【事件の表示】
　特許第２７２４１３７号「記録媒体用ガラス基板の製造方法」の請求項１ないし７に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結論】
　訂正を認める。
　特許第２７２４１３７号の請求項１ないし６に係る特許を維持する。
【理由】
１．手続の経緯
　特許第２７２４１３７号は、昭和６３年７月２０日に出願した特願昭６３−１８２４６５号の一部を平成９年３月１０日に分割出願したもので、平成９年１１月２８日にその特許の設定登録がなされたものであって、その後、松井茂より特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１１年８月２７日に訂正請求がなされたものである。
２．訂正の適否についての判断
ア．訂正事項
訂正事項ａ
　【特許請求の範囲】に、
「【請求項１】表面側から厚さ方向に内部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
　予めクラックに起因する破壊を抑制し得る前記引張応力層の引張応力の最大値を、化学強化の際の基準設計値として求め、引張応力層の最大引張応力が前記基準設計値以下になるように前記圧縮応力層と引張応力層とを化学強化によって形成することを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項２】前記基準設計値は、前記引張応力層に記録媒体用基板として使用可能な範囲の小さなクラックが存在する状態において記録媒体用基板としての使用をした場合に該ガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間以上になる場合の引張応力値であることを特徴とする請求項１に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項３】前記設定する基準設計値が４Ｋｇ／ｍｍ２以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項４】前記圧縮応力層の厚さを５０μｍ以上としたことを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項５】前記ガラス基板をその組成中に少なくともＳｉＯ２、Ｎａ２Ｏ及びＬｉＯ２を含むガラス材料で構成したことを特徴とする請求頃１ないし４のいずれかに記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項６】前記ガラス材料のＮａ２Ｏの含有量が１０重量％以上であり、かつ、ＬｉＯ２の含有量が５重量％以上であることを特徴とする請求項５に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項７】表面側から厚さ方向に内部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成した記録媒体用ガラス基板を、化学強化法で製造する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
　前記引張応力層に記録媒体として使用可能な程度の小さいクラックを形成させた状態において記録媒体用基板としての使用試験を行い、前記引張応力層の引張応力の最大値を変化させてそれぞれの場合においてガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間を求め、その求めた時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間を満たす範囲になる場合の前記引張応力の最大値を求め、前記記録媒体用基板に形成される引張応力層の引張応力の最大値がこの求めた値の範囲内になるように化学強化を施すことを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。」
とあるのを、
「【請求項１】表面側から厚さ方向に内部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
　予めクラックに起因する破壊を抑制し得る前記引張応力層の引張応力の最大値を、化学強化の際の基準設計値として求め、引張応力層の最大引張応力が前記基準設計値以下になるように前記圧縮応力層と引張応力層とを化学強化によって形成するとともに、
　前記基準設計値は、前記引張応力層に記録媒体用基板として使用可能な範囲の小さなクラックが存在する状態において記録媒体用基板としての使用をした場合に該ガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間以上になる場合の引張応力値であることを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項２】前記設定する基準設計値が４Ｋｇ／ｍｍ２以下であることを特徴とする請求項１に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項３】前記圧縮応力層の厚さを５０μｍ以上としたことを特徴とする請求項１又は２に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項４】前記ガラス基板をその組成中に少なくともＳｉＯ２、Ｎａ２Ｏ及びＬｉＯ２を含むガラス材料で構成したことを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項５】前記ガラス材料のＮａ２Ｏの含有量が１０重量％以上であり、かつ、ＬｉＯ２の含有量が５重量％以上であることを特徴とする請求項４に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項６】表面側から厚さ方向に内部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成した記録媒体用ガラス基板を、化学強化法で製造する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
　前記引張応力層に記録媒体として使用可能な程度の小さいクラックを形成させた状態において記録媒体用基板としての使用試験を行い、前記引張応力層の引張応力の最大値を変化させてそれぞれの場合においてガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間を求め、その求めた時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間を満たす範囲になる場合の前記引張応力の最大値を求め、前記記録媒体用基板に形成される引張応力層の引張応力の最大値がこの求めた値の範囲内になるように化学強化を施すことを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。」に訂正する。
訂正事項ｂ
　【０００５】に、
「【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するために、本発明にかかる記録媒体用ガラス基板の製造方法は、
（構成１）表面側から厚さ方向に内部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
　予めクラックに起因する破壊を抑制し得る前記引張応力層の引張応力の最大値を、化学強化の際の基準設計値として求め、引張応力層の最大引張応力が前記基準設計値以下になるように前記圧縮応力層と引張応力層とを化学強化によって形成することを特徴とする構成とし、
　この構成１の態様として、
（構成２）前記基準設計値は、前記引張応力層に記録媒体用基板として使用可能な範囲の小さなクラックが存在する状態において記録媒体用基板としての使用をした場合に該ガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間以上になる場合の引張応力値であることを特徴とする構成とし、
　構成１又は２の態様として、
（構成３）前記設定する基準設計値が４Ｋｇ／ｍｍ２以下であることを特徴とする構成とし、
　構成１ないし３のいずれかの態様として、
