【事件の表示】
　　特許第２７８５２７６号「磁気記録媒体」の特許に対する異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２７８５２７６号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
(１)手続の経緯
　
　本件特許第２７８５２７６号の請求項１に係る発明は、昭和６３年７月２７日に特許出願され、平成１０年５月２９日に特許の設定登録がなされ、その後、円谷信雄より特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１２年１月１３日に訂正請求がなされ、これに対して訂正拒絶理由通知がなされ、その指定期間内である平成１２年３月１６日に訂正請求の補正がなされたものである。
　
(２)訂正の適否についての判断
　
ア．訂正請求に対する補正の適否について
　当該訂正請求に対する補正は、訂正事項１〜１３（なお、原文では丸数字の１〜１３で記載されている）のうち、訂正事項５、６を削除し、訂正事項１２に係る表１中の実施例、比較例の表示を特許明細書のとおりに戻すと共に番号を整理し、この番号整理に対応して、訂正事項７、１０、１３に係る明細書の記載を整合させたものであって、訂正請求書の要旨を変更するものではないので、特許法第１２０条の４第３項において準用する同法第１３１条第２項の規定に適合する。　　
　
イ．訂正明細書の請求項１に係る発明
　訂正明細書の請求項１に係る発明（以下「本件発明」という。）は、その特許請求の範囲に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。「非磁性基体上に４００Åを超え１００００Å以下の厚みを有する、クロムを主成分とする層を設け、該層の上に、主成分としてコバルトが８６原子％以下、クロムが８〜１７原子％および白金が６〜２５％からなる磁気薄膜を形成し、該磁気薄膜の表面に炭素質の保護膜を設けた、５００Ｏｅ以上の垂直抗磁力を有する垂直磁気記録媒体。」
　
ウ．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　特許権者が求めている訂正の内容は次のＡ〜Ｅのとおりである。
　Ａ、特許請求の範囲の請求項１を、上記イ．で記載した請求項１とする訂正。
　Ｂ、Ａの訂正に伴い、発明の詳細な説明の対応箇所を整合させるための訂正。
　Ｃ、実施例９〜１６を実施例１〜８とし、比較例２を比較例１とすると共に、対応する記載箇所を整合させるための訂正。
　Ｄ、表３、表４をそれぞれ表１、表２とする訂正。
　Ｅ、公報第３欄第３０行の「本発明の第１の発明」を「本発明」と訂正し、同第５欄第１９行の「前記実施例と同一条件で」という記載を削除する訂正。
　
　上記Ａの訂正は、請求項１の「磁気記録媒体」を「５００Ｏｅ以上の垂直抗磁力を有する垂直磁気記録媒体。」に限定するものであって、特許請求の範囲の減縮に該当し、上記Ｂ〜Ｅの訂正は、明りょうでない記載の釈明に該当する。そして、上記Ａ〜Ｅのいずれの訂正も新規事項の追加に該当せず、実質上、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　
エ．独立特許要件
　ａ、特許法第２９条第１項第３号について
（引用刊行物）
  本件発明に対して、当審が平成１１年１１月１日付けで通知した取消理由において引用した刊行物１（特開昭６１−２５３６２２号公報）には、
　「アルミニウム基体等の上に、数１０００Åの厚さのＣｒ膜を設け、その上にＣｏ含有量７５原子％以上、Ｃｒ含有量３〜２０原子％、Ｐｔ等の貴金属含有量３〜１５原子％であるＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔを主成分とするー貴金属合金磁性膜を形成し、更にその上に必要に応じてカーボン膜等の保護膜を形成した水平（面内）磁気記録媒体。」に係る発明が記載されている。
（対比・判断）　
