【事件の表示】
　特許第２８１４８６７号「石英ガラスの製造方法」の請求項１ないし２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、　次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第２８１４８６７号の請求項１ないし２に係る特許を維持する。
【理　由】
１、手続の経緯
  特許第２８１４８６７号の請求項１、２に係る発明は、平成５年２月１０日に特許出願され、平成１０年８月１４日にその特許の設定登録がなされたものである。
　これに対して、須田武より特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内に訂正請求がなされたものである。
２、訂正の適否
２−１、訂正の内容
  本件訂正請求書における訂正の内容は、本件特許明細書を訂正請求書に添付した訂正明細書のとおりに訂正しようとするものである。
  すなわち、特許請求の範囲の減縮を目的として、（１）訂正事項（ア）、請求項１の「Ｓｉ化合物ガスとＯ２ガスとＨ２ガスとをバーナーから噴出して燃焼させ、ターゲット上に石英ガラスを堆積しインゴットを形成する石英ガラスの製造方法において、前記インゴットのヘッド部の温度分布に応じて前記バーナーと前記インゴットとを相対的に平面移動させることを特徴とする石英ガラスの製造方法。」を「Ｓｉ化合物ガスとＯ２ガスとＨ２ガスとをバーナーから噴出して燃焼させ、ターゲット上に石英ガラスを堆積しインゴットを形成する石英ガラスの製造方法において、前記インゴットのヘッド部の温度分布に応じて、前記石英ガラスの屈折率の均質性を最適化するように前記バーナーと前記インゴットとを相対的に平面移動させることを特徴とする高均質石英ガラスの製造方法。」と訂正する。
（２）訂正事項（イ）、請求項２の「請求項１に記載の石英ガラスの製造方法において、前記平面移動は、ＸＹステージによるものであることを特徴とする石英ガラスの製造方法。」を「請求項１に記載の高均質石英ガラスの製造方法において、前記平面移動は、ＸＹステージによるものであることを特徴とする高均質石英ガラスの製造方法。」と訂正する。
２−２、訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張変更の存否
　上記訂正事項（ア）は、「平面移動させる」、「石英ガラス」を限定するものであり、かつこれらの事項は明細書に記載（本件特許公報第２頁第４欄第８〜１３行、第１頁第２欄第２行）されているから、特許請求の範囲の減縮に該当し、実質上特許請求の範囲を拡張し、変更するものではなく、新規事項の追加にも該当しない。
　また、上記訂正事項（イ）は特許請求の範囲の減縮を目的とする上記訂正事項（ア）の訂正に伴うものであり、減縮された請求項１の記載と請求項２記載を整合させるために、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正に該当する。
２−３、独立特許要件
２−３−１、訂正発明
  本件訂正明細書の請求項１、２に係る発明は、その特許請求の範囲の請求項１、２に記載された次のとおりのものである。
「【請求項１】Ｓｉ化合物ガスとＯ２ガスとＨ２ガスとをバーナーから噴出して燃焼させ、ターゲット上に石英ガラスを堆積しインゴットを形成する石英ガラスの製造方法において、前記インゴットのヘッド部の温度分布に応じて、前記石英ガラスの屈折率の均質性を最適化するように前記バーナーと前記インゴットとを相対的に平面移動させることを特徴とする高均質石英ガラスの製造方法。
【請求項２】請求項１に記載の高均質石英ガラスの製造方法において、前記平面移動は、ＸＹステージによるものであることを特徴とする高均質石英ガラスの製造方法。」
２−３−２、引用刊行物の記載内容
  当審が先に通知した取消理由通知に引用された刊行物１（特開昭６１−９１０３５号公報）には、「光ファイバー用母材の製造方法」が記載されており、特に次の事項が記載されている。
（ａ）「回転する種棒にバーナから原料ガスの加水分解反応により合成されるガラス微粒子を付着しスートロッドを形成して光ファイバー用母材を製造する方法において、前記スートロッドの表面温度を測定しその温度分布が一定となるように前記表面温度の測定結果に基ずいて前記バーナの位置を変化させることを特徴とする光ファイバー用母材の製造方法。」（特許請求の範囲）
