【事件の表示】
　特許第２７６２１８８号「紫外線レーザー用合成石英ガラス成形体の製造方法」の請求項１ないし３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結論】
　訂正を認める。
　特許第２７６２１８８号の請求項１に係る特許を維持する。
【理由】
１．手続の経緯
　本件特許第２７６２１８８号の請求項１ないし３に係る発明についての出願は、平成３年１１月３０日に特許出願され、平成１０年３月２７日にその特許の設定登録がなされ、その後、特許異議申立人小林　高から特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１１年８月９日に訂正請求がなされたものである。
２．訂正の適否についての判断
（１）訂正の内容
　特許権者が求めている訂正の内容は、以下の訂正事項ａないしｃのとおりである。
ａ　特許請求の範囲の請求項１を次のとおり訂正する。
「【請求頃１】　ＡｒＦエキシマレーザーに対して透過率が低いＡｒＦエキシマレーザー光学部材用合成石英ガラス成形体に、低圧水銀ランプから放射される１８４．９ｎｍ及び２５３．７ｎｍの波長の発光線の連続光を、該成形体の照射表面における照度にして、少なくとも１μＷ／ｃｍ２以上で、１時間以上照射することにより、ＡｒＦエキシマレーザーに対する透過率を向上させることを特徴とするＡｒＦエキシマレーザー光学部材用合成石英ガラス成形体の製造方法。」
ｂ　特許請求の範囲の請求頃２及び３を削除する。
ｃ　上記特許請求の範囲の訂正に伴って、発明の詳細な説明中の記載を訂正する。
（２）訂正の目的の適否及び拡張、変更の存否
　上記訂正事項ａは、訂正前の請求項１における「１５０ｎｍ乃至３００ｎｍの範囲内の紫外線」を、実施例において使用した「低圧水銀ランプから放射される１８４．９ｎｍ及び２５３．７ｎｍの波長の発光線の連続光」とさらに限定するものであり、特許請求の範囲の減縮に該当する。
　上記訂正事項ｂは、請求項を削除するものであるから特許請求の範囲の減縮に該当する。
　上記訂正事項ｃは、特許請求の範囲の訂正に伴って、それとの整合を図るために発明の詳細な説明を訂正するものであり、明瞭でない記載の釈明に該当する。
　そして、上記訂正事項ａないしｃは、いずれも願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内のものであって、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
（３）独立特許要件の判断
［本件発明］
　訂正明細書の請求項１に係る発明（以下、本件訂正発明という。）は、その特許請求の範囲の請求項１（前記（１）ａ参照）に記載された事項により特定されるとおりのものである。
［刊行物の記載］
　取消理由で引用した刊行物１（１９８９年秋季　第５０回応用物理学会学術講演会講演予稿集第２分冊（第４８８頁、２８ｐ−Ｌ−１の欄）には、「エキシマレーザーリソグラフィステッパ用石英レンズ材の光学特性」を変化させる方法が記載され、「本研究では、ダイレクト法による石英ガラス（ＯＨ基高含有）の熱処理によるレーザー照射効果について検討した。本実験では、試料としてＡ（未処理）とＢ（熱処理済み）の２種、各１０本ずつ用いた。それぞれのサンプルに、１００ｍＪ／ｃｍ２・パルスのＫｒＦレーザー光（λ＝２４８ｎｍ）１５Ｈｚで４時間まで照射し、紫外域（２００ｎｍ〜４００ｎｍ）における光吸収スペクトル・・・・・の変化を測定した。・・・・・熱処理を施した試料Ｂでは約５．５ｅＶ以上での光学吸収が試料Ａに比べ、大きくなっていた。４時間のレーザー照射を行うと、Ａ，Ｂいずれの試料においても光学吸収の減少傾向が観測された。」（本文第５行〜第１３行）と記載されている。
