(57)【要約】  以下の成分：（１）  光電性半導体、および（２）  以下を含有する、１つまたはそれより多くの層：  （Ａ）  互いに独立して、合成ポリマー、および  （Ｂ）  式（Ｂ−Ｉ）および（Ｂ−ＩＩ）の化合物からなる群から選択される、２つまたはそれより多くの異なる化合物を含有する混合物；［式中、Ｅ1は水素、Ｃ1〜Ｃ18−アルキル、Ｃ1〜Ｃ18−アルキルであって−ＯＨ、Ｃ2〜Ｃ18−アルケニルオキシ、−Ｃ（Ｏ）ＯＸ1および−ＯＣ（Ｏ）Ｘ2  （前記Ｘ1およびＸ2は独立してＣ1〜Ｃ18−アルキルである）からなる群から選択される１、２または３つの基によって置換されたもの；  酸素によって中断されたＣ3〜Ｃ50−アルキルまたは酸素によって中断されたＣ3〜Ｃ50−ヒドロキシアルキルである；  Ｅ2、Ｅ3、Ｅ4およびＥ5は、独立して水素、Ｃ1〜Ｃ18−アルキル、フェニル、または１、２または３つのＣ1〜Ｃ4−アルキルによって置換されたフェニルである］［式中、Ａ0は水素または−ＯＨである；  Ａ1、Ａ2、Ａ3およびＡ4は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ18−アルキル、Ｃ1〜Ｃ18−アルキルであって−ＯＨ、Ｃ2〜Ｃ18−アルケニルオキシ、−Ｃ（Ｏ）ＯＹ1および−ＯＣ（Ｏ）Ｙ2  （前記Ｙ1およびＹ2は独立してＣ1〜Ｃ18−アルキルである）からなる群から選択される１、２または３つの基によって置換されたもの；  酸素によって中断されたＣ3〜Ｃ50−アルキルまたは酸素によって中断されたＣ3〜Ｃ50−ヒドロキシアルキルである］、および随意に（Ｃ）  少なくとも１つの２，２，６，６−テトラメチルピペリジン誘導体、を含む光電モジュール。
2013502712.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の成分：
（１）  光電性半導体、および
（２）  以下を含有する、１層またはそれより多くの層：
（Ａ）  互いに独立して、合成ポリマー、および
（Ｂ）  式（Ｂ−Ｉ）および（Ｂ−ＩＩ）の化合物からなる群から選択される、２つまたはそれより多くの異なる化合物を含有する混合物；
【化１】
2013502712.tif 000039
［式中、
Ｅ1は水素、Ｃ1〜Ｃ18−アルキル、Ｃ1〜Ｃ18−アルキルであって−ＯＨ、Ｃ2〜Ｃ18−アルケニルオキシ、−Ｃ（Ｏ）ＯＸ1および−ＯＣ（Ｏ）Ｘ2  （前記Ｘ1およびＸ2は独立してＣ1〜Ｃ18−アルキルである）からなる群から選択される１、２または３つの基によって置換されたもの；  酸素によって中断されたＣ3〜Ｃ50−アルキルまたは酸素によって中断されたＣ3〜Ｃ50−ヒドロキシアルキルである；
Ｅ2、Ｅ3、Ｅ4およびＥ5は、独立して水素、Ｃ1〜Ｃ18−アルキル、フェニル、または１、２または３つのＣ1〜Ｃ4−アルキルによって置換されたフェニルである］
【化２】
2013502712.tif 000040
［式中、
Ａ0は水素または−ＯＨである；
Ａ1、Ａ2、Ａ3およびＡ4は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ18−アルキル、Ｃ1〜Ｃ18−アルキルであって−ＯＨ、Ｃ2〜Ｃ18−アルケニルオキシ、−Ｃ（Ｏ）ＯＹ1および−ＯＣ（Ｏ）Ｙ2  （前記Ｙ1およびＹ2は独立してＣ1〜Ｃ18−アルキルである）からなる群から選択される１、２または３つの基によって置換されたもの；  酸素によって中断されたＣ3〜Ｃ50−アルキルまたは酸素によって中断されたＣ3〜Ｃ50−ヒドロキシアルキルである］および随意に
（Ｃ）  少なくとも１つの２，２，６，６−テトラメチルピペリジン誘導体
を含む光電モジュール。
【請求項２】
合成ポリマー（Ａ）が、
直鎖または架橋されたポリオレフィンホモポリマー、
環状オレフィンホモポリマー、
環状オレフィンコポリマー、
直鎖または架橋されたポリオレフィンコポリマー、
ポリ（ビニルブチラール）、
架橋されたエチレン酢酸ビニルコポリマー、
ポリエステル、
ポリカーボネート、
ポリウレタン、
フッ素化ポリマー、
ポリ（メチルメタクリレート）および
ポリシロキサン
から選択される、請求項１に記載の光電モジュール。
【請求項３】
成分（２）の単数または複数の層が、
（２−ａ）  前面支持層
（２−ｂ）  封止層、および
（２−ｃ）  裏面基板層
から選択される、請求項１に記載の光電モジュール。
【請求項４】
封止層（２−ｂ）が、直鎖または架橋されたポリオレフィンホモポリマー、直鎖または架橋されたポリオレフィンコポリマー、環状オレフィンホモポリマー、環状オレフィンコポリマー、ポリ（ビニルブチラール）、架橋されたエチレン酢酸ビニルコポリマー、ポリウレタンおよびポリシロキサンから選択される合成ポリマー（Ａ）を含有する、請求項３に記載の光電モジュール。
【請求項５】
裏面基板層（２−ｃ）が、ポリエステル、ポリアミドおよびフッ素化ポリマーから選択される合成ポリマー（Ａ）を含有する、請求項３に記載の光電モジュール。
【請求項６】
光電性半導体（１）が結晶シリコンまたはアモルファスシリコンを含有する、請求項１に記載の光電モジュール。
【請求項７】
式（Ｂ−Ｉ）の化合物が、式（Ｂ−Ｉ−ａ）、（Ｂ−Ｉ−ｂ）、（Ｂ−Ｉ−ｃ）、（Ｂ−Ｉ−ｄ）、（Ｂ−Ｉ−ｅ）または（Ｂ−Ｉ−ｆ）の化合物であり、且つ、式（Ｂ−ＩＩ）の化合物が、式（Ｂ−ＩＩ−ａ）、（Ｂ−ＩＩ−ｂ）または（Ｂ−ＩＩ−ｃ）の化合物
【化３】
2013502712.tif 000041
【化４】
2013502712.tif 000042
である、請求項１に記載の光電モジュール。
【請求項８】
成分（Ｂ）が
化合物（Ｂ−Ｉ−ａ）と（Ｂ−ＩＩ−ａ）との混合物、
化合物（Ｂ−Ｉ−ａ）と（Ｂ−ＩＩ−ｂ）との混合物、または
化合物（Ｂ−Ｉ−ｃ）と（Ｂ−ＩＩ−ｃ）との混合物
である、請求項１に記載の光電モジュール。
【請求項９】
成分（Ｃ）が、式（Ｃ−Ｉ−ａ）、（Ｃ−Ｉ−ｂ）、（Ｃ−Ｉ−ｃ）、（Ｃ−Ｉ−ｄ）、（Ｃ−ＩＩ）、（Ｃ−ＩＩＩ）または（Ｃ−ＩＶ）
【化５】
2013502712.tif 000043
［式中、
ｂ1は２〜２０の数字であり、且つ、基Ｒ1は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、Ｏ、−ＯＨ、−ＣＨ2ＣＮ、Ｃ3〜Ｃ6−アルケニル、非置換またはフェニル上で１、２または３つのＣ1〜Ｃ4−アルキルによって置換されたＣ7〜Ｃ9−フェニルアルキル；  またはＣ1〜Ｃ8−アシルである］；
【化６】
2013502712.tif 000044
［式中、
基Ｒ2は独立してＲ1の意味の１つを有する］；
【化７】
2013502712.tif 000045
［式中、
ｂ1は２〜２０であり、且つ、基Ｒ3は独立してＲ1の意味の１つを有する］；
【化８】
2013502712.tif 000046
［式中、
Ｒ4は水素またはＣ1〜Ｃ4−アルキルであり、
Ｒ5は直接結合またはＣ1〜Ｃ10−アルキレンであり、且つ
ｂ3は２〜２０の数字である］
の化合物である、請求項１に記載の光電モジュール。
【請求項１０】
成分（２）の単数または複数の層が、成分（Ａ）、（Ｂ）および（ｃ）を含有する、請求項１に記載の光電モジュール。
【請求項１１】
成分（２）の単数または複数の層が、
（Ｄ）  ベンゾトリアゾールＵＶ吸収剤、
（Ｅ）  フェノール系酸化防止剤
（Ｆ）  塩基性補助安定剤、および
（Ｇ）  中和剤
からなる群から選択される１つまたは複数のさらなる成分を含有する、請求項１に記載の光電モジュール。
【請求項１２】
成分（Ａ）が環状オレフィンポリマー、ポリカーボネート、架橋されたエチレン酢酸ビニルコポリマー、およびポリ（メチルメタクリレート）から選択される合成ポリマーであり、
成分（Ｂ）が、
化合物（Ｂ−Ｉ−ａ）と（Ｂ−ＩＩ−ａ）との混合物、
化合物（Ｂ−Ｉ−ａ）と（Ｂ−ＩＩ−ｂ）との混合物、または
化合物（Ｂ−Ｉ−ｃ）と（Ｂ−ＩＩ−ｃ）との混合物であり、且つ、
化合物（Ｃ）が、式（Ｃ−ＩＩ−ａ）
【化９】
2013502712.tif 000047
の化合物である、請求項１に記載の光電モジュール。
【請求項１３】
成分（Ａ）が架橋されたエチレン酢酸ビニルコポリマーであり、且つ成分（Ｂ）が、式（Ｂ−Ｉ）の化合物と式（Ｂ−ＩＩ）の化合物とを含有する混合物である、請求項１に記載の光電モジュール。
【請求項１４】
光電モジュール内に存在する１またはそれより多くの合成ポリマー層を安定化させるための、請求項１に定義された成分（Ｂ）の使用。
【請求項１５】
以下の成分
（１）  光電性半導体、および
（２）  以下を含有する、１つまたはそれより多くの層
（Ａ）  架橋されたエチレン酢酸ビニルコポリマー、および
（Ｂ）  式（Ｂ−Ｉ−ａ）
【化１０】
2013502712.tif 000048
の化合物
を含む、光電モジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
発明の詳細な説明
本発明は光電性半導体と、２つまたはそれより多くの異なるヒドロキシフェニルトリアジンおよび随意に２，２，６，６−テトラメチルピペリジン誘導体を含有する少なくとも１つの合成ポリマー層とを含む光電モジュールに関する。
【０００２】
ＷＯ−Ａ−２００６／０９３９３６号は、保護添加剤を用いた、ソーラー封止材を記載している。光電素子はＪＰ−Ａ−２００５−２９８７４８号内に開示されている。
【０００３】
ＥＰ−Ａ−１３０８０８４号は、相乗作用のＵＶ吸収剤の組み合わせを記載している。ポリマーについての安定剤組成物は、ＷＯ−Ａ−２００７／０８８１１４号およびＧＢ−Ａ−２３１７８９３号内に開示されている。
【０００４】
太陽電池のシーリング材料は、ＥＰ−Ａ−１９９０８４０内に記載されている。
【０００５】
ＵＶ安定化太陽電池ＸＬ−ＥＶＡ封止材は、２００６年８月１５日に公開されたＩＰＣＯＭ０００１３９１０２Ｄ内に記載されている。
【０００６】
本発明は特に、以下の成分を含む光電モジュールに関する：
（１）  光電性半導体、および
（２）  以下を含有する１層またはそれより多くの層
（Ａ）  互いに独立して、随意に架橋した合成ポリマー、および
（Ｂ）  式（Ｂ−Ｉ）および（Ｂ−ＩＩ）の化合物からなる群から選択される、２つまたはそれより多くの異なる化合物を含有する混合物；
【化１】
2013502712.tif 000003
［式中、
Ｅ1は水素、Ｃ1〜Ｃ18−アルキル、Ｃ1〜Ｃ18−アルキルであって−ＯＨ、Ｃ2〜Ｃ18−アルケニルオキシ、−Ｃ（Ｏ）ＯＸ1および−ＯＣ（Ｏ）Ｘ2  （前記Ｘ1およびＸ2は独立してＣ1〜Ｃ18−アルキルである）からなる群から選択される１、２または３つの基によって置換されたもの；  酸素によって中断されたＣ3〜Ｃ50−アルキルまたは酸素によって中断されたＣ3〜Ｃ50−ヒドロキシアルキルである；
Ｅ2、Ｅ3、Ｅ4およびＥ5は、独立して水素、Ｃ1〜Ｃ18−アルキル、フェニルまたは１、２または３つのＣ1〜Ｃ4−アルキルによって置換されたフェニルである］
【化２】
2013502712.tif 000004
［式中、
Ａ0は水素または−ＯＨである；
Ａ1、Ａ2、Ａ3およびＡ4は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ18−アルキル、Ｃ1〜Ｃ18−アルキルであって−ＯＨ、Ｃ2〜Ｃ18−アルケニルオキシ、−Ｃ（Ｏ）ＯＹ1および−ＯＣ（Ｏ）Ｙ2  （前記Ｙ1およびＹ2は独立してＣ1〜Ｃ18−アルキルである）からなる群から選択される１、２または３つの基によって置換されたもの；  酸素によって中断されたＣ3〜Ｃ50−アルキルまたは酸素によって中断されたＣ3〜Ｃ50−ヒドロキシアルキルである］
および随意に
（ｃ）  少なくとも１つの２，２，６，６−テトラメチルピペリジン誘導体。
