(57)【要約】【課題】  大きな露光用基板を取扱い、多数の露光用光学系を配置した露光装置であっても、露光用光学系の配置の如何に拘らず、露光効果を一様にすることができる液晶用基板のレーザー露光装置における光学系を提供する。【解決手段】  上面板Ａにレーザー１、ビームスプリッター２１〜２８、全反射ミラー３１１〜３２３、ＡＯＭ４１〜４９、光軸高さ変更用ジンバルミラー５１〜５９、エキスパンダーユニット６１〜６９、スキャナー７１〜７９及びf・θレンズを以って９組の露光用光学系を設ける。前記各露光用光学系のＡＯＭ４１〜４９とレーザー１間にレーザービーム径が前記ＡＯＭのアパーチャより小さくなるようにする縮小光学系８１〜８３を設ける。【選択図】図２
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
レーザー、ビームスプリッター、全反射ミラー、ＡＯＭ、光軸高さ変更用ジンバルミラー、エキスパンダーユニット、スキャナー及びf・θレンズから成る露光用光学系を複数備えた液晶用基板のレーザー露光装置において、前記各露光用光学系のレーザーとＡＯＭ間にレーザービーム径が前記ＡＯＭのアパーチャより小さくなるようにする縮小光学系を設けたことを特徴とする液晶用基板のレーザー露光装置における光学系。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、液晶用基板のレーザー露光装置における光学系に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
図１は従来の液晶用基板のレーザー露光装置の器枠の上面板Ａ上に設けた露光用光学系の配置を示すもので、１はレーザー、２１〜２３はビームスプリッター、３１〜３３は全反射ミラー、４１〜４４はＡＯＭ、５１〜５４は光軸高さ変更用ジンバルミラー、６１〜６４はエキスパンダーユニット、７１〜７４はガルバノミラーのスキャナーである。
【０００３】
しかして、レーザー１から出射したレーザービームの一部は、ビームスプリッター２１、全反射ミラー３１、ビームスプリッター２２、ＡＯＭ４１、光軸高さ変更用ジンバルミラー５１及びエキスパンダーユニット６１を介してガルバノミラーのスキャナー７１に入射する。
【０００４】
同様に、レーザービームの一部はビームスプリッター２１、全反射ミラー３２、ＡＯＭ４２、光軸高さ変更用ジンバルミラー５２及びエキスパンダーユニット６２を介してスキャナー７２に入射する。また、レーザービームの一部はビームスプリッター２１，２３、ＡＯＭ４３、光軸高さ変更用ジンバルミラー５３及びエキスパンダーユニット６３を介してスキャナー７３に入射し、更に、レーザービームの一部は、ビームスプリッター２１，２３、全反射ミラー３３、ＡＯＭ４４、光軸高さ変更用ジンバルミラー５４及びエキスパンダーユニット６４を介してスキャナー７４に入射する。
【０００５】
そして、各スキャナー７１〜７４に入射したレーザービームは、それぞれガルバノミラー及び上面板Ａの下面に設けたf・θレンズ（図示せず）を介して、レーザービームを器枠の下面板上に配置した液晶用基板（図示せず）上のレジストに投射して露光させる。
【０００６】
近時、液晶用基板の大型化に伴い、液晶用基板のレーザー露光装置における露光用光学系部分の寸法も大きくなって来た。そして、それと共に、スキャナーの数の増加や各スキャナーが担当する面積の拡大化が行われてきた。
【０００７】
しかし露光用光学系部分の寸法拡大に伴い、レーザー１から各ＡＯＭまでのレーザービームが通る光路長が長くなり、光路長が長くなるほどレーザービームの広がりによりビーム径が大きくなり過ぎ、ＡＯＭに入射する際、ＡＯＭのアパーチャ径より大きくなり、回折光が生じたりレーザービームを全て取り込むことが出来ないスキャナーが出てきて、露光用光学系毎に露光形状の異常等の露光効果にバラツキが生じるという問題が生じてきた。
【特許文献１】特開2004−122188号公報
【考案の開示】
【考案が解決しようとする課題】
【０００８】
そこで、本考案は、大きな露光用基板を取扱い、多数の露光用光学系を配置した露光装置であっても、露光用光学系の配置の如何に拘らず、露光効果を一様にすることができる液晶用基板のレーザー露光装置における光学系を提供しようとするのである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は上記の課題を解決するためになされたもので、レーザー、ビームスプリッター、全反射ミラー、ＡＯＭ、光軸高さ変更用ジンバルミラー、エキスパンダーユニット、スキャナー及びf・θレンズから成る露光用光学系を複数備えた液晶用基板のレーザー露光装置において、各露光用光学系の前記レーザーとＡＯＭ間にレーザービーム径がＡＯＭのアパーチャより小さくなるようにする縮小光学系を設けたものである。
