【事件の表示】
　特許第６４４７２４２号発明「感放射線性樹脂組成物、絶縁膜及びその製造方法、並びに有機ＥＬ素子」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第６４４７２４２号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔６〜１２〕、〔１３〜１８〕について訂正することを認める。
　特許第６４４７２４２号の請求項６に係る特許を取り消す。
　特許第６４４７２４２号の請求項１〜５、７〜１８に係る特許を維持する。
【理　由】
第１　手続の経緯
　特許第６４４７２４２号の請求項１〜１２に係る特許についての出願は、平成２７年３月２日（先の出願に基づく優先権主張　平成２６年５月１５日）に特許出願され、平成３０年１２月１４日にその特許権の設定登録がされ、平成３１年１月９日に特許掲載公報が発行された。
　その後、その特許について、令和元年７月４日に特許業務法人朝日奈特許事務所（以下、「特許異議申立人」という。）により特許異議の申立てがされ、令和元年９月２７日付けで取消理由が通知され、その指定期間内である令和元年１２月２日に意見書の提出及び訂正の請求がなされ、さらに、令和２年２月１３日付けで取消理由（決定の予告）が通知され、その指定期間内である令和２年３月３０日に意見書の提出及び訂正の請求（以下、当該訂正の請求を「本件訂正請求」といい、本件訂正請求による訂正を「本件訂正」という。）がなされたものである。
　なお、令和元年１２月２日になされた訂正の請求は、特許法第１２０条の５第７項の規定により、取り下げられたものとみなされる。
　また、令和元年１２月６日付け及び令和２年４月６日付けで、特許異議申立人に対して訂正請求があった旨の通知を送付したが、指定した期間内に特許異議申立人からの意見書の提出はなされなかった。
第２　訂正の適否についての判断
１　訂正の趣旨
　本件訂正の請求の趣旨は、「特許第６４４７２４２号の特許請求の範囲を、本訂正請求書に添付した訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項６〜１８について訂正することを求める。」というものである。
　なお、本件訂正請求は、本件訂正前の請求項６及び請求項６の記載を直接又は間接的に引用していた請求項７〜１２について請求されたものであるから、本件訂正前の一群の請求項である請求項〔６〜１２〕について請求されたものである。また、特許権者は、「引用関係の解消の求め」として、訂正の請求項１３〜１８を、請求項６〜１２とは別途訂正することを求めている。そして、訂正後の請求項は、請求項６〜１２からなる一群の請求項と、請求項１３〜１８からなる一群の請求項に分けることができる。
　そこで、以下では、一群の請求項ごとである請求項６〜１２及び請求項１３〜１８に分けて、訂正の適否について判断する。
２　請求項６〜１２に係る訂正について
（１）訂正の内容
　請求項６〜１２に係る訂正の訂正内容は、以下のとおりである。なお、訂正箇所に下線を付した。
ア　訂正事項１
　特許請求の範囲の請求項６に
「（Ｂ）感放射線性酸発生剤と、」
と記載されているのを、
「（Ｂ）
キノンジアジド化合物である
に訂正する（請求項６の記載を引用する請求項８〜１２も同様に訂正する。）。
イ　訂正事項２
　特許請求の範囲の請求項７に
「請求項５または６に記載の感放射線性樹脂組成物。」
と記載されているのを、
「請求項
５に
に訂正する（請求項７の記載を引用する請求項８〜１２も同様に訂正する。）。
ウ　訂正事項３
　特許請求の範囲の請求項９に
「請求項１〜８のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物」
と記載されているのを、
「請求項１〜５、７〜８のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物」
に訂正する（請求項９の記載を引用する請求項１０〜１２も同様に訂正する。）。
エ　訂正事項４
　特許請求の範囲の請求項１０に
「請求項１〜９のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物」
と記載されているのを、
「請求項１〜５、７〜９のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物」
に訂正する（請求項１０の記載を引用する請求項１２も同様に訂正する。）。
オ　訂正事項５
　特許請求の範囲の請求項１１に
「請求項１〜９のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物」
と記載されているのを、
「請求項１〜５、７〜９のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物」
に訂正する（請求項１１の記載を引用する請求項１２も同様に訂正する。）。
（２）訂正の目的の適否
ア　訂正事項１について
　訂正事項１による訂正は、感放射線性酸発生剤について「キノンジアジド化合物である」とする限定を付加する訂正である（請求項６の記載を引用する請求項８〜１２も同様である。）。
　したがって、訂正事項１による訂正は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に掲げる事項を目的とするものといえる。
イ　訂正事項２〜５について
　訂正事項２による訂正は、訂正前の請求項７に係る発明が訂正前の請求項５又は６の記載を引用していたところ、請求項６の記載を引用しないものとするものである。また、訂正事項３〜５による訂正も、訂正前の請求項９、１０及び１１のそれぞれについて、請求項６の記載を引用しないものとするものである。
　したがって、訂正事項２〜５による訂正は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第４号に掲げる事項を目的とするものといえる。
（３）新規事項の有無
ア　訂正事項１について
　本件特許の明細書段落【００５８】に、「感放射線性酸発生剤（Ｂ）としては、キノンジアジド化合物、オキシムスルホネート化合物、オニウム塩、スルホン酸エステル化合物が好ましく、キノンジアジド化合物、オキシムスルホネート化合物がより好ましく、キノンジアジド化合物が特に好ましい。」と記載されている。当該記載に基づけば、訂正事項１による訂正は、願書に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内においてされたものであるといえる。
　したがって、訂正事項１による訂正は、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項の規定に適合する。
イ　訂正事項２〜５について
　訂正事項２〜５による訂正は、訂正前の請求項６の記載を引用しないものとするものであるから、新規事項を追加するものではないことは明らかである。
　したがって、訂正事項２〜５による訂正は、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項の規定に適合する。
（４）特許請求の範囲の拡張・変更の存否
ア　訂正事項１について
　訂正事項１による訂正は、限定を付加する訂正であるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないことは明らかである。
　したがって、訂正事項１による訂正は、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項の規定に適合する。
イ　訂正事項２〜５について
　訂正事項２〜５による訂正は、訂正前の請求項６の記載を引用しないものとするものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないことは明らかである。
　したがって、訂正事項２〜５による訂正は、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項の規定に適合する。
３　請求項１３〜１８に係る訂正について
（１）訂正の内容
　請求項１３〜１８に係る訂正の訂正内容は、以下のとおりである。
ア　訂正事項６
　特許請求の範囲の請求項７に
「ノボラック樹脂（Ｃ）が、フェノール性水酸基を有する縮合多環式芳香族基を有する構造単位を含む樹脂である請求項５または６に記載の感放射線性樹脂組成物。」
と記載されているもののうち、請求項６の記載を引用するものについて、
「（Ａ）式（Ａ１）で表される構造単位を有するポリイミド、および
　　　前記ポリイミドの前駆体
　　から選択される少なくとも１種の重合体と、
（Ｂ）感放射線性酸発生剤と、
（Ｇ１）式（Ｇ１−１）で表される化合物、および
　　　　式（Ｇ１−２）で表される化合物
　　から選択される少なくとも１種の溶剤と、
（Ｃ）ノボラック樹脂と
を含有し、
　ノボラック樹脂（Ｃ）が、フェノール性水酸基を有する縮合多環式芳香族基を有する構造単位を含む樹脂である、感放射線性樹脂組成物。
【化７】
［式（Ａ１）中、Ｒ1は水酸基を有する２価の基であり、Ｘは４価の有機基である。］
【化８】
［式（Ｇ１−１）中、ＲG1はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１８の炭化水素基または前記炭化水素基における少なくとも１つの炭素−炭素結合間に−Ｏ−を挿入してなる基であり、２つのＲG1は互いに結合して窒素原子とともに環を形成していてもよく、ＲG2はメチレン基またはカルボニル基であり、ＲG3は水素原子または炭素数１〜１８の炭化水素基であり、ＲG4は炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基である。
　式（Ｇ１−２）中、ＸG1はそれぞれ独立にＣ−Ｈまたは窒素原子であり、ただし少なくとも１つのＸG1は窒素原子であり、ＸG2はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１８の炭化水素基または炭素数２〜１８のアルコキシアルキル基であり、ただし「２つのＸG1がそれぞれＣ−ＨおよびＮ原子であり、Ｎ原子に結合したＸG2がメチル基であり、炭素原子に結合したＸG2が水素原子である場合」を除く。］」
と訂正し、新たな請求項１３とする。
イ　訂正事項７
　特許請求の範囲の請求項８に
「ノボラック樹脂（Ｃ）が、式（Ｃ２−１）で表される構造単位および式（Ｃ２−２）で表される構造単位から選択される少なくとも１種を有する樹脂である請求項５〜７のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物。
【化６】
［式（Ｃ２−１）〜式（Ｃ２−２）中、Ｒ2は、メチレン基、炭素数２〜３０のアルキレン基、炭素数４〜３０の２価の脂環式炭化水素基，炭素数７〜３０のアラルキレン基または−Ｒ3−Ａｒ−Ｒ3−で表される基（Ａｒは２価の芳香族基であり、Ｒ3はそれぞれ独立にメチレン基または炭素数２〜２０のアルキレン基である）であり；ａ、ｂ、ｃおよびｅはそれぞれ独立に０〜３の整数であり、ｄは０〜２の整数であり、但し、ａおよびｂが共に０である場合はなく、ｃ〜ｅの全てが０である場合はない。］」
と記載されているもののうち、請求項８が請求項７の記載を介して請求項６の記載を引用するものについて、
「ノボラック樹脂（Ｃ）が、式（Ｃ２−１）で表される構造単位および式（Ｃ２−２）で表される構造単位から選択される少なくとも１種を有する樹脂である請求項１３に記載の感放射線性樹脂組成物。
【化９】
［式（Ｃ２−１）〜式（Ｃ２−２）中、Ｒ2は、メチレン基、炭素数２〜３０のアルキレン基、炭素数４〜３０の２価の脂環式炭化水素基，炭素数７〜３０のアラルキレン基または−Ｒ3−Ａｒ−Ｒ3−で表される基（Ａｒは２価の芳香族基であり、Ｒ3はそれぞれ独立にメチレン基または炭素数２〜２０のアルキレン基である）であり；ａ、ｂ、ｃおよびｅはそれぞれ独立に０〜３の整数であり、ｄは０〜２の整数であり、但し、ａおよびｂが共に０である場合はなく、ｃ〜ｅの全てが０である場合はない。］」に訂正し、新たな請求項１４とする。
ウ　訂正事項８
　特許請求の範囲の請求項９に
「（Ｄ）架橋剤
をさらに含有する請求項１〜８のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物。」
と記載されているもののうち、請求項７又は請求項８の記載を介して請求項６の記載を引用するものについて、
「（Ｄ）架橋剤
をさらに含有する請求項１３または１４に記載の感放射線性樹脂組成物。」に訂正し、新たな請求項１５とする。
エ　訂正事項９
　特許請求の範囲の請求項１０に
「請求項１〜９のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物から形成される、有機ＥＬ素子用絶縁膜。」
と記載されているもののうち、請求項７〜９の記載を介して請求項６の記載を引用するものについて、
「請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物から形成される、有機ＥＬ素子用絶縁膜。」に訂正し、新たな請求項１６とする。
オ　訂正事項１０
　特許請求の範囲の請求項１１に
「請求項１〜９のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物を用いて基板上に塗膜を形成する工程、前記塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、前記放射線が照射された塗膜を現像する工程、および前記現像された塗膜を加熱する工程を有する、有機ＥＬ素子用絶縁膜の製造方法。」
と記載されているもののうち、請求項７〜９の記載を介して請求項６の記載を引用するものについて、
「請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物を用いて基板上に塗膜を形成する工程、前記塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、前記放射線が照射された塗膜を現像する工程、および前記現像された塗膜を加熱する工程を有する、有機ＥＬ素子用絶縁膜の製造方法。」に訂正し、新たな請求項１７とする。
カ　訂正事項１１
　特許請求の範囲の請求項１２に
「請求項１０に記載の絶縁膜を備える有機ＥＬ素子。」
と記載されているもののうち、請求項１０の記載及び請求項７〜９の記載を介して請求項６の記載を引用するものについて、
「請求項１６に記載の絶縁膜を備える有機ＥＬ素子。」に訂正し、新たな請求項１８とする。
（２）訂正の目的の適否
ア　訂正事項６について
　訂正事項６による訂正は、請求項６の記載を引用する請求項７の記載を、請求項６の記載を引用しないものとする訂正である。
　したがって、訂正事項６による訂正は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第４号に掲げる事項を目的とするものといえる。
イ　訂正事項７〜１１について
　訂正事項７〜１１による訂正は、請求項７の記載を介して請求項６の記載を間接的に引用する請求項８の記載を、請求項６の記載を引用しないものとする訂正である。また、訂正事項５〜８による訂正も、同様に、請求項６の記載を間接的に引用する請求項９〜１２の記載を、請求項６の記載を引用しないものとする訂正である。
　したがって、訂正事項７〜１１による訂正も、特許法第１２０条の５第２項ただし書第４号に掲げる事項を目的とするものといえる。
（３）新規事項の有無
　訂正事項６〜１１による訂正は、請求項６の記載を引用しないものとするものであるから、新規事項を追加するものではないことは明らかである。
　したがって、訂正事項６〜１１による訂正は、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項の規定に適合する。
（４）特許請求の範囲の拡張・変更の存否
　訂正事項６〜１１による訂正は、請求項６の記載を引用しないものとするものであるから、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないことは明らかである。
　したがって、訂正事項６〜１１による訂正は、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項の規定に適合する。
４　むすび
　以上のとおりであるから、本件訂正は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号及び第４号に掲げる事項を目的とするものであり、かつ、同条第９項において準用する同法第１２６条第５項及び第６項の規定に適合する。
　よって、特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１〜１２〕、〔１３〜１８〕について訂正することを認める。
第３　訂正後の本件発明
　本件訂正請求は、前記第２のとおり、認められることとなったので、本件特許の請求項１〜１８に係る発明（以下、「本件特許発明１」〜「本件特許発明１８」という。）は、本件訂正請求による訂正後の特許請求の範囲の請求項１〜１８に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
「【請求項１】
（Ａ）式（Ａ１）で表される構造単位を有するポリイミド、および
　　　前記ポリイミドの前駆体
　　から選択される少なくとも１種の重合体と、
（Ｂ）感放射線性酸発生剤と、
（Ｇ１）式（Ｇ１−１）で表される化合物、および
　　　　式（Ｇ１−２）で表される化合物
　　から選択される少なくとも１種の溶剤と、
（Ｇ２）グリコール系溶剤と
を含有する感放射線性樹脂組成物。
【化１】
［式（Ａ１）中、Ｒ1は水酸基を有する２価の基であり、Ｘは４価の有機基である。］
【化２】
［式（Ｇ１−１）中、ＲG1はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１８の炭化水素基または前記炭化水素基における少なくとも１つの炭素−炭素結合間に−Ｏ−を挿入してなる基であり、２つのＲG1は互いに結合して窒素原子とともに環を形成していてもよく、ＲG2はメチレン基またはカルボニル基であり、ＲG3は水素原子または炭素数１〜１８の炭化水素基であり、ＲG4は炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基である。
　式（Ｇ１−２）中、ＸG1はそれぞれ独立にＣ−Ｈまたは窒素原子であり、ただし少なくとも１つのＸG1は窒素原子であり、ＸG2はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１８の炭化水素基または炭素数２〜１８のアルコキシアルキル基であり、ただし「２つのＸG1がそれぞれＣ−ＨおよびＮ原子であり、Ｎ原子に結合したＸG2がメチル基であり、炭素原子に結合したＸG2が水素原子である場合」を除く。］
