(57)【要約】  本発明は、例えば、リソグラフィシステムが配置される室内の部分のような、基礎上に配置されるリソグラフィシステムのような除振を必要とするシステム、及び、基礎上にリソグラフィシステムを配置する方法に関する。リソグラフィシステムは、剛性の、即ちソリッドベースプレート（１１０）の上部に配置され、ベースプレートは、基礎上にリソグラフィシステムを配置するためにこのベースプレートに取着された少なくとも１つの支柱（１５０）を有し、少なくとも１つの支柱は、基礎に面するベースプレートの側に配置され、ベースプレートには、リソグラフィシステムの真空チャンバの下側に機器（３３０）を装着するためのカットアウト、即ち開口が設けられている。
2013543254.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
剛性又は固体のベースプレート上面上に配置されるリソグラフィシステムであって、
前記ベースプレートは、基礎上にリソグラフィシステムを配置するためにこのベースプレートに取着された少なくとも１つの支柱を有し、
前記少なくとも１つの支柱は、前記基礎に面する前記ベースプレートの側に配置され、
前記ベースプレートには、リソグラフィシステムの真空チャンバの下側に機器を装着するための切り欠き部又は開口部が設けられているリソグラフィシステム。
【請求項２】
前記機器は、カメラのような、リソグラフィシステムの測定機器を含む請求項１のリソグラフィシステム。
【請求項３】
このリソグラフィシステムは、ターゲット位置決め装置を有し、
前記機器は、リソグラフィシステムの前記ターゲット位置決め装置を駆動させるモータを有する請求項１又は２のリソグラフィシステム。
【請求項４】
前記機器は、前記ベースプレートを通って、好ましくは前記ベースプレートを超えて延びている請求項１ないし３のいずれか１のリソグラフィシステム。
【請求項５】
前記機器は、リソグラフィシステムから、前記基礎に面する前記ベースプレートの側から所定の距離のところまで延び、
前記距離は、前記基礎に面する前記ベースプレートの側から延びている前記支柱の長さにほぼ等しい請求項１ないし３のいずれか１のリソグラフィシステム。
【請求項６】
このリソグラフィシステムは、真空チャンバを有し、
リソグラフィシステムに面する前記機器の一側面は、前記真空チャンバの内部に配置されている請求項１ないし５のいずれか１のリソグラフィシステム。
【請求項７】
中心線、即ち光軸を有する投影カラムをさらに有し、
前記測定システムは、前記投影カラムの中心線、即ち光軸とほぼアライメントされて配置されている請求項２に従属する請求項３ないし６のいずれか１のリソグラフィシステム。
【請求項８】
前記ベースプレート及び前記支柱は、アルミニウムでできており、好ましくは、前記ベースプレート及び前記支柱は、一体部品として形成されている請求項１ないし７のいずれか１のリソグラフィシステム。
【請求項９】
前記ベースプレートと前記支柱との少なくとも一方がモノリシック構造を形成している請求項１ないし８のいずれか１のリソグラフィシステム。
【請求項１０】
前記ベースプレートは、自己保持ベースプレートである請求項１ないし９のいずれか１のリソグラフィシステム。
【請求項１１】
前記ベースプレートは、前記基礎に着脱可能に配置されている請求項１ないし１０のいずれか１のリソグラフィシステム。
【請求項１２】
前記ベースプレートには、３つの支柱が設けられている請求項１ないし１１のいずれか１のリソグラフィシステム。
【請求項１３】
前記支柱は、樹脂材料によって前記基礎に剛結されている請求項１ないし１２のいずれか１のリソグラフィシステム。
【請求項１４】
前記樹脂材料は、硬化中、低収縮又は実質的な無収縮硬化樹脂材料であることを特徴とする請求項１３のリソグラフィシステム。
【請求項１５】
前記収縮は、１パーセント未満であることを特徴とする請求項１４のリソグラフィシステム。
【請求項１６】
前記硬化樹脂材料は、実質的な無収縮エポキシ樹脂を含むことを特徴とする請求項１４のリソグラフィシステム。
【請求項１７】
前記エポキシ樹脂は、実質的に溶剤のない、又は最小量の溶剤を含むことを特徴とする請求項１６のリソグラフィシステム。
【請求項１８】
前記硬化樹脂材料は、接着剤であることを特徴とする請求項１４のリソグラフィシステム。
【請求項１９】
請求項１ないし１８のいずれか１のリソグラフィシステムで使用するベースプレート。
【請求項２０】
除振リソグラフィシステムを支持するためのベースプレートであって、
このベースプレートは、使用時、基礎に面している底面を有し、
前記底面には、支柱が設けられているか、前記底面は、少なくとも、ねじ又はボルトによって支柱を受けるように用意され、
前記支柱は、コンクリートの基礎ブロックのような基礎上に前記ベースプレートを配置するために配置されているベースプレート。
【請求項２１】
前記支柱及び前記ベースプレートは、一体として形成されている請求項２０のベースプレート。
【請求項２２】
前記支柱は、ねじ又はボルトによって前記ベースプレートに着脱可能に接続されている請求項２０のベースプレート。
【請求項２３】
前記ベースプレートは、使用時、リソグラフィシステムに面している上面を有し、
前記上面は、少なくとも１つの装着部材を有するか、少なくとも、前記上面に取着された少なくとも１つの装着部材を有するように用意されている請求項２０ないし２２のいずれか１のベースプレート。
【請求項２４】
前記リソグラフィシステムは、底壁を有する真空チャンバを有し、
前記ベースプレートは、少なくとも、前記真空チャンバの前記底壁の一部である請求項２０ないし２３のいずれか１のベースプレート。
【請求項２５】
前記リソグラフィシステムは、底壁を有する真空チャンバを有し、
前記ベースプレートは、前記真空チャンバの前記底壁である請求項２０ないし２３のいずれか１のベースプレート。
【請求項２６】
前記装着部材の少なくとも１つは、前記支柱の少なくとも１つと少なくとも部分的に直線状に配置されている請求項２３のベースプレート。
【請求項２７】
前記支柱の少なくとも１つには、前記ベースプレートから離れて面する側にアンカー部材が設けられている請求項２０ないし２６のいずれか１のベースプレート。
【請求項２８】
前記プレートには、前記支柱のいくつかと装着部材との少なくとも一方を前記ベースプレートに接続するために、その中に固定可能に受けられるねじ挿入部を有するボアが設けられている請求項２０ないし２７のいずれか１のベースプレート。
【請求項２９】
このベースプレートは、モノリシックスラブである請求項２０ないし２８のいずれか１のベースプレート。
【請求項３０】
前記スラブは、花崗岩又はアルミニウムでできている請求項２９のベースプレート。
【請求項３１】
基礎上に、リソグラフィシステムのような、除振を必要とするシステムを配置する方法であって、
それに取着された少なくとも１つの支柱を有し、前記少なくとも１つの支柱は、基礎に面する前記ベースプレートの側に取着されている自己保持硬質ベースプレートを与える工程と、
前記基礎上にその支柱を備えた前記ベースプレートを配置する工程と、
前記ベースプレートと前記基礎との間の距離を調節するために高さ調節手段を与える工程と、
前記ベースプレートの所望の高さ調節を得るために、前記ベースプレートと前記基礎との間の距離を調節する工程と、
