【事件の表示】
　特許第２８１１０６５号「ベンジルアミンの製造法」の特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結論】
　訂正を認める。
　特許第２８１１０６５号の特許を維持する。
【理由】
１．手続きの経緯
　本件特許第２８１１０６５号発明は、昭和６０年１２月２日に特許出願され、平成１０年８月７日に特許の設定登録がなされたものである。その後、中尾英樹によって特許異議の申立がなされたため、当審において審理のうえ、取消理由を通知したところ、その意見書の提出指定期間内である平成１１年１０月１８日に訂正請求がなされた。
２．訂正の内容
　本件訂正請求は、本件特許明細書を、訂正明細書のとおり、次の事項について訂正することを求めるものである。
〈訂正事項ａ〉特許請求の範囲第１項中、「アンモニアの共存下で、」を「ベンゾニトリルに対して０．２〜２．０モル倍のアンモニアの共存下で、」と訂正する。
〈訂正事項ｂ〉発明の詳細な説明中、４頁１行の「２．０モル倍」を「２．０モル倍にすることが必須であり」と訂正する。
３．訂正の適否
ｉ）訂正事項ａは、アンモニアの量を限定する訂正であるから、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正に該当する。
　訂正事項ｂは、発明の詳細な説明を、訂正事項ａと整合させるための訂正であるから、訂正事項ａと一体の訂正である。
ｉｉ）前記訂正は、明細書に記載した事項の範囲内のものであり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、または変更するものでもない。
ｉｉｉ）つぎに、訂正後における特許請求の範囲に記載の発明（以下、「訂正後の本件発明」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否かについて以下に検討する。
ｉｉｉ−１）訂正後の本件発明は、次のとおりのものである。
「（１）ベンゾニトリルに対して０．２〜２．０モル倍のアンモニアの共存下で、ベンゾニトリルをベンゾニトリルに対して１〜５重量倍の非還元性の水酸基を有する極性溶媒中にラネーニツケルまたはラネーコバルト触媒を懸濁させた不均一系で水素添加せしめることを特徴とするジベンジルアミン含有量の少ないベンジルアミンの製造方法。
（２）水酸基を有する極性溶媒が水、メタノール、エタノールから選ばれるいずれか一つである特許請求の範囲第（１）項記載のベンジルアミンの製造方法。」
ｉｉｉ−２）当審においては、刊行物１〜３（申立人が提出した甲第１〜３号証）を提示して、本件の訂正前の発明は、刊行物１〜３に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものと認められるから、本件特許は、特許法２９条２項の規定に違反してなされたものであって、取り消されるべきである、という趣旨の取消理由を通知した。
ｉｉｉ−３）本件の特許異議申立において、申立人は、甲第１〜３号証、及び参考資料を提出して、本件の訂正前の発明は甲第１〜３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、その特許は、特許法２９条２項の規定に違反してなされたものであって、取り消されるべきである、と主張した。
ｉｉｉ−４）各刊行物には次のとおりの事項が記載されている。
甲第１号証（英国特許第８１０５３０号明細書・・・刊行物１）のクレーム１〜３、５、及び８には、それぞれ、「液相中、アンモニアの存在下、ニッケル又はコバルト触媒上でイソフタロニトリル及び／又はテレフタロニトリルを水素添加することからなるｍ−及び／又はｐ−キシリレンジアミンの製造方法。」、「触媒がラネーニッケルであるクレーム１に記載の方法。」、「触媒がラネーコバルトであるクレーム１に記載の方法。」、「水素添加がジニトリルに対してそれ以上又はそれ以下の溶媒の存在下で行われる前記のいずれかのクレームに記載の方法。」、「追加の溶媒が水、・・・メタノール又はエタノールであるクレーム５に記載の方法。」が記載されている。同発明の目的は、第２級アミンの生成を十分に回避して対応ずるキシリレンジアミンを製造するためのイソフタロニトリル及び／又はテレフタロニトリルの水素添加方法を提供することにある（１頁２０〜２５行）。また、アンモニアの量は、１モルのジニトリルに対し少なくとも２モルであるとし、例８には、イソフタロニトリル（１重量部）を、ラネーニッケル（０．２重量部）、アンモニア（１．８重量部）及びメタノール（３．５重量部）の存在下に水素添加し、高収率でｍ−キシリレンジアミンを得たこと、また、例１０には、イソフタロニトリル（１重量部）を、ラネーコバルト（０．４重量部）、液体アンモニア（１０重量部）及び水（３重量部）の存在下に水素添加し、収率８３％でｍ−キシリレンジアミンを得たこと、が示されている。
