【事件の表示】
　　特許第２７３８６２９号「複合部材」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２７３８６２９号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本件特許第２７３８６２９号の請求項１に係る発明についての出願は、平成４年１２月２８日に出願され、平成１０年１月１６日にその発明について特許の設定の登録がなされ、本件特許公報が平成１０年４月８日に発行されたところ、平成１０年９月２１日に東芝セラミックス株式会社から特許異議の申立てがなされ、当審より取消の理由の通知がなされ、その指定期間内である平成１１年７月２７日に訂正請求がなされた。
II．訂正の適否
１．訂正事項
訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１に「であることを特徴とする複合部材。」とあるのを、「であるとともに、非球面研磨面の表面粗さＲｍａｘ．が１９．３ｎｍ以下であることを特徴とする複合部材。」と訂正する。
訂正事項ｂ
　明細書の段落番号【００１１】に「であることを特徴とするものであり、とりわけ前記強度比が（２２０）面で５０〜７０％、（１１１）面で３０〜５０％であることが望ましい。」とあるのを、「であるとともに、非球面研磨面の表面粗さＲｍａｘ．が１９．３ｎｍ以下であることを特徴とする。ここで、強度比は（２２０）面で５０〜７０％、（１１１）面で３０〜５０％であることが望ましい。」と訂正する。
訂正事項ｃ
　明細書の段落番号【００２４】に「平面は勿論、曲面を有する形状であっても容易に超平滑面を有し」とあるのを、「平面は勿論、曲面を有する形状であっても、所定の方法で研磨することにより、非球面研磨面の表面粗さＲｍａｘ．が１９．３ｎｍ以下の超平滑面を容易に得ることができ」と訂正する。
２．訂正の目的の適否、新規事項追加の有無、及び特許請求の範囲の実質上の拡張又は変更の存否
　訂正事項ａは、請求項１に「非球面研磨面の表面粗さＲｍａｘ．が１９．３ｎｍ以下である」という限定を付加するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正である。
　また、訂正事項ｂ及び訂正事項ｃは、上記特許請求の範囲の減縮に伴って生じた、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との間の不整合をなくすことを図るものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正である。
　そして、願書に添付した明細書の段落番号【００２３】には、「本発明の複合部材では非球面研磨面の表面粗さがＲｍａｘ．で１９．３ｎｍ以下」と記載されており、上記「非球面研磨面の表面粗さＲｍａｘ．が１９．３ｎｍ以下である」とする訂正は、願書に添付した明細書または図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し変更するものでもない。
３．独立要件
(ｉ)訂正後の発明
   訂正後の特許請求の範囲の請求項１に記載された発明は、次のとおりである。
「セラミック母材の表面に炭化珪素を化学蒸着して成る複合部材において、前記化学蒸着した炭化珪素の結晶面がミラー指数表示の（２２０）面と（１１１）面の両面に配向し、かつＸ線回折強度比がそのピーク強度で（２２０）面が２０〜９５％、（１１１）面が５〜８０％であるとともに、非球面研磨面の表面粗さＲｍａｘ．が１９．３ｎｍ以下であることを特徴とする複合部材。」（以下、「訂正後の発明」という。）
(ii)取消理由の概要
