【事件の表示】
　特許第２８０８４０５号「ディスク用被膜形成装置および方法」の特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結論】
　訂正を認める。
　本件特許異議の申立てを却下する。
【理由】
（１）手続きの経緯
　本件特許第２８０８４０５号（平成５年１２月１０日の特許出願）は、設定登録されたところ、江上純忠から特許異議の申立てがあり、その後、取消理由通知があり、次いで訂正請求があったものである。
（２）訂正の適否について
　特許権者は、請求項１〜３を削除し、請求項４及び５を新たに請求項１及び２にする訂正を求めているが、上記訂正は、特許請求の範囲の減縮に該当し、新規事項の追加に該当せず、また、実質上特許請求の範囲を拡張又は変更するものでもない。
　特許権者は、上記訂正に伴い、特許請求の範囲に整合すべく、発明の詳細な説明の欄及び図面の簡単な説明の欄の記載についての訂正も求めているが、この訂正は、明りょうでない記載の釈明に該当し、新規事項の追加に該当せず、また、実質上特許請求の範囲を拡張又は変更するものでもない。
　以上のとおりであり、本件訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第２項、及び同条第３項で準用する第１２６条第２〜４項の規定に適合するから、当該訂正を認める。
（３））特許異議の申立てについて
　訂正前の請求項１〜３に係る発明は、訂正の結果削除され、特許異議の申立ての対象が存在しなくなった。
　したがって、本件特許異議の申立ては、補正することができない不適法な申立てとなり、特許法第１２０条の６第１項で準用する同法第１３５条の規定により却下すべきものである。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１１年１１月２５日（１９９９．１１．２５）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
▲１▼　訂正事項ａ
特許請求の範囲の請求項１、請求項２、請求項３を削除し、原請求項４を請求項１、原請求項５を請求項２に訂正する。
▲２▼　訂正事項ｂ
訂正事項ａにおいて特許請求の範囲の請求項１、請求項２、請求項３を削除し、現請求項４を請求項１、現請求項５を請求項２に訂正したのに伴い、「特許請求の範囲」の欄と「発明の詳細な説明」の欄、「図面の簡単な説明」の欄との整合性を図るため、別紙全文訂正明細書のとおり訂正した。
（５４）【発明の名称】
ディスク用被膜形成装置および方法
（５７）【特許請求の範囲】
　　【請求項１】
　ディスクの表面に被膜を形成する方法において、ディスクに単一の所定位置で順次塗料を滴下し、塗料の滴下処理が施された前記ディスクを塗料滴下側の単一の所定位置から二つのスピン振り切り処理位置に交互に振り分けて移載し、前記二つのスピン振り切り処理位置に前記ディスクが交互に載置される毎に順次それらディスクを高速回転させて前記塗料の振り切り処理を順次行って前記ディスクに被膜を形成し、前記二つのスピン振り切り処理位置における前記ディスクを硬化処理側の所定位置に交互に移載した後に被膜の硬化処理を行うことを特徴とするディスク用被膜形成方法。
　　【請求項２】
　
ディスクの表面に被膜を形成する方法において、単一の所定位置でディスクに順次塗料を滴下し、塗料の滴下処理が施されたディスクを第１の所定位置から時計方向、反時計方向に所定の長さに従って旋回させて第１、第２のスピン振り切り処理位置に交互に振り分けて移載し、前記第１、第２のスピン振り切り処理位置に前記ディスクが載置される毎に順次高速回転させて前記塗料の振り切り処理を行って前記ディスクにそれぞれ被膜を形成し、前記被膜の形成される毎に順次前記ディスクを前記第１、又は第２のスピン振り切り処理位置から時計方向、反時計方向に所定の長さに従って旋回させて第２の所定位置に移載し、その後前記被膜の硬化処理を行うことを特徴とするディスク用被膜形成方法。
【発明の詳細な説明】
　　　【０００１】
　　【産業上の利用分野】
