(57)【要約】  物品は、フィルムと、不織布及びフィルムの一部を接合するエンボス加工シールと、を含む。シールは、フィルムに形成され、かつフィルムのランドに包囲される、別個の延長要素を含む。別個の延長要素は、開放近位端、開放又は閉鎖遠位端、近位端と遠位端との間に配置される側壁を有し、別個の延長要素の一部分が、ランドの厚さ未満の厚さを有する。不織布の繊維は、ランド及び／又は開放近位端を介して別個の延長要素の側壁の中に、埋め込まれている。
2013522070.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
繊維を含む不織布及びフィルムと、
前記不織布及び前記フィルムの一部を接合するエンボス加工シールであって、前記フィルムに形成されかつ前記フィルムのランドによって包囲される別個の延長要素を含む、エンボス加工シールと、を含み、
前記別個の延長要素が、開放近位端、開放又は閉鎖遠位端、及び前記近位端と前記遠位端との間に配置される側壁を有し、
前記別個の延長要素の一部分が、前記ランドの厚さ未満の厚さを有し、
前記不織布の前記繊維が、前記ランドの中に、及び／又は、前記開放近位端を介して前記別個の延長要素の前記側壁の中に、埋め込まれている、物品。
【請求項２】
前記不織布が、前記フィルムのうちの前記別個の延長要素の前記開放近位端を含む側に、配置されている、請求項１に記載の物品。
【請求項３】
前記不織布が、前記フィルムのうちの前記別個の延長要素の前記閉鎖遠位端を有する側に配置されている、請求項１に記載の物品。
【請求項４】
前記エンボス加工シールが接着剤を含まない、請求項１に記載の物品。
【請求項５】
前記別個の延長要素の前記遠位端及び前記側壁の少なくとも１つが、前記ランドに対して少なくとも約２５％薄くなっている、請求項１に記載の物品。
【請求項６】
前記フィルムが約５ミクロン〜約１５０ミクロンの厚さを有する、請求項１に記載の物品。
【請求項７】
前記不織布が約８ｇｓｍ〜約５０ｇｓｍの坪量を有する、請求項１に記載の物品。
【請求項８】
前記不織布の前記繊維が、約０．１ミクロン〜約５０ミクロンの直径を有する、請求項１に記載の物品。
【請求項９】
前記別個の延長要素が、前記フィルムの厚さとほぼ等しい高さを有する、請求項１に記載の物品。
【請求項１０】
別個の孔、別個の凹み、別個の突出要素、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される形成要素を含む形成構造体と、圧力源と、の間に、フィルム及び繊維を有する不織布を供給する工程と、
前記フィルムを前記形成構造体の前記形成要素に適合させ、かつ前記不織布の前記繊維の少なくとも一部を前記フィルムに埋め込んで、ランドに包囲され且つ開放近位端及び側壁を有する複数の別個の延長要素を含むエンボス加工シールを形成するのに十分な圧力を、前記圧力源から前記フィルム、前記不織布、及び前記形成構造体に対して適用し、前記不織布の前記繊維が、前記ランドの中に、及び／又は、前記別個の延長要素の前記開放近位端を介して前記別個の延長要素の前記側壁の中に、埋め込まれる工程と、を含む、プロセス。
【請求項１１】
前記圧力源が、静圧プレナム、柔軟基材、速度圧力源、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１０に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記圧力源が柔軟基材である、請求項１０に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記適用圧力が約１ＭＰａ〜約１００ＭＰａである、請求項１２に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記圧力源が静圧プレナムである、請求項１０に記載のプロセス。
【請求項１５】
前記適用圧力が約０．１ＭＰａ〜約２５ＭＰａである、請求項１４に記載のプロセス。
【請求項１６】
約０．５ミリ秒〜約５０ミリ秒の滞留時間の間圧力を適用することを含む、請求項１０に記載のプロセス。
【請求項１７】
前記プロセスの間の前記フィルム及び前記不織布の温度が、前記フィルムの融点及び前記不織布の融点の低い方より低い、請求項１０に記載のプロセス。
【請求項１８】
前記形成要素が、約１０ミクロン〜約５０００ミクロンの平均直径を有する、請求項１０に記載のプロセス。
【請求項１９】
前記エンボス加工シールが接着剤を含まない、請求項１０に記載のプロセス。
【請求項２０】
前記エンボス加工シールが、前記フィルムと前記不織布とを溶融融合せずに形成される、請求項１０に記載のプロセス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エンボス加工シールを有するフィルム／不織物品、及びその物品を形成するためのプロセスに関する。
【背景技術】
【０００２】
薄いウェブ材料を一時的に共に接着してシールを形成する多数の既知の方法が存在するが、この方法には、例えば、接着剤の使用と、ベルクロ等の機械的締結要素の追加と、ヒートシーリング又は熱的−機械的結合により、ウェブを融解融合させることと、が挙げられる。例えば米国特許第５，４６２，１６６号には、熱的−機械的手段により熱及び圧力を適用することによって、熱可塑性ポリマーフィルムを共に軟化及び融合する工程が開示されている。しかしながら、これらの方法は、シールを形成するプロセスに、望ましくないコスト及び非効率性、並びに複雑さを追加する。加えて、ウェブを融解状態で共に融合して形成されたシールは、シール以外の場所で望ましくなく裂ける場合があり、また使用者にとって魅力的でない硬いプラスチック様のシールを有する。更に、これら既知の封止方法は、２つのウェブを分離してシールが分割される際に比較的大きい雑音、例えば、ベルクロシールを分割する際の特徴的な大きい音を有し得るシールを製造する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許第５，４６２，１６６号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
当該技術分野での知見にも関わらず、シールを有する物品のより効率的な製造プロセスと、分割される際に（即ち、２つのウェブがシールにおいて分離される際に）静かなシールを有する物品とを開発する願望が依然として存在する。これは、女性ケア製品用の包装として使用される物品に特に当てはまる。このような包装を開放する際にほとんど、あるいは全く雑音を生じず、使用者が包装をより個別的に開放できる封止パッケージを有することが非常に望ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
一実施形態において、物品は、フィルムと、繊維を有する不織布と、不織布及びフィルムの一部を接合するエンボス加工シールと、を含む。シールは、フィルムに形成され、かつフィルムのランドに包囲される、別個の延長要素を含む。別個の延長要素は、開放近位端、開放又は閉鎖遠位端、近位端と遠位端との間に配置される側壁を有し、その別個の延長要素の一部分の厚さは、ランドの厚さ未満である。不織布の繊維は、ランドの中に、及び／又は、開放近位端を介して別個の延長要素の側壁の中に、埋め込まれている。
【０００６】
別の実施形態において、エンボス加工シールの形成プロセスは、フィルム、及び繊維を有する不織布を、圧力源と形成構造体との間に供給することを含む。形成構造体は、別個の孔、別個の凹み、別個の突出要素、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される形成要素を含む。そのプロセスは、フィルムを形成構造体の形成要素に適合させ、かつ不織布の繊維の少なくとも一部をフィルムに埋め込んで、ランドに包囲された複数の別個の延長要素を含むエンボス加工シールを形成するのに十分な圧力を、圧力源からフィルム、不織布、及び形成構造体に対して適用することを含む。別個の延長要素は、開放近位端及び側壁を有し、不織布の繊維は、ランド及び／又は別個の延長要素の開放近位端を介して別個の延長要素の側壁の中に、埋め込まれている。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
本明細書は、本発明とみなされる主題を特定して指摘し明確に請求する特許請求の範囲をもって結論とするが、本発明は、添付の図面と関連させた次の説明から更によく理解されると考えられる。いくつかの図は、他の要素をより簡潔に示すため、選択された要素を省略することで簡易化されてもよい。いくつかの図中のかかる要素の省略は、対応する明細書の中で明確に述べられている場合を除き、代表的な実施形態のいずれかにおいて必ずしも特定要素の有無を暗示するものではない。いずれの図面も必ずしも縮尺どおりではない。
【図１】本開示の実施形態による形成構造体の平面図。
【図２Ａ】孔と凹みとの区別を図示する本開示の実施形態による形成構造体の斜視図。
【図２Ｂ】別個の突出要素を有する形成構造体の一部分の拡大斜視図。
【図３Ａ】本開示の実施形態によるエンボス加工シールの走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）画像。
【図３Ｂ】図３Ａのエンボス加工シールの拡大ＳＥＭ画像。
【図３Ｃ】本開示の実施形態によるエンボス加工シールの拡大ＳＥＭ画像。
【図４】本開示の実施形態によるプロセスの概略図。
【図５Ａ】フィルムのうちの別個の延長要素の開放近位端を有する側に不織布が配置されているのを示す、本開示の実施形態によるエンボス加工シールの概略図。
【図５Ｂ】フィルムのうちの別個の延長要素の遠位端を有する側に不織布が配置されているのを示す、本開示の実施形態によるエンボス加工シールの概略図。
【図６】本開示の実施形態によるエンボス加工シールの別個の延長要素の断面図。
【図７】本開示の実施形態によるエンボス加工シールの、開放遠位端を有する別個の延長要素の斜視図。
【図８】静的ガス圧プレナム（static gas pressure plenum）を図示する、本開示の実施形態によるプロセスの概略図。
【図９】本開示の実施形態によるエンボス加工ウェブを作製するための連続的なプロセスの略図。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本明細書には、少なくともフィルムと不織布とのシール接着部分を有する物品と、前述した従来技術の欠点の１つ以上を克服する物品の形成プロセスと、が開示される。特に、ここでの該物品の実施形態は、フィルムと不織布を分離する際に実質的により静かな物品を可能とする。ここでのプロセスの実施形態は、より効率的なウェブ封止プロセスを可能とする。例えば、物品及びプロセスの実施形態は、高価な接着剤、又はフック／ループ（即ちベルクロ）及び隆起部／溝等の追加の機械的接着要素の使用、並びに接着剤又は機械的接着要素の適用に関連した複雑なプロセスを回避する能力を可能とし得る。物品及びプロセスの実施形態は、フィルムと不織布とを共に溶融及び融合してシールを形成する複雑なプロセスの使用を回避する能力も可能とし得る。そのようなシールは、分離の際に非常に大きい音を生じ得る、及び／又はフィルムと不織布との破断（シールの際の分離ではなく）をもたらし得る。