【０００７】
成分（Ａ）は架橋されたエチレン酢酸ビニルコポリマーであり、且つ成分（Ｂ）が式（Ｂ−Ｉ）の化合物と式（Ｂ−ＩＩ）の化合物とを含有する混合物である光電モジュールが特に好ましい。
【０００８】
Ｃ1〜Ｃ18−アルキルの例は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、２−エチルブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、１−メチルペンチル、１，３−ジメチルブチル、ｎ−ヘキシル、１−メチルヘキシル、ｎ−ヘプチル、イソヘプチル、１，１，３，３−テトラメチルブチル、１−メチルヘプチル、３−メチルヘプチル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシル、１，１，３−トリメチルヘキシル、１，１，３，３−テトラメチルペンチル、ノニル、デシル、ウンデシル、１−メチルウンデシル、ドデシル、１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシルである。Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、例えばメチル、ｎ−ブチル、２−エチルヘキシルまたはオクチルの異性体混合物が特に好ましい。
【０００９】
Ｃ1〜Ｃ18−アルキル、好ましくは−ＯＨ、Ｃ2〜Ｃ18−アルケニルオキシ、−Ｃ（Ｏ）ＯＸ1  （または−Ｃ（Ｏ）Ｙ2）および−ＯＣ（Ｏ）Ｘ2  （または−ＯＣ（Ｏ）Ｙ2）からなる群から選択される１、２または３つの基によって置換されたＣ3〜Ｃ18−アルキルの好ましい例は、２−ヒドロキシエチル
【化３】
2013502712.tif 000005
である。
【００１０】
１つまたはそれより多くの酸素によって中断されたＣ3〜Ｃ50−アルキルの例は、−（ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−）3−ＣＨ3である。
【００１１】
酸素によって中断されたＣ3〜Ｃ50−ヒドロキシアルキルの好ましい例は、
【化４】
2013502712.tif 000006
である。
【００１２】
１、２または３つのＣ1〜Ｃ4−アルキルによって置換されたフェニルの好ましい例は、２，４−ジメチルフェニルである。
【００１３】
合成ポリマーの例は以下である：
１．  モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブト−１−エン、ポリ−４−メチルペンタ−１−エン、ポリビニルシクロヘキサン、ポリイソプレンまたはポリブタジエン、並びにシクロオレフィンのポリマー、例えばシクロペンテンまたはノルボルネン、ポリエチレン（随意に架橋していてよい）、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、高密度高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＨＭＷ）、高密度超高分子量ポリエチレン（ＨＤＰＥ−ＵＨＭＷ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、（ＶＬＤＰＥ）および（ＵＬＤＰＥ）。
【００１４】
２．  １）で述べられたポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／ＨＤＰＥ、ＰＰ／ＬＤＰＥ）、および異なる種類のポリエチレンの混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。
【００１５】
３．  モノオレフィンおよびジオレフィン同士の、または他のビニルモノマーとのコポリマー、例えば、エチレン／プロピレンコポリマー、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）およびそれらと低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレン／ブト−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／ブト−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキサンコポリマー、エチレン／シクロオレフィンコポリマー（例えばエチレン／ノルボルネン、例えばＣＯＣ）、エチレン／１−オレフィンコポリマー（随意に架橋していてよい）、ここで１−オレフィンはインサイチューで生成される；  プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコポリマー、エチレン／ビニルシクロヘキセンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリマー、エチレン／酢酸ビニルコポリマーまたはエチレン／アクリル酸コポリマーおよびそれらの塩（イオノマー）、並びにエチレンとプロピレンおよびジエン、例えばヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボルネンとのターポリマー、；および、かかるコポリマー同士の、および上記１）で述べられたポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチレン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エチレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡ、および交互またはランダムなポリアルキレン／一酸化炭素コポリマーおよびそれらと他のポリマー、例えばポリアミドとの混合物。
【００１６】
４．  α，β−不飽和酸から誘導されるポリマーおよびその誘導体、例えばポリアクリレートおよびポリメタクリレート；ポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニトリル、ブチルアクリレートを用いたそれらの耐衝撃性改質物。
【００１７】
５．  不飽和アルコールおよびアミンまたはアシル誘導体またはそれらのアセタールから誘導されるポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；並びにそれらと上記の１）で述べられたオレフィンとのコポリマー。
【００１８】
６．  ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、およびポリフェニレンオキシドとスチレンポリマーまたはポリアミドとの混合物。
【００１９】
７．  ジカルボン酸およびジオールから誘導される、および／またはヒドロキシカルボン酸または相応するラクトンから誘導されるポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート、ポリアルキレンナフタレート（ＰＡＮ）およびポリヒドロキシベンゾエート、並びにヒドロキシル基を末端にもつポリエーテルから誘導されるブロックコポリエーテルエステル；およびさらにポリカーボネートまたはＭＢＳで改質されたポリエステル。
【００２０】
８．  ポリカーボネートおよびポリエステルカーボネート。
【００２１】
９．  一方で末端にヒドロキシル基を有するポリエステル、ポリエステルまたはポリブタジエンから、且つ他方で脂肪族または芳香族ポリイソシアネートから誘導されるポリウレタン、並びにそれらの前駆体。
【００２２】
１０．  ジアミンおよびジカルボン酸から、および／またはアミノカルボン酸または相応するラクタムから誘導されるポリアミドおよびコポリアミド、例えばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミンおよびアジピン酸から出発する芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸または／およびテレフタル酸から製造され、且つ改質剤としてのエラストマーを有するまたは有さないポリアミド、例えばポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；および上述のポリアミドと、ポリオレフィン、オレフィンコポリマー、イオノマー、あるいは化学結合またはグラフトされたエラストマーとのブロックコポリマー；またはポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコールとのブロックコポリマー；並びにＥＰＤＭまたはＡＢＳで改質されたポリアミドまたはコポリアミド；および加工の間に縮合したポリアミド（ＲＩＭポリアミド系）。
【００２３】
１１．  上述のポリマー（ポリブレンド）の混合物、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ  ６．６およびコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ、ＰＢＴ／ＰＣ／ＡＢＳまたはＰＢＴ／ＰＥＴ／ＰＣ。
【００２４】
１２．  フッ素化ポリマー、例えばポリフッ化ビニル、フッ素化エチレンプロピレンコポリマー樹脂、ペルフルオロアルコキシコポリマー樹脂、ポリ（テトラフルオロエチレン）またはエチレン−テトラフルオロエチレンコポリマー。
【００２５】
１３．  ポリシロキサン、例えばシリコーン、例えばアルキル置換されたシリコーン（例えばメチルシリコーン）、部分的にビニル置換されたシリコーン（ＶＭＱ、例えばビニルメチルシリコーン）、部分的にフェニル置換されたシリコーン（ＰＭＱ、例えばフェニルメチルシリコーン）、部分的にビニルおよびフェニル置換されたシリコーン（ＰＶＭＱ、例えばフェニルビニルメチルシリコーン）、部分的にフルオロアルキル置換されたシリコーン（ＦＭＱ、例えば３，３，３−トリフルオロプロピルメチルシリコーン）、部分的にフルオロアルキルビニル置換されたシリコーン（ＦＶＭＱ、例えば３，３，３−トリフルオロプロピルビニルメチルシリコーン）、部分的にアミノアルキル置換されたシリコーン（例えば３−アミノプロピルメチルシリコーン）、部分的にカルボキシアルキル置換されたシリコーン（例えば３−カルボキシプロピルメチルシリコーン）、部分的にアルコキシ置換されたシリコーン（例えばエトキシメチルシリコーン）、部分的にアリル置換されたシリコーン（例えばアリルメチルシリコーン）またはシリコーン樹脂（高度に架橋したシリコーン）。
【００２６】
好ましい合成ポリマーは、上述の項目１、３、４、７、８、９、１２および１３の下で列挙されたものである。
【００２７】
合成ポリマーは、特に、直鎖または架橋されたポリオレフィンホモポリマー、直鎖または架橋されたポリオレフィンコポリマー、環状オレフィンホモポリマー、環状オレフィンコポリマー、ポリ（ビニルブチラール）、架橋されたエチレン酢酸ビニルコポリマー、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレタン、フッ素化ポリマー、ポリ（メチルメタクリレート）およびポリシロキサンからなる群から選択される。
【００２８】
典型的な光電モジュールは、例えば以下の層を含有する：
例Ｉ：
（ａ）  前面支持層
（ｂ）  封止層
結晶シリコン層
（ｂ）  封止層
（ｃ）  裏面基板層
例ＩＩ：
（ａ）  前面支持層
透明導電層
アモルファスシリコン層
裏面コンタクト層
（ｂ）  封止層
（ｃ）  裏面基板層
例ＩＩＩ：
（ａ）  前面支持層
（ｂ）  封止層
透明導電層
光電性半導体  （例えば４層まで含有）
裏面コンタクト層
（ｃ）  裏面基板層
例ＩＶ：
（ａ）  前面支持層
透明導電層
光電性半導体  （例えば２層まで含有）