　本発明はディスク用被膜形成装置および方法に関するものである。
　　　【０００２】
　　【従来の技術】
　今日，コンパクトディスクは音楽用，電子情報用の記録媒体として重要な地位にある。このコンパクトディスクの製造工程としては，情報を光反射率に対応させた合成樹脂基板円盤をまず作り，ついでアルミニウムを蒸着して反射膜を形成する。この後に反射膜の上に保護用として塗料により被膜を形成する。この光ディスク用被膜形成装置としては，例えば１９９２年５月１日に発行された雑誌「オリジン・テクニカル・ジャーナル」（発行所：東京都豊島区高田１丁目１８番１号オリジン電気株式会社）５５号の５７ページ以降の記事に記載されている。
　　　【０００３】
　図１３にその一例を示す。この図においてｄ１，ｄ２．．．は光ディスクの位置を示す符号であって，この光ディスク用被膜形成装置１の工程にしたがって順次移動して行く。光ディスクはスタックポール５に積み重ねられ，コンベヤ４にて搬送される。ｄ３の位置で光ディスクは移載アーム８によって一旦上方に持ち上げられて，ｄ４の位置まで移動して，ターンテーブル１１に置かれる。光ディスクが
ｄ５
　　　【０００４】
　　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、このような従来の光ディスク用被膜形成装置にあっては、塗料滴下処理は単に塗料をディスク面にドーナッツ状の液膜を作る処理であるのに対して、スピン振り切り処理においては均一な液膜を作る必要がある。したがって、塗料滴下処理はスピン振り切り処理よりも早く終了するので、スピン振り切りの終了を待つために、ロス時間が生じてしまうばかりでなく、均一な被膜を得難くなる。特に、溶剤を使用した塗料を使用してより均一性の高い被膜の形成を目指す場合には、この待ち時間によって、ディスク面のドーナッツ状の液膜の形が崩れたり、あるいはその表面が硬化を始めることが大きな障害になっていた。
　　　【０００５】
　本発明はディスク用被膜形成方法において，塗料滴下処理速度とこの後の工程のスピン振り切り器の処理速度とをほぼ同一にしてロス時間を除き装置の処理効率を高め，高い生産能力を得ると同時に、ディスク面に品質の高い均一の被膜を形成することを主目的としている。また、本発明はディスクの搬入から搬出までの種々の工程を選択的に実施できる方法を与えることも目的としている。
　　　【０００６】
　　【問題を解決するための手段】
　
請求項１に記載の発明は、前記課題を解決するために，ディスクの表面に被膜を形成する方法において、ディスクに単一の所定位置で順次塗料を滴下し、塗料の滴下処理が施された前記ディスクを塗料滴下側の単一の所定位置から二つのスピン振り切り処理位置に交互に振り分けて移載し、前記二つのスピン振り切り処理位置に前記ディスクが交互に載置される毎に順次それらディスクを高速回転させて前記塗料の振り切り処理を順次行って前記ディスクに被膜を形成し、前記二つのスピン振り切り処理位置における前記ディスクを硬化処理側の所定位置に交互に移載した後に被膜の硬化処理を行うことを特徴とするディスク用被膜形成方法を提供するものである。
　　　【０００７】
　
請求項２に記載の発明は、前記課題を解決するために，ディスクの表面に被膜を形成する方法において、単一の所定位置でディスクに順次塗料を滴下し、塗料の滴下処理が施されたディスクを第１の所定位置から時計方向、反時計方向に所定の長さに従って旋回させて第１、第２のスピン振り切り処理位置に交互に振り分けて移載し、前記第１、第２のスピン振り切り処理位置に前記ディスクが載置される毎に順次高速回転させて前記塗料の振り切り処理を行って前記ディスクにそれぞれ被膜を形成し、前記被膜の形成される毎に順次前記ディスクを前記第１、又は第２のスピン振り切り処理位置から時計方向、反時計方向に所定の長さに従って旋回させて第２の所定位置に移載し、その後前記被膜の硬化処理を行うことを特徴とするディスク用被膜形成方法提供するものである。
　　　【０００８】〔作用〕