【請求項２】
　式（Ａ１）におけるＲ1が、式（ａ１）で表される２価の基である請求項１に記載の感放射線性樹脂組成物。
【化３】
［式（ａ１）中、Ｒ2は、単結合、酸素原子、硫黄原子、スルホニル基、カルボニル基、メチレン基、ジメチルメチレン基またはビス（トリフルオロメチル）メチレン基であり；Ｒ3は、それぞれ独立に水素原子、ホルミル基、アシル基またはアルキル基であり、ただし、Ｒ3の少なくとも１つは水素原子であり；ｎ１およびｎ２は、それぞれ独立に０〜２の整数であり、ただし、ｎ１およびｎ２の少なくとも一方は１または２である。］
【請求項３】
　前記溶剤（Ｇ１）が、Ｎ，Ｎ，２−トリメチルプロピオンアミド、３−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、３−ブトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、３−ヘキシルオキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、イソプロポキシ−Ｎ−イソプロピル−プロピオンアミド、ｎ−ブトキシ−Ｎ−イソプロピル−プロピオンアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、Ｎ−（ｎ−プロピル）−２−ピロリドン、Ｎ−イソプロピル−２−ピロリドン、Ｎ−（ｎ−ブチル）−２−ピロリドン、Ｎ−（ｔ−ブチル）−２−ピロリドン、Ｎ−（ｎ−ペンチル）−２−ピロリドン、Ｎ−メトキシプロピル−２−ピロリドン、Ｎ−エトキシエチル−２−ピロリドンおよびＮ−メトキシブチル−２−ピロリドンから選択される少なくとも１種の溶剤を含む請求項１または２に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項４】
　グリコール系溶剤（Ｇ２）が、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート、およびトリエチレングリコールジアルキルエーテルから選択される少なくとも１種の溶剤を含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項５】
（Ｃ）ノボラック樹脂
をさらに含有する請求項１〜４のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項６】
（Ａ）式（Ａ１）で表される構造単位を有するポリイミド、および
　　　前記ポリイミドの前駆体
　　から選択される少なくとも１種の重合体と、
（Ｂ）キノンジアジド化合物である感放射線性酸発生剤と、
（Ｇ１）式（Ｇ１−１）で表される化合物、および
　　　　式（Ｇ１−２）で表される化合物
　　から選択される少なくとも１種の溶剤と、
（Ｃ）ノボラック樹脂と
を含有する感放射線性樹脂組成物。
【化４】
［式（Ａ１）中、Ｒ1は水酸基を有する２価の基であり、Ｘは４価の有機基である。］
【化５】
［式（Ｇ１−１）中、ＲG1はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１８の炭化水素基または前記炭化水素基における少なくとも１つの炭素−炭素結合間に−Ｏ−を挿入してなる基であり、２つのＲG1は互いに結合して窒素原子とともに環を形成していてもよく、ＲG2はメチレン基またはカルボニル基であり、ＲG3は水素原子または炭素数１〜１８の炭化水素基であり、ＲG4は炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基である。
　式（Ｇ１−２）中、ＸG1はそれぞれ独立にＣ−Ｈまたは窒素原子であり、ただし少なくとも１つのＸG1は窒素原子であり、ＸG2はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１８の炭化水素基または炭素数２〜１８のアルコキシアルキル基であり、ただし「２つのＸG1がそれぞれＣ−ＨおよびＮ原子であり、Ｎ原子に結合したＸG2がメチル基であり、炭素原子に結合したＸG2が水素原子である場合」を除く。］
【請求項７】
　ノボラック樹脂（Ｃ）が、フェノール性水酸基を有する縮合多環式芳香族基を有する構造単位を含む樹脂である請求項５に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項８】
　ノボラック樹脂（Ｃ）が、式（Ｃ２−１）で表される構造単位および式（Ｃ２−２）で表される構造単位から選択される少なくとも１種を有する樹脂である請求項５〜７のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物。
【化６】
［式（Ｃ２−１）〜式（Ｃ２−２）中、Ｒ2は、メチレン基、炭素数２〜３０のアルキレン基、炭素数４〜３０の２価の脂環式炭化水素基，炭素数７〜３０のアラルキレン基または−Ｒ3−Ａｒ−Ｒ3−で表される基（Ａｒは２価の芳香族基であり、Ｒ3はそれぞれ独立にメチレン基または炭素数２〜２０のアルキレン基である）であり；ａ、ｂ、ｃおよびｅはそれぞれ独立に０〜３の整数であり、ｄは０〜２の整数であり、但し、ａおよびｂが共に０である場合はなく、ｃ〜ｅの全てが０である場合はない。］
【請求項９】
（Ｄ）架橋剤
をさらに含有する請求項１〜５、７〜８のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項１０】
　請求項１〜５、７〜９のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物から形成される、有機ＥＬ素子用絶縁膜。
【請求項１１】
　請求項１〜５、７〜９のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物を用いて基板上に塗膜を形成する工程、前記塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、前記放射線が照射された塗膜を現像する工程、および前記現像された塗膜を加熱する工程を有する、有機ＥＬ素子用絶縁膜の製造方法。
【請求項１２】
　請求項１０に記載の絶縁膜を備える有機ＥＬ素子。
【請求項１３】
（Ａ）式（Ａ１）で表される構造単位を有するポリイミド、および
　　　前記ポリイミドの前駆体
　　から選択される少なくとも１種の重合体と、
（Ｂ）感放射線性酸発生剤と、
（Ｇ１）式（Ｇ１−１）で表される化合物、および
　　　　式（Ｇ１−２）で表される化合物
　　から選択される少なくとも１種の溶剤と、
（Ｃ）ノボラック樹脂と
を含有し、
　ノボラック樹脂（Ｃ）が、フェノール性水酸基を有する縮合多環式芳香族基を有する構造単位を含む樹脂である、感放射線性樹脂組成物。
【化７】
［式（Ａ１）中、Ｒ1は水酸基を有する２価の基であり、Ｘは４価の有機基である。］
【化８】
［式（Ｇ１−１）中、ＲG1はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１８の炭化水素基または前記炭化水素基における少なくとも１つの炭素−炭素結合間に−Ｏ−を挿入してなる基であり、２つのＲG1は互いに結合して窒素原子とともに環を形成していてもよく、ＲG2はメチレン基またはカルボニル基であり、ＲG3は水素原子または炭素数１〜１８の炭化水素基であり、ＲG4は炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基である。
　式（Ｇ１−２）中、ＸG1はそれぞれ独立にＣ−Ｈまたは窒素原子であり、ただし少なくとも１つのＸG1は窒素原子であり、ＸG2はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１８の炭化水素基または炭素数２〜１８のアルコキシアルキル基であり、ただし「２つのＸG1がそれぞれＣ−ＨおよびＮ原子であり、Ｎ原子に結合したＸG2がメチル基であり、炭素原子に結合したＸG2が水素原子である場合」を除く。］
【請求項１４】
　ノボラック樹脂（Ｃ）が、式（Ｃ２−１）で表される構造単位および式（Ｃ２−２）で表される構造単位から選択される少なくとも１種を有する樹脂である請求項１３に記載の感放射線性樹脂組成物。
【化９】
［式（Ｃ２−１）〜式（Ｃ２−２）中、Ｒ2は、メチレン基、炭素数２〜３０のアルキレン基、炭素数４〜３０の２価の脂環式炭化水素基，炭素数７〜３０のアラルキレン基または−Ｒ3−Ａｒ−Ｒ3−で表される基（Ａｒは２価の芳香族基であり、Ｒ3はそれぞれ独立にメチレン基または炭素数２〜２０のアルキレン基である）であり；ａ、ｂ、ｃおよびｅはそれぞれ独立に０〜３の整数であり、ｄは０〜２の整数であり、但し、ａおよびｂが共に０である場合はなく、ｃ〜ｅの全てが０である場合はない。］
【請求項１５】
（Ｄ）架橋剤
をさらに含有する請求項１３または１４に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項１６】
　請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物から形成される、有機ＥＬ素子用絶縁膜。
【請求項１７】
　請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物を用いて基板上に塗膜を形成する工程、前記塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、前記放射線が照射された塗膜を現像する工程、および前記現像された塗膜を加熱する工程を有する、有機ＥＬ素子用絶縁膜の製造方法。
【請求項１８】
　請求項１６に記載の絶縁膜を備える有機ＥＬ素子。」
第４　引用文献の記載事項及び引用文献に記載された発明
１　甲第１号証の記載事項
　先の出願前に日本国内又は外国において頒布された刊行物である甲第１号証（特開２０１３−５０６９６号公報）には、以下の記載事項がある。なお、合議体が発明の認定等に用いた箇所に下線を付した。以下の引用文献においても同様である。
（１）「【請求項１】
（ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する樹脂、及び
（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物
を含有する感光性樹脂組成物。
【化１】
　上記一般式（１）中、
　Ｒ１は、４価の有機基を表す。複数のＲ１は互いに同一であっても異なっていてもよい。
　Ｒ２は、２価の有機基を表す。複数のＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
　但し複数のＲ２のうち少なくとも１つは脂環基を有する２価の有機基である。
　Ｒ３は、各々独立に、水素原子又は有機基を表す。
　但し複数の−ＣＯ２Ｒ３のうち少なくとも１つは、酸の作用により分解しアルカリ可溶性基を生じる基である。
【請求項２】
　前記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する樹脂（ａ）が、下記一般式（２）で表される繰り返し単位と、下記一般式（３）で表される繰り返し単位とを有する樹脂である、請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【化２】
　上記一般式（２）中、
　Ｒ１’は、前記一般式（１）におけるＲ１と同義である。
　Ｒ３’は、前記一般式（１）におけるＲ３と同義である。
　但し複数の−ＣＯ２Ｒ３’のうち少なくとも１つは、酸の作用により分解しアルカリ可溶性基を生じる基である。
　Ｒ４は、脂環基を有する２価の有機基である。
　上記一般式（３）中、
　Ｒ１”は、前記一般式（１）におけるＲ１と同義である。
　Ｒ３”は、前記一般式（１）におけるＲ３と同義である。
　但し複数の−ＣＯ２Ｒ３”のうち少なくとも１つは、酸の作用により分解しアルカリ可溶性基を生じる基である。
　Ｒ５は、Ｒ４とは異なる２価の有機基である。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【請求項１９】
　請求項１〜１６のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物により形成される感光性膜。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【請求項２１】
　（ア）請求項１９に記載の感光性膜を基板上に形成する工程、
　（イ）該感光性膜を活性光線又は放射線で露光する工程、
　（ウ）該感光性膜の露光された部分を水性アルカリ現像液で除去するように現像する工程、及び
　（エ）得られたレリーフパターンを加熱処理する工程
を有する硬化レリーフパターンの製造方法。」
（２）「【技術分野】
【０００１】
　
本発明は半導体装置の表面保護膜、層間絶縁膜、表示デバイス用の層間絶縁膜として使用されるポジ型高耐熱性感光性樹脂組成物、該ポジ型高耐熱性感光性樹脂組成物を用いた耐熱性を有する硬化レリーフパターンの製造方法及びレリーフパターンを含有する半導体装置に関するものである。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
　
本発明は、解像性及び感度に優れたリソグラフィー性能を有し、３００℃以下（好ましくは２５０℃以下）の低温での硬化、いわゆる低温キュアにおいて、応力が低いことによりウエハ反りを防止する硬化レリーフパターンを形成することができる感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いる、レリーフパターン形成材料、感光性膜、ポリイミド膜、硬化レリーフパターン、その製造方法、及び該硬化レリーフパターンを含む半導体装置を提供することを目的とする。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【発明の効果】
【００２１】
　本発明の感光性樹脂組成物は、解像性及び感度に優れたリソグラフィー性能を有し、いわゆる低温キュアにおいて、応力が低いことによりウエハ反りを防止する硬化レリーフパターンを形成することができる。
　本発明によれば、解像性及び感度に優れたリソグラフィー性能を有し、いわゆる低温キュアにおける低応力特性に優れ、ウエハ反りを防止する硬化レリーフパターンを形成することができる、レリーフパターン形成材料、感光性膜、ポリイミド膜、硬化レリーフパターン、その製造方法、及び該硬化レリーフパターンを含む半導体装置を提供することができる。」
（３）「【００２３】
　本発明の感光性樹脂組成物は、
（ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する樹脂
（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物
を含有する。
【００２４】
【化７】
【００２５】
　上記一般式（１）中、
　
Ｒ１は、４価の有機基を表す。
　
Ｒ２は、２価の有機基を表す。
　但し複数のＲ２のうち少なくとも１つは脂環基を有する２価の有機基である。
　
Ｒ３は、各々独立に、水素原子又は有機基を表す。
　但し複数の−ＣＯ２Ｒ３のうち少なくとも１つは、酸の作用により分解しアルカリ可溶性基を生じる基である。」
（４）「【００２７】
（ａ）一般式（１）の繰り返し単位を有する樹脂
　前記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する樹脂（ａ）は、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂である。一般式（１）の繰り返し単位を有する樹脂は、好ましくはアルカリ現像液に不溶又は難溶性である。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００４２】
　前記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する樹脂（ａ）は、熱硬化させてポリイミドとした際に、直線性及び剛直性を向上させ低応力を達成しウエハ反りを防止する観点、基板との接着性を高める観点、露光後のアルカリ溶解性を高める観点などから、下記一般式（２）で表される繰り返し単位と、下記一般式（３）で表される繰り返し単位とを有する樹脂であることが好ましい。
【００４３】
【化１１】
【００４４】
　上記一般式（２）中、
　Ｒ１’は、前記一般式（１）におけるＲ１と同義である。
　Ｒ３’は、前記一般式（１）におけるＲ３と同義である。
　但し複数の−ＣＯ２Ｒ’３（合議体注：「−ＣＯ２Ｒ’３」は「−ＣＯ２Ｒ３’」の誤記である。）のうち少なくとも１つは、酸の作用により分解しアルカリ可溶性基を生じる基である。
　Ｒ４は、脂環基を有する２価の有機基である。
　上記一般式（３）中、
　Ｒ１”は、前記一般式（１）におけるＲ１と同義である。
　Ｒ３”は、前記一般式（１）におけるＲ３と同義である。
　但し複数の−ＣＯ２Ｒ３”のうち少なくとも１つは、酸の作用により分解しアルカリ可溶性基を生じる基である。
　Ｒ５は、Ｒ４とは異なる２価の有機基である。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【０１２５】
　これらの特性を満たす上記一般式（１）にて示される構造単位を有するポリアミド酸エステルは、適切なモノマーを選択することにより、芳香環π共役長が抑えられ、剛直でかつ直線な主鎖を形成可能な構造を有することになる。
　また、本発明において、樹脂（ａ）は、１種で使用してもよいし、複数併用してもよい。
さらに、樹脂（ａ）以外の樹脂を併用してもよい。
（５）「【０１２６】
（ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物
　本発明の組成物は活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（「光酸発生剤」又は「（ｂ）成分」ともいう）を含有する。これらは２種以上を併用して用いることもできる。また、感度調整のために、増感剤などを併用して用いることもできる。
【０１２７】
（ｂ１）光酸発生剤
　
光酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、あるいはマイクロレジスト等に使用されている活性光線又は放射線の照射により酸を発生する公知の化合物及びそれらの混合物を適宜に選択して使用することができる。
【０１２８】
　たとえば、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、イミドスルホネート、オキシムスルホネート、ジアゾジスルホン、ジスルホン、ｏ−ニトロベンジルスルホネートを挙げることができる。
【０１２９】
　