透明導電層
（ｂ）  封止層
（ｃ）  裏面基板層。
【００２９】
本発明の好ましい実施態様によれば、光電モジュールは、成分（２）として、
（２−ａ）  前面支持層、
（２−ｂ）  封止層、および
（２−ｃ）  裏面支持層
から選択される１層またはそれより多くの層を含有する。
【００３０】
層（２−ａ）、（２−ｂ）および（２−ｃ）は、有利には合成ポリマー製である。望ましい場合、層（２−ａ）および／または（２−ｃ）は、選択的にガラス製であってよい。
【００３１】
本発明による好ましい実施態様のさらなる例を以下に列挙する：
１．  前面支持層（２−ａ）が、ポリエステル、ポリ（メチルメタクリレート）、ポリカーボネートおよびフッ素化ポリマーから選択される合成ポリマー（Ａ）を含有する光電モジュール。
【００３２】
２．  封止層（２−ｂ）が、直鎖または架橋されたポリオレフィンホモポリマー、直鎖または架橋されたポリオレフィンコポリマー、環状オレフィンホモポリマー、環状オレフィンコポリマー、ポリ（ビニルブチラール）、架橋されたエチレン酢酸ビニルコポリマー、ポリウレタンおよびポリシロキサンから選択される合成ポリマー（Ａ）を含有する光電モジュール。
【００３３】
３．  裏面基板層（２−ｃ）が、ポリエステル、ポリアミドおよびフッ素化ポリマーから選択される合成ポリマー（Ａ）を含有する光電モジュール。
【００３４】
裏面基板層（２−ｃ）はそれ自体、例えば２層または３層の多層系であってもよい。３層系の例は、
（２−ｃ−１）  フッ素化ポリマー層
（２−ｃ−２）  ポリエステル層
（２−ｃ−３）  フッ素化ポリマー層
である。
【００３５】
フッ素化ポリマーは、好ましくはポリ（フッ化ビニル）またはポリ（エチレンテトラフルオロエチレン）である。
【００３６】
光電性半導体（１）が結晶シリコンまたはアモルファスシリコンを含有する光電モジュール。
【００３７】
好ましいのは、さらに、成分（２）の２層（封止層）が、成分（Ａ）として架橋されたエチレン酢酸ビニルコポリマーと、上記で定義された成分（Ｂ）とを含有する光電モジュールである。
【００３８】
さらに好ましいのは、成分（２）の２層（封止層）が、成分（Ａ）として直鎖のエチレン酢酸ビニルコポリマーと、上記で定義された成分（Ｂ）とを含有する光電モジュールの前駆体である。
【００３９】
適したエチレン酢酸ビニルコポリマーは、相対質量含有率１０〜４０％の酢酸ビニルを有している。
【００４０】
本発明のさらなる実施態様は、上記で定義された成分（Ａ）および（Ｂ）を含有する光電モジュールの封止層である。好ましい実施態様によれば、封止層は成分（Ａ）として架橋されたエチレン酢酸ビニルコポリマーを含有する。
【００４１】
本発明の他の好ましい実施態様は、成分（Ａ）として直鎖のエチレン酢酸ビニルコポリマーと、上記で定義された成分（Ｂ）とを含有する、光電モジュールの封止層の前駆体である。この前駆体の調製のために、直鎖のエチレン酢酸ビニルコポリマーを、ペルオキシド官能性を有する有機化合物、当該成分（Ｂ）および他の成分と配合し、次にペルオキシド官能性を有する有機化合物による架橋を開始しないで、シートに加工する。架橋を回避するために、シートの加工温度は１２０℃未満、好ましくは７５℃未満である。
【００４２】
架橋工程を、ペルオキシド官能性を有する有機化合物の添加およびより高い温度にポリマーを曝露することによって誘導でき、なぜなら、より高い温度で、ペルオキシド官能性が反応性ラジカルの生成をみちびくからである。それらのラジカルは、合成ポリマーの異なる分子鎖間での前記の共有結合の形成反応を開始する。特定の合成ポリマーの架橋の最終的な程度、およびさらに架橋速度は、とりわけ、用いられる有機ペルオキシド化合物の種類および量、工程条件、例えば温度および特定の温度への曝露時間に依存する。さらには、合成ポリマー中に存在する添加剤が架橋工程に影響することがある。
【００４３】
ペルオキシド官能性を有する有機化合物の例は以下である：
１．  ヒドロペルオキシド、例えばｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドまたはクミルヒドロペルオキシド。
【００４４】
２．  アルキル／アリールペルオキシド、例えばジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−アミルペルオキシド、２，２−ビス−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）ブタン、２，５−ジメチル−２，５−ジ−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）ヘキサン、２，５−ジメチル−３−ヘキシン−２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ビス−（１−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−１−メチル−エチル）−ベンゼン、α，α’−ビス−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）ジイソプロピルベンゼン、１，４−ビス−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシジイソプロピル）ベンゼンまたはｔｅｒｔ−ブチルクミルペルオキシド。
【００４５】
３．  ペルオキシエステル、例えばｔｅｒｔ−ブチルペルオキシベンゾエート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ  ２−エチルヘキサノエート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ  ３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ジドデカノイルペルオキシド、ジ−ラウロイルペルオキシドまたはコハク酸ペルオキシド。
【００４６】
４．  ペルオキシカーボネート、例えばペルオキシ炭酸  Ｏ−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルエステルＯ−イソプロピルエステルまたはペルオキシ炭酸  Ｏ−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルエステルＯ−（２−エチルヘキシル）エステル。
【００４７】
５．  ジアロイルペルオキシド、例えばジベンゾイルペルオキシド、ジ−（４−クロロベンゾイル）ペルオキシド、ジ−（２，４−ジクロロベンゾイル）ペルオキシドまたはジ−（４−メチルベンゾイル）ペルオキシド。
【００４８】
６．  ペルオキシケタール、例えば１，１−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−３，５，５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１−ジ−（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシ）シクロヘキサン、エチル  ３，３−ジ−（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシ）ブタノエートまたはｎ−ブチル  ４，４−ジ−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）バレレート。
【００４９】
７．  環状ペルオキシド、例えば３，６，９−トリエチル−３，６，９−トリメチル−［１，２，４，５，７，８］ヘキサオキソナン（ｈｅｘｏｘｏｎａｎｅ）または３，３，６，６，９，９−ヘキサメチル−１，２，４，５−テトラオキソシクロヘキサン。
【００５０】
いくつかの有機ペルオキシド化合物は、市販であり、例えばＬｕｐｅｒｏｘ  １０１  （ＲＴＭ  Ａｒｋｅｍａ  Ｉｎｃ．）中に含有される２，５−ジメチル−２，５−ジ−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）ヘキサン、またはＬｕｐｅｒｏｘ  ＴＢＥＣ  （ＲＴＭ  Ａｒｋｅｍａ  Ｉｎｃ．）中に含有されるペルオキシ炭酸Ｏ−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルエステル  Ｏ−イソプロピルエステルである。
【００５１】
ペルオキシド官能性を有する有機化合物は、架橋前に、合成ポリマー（Ａ）中に、合成ポリマー（Ａ）の質量に対して０．００１％〜１０％、好ましくは０．０１％〜５％、および特に０．０１％〜２％の量で存在することがある。
【００５２】
好ましいのは、ペルオキシド官能性を有する有機化合物が、架橋前に、成分（Ａ）中に、成分（Ａ）の質量に対して０．００１％〜１０％の量で存在する光電モジュールである。
【００５３】
好ましくは、架橋助剤を添加して合成ポリマーの構造または架橋水準を改善できる。さらには、架橋助剤は、架橋された合成ポリマーのゲル含有率、光安定性および熱安定性を改善できる。
【００５４】
架橋助剤についての例は、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレートおよびトリメタリルイソシアヌレートである。
【００５５】
架橋助剤を、架橋されるべき合成ポリマー（Ａ）の質量に対して０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％の範囲で添加できる。
【００５６】
好ましいのは、成分（２）の単数または複数の層が、前面支持層、封止層および裏面基板層から選択される光電モジュールである。
【００５７】
前面支持層、封止層および裏面基板層は、有利には合成ポリマー製である。望ましい場合、前面支持層および／または裏面基板層は、選択的に例えばガラスまたは金属から製造されてよい。
【００５８】
該光電モジュールは、光電性半導体を含有できる。光電性半導体は、典型的には例えば結晶シリコン、アモルファスシリコン、または複合型半導体の場合、ＣｕＩｎＳｅ2（ＣＩＳ）、Ｃｕ（ＩｎＧａ）Ｓｅ2（ＣＩＧＳ）、Ｃｕ（ＩｎＧａ）（ＳＳｅ）2またはＣｄＴｅ−ＣｄＳを含有する。
【００５９】
好ましいのは、光電性半導体（１）が結晶シリコン、アモルファスシリコン、ＣｕＩｎＳｅ2、Ｃｕ（ＩｎＧａ）Ｓｅ2またはＣｄＴｅ−ＣｄＳを含有する光電モジュールである。
【００６０】
当該成分（２）の単数または複数の層は、典型的には、上記で定義された成分（Ｂ）および随意のさらなる添加剤を含有する合成ポリマー（Ａ）製のシートの変換による製造工程の間に生成される。前記シートは、当業者によく知られているプラスチック加工についての通常の方法、例えば溶液流延法、溶融成形法、例えば溶融押出成形、プレス成形または射出成形またはその種のものによって製造できる。それらの方法は随意に追加的な加工段階、例えば延伸、貼り合わせ、同時押出またはその種のものを含有することがある。
【００６１】
当該成分（Ｂ）、随意のさらなる添加剤および随意のペルオキシドを、単数または複数のシートへの変形前またはその間に、合成ポリマー中に混合することができる。この単数または複数のシートを、その後、光電モジュール製造の間に、当該成分（２）の単数または複数の層に変換する。それらの混合方法は特に限定されず、且つ、当業者にはよく知られている。例えば、合成ポリマー（Ａ）中への式（Ｂ−Ｉ）および／または（Ｂ−ＩＩ）の化合物の混合、または合成ポリマー中に混合するための式（Ｂ−Ｉ）および／または（Ｂ−ＩＩ）の化合物を含むマスターバッチの使用を述べることができる。例えば、式（Ｂ−Ｉ）および／または（Ｂ−ＩＩ）の化合物を溶融押出成形の間に供給することが可能であり、且つ、任意のそれらの方法を用いることができる。
