【事件の表示】
　特許第２７４９２０２号「帯電物体の中和構造、クリーンルーム、搬送装置、居住室、植物栽培室、正負の電荷発生方法、帯電物体の中和方法」の請求項１ないし７、１２、１４ないし２０に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結論】
　訂正を認める。
　特許第２７４９２０２号の請求項１ないし７、１４ないし１５、１７ないし２０にかかる特許を維持する。
【理由】
Ｉ　手続の経緯
　本件特許第２７４９２０２号の発明についての出願（以下、「本件出願」という。）は、１９９３年８月１３日（優先権主張１９９２年８月１４日、日本国）を国際出願日とする出願であって、平成１０年２月２０日にその発明について特許の設定登録がなされ、その後、その特許について、異議申立人中澤佳樹、同恒本昌美より特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１１年５月１７日に訂正請求がなされた後、訂正拒絶理由が通知され、訂正拒絶理由通知に対して手続補正書が提出されたものである。
ＩＩ　訂正の適否についての判断
１　訂正請求に対する補正の適否について
　特許権者が行った訂正請求に対する補正は、特許請求の範囲の明りょうでない記載の釈明を目的として、訂正請求書の訂正事項を補正するものであり、当該訂正請求に対する補正は、特許法第１２０条の４第３項において準用する同法第１３１条第２項の規定に適合する。
２　訂正の内容
（１）請求項１２、１６を削除し、これに伴い、請求項１３〜１５の請求項番号を１２〜１４と、請求項１７〜２０の請求項番号を１５〜１８と訂正する。
（２）請求項１、３、４、１４（訂正後１３）、１５（訂正後１４）中の波長について「１Å〜数百Å」を、「ターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた１Å以上２Å未満」と訂正する。
（３）請求項５、６、８、１０、１７（訂正後１５）、１８（訂正後１６）、１９（訂正後１７）を、独立項形式に訂正する。
（４）特許明細書第５頁第１５行目、第１９行目、第２３行目、第６頁第６行目、第９行目の「１Å〜数百Å」を「ターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた１Å以上２Å未満」と訂正する。
３　訂正の目的の適否、新規事項の有無および拡張・変更の存否
（１）上記２（１）の訂正の請求項の削除は、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、新規事項の追加に該当しない。
　また、請求項番号の訂正は、明りょうでない記載の釈明を目的とするものであり、新規事項の追加に該当しない。
（２）上記２（２）の訂正は、特許請求の範囲に記載された「１Å〜数百Å」をより下位概念である「ターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた１Å以上２Å未満」と限定するものである。当該「ターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた」は特許明細書第１１頁第２５行目及び第５図に記載されていたものであり、「１Å以上２Å未満」は特許請求の範囲に記載された「１Å〜数百Å」のうち「２Å〜数百Å」を除外したものである。
　したがって、この訂正は、特許明細書に記載された事項の範囲内において、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであり、新規事項の追加に該当しない。
（３）上記２（３）の訂正は、被従属項である請求項４、１４（訂正後１３）を、それぞれ上記２（１）のように訂正するのに伴い、独立項形式とするものであり、明りょうでない記載の釈明を目的とするものであり、新規事項の追加に該当しない。
（４）上記２（４）の訂正は、上記２（１）の訂正に伴い、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合を図るものであり、明りょうでない記載の釈明を目的とするものであり、新規事項の追加に該当しない。
（５）そして、上記２（１）〜（４）のいずれの訂正も、実質上特許請求の範囲を拡張し、または変更するものではない。
４　独立特許要件
（１）訂正明細書の請求項１〜１８に係る発明
　訂正明細書の請求項１〜１８に係る発明（以下、請求項１〜１８に係る発明のそれぞれを、「本件第１発明」〜「本件第１８発明」といい、請求項１〜１８に係る発明をまとめて「本件発明」という。）は、その特許請求の範囲の請求項１〜１８に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。
「１　帯電物体の周辺の雰囲気空気に向けてターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた１Å以上２Å未満の波長の軟Ｘ線を直接照射しえる適宜の位置に軟Ｘ線ユニットが配設されていることを特徴とする帯電物体の中和構造。
　２　前記雰囲気空気は帯電物体方向に向かう気流空気であり、該帯電物体よりも上流側における空気に向けて軟Ｘ線領域の電磁波を直接照射しえるように、前記軟Ｘ線ユニットが配設されていることを特徴とする請求項１記載の帯電物体の中和構造。
　３　清浄な空気が、天井から床に向かいダウンフローしているクリーンルームにおいて、天井面に対し略平行にターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた１Å以上２Å未満の波長の軟Ｘ線を直接照射しえるようにして軟Ｘ線ユニットが配設されていることを特徴とするクリーンルーム。
　４　プロセス装置へ被処理物体を搬送するための搬送室を有する搬送装置において、前記搬送室内の雰囲気ガスにターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた１Å以上２Å未満の波長の軟Ｘ線を直接照射しえるようにしてＸ線ユニットを配設したことを特徴とする搬送装置。
　５　プロセス装置へ被処理物体を搬送するための搬送室を有する搬送装置において、前記搬送室内の雰囲気ガスに１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線を直接照射しえるようにして軟Ｘ線ユニットを配設した搬送装置であり、
　前記搬送室とプロセス装置との間にロードロック室を介在せしめ該ロードロック室内の雰囲気ガスに１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線を直接照射しえるようにして軟Ｘ線ユニットを配設したことを特徴とする搬送装置。
　６　プロセス装置へ被処理物体を搬送するための搬送室を有する搬送装置において、前記搬送室内の雰囲気ガスに１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線を直接照射しえるようにして軟Ｘ線ユニットを配設した搬送装置であり、
　前記搬送室を、１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線に対して透明な材質により形成したことを特徴とする搬送装置。
　７　前記１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線に対して透明な材質としてポリイミドを用いることを特徴とする請求項６記載の搬送装置。
　８　プロセス装置へ被処理物体を搬送するための搬送室を有する搬送装置において、前記搬送室内の雰囲気ガスに１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線を直接照射しえるようにして軟Ｘ線ユニットを配設した搬送装置であり、
　前記搬送室を、Ｃｒ／Ｆｅ（原子比）が１以上の熱酸化不動態膜を表面に有するステンレス鋼により形成するとともに、搬送室の適宜の位置に１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線を直接照射するための入射口を設け、該入射口を介して１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線を搬送室内の雰囲気ガスに直接照射するようにしたことを特徴とする搬送装置。
　９　前記入射口に、外部側に突出するポート部を設け、該ポート部の長さを、ポート部の先端開口から搬送室内の被処理物体を見込むことができないような長さに設定し、該ポート部の先端開口に１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線に対して透明な材質からなるフィルタを設けたことを特徴とする請求項８記載の搬送装置。
　１０　プロセス装置へ被処理物体を搬送するための搬送室を有する搬送装置において、前記搬送室内の雰囲気ガスに１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線を直接照射しえるようにして軟Ｘ線ユニットを配設した搬送装置であり、
　前記搬送装置は、搬送室の下方からガスを噴出させることにより被搬送物を浮上搬送させる搬送装置であることを特徴とする搬送装置。
