【事件の表示】
　特許第２７７１４２８号「高出力ビーム発生装置」の請求項１、３ないし６に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結論】
　訂正を認める。
　特許第２７７１４２８号の請求項１に係る特許を維持する。
【理由】
（１）手続きの経緯
　本件特許第２７７１４２８号に係る出願は、平成５年７月６日（優先権主張日平成４年７月６日）に出願され、平成１０年４月１７日にその設定登録がなされ、その後、ウシオ電機株式会社より特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１１年１１月１８日に訂正請求がなされたものである。
（２）訂正請求の適否についての判断
▲１▼訂正の内容
　訂正請求の内容は、特許請求の範囲の減縮及び誤記の訂正を目的として、特許請求の範囲の請求項１乃至請求項８、
　「【請求項１】高出力ビーム発生装置例えば紫外光用高出力ビーム発生装置であって、放電条件下でビームを送出する充填ガスで充填された放電空間（７）を有し、該放電空間を画する内側及び外側の壁が外側及び内側誘電体により形成されており、ここにおいて、上記外側誘電体構成部分（１）の外側表面に第１電極（４）が設けられており、当該の外側誘電体構成部分の、当該放電空間から離隔したほうの表面に第２電極が設けられており、更に上記第１（４）、第２電極（３；３’）に接続された交流電源（１１）が当該放電に対する給電のために設けられている高出力ビーム発生装置において、上記放電空間（７）中に局所的なフィールドディストーションないし電界のひずみを生じさせるための手段（１２；１２ａ・・・１３）が設けられており、上記の局所的なフィールドディストーションないし電界のひずみを生じさせるための手段は上記放電空間（７）の局所的狭窄構成部分によって形成されており、上記局所的狭窄構成部分は上記放電空間のほうに向いた、前記壁のうち少なくとも１つに設けられた凹み部及び／又は隆起部として、上記の内側、外側誘電体構成部分又はその両者の表面に滴を融着させて成る外乱構成体として構成され、該外乱構成体は、上記放電空間（７）中に設けられた１つ又はそれより多くの誘電体材料から成るものであることを特徴とする高出力ビーム発生装置。
　【請求項２】１つ又はそれより多くの、滴を融着させて成る外乱構成体は石英から成るものである請求項１記載の装置。
　【請求項３】前記放電空間を画する内側及び外側の壁は２つの同心の、同軸的シリンダの壁である請求項１記載の装置。
　【請求項４】前記放電空間を画する内側及び外側の壁は２つの同心の、同軸的シリンダの壁である請求項２記載の装置。
　【請求項５】前記２つの同心の、同軸的シリンダは石英から成る請求項３記載の装置。
　【請求項６】前記２つの同心の、同軸的シリンダは石英から成る請求項２記載の装置。
　【請求項７】前記放電空間は前記の内側及び外側の壁間にギャップを有しており、亦、前記凹み部又は隆起部は前記放電空間内へ当該ギャップの幅の半分位延在している請求項１記載の装置。
　【請求項８】前記放電空間は前記の内側及び外側の壁間にギャップを有しており、亦、前記凹み部又は隆起部は前記放電空間内へ当該ギャップの幅の半分位延在している請求項５記載の装置。」
を
　「【請求項１】高出力ビーム発生装置例えば紫外光用高出力ビーム発生装置であって、放電条件下でビームを送出する充填ガスで充填された放電空間を有し、該放電空間を画する内側及び外側の壁が外側及び内側誘電体により形成されており、ここにおいて、上記外側誘電体構成部分の外側表面に第１電極が設けられており、当該の内側誘電体構成部分の、当該放電空間から離隔したほうの表面に第２電極が設けられており、更に上記第１、第２電極に接続された交流電源が当該放電に対する給電のために設けられている高出力ビーム発生装置において、前記の内側及び外側誘電体は、石英から成るものであり、前記の放電空間を画する前記の内側及び外側の壁は、２つの同心の、同軸的シリンダの壁であり、上記放電空間中に局所的なフィールドディストーションないし電界のひずみを生じさせるための手段が設けられており、上記の局所的なフィールドディストーションないし電界のひずみを生じさせるための手段は上記放電空間の局所的狭窄構成部分によって形成されており、上記局所的狭窄構成部分は上記放電空間のほうに向いた、前記壁のうち少なくとも１つに設けられた凹み部及び／又は隆起部として、上記の内側、外側誘電体構成部分又はその両者の表面に滴を融着させて形成した石英から成る外乱構成体として構成され、該外乱構成体は、上記放電空間中に設けられた１つ又はそれより多くの誘電体材料から成るものであることを特徴とする高出力ビーム発生装置。