また、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する基、あるいは化合物をポリマーの主鎖又は側鎖に導入した化合物、たとえば、
、特開昭６２−６９２６３号、
、特開昭６３−１６３４５２号、
等に記載の化合物を用いることができる。
（６）「【０２３５】
（ｃ）塩基性化合物
　本発明に係る組成物は、露光から加熱までの経時による性能変化を低減するために、塩基性化合物を含有することが好ましい。」
（７）「【０３５１】
（ｆ）密着促進剤
　本発明におけるポジ型感光性樹脂組成物には、必要により密着性付与のための有機ケイ素化合物、シランカップリング剤、レベリング剤等の密着促進剤を添加してもよい。」
（８）「【０３５２】
（ｇ）溶剤
　
溶剤は本発明の組成物を溶解できるものであれば特に限定されないが、塗布時に溶剤が必要以上に蒸発して塗布時に組成物の固形分が析出しないようにするため、１００℃以上の沸点の溶剤が好ましい。
例えば、アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、
アミド系溶媒等の有機溶剤を挙げることができる。
【０３５３】
　アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレートとしては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノエチルエーテルプロピオネート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートが好ましく挙げられる。
　アルキレングリコールモノアルキルエーテルとしては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルを好ましく挙げられる。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【０３５５】
　環状ラクトンとしては、例えば、β−プロピオラクトン、β−ブチロラクトン、γ−ブチロラクトン、α−メチル−γ−ブチロラクトン、β−メチル−γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、γ−カプロラクトン、γ−オクタノイックラクトン、α−ヒドロキシ−γ−ブチロラクトンが好ましく挙げられる。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【０３５７】
　アルキレンカーボネートとしては、例えば、プロピレンカーボネート、ビニレンカーボネート、エチレンカーボネート、ブチレンカーボネートが好ましく挙げられる。
　アルコキシ酢酸アルキルとしては、例えば、酢酸−２−メトキシエチル、酢酸−２−エトキシエチル、酢酸−２−（２−エトキシエトキシ）エチル、酢酸−３−メトキシ−３−メチルブチル、酢酸−１−メトキシ−２−プロピルが好ましく挙げられる。
　ピルビン酸アルキルとしては、例えば、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピルが好ましく挙げられる。
　アミド系溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンが好ましく挙げられる。
　その他、ジメチルスルホキシド、スルホランが好ましく挙げられる。
　上記の中で、
更に好適な溶剤
Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、γ−ブチロラクトン（ＧＢＬ）、
　
これら溶媒は、単独で用いても２種以上を混合して用いてもよい。
　本発明の感光性樹脂組成物中の全固形分濃度は、一般的には１０〜４０質量％、より好ましくは１０〜３０質量％、更に好ましくは１５〜３０質量％である。」
（９）「【０３５８】
〔レリーフパターン製造方法〕
　
本発明の感光性樹脂組成物を用いて、レリーフパターンを製造する方法としては、（ａ）本発明の感光性樹脂組成物を適当な基板上にコートし感光性膜を形成し、（ｂ）コートされたこの基板をベーキングし（プリベーク）、（ｃ）活性光線又は放射線で露光し、（ｄ）水性現像剤で現像し、そして（ｅ）硬化することにより、硬化されたレリーフパターンを形成することができる。
【０３５９】
　コートされ、露光された基板を、現像に先立って、高温でベーキングすることもできる（ポストエクスポージャーベーク）。また、現像された基板を、硬化前にリンスしてもよい。
【０３６０】
　
このように、本発明の感光性樹脂組成物により、加熱硬化後の厚みが所定厚み（例えば０．１〜３０μｍ）になるように、半導体素子上に塗布し、プリベーク、露光、現像、加熱硬化して半導体装置を製造できる。
（１０）「【実施例】
【０３６８】
　以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【０３７０】
＜樹脂の合成例＞
〔Ｐ−１の合成〕
ポリアミック酸の合成
　温度計、攪拌器、窒素導入管を備えた５０００ｍＬフラスコ中にｔｒａｎｓ−１，４−シクロヘキサンジアミン（岩谷瓦斯（株）製）１２３．４２ｇを入れ、ＮＭＰ（Ｎ−メチル−２−ピロリドン）２３９９．４ｇに溶解した後、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸無水物（三菱化学（株）製）３００．００ｇを添加した。６０℃で４時間攪拌し、その後室温（２５℃）まで放冷した。次いで無水フタル酸３０．２７ｇを添加し、室温で１０時間攪拌して無色透明のポリアミック酸溶液を得た。得られた溶液をＧＰＣで分析すると、Ｍｗ＝１．６８×１０４、Ｍｎ＝０．６２×１０４、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．７１であった。
【０３７１】
ポリアミック酸エステルの合成
　このポリアミック酸溶液１３２．０１ｇを温度計、攪拌器、窒素導入管を備えた５００ｍＬフラスコ中に加え、ＮＭＰ１１１．０ｇを加え冷却し、０℃以下でクロロメチルメチルエーテル１２．５６ｇ、続いてＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン１６．１２ｇを添加した。０℃以下で４時間反応させた後、反応液をメタノール１１７５ｇに加え、析出固体を濾取、乾燥し、白色固体の目的物（樹脂Ｐ−１）２４．６ｇを得た。得られた樹脂をＧＰＣで分析すると、Ｍｗ＝２．００×１０４、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９１であった。固体を重ＤＭＳＯに溶解して１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定し、カルボン酸エステルとカルボン酸のピーク積分比から保護率を算出したところ１００％であった。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【０４７２】
　その他の樹脂も同様にして合成した。
これら合成した樹脂の、４価の有機基Ｒ１周辺構造が由来するモノマー構造、２価の有機基Ｒ２周辺のジアミンモノマー、Ｒ１周辺構造を形成するモノマーと、Ｒ２周辺のジアミンモノマーとの仕込みモル比、Ｒ３についての酸の作用により分解しアルカリ可溶性基を生じる基（併用する場合は各々のモル比）、該基によるカルボキシル基の保護率、末端封止剤、合成法、質量平均分子量、及び分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、下記表１〜４の通りであった。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【０４７５】
【表３】
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【０４７７】
　表中の略号を下記に表す。
【０４７８】
【化１１０】
【０４７９】
【化１１１】
【０４８０】
【化１１２】
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【０４８３】
【化１１５】
【０４８４】
〔感光性樹脂組成物の調製〕
　
下記表に示す成分を同表に示す溶媒に溶解させ、全固形分濃度２５質量％とし、孔径０．１μｍのポリテトラフルオロエチレン製カセット型フィルターにてろ過を行い、感光性樹脂組成物を調製した。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【０４８９】
〔膜特性評価〕
　調製した感光性樹脂組成物を、４インチシリコンウエハ上にスピンコートし、ホットプレート上にて１２０℃３分間の予備乾燥を行い、膜厚５．０μｍのフィルムを得た。次いで窒素条件下２５０℃６０分間加熱硬化させポリイミド膜を得た。
＜応力＞
　キュア後の膜を薄膜ストレス測定装置（テンコール社製、ＦＬＸ−２３２０型）にて、２５℃における応力を測定した。応力の値が小きい程、ウェハ反り量が少ないことを意味する。
　下記表中、溶剤を併用する場合のかっこ内の数値は質量比を表す。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【０４９２】
【表７】
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【０４９４】
　表中の略号を下記に表す。
〔酸発生剤〕
【０４９５】
【化１１６】
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【０５００】
　〔塩基性化合物〕
　ＤＩＡ：２，６−ジイソプロピルアニリン
　ＰＥＡ：Ｎ−フェニルジエタノールアミン
　
ＤＢＵ：１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【０５０２】
〔界面活性剤〕
Ｆ１７６：メガファックＦ１７６（大日本インキ化学工業（株）製）
Ｆ４７５：メガファックＦ−４７５
ＰＦ６３２０：（ＯＭＮＯＶＡ社製、フッ素系）
ＢＹＫ３０７：（ビックケミー社製）
【０５０３】
〔密着促進剤〕
ＧＰＴＭＳ：３−グリシジロキシプロピルトリメトキシシラン
ＭＡＰＴＭＳ：３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
ＴＥＳＰＥＣ：トリエトキシシリルプロピルエチルカーバメート
〔溶剤〕
ＧＢＬ：γ−ブチロラクトン
ＮＭＰ：Ｎ−メチルピロリドン
ＣＸ：シクロヘキサノン
ＣＰ：シクロヘプタノン
ＤＭＩ：１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン
２　甲第１号証に記載された発明
　前記１の記載事項（３）及び記載事項（１０）に基づけば、甲第１号証には、実施例８３の感光性樹脂組成物として、次の発明（以下、「甲１発明」という。）が記載されていると認められる。
「以下に示す成分を以下に示す溶媒に溶解させ、全固形分濃度２５質量％とし、孔径０．１μｍのポリテトラフルオロエチレン製カセット型フィルターにてろ過を行い、調製した感光性樹脂組成物。
樹脂　　　　：Ｐ−８３　　　　　　　　　　　　　　　　　　８７質量％
　　　　　　　一般式（１）で表される繰り返し単位を有し、
　　　　　　　４価の有機基Ｒ１周辺構造に由来するモノマー構造がＣＢ
　　　　　　　ＤＡ
　　　　　　　２価の有機基Ｒ２周辺のジアミンモノマーがＣＨＤＡ及び
　　　　　　　ｂｉｓ−ＡＰＡＦ
　　　　　　　Ｒ１周辺構造を形成するモノマーと、Ｒ２周辺のジアミン
　　　　　　　モノマーとの仕込みモル比が、４８．８／３９．３／１１．
　　　　　　　９
　　　　　　　Ｒ３についての酸の作用により分解しアルカリ可溶性基を
　　　　　　　生じる基がＥＳ２−４、
　　　　　　　該基によるカルボキシル基の保護率が１００
　　　　　　　末端封止剤がＰＥＰＡ
　　　　　　　質量平均分子量が１．９８×１０４
　　　　　　　分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．００
酸発生剤　　：ＰＡＧ−１　　　　　　　　　　　　　　　　　　５質量％
密着促進剤　：ＧＰＴＭＳ（３−グリシジロキシプロピルトリメトキシシラ
　　　　　　　ン）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７．０質量％
塩基性化合物：ＤＢＵ
　　　　　　（１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン
　　　　　　　）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．５質量％
界面活性剤　：Ｆ４７５（メガファックＦ−４７５）　　　　０．５質量％
溶剤　　　　：ＤＭＩ（１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン）」
３　甲第２号証の記載事項
　先の出願前に日本国内又は外国において頒布された刊行物である甲第２号証（特開２００４−５４２５４号公報）には、以下の記載事項がある。
（１）「【請求項１】
（ａ）一般式（１）で表される構造を有する樹脂と、（ｂ）感光剤と、（ｃ）大気圧下における沸点が１００℃以上１４０℃以下の有機溶媒とを含有し、かつ、（ｃ）成分の含有量が有機溶媒全量に対して５０重量％以上１００重量％以下である感光性樹脂組成物。
【化１】
（式中Ｒ１は２個以上の炭素原子を有する２価から８価の有機基、Ｒ２は２個以上の炭素原子を有する２価から６価の有機基、Ｒ３およびＲ４は同じでも異なっていてもよく、水素原子または炭素数１から２０までの有機基を示す。ｎは５から１０００００までの範囲、ｐおよびｑは、それぞれ０から４までの範囲、ｒおよびｓは、それぞれ０から２までの範囲である。ｐ＋ｑ＞０である。）」
（２）「【００５９】
本発明における（ｃ）成分は、大気圧下における沸点が１００℃以上１４０℃以下の有機溶媒である。（ｃ）成分の沸点が１００℃未満の場合、スリットダイコート法で塗布する際に、溶媒の蒸発が進行しすぎること、および（ａ）成分の樹脂の溶解性が乏しいことから、塗布口金に固形分が析出しやすくなり異物発生の原因になるという問題、および、塗布膜にスジ状の厚みむらが現れる、いわゆるスジ引きが発生しやすいという問題があり好ましくない。また（ｃ）成分の沸点が１４０℃を越えた場合、溶媒の揮発性が不十分となり、加熱乾燥工程において転写痕が発生しやすくなり好ましくない。本発明において用いる有機溶媒全量に対する（ｃ）成分の割合は、５０重量％以上１００重量％以下が好ましく、６０重量％以上１００重量％以下がより好ましく、７０重量％以上１００重量％以下がさらに好ましい。このような溶媒を用いることにより、転写痕もスジ引きもない、高品位の絶縁層を得ることができるので好ましい。
【００６０】
本発明の（ｃ）成分として用いる沸点が１００℃以上１４０℃以下の有機溶媒としては、本発明の（ａ）成分の樹脂を溶解するものが好ましい。具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のアルキレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピルアセテート、ブチルアセテート、イソブチルアセテート等のアルキルアセテート類、アセチルアセトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン等のケトン類、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール等のアルコール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。特に、プロピレングリコールモノメチルエーテルまたはプロピレングリコールモノエチルエーテルが好ましい。」
４　甲第３号証の記載事項
　先の出願前に日本国内又は外国において頒布された刊行物である甲第３号証（特開２００８−２３１２５５号公報）には、以下の記載事項がある。
（１）「【特許請求の範囲】
【請求項１】
　（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位、及び下記一般式（２）で表される繰り返し単位を含む、水酸基を有するポリイミド重合体と、
　（Ｂ）下記（Ｂ）群から選択される少なくとも一種の特定溶媒を含む溶剤と、
を含有する樹脂組成物。
　（Ｂ）群：エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、脂肪族アルコール類、乳酸エステル類、脂肪族カルボン酸エステル類、アルコキシ脂肪族カルボン酸エステル類、ケトン類
【化１】
　（前記一般式（１）中、Ｘは４価の芳香族又は脂肪族炭化水素基を示し、Ａは水酸基を有する２価の基を示す）
【化２】
　（前記一般式（２）中、Ｘは４価の芳香族又は脂肪族炭化水素基を示し、Ｂは炭素数２〜２０の置換若しくは非置換のアルキレン基、又は下記一般式（３）で表される２価の基を示す）
【化３】
　（前記一般式（３）中、Ｚは炭素数２〜２０の置換又は非置換のアルキレン基を示す）」
（２）「【技術分野】
【０００１】
　
本発明は、半導体素子の層間絶縁膜（パッシベーション膜）、表面保護膜（オーバーコート膜）、及び高密度実装基板用絶縁膜等に用いられる樹脂組成物、及びそれを含有する感光性樹脂組成物に関する。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
　本発明は、このような従来技術の有する問題点に鑑みてなされたものであり、その課題とするところは、塗布時の面内均一性が良好で、高膜厚塗布及びアルカリ現像が可能であるとともに、解像度の高い硬化物を得ることが可能な、表面保護膜、層間絶縁膜、及び高密度実装基板用絶縁膜用途に適した樹脂組成物、及びそれを含有する感光性樹脂組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
　本発明者らは上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、以下の構成とすることによって、上記課題を達成することが可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
　即ち、本発明によれば、以下に示す樹脂組成物、及び感光性樹脂組成物が提供される。
【０００９】
　
［１］（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位、及び下記一般式（２）で表される繰り返し単位を含む、水酸基を有するポリイミド重合体と、（Ｂ）下記（Ｂ）群から選択される少なくとも一種の特定溶媒を含む溶剤と、を含有する樹脂組成物。
【００１０】