　請求項１に記載の発明では、塗料滴下処理時間に対してスピン振り切り処理時間は２倍又はそれ以上必要なところ，スピン振り切り処理手段とそれに伴う移載手段を複数備えているので，ディスク１枚当たりの処理時間についての装置全体の流れ速度については，スピン振り切り処理時間の制限を受けず、従来のほぼ２倍の速度で被膜を形成できると同時に、ディスク面のドーナッツ状の液膜の形が崩れたり、あるいはその表面が硬化を始めたり（特に溶剤を用いた熱硬化型塗料の場合）することがないので、被膜の品質の向上が期待できる。
また、被膜形成の速度および被膜の均一性の向上を達成できる。
　　　【０００９】
　請求項２に記載の発明では、被膜形成の速度および被膜の品質の向上を達成できるばかりでなく、さらにディスクのタンテーブルからの受取と受け渡しの位置がそれぞれ所定の一箇所にできるので、全てのディスクの待ち時間
を小さくでき
　　　【００１０】
　
【本発明を原理を実現するための形態】
　図１は，本発明の
原理的な
　　　【００１１】
　第１のターンテーブル３は光ディスクｄを連続的に供給するためのものであって，このターンテーブル３の上にスタックポール５が互いに回転角度９０度の間隔で積載されている。スタックポール５は図２に示す構造であって，約１００枚のコーティングすべき光ディスクｄが一本のポール５ａ上に積載される。
　　　【００１２】
　移載アーム７は，先端にある吸着パッド７ｂにより光ディスクｄを垂直上方向に一旦持ち上げ，その支点７ａを中心に旋回して，所定の位置に移動した後に垂直下方に下降するものである。
　　　【００１３】
　第２のターンテーブル１１は順次矢印方向に回転するものであって，このターンテーブル１１の上の回転角度で６等分した各箇所に光ディスクｄの載置位置ｄ１〜ｄ６があり、それら載置位置に光ディスクｄが載置される。クリーナー９、１０は光ディスク上の塵埃を除去するもので，エアブロー（図示せず）により帯電させた清浄気体をディスク表面に吹き付けて、光ディスク表面に付着している塵埃を，その静電気力を中和させながら清掃する。
　　　【００１４】
　塗料吐出器１３は，塗料吐出ノズル１３ａなどと、場合によっては回転伝動部（図示せず）とからなり，光ディスクｄ、または吐出ノズル１３ａを回転させながら塗料を滴下して光ディスク面上にドーナッツ状の液膜を作る。
　　　【００１５】
　移載アーム１５は，その先端にある吸着パッド１５ｂにより光ディスクｄを垂直上方向に一旦持ち上げ，その支点１５ａを中心に旋回して，所定の位置に移動した後に垂直下方に下降するものである。移載アーム１９，２１，２５についても同様の構成である。
　　　【００１６】
　この光ディスク用被膜形成装置１における特徴の一つとして，二式のスピン振り切り器１７と２３とターンテーブルと移載アームとを組み合わせたものである。これらのスピン振り切り器１７と２３はそれぞれディスクを高速回転させるスピンドルユニット１７ａと飛散する液滴を捕集するコー夕ーハウス１８とで構成される。
　　　【００１７】
　被膜硬化器２７は，ディスク上の塗料を紫外線照射により硬化させるもので，紫外線照射部２９と紫外線の漏洩防止のための遮光カバー３１と，その内部でディスクを搬送するターンテーブル３３とで構成される。
　　　【００１８】
　移載アーム３５については，移載アーム７と同様の構造である。またターンテーブル３７はターンテーブル３と同様であり，スタックポール３９はスタックポール５と同様の構成である。
　　　【００１９】〔動作〕
　次に光ディスク用被膜形成装置１の動作について詳細に説明する。動作説明のために，光ディスクｄの移動に伴う位置を符号ｄ１，ｄ２．．．で表す。
　　　【００２０】
▲１▼　供給側のターンテーブル３は矢印方向に間歇的に回転して，その上のスタックポール５に積載されたディスクｄは，位置ｄ１⇒ｄ２⇒ｄ３⇒ｄ４と移動する。ｄ４の位置のディスクは移載アーム７により，ターンテーブル１１上のｄ５の位置に載せられる。そしてターンテーブル１１が矢印方向に１／６回転すると，これに同期して移載アーム７が作動して新たなディスクｄがｄ５の位置に載せられる。この動作を繰り返して次々とディスクｄがターンテーブル１１上に載せられる。
