(57)【要約】【課題】電磁波遮蔽効果が高く、コンパクトでかつ安価な電磁波遮蔽フィルムを提供する。【解決手段】非アース電導性フィルム１０ａと、電導性フィルムに形成された複数の孔１ａと、電導性フィルムに入射する複数の電磁波と、電磁波により発生された磁界と、孔の周囲を流れかつ磁界に対向する誘導電流とを有してなる。電磁波が電導性フィルム１０ａに入射すると、電流が誘導されて孔１ａの周囲を流れる。この誘導電流により生成される磁界の向きは入射電磁波によるそれと逆なので、２種の磁界が逆となる。つまり電磁波遮蔽フィルム１０Ａが入射電磁波をブロックするように機能する。【選択図】　図１Ａ
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
非アース電導性フィルムと、電導性フィルムに形成された複数の孔と、電導性フィルムに入射する複数の電磁波と、電磁波により発生された磁界と、孔の周囲を流れかつ磁界に対向する誘導電流とを有してなる電磁波遮蔽フィルム。
【請求項２】
磁界が誘導電流により発生されたさらなる磁界により中性化されていることを特徴とする請求項１に記載の遮蔽フィルム。
【請求項３】
さらに電導性フィルム中に方形孔が列状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の遮蔽フィルム。
【請求項４】
さらに電導性フィルム中に円形孔が列状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の遮蔽フィルム。
【請求項５】
さらに電導性フィルム中に少なくとも２種の異なる形状の孔が列状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の遮蔽フィルム。
【請求項６】
電導性フィルムが金、銀、銅、鉄、アルミニウム、ニッケル、マンガン、炭素、合金、電導性有機成分および電導性化合物を有していることを特徴とする請求項１に記載の遮蔽フィルム。
【請求項７】
さらに電導性フィルムがその上に形成されている絶縁フィルムを有していることを特徴とする請求項６に記載の遮蔽フィルム。
【請求項８】
電導性フィルムが第１の絶縁フィルム上にスピンコーチング、蒸着コーチング、プラズマコーチング、スッパタリング、印刷、スタンピング、エッチングおよび積層により設けられていることを特徴とする請求項７に記載の遮蔽フィルム。
【請求項９】
さらに第２の絶縁フィルムが電導性フィルム上に設けられていることを特徴とする請求項７に記載の遮蔽フィルム。
【請求項１０】
第１の絶縁フィルムがプラスチック、ゴム、布および絶縁化合物を有していることを特徴とする請求項７に記載の遮蔽フィルム。
【請求項１１】
第２の絶縁フィルムがプラスチック、ゴム、布および絶縁化合物を有していることを特徴とする請求項９に記載の遮蔽フィルム。
【請求項１２】
各方形孔の寸法が０．１〜５０ｍｍの範囲にあることを特徴とする請求項２に記載の遮蔽フィルム。
【請求項１３】
各円形孔の寸法が０．１〜５０ｍｍの範囲にあることを特徴とする請求項３に記載の遮蔽フィルム。
【請求項１４】
第２の絶縁フィルムの上にもうひとつの電導性でかつ非アースの電導性フィルムが形成されており、この電導性フィルムには複数の孔が形成されていることを特徴とする請求項９に記載の遮蔽フィルム。
【考案の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
この考案は電磁波遮蔽フィルムに関するものであり、より詳しくは複数の孔を有した電磁波遮蔽フィルムに関するものである。
【０００２】
【従来技術】
特殊な電気機器や回路成分中で電磁波が干渉してその結果それらの動作に影響を及ぼすことは知られている。最近の研究では電磁波が人体に及ぼす効果に焦点が当てられている。建築構造物上には電磁波を遮蔽するある種の装置が設けられていて、電磁波の干渉を回避している。さらに電磁波遮蔽の考えは衣料やファッションの世界においても採用されて、人体に悪影響が及ばないようにされている。
【０００３】
当業界にあって電磁波干渉を防止する方法としては、遮蔽材を使って電磁波の伝導力を低減するものがある。電磁波遮蔽効果は主として遮蔽材の厚さに基づいている。つまり遮蔽材が厚ければ厚いほど、電磁波の効果が遮蔽されるので、遮蔽材を通っての電磁波の伝導力は減少する。
【０００４】
電磁波干渉を回避するための当業界における他の方法としては、電導性粒子、金属シートまたはウエブなどを有した電導性遮蔽ガスケットを利用するものがある。しかしこの方法には欠点がある。そのひとつはガスケットの製造プロセスが非常に複雑なことである。金属電導性シートにおいては電磁波干渉から保護される対象を完全に包絡しなければならないので、熱放散が大きな問題となる。