　【請求項２】前記放電空間は前記の内側及び外側の壁間にギャップを有しており、亦、前記凹み部又は隆起部は前記放電空間内へ当該ギャップの幅の半分位延在している請求項１記載の装置。」
　と訂正し、明細書の記載もこれに合わせて訂正するものである。
▲２▼訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　特許請求の範囲の請求項１の訂正は、「内側及び外側誘電体は、石英から成る」こと、「放電空間を画する前記の内側及び外側の壁は、２つの同心の、同軸的シリンダの壁である」こと、「滴を融着させて成る外乱構成体は石英から成る」ことをそれぞれ限定し、誤記の訂正として、「外側」を「内側」とするものであり、請求項２乃至請求項８の訂正は、実質的に、請求項２乃至請求項６及び請求項７を削除して、請求項８に請求項２の限定を付加したものを新たな請求項２とするものであるから、特許請求の範囲の減縮及び誤記の訂正に該当し、明細書の訂正は不明りょうな記載の釈明を目的としており、共に、新規事項の追加には該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張・変更するものではない。
▲３▼独立特許要件の検討
　訂正後の請求項１に係る発明（以下、訂正発明という。）及び訂正後の請求項２に係る発明の独立特許要件について検討する。
ｉ）訂正発明
　訂正発明及び訂正後の請求項２に係る発明は、上記（２）▲１▼に記載したとおりのものである。
ｉｉ）引用例
　これに対して、取消理由通知に引用した、本件出願前公知である、特開平１−１４４５６０号公報（以下、第１引用例という。）には、「高出力放射器であって、充填ガスにより充填されている放電空間（４；１１）を有し、前記放電空間（４；１１）の壁は第１の誘電体（１；８）と第２の誘電体（２；９）により形成され、前記第１の誘電体（１；８）と第２の誘電体（２；９）の、前記放電空間（４；１１）に対向していない表面に第１の電極（５；１２）及び第２の電極（６；１３）が設けられ、前記第１の電極（５；１２）及び第２の電極（６；１３）に接続されている交流電源（７）を備え、前記交流電源（７）は放電のために給電する高出力放射器において、前記誘電体（１．２；８．９）と、第１の電極（５；１２）及び第２の電極（６；１３）の双方が前記放射波を透過することを特徴とする高出力放射器。」（特許請求の範囲請求項１）、
「本発明は、例えば紫外線の、高出力放射器であって、」（公報第２頁右上欄第１１行〜第１２行）、
「第２図の実施例においては、第１の水晶管８と、この第１の水晶管から離れて位置する第２の水晶管９は互いに同軸にかつ一方が他方を包囲して位置し、絶縁材から成るスペーサ素子１０により互いに離されている。第１の水晶管と第２の水晶管９の間のリング状間隙１１は放電空間を形成する。」（公報第５頁左上欄第１５行〜右上欄第１行）と記載されており、第１引用例には、
「高出力紫外線放射器であって、充填ガスにより充填されている放電空間を有し、前記放電空間の壁は、水晶からなる第１の誘電体と第２の誘電体が、互いに同軸にかつ一方が他方を包囲して位置するように形成され、前記第１の誘電体と第２の誘電体の、前記放電空間に対向していない表面に第１の電極及び第２の電極が設けられ、前記第１の電極及び第２の電極に接続されている交流電源を備え、前記交流電源は放電のために給電する高出力放射器において、前記誘電体と、第１の電極及び第２の電極の双方が前記放射波を透過することを特徴とする高出力放射器。」
の発明（以下、引用発明という。）が記載されている。
　同じく特開昭５８−３４５６０号公報（以下、第２引用例という。）には、
「（１）放電灯の陽極となる電極及び陰極となる電極間に供給される駆動信号の電圧レベル或いは周波数を増大もしくは減少させることにより放電灯の発光領域を可変制御することを特徴とする放電灯ディスプレイ装置。
・・・
　（４）特許請求の範囲第（１）項記載の放電灯ディスプレイ装置において、放電灯管の直径をその長手方向に対して任意に変化した形状とすることを特徴とする前記放電灯ディスプレイ装置。」（特許請求の範囲第１項、第４項）、
「第１３図の場合も、放電灯の長手方向任意間隔において、各区間毎に放電灯の発光領域が第１３図の矢印のように連続的に増大し、又、電圧レベルが第１１図（ｃ）のように変化する場合においては、前記各放電灯Ｐ、Ｐ’の場合同様、連続的に増大しかつ減少制御される。」（公報第５頁左下欄第４行〜第９行）と記載されており、
　同じく特開平１−２６４１３７号公報（以下、第３引用例という。）には、
