【事件の表示】
　特許第６４１３８９５号発明「インデックスマッチング層を有する積層体およびその製造方法、ならびにインデックスマッチング層形成用硬化性組成物」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第６４１３８９５号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１−６〕、〔７−９〕について訂正することを認める。
　特許第６４１３８９５号の請求項１−５、７−９に係る特許を取り消す。
　特許第６４１３８９５号の請求項６に係る特許についての特許異議の申立てを却下する。
【理　由】
第１　手続の経緯
　特許第６４１３８９５号（以下、「本件特許」という。）の請求項１−９に係る特許についての出願は、平成２７年３月３１日に出願され、平成３０年１０月１２日にその特許権の設定登録がされ、平成３０年１０月３１日に特許掲載公報が発行された。その特許についての本件特許異議の申立ての経緯は、次のとおりである。
　平成３１年　４月２５日　　　特許異議申立人１（前田　洋志）による特
　　　　　　　　　　　　　　　許異議の申立て
　令和　元年　５月　７日　　　特許異議申立人２（阿部　紀子）による特
　　　　　　　　　　　　　　　許異議の申立て
　令和　元年　８月　７日付け　取消理由通知書
　令和　元年１０月　８日　　　特許権者による意見書及び訂正請求書（以
　　　　　　　　　　　　　　　下、この訂正請求書による訂正を、「本件
　　　　　　　　　　　　　　　訂正」という。）の提出
　令和　元年１１月２１日　　　特許異議申立人１による意見書の提出
　令和　元年１２月２４日付け　取消理由通知書（決定の予告）
第２　訂正の適否についての判断
１　訂正の内容
　本件訂正の内容は、以下のとおりである（下線は、訂正箇所を示し、「／／」は、改行を示す。）。
（１）　請求項１−６
ア　訂正事項１
　請求項１−２の「透明基板と、インデックスマッチング層と、透明電極層とがこの順に積層されており、」との記載を、「透明基板と、インデックスマッチング層と、透明電極層とがこの順に積層されており、／／　
透明基板とインデックスマッチング層との間に、紫外線による分解を受ける化合物を含む接着剤層をさらに有し、
イ　訂正事項２
　請求項１の「（Ｂ１）光重合開始剤以外の化合物であって、波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物と、ここで当該化合物が重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物、並びに重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種であり、／／（Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ１）以外の化合物と／／を含有する硬化性組成物から形成された層である／／ことを特徴とする積層体」との記載を、「（Ｂ１）光重合開始剤以外の化合物であって、波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物と、ここで当該化合物が重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物、並びに重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種であり、／／（Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ１）以外の化合物と／／を含有する硬化性組成物から形成された層であ
り、
前記重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ１）で表される化合物であり、
（ｂ１）
［式（ｂ１）中、
Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
ａおよびｂは、それぞれ独立に１〜４の整数である。］、
前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ２）で表される化合物であり、
（ｂ２）
［式（ｂ２）中、
Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜５の整数である。］、
前記硬化性組成物において、化合物（Ｂ１）の含有量が、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である
ウ　訂正事項３
　請求項２の「（Ｂ２）１分子中に２個以上のベンゼン核を有する、光重合開始剤以外の化合物と、ここで当該化合物が重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物、並びに重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種であり、／／（Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ２）以外の化合物と／／を含有する硬化性組成物から形成された層である／／ことを特徴とする積層体」との記載を、「（Ｂ２）１分子中に２個以上のベンゼン核を有する、光重合開始剤以外の化合物と、ここで当該化合物が重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物、並びに重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種であり、／／（Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ２）以外の化合物と／／を含有する硬化性組成物から形成された層であ
り、
前記重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ１）で表される化合物であり、
（ｂ１）
［式（ｂ１）中、
Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
ａおよびｂは、それぞれ独立に１〜４の整数である。］、
前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ２）で表される化合物であり、
（ｂ２）
［式（ｂ２）中、
Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜５の整数である。］、
前記硬化性組成物において、化合物（Ｂ２）の含有量が、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ２）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である
エ　訂正事項４
　請求項６を削除する。
（２）　請求項７−９
ア　訂正事項１
　請求項７−８の「インデックスマッチング層形成用硬化性組成物」との記載を、「
透明基板と、インデックスマッチング層と、透明電極層とがこの順に積層されており、透明基板とインデックスマッチング層との間に、紫外線による分解を受ける化合物を含む接着剤層をさらに有する積層体における
イ　訂正事項２
　請求項７の「（Ｂ１）光重合開始剤以外の化合物であって、波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物と、ここで当該化合物が重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物、並びに重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種であり、／／（Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ１）以外の化合物と／／を含有することを特徴とする」との記載を、「（Ｂ１）光重合開始剤以外の化合物であって、波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物と、ここで当該化合物が重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物、並びに重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種であり、／／（Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ１）以外の化合物と／／を含有
し、
前記重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ１）で表される化合物であり、
（ｂ１）
［式（ｂ１）中、
Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
ａおよびｂは、それぞれ独立に１〜４の整数である。］、
前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ２）で表される化合物であり、
（ｂ２）
［式（ｂ２）中、
Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜５の整数である。］、
化合物（Ｂ１）の含有量が、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である
ウ　訂正事項３
　請求項８の「（Ｂ２）１分子中に２個以上のベンゼン核を有する、光重合開始剤以外の化合物と、ここで当該化合物が重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物、並びに重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種であり、／／（Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ２）以外の化合物と／／を含有することを特徴とする」との記載を、「（Ｂ２）１分子中に２個以上のベンゼン核を有する、光重合開始剤以外の化合物と、ここで当該化合物が重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物、並びに重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種であり、／／（Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ２）以外の化合物と／／を含有
し、
前記重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ１）で表される化合物であり、
（ｂ１）
［式（ｂ１）中、
Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
ａおよびｂは、それぞれ独立に１〜４の整数である。］、
前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ２）で表される化合物であり、
（ｂ２）
［式（ｂ２）中、
Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜５の整数である。］、
化合物（Ｂ２）の含有量が、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ２）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である
エ　訂正事項４
　請求項９の「透明基板」との記載を、「
紫外線による分解を受ける化合物を含む接着剤層が形成された
２　訂正の目的の適否、新規事項の有無、特許請求の範囲の拡張・変更の存否
（１）　請求項１−６
ア　訂正事項１
　訂正事項１に係る請求項１−２についての訂正は、「積層体」について、「透明基板とインデックスマッチング層との間に、紫外線による分解を受ける化合物を含む接着剤層をさらに有」することを特定することにより、限定を付加するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　また、「積層体」が、「透明基板とインデックスマッチング層との間に、」「接着剤層をさらに有」することは、訂正前の請求項６に記載されており、「接着剤層」が、「紫外線による分解を受ける化合物を含む」ことは、明細書の段落【００５３】に記載されているから、訂正事項１に係る請求項１−２についての訂正は、願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面（以下、「当初明細書等」という。）に記載した事項の範囲内においてしたものである。
イ　訂正事項２
　訂正事項２に係る請求項１についての訂正は、「重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物」について、「重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ１）で表される化合物であ」ることを特定し、請求項１の「重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物」について、「重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ２）で表される化合物であ」ることを特定し、請求項１の「化合物（Ｂ１）」について、「前記硬化性組成物において、化合物（Ｂ１）の含有量が、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である」ことを特定することにより、請求項１の「重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物」、「前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物」及び「化合物（Ｂ１）」をそれぞれ限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　また、「重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物」が、「重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ１）で表される化合物であ」ることは、明細書の段落【００５５】、【００５７】−【００５９】に記載されており、「重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物」が、「重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ２）で表される化合物であ」ることは、明細書の段落【００５５】、【００６６】−【００６８】に記載されており、「前記硬化性組成物において、化合物（Ｂ１）の含有量が、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である」ことは、明細書の段落【００８１】に記載されているから、訂正事項２に係る請求項１についての訂正は、当初明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。
ウ　訂正事項３
　訂正事項３に係る請求項２についての訂正は、「重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物」について、「重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ１）で表される化合物であ」ることを特定し、請求項２の「前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物」について、「重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ２）で表される化合物であ」ることを特定し、請求項２の「化合物（Ｂ２）」について、「前記硬化性組成物において、化合物（Ｂ２）の含有量が、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ２）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である」ことを特定することにより、請求項２の「重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物」、「前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物」及び「化合物（Ｂ２）」をそれぞれ限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　また、「重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物」が、「重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ１）で表される化合物であ」ることは、明細書の段落【００５５】、【００５７】−【００５９】に記載されており、「前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物」が、「重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ２）で表される化合物であ」ることは、明細書の段落【００５５】、【００６６】−【００６８】に記載されており、「前記硬化性組成物において、化合物（Ｂ２）の含有量が、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である」ことは、明細書の段落【００８１】に記載されているから、訂正事項３に係る請求項２についての訂正は、当初明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。
エ　訂正事項４
　訂正事項４に係る請求項６についての訂正は、請求項６を削除するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではなく、また、当初明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。
（２）　請求項７−９
ア　訂正事項１
　訂正事項１に係る請求項７−８についての訂正は、「インデックスマッチング層形成用硬化性組成物」について、「透明基板と、インデックスマッチング層と、透明電極層とがこの順に積層されており、透明基板とインデックスマッチング層との間に、紫外線による分解を受ける化合物を含む接着剤層をさらに有する積層体における」ものであることを特定することにより、限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　また、「インデックスマッチング層形成用硬化性組成物」が、「透明基板と、インデックスマッチング層と、透明電極層とがこの順に積層されており、透明基板とインデックスマッチング層との間に、紫外線による分解を受ける化合物を含む接着剤層をさらに有する積層体における」ものであることは、訂正前の請求項１、６及び明細書の段落【００２２】、【００２７】、【００５３】に記載されているから、訂正事項１に係る請求項７−８についての訂正は、当初明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。