前記支柱と前記基礎との間に硬化樹脂材料を与える工程と、
前記基礎と前記支柱との間に剛結を与えるために前記樹脂材料を硬化させる工程と、
前記ベースプレートの上面に前記システムを配置する工程と、を具備する方法。
【請求項３２】
前記高さ調節手段を取り外す工程をさらに具備する請求項３１の方法。
【請求項３３】
前記ベースプレートのための基礎領域を囲んでいるリムを前記基礎上に与える工程と、
硬化樹脂材料のプールとして前記基礎領域に前記硬化樹脂材料を与えて、前記少なくとも１つの支柱が、硬化樹脂材料の前記プールと全て接触する工程とをさらに具備する請求項３１又は３２の方法。
【請求項３４】
前記支柱は、硬化樹脂材料の前記プールに少なくとも部分的に浸漬される請求項３３の方法。
【請求項３５】
前記硬化樹脂材料の硬化の後、リムを取り除く工程をさらに具備する請求項３３又は３４の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基礎上に配置されるリソグラフィシステムのような除振を必要とするシステムに関する。本発明は、さらに、基礎上に、リソグラフィシステムのような除振を必要とするシステムを配置する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィシステムでは、例えば、マイクロエレクトロニクスデバイス（例えば、集積回路）の製造では、正確さ及び精密さの要求が非常に高い。リソグラフィは、パターンの転写を含み、半導体ウェーハのような適切な基板の表面上に、マイクロエレクトロニクスデバイスの層を規定するために使用される。最新のリソグラフィシステムは、基板上に描画される又は描写されるようなパターン要素であるパターンを提供することが可能であり、基板上においてサブミクロン、例えば、１マイクロメートル未満の線幅を有している。このような高いレベルの性能の達成は、リソグラフィシステムの全てのパターン転写システム、位置決めシステム及び測定システムが、それらの性能の絶対限界で動作することを必要とする。このレベルの性能はまた、リソグラフィシステムの構成要素が正確に装着され、互いに対してほぼ固定位置にあることを必要とする。
【０００３】
１つのアプローチは、ハニカムタイプの装着プラットフォームのような、堅いサンドウィッチ状のベースプレートの上部にこのようなシステムの構成要素を装着することである。ハニカム構造は、通常、軽量で、高剛性防振面が必要とされる分野で使用される。ハニカムベースプレートの代表的な構造は、上部プレートと、上部プレートとの間に結合されたハニカム又はウェブ構造を備えた底部プレートとを有する。このような構造は、プラットフォームの上部プレートに垂直に加えられた圧縮負荷に晒されたとき、かなり堅いことが知られており、プレート間に剛性分離（rigid separation）を与える。しかし、このようなハニカムベースプレートは、非常に高価であり、設計上複雑であり、長い製造時間を必要とする。
【０００４】
他のアプローチは、厚い、花崗岩の実質的なモノリシックスラブに構成要素を装着することである。しかし、リソグラフィシステムを保持するための所望の剛性を得るために、このようなスラブは、比較的厚い、代表的には３００ｍｍよりも厚いことを必要とし、結果として、かなり重くなる。
【０００５】
ベースプレートの他の態様は、その寸法及びベースプレートの関連する体積である。リソグラフィシステム及びそれらのベースプレートは、通常、良好な状態の（それ故高価である）工場のホール（いわゆるファブスペース）に置かれるので、かなりの体積のベースプレートがこのようなファブスペースでかなりの体積を占領しがちである。
【発明の概要】
【０００６】
本発明の目的は、上述の欠点の１つ又はいくつかを少なくとも部分的に軽減させる、リソグラフィシステムのベース構造を提供することである。
【０００７】
第１の態様によれば、本発明は、剛性の、即ちソリッドベースプレートの上部に配置されるリソグラフィシステムであって、前記ベースプレートは、基礎上にリソグラフィシステムを配置するためにこのベースプレートに取着された少なくとも１つの支柱を有し、前記少なくとも１つの支柱は、前記基礎に面する前記ベースプレートの側に配置され、前記ベースプレートには、リソグラフィシステムの真空チャンバの下側に機器を装着するためのカットアウト、即ち開口が設けられているリソグラフィシステムを提供する。
【０００８】
このようなベースプレートの効果は、その開口に（即ち、言い換えれば、そのカットアウトに）、リソグラフィシステムの機器が少なくとも部分的に設けられることができ、他の装置又は部品のためにシステムの残りの部分に利用可能なスペースを残すことができるということである。このようにして、リソグラフィシステムの全体積が減少されることができ、かくして、ファブスペースにおけるスペースを節約することができる。
【０００９】
一実施の形態では、前記機器は、カメラのような、リソグラフィシステムの測定機器を含む。
【００１０】
一実施の形態では、リソグラフィシステムは、ターゲット位置決め装置を有し、前記機器は、リソグラフィシステムの前記ターゲット位置決め装置を駆動させるモータを有する。
【００１１】
一実施の形態では、前記機器は、前記ベースプレートを通って、好ましくはベースプレートを超えて延びている。一実施の形態では、前記機器は、リソグラフィシステムから、前記基礎に面する前記ベースプレートの側から所定の距離のところまで延び、前記距離は、前記基礎に面する前記ベースプレートの側から延びている前記支柱の長さにほぼ等しい。通常、スペースは、ベースプレートと床との間に設けられ、スペースの高さは、支柱の高さによって実質的に規定される。このスペースは、通常、リソグラフィシステムのいかなる部分によっても使用されない。本発明のこの実施の形態によれば、このスペースは、ベースプレートから（好ましくはベースプレートを通って）延びているいかなる装置によっても使用されることができる。
【００１２】
一実施の形態では、リソグラフィシステムは、真空チャンバを有し、リソグラフィシステムに面する前記機器の一側面は、前記真空チャンバの内部に配置されている。
【００１３】
一実施の形態では、リソグラフィシステムは、さらに、中心線、即ち光軸を有する投影カラムを有し、機器、特に測定システムは、前記投影カラムの中心線、即ち光軸とほぼアライメントされて配置されている。機器、特にカメラは、リソグラフィシステムのパターニングビーム（パターニングビームは光ビーム又は電子ビームのような荷電粒子ビームである）の特性を研究するために使用されることができる（パターニングビームは光ビーム又は電子ビームのような荷電粒子ビームである）ので、投影カラムの中心線、即ち光軸とカメラとをアライメントするのが効果的であり、投影カラムは、ウェーハのようなターゲット上にパターニングビームを投影する。
【００１４】
一実施の形態では、前記ベースプレート及び前記支柱は、アルミニウムでできており、好ましくは、前記ベースプレート及び前記支柱は、一体部品として形成されている。この実施の形態の効果は、ベースプレート上に支柱を配置するときに位置決め誤差を防ぐという点である。
【００１５】
一実施の形態では、前記ベースプレートと前記支柱との少なくとも一方がモノリシック構造を形成している。
【００１６】