【０００９】
図３Ａ、図３Ｂ、及び図３Ｃを参照すると、一実施形態において、物品は、一般に、少なくともフィルム３３と、不織布３４と、フィルム３３及び不織布３４の一部分を接合するエンボス加工シール１６と、を含む。シールは、フィルム３３に形成されたランド１３によって包囲される別個の延長要素（離散した延長要素、分散した延長要素）２２を含む。別個の延長要素２２は、開放近位端（開放基端）３０と、開放又は閉鎖遠位端２４（開放又は閉鎖先端）と、近位端と遠位端２４との間に配置される側壁と、を有する。シールは、ランド１３の中に、及び／又は、別個の延長要素２２の側壁の中に、埋め込まれた、不織布３４の繊維２３を更に含む。別個の延長要素２２は、ランド１３と比較して薄くなっていてもよい。例えば、別個の延長要素２２の遠位端２４及び／又は側壁は、薄くすることができる。内部に埋め込まれた不織布３４の繊維２３を有する別個の延長要素２２を含むエンボス加工シール１６は、フィルム３３と不織布３４との間に大きい界面表面積を有する。
【００１０】
別個の延長要素２２は、Ｚ方向に延びて三次元要素を形成する。内部に埋め込まれた又は別個の延長要素２２を包囲するランド１３の中に埋め込まれた繊維２３を有する別個の延長要素２２は、高せん断力を発生させて、物品の操作中にフィルム３３と不織布３４とが分離するのを防止すると考えられる。驚くべきことに、接着剤、追加の機械的接着要素、又はフィルム３３と不織布３４との溶融融合がなくても、シールは、非常に高い剥離強度を有することも可能である。理論に束縛されるものではないが、エンボス加工シール１６の強度は、内部に埋め込まれた不織布３４の繊維２３を有するフィルム３３の領域の大きい界面表面積、フィルム３３及び不織布３４がそれら自体に接着しかつ互いに接着する能力、及びエンボス加工シール１６を変形し得る容易さの関数であると考えられる。
【００１１】
フィルム３３と不織布３４との界面表面積は、少なくとも別個の延長要素２２の形状及びエンボス加工シール１６内の別個の延長要素２２の密度の関数である。エンボス加工シール１６の剥離強度は、界面表面積の拡大と共に増大すると考えられる。フィルム３３及び不織布３４がそれら自体に接着し、かつ互いに接着する能力は、少なくともフィルム３３及び不織布３４の摩擦係数、フィルム３３及び不織布３４の表面エネルギー、並びに、フィルム３３と不織布３４の繊維２３との間並びに／又はフィルム３３と、フィルム３３及び／若しくは不織布３４の繊維２３と不織布３４の繊維２３との間の接触部分の間の、ファン・デル・ワールス力、双極子間相互作用、静電気力、水素結合などといった引力の、関数である。エンボス加工シール１６の剥離強度は、一般に、フィルム３３及び不織布３４がそれら自体に及び互いに接着する能力の増大と共に増大すると考えられる。
【００１２】
また剥離強度は、エンボス加工シール１６が剛性ではなく、より可撓性である場合に増大すると考えられる。より可撓性のエンボス加工シール１６では、フィルム３３及び不織布３４は一緒に動きかつ屈曲することができるので、屈曲されたときに、シール領域内で密接に接着した状態を保つことができる。より低い弾性率及び／又はより低いゲージを有するフィルム及び不織布が使用された場合に、より可撓性のシールが得られると考えられる。フィルム３３及び不織布３４は、エンボス加工シール１６が剛性である場合、屈曲された際に分離する傾向がより高いことがあり、そのような分離によりエンボス加工シール１６の剥離強度が弱化し得る。
【００１３】
図４を参照すると、エンボス加工シール１６の形成プロセスは、一般に、フィルム３３及び繊維２３を有する不織布３４を、圧力源（例えば、柔軟基材４４）及び複数の別個の形成要素１１を含む形成構造体１０の間に供給することを含む。形成要素１１は、例えば、別個の突出要素（離散した突出要素、分散した突出要素）１５、別個の孔（離散した孔、分散した孔）１２、別個の凹み（離散した凹み、分散した凹み）１４、又はこれらの組み合わせを含み得る。プロセスは、圧力源からの圧力を、フィルム３３の一部分を別個の形成要素１１に適合させる及び不織布３４の繊維２３の少なくとも一部をフィルム３３に埋め込むのに十分な圧力を、フィルム３３、不織布３４、及び形成構造体１０に対して適用し、それによってエンボス加工シール１６を形成することを更に含む。エンボス加工シール１６は、ランド１３に包囲された複数の別個の延長要素２２を含む。別個の延長要素２２は、開放近位端３０と側壁とを有する。不織布３４の繊維２３は、ランド１３及び／又は開放近位端３０を介して別個の延長要素２２の側壁の中に、埋め込まれている。これらの物品及びプロセスの態様を、以下に更に詳細に記載する。更に、特定の実施形態では、例えば、繊維２３がフィルム３３を貫通して延びない場合などは、繊維２３はフィルム３３によって封じ込められる。特定の実施形態において、別個の延長要素２３は開放遠位端３０を有し、繊維２３は、フィルム２３を貫通せず、開放遠位端３０から外に延びない。更に、特定の実施形態において、繊維２３は、フィルム２３に対して房を形成しない。
【００１４】
形成構造体
図１及び２を参照すると、本開示のプロセスに有用な形成構造体１０は、複数の別個の形成要素１１を含む。別個の形成要素１１は、別個の突出要素１５、別個の孔１２、別個の凹み１４、又はこれらの組み合わせを含むことができる。形成構造体１０は、別個の形成要素１１を完全に包囲するランド１３を更に含むことができる。形成構造体１０の別個の形成要素１１は、従来のエンボス加工プロセスで形成構造体上に使用される典型的なパターンと比較して小さい大きさを有してもよい。本開示のプロセスは、フィルム及び不織布を加熱しなかったとしても、また高速においてでさえも、薄くなった遠位端２４及び／又は側壁を有する比較的高い縦横比の延長要素１１を含むエンボス加工シール１６を製造することができる。形成構造体１０は、例えば、別個の形成要素１１を有する部分と、別個の形成要素を有さない部分１９と、を含み得る。
【００１５】
形成構造体１０は、成形スクリーンとも呼ばれる。図２Ａは、孔１２と凹み１４との差異を示す。本明細書で使用するとき、「孔」は、開口部の深さを制限する底面を含まない形成構造体１０の開口部を指す。これに対し、本明細書で使用するとき、「窪み」は、開口部の深さが形成構造体１０の厚さ未満になるよう開口部の深さを制限する底面を有する形成構造体１０の開口部を指す。底面は、例えば、多孔質でも非多孔質でもよい。例えば、底面は、凹み１４の直径よりも小さい幅を有する開口部を含むことができ、この開口部は凹み１４に空気を通過させることにより凹み１４を通気する。一実施形態において、形成構造体１０は、フィルム３３の下部に捕捉されたあらゆる空気を逃す手段を有する。例えば、真空支援を提供して、フィルム３３の下の空気を除去することによって、必要とされる適合圧が増加しないようにすることができる。底面は平坦であっても、丸くても、あるいは鮮鋭であってもよい。形成構造体１０は固体ロールであってもよく、又は、約２５マイクロメートル〜約５０００マイクロメートル、若しくは約１００マイクロメートル〜約３０００マイクロメートルの厚さを有してもよい。孔１２及び凹み１４は、約１０マイクロメートル〜約５００マイクロメートル、又は約２５マイクロメートル〜約５０００マイクロメートルの深さを有することができる。本明細書で使用するとき、孔１２はその深さを制限する底面を有さないので、孔の深さは形成構造体の厚さに相当する。一実施形態では、孔１２及び窪み１４は、フィルム３３の厚さとほぼ等しい深さ、フィルム３３の厚さの少なくとも２倍の深さ、又はフィルム３３の厚さの少なくとも３倍の深さを有することができる。好ましくは、孔１２及び凹み１４は、フィルム３３の厚さの少なくとも３倍の深さを有する。更に、例えば、図３Ａに示されるような特定の実施形態において、別個の突出要素１５は密集することができ、それにより、別個の突出要素１５間のすき間は、ウェブ形成プロセス中に凹みとしての機能を果たすことができる。
【００１６】
形成構造体１０のフィルム／不織布接触表面の孔１２又は凹み１４の周辺は、真っ直ぐな縁部を有することができる、又は形成構造体１０のフィルム／不織布接触表面から孔１２又は凹み１４内へ測定した場合に曲率半径を有することができる。この曲率半径は、約０マイクロメートル〜約２０００マイクロメートル、好ましくは約０マイクロメートル〜約２５マイクロメートル、及びより好ましくは約２マイクロメートル〜約２５マイクロメートルであり得る。一実施形態では、面取りとして一般に既知の、角度を成すテーパが使用される。一実施形態では、一直線の縁部と半径との組み合わせが使用される。
【００１７】
別個の突出要素１５は、少なくとも約５０マイクロメートル、少なくとも約７５マイクロメートル、少なくとも約１００マイクロメートル、少なくとも約１５０マイクロメートル、少なくとも約２５０マイクロメートル、又は少なくとも約３８０マイクロメートルの高さを有してもよい。別個の突出要素１５は、略円筒形構造の場合、外径である直径を有してもよい。突出要素１５が非均一な断面及び／又は非円筒形構造を有する場合、直径ｄｐは、図２Ｂに示されるように、突出要素１５の１／２高さｈｐにおける突出要素１５の平均断面寸法として測定される。別個の突出要素１５は、約１０ミクロン〜約５，０００ミクロン、約５０ミクロン〜約５，０００ミクロン、約５００ミクロン〜約５，０００ミクロン、約５０ミクロン〜約３，０００ミクロン、約５０ミクロン〜約５００ミクロン、約６５ミクロン〜約３００ミクロン、約７５ミクロン〜約２００ミクロン、又は約８００ミクロン〜約２，５００ミクロンであり得る直径ｄｐを有し得る。
【００１８】
一実施形態では、形成構造体１０の離散型隆起要素１５は、約５００マイクロメートル未満の直径を有する。
【００１９】
各突出要素１５に関して、ｈｐ／ｄｐと定義される突出要素の縦横比が決定され得る。突出要素１５は、少なくとも約０．５、少なくとも約０．７５、少なくとも約１、少なくとも約１．５、少なくとも約２、少なくとも約２．５、又は少なくとも約３以上の縦横比ｈｐ／ｄｐを有してもよい。広くは、個々の突出要素１５のそれぞれの実際の高さＨＰは様々であり得るため、複数の突出要素１５の平均高さ（「ｈｐ平均」）は、形成構造体１０の所定の範囲上の突出要素の平均最小振幅（「Ａｐ最小」）、及び突出要素の平均最大振幅（「Ａｐ最大」）を測定する工程により決定されてもよい。同様に、断面寸法が様々な場合、突出部の平均直径（「ｄｐ平均」）は、複数の突出部１５に関して決定されてもよい。そのような振幅及び他の寸法の測定は、コンピュータ支援走査顕微鏡及び関連データ処理などの当該技術分野で既知の任意の方法によって行うことができる。したがって、形成構造体１０の所定の部分に関する突出要素１５の平均縦横比、（「ＡＲｐ平均」）は、ｈｐ平均／ｄｐ平均と表すことができる。
【００２０】