イ　訂正事項２
　訂正事項２に係る請求項７についての訂正は、「前記重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物」について、「重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ１）で表される化合物であ」ることを特定し、請求項７の「前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物」について、「重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ２）で表される化合物であ」ることを特定し、請求項７の「化合物（Ｂ１）」について、「化合物（Ｂ１）の含有量が、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である」ことを特定することにより、請求項７の「前記重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物」、「前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物」及び「化合物（Ｂ１）」をそれぞれ限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　また、「前記重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物」が、「重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ１）で表される化合物であ」ることは、明細書の段落【００５５】、【００５７】−【００５９】に記載されており、「前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物」が、「重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ２）で表される化合物であ」ることは、明細書の段落【００５５】、【００６６】−【００６８】に記載されており、「化合物（Ｂ１）の含有量が、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である」ことは、明細書の段落【００８１】に記載されているから、訂正事項２に係る請求項７についての訂正は、当初明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。
ウ　訂正事項３
　訂正事項３に係る請求項８についての訂正は、「前記重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物」について、「重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ１）で表される化合物であ」ることを特定し、請求項８の「前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物」について、「重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ２）で表される化合物であ」ることを特定し、請求項８の「化合物（Ｂ２）」について、「化合物（Ｂ２）の含有量が、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ２）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である」ことを特定することにより、請求項８の「前記重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物」、「前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物」及び「化合物（Ｂ２）」をそれぞれ限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　また、「前記重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物」が、「重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ１）で表される化合物であ」ることは、明細書の段落【００５５】、【００５７】−【００５９】に記載されており、「前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物」が、「重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ２）で表される化合物であ」ることは、明細書の段落【００５５】、【００６６】−【００６８】に記載されており、「化合物（Ｂ２）の含有量が、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である」ことは、明細書の段落【００８１】に記載されているから、訂正事項３に係る請求項８についての訂正は、当初明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。
エ　訂正事項４
　訂正事項４に係る請求項９についての訂正は、「透明基板」について、「紫外線による分解を受ける化合物を含む接着剤層が形成された」ものであることを特定することにより、限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　また、「透明基板」が、「紫外線による分解を受ける化合物を含む接着剤層が形成された」ものであることは、明細書の段落【００２７】、【００５３】、【０１０３】に記載されているから、訂正事項４に係る請求項９についての訂正は、当初明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものである。
３　小括
　以上のとおりであるから、本件訂正の請求による訂正は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号及び第３号に掲げる事項を目的とするものであり、かつ、同条第９項で準用する同法第１２６条第４項から第６項までの規定に適合する。
　したがって、本件特許の特許請求の範囲を、訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１−６〕、〔７−９〕について訂正することを認める。
第３　訂正後の本件発明
　本件訂正の請求により訂正された請求項１−５、７−９に係る発明（以下、それぞれ「本件発明１」−「本件発明５」、「本件発明７」−「本件発明９」という。）は、訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲の請求項１−５、７−９に記載された事項により特定される発明であり、本件発明１−５、７−９は、以下のとおりの発明である。
「【請求項１】
　透明基板と、インデックスマッチング層と、透明電極層とがこの順に積層されており、
　透明基板とインデックスマッチング層との間に、紫外線による分解を受ける化合物を含む接着剤層をさらに有し、
　インデックスマッチング層が、
（Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子と、
（Ｂ１）光重合開始剤以外の化合物であって、波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物と、ここで当該化合物が重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物、並びに重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種であり、
（Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ１）以外の化合物と
を含有する硬化性組成物から形成された層であり、
　前記重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ１）で表される化合物であり、
【化１】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（ｂ１）
［式（ｂ１）中、
　Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
　Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
　ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　ａおよびｂは、それぞれ独立に１〜４の整数である。］、
　前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ２）で表される化合物であり、
【化２】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（ｂ２）
［式（ｂ２）中、
　Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
　Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
　ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜５の整数である。］、
　前記硬化性組成物において、化合物（Ｂ１）の含有量が、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である
ことを特徴とする積層体。
【請求項２】
　透明基板と、インデックスマッチング層と、透明電極層とがこの順に積層されており、
　透明基板とインデックスマッチング層との間に、紫外線による分解を受ける化合物を含む接着剤層をさらに有し、
　インデックスマッチング層が、
（Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子と、
（Ｂ２）１分子中に２個以上のベンゼン核を有する、光重合開始剤以外の化合物と、ここで当該化合物が重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物、並びに重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種であり、
（Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ２）以外の化合物と
を含有する硬化性組成物から形成された層であり、
　前記重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ１）で表される化合物であり、
【化３】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（ｂ１）
［式（ｂ１）中、
　Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
　Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
　ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　ａおよびｂは、それぞれ独立に１〜４の整数である。］、
　前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ２）で表される化合物であり、
【化４】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（ｂ２）
［式（ｂ２）中、
　Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
　Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
　ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜５の整数である。］、
　前記硬化性組成物において、化合物（Ｂ２）の含有量が、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ２）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である
ことを特徴とする積層体。
【請求項３】
　インデックスマッチング層の屈折率が、１．５９〜１．８０である請求項１または２に記載の積層体。
【請求項４】
　インデックスマッチング層を形成する硬化性組成物が、
（Ｄ）光重合開始剤
をさらに含有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項５】
　前記化合物（Ｃ）が、多官能（メタ）アクリレートである請求項１〜４のいずれか１項に記載の積層体。」
「【請求項７】
（Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子と、
（Ｂ１）光重合開始剤以外の化合物であって、波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物と、ここで当該化合物が重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物、並びに重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種であり、
（Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ１）以外の化合物と
を含有し、
　前記重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ１）で表される化合物であり、
【化５】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（ｂ１）
［式（ｂ１）中、
　Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
　Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
　ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　ａおよびｂは、それぞれ独立に１〜４の整数である。］、
　前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ２）で表される化合物であり、
【化６】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（ｂ２）
［式（ｂ２）中、
　Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
　Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
　ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜５の整数である。］、
　化合物（Ｂ１）の含有量が、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である
ことを特徴とする、
透明基板と、インデックスマッチング層と、透明電極層とがこの順に積層されており、透明基板とインデックスマッチング層との間に、紫外線による分解を受ける化合物を含む接着剤層をさらに有する積層体におけるインデックスマッチング層形成用硬化性組成物。
【請求項８】
（Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子と、
（Ｂ２）１分子中に２個以上のベンゼン核を有する、光重合開始剤以外の化合物と、ここで当該化合物が重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物、並びに重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種であり、
（Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ２）以外の化合物と
を含有し、
　前記重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ１）で表される化合物であり、
【化７】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（ｂ１）
［式（ｂ１）中、
　Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
　Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
　ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　ａおよびｂは、それぞれ独立に１〜４の整数である。］、
　前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ２）で表される化合物であり、
【化８】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（ｂ２）
［式（ｂ２）中、
　Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
　Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
　ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜５の整数である。］、
　化合物（Ｂ２）の含有量が、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ２）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である
ことを特徴とする、
透明基板と、インデックスマッチング層と、透明電極層とがこの順に積層されており、透明基板とインデックスマッチング層との間に、紫外線による分解を受ける化合物を含む接着剤層をさらに有する積層体におけるインデックスマッチング層形成用硬化性組成物。
【請求項９】
　紫外線による分解を受ける化合物を含む接着剤層が形成された透明基板上に、請求項７または８に記載のインデックスマッチング層形成用硬化性組成物の塗膜を形成する工程、前記塗膜に活性エネルギー線を照射してインデックスマッチング層を形成する工程、および前記インデックスマッチング層上に透明電極層を形成する工程を有する、積層体の製造方法。」
第４　取消理由通知（決定の予告）に記載した取消理由について
１　取消理由の概要