　　　【００２１】
▲２▼　ターンテーブル１１に載せられたディスクはｄ６とｄ７の位置で，クリーナー９と１０とにより二回にわたって表面の塵挨を吹き飛ばされ，クリーニングされる。
　　　【００２２】
▲３▼　ターンテーブル１１に載せられたディスクはｄ８の位置で，塗料吐出器１３により塗料が滴下されて液膜を形成する。（およそ４０ｒｐｍ〜１２０ｒｐｍの回転数でドーナッツ状の液膜となる。）
　　　【００２３】
▲４▼　位置ｄ８で液膜を載せられたディスクが，ターンテーブル１１の２サイクルの角回転（ほぼ１２０°）により位置ｄ９，ｄ１０に到達すると，位置ｄ１０のディスクはアーム１５によりスピン振り切り器１７内のｄ１１の位置に移載される。またほぼ同時に、位置ｄ９のディスクはアーム２１によりスピン振り切り器２３内の位置ｄ１２に移載される。スピン振り切り器１７及び２３内ではおよそ３０００〜４０００ｒｐｍの回転数による遠心力で塗料の余剰分は振り切られて，適正で均一の膜厚になる。この間若干の時間を要する。
　　　【００２４】
▲５▼　次に位置ｄ１１のディスクは移載アーム１９によりｄ１３の位置まで移動される。また同様にディスクｄ１２は移載アーム２５によりｄ１４の位置まで移動される。なお，この移動アーム１９と２５の動作と同期して，移載アーム１５と２１とは次のサイクルとして前述の動作を繰り返して，スピン振り切り器１７と２３とに新たなディスクを供給する。したがってここで大切なことは、位置ｄ１０とｄ１１、位置ｄ９とｄ１２それぞれの中心が移載アーム１５の吸着パッド１５ｂ，移載アーム２１の吸着パッド（図示せず）の旋回軌道上にそれぞれ存在することである。同様に、位置ｄ１１とｄ１３、位置ｄ１２とｄ１４それぞれの中心が移載アーム１９、２５の吸着パッド（図示せず）それぞれの旋回軌道上に存在することである。
　　　【００２５】
▲６▼　被膜硬化器２７内のターンテーブル３３が矢印方向に回転して光ディスクがｄ１５からｄ１６までの位置に来ると，紫外線照射部２９からの紫外線の化学的効果により液状の塗膜は硬化する。
　　　【００２６】
▲７▼　硬化後のディスクはターンテーブルが位置ｄ１６、ｄ１７を通って更に回転してｄ１８の位置に来るとき，移載アーム３５はディスクを吸着して運び，ターンテーブル３７上のスタックポール３９上に積載する。スタックポール３９上のディスクｄ１９の枚数が重なり収容限界に達するとき，ターンテーブル３７は矢印方向に回転してｄ１９の位置には空のスタックポールが配され，ｄ２０の位置には満載のスタックポールが配されて完成品のディスクの供出に備える。
　　　【００２７】
　以上述べたように，スピン振り切り器１７あるいは２３の処理時間は，塗料吐出器１３の処理時間の約２倍を必要とするが，スピン振り切り器は１７と２３の２式備えており，かつディスクの移載手段についても，移動アーム１５，１９の組と移載アーム２１，２３の組の２組を備えているので，各工程の速度はほぼ同一となる。したがって装置全体としての速度を向上させることができる。
　　　【００２８】
　図３は図１に示した形態の一部分を変更したものであって，ディスク受入れ側及び送出側のターンテーブル３と３７の代わりに，直線状のコンベヤ４７を使用したものを示す。ｄ４の位置にて，最後のディスクが運ばれて空になったスタックポール５はコンベヤ４７によって順次送られて，ディスク受取位置ｄ１９へ達し，被膜形成されたディスクをそこに集積する。コンベヤ４７で前・後工程と結合することにより、前・後工程間のディスク搬送が効率的になる。ここでも、位置ｄ１８、位置ｄ１９それぞれの中心が移載アーム３５の吸着パッド（図示せず）の旋回軌道上にそれぞれ存在する。
　　　【００２９】