【０００５】
さらにシートと同様に金属電導性ウエブの場合には電磁波の遮蔽においてアースしなければならない。金属シートとウエブの電導性は秀れていて電界の遮蔽効果は達成されるが、高い電導性とアースの故に磁界の遮蔽効果は充分ではないのである。
【０００６】
さらに他の方法としては、絶縁基層上に設けられた複数の細片形または方形の電導性フィルムを利用するものがある。中華民国特許公告第３５９０４６号に開示された「無線吸収板」にあっては、複数の細片形の電導性フィルムをその上に設けた絶縁基層（図２参照）と複数の方形電導性フィルムが列状に設けられた絶縁基層（図３参照）とが用いられる。
【０００７】
【考案が解決しようとする課題】
このように従来の電磁波干渉防止策においては遮蔽材の厚さを大きくしなければならない、製造プロセスが複雑である、熱拡散の問題があるおよび電磁波遮蔽効果が不充分であるなどの問題があった。
【０００８】
かかる従来技術の現状に鑑みてこの考案の目的は、電磁波遮蔽効果が高く、コンパクトでかつ安価な電磁波遮蔽フィルムを提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
このためこの考案の電磁波遮蔽フィルムは非アース電導性フィルムと、電導性フィルムに形成された複数の孔と、電導性フィルムに入射する複数の電磁波と、電磁波により発生された磁界と、孔の周囲を流れかつ磁界に対向する誘導電流とを有してなるものである。
【００１０】
この考案の遮蔽フィルムは電導性材料から形成され、独立のフィルムとして利用され、フィルムは可撓性の絶縁基層上に設けられており、またはプリント回路盤または半導体集積回路上に積層されて、電磁波干渉を防止する。
【００１１】
【実施例】
この考案の電磁波遮蔽フィルムにおいては中華民国特許公告第３５９０４６の遮蔽フィルムとはつぎの点で異なるものである。つまりこの考案遮蔽フィルムの場合には電導性フィルムでありしかも複数の孔が列状に形成されているが、該特許公告の場合にはストリップ状または方形であって図２、３に示すよう基層にはいかなる孔も形成されていないのである。
【００１２】
この考案の遮蔽フィルムは電導性フィルムに複数の孔が列状に形成されており、特許公告の場合には電導性フィルムの孔に相当する位置に複数の方形電導性フィルムが設けられているのである。この考案の電導性フィルムに形成された孔は列状であるのに対して、特許公告の電導性フィルムはそのような列状の孔を有していないのである。
【００１３】
図１Ａにこの考案の遮蔽フィルムの一実施例を示すが、該遮蔽フィルム１０Ａは複数の孔１ａが形成された電導性フィルム１０ａを有している。図中白色方形部分は孔１ａを示し、黒色交差部分はｘ方向に延在する電導性フィルムＸａとｙ方向に延在する電導性フィルムＹａとからなる電導性フィルム１０ａを示している。孔１ａの寸法と間隔とは遮蔽されるべき電磁波の波長、遮蔽フィルムの材料および用途に応じたものである。この実施例では孔の寸法と間隔とは図中表示のために５ｍｍにとってある。
【００１４】
電磁波が上記した構成の電導性フィルム１０ａに入射すると、電流が誘導されて孔１ａの周囲を流れる。この誘導電流により生成される磁界の向きは入射電磁波によるそれと逆なので、２種の磁界が逆となる。換言すると電磁波遮蔽フィルム１０Ａは入射電磁波をブロックするように機能する。
【００１５】
図１Ｂに示す他の実施例にあっては、電磁波遮蔽フィルム１０Ｂが複数の孔を有している。図中白色部分は孔１ｂを示し、黒色交差部分は電導性フィルム１０ｂを示す。図１Ａの第１の実施例とこの第２の実施例との差異は孔の寸法と間隔とであって、図示のために１０ｍｍとなっている。
【００１６】
図１Ｃに示すのはこの考案の遮蔽フィルムの第３の実施例であって、遮蔽フィルム１０Ｃにはやはり複数の孔が形成されている。図中白色の部分は孔１ｃを示し、交差する黒色部分は電導性フィルム１０ｃを示している。第１、２の実施例との相違は、円形孔が形成されていて、孔の寸法と隣接する円形孔１ｃ間の間隔が下記の目的から２．５ｍｍになっている点である。
【００１７】
この考案による電磁波を遮蔽する効果を表わすべく、電磁波の伝送損失が図２に示す装置により測定される。まず測定されるべきサンプル２２、つまり考案の電磁波遮蔽フィルム２２をテストテーブル２０上に配置する。テーブル２０の一端には電磁波放射器２１を配置し、電磁波検査装置２３を他端に配置する。放射器２１は特定周波数帯の電磁波をサンプル２２に向けて放射する。検査装置２３は電磁波を測定分析する。
【００１８】
第１〜３実施例の電導性フィルムの電気的な表面抵抗を１オーム／□に設定して図２の装置によりテストをする。放射器２１が５０〜２６５０ＭＨｚの範囲にある周波数の電磁波を電導性フィルム１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃに放射すると、電磁波の伝送損失（ｄＢ）が図３Ａ中の曲線Ａ、Ｂ、Ｃのように検査装置２３により測定される。