　当審が令和元年１２月２４日に特許権者に通知した取消理由の要旨は、次のとおりである。
（理由１）本件特許の下記の請求項に係る発明は、本件特許の出願前日本国内または外国において頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明であって、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができないから、その発明に係る特許は取り消すべきものである。
（理由２）本件特許の下記の請求項に係る発明は、本件特許の出願前日本国内または外国において頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基づいて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであって、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、その発明に係る特許は取り消すべきものである。
（理由３）本件特許は、特許請求の範囲の記載が下記の点で不備のため、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるから、取り消すべきものである。
　　　　　　　　　　　　　　　　　記
●理由　　１−２（その２）
・請求項　１−９
・刊行物　３
　本件特許の請求項１−９に係る発明は、刊行物３に記載された発明と同一であり、また、刊行物３に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
●理由　　２（その１）
・請求項　１−９
・刊行物　１、３−４、６−８
　本件特許の請求項１−９に係る発明は、刊行物１に記載された発明、及び、刊行物３−４、６−７に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　また、本件特許の請求項６に係る発明は、刊行物１に記載された発明、及び、刊行物３−４、７−８に記載された技術常識に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　刊行物１　　国際公開第２０１４／０３５０１８号
　　　　　　　（特許異議申立書０１（特許異議申立人１）の甲第１号証）
　刊行物２　　特表２０１５−５３５８５９号公報
　　　　　　　（刊行物１のファミリー文献）
　　　　　　　（特許異議申立書０１の甲第２号証）
　刊行物３　　国際公開第２０１３／０３８７１８号
　　　　　　　（特許異議申立書０１の甲第３号証、特許異議申立書０２（
　　　　　　　　特許異議申立人２）の甲第１号証）
　刊行物４　　特開２０１４−１１９４７５号公報
　　　　　　　（特許異議申立書０１の甲第５号証）
　刊行物５　　特開２０１３−０９５７９６号公報
　　　　　　　（特許異議申立書０１（「３．申立ての理由」の（４−３−
　　　　　　　　２））において挙げられている文献）
　刊行物６　　国際公開第２００７／１３８９４６号
　　　　　　　（特許異議申立書０１の甲第４号証）
　刊行物７　　国際公開第２０１２／１７６４８１号
　　　　　　　（特許異議申立書０１の甲第６号証）
　刊行物８　　特開２０１４−２２４８９４号公報
　　　　　　　（特許異議申立書０１の甲第７号証）
　刊行物９　　特許第５４９０９５４号公報
　　　　　　　（特許異議申立書０２の甲第２号証）
　刊行物１０　特開２００８−０９４９８７号公報
　　　　　　　（特許異議申立書０２の甲第３号証）
●理由　　３（その３）
・請求項　１−９
　本件発明１−９では、インデックスマッチング層に含まれる特定化合物（Ｂ１）又は特定化合物（Ｂ２）の構造及び含有量が特定されていないため、本件特許の出願時の技術常識に照らしても、請求項１−９に係る発明の範囲まで、発明の詳細な説明に開示された内容を拡張ないし一般化できるとはいえない。
２　理由１−２（その２）について
（１）　刊行物３について
　刊行物３には、以下の記載がある（下線は当審が付した。以下、同じ。）。
ア　請求項１
「[請求項1]　
基材フィルム上に、屈折率が１．６１〜１．８０である高屈折率層、ＳｉＯ２膜、およびパターン化された透明導電膜をこの順に有し、前記高屈折率層の厚みが３０ｎｍ以上であり、かつ前記高屈折率層の光学厚みと前記ＳｉＯ２膜の光学厚みとの合計が（１／４）λである、透明導電性フィルム。
　但し、λは３８０〜７８０ｎｍである。」
イ　請求項４
「[請求項4]　前記高屈折率層が、活性エネルギー線硬化性樹脂と金属酸化物を含む組成物をウェットコーティングし、硬化して形成されたものである、請求項１〜３のいずれかの透明導電性フィルム。」
ウ　請求項９
「[請求項9]　前記基材フィルムとハードコート層との間に易接着層を有する、請求項８の透明導電性フィルム。」
エ　請求項１２
「[請求項12]　請求項１〜１１のいずれかの透明導電性フィルム
を備えたタッチパネル
オ　段落［０００９］
「[0009]　従って、本発明の目的は、
透明導電膜パターンの視認（骨見え）が十分に抑制された透明導電性フィルム
カ　段落［００１２］
「[0012]　本発明によれば、骨見え現象が十分に抑制された透明導電性フィルムを提供することができる。本発明の透明導電性フィルムは、タッチパネルに好適に用いられ、特に静電容量式のタッチパネルに好適に用いられる。」
キ　段落［００１８］−［００４４］
「[0018]　さらに
高屈折率層は、樹脂と金属酸化物を含む組成物、高屈折率樹脂を含む組成物、もしくは金属酸化物と高屈折率樹脂を含む組成物をウェットコーティングし、硬化して形成された層であることが好まし
　　　・・・（中略）・・・
[0020]　以下、
樹脂と金属酸化物を含む層を形成するための組成物
[0021]　
樹脂として
活性エネルギー線硬化性樹脂
[0022]　このような活性エネルギー線硬化性樹脂は、紫外線や電子線等の活性エネルギー線で硬化する樹脂であり、
分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有するモノマー
が好ましく用いられ
[0023]　上記
モノマー
としては、メチル（メタ）アクリレート
等の単官能アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート
等の多官能アクリレート
等を挙げることができ
　　　・・・（中略）・・・
[0025]　上記した、モノマーやオリゴマーは、単独もしくは複数混合して使用してもよいが、３官能以上の多官能モノマーを用いることが好ましい。
[0026]　
金属酸化物として
屈折率が１．７〜２．８の金属酸化物微粒子が
好ましく用いられ
　　　・・・（中略）・・・
[0029]　組成物は、光重合開始剤を含むことが好ましい。かかる光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。
　　　・・・（中略）・・・
[0031]　
高屈折率樹脂を含む層を形成するための組成物
[0032]　
高屈折率樹脂として
芳香族環を含む樹脂
　　　・・・（中略）・・・
[0037]　芳香族環を含む樹脂としては、
９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格を有するアクリル樹脂、ビフェニル基を有するアクリル樹脂、エポキシ樹脂等
例えば新中村化学社製９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＮＫエステルＡ−ＢＰＥＦ）、
ヒドロキシエチル化ｏ−フェニルフェノールアクリレート（ＮＫエステルＡ−ＬＥＮ−１０）
等を用いることができ
[0038]　高屈折率樹脂としては、上記で例示したように、アクリル基やエポキシ基等の重合性基を含む重合性モノマーまたは重合性オリゴマーであることがより好ましい。
[0039]　組成物は、高屈折率樹脂に加えて、前述した樹脂と金属酸化物を含む層を形成するための組成物に用いられる樹脂成分（好ましくは活性エネルギー線硬化性樹脂）を含むことが好ましい。この樹脂成分の含有量は、高屈折率樹脂１００質量部に対して、５〜５０質量部の範囲が好ましく、１０〜４０質量部の範囲がより好ましい。
　　　・・・（中略）・・・
[0041]　組成物はさらに、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤の含有量は、組成物の固形分総量１００質量％に対して０．１〜１０質量％の範囲が適当であり、０．５〜８質量％の範囲が好ましい。
[0042]　次に、
金属酸化物と高屈折率樹脂を含む層を形成するための組成物
は、前述の金属酸化物と高屈折率樹脂を組み合わせて使用するものであ
金属酸化物と高屈折率樹脂の含有比率（質量比）
金属酸化物：高屈折率樹脂＝９：１〜１：９の範囲が好ましく、
特に７：３〜３：７の範囲が好まし
[0043]　組成物は、
さらに前述した樹脂と金属酸化物を含む層を形成するための組成物に用いられる樹脂
（好ましくは活性エネルギー線硬化性樹脂）を含むことが好まし
樹脂
の含有量
組成物の固形分総量１００質量％に対して、５〜５０質量％の範囲が好ましく、
２０〜４０質量％の範囲が特に好まし
[0044]　組成物はさらに、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤の含有量は、組成物の固形分総量１００質量％に対して０．１〜１０質量％の範囲が適当であり、０．５〜８質量％の範囲が好ましい。」
ク　段落［００６７］
「[0067]　［易接着層］
　
基材フィルム
高屈折率層
との密着力を強化するための易接着層が積層されていることが好ましい
ケ　段落［０１１９］
「[0119]　［実施例１］
　下記の要領で透明導電性フィルムを作製した。　・・・（中略）・・・
＜易接着層の積層＞
　屈折率１．６５で厚み１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の両面に、ＰＥＴフィルムの製膜工程内（インライン）で上記の易接着層塗布組成物１ａを乾燥厚みが９０ｎｍとなるようにウェットコーティング法（バーコート法）により積層して、ＰＥＴフィルム上に易接着層を積層した。
　　　・・・（中略）・・・
＜高屈折率層の積層＞
　ＰＥＴフィルムのハードコート層が積層されている面とは反対面の易接着層上に高屈折率層の塗布組成物２ａをウェットコーティング法（グラビアコート法）により硬化後の厚みが７０ｎｍとなるように塗布し、乾燥し、紫外線を照射し硬化させて、高屈折率層を形成した。
　　　・・・（中略）・・・
＜透明導電膜の積層＞
　上記のＳｉＯ２膜に、透明導電膜としてＩＴＯ膜（屈折率２．００）を厚みが３３ｎｍとなるようにスパッタリング法で積層した。
　　　・・・（後略）　」
　よって、上記各記載事項（下線部に着目。）によれば、刊行物３には、次の発明（以下、「刊行物３発明」という。）が記載されているといえる。
「　基材フィルム上に、屈折率が１．６１〜１．８０である高屈折率層、およびパターン化された透明導電膜をこの順に有する透明導電性フィルムを備えたタッチパネルにおける、透明導電膜パターンの視認（骨見え）が十分に抑制された透明導電性フィルムであって、
　高屈折率層は、樹脂と金属酸化物を含む組成物、高屈折率樹脂を含む組成物、もしくは金属酸化物と高屈折率樹脂を含む組成物をウェットコーティングし、硬化して形成された層であることが好ましく、
　樹脂と金属酸化物を含む層を形成するための組成物は、
　　樹脂として、活性エネルギー線硬化性樹脂である、分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有するモノマーが好ましく用いられ、ここで、モノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート等の単官能アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能アクリレート等を挙げることができ、
　　金属酸化物として、屈折率が１．７〜２．８の金属酸化物微粒子が好ましく用いられ、
　高屈折率樹脂を含む層を形成するための組成物は、
　　高屈折率樹脂として、芳香族環を含む樹脂である、９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格を有するアクリル樹脂、ビフェニル基を有するアクリル樹脂、エポキシ樹脂等の、例えば新中村化学社製９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＮＫエステルＡ−ＢＰＥＦ）、ヒドロキシエチル化ｏ−フェニルフェノールアクリレート（ＮＫエステルＡ−ＬＥＮ−１０）を用いることができ、
　金属酸化物と高屈折率樹脂を含む層を形成するための組成物は、
　　前述の金属酸化物と高屈折率樹脂を組み合わせて使用するものであり、
　　金属酸化物と高屈折率樹脂の含有比率（質量比）が、金属酸化物：高屈折率樹脂＝９：１〜１：９の範囲が好ましく、特に７：３〜３：７の範囲が好ましく、
　　さらに前述した樹脂と金属酸化物を含む層を形成するための組成物に用いられる樹脂（好ましくは活性エネルギー線硬化性樹脂）を含むことが好ましく、
　　樹脂の含有量が、組成物の固形分総量１００質量％に対して、５〜５０質量％の範囲が好ましく、２０〜４０質量％の範囲が特に好ましく、
　基材フィルムに、高屈折率層との密着力を強化するための易接着層が積層されていることが好ましい、
透明導電性フィルム。」
（２）　本件発明１について
ア　対比
　本件発明１と刊行物３発明とを対比すると、次のことがいえる。
（なお、本件発明１を、令和元年１１月２１日に特許異議申立人１により提出された意見書（３．（２））に記載されているように、以下の特定要件（Ａ）−（Ｊ）、（Ｎ）、（Ｓ）−（Ｖ）に分説する。
（Ａ）　透明基板と、
（Ｂ）　インデックスマッチング層と、
（Ｃ）　透明電極層とが
（Ｄ）　この順に積層されており、
（Ｎ）　透明基板とインデックスマッチング層との間に、接着剤層をさらに有し、
（Ｓ）　接着剤層が、紫外線による分解を受ける化合物を含み、
（Ｅ）　インデックスマッチング層が、
（Ｆ）　（Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子と、
（Ｇ）　（Ｂ１）光重合開始剤以外の化合物であって、波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物と、ここで当該化合物が重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物、並びに重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種であり、
（Ｈ）　（Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ１）以外の化合物とを
（Ｉ）　（（Ａ）と、（Ｂ１）と、（Ｃ）とを）含有する硬化性組成物
（Ｅ）　（硬化性組成物）から形成された層であり、
（Ｔ）　前記重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ１）で表される化合物であり、
【化１】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（ｂ１）
［式（ｂ１）中、
　Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
　Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
　ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　ａおよびｂは、それぞれ独立に１〜４の整数である。］、
（Ｕ）　前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ２）で表される化合物であり、
【化２】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（ｂ２）
［式（ｂ２）中、
　Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
　Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
　ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜５の整数である。］、
（Ｖ）　前記硬化性組成物において、化合物（Ｂ１）の含有量が、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である
（Ｊ）　ことを特徴とする積層体。）
　刊行物３発明は、「基材フィルム」と、「屈折率が１．６１〜１．８０である高屈折率層」と、「パターン化された透明導電層」とが「この順に」積層された積層体であり、この積層体が「タッチパネル」の「透明導電性フィルム」として用いられ、また、発明の目的が、「透明導電膜パターンの視認（骨見え）」を「十分に抑制」することであることからすると、刊行物３発明の「高屈折率層」が本件発明１の「インデックスマッチング層」に相当することは、当業者に自明である。また、刊行物３発明の「基材フィルム」、「パターン化された透明導電層」が、それぞれ、本件発明１の「透明基板」、「透明電極層」に相当することも、自明である。
　これらのことから、刊行物３発明は、本件発明１の特定要件（Ａ）−（Ｄ）、（Ｊ）を満たすものである。
　また、刊行物３発明は、「高屈折率層」が、「高屈折率樹脂」と、「高屈折率樹脂」以外の「樹脂」と、「金属酸化物」を含有する硬化性組成物であり、「金属酸化物」が、「屈折率が１．７〜２．８の金属酸化物微粒子」であり、また、「高屈折率樹脂」として、「芳香族環を含む樹脂である、９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格を有するアクリル樹脂、ビフェニル基を有するアクリル樹脂、エポキシ樹脂等」、すなわち、重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物、重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物を用いるものであり、さらに、「高屈折率樹脂」以外の「樹脂」として、「メチル（メタ）アクリレート等」の単官能（メタ）アクリレート又は「ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等」の多官能（メタ）アクリレート等の、重合性基を有する化合物を用いるものである。
　これらのことからすると、刊行物３発明は、本件発明１の特定要件（Ｅ）−（Ｆ）、（Ｈ）−（Ｉ）も満たし、さらに、特定要件（Ｇ）の「光重合開始剤以外の化合物であ」ること、「重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物、並びに重合吐基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種であ」ることも満たすものである。
