【事件の表示】
　特許第２７４２１１４号「ウエハキャリヤの精密洗浄方法及び装置」の請求項１ないし６に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結論】
　訂正を認める。
　特許第２７４２１１４号の請求項１ないし４に係る特許を維持する。
【理由】
［１］手続の経緯
　本件特許第２７４２１１４号（平成１年１１月１５日出願日、平成１０年１月３０日設定登録）は、その後、その特許について、異議申立人尾崎三喜子より特許異議の申立がなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１１年８月２３日に訂正請求がなされたものである。
［２］訂正の適否
（１）訂正の内容
１）特許請求の範囲の請求項１を下記のとおり訂正する。
　「複数のウエハ溝が刻設されたウエハキャリヤを液中に浸漬する工程と、該ウエハキャリヤが浮き上がるのを防止し且つ該ウエハキャリヤが回転ブラシの回転により移動するのを防止出来る態様にて該ウエハキャリヤを水槽に固定する工程と、回転ブラシをウエハ溝に接触させつつ前記水槽中で回転させて洗浄する工程と、ウエハキャリヤが浸漬される液をオーバーフローさせつつ洗浄を行う工程とを有することを特徴とするウエハキャリヤの精密洗浄方法。」
２）同請求項３を下記のとおり訂正する。
　「内部に液が充填され且つ該液中にウエハキャリヤが浸漬される水槽を有しており、複数のウエハを保持するため前記ウエハキャリヤの内面には複数のウエハ溝が刻設されており、該ウエハ溝の底部と接触する様に配置された回転ブラシと、該ウエハキャリヤが浮き上がるのを防止し且つ該ウエハキャリヤが回転ブラシの回転により移動するのを防止出来る態様にて該ウエハキャリヤを前記水槽に固定する固定手段と、ウエハキャリヤの洗浄が行われている際に、該ウエハキャリヤが浸漬されている水槽から液をオーバーフローさせる手段とを有していることを特徴とするウエハキャリヤの精密洗浄装置。」
３）同請求項４を下記のとおり訂正する。
　「前記回転ブラシは取付板に正逆回転可能な態様にて取り付けられており、該取付板は昇降用アクチュエータにより昇降され、前記回転ブラシの径はウエハキャリヤ中で対向する位置に形成されたウエハ溝に対して該ブラシが同時に接触可能な寸法に設定されている請求項３に記載のウエハキャリヤの精密洗浄装置。」
４）同第５項を下記のとおり訂正する。
　「前記水槽に洗浄槽、溢水槽、排水槽を画成し、溢水槽底部と洗浄槽底部とをポンプ及びフィルタを介して接続する循環管を設けた請求項３，４のいずれかに記載のウエハキャリヤの精密洗浄装置。」
５）同請求項６及び７を削除する。
６）特許明細書（公報第２頁第４欄第３１行）の「洗浄する工程」を、「洗浄する工程と、ウエハキャリヤが浸潰される液をオーバーフローさせつつ洗浄を行う工程」と訂正する。
７）特許明細書（公報第２頁第４欄第３６〜３８行）の「また本発明において、ウエハキャリヤが浸漬される液をオーバーフローさせつつ洗浄を行う工程を有しているのが好ましい。」を削除する。
８）特許明細書（公報第２頁第４欄第４７行）の「固定手段」を、「固定手段と、ウエハキャリヤの洗浄が行われている際に、該ウエハキャリヤが浸漬されている水槽から液をオーバーフローさせる手段」と訂正する。
９）特許明細書（公報第２頁第４欄第４９行〜第３頁第５欄第２行）の「本発明のウエハキャリヤの精密洗浄装置の実施に際して、ウエハキャリヤの洗浄が行われている際に、該ウエハキャリヤが浸漬されている水槽から液をオーバーフローさせる手段を有しているのが好ましい。」を削除する。
（２）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否）
１）上記訂正１）は、「ウエハキャリヤが浸漬される液をオーバーフローさせつつ洗浄を行う工程」を追加したが、旧請求項３の記載により限定したものであり、特許請求の範囲の減縮に該当する。
２）上記訂正２）は、旧請求項３を削除したため、新請求項３として旧請求項４をさらに旧請求項５の記載により限定したものであり、特許請求の範囲の減縮及び明りょうでない記載の釈明に該当する。
３）上記訂正３）は、旧請求項３及び５を削除したために、旧請求項６を新請求項４として整合させたものであり、「請求項４，５いずれかに」を「請求項３に」と訂正したのは、明りょうでない記載の釈明に該当する。
