(57)【要約】  露光装置の製造方法は、ボディのメトロロジーフレームの絶対基準面とステージモジュールのステージ位置基準面との位置関係が所望の関係となるように、ボディとステージモジュールとのドッキング時の位置関係を決定する位置決め装置を調整すること（ステップ４１２〜４１８）を含む。これにより、その後、位置決め装置を介してボディとステージモジュールとをドッキングさせるだけで、ボディの絶対基準面とステージモジュールのステージ位置基準面との位置関係が所望の関係となる。
2013519994.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ボディと、該ボディにドッキングされる第１モジュールとを含む複数のモジュールを備え、感応物体を露光する露光装置を製造する、露光装置の製造方法であって、
出荷される前記ボディと実質的に同じ部材であるボディ工具と前記第１モジュールとのドッキング時の両者の位置関係が所望の関係となるように前記ボディ工具と前記第１モジュールとの間に設けられる第１の位置決め装置を調整することと、
前記調整後の前記第１の位置決め装置を介した前記ボディ工具とのドッキング時の位置関係が、前記所望の関係となる前記第１モジュールを出荷することと、
出荷先で、前記調整後の前記第１の位置決め装置と同一状態にある、前記ボディと前記第１モジュールとの間に設けられる、前記第１の位置決め装置と同じ構成の第２の位置決め装置を介して前記ボディと前記第１モジュールとをドッキングすることと、を含む露光装置の製造方法。
【請求項２】
前記ボディ工具として、出荷される前記ボディが用いられる請求項１に記載の露光装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１の位置決め装置を調整することでは、前記ボディ工具の第１基準面と前記第１モジュールの第２基準面との位置関係が所望の関係となるように、前記第１の位置決め装置が調整される請求項１又は２に記載の露光装置の製造方法。
【請求項４】
前記第１の位置決め装置を調整することは、前記第１基準面と前記第２基準面との傾きを計測し、前記第１モジュールの傾きが調整されるように前記第１の位置決め装置を調整することを含む請求項３に記載の露光装置の製造方法。
【請求項５】
前記第１の位置決め装置を調整することは、前記第１基準面と前記第２基準面との回転ずれを計測し、前記第１モジュールの回転が調整されるように前記第１の位置決め装置を調整することを含む請求項３又は４に記載の露光装置の製造方法。
【請求項６】
前記第１の位置決め装置を調整することは、前記第１基準面と前記第２基準面との位置ずれを計測し、前記第１モジュールの位置が調整されるように前記第１の位置決め装置を調整することを含む請求項３〜５のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項７】
前記第１の位置決め装置を調整することは、前記第１の位置決め装置を構成する、前記ボディ工具と前記第１モジュールとの一方に設けられ凹部が形成された第１部材と、前記ボディ工具と前記第１モジュールとの他方に設けられ凸部を有する第２部材と、を前記凹部と前記凸部との係合によって係合させて、前記第１部材と前記第２部材のうちの前記ボディ工具に設けられる部材の前記ボディ工具に対する位置を調整することを含む請求項１〜６のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項８】
前記ドッキングすることは、前記第２の位置決め装置を構成する、前記ボディと前記第１モジュールとの一方に設けられた前記第１部材と、前記ボディと前記第１モジュールとの他方に設けられた前記第２部材とのうち、前記ボディに設けられる部材であって前記調整後の前記第１の位置決め装置と同一状態にある一方の部材と、他方の部材と、を係合させることを含む請求項７に記載の露光装置の製造方法。
【請求項９】
前記凹部は、Ｖ溝であり、前記凸部は、前記Ｖ溝の一対の斜面に接触する形状を有する請求項７又は８に記載の露光装置の製造方法。
【請求項１０】
前記凸部は、前記Ｖ溝の一対の斜面に線接触する請求項９に記載の露光装置の製造方法。
【請求項１１】
前記第１の位置決め装置を調整することでは、前記ボディ工具の３箇所に対応して設けられた３つの前記第１の位置決め装置を調整する請求項１〜１０のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項１２】
前記ドッキングすることでは、前記ボディの３箇所に対応して設けられた３つの前記第２の位置決め装置を介して前記ボディと前記第１モジュールとをドッキングする請求項１１に記載の露光装置の製造方法。
【請求項１３】
前記第１モジュールは、前記感応物体を保持するステージを含むステージモジュールである請求項１〜１２のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法を用いて製造された露光装置を用いて感応物体を露光することと、
露光された前記感応物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項１５】
ボディと、該ボディにドッキングされる第１モジュールとを含む複数のモジュールを備え、感応物体を露光する露光装置を製造する、露光装置の製造方法であって、
出荷される前記第１モジュールと実質的に同じ部材である第１モジュール工具と前記ボディとのドッキング時の両者の位置関係が所望の関係となるように前記第１モジュール工具と前記ボディとの間に設けられる第１の位置決め装置を調整することと、
前記調整後の前記第１の位置決め装置を介した前記第１モジュール工具とのドッキング時の位置関係が、前記所望の関係となる前記ボディを出荷することと、
出荷先で、前記調整後の前記第１の位置決め装置と同一状態にある、前記第１モジュールと前記ボディとの間に設けられる、前記第１の位置決め装置と同じ構成の第２の位置決め装置を介して前記ボディと前記第１モジュールとをドッキングすることと、を含む露光装置の製造方法。
【請求項１６】
前記第１モジュール工具として、出荷される前記第１モジュールが用いられる請求項１５に記載の露光装置の製造方法。
【請求項１７】
前記第１の位置決め装置を調整することでは、前記ボディの第１基準面と前記第１モジュール工具の第２基準面との位置関係が所望の関係となるように、前記第１の位置決め装置が調整される請求項１５又は１６に記載の露光装置の製造方法。
【請求項１８】
前記第１の位置決め装置を調整することは、前記第１基準面と前記第２基準面との傾きを計測し、前記第１モジュール工具の傾きが調整されるように前記第１の位置決め装置を調整することを含む請求項１７に記載の露光装置の製造方法。
【請求項１９】
前記第１の位置決め装置を調整することは、前記第１基準面と前記第２基準面との回転ずれを計測し、前記第１モジュール工具の回転が調整されるように前記第１の位置決め装置を調整することを含む請求項１７又は１８に記載の露光装置の製造方法。
【請求項２０】
前記第１の位置決め装置を調整することは、前記第１基準面と前記第２基準面との位置ずれを計測し、前記第１モジュール工具の位置が調整されるように前記第１の位置決め装置を調整することを含む請求項１７〜１９のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項２１】
前記第１の位置決め装置を調整することは、前記第１の位置決め装置を構成する、前記ボディと第１モジュール工具との一方に設けられ凹部が形成された第１部材と、前記ボディと前記第１モジュール工具との他方に設けられ凸部を有する第２部材と、を前記凹部と前記凸部との係合によって係合させて、前記第１部材と前記第２部材のうちの前記第１モジュール工具に設けられる部材の前記第１モジュール工具に対する位置を調整することを含む請求項１５〜２０のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項２２】
前記ドッキングすることは、前記第２の位置決め装置を構成する、前記ボディと前記第１モジュールとの一方に設けられた前記第１部材と、前記ボディと前記第１モジュールとの他方に設けられた前記第２部材とのうち、前記第１モジュールに設けられる部材であって前記調整後の前記第１の位置決め装置と同一状態にある一方の部材と、他方の部材と、を係合させることを含む請求項２１に記載の露光装置の製造方法。
【請求項２３】
前記凹部は、Ｖ溝であり、前記凸部は、前記Ｖ溝の一対の斜面に接触する形状を有する請求項２１又は２２に記載の露光装置の製造方法。
【請求項２４】
前記凸部は、前記Ｖ溝の一対の斜面に線接触する請求項２３に記載の露光装置の製造方法。
【請求項２５】
第１の位置決め装置を調整することでは、前記ボディの３箇所に対応して設けられた３つの前記第１の位置決め装置を調整する請求項１５〜２４のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項２６】
前記ドッキングすることでは、前記ボディの３箇所に対応して設けられた３つの前記第２の位置決め装置を介して前記ボディと前記第１モジュールとをドッキングする請求項２５に記載の露光装置の製造方法。
【請求項２７】
前記第１モジュールは、前記感応物体を保持するステージを含むステージモジュールである請求項１５〜２６のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項２８】
請求項１５〜２７のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法を用いて製造された露光装置を用いて感応物体を露光することと、
露光された前記感応物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項２９】
ボディと、該ボディに位置決め装置を介してドッキングされる第１モジュールとを含む複数のモジュールを備え、感応物体を露光する露光装置を製造する、露光装置の製造方法であって、
前記ボディの第１基準面と前記第１モジュールの第２基準面との位置関係が所望の関係となるように、前記ボディと前記第１モジュールとのドッキング時の位置関係を決定する前記位置決め装置を調整することを含む露光装置の製造方法。
【請求項３０】
前記第１モジュールは、前記感応物体を保持するステージを含むステージモジュールである請求項２９に記載の露光装置の製造方法。
【請求項３１】
前記位置決め装置を調整することは、前記第１基準面と前記第２基準面との傾きを計測し、前記第１モジュールの傾きが調整されるように前記位置決め装置を調整することを含む請求項２９又は３０に記載の露光装置の製造方法。
【請求項３２】
前記位置決め装置を調整することは、前記第１基準面と前記第２基準面との回転ずれを計測し、前記第１モジュールの回転が調整されるように前記位置決め装置を調整することを含む請求項２９〜３１のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項３３】
前記位置決め装置を調整することは、前記第１基準面と前記第２基準面との位置ずれを計測し、前記第１モジュールの位置が調整されるように前記位置決め装置を調整することを含む請求項２９〜３２のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項３４】
前記位置決め装置を調整することは、前記位置決め装置を構成する、前記ボディと前記第１モジュールとの一方に設けられ凹部が形成された第１部材と、前記ボディと前記第１モジュールとの他方に設けられ凸部を有する第２部材と、を前記凹部と前記凸部との係合によって係合させて、前記第１部材と前記第２部材のうちの前記ボディに設けられる部材の前記ボディに対する位置を調整することを含む請求項２９〜３３のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項３５】
前記凹部は、Ｖ溝であり、前記凸部は、前記Ｖ溝の一対の斜面に接触する形状を有する請求項３４に記載の露光装置の製造方法。
【請求項３６】
前記凸部は、前記Ｖ溝の一対の斜面に線接触する請求項３５に記載の露光装置の製造方法。
【請求項３７】
前記位置決め装置を調整することでは、前記ボディの３箇所に対応して設けられた３つの前記位置決め装置を調整する請求項２９〜３６のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項３８】
請求項２９〜３７のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法を用いて製造された露光装置を用いて感応物体を露光することと、
露光された前記感応物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項３９】
ボディと、該ボディにドッキングされる第１モジュールとを含む複数のモジュールを備え、感応物体を露光する露光装置を製造する、露光装置の製造方法であって、
