(57)【要約】  磁極先端シールドを含む書込素子が開示される。開示された実施形態において、たとえば、磁極先端シールドは、勾配磁気モーメント材料から作成されたサイドシールド部を含み、サイドシールド部の長さに沿ったダウントラック方向に減少する磁気モーメントを有する勾配サイドシールド部を形成する。別の実施形態において、磁極先端シールドは、磁極先端のサイドエッジの部分的長さに沿った短縮された長さを有するサイドシールド部を含む。例示された実施形態において、サイドシールド部は、磁極先端のリーディングエッジ部の前方の、凹凸部を有する輪郭の付いた本体から形成される。凹凸部は、磁極先端のリーディングエッジの前方の磁極先端シールドのリーディングエッジの間のギャップ領域のための丸みの付いたプロファイルを形成する、丸みの付いた凹凸のある輪郭表面を有する。
2013537349.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アセンブリであって、
リーディングエッジ、トレーリングエッジおよびサイドエッジを含む磁極先端を有する磁極に磁束を誘起するように励磁可能なコイルを有する磁極アセンブリと、
前記磁極先端の両側に沿って延在するとともに前記磁極先端の両側から離れている勾配サイドシールド部を含む磁極先端シールドとを備え、前記勾配サイドシールド部は、勾配磁気モーメント材料から形成されて、前記サイドシールド部の長さに沿った可変の磁気モーメントを与え、
前記勾配サイドシールド部と前記磁極先端との間の磁気絶縁材料から形成されたギャップ領域をさらに備える、アセンブリ。
【請求項２】
前記勾配磁気モーメント材料は、ダウントラック方向に減少して、前記磁極先端の前記トレーリングエッジよりも前記磁極先端の前記リーディングエッジに近い前記勾配サイドシールド部において、より大きい磁気モーメントを与える、請求項１に記載のアセンブリ。
【請求項３】
前記勾配サイドシールド部は、複数の勾配部分を含み、前記勾配部分の前記磁気モーメントは、前記磁極先端の前記トレーリングエッジに向かってダウントラック方向に減少する、請求項２に記載のアセンブリ。
【請求項４】
前記勾配サイドシールド部の高さおよび幅の寸法は、前記勾配サイドシールド部のリーディングエッジとトレーリングエッジとの間の前記勾配サイドシールド部の長さに沿って同じであり、前記勾配磁気モーメント材料は、前記勾配サイドシールド部の前記長さに沿った可変の磁気モーメントを与える、請求項１に記載のアセンブリ。
【請求項５】
前記勾配サイドシールド部は、複数の基本材料を含む強磁性合金から形成されて、前記合金の前記複数の基本材料のうちの１以上のパーセンテージは、前記勾配サイドシールド部を形成するために変化する、請求項１に記載のアセンブリ。
【請求項６】
前記複数の基本材料は、コバルト、鉄ニッケルのうちの１以上を含む、請求項５に記載のアセンブリ。
【請求項７】
前記磁極先端シールドは、前記磁極先端の前方のリーディングエッジ部を含み、前記リーディングエッジ部は、前記リーディングエッジ部からダウントラック方向に延在する前記勾配サイドシールド部よりも高い磁気モーメントを有する、請求項１に記載のアセンブリ。
【請求項８】
前記磁極先端シールドは、スライダ本体に形成されて、前記勾配サイドシールド部の幅は、前記ギャップ領域の周囲から前記スライダ本体の両側へと延在する、請求項７に記載のアセンブリ。
【請求項９】
磁気アセンブリであって、
磁極先端を有する磁極に磁束経路を誘起するように励磁可能なコイルを有する磁極アセンブリを備え、前記磁極先端は、リーディングエッジ、トレーリングエッジおよびサイドエッジを含み、
リーディングエッジシールド部とサイドシールド部とを含む磁極先端シールドをさらに備え、前記磁極先端シールドは、ダウントラック方向に減少した磁気モーメントを与える勾配磁気モーメント材料から形成されて、前記磁極先端の前記トレーリングエッジに近接した前記磁極先端シールドに対する磁気モーメントに比べて、より大きな磁気モーメントを、前記磁極先端の前記リーディングエッジに近接した前記磁極先端シールドに与え、
前記磁極先端シールドと前記磁極先端との間の磁気的絶縁材料から形成されたギャップ領域をさらに備える、アセンブリ。
【請求項１０】
前記アセンブリは、スライダ本体を含み、前記磁極アセンブリは、前記スライダ本体のトレーリングエッジに近接して作製され、前記磁極先端シールドの断面幅は、前記スライダ本体の両側の間に前記スライダ本体の断面幅寸法の全体に延在する、請求項９に記載のアセンブリ。
【請求項１１】
前記リーディングエッジシールド部は、前記磁極先端シールドの本体の凹凸部に沿って形成され、前記凹凸部は、前記磁極先端の前記リーディングエッジの前方の、丸みの付いた凹凸表面輪郭を含む、請求項９に記載のアセンブリ。
【請求項１２】
前記磁極先端シールドは、複数の基本材料を含む強磁性合金から形成され、前記合金の前記複数の基本材料のうちの少なくとも１つのパーセンテージは、前記ダウントラック方向に減少する前記磁気モーメントを有する前記勾配磁気モーメント材料を形成するために変化する、請求項９に記載のアセンブリ。
【請求項１３】
前記勾配磁気モーメント材料は、鉄元素、ニッケル元素およびコバルト元素のうちの１以上から形成されて、前記鉄元素、ニッケル元素およびコバルト元素のうちの１以上のパーセンテージは、前記勾配磁気モーメント材料を与えるために変化する、請求項９に記載のアセンブリ。
【請求項１４】
磁気アセンブリであって、
リーディングエッジ、トレーリングエッジおよびサイドエッジを有する磁極先端を含む磁極中に磁束経路を誘起するように励磁可能なコイルを有する磁極アセンブリと、
リーディングエッジとトレーリングエッジとを有する本体を含む磁極先端シールドとを備え、前記本体の前記トレーリングエッジは、リーディングエッジシールド部と、前記磁極先端のサイドエッジの部分的長さに沿って延在する、短縮された長さを有するサイドシールド部とを定義する凹凸部とを含み、前記サイドシールド部の前記短縮された長さは、前記磁極先端の前記リーディングエッジからダウントラックにあり、前記磁極先端の前記トレーリングエッジの前方に間隔を設けて配置された、前記サイドシールド部のための終端表面を形成し、
前記磁極先端シールドの前記本体の前記凹凸部と前記磁極先端との間の磁気的絶縁材料から形成されたギャップ領域をさらに備え、前記凹凸部は、前記磁極先端の前記リーディングエッジの前方の前記ギャップ領域のための、丸みの付いたプロファイルを与えるための、丸みの付いた凹凸表面輪郭を有し、
前記磁極先端の前記サイドエッジに沿った前記ダウントラック方向に前記サイドシールド部の前記終端表面から、前記磁極先端の前記トレーリングエッジへと延在する、磁気的絶縁領域をさらに備える、アセンブリ。
【請求項１５】
前記磁極アセンブリは、スライダ本体に作製されて、前記磁極先端シールドの周辺端の間の前記磁極先端シールドの幅は、前記スライダ本体の全体断面幅寸法に延在する、請求項１４に記載のアセンブリ。
【請求項１６】
前記磁極アセンブリは、基板に作製されて、前記サイドシールド部の幅は、前記ギャップ領域から前記基板のサイドエッジへと延在する、請求項１４に記載のアセンブリ。
【請求項１７】
前記磁極先端は、前記磁極先端の前記トレーリングエッジよりも前記リーディングエッジにおいてより小さい幅寸法を有して、前記磁極先端の壁角度を形成する、請求項１４に記載のアセンブリ。
【請求項１８】
前記リーディングエッジ部および前記磁極先端シールドの前記サイドシールド部は、前記磁極先端の表面に対向する媒体から離れて延在する方向に均一の高さ寸法を有する、請求項１４に記載のアセンブリ。
【請求項１９】
前記リーディングエッジシールド部の前記高さ寸法と、前記磁極先端シールドの前記サイドシールド部とは、前記磁極先端のスロート高さに一致する、請求項１８に記載のアセンブリ。
【請求項２０】
前記凹凸部と前記短縮されたサイドシールド部との間の丸みの付いた端部表面を備える、請求項１４に記載のアセンブリ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本願は、２００９年３月１６日に出願された「磁壁角度を有する磁気記録ヘッド」と題された米国出願番号１２／４０４，５７９の一部継続出願であるとともにその優先権を主張し、その全体は参照によってこの明細書に援用される。
【背景技術】
【０００２】
背景
データ記憶装置は、磁気記憶媒体にデジタルで符号化された情報またはデータを記憶する。データは、磁気記録ヘッドを用いて記憶媒体に記憶される。例示的な磁気記録ヘッドは磁極先端を有するメイン磁極と、１以上の補助磁極とを含む。コイルは、励磁されてメイン磁極および１以上の補助磁極に磁束経路を生成し、記憶媒体の磁気記憶層にデータを磁気的に記録する。データは、長手パターンまたは垂直パターンで磁気記憶層に記憶可能である。例としてのデータ記憶媒体は、複数の同心データトラックを有する回転ディスクを含む。ヘッドは、その複数の同心データトラックの１以上に対して相対的に位置して、磁気記憶媒体にデータを符号化する。典型的なヘッドは、１以上の同心データトラックに対してスキュー角で配向される。スキューは、ヘッドとトラックの中心線との間の角度として定義される。大きなスキュー角は、記録を妨げて、隣接トラックの消去（ＡＴＩ）の一因となる可能性がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
