【事件の表示】
　特許第２７３９４１９号「基板処理装置」の特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結論】
　特許第２７３９４１９号の特許を取り消す。
【理由】
（１）手続の経緯
　特許第２７３９４１９号は、平成５年８月６日に特許出願され、平成１０年１月２３日にその特許の設定登録がなされ、その後、永田　大樹　より請求項１に係る発明に対して特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１１年３月１１日に訂正請求がなされ、訂正拒絶理由通知がなされ、その指定期間内である平成１１年８月１６日に意見書が提出されたものである。
（２）訂正の適否についての判断
ア．訂正明細書の請求項１に係る発明
　訂正明細書の請求項１に係る発明は、その特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「処理液中に基板を浸漬して基板の表面処理をなすオーバーフロー型の基板処理槽と、基板処理槽に複数種の処理液を供給する処理液供給部と、基板処理槽よりオーバーフローした処理液を排出する処理液排出部とを具備して成り、上記処理液供給部は、基板処理槽に連結した処理液供給管と、処理液供給管にそれぞれ処理液導入弁を介して連通した複数個の処理液貯留容器とを備え、各処理液導入弁を選択的に開閉制御して所定の処理液を処理液供給管へ導入するように構成した基板処理装置において、上記基板処理槽を複数個並設し、各基板処理槽の処理液供給管に処理液導入弁を接続し、上記複数個の各処理液貯留容器ごとに、処理液貯留容器から導出した処理液導入管を分岐し、各分岐した処理液導入管をそれぞれ前記処理液導入弁を介して各基板処理槽の処理液供給管に接続し、各基板処理槽へ複数種の処理液を供給するように構成したことを特徴とする基板処理装置。」
イ．訂正の目的
　上記訂正は、【請求項１】の「処理液貯留容器から導出した処理液導入管を分岐し」を、「複数個の各処理液貯留容器ごとに、処理液貯留容器から導出した処理液導入管を分岐し」に、特許請求の範囲の減縮を目的として訂正するものである。
ウ．独立特許要件の判断
（刊行物に記載された発明）
　訂正拒絶理由通知書において引用した実願平３−９３６３５号（実開平４−９９２６９号）の願書に添付された明細書及び図面の内容を撮影したマイクロフィルム（以下、「刊行物１」という。）には、
「【請求項１】処理液中に基板を浸漬して基板の表面処理をなす基板処理槽と、純水の主要通路をなす純水給液管を介して処理液を基板処理槽内へ供給する処理液供給部とから成り、処理液供給部は基板処理槽の上流側でそれぞれ薬液供給管及び薬液導入弁を介して純水給液管に連通した複数種の薬液貯溜容器を具備して成り、各薬液導人弁を選択的に開閉制御して、所定の薬液を純水給液管へ導入するように構成した浸漬型基板処理装置において、基板処理槽の下部に処理液供給部の純水供給管を連結して、基板処理槽内の基板に処理液を供給するとともに、基板処理槽上部より処理液をオーバーフローさせるように構成し、各薬液供給管に薬液の圧送ポンプを設けるとともに、各薬液供給管又は純水供給管に薬液供給量測定器を設け、複数種の表面処理に応じてあらかじめ設定した各薬液の供給量を制御する薬液供給量制御手段を設け、薬液供給量制御手段は、薬液供給量測定器の出力信号を受けて、上記所定の薬液供給量に対応させて圧送ポンプ及び薬液導人弁を開閉制御するように構成し、各表面処理に応じて純水中の各薬液を所定濃度に調合するように構成したことを特徴とする浸漬型基板処理装置。」（【実用新案登録請求の範囲】）、