　本件発明と引用刊行物１に記載の発明とを対比すると、本件発明が垂直磁気録媒体に係るものであるのに対し、引用例に記載の発明は水平磁気記録媒体に係るものであって明らかに相違するから、本件発明は引用刊行物１に記載された発明ではない。
　
　ｂ、特許法第３６条について
　当審が取消理由通知において指摘した明細書の記載不備に関する疑念は、特許異議意見書における釈明により解消した。
　
　したがって、本件発明は、特許出願の際独立して特許を受けることができるものである。
　
オ．むすび
　以上のとおりであって、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項で準用する第１２６条第２〜４項の規定に適合するものであるから、当該訂正を認める。　　
　
(３)特許異議申立について
　
ア．本件発明
　本件発明は、上記(２)イ．に記載したとおりのものである。
　
イ．申立の理由の概要
　特許異議申立人円谷信雄は、甲第１〜２号証を提示して、本件発明は特許法第２９条第１項第３号又は同条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから取り消されるべきである旨主張している。
　
ウ．判断
　特許異議申立人が提示した甲第１号証は、上記(２)エ．に示した引用刊行物１に該当するから、上記のように本件発明は甲第１号証に記載された発明ではない。また、同甲第２号証(特開昭５７−８９１９号公報)には、「基体上に（厚さ５〜５００Åの）クロムからなる下地層を形成し、次いでコバルトークロム合金からなる磁気記録層を設けることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。」に係る発明が記載されており、この媒体が垂直磁気記録に適することも記載されているが、記録層の組成についてはコバルトークロム合金の実施例が示されているのみで、本件発明の必須の構成要件である白金を含む特定組成の記録層については記載も示唆もされていない。
　してみると、水平磁気記録媒体に係る甲第１号証と、白金を含む特定組成の記録層について記載のない甲第２号証とから本件発明を着想することは、当業者といえども不可能であると言わざるを得ない。
　
エ．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件発明に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　したがって、本件発明についての特許は、拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してなされたものと認めない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項により、上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年３月２４日（２０００．３．２４）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
Ａ、特許請求の範囲の減縮を目的として、請求項１を次のようにする訂正。「非磁性基体上に４００Åを超え１００００Å以下の厚みを有する、クロムを主成分とする層を設け、該層の上に、主成分としてコバルトが８６原始％以下、クロムが８〜１７原始％および白金が６〜２５％からなる磁気薄膜を形成し、該磁気薄膜の表面に炭素質の保護膜を設けた、
５００Ｏｅ以上の垂直抗磁力を有する垂直磁気記録媒体
Ｂ、Ａの訂正に伴い、発明の詳細な説明の対応箇所を整合させるための訂正。
Ｃ、実施例９〜１６を実施例１〜８とし、比較例２を比較例１とすると共に、対応する記載箇所を整合させるための訂正。
Ｄ、表３、表４をそれぞれ表１、表２とする訂正。
Ｅ、公報第３欄第３０行の「本発明の第１の発明」を「本発明」と訂正し、同第５欄第１９行の「前記実施例と同一条件で」という記載を削除する訂正。
（上記Ｂ〜Ｅの訂正は明瞭でない記載の釈明を目的とする。）
（５４）【発明の名称】
磁気記録媒体
