(57)【要約】    本発明は、機械的性質が向上した反射防止被膜用組成物に関することであって、より詳しくは、一般式Ｃ２Ｈ-４Ｓｉ（ＯＲ）３（Ｒは炭素数６以下のアルキル基を示す。）で表されるビニル基置換３官能性シランを構成成分として含む平均分子量５００〜３００，０００のポリマーと、ミセル形成剤と、熱ラジカル開始剤と、溶媒とを含んでなる、機械的性質が向上した反射防止被膜用組成物を提供する。これにより、ミセル形成剤によって具現される被膜の構造が機械的強度の低下をもたらすにも拘らず、前記ポリマーの熱処理によってその構造内にＳｉ（−Ｃ）ｎ−Ｓｉ結合が形成できるようにすることにより、被膜の優れた機械的性質を既存の物質に比べて向上させることができるという効果がある。【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＲ）３（Ｒは炭素数６以下のアルキル基を示す。）で表されるビニル基置換３官能性シランを構成成分として含む平均分子量５００〜３００，０００のポリマーと、ミセル形成剤と、熱ラジカル開始剤と、溶媒とを含んでなる、機械的性質が向上した反射防止被膜用組成物。
【請求項２】
前記ビニル基置換３官能性シランが前記ポリマーの重量に対して少なくとも１０重量部含まれることを特徴とする、請求項１に記載の機械的性質が向上した反射防止被膜用組成物。
【請求項３】
前記熱ラジカル開始剤が前記ポリマーの重量に対して０．００１〜３０重量部含まれることを特徴とする、機械的性質が向上した反射防止被膜用組成物。
【請求項４】
前記ミセル形成剤がポリマーの重量に対して０．０１〜１０００重量部の範囲であることを特徴とする、機械的性質が向上した反射防止被膜用組成物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項の組成物を基板上に塗布することを特徴とする、機械的性質が向上した反射防止被膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、機械的性質が向上した反射防止被膜用組成物に係り、より詳しくは、一般式Ｃ２Ｈ-４Ｓｉ（ＯＲ）３（Ｒは炭素数６以下のアルキル基を示す。）で表されるビニル基置換３官能性シランを構成成分として含む平均分子量５００〜３００，０００のポリマー、ミセル形成剤、熱ラジカル開始剤及び溶媒を含む、機械的性質が向上した反射防止被膜用組成物を提供する。
これにより、ミセル形成剤によって具現される被膜の構造が機械的強度の低下をもたらすにも拘らず、前記ポリマーの熱処理によってその構造内にＳｉ（−Ｃ）ｎ−Ｓｉ結合が形成できるようにすることにより、被膜の優れた機械的性質を既存の物質に比べて向上させることができるという効果がある。      
【背景技術】
【０００２】
表示装置、光学素子、太陽電池用カバーガラスなどは、表面を処理しない場合、反射光が入射光の約３０％以上高いため、画面が鮮明ではなく、太陽光の収集が非効率的な問題点があって、表面の反射率を低める技術が幅広く求められている。
【０００３】
従来では、反射防止効果を得るために低屈折率膜と高屈折率膜をガラスの表面に多層としてコートし、或いは超低屈折率膜をコートする方法が使用されてきた。ところが、多層コーティングは、その工程が複雑であり、スパッタリングなどの高価な大規模装置が必要であって、製造コストが非常に高いという欠点があった。また、超低屈折率の膜をコートする場合には、膜の屈折率が１．３５以下でなければ反射防止効果が発揮しない。ところが、１．３５以下という、十分に低い屈折率を有する実用的な材料は未だ存在せず、これを代替するために多孔質膜を使用することにより屈折率を低減する試みが行われてきたが、多孔質膜の機能によってヘイズが大きく、目標機械強度が低く、密着性が非常に足りないという欠点がある。したがって、これを代替することが可能な手段が必要である。
【０００４】
一方、ガラスの表面に反射防止膜を形成する場合、反射防止膜形成剤と共に界面活性剤を添加して使用することもある。
界面活性剤は、化学構造上、一つの分子内に親油性基と親水性基を同時に有する物質を総称する。界面活性剤は、一方はイオン性を持っているため水に溶け、もう一方は炭化水素のような構造であって脂肪に溶ける。
【０００５】
このような独特の構造により、一定の濃度以上になると、分子又はイオンの集合体であるミセル(micell)が形成されながら界面活性剤としての作用をする。このようなミセルが多く形成されると、不透明で、ものが霞んで見える効果が発生する。このような効果を反射防止膜に用いると、被膜の反射率を大幅低めることができる。
【０００６】
