(57)【要約】  本発明は血管閉塞の処置方法を提供するもので、手術中に、真空を用いてカテーテルの先端部を一時的に閉塞処置部位に吸着させることで、カテーテルの位置を部分的に固定することを含む。また、本発明は、外的に発生させた真空によって制御される真空固定先端部を有するカテーテルと、先端部自身によって発生させた真空によって制御される真空固定先端部を備えたカテーテル、電気信号によって真空が制御される真空固定先端部を備えたカテーテルを提供するものでもある。この部分的な位置固定方法は、真空を利用してカテーテルの先端部を所定の位置に吸着させつつ、ワイヤまたは専用の閉塞貫通デバイスを自在に挿通可能としており、これにより、術者は、ワイヤを補助するカテーテルを挿入する際に、先端部の位置を常にモニターしながらワイヤの前進を補助するためにカテーテルを押し込むことから開放される。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
室分割ルーメンを介して、柔軟性を有する真空室と流体的に連通する、柔軟性を有する接触室を備える真空固定カテーテル先端部であって、
前記接触室、前記真空室、および前記室分割ルーメンは、ワイヤまたは専用の閉塞貫通デバイスが自在に挿通可能な大きさであり、
前記接触室は、オブジェクトの表面の形状に合わせて相対的に変形可能であり、
前記真空室は、真空引きされた時に変形に抗し、これにより、前記接触室と前記オブジェクトとの間の真空吸着力のレベルが安定する程度に硬性である、真空固定カテーテル先端部。
【請求項２】
前記室分割ルーメンは、前記接触室と前記真空室との間の柔軟性を向上させ、これにより、使用中の前記接触室と前記オブジェクトとの間に働く前記真空吸着力への引っ張りストレスを低減する外部室分割凹部を更に備える、請求項１に記載の真空固定カテーテル先端部。
【請求項３】
前記室分割ルーメンは、内部室分割膜を更に備える、請求項２に記載の真空固定カテーテル先端部。
【請求項４】
前記接触室と前記真空室は、厚さの異なる同一の材質から形成される、請求項１に記載の真空固定カテーテル先端部。
【請求項５】
前記接触室と前記真空室は、異なる材質から形成され、
前記接触室の材質は、前記真空室の材質に対して、相対的に低い硬度を有している、請求項１に記載の真空固定カテーテル先端部。
【請求項６】
前記接触室は、柔軟性を有する封止リングを更に備える、請求項１に記載の真空固定カテーテル先端部。
【請求項７】
前記接触室は、柔軟性を有する第２の封止リングを更に備える、請求項６に記載の真空固定カテーテル先端部。
【請求項８】
前記ワイヤまたは専用の閉塞貫通デバイスを、前記接触室、前記真空室、および前記室分割ルーメンに通すように誘導するための誘導コーンを更に備える、請求項１に記載の真空固定カテーテル先端部。
【請求項９】
前記真空室、前記室分割ルーメン、および前記接触室を通るように伸びて、前記ワイヤまたは専用の閉塞貫通デバイスを、前記真空固定カテーテル先端部内に挿通するためにガイドする第２の内部ガイドルーメンを更に備える、請求項１に記載の真空固定カテーテル先端部。
【請求項１０】
カテーテルシャフトに前記真空固定カテーテル先端部を接続するための尾部を更に備える、請求項１に記載の真空固定カテーテル先端部。
【請求項１１】
前記真空室と前記尾部との間の柔軟性を向上させる外部真空室凹部を更に備える、請求項１０に記載の真空固定カテーテル先端部。
【請求項１２】
カテーテルシャフトと請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載の真空固定カテーテル先端部を備える、真空固定カテーテル。
【請求項１３】
前記室分割ルーメン内に組み込まれた、弾性を有する径方向バネを更に備え、
前記弾性を有する径方向バネは、前記カテーテルシャフト内に組み込まれた複数の弾性支柱と動作可能に接続されている、請求項１２に記載の真空固定カテーテル。
【請求項１４】
従来のガイディングカテーテル内に挿入する間、前記真空固定カテーテル先端部を軸方向に圧縮するためのスライド可能なスリーブを更に備える、請求項１２に記載の真空固定カテーテル先端部。