「【実施例】図２は本考案の第１の実施例を示す概要図である。この浸漬型基板処理装置は、処理液２中に基板Ｗを浸漬して基板Ｗの表面処理をなす基板処理槽１と、ＤＷの主要通路をなす純水給液管３を介して処理液２を基板処理槽１内へ供給する処理液供給部４と、処理液排出部４０とから成る。基板処理槽１は、石英ガラス製の側面視略Ｖ字状（２０度以下の広がり形状）に、平面視略矩形状に形成され、その下部に純水供給管３を連結して成り、基板処理槽１内に処理液２の均一な上昇流を形成して基板Ｗの表面処理をするとともに、処理液２を複数種の表面処理毎に、迅速に置換し得るオーバーフロー槽として構成されている。そして、上記基板処理槽１は処理液排出部４０を構成する排液槽４１内に設けられ、オーバーフローした処理液２は排液管４２を介して排液ドレン４３へ流下するように構成されている。なお、基板処理槽１内の基板Ｗを収容したカセットＣは、仮想線で示すカセット搬送用ロボットＲにより挟持搬送される。」（【０００９】〜【００１０】）、
「純水供液管３は、基板処理槽１より上流側に向けて順次、給排液切換弁１３，スタティックミキサー１４，導入弁連結管１６，純水フィルタ２５，純水圧力測定器２６，開閉弁２７，純水加熱部２８を付設配置して成り、所定温度に加熱した純水ＤＷを供給する純水の主要通路として構成されている。なお、純水ＤＷは基板の表面酸化を防ぐうえで、脱酸素処理を施したものを用いる方がより好ましい。上記給排液切換弁１３は常時純水ＤＷや処理液２を基板処理槽１へ供給し、必要に応じて基板処理槽１内の処理液２を排液管４２を介して排液ドレン４３へ排出するように構成されている。スタティックミキサー１４は例えば図３に示すように、ミキサー管路１４ａ内に孔あきねじり板１４ｂを固定し、純水ＤＷと薬液ＱＡ〜ＱＥとを均一に混合するよう構成されている。なお、このスタティックミキサーに代えて他の混合器を用いても良く、管路が十分に長ければかかる混合器を省くことも出来る。上記導入弁連結管１６は処理液供給部４の薬液導入弁８Ａ〜８Ｅを連結したものであり、詳細については後述する。前記処理液供給部４は、複数種の薬液ＱＡ〜ＱＥを貯溜した薬液貯溜容器６Ａ〜６Ｅと、基板処理槽１の上流側で純水供液管３にそれぞれ薬液貯溜容器６Ａ〜６Ｅを連通する薬液給液管７Ａ〜７Ｅと、各薬液給液管７Ａ〜７Ｅを開閉する薬液導入弁８Ａ〜８Ｅと、薬液ＱＡ〜ＱＥを純水給液管３へ圧送する圧送ポンプ１５Ａ〜１５Ｅと、前記薬液供給量制御手段（図１中の符号１０）と、薬液供給量測定器（図１中の符号２０Ａ・２０Ｅ）とから成り、薬液供給量制御手段１０で圧送ポンプ１５Ａ〜１５Ｅ及び薬液導入弁８Ａ〜８Ｅを選択的に制御して、所定の薬液ＱＡ〜ＱＥを純水給液管３へ圧送するように構成されている。」（【００１２】〜【００１４】）
が、図１、図２、図３と共に記載されている。
　したがって、刊行物１には、
「処理液中に基板を浸漬して基板の表面処理をなすオーバーフロー槽として構成されている基板処理槽と、基板処理槽に複数種の処理液を供給する処理液供給部と、基板処理槽よりオーバーフローした処理液を排出する処理液排出部とを具備して成り、上記処理液供給部は、基板処理槽に連結した純水給液管と、純水給液管にそれぞれ薬液導入弁を介して連通した複数個の薬液貯溜容器とを備え、各薬液導入弁を選択的に開閉制御して所定の薬液を純水給液管へ導入するように構成した基板処理装置において、上記基板処理槽を一個設置し、基板処理槽の純水給液管に薬液導入弁を接続し、上記薬液貯溜容器から導出した薬液供給管を前記薬液導入弁を介して基板処理槽の純水給液管に接続し、基板処理槽へ複数種の処理液を供給するように構成したことを特徴とする浸漬型基板処理装置」が記載されていると認められる。
　同じく、訂正拒絶理由通知書において引用した特開昭６１−１７１１３８号公報（以下、「刊行物２」という。）には、