　すなわち、刊行物１には、「エキシマレーザーリソグラフィステッパ用石英レンズ材に、１００ｍＪ／ｃｍ２・パルスのＫｒＦレーザー光（λ＝２４８ｎｍ）１５Ｈｚで４時間照射し、光学吸収を減少させるエキシマレーザーリソグラフィステッパ用石英レンズ材の製造方法。」が記載されている。
　同じく刊行物２（特開平１−１０２５０３号公報）には、「紫外から赤外域で動作する高出力レーザシステム用光学素子・・・・・の洗浄方法」（第１頁右下欄第６行〜第８行）に関し、「実質上紫外域にスペクトル幅をもつランプで・・・・・光を照射して基板表面洗浄する」（特許請求の範囲第４項参照）ことが記載され、前記ランプとして「キセノンアークランプ」（第２頁右下欄第９行）が例示されている。
　同じく刊行物３（特開昭６３−２４０５０１号公報）には、「使用波長が特定できる半導体用露光装置に用いる投影レンズ、例えば、・・・・・ＡｒＦエキシマー光（１９３ｎｍ）用の投影レンズの設計には合成石英および合成石英にフッ素不純物を混入して屈折率を制御された複数種の硝材を利用できる」（第２頁右上欄第１８行〜左下欄第４行）との記載がある。
　同じく刊行物４には、「従来より、主に２５３．７ｎｍおよび１８４．９ｎｍの紫外線ラインスペクトルの光を放射する低圧水銀ランプを用いた光洗浄装置が各種被洗浄体の殺菌、洗浄用として用いられている。」（第１頁左下欄第１４行〜第１６行）との記載がある。
［対比、判断］
　本件訂正発明と、刊行物１に記載された発明（以下、引用発明という。）とを対比すると引用発明における「エキシマレーザーリソグラフィステッパ用石英レンズ材」及び「光学吸収を減少させる」は本件訂正発明における「エキシマレーザー光学部材用合成石英ガラス成形体」及び「透過率を向上させる」に相当し、引用発明においてＫｒＦレーザー光照射前の試料Ｂは、照射前の紫外域（２００ｎｍ〜４００ｎｍ）における光学吸収が照射後の光学吸収よりも大きいから、ＡｒＦエキシマレーザーに対して透過率が低いものといえる。さらに、刊行物１に記載された発明において、試料に照射される光の照度は、
　１００ｍＪ／ｃｍ２・パルス×１５Ｈｚ
＝１．５×１０６μＷ／ｃｍ２
である。したがって、本件訂正発明と引用発明は「ＡｒＦエキシマレーザーに対して透過率が低いエキシマレーザー光学部材用合成石英ガラス成形体に、紫外線を、該成形体の照射表面における照度にして、少なくとも１μＷ／ｃｍ２以上で、１時間以上照射することにより、エキシマレーザーに対する透過率を向上させるエキシマレーザー光学部材用合成石英ガラス成形体の製造方法」である点で一致しており、
▲１▼照射する紫外線が、本件訂正発明においては、低圧水銀ランプから放射される１８４．９ｎｍ及び２５３．７ｎｍの波長の発光線の連続光であるのに対し、刊行物１に記載された発明においては、ＫｒＦレーザーの２４８ｎｍの波長のパルス光である点及び
▲２▼合成石英ガラス成形体が、本件訂正発明においては、「ＡｒＦエキシマレーザー光学部材用」と限定されているのに対し、刊行物１に記載された発明では用途としてのエキシマレーザーの種類が限定されていない点で相違している。
　相違点▲１▼について検討する。
　照射紫外線に関しては、前記刊行物２に、光学素子の洗浄方法において紫外域にスペクトル幅をもつ光を照射することが記載され、また、刊行物４に、光による物品の表面洗浄において低圧水銀ランプから放射される１８４．９ｎｍ及び２５３．７ｎｍの波長の発光線の連続光を用いることが記載されている。しかしながら、これら刊行物２及び４に記載された方法は、いずれも被洗浄体の表面の汚れ及びその他の付着物を光の照射によって除去するという単なる光洗浄の方法である。
　一方、刊行物１に記載された発明における紫外線照射は、次のｉ）及びｉｉ）の点から、表面の単なる光洗浄を行っているに過ぎないと認めることはできない。
ｉ）刊行物１に示されているように、紫外線照射による光学吸収の減少の程度が、熱処理済みの試料Ｂと未処理の試料Ａとで顕著に異なっていること