　当審が通知した取消理由の概要は、「本件発明は、その出願前に日本国内において頒布された下記(１)ないし(２)の刊行物に記載された発明であるか、ないしは(１)または(２)の刊行物に記載された発明と(３)ないし(５)の刊行物に記載された発明とに基づいて、当業者が容易に発明をすることができた発明であると認められるから、特許法第２９条第１項第３号ないしは同法同条第２項の規定により特許を受けることができない。
                 　　　　　　　　 記
(１)特開平１−２９０５２１号公報
(２)特開昭５９−９９４０１号公報
(３)特開平３−１２６６７１号公報
(４)特開平４−１１４９７１号公報
(５)特開平４−３４２４２８号公報
」というものである。
(iii)各刊行物に記載された記載
刊行物(１)
　「基材表面に炭化けい素膜を形成した熱処理用治具」に関し、「該炭素けい素膜のＸ線回折における（１１１）面に対する（２２０）面の回折線ピーク値が０．１〜１０倍である」こと（特許請求の範囲参照）、及び基材として「黒鉛等の耐熱性を有する基材」を用いること（第１頁左下欄下から４〜３行参照）及び「ＣＶＤ法で炭化けい素（ＳｉＣ）を被覆」すること（第１頁右下欄１０〜１１行及び実施例等参照）が記載されている。
刊行物(２)
　「(１)化学蒸着法によって形成されたβ型炭化ケイ素表面よりなりかつ研磨面における炭化ケイ素結晶の（２００）面のＸ線回折による半値巾が０．４０度以下であることを特徴とする炭化ケイ素質ミラー。(２)研磨面における結晶境界の最大巾が２０μ以上を有する結晶が面積比で２０％以上であることを特徴とする特許請求の範囲第一項記載の炭化ケイ素ミラー。」（特許請求の範囲参照）に関し、「本発明においては化学蒸着法（ＣＶＤ法）によって得られる炭化ケイ素の結晶が、その製造条件を種々変えた時、反射率との間に密接な関係があることが明らかとなった。即ち、この反射率は得られた炭化ケイ素結晶の結晶性及びその大きさにほぼ比例する。」こと（第２頁左上欄第１〜６行）、「半値巾βの値が小さい程反射率が良くなりミラー特性がよくなることがわかった。」こと（第２頁左上欄第１３〜１４行）、「ＣＶＤ法の条件と結晶の大きさとは必ずしも一致しない。少なくとも半値巾の比較的小さなものは結晶中の原子の配列が良好となるばかりでなく、研磨に対してもその結晶性が、加工性に良い効果をもたらしているものと思われる。」こと（第２頁右下欄第１〜６行）、「基材は必ずしもカーボンに限定されず、例えば炭化ケイ素、アルミナ等の他の材料でもよい。」こと（第２頁右下欄第８〜１０行）が記載されており、実施例１には、「高純度処理を行ったカーボン板の表面にＣＶＤ法により条件を変えて４種の炭化ケイ素膜を形成せしめた。この表面を同一研摩条件で鏡面に仕上げた。それらの鏡面をＸ線回折装置でＣｕ−Ｋα線による（２００）面の回折線の半値巾を求めた結果第１図に示すような結晶性を示すミラーが得られた。」とあって、このことが第１図に示されている。そして、該図に示された４種のＡ乃至Ｄのうち、Ａ、Ｂ及びＣにおいて、（２２０）面と（１１１）面のピーク比が、それぞれ４２％：５８％、２９％：７１％及び１６％：８４％となることが図示されている。なお、第１図において回折角度６０°付近のピークが（２２２）となっているのは、（２２０）の誤記であると認められる。
刊行物(３)
　「焼結炭化珪素等からなる基体の表面に炭化珪素を化学蒸着して得られる複合材であって、炭化珪素の化学蒸着層においては、結晶面がミラー指数表示における（２２０）面に配向せしめられていることを特徴とする複合材。」（特許請求の範囲）に関し、「より少ない研磨エネルギにより極めて容易に表面研磨することができ、研磨面に与える損傷を極力少なくしながら高精度の平滑面を得ることができるものである。」（第３頁左上欄第１９行〜右上欄第３行）と記載されている。
刊行物(４)
　「焼結炭化珪素等からなる基体の表面に化学蒸着により炭化珪素の皮膜を形成してなる複合材であって、この皮膜においては、結晶面がミラー指数表示における（１１１）面に配向せしめられていることを特徴とする複合材。」（特許請求の範囲）に関し、「結晶方位の差による段差やチッピング等を生じることなく、超平滑面に表面研磨することができ、しかも表面研磨を極めて容易に行うことができるものである。」（第３頁右上欄第１〜４行）と記載されている。