４）上記訂正４）は、旧請求項３及び５を削除したために、旧請求項７を新請求項５として整合させたものであり、「請求項５，６の」を「請求項３，４の」と訂正したのは、明りょうでない記載の釈明に該当する。
５）上記訂正５）は、特許請求の範囲の減縮に該当する。
６）上記訂正６）は、請求項１の訂正に伴う訂正であって、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合を図ったものであり、明りょうでない記載の釈明に該当する。
７）上記訂正７）は、旧請求項３の削除に伴い、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合を図ったものであり、明りょうでない記載の釈明に該当する。
８）上記訂正８）は、請求項３の訂正に伴うものであって、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合を図ったものであり、明りょうでない記載の釈明に該当する。
９）上記訂正９）は、旧請求項５の削除に伴い、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合を図ったものであり、明りょうでない記載の釈明に該当する。
　そして、上記１）〜９）は、いずれも新規事項の追加に該当せず、さらに実質上特許請求の範囲を拡張し、変更するものでもない。
（３）独立特許要件
１）本件発明
　訂正明細書の特許請求の範囲第１〜５項に記載の発明は、その特許請求の範囲第１〜５項に記載の次のとおりのものである。
　「【請求項１】複数のウエハ溝が刻設されたウエハキャリヤを液中に浸漬する工程と、該ウエハキャリヤが浮き上がるのを防止し且つ該ウエハキャリヤが回転ブラシの回転により移動するのを防止出来る態様にて該ウエハキャリヤを水槽に固定する工程と、回転ブラシをウエハ溝に接触させつつ前記水槽中で回転させて洗浄する工程と、ウエハキャリヤが浸漬される液をオーバーフローさせつつ洗浄を行う工程とを有することを特徴とするウエハキャリヤの精密洗浄方法。（以下、「本件発明１」という。）
　【請求項２】ウエハキャリヤが浸漬されている液中に給液する工程を有し、前記洗浄する工程では、回転ブラシが回転しながら下降し上昇し、ウエハ溝と接触して洗浄をしている請求項１記載のウエハキャリヤの精密洗浄方法。（以下、「本件発明２」という。）
　【請求項３】内部に液が充填され且つ該液中にウエハキャリヤが浸漬される水槽を有しており、複数のウエハを保持するため前記ウエハキャリヤの内面には複数のウエハ溝が刻設されており、該ウエハ溝の底部と接触する様に配置された回転ブラシと、該ウエハキャリヤが浮き上がるのを防止し且つ該ウエハキャリヤが回転ブラシの回転により移動するのを防止出来る態様にて該ウエハキャリヤを前記水槽に固定する固定手段と、ウエハキャリヤの洗浄が行われている際に、該ウエハキャリヤが浸漬されている水槽から液をオーバーフローさせる手段とを有していることを特徴とするウエハキャリヤの精密洗浄装置。（以下、「本件発明３」という。）
　【請求項４】前記回転ブラシは取付板に正逆回転可能な態様にて取り付けられており、該取付板は昇降用アクチュエータにより昇降され、前記回転ブラシの径はウエハキャリヤ中で対向する位置に形成されたウエハ溝に対して該ブラシが同時に接触可能な寸法に設定されている請求項３に記載のウエハキャリヤの精密洗浄装置。（以下、「本件発明４」という。）
　【請求項５】前記水槽に洗浄槽、溢水槽、排水槽を画成し、溢水槽底部と洗浄槽底部とをポンプ及びフィルタを介して接続する循環管を設けた請求項３，４のいずれかに記載のウエハキャリヤの精密洗浄装置。（以下、「本件発明５」という。）」
２）引用刊行物
▲１▼刊行物１
　平成１１年５月１１日付けで当審が通知した取消理由で引用した上記刊行物１（特開昭５７−９６５３１号公報）には、半導体集積回路製造工程において、揺動、往復動、正逆回転可能なナイロンブラシによる洗浄を行うことにより、キャリア内部の確実な洗浄ができるキャリア洗浄装置に関する発明が、第１，２図とともに開示され、さらに、