ｉｉ）本件特許明細書の段落【００１１】の「合成石英ガラス成形体における透過率の改善は、照射紫外線が合成石英ガラス成形体内を十分に透過することが必要である。したがって、本発明の透過の改善の効果を効率良く行うためには、該合成石英ガラス成形体の紫外線照射面、例えば、該成形体の全面、光透過面又は側面等は、鏡面研磨以上に磨かれていることが必要である。」との記載及び実施例の記載から明らかなように、刊行物１の試料Ｂと同じく熱処理工程を経た合成石英ガラス成形体は、表面研磨を行ったものであっても低圧水銀ランプの紫外線の照射によってその透過率が変化すること
　そして、刊行物２及び４に記載された光洗浄についての技術を刊行物１に記載された発明と組み合わせることは、両者における紫外線照射の作用が共通するものとはいえない以上、当業者が容易に想到し得ることであるとはいえず、刊行物１に記載された発明における照射紫外線の光源として、ＫｒＦレーザーの２４８ｎｍの波長のパルス光に替えて、低圧水銀ランプの１８４．９ｎｍ及び２５３．７ｎｍの波長の発光線の連続光を用いて本件訂正発明のように構成することは、当業者が容易になし得ることであるということはできない。
　そして、本件訂正発明は、上記相違点▲１▼に対応する構成を備えることにより、合成石英ガラス成形体について、ＡｒＦエキシマレーザーに対する透過率を向上できるという特有の効果を奏するものである。
　したがって、本件訂正発明は、上刊行物１ないし４に記載された発明から容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　よって、本件訂正発明は、特許出願の際、独立して特許を受けることができるものである。
（４）２．のむすび
　以上の通りであるから、上記訂正は、特許法の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項で準用する第１２６条第１項ないし第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
３．特許異議申立てについての判断
（１）申立ての理由の概要
　特許異議申立人小林　高は、甲第１号証ないし甲第４号証を提出し、本件の訂正前の請求項１ないし３に係る発明は、甲各号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明の特許は取り消されるべき旨主張している。
（２）判断
　上記甲第１号証ないし甲第４号証は取消理由で引用した刊行物１ないし刊行物４と同じものである。本件訂正発明が、これら刊行物１ないし刊行物４に記載された発明から容易に発明できたものであるとはいえないことは、前記２．（３）で述べたとおりである。
　なお、訂正前の請求項２及び請求項３は、訂正により削除された。
４．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件請求項１に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１１年１２月３日（１９９９．１２．３）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
（１）特許請求の範囲の請求項１を
『【請求項１】　ＡｒＦエキシマレーザーに対して透過率が低いＡｒＦエキシマレーザー光学部材用合成石英ガラス成形体に、低圧水銀ランプから放射される１８４．９ｎｍ及び２５３．７ｎｍの波長の発光線の連続光を、該成形体の照射表面における照度にして、少なくとも１μＷ／ｃｍ２以上で、１時間以上照射することにより、ＡｒＦエキシマレーザーに対する透過率を向上させることを特徴とするＡｒＦニキシマレーザー光学部材用合成石英ガラス成形体の製造方法。』と訂正する。