甲第２号証（米国特許第２１６５５１５号明細書・・・刊行物２）のクレーム５には、「式Ｒ−Ｃ≡Ｎ、式中Ｒはヒドロキシ基を有さない炭素数５以上の脂肪族、芳香族及び脂肪−芳香族残基からなる置換基群である、に対応するニトリルを、不活性溶媒及び実質的にコバルトからなる触媒の存在下、水素と反応させる式Ｒ−ＣＨ２−ＮＨ２に対応するアミンの製造法。」が記載され、例８には、アビエチン酸ニトリル１００重量部をコバルト触媒１０重量部とメタノール１００重量部の存在下に水素添加してアビエチルアミンを製造したこと、また、例９には、ベンゾニトリル１００重量部を、コバルト触媒３重量部の存在下に水素添加してベンジルアミン８５重量部を得たこと、が示されている。
甲第３号証（特開昭５５−１０４２３５号公報・・・刊行物３）には、「添加アンモニアを含む溶媒系の中でコバルト又はニッケル触媒を使用して、芳香族ニトリルを第１級アミンに水素添加するに当って、溶媒として４ないし６個の炭素原子を含有するエーテルを用いかつ水素添加をエーテル溶媒の約１０容量％ないし約２０容量％の量の水の存在下で行ないそれによって反応速度を高め、第二級アミン副生物を減少せしめ、かつ触媒を悪影響なしに再循環出来るようにしたことを特徴とする方法。」が記載され（特許請求の範囲１）、芳香族ニトリルとして、ベンゾニトリル、イソフタロニトリル、テレフタロニトリル等が例示されている。また、アンモニアは望まれない第２級及び第３級アミン副生物の生成を抑えるのに役立つこと、その添加量は、溶媒容量の約１０〜３０％であること、が記載され（３頁右下欄６〜９行）、実施例１には、５０ｇのテレフタロニトリルを、４００ｍｌのテトラヒドロフラン、１００ｍｌのアンモニア、６．０ｇの担持されたコバルト触媒、及び水の存在下に水素添加して、ｐ−キシリレンジアミンを得たことが記載されている。また、表３には、比較例に相当する製造例として、５０ｇのテレフタロニトリルを、１００ｍｌのアンモニア、６．０ｇのコバルト触媒、及び４００ｍｌのエタノール希釈剤、あるいは、エタノールと１２．５％の水からなる希釈剤４００ｍｌとともに反応させて得た生成物の収量が示されている。
参考資料（「接触水素化反応−有機合成への応用−」２８〜２９頁、１９８７年４月１０日　株式会社東京化学同人発行）には、Ｒａｎｅｙ　Ｃｏ触媒が、Ｒａｎｅｙ　Ｎｉ触媒と同様に、Ｃｏ−Ａｌ合金からＡｌをＮａＯＨ水溶液で溶出することによって得られる旨記載されている（２８頁１１〜１２行）。
ｉｉｉ−５）そこで、訂正後の本件発明と、各刊行物の記載事項とを対比したが、甲第１〜３号証には、訂正後の本件発明の構成要件である、「ベンゾニトリルを、０．２〜２．０モル倍のアンモニアの共存下で、ベンゾニトリルに対して１〜５重量倍の非還元性の水酸基を有する極性溶媒中にラネーニツケルまたはうネーコバルト触媒を懸濁させた不均一系で水素添加」する点について記載されていないし、示唆もされていない。
　すなわち、甲第１号証には、イソフタロニトリルまたはテレフタロニトリルをアンモニアの存在下に、ラネーニッケルまたはうネーコバルト触媒上で水素添加して対応するｍ−またはｐ−キシリレンジアミンを製造する方法が記載され、例８及び１０には、訂正後の本件発明における「非還元性の水酸基を有する極性溶媒」に相当するメタノールあるいは水を、本件発明と同程度の量で使用する例が示されている。しかし、アンモニアの使用量については、１モルのジニトリルに対し少なくとも２モルとされているものの、例８では、ジニトリルに対して１３モル倍にも達する量が、また、例１０ではさらに大量が使用されていて、訂正後の本件発明におけるような、０．２〜２．０モル倍程度の使用を示唆する記載はない。
　刊行物２には、アンモニアを使用する点について記載されていない。