（ｂ）「前記スートロッドの表面温度を測定しその温度分布が一定となるように表面温度の測定結果に応じてバーナーの位置を変化させることを特徴としている。この方法によると、温度分布が常に一定となり良好な屈折率分布を得ることができる。」（第２頁左上欄第１９行〜右上欄第４行）
（ｃ）「バーナ１６は駆動系３０を有する架台３２に取付けられており、温度計２６の測定結果は演算回路３４を介して駆動系３０に供給される。温度計２６で測定された母材２０の表面温度分布を表わす電気信号は演算回路３４で演算され所定の温度分布と比較される。その結果は駆動系３０に供給されて架台３２を駆動し、表面温度分布が一定となるように、バーナ１６を可撓性シール２２で気密を保ちつつ位置を変化させる。従って、光ファイバー用母材１０の表面温度分布は常に一定に保たれる。第２図は光ファイバー母材１０の表面温度分布の１例を示し、この図から明らかなように通常ではスート中心１より偏った地点に最高温度点２がある。排気口２４とスートロッド軸線とバーナ軸線とを同一平面に並べてスートロッドとバーナとの距離方向ｙとこの方向に対し直交する方向ｘとの二方向にバーナを駆動することによって最高温度点２が常に所定の位置となるように保つことができる。」（第２頁左下欄第１行〜右下欄第１行）
２−３−３、対比・判断
  訂正後の請求項１に係る発明（以下、訂正発明という。）と刊行物１に記載の発明を対比する。
　訂正発明は、高均質石英ガラスの製造方法に関する発明であり、分説すると以下の点を構成要件としている。
（１）Ｓｉ化合物ガスとＯ２ガスとＨ２ガスとをバーナーから噴出して燃焼させ、ターゲット上に石英ガラスを堆積しインゴットを形成する石英ガラスの製造方法において、
（２）前記インゴットのヘッド部の温度分布に応じて、前記石英ガラスの屈折率の均質性を最適化するように前記バーナーと前記インゴットとを相対的に平面移動させることを特徴とする高均質石英ガラスの製造方法。
  換言すれば、訂正発明は、高均質石英ガラスの製造方法において、火炎加水分解法を採用し（上記構成要件（１））、インゴットのヘッド部の温度分布に応じて、石英ガラスの屈折率の均質性を最適化するようにバーナーとインゴットとを相対的に平面移動させる（上記構成要件（２））ことにより「屈折率の均質性を最適化するような温度分布とすることができ、結果として不純物濃度が低く、かつ均質性の高い石英ガラスが得られる」という明細書記載（本件特許公報第３頁段落【００１８】）の効果を奏するというものである。
  これに対して、刊行物１には、火炎加水分解法による良好な屈折率分布を有する光ファイバー用母材の製造の際に、スートロッドの表面温度を測定しその温度分布が一定となるように前記表面温度の測定結果に基づいて前記バーナの位置を変化させることが記載されており、具体的には、排気口とスートロッド軸線とバーナ軸線とを同一平面に並べてスートロッドとバーナとの距離方向ｙとこの方向に対し直交する方向ｘとの二方向にバーナを駆動することによって最高温度点が常に所定の位置となるように保つことが記載されている。
　しかしながら、刊行物１には、良好な屈折率分布を有する光ファイバー用母材の製造方法については記載されているが、屈折率の均質性を最適化した高均質な石英ガラスの製造方法については何も記載も示唆もされておらず、また、刊行物１に記載の発明の「スートロッド」が訂正発明の「インゴット」に相当するとしても、刊行物１に記載の発明のバーナの駆動はバーナとインゴットとを相対的に平面移動させるものとは云えないから、刊行物１には、インゴットのヘッド部の温度分布に応じて、石英ガラスの屈折率の均質性を最適化するようにバーナーとインゴットとを相対的に平面移動させるという上記構成要件（２）については何も記載されていないし、示唆もされていない。
　したがって、訂正発明は刊行物１に記載の発明に基づいて当業者が容易に想到し得るものであるとすることはできない。
  また、訂正後の請求項２に係る発明は、訂正発明を引用しさらに限定してなるものであるから、訂正発明と同様の理由により、刊行物１に記載の発明に基づいて当業者が容易に想到し得るものであるとすることはできない。
２−３−４、まとめ