刊行物(５)
　「面積の１／２以上が（１１１）面以外の結晶面となるように基体表面に形成された立方晶炭化ケイ素の結晶膜と、この結晶膜を被覆する被膜とを備えていることを特徴とする光学素子成形用型。」（特許請求の範囲）に関し、「この成形型はＳｉＣ（炭化ケイ素）やＡｌＮ（窒化アルミニウム）などのセラミックからなる基体の成形面に、ＣＶＤ（化学気相成長）法あるいはＰＶＤ（物理的気相成長）法によりＳｉＣを被覆し、さらに、この上に窒化物膜を被覆することにより構成されている」（第１欄第２２〜２７行）と記載されている。
(iv)対比・判断
  訂正後の発明は、「炭化珪素蒸着膜の結晶面をミラー指数の（２２０）面に配向させた場合、（１１１）面に比べて研磨し易く、非球面研磨をはじめ曲面を有する形状の研磨も比較的容易にでき、良好な表面粗さは得られるものの、（２２０）面に配向した蒸着膜は該膜自体の内部応力が高いため、炭化珪素質焼結体や黒鉛等を母材とすると、残部応力が高くなる傾向があった。・・・その結果、母材との熱膨張率の差から常温に冷却した時、あるいは研削や研磨加工する時に、前記残留応力が増長されて炭化珪素膜にクラックが発生し易く、実用的でなかった。・・・また、前記結晶面を比較的硬度が高い（１１１）面に配向させた場合、母材が炭化珪素質焼結体では蒸着膜への残留応力も低く前述のようなクラックは発生し難いものの、硬度が高く研磨加工が困難であり、とりわけ球面研磨や非球面研磨をはじめ、曲面を有する形状の研磨においては、平面研磨の表面粗さと同程度に研磨仕上げすることが極めて困難であり、例えば、前記（１１１）面に配向した蒸着膜を平面研磨すると表面粗さは最大高さＲｍａｘ．で約９ｎｍ、ＲＭＳで約１ｎｍ程度の超平滑面が得られるのに対し、非球面研磨するとせいぜいＲｍａｘ．で約３０ｎｍ、ＲＭＳで４ｎｍ程度の表面粗さしか実現できないという課題があった。」という従来技術における課題を解決することを目的とするものである（特許公報段落番号【０００７】〜【０００９】参照）。
　そして、訂正後の発明が、「化学蒸着した炭化珪素の結晶面がミラー指数表示の（２２０）面と（１１１）面の両面に配向し、かつＸ線回折強度比がそのピーク強度で（２２０）面が２０〜９５％、（１１１）面が５〜８０％である」としたことにより、蒸着膜にクラックがなく、「非球面研磨面の表面粗さＲｍａｘ．が１９．３ｎｍ以下」の超平滑面を得ることができるという効果を奏するものであって、そのことは、本件明細書の、（２２０）面と（１１１）面のＸ線回折強度比を種々に代えた場合における「研磨面の表面粗さ」、「クラックの発生」及び「研磨時間」を記載した表１の記載からも明らかである。
　そこでまず、訂正後の発明と刊行物(１)に記載されたものとを比較する。
　両者は「化学蒸着した炭化珪素のＸ線回折強度比がそのピーク強度で（２２０）面が２０〜９５％、（１１１）面が５〜８０％である」点では重複しているものの、「非球面研磨面の表面粗さＲｍａｘ．が１９．３ｎｍ以下であること」については記載がない。そして、該刊行物に記載されたものは、炭化けい素を被覆した熱処理用治具に関するものであるから、訂正後の発明のような非球面研磨面の表面粗さが問題となることはないものである。
　よって、訂正後の発明が、刊行物(１)に記載された発明であるとすることはできないばかりでなく、該刊行物から容易に発明をすることができたものとすることもできない。
　また、刊行物(３)乃至(５)のいずれにも、「非球面研磨面の表面粗さＲｍａｘ．が１９．３ｎｍ以下であること」については記載がないから、訂正後の発明が刊行物(１)に記載された発明と、刊行物(３)乃至(５)に記載された発明とを組み合わせて容易に発明をすることができたものとすることもできない。