　（Ｂ）群：エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、脂肪族アルコール類、乳酸エステル類、脂肪族カルボン酸エステル類、アルコキシ脂肪族カルボン酸エステル類、ケトン類
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【発明の効果】
【００２６】
　本発明の樹脂組成物、及び感光性樹脂組成物は、塗布時の面内均一性が良好で、高膜厚塗布及びアルカリ現像が可能であるとともに、解像度の高い硬化物を得ることが可能であるといった効果を奏するものである。このため、本発明の樹脂組成物は、表面保護膜、層間絶縁膜、及び高密度実装基板用絶縁膜用途に適したものである。」
（３）「【００２８】
１．樹脂組成物：
（（Ａ）ポリイミド重合体）
　本発明の樹脂組成物に含有される（Ａ）ポリイミド重合体（以下、「（Ａ）重合体」ともいう）は、前記一般式（１）で表される繰り返し単位と、前記一般式（２）で表される繰り返し単位を含む、水酸基を有する重合体である。このように、その分子構造中に水酸基を有する（Ａ）重合体を含有する本発明の樹脂組成物は、特に塗布性が良好なものである。このため、基板等の表面上に塗布した場合、形成される膜面の面内均一性が良好であり、均質な塗膜を形成することが可能である。」
（４）「【００５９】
（（Ｂ）溶剤）
　本発明の樹脂組成物に含有される（Ｂ）溶剤には、下記（Ｂ）群から選択される少なくとも一種の特定溶媒が含まれる。この特定溶媒と前述の（Ａ）重合体を併用することにより、塗布時の面内均一性が良好で、高膜厚塗布及びアルカリ現像が可能であるとともに、解像度の高い硬化物を得ることが可能となる。また、（Ｂ）溶剤を用いることにより、樹脂組成物の取り扱い性が向上するとともに、粘度や保存安定性を適宜調節することができる。なお、特定溶媒としては、常圧における沸点が１００℃以上のものを用いることが好ましい。
　（Ｂ）群：エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、脂肪族アルコール類、乳酸エステル類、脂肪族カルボン酸エステル類、アルコキシ脂肪族カルボン酸エステル類、ケトン類」
（５）「【００６８】
２．感光性樹脂組成物：
（（Ｃ）光酸発生剤）
　本発明の感光性樹脂組成物には、前述の樹脂組成物と、（Ｃ）光酸発生剤とが含有される。
（Ｃ）光酸発生剤は、放射線の照射（以下、「露光」ともいう）により酸を発生する化合物である。このような性質を有する（Ｃ）光酸発生剤としては、
、スルホンイミド化合物、
ジアゾケトン化合物等のナフトキノンジアジド（ＮＱＤ）系の光酸発生剤がある。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００７６】
　また、ジアゾケトン化合物としては、１，３−ジケト−２−ジアゾ化合物、ジアゾベンゾキノン化合物、ジアゾナフトキノン化合物等を挙げることができる。好ましいジアゾケトン化合物の具体例としては、フェノール類の１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル化合物を挙げることができる。」
（６）「【００７９】
（（Ｄ）架橋剤）
　
本発明の感光性樹脂組成物には、通常、その使用に際して（Ｄ）架橋剤が含有される。（Ｄ）架橋剤は、熱や酸の作用により、樹脂等の配合組成物や他の架橋剤分子との結合を形成する化合物である。
（７）「【００９２】
（その他の重合体（樹脂））
　
本発明の感光性樹脂組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じて、上述の（Ａ）重合体以外のその他の重合体（樹脂）を更に含有させることができる。含有させることのできる「その他の重合体（樹脂）」は、特に限定されないが、アルカリ可溶性のものが好ましく、更には、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂（以下、「フェノール樹脂」ともいう）を含有させることが、解像性が良好となるためにより好ましい。
【００９３】
　
含有させることのできるフェノール樹脂としては、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン及びその共重合体、フェノール−キシリレングリコールジメチルエーテル縮合樹脂、クレゾール−キシリレングリコールジメチルエーテル縮合樹脂、フェノール−ジシクロペンタジエン縮合樹脂等を挙げることができる。
【００９４】
　ノボラック樹脂としては、具体的には、フェノール／ホルムアルデヒド縮合ノボラック樹脂、クレゾール／ホルムアルデヒド縮合ノボラック樹脂、フェノール−ナフトール／ホルムアルデヒド縮合ノボラック樹脂等を挙げることができる。
【００９５】
　ノボラック樹脂は、フェノール類とアルデヒド類を、触媒の存在下で縮合させることにより得ることができる。この際に使用されるフェノール類としては、例えば、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ｏ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−エチルフェノール、ｏ−ブチルフェノール、ｍ−ブチルフェノール、ｐ−ブチルフェノール、２，３−キシレノール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノール、２，６−キシレノール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール、２，３，５−トリメチルフェノール、３，４，５−トリメチルフェノール、カテコール、レゾルシノール、ピロガロール、α−ナフトール、β−ナフトール等を挙げることができる。また、アルデヒド類としては、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド等を挙げることができる。」
（８）「【実施例】
【０１１３】
　以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例、比較例中の「部」及び「％」は、特に断らない限り質量基準である。また、各種物性値の測定方法、及び諸特性の評価方法を以下に示す。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【０１１９】
（合成例１）
　容量５００ｍＬのセパラブルフラスコに、２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン（モノマー「ＭＡ−１」）４１．１ｇ（５０ｍｏｌ％）、１，１０−デシレンジアミン（モノマー「ＭＢ−１」）１９．４ｇ（５０ｍｏｌ％）、及びＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）１９５ｇを加えた。室温下で撹拌してそれぞれのモノマーが溶解した後、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物（モノマー「ＭＣ−２」）４４．５ｇ（１００ｍｏｌ％）を仕込んだ。窒素下で１２０℃、５時間撹拌した後、１８０℃に昇温させて５時間脱水反応を行った。反応終了後、反応混合物を水中に投じ、生成物を再沈、ろ過、真空乾燥をすることによって、９１ｇの重合体（Ａ−１）を得た。得られた重合体（Ａ−１）の重量平均分子量Ｍｗは２３１００であった。また、ＩＲ分析を行い、イミドを示す１７７８ｃｍ−１の吸収があることを確認した。
【０１２０】
（合成例２〜６）
　表１に示す配合処方でそれぞれのモノマー及びＮＭＰを配合したこと以外は、前述の合成例１と同様にして重合体（Ａ−２）〜（Ａ−６）を得た。得られた重合体の収量（ｇ）及び重量分子量Ｍｗを表１に示す。また、得られたいずれの重合体についても、イミドを示す１７７８ｃｍ−１の吸収があることをＩＲ分析により確認した。なお、合成例１〜６で用いたモノマーの構造を以下に示す。
【０１２１】
【化１８】
【０１２２】
【化１９】
【０１２３】
【化２０】
【０１２４】
【表１】
【０１２５】
（合成例７：フェノール樹脂（Ｐ−１））
　ｍ−クレゾールとｐ−クレゾールを６０：４０の割合（モル比）で混合し、これにホルマリンを加え、シュウ酸触媒を用いて常法により縮合して、重量平均分子量Ｍｗ：８，７００のクレゾールノボラック樹脂（フェノール樹脂（Ｐ−１））を得た。得られたフェノール樹脂（Ｐ−１）のＯＨ当量は１２２ｇ／ｅｑであった。
【０１２６】
（実施例１）
　重合体（Ａ−１）１００部、光酸発生剤（Ｃ−１）１部、架橋剤（Ｄ−１）３０部、化合物（Ｅ−１）５部、及び溶剤（ＥＬ）１８０部を混合することにより、感光性樹脂組成物（実施例１）を得た。得られた感光性樹脂組成物の混合性の評価は「良好」、塗布性の評価は「優良」、面内均一性の評価は「優良」、及びパターニング性の評価は「良好」であった。
【０１２７】
（実施例２〜６、比較例１〜３）
　表２に示す配合処方とすること以外は、前述の実施例１と同様にして樹脂組成物又は感光性樹脂組成物（実施例２〜６、比較例１〜３）を得た。得られた樹脂組成物又は感光性樹脂組成物の混合性、塗布性、面内均一性、及びパターニング性の評価結果を表３に示す。なお、表２中の略号の意味は以下に示す通りである。
【０１２８】
＜（Ｂ）溶剤＞
　ＥＬ：乳酸エチル
　ＮＭＰ：Ｎ−メチル−２−ピロリドン
【０１２９】
＜（Ｃ）光酸発生剤＞
　Ｃ−１：スチリル−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン
【０１３０】
＜（Ｄ）架橋剤（アルコキシアルキル化されたアミノ基を有する架橋剤）＞
　Ｄ−１：ヘキサメトキシメチルメラミン（商品名「サイメル３００」、サイテックインダストリーズ社製）
　Ｄ−２：テトラメトキシメチルグルコールウリル（商品名「サイメル１１７４」、サイテックインダストリーズ社製）
【０１３１】
＜（Ｅ）化合物＞
　Ｅ−１：オルト蟻酸トリエチル
【０１３２】
＜その他の樹脂＞
　Ｐ−１：合成例７で得たクレゾールノボラック樹脂（フェノール樹脂（Ｐ−１））
　Ｐ−２：フェノール・キシリレングリコールジメチルエーテル縮合樹脂（商品名「ミレックス（登録商標）ＸＬＣ−３Ｌ」、三井化学社製）
【０１３３】
【表２】
」
５　甲第４号証の記載事項
　先の出願前に日本国内又は外国において頒布された刊行物である甲第４号証（特開２０１３−２０５８０１号公報）には、以下の記載事項がある。
（１）「【特許請求の範囲】
【請求項１】
　
アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、光酸発生剤（Ｂ）と、少なくとも下記式（Ｃ１）で表される化合物及び下記式（Ｃ２）で表される化合物を共重合して得られる含フッ素共重合体（Ｃ）と、ケイ素化合物（Ｄ）と、溶剤（Ｅ）を含有する感光性樹脂組成物。
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ３１）−ＣＯＯ−（ＣＨ２）Ｐ−Ｎ（Ｒ３２）−ＳＯ２−ＣＱＦ２Ｑ＋１　（Ｃ１）
（式（Ｃ１）中のＲ３１は、水素又は分岐してもよい炭素数１〜６の炭化水素基から選ばれる基であり、Ｒ３２は、分岐していてもよい炭素数１〜６の炭化水素基から選ばれる基である。Ｐは１以上１０以下の整数であり、Ｑは１以上７以下の整数である。）
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ３３）−ＣＯＯ−（ＣＲ３４Ｒ３５−ＣＲ３６Ｒ３７−Ｏ−）Ｊ−（ＣＲ３８Ｒ３９−ＣＲ４０Ｒ４１−Ｏ−）Ｋ−Ｒ４２  （Ｃ２）
（式（Ｃ２）中のＲ３３〜Ｒ４１は、水素又は分岐していてもよい炭素数１〜６の炭化水素基から選ばれる基であり、Ｒ４２は、分岐していてもよい炭素数１〜６の炭化水素基から選ばれる基である。Ｊは０以上３０以下の整数であり、Ｋは０以上３０以下の整数であり、ＪとＫが同時に０になることは無い。）
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【請求項８】
　更に、架橋剤（Ｆ）を含有する請求項１乃至７のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項９】
　
前記アルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、
ポリイミド樹脂
を含む
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【請求項１１】
　請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物を、１２インチウエハーに吐出し、硬化することによって得られる硬化膜。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【請求項１３】
　請求項１１に記載の硬化膜で構成されている絶縁膜。」
（２）「【技術分野】
【０００１】
　本発明は、感光性樹脂組成物、その硬化膜、保護膜及び絶縁膜、並びに当該硬化膜、保護膜及び絶縁膜を有する半導体装置及び表示体装置に関するものである。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
　本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、優れた密着性と塗布時の異常が少なく、環境への負荷も小さい硬化膜、ならびに硬化膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供するものである。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【発明の効果】
【００１２】
　本発明によれば、優れた密着性を有し、塗布時の異常が少なく、環境への負荷も小さい硬化膜、ならびに硬化膜を形成できる感光性樹脂組成物を提供できる。」
（３）「【００１６】
［アルカリ可溶性樹脂（Ａ）］
　本発明の感光性樹脂組成物に用いるアルカリ可溶性樹脂としては、アルカリ水溶液に可溶となる樹脂であれば用いることができ、フェノール性水酸基やカルボキシル基を有する樹脂が好適に用いられる。具体的には、ポリアミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂前駆体、ポリイミド樹脂前駆体、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、並びにスチレンとヒドロキシスチレンおよびその誘導体の共重合体などが挙げられる。
【００１７】
　本発明において、ポリアミド樹脂とは、ベンゾオキサゾール前駆体構造および／またはイミド前駆体構造を有する樹脂であり、ベンゾオキサゾール前駆体構造、イミド前駆体構造、ベンゾオキサゾール前駆体構造の一部が閉環反応することにより生じるベンゾオキサゾール構造、イミド前駆体構造の一部が閉環反応することにより生じるイミド構造を有していてもよく、また、アミド酸エステル構造を有していてもよい。また、前記ポリイミド樹脂前駆体は、ポリイミド酸構造及びポリアミド酸エステル構造の共重合構造を用いることができる。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００２０】
　これらポリアミド樹脂の中でも、本発明の感光性樹脂組成物の硬化物の耐熱性の観点から、下記一般式（６）で表される繰り返し単位を有するポリアミド樹脂が好ましい。
【００２１】
【化２】
（式中、Ｘ、Ｙは、有機基である。Ｒ２は、水酸基、−Ｏ−Ｒ４、アルキル基、アシルオキシ基又はシクロアルキル基であり、複数有する場合、同一であっても異なっても良い。Ｒ３は、水酸基、カルボキシル基、−Ｏ−Ｒ４又は−ＣＯＯ−Ｒ４であり、複数有する場合、同一であっても異なっても良い。Ｒ２及びＲ３におけるＲ４は、炭素数１〜１５の有機基である。ここで、式（６）において、Ｒ２が、水酸基がない場合は、Ｒ３の少なくとも１つはカルボキシル基である。また、Ｒ３が、カルボキシル基がない場合は、Ｒ２の少なくとも１つは水酸基である。ｍは０〜８の整数、ｎは０〜８の整数である。）
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００４７】
　また、アルカリ可溶性樹脂におけるフェノール樹脂としては、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂及びレゾール樹脂などの、フェノール類とアルデヒド類との縮合反応によって合成される樹脂を使用することができる。
【００４８】
　本発明においてアルカリ可溶性樹脂（Ａ）は、上記ポリアミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール前駆体樹脂、ポリイミド前駆体樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂、並びにスチレンとヒドロキシスチレンおよびその誘導体の共重合体、からなる群より選ばれる１種類以上の樹脂を用いることができる。また、これらの共重合体の構造となっていてもよく、例えばポリベンゾオキサゾール前駆体の構造とポリイミド前駆体から選ばれるポリマーであってもよい。これらの中でも、金属配線を形成した後に除去するフォトレジストと異なり、永久膜に必要とされる優れた機械特性と低環境負の点から、ポリアミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール前駆体樹脂、ポリイミド前駆体樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリイミド樹脂、を少なくとも１種類含むことが更に好ましい。また、同一の種類の樹脂においては、異なる構造を有する樹脂を２つ以上含んでいてもよく、例えば、異なる構造を有するポリベンゾオキサゾール前駆体樹脂の併用や異なる構造を有するポリイミド前駆体樹脂の併用などが挙げられる。
　さらに、特性を損なわない範囲で、メタクリル酸樹脂、メタクリル酸エステル樹脂等のアクリル系樹脂などをアルカリ可溶性樹脂として使用することができる。」
（４）「【００４９】
［光酸発生剤（Ｂ）］
　本発明の感光性樹脂組成物に用いる光酸発生剤としては、紫外線等の照射によって酸性基を発生させる事でアルカリ水溶液への溶解性を向上させ、紫外線等の未照射部分との溶解度の差異を設けるために添加される。これによりパターンを形成でき、基材上にパターン付きの硬化膜を形成することが可能となる。
　前記光酸発生剤としては、オニウム塩やキノンジアジド化合物などが挙げられるが、キノンジアジド化合物が信頼性の点から好ましい。」
（５）「【００７２】
［溶剤（Ｅ）］
　本発明の感光性樹脂組成物に用いる溶剤は、前記アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、光酸発生剤（Ｂ）と、含フッ素共重合体（Ｃ）、などを溶解させてワニス状にし、基板上にコーティングできるようにすることを目的として使用するものである。