　「第１図はキャリア洗浄装置の機構図であり、・・・キャリア２をキャリア固定用スナップ１１により固定させ、ノズル９からの給液と同時に回転はチェーン方式６往復動はラックピニオン方式７揺動クランク方式８で第２図に示すようにブラシ１（「ブラシ２」は誤記である。）を動作させて、キャリア２を洗浄する。
　このような構造になっているのでキャリア２内部の各ミゾ部１０を上、下方向からナイロンブラシ１により洗浄することができ、各ミゾ部１０に付着したゴミを洗浄できる。」（第１頁右欄第８行〜第２頁左欄第２行）が記載されている。
▲２▼刊行物２
　上記刊行物２（特開昭６１−３２５２６号公報）には、半導体装置の製造の際に使用されるウエハキャリアなどの器具の洗浄方法に関する発明が、第１，２図とともに開示され、さらに、
　「一般に、表面に付着した異物を除去する洗浄の場合、該表面に洗浄液を衝突させる方法より、洗浄液を供給しながら該表面を機械的に拭う方法の方が良い結果を得られることが知られている。
　本発明は、上記機械的に拭う手段として、洗浄液を攪拌することにより該洗浄液中を遊泳する複数のブラシを使用したもので、該ブラシを被洗浄物の形状ならびに表面の凹凸状態に見合ったものにすることにより、被洗浄物表面の隅々まで拭うことが可能になる。」（公報第２頁左下欄第２〜１１行）、
　「第１図（ａ）図示の洗浄は、市販の家庭用電気洗濯機を使用しており、・・・第１図（ｂ）図示のブラシ２０・・・を約６００個作成してウエハキャリアＡ一個と共に籠１４に入れ、洗浄液１２に水道水を使用して籠１４を通常の洗濯を行う速さで約１５分間回転させた。」（公報第２頁右下欄第１０行〜第３頁左上欄第６行）
が、それぞれ記載されている。
▲３▼刊行物３
　上記刊行物３（特開昭６３−２４６８２６号公報）には、半導体ウエハの自動洗浄装置における純水洗浄方法に関する発明が、第１，２図とともに開示され、さらに、
　「第２図は、そのような洗浄装置の薬液処理槽及び純水洗浄槽部分の図であり、・・・この処理槽１に所定の時間浸漬したウエハキャリヤ２・・・は純水洗浄槽４に投入（浸漬）される。この時、純水処理槽４は純水が満たされている。次に給水弁５を介して少量の純水を洗浄槽４に供給して純水をオーバーフローさせる」（公報第１頁右欄第１０〜１９行）、
　「第１図はこの発明の一実施例を説明するための装置の構成図ある。・・・この洗浄方法においては、薬液処理槽１１によって所定の時間浸漬処理を行ったウエハキャリヤ２０を搬送ロボットハンド２２によって挟持して前記処理槽１１より引上げた後、まず純水スプレー洗浄槽１２にウエハキャリヤ２０を移動させ、該洗浄槽１２内の所定位置まで下降させる。この時、下降と同時に純水スプレーノズル１３より純水が噴出し、ウエハキュアリヤ２０および導体ウエハ２１に付着している薬液を除去する。」（公報第２頁左下欄第６行〜右下欄第１６行）、
　「搬送ロボットによってウエハキャリヤ２０は上昇し、純水自動交換槽１４へ移動し、純水の満たされた中に浸漬される。そして、次にＮ２ガスが発泡治具１７より噴出し・・・、同時に給水弁１５が開き純水をオーバーフローさせる（一定時間）。」（公報第３頁右上欄第５〜１０行）
が、それぞれ記載されている。
▲４▼刊行物４
　上記刊行物４（実願昭５９−３４５４５号（実開昭６０−１４６３４０号）のマイクロフィルム）には、半導体ウエーハキャリア（収納容器）の洗浄に使用する回転形ブラシに関する発明が、第１〜３図とともに開示され、さらに、
　「ウエーハキャリア（１）には、対向する内側面に通常２５枚のウエーハ（２）がおさまるように溝が切ってあり、ウエーハ（２）を立てて収納する。このキャリア（１）は使用している間に、ウエーハ（２）のかけら、レジストなどにより汚染されるので、定期的に洗浄の必要がある。
　そのための洗浄器として従来のものは第２図に示すようなものであった。ブラシ（３）がキャリア（１）内に矢印のように下がってくるとともに回転軸（４）を中心に回転し、キャリア（１）の溝を洗浄する。ノズル（５）からは水が噴出し、汚れを洗い流す。ブラシ（３）は１回の上下で効率よく洗浄できるようにキャリア（１）の溝の底まで充分とどく長さの毛が植えてある。
　しかし、従来の洗浄用ブラシ（３）は、第３図に示すように、円筒状ブラシ（３）の中心に回転軸（４）があるものであった」（第２頁第２〜１８行）
が記載されている。
３）対比・判断
