(57)【要約】反応チャンバへのプロセスガスの流出入のための導管。該導管は、内部表面および外部表面を有する内側コアと、内部表面および外部表面を有する外側外筒とを備え、内側コア外部表面は、外側外筒内部表面に接続される。内側コアは、酸化アルミニウム（Ａｂ０３）、石英、サファイア、窒化アルミニウム、イットリア、アルミナ、ジルコニア、イットリア安定化ジルコニア、ＡｌＯＮ、ＳｉＡｌＯＮ、およびそれらの組み合わせから選択される材料から製作され、外側外筒は、酸化アルミニウム（Ａｂ０３）、石英、サファイア、窒化アルミニウム、イットリア、アルミナ、ジルコニア、イットリア安定化ジルコニア、ＡｌＯＮ、ＳｉＡｌＯＮ、およびそれらの組み合わせから選択される材料を備えるが、内側コアと外側コアとは、異なる材料を含む。
2013539210.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応チャンバへのプロセスガスの流入および／または流出のための導管であって、
該導管は、
（ａ）内部表面および外部表面を有する内側コアと、
（ｂ）内部表面および外部表面を有する外側外筒と
を備え、
該内側コア外部表面は、該外側外筒内部表面に接続され、
該内側コアは、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、石英、サファイア、窒化アルミニウム、イットリア、アルミナ、ジルコニア、イットリア安定化ジルコニア、ＡｌＯＮ、ＳｉＡｌＯＮ、およびそれらの組み合わせから選択される材料から製作され、該外側外筒は、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、石英、サファイア、窒化アルミニウム、イットリア、アルミナ、ジルコニア、イットリア安定化ジルコニア、ＡｌＯＮ、ＳｉＡｌＯＮ、およびそれらの組み合わせから選択される材料を備えるが、該内側コアと該外側コアとは、異なる材料を含む、導管。
【請求項２】
前記内側コアは、サファイアから製作される、請求項１に記載の導管。
【請求項３】
前記内側コア外部表面および前記外側外筒内部表面は、金属化され、該表面は、ロウ付によって接続される、請求項１に記載の導管。
【請求項４】
前記内側コア外部表面は、変形接合、過渡液相接続、および拡散接合から選択されるプロセスによって、外側層外部表面に接合される、請求項１に記載の導管。
【請求項５】
前記内側コアは、接合エイドによって、前記外側コアに接合される、請求項１に記載の導管。
【請求項６】
前記接合エイドは、金属、セラミックペースト、有機接合エイド、およびポリマーから選択される、請求項５に記載の導管。
【請求項７】
前記内側コア外部表面は、機械的接続プロセスによって、前記外側層外部表面に接合される、請求項１に記載の導管。
【請求項８】
前記内側コアと前記外側外筒とは、圧入によって、接続される、請求項１に記載の導管。
【請求項９】
前記内側コアと前記外側外筒とは、機械的締結具によって、接続される、請求項１に記載の導管。
【請求項１０】
前記機械的締結具は、ステープル、ナットおよびボルトアセンブリ、ストラップ材、紐、クリップ、直接ネジ山または相互係止キー、ピン、ネジ、および保定リングから選択される、請求項９に記載の導管。
【請求項１１】
半導体エッチングプロセスにおいて使用するためのハイブリッドガス注入器であって、該注入器は、少なくとも１つのガスラインを備え、該少なくとも１つのガスラインは、内部表面および外部表面を有する内側コアと、内部表面および外部表面を有する外側外筒とを備え、該内側コア外部表面は、該外側外筒内部表面に接続され、該内側コアは、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、石英、サファイア、窒化アルミニウム、イットリア、アルミナ、ジルコニア、イットリア安定化ジルコニア、ＡｌＯＮ、ＳｉＡｌＯＮ、およびそれらの組み合わせから選択される材料から製作され、該外側外筒は、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、石英、サファイア、窒化アルミニウム、イットリア、アルミナ、ジルコニア、イットリア安定化ジルコニア、ＡｌＯＮ、ＳｉＡｌＯＮ、およびそれらの組み合わせから選択される材料を備える、注入器。
【請求項１２】
前記内側コアは、サファイアから製作される、請求項１１に記載のハイブリッドガス注入器。
【請求項１３】
前記内側コア外部表面および前記外側外筒内部表面は、金属化され、該表面は、ロウ付によって接続される、請求項１１に記載のハイブリッドガス注入器。
【請求項１４】