（構成４）前記圧縮応力層の厚さを５０μｍ以上としたことを特徴とする構成とし、
　構成１ないし４のいずれかの態様として、
（構成５）前記ガラス基板をその組成中に少なくともＳｉＯ２、Ｎａ２Ｏ及びＬｉＯ２を含むガラス材料で構成したことを特徴とする構成とし、
　構成１ないし５のいずれかの態様として、
（構成６）前記ガラス材料のＮａ２Ｏの含有量が１０重量％以上であり、かつ、ＬｉＯ２の含有量が５重量％以上であることを特徴とする構成とした。」
とあるのを、
「【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するために、本発明にかかる記録媒体用ガラス基板の製造方法は、
（構成１）表面側から厚さ方向に内部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
　予めクラックに起因する破壊を抑制し得る前記引張応力層の引張応力の最大値を、化学強化の際の基準設計値として求め、引張応力層の最大引張応力が前記基準設計値以下になるように前記圧縮応力層と引張応力層とを化学強化によって形成するとともに、
　前記基準設計値は、前記引張応力層に記録媒体用基板として使用可能な範囲の小さなクラックが存在する状態において記録媒体用基板としての使用をした場合に該ガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間以上になる場合の引張応力値であることを特徴とする構成とし、
　この構成１の態様として、
（構成２）前記設定する基準設計値が４Ｋｇ／ｍｍ２以下であることを特徴とする構成とし、
　構成１又は２の態様として、
（構成３）前記圧縮応力層の厚さを５０μｍ以上としたことを特徴とする構成とし、
　構成１ないし３のいずれかの態様として、
（構成４）前記ガラス基板をその組成中に少なくともＳｉＯ２、Ｎａ２Ｏ及びＬｉＯ２を含むガラス材料で構成したことを特徴とする構成とし、
　構成１ないし４のいずれかの態様として、
（構成５）前記ガラス材料のＮａ２Ｏの含有量が１０重量％以上であり、かつ、ＬｉＯ２の含有量が５重量％以上であることを特徴とする構成とした。」
に訂正する。
訂正事項ｃ
　【０００６】に
「また、本発明にかかる記録媒体用ガラス基板の製造方法は、
（構成７）表面側から厚さ方向に内部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成した記録媒体用ガラス基板を、化学強化法で製造する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
　前記引張応力層に記録媒体として使用可能な程度の小さいクラックを形成させた状態において記録媒体用基板としての使用試験を行い、前記引張応力層の引張応力の最大値を変化させてそれぞれの場合においてガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間を求め、その求めた時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間を満たす範囲になる場合の前記引張応力の最大値を求め、前記記録媒体用基板に形成される引張応力層の引張応力の最大値がこの求めた値の範囲内になるように化学強化を施すことを特徴とする構成とした。」とあるのを、
「また、本発明にかかる記録媒体用ガラス基板の製造方法は、
（構成６）表面側から厚さ方向に内部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成した記録媒体用ガラス基板を、化学強化法で製造する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
　前記引張応力層に記録媒体として使用可能な程度の小さいクラックを形成させた状態において記録媒体用基板としての使用試験を行い、前記引張応力層の引張応力の最大値を変化させてそれぞれの場合においてガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間を求め、その求めた時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間を満たす範囲になる場合の前記引張応力の最大値を求め、前記記録媒体用基板に形成される引張応力層の引張応力の最大値がこの求めた値の範囲内になるように化学強化を施すことを特徴とする構成とした。」に訂正する。
イ．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記訂正事項ａは、訂正前の請求項１を削除し、訂正前の請求項２及びこの請求項２を引用する訂正前の請求項３，４，５，６並びに訂正前の請求項７に規定されている事項を実質的にそのまま新請求項として繰り上げる訂正であり、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正である。
　上記訂正事項ｂ、ｃは、特許請求の範囲の記載内容と発明の詳細な説明の欄の記載内容との整合性を図るため、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正である。
　そして、上記の各訂正は、新規事項の追加に該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
ウ．訂正明細書の請求項１〜６に係る発明
　訂正明細書の請求項１〜６に係る発明（以下、「本件発明１〜６」という）は、特許明細書及び図面の記載からみて、その請求項１〜６に記載された次のとおりのものである。（記号付与）
「【請求項１】表面側から厚さ方向に内部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
（Ａ）予めクラックに起因する破壊を抑制し得る前記引張応力層の引張応力の最大値を、化学強化の際の基準設計値として求め、引張応力層の最大引張応力が前記基準設計値以下になるように前記圧縮応力層と引張応力層とを化学強化によって形成するとともに、
（Ｂ）前記基準設計値は、前記引張応力層に記録媒体用基板として使用可能な範囲の小さなクラックが存在する状態において記録媒体用基板としての使用をした場合に該ガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間以上になる場合の引張応力値であることを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項２】前記設定する基準設計値が４Ｋｇ／ｍｍ２以下であることを特徴とする請求項１に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項３】前記圧縮応力層の厚さを５０μｍ以上としたことを特徴とする請求項１又は２に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項４】前記ガラス基板をその組成中に少なくともＳｉＯ２、Ｎａ２Ｏ及びＬｉＯ２を含むガラス材料で構成したことを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項５】前記ガラス材料のＮａ２Ｏの含有量が１０重量％以上であり、かつ、ＬｉＯ２の含有量が５重量％以上であることを特徴とする請求項４に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項６】表面側から厚さ方向に内部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成した記録媒体用ガラス基板を、化学強化法で製造する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
　前記引張応力層に記録媒体として使用可能な程度の小さいクラックを形成させた状態において記録媒体用基板としての使用試験を行い、前記引張応力層の引張応力の最大値を変化させてそれぞれの場合においてガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間を求め、その求めた時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間を満たす範囲になる場合の前記引張応力の最大値を求め、前記記録媒体用基板に形成される引張応力層の引張応力の最大値がこの求めた値の範囲内になるように化学強化を施すことを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。」