　以上のとおり、訂正後の請求項１、２に係る発明は、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるから、上記訂正請求は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項で準用する第１２６条第２〜４項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
３、特許異議申立てについて
３−１、申立ての理由の概要
  特許異議申立人は、証拠方法として甲第１〜５号証を提出し、請求項１、２に係る発明の特許は甲第１〜５号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり、取り消されるべきものである旨主張している。
３−２、甲号各証の記載内容
  甲第１号証（特開平３−２９５８１９号公報）には、高純度石英ガラスの製造方法について記載されており、特に次の事項が記載されている。
（ａ）「酸水素炎の中に、石英ガラスの原料ガスを送り込み、火炎加水分解反応により石英ガラスを生成し、それを架台上に堆積させるに際して、堆積する前記石英ガラスの表面の最高温度部位を目標にして、ノズルからＦ含有ガスを噴出させて吹き付ける、高純度石英ガラスの製造方法。」（特許請求の範囲）
（ｂ）「［従来の技術］第３図のように、酸水素バーナ１０の酸水素炎１２の中に、ＳｉＣｌ４１４を送り込み、火炎加水分解反応により石英ガラス１６を生成しそれを架台２０上に堆積させる。そして最終的に第４図のような石英ガラス１６の母材を製造し、それを加工してレンズなどを作る。なお架台２０は、回転しかつ石英ガラス１６の堆積に伴って下降する。
［発明が解決しようとする課題］上記の場合、石英ガラス１６の母材中におけるＯＨ基の分布は均一にならない。加熱履歴により、第４図に模型的に示したようにＯＨ基が特に高い部分１８がスパイラル状に生じる。これは、反応温度に起因するものである（反応温度の高い部分ほどＯＨ基の量は多くなる）。またＯＨ基の量の部分的増大につれて、屈折率も部分的に高くなる。そのため、製造した石英ガラス１６の母材内に屈折率のゆらぎが生じ、半導体の露光などに使用される精密レンズとしては使用できない。」（第１頁右欄第２行〜第２頁左上欄第３行）
  甲第２号証（特開平３−８８７４３号公報）には紫外線レーザ用合成シリカガラス光学体及びその製造方法が記載されており、特に次の事項が記載されている。
（ｃ）「しかし、かかる光学部材は高純度合成石英ガラス塊を加熱し脈理を除去した後、円柱状等の所望形状に成型し、更に内部歪除去と均質化を図る為に加熱−徐冷処理（アニール処理）し、光学部材を作製するものであるので、該徐冷工程時に該光学部材の中心域と周縁域とでの温度差を生じ、仮想温度（Ｆｉｃｔｉｖｅ ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ）分布が発生する。該仮想温度分布の発生は結果として屈折率変動の分布を引き起し更なる改良が望まれていた。」（第３頁右上欄第８〜１７行）
（ｄ）「しかして、合成シリカガラスの製造では、多くの場合四塩化けい素を酸水素炎中で反応させシリカガラスを得る方法が採用されているため、通常これらシリカガラス中にはＯＨ基と共に塩素が含まれている。これらＯＨ基及び塩素の濃度分布は屈折率変動に影響を与える作用がある。」（第３頁左下欄第１４〜１９行）
（ｅ）「尚、前記ガラス体のＯＨ基濃度分布は、インゴット合成時に原料ガスと酸水素ガスとの混合比率を調整し、合成装置のバーナー形状、バーナー等を変化させ、さらに混練りによって制御することが可能である。」（第５頁左下欄第４〜８行）
  甲第３号証（特開平４−２４０１２３号公報）には石英系多孔質ガラス層の形成装置が記載されており、特に次の事項が記載されている。
（ｆ）「一般的なＯＶＤ法において、回転体の外周面にガラス微粒子を堆積成長させて多孔質ガラス層を形成するとき、ガラス微粒子生成用バーナの燃焼条件、回転体の軸線方向に沿うこれら回転体、バーナ相互の相対移動速度など、これらが変動した際の影響を受けて多孔質ガラス層の長さ方向にわたる表面温度にバラツキが生じるので、多孔質ガラス層に密度差が発生する。かかる密度差は、多孔質ガラス層における表層部の崩落とか、クラックを発生させる原因になり、ファイバ段階でのＯＨ基による伝送ロス増の原因にもなるので、良好な母材を作製する際の歩留りが低下する。」（第２頁第１欄第３０〜４１行）