形状因子サイズの減少および面積密度の増加は、十分な書込磁場振幅またはＡＴＩのない書込磁場勾配を生成することができる能力を妨げる可能性がある。十分な書込磁場振幅の不足または書込磁場勾配の不足は、記憶媒体の書込能力および信頼性に影響を与える。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
概要
本願は、たとえば、書込能力を改善するとともに、隣接トラック干渉（ＡＴＩ）を制限するためにサイドシールド部を含む磁極先端シールドを開示する。１つの実施形態において、サイドシールド部は、段階（graded）サイドシールド部を形成する段階（graded）磁気モーメント材料から作成される。段階サイドシールド部は、サイドシールド部の長さに沿ったダウントラック方向に減少する磁気モーメントを与える。例示された実施形態において、磁極先端シールドは、磁極先端の前方にあり、かつ磁極先端から間隔を設けて配置されるリーディングエッジ部と、リーディングエッジ部からダウントラック方向に延在する段階サイドシールド部とを含む。
【０００５】
開示された他の実施形態において、磁極先端シールドは、リーディングエッジ部と、サイドシールド部とを含み、サイドシールド部は、磁極先端のサイドエッジの部分的長さに沿って延在する短縮された長さを有する。リーディングエッジ部と、サイドシールド部とは、輪郭を持つ（contoured）本体から形成され、輪郭を持つ本体は、凹凸部を有し、凹凸部は、磁極先端のリーディングエッジの前方にあるリーディングエッジ部、および磁極先端のサイドエッジに沿った、短縮サイドシールド部を形成する。サイドシールド部の短縮された長さは、磁極先端のトレーリングエッジの前方に間隔を設けて配置される終端（terminal edge）を形成する。磁極先端シールドの凹凸部は、丸みのついた凹凸表面輪郭を有して、磁極先端のリーディングエッジの前方にあるギャップ領域のために丸みのついたプロファイルを形成する。
【０００６】
開示された磁極先端シールドの１以上の実施形態は、たとえばＡＴＩを減少させるために書込輪郭バブル（write contour bubble）を容易にするまたは最適化する。例示的な実施形態は、磁束漏れおよび有効書込磁場の損失を制限するとともに磁場勾配を制限して書込ヘッドの書込能力を高める磁極先端シールドを与える。主張される主題は、利点を与える、または本願の背景の部分において議論された如何なるまたはすべての問題を解決する実現例に制限されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】ある実施形態に従う、記憶媒体またはディスク表面に対向する、ヘッドの軸受面を示す、記録ヘッドの１つの実施形態の平面図である。
【図２】実施形態に従う、図１の２−２線に沿った、記録ヘッドの断面図である。
【図３Ａ】ある実施形態に従う、データを符号化するための記録ヘッドの書込素子の例示的な実施形態の概略図である。
【図３Ｂ】ある実施形態に従う、データを符号化するための記録ヘッドの書込素子の例示的な実施形態の概略図である。
【図３Ｃ】ある実施形態に従う、データを符号化するための記録ヘッドの書込素子の例示的な実施形態の概略図である。
【図４】ある実施形態に従う、磁気記憶媒体上のデータトラックに対するヘッドの配向の概略図である。
【図５】ある実施形態に従う、磁気記憶媒体上のデータトラックに対するヘッドのスキューを補償するための磁壁角度を有する磁極先端の実施形態の概略図である。
【図６Ａ】ある実施形態に従う、書込素子の磁極先端のための磁極先端シールドの実施形態の概略図である。
【図６Ｂ】ある実施形態に従う、書込素子の磁極先端のための磁極先端シールドの実施形態の概略図である。
【図６Ｃ】ある実施形態に従う、書込素子の磁極先端のための磁極先端シールドの実施形態の概略図である。
【図７】ある実施形態に従う、ＡＴＩを減少するための磁壁角度を有する磁場のプロファイルの概略図である。
【図８Ａ】ある実施の形態に従う、段階的厚み部分を有する書込素子の磁極先端のための磁極先端シールドの実施形態の概略図である。
【図８Ｂ】ある実施の形態に従う、段階的厚み部分を有する書込素子の磁極先端のための磁極先端シールドの実施形態の概略図である。
【図８Ｃ】ある実施の形態に従う、磁極先端のプロファイルを示す、図８Ｂの線８Ｃ−８Ｃに沿った断面図である。
【図８Ｄ】ある実施の形態に従う、磁極先端の磁壁角度を形成するための可変のジオメトリを有する磁極先端シールドの実施形態の概略図である。
【図８Ｅ】ある実施の形態に従う、磁極先端の磁壁角度を形成するための可変のジオメトリを有する磁極先端シールドの実施形態の概略図である。
【図８Ｆ】ある実施の形態に従う、磁極先端の磁壁角度を形成するための可変のジオメトリを有する磁極先端シールドの実施形態の概略図である。
【図８Ｇ】ある実施の形態に従う、磁極先端の磁壁角度を形成するための可変のジオメトリを有する磁極先端シールドの実施形態の概略図である。
【図９Ａ】ある実施形態に従う、段階的厚み部分および輪郭を有する磁極先端を有する書込素子の磁極先端のための磁極先端シールドの実施形態の概略図である。
【図９Ｂ】ある実施形態に従う、段階的厚み部分および輪郭を有する磁極先端を有する書込素子の磁極先端のための磁極先端シールドの実施形態の概略図である。
【図１０Ａ】ある実施形態に従う、磁極先端シールドを含む書込素子の実施形態の概略図である。
【図１０Ｂ】ある実施形態に従う、磁極先端シールドを含む書込素子の実施形態の概略図である。
【図１１Ａ】ある実施形態に従う、補助磁極に磁気的に接続された磁極先端シールドを含む書込素子の実施形態の概略図である。
【図１１Ｂ】ある実施形態に従う、補助磁極に磁気的に接続された磁極先端シールドを含む書込素子の実施形態の概略図である。
【図１１Ｃ】ある実施形態に従う、補助磁極に磁気的に接続された磁極先端シールドを含む書込素子の実施形態の概略図である。
【図１１Ｄ】ある実施形態に従う、補助磁極に磁気的に接続された磁極先端シールドを含む書込素子の実施形態の概略図である。
【図１１Ｅ】ある実施形態に従う、補助磁極に磁気的に接続された磁極先端シールドを含む書込素子の実施形態の概略図である。
【図１２Ａ】ある実施形態に従う、第１の補助磁極に磁気的に装置された磁極先端シールドと、磁極先端シールドから間隔を設けて配置されて第２の補助磁極に接続されるリーディングエッジシールドとを含む書込素子の例示的実施形態の概略図である。
【図１２Ｂ】ある実施形態に従う、第１の補助磁極に磁気的に装置された磁極先端シールドと、磁極先端シールドから間隔を設けて配置されて第２の補助磁極に接続されるリーディングエッジシールドとを含む書込素子の例示的実施形態の概略図である。
【図１３Ａ】ある実施形態に従う、書込素子の磁極先端の両側から間隔を設けて配置されるとともにその両側に沿って延在する勾配サイドシールド部の実施形態の概略的な平面図である。
【図１３Ｂ】ある実施形態に従う、図１３Ａに示された勾配サイドシールド部の実施形態を概略的に示す斜視図である。
【図１４Ａ】ある実施形態に従う、図１３Ａ−１３Ｂに示されたような勾配サイドシールド部を有する磁極先端シールドの実施形態の概略図である。
【図１４Ｂ】ある実施形態に従う、勾配サイドシールド部を有する磁極先端シールドを有するヘッドの実施形態を示す平面図である。
【図１４Ｃ】ある実施形態に従う、勾配サイドシールド部を有する磁極先端シールドの実施形態の斜視図である。
【図１４Ｄ】ある実施形態に従う、複数の勾配部分を含む勾配サイドシールド部を有する磁極先端シールドの１つの実施形態を示す平面図である。
【図１４Ｅ】ある実施形態に従う、複数の勾配部分を含む勾配サイドシールド部を有する磁極先端シールドの別の実施形態を示す平面図である。
【図１５Ａ】ある実施形態に従う、短縮されたサイドシールド部を有する磁極先端シールドを概略的に示す平面図である。
【図１５Ｂ】ある実施形態に従う、図１５Ａの１５Ｂ−１５Ｂ線に沿った磁極先端および磁極先端シールドの断面図である。
【図１５Ｃ】ある実施形態に従う、短縮サイドシールド部を有する磁極先端シールドを含むヘッドの実施形態の平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
例示的実施形態の説明
図１−２は、データを書込むあるいは読出すための磁気記録ヘッド１０６の実施形態を示す。示された実施の形態において、ヘッド１０６は、たとえば薄膜蒸着技術を用いて形成された基板すなわちスライド本体１２４上の書込素子１２０および読み素子１２２を含む。示されるように、書込素子１２０は、ヘッドのトレーリングエッジ１２５、またはヘッドおよびスライダ本体１２４のリーディングエッジ１２６から間隔を設けて配置されたスライダ本体に近接して作成される。示された実施の形態において、読出素子１２２は、センサ１３０を含み、センサ１３０は、データ記憶媒体すなわちディスク１３１（図２に示す）から符号化されたデータを磁気的に読出すように構成される。センサ１３０は、シールド１３２とシールド１３４との間に配置されて、センサ１３０を、読出動作に影響を与え得る外部磁場から絶縁する。示されたセンサ素子１３０は、磁気抵抗センサ、巨大磁気抵抗（ＧＭＲ）センサ、トンネリング磁気抵抗（ＴＭＲ）センサまたは他のセンサを含み、それらは磁気的に符号化されたデータを読出す。
【０００９】
示されるように、書込素子１２０は、メイン磁極１４０と補助磁極１４２とを含む。メイン磁極１４０と補助磁極１４２とは、ヨーク部１４４（図２に示す）を介して磁気的に接続されて磁束経路を形成する。導電コイル１４６は、ヨーク部１４４の周りに巻かれて、メイン磁極１４０と補助磁極１４２とにおいて磁束を誘起する。絶縁材料は、メイン磁極１４０と補助磁極１４２との間のギャップすなわち領域を満たして導電コイル１４６を囲み、導電コイル１４６をメイン磁極１４０および補助磁極１４２から電気的に絶縁する。本明細書において開示される実施形態は、図１に示されるとともに、本明細書でより多く説明されるような磁極先端シールド２００を含む。