　図４は図１に示した形態の一部分を変更したものであって，クリーナー９を１カ所とし，その位置ｄ６の後の位置ｄ７にスパッタ成膜装置５１を結合してある。ディスクの動きを説明すると，ｄ７の位置のディスクは回転移載アーム４９により吸着され，その支点４９ｃを中心に回転してスパッタ成膜装置５１内の位置ｄ８に移動する。つまり、この実施例の移載アーム４９は支点４９ｃから等しい距離の両端部に吸着パッド（図示せず）を有し、１８０°回転して位置ｄ７のディスクを位置ｄ８に運ぶと同時に、位置ｄ８のディスクを位置ｄ７に移載する。位置ｄ８に送られたディスクはスパッタ成膜装置５１により反射膜が形成される。この形態では，スパッタ成膜装置５１でディスク基板上に反射膜や記録膜としての金属膜を形成した直後に，塗料吐出器１３ですぐにその金属膜に保護膜を塗布するので，効率的にディスクの製造工程が進行するという利点がある。
　　　【００３０】
　図５は図３に示した形態の一部分を変更したものであって，図３の構成にスパッタ成膜装置５１を結合したものを示す。この形態では上述した利点に加えて，効率的なディスク搬送の効果が加味される。
　　　【００３１】
　図６は図４に示した形態の一部分を変更したものであって，ディスク検査装置５３を結合したものを示す。この形態においてはスパッタ成膜装置５１において金属膜を形成し，塗料吐出器１３，スピン振り切り器１７，２３被膜硬化器２７等によって保護膜の形成されたディスクは、ｄ１９の位置において回転移載アーム５５によりｄ２１の位置へと移動される。図において，回転移載アーム５５は、支点５５ｐから延びる３本の移載アーム部材のそれぞれの先端部に設けられた吸着パッド５５ａ，５５ｂ，５５ｃによって吸着され、支点５５Ｐを中心に９０度往復回転してディスクを移動する。ターンテーブル２７の位置ｄ１９のディスクは回転移載アーム５５の吸着パッド５５ａに吸着されて、ディスク検査装置５３の位置ｄ２１に運ばれ、所定検査項目について検査される。検査を終了したディスクはｄ２１の位置から吸着パッド５５ｂによって吸着されて不良ディスク廃棄口５７の入り口であるｄ２２の位置に移動される。このときｄ２２の位置にはアクチュエータ５７ｓがあり，ディスク検査装置５３の判定信号がディスク搬送に先立ってアクチュエータ５７ｓに送られ、不良のときのみアクチュエータ５７ｓが引っ込んだ状態でディスクが搬送されてくるのを待ち、ｄ２２の位置に送られて来た不良のディスクを下へ落下させる。良品のときにはｄ２２の位置のディスクはアクチュエータ５７ｓの上に一旦載置され，回転移載アーム５５の次のストロークで吸着パッド５５ｃに吸着されて、ターンテーブル３７の位置ｄ２３に移動送出される。
　　　【００３２】
　図７は図５に示した形態の一部分を変更したものであって，ディスク検査装置５３を結合したものである。なお，この形態においてはコンベヤ４７の他にコンベヤ４８を備えており，被膜形成が完了したディスクをｄ２３の位置で送出できるように，空のスタックポール３９を配している。このスタックポール３９はコンベヤ４７上を矢印方向に移動してきて，その左端で切り換え器５０でわずかに平行移動してｄ２３の位置に来る。このｄ２３の位置で光ディスクがスタックポール３９に満載されると，コンベヤ４８上を通って完成したスタックポール３９の光ディスク群は送出される。
　　　【００３３】
　図８は図６に示した形態の一部分を変更したものであって，受入れ側スタックポール５用のターンテーブル３を除き，そこに射出成形装置５９を結合したものである。射出成形装置５９で形成されたディスクをディスク取り出しロボット５９ａから取り出し，ディスク搬送ユニット５９ｂによってｄ２⇒ｄ３⇒ｄ４と移動させる。ｄ４の位置からは図６に示したものと同様である。これによればディスク基板の成形から，金属膜形成，保護用被膜形成，ディスク検査まで行う一貫生産設備が得られる。
　　　【００３４】
　図９は図８に示した形態の一部分を変更したものであって，処理の完了したディスクの送出手段としてのターンテーブル３７を，コンベヤ６３に代えたものである。検査の完了したディスクはｄ２３の位置に送られて，スタックポール３９に積載される。そして満載になったときに，コンベヤ６１上を矢印方向に移動する。そして次の工程で空になったスタックポール４０はコンベヤ６３上を戻ってくる。コンベア６３の右端で切り換え器６５によりコンベヤ６１の側に切り換えられる。
　　　【００３５】
