(57)【要約】  ここに定義される、ヘイズ、像の鮮明度、表面粗さ、および均一性特性を有する防眩表面を少なくとも１つ含むガラス物品が開示されている。防眩表面を有する物品を製造する方法であって、例えば、物品の少なくとも１つの表面の選択された部分に保護フイルムを形成する工程；少なくとも１つの表面をエッチング液と接触させる工程；および物品の表面から保護フイルムを除去して、防眩表面を形成する工程を有してなる方法が開示されている。ここに定義されたガラス物品を組み込んだディスプレイシステムも開示されている。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
防眩表面を有する物品を製造する方法であって、
前記物品の少なくとも１つの表面の選択された部分に保護フイルムを形成する工程、
前記少なくとも１つの表面をエッチング液に接触させる工程、および
前記物品の表面から前記保護フイルムを除去して、前記防眩表面を形成する工程、
を有してなる方法。
【請求項２】
前記保護フイルムが、スルホンアミドホルムアルデヒド樹脂、ニトロセルロース、アクリレートまたはアクリルモノマーまたはその塩を含むポリマーまたはコポリマー、細孔形成ポリマー、ラッカー、エナメル、ワックス、およびそれらの組合せの内の少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記少なくとも１つの表面が、ガラス、プラスチック、複合材、イオン交換強化ガラス、熱強化ガラス、またはそれらの組合せからなることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】
表面粗さ（Ｒａ）、表面ヘイズ、および像の鮮明度の少なくとも１つを選択する工程、および特定の組の条件にしたがって前記表面をエッチングして、前記防眩表面に関して選択された表面粗さ、表面ヘイズ、および像の鮮明度の少なくとも１つを得る工程をさらに含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】
ガラス物品において、
少なくとも１つの防眩表面であって、
約１０％未満のヘイズ、
約４０から約７５の像の鮮明度（ＤＯＩ２０°）、および
約１００から約３００ｎｍの表面粗さ（Ｒａ）、
を有する防眩表面、
を備えたガラス物品。
【発明の詳細な説明】
【優先権】
【０００１】
本出願は、２０１０年４月３０日に出願された米国仮特許出願第６１／３２９９５１号に優先権を主張するものである。
【技術分野】
【０００２】
本開示は、広く、防眩表面および防眩表面を含む防眩物品、並びに防眩表面の製造方法および使用方法に関する。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００３】
本開示は、防眩表面および防眩表面を含む防眩物品を提供する。本開示は、防眩表面の製造方法および使用方法も提供する。
【図面の簡単な説明】
【０００４】
【図１ａ】防眩ガラス表面および防眩物品を製造する開示の方法の態様を示す説明図
【図１ｂ】防眩ガラス表面および防眩物品を製造する開示の方法の態様を示す説明図
【図１ｃ】防眩ガラス表面および防眩物品を製造する開示の方法の態様を示す説明図
【図２】ａからｈは、ポリマーが、表面被覆率を減少させながら施されて、増加した細孔区域または露出区域を形成した後のガラス表面の顕微鏡画像
【図３】ポリマーフイルムマスキングからのガラス表面上の未被覆多孔質区域の百分率と、酸エッチング後の像の鮮明度（ＤＯＩ（２０°））との間の関係を示すグラフ
【図４ａ】ポリマーフイルムマスキングからの未被覆多孔質区域の百分率と、酸エッチング後の像の鮮明度（ＤＯＩ（２０°））との間の関係を示すグラフ
【図４ｂ】ヘイズとＤＯＩとの間の相関関係を示すグラフ
【図５】酸エッチングされた多孔質ポリマーマスキング表面に関する表面粗さ（Ｒａ）とＤＯＩ（２０°）との間の関係を示すグラフ
【図６】ａおよびｂは、エッチングとマスクの除去後のガラス表面の顕微鏡画像の２つの例を示す；それぞれのマスキングされた前駆体は、異なる外観特性を生じる異なる表面被覆率または気孔率を有した
【図７】ａおよびｂは、多孔質ポリマーマスクを有する表面の酸エッチングから生じた表面地形を示す図
【図８】ａからｄは、マスキングされた表面積被覆率および細孔径または露出区域に有用な変動を提供できる様々な量の堆積スポットを有する表面を表す一連のシミュレーション画像
【図９】ａからｆは、５×１０のアレイにおける堆積ポリマー素ペットの数の変化により、マスキングされた表面積被覆率の変動および細孔幾何学的構造を含む、細孔径または露出区域の変動を提供できることを示す、被覆表面を表す一連のシミュレーション画像
【図１０】ａからｆは、スポットの数、スポットの相対的位置付け、相対的空間配置、またはアレイにおけるスポットの分離（すなわち、ピッチ）の変化により、スポット表面積被覆率および細孔形状を含む、その結果晶子だ細孔径または露出区域のさらに別の有用な変動を提供できることを示す、被覆表面の別の一連のシミュレーション画像
【図１１】ａからｆは、結果として組み合わされたまたは凝集したスポットの変化により、スポット表面積被覆率および細孔形状を含む、その結果晶子だ細孔径または露出区域のさらに別の有用な変動を提供できることを示す、スポットを含む図１０に基づく別の一連のシミュレーション画像
【発明を実施するための形態】
【０００５】
本開示の様々な実施の形態を、もしあれば、図面を参照して詳しく説明する。様々な実施の形態の参照は本発明の範囲を制限するものではなく、それは、ここに添付された特許請求の範囲によってのみ制限される。それに加え、本明細書に述べられたどの実施例も、制限するものではなく、本発明の多くの可能な実施の形態のいくつかを単に述べただけである。
【０００６】
定義
「防眩」または類似の用語は、ディスプレイなどの本開示の物品の処理表面に接触する光の物理的変化、または物品の表面から反射した光を正反射ではなく乱反射に変える性質を称する。実施の形態において、表面処理は、機械的または化学的エッチングにより行うことができる。防眩は、表面から反射した光の量を減少させず、反射光の特徴を変えるだけである。防眩表面により反射した像には、はっきりした境界がない。防眩表面とは反対に、反射防止表面は、典型的に、屈折率変動およびある場合には、相殺的干渉技法の使用により、表面からの光の反射を減少させる薄膜被覆である。
【０００７】
「細孔」、「多孔質」および類似の用語は、例えば、一時的保護フイルムまたはポリマー層における微細なまたは極微細な孔、間隙、非被覆区域、未被覆区域、もしくは類似の開口または閉鎖区域を称する。細孔または未被覆区域により、局所的に施されたエッチング液が、ポリマー被覆に浸透し、被覆層の下にある表面に接触することができる。細孔の開口または細孔の直径（すなわち、開口を横切る直線の長さ）のサイズは、例えば、中間値および中間範囲を含む、約０．１から約５０マイクロメートルであり得る。被覆層の孔、間隙、または類似の開口は、例えば、エッチングすべき表面上にポリマー液滴を選択的に堆積させて、スポットの間の間隙または開口にエッチング液が到達できるスポットアレイを形成すること；エッチングすべき表面の相対的湿潤特徴、細孔形成被覆組成物、またはその両方を調節すること；ポリマー中に発泡剤を含ませ、次いで、熱、光、またはその組合せによって、発泡剤を活性化させるまたは「発泡」させること；ポリマー配合物中に異なる溶解度を有する粒子を含ませ、物品の表面上に被覆を堆積させた後に、酸エッチング、または類似の方法より前に、またはそれと同時に、ポリマー表面から粒子を溶解させて、多孔質表面層を形成すること；によって形成することができる。
【０００８】
「反射像の鮮明度」、「像の鮮明度」、「ＤＯＩ」または類似の用語は、「Standard Test Methods for Instrumental Measurements of Distinctness-of-Image Gloss of Coating Surfaces」と題するＡＳＴＭのＤ５６７６（ＡＳＴＭ５７６７）の方法Ａにより定義される。ＡＳＴＭ５７６７の方法Ａによれば、正視角および正視角からわずかにずれた角度でのガラス物品の少なくとも１つの粗面について、ガラス反射率計数測定が行われる。ＤＯＩ値を提供するために、これらの測定から得られる値が組み合わされる。詳しくは、ＤＯＩは、式（１）にしたがって計算される：
【数１】
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【０００９】
式中、Ｒｓは正視角方向における反射率の相対的な大きさであり、Ｒｏｓは正視角方向からずれた方向の反射率の相対的な大きさである。ここに記載されたように、Ｒｏｓは、別記しない限り、正視角方向から０．２°から０．４°ずれた角度範囲に亘り反射率を平均することによって計算される。Ｒｓは、正視角方向を中心とした±０．０５°の角度範囲に亘り反射率を平均することによって計算できる。ＲｓとＲｏｓの両方とも、ＡＳＴＭのＤ５２３およびＤ５７６７に指定されているように、認定された黒色ガラス標準に対して校正された配光測定器（Ｎｏｖｏ−ｇｌｏｓｓ  ＩＱ、Rhopoint Instruments社）を使用して測定した。このＮｏｖｏ−ｇｌｏｓｓ装置では、正視角が検出器アレイにおける最高値の辺りで中心とされる測定器アレイを使用する。ＤＯＩは、片面（ガラスの背面に連結された黒色吸収体）法および両面（反射はガラスの両面から行われる、ガラスに何も連結されない）法も使用して評価した。片面測定では、１つの表面（例えば、１つの粗面）に関して、光沢、反射率、およびＤＯＩを測定することができるのに対し、両面測定では、ガラス物品全体として、光沢、反射率、およびＤＯＩを測定することができる。Ｒｏｓ／Ｒｓ比は、上述したようなＲｓおよびＲｏｓに関して得た平均値から計算できる。「２０°ＤＯＩ」または「ＤＯＩ２０°」は、ＡＳＴＭ  Ｄ５７６７に記載されているように、ガラス表面に対して垂直から２０°ずれてサンプルに光が入射するＤＯＩ測定を称する。両面法を使用したＤＯＩまたは一般的な光沢の測定は、サンプルがないときに、これらの性質の測定値がゼロとなるように、暗室または囲いの中で一番うまく行うことができる。
【００１０】
防眩表面について、ＤＯＩが比較的低く、式（１）の反射率比（Ｒｏｓ／Ｒｓ）が比較的高いことが一般に望ましい。これにより、不鮮明なすなわちはっきりしない反射像の視知覚がもたらされる。実施の形態において、片面法を使用して正視角方向から２０°の角度で測定した場合、ガラス物品の少なくとも１つの粗面は、約０．１超、約０．４超、および約０．８超のＲｏｓ／Ｒｓを有する。両面法を使用すると、正視角方向から２０°の角度でのガラス物品のＲｏｓ／Ｒｓは、約０．０５超である。実施の形態において、ガラス物品について両面法によって測定されたＲｏｓ／Ｒｓは、約０．２超、および約０．４超である。ＡＳＴＭ  Ｄ５２３により測定される、一般的な光沢は、強烈な正反射成分（鮮明な反射像）を有する表面を、弱い正反射成分（不鮮明な反射像）を有する表面から区別するのには不十分である。このことは、ＡＳＴＭ  Ｄ５２３にしたがって設計された一般的な光沢計を使用して測定できない小角散乱効果に帰因し得る。