前記内側コア外部表面は、変形接合、過渡液相接続、および拡散接合から選択されるプロセスによって、外側層外部表面に接合される、請求項１１に記載のハイブリッドガス注入器。
【請求項１５】
前記内側コアは、接合エイドによって、前記外側コアに接続される、請求項１１に記載のハイブリッドガス注入器。
【請求項１６】
前記接合エイドは、金属、セラミックペースト、有機接合エイド、およびポリマーから選択される、請求項１１に記載のハイブリッドガス注入器。
【請求項１７】
前記内側コア外部表面は、機械的接続プロセスによって、外側層外部表面に接合される、請求項１１に記載のハイブリッドガス注入器。
【請求項１８】
前記内側コアと前記外側外筒とは、圧入によって、接続される、請求項１１に記載のハイブリッドガス注入器。
【請求項１９】
前記内側コアと前記外側外筒とは、機械的締結具によって、接続される、請求項１１に記載のハイブリッドガス注入器。
【請求項２０】
前記機械的締結具は、ステープル、ナットおよびボルトアセンブリ、ストラップ材、紐、クリップ、直接ネジ山または相互係止キー、ピン、ネジ、および保定リングから選択される、請求項１１に記載のハイブリッドガス注入器。
【請求項２１】
反応チャンバへのプロセスガスの流入および／または流出のために使用される導管のＰＭ寿命を延長する方法であって、
該方法は、該導管を
（ａ）内部表面および外部表面を有する内側コアと、
（ｂ）内部表面および外部表面を有する外側外筒と
から製作することを含み、該内側コア外部表面は、該外側外筒内部表面に接続され、該内側コアは、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、石英、サファイア、窒化アルミニウム、イットリア、アルミナ、ジルコニア、イットリア安定化ジルコニア、ＡｌＯＮ、ＳｉＡｌＯＮ、およびそれらの組み合わせから選択される材料から製作され、該外側外筒は、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、石英、サファイア、窒化アルミニウム、イットリア、アルミナ、ジルコニア、イットリア安定化ジルコニア、ＡｌＯＮ、ＳｉＡｌＯＮ、およびそれらの組み合わせから選択される材料を備え、
該導管の該ＰＭ寿命は、同一条件に曝される従来の石英導管の該ＰＭ寿命よりも長い、方法。
【請求項２２】
前記導管のＰＭ寿命は、約５００ＲＦ  ｈｒｓよりも長い、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記導管のＰＭ寿命は、約７５０ＲＦ  ｈｒｓ以上である、請求項２１に記載の方法。
【請求項２４】
前記導管のＰＭ寿命は、約１０００ＲＦ  ｈｒｓ以上である、請求項２１に記載の方法。
【請求項２５】
前記導管のＰＭ寿命は、約２０００ＲＦ  ｈｒｓ以上である、請求項２１に記載の方法。
【請求項２６】
前記導管のＰＭ寿命は、約３０００ＲＦ  ｈｒｓ以上である、請求項２１に記載の方法。
【請求項２７】
前記内側コアは、サファイアから製作される、請求項２１に記載の方法。
【請求項２８】
前記内側コア外部表面および前記外側外筒内部表面は、金属化され、該表面は、ロウ付によって接続される、請求項２１に記載の方法。
【請求項２９】
前記内側コア外部表面は、変形接合、過渡液相接続、および拡散接合から選択されるプロセスによって、外側層外部表面に接合される、請求項２１に記載の方法。
【請求項３０】
前記内側コアは、接合エイドによって、前記外側コアに接合される、請求項２１に記載の方法。
【請求項３１】
前記接合エイドは、金属、セラミックペースト、有機接合エイド、およびポリマーから選択される、請求項２１に記載の方法。
【請求項３２】
前記内側コア外部表面は、機械的接続プロセスによって、外側層外部表面に接合される、請求項２１に記載の方法。
【請求項３３】
前記内側コアと前記外側外筒とは、圧入によって、接続される、請求項２１に記載の方法。
【請求項３４】
前記内側コアと前記外側外筒とは、機械的締結具によって、接続される、請求項２１に記載の方法。
【請求項３５】
前記機械的締結具は、ステープル、ナットおよびボルトアセンブリ、ストラップ材、紐、クリップ、直接ネジ山または相互係止キー、ピン、ネジ、および保定リングから選択される、請求項２１に記載の方法。
【請求項３６】
反応チャンバへのプロセスガスの流入および／または流出のための導管を製造する方法であって、該方法は、内部表面および外部表面を有する内側コアと、（ｂ）内部表面および外部表面を有する外側外筒とを接続することを備え、
該内側コア外部表面は、該外側外筒内部表面に接続され、