ところが、このようなミセル形成の性質を用いた界面活性剤を太陽電池又は表示装置の表面に適用する場合、ミセルの作用による被膜の構造を不規則な構造にして被膜の機械的強度に良くない影響を及ぼすという問題点があった。すなわち、反射防止膜として反射率は低下させることができるものの、相対的に被膜の耐久性は弱くなるという問題点が発生する。
【０００７】
一方、衝撃に脆弱な材質、例えばガラスなどの場合、衝撃による破損を防止するために、その表面に被膜を形成するが、この際、ガラスの表面にコートする被膜形成剤としてシラン系カップリング剤とアクリル共重合体を用いて被膜の機械的強度を高めようとした。特に、共重合反応によってＣ−Ｃ系のボンディング(bonding)を生成し、これから熱硬化反応によってＳｉ−Ｏボンディングを生成することにより、表面強度を向上させるようにしている。ところが、ガラス表面を成しているＳｉ−Ｏボンディングは、その硬度の面で脆弱であって依然としてスクラッチなどに対する抵抗力が弱いという問題点があり、よりさらに高い硬度を有する表面コーティング物質を開発する必要性が切実であるといえる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、前述したような従来の技術の問題点を解決するためになされたもので、その目的は、太陽電池または表示装置の表面に反射率を低めるために形成された被膜が、その一構成要素であるミセル形成剤によってその機械的強度が低下するにも拘らず、ビニル基置換３官能性シランを構成成分として含むポリマーの加熱によってＳｉ−（Ｃ）ｎ−Ｓｉボンディングを形成してミセルを形成させることにより、表面に存在する空孔を数ｎｍの大きさに均一に分布することができるようにすることが可能であり、空孔間の間隔を数十ｎｍ〜１００ｎｍ程度の範囲で秩序整然と維持することができ、このように空孔の大きさを十分小さくし且つ空孔を均一に整列することにより、被膜の機械的目標強度が多孔化によって低減することを防止することができる、機械的性質が向上した被膜用組成物を提供することにある
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明は、一般式Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＲ）３（Ｒは炭素数６以下のアルキル基を示す。）で表されるビニル基置換３官能性シランを構成成分として含む平均分子量５００〜３００，０００のポリマー、ミセル形成剤、熱ラジカル開始剤、及び溶媒を含んでなる、機械的性質が向上した反射防止被膜用組成物を提供する。
【００１０】
前記ビニル基置換３官能性シランは、前記ポリマーの重量に対して少なくとも１０重量部含まれることが好ましい。
【００１１】
前記熱ラジカル開始剤は前記ポリマーの重量に対して０．００１〜３０重量部含まれることが好ましい。
前記ミセル形成剤はポリマーの重量に対して０．０１〜１０００重量部の範囲であることが好ましい。
また、本発明は、前述したような組成物を基板上に塗布する、機械的性質が向上した反射防止被膜を提供する。
【発明の効果】
【００１２】
上述した本発明によれば、太陽電池又は表示装置の表面に形成された被膜の界面活性剤による機械的強度の低下にも拘らず、ビニル基置換３官能性シランによって形成されたポリマー上に加熱によってＳｉ（−Ｃ）ｎ−Ｓｉボンディングを形成してミセルを形成させることにより、表面に存在する空孔を数ｎｍの大きさに均一に分布できるようにすることが可能であり、空孔間の間隔を数十ｎｍ〜１００ｎｍ程度の範囲で秩序整然と維持することができ、このように空孔の大きさを十分小さくし且つ空孔を均一に整列することにより、被膜の機械目標強度が多孔化によって低減することを防止することができるという作用効果が期待される。
【００１３】
特に、表示装置の場合、反射率を低減することにより、周囲の環境の映像がそのまま反射される現象を防止することが可能な作用効果があり、光の透過比率を向上させ、可視放射の利用効率を高め、明度を向上させるという効果がある。
また、太陽電池用途のカバーガラスの場合には、特に太陽光がガラスの表面による反射度を低めることにより、エネルギーの活用効率を大幅に向上させる作用効果が期待される。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明を下記の実施例に基づいてより詳細に説明する。
本発明に係る被膜用組成物は、一般式Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＲ）３（Ｒは炭素数６以下のアルキル基を示す。）で表されるビニル基置換３官能性シランを構成成分として含む平均分子量５００〜３００，０００のポリマーと、ミセル形成剤と、熱ラジカル開始剤と、溶媒とを含んでなる。