【００１１】
「透過ヘイズ」、「ヘイズ」または類似の用語は、表面粗さに関連する特定の表面光散乱特徴を称する。ヘイズ測定は、以下により詳しく記載されている。
【００１２】
「粗さ」、「表面粗さ（Ｒａ）」または類似の用語は、顕微鏡レベル以下で、二乗平均平方根（ＲＭＳ）粗さまたは以下に記載されるＲＭＳ粗さなどの平坦ではないまたは不規則な表面状況を称する。
【００１３】
「光沢(gloss)」、「光沢レベル」または類似の用語は、例えば、表面光沢(surface luster)、輝度(brightness)、または輝き(shine)を称し、より詳しくは、その内容が全てここに引用されるＡＳＴＭ  Ｄ５２３にしたがう標準（例えば、認定された黒色ガラス標準など）に対して校正された正反射率の測定に関する。一般的な光沢測定は、典型的に、２０°、６０°、および８５°の入射角で行われ、最も一般に使用される光沢測定は、６０°で行われる。しかしながら、この測定の広い受入れ角度のために、一般的な光沢では、高い反射像の鮮明度（ＤＯＩ）の値を有する表面と、低い反射像の鮮明度（ＤＯＩ）の値を有する表面とを区別することができない。ガラス物品の防眩表面は、ＡＳＴＭ規格Ｄ５２３にしたがって測定された９０ＳＧＵ（標準光沢単位(standard gloss units)）までの光沢（すなわち、特定の角度での標準に対するサンプルから正反射した光の量）を有し、ある実施の形態において、約６０ＳＧＵから約８０ＳＧＵまでの範囲の光沢を有する。先のＤＯＩの定義も参照のこと。
【００１４】
「ＡＬＦ」または「平均の特有の最大特徴サイズ」または類似の用語は、以下にさらに論じるように、ｘ方向とｙ方向における表面特徴変動の尺度を称する。
【００１５】
「スパークル(sparkle)」、「ディスプレイのスパークル」または類似の用語は、少なくとも１つのガラス粗面上の特徴のサイズと、関心のあるピクセルピッチ、特に、最小のピクセルピッチとの間に関係を称する。ディスプレイの「スパークル」は、ピクセル化されたディスプレイに隣接して配置される材料の人による目視検査によって一般に評価される。ＡＬＦおよびディスプレイの「スパークル」に対する関係は、様々な組成のガラスおよび粒子被覆高分子材料を含む、異なる表面形態を有する異なる材料について有効な測定基準であることが分かった。平均の特有の最大特徴サイズ（ＡＬＦ）とディスプレイのスパークルの強度の目視順位との間の強力な相関関係が、多数の異なるサンプル材料および表面形態に亘り存在する。実施の形態において、ガラス物品は、ディスプレイシステムの一部分を形成するガラスパネルであって差し支えない。そのディスプレイシステムは、ガラスパネルに隣接して配置されたピクセル化された画像表示パネルを含み得る。表示パネルの最小のピクセルピッチは、ＡＬＦよりも大きくて差し支えない。
【００１６】
「均一性」、「均一」、または類似の用語は、例えば、均質のように見え、検出できる線傷、ピンホール、および類似の欠陥のない化学エッチングされた表面を称する。あるいは、均一性は、ヘイズ、ＤＯＩ、および光沢の尺度でもあり得る。実施の形態において、板内の測定値のばらつきは、平均値の約１０％未満である。この目視検査方法は、ヒトの観察者の裸眼に基づく。典型的に、サンプルは、黒色の背景で５００±２００ルクスの蛍光灯の下に配置され、観察者の目とサンプルとの間の距離は、３０±５ｃｍである。サンプルは、検査中に、出発位置から約±４５°回転される。
【００１７】
「含む」または類似の用語は、包含するが限られない、すなわち、包括的であって排他的ではないことを意味する。
【００１８】
例えば、本開示の実施の形態を説明する上で使用される、組成物中の成分の量、濃度、容積、プロセス温度、工程所要時間、収率、流量、圧力、および類似の値、およびその範囲を修飾する「約」は、例えば、化合物、組成物、複合材、濃度、または配合物の製造に使用される典型的な測定手法および取扱い手法により；これらの手法における不注意な誤りにより；方法を実施するために使用される出発材料または成分の製造、供給源、または純度における差により；および類似の検討事項により起こり得る数量のばらつきを称する。「約」という用語は、特定の初期濃度または混合物を有する組成物または配合物のエージングのために異なる量、および特定の初期濃度または混合物を有する組成物または配合物の混合または処理のために異なる量を包含する。ここに添付の特許請求の範囲は、これらの「約」の付いた量の同等物を含む。
【００１９】
実施の形態における「から実質的になる」は、例えば、防眩表面を有する物品、防眩物品、防眩表面を有する防眩物品とそれに対する前駆体の製造方法、防眩表面を有する物品を備えたデバイス、または本開示の任意の装置を称し、請求項に列記された構成部材または工程に加え、特定の反応体、特定の添加剤または成分、特定の作用物質、特定の表面改質剤または条件、もしくは選択された類似の構造、材料、またはプロセス変量などの本開示の組成物、物品、装置、または製造方法と使用方法の基本的性質および新規の性質に実質的に影響しない他の構成部材または工程を含み得る。本開示の構成部材または工程の基本的な性質に実質的に影響するかもしれない項目または本開示に望ましくない特徴を与えるかもしれない項目の例としては、中間値および中間範囲を含む、ここに定義され規定された値を超えた、例えば、ヘイズ、像の鮮明度、表面粗さ、均一性、またはそれらの組合せを有する好ましくない高いグレアまたは高い光沢の特性を有する表面が挙げられる。
【００２０】
ここに用いたように、単数の名詞は、別記しない限り、少なくとも１つ、すなわち１つ以上を意味する。
【００２１】
当業者によく知られた省略形を使用してよい（例えば、時間の「ｈ」または「ｈｒ」、グラムの「ｇ」または「ｇｍ」、ミリリットルの「ｍＬ」、室温の「ｒｔ」、ナノメートルの「ｎｍ」などの省略形）。
【００２２】
構成部材、成分、添加剤、および類似の態様について開示された特定の値と好ましい値、およびそれらの範囲は、説明のためだけである；それらは、他の定義された値または定義された範囲内の他の値を排除するものではない。本開示の組成物、装置、および方法は、この中に記載された任意の値またはここに記載された値、特有の値、より特有の値、および好ましい値の任意の組合せを含み得る。
【００２３】
化学強化ガラスは、機械的損傷に対する抵抗性が、製品の外観と機能にとって重要であり得るディスプレイウィンドウおよびカバープレートとして多くの手持ち式装置およびタッチセンス装置に使用される。
【００２４】
特にグレアが日光により増幅され得る屋外での使用に設計されている製品の製造業者による、これらのディスプレイ表面からの正反射（グレアの重大な要因）の低減が望ましいことが多い。光沢と数量化される、正反射の強度を低減させる方法の１つは、ガラス表面を粗くすること、またはその表面をテキスチャー加工されたフイルムで被覆することである。粗さまたはテキスチャーの寸法は、わずかにぼやけたまたは艶消し表面を生じる、可視光を散乱させるのに十分な大きさであるべきであるが、ガラスの透明度に著しく影響を与えるほど大きすぎるべきではない。ガラス基板の性質（例えば、引掻き抵抗性）を維持することが重要ではない場合、テキスチャー加工されたまたは粒子含有高分子フイルムを使用することができる。これらのフイルムは、適用するのが安価でありかつ容易であるかもしれないが、それらには、装置のディスプレイ機能を減少させ得る磨耗のし易さがある。
【００２５】
ガラス表面を粗くする結果の１つは、粒状の外観と知覚される「スパークル」を形成することである。スパークルは、ほぼピクセルレベルのサイズ規模で明るい点と暗い点または着色点の外観によって明示される。スパークルの存在により、特に高い周囲光条件下で、ピクセル化されたディスプレイの見易さ(viewability)が低減する。
【００２６】
携帯電話、ラップトップコンピュータ、および他の電子装置の製造業者は、フラットパネル表示装置上の上面カバープレートに最適な材料として、ガラス、特にイオン強化ガラスを選択している。使用中にガラス表面上の周囲環境からのグレア／反射を低減させるために、主要な方法が２つある：反射防止（ＡＲ）被覆または防眩（ＡＧ）処理。ＡＲ被覆では、ディスプレイと周囲との屈折率差を減少させてその効果を達成している。ＡＧ処理では、表面を粗くすることによって、反射を異なる方向に散乱させる。一般に、匹敵する性能を達成するためには、ＡＲ被覆はＡＧ処理よりも高く付く。
【００２７】
ＡＧ表面は、ディスプレイ表面を粗くすることによって製造できる。その表面は、ＡＧ被覆または化学エッチングされた表面によるものなどの様々な方法によって実現できる。ＡＧ被覆について、表面を有機または非有機液滴または粒子で被覆することができる。そのような被覆は、散乱特性を提供できるが、通常は、耐引掻性は強くない。また、その被覆では、特に高解像度（小さいピクセル）の装置に関して、高いスパークル(sparkle)を生じるであろう。化学エッチングされた表面は、像の鮮明度（ＤＯＩ）、ヘイズ、光沢、およびスパークルを含む、光学的要件の全てを満たすことができる。例えば、ガラスは、ＨＦまたは緩衝ＨＦ溶液中でエッチングして、表面を粗くすることができる。しかしながら、多くのガラス組成物について、そのような直接的なエッチングでは、光学的要件と外観上の要件の全てを満たす表面を形成できない。典型的に、より複雑な方法が適用されてきた。米国特許第４９２１６２６号、同第６８０７８２４号、および同第５９８９４５０号の各明細書、および国際公開第２００２／０５３５０８号パンフレットには、ガラスエッチング組成物およびその組成物によりガラスをエッチングする方法が述べられている。一例では、二フッ化アンモニウム（ＮＨ4ＨＦ2）およびプロピレングリコールなどの湿潤剤を使用して、表面上に結晶の薄層を成長させ（表面を艶消しにし）、次いで、結晶を鉱酸で除去し、ヘイズの強い表面を残している。最終工程で、ＨＦと鉱酸のある種の組合せなどのエッチング液中にガラスを浸漬して、ヘイズを減少させて、所望の表面特性を達成する。この方法により製造されたガラス表面は、満足な表面テキスチャーを提供し、光学的性質の仕様を満たすことができる。しかしながら、既存のプロセスには欠点がいくつかある、例えば、エッチング結果は、化学物質の濃度、温度、およびエッチング溶液の純度に敏感である；化学物質の費用が高い；ガラス表面の厚さの損失が典型的に大きい、例えば、約５０から約３００マイクロメートル。
【００２８】
実施の形態において、本開示は、防眩表面を有する物品を製造する方法であって、
その物品の少なくとも１つの表面の選択された部分に保護フイルムを形成する工程、
その少なくとも１つの表面をエッチング液に接触させる工程、および
物品の表面から保護フイルムを除去して、防眩表面を形成する工程、
を有してなる方法を提供する。