該内側コアは、サファイアから製作され、該外側外筒は、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、石英、サファイア、窒化アルミニウム、イットリア、アルミナ、ジルコニア、イットリア安定化ジルコニア、ＡｌＯＮ、ＳｉＡｌＯＮ、およびそれらの組み合わせから選択される材料を備える、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（関連出願の相互参照）
本願は、米国仮特許出願第６１／３７１，４５１号（名称「Ｐｒｏｃｅｓｓ  Ｇａｓ  Ｃｏｎｄｕｉｔｓ  Ｈａｖｉｎｇ  Ｉｎｃｒｅａｓｅｄ  Ｕｓａｇｅ  Ｌｉｆｅｔｉｍｅ  ａｎｄ  Ｒｅｌａｔｅｄ  Ｍｅｔｈｏｄｓ」、２０１０年８月６日出願）の米国特許法第１１９条第（ｅ）項の利益を主張し、この出願の全開示は、本明細書に参照することによって援用される。
【０００２】
本明細書において説明される発明は、腐食性ガスまたはガスプラズマを含む
プロセスまたは他のプロセスにおいて使用するためのガス注入器に関し、より具体的には、使用寿命が延長し、使用に伴ってエッチングおよび粒子生成をほとんど呈さないガス注入器およびガス導管に関する。
【背景技術】
【０００３】
半導体ウエハのエッチングのための大部分の半導体製造プロセスでは、ウエハの最上部分は、プロセスのエッチングステップにおいて、フォトレジスト層内に形成される正孔によって選択的に除去される。エッチングプロセスは、例えば、ＣＦ４、ＣＨＦ３、Ｏ２、ＮＦ３、Ｈｅ、およびアルゴンガス等のガスまたはガスプラズマが注入される、密閉されたチャンバ内で行われる。一般に、ガス供給デバイスおよびガス注入器は、ガスを反応チャンバに提供し、プロセスが完了すると、ガスをチャンバから排出するために要求される。ガスに暴露されることに加え、これらの構成要素は、プラズマエッチングプロセスに曝され得る。従来のガス供給構成要素は、石英から作製される。しかしながら、反復使用（チャンバへのプロセスガスの反復注入／通過）後、ガスが通過される構成要素部品（ガス注入器管等）は、エッチングされ、それによって、その構造的完全性を劣化させ、より有意には、ウエハエッチングプロセスの完全性に影響を及ぼす可能性がある粒子を生成し得る。いずれの結果も、ウエハおよび／またはプロセスの効率に犠牲の大きい欠陥をもたらし得る。これらおよび他の問題を回避するために、従来の石英ガス注入器管は、多くの場合、典型的には、交換される（すなわち、典型的には、約５００無線周波数（「ＲＦ」）ＨｒｓのＰＭ寿命を有する）。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、（ａ）内部表面および外部表面を有する内側コアと、（ｂ）内部表面および外部表面を有する外側外筒とを含み、内側コア外部表面は、外側外筒内部表面に接続される、反応チャンバへのプロセスガスの流入および／または流出のための導管を包含する。加えて、導管は、光またはデータ導管として作用してもよく、すなわち、例えば、反応チャンバから入口に、データ、光、または他の検出可能情報を伝える視覚ポートまたはセンサを含むアセンブリであってもよい。例えば、図２、３、４、および５を参照されたい。
【０００５】
内側コアは、サファイアから選択される材料から製作される。外側外筒は、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、石英、サファイア、窒化アルミニウム、イットリア、アルミナ、ジルコニア、イットリア安定化ジルコニア、ＡｌＯＮ、ＳｉＡｌＯＮ、およびそれらの組み合わせから選択される材料を含む。
【０００６】
また、半導体エッチングプロセスにおいて使用するためのハイブリッドガス注入器も含まれる。注入器は、少なくとも１つのガスラインを含み、少なくとも１つのガスラインは、内部表面および外部表面を有する内側コアと、内部表面および外部表面を有する外側外筒とを備える。内側コア外部表面は、外側外筒内部表面に接続される。内側コアは、サファイアから製作され、外側外筒は、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、石英、サファイア、窒化アルミニウム、イットリア、アルミナ、ジルコニア、イットリア安定化ジルコニア、ＡｌＯＮ、ＳｉＡｌＯＮ、およびそれらの組み合わせから選択される材料を備える。
【０００７】