　１１　搬送室の下方から噴出するガスは不純物濃度が数ｐｐｂ以下の窒素ガス又は水分濃度　が数ｐｐｂ以下の空気であることを特徴とする請求項１０記載の搬送装置。
　１２　外部から植物栽培室の内部に空気を供給するための空気導入手段を有する植物栽培室において、前記空気に１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線を直接照射することにより、該空気中に正イオンと負イオン及び／又は電子を生成する手段を設けたことを特徴とする植物栽培室。
　１３　ターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた１Å以上２Å未満の波長の軟Ｘ線を、加圧、大気圧又は減圧下にある空気に直接照射することにより、該空気中に正イオンと負イオン及び／又は電子を生成させることを特徴とする軟Ｘ線照射を用いた正負の電荷発生方法。
　１４　ターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた１Å以上２Å未満の波長の軟Ｘ線を帯電物体の周辺の雰囲気空気に直接照射することにより、該雰囲気空気をイオン化させて正イオンと、負イオン及び／又は電子とを生成し、この生成された正イオンにより負電荷を、負イオン及び／又は電子により正電荷を中和することを特徴とする帯電物体の中和方法。
　１５　１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線を、加圧、大気圧又は減圧下にある空気に直接照射することにより、該空気中に正イオンと負イオン及び／又は電子を生成させる軟Ｘ線照射を用いた正負の電荷発生方法であって、前記１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線はターゲット電流を６０μＡ以上とすることにより発生させた電磁波であることを特徴とする帯電物体の中和方法。
　１６　１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線を、加圧、大気圧又は減圧下にある空気に直接照射することにより、該空気中に正イオンと負イオン及び／又は電子を生成させる軟Ｘ線照射を用いた正負の電荷発生方法であって、前記雰囲気空気は、水分濃度が数ｐｐｂ以下であることを特徴とする帯電物体の中和方法。
　１７　１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線を、加圧、大気圧又は減圧下にある空気に直接照射することにより、該空気中に正イオンと負イオン及び／又は電子を生成させる軟Ｘ線照射を用いた正負の電荷発生方法であって、前記雰囲気空気の圧力は、１０００Ｔｏｒｒ〜１Ｔｏｒｒであることを特徴とする帯電物体の中和方法。
　１８　前記雰囲気空気の圧力は、１０００Ｔｏｒｒ〜２０Ｔｏｒｒであることを特徴とする請求項１７記載の帯電物体の中和方法。」
（２）取消理由の概要
　当審が平成１１年２月２３日付けで通知した取消理由は、請求項１〜４、１２、および、１４〜１６に係る発明は、本件出願の日前の出願であって、本件出願後出願公開された特願平４−１２０５０７号（特開平５−３１２９９８号）の願書に最初に添付した明細書又は図面に記載された発明と同一であるから、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができないというものである。
（３）先願発明
▲１▼　上記特願平４−１２０５０７号（特開平５−３１２９９８号）の願書に最初に添付した明細書又は図面（以下、「先願明細書」という。）には、次の事項が記載されている。
「主要波長が１５ないし２オングストロームの範囲のＸ線を発生し、このＸ線をベリリウム窓から出射するＸ線管を備え、前記ベリリウム窓から前記Ｘ線が照射される領域にイオン化すべき物質を含ませることを特徴とするイオン発生装置。」
（請求項１）
「このイオン発生装置に使用されるＸ線管は、例えばターゲット電圧５ｋＶ、ターゲット電流２０μＡ程度でよく、電流容量も小さくてすみ、小型で扱い易く、雑音を発生しない利点がある。」
（【０００８】）
「このイオン発生装置の他の応用としては、例えば静電式コピー機において、近傍にある物体に帯電させるために、特定の限られた空間にイオンを発生させるために有効に使用することができる。すなわち、上記の限られた空間にＢｅ窓からＸ線を照射することで、当該空間の物質ないし雰囲気をイオン化できる。このようにイオンを発生させて、所定空間内にある所定物質を帯電または除電できる。」（【００１１】）
「また、半導体加工においてはイオンビームによる不純物注入、スパッタリング法などにおいてイオンが用いられるが、これらのイオン源として効果的である。即ち加工装置中において、イオン源となるべき部分に本発明のイオン化装置を設置し、原料ガスを軟Ｘ線で照射する。そして生成したイオンをスリット等を通して適当な電圧により加速し、真空室内に導入すればイオンビームが得られる。本発明によれば、マイクロ波放電を利用した従来例に比べて、小型有効にイオンを発生させることができる。また、軟Ｘ線の吸収長や照射方向などによって、必要とする限定された範囲内でイオンを発生することができる。」（【００１６】）
▲２▼　また、本件出願の出願前に頒布された刊行物である「ＥＯＳ／ＥＳＤ対策ハンドブック」株式会社トリケップス、平成元年１１月３０日発行（以下、「刊行物１」という。）、「放射の物理」共立出版株式会社、１９８７年１０月２０日発行（以下、「刊行物２」という。）、特開平１−２７４３９６号公報（以下、「刊行物３」という。）、特開平２−６８８９９号公報（以下、「刊行物４」という。）には、それぞれ、次の事項が記載されている。
「Ｘ線、γ線、β線、宇宙線等、一部の遠紫外線を含む電離放射線の存在下では静電気の発生は大きく影響される。静電気対策の立場から見た＋の面としては、強制的にイオンを発生させる事によって静電荷を中和することがある。そしてこの自然拡散に期待するものをアイオナイザーといい、発生したイオンを強制的に発生させた気流により拡散させるものにアイオンブロアー、エアーノズル等がある。」（刊行物１、２１頁２３行〜２２頁２行）
「紫外線の下限は１０Åくらいであるが、あまり明確でなく一部は軟Ｘ線と重なっている。」（刊行物２、１２頁１１〜１２行）
「Ｘ線は物質に対する透過能が一般に大きく、波長が短いほど一般によく透過する。透過能の大小によって硬Ｘ線と軟Ｘ線に区別する場合がある。Ｘ線は目には感じないが、蛍光作用、写真感光作用（Ｘ線フィルム）、気体分子の電離作用、化学作用などがある。Ｘ線の波長は数Å程度で、結晶の中の原子間隔と同程度であるので、回折による物質構造の決定に重要である。Ｘ線は原子の世界を見るための光である。」（刊行物２、１５頁１４〜２０行）
「本発明は、ガスの中にイオンを発生し、このイオン化されたガスの流れを囲まれた流離に沿って使用点へ伝達することによって、前述の問題点を回避する。好適なガスはオゾンの発生を回避するために窒素のような酸素を含まないガスである。金属汚染物の放出を回避するため及び正と負とのイオンの固有に平衡した生産を可能にするために、高電圧電極によるよりはむしろＸ線あるいは他の電離放射線によってイオンが生産される。」（刊行物３、６頁右上欄２〜１０行）
「特定の例では酸素を含まない不活性のガスを使用する必要はなく、その場合に装置１１は前述の目的とは異なる目的用に用いられる。例えば特定の領域で空気から微粒子の物質を除去するのが目的の場合には、内部室１９を通る空気が用いられ得る。」（刊行物３、７頁左上欄１０〜１４行）
「保護しようとする対象物の近傍において高レベルの空気電離を保持することは、電子素子を製作するクリーンルームまたは他の場所における静電荷の造成を抑圧するためのきわめて有効な技術であるが、対象物上への電荷の蓄積は反対極性の空気イオンを引きつけ、かくして電荷を中和させる。」（刊行物４、５頁右上欄２０行〜同頁左下欄６行）
「再び第１図に戻って、装置は通常、イオン放出ユニット１３から静電荷蓄積を抑圧すべき領域、この場合には、作業台（ワークテーブル）３２へのイオンの走行を速めるためエアフロー（通風手段）３１を備える。標準的クリーンルーム１３の場合は、ファン３３を用いてエアフロー３１を通気性天井メンバー３４を通して下方に強制通風させ、床に設けた格子（グレーティング）３６を通して室外に排気させるようにしている。」（刊行物４、８頁右下欄６〜１４行）
▲３▼　そこで、上記刊行物１〜４の記載を参酌しつつ、先願明細書の記載を検討するに、刊行物１、２の記載からみて、Ｘ線により強制的にイオンを発生させることによって、静電荷を中和することは周知技術であると認められるから、先願明細書記載の「軟Ｘ線によってイオンを発生させて帯電または除電すること」と「帯電物体の中和構造」とはカテゴリー上の差異に過ぎず、先願明細書には、「帯電物体の中和構造」が実質的に開示されているものと認められる。
　また、刊行物１、３の記載からみて、帯電物体方向へ向かう空気の上流側において空気イオンを生成し、これを帯電物体方向へ搬送させることは周知技術であり、先願明細書においてもこのような構成が当然予定されているものと認められる。