　刊行物３の方法における溶媒系は、エーテルとエーテルの約１０容量％ないし約２０容量％に相当する量の水からなるものであるから、当該水が、訂正後の本件発明における「非還元性水酸基を有する極性溶媒」に該当するとしても、系中の従成分に止まる。したがって、エーテルを主成分とする同刊行物の溶媒系と、「非還元性水酸基を有する極性溶媒」からなる訂正後の本件発明の溶媒系とは明らかに区別されるものである。また、同刊行物の表３には、希釈剤（溶媒）として、エタノール、あるいは、エタノールと水からなる混合希釈剤（溶媒）を使用した、比較例ともいえる実験例が示されているが、同希釈剤（溶媒）の使用量は、エタノールの比重を０．７８９とすると、原料テレフタロニトリルに対して６重量倍あるいは７重量倍に相当し、訂正後の本件発明における１〜５重量倍を越えている。また、同実験におけるアンモニアの使用量も、原料テレフタロニトリルに対して１２モル倍強にも達するものであり、訂正後の本件発明における「０．２〜２．０モル倍」とは大いに相違する。
　そして、訂正後の本件発明は、上記構成をとることによって、ジベンジルアミンの副生を抑制し、収率よくベンジルアミンを製造するという所期の効果を達成し得たものであり、とくに、アンモニアの抑制された使用量によっても十分な効果が達成されることの予測が、大量のアンモニアを使用する刊行物１及び３の実施例の記載から容易に予測し得たものと認めることはできないから、結局、訂正後の本件発明を、刊行物１〜３に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　上記判断は、参考資料の内容によって覆すことはできない。
　したがって、上記各証拠刊行物の存在に拘わらず、訂正後の本件発明は、特許出願時に独立して特許を受けることができるものである。
ｉｖ）以上のとおり、上記訂正は、特許法１２０条の４２項の規定を満たし、また、同３項で準用する同１２６条２項から４項の規定を満たすものであるから、適法なものとして認めることとする。
４．特許異議の申立て
　本件の特許異議申立における申立の理由は、〈３．ｉｉｉ−３）〉に記載のとおりであるところ、訂正後の本件発明が、当該理由によって取り消され得ないことは〈３．ｉｉｉ−５〉に示したとおりである。
５．むすび
　以上のとおり、上記訂正は適法なものとして請求のとおりに認められ、また、訂正された本件発明に係る特許は、特許異議申立ての理由、及び当審において通知した取消理由によって、取り消すことができない。
　また、他に本件発明に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１１年１２月９日（１９９９．１２．９）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
〈訂正事項ａ〉特許請求の範囲第１項中、「アンモニアの共存下で、」を「ベンゾニトリルに対して０．２〜２．０モル倍のアンモニアの共存下で、」と訂正する。
〈訂正事項ｂ〉発明の詳細な説明中、４頁１行の「２．０モル倍」を「２．０モル倍にすることが必須であり　」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
ベンジルアミンの製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
１）ベンゾニトリルに対して０．２〜２．０モル倍のアンモニアの共存下で、ベンゾニトリルをベンゾニトリルに対して１〜５重量倍の非還元性の水酸基を有する極性溶媒中にラネーニッケルまたはラネーコバルト触媒を懸濁させた不均一系で水素添加せしめることを特徴とするジベンジルアミン含有量の少ないベンジルアミンの製造方法。
（２）水酸基を有する極性溶媒が水、メタノール、エタノールから選ばれるいずれか一つである特許請求の範囲第（１）項記載のベンジルアミンの製造方法。
【発明の詳細な説明】
＜産業上の利用分野＞
　本発明は、ベンゾニトリルを接触水素添加し、収率よくベンジルアミンを製造する方法に関する。
　ベンジルアミンは、工業原料として有用な化合物であり、医薬・染料・界面活性剤・化学薬品等多方面にわたって使用されている。
＜従来技術及び問題点＞
　従来、ベンゾニトリルを接触水素添加してベンジルアミンを合成する方法は公知である。例えば、特開昭５１−１０１９３０ではベンゾニトリルと水素を連続的に触媒床上で交流接触させ、ベンジルアミンを得ているが、この場合同時に副生物としてジベンジルアミンが生成している。
　又、米国特許４２５４０５９ではルテニウム−ホスフイン錯体触媒を用いてベンゾニトリルを水素添加しているが、この場合ルテニウムは貴金属の一種であり、同触媒はかなり高価なものになり、経済的とは決して言えない。
