(57)【要約】  固体材料及び典型的には基材を備える構造体を作製するための装置であって、前記装置が、第１のエンドレス運動表面及びそれに隣接する１つ以上の定常一次（真空）ガス容器（チャンバ）を有し、そのうちの少なくとも１つが、二次（真空）ガス容器に接続され、一次容器と二次容器との間の圧力差が最小化される、装置、並びにそのような装置を使用する方法。
2013530752.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固体材料及び基材を備える構造体を作製するための装置であって、前記装置が、固体材料を受容し及び／又は移動させ、前記固体材料を第２の運動表面に放出するための第１のエンドレス運動表面を有し、
−前記表面が、ガスを通過させるための多数の開口部を有し、
−前記装置が、前記表面からの前記固体材料の放出を促進するために、前記開口部を通じて前記第１のエンドレス運動表面にガスを適用するためのガス供給システムを備え、
−前記ガス供給システムが、一次ガス容器と、前記一次ガス容器に接続される少なくとも１つの二次ガス容器と、場合によっては、二次ガス容器に接続される三次ガス容器と、を備え、前記一次ガス容器が、前記第１のエンドレス運動表面に隣接して、それとガス連通しており、
−前記一次ガス容器内の圧力（Ｐ１）と前記二次ガス容器内の圧力（Ｐ２）との間の圧力差が、０％を超えかつ４０％未満であり、
好ましくは、前記一次ガス容器内の圧力（Ｐ１）及び前記二次ガス容器内の圧力（Ｐ２）が、いずれも少なくとも１ｋＰａである、装置。
【請求項２】
固体材料を受容し及び／又は移動させるための第１のエンドレス運動表面を有する、固体材料及び基材を備える構造体を作製する装置であって、
−前記表面が、ガスを通過させるための多数の開口部を有し、
−前記装置が、前記表面上で前記固体材料の保持を促進するために、前記表面の前記開口部を通じて真空吸引を適用するための真空システムを備え、
−前記真空システムが、一次真空ガス容器と、前記一次真空ガス容器に接続される１つ以上の二次真空ガス容器と、場合によっては、二次真空ガス容器に接続される三次真空ガス容器と、を備え、前記一次真空ガス容器が、前記第１のエンドレス運動表面に隣接して、それとガス連通しており、
−前記一次真空ガス容器内の圧力（Ｐ１ｖ）と前記二次真空ガス容器内の圧力（Ｐ２ｖ）との間の差が、０％を超えかつ４０％未満であり、好ましくは、前記一次真空ガス容器内の圧力（Ｐ１ｖ）及び前記二次真空ガス容器内の圧力（Ｐ２ｖ）が、いずれも−１ｋＰａ以下である、装置。
【請求項３】
固体材料の受容領域Ａ及び／又は固体材料の移動領域Ｂを備え、前記表面上で前記固体材料の保持を促進するために、前記表面の前記開口部を通じて真空吸引を適用するための真空システムを備え、
前記真空システムが、一次真空ガス容器と、場合によっては、前記一次真空ガス容器に接続される１つ以上の二次真空ガス容器と、場合によっては、二次真空ガス容器に接続される三次真空ガス容器と、を備え、前記一次真空ガス容器が、前記第１のエンドレス運動表面に隣接して、それとガス連通しており、前記一次真空ガス容器内の圧力（Ｐ１ｖ）と、前記任意の二次真空ガス容器内の圧力（Ｐ２ｖ）との間の圧力差が、０％を超えかつ４０％未満である、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記一次ガス容器及び／又は一次真空ガス容器が、２．０リットル未満、又は例えば１．０リットル未満の容積Ｖ１を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項５】
前記二次ガス容器及び／又は前記二次真空ガス容器が、前記容積Ｖ１よりも大きな容積Ｖ２を有し、Ｖ２が、少なくとも１．３リットル、又は例えば少なくとも２．７リットルである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項６】
Ｖ２が、少なくとも３．０リットルであるか、又は例えば少なくとも３．４リットルであり、場合によっては最大１５リットルである、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
Ｐ１及びＰ２が、５ｋＰａ〜１５ｋＰａの範囲内である、請求項１又は３に記載の装置。
【請求項８】
一次ガス容器と、それに接続される二次ガス容器との間、及び／又は一次真空ガス容器と、それに接続される二次真空ガス容器との間のガス流の平均ガス流量が、少なくとも３００Ｎｌ／分であり、好ましくは少なくとも４００Ｎｌ／分である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の装置。
【請求項９】
前記一次ガス容器からそれに接続される前記二次ガス容器まで、及び／又は前記一次真空ガス容器からそれに接続される前記二次真空ガス容器までの最大距離Ｄが、５メートル未満であり、好ましくは２メートル未満である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１０】
前記二次ガス容器及び／若しくは前記一次ガス容器、並びに／又は前記一次真空ガス容器及び／若しくは前記二次真空ガス容器が、（それぞれ）１つ以上のガス注入口を有し、前記ガス注入口は（それぞれ）少なくとも１００ｍｍ２の断面表面積を有する、請求項１〜９のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１１】
前記第１のエンドレス運動表面が、円筒面であり、円筒形ステータの周囲を回転可能に移動し、前記一次ガス容器及び／又は前記一次真空ガス容器が、前記ステータによって収容されるチャンバである、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１２】
前記第１のエンドレス運動表面が、前記固体材料を内部に保持し、そこから前記固体材料を放出するための空隙容積を有する多数のリザーバを備え、前記リザーバのそれぞれが、前記一次ガス容器及び／又は一次真空ガス容器に接続されるか、又は接続可能である、前記開口部のうちの１つ以上を有し、前記第１のエンドレス運動表面の外側表面積の少なくとも３０％、好ましくは少なくとも４０％、及び例えば最大５５％まで、又は場合によってはその中心領域が、前記リザーバを備える、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか一項に記載の装置を使用して、固体材料を受容し及び／若しくは移動させるため、又は固体材料を受容し又は移動させ及び第２のエンドレス運動表面に放出するため、あるいはその組み合わせのための方法。
【請求項１４】