【００１９】
曲線Ａは間隔５ｍｍで方形孔が形成されている第１の実施例の電導性フィルム１０Ａに相当する。曲線Ｂは間隔１０ｍｍで方形孔が形成されている第２の実施例の電導性フィルム１０Ｂに相当する。曲線Ｃは間隔２．５ｍｍで円形孔が形成されている第３の実施例の電導性フィルム１０Ｃに相当する。
【００２０】
これらの曲線Ａ、Ｂ、Ｃからして、電磁波の伝送損失（ｄＢ）は孔間間隔が小さいほど少なくなる。加えて電磁波の周波数が５０〜２６５０ＭＨｚの範囲にあると、伝送損失（ｄＢ）の値は−３０ｄＢ未満であり、−５０ｄＢ未満にさえもなる。
【００２１】
図２のテスト装置はこの考案の電導性フィルムの表面抵抗と電磁波の伝送損失（ｄＢ）との関係を示すのにも利用される。寸法と間隔とが同じであっても、第１の実施例の電導性フィルムの表面抵抗は２５０オーム／□であり、第２の実施例のものは１３０オーム／□であり、第３のものは５オーム／□である。
【００２２】
図３Ｂにおいて、曲線Ｄは表面抵抗２５０オーム／□の電導性フィルムについてのものであり、曲線Ｅは１３０オーム／□の電導性フィルムについてのものであり、曲線Ｆは５オーム／□についてのものである。表面抵抗が小さいと伝送損失も少なくなる。
【００２３】
図３Ｃにおいて曲線Ｇは厚さ３ｍｍの電導性遮蔽スポンジＥＰ３のテスト結果を示すものである。曲線Ｈは厚さ６ｍｍの電導性遮蔽スポンジＥＰ６のテスト結果を示すものである。図示のテスト結果からすると、遮蔽スポンジが厚いほど、電磁波の伝送損失がより多いので、遮蔽効果がよくなる。伝送損失の値は−５〜−２０ｄＢの範囲にあり、この考案の電導性フィルムのそれよりは顕著に少ないのである。
【００２４】
以上の例では図示の便宜上方形孔や円形孔が示されたが、電導性フィルムに形成される孔形状は正方形、楕円形、多角形などの他の形状でもよい。電導性フィルムに少なくとも２種の異なる形状の孔を形成してもよい。また金、銀、銅、鉄、アルミニウム、ニッケル、マンガン、炭素、合金などの金属材料の他にも、電導性の有機成分や化合物もこの考案には利用することができる。
【００２５】
また電導性フィルムは電子要素、部品、モジュール、半製品、製品、布または他の建築物の外壁などに取り付けたり積層されるものであり、スピンコーチング、蒸着コーチング、プラズマコーチング、スパッタリング、印刷、スタンピング、エッチングおよび積層などにより独立に絶縁基層に取り付けることもできる。
【００２６】
絶縁基層に取り付けられた電導性フィルムの損傷や擦傷を防止するために、他の絶縁フィルムを電導性フィルム上に配置することもできる。絶縁基層および／または絶縁フィルムは可撓性材料から形成されるのが望ましい。さらに電導性フィルム、絶縁基層および絶縁フィルムは透明材料から形成されてもよい。例えば薄トランジスター液晶デイスプレーに一般に用いられているインジウム錫酸化物またはＩＴＯをこの考案の電導性フィルムの形成に用いて、所望の透明性を得ることができる。
【００２７】
電磁波が上記した構成の電導性フィルムに入射すると、電流が誘導されて孔周囲を流れ、この誘導電流により生成される磁界の向きは入射電磁波によるそれと逆なので、２種の磁界が逆となる。つまりと電磁波遮蔽フィルムが入射電磁波をブロックするように機能して、電磁波を効果的に遮蔽する。
【図面の簡単な説明】
【図１Ａ】この考案の遮蔽フィルムの第１の実施例を示す平面図である。
【図１Ｂ】この考案の遮蔽フィルムの第２の実施例を示す平面図である。
【図１Ｃ】この考案の遮蔽フィルムの第３の実施例を示す平面図である。
【図２】電磁波の伝送損失を測定するためのテスト装置を示す側面図である。
【図３Ａ】第１〜３の実施例の遮蔽フィルムについての電磁波の伝送損失と周波数との関係を示すグラフである。
【図３Ｂ】第１の実施例とは異なる表面抵抗を有した遮蔽フィルムについての電磁波の伝送損失と周波数との関係を示すグラフである。
【図３Ｃ】従来の電導性遮蔽スポンジについての電磁波の伝送損失と周波数との関係を示すグラフである。
【符号の説明】
１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ：遮蔽フィルム
１０ａ、１０ｂ、１０ｃ：電導性フィルム
１ａ、１ｂ、１ｃ：孔
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図１Ｃ】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
0003098575.tif 000008
【図３Ｃ】
0003098575.tif 000009