【００２９】
実施の形態において、少なくとも１つの表面の選択された部分に保護フイルムを形成する工程は、例えば、選択的吹付け堆積、マスキング吹付け堆積、インクジェット堆積、スクリーン印刷、浸漬被覆、エアゾールスプレー、またはそれらの組合せを含み得る。実施の形態において、少なくとも１つの表面の選択された部分に保護フイルムを形成する工程は、例えば、無作為スポットのアレイを形成する工程を含み得る。実施の形態において、それらのスポットは、実質的に無作為、部分的に無作為、完全に無作為、またはそれらの組合せであって差し支えない。
【００３０】
実施の形態において、スポットは、例えば、少なくとも１つの表面の下にある表面積の約７０から約９９パーセントを保護し得る。スポットは、例えば、実質的に無作為、部分的に無作為、またはそれらの組合せであって差し支えない。
【００３１】
スポットは、例えば、約０．１から約１，０００マイクロメートルの平均直径を有し得、スポットにより被覆されない少なくとも１つの表面の区域は、約１から約５０マイクロメートルの平均直径を有する。
【００３２】
実施の形態において、少なくとも１つの表面は、例えば、ガラス、プラスチック、複合材、イオン交換強化ガラス、熱強化ガラス、またはそれらの組合せであって差し支えない。実施の形態において、少なくとも１つの表面は、例えば、実質的に平坦であり得る。
【００３３】
実施の形態において、エッチング液は、例えば、フッ化物イオンの供給源、鉱酸、緩衝液、またはそれらの組合せであって差し支えない。
【００３４】
実施の形態において、エッチング液に接触させる工程は、例えば、中間値および中間範囲を含む、約０．１から約１５分間、約１から約１０分間、約５から約１０分間、および約１から約５分間で行うことができる。
【００３５】
実施の形態において、物品の表面から保護フイルムまたは細孔形成ポリマーを除去する工程は、例えば、フイルムを溶解液に接触させる工程、フイルムを加熱して液化し排出する工程、機械的スクラビング、超音波撹拌、および類似の除去技法、またはそれらの組合せの内の少なくとも１つを含み得る。
【００３６】
実施の形態において、前記方法は、例えば、表面粗さ（Ｒａ）、表面ヘイズ、および像の鮮明度の少なくとも１つを選択する工程；および特定の組の条件（すなわち、決定論的ディファレンシャル・エッチング）にしたがって表面をエッチングして、防眩表面に関して選択された表面粗さ、表面ヘイズ、および像の鮮明度の少なくとも１つを得る工程をさらに含んで差し支えない。ディファレンシャル・エッチングに関して重大であろう条件または要因の例としては、エッチング液中のポリマー溶解度、ポリマーフイルムの厚さ、プロトン酸のフッ化物イオンに対する比、エッチング時間、温度（例えば、温度が増加すると、一般に、フイルムの溶解および基体のエッチングが増加する）が挙げられる。片面のＤＯＩ値は、例えば、約４０から約７０（ＤＯＩ２０°について）であり得、ヘイズは約１０％未満である。表面ヘイズは、例えば、５０％以下であり得、表面粗さは約８００ｎｍ未満であり、反射像の鮮明度は約９５未満である。
【００３７】
実施の形態において、製造方法は、開示された形成工程、接触工程、または除去工程のいずれにおいて湿潤剤を含ませる工程をさらに含んで差し支えなく、その湿潤剤は、グリコール、グリセロール、アルコール、界面活性剤、および類似の材料、またはそれらの組合せの内の少なくとも１つであって差し支えない。
【００３８】
実施の形態において、ガラス物品は、例えば、ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス、アルカリ土類アルミノケイ酸塩ガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、アルカリホウケイ酸ガラス、ボロアルミノシリケートガラス、および類似の材料、またはそれらの組合せの内の１つであり得る。
【００３９】
実施の形態において、本開示は、防眩表面を有する物品を製造する方法であって、
その物品の少なくとも１つの表面を細孔形成ポリマーと接触させて、被覆された表面上に多孔質ポリマー層を形成する工程、
その多孔質ポリマー層をエッチング液に接触させる工程、および
物品のその表面から、エッチング液に接触させられた多孔質ポリマー層を除去して、防眩表面を形成する工程、
を有してなる方法を提供する。
【００４０】
実施の形態において、エッチング液に接触させる前のポリマー表面積の全被覆率に対する多孔質表面積の割合は、例えば、中間値および中間範囲を含む、約０．１から約３０％、約０．１から約２５％、約０．１から約５％、約０．３から約３％、および約１から約３％であり得る。
【００４１】
実施の形態において、細孔形成ポリマーは、例えば、スルホンアミドホルムアルデヒド樹脂、ニトロセルロース、アクリレートまたはアクリルモノマーまたはその塩を含むポリマーまたはコポリマー、ラッカー、エナメル、ワックス、および類似の材料、またはそれらの組合せの内の少なくとも１つであり得る。
【００４２】
実施の形態において、多孔質ポリマー層をエッチング液に接触させる工程は、例えば、約０．１から約５分間に亘り行うことができる。実施の形態において、物品の表面から、エッチング液に接触させられた多孔質ポリマー層を除去する工程は、例えば、ポリマー層を溶解液に接触させる工程、ポリマー層を加熱し液化し排出する工程、および類似の除去方法、またはそれらの組合せの内の少なくとも１つを使用して行うことができる。
【００４３】
実施の形態において、少なくとも１つの表面は、例えば、ガラス、プラスチック、複合材、イオン交換強化ガラス、熱強化ガラス、および類似の材料、またはそれらの組合せであって差し支えない。この少なくとも１つの表面は、例えば、実質的に巨視的に平坦なガラス板であり得る。
【００４４】
実施の形態において、保護フイルムまたは細孔形成ポリマーは、どのような適切な被覆材料、例えば、少なくとも１種類のポリマー、またはポリマーの組合せ、および類似の天然または合成材料、もしくはそれらの組合せであって差し支えない。耐久性であるが、除去できる多孔質被覆を提供できる、適切な細孔形成組成物は、例えば、ＴＳＯ−３１００ＤＯＤインク（Diagraphからのエタノールイソプロピル系噴射用(jettable)インク）、アセトン系ｏ／ｐ−トルエンスルホンアミドホルムアルデヒド樹脂、ニトロセルロース、アクリレートポリマー、アクリレートコポリマー、ラッカー（揮発性有機化合物中に溶解したポリマー）配合物、エナメル、ワックス、および類似の材料、またはそれらの組合せなどのフイルム形成特性および細孔形成特性を有する、任意のポリマーまたはポリマー配合物、もしくは類似の材料または混合物であり得る。実施の形態において、所望であれば、中間物のフイルム被覆基体または物品の光沢、ヘイズ、ＤＯＩ、均一性、または類似の外観特性を、本開示の包括的な方法および物品に匹敵する任意の方法によって、調節または改変しても差し支えない。
【００４５】
適切なアクリレートポリマーまたはコポリマー（すなわち、２つ以上の異なるモノマーを有する）の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、またはそれらのエステルの１つ、および類似のモノマー、またはそれらの組合せ、並びにそれらの塩が挙げられる。アクリル酸およびナトリウム、カルシウム、マグネシウム、亜鉛、アンモニウムおよび類似のイオンなどの、その塩、および別のモノマーの他のポリマーおよびコポリマーの例としては、アクリレートアンモニウムコポリマー、アンモニウムビニルアルコール（ｖａ）アクリレートコポリマー、アクリル酸ナトリウムコポリマー、エチレンアクリル酸コポリマー、エチレンアクリレートコポリマー、エチレンアクリル酸−ｖａコポリマー、アクリレートビニルピリジン（ｖｐ）コポリマー、アクリレート−ｖａコポリマー、ステアレス−１０アリルエーテルアクリレートコポリマー、アクリレートステアレス−５０アクリレートコポリマー、アクリレートステアレス−２０メタクリレートコポリマー、アクリレートアンモニウムメタクリレートコポリマー、スチレンアクリレートコポリマー、スチレンアクリレートアンモニウムメタクリレートコポリマー、アンモニウムスチレンアクリレートコポリマー、ナトリウムスチレンアクリレートコポリマー、アクリレートヒドロキシエステルアクリレートコポリマー、メタクリロイルエチルベタインアクリレートコポリマー、ラウリルアクリレート−ｖａコポリマー、ｖａ−ブチルマレアートイソボルニルアクリレートコポリマー、エチレンメタクリレートコポリマー、ビニルカプロラクタム−ｖｐジメチルアミノエチルメタクリレートコポリマー、ナトリウムアクリレートアクロレインコポリマー、ｖｐ−ジメチルアミノエチルメタクリレートコポリマー、および類似のコポリマー、およびそれらの混合物が挙げられる。アクリル酸およびその塩のポリマーの例としては、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸アンモニウム、ポリアクリル酸カリウムアルミニウム、ポリアクリル酸カリウム、ポリアクリル酸ナトリウム、および類似のポリマー、並びにコポリマーまたは別のフイルム形成剤を有する混合物を含む、その混合物であり得る。
【００４６】
加えてまたは代わりに、細孔形成組成物は、通気性フイルムを形成できる材料を含み得るまたはそれから選択することができる。すなわち、そのフイルムは、例えば、酸素、または類似の気体、および水または多孔質ポリマー被覆または通気性フイルムをエッチング後の表面から除去できる他の適切な溶媒などのエッチング液または溶出液などの液体に対して透過性である。
【００４７】
実施の形態において、本開示は、例えば、選択的に施された被覆を含む多孔質被覆を有する表面をエッチングすることによって、防眩表面を製造する方法を提供する。マスク−エッチングプロセス（例えば、米国特許第７５１７４６６号明細書；P. Mansky, et al., Appl. Phys. Lett., Vol. 68, No. 18, p. 2586-2588；M. Park, et al., Science, Vol. 276, 1401-1406を参照のこと）によりリソグラフィー技術において調製される高規則性多孔質パターンとは異なり、本開示では、スポット、細孔、開放区域、マスキングされた区域、およびスポットと細孔の同様の堆積、またはそれらの組合せの任意の規則的分布または無作為分布を有する多孔質マスキングされた表面またはスポット付き表面が好まれる。
【００４８】
実施の形態において、表面マスクスポット形成または細孔形成は、選択的施用、例えば、微視的または極微視的規模で、スプレーコータまたは類似の装置または方法などの、任意の適切な被覆方法を使用して、物品の少なくとも１つの表面を任意の適切な被覆材料に接触させることによって行うことができる。
【００４９】