　本件発明１と刊行物１に記載の発明とを対比すると、刊行物１には、キャリア固定用スナップ１１により固定させたキャリア２内部の各ミゾ部１０を、上、下方向からナイロンブラシ１により、各ミゾ部１０に付着したゴミを洗浄することは開示されているものの、洗浄液はノズルから給液するものであり、本件発明１のように、ウエハキャリヤを液中に浸漬させ、回転ブラシを水槽中で回転させて洗浄するものではないし、刊行物１に記載のノズルに替えて水槽を用いることを示唆する記載も認められない。
　そうしてみると、刊行物２に、ウエハキャリアを浸漬した洗浄液を攪拌することにより、洗浄液中を遊泳する複数のブラシでウエハキャリア表面を拭うことが開示され、刊行物３に、ウエハ３とともにウエハキャリヤ２０を浸漬した純水処理槽４の純水をオーバーフローさせることが開示され、さらに、刊行物４に、ブラシ（３）にキャリア（１）の溝の底まで充分とどく長さの毛が植えてあることが開示されているにしても、刊行物１に記載のノズルに替えて、刊行物２に記載のように、洗浄液１２を収容する洗浄槽にウエハキャリアを浸漬して、洗浄槽中で回転ブラシを回転させることは容易になし得るものではない。
　また、本件発明２は、本件発明１の構成をさらに限定したものであり、本件発明３は、本件発明１の精密洗浄方法の発明を装置の発明として精密洗浄装置としたものであり、さらに、本件発明４，５は、本件発明３の構成をさらに限定したものであるから、本件発明２〜５のいずれも、上記刊行物１〜４に記載の発明から容易になし得るものではない。
　そして、本件発明１〜５は、ウエハキャリヤを水槽中に浸漬してブラシ洗浄しているので、ウエハキャリヤの表面に付着したレジスト、シリコン等の小片や、ごみだまりや回転ブラシに付着したウエハキャリヤの汚れを良く除去するとの、特許明細書に記載の顕著な作用効果を奏するものである。
３）むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正請求は特許法第１２０条の４第２項、及び同条第３項で準用する同法第１２６条第２〜４項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
［３］特許異議の申立て
（１）本件発明
　本件発明１〜５は、上記［２］（３）１）の特許請求の範囲の請求項１〜５に記載されたとおりのものである。
（２）申立の理由の概要
　申立人尾崎三喜子は、訂正前の請求項１〜６に係る発明は、甲第１〜５号証に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり、本件特許は同法第１１３条第１項第２号の規定より取り消されるべき旨主張している。
（３）甲第１〜５号証
１）甲第１〜４号証には、上記［２］（３）２）において示したように、取消理由通知で示した刊行物１〜４（甲第１号証は刊行物２に、甲第２号証は刊行物１に、甲第３号証は刊行物３に、そして甲第４号証は刊行物４に、それぞれ対応する。）に記載の発明が開示されている。
２）甲第５証（特開昭６０−２５１６３９号公報）には、半導体ウエーハを収容して運搬するためのウェーハキャリアの洗浄方法に関する発明が、第１図とともに開示され、さらに、
　「図において、（１）はウエーハ（５０）を収容して運搬するウエーハキャリア、（２ａ）および（２ｂ）は所定距離をおいて相対向するウエーハキャリア（１）の両側板、（３ａ）および（３ｂ）はそれぞれ側板（２ａ）および側板（２ｂ）の対向面間で対をなすように上記対向面部に所定ピッチで設けられた上端面にのみ開口する直線状の溝である。」（第１頁右下欄第１７行〜第２頁左上欄第３行）
が記載され、
　また、回転ブラシを、その回転方向を間欠的に逆転させながらウエハ溝に沿う方向に移動させて、ウエハ溝の内壁面に付着しているごみをこすり取り洗浄水で洗い流すことが開示されている（第２頁右下欄第３行〜第３頁左上欄第４行参照）。
（４）判断
　上記甲第５号証には、回転ブラシが正逆回転可能に取り付けられていること、回転ブラシが昇降自在にされること、対向するように設けられたウエハ溝の双方に接触するように回転ブラシを配設することが、それぞれ開示されているものの、本件発明１〜５は、上記［２］（３）２）において示した刊行物１〜４に記載の発明に、上記甲第５号証に記載のものを組み合わせてみても、容易になし得るものではない。
（５）むすび