「それぞれの基板面に設けられた表示電極を有する二枚の基板を、前記表示電極形成面を内面として一定間隔を保って対向させ、且つ放電発光に供する放電媒体を封入して気密封止させたプラズマディスプレイ装置において、前記二枚の基板上に、前記表示電極と独立した電極を形成し、さらに該独立した電極の一方または両方に誘電体層を積層し、この誘電体層間または誘電体層と誘電体層を積層させていない側の電極との間に絶縁体を設けることによって、電子イオン供給源を構成したことを特徴とするプラズマディスプレイ装置。」（特許請求の範囲請求項１）、
「誘電体層の間または誘電体層と誘電体層を積層させていない側の電極との間にガラスビーズ、ガラスロッド等の絶縁体を設けると、絶縁体の近傍で、他の放電空間よりも低い電圧で放電を開始する現象を見いだした。」（公報第３頁左上欄第１３行〜第１７行）、
「第１図（Ｃ）に示すように、第三実施例は一方の基板のみにガラスビーズ１０を固着しているものであり、誘電体層６とガラスビーズ１０との間には一定の距離が設けられている。」（公報第３頁左下欄第１８行〜右下欄第１行）と記載されている。
　（対比）
　訂正発明と引用発明とを対比すると、両者は、「高出力ビーム発生装置例えば紫外光用高出力ビーム発生装置であって、放電条件下でビームを送出する充填ガスで充填された放電空間を有し、該放電空間を画する内側及び外側の壁が外側及び内側誘電体により形成されており、ここにおいて、上記外側誘電体構成部分の外側表面に第１電極が設けられており、当該の内側誘電体構成部分の、当該放電空間から離隔したほうの表面に第２電極が設けられており、更に上記第１、第２電極に接続された交流電源が当該放電に対する給電のために設けられている高出力ビーム発生装置において、前記の内側及び外側誘電体は、石英から成るものであり、前記の放電空間を画する前記の内側及び外側の壁は、２つの同心の、同軸的シリンダの壁であることを特徴とする高出力ビーム発生装置。
ことを特徴とする高出力ビーム発生装置。」である点で一致しており、
訂正発明では、「上記放電空間中に局所的なフィールドディストーションないし電界のひずみを生じさせるための手段が設けられており、上記の局所的なフィールドディストーションないし電界のひずみを生じさせるための手段は上記放電空間の局所的狭窄構成部分によって形成されており、上記局所的狭窄構成部分は上記放電空間のほうに向いた、前記壁のうち少なくとも１つに設けられた凹み部及び／又は隆起部として、上記の内側、外側誘電体構成部分又はその両者の表面に滴を融着させて形成した石英から成る外乱構成体として構成され、該外乱構成体は、上記放電空間中に設けられた１つ又はそれより多くの誘電体材料から成るものである」のに対し、引用発明では、放電空間中に局所的なフィールドディストーションないし電界のひずみを生じさせるための手段は設けられていない点、で相違している。
　（当審の判断）
　上記相違点について検討する。
　第２引用例には、放電電極間の距離を減少させると、低い電圧レベルで放電・発光すること、放電灯管の直径をその長手方向に対して任意に変化した形状とすることが記載されているが、これは発光領域を可変制御することを目的とするものであって、点弧の容易化を目的とするものではないから、局所的狭窄構成部分を形成しているということはできず、点呼の容易化を目的として、引用発明に適用する動機づけが存在しないし、適用したとしても、引用発明に局所的狭窄構成部分を形成することにはならない。
　また、第３引用例には、放電空間中の電極に積層した誘電体層の間にガラスビーズ、ガラスロッド等の絶縁体を設けることにより、絶縁体の近傍で、他の放電空間よりも低い電圧で放電を開始するように構成することは記載されているが、石英から成る外乱構成体の滴を融着させて形成した誘電体は開示されていないから、引用発明に適用しても、表面に滴を融着させて形成した石英から成る外乱構成体として構成されるものではない。
　よって、訂正発明が、第１引用例乃至第３引用例に記載された発明に基づいて容易に発明をすることができたとすることはできない。
　また、本件の訂正後の請求項２に係る発明は、訂正発明の構成要件をすべて含み、さらに限定したものであるから、訂正発明と同様に、第１引用例乃至第３引用例に記載された発明に基づいて、容易に発明をすることができたものではない。
　したがって、訂正後の請求項１及び請求項２に係る発明は、特許出願の際、独立して特許を受けることができるものである。
　▲４▼結論
　以上のとおりであるから、本件訂正請求は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項で準用する第１２６条第２項乃至第４項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