エ．独立特許要件の判断
（引用刊行物）
　本件発明１〜５に対して、当審が通知した取消理由で引用した刊行物１（特開昭６２−１４３２４３号公報）、刊行物２（「Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ　Ｓｃｉｅｎｃｅ」Ｖｏｌ．１１，１９７６年９月発行、１８２６〜１８３４頁）、刊行物３（「Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ａｍｅｒｉｃａｎ　Ｃｅｒａｍｉｃ　Ｓｏｃｉｅｔｙ」Ｖｏｌ．５１，Ｎｏ．２，１９６８年２月２１日発行、７５〜７８頁）、刊行物４（「Ｍａｔｅｒｉａｌ　Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ」１９７６年６月発行）、刊行物５（特開昭５７−２０５３４３号公報）及び刊行物６（米国特許第４１５６７５５号明細書）には、次の発明が記載されている。
　刊行物１；
　ガラス基板を化学強化する光ディスク用ガラス基板の製造方法が記載される。
　刊行物２；
　ソーダライムガラスに関して、以下の点が記載されている。
▲１▼２ｍｍ厚のソーダライム化学強化ガラスの表面圧縮応力σｓと引張応力層にまでキズを入れたときの破壊時間Ｔａとの関係を示すグラフ（第１８８２頁のＦＩＧ．８）。このグラフは、破壊時間は、表面圧縮応力の大きさで変化し、約２．３×１０−７Ｎ／ｍ２（＝２．３×１０−７Ｋｇ／ｍｍ２）以下では破壊が生じないしきい値が存在することを示唆する。
▲２▼内部引張応力を小さくすればするほど、クラック成長速度は小さくなる（第１８３２頁）。
▲３▼強化ガラスにおける「破壊寿命（縦軸）−圧縮応力値（横軸）」のデータ（第１８３２頁ＦＩＧ．７）。イオン交換強化ガラスにおける「破壊寿命（縦軸）−圧縮応力値（横軸）」のデータ（第１８３２頁ＦＩＧ．８）。これらのデータは、表層の圧縮応力（最大値σｓ）が小さいほど、破壊寿命が長く、また、「クラック／ガラス板厚」の値が小さいほど破壊寿命が長いことを示唆する。
▲４▼板（ガラス板）内部の引張応力が小さいほど破壊寿命が長くなる（第１８３４頁右欄）。
▲５▼圧縮応力の最大値σｓ、引張応力の最大値σｏは、正の相関関係にある（σｓが増大するとσｏも増大し、σｓが減少するとσｏも減少する）（第１８２７頁のＦｉｇ．１及び式（１））。
　刊行物３；
　Ｆｉｇ．５（第７８頁）には、強化ガラスの内部引張層にまでキズを付けた場合の、平均破片重量と内部引張応力との関係が記載されている。この図は、６０００ｐｓｉ（ｐｓｉはｐｏｕｎｄ／ｉｎｃｈ２で、換算すると、約４．２２Ｋｇ／ｍｍ２）以下の応力値では、平均破片重量への影響がほぼなくなることを示唆する。
　刊行物４；
　３枚目の下部に記載された表に、化学強化ガラスの引張応力値ｐｓｉ（ＭＰａ）が記載されており、その２段目の４５００ｐｓｉ、４段目の３６００ｐｓｉ、７段目の３７００ｐｓｉは、それぞれ、約３．２Ｋｇ／ｍｍ２、約２．５Ｋｇ／ｍｍ２、約２．６Ｋｇ／ｍｍ２である。
　刊行物５；
　表の下から３段目には、強化ガラスのイオン交換厚さが記載されており、そこには実施例１、２、３において６０μｍ、１００μｍ及び７０μｍとされている。
　刊行物６；
　第２欄の表に、ＳｉＯ２、Ｎａ２Ｏ、Ｌｉ２Ｏを含むガラス材料が記載されている。
（対比・判断）
［本件発明１について］
　本件発明１と刊行物１〜６に記載の発明とを比較検討する。
　刊行物１には、ガラス基板を化学強化する光ディスク用ガラス基板の製造方法が記載されるだけであって、本件発明１の（Ａ）、（Ｂ）の構成要件を示唆する記載は、何等ない。
　また、刊行物２〜６のいずれにも、本件発明１の構成要件である「（Ａ）予めクラックに起因する破壊を抑制し得る前記引張応力層の引張応力の最大値を、化学強化の際の基準設計値として求め、引張応力層の最大引張応力が前記基準設計値以下になるように前記圧縮応力層と引張応力層とを化学強化によって形成するとともに、（Ｂ）前記基準設計値は、前記引張応力層に記録媒体用基板として使用可能な範囲の小さなクラックが存在する状態において記録媒体用基板としての使用をした場合に該ガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間以上になる場合の引張応力値であること」の記載及びそれを示唆する記載は何等ない。
　したがって、刊行物１に記載の発明と刊行物２〜６に記載の発明とを組み合わせても、（Ａ）と（Ｂ）の構成を兼ね備えた本件発明１が容易に想起し得るものではないから、本件発明１は、刊行物１〜６に記載の発明に基づいて当業者が容易になし得たものであるとはいえない。
［本件発明２〜５について］
　本件発明１を引用する本件発明２〜５は、本件発明１についての上記の判断と同様の理由により、刊行物１〜６に記載の発明に基づいて当業者が容易になし得たものであるとはいえない。
　また、他に本件発明１〜５及び本件発明６が特許出願の際独立して特許を受けることができないとする理由を発見しない。
オ．むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正請求は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項で準用する第１２６条第２項ないし第４項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
３．申立ての理由の概要
　申立人は、証拠として甲第１号証（「セラミックスの機械的性質」社団法人窯業協会、昭和５４年５月１日発行、４９〜５３頁）、甲第２号証（「セラミックスの強度と破壊対策」兵庫経営開発センター出版部、昭和５９年１月２５日発行、１１７頁）、甲第３号証（「新しいガラスとその物性」株式会社経営システム研究所、昭和５９年８月２０日発行、４５１〜４５５頁、４８８〜４８９頁）、甲第４号証（「ガラス工学ハンドブック」株式会社朝倉書店、昭和３８年２月２８日発行、５４９〜５５１頁）、甲第５号証（「Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ　Ｓｃｉｅｎｃｅ」Ｖｏｌ．１１，１９７６年９月発行、１８２６〜１８３４頁、上記刊行物２）、甲第６号証（「Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ａｍｅｒｉｃａｎ　Ｃｅｒａｍｉｃ　Ｓｏｃｉｅｔｙ」Ｖｏｌ．５１，Ｎｏ．２，１９６８年２月２１日発行、７５〜７８頁、上記刊行物３）、甲第７号証（「Ｍａｔｅｒｉａｌｓ　Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ」１９７６年６月発行、上記刊行物４）、甲第８号証（「学術雑誌総合目録・自然科学欧文編　１９７９年版」株式会社紀伊国屋書店、昭和５４年３月２５日発行、１１９８頁、１３３４頁、１１９９頁、１５０３頁）、甲第９号証（米国特許第４１５６７５５号明細書、上記刊行物６）、甲第１０号証（甲第９号証におけるガラス組成と圧縮層厚み・内部引張応力の実施例の表中のｍμ／ｉｎｃｈを、Ｋｇ／ｍｍ２に置き換えて示すもの）、甲第１１号証（特開昭５７−２０５３４３号公報、上記刊行物５）、甲第１２号証（「Ｎｅｗ　Ｇｌａｓｓ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ」Ｖｏｌ．２，Ｎｏ．２，社団法人日本硝子製品工業会、１９８２年（昭和５７）８月２５日発行、４４，４５頁）、甲第１３号証（「学術雑誌総合目録・和文編　１９９１年版」丸善株式会社、平成４年３月２６日発行、６９７２頁）、甲第１４号証（「豊田中央研究所Ｒ＆Ｄレビュー」Ｖｏｌ．１２，ＮＯ．