　さらに、刊行物３、４の記載からみて、清浄な空気が天井から床に向かいダウンフローされているクリーンルームは慣用技術であり、先願明細書には、天井面に対し略平衡に軟Ｘ線が直接照射されるように軟Ｘ線ユニットが配設されることが実質的に記載されているものと認められる。
　そして、プロセス装置へ被処理物体を搬送するための搬送室を有する搬送装置は、半導体製造装置として周知慣用技術であり、先願明細書においても、搬送装置への適用が実質的に記載されているものと認められる。
▲４▼　してみると、先願明細書には、次の各発明（以下、まとめて「先願発明」という。）が記載されているものと認められる。
「帯電物体の周辺の雰囲気空気に向けて２ないし１５Åの波長の軟Ｘ線を直接照射しえる適宜の位置に軟Ｘ線ユニットが配設されている帯電物体の中和構造であって、
帯電物体方向へ向かう空気の上流側において空気イオンを生成し、これを帯電物体方向へ搬送させる態様を含む。」
「清浄な空気が天井から床に向かいダウンフローされているクリーンルームにおいて、天井面に対し略平衡に２ないし１５Åの波長の軟Ｘ線を直接照射しえるようにして軟Ｘ線ユニットが配設されたクリーンルーム。」
「プロセス装置へ被処理物体を搬送するための搬送室を有する搬送装置において、前記搬送室内の雰囲気ガスに２ないし１５Åの波長の軟Ｘ線を直接照射しえるようにして軟Ｘ線ユニットを配設した搬送装置。」
「２ないし１５Åの波長の軟Ｘ線を加圧、大気圧又は減圧下にある空気に直接照射することにより、該空気中に正イオンと負イオン及び／又は電子を生成させる軟Ｘ線照射を用いた正負の電荷発生装置。」
「２ないし１５Åの波長の軟Ｘ線を帯電物体の周辺の雰囲気空気に直接照射することにより、該雰囲気空気をイオン化させて正イオンと、負イオン及び／又は電子とを生成し、この生成された正イオンにより負電荷を、負イオン及び／又は電子により正電荷を中和する帯電物体の中和方法。」
（４）　対比・判断
　本件第１〜４発明、本件第１３発明、本件第１４発明と先願発明とを対比すると、先願発明は、本件第１〜４発明、本件第１３発明、本件第１４発明を特定するための事項である
「ターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた１Å以上２Å未満の波長の軟Ｘ線」
を具備していない。
　そして、２Å以下の波長の軟Ｘ線について、先願明細書には、「軟Ｘ線の波長が短くなり、２オングストローム以下になると、雰囲気などを含む目的の物質による吸収が小さくなり、目的のイオン化に適しないことがわかった。」（【０００６】）と記載されており、先願発明が２Å未満の波長の軟Ｘ線を対象としていないことは明らかである。
　してみると、本件第１〜４発明、本件第１３発明、本件第１４発明が先願発明と同一の発明であるとすることはできず、本件第１〜４発明、本件第１３発明、本件第１４発明は、特許出願の際、独立して特許を受けることができるものである。
５　むすび
　以上のとおりであるから、上記２（１）〜（４）の訂正は、特許法第１２０条の４第２項、同条第３項で準用する第１２６条第２〜４項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
ＩＩＩ　特許異議の申立てについての判断
１　特許異議の申立ての理由の概要
（１）異議申立人中澤佳樹は、証拠方法として、甲第１号証（「空気清浄」３０巻２号、１０８〜１２１頁、平成４年６月３０日）、甲第２号証（「理化学辞典　第４版」１３０頁、５２５頁、１９８７年１０月１２日）、甲第３号証（「放射の物理」１２〜１５頁、１９８７年１０月２０日）、甲第４号証（「ＥＯＳ／ＥＳＤ対策ハンドブック」２１〜２７頁、平成元年１１月３０日）、甲第５号証（特開１−２７４３９６号公報）、甲第６号証（特開平２−６８８９９号公報）を提出し、請求項１〜７、１２、１４〜２０に係る発明の特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであるから、特許法第１１３条第１項第２号の規定により取り消されるべきものであると主張している。
（２）異議申立人恒本昌美は、証拠方法として、甲第１号証（特開平５−３１２９９８号公報）、甲第２号証（「ＥＯＳ／ＥＳＤ対策ハンドブック」２１〜２２頁、平成元年１１月３０日）、甲第３号証（「放射の物理（初版第４刷）」１２〜１５頁、１９８７年１０月２０日）、甲第４号証（特開平１−２７４３９６号公報）、甲第５号証（特開２−６８８９９号公報）を提出し、請求項１〜４、１２、１４〜１６に係る発明の特許は、特許法第２９条の２の規定に違反してなされたものであるから、特許法第１１３条第１項第２号の規定により取り消されるべきものであると主張している。
２　異議申立人中澤佳樹の主張についての判断
（１）異議申立人中澤佳樹の提出した証拠方法を検討すると、
▲１▼　甲第１号証には、
「紫外線照射除電法は、これまで行われていなかったＮ２ガスやＡｒガス雰囲気、あるいは減圧下で非常に有効な帯電防止技術である。製造装置内における除電やウェハを大気にさらさないで搬送するＣｌｏｓｅｄ　Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ　Ｓｙｓｔｅｍにおける搬送時の除電に適用される。ガス分子（原子）の一種の多光子吸収現象によるイオン化法を利用した除電法である。１１５〜１５０ｎｍという真空紫外領域の光照射によりガス分子をイオン化し、負電化は正のガス分子イオンにより、正電荷はガス分子より電離した電子により中和する。…非常にクリーンな除電法で、除電性能も高い。除電性能は、雰囲気圧力に大きく依存するが、例えば大気圧下で静電容量が１０ｐＦの５ｉｎｃｈウェハの除電速度は、３ｋＶから＋０．３ｋＶまでが１秒以下、−３ｋＶから−０．３ｋＶまでは数秒である。減圧下では、この除電速度は２〜３桁速くなる。また、正負のイオンを交互に供給するイオナイザで問題になる、イオン極性の偏りに起因する除電後の残留電位の発生もなく、常に０Ｖまで除電できる。これは、空間に常に同量の正負の電荷が供給されていることと、負電荷の多くが移動度の非常に大きな電子であるためである。」（２６頁右欄３０行〜２７頁左欄５行）
と記載されている。
▲２▼　甲第２号証には、
「電磁波のうち波長が０．１〜数百Å程度の範囲のものをいう。短波長側は透過力が大きく、γ線に移行し、長波長側は透過力が弱く、紫外線に移行する。」（１３０頁「Ｘ線」の項）
「可視光線の短波長端３６０〜４００ｎｍを上限とし、下限は１ｎｍくらいまでの波長範囲の電磁波。ＵＶと略記する。下限はあまり明確でなく、数十ｎｍ以下は軟Ｘ線と重なる。」（５２５頁「紫外線」の項）
と記載されている。
▲３▼　甲第３〜６号証については、甲第３号証は刊行物２、甲第４号証は刊行物１、甲第５号証は刊行物３、甲第６号証は刊行物４と同じものであり、甲第３〜６号証の記載内容は、上記ＩＩ４（２）▲２▼において、刊行物１〜４について認定したとおりである。
（２）そこで、本件第１〜７発明、本件第１３〜１８発明と甲第１〜６号証に記載された事項とを対比するに、まず、甲第１号証は、紫外線除電法を開示するものであるが、甲第１号証で用いられる紫外線は、波長が１１５〜１５０ｎｍ、すなわち、１１５０〜１５００Åという特定の範囲内のものであって、紫外線全般を意味するものではない。すなわち、甲第１号証の紫外線除電法は、紫外線であればいかなる波長のものでも良いというものではなく、「１１５０〜１５００Åの波長の紫外線」を採用して初めて技術的意味を有するものであり、これ以外の波長の紫外線を使用する紫外線除電法が予測されるものではない。
　したがって、たとえ、甲第２、３号証に、紫外線と軟Ｘ線の一般的関係として、紫外線の下限は明確でなく、一部が軟Ｘ線と重なっていることが記載され、甲第３、４号証に、Ｘ線に気体の電離作用があり、静電気対策の目的で強制的にイオンを発生させることによって静電荷を中和することが記載されているとしても、そのことをもって、甲第１号証の「１１５０〜１５００Åの波長の紫外線」の技術的意味が変わるわけではない。
　そうすると、甲第１号証の「１１５０〜１５００Åの波長の紫外線」を「１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線」、さらに、「ターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた１Å以上２Å未満の波長の軟Ｘ線」とすることは、当業者といえども容易に着想し得るものではない。
　そして、甲第５〜６号証には、帯電物体方向へ向かう空気の上流側において空気イオンを生成し、これを帯電物体方向へ搬送させることや、清浄な空気が天井から床に向かいダウンフローされているクリーンルームの記載はあるものの、１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線」や「ターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた１Å以上２Å未満の波長の軟Ｘ線」は記載されていない。
（３）結局、甲第１〜６号証のいずれにも、本件第１〜４発明、本件第１３発明、本件第１４発明を特定するための事項である
「ターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた１Å以上２Å未満の波長の軟Ｘ線」を採用した「帯電物体の中和構造」、「クリーンルーム」、「搬送装置」、「正負の荷電発生方法」、「帯電物体の中和方法」
が、また、本件第５〜７発明、本件第１５〜１８発明を特定する事項である
「１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線」を採用した「搬送装置」、「帯電物体の中和方法」
が記載されておらず、甲第１号証に甲第２〜４号証を適用する合理性も認められない。甲第１号証に甲第５、６号証を適用しても、上記の事項が構成できないことは明らかである。
　そして、上記の事項を具備することにより、本件第１〜７発明、本件第１３〜１８発明は、
「発塵を伴うことなく、正負のイオンを生成せしめることが可能となり、帯電物体を中和する際には、どの様な雰囲気下でも帯電物体の電荷を短時間で中和することが可能となる」
という顕著な効果を奏するものである。
　してみると、本件第１〜７発明、本件第１３〜１８発明が甲第１〜６号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
３　異議申立人恒本昌美の主張についての判断
（１）異議申立人恒本昌美の提出した証拠方法について検討するに、甲第１号証は、上記ＩＩ４（３）▲１▼で検討した先願発明、甲第２〜５号証は、上記ＩＩ４（３）▲２▼で検討した刊行物１〜４と同じものである。（２）そして、上記ＩＩ４（４）で検討したとおり、本件第１〜４発明、本件第１３発明、本件第１４発明が先願発明と同一の発明であるとすることはできない。
４　むすび
　以上のとおりであるから、特許異議の申立ての理由および証拠によっては、本件発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１１年７月３０日（１９９９．７．３０）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
▲１▼訂正事項ａ
　請求項１、３、４、１４（訂正後１３）、１５（訂正後１４）中の波長について「１Å〜数百Å」を特許請求の範囲の減縮を目的として、「ターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた１Å以上２Å未満」と訂正する。
　それに伴い、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合を図るため、明りょうでない記載の釈明を目的として、特許明細書第５頁第１５行目、第１９行目、第２３行目、第６頁第６行目、第９行目の「１Å〜数百Å」を「ターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた１Å以上２Å未満」と訂正する。
▲２▼訂正事項ｂ
　請求項５、６、８、１０、１５（訂正後１４）、１７（訂正後１５）、１８（訂正後１６）、１９（訂正後１７）は従属請求項であり、被従属項の訂正に伴い、明りょうでない記載の釈明を目的として、独立項形式とする訂正を行う。
▲３▼訂正事項ｃ
　請求項１２、１６の削除に伴い、明りょうでない記載の釈明を目的として請求項１３〜１５の請求項番号を１２〜１４と、請求項１７〜２０の請求項番号を１５〜１８と訂正する。
（５４）【発明の名称】
帯電物体の中和構造、クリーンルーム、搬送装置、居住室、植物栽培室、正負の電荷発生方法、帯電物体の中和方法
【発明の詳細な説明】
技術分野
　本発明は、第一義的には、気体中に正負の電荷を発生させる方法に関し、さらに、それによる帯電物体の中和方法並びに中和構造及びそれを用いた搬送装置、ウエットベンチ、クリーンルーム等の各種装置・構造物に関する。
背景技術
　例えば、ＬＳＩ及び液晶製造プロセスにおいて、シリコンウエハ及び液晶基板の帯電が大きな問題になっており、帯電防止技術の確立が急がれている。本装置は、この様な背景から、ガス分子イオンまたは電子を生成し、これによって帯電物体の電荷を中和するために開発されたものである。本装置を用いれば、シリコンウエハ及び液晶基板はもちろん、正あるいは負に帯電した全ての物体の表面電荷を短時間で中和することができ、静電気による各種の障害を防止することが可能となる。以下では、一つの例として、ウエハの帯電の実態及びそれによる障害について説明し、次に現在の帯電防止技術の問題点をあげ、本発明に至った経緯を説明する。
　（ウエハの帯電）
　ウエハは、不純物汚染防止及び耐薬品性の必要性から、通常絶縁性のふっ素樹脂や石英でハンドリングされている。このため、ウエハは非常に高い電位に帯電しやすくなっている。実測例として、フォトリソ工程でのウエハ帯電電位測定結果を表として図１６に示す。この結果から分かるように、ウエハはＫＶのレベルで帯電していることが分かる。
　（ウエハの帯電による障害）
　ウエハ帯電は、製造プロセスに重大な障害を与える。静電気力による浮遊粒子付着、静電気放電によるデバイス破損及び電子ビーム露光時等に問題となる電子軌道障害がその主なものである。以下、この障害について簡単に説明を加える。
　・静電気力による粒子付着
　ウエハへの浮遊粒子付着には、重力、慣性力、静電気力、ブラウン拡散、熱泳動力という５つの因子が関係し、その影響の大きさは粒径によって異なる。０．１μｍ以下の粒子では後者の３因子が支配的となり、中でも静電気力の影響は極めて大きくなる。
　図１は、ウエハ電位と浮遊粒子付着速度の関係を実測した結果である。この場合の粒子径は、０．５μｍ以上である。粒子付着速度が静電気力の影響により大きくなって行っていることが明らかである。
　次に、さらに粒子が小さくなった場合の静電気力の影響を調べるために、理論計算結果を図２に示す。計算比較粒径は、２μｍ、０．５μｍ、０．１μｍの３通り、ウエハ電位は１０００Ｖとしている。ここでは、付着力として、重力と静電気力のみを考慮し、付着粒子の浮遊範囲を計算した。２μｍ粒子の付着範囲は非常に狭く、ウエハにはほとんど付着しないことを示している。
　しかし、粒径が０．５μｍ、０．１μｍと小さくなるに伴い、ウエハへの付着範囲は急激に増加していっており、帯電粒子の粒径が小さくなった場合、その付着において静電気力の影響が非常に大きくなることを示している。以上のように、クリーンルームにおける制御対象粒径が益々小さくなってきている環境においては、粒子発生防止は勿論であるが、同時に付着を最小限に抑えるため静電気対策が非常に重要になる。
　・帯電によるデバイス破壊
　帯電によるデバイス破壊は、絶縁膜の薄膜化及び回路パターンの微細化に伴い益々大きな問題になってきている。デバイス破壊には、電圧に依存するものと電流に依存するものがあることから、その防止においては帯電電位の低減のみではなく、静電エネルギーを低減することも考えなくてはならない。
　デバイス破壊で電圧が支配的となるのは、主に酸化絶縁膜などの絶縁破壊である。この場合、酸化膜厚が薄くなれば当然破壊電圧も低くなる。一般に、酸化膜の絶縁破壊強度は１０ＭＶ／ｃｍ程度である。
　一方、電流が支配的となるのは、配線の断線障害である。これはジュール熱による回路の溶融が原因となっている。このウエハ帯電によるデバイス破壊は、静電気力による浮遊粒子付着障害以上に、低い帯電電位で顕著に発生する。装置でのウエハ処理時の帯電防止と同様、ウエハ搬送時の帯電防止も大変重要となる。
　（従来のウエハ帯電防止技術）
　従来のウエハ帯電防止技術としては、以下に示すような方法がある。
　▲１▼コロナ放電法によりイオンを発生させ、このイオンにより帯電ウエハの電荷を中和する。
　▲２▼接地された導電性材料（金属や導電性樹脂）でウエハをハンドリングすることにより、ウエハの電荷の中和をする。
　しかし、これらの中和方法にはいくつかの欠点があり、これを改善しない限り帯電ウエハの中和対策として将来にわたって使っていくことが出来ない。
　まず、▲１▼のコロナ放電法にはおもに４つの欠点がある。
　　　１）放電電極からの微粒子発生
　　　２）イオン極性の偏りに起因する残留電位の発生
　　　３）高圧放電電極による誘導電圧の発生
　　　４）オゾンの発生
　１）には、放電電極先端の放電時の電子及びイオンのスパツタ作用等の摩耗による電極材自身の発塵と、放電時に空気中不純物が化学反応などにより固形化し電極表面に付着堆積したものが発塵するものとがある。前者の発塵については、近年開発された石英ガラスで放電電極を保護したことにより解決された。しかし、後者の問題はまだ解決されていない。
　２）は、放電電極印加電圧の極性が正負交互に変化するために生じる問題である。放電電極の極性が正の時は、正イオンが除電物体に供給され、放電電極が負の場合は、負イオンまたは電子が除電物体に供給される。除電後も、この様に偏った極性の電荷が供給されるために残留電位が発生する。この残留電位は、イオン生成器が除電物体に近いほど高くなることから、この障害を低減するためには、ある程度距離をとって、イオンは気流によって搬送するようにする必要がある。
　近年、イオン生成部近傍に直流電位を印加することにより、残留電位を低減する方法が開発されたが、それでも除電物体近傍ではこの後に説明する誘導電圧が問題となるために使用出来ない。このように距離をとらなければならないことは、除電速度を遅くしてしまう大きな原因となっている。コロナ放電法ではこの問題を完全に解決することは、原理的に不可能である。