【００１０】
示される実施形態において、書込素子１２０と読出素子１２２とは、ヘッドの空気軸受面１４７に沿って形成され、ヘッドは、データ記憶媒体またはディスクの表面と対向する。示された実施形態において、ディスクの回転によって、ヘッドの空気軸受面１４７に沿って気流の経路が形成される。空気は、空気軸受面１４７に沿って、ヘッドのリーディングエッジ１２６からトレーリングエッジ１２５へと流れる。近接した、またはほぼ近接した記録のために、空気軸受面１４７に沿った気流は、加圧されて揚力を与え、それによってヘッドはデータ記憶媒体すなわちディスク１０２の上を「浮上」する。示された実施形態において、ヘッドの空気軸受面１４７は、既知のエッチング処理を用いてパターニングされて、読出および／または書込動作のための最適化された圧力プロファイルおよびピッチを与える。図１−２に示されるように、メイン磁極１４０は、ヘッドの空気軸受面１４７に沿った磁極先端１４８を有する。磁極先端１４８は、（図１に示されるような）メイン磁極１４０の延長であってもよく、メイン磁極１４０のリーディング側（図３Ａに示す）、またはトレーリング側（図３Ｂに示す）のいずれかに位置する、別々に接続される素子であってもよい。典型的には、読出素子１２０および書込素子１２２は、ウェハ上に蒸着される。ウェハはスライスされて、ヘッドの空気軸受面１４７のエッチングされた表面が形成される。
【００１１】
図３Ａ−３Ｂは、磁気記憶媒体すなわちディスク１３１に、データを記録すなわち書込むように構成された、異なる書込素子の実施形態または構造を示す側方断面図である。各々の実施形態において、データ記憶媒体は、磁気記録層１５０と磁気支持層１５２とを含む。しかし、応用例は、示されたような特定の記憶媒体に制限されるものではない。たとえば別の実施形態において、非磁性層が磁気記録層１５０と磁気支持層１５２との間に挿入される。本願に開示される実施形態は、交換結合補償（ＥＣＣ）媒体において用いることができる。例示された実施形態において、コイル１４６が励磁されることで磁束を誘起する。磁束経路の方向を変えるためにコイル１４６における電流の方向が逆向きにされて、ディスクすなわち記憶媒体に垂直にデータを符号化するために、データビットが上または下向きに記録される。
【００１２】
図３Ａに示された例示的な実施形態において、書込素子は、磁極先端１４８を有するメイン磁極と、トレーリングエッジ方向において磁極先端１４８から間隔を設けて配置された補助磁極１４２とを含む。コイル１４６が励磁されると、示されるように磁束経路すなわち磁束回路が形成されて、磁気記録層１５０にデータを垂直に記録する。図３Ｂに示される代替的な実施形態において、磁極先端１４８は、ヘッド１０６のトレーリングエッジに近接して位置するとともに、補助磁極１４２は、リーディングエッジに向かう方向において磁極先端１４８から間隔を設けて配置される。図３Ｃは、磁気記録ヘッドの別の実施形態を示し、この実施形態において、書込素子は、複数の補助磁極１４２−１，１４２−２を含む。コイル１４６−１，１４６−２は、補助磁極１４２−１，１４２−２をメイン磁極１４０に接続するヨーク１４４−１，１４４−２の周りに巻かれている。コイル１４６−１，１４６−２は励磁されることで、示されるような複数の磁束経路を与え、データ記憶媒体の磁気記録層１５０にデータを記録する。
【００１３】
ヘッド１０６は、データトラックを選択するため、位置決め素子すなわちアクチュエータ素子によって、相対的に位置付けられる。図４において概略的に示されるように、ヘッドと、トラック１６６の中心線１６４との間にスキュー角１６０が存在するように、ヘッドが媒体上に位置する。ヘッド（および書込素子）の方向は、トラック１６６の中心線１６４に対してスキュー角１６０（明確さのために、この例では誇張して約１５°である）だけオフセットしているので、書込素子が隣接トラック１６８に記録されるデータに影響を与える可能性がある。図５に示されるように、（メイン磁極１４０の）メイン磁極先端１４８は、ディスクまたは媒体表面１３１に対向する磁極先端表面を有する。以前の設計において、磁極先端表面は台形形状１７０を有し、磁極先端１４８のリーディングエッジ１７４とトレーリングエッジ１７６との間の磁壁角度１７２を与える。磁壁角度１７２は、磁極先端のリーディングエッジにおいて狭い幅のプロファイルを与えるとともに、トレーリングエッジにおいてより広いプロファイルを与えて、磁極先端１４８のリーディングエッジ１７４に近接したクロストラック方向において、隣接トラック干渉（ＡＴＩ）を減少させる。
【００１４】
図６Ａ−６Ｃは、媒体すなわちディスクに対向するヘッドの空気軸受面１４７から見た、記録ヘッドの書込素子のためのアプリケーションを有する磁極先端シールド２００の実施形態を示す。示された実施形態において、磁極先端シールド２００は、概して「Ｕ」形状を有し、メイン磁極先端１４８のリーディングエッジ１７４の前方にあるリーディングエッジシールド部２０２と、メイン磁極先端１４８の両サイド２０５に沿って延在するサイド部２０４とを含む。示された実施形態において、メイン磁極先端１４８は、強磁性材料を含む。強磁性材料は、これに制限されないが、たとえば鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、およびそれらの組合せ、たとえば
【００１５】
【数１】
2013537349.tif 000003
【００１６】
または他の強磁性材料を備える。さらに、書込磁極先端は、多層構造、または上記の単一の合金のみからなってもよい。
【００１７】
いくつかの実施形態における磁極先端シールド２００は、また、強磁性材料により形成される。強磁性材料は、たとえば以下の通りである。
【００１８】
【数２】
2013537349.tif 000004
【００１９】
１つの実施形態において、磁極先端１４８およびシールド２００の両方が、たとえばＦｅ６０Ｃｏ４０のような高磁気モーメント合金から形成される。シールド２００とメイン磁極先端１４８との間のギャップ領域（すなわち領域２０６）は、たとえばアルミナのような非磁性かつ電気的絶縁材料で満たされる。
【００２０】
書込磁極が励磁されて媒体上のデータを符号化する場合、書込磁極先端１４８は、飽和に近付く。図６Ａ−６Ｃに示された実施形態において、磁束の一部は、シールド２００に分流されて、反対の磁気チャージが、正味の磁場の減少およびシールド２００に近接した磁場角度の変化をもたらす、シールド２００の表面に蓄積する。磁場角度の変化は、磁壁角度または輪郭を与えて、ＡＴＩを制限または減少させる。上述の「Ｕ」磁極先端シールド２００は、図７に示されるように、概して台形形状において磁気的書込バブル２１０を与えるように構成される。磁気書込バブル２１０の台形形状は、磁壁角を形成して、リーディングエッジ１７４に近接する狭い磁場の幅またはプロファイルを与えてＡＴＩを減少させる。磁極先端１４８の磁気書込バブル２１０は、また、トラック１６６に関するトレーリングエッジ１７６に近接した、相対的に幅広い磁場の幅のプロファイルを含む。示された実施形態に説明されるように、磁極先端シールド２００は、異なる磁性材料または組成（異なるｘ，ｙ，ｚのパーセンテージを有する、上記の材料の異なる組成を含む）から形成されてシールド２００における可変の磁気モーメントまたは特性を与えて、本明細書に説明されるような、書込動作のための磁壁角度を最適化する。
【００２１】
図６Ａ−６Ｂに示される実施の形態において、概して「Ｕ」形状シールド２００のサイド部２０４は、概して磁極先端１４８のリーディングエッジ１７４からトレーリングエッジ１７６までの磁極先端１４８のサイド部２０５の長さに沿って延在する。図６Ｂに示された実施の形態において、サイド部２０４は、磁極先端シールド２００のリーディングエッジシールド部２０２のサイド部２０３から内側に凹んでいる。
【００２２】
図６Ｃに示された実施の形態において、シールド２００のサイド部２０４の長さは、磁極先端１４８のサイド部２０５の長さよりも短い。特に、図６Ｃに示された実施の形態において、シールド２００のサイドシールド部２０４は、磁極先端１４８の中間の長さまで延在する。
【００２３】
示されている実施例において、「Ｕ」形状磁極先端シールド２００のサイド部２０４は、シールド２００のサイドシールド部２０４の長さに沿って可変の磁気モーメントを与えるように構成される。特に、示された実施の形態において、磁極先端シールド２００のリーディングエッジ部は、トレーリングエッジ部よりも大きな磁気モーメントを有して、磁極先端１４８のリーディングエッジに近接する磁壁角度を形成する。示された実施の形態において、「Ｕ」形状磁極先端シールド２００のサイド部２０４は、異なる磁性材料またはその長さに沿った組成から形成されて、磁化および書込磁場の最適化のために異なる磁気モーメントを与える。
【００２４】
図８Ａ−８Ｂは、「Ｕ」形状磁極先端シールド２００の実施形態を示し、「Ｕ」形状磁極先端シールド２００は、磁極先端シールド２００の長さに沿った異なる厚み寸法を有して、「Ｕ」形状磁極先端シールド２００の側方部２０４の長さに沿った異なる磁気モーメントを与える。図８Ａ−８Ｂに示される実施形態において、異なる厚み寸法は、段階厚み部分を介して形成される。段階厚み部分の各々は、磁極先端１４８の長さに沿って、異なる磁場効果または磁場角度変化を与える。示された実施の形態において、異なる厚み部分は、異なる磁気モーメントを有する異なる磁性材料または組成からなるとともに、磁壁角度の角度または寸法を形成し得る。