（３）特許異議申立について
（本件発明）
　本件特許第２７７１４２８号の請求項１及び請求項２に係る発明は、訂正された特許明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１及び請求項２に記載された、上記（２）▲１▼に記載したとおりのものである。
（特許異議申立人の主張の概要）
　これに対して、特許異議申立人ウシオ電機株式会社は、甲第１号証として特開平１−１４４５６０号公報、甲第２号証として特開昭５８−３４５６０号公報、甲第３号証として特開昭６４−４３９４９号公報及び甲第４号証として特開平１−２６４１３７号公報を提示して、訂正前の本件請求項１及び請求項３乃至請求項６に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである、旨主張している。
（当審の判断）
　甲第１号証、甲第２号証及び甲第４号証は、取消理由通知で引用した第１引用例、第２引用例及び第３引用例であるから、（２）▲３▼ｉｉ）に示した発明が記載されており、
　甲第３号証には、放電灯ディスプレイ装置及びその製造方法に関する発明が記載されており、
「ガラス部材１０は、ガラス平板１２に対して平行に配置されたガラス平面部１３、ガラス平面部１３の周囲に形成された所定の高さのガラス封止部１４、及びガラス封止部１４と同一の高さを有しガラス平板１２とガラス平面部１３との間に設けられたスペーサとして機能する複数のガラス支持部材１５からなる。ガラス封止部１４は、放電容器を形成するために低融点ガラスによってガラス平板１２に接合されている。ガラス平面部１３，ガラス封止部１４及びガラス支持部材１５は同一のガラスからなり、それらは一体に形成されている。ガラス支持部材１５はガラス部材１０とガラス平板１２を支持するので、ガラス部材１０とガラス平板１２のガラス強度を高める効果を発揮する。」（公報第７頁左上欄第１１行〜右上欄第５行）、
「ガラス平面部１３の外表面上には第１の電極２０が形成されている。この第１の電極２０は、例えば不透明な炭素ペイントをガラス平面部１３の外表面に塗ることにより形成される。またガラス平板１２の外表面上には第２の電極２２が設けられている。」（公報第７頁左下欄第１５行〜第２０行）と記載されている。
　甲第３号証に記載されているガラス支持部材１５は、ガラス平板１２を支持するものであり、局所的狭窄構成部分を形成するものではなく、また、他に局所的狭窄構成部分を形成するものは開示されていないから、甲第３号証に記載された発明を参酌してもなお、（２）▲３▼ｉｉｉ）に示した理由により、請求項１に係る発明は、甲第１号証乃至甲第４号証に記載された発明に基づいて、容易に発明をすることができたものではない。
　なお、本件の訂正後の請求項２に係る発明は、実質的に、訂正前の請求項８に係る発明に、訂正前の請求項２に係る発明の構成要件を付加した発明であるから、特許異議の申し立ての対象外であるが、請求項１に係る発明の構成要件をすべて含み、さらに限定したものであるから、請求項１に係る発明と同様に、甲第１号証乃至甲第４号証に記載された発明に基づいて、容易に発明をすることができたものではない。
（むすび）
　以上のとおりであるから、特許異議の申立ての理由及び証拠によっては、本件の請求項１に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件の請求項１に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１１年１２月１０日（１９９９．１２．１０）
【訂正の要旨】
１．訂正事項１
　訂正請求の内容は、特許請求の範囲の減縮及び誤記の訂正を目的として、特許請求の範囲の請求項１乃至請求項８、
「【請求項１】高出力ビーム発生装置例えば紫外光用高出力ビーム発生装置であって、放電条件下でビームを送出する充填ガスで充填された放電空間（７）を有し、該放電空間を画する内側及び外側の壁が外側及び内側誘電体により形成されており、ここにおいて、上記外側誘電体構成部分（１）の外側表面に第１電極（４）が設けられており、当該の外側誘電体構成部分の、当該放電空間から離隔したほうの表面に第２電極が設けられており、更に上記第１（４）、第２電極（３；３’）に接続された交流電源（１１）が当該放電に対する給電のために設けられている高出力ビーム発生装置において、上記放電空間（７）中に局所的なフィールドディストーションないし電界のひずみを生じさせるための手段（１２；１２ａ・・・１３）が設けられており、上記の局所的なフィールドディストーションないし電界のひずみを生じさせるための手段は上記放電空間（７）の局所的狭窄構成部分によって形成されており、上記局所的狭窄構成部分は上記放電空間のほうに向いた、前記壁のうち少なくとも１つに設けられた凹み部及び／又は隆起部として、上記の内側、外側誘電体構成部分又はその両者の表面に滴を融着させて成る外乱構成体として構成され、該外乱構成体は、上記放電空間（７）中に設けられた１つ又はそれより多くの誘電体材料から成るものであることを特徴とする高出力ビーム発生装置。