　
例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（以下ＮＭＰ）、γ−ブチロラクトン、
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、
メチル−１，３−ブチレングリコールアセテート、１，３−ブチレングリコール−３−モノメチルエーテル、
等が挙げられ、単独でも２種類以上混合して用いても良い。
（６）「【００７４】
［架橋剤（Ｆ）］
　
本発明の感光性樹脂組成物には、さらに架橋剤を用いることができる。このような架橋剤は、金属配線を形成した後に除去するフォトレジストと異なり、前記アルカリ可溶性樹脂（Ａ）に対する架橋剤として作用することで、永久膜に必要とされる機械特性を向上させることを目的として添加するものである。
（７）「【００８８】
　本発明の感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化膜は、半導体素子等の半導体装置用途のみならず、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）型液晶や有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）等の表示体装置用途、多層回路の層間絶縁膜やフレキシブル銅張板のカバーコート、ソルダーレジスト膜や液晶配向膜としても有用である。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
【００９０】
　表示体装置用途の例としては、表示体素子上に本発明の感光性樹脂組成物の硬化膜を形成してなる保護膜、ＴＦＴ素子やカラーフィルター用等の絶縁膜または平坦化膜、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍｅｉｎ　Ｖｅｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型液晶表示装置用等の突起、有機ＥＬ素子陰極用等の隔壁等を挙げることができる。
【００９１】
　表示体装置における本発明の感光性樹脂組成物の使用方法は、半導体装置用途に準じ、表示体素子やカラーフィルターを形成した基板上にパターン化された感光性樹脂組成物層を、上記の方法で形成することによるものである。表示体装置用途、特に絶縁膜や平坦化膜用途では、高い透明性が要求されるが、本発明の感光性樹脂組成物の塗膜の硬化前に、後露光工程を導入することにより、透明性に優れた樹脂層が得られることもでき、実用上さらに好ましい。
【００９２】
　なお、前記半導体装置とは、上記絶縁膜、α線遮断膜、平坦化膜、突起（樹脂ポスト）、隔壁などが形成された半導体装置である。
　
前記表示体装置とは、上記硬化膜、保護膜、絶縁膜、平坦化膜、突起、などが形成された、
有機ＥＬ素子陰極などである。
６　甲第４号証に記載された発明
　前記５の記載事項（１）の請求項９には、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）が、ポリアミド樹脂を含むものであることが記載されている。
　したがって、甲第４号証の記載事項（１）に基づけば、甲第４号証には、請求項１の記載を引用する請求項９に係る発明として、次の発明（以下、「甲４発明」という。）が記載されていると認められる。
「ポリイミド樹脂を含むアルカリ可溶性樹脂（Ａ）と、光酸発生剤（Ｂ）と、少なくとも下記式（Ｃ１）で表される化合物及び下記式（Ｃ２）で表される化合物を共重合して得られる含フッ素共重合体（Ｃ）と、ケイ素化合物（Ｄ）と、溶剤（Ｅ）を含有する感光性樹脂組成物。
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ３１）−ＣＯＯ−（ＣＨ２）Ｐ−Ｎ（Ｒ３２）−ＳＯ２−ＣＱＦ２Ｑ＋１　（Ｃ１）
（式（Ｃ１）中のＲ３１は、水素又は分岐してもよい炭素数１〜６の炭化水素基から選ばれる基であり、Ｒ３２は、分岐していてもよい炭素数１〜６の炭化水素基から選ばれる基である。Ｐは１以上１０以下の整数であり、Ｑは１以上７以下の整数である。）
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ３３）−ＣＯＯ−（ＣＲ３４Ｒ３５−ＣＲ３６Ｒ３７−Ｏ−）Ｊ−（ＣＲ３８Ｒ３９−ＣＲ４０Ｒ４１−Ｏ−）Ｋ−Ｒ４２  （Ｃ２）
（式（Ｃ２）中のＲ３３〜Ｒ４１は、水素又は分岐していてもよい炭素数１〜６の炭化水素基から選ばれる基であり、Ｒ４２は、分岐していてもよい炭素数１〜６の炭化水素基から選ばれる基である。Ｊは０以上３０以下の整数であり、Ｋは０以上３０以下の整数であり、ＪとＫが同時に０になることは無い。）」
７　甲第５号証の記載事項
　先の出願前に電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明が記載された引用文献である甲第５号証（国際公開２０１３／１２５５９５号）には、以下の記載事項がある。
（１）「技術分野
[0001]　本発明は、ポリイミド膜の形成に用いられる組成物、液晶表示素子の製造において用いられる液晶配向処理剤、この液晶配向処理剤から得られる液晶配向膜及びこの液晶配向膜を使用した液晶表示素子に関する。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
発明が解決しようとする課題
[0005]　しかしながら、貧溶媒は、ポリアミド酸や溶媒可溶性ポリイミドを溶解させる能力に劣るため、大量に混合すると樹脂の析出が起こる問題がある。
加えて、近年用いられている、スマートフォンや携帯電話等、モバイル用途の液晶表示素子では、できるだけ多くの表示面を確保するため、液晶表示素子の基板間を接着させるために用いるシール剤が、液晶配向膜の端部に近接した位置に存在する。そのため、液晶配向膜の端部の塗膜性が低下する場合、すなわち、液晶配向膜の端部が直線ではない場合、あるいはその端部が盛り上がっている状態である場合、液晶配向膜とシール剤との接着効果が低くなり、液晶表示素子の表示特性や信頼性を低下させてしまう。
　本発明の目的は、上記の事情に鑑みなされたものであり、ポリイミド膜を形成するために、塗膜性に優れた組成物を提供することである。また、本発明の組成物を液晶配向処理剤として用いることにより、基板への塗布溶液の濡れ拡がり性が高く均一な塗膜性を得て、端部の塗膜性にも優れる液晶配向膜を得ることである。特に、側鎖を有するジアミン化合物を使用して得られるポリアミド酸や溶媒可溶性ポリイミドを用いた液晶配向処理剤においても、これら特性に優れる液晶配向膜を提供すること、さらに、上記の液晶配向膜を有する液晶表示素子を提供することにある。
課題を解決するための手段
[0006]　本発明者は、鋭意研究を行った結果、特定構造を有する溶媒と、ポリイミド前駆体及びポリイミド前駆体をイミド化したポリイミドからなる群から選ばれる少なくとも１種の重合体とを含有する組成物が、上記の目的を達成するために極めて有効であることを見出し、本発明を完成するに至った。
　すなわち、本発明は以下の要旨を有するものである。
（１）下記の成分（Ａ）及び成分（Ｂ）を含有する組成物。
　成分（Ａ）：下記の式［１］で示される溶媒。
（式［１］中、Ｘ１は炭素数１〜３のアルキル基を示す。）
　成分（Ｂ）：ポリイミド前駆体及びポリイミド前駆体をイミド化したポリイミドからなる群から選ばれる少なくとも１種の重合体。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
発明の効果
[0013]　本発明の、特定構造を有する溶媒と、ポリイミド前駆体及びポリイミドからなる群から選ばれる少なくとも１種の重合体とを含有する組成物は、塗膜性に優れたポリイミド膜を形成するための組成物として提供できる。また、本発明の組成物を液晶配向処理剤として用いることで、基板への塗布溶液の濡れ拡がり性が高く均一な塗膜性が得られ、さらには、液晶配向膜の端部の塗膜性にも優れる液晶配向膜を提供することができる。特に、側鎖を有するジアミン化合物を使用して得られるポリアミド酸や溶媒可溶性ポリイミドを用いた液晶配向処理剤であっても、これら特性に優れる液晶配向膜を提供することができる。加えて、上記の液晶配向膜を有する液晶表示素子、上記の液晶配向膜を提供することのできる液晶配向処理剤を提供することができる。」
（２）「[0067]　本発明の組成物又はそれを用いた液晶配向処理剤中の有機溶媒は、塗布により均一な樹脂被膜を形成するという観点から、有機溶媒の含有量が７０〜９９．９質量％であることが好ましく、７０〜９８質量％がより好ましい。この含有量は、目的とするポリイミド膜又は液晶配向膜の膜厚によって適宜変更することができる。その際の有機溶媒としては、本発明の重合体を溶解させる有機溶媒であれば特に限定されない。その具体例を以下に挙げる。
　例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、１，３−ジメチル−イミダゾリジノン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンなどである。
　なかでも、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン又はγ−ブチルラクトン（以上、成分（Ｃ）ともいう）を用いることが好ましい。
　これら成分（Ｃ）は、組成物又はそれを用いた液晶配向処理剤に含まれる有機溶媒全体の２０〜９０質量％であることが好ましい。なかでも、３０〜８０質量％が好ましい。より好ましいのは４０〜８０質量％であり、さらに好ましくは、４０〜７０質量％である。」
（３）「実施例
[0091]　以下に実施例を挙げ、本発明をさらに詳しく説明するが、これらに限定して解釈されるものではない。
　実施例で用いた化合物等の略号は、以下のとおりである。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
[0095]（特定溶媒（成分（Ａ）））
　下記の式［１ａ］で示されるジプロピレングリコールジメチルエーテル
[化42]
（成分（Ｃ））
　ＮＭＰ：Ｎ−メチル−２−ピロリドン
　ＮＥＰ：Ｎ−エチル−２−ピロリドン
　γ−ＢＬ：γ−ブチロラクトン
（成分（Ｄ））
　ＢＣＳ：エチレングリコールモノブチルエーテル
　ＭＣ：ジエチレングリコールモノメチルエーテル
　ＥＣ：ジエチレングリコールモノエチルエーテル
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
[0111]「組成物及び液晶配向処理剤の調製」
　実施例１〜３４、及び比較例１〜８は、組成物の調製例である。また、得られた組成物は、液晶配向処理剤の各特性評価にも使用した。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
[0112]「組成物及び液晶配向処理剤の印刷性評価」
　実施例及び比較例で得られた組成物を用いて印刷性評価を行った。印刷機には、簡易印刷機Ｓ１５型（日本写真印刷社製）を用いた。印刷は、洗浄をしていないクロム蒸着基板上に、印刷面積が８０ｍｍ×８０ｍｍ、印圧が０．２ｍｍ、捨て基板が５枚、印刷から仮乾燥までの時間が９０秒、仮乾燥がホットプレート上にて７０℃で５分間の条件で行った。
　得られたポリイミド膜のピンホールの評価、ポリイミド膜の端部の直線性の評価及びポリイミド膜の端部の盛り上がりの評価を行った。
ポリイミド膜のピンホールの評価は、ポリイミド膜をナトリウムランプの下で目視観察することで行った。具体的には、ポリイミド膜上に確認されたピンホールの数を数え、ピンホールの数が少ないものほど、本評価に優れるとした。
[0113]　ポリイミド膜の端部の直線性の評価は、印刷方向に対して右側端部のポリイミド膜を光学顕微鏡で観察することにより行った。具体的には、光学顕微鏡の倍率を２５倍にして観察して得られた、ポリイミド膜画像の図１中の（１）と（２）の差、すなわち、図１中のＡの長さを測定した。すべてのポリイミド膜の画像は、同一倍率で得た。このＡの長さが短いほど、ポリイミド膜の端部の直線性に優れるとした。
　ポリイミド膜の端部の盛り上がりの評価は、印刷方向に対して右側端部のポリイミド膜を光学顕微鏡で観察することにより行った。具体的には、光学顕微鏡の倍率を２５倍にして観察して得られた、ポリイミド膜画像の図２中のＢの長さを測定した。すべてのポリイミド膜画像は、同一倍率で得た。このＢの長さが短いほど、ポリイミド膜の端部の盛り上がりに優れるとした。
　なお、実施例及び比較例で得られた組成物は、液晶配向処理剤の調製に用いることができることから、実施例及び比較例で得られたポリイミド膜の印刷性評価結果は、液晶配向膜の印刷性評価結果と同等であるとした。
表５〜７には、実施例及び比較例で得られたポリイミド膜（液晶配向膜）のピンホールの数、Ａの長さ及びＢの長さを示す。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
[0122]＜実施例２＞
　合成例２の合成手法で得られたポリイミド粉末（２）（２．５０ｇ）に、ＮＭＰ（２２．５ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に［１ａ］（８．３０ｇ）及びＢＣＳ（８．３０ｇ）を加え、５０℃にて１０時間攪拌して組成物（２）を得た。この組成物に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（２）は液晶配向処理剤（２）としても評価に用いた。
　得られた組成物（２）又は液晶配向処理剤（２）を用いて、上記した条件のもとで、セルの作製や各種の評価を行った。
[0123]＜実施例３＞
　合成例２の合成手法で得られたポリイミド粉末（２）（２．５０ｇ）に、ＮＥＰ（２０．４ｇ）を加え、７０℃にて２４時間攪拌して溶解させた。この溶液に［１ａ］（１４．６ｇ）及びＢＣＳ（４．２０ｇ）を加え、５０℃にて１０時間攪拌して組成物（３）を得た。この組成物に、濁りや析出などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（３）は液晶配向処理剤（３）としても評価に用いた。
　得られた組成物（３）又は液晶配向処理剤（３）を用いて、上記した条件のもとで、セルの作製や各種の評価を行った。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
[0172]　上記の結果からわかるように、本発明の実施例の組成物から得られたポリイミド膜は、比較例の組成物から得られたポリイミド膜に比べて、ピンホールが発生しない均一な塗膜性を示した。さらに、形成されたポリイミド膜の端部の直線性が高く、ポリイミド膜の端部の盛り上がりが小さい結果も得られた。
　また、本発明の組成物を用いた液晶配向剤から得られた液晶配向膜においても、同様の結果が得られた。特に、側鎖を有するジアミン化合物を使用して得られるポリアミド酸や溶媒可溶性ポリイミドを用いた液晶配向処理剤であっても、上記と同様に、ピンホールが発生しない均一な塗膜性を示し、ポリイミド膜の端部の直線性が高く、ポリイミド膜の端部の盛り上がりが小さい結果が得られた。
　同一のポリアミド酸又はポリイミドを用いた組成物の印刷性評価における、本発明の特定溶媒を含む実施例と特定溶媒を含まない比較例との比較では、特定溶媒を含まない比較例は、ポリイミド膜にピンホールが多く発生し、ポリイミド膜の端部の直線性が低く、ポリイミド膜の端部の盛り上がりが大きい結果となった。」
８　引用文献１の記載事項
　先の出願前に日本国内又は外国において頒布された刊行物であって、甲第１号証の段落【０１２９】において引用された特開昭６２−６９２６３号公報（以下、「引用文献１」という。）には、以下の記載事項がある。
（１）「〔発明の技術分野〕
　本発明は感光性組成物に関し、更に詳しくは、アルカリ現像可能で、かつ解像性に優れたポジティブ画像を形成する感光性組成物に関する。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
〔発明の目的〕
　本発明は、アルカリ現像可能で、かつ解像性に優れたポジティブ画像を形成する感光性組成物を提供することを目的とする。
〔発明の概要〕
　本発明者らはこれらの点に鑑み、鋭意検討した結果、フェノール骨格を有する樹脂を含む感光性組成物において、フェノールの水酸基に置換あるいは無置換のＯ−ニトロベンジル基が結合した化合物を含む感光性組成物が、本目的に合致することを見い出して本発明に到った。
　即ち本発明は、アルカリ溶液で現像を行なう、フェノール骨格を有する樹脂を含む感光性組成物において、フェノールの水酸基に置換あるいは無置換のＯ−ニトロベンジル基が結合した化合物を含むことを特徴とする感光性組成物である。」（第１頁左下欄第１１行〜第２頁左上欄第１９行）
（２）「　本発明の感光性組成物は、
感光剤としてＯ−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステル−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物が用いられる。
９　引用文献２の記載事項
　先の出願前に日本国内又は外国において頒布された刊行物であって、甲第１号証の段落【０１２９】において引用された特開昭６３−１６３４５２号公報（以下、「引用文献２」という。）には、以下の記載事項がある。
（１）「２．特許請求の範囲
（１）（ｉ）　支持体に、
（Ａ）　カチオン重合可能な、または遊離基により重合可能な成分、
（Ｂ）　（Ａ）のための輻射線で活性化される重合開始剤及び
（Ｃ）　輻射線で可溶化される成分を含む液体組成物の層を塗布し、
（ｉｉ）　前記（Ｂ）を活性化するものの前記（Ｃ）を実質的に活性化することのない波長を有する輻射線を前記組成物に当て、次いで所望により加熱を行ない、液体組成物の層を固化するように前記（Ａ）を重合し、
（ｉｉｉ）　前記固化された層が未暴露領域よりも暴露領域が現像剤により、より一層溶解性となるように、前記固化された層を所定のパターンで、段階（ｉｉ）で使用した輻射線とは異なり、前記成分（Ｃ）を活性化する波長を有する輻射線に当て、そして
（ｉｖ）　前記暴露領域を現像剤により処理して除去することを特徴とする画像形成方法。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
（１０）　（Ｃ）が、Ｏ−キノンジアジド、ニトロフェニルアセタールもしくはそのポリエステル誘導体または末端をキャップした誘導体、鎖中にベンゾイン基を含む樹脂、スルホネートエステル基のα位またはβ位にカルボニル基を含む芳香族アルコールのスルホン酸エステル、芳香族Ｎ−スルホニルオキシイミドもしくは芳香族オキシムスルホネートである特許請求の範囲第１項ないし第９項のうちいずれか１項記載の方法。」（第１頁左下欄第４行〜第３頁左上欄第４行）