一実施の形態では、前記ベースプレートは、花崗岩のプレート又はアルミニウムのプレートである。
【００１７】
一実施の形態では、前記ベースプレートには、前記ベースプレート上にリソグラフィシステムを装着するために上面に装着部材が設けられている。一実施の形態では、少なくとも１つの支柱が、１つの装着部材の下に配置されている。
【００１８】
一実施の形態では、前記ベースプレートは、自己保持ベースプレートである。
【００１９】
一実施の形態では、前記ベースプレートは、前記基礎と前記支柱との少なくとも一方に着脱可能に配置されている。
【００２０】
一実施の形態では、前記ベースプレートには、３つの支柱が設けられている。
【００２１】
一実施の形態では、前記支柱は、樹脂材料によって前記基礎に剛結（rigidly connect）されている。
【００２２】
一実施の形態では、前記少なくとも１つの支柱は、硬化された樹脂材料に少なくとも部分的に覆われている。
【００２３】
一実施の形態では、硬化中、低収縮又は実質的な無収縮硬化樹脂材料である。
【００２４】
一実施の形態では、前記硬化樹脂材料は、実質的な無収縮エポキシ樹脂を含む。
【００２５】
一実施の形態では、前記エポキシ樹脂は、実質的に溶剤のない、又は最小量の溶剤を含む。
【００２６】
一実施の形態では、前記硬化樹脂材料は、接着剤である。
【００２７】
一実施の形態では、前記基礎は、基礎プレートを含む。一実施の形態では、前記基礎プレートは、コンクリートの基礎プレートである。
【００２８】
第２の態様によれば、本発明は、基礎上に配置されるリソグラフィシステムを提供し、前記基礎には、それに取着された少なくとも１つの支柱を有する自己保持ベースプレートが設けられ、前記少なくとも１つの支柱は、前記基礎に面する前記ベースプレートの側に取着され、前記少なくとも１つの支柱は、樹脂材料によって前記基礎に剛結され、前記リソグラフィシステムは、前記ベースプレートの上面に配置されている。
【００２９】
第３の態様によれば、本発明は、上述のようなリソグラフィシステムで使用するためのベースプレートを提供する。
【００３０】
第４の態様によれば、本発明は、除振リソグラフィシステムを支持するためのベースプレートを提供し、前記ベースプレートは、使用時、基礎に面している底面を有し、前記底面には、支柱が設けられるか、前記底面は、少なくとも、ねじ又はボルトによって支柱を受けるように用意され、前記支柱は、コンクリートの基礎ブロックのような基礎上に前記ベースプレートを配置するために配置されている。
【００３１】
一実施の形態では、前記支柱及び前記ベースプレートは、一体として形成されている。代わって、一実施の形態では、前記支柱は、ねじ又はボルトによって前記ベースプレートに着脱可能に接続されている。
【００３２】
一実施の形態では、前記ベースプレートは、使用時、リソグラフィシステムに面している上面を有し、前記上面は、少なくとも１つの装着部材を有するか、少なくとも、前記上面に取着された少なくとも１つの装着部材を有するように用意されている。
【００３３】
一実施の形態では、前記リソグラフィシステムは、底壁を有する真空チャンバを有し、前記ベースプレートは、少なくとも、前記真空チャンバの前記底壁の一部である。一実施の形態では、リソグラフィシステムは、底壁を有する真空チャンバを有し、前記ベースプレートは、前記真空チャンバの前記底壁である。
【００３４】
一実施の形態では、前記支柱は、基礎に前記ベースプレートを剛結している。本発明のベースプレートは、除振を必要とするシステムを支持するために十分な剛性に達するためにかなり薄く保たれることができる。このような薄いベースプレートの効果は、材料及び輸送コストとは別に、素早く製造することができより簡単に搬送されることができるということである。概して、必要とされる物流の用意が複雑ではなくなり、例えば、搬送手段の選択肢がかなり広がり、また、このようなベースプレートを製造することが可能な場所の選択肢も広がる。
【００３５】
一実施の形態では、前記支柱は、前記ベースプレートに着脱可能に接続されている。この実施の形態では、ベースプレートは、所望であれば、より簡単に、費用対効果の高いように置き換えられることができ、例えば、システムをアップグレードすることができる。また、基礎システムの比較的小さな材料の部分のみが、このようなアップグレードをなされる必要がある。
【００３６】
着脱可能な支柱のさらなる効果は、ベースプレートが用意されるか搬送されるかの少なくとも一方の間、基礎が用意されることができるか支柱が基礎に接続されることができるかの少なくとも一方であるということである。基礎を用意するために、軽量のベースプレート、例えば、オリジナルのベースプレートよりも、ハニカム補剛割付プレートが使用される。基礎への支柱の装着は、ベースプレートの存在なしで構築されることができる。到着したとき、ベースプレートは、すぐに、基礎に固定された支柱に位置決めされることができる。
【００３７】
一実施の形態では、前記ベースプレートは、自己保持ベースプレートである。
【００３８】
一実施の形態では、前記ベースプレートは、使用時、システムに面している上面を有し、前記上面は、少なくとも１つの装着部材を有するか、前記上面に取着された少なくとも１つの装着部材を有するように用意され、前記装着部材は、前記ベースプレートと前記システムとの間に接続可能である。前記ベースプレートには、前記ベースプレート上に、リソグラフィシステムのようなシステムを装着するために、上面に装着部材が設けられる。
【００３９】
一実施の形態では、前記装着部材の少なくとも１つは、前記支柱の少なくとも１つと少なくとも部分的に直線状に配置されている。一実施の形態では、前記支柱の少なくとも１つは、１つの装着部材の下に配置されている。
【００４０】
一実施の形態では、前記支柱の少なくとも１つには、前記ベースプレートから離れて面する側にアンカー部材が設けられている。
【００４１】
一実施の形態では、前記プレートには、前記支柱のいくつかを接続するためのその中に固定可能に受けられるねじ挿入部と前記ベースプレートへの挿入部材との少なくとも一方を有するボアが設けられている。
【００４２】
一実施の形態では、前記ベースプレートは、花崗岩のプレートを有する。
【００４３】
第５の態様によれば、本発明は、基礎上に、リソグラフィシステムのような除振を必要とするシステムを配置する方法を提供し、この方法は、  
それに取着された少なくとも１つの支柱を有し、前記少なくとも１つの支柱は、基礎に面する前記ベースプレートの側に取着されている自己保持硬質ベースプレートを与える工程と、  
前記基礎にその支柱で前記ベースプレートを配置する工程と、  
前記ベースプレートと前記基礎との間の距離を調節するために高さ調節手段を与える工程と、  
前記ベースプレートの所望の測定を得るために、前記ベースプレートと前記基礎との間の距離を調節する工程と、  
前記支柱と前記基礎との間に硬化樹脂材料を与える工程と、  
前記基礎と前記支柱との間に剛結を与えるために前記樹脂材料を硬化させる工程と、  
前記ベースプレートの上面に前記システムを配置する工程とを具備する。
【００４４】