エッチング液は、例えば、フッ化物イオンの供給源、鉱酸、緩衝液、またはそれらの組合せであって差し支えない。フッ化物の供給源の例としては、フッ化アンモニウム、二フッ化アンモニウム、フッ化ナトリウム、二フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、二フッ化カリウムから選択される塩、および類似の塩、またはそれらの組合せが挙げられる。鉱酸は、例えば、硫酸、塩化水素酸、硝酸、リン酸、および類似の酸、またはそれらの組合せの内の１つであって差し支えない。
【００５０】
多孔質ポリマー層をエッチング液に接触させる工程は、例えば、約０．１から約５分間に亘り行って差し支えない。エッチング液に接触した多孔質ポリマー層を物品の表面から除去する工程は、例えば、ポリマー層を溶解液に接触させる工程、ポリマー層を加熱して液化し液体ポリマーを排出させる工程、またはそれらの組合せの内の少なくとも１つであり得る。表面粗さ（Ｒａ）、表面ヘイズ、および像の鮮明度、またはそれらの組合せの内の少なくとも１つの選択；および選択された表面粗さ、表面ヘイズ、および像の鮮明度の内の少なくとも１つを得るための、特定された組の条件による表面のエッチング、例えば、１分間の２ＭのＨＦと２．４ＭのＨ2ＳＯ4の混合物によるエッチング。実施の形態において、片面ＤＯＩ値は、例えば、約４０から約７０（ＤＯＩ２０°について）であり得、ヘイズは約１０％未満である。表面ヘイズは、例えば、５０％以下であり得、表面粗さは約８００ｎｍ未満であり、反射像の鮮明度は約９５未満である。前記方法は、グリコール、アルコール、界面活性剤、またはそれらの組合せの内の少なくとも１つを含む湿潤剤をさらに含み得る。ガラス物品は、例えば、ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス、アルカリ土類アルミノケイ酸塩ガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、アルカリホウケイ酸ガラス、および類似のガラス、またはそれらの組合せの内の１つであり得る。ガラス物品は、例えば、６０〜７０モル％のＳｉＯ2、６〜１４モル％のＡｌ2Ｏ3、０〜１５モル％のＢ2Ｏ3、０〜１５モル％のＬｉ2Ｏ、０〜２０モル％のＮａ2Ｏ、０〜１０モル％のＫ2Ｏ、０〜８モル％のＭｇＯ、０〜１０モル％のＣａＯ、０〜５モル％のＺｒＯ2、０〜１モル％のＳｎＯ2、０〜１モル％のＣｅＯ2、５０ｐｐｍ未満のＡｓ2Ｏ3、および５０ｐｐｍ未満のＳｂ2Ｏ3を含み、１２モル％≦Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ≦２０モル％および０モル％≦ＭｇＯ＋ＣａＯ≦１０モル％であるアルカリアルミノケイ酸塩ガラスであり得る。アルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、例えば、６１〜７５モル％のＳｉＯ2、７〜１５モル％のＡｌ2Ｏ3、０〜１２モル％のＢ2Ｏ3、９〜２１モル％のＮａ2Ｏ、０〜４モル％のＫ2Ｏ、０〜７モル％のＭｇＯ、および０〜３モル％のＣａＯ、または例えば、６０〜７２モル％のＳｉＯ2、９〜１６モル％のＡｌ2Ｏ3、５〜１２モル％のＢ2Ｏ3、８〜１６モル％のＮａ2Ｏ、および０〜４モル％のＫ2Ｏを有し、以下の比：
【数２】
2013529316.tif 000004
【００５１】
が成り立つものであり得る。
【００５２】
実施の形態において、本開示は、ガラス物品において、
少なくとも１つの防眩表面であって、
ｉ．  約１０％未満のヘイズ、
ｉｉ．  約４０から約７５の像の鮮明度（ＤＯＩ２０°）、および
ｉｉｉ．  約１００から約３００ｎｍの表面粗さ（Ｒａ）、
を有する防眩表面、
を備えたガラス物品を提供する。
【００５３】
実施の形態において、ガラス物品は、良好から優れた均一特性を有し得る、すなわち、検出可能な線傷、ピンホール、斑点、および類似の欠陥がない。ガラス物品は、例えば、手持ち型電子装置、情報関連端末、またはタッチセンサ装置の内の少なくとも１つの保護カバーを提供するガラス板であり得る。そのガラス物品の防眩表面は、例えば、約１から約５０マイクロメートルの平均直径を有する地形の分布であり得る。この防眩表面は、例えば、情報表示装置、メディア表示装置、および類似の装置などの、表示装置の保護カバーガラスであり得る。
【００５４】
実施の形態において、本開示は、例えば、
その性質が防眩表面を提供する、約１０％未満のヘイズ、約４０から約７５の像の鮮明度（ＤＯＩ２０°）、および約１００から約３００ｎｍの表面粗さ（Ｒａ）を含む少なくとも１つの粗面を有するガラスパネル、および
そのガラスパネルに隣接したピクセル化された画像表示パネル、
を備えたディスプレイシステムを提供する。
【００５５】
実施の形態において、本開示は、防眩表面を有するガラス物品を製造する方法、およびガラス物品の表面上に防眩表面を形成する方法を提供する。
【００５６】
実施の形態において、本開示は、固有の機械的表面特性を維持しながら、ガラス上に防眩表面を生成するウェットエッチング方法を提供する。そのプロセス中、多孔質ポリマー層を有するガラス表面が、可視光の散乱を担う表面粗さ寸法を変更するようにガラス表面を優先的に劣化させることのできる化学物質に暴露される。ソーダ石灰ケイ酸塩ガラスにおけるように、ガラス中に相当な量の移動性アルカリイオンが存在する場合、粗面は、例えば、ガラス表面、ガラス表面の一部分、またはガラス表面のアクセスの限られた部分を、フッ化物イオンを含有する溶液などの酸エッチング液中でまたは酸エッチング液と接触させることによって、形成できる。
【００５７】
実施の形態において、本開示は、ガラス表面上に有機被覆材料、主にポリマーを施す工程、および被覆されたガラスをＨＦまたはＨＦと他の酸エッチング液との混合物に接触させて、ＡＧ表面を形成する工程を含む、防眩（ＡＧ）ガラス表面を製造する方法を提供する。エッチング中、ポリマーは、ガラス表面上で不均一で一時的なマスクとして働く。施されたポリマーがガラス上に多孔質フイルムを形成する。被覆されていないすなわち多孔質フイルム区域は、酸中で、エッチングされるのに対し、ポリマーフイルムで被覆された区域は保護され、ディファレンシャル・エッチングが行われる。そのようなディファレンシャル・エッチングにより、粗い不均一な表面が形成される。そのポリマーは、多孔質開口のサイズおよび割合が制御できる限り、様々な方法によって表面に施すことができる。ポリマー施用方法の例としては、吹付け被覆、インクジェット印刷、浸漬被覆、および類似の方法、またはそれらの組合せが挙げられる。
【００５８】
ＡＧ表面を形成するために多孔質ポリマーマスクを使用する本開示の特に重要な態様には、例えば、以下が挙げられる：
良好な光学的性質：良好なＤＯＩ値（２０°ＤＯＩについて約７０未満）を容易に達成できる。ヘイズは約１０％未満であり得、スパークルは、化学エッチングされたサンプルのものと同程度か良好である。典型的に、片面エッチングされたガラスについて、ＤＯＩ２０°は、例えば、約５０から約７０などの約１００未満であり得、ヘイズは、約１０％未満であり得、スパークルが少ないことが一般に望ましい。
【００５９】
短い工程所要時間（高いスループット）：ガラス表面にポリマーを施した後、酸中のエッチング時間は約１０分未満であり、多くの場合、たった約１分が使用される。エッチング時間は、多浴化学エッチングシステムよりもずっと短くあり得、この短縮されたエッチングプロセスはより高いスループットを提供できる。
【００６０】
拡大可能性：ガラス板への吹付け被覆またはインクジェットポリマーの施用などの方法は、小型板から大型板に容易に拡大可能である。例えば、垂直または水平浸漬を使用したエッチングプロセス、または酸の吹付けも、拡大可能である。
【００６１】
異なるレベルの光学的性質を達成するための融通性：ＡＧ表面の光学的性質、特にＤＯＩは、異なるプロセス条件により、または例えば、異なる酸濃度またはエッチング時間を独立して使用して、調節することができる。このプロセスは、著しい調節を必要とせずに、異なるタイプのガラス組成物に使用できる。エッチングプロセスについて、エッチング化学物質は、ガラス組成物に応じて変えてもよい。
【００６２】
ガラス厚のわずかな損失：酸中のエッチング時間は典型的に約１分未満であるので、ガラス厚の損失は、中間値および中間範囲を含む、約２０マイクロメートル未満、約１０マイクロメートル未満、約５マイクロメートル未満、および約２マイクロメートル未満であり得る。
【００６３】
簡単なプロセスおよび低コスト：開示されたプロセスは、ポリマーが施された後にエッチングのための簡単な浴しか使用せず、これは、多数の化学物質のエッチングシステムよりも簡単である。開示されたプロセスは、消費されるエッチング化学物質の総費用を著しく減少させることができる。
【００６４】
幅広いポリマーの選択：開示されたプロセスに有用なポリマーは、例えば、高分子インクおよび紫外線硬化性インクを含む、幅広い範囲から選択できる。
【００６５】
本開示のこれらと他の態様が、ここに説明され、実証される。
【００６６】
実施の形態において、物品は、ソーダ石灰ケイ酸塩ガラス、アルカリ土類アルミノケイ酸塩ガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、アルカリホウケイ酸ガラス、およびそれらの組合せの内の１つを含む、から実質的になる、またはからなる。そのようなガラスの例がここに記載されている。シリカ材料および関連する金属酸化物材料の追加の定義、説明、および方法については、例えば、R.K.Iler, The Chemistry of Silica, Wiley-Interscience, 1979を参照のこと。
【００６７】
実施の形態において、ガラス物品は、ディスプレイおよびタッチスクリーン用途、例えば、電話、音楽プレーヤー、ビデオプレーヤー、または類似の装置などの携帯通信およびエンターテイメント装置、および情報関連端末（ＩＴ）（例えば、携帯型またはラップトップコンピュータ）装置のためのディスプレイスクリーンとして、および類似の用途のためのカバープレートおよび窓として使用されるものなどの透明または半透明のガラス板であって差し支えない。ガラス物品または基板は、約３ミリメートル（ｍｍ）までの厚さを有し得る。実施の形態において、その厚さは約０．２から約３ｍｍまでであり得る。実施の形態において、ガラス物品は、研磨されていない表面を少なくとも１つ有し得る。実施の形態において、物品または基板の表面を被覆する工程は、追加の随意的な準備手法、前処理手法、または後処理手法、例えば、石鹸または洗浄剤による洗浄、超音波洗浄、界面活性剤による処理、および類似の方法を含む、当該技術分野で公知の方法を使用して、少なくとも１つの表面をエッチングするのを阻害するかもしれない油、異質物質、または他の残骸の除去を含み得る。
【００６８】