（２）「３．発明の詳細な説明
　本発明は、印刷板及び印刷回路の製造に有用な画像形成方法に関する。
　　　　　　　　　　　　　　　　（中略）
　欧州特許公報No.０１５５２３１には、電着により形成した固体のポジホトレジスト層を画像露光することによりポジ画像を形成することが提案されている。この方法の要件にはごく少量の有機溶剤の使用が含まれるものの、塩形成性基を有する材料の使用が必要とされ、このため、利用性に限りがある。ここに、有機溶媒の蒸発を必要とせず、広範な利用性をもつ方法が必要とされている。
　従って、本発明は、
（ｉ）　支持体に、
（Ａ）　カチオン重合可能な、又は遊離基に上り重合可能な樹脂、
（Ｂ）　（Ａ）のための輻射線で活性化される重合開始剤、及び
（Ｃ）　輻射線で溶解性となる成分を含む液体組成物の層を塗布し、
（ｉｉ）　前記（Ｂ）を活性化するものの前記（Ｃ）を実質的に活性化することのない波長を有する輻射線を前記組成物に当て、次いで所望により加熱を行ない、液体組成物の層を固化するように前記（Ａ）を重合し、
（ｉｉｉ）　前記固化された層が未暴露領域よりも暴露領域が現像剤により、より一層溶解性となるように、前記固化された層を所定のパターンで、段階（ｉｉ）で使用した輻射線とは異なり、前記成分（Ｃ）を活性化する波長を有する輻射線に当て、そして
（ｉｖ）前記暴露領域を現像剤により処理して除去することを特徴とする画像形成方法を提供するものである。」（第３頁右上欄第４行〜第４頁左上欄第１行）
（３）「　
成分（Ｃ）として使用することのできる好ましい光で可溶化される物質にはキノンジアジドが含まれる。
　感光性ｏ−キノンジアジド化合物は良く知られており、例としてそれぞれに水酸基又はアミノ基を有する化合物、特に芳香族化合物のｏ−ベンゾキノンジアジドスルホニル又はｏ−ナフトキノンジアジドスルホニルエステル又はアミドが挙げられる。」（第１７頁左上欄第１２〜２０行）
第５　取消理由通知に記載した取消理由について
１　取消理由の概要
　本件訂正前の請求項６、９〜１２に係る特許に対して、令和２年２月１３日に通知した取消理由の概要は、本件訂正前の請求項６、９〜１２に係る発明は、先の出願前に、日本国内または外国において頒布された下記の刊行物に記載された発明に基づいて、先の出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（以下、「当業者」という。）が容易に発明をすることができたものであって、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、その発明に係る特許は取り消すべきものである、というものである。
　なお、甲第１号証は、主引用発明が記載された刊行物として引用されたものであり、甲第３号証は、請求項６、９〜１２に係る特許についての判断において、副引用文献又は周知技術を示す文献として引用されたものである。また、甲第４号証は、請求項９〜１２に係る特許についての判断において、周知技術を示す文献として引用されたものである。
　　甲第１号証：特開２０１３−５０６９６号公報
　　甲第３号証：特開２００８−２３１２５５号公報
　　甲第４号証：特開２０１３−２０５８０１号公報
２　当審の判断
（１）本件特許発明６について／甲第１号証、甲第３号証
ア　対比
　本件特許発明６と甲１発明とを対比する。
（ア）感放射線性樹脂組成物
　甲１発明の「感光性樹脂組成物」は、技術的にみて、本件特許発明６の「感放射線性樹脂組成物」に相当する。
（イ）ポリイミド
　甲１発明の「感光性樹脂組成物」を構成する成分である、樹脂「Ｐ−８３」は、その一般式（１）の「２価の有機基Ｒ２」が、水酸基を有する「ｂｉｓ−ＡＰＡＦ」に由来するモノマー構造を含んでいる。そうすると、甲１発明の樹脂「Ｐ−８３」は、本件特許発明６の式（Ａ１）における「水酸基を有する２価の基」である「Ｒ1」で表される構造単位を有している。
　また、甲１発明の樹脂「Ｐ−８３」は、その一般式（１）の「４価の有機基Ｒ１周辺構造に由来するモノマー構造」が「ＣＢＤＡ」に由来するモノマー構造である。そうすると、甲１発明の樹脂「Ｐ−８３」は、本件特許発明６の式（Ａ１）における「４価の有機基」である「Ｘ」で表される構造単位を有している。
　そして、甲１発明の樹脂「Ｐ−８３」は、その化学構造からみて、本件特許発明６の「式（Ａ１）で表される構造単位を有するポリイミド」であるといえる。
　したがって、甲１発明の「感光性樹脂組成物」は、本件特許発明６の「（Ａ）式（Ａ１）で表される構造単位を有するポリイミド、および前記ポリイミドの前駆体から選択される少なくとも１種の重合体」を含有するといえる。
（ウ）感放射線性酸発生剤
　甲１発明の「感光性樹脂組成物」を構成する成分である、酸発生剤「ＰＡＧ−１」は、技術的にみて、「感放射線性酸発生剤」であるといえる。
　したがって、甲１発明の「感光性樹脂組成物」と本件特許発明６の「（Ｂ）キノンジアジド化合物である感放射線性酸発生剤」とは、「（Ｂ）感放射線性酸発生剤」である点で共通する。
（エ）溶剤
　甲１発明の「感光性樹脂組成物」を構成する成分である、溶剤「ＤＭＩ（１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン）」は、その化学構造からみて、本件特許発明６の「式（Ｇ１−２）で表される化合物」に相当する。
　そして、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンは、「２つのＸG1がそれぞれＣ−ＨおよびＮ原子であり、Ｎ原子に結合したＸG2がメチル基であり、炭素原子に結合したＸG2が水素原子である場合」には該当しない。
　したがって、甲１発明の「感光性樹脂組成物」は、本件特許発明６の「（Ｇ１）式（Ｇ１−１）で表される化合物、および式（Ｇ１−２）で表される化合物から選択される少なくとも１種の溶剤」を含有するといえる。
（オ）以上より、本件特許発明６と甲１発明とは、
「（Ａ）式（Ａ１）で表される構造単位を有するポリイミド、および
　　　前記ポリイミドの前駆体
　　から選択される少なくとも１種の重合体と、
（Ｂ）感放射線性酸発生剤と、
（Ｇ１）式（Ｇ１−１）で表される化合物、および
　　　　式（Ｇ１−２）で表される化合物
　　から選択される少なくとも１種の溶剤と、
を含有する感放射線性樹脂組成物。
【化４】
［式（Ａ１）中、Ｒ1は水酸基を有する２価の基であり、Ｘは４価の有機基である。］
【化５】
［式（Ｇ１−１）中、ＲG1はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１８の炭化水素基または前記炭化水素基における少なくとも１つの炭素−炭素結合間に−Ｏ−を挿入してなる基であり、２つのＲG1は互いに結合して窒素原子とともに環を形成していてもよく、ＲG2はメチレン基またはカルボニル基であり、ＲG3は水素原子または炭素数１〜１８の炭化水素基であり、ＲG4は炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基である。
　式（Ｇ１−２）中、ＸG1はそれぞれ独立にＣ−Ｈまたは窒素原子であり、ただし少なくとも１つのＸG1は窒素原子であり、ＸG2はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１８の炭化水素基または炭素数２〜１８のアルコキシアルキル基であり、ただし「２つのＸG1がそれぞれＣ−ＨおよびＮ原子であり、Ｎ原子に結合したＸG2がメチル基であり、炭素原子に結合したＸG2が水素原子である場合」を除く。］」である点で一致し、以下の点で相違する。
［相違点１］感放射線性酸発生剤が、本件特許発明６は「キノンジアジド化合物」であるのに対し、甲１発明は「ＰＡＧ−１」である点。
［相違点２］本件特許発明６は「（Ｃ）ノボラック樹脂」を含有するのに対し、甲１発明はノボラック樹脂を含有しない点。
イ　判断
（ア）［相違点１］について
　甲第１号証の記載事項（５）には、光酸発生剤について、「光酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、あるいはマイクロレジスト等に使用されている活性光線又は放射線の照射により酸を発生する公知の化合物及びそれらの混合物を適宜に選択して使用することができる。」（段落【０１２７】）、「また、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する基、あるいは化合物をポリマーの主鎖又は側鎖に導入した化合物、たとえば、・・・、特開昭６２−６９２６３号、・・・、特開昭６３−１６３４５２号、・・・等に記載の化合物を用いることができる。」（段落【０１２９】）と記載されている。
　そして、甲第１号証に列記された特開昭６２−６９２６３号（引用文献１）には、記載事項（２）に「感光剤としてＯ−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステル−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物が用いられる。」と記載されており、特開昭６３−１６３４５２号（引用文献２）には、記載事項（３）に「成分（Ｃ）として使用することのできる好ましい光で可溶化される物質にはキノンジアジドが含まれる。」と記載されている。そうすると、甲第１号証には、光酸発生剤として、「キノンジアジド化合物」を用いることが示唆されていたといえる。また、甲第３号証の記載事項（５）にも、感光性樹脂組成物に含有される光酸発生剤について、「（Ｃ）光酸発生剤は、放射線の照射（以下、「露光」ともいう）により酸を発生する化合物である。このような性質を有する（Ｃ）光酸発生剤としては、・・・、スルホンイミド化合物、・・・ジアゾケトン化合物等のナフトキノンジアジド（ＮＱＤ）系の光酸発生剤がある。」と記載されている。これらの記載に基づけば、光酸発生剤としてスルホンイミド化合物の代わりにキノンジアジド化合物を用いることが知られていたといえる。
　したがって、甲１発明において、酸発生剤として、ＰＡＧ−１の替わりに、キノンジアジド化合物を採用することは、当業者が適宜なし得たことである。
　相違点１に関して、特許権者は、令和２年３月３０日付けの意見書において、令和元年１２月２日付けで提出した意見書に記載した意見を援用するとしている。そして、特許権者は、令和元年１２月２日付けの意見書において、「甲第１号証の化学増幅系ポジ型感光性樹脂組成物では、「酸の作用により分解しアルカリ可溶性基を生じる基」において（エステルの加水分解反応を利用して）保護基を脱離できる、強酸を発生させる酸発生剤が必要とされる。弱酸のカルボン酸が発生する溶解促進型のキノンジアジド化合物は、甲第１号証のような化学増幅系ポジ型感光性樹脂組成物では通常は使用されない。例えば甲第１号証の段落［０１２６］以降に光酸発生剤の説明があるが、キノンジアジド化合物は何ら記載されていない。」と主張している。
　しかし、甲第１号証は、「化学増幅系ポジ型感光性樹脂組成物」について、背景技術について記載した段落【０００２】に、「他方、感光性と未露光部の不溶性の機能を分離する技術として、半導体フォトレジストの分野では露光で触媒量の酸を発生させ、引き続く加熱プロセスにより組成物中のアルカリ不溶の基を露光で発生した酸を触媒とする化学反応でアルカリ可溶の基に変換する化学増幅型の感光性組成物が数多く適用されている。本技術分野に於いても、化学増幅型の感光性組成物が開示されている（例えば、特許文献２参照）。特に、高解像性、高感度等の観点から、酸分解性の特定の保護基で保護されたポリイミド前駆体を含有する化学増幅型の感光性樹脂組成物が開示されている（例えば、特許文献３、４参照）。」と記載されているのみである。当該記載は、「化学増幅系ポジ型感光性樹脂組成物」が従来知られていたことを紹介するものであるから、甲第１号証に記載された発明が、すべて「化学増幅系ポジ型感光性樹脂組成物」に限られると理解することはできない。また、既に述べたように、甲第１号証の段落【０１２９】には、「キノンジアジド化合物」を用いた文献も列記されていることからも、甲第１号証に記載された発明が、化学増幅系に限定されたものということはできない。
　以上のとおりであるから、特許権者の主張は採用できない。
（イ）［相違点２］について
　甲第１号証には、記載事項（２）に、「本発明は半導体装置の表面保護膜、層間絶縁膜、表示デバイス用の層間絶縁膜として使用されるポジ型高耐熱性感光性樹脂組成物、該ポジ型高耐熱性感光性樹脂組成物を用いた耐熱性を有する硬化レリーフパターンの製造方法及びレリーフパターンを含有する半導体装置に関するものである。」（段落【０００１】）、「本発明は、解像性及び感度に優れたリソグラフィー性能を有し、３００℃以下（好ましくは２５０℃以下）の低温での硬化、いわゆる低温キュアにおいて、応力が低いことによりウエハ反りを防止する硬化レリーフパターンを形成することができる感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いる、レリーフパターン形成材料、感光性膜、ポリイミド膜、硬化レリーフパターン、その製造方法、及び該硬化レリーフパターンを含む半導体装置を提供することを目的とする。」（段落【０００６】）と記載されている。上記記載に基づけば、甲１発明は、半導体装置の表面保護膜、層間絶縁膜、表示デバイス用の層間絶縁膜として使用されるポジ型高耐熱性感光性樹脂組成物に関する発明であって、解像性に優れたリソグラフィー性能を有する感光性樹脂組成物を提供することを目的とするものといえる。また、甲第１号証には、記載事項（４）に、「（ａ）一般式（１）の繰り返し単位を有する樹脂」について、「さらに、樹脂（ａ）以外の樹脂を併用してもよい。」（段落【０１２５】）との記載がある。
　一方、甲第３号証には、記載事項（２）に「本発明は、半導体素子の層間絶縁膜（パッシベーション膜）、表面保護膜（オーバーコート膜）、及び高密度実装基板用絶縁膜等に用いられる樹脂組成物、及びそれを含有する感光性樹脂組成物に関する。」（段落【０００１】）、「［１］（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位、及び下記一般式（２）で表される繰り返し単位を含む、水酸基を有するポリイミド重合体と、（Ｂ）下記（Ｂ）群から選択される少なくとも一種の特定溶媒を含む溶剤と、を含有する樹脂組成物。」（段落【０００９】及び請求項１）と記載されており、一般式（１）及び一般式（２）は以下のとおりのものである。
　ここで、一般式（１）中、Ｘは４価の芳香族又は脂肪族炭化水素基を示し、Ａは水酸基を有する２価の基を示すものであり、一般式（２）中、Ｘは４価の芳香族又は脂肪族炭化水素基を示し、Ｂは炭素数２〜２０の置換若しくは非置換のアルキレン基、又は以下の一般式（３）で表される２価の基を示し、一般式（３）中、Ｚは炭素数２〜２０の置換又は非置換のアルキレン基を示すものである。
　そうすると、甲第３号証に記載された樹脂組成物は、甲１発明の感光性樹脂組成物と共通する技術分野に属するものである。そして、甲第３号証に記載された樹脂組成物に含まれるポリイミド重合体も、甲１発明の感光性樹脂組成物の成分である樹脂Ｐ−８３と、一般式が共通するものである。
　そして、甲第３号証には、さらに、記載事項（７）に、「本発明の感光性樹脂組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、必要に応じて、上述の（Ａ）重合体以外のその他の重合体（樹脂）を更に含有させることができる。含有させることのできる「その他の重合体（樹脂）」は、特に限定されないが、アルカリ可溶性のものが好ましく、更には、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂（以下、「フェノール樹脂」ともいう）を含有させることが、解像性が良好となるためにより好ましい。」（段落【００９２】）、「含有させることのできるフェノール樹脂としては、ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン及びその共重合体、フェノール−キシリレングリコールジメチルエーテル縮合樹脂、クレゾール−キシリレングリコールジメチルエーテル縮合樹脂、フェノール−ジシクロペンタジエン縮合樹脂等を挙げることができる。」（段落【００９３】）と記載されており、ポリイミド重合体とノボラック樹脂とを併用した実施例２〜４も開示されている。
　したがって、甲１発明において、さらに解像性に優れたリソグラフィー性能を有するものとするために、ノボラック樹脂を更に含有させることは、当業者が容易に想到し得たことであるといえる。
ウ　むすび
　以上のとおりであるから、本件特許発明６は、甲１発明及び甲第３号証の記載に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
（２）本件特許発明９〜１２について
　本件特許発明９〜１２は、本件訂正により訂正された結果、請求項６の記載を直接引用せず、請求項８の記載を介して引用するものに減縮された。
　そして、本件特許発明８は、令和２年２月１３日付けで通知した取消理由の対象とされていない。
（３）本件特許発明１３〜１８について
　本件特許発明１３は、前記第２の３（１）ア及び（２）アに記載したとおり、本件訂正前の請求項６の記載を引用する請求項７の記載を、請求項６の記載を引用しないものとしたものである。また、本件発明１４〜１８も、前記第２の３（１）イ〜カ及び（２）イに記載したとおり、本件訂正前の請求項８〜１２の記載を、請求項６の記載を引用しないものとしたものである。
　そして、本件訂正前における、請求項７及び請求項６の記載を引用しない請求項８〜１２に係る発明は、令和２年２月１３日付けで通知した取消理由の対象とされていないから、本件特許発明１３〜１８も、令和２年２月１３日付けで通知した取消理由の対象ではない。
（４）小括
　以上より、本件特許発明６は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、その発明に係る特許は取り消すべきものである。
　また、本件訂正により訂正された本件特許発明９〜１８は、取消理由通知に記載した取消理由によっては、その発明に係る特許を取り消すことができない。
第６　取消理由に採用しなかった特許異議申立理由について
１　取消理由に採用しなかった特許異議申立理由の概要
　取消理由に採用しなかった特許異議申立理由の概要は、以下のとおりである。
　なお、特許異議申立人が提示した証拠は、次のとおりである。
　　甲第１号証：特開２０１３−５０６９６号公報
　　甲第２号証：特開２００４−５４２５４号公報
　　甲第３号証：特開２００８−２３１２５５号公報
　　甲第４号証：特開２０１３−２０５８０１号公報
　　甲第５号証：国際公開２０１３／１２５５９５号