この方法を使用する際、ベース構造が与えられ、基礎が、所望の剛性を得るためにベースプレートの補強部分として使用される。基礎が高精細な環境でベースプレートに対して補強部分として使用されることができることを実現する際、本発明のベース構造の剛性のベースプレートは、自己保持であることのみ、言い換えれば、ベースプレートがそれ自身の重さの下で曲がらない十分な剛性を有することのみを必要とする。この特許出願では、基礎は、建物の最も低い負荷耐性部分、又はリソグラフィシステムが配置される室内で床の部分のような、リソグラフィシステムの負荷に耐えるための建物の負荷耐性部分である。
【００４５】
剛性のベースプレートは、それ自身、リソグラフィシステム全体を支持するのに十分な堅さであることを必要としないので、ベースプレートは、比較的シンプルなデザインであることができる。ベースプレートは、過度の（海外）輸送のコストなく、リソグラフィシステムの顧客によって注文され予め設置されることができる。
【００４６】
硬化樹脂材料が基礎と剛性のベースプレートの支柱との間に剛結を与えるために使用されるので、本発明の方法は、正確で強いようにして基礎の平らでざらざらした簡単な上面にベースプレートを固定することを可能にする。高さ調節手段は、平坦な水平面からの基礎の偏りを補正することができる。さらに、硬化樹脂材料が、支柱と基礎との間のスペースに充填され、剛性のベースプレート及びベースプレートに配置されたシステムを支持するために硬化された後、十分な強度を与える。
【００４７】
一実施の形態では、前記方法は、さらに、高さ調節手段を取り外す工程を含む。従って、高さ調節手段は、基礎上に剛性のベースプレートを配置する間、及び前記硬化樹脂材料によって前記基礎に前記ベースプレートの支柱を接続する間のみ必要とされる。硬化の後、高さ調節手段が取り外されることができる。高さ調節手段は、例えば、少なくとも１つの液圧リフトジャック、ねじジャック又はリフトねじを含む。
【００４８】
一実施の形態では、前記方法は、さらに、  
前記ベースプレートのための基礎領域を囲んでいるリムを前記基礎上に与える工程と、
硬化樹脂材料のプールとして前記基礎領域に前記硬化樹脂材料を与えて、前記少なくとも１つの支柱が、硬化樹脂材料の前記プールと接触し、好ましくは、全ての支柱が、前記硬化樹脂のプールと完全に接触する工程とを具備する。
【００４９】
硬化材料が硬化した後、硬化材料は、引き続き、実質的に、リム内の基礎領域を覆っている樹脂材料の上層である。樹脂材料のこのような上層は、大きな接着面を与え、従って、基礎によい接着を与える。
【００５０】
一実施の形態では、前記少なくとも１つの支柱は、硬化樹脂材料のプールに少なくとも部分的に浸漬されている。これは、支柱と樹脂材料の上面との間に機械的な結合を与える。
【００５１】
一実施の形態では、前記硬化樹脂材料は、接着剤である。これは、支柱と樹脂材料の上層との間に化学結合を与える。
【００５２】
好ましい一実施の形態では、前記少なくとも１つの支柱は、接着剤のプールに少なくとも部分的に浸漬され、支柱と上層との間の機械的な結合と化学結合との両方を与える。
【００５３】
リムは、前記硬化樹脂の硬化の後に取り除かれることができるが、装飾用のリムを使用することが好ましい。装飾用のリムを使用することによって、リムを取り除く必要がなく、リムが硬化樹脂材料に固着する傾向にあるのでリムを取り除くのは難しい手順である。
【００５４】
一実施の形態では、前記硬化樹脂材料は、硬化中、低収縮又は実質的な無収縮材料である。一実施の形態では、前記収縮は、１％未満である。低収縮硬化樹脂材料を使用することによって、樹脂材料の硬化前、硬化中、及び硬化後、剛性のベースプレートと基礎との間の絶対位置を少なくとも実質的に維持する。さらに、低収縮樹脂材料の使用は、その硬化中、樹脂材料の内部のいかなる応力の構築をも実質的に防ぐ。
【００５５】
一実施の形態では、前記硬化樹脂材料は、実質的な無収縮エポキシ樹脂を含む。一実施の形態では、前記エポキシ樹脂は、実質的に溶剤のない、又は最小量の溶剤を含む。
【００５６】
一実施の形態では、少なくとも１つの支柱は、前記ベースプレートに着脱可能に接続されている。この実施の形態は、支柱がいったん基礎に接続されるか結合されるかすると、ベースプレートを交換することを可能にする。着脱可能な接続は、簡単で比較的高価でないアップグレードの容易さを与える。
【００５７】
ベースプレートの底面は、ほぼ平坦であることが好ましい。平坦な底面を備えたこのようなベースプレートは、他のベースプレートによって容易に交換されることができる。平好ましくは、ベースプレートの上面もまた、ほぼ平坦である。
【００５８】
一実施の形態では、基礎は、基礎プレート又はブロックを含む。一実施の形態では、基礎プレート又はブロックは、コンクリートの基礎プレート又はブロック、あるいは補強コンクリートの基礎プレート又はブロックである。このような基礎プレート又は基礎ブロックは、現場で製造されることができる。
【００５９】
一実施の形態では、前記ベースプレートは、花崗岩のプレートを含む。前記ベースプレートが自己保持である必要のみあるので、花崗岩のプレートは比較的薄いことができ、特に、１５０ｍｍ以下、好ましくは１００ｍｍ以下であることができる。このような比較的薄い花崗岩プレートが近くで、例えば、顧客の場所の近くで注文されることができ、過度の輸送コストなく基礎に予め設置されることができる。
【００６０】
一実施の形態では、前記ベースプレートには、前記ベースプレートにリソグラフィシステムを装着するために上面に装着部材が設けられる。インターフェース又はコネクタのような装着部材が、リソグラフィシステムの支持部材の位置に対応して前記ベースプレートに正確に位置決めされることができ、前記ベースプレート上への前記リソグラフィシステムの素早い設置を可能にする。
【００６１】
一実施の形態では、少なくとも１つの支柱が、１つの装着部材の下に、好ましくはその中心線の下に配置される。これは、前記基礎に少なくとも１つの支柱によって、前記装着部材によって保持されるようなリソグラフィシステムの重さの直接の伝達のために与える。
【００６２】
第６の態様によれば、本発明は、リソグラフィシステムのような、除振を必要とするシステムを支持するための上述のベースプレートの使用に関する。このような除振を必要とするシステムの他の例は、電子顕微鏡又は原子力顕微鏡のような顕微鏡システムである。
【００６３】
明細書中で述べられ示されるさまざまな態様及び特徴部分が、夫々、可能なところに適用されることができる。これらの夫々の態様は、特に、添付の従属請求項に規定される態様及び特徴部分は、分割特許出願の対象となることができる。
【００６４】
本発明は、添付図面に示される例示的な実施の形態に基づいて説明される。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】図１は、本発明の硬質ベースプレートの概略図である。
【図２】図２は、基礎上に、特に床領域に、リソグラフィシステムを配置する方法の第１の例の工程の一連の概略図である。
【図３】図３は、基礎上に、特に床領域に、リソグラフィシステムを配置する方法の第１の例の工程の一連の概略図である。
【図４】図４は、基礎上に、特に床領域に、リソグラフィシステムを配置する方法の第１の例の工程の一連の概略図である。
【図５】図５は、基礎上に、特に床領域に、リソグラフィシステムを配置する方法の第１の例の工程の一連の概略図である。
