求項１または２に記載の基板。
【請求項４】
前記基材上のパターンは、前記パターンの少なくとも１つの垂直断面において、パターンの下部領域の幅よりもパターンの上部領域の幅が狭い形態を有する、請求項１から３の何れか１項に記載の基板。
【請求項５】
前記基材上のパターンは、水平断面積がパターンの前記下部領域から前記上部領域に行くほど小さくなる形態を有する、請求項１から４の何れか１項に記載の基板。
【請求項６】
前記基材上のパターンは、少なくとも１つの垂直断面が１次元または２次元の三角形、正弦波、若しくは台形の形態である、請求項１から５の何れか１項に記載の基板。
【請求項７】
前記基材上のパターンは、線幅が５０〜３００ｎｍであり、深さが１００ｎｍ以上である、請求項１から６の何れか１項に記載の基板。
【請求項８】
前記基材上のパターンは、干渉リソグラフィ方法によって直接形成された、または干渉リソグラフィ方法によって形成されたパターンが複製されて形成された、請求項１から７の何れか１項に記載の基板。
【請求項９】
前記基材は、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、ソーダ石灰ガラス、ブルーガラス、トリアセテートセルロースフィルム、ノボネン系シクロオレフインポリマーフィルム、ポリエステルフィルム、ポリメタアクリレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、またはポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）フィルムであることを特徴とする、請求項１から８の何れか１項に記載の基板。
【請求項１０】
前記撥水コーティング層は、フッ素系撥水剤およびシラン系撥水剤のうちから選択された１種以上の撥水剤から形成されることを特徴とする、請求項１から９の何れか１項に記載の基板。
【請求項１１】
前記基板は２％未満の光透過率を有し、１２０゜以上の接触角を有することを特徴とする、請求項１から１０の何れか１項に記載の基板。
【請求項１２】
少なくとも一面にパターンが備えられた基材、および前記基材の少なくとも一面に備えられた撥水コーティング層を含み、２％未満の光透過率および１２０゜以上の接触角を有することを特徴とする、基板。
【請求項１３】
ａ）基材の少なくとも一面に、パターンの下部領域における屈折率とパターンの上部領域における屈折率が相違する形状のパターンを形成する段階、および
ｂ）前記基材のパターンが備えられた少なくとも一面上に撥水コーティング層を形成する段階を含む、請求項１〜１２のうちのいずれか一項に記載の基板の製造方法。
【請求項１４】
前記ａ）段階は干渉リソグラフィ方法によって実行される、請求項１３に記載の基板の製造方法。
【請求項１５】
前記干渉リソグラフィ方法による工程において、２００〜４００ｎｍ範囲の波長を用いる、請求項１４に記載の基板の製造方法。
【請求項１６】
前記ａ）段階は、ａ１）基材を洗浄する段階、ａ２）前記基材上に反射防止コーティング組成物および感光性樹脂組成物をそれぞれ順にコーティングおよび乾燥する段階、ａ３）形成された反射防止膜および感光成膜を選択的に干渉リソグラフィを利用して露光および現像してパターン化する段階、ａ４）パターン化された反射防止膜および感光成膜をマスクとして基材をエッチングする段階、およびａ５）前記エッチングする段階の後にパターン化された反射防止膜および感光成膜を基材から薄利する段階を含む、請求項１３から１５の何れか１項に記載の基板の製造方法。
【請求項１７】
前記ａ）段階は、干渉リソグラフィを利用してパターンが備えられたマスター（Ｍａｓｔｅｒ）、または、干渉リソグラフィを利用して製造されたパターンが備えられた基材に金属薄膜を蒸着した後にメッキして金属材質で形成されたマスターを製造した後、マスターのパターンを基材上に転写することによって実行される、請求項１３から１６の何れか１項に記載の基板の製造方法。
【請求項１８】
前記ｂ）段階は、撥水コーティング組成物をコーティングする段階および前記撥水コーティング組成物を乾燥する段階を含む、請求項１３から１７の何れか１項に記載の基板の製造方法。
【請求項１９】
請求項１〜１２のうちのいずれか一項に記載の基板を含む光学製品。
【請求項２０】
前記光学製品は、反射防止フィルム、ＬＣＤ用偏光板補償フィルム、またはタッチスクリーン用耐汚染フィルムであることを特徴とする、請求項１９に記載の光学製品。
【国際調査報告】
2013509610.tif 000009
2013509610.tif 000010
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