【考案の効果】
【００１０】
本考案はレーザーとＡＯＭ間に縮小光学系を設けてレーザービーム径がＡＯＭのアパーチャより小さくなるようにしたので、ＡＯＭにはレーザービームを全て取り込まれるため、露光用光学系毎の露光効果のバラツキを解消することができる。
【実施例】
【００１１】
図２は大版の液晶用基板の９ヶ所に文字・記号等を記録するためのレーザー露光装置に適用した場合の本考案の実施例を示すもので、１はレーザー、２１〜２８はビームスプリッター、３１１〜３２３は全反射ミラー、４１〜４９はＡＯＭ、５１〜５９は光軸高さ変更用ジンバルミラー、６１〜６９はエキスパンダーユニット、７１〜７９はスキャナー、８１〜８３は縮小光学系である。
【００１２】
しかして、レーザー１から出射したレーザービームの一部は、ビームスプリッター２１、縮小光学系８１、全反射ミラー３１１及び３１２、ビームスプリッター２２、ＡＯＭ４１、光軸高さ変更用ジンバルミラー５１及びエキスパンダーユニット６１を介してスキャナー７１に入射し、またビームスプリッター２２を透過したレーザービームの一部は、ビームスプリッター２３、ＡＯＭ４２、光軸高さ変更用ジンバルミラー５２及びエキスパンダーユニット６２を介してスキャナー７２に入射し、またビームスプリッター２３を透過したレーザービームは、全反射ミラー３１３、ＡＯＭ４３、光軸高さ変更用ジンバルミラー５３、エキスパンダーユニット６３及び全反射ミラー３１４を介してスキャナー７３に入射する。
【００１３】
また、ビームスプリッター２１を透過したレーザービームの一部は、ビームスプリッター２４、縮小光学系８２、全反射ミラー３１５、ビームスプリッター２５、ＡＯＭ４４、光軸高さ変更用ジンバルミラー５４、エキスパンダーユニット６４及び全反射ミラー３１６を介してスキャナー７４に入射し、ビームスプリッター２５を透過したレーザービームの一部は、ビームスプリッター２６、ＡＯＭ４５、光軸高さ変更用ジンバルミラー５５、エキスパンダーユニット６５及び全反射ミラー３１７を介してスキャナー７５に入射し、ビームスプリッター２６を透過したレーザービームの一部は、全反射ミラー３１８、ＡＯＭ４６、光軸高さ変更用ジンバルミラー５６、エキスパンダーユニット６６及び全反射ミラー３１９を介してスキャナー７６に入射する。
【００１４】
更に、ビームスプリッター２４を透過したレーザービームは、全反射ミラー３２０、縮小光学系８３、ビームスプリッター２７、ＡＯＭ４７、光軸高さ変更用ジンバルミラー５７、エキスパンダーユニット６７及び全反射ミラー３２１を介してスキャナー７７に入射し、ビームスプリッター２７を透過したレーザービームの一部は、ビームスプリッター２８、ＡＯＭ４８、光軸高さ変更用ジンバルミラー５８、エキスパンダーユニット６８及び全反射ミラー３２２を介してスキャナー７８に入射し、ビームスプリッター２８を透過したレーザービームは、全反射ミラー３２３、ＡＯＭ４９、光軸高さ変更用ジンバルミラー５９、エキスパンダーユニット６９を介してスキャナー７９に入射する。
【００１５】
そして、各スキャナー７１〜７９に入射した各レーザービームは、それぞれガルバノミラー（図示せず）及び上面板Ａの下面に設けたf・θレンズ（図示せず）を介してレーザービームを器枠の下面板上に配置した液晶用基板（図示せず）上のレジストに投射して露光させる。
【００１６】
以上のようにレーザー１と各ＡＯＭ４４〜４９間に縮小光学系８１〜８３を設けて、ＡＯＭの手前で広がったレーザービームのビーム径を絞り、レーザービームを全てＡＯＭに取り込むように構成したので、各露光用光学系の露光効果のバラツキを少なくすることができ、大版液晶基板用レーザー露光装置の実現が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】従来装置の露光用光学系の配置を示す平面図。
【図２】本発明の実施例の露光用光学系の配置を示す平面図。
【符号の説明】
【００１８】
１                          レーザー
２１〜２８                  ビームスプリッター
３１〜３３，３１１〜３２３  全反射ミラー
４１〜４９                  ＡＯＭ
５１〜５９                  光軸高さ変更用ジンバルミラー
６１〜６９                  エキスパンダーユニット
７１〜７９                  スキャナー
【図１】
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【図２】
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