「〔発明が解決しようとする問題点〕しかしながら、上記構成の装置では、１つのエッチング槽１３に対して１つの液体供給系を必要とするので、複数個の同一エッチング槽へ液体を供給する場合、エッチング槽の数に対応する数の液体供給系を設置しなければならず、装置全体が大型化する。・・・・・従って半導体ウエハ製造装置において同一設備を複数台設置することの無駄や、それに伴う装置全体の大型化という問題点があった。本発明は、前記従来技術が持っていた問題点として、複数個のエッチング槽へ薬液を供給する薬液供給系において、同一設備を複数台設置することの無駄や、それに伴う装置全体の大型化の点について解決した半導体ウエハ製造装置を提供するものである。」（第２頁右上欄第１１行〜左下欄第１２行）、
「ポンプ系による汲上げ設備を省略するため、調和液タンク１２１より低位置に、複数個の同一の薬液処理槽（例えば、エッチング槽）１３１，１３２，１３３が設置され、各エッチング槽１３１〜１３３には分岐用の弁１３４，１３５，１３６を有する共通配管１３７を介して調和液タンク１２１からエッチング液１２０が供給される。」（第３頁左上欄第１５行〜同頁右上欄第１行）とあり、また、第１図には、「薬液処理槽（１３１，１３２，１３３）を複数個並設し、各薬液処理槽（１３１，１３２，１３３）への配管に分岐用の弁（１３４，１３５，１３６）を接続し、調和液タンク（１２１）から導出した共通配管（１３７）を分岐し、各分岐した共通配管（１３７）をそれぞれ前記分岐用の弁（１３４，１３５，１３６）を介して各薬液処理槽（１３１，１３２，１３３）への配管に接続し、各薬液処理槽（１３１，１３２，１３３）へ調和済薬液を供給するようにした半導体ウエハ製造装置の全体構成図」が記載されている。
（対比・判断）
　訂正明細書の請求項１に係る発明と上記刊行物１に記載された発明とを対比すると、訂正明細書の請求項１に係る発明の、「処理液貯留容器」、「処理液供給管」、「処理液導入弁」、「オーバーフロー型の基板処理槽」は、それぞれ刊行物１に記載された発明の「薬液貯溜容器」、「薬液供給管及び純水給液管」、「薬液導入弁」、「オーバーフロー槽として構成されている基板処理槽」に相当するから、両者は「処理液中に基板を浸漬して基板の表面処理をなすオーバーフロー型の基板処理槽と、基板処理槽に複数種の処理液を供給する処理液供給部と、基板処理槽よりオーバーフローした処理液を排出する処理液排出部とを具備して成り、上記処理液供給部は、基板処理槽に連結した処理液供給管と、処理液供給管にそれぞれ処理液導入弁を介して連通した複数個の処理液貯留容器とを備え、各処理液導入弁を選択的に開閉制御して所定の処理液を処理液供給管へ導入するように構成した基板処理装置」である点で一致する。
　一方、訂正明細書の請求項１に係る発明が「上記基板処理槽を複数個並設し、各基板処理槽の処理液供給管に処理液導入弁を接続し、上記複数個の各処理液貯留容器ごとに、処理液貯留容器から導出した処理液導入管を分岐し、各分岐した処理液導入管をそれぞれ前記処理液導入弁を介して各基板処理槽の処理液供給管に接続し、各基板処理槽へ複数種の処理液を供給するように構成した」ものであるのに対して、刊行物１に記載された発明が「上記基板処理槽を一個設置し、基板処理槽の処理液供給管に処理液導入弁を接続し、上記処理液貯留容器から導出した処理液導入管を前記処理液導入弁を介して基板処理槽の処理液供給管に接続し、基板処理槽へ複数種の処理液を供給するように構成した」点で相違する。
　そこで、上記相違点について検討する。
　一般に、物品に所定の処理をおこなうにあたり、処理装置の単位時間あたりの処理能力が不十分で、一台の処理装置では必要とされる個数の物品の処理が所定時間内に終了しない場合に、該処理装置と同型の処理装置を複数個併設して、単位時間あたりの処理能力を向上させることは普通におこなわれていることである。
　したがって、刊行物１に記載された基板処理装置を複数個並設することは当業者が必要に応じて適宜なし得た設計事項にすぎない。