【００２５】
図８Ａ−８Ｂの示された実施形態において、磁極先端１４８は、媒体に対向して、空気軸受面１４７において最適な書込磁極先端領域を与える、概して平坦な表面２２２を形成する長方形形状を含む。段階厚み部分または異なる厚み寸法は、磁場または長方形形状磁極先端１４８の磁壁角度を最適化してＡＴＩを減少させる。示されるように、磁極先端シールド２００は、ほぼ４−５°の磁壁角度を与えるように構成されるが、応用例は、特定の磁壁角度の大きさに限定されるものではない。示された実施の形態において、シールド構成によって可能な長方形の磁極は、書込処理をより一層単純化させる。その理由は、磁極先端の寸法が減少されて、高い面密度を適合するためである。
【００２６】
具体的には、図８Ａに示された実施の形態において、磁極先端シールド２００は、厚み寸法ｔ1を有する第１の厚み部分２２０−１を有するリーディングエッジ部２０２を含む。図８Ａに示される磁極先端シールド２００のサイド部２０４は、第２の厚み寸法ｔ2を有する第２の厚み部分２２０−２と、第３の厚み寸法ｔ3を有する第３の厚み部分２２０−３とを含み、ｔ3＜ｔ2＜ｔ1である。
【００２７】
図８Ａに示されるように、より大きな厚み部分２２０−１および２２０−２は、リーディングエッジに近接した狭い磁場プロファイルを与えるために、より大きな磁場角度の変化または効果を与えるが、その一方で、より小さな厚み部分２２０−３は、トレーリングエッジに近接したより小さな磁場角度変化を与える。図８Ａに示されるように、第１の厚み部分２２０−１、第２の厚み部分２２０−２および第３の厚み部分２２０−３は、厚み段によって分離される。しかしながら、応用例は図８Ａに示された特定の実施形態に限定されない。示された実施の形態において、厚み段は、厚み部分２２０−１，２２０−２，２２０−３が空気軸受面１４７に沿った共通の平坦な表面を有するように向けられる。代替的な実施の形態において、厚み段は、空気軸受面１４７から凹んでいる。段階的厚み部分２２０−１，２２０−２，２２０−３に加えて、あるいは代えて、示された実施の形態において、磁極先端シールド２００は、異なる材料部分を含み、磁極先端１４８のリーディングエッジに近接する狭い磁場プロファイルを与える。
【００２８】
図８Ｂは、図８Ａに示される実施形態と同様の複数の段のついた厚み部分２２０−１，２２０−２，２２０−３を含む磁極先端シールド２００を示す。図８Ｂに示された実施の形態において、サイド部２０４は、リーディングエッジ１７４とトレーリングエッジ１７６との間の磁極先端１４８の長さに対して短縮された長さ寸法を含む。示された実施の形態において、メイン磁極先端１４８は、ディスク媒体に対向する、概して平坦な表面２２２を含む。図８Ｃに示されるように、磁極先端１４８は、傾斜のついたリーディングエッジ表面２２４および傾いたトレーリングエッジ表面２２６を与える輪郭のついたプロファイルを含み、空気軸受面２４７までの磁極先端１４８の平坦な表面２２２でのテーパのついたプロファイルを与える。
【００２９】
図８Ａ−８Ｂの示された実施の形態において、段階的厚み部分２２０−１，２２０−２，２２０−３が示されているが、応用例は、示されたような、個々の段階的部分を有する実施の形態に限定されない。示された実施の形態において、磁極先端シールド２００は、異なるジオメトリを採用して、シールド２００のサイド部２０４の長さに沿った磁気モーメントを変化させて、磁気的に誘起される磁壁角度の形状を構成して磁場のプロファイルを最適化する。たとえば、図８Ｄに示された実施の形態において、サイド部２０４は、傾斜のついた厚み寸法を有する。示されるように、傾斜のついた厚み寸法は、リーディングエッジにおける、より大きな厚み寸法と、図８Ｄの「Ｕ」形状シールド２００のサイド部２０４のトレーリングエッジに近接する、より小さい厚み寸法とを与える。サイド部２０４は、空気軸受面１４７に沿った平坦な表面または、空気軸受面１４７に沿った傾斜のついた輪郭を有して、傾斜のついた厚み寸法を形成することができる。
【００３０】
図８Ｅおよび８Ｆに示された代替的な実施の形態において、「Ｕ」形状シールド２００のサイド部２０４は、テーパのついた幅プロファイルを含む。図８Ｇに示された別の実施の形態において、「Ｕ」形状シールド２００は、異なる磁気モーメントを与えるための、段階的幅寸法を有する複数の幅部分２２７−１，２２７−２を含み、既に説明したような磁壁角度の角度または寸法を形成する。特に、示されるように幅部分２２７−１は、幅部分２２７−２よりも大きな寸法を有し、磁極先端１４８のリーディングエッジ１７４に近接した、より狭い磁場プロファイルを与える。
【００３１】
図９Ａ−９Ｂは、書込素子の代替的な実施の形態を示す。図９Ａに示された実施の形態において、書込素子は、リーディングエッジシールド部２０２およびサイドシールド部２０４を含む磁極先端シールド２００を含む。図９Ａに示された実施例において、サイドシールド部２０４の長さは、概して、リーディングエッジ１７４から磁極先端１４８のトレーリングエッジ１７６までの、磁極先端１４８の両側の長さに沿って延在する。示された実施の形態において、リーディングエッジ１７４においてより狭い幅寸法、およびトレーリングエッジ１７６に近接してより広い幅寸法を与えるように、磁極先端１４８が形作られ、または輪郭が形成されて、磁極先端シールド２００と組合さって磁場プロファイルを容易にする。たとえば、示された実施の形態において、磁極先端１４８は、４−５°の物理的磁壁角度を与えるように輪郭が形成されるとともに、磁極先端の輪郭と磁極先端シールド２００との組合せ（示されるように、段階的部分２２０−１，２２０−２，２２０−３との組み合わせ）は、１０＋°の有効磁壁角度を与えるように設計される。
【００３２】
図９Ｂに示された別の実施の形態において、磁極先端シールド２００のサイド部２０４は、短縮された長さ寸法を有し、その短縮された長さ寸法は、磁極先端１４８のリーディングエッジ１７４とトレーリングエッジ１７６との間の磁極先端１４８の両側の長さ寸法よりも小さい。図９Ａ−９Ｂの各々に示された実施の形態において、磁極先端シールド２００は、図８Ａ−８Ｂを参照して既に説明されたような、段階的厚み部分２２０−１，２２０−２，２２０−３を含む。代わりに、別の実施の形態において、既に説明された「Ｕ」形状磁極先端シールドが、図９Ａ−９Ｂに示されるように、輪郭のついた磁極先端と組合せて用いられる。
【００３３】
図１０Ａおよび１０Ｂは、磁極先端シールド２００を含む書込素子の実施形態を示す。図１０Ａにおいて、磁極先端シールド２００は、異なる磁気モーメントを有する複数の部分２２０−１，２２０−２，２２０−３を含み、勾配磁極先端シールドを与える。既に説明されるように、１つの例示的な実施の形態において、部分２２０−１，２２０−２，２２０−３は、異なる厚み寸法を有し、示されるとともに既に説明されるような段階的厚み部分２２０−１，２２０−２，２２０−３を形成して、可変の磁気モーメントをダウントラック方向に与える。その代わりに、部分２２０−１，２２０−２，２２０−３は、可変の磁気モーメントを与えるために、異なる磁気モーメントを有する材料からなる。
【００３４】
図１０Ｂに示された実施の形態において、書込素子は、磁極先端シールド２００から離れたトレーリングエッジシールド２４０を含む。示されるように、トレーリングエッジシールド２４０は、磁極先端シールド２００から間隔を設けて配置されて、ヘッド１０６の空気軸受面１４７に沿って、磁極先端シールド２００とトレーリングエッジシールド２４０との間のギャップ２４２を形成する。空気軸受面１４７に沿った磁極先端シールド２００とトレーリングエッジシールド２４０との間のギャップ２４２は、たとえばアルミナのような非磁性材料で満たされる。図１０Ａに示された実施の形態において、磁極先端シールド２００は、図１０Ｂに示された磁極先端シールド２００に対して異なる厚み寸法を有する。別の実施の形態において、図１０Ｂの磁極先端シールド２００は、図１０Ａに示されるような段階的厚み部分２２０−１，２２０−２，２２０−３を含むことができる。
【００３５】
図１１Ａ−１１Ｅは、磁極先端シールド２００を含む書込素子の実施形態を示す。図１１Ｂ−１１Ｅに示されるような例示的な実施形態において、書込素子はヘッド１０６の空気軸受面１４７に沿った磁極先端シールド２００から分離されるとともに間隔を設けて配置されるトレーリングエッジシールド２４０を含む。示された実施形態の各々において、たとえば、磁極先端シールド２００は、補助磁極１４２に磁気的に接続されて、図３Ｂまたは３Ｃにおいて既に示されたような、磁極先端シールド２００と補助磁極１４２との間の磁束接続を与える。補助磁極１４２は、シールド２００からの磁気チャージのための磁束経路を与えて、磁極先端１４８の磁壁角を容易にする。
【００３６】