　これでは処理完了したディスクを搬送するスタックポールの動きが次工程へ有効利用できるほか，空になったスタックポールも有効に戻される。なお，以上述べた形態において、回転移載アーム５５の３本の移載アーム部材は、支点からほほ９０度間隔で放射外方向に延びているが，各ディスク受渡し位置の配置関係によって９０度以外の間隔，例えば６０度でも勿論良い。
　　　【００３６】
　
【実施例】
　図１０は本発明の
一
を示す図
　　　【００３７】
　この実施例において，十字式の移載アーム７１は上下及び旋回動作を行うが，旋回動作は真上から見て，９０度時計まわりと９０度反時計まわりの繰り返しであり，９０度時計回りのときに位置ｄ８→ｄ９，ｄ９→ｄ１１のディスク搬送を行い，９０度反時計回りのときに位置ｄ８→ｄ１０，ｄ１０→ｄ１１のディスクの搬送を行う。この点についてもう少し詳しく述べると、９０度時計回りのとき、移載アーム部材７１ｂは位置ｄ８のディスクを位置ｄ９へ、同時に移載アーム部材７１ｃは位置ｄ９のディスクを位置ｄ１１へ移載する。このとき移載アーム部材７１ｄ，７１ｅの先端部は位置ｄ８、位置ｄ１０にある。次に十字式の移載アーム７１は９０度反時計回りを行い、移載アーム部材７１ｄは位置ｄ８のディスクを位置ｄ１０へ、同時に移載アーム部材７１ｅは位置ｄ１０のディスクを位置ｄ１１へ移載する。この実施例ではクリーナ９，１０の設置数が１個になると共に、移載アームの駆動機構を簡単なものにでき，また全体を小型簡素化できる利点がある。また，この実施例ではターンテーブル７０における位置ｄ８に運ばれたディスクがほとんど待つことなく順次，スピン振り切り器１７，２３に送られるので，より均一で品質の高い被膜を形成することが可能である。
　　　【００３８】
　この実施例では，移載アーム７１がスピン振り切り器１７，２３の真上に停止するため，スピン振り切り器１７，２３の保守・点検や，位置ｄ９，ｄ１０のディスクを着脱する必要のある場合は不便である。そこで図１１に示すように，移載アーム７１の支点軸７１Ｘと移載アーム７１との間に，設定値以上のトルクが作用すると締結状態が解除され回転自在になるトルクリミッタ７１Ｙが設置される。移載アーム７１は，人手にて回せばトルクリミッタ７１Ｙが外れて回転自在になるので，作業に支障の無い位置へ移載アーム７１を動かすことができる。またトルクリミッタ７１Ｙは，移載アーム７１が異物に衝突した場合にも、設定値以上のトルクを遮断し、移載アーム７１には過大な力がかからないので、破損防止安全装置としても機能する。
　　　【００３９】
　図１２は本発明の別の実施例であって，図１０に示した実施例における移載アームが，支点からほぼ９０°の間隔で放射外方向に延びる４本の移載アーム部材を備えていたのに対し，この実施例では支点７１ａからほぼ９０°の間隔で放射外方向に延びる３本の移載アーム部材７１ｂ〜７１ｄを備えた移載アーム７１を用いているところに特徴がある。
　　　【００４０】
　動作においては，前記実施例における４本の移載アーム部材は時計方向，反時計方向に９０度交互に回転すれば良かったが，この実施例における３本の移載アーム部材７１ｂ〜７１ｄは元の位置（図示の位置）から時計方向に９０°回転した後、元の位置に戻り、次に反時計方向に９０°回転して元の位置に戻るという動作を繰り返すことになる。したがって、移載アームの回転角度の範囲は１８０°になる。もう少し動作を詳しく説明すると，先ず移載アーム７１が時計方向にほぼ９０度回転するものとすると，移載アーム部材７１ｂと７１ｃがそれぞれ位置ｄ８，ｄ９のディスクを吸着保持して位置ｄ９，ｄ１１へ移載する。そして直ぐに反時計方向にほぼ９０度回転して元の位置（図示の位置）に戻る。次に移載アーム７１が反時計方向にほぼ９０度回転し，移載アーム部材７１ｂと７１ｄがそれぞれ位置ｄ８，ｄ１０のディスクを吸着保持して位置ｄ１０，ｄ１１へ移載する。しかる後，直ぐに時計方向にほぼ９０度回転して元の位置（図示の位置）に戻る。この実施例でも図１０に示した実施例と同様な効果が得られる。
　　　【００４１】