（１）甲第１号証を主たる証拠とする進歩性欠如（特許法第２９条第２項）
　甲第１号証を主たる証拠とし、甲第２号証、甲第３号証、甲第５号証を従たる証拠として、本件特許発明１〜５、及び、本件特許発明１〜５のいずれかの記載を引用する本件特許発明９〜１２は、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件特許発明１〜５、９〜１２に係る特許を取り消すべきである。
（２）甲第４号証を主たる証拠とする進歩性欠如（特許法第２９条第２項）
　甲第４号証を主たる証拠とし、甲第１号証、甲第２号証、甲第３号証、甲第５号証を従たる証拠として、本件特許発明１〜６、９〜１２は、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件特許発明１〜６、９〜１２に係る特許を取り消すべきである。
（３）記載不備（特許法第３６条第６項第１号）
　本件特許発明１は、発明の詳細な説明に開示された範囲を超えており、本件特許発明１の記載を引用する本件特許発明２〜１２も同様であるから、本件特許発明１〜１２に係る特許を取り消すべきである。
２　甲第１号証を主たる証拠とする進歩性欠如についての当審の判断
（１）本件特許発明１について
ア　対比
　本件特許発明１と前記第４の２に記載した甲１発明とを対比する。
（ア）感放射線性樹脂組成物
　甲１発明の「感光性樹脂組成物」は、技術的にみて、本件特許発明１の「感放射線性樹脂組成物」に相当する。
（イ）ポリイミド
　甲１発明の「感光性樹脂組成物」を構成する成分である、樹脂「Ｐ−８３」は、その一般式（１）の「２価の有機基Ｒ２」が、水酸基を有する「ｂｉｓ−ＡＰＡＦ」に由来するモノマー構造を含んでいる。そうすると、甲１発明の樹脂「Ｐ−８３」は、本件特許発明１の式（Ａ１）における「水酸基を有する２価の基」である「Ｒ1」で表される構造単位を有している。
　また、甲１発明の樹脂「Ｐ−８３」は、その一般式（１）の「４価の有機基Ｒ１周辺構造に由来するモノマー構造」が「ＣＢＤＡ」に由来するモノマー構造である。そうすると、甲１発明の樹脂「Ｐ−８３」は、本件特許発明１の式（Ａ１）における「４価の有機基」である「Ｘ」で表される構造単位を有している。
　そして、甲１発明の樹脂「Ｐ−８３」は、その化学構造からみて、本件特許発明１の「式（Ａ１）で表される構造単位を有するポリイミド」であるといえる。
　したがって、甲１発明の「感光性樹脂組成物」は、本件特許発明１の「（Ａ）式（Ａ１）で表される構造単位を有するポリイミド、および前記ポリイミドの前駆体から選択される少なくとも１種の重合体」を含有するといえる。
（ウ）感放射線性酸発生剤
　甲１発明の「感光性樹脂組成物」を構成する成分である、酸発生剤「ＰＡＧ−１」は、技術的にみて、本件特許発明１の「（Ｂ）感放射線性酸発生剤」に相当する。
　したがって、甲１発明の「感光性樹脂組成物」は、本件特許発明１の「（Ｂ）感放射線性酸発生剤」を含有するといえる。
（エ）溶剤
　甲１発明の「感光性樹脂組成物」を構成する成分である、溶剤「ＤＭＩ（１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン）」は、その化学構造からみて、本件特許発明１の「式（Ｇ１−２）で表される化合物」に相当する。
　そして、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンは、「２つのＸG1がそれぞれＣ−ＨおよびＮ原子であり、Ｎ原子に結合したＸG2がメチル基であり、炭素原子に結合したＸG2が水素原子である場合」には該当しない。
　したがって、甲１発明の「感光性樹脂組成物」は、本件特許発明１の「（Ｇ１）式（Ｇ１−１）で表される化合物、および式（Ｇ１−２）で表される化合物から選択される少なくとも１種の溶剤」を含有するといえる。
（オ）一致点及び相違点
　以上より、本件特許発明１と甲１発明とは、
「（Ａ）式（Ａ１）で表される構造単位を有するポリイミド、および
　　　前記ポリイミドの前駆体
　　から選択される少なくとも１種の重合体と、
（Ｂ）感放射線性酸発生剤と、
（Ｇ１）式（Ｇ１−１）で表される化合物、および
　　　　式（Ｇ１−２）で表される化合物
　　から選択される少なくとも１種の溶剤と、
を含有する感放射線性樹脂組成物。
【化１】
［式（Ａ１）中、Ｒ1は水酸基を有する２価の基であり、Ｘは４価の有機基である。］
【化２】
［式（Ｇ１−１）中、ＲG1はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１８の炭化水素基または前記炭化水素基における少なくとも１つの炭素−炭素結合間に−Ｏ−を挿入してなる基であり、２つのＲG1は互いに結合して窒素原子とともに環を形成していてもよく、ＲG2はメチレン基またはカルボニル基であり、ＲG3は水素原子または炭素数１〜１８の炭化水素基であり、ＲG4は炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基である。
　式（Ｇ１−２）中、ＸG1はそれぞれ独立にＣ−Ｈまたは窒素原子であり、ただし少なくとも１つのＸG1は窒素原子であり、ＸG2はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１８の炭化水素基または炭素数２〜１８のアルコキシアルキル基であり、ただし「２つのＸG1がそれぞれＣ−ＨおよびＮ原子であり、Ｎ原子に結合したＸG2がメチル基であり、炭素原子に結合したＸG2が水素原子である場合」を除く。］」である点で一致し、以下の点で相違する。
［相違点１−１−１］本件特許発明１は「（Ｇ２）グリコール系溶剤」を含有するのに対し、甲１発明はグリコール系溶剤を含有しない点。
イ　判断
　上記［相違点１−１−１］について検討すると、甲第１号証の記載事項（８）には、「溶剤は本発明の組成物を溶解できるものであれば特に限定されないが、塗布時に溶剤が必要以上に蒸発して塗布時に組成物の固形分が析出しないようにするため、１００℃以上の沸点の溶剤が好ましい。」、「例えば、アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、・・・アミド系溶媒等の有機溶剤を挙げることができる。」（段落【０３５２】）と記載されている。また、上記記載事項クには、「これら溶媒は、単独で用いても２種以上を混合して用いてもよい。」（段落【０３５７】）との記載もある。
　しかしながら、甲第１号証の上記記載事項（８）には、本件特許の明細書における比較例に用いられた溶媒である「Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）」、「γ−ブチロラクトン（ＧＢＬ）」が、「更に好適な溶剤」（段落【０３５７】）として挙げられており、実施例における溶媒としても採用されてもいる。そして、これら多数列記された溶媒の中から、式（Ｇ１−１）で表される化合物および式（Ｇ１−２）で表される化合物から選択される少なくとも１種の溶剤と、（Ｇ２）グリコール系溶剤とを組み合わせて用いた事例について、何ら記載されておらず、これらの組み合わせを採用することについて示唆もされていない。また、甲第２号証及び甲第３号証にも、式（Ｇ１−１）で表される化合物および式（Ｇ１−２）で表される化合物から選択される少なくとも１種の溶剤と、（Ｇ２）グリコール系溶剤とを組み合わせて用いることについて何ら記載されていない。そうすると、アミド系溶媒の中から、式（Ｇ１−１）で表される化合物および式（Ｇ１−２）で表される化合物であってＮ−メチルピロリドンを除外した化合物から少なくとも１種の溶剤を選択し、さらに、（Ｇ２）グリコール系溶剤と組み合わせて用いることに動機付けがあるとはいえず、また、これが当業者にとって自明であったとする根拠も見いだせない。
　したがって、当業者であっても、甲１発明に、さらにグリコール系溶剤を含有させて、本件特許発明１の構成とすることが容易になし得たということはできない。
ウ　むすび
　以上のとおりであるから、本件特許発明１は、当業者であっても、甲１発明に基づいて、容易に発明をすることができたものということはできない。
（２）本件特許発明２〜５、９〜１２について
　本件特許発明２〜５は、本件特許発明１と同じ、「（Ｇ２）グリコール系溶剤」を含有するという要件を有している。また、本件特許発明１〜５のいずれかの記載を引用する本件特許発明９〜１２も同様である。
　そうすると、本件特許発明２〜５、及び、本件特許発明１〜５のいずれかの記載を引用する本件特許発明９〜１２も、本件特許発明１と同じ理由により、当業者であっても、甲１発明に基づいて、容易に発明をすることができたということができない。
（３）本件特許発明１３〜１８について
　本件特許発明１３は、前記第２の３（１）ア及び（２）アに記載したとおり、本件訂正前の請求項６の記載を引用する請求項７の記載を、請求項６の記載を引用しないものとしたものである。また、本件特許発明１４〜１８は、いずれも、本件特許発明１３の要件を具備するものである。
　そして、特許異議申立人は、本件補正前の請求項７に係る発明を、甲第１号証を主たる証拠とする進歩性欠如の特許異議申立理由の対象としていないから、本件特許発明１３〜１８も、特許異議申立人が主張する、甲第１号証を主たる証拠とする進歩性欠如の特許異議申立理由の対象ではない。
（４）小括
　以上のとおりであるから、本件特許発明１〜５、９〜１８は、当業者であっても、甲第１号証〜甲第５号証の記載に基づいて、容易に発明できたものではない。
　したがって、本件特許発明１〜５、９〜１８は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものではないから、甲第１号証を主たる証拠とする進歩性欠如の特許異議申立理由によっては、本件特許発明１〜５、９〜１８に係る特許を取り消すことはできない。
３　甲第４号証を主たる証拠とする進歩性欠如についての当審の判断
（１）本件特許発明１について
ア　対比
　本件特許発明１と甲４発明とを対比する。
（ア）感放射線性樹脂組成物
　甲４発明の「感光性樹脂組成物」は、技術的にみて、本件特許発明１の「感放射線性樹脂組成物」に相当する。
（イ）ポリイミド
　甲４発明の「感光性樹脂組成物」が含有する「ポリイミド樹脂を含むアルカリ可溶性樹脂（Ａ）」は、本件特許発明１の「ポリイミド」に相当する。
　そうすると、甲４発明の「感光性樹脂組成物」と本件特許発明１の「感放射線性樹脂組成物」とは、「（Ａ）ポリイミド、および前記ポリイミドの前駆体から選択される少なくとも１種の重合体」を含有する点で共通する。
（ウ）感放射線性酸発生剤
　甲４発明の「感光性樹脂組成物」が含有する「光酸発生剤（Ｂ）」は、技術的にみて、本件特許発明１の「（Ｂ）感放射線性酸発生剤」に相当する。
　したがって、甲４発明の「感光性樹脂組成物」は、本件特許発明１の「（Ｂ）感放射線性酸発生剤」を含有するといえる。
（エ）溶剤
　甲４発明の「感光性樹脂組成物」が含有する「溶剤（Ｅ）」と、本件特許発明１の「（Ｇ１）式（Ｇ１−１）で表される化合物、および式（Ｇ１−２）で表される化合物から選択される少なくとも１種の溶剤と、（Ｇ２）グリコール系溶剤」とは、「溶剤」である点で共通する。
　したがって、甲４発明の「感光性樹脂組成物」は、本件特許発明１と「溶剤」を含有する点で共通する。
（オ）一致点及び相違点
　以上より、本件特許発明１と甲４発明とは、
「（Ａ）ポリイミド、および
　　　前記ポリイミドの前駆体
　　から選択される少なくとも１種の重合体と、
（Ｂ）感放射線性酸発生剤と、
（Ｇ）溶剤と
を含有する感放射線性樹脂組成物。」である点で一致し、以下の点で相違する。
［相違点４−１−１］ポリイミドが、本件特許発明１では、上記式（Ａ１）で表される構造単位を有するのに対し、甲４発明は、ポリイミドの構造単位を特定していない点。
［相違点４−１−２］溶剤が、本件特許発明１では、式（Ｇ１−１）で表される化合物、および式（Ｇ１−２）で表される化合物から選択される少なくとも１種の溶剤と、（Ｇ２）グリコール系溶剤であるのに対し、甲４発明は、溶剤を特定していない点。
イ　判断
　事案に鑑みて、上記［相違点４−１−２］について検討する。
　甲第４号証には、溶剤について、記載事項（５）に、「例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（以下ＮＭＰ）、γ−ブチロラクトン、・・・ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、・・・メチル−１，３−ブチレングリコールアセテート、１，３−ブチレングリコール−３−モノメチルエーテル、・・・等が挙げられ、単独でも２種類以上混合して用いても良い。」と記載されている。
　しかしながら、甲第４号証には、本件特許発明１の式（Ｇ１−１）で表される化合物、および式（Ｇ１−２）で表される化合物から選択される少なくとも１種の溶剤と、（Ｇ２）グリコール系溶剤を混合して用いることが記載も示唆もされておらず、本件特許の明細書における比較例に用いられた溶媒である「γ−ブチロラクトン」及び「Ｎ−メチル−２−ピロリドン」も含んでいる。また、甲第４号証の実施例では、本件特許の明細書における比較例に用いられた溶媒である「γ−ブチロラクトン」及び「Ｎ−メチルピロリドン」が、それぞれ単独で用いられている。また、甲第１号証〜甲第３号証にも、式（Ｇ１−１）で表される化合物および式（Ｇ１−２）で表される化合物から選択される少なくとも１種の溶剤と、（Ｇ２）グリコール系溶剤とを組み合わせて用いることについて何ら記載されていない。そうすると、感光性樹脂組成物の溶媒として、本件特許発明１の式（Ｇ１−１）で表される化合物、および式（Ｇ１−２）で表される化合物から選択される少なくとも１種の溶剤と、（Ｇ２）グリコール系溶剤を混合して用いることが、当業者にとって周知技術であったということもできない。
　したがって、当業者であっても、甲４発明の溶剤として、本件特許発明１の式（Ｇ１−１）で表される化合物、および式（Ｇ１−２）で表される化合物から選択される少なくとも１種の溶剤と、（Ｇ２）グリコール系溶剤を混合して用いることが容易になし得たということはできない。
ウ　むすび
　以上のとおりであるから、本件特許発明１は、当業者であっても、甲４発明に基づいて、容易に発明をすることができたものということはできない。
（２）本件特許発明６について
ア　対比
　本件特許発明６と甲４発明とを対比する。
（ア）感放射線性樹脂組成物
　甲４発明の「感光性樹脂組成物」は、技術的にみて、本件特許発明６の「感放射線性樹脂組成物」に相当する。
（イ）ポリイミド
　甲４発明の「感光性樹脂組成物」が含有する「ポリイミド樹脂を含むアルカリ可溶性樹脂（Ａ）」は、本件特許発明６の「ポリイミド」に相当する。
　そうすると、甲４発明の「感光性樹脂組成物」と本件特許発明６の「感放射線性樹脂組成物」とは、「（Ａ）ポリイミド、および前記ポリイミドの前駆体から選択される少なくとも１種の重合体」を含有する点で共通する。
（ウ）感放射線性酸発生剤
　甲４発明の「感光性樹脂組成物」が含有する「光酸発生剤（Ｂ）」と本件特許発明６の「（Ｂ）キノンジアジド化合物である感放射線性酸発生剤」とは、「（Ｂ）感放射線性酸発生剤」である点で共通する。
　したがって、甲４発明の「感光性樹脂組成物」は、本件特許発明６と「（Ｂ）感放射線性酸発生剤」を含有する点で共通する。
（エ）溶剤
　甲４発明の「感光性樹脂組成物」が含有する「溶剤（Ｅ）」と、本件特許発明６の「（Ｇ１）式（Ｇ１−１）で表される化合物、および式（Ｇ１−２）で表される化合物から選択される少なくとも１種の溶剤」とは、「（Ｇ）溶剤」である点で共通する。
　したがって、甲４発明の「感光性樹脂組成物」は、本件特許発明１と「溶剤」を含有する点で共通する。
（オ）一致点及び相違点
　以上より、本件特許発明６と甲４発明とは、
「（Ａ）ポリイミド、および
　　　前記ポリイミドの前駆体
　　から選択される少なくとも１種の重合体と、
（Ｂ）感放射線性酸発生剤と、
（Ｇ）溶剤と、
を含有する感放射線性樹脂組成物。」である点で一致し、以下の点で相違する。
［相違点４−６−１］ポリイミドが、本件特許発明６では、上記式（Ａ１）で表される構造単位を有するのに対し、甲４発明は、ポリイミドの構造単位を特定していない点。
［相違点４−６−２］感放射線性酸発生剤が、本件特許発明６では、「キノンジアジド化合物」であるのに対し、甲４発明は、キノンジアジド化合物に特定していない点。
［相違点４−６−３］溶剤が、本件特許発明６では、式（Ｇ１−１）で表される化合物、および式（Ｇ１−２）で表される化合物から選択される少なくとも１種の溶剤であるのに対し、甲４発明は、溶剤を特定していない点。
［相違点４−６−４］本件特許発明６は、「（Ｃ）ノボラック樹脂」を含有するのに対し、甲４発明は、ノボラック樹脂を含有すると特定されていない点。
イ　判断
　事案に鑑みて、上記［相違点４−６−３］について検討する。
　甲第４号証には、溶剤について、記載事項（５）に、「例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（以下ＮＭＰ）、γ−ブチロラクトン、・・・等が挙げられ、単独でも２種類以上混合して用いても良い。」と記載されている。
　しかしながら、甲第４号証には、本件特許発明１の式（Ｇ１−１）で表される化合物、および式（Ｇ１−２）で表される化合物から選択される少なくとも１種の溶剤を用いることが記載も示唆もされておらず、本件特許の明細書における比較例に用いられた溶媒である「γ−ブチロラクトン」及び「Ｎ−メチル−２−ピロリドン」も含んでいる。また、甲第４号証の実施例では、本件特許の明細書における比較例に用いられた溶媒である「γ−ブチロラクトン」及び「Ｎ−メチルピロリドン」が用いられている。また、甲第１号証〜甲第３号証にも、本件特許発明１の式（Ｇ１−１）で表される化合物、および式（Ｇ１−２）で表される化合物から選択される少なくとも１種の溶剤を用いることについて記載されていない。さらに、甲第５号証の記載事項（３）には、液晶配向処理剤中の有機溶媒にＮ−エチル−２−ピロリドンを用いた実施例３が記載されているが、感放射線性樹脂組成物ではない。そうすると、感光性樹脂組成物の溶媒として、本件特許発明６の式（Ｇ１−１）で表される化合物、および式（Ｇ１−２）で表される化合物から選択される少なくとも１種の溶剤を用いることが、当業者にとって周知技術であったということもできない。
　したがって、当業者であっても、甲４発明の溶剤として、本件特許発明１の式（Ｇ１−１）で表される化合物、および式（Ｇ１−２）で表される化合物から選択される少なくとも１種の溶剤を用いることが容易になし得たということはできない。
ウ　むすび
　以上のとおりであるから、本件特許発明６は、当業者であっても、甲４発明に基づいて、容易に発明をすることができたものということはできない。
（３）本件特許発明２〜５、７〜１２について