また、反応チャンバへのプロセスガスの流入および／または流出のために使用される導管のＰＭ寿命を延長する方法も含まれる。そのような方法は、（ａ）内部表面および外部表面を有する内側コアと、（ｂ）内部表面および外部表面を有する外側外筒とから構成され、内側コア外部表面が外側外筒内部表面に接続される、導管を製作するステップを含む。内側コアは、サファイアから製作され、外側外筒は、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、石英、サファイア、窒化アルミニウム、イットリア、アルミナ、ジルコニア、イットリア安定化ジルコニア、ＡｌＯＮ、ＳｉＡｌＯＮ、およびそれらの組み合わせから選択される材料を備える。導管のＰＭ寿命は、同プロセス条件に曝される従来の石英導管のＰＭ寿命より長い。
【０００８】
内部表面および外部表面を有する内側コアと、（ｂ）内部表面および外部表面を有する外側外筒とを接続するステップを備え、内側コア外部表面が、外側外筒内部表面に接続され、内側コアが、サファイアから製作され、外側外筒が、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、石英、サファイア、窒化アルミニウム、イットリア、アルミナ、ジルコニア、イットリア安定化ジルコニア、ＡｌＯＮ、ＳｉＡｌＯＮ、およびそれらの組み合わせから選択される材料を備える、反応チャンバへのプロセスガスの流入および／または流出のための導管を製造する方法も含まれる。
【０００９】
前述の発明の開示ならびに以下の発明を実施するための形態は、添付の図面と併せて熟読されることによって、より理解され得る。しかしながら、本発明は、示される精密な配列および器具に限定されない。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、導管の縦断面図の概略図である。
【図２】図２は、斜視図において示される、視覚ポートを伴う、例示的同軸管アセンブリである。
【図３】図３は、縦断面図において示される、図２の視覚ポートを伴う、例示的同軸管アセンブリである。
【図４】図４は、斜視図において示される、例示的ガス注入器構造である。
【図５】図５は、縦断面図において示される、図４の例示的ガス注入器構造である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明は、処理システムの一部として、反応チャンバへのプロセスガス、プロセスガスプラズマ、または担体ガス等の他のガス状物質（以下、集合的に、「プロセスガス」と称される）の流入および／または流出のための導管、導管を含有する処理システム（ガス注入器等）、ならびに種々の関連方法に関する。そのような処理システムは、半導体ウエハの調製（エッチング）において使用され得るが、本明細書に説明される導管および方法は、プロセスガスが使用される任意の処理システム、例えば、化学蒸着（「ＣＶＤ」）（プラズマ増強ＣＶＤを含む）、エッチング（浅溝分離（「ＳＴＩ」）エッチングおよびハードマスクエッチングを含む）、ならびに高温成膜蒸着に関連し得る。
【００１２】
プロセスガスは、前述のプロセスにおいて使用される（または、機器を清浄するために使用される）任意のものおよびそれらの組み合わせを含んでもよい。実施例として、ＣＦ４、ＣＨＦ３、Ｏ２、ＮＦ３、Ｈｅ、アルゴンガス、および任意の担体ガスが挙げられ得る。半導体処理の場合、ウエハは、典型的には、チャンバ内にウエハを位置付け、ウエハの表面を種々のプロセスガスおよび／または担体ガスによって搬送される化学物質に暴露することによって、処理される。選択されるガスまたは混合物の化学的性質は、採用される処理の種類ならびに半導体ウエハの表面上に形成されるデバイスの性質に依存する。プロセスガスは、ガス注入器システムを介して、反応チャンバに供給され、その多くのモデルおよび構成が、長年にわたって工夫されてきた。
【００１３】
典型的には、ガス注入器システムは、ガス源およびプレナムから反応チャンバ内にガスを注入するための１つ以上のノズルと連通するプレナムを含む。ガス源からプレナムへのプロセスガスを輸送し、最終的に、ノズルを介して、反応チャンバへの流入を促進するために、プロセスガスが流動する、種々の導管または閉鎖経路（一般に、「ガスライン」と称される場合がある）が、提供される。同様に、プロセスガスが、反応チャンバから排出される時、反応チャンバから、廃棄またはリサイクルのために好適な場所へのプロセスガスの流出のための導管の種々の構成が、提供される。本発明の導管と交換され得る、導管を含む、例示的ガス注入器システムおよび／または構成要素として、当技術分野において周知または開発された任意のものが挙げられ、例えば、米国特許第５，８５１，２９４号、第５，４５３，１２４号、第５，７８３，０２３号、第５，４２２，１３９号、第６，２９６，７１０号、および第４，２３２，０６３号に示されるものが挙げられる（そのそれぞれの内容は、参照することによって本明細書に組み込まれる）。