（２）特許請求の範囲の請求項２及び３を削除する
（３）明細書の第２頁乃至第３頁の【０００５】を、
　『【０００５】
　【課題を解決するための手段】
　本発明は、均質化処理及び成形処理が施されて、ＡｒＦエキシマレーザー光学部材用として必要な均質性を有する合成石英ガラス成形体について、均質性を損なうことなしにＡｒＦエキシマレーザーに対する光の透過率を改善させる方法を提供することを目的としている。
　すなわち、本発明は、ＡｒＦエキシマレーザーに対して透過率が低いＡｒＦエキシマレーザー光学部材用合成石英ガラス成形体に、
低圧水銀ランプから放射される１８４．９ｎｍ及び２５３．７ｎｍの波長の発光線の連続光
と補正する。
（４）明細書の第４頁の【０００９】を
　『　【０００９】
　また、照射する紫外線の照度は１μＷ／ｃｍ２以上であることが望ましい。照度が１μＷ／ｃｍ２以下の紫外線を照射した場合、２００ｎｍ以下の波長の光の吸収を小さくすることは出来るが、ＡｒＦエキシマレーザーに対する透過率について、好ましい結果を得るには、照射時間が長くなるので能率的ではない。一方で、エキシマレーザー光のようなパルス光においては、光の均質性に乏しく、また、光のビーム面積も小さいため、大きな光学ガラス成形体に対する一様な照射が難しくなり、合成石英ガラス成形体についての均一なＡｒＦエキシマレーザーの透過率の改善が困難である。そのため、照度１μＷ／ｃｍ２以上の該紫外線、特に連続光が望まれるが、このような光は
、低
プに
と補正する。
（５）明細書第５頁の【００１２】を、
　『【００１２】
　【作用】
　本発明は、ＡｒＦエキシマレーザーに対して透過率が低いＡｒＦエキシマレーザー光学部材用合成石英ガラス成形体に、
低圧水銀ランプから放射される１８４．９ｎｍ及び２５３．７ｎｍの波長の発光線の連続光
と補正する。
（６）明細書第７頁乃至第８頁の【００１７】を
　『【００１７】
　【発明の効果】
　本発明は、ＡｒＦエキシマレーザーに対して透過率が低いＡｒＦエキシマレーザー光学部材用合成石英ガラス成形体のレーザーの光透過面全域に、
低圧水銀ランプから放射される１８４．９ｎｍ及び２５３．７ｎｍの波長の発光線の連続光
　しかも、本発明は、ＡｒＦエキシマレーザーに対する透過率不良を、合成石英ガラス成形体に、
低圧水銀ランプから放射される１８４．９ｎｍ及び２５３．７ｎｍの波長の発光線の連続光
と補正する。
（５４）【発明の名称】
紫外線レーザー用合成石英ガラス成形体の製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　ＡｒＦエキシマレーザーに対して透過率が低いＡｒＦエキシマレーザー光学部材用合成石英ガラス成形体に、
低圧水銀ランプから放射される１８４．９ｎｍ及び２５３．７ｎｍの波長の発光線の連続光
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザーの照射に対して優れた安定性を有するＡｒＦエキシマレーザー光学部材用合成石英ガラス成形体の製造方法に関し、特にＡｒＦエキシマレーザーを光源とするステッパーの光学系、特にＡｒＦエキシマレーザーのステッパー光学系を形成するに好適な、即ちＡｒＦエキシマレーザーの透過率に優れたＡｒＦエキシマレーザー光学部材用合成石英ガラス成形体の製造方法に関する。
　【０００２】
　【従来技術】
　近年、ＬＳＩの高集積化に伴い、ウエハー上に集積回路パターンを描画する光リソグフィー技術においても、サブミクロン単位の描画技術が要求されており、より微細な線幅描画を行うために、露光系の光源の短波長化が進められてきている。特に最近では、露光用の光源としてＫｒＦエキシマレーザー光（波長２４８ｎｍ）およびＡｒＦエキシマレーザー光（波長１９３ｎｍ）が考えられ、光学部材として用いられるガラス材料においても、２５０ｎｍ以下の波長の光の透過性がきわめて重要な特性として注目されている。