　なお，ここではディスク排出用の移載アームとして，ターンテーブル７４における位置ｄ１４のディスクをコンベア４７のディスク受取位置ｄ１５へ直線的に搬送する直線運動する移載アーム７５を用いている。
　　　【００４２】
　ここで、図１０及び図１２で示した移載アームの移載アーム部材がそれぞれ４本，３本であったが，支点からほぼ９０°の間隔で放射外方向に延びる２本であっても勿論よい。例えば，２本の移載アーム部材が図１２における位置ｄ８，ｄ９にある場合，先ず移載アームは時計回りに回転してｄ８→ｄ９，ｄ９→ｄ１１にディスク搬送を行った後，反時計回りにほぼ９０°回転して位置ｄ８，ｄ１０まで戻る。次に反時計回りにほぼ９０°回転してｄ８→ｄ１０，ｄ１０→ｄ１１ヘディスク搬送を行った後，時計回りにほぼ９０°回転して位置ｄ８，ｄ９まで戻るという動作を繰り返す。したがって，移載アームの回転角度の範囲はほぼ２７０度になり，比較的処理速度の遅い装置には有効である。また，支点から９０°よりも小さい角度間隔で延びる２本の移載アーム部材を有する移載アームを一対備えても勿論よい。
　　　【００４３】
　なお，前記各実施例で述べた種々のコンベア，ターンテーブル，移載アームは実施例の組み合わせだけでなく，実施例間で種々の組み合わせができることは容易に理解できるであろう。また，上記実施例では塗料として紫外線硬化型の塗料を用いた関係で，塗膜の硬化装置として紫外線照射型のものを示したが，塗料として溶剤を使用した熱硬化型の塗料を用いた場合には通常の加熱硬化装置を用いることができる。
　　　【００４４】
　　【発明の効果】
　本発明は以上述べたような特徴を有しており，スピン振り切り処理時間の制限を受け
ず、液体吐出ノズルからディスク上に供給されたドーナッツ状の液膜の形が崩れたり、あるいはその表面が硬化を始めたり（特に溶剤を用いた熱硬化型塗料の場合）することがないので、被膜の品質の向上が期待できる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　
本発明の原理的な光ディスク用被膜形成を説明するための
　【図２】
　スタックポールの構造を示す図である。
　【図３】
　
本発明の原理的な光ディスク用被膜形成を説明するための
　【図４】
　
本発明の原理的な光ディスク用被膜形成を説明するための
　【図５】
　
本発明の原理的な光ディスク用被膜形成を説明するための図
　【図６】
　
本発明の原理的な光ディスク用被膜形成を説明するための
　【図７】
　
本発明の原理的な光ディスク用被膜形成を説明するための図
　【図８】
　
本発明の原理的な光ディスク用被膜形成を説明するための図
　【図９】
　
本発明の原理的な光ディスク用被膜形成を説明するための図
　【図１０】
　本発明にかかる光ディスク用被膜形成装置の実施例を示す図である。
　【図１１】
　図１０に示した実施例に用いた移載アームを説明するための図である。
　【図１２】
　本発明にかかる光ディスク用被膜形成装置の別の実施例を示す図である。
　【図１３】
　従来の光ディスク用被膜形成装置の一例を示す図である。
　【符号の説明】
１…光ディスク用被膜形成装置　　　　　　　　　　　３…ターンテーブル
５…スタックポール　　　　７…移動アーム　　　　　９，１０…クリーナー
１１…ターンテーブル　　　１３…塗料吐出器　　　　１５…移載アーム
１７…スピン振り切り器　　１９…移載アーム　　　　２１…移載アーム
２３…スピン振り切り器　　２５…移動アーム　　　　２７…被膜硬化器
２９…紫外線照射部　　　　３１…遮光カバー　　　　３３…ターンテーブル
３５，３６…移載アーム　　３７…ターンテーブル　　３９，４０…スタックポール
４７，４８…コンベヤ　　　４９…回転移載アーム　　５０…切り換え器
５１…スパッタ成膜装置　　５３…ディスク検査装置　５５…回転移載アーム
５７…不良ディスク廃棄口　５９…射出成形装置　　　６１，６３…コンベヤ
６５…切り換え器　　　　　７０…ターンテーブル　　７１…移載アーム
７２…被膜硬化器　　　　　７４…ターンテーブル　　７５…移載アーム
ｄ…光ディスク　　　　　　ｄ１，ｄ２，．．．光ディスクの位置を示す符号