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　非磁性基体上に４００Åを超え１００００Å以下の厚みを有する、クロムを主成分とする層を設け、該層の上に、主成分としてコバルトが８６原子％以下、クロムが８〜１７原子％および白金が６〜２５原子％からなる磁気薄膜を形成し、該磁気薄膜の表面に炭素質の保護層を設けた
、５００Ｏｅ以上の垂直抗磁力を有する垂直
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
　本発明は磁気ディスク、磁気ドラム、磁気テープなど磁気記録媒体に関する。
（従来の技術）
　最近、磁気記録媒体における記録密度の高密度化の要望に応じるために垂直磁気異方性を有する磁気薄膜に垂直磁気記録を行なう方法が検討され高い記録密度が得られている。
　垂直磁気異方性を有する磁気薄膜としてはスパッタリング法または真空蒸着法によるコバルト・クロム合金、コバルト・クロム・白金合金（特開昭５９−１１６０５号公報）等の合金磁気薄膜が知られている。
（発明が解決しようとする課題）
　しかしながら、これらの合金磁気薄膜の垂直抗磁力は不充分なものであり、スパッタリング時または真空蒸着時に基板を加熱することによって垂直方向の抗磁力を３００エルステッド以上に向上させている。そのため加熱むらによる磁気特性のバラツキが避けられず、また、プラスチック基体など耐熱性が低い基体には適用できない欠点があった。本発明はこのような欠点のない安定して高い垂直磁気異方性と高い垂直抗磁力を有する
垂直磁気記録媒体
（課題を解決するための手段）
　本発明者は前記目的を達成するためにコバルト・クロム・白金合金の組成及び磁気薄膜の下地処理方法について種々検討した。
　その結果、コバルトが８６原子％以下、クロムが８〜２４原子％および白金が６〜２５原子％からなる磁気薄膜は垂直磁気異方性がとくに高く、スパッタリング時または真空蒸着時に基体を加熱する必要もないことがわかった。
　また、さらに基体上にクロムを主成分とする層を設け、該層の上に主成分としてコバルト、クロムおよび白金からなる磁気薄膜を形成することにより、該磁気薄膜は垂直磁気異方性がとくに高くなり、スパッタリング時または真空蒸着時に基体を加熱する必要もないことがわかった。
　すなわち、本発明は、非磁性基体上に４００Åを超え１００００Å以下の厚みを有する、クロムを主成分とする層を設け、該層の上に、主成分としてコバルトが８６原子％以下、クロムが８〜１７原子％および白金が６〜２５原子％からなる磁気薄膜を形成し、該磁気薄膜の表面に炭素質の保護膜を設けた
、５００Ｏｅ以上の垂直抗磁力を有する垂直
　以下本発明について詳細に説明する。
　本発明の非磁性基体はアルミニウム板、ガラス板、合成樹脂などの硬質成形体またはアルミ箔、ポリエステルフィルムなどの軟質フィルムである。基体の表面はうねり及び凹凸を十分小さくしておく必要がある。なお、必要により前記基体の表面にニッケル・リン合金からなる硬質層または高透磁率軟磁性層を設けても良い。
　コバルト、クロムおよび白金からなる磁気薄膜はスパッタリング法または真空蒸着法のいずれかの方法によって付着させる。
本発明
　その組成比はＣｏが８６原子％以下、Ｃｒが８〜２４原子％、Ｐｔが６〜２５原子％の範囲でなければならない。Ｃｒが８原子％未満では良好な垂直配向が得られず、Ｐｔが６原子％未満では高い抗磁力を持った磁気記録媒体が得られない。Ｃｒが２４原子％を越ええるか、Ｐｔが２５原子％を越えるかまたはＣｏが８６原子％未満では抗磁力がとくに上昇することがないばかりか、残留磁束が低下したり、垂直磁気異方性が小さくなる。
　本発明においてはコバルト、クロムおよび白金からなる磁気薄膜の下地層としてクロムを主成分とする層を設けることである。クロム層の厚さは１００〜１００００Åが好ましい。１００Å未満では垂直抗磁力の高さが不充分であり、１００００Åを越えても垂直抗磁力がとくに上昇することはない。クロム層はスパッタリング法または真空蒸着法で設ける。下地層の表面にコバルト、クロムおよび白金からなる磁気薄膜をスパッタリング法または真空蒸着法で付着させる。コバルト、クロムおよび白金の比率はどのような比率であっても垂直抗磁力向上の目的が達成されるが、本発明による比率にすれば垂直抗磁力の向上がより顕著になる。