　また、本件発明１の特定要件（Ｔ）、（Ｕ）に関して、刊行物３発明は、「金属酸化物と高屈折率樹脂を含む層を形成するための組成物」が、「前述の金属酸化物と高屈折率樹脂を組み合わせ」たもの、すなわち、「屈折率が１．７〜２．８の金属酸化物微粒子」と、「新中村化学社製９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＮＫエステルＡ−ＢＰＥＦ）、ヒドロキシエチル化ｏ−フェニルフェノールアクリレート（ＮＫエステルＡ−ＬＥＮ−１０）」とを組み合わせたものである。
　次いで、本件発明１の特定要件（Ｖ）に関して、刊行物３発明は、「金属酸化物と高屈折率樹脂を含む層を形成するための組成物」が、さらに「活性エネルギー線硬化性樹脂」を含むものである。
　また、刊行物３発明は、「金属酸化物と高屈折率樹脂の含有比率（質量比）が、金属酸化物：高屈折率樹脂＝９：１〜１：９の範囲」であるとともに、「樹脂の含有量が、組成物の固形分総量１００質量％に対して、５〜５０質量％の範囲」であるものであるから、「金属酸化物と高屈折率樹脂」及び「活性エネルギー線硬化性樹脂」「を含む層を形成するための組成物」における、「高屈折率樹脂」の含有量が、「金属酸化物と高屈折率樹脂」及び「活性エネルギー線硬化性樹脂」の合計量を１００質量％とした場合、５〜８５．５質量％であり、本件発明１の特定要件（Ｖ）の範囲と重複する。
　よって、本件発明１の特定要件（Ｖ）に関して、刊行物３発明は、本件発明１に対して実質的な相違点を有するものではない。
　さらに、本件発明１の特定要件（Ｎ）、（Ｓ）に関して、刊行物３発明は、「基材フィルムに、高屈折率層との密着力を強化するための易接着層が積層され」たものである。
　ここで、刊行物３発明では、「易接着層」として特殊な接着層を用いることが明確に特定されていない以上、刊行物３発明の「易接着層」が一般的な接着層であると解するのが、自然である。
　そして、紫外線の照射によって化合物が分解する現象は、よく知られている一般的な技術常識である。例えば、有機物におけるＣ−Ｃ、Ｃ−Ｈ、Ｃ−Ｏ、Ｃ−Ｎ等の原子同士の結合が紫外線の照射によって切断されて有機物が分解することなどは化学分野における周知技術であり、また、紫外線の照射により金属酸化物、ハロゲン化物等の分解が起きることも一般的によく知られた事象である。
　よって、刊行物３発明の「易接着層」が、紫外線により分解する化合物を含むことは、明らかである。
　このように、刊行物３発明は、本件発明１の特定要件（Ａ）−（Ｆ）、（Ｇ）の一部、（Ｈ）−（Ｊ）、（Ｎ）、（Ｓ）−（Ｖ）を満たすものである（一致点）。
　しかし、刊行物３発明では、本件発明１の特定要件（Ｇ）の「重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物」、「重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物」が「波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物」であることについては特定されていない（相違点）。
イ　相違点についての判断
　上記相違点について検討する。
　刊行物３には、高屈折率樹脂として、９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格を有するアクリル樹脂、ビフェニル基を有するアクリル樹脂、エポキシ樹脂が用いられること、また、これらに該当するものとして、多数の化合物が挙げられており（上記（１）キの段落［００３２］、［００３７］を参照。）、例示された化合物中には、本件特許明細書の実施例で用いられているＡＢＰＥＦ（新中村化学工業（株）製）及びＡ−ＬＥＮ−１０（商品名、新中村化学工業（株）製）と同じ化合物である、新中村化学社製９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＮＫエステルＡ一ＢＰＥＦ）、ヒドロキシエチル化ｏ−フェニルフェノールアクリレート(ＮＫエステルＡ−ＬＥＮ−１０）が挙げられ、さらに、高屈折率樹脂として具体的に例示されている他の化合物も、本件特許明細書の段落【００５７】−【００６５】あるいは段落【００６６】−【００７０】において、化合物（Ｂ）として例示されている式（Ｂ１）で表される化合物、式（Ｂ２）で表される化合物、及び、これらの式に該当するものとして具体的に例示されている化合物に該当するものであることからすると、刊行物３に記載されている９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格を有するアクリル樹脂、ビフェニル基を有するアクリル樹脂、エポキシ樹脂は、本件発明１の化合物（Ｂ１）の「重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物」、「重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物」に該当するものである。
　そして、刊行物３に記載されている９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格を有するアクリル樹脂、ビフェニル基を有するアクリル樹脂、エポキシ樹脂が、本件発明１の化合物（Ｂ１）の「重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物」、「重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物」として具体的に挙げられている化合物と同じものであることからすると、これらの化合物が、本件発明１の化合物（Ｂ１）の「波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない」との要件を満たすものであることは明らかであり、この点で両者に差異があるものではない。
　してみれば、刊行物３には、「波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物」である点も含め、本件発明１の特定要件（Ｇ）は実質的に記載されている。
　よって、刊行物３発明は、本件発明１の特定要件（Ａ）−（Ｊ）、（Ｎ）、（Ｓ）−（Ｖ）のいずれも満たすものとなるから、本件発明１は刊行物３発明と同一の発明である。
　なお、インデックスマッチング層と透明基板との密着性、ＵＶ耐性は、接着剤層の素材としてどのようなものを用いるかによって、その効果が大きく異なることは、当業者に周知、自明のことであるが、本件特許明細書においては、「接着剤層」との記載はあるものの、それ以上の開示はない。したがって、どのような組成の接着剤を用いた場合に上記特性が改善されるのか、本件特許明細書の記載から不明であることからすると、インデックスマッチング層と透明基板との密着性及びＵＶ耐性が単に接着剤層を設けたことによってのみ奏される効果といえるものでもない。
　さらに、本件特許明細書の比較例１の密着性は、本件発明の実施例と同じである。
　これらのことからすると、本件発明１の化合物（Ｂ１）を用いることにより、格別の効果が奏されるといえるものではない。
　刊行物３には、高屈折率層を、高屈折率樹脂を含まない組成物や、９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格を有するアクリル樹脂、ビフェニル基を有するアクリル樹脂、エポキシ樹脂でない高屈折率樹脂を含む組成物で形成してもよいことも記載されている（上記（１）キの段落［００１８］、［００３２］、［００３７］を参照。）が、刊行物３発明において、高屈折率層を形成する組成物として、本件発明１の化合物（Ｂ１）に該当する、９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格を有するアクリル樹脂、ビフェニル基を有するアクリル樹脂、エポキシ樹脂を用いた組成物を選択、使用することに何ら困難性が存在するものでなく、また、上述したように、化合物（Ｂ１）は、刊行物３に記載のビフェニル基を有するアクリル樹脂、エポキシ樹脂と同じであり、「波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物」を含め、化合物（Ｂ１）の限定に格別の技術的意義が存在するものでないことも併せ考えると、本件発明１は、刊行物３発明と異なるものではなく、仮に、そうでないとしても、刊行物３発明に基づいて、当業者が容易に想到し得たものである。
ウ　小括
　したがって、本件発明１は、刊行物３発明と同一であり、仮に、そうでないとしても、刊行物３発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
（３）　本件発明２について
　本件発明２と本件発明１とを対比すると、本件発明２の特定要件（Ｇ’）において、本件発明１の特定要件（Ｇ）の「（Ｂ１）光重合開始剤以外の化合物であって、波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物」が、「（Ｂ２）１分子中に２個以上のベンゼン核を有する、光重合開始剤以外の化合物」とされている点、及び、本件発明２の特定要件（Ｈ’）において、本件発明１の特定要件（Ｈ）の「前記（Ｂ１）以外の化合物」が「前記（Ｂ２）以外の化合物」とされている点で異なるが、他の点では両者同一である。
　したがって、刊行物３には、本件発明２の特定要件（Ａ）−（Ｆ）、（Ｉ）−（Ｊ）、（Ｎ）、（Ｓ）−（Ｖ）、及び、特定要件（Ｇ’）のうち、「当該化合物が重合吐基及びフルオレン骨格を有する化合物、並びに重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種であり」は記載されている。
　そこで、本件発明２の特定要件（Ｇ’）の「（Ｂ２）１分子中に２個以上のベンゼン核を有する、光重合開始剤以外の化合物」について検討するに、刊行物３に記載の９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格を有するアクリル樹脂、ビフェニル基を有するアクリル樹脂、エポキシ樹脂は、いずれも本件発明２の特定要件（Ｇ’）の「１分子中に２個以上のベンゼン核を有する、光重合開始剤以外の化合物」に該当するものである。
　また、刊行物３に記載の高屈折率樹脂以外の樹脂は、「重合性基を有する、前記（Ｂ２）以外の化合物」である。
　したがって、刊行物３には、本件発明２の特定要件のすべてが記載されており、本件発明２は、刊行物３発明と同一である。
　また、仮に、そうでないとしても、本件発明２は、刊行物３発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
（４）　本件発明３について
　本件発明３は、本件発明１又は２において、インデックスマッチング層の屈折率が、１．５９−１．８０であることを特徴とするものである。
　これに対し、刊行物３（上記（１）ア）には、高屈折率層（インデックスマッチング層）の屈折率が、本件発明３の特徴点の屈折率の範囲に包含される１．６１−１．８０であることが記載されているから、上記本件発明３の特徴点は、刊行物３発明との対比において相違点とはならない。
　したがって、本件発明３は、本件発明１−２と同様の理由で、刊行物３発明と同一の発明であり、仮に、そうでないとしても、刊行物３発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
（５）　本件発明４について
　本件発明４は、本件発明１−３において、インデックスマッチング層を形成する硬化性組成物が、（Ｄ）光重合開始剤をさらに含有することを特徴とするものである。
　これに対し、刊行物３（上記（１）キの段落［００４４］）には、高屈折率層（インデックスマッチング層）を形成する硬化性組成物に光重合開始剤を含ませることが記載されているから、上記本件発明４の特徴点は、刊行物３発明との対比において相違点とはならない。
　したがって、本件発明４は、本件発明１−３と同様の理由で、刊行物３発明と同一の発明であり、仮に、そうでないとしても、刊行物３発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
（６）　本件発明５について
　本件発明５は、本件発明１−４において、化合物（Ｃ）が、多官能（メク）アクリレートであることを特徴とするものである。
　これに対し、刊行物３には、高屈折率層（インデックスマッチング層）を形成する硬化性組成物に含まれる高屈折率樹脂以外の樹脂として、単官能アクリレート、多官能アクリレートが例示され（上記（１）キの段落［００２１］−［００２３］を参照。）、多官能モノマーを用いることが好ましいことが記載されている（上記（１）キの段落［００２５］を参照。）から、上記本件発明５の特徴点は、刊行物３発明との対比において相違点とはならない。
　したがって、本件発明５は、本件発明１−４と同様の理由で、刊行物３発明と同一の発明であり、仮に、そうでないとしても、刊行物３発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
（７）　本件発明７−８について
　本件発明７−８は、本件発明１又は２において、インデックスマッチング層を形成するために用いられる硬化性組成物を、それぞれインデックスマッチング層形成用硬化性組成物として記載したものである。
　しかし、上記（２）イ、（３）に記載したように、これらインデックスマッチング層形成用硬化性組成物は、刊行物３に記載されたものと同一のものである。
　したがって、本件発明７−８は、本件発明１又は２と同様の理由で、刊行物３発明と同一の発明であり、仮に、そうでないとしても、刊行物３発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
（８）　本件発明９について
　本件発明９は、本件発明１又は２の積層体を、積層体の製造方法として記載したものである。
　これに対し、刊行物３には、「高屈折率層との密着力を強化するための」一般的な「易接着層が積層され」た（上記（２）ア（３２ページ下から３行−３３ページ１１行）を参照。）基材フィルム（透明基板）上に、金属酸化物と高屈折率樹脂と高屈折率樹脂でない樹脂を含む組成物（インデックスマッチング層形成用硬化性組成物）（上記（１）キの段落［００１８］、［００２０］−［００２１］、［００４２］−［００４３］を参照。）をウェットコーティングし、硬化することにより高屈折率層を形成し（上記（１）キの段落［００１８］を参照。）、さらに高屈折率層上に透明電極層を形成すること（上記（１）ア、ケを参照。）が記載されている。そして、硬化性組成物はウェットコーティングされるから、硬化性組成物の塗膜が形成されること、また、硬化性組成物には活性エネルギー線硬化樹脂や光重合開始剤が含まれること（上記（１）キの段落［００４２］−［００４４］を参照。）から、硬化が活性エネルギー線の照射によることは、自明であるし、また実施例では、紫外線を照射することにより塗膜を硬化することが記載されている（上記（１）ケを参照。）。
　さらに、特定要件（Ｏ）の「請求項７または８に記載のインデックスマッチング層形成用硬化性組成物」については、上記（７）に記載したように、刊行物３に記載されている。
　したがって、本件発明９は、刊行物３発明と同一の発明であり、仮に、そうでないとしても、刊行物３発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
３　理由２（その１）について
（１）　刊行物１について
　刊行物１には、図面（特に、Fig. 1）とともに、以下の記載がある（原文は省略。訳文は、ファミリー文献である刊行物２を参照した。）。
ア　段落［２］（刊行物２の段落【０００２】を参照。以下、同じ。）
（当審仮訳：
[2]　タッチパネルには、位置検出の方法に応じて光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式などがある。抵抗膜方式のタッチパネルは、透明導電性フィルムと、透明導電体層が付着したガラスとがスペーサーを介して対向・配置されており、透明導電性フィルムに電流を流し、透明導電体層が付いたガラスにおける電圧を計測する構造になっている。一方、静電容量方式のタッチパネルは、基材上に透明導電層を有することを基本的構成とし、可動部分がないことが特徴であり、高耐久性及び高透過率を有するので、車載用途などにおいて適用されている。）
イ　段落［３１］−［４５］（段落【００３０】−【００４４】）
（当審仮訳：
[31]　本発明の一具現例において、
アクリレート樹脂、フルオレン誘導体樹脂及び金属酸化物粒子を含む高屈折層コーティング用組成物
　　　・・・（中略）・・・
[34]　前記高屈折層コーティング用組成物は、アクリレート樹脂を含んでもよく、前記アクリレート樹脂は光硬化型であってもよい。また、前記高屈折層コーティング用組成物は、紫外線や電子線などの活性エネルギー線によって硬化し、耐久性及び高温・高湿の外部環境に対する耐性を付与し、さらに、屈折率を調節する目的で使用されてもよい。
[35]　このとき、前記アクリレート（当審注：「前記
アクリレート樹脂
として、アルキル（メタ）アクリレート、アルキレングリコール（メタ）アクリレート、カルボキシル基及び不飽和二重結合含有（メタ）アクリル系化合物、水酸基含有（メタ）アクリル系化合物、窒素含有（メタ）アクリル系化合物などを含んでもよ
また、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレートなどのアクリル系オリゴマーを含んでもよ
[36]　具体的に、前記アクリレート樹脂は、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、トリメタノールプロパントリアクリレート、１，６―ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールアクリレート、トリエチレングリコールアクリレート、テトラエチレングリコールアクリレート、ヘキサエチレングリコールアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、ペンチルアクリレート、２―エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、ノニルアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルジアクリレート、ビスフェノールＡエポキシアクリレート、エチレンオキサイド付加ビスフェノールＡジアクリレート、２―フェノキシエチルアクリレート及びこれらの組み合わせからなる群から選ばれたいずれか一つであってもよい。
　　　・・・（中略）・・・
[38]　前記高屈折層コーティング用組成物は、フルオレン誘導体樹脂を含んでもよく、前記フルオレン誘導体樹脂は、光硬化型樹脂であってもよい。前記フルオレン誘導体樹脂は、芳香族炭化水素であるフルオレンを中心に誘導された化合物を含むものであって、有機物の低い屈折率を向上させ、耐熱性、基材接着性、無機物との相溶性を高めるために使用される。また、前記フルオレン誘導体樹脂は、分子構造的に高い密度の低い溶解性を解決し、金属酸化物粒子表面と化学的に結合できるようにヒドロキシグループを含んでもよい。
[39]　具体的に、前記
フルオレン誘導体樹脂は、