前記（ＯＲ）３において、Ｒの例としては、Ｃ＝１：メチル、Ｃ＝２：エチル、ビニル、Ｃ＝３：ｎ−プロピル、イソプロピル、アリル、Ｃ＝４：ブチル、イソブチル、２−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、Ｃ＝５：ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、シクロペンチル、Ｃ＝６：ｎ−ヘキシル、シクロヘキシルなどを挙げることができる。
前記シランを含むポリマーには、基本的に、Ｓｉ−ＯＨ結合とＳｉ−ＣＨ＝ＣＨ２結合が混在している。これらの各結合は熱ラジカル開始剤の参与による熱硬化によってＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合とＳｉ−Ｃ−Ｃ−Ｓｉ結合をそれぞれ生成し、これらの結合体が網状組織を成す。
これらの中でも、Ｓｉ−Ｃ−Ｃ−Ｓｉ型の結合構造はＳｉ−Ｏ結合構造に比べて非常に高い硬度を有する。このような結合構造が、被膜及び被塗布体の機械的物性を向上させる決定的な役割をする。
本発明は、熱開始剤を初期組成物に導入し熱硬化過程でポリマーと同時に反応させてＳｉ−Ｃ結合を誘導し、ミセル形成剤によって損失した被膜の密度と硬度を緩衝及び維持するようにすることにより、反射防止能の向上を目指してミセル形成剤を適用した他の被膜より優れた機械的性質を示すようにすることにその特徴があるといえる。このような点が従来の技術とは大きく異なることに注目すべきである。
Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ及びＳｉ−Ｃ−Ｃ−Ｓｉ型の結合を生成する反応を化学式で表示すると、次のとおりである。
（１）２Ｓｉ−ＯＨ → Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ ＋ Ｈ２Ｏ
（２）２Ｓｉ−ＣＨ３＋ ［Ｏ］ → Ｓｉ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ ＋ Ｈ２Ｏ
（３）Ｓｉ−ＣＨ３＋ ＣＨ２＝ＣＨ−Ｓｉ− ＋ ［Ｏ］ 
→ Ｓｉ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−Ｓｉ
（４）ｎ−Ｓｉ−ＣＨ＝ＣＨ２ 
→ ［−ＣＨ（−Ｓｉ）−ＣＨ２−ＣＨ（Ｓｉ−）−ＣＨ２−］ｎ-
すなわち、熱硬化の際に（１）の反応によってＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合体が、（２）〜（４）の反応によってＳｉ−Ｃ−Ｃ−Ｓｉ型の結合を生成し、これらが重合体として形成されることにより、被膜の表面硬度は非常に高くなるといえる。
シランの例を挙げると、ビニル基置換３官能性シランとしては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルエトキシジアセトキシシラン、ビニルトリス（メチルエチルケトキシモ）シランなどがある。前記シランは加水分解重合される。
前記シランにラジカル開始剤を加えてモノマーを重合させることもできるが、これは、加水分解の後に熱開始剤を用いて硬化させる方式とは異なり、予めＳｉ−Ｃ−Ｃ−Ｓｉ結合を形成してさらに高い反応効率を得ようとする。
前述したように、ラジカル重合に寄与するものはビニルシランとメチルシランであり、それぞれ下記のような反応で重合する。このラジカル反応によってシランのないオリゴマーが形成される。
（１）Ｓｉ−ＣＨ３＋ ＣＨ３−Ｓｉ  → ＳｉＣＨ２−ＣＨ２Ｓｉ（脱水反応）
（２）Ｓｉ−ＣＨ３＋ ＣＨ２＝ＣＨ−Ｓｉ 
→ Ｓｉ−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ
（３）Ｓｉ−ＣＨ＝ＣＨ２＋ ＣＨ２＝ＣＨ−Ｓｉ 
→ Ｓｉ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ
但し、前記（３）の反応は一般のラジカル開始剤によっても行われるが、（１）、（２）の反応は有機過酸化物（ペルオキシド）と急進的に反応することにより行われる。
具体的には、シランに対して０．００１〜３重量部の熱ラジカル開始剤を加え、加熱中に攪拌して重合を行う。
このような熱ラジカル開始剤が３重量部以上の場合には分子量が非常に小さくなる傾向があり、０．００１重量部以下の場合には重合反応が起こらないので、前記ラジカル開始剤は上述した範囲で臨界的意義を有する。
【００１５】
熱ラジカル開始剤としては、加熱によって自由ラジカルを発生させるいずれの物質も使用可能であるが、好ましくは、アゾ化合物、アゾ−アミド化合物、過酸化物、ジフェニルアルカン、ベンゾフェノン誘導体などを使用することができ、多様な溶媒に対する溶解性、高い安定性と特徴付けられ、低温で高効率の重合反応が可能な有機過酸化物が好ましい。高温より低温で反応が起こればＳｉ−Ｃ−Ｃ−Ｓｉ結合が起こる。