片面酸エッチングがガラス板に望ましい場合、ガラスの片面をエッチング液から保護することができる。保護は、アクリルワックスなどの不溶性の非多孔質被覆、または接着層、例えば、アクリル、シリコーン、および類似の接着材料を有するラミネート・フイルムを施す工程、またはそれらの組合せによって行うことができる。被覆を施す方法としては、例えば、はけ塗り、圧延、吹付け、積層、および類似の方法が挙げられる。酸エッチングに暴露される不溶性の非多孔質被覆は、エッチングプロセスに耐え、保護フイルムまたは多孔質ポリマー層の除去と同時にまたはそれとは別になどの、処理後に容易に除去することができる。
【００６９】
実施の形態において、ガラス物品が提供される。このガラス物品は、イオン交換可能であって差し支えなく、少なくとも１つの粗面を有する。この粗面は、２０°の入射角で測定した場合、９０未満の反射像の鮮明度（ＤＯＩ２０°）を有する。このガラス物品を備えたピクセル化ディスプレイシステムも提供される。ガラス物品は、例えば、少なくとも１つの縁により周囲で接合された２つの主面を有する平面板またはパネルであって差し支えないが、そのガラス物品は、例えば、三次元形状などの他の形状に形成することもできる。表面の少なくとも１つは、例えば、突起、凸部、凹部、ピット、閉じたまたは開いたセル構造、粒子、および類似の構造または形状、またはそれらの組合せなどの位相または形態的特徴を含む粗面である。
【００７０】
実施の形態において、本開示は、アルミノケイ酸塩ガラス物品を提供する。そのアルミノケイ酸塩ガラス物品は、少なくとも２モル％のＡｌ2Ｏ3を含み、イオン交換可能であり得、少なくとも１つの粗面を有する。アルミノケイ酸塩ガラス物品は、複数の位相特徴を含む粗面を少なくとも１つ有する。これら複数の位相特徴は、約１マイクロメートルから約５０マイクロメートルの平均の特有な最大特徴サイズ（ＡＬＦ）を有し得る。
【００７１】
実施の形態において、本開示はディスプレイシステムを提供する。このディスプレイシステムは、少なくとも１枚のアルミノケイ酸塩ガラスパネルおよびそのアルミノケイ酸塩ガラスパネルに隣接したピクセル化画像表示パネルを備え得る。この画像表示パネルは、最小の元々のピクセルピッチ寸法を有する。ガラスパネルの平均の特有な最大特徴サイズは、表示パネルの最小の元々のピクセルピッチ寸法未満であり得る。ピクセル化画像表示パネルは、例えば、ＬＣＤディスプレイ、ＯＬＥＤディスプレイ、または類似の表示装置の内の１つであり得る。ディスプレイシステムは、タッチセンス要素または表面も含み得る。アルミノケイ酸塩ガラスは、イオン交換可能であり得、平均の最大特徴サイズ、すなわちＡＬＦを有する複数の特徴を含む粗面を少なくとも１つ有し、画像表示パネルは最小の元々のピクセルピッチを有する。最小の元々のピクセルピッチは、例えば、アルミノケイ酸塩ガラスパネルの粗面のＡＬＦより大きくても差し支えない。
【００７２】
ＡＬＦは、ガラスの粗面の面内（すなわち、ｘｙ方向または粗面に対して平行に）で測定され、したがって、粗さには関係ない。粗さは、ガラスの粗面に対して垂直なｚ方向（厚さ方向）における、特徴のばらつきの尺度である。最大の特有の特徴を選択することは、よりグローバルな平均特徴サイズを決定する他の特徴からの重要な区別である。最大の特徴は、人の目により最も見易く、したがって、ガラス物品の外観を決定する上で最も重要である。実施の形態において、少なくとも１つの粗面の位相または形態的特徴は、約１マイクロメートルから約５０マイクロメートル、約５マイクロメートルから約４０マイクロメートル、約マイクロメートルから約３０マイクロメートル、および約１４マイクロメートルから約２８マイクロメートルの平均の特有な最大特徴（ＡＬＦ）サイズを有する。平均の特有な最大特徴サイズは、粗面上の視野内の最大の２０個の繰り返し特徴の平均の断面長さ寸法である。特徴サイズを測定するために、標準の較正された光学顕微鏡が典型的に使用できる。視野は、特徴サイズに比例し、典型的に、約３０（ＡＬＦ）×３０（ＡＬＦ）の面積を有する。例えば、ＡＬＦが約１０マイクロメートルである場合、２０個の最大特徴が選択される視野は、約３００マイクロメートル×３００マイクロメートルである。視野のサイズにおける小さな変化は、ＡＬＦに著しくは影響しない。ＡＬＦを決定するために使用される２０個の最大特徴の標準偏差は、一般に、平均値の４０％未満であるべきである、すなわち、主な異常値は、これらは「特有の」特徴と考えられないので、無視すべきである。
【００７３】
防眩表面の地形の例としては、約４００ｎｍ未満の最大寸法を有する、凸部または突起、凹部などの特徴が挙げられる。実施の形態において、これらの地形特徴は、約１０ｎｍから約２００ｎｍの平均距離で互いから離れ、または間隔が置かれていても差し支えない。その結果として生じた防眩表面は、表面上の山谷差（ＰＶ）測定によって測定される平均粗さを有し得る。実施の形態において、防眩表面は、約８００ｎｍの、約５００ｎｍの、および約１００ｎｍのＲＭＳ粗さを有し得る。
【００７４】
ＡＬＦを計算するために使用される特徴は、「特有である(Characteristic)」、すなわち、少なくとも２０個の類似の特徴が、比例する視野に位置して差し支えない。異なる形態または表面構造を、ＡＬＦを使用して特徴付けても差し支えない。例えば、ある表面構造は、閉じたセルが繰り返す構造であるように見え、別の構造は、大きな平坦域により隔てられた小さなピットであるように見え、第３の構造は、断続的な大きい平滑領域により中断される小さな粒子の領域のように見えてもよい。各場合において、ＡＬＦは、実質的に光学的に平滑な最大の２０個の繰り返しの表面領域を測定することによって決定される。繰り返しの閉じたセル表面構造の場合には、測定すべき特徴は、閉じたセルのマトリクスにおけるセルの最大のものである。大きい平坦域により隔てられた小さなピットを含む表面構造について、ピット間の最大の平坦域を測定すべきである。断続的な大きい平滑領域により中断される小さな粒子の領域を含む表面について、断続的な大きい平滑領域を測定すべきである。それゆえ、実質的に様々な形態を有する表面の全ては、ＡＬＦを使用して特徴付けることができる。
【００７５】
実施の形態において、ガラス物品の少なくとも１つの粗面は、約１０ｎｍから約８００ｎｍの平均ＲＭＳ粗さを有し得る。実施の形態において、平均ＲＭＳ粗さは、約４０ｎｍから約５００ｎｍであり得る。実施の形態において、平均ＲＭＳ粗さは、約４０ｎｍから約３００ｎｍであり得る。実施の形態において、平均ＲＭＳ粗さは、約１０ｎｍ超かつＡＬＦの約１０％未満であり得る。実施の形態において、平均ＲＭＳ粗さは、約１０ｎｍ超かつＡＬＦの約５％未満、および約１０ｎｍ超かつＡＬＦの約３％未満であり得る。
【００７６】
低ＤＯＩおよび高Ｒｏｓ／Ｒｓの仕様により、特有の特徴サイズおよびＡＬＦに制約が与えられる。所定の粗さレベルについて、より大きい特徴サイズにより、より低いＤＯＩおよびより高いＲｏｓ／Ｒｓがもたらされることが分かった。したがって、実施の形態において、ディスプレイのスパークルおよびＤＯＩ標的のバランスをとるために、小さすぎもせず、大きすぎもしない中間の特有の特徴サイズを有する防眩表面を形成することが望ましい。また、透過ヘイズが非常に高角度に散乱し、それにより、周囲照明下で粗くされた物品が乳白色の外観になり得る場合、反射ヘイズまたは透過ヘイズを最小にすることが望ましい。
【００７７】
「透過ヘイズ」、「ヘイズ」、または類似の用語は、ＡＳＴＭ  Ｄ１００３にしたがう±４．０°の角度の円錐の外側に散乱された透過光の割合を称する。光学的に平滑な表面について、透過ヘイズは一般にゼロに近い。両面が粗くされたガラス板の透過ヘイズ（ヘイズ両面）は、式（２）にしたがう、片面のみが粗くされた同等表面を有するガラス板の透過ヘイズ（ヘイズ片面）に関連付けられる：
【数３】
2013529316.tif 000005
【００７８】
ヘイズ値は、通常、ヘイズパーセントで報告される。式（２）からのヘイズ両面の値は、１００で乗じなければならない。実施の形態において、開示されたガラス物品は、約５０％未満、さらには約３０％未満の透過ヘイズを有し得る。
【００７９】
多段階表面処理プロセスを使用して、ガラスの粗面を形成してきた。「Glass Having Anti-Glare Surface adn Method of Making」と題する、２００９年３月３１日に出願された、カールソンの同一出願人の同時係属出願である米国仮特許出願第６１／１６５１５４号明細書に、多段階エッチングプロセスの例が開示されており、ここでは、ガラス表面を第１のエッチング液で処理して、表面に結晶を形成し、次いで、各結晶の隣接する領域を所望の粗さまでエッチングし、その後、ガラス表面から結晶を除去し、ガラス物品の表面の粗さを減少させて、その表面に所望のヘイズと光沢を与えている。
【００８０】
エッチング液と接触させる工程は、例えば、２から１０質量％のフッ化水素酸および塩化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸、および類似の酸、またはそれらの組合せなどの、２から３０質量％の鉱酸を含む酸性エッチング液に関する、例えば、選択的な部分的または完全な浸漬塗り、吹付け、浸漬、および類似の処理を含み得る。実施の形態において、一般的なエッチングの傾向は、フッ化物イオンの濃度がガラス基板のエッチングの程度に影響する傾向にあり、プロトン酸の濃度が、基板のエッチング中の保護被覆の劣化の程度に影響する傾向にあるようである。ガラス表面は、約１から約１０分の期間に亘り溶液中でエッチングして差し支えなく、一般に時間が長いほど、表面粗さが大きくなる。開示された濃度およびエッチング時間は、適切な例を表す。もしかするとそれほど効率的ではないかもしれないが、開示された範囲から外れた濃度およびエッチング時間を使用して、ガラス物品の粗面を得ても差し支えない。
【００８１】
化学強化において、ガラス表面近くにあるより小さい移動性アルカリイオンが、より大きいアルカリ金属イオンと交換される。このイオン交換プロセスはガラスの表面を圧縮下に置き、その表面を機械的損傷に対してより耐性にする。実施の形態において、ガラス物品の外面は、必要に応じてイオン交換されてよく、この場合、より小さい金属イオンが、この小さなイオンと同じ価数を有するより大きい金属イオンにより置換すなわち交換される。例えば、ガラス中のナトリウムイオンは、カリウムイオンを含有する溶融塩浴中にそのガラスを浸漬することによって、より大きいカリウムイオンで置換することができる。より小さいイオンのより大きいイオンによる置換によって、層内に圧縮応力が生じる。実施の形態において、ガラスの外面近くにある大きいイオンは、例えば、ガラスの歪み点より高い温度までそのガラスを加熱することによって、より小さいイオンで置換することができる。歪み点より低い温度に冷却した際に、ガラスの外層に圧縮応力が生じる。ガラスの化学強化は、必要に応じて、粗面化処理後に行っても差し支えなく、ガラス物品の強度またはイオン交換挙動にはほとんど悪影響はない。
【００８２】
適切に設計を選択することによって、開示のプロセスは、片面サンプルを製造するために背面保護は必要ない。片面サンプルは、例えば、片面浸漬、吹付け、または回転塗布方法を使用して調製することができる。多浴の従来のプロセスでは、背面保護フイルムが必要であり、これにより、製造コストが嵩み得る。