図１１Ａ−１１Ｃの示された実施の形態において、磁極先端シールド２００は、リーディングエッジ部２０２およびサイド部２０４を含む。図１１Ａ−１１Ｃにおいて、サイド部２０４は、概して磁極先端１４８のリーディングエッジ１７４からトレーリングエッジ１７６までの磁極先端１４８の両サイド２０５に沿って延在する、長手方向の長さを有する。図１１Ｂに示された実施の形態において、リーディングエッジ部２０２およびサイド部２０４は、段階的厚み部分２２０−１，２２０−２を含み、シールド２００の異なる厚み寸法を与える。図１１Ｃに示された実施の形態において、シールド２００は、段階的厚み部分２２０−１，２２０−２，２２０−３を含み、シールド２００の異なる厚み寸法を形成する。図１１Ａ−１１Ｃに示される実施の形態の各々において、書込素子は、図１１Ｂ−１１Ｃに示されるようにトレーリングエッジシールドを含むか、または図１１Ａに示されるようにトレーリングエッジシールド２４０を含まない可能性がある。例示的には、トレーリングエッジシールド２４０の厚みは、磁極先端シールド２００のリーディングエッジ部の厚みと同様である。示された実施の形態において、補助磁極１４２は、磁極先端シールド２００に接続されて、磁壁角度を高める。トレーリングエッジシールド２４０を有する例示的な実施の形態において、補助磁極１４２は、トレーリングエッジシールド２４０に接続されることができる。
【００３７】
図１１Ｄにおいて、磁極先端シールド２００は、リーディングエッジ部２０２と、短縮されたサイド部２０４とを含む。示された実施の形態において、リーディングエッジ部２０２とサイド部２０４とは、既に説明された実施の形態と同様に、段階的厚み部分２２０−１，２２０−２によって形成される、異なる厚み寸法を含む。図１１Ｅは、磁極先端シールド２００の実施形態を示し、磁極先端シールド２００は、空気軸受面１４７に沿って磁極先端シールド２００から分離されるとともに間隔を設けて配置される補助磁極１４２およびトレーリングエッジシールド２４０に結合される。示されるように、磁極先端シールド２００は、磁極先端のリーディングエッジの前方に間隔を設けて配置されるリーディングエッジ部を含み、書込のための磁場プロファイルを与える。示された実施形態の各々において、代わりの特徴が、本明細書に説明されるように採用されて、ヘッドの磁気プロファイルまたは書込素子の磁壁角度を形成することができる。
【００３８】
図１２Ａ−１２Ｂは、図３Ｃにおいて既に示されたような、ヨークを介してメイン磁極に接続される補助磁極１４２−１，１４２−２を含む書込素子の実施形態を示す。図１２Ａおよび１２Ｂにおいて示される実施形態の各々は、磁極先端シールド２００およびトレーリングエッジシールド２４０を含む。図１２Ａ−１２Ｂに示された実施の形態において、磁極先端シールド２００は、リーディングエッジ部２０２およびサイド部２０４を含む。シールドは、磁極先端１４８のリーディングエッジの前方の第１の補助磁極１４２−１に磁気的に接続される。トレーリングエッジシールド２４０は、磁極先端シールド２００から間隔を設けて配置されるとともに、磁極先端１４８の後方の第２の補助磁極１４２−２に磁気的に結合される。示されるように、磁極先端シールド２００とトレーリングエッジシールド２４０とは、空気軸受面１４７に沿って非磁性ギャップを介して分離されるとともに、補助磁極１４２−１，１４２−２の接続部を介して磁気的に接続されて、図３Ｃに示されるようにメイン磁極１４０に接続される。図１２Ｂに示された実施の形態において、磁極先端シールド２００は、本願において開示される他の実施形態に関連して既に説明されたような段のついた厚み部分２２０−１，２２０−２，２２０−３を含むが、本明細書で説明される代わりの特徴を他の応用例において利用することができる。
【００３９】
図１３Ａにおいて概略的に示された別の実施の形態において、勾配サイドシールド部３００，３０２は、磁気プロファイルまたは書込磁場を形成するように構成される。示されるように、勾配サイドシールド部３００，３０２は、磁極先端１４８の両サイド２０５の長さに沿って延在する。示された実施の形態において、勾配サイドシールド部３００，３０２は、サイドシールド部３００，３０２の長さに沿った可変の透磁性または磁束を与える段階的磁気モーメント材料から作製される。
【００４０】
特に、サイドシールド部３００，３０２は、磁気合金により形成される。既に説明されるように、磁気合金の組成は、勾配磁気モーメント材料を与えるために合金元素のパーセンテージを変化させることによってサイドシールド部３００，３０２の長さに沿って変化する。たとえば、示された実施の形態において、サイドシールド部３００，３０２は、コバルト鉄ＣｏxＦｅy，鉄ニッケルＦｅyＮｉx，コバルト鉄ニッケルＣｏxＦｅyＮｉzまたは他の強磁性合金材料から形成されて、１以上の合金元素のｘ，ｙおよび／またはｚのパーセンテージは、サイドシールド部３００，３０２の長さに沿って変化して、勾配飽和磁化Ｍｓを有する勾配磁気モーメント材料を与える。
【００４１】
図１３Ａに示された実施の形態において、サイドシールド部３００，３０２は、概して、磁極先端１４８のリーディングエッジ１７４とトレーリングエッジ１７６との間の磁極先端１４８の長さに沿って延在する。サイドシールド部３００，３０２は、磁極先端１４８の両サイド２０５から間隔を設けて配置されて、ギャップ領域３０４を形成する。ギャップ領域３０４は、これまでの実施形態を参照して既に説明されるように、たとえばアルミナのような絶縁材料で満たされる。
【００４２】
サイドシールド部３００，３０２は、サイドシールド３００，３０２のリーディングエッジ部が、より高い磁気モーメント材料から形成されるように作製されて、その材料の磁気モーメントの大きさは、磁極先端１４８のリーディングエッジ１７４に近接する、より高い磁気モーメント材料から、磁極先端１４８のトレーリングエッジ１７６に近接する、より低い磁気モーメント材料へのダウントラック方向に減少する。勾配磁気モーメント材料は、磁極先端１４８からサイドシールド部３００，３０２への分流する磁束の大きさを減少させる。これは、磁極先端１４８のトレーリングエッジ１７６に近接する磁場の勾配の減少を制限する。勾配サイドシールド部３００，３０２は、また、媒体からの周辺（fringe）磁束を減少させるが、それはＡＴＩを減少させる。示された実施の形態において、サイドシールド部３００，３０２は、減少する磁気モーメント材料の別々の勾配部分３０６−１，３０６−２，３０６−３を含むが、応用例は、別々の部分の特定の数または配置に限定されず、合金材料は、サイドシールド部３００，３０２に沿って連続的に変化して、図７に示されるように、書込バブル２１０の磁気特性および輪郭を最適化する。
【００４３】
図１３Ｂに示された実施の形態において、サイドシールド部３００，３０２は、概して一様の高さ寸法３０８を有する。示されるように、サイドシールド部３００，３０２の一様な高さは、概して、磁極先端１４８のスロート高さ３１０に対応する。説明されるように、図１３Ａ−１３Ｂを参照して、磁気材料の組成は、サイドシールド部３００，３０２の長さに沿って変化して、サイドシールド部３００，３０２の高さまたは他の寸法を変化させることなく、ダウントラック方向に減少する可変の磁気モーメントを与える。代替的な実施の形態において、サイドシールド部３００，３０２は、本願において示される代替的な実施の形態において述べられるように、リーディングエッジ部から延在する。
【００４４】
図１４Ａは、段階的サイドシールド部４０２，４０４を有する磁極先端シールド４００の実施形態を示す。図１４Ａに示される例示的な実施の形態において、磁極先端シールド４００は、磁気合金材料から作製される本体部４０６を含む。示されるように、図１４Ａにおいて、本体部４０６は、リーディングエッジ部４０８と、磁極先端１４８の両側に沿って延在するサイドシールド部４０２，４０４を形成するように形作られる。示されるように、本体部４０６は、リーディングエッジ４１０とトレーリングエッジ４１２とを含む。トレーリングエッジ４１２は、示されるように、凹凸部４１４を形成する輪郭のついたプロファイルを含み、凹凸部４０４は、磁極先端のリーディングエッジ１７４から間隔を設けて配置されるリーディングエッジ部４０８と、磁極先端１４８の両側におけるサイドシールド部４０２，４０４とを定義する。
【００４５】
磁極先端シールド４００の本体部４０６は、磁極先端から間隔を設けて配置されて、磁極先端１４８とリーディングエッジ部４０８との間およびサイドシールド部４０２，４０４と磁極先端１４８との間のギャップ領域４１６を形成する。絶縁材料が、磁極先端シールド４００と磁極先端１４８との間のギャップ領域４１６に形成される。示されるように、凹凸部４１４は、丸みのついた凹凸表面輪郭を含み、磁極先端の前方の絶縁ギャップ領域４１６のための丸みのついたプロファイルを与える。磁極先端１４８のリーディングエッジに近接する丸みのついたプロファイルは、周辺漏れを制限する。
【００４６】
図１４Ａに示された磁極先端シールド４００の本体部４０６は、勾配磁気モーメント材料により作製されて、リーディングエッジに近接する、より高い磁気モーメントと、サイドシールド部４０２，４０４に沿った減少する磁気モーメントとを与える。磁極先端シールド４００の合金材料の組成またはパーセンテージは、既に説明されるように、ダウントラック方向において減少する磁気モーメントを与えるために変化する。
【００４７】
図１４Ｂは、図１４Ａに示されるのと同様の勾配磁極先端シールド４００の実施形態を示す。図１４Ｂに示された実施の形態において、クロストラック方向における本体部４０６の幅寸法は、基板すなわちスライダ本体１２４の両側の端部４１８，４１９の間に延在する。特に、図１４Ｂに示された例示的な実施の形態において、磁極先端シールドの本体部４０６は、周辺端部４２０，４２２を含み、周辺端部４２０，４２２の間の横断幅は、ヘッドすなわちスライダ本体１２４の横断幅寸法全体に延在する。図１４Ｂに示されるように、トレーリングエッジギャップ領域４２４は、磁極先端シールドのトレーリングエッジから、磁極先端１４８からダウントラックのリターン磁極１４２へと延在して、磁気絶縁材料で満たされる。