　一般的には、この波長領域において十分な透過性を示す材料は、ガラスとしては、石英ガラス以外になく、石英ガラスにおいても四塩化珪素等を火炎加水分解して製造される、いわゆる合成石英ガラスでなければ、実質的に十分な透過率を与えない。一方で、エキシマレーザーステッパーにおける光学系に使用されるレンズ等の光学部品を形成するガラス成形体には、均一な像を得るためにきわめて厳密な均質性が要求され、かかる均質性を合成石英ガラス成形体に付与するためには、合成石英ガラス材料を望ましい形状に成形する成形工程、均質化工程およびアニール工程などの非常に長時間を要する工程が工業上必要とされる。
　【０００３】
　【本発明が解決しようとする問題点】
　この合成石英ガラス成形体の均質性を与えるためのアニール工程及び成形工程といった熱処理工程は、高温で長時間にわたって行われるために、均質化された合成石英ガラス成形体は、熱処理工程および成形工程における雰囲気、治具、炉材等によって汚染され、合成石英ガラス成形体の紫外線透過性を劣化させる結果となっている。
　このような熱処理工程における合成石英ガラス成形体の汚染は、合成石英ガラス成形体の真空紫外領域（波長２００ｎｍ以下）の透過率を著しく低下させ、例えばエキシマレーザー光の中でも、波長の短いＡｒＦエキシマレーザーを光源とするステッパーの光学系では深刻な問題である。
　【０００４】
　このような熱処理工程における合成石英ガラス成形体の汚染を減じさせる努力は継続して行われているが、高温での熱処理に用いられる炉材や治具は、合成石英ガラスを汚染するアルミナ、ジルコニア、グラファイト等の材料で形成されており、また２００ｎｍ以下の波長の光の透過率は、合成石英ガラス成形体の僅かな汚染によっても著しく低下するために、均質性を付与した石英ガラス成形体のこの領域での透過率は、ステッパー光学系において望まれる基準を満足してはいない。
　【０００５】
　【課題を解決するための手段】
　本発明は、均質化処理及び成形処理が施されて、ＡｒＦエキシマレーザー光学部材用として必要な均質性を有する合成石英ガラス成形体について、均質性を損なうことなしにＡｒＦエキシマレーザーに対する光の透過率を改善させる方法を提供することを目的としている。
　すなわち、本発明は、ＡｒＦエキシマレーザーに対して透過率が低いＡｒＦエキシマレーザー光学部材用合成石英ガラス成形体に、
低圧水銀ランプから放射される１８４．９ｎｍ及び２５３．７ｎｍの波長の発光線の連続光
　【０００６】
　本発明において、素材としては、ＡｒＦエキシマレーザーに対して透過率が低いＡｒＦエキシマレーザー光学部材用合成石英ガラス成形体が使用される。この素材として使用される合成石英ガラス成形体は、例えばＡｒＦエキシマレーザーステッパー光学系を構成するに必要な光学特性、すなわち、少なくとも光が透過する方向に脈理を有さず、高度に均質な屈折率分布を有し、かつ残留歪が存在しない、レンズ、プリズムなどの光学部材を形成するに好適な形状、即ち円筒状、角柱状またはこれらに類する形状を有するものである。
　【０００７】
　本発明において、素材として使用される合成石英ガラス成形体は、上記特性、形状に成形するに際し、均質化工程、成形工程及びアニール工程等の熱処理工程の少なくとも一つの工程を経ており、このために、ＡｒＦエキシマレーザーに対し、程度の差こそあれ、熱処理工程中の汚染による光の吸収を有している。
　本発明の効果を最大にするためには、原材料の純度を向上させ、また各工程における汚染を極力減少させて、素材の合成石英ガラス成形体について、２００ｎｍ以下の波長の領域における光の吸収を極小にすることが望ましい。
　しかし、本発明において、ＡｒＦエキシマレーザーの透過率の改善は、波長２００ｎｍ以下の領域における素材の光の吸収の程度に左右されない。
　【０００８】