【００６２】
望ましい場合、単数または複数のシートを当該成分（２）の単数または複数の層の前駆体として、処理に供することができる。該シートと他の層との互いの付着性を改善するための処理が有利である。特に、表面処理、例えば接着剤によるシート表面への特別なコーティングの適用は、光電モジュールの製造工程の間に機械的に硬質なままである層と層とに変形しているシート間の貼り合わせ工程を改善できる。ここで、機械的な硬性とは、光電モジュールの製造工程の間に適用される加温に対して敏感ではない層、例えばガラス、金属またはポリマー、例えば特定のポリエステルからの層を示す。
【００６３】
選択的に、またはシートの表面処理に加えて、定着剤を合成ポリマー中に混入して、光電モジュールの製造の間にシートから形成される層の付着性を改善する。前記定着剤を、随意のさらなる添加剤および随意のペルオキシドについて記載された方法と同様に、合成ポリマー中に混入できる。定着剤の混入を、随意のさらなる添加剤および随意のペルオキシドと同時に、例えばポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）からのシート形成の間に行うことができる。
【００６４】
定着剤の例は、カップリング機能を有するシランである。
【００６５】
１．  ビニルシラン、例えばビニルクロロシラン、ビニル−トリス−（２−メトキシエトキシ）−シラン、ビニル−トリエトキシ−シラン、ビニル−トリアセトキシ−シランまたはビニル−トリメトキシ−シラン。
【００６６】
２．  アクリルオキシシラン、例えば（３−（メタクリルオキシ）プロピル）−トリメトキシ−シラン。
【００６７】
３．  エポキシシラン、例えば（２−（７−オキサ−ビシクロ［４．１．０］ヘプタ−３−イル）エチル）−トリメトキシ−シラン、（３−オキシラニルメトキシ−プロピル）−トリメトキシ−シランまたは（３−オキシラニルメトキシ−プロピル）−ジエトキシ−メチル−シラン。
【００６８】
４．  アミノシラン、例えば、（Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピル）−トリメトキシ−シラン、（Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピル）−ジメトキシ−メチル−シラン、（３−アミノプロピル）−トリエトキシ−シランまたは（Ｎ−フェニル−３−アミノプロピル）−トリメトキシ−シラン。
【００６９】
５．  他の種類のシラン、例えば、（３−メルカプトプロピル）−トリメトキシ−シランまたは（３−クロロプロピル）−トリメトキシシラン。
【００７０】
定着剤として好ましいのは、（３−（メタクリルオキシ）プロピル）−トリメトキシ−シランである。
【００７１】
好ましくは、合成ポリマー（Ａ）中の定着剤の量は、合成ポリマー（Ａ）の質量に対して０．０１％〜５％、特に１％〜４％である。
【００７２】
光電モジュールについての標準的な製造工程を、結晶シリコン、２層の架橋されたポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）、ガラスからの前面支持層、およびポリエステルからの裏面支持層を含有するモジュールについて例示する。
【００７３】
結晶シリコンから、自体が光電性の半導体を含有するセルを含む光電モジュールの標準的な構造は、スーパーストレート構造と呼ばれている。そのようなスーパーストレート構造の部品は、二次元的にいくつかのセルを配列することによって製造され、前記セルが光電性半導体を含有し、それらがタンデムおよび並列に接続されている。
【００７４】
成分（Ｂ）としての式（Ｂ−Ｉ）および／または（Ｂ−ＩＩ）の２つの異なる化合物、ペルオキシド官能性を有する有機化合物および随意のさらなる添加剤を含有する、成分（Ａ）としてのエチレン酢酸ビニルコポリマー（＝ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）からのシートを、ガラスからのシートの上に設置する。このガラスシートは後で、完成された光電モジュールの前面支持層になる。前記ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）からのシートの上部に、上述のセルの配列物を載せ、次に、成分（Ｂ）としての式（Ｂ−Ｉ）および／または（Ｂ−ＩＩ）の２つの異なる化合物、ペルオキシド官能性を有する有機化合物および随意のさらなる添加剤を含有するポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）からの他のシートを載せる。最後に、成分（Ｂ）としての式（Ｂ−Ｉ）および／または（Ｂ−ＩＩ）の２つの異なる化合物および随意のさらなる添加剤を含有するポリエステルからのシートを、上部に設置する。ポリエステルからの前記シートは後で、完成された光電モジュールの裏面支持層になる。
【００７５】
積層物全体をここで、貼り合わせ機内で加工し、その際、第一の段階として１８０℃まで、例えば１５０℃の加温を真空下で行い、そしてその温度を０．５〜３０分間、例えば１０分間維持する。この時間の間に、ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）からの２つのシートが熱により溶融し（しかし裏面支持層としてのポリエステルシートはそうではない）、それによりセルの配列物が封止され、且つ、ガラスとポリエステルシートとが接着される。第二の段階において、積層物全体をさらに１８０℃まで、例えば１５０℃に、貼り合わせ機内で加熱し、そしてこの温度で５〜６０分、例えば２０分間保持して、ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）の架橋反応を開始し、且つ完了させる。前記の架橋は、ここで、ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）からの元のシートにより形成された層において機械的特性の改善もたらす。積層物の冷却後、光電モジュールを、その端部をシーリングし、フレーミングし、且つケーブルおよび接続箱を組み込むことによって、完成させる。
【００７６】
他の光電性半導体を用いた他の光電モジュールシステム、例えばアモルファスシリコンを含有する光電モジュールまたは複合型半導体を含有する光電モジュールでは、セルを異なる方法によって、例えばスパッタまたは化学気相成長によって製造してよい。しかしながら、封止工程は常に類似しており、そのことは、シートから作られる積層物が貼り合わせ機内で加工されて、封止材として予見される合成ポリマーを溶融し、そして（選択された場合）架橋反応を後で開始することを意味する。
【００７７】
本発明の他の実施態様は、光電性半導体を保有する光電モジュール内に存在する１層またはそれより多くの層中の合成ポリマーを安定化させるための方法であって、式（Ｂ−Ｉ）および／または（Ｂ−ＩＩ）の２つの異なる化合物を該合成ポリマー中に添加することを含む方法である。
【００７８】
本発明のさらに好ましい実施態様は、成分（Ｂ）が式（Ｂ−Ｉ）の化合物と、式（Ｂ−ＩＩ）の化合物との混合物である光電モジュールである。
【００７９】
式（Ｂ−Ｉ）の化合物は、好ましくは式（Ｂ−Ｉ−ａ）、（Ｂ−Ｉ−ｂ）、（Ｂ−Ｉ−ｃ）、（Ｂ−Ｉ−ｄ）、（Ｂ−Ｉ−ｅ）または（Ｂ−Ｉ−ｆ）の化合物である。
【００８０】
【化５】
2013502712.tif 000007
【００８１】
【化６】
2013502712.tif 000008
【００８２】
式（Ｂ−ＩＩ）の化合物は好ましくは、式（Ｂ−ＩＩ−ａ）、（Ｂ−ＩＩ−ｂ）または（Ｂ−ＩＩ−ｃ）の化合物である。
【００８３】
【化７】
2013502712.tif 000009
【００８４】
本発明の特に好ましい実施態様は、成分（Ｂ）が
化合物（Ｂ−Ｉ−ａ）と（Ｂ−ＩＩ−ａ）との混合物、
化合物（Ｂ−Ｉ−ａ）と（Ｂ−ＩＩ−ｂ）との混合物、または
化合物（Ｂ−Ｉ−ｃ）と（Ｂ−ＩＩ−ｃ）との混合物
である光電モジュールに関する。
【００８５】
式（Ｂ−Ｉ）および（Ｂ−ＩＩ）の化合物は本質的に公知であり、且つ、例えばＵＳ−Ａ−６０６０５４３号内に記載される公知の方法と類似して調製できる。いくつかの化合物は市販である。
【００８６】
成分（Ｃ）の例は、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）  ｎ−ブチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−ｔｅｒｔ−オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの直鎖状または環状縮合物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，１’−（１，２−エタンジイル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの直鎖状または環状縮合物、２−クロロ−４，６−ビス（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、２−クロロ−４，６−ジ−（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−と４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン並びに４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとの縮合物（ＣＡＳ登録番号［１３６５０４−９６−６］）；  １，６−ヘキサンジアミンと２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジン、並びにＮ，Ｎ−ジブチルアミンと４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチル��ペリジンとの縮合物（ＣＡＳ登録番号［１９２２６８−６４−７］）；  Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ−［４，５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ−［４，５］デカンとエピクロロヒドリンとの反応生成物、１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ’−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシメチレンマロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、マレイン酸無水物−α−オレフィンコポリマーと２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジンまたは１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンとの反応生成物、１−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロポキシ）−４−オクタデカノイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、５−（２−エチルヘキサノイル）オキシメチル−３，３，５−トリメチル−２−モルホリノン、Ｓａｎｄｕｖｏｒ  （Ｃｌａｒｉａｎｔ；  ＣＡＳ  登録番号［１０６９１７−３１−１］）、５−（２−エチルヘキサノイル）オキシメチル−３，３，５−トリメチル−２−モルホリノン、１，３，５−トリス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチルピペラジン−３−オン−４−イル）アミノ）−ｓ−トリアジン、１，３，５−トリス（Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペラジン−３−オン−４−イル）−アミノ）−ｓ−トリアジンである。