前記固体材料が、最大２ｍｍ、又は好ましくは、５０マイクロメートル〜２ｍｍ、又は例えば１ｍｍまでの質量メジアン粒径の粒子を有する、粒子状材料である、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記第１のエンドレス運動表面が、少なくとも４．５ｍ／秒の表面速度を有する、請求項１３又は１４に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、固体材料及び典型的には基材を備える構造体を作製するための装置を目的とするものであり、前記装置は、第１のエンドレス運動表面と、それに隣接して、それと連通する１つ以上の定常一次（真空）ガス容器（チャンバ）とを備え、そのうちの少なくとも１つが、二次（真空）ガス容器に接続され、一次容器と二次容器との間の圧力差が最小化される。本発明はまた、このような装置を使用する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
過去数十年に、繊維及び／又は超吸収性ポリマー粒子（ＳＡＰ粒子）（吸収性ゲル化ポリマー粒子（ＡＧＭ粒子）とも呼ばれる）を有する吸収性コアを作製するための多様なプロセスが提案されてきたが、これには、１つ以上のリザーバを有する、ドラム表面のような運動表面上に前記材料を置き、例えば真空によって前記表面上に保持するプロセスが含まれる。これらの方法に含まれる間接的印刷法は、繊維及び／又はＡＧＭ粒子の大量貯蔵装置の１つ以上からＡＧＭ及び／又は繊維をドラムによって取り込み、次いで例えば不織布のような基材の方へドラムを回転させ、次いでＡＧＭ及び／又は繊維を基材上に放出する。ドラムは、それぞれが、次いで繊維及び／又はＡＧＭで満たされる、例えば吸収性（おむつ）コア等の構造体の形状をした、１つ以上のリザーバを有してもよい。しかしながら、高速では、そのような完全な構造体を、例えば運動不織布ウェブのような第２の表面に、高速で、完全かつ／又は正確に移動させることは難しい。より近年では、より小さいリザーバに繊維及び／又はＡＧＭを堆積することが提案されている。この場合、そのような多数のより小さいリザーバを併せておむつコアの形状にすることができるため、すべてのリザーバに含まれているＡＧＭを不織布ウェブのような第２の表面に移動させたときに、コアが形成される。これは、例えば欧州特許第Ａ−１６２１１６５号に記載されている。このような方法及び装置を用いて、固体材料の改善された移動を達成することができ、更には、このような装置及びプロセスは、リザーバのパターン／深さに対応する、所定のパターン、ＭＤ、ＣＤ、又は厚さプロファイル等の特異的なプロファイル又は分布を有する吸収性コアの製造に使用可能である。ＡＧＭ又は繊維は、リザーバ内のドラム表面上に、表面下の真空吸引を使用して保持されてもよい。ＡＧＭ又は繊維は、ドラム表面上の固体材料を噴出させるために、重力の使用によって、又は場合によっては追加の噴出空気の使用によって、ドラムから除去され得る。
【０００３】
発明者らは、装置及びプロセスの特徴によって、又は製造される構造体の要件によっては、このような提案される（間接的）印刷又は移動のプロセスが、例えば、高速プロセス（毎分８００部（例えば、吸収性コア等の構造体）を超えるか若しくは１０００部を超える）、又は例えば微粒子状材料が使用される場合、又は例えば運動表面（印刷ロール若しくはドラム等）が、リザーバ（例えば、本方法若しくは本装置によって製造される吸収性コアのウェブの吸収性コア間の領域に対応する）なしに、縦方向ＭＤ及び機械横方向ＣＤに延伸する実質的な領域を含む場合には、常に所望の（完全な）移動、又は固体材料の完全かつ／若しくは正確な放出を有するわけではないことを見出した。発明者らは、空気流及び／又は真空吸引は、このような場合のいくつかにおいて妨げられる可能性があること、あるいは空気流及び／又は真空が、場合によっては制御が困難である可能性があることを見出した。
【０００４】
発明者は、今回、固体材料の改善された受容／移動及び／又は放出を提供し、例えば基材上に、固体材料のより一定又は正確な移動又は付着、したがって、改善された吸収性コア形成をもたらす、新しい方法及び新しい装置を発見し、前記方法及び装置は、例えば幅広いプロセス又は装置設定又は特徴で、例えば高速でさえ、又は小型リザーバが使用される場合でさえ、又は微粒子材料が移動される場合でさえも、使用における可撓性がより高い。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】欧州特許第Ａ−１６２１１６５号
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、固体材料及び例えば基材を備える構造体を製造するための装置であって、前記装置は、固体材料を受容し及び／又は移動させ、固体材料を第２の運動表面に放出するための、例えば、基材であるか、又は基材を含む、第１のエンドレス運動表面を有し、
−前記表面は、ガスを通過させるための多数の開口部を有し、
−前記装置は、前記表面からの前記固体材料の放出を促進するために、前記開口部を通じて前記第１のエンドレス運動表面にガス（例えば、空気）を適用するためのガス供給システムを備え、
−前記ガス供給システムは、互いに接続される一次ガス容器及び二次ガス容器、並びに場合によっては前記二次ガス容器に接続される三次ガス容器を備え、前記一次ガス容器は、前記第１のエンドレス運動表面に隣接して、それとガス連通しており（例えば、しかしながら、二次ガス容器はそれと直接ガス連通しない）、
−前記一次ガス容器内の圧力（Ｐ１）と、前記二次ガス容器内の圧力（Ｐ２）との間の圧力差が、４０％未満、又は例えば３０％未満、又は例えば２５％未満、又は例えば２０％未満、又は例えば１５％未満であるが、前記差は、０％を超え、例えば少なくとも０．１％又は少なくとも１％である、装置に関する。
【０００７】
前記一次ガス容器内の圧力（Ｐ１）及び前記二次ガス容器内の圧力（Ｐ２）は、典型的に、いずれも少なくとも１ｋＰａである。
【０００８】
前記加圧ガス（例えば、空気）は、前記第１のエンドレス運動表面の、例えばそのリザーバの開口部を通過して、固体材料に（例えば、前記リザーバ内で）ガス（空気）圧力を適用し、前記第１のエンドレス運動表面から、例えば、前記リザーバからの、その放出を助ける。（これは、本明細書において、噴出空気／噴出方法ステップと称される場合がある。）固体材料は、次いで、リザーバ（１つ又は複数）から、例えば、例として基材であるか又は基材を含む、第２のエンドレス運動表面に放出され、例えば、第２のエンドレス運動表面上に材料が正確に付着される。
【０００９】
Ｐ１及びＰ２は、本明細書のいくつかの実施形態において、５ｋＰａ〜１５ｋＰａの範囲内にある。
【００１０】
いくつかの実施形態において、前記二次ガス容器は、前記一次ガス容器に、少なくとも３００Ｎｌ／分、好ましくは少なくとも４００Ｎｌ／分の流量を有する平均空気流量を提供する。
【００１１】
本発明はまた、固体材料及び典型的に基材を備える構造体を製造するための装置であって、固体材料を受容し及び／又は移動させ、例えば、固体材料を放出領域に移動させるための第１のエンドレス運動表面を有し、
−前記表面は、ガス（例えば、空気）を通過させるための多数の開口部を有し、
−前記装置は、前記表面上で前記固体材料の保持を促進するために、前記表面の前記開口部を通じて真空吸引を適用するための真空システムを備え、
−前記真空システムは、互いに接続される一次真空ガス容器及び二次真空ガス容器、並びに場合によっては前記二次真空ガス容器に接続される三次真空ガス容器を備え、前記一次真空ガス容器は、前記第１のエンドレス運動表面に隣接し（更に、例えばそれとガス連通するが、二次真空ガス容器はそれと直接ガス連通しない）、