前記有機過酸化物の例としては、メチルエチルケトンペルオキシド、シクロヘキサノンペルオキシド、アセチルアセトンペルオキシドなどのケトンペルオキシド類；１，１−ｂｉｓ（ｔ−ヘキシルペルオキシド）−３、３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ｂｉｓ（ｔ−ヘキシルペルオキシド）シクロヘキサン、１，１−ｂｉｓ（ｔ−ブチルペルオキシ）−２−メチルシクロヘキサン、１，１−ｂｉｓ（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン、２，２−ｂｉｓ−（ｔ−ブチルペルオキシ）ブタン、３，３−ｂｉｓ（ｔ−ブチルペルオキシ）ブチルペンタノエート、２，２−ｂｉｓ（４，４−ｂｉｓ（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキシル）プロパンなどのペルオキシケタール類；ｐ−メンタンヒドロペルオキシド、ジイソプロキシルベンゼンヒドロペルオキシド、１，１，３，３−テトラメチルブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ｔ−ブチルヒドロペルオキシドなどのヒドロペルオキシド類；ｂｉｓ（２−ｔ−ブチルペルオキシイソプロピル）ベンゼン、ジクミルペルオキシド、２，３−ジメチル−２，５−ｂｉｓ（ｔ−ブチルペルオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルクミルペルオキシド、ジ−ｔ−ヘキシルペルオキシド、
ジ−ｔ−ブチルペルオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ｂｉｓ（ｔ−ブチルペルオキシ）ヘキサン−３などのジアルキルペルオキシド類；ジ−イソブチルペルオキシド、ｂｉｓ（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）ペルオキシド、ジラウロキシルペルオキシド、ジコハク酸ペルオキシド、ｂｉｓ（３−メチルベンゾイル）ペルオキシド、ジベンゾイルペルオキシド、ｂｉｓ（４−メチルベンゾイル）ペルオキシドなどのジアクリルペルオキシド類；ジ−ｎ−プロピルペルオキシジカーボネート、ジ−イソプロピルペルオキシジカーボネート、ｂｉｓ（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）ペルオキシジカーボネート、ｂｉｓ（２−エチルヘキシル）ペルオキシジカーボネート、ジ−ｓｅｃ−ブチルペルオキシジカーボネートなどのペルオキシカーボネート類；クミルペルオキシネオデカノエート、１，１，３，３−テトラメチルブチルペルオキシネオデカノエート、ｔ−ヘキシルペルオキシピバレート、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１，１，３，３−テトラメチルブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート、２，５−ジメチル−２，５−ｂｉｓ（２−エチルヘキノイルペルオキシ）ヘキサン、ｔ−ヘキシルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ヘキシルペルオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルペルオキシマレート、ｔ−ブチルペルオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサエート、ｔ−ブチルペルオキシラウレート、ｔ−ブチルペルオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキシルモノカーボネート、ｔ−ヘキシルペルオキシベンゾエート、２，５−ジメチル−２，５−ｂｉｓ（ベンゾイルペルオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルペルオキシアセテート、ｔ−ブチルペルオキシ−３−メチルベンゾエート、ｔ−ブチルペルオキシベンゾエートなどのペルオキシ酸エステル類；ｔ−ブチルペルオキシアリルモノカーボネート、３，３’，４，４’−テトラキス（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノンなどのペルオキシアルキル化合物類などがある。
また、分子量を制御するために、メルカプトプロピオン酸エステル、ジブトキシヒドロキシトルエン、メルカプトベンゾチアゾールなどの任意の連鎖反応添加剤を入れてもよい。