（ｇ）「反応容器１１内の中央に定置されたガラス微粒子生成用バーナ３１は、公知ないし周知の多重管構造からなり、これはＳｉＣｌ４、ＧｅＣｌ４、ＰＯＣｌ３、ＢＣｌ３のごときガラス原料（気相）、ドープ原料（気相）の供給を受ける原料ガス流路と、水素、メタン、プロパン、ブタンのごとき易燃性ガスの単体または混合体からなる燃料ガスの供給を受ける燃料ガス流路と、支燃ガスとしてＯ２の供給を受ける支燃ガス流路とを備えており、他に、緩衝ガス用のガス流路を備えていることもある。反応容器１１内にあるガラス微粒子生成用バーナ３１の各流路には、反応容器１１外から導かれた所定の各ガス管がそれぞれ接続されており、これら配管系にマスフローコントローラのごとき流量制御器３２が備えられている。」（第２頁第２欄第４行〜第３頁第３欄第７行）
（ｈ）「上述したＯＶＤ方を実施するとき、各バーナ３１、５１、６１に対するガス供給条件、回転体４１が往復動する際の速度と距離（移動量）など、これらに関する最適データを実験により求めて、多孔質ガラス層９１の最適温度分布すなわち基準値を制御盤７１へインプットしておき、この基準値に基づき各バーナ３１、５１、６１へのガス供給量を制御してもよい。」（第３頁第４欄第２４〜３０行）
甲第４号証は、上記２−３−２で述べた刊行物１と同じ。
甲第５号証（特開平２−３０７８３８号公報）には、光ファイバ母材の製造方法が記載されており、特に次の事項が記載されている。
（ｉ）「石英ガラス系コア用ロッドの回りに、複数本のバーナを用いて外付け法により石英ガラス微粒子を堆積させ、得られる石英ガラス微粒子層をフッ素含有ガス雰囲気で透明ガラス化してフッ素ドープ石英ガラスクラッドとする工程を含む光ファイバ母材の製造方法において、前記各バーナ内へのガス供給量を調整して各バーナによって得られる石英ガラス微粒子層のカサ密度を等しくして堆積させることを特徴とする光ファイバ母材の製造方法。」（特許請求の範囲）
（ｊ）「先行するバーナ炎の熱がコア用ロッド１や、先に堆積されたガラス微粒子層２１に奪われるため、後行するバーナ炎に比較してその堆積面の温度が低下するという現象が生じる。そのため、先行するバーナによって得られるガラス微粒子層２１のカサ密度と、後行するバーナによって得られるガラス微粒子層２２のカサ密度とが異なることとなり、結果として透明ガラス化時にドープさせるべきフッ素量に影響を及ぼし、第４図に示すようにクラッド内において屈折率の微少変動が生じ、コアとクラッド間の比屈折率差が不安定となる。なお、バーナ温度ひいてはガラス微粒子堆積面の温度と、得られるガラス微粒子のカサ密度との関係は、温度が低いほどカサ密度の小さい柔らかな層となり、フッ素はドープしやすくなる。」（第１頁右欄第１９行〜第２頁左上欄第１３行）
（ｋ）「各バーナによって生成されるガラス微粒子の堆積面の表面温度を常に監視して、それらが等しくなるように各バーナ内へのガスの供給量を調整しているので、得られる各ガラス微粒子層のカサ密度は等しくなる。その結果、フッ素のドープ量が一定になるためクラッド内における屈折率に変動がなく半径方向に一定の値が得られる。」（第２頁右上欄第６〜１２行）
３−３、本件発明
  本件請求項１、２に係る発明は、上記２−３−１において摘記したとおりのものである。
３−４、対比・判断
  本件請求項１に係る発明と甲第１〜５号証に記載された発明とを対比する。
本件請求項１に係る発明は、上記２−３−３で述べたように、高均質石英ガラスの製造方法に関する発明であり、「インゴットのヘッド部の温度分布に応じて、石英ガラスの屈折率の均質性を最適化するようにバーナーとインゴットとを相対的に平面移動させる」という上記構成要件（２）を必須の構成要件とすることにより明細書記載の効果を奏するものと認められる。
　これに対して、甲第１〜５号証には、「インゴットのヘッド部の温度分布に応じて、石英ガラスの屈折率の均質性を最適化するようにバーナーとインゴットとを相対的に平面移動させる」という上記構成要件（２）については何も記載されていないし、示唆もされていない。
　すなわち、甲第４号証については、上記２−３−３で述べたとおりであり、甲第１号証については高純度石英ガラスを製造する際に、反応温度の高くＯＨ基の量の多い最高温度部位を目標にして、ノズルからＦ含有ガスを噴出させることについては記載されているだけであり、上記構成要件（２）については何も記載されていないし、示唆もされていない。