形成構造体１０の別個の突出要素１５は、開放（形成構造体１０上により鋭い突出要素を必要とする）又は閉鎖（形成構造体１０上により丸い突出要素を必要とする）された遠位端２４を有する別個の延長要素２２を備えたエンボス加工シール１６の生成を所望するかどうかに応じて、平坦な、丸い又は鋭い遠位端２４を有し得る。形成構造体１０の別個の突出要素１５の丸い遠位端２４は、約５マイクロメートル〜約１５０マイクロメートル、約１０マイクロメートル〜約１００マイクロメートル、約２０〜約７５マイクロメートル、又は約３０マイクロメートル〜約６０マイクロメートル等の所定の先端部半径を有してもよい。
【００２１】
別個の突出要素１５の側壁は、完全に垂直であっても、又はテーパ状であってもよい。一実施形態において、別個の突出要素１５はテーパ状の側壁を有してもよく、これは、テーパ状の側壁が圧力源の耐久性及び寿命に影響を与え得るためである。例えば、柔軟基材４４を使用する場合、テーパ状の側壁は、柔軟基材４４を形成構造体１０の別個の形成要素１１の周囲に適合させる際に、柔軟基材４４にかかる圧縮又は張力を緩和することができる。これにより、エンボス加工の後に、フィルム３３及び不織布３４を形成構造体１０からより容易に分離させることも可能となる。一実施形態では、側壁は、典型的には約０度〜約５０度、約２度〜約３０度、又は約５度〜約２５度のテーパ度を有することになる。
【００２２】
一実施形態において、形成要素は、突出要素１５の高さ及び孔１２又は凹み１４の深さなどの様々な形状を有することができ、フィルム３３及び不織布３４の所定の領域の結合強度に選択的に影響を与えることができる。例えば、形成要素の高さは、徐々に、又は何十若しくは何百もの隣接する突出要素１５の範囲にわたって増大することができ、このことにより様々な高さを有する別個の延長要素２２を備えたフィルム３３をもたらすことができ、このことが更にまた、強度勾配を有するエンボス加工シール１６をもたらすことができる。対応する別個の延長要素２２の特徴部をもたらす形成構造体１０の他の特徴を調整して、強度勾配を有するエンボス加工シール１６を形成することができる。例えば、形成構造体１０は、形成要素の面密度勾配を含み得る。
【００２３】
一実施形態において、突出要素１５は、突出要素の高さに沿って異なる又は様々な直径を有する、球形、楕円形、又は雪だるま形であり得る。
【００２４】
孔１２又は窪み１４は直径を有し、概して円筒形の構造体では、直径は内径である。孔１２又は凹み１４が非均一な断面、及び／又は非円筒構造を有する場合、直径は、形成構造体１０の頂面における孔１２又は凹み１４の平均断面寸法として測定される。各孔１２又は凹み１４は、約４０マイクロメートル〜約２，０００マイクロメートルの直径を有してもよい。他の好適な直径には、例えば、約５０マイクロメートル〜約５００マイクロメートル、約６５マイクロメートル〜約３００マイクロメートル、約７５マイクロメートル〜約２００マイクロメートル、約１０マイクロメートル〜約５０００マイクロメートル、約５０マイクロメートル〜約５０００マイクロメートル、約５００マイクロメートル〜約５０００マイクロメートル、又は約８００マイクロメートル〜約２，５００マイクロメートルが挙げられる。
【００２５】
一実施形態では、孔１２又は窪み１４の直径は、一定であるか、又は深さの増加につれて減少する。別の実施形態では、孔１２又は窪み１４の直径は、深さの増加につれて増加する。例えば、別個の孔１２又は窪み１４は、第１の深さで第１の直径を有し、第１の深さより深い第２の深さで第２の直径を有することができる。例えば、第１の直径が第２の直径より大きくてもよい。例えば、第２の直径が第１の直径より大きくてもよい。
【００２６】
別個の孔１２又は窪み１４の側壁は、完全に垂直であってもテーパされていてもよい。一実施形態では、別個の孔１２又は窪み１４は、テーパ形状の側壁を有する。これにより、エンボス加工の後に、フィルム３３及び不織布３４を形成構造体１０からより容易に分離させることも可能となる。一実施形態では、側壁は、典型的には、約０°〜約−５０°〜約５０°、約−３０°〜約３０°、約０°〜約５０°、約２°〜約３０°、又は約５°〜約２５°のテーパ度を有することになる。
【００２７】
形成構造体１０の別個の形成要素１１は、円形、楕円形、砂時計形、星形、多角形等、及びこれらの組み合わせを含む、略円柱又は非円柱状等、様々な異なる断面形状を有することができる。多角形の断面形としては、限定はしないが、長方形、三角形、六角形、又は台形が挙げられる。一実施形態では、別個の窪み１４は形成構造体１０の長さとほぼ等しい長さを有し、したがって、形成構造体１０のほぼ全長の周囲に溝を形成することができる。別の実施形態では、別個の突出要素１５は、形成構造体１０の長さと実質的に等しい長さを有して、形成構造体１０の実質的に全長の周りに延長突出要素を形成してもよい。例えば、形成構造体１０がロールの形態である場合、溝及び／又は延長突出要素１５は、ロールの周囲全体の周りに形成され得る。溝及び／又は延長突出要素１５は、実質的に直線状（例えば、ロールの縁部に一貫して平行）であり得、又は波状であり得る。あるいは、特定の実施形態では、形成構造体１０は、機械方向の列にのみ設けられた別個の形成要素１１を含まない。例えば、特定の実施形態では、形成構造体１０は、横断方向の列に設けられた別個の形成要素１１を含む。
【００２８】
広くは、形成構造体１０は、その所定の部分に関して、１平方センチメートル当たり少なくとも約０．０．１５個の別個の形成要素１１、例えば、１平方センチメートル当たり少なくとも約４個の別個の形成要素１１、１平方センチメートル当たり少なくとも約１０個の別個の形成要素１１、１平方センチメートル当たり少なくとも約９５個の別個の形成要素１１、１平方センチメートル当たり少なくとも約２４０個の別個の形成要素１１、１平方センチメートル当たり約３５０〜約１０，０００個の別個の形成要素１１、１平方センチメートル当たり約５００〜約５，０００個の別個の形成要素１１、又は１平方センチメートル当たり約７００〜約３，０００個の別個の形成要素１１を含む。
【００２９】
別個の形成要素１１は、約３０マイクロメートル〜約１０００マイクロメートル、約５０マイクロメートル〜約８００マイクロメートル、約１５０マイクロメートル〜約６００マイクロメートル、又は約１８０マイクロメートル〜約５００マイクロメートルの、２つの隣接する孔１２の間又は凹み１４の間の縁部間の平均間隙を有することができる。
【００３０】
所定の実施形態では、形成構造体１０の一部（又は範囲）は、前項に記載したような別個の形成要素１１の面密度を含んでもよく、また一方では、形成構造体１０の他の部分（又は範囲）は別個の形成要素１１を含まなくてもよい。別個の形成要素１１を有さない形成構造体１０の範囲は、異なる水平面内に位置していてもよい。別の実施形態では、形成構造体１０の別個の形成要素１１は、形成構造体１０の異なる水平面内に位置していてもよい。別個の形成要素１１を有さない領域、及び／又は形成構造体１０の異なる水平面内に位置する別個の形成要素１１を有する領域は、花、鳥、リボン、波、漫画キャラクター、ロゴ等の特定のパターン又はデザインの形態であることができ、それによりエンボス加工シール１６は、フィルム３３及び不織布３４の残りの部分に対して視覚的に目立つ、及び／又は触った際に異なる手の感触を有する領域を有する。例えば、エンボス加工シール１６は、エンボス加工領域から視覚的に目立ち、及び／又はエンボス加工領域とは異なる手の感触を有する非エンボス加工領域を含むことができる。米国特許第５，１５８，８１９号には、これらの実施形態に使用するための形成構造体の好適な例が提供されている。
【００３１】
一実施形態において、孔１２若しくは凹み１４の平均深さ又は別個の突出要素１５の平均高さと、フィルム３３の厚さとの比は、少なくとも約１：１、少なくとも約２：１、少なくとも約３：１、少なくとも約４：１、少なくとも約５：１、又は少なくとも約１０：１である。この比は、特に望ましいプロセス条件及び速度でフィルム３３が十分に伸張されて、それぞれが永久変形されてエンボス加工シール１６を作製することを確実にするのに重要であり得る。
【００３２】
形成構造体１０は、エンボス加工シール１６を作製するのに必要な寸法を有する別個の形成要素１１を有するよう形成されることができ、かつ形成構造体１０が受けるプロセス温度及び圧力の範囲にわたって寸法的に安定である、任意の材料（１種又は複数種）から形成されていてもよい。
【００３３】
一実施形態において、別個の形成要素１１は形成構造体１０と一体的に作製される。即ち、形成構造体１０は、材料を除去するか又は材料を構築するかのいずれかにより一体構造として作製される。例えば、所望される比較的小さい大きさの別個の形成要素１１を有する形成構造体１０は、化学的エッチング、機械的エッチング、又は放電加工機（ＥＤＭ）若しくはレーザー等の高エネルギー源を使用した除去、又は電子ビーム（ｅ−ビーム）、又は電気化学的加工（ＥＣＭ）等により材料を局所的、選択的に除去する工程によって作製することができる。一実施形態において、形成構造体１０は、概ね米国特許第４，３４２，３１４号の教示に従って、光エッチング積層（photo etched laminate）プロセスにより構成され得る。
【００３４】
好適な形成構造体１０を作製する１つの方法では、レーザーで修正しやすいベース材料をレーザー「エッチング」して材料を選択的に除去し、孔１２又は窪み１４を形成する。「レーザー改質が可能」とは、最適な結果になるようにレーザー処理で使用する光の波長並びに出力レベルを材料に整合させる（又は、その逆）必要があることを認識した上で、材料をレーザー光によって制御下で選択的に除去できることを意味する。レーザーエッチングは、所望の寸法の突出要素を作製するために必要に応じて波長、力及び時間パラメータを選択する既知のレーザー技術によって達成することができる。レーザー改質が可能な現在既知の材料には、ポリプロピレンなどの熱可塑性材料、ＤｕＰｏｎｔ，Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ  ＤＥ，ＵＳＡによるＤＥＬＲＩＮ（登録商標）などのアセタール樹脂、架橋ポリエステル若しくはエポキシなどの熱硬化性材料、又は更にはアルミニウム、銅、黄銅、ニッケル、ステンレス鋼又はこれらの合金などの金属が挙げられる。所望により、熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂材料を微粒子又は繊維充填剤で充填して、特定の光の波長のレーザーとの適合性を増すこと及び／又は弾性率若しくは強靱性を改善し、より耐久性のある孔１２又は窪み１４を作製することができる。例えば、ポリマーに十分な量の中空カーボンナノチューブファイバを均一に入れることによって、ＰＥＥＫなどの特定のポリマーをより高い分解能にかつ高速でレーザー加工することができる。
【００３５】