【図６】図６は、基礎上に、特に基礎ブロックに、リソグラフィシステムを配置する方法の第２の例の工程の一連の概略図である。
【図７】図７は、基礎上に、特に基礎ブロックに、リソグラフィシステムを配置する方法の第２の例の工程の一連の概略図である。
【図８】図８は、基礎上に、特に基礎ブロックに、リソグラフィシステムを配置する方法の第２の例の工程の一連の概略図である。
【図９】図９は、本発明の一実施の形態に係るリソグラフィシステムの概略的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００６６】
図１は、基礎上にリソグラフィシステムを配置するための自己保持硬質ベースプレート１を示す図である。ベースプレート１は、例えば、比較的薄いハニカムタイプの装着プラットフォームを有することができる。しかし、好ましくは、ベースプレート１は、花崗岩の比較的薄いモノリシックプレートである。ベースプレート１には、使用時、基礎に面する、ベースプレート１の底面２に取着された８つの支柱５が設けられている。
【００６７】
支柱５は、ねじ又はボルトによって底面２に着脱可能に取着されている。各支柱５は、ほぼ平らな側壁を有するほぼ正方形のシリンダを有し、例えば、高さ１０ｃｍである。支柱５は、強度があり剛性の支柱を与えるために、型抜き又はモールド成形された壁材料を使用して製造されている。各支柱５の上端及び下端には、フランジ６が設けられている。フランジ６は、支柱５の側壁の外側を超えて約５ｃｍ延びている。上端（図示されない）のところのフランジと下端のところのフランジ６との間に、補強リブ７が設けられている。補強リブ７は、例えば、溶接によって、上側フランジ及び下側フランジに、及び側壁の一方に剛結されている。使用時、リブ７は、上側フランジ６と下側フランジ６との間にほぼ垂直に延びている。
【００６８】
下側フランジ６は、以下でより詳細に説明されるように、支柱５を基礎に接続するためのアンカー部材として使用される。
【００６９】
リソグラフィシステム又はその一部は、ベースプレート１の上面３に直接装着されることができる。図１に示される実施の形態では、ベースプレート１の上面３には、ベースプレート１に、リソグラフィシステムを、特に、システムの真空チャンバを装着するために、装着部材４が設けられている。
【００７０】
図１に示されるように、装着部材４は、ベースプレート１の一部に設けられている。この部分にはまた、システムの真空チャンバの下側に、機器、特に、カメラのような測定機器を装着するためのスペースを与える開口、即ちカットアウト８が設けられている。従来のベースプレートでは、このようなカットアウト８は形成されることができなかった。なぜならば、ベースプレートの強度をかなり低下させるからである。本発明のベースプレート１では、基礎又は床は、ベースプレート１のための補強部分として使用され、カットアウト８は、基礎又は床に接続されたベースプレート１の堅さを実質的に低下させない。
【００７１】
基礎又は床の上にリソグラフィシステムの真空チャンバの重さを伝達するために、装着部材４の少なくとも１つが１つの支柱５の上に配置されている。
【００７２】
図１に示されるように、リソグラフィシステムの真空チャンバを装着するために装着部材４が設けられたベースプレート１の部分の下の支柱５は、他の支柱よりも大きい。この例では、１０の装着部材４が、４つの大きな支柱５の上に均等に配置されている。
【００７３】
図１に示されるように、ベースプレート１の第２の部分９には、装着部材４が設けられていない。この部分９は、ウェーハ処理機器及びアクチュエータを装着するために使用される。
【００７４】
リソグラフィシステムを設置する前に、上述のベースプレート１が、システムが設置されるべき位置に配置される。その支柱１５を備えたベースプレート１１が、基礎１０上に配置され、ベースプレートは囲み床３０から実質的に離れている。これは、基礎１０に達してベースプレート１１に伝達される床３０の振動を少なくとも部分的に止めることができる。
【００７５】
図２に示されるように、それに取着された少なくとも１つの支柱１５を有する自己保持硬質ベースプレート１１が設けられている。支柱１５の上端には、基礎１０に面しているベースプレート１１の平坦な底面１２に取着された上側フランジ１８が設けられている。支柱１５の下端には、アンカー部材として機能する下側フランジ１６が設けられている。図２に示されるように、ベースプレート１１は、その支柱１５によって基礎１０上に配置される。さらに、上面１３は、装着部材１４を有する。
【００７６】
続いて、ベースプレート１１と基礎１０との間の距離を調節するために、高さ調節手段１７が、特に、ねじジャッキ又はリフトねじが設けられている。図３に示されるように、高さ調節手段１７は、ブロック１９の上部に配置されている。高さ調節手段１７は、ベースプレート１１の所望の高さ調節を得るために、ベースプレート１１と基礎１０との間の距離を調節するために使用される。
【００７７】
一方、硬化樹脂材料２１が、局所的に与えられることができ、即ち、支柱１５のアンカー部材に、又は近くにのみある。
【００７８】
他方、硬化樹脂材料２１は、ベースプレート１１のところで、又は近くで基礎領域を覆うために与えられることができる。このオプションは、図４における例で選択されている。硬化樹脂材料２１を与える前に、リム２０が、基礎１０の上に配置され、リム２０は、ベースプレート１１のための領域を囲んでいる。続いて、硬化樹脂材料２１は、硬化樹脂材料のプールとして基礎領域上に設けられ、全ての支柱１５のアンカー部材１６は、硬化樹脂材料２１のプールと全体的に接触する。硬化樹脂材料２１は、フィラーあり又はなしで、２成分エポキシ樹脂（プロコル社からのＲｏｃａｐｏｘ  ＥＰ（商標））のような、実質的な無収縮エポキシ樹脂を含む。この材料は、硬化中、低収縮又は実質的な無収縮であり、特に、１パーセント未満の収縮である。
【００７９】
図４に示されるように、硬化樹脂材料２１はまた、支柱１５のアンカー部材１６と基礎１０との間に設けられている。全ての支柱１５のアンカー部材１６は、硬化樹脂材料２１のプールと完全に接触している。樹脂材料２１が固まった、即ち硬化した後、床１０と支柱１５との間に剛結を与える。
【００８０】
また、高さ調節手段１７が取り外されることができ、基礎１０上に取着されたベースプレート１１が、図５に概略的に示されるように、リソグラフィシステム２２を受ける用意ができている。
【００８１】
第２の例では、図６に示されるように、剛性の床３０が設けられている。ベースプレート３１は、床３０の上に直接配置されることができる。
【００８２】
さらに、図６に示されるように、高さ調節手段は、少なくとも１つの梁３９を有し、梁は、ベースプレート３１の下側に達する。各梁３９は、ベースプレート３１と床３０との間の距離を調節するために２つの液圧ジャック３７に置かれる。図６に示されるように、液圧ジャック３７は、図７に示されるように、硬化樹脂材料４０によって覆われることが意図された床領域の外側に、ベースプレート３１から所定の距離のところに配置されている。液圧ジャック３７は、ベースプレート３１の所望の高さ調節を得るために、ベースプレート３１と床３０との間の距離を調節するために使用される。好ましくは、液圧ジャック３７には、高さ調節の後ベースプレート３１の位置を固定するために、機械的なロック部材又は保持部材が設けられている。