　また、甲第２号証には、屈折率変動に影響を与えるＯＨ基の濃度分布を制御するために、原料ガスと酸水素ガスとの混合比率を調整し、バーナー形状やバーナー等を変化させることは記載されているが、上記構成要件（２）については何も記載されていないし、示唆もされていない。
　また、甲第３号証には、移動バーナーにより、多孔質ガラス層の長さ方向にわたる温度分布を均一にして、密度差のない多孔質ガラス層を得ることは記載されているが、甲第３号証に記載の発明はそもそも高均質石英ガラスの製造方法に関する発明ではないし、上記構成要件（２）についても何も記載されていないし、示唆もされていない。
　また、甲第５号証には、ガラス微粒子の堆積面の表面温度を監視して、それらが等しくなるように各バーナ内のガス供給量を調整することは記載されているが、甲第５号証に記載の発明はそもそも高均質石英ガラスの製造方法に関する発明ではないし、上記構成要件（２）についても何も記載されていないし、示唆もされていない。
　したがって、請求項１に係る発明は、甲第１〜５号証に記載された発明に基づいて、当業者が容易に想到し得るものであるとすることはできない。
  請求項２に係る発明は、請求項１に係る発明を引用してさらに限定してなるものであるから、請求項１に係る発明と同様の理由により、甲第１〜５号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に想到し得るものであるとすることはできない。
４、むすび
  以上のとおり、特許異議申立ての理由及び証拠方法によっては、本件請求項１、２に係る発明の特許を取り消すことはできない。
  また、他に本件請求項１、２に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
  よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年２月１日（２０００．２．１）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　特許第２８１４８６７号発明の明細書を、本件訂正請求書に添付された訂正明細書のとおりに、すなわち、特許請求の範囲の減縮を目的として、
（１）訂正事項（ア）、請求項１の「Ｓｉ化合物ガスとＯ２ガスとＨ２ガスとをバーナーから噴出して燃焼させ、ターゲット上に石英ガラスを堆積しインコットを形成する石英ガラスの製造方法において、前記インゴットのヘッド部の温度分布に応じて前記バーナーと前記インゴットとを相対的に平面移動させることを特徴とする石英ガラスの製造方法。」を「Ｓｉ化合物ガスとＯ２ガスとＨ２ガスとをバーナーから噴出して燃焼させ、ターゲット上に石英ガラスを堆積しインゴットを形成する石英ガラスの製造方法において、前記インゴットのヘッド部の温度分布に応じて、前記石英ガラスの屈折率の均質性を最適化するように前記バーナーと前記インゴットとを相対的に平面移動させることを特徴とする高均質石英ガラスの製造方法。」と訂正する。
（２）訂正事項（イ）、請求項２の「請求項１に記載の石英ガラスの製造方法において、前記平面移動は、ＸＹステージによるものであることを特徴とする石英ガラスの製造方法。」を「請求項１に記載の高均質石英ガラスの製造方法において、前記平面移動は、ＸＹステージによるものであることを特徴とする高均質石英ガラスの製造方法。」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
石英ガラスの製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　　【請求項１】
　Ｓｉ化合物ガスとＯ２ガスとＨ２ガスとをバーナーから噴出して燃焼させ、ターゲット上に石英ガラスを堆積しインゴットを形成する石英ガラスの製造方法において、
前記インゴットのヘッド部の温度分布に応じて
、前記石英ガラスの屈折率の均質性を最適化するように
を相対的に平面移動させることを特徴とする
高均質
　　【請求項２】
　請求項１に記載の
高均質
前記平面移動は、ＸＹステージによるものであることを特徴とする
高均質
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、石英ガラスの製造方法に関するものであり、特に高均質性が要求される合成石英ガラス部材を必要とする分野、例えば光リソグラフィー、高精度分光器、レーザー等の精密光学機器等に有用とされる高均質な光学用合成石英ガラスに関するものである。