　【請求項２】１つ又はそれより多くの、滴を融着させて成る外乱構成体は石英から成るものである請求項１記載の装置。
　【請求項３】前記放電空間を画する内側及び外側の壁は２つの同心の、同軸的シリンダの壁である請求項１記載の装置。
　【請求項４】前記放電空間を画する内側及び外側の壁は２つの同心の、同軸的シリンダの壁である請求項２記載の装置。
　【請求項５】前記２つの同心の、同軸的シリンダは石英から成る請求項３記載の装置。
　【請求項６】前記２つの同心の、同軸的シリンダは石英から成る請求項２記載の装置。
　【請求項７】前記放電空間は前記の内側及び外側の壁間にギャップを有しており、亦、前記凹み部又は隆起部は前記放電空間内へ当該ギャップの幅の半分位延在している請求項１記載の装置。
　【請求項８】前記放電空間は前記の内側及び外側の壁間にギャップを有しており、亦、前記凹み部又は隆起部は前記放電空間内へ当該ギャップの幅の半分位延在している請求項５記載の装置。」
を
「【請求項１】高出力ビーム発生装置例えば紫外光用高出力ビーム発生装置であって、放電条件下でビームを送出する充填ガスで充填された放電空間を有し、該放電空間を画する内側及び外側の壁が外側及び内側誘電体により形成されており、ここにおいて、上記外側誘電体構成部分の外側表面に第１電極が設けられており、当該の内側誘電体構成部分の、当該放電空間から離隔したほうの表面に第２電極が設けられており、更に上記第１、第２電極に接続された交流電源が当該放電に対する給電のために設けられている高出力ビーム発生装置において、前記の内側及び外側誘電体は、石英から成るものであり、前記の放電空間を画する前記の内側及び外側の壁は、２つの同心の、同軸的シリンダの壁であり、上記放電空間中に局所的なフィールドディストーションないし電界のひずみを生じさせるための手段が設けられており、上記の局所的なフィールドディストーションないし電界のひずみを生じさせるための手段は上記放電空間の局所的狭窄構成部分によって形成されており、上記局所的狭窄構成部分は上記放電空間のほうに向いた、前記壁のうち少なくとも１つに設けられた凹み部及び／又は隆起部として、上記の内側、外側誘電体構成部分又はその両者の表面に滴を融着させて形成した石英から成る外乱構成体として構成され、該外乱構成体は、上記放電空間中に設けられた１つ又はそれより多くの誘電体材料から成るものであることを特徴とする高出力ビーム発生装置。
　【請求項２】前記放電空間は前記の内側及び外側の壁間にギャップを有しており、亦、前記凹み部又は隆起部は前記放電空間内へ当該ギャップの幅の半分位延在している請求項１記載の装置。」
と訂正する。
２．訂正事項２
　特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合を図るため、明瞭でない記載の釈明を目的として、明細書【００１０】の中の、
「上記課題の解決のため本発明によれば冒頭に述べた形式の高出力ビーム発生装置において、上記の局所的なフィールドディストーションないし電界のひずみを生じさせるための手段は上記放電空間の局所的狭窄構成部分によって形成されており、上記局所的狭窄構成部分は上記放電空間のほうに向いた、前記壁のうち少なくとも１つに設けられた凹み部及び／又は隆起部として、上記の内側、外側誘電体構成部分又はその両者の表面に滴を融着させて成る外乱構成体として構成され、該外乱構成体は、上記放電空間中に設けられた１つ又はそれより多くの誘電体材料から成るものであるものである。」
を、
「上記課題の解決のため本発明によれば冒頭に述べた形式の高出力ビーム発生装置において、上記放電空間中に局所的なフィールドディストーションないし電界のひずみを生じさせるための手段が設けられており、上記の局所的なフィールドディストーションないし電界のひずみを生じさせるための手段は上記放電空間の局所的狭窄構成部分によって形成されており、上記局所的狭窄構成部分は上記放電空間のほうに向いた、前記壁のうち少なくとも１つに設けられた凹み部及び／又は隆起部として、上記の内側、外側誘電体構成部分又はその両者の表面に滴を融着させて形成した石英から成る外乱構成体として構成され、該外乱構成体は、上記放電空間中に設けられた１つ又はそれより多くの誘電体材料から成るものであるものである。」