一実施形態では、形成構造体１０を連続的なプロセスでレーザー加工することができる。例えば、ＤＥＬＲＩＮ（登録商標）などのポリマー材料は、中心縦軸、外側面及び内側面を有する基礎材料として円筒形状で提供されることができ、外側面及び内側面は、基礎材料の厚さを画定する。また、中実ロールとして提供されてもよい。可動式レーザー源は、外側面に対して略垂直に向けられてもよい。可動式レーザー源は、基礎材料の中心縦軸と平行な方向に移動可能でよい。円筒形の基部材料は、レーザー源が基部材料の外側表面を加工又はエッチングして、複数の別個の孔１２若しくは凹み１４及び／又は別個の突出要素１５を画定するパターンにて基部材料の選択された部分を除去する間、中心長手方向軸の周囲を回転してもよい。
【００３６】
形成構造体１０は、平坦なプレート、ロール、ベルト、継目なしベルト、スリーブなどの形状であってもよい。１つの好ましい実施形態では、形成構造体１０はロールの形状である。別の好ましい実施形態では、形成構造体１０は継目なしベルトの形状である。継目なしベルトは、米国特許第７，６５５，１７６号、同第６，０１０，５９８号、同第５，３３４，２８９号、及び同第４，５２９，４８０号に従って形成することができる。
【００３７】
形成構造体を、米国特許出願第２００８／０２２４３５１（Ａ１）号に記載されているような低歪み速度プロセスで使用して、本発明のエンボス加工ウェブを製造することができ、その場合作動ベルトは固い又は柔軟な基材４４である。
【００３８】
形成構造体１０が突出要素１５並びに別個の孔１２及び凹み１４を含む場合、別個の延長要素２２は、形成構造体１０の孔１２又は凹み１４により形成された別個の延長要素２２が形成される表面の反対側のフィルム３３の表面から延びるように、フィルム３３内に形成されてもよい。結果として、エンボス加工シール１６の各面上に異なるパターン又は寸法の延長要素２２を有する、両面エンボス加工シール１６が作製され得る。形成構造体１０と柔軟基材４４との間に生成される圧力と、孔１２又は凹み１４及び形成構造体１０の任意の柱又は隆起部の幾何学的形状と、に応じて、エンボス加工シール１６の別個の延長要素２２は、閉鎖又は開放遠位端２４を有することができる。
【００３９】
圧力源
形成構造体１０に対して力を提供するよう使用される圧力源は、例えば、柔軟基材４４、静圧プレナム（static pressure plenum）３６、速度圧力源（velocity pressure source）、又はこれらの組み合わせであり得る。速度空気圧を提供してフィルム３３及び不織布３４を形成構造体に適合させるのに適した装置の一例は、高圧エアナイフである。高圧エアナイフは、例えばＣａｎａｄｉａｎ  Ａｉｒ  Ｓｙｓｔｅｍｓから市販されている。フィルム３３及び不織布３４を形成構造体１０に適合させるために空気圧を利用する好適な装置及びプロセスの別の例は、米国特許第５，９７２，２８０号に記載されている。フィルム３３及び不織布３４を形成構造体１０に適合させるために水圧を提供するのに好適な装置の一例は、米国特許第７，３６４，６８７号に記載されるような水プレナムである。例えば、エンボス加工シール１６を作製する好適なプロセスは、液圧成形プロセスである。液圧成形プロセスの非限定的な例は、米国特許第４，６０９，５１８号及び同第４，８４６，８２１号に記載されている。本明細書に記載される形成構造体１０，フィルム３３、及び不織布３４は、そのような液圧成形プロセスで使用され得る。
【００４０】
例えばエンボス加工シール１６を作製する他の好適なプロセスは、真空成形プロセスである。真空成形プロセスの非限定的な例は、米国特許第４，４５６，５７０号及び同第４，１５１，２４０号、並びに米国特許出願公開第２００４／０１１９２０７（Ａ１）号に記載されている。本明細書に記載するような形成構造体１０、フィルム３３、及び不織布３４を、そのような真空成形プロセスで使用して、本開示のエンボス加工シール１６を製造することができる。他の好適なプロセスは、米国特許第４，８４６，８２１号及び米国特許出願公開第２００４／０１１９２０７（Ａ１）号に記載されている。
【００４１】
柔軟基材
最小限に示された図９を参照すると、柔軟基材４４の外側表面（即ち、形成構造体１０に向かって配向された柔軟基材４４の表面）は、柔軟材料４６を含む。例えば、柔軟基材４４は、柔軟材料４６で覆われた剛性材料４８を含んでもよい。剛性材料４８は柔軟材料４６よりも有意により硬い金属（鋼等）、プラスチック、又は任意の他の材料であってもよい。剛性材料４８を覆う柔軟材料４６の厚さは、典型的には約２６ｍｍ以下であり、好ましくは約１ｍｍ〜約２６ｍｍ、より好ましくは約１ｍｍ〜約７ｍｍであろう。あるいは、柔軟基材４４全体を柔軟材料４６で作製してもよい。
【００４２】
柔軟基材４４又は柔軟材料４６は、エラストマー類、フェルト類、液体充填袋（liquid-filled bladder）、気体充填袋（gas-filled bladder）、及びこれらの組み合わせを含んでもよい。一実施形態において、柔軟基材４４は多孔質エラストマーである。柔軟基材４４、又は柔軟基材４４に用いられる柔軟材料４６は、プロセス、特に連続プロセスを円滑にするのに十分なだけ速くリバウンドするように、弾力的特性（圧縮回復性など）を有するのが好ましい。
【００４３】
柔軟基材４４、又は柔軟基材４４に用いられる柔軟材料４６はまた、多量のフィルム３３及び不織布３４材料をエンボス加工するのに十分なだけの耐久性を有するのが好ましい。結果として、柔軟基材４４は、好ましくは好適な程度の強靱性及び耐摩耗性を有し、柔軟基材４４はプロセス中に形成構造体１０により摩耗される傾向を有するであろう。
【００４４】
柔軟基材４４は、平坦なプレート、ロール、ベルト、エンドレスベルト、スリーブ等の形態であってもよい。一実施形態において、柔軟基材４４は、エラストマー等の柔軟材料４６で覆われた金属ロールである。別の実施形態では、柔軟基材４４及び形成構造体１０は、両方ともロールの形態を有する。別の実施形態では、柔軟基材４４は、形成構造体１０のロールの直径よりも大きい直径を有するロールである。別の実施形態では、柔軟基材４４は、形成構造体１０のロールの直径よりも小さい直径を有するロールである。別の実施形態では、柔軟基材４４は、形成構造体１０のロールの直径と同一の直径を有するロールである。
【００４５】
柔軟基材４４、又は柔軟基材４４中で使用される柔軟材料４６は、典型的には、ショアＡスケール上で約３０〜約９０デュロメータ、好ましくは約３５〜約８０デュロメータ、より好ましくは約４０〜約７０デュロメータの硬さを有するであろう。ショアＡスケールの硬さは、典型的には、カリフォルニア州ロサンゼルスのＰＴＣ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓから入手可能なＭｏｄｅｌ  ３０６  Ｔｙｐｅ  Ａ  Ｃｌａｓｓｉｃ  Ｓｔｙｌｅ  ＤｕｒｏｍｅｔｅｒなどのＡＳＴＭ  Ｄ２２４０デュロメータを使用することによって決定される。柔軟基材４４は、様々な硬さ、例えば外側表面の近傍でより低い硬さと、柔軟基材４４の内側表面に向かってより高い硬さとを有し（即ち、柔軟基材４４のｚ−方向に変化する硬さ）、又は柔軟基材４４の外側表面を横切って変化する硬さ（即ち、柔軟基材４４のＸ−Ｙ面内で変化する硬さ）を呈してもよいことを理解するべきである。
【００４６】
柔軟基材４４中に使用される柔軟材料４６は、典型的には約１〜約２０ＭＰａ、好ましくは約２〜約１８ＭＰａ、より好ましくは約３〜約１０ＭＰａの引張係数を有するであろう。柔軟材料４６の引張係数は、０．１秒−１の歪み速度で測定されてもよい。
【００４７】
適切な適合材料の非限定的な例には、天然ゴム、ウレタンゴム、ポリウレタンゴム、クロロスルホン化ポリエチレンゴム（ＤｕＰｏｎｔから商品名ＨＹＰＡＬＯＮ（登録商標）で入手可能）、クロロプレンゴム、ノボルネンゴム、ニトリルゴム、水素化ニトリルゴム、スチレンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム、シリコーンゴム、エチレンプロピレンジエン（「ＥＰＤＭ」）ゴム、イソブチレンイソプレンゴム、フェルト（例えば圧縮ウールフェルト）などが挙げられる。特に有用な柔軟材料は、約４０〜約７０デュロメータのショアＡ硬度を有する、イソプレン、ＥＰＤＭ、ネオプレン、及びＨＹＰＡＬＯＮ（登録商標）である。
【００４８】
柔軟材料４６は、フィルム３３及び不織布３４と共に剛体材料４８と形成構造体１０との間に供給されることができる、吸収性コアのような材料であってもよい。そのような材料は、フィルム３３及び不織布３４をエンボス加工するために、フィルム３３及び不織布３４並びに形成構造体１０に対する圧力を生成するように機能することができる。そのような材料は、次にエンボス加工シール１６と共に女性用衛生製品等の完成品の消費者製品に後に組み込まれてもよい。
【００４９】
柔軟基材４４は、特定の領域内におけるフィルム３３及び不織布３４のエンボス加工を防ぐか、又は特定の領域内におけるフィルム３３及び不織布３４を最小限にのみエンボス加工するのに十分な深さの凹状領域を任意に含むことができる。
【００５０】
静圧プレナム
図８を参照すると、フィルム３３及び不織布３４に対する力を提供して、フィルム３３を形成構造体１０の別個の形成要素１１に適合し、かつ不織布３４の繊維２３をフィルム３３に埋め込むために、静圧プレナム３６が使用される。好ましくは、静圧プレナム３６は、静圧ガスプレナムである。ガスは、空気、窒素、二酸化炭素、及びこれらの組み合わせであってもよい。
【００５１】
静圧プレナム３６は、フィルム３３及び不織布３４に圧力を加える。静圧ガスプレナム３６は、フィルム３３及び不織布３４に隣接するプレナム４０を画定するフード３８を含むことができる。フード３８は、少なくとも１つの高圧ガス入口４２を含み、高圧ガス又は他の流体がフード３８内に入って静圧条件を作り出すのを可能にすることができる。静的ガス圧条件下では、エンボス加工されていないフィルム３３及び不織布３４に作用する、エアナイフなどの速度圧力源と同様の速度及び密度はない。むしろ、静的な高いガス圧力がフード３８内で維持され、フィルム３３及び不織布３４の表面に面する静圧プレナム３６と、フィルム３３及び不織布３４の表面に面する形成構造体１０との間で、フィルム３３及び不織布３４にわたる圧力差が作り出される。圧力差は、フィルム３３を形成構造体１０の別個の形成要素１１に適合させるのに十分である。圧力差は、例えばフィルム３３の表面に面する形成構造体１０上に真空を適用することにより増大させることができる。
【００５２】
フィルム及び不織布
フィルム３３及び不織布３４は、エンボス加工シール１６によって接合される。好適なフィルムは圧力源により変形され得る材料を含み、それによりフィルムは、形成構造体１０の別個の要素１１に適合して、フィルム３３内に別個の延長要素２２を形成する。好ましくは、フィルム３３は、それ自体及び／若しくは他のフィルム並びに／又は不織布材料に付着する能力を有する。
【００５３】