【００４８】
図１４Ｃに示された実施形態において、磁極先端シールド４００の本体部４０６は、磁極先端シールド４００のリーディングエッジ４１０とトレーリングエッジ４１２との間のダウントラック方向に均一の本体高さ４２６と、両側の周辺端部４２０，４２２との間の横断トラック方向に均一の高さ４２６とを有する。示された実施の形態において、磁極先端シールドの均一な高さ４２６は、磁極先端１４８のスロート高さ３１０に対応する。
【００４９】
図１４Ｄは、図１４Ａ−１４Ｃに示されるように勾配サイドシールド部４０２，４０４を有する勾配磁極先端シールド４００の実施形態を示す。図１４Ｄに示された実施形態において、磁極先端シールド４００は、別々の勾配部分を含み、それらはダウントラック方向において減少する磁気モーメントを与える。図１４Ｂにおいて、リーディングエッジ４１０からトレーリングエッジ４１２までの別々の磁気モーメント部分は、１．６テスラの磁場またはモーメントを有する第１の部分と、１．０テスラの磁場またはモーメントを有する第２の部分と、０．８テスラの磁場またはモーメントを有する第３の部分と、０．６テスラの磁場またはモーメントを有する第４の部分と、０．４テスラの磁場またはモーメントを有する第５の部分と、０．２テスラの磁場またはモーメントを有する第６の部分とを含む。示された実施の形態において、サイドシールド部４０２，４０４の終端部分４２７は、磁気的絶縁部分から形成される。
【００５０】
図１４Ｅは、勾配磁極先端シールド４００の別の実施の形態を示し、勾配磁極先端シールド４００は、説明されるような離散的段階的部分を有する段階的サイドシールド部４０２，４０４を有する。図１４Ｅに示された実施の形態において、リーディングエッジ４１０からトレーリングエッジ４１２までの別々の磁気モーメント部分は、１．６テスラの磁場またはモーメントを有する第１の部分と、１．０テスラの磁場またはモーメントを有する第２の部分と、０．６テスラの磁場またはモーメントを有する第３の部分とを含む。
【００５１】
図１４Ｄは、段階的磁極先端シールドの特定のパターンまたは配置を示すが、応用例は、開示される特定の段階的部分または段階的部分の数に限定されない。特に、磁極先端シールドまたはサイドシールドの磁気特性は、当業者によって明らかであるように、書込磁場の勾配または書込磁場の輪郭を最適化するためにモデル化することができる。図１４Ａ−１４Ｄに示された例示的な実施の形態の各々において、磁極先端１４８は、概して台形状に形成されて、リーディングエッジにおける狭い幅寸法または物理的磁壁角度を与えてＡＴＩを減少させる。
【００５２】
図１５Ａ−１５Ｃは、磁極先端シールド５００の実施形態を示し、この実施形態では、短縮されたサイドシールド部５０２，５０４を利用して、リーディングエッジにおいて狭い書込バブル輪郭を与えるとともに書込磁場勾配を最適化する。短縮されたサイドシールド部５０２，５０４の短縮された長さは、既に説明されるように、磁束または磁場勾配の損失を減少させる。図１５Ａに示されるように、磁極先端シールドは、磁性材料から作製される本体部５０６を含む。示されるように、本体部５０６は、リーディングエッジ５１０とトレーリングエッジ５１２とを含む。トレーリングエッジ５１２は、凹凸部５１４を有する輪郭のついたプロファイルを含み、磁極先端１４８のリーディングエッジ１７４の前方のリーディングエッジ部５１６および、ダウントラック方向の磁極先端１４８の両側に沿って延在するサイドシールド部５０２，５０４とを形成する。説明されるように、短縮されたサイド部５０２，５０４は、磁極先端１４８の部分的長さに沿って延在して、磁極先端１４８のトレーリングエッジ１７６の前方で終端するトラック横断方向において延在する。
【００５３】
示される実施の形態において、凹凸部５１４は、磁極先端１４８から間隔を設けて配置されて、磁極先端シールド５００と磁極先端１４８との間のギャップ領域５２２を形成する。示されるように、書込素子は、また、短縮されたサイドシールド部５０２，５０４の終端表面５２０からダウントラックに、磁極先端１４８のトレーリングエッジ１７６へと向かう絶縁領域５２４を含む。示された実施の形態において、絶縁領域５２４は、終端表面５２０からリターン磁極１４２へと延在する。ギャップ５２２および絶縁領域５２４の各々は、たとえばアルミナのような絶縁材料から形成される。
【００５４】
図１５Ａに示されるように、凹凸部５１４は、丸みのついた凹凸表面輪郭を含み、磁極先端のリーディングエッジ１７４の前方の丸みのついたプロファイルを与える。磁極先端シールド５００は、また、凹凸部５１４と、短縮されたサイドシールド部５０２，５０４の終端表面５２０との間の丸みのついた端部表面５２５を含む。磁極先端のリーディングエッジ１７４に近接する丸みのついたプロファイルは、周辺漏れを制限する傾向にある。示された実施の形態において、絶縁領域５２４は、磁束の流れを制限して、他の実施の形態を参照して既に説明されたような磁場勾配の損失を減少させる。
【００５５】
図１５Ｂに示された実施の形態において、磁極先端シールド５００の本体部５０６は、媒体に概して垂直に向けられた高さ寸法５２６を含む。示された実施の形態において、磁極先端シールドの本体部は、磁極先端シールドのリーディングエッジ５１０とトレーリングエッジ５１２との間のダウントラック方向に均一な高さ５２６と、トラック横断方向に均一な高さ５２６とを含む。示された実施の形態において、均一な高さ５２６は、磁極先端１４８のスロート高さ３１０に対応する。
【００５６】
図１５Ｃは、磁極先端シールド５００が、周辺端部５３０，５３２の間に形成された横断幅寸法を有する短縮されたサイドシールド部５０２，５０４を有する実施形態を示す。示された実施の形態において、周辺端部５３０，５３２の間の磁極先端シールド５００の横断幅は、ヘッドまたはスライダ本体１２４の横断幅寸法全体に延在する。図１５Ａ−１５Ｃは、短縮されたサイドシールド部５０２，５０４を有する磁極先端シールドの実施形態を示しているが、応用例は、示されたような特定の実施の形態に限定されず、図１５Ａ−１５Ｃに示された特徴は、異なる書込素子の構成のための磁極先端シールドを形成するために利用することができる。
【００５７】
説明されるように、書込磁極先端からの磁束は、磁極先端１４８の磁壁角度を容易にするサイドシールド部に向けて分流する。しかしながら、分流した磁束は、書込磁場の振幅および磁場の勾配を減少する傾向にある。また、分流した磁束は、シールドにおける磁区パターンを変化させるとともに、大きなビットエラー率の劣化をもたらす記録層における消去磁場を生成する。示された実施の形態の短縮された長さのサイドシールド部または勾配サイドシールド部は、磁場の勾配の損失を減少して、磁極先端シールドのサイドシールド消去を制限するが、それらは、書込素子の書込性能を低下させる可能性がある。
【００５８】
さまざまな実施の形態の多数の特徴および利点が、以上の説明において述べられてきたが、さまざまな実施の形態の構造および機能の詳細とともに、この開示が単に例示的なものであり、変更が、詳細な点において、特に本発明の原理内で構造および部分の配置の点で、添付の請求項によって表現される用語の広く一般的な意味によって示される完全な範囲でなされ得るということが理解されるべきである。たとえば、特定の要素は、特定の応用例に依存して変化し得るが、その一方で、この開示の範囲または精神および／または添付の請求項から逸脱することなく同様の機能を実質的に維持する。さらに、本明細書で説明される１以上の実施の形態は、特定のデータ記憶の応用例に向けられているが、当業者にとっては、本明細書で開示される教示が、この開示の範囲および精神、および／または添付の請求項から逸脱することなく適用できるということが理解されるであろう。
【００５９】
さらに、示された実施形態、開示、特定の組合せにおいて配置される特徴、他の応用例または実施形態は、本明細書で説明される１以上の特徴に組込むことができるとともに、応用例は、示された特定の組合せまたは配置に限定されない。
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図４】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図８Ｃ】
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【図８Ｄ】
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【図８Ｅ】
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【図８Ｆ】
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【図８Ｇ】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１１Ｃ】
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【図１１Ｄ】
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【図１１Ｅ】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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【図１３Ａ】