【００８７】
成分（Ｃ）は、好ましくは式（Ｃ−Ｉ−ａ）、（Ｃ−Ｉ−ｂ）、（Ｃ−Ｉ−ｃ）、（Ｃ−Ｉ−ｄ）  （Ｃ−ＩＩ）、（Ｃ−ＩＩＩ）または（Ｃ−ＩＶ）の化合物である：
【化８】
2013502712.tif 000010
［式中、
ｂ1は２〜２０、好ましくは２〜２０の数字であり、且つ、基Ｒ1は独立して水素、Ｃ1〜Ｃ8−アルキル、Ｏ、−ＯＨ、−ＣＨ2ＣＮ、Ｃ3〜Ｃ6−アルケニル、非置換またはフェニル上で１、２または３つのＣ1〜Ｃ4−アルキルによって置換されたＣ7〜Ｃ9−フェニルアルキル；またはＣ1〜Ｃ8−アシル］；
【化９】
2013502712.tif 000011
［式中、
基Ｒ2は独立してＲ1の意味の１つを有する］；
【化１０】
2013502712.tif 000012
［式中、
ｂ2は２〜２０であり、且つ、基Ｒ3は独立してＲ1の意味の１つを有する］；
【化１１】
2013502712.tif 000013
［式中、
Ｒ4は水素またはＣ1〜Ｃ4−アルキルであり、
Ｒ5は直接結合またはＣ1〜Ｃ10−アルキレンであり、且つ
ｂ3は２〜２０の数字である］。
【００８８】
８つまでの炭素原子を有するアルキルの例は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、２−エチルブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、１−メチルペンチル、１，３−ジメチルブチル、ｎ−ヘキシル、１−メチルヘキシル、ｎ−ヘプチル、イソヘプチル、１，１，３，３−テトラメチルブチル、１−メチルヘプチル、３−メチルヘプチル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシルである。Ｃ1〜Ｃ4−アルキル、特にメチルが好ましい。
【００８９】
Ｃ3〜Ｃ6−アルケニルの例は、アリル、２−メタリル、ブテニル、ペンテニルおよびヘキセニルである。アリルが好ましい。１位の炭素原子は好ましくは飽和している。
【００９０】
非置換またはフェニル上で１、２または３つのＣ1〜Ｃ4−アルキルによって置換されたＣ7〜Ｃ9−フェニルアルキルの例は、ベンジル、フェニルエチル、メチルベンジル、ジメチルベンジル、トリメチルベンジルおよびｔｅｒｔ−ブチルベンジルである。
【００９１】
Ｃ1〜Ｃ8−アシルの例は、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、ペンタノイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタノイル、アクリロイル、メタクリロイルおよびベンゾイルである。Ｃ1〜Ｃ8−アルカノイル、Ｃ3〜Ｃ8−アルケニルおよびベンゾイルが好ましい。アセチルおよびアクリロイルが特に好ましい。
【００９２】
Ｃ1〜Ｃ10−アルキレンの例は、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、２，２−ジメチルトリメチレン、ヘキサメチレン、トリメチルヘキサメチレン、オクタメチレンおよびデカメチレンである。
【００９３】
Ｒ1は好ましくは水素またはメチルである。
【００９４】
Ｒ2は好ましくはメチルである。
【００９５】
Ｒ3およびＲ4は好ましくは水素である。
【００９６】
Ｒ5は好ましくはエチレンである。
【００９７】
成分（Ｃ）の化合物は本質的に公知であり、且つ、公知の方法、例えばＵＳ−Ａ−４０８６２０４号、ＵＳ−Ａ−６０４６３０４号、ＵＳ−Ａ−４３３１５８６号、ＵＳ−Ａ−４１０８８２９号、ＵＳ−Ａ−４４７７６１５号およびＵＳ−Ａ−４２３３４１２号内に記載される方法と類似して調製できる。
【００９８】
成分（Ｃ）の好ましい市販の化合物は、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ（登録商標）９４４、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ（登録商標）２０２０、ＤＡＳＴＩＢ（登録商標）１０８２、ＣＹＡＳＯＲＢ（登録商標）ＵＶ３３４６、ＣＹＡＳＯＲＢ（登録商標）ＵＶ３５２９、ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ（登録商標）１１９、ＵＶＡＳＯＲＢ（登録商標）ＨＡ８８およびＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）６２２である。
【００９９】
式（Ｃ−Ｉ−ａ）、（Ｃ−Ｉ−ｂ）、（Ｃ−Ｉ−ｃ）、（Ｃ−Ｉ−ｄ）、（Ｃ−ＩＩ）、（Ｃ−ＩＩＩ）および（Ｃ−ＩＶ）の化合物中の自由原子価を飽和する末端基の意味は、それぞれの調製のために使用される方法に依存する。末端基は、化合物の調製後に修飾することもできる。
【０１００】
式（Ｃ−Ｉ−ａ）、（Ｃ−Ｉ−ｂ）、（Ｃ−Ｉ−ｃ）または（Ｃ−Ｉ−ｄ）の化合物が、相応して置換された２，５−ジクロロトリアジンと式
【化１２】
2013502712.tif 000014
のジアミン化合物とを反応させることによって調製される場合、該ジアミノ基に結合される末端基は水素または相応して置換されたトリアジニル残基であり、例えば、式（Ｃ−Ｉ−ａ）の場合、基
【化１３】
2013502712.tif 000015
であり、且つトリアジン基に結合される末端基はＣｌまたは基
【化１４】
2013502712.tif 000016
である。
【０１０１】
反応が完了した際、−Ｃｌを、例えば−ＯＨまたはアミノ基によって置き換えることが有利であることがある。挙げることができるアミノ基の例は、ピロリジン−１−イル、モルホリノ、−ＮＨ2、−Ｎ（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）2および−ＮＲ（Ｃ1〜Ｃ8−アルキル）  （前記Ｒは水素、または２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル基）である。
【０１０２】
式（ＩＩＩ−Ｃ）の化合物において、トリアジン基に結合する末端基は、例えばＣｌ、または
【化１５】
2013502712.tif 000017
基であり、且つアミノ基に結合する末端基は、例えば水素または
【化１６】
2013502712.tif 000018
基である。
【０１０３】
式（Ｃ−ＩＶ）の化合物が、例えば式
【化１７】
2013502712.tif 000019
の化合物と、式Ｙ0−ＯＯＣ−Ｒ5−ＣＯＯ−Ｙ0  （前記Ｙ0は例えばメチル、エチルまたはプロピルである）のジカルボン酸ジエステルとを反応させることによって調製される場合、２，２，６，６−テトラメチル−４−オキシピリジン−１−イル基に結合される末端基は水素または−ＣＯ−Ｒ5−ＣＯＯ−Ｙ0であり、ジアシル基に結合される末端基は−Ｏ−Ｙ0または
【化１８】
2013502712.tif 000020
である。
【０１０４】
成分（Ｃ）の特に好ましい化合物は以下である：
【化１９】
2013502712.tif 000021
［式（Ｃ−Ｉ−ａ−１）、（Ｃ−Ｉ−ｂ−１）、（Ｃ−Ｉ−ｃ−１）、（Ｃ−Ｉ−ｄ−１）および（Ｃ−Ｉ−ｄ−２）中、ｂ1は２〜２０である］；
【化２０】
2013502712.tif 000022
［式中、ｂ2は２〜２０である］；
【化２１】
2013502712.tif 000023
［式中、ｂ3は２〜２０の数字である］。
【０１０５】
式（Ｃ−Ｉ−ｂ）の特に好ましい化合物の１つは、
【化２２】
2013502712.tif 000024
である。
【０１０６】
この化合物の調製は、ＵＳ−Ａ−６０４６３０４の実施例１０内に記載されている。
【０１０７】
本発明の好ましい実施態様は、成分（２）の単数または複数の層が、成分（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）を含有する光電モジュールに関する。
【０１０８】
本発明のさらに好ましい実施態様は、
成分（Ａ）が環状オレフィンポリマー、ポリカーボネート、架橋されたエチレン酢酸ビニルコポリマー、およびポリ（メチルメタクリレート）から選択される合成ポリマーであり、
成分（Ｂ）が、
化合物（Ｂ−Ｉ−ａ）と（Ｂ−ＩＩ−ａ）との混合物、
化合物（Ｂ−Ｉ−ａ）と（Ｂ−ＩＩ−ｂ）との混合物、または
化合物（Ｂ−Ｉ−ｃ）と（Ｂ−ＩＩ−ｃ）との混合物であり、且つ、
化合物（Ｃ）が、式（Ｃ−ＩＩ−ａ）の化合物である、光電モジュールに関する。
【０１０９】
既に上記で述べたように、望ましい場合、成分（２）の単数または複数の層はさらに１つまたはそれより多くの従来の添加剤を含有してよい。適した例を以下に列挙する。
【０１１０】
１． 酸化防止剤
１．１．  アルキル化モノフェノール、例えば２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール、ノニルフェノールであって、側鎖内で直鎖または分枝鎖であるもの、例えば、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルウンデカ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデカ−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１’−メチルトリデカ−１’−イル）フェノール、およびそれらの混合物。
【０１１１】
１．２．  アルキルチオメチルフェノール、例えば２，４−ジオクチルチオメチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【０１１２】
１．３．  ヒドロキノンおよびアルキル化ヒドロキノン、例えば、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【０１１３】
１．４．  トコフェロール、例えば、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール、およびそれらの混合物（ビタミンＥ）。
【０１１４】
１．５．  ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば、２，２’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，６−ジ−ｓｅｃ−アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【０１１５】
１．６．  アルキリデンビスフェノール、例えば、２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）−フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル−フェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコール  ビス［３，３−ビス（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【０１１６】
１．７．  Ｏ−、Ｎ−、およびＳ−ベンジル化合物、例えば、３，５，３’，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【０１１７】