４，株式会社豊田中央研究所、昭和５２年３月発行、１〜３頁、１８〜２１頁）、甲第１５号証（甲第１４号証に基づく破壊時間の計算方法）、甲第１６号証（「学術雑誌総合目録・和文編　１９９１年版」丸善株式会社、平成４年３月２６日発行、４６３９頁）、甲第１７号証（本件特許に係る原出願である特願昭６３−１８２４６５の出願当初の明細書及び図面の内容を掲載した特開平２−３１３２５号公報）、甲第１８号証（本件特許公報）及び甲第１９号証（本件特許の出願人が提出した早期審査に関する事情説明書及びそれに添付された参考資料　平成８年８月２９日付けの日本経済新聞、毎日新聞、日経産業新聞、日刊工業新聞及び日本工業新聞の抜粋記事）を提示して、（１）本件特許は、原出願に包含されない発明を内容とする新たな特許出願の請求項１〜７に係る発明に対して特許されたものであって、特許法第４４条第１項に規定する分割の要件を満たさない。よって、本件特許の出願日は、遡及するものではないから、その実際の出願日である平成９年３月１０日である。よって、本件訂正前の請求項１〜７に係る発明（以下「訂正前の発明１〜７」という）の特許は、甲第１９号証を基に特許法第２９条第１項第１号、第２号、第３号に該当するか又は同条第２項の規定に違反してなされたもの���ある、或いは甲第１７号証（本件特許に係る原出願である特願昭６３−１８２４６５の出願当初の明細書及び図面の内容を掲載した特開平２−３１３２５号公報）を基に特許法第２９条第１項第３号に該当するか又は同条第２項の規定に違反してなされたものであり、本件訂正前の発明１〜７の特許を取り消すべきと主張する。また、（２）本件訂正前の発明１〜７の特許は、仮に上記分割要件違反を離れても、甲第１〜１６号証の記載を基に特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり、本件訂正前の発明１〜７の特許を取り消すべきと主張する。
４．申立人の主張（１）に対して
　本件特許は原出願に包含されない発明を内容とする新たな特許出願の請求項１〜７に係る発明に対して特許されたものであって、特許法第４４条第１項に規定する分割の要件を満たさないとする根拠として、申立人は次のことを主張している。
　原出願の明細書及び図面（甲第１７号証の公報参照）には、引張応力の最大値が４Ｋｇ／ｍｍ２以下で、かつ圧縮応力層を５０μｍ以上とすること、またそうすることで約１０年の耐久性があるという効果を示しているだけで、本件特許の請求項１において「（Ａ）予めクラックに起因する破壊を抑制し得る前記引張応力層の引張応力の最大値を、化学強化の際の基準設計値として求め、引張応力層の最大引張応力が前記基準設計値以下になるように前記圧縮応力層と引張応力層とを化学強化によって形成する」という構成は、原出願の明細書及び図面のどこにも記載されていない旨主張する。
　本件特許明細書は上記訂正請求により訂正されたので、以下、訂正明細書について申立人の上記主張を検討する。
　本件訂正明細書の請求項１の記載中「（Ａ）予めクラックに起因する破壊を抑制し得る前記引張応力層の引張応力の最大値を、化学強化の際の基準設計値として求め、引張応力層の最大引張応力が前記基準設計値以下になるように前記圧縮応力層と引張応力層とを化学強化によって形成する」の記載が、甲第１７号証の記載から読みとれるか否かについて検討する。
　甲第１７号証の３頁左上欄には、図２の曲線Ａの説明に続いて「ここで、
第３図に示す引張応力−破壊時間との関係を示す図は、一例として１μｍの深さのクラックが４Ｋｇ／ｍｍ２の引張応力によって成長し、
　よって、本件訂正明細書の請求項１の記載中「（Ａ）予めクラックに起因する破壊を抑制し得る前記引張応力層の引張応力の最大値を、化学強化の際の基準設計値として求め、引張応力層の最大引張応力が前記基準設計値以下になるように前記圧縮応力層と引張応力層とを化学強化によって形成する」の記載は、甲第１７号証の記載から読みとり得る記載であるといえる。
　なお、本件訂正明細書の請求項１の記載中、「（Ｂ）前記基準設計値は、前記引張応力層に記録媒体用基板として使用可能な範囲の小さなクラックが存在する状態において記録媒体用基板としての使用をした場合に該ガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間以上になる場合の引張応力値であること」の記載は、図３及び図３の説明箇所から読みとり得る。
　また、本件訂正明細書の請求項６の記載も、図３及び図３の説明箇所から読みとり得る。
　したがって、本件特許は、特許法第４４条第１項に規定する分割の要件を満たすものであり、出願日が原出願の出願日（昭和６３年７月２０日）に遡及するのであるから、本件発明１〜６の特許は、甲第１９号証を基に特許法第２９条第１項第１号、第２号、第３号に該当するか又は同条第２項の規定に違反してなされたものであるとすることはできないし、また甲第１７号証を基に特許法第２９条第１項第３号に該当するか又は同条第２項の規定に違反してなされたものであるとすることはできない。
４．申立人の主張（２）に対して
ア．甲第１〜１６号証
　甲第１〜１６号証には、次のことが記載されている。
　甲第１号証；
　ガラスは典型的な脆性材料であり、その破壊は材料に作用する張力により物質が分裂し進行することが記載されている（第４９頁左欄及び第５０頁右欄参照）。
　甲第２号証；
　ガラスは圧縮応力では破壊せず、引張応力によって破壊することになると記載されている。
　甲第３号証；
　引張応力による破壊を防止するため、物理強化法と化学強化法によりガラス表面に圧縮応力層を形成する方法が一般的に行われていることが記載されている。
　甲第４号証；
　５４９頁に、ガラスは力学的に一体であるため、表層の圧縮応力を強めるほど、内層の引張応力も大きくなることが記載されている。
　甲第５号証；
　ソーダライムガラスに関して、以下の点が記載されている。
▲１▼２ｍｍ厚のソーダライム化学強化ガラスの表面圧縮応力σｓと引張応力層にまでキズを入れたときの破壊時間Ｔａとの関係を示すグラフ（第１８８２頁のＦＩＧ．８）。このグラフは、破壊時間は、表面圧縮応力の大きさで変化し、約２．３×１０−７Ｎ／ｍ２（＝２．３×１０−７Ｋｇ／ｍｍ２）以下では破壊が生じないしきい値が存在することを示唆する。
▲２▼内部引張応力を小さくすればするほど、クラック成長速度は小さくなる（第１８３２頁）。
▲３▼強化ガラスにおける「破壊寿命（縦軸）−圧縮応力値（横軸）」のデータ（第１８３２頁ＦＩＧ．７）。イオン交換強化ガラスにおける「破壊寿命（縦軸）−圧縮応力値（横軸）」のデータ（第１８３２頁ＦＩＧ．８）。これらのデ−タは、表層の圧縮応力（最大値σｓ）が小さいほど、破壊寿命が長く、また、「クラック／ガラス板厚」の値が小さいほど破壊寿命が長いことを示唆する。
▲４▼板（ガラス板）内部の引張応力が小さいほど破壊寿命が長くなる（第１８３４頁右欄）。
▲５▼圧縮応力の最大値σｓ、引張応力の最大値σｏは、正の相関関係にある（σｓが増大するとσｏも増大し、σｓが減少するとσｏも減少する）（第１８２７頁のＦｉｇ．１及び式（１））。
　甲第６号証；
　Ｆｉｇ．５（第７８頁）には、強化ガラスの内部引張層にまでキズを付けた場合の、平均破片重量と内部引張応力との関係が記載されている。この図は、６０００ｐｓｉ（ｐｓｉはｐｏｕｎｄ／ｉｎｃｈ２で、換算すると、約４．２２Ｋｇ／ｍｍ２）以下の応力値では、平均破片重量への影響がほぼなくなることを示唆する。
　甲第７号証；
　３枚目の下部に記載された表に、化学強化ガラスの引張応力値ｐｓｉ（ＭＰａ）が記載されており、その２段目の４５００ｐｓｉ、４段目の３６００ｐｓｉ、７段目の３７００ｐｓｉは、それぞれ、約３．２Ｋｇ／ｍｍ２、約２．５Ｋｇ／ｍｍ２、約２．６Ｋｇ／ｍｍ２である。
　甲第８号証；
「学術雑誌総合目録・自然科学欧文編　１９７９年版」株式会社紀伊国屋書店、昭和５４年３月２５日発行、１１９８頁、１３３４頁、１１９９頁、１５０３頁
　甲第９号証；
　第２欄の表に、ＳｉＯ２、Ｎａ２Ｏ、Ｌｉ２Ｏを含むガラス材料が記載されている。
　甲第１０号証；
　甲第９号証におけるガラス組成と圧縮層厚み・内部引張応力の実施例の表中のｍμ／ｉｎｃｈを、Ｋｇ／ｍｍ２に置き換えて示すもの。
　甲第１１号証；
　表の下から３段目には、強化ガラスのイオン交換厚さが記載されており、そこには実施例１、２、３において６０μｍ、１００μｍ及び７０μｍとされている。
　甲第１２号証；
　ガラスの光弾性常数が２．５〜３．９程度であることが記載されている。