９，９―ビス［４―（２―アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９―ビス［４―（２―ヒドロキシ―３―アクリロイルオキシプロポキシ）フェニル］フルオレン
及びこれらの組み合わせからなる群から選ばれたいずれか一つであってもよ
　　　・・・（中略）・・・
[41]　前記高屈折層コーティング用組成物は、金属酸化物粒子を含んでもよい。金属酸化物粒子は、金属元素及び酸素元素のみからなる化合物を粒子状に示したものであって、導電性を示すことができるが、前記高屈折層コーティング用組成物は、金属酸化物粒子を含むにもかかわらず、導電性を帯びていない。
[42]　このとき、前記
金属酸化物粒子は、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、
Ｎｂ２Ｏ３
からなる群から選ばれたいずれか一つであってもよい
　　　・・・（中略）・・・
[45]　前記高屈折層コーティング用組成物は、アクリレート樹脂、フルオレン誘導体樹脂及び金属酸化物粒子以外に、光開始剤をさらに含んでもよい。前記光開始剤は、光硬化反応が起こり、高屈折層コーティング用組成物が形成されるようにするために使用される。具体的に、前記光開始剤は、総固形分１００重量部に対して約１重量部〜約１５重量部含むことによって、光硬化反応を促進することができる。）
ウ　段落［４８］−［５２］（段落【００４６】−【００５０】）
（当審仮訳：
[48]　本発明の更に他の具現例において、アクリレート樹脂、フルオレン誘導体樹脂及び金属酸化物粒子を含む
高屈折層コーティング用組成物を用いて形成された高屈折層を含む透明導電性フィルム
[49]　図１は、本発明の一実施例に係る透明伝導性フィルムの断面を概略的に示した図である。図１を参照すると、前記透明導電性フィルム１０は、
透明基材１、
高屈折層３
及び導電層５の積層構造である
　　　・・・（中略）・・・
[52]　前記高屈折層の屈折率は、約１．６〜約１．８であってもよい。前記高屈折層の形成にアクリレート樹脂、フルオレン誘導体樹脂及び金属酸化物粒子を含む高屈折層コーティング用組成物を用いた結果、屈折率を約１．６〜約１．８に調節でき、透明伝導性フィルムの全体的な視認性及び全光線透過率が向上し得る。）
エ　段落［５９］−［６２］（段落【００５６】−【００５７】）
（当審仮訳：
[59]　
製造例１―高屈折層コーティング用組成物
[60]　紫外線硬化型アクリレート樹脂、紫外線硬化型フルオレン誘導体樹脂及び金属酸化物ナノ粒子を下記の表１に記載した構成及び含量で含むことによって、高屈折層コーティング用組成物を製造した。
[61]　表１
[Table1]
[62]　＊フルオレン誘導体：９，９―Ｂｉｓ［４―（２―Ａｃｒｙｌｏｙｌｏｘｙｅｔｈｏｘｙ）ｐｈｅｎｙｌ］ｆｌｕｏｒｉｎｅ）
オ　段落［６９］−［７０］（段落【００６０】−【００６１】）
（当審仮訳：
[69]　製造例２で製造したハードコーティング層組成物を、メイヤーバー（Ｍｅｙｅｒｂａｒ）を用いて１２５μｍのＰＥＴフィルム上に乾燥膜の厚さが１．５μｍになるように塗布し、１８０Ｗの高圧水銀灯で３００ｍＪの紫外線を照射して硬化させることによってフィルムを製作した。前記の製作したフィルムの反対面に前記と同一の方法で製造例２で製造したハードコーティング層組成物を乾燥膜の厚さが１．５μｍになるように塗布して硬化させ、両面にハードコーティング層を含むフィルムを製作した。
[70]　その後、両面にハードコーティング層を含むフィルムの一面に、製造例１―１で製造された高屈折層コーティング用組成物を乾燥膜の厚さが５０ｎｍになるように塗布し、１８０Ｗの高圧水銀灯で３００ｍＪの紫外線を照射して硬化させることによって高屈折層を形成した。その後、前記高屈折層に、製造例３で製造された低屈折層コーティング液組成物を乾燥膜の厚さが２０ｎｍになるように塗布し、１５０℃のオーブンで１分間硬化させることによって低屈折層を形成した。このとき、インジウム：スズ＝９５：５のＩＴＯターゲットを用いて低屈折層に膜厚２０ｎｍのＩＴＯ層を形成し、透明導電性フィルムを製作した。）
　よって、上記各記載事項を関連図面に照らし、下線部に着目すれば、刊行物１には、次の発明（以下、「刊行物１発明」という。）が記載されているといえる。
「　アクリレート樹脂、フルオレン誘導体樹脂及び金属酸化物粒子を含む高屈折層コーティング用組成物であって、
　　アクリレート樹脂として、アルキル（メタ）アクリレート、アルキレングリコール（メタ）アクリレート、カルボキシル基及び不飽和二重結合含有（メタ）アクリル系化合物、水酸基含有（メタ）アクリル系化合物、窒素含有（メタ）アクリル系化合物などを含んでもよく、また、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレートなどのアクリル系オリゴマーを含んでもよく、
　　フルオレン誘導体樹脂は、９，９―ビス［４―（２―アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９―ビス［４―（２―ヒドロキシ―３―アクリロイルオキシプロポキシ）フェニル］フルオレン及びこれらの組み合わせからなる群から選ばれたいずれか一つであってもよく、
　　金属酸化物粒子は、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｎｂ２Ｏ３からなる群から選ばれたいずれか一つであってもよい、
　高屈折層コーティング用組成物を用いて形成された高屈折層を含む透明導電性フィルムであって、
　透明基材１、高屈折層３及び導電層５の積層構造である、
透明導電性フィルム。」
（２）　刊行物３について
　刊行物３には、以下の記載がある。
ア　段落［０００６］−［００１０］
「[0006]　透明導電膜パターンの骨見えを抑制することが提案されている（例えば特許文献１〜６）。
先行技術文献
特許文献
[0007]特許文献1：特開２０１１−８４０７５号公報
特許文献2：特開２０１０−２２８２９５号公報
特許文献3：特開２００９−７６４３２号公報
特許文献4：特開２００６−３０１５１０号公報
特許文献5：特許第４３６４９３８号公報
特許文献6：特許第４６６１９９５号公報
発明の概要
発明が解決しようとする課題
[0008]　しかしながら、特許文献１〜６に開示されている技術では、透明導電膜パターンの骨見えの抑制効果が十分に満足するまでに至らない。特に、静電容量式のタッチパネルにおいては、透明導電膜が光の入射表面側に用いられているため、上記の骨見え現象は表示装置としての品質を低下させることから、更なる改善が求められている。
[0009]　従って、本発明の目的は、透明導電膜パターンの視認（骨見え）が十分に抑制された透明導電性フィルムを提供することにある。また、本発明の他の目的は、透明導電膜パターンの視認（骨見え）が十分に抑制された透明導電性フィルムを備えたタッチパネルを提供することにある。
課題を解決するための手段
[0010]　上記課題を達成できる本発明の透明導電性フィルムは、基材フィルム上に、屈折率が１．６１〜１．８０である高屈折率層、ＳｉＯ２膜、およびパターン化された透明導電膜をこの順に有し、前記高屈折率層の厚みが３０ｎｍ以上であり、かつ前記高屈折率層の光学厚みと前記ＳｉＯ２膜の光学厚みとの合計が（１／４）λの透明導電性フィルムである。
但し、λは３８０〜７８０ｎｍである。」
イ　段落［００１７］
「[0017]　高屈折率層は、樹脂と金属酸化物を含む層、高屈折率樹脂を含む層、もしくは金属酸化物と高屈折率樹脂を含む層であることが好ましく、樹脂と金属酸化物を含む層であることがより好ましい。」
ウ　段落［００３２］
「[0032]　高屈折率樹脂としては、フッ素以外のハロゲン原子を含む樹脂（例えば臭素原子を含む樹脂、塩素原子を含む樹脂、ヨウ素原子を含む樹脂）、硫黄原子を含む樹脂、窒素原子を含む樹脂、燐原子を含む樹脂、芳香族環を含む樹脂（例えばフルオレン骨格を含む樹脂、フェニル基を含む樹脂等）が挙げられる。これらの樹脂は透明性を有するものであればよく、公知または市販のものを使用することができ、また他の樹脂と併用することもできる。」
エ　段落［００３７］
「[0037]　芳香族環を含む樹脂としては、９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格を有するアクリル樹脂、ビフェニル基を有するアクリル樹脂、エポキシ樹脂等を用いることができる。例えば新中村化学社製９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＮＫエステルＡ−ＢＰＥＦ）、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート（ＮＫエステル４０１Ｐ）、ヒドロキシエチル化ｏ−フェニルフェノールアクリレート（ＮＫエステルＡ−ＬＥＮ−１０）、ＪＦＥケミカル社製９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン（ＢＣＦ）、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＢＰＥＦ）、大阪ガスケミカル社製ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテル（ＢＰＦＧ）、ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル（ＢＰＥＦＧ）、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート（ＢＰＥＦ−Ａ）、オグソールＰＧシリーズ、オグソールＥＧシリーズ、オグソールＥＡシリーズ、オグソールＥＡ−Ｆシリーズ、長瀬産業社製オンコートＥＸシリーズ、共栄社化学社製ＨＩＣ−Ｇシリーズ、ＡＤＥＫＡ社製ＲＦ（Ｘ）シリーズ等を用いることができる。」
オ　段落［００６７］
「[0067]　［易接着層］
　基材フィルムは、高屈折率層や後述するハードコート層との密着力を強化するための易接着層が積層されていることが好ましい。」
カ　段落［００９５］
「[0095]　本発明の透明導電性フィルムの好ましい構成例の幾つかを以下に挙げるが、本発明はこれらに限定されない。なお、下記構成例において、透明導電膜はパターン化された透明導電膜であり、透明導電膜以外の他の層はパターン化されていない。
ａ）基材フィルム／易接着層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
ｂ）ハードコート層／易接着層／基材フィルム／易接着層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
ｃ）基材フィルム／易接着層／ハードコート層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
ｄ）ハードコート層／易接着層／基材フィルム／易接着層／ハードコート層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
ｅ）透明導電膜／ＳｉＯ２膜／高屈折率層／易接着層／基材フィルム／易接着層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜
ｆ）透明導電膜／ＳｉＯ２膜／高屈折率層／ハードコート層／易接着層／基材フィルム／易接着層／ハードコート層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜。」
キ　段落［０１１９］
「[0119]　［実施例１］
　下記の要領で透明導電性フィルムを作製した。この透明導電性フィルムは、「ハードコート層／易接着層／基材フィルム（ＰＥＴフィルム）／易接着層／高屈折率層／ＳｉＯ２膜／透明導電膜」の構成である。
＜易接着層の積層＞
　屈折率１．６５で厚み１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の両面に、ＰＥＴフィルムの製膜工程内（インライン）で上記の易接着層塗布組成物１ａを乾燥厚みが９０ｎｍとなるようにウェットコーティング法（バーコート法）により積層して、ＰＥＴフィルム上に易接着層を積層した。
＜ハードコート層の積層＞
　ＰＥＴフィルムの一方の面の易接着層上にハードコート層の塗布組成物をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布し、乾燥し、紫外線を照射し硬化して、厚みが２μｍのハードコート層を積層した。
＜高屈折率層の積層＞
　ＰＥＴフィルムのハードコート層が積層されている面とは反対面の易接着層上に高屈折率層の塗布組成物２ａをウェットコーティング法（グラビアコート法）により硬化後の厚みが７０ｎｍとなるように塗布し、乾燥し、紫外線を照射し硬化させて、高屈折率層を形成した。
＜ＳｉＯ２膜の積層＞
　上記の高屈折率層上に、厚みが１０ｎｍとなるようにＳｉＯ２膜（屈折率１．４６）をスパッタリング法により積層した。
＜透明導電膜の積層＞
　上記のＳｉＯ２膜に、透明導電膜としてＩＴＯ膜（屈折率２．００）を厚みが３３ｎｍとなるようにスパッタリング法で積層した。
＜透明導電膜のパターン化＞
　上記で得られた積層体の透明導電膜のみをストライプ状にパターン加工（エッチング処理）して、透明導電性フィルムを得た。」
（３）　刊行物４について
　刊行物４には、以下の記載がある。
ア　段落【０００５】
「【０００５】
　例えば、透明導電膜の色調（色味）を調整するために、基材フィルム上に光学機能層を積層したベースフィルムが提案されており（特許文献１〜３）、またパターン化された透明導電膜のパターンが視認される現象（いわゆる「骨見え」）を抑制するために、基材フィルム上に屈折率調整層を積層したベースフィルムとして知られている（特許文献４〜８）。」
イ　段落【００１５】
「【００１５】
　本発明において、高屈折率層と低屈折率層の積層構成は、透明導電膜の色調を調整するための光学機能層あるいはパターン化された透明導電膜の骨見えを抑制するための屈折率調整層として機能を有する。特に、本発明において、高屈折率層と低屈折率層の積層構成は、パターン化された透明導電膜の骨見えを抑制するのに好適である。」
ウ　段落【００２４】
「【００２４】
　［易接着層］
　本発明の基材フィルムは、少なくとも高屈折率層および低屈折率層を積層する側の面に易接着層が設けられていることが好ましい。易接着層は基材フィルムの両面に積層されていることがより好ましい。」
エ　段落【００３８】
「【００３８】
　高屈折率樹脂としては、例えばフッ素以外のハロゲン原子を含む樹脂（例えば臭素原子を含む樹脂、塩素原子を含む樹脂）、硫黄原子を含む樹脂、窒素原子を含む樹脂、燐原子を含む樹脂、珪素原子を含む樹脂、芳香族環を含む樹脂（例えばフルオレン骨格を含む樹脂、フェニル基を含む樹脂等）が挙げられる。」
オ　段落【００４６】
「【００４６】
　芳香族環を含む樹脂としては、９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格を有するアクリル樹脂、ビフェニル基を有するアクリル樹脂、エポキシ樹脂等を用いることができる。例えば新中村化学社製９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＮＫエステルＡ−ＢＰＥＦ）、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート（ＮＫエステル４０１Ｐ）、ヒドロキシエチル化ｏ−フェニルフェノールアクリレート（ＮＫエステルＡ−ＬＥＮ−１０）、ＪＦＥケミカル社製９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン（ＢＣＦ）、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＢＰＥＦ）、大阪ガスケミカル社製ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテル（ＢＰＦＧ）、ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル（ＢＰＥＦＧ）、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート（ＢＰＥＦ−Ａ）、オグソールＰＧシリーズ、オグソールＥＧシリーズ、オグソールＥＡシリーズ、オグソールＥＡ−Ｆシリーズ、長瀬産業社製オンコートＥＸシリーズ、共栄社化学社製ＨＩＣ−Ｇシリーズ、ＡＤＥＫＡ社製ＲＦ（Ｘ）シリーズ等を用いることができる。」
カ　段落【０１１２】
「【０１１２】
　（７）低屈折率層表面の平均粗さ（Ｒａ）の測定
　下記の原子力間顕微鏡（ＡＦＭ）および解析ソフトを用いて測定した。測定範囲は１μm平方である。
＜原子力間顕微鏡＞　Bruker Corporation製の「DIMENSION icon with Scan Asyst」
＜解析ソフト＞　Bruker Corporation製の「Nano Scope Analysis（version1.40）」
　［原料］
　＜易接着層形成用塗布液（水分散体）＞
　固形分質量比で、Ｔｇ（ガラス転移温度）が１２０℃のポリエステル樹脂ａを２６質量％、Ｔｇが８０℃のポリエステル樹脂ｂを５４質量％、メラミン系架橋剤を１８質量％、粒子を２質量％混合して水分散塗布液を調製した。
・ポリエステル樹脂ａ；２，６−ナフタレンジカルボン酸４３モル％、５−ナトリウムスルホイソフタル酸７モル％、エチレングリコールを含むジオール成分５０モル％を共重合して得られたポリエステル樹脂。
・ポリエステル樹脂ｂ；テレフタル酸３８モル％、トリメリット酸１２モル％、エチレングリコールを含むジオール成分５０モル％を共重合して得られたポリエステル樹脂。
・メラミン系架橋剤；メチロール基型メラミン架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラックＭＷ１２ＬＦ」）
・粒子；平均粒子径１９０ｎｍのコロイダルシリカ。」
キ　段落【０１２１】−【０１２７】
「【０１２１】
　［実施例１］
　下記の要領でベースフィルムを作製した。
【０１２２】
　＜易接着層積層ＰＥＴフィルムの作製＞
　屈折率１．６５で厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の両面に、それぞれ樹脂層をＰＥＴフィルムの製造工程内でインラインコーティングした。つまり、長手方向に一軸延伸されたＰＥＴフィルムの両面にそれぞれ易接着層形成用塗布液をバーコート法で塗布し１００℃で乾燥後、引き続き幅方向に二軸延伸し、２３０℃で２０秒間加熱処理を施し熱硬化させて、両面に樹脂層が積層されたＰＥＴフィルムを作製した。樹脂層の屈折率は１．５９、厚みは９０ｎｍであった。
【０１２３】
　＜ハードコート層の積層＞
　上記で作製した易接着層積層ＰＥＴフィルムの一方の面（以下、「Ｂ面」と称することがある）に組成物Ａ２を、ウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、９０℃で乾燥後、紫外線を照射し硬化させてハードコート層（裏面ハードコート層）を形成した。このハードコート層は、厚み２μｍｍ、屈折率が１．５２であった。
【０１２４】