出荷先で前記ボディと前記第１モジュールとを、前記ボディと前記第１モジュールとの間に設けられる第１の位置決め装置を介して所望の関係でドッキングするのに先立って、出荷される前記ボディと実質的に同じ部材であるボディ工具と前記第１モジュールとを、前記第１の位置決め装置と同じ構成の第２の位置決め装置を介してドッキングし、その際に、前記ボディ工具と前記第１モジュールとの位置関係が前記所望の関係となるように、前記ボディ工具と前記第１モジュールとの間に設けられる前記第２の位置決め装置を調整することと、
前記調整後の前記第１モジュールを出荷することと、
を含む露光装置の製造方法。
【請求項４０】
前記ボディ工具として、出荷される前記ボディが用いられる請求項３９に記載の露光装置の製造方法。
【請求項４１】
前記第２の位置決め装置を調整することでは、前記ボディ工具の第１基準面と前記第１モジュールの第２基準面との位置関係が所望の関係となるように、前記第２の位置決め装置が調整される請求項３９又は４０に記載の露光装置の製造方法。
【請求項４２】
前記第２の位置決め装置を調整することは、前記第１基準面と前記第２基準面との傾きを計測し、前記第１モジュールの傾きが調整されるように前記第２の位置決め装置を調整することを含む請求項４１に記載の露光装置の製造方法。
【請求項４３】
前記第２の位置決め装置を調整することは、前記第１基準面と前記第２基準面との回転ずれを計測し、前記第１モジュールの回転が調整されるように前記第２の位置決め装置を調整することを含む請求項４１又は４２に記載の露光装置の製造方法。
【請求項４４】
前記第２の位置決め装置を調整することは、前記第１基準面と前記第２基準面との位置ずれを計測し、前記第１モジュールの位置が調整されるように前記第２の位置決め装置を調整することを含む請求項４１〜４３のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項４５】
前記第２の位置決め装置を調整することは、前記第２の位置決め装置を構成する、前記ボディ工具と前記第１モジュールとの一方に設けられ凹部が形成された第１部材と、前記ボディ工具と前記第１モジュールとの他方に設けられ凸部を有する第２部材と、を前記凹部と前記凸部との係合によって係合させて、前記第１部材と前記第２部材のうちの前記ボディ工具に設けられる部材の前記ボディ工具に対する位置を調整することを含む請求項３９〜４４のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項４６】
出荷先で、前記調整後の前記第２の位置決め装置と同一状態にある前記第１の位置決め装置を介して前記ボディと前記第１モジュールとをドッキングすることをさらに含む請求項３９〜４５のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項４７】
出荷先で前記ボディと前記第１モジュールとを、前記ボディと前記第１モジュールとの間に設けられる第１の位置決め装置を介して所望の関係でドッキングするのに先立って、
出荷される前記第１モジュールと実質的に同じ部材である第１モジュール工具と前記ボディとを、前記第１の位置決め装置と同じ構成の第３の位置決め装置を介してドッキングし、その際に、前記ボディと前記第１モジュール工具との位置関係が前記所望の関係となるように、前記ボディと前記第１モジュール工具との間に設けられる前記第３の位置決め装置を調整することと、
前記調整後の前記ボディを出荷することと、
をさらに含む請求項３９〜４６のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項４８】
前記第１モジュールは、前記感応物体を保持するステージを含むステージモジュールである請求項３９〜４７のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項４９】
請求項３９〜４８のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法を用いて製造された露光装置を用いて感応物体を露光することと、
露光された前記感応物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項５０】
ボディと、該ボディにドッキングされる第１モジュールとを含む複数のモジュールを備え、感応物体を露光する露光装置を製造する、露光装置の製造方法であって、
前記ボディと前記第１モジュールとを、両者間に設けられ、予め調整された第１の位置決め装置を介して所望の関係でドッキングすることを含み、
前記第１の位置決め装置は、前記ボディと実質的に同じ部材であるボディ工具と前記第１モジュールとを、前記第１の位置決め装置と同じ構成の第２の位置決め装置を介して、ドッキングし、その際に、前記ボディ工具と前記第１モジュールとの位置関係が前記所望の関係となるように調整された前記第２の位置決め装置と同様に、予め調整されている露光装置の製造方法。
【請求項５１】
前記ボディ工具は、前記ボディと前記第１モジュールとの前記第１の位置決め装置を介したドッキングが行われるデバイス製造工場に納入される前記ボディと実質的に同じ部材である請求項５０に記載の露光装置の製造方法。
【請求項５２】
前記第１モジュールは、前記感応物体を保持するステージを含むステージモジュールである請求項５０又は５１に記載の露光装置の製造方法。
【請求項５３】
請求項５０〜５２のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法を用いて製造された露光装置を用いて感応物体を露光することと、
露光された前記感応物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項５４】
ボディと、該ボディにドッキングされる第１モジュールとを含む複数のモジュールを備え、感応物体を露光する露光装置を製造する、露光装置の製造方法であって、
出荷先で前記ボディと前記第１モジュールとを、前記ボディと前記第１モジュールとの間に設けられる第１の位置決め装置を介して所望の関係でドッキングするのに先立って、出荷される前記第１モジュールと実質的に同じ部材である第１モジュール工具と前記ボディとを、前記第１の位置決め装置と同じ構成の第２の位置決め装置を介してドッキングし、その際に、前記ボディと前記第１モジュール工具との位置関係が前記所望の関係となるように、前記第１モジュール工具と前記ボディとの間に設けられる前記第２の位置決め装置を調整することと、
前記調整後の前記ボディを出荷することと、
を含む露光装置の製造方法。
【請求項５５】
前記第１モジュール工具として、出荷される前記第１モジュールが用いられる請求項５４に記載の露光装置の製造方法。
【請求項５６】
前記第２の位置決め装置を調整することでは、前記ボディの第１基準面と前記第１モジュール工具の第２基準面との位置関係が所望の関係となるように、前記第２の位置決め装置が調整される請求項５４又は５５に記載の露光装置の製造方法。
【請求項５７】
前記第２の位置決め装置を調整することは、前記第１基準面と前記第２基準面との傾きを計測し、前記第１モジュール工具の傾きが調整されるように前記第２の位置決め装置を調整することを含む請求項５６に記載の露光装置の製造方法。
【請求項５８】
前記第２の位置決め装置を調整することは、前記第１基準面と前記第２基準面との回転ずれを計測し、前記第１モジュール工具の回転が調整されるように前記第２の位置決め装置を調整することを含む請求項５６又は５７に記載の露光装置の製造方法。
【請求項５９】
前記第２の位置決め装置を調整することは、前記第１基準面と前記第２基準面との位置ずれを計測し、前記第１モジュール工具の位置が調整されるように前記第２の位置決め装置を調整することを含む請求項５６〜５８のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項６０】
前記第２の位置決め装置を調整することは、前記第２の位置決め装置を構成する、前記ボディと前記第１モジュール工具との一方に設けられ凹部が形成された第１部材と、前記ボディと前記第１モジュール工具との他方に設けられ凸部を有する第２部材と、を前記凹部と前記凸部との係合によって係合させて、前記第１部材と前記第２部材のうちの前記第１モジュール工具に設けられる部材の前記第１モジュール工具に対する位置を調整することを含む請求項５４〜５９のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項６１】
出荷先で、前記調整後の前記第２の位置決め装置と同一状態にある前記第１の位置決め装置を介して前記ボディと前記第１モジュールとをドッキングすることをさらに含む請求項５４〜６０のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項６２】
出荷先で前記ボディと前記第１モジュールとを、前記ボディと前記第１モジュールとの間に設けられる第１の位置決め装置を介して所望の関係でドッキングするのに先立って、
出荷される前記ボディと実質的に同じ部材であるボディ工具と前記第１モジュールとを、前記第１の位置決め装置と同じ構成の第３の位置決め装置を介してドッキングし、その際に、前記ボディ工具と前記第１モジュールとの位置関係が前記所望の関係となるように、前記ボディ工具と前記第１モジュールとの間に設けられる前記第３の位置決め装置を調整することと、
前記調整後の前記第１モジュールを出荷することと、
をさらに含む請求項５４〜６１のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項６３】
前記第１モジュールは、前記感応物体を保持するステージを含むステージモジュールである請求項５４〜６２のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法。
【請求項６４】
請求項５４〜６３のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法を用いて製造された露光装置を用いて感応物体を露光することと、
露光された前記感応物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項６５】
ボディと、該ボディにドッキングされる第１モジュールとを含む複数のモジュールを備え、感応物体を露光する露光装置を製造する、露光装置の製造方法であって、
前記ボディと前記第１モジュールとを、両者間に設けられ、予め調整された第１の位置決め装置を介して所望の関係でドッキングすることを含み、
前記第１の位置決め装置は、前記第１モジュールと実質的に同じ部材である第１モジュール工具と前記ボディとを、前記第１の位置決め装置と同じ構成の第２の位置決め装置を介して、ドッキングし、その際に、前記第１モジュール工具と前記ボディとの位置関係が前記所望の関係となるように調整された前記第２の位置決め装置と同様に、予め調整されている露光装置の製造方法。
【請求項６６】
前記第１モジュール工具は、前記ボディと前記第１モジュールとの前記第１の位置決め装置を介したドッキングが行われるデバイス製造工場に納入される前記第１モジュールと実質的に同じ部材である請求項６５に記載の露光装置の製造方法。
【請求項６７】
前記第１モジュールは、前記感応物体を保持するステージを含むステージモジュールである請求項６５又は６６に記載の露光装置の製造方法。
【請求項６８】
請求項６５〜６７のいずれか一項に記載の露光装置の製造方法を用いて製造された露光装置を用いて感応物体を露光することと、
露光された前記感応物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置の製造方法及びデバイス製造方法に係り、更に詳しくは、マイクロデバイス（電子デバイス）を製造するリソグラフィ工程で用いられる、感応物体を露光する露光装置を製造する露光装置の製造方法、及び該方法によって製造された露光装置を用いるデバイス製造方法に関する。ここで、露光装置の製造は、メーカの工場内での製造（組立を含む）、及び出荷先であるユーザの工場内での製造（立ち上げ時の組み立て）の他、装置を移設する際の組み立てをも含む。本明細書では、露光装置の製造なる用語をかかる意味で用いている。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体素子又は液晶表示素子などのマイクロデバイス（電子デバイス）を製造するリソグラフィ工程では、ステッパやスキャニング・ステッパなどの投影露光装置を含む種々の露光装置が用いられている。
【０００３】
従来のステッパなどの露光装置では、レチクルを位置決めするレチクルステージ系、及びウエハを２次元移動するウエハステージ系には、それぞれ高精度な位置決め、又は高精度な走査ができるような構成が採用されていた。そして、この種の露光装置では、フレーム装置（ボディ）に対して投影光学系が装着され、更には各ステージ系が順次フレーム装置に対して直接組み付けられていた。