　以上のとおりであるから、特許異議の申立の理由及び証拠によっては本件発明１〜５の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１〜５の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１１年１１月４日（１９９９．１１．４）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
▲１▼特許請求の範囲の請求項１を、特許請求の範囲の減縮を目的として、
　「複数のウエハ溝が刻設されたウエハキャリヤを液中に浸漬する工程と、該ウエハキャリアが浮き上がるのを防止し且つ該ウエハキャリヤが回転ブラシの回転により移動するのを防止出来る態様にて該ウエハキャリヤを水槽に固定する工程と、回転ブラシをウエハ溝に接触させつつ前記水槽中で回転させて洗浄する工程と、ウエハキャリヤが浸漬される液をオーバーフローさせつつ洗浄を行う工程とを有することを特徴とするウエハキャリヤの精密洗浄方法。」と訂正する。
▲２▼同請求項３を、特許請求の範囲の減縮及び明りょうでない記載の釈明を目的として、
　「内部に液が充填され且つ該液中にウエハキャリヤが浸漬される水槽を有しており、複数のウエハを保持するため前記ウエハキャリヤの内面には複数のウエハ溝が刻設されており、該ウエハ溝の底部と接触する様に配置された回転ブラシと、該ウエハキャリヤが浮き上がるのを防止し且つ該ウエハキャリヤが回転ブラシの回転により移動するのを防止出来る態様にて該ウエハキャリヤを前記水槽に固定する固定手段と、ウエハキャリヤの洗浄が行われている際に、該ウエハキャリヤが浸漬されている水槽から液をオーバーフローさせる手段とを有していることを特徴とするウエハキャリヤの精密洗浄装置。」と訂正する。
▲３▼同請求項４を、明りょうでない記載の釈明を目的として、
　「前記回転ブラシは取付板に正逆回転可能な態様にて取り付けられており、該取付板は昇降用アクチュエータにより昇降され、前記回転ブラシの径はウエハキャリヤ中で対向する位置に形成されたウエハ溝に対して該ブラシが同時に接触可能な寸法に設定されている請求項３に記載のウエハキャリヤの精密洗浄装置。」と訂正する。
▲４▼同請求項５を、明りょうでない記載の釈明を目的として、
　「前記水槽に洗浄槽、溢水槽、排水槽を画成し、溢水槽底部と洗浄槽底部とをポンプ及びフィルタを介して接続する循環管を設けた請求項３，４のいずれかに記載のウエハキャリヤの精密洗浄装置。」と訂正する。
▲５▼同請求項６，７を、特許請求の範囲の減縮を目的として、削除する。
▲６▼特許明細書（公報第２頁第４欄第３１行）の「洗浄する工程」を、明りょうでない記載の釈明を目的として、「洗浄する工程と、ウエハキャリヤが浸漬される液をオーバーフローさせつつ洗浄を行う工程」と訂正する。
▲７▼特許明細書（公報第２頁第４欄第３６〜３８行）の「また本発明において、ウエハキャリヤが浸漬される液をオーバーフローさせつつ洗浄を行う工程を有しているのが好ましい」を、明りょうでない記載の釈明を目的として、削除する。
▲８▼特許明細書（公報第２頁第４欄第４７行）の「固定手段」を、明りょうでない記載の釈明を目的として、「固定手段と、ウエハキャリヤの洗浄が行われている際に、該ウエハキャリヤが浸漬されている水槽から液をオーバーフローさせる手段」と訂正する。
▲９▼特許明細書（公報第２頁第４欄第４９〜第３頁第５欄第２行）の「本発明のウエハキャリヤの精密洗浄装置の実施に際して、ウエハキャリヤの洗浄が行われている際に、該ウエハキャリヤが浸漬されている水槽から液をオーバーフローさせる手段を有しているのが好ましい。」を、明りょうでない記載の釈明を目的として、削除する。
（５４）【発明の名称】
ウエハキャリヤの精密洗浄方法及び装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　複数のウエハ溝が刻設されたウエハキャリヤを液中に浸漬する工程と、該ウエハキャリヤが浮き上がるのを防止し且つ該ウエハキャリヤが回転ブラシの回転により移動するのを防止出来る態様にて該ウエハキャリヤを水槽に固定する工程と、回転ブラシをウエハ溝に接触させつつ前記水槽中で回転させて洗浄する工程と、ウエハキャリヤが浸漬される液をオーバーフローさせつつ洗浄を行う工程とを有することを特徴とするウエハキャリヤの精密洗浄方法。