【００８３】
実施の形態において、前記アルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、例えば、６０〜７０モル％のＳｉＯ2、６〜１４モル％のＡｌ2Ｏ3、０〜１５モル％のＢ2Ｏ3、０〜１５モル％のＬｉ2Ｏ、０〜２０モル％のＮａ2Ｏ、０〜１０モル％のＫ2Ｏ、０〜８モル％のＭｇＯ、０〜１０モル％のＣａＯ、０〜５モル％のＺｒＯ2、０〜１モル％のＳｎＯ2、０〜１モル％のＣｅＯ2、５０ｐｐｍ未満のＡｓ2Ｏ3、および５０ｐｐｍ未満のＳｂ2Ｏ3を含み、から実質的になり、またはからなり、１２モル％≦Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏ≦２０モル％および０モル％≦ＭｇＯ＋ＣａＯ≦１０モル％である。実施の形態において、前記アルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、例えば、６０〜７２モル％のＳｉＯ2、９〜１６モル％のＡｌ2Ｏ3、５〜１２モル％のＢ2Ｏ3、８〜１６モル％のＮａ2Ｏ、および０〜４モル％のＫ2Ｏを含み、から実質的になり、またはからなり得る。実施の形態において、前記アルカリアルミノケイ酸塩ガラスは、例えば、６１〜７５モル％のＳｉＯ2、７〜１５モル％のＡｌ2Ｏ3、０〜１２モル％のＢ2Ｏ3、９〜２１モル％のＮａ2Ｏ、０〜４モル％のＫ2Ｏ、０〜７モル％のＭｇＯ、および０〜３モル％のＣａＯを含み、から実質的になり、またはからなり得る。実施の形態において、前記ガラスに、Ｎａ2ＳＯ4、ＮａＣｌ、ＮａＦ、ＮａＢｒ、Ｋ2ＳＯ4、ＫＣｌ、ＫＦ、ＫＢｒ、ＳｎＯ2、またはそれらの組合せなどの清澄剤少なくとも１種類を０から２モル％バッチ配合しても差し支えない。前記アルミノケイ酸塩ガラスは、実施の形態において、リチウムを実質的に含まなくて差し支えない。実施の形態において、前記アルミノケイ酸塩ガラスは、ヒ素、アンチモン、バリウム、またはそれらの組合せの内の少なくとも１つを実質的に含まなくて差し支えない。
【００８４】
実施の形態において、選択されるガラスは、例えば、ダウンドロー可能である、すなわち、当該技術分野に公知のスロットドロープロセスまたはフュージョンドロープロセスなどの方法によって成形可能である。これらの場合において、前記ガラスは、少なくとも１３０キロポアズの液相線粘度を有し得る。アルカリアルミノケイ酸塩ガラスの例が、２００７年５月２２日に出願された米国仮特許出願第６０／９３０８０８号への優先権を有する、２００７年７月３１日に出願された、「Down-Drawable Chemically Strengthened Glass for Cover Plate」と題するEllison等への本願と同一出願人の米国特許出願第１１／８８８２１３号；２００７年１１月２９日に出願された米国仮特許出願第６１／００４６７７号からの優先権を主張する、２００８年１１月２５日に出願された、「Glasses Having Improved Toughness and Scratch Resistance」と題するDejneka等への米国特許出願第１２／２２７５７３号；２００８年２月２６日に出願された米国仮特許出願第６１／０６７１３０号からの優先権を主張する、２００９年２月２５日に出願された、「Fining Agents for Silicate Glasses」と題するDejneka等への米国特許出願第１２／３９２５７７号；２００８年２月２９日に出願された米国仮特許出願第６１／０６７７３２号に優先権を主張する、２００９年２月２６日に出願された、「Ion-Exchanged, Fast Cooled Glasses」と題するDejneka等への米国特許出願第１２／３９３２４１号；２００８年８月８日に出願された、「Chemically Tempered Cover Glass」と題する、米国仮特許出願第６１／０８７３２４号への優先権を有する、２００９年８月７日に出願された、「Strengthened Glass Articles adn Methods of Making」と題するBarefoot等への米国特許出願第１２／５３７３９３号；２００９年８月２１日に出願された、「Crack and Scratch Resistant Glass and Enclosures Made Therefrom」と題するBarefoot等への米国仮特許出願第６１／２３５７６７号；および２００９年８月２１日に出願された、「Zircon Compatible Glasses for Down Draw」と題するDejneka等への米国仮特許出願第６１／２３５７６２号に記載されている。
【００８５】
以下の実施例に記載されたガラス表面および板は、例えば、表１に列記されたガラス組成１から１１を含む、どのような適切な被覆可能かつエッチング可能なガラス基板または類似の基板を使用することができる。
【表１】
2013529316.tif 000006
【００８６】
実施の形態において、開示のプロセスに使用するための特に有用かつ好評なガラス組成物は、コーニング社(Corning, Inc.)から市販されているコード２３１８ガラス（表１の組成２を参照）（すなわち、Ｃｏｒｎｉｎｇ（登録商標）Ｇｏｒｉｌｌａ（登録商標）ガラス；例えば、www.corning.com/WorkArea/downloadasset.aspx?id=26021を参照のこと）（前出の米国仮特許出願第６１／２３５７６２号明細書を参照のこと）である。コード２３１８ガラスは、以下の複合範囲内で特定された組成を有し得る、例えば：６１モル％≦ＳｉＯ2≦７５モル％、７モル％≦Ａｌ2Ｏ3≦１５モル％、０モル％≦Ｂ2Ｏ3≦１２モル％、９モル％≦Ｎａ2Ｏ≦２１モル％、０モル％≦Ｋ2Ｏ≦４モル％、０モル％≦ＭｇＯ≦７モル％、および０モル％≦ＣａＯ≦３モル％。
【実施例】
【００８７】
以下の実施例は、上述した開示を使用する様式をより十分に説明し、本開示の様々な態様を実施するために考えられる最良の様式をさらに述べる働きをする。これらの実施例は、本開示の範囲を限定するものではなく、むしろ説明目的のために提示されていることが理解されよう。実施例は、本開示のハイブリッドをどのように調製するかをさらに説明する。
【００８８】
実施例１
ガラス表面への保護ポリマーフイルムの施用．  ガラス表面に多孔質ポリマーを施すために、例えば、吹付け被覆、インクジェット印刷、浸漬被覆、および類似の方法を含む、多くの様々な方法を利用できる。所望であれば、被覆およびエッチングを一貫したものにするために、ガラス表面を、ポリマーを施す前に標準的なガラス洗浄手法により洗浄して差し支えない。これにより、最終製品における一貫した粗さ特性が促進される。
【００８９】
図面を参照すると、図１はプロセスの態様を示している。図１ａおよび１ｂは、ガラス板（１００）に細孔形成ポリマーを施すための可能な選択肢、例えば、それぞれ、ポリマー溶液（１１０）の吹付け被覆（１０５）、およびポリマー溶液の液滴（１２０）のインクジェット印刷（１１５）を示している。被覆後、ガラスは、例えば、コンベヤ上で移動中または酸槽中にある間、熱または紫外線方法などにより、必要に応じて硬化させて、ポリマーの接着力を増加させても差し支えない。硬化条件は、選択されるポリマーに依存し得る。次いで、ポリマー被覆板（１３５）を、図１ｃに示されるように、例えば、所定の時間に亘り酸浴（１３０）を含有する槽（１２５）中に垂直または水平に浸漬することができる。代わりの方法は、ガラス板を酸タンクに出し入れするように移送するコンベヤ上にガラス板を配置することである。滞在時間は、例えば、浴のサイズおよびコンベヤの速度により制御することができる。別の代わりの方法は、ポリマー被覆されたガラス板（１３５）の片面または両面に酸（図示せず）を直接吹き付けることである。
【００９０】
実施例２
保護ポリマーフイルムを有するガラス表面のエッチング．  エッチング時間と温度を制御して変えながら、様々な酸配合物を使用して、例えば、５分間のエッチング時間で、３ＭのＨＦと３．６ＭのＨ2ＳＯ4の酸濃度で、周囲（２５℃）温度で、および類似の条件で、実施例１にしたがって調製した保護ポリマーフイルムを有するガラス板をエッチングした。
【００９１】
エッチング後、ガラス板を酸槽から取り出し、濯ぎ浴／槽（例えば、脱イオン水）中に入れて、この板の表面から酸とポリマーを除去することができる。所望であれば、ポリマーの除去を加速させるために、濯ぎ浴の温度を上昇させても差し支えない。濯ぎ工程によってポリマーが完全には除去できない場合、ポリマーを除去するために、追加の適切な溶媒を塗布することができる。必要に応じて、濯ぎ浴中に溶媒を加えてまたは含ませて、酸とポリマーの完全な除去を同時に行うこともできる。特別な実施の形態において、残留するポリマーは、例えば、酸と相互作用して、その濃度を変えることにより、または下にある表面区域の早すぎるまたは過剰な露出により、その後のガラス板のエッチングと干渉し得るので、ポリマーは酸浴中では除去されない。エッチング中にポリマーがガラス表面から早まって剥がれるのを防ぐために、ガラスや液体の撹拌または動作は行われない。
【００９２】
エッチング溶液は、例えば、ＨＦ、またはガラスをエッチングできる、ＮＨ4ＨＦ2などの他の適切な化学物質、およびその塩を含有し得る。酸性度を増加させるために、ＨＣｌ、Ｈ2ＳＯ4または有機酸などの他の酸をその溶液に含ませても差し支えない。エッチング時間は、例えば、約１分などの１０分未満であり得る。
【００９３】
ポリマーで被覆する目的は、ガラス表面を均一な連続フイルムで被覆することではなく、むしろ多孔質のまたは部分的に露出された区域を有する被覆表面を提供することにある。ガラス表面上の小さいが数多くの多孔質区域が被覆されていない、すなわち、それらの区域は未被覆すなわち覆われていない。酸エッチング中、ガラス表面の多孔質区域は酸に攻撃され、被覆区域はポリマーにより保護される。そのようなディファレンシャル・エッチングにより粗面が形成され、これにより目的のＡＧ特性が与えられる。
【００９４】
未被覆多孔質区域の割合および多孔質開口のサイズは、ＡＧ表面の光学的および視覚的外観の目標を達成するために制御することができる。図２はカラー顕微鏡画像（グレースケールで示されている）を示しており、ポリマーによる表面被覆率が次第に減少しており、気孔率または開口区域が次第に増加している。図２ａから２ｈの一連の画像は、ポリマーが施された後のガラス表面を示している。各画像は、ガラス表面上の減少するポリマーによる表面被覆率（黒色）および増加する開口区域（白色）を示している。灰色は、中間の厚さの区域または薄いポリマー被覆を表す。増加する多孔質区域の割合（％）は、図２ａから２ｈについて、それぞれ、０．２７、１．４、２．１、３．８、６．９、９．２、１３．２、および２０．９であると推定される。
【００９５】