【０００４】
しかしながら、このようにフレーム装置に対して順次各ステージ系等を組み付けていく方法では、組立調整に時間を要するとともに、各ステージ系と投影光学系との間の相対位置の調整等に長い時間を要するなどの不都合があった。かかる不都合を改善するものとして、第１物体（レチクル）を保持して移動する第１ステージ系を収納するとともに、フレーム装置に対して着脱可能に装着される第１ステージ室と、第２物体（ウエハ）を保持して移動する第２ステージ系を収納するとともに、フレーム装置に対して着脱可能に装着される第２ステージ室とが、ともにモジュール構成とされ、第１及び第２ステージ室を組み立てた後に、フレーム装置に装着することによって、露光装置の組立を容易に、かつ迅速に行うことができる露光装置が、先に提案されている（特許文献１参照）。
【０００５】
このようなモジュール構成を採用した場合、モジュールをフレーム装置に対して搬入した際に、モジュールとフレーム装置との間の位置関係が所望の状態に維持されるようになっていることが、組み立て時間の短縮化の面ではより望ましい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】米国特許出願公開２００１／００１５７９５号明細書
【発明の概要】
【０００７】
本発明の第１の態様によれば、ボディと、該ボディにドッキングされる第１モジュールとを含む複数のモジュールを備え、感応物体を露光する露光装置を製造する、露光装置の製造方法であって、出荷される前記ボディと実質的に同じ部材であるボディ工具と前記第１モジュールとのドッキング時の両者の位置関係が所望の関係となるように前記ボディ工具と前記第１モジュールとの間に設けられる第１の位置決め装置を調整することと、前記調整後の前記第１の位置決め装置を介した前記ボディ工具とのドッキング時の位置関係が、前記所望の関係となる前記第１モジュールを出荷することと、出荷先で、前記調整後の前記第１の位置決め装置と同一状態にある、前記ボディと前記第１モジュールとの間に設けられる、前記第１の位置決め装置と同じ構成の第２の位置決め装置を介して前記ボディと前記第１モジュールとをドッキングすることと、を含む第１の露光装置の製造方法が、提供される。
【０００８】
これによれば、出荷先で、量産される複数の第１モジュールのうちの１つとボディとをドッキングさせる場合、第２の位置決め装置を介して両者をドッキングさせるだけでボディと第１モジュールとの位置関係が、所望の関係となる。従って、出荷先での露光装置の製造（組み立て）に際して第１モジュールとボディとの位置関係の調整が不要となる。
【０００９】
本発明の第２の態様によれば、ボディと、該ボディにドッキングされる第１モジュールとを含む複数のモジュールを備え、感応物体を露光する露光装置を製造する、露光装置の製造方法であって、出荷される前記第１モジュールと実質的に同じ部材である第１モジュール工具と前記ボディとのドッキング時の両者の位置関係が所望の関係となるように前記第１モジュール工具と前記ボディとの間に設けられる第１の位置決め装置を調整することと、前記調整後の前記第１の位置決め装置を介した前記第１モジュール工具とのドッキング時の位置関係が、前記所望の関係となる前記ボディを出荷することと、出荷先で、前記調整後の前記第１の位置決め装置と同一状態にある、前記第１モジュールと前記ボディとの間に設けられる、前記第１の位置決め装置と同じ構成の第２の位置決め装置を介して前記ボディと前記第１モジュールとをドッキングすることと、を含む第２の露光装置の製造方法が、提供される。
【００１０】
これによれば、出荷先で、量産される複数のボディのうちの１つと第１モジュールとをドッキングさせる場合、第２の位置決め装置を介して両者をドッキングさせるだけでボディと第１モジュールとの位置関係が、所望の関係となる。従って、出荷先での露光装置の製造（組み立て）に際して第１モジュールとボディとの位置関係の調整が不要となる。
【００１１】
本発明の第３の態様によれば、ボディと、該ボディに位置決め装置を介してドッキングされる第１モジュールとを含む複数のモジュールを備え、感応物体を露光する露光装置を製造する、露光装置の製造方法であって、前記ボディの第１基準面と前記第１モジュールの第２基準面との位置関係が所望の関係となるように、前記ボディと前記第１モジュールとのドッキング時の位置関係を決定する前記位置決め装置を調整することを含む第３の露光装置の製造方法が、提供される。
【００１２】
これによれば、位置決め装置の調整後、例えば露光装置の製造後などに、位置決め装置を介してボディと第１モジュールとをドッキングさせるだけで、ボディの第１基準面と第１モジュールの第２基準面との位置関係が所望の関係となる。このため、ボディの第１基準面と第１モジュールの第２基準面との位置合わせのための面倒な作業が不要となる。
【００１３】
本発明の第４の態様によれば、ボディと、該ボディにドッキングされる第１モジュールとを含む複数のモジュールを備え、感応物体を露光する露光装置を製造する、露光装置の製造方法であって、出荷先で前記ボディと前記第１モジュールとを、前記ボディと前記第１モジュールとの間に設けられる第１の位置決め装置を介して所望の関係でドッキングするのに先立って、出荷される前記ボディと実質的に同じ部材であるボディ工具と前記第１モジュールとを、前記第１の位置決め装置と同じ構成の第２の位置決め装置を介してドッキングし、その際に、前記ボディ工具と前記第１モジュールとの位置関係が前記所望の関係となるように、前記ボディ工具と前記第１モジュールとの間に設けられる前記第２の位置決め装置を調整することと、前記調整後の前記第１モジュールを出荷することと、を含む第４の露光装置の製造方法が、提供される。
【００１４】
本発明の第５の態様によれば、ボディと、該ボディにドッキングされる第１モジュールとを含む複数のモジュールを備え、感応物体を露光する露光装置を製造する、露光装置の製造方法であって、前記ボディと前記第１モジュールとを、両者間に設けられ、予め調整された第１の位置決め装置を介して所望の関係でドッキングすることを含み、前記第１の位置決め装置は、前記ボディと実質的に同じ部材であるボディ工具と前記第１モジュールとを、前記第１の位置決め装置と同じ構成の第２の位置決め装置を介して、ドッキングし、その際に、前記ボディ工具と前記第１モジュールとの位置関係が前記所望の関係となるように調整された前記第２の位置決め装置と同様に、予め調整されている第５の露光装置の製造方法が、提供される。
【００１５】
本発明の第６の態様によれば、ボディと、該ボディにドッキングされる第１モジュールとを含む複数のモジュールを備え、感応物体を露光する露光装置を製造する、露光装置の製造方法であって、出荷先で前記ボディと前記第１モジュールとを、前記ボディと前記第１モジュールとの間に設けられる第１の位置決め装置を介して所望の関係でドッキングするのに先立って、出荷される前記第１モジュールと実質的に同じ部材である第１モジュール工具と前記ボディとを、前記第１の位置決め装置と同じ構成の第２の位置決め装置を介してドッキングし、その際に、前記ボディと前記第１モジュール工具との位置関係が前記所望の関係となるように、前記第１モジュール工具と前記ボディとの間に設けられる前記第２の位置決め装置を調整することと、前記調整後の前記ボディを出荷することと、を含む第６の露光装置の製造方法が、提供される。
【００１６】
本発明の第７の態様によれば、ボディと、該ボディにドッキングされる第１モジュールとを含む複数のモジュールを備え、感応物体を露光する露光装置を製造する、露光装置の製造方法であって、前記ボディと前記第１モジュールとを、両者間に設けられ、予め調整された第１の位置決め装置を介して所望の関係でドッキングすることを含み、前記第１の位置決め装置は、前記第１モジュールと実質的に同じ部材である第１モジュール工具と前記ボディとを、前記第１の位置決め装置と同じ構成の第２の位置決め装置を介して、ドッキングし、その際に、前記第１モジュール工具と前記ボディとの位置関係が前記所望の関係となるように調整された前記第２の位置決め装置と同様に、予め調整されている第７の露光装置の製造方法が、提供される。
【００１７】
上記第４〜第７の露光装置の製造方法によれば、出荷先（露光装置のユーザの工場など）での露光装置の製造（組み立て）に際して第１モジュールとボディとの位置関係の調整が不要となる。
【００１８】
本発明のその他の態様によれば、本発明の第１〜第７の露光装置の製造方法のいずれかを用いて製造された露光装置を用いて感応物体を露光することと、露光された前記感応物体を現像することと、を含むデバイス製造方法が、提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】一実施形態に係る露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図１のステージモジュール及びカウンタマスモジュールを示す平面図である。
【図３】図３（Ａ）及び図３（Ｂ）は、浮上・昇降装置を示す斜視図である。
【図４】図４（Ａ）〜図４（Ｃ）は、浮上・昇降装置及び位置決め装置の作用を説明するための図である。
【図５】図５（Ａ）及び図５（Ｂ）は、位置決め装置１６Ａの構成を説明するための図である。
【図６】図６（Ａ）及び図６（Ｂ）は、露光装置の製造方法を説明するためのフローチャート（その１及びその２）である。
【図７】図６（Ａ）のステップ２０４の具体的な手順の一例を説明するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の一実施形態を図１〜図７に基づいて説明する。図１には、一実施形態に係る露光装置１００の概略構成が示されている。露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャナ）である。後述するように、本実施形態では、投影光学系ＰＬが設けられており、以下においては、この投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと平行な方向をＺ軸方向（Ｚ方向）、これに直交する面内でレチクルとウエハとが相対走査される方向をＹ軸方向（Ｙ方向）、Ｚ軸及びＹ軸に直交する方向をＸ軸方向（Ｘ方向）とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として説明を行う。
【００２１】
露光装置１００は、光源及び照明光学系を含み、照明光（露光光）ＩＬによりレチクルＲを照明する照明系１０、レチクルＲを保持するレチクルステージＲＳＴを含むレチクルステージモジュール１２、投影光学系ＰＬを含む投影ユニットＰＵ、レチクルステージモジュール１２及び投影ユニットＰＵなどが搭載されたボディＢＤ、ウエハＷが載置されるウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴを含むウエハステージモジュール（以下、ステージモジュールと略記する）３０、ステージモジュール３０のＸ軸方向の一側と他側とにそれぞれ配置されたカウンタマスモジュール３２Ａ、３２Ｂ、及びこれらの制御系等を備えている。
【００２２】
照明系１０は、例えば米国特許出願公開第２００３／００２５８９０号明細書などに開示されるように、光源、オプティカルインテグレータ等を含む照度均一化光学系、ビームスプリッタ、リレーレンズ、可変ＮＤフィルタ、及びレチクルブラインド等（いずれも不図示）を含んでいる。この照明系１０では、レチクルブラインドにより規定されたレチクルＲ上のスリット状の照明領域ＩＡＲを照明光ＩＬによりほぼ均一な照度で照明する。ここで、照明光ＩＬとしては、一例としてＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が用いられている。
【００２３】
レチクルステージモジュール１２は、ボディＢＤの一部であるレチクルベース３６上に搭載されている。レチクルステージモジュール１２は、レチクルステージＲＳＴ及びレチクルステージＲＳＴを駆動するリニアモータ等を含むレチクルステージ駆動系（不図示）等を備えている。レチクルステージＲＳＴ上には、レチクルＲが、例えば真空吸着（又は静電吸着）により保持されている。レチクルステージＲＳＴは、レチクルステージ駆動系により、レチクルベース３６上を所定の走査方向（ここでは、図１における紙面直交方向であるＹ軸方向）に所定のストロークで駆動され、かつＸ軸方向、及びθｚ方向に適宜微少駆動される。
【００２４】
レチクルステージＲＳＴの位置は、不図示のレチクルレーザ干渉計によって、例えば０．２５ｎｍ程度の分解能で常時検出されている。不図示の制御装置は、レチクルレーザ干渉計の検出結果に基づいて、レチクルステージ駆動系を介してレチクルステージＲＳＴを駆動（位置制御）する。なお、例えば米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号明細書などに開示されるエンコーダシステムによってレチクルステージの位置計測を行っても良い。