　一方、刊行物２には、複数個の薬液処理槽へ薬液を供給する薬液供給系において、１つの調和液タンクと複数個の薬液処理槽を分岐した共通配管と分岐用の弁で接続することで、同一設備（この場合は、調和液タンク）を複数台設置することの無駄や、それに伴う装置全体の大型化という問題点について解決することができると示されている。
　したがって、刊行物１に記載された基板処理装置を複数個併設するにあたり、各基板処理槽ごとに複数個の処理液貯留容器から成る一組の処理液貯留容器群を設けるのに換えて、複数個の基板処理槽に対して一組の処理液貯留容器群を設け、この一組の処理液貯留容器群の各処理液貯留容器と、複数個併設された各基板処理装置の各処理液貯留容器に連通する処理液供給管とを、分岐した共通配管と分岐用の弁で接続することで、同一設備（処理液貯留容器群）を複数組設置することの無駄や、それに伴う装置全体の大型化という問題を回避することは当業者が容易になし得たことであると認められる。
　なお、このとき、処理液貯留容器と基板処理槽の間には、分岐用の弁と処理液導入弁が存在することとなる。しかしながら、この２種の弁の機能は重複していることが明らかであるから、必要に応じてその一方を省略することは当業者が当然考えることにすぎない。
　したがって、上記相違点は当業者が容易に想到し得たことと認められる。
　また、訂正明細書の請求項１に係る発明が、上記各刊行物に記載されたものから予測し得ない効果を奏するということもできない。
（まとめ）
　したがって、訂正明細書の請求項１に係る発明は、上記刊行物１及び２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものといえるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
エ．むすび
　以上のとおりであるから、本件訂正は、特許法第１２６条第４項に規定する要件を満たしていないので認めることはできない。
（３）特許異議申立てについての判断
（本件発明）
　本願の請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）は、その特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「処理液中に基板を浸漬して基板の表面処理をなすオーバーフロー型の基板処理槽と、基板処理槽に複数種の処理液を供給する処理液供給部と、基板処理槽よりオーバーフローした処理液を排出する処理液排出部とを具備して成り、上記処理液供給部は、基板処理槽に連結した処理液供給管と、処理液供給管にそれぞれ処理液導入弁を介して連通した複数個の処理液貯留容器とを備え、各処理液導入弁を選択的に開閉制御して所定の処理液を処理液供給管へ導入するように構成した基板処理装置において、上記基板処理槽を複数個並設し、各基板処理槽の処理液供給管に処理液導入弁を接続し、上記処理液貯留容器から導出した処理液導入管を分岐し、各分岐した処理液導入管をそれぞれ前記処理液導入弁を介して各基板処理槽の処理液供給管に接続し、各基板処理槽へ複数種の処理液を供給するように構成したことを特徴とする基板処理装置。」
（刊行物に記載された発明）
　当審が通知した取消理由に引用した刊行物１，２には、上記「ウ、独立特許要件の判断（刊行物に記載された発明）」の欄で示した事項が記載されている。
（対比・判断）
　本件発明と上記刊行物１に記載された発明とを対比すると、本件発明の、「処理液貯留容器」、「処理液供給管」、「処理液導入弁」、「オーバーフロー型の基板処理槽」は、それぞれ刊行物１に記載された発明の「薬液貯溜容器」、「薬液供給管及び純水給液管」、「薬液導入弁」、「オーバーフロー槽として構成されている基板処理槽」に相当するから、両者は「処理夜中に基板を浸漬して基板の表面処理をなすオーバーフロー型の基板処理槽と、基板処理槽に複数種の処理液を供給する処理液供給部と、基板処理槽よりオーバーフローした処理液を排出する処理液排出部とを具備して成り、上記処理液供給部は、基板処理槽に連結した処理液供給管と、処理液供給管にそれぞれ処理液導入弁を介して連通した複数個の処理液貯留容器とを備え、各処理液導入弁を選択的に開閉制御して所定の処理液を処理液供給管へ導入するように構成した基板処理装置」である点で一致する。