【００８３】
硬化樹脂材料４１を与える前に、リム４０が、床３０上に配置され、リム４０は、ベースプレート３１のための床領域を囲んでいる。続いて、硬化樹脂材料４１が、硬化樹脂材料のプールとして床領域に与えられ、支柱３５のアンカー部材として機能するフランジ３６が、全て、ほぼ完全に、硬化樹脂材料４１のプールと接触する。硬化樹脂材料２１は、実質的に溶剤のない、又は最小量の溶剤を含む実質的な無収縮エポキシ樹脂、例えば、プロコル社からのＲｏｃａｐｏｘ  ＥＰ（商標）を含む。代わって、実質的な無収縮接着剤が使用されることができる。
【００８４】
図７に示されるように、硬化樹脂材料４１がまた、全ての支柱３５のアンカー部材３６と床３０との間に与えられる。樹脂材料４１が固まった、即ち硬化した後、床３０と支柱３５との間に剛結を与える。
【００８５】
また、高さ調節手段３７、３９及びリム４０は、取り外されることができ、床３０に取着されたベースプレート１１が、図８に概略的に示されるように、リソグラフィシステム３２を受けるために用意される。リソグラフィシステム３２は、図１のベースプレート１と同様に、ベースプレート３１のカットアウト８に配置されたカメラ３３が設けられたその底面にある。
【００８６】
かくして、図５並びに図８は、床３０又は基礎１０に配置されたリソグラフィシステム２２、３２を示す図である。床３０又は基礎１０には、それに取着された少なくとも１つの支柱１５、３５を有する自己保持硬質ベースプレート１１、３１が設けられ、少なくとも１つの支柱１５、３５が、床３０又は基礎１０に面しているベースプレート１１、３１の側に取着され、少なくとも１つの支柱１５、３５には、ベースプレート１１、３１から離れて面している側にアンカー部材が設けられ、アンカー部材は、硬化樹脂材料２１、４１によって床３０又は基礎１０に剛結され、リソグラフィシステム２２、３２は、ベースプレート１１、３１の上面に配置されている。
【００８７】
図９は、本発明の一実施の形態に係るリソグラフィシステムの概略的な横断面を示す図である。この実施の形態では、ベースプレート１１０は、好ましくは、アルミニウムのような金属の厚く剛性のブロックでできている。ベースプレート１１０の厚さは、２５〜３０ｃｍの範囲にあることができる。
【００８８】
ベースプレートには、基礎１００上にシステムを支持するために支柱１５０（好ましくは３つの支柱）が設けられることができる。支柱１５０は、ベースプレート１１０の一体部分として形成されることができ、金属のベースプレートは、支柱１５０を形成するために１つのプロセスで機械加工されることができ、高い正確さで金属のブロックから１つのプロセスで他の構成要素に（例えば、装着部材１４に）連結する。
【００８９】
支柱１５０は、３つ又はそれ以上の側面及びピラミッドの頂点のところで平坦な部分を備えた逆さピラミッドの形態を取ることができ、各支柱１５０は、図９に示されるように基礎１００上に置かれる。
【００９０】
リソグラフィシステムには、荷電粒子光学カラムが設けられることができ、これは、図９に部分的に示される。光学カラムは、リソグラフィシステムにおいて、ウェーハのような、ターゲットに１つ又は複数のパターニングビームを投影するために配置される。
【００９１】
図９に示される実施の形態では、リソグラフィシステムは、  
荷電粒子ビーム源１０１及びビームコリメートシステム１０２を有する照射光学モジュール２０１と、  
アパーチャアレイ１０３及びコンデンサレンズアレイ１０４を有するアパーチャアレイ及びコンデンサレンズモジュール２０２と、  
ビームレットブランカアレイ１０５を有するビームスイッチングモジュール２０３と、
ビーム停止アレイ、ビーム偏向器アレイ及び投影レンズアレイを有する投影光学モジュール２０４とを有する。
【００９２】
図９に示されるように、これらモジュールは、側壁４００によって境界を定められた真空チャンバの内部に配置されたフレーム２０５中に配置されている。図９の実施の形態では、ベースプレート１１０は、真空チャンバの底壁として機能する。
【００９３】
投影光学モジュールの下に、通常、キャリアを保持するステージ又はステージアセンブリが配置され、キャリアは、使用時、ターゲットを支持する。ステージ又はステージアセンブリは、投影光学モジュールに対してキャリアを動かすことができる。キャリア（図示されない）は、ウェーハテーブルと、チャックと、短ストロークステージとを有することができる。
【００９４】
図９には、ステージの一部のみが示される。図９は、第１の方向（Ｘ）に沿ってキャリア（図示されない）を保持し動かすための長ストロークステージを示す図である。長ストロークステージは、ベースプレート１１０の上部に配置された２つのＸ−ステージキャリッジ４０１、４０２の両方を有し、各Ｘ−ステージベースがＸステージキャリッジを保持する。ベースプレート１１０には、２つの開口、即ちカットアウトが設けられ、これら開口に２つのモータＭ１、Ｍ２の一方が配置され、これらモータの各々が、対応するＸ−ステージキャリッジ４０１、４０２を駆動させる。ベースプレート１１０の開口に２つのモータＭ１、Ｍ２を配置することは、真空チャンバの部分的に外側かつ下に、クリーンルームのような、工場のホールでほとんどスペースを占領しないコンパクトなデザインを提供する。
【００９５】
図９では、キャリア（図示されない）は、実際には、パターニングビームが測定機器３３０、特にカメラに達することを可能にするために、システムの後方に移動される。
【００９６】
ベースプレート１１０には、開口、即ちカットアウトが設けられ、この開口にカメラ３３０が設けられる。カメラは、ベースプレート１１０を通って延びている。カメラはまた、基礎１００の方向と光学カラムの方向との両方に、ベースプレートから延びている。カメラは、パターニングビーム又はビームを測定と研究との少なくとも一方をするために、光学カラムと、特に、その中心線、即ち光軸Ｈとアライメントされている。
【００９７】
リソグラフィシステムの内部から、特に、真空チャンバの内部から、カメラ３３０にアクセスを与えることが効果的である。もしそうでなければ、リソグラフィシステムは、それを使えるようにするためにカメラにアクセスするために、そのベースプレート１１０とその基礎１００との少なくとも一方から取り外される必要がある。他の解決策は、ベースプレート１１０と基礎１００との間に余分なスペースを形成し、これにより、カメラ３３０がこの余分なスペースを通じてアクセスされることができるというものである。しかし、ベースプレート１１０と基礎１００との間に余分なスペースを形成することは、ファブスペースに占めるリソグラフィシステムの体積を増加させるという欠点を有する。
【００９８】
リソグラフィシステムには、真空チャンバが設けられることができ、真空チャンバ中で、光学カラムには、同様に、ターゲットが設けられることができる。一実施の形態では、ベースプレート１１０は、真空チャンバの一部を形成する。
【００９９】
リソグラフィの他の部分はまた、カメラ３３０又はモータＭ１、Ｍ２の代わりにベースプレート１１０の開口、即ちカットアウトに（即ち、ベースプレートの他の開口、即ちカットアウトに）設けられることができ、これは、ファブスペースの内部でリソグラフィシステムの体積を最小にする効果を有する。
【０１００】