【００２５】
投影ユニットＰＵは、レチクルステージＲＳＴの図１における下方に配置されている。投影ユニットＰＵは、鏡筒４０と、鏡筒４０内に保持された投影光学系ＰＬとを含む。投影光学系ＰＬとしては、例えば光軸ＡＸに沿って配列された複数の光学素子（レンズエレメント）から成る屈折光学系が用いられている。投影光学系ＰＬは、例えば両側テレセントリックで、所定の投影倍率（例えば１／４倍、１／５倍又は１／８倍など）を有する。投影ユニットＰＵは、ボディＢＤの一部を構成する後述する第１フレーム２３２に支持されたメトロロジーフレームＭＦと称される部材に一体的に保持されている。より詳細には、メトロロジーフレームＭＦは、鏡筒定盤とも呼ばれ、そのほぼ中央部に不図示の円形開口（又はＵ字状の切り欠き）が形成されている。円形開口内に、投影ユニットＰＵが上方（又は紙面奥側）から挿入され、鏡筒４０の外周部に固定されたフランジＦＬＧを介して、メトロロジーフレームＭＦに支持されている。
【００２６】
このため、照明系１０によってレチクルＲ上の照明領域ＩＡＲが照明されると、投影光学系ＰＬの第１面（物体面）とパターン面とがほぼ一致して配置されるレチクルＲを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系ＰＬ（投影ユニットＰＵ）を介してその照明領域ＩＡＲ内のレチクルＲの回路パターンの縮小像（回路パターンの一部の縮小像）が、投影光学系ＰＬの第２面（像面）側に配置される、表面にレジスト（感応剤）が塗布されたウエハＷ上の前記照明領域ＩＡＲに共役な領域（以下、露光領域とも呼ぶ）ＩＡに形成される。そして、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴとの同期駆動によって、照明領域ＩＡＲ（照明光ＩＬ）に対してレチクルＲを走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動させるとともに、露光領域ＩＡ（照明光ＩＬ）に対してウエハＷを走査方向に相対移動させることで、ウエハＷ上の１つのショット領域（区画領域）の走査露光が行われ、そのショット領域にレチクルＲのパターンが転写される。すなわち、本実施形態では照明系１０、投影光学系ＰＬによってウエハＷ上にレチクルＲのパターンが生成され、照明光ＩＬによるウエハＷ上の感応層（レジスト層）の露光によってウエハＷ上にそのパターンが形成される。
【００２７】
ボディＢＤは、クリーンルームの床面Ｆ上に設置されたフレームキャスタＦＣ上に搭載された第１フレーム２３２と、第１フレーム２３２上に固定されたコラム３４とを備えている。コラム３４は、第１フレーム２３２上面の投影ユニットＰＵを取り囲む位置に設置された複数本、例えば３本の脚４１（但し、図１における紙面奥側の脚は図示省略）と、３本の脚４１によって水平に支持されたレチクルベース３６とを含む。レチクルベース３６には、その中央部に照明光ＩＬの通路となる開口３６ａが形成されている。
【００２８】
フレームキャスタＦＣは、床面Ｆ上にＹ軸方向に離間して配置された一対の壁部材３９Ａ、３９Ｂから成り（図１では、紙面奥側の壁部材３９Ｂは不図示、図２参照）、該一対の壁部材３９Ａ、３９Ｂによって、第１フレーム２３２が下方から水平に支持されている。なお、後述するように本実施形態では、エアホバーが用いられるので、床面Ｆがメッシュ構造等になっている場合には、床面Ｆ上にベースプレートと呼ばれる平板を水平に設置し、その上に一対の壁部材３９Ａ、３９ＢをＹ軸方向に離間して配置し、ベースプレートと一対の壁部材３９Ａ、３９Ｂとによって、フレームキャスタＦＣを構成する必要がある。ここで、床面又はフレームキャスタ上に配置される各部材は防振機構を介して配置される。なお、メトロロジーフレームＭＦは、床上に設置されるフレームではなく、例えば米国特許出願公開第２００８／００６８５６８号明細書などに開示されているように、不図示のメインフレームに載置されるレチクルベースから吊り下げ支持しても良い。
【００２９】
第１フレーム２３２は、ＸＹ平面に平行な矩形枠状の部材から成る。第１フレーム２３２は、その中央部に平面視矩形の凹部２３２ａを有しており、凹部２３２ａの底壁には、その中央部に円形又は矩形の開口が形成されている。凹部２３２ａ内にメトロロジーフレームＭＦが、上方から挿入され凹部２３２ａの底壁（枠状部）上に載置されている。メトロロジーフレームＭＦは、Ｙ軸方向を長手方向とする平面視矩形の板状（あるいは高さの低い箱形）の部材から成り、不図示の防振装置を介してＸＹ平面に平行な状態で第１フレーム２３２に対して固定されている。
【００３０】
なお、不図示ではあるが、投影ユニットＰＵの＋Ｙ側には、例えば画像処理方式の結像式アライメントセンサの一種であるＦＩＡ（Field Image Alignment）系から成るオフアクシス・アライメント系（以下、「アライメント系」と略述する）が設けられている。このアライメント系は、メトロロジーフレームＭＦの下面に吊り下げ状態で固定されている。アライメント系からの撮像信号は、不図示の制御装置に供給される。アライメント系は、センサの検出方式や種類などは任意で良く、ＦＩＡ系に限らず、例えばコヒーレントな検出光を対象マークに照射し、その対象マークから発生する散乱光又は回折光を検出する、あるいはその対象マークから発生する２つの回折光（例えば同次数の回折光、あるいは同方向に回折する回折光）を干渉させて検出するアライメントセンサを単独であるいは適宜組み合わせて用いることは勿論可能である。
【００３１】
図２には、ステージモジュール３０及びカウンタマスモジュール３２Ａ、３２Ｂが、フレームキャスタＦＣ及び第１フレーム２３２とともに示されている。図２及び図１に示されるように、ステージモジュール３０は、平板（メンテプレート）ＭＰと、該平板ＭＰ上に搭載されたステージベース（ステージ定盤）７１と、該ステージベース７１の上面に沿って互いに独立して移動するウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴと、を有している。
【００３２】
平板（メンテプレート）ＭＰは、例えばその四隅部に対応して配置された４つの浮上・昇降装置１８（４つの浮上・昇降装置１８のうち、２つは図１に示され、他の２つはこれらの紙面奥側に隠れている）を介して床面Ｆ上で水平に支持されている。浮上・昇降装置１８の構成等については後に詳述する。
【００３３】
平板ＭＰは、図２に示される３つの位置決め装置１６Ａ〜１６Ｃにより、壁部材３９Ａ、３９Ｂ及び第１フレーム２３２を含むボディＢＤに対して、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θｘ、θｙ、θｚの各方向（６自由度方向）に関して位置決めされた状態となっている。これによって、ステージベース７１（ステージモジュール３０）がメトロロジーフレームＭＦに対して６自由度方向に位置決めされた状態となっている。
【００３４】
ここで、浮上・昇降装置１８について、図３（Ａ）及び図３（Ｂ）に基づいて説明する。
【００３５】
浮上・昇降装置１８は、図３（Ａ）に示されるように、一例として、エアスプリング装置２２Ａと、ホバー装置２２Ｂとを含む。エアスプリング装置２２Ａは、円板状の板状部材２４と、該板状部材２４の下側に設けられたエアマウント２６とを有し、板状部材２４の上面は、平板ＭＰの下面に固定されている（図４（Ａ）等参照）。エアマウント２６には、板状部材２４に設けられた第１の気体供給口２４ａを介して気体（例えば圧縮空気）を供給することが可能であり、エアマウント２６は、内部に充填された気体量（圧縮空気の圧力変化）に応じてＺ軸方向に所定のストローク（例えば、５０ｍｍ程度）で伸縮する。このため、ステージモジュール３０では、複数の浮上・昇降装置１８それぞれが有するエアスプリング装置２２Ａ（エアマウント２６）を適宜用いて平板ＭＰを上下動させることにより、ステージベース７１上面のＺ軸方向、θｘ方向、及びθｙ方向のそれぞれの位置を任意に調整できるようになっている。
【００３６】
ホバー装置２２Ｂは、図３（Ｂ）に示されるように、エアマウント２６を下側から支持するベース２８と、ベース２８の下面（−Ｚ側の面）に設けられたエアホバー２９とを含む。エアホバー２９には、図３（Ａ）に示される板状部材２４に設けられた第２の気体供給口２４ｂ及び板状部材２４内に形成された管路２４ｃ並びに該管路２４ｃとベース２８とを連結する配管３１を介して、圧縮気体(例えば圧縮空気)を供給可能（ただし、上記エアマウント２６とは別系統）であり、該圧縮気体がエアホバー２９から床面Ｆ（又はベースプレート上面）に噴出されると、その噴出力により、エアホバー２９と床面Ｆ（又はベースプレート）との間に所定の間隔が形成される（図４（Ｃ）参照）。これにより、ステージモジュール３０全体を、床面Ｆ上に所定の隙間（クリアランス／ギャップ（例えば、１０ｍｍ程度））を介して浮上させることができる。
【００３７】
また、ベース２８の下面の四隅部それぞれには、平面視（−Ｚ方向から見て）三角形状のホバー接触防止部材３５が設けられている。このホバー接触防止部材３５の高さ方向（Ｚ軸方向）に関する幅（高さ）は、図４（Ａ）等に示されるように、エアホバー２９の高さ方向（Ｚ軸方向）に関する幅（高さ）よりも大きく設定されている。これにより、エアホバー２９から圧縮気体が噴出されない場合であっても、エアホバー２９の下面と床面Ｆとが非接触状態に維持される。
【００３８】
また、ベース２８の上面の四隅部のそれぞれには、柱部材３３が設けられている（図３（Ａ）、図３（Ｂ）では奥側に位置する柱部材は不図示）。これらの柱部材３３は、図４（Ｂ）に示されるように、エアマウント２６内の気体を減少させた際に、平板ＭＰの下面と接触して、エアマウント２６の代わりに平板ＭＰの自重を支持するものである。
【００３９】
上記のように構成される浮上・昇降装置１８は、図４（Ａ）の状態、図４（Ｂ）の状態、及び図４（Ｃ）の状態の間で遷移するようになっている。以下、各状態について説明する。
【００４０】
図４（Ａ）の状態は、エアマウント２６に気体を充填し、かつエアホバー２９には圧縮気体を供給しない状態である。この図４（Ａ）の状態では、ホバー接触防止部材３５が床面Ｆに接触し（以下、この状態を「着地状態」と呼ぶ）、平板ＭＰ下面が柱部材３３に接触しない状態（以下、この状態を「上昇状態」と呼ぶ）となっている。以下においては、図４（Ａ）の状態を「第１状態」と呼ぶこととする。
【００４１】
また、図４（Ｂ）の状態は、エアマウント２６内の気体を減少させ（外部に排気し）、かつエアホバー２９に圧縮気体を供給しない状態である。この図４（Ｂ）の状態では、ホバー接触防止部材３５が前記着地状態であり、平板ＭＰ下面が柱部材３３に接触した状態（以下、この状態を「下降状態」と呼ぶ）となっている。以下においては、図４（Ｂ）の状態を「第２状態」と呼ぶこととする。
【００４２】
また、図４（Ｃ）の状態は、エアマウント２６内の気体を減少させ、かつエアホバー２９に圧縮気体を供給した状態である。この図４（Ｃ）の状態では、ホバー接触防止部材３５が床面Ｆと非接触となっており（以下、この状態を「浮上状態」と呼ぶ）、平板ＭＰが前記下降状態となっている。以下においては、図４（Ｃ）の状態を「第３状態」と呼ぶこととする。
【００４３】
なお、露光装置の稼働中（露光中など）においては、浮上・昇降装置１８は、図４（Ａ）の第１の状態に維持されている。
【００４４】
次に、位置決め装置１６Ａ〜１６Ｃについて、図２、図５（Ａ）及び図５（Ｂ）等に基づいて説明する。
【００４５】
前記位置決め装置１６Ａは、図２に示されるようにフレームキャスタＦＣの一部を構成する壁部材３９Ａの＋Ｙ側の面に形成された＋Ｙ側から見てＸ軸方向に細長い矩形状の所定深さの凹部（不図示）内に−Ｙ側の半部が挿入された状態で設けられた第１部材４３Ａと、平板ＭＰの上面の−Ｙ側端部に固定された第２部材４３Ｂとを備えている。
【００４６】
第１部材４３Ａは、凹部を区画する下側の壁面に取り付けられており、凹部との間に所定の隙間が設けられている。第１部材４３Ａは、図５（Ａ）に示されるように、略直方体状の部材から成り、その下面（−Ｚ側の面）には、断面略Ｖ字状のＶ溝４５が形成されている。Ｖ溝４５は、ＸＹ面内でＸ軸及びＹ軸に交差する方向に沿って形成されている。また、第１部材４３Ａは、取り付け時に、壁部材３９Ａに対し、６自由度方向（Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θｘ、θｙ、及びθｚ方向）に関する位置調整が可能となっている。
【００４７】
第２部材４３Ｂは、図５（Ａ）に示されるように、長手方向両端の上側の角部に丸みを帯びた略直方体状の凸部４４と、該凸部４４を下側から支持する土台部４６とを有している。凸部４４は、土台部４６に対しθｚ方向に回転可能に構成されているが、通常、長手方向が、Ｖ溝４５の長手方向に直交する方向と対応するように回転調整がなされている。そして、凸部４４は、回転止め４７により土台部４６に対して固定されている（回転が制限されている）。