　３）の誘導電圧の発生は、放電電極が除電物体に近い場合に問題となる。この障害を防止するためには、放電部と除電物体間の距離をとるしかない。２）の残留電位の場合と同様、距離をとる分、除電時間が遅くなってしまう。
　４）オゾン発生では、酸素分子が解離して出来た酸素原子ラジカルが主な生成源になっている。この様な解離現象は、１０ｅＶ以下の低エネルギ電子との衝突や光子吸収により促進される。コロナ放電法では、コロナ域でこの現象が見られ、その結果オゾンが発生する。オゾン濃度は、放電電極の構造や印加電圧及び風量によつて異なるが、例えば、ほとんど滞留状態の空間では、最高数十ｐｐｍに達する。このオゾンは、酸化力が非常に強いために、ウエハ表面の自然酸化膜生成を促進するばかりでなく、周辺の高分子材の劣化を促進させる。
　次に、▲２▼では、ウエハ帯電はほぼ完全に防止することが出来るが、不純物汚染という重大な障害を伴う危険性が高くなる。金属はもちろん導電性をもたせるためにフッ素樹脂等に混入されている不純物は、ウエハとの接触摩耗によりウエハを汚染し、電気特性劣化の大きな原因になる。この障害は、静電気以上に重大な問題で、これを防止するために、絶縁性の樹脂材でウエハがハンドリングされているというのが現状なのである。
　本発明は、どの様な雰囲気下でも帯電物体の電荷を短時間で中和することが可能な正及び負の電荷を同時に発生する装置に関し、また、前述した全ての欠点を伴わずに静電気の発生を完全に防止できる帯電物体の中和方法並びに中和構造及びそれを用いた各種装置に関する。
図面の簡単な説明
　図１は、ウエハ電位と付着粒子との関係を示すグラフである。図２は、静電気力による粒子付着の粒径依存性を示すグラフである。図３は、本発明において用いられるＸ線ユニットの例を示す側面図である。図４は、中和実験に用いた装置の概念図である。図５は、除電性能のターゲット電圧依存性を示すグラフである。図６は、除電性能のターゲット電流依存性を示すグラフである。図７は、除電性能の雰囲気圧力依存性を示すグラフである。図８は、本実施例に係るクリーンルームの斜視図である。図９は、本実施例に係るウェットベンチの斜視図である。図１０は、本実施例に係るウエハ及び液晶基板の搬送系を示す概念図である。図１１は、本実施例に係るウエットベンチの斜視図である。図１２は、本実施例に係るスピンドライヤ装置の斜視図である。図１３は、本実施例に係るｃｌｏｓｅｄ搬送系及び製造装置内を示す斜視図である。図１４は、請求項１５に係る実施例を示す居住室の概念図である。図１５は、請求項１６に係る実施例を示す植物栽培室の概念図である。図１６は、フォトリソ工程でのウエハ帯電電位の測定結果を示す表である。図１７は、ガラス基板搬送時の除電方法を示す概念図である。図１８は、ガラス基板の表面電位の変化を示すグラフである。図１９は、ガラス基板引き上げ時の除電方法を示す概念図である。図２０は、ガラス基板の表面電位の変化を示すグラフである。
発明の開示
　本発明の帯電中和構造は、帯電物体の周辺の雰囲気空気に向けてターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた１Å以上２Å未満の波長の軟Ｘ線を直接照射しえる適宜の位置に軟Ｘ線ユニットが配設されていることを特徴とする。
　本発明のクリーンルームは、清浄な空気が、天井から床に向かいダウンフローしているクリーンルームにおいて、天井面に対し略平行にターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた１Å以上２Å未満の波長の軟Ｘ線を直接照射しえるようにして軟Ｘ線ユニットが配設されていることを特徴とする。　　
　本発明の搬送装置は、プロセス装置へ被処理物体を搬送するための搬送室を有する搬送装置において、前記搬送室内の雰囲気ガスにターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた１Å以上２Å未満の波長の軟Ｘ線を直接照射しえるようにして軟Ｘ線ユニットを配設したことを特徴とする。
　本発明の植物栽培室は、外部から植物栽培室の内部に空気を供給するための空気導入手段を有する植物栽培室において、前記空気に１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線を直接照射することにより、該空気中に正イオンと負イオン及び／又は電子を生成する手段を設けたことを特徴とする。
　本発明の軟Ｘ線を用いた正負の電荷発生方法は、ターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた１Å以上２Å未満の波長の軟Ｘ線を、加圧、大気圧又は減圧下にある空気に照射することにより、該空気中に正イオンと負イオン及び／又は電子を生成させることを特徴とする。
　本発明の帯電中和方法は、ターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた１Å以上２Å未満の波長の軟Ｘ線を帯電物体の周辺の雰囲気空気に直接照射することにより、該雰囲気空気をイオン化させて正イオンと、負イオン及び／又は電子とを生成し、この生成された正イオンにより負電荷を、負イオン及び／又は電子により正電荷を中和することを特徴とする。
　軟Ｘ線領域の電磁波を発生させるためのＸ線ユニットとしては、例えば、図３に示すようなＸ線ユニットを用いることが好ましい。すなわち、このＸ線ユニットは、Ｘ線透過性の基体３４上に電子を受けてＸ線を放射する材料よりなる薄いターゲット膜３３が形成されているターゲット３５を用い、また、電子源（フィラメント３１）とターゲット３５との間にグリッド電極３２が設けられているもの（例えば、特開平２−２９７８５０号公報）を用いることが好ましい。このＸ線ユニット３０は、ターゲット膜３３が薄いため電子源とは反対側からＸ線３７が放射される、いわゆる透過型であるため小型化が可能であり、従って、任意の場所に配設することができるという利点を有している。また、電子源とターゲット３５との間にグリッド電極３２が設けられているためターゲット電流の制御が可能である。
　軟Ｘ線領域の電磁波は、ある特定の物質（例えば、Ｗ：タングステン）に所定のエネルギーの電子線を照射することにより簡単に得られる。
　発生するＸ線の波長は、電子が照射されるターゲットによって異なるが、１オングストローム〜数十オングストロームの波長範囲の軟Ｘ線を用いることが好ましい。特に、１オングストローム〜数十オングストロームの軟Ｘ線が好ましい。
　また、軟Ｘ線領域の電磁波としては、ターゲット電圧（加速電圧）を４ｋＶ以上とすることにより電子ビームを４ｋＶ以上に加速してターゲットに衝突させて発生させた電磁波を用いることが好ましい。さらに、ターゲット電流を６０μＡ以上とすることにより発生させた電磁波を用いることが好ましい。
　なお、軟Ｘ線領域の電磁波が照射されるガス（帯電中和構造の場合は帯電物体の雰囲気ガス）は、空気の他に、例えば、窒素ガス、アルゴンガスであっても本発明は適用可能である。このガスは、気流ガスでなくともよい。例えば、帯電物体の中和の場合、気流ガスでなくとも帯電物体の十分な中和作用を行えることが本発明の一つの特徴である。もちろんＸ線ユニットからのＸ線領域の電磁波はの照射を帯電物体から離れた位置において行う場合には、雰囲気ガスを帯電物体に向かう気流ガスとすることが好ましい。なお、不純物濃度が数ｐｐｂ以下である純窒素ガス雰囲気の場合、特に顕著な効果が得られる。　また、雰囲気空気の圧力は、１０００Ｔｏｒｒ〜１Ｔｏｒｒとすることが好ましく、１０００Ｔｏｒｒ〜２０Ｔｏｒｒとすることがより好ましい。
　本発明に係る気体イオン発生装置は、例えば、帯電物体の中和を目的とする場合に好適に適用される。また、中和以外の目的とする場合にも適用される。中和を目的とする場合は、例えば、クリーンルーム、ウエハ・液晶基体等、搬送装置、ウエット処理装置、イオン注入装置、プラズマ装置、イオンエッチング装置、電子ビーム装置、フィルム製造装置その他の帯電物体を取り扱う装置等に好適に適用できる。一方、各種目的をもって、例えば、建物、乗物（例えば、自動車、飛行機、電車等）等の居住室、あるいは植物栽培室等にも適用される。
　なお、本発明者は、生成されるイオン対の濃度を１０４〜１０８イオン対／ｃｍ３・ｓｅｃとすることが好ましく、１０５〜１０８イオン対／ｃｍ３・ｓｅｃとすることがより好ましいことを見いだした。かかる濃度の場合、イオンの寿命が１０〜１０００秒であることも見いだした。従って、イオン濃度を１０３〜１０４（イオン対／ｃｍ３）なるイオン濃度でイオンを生成せしめ、軟Ｘ線領域の電磁波が照射される気流ガスの位置と帯電物体との距離Ｌを、次の関係をもたせて設定すれば帯電物体の中和を十分に行なうことができる。
　　　Ｌ／ｖ＜１０〜１０００
　Ｌ：照射位置と帯電物体との距離（ｍ）
　Ｖ：気流ガスの速度（ｍ／ｓｅｃ）
　なお、本発明は、前述したものも、例えば、搬送装置、イオン注入装置、プラズマ反応装置、イオンエッチング装置、電子ビーム装置、フィルム製造装置、その他の帯電物体の中和を必要とする装置に好適に適用できることはいうまでもない。
作用