　一方、訂正明細書の請求項１に係る発明が「上記基板処理槽を複数個並設し、各基板処理槽の処理液供給管に処理液導入弁を接続し、上記処理液貯留容器から導出した処理液導入管を分岐し、各分岐した処理液導入管をそれぞれ前記処理液導入弁を介して各基板処理槽の処理液供給管に接続し、各基板処理槽へ複数種の処理液を供給するように構成した」ものであるのに対して、刊行物１に記載された発明が「上記基板処理槽を一個設置し、基板処理槽の処理液供給管に処理液導入弁を接続し、上記処理液貯留容器から導出した処理液導入管を前記処理液導入弁を介して基板処理槽の処理液供給管に接続し、基板処理槽へ複数種の処理液を供給するように構成した」点で相違する。
　そこで、上記相違点について検討する。
　一般に、物品に所定の処理をおこなうにあたり、処理装置の単位時間あたりの処理能力が不十分で、一台の処理装置では必要とされる個数の物品の処理が所定時間内に終了しない場合に、該処理装置と同型の処理装置を複数個併設して、単位時間あたりの処理能力を向上させることは普通におこなわれていることである。
　したがって、刊行物１に記載された基板処理装置を複数個並設することは当業者が必要に応じて適宜なし得た設計事項にすぎない。
　一方、刊行物２には、複数個の薬液処理槽へ薬液を供給する薬液供給系において、１つの調和液タンクと複数個の薬液処理槽を分岐した共通配管と分岐用の弁で接続することで、同一設備（この場合は、調和液タンク）を複数台設置することの無駄や、それに伴う装置全体の大型化という問題点について解決することができると示されている。
　したがって、刊行物１に記載された基板処理装置を複数個併設するにあたり、各基板処理槽ごとに複数個の処理液貯留容器から成る一組の処理液貯留容器群を設けるのに換えて、複数個の基板処理槽に対して一組の処理液貯留容器群を設け、この一組の処理液貯留容器群の各処理液貯留容器と、複数個併設された各基板処理装置の各処理液貯留容器に連通する処理液供給管とを、分岐した共通配管と分岐用の弁で接続することで、同一設備（処理液貯留容器群）を複数組設置することの無駄や、それに伴う装置全体の大型化という問題を回避することは当業者が容易になし得たことであると認められる。
　なお、このとき、処理液貯留容器と基板処理槽の間には、分岐用の弁と処理液導入弁が存在することとなる。しかしながら、この２種の弁の機能は重複していることが明らかであるから、必要に応じてその一方を省略することは当業者が当然考えることにすぎない。
　したがって、上記相違点は当業者が容易に想到し得たことと認められる。
　また、本件発明が、上記各刊行物に記載されたものから予測し得ない効果を奏するということもできない。
（まとめ）
　したがって、本件発明は、上記刊行物１及び２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明についての特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであり、したがって、本件発明についての特許は、拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものであるから、取り消されるべきものである。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１１年９月１６日（１９９９．９．１６）