　【請求項２】　ウエハキャリヤが浸漬されている液中に給液する工程を有し、前記洗浄する工程では、回転ブラシが回転しながら下降し上昇し、ウエハ溝と接触して洗浄をしている請求項１記載のウエハキャリヤの精密洗浄方法。
　【請求項３】　内部に液が充填され且つ該液中にウエハキャリヤが浸漬される水槽を有しており、複数のウエハを保持するため前記ウエハキャリヤの内面には複数のウエハ溝が刻設されており、該ウエハ溝の底部と接触する様に配置された回転ブラシと、該ウエハキャリヤが浮き上がるのを防止し且つ該ウエハキャリヤが回転ブラシの回転により移動するのを防止出来る態様にて該ウエハキャリヤを前記水槽に固定する固定手段と、ウエハキャリヤの洗浄が行われている際に、該ウエハキャリヤが浸漬されている水槽から液をオーバーフローさせる手段とを有していることを特徴とするウエハキャリヤの精密洗浄装置。
　【請求項４】　前記回転ブラシは取付板に正逆回転可能な態様にて取り付けられており、該取付板は昇降用アクチュエータにより昇降され、前記回転ブラシの径はウエハキャリヤ中で対向する位置に形成されたウエハ溝に対して該ブラシが同時に接触可能な寸法に設定されている請求項３に記載のウエハキャリヤの精密洗浄装置。
　【請求項５】　前記水槽に洗浄槽、溢水槽、排水槽を画成し、溢水槽底部と洗浄槽底部とをポンプ及びフィルタを介して接続する循環管を設けた請求項３、４のいずれかに記載のウエハキャリヤの精密洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、シリコン等の円柱状結晶体を薄く輪切りにした円板状でＩＣやトランジスタの基板となるウエハを収納するウエハキャリヤの精密洗浄方法及び装置に関する。
　【従来の技術】
　かかるウエハの処理においては、ウエハの各処理工程間の搬送のため、複数枚のウエハを相互に隙間を設けて内壁に刻設したキャリヤ溝に保持して収納するウエハキャリヤが用いられる。
　ウエハは表面を汚染しないことが厳しく要求されるので、ウエハキャリヤは使用時に清浄であることが必要である。使用済みのウエハキャリヤは、レジスト（エッチング用写真感光剤）、シリコン片、空気のほこりや作業者からの油などの多種多用の原因により汚れるので、使用時には洗浄が必要で、特にキャリヤ溝を清浄にする必要がある。
　また、使用済みキャリヤの数は多く、これらについて１個ごと洗浄を行うため作業能率上、短時間で多種多様の汚れを除去するのが望ましい。
　この汚れを洗浄するのに従来は第２図に示すように、ケース２０内にウエハキャリヤＡを置き、純水シャワーノズル２１から純水を吹き付け、回転ブラシ２２を回転させてウエハ溝の洗浄を行っていた。なお、回転ブラシ２２の毛には、線径０．１ｍｍ程度のものが使用されていた。
　【発明が解決しようとする課題】
　近時、半導体の高集積化に伴い、ウエハキャリヤに対しても高い清浄度が要求されるようになり、上記のような従来の洗浄方法では、十分な清浄度が得られないという問題がある。
　本発明は、高集積化した半導体の製造に好適な高清浄度が得られる洗浄効果の良いウエハキャリヤの精密洗浄装置を提供することを目的としている。
　【知見】
　本発明者は、従来の洗浄方法で十分な清浄度が得られない原因を追及するため、種々実験を行い、顕微鏡等による観察では、ごみの種類は第３図に示すように、ウエハキャリヤの表面に付着したレジストやシリコン等の小片ａや、ウエハの出し入れ時にできたキャリヤの傷又は膜片によるバリｂで形成された部分にたまった前記小片ａのごみだまりｃであることが判った。
　従来の洗浄方法では、キャリヤ表面の小片ａに対しては有効であるが、ごみだまりｃを除去することができない。そこで、洗浄液に界面活性剤を添加すると、バリｂは除去できないが、ごみだまりｃは比較的良く除去できた。しかし、界面活性剤は工場の廃水処理設備に大きい負担をかけ、２次公害のおそれがあるので好ましくない。
　純水シャワーと共にブラシの毛の線径を０．２ｍｍ以下、例えば０．１ｍｍ程度とすると小片ａもごみだまりｃも除去効率が悪い。
　また、ブラシの毛の線径を０．２ｍｍ以上、例えば０．３ｍｍ程度とすると、ごみだまりｃは効率よく除去できたが、小片ａの除去効率は悪い。さらに線径を０．４ｍｍ以上にすると、キャリヤが傷つき、新たなごみが発生する。これに対し、毛の線径が０．３ｍｍ程度のブラシを用いて純水のシャワーのかわりに、ウエハキャリヤを純水中に浸漬して洗浄すると、小片ａ、ごみだまりｃが効率良く除去できた。本発明は以上の実験結果に基づいてなされたものである。