−前記一次ガス容器内の圧力（Ｐ１ｖ）と、前記二次ガス容器内の圧力（Ｐ２ｖ）との間の圧力差が、４０％未満、又は例えば４０％未満、又は例えば３０％未満、又は例えば２５％未満、又は例えば２０％未満、又は例えば１５％未満であるが、０％を超え、しかしながら前記差は、０％を超え、例えば少なくとも０．１％又は少なくとも１％である、装置を提供する。
【００１２】
前記一次真空ガス容器内の圧力（Ｐ１ｖ）と前記二次真空ガス容器内の圧力（Ｐ２ｖ）は、典型的に、いずれも−１ｋＰａ以下である。
【００１３】
いくつかの実施形態において、前記一次ガス容器又は一次真空ガス容器は、２．０リットル未満、又は例えば１．０リットル未満の容積Ｖ１を有する。二次ガス容器又は二次真空ガス容器は、典型的に、Ｖ１よりも大きい容積Ｖ２を有する。いくつかの実施形態において、Ｖ２は、例えば少なくとも１．３リットル、又は例えば少なくとも２．７リットル、又は例えば少なくとも３．０リットル、又は例えば少なくとも３．４リットルであり、例えば場合によっては最大１５リットルである。
【００１４】
本明細書に記載の装置はまた、前記一次及び二次ガス容器（１つ又は複数）の組み合わせ、並びに、例えば、上記及び以下に記載の前記一次及び二次真空ガス容器（１つ又は複数）を含む、真空システムを有する。
【００１５】
典型的に、前記第１のエンドレス運動表面は、円筒面であり、円筒形ステータの周囲を回転可能に移動し、前記一次ガス容器（１つ又は複数）及び／又は前記一次真空ガス容器（１つ又は複数）は、前記ステータ内のチャンバ（１つ又は複数）である（しかしながら、二次ガス容器（１つ又は複数）及び／又は二次真空ガス容器（１つ又は複数）は、そうではない）。
【００１６】
一次ガス容器は、２つ以上の二次ガス容器に接続されてもよい。一次真空ガス容器は、２つ以上の二次ガス容器に接続されてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】二次ガス容器が一次ガス容器に接続された、本発明の例示的装置１の斜視図。
【図２】一次ガス容器がそれぞれ二次ガス容器に接続され、一次真空ガス容器がそれぞれ二次真空ガス容器に接続された、本発明の例示的装置１の斜視図。
【図３】一次ガス容器及び二次ガス容器を示す、本発明の装置１の部分断面図。
【図４】一次ガス容器が二次ガス容器に接続され、一次真空ガス容器が二次真空ガス容器に接続された、本発明の例示的装置１の斜視図。
【図５】一次ガス容器及び二次ガス容器を示す、例えば図３の装置である、本発明の装置１の側面図。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
装置１
本発明の装置１は、固体（例えば、粒子状）材料を受容し及び／若しくは移動させ、並びに／又はそれをそこから放出するための、第１のエンドレス運動表面４０を備える。
【００１９】
第１のエンドレス運動表面４０は、本明細書のいくつかの実施形態において、いずれの時点においても、受容領域Ａ、及び／又は移動領域Ｂ、及び／又は放出領域Ｃを有するか、あるいは、例えば前記領域のそれぞれを有する。第１のエンドレス運動表面４０は、本明細書においてＭＤ方向と称される運動（例えば、回転）方向を有する。
【００２０】
第１のエンドレス運動表面は、ガスを通過させ、典型的には固体材料を有意に通過させない、開口部を有する。
【００２１】
更に、本明細書に記載の装置は、固体材料を受容するための受容領域Ａ、及び／又は前記固体材料を移動させるための移動領域Ｂ、及び／又は前記固体材料を放出するための放出領域Ｃを有し、本装置の第１のエンドレス運動表面４０は、前記領域を通って移動する。前記領域は、以下に記載のように、それらが有する機能、例えば、受容領域Ａでは、例として、例えばホッパーであるフィーダー等の１つ以上の源からの固体材料の受容、固体材料の移動（例えば、前記受容領域から、例えばそれが放出される、移動領域内の領域へ）、放出領域内では、例えば、例として基材又は基材を含む、第２の運動表面８０への材料の放出によって、画定することができる。
【００２２】
本明細書の方法は対応する方法工程を有する。
【００２３】
本装置は、典型的に、定常受容領域Ａ及び／又は定常移動領域Ｂ及び定常放出領域Ｃを有する前記第１のエンドレス運動表面４０に隣接する、ステータとも称される定常構成要素を有する。
【００２４】
本発明の装置、及びそのステータ、及びその第１のエンドレス運動表面、並びに本発明の方法は、場合によっては、例えばエンドレス運動表面を洗浄するための洗浄領域Ｄ等の追加領域を備えてもよく（例えば、領域ＣとＡとの間）、領域の順序は、したがって、例えばＡ−Ｂ−Ｃ−、場合によりＤ、Ａ−Ｂ−Ｃ−、場合によりＤ等であり得る。
【００２５】
本発明のいくつかの実施形態において、本明細書の装置１は、前記表面４０からの前記固体材料の放出を促進するために、前記第１のエンドレス運動表面４０に（その前記開口部を通じて）ガスを適用するためのガス供給システムを備え、前記ガス供給システムは、前記第１のエンドレス運動表面４０及び二次ガス容器２に隣接し、互いに接続される一次ガス容器（１つ又は複数）７１Ｃ、並びに場合によっては前記二次ガス容器２に接続される三次ガス容器を備える。二次ガス容器２は、前記第１のエンドレス運動表面に隣接しなくてもよい。二次ガス容器は、典型的に定常であるが、典型的には、前記領域Ｃ、及び領域Ａ／Ｂ、及び場合により更なる領域を有する本装置の前記ステータによって収容されない。二次ガス容器は、直接ではなく、前記一次ガス容器を介して間接的に前記表面とガス連通している。本発明のいくつかの態様において、装置１は、例えば、チャンバである一次ガス容器（１つ又は複数）７１Ｃを含む放出領域Ｃ、及び場合によっては、例えばチャンバである任意の更なる一次ガス容器（１つ又は複数）７１Ｄを含む洗浄領域Ｄを有する、定常構成要素を有する。
【００２６】
本発明のいくつかの他の態様又は追加の態様において、装置１は、前記表面４０上で（例えば、又はそのリザーバ５０内で）前記固体材料の保持を促進するために、前記表面４０の前記開口部を通じて真空吸引を適用するための真空システムを備える。前記真空システムは、前記第１のエンドレス運動表面４０に隣接する１つ以上の一次真空ガス容器７１Ａ、７１Ｂ（１つ又は複数）と、それぞれが単一の一次真空ガス容器に接続されるか、又はそれぞれが別個の一次真空チャンバに接続される、１つの以上の二次真空ガス容器３Ａ、３Ｂと、場合によっては１つ以上の二次真空ガス容器３Ａ、３Ｂに接続される、１つ以上の三次真空ガス容器とを備えてもよい。二次ガス真空容器（１つ又は複数）は、前記第１のエンドレス運動表面に隣接していなくてもよい。二次真空ガス容器は、直接ではなく、前記一次真空ガス容器を介して間接的に前記表面とガス連通している。二次ガス容器（１つ又は複数）は、典型的に定常であるが、典型的には、前記領域Ｃ、及び領域Ａ／Ｂ、及び場合により更なる領域を有する装置の前記ステータによって収容されない。
【００２７】