と訂正する。
３．訂正事項３
　特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合を図るため、明瞭でない記載の釈明を目的として、明細書【０００１】の中の、
「放電空間を有し、該放電空間を画する内側及び外側の壁が外側及び内側誘電体により形成されており、ここにおいて、上記外側誘電体構成部分の外側表面に第１電極が設けられており、当該の外側誘電体構成部分の、当該放電空間から離隔したほうの表面に第２電極が設けられており、」
を
「放電空間を有し、該放電空間を画する内側及び外側の壁が外側及び内側誘電体により形成されており、ここにおいて、上記外側誘電体構成部分の外側表面に第１電極が設けられており、当該の内側誘電体構成部分の、当該放電空間から離隔したほうの表面に第２電極が設けられており、」
と訂正する。
（５４）【発明の名称】
高出力ビーム発生装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　高出力ビーム発生装置例えば紫外光用高出力ビーム発生装置であって、放電条件下でビームを送出する充填ガスで充填された放電空間を有し、該放電空間を画する内側及び外側の壁が外側及び内側誘電体により形成されており、ここにおいて、上記外側誘電体構成部分の外側表面に第１電極が設けられており、当該の
内
　
前記の内側及び外側誘電体は、石英から成るものであり、前記の放電空間を画する前記の内側及び外側の壁は、２つの同心の、同軸的シリンダの壁であり、
形成した石英から
　【請求項
２
【発明の詳細な説明】
　　　【０００１】
　　【産業上の利用分野】
　本発明は高出力ビーム発生装置例えば紫外光用高出力ビーム発生装置であって、放電条件下でビームを送出する充填ガスで充填された放電空間を有し、該放電空間を画する内側及び外側の壁が外側及び内側誘電体により形成されており、ここにおいて、上記外側誘電体構成部分の外側表面に第１電極が設けられており、当該の内側誘電体構成部分の、当該放電空間から離隔したほうの表面に第２電極が設けられており、更に上記第１、第２電極に接続された交流電源が当該放電に対する給電のために設けられている高出力ビーム発生装置に関する。
　　　【０００２】
　すなわち本発明ＥＰ−Ａ　０５４　１１１、（ヨーロッパ特許出願公開公報第０５４１７号）、１９９０年２月２７日付の米国特許出願０７／４８５５４４、又は、１９９０年２月１７日付のＥＰ（ヨーロッパ特許）出願９０１０３０８２．５の明細書に示されている従来技術に係わる。
　　　【０００３】
　　【従来の技術】
　光化学的手法の産業状の利用、応用面（可用性）は適当なＵＶ（紫外線）源の利用可能性に依存する。旧来のＵＶ（紫外線）ビーム発生器は幾つかの離散的な波長のもとで低い程度から中位程度の強度の紫外線ビームを送出する。例えば、水銀低圧ランプは１８５ｎｍのもとで、また、殊に２５４ｎｍのもとで紫外線ビームを送出する。実際に高いＵＶ出力は高圧ランプ（Ｘｅ，Ｈｇ）から送出され、該高圧ランプは比較的大きな波長領域に亘って、分布してそのビームを送出する。新規なエキシマレーザでは光化学的基礎実験にて幾つかの新たな波長が開拓されてているが、現在のところ、コストの理由から産業上のプロレスには例外的場合にしか適していない。
　　　【０００４】
　冒頭に述べたＥＰ（ヨーロッパ特許出願又は会議、議事録、“Ｎｅｕｅ　ＵＶ−ｕｎｄ　ＶＵＶ　Ｅｘｃｉｍｅｒｓｔｒａｈｌｅｒ”Ｕ．Ｋｏｇｅｌｓｃｈａｔｚ及びＢ．Ｅｌｉａｓｓｏｎ，著述ドイツ化学者協会、光化学部会第１０回講演会にて頒布、１９８７年１１月１８〜２０日。ドイツ連邦共和国ヴュルミブルクにて。（１０．Ｖｏｒｔｒａｇｓｔａｇｕｎｇ　ｄｅｒ　Ｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ　Ｄｅｕｔｓｃｈｅｒ　Ｃｈｅｍｉｋｅｒ，Ｆａｃｈｇｒｕｐｐｅ　Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍｉｅ，ｉｎ　Ｗｕｅｒｚｂｕｒｇ（ＢＲＤ）１８．−２０．Ｎｏｖｅｍｂｅｒ　１９８７，）。
　　　【０００５】