【請求項１５】
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の真空固定カテーテル先端部を用いて、手術中に、処置部位にマイクロガイディングカテーテルの先端を一時的に吸着させることによって、前記マイクロガイディングカテーテルを固定する、血管閉塞の処置方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願発明は血管形成技術に関し、特に、慢性的な血管完全閉塞を含む血管閉塞の処置に用いる方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
血管閉塞の処置には、一般的に経皮血管造影技術が用いられ、この経皮血管造影技術は、閉塞位置へマイクロガイディングカテーテルを前進させたり、閉塞内に術者が後から血管形成バルーンなどの経皮的な装置を挿入するためのマイクロチャネルの形成や、血流を回復させることを目的として、ワイヤや専用の閉塞貫通デバイスにより閉塞を貫通したりするために用いられる。この閉塞横断の背後にあるメカニズムは、ワイヤや専用の閉塞貫通デバイスをコンスタントに前進させることに基づいており、これによって、ワイヤや専用の閉塞貫通デバイスは、閉塞を完全に横断するまで、閉塞内の自然に形成されたマイクロチャネル内に挿通される。
【０００３】
血管閉塞には急性のものと慢性のものがあり、慢性の閉塞、しばしば慢性完全閉塞（ＣＴＯ）と呼ばれるものは、典型的には線維性で、石灰化したものも多い。ＣＴＯは、急性の閉塞と比べて閉塞している距離が長いこともある。そのため、ワイヤや専用の閉塞貫通デバイスに、ＣＴＯを貫通させるためには、軸方向への比較的強い力が必要となる。
【０００４】
ワイヤは径方向のサポートがなければ容易に曲がってしまうことから、ワイヤを前進させる為にワイヤに加えることができる軸方向の力の大きさには明確な機械的限界がある。そのため、公知のＣＴＯ処置技術においては、一般にマイクロガイディングカテーテルが用いられている（マイクロガイディングカテーテルは、ワイヤの外径に僅かにマージンを持たせた分の内径を有する細いチューブを備えており、このチューブは硬性であり、かつ術者が患者の血管内に挿入し、ＣＴＯ部位に到達させるのには十分な柔軟性を有している）。
【０００５】
しかしながら、マイクロガイディングカテーテルを用いることは、軸方向の力の大きさという面では改善をもたらすが、術者の力を完全に伝達するものではない。物理学の作用−反作用の法則から、チューブ内に拘束されたワイヤを障害物に向けて押すと、反対方向の力が、障害物から、ワイヤと拘束チューブに対して加わる。もしワイヤを拘束しているチューブが処置部位から外れてしまうと、外れた部位の近辺でワイヤが露出し、ワイヤは軸方向へ力を伝達する能力を失い、座屈してしまう。
【０００６】
手術の間、ワイヤが完全に保護された状態を保つためには、術者は、カテーテルの先端位置を閉塞部にできるだけ近い位置に維持するように、常に注意を払い続けなければならない。しかしながら、これは現実的な方法ではない。なぜなら、カテーテルを処置部位に到着させるために通すべき曲がりくねった経路によって、カテーテルが曲がるたびに、伝達される力またはコントロールが失われ得るからである。加えて、典型的なマイクロガイディングカテーテルを使用するに当たっては、術者は、カテーテル自体が座屈しないように、軸方向の力が、最大許容範囲を越えないように注意する必要がある。
【０００７】
最新のマイクロガイディングカテーテルにおいては、ワイヤの座屈の問題はある程度は解決されていて、術者が加えられる力の大きさも僅かに向上している。しかしながら、これらはカテーテルの先端を固定するものではなく、ワイヤへの力の変換に関して最大限の可能性を術者に提供するものではない。このため、閉塞の処置部位へのマイクロカテーテルの固定を容易にする別の技術が開発されている。
【０００８】