【００４８】
位置決め装置１６Ａによると、図５（Ｂ）に示されるように、第１部材４３Ａに第２部材４３Ｂが下側から押し付けられることにより、第２部材４３Ｂの凸部４４と、第１部材４３ＡのＶ溝４５とが、２箇所で線接触するようになっている。なお、凸部４４は、半球状の凸部であっても良い。この場合は、凸部４４と、第１部材４３ＡのＶ溝４５とが、２箇所で点接触する。
【００４９】
位置決め装置１６Ｂは、位置決め装置１６Ａと同様の構成であり、図２に示されるように、壁部材３９Ａの＋Ｙ側の面に形成された＋Ｙ側から見てＸ軸方向に細長い矩形状の所定深さの凹部（不図示）内に−Ｙ側の半部が挿入された状態で設けられた第１部材１４３Ａと、平板ＭＰの上面の−Ｙ側端部に固定された第２部材１４３Ｂとを備えている。第１部材１４３Ａは、ＸＹ面内でＸ軸及びＹ軸に交差する方向に沿って形成されたＶ溝１４５を有している。この第１部材１４３Ａは、ステージベース７１の中心を通るＹ軸に平行な中心軸に関して前述した第１部材４３Ａと左右対称な構成を有している。第２部材１４３Ｂは、前述した第２部材４３Ｂと同様に構成されているが、凸部４４の向きがＶ溝１４５と対応する方向に向けられた状態で、土台部４６に固定されている。
【００５０】
位置決め装置１６Ｂによると、位置決め装置１６Ａと同様に、第１部材１４３Ａに第２部材１４３Ｂが下側から押し付けられることにより、第２部材１４３Ｂの凸部４４と、第１部材１４３ＡのＶ溝１４５とが、２箇所で線接触するようになっている。
【００５１】
位置決め装置１６Ｃも、図２に示されるように、フレームキャスタＦＣの一部を構成する壁部材３９Ｂの−Ｙ側の面に形成された−Ｙ側から見てＸ軸方向に細長い矩形状の所定深さの凹部（不図示）内に＋Ｙ側の半部が挿入された状態で設けられた第１部材２４３Ａと、平板ＭＰの上面の＋Ｙ側端部に固定された第２部材２４３Ｂとを備えている。第１部材２４３Ａは、Ｖ溝２４５がＸ軸に沿って形成されている。第２部材２４３Ｂは、前述した第２部材４３Ｂと同様に構成されているが、凸部４４の向きがＶ溝２４５と対応する方向に向けられた状態で、土台部４６に固定されている。
【００５２】
位置決め装置１６Ｃも、第１部材２４３Ａに第２部材２４３Ｂが下側から押し付けられることにより、第２部材２４３Ｂの凸部４４と、第１部材２４３ＡのＶ溝２４５とが、２箇所で線接触するようになっている。
【００５３】
以上のように構成される３つの位置決め装置１６Ａ〜１６Ｃでは、浮上・昇降装置１８が図４（Ａ）に示される第１の状態にあるときには、各第１部材（４３Ａ、１４３Ａ、２４３Ａ）に対して、これらに対応する第２部材（４３Ｂ、１４３Ｂ、２４３Ｂ）が下側から押し付けられる。これにより、平板ＭＰ（及びステージベース７１）をフレームキャスタＦＣ（及びメトロロジーフレームＭＦ）に対して、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θｘ、θｙ、θｚの６自由度方向に関する所望の位置（すなわち、すべての位置決め装置１６Ａ〜１６Ｃの第１部材のＶ溝と第２部材の凸部とが２カ所で線接触する位置）に、位置決めすることができる。したがって、前述のように、露光装置の稼働中は、浮上・昇降装置１８が第１の状態に維持されているので、露光装置の稼働中は、ステージベース７１をメトロロジーフレームＭＦ及びフレームキャスタＦＣに対して常に位置決めした状態、すなわちステージモジュール３０をメトロロジーフレームＭＦ及びフレームキャスタＦＣに対して常に位置決めした状態に維持することができる。
【００５４】
なお、第２の状態及び第３の状態にあるときには、第１部材（４３Ａ、１４３Ａ、２４３Ａ）とこれに対応する第２部材（４３Ｂ、１４３Ｂ、２４３Ｂ）とが接触することはない（図４（Ｂ）、図４（Ｃ）参照）。
【００５５】
図１に戻り、ステージモジュール３０の一部を構成するステージベース７１の＋Ｚ側の面（上面）は、その平坦度が非常に高くなるように加工されており、ウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴのガイド面とされている。
【００５６】
ウエハステージＷＳＴは、図１に示されるように、ウエハステージ本体９１、及びウエハテーブルＷＴＢを含む。ウエハステージ本体９１は、平面視矩形の箱形（直方体状）の部材から成る。なお、図１では不図示であるが、ウエハステージ本体９１は、その下面に気体静圧軸受（例えば、エアベアリング）を複数ヶ所に有しており、その気体静圧軸受からステージベース７１の上面に対して噴出する加圧気体の静圧により、ステージベース７１の上面に対し数μｍ程度の隙間（クリアランス／ギャップ）を介して浮上支持されている。
【００５７】
ウエハステージ本体９１には、Ｘ軸方向に貫通した開口部（図示省略）が形成されており、その開口部内には、Ｘ軸方向に延びる固定子８０が挿入されている。固定子８０は、Ｘ軸方向、及びＺ軸方向に所定間隔で配列された複数のコイルを含むコイルユニット（図示省略）を有している。これに対し、ウエハステージ本体９１は、Ｘ軸方向、及びＺ軸方向に所定間隔で配列された複数の永久磁石を含むＸ軸可動子、及びＺ軸可動子（図示省略）を有している。ウエハステージ本体９１は、固定子８０とＸ軸可動子とから成る電磁力（ローレンツ力）駆動動方式のムービングマグネット型のＸ軸リニアモータにより、固定子８０に沿ってＸ軸方向に所定のストロークで駆動される。
【００５８】
Ｘ軸可動子は、Ｙ軸方向に離間して複数設けられ、その複数のＸ軸可動子と固定子８０とにより複数のＸ軸リニアモータが構成されている。ウエハステージ本体９１は、複数のＸ軸リニアモータにより、適宜θｚ方向に微少駆動される。また、Ｚ軸可動子は、複数（少なくとも３つ）設けられ、その複数のＺ軸可動子と固定子８０とにより複数の電磁力（ローレンツ力）駆動方式のムービングマグネット型のＺ軸リニアモータが構成されている。ウエハステージ本体９１は、複数のＺ軸リニアモータにより、適宜θｘ方向、及び／又はθｙ方向（並びにＺ軸方向）に微少駆動される。
【００５９】
固定子８０は、図１に示されるように、長手方向の一端及び他端それぞれの近傍の下面に気体静圧軸受８８（例えば、エアベアリング）を有している。固定子８０は、気体静圧軸受８８からステージベース７１の上面に対して噴出される加圧気体の静圧により、ステージベース７１の上面に対し数μｍ程度の隙間（クリアランス／ギャップ）を介して浮上支持されている。
【００６０】
固定子８０の長手方向の一端及び他端には、図２に示されるように、一対のＹ軸可動子８２、８３がそれぞれ固定されている。一対のＹ軸可動子８２、８３は、ステージモジュール３０の＋Ｘ側に設けられたカウンタマスモジュール３２Ａの一部を構成するＹ軸固定子８６、及びステージモジュール３０の−Ｘ側に設けられたカウンタマスモジュール３２Ｂの一部を構成するＹ軸固定子８７に対して、それぞれ係合した状態となっている。Ｙ軸固定子８６、８７はその内部に複数のコイルを有し、Ｙ軸可動子８２、８３のそれぞれは、複数の永久磁石を有する。すなわち、Ｙ軸固定子８６とＹ軸可動子８２とにより、Ｙ軸可動子８２をＹ軸方向に駆動するムービングマグネット型のＹ軸リニアモータが構成され、Ｙ軸固定子８７とＹ軸可動子８３により、Ｙ軸可動子８３をＹ軸方向に駆動するムービングマグネット型のＹ軸リニアモータが構成されている。以下においては、上記２つのＹ軸リニアモータのそれぞれを、それぞれの可動子（Ｙ軸可動子８２、８３）と同一の符号を用いて、適宜、Ｙ軸リニアモータ８２、Ｙ軸リニアモータ８３と呼ぶものとする。
【００６１】
２つのＹ軸リニアモータ８２、８３が上記のように構成されていることから、これらＹ軸リニアモータ８２、８３によって、固定子８０と一体的にウエハステージＷＳＴがＹ軸方向に駆動される。従って、本実施形態では、ウエハステージＷＳＴは、Ｙ軸リニアモータ８２、８３によって、Ｙ軸方向に駆動されるとともに、Ｙ軸リニアモータ８２、８３が互いに異なる駆動力を発生することによりθｚ方向に駆動される。
【００６２】
ウエハテーブルＷＴＢは、図２に示されるように、平面視略正方形の板状部材から成り、ウエハステージ本体９１上に搭載されている。ウエハテーブルＷＴＢの−Ｘ側及び−Ｙ側の端面には鏡面加工が施され、反射面１７ｂ及び１７ａがそれぞれ形成されている。ウエハステージＷＳＴのＺ軸を除く５自由度方向の位置は、反射面１７ｂ、１７ａに計測ビームをそれぞれ照射するＸ干渉計及びＹ干渉計を含むウエハ干渉計システムによって、例えば０．２５ｎｍ程度の分解能で常時検出されている。反射面１７ｂ及び１７ａはＸ干渉計及びＹ干渉計のそれぞれから計測ビームが照射される移動鏡の役目を果たすので、以下では適宜、Ｘ移動鏡１７ｂ、Ｙ移動鏡１７ａと呼ぶ。なお、干渉計システムに代えて、又は加えてエンコーダシステムによりウエハテーブルＷＴＢの位置を計測しても良い。
【００６３】
ウエハテーブルＷＴＢの上面には、図１に示されるように、ウエハＷを真空吸着（あるいは静電吸着）によって保持するウエハホルダＷＨが取り付けられている。
【００６４】
計測ステージＭＳＴは、図２に示されるように、ウエハステージＷＳＴの＋Ｙ側に配置されており、計測ステージ本体９２、及び計測テーブルＭＴＢを有している。計測ステージ本体９２は、平面視矩形の箱形（直方体状）の部材から成る。なお、図１では不図示であるが、計測ステージ本体９２は、その底部に気体静圧軸受（例えば、エアベアリング）を有している。計測ステージＭＳＴは、気体静圧軸受からステージベース７１の上面に対して噴出される加圧気体の静圧により、ステージベース７１上に数μｍ程度の隙間（クリアランス／ギャップ）を介して浮上支持されている。
【００６５】
計測ステージ本体９２には、Ｘ軸方向に貫通した開口部（図示省略）が形成されており、その開口部内には、例えばコイルユニットを含むＸ軸方向に延びる固定子８１が挿入されている。これに対し、計測ステージ本体９２は、Ｘ軸方向に所定間隔で配列された複数の永久磁石を含む磁石ユニット（図示省略）から成るＸ軸可動子を有している。計測ステージ本体９２は、固定子８１とＸ軸可動子とから成る電磁力（ローレンツ力）駆動方式のムービングマグネット型のＸ軸リニアモータにより、固定子８１に沿ってＸ軸方向に所定のストロークで駆動される。以下では、適宜、このＸ軸リニアモータを、固定子８１と同一の符号を用いて、Ｘ軸リニアモータ８１と呼ぶ。
【００６６】
固定子８１の長手方向の一端及び他端には、図２に示されるように、一対のＹ軸可動子８４、８５がそれぞれ固定されている。一対のＹ軸可動子８４、８５は、Ｙ軸固定子８６、及びＹ軸固定子８７に対して、それぞれ係合した状態となっている。Ｙ軸可動子８４、８５のそれぞれは、複数の永久磁石を有する。すなわち、Ｙ軸固定子８６とＹ軸可動子８４により、Ｙ軸可動子８４をＹ軸方向に駆動するムービングマグネット型のＹ軸リニアモータが構成され、Ｙ軸固定子８７とＹ軸可動子８５により、Ｙ軸可動子８５をＹ軸方向に駆動するムービングマグネット型のＹ軸リニアモータが構成されている。以下においては、上記２つのＹ軸リニアモータのそれぞれを、それぞれのＹ軸可動子８４、８５と同一の符号を用いて、適宜、Ｙ軸リニアモータ８４、Ｙ軸リニアモータ８５と呼ぶものとする。なお、これまでに説明した各リニアモータとして、ムービングマグネット型に代えて、ムービングコイル型のリニアモータを用いても良い。
【００６７】
２つのＹ軸リニアモータ８４、８５が上記のように構成されていることから、これらＹ軸リニアモータ８４、８５によって、Ｘ軸固定子８１と一体的に計測ステージＭＳＴがＹ軸方向に駆動される。従って、本実施形態では、計測ステージＭＳＴは、Ｙ軸リニアモータ８４、８５及びＸ軸リニアモータ８１によって、Ｘ軸及びＹ軸方向に駆動されるとともに、Ｙ軸リニアモータ８４、８５が互いに異なる駆動力を発生することによりθｚ方向に駆動される。
【００６８】
さらに、図１では気体静圧軸受８８に対して紙面奥側に隠れているため不図示であるが、固定子８１の長手方向の一端及び他端の近傍の下面には、固定子８１をステージベース７１上で浮上させるための気体静圧軸受がそれぞれ取り付けられている。
【００６９】
計測テーブルＭＴＢは、図２に示されるように、平面視矩形の板状部材から成り、計測ステージ本体９２上に搭載されている。計測テーブルＭＴＢの−Ｘ側及び＋Ｙ側の端面には鏡面加工が施され、反射面１９ｂ及び１９ａがそれぞれ形成されている。
【００７０】
計測ステージＭＳＴ（計測テーブルＭＴＢ）の少なくともＸＹ平面内の位置（Ｘ軸、Ｙ軸、及びθｚ方向の位置）は、反射面１９ｂ、１９ａに計測ビームをそれぞれ照射するＸ干渉計及びＹ干渉計を含む干渉計システムによって、例えば０．２５ｎｍ程度の分解能で常時検出される。反射面１９ｂ及び１９ａはＸ干渉計及びＹ干渉計のそれぞれから計測ビームが照射される移動鏡の役目を果たすので、以下では適宜、Ｘ移動鏡１９ｂ、Ｙ移動鏡１９ａと呼ぶ。
【００７１】