　新規なエキシマビーム発生器が記載されている。当該の新規なビーム発生器方式は以下の技術に立脚している、即ち、無声放電（サイレントディスチャージ）においてもエキシマビームを発生できるという技術、オゾン生成にて大規模技術で使用される放電型式に立脚している。短時間のみ（＜１ｍｓ）存在する当該放電の電流フィラメントにおいて、電子衝突により希ガスが耐起されそれによりさらなる反応を起こして分子複合体が耐起される（エキシマレーザ）。このようなエキシマはたんに数１００ｎｓしか寿命が存続せず、それの崩解の際にそれの結合エネルギをＵＶビームの形態で放出する。
　　　【０００６】
　無声放電（サイレントディスチャージ）の原理に基づくエキシマーＵＶ−ビーム発生器は最初の点弧の際ないし比較的長い休止期間の後は、通常作動に必要な電圧より遥かに高い電圧を必要とする。このことは以下のことに関連している、即ち、当該作動中は当該誘電体上にて表面電荷が形成され、それにより、そのつど、後続の電圧半波において容易化された点弧が行なわれるということに関連する。最初の点弧の際及び比較的長い休止期間の後では当該表面電荷は欠除する。
　　　【０００７】
　全く一般的に云えることはガス放電の点弧のためには２つの基準、要件が充足されねばならない。すなわち、１つには初期電子が存在しなければならず、もう１つは電界が臨界値を越えなければならず（点火基準、要件）、もって、初期電子の充分な増倍、ひおいては印加電界の作用下での電子なだれの形成を達成し得るようにすることである。
　　　【０００８】
　ランプ技術から公知の手法は放射性物質（例えばトリウム）又はガス（クリプトン８５）を利用してステート（初期）電子を生成し、そして、また、過電圧パルスを利用して初期（スタート）電界強度を増大させることである。殊に後者の手段は給電装置及びケーブル、プラグ、保持体の設計構成上付加的コストを要するのである。
　　　【０００９】
　　【発明の目的】
　本発明の基礎を成す課題ないし目的とするところは、高価な手段なしでも高い信頼性を以て点弧し得る高出力ビーム発生装置、例えばＵＶ−又はＶＵＶビーム用のビーム発生装置を提供することにある。
　　　【００１０】
　　【発明の構成】
　上記課題の解決のため本発明によれば冒頭に述べた形式の高出力ビーム発生装置において、
前記の内側及び外側誘電体は、石英から成るものであり、前記の放電空間を画する前記の内側及び外側の壁は、２つの同心の、同軸的シリンダの壁であり、
形成した石英から
　　　【００１１】
　その場合本発明の基礎を成す認識によれば、１個所ないし所定個所にて局所的なフィールド（ないし電界）のひずみないし増大を生じさせるのである。その際生じるＵＶビーム及び当該の局所的放電の電荷キャリヤにより、当該放電容積の高い信頼度を以ての点弧を行なわせ得るというものである。
　　　【００１２】
　当該の局所的フィールドディストーションは例えば、放電ギャップの狭窄ないし狭隘化、例えば、当該放電ギャップ中にギャップ容積のほうに向けられた凹入部又は隆起部、又は有利には誘電体材料から成る外乱構成体により生ぜしめられ得る。猶当該放電ギャップ中で、石英滴を外側誘電体管の内面に、又は内側誘電体管の外面に融着させて、所望のフィールドディストーションないし電界ひずみを生じさせ得るように外乱構成体を実現できるのである。
　　　【００１３】
　本発明によりはじめて、確実に点弧するエキシマーＵＶ−ビーム発生装置を創出し得るのである。その際講ぜられるべき手段は簡単且経済的である。上記手段は外乱生成（構成）体（これはフィールドディストーションのための有利な手段として見做せる）の場合、既存のユニット中に後からでも組込実施し得るのである。
　　　【００１４】
　次に、本発明の実施例及び達成可能な利点を図を用いて詳述する。
　　　【００１５】
　　【実施例】
　図１及び図２に示すように、ほぼ０．５〜１．５ｍｍの肉厚及びほぼ２０〜３０ｍｍの外径を有する外側石英（水晶）管１中に内側石英管２が同軸的に配置されている。内側石英管２の内面にはらせん状の内部電極３が当接している。
　　　【００１６】
　ワイヤグレーティング（メッシュ）又は被着された電極構造の形態の外部電極４が、外側石英管１の外周全体に亘って延在している。
　　　【００１７】
　内側石英管３内にはワイヤ４が装着されている。このワイヤ４はビーム発生装置の内部電極を形成、ワイヤグレーティング（メッシュ）
４
　　　【００１８】
　両電極３，４は交流電源１１の両極に接続されている。上記交流電源は電極幾何形状、放電空間内の圧力、充填ガスの組成に依存して、数１０００ＫＨｚまでの交流の周波数の領域にて、数１００Ｖ〜２００００Ｖのオーダの可調整交流電圧を供給する。
　　　【００１９】
　充填ガスは例えば、水銀、希ガス、希ガス−金属蒸気−混合物、稀ガス−ハロゲンー混合物、であり、場合により付加的な別の希ガス、有利にはＡｒ，Ｈｅ，Ｎｅをバッファガスとして使用する。
　　　【００２０】