　本発明者らは、このような熱処理工程における合成石英ガラス成形体の汚染によって生じる２００ｎｍ以下の波長の光の吸収、特にＡｒＦエキシマレーザーの吸収が、当該合成石英ガラス成形体に、波長１５０ｎｍ乃至３００ｎｍ、望ましくは、１８０ｎｍ乃至２５５ｎｍの範囲内の波長の紫外線を照射することによって消失することを見いだした。
　本発明においては、照射する紫外線の波長は３００ｎｍ以下であることが必要であり、３００ｎｍ以上の波長の紫外線を照射しても光エネルギーとしては弱く望ましい効果は得られない。一方、波長１５０ｎｍ以下の紫外線の場合、石英ガラス自体の本質的な吸収が存在するため、ガラス体の構造が破壊することがあるので望ましくない。
　【０００９】
　また、照射する紫外線の照度は１μＷ／ｃｍ２以上であることが望ましい。照度が１μＷ／ｃｍ２以下の紫外線を照射した場合、２００ｎｍ以下の波長の光の吸収を小さくすることは出来るが、ＡｒＦエキシマレーザーに対する透過率について、好ましい結果を得るには、照射時間が長くなるので能率的ではない。一方で、エキシマレーザー光のようなパルス光においては、光の均質性に乏しく、また、光のビーム面積も小さいため、大きな光学ガラス成形体に対する一様な照射が難しくなり、合成石英ガラス成形体についての均一なＡｒＦエキシマレーザーの透過率の改善が困難である。そのため、照度１μＷ／ｃｍ２以上の該紫外線、特に連続光が望まれるが、このような光は
、低
プに
　【００１０】
　本発明においては、合成石英ガラス成形体に、以上のような短波長の紫外線を照射して、ＡｒＦエキシマレーザーに対する透過率の改善するが、空気中におけるこのような紫外線の照射は、空気中の酸素をオゾンに変化させるので、窒素雰囲気下で、合成石英ガラス成形体に対し紫外線の照射を行うのが望ましい。
　本発明による方法は、脈理が存在する合成石英ガラス成形体で、波長２００〜１８０ｎｍ付近に透過率不良がある場合においても、透過率の改善を効果的に行うことができる。
　【００１１】
　本発明における合成石英ガラス成形体における透過率の改善は、照射紫外線が合成石英ガラス成形体内を十分に透過することが必要である。したがって、本発明の透過率の改善の効果を効率良く行うためには、該合成石英ガラス成形体の紫外線照射面、例えば、該成形体の全面、光透過面又は側面等は、鏡面研磨以上に磨かれていることが必要である。
　本発明は、合成石英ガラス成形体が如何なる形状及び大きさのものであっても、透過率の改善を達成することができ、合成石英ガラス成形体の形状及び大きさにより制限されるものではない。例えば合成石英ガラス成形体の大きさが大きい場合には、合成石英ガラス成形体の大きさに応じて紫外線の照射時間を増加することにより透過率を改善することができる。
　【００１２】
　【作用】
　本発明は、ＡｒＦエキシマレーザーに対して透過率が低いＡｒＦエキシマレーザー光学部材用合成石英ガラス成形体に、
低圧水銀ランプから放射される１８４．９ｎｍ及び２５３．７ｎｍの波長の発光線の連続光
　【００１３】
　【実施例１】
　以下、本発明の実施の態様について例をあげて説明するが、本発明は、以下の説明及び例示により、何等限定されるものではない。
例１
　３方向に脈理を有さず、均質な屈折率分布を持つ合成石英ガラス成形体を３０ｍｍ×３０ｍｍ×５０ｍｍの直方体に切り出し、６面全部を鏡面研磨後、真空紫外分光光度計で、波長が２４０ｎｍから１６０ｎｍまでの領域の光の透過率を測定した。この光の透過率を測定した方向に対して垂直な面に、低圧水銀ランプから放射される波長が１８４．９ｎｍと２５３．７ｎｍの連続光を、その面に対して一面に（照度ムラ２０％）照度にしてそれぞれ１５０μＷ／ｃｍ２と４８０μＷ／ｃｍ２、２週間照射し、その後再び照射前と同じ方向に透過率を測定した。　図１には、本実施例で用いた低圧水銀ランプの放射光分布を示す。また、図２には、低圧水銀ランプによる紫外線照射前後の前記合成石英ガラス成形体の５０ｍｍ厚さ方向における光透過率曲線を示す。