計測テーブルＭＴＢには、各種計測用部材が設けられている。この計測用部材としては、例えば、米国特許第５，２４３，１９５号明細書などに開示される複数の基準マークが形成された基準マーク領域、及び投影光学系ＰＬを介して照明光ＩＬを受光するセンサ（照度モニタ、照度むらセンサ、空間像計測器等）などが含まれている。
【００７２】
図１に戻り、一方のカウンタマスモジュール３２Ａは、前述したＹ軸固定子８６と、Ｙ軸固定子８６の底面に固定されたカウンタマス７５と、カウンタマス７５をＹ軸方向にスライド自在に支持するベース７３と、ベース７３を床面Ｆ上で支持する浮上・昇降装置５８とを備えている。また、他方のカウンタマスモジュール３２Ｂは、前述したＹ軸固定子８７と、Ｙ軸固定子８７の底面に固定されたカウンタマス７６と、このカウンタマス７６を浮上支持するベース７４と、ベース７４を床面Ｆ上で支持する浮上・昇降装置５８とを備えている。
【００７３】
カウンタマス７５、７６は、略直方体状の重量物であり、その下面には、ＸＺ断面Ｖ字状で、Ｙ軸方向に延びる凸部が形成されている。この凸部の一対の傾斜面のそれぞれには、不図示の気体静圧軸受（例えば、エアベアリング）が設けられている。
【００７４】
ベース７３、７４は、例えば略直方体状の形状を有し、その上面には、ＸＺ断面Ｖ字状でＹ軸方向に延びるＶ溝が形成されている。このＶ溝の一対の傾斜面間には、カウンタマス７５、７６それぞれの凸部が挿入されている。カウンタマス７５、７６は、気体静圧軸受から噴出される気体の静圧により、所定の隙間（クリアランス／ギャップ）を介してベース７３、７４上にて非接触支持されている。従って、ウエハステージＷＳＴ又は計測ステージＭＳＴのＹ軸方向への移動により生じる反力がＹ軸固定子８６、８７に作用した場合には、Ｙ軸固定子８６とカウンタマス７５、Ｙ軸固定子８７とカウンタマス７６が、それぞれ一体となってＹ軸方向に沿って移動する。この場合、Ｙ軸固定子８６とカウンタマス７５、Ｙ軸固定子８７とカウンタマス７６は、運動量保存則（作用反作用の法則）に従って移動するので、それらの移動により、上記反力がキャンセルされる。
【００７５】
浮上・昇降装置５８は、大きさが異なる点を除き、ステージモジュール３０が有する前述した浮上・昇降装置１８と同様の構成、及び機能を有する。浮上・昇降装置５８は、ベース７３の下面に、Ｙ軸方向に所定間隔で２つ取り付けられている（図１では、一方の浮上・昇降装置５８は、他方の紙面奥側に隠れている）。従って、カウンタマスモジュール３２Ａは、浮上・昇降装置５８が有する不図示のエアマウントを用いてＹ軸固定子８６のＺ位置を調整すること、及び不図示のエアホバーを用いて床面上に浮上することができる。カウンタマスモジュール３２Ｂは、図１に示されるように、露光装置１００を−Ｙ側から見て左右対称である点を除きカウンタマスモジュール３２Ａと同様に構成されているため、説明を省略する。
【００７６】
ここで、ステージモジュール３０に対して、カウンタマスモジュール３２Ａ、３２Ｂは、それぞれ機械的に接続されていないことから、ステージモジュール３０から分離することができる。従って、カウンタマスモジュール３２Ａ、３２Ｂそれぞれを露光装置１００から取り外してメンテナンスを行うことができる。そして、特に不図示のエアホバーを用いて床面上に浮上した状態では、容易にステージモジュール３０から分離することができるので、カウンタマスモジュール３２Ａ、３２Ｂのメンテナンス作業を容易に行うことができる。
【００７７】
以上のように構成される露光装置１００は、露光装置１００のユーザの半導体工場内（通常はクリーンルーム内）で組み立てられている。また、それに先だって本実施形態の露光装置１００は、露光装置メーカの工場内で製造（組み立てを含む）されている。
【００７８】
次に、露光装置１００の製造方法を図６（Ａ）及び図６（Ｂ）を参照して説明する。露光装置１００は、照明モジュール、レチクルステージモジュール１２、投影レンズモジュール、ステージモジュール３０、カウンタマスモジュール３２Ａ、３２Ｂ、ボディＢＤそれぞれが、露光装置１００の製造工場において個別に組立・調整された後、所定の出荷先（半導体の製造工場など）にモジュールごとに出荷され、その複数のモジュール同士が出荷先でドッキングされることによって製造される。ここで、照明モジュールとは、光源及び照明光学系などを含む図１の照明系１０のモジュールであり、投影レンズモジュールとは、鏡筒４０及び投影光学系ＰＬを含む図１の投影ユニットＰＵのモジュールである。なお、照明モジュールは光源を含まず、照明光学系のみ、あるいは照明光学系と他のユニット（例えばビームマッチングユニットなど）を含むものとしても良い。
【００７９】
ステージモジュール３０の組み立てにおいては、図６（Ａ）に示されるように、まずステップ２０２でステージモジュール３０の組み立て、すなわち図１及び図２に示されるステージモジュール３０を構成する各パーツ同士の組み付けが行われる。具体的には、露光装置メーカの露光装置１００の製造工場内部（のクリーンルーム）の床面Ｆ上に４つの浮上・昇降装置１８が設置され、該４つの浮上・昇降装置１８上に平板ＭＰが搭載され、さらに平板ＭＰ上にステージベース７１が載置される。また、ステージベース７１上には、ウエハステージＷＳＴ及び計測ステージＭＳＴが載置され、ウエハステージＷＳＴ、計測ステージＭＳＴに固定子８０、８１がそれぞれ挿入され、固定子８０、８１のそれぞれに、可動子８２、８３及び可動子８４、８５が接続される。
【００８０】
次に、ステップ２０４で、ステージモジュール３０は、例えば、製造工場に設置された不図示のボディ工具と称される装置に対してドッキングされる。ボディ工具とは図１に示されるボディＢＤと実質的に同じものである。従って、ボディ工具は、図１に示されるメトロロジーフレームＭＦと実質的に同じ部材であるメトロロジーフレーム工具（図示省略）を有している。そして、干渉計、アライメント系その他の計測系など、メトロロジーフレームＭＦに取り付けられる部材に関して、メトロロジーフレーム工具と実機、すなわち露光装置メーカから出荷され、露光装置のユーザのデバイス製造工場に納入される装置のメトロロジーフレームＭＦとは、互いに状態（計測系の取付位置、干渉計の光軸の位置など）が同じとなるように精度良く調整されている（実際には、後述するように、実機のボディＢＤが、その状態がボディ工具と同じ状態に調整されて出荷される）。ここで、干渉計本体の外部に参照鏡（固定鏡）を配置するタイプの干渉計を用いる場合には、参照鏡をメトロロジーフレーム工具（及びメトロロジーフレームＭＦ）に対して所定の位置関係で取り付けても良い。ただし、ボディ工具を用いてウエハＷに露光処理を行うことがないことから、ボディ工具には、例えばアライメント系その他の計測系などの代わりに同じ重量を有するダミー工具が取り付けられていても良い。また、ステージモジュールの調整用工具などをボディ工具に設けても良い。
【００８１】
ステップ２０４におけるボディ工具とステージモジュール３０とのドッキングは、一例として図７のステップ４０２〜ステップ４２０のような手順で、作業者によって行われる。ステップ４０２の開始前に、既に上記のボディ工具が有するメトロロジーフレーム工具に取り付けられたＸ干渉計、Ｙ干渉計それぞれの取り付け、及びその位置調整が後述するようにして行われている。このため、Ｘ干渉計、Ｙ干渉計それぞれの位置調整のために用いられる基準反射面を有する工具（以下、基準ミラー工具と呼ぶ）が、反射面の直交度、鉛直度などが精度良く調整された状態でメトロロジーフレーム工具に取り付けられている。そして、基準ミラー工具の基準反射面は、メトロロジーフレーム工具に設けられた絶対基準面（例えば＋Ｘ側端面及び−Ｘ側の端面）と正確に平行かつ鉛直軸に対して平行になっている。
【００８２】
まず、図７のステップ４０２において、作業者は、浮上・昇降装置１８のエアホバー２９に空気を供給して、エアホバー２９によりステージモジュール３０を床面Ｆ上に浮上させた状態でボディ工具が備えるメトロロジーフレーム工具の下方空間に搬入する。
【００８３】
次に、ステップ４０４において、作業者は、基準ミラー工具と同様の基準反射面を有する専用工具を、ステージベース７１上に設置する。このとき、専用工具は、その基準反射面がステージベース７１が有するステージ位置基準面（例えば＋Ｘ側端面及び−Ｘ側の端面）に正確に平行になる状態で設置される。
【００８４】
次に、ステップ４０６において、作業者は、ステージベース７１上に、その上面の鉛直軸に対する直交度、すなわち水平面に対する傾斜を計測するためのレベリングセンサ、例えば気泡式のセンサを固定する。
【００８５】
次に、ステップ４０８において、作業者は、浮上・昇降装置１８のエアマウント２６に空気を供給してステージモジュール３０を上昇させる。このとき、作業者は、レベリングセンサの計測値に基づいて、ステージベース７１が、ほぼ水平状態を保ったまま上昇するように、４つの浮上・昇降装置１８のエアマウント２６に対する空気の供給を調整する。
【００８６】
そして、ステージモジュール３０が、所定の高さまで上昇すると、ステップ４１０において、作業者は、浮上・昇降装置１８のエアマウント２６に対する空気の供給を停止する。このとき、位置決め装置１６Ａ〜１６Ｃのそれぞれの第１部材４３Ａ、１４３Ａ、２４３ＡのＶ溝４５、１４５、２４５と、第２部材４３Ｂ、１４３Ｂ、２４３Ｂそれぞれの凸部４４とが、ほぼ嵌合した状態でステージモジュール３０は停止する。このとき、第２部材４３Ｂ、１４３Ｂ、２４３Ｂは、平板ＭＰ上の図２に示される位置に、図２に示される状態で固定されているが、第１部材４３Ａ、１４３Ａ、２４３Ａは、いずれも６自由度方向の位置が微調整可能な状態となっている。
【００８７】
次に、ステップ４１２において、作業者は、基準ミラー工具の基準反射面に対する専用工具の基準反射面の傾き（θｘ、θｙ方向の回転ずれ）を計測し、その計測結果に基づいて、ステージモジュール３０の傾き（θｘ、θｙ方向の回転）を調整するとともに、第１部材４３Ａ、１４３Ａ、２４３Ａの壁部材３９Ａ、３９Ｂに対する取り付け姿勢を調整する。作業者は、例えば複数のオートコリメータ又は多軸計測が可能なオートコリメータを用いて、基準ミラー工具の基準反射面と専用工具の基準反射面との平行度を計測し、浮上・昇降装置１８のエアマウント２６を介してステージモジュール３０の傾きを調整し、例えばシムの調整を行うことで第１部材４３Ａ、１４３Ａ、２４３Ａの壁部材３９Ａ、３９Ｂに対する取り付け姿勢（θｘ、θｙ方向の回転）を調整する。
【００８８】
次に、ステップ４１４において、作業者は、基準ミラー工具の基準反射面に対する専用工具の基準反射面のＸＹ平面内のθｚ方向の回転ずれを計測するとともに、その計測結果に基づいてステージモジュール３０のθｚ方向の回転を調整し、第１部材４３Ａ、１４３Ａ、２４３Ａの壁部材３９Ａ、３９Ｂに対するθｚ方向の回転を調整する。このステップ４１４では、オートコリメータを用いて、計測が行われ、その計測結果に基づいて、ステージモジュール３０のθｚ方向の回転が調整され、例えばシムの調整を行うことで第１部材４３Ａ、１４３Ａ、２４３Ａの壁部材３９Ａ、３９Ｂに対するθｚ方向の取り付け姿勢が調整される。
【００８９】
次に、ステップ４１６において、作業者は、基準ミラー工具の基準反射面に対する専用工具の基準反射面のＸＹ直交二軸方向に関する位置ずれを計測し、その計測結果に基づいてステージモジュール３０のＸ、Ｙ位置を調整すると同時に、第１部材４３Ａ、１４３Ａ、２４３Ａの壁部材３９Ａ、３９Ｂに対するＸ、Ｙ位置を調整する。例えば、干渉計を用いて、基準ミラー工具の基準反射面に対する専用工具の基準反射面のＸＹ直交二軸方向に関する位置ずれを計測することができる。あるいは、一方の基準反射面を適宜な治具を用いて、他方と同一面上に写し、デジタルマイクロメータなどで、基準ミラー工具の基準反射面に対する専用工具の基準反射面のＸＹ直交二軸方向に関する位置ずれを計測することとしても良い。
【００９０】
次に、ステップ４１８において、作業者は、ステージモジュール３０を微少量上昇させて、第１部材４３Ａ、１４３Ａ、２４３ＡのＶ溝４５、１４５、２４５と、第２部材４３Ｂ、１４３Ｂ、２４３Ｂそれぞれの凸部４４とを、確実に嵌合させる。そして、基準ミラー工具の基準反射面と専用工具の基準反射面とが平行であることを確認後、第１部材４３Ａ、１４３Ａ、２４３Ａを壁部材３９Ａ、３９Ｂに対して固定する。
【００９１】
最後に、ステップ４２０において、メトロロジーフレーム工具とステージベース７１とのＺ軸方向の距離を、３カ所又は４カ所で、計測した後、専用工具をステージベース７１から取り外す。これにより、ボディ工具とステージモジュール３０とのドッキングが終了する。
【００９２】
ボディ工具に対するドッキングが終了した後、ステップ２０６で、ウエハ干渉計システムの各移動鏡の調整が行われる。具体的には、浮上・昇降装置１８により、ステージモジュール３０が＋Ｚ側に持ち上げられ、Ｙ移動鏡１７ａ、及びＸ移動鏡１７ｂにそれぞれＹ干渉計、Ｘ干渉計から照射される測長ビームが当たる位置まで、ウエハステージ本体９１の下面に設けられた気体静圧軸受によりウエハステージＷＳＴが＋Ｚ側に持ち上げられる。この後、ウエハステージ本体９１を適宜Ｘ軸、及びＹ軸方向に移動させつつ、各干渉計から照射される測長ビームが対応する移動鏡に垂直に入射するように各移動鏡の位置（θｘ、θｙ及びθｚ方向）、すなわちウエハステージＷＳＴの回転（θｚ方向の位置）及び傾斜（θｘ及びθｙ方向の位置）が調整される。