＜問題点を解決するための手段＞
　そこで、本発明者は鋭意検討を重ねた結果、発明を完成するに到った。すなわち、本発明は、アンモニアの共存下で、ベンゾニトリルを非還元性の極性溶媒中にラネーニッケルまたはラネーコバルト触媒を懸濁させた不均一系で水素添加せしめることを特徴とするジベンジルアミン含有量の少ないベンジルアミンの製造法である。
　ところで、該反応機構は第１図の通り、出発原料が広範囲の触媒によって接触的に還元され、各中間体を経て目的物あるいは副生物に到るものと推察される。
　以下に本発明をより詳しく説明する。本発明において原料に用いるベンゾニトリルは一般的に工業原料として容易に入手可能であり、特別の精製等を要しない。
　アンモニアの添加量はベンゾニトリルに対して０．２〜２．０モル倍にすることが必須であり、好ましくは０．５〜１．５モル倍の範囲で使用される。同数値より少ないとジベンジルアミンの副生率が増加し、それより多いと反応後のアンモニア回収工程でのアンモニアロスが増加するので不都合である。
　触媒は、一般的な水素添加用触媒のうち、安価なラネーニッケルあるいはラネーコバルトが使用されることが必須である。その使用量はベンゾニトリルに対して２〜１２ｗｔ％、好ましくは５〜１０ｗｔ％の範囲である。
　又、通常、反応溶媒として非還元性の極性溶媒、例えば、水、メタノール、エタノール等が利用されることが必須であり、その使用量はベンゾニトリルに対して、１．０〜５．０重量倍の範囲にするのが必須である。この範囲にすることにより高い収率を達成することができる。
　本発明における反応温度は５０〜１５０℃の範囲で実施可能であるが、反応速度等を考慮すれば８０〜１２０℃の範囲が望ましい。又、反応圧力（水素分圧）は５０〜１５０ｋｇ／ｃｍ２Ｇの範囲なら任意であるが、反応装置の設計上の問題点及び該反応性等から８０〜１２０ｋｇ／ｃｍ２Ｇの範囲が好ましい。
　このようにして得られた反応粗液は通常、触媒を▲戸▼別した後、アンモニア−メタノールを常圧で留去させる。留去したアンモニアはスクラバーにて冷却されたメタノールに吸収され、反応系ヘリサイクルされる。一方、脱溶媒後の粗ベンジルアミンは、一般に用いられる蒸溜設備によって容易に精製される。
＜発明の効果）
　本発明の方法によれば、前記した従来技術の欠点を排除し、例えばラネーニッケルあるいはラネーコバルトの如き安価な触媒が使用でき、ジベンジルアミンの副生を抑制する等、しかも収率よく、容易に目的物を得ることができる。
＜実施例＞
　次に、実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明する。
　実施例１．
１ｌの電磁撹拌式オートクレーブを使用して、ベンゾニトリル１１０ｇを、アンモニア性メタノール（アンモニア濃度１２．９ｗｔ％）２８７ｇに溶解し（アンモニア／出発原料＝２．０６モル倍）、ラネーニツケル触媒１０ｇを添加した後、反応温度１００℃に加熱し、水素圧力１００ｋｇ／ｃｍ２Ｇで反応させた。
　結果、２時間後の反応粗液のガスクロマトグラフ分析注１）によると、ベンゾニトリルは完全に消失し、生成物としてはベンジルアミン９２．９％、ジベンジルアミン１．７８％、その他５．３２％であった。
注１）数値はメタノールを除いた百分率を表わす。以下同じ。
次いで、２０段の多孔板塔を使用して、触媒を▲戸▼別した反応粗液３５０ｇを常圧で脱メタノール（脱アンモニア）した後、得られた缶液を、１００Ｔｏｒｒの減圧下、還流比５で精溜し、ベンジルアミン１０５ｇを得た（主留分１０８〜ｌ１４℃／１００Ｔｏｒｒ）（純度９９．２％）。全収率は９１．９％であった。
比較例
　実施例１と同じ条件でアンモニアを添加せずに反応を行なった。
　結果、２時間後の反応粗液のガスクロマトグラフ分析ではベンジルアミン６１．１％、ジベンジルアミン２０．４％であった（ベンゾニトリル転化率９９．２％）。
実施例２．
　触媒濃度（対出発原料）を５．０ｗ％及びアンモニア／出発原料を第１表に示した数値に変更し、実施例１と同じ条件で反応を行なった。
　結果、２時間後の反応粗液のガスクロマトグラフ分析は第１表の通り。
実施例３．
　触媒をラネーコバルト１０ｇに変更し、実施例１と同じ条件で反応を行なった。
　結果、２時間後の反応粗液のガスクロマトグラフ分析ではベンジルアミン９２．７％、ジベンジルアミン２．２６％であった（ベンゾニトリル転化率１００％）。