　【課題を解決するための手段】
　本発明のウエハキャリヤの精密洗浄方法は、複数のウエハ溝が刻設されたウエハキャリヤを液中に浸漬する工程と、該ウエハキャリヤが浮き上がるのを防止し且つ該ウエハキャリヤが回転ブラシの回転により移動するのを防止出来る態様にて該ウエハキャリヤを水槽に固定する工程と、回転ブラシをウエハ溝に接触させつつ前記水槽中で回転させて洗浄する工程と、ウエハキャリヤが浸漬される液をオーバーフローさせつつ洗浄を行う工程とを有している。
　本発明の実施に際して、ウエハキャリヤが浸漬されている液中に給液する工程を有し、前記洗浄する工程では、回転ブラシが回転しながら下降し上昇し、ウエハ溝と接触して洗浄をしているのが好ましい。
　一方、本発明のウエハキャリヤの精密洗浄装置は、内部に液が充填され且つ該液中にウエハキャリヤが浸漬される水槽を有しており、複数のウエハを保持するため前記ウエハキャリヤの内面には複数のウエハ溝が刻設されており、該ウエハ溝の底部と接触する様に配置された回転ブラシと、該ウエハキャリヤが浮き上がるのを防止し且つ該ウエハキャリヤが回転ブラシの回転により移動するのを防止出来る態様にて該ウエハキャリヤを前記水槽に固定する固定手段と、ウエハキャリヤの洗浄が行われている際に、該ウエハキャリヤが浸漬されている水槽から液をオーバーフローさせる手段とを有していることを特徴としている。
　そして、前記回転ブラシは取付板に正逆回転可能な態様にて取り付けられており、該取付板は昇降用アクチュエータにより昇降され、前記回転ブラシの径はウエハキャリヤ中で対向する位置に形成されたウエハ溝に対して該ブラシが同時に接触可能な寸法に設定されているのが好ましい。
　さらに、前記水槽に洗浄槽、溢水槽、排水槽を画成し、溢水槽底部と洗浄槽底部とをポンプ及びフィルタを介して接続する循環管を設けるのが好ましい。
　なお、本発明で用いられる洗浄用の液体には特に限定は無い。例えば純水等を用いることが可能である。
　【作用】
　上記のように構成されたウエハキャリヤの精密洗浄方法及び装置においては、洗浄に際し、ウエハキャリヤを洗浄用の液体（例えば純水）を満たした洗浄槽の固定装置に固定し、回転ブラシを１５０ｒｐｍで回転すると共に、下降、上昇し、次いで回転ブラシを逆回転して下降、上昇してウエハキャリヤのウエハ溝及び表面を洗浄する。
　この際、固定装置は、キャリヤの浮き上がりとブラシの回転による移動とを防止する。
　洗浄用の液体を満たしていない洗浄槽と、洗浄用の液体によるシャワーを用いると、ブラシによって除去されたごみはキャリヤ表面に沿った洗浄用液体流と共に流れ落ちるため、ごみの多くはキャリヤに再付着して十分な洗浄効果が得られない。また、キャリヤから落ちたごみは回転ブラシに付着し、再度キャリヤを汚してしまう。さらに汚れた洗浄用液体は、回転するブラシによって飛散して洗浄槽内壁に付着し、乾燥、飛散によって、或いは洗浄用液体のはねかえりによって、再度キャリヤを汚染する。この現象は、洗浄用液体のシャワーの流量を多くすることにより低減することは可能であるが、浸漬式に比較して洗浄効果は低く、また、洗浄用液体の使用量が多いので経済的でない。
　また、毛の線径が０．３ｍｍのブラシは知見に示すように、キャリヤの表面のごみだまりを除去し、ブラシの１５０ｒｐｍの回転数は、洗浄を短時間で効果的に行う。
　他の洗浄手段、例えば洗浄用液体の高圧ジェットを用いた場合には、満たされた純水によってジェット流が減速されるため、十分な洗浄効果が得られない。例えばスポンジ材料を用いた場合には、スポンジ内の小さな空洞にキャリヤのごみが入り込み、このごみがキャリヤを再汚染させてしまう。これに対して、回転するブラシを使用した場合には、その様な問題は生じないので好都合である。
　また本発明によれば、キャリヤを浸漬してブラシ洗浄しているので、キャリヤの表面に付着したレジスト、シリコン等の小片や、ごみだまりや回転ブラシに付着したキャリヤの汚れを良く除去する。通常、ブラシ洗浄後、別途設けられた水槽で例えば純水中にキャリヤを浸漬した後にキャリヤを乾燥させるが、キャリヤを浸漬してブラシ洗浄した場合は、別途に設けた水槽に浸漬せずに乾燥しても高い洗浄効果が得られる。