したがって、本発明のいくつかの態様において、装置１は、以下に更に詳細に記載されるように、一次真空ガス容器７１Ａ（例えば、チャンバ）を含む定常構成要素を有する受容領域Ａ、及び／又は一次真空容器（例えば、チャンバ）７１Ｂを含む定常構成要素を有する移動領域Ｂを有する。
【００２８】
一次ガス容器又は一次真空ガス容器は、２つ以上の二次ガス容器又は二次真空ガス容器にそれぞれ接続され得るが、いくつかの実施形態においては、一次ガス容器又は一次真空ガス容器は、それぞれ単一の二次真空ガス容器に接続される。いくつかの実施形態において、２つ以上の一次ガス容器又は一次真空ガス容器は、それらが、同一の陽圧又は陰圧を要する限り、単一の二次ガス容器又は二次真空ガス容器に接続され得る。
【００２９】
しかしながら、好ましい実施形態において、単一の一次ガス容器又は一次真空ガス容器は、それぞれ、１つ以上の二次ガス容器又は２つ以上の二次真空ガス容器に接続される。
【００３０】
本明細書の第１のエンドレス運動表面４０は、回転してエンドレス運動表面を提供することができる、いずれの運動表面であってもよく、例えば、回転することでエンドレス表面を提供することができ、典型的に、隣接する定常構成要素（ステータ）を回転させる、当該技術分野で既知の輸送ベルト又はドラム又は印刷ロールであってもよい。第１のエンドレス運動表面４０は、円筒形の定常構成要素（ステータ）を中心に回転可能であり、次に、例えば前記一次ガス容器（１つ又は複数）７１Ｃ（場合によっては７１Ｄ）及び／又は一次真空ガス容器（１つ又は複数）７１Ａ、７１Ｂを収容する、ドラム又はロール等の円筒表面であってもよい。
【００３１】
第１のエンドレス運動表面４０は、リザーバ５０、又は好ましい実施形態においては、前記固体材料１００を内部に受容し、したがって、前記固体材料１００で充填可能な空隙容積を有する、多数のリザーバ５０を備えることができる。
【００３２】
リザーバ５０は、立方体、円筒状、半球状、円錐状、又は他の任意の形状を含む任意の寸法及び形状を有してよい。これは任意の好適な数のリザーバ５０であってもよいが、例えば少なくとも２０個、又は例えば少なくとも５０個である。
【００３３】
リザーバ５０は同じリザーバ５０として存在してもよく、あるいは寸法（１つ若しくは複数）又は形状が異なってもよい。それらは、前記第１のエンドレス運動表面４０の表面全体に、あるパターンで存在してもよく、又は前記表面全体に均一に存在してもよい。リザーバの正確な数、リザーバのパターン、寸法等は、形成される所要の構造体に依存することになるが、例えば、粒子状材料１００の粒径、プロセスの速度等にもまた依存する場合がある。一実施形態において、第１のエンドレス運動表面４０の外側表面積の少なくとも３０％、好ましくは少なくとも４０％、及び例えば最大６０％、又は例えば最大５５％、又は例えば最大５０％が、前記リザーバ５０を備える。エンドレス運動表面が、以下に記載の中心領域４５を有する場合、これらの割合は、第１のエンドレス運動表面４０全体ではなく、中心領域の表面積に基づく割合であってもよい。
【００３４】
リザーバ５０は、ＭＤ方向のリザーバの縦列とＣＤ方向（ＭＤ方向に垂直な方向）の横列として存在してもよい。あるいは、リザーバ５０は、例えば、いわゆる交互の横列及び／又は縦列で存在してもよい（これにより、交互のリザーバは横列及び／又は縦列を形成する）。
【００３５】
あるリザーバ５０の中心点（前記中心点は第１のエンドレス運動表面４０の外側表面の平面内にある）と、（リザーバの縦列において）隣り合うリザーバ５０の中心点との間のＭＤ方向の距離は、例えば少なくとも３ｍｍ、若しくは例えば少なくとも４ｍｍ、若しくは例えば少なくとも６ｍｍ、又は例えば最大４０ｍｍ、若しくは例えば最大３０ｍｍ、若しくは例えば最大２０ｍｍであり得る。これは、ＭＤ方向の隣り合うリザーバ５０間のすべてのこのような距離に適用してもよく、あるいはすべてのこのような距離の平均であってもよい。
【００３６】
あるリザーバ５０の中心点（前記中心点は第１のエンドレス運動表面４０の外側表面の平面内にある）と、（リザーバの横列において）隣り合うリザーバ５０の中心点との間のＣＤ方向の距離も、例えば上記のようなものであり得る。
【００３７】
前記縦列は互いに対してほぼ平行かつ互いから等間隔で延伸し得、及び／又は前記横列は互いに対してほぼ平行かつ互いから等間隔で延伸し得る。
【００３８】
一実施形態において、リザーバ５０のＭＤ方向の寸法（第１のエンドレス運動表面４０の外側表面にわたって測定したすべてのリザーバ５０の平均及び／又は各リザーバの寸法）は、少なくとも１ｍｍ、又は例えば少なくとも２ｍｍ、又は例えば少なくとも４ｍｍ、及び例えば最大２０ｍｍ、又は例えば最大１５ｍｍであってもよい。ＣＤ方向の寸法は上記と同じ範囲内であってもよく、又は１以上若しくは各リザーバについてＭＤ方向の寸法と同じであってもよい。
【００３９】
リザーバ５０は、いずれの好適な深さ寸法を有し得、（最大）深さは、例えば、製造される所望の構造体の厚さ／キャリパー、材料の粒径等に依存し得る。１つのリザーバ５０及び／若しくはすべてのリザーバ５０の最大深さ、並びに／又は平均最大深さ（すべてのリザーバ５０の全最大深さの平均）は、例えば少なくとも１ｍｍ、又は例えば少なくとも１．５ｍｍ、又は例えば２ｍｍ以上、及び例えば最大２０ｍｍ、又は例えば最大１５ｍｍ、あるいは本明細書のいくつかの実施形態においては、最大１０ｍｍ、又は例えば最大５ｍｍ、又は例えば最大４ｍｍであってもよい。
【００４０】
本明細書における一実施形態によれば、リザーバ５０のＭＤ方向の寸法（平均及び／又はすべてのリザーバ５０）は、２〜８ｍｍ又は３ｍｍ〜７ｍｍであってもよく、更にリザーバ５０の最大深さ及び／又は平均の最大深さは、例えば１．５ｍｍ〜５ｍｍ、又は４ｍｍまでであってもよい。
【００４１】
第１のエンドレス運動表面４０は任意の好適な幅を有し得るが、例えば、製造される構造体の幅に（実質的に）対応する（ＭＤ方向に対して垂直な）幅であり得、これは、例えば少なくとも４０ｍｍ、若しくは例えば少なくとも６０ｍｍ、又は例えば最大４００ｍｍ、若しくは例えば最大２００ｍｍであってもよい。エンドレス運動表面４０が、対向する側面領域と、これらの間の、ＭＤ方向の全表面に沿った中央領域４５とを有し、前記リザーバ５０が、前記中央領域４５にのみ存在することが有用である場合がある。これにより表面の幅の寸法は、代わりに中央領域４５の幅に適用され得る。
【００４２】
本明細書のいくつかの実施形態において、リザーバ５０を備えない第１のエンドレス運動表面４０は、ＭＤ方向延伸領域及びＣＤ方向延伸領域（１つ又は複数）４７を有し、例えば、ＣＤ方向延伸領域が、平均リザーバ寸法（ＭＤ方向）の少なくとも２倍、又は例えば少なくとも３倍の寸法（ＭＤ方向）であり、このようなリザーバなし領域（１つ又は複数）４７は、リザーバ（１つ又は複数）の前端又は製造される構造体の前端に対応するリザーバの横列と、リザーバ（１つ又は複数）の後端又は装置１によって製造される同一若しくは近接した構造体の後端に対応するリザーバの横列との間に配置されてもよい。このようなリザーバなし領域（４７）の存在は、（第１のエンドレス運動表面４０から、例えば、例として基材である第２の運動表面８０上への固体材料の放出後に）、前記固体材料を含まない、例えば基材である前記第２の運動表面上の領域をもたらす。これは、次いで、基材が本明細書の装置１及び方法によって製造される別個の物品に切断され得る領域になり得る。