その方法とは、血管形成用バルーンを使用するものである。これは、バルーンを膨張させて、マイクロガイディングカテーテルのシャフトの先端を血管壁に対して押し付けるものである。これにより、シャフトは膨らんだバルーンと血管壁との間に挟まれ、マイクロカテーテルの先端は相対的に固定される。しかしながら、マイクロカテーテルの先端を固定するための血管形成バルーンの使用にはいくつかの欠点もある。その中で最も重大なものは、血管壁内にシャフトを押し込むという安全性に関する問題であり、血管に致命的な損傷を負わせる可能性がある。他の欠点としては、カテーテルが血管壁に対して事実上固定されているため、結果的に、手術中は術者がカテーテルの先端の位置を変更できないということである。この手法のバリエーションとして、ワイヤを自由に動かせる同軸状のものを用いる方法がある。しかしながら、バルーンの力が加わることによる血管壁への損傷のリスクは依然として残る。
【発明の概要】
【０００９】
本概要は、ここで開示および請求されている主題の範囲を説明するものではない。本概要は、以下に説明する発明の詳細な説明の前置きとして、基本的な理解を促すために、本発明の主題の様々な態様を簡潔な形で提供するものである。
【００１０】
以下に示されるのは、血管閉塞の処置方法で、手術中に、真空を用いてカテーテルの先端部を一時的に閉塞処置部位に吸着させることで、カテーテルの位置を部分的に固定することを含む。また、外的に発生させた真空によって制御される真空固定先端部を有するカテーテルと、先端部自身によって発生させた真空によって制御される真空固定先端部を備えたカテーテル、電気信号によって真空が制御される真空固定先端部を備えたカテーテルが示される。この部分的な位置固定方法は、真空を利用して、カテーテルの先端部を所定の位置に固定しつつ、ワイヤまたは専用の閉塞貫通デバイスを自在に挿通可能としており、これにより、術者は、ワイヤを補助するカテーテルを挿入する際に、先端部の位置を常にモニターしながらワイヤの前進を補助するためにカテーテルを押し込むことから、開放される。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
開示された主題の望ましい形態と共に、その性質および利点を完全に理解するため、以下の詳細な説明を、図面を参照しながら読まれたい。図面においては、同一または同様のステップまたは要素は、同一の符号で示される。
【図１】従来のマイクロガイディングカテーテルを用いて血管閉塞を処置する従来技術の概略図で、閉塞内に自然に形成されたマイクロチャネル内へワイヤまたは専用の閉塞貫通デバイスが挿通される様子を示す図である。
【図２】従来のマイクロガイディングカテーテルを用いて血管閉塞を処置する従来技術の概略図であり、『サポートなし』で、サポートが無いワイヤにおける軸方向前方へ力を加えた場合の影響を、『サポートあり』で、ワイヤがマイクロガイディングカテーテルによってサポートされているワイヤに軸方向前方へ力を加えた場合の影響を示す図である。
【図３】従来のマイクロガイディングカテーテルを用いて血管閉塞を処置する従来技術の概略図で、作用−反作用の法則に従って、マイクロガイディングカテーテルが処置部位から外れる様子を示す図である。
【図４】従来のマイクロガイディングカテーテルを用いて血管閉塞を処置する従来技術の概略図で、作用−反作用の法則に従って、マイクロガイディングカテーテルが処置部位から外れる様子を示す図である。
【図５】従来のマイクロガイディングカテーテルを用いて血管閉塞を処置する従来技術の概略図で、外れた部位の近辺でのワイヤの座屈を示す図である。
【図６】カテーテルの先端を閉塞部位に一時的に吸着させるための、真空固定先端部の典型的な形態の概略図である。
【図７】カテーテルの先端を閉塞部位に一時的に吸着させるための、真空固定先端部の典型的な形態の概略図である。
【図８】本発明の実施形態における、真空固定先端部の断面図である。
【図９】本発明の実施形態における、真空固定先端部の断面図である。
【図１０】本発明の実施形態における、真空固定先端部の斜視図である。
【図１１】本発明の実施形態における、真空固定先端部の斜視図である。
【図１２】本発明の実施形態における、真空固定先端部の断面図である。