　また、開閉弁の開度とポンプの吐出量を調整することにより、除去したごみを多く含む純水をオーバフローして排水し、純水の雰囲気を清浄に維持する。
　【実施例】
　以下図面を参照して本発明の実施例を説明する。
　第１図において、精密洗浄装置は、全体を符号１で示す回転ブラシ装置と、全体を符号１０で示す水槽装置とから構成されている。
　水槽装置１０の水槽１１には、洗浄槽１２、溢水槽１３及び排水槽１４が画成されている。ここで、図示の実施例においては、洗浄用の液体として純水が用いられている。
　洗浄槽１２の底部の一部には、図示しない純水供給源に接続され開閉弁１５が介装された給水管Ｌが接続され、対向する部分と溢水槽１３との間は、溢水槽１３側からポンプ１６、フィルタ１７が介装された循流管Ｌ１で接続され、排水槽１４には、図示しない廃水処理設備に接続された排水管Ｌ２が接続されている。そして、洗浄槽１２の底部には、固定手段であるウエハキャリヤＡを着脱自在に固定するばね１８ａ、１８ａを用いた固定装置１８が設けられている。
　回転ブラシ装置１は、図示しない昇降用アクチュエータで昇降される取付板２に取付けられたモータ３と、モータ３に固設されたドライブプーリ４と、取付板２の下端部に取付けられたドリブンプーリ５と、両プーリ４、５間に張設されたベルト６と、ドリブンプーリ５に固設された回転ブラシ７、とから構成されている。
　その回転ブラシ７の毛は化学繊維材で形成され、その外径は、キャリヤＡの内面に刻設された図示しないウエハ溝の底部に接触できる径に形成され、毛の線径は、０．２〜０．４ｍｍの範囲で、例えば０．３ｍｍに形成され、回転数は１００〜２００ｒｐｍの範囲で、例えば１５０ｒｐｍに設定されている。
　洗浄に際し、ウエハキャリヤＡを水槽１０の純水を満たした洗浄槽１２の固定装置１８に固定し、モータ３で回転ブラシ７を１５０ｒｐｍで回転すると共に、昇降アクチュエータにより回転ブラシ７を下降、上昇し、次いで、回転ブラシを逆回転して同様に下降、上昇し、回転ブラシ７の毛でキャリヤＡのウエハ溝及び内面を洗浄する。
　この際、固定装置１８は、キャリヤＡの浮き上がりやブラシ７の回転による移動を防止する。
　また、キャリヤＡを純水中に浸漬してブラシ洗浄することによりレジストやシリコン等の小片ａやごみだまりｃが良く除去される。
　また、毛の線径が０．３ｍｍのブラシ７は、キャリヤＡの表面を傷付けることなく、ごみだまりｃを良く除去する。すなわち、線径が０．２ｍｍ以下では、ごみだまりｃの除去効果が低く、線径が０．４ｍｍ以上では、キャリヤＡの表面を傷付ける。
　また、ブラシ７の１５０ｒｐｍの回転数は、洗浄を短時間で効果的に行う。すなわち、回転数が１００ｒｐｍ以下では、洗浄に長時間を要して処理効率が低く、回転数が２００ｒｐｍ以上では、純水の飛散が多く、かつ、モータ３の必要馬力が大きくなって好ましくない。
　なお、洗浄中、開閉弁１５の開度とポンプ１６の吐出量とを調整し、溢水槽１３から除去したごみを多く含む純水をオーバフローさせて排水槽１４から排水し、ごみの比較的少ない溢水槽１３の純水は、循流管Ｌ１からポンプ１６を介しフィルタ１７で清浄化して洗浄槽１２に循流すると共に、供給管Ｌから純水を適宜供給して純水の雰囲気を清浄に維持する。
　なお図示はされていないが、洗浄槽中の流れの「よどみ」による「ごみ溜まり」を形成しない様に、通常、純水の供給部に整流板を設けたり、均一にオーバーフローをさせるためのＶ字型の溝を洗浄槽の縁部に形成している。ここで、循環濾過配管を設けないと、純水の雰囲気を正常に維持するために大量の純水を使用する必要がある。また、純水を供給しないとフィルターの目よりも細かい粒子や、溶解性の物質により純水が汚染されてしまう。
　【発明の効果】
　本発明は、以上説明したように構成されているので、ウエハキャリヤの各種のごみを効果的に除去し、高集積化した半導体の製造に資することができる。
【図面の簡単な説明】
　第１図は本発明の一実施例を示す側断面図、第２図は従来装置を示す正面断面図、第３図はごみの状態を説明する図面である。
　Ａ・・・ウエハキャリヤ　ａ・・・レジスト、シリコン等の小片　ｃ・・・ごみだまり　７・・・回転ブラシ　１１・・・水槽　１２・・・洗浄槽１３・・・溢水槽　１６・・・ポンプ　１８・・・固定装置