前記熱開始剤とシランの溶解及び希釈の目的で任意の有機溶媒を加える。溶媒は、コーティングの際に乾燥速度又はコーティング性能に合わせて混合して使用する。選択可能な溶媒の種類は、下記のとおりである。
メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｓｅｃ−ブタン、１−ペンタノール、３−メチルブタノール、２−メチルブタノール、２−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、ｎ−ヘキサノール、フルフリルアルコール、フルフリルメタノール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ベンジルアルコールなどのアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルｎ−ブチルケトン、メチルｔ−ブチルケトン、メチルｎ−ペンチルケトン、メチルｎ−ヘキシルケトン、ジエチルケトン、ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、２，４−ペンタネジオン、２，５−ヘキサジオン、アセトフェノンなどのケトン類；ｎ−ペンタン、イソペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサン、ｎ−ヘプタン、イソヘプタン、オクタン、イソオクタン、２，２，４−トリエチルペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリエチルベンゼン、エチルベンゼン、メチルエチルベンゼン、ｎ−プロピルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ペンチルベンゼン、ジエチルベンゼン、イソブチルベンゼン、トリエチルベンゼン、ジイソプロピルベンゼンなどのヒドロカーボン類；テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジ−ｎ−プロピルエーテル、ジ−イソプロピルエーテル、ジ−ｎ−ブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジ−ｎ−ヘキシルエーテル、アニソール、フェネトール、ジフェニルエーテル、エチルベンジルエーテル、ｂｉｓ（２−エチルヘキシル）エーテル、エチレンオキシド、１，２−プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、４−メチルジオキソラン、ジメチルジオキソラン、クレシルメチルエーテル、ジベンジルエーテル、ブチルフェニルエーテルなどのエーテル類；メチルアセテート、エチルアセテート、ｎ−プロピルアセテート、イソプロピルアセテート、ｎ−ブチルアセテート、イソブチルアセテート、ｓｅｃ−ブチルアセテート、ｎ−ペンチルアセテート、ｓｅｃ−ペンチルアセテート、メチルペンチルアセテート、２−エチルブチルアセテート、２−エチルヘキシルアセテート、ベンジルアセテート、シクロヘキシルアセテート、メチルシクロヘキシルアセテート、ｎ−ノニルアセテート、メチルアセトアセテート、エチルアセトアセテート、エチルプロピオネート、ｎ−ブチルプロピオネート、イソアミルプロピオネート、メチルピルベート、エチルピルベート、ジエチルオキサレート、ジ−ｎ−ブチルオキサレート、メチルラクテート、エチルラクテート、ブチルラクテート、ｎ−ペンチルラクテート、メチルメトキシプロピオネート、エチルエトキシプロピオネート、ジエチルマロネート、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジエチルカーボネート、プロピレンカーボネートなどのエステル類；γ−ブチロールラクトン、γ−バレロールラクトン、δ−バレロールラクトンなどのラクロン類；アセトニトリル、プロピオノニトリル、アクリロニトリルなどのニトリル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−ペンタセンジオール、２，４−ペンタンジオール、２−メチルペンタン−２，４−ジオール、２，５−ヘキサンジオール、２，４−ヘプタンジオール、２−エチルヘキサン−１，３−ジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコールなどのグリコール類；ヒドロキシアセトン（アセトール）、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン、４−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン、５−ヒドロキシ−２−ペタノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどのヒドロキシケトン類；グリコールエーテル類として、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、エチルグリコールモノｎ−ペンチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ヘキシルエーテル、エチレングリコールモノ２−エチルブチルエーテル、エチレングリコールモノ２−エチルヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテルなどのエチレングリコールモノエーテル類；エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、エチレグリコールジブチルエーテルなどのエチレングリコールジエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテルアセテート、エチレングリコールジアセテートなどのエチレングリコールアセテート類；プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノｔ−ブチルエーテルなどのプロピレングリコールモノエーテル類；プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールメチルエチルエーテルなどのプロピレングリコールジエーテル類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノｎ−プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテートなどのプロピレングリコールアセテート類；３−メトキシ−１−ブタノール、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ−１−ブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシ−１−ブチルアセテートなどのブチレングリコール誘導体、ジエチルグリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノｎ−ヘキシルエーテルなどのジエチルグリコールモノエーテル類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどのジエチレングリコールジエテール類；ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノｎ−ブチルエーテルアセテートなどのジエチレングリコールアセテート類；ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテルなどのジプロピレングリコールモノエーテル類；ジプロピレングリコールジメチルエーテルなどのジプロピレングリコールジエーテル類；ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリシラングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、テトラエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテルなどのジプロピレングリコールアセテート類；不均質化合物として、Ｎ−メチルピロリジノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミドアゾリジノン、ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ−エチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルホキシド、スルホラン、１，３−プロパンスルトンなどがある。
【００１６】
好ましくは、沸騰点１００℃以下の溶媒を沸騰点１２０〜１６０℃の溶媒と混合して使用することがよいが、その例として、エタノール、２−プロパノール及びｓｅｃ−ブチルアルコールからなる群と、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルイソブチルケトン及びｎ−プロピレンアセテートからなる群とを相互混合する。
【００１７】