　甲第１３号証；
「学術雑誌総合目録・和文編　１９９１年版」丸善株式会社、平成４年３月２６日発行、６９７２頁
　甲第１４号証；
　（３２）式（第１８頁）、（２）式（第２頁）、（４２）式（第２１頁）が記載されている。
　甲第１５号証；
　甲第１４号証に基づく破壊時間の計算方法
　甲第１６号証；
「学術雑誌総合目録・和文編　１９９１年版」丸善株式会社、平成４年３月２６日発行、４６３９頁
イ．対比・判断
［本件発明１について］
　本件発明１と甲第１〜第１６号証記載の各発明とを比較検討する。
　甲第１〜第１６号証のいずれにも、本件発明１の構成要件である「（Ａ）予めクラックに起因する破壊を抑制し得る前記引張応力層の引張応力の最大値を、化学強化の際の基準設計値として求め、引張応力層の最大引張応力が前記基準設計値以下になるように前記圧縮応力層と引張応力層とを化学強化によって形成するとともに、（Ｂ）前記基準設計値は、前記引張応力層に記録媒体用基板として使用可能な範囲の小さなクラックが存在する状態において記録媒体用基板としての使用をした場合に該ガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間以上になる場合の引張応力値であること」の記載及びそれを示唆する記載は何等ない。
　したがって、本件発明１は、甲第１〜第１６号証記載の各発明に基づいて容易になし得たものであるとはいえない。
［本件発明２〜５について］
　本件発明２〜５は、本件発明１を更に限定したものであるから、上記本件発明１についての判断と同様の理由により、甲第１〜第１６号証記載の各発明に基づいて当業者が容易になし得たものであるとはいえない。
［本件発明６について］
　甲第１〜第１６号証のいずれにも、本件発明６の構成要件である「前記引張応力層に記録媒体として使用可能な程度の小さいクラックを形成させた状態において記録媒体用基板としての使用試験を行い、前記引張応力層の引張応力の最大値を変化させてそれぞれの場合においてガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間を求め、その求めた時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間を満たす範囲になる場合の前記引張応力の最大値を求め、前記記録媒体用基板に形成される引張応力層の引張応力の最大値がこの求めた値の範囲内になるように化学強化を施す」ことの記載及びそれを示唆する記載は何等ない。
　したがって、本件発明６は、甲第１〜第１６号証記載の各発明に基づいて容易になし得たものであるとはいえない。
エ．むすび
　以上のとおり、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件発明１〜６の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１〜６の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１１年１０月２０日（１９９９．１０．２０）
【訂正の要旨】
訂正事項ａ
　【特許請求の範囲】に、
「【請求項１】表面側から厚さ方向に内部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
　予めクラックに起因する破壊を抑制し得る前記引張応力層の引張応力の最大値を、化学強化の際の基準設計値として求め、引張応力層の最大引張応力が前記基準設計値以下になるように前記圧縮応力層と引張応力層とを化学強化によって形成することを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項２】前記基準設計値は、前記引張応力層に記録媒体用基板として使用可能な範囲の小さなクラックが存在する状態において記録媒体用基板としての使用をした場合に該ガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間以上になる場合の引張応力値であることを特徴とする請求項１に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項３】前記設定する基準設計値が４Ｋｇ／ｍｍ２以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項４】前記圧縮応力層の厚さを５０μｍ以上としたことを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項５】前記ガラス基板をその組成中に少なくともＳｉＯ２、Ｎａ２Ｏ及びＬｉＯ２を含むガラス材料で構成したことを特徴とする請求頃１ないし４のいずれかに記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項６】前記ガラス材料のＮａ２Ｏの含有量が１０重量％以上であり、かっ、ＬｉＯ２の含有量が５重量％以上であることを特徴とする請求項５に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項７】表面側から厚さ方向に内部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成した記録媒体用ガラス基板を、化学強化法で製造する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
　前記引張応力層に記録媒体として使用可能な程度の小さいクラックを形成させた状態において記録媒体用基板としての使用試験を行い、前記引張応力層の引張応力の最大値を変化させてそれぞれの場合においてガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間を求め、その求めた時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間を満たす範囲になる場合の前記引張応力の最大値を求め、前記記録媒体用基板に形成される引張応力層の引張応力の最大値がこの求めた値の範囲内になるように化学強化を施すことを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。」
とあるのを、
「【請求項１】表面側から厚さ方向に内部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
　予めクラックに起因する破壊を抑制し得る前記引張応力層の引張応力の最大値を、化学強化の際の基準設計値として求め、引張応力層の最大引張応力が前記基準設計値以下になるように前記圧縮応力層と引張応力層とを化学強化によって形成するとともに、
　前記基準設計値は、前記引張応力層に記録媒体用基板として使用可能な範囲の小さなクラックが存在する状態において記録媒体用基板としての使用をした場合に該ガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間以上になる場合の引張応力値であることを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項２】前記設定する基準設計値が４Ｋｇ／ｍｍ２以下であることを特徴とする請求項１に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項３】前記圧縮応力層の厚さを５０μｍ以上としたことを特徴とする請求項１又は２に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項４】前記ガラス基板をその組成中に少なくともＳｉＯ２、Ｎａ２Ｏ及びＬｉＯ２を含むガラス材料で構成したことを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項５】前記ガラス材料のＮａ２Ｏの含有量が１０重量％以上であり、かっ、ＬｉＯ２の含有量が５重量％以上であることを特徴とする請求項４に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　【請求項６】表面側から厚さ方向に内部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成した記録媒体用ガラス基板を、化学強化法で製造する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