　保護膜は炭素質がとくに好ましい。炭素質保護膜は適度な潤滑性と適度な硬度を有するために磁性ヘッドが損傷することなく長期間信頼性が確保される。
　炭素質からなる保護膜は塗布法、蒸着法、スパッタリング法等により磁気薄膜の表面に被着させる。被着法によりグラファイトなどのように結晶性になったり、また、グラッシーカーボンなどのように非晶質になるが、保護層としての効果はいずれも同じである。保護膜の厚さは磁気薄膜の耐久性および再生出力に鋭敏に影響する。保護膜の厚さは１００〜１０００Åが好ましい。
　保護膜の厚さが１００Å未満では磁気薄膜の耐久性とくにスチルライフが非常に短かくなる。また保護層の厚さが１０００Åを越えると再生出力の低下により、再生信号のＳ／Ｎ比が悪くなるため、デジタル記録再生においてはエラーが発生しアナログ記録再生の場合にはノイズ発生の原因となる。
（実施例）
　以下、実施例および比較例によって本発明を具体的に説明する。
　
実施例１〜８、比較例１
　基体として外径９０ｍｍ、内径２５ｍｍ、厚さ１．２ｍｍのアルミニウム円盤からなる基体を準備した。基体表面をラッピングしたのち無電解メッキ法でニッケル・リンからなる厚さ３０μｍの硬質層を設けた。硬質層を鏡面ポリッシュしたのち基体をマグネトロンスパッタ装置（徳田製作所ＣＦＳ−８ＥＳ型）の試料台に固定した。まずアルゴンガス圧力１×１０−２Ｔｏｒｒ、スパッタパワー４Ｗ／ｃｍ２、ＤＣスパッタの条件で金属クロムをターゲットとしてクロム膜を付着させた。クロム膜の付着速度は１０００Å／分であった。クロムのスパッタ時間を段階的に変更することによってクロム膜の厚さが１００〜１００００Åまで種々の厚みを有する８枚の基体を製作した。比較例２としてクロムのスパッタを行わない基体も製作した。つぎに真空度を２×１０−７Ｔｏｒｒの圧力にしたのちアルゴンを導入して圧力を１×１０−３Ｔｏｒｒにした。マグネトロンスパッタ装置を動作させ、Ｃｏ８０原子％、Ｃｒ１０原子％、Ｐｔ１０原子％の磁気薄膜をターゲットパワー６Ｗ／ｃｍ２、ＲＦスパッタの条件で厚さ２５００Å形成した。なお、磁気薄膜形成時の基体の温度は約６０℃であった。ついで、黒鉛をターゲットとして、アルゴンガス圧力８×１０−３Ｔｏｒｒ、スパッタパワー５Ｗ／ｃｍ２、スパッタ速度５０Å／分、ＤＣスパッタの条件で６分間スパッタを行い、前記磁気薄膜の上に厚さ３００Åの炭素質からなる保護膜を設け磁気ディスクとした。
　上記磁気記録媒体の製作をくり返し行ない、その場合にクロムのスパッタ時間を段階的に変更することによってクロム膜の厚さが１００Å〜１００００Åまで種々の厚みを有する８枚の磁気記録媒体を製作した。なお、比較例２のみはクロムのスパッタを行なわなかった。これらの磁気記録媒体について垂直抗磁力およびロッキング曲線の半値幅を測定した。表１に示すとおり、クロムの層を設けることにより垂直配向が低下することなく垂直抗磁力がいちじるしく向上した。
　なお、前記保護膜の厚さは次のようにして確かめた。すなわち、磁気ディスクから７×１４ｍｍの大きさの試料を切り出し、試料の周囲をエポキシ樹脂で包理したのち、試料のトリミングを行った。ついでダイヤモンドナイフで超薄切片を作成し、透過電子顕微鏡で観察し、保護膜の厚さを測定した。
　これらの磁気記録媒体について抗磁力を測定した。抗磁力の測定は理研電子社製の振動試料型磁力計（形式ＢＨＶ−５５）を用い外部磁界１５Ｋガウスで行った。垂直配向性はＸ線回析スペクトルのロッキング曲線の半値値Δθ５０により比較した。Δθ５０の値が小さいほど垂直配向性が良い。一般にはΔθ５０が１０度以下が好ましいとされている。なお、Ｘ線回析装置はＣｕ−Ｋαのターゲットを用いて、θ方向の回析スペクトルを記録した。
　つぎに上記の
実施例２および５ならびに比較例１
て記
表２
　
表１
　つぎに上記の
実施例２および５ならびに比較例１
表２
（発明の効果）
　本発明の磁気記録媒体は垂直抗磁力が高くて安定している。さらに、記録再生のＣ／Ｎ比が高く周波数特性が優れているので、とくに高密度記録再生に適している。