　【０００２】
　【従来の技術】
　従来、シリコン等のウエハ上に集積回路の微細パターンを露光・転写する光リソグラフィー技術においては、ステッパーと呼ばれる露光装置が用いられている。
　このステッパーの光源は、近年のＬＳＩの高集積化にともなってｇ線（４３６ｎｍ）からｉ線（３６５ｎｍ）、さらにはＫｒＦ（２４８ｎｍ）やＡｒＦ（１９３ｎｍ）エキシマレーザーへと短波長化が進められている。
　【０００３】
　一般に、ステッパーの照明系あるいは投影レンズとして用いられる光学ガラスは、ｉ線よりも短い波長領域では光透過率が低下するため、従来の光学ガラスにかえて合成石英ガラスやＣａＦ２（蛍石）等のフッ化物単結晶を用いることが提案されている。
　このように、紫外線リソグラフィー用の光学素子として用いられる石英ガラスには、紫外域の高透過性と屈折率の高均質性が要求されている。紫外域の高透過性を実現するためには、石英ガラス中の不純物濃度を抑える必要がある。そこで、石英ガラスの原料となるＳｉ化合物ガス（Ｓｉ化合物ガスを送り出すために、Ｏ２、Ｈ２等のキャリアガスが用いられる）と加熱のための燃焼ガス（Ｏ２ガスとＨ２ガス）とをバーナーから流出し、火炎内で石英ガラスを堆積させる火炎加水分解法が一般的に行なわれている。
　【０００４】
　この方法は、原料、燃焼ガスの不純物を抑えることが容易なため、高純度の石英ガラスが得られることが知られている。
　【０００５】
　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、火炎加水分解法により製造された石英ガラスは、不純物濃度は抑えられているが、屈折率の均質性に関しては満足のいくものが得られていなかった。
　本発明は、このような問題点を解決し、不純物濃度が低く、かつ屈折率の均質性の高い石英ガラスの製造方法を提供することを目的とする。
　【０００６】
　【課題を解決するための手段】
　屈折率の均質性は、ターゲット上にインゴットが形成されるときの径方向から見た温度分布に依存すると考えられる。そこで、従来は、バーナーの先端部の形状や、原料ガス、燃焼ガス（Ｏ２ガスとＨ２ガス）の量や比をあらかじめ均質化に最適な温度分布になるように予測して設定していた。
　【０００７】
　しかしながら、温度分布は必ずしも予測どおりにはならず、また、どの程度の均質性の石英ガラスが得られるかは、実際に製造して均質性を測定するまでわからなかった。
　本発明者らは、このような状況を踏まえた上で、屈折率の均質性を最適化するようにインゴットのヘッド部の温度分布を調整すべく鋭意研究を重ねた結果、ヘッド部の温度分布を計測し、その情報に応じて合成中のインゴットのバーナーに対する位置関係を相対的に平面移動させることにより上記問題を解決できることを見い出し、本発明を成すに至った。
　【０００８】
　よって、本発明は、Ｓｉ化合物ガスとＯ２ガスとＨ２ガスとをバーナーから噴出して燃焼させ、ターゲット上に石英ガラスを堆積しインゴットを形成する石英ガラスの製造方法において、インゴットのヘッド部の温度分布に応じてバーナーとインゴットとを相対的に平面移動させることを特徴とする石英ガラスの製造方法を提供するものである（請求項１）。
　【０００９】
　また、本発明は、好ましくは、インゴットをＸＹステージにより平面移動させるものであることを特徴とする石英ガラスの製造方法を提供するものである（請求項２）。
　【００１０】
　【作用】
　従来の石英ガラスの製造方法においては、原料の拡散を目的としたインゴットの回転運動及び平面移動と、堆積速度に見合った上下移動のみを行なっていた。
　本発明は、これらの運動に加えて、インゴットのヘッド部の温度分布を計測して得られた情報に応じてバーナーとインゴットを平面移動させることを特徴とする。より端的に言えば、バーナーの形状やガス量等によって決定される温度分布パターンと、平面移動によって与えられる温度分布パターンを組み合わせることにより屈折率の均質性を最適化するような温度分布を形成し、結果として均質性の向上した石英ガラスを得るものである。
　【００１１】