　前記引張応力層に記録媒体として使用可能な程度の小さいクラックを形成させた状態において記録媒体用基板としての使用試験を行い、前記引張応力層の引張応力の最大値を変化させてそれぞれの場合においてガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間を求め、その求めた時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間を満たす範囲になる場合の前記引張応力の最大値を求め、前記記録媒体用基板に形成される引張応力層の引張応力の最大値がこの求めた値の範囲内になるように化学強化を施すことを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。」に訂正する。
訂正事項ｂ
　【０００５】に、
「【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するために、本発明にかかる記録媒体用ガラス基板の製造方法は、
（構成１）表面側から厚さ方向に内部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
　予めクラックに起因する破壊を抑制し得る前記引張応力層の引張応力の最大値を、化学強化の際の基準設計値として求め、引張応力層の最大引張応力が前記基準設計値以下になるように前記圧縮応力層と引張応力層とを化学強化によって形成することを特徴とする構成とし、
　この構成１の態様として、
（構成２）前記基準設計値は、前記引張応力層に記録媒体用基板として使用可能な範囲の小さなクラックが存在する状態において記録媒体用基板としての使用をした場合に該ガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間以上になる場合の引張応力値であることを特徴とする構成とし、
　構成１又は２の態様として、
（構成３）前記設定する基準設計値が４Ｋｇ／ｍｍ２以下であることを特徴とする構成とし、
　構成１ないし３のいずれかの態様として、
（構成４）前記圧縮応力層の厚さを５０μｍ以上としたことを特徴とする構成とし、
　構成１ないし４のいずれかの態様として、
（構成５）前記ガラス基板をその組成中に少なくともＳｉＯ２、Ｎａ２Ｏ及びＬｉＯ２を含むガラス材料で構成したことを特徴とする構成とし、
　構成１ないし５のいずれかの態様として、
（構成６）前記ガラス材料のＮａ２Ｏの含有量が１０重量％以上であり、かっ、ＬｉＯ２の含有量が５重量％以上であることを特徴とする構成とした。」
とあるのを、
「【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するために、本発明にかかる記録媒体用ガラス基板の製造方法は、
（構成１）表面側から厚さ方向に内部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
　予めクラックに起因する破壊を抑制し得る前記引張応力層の引張応力の最大値を、化学強化の際の基準設計値として求め、引張応力層の最大引張応力が前記基準設計値以下になるように前記圧縮応力層と引張応力層とを化学強化によって形成するとともに、
　前記基準設計値は、前記引張応力層に記録媒体用基板として使用可能な範囲の小さなクラックが存在する状態において記録媒体用基板としての使用をした場合に該ガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間以上になる場合の引張応力値であることを特徴とする構成とし、
　この構成１の態様として、
（構成２）前記設定する基準設計値が４Ｋｇ／ｍｍ２以下であることを特徴とする構成とし、
　構成１又は２の態様として、
（構成３）前記圧縮応力層の厚さを５０μｍ以上としたことを特徴とする構成とし、
　構成１ないし３のいずれかの態様として、
（構成４）前記ガラス基板をその組成中に少なくともＳｉＯ２、Ｎａ２Ｏ及びＬｉＯ２を含むガラス材料で構成したことを特徴とする構成とし、
　構成１ないし４のいずれかの態様として、
（構成５）前記ガラス材料のＮａ２Ｏの含有量が１０重量％以上であり、かつ、ＬｉＯ２の含有量が５重量％以上であることを特徴とする構成とした。」
に訂正する。
訂正事項ｃ
　【０００６】に
「また、本発明にかかる記録媒体用ガラス基板の製造方法は、
（構成７）表面側から厚さ方向に内部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成した記録媒体用ガラス基板を、化学強化法で製造する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
　前記引張応力層に記録媒体として使用可能な程度の小さいクラックを形成させた状態において記録媒体用基板としての使用試験を行い、前記引張応力層の引張応力の最大値を変化させてそれぞれの場合においてガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間を求め、その求めた時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間を満たす範囲になる場合の前記引張応力の最大値を求め、前記記録媒体用基板に形成される引張応力層の引張応力の最大値がこの求めた値の範囲内になるように化学強化を施すことを特徴とする構成とした。」
とあるのを、
「また、本発明にかかる記録媒体用ガラス基板の製造方法は、
（構成６）表面側から厚さ方向に内部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成した記録媒体用ガラス基板を、化学強化法で製造する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
　前記引張応力層に記録媒体として使用可能な程度の小さいクラックを形成させた状態において記録媒体用基板としての使用試験を行い、前記引張応力層の引張応力の最大値を変化させてそれぞれの場合においてガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間を求め、その求めた時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間を満たす範囲になる場合の前記引張応力の最大値を求め、前記記録媒体用基板に形成される引張応力層の引張応力の最大値がこの求めた値の範囲内になるように化学強化を施すことを特徴とする構成とした。」
に訂正する。
　上記訂正事項ａは、訂正前の請求項１を削除し、訂正前の請求項２及びこの請求項２を引用する訂正前の請求項３，４，５，６並びに訂正前の請求項７に規定されている事項を実質的にそのまま新請求項として繰り上げる訂正であり、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正である。
　上記訂正事項ｂ、ｃは、特許請求の範囲の記載内容と発明の詳細な説明の欄の記載内容との整合性を図るため、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正である。
（５４）【発明の名称】
記録媒体用ガラス基板の製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　　【請求項１】　表面側から厚さ方向に内部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
　予めクラックに起因する破壊を抑制し得る前記引張応力層の引張応力の最大値を、化学強化の際の基準設計値として求め、引張応力層の最大引張応力が前記基準設計値以下になるように前記圧縮応力層と引張応力層とを化学強化によって形成するとともに、