　次いで、易接着層積層ＰＥＴフィルムの他方の面（以下、「Ａ面」と称することがある）に組成物Ａ１を、ウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、９０℃で乾燥後、紫外線を照射し硬化させてハードコート層を形成した。このハードコート層は、厚み２μｍｍ、屈折率が１．５２であった。
【０１２５】
　＜高屈折率層の積層＞
　上記の組成物Ａ１を用いて形成したハードコート層の上に、組成物B１をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線を照射し硬化させて高屈折率層を形成した。この高屈折率層の屈折率は１．６５、厚みは５０ｎｍであった。
【０１２６】
　＜低屈折率層の積層＞
　上記高屈折率層の上に、組成物C１をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布し、９０℃で乾燥し、紫外線を照射し硬化させて低屈折率層を形成して、ベースフィルムを作成した。この低屈折率層の屈折率は１．４５、厚みは４０ｎｍであった。
【０１２７】
　＜透明導電性フィルムの作成＞
　上記で作成したベースフィルムの低屈折率層の上に、透明導電膜としてＩＴＯ膜を厚みが２０ｎｍとなるようにスパッタリング法で積層し、次にこのＩＴＯ膜のみを格子状にパターン加工（エッチング処理）して、透明導電性フィルムを得た。」
（４）　刊行物５について
　刊行物５には、図面とともに、段落【０００８】に、以下の記載がある。
「【０００８】
　本発明者は、上記課題を解決するために、鋭意研究を重ねたところ、高屈折率で現像性を有するカルド樹脂と、同じく高屈折率のモノマーとを組み合わせ、これに更に、金属またはその酸化物の微粒子を所定のＰＶ比で添加することにより、絶縁層及び／又は保護層としての屈折率を大幅に向上してＩＴＯとの屈折率差を小さくすることができ、これによってＩＴＯパターンがタッチ面側から透けて見えてしまうことを効果的に防止できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。」
（５）　刊行物６について
　刊行物６には、以下の記載がある。
ア　段落［０００９］
「[0009]　本発明に係る金属酸化物組成物は、下記一般式（１）で表される分散剤（Ａ）、及び平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの金属酸化物を含有するものであり、二種類以上の金属酸化物及び二種類以上の分散剤（Ａ）をそれぞれ含んでも良い。
　一般式（１）：
[化3]
（式中、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立に水素原子またはメチル基を示し、Ｒ５〜Ｒ８は、それぞれ独立に非置換もしくは置換の、直鎖もしくは分岐鎖のアルキレン基またはアルキレンオキシアルキレン基を示し、Ｒ９は、４価の芳香族基または脂肪族基を示す。）」
イ　段落［００１１］
「[0011]　上記式（１）において、Ｒ９の４価の芳香族基としては、具体的にフェニル骨格、ベンゾフェノン骨格、ビフェニル骨格、フェニルエーテル骨格、ジフェニルスルホン骨格、ジフェニルスルフィド骨格、ペリレン骨格、フルオレン骨格、テトラヒドロナフタレン骨格及びナフタレン骨格などが挙げられる。なかでも、Ｒ９がビフェニル骨格、ナフタレン骨格、フルオレン骨格、及びテトラヒドロナフタレン骨格からなる群から選ばれる少なくとも一種であることが好ましい。」
（６）　刊行物７について
　刊行物７には、以下の記載がある。
ア　段落［００３０］
「[0030]　第１層は易接着層としての機能を有していることが好ましい。つまり、第１層は、基材フィルムと第１層より上方の層（例えば第２層、第３層、および透明導電膜）との密着性（接着性）を強化するための易接着層としての役目を有していることが好ましい。従って、第１層は基材フィルム上に直接に設けられていることが好ましい。」
イ　段落［００５２］
「[0052]　高屈折率樹脂としては、フッ素以外のハロゲン原子を含む樹脂（例えば臭素原子を含む樹脂、塩素原子を含む樹脂、ヨウ素原子を含む樹脂）、硫黄原子を含む樹脂、窒素原子を含む樹脂、燐原子を含む樹脂、芳香族環を含む樹脂（例えばフルオレン骨格を含む樹脂、フェニル基を含む樹脂等）が挙げられる。これらの樹脂は透明性を有するものであればよく、公知または市販のものを使用することができ、また他の樹脂との併用も可能である。」
ウ　段落［００５６］
「[0056]　芳香族環を含む樹脂としては、９，９−ビスフェノキシフルオレン骨格を有するアクリル樹脂、ビフェニル基を有するアクリル樹脂、エポキシ樹脂等を用いることができる。例えば新中村化学社製９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＮＫエステルＡ−ＢＰＥＦ）、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート（ＮＫエステル４０１Ｐ）、ヒドロキシエチル化ｏ−フェニルフェノールアクリレート（ＮＫエステルＡ−ＬＥＮ−１０）、ＪＦＥケミカル社製９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン（ＢＣＦ）、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＢＰＥＦ）、大阪ガスケミカル社製ビスフェノールフルオレンジグリシジルエーテル（ＢＰＦＧ）、ビスフェノキシエタノールフルオレンジグリシジルエーテル（ＢＰＥＦＧ）、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート（ＢＰＥＦ−Ａ）、オグソールＰＧシリーズ、オグソールＥＧシリーズ、オグソールＥＡシリーズ、オグソールＥＡ−Ｆシリーズ、長瀬産業社製オンコートＥＸシリーズ、共栄社化学社製ＨＩＣ−Ｇシリーズ、ＡＤＥＫＡ社製ＲＦ（Ｘ）シリーズ等を用いることができる。」
（７）　刊行物８について
　刊行物８には、図面とともに、段落【００５９】に、以下の記載がある。
「【００５９】
　透明導電層は、直接基材フィルムに積層されても良いが、易接着層及び／又は種々の他の層を介して積層することが出来る。他の層としては、例えば、ハードコート層、インデックスマッチング（ＩＭ）層、及び低屈折率層等を挙げることができる。代表的な透明導電性フィルムの積層構造としては、次の６パターンを挙げることが出来るが、これらに限定されるわけではない。
（１）基材フィルム/易接着層/透明導電層
（２）基材フィルム/易接着層/ハードコート層/透明導電層
（３）基材フィルム/易接着層/ＩＭ（インデックスマッチング）層/透明導電層
（４）基材フィルム/易接着層/ハードコート層/ＩＭ（インデックスマッチング）層/透明導電層
（５）基材フィルム/易接着層/ハードコート層（高屈折率でＩＭを兼ねる）/透明導電層
（６）基材フィルム/易接着層/ハードコート層（高屈折率）/低屈折率層/透明導電性薄膜」
（８）　本件発明１について
ア　対比
　本件発明１（なお、分説は、令和元年１１月２１日に特許異議申立人１により提出された意見書における特定要件（Ａ）−（Ｊ）、（Ｎ）、（Ｓ）−（Ｖ）を採用した。）と刊行物１発明とを対比すると、次のことがいえる。
（ア）　刊行物１発明の「透明導電性フィルム」は、「透明基材１、高屈折層３及び導電層５の積層構造である」から、刊行物１発明の「透明基材１」は、本件発明１の「透明基板」に相当し、刊行物１発明の「高屈折層３」、「導電層５」は、それぞれ、本件発明１の「インデックスマッチング層」、「透明電極層」に対応する。
　そして、刊行物１発明の「透明基材１、高屈折層３及び導電層５」が「積層」されていることは、本件発明１の「透明基板と、インデックスマッチング層と、透明電極層とがこの順に積層されて」いることに対応する。
　また、刊行物１発明の「透明導電性フィルム」は、本件発明１の「積層体」に対応する。
（イ）　刊行物１には、導電層５が透明な導電層であることは明記されていない。
　しかしながら、導電層５は、透明導電性フィルムを構成するものであるから、当然、透明であると解される。
　また、刊行物１には、「静電容量方式のタッチパネルは、基材上に透明導電層を有することを基本的構成とし、」と記載されており（上記（１）アを参照。）、実施例として、導電層として周知の透明導電層であるＩＴＯ層を形成した透明導電性フィルムが記載されている（上記（１）オの段落［７０］を参照。）。
　よって、刊行物１発明の「導電層５」は、本件発明１の「透明電極層」に相当する。
（ウ）　本件特許明細書には、「本発明において、「インデックスマッチング層」とは、タッチパネル等の表示装置等に用いられる積層体を構成する層であって、透明基板と透明電極層との間に、透明基板上の透明電極層を有する部分と透明電極層を有さない部分との光学特性の差を小さくすることを目的として設けられる層のことをいう。」（段落【００２８】）、「ＩＭ層の屈折率は、好ましくは１．５９〜１．８０、より好ましくは１．６０〜１．７５である。」（段落【００９８】）、「ＩＭ層は、上記範囲の屈折率を有するため、　・・・　透明電極層を有する部分と透明電極層を有さない部分との、光学特性の差を低減することができる。」（段落【００９９】）と記載されている。
　また、透明基板と透明電極層との間に高い屈折率を有する層を設けることにより、透明電極層を有する部分と透明電極性を有さない部分との光学特性の差（いわゆる「骨見え」）を抑制できることは、周知技術である（例えば、刊行物３（上記（２）ア）、刊行物４（上記（３）のア−イ）、及び、刊行物５（上記（４））を参照。）。
　そして、刊行物１発明の「透明導電性フィルム」は、「透明基材１、高屈折層３及び」透明な「導電層５の積層構造であ」って、タッチパネルに適用されるものである。
　また、刊行物１（上記（１）ウの段落［５２］）には、高屈折層の屈折率が約１．６−約１．８であってもよい旨記載されているところ、刊行物１発明の「高屈折層３」は、本件発明１の「インデックスマッチング層」に相当する。
（エ）　刊行物１発明の「高屈折層３」は、「アクリレート樹脂、フルオレン誘導体樹脂及び金属酸化物粒子を含む高屈折層コーティング用組成物であって、」「金属酸化物粒子は、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｎｂ２Ｏ３からなる群から選ばれたいずれか一つであってもよい、高屈折層コーティング用組成物を用いて形成された」ものであるから、刊行物１発明の「高屈折層コーティング用組成物」は、本件発明１の「硬化性組成物」に対応する。
　また、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｎｂ２Ｏ３の屈折率が、１．７以上であることは、技術常識である。
　したがって、刊行物１発明の、「ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｎｂ２Ｏ３からなる群から選ばれたいずれか一つであ」る「金属酸化物粒子」は、本件発明１の「屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子」に相当する。
（オ）　刊行物１発明の「高屈折層３」は、「フルオレン誘導体樹脂は、９，９―ビス［４―（２―アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９―ビス［４―（２―ヒドロキシ―３―アクリロイルオキシプロポキシ）フェニル］フルオレン及びこれらの組み合わせからなる群から選ばれたいずれか一つであってもよ」いものであるところ、「フルオレン誘導体樹脂」として「９，９―ビス［４―（２―アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン」を含むものである。
　ここで、刊行物１において、高屈折層コーティング用組成物に含まれるフルオレン誘導体樹脂が、本件発明１の特定要件（Ｇ）の「波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない」との特定の吸収特性を有するか否かを明らかにする記載はない。
　しかしながら、本件特許明細書の段落【００５６】において、好ましい「フルオレン骨格を有する化合物」として記載された化合物の多くが、刊行物１（上記（１）イの段落［３９］）において、フルオレン誘導体樹脂の具体例として重複して記載されている。
　特に、刊行物１の製造例１において、高屈折層コーティング用組成物の製造に用いた「９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン」は、本件発明１の実施例１−１２において、成分（Ｂ）として用いた「Ｂ−１：ＡＢＰＥＦ（商品名、新中村化学工業（株）製）」と同一の化合物である（本件特許の出願（特願２０１５−０７３１３０号）に係る平成３０年６月１日付け意見書、刊行物３（上記（２）エ）、刊行物４（上記（３）オ）を参照。）。
　したがって、刊行物１発明の「９，９―ビス［４―（２―アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン」が、本件発明１の特定要件（Ｇ）の「化合物」と同様に、「波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物」であることは、明らかである。
　よって、刊行物１発明の、「９，９―ビス［４―（２―アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン」である「フルオレン誘導体樹脂」は、本件発明１の「
光重合開始剤以外の化合物であって、波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物
重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物
であ
る
化合物
　さらに、刊行物１発明の、「９，９―ビス［４―（２―アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン」である「フルオレン誘導体樹脂」は、本件発明１の、「重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ１）で表される化合物であ」る、「前記重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物」
「【化１】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（ｂ１）
［式（ｂ１）中、Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；　Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；　ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；　ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；　ａおよびｂは、それぞれ独立に１〜４の整数である。］」に相当する。
（カ）　刊行物１発明の「高屈折層３」は、「アクリレート樹脂として、アルキル（メタ）アクリレート、アルキレングリコール（メタ）アクリレート、カルボキシル基及び不飽和二重結合含有（メタ）アクリル系化合物、水酸基含有（メタ）アクリル系化合物、窒素含有（メタ）アクリル系化合物などを含んでもよく、また、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレートなどのアクリル系オリゴマーを含んでもよ」いものであるから、刊行物１発明の「アルキル（メタ）アクリレート、アルキレングリコール（メタ）アクリレート、カルボキシル基及び不飽和二重結合含有（メタ）アクリル系化合物、水酸基含有（メタ）アクリル系化合物、窒素含有（メタ）アクリル系化合物」、「エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレートなどのアクリル系オリゴマー」の少なくとも１つである「アクリレート樹脂」は、「重合性基を有する、前記（Ｂ１）以外の化合物」、すなわち、「光重合開始剤以外の化合物であって、波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物」であって、「重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物、並びに重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種であ」る「化合物」「以外の化合物」に相当する。
　よって、本件発明１と刊行物１発明との一致点・相違点は、次のとおりであるといえる。
［一致点］
「　透明基板と、インデックスマッチング層と、透明電極層とがこの順に積層されており、
　インデックスマッチング層が、
（Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子と、
（Ｂ１）光重合開始剤以外の化合物であって、波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物と、ここで当該化合物が重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物であり、
（Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ１）以外の化合物と
を含有する硬化性組成物から形成された層であり、
　前記重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ１）で表される化合物である
【化１】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（ｂ１）
［式（ｂ１）中、
　Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
　Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
　ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　ａおよびｂは、それぞれ独立に１〜４の整数である。］、
積層体。」
［相違点１］（本件発明１の特定要件（Ｎ）、（Ｓ））
　本件発明１は、「透明基板とインデックスマッチング層との間に、紫外線による分解を受ける化合物を含む接着剤層をさらに有し、接着剤層が、紫外線による分解を受ける化合物を含」むのに対して、刊行物１発明は、そのような特定がされていない点。
［相違点２］（本件発明１の特定要件（Ｇ））
　「（Ｂ１）光重合開始剤以外の化合物であって、波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物」が、本件発明１では、「重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物
、並びに重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種
［相違点３］（本件発明１の特定要件（Ｕ））
　本件発明１では、「前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ２）で表される化合物であ」る