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【図１３Ｂ】
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【図１４Ａ】
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【図１４Ｂ】
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【図１４Ｃ】
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【図１４Ｄ】
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【図１４Ｅ】
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【図１５Ａ】
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【図１５Ｂ】
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【図１５Ｃ】
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【図７】
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【手続補正書】
【提出日】平成25年5月20日(2013.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アセンブリであって、
リーディングエッジ、トレーリングエッジ、第１のサイドエッジおよび第２のサイドエッジを含む磁極先端を有する磁極に磁束を誘起するように励磁可能なコイルを有する磁極アセンブリと、
第１のサイドシールド部と、第２のサイドエッジシールド部とを備え、前記第１のサイドシールド部は、前記磁極先端の前記第１のサイドエッジに沿って延在するとともに前記第１のサイドエッジから離れて前記第１のサイドシールド部と前記第１のサイドエッジとの間のギャップ領域を形成し、前記第２のサイドシールド部は、前記磁極先端の前記第２のサイドエッジに沿って延在するとともに前記第２のサイドエッジから離れて前記第２のサイドシールド部と前記第２のサイドエッジとの間のギャップ領域を形成し、前記第１および第２のサイドシールド部は、勾配磁気モーメント材料から形成されて、前記第１および第２のサイドシールド部の長さに沿った可変の磁気モーメントを与え、
前記第１のサイドシールド部と前記第１のサイドエッジとの間の前記ギャップ領域および前記第２のサイドシールド部と前記第２のサイドエッジとの間の前記ギャップ領域における磁気絶縁材料をさらに備える、アセンブリ。
【請求項２】
前記勾配磁気モーメント材料の前記磁気モーメントは、ダウントラック方向に減少して、前記磁極先端の前記トレーリングエッジよりも前記リーディングエッジに近い第１および第２のサイドシールド部において、より大きい磁気モーメントを与える、請求項１に記載のアセンブリ。
【請求項３】
前記第１および第２のサイドシールド部は、複数の勾配部分を含み、前記勾配部分の前記磁気モーメントは、前記磁極先端の前記トレーリングエッジに向かってダウントラック方向に減少する、請求項２に記載のアセンブリ。
【請求項４】
前記第１および第２のサイドシールド部の高さおよび幅の寸法は、前記第１および第２のサイドシールド部のリーディングエッジとトレーリングエッジとの間の前記第１および第２のサイドシールド部の長さに沿って同じであり、前記勾配磁気モーメント材料は、前記第１および第２のサイドシールド部の前記長さに沿った可変の磁気モーメントを有する、請求項１に記載のアセンブリ。
【請求項５】
前記第１および第２のサイドシールド部の前記勾配磁気モーメント材料は、複数の基本材料を含む強磁性合金から形成されて、前記合金の前記複数の基本材料のうちの１以上のパーセンテージは、前記第１および第２のサイドシールド部を形成するために変化する、請求項１に記載のアセンブリ。
【請求項６】
前記複数の基本材料は、コバルト、鉄およびニッケルのうちの１以上を含む、請求項５に記載のアセンブリ。
【請求項７】
前記磁極先端の前方に間隔を設けて配置されたリーディングエッジシールド部を含み、前記リーディングエッジシールド部は、前記リーディングエッジシールド部と前記磁極先端の前記リーディングエッジとの間のギャップ領域を形成し、前記アセンブリは磁気的絶縁材料を前記リーディングエッジシールド部と前記磁極先端の前記リーディングエッジとの間の前記ギャップ領域に含み、前記リーディングエッジシールド部は、前記第１および第２のサイドシールド部よりも高い磁気モーメントを有し、前記磁気モーメントは、前記第１および第２のサイドシールド部に沿ってダウントラック方向に減少する、請求項１に記載のアセンブリ。
【請求項８】
前記磁極アセンブリは、スライダ本体に形成されて、前記第１のサイドシールド部の幅は、前記第１のサイドシールド部と前記磁極先端の前記第１のサイドエッジとの間の前記ギャップ領域から前記スライダ本体の第１の側へと延在し、前記第２のサイドシールド部の幅は、前記第２のサイドシールド部と前記第２のサイドエッジとの間の前記ギャップ領域から前記スライダ本体の前記第２の側へと延在する、請求項７に記載のアセンブリ。
【請求項９】
磁気アセンブリであって、
磁極先端を有する先端に磁束経路を誘起するように励磁可能なコイルを有する磁極アセンブリを備え、前記磁極先端は、リーディングエッジ、トレーリングエッジおよびサイドエッジを含み、
磁極先端シールド部をさらに備え、前記磁極先端シールド部は、前記磁極先端のサイドエッジから間隔を設けて配置されて前記磁極先端シールド部と前記磁極先端のサイドエッジとの間のギャップ領域を形成し、前記磁極先端シールド部は、ダウントラック方向に減少した磁気モーメントを与える勾配磁気モーメント材料から形成されて、前記磁極先端の前記トレーリングエッジに近接した前記磁極先端シールド部に対する磁気モーメントに比べて、より大きな磁気モーメントを、前記磁極先端の前記リーディングエッジに近接した前記磁極先端シールド部に与え、
前記磁極先端シールド部と前記磁極先端との間の前記ギャップ領域における磁気的絶縁材料をさらに備える、アセンブリ。
【請求項１０】
前記アセンブリは、スライダ本体を含み、前記磁極アセンブリは、前記スライダ本体のトレーリングエッジに近接して作製され、第１の磁極先端シールド部の断面幅は、前記磁極先端の第１のサイドエッジから前記第１の磁極先端シールド部を分離する第１のギャップから、前記スライダ本体の第１の側へと延在し、前記第２の磁極先端シールド部の断面幅は、前記磁極先端の第２のサイドエッジから前記第２の磁極先端シールド部を分離する第２のギャップ領域から前記スライダ本体の第２の側へと延在する、請求項９に記載のアセンブリ。
【請求項１１】
前記磁極先端シールド部は、リーディングエッジシールド部を備え、前記リーディングエッジシールド部は、前記磁極先端の前記リーディングエッジの前方に間隔を設けて配置されて、前記リーディングエッジシールド部と前記磁極先端の前記リーディングエッジとの間のギャップ領域を形成し、前記リーディングエッジシールド部は、前記磁極先端の前記リーディングエッジの前方の、丸みの付いた凹凸表面輪郭を含む、請求項９に記載のアセンブリ。
【請求項１２】
前記磁極先端シールド部は、複数の基本材料を含む強磁性合金から形成され、前記合金の前記複数の基本材料のうちの少なくとも１つのパーセンテージは、前記ダウントラック方向に減少する前記磁気モーメントを有する勾配磁気モーメント材料を形成するために変化する、請求項９に記載のアセンブリ。
【請求項１３】
前記勾配磁気モーメント材料は、鉄元素、ニッケル元素およびコバルト元素のうちの１以上から形成されて、前記鉄元素、ニッケル元素およびコバルト元素のうちの１以上のパーセンテージは、前記勾配磁気モーメント材料を与えるために変化する、請求項９に記載のアセンブリ。
【請求項１４】
磁気アセンブリであって、
リーディングエッジ、トレーリングエッジおよびサイドエッジを有する磁極先端を含む磁極中に磁束経路を誘起するように励磁可能なコイルを有する磁極アセンブリと、
リーディングエッジとトレーリングエッジとを有する本体から形成された磁極先端シールドとを備え、前記本体の前記トレーリングエッジは、前記磁極先端から間隔を設けて配置されて前記磁極先端シールドの前記本体を前記磁極先端から分離するギャップ領域を形成する凹凸部を含み、前記磁極先端シールドの前記本体は、リーディングエッジシールド部と、前記磁極先端のサイドエッジの部分的長さに沿って延在する、短縮された長さを有するサイドシールド部を形成するように構成され、前記サイドシールド部の前記短縮された長さは、前記磁極先端の前記リーディングエッジと前記トレーリングエッジとの間の、前記磁極先端の前記リーディングエッジからダウントラックにある終端表面を形成し、
前記磁極先端シールドの前記凹凸部を前記磁極先端から分離するギャップ領域における磁気的絶縁材料をさらに備え、前記凹凸部は、前記磁極先端の前記リーディングエッジの前方のための、丸みの付いたプロファイルを与えるための、丸みの付いた凹凸表面輪郭を有し、
前記サイドシールド部の前記終端表面から、前記磁極先端の前記トレーリングエッジへとダウントラックに延在する、磁気的絶縁領域をさらに備える、アセンブリ。
【請求項１５】
前記磁極アセンブリは、スライダ本体に作製されて、前記磁極先端シールドの周辺端の間の前記磁極先端シールドの幅は、前記スライダ本体の全体断面幅寸法に延在する、請求項１４に記載のアセンブリ。
