(57)【要約】　　　（修正有）【課題】各処理槽ごとに２個ずつのシリコンウェハー洗浄用のバスケットを同時に浸漬して効率よく洗浄できるシリコンウェハー用洗浄装置を得ること。【解決手段】一列に配置される複数の処理槽２ａ〜２ｆが列方向と直交する幅方向に二つのバスケットＢ，Ｂを同時に浸漬可能な大きさを有する一方、移送手段が、処理槽２ａ〜２ｆの上方で列方向に配設される走行レール３１と、走行レール３１に走行自在に設けられる走行台車３３と、該台車３３に昇降機構３４を介して昇降自在に設けられる昇降プレート３６と、このプレート３６の下部に幅方向に並設され、シリコンウェハーを多数枚収容した二つのバスケットＢ，Ｂを開放自在にクランプする一対のクランプ開閉機構３７，３７とを備え、クランプ開閉機構３７，３７により二つのバスケットＢ，Ｂを同時にクランプして、処理槽２ａ〜２ｆに順次浸漬させて洗浄するようにした。【選択図】　　図１
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
洗浄されるべきシリコンウェハーを多数枚収容したバスケットを移送手段により一列に配置された複数の処理槽に順次浸漬させて自動的に洗浄するシリコンウェハー用洗浄装置において、上記各処理槽が列方向と直交する幅方向に二つのバスケットを同時に浸漬可能な大きさを有する一方、移送手段が、上記各処理槽の上方で列方向に配設される走行レールと、この走行レールに走行自在に設けられる走行台車と、該台車に昇降機構を介して昇降自在に設けられる昇降プレートと、このプレートの下部に幅方向に並設され、シリコンウェハーを多数枚収容した二つのバスケットを開放自在にクランプする一対のクランプ開閉機構とを備え、これらのクランプにより二つのバスケットを同時にクランプして、上記各処理槽に順次浸漬させて洗浄するようにしたことを特徴とするシリコンウェハー用洗浄装置。
【考案の詳細な説明】
【０００１】
【考案の属する技術分野】
本考案は、シリコンウェハーを自動的に洗浄するシリコンウェハー用洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、シリコンウェハーを自動的に洗浄するシリコンウェハー用洗浄装置においては、種々の処理液を貯留した複数の処理槽を一列に備え、洗浄されるべきシリコンウェハーを多数枚収容したバスケットを移送手段によりこれらの処理槽に順次浸漬させて自動的に洗浄するようになされている。その場合、各処理槽が一つのバスケットを浸漬可能とした大きさを有する一方、移送手段が、各処理槽の上方で列方向に配設される走行レールと、この走行レールに走行自在に設けられる走行台車と、該台車に昇降機構を介して昇降自在に設けられる昇降プレートと、このプレートの下部に設けられ、バスケットを開放自在にクランプするクランプ開閉機構を有するクランプ部とを備えた構成となされている。
【０００３】
しかし、上記した従来の洗浄装置においては、移送手段により各槽ごとに１個ずつのバスケットを浸漬させて洗浄する構成であるため、１つの処理槽における洗浄処理能力が１個のバスケットに収容できるシリコンウェハーの枚数に限られ、生産性が低かった。なお、生産性を高めるには、上記洗浄装置をもう一つ設置すればよいが、その場合には、洗浄装置や洗浄設備のための敷地面積が２倍に必要となるし、その上作業者も２倍必要であるばかりか、洗浄液などの歩留まりも悪くなる問題を有していた。
【０００４】
そこで、本考案は、移送手段を工夫して、各処理槽ごとに２個ずつのシリコンウェハー洗浄用のバスケットを同時に浸漬して効率よく洗浄できるシリコンウェハー用洗浄装置の提供を課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記した課題を解決するために、本考案は、洗浄されるべきシリコンウェハーを多数枚収容したバスケットを移送手段により一列に配置された複数の処理槽に順次浸漬させて自動的に洗浄するシリコンウェハー用洗浄装置において、上記各処理槽が列方向と直交する幅方向に二つのバスケットを同時に浸漬可能な大きさを有する一方、移送手段が、上記各処理槽の上方で列方向に配設される走行レールと、この走行レールに走行自在に設けられる走行台車と、該台車に昇降機構を介して昇降自在に設けられる昇降プレートと、このプレートの下部に幅方向に並設され、シリコンウェハーを多数枚収容した二つのバスケットを開放自在にクランプする一対のクランプ開閉機構とを備え、これらのクランプにより二つのバスケットを同時にクランプして、上記各処理槽に順次浸漬させて洗浄するようにしたことを特徴とする。