フィルム３３は、典型的には、合成材料、金属材料、生物学的材料（特に動物由来の材料）、又はそれらの組み合わせを含む。フィルム３３及び不織布３４は、同じ材料であることができ、又は異なる材料であることができる。フィルム３３及び不織布３４は、任意に、セルロース系材料を含むことができる。一実施形態では、フィルム３３及び不織布３４は、セルロース系材料を含まない。好適なフィルムの非限定的な例は、ポリマー又は熱可塑性フィルム、コラーゲンフィルム、キトサンフィルム、レーヨン、セロファン等などである。好適なフィルムには、更にこれらの材料の積層体又はブレンドが挙げられる。
【００５４】
フィルム３３は、本開示のエンボス加工プロセスによって本明細書に記載されるエンボス加工シール１６に形成されるのに十分な材料特性を有する、ポリマーフィルム等の任意の材料であり得る。フィルム３３は、典型的には降伏点を有し、また、フィルム３３は、エンボス加工シール１６の別個の延長要素２２を形成するために、その降伏点を超えて伸張するのが好ましい。つまり、フィルム３３は、フィルム３３が破断することなく閉鎖遠位端２４を有する所望の別個の延長要素を製造する程度に歪むことができるように、又は、開放遠位端２４を有する別個の延長要素２２を含むエンボス加工シールの場合には、破断されて開放遠位端２４を形成する程度に歪むことができるように、十分な降伏特性を有する必要がある。以下に開示するように、温度等のプロセス条件は所定のポリマーに関して変化し、破壊され又は破断されることなくポリマーを伸張して所望の別個の延長要素２２を有するエンボス加工シール１６を形成する工程を可能にし得る。したがって、広くは、フィルム３３として使用される好ましい出発材料は、低い降伏特性及び高い伸び特性を呈することが見出されている。その上、前述の通り、フィルム３３は歪み、硬化されるのが好ましい。フィルムの例としては、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、ポリプロピレン、及びこれらのブレンドを含むフィルムが挙げられる。他の好適なポリマーフィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ナイロン、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）（例えば、ＴＥＦＬＯＮ（登録商標））、又はこれらの組み合わせ等の熱可塑性プラスチックフィルムが挙げられる。好適なポリマーフィルムは、ポリマーの配合物又は混合物を含むことができる。
【００５５】
特定の実施形態において、フィルム３３は、ポリラクチド、ポリグリコリド、ポリヒドロキシアルカノエート、多糖類、ポリカプロラクトン等、又はこれらの混合物などの持続可能なポリマーを含み得る。
【００５６】
エンボス加工前の各フィルム３３の厚さは、典型的には、約５〜約３００ミクロン、約５ミクロン〜約１５０ミクロン、約５ミクロン〜約１００ミクロン、又は約１５ミクロン〜約５０ミクロンの範囲である。他の適切な厚さには、約１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、２０、３０、４０、５０、６０、７０、８０、９０、１００、１５０、２００、２５０、又は３００マイクロメートルが挙げられる。
【００５７】
フィルム３３として使用するのに適していることが見出された１つの材料は、Ｔｈｅ  Ｄｏｗ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｍｉｄｌａｎｄ，ＭＩ，ＵＳＡ）から入手可能なＤＯＷＬＥＸ  ２０４５Ａポリエチレン樹脂である。２０ミクロンの厚さを有するこの材料のフィルム３３は、少なくとも１２ＭＰａの引張降伏、少なくとも５３ＭＰａの最大引張、少なくとも６３５％の最大延伸、及び少なくとも２１０ＭＰａの引張係数（２％正割）を有することができる（上記のそれぞれの測定値はＡＳＴＭＤ  ８８２に従って決定された）。他の好適なフィルムとしては、ＲＫＷ  ＵＳ，Ｉｎｃ．（Ｒｏｍｅ，Ｇｅｏｒｇｉａ）から入手可能な約２５マイクロメートル（１．０ミル）の厚さ及び約２４グラム／平方メートル（「ｇｓｍ」）の坪量を有するポリエチレンフィルム、及びＲＫＷ  ＵＳ，Ｉｎｃ．から入手可能な約１４ｇｓｍの坪量及び約１５ミクロンの厚さを有するポリエチレン／ポリプロピレンフィルムが挙げられる。
【００５８】
不織布３４は繊維２３を含む。不織布３４は、フィルム３３の材料と同様に挙動するように、高密度を有し得る。そうした高密度不織布３４の１つの例は、ＴＹＶＥＫ（登録商標）である。不織布３４は、結合されていない繊維、絡合繊維、トウ繊維等を含むことができる。繊維２３は延伸性及び／又は弾性であることができ、処理するために予め伸張されていてもよい。不織布３４の繊維２３は、スパンボンド法で製造されるもののように連続的であることができ、又は典型的に毛羽立て加工で使用されるもののように適した長さに切断されることができる。繊維２３は吸収性であり得、繊維状吸収性ゲル化材料を含み得る。繊維２３は、バイコンポーネント、多成分、成形、けん縮、又は不織布及び繊維２３の分野において既知のその他の任意の処方又は形状であり得る。
【００５９】
不織布３４は、エンボス加工シール１６へと成形されるのに十分なだけの伸長特性を有するポリマー繊維を含む不織布といった、任意の既知の不織布であり得る。広くは、ポリマー繊維は、化学的結合（例えば、ラテックス又は接着剤結合）、圧力接着、又は熱接着のいずれかによって結合可能であることができる。不織布３４は、約１００重量％の熱可塑性繊維を含むことができる。不織布３４は、約１０重量％ほどの熱可塑性繊維を含むことができる。同様に、不織布３４は、重量基準で、約１０％〜約１００％の間で１％刻みの任意の量の熱可塑性繊維を含むことができる。
【００６０】
不織布３４（積層体又は多層不織布を含む）の総坪量は、物品の最終用途に応じて、約８ｇｓｍ〜約５００ｇｓｍに及ぶことができ（例えば、約８ｇｓｍ〜約５０ｇｓｍなど）、約８ｇｓｍ〜約５００ｇｓｍの間で１ｇｓｍ刻みで製造することができる。不織布３４の構成繊維２３は、ポリマー繊維であることができ、モノコンポーネント、バイコンポーネント、及び／又は二成分繊維、中空繊維、非丸形状繊維（例えば、成形（例えばトリローバル）繊維、又は毛管路繊維）であることができ、約０．１〜約５００ミクロンの範囲で０．１ミクロン刻み（例えば、約５〜約５０ミクロン）の主要横断面寸法（例えば、丸形状繊維の直径、楕円形状繊維の長軸、不規則形状の最長直線寸法）を有することができる。
【００６１】
不織布３４は、例えば、既知のメルトブローン法又は既知のスパンボンド法といった、既知の不織布３４押し出し法によって形成されてもよい。
【００６２】
不織布３４は、延伸性であっても、弾性であっても、非弾性であってもよい。不織布３４は、スパンボンドウェブ、メルトブローンウェブ、又はボンドカードウェブであり得る。不織布３４がメルトブローン繊維のウェブである場合、メルトブローンマイクロファイバーを含んでもよい。不織布３４は、例えばポリオレフィンのような繊維形成ポリマーで作製されてよい。ポリオレフィンとしては、ポリプロピレン、ポリエチレン、エチレンコポリマー、プロピレンコポリマー、及びブチレンコポリマーの１つ以上が挙げられる。
【００６３】
ポリマーフィルム及び不織布などのフィルム及び不織布は、典型的には、約−１００℃〜約１２０℃、若しくは約−８０℃〜約１００℃、又は好適なその他の範囲のガラス転移温度を有する。ポリマーフィルム及び不織布などのフィルム及び不織布は、約１００℃〜約３５０℃の融点を有し得る。例えば、ＬＤＰＥ、又はＬＤＰＥとＬＬＤＰＥとのブレンドで形成されたフィルム３３及び／又は不織布３４は、約１１０℃〜約１２２°の融点を有する。ポリプロピレンで形成されたフィルム３３及び／又は不織布３４は、約１６５℃の融点を有する。ポリエステルで形成されたフィルム３３及び／又は不織布３４は、約２５５℃の融点を有する。ナイロン６で形成されたフィルム３３及び／又は不織布３４は、約２１５℃の融点を有する。ＰＴＦＥで形成されたフィルム３３及び／又は不織布３４は、約３２７℃の融点を有する。
【００６４】
一実施形態において、プロセスは、フィルム３３の融点及び不織布３４の融点の低い方よりも低い温度で行われる。例えば、プロセスは、フィルム３３の融点及び不織布３４の融点の低い方よりも１０℃低い温度で行われ得る。別の実施形態では、プロセスは、フィルム３３の融点及び不織布３４の融点の低い方とほぼ等しい温度で行われ得る。一実施形態において、プロセスは、フィルム３３及び／又は不織布３４のガラス転移温度を超える温度で行われる。プロセスで用いる温度にかかわらず、全体的なプロセス条件は、フィルム３３及び不織布３４を溶融融合しないように選択される。例えば、フィルム３３又は不織布３４のいずれかの材料が溶融してフィルム３３と不織布３４との融合を引き起こさないように、より高い温度は短い滞留時間と対にされてもよい。
【００６５】
所望により、フィルム３３及び／又は不織布３４は、プロセス中、エンボス加工前に可塑化されて、弾性率を低下及び／又は脆弱さを減少させてもよい。
【００６６】
一実施形態において、フィルム３３及び／又は不織布３４は歪み硬化される。フィルム３３の歪み硬化特性は、フィルム３３を形成構造体１０の別個の形成要素１１に適合させるのを容易にするために望ましくあり得る。この特性は、エンボス加工シール１６の延長要素２２の閉鎖遠位端２４が所望されるエンボス加工シール１６を製造する際に好ましくあり得る。
【００６７】
フィルム３３及び不織布３４はまた、エンボス加工シール１６の形成で使用するために、十分に変形可能でありかつ十分な延性を有する必要がある。本明細書で使用されるとき、用語「変形可能」は、弾性限界以上に伸ばされたときに、新しく形成された形態を実質的に保持するのに加えて、薄化を呈する材料を指す。例えば、フィルム３３は、得られたエンボス加工シール１６の別個の延長要素２２の遠位端２４の位置又はその近傍で、薄化を呈し得る。
【００６８】
フィルム３３は、２つ以上のフィルム３３層からなる積層体であり得、また共押出された積層体であり得る。例えば、フィルム３３は２つの層を含み得る。別の例では、フィルム３３は３層を含むことができ、最内層はコア層と呼ばれ、２つの最外層はスキン層と呼ばれる。一実施形態において、フィルム３３は、約２５ミクロン（０．００１インチ）の全体的な厚さを有する３層の共押出積層体を含み、そのコア層の厚さは約１８ミクロン（０．０００７インチ）であり、各スキン層の厚さは約３．５ミクロン（０．０００１５インチ）である。一実施形態では、それらの層は異なる応力−ひずみ特性及び／又は弾性特性を有するポリマーを含むことができる。
【００６９】
フィルム３３は、従来の共押出フィルム作製機器上で、多層フィルムを製造するための従来の手順を用いて作製することができる。ブレンドを含む層が必要とされる場合、前述の成分のペレットを最初にドライブレンドし、次にその層を供給する押出成形機内で溶融混合することができる。あるいは、押出成形機内で不十分な混合が行われた場合は、ペレットを最初にドライブレンドし、次に予備配合押出成形機内で溶融混合し、続いて再びペレット化した後でフィルム押し出しすることができる。フィルム３３の好適な製造方法は、米国特許第５，５２０，８７５号及び同第６，２２８，４６２号に開示されている。