【００４３】
第１のエンドレス運動表面４０の特性（前記第１のエンドレス運動表面４０のＭＤ、半径、幅、リザーバの、又はそれとの表面積等）を判定する目的で、リザーバ間の表面積が、このような判定に使用されることを理解されたい。リザーバ間のこの表面積は、本明細書において、前記第１のエンドレス運動表面（４０）の「外側表面積」と称される。
【００４４】
第１のエンドレス運動表面は、そこを通じてガスを通過（流れ）させるため、例えば、真空吸引を可能にするため、及び／又は加圧された空気（噴出空気）の通過を可能にするための、開口部を備える。したがって、第１のエンドレス運動表面、例えば、少なくともそのリザーバ５０は、前記一次ガス容器（１つ又は複数）７１Ｃ、７１Ｄ、及び／又は前記一次真空ガス容器（１つ又は複数）７１Ａ、７１Ｂに、直接的又は間接的に接続可能であるか、又は接続されている。典型的に、表面のリザーバ５０は、そのリザーバ５０が、前記一次ガス容器７１Ｃ、及び／又は一次真空ガス容器（１つ又は複数）７１Ａ、７１Ｂとガス（空気）連通していることを確実にする、１つ以上の開口部を有する底部表面積をそこに備える。典型的に、各リザーバ５０は、前記一次ガス容器（１つ又は複数）７１Ｃ、７１Ｄ、及び／又は前記一次真空ガス容器（１つ又は複数）７１Ａ、７１Ｂに接続されるか、又は接続可能である、少なくとも１つのこのような開口部を有する。
【００４５】
第１のエンドレス運動表面４０の半径は、製造される構造体、及び製造される構造体の寸法、及び例えば、例としてドラムである第１のエンドレス運動表面４０の１サイクル毎に製造される構造体の数に応じて決定され得る。例えば、第１のエンドレス運動表面は、少なくとも４０ｍｍ、又は少なくとも５０ｍｍの半径を有してもよく、例えば最大３００ｍｍ、又は例えば最大２００ｍｍであってもよい。
【００４６】
エンドレス運動表面４０（例えば、ステータによって収容される）に隣接する一次ガス容器（１つ又は複数）７１Ｃ、７１Ｄ、及び／又は一次真空ガス容器７１Ａ、７１Ｂは、典型的に、エンドレス運動表面４０の半径、したがってステータの半径が限られているために、容積が小さい。
【００４７】
更に、固体材料１００が、運動表面４０によって受容される表面積、受容領域Ａは、小さくてもよく、したがって、一次真空ガス容器（１つ又は複数）７１Ａは、前記受容領域Ａ内で前記表面に隣接して、領域Ａ内の第１のエンドレス運動表面の（内部）表面と隣接（一致）する小さな表面積を有してもよい。同じことが、移動領域Ｂ、及び前記領域内で前記表面に隣接する前記領域内の一次真空ガス容器７１Ｂにも適用可能である。
【００４８】
あるいは、又は更に、固体材料が、エンドレス運動表面４０から、例えば基材上に放出される放出領域Ｃは、典型的に小さく、したがって、一次ガス容器は、前記放出領域Ｃ内の前記表面に隣接する第１のエンドレス運動表面４０の（内部）表面積と隣接（一致）する小さい表面積を有してもよい。同じことが、任意の洗浄領域Ｄに適用可能である。
【００４９】
例えば、一次ガス容器（１つ又は複数）７１Ｃ、７１Ｄ、及び／又は一次真空ガス容器（１つ又は複数）７１Ａ、７１Ｂは、それぞれ、２．０リットル未満、又は代替として、１．５リットル未満、又は例えば１．０リットル未満、又は例えば０．７リットル未満、又は例えば０．５リットル未満の容積Ｖ１を有する。具体的には、放出領域Ｃ内の一次ガス容器７１Ｃ、及び／又は受容領域Ａ内の一次真空ガス容器７１Ａは、１．０リットル未満の容積Ｖ１を有し得る。
【００５０】
エンドレス運動表面４０、すなわち、内部の開口部への、及びそこを通るガス流の改善を確保するために、本発明の装置１は、その一態様において、典型的には以下に記載のガス吸入管４を介して前記一次ガス容器７１Ｃに接続される、１つ以上の二次ガス容器（１つ又は複数）２、及び場合によっては、領域Ｄ内の一次ガス容器７１Ｄに接続される二次ガス容器（１つ又は複数）２Ｂを備える。一次ガス容器内の圧力（Ｐ１）及び（各）前記二次ガス容器内の圧力（Ｐ２）は、それぞれ、少なくとも１ｋＰａ、又は例えば少なくとも２ｋＰａ、又は例えば少なくとも３ｋＰａ、又は例えば少なくとも４ｋＰａ、又は例えば少なくとも５ｋＰａ、並びに例えば最大４０ｋＰａ、又は例えば最大２０ｋＰａであることを要する場合がある。
【００５１】
互いに接続される、前記一次ガス容器内の圧力（Ｐ１）と前記二次ガス容器内の圧力（Ｐ２）との間の圧力差は、４０％未満であるか、又は例えば３０％未満、又は例えば２５％未満であり、本明細書のいくつかの実施形態においては、２０％未満、又は例えば１０％未満であり、しかしながら、ガス流を確保するためには、Ｐ２とＰ１との間の圧力差は、０％を超え、例えば少なくとも０．１％、又は例えば少なくとも１．０％である必要がある。
【００５２】
前記三次ガス容器内の圧力（Ｐ３）は、存在する場合、上述の範囲内であり得、前記二次ガス容器内の圧力（Ｐ２）と前記三次ガス容器内の圧力（Ｐ３）との間の圧力差は、存在する場合、上述のようなものであってもよい。
【００５３】
本発明の別の又は代替の態様においては、第１のエンドレス運動表面４０、例えば内部の開口部へ、及びそこを通るガス流の改善を確保するために、本発明の装置１は、（それぞれが）前記一次真空ガス容器（１つ又は複数）の１つ以上に、典型的にガス吸入管４を介して接続される、１つ以上の二次真空ガス容器３Ａ、３Ｂを備える。一次ガス容器内の減圧（Ｐ１ｖ）と二次真空ガス容器内の減圧（Ｐ２ｖ）は、−１ｋＰａ以下、又は例えば−２ｋＰａ以下、又は例えば−３ｋＰａ以下、又は−４ｋＰａ以下、又は−５ｋＰａ以下、及び例えば−４０ｋＰａ以上、又は例えば−３０ｋＰａ以上の減圧であることを要する場合がある。
【００５４】
前記一次真空ガス容器内の圧力（Ｐ１ｖ）及び前記二次真空ガス容器内の圧力（Ｐ２ｖ）は、いずれも、互いに接続される前記一次真空ガス容器内の圧力（Ｐ１ｖ）と前記二次真空ガス容器内の圧力（Ｐ２ｖ）との間の圧力差が、４０％未満、又は例えば３０％未満、又は例えば２５％未満であるか、あるいは本明細書のいくつかの実施形態においては、２０％未満、又は例えば１０％未満である。しかしながら、ガス流を確保するために、Ｐ２ｖとＰ１ｖとの間の圧力差は、０％を超え、例えば少なくとも０．１％、又は例えば少なくとも１．０％である必要がある。
【００５５】
三次真空ガス容器内の圧力（Ｐ３ｖ）は、存在する場合、一次真空ガスチャンバに対して上述された範囲内にあり得、前記二次真空ガス容器内の圧力（Ｐ２ｖ）と前記三次真空ガス容器内の圧力（Ｐ３ｖ）との間の圧力差は、存在する場合、４０％未満、又は例えば３０％未満、又は例えば２５％未満であり得、あるいは、本明細書のいくつかの実施形態においては、２０％未満、又は例えば１０％未満であってもよい。
【００５６】