【０００６】
【考案の実施の形態】
以下、本考案の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図面は、本考案に係るシリコンウェハー用洗浄装置を示すもので、この洗浄装置１は図２に示すように種々の処理液を貯留した複数の処理槽２ａ…２ｆを一列に備え、洗浄されるべきシリコンウェハー（図示せず）を多数枚収容したバスケットＢを移送手段３によりこれらの処理槽２ａ…２ｆに順次浸漬させて自動的に洗浄するようになされている。
【０００７】
その場合、上記各処理槽２ａ…２ｆは図１に示すように列方向と直交する幅方向に二つのバスケットＢを同時に浸漬可能な大きさを有している。なお、各処理槽２ａ…２ｆにはそれぞれの洗浄液を回収・精製する機能を有もつ適宜循環機構４が備えられている。
【０００８】
移送手段３は、上記各処理槽２ａ…２ｆにおける循環機構４の上方で列方向に配設されるラック３１ａ付き走行レール３１と、この走行レール３１に走行自在に設けられ、処理槽の上部側に延びる片持ち状の支持フレーム３２を備えた走行台車３３と、該支持フレーム３２に昇降シリンダ３４と複数のガイド杆３５，３５を介して昇降自在に設けられる昇降プレート３６と、このプレート３６の下部に幅方向に並設され、二つのバスケットＢ，Ｂを開放自在にクランプする一対のクランプ開閉機構３７，３７とを備えている。
【０００９】
走行台車３３の支持フレーム３２には、走行レール３１の上面との対向位置に配設される複数のガイドローラー３３ａ，３３ａと、ラック３１ａに噛合する駆動モータ３３ｂとが設けられている。
【００１０】
昇降シリンダ３４は支持フレーム３２に固定され、伸縮するピストン部先端が昇降プレート３６の中央に固定され、また、ガイド杆３５，３５は昇降シリンダ３４の両側に配置されると共に昇降プレート３６に固定され、かつ支持フレーム３２に摺動自在に貫通支持されている。
【００１１】
クランプ開閉機構３７は、昇降プレート３６の前後に設けられる前、後壁３８，３９と、これら前、後壁３８，３９間にクランプ開閉軸４０，４０を介して開閉揺動可能に支持される左右一対のクランプ片付きＬ字レバー４１，４１と、前、後壁３８，３９間で昇降プレート３６の下面に設けられる左右一対のクランプ開閉用シリンダー４２，４２とを備え、クランプ開閉用シリンダー４２，４２の伸縮ピストンの先端部に連結軸４３ａを有する連結板４３を設けると共に、連結板４３の連結軸に上記レバー４１，４１の遊端部が連結され、上記シリンダー４２，４２のピストンの伸縮動作により連結板４３，４３を介して上記Ｌ字レバー４１，４１が開閉揺動するようになされている。
【００１２】
また、図２に示すように第１処理槽２ａの手前搬入部には、シリコンウェハーを多数枚収容したバスケットＢを幅方向に二列ずつ搬送する搬入コンベア４４が設けられている。一方、最終処理槽２ｆの上方には、最終処理槽２ｆから洗浄されたバスケットＢ，Ｂを同時に取り出し、最終処理槽２ｆの前方側乾燥位置に移動待機する乾燥用移送手段４５を備えると共に、最終処理槽２ｆの前方搬出部には、乾燥用移送手段４５で乾燥処理されたバスケットＢ，Ｂを二列ずつ受け止めて適宜収納部（図示せず）に搬出する搬出コンベア４６が設けられている。なお、乾燥用移送手段４５は上述の移送手段３と同様の構造であるのでその構造の説明を省略する。
【００１３】
また、図１中、符号４７は適宜振動又は揺動機構（図示せず）付きのバスケット支持枠で、浸漬されたバスケットＢ，Ｂを各処理槽内にて振動又は揺動させて洗浄効果を高めるためのものである。なお、走行台車３３における駆動モータ３３ｂの制御及びクランプ開閉機構３７，３７におけるクランプ開閉用シリンダー４２，４２の制御は図示していないがコントローラにより自動的に行なわれる。
【００１４】
次に、以上のように構成されるシリコンウェハー用洗浄装置の作用について説明する。