【図１３】本発明の実施形態における、真空固定先端部の断面図である。
【図１４】本発明の実施形態における、真空固定先端部の断面図である。
【図１５】本発明の実施形態における、真空固定先端部の断面図である。
【図１６】本発明の実施形態における、真空固定先端部の断面図である。
【図１７】本発明の実施形態における、真空固定先端部の断面図である。
【図１８】一室吸引構造の概略図である。
【図１９】従来の一室吸引構造と本発明の実施形態における真空固定先端部とを比較した概略図である。
【図２０】本発明の実施形態における、真空固定先端部の断面図である。
【図２１】本発明の実施形態における、カテーテルの一部分の斜視図である。
【図２２】本発明の実施形態における、カテーテルの一部分の斜視図である。
【図２３】本発明の実施形態における、カテーテルの一部分の斜視図である。
【図２４】本発明の実施形態における、カテーテルの一部分の斜視図である。
【図２５】本発明の他の実施形態における、真空固定先端部の断面図である。
【図２６】図２５の真空固定先端部のスプリングフレームの拡大斜視図である。
【図２７】図２５の真空固定先端部の分解斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
図１から図５は、背景技術で述べた従来のマイクロガイディングカテーテルを用いた、ＣＴＯなどの血管閉塞を処置する従来技術を示している。図１は、閉塞内に自然に形成されたマイクロチャネル内へのワイヤまたは専用の閉塞貫通デバイスの挿通を示している。図２は、『サポートなし』で、サポートが無いワイヤに軸方向前方へ力を加えた場合の影響と、『サポートあり』で、マイクロガイディングカテーテルによってサポートされているワイヤに軸方向前方へ力を加えた場合の影響を示している。図３と４は、作用−反作用の法則に従って、マイクロガイディングカテーテルが処置箇所から外れる様子を示しており、図５は、その結果、外れた箇所の近辺でのワイヤの座屈を示している。
【００１３】
図６と７には、カテーテルの先端を閉塞部位に一時的に吸着させるための真空固定先端部の一般的な形態が示されている。真空は、外的にまたは真空固定先端部自身によって発生し、機械的にまたは電気信号を用いた方法により制御される。
【００１４】
図８と９は、真空固定カテーテル先端部の断面図を示しており、先端部内の真空は、外的に発生させた真空によって生成および制御される。カテーテルは、血管閉塞にしっかりと固定された先端部に、従来のガイドワイヤや硬性を有するワイヤ、専用の閉塞貫通デバイスを通すように構成されており、血管閉塞部位に先端部を固定するために真空引きしつつ、ワイヤを自在に挿通可能となっている。
【００１５】
先端部１００は、単一の柔軟性を有する材質から形成されており、射出成形や２つのモールドを用いた成形、機械成型などによって作製される。望ましい実施形態においては、先端部１００の外側表面は、次の７つの異なる領域に分けられる：封止リング１、封止リング凹部２、接触室壁３、真空室壁４、室分割凹部５、真空室凹部６、尾部壁７。また、望ましい実施形態においては、先端部１００の内側表面も、次の７つの異なる領域に分けられる：第２封止リング８、室分割膜９、誘導コーン１０、尾部１１、真空室１２、室分割ルーメン（ｌｕｍｅｎ）１３、接触室１４。
【００１６】
封止リング１は、閉塞部位に先端部を吸着させるために、最初に封止を行う主要な接触領域として働き、これによって先端部１００内の真空引きが可能となる。封止リング凹部２は、閉塞部位に対する柔軟性を向上させることで、封止リング１による封止を行いやすくする。
【００１７】
先端部１００内が真空引きされるにつれて、先端部１００と閉塞部位の対象表面との間の接触は、主に接触室１４を介して行われる。第２封止リング８はオプションで、これが含まれる複数の実施形態においては、この追加的な補強により、接触室１４の接触の封止能力が更に向上する。
【００１８】