【００７０】
広くは、エンボス加工シール１６上に高い面密度（又は中心間の小さい平均間隔）を有する別個の延長要素２２を形成する能力は、フィルム３３及び／又は不織布３４の厚さにより制限され得る。
【００７１】
特定の実施形態において、フィルム３３及び／又は不織布３４は、任意に、界面活性剤を更に含むことができる。使用される場合、好ましい界面活性剤は非イオン類のものを含み、例えば、アルコールエトキシレート、アルキルフェノールエトキシレート、カルボン酸エステル、グリセロールエステル、脂肪酸のポリオキシエチレンエステル、アビエチン酸と関係する脂肪族カルボン酸のポリオキシエチレンエステル、無水ソルビトールエステル、エトキシル化無水ソルビトールエステル、エトキシル化天然脂肪、油、及びろう、脂肪酸のグリコールエステル、カルボン酸アミド、ジエタノールアミン凝縮物、及びポリアルキレンオキシドブロックコポリマーなどである。選択される界面活性剤の分子量は、約２００グラム／モル〜約１０，０００グラム／モルの範囲であることができる。好ましい界面活性剤は、約３００〜約１，０００グラム／モルの分子量を有する。
【００７２】
利用可能な場合、フィルム３３及び／又は不織布３４の中に最初にブレンドされる界面活性剤濃度は、ウェブ全体の１０重量パーセント程度であり得る。好ましい分子量範囲（３００〜１，０００グラム／モル）における界面活性剤を、より低い濃度、一般にウェブ全体の約５重量パーセント以下で添加してもよい。
【００７３】
種々の実施形態において、ウェブがそれ自体及び他のウェブに付着するウェブの能力を高めるために、フィルム３３及び／又は不織布３４は添加剤を含むこともできる。フィルム３３又は不織布３４の付着能を高めるのを目的とした、任意の既知の添加剤を使用することができる。例えば、低分子量ポリマー、例えばポリイソブテン（ＰＩＢ）及びポリ（エチレン−ビニルアセテート）（ＥＶＡ）コポリマーをウェブ材料に加えてもよい。ＬＤＰＥと共に使用される場合、例えばＰＩＢ及びＥＶＡは互いに容易に相互作用する鎖を有し、またそのより低い分子量は、ホストポリマーマトリックス内でそれらをより移動性とする。
【００７４】
好ましくは、フィルム３３及び不織布３４は、剥離剤及び／又は低表面エネルギー化学官能基をウェブ表面上に含まない。ウェブ表面上の低表面エネルギー化学官能基の存在は、ウェブの結合強度を低下させ得ることが見出されている。例えば、接着されるウェブ表面の１つ以上に局所的に適用されたシリコーン接着剥離剤は、特にシリコーン接着剥離剤が局所的に適用されていない同一の材料内に形成された結合と比較して、得られた結合を弱化させ得る。表面間の引力は、低表面エネルギー処理により低下すると考えられる。他の低表面エネルギー表面処理には、フッ化炭素類が挙げられる。
【００７５】
特定の実施形態において、フィルム３３及び／又は不織布３４は、ポリマーブレンド中に二酸化チタンを含むこともできる。二酸化チタンはエンボス加工シール１６に、より高い不透明度を提供することができる。二酸化チタンは、低密度ポリエチレン等のウェブの約１０重量パーセントまで加えることができる。
【００７６】
粒子材料、例えば、カーボンブラック、酸化鉄、雲母、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ３）、微粒子皮膚処理剤若しくは保護剤、又は臭気吸収活性物質、例えばゼオライトなどのその他の添加剤を、所望により、フィルム３３及び／又は不織布３４に添加することができる。いくつかの実施形態において、粒子状物質を含むエンボス加工シール１６は、皮膚接触用途に使用される場合、活性物質を非常に直接的かつ効率的に皮膚と接触させることができる。具体的には、いくつかの実施形態では、別個の延長要素２２のフォーメーションは、その遠位端２４の位置又はその近傍で粒子状物質を露出することができる。したがって、スキンケア剤等の活性物質は別個の延長要素２２の遠位端２４の位置又はその近傍に局在化されて、エンボス加工シール１６が皮膚接触用途に使用される際、そのようなスキンケア剤と皮膚との直接的な接触を可能にし得る。
【００７７】
粒子材料の平均粒径は、フィルム３３及び／又は不織布３４中に使用される場合、典型的には、０．１ミクロン〜約２００ミクロン、０．２ミクロン〜約２００ミクロン、又は約５ミクロン〜約１００ミクロンである。雲母干渉粒子等の所定の粒子材料の使用により、エンボス加工シール１６の外観が劇的に改善され得る。
【００７８】
フィルム３３及び／又は不織布３４はまた、エンボス加工ウェブ１６の外観を改善するために、顔料、レーキ、トナー、染料、インク、又は材料に色を付与するために使用される他の薬剤のような、着色剤を所望により含むことができる。
【００７９】
本明細書で適切な顔料には、無機顔料、真珠光沢顔料、干渉顔料などが挙げられる。適切な顔料の非限定的な例には、タルク、雲母、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸マグネシウムアルミニウム、シリカ、二酸化チタン、酸化亜鉛、赤酸化鉄、黄酸化鉄、黒酸化鉄、カーボンブラック、ウルトラマリン、ポリエチレンパウダー、メタクリルレートパウダー、ポリスチレンパウダー、シルクパウダー、結晶性セルロース、デンプン、雲母チタン、酸化鉄雲母チタン、オキシ塩化ビスマスなどが挙げられる。
【００８０】
好適な着色フィルム及び不織布は、同時係属中の米国特許出願第１２／７２１，９４７号（２０１０年３月１１日出願）、及び米国特許出願第１２／７２１，９６５号（２０１０年３月１１日出願）に記載されている。
【００８１】
フィルム３３及び／又は不織布３４は、任意に、充填剤、可塑剤等を含むこともできる。
【００８２】
エンボス加工シール
エンボス加工シール１６を有する物品は、所望の柔らかい手の感触及び美的に心地よい外観等の所望の様々な構造的特徴及び特性を有することができる。エンボス加工シール１６は、ランド１３に包囲された別個の延長要素２２を含む。別個の延長要素２２は、開放近位端３０と側壁とを有する。不織布３４の繊維２３は、ランド１３及び／又は別個の延長要素２２の側壁の中に、埋め込まれている。図５Ｂを参照すると、一実施形態において、不織布３４は、フィルム３３のうちの別個の延長要素２２の遠位端２４を含む側に、配置され、不織布３４の繊維２３は、別個の延長要素２２を包囲するランド１３に埋め込まれている。図５Ａａを参照すると、別の実施形態において、不織布３４は、フィルム３３のうちの別個の延長要素２２の開放近位端３０を含む側に、配置され、不織布３４の繊維２３は、開放近位端３０を介して別個の延長要素２２の側壁の中に、及び／又は別個の延長要素２２を包囲するランド１３の中に埋め込まれている。
【００８３】
一実施形態において、別個の延長要素２２の一部分は、別個の延長要素２２を包囲するランド１３と比較して薄くなっている。例えば、別個の延長要素２２の遠位端２４及び／又は側壁は、ランド１３と比較して薄くなっていてもよい。内部、及び／又は別個の延長要素２２を包囲するランド１３に、埋め込まれた不織布３４の繊維２３を有する別個の延長要素２２は、大きい界面表面積を有する。加えて、上記に開示したように、エンボス加工シール１６で接合されているフィルム３３及び不織布３４を保持する十分な摩擦力及び／又は引力が存在すると考えられる。エンボス加工シール１６におけるフィルム３３及び不織布３４の分離は、ランド１３及び／又は別個の延長要素２２に埋め込まれた繊維２３を、別個の延長要素２２及びランド１３から分離するのに十分な力を必要とする。そのような分離は、熱及び圧力によるフィルム３３と不織布３４との融合を伴うもののような従来技術による結合方法と比較して、雑音をほとんどあるいは全く生じない。物品の少なくとも２つの層をエンボス加工シール１６にて分離する際、分離により生じる音は、米国特許第５，４６２，１６６号に記載されているような熱的−機械的結合プロセスで形成された従来のシールにより生じる雑音と比較して著しく小さい。例えば、物品の少なくとも２つの層をエンボス加工シール１６にて分離する場合、分離により生じる音圧レベルは、約７０ｄＢ未満、約６５ｄＢ未満、又は約６０ｄＢ未満であり得る。エンボス加工シール１６は、例えば米国特許第５，４６２，１６６号に記載されているもの等の従来の加工条件を用いて従来の熱的−機械的結合プロセスにより形成されたシールよりも、分離の際に実質的により静寂である。例えば、エンボス加工シール１６は、分離の際に、エンボス加工シール１６と実質的に同一の剥離強度を有し、エンボス加工シール１６と同一の条件下で分離される従来の熱的−機械的結合プロセスで形成されたシールから生じる音圧レベルよりも、少なくとも約２ｄＢ、少なくとも約３ｄＢ、少なくとも約４ｄＢ、少なくとも約５ｄＢ、少なくとも約６ｄＢ、少なくとも約７ｄＢ、少なくとも約８ｄＢ、少なくとも約９ｄＢ、又は少なくとも約１０ｄＢ低い音圧レベルを生じ得る。実質的に同一の剥離強度とは、エンボス加工シール１６の剥離強度の少なくとも約５０％、少なくとも約６０％、少なくとも約７０％、又は少なくとも約８０％迄の剥離強度を指す。
【００８４】
エンボス加工シール１６は、剥離強度試験で測定して、従来の熱的−機械的シール等の従来のシールと少なくとも実質的に等しい剥離強度を有してもよい。例えば、エンボス加工シール１６は、従来の熱的−機械的シールの剥離強度の少なくとも３０％、４０％、５０％、６０％、７０％、８０％、９０％、又は１００％迄の剥離強度を有してもよい。
【００８５】
剥離強度試験は、米国特許第５，４６２，１６６号に開示されている方法に従って行うことができる。
【００８６】
フィルム３３及び不織布３４を形成構造体１０と圧力源との間に配置し、圧力を適用してフィルム３３を形成構造体１０の別個の形成要素１１に適合させる。図３Ａ、図３Ｂ、及び図３Ｃを参照すると、それによって、別個の延長要素２２の側壁の中及び／又はこの別個の延長要素２２を包囲するランド１３の中に不織布３４の繊維２３が埋め込まれた状態の、別個の延長要素２２を有するエンボス加工シール１６を備える物品が作製される。不織布３４の繊維２３の束は、別個の延長要素２２及び／又はランド１３に埋め込まれるのに加えて、隣接した別個の延長要素２２の間に一緒に押し込まれることもできる。図３Ａ、図３Ｂ、図３Ｃ、及び図６に示すように、別個の延長要素２２は、開放近位端３０と、（図７に示すような）開放遠位端２４及び／又は（図３Ｃ、及び図４に示すような）閉鎖遠位端２４とを有する。
【００８７】
フィルム３３及び不織布３４のそれぞれは、本明細書に前述したように、材料の単一層、又は多層の共押出若しくは積層材料であり得る。積層フィルム材料は、スキン層を含むフィルムを含む積層フィルムを作製する当該技術分野で既知のように、共押出されてもよい。
【００８８】