図３は、ＤＯＩと未被覆区域、すなわち、ポリマー層の細孔または孔により生じる露出区域を有するポリマー被覆区域の割合との間の関係を示している。図３は、ポリマーのマスキングによるガラス表面上の未被覆多孔質区域の割合と酸エッチング後のその結果生じたＤＯＩ（２０°）をグラフに示している。直接比較のために、２種類の異なる酸濃度を選択した：３ＭのＨＦと３．６ＭのＨ2ＳＯ4の混合物（菱形により表されるデータ点）；および２ＭのＨＦと２．４ＭのＨ2ＳＯ4の混合物（正方形により表されるデータ点）。詳しくは、これらのデータは、同じ酸濃度、例えば、３ＭのＨＦと３．６ＭのＨ2ＳＯ4では、ＤＯＩは、未被覆多孔質区域の割合が０から約１％に増加するにつれて、最初に減少し、次いで、割合が約５％に増加するまでは著しく変化しない。５％を超えると、ＤＯＩは、未被覆多孔質区域の割合が増加するにつれて、増加する。非常に高いポリマーの表面被覆率（例えば、約９９％超）について、たとえＤＯＩが仕様（例えば、片面エッチングについて７０未満）を満たしたとしても、そのような領域はそれほど望ましくない。第１に、図３に示されるように、ＤＯＩは、未被覆多孔質区域の割合におけるわずかな上昇にさえも敏感である。第２に、外観が良好ではない。
【００９６】
実施の形態において、約１％より大きい未被覆多孔質表面区域の割合が特に有用である。図３に示されるように、少なくとも２つの方法により、異なるＤＯＩレベルを達成できる：多孔質ポリマー表面被覆率を変える；または酸濃度を変える。通常は、片面エッチングについて、スパークルを著しく増加させない約５０から約７０のＤＯＩが特に有用である。このレベルを達成するために、図３に示されるように、未被覆多孔質ポリマー区域の割合は、３ＭのＨＦと３．６ＭのＨ2ＳＯ4について、約１０から約２５％までであり得る。同じＤＯＩレベルが、酸濃度の減少（２ＭのＨＦ／２．４ＭのＨ2ＳＯ4）および少ない未被覆多孔質ポリマー区域（例えば、約１から約５％）によっても達成できる。酸中でのエッチング時間は、同じまま、すなわち、１分である。低い（例えば、約５％未満）未被覆多孔質ポリマー区域のサンプルについて、細孔開口の平均サイズ（開口に亘る直線の長さ）は、例えば、約５０マイクロメートル未満であり得る。細孔開口の平均サイズがそれより大きい場合、同じ量の未被覆細孔区域であれば、開口の数が少なくなる。したがって、均一性（先に定義された外観）は減少し、スパークルが高くなるであろう。大きい未被覆多孔質区域（例えば、約５％超）のサンプルについて、３０マイクロメートル未満の細孔開口の平均サイズが特に有用である。
【００９７】
図４に示されるように、ヘイズは、ＤＯＩが増加するにつれて減少する。エッチングされたサンプルＤＯＩ値が約５０から約７０である場合、ヘイズ値は５％未満であり、これは、ほとんどのディスプレイ用途にとって特に有用である。図４ａは、ポリマーマスキングによる未被覆多孔質区域の割合と、酸エッチング後に測定された結果として生じたヘイズとの間の関係を示している。図４ｂは、ヘイズとＤＯＩとの間の相関関係を示している。使用した２種類の異なる酸濃度（菱形と正方形により示されるデータ点）は、図３について先に記載したものであった。
【００９８】
図５は、ＤＯＩと表面粗さ（Ｒａ）との間の関係、詳しくは、多孔質ポリマーマスキングにより製造された酸エッチング済み表面に関する、表面粗さＲａと、ＤＯＩ（２０°）との間の関係を示す。一般に、ＤＯＩは、表面粗さが増加するにつれて減少する。約５０から約７０の典型的に目標にされるＤＯＩについて、低い表面粗さは典型的に約１００ｎｍであり、これにより、表面粗さの大きいサンプルと比べて、スパークルは減少するであろう。使用した２種類の異なる酸濃度（菱形と正方形により示されるデータ点）は、図３について先に記載したものであった。
【００９９】
図６ａおよび６ｂは、エッチングおよびマスクの除去後のガラス表面の顕微鏡画像（２００倍の倍率）の２つの例を示している。ＤＯＩ値は、図６ａおよび６ｂについて、それぞれ、７０および６０であった。これらの２つの例をエッチングする前の未被覆多孔質区域の割合は、それぞれ、０．３％および２．９％であった。画像上の各ドット（ピット）は、ポリマーを施した後の未被覆多孔質区域の部分に対応する。図６ａに示されるように、多孔質ポリマー表面の被覆率が高くなると（すなわち、９９．７％およびより少ない細孔）、図６ｂのエッチング画像を生成する、わずかに低い（９７．１％）ポリマー表面の被覆率のものと比べて、ドットの数がずっと少なくなる。満足で均一な外観を生成するために、重要な特徴は、例えば、より高密度のドット、すなわち、著しく低下した区域を含み得、これは、ポリマーを施した後の開口区域または細孔に対応し、全表面積被覆率の約１％超であり得る。図７ａおよび７ｂは、異なる多孔質ポリマー表面被覆率を有する図６ａおよび６ｂの２つのエッチング済みサンプルの表面地形画像を示している。図７ａの測定した表面粗さ（Ｒａ）は１７６ｎｍであり、図７ｂについては、１１０ｎｍであった。エッチング前のポリマー被覆区域内の未被覆多孔質区域の割合は、図７ａおよび７ｂについて、それぞれ、１％および３．８％であった。
【０１００】
図８は、マスキングされた表面積被覆率および細孔径または露出区域を有用に変えることのできる、様々な量の堆積されたスポットを有する表面を表す一連のシミュレーション画像を示している。このように、図８ａは、スポット（８０５）被覆区域および「開放」（８１０）区域を有する４ピクセルアレイ（８００）を示している。図８ｂは、スポット区域被覆率を増加させ（４つの８０５スポットに加え、８１５スポットの一部分）、「開放」または未被覆区域（８１７）を対応して減少させる、アレイの中心にある大きい第２のスポット（８１５）をさらに含む、図８ａの４ピクセルアレイを示している。図８ｃは、スポット区域被覆率を増加させ（４つの８１９スポット）、「星」に似た細孔形状を含む「開放」または未被覆区域（８２０）を対応して減少させる、４つの拡大された主要スポット（８１９）をここでは有する、図８ａの４ピクセルアレイを示している。図８ｄは、スポット区域被覆率を増加させ（４つの８２９スポット）、「菱形」または「正方形」に似た細孔形状を含む「開放」または未被覆区域（８３０）を対応して減少させる、４つのさらに拡大された主要スポット（８２９）をここでは有する、図８ｃの４ピクセルアレイを示している。
【０１０１】
図９は、５×１０アレイにおける堆積されたポリマースポットの数の変化により、マスキングされた表面積被覆率の変化および細孔形状構造を含む細孔径または露出区域の変化をもたらせることを示す、被覆表面を表す一連のシミュレーション画像を示している。図９ａは、「菱形」または「正方形」に似た細孔形状を含む、「開放」または未被覆区域（９０２）を有する被覆表面を生じる、スポット（９００）の詰まった５×１０アレイを示している。図９ｂは、連結した一連の「マルタ(Maltese)」十字に似た細孔形状を有する、未被覆区域（９０５）を有する被覆表面を生じる、垂直スポットが選択的または系統的に欠如した図９ａの５×１０アレイを示している。図９ｃは、「マルタ」十字に似た細孔形状を有する、未被覆区域（９１０）を有する被覆表面を生じる、対角線の交互のスポットが系統的に欠如した図９ａの５×１０アレイを示している。図９ｄは、一連の４つが結合した「マルタ」十字に似た細孔形状を有する、未被覆区域（９１５）を有する被覆表面を生じる、選択されたスポットが系統的に欠如した図９ａの５×１０アレイを示している。図９ｅは、連続した一連の「マルタ」十字に似た細孔形状を有する、未被覆区域（９２０）を有する被覆表面を生じる、全ての交互のスポットが系統的に欠如した図９ａの５×１０アレイを示している。図９ｆは、「絡んだ十字」に似た細孔形状を有する、未被覆区域（９２５）を有する被覆表面を生じる、隣接した２つのスポットが系統的に欠如した図９ａの５×１０アレイを示している。
【０１０２】
実施の形態において、スポットパターンの文脈における「欠如」は、例えば、制御された吹付け被覆または液滴印刷プロセス中に、例えば、選択されたスポットを除外する、すなわち、堆積させないことを称する。
【０１０３】
図１０は、スポットアレイにおける、例えば、スポットの数、スポットの相対的配向、相対的空間配置、スポットの間隔（すなわち、ピッチ）、および類似の置換、またはそれらの組合せの変化により、スポットの表面積被覆率および細孔形状を含む、その結果生じた細孔径または露出区域をさらに有用に変化させられることを示す、被覆表面の別の一連のシミュレーション画像を示している。図１０ａは、例えば、「シェブロン」または「蝶ネクタイ」に似た細孔形状を含む「開放」または未被覆または細孔区域（１００５）を有する被覆表面を生じる、密集したスポット（１０００）の５×１０アレイを示している。図１０ｂは、例えば、一連のずれて配置された「方形星形」に似ている細孔径状パターンを含む未被覆または細孔区域（１０１０）を有するスポット被覆表面を生じる、スポットの隣接列が図１０ａの密集からわずかに離れている、スポットの５×１０アレイを示している。
【０１０４】
図１０ｃは、結果として、細孔形状は変化せずにいるが、細孔の数が効果的に半分になった、図１０ｂの空間からより多く重なるために（より低い被覆率）、一列以上のスポットがわずかに詰められている、スポットの５×１０アレイを示している。
【０１０５】
図１０ｄは、「星の爆発」パターン（１０２０）に似た細孔径状を生じる、選択的にスポットが欠如したことを除いて、図１０ａにおけるスポットの５×１０アレイを示している。
【０１０６】
図１０ｅは、斜めの一連のスポットおよび開いたまたは連続した細孔形状（１０２５）パターンを生じる、選択的なスポットの欠落を有することを除いて、図１０ａにおけるスポットの５×１０アレイを示している。
【０１０７】
図１０ｆは、結果として、細孔形状が「蝶ネクタイ」に変化した、わずかにずれて配置された、縦向きに隣接する列を有するスポットの５×１０アレイを示している。
【０１０８】
図１１は、組み合わせられたまたは凝集したスポットパターンおよびその結果生じた変化により、スポットの表面積被覆率および細孔形状を含む細孔サイズをさらに有用に変化させられることを示す、第２の一連の塗布スポット（明確にするために灰色で示されている）をさらに含む、図１０に基づく一連のシミュレーション画像を示している。図１１ａは、より大きいサイズを有するが、図１０ａの細孔形状が、「菱形」または反対の「シェブロン」（１１０５）のパターンに減少している、類似の方向を有する、第２の一連の塗布スポット（灰色）をさらに含む、図１０ａのスポットの５×１０アレイ（１０００）を示している。図１１ｂは、サイズがより大きく、スポット間の間隔がより大きいが、図１１ｂの結果として生じた細孔形状が、「正方形」（１１１０）および「レンズ」（１１１５）の交互のパターンに変えられている、第１の一連のスポットに対して類似の方向を有する、第２の一連のスポット（灰色）をさらに含む、図１０ｂのスポットの５×１０アレイを示している。
【０１０９】