図１２に最も良く示されるように、接触室１４は、使用中に選択した真空度合いを維持し、対象となる表面が荒かろうが、凹凸があろうが、または滑らかであろうが、表面の形状に合わせて密着するように伸張可能である。これを補助するため、接触室１４の接触室壁３は先端部１００の他の領域に比べて薄く形成されていて、これにより、伸張し、展延して、どのような対象表面にも、ほぼ適合できるようになっている。接触室１４の接触室壁３は、また、これらの特性の実現を更に補助するために、硬度の低い材質で作られていても良い。
【００１９】
図１３を参照すると、先端部１００の真空室１２は、使用中に真空を維持して、接触室１４のための真空溜めを提供している。真空室１２の壁４の厚さは、潰れることなく、真空状態に抗する能力を向上させるために、接触室１４の壁３よりも厚く形成されていることが望ましい。真空室１２の壁４は、また、この特性の実現を更に補助するために、硬度の高い材質で作られていても良い。
【００２０】
室分割ルーメン１３は真空室１２と接触室１４とを連通させており、使用時には、ワイヤまたは専用の閉塞貫通デバイスを挿通自在とするのに適した構造および大きさを有している（図１４を参照）。いくつかの実施形態においては、ワイヤまたは専用の閉塞貫通デバイス１９を更にサポートするために、カテーテルの全長に渡って、カテーテルの先端部の位置まで伸びた、追加ルーメン１８が提供されていてもよい。
【００２１】
室分割凹部５は真空室１２と接触室１４との間の柔軟性を補助し、これにより、傾きに関し更なる自由度を接触室１４に与える。これにより、接触室１４は真空状態を損なわず、対象となる表面の形状により良く適合し、またカテーテルのシャフト１６の傾きによる影響を最小化する。
【００２２】
真空室凹部６は第２の柔軟性を有する領域を提供し、また、手術に先立って、先端部１００を案内スリーブ内に誘導する（図２１を参照）。
【００２３】
尾部１１は、柔軟性を有する先端部１００とカテーテルシャフト１６との間の接続部を提供し、尾部１１の厚さと、尾部壁７の形は、尾部壁７が従来のカテーテルシャフト１６を構成する層内に配置されるようなラミネート加工を含む、様々な既知の接着または結合技術によって最適化されている。
【００２４】
誘導コーン１０は、ワイヤまたは専用の閉塞貫通デバイスを、先端部１００の中心に案内するようなサイズで構成されており、硬性を有するワイヤまたは専用の閉塞貫通デバイスが使用される実施形態において、先端部１００の内部構造に損傷を受けるリスクを低減する（図１５を参照）。
【００２５】
図１６を参照すると、先端部１００の二連室構造は、既知の従来技術と比較して、より効率的に一定の真空レベルを維持することを可能にする。接触室１４が強力な封止領域を生成し、一方、真空室１２は、吸着するための力Ｆを維持するための一定の負圧ΔＰのバッファとなり、さらにこれを伝達する。
【００２６】
加えて、図１７に最も良く示されるように、先端部１００の二連室構造と室分割凹部５のヒンジのような動きによって、カテーテルのシャフト１６の傾きの変化に拘わらず、先端部１００の接触室１４が対象となる表面に対してほぼ平行な状態をより良く維持することができる。これにより、カテーテルのシャフト１６が傾いても先端部１００が安定した真空レベルを維持する能力を更に向上させ、カテーテルのシャフト１６の基端部のぶれから、接触室１４を隔離する。
【００２７】
比較対象として、図１８は、一室構造の真空維持における、傾きの悪影響を説明する図である。このような一室構造では、もし、一室構造の真空室１５が真空引きされた後に、傾かせる力「Ｍ」がカテーテルのシャフトに働くと、一室構造１５の接触領域に圧縮力（＋Ｔ）と引張力（−Ｔ）が働く。圧縮力は接触領域への吸着を補助することから、接触領域の封止が壊れるのを防ぐために最小化する必要があるのは引張力の方である。
【００２８】
図１９は、一室構造１５とここに開示する主題である二室構造の両方に対するこれらの影響を、詳細に説明する図である。二室構造では、ストレスが伝わるのを防ぐストレス隔離点１７（上述した通り、ストレス隔離点１７は、開示された主題である先端部１００の二連室構造と分割凹部５のヒンジのような動きを含む）によって、シャフトの傾き量が増加するに従い（Ｍ１、Ｍ２）、比較的小さい引張力（ｔ１、ｔ２）が接触表面（本願発明の封止リング１と追加の第２の封止リング８）に伝達される。一室構造では、二室構造に比べて、このような力（Ｍ１、Ｍ２）の増加は、引張力（Ｔ１、Ｔ２）の大きさに、より大きく影響する。＠Ｍ１：ｔ１＜Ｔ１；＠Ｍ２：ｔ２＜＜Ｔ２