【請求項１６】
前記磁極アセンブリは、基板に作製されて、前記サイドシールド部の幅は、前記ギャップ領域から前記基板のサイドエッジへと延在する、請求項１４に記載のアセンブリ。
【請求項１７】
前記磁極先端は、前記磁極先端の前記トレーリングエッジよりも前記リーディングエッジにおいてより小さい幅寸法を有して、前記磁極先端の壁角度を形成する、請求項１４に記載のアセンブリ。
【請求項１８】
前記リーディングエッジ部および前記磁極先端シールドの前記サイドシールド部は、前記磁極先端の表面に対向する媒体から離れて延在する方向に均一の高さ寸法を有する、請求項１４に記載のアセンブリ。
【請求項１９】
前記リーディングエッジシールド部の前記高さ寸法と、前記磁極先端シールドの前記サイドシールド部とは、前記磁極先端のスロート高さに一致する、請求項１８に記載のアセンブリ。
【請求項２０】
前記凹凸部と前記短縮されたサイドシールド部との間の丸みの付いた端部表面を備える、請求項１４に記載のアセンブリ。
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月14日(2013.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気アセンブリであって、
磁極先端を有する先端に磁束経路を誘起するように励磁可能なコイルを有する磁極アセンブリを備え、前記磁極先端は、リーディングエッジ、トレーリングエッジおよびサイドエッジを含み、
磁極先端シールド部をさらに備え、前記磁極先端シールド部は、前記磁極先端のサイドエッジから間隔を設けて配置されて前記磁極先端シールド部と前記磁極先端のサイドエッジとの間のギャップ領域を形成し、前記磁極先端シールド部は、ダウントラック方向に減少した磁気モーメントを与える勾配磁気モーメント材料から形成されて、前記磁極先端の前記トレーリングエッジに近接した前記磁極先端シールド部に対する磁気モーメントに比べて、より大きな磁気モーメントを、前記磁極先端の前記リーディングエッジに近接した前記磁極先端シールド部に与え、
前記磁極先端シールド部と前記磁極先端との間の前記ギャップ領域における磁気的絶縁材料をさらに備える、アセンブリ。
【請求項２】
前記アセンブリは、スライダ本体を含み、前記磁極アセンブリは、スライダ本体のトレーリングエッジに近接して作製され、第１の磁極先端シールド部の断面幅は、前記磁極先端の第１のサイドエッジから前記第１の磁極先端シールド部を分離する第１のギャップから、スライダ本体の第１の側へと延在し、第２の磁極先端シールド部の断面幅は、前記磁極先端の第２のサイドエッジから前記第２の磁極先端シールド部を分離する第２のギャップ領域からスライダ本体の第２の側へと延在する、請求項１に記載のアセンブリ。
【請求項３】
前記磁極先端シールド部は、リーディングエッジシールド部を備え、前記リーディングエッジシールド部は、前記磁極先端の前記リーディングエッジの前方に間隔を設けて配置されて、前記リーディングエッジシールド部と前記磁極先端の前記リーディングエッジとの間のギャップ領域を形成し、前記リーディングエッジシールド部は、前記磁極先端の前記リーディングエッジの前方の、丸みの付いた凹凸表面輪郭を含む、請求項１または２に記載のアセンブリ。
【請求項４】
前記磁極先端シールド部は、複数の基本材料を含む強磁性合金から形成され、前記合金の前記複数の基本材料のうちの少なくとも１つのパーセンテージは、ダウントラック方向に減少する前記磁気モーメントを有する勾配磁気モーメント材料を形成するために変化する、請求項１から３のいずれか１項に記載のアセンブリ。
【請求項５】
前記勾配磁気モーメント材料は、鉄元素、ニッケル元素およびコバルト元素のうちの１以上から形成されて、前記鉄元素、ニッケル元素およびコバルト元素のうちの１以上のパーセンテージは、前記勾配磁気モーメント材料を与えるために変化する、請求項１から４のいずれか１項に記載のアセンブリ。
【請求項６】
前記サイドエッジは、第１のサイドエッジおよび第２のサイドエッジを含み、
前記磁極先端シールド部は、第１のサイドシールド部と、第２のサイドシールド部とを備え、前記第１のサイドシールド部は、前記磁極先端の前記第１のサイドエッジに沿って延在するとともに前記第１のサイドエッジから離れて前記第１のサイドシールド部と前記第１のサイドエッジとの間のギャップ領域を形成し、前記第２のサイドシールド部は、前記磁極先端の前記第２のサイドエッジに沿って延在するとともに前記第２のサイドエッジから離れて前記第２のサイドシールド部と前記第２のサイドエッジとの間のギャップ領域を形成し、前記第１および第２のサイドシールド部は、前記勾配磁気モーメント材料から形成されて、前記第１および第２のサイドシールド部の長さに沿った可変の磁気モーメントを与え、
前記磁気的絶縁材料は、前記第１のサイドシールド部と前記第１のサイドエッジとの間の前記ギャップ領域および前記第２のサイドシールド部と前記第２のサイドエッジとの間の前記ギャップ領域における磁気絶縁材料である、請求項１〜５のいずれか１項に記載のアセンブリ。
【請求項７】
前記勾配磁気モーメント材料の前記磁気モーメントは、ダウントラック方向に減少して、前記磁極先端の前記トレーリングエッジよりも前記リーディングエッジに近い第１および第２のサイドシールド部において、より大きい磁気モーメントを与える、請求項６に記載のアセンブリ。
【請求項８】
前記第１および第２のサイドシールド部は、複数の勾配部分を含み、前記勾配部分の前記磁気モーメントは、前記磁極先端の前記トレーリングエッジに向かってダウントラック方向に減少する、請求項６または７に記載のアセンブリ。
【請求項９】
前記第１および第２のサイドシールド部の高さおよび幅の寸法は、前記第１および第２のサイドシールド部のリーディングエッジとトレーリングエッジとの間の前記第１および第２のサイドシールド部の長さに沿って同じであり、前記勾配磁気モーメント材料は、前記第１および第２のサイドシールド部の前記長さに沿った可変の磁気モーメントを有する、請求項６〜８のいずれか１項に記載のアセンブリ。
【請求項１０】
前記磁極先端の前方に間隔を設けて配置されたリーディングエッジシールド部を含み、前記リーディングエッジシールド部は、前記リーディングエッジシールド部と前記磁極先端の前記リーディングエッジとの間のギャップ領域を形成し、前記アセンブリは磁気的絶縁材料を前記リーディングエッジシールド部と前記磁極先端の前記リーディングエッジとの間の前記ギャップ領域に含み、前記リーディングエッジシールド部は、前記第１および第２のサイドシールド部よりも高い磁気モーメントを有し、前記磁気モーメントは、前記第１および第２のサイドシールド部に沿ってダウントラック方向に減少する、請求項６〜９のいずれか１項に記載のアセンブリ。
【請求項１１】
前記磁極先端シールド部は、前記リーディングエッジと前記トレーリングエッジとを有する本体から形成され、前記本体の前記トレーリングエッジは、前記磁極先端から間隔を設けて配置されて前記磁極先端シールド部の前記本体を前記磁極先端から分離するギャップ領域を形成する凹凸部を含み、前記磁極先端シールド部の前記本体は、リーディングエッジシールド部と、前記磁極先端のサイドエッジの部分的長さに沿って延在する、短縮された長さを有するサイドシールド部を形成するように構成され、前記サイドシールド部の前記短縮された長さは、前記磁極先端の前記リーディングエッジと前記トレーリングエッジとの間の、前記磁極先端の前記リーディングエッジからダウントラックにある終端表面を形成し、
前記磁気的絶縁材料は、前記磁極先端シールド部の前記凹凸部を前記磁極先端から分離し、前記凹凸部は、前記磁極先端の前記リーディングエッジの前方のための、丸みの付いたプロファイルを与えるための、丸みの付いた凹凸表面輪郭を有し、
前記サイドシールド部の前記終端表面から、前記磁極先端の前記トレーリングエッジへとダウントラックに延在する、磁気的絶縁領域をさらに備える、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のアセンブリ。
【請求項１２】
前記磁極アセンブリは、スライダ本体に作製されて、前記磁極先端シールド部の周辺端の間の前記磁極先端シールド部の幅は、スライダ本体の全体断面幅寸法に延在する、請求項１１に記載のアセンブリ。
【請求項１３】
前記磁極アセンブリは、基板に作製されて、前記サイドシールド部の幅は、前記ギャップ領域から前記基板のサイドエッジへと延在する、請求項１１または１２に記載のアセンブリ。
【請求項１４】
前記磁極先端は、前記磁極先端の前記トレーリングエッジよりも前記リーディングエッジにおいてより小さい幅寸法を有して、前記磁極先端の壁角度を形成する、請求項１１〜１３のいずれか１項に記載のアセンブリ。
【請求項１５】
前記リーディングエッジおよび前記磁極先端シールド部の前記サイドシールド部は、前記磁極先端の表面に対向する媒体から離れて延在する方向に均一の高さ寸法を有する、請求項１１〜１４のいずれか１項に記載のアセンブリ。
【請求項１６】
前記リーディングエッジシールド部の前記高さ寸法と、前記磁極先端シールド部の前記サイドシールド部とは、前記磁極先端のスロート高さに一致する、請求項１５に記載のアセンブリ。
【請求項１７】
前記凹凸部と前記短縮されたサイドシールド部との間の丸みの付いた端部表面を備える、請求項１１〜１６のいずれか１項に記載のアセンブリ。
【国際調査報告】
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