  次に、訂正後の発明と、刊行物(２)に記載されたものとを比較する。
　両者はともに、「セラミック母材の表面に炭化珪素を化学蒸着して成る複合部材」である点で一致しているが、該刊行物には、「非球面研磨面の表面粗さＲｍａｘ．が１９．３ｎｍ以下である」ことについては記載がない。
　刊行物(２)記載の発明は、該刊行物の「半値巾βの値が小さい程反射率が良くなりミラー特性がよくなることがわかった。」（第２頁左上欄第１３〜１４行）及び「少なくとも半値巾の比較的小さなものは結晶中の原子の配列が良好となるばかりでなく、研磨に対してもその結晶性が、加工性に良い効果をもたらしているものと思われる。」（第２頁右下欄第１〜６行）という記載から明らかなように、「（２００）面のＸ線回折による半値巾が０．４０度以下」と特定することにより、反射率の良いものを得るものである。すなわち、該刊行物には、「半値巾」を特定することについて記載があるだけであって、「半値巾」と「反射率」の関係を示すために記載された第１図のＸ線回折図形に、(２２０)面と(１１１)面のＸ線回折強度比が本件発明の範囲内に含まれるものが図示されてはいるものの、Ｘ線回折強度比のピーク強度で（２２０）面と(１１１)面の割合を特定することにより「非球面研磨面の表面粗さＲｍａｘ．が１９．３ｎｍ以下である」ものが得られることについては何ら示唆する記載もない。
　よって、訂正後の発明が、刊行物(２)に記載された発明であるとすることはできないばかりでなく、該刊行物から容易に発明をすることができたものとすることもできない。
　また、刊行物(３)乃至(５)のいずれにも、「非球面研磨面の表面粗さＲｍａｘ．が１９．３ｎｍ以下であること」については記載がないから、訂正後の発明が刊行物(２)に記載された発明と、刊行物(３)乃至(５)に記載された発明とを組み合わせて容易に発明をすることができたものとすることもできない。
(ｖ)まとめ
　したがって、訂正後の発明は、特許出願の際独立して特許を受けることができないものではない。
４．むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正請求は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項で準用する第１２６条第２項乃至第４項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
III.特許異議の申立てについての判断
１．特許異議申立の理由の概要
　特許異議申立人は、下記の甲第１号証乃至甲第５号証を提出し、訂正前の請求項１に係る発明は、甲第１号証又は甲第２号証に記載された発明と同一であり、特許法第２９条第１項の規定により、あるいは甲第１号証又は甲第２号証と甲第３、４、５号証に記載された発明に基づいて当業者が容易になし得た発明であるから同法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない旨主張している。
　　　　　　　　　　　　　　　　記
甲第１号証　　特開平１−２９０５２１号公報（刊行物(１)と同一）
甲第２号証　　特開昭５９−９９４０１号公報（刊行物(２)と同一）
甲第３号証　　特開平３−１２６６７１号公報（刊行物(３)と同一）
甲第４号証　　特開平４−１１４９７１号公報（刊行物(４)と同一）
甲第５号証　　特開平４−３４２４２８号公報（刊行物(５)と同一）
２．本件発明
　本件の請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）は、訂正明細書の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された、前述のとおりのものである。（前項「II．３．(ｉ)訂正後の発明」を参照）
３．当審における判断