　本発明においては、軟Ｘ線領域の電磁波の照射によるガス分子及び原子のイオン化を利用して、正イオン及び負イオンまたは電子を生成させるものである。
　このイオン化法によれば、前述したコロナ放電イオン化法や紫外線照射イオン化法が有している問題点がすべて解決される。
　コロナ放電法では放電電極先端部で放電時のスパッタ作用などにより発塵を生じていたが、本発明では発塵を伴うことなく正負の電荷の発生が可能である。
　また、コロナ放電法では、正負の電荷は、放電電極に印加される極性に同調して周辺に供給されるために、正負の空間電位が発生し、その結果、除電物体（帯電物体）には残留電位が発生する。そして、残留電位をさげるためにイオン生成器を除電物体から遠ざけざるを得なかった。それに対して、本発明では、除電物体周辺では常に同数の正負電荷が生成されていることから、除電後は、空間電位の片寄りがなく、除電物体には残留電位が発生しない。従って、所望の位置までＸ線ユニットを除電物体に近づけることができ、高い除電性能を達成することができる。
　なお、Ｘ線ユニット内部では高圧電圧が印加されているが、ケーシングで静電遮蔽されているために外部には電界は出てこない。そのため、コロナ放電法で問題となる放電電極からの誘導電圧はまったく生じない。従って、Ｘ線ユニットを所望の位置まで除電物体に近づけることに問題はない。
　本発明の大きな特徴は、空気等酸素を含むガスを用いてもオゾンの発生を伴わずにガスをイオン化できることにある。従って、半導体ウエハの酸化や高分子材の劣化等の従来法の問題点を解決することができる。
　オゾン発生については、光子のエネルギが数百ｅＶ〜数ｋｅＶオーダーで非常に高いために、効率よくガス分子及び原子はイオン化することができ、その結果、オゾン生成に最も寄与すると考えられる中性の酸素原子ラジカル数は少なくなり、オゾンの発生は抑制される。
　ガス分子及び原子は、軟Ｘ線領域の電磁波を吸収して直接イオン化に至る。ガス分子及び原子のイオン化エネルギーはせいぜい十〜二十数ｅＶ程度で、軟Ｘ線領域の光子エネルギーの数十〜数百分の一である。従って、１光子により複数の原子分子のイオン化または２価以上のイオン生成が可能である。
　帯電物体の周辺のガス雰囲気に向けて軟Ｘ線を照射することにより、高濃度のイオン及び電子を生成し、帯電物体の電荷の中和を行う。この場合、帯電物体周辺のガスの種類に関係なく、どのようなガスでもほぼ同等の除電性能が得られる。また、コロナ放電イオン化法による中和と違って、ガスのイオン化が帯電物体近傍で可能なことから、生成されたイオン及び電子を効率よく中和に使うことができ、その結果、除電性能が飛躍的に高くなる。また、イオン化したガスを配管等で搬送する場合に比べて、除電性能は１００〜１０００倍向上する。
発明を実施するための最良の形態
　以下に本発明の実施例を説明する。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではなく、当業者が容易に行うことができる設計変更、数値変更、迂回等も当然に本発明の範囲に含まれることはいうまでもない。
　（実施例１）
　本発明による帯電ウエハの中和実験について、得られたデータを示しながら説明する。
　実験装置を図４に示す。ＳＵＳ製チャンバ４１に、外部から軟Ｘ線が照射できるように、側壁に入射口４２が設けられ、その入射口４２にはさらに直径５０ｍｍ、長さ１２のポート４３が取り付けられている。ポート４３の長さ１２は、ポート４３の先端の開口から帯電物体（ウエハ）４４が見込めない（すなわち、先端開口からウエハが見えない）ような長さに設定しておけばウエハ４４へのＸ線の直射を防止することができる。なお、本例ではこのポート４３を二重筒構造とし、外筒４５が摺動可能となっている。従って、仮にウエハ４４の大きさが変わる等により、ウエハ４４と入射口４２との距離１１が変化しても外筒４５をスライドさせることによりボート４３の長さ１２を自在に変化させれば、ポート先端の開口からウエハ４４が見込めないようにすることができる。
　また、このポート４３の先端開口にはチャンバ４１内と外部を隔離するためのフィルタ４６を取付られるようになっている。雰囲気ガス（例えば、Ｎ２，Ａｉｒ，Ａｒ）は、チャンバ４１の一端（図面上右側）に設けられたガス入口４７から入れられる。なお、本例では、ガス入口４７に３方弁４８ａを設け、導入ガスの切り替えが可能となっている。また、チャンバー４１の他端（図面上左）にはガス出口４９が設けられ、ガス出口４９にも３方弁４８ｂが設けられ、３方弁４８ｂの一つはオゾンメータ５０に接続されている。オゾン濃度は、このオゾンメータ５０により排気側でモニターされる。
　評価実験を行うために、ウエハ４４の近傍に電極５１を設け、直流電源によりウエハ４４にある所定の初期電位を印加し得るようにしてある。そして、ウエハ４４には表面電位計が接続されている。ウエハ４４の表面電位の減衰時間を表面電位計でモニターすることによって除電性能を評価した。
　実験に使用したＸ線ユニット５２の仕様を以下の通りである。
　　　　　ターゲット材：Ｗ
　　　　　ターゲット電圧：２〜９．７ｋＶ
　　　　　ターゲット電流：０〜１８０μＡ
　図４に示す装置を用い、次の項目について実験を行った。
　１）除電性能のターゲット電圧・電流の依存性
　まず、次の実験条件でターゲット電圧の依存性を調べた。
　　ウエハ静電容量：１０ｐＦ
　　雰囲気ガス　　：空気、純窒素（不純物濃度が数ｐｐｂ以下の窒素）
　　ターゲット電圧：４〜９．７ｋＶ
　　ターゲット電流：１２０μＡ一定
　　１１　　　　　　：１１ｃｍ
　　１２　　　　　　：　９ｃｍ
　初期ウエハ電位を±３ｋＶとし、上記条件で発生させた軟Ｘ線を雰囲気ガスに照射し、ウエハ電位が±０．３ｋＶになるまでの時間を測定した。
　その・結果を図５に示す。
　次に、次の実験条件でターゲット電流の依存性を調べた。
　　ウエハ静電容量：１０ｐＦ
　　雰囲気ガス　　：空気、純窒素（不純物濃度が数ｐｐｂ以下の窒素）
　　ターゲット電圧：８ｋＶ
　　ターゲット電流：３０〜１８０μＡの範囲で変化
　　１１　　　　　　：１１ｃｍ
　　１２　　　　　　：　９ｃｍ
　なお、除電性能は、初期ウエハ電位を±３ｋＶとし、上記条件で発生させた軟Ｘ線を雰囲気ガスに照射し、ウエハ電位が±０．３ｋＶになるまでの時間を測定することにより評価した。
　その結果を図６に示す。
　図５、図６に示すように、帯電物体の除電時間はターゲット電圧及びターゲット電流に大きく依存することが分かる。特に前者の依存性は非常に大きい。ターゲット電圧が４ｋＶ以下では、ほとんど除電能力がなく、ガスのイオン化率が非常に低いことが分かる。この場合、ターゲット電圧が６〜７ｋＶ以上であれば、帯電物体の除電を極めて短時間で行うことができる。
　電流依存性は、電圧依存性に比べて小さいが、短時間の中和を行うためには、ターゲット電流を６０μＡ以上とすることが好ましい。
　ところで、図５、図６ともに、空気中と純窒素（不純物濃度数ｐｐｂ以下の窒素）中とでは少し除電傾向が異なっている。空気中では、正負とも同じ除電性能であるが、純窒素中では正電荷の除電性能が高くなっている。この違いは、負イオン源の存在率の差にある。つまり、空気中では、酸素やＣＯ２、ＮＯＸ、ＳＯＸ等が、ガス分子より電離された電子と結合して比較的安定な負イオンを生成する。従って、帯電電荷を中和するのは、移動度がほぼ同等な正及び負のイオンである。
　一方、純窒素中では、この様な負イオン源はほとんど存在せず（ｐｐｂレベル以下）、そのためガス分子から電離された電子の多くは負イオンを形成することなく直接正電荷の中和に寄与する。この電子の電界中での移動度は、イオンに比べて数桁大きい。従って、生成された電子は帯電物体まで非常に短時間で達することができ、正イオンとの再結合による中和及び拡散による消滅が抑えられ、効率よく帯電物体の中和に寄与する。この結果、正電荷の除電速度が速くなっているのである。
　２）除電性能の照射窓材質依存性
　軟Ｘ線は、硬Ｘ線とは違って、物質に非常に吸収され易い。従って、ある特殊雰囲気内での除電において、フィルタ窓を介して内部に軟Ｘ線が照射された場合、除電性能の低下が考えられる。
　これを次の条件で実験を行い確認した。フィルター無しの場合、放射線に対して比較的安定で透過率の高いポリイミドフィルム、厚さ２ｍｍの合成石英の場合について除電性能を比較した。
　　ウエハ静電容量：１０ｐＦ
　　雰囲気ガス　　：空気
　　ウエハ電位　　：±３００Ｖ→±３０Ｖ
　　ターゲット電圧：８ｋＶ
　　ターゲット電流：１２０μＡ
　　１１　　　　　　：１１ｃｍ
　　１２　　　　　　：　９ｃｍ
　　ポートの先端開口：▲１▼フィルタ無し
　　　　　　　　　　　▲２▼０．１２ｍｍのポリイミドフイルム設置、
　　　　　　　　　　　▲３▼２ｍｍの合成石英設置
　測定結果は次の通りであった。
　　　　　　　　　　　　　　　＋３００Ｖ→＋３０Ｖ　　−３００Ｖ→−３０Ｖ
　　　　　　　　　　　　　　　までの除電時間　　　　　　までの除電時間
▲１▼フィルター無し　　　　　　　　　１．０６　　　　　　　　　１．２１
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（１）　　　　　　　　　　（１）
▲２▼ポリイミドフイルム０．１２ｍｍ　１．２９　　　　　　　　　１．４８