「【化２】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（ｂ２）
［式（ｂ２）中、
　Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
　Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
　ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜５の整数である。］、のに対して、刊行物１発明では、そもそも、　「（Ｂ１）光重合開始剤以外の化合物であって、波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物」が、「前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物」ではない点。
［相違点４］（本件発明１の特定要件（Ｖ））
　本件発明１では、「前記硬化性組成物において、化合物（Ｂ１）の含有量が、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である」のに対して、刊行物１発明では、そのような特定がされていない点。
イ　相違点についての判断
　上記相違点１−４について検討する。
（ア）　上記相違点１について
　タッチパネル等の表示装置が属する技術分野において、積層構造を有する光学部材における異なる層間の密着性の向上は、自明な課題にすぎない。また、刊行物１（上記（１）イの段落［３８］）には、「前記高屈折層コーティング用組成物は、フルオレン誘導体樹脂を含んでもよく、　・・・　。前記フルオレン誘導体樹脂は、　・・・　、有機物の低い屈折率を向上させ、耐熱性、基材接着性、無機物との相溶性を高めるために使用される。」と、基材接着性が高屈折層を有する透明導電性フィルムにおける課題の一つであったことが記載されている。
　そして、タッチパネル等の表示装置に含まれる光学部材において、密着性の向上を目的として透明基板と他の層との間に接着剤層を設けることは、本件発明の属する技術分野における技術常識にすぎない。例えば、刊行物３（上記（２）のオ−キ）、刊行物４（上記（３）のウ、カ−キ）、刊行物７（上記（６）ア）、及び、刊行物８（上記（７））等に、密着性向上を目的として、透明基材の少なくとも高屈折層側の面に接着剤層を設けた構成を有する光学部材が開示されている。
　よって、刊行物１発明の透明導電性フィルムにおいて、密着性の向上という課題を解決する目的で、透明基材と高屈折層との間に接着剤層を設けることは、技術常識に基づいて、当業者が容易に想到し得たことにすぎない。
　また、接着剤に含まれる化合物が、紫外線により（例えば、長期にわたり、紫外線にさらされることで）分解し、接着剤の接着力が低下することは、技術常識であり、一般的な接着剤層が、紫外線により分解する化合物を含むことは、明らかである。
（イ）　上記相違点２について
　例えば、刊行物３（上記（２）のイ−エ）、刊行物４（上記（３）のエ−オ）、刊行物６（上記（５））及び刊行物７（上記（６）のイ−ウ）には、光学部材を構成する高屈折率層に含まれる高屈折率樹脂として、フルオレン骨格および重合性基を有する樹脂とともに、ビフェニル骨格および重合性基を有する樹脂を使用し得ることが記載されている。
　よって、刊行物１発明の透明導電性フィルムにおいて、刊行物１に記載のフルオレン誘導体樹脂に代えて又は加えて、刊行物３−４、６−７に記載のビフェニル骨格及び重合性基を有する樹脂を使用することは、当業者にとって容易に想到し得たことにすぎない。
（ウ）　上記相違点３について
　刊行物３には、上記２（２）アに記載したように、「金属酸化物と高屈折率樹脂を含む層を形成するための組成物」が、「前述の金属酸化物と高屈折率樹脂を組み合わせ」たもの、すなわち、「屈折率が１．７〜２．８の金属酸化物微粒子」と、「新中村化学社製９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＮＫエステルＡ−ＢＰＥＦ）、ヒドロキシエチル化ｏ−フェニルフェノールアクリレート（ＮＫエステルＡ−ＬＥＮ−１０）」とを組み合わせたものであることが記載されている。
　よって、刊行物１発明の透明導電性フィルムに、刊行物３に記載された技術的事項を適用して、上記相違点３に係る本件発明１の構成とすることは、当業者が容易になし得たことである。
（エ）　上記相違点４について
　刊行物１発明は、「高屈折層コーティング用組成物」が、「光硬化型」の「アクリレート樹脂」を含むものである。
　また、刊行物３には、上記２（２）アに記載したように、「金属酸化物と高屈折率樹脂の含有比率（質量比）が、金属酸化物：高屈折率樹脂＝９：１〜１：９の範囲」であるとともに、「樹脂の含有量が、組成物の固形分総量１００質量％に対して、５〜５０質量％の範囲」であることが記載されており、当該記載によれば、「金属酸化物と高屈折率樹脂」及び「活性エネルギー線硬化性樹脂」「を含む層を形成するための組成物」における、「高屈折率樹脂」の含有量は、「金属酸化物と高屈折率樹脂」及び「活性エネルギー線硬化性樹脂」の合計量を１００質量％とした場合、５〜８５．５質量％であり、本件発明１の特定要件（Ｖ）の範囲と重複する。
　よって、刊行物１発明の透明導電性フィルムに、刊行物３に記載された技術的事項を適用して、上記相違点４に係る本件発明１の構成とすることは、当業者が容易になし得たことである。
ウ　小括
　したがって、本件発明１は、刊行物１発明、刊行物３−４、６−７に記載された技術的事項、及び、刊行物３−４、７−８に記載された技術常識に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
（９）　本件発明２−５、７−９について
ア　刊行物１発明の構成（ｇ１）−（ｉ１）は、上記（８）アのとおりであるから、それぞれ、本件発明２、７−８の特定要件（Ｇ’）−（Ｉ’）（なお、分説については、本件発明１と同様に、令和元年１１月２１日に特許異議申立人１により提出された意見書を参照されたい。）に相当する。
イ　刊行物１発明の以下の構成（ｋ１）−（ｍ１）、（ｏ１）−（ｒ１）は、それぞれ、本件発明３−５、７−９の特定要件（Ｋ）−（Ｍ）、（Ｏ）−（Ｒ）に相当する。
　・高屈折層の屈折率は、約１．６〜約１．８であってもよい。（ｋ１）（上記（１）ウの段落［５２］を参照。）
　・高屈折層コーティング用組成物は、光開始剤をさらに含んでもよい。（ｌ１）（上記（１）イの段落［４５］を参照。）
　・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、トリメタノールプロパントリアクリレート、１，６―ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルジアクリレート、エチレンオキサイド付加ビスフェノールＡジアクリレート（ｍ１）（上記（１）イの段落［３６］を参照。）
　・両面にハードコーティング層を含むフィルムの一面に、製造例１―１で製造された高屈折層コーティング用組成物を乾燥膜の厚さが５０ｎｍになるように塗布し、（ｏ１）１８０Ｗの高圧水銀灯で３００ｍＪの紫外線を照射して硬化させることによって高屈折層を形成した。（ｐ１）その後、前記高屈折層に、」「低屈折層を形成した。このとき、インジウム：スズ＝９５：５のＩＴＯターゲットを用いて低屈折層に膜厚２０ｎｍのＩＴＯ層を形成し、（ｑ１）透明導電性フィルムを製作した。（ｒ１）（上記（１）オの段落［７０］を参照。）
ウ　刊行物１発明の透明導電性フィルムにおいて、「化合物（Ｂ１）の含有量が、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である」（本件発明７の特定要件（Ｖ’））ようにすること、及び、「化合物（Ｂ２）の含有量が、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ２）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である」（本件発明８の特定要件（Ｖ’））ようにすることは、本件発明１の特定要件（Ｖ）と同様の理由により、刊行物１発明、及び、刊行物３に記載された技術的事項に基づいて、当業者が容易になし得たことである。
エ　刊行物１発明の透明導電性フィルムにおいて、「透明基材１」に「接着剤層が形成され」（本件発明９の特定要件（Ｎ’））るようにすることは、本件発明１の特定要件（Ｎ）と同様の理由により、刊行物１発明及び技術常識に基づいて、当業者が容易になし得たことである。
　したがって、本件発明２−５、７−９は、刊行物１発明、刊行物３−４、６−７に記載された技術的事項、及び、刊行物３−４、７−８に記載された技術常識に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
４　理由３（その３）について
（１）　本件発明１について
ア　本件発明１は、インデックスマッチング（ＩＭ）層が、「重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ１）で表される化合物である」との特定要件（Ｔ）で規定された「重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物」、並びに、「重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ２）で表される化合物である」との特定要件（Ｕ）で規定された「重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物」から選ばれる少なくとも１種である化合物（Ｂ１）（以下、「特定化合物（Ｂ１）」ともいう。）を有する積層体に特定されている。しかしながら、依然として、本件発明１において規定された特定化合物（Ｂ１）は、本件特許明細書の実施例において特定化合物（Ｂ１）に含まれる化合物に相当する化合物Ｂ−１（ＡＢＰＥＦ（商品名、新中村化学工業（株）製、９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン）、及び、化合物Ｂ−２（Ａ−ＬＥＮ−１０（商品名、新中村化学工業（株）製）、エトキシ化ｏ−フェニルフェノールアクリレート）よりも広い範囲の化合物が含まれる。
　また、本件発明１は、硬化性組成物における特定化合物（Ｂ１）の含有量は、「金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である」と規定されている（特定要件（Ｖ））。しかしながら、本件特許明細書の実施例では、金属酸化物粒子（Ａ）、特定化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｃ）の合計量に対する特定化合物（Ｂ１）の含有量が、２．４質量％（実施例１０）〜２２．７質量％（実施例１２）である硬化性組成物が使用されているに過ぎない。
　一方、令和元年１０月８日に特許権者により提出された意見書（以下、「特許権者意見書」ともいう。）の６−７ページには、取消理由通知書の理由３（その３）について、
「　本件発明１及び２では、化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｂ２）について、それぞれの構造及び含有量が規定されている。すなわち、化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｂ２）において、重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物が式（ｂ１）で表される化合物に減縮され、重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物が式（ｂ２）で表される化合物に減縮され、重合性基数が規定され、さらに硬化性組成物中における化合物（Ｂ1）及び化合物（Ｂ２）の含有量も規定されている。　・・・　
　したがって、前記取消理由は解消したものと考える。」
と述べている。
　しかしながら、特許権者意見書には、取消理由通知書の４３−４５ページにおいて指摘された取消理由（理由３（その３））、特に、取消理由通知書の４５ページにおける「本件特許明細書からは、種々の官能基及び構造を有する特定化合物（Ｂ１）又は特定化合物（Ｂ２）をあらゆる含有量で含有する硬化性組成物を用いて作製されたあらゆるインデックスマッチング層が、「積層体を製造する際に照射される紫外線等を充分に吸収し、透明基板とインデックスマッチング層との間に設けた接着剤層に到達する紫外線量を低減する」ことによって、透明基板とインデックスマッチング層との間の密着性及びＵＶ耐性の向上という本件特許発明の課題を解決し得ることを、当業者が認識できるように記載されているということはできない。」という指摘事項が解消された理由について、具体的な説明は一切記載されていない。
　このように、取消理由が解消された理由について具体的に説明することなく、特定化合物（Ｂ１）の構造及び含有量を規定したことのみに基づいて「前記取消理由は解消したものと考える。」と主張したとしても、その主張は、到底、取消理由通知書により指摘された取消理由（理由３（その３））に対する回答となるものではない。
　以上より、取消理由通知書の４３−４５ページに記載されているように、出願時の技術常識に照らしても、本件発明１により規定される範囲にまで、発明の詳細な説明に開示された内容を拡張ないし一般化できるとはいえない。
イ　特定化合物（Ｂ１）の含有量（特定要件（Ｖ））について
　上記アで述べたように、本件特許明細書の実施例では、硬化性組成物における特定化合物（Ｂ１）の含有量について、金属酸化物粒子（Ａ）、特定化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｃ）の合計量に対して２．４〜２２．７質量％である硬化性組成物しか使用されていない。
　特に、上記特定要件（Ｕ）で規定された式（ｂ２）で表される化合物については、本件特許明細書の実施例１３において、金属酸化物粒子（Ａ）、特定化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｃ）の合計量に対する特定化合物（Ｂ１）の含有量が６．４質量％である硬化性組成物が使用されているに過ぎない。
　それに対して、取消理由通知書の４４−４５ページに記載されているように、ＩＭ層が特定化合物（Ｂ１）に該当する化合物を含有する場合であっても、当該化合物の含有量によって、ＩＭ層における紫外線吸収特性が変化し、積層体における接着剤層の密着性のＵＶ耐性に影響し得ることは、当業者であれば容易に理解できる。
　実際に、本件特許明細書の段落【０１３７】の【表１】では、特定化合物（Ｂ１）として化合物Ｂ−１を使用し、金属酸化物粒子（Ａ）、特定化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｃ）の合計量に対する特定化合物（Ｂ１）の含有量が約６．４質量％である実施例１等で作製された硬化膜のＵＶ耐性の評価が「ＢＢ」であったのに対して、特定化合物（Ｂ１）として同じ化合物Ｂ−１を使用し、金属酸化物粒子（Ａ）、特定化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｃ）の合計量に対する特定化合物（Ｂ１）の含有量が約２．４質量％である実施例１０で作製された硬化膜のＵＶ耐性の評価が「ＣＣ」であったことが示されている。すなわち、本件特許明細書の実施例には、硬化性組成物における特定化合物（Ｂ１）の含有量によって、硬化膜のＵＶ耐性が変化することが示されている。
　よって、本件特許明細書は、特定化合物（Ｂ１）を本件特許明細書の実施例において使用された硬化性組成物に含まれる２．４質量％よりも下回る量含む組成物を用いて作製されたＩＭ層が、透明基板とＩＭ層との間にＵＶ分解化合物を含む接着剤層を有する積層体において、透明基板とＩＭ層との密着性がＵＶ照射により低下するという課題（以下、「本件課題」ともいう。）を解決し得ることを、当業者が認識できるように記載されているということはできない。
　一方、特定化合物（Ｂ１）の含有量が約２．４質量％である実施例１０や特定化合物（Ｂ１）の含有量が約６．４質量％である実施例１等で作製された硬化膜の密着性の評価が「ＡＡ」であるのに対し、特定化合物（Ｂ１）の含有量が約１３．７質量％である実施例１１や特定化合物（Ｂ１）の含有量が約２２．７質量％である実施例１２で作製された硬化膜の密着性の評価が「ＢＢ」であったことが示されている。すなわち、本件特許明細書の実施例には、硬化性組成物における特定化合物（Ｂ１）の含有量によって、硬化膜の密着性が変化することが示されている。なお、硬化膜の密着性は、最も基本的な要求性能であり、本件特許明細書において「発明が解決しようとする課題」として記載されている技術的課題である。
　よって、本件特許明細書は、特定化合物（Ｂ１）を本件特許明細書の実施例において使用された硬化性組成物に含まれる２２．７質量％よりも上回る量で含む組成物を用いて作製されたＩＭ層が上記の課題を解決し得ることを、当業者が認識できるように記載されているということはできない。
ウ　特定化合物（Ｂ１）の構造（特定要件（Ｔ）及び（Ｕ））について
　本件特許明細書の実施例には、特定化合物（Ｂ１）のうち式（ｂ１）で表される化合物としては、化合物Ｂ−１（９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン）しか使用されていない。
　この化合物Ｂ−１は、式（ｂ１）において、ｍ、ｎ、ｐ及びｑがいずれも０であって、置換基Ｒ１を有さず、ａ及びｂがいずれも１であって、Ｒ２が、本件特許明細書の段落【００６１】−【００６２】に記載の式（ｇ１）で表され、Ｒが水素原子であり、Ａがエチレン基であり、ｎが１である基である化合物に相当する。
　一方、訂正後の請求項１では、式（ｂ１）中の置換基Ｒ１として官能基が特定されているものの、アルキル基等の炭化水素含有基の炭素数は規定されていないため、多種多様な置換基が含まれることになる。また、置換基Ｒ１の個数も最大で１６となり得る（ｐ、ｑ、ｍ及びｎがいずれも４である場合）。したがって、例えば、式（ｂ１）で表され、Ｒ１がブチル基（−Ｃ４Ｈ９）であり、Ｒ１の個数が１６（ｍ、ｎ、ｐ及びｑがいずれも４）であり、Ｒ２が化合物Ｂ−１と同じ２−アクリロイルオキシエトキシ基であり、ａ及びｂがいずれも１であるフルオレン化合物（以下、「化合物ｂ１−１」ともいう）も、特定要件（Ｔ）を満たす化合物である。
　ここで、式（ｂ１）の構造から、化合物の紫外線吸収特性に寄与し、硬化膜にＵＶ耐性の効果をもたらす構造が、フルオレン骨格にあると考えられる。そこで、式（ｂ１）で表される化合物におけるフルオレン骨格含有率（化合物の分子量に対するフルオレン骨格を構成する原子の合計質量）を計算すると、分子量が約５４６である化合物Ｂ−１では、フルオレン骨格含有率が約３０質量％と算出される一方、分子量が約１４６０である化合物ｂ１−１では、フルオレン骨格含有率は、約１１質量％と算出される。本件発明１において、式（ｂ１）中の置換基Ｒ１が表すアルキル基等の炭素数が限定されていないことに鑑みれば、上記化合物ｂ１−１は、決して、極端な化合物の例を挙げたものではない。それにもかかわらず、式（ｂ１）で表され、特定要件（Ｔ）を満たす点で同じ化合物であっても、ＵＶ耐性の効果に寄与し得ると考えられるフルオレン骨格の含有率は、本件特許明細書の実施例で使用した化合物Ｂ−１に対して、上記化合物ｂ１−１では約３分の１程度にまで低減することになる。