　甲第１号証乃至甲第５号証に記載された発明については、前項「II．３． (iii)各刊行物に記載された発明」に記載したとおりである。
  そこで、本件発明と、甲第１号証乃至甲第５号証に記載された発明とを比較すると、前項「II．３．(iv)対比・判断」に記載したとおり、本件発明は、甲第１号証に記載された発明又は甲第２号証に記載された発明とは同一でなく、また、本件発明が、甲第１号証又は甲第２号証と甲第３、４、５号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることもできない。
IV．むすび
　以上のとおりであるから、本件の請求項１に係る特許は、特許異議申立人の主張及び提出された証拠方法によっては、取り消すことができない。
　また、他に、本件の請求項１に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年３月２２日（２０００．３．２２）
【訂正の要旨】
訂正事項ａ
　特許請求の範囲の減縮を目的として、特許請求の範囲の請求項１に「であることを特徴とする複合部材。」とあるのを、「であるとともに、非球面研磨面の表面粗さＲｍａｘ．が１９．３ｎｍ以下であることを特徴とする複合部材。」と訂正する。
訂正事項ｂ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、明細書の段落番号【００１１】に「であることを特徴とするものであり、とりわけ前記強度比が（２２０）面で５０〜７０％、（１１１）面で３０〜５０％であることが望ましい。」とあるのを、「であるとともに、非球面研磨面の表面粗さＲｍａｘ．が１９．３ｎｍ以下であることを特徴とする。ここで、強度比は（２２０）面で５０〜７０％、（１１１）面で３０〜５０％であることが望ましい。」と訂正する。
訂正事項ｃ
　明りょうでない記載の釈明を目的として、明細書の段落番号【００２４】に「平面は勿論、曲面を有する形状であっても容易に超平滑面を有し」とあるのを、「平面は勿論、曲面を有する形状であっても、所定の方法で研磨することにより、非球面研磨面の表面粗さＲｍａｘ．が１９．３ｎｍ以下の超平滑面を容易に得ることができ」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
複合部材
（５７）【特許請求の範囲】
　　【請求項１】　セラミック母材の表面に炭化珪素を化学蒸着して成る複合部材において、前記化学蒸着した炭化珪素の結晶面がミラー指数表示の（２２０）面と（１１１）面の両面に配向し、かつＸ線回折強度比がそのピーク強度で（２２０）面が２０〜９５％、（１１１）面が５〜８０％であるとともに、非球面研磨面の表面粗さＲｍａｘ．が１９．３ｎｍ以下であることを特徴とする複合部材。
【発明の詳細な説明】
　　　【０００１】
　　【産業上の利用分野】
　本発明は、Ｘ線反射鏡の構成部材やガラス光学素子の成形型等に好適なセラミック母材の表面に炭化珪素を化学蒸着して成る複合部材に関するものである。
　　　【０００２】
　　【従来の技術】
　従来よりＸ線反射鏡としては、銅等の金属母材を鏡面研磨し、その表面に金を蒸着させたもの等が良く知られているが、Ｘ線は短波長域の高密度エネルギー光であるため使用中に前記鏡面の蒸着膜が剥離したり、鏡面が歪んだり、金属母材が溶解する等の熱損を受けやすいという問題があった。
　　　【０００３】
　また、ガラス光学素子の成形型としては、ガラスが成形型に融着するのを防止し、かつ高精度に研磨加工された成形型表面を保護するために、各種離型膜が被着形成されているが、例えば、鉛を含有したガラス材料を成形する際、前記硬質カーボンやダイヤモンドから成る離型膜は、該カーボン膜やダイヤモンド膜の炭素がガラス材料中に含有する鉛を還元し、ガラス成形体の表面に極めて小量だが鉛を析出して表面が白濁するとともに、表面粗さが低下してしまい、その上、析出した鉛によって前記離型膜には成形中に微小なスクラッチが多発し、離型膜の耐久性を著しく劣化させるという問題があった。