　　　　　　　　　　　　　　　　　　（０．８２）　　　　　　　（０．８２）
▲３▼合成石英２ｍｍ　　　　　　　　　　−　　　　　　　　　　　　−
（単位はｓｅｃ／１０ｐＦ括弧内はフィルター無しを１とした場合の除電時間比）
　ポリイミドフィルムからなるフィルタの場合除電性能は比較的よく、フィルタ無しに比べて８２％の除電性能が得られた。一方、合成石英窓では、除電効果は完全になくなってしまい、軟Ｘ線がほぼ１００％吸収されてしまっていることが分かる。
　この結果から、この様な特殊雰囲気（例えば、雰囲気ガスを気密化した閉鎖系（ｃｌｏｓｅｄ　ｓｙｓｔｅｍ））中で、フィルタを介して軟Ｘ線を照射する場合、放射線に対して比較的透明なポリイミドのような材質からなるフィルタを使用することが好ましい。
　３）除電性能の雰囲気ガス圧力依存性
　次に、除電性能の雰囲気圧力依存性について調べた。実験条件は以下の通りである。
　　ウエハ静電容量：１０ｐＦ
　　雰囲気ガス　　：空気
　　ターゲット電圧：８ｋＶ
　　ターゲット電流：１２０μＡ
　　１１　　　　　　　：１１ｃｍ
　　１２　　　　　　　：　９ｃｍ
　なお、除電性能は、初期ウエハ電位を±３００Ｖとし、上記条件で発生させた軟Ｘ線を雰囲気ガスに照射し、ウエハ電位が±３０Ｖになるまでの時間を測定することにより評価した。
　結果を図７に示す。
　除電性能は明らかに雰囲気圧力に依存して変化していることがわかる。１００ｔｏｒｒぐらいまでは、徐々に性能は良くなっており、最高で約２倍速く除電が出来ている。しかし、それ以降はどんどん遅くなっており、約２０ｔｏｒｒにおいて大気圧時とほぼ同じとなり、１ｔｏｒｒでは１０倍遅くなっている。この結果から、１ｔｏｒｒ程度までの減圧下では、除電が可能であるが、それ以下では除電時間が非常に長くなり、あまり有効でない。
　４）除電雰囲気のオゾン濃度
　空気中における除電でしばしば問題になるオゾン発生について実験を行った。
　実験条件は下記の通りとした。
　　　　雰囲気ガス　　：空気
　　　　ターゲット電圧：９．７ｋＶ
　　　　ターゲット電流：１９０μＡ
　　　　１２　　　　　　：　９ｃｍ
　図４のオゾンメータ５０でオゾンの発生量を測定した。オゾン濃度は、図４に示したようにチャンバ４１内のガスを２１／ｍｉｎの吸引量で引きオゾンメータ５０により測定した。なお、測定は、Ｘ線領域の電磁波照射３０分後に行った。
　結果を次に示す。なお、比較のためにバックグランド（Ｂ．Ｇ）の濃度、及び紫外線照射（ＵＶ照射）の場合におけるオゾン量も併せて示す。
　　実施例　　　　　：８〜１０ｐｐｂ
　　Ｂ．Ｇ．　　　　：８〜１０ｐｐｂ
　　ＵＶ照射　　　　：２０ｐｐｍ（３０分後）
　測定の結果、軟Ｘ線照射時であってもオゾン濃度上昇はまったくなく、これにより発生濃度はｐｐｂレベル以下であることが実証された。
　一方、比較のために行った紫外線照射の場合では、オゾン濃度は２０ｐｐｍ（Ｂ．Ｇ．値の約２０００倍）まで上昇した。
　以上のように、軟Ｘ線による静電気中和性能は非常に優れている。オゾンの発生を伴わずに、高濃度のイオン対の生成が可能で、その結果、短時間で帯電物体の電荷を中和することが出来る。また、この軟Ｘ線は、減衰が速いために、人体に照射されないような遮蔽対策も非常に容易である。
　なお、軟Ｘ線ランプの放射光をより集光させ平行光に近づけるために、放射部には遮蔽板（好ましくはＸ線を全反射し得る遮蔽板）を設けることが有効となる。
　（実施例２）
　図８に、クリーンルーム８０の室内にＸ線ユニット８１を設置した場合の実施例を示す。
　本例では、クリーンルーム８０の天井面に略平行に軟Ｘ線が照射されるようにＸ線ユニット８１を天井８２に取付て配設してある。軟Ｘ線を天井面に略平行に照射するのは、クリーンルーム８０内の人間、あるはウエハ（あるいは液晶基板等）８５へのＸ線の照射を防止するためのである。
　なお、天井８２には除塵のためのフィルター８３が設けられており、また、天井８２から床８４に向かういわゆるダウンフローの空気流Ａを生ぜしめてある。そして、Ｘ線ユニット８１から放射されるＸ線は、空気流の上流部に照射されるため、Ｘ線照射により生成したイオン、電子は、空気流により下流にあるウエハ８５に運ばれ、ウエハを８５中和する。
　なお、本例では、Ｘ線ユニット８１は天井８２に取り付けたが、クリーンルーム８０内の人間あるいは、ウエハ８５への照射を避けることができる位置ならば天井８２に限ることはない。
　（実施例３）
　図９は、ウェットベンチ９０へＸ線ユニット９１を配設した例を示している。
　一方、図１０は、ウエハあるいは液晶基板１０１の開放系（ｏｐｅｎ）搬送装置にＸ線ユニット１０２を配設した例を示している。図１０に示す搬送装置１０３においては、Ｘ線ユニット１０２を可能な限りウエハ１０１に近づけるとともに、人体への被爆を避けるためにＸ線を遮蔽するための遮蔽板１０４を設けてある。
　（実施例４）
　また、図１１はウェット工程での除電への適用例を、図１２はスピンドライヤ乾燥での除電への適用例をそれぞれ示している。　　　　
　一方、図１３は、閉じた系（ｃｌｏｓｅｄ）の搬送系に適用した例を示している。この例では、搬送室の下方から窒素ガス（ウエハの表面酸化を防止する場合は不純物濃度数ｐｐｂ以下の窒素ガス）あるいは水分濃度数ＰＰｂ以下の空気を噴射させることによりウエハの浮上搬送を行っている。ウエハは搬送室からロードロックチャンバー（ロードロック室）を介してプロセス装置に搬入される。Ｘ線ユニットは、搬送室の搬送方向の側面とロードロック室の側面に設けてある。なお、搬送室は、軟Ｘ線に対し透明な材質、例えば、ポリイミドにより形成し、ポリイミドを通して、軟Ｘ線を搬送室内の雰囲気ガスに照射してもよい。
　ただ、ウエハの表面酸化を防止するために、搬送室は、表面に熱酸化により形成した不動態膜を有するステンレス鋼により構成し、搬送用のガスとして、不純物濃度が数ｐｐｂ以下の窒素ガスを用いることが試みられている。なお、表面におけるＣｒ／Ｆｅ（原子比）が１以上である不動態膜を形成したステンレス鋼を用いれば、表面からの水分放出を防止することができより好ましい。
　また、搬送室の側面に図４に示したようなポートを形成し、該ポートの開口を介して軟Ｘ線を搬送室内の雰囲気ガス（搬送用窒素ガスが雰囲気ガスとなる）に照射すれば搬送室内の搬送ガスに軟Ｘ線を照射することができる。なお、ポート長さ（図４の１２）は、ポートの先端開口から搬送室内のウエハが見込めない（すなわち、先端開口からウエハが見えない）寸法としてある。この寸法は、ウエハの径、Ｘ線照射口とウエハとの距離（図４の１１）等により変わるので、ポート長さを変え得る構造としてある。
　本例の搬送装置は、閉鎖系（ｃｌｏｓｅｄ）であるので、ポートの先端開口にはポリイミドを形成してある。
　（実施例５）
　図１４に建物の居住室に係る実施例を示す。すなわち、図１４には建物の居住室が示してある。
　本例では、居住室の天井に空気導入管が設けられており、この空気供給管を通じて外部から送られる空気が、空気供給管の供給口を介して居住室の内部に導入される。
　そして、空気供給管には、Ｘ線ユニットが設けられており、空気供給管に開口が設けられており、その開口を介して、Ｘ線ユニットからの軟Ｘ線を空気供給管内を流れる空気に照射される。なお、開口を設けずに、空気供給管を、ポリイミド等の軟Ｘ線に対して透明な材質により構成してもよいことはいうまでもない。
　軟Ｘ線が照射されると、空気中には、正イオンと負イオン及び／又は電子が生成し、正イオンど負イオン及び／又は電子を含む空気は、空気流に乗って居住室の内部にもたらされる。
　約５坪の居住室を作り、図１４に示す構成でＸ線ユニットを配設し、軟Ｘ線を照射した場合（実施例）と照射しない場合（比較例）とにつきテストを行った。
　パネラーの数は２０人とし、体感により評価した。
　Ｘ線を照射した場合、Ｘ線を照射しない場合よりも、室内が爽やかであると答えた人数は１５名であった。Ｘ線を照射した場合とＸ線を照射しない場合とで変わりはないと答えた人は５名であった。
　図１４のテーブル上にガイガーカウンターを設けておき、Ｘ線の被爆量を測定したところ、Ｘ線を照射した場合と照射しない場合とでカウンター数は同じであった。
　（実施例６）
　図１５に植物栽培室に係る実施例を示す。すなわち、図１５には、植物（花、野菜等）の栽培室が示してある。
　図１５の構成で軟Ｘ線の照射を日夜を通し１週間行った。１週間後に花の葉の色を観察したところ、軟Ｘ線を照射しない場合よりも鮮やかな緑色を呈していた。
　なお、Ｘ線ユニットの配設は、図１４に示すように行ってもよいこともいうまでもない。
　（実施例７）
　本実施例においては、液晶製造装置におけるガラス基板搬送時及び洗浄時に生じる帯電を、本発明及び従来の除電装置を用いて除電しその結果を比較した。
　ガラス基板の搬送系で行った除電の様子を図１７に示す。ガラス基板は、ゴムリングにより、左方から搬送され円形ステージ上で一度位置合わせをした後、右側のキャリアに収納される。本実施例では位置合わせ部で除電を行い、基板への照射角度を図に示すようにして除電特性を測定した。尚、従来の除電装置として、コロナ放電法を用いたブロアー式イオナイザーについても同様の条件で測定を行った。測定結果を図１８に示す。