【００１４】
本発明は、反応チャンバへのプロセスガスの流入および／または流出のための導管を含む。プロセスガスの流入または流出は、直接的（すなわち、導管は、プロセスガスを直接反応チャンバに送達するように、システム内に位置する）、または間接的（すなわち、導管は、反応チャンバの上流または下流のシステム内に位置するが、プロセスガスは、その経路上の導管を通して、反応チャンバへまたはそこから通過する）、あるいはその２つの任意の組み合わせであってもよい。
【００１５】
導管は、任意の構成、好ましくは、略環状の断面（遠近法によって見ると、管状構造であるように）であってもよく、または中実でない多角形断面構成、例えば、正方形、六角形、長方形構成断面を有してもよい。
【００１６】
図１は、縦断面図における、例示的導管の概略図を示す。導管は、外側外筒９と、外側外筒９に接続される内側コア３とを含む。内側コア３は、内部表面５（ガス通過経路１５に面する）と、外部表面７とを有する。同様に、外側外筒９は、内部表面１１と、外部表面１３とを有する。
【００１７】
内側コア３は、外側外筒９内に位置し、実質的に、外側外筒内部表面１１の大部分をガス通過経路１５から遮蔽するように設計される。故に、内側コア３は、実質的に、外側コア内部表面１１と連続的であることが好ましくあり得る。しかしながら、いくつかの状況では、必要でなくてもよいことが認識される。内側コア３は、外側外筒９内に留置されるので、内側コア３の断面円周（または、導管が多角形の場合、周縁）は、外側外筒９のものより小さいであろう。サイズ差は、内側コア３が外側外筒９に接続される機構を含むいくつかの要因に応じて、変動するであろう。
【００１８】
いくつかの実施形態では、外側外筒を内側コアに脱着可能または可逆的に接続してもよい。これは、独立して、内側コアまたは外側コアのいずれかの清浄、修理、および／または交換する際に、より柔軟性をもたらし得る。
【００１９】
導管内では、内側コア３は、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、石英、サファイア、窒化アルミニウム、イットリア、アルミナ、ジルコニア、イットリア安定化ジルコニア、ＡｌＯＮ、ＳｉＡｌＯＮ、および／またはそれらの組み合わせから製作される。いくつかの実施形態では、サファイアが好ましくあり得る。半導体用途における使用に好適である、および／または化学作用、熱、および／またはプラズマ抵抗を有する任意のサファイア材料が使用されてもよい。
【００２０】
外側外筒は、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、石英、サファイア、窒化アルミニウム、イットリア、アルミナ、ジルコニア、イットリア安定化ジルコニア、窒化系セラミック（ＡｌＯＮまたはＳｉＡｌＯＮ等）、およびそれらの組み合わせから選択される材料から作製されてもよい。
【００２１】
しかしながら、外側外筒と内側コアとは、異なる材料から作製されることが好ましくあり得る。
【００２２】
好ましくは、内側コアおよび外側外筒の各々は、一体型本体から形成される。しかしながら、いくつかの事例では、例えば、内側コアを２つ以上の区画に形成し、区画をともに組み立てることが望ましくあり得る。代替として、例えば、内側コアを一体型本体として形成し、いくつかの断片を内側コアの周囲に組み立て、それによって、外側外筒を形成してもよい。
【００２３】
内側コアおよび外側外筒は、それぞれ、その外側および内部表面において接続されてもよい。接続は、当技術分野において周知の任意の手段によって達成されてもよい。機械的手段、化学手段、およびそれらの組み合わせが好適であり得る。例示的接続手段として、鑞接（また、接続される表面の金属化を含む）、変形接合、拡散接合、および／または過渡液相接合が挙げられる。
【００２４】
いくつかの状況（例えば、鑞接）では、接合エイドを使用して、内側コアと外側外筒とを接続することが望ましくあり得る。実施例として、セラミックペースト、ポリマー、金属、および／または有機接合エイドが挙げられ得る。
【００２５】
接続の機械的手段もまた、単独において、または前述のものと組み合わせて、使用されてもよい。例えば、表面は、内側コアを外側外筒に圧入することによって、または積層によって（外側外筒および内側コアが、一体型断片ではない場合）接続されてもよい。代替として、機械的締結具または相互係止機構を使用して、外側外筒および内側コアを接続してもよい。例示的締結具として、ステープル、ナットおよびボルトアセンブリ、ストラップ材、紐、クリップ、直接ネジ山または相互係止キー、ピン、ネジ、および保定リングが挙げられ得る。