別個の延長要素２２は、概して、フィルム３３の第１の表面２６上に、フィルム３３の突出した伸長部として形成される。特定の実施形態では、フィルム３３は、例えば、図３Ａの孔２１及び図３Ｃの別個の延長要素２２によって示されるように、不織布３４に押し通される。驚くべきことに、不織布が延長要素の外表面上にあるとき、フィルム３３は不織布３４に押し通され得る。理論に束縛されるものではないが、フィルムの延長要素は、不織布の繊維の隙間と連結して、追加のシール強度を生成することができると考えられる。
【００８９】
エンボス加工シール１６上の別個の延長要素２２の数、サイズ、及び分布は、所望の結合強度、柔らかい感触、及び視覚効果に基づいて予め決定されてもよい。不織布３４の繊維２３と別個の延長要素２２との間で密接に接着した大きい界面表面積は、高さ、直径、縦横比、及び／又は単位面積当たりの別個の延長要素２２の数が増大するにつれて増大すると考えられる。また界面表面積における増大は、エンボス加工シール１６の結合強度に、対応する増大をもたらすと考えられる。
【００９０】
図６を参照すると、別個の延長要素２２は、フィルム３３の第１の表面２６から突出するものとして説明され得る。したがって、別個の延長要素２２は、フィルム３３と一体化されており、フィルム３３の永久の局所塑性変形によって形成されたものとして、説明され得る。別個の延長要素２２は、開放近位部及び閉鎖又は開放遠位端２４を画定する側壁（１つ又は複数）２８を有するものとして説明され得る。別個の延長要素２２はそれぞれ、隣接する延長要素２２間の最小振幅Ａ最小から閉鎖又は開放遠位端２４における最大振幅Ａ最大へ測定された高さを有する。別個の延長要素２２は直径ｄを有し、前記直径は、略円筒構造においては横断面における外側直径である。「横」は、第１の表面２６の平面と概ね平行であることを意味する。不均一の横断面を有する概ね円柱形の別個の延長要素２２、及び／又は非円筒形構造体である別個の延長要素２２では、直径ｄは、別個の延長要素の高さｈの２分の１での平均横断面寸法として測定される。したがって、それぞれの別個の延長要素に関して、ｈ／ｄとして定義されるアスペクト比を決定することができる。別個の延長要素は、少なくとも約０．２、少なくとも約０．３、少なくとも約０．５、少なくとも約０．７５、少なくとも約１、少なくとも約１．５、少なくとも約２、少なくとも約２．５、又は少なくとも約３のアスペクト比ｈ／ｄを有することができる。別個の延長要素２２は、典型的には、少なくとも約３０マイクロメートル、少なくとも約５０マイクロメートル、少なくとも約６５マイクロメートル、少なくとも約８０マイクロメートル、少なくとも約１００マイクロメートル、少なくとも約１２０マイクロメートル、少なくとも約１５０マイクロメートル、又は少なくとも約２００マイクロメートルの高さｈを有することになる。延長要素２２は、典型的には、少なくともフィルム３３の厚さと同一の、若しくはフィルム３３の厚さの少なくとも２倍、又は好ましくはフィルム３３の厚さの少なくとも３倍の高さを有する。別個の延長要素２２は、典型的には、約５０マイクロメートル〜約５，０００マイクロメートル、約５０マイクロメートル〜約３，０００マイクロメートル、約５０マイクロメートル〜約５００マイクロメートル、約６５マイクロメートル〜約３００マイクロメートル、又は約７５マイクロメートル〜約２００マイクロメートルの直径ｄを有することになる。概して非円柱形又は不規則な形を有する別個の延長要素２２では、別個の延長要素の直径は２分の１の高さでの別個の延長要素の回転半径の２倍として定義され得る。
【００９１】
延長要素２２が開口部である延長要素２２の側壁の一部分を有するようにフィルム３３全体にわたって長手方向に延びる、隆起部のような形状を有する別個の延長要素２２では、別個の延長要素の直径は、延長要素の２分の１の高さでの２つの対向する側壁の間の平均最小幅として定義され得る。
【００９２】
広くは、任意の個々の別個の延長要素の実際の高さｈを決定することは難しい場合があり、かつ実際の高さは変化する場合があるので、複数の別個の延長要素２２の平均高さｈ平均は、エンボス加工シール１６の所与の面積にわたる平均最小振幅Ａ最小及び平均最大振幅Ａ最大を決定することによって決定され得る。そのような平均高ｈｐ平均は、典型的には、前述の高さの範囲内にある。同様に、変化する断面寸法では、平均直径ｄ平均は複数の別個の延長要素２２に関して決定され得る。そのような平均直径ｄ平均は、典型的には、前述の直径の範囲内にある。そのような振幅及び他の寸法の測定は、コンピュータ支援走査顕微鏡やデータ処理などの当該技術分野で既知の任意の方法によって行うことができる。したがって、エンボス加工シール１６の所定の部分に関する別個の延長要素２２の平均縦横比ＡＲ平均は、ｈ平均／ｄ平均として表すことができる。
【００９３】
一実施形態では、別個の延長要素の直径は、一定であるか、又は、振幅の増加（振幅は増し、閉鎖又は開放遠位端２４で最大になる）と共に減少する。別個の延長要素２２の直径又は平均横断面寸法は、近位部で最大となり得、横断面寸法は遠位端に向かって徐々に減少する。この構造１０は、エンボス加工シール１６が形成構造体１０から容易に除去できることを確実にするため望ましいと考えられる。別の実施形態では、別個の延長要素２２の直径は、増加する振幅と共に増加する。例えば、別個の延長要素２２は、きのこ形を有することができる。
【００９４】
フィルム３３の薄化は、高い縦横比の別個の延長要素２２を形成するために必要な比較的深い引き伸ばし（drawing）のために生じ得る。例えば、薄化は、別個の延長要素２２のうちの閉鎖又は開放遠位端２４の位置若しくはその近傍、及び／又は側壁に沿って観察され得る。「観察される」とは、拡大断面図で見たときに薄化が明確であることを意味する。そのような薄化は、薄化されている部分が、触れたときに圧縮又はせん断に対してほとんど抵抗を示さないので有益であり得る。例えば、人が別個の延長要素２２を呈する側上でエンボス加工シール１６に触れた際、人の指先は最初に、別個の延長要素２２の閉鎖又は開放遠位端２４に接触する。別個の延長要素２２の高い縦横比と、遠位端２４及び／又は側壁の位置又はその近傍におけるフィルム３３の壁の薄化により、別個の延長要素２２は、人の指によりエンボス加工シール１６上に加えられる圧縮又はせん断に対する抵抗をほとんどもたらさない。この抵抗の欠如は、まるで立ち毛生地の感じのような柔らかな感じとして現れる。
【００９５】
閉鎖若しくは開放遠位端２４及び／又は側壁の位置又はその近傍におけるフィルム３３の薄化は、エンボス加工前のフィルム３３の厚さに対して又はエンボス加工シール１６の別個の延長要素２２を完全に包囲するランド領域の厚さに対して、測定され得る。フィルム３３は、典型的には、フィルム３３の厚さに対して、少なくとも約２５％、少なくとも約５０％、又は少なくとも約７５％の薄化を呈する。フィルム３３は、典型的には、エンボス加工シール１６の別個の延長要素２２を包囲するランド領域の厚さに対して、少なくとも約２５％、少なくとも約５０％、又は少なくとも約７５％の薄化を呈する。
【００９６】
本明細書に開示されているような別個の延長要素２２のみを有し、巨視的な孔１２又は開放遠位端２４を有する別個の延長要素２２を有さない、液体不透過性物品は、液体透過性が要求されない任意の用途に柔軟性を提供することができることに注目すべきである。このように、一実施形態において、物品は、その少なくとも１つの表面上に、柔らかくて絹のような触感を呈するエンボス加工シール１６を含み、このエンボス加工シール１６の絹のような感触の表面は、別個の延長要素２２の側壁の中に、及び／又は、別個の延長要素２２を包囲するランド１３の中に、埋め込まれた不織布３４の繊維２３を有する別個の延長要素２２のパターンを呈し、これら別個の延長要素２２のそれぞれは、フィルム３３の表面の突出した伸長部であり、かつ開放近位部及び閉鎖又は開放遠位端２４を画定する側壁を有する。所定の実施形態において、別個の延長要素２２は、開放近位部の位置又はその近傍にて最大横断面寸法を有する。
【００９７】
第１の表面２６の単位面積当たりの別個の延長要素２２の数である、別個の延長要素２２の「面密度」は最適化されてもよく、エンボス加工シール１６は、典型的には、１平方センチメートル当たり約４〜約１０，０００、約１０〜約１０，０００、約９５〜約１０，０００、約２４０〜約１０，０００、約３５０〜約１０，０００、約５００〜約５，０００、又は約７００〜約３，０００の別個の延長要素２２を含むであろう。概して、中心間距離は、十分な触感のために最適化することができると同時に、別個の延長要素２２の間に液体のような物質を閉じ込めることを可能な限り減らすことができる。隣接する別個の延長要素２２の中心間の間隔は、約１００マイクロメートル〜約５，０００マイクロメートル、約１００マイクロメートル〜約１，０００マイクロメートル、約３０マイクロメートル〜約８００マイクロメートル、約１５０マイクロメートル〜約６００マイクロメートル、又は約１８０マイクロメートル〜約５００マイクロメートルであってもよい。
【００９８】
一実施形態において、物品は、エンボス加工シール１６に隣接して配置される非シール部分１７を含むことができ、この非シール部分１７は、不織布３４がランド１３の中に又は別個の延長要素２２の開放近位端３０を介して別個の延長要素２２の側壁の中に埋め込まれていない、フィルム３３及び不織布３４の部分を含む。例えば、図４に示されるように、非シール部分１７には別個の延長要素２２がなくてもよい。別の実施形態において、エンボス加工シール１６は、フィルム３３及び不織布３４の両側に沿って配置され、非シール部分１７は、エンボス加工シール１６を有するこの両側の間に配置される。
【００９９】
エンボス加工シールを作製するためのプロセス
図４を参照すると、エンボス加工シール１６の形成プロセスは、フィルム３３及び不織布３４を圧力源（例えば図４に示される柔軟基材４４）と形成構造体１０の間に供給することと、フィルム３３の一部を形成構造体１０の別個の形成要素１１に適合させるのに十分な圧力源からの圧力を、フィルム３３、不織布３４、及び形成構造体１０に対して適用し、それによって、ランド１３に包囲された別個の延長要素２２を有し、かつ不織布３４の繊維２３が別個の延長要素２２の側壁の中、及び／又は、ランド１３の中に、埋め込まれるエンボス加工シール１６を形成すること、を含む。形成構造体１０に対するフィルム３３の適合は、生成される圧力及び形成構造体１０のトポグラフィーに依存して、部分適合、実質的適合、又は完全適合であり得る。理論に束縛されるものではないが、開放遠位端２４は、フィルム３３を形成構造体１０の別個の形成要素１１に適合させる間に、フィルム３３を局所的に破壊することにより形成され得ると考えられる。
【０１００】
エンボス加工シール１６を形成するためにフィルム３３及び不織布３４を永久変形させるため、加えられる圧力は、一般に、フィルム３３がその降伏点を超えて伸張するのに十分なものである。不織布３４の繊維もまた、それらの降伏点を超えて圧縮及び／又は伸張されることができる。
【０１０１】
プロセスは、バッチプロセスであっても連続プロセスであってもよい。バッチプロセスは、形成構造体１０と圧力源との間に配置されたフィルム３３、及び不織布からなる個々のシートを、提供することを含むことができる。