本明細書の一次／二次（真空）ガス容器内の圧力は、ＢＤ  Ｓｅｎｓｏｒｓ  ＧｍｂＨ（ｗｗｗ．ｂｄｓｅｎｓｏｒｓ．ｃｏｍ）から入手可能なＢＤセンサーを使用して測定可能であり、例えば、本明細書のガス容器のガス陽圧、及びそれらの圧力間の差の測定に対しては、ＢＤセンサーモデル０〜１０Ｖ  ＯＵＴ、０〜０．４Ｂａｒ、Ｍ１２ｘ１４Ｐ  Ｇ１／４を使用し、例えば、本明細書の真空ガス容器の真空陰圧及びその差については、ＢＤセンサーモデル０〜１０Ｖ  ＯＵＴ、０〜−０．４Ｂａｒ、Ｍ１２ｘ１４Ｐ  Ｇ１／４を使用して測定することができる。陰圧及び／又は陽圧は、２０℃で測定する。センサーは、参考として、周辺圧力、例えば大気圧で設定され、これは０ｋＰａとして設定される。
【００５７】
センサーは、（真空）ガス容器の外側に配置されるが、ガス容器内に載置された、長さ２０ｃｍ直径１０ｍｍのＦｅｓｔｏ管を用いてガス容器に接続される。
【００５８】
二次（真空）ガス容器が、接続される一次（真空）ガス容器の容積Ｖ１よりも大きな容積Ｖ２を有し、又は２つ以上の二次（真空）ガス容器が、１つの一次ガス容器に接続される場合、二次ガス容器又は二次真空ガス容器の合わせた容積はＶ２であり、これは、Ｖ１よりも大きく、任意で存在する場合、前記三次（真空）ガス容器は、Ｖ１よりも大きな容積Ｖ３を有することが有益な場合がある。
【００５９】
Ｖ２は、少なくとも１．３リットル、又は例えば少なくとも２．７リットル、又は例えば少なくとも３．４リットル、又は例えば少なくとも４．０リットル、並びに例えば装置１の寸法及び制限に応じて、任意で最大３０リットル、又は最大２０リットル、又は最大１５リットルであることが有益な場合がある。存在する場合、三次ガス容器は、前記範囲内の容積Ｖ３を有し得る。
【００６０】
前記二次ガス容器（１つ又は複数）２は、それに接続される前記一次ガス容器７１Ｃに、少なくとも３００Ｎｌ／分、又は例えば少なくとも４００Ｎｌ／分の平均ガス（例えば、空気）流量を提供することができる。更に、存在する場合は、三次ガス容器は、前記二次ガス容器（１つ又は複数）２に、少なくとも３００Ｎｌ／分又は例えば少なくとも４００Ｎｌ／分の平均ガス（例えば、空気）流量を提供し得る。
【００６１】
一次真空ガス容器７１Ａ、７１Ｂから、接続される二次真空ガス容器（１つ又は複数）３、３Ｂへの平均ガス（例えば、空気）流量は、少なくとも３００Ｎｌ／分、又は例えば少なくとも４００Ｎｌ／分、又は例えば少なくとも５００Ｎｌ／分、又は例えば少なくとも１００Ｎｌ／分、又は例えば少なくとも１５００Ｎｌ／分であり得る。
【００６２】
ガス流量は、Ｐｒｏｂｅ  ＺＳ２５  ＺＧ４（Ｈｏｎｔｚｓｃｈ  ＧｍｂＨ  Ｇｏｔｔｌｉｅｂ−Ｄａｉｍｌｅｒ−Ｓｔｒ．３７（Ｗａｉｂｌｉｎｇｅｎ，Ｇｅｒｍａｎｙ）から入手可能）を用いて測定され、これは、例えば、以下に記載のガス流量調整器５内、あるいは、例えばガス吸入管（１つ又は複数）が二次（真空）ガス容器内に入る、二次ガス容器若しくは二次真空ガス容器のガス吸入口内又はその近くで、流量を正確に測定し、流れを妨げないように配置される。
【００６３】
装置１は、典型的に、前記二次ガス容器２、２Ｂの流量を調整することができる、ガス（例えば、空気）流量調整器５を備える。ガス流量調整器５は、典型的に、例えば図３及び５に示されるように、一次及び二次ガス容器のガス圧力、並びにその差に悪影響を与えないように、一次（真空）ガス容器と二次（真空）ガス容器との間ではなく、二次ガス容器２、２Ａの前に設置される。
【００６４】
ガス流量調整器５は、上述の圧力センサーに操作可能に接続され、例えば、一次ガス容器のセンサーの出力信号は、調整器に対する入力信号であり得る。
【００６５】
更に、又は代替として、二次真空ガス容器３Ａ、３Ｂはまた、ガス流量調整器５に接続されてもよく、これもまた、一次真空ガス容器７１Ａ、７１Ｂの圧力センサーに操作可能に接続され得る。
【００６６】
ガス（例えば、空気）は、例えば、図１、２、及び３に示される、１つ以上のガス吸入管（１つ又は複数）４に接続することができる１つ以上のガス吸入口（１つ又は複数）６Ａ、６Ｂ、６Ｃを介して、前記一次ガス容器７１Ｃ、７１Ｄに入ることができる。前記ガス吸入管（１つ又は複数）４は、次に、前記二次ガス容器（１つ又は複数）２、２Ｂに接続され、典型的にはそれに直接接続される。
【００６７】
いくつかの実施形態において、前記一次ガス容器７１Ｃ、７１Ｄ内又はそのそれぞれ内に、２つ以上、又は３つ以上のガス吸入口６Ａ、６Ｂ、６Ｃが存在してもよい。前記２つ以上のガス吸入口６Ａ、６Ｂ、６Ｃは、例えば図１に示されるように、２つ以上のガス吸入管４で、前記二次ガス容器２に接続されてもよく、又は例えば、前記２つ以上のガス吸入口６Ａ、６Ｂ、６Ｃは、それぞれガス吸入管４に接続可能であり、次いで、２つ以上のガス吸入管４が、単一のガス吸入管として前記二次ガス容器２に接続される前に接合されてもよい。いくつかの他の実施形態において、例えば、（ガス容器７１Ｃに関して、更に任意でガス容器７１Ｄに関してもまた）図２に示されるように、前記一次ガス容器７１Ｃ内に単一のガス吸入口６Ａ、及び例えば前記一次ガス容器７１Ｃと二次ガス容器とを接続する単一のガス吸入管４が存在してもよい。
【００６８】
いくつかの実施形態において、前記一次真空ガス容器７１Ａ、７１Ｂ内、又はそのそれぞれに、２つ以上、又は３つ以上のガス吸入口６Ａ、６Ｂ、６Ｃが存在してもよい。前記２つ以上のガス吸入口６Ａ、６Ｂ、６Ｃは、例えば、真空チャンバ７１Ｂに関して図２に示されるように、２つ以上のガス吸入管４で、前記二次真空ガス容器３Ａ、３Ｂに接続されてもよく、又は、例えば前記２つ以上のガス吸入口６Ａ、６Ｂ、６Ｃのそれぞれは、ガス吸入管４にそれぞれ接続され、前記２つ以上のガス吸入管４が、前記二次真空ガス容器３、３Ｂに（単一のガス吸入管４として）接続される前に接合されてもよい。いくつかの他の実施形態においては、例えば、図２で真空チャンバ７１Ａに関して示されるように、前記一次真空ガス容器（１つ又は複数）７１Ａ、７１Ｂ内に、単一のガス吸入口６Ａ、並びに例えば一次真空ガス容器７１Ａ、７１Ｂと二次真空ガス容器３Ａ、３Ｂとを接続する単一のガス吸入管４が存在してもよい。
【００６９】
本明細書のいくつかの実施形態において、ガス吸入口の表面積を最大化することが有益な場合があり、前記ガス吸入口は、少なくとも１００ｍｍ２、又は例えば少なくとも３００ｍｍ２、又は例えば少なくとも５００ｍｍ２の断面表面積（すなわち、一次ガス（真空）容器７１Ｃ、７１Ａ、７１Ｂの吸入点における）を有してもよい。１つ以上のガス吸入口６Ａ、６Ｂ、６Ｃが、（真空）ガス容器内に存在する実施形態については、（真空）ガス容器の全ガス吸入口６Ａ、６Ｂ、６Ｃの総断面表面積（すなわち、一次ガス容器の吸入点において）は、例えば少なくとも１００ｍｍ２、又は例えば少なくとも３００ｍｍ２、又は例えば少なくとも５００ｍｍ２である。
【００７０】
同じことが、二次ガス容器及び／又は二次真空ガス容器のガス吸入口（１つ又は複数）に適用可能である。
【００７１】
ガス吸入管（１つ又は複数）４は、例えば少なくとも５０ｍｍ２、又は例えば少なくとも１００ｍｍ２、例えば少なくとも３００ｍｍ２、又は例えば少なくとも５００ｍｍ２の断面寸法、又は平均断面寸法を（それぞれ）有してもよい。
【００７２】
１つ（又はそれぞれの）一次（真空）ガス容器から、それに接続される二次（真空）ガス容器までの最大距離Ｄは、最小限に維持されてもよく、例えば、最大距離Ｄ（前記一次（真空）ガス容器内の１つのガス吸入口又は各ガス吸入口から、前記二次（真空）ガス容器の１つのガス吸入口又は各ガス吸入口まで）は、１２メートル未満、好ましくは５メートル未満、又は例えば２メートル未満、又は例えば１メートル未満、又は例えば５０ｃｍ未満であってもよい。二次（真空）ガス容器は、いくつかの実施形態において、第１のエンドレス運動表面にほぼ隣接していてもよいが、その表面と直接ガス連通しておらず、前記ステータ内に存在しない。
【００７３】
固体、例えば粒子状の材料１００は、第１のエンドレス運動表面４０に隣接して配置される開口部によって、フィーダーから第１のエンドレス運動表面４０上（例えば、そのリザーバ５０内）に導入され得る。フィーダーは、任意の形態又は形状を有してもよい。フィーダーは、例えば少なくとも１０００ｃｍ３の容積を有する、材料１００を保持するための容器部分と、容器部分から第１のエンドレス運動表面４０へ材料を先導する、開口部を画定する１つ以上の壁を有する、例えばパイプ状部分である先導部分と、を有してもよい。
【００７４】
フィーダーの開口部と、前記第１のエンドレス運動表面４０との間の平均距離は、例えば、１０ｃｍ未満、又は例えば５ｃｍ未満であってもよく、例えば２ｃｍ未満又は例えば１ｃｍ未満であってもよく、かつ例えば少なくとも０．１ｍｍ又は例えば少なくとも１ｍｍであってもよい。
【００７５】
フィーダーは、前記第１のエンドレス運動表面４０への前記粒子状材料１００の「供給」が、重力によって助けられるように、前記第１のエンドレス運動表面４０の上に配置され得る。この点に関し、フィーダーの開口縁部は、第１のエンドレス運動表面４０の真上（０°）に配置され得、あるいは、第１のエンドレス運動表面４０が湾曲している場合、又は更には、例えば図に示されるように円形である場合、前記表面の上方、すなわち、９０°〜−９０°（例えば、９時の位置〜３時の位置）、又は一実施形態においては６０°〜−６０°、又は３０°〜−３０°の任意の位置に配置され得る。受容領域Ａは、したがって、前記位置内にあり得る。
【００７６】
本明細書における固体材料１００は、粒子、薄片、繊維、スフェア、凝集粒子、及び当該技術分野で既知の他の形態を含む、例えば、乾燥状態で流動性を有する、粒子状形態の任意の材料であってもよい。
【００７７】
本明細書の一実施形態において、固体材料１００は、粒子状の超吸収性材料であり、この材料は、典型的にポリマーであり、また粒子状（超）吸収性ゲル化材料として既知であり、本明細書でＡＧＭと称される。ＡＧＭとは、その重量の少なくとも１０倍の０．９％生理食塩水を吸収することが可能な粒子状形態のポリマー材料、すなわち、ＥＤＡＮＡ（欧州不織布工業会）の遠心保持容量試験、試験方法番号４４１．２−０２、「遠心保持容量」を用いて測定したＣＲＣ値が少なくとも１０ｇ／ｇであるような粒子状形態のポリマー材料のことを指す。本明細書における粒子状ＡＧＭは、高い収着能力を有し、例えば、少なくとも２０ｇ／ｇ、又は例えば３０ｇ／ｇのＣＲＣを有する。上限値は、例えば、最大１５０ｇ／ｇ、又は例えば最大１００ｇ／ｇであり得る。
【００７８】
本明細書における一実施形態では、前記ＡＧＭのポリマーは、内部架橋及び／又は表面架橋されたポリマーである。本明細書の一実施形態において、本明細書の粒子状材料は、ポリアクリル酸／ポリアクリレートポリマーの粒子を含む、あるいは、それらからなる、超吸収性材料であり、例えば、６０％〜９０％、又は約７５％の中和度を有し、例えば、表面架橋及び／又は内部架橋及び／又は後架橋されたポリアクリル酸／ポリアクリレートポリマーである、当該技術分野で既知の、例えばナトリウム対イオンを有する。
【００７９】
本明細書の一実施形態において、固形材料１００は、例えば、例として欧州特許出願公開第Ａ−０６９１１３３号に記載の方法によって測定され得る、質量メジアン粒径が、最大２ｍｍ、又は更には５０マイクロメートル〜２ｍｍ若しくは１ｍｍまで、又は好ましくは１００若しくは２００若しくは３００若しくは４００若しくは５００μｍ、又は１０００μｍまで若しくは８００μｍまで若しくは７００μｍまでである、粒子の形態である。本発明の一実施形態において、粒子状材料１００は、５０μｍ〜１２００μｍの粒径を有し、上述の範囲の組み合わせのいずれかの間の質量メジアン粒計を有する粒子の形態である。本発明の更なる、又は別の実施形態では、前記粒子は本質的に球形である。本発明の更に別の又は追加の実施形態において、粒子状材料１００は、比較的狭い範囲の粒径を有し、例えば、粒子の大部分（例えば、少なくとも８０％又は好ましくは少なくとも９０％又は更には少なくとも９５％）が、５０μｍ〜１０００μｍ、好ましくは１００μｍ〜８００μｍ、より好ましくは２００μｍ〜６００μｍの粒径を有する。
【００８０】
本明細書の粒子状材料１００は、１５重量％未満、又は例えば１０重量％未満、又は例えば８重量％未満、又は例えば５重量％未満の水を有利に含んでもよい。含水量は、粒子状材料１００を摂氏１０５度で３時間乾燥させ、乾燥後の粒子状材料１００の重量喪失によって、含水量を判定する、Ｅｄａｎａ試験、番号ＥＲＴ  ４３０．１−９９（１９９９年２月）によって判定することができる。
【００８１】
本明細書の粒子状ＡＧＭは、表面コーティング又は表面処理された（これには、追加の表面改質工程であり得、本明細書においてコーティング又は表面処理ではなく、表面改質とみなされる、表面架橋は含まれない）ＡＧＭの粒子であってもよく、このようなコーティング及び表面処理工程は、当該技術分野で既知であり、ケイ酸塩、リン酸塩を含む１つ以上の無機粉末での表面処理、有機（非ポリマー）粉末でのコーティング、並びにエラストマーポリマー材料又はフィルム形成ポリマー材料を含むポリマー材料でのコーティングが含まれる。
【００８２】
固体材料１００は、例えば、第１のエンドレス運動表面４０によって、第２のエンドレス運動表面８０に移動される。これは、例えばベルト又はドラムであってもよく、あるいは、これは、例えば運動基材又はその組み合わせであってもよい。基材は、ウェブ材料であってもよく、基材は、例えばフィルムウェブ等のフィルム及び／若しくは織布ウェブを含み、並びに／又は本明細書のいくつかの好ましい実施形態において、それは、不織布ウェブ等の不織布を含むか、又はそれらである。第２のエンドレス運動表面は、例えば、ドラム又はベルト等である、エンドレス運動表面支持体上に担持される基材の組み合わせであり得る。支持体、又はドラム若しくはベルトは、固体材料及び／又は基材を前記支持体上に保持するための真空システムを備え得る。本発明の装置１及び方法によって製造可能な（例えば、吸収性）構造体は、したがって、基材と、前記固体材料と、場合によっては追加の構成要素（１つ又は複数）／材料（１つ又は複数）とを備え得る。
【００８３】
第２のエンドレス運動表面８０は、第１のエンドレス運動表面４０と同一の表面速度を有してもよく、又は異なる速度を有してもよい。一実施形態において、第１及び／又は第２のエンドレス運動表面は、少なくとも毎分１０００部の速度、及び／又は少なくとも４．５ｍ／秒、若しくは例えば少なくとも６ｍ／秒、若しくは例えば少なくとも８ｍ／秒の速度を有してもよい。