【００２６】
図２および３は、それぞれ、斜視図および縦断面図において示される視覚ポートを有する例示的な同軸管アセンブリ２１を示す。視覚ポートアセンブリ２１は、内側コア２５および外側外筒２３を含み、これらの各々は、前述の材料からおよび様式で製作される。内側コア２５は、外側外筒２３の長さを若干越えて延在し、プロセス真空チャンバ２７の中に突出する。内側コア２５は、外側外筒２３より遥かに厳しい条件に暴露される。アセンブリ２１の一端は、想像視線３３を介してプロセス真空チャンバ２７の内部を監視することを可能にするセンサまたは視覚ポート３１において終端する。センサまたは視覚ポート３１は、外側外筒２３に連結されるか、または別様に固着締結される真空気密窓、例えば、２９を含んでもよい。いくつかの実施形態では、窓は、着脱可能に締結され、したがって、除去および／または交換されてもよい。
【００２７】
図４および５は、斜視図および縦断面図において示される視覚ポート５９を有する例示的ガス注入器アセンブリ３７である。内側コア４７および外側外筒４５は、前述の材料および様式で作製される。プロセスガスは、ポート４３ａおよび４３ｂ、ガスライン６１ａおよび６１ｂを通して、反応チャンバ７１内に輸送される。内側コア４７は、外側外筒４５の長さを越えて延在し、プロセス真空チャンバ７１内に突出する。内側コア４７は、外側外筒４５より遥かに厳しい条件に暴露される。
【００２８】
アセンブリ３７は、反応チャンバ７１内に延在し、プロセスガスの送達を促進し、反応チャンバへの視覚またはセンサアクセスを可能にすることの両方を行う。アセンブリの一端は、想像視線４９を介して、プロセス真空チャンバ７１の内部の監視を可能にするセンサまたは視覚ポート５９において終端する。センサまたは視覚ポート５９は、外側外筒４５に連結されるか、または別様に固着締結される真空気密窓、例えば、３９を含んでもよい。
【００２９】
本発明に従って調製される導管は、石英等の従来の材料から調製される導管よりも使用寿命が長い。例えば、本発明の導管は、約５００ＲＦ  ｈｒｓよりも長いＰＭ寿命を有し得る。代替として、本発明の導管は、約６００、約７００、約７５０、約８００、約９００、約１０００、約１１００、約１２００、約１３００、約１４００、約１５００、約１６００、約１７００、約１８００、約１９００、約２０００、約２１００、約２２００、約２３００、約２４００、約２５００、約２６００、約２７００、約２８００、約２９００、または約３０００以上であるＰＭ寿命を有し得る。
【００３０】
本発明はまた、具体的には、ガス注入器アセンブリ内のガスラインとして使用される導管を含む。本発明の導管によって交換され得る導管を含む、例示的ガス注入器システムおよび／または構成要素として、当技術分野において周知または開発される任意のものが挙げられ、例えば、米国特許第５，８５１，２９４号、第５，４５３，１２４号、第５，７８３，０２３号、第５，４２２，１３９号、第６，２９６，７１０号、および第４，２３２，０６３号に示されるものが挙げられる（そのそれぞれの内容は、参照することによって本明細書に組み込まれる）。
【００３１】
また、発明の範囲内に想定されるのは、導管を調製する方法である。そのような方法は、前述の接続方法を使用して内側コアを外側外筒に接続するステップを含む。
【００３２】
本発明は、前述のように、導管を製造することによって、反応チャンバへのプロセスガスの流入および／または流出のために使用される導管の使用寿命を延長する方法を含む。
【００３３】
その広範な発明の概念から逸脱することなく、前述の実施形態に変更が行われ得ることは、当業者によって理解されるであろう。したがって、本発明は、開示される特定の実施形態に限定されず、添付の請求項によって定義されるように、本発明の精神および範囲内における修正を網羅することが意図されることを理解されたい。
【図１】
2013539210.tif 000003
【図２】
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【図３】
2013539210.tif 000005
【図４】
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【図５】
2013539210.tif 000007
【国際調査報告】
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