　本発明によれば、インゴットとバーナーとの相対的な位置関係を、ＸＹステージ等により微細に制御できる。そして、インゴットのヘッド部の温度分布を計測し、オンラインで位置関係にフィードバックすることにより、絶えず屈折率の均質化に最適な温度分布を形成することが可能である。また、火炎加水分解法の場合、バーナーの火炎内にてインゴットが形成されるため、ヘッド部の温度分布は火炎のゆらぎ等の影響を受けやすく、火炎そのものにより温度分布を細かく制御することは非常に困難であったが、この点についても解決することができる。
　【００１２】
　本発明の石英ガラスの製造方法により製造された石英ガラスは、主としてレンズ、プリズム、反射板等の光学部材の母材として用いられる。この母材の外周部分は削り取られ、必要に応じて切断、再成形されて任意の形状に加工される。そして、内部歪をなくすためにアニール（熱処理）した後、研磨、コーティング工程を経て光学部材となる。
　【００１３】
　【実施例】
　以下、火炎加水分解法を用いた本発明の石英ガラスの製造方法の一実施例について説明するが、本発明はこれに限られるものではない。
　図１は本実施例の製造装置の概念図である。
　バーナー１は、炉２の上部からターゲット３にその先端部を向けて設置されている。炉壁には観察用の窓４と、ＩＲカメラ観察用の窓５と、排気孔６とがそれぞれ設けられている。さらに、炉の下部には、インゴット７形成用のターゲット３が設置されており、支軸を介して炉外部のＸＹステージ８に接続されている。
　【００１４】
　図２は、バーナー先端部の概略図である。石英管１１からＳｉＣｌ４ガスおよびキャリアガスであるＯ２ガスが、加熱のための燃焼ガスとして石英管１２及び１３からそれぞれＯ２ガスとＨ２ガスとが流出される。それぞれのガスの流量は、バーナー先端部の形状等によっても異なるが、本実施例の場合はＳｉＣｌ４ガス５〜５０ｇ／ｍｉｎ．、Ｏ２ガス２０〜２５０ｌ／ｍｉｎ．、Ｈ２ガス４０〜５００ｌ／ｍｉｎ．程度である。
　【００１５】
　燃焼ガスによる火炎によりＳｉＣｌ４ガスが酸化されて熔融石英となり、ターゲット上に堆積しインゴットを形成する。インゴットのヘッド部は燃焼ガスによる火炎に覆われている。
　インゴットのヘッド部の温度計測にはＩＲカメラ９を使用し、画面をデータ処理するためのコンピュータ１０、及びリニアガイドで保持されたサーボモータ駆動のＸＹステージ８で構成されている。コンピュータは、処理された画面データから最適な位置関係を計算し、サーボアンプに信号を送ることにより、オンラインでのＸＹステージの制御が可能になっている。
　【００１６】
　図３、図４には、実験的にＸＹステージによりバーナーとインゴットとを相対的に平面移動させた際に得られるインゴットのヘッド部の温度分布と屈折率の均質性の結果を示す。ここで、Ｘ軸、Ｙ軸はバーナーの中心と原点が一致するＸＹステージの位置を基準とする。このように、ＸＹステージによる平面移動により得られる温度分布は変化し、これに依存して均質性も変化する。
　【００１７】
　本実施例においては、バーナーの形状やガス量等によって決定される温度分布パターンと平面移動によって得られる温度分布パターンとを組み合わせることにより、均質性の向上した石英ガラスが得られた。
　また、温度分布を一定にするように平面移動を高精度に制御することにより、長時間にわたって同じ均質性の石英ガラスを得ることができた。
　【００１８】
　【発明の効果】
　以上のように、本発明の石英ガラスの製造方法によれば、インゴットの径方向から見た温度分布を計測し、バーナーとインゴットとを平面移動することにより屈折率の均質性を最適化するような温度分布とすることができ、結果として不純物濃度が低く、かつ均質性の高い石英ガラスが得られる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】　本発明の石英ガラスの製造方法に用いられる製造装置の一例を示す図である。
　【図２】　図１の製造装置のバーナー先端部の概略図である。
　【図３】　バーナーとインゴットとを平面移動させて得られるインゴットのヘッド部の温度分と屈折率の均質性の結果を示す説明図である。
　【図４】　バーナーとインゴットとを平面移動させて得られるインゴットのヘッド部の温度分布と屈折率の均質性の結果を示す説明図である。
　【符号の説明】
１　バーナー
２　炉
３　ターゲット
４　観察用窓
５　ＩＲカメラ観察用窓
６　排気孔
７　インゴット
８　ＸＹステージ
９　ＩＲカメラ
１０　コンピュータ
１１　ＳｉＣｌ４＋キャリアガス（Ｏ２もしくはＨ２）用石英管
１２　Ｏ２（もしくはＨ２）ガス用石英管
１３　Ｈ２（もしくはＯ２）ガス用石英管