【００８４】
一実施形態において、第１のエンドレス運動表面４０は回転し、第２のエンドレス運動表面８０は、例えば、固体材料１００が、重力によって上部に放出されるように、第１のエンドレス運動表面４０のほぼ下に位置付けられる。放出領域Ｃは、したがって、重心線上の点で、又はそれとの角度が６０°〜−６０°若しくは３０°〜−３０°で開始してもよい。
【００８５】
本明細書の一実施形態において、基材は、例えば不織布ウェブ等の不織布であり、本明細書で使用する際の不織布とは、一方向又はランダムに配向された繊維を、摩擦及び／又は粘着及び／又は接着により結合させて製造されたシート又はウェブを指し、紙、及び、織る、編む、タフティング、スティッチボンディングされた製品は除く。繊維は天然のものでも人工のものでもよく、ステープル又は連続フィラメントであってもよく、あるいはその場で形成することもできる。市販の繊維は、約０．００１ｍｍ未満〜約０．２ｍｍを超える範囲の直径を有し、いくつかの異なる形態、すなわち、短繊維（ステープル又は細断繊維として知られる）、連続単繊維（フィラメント又はモノフィラメント）、撚り合わせていない連続フィラメントの束（タウ糸）、及び連続フィラメントの撚り束（編み糸）として提供されている。繊維は、例えば異なるポリマーがシートとコアとを形成する、例えばシート／コアの構成を有する複合繊維であってもよい。不織布は、メルトブローイング、スパンボンディング、溶剤紡糸、電界紡糸、及びカーディングなどの多くのプロセスによって形成することができる。不織布の坪量は、通常、１平方メートル当たりのグラム数（ｇｓｍ）で表される。基材は、例えば、フィルム層と１つ以上の不織布層（不織積層体）との積層体であってもよく、又は２つ以上の不織布層の不織積層体であってもよい。
【００８６】
本明細書における不織布は親水性繊維で形成することができる。「親水性」とは、繊維の表面に付着する水性の液体（例えば、水性の体液）によって濡らされうる繊維又は繊維の表面のことを述べて言うものである。親水性及び濡れ性は、一般的に、流体の接触角、及び例えば不織布を通過する流体の裏抜け時間によって定義される。これは、Ｒｏｂｅｒｔ  Ｆ．Ｇｏｕｌｄによって編集された、「Ｃｏｎｔａｃｔ  ａｎｇｌｅ，  ｗｅｔｔａｂｉｌｉｔｙ  ａｎｄ  ａｄｈｅｓｉｏｎ」と題されるＡｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙの出版物（著作権１９６４年）に詳細に説明される。繊維又は繊維の表面は、流体と繊維又はその表面との間の接触角が９０°未満のとき、又は流体が繊維の表面全体に自然に広がる傾向があるときに流体によって濡らされている（すなわち、親水性）といわれ、通常は両方の条件が共存する。逆に、接触角が９０°より大きい場合及び流体が繊維の表面全体に自然に広がらない場合は、繊維又は繊維の表面は疎水性であるとみなされる。
【００８７】
本明細書における基材は、空気透過性であってもよい。不織布（ウェブ）は、ＥＤＡＮＡ法１４０−１−９９（１２５Ｐａ、３８．３ｃｍ２）によって判定される空気透過性が、例えば、４０又は５０〜３００又は２００ｍ３／（ｍ２×分）であり得る。基材はまた、空気透過性が低いものであってもよく、例えば、真空を含む運動表面上に効果的に保持されるように空気不透過性であってよい。本明細書において有用なフィルムは、微小孔を備え得る。
【００８８】
ある実行において、基材は、不織布ウェブ、例えば、ＳＭＳ又はＳＭＭＳ型の積層体である。
【００８９】
基材は、例えば２０％を超える、又は例えば１００％を超えるが、例えば２００％以下の、ＣＤ方向の延伸率及び／又はＭＤ方向の延伸率を有し得る。ＣＤ方向の延伸率に対するＭＤ方向の延伸率の比は、所定の荷重下において１：２以下である。
【００９０】
基材は、少なくとも部分的に、固体材料１００を基材に接着するために、接着剤を含んでもよい。接着剤を有する基材に真空をより効果的に作用させるため、接着剤を所定のパターンで塗布することによって、基材の部分は接着剤を含まず、基材の部分は接着剤を含むようにしてもよい。
【００９１】
固体材料１００の、第２のエンドレス運動表面への移動後、前記表面は、本発明の装置１の一部であり得る更に追加のユニット（１つ又は複数）に、固体材料１００を移動させて、固体材料１００及び／又は基材に更なる材料を塗布させることができ、その関連プロセスの工程は、本発明の方法／プロセスの一部であり得る。これには、例えば、更なる接着ユニットによって塗布される１つ以上の（更なる）接着剤（１つ又は複数）、及び／又は、例えば、更なる基材を担持する、切断ユニット等の更なる回転支持体によって適用される更なる基材が含まれる。一実施形態において、固体材料１００の、前記基材への放出後、基材は、固体材料１００又はその部分を被覆するために、接着材料、及び／又は熱可塑性材料、及び／又は接着熱可塑性材料を、例えば繊維形状で塗布するユニットに移動させる。別の又は更なる実施形態において、固体材料を伴う基材は、固体材料１００上に、又は場合によっては前記接着材料及び／若しくは熱可塑性材料及び／若しくは熱可塑性接着材料上に、更なる基材を塗布するユニットに移動させる。前記更なる基材は、前記基材を前記固体材料１００により良好に接着するために、固体材料１００（又は場合により、前記熱可塑性材料及び／若しくは接着材料及び／若しくは熱可塑性接着材料）と接触する側面上に、接着剤を含んでもよい。基材は、それ自体に、又は更なる基材若しくはカバーシートに、例えば、超音波結合、熱結合、又は例えばスプレー接着剤結合等の接着剤結合等の任意の手段によって、接合することができる。結合領域は、基材（１１０）の表面積の、例えば少なくとも１％、又は例えば少なくとも２％、又は例えば少なくとも５％であってもよいが、例えば５０％以下、又は３０％以下である。好ましくは、結合領域は、基本的に粒子状材料１００を全く含まない。
【００９２】
したがって、結果として得られる、粒子状材料を有する基材は、本明細書の構造体のウェブであり得、それは、次いで、構造体のウェブを、個々の構造体、例えば、吸収性物品若しくは部分的吸収性物品に切断する切断ユニットに移動させることができる。このような吸収性コア又は部分的吸収性物品は、次いで、更なる吸収性物品構成要素と組み合わされて、最終的な吸収性物品を形成してもよい。
【００９３】
方法
本発明はまた、上述及び本明細書に請求される、装置１を使用する方法に関する。装置１の上述の特徴のいずれも、本発明の方法に適用される。
【００９４】
本明細書に開示した寸法及び値は、記述された正確な数値に厳しく限定されるものと理解すべきでない。むしろ、特に言及しない限り、そのようなそれぞれの寸法は、記述された値と、その値の周辺の機能的に同等の範囲との両方を意味することを意図する。例えば、「４０ｍｍ」として開示された寸法は、「約４０ｍｍ」を意味することを意図する。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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