１．８．  ヒドロキシベンジル化マロネート、例えば、ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシル−２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【０１１８】
１．９．  芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例えば、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【０１１９】
１．１０．  トリアジン化合物、例えば２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【０１２０】
１．１１．  ベンジルホスホネート、例えば、ジメチル−２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチルエステルのカルシウム塩。
【０１２１】
１．１２．  アシルアミノフェノール、例えば、４−ヒドロキシラウルアニリド（ｈｙｄｒｏｘｙｌａｕｒａｎｉｌｉｄｅ）、４−ヒドロキシステアルアニリド、オクチル  Ｎ−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバメート。
【０１２２】
１．１３．  β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と下記とのエステル：  一価または多価アルコール、例えばメタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【０１２３】
１．１４．  β−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と下記とのエステル、一価または多価アルコール、例えばメタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、ｉ−オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン；３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］−ウンデカン。
【０１２４】
１．１５．  β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と下記とのエステル：  一価または多価アルコール、例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【０１２５】
１．１６．  ３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と下記とのエステル：  一価または多価アルコール、例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。
【０１２６】
１．１７．  β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えば、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス［２−（３−［３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド  （Ｎａｕｇａｒｄ（登録商標）ＸＬ−１、供給元Ｕｎｉｒｏｙａｌ）。
【０１２７】
１．１８．  アスコルビン酸（ビタミンＣ）。
【０１２８】
１．１９．  アミン系酸化防止剤、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ−ｔｅｒｔ−オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチル−アミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニルアミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミン、ｔｅｒｔ−オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノアルキル化およびジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチル／ｔｅｒｔ−オクチルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化およびジアルキル化ノニルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化およびジアルキル化イソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化およびジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノアルキル化およびジアルキル化ｔｅｒｔ−ブチル／ｔｅｒｔ−オクチルフェノチアジンの混合物、モノアルキル化およびジアルキル化ｔｅｒｔ−オクチル−フェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブト−２−エン。
【０１２９】
２． 紫外線吸収剤および光安定剤。
【０１３０】
２．１．  ２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｓｅｃ−ブチル−５’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ビス−（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）−カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２’−メチレン−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］；  ２−［３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−ヒドロキシフェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと、ポリエチレングリコール３００とのエステル交換反応生成物；
【化２３】
2013502712.tif 000025
前記Ｒ＝３’−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（α，α−ジメチルベンジル）−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル］ベンゾトリアゾール；  ２−［２’−ヒドロキシ−３’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−５’−（α，α−ジメチルベンジル）−フェニル］ベンゾトリアゾール。
【０１３１】
２．２．  置換された、および置換されていない安息香酸のエステル、例えば、４−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレソルシノール、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイル）レソルシノール、ベンゾイルレソルシノール、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル  ３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル  ３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル  ３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル  ３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。
【０１３２】
２．３．  アクリレート、例えば、エチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチル  α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチル  α−カルボメトキシシンナメート、メチル  α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチル  α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、メチル  α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート、Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン、ネオペンチルテトラ（α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート。
【０１３３】
２．４．  ニッケル化合物、例えば、２，２’−チオ−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、例えば１：１または１：２錯体であって、さらなる配位子、例えばｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンまたはＮ−シクロヘキシルジエタノールミンを有するまたは有さないもの、ニッケル  ジブチルジチオカルバメート、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルホスホン酸のモノアルキルエステル、例えばメチルまたはエチルエステルのニッケル塩、ケトキシムの、例えば２−ヒドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトキシムのニッケル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体であって、さらなる配位子を有するもの、または有さないもの。
【０１３４】
２．５．  オキサミド、例えば、４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリド（ｂｕｔｏｘａｎｉｌｉｄｅ）、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２’−エトキサニリド（ｅｔｈｏｘａｎｉｌｉｄｅ）、およびそれと２−エトキシ−２’−エチル−５，４’−ジ−ｔｅｒｔ−ブトキサニリドとの混合物、ｏ−およびｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物、およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【０１３５】
２．６．  ２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−｛２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（４−［２−エチルヘキシルオキシ］−２−ヒドロキシフェニル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン。
【０１３６】
２．７．  キノリン誘導体、例えば市販のＵＶＩＮＵＬ（登録商標）Ｓ−Ｐａｃｋ。
【０１３７】
３． 金属不活性化剤、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラール−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド。