　図２に示される紫外線照射前の光透過率曲線（Ｉ）と紫外線照射後の光透過率曲線（ＩＩ）を比較すると、紫外光照射後の合成石英ガラス成形体は、紫外線照射前の合成石英ガラス成形体に見られた波長１９０ｎｍ付近における吸収が弱くなって、波長１９０付近の透過率が向上しており、特にＡｒＦエキシマレーザーの発振波長である１９３ｎｍでの透過率が向上している。
　【００１４】
例２
　前記例１で用いたものと同様の合成石英ガラス成形体から、３０ｍｍ×４０ｍｍ、厚さ１０ｍｍのサンプルを切り出し、厚さ方向に相対する２面を鏡面研磨し、この研磨面に垂直に実施例１と同様の低圧水銀ランプ光源の紫外線を１２０時間照射した。
　図３に、紫外線照射前後の合成石英ガラス成形体についての、真空紫外分光光度計によるサンプルの厚さ方向の透過率の測定結果を示す。図３に示される照射前の光透過率曲線（Ｉ）と照射後の光透過率曲線を比較すると、紫外線照射によって、合成石英ガラス成形体の波長１９０ｎｍ付近の透過率が向上していることがわかる。
　【００１５】
　【比較例１】
　前記例１と同様の３０ｍｍ×３０ｍｍ×５０ｍｍの合成石英ガラス成形体に、波長３００ｎｍ以上に分光分布をもつランプの紫外線を１６０時間照射した。図４に、本比較例で用いたランプの放射光の分光分布を示す。図５に、紫外線照射前後の合成石英ガラス成形体について、真空紫外分光光度計で測定した光透過率曲線を示す。図５において、紫外線照射前の光透過曲線（Ｉ）と紫外線照射後の光透過曲線（ＩＩ）は重なっており、波長３００ｎｍ以上の紫外線照射によって、合成石英ガラス成形体は、波長１９０ｎｍ付近の光透過率に全く変化が見られないことを示している。
　【００１６】
　【比較例２】
　前記例１と同様の３０ｍｍ×３０ｍｍ×５０ｍｍの合成石英ガラス成形体に、低圧水銀ランプから放射される波長が１８４．９ｎｍと２５３．７ｎｍの連続光を、照射面において照度にしてそれぞれ０．３μＷ／ｃｍ２と０．８μＷ／ｃｍ２、２週間照射した。この照射前後の合成石英ガラス成形体について、真空紫外分光光度計で測定した光透過率曲線は、図５同様であり、波長１９０ｎｍ付近の透過率に全く変化が見られなかった。
　【００１７】
　【発明の効果】
　本発明は、ＡｒＦエキシマレーザーに対して透過率が低いＡｒＦエキシマレーザー光学部材用合成石英ガラス成形体のレーザーの光透過面全域に、
低圧水銀ランプから放射される１８４．９ｎｍ及び２５３．７ｎｍの波長の発光線の連続光
　しかも、本発明は、ＡｒＦエキシマレーザーに対する透過率不良を、合成石英ガラス成形体に、
低圧水銀ランプから放射される１８４．９ｎｍ及び２５３．７ｎｍの波長の発光線の連続光
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　例１で用いた低圧水銀ランプの放射光の分布曲線を示す図である。
　【図２】
　例１の低圧水銀ランプによる紫外線の照射前と照射後における合成石英ガラス成形体について、厚さ５０ｍｍのサンプルの厚さ方向の、真空紫外分光光度計により測定した光透過率曲線を示す図である。
　【図３】
　例２の低圧水銀ランプによる紫外線の照射前と照射後における合成石英ガラス成形体について、厚さ１０ｍｍのサンプルの厚さ方向の、真空紫外分光光度計により測定した光透過率曲線を示す図である。
　【図４】
　比較例１で用いたランプの放射光の分光分布曲線を示す図である。
　【図５】
　比較例１のランプによる紫外線の照射前と照射後における合成石英ガラス成形体について、厚さ５０ｍｍのサンプルの厚さ方向の、真空紫外分光光度計により測定した光透過率曲線を示す図である。
　【符号の説明】
　Ｉ　紫外線照射前の光透過率曲線
　ＩＩ　紫外線照射後の光透過率曲線