シリコンウェハーを多数枚収容したバスケットＢを洗浄する場合、まず、搬入コンベア４４により二列ずつバスケットＢ，Ｂを搬入部に供給する。搬入部に供給されたバスケットＢ，Ｂ上に走行台車３３を移動させ、昇降シリンダ３４を降下させると共に、左右一対のクランプ開閉機構３７，３７により各クランプ片４１ａ，４１ａを拡げて前列二つのバスケットＢ，Ｂを一緒にクランプする。その後、昇降シリンダ３４を上昇させて両バスケットＢ，Ｂを持ち上げ、そのうえで走行台車３３を前方に移動させて図１に示すように第１処理槽２ａの直上に位置させる。そして、その位置で昇降シリンダ３４を降下させて図３に示すように第１処理槽２ａに二つのバケットＢ，Ｂを同時に浸漬する。その後、左右一対のクランプ開閉機構３７，３７により各クランプ片４１ａ，４１ａを狭めて二つのバスケットＢ，Ｂのクランプを開放し、昇降シリンダ３４によりクランプ開閉機構３７，３７を上昇させて待機位置に位置させる。かかる状態で第１処理槽２ａにてバスケットＢ，Ｂを振動又は揺動させながら洗浄を行なう。
【００１５】
そして、第１処理槽２ａでの洗浄後、昇降シリンダ３４によりクランプ開閉機構３７，３７を下降させ、クランプ開閉機構３７，３７により各クランプ片４１ａ，４１ａを拡げてバスケットＢ，Ｂをクランプし、その上で昇降シリンダ３４を上昇させた後、走行台車３３を残りの各処理槽２ｂ…２ｆの直上に順次移動させ、各処理槽２ｂ…２ｆにおいても第１処理槽２ａの場合と同様に二つのバケットＢ，Ｂを同時に浸漬させて洗浄する。
【００１６】
その場合、例えば第２処理槽２ｂで洗浄された二つのバケットＢ，Ｂを第３処理槽２ｃに移送して浸漬洗浄する際、その洗浄の間に走行台車３３を第１処理槽２ａに後退移動させて第１処理槽２ａで洗浄された二つのバスケットＢ，Ｂを空になった第２処理槽２ｂに移送し、また、これにより空になった第１処理槽２ａに搬入部に待機する搬入コンベア４４上の二つのバスケットＢ，Ｂを移送させて順繰りに浸漬し洗浄することになる。
【００１７】
このように本考案のシリコンウェハー用洗浄装置では、左右一対のクランプ開閉機構３７，３７によりシリコンウェハー洗浄用のバスケットＢ，Ｂを２個ずつ各処理槽ごとに浸漬して洗浄することができるから、生産性を２倍に高めることができ、しかも、洗浄装置や洗浄設備のための敷地面積が少なくて済み、その上、作業者も少なく抑えることができると共に、洗浄液や循環機構４などの歩留まりの向上が得られる。
【００１８】
【考案の効果】
以上のように本考案のシリコンウェハー用洗浄装置によれば、一列に配置される複数の処理槽が列方向と直交する幅方向に二つのバスケットを同時に浸漬可能な大きさを有する一方、移送手段が、上記各処理槽の上方で列方向に配設される走行レールと、この走行レールに走行自在に設けられる走行台車と、該台車に昇降機構を介して昇降自在に設けられる昇降プレートと、このプレートの下部に幅方向に並設され、シリコンウェハーを多数枚収容した二つのバスケットを開放自在にクランプする一対のクランプ開閉機構とを備え、これらのクランプにより二つのバスケットを同時にクランプして、上記各処理槽に順次浸漬させて洗浄するようにしたから、左右一対のクランプ開閉機構によりシリコンウェハー洗浄用のバスケットを２個ずつ各処理槽ごとに浸漬して洗浄することができ、その結果、生産性を２倍に高めることができ、しかも、洗浄装置や洗浄設備のための敷地面積が少なくて済み、その上、作業者も少なく抑えられると共に、洗浄液や循環装置などの歩留まりの向上が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本考案のシリコンウェハー用洗浄装置の正面図である。
【図２】同洗浄装置の側面図である。
【図３】同要部の拡大説明図である。
【符号の説明】
１　　　　　　　シリコンウェハー用洗浄機
２ａ〜２ｆ　　　処理槽
３　　　　　　　移送手段
３１　　　　　　走行レール
３３　　　　　　走行台車
３４　　　　　　昇降機構
３６　　　　　　昇降プレート
３７，３７　　　クランプ開閉機構
Ｂ　　　　　　　バスケット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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