【０１３８】
４． ホスフィットおよびホスホナイト、例えば、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィット、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−クミルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４，６−トリス（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスフィット、トリステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）  ４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１２−メチル−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、２，２’，２’’−ニトリロ−［トリエチルトリス（３，３’，５，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］、２−エチルヘキシル（３，３’，５，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット、５−ブチル−５−エチル−２−（２，４，６−トリ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ）−１，３，２−ジオキサホスフィラン。
【０１３９】
以下のホスフィットが特に好ましい：
トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスフィット（ｌｒｇａｆｏｓ（登録商標）１６８、Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ  Ｉｎｃ）、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、
【化２４】
2013502712.tif 000026
【０１４０】
【化２５】
2013502712.tif 000027
【０１４１】
５． ヒドロキシルアミン、例えば、Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化タローアミンから誘導されるＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【０１４２】
６． ニトロン、例えば、Ｎ−ベンジル−アルファ−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−アルファ−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−アルファ−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−アルファ−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−アルファ−トリデシルニトロン（ｔｒｉｄｅｃｙｌｎｎｉｔｒｏｎｅ）、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘキサデシルニトロン、水素化タローアミンから誘導されるＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されるニトロン。
【０１４３】
７． チオ相乗剤、例えば、ジラウリルチオジプロピオネート、ジミリスチルチオジプロピオネート（ｄｉｍｉｓｔｒｙｌ  ｔｈｉｏｄｉｐｒｏｐｉｏｎａｔｅ）、ジステアリルチオジプロピオネート、またはジステアリルジスルフィド。
【０１４４】
８． 過酸化物捕捉剤、例えば、β−チオジプロピオン酸のエステル、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルのエステル、メルカプトベンズイミダゾールまたは２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【０１４５】
９． 過酸化物、例えばデカノイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、コハク酸ペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、２，５−ジ（ｔ−ブチルペルオキシ）−２，５−ジメチルヘキサン、ｔ−ブチルクミルペルオキシド、α，α’−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）ジイソプロピルベンゼン、ジ（ｔ−アミル）ペルオキシド、ジ（ｔ−ブチル）ペルオキシド、２，５−ジ（ｔ−ブチルペルオキシ）−２，５−ジメチル−３−ヘキシン、１，１−ジ（ｔ−ブチルペルオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ジ（ｔ−ブチルペルオキシ）−シクロヘキサン、１，１−ジ（ｔ−アミルペルオキシ）−シクロヘキサン、ｎ−ブチル  ４，４−ジ（ｔ−ブチルペルオキシ）バレレート、エチル  ３，３−ジ−（ｔ−アミルペルオキシ）ブタノエート、エチル  ３，３−ジ−（ｔ−ブチルペルオキシ）ブチレート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ  ２−エチルヘキシルカーボネート。
【０１４６】
１０． ポリアミド安定剤、例えば、銅塩とヨウ化物および／またはリン化合物との組み合わせ、および二価のマンガン塩。
【０１４７】
１１． 塩基性補助安定剤、例えば、メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート、ウレア誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ベヘン酸マグネシウム、ステアリン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウムおよびパルミチン酸カリウム、ピロカテコール酸アンチモンまたはピロカテコール酸亜鉛。
【０１４８】
１２． 中和剤、例えばＭｇＯ、ＣａＯ、ＺｎＯ、Ｍｇ（ＯＨ）2、Ｃａ（ＯＨ）2、Ｂａ（ＯＨ）2、Ａｌ（ＯＨ）3、ＭｇＣＯ3、ＣａＣＯ3、ハイドロタルサイト。
【０１４９】
１３． 成核剤、例えば、無機物質、例えば滑石、金属酸化物、例えば二酸化チタンまたは酸化マグネシウム、好ましくはアルカリ土類金属の燐酸塩、炭酸塩または硫酸塩；  有機化合物、例えばモノカルボン酸またはポリカルボン酸およびそれらの塩、例えば４−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、コハク酸ナトリウムまたは安息香酸ナトリウム；  ポリマー化合物、例えばイオン性コポリマー（イオノマー）。特に好ましいのは、１，３：２，４−ビス−（３’，４’−ジメチルベンジリデン）ソルビトール、１，３：２，４−ジ（パラメチルジベンジリデン）ソルビトール、および１，３：２，４−ジ（ベンジリデン）ソルビトールである。
【０１５０】
１４． 充填剤および強化剤、例えば、炭酸カルシウム、シリケート、ガラス繊維、ガラスビーズ、アスベスト、タルク、カオリン、マイカ、硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カーボンブラック、グラファイト、木粉および他の天然物の粉末または繊維、合成繊維。
【０１５１】
１５． 他の添加剤、例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、流動添加剤、触媒、流れ調整剤、防炎加工剤、帯電防止剤および膨張剤。
【０１５２】
１６． ベンゾフラノンおよびインドリノン、例えば、Ｕ．Ｓ．４３２５８６３号；  Ｕ．Ｓ．４３３８２４４号；  Ｕ．Ｓ．５１７５３１２号；  Ｕ．Ｓ．５２１６０５２号；  Ｕ．Ｓ．５２５２６４３号；  ＤＥ−Ａ−４３１６６１１号；  ＤＥ−Ａ−４３１６６２２号；  ＤＥ−Ａ−４３１６８７６号；  ＥＰ−Ａ−０５８９８３９号、ＥＰ−Ａ−０５９１１０２号；  ＥＰ−Ａ−１２９１３８４号内に開示されているもの、または３−［４−（２−アセトキシエトキシ）フェニル］−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン、５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラン−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（４−［２−ヒドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラン−２−オン］、５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラン−２−オン、３−（４−アセトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（３，４−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（２，３−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾフラン−２−オン、３−（２−アセチル−５−イソオクチルフェニル）−５−イソオクチル−ベンゾフラン−２−オン。
【０１５３】
一般に、従来の添加剤は、成分（２）の単数または複数の層内に、成分（Ａ）の質量に対して例えば０．００１〜２０％、または０．０１〜２０％、好ましくは０．００１〜５％、または０．０１〜５％の量で存在してよい。
【０１５４】
興味深いのは、成分（２）の単数または複数の層が、
（Ｄ）  ベンゾトリアゾールＵＶ吸収剤、好ましくは上記の項目２．１の下で列挙されたものの１つ、
（Ｅ）  フェノール系酸化防止剤、好ましくは上記の項目１の下で列挙されたものの１つ、
（Ｆ）  塩基性補助添加剤（ｃｏ−ａｄｄｉｔｉｖｅ）、例えば上記の項目１１の下で列挙されたものの１つ、および
（Ｇ）  中和剤、例えば上記の項目１２の下で列挙されたものの１つ
からなる群から選択される１つまたはそれより多くのさらなる成分を含有する光電モジュールである。
【０１５５】
特に好ましいベンゾトリアゾールＵＶ吸収剤は、以下の構造を有する：
【化２６】
2013502712.tif 000028
【０１５６】
以下の選択は、当該成分（２）の単数または複数の層に関する：
成分（Ｂ）は、成分（Ａ）の質量に対して例えば０．０１〜１０％、好ましくは０．０５〜２％の量で存在する。
【０１５７】
成分（Ｃ）は、成分（Ａ）の質量に対して好ましくは０．０１〜５％、特に０．０５〜１％の量で随意に存在する。
【０１５８】
成分（Ｄ）は、成分（Ａ）の質量に対して好ましくは０．０１〜１０％、特に０．０５〜２％の量で随意に存在する。
【０１５９】
成分（Ｅ）は、成分（Ａ）の質量に対して好ましくは０．０１〜１％、特に０．０１〜０．５％の量で随意に存在する。
【０１６０】
成分（Ｆ）は、成分（Ａ）の質量に対して好ましくは０．０１〜１０％の量で随意に存在する。
【０１６１】
成分（Ｇ）は、成分（Ａ）の質量に対して好ましくは０．０１〜１０％、特に０．０５〜２％の量で随意に存在する。
【０１６２】
式（Ｂ−Ｉ）および（Ｂ−ＩＩ）の化合物からなる群から選択される２つの異なる化合物の質量比は、例えば１：１００〜１００：１、好ましくは１：１０〜１０：１または１：５〜５：１、特に１：３〜３：１または１：２〜２：１または１：１である。