　その場合、ビームの所望のスペクトル組成に応じて、物質／物質混合物が下記のテーブルに従って用いられ得る。
充填ガス
ビーム
ヘリウム　　　　　　　６０−１００ｎｍ
ネオン　　　　　　　　８０−９０ｎｍ
アルゴン　　　　　　　１０７−１６５ｎｍ
アルゴン＋フッ素　　　１８０−２００ｎｍ
アルゴン＋塩素　　　　１６５−１９０ｎｍ
アルゴン＋クリプトン　１６５−１９０，２００−２４０ｎｍ
キセノン　　　　　　　１６０−１９０ｎｍ
窒素　　　　　　　　　３３７−４１５ｎｍ
クリプトン　　　　　　１２４，１４０−１６０ｎｍ
クリプトン＋フッ素　　２４０−２５５ｎｍ
クリプトン＋塩素　　　２００−２４０ｎｍ
水銀　　　　　　　　　１８５，２５４，３２０−３７０，３９０−４２０ｎｍ
セレン　　　　　　　　１９６，２０４，２０６ｎｍ
ヂュテリウム　　　　　１５０−２５０ｎｍ
キセノン＋フッ素　　　３４０−３６０ｎｍ，４００−５５０ｎｍ
キセノン＋塩素　　　　３００−３２０ｎｍ
　そのためにほかの一連の充填ガスが使用され得る。
　　　【００２１】
　−希ガス（Ａｒ，Ｈｅ，Ｋｒ，Ｎｅ，Ｘｅ）又はＦ２，Ｊ２，Ｂｒ２，Ｃｌ２から成るガスないし蒸気を有する水銀、又は化合物（これは放電にて１つ又は複数の原子
　Ｆ，Ｊ，Ｂｒ又はＣｌ
を分解する）
　希ガス（Ａｒ，Ｈｅ，Ｋｒ，Ｎｅ，Ｘｅ）又はＯ２を有するＨｇ又は化合物（これは当該放電にて１つ又は複数のＯ原子を分解する）。
　　　【００２２】
　−Ｈｇを有する希ガス（Ａｒ，Ｈｅ，Ｋｒ，Ｎｅ，Ｘｅ）
　電極３と４との間に交流電圧が印加されると、放電空間中に多数の放電チャネルが形成される（部分放電）。それらの放電チャネルは充電ガスの原子／分子と相互作用をし、おれによりＵＶ又はＶＵＶビームが生ぜしめられる。
　　　【００２３】
　形成される無声放電（サイレントディスチャージ）において電子エネルギ分布が、誘電体（構成部分）の厚さと、それの特性及び放電空間内の圧力および／又は温度により最適に調整され得る。
　　　【００２４】
　ここまでの点はエキシマーザに就いて公知のことである。
　　　【００２５】
　冒頭に述べた点弧上の問題を解決するため本発明によれば当該放電空間７内にて或１個所にて局所的にフィールドディストーションないしフィールド増大を行なわせるという技術思想に全面的に立脚する一連の手段を講ずるものである。その際形成されるＵＶビーム及び当該放電の電荷キャリヤにより放電容積全体の確実な点弧が達成される。
　　　【００２６】
　図１中右上方半部に第１の変形が示してある（図２では同じく破線で示す）。外側誘電体管１は内側に向いた凹みないし隆起部１２を有する。上記隆起部は内側誘電体管２のほうに向ってほぼギャップ幅半分のところまで延びている。
　　　【００２７】
　図１の右下半部（図２にも破線で示す）に第２変形を示す。ここでは内側誘電体管２は凹み又は隆起部１２ａを有し、この凹み又は隆起は外側誘電体管１のほうに向ってギャップ幅半分のところまで延びている。
　　　【００２８】
　上記の両変形のフィールドディストーション生成機構部は当初から設けなければならないが、図１の左半部、及び図２に示す実施形態は後からでも、構成されたビーム発生装置にて使用され得る。
　　　【００２９】
　放電空間７中には誘電体材料、例えば酸化アルミニウム又は酸化チタンから成る球が挿入されており、その球外径は放電空間７のギャップ幅と等しいかそれよりわずかに小さい。この球は１つ又は２つの誘電体壁に取付けられ得るが、取付けられなくともよい。その場合、球の幾何学的形状を精確にすることは重要ではない。また、殊に長く延びたビーム発生装置の場合は当該球を２つ又は複数設けてもよい。また、球と凹み又は隆起の組合せも可能である。
　　　【００３０】
　後からでもビーム発生装置にて講ぜられるべき別の手段によれば外側誘電体管１の内面に、又は内側誘電体管２の外面に石英滴１２ｂないし１２ｃを融着させて、所望のフィールドディストーションないし電界ひずみを生じさせ得るようにするのである。
　　　【００３１】
　　【発明の効果】
　高価な手段なしでも高い信頼性を以て点弧し得る高出力ビーム発生装置、例えばＵＶ−又はＶＵＶビーム用のビーム発生装置を実現できるという高価が奏される。0292
【図面の簡単な説明】
　　【図１】
　内側及び外側誘電体管を同軸的に配置したＵＶ円筒形ビーム発生装置の実施例の縦断面図である。
　　【図２】
　図１のＵＶビーム発生装置を切断線Ａ−Ａに沿って切断して示す断面図である。
　　【符号の説明】
　　　１　　外側石英管
　　　２　　内側石英管
　　　３　　内部電極
　　　４　　外部電極
　　　５，６　　カバー
　　　７　　放電空間