本発明に係る被膜用組成物には、表示装置又は太陽電池の反射率を低下させるために、ミセル形成剤をさらに添加する。このようなミセル形成剤は、使用する溶剤に溶解するものであれば特に限定されず、例えば、脂肪酸エタノールアミド、脂肪酸ソルビタンエステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、アルキルグリコキシド、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、アルキルなどの非イオン系界面活性剤と、アルキルトリメチルアンモニウム塩、ジアルキルメチルアモニウム塩、アルキルベンゼンジメチルアンモニウム塩、アルキルピリジニウム塩の陽イオン系界面活性剤と、脂肪酸塩、アルキルポリオキシエチレン硫酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、モノアルキルリン酸塩、スルホ脂肪酸エステル塩などの陰イオン系界面活性剤と、アルキルカルボキシベタイン、アルキルジメチルアミンオキシドなどの両性イオン系界面活性剤が使用される。
【００１８】
特に、セチルトリメチルアンモニウムブロミド（ＣＴＡＢ）やステアリルトリメチルアンモニウムクロリド（ＳＴＡＣ）などの長鎖のアルキルトリメチルアンモニウム塩構造を有する陽イオン系界面活性剤が好ましく使用できる。
ミセル形成剤の添加量は、ポリマー１００重量部に対し、０．０１〜１０００重量部の範囲で任意に選択できる。ニセル形成剤の添加量が０．０１重量部未満であれば、屈折率が十分に低下せず、商用可能な反射防止膜を製造することができる。また、添加量が１０００重量部超過であれば、連続膜が形成されず、粉末又は粒子状の付着物となり、反射防止膜として使用できない。したがって、ミセル形成剤の添加量は上述したような範囲でその臨界的意義がある。より好ましくは５重量部〜１００重量部の範囲で使用でき、さらに好ましくは２０重量部〜７５重量部の範囲で使用できる。
また、前記塗布組成物には、前記必須成分の他に、水、任意の有機溶媒、有機アミノ化合物や有機アンモニウム化合物、チタン又は錫化合物などの反応促進触媒、消泡剤などを所定の目的で加えることも可能である。
<製造例>
本発明に係る塗布用組成物を製造するための製造例は次のとおりである。
【００１９】
（１）ポリシロキサンの合成
本発明のビニルトリエトキシラン１９０．３ｇ、メチルトリエトキシシラン１７８．３ｇ、テトラエトキシシラン２０８．３ｇ、及びブチルアセテート１Ｌを約２Ｌの三口フラスコに仕込み、フラスコの内容物を激烈に攪拌しながら、１モル／Ｌ濃度の硝酸２ｍＬと純水１８０ｍＬとを混合した混酸溶液を、フラスコに設置した滴下漏斗を介して３０分間滴下した。
その結果、フラスコの内容物は、発熱反応が起こって初期には白色が冴えなくなる溶液であったが、攪拌を行い続けた結果、無色透明溶液になった。
（２）塗布組成物の製造
その後、還流冷却器を設置し、沸騰温度に加熱して３時間還流させた。このように得られたポリシロキサンオリゴマーは、無色透明で、溶媒としての酢酸ブチルに完全に溶解していた。このオリゴマーのＧＰＣによる重量平均分子量は約１，５００であった。このオリゴマー溶液に対して、表１の比率で添加剤を混酸し、０℃で１２時間熟成させた後、０．１μｍのＰＴＦＥフィルターで濾過し、塗布組成物を製造した。
【００２０】
【表１】
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＃１：ビス（３−メチルベンゾイル）ペルオキシド
＃２：ビス（２−ｔ−ブチルペルオキシイソプロピル）ベンゼン
＃３：ビス（２−エチルヘキシル）ペルオキシジカーボネート
＃Ａ：ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド
＃Ｂ：ベンジルジメチルアンモニウムクロリド
上述したように製造された塗布液を希釈し、低アルカリアガラスに回転数８００ｒｐｍで塗布した結果、約１２０ｎｍの透明な薄膜が形成された。
【００２１】
<物性の評価>
このように形成した被膜を１００℃の温度で１５分間プリベークし、昇温して２５０℃の温度で１５分間硬化させた後、可視光線透過率、屈折率、鉛筆硬度試験を行って前記表１に示した。このように製造された組成物は、実施例６の熱ラジカル開始剤を使用していない塗布組成物とは異なり、Ｓｉ−Ｏ結合以外にもＳｉ−Ｃ結合が生成され、鉛筆硬度の値から分かるように、結合強度が相対的に高かった。これは前述した化学反応式からも分かる。また、ミセル形成剤を添加しない実施例５は、屈折率が低減していない。
したがって、ミセル形成剤を用いて屈折率を制御するとともに、本発明に係るシランを出発物質として使用し、ここに熱ラジカル可視剤を添加することにより、ミセル形成剤によって招かれる強度低下を防止することができ、このような点が本発明の特徴であるといえる。
【国際調査報告】
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