【０１６３】
当該成分（２）の単数または複数の層は、例えば１０〜２０００μｍ、特に５０〜１０００μｍの厚さを有する。
【０１６４】
当該成分（２）の単数または複数の層は、優れた光学特性、例えば光学的な透明度、例えば高い収縮性（ｃｏｎｔｒａｃｔａｂｉｌｉｔｙ）を有する分極剤の収縮を防ぐために充分に高い機械的強度、プロセスの間に適用される高温に耐えることができる耐熱性、およびその種のものを有する。
【０１６５】
当該成分（２）の単数または複数の層は好ましくは、ＡＳＴＭ  Ｄ１００３による例えば１未満（２０μｍ膜で測定）の低いヘイズ値を有する。
【０１６６】
望ましい場合、当該成分（２）の単数または複数の層を、表面のコロナ処理に供してよい。これは特に、表面処理、例えば膜表面へのコーティング工程がある場合、または接着剤を使用することにより他の膜を貼り合わせる場合、相互の接着性を改善するために有利である。
【０１６７】
本発明の他の実施態様は、光電モジュール内に存在する１またはそれより多くの合成ポリマー層を安定化させるための、上記で定義された成分（Ｂ）の使用である。
【０１６８】
本発明のさらなる実施態様は、以下の成分を含む光電モジュールである：
（１）  光電性半導体、および
（２）  以下を含有する１層またはそれより多くの層
（Ａ）  架橋されたエチレン酢酸ビニルコポリマー、および
（Ｂ）  式（Ｂ−Ｉ−ａ）の化合物。
【０１６９】
【化２７】
2013502712.tif 000029
【０１７０】
上述の選択は、適切なやり方で、本発明のこの実施態様に適用することもできる。
【０１７１】
下記の実施例で本発明をより詳細に説明する。全てのパーセントおよび部は、特段記載されない限り、質量に対するものである。
【０１７２】
試験された添加剤：
【化２８】
2013502712.tif 000030
【０１７３】
【化２９】
2013502712.tif 000031
【０１７４】
相乗作用の測定：
２つの補助添加剤（（α）および（β））の相乗作用を、計算されたＹＩ（黄色度指数）を、実際に測定されたＹＩと比較することによって測定する。ＹＩ値は、加成則（Ｂ．Ｒａｎｂｙ  ａｎｄ  Ｊ．  Ｆ．Ｒａｂｅｋ；  Ｐｈｏｔｏｄｅｇｒａｄａｔｉｏｎ，  Ｐｈｏｔｏ−ｏｘｉｄａｔｉｏｎ  ａｎｄ  Ｐｈｏｔｏｓｔａｂｉｌｉｚａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ，  Ｐｒｉｎｃｉｐｌｅｓ  ａｎｄ  Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ、Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ、ロンドン、ニューヨーク、シドニー、トロント、１９７５、４１８および４１９ページ）に基づき、以下の式に従って計算される：
2013502712.tif 000032
【０１７５】
ＹＩ測定  ＜  ＹＩ計算
である場合、当該２つの補助添加剤についての相乗作用がある。
【０１７６】
実施例１：  環状オレフィンポリマー膜の安定化。
【０１７７】
１０ｇの市販の環状オレフィンポリマー  （Ｚｅｏｎｅｘ（登録商標）４８０  Ｒ、日本ゼオン株式会社製）を、クロロホルム（７０％）と、シクロヘキサン（２０％）と、トルエン（１０％）との４０ｇの混合物中に、表１に示される添加剤と共に室温で溶解させる。その後、５ｇの該溶液を結晶板上に注ぎ、そして該溶液をＥｒｉｃｈｅｎ（登録商標）流延機によって室温で結晶板上に均一に広げる。溶剤の１０分の蒸発後、２０ミクロンの溶液流延膜が得られる。
【０１７８】
加速耐候試験を、Ａｔｌａｓ  Ｃｉ６５Ａ  ウェザーオーメーターを使用し、乾燥モード（ＡＳＴＭ  Ｇ  ２６Ｃ）で稼働して実施する。
【０１７９】
規則的な間隔の後、ＤＩＮ６１６７による黄色度指数（ＹＩ）を、Ｓｐｅｃｔｒａｆｌａｓｈ（登録商標）ＳＦ  ６００  Ｐｌｕｓを用いて測定する。結果を表１に示す。
【０１８０】
【表１】
2013502712.tif 000033
【０１８１】
実施例２：  ポリ（メチルメタクリレート）の安定化。
【０１８２】
１０ｇのポリ（メチルメタクリレート）  （Ｐｌａｘｉｇｌａｓ（登録商標）  ７Ｎ、Ｅｖｏｎｉｋ製）を、４０ｇのジクロロメタン中に、表２に示される添加剤と共に室温で溶解させる。その後、５ｇの該溶液を結晶板上に注ぎ、そして該溶液をＥｒｉｃｈｅｎ（登録商標）流延機によって室温で結晶板上に均一に広げる。溶剤の１０分の蒸発後、２０ミクロンの溶液流延膜が得られる。
【０１８３】
加速耐候試験を、Ａｔｌａｓ  Ｃｉ６５Ａ  ウェザーオーメーターを使用し、乾燥モード（ＡＳＴＭ  Ｇ  ２６Ｃ）で稼働して実施する。
【０１８４】
規則的な間隔の後、ＤＩＮ６１６７による黄色度指数（ＹＩ）を、Ｓｐｅｃｔｒａｆｌａｓｈ（登録商標）ＳＦ  ６００  Ｐｌｕｓを用いて測定する。結果を表２に示す。
【０１８５】
【表２】
2013502712.tif 000034
【０１８６】
実施例３：  ポリカーボネートの押出膜試料の安定化。
【０１８７】
粉砕された市販のポリカーボネート（Ｍａｋｒｏｌｏｎ（登録商標）３１０８  ＦＢＬ、Ｂａｙｅｒ  Ｍａｔｅｒｉａｌ  Ｓｃｉｅｎｃｅ製）を、真空乾燥器内（Ｖａｃｕｔｈｅｒｍ  １４００）で６時間、１２０℃で乾燥させ、そして内部ミキサー  （ＭＴＩ／Ｍ２０  ＦＵ）内で、表３に示される化合物と８０℃で混合する。二軸スクリュー押出機（Ｂｅｒｓｔｏｒｆｆ  ＺＥ  ２５×３２Ｄ）を用いて、該混合物を２８０℃で配合する。１２０℃で６時間の乾燥後、該組成物を、二軸スクリュー押出機（Ｂｅｒｓｔｏｒｆｆ  ＺＥ  ２５×３２Ｄ）を用いて２８０℃で再度処理する。１２０℃で６時間の、組成物のさらなる乾燥後、２８０℃で押出機（Ｃｏｌｌｉｎ  ＣＲ−１３６／３５０）を用いて、０．１ｍｍ膜が得られる。
【０１８８】
加速耐候試験を、Ａｔｌａｓ  Ｃｉ６５Ａ  ウェザーオーメーターを使用し、湿潤モード（ＡＳＴＭ  Ｇ  ２６Ａ）で稼働して実施する。
【０１８９】
初期および２５７時間後、黄色度指数（ＹＩ）を、ＤＩＮ６１６７に準拠し、Ｓｐｅｃｔｒａｆｌａｓｈ  ＳＦ  ６００  Ｐｌｕｓを用いて測定する。
【０１９０】
結果を表３に示す。
【０１９１】
【表３】
2013502712.tif 000035
【０１９２】
実施例４：  架橋されたエチレン酢酸ビニルコポリマーの安定化。
【０１９３】
市販の架橋されたエチレン酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ；  ＥＬＶＡＸ（登録商標）  ＰＶ  １４００、ＤｕＰｏｎｔ製）を、ペルオキシド（Ｌｕｐｅｒｏｘ（登録商標）  １０１、Ａｒｋｅｍａ製）で、室温で浸漬させる。浸漬されたＥＶＡペレットを、表４に列挙される添加剤と、７０℃未満の室温で、カレンダーミキサー（Ｓｃｈｗａｂｅｎｔｈａｎ（登録商標））を用いて配合し、０．５ｍｍの圧縮された架橋ＥＶＡシートを、圧縮成型機（Ｓｕｔｅｒ（登録商標））を用いて、１５０℃で１０分間、製造する。
【０１９４】
加速耐候試験を、Ｅｙｅ  Ｓｕｐｅｒ  ＵＶ試験機、ＳＵＶ−Ｗ１５１  （岩崎電気株式会社）を使用し、放射照度１００ｍＷ／ｃｍ2、ブラックパネル温度６３℃、および湿度５０％を用い、水の噴霧を用いないで稼働させて実施する。
【０１９５】
初期および指定された間隔の後、黄色度指数（ＹＩ）を、分光光度計（コニカ−ミノルタ  ＣＭ−３７００ｄ）を用いて測定する。
【０１９６】
結果を表４に示す。
【０１９７】
【表４】
2013502712.tif 000036
【０１９８】
実施例５：  ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）中のＵＶ吸収剤の分散。
【０１９９】
１００部のペレットのＥＬＶＡＸ（登録商標）ＰＶ  １４００  （ＤｕＰｏｎｔ  Ｌｔｄ；  ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）、相対質量含有率３２％の酢酸ビニルを有する）およびそれぞれの相対質量の量の表５による添加剤を７０℃および１５０℃で５分間、ミキサー（Ｐｌａｓｔ−Ｃｏｒｄｅｒ、Ｂｒａｂｅｎｄｅｒ）によって配合する。製造された配合材料を、７０℃で３分間、圧縮成型機（Ｓｕｔｅｒ  Ｉｎｃ．）によって、０．５ｍｍ厚の圧縮シートへと変形する。真空、即ち、大気圧よりも低い圧力は、このシート製造の間には適用されない。
【０２００】
製造されたシート内で、０．２５ｍｍより大きい可視の粒子を計数する。結果を表５に示す。
【０２０１】
【表５】
2013502712.tif 000037
【０２０２】
実施例６：  結晶シリコン光電モジュール内での、架橋されたポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）の安定化。
【０２０３】
シート製造：
１００部のペレットのＥＬＶＡＸ（登録商標）  ＰＶ  １４００  （ＤｕＰｏｎｔ  Ｌｔｄ、ポリ（エチレン−ｃｏ−酢酸ビニル）、３２％の相対質量含有率の酢酸ビニルを有する）を、１部の液体のＬｕｐｅｒｏｘ  １０１  （ＲＴＭ  Ａｒｋｅｍａ  Ｉｎｃ．、２，５−ジメチル−２，５−ジ−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）ヘキサンを含有  ［ＣＡＳ番号７８−６３−７］）で、さらなる溶剤を用いないで、回転ガラスフラスコ内で１〜２時間、室温で浸漬させる。
【０２０４】
浸漬されたペレットおよび表６によるそれぞれの相対質量の量の添加剤を、７０℃未満で１０分間、カレンダーミキサー（Ｓｃｈｗａｂｅｎｔｈａｎ  Ｉｎｃ．）によって配合する。製造された配合材料を、７０℃で３分間、圧縮成型機（Ｓｕｔｅｒ  Ｉｎｃ．）によって、０．５ｍｍ厚の圧縮シートへと変形する。真空、即ち、大気圧よりも低い圧力は、このシート製造の間には適用されない。
【０２０５】
モジュールの製造：
貼り合わせ機（Ｍｅｉｅｒ  Ｇｒｏｕｐ）内、ガラス（Ｇｌａｓ  Ｍａｙｅｒ）上部で、上述のＥＶＡシート、結晶シリコンセル（Ｑ６ＬＴＴ３、Ｑｃｅｌｌｓ製）、上述のＥＶＡシートおよび裏面シート（Ｔｙｐｅ  ２４４２  厚さ０．１７ｍｍ、Ｉｓｏｖｏｌｔａ製）を層状化する。プログラム化された貼り合わせ工程（貼り合わせ温度：１４０℃、１時間、真空下）の後、モジュールが得られる。
【０２０６】
耐候試験：
製造されたモジュールを加速耐候試験に曝露し、該試験を、Ｅｙｅ  Ｓｕｐｅｒ  ＵＶ試験機、ＳＵＶ−Ｗ１５１  （岩崎電気株式会社）を使用し、放射照度１００ｍＷ／ｃｍ2、ブラックパネル温度６３℃、湿度５０％を用い、且つ水の噴霧を用いないで稼働して実施する。
【０２０７】
初期および規則的な間隔後、モジュールの開路電圧（Ｖｏｃ）を、日本工業標準ＪＩＳ  Ｃ８９４に準拠して、ソーラシミュレータ  ＰＥＣ−Ｌ１１  （Ｐｅｃｃｅｌｌ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ  Ｉｎｃ．）、およびソースメータ、ＫＥＩＴＨＬＥＹ  ２４００  Ｄｉｇｉｔａｌ  ＳｏｕｒｃｅＭｅｔｅｒ  （Ｋｅｉｔｈｌｅｙ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ  Ｉｎｃ．）を用いて測定する。各々の値の維持が望ましい。
【０２０８】
【表６】
2013502712.tif 000038
【０２０９】
得られる結果は、上記の表内に示される添加剤混合物の良好な安定効果を示す。
【国際調査報告】
2013502712.tif 000049
2013502712.tif 000050
2013502712.tif 000051