【００９３】
ウエハステージＷＳＴは、ステップ２０６での移動鏡の位置調整作業の終了後、ステップ２０８で、ウエハステージ本体９１が有する気体静圧軸受に対する加圧気体の供給が停止される。これにより、ウエハステージＷＳＴが下降してステージベース７１上面に接触する。ウエハステージＷＳＴは、ステージベース７１上面に接触した状態でステージベース７１（あるいは平板ＭＰ）に不図示の工具を用いて固定される。また、計測ステージＭＳＴも同様に、ステップ２０６で、Ｙ移動鏡１９ａ、Ｘ移動鏡１９ｂの干渉計の測長軸に対する位置調整が行われた後、ステージベース７１上面に接触した状態で不図示の工具により固定される。
【００９４】
次いで、ステップ２１０でウエハステージＷＳＴ、及び計測ステージＭＳＴが固定されたステージモジュール３０は、製造工場から出荷先に出荷される。
【００９５】
出荷先では、ステージモジュール３０と、その出荷先で既に組み上げられたボディＢＤとがドッキングされる。このとき、ボディＢＤが有する第１部材４３Ａ、１４３Ａ、２４３Ａの壁部材３９Ａ、３９Ｂに対する６自由度方向の位置・姿勢の調整が、予め出荷前に前述と同様の手順で行われているので、前述したステップ４０２、（４０６）、４０８、４１０、４１８と同様の手順で、第１部材４３Ａ、１４３Ａ、２４３ＡのＶ溝４５、１４５、２４５と、第２部材４３Ｂ、１４３Ｂ、２４３Ｂそれぞれの凸部４４とを、確実に嵌合させるだけで、ボディＢＤが有するメトロロジーフレームＭＦの絶対基準面と、ステージモジュール３０のステージベース７１が有するステージ位置基準面とが、製造工場における調整時（ステップ２０４参照）と同じ位置関係となる。すなわち、ステージモジュール３０と、その出荷先で既に組み上げられたボディＢＤとのドッキングに際しては、両者の位置調整のための計測及びこれに付属する処理（ステップ４０４、４１２、４１４、４１６等）が不要となる。従って、出荷先での露光装置の組み立て（立ち上げ）が簡単になり、短時間で行うことができる。先にステップ４２０で計測したＺ距離と同じＺ距離になっていることを確認する。
【００９６】
また、ボディＢＤには、照明モジュール、レチクルステージモジュール１２、投影レンズモジュールなどがドッキングされる。また、ステージモジュール３０には、カウンタマスモジュール３２Ａ、３２Ｂがドッキングされる。
【００９７】
ここで、ボディＢＤの全ての部品は、メトロロジーフレームＭＦの絶対基準面を基準として調整することができ、また、ステージモジュール３０の全ての部品は、ステージ位置基準面を基準として調整することができる。従って、ドッキング後にボディＢＤの全ての部品、及びステージモジュールの全ての部品を調整しても良いが、本実施形態では、上述したように、ボディ工具が有するメトロロジーフレーム工具と、出荷先に設置されたボディＢＤが有するメトロロジーフレームＭＦとは、互いのＸ干渉計、Ｙ干渉計それぞれの状態（取付位置、光軸など）が同じとなるよう精度良く調整されている。従って、メトロロジーフレーム工具を用いてウエハ干渉計システムの各移動鏡の位置調整が行われたステージモジュール３０をボディＢＤにドッキングさせると、自動的にメトロロジーフレームＭＦに固定されたＸ干渉計、Ｙ干渉計それぞれから照射される測長ビームが、Ｘ移動鏡１７ｂ、１９ｂ、Ｙ移動鏡１７ａ、１９ａに垂直に入射するようになる。これにより、ステージモジュール３０をボディＢＤにドッキングさせた後のウエハ干渉計システムの各干渉計及び各干渉計に対する移動鏡の位置調整作業を省略することができ、出荷先における露光装置１００の組み立て作業時間を短縮することができる。また、例えばステージモジュール３０を交換する場合、位置決め装置の第１部材が所定の位置に位置決めされたボディ工具を用いて、新たなステージモジュール３０の組み立て及び移動鏡の位置調整（上記ステップ２０２〜２０８の処理）を、製造工場で行うことにより、出荷先でのボディＢＤに対する新たなステージモジュール３０のドッキングを容易に行うことができるとともに、ドッキング後の移動鏡の位置調整作業を省略できる。
【００９８】
本実施形態では、製造工場において、ボディ工具（すなわち基準となるボディ）に対し、ドッキング時の位置決め装置の調整、及びメトロロジーフレーム工具に対するウエハ干渉計システムの各移動鏡の位置調整が行われたステージモジュール３０が出荷される。また、ステージモジュール３０は、製造工場において、単体精度（振動、位置決め、周波数応答特性、空圧など）が一定の規格内となるように調整されている。
【００９９】
なお、製造工場における作業では、ボディ工具の代わりに、実際に出荷先で用いられる予定のボディＢＤ（メトロロジーフレームＭＦ）を用いてステージモジュール３０の組み立て及び移動鏡の位置調整（上記ステップ２０２〜２０８の処理）を行っても良い。
【０１００】
次に、出荷先においてステージモジュール３０のドッキングが行われるボディＢＤのメトロロジーフレームＭＦが有するＸ干渉計、Ｙ干渉計などの露光装置の製造工場における取付・調整手順について説明する。
【０１０１】
メトロロジーフレームＭＦに対するＸ干渉計、Ｙ干渉計などの取り付け位置の調整は、露光装置の製造工場において、ステージモジュール工具と称される部材を用いて行われる。ステージモジュール工具は、図１に示されるステージモジュール３０と実質的に同じものであり、移動鏡の位置がステップ２０２〜２０６（図６（Ａ）参照）と同様の手順で精度良く調整されている。
【０１０２】
ボディＢＤの製造では、図６（Ｂ）に示されるように、まずステップ３０２でボディＢＤの組み立て、具体的にはフレームキャスタＦＣ（壁部材３９Ａ、３９Ｂ）、第１フレーム２３２、メトロロジーフレームＭＦなどの組み付けが行われる。この後、ステップ３０４で、そのボディＢＤが有するメトロロジーフレームＭＦにＹ干渉計、Ｘ干渉計、及び計測系などが取り付けられる。次いで、ステップ３０６でボディＢＤにステージモジュール工具がドッキングされる。このドッキングは、基本的には、ステップ２０４と同様にして行われる。従って、このドッキングが終了した時点では、位置決め装置の第１部材は、ステージモジュール工具及び前述のステージモジュール３０（ボディＢＤが出荷先でドッキングされるステージモジュール３０）に対して所望の位置関係に調整されている。
【０１０３】
ステージモジュール工具をボディＢＤにドッキングさせた後、ステップ３０８で、そのステージモジュール工具が有するＸ移動鏡１７ｂ、１９ｂ、Ｙ移動鏡１７ａ、１９ａなどを用いて、メトロロジーフレームＭＦに取り付けられた干渉計の光軸調整などが行われる。具体的には、測長ビームがＸ移動鏡１７ｂ、１９ｂ、Ｙ移動鏡１７ａ、１９ａに垂直に入射するようにＸ干渉計、Ｙ干渉計それぞれの取付位置及び光軸が調整される。
【０１０４】
この後、ステップ３１０で、ボディＢＤからステージモジュール工具が取り外され、ボディＢＤが出荷先に出荷される。出荷先に設置されたボディＢＤには、前述したステップ２０２〜２１０（図６（Ａ）参照）の手順でボディ工具を用いて予め調整されて出荷されたステージモジュール３０がドッキングされる。
【０１０５】
なお、通常は、ボディＢＤが製造工場から出荷された後に、ステージモジュール３０が製造工場から出荷される。従って、ステージモジュール３０をボディＢＤにドッキングさせると、ボディＢＤが有するメトロロジーフレームＭＦの絶対基準面と、ステージモジュール３０のステージベース７１が有するステージ位置基準面とが、製造工場における調整時（ステップ２０４参照）と同じ位置関係となる。さらに、自動的にメトロロジーフレームＭＦに固定されたＸ干渉計、Ｙ干渉計それぞれから照射される計測ビームが、Ｘ移動鏡１７ｂ、１９ｂ、Ｙ移動鏡１７ａ、１９ａに垂直に入射するようになるので、ステージモジュール３０をボディＢＤにドッキングさせた後の干渉計の取付位置及び光軸調整作業を省略できる。これにより、出荷先における露光装置１００の組み立て作業時間を短縮することができる。なお、製造工場における作業では、ステージモジュール工具を用いず、実際に出荷先で用いられる予定のステージモジュール３０を用いて干渉計などの調整を行っても良い。
【０１０６】
以上説明したように、本実施形態の露光装置１００の製造方法では、最初にボディ工具が製造され、そのボディ工具を用いてステージモジュール工具が製造される。すなわち、ボディ工具は、ステージモジュール工具とドッキングし、メトロロジーフレーム工具の絶対基準面とステージモジュール工具のステージ位置基準面とが、一定の位置関係となるように、ボディ工具及びステージモジュール工具が備える位置決め装置１６Ａ、１６Ｂ、１６Ｃそれぞれの第１部材４３Ａ、１４３Ａ、２４３Ａの位置調整を上記ステップ２０４と同様に行う。
【０１０７】
そして、その調整後のボディ工具を用いて実機のステージモジュール３０が量産されるとともに、そのステージモジュール工具を用いて実機のボディＢＤが量産される。この場合、ボディ工具は、量産されるステージモジュール３０とドッキングした際に、そのメトロロジーフレーム工具の絶対基準面と、ステージモジュール３０のステージベース７１が有するステージ位置基準面との位置関係が常に一定になるように、位置決め装置１６Ａ、１６Ｂ、１６Ｃそれぞれの第１部材４３Ａ、１４３Ａ、２４３Ａの位置調整が予め行われている。また、ステージモジュール３０は、そのボディ工具を用いて移動鏡の調整、及び単体精度（振動、位置決め、周波数応答特性、空圧など）が一定の規格内となる調整が、出荷前に行われている。従って、本実施形態によると、単体精度が一定の規格内となるように調整されたウエハステージモジュール３０を出荷すること（供給すること）が可能となる。この意味で、ボディ工具（すなわち基準となるボディ）を、基準／調整工具、基準／調整フレーム、あるいはフレーム工具などと言い換えても良い。
【０１０８】
また、位置決め装置１６Ａ、１６Ｂ、１６Ｃそれぞれの第１部材４３Ａ、１４３Ａ、２４３Ａの位置調整が行われているボディ工具は、ステージモジュール工具とドッキングした際に、メトロロジーフレーム工具の絶対基準面とステージモジュール工具のステージ位置基準面とが、上記と同じ関係になる。そして、量産される複数のボディＢＤは、全てステージモジュール工具を用いて干渉計などの調整が行われる。
【０１０９】
従って、量産される複数のステージモジュール３０のうちのひとつと、量産される複数のボディＢＤのうちのひとつをドッキングさせる場合、どのような組み合わせであっても、位置決め装置１６Ａ〜１６Ｃの第１部材と第２部材とを嵌合させるだけで、メトロロジーフレームＭＦの絶対基準面と、ステージモジュール３０のステージベース７１が有するステージ位置基準面との位置関係が理想的な状態となる。従って、ステージモジュール３０とボディＢＤとの位置関係の調整が不要となる。また、干渉計システム（干渉計、移動鏡）に関しても調整が不要となる。
【０１１０】
従って、本実施形態によると、露光装置１００の組み立て作業時間を短縮することができる。また、出荷先におけるボディＢＤの設置と、製造工場におけるステージモジュール３０の調整を並行して行うこともできるので、この点においても露光装置１００の組み立て作業時間を短縮することができる。
【０１１１】
なお、上記実施形態では、ステージモジュール３０、ボディＢＤの出荷前に、位置決め装置１６Ａ〜１６Ｃの第１部材の位置調整のみでなく、干渉計システム（干渉計、移動鏡）に関する調整も行われる場合について説明したが、必ずしも干渉計システム（干渉計、移動鏡）に関する調整は、ステージモジュール３０又はボディＢＤの出荷前に行わなくても良い。この場合であっても、ボディＢＤの位置基準とステージモジュール３０の位置基準との位置関係が所望の関係に調整されていれば、それらの位置基準を基準として出荷先でボディＢＤの部品、ステージモジュール３０の部品の位置を調整することは比較的に短時間に行うことができる。
【０１１２】
なお、上記実施形態では、位置決め装置１６Ａ〜１６Ｃとして、凸部とＶ溝との組み合わせの位置決め装置を３つ用いたが、これに限らず、通常のキネマティック構造（点と、Ｖ溝と、面とで接触する構造）を採用することとしても良い。
【０１１３】
なお、上記実施形態では、位置決め装置１６Ａ〜１６Ｃを構成する第１部材４３Ａ、１４３Ａ、２４３Ｂが壁部材３９Ａ、３９Ｂに設けられ、第２部材４３Ｂ、１４３Ｂ、２４３Ｂが平板ＭＰに設けられる場合について説明したが、これに限らず、第１部材が平板ＭＰに設けられ、第２部材が壁部材３９Ａ、３９Ｂに設けられることとしても良い。すなわち、第２部材が壁部材３９Ａ、３９Ｂに対する位置関係が固定で、平板ＭＰに対する第１部材の６自由度方向の位置が調整可能であっても良い。また、平板ＭＰに代えて、ステージベース７１に第１部材又は第２部材を設けることとしても良いし、壁部材３９Ａ、３９Ｂに代えて、メトロロジーフレームＭＦに第２部材又は第１部材を設けることとしても良い。