　本件特許発明２〜５、７〜１２は、本件特許発明１と同じ、「式（Ｇ１−１）で表される化合物、および式（Ｇ１−２）で表される化合物から選択される少なくとも１種の溶剤と、（Ｇ２）グリコール系溶剤」を含有するという要件、あるいは、本件特許発明６と同じ、「式（Ｇ１−１）で表される化合物、および式（Ｇ１−２）で表される化合物から選択される少なくとも１種の溶剤」を含有するという要件を有している。
　そうすると、本件特許発明２〜５、７〜１２も、本件特許発明１又は本件特許発明６と同じ理由により、当業者であっても、甲４発明に基づいて、容易に発明をすることができたということができない。
（４）本件特許発明１３〜１８について
　本件特許発明１３は、前記第２の３（１）ア及び（２）アに記載したとおり、本件訂正前の請求項６の記載を引用する請求項７の記載を、請求項６の記載を引用しないものとしたものである。また、本件特許発明１４〜１８は、いずれも、本件特許発明１３の要件を具備するものである。
　そして、特許異議申立人は、本件補正前の請求項７に係る発明を、甲第４号証を主たる証拠とする進歩性欠如の特許異議申立理由の対象としていないから、本件特許発明１３〜１８も、特許異議申立人が主張する、甲第４号証を主たる証拠とする進歩性欠如の特許異議申立理由の対象ではない。
（５）小括
　以上のとおりであるから、本件特許発明１〜６、９〜１８は、当業者であっても、甲第１号証〜甲第５号証の記載に基づいて、容易に発明できたものではない。
　したがって、本件特許発明１〜６、９〜１８は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものではないから、甲第４号証を主たる証拠とする新規性欠如の特許異議申立理由によっては、本件特許発明１〜６、９〜１８に係る特許を取り消すことはできない。
４　記載不備についての当審の判断
（１）溶剤についての本件特許発明１〜１８における特定要件
　本件特許発明１は、
「（Ｇ１）式（Ｇ１−１）で表される化合物、および
　　　　　式（Ｇ１−２）で表される化合物
　　　から選択される少なくとも１種の溶剤と、
　（Ｇ２）グリコール系溶剤とを含有する感放射線性樹脂組成物。」であると特定しており、
　本件特許発明６は、
「（Ｇ１）式（Ｇ１−１）で表される化合物、および
　　　　　式（Ｇ１−２）で表される化合物
　　　から選択される少なくとも１種の溶剤と、」「を含有する感放射線性樹脂組成物。」であると特定しており、全溶剤中における（Ｇ１）の含有量を特定していない。本件特許発明２〜５、７〜１８についても同様である。
（２）本件特許発明１〜１８が解決しようとする課題
　本件特許の段落【０００５】の記載に基づけば、本件特許発明１〜１８が解決しようとする課題は、生体への影響が懸念される「Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）」以外の溶剤を使用した感放射線性樹脂組成物を提供することにあるといえる。
　さらに、本件特許の明細書の「従来の有機ＥＬ用絶縁膜の形成に使用される感放射線性樹脂組成物では、重合体としてポリイミド系重合体を使用する場合、ポリイミド系重合体の溶解性の観点から、溶剤としてＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）を使用することが多い。」（段落【０００５】）との記載、「ＮＭＰ以外の溶剤である、例えばγ−ブチロラクトンおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを使用した場合、塗膜にスジ状の塗布ムラが発生したり、塗膜上にポリイミド系重合体が析出して形成された異物が発生したり、感度および解像度等が低下したりする等の問題が生じることが判明した。この点についてさらに検討した結果、以下の構成を採用することにより上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。」（段落【０００６】）との記載、及び、「本発明によれば、ＮＭＰを使用することなく、感度および解像度に優れた樹脂組成物であって、塗布ムラが小さく、また異物含量が低減された絶縁膜を形成することが可能な、感放射線性樹脂組成物を提供することができる。」（段落【０００８】）との記載に基づけば、本件特許発明１〜１８は、「塗膜にスジ状の塗布ムラが発生したり、塗膜上にポリイミド系重合体が析出して形成された異物が発生したり、感度および解像度等が低下したりする等の問題」が生じない感放射線性樹脂組成物を提供することも課題としているといえる。
（３）本件特許の明細書の記載
　本件特許の明細書には、「溶剤（Ｇ１）を用いることで、形成される絶縁膜の塗布ムラが小さくなり、また異物含量を低減することができる。また、溶剤（Ｇ１）を用いることで、得られる樹脂組成物の、感度および解像度等の感放射線性が向上する。感放射線性が向上する理由は、プレベーク時の加熱では塗膜中に溶剤（Ｇ１）が一部残存し、溶剤（Ｇ１）が残存した状態で塗膜に対して露光・現像処理を行うことにより、現像液への露光部の溶解が速くなるためであると推定される。」（段落【０１１１】）と記載されている。当該記載及び上記段落【０００５】及び【０００６】の記載に基づけば、本件特許発明１〜１８における「（Ｇ１）」で表される化合物は、「ポリイミド系重合体」を溶解させるための「溶剤」であることが理解できる。そして、「（Ｇ１）」で表される化合物を、「ポリイミド系重合体」を溶解させるための「溶剤」として作用する含有量で感放射線性樹脂組成物に含有させると、「プレベーク時の加熱では塗膜中に溶剤（Ｇ１）が一部残存し、溶剤（Ｇ１）が残存した状態で塗膜に対して露光・現像処理を行うことにより、現像液への露光部の溶解が速くなる」という効果を奏することも理解できる。
（４）特許異議申立人の主張
　特許異議申立人は、特許異議申立書において、以下の主張をしている。
「　すなわち、本件特許発明において、その課題を解決できることを具体的に確認できる例は、実施例に開示されているような、
・溶剤（Ｇ１）に関しては、２６．０〜５３．６％の範囲のみ、
・グリコール系溶剤（Ｇ２）に関しては、４６．４〜７４．０％の範囲のみ、
である。」（第７４頁第８〜１２行）
「　以上より、溶剤（Ｇ１）やグリコール系溶剤（Ｇ２）の含有量に関して何ら開示も示唆もない本件特許発明１〜１２は、課題を解決し得ない範囲を含んでいる。」（第７５頁第２１〜２２行）
　しかしながら、本件特許発明１〜１８は、前記（１）に記載したとおり、いずれも、「（Ｇ１）」で表される化合物を「溶剤」として用いることが特定されているのであるから、「Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）」以外の溶剤を使用した感放射線性樹脂組成物を提供するという課題を解決するものである。
　また、前記（３）に記載したとおり、本件特許発明１〜１８の「（Ｇ１）」で表される化合物は、「ポリイミド系重合体」を溶解させるための「溶剤」であることが理解できる。そして、「（Ｇ１）」で表される化合物を「ポリイミド系重合体」を含有する感放射線性樹脂組成物の「溶剤」として用いたことにより、「塗膜にスジ状の塗布ムラが発生したり、塗膜上にポリイミド系重合体が析出して形成された異物が発生したり」という問題や、「感度および解像度等が低下したりする」という問題も、解決されると理解できる。
（５）小括
　以上のとおりであるから、本件特許発明１〜１８は、本件特許が解決しようとする課題を解決できるものである。
　したがって、本件特許の特許請求の範囲は、特許法第３６条第６項第１号の規定に違反するものではないから、特許異議申立人が主張する記載不備の理由によっては、本件特許発明１〜１８に係る特許を取り消すことはできない。
第７　むすび
　以上のとおり、本件特許発明６は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、本件特許の請求項６に係る特許は、取り消されるべきものである。
　また、特許異議申立書に記載された特許異議申立ての理由によっては、本件特許の請求項１〜５、７〜１８に係る特許を取り消すことはできず、さらに、これらの特許を取り消すべき他の理由も発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
令和２年６月１２日（２０２０．６．１２）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　（Ａ）式（Ａ１）で表される構造単位を有するポリイミド、および
　前記ポリイミドの前駆体
　から選択される少なくとも１種の重合体と、
　（Ｂ）感放射線性酸発生剤と、
　（Ｇ１）式（Ｇ１−１）で表される化合物、および
　式（Ｇ１−２）で表される化合物
　から選択される少なくとも１種の溶剤と、
　（Ｇ２）グリコール系溶剤と
を含有する感放射線性樹脂組成物。
　【化１】
［式（Ａ１）中、Ｒ１は水酸基を有する２価の基であり、Ｘは４価の有機基である。］
　【化２】
［式（Ｇ１−１）中、ＲＧ１はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１８の炭化水素基または前記炭化水素基における少なくとも１つの炭素−炭素結合間に−Ｏ−を挿入してなる基であり、２つのＲＧ１は互いに結合して窒素原子とともに環を形成していてもよく、ＲＧ２はメチレン基またはカルボニル基であり、ＲＧ３は水素原子または炭素数１〜１８の炭化水素基であり、ＲＧ４は炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基である。
　式（Ｇ１−２）中、ＸＧ１はそれぞれ独立にＣ−Ｈまたは窒素原子であり、ただし少なくとも１つのＸＧ１は窒素原子であり、ＸＧ２はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１８の炭化水素基または炭素数２〜１８のアルコキシアルキル基であり、ただし「２つのＸＧ１がそれぞれＣ−ＨおよびＮ原子であり、Ｎ原子に結合したＸＧ２がメチル基であり、炭素原子に結合したＸＧ２が水素原子である場合」を除く。］
　【請求項２】
　式（Ａ１）におけるＲ１が、式（ａ１）で表される２価の基である請求項１に記載の感放射線性樹脂組成物。
　【化３】
［式（ａ１）中、Ｒ２は、単結合、酸素原子、硫黄原子、スルホニル基、カルボニル基、メチレン基、ジメチルメチレン基またはビス（トリフルオロメチル）メチレン基であり；Ｒ３は、それぞれ独立に水素原子、ホルミル基、アシル基またはアルキル基であり、ただし、Ｒ３の少なくとも１つは水素原子であり；ｎ１およびｎ２は、それぞれ独立に０〜２の整数であり、ただし、ｎ１およびｎ２の少なくとも一方は１または２である。］
　【請求項３】
　前記溶剤（Ｇ１）が、Ｎ，Ｎ，２−トリメチルプロピオンアミド、３−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、３−ブトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、３−ヘキシルオキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、イソプロポキシ−Ｎ−イソプロピル−プロピオンアミド、ｎ−ブトキシ−Ｎ−イソプロピル−プロピオンアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、Ｎ−（ｎ−プロピル）−２−ピロリドン、Ｎ−イソプロピル−２−ピロリドン、Ｎ−（ｎ−ブチル）−２−ピロリドン、Ｎ−（ｔ−ブチル）−２−ピロリドン、Ｎ−（ｎ−ペンチル）−２−ピロリドン、Ｎ−メトキシプロピル−２−ピロリドン、Ｎ−エトキシエチル−２−ピロリドンおよびＮ−メトキシブチル−２−ピロリドンから選択される少なくとも１種の溶剤を含む請求項１または２に記載の感放射線性樹脂組成物。
　【請求項４】
　グリコール系溶剤（Ｇ２）が、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテル、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート、およびトリエチレングリコールジアルキルエーテルから選択される少なくとも１種の溶剤を含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物。
　【請求項５】
　（Ｃ）ノボラック樹脂
をさらに含有する請求項１〜４のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物。
　【請求項６】
　（Ａ）式（Ａ１）で表される構造単位を有するポリイミド、および
　前記ポリイミドの前駆体
　から選択される少なくとも１種の重合体と、
　（Ｂ）
キノンジアジド化合物である
　（Ｇ１）式（Ｇ１−１）で表される化合物、および
　式（Ｇ１−２）で表される化合物
　から選択される少なくとも１種の溶剤と、
　（Ｃ）ノボラック樹脂と
を含有する感放射線性樹脂組成物。
　【化４】
［式（Ａ１）中、Ｒ１は水酸基を有する２価の基であり、Ｘは４価の有機基である。］
　【化５】
［式（Ｇ１−１）中、ＲＧ１はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１８の炭化水素基または前記炭化水素基における少なくとも１つの炭素−炭素結合間に−Ｏ−を挿入してなる基であり、２つのＲＧ１は互いに結合して窒素原子とともに環を形成していてもよく、ＲＧ２はメチレン基またはカルボニル基であり、ＲＧ３は水素原子または炭素数１〜１８の炭化水素基であり、ＲＧ４は炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基である。
　式（Ｇ１−２）中、ＸＧ１はそれぞれ独立にＣ−Ｈまたは窒素原子であり、ただし少なくとも１つのＸＧ１は窒素原子であり、ＸＧ２はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１８の炭化水素基または炭素数２〜１８のアルコキシアルキル基であり、ただし「２つのＸＧ１がそれぞれＣ−ＨおよびＮ原子であり、Ｎ原子に結合したＸＧ２がメチル基であり、炭素原子に結合したＸＧ２が水素原子である場合」を除く。］
　【請求項７】
　ノボラック樹脂（Ｃ）が、フェノール性水酸基を有する縮合多環式芳香族基を有する構造単位を含む樹脂である請求項
５
　【請求項８】
　ノボラック樹脂（Ｃ）が、式（Ｃ２−１）で表される構造単位および式（Ｃ２−２）で表される構造単位から選択される少なくとも１種を有する樹脂である請求項５〜７のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物。
　【化６】
［式（Ｃ２−１）〜式（Ｃ２−２）中、Ｒ２は、メチレン基、炭素数２〜３０のアルキレン基、炭素数４〜３０の２価の脂環式炭化水素基，炭素数７〜３０のアラルキレン基または−Ｒ３−Ａｒ−Ｒ３−で表される基（Ａｒは２価の芳香族基であり、Ｒ３はそれぞれ独立にメチレン基または炭素数２〜２０のアルキレン基である）であり；ａ、ｂ、ｃおよびｅはそれぞれ独立に０〜３の整数であり、ｄは０〜２の整数であり、但し、ａおよびｂが共に０である場合はなく、ｃ〜ｅの全てが０である場合はない。］
　【請求項９】
　（Ｄ）架橋剤
をさらに含有する請求項１〜
５、７〜
　【請求項１０】
　請求項１〜
５、７〜
　【請求項１１】
　請求項１〜
５、７〜
　【請求項１２】
　請求項１０に記載の絶縁膜を備える有機ＥＬ素子。
　【請求項１３】
　（Ａ）式（Ａ１）で表される構造単位を有するポリイミド、および
　
前記ポリイミドの前駆体
　
から選択される少なくとも１種の重合体と、
　（Ｂ）感放射線性酸発生剤と、
　（Ｇ１）式（Ｇ１−１）で表される化合物、および
　
式（Ｇ１−２）で表される化合物
　
から選択される少なくとも１種の溶剤と、
　（Ｃ）ノボラック樹脂と
を含有し、
　
ノボラック樹脂（Ｃ）が、フェノール性水酸基を有する縮合多環式芳香族基を有する構造単位を含む樹脂である、感放射線性樹脂組成物。
　【化７】
［式（Ａ１）中、Ｒ１は水酸基を有する２価の基であり、Ｘは４価の有機基である。］
　【化８】
［式（Ｇ１−１）中、ＲＧ１はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１８の炭化水素基または前記炭化水素基における少なくとも１つの炭素−炭素結合間に−Ｏ−を挿入してなる基であり、２つのＲＧ１は互いに結合して窒素原子とともに環を形成していてもよく、ＲＧ２はメチレン基またはカルボニル基であり、ＲＧ３は水素原子または炭素数１〜１８の炭化水素基であり、ＲＧ４は炭素数１〜１２のアルキル基または炭素数２〜１０のアルコキシアルキル基である。
　
式（Ｇ１−２）中、ＸＧ１はそれぞれ独立にＣ−Ｈまたは窒素原子であり、ただし少なくとも１つのＸＧ１は窒素原子であり、ＸＧ２はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１８の炭化水素基または炭素数２〜１８のアルコキシアルキル基であり、ただし「２つのＸＧ１がそれぞれＣ−ＨおよびＮ原子であり、Ｎ原子に結合したＸＧ２がメチル基であり、炭素原子に結合したＸＧ２が水素原子である場合」を除く。］
　【請求項１４】
　
ノボラック樹脂（Ｃ）が、式（Ｃ２−１）で表される構造単位および式（Ｃ２−２）で表される構造単位から選択される少なくとも１種を有する樹脂である請求項１３に記載の感放射線性樹脂組成物。
　【化９】
［式（Ｃ２−１）〜式（Ｃ２−２）中、Ｒ２は、メチレン基、炭素数２〜３０のアルキレン基、炭素数４〜３０の２価の脂環式炭化水素基，炭素数７〜３０のアラルキレン基または−Ｒ３−Ａｒ−Ｒ３−で表される基（Ａｒは２価の芳香族基であり、Ｒ３はそれぞれ独立にメチレン基または炭素数２〜２０のアルキレン基である）であり；ａ、ｂ、ｃおよびｅはそれぞれ独立に０〜３の整数であり、ｄは０〜２の整数であり、但し、ａおよびｂが共に０である場合はなく、ｃ〜ｅの全てが０である場合はない。］
　【請求項１５】
　（Ｄ）架橋剤
をさらに含有する請求項１３または１４に記載の感放射線性樹脂組成物。
　【請求項１６】
　
請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物から形成される、有機ＥＬ素子用絶縁膜。
　【請求項１７】
　
請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の感放射線性樹脂組成物を用いて基板上に塗膜を形成する工程、前記塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、前記放射線が照射された塗膜を現像する工程、および前記現像された塗膜を加熱する工程を有する、有機ＥＬ素子用絶縁膜の製造方法。
　【請求項１８】
　
請求項１６に記載の絶縁膜を備える有機ＥＬ素子。