【事件の表示】
　特許第２７１１２４６号「イオン注入装置」の特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結論】
　特許第２７１１２４６号の特許を取り消す。
【理由】
Ｉ．手続きの経緯
　特許第２７１１２４６号の請求項１に係る発明は、昭和６３年５月１日に出願され、平成９年１０月３１日に特許権の設定登録がなされ、その後、特許異議の申立てがなされ、取り消し理由通知がなされ、その指定期間である、平成１１年４月１６日に訂正請求がなされたものである。
ＩＩ．訂正の適否
（訂正請求書の請求項１に係る発明）
　訂正明細書の請求項１に係る発明は、その特許請求の範囲に記載されたとおりのものと認められる。
「（１）真空チャンバ内の被処理物にイオンビームを照射してイオンを注入するイオン注入装置において、前記真空チャンバを構成する部材の接合部分を前記真空チャンバの内側から全周溶接して前記接合部分に形成される間隙を前記真空チャンバの外側に位置させて気密に構成された前記真空チャンバを具備してなることを特徴とするイオン注入装置。」
（引用刊行物）
　訂正明細書の請求項１に係る発明に対し、当審が訂正拒絶理由通知おいて示した刊行物１（特開昭５６−１１１０４０号公報）には、
「本発明の目的のイオンを高いエネルギーに加速して物質（被処理体）の中に打ち込むイオン打ち込み装置に関する。」（公報　１頁右下欄２〜４行）こと、「第４図は本発明の一実施例によるイオン打ち込み装置の概念図である・・・すなわち装置全体は各室を形成するカバー１６で被われ、カバー内は真空系を形作っている。カバー１６内はイオンの飛来方向に沿って、イオン源１、引出し電極２、イオンビーム分析部４、スリット６を配設した管路１７、加速管７、打込部１４を配設する処理室１８が設けられている。」（公報４頁右下欄９〜２０行）ことが図面とともに記載されている。
　また、刊行物２（林主税責任編集「実験物理学講座４真空技術」共立出版株式会社、１９８５年１１月１５日初版第２刷発行）には、
「ｂ．溶接部の設計　真空容器の溶接では，他のあらゆることに優先して，
▲１▼漏れの確率の少ない溶接であること・・・
ｉ）内面溶接が好まれる．できる場所は内面溶接の方がよいだろうが，原則ではない．・・・たぶん外面溶接が嫌われた理由は，後でクリーニングできない狭い隙間が真空側にさらされるからであろう．
ｉｉ）両面溶接をしてはいけないそれは溶接ビードで囲まれた袋小路ができてしまうからである．万一内側の溶接部に漏れがあった場合，外側からプローブする漏れ探しでは漏れが発見できないにもかかわらず，袋小路に閉じこめられた気体は真空中に長期間漏れを通って放出しつづける．機械的な強度を持たせるために，必要ならば内面（または外面）を全周溶接したら，外面（または内面）は一定間隔をあけて，とびとびに溶接しておく．」（４８４頁３０行〜４８６頁５行）ことが、さらに、基本的な溶接部の例として、図９・２５に「望ましい溶接部の設計」が記載されているから、刊行物２には、真空容器に形成された袋小路に閉じこめられた気体は、真空中に長期間にわたり放出し続けるものであるから、真空容器の溶接において、容器接合部分に後でクリーニングできない狭い空間（間隙）や袋小路をできる限り生じさせないようにするには、内面溶接をすることにより、後に、クリーニングができない狭い空間を真空側にさらさないようにすること、真空容器の内側の片面で溶接を行えば良いということが記載されているものと認められる。
（対比・判断）
　そこで、訂正明細書の請求項１に係る発明と刊行物１記載の発明とを対比すると、刊行物１記載の発明の「カバー」「物質（被処理体）」および「イオン打込装置」は、訂正明細書の請求項１に係る発明の「真空チャンバ」、「被処理物」および「イオン注入装置」のそれぞれ相当するから、
　両者は
「真空チャンバ内の被処理物にイオンビームを照射してイオンを注入するイオン注入装置。」の点で一致し、
　真空チャンバが、訂正明細書の請求項１に係る発明では「真空チャンバを構成する部材の接合部分を前記真空チャンバの内側から全周溶接して前記接合部分に形成される間隙を前記真空チャンバの外側に位置させて気密に構成」しているのに対し、刊行物１記載の発明ではカバーは接合部分を有しているものと認められるが、その接合部分の構成については記載がない点で相違しているものと認められる。
　しかしながら、真空チャンバを構成する部材の接合部分を前記真空チャンバの内側から溶接して前記接合部分に形成される間隙を前記真空チャンバの外側に位置させて内側には形成しないようにすることは、真空技術分野における溶接技術として普通に採用されている周知の技術手段（刊行物２参照のこと）にすぎない。
　そして、この真空技術分野における溶接技術を刊行物１記載のイオン打ち込み装置のカバーの接合手段に採用して、訂正明細書の請求項１に係る発明のようにすることは当業者であれば容易に想到しうることと認められる。
　そして、訂正明細書の請求項１に係る発明の奏する効果も当業者が予測しうる範囲のものであって格別なものとは認められない。
　したがって、訂正明細書の請求項１に係る発明は、上記刊行物１記載の発明及び周知の技術手段に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
（むすび）
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第３項で準用する同第１２６条第４項の規定に適合しないので、当該訂正は認められない。
ＩＩＩ．特許異議の申し立てについての判断
　本件請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）は特許請求の範囲の請求項１に記載された以下のとおりのものである。
「【請求項１】　真空チャンバ内の被処理物にイオンビームを照射してイオンを注入するイオン注入装置において、チャンバの接合部分について内側から全周溶接されて気密に構成された真空チャンバを具備してなることを特徴とするイオン注入装置。」
（引用刊行物）
　当審が通知した取り消し理由に引用した刊行物１，２には、上記ＩＩ．（引用刊行物）に記載のとおりの発明が記載されている。
（対比・判断）
　本件発明と刊行物１に記載された発明とを対比すると、
　真空チャンバが、本件発明では「チャンバの接合部分について内側から全周溶接されて気密に構成され」ているのに対し、刊行物１記載の発明では、本件発明の真空チャンバに相当するカバーは機密に構成されているものと認められるがその接合部分の構成については記載されていない点で相違するものと認められる。
　しかしながら、真空容器を構成する部材の接合部分を真空容器の内側から溶接して前記接合部分に形成される狭い空間（間隙）を真空容器の内側には形成しないようにすることは、真空技術分野において溶接手段として普通に行われている周知の技術手段（刊行物２参照のこと）にすぎない。
　そして、この溶接技術を刊行物１記載のイオン打ち込み装置のカバーの接合手段に採用して、本件発明のようにすることは当業者であれば容易に想到しうることと認められる。
　そして、本件発明の奏する効果も当業者が予測しうる範囲のものであって格別なものとは認められない。
　したがって、本件発明は、上記刊行物１記載の発明及び周知の技術手段に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、本件発明についての特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものである。
（むすび）
　以上のとおりであるから、本件発明についての特許は、特許法第１１３条第２号に該当し取り消されるべきものである。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１１年１２月２１日（１９９９．１２．２１）