リソグラフィシステムを動作させるとき、パターニングビームは、まず、カメラ３３０を使用して、測定と研究との少なくとも一方（又は特に、較正）がなされる。この間、キャリア及びターゲットは、（図９に示されるような）パターニングビームに位置決めされず、パターニングビームは、カメラ３３０によって受光される。パターニングビームの較正の後、ウェーハのようなターゲットを備えたキャリアは、パターニングビームで投影レンズ２０４とカメラ３３０との間に動かされ、カメラ３３０は、パターニングビームをもう受光しない。続いて、キャリアの上部にあるターゲットが、パターニングビームを使用して処理される。
【０１０１】
要約すると、本発明は、基礎上に、例えば、リソグラフィシステムが配置される室内の床の一部の上に配置される、リソグラフィシステムのような、除振を必要とするシステム、及び、基礎上にリソグラフィシステムを配置する方法に関する。リソグラフィシステムは、剛性の、即ちソリッドベースプレートの上部に配置され、前記ベースプレートは、基礎上にリソグラフィシステムを配置するためにこのベースプレートに取着された少なくとも１つの支柱を有し、前記少なくとも１つの支柱は、前記基礎に面する前記ベースプレートの側に配置され、前記ベースプレートには、リソグラフィシステムの真空チャンバの下側に機器を装着するためのカットアウト、即ち開口が設けられている。
【０１０２】
一実施の形態では、前記少なくとも１つの支柱は、硬化樹脂材料によって基礎に剛結されている。これは、ベース構造を与え、このベース構造では、基礎は、所望の剛性を得るために、ベースプレートの補強部分として使用される。リソグラフィシステムは、ベースプレートの上部に配置される。
【０１０３】
上述の説明は、好ましい実施の形態の動作を示して説明したものであり、本発明の範囲を限定することを意図するものではないことが理解される。上述の議論から、多くの変形例が本発明の意図及び範囲によって包含されることは当業者にとって明らかである。
【図１】
2013543254.tif 000003
【図２】
2013543254.tif 000004
【図３】
2013543254.tif 000005
【図４】
2013543254.tif 000006
【図５】
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【図６】
2013543254.tif 000008
【図７】
2013543254.tif 000009
【図８】
2013543254.tif 000010
【図９】
2013543254.tif 000011
【手続補正書】
【提出日】平成25年5月22日(2013.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
剛性又は固体のベースプレート上面上に配置されるリソグラフィシステムであって、
前記ベースプレートは、基礎上にリソグラフィシステムを配置するためにこのベースプレートに取着された少なくとも１つの支柱を有し、
前記少なくとも１つの支柱は、前記基礎に面する前記ベースプレートの側に配置され、
前記支柱は、前記ベースプレートを前記基礎に剛結し、
前記ベースプレートには、リソグラフィシステムの真空チャンバの下側に機器を装着するための切り欠き部又は開口部が設けられているリソグラフィシステム。
【請求項２】
前記機器は、カメラのような、リソグラフィシステムの測定機器を含む請求項１のリソグラフィシステム。
【請求項３】
このリソグラフィシステムは、ターゲット位置決め装置を有し、
前記機器は、リソグラフィシステムの前記ターゲット位置決め装置を駆動させるモータを有する請求項１又は２のリソグラフィシステム。
【請求項４】
前記機器は、前記ベースプレートを通って、好ましくは前記ベースプレートを超えて延びている請求項１ないし３のいずれか１のリソグラフィシステム。
【請求項５】
前記機器は、リソグラフィシステムから、前記基礎に面する前記ベースプレートの側から所定の距離のところまで延び、
前記距離は、前記基礎に面する前記ベースプレートの側から延びている前記支柱の長さにほぼ等しい請求項１ないし３のいずれか１のリソグラフィシステム。
【請求項６】
このリソグラフィシステムは、真空チャンバを有し、
リソグラフィシステムに面する前記機器の一側面は、前記真空チャンバの内部に配置されている請求項１ないし５のいずれか１のリソグラフィシステム。
【請求項７】
中心線、即ち光軸を有する投影カラムをさらに有し、
前記測定システムは、前記投影カラムの中心線、即ち光軸とほぼアライメントされて配置されている請求項２に従属する請求項３ないし６のいずれか１のリソグラフィシステム。
【請求項８】
前記ベースプレート及び前記支柱は、アルミニウムでできており、好ましくは、前記ベースプレート及び前記支柱は、一体部品として形成されている請求項１ないし７のいずれか１のリソグラフィシステム。
【請求項９】
前記ベースプレートと前記支柱との少なくとも一方がモノリシック構造を形成している請求項１ないし８のいずれか１のリソグラフィシステム。
【請求項１０】
前記支柱は、樹脂材料によって前記基礎に剛結されている請求項１ないし９のいずれか１のリソグラフィシステム。
【請求項１１】
前記樹脂材料は、硬化中、１％未満の、低収縮又は実質的な無収縮硬化樹脂材料であることを特徴とする請求項１０のリソグラフィシステム。
【請求項１２】
前記硬化樹脂材料は、実質的に溶剤のない、又は最小量の溶剤を含む、実質的な無収縮エポキシ樹脂を含むことを特徴とする請求項１１のリソグラフィシステム。
【請求項１３】
前記硬化樹脂材料は、接着剤であることを特徴とする請求項１１のリソグラフィシステム。
【請求項１４】
請求項１ないし１３のいずれか１のリソグラフィシステムで使用するベースプレート。
【請求項１５】
除振リソグラフィシステムを支持するためのベースプレートであって、
このベースプレートは、使用時、基礎に面している底面を有し、
前記底面には、支柱が設けられているか、前記底面は、少なくとも、ねじ又はボルトによって支柱を受けるように用意され、
前記支柱は、コンクリートの基礎ブロックのような基礎上に前記ベースプレートを剛結に配置するために配置されているベースプレート。
【請求項１６】
前記ベースプレートは、使用時、リソグラフィシステムに面している上面を有し、
前記上面は、少なくとも１つの装着部材を有するか、少なくとも、前記上面に取着された少なくとも１つの装着部材を有するように用意されている請求項１５のベースプレート。
【請求項１７】
前記リソグラフィシステムは、底壁を有する真空チャンバを有し、
前記ベースプレートは、少なくとも、前記真空チャンバの前記底壁の一部である請求項１４ないし１６のいずれか１のベースプレート。
【請求項１８】
前記支柱の少なくとも１つには、前記ベースプレートから離れて面する側にアンカー部材が設けられている請求項１５ないし１７のいずれか１のベースプレート。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
上述の説明は、好ましい実施の形態の動作を示して説明したものであり、本発明の範囲を限定することを意図するものではないことが理解される。上述の議論から、多くの変形例が本発明の意図及び範囲によって包含されることは当業者にとって明らかである。