　前記基準設計値は、前記引張応力層に記録媒体用基板として使用可能な範囲の小さなクラックが存在する状態において記録媒体用基板としての使用をした場合に該ガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間以上になる場合の引張応力値であることを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　　【請求項２】　前記設定する基準設計値が４Ｋｇ／ｍｍ２以下であることを特徴とする請求項１に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　　【請求項３】　前記圧縮応力層の厚さを５０μｍ以上としたことを特徴とする請求項１又は２に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　　【請求項４】　前記ガラス基板をその組成中に少なくともＳｉＯ２、Ｎａ２Ｏ及びＬｉＯ２を含むガラス材料で構成したことを特徴とする請求項１ないし３のいずれかに記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　　【請求項５】　前記ガラス材料のＮａ２Ｏの含有量が１０重量％以上であり、かつ、ＬｉＯ２の含有量か５重量％以上であることを特徴とする請求項４に記載の記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　　【請求項６】　表面側から厚さ方向に内部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成した記録媒体用ガラス基板を、化学強化法で製造する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
　前記引張応力層に記録媒体として使用可能な程度の小さいクラックを形成させた状態において記録媒体用基板としての使用試験を行い、前記引張応力層の引張応力の最大値を変化させてそれぞれの場合においてガラス基板の前記クラックか記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間を求め、その求めた時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間を満たす範囲になる場合の前記引張応力の最大値を求め、前記記録媒体用基板に形成される引張応力層の引張応力の最大値がこの求めた値の範囲内になるように化学強化を施すことを特徴とする記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
　　　【０００１】
　　【発明の属する技術分野】
　本発明は、磁気記録媒体、光磁気記録媒体及び光記録媒体等の記録媒体の製造方法に関するものである。
　　　【０００２】
　　【従来の技術】
　従来、この種の記録媒体として、特開昭６２ー１４３２４３号公報に記載されているものがある。すなわち、化学強化された円板状のガラス基板上にＡｓーＴｅーＳｅ系の記録層を設けた光記録媒体が知られている。また、一般に化学強化されたガラス基板として、ＳｉＯ２を主成分とし、イオン交換されるイオンとしてナトリウムイオンを含有したソーダライムガラスからなる基板を出発材料とし、この出発材料をＫＮＯ３溶融塩中に浸漬して、ＮａイオンとＫイオンとを置換して、このガラス基板表面に圧縮応力屈を形成することにより強化したものか知られている。したがってソーダライムガラスを出発材料とし、化学強化されたガラス基板上に記録層を設けた記録媒体は知られている。
　　　【０００３】
　　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、従来の記録媒体は、そのガラス基板が化学強化されていることから、表面疵（クラック）に基づく破壊に対して未強化のガラス基板上に記録層を設けた記録媒体よりも高い強度を有するが、それでもクラックが基板の厚さ方向において２０μｍも深く入りこむと高回転速度ては破壊してしまう問題点かある。例えば、圧縮応力層の深さが２０μｍ未満で直径が１３０ｍｍ、厚さ１．９ｍｍのソーダライムガラスを強化したガラス基板上に磁性層を設けた記録媒体は、３０，０００ｒｐｍの高速回転で破壊されてしまう。また、記録媒体用基板は、長期間にわたって極めて高い信頼性を要求されるが、従来の化学強化されたガラス基板は未だこの要求を満たすものではなかった。
　　　【０００４】
　本発明は、上述の背景のもとでなされたものであり、長期間の使用によってもクラック等に起因するトラブルの発生のおそれがなく、記録媒体用基板として十分な信頼性を有する記録媒体用ガラス基板を製造することかできる記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
　　　【０００５】
　　【課題を解決するための手段】
　上述の課題を解決するために、本発明にかかる記録媒体用ガラス基板の製造方法は、
（構成１）　表面側から厚さ方向に内部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
　予めクラックに起因する破壊を抑制し得る前記引張応力層の引張応力の最大値を、化学強化の際の基準設計値として求め、引張応力層の最大引張応力が前記基準設計値以下になるように前記圧縮応力層と引張応力層とを化学強化によって形成するとともに、
　前記基準設計値は、前記引張応力層に記録媒体用基板として使用可能な範囲の小さなクラックが存在する状態において記録媒体用基板としての使用をした場合に該ガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまての時間が記録媒体用基板として必要とされる耐用時間以上になる場合の引張応力値であることを特徴とする構成とし、
　この構成１の態様として、
（構成２）　前記設定する基準設計値が４Ｋｇ／ｍｍ２以下であることを特徴とする構成とし、
　構成１又は２の態様として、
（構成３）　前記圧縮応力層の厚さを５０μｍ以上としたことを特徴とする構成とし、
　構成１ないし３のいずれかの態様として、
（構成４）　前記ガラス基板をその組成中に少なくともＳｉＯ２、Ｎａ２Ｏ及びＬｉＯ２を含むガラス材料で構成したことを特徴とする構成とし、
　構成１ないし４のいずれかの態様として、
（構成５）　前記ガラス材料のＮａ２Ｏの含有量か１０重量％以上であり、かつ、ＬｉＯ２の含有量が５重量％以上であることを特徴とする構成とした。
　　　【０００６】
　また、本発明にかかる記録媒体用ガラス基板の製造方法は、
（構成６）　表面側から厚さ方向に内部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成した記録媒体用ガラス基板を、化学強化法で製造する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、
　前記引張応力層に記録媒体として使用可能な程度の小さいクラックを形成させた状態において記録媒体用基板としての使用試験を行い、前記引張応力層の引張応力の最大値を変化させてそれぞれの場合においてガラス基板の前記クラックが記録媒体用基板として使用できない状態になるにいたるまでの時間を求め、その求めた時間か記録媒体用基板として必要とされる耐用時間を満たす範囲になる場合の前記引張応力の最大値を求め、前記記録媒体用基板に形成される引張応力層の引張応力の最大値がこの求めた値の範囲内になるように化学強化を施すことを特徴とする構成とした。
　　　【０００７】
　上述の構成によれは、ガラス基板表面から入る一般的なクラックに対して圧縮応力層の作用により回転等による破壊の防止が可能になり、かつ、この圧縮応力層の厚さを超えるクラックが生じても圧縮応力層よりさらに基板内部にある引張応力層の引張応力の最大値を４Ｋｇ／ｍｍ２以下としたことにより、十分な強度を維持することが可能になった。また、圧縮応力層の厚さを５０μｍ以上にすれば、通常のクラックに十分に対応できるものが得られる。さらに、ガラス基板をその組成中に少なくともＳｉＯ２、Ｎａ２Ｏ及びＬｉＯ２を含むガラス材料で構成した場合により効果的である。また、ガラス基板を構成するガラス材料の組成として、ＳｉＯ２の含有量が１０重量％以上であり、かつ、ＬｉＯ２の含有量か５重量％以上てあることかより望ましい。
　　　【０００８】
　　【実施の形態】