　　　【０００４】
　そこで係る問題を解消せんとして、炭化珪素等のセラミックスあるいは黒鉛の焼結体等の表面に、耐熱性や熱伝導性等の物理的特性に優れ、光学的にも短波長域で高い反射率を有し、化学的にも安定な特性を有する炭化珪素を、化学蒸着法等により蒸着した複合材とすることが種々研究されている。
　　　【０００５】
　しかしながら、前記炭化珪素の蒸着膜は、結晶面の方位によって硬さが異なり、Ｘ線反射鏡やガラス光学素子の成形型等に要求される、例えば表面粗さが粗さ曲線の中心線からの凹凸の標準偏差ＲＭＳで１．０ｎｍ程度の超平滑面を得ようとすると、結晶の配向が充分に得られない場合、前記方位により研磨速度が異なることから該方位による段差を生じ易く、極めて長時間の研磨と高度で特殊な研磨技術を必要とし、製造コストがかかり過ぎ、前述のような超平滑面が簡単に得られないという問題があった。
　　　【０００６】
　そこで係る問題を解消するために、蒸着した炭化珪素膜の結晶面を研磨加工し易い方位であるミラー指数表示（以下、ミラー指数と記す）の（２２０）面に配向するようにしたり、あるいは比較的高い硬度を示す方位である（１１１）面に配向するようにした複合部材が特開平４−１１４９７１号公報等に提案されている。
　　　【０００７】
　　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、前述のように炭化珪素蒸着膜の結晶面をミラー指数の（２２０）面に配向させた場合、（１１１）面に比べて研磨し易く、非球面研磨をはじめ曲面を有する形状の研磨も比較的容易にでき、良好な表面粗さが得られるものの、（２２０）面に配向した蒸着膜は該膜自体の内部応力が高いため、炭化珪素質焼結体や黒鉛等を母材にすると、残留応力が高くなる傾向があった。
　　　【０００８】
　その結果、母材との熱膨張率の差から常温に冷却した時、あるいは研削や研磨加工する時に、前記残留応力が増長されて炭化珪素膜にクラックが発生し易く、実用的でなかった。
　　　【０００９】
　また、前記結晶面を比較的硬度が高い（１１１）面に配向させた場合、母材が炭化珪素質焼結体では蒸着膜への残留応力も低く前述のようなクラックは発生し難いものの、硬度が高く研磨加工が困難であり、とりわけ球面研磨や非球面研磨をはじめ、曲面を有する形状の研磨においては、平面研磨の表面粗さと同程度に研磨仕上げすることが極めて困難であり、例えば、前記（１１１）面に配向した蒸着膜を平面研磨すると表面粗さは最大高さＲｍａｘ，で約９ｎｍ、ＲＭＳで約１ｎｍ程度の超平滑面が得られるのに対し、非球面研磨するとせいぜいＲｍａｘ．で約３０ｎｍ、ＲＭＳで４ｎｍ程度の表面粗さしか実現できないという課題があった。
　　　【００１０】
　　【発明の目的】
　本発明は前記課題に鑑み開発されたもので、その目的は蒸着した炭化珪素膜にクラックが発生せず、研磨加工し易く、平面研磨は勿論、非球面研磨等をはじめ曲面を有する形状の研磨においても超平滑面が得られ、耐久性に優れた複合部材を提供することにある。
　　　【００１１】
　　【課題を解決するための手段】
　本発明の複合部材は、セラミック母材の表面に炭化珪素を化学蒸着して成る複合部材において、前記化学蒸着した炭化珪素の結晶面がミラー指数表示の（２２０）面と（１１１）面の両面に配向し、かつＸ線回折強度比がそのピーク強度で（２２０）面が２０〜９５％、（１１１）面が５〜８０％であるとともに、非球面研磨面の表面粗さＲｍａｘ．が１９．３ｎｍ以下であることを特徴とする。ここで、強度比は（２２０）面で５０〜７０％、（１１１）面が３０〜５０％であることが望ましい。
　　　【００１２】
　　【作用】