以下に、本出願の出願当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［１］剛性又は固体のベースプレート上面上に配置されるリソグラフィシステムであって、前記ベースプレートは、基礎上にリソグラフィシステムを配置するためにこのベースプレートに取着された少なくとも１つの支柱を有し、前記少なくとも１つの支柱は、前記基礎に面する前記ベースプレートの側に配置され、前記ベースプレートには、リソグラフィシステムの真空チャンバの下側に機器を装着するための切り欠き部又は開口部が設けられているリソグラフィシステム。
［２］前記機器は、カメラのような、リソグラフィシステムの測定機器を含む［１］のリソグラフィシステム。
［３］このリソグラフィシステムは、ターゲット位置決め装置を有し、前記機器は、リソグラフィシステムの前記ターゲット位置決め装置を駆動させるモータを有する［１］又は［２］のリソグラフィシステム。
［４］前記機器は、前記ベースプレートを通って、好ましくは前記ベースプレートを超えて延びている［１］ないし［３］のいずれか１のリソグラフィシステム。
［５］前記機器は、リソグラフィシステムから、前記基礎に面する前記ベースプレートの側から所定の距離のところまで延び、前記距離は、前記基礎に面する前記ベースプレートの側から延びている前記支柱の長さにほぼ等しい［１］ないし［３］のいずれか１のリソグラフィシステム。
［６］このリソグラフィシステムは、真空チャンバを有し、リソグラフィシステムに面する前記機器の一側面は、前記真空チャンバの内部に配置されている［１］ないし［５］のいずれか１のリソグラフィシステム。
［７］中心線、即ち光軸を有する投影カラムをさらに有し、前記測定システムは、前記投影カラムの中心線、即ち光軸とほぼアライメントされて配置されている［２］に従属する［３］ないし［６］のいずれか１のリソグラフィシステム。
［８］前記ベースプレート及び前記支柱は、アルミニウムでできており、好ましくは、前記ベースプレート及び前記支柱は、一体部品として形成されている［１］ないし［７］のいずれか１のリソグラフィシステム。
［９］前記ベースプレートと前記支柱との少なくとも一方がモノリシック構造を形成している［１］ないし［８］のいずれか１のリソグラフィシステム。
［１０］前記ベースプレートは、自己保持ベースプレートである［１］ないし［９］のいずれか１のリソグラフィシステム。
［１１］前記ベースプレートは、前記基礎に着脱可能に配置されている［１］ないし［１０］のいずれか１のリソグラフィシステム。
［１２］前記ベースプレートには、３つの支柱が設けられている［１］ないし［１１］のいずれか１のリソグラフィシステム。
［１３］前記支柱は、樹脂材料によって前記基礎に剛結されている［１］ないし［１２］のいずれか１のリソグラフィシステム。
［１４］前記樹脂材料は、硬化中、低収縮又は実質的な無収縮硬化樹脂材料であることを特徴とする［１３］のリソグラフィシステム。
［１５］前記収縮は、１パーセント未満であることを特徴とする［１４］のリソグラフィシステム。
［１６］前記硬化樹脂材料は、実質的な無収縮エポキシ樹脂を含むことを特徴とする［１４］のリソグラフィシステム。
［１７］前記エポキシ樹脂は、実質的に溶剤のない、又は最小量の溶剤を含むことを特徴とする［１６］のリソグラフィシステム。
［１８］前記硬化樹脂材料は、接着剤であることを特徴とする［１４］のリソグラフィシステム。
［１９］［１］ないし［１８］のいずれか１のリソグラフィシステムで使用するベースプレート。
［２０］除振リソグラフィシステムを支持するためのベースプレートであって、このベースプレートは、使用時、基礎に面している底面を有し、前記底面には、支柱が設けられているか、前記底面は、少なくとも、ねじ又はボルトによって支柱を受けるように用意され、前記支柱は、コンクリートの基礎ブロックのような基礎上に前記ベースプレートを配置するために配置されているベースプレート。
［２１］前記支柱及び前記ベースプレートは、一体として形成されている［２０］のベースプレート。
［２２］前記支柱は、ねじ又はボルトによって前記ベースプレートに着脱可能に接続されている［２０］のベースプレート。
［２３］前記ベースプレートは、使用時、リソグラフィシステムに面している上面を有し、前記上面は、少なくとも１つの装着部材を有するか、少なくとも、前記上面に取着された少なくとも１つの装着部材を有するように用意されている［２０］ないし［２２］のいずれか１のベースプレート。
［２４］前記リソグラフィシステムは、底壁を有する真空チャンバを有し、前記ベースプレートは、少なくとも、前記真空チャンバの前記底壁の一部である［２０］ないし［２３］のいずれか１のベースプレート。
［２５］前記リソグラフィシステムは、底壁を有する真空チャンバを有し、前記ベースプレートは、前記真空チャンバの前記底壁である［２０］ないし［２３］のいずれか１のベースプレート。
［２６］前記装着部材の少なくとも１つは、前記支柱の少なくとも１つと少なくとも部分的に直線状に配置されている［２３］のベースプレート。
［２７］前記支柱の少なくとも１つには、前記ベースプレートから離れて面する側にアンカー部材が設けられている［２０］ないし［２６］のいずれか１のベースプレート。
［２８］前記プレートには、前記支柱のいくつかと装着部材との少なくとも一方を前記ベースプレートに接続するために、その中に固定可能に受けられるねじ挿入部を有するボアが設けられている［２０］ないし［２７］のいずれか１のベースプレート。
［２９］このベースプレートは、モノリシックスラブである［２０］ないし［２８］のいずれか１のベースプレート。
［３０］前記スラブは、花崗岩又はアルミニウムでできている［２９］のベースプレート。
［３１］基礎上に、リソグラフィシステムのような、除振を必要とするシステムを配置する方法であって、それに取着された少なくとも１つの支柱を有し、前記少なくとも１つの支柱は、基礎に面する前記ベースプレートの側に取着されている自己保持硬質ベースプレートを与える工程と、前記基礎上にその支柱を備えた前記ベースプレートを配置する工程と、前記ベースプレートと前記基礎との間の距離を調節するために高さ調節手段を与える工程と、前記ベースプレートの所望の高さ調節を得るために、前記ベースプレートと前記基礎との間の距離を調節する工程と、前記支柱と前記基礎との間に硬化樹脂材料を与える工程と、前記基礎と前記支柱との間に剛結を与えるために前記樹脂材料を硬化させる工程と、前記ベースプレートの上面に前記システムを配置する工程と、を具備する方法。
［３２］前記高さ調節手段を取り外す工程をさらに具備する［３１］の方法。
［３３］前記ベースプレートのための基礎領域を囲んでいるリムを前記基礎上に与える工程と、硬化樹脂材料のプールとして前記基礎領域に前記硬化樹脂材料を与えて、前記少なくとも１つの支柱が、硬化樹脂材料の前記プールと全て接触する工程とをさらに具備する［３１］又は［３２］の方法。
［３４］前記支柱は、硬化樹脂材料の前記プールに少なくとも部分的に浸漬される［３３］の方法。
［３５］前記硬化樹脂材料の硬化の後、リムを取り除く工程をさらに具備する［３３］又は［３４］の方法。
【国際調査報告】
2013543254.tif 000012
2013543254.tif 000013
2013543254.tif 000014