【０１１４】
いずれにしても、ステージモジュール３０の量産、出荷を目的とする場合には、ボディＢＤ側（壁部材３９Ａ、３９Ｂ、メトロロジーフレームＭＦ）に設けられる位置決め装置の部材が、ボディＢＤに対する位置調整が可能となっていることが望ましく、同様にボディＢＤの量産、出荷を目的とする場合には、ステージモジュール３０側（平板ＭＰ、ステージベース７１）に設けられる位置決め装置の部材が、ステージモジュール３０に対する位置調整が可能となっていることが望ましい。このような場合には、製造工場では工具側の位置決め装置の部材の位置調整が可能となっている。従って、製造工場で前述と同様の手順で位置決め装置の調整を行うことにより、出荷先では、ボディＢＤ又はステージモジュール３０に対して、出荷されたステージモジュール３０又はボディＢＤを調整済みの位置決め装置を介してドッキングすることができる。
【０１１５】
また、工具側の位置決め装置の部材が適切に調整されていることを前提とすれば、調整済みのボディ工具を使って、ステージモジュール３０側の部材を調整すれば、出荷後に、ボディ工具と同様の状態にあるボディとステージモジュール３０とを正しくドッキングできる。同様に、ボディＢＤの量産、出荷を目的とする場合もステージモジュール工具で位置調整を実施してボディをいつも同じ状態にすることが望ましい。すなわち、ボディ工具とステージモジュール工具との両方か露光装置の製造工場に用意され、ボディとステージモジュールはそれぞれステージモジュール工具とボディ工具とを用いてモジュール単位で調整、出荷され、現地（ユーザのデバイス製造工場）でドッキングされることが望ましい。また、ボディ工具とステージモジュール工具の少なくとも一方は、ユーザの工場に出荷するボディ又はステージモジュールでも良い。さらに、出荷時は、前述のように調整されたモジュール単位で（バラすことなく）出荷されるが、例えば精度への影響が無視できる、あるいは現地での調整が実質的に不要な部材についてはモジュールから切り離して輸送しても良い。また、上記実施形態における互いにドッキングできる複数のモジュールを１つのモジュールとして取り扱うこともできる。例えば、ステージモジュール３０とカウンタマスモジュール３２Ａ、３２Ｂとを、１つのウエハステージモジュールとして取り合うこともできる。この場合、このウエハステージモジュールでは、精度への影響が無視できる、あるいは現地での調整が実質的に不要なカウンタマスが切り離されて輸送される。
【０１１６】
また、上記実施形態では、浮上・昇降装置１８が、エアスプリング装置とホバー装置とが一体化されている構成である場合について説明したが、これに限らず、エアスプリング装置とホバー装置とを別体で構成し、それぞれを平板ＭＰの下面に設けることとしても良い。
【０１１７】
また、上記実施形態では、エアスプリング装置及びホバー装置を採用したが、これに限らず、ステージモジュール３０の高さ方向の位置を調整することができる装置であれば、エアスプリング装置以外の装置を採用することとしても良いし、ステージモジュール３０を床面Ｆ（又はベースプレート）上で浮上させることができる装置であれば、エアホバー以外の装置（例えば、気体静圧軸受など）を採用することとしても良い。
【０１１８】
なお、上記実施形態では、位置決め装置１６Ａ〜１６Ｃを、ステージモジュール３０をフレームキャスタＦＣ（壁部材３９Ａ、３９Ｂ）に対して位置決めするために用いることとしたが、これとともに又はこれに代えて、露光装置を構成する他のモジュールをボディＢＤに位置決めするために、上記実施形態と同様の位置決め装置を用いることが可能である。例えば、レチクルステージモジュール１２をボディＢＤに対して位置決めするために、上記実施形態と同様の位置決め装置を用いることも可能である。この場合、レチクルステージモジュール１２とレチクルベース３６との間に位置決め装置を設けることができ、レチクルステージモジュール１２の自重により、位置決め装置を構成する第１部材と第２部材とを押し付けることで、レチクルステージモジュール１２をボディＢＤに対して位置決めし、両者の位置関係を所望の関係に設定することが可能である。また、この場合、レチクルベース工具を有するボディ工具と、レチクルステージモジュール工具とを用意して、上記実施形態と同様の手順で製造工場内でのボディ及びレチクルステージの製造、並びにモジュールでの出荷を行い、出荷先でボディ及びレチクルステージのドッキングを含む露光装置の組み立てを行っても良い。同様に、カウンタマスモジュール３２Ａ、３２Ｂをボディに対して位置決めするために、上記実施形態と同様の位置決め装置を用いることとしても良い。
【０１１９】
なお、上記実施形態では、ステージモジュール３０とカウンタマスモジュール３２Ａ、３２Ｂとを別体とすることとしたが、これに限らず、ステージモジュールとカウンタマスモジュールを一体的に構成することとしても良い。
【０１２０】
なお、上記実施形態ではステージモジュールが、ウエハステージと計測ステージとを有する露光装置の製造について説明したが、これに限らず、例えば米国特許第６，５９０，６３４号明細書、米国特許第５，９６９，４４１号明細書、米国特許第６，２０８，４０７号明細書などに開示されているように、複数のウエハステージを有する露光装置にも上記実施形態の製造方法を適用することが可能である。また、単一のウエハステージを有するシングルステージタイプの露光装置に上記実施形態を適用することも可能である。
【０１２１】
なお、上記実施形態では、液体（水）を介さずにウエハＷの露光を行うドライタイプの露光装置の製造について説明したが、これに限らず、例えば欧州特許出願公開第１４２０２９８号明細書、国際公開第２００４／０５５８０３号、米国特許第６,９５２,２５３号明細書などに開示されているように、投影光学系とウエハとの間に照明光の光路を含む液浸空間を形成し、投影光学系及び液浸空間の液体を介して照明光でウエハを露光する露光装置の製造にも上記実施形態の製造方法を適用することができる。また、例えば米国特許出願公開第２００８／００８８８４３号明細書に開示される、液浸露光装置の製造などにも、上記実施形態を適用することができる。
【０１２２】
なお、上記実施形態では、ウエハステージＷＳＴ、及び計測ステージＭＳＴがリニアモータにより定盤上で駆動される構成であったが、これに限らず、例えば米国特許第５，１９６，７４５号明細書などに開示される電磁力（ローレンツ力）駆動方式の平面モータにより駆動されても良い。また、上記実施形態では、スキャニング・ステッパの製造について説明したが、これに限らず、ステッパなどの静止型露光装置の製造に上記実施形態を適用しても良い。また、ショット領域とショット領域とを合成するステップ・アンド・スティッチ方式の縮小投影露光装置の製造にも上記実施形態は適用することができる。
【０１２３】
また、上記実施形態の露光装置における投影光学系の倍率は縮小系のみならず等倍及び拡大系のいずれでも良いし、投影光学系は屈折系のみならず、反射系及び反射屈折系のいずれでも良いし、その投影像は倒立像及び正立像のいずれでも良い。
【０１２４】
また、照明光ＩＬは、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）に限らず、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）などの紫外光や、Ｆ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）などの真空紫外光であっても良い。また、例えば米国特許第７,０２３,６１０号明細書に開示されているように、真空紫外光としてＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外域に波長変換した高調波を用いても良い。
【０１２５】
また、上記実施形態では、露光装置の照明光ＩＬとしては波長１００ｎｍ以上の光に限らず、波長１００ｎｍ未満の光を用いても良いことは言うまでもない。例えば、近年、７０ｎｍ以下のパターンを露光するために、ＳＯＲやプラズマレーザを光源として、軟Ｘ線領域（例えば５〜１５ｎｍの波長域）のＥＵＶ（Extreme Ultraviolet）光を発生させるとともに、その露光波長（例えば１３．５ｎｍ）の下で設計されたオール反射縮小光学系、及び反射型マスクを用いたＥＵＶ露光装置の開発が行われている。この装置においては、円弧照明を用いてマスクとウエハを同期走査してスキャン露光する構成が考えられるので、かかる装置の製造にも上記実施形態の製造方法を好適に適用することができる。このほか、電子線又はイオンビームなどの荷電粒子線を用いる露光装置の製造にも、上記実施形態は適用できる。
【０１２６】
また、上記実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスク（レチクル）を用いたが、このレチクルに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（可変成形マスク）を用いても良い。
【０１２７】
また、国際公開２００１／０３５１６８号に開示されているように、干渉縞をウエハ上に形成することによって、ウエハ上にライン・アンド・スペースパターンを形成する露光装置（リソグラフィシステム）の製造にも上記実施形態を適用することができる。
【０１２８】
さらに、例えば米国特許第６，６１１，３１６号明細書に開示されているように、２つのレチクルパターンを投影光学系を介してウエハ上で合成し、１回のスキャン露光によってウエハ上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置の製造にも上記実施形態を適用することができる。
【０１２９】
なお、上記実施形態でパターンを形成すべき物体（エネルギビームが照射される露光対象の物体）はウエハに限られるものではなく、ガラスプレート、セラミック基板、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でも良い。
【０１３０】
露光装置の用途としては半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写形成する液晶用の露光装置、あるいは有機ＥＬ、薄型磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも上記実施形態は広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置の製造にも上記実施形態を適用できる。
【０１３１】
なお、半導体デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、レチクルに形成されたパターンをウエハ等の物体上に転写するリソグラフィステップ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上記実施形態の露光装置が用いられるので、高集積度のデバイスの生産性を向上することが可能である。
【０１３２】
なお、これまでの説明で引用した露光装置などに関する全ての公報、国際公開公報、米国特許出願公開明細書及び米国特許明細書の開示を援用して本明細書の記載の一部とする。
【産業上の利用可能性】
【０１３３】
以上説明したように、本発明に係る露光装置の製造方法は、感応物体を露光する露光装置を製造するのに適している。また、本発明のデバイス製造方法は、半導体素子等のマイクロデバイス（電子デバイス）を製造するのに適している。
【図１】
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【図２】
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【図３（Ａ）】
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【図３（Ｂ）】
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【図４（Ａ）】
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【図４（Ｂ）】
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【図４（Ｃ）】
2013519994.tif 000009
【図５（Ａ）】
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【図５（Ｂ）】
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【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
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