図１１ｃは、サイズと第２のスポット間の間隔がより大きいが、図１１ｃの結果として生じた細孔形状が「レンズ」（１１１５）のみに変えられている、第１の一連のスポットに対して類似の方向を有する、第２の一連のスポット（灰色）をさらに含む、図１０ｃのスポットの５×１０アレイを示している。
【０１１０】
図１１ｄは、サイズと第２のスポット間の間隔がより大きいが、図１１ｄの結果として生じた細孔形状（すなわち、優勢な反復モチーフ）が、「蝶ネクタイ」（１１１１）、「シェブロン」（１１０５）、および「星の爆発」（１１１２）の組合せである、第１の一連のスポットに対して類似の角度方向を有する、第２の一連のスポット（灰色）をさらに含む、図１０ｄのスポットの５×１０アレイを示している。
【０１１１】
図１１ｅは、サイズと第２のスポット間の間隔がより大きいが、図１１ｅの結果として生じた細孔形状が、縮んだ「星の爆発」（１１１６）である、第１の一連のスポットに対して類似の角度方向を有する、第２の一連のスポット（灰色）をさらに含む、図１０ｅのスポットの５×１０アレイを示している。
【０１１２】
図１１ｆは、図１１ｆの結果として生じた細孔形状が、角度が交互になった「蝶ネクタイ」（１１２０）である、サイズが大きく、第２のスポットの間の垂直間隔が大きい、第２の一連のスポット（灰色）をさらに含む、図１０ｆのスポットの５×１０アレイを示している。
【０１１３】
上述した説明と議論を鑑みて、スポットの堆積に関連する多くの要因が、スポットの表面被覆率およびその結果生じた細孔サイズと形状に影響し得ることが明らかである。堆積されたスポットにより達成できる細孔サイズおよび形状形態の要因の例としては、スポット区域被覆率、スポットサイズ、スポット形状（円形、楕円形など）、スポットの重複、混ざったスポットサイズの組合せ、スポットの欠如−系統的および無作為、スポットの無作為さ、スポットの数の多さ、スポットアレイのピッチ、ｘ−とｙ−のスポットの間隔、および類似の検討事項、並びにそれらの組合せが挙げられる。追加のスポット（第２の一連の、など）の堆積により、追加のスポットがどのように堆積されるかに応じて、スポットの無作為さが増減し得る。
【０１１４】
実施の形態において、スポットの化学組成および接着特性に応じて、スポットは、特により長いエッチング時間が選択された場合、表面から剥がれるすなわち分離される傾向にある。それゆえ、堆積されるスポットの厚さは、被覆（例えば、アクリレートポリマー；Ｈ2ＳＯ4の攻撃をより受けやすい）に対する基板（例えば、ガラス、ＨＦの攻撃をより受けやすい）のディファレンシャル・エッチングの速度における要因であり得る。堆積されるスポットの厚さと耐久性（エッチング抵抗性）も、結果としてエッチングされた表面の均一性または無作為さにおける要因であり得る。
【０１１５】
実施例３（予言的）
ソーダ石灰ガラス基板．  表１のガラス組成１１などのソーダ石灰ガラス基板を選択したことを除いて、実施例１と２を繰り返す。その結果得られたエッチング済みガラスは、他の同様に処理されたガラス基板について得られた防眩特性に匹敵する防眩特性を提供することが予測される。
【０１１６】
実施例４（予言的）
細孔形成ポリマー．  基板を、上述したＴＳＯ−３１００ＤＯＤインクまたはアセトン系ｏ／ｐ−トルエンスルホンアミドホルムアルデヒド樹脂などの細孔形成ポリマーで吹付け被覆し、次いで、エッチングし、ストリッピングしたことを除いて、実施例１と２を繰り返す。その結果得られたエッチング済みガラスは、他の同様に処理されたガラス基板について得られた防眩特性に匹敵する防眩特性を提供することが予測される。
【０１１７】
実施例５（予言的）
細孔形成粒子を含む非細孔形成ポリマー．  基板を、例えば、水溶性塩の微細な粒子、または塩化ナトリウムやショ糖などの類似の粒子を含有する非細孔形成ポリマーまたは樹脂で吹付け被覆することを除いて、実施例１と２を繰り返す。水溶性粒子の粒径は、粒子の直径が被覆されるポリマーの厚さよりも大きい厚さを有するように選択することができる。それらの粒子は、ポリマーフイルムから突出し、粒子が水またはエッチング液配合物中に溶解したときに、細孔形成の発端となる部位を提供する。被覆表面は、ここに開示されたようにエッチングされ、ストリッピングされる。その結果得られたエッチングされストリッピングされたガラスは、他の同様に処理されたガラス基板について得られた防眩特性に匹敵する防眩特性を提供することが予測される。
【０１１８】
エッチング後処理
実施例６（予言的）
随意的なイオン交換．  エッチング済みサンプルを、ガラス強化イオン交換（ＩＯＸ）工程、焼き戻し工程、またはその両方、およびエッチングの前後の類似のプロセスで必要に応じて処理する（例えば、強化およびイオン交換方法（ＩＯＸ）に関する上述した同一出願人の同時係属出願を参照のこと）。
【０１１９】
実施例７（予言的）
随意的なきずの減少．  所望であれば、エッチングした表面を必要に応じてさらに処理して、表面から欠陥または表面きずを除去し、表面の強度、靭性または耐引掻性、および外観特性を向上させても差し支えない（例えば、「Impact-Damage-Resistance Glass Sheet」と題する、２０１０年１月７日に出願された同一出願人の米国仮特許出願第６１／２８３０３２号を参照）。それゆえ、ここに開示された少なくとも１つの酸エッチング済み表面を、単独で、または焼き戻し表面圧縮層と組み合わせて、含むガラス板に、表面焼き戻し処理と、次いで、追加の酸エッチング処理の組合せを施す。結果として得られるガラス板は、高強度（ボール落下）を示し、損傷抵抗性の民生用表示装置の有用な構成部材である。
【０１２０】
本開示を、様々な特別な実施の形態および技法を参照して記載してきた。しかしながら、本開示の精神および範囲内にありながら、多くの変種および改変が可能であることが理解されよう。
【符号の説明】
【０１２１】
１００    ガラス基板
１０５    吹付け被覆
１１０    ポリマー溶液
１２０    液滴
１２５    槽
１３０    酸浴
１３５    ポリマー被覆板
【図１ａ】
2013529316.tif 000007
【図１ｂ】
2013529316.tif 000008
【図１ｃ】
2013529316.tif 000009
【図２ａ】
2013529316.tif 000010
【図２ｂ】
2013529316.tif 000011
【図２ｃ】
2013529316.tif 000012
【図２ｄ】
2013529316.tif 000013
【図２ｅ】
2013529316.tif 000014
【図２ｆ】
2013529316.tif 000015
【図２ｇ】
2013529316.tif 000016
【図２ｈ】
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【図３】
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【図４ａ】
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【図４ｂ】
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【図５】
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【図６ａ】
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【図６ｂ】
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【図７ａ】
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【図７ｂ】
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【図８ａ】
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【図８ｂ】
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【図８ｃ】
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【図８ｄ】
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【図９ａ】
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【図９ｂ】
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【図９ｃ】
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【図９ｄ】
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【図９ｅ】
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【図９ｆ】
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【図１０ａ】
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【図１０ｂ】
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【図１０ｃ】
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【図１０ｄ】
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【図１０ｅ】
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【図１０ｆ】
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【図１１ａ】
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【図１１ｂ】
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【図１１ｃ】
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【図１１ｄ】
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【図１１ｅ】
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【図１１ｆ】
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【国際調査報告】
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