　本発明の複合部材は、セラミック母材の表面に残留応力が低い（１１１）面に配向した結晶面と、非球面研磨等をはじめ曲面を有する形状の研磨においても超平滑面が得やすい（２２０）面に配向した結晶面の両方を混在させ、かつＸ線回折におけるピーク強度でその強度比が（２２０）面で２０〜９５％、（１１１）面で５〜８０％の範囲としたことから、該蒸着膜にクラックの発生がなく、曲面を有する形状の研磨を容易にする。
　　　【００１３】
　　【実施例】
　以下、本発明の複合部材を実施例に基づき詳細に説明する。
　　　【００１４】
　先ず、炭化珪素（ＳｉＣ）を主成分とし、焼結助剤としてホウ素（Ｂ）、炭素（Ｃ）を含有する炭化珪素質焼結体、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）を主成分とし、周期律表第３ａ族元素の酸化物等の焼結助剤を含有する窒化アルミニウム質焼結体及び黒鉛（Ｃ）から成る３種類の円柱体の平面を、ＲＭＳで０．５μｍ程度の表面粗さにまで平面研磨した後、アセトン等の溶剤中で超音波洗浄して蒸着用母材試料とした。
　　　【００１５】
　次に前記蒸着用母材試料を用い、反応ガスとしてメチルトリクロロシラン（Ｃ３ＳｉＣｌ４）と水素（Ｈ２）を使用し、５０Ｔｏｒｒの減圧下のＣＶＤ反応炉中、１４００℃の温度で２００〜３００μｍの膜厚を目標に、炭化珪素を蒸着した。尚、前記炭化珪素の成膜速度は毎時１０μｍ以上と早い方が望ましい。
　　　【００１６】
　かくして得られた研磨仕上げ前の評価用試料をＸ線回折装置により前記炭化珪素膜の結晶配向面を同定し、その結晶配向面のピーク強度の総和を１００として各結晶配向面の強度比を算出した。
　　　【００１７】
　また、前記炭化珪素膜を被着形成した試料は、先ずダイヤモンド砥石を使用して該炭化珪素膜をその表面から約３０〜５０μｍ程度の深さまで平面研削盤により粗研磨した後、微粒のダイヤモンド砥粒を用いて更に膜厚で約１０μｍ程度、平面ラップ盤で超平滑面となるまで研磨仕上げするとともに、一方で平面研磨仕上げした試料を再度、非球面ラップ盤で曲面形状に超平滑面となるまで研磨仕上げしてそれぞれ評価用試料とした。
　　　【００１８】
　次いで前記研磨仕上げした評価用試料を、光の干渉を利用した非接触の表面粗さ計を使用して該評価用試料の研磨仕上げ面を計測し、最大高さＲｍａｘ．、平均粗さＲａ及び粗さ曲線の中心線からの凹凸の標準偏差ＲＭＳを求めた。
　　　【００１９】
　以上の結果を表１に示す。
　　　【００２０】
◎【表１】
　　　【００２１】
　表１の結果より明らかなように、炭化珪素膜の結晶配向面が（１１１）面だけである試料番号１２、２０、２７では非球面研磨面の表面粗さがＲｍａｘ．で３１．４ｎｍ以上と極めて悪く、それに比べて（２２０）面だけの試料番号１１、１９、２６では平面研磨面も非球面研磨面もその表面粗さは非常に良好であるが、蒸着した炭化珪素膜にクラックが発生している。
　　　【００２２】
　また、（１１１）面と（２２０）面が混在していても、本発明の範囲外の強度比である試料番号１、１３、２１では、非球面研磨面の表面粗さがＲｍａｘ．で２２．０ｎｍ以上と悪く、試料番号１０、１８、２５では炭化珪素膜にクラックが認められる。
　　　【００２３】
　それに対して、本発明の複合部材では非球面研磨面の表面粗さがＲｍａｘ．で１９．３ｎｍ以下、ＲＭＳで２，９５ｎｍ以下と優れており、蒸着した炭化珪素膜にも全くクラックが認められなかった。
　　　【００２４】
　【発明の効果】
　叙上の如く、本発明の複合部材は、セラミック母材の表面に化学蒸着した炭化珪素膜の結晶面が、ミラー指数で表示した（１１１）面と（２２０）面の両方に配向して混在し、かつＸ線回折におけるピーク強度でその強度比が（２２０）面で２０〜９５％であり、（１１１）面が５〜８０％であることから、蒸着膜にクラックがなく、平面は勿論、曲面を有する形状であっても、所定の方法で研磨することにより、非球面研磨面の表面粗さＲｍａｘ．が１９．３ｎｍ以下の超平滑面を容易に得ることができ、表面硬度が高い耐久性に優れた複合部材を得ることができる。