【０１０２】
連続的なプロセスは、巻き出されて形成構造体１０及び圧力源の間に供給されるフィルム３３及び不織布３４のロールを提供することを含み得る。フィルム３３及び不織布３４は、単一ロールの上に提供されることもできる。形成構造体１０は、例えば、ロールの形状であることができる。フィルム３３及び不織布３４が形成構造体１０ロールと圧力源との間を通過すると、エンボス加工シール１６が形成される。圧力源が柔軟基材４４である場合、柔軟基材４４もまたロールの形態であることができる。
【０１０３】
このプロセスは、比較的短い滞留時間を有することができる。本明細書で使用するとき、用語「滞留時間」は、フィルム３３及び不織布３４の所与の部分に圧力が適用される時間を指し、通常、フィルム３３及び不織布３４の所与の部分が形成構造体１０と圧力源との間に位置付けられている時間である。圧力は、典型的には、約５秒未満、約１秒未満、約０．５秒未満、約０．１秒未満、約０．０１秒未満、又は約０．００５秒未満の滞留時間の間、フィルム３３及び不織布３４に適用される。例えば、滞留時間は、約０．５ミリ秒〜約５０ミリ秒であることができる。そのような比較的短い滞留時間であっても、本明細書に記載される所望の構造的特徴を有するエンボス加工シール１６を製造することができる。結果として、本開示のプロセスは、エンボス加工シール１６の高速製造を可能にする。
【０１０４】
フィルム３３及び不織布３４は、少なくとも毎秒約０．０１メートル、少なくとも毎秒約１メートル、少なくとも毎秒約５メートル、又は少なくとも毎秒約１０メートルの速度で、形成構造体１０と圧力源との間に供給され得る。他の適切な速さには、例えば、少なくとも約０．０１、０．０５、０．１、０．５、１、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０メートル／秒が挙げられる。
【０１０５】
形成構造体１０上の別個の延長要素２２の形状、及び適用される圧力等の因子に応じて、製造されるエンボス加工シール１６の延長要素２２の遠位端２４は、閉鎖又は開放のいずれかであり得る。特定の実施形態において、不織布が延長要素の外表面上にある層配置は、特に、約２０ｇｓｍ未満の坪量（例えば、約１５ｇｓｍ以下又は約１０ｇｓｍ以下の坪量）を有する不織布３４などの、より低い坪量の不織布３４を用いた開放遠位端の形成を増加させることもできる。
【０１０６】
プロセスは周囲温度で行われることができ、これは形成構造体１０、圧力源、又はフィルム３３若しくは不織布３４に熱が意図的に適用されないことを意味する。しかしながら、熱は、特に連続プロセスにて、形成構造体１０と圧力源との間の圧力により生成され得ることを認識する必要がある。結果として、周囲温度等の所望の温度でのプロセス条件を維持するために、形成構造体１０及び／又は圧力源を冷却してもよい。
【０１０７】
プロセスは、高温のフィルム３３及び／又は不織布３４を用いて行われることもできる。例えば、フィルム３３及び／又は不織布３４の温度は、フィルム３３の融点及び不織布３４の融点の低い方よりも低くあり得る。例えば、フィルム３３及び／又は不織布３４の温度は、フィルム３３の融点及び不織布３４の融点の低い方よりも少なくとも約１０℃低くあり得る。フィルム３３及び／又は不織布３４は、プロセスの間に約１０℃〜約２００℃、約１０℃〜約１２０℃、約２０℃〜約１１０℃、約１０℃〜約８０℃、又は約１０℃〜約４０℃の温度を有することができる。フィルム３３及び／又は不織布３４は、加熱された圧力源、例えば静圧プレナム３６用の加熱された流体圧力源、若しくは加熱された柔軟基材４４を使用して、及び／又は形成構造体１０を加熱することにより、加熱され得る。例えば、静圧プレナム３６のための圧力源として、加熱されたガスを使用することができる。
【０１０８】
特定の実施形態において、フィルム３３又は不織布３４はいずれも、形成構造体１０と柔軟基材４４との間に提供される前に加熱されない。別の実施形態において、フィルム３３、不織布３４、形成構造体１０、及び柔軟基材４４はいずれも、フィルム３３及び不織布３４を形成構造体１０と柔軟基材４４との間に提供する前に加熱されない。
【０１０９】
一般に、本発明のプロセスは、約１０℃〜約２００℃、約１０℃〜約１２０℃、約１０℃〜約８０℃、又は約１０℃〜約４０℃の温度で実施され得る。温度は、例えば温度を圧力源と形成構造体１０との間のニップにて測定する、赤外線温度計又はレーザー温度計等の非接触温度計で測定され得る。温度は、また、Ｐａｐｅｒ  Ｔｈｅｒｍｏｍｅｔｅｒ  Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能なＴｈｅｒｍｏｌａｂｅｌなどの感温材料を使用して測定することもできる。
【０１１０】
平均圧力は、圧力源により提供される。平均圧力は、フィルム３３を形成構造体１０の別個の形成要素１１に適合させ、かつ不織布３４の繊維２３を別個の延長要素２２又は包囲しているランド１３の位置でフィルム３３に埋め込み、それによってエンボス加工シール１６を形成するために、形成構造体１０と圧力源との間に位置付けられたフィルム３３及び不織布３４を押し付けるのに十分である。一般に、形成構造体１０と静圧プレナム３６との間に、又は速度圧力源により提供される平均圧力は、約０．１ＭＰａ〜約２５ＭＰａ、約０．５ＭＰａ〜約２０ＭＰａ、約０．７ＭＰａ〜約１０ＭＰａ、約１ＭＰａ〜約７ＭＰａ、約１ＭＰａ〜約２０ＭＰａ、約０．５ＭＰａ〜約１０ＭＰａ、約１０ＭＰａ〜約２５ＭＰａ、又は約０．５ＭＰａ〜約５ＭＰａである。一般に、形成構造体１０と柔軟基材４４との間に提供される平均圧力は、約１ＭＰａ〜約１００ＭＰａ、約５ＭＰａ〜約７０ＭＰａ、約１０ＭＰａ〜約６０ＭＰａ、又は約２０ＭＰａ〜約４０ＭＰａである。例えば、適用される圧力は最高約３０ＭＰａであることができる。
【０１１１】
柔軟基材４４が圧力源として使用される場合、形成構造体１０及び柔軟基材４４は、形成構造体１０及び／又は柔軟基材４４に力を適用することにより所望の圧縮距離に押しつけられる。「圧縮距離」は、柔軟基材４４内へ形成構造体１０が押される距離を測定することにより決定される。この距離は、形成構造体１０及び柔軟基材４４を初期接触させた後、形成構造体１０及び柔軟基材４４を強制的に一緒にすることにより測定され得る。初期接触の後に形成構造体１０と柔軟基材４４とが互いに対して移動する距離を「圧縮距離」と呼ぶ。形成構造体１０と柔軟基材４４の双方がロールである場合は、圧縮距離は、初期接触の後に適用される力による、形成構造体１０の回転軸と柔軟基材４４の回転軸との間の距離における変化として測定され得る。
【０１１２】
形成構造体１０及び柔軟基材４４の圧縮距離は、典型的には、約０．１ｍｍ〜約５ｍｍ、約０．２ｍｍ〜約４ｍｍ、又は約０．３ｍｍ〜約３ｍｍであろう。
【０１１３】
プロセスは、所望により他のプロセスと組み合わされて、エンボス加工シール１６を有する物品を更に操作することができる。一実施形態において、そのような追加のプロセスは同一のプロセス製造ライン上のプロセスと組み合わされて、例えば吸収性物品用の包装を製造することができる。
【０１１４】
プロセスは、更に、第２の圧力源からの圧力を適用する工程を含む。第２の圧力源は、第１の圧力源と同一でも又は異なっていてもよく、静的液圧プレナム（static liquid pressure plenum）、静的ガス圧プレナム、エアナイフ等の速度ガス圧力源（velocity gas pressure source）、従来の液圧成形プロセスで使用されるもの等の速度液体圧力源（velocity liquid pressure source）、及び柔軟基材４４からなる群から選択され得る。第２の圧力源によってフィルム３３及び不織布３４に加えられる圧力は、典型的には、前述の第１の圧力源によってフィルム３３、及び不織布に加えられる圧力と同様である。例えば、プロセスは、複数の静圧プレナムの使用を含むことができる。一実施形態では、少なくとも２つの静圧プレナムが提供され、圧力は、形成構造体１０と第１の静圧プレナムとの間のフィルム３３及び不織布３４の第１の部分に適用される。次に、圧力は、形成構造体１０と第２の静圧プレナムとの間のフィルム３３及び不織布３４の第１の部分に適用されて、フィルム３３及び不織布３４の第１の部分を、同じ形成構造体１０の同じ突出要素１５、孔１２、又は凹み１４に更に適合させることができる。これにより、プロセスによって形成される別個の延長要素２２の補強が可能となり得る。
【０１１５】
一実施形態において、形成構造体１０は、複数の別個の凹み１４と、複数の別個の突出要素１５と、を含む。図３Ａを参照すると、得られるエンボス加工シール１６は、フィルム３３に形成される複数の別個の延長要素２２に加えて、フィルム３３に形成され、かつ別個の延長要素２２と反対方向に延びる複数の別個の孔２１を含み得る。
【０１１６】
別の実施形態において、形成構造体１０は、複数の別個の孔１２と、複数の別個の突出要素１５と、を含む。得られるエンボス加工シール１６は、フィルム３３に形成され、かつフィルム３３から両方向に延びる複数の別個の延長要素２２を含むことができ、孔１２によって形成された別個の延長要素２２は一方向に延び、別個の突出要素１５によって形成された別個の延長要素２２は、反対方向に延びる。
【０１１７】
物品の使用
物品は、吸収性物品の包装材料、包装（フロー包装、収縮包装、又はポリ袋等）、ごみ袋、食品包装、デンタルフロス、ワイプ、電子部品、壁紙、衣類、エプロン、窓覆い、食卓マット、ブックカバー等を含む多数の異なる方法で使用され得る。
【０１１８】
本明細書に開示した寸法及び値は、記述された正確な数値に厳しく限定されるものと理解すべきでない。むしろ、特に言及しない限り、そのようなそれぞれの寸法は、記述された値と、その値の周辺の機能的に同等の範囲との両方を意味することを意図する。例えば、「４０ｍｍ」として開示された寸法は、「約４０ｍｍ」を意味することを意図する。
【０１１９】
本発明の「発明を実施するための形態」で引用したすべての文献は、関連部分において本明細書に援用するが、いずれの文献の引用もそうした文献が本発明に対する先行技術であることを容認するものとして解釈されるべきではない。本書における用語の任意の意味又は定義が、参照により組み込まれた文献における同一の用語の任意の意味又は定義と相反する限りにおいては、本書においてその用語に与えられた意味又は定義が適用されるものとする。
【０１２０】
本発明の特定の実施形態が例示され記載されてきたが、本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく他の様々な変更及び修正を実施できることが、当業者には自明であろう。したがって、本発明の範囲内にあるそのようなすべての変更及び修正を添付の特許請求の範囲で扱うものとする。
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【国際調査報告】
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