【００２９】
力に対する反応の違いは、隔離点を介して異なる方向の力ベクトル（ｄ１、ｄ２）に変換され、これは室の内部変形を引き起こすが、引張力（ｔ１、ｔ２）には影響を与えない。＠Ｍ１：ｔ１＋ｄ１＝Ｔ１；＠Ｍ２：ｔ２＋ｄ２＝Ｔ２
【００３０】
ここで図２０を参照すると、先端部１００は、一定の真空を維持しつつ、ワイヤまたは専用の閉塞貫通デバイスをルーメン内に対し挿通自在としている。加えて、先端部１００は、真空度合いに拘わらず、ワイヤやデバイスに対して、挿通の際に大きな抗力を与えない。これは、真空室１２と室分割膜９の協働によって達成されている。すなわち、真空引きが行われる際に、軸方向の変形によって、径方向の変形が最小化され打ち消される。この協働が、周りの負圧に依らず、室分割ルーメン１３の直径をほぼ一定に保ち、これによってワイヤまたはデバイスを対象領域まで自在に挿通可能としている。
【００３１】
図２１から２４は、真空固定カテーテルの使用方法における各ステップを示している。真空固定カテーテルは経皮的なデバイスであり、通常、ガイディングカテーテルを通して誘導されるため、広がった先端部１００は、ガイディングカテーテルルーメンに引き込みが可能になるよう、圧縮されるべきである。引き込みのための一つの態様は、ハブにおいて、作動ノブに接続されたスライド式のスリーブである。スリーブは、広がった先端部を収容するように前方に押し出され、小さい径のスリーブ内に先端部を収容することにより、ガイディングカテーテル内に真空固定カテーテルを誘導することを可能にする（図２３を参照）。一旦、真空固定カテーテルが対象となる閉塞に到達すると、閉塞貫通の手術の準備のために、ノブを用いてスリーブが引き戻されて先端部１００が露出される。先端部１００が閉塞の対象領域に接触すると、カテーテルの先端のピストンが引かれ、一時的に固定されて、カテーテルを通して真空状態となる。閉塞貫通の手術が終わると、真空状態が解除され、ガイディングカテーテルが引き抜かれる（図２４を参照）。
【００３２】
図２５から２７は、カテーテルの傾きの動きによって自身で連続的に真空を発生させる他の実施形態を示している。これらの実施形態において、先端部１００は、室分割ルーメン１３を囲むように、カテーテルシャフト１６内に設けられたスプリングフレーム２０を更に備えている。シャフト１６が傾くと、スプリングフレーム２０は、シャフト１６の傾きの動きを、真空室壁４の径方向の膨張／収縮へ変換し、これによって真空室１２の体積が拡大／縮小して真空状態が発生する。
【００３３】
好ましい実施形態においては、フレーム２０は径方向のスプリング２１と、２対以上の対になった非対称な接続支柱２２を備え、接続支柱２２は、シャフト１６内に組み込まれた操作ワイヤまたは支柱２３と連結している。シャフト１６内に組み込まれた操作ワイヤまたは支柱２３は、専用のルーメン２４内に配置されていることが好ましい。別の実施形態においては、フレームは奇数個の接続支柱２２と操作ワイヤまたは支柱２３を備えている。
【００３４】
本記載は、ここで開示及び請求されている主題を実行する現時点でのベストモードを含んでいる。本記載は本主題の一般的な原理を説明することを目的に記載されているものであり、限定的な意味に解すべきではない。本主題に内在する原理を理解した当業者にとって明らかなように、本開示の範囲を逸脱することなく、本主題を様々な形で実行することができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
2013540493.tif 000024
【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【国際調査報告】
2013540493.tif 000030
2013540493.tif 000031
2013540493.tif 000032