　図１８において、縦軸は帯電電位、横軸は経過時間である。点線は軟Ｘ線、実線はイオナイザによる除電特性を示す。除電しないときの帯電電位は、表面電位計の限界−３．３ｋＶを常に越えた値を示した。本実施例の軟Ｘ線により除電した場合、除電開始後は、ピーク電位は最大時でも−０．４ｋＶであり、０ｖまでの除電時間はたかだか２秒程度であった。また、照射角度による除電性能の変化は全く認められないことが分かった。一方従来のイオナイザを用いた場合には、除電性能は照射角度に大きく依存し、しかも本実施例に比べ除電性能は大きく劣ることが分かった。例えば、ピーク電位は−３ｋＶに達する場合があり、時間も少なくとも５秒以上かかった。
　次にガラス基板洗浄時の除電の様子を図１９に示す。超純水でオーバーフロー洗浄した後、槽内から基板を引き上げる際、基板の電位は−３．３ｋＶ以上に達した。図２０に引き上げと同時に除電を行った場合の除電特性の測定結果を示す。軟Ｘ線照射により、最高帯電電位は０．１ｋＶ以下に抑えられ、しかも０Ｖになるまでの時間も１秒程度であり、帯電を効果的に防止できることが分かる。一方、イオナイザーを用いた場合は、最大で１．７ＫＶに達し、除電時間も４〜５秒かかった。
　以上述べたように、本発明によりガラス基板であっても帯電した電荷を短時間で完全に除電でき、且つ帯電を防止することも可能である。
産業上の利用可能性
　本発明による、軟Ｘ線照射によるイオン発生装置を用いれば、発塵を伴うことなく、正負のイオンを生成せしめることが可能となる。
　また、帯電物体を中和する際には、どの様な雰囲気下でも帯電物体の電荷を短時間で中和することが可能となり、帯電箇所にこの装置を適用することにより静電気の発生を完全に防止できる。
　このことは、半導体や液晶製造における、静電気障害による欠陥の発生や製品の信頼性低下の防止につながり、製造歩留まりを上昇させるものである。特に、今までこの静電気の問題で純粋なフッ素樹脂系のウエハキャリヤの採用が問題になっていたが、この除電法の適用によりそのような心配が完全になくなった。
（５７）【特許請求の範囲】
１．　帯電物体の周辺の雰囲気空気に向けてターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた１Å以上２Å未満の波長の軟Ｘ線を直接照射しえる適宜の位置に軟Ｘ線ユニットが配設されていることを特徴とする帯電物体の中和構造。
２．　前記雰囲気空気は帯電物体方向に向かう気流空気であり、該帯電物体よりも上流側における空気に向けて軟Ｘ線領域の電磁波を直接照射しえるように、前記軟Ｘ線ユニットが配設されていることを特徴とする請求項１記載の帯電物体の中和構造。
３．　清浄な空気が、天井から床に向かいダウンフローしているクリーンルームにおいて、天井面に対し略平行にターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた１Å以上２Å未満の波長の軟Ｘ線を直接照射しえるようにして軟Ｘ線ユニットが配設されていることを特徴とするクリーンルーム。
４．　プロセス装置へ被処理物体を搬送するための搬送室を有する搬送装置において、前記搬送室内の雰囲気ガスにターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた１Å以上２Å未満の波長の軟Ｘ線を直接照射しえるようにしてＸ線ユニットを配設したことを特徴とする搬送装置。
５．　プロセス装置へ被処理物体を搬送するだめの搬送室を有する搬送装置において、前記搬送室内の雰囲気ガスに１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線を直接照射しえるようにして軟Ｘ線ユニットを配設した搬送装置であり、
　前記搬送室とプロセス装置との間にロードロック室を介在せしめ該ロードロック室内の雰囲気ガスに１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線を直接照射しえるようにして軟Ｘ線ユニットを配設したことを特徴とする搬送装置。
６．　プロセス装置へ被処理物体を搬送するための搬送室を有する搬送装置において、前記搬送室内の雰囲気ガスに１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線を直接照射しえるようにして軟Ｘ線ユニットを配設した搬送装置であり、
　前記搬送室を、１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線に対して透明な材質により形成したことを特徴とする搬送装置。
７．　前記１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線に対して透明な材質としてポリイミドを用いることを特徴とする請求項６記載の搬送装置。
８．　プロセス装置へ被処理物体を搬送するための搬送室を有する搬送装置において、前記搬送室内の雰囲気ガスに１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線を直接照射しえるようにして軟Ｘ線ユニットを配設した搬送装置であり、
　前記搬送室を、Ｃｒ／Ｆｅ（原子比）が１以上の熱酸化不動態膜を表面に有するステンレス鋼により形成するとともに、搬送室の適宜の位置に１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線を直接照射するための入射口を設け、該入射口を介して１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線を搬送室内の雰囲気ガスに直接照射するようにしたことを特徴とする搬送装置。
９．　前記入射口に、外部側に突出するポート部を設け、該ポート部の長さを、ポート部の先端開口から搬送室内の被処理物体を見込むことができないような長さに設定し、該ポート部の先端開口に１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線に対して透明な材質からなるフィルタを設けたことを特徴とする請求項８記載の搬送装置。
１０．　プロセス装置へ被処理物体を搬送するための搬送室を有する搬送装置において、前記搬送室内の雰囲気ガスに１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線を直接照射しえるようにして軟Ｘ線ユニットを配設した搬送装置であり、
　前記搬送装置は、搬送室の下方からガスを噴出させることにより被搬送物を浮上搬送させる搬送装置であることを特徴とする搬送装置。
１１．　搬送室の下方から噴出するガスは不純物濃度が数ｐｐｂ以下の窒素ガス又は水分濃度が数ｐｐｂ以下の空気であることを特徴とする請求項１０記載の搬送装置。
１２．　外部から植物栽培室の内部に空気を供給するための空気導入手段を有する植物栽培室において、前記空気に１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線を直接照射することにより、該空気中に正イオンと負イオン及び／又は電子を生成する手段を設けたことを特徴とする植物栽培室。
１３．　ターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた１Å以上２Å未満の波長の軟Ｘ線を、加圧、大気圧又は減圧下にある空気に直接照射することにより、該空気中に正イオンと負イオン及び／又は電子を生成させることを特徴とする軟Ｘ線照射を用いた正負の電荷発生方法。
１４．　ターゲット電圧６ｋＶ以上で発生させた１Å以上２Å未満の波長の軟Ｘ線を帯電物体の周辺の雰囲気空気に直接照射することにより、該雰囲気空気をイオン化させて正イオンと、負イオン及び／又は電子とを生成し、この生成された正イオンにより負電荷を、負イオン及び／又は電子により正電荷を中和することを特徴とする帯電物体の中和方法。
１５．　１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線を、加圧、大気圧又は減圧下にある空気に直接照射することにより、該空気中に正イオンと負イオン及び／又は電子を生成させる軟Ｘ線照射を用いた正負の電荷発生方法であって、前記１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線はターゲット電流を６０μＡ以上とすることにより発生させた電磁波であることを特徴とする帯電物体の中和方法。
１６．　１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線を、加圧、大気圧又は減圧下にある空気に直接照射することにより、該空気中に正イオンと負イオン及び／又は電子を生成させる軟Ｘ線照射を用いた正負の電荷発生方法であって、前記雰囲気空気は、水分濃度が数ｐｐｂ以下であることを特徴とする帯電物体の中和方法。
１７．　１Å〜数百Åの波長の軟Ｘ線を、加圧、大気圧又は減圧下にある空気に直接照射することにより、該空気中に正イオンと負イオン及び／又は電子を生成させる軟Ｘ線照射を用いた正負の電荷発生方法であって、前記雰囲気空気の圧力は、１０００Ｔｏｒｒ〜１Ｔｏｒｒであることを特徴とする帯電物体の中和方法。
１８．　前記雰囲気空気の圧力は、１０００Ｔｏｒｒ〜２０Ｔｏｒｒであることを特徴とする請求項１７記載の帯電物体の中和方法。