　式（ｂ１）中の置換基Ｒ２についても、同様のことがいえる。すなわち、訂正後の請求項１では、式（ｂ１）中の置換基Ｒ２は「重合性不飽和二重結合を有する基」としか規定されておらず、重合性不飽和二重結合を有する限りあらゆる基が式（ｂ１）中の置換基Ｒ２となり得、さらに、置換基Ｒ２の個数も最大で８となり得る（ａ及びｂがいずれも４である場合）。したがって、例えば、式（ｂ１）で表され、ｍ、ｎ、ｐ及びｑがいずれも０であってＲ１を有さず、ａ及びｂがいずれも４であり、Ｒ２がいずれも上記式（ｇ１）で表され、Ｒがメチル基であり、Ａがブチレン基であり、ｎが１２であるフルオレン化合物（以下、「化合物ｂ１−２」ともいう。）も、特定要件（Ｔ）を満たす化合物である。この化合物ｂ１−２の分子量は約７９００であるから、化合物ｂ１−２におけるフルオレン骨格含有率は約２．１質量％と算出される。すると、式（ｂ１）で表され、特定要件（Ｔ）を満たす点で同じ化合物であっても、ＵＶ耐性の効果に寄与し得ると考えられるフルオレン骨格の含有率は、本件特許明細書の実施例で使用した化合物Ｂ−１に対して、上記化合物ｂ１−２では約６．９質量％にまで低減することになる。
　また、上記の式（ｂ１）で表される化合物とフルオレン骨格の含有率の関係と同様のことは、式（ｂ２）で表される化合物に対しても当てはまる。
　すなわち、式（ｂ２）の構造から、化合物の紫外線吸収特性に寄与し、硬化膜にＵＶ耐性の効果をもたらす構造がビフェニル骨格にあると考えられる。一方、本件特許明細書の実施例において、特定化合物（Ｂ１）のうち式（ｂ２）で表される化合物としては、化合物Ｂ−２（エトキシ化ｏ−フェニルフェノールアクリレート）しか使用されていない。この化合物Ｂ−２については、本件特許に係る出願（特願２０１５−７３１３０号）に係る平成３０年６月１日付け意見書における「化合物（Ｂ）のうち、・・・、Ｂ−２はエトキシ化ｏ−フェニルフェノールアクリレートであり（以上http://www.shin-nakamura.com/products/index.htmlを参照。）」と記載されている。上記ＵＲＬを有するウェブサイトに掲載された情報に基づけば、化合物Ｂ−２は、分子量が２６８であり、式（ｂ２）において、ｍ及びｎがいずれも０であって、置換基Ｒ１を有さず、ａ及びｂがいずれも１であって、Ｒ２が、２−アクリロイルオキシエトキシ基である化合物に相当する。
　他方、式（ｂ２）で表され、Ｒ１がブチル基であり、Ｒ１の個数が８（ｍ及びｎがいずれも４）であり、Ｒ２が化合物Ｂ−２と同じ２−アクリロイルオキシエトキシ基であり、ｐが１であり、ｑが０であるビフェニル化合物（以下、「化合物ｂ２−１」ともいう。）も、特定要件（Ｕ）を満たす。
　式（ｂ２）の構造から、ＵＶ耐性の効果に寄与し得る構造の１つとしてビフェニル骨格が考えられるところ、化合物Ｂ−２における゛ビフェニル骨格含有率（化合物Ｂ−２の分子量に対するビフェニル骨格を構成する原子の合計質量）を計算すると、約５８質量％（＝１５５／２６８）と算出され、分子量が約７１７である化合物ｂ２−１ではビフェニル骨格の含有率は約２２質量％と算出される。したがって、特定要件（Ｕ）を満たす点で同じ化合物であっても、ＵＶ耐性の効果に寄与し得ると考えられるビフェニル骨格の含有率は、本件特許明細書の実施例で使用した化合物Ｂ−２に対して、上記化合物ｂ２−１では３８％程度にまで低減する。
　また、訂正後の請求項１では、式（ｂ２）中の置換基Ｒ２も「重合性不飽和二重結合を有する基」としか規定されておらず、重合性不飽和二重結合を有する限りあらゆる基が式（ｂ２）中の置換基Ｒ２となり得、さらに、置換基Ｒ２の個数も最大で１０となり得る（ｐ及びｑがいずれも５である場合）。したがって、例えば、式（ｂ２）で表され、ｍ及びｎがいずれも０であってＲ１を有さず、ｐ及びｑがいずれも５であり、Ｒ２がいずれも上記式（ｇ１）で表され、Ｒがメチル基であり、Ａがブチレン基であり、ｎが１２であるビフェニル化合物（以下、「化合物ｂ２−２」ともいう。）も、特定要件（Ｕ）を満たす化合物である。この化合物ｂ２−２の分子量は約９６４５であるから、化合物ｂ２−２におけるビフェニル骨格含有率は約１．６質量％と算出される。すると、同じ特定要件（Ｕ）を満たす化合物であっても、ＵＶ耐性の効果に寄与し得ると考えられるビフェニル骨格の含有率は、本件特許明細書の実施例で使用した化合物Ｂ−２に対して、上記化合物ｂ２−２では２．８％程度にまで低減することになる。
　ここで、上記イに記載のように、本件特許明細書の実施例１等と実施例１０との比較から、硬化性組成物における特定化合物（Ｂ１）の含有量の低減によって、硬化膜のＵＶ耐性が劣化することが明らかにされている。このことと、特定化合物（Ｂ１）がＵＶ吸収特性を有する構造としてフルオレン骨格又はビフェニル骨格を有することを鑑みれば、特定要件（Ｔ）又は（Ｕ）を満たすという点では同じ特定化合物（Ｂ１）を同じ含有量で使用したとしても、特定化合物（Ｂ１）中のフルオレン骨格又はビフェニル骨格の含有率の低下によって、ＩＭ層において紫外線吸収特性を実際に発揮する部位の含有量が大きく低下し、結果として、積層体における接着剤層のＵＶ耐性が劣化することは、当業者であれば容易に理解できる。
　よって、特定化合物（Ｂ１）について、本件特許明細書の実施例において使用された化合物Ｂ−１及びＢ−２以外の上記特定要件（Ｔ）又は（Ｕ）を満たす化合物を使用する場合においても、化合物Ｂ−１及びＢ−２と同様に本件課題を解決し得ることが明らかであるとはいえない。
　したがって、出願時の技術常識に照らしても、本件発明１により規定される範囲にまで、発明の詳細な説明に開示された内容を拡張ないし一般化できるとはいえない。よって、本件特許明細書は、透明基板とＩＭ層との間にＵＶ分解化合物を含む接着剤層を有する積層体における密着性に関するＵＶ耐性の課題について、本件発明１が解決できると当業者が認識できるように記載されているとはいえない。
（２）　本件発明２−５、７−９について
　本件発明２−５、７−９はいずれも、特定要件（Ｓ）、（Ｔ）及び（Ｕ）を備える。よって、本件発明１について述べた上記（１）と同様、本件特許明細書は、本件発明２−５、７−９が本件課題を解決し得ることについて、当業者が認識できるように記載されているはいえない。
第５　当審の判断
　令和元年１２月２４日付けで取消理由（決定の予告）を通知し、期間を指定して意見書を提出する機会を与えたが、特許権者からは応答がなかった。
　そして、上記の取消理由（決定の予告）は妥当なものと認められるので、訂正後の本件請求項１−５、７−９に係る特許は、この取消理由（決定の予告）によって取り消すべきものである。
第６　むすび
　以上のとおりであるから、訂正後の本件請求項１−５、７−９に係る特許は、特許法第２９条第１項第３号及び第２項の規定に違反してされたものであり、同法第１１３条第２号に該当し、取り消すべきものである。
　また、訂正後の本件請求項１−５、７−９に係る特許は、特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであり、同法第１１３条第４号に該当し、取り消すべきものである。
　なお、本件請求項６についての特許異議の申立ては、本件請求項６が訂正により削除され、申立ての対象が存在しないものとなったため、特許法第１２０条の８第１項で準用する同法第１３５条の規定により却下する。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
令和２年４月７日（２０２０．４．７）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　透明基板と、インデックスマッチング層と、透明電極層とがこの順に積層されており、
　
透明基板とインデックスマッチング層との間に、紫外線による分解を受ける化合物を含む接着剤層をさらに有し、
　インデックスマッチング層が、
　（Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子と、
　（Ｂ１）光重合開始剤以外の化合物であって、波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物と、ここで当該化合物が重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物、並びに重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種であり、
　（Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ１）以外の化合物と
を含有する硬化性組成物から形成された層であ
り、
　
前記重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ１）で表される化合物であり、
　【化１】
［式（ｂ１）中、
　
Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
　
Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
　
ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　
ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　
ａおよびｂは、それぞれ独立に１〜４の整数である。］、
　
前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ２）で表される化合物であり、
　【化２】
［式（ｂ２）中、
　
Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
　
Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
　
ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　
ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜５の整数である。］、
　
前記硬化性組成物において、化合物（Ｂ１）の含有量が、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である
ことを特徴とする積層体。
　【請求項２】
　透明基板と、インデックスマッチング層と、透明電極層とがこの順に積層されており、
　
透明基板とインデックスマッチング層との間に、紫外線による分解を受ける化合物を含む接着剤層をさらに有し、
　インデックスマッチング層が、
　（Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子と、
　（Ｂ２）１分子中に２個以上のベンゼン核を有する、光重合開始剤以外の化合物と、ここで当該化合物が重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物、並びに重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種であり、
　（Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ２）以外の化合物と
を含有する硬化性組成物から形成された層であ
り、
　
前記重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ１）で表される化合物であり、
　【化３】
［式（ｂ１）中、
　
Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
　
Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
　
ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　
ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　
ａおよびｂは、それぞれ独立に１〜４の整数である。］、
　
前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ２）で表される化合物であり、
　【化４】
［式（ｂ２）中、
　
Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
　
Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
　
ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　
ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜５の整数である。］、
　
前記硬化性組成物において、化合物（Ｂ２）の含有量が、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ２）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である
ことを特徴とする積層体。
　【請求項３】
　インデックスマッチング層の屈折率が、１．５９〜１．８０である請求項１または２に記載の積層体。
　【請求項４】
　インデックスマッチング層を形成する硬化性組成物が、
　（Ｄ）光重合開始剤
をさらに含有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の積層体。
　【請求項５】
　前記化合物（Ｃ）が、多官能（メタ）アクリレートである請求項１〜４のいずれか１項に記載の積層体。
　【請求項６】（削除）
　【請求項７】
　（Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子と、
　（Ｂ１）光重合開始剤以外の化合物であって、波長３００ｎｍにおいて吸収を有し、かつ波長４００ｎｍにおいて吸収を有さない化合物と、ここで当該化合物が重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物、並びに重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種であり、
　（Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ１）以外の化合物と
を含有
し、
　
前記重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ１）で表される化合物であり、
　【化５】
［式（ｂ１）中、
　
Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
　
Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
　
ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　
ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　
ａおよびｂは、それぞれ独立に１〜４の整数である。］、
　
前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ２）で表される化合物であり、
　【化６】
［式（ｂ２）中、
　
Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
　
Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
　
ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　
ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜５の整数である。］、
　
化合物（Ｂ１）の含有量が、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ１）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である
ことを特徴とする、
透明基板と、インデックスマッチング層と、透明電極層とがこの順に積層されており、透明基板とインデックスマッチング層との間に、紫外線による分解を受ける化合物を含む接着剤層をさらに有する積層体における
　【請求項８】
　（Ａ）屈折率が１．７以上の金属酸化物粒子と、
　（Ｂ２）１分子中に２個以上のベンゼン核を有する、光重合開始剤以外の化合物と、ここで当該化合物が重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物、並びに重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物から選ばれる少なくとも１種であり、
　（Ｃ）重合性基を有する、前記（Ｂ２）以外の化合物と
を含有
し、
　
前記重合性基及びフルオレン骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ１）で表される化合物であり、
　【化７】
［式（ｂ１）中、
　
Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
　
Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
　
ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　
ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　
ａおよびｂは、それぞれ独立に１〜４の整数である。］、
　
前記重合性基及びビフェニル骨格を有する化合物が、重合性基数が１〜１５であって、かつ、式（ｂ２）で表される化合物であり、
　【化８】
［式（ｂ２）中、
　
Ｒ１は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、またはカルボキシル基であり、２つのカルボキシル基が酸無水物基を形成していてもよく；
　
Ｒ２は、それぞれ独立に、重合性不飽和二重結合を有する基であり；
　
ｍおよびｎは、それぞれ独立に０または１〜４の整数であり；
　
ｐおよびｑは、それぞれ独立に０または１〜５の整数である。］、
　
化合物（Ｂ２）の含有量が、金属酸化物粒子（Ａ）、化合物（Ｂ２）及び化合物（Ｃ）の合計量を１００質量％とした場合、１〜５０質量％である
ことを特徴とする、
透明基板と、インデックスマッチング層と、透明電極層とがこの順に積層されており、透明基板とインデックスマッチング層との間に、紫外線による分解を受ける化合物を含む接着剤層をさらに有する積層体における
　【請求項９】
　
紫外線による分解を受ける化合物を含む接着剤層が形成された