　以下、本発明の実施の形態にかかる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を図１〜図３に基づき詳細に説明する。
　　　【０００９】
　本実施の形態によって製造される磁気記録媒体１は、図１に示すように、外径１３０ｍｍ、内径（中央に形成された穴の直径）４０ｍｍ及び厚さ１．９ｍｍの円板状に加工され、かつその主表面（後記する磁性層１３を設ける側の表面）を酸化セリウムにより研摩され（表面粗さＲａ＝１０〜２０μｍ）、さらに後述する方法により化学強化され、引張応力が３．７Ｋｇ／ｍｍ２であり、圧縮応力層が基板表面から厚さ方向（深さ）で１１５μｍまで至っているガラス基板１１と、このガラス基板１１上に順次積層された、クロム（Ｃｒ）からなる下地層１２（膜厚：２０００オングストローム）、コバルト（Ｃｏ）とニッケル（Ｎｉ）とクロムとからなる記録層である磁性層１３（膜厚：７００オングストローム）、炭素（Ｃ）からなる保護層１４（膜厚：３００オングストローム）及びフルオロカーボン系の潤滑剤（例えば、Ｍｏｎｔｅｆｌｏｕｓ社製のＦｏｍｂｌｉｎ　ＡＭ２００１）からなる潤滑層１５（膜厚：３０オングストローム）からなる多層膜１６とからなるものである。
　　　【００１０】
　なお、Ｃｒからなる下地層１２、ＣｏＮｉＣｒからなる磁性層１３及びＣからなる保護層１４は何れもＤＣマグネトロンスパツタ法により成膜され、それぞれＣｒからなるターゲット、ＣｏＮｉＣｒからなるターゲツト及びＣからなるターゲットが用いられる。また、潤滑層１５は、保護層１４まで積層されガラス基板１１をスピンコータ上に設置し、保護層１４上に前述した潤滑剤を滴下してスピンコート法により塗布して形成する。
　　　【００１１】
　次に、強化されたガラス基板１１の強化方法について説明する。なお、強化されたガラス基板１１の出発材料のガラス基板は、ＳｉＯ２を約６４ｗｔ％、Ｎａ２Ｏを約１０ｗｔ％及びＬｉＯ２を約６ｗｔ％含むものであり、Ｋ２Ｏは含んでいない。
　　　【００１２】
（工程１）　先ず前述した方法で、円板状に加工しその主表面を研摩した、出発材料からなるガラス基板を予熱炉中に入れる。
　　　【００１３】
（工程２）　次に予熱炉中の雰囲気を室温から約１時間で約３００℃まで昇温し、
出発材料からなるガラス基板を予熱する。
　　　【００１４】
（工程３）約４００℃のＫＮＯ３６０％とＮａＮＯ３４０％との混合溶融塩中に約４時間浸漬して出発材料のガラス基板を化学強化する。なお、この強化において、先ず出発材料のガラス基板中のＬｉイオンが混合溶融塩中のＮａイオンと一部イオン交換される。次に出発材料のガラス基板中のＮａイオン（先にＬｉイオンと交換したＮａイオンも含む）が混合溶融塩中のＫイオンと一部イオン交換される。
　　　【００１５】
（工程４）イオン交換された（強化された）ガラス基板１１は混合溶融塩から取り出され徐冷される。
　　　【００１６】
　その後、強化されたガラス基板１１は、純水、イソプロピルアルコール及びフロン（デュポン社商標）により順次洗浄・乾燥する。そして、前述した下地層１２等からなる多層膜１６を積層する工程を行なう。
　　　【００１７】
　前述した工程１〜工程４を経て強化されたガラス基板１１は、第２図の曲線Ａに示すような応力分布を有し、引張応力は最大で３．７Ｋｇ／ｍｍ２、圧縮応力層はガラス基板１１の基板表面から深さ１１５μｍまで形成されている。また、引張応力は、圧縮応力層よりさらにガラス基板１１の内部に生じている。したがってクラックの深さが基板表面から１１５μｍであっても十分に耐久性を有する。また、クラックが１１５μｍよりも１μｍや２μｍ大きくても十分に耐久性を有する。
　　　【００１８】
　ここで、図３に示す引張応力ー破壊時間との関係を示す図は、一例として１μｍの深さのクラックが４Ｋｇｍ／ｍｍ２の引張応力によって成長し、ガラス基板が破壊する時間か１０年であることを示している。すなわち、図３を、例えばクラックの深さが１１６μｍであっても、圧縮応力層の深さ１１５μｍを超えた値Ｃ＝１μｍを有するガラス基に引張応力を付加したとき破壊するまでの時間を示すものとみることかできる。それゆえ、クラックの深さが１１６μｍであって引張応力か４Ｋｇ／ｍｍ２であっても約１０年間十分に耐えることから、若干圧縮応力層よりも深いクラックがあっても十分に耐久性を有する。
　　　【００１９】
　以上のような特性を有するガラス基板１１上に磁性層１３を設けた本例の磁気記録媒体１を、モータのシャフトに媒体１の穴を嵌合・挿入して回転し、その回転破壊試験をした結果、３５，０００ｒｐｍでも破懐を生じない。なお、同様の形状、大きさを有する従来のガラス基板（ソーダライムガラスを化学強化したもの）上に本例と同様の多層膜１６を積層した従来の磁気記録媒体では２６，０００〜２８，０００　ｒｐｍの回転で破壊してしまう。また、本例の磁気記録媒体１と前述した従来の磁気記録媒体とをそれぞれ落下試験した結果、本例の磁気記録媒体１は１０，０００回以上繰り返し落下させても破壊せず、一方、従来の磁気記録媒体は３００〜５００回の繰り返し落下で破壊してしまう。なお、この落下試験方法は、プラスティックタイル（例えば田島応用化工（株）製Ｐタイル厚さ２．０ｍｍ）で覆ったコンクリート床の上方よりガラス基板の中心で１ｍの高さから落下させ、ガラス基板の側部が床と衝突する、つまり、ガラス基板面と床面が直角になる様に自由落下衝撃テストを行うものであり、基板破損検知にて破損を確認する迄、約１５秒に１回の割合で操り返し落下を行うものである。
　　　【００２０】
　本発明は前記実施例に限らず以下のものであってもよい。先ず、強化されたガラス基板の引張応力の値及び圧縮応力層の深さはそれぞれ３．７Ｋｇ／ｍｍ２及び１１５μｍに限らず、４Ｋｇ／ｍｍ２以下及び少なくとも５０μｍであれは、一般に生ずる深さ５０μｍまでのクラック及ぴこれより若干大きいクラックに対して破壊防止効果を有する。また、強化されたガラス基板の出発材料のガラス基板の組成は、前記実施例の組成に限らず、イオン交換処理し化学強化されだ後、引張応力４Ｋｇ／ｍｍ２以下及び圧縮応層か発生している深さが少なくとも５０μｍとなる組成であればよい。なお、ＳｉＯ２とＮａ２ＯとＬｉＯ２とを含有し、Ｎａ２Ｏが少なくとも１０ｗｔ％及びＬｉＯ２が少なくとも５ｗｔ％含有しているガラスが出発材料として望ましい。また、イオン交換する条件も前記実施例に限らず、溶融塩の温度３６０℃、時間１６時間等の他の条件でもよい。すなわち、前述しているように引張応力が４Ｋｇ／ｍｍ２以下、圧縮応力層の深さが少なくとも５０μｍとなる条件であれはよい。また、前記実施例の磁気記録媒体のみならず、磁性層がＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＰｔ及びＣｏＮｉＣｒＰｔ等からなるもの等の他の磁気記録媒体でもよい。また記録層がＴｅ、Ｓｅ、ＧｅＴｅ等からなる光記録媒体やＧｄＦｅ、ＴｂＦｅ、ＴｂＦｅＣｏ、ＮｄＤｙＦｅ、ＮｄＤｙＦｅＣｏ等からなる記録層を有する光磁気記録媒体にも適用することができる。さらに、ガラス基板は円板状であったが、他の形状のものにも適用できることはいうまでもない。
　　　【００２１】
　　【発明の効果】
　本発明は、表面側から厚さ方向に内部に向かって順次圧縮応力層及び引張応力層を形成する記録媒体用ガラス基板の製造方法において、予めクラックに起因する破壊を抑制し得る前記引張応力層の引張応力の最大値を、化学強化の際の基準設計値として求め、引張応力層の最大引張応力が前記基準設計値以下になるように前記圧縮応力層と引張応力層とを化学強化によって形成することを特徴とするもので、これにより、長期間の使用によってもクラック等に起因するトラブルの発生のおそれがなく、記録媒体用基板として十分な信頼性を有する記録媒体用ガラス基板を得ることを可能にしたものである。
【図面の簡単な説明】
　　【図１】
　本発明の実施の形態にかかる製造方法で製造した磁気記録媒体を示す部分断面図である。
　　【図２】
　本発明の実施の形態にかかる製造方法で製造したガラス基板の応力分布を示す図である。
　　【図３】
　ガラス基板クラックの大きさによる付加した引張応力に対する破壊時間を示す図である。
　　【符号の説明】
　１…磁気記録媒体（記録媒体）、１１…強化されたガラス基板、１３…磁性層（記録層）。