【事件の表示】
　特許第２８６１５１２号「石英ガラス光学部材の製造方法」の請求項１ないし６に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結論】
　特許第２８６１５１２号の請求項１ないし６に係る特許を維持する。
【理由】
１　手続の経緯
　特許第２８６１５１２号（平成３年７月２４日出願、平成１０年１２月１１日設定登録。）の請求項１〜６に係る発明（以下「本件発明１〜６」という）は、特許明細書の記載からみて、その請求項１〜６に記載される次のとおりのものである。
「【請求項１】紫外線レーザーを照射して用いる石英ガラス光学部材の製造方法であって、
（１）ガラス形成原料を火炎加水分解して形成される石英ガラス微粒子を基材に堆積・成長させて多孔質石英ガラス体を形成する工程、
（２）前記多孔質石英ガラス体を非塩素低水蒸気分圧雰囲気下において、透明ガラス化温度以下の温度域で一定時間保持し加熱処理してＯＨ基含有量を低減する工程、
（３）前記加熱処理された多孔質石英ガラス体を、透明ガラス化温度まで昇温・透明ガラス化して石英ガラス体を得る工程、
（４）前記石英ガラス体を軟化点以上の温度に加熱して成形し、成形石英ガラス体を得る工程、及び、
（５）前記成形石英ガラス体を、少なくとも１１００〜１２００℃の温度域では４０℃／時間以下の冷却速度となるように徐冷する工程、
を備えることを特徴とする石英ガラス光学部材の製造方法。
　【請求項２】前記透明ガラス化温度以下の温度域で一定時間保持し加熱処理する工程において、雰囲気の露点温度が−７０℃以下であることを特徴とする請求項１記載の石英ガラス光学部材の製造方法。
　【請求項３】前記透明ガラス化温度以下の温度域が８００〜１２５０℃であることを特徴とする請求項１または２記載の石英ガラス光学部材の製造方法。
　【請求項４】前記透明ガラス化温度以下の温度域で保持する時間が１〜３０時間であることを特徴とする請求項１、２または３記載の石英ガラス光学部材の製造方法。
　【請求項５】製造された石英ガラス光学部材のＣｌ含有量が１０ｐｐｍ以下、ＯＨ基含有量が１００ｐｐｍ以下である請求項１、２、３または４記載の石英ガラス光学部材の製造方法。
　【請求項６】製造された石英ガラス光学部材は、少なくとも１方向について直径２２０ｍｍの円形で囲まれる領域にわたって屈折率の変動幅が１Ｘ１０−６以下である請求項１、２、３、４または５記載の石英ガラス光学部材の製造方法。」
２．申立ての理由の概要
　申立人は、証拠として甲第１号証（「住友金属」、Ｖｏｌ．４２−３，１９９０年、２７〜３８頁）、甲第２号証（「高純度シリカの応用技術」シーエムシー、１９９１年３月１日発行、１７４〜１８０頁）、甲第３号証（特開平３−１０９２２４号公報）、甲第４号証（特開昭５６−１２９６２１号公報）、甲第５号証（特開昭６２−１００４３６号公報）及び甲第６号証（特開平２−８０３４３号公報）を提出して、本件発明１〜６の特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであるから、本件発明１〜６の特許を取り消すべきと主張する。
３．甲各号証
　甲第１号証；
　ＶＡＤ法合成石英ガラスの開発に関する技術資料であり、その２８〜３０頁には、「ガラス原料を水素／酸素火炎中に供給し、火炎内で化学反応させることにより、シリカ微粒子を生成させるとともに・・・微粒子を堆積させて多孔質な石英ガラス母材を得る母材合成工程」、「多孔質な母材を焼結させて完全に繊密で透明な素材（透明化材）を得る透明化工程」、「円柱状の透明化材を最終製品形状に近づけるために、石英ガラスを軟化点まで加熱して加圧成形を行う熱間加工工程」及び製品とするための切断・研磨工程が記載される。また、２８頁の第１表には、ＶＡＤ法によって得られる石英ガラスが、Ｃｌや金属イオンが１ｐｐｍ以下あること、Ｈ２Ｏが１〜５００ｐｐｍであること、紫外光の吸収が小さいこと、主用途が光学用等であることが記載される。３６〜３８頁には、この合成石英ガラスが、フォトマスク基板、液晶基板のような紫外光等を照射して使用する製品や高精度光学部品に使用されることが記載される。
　甲第２号証；
　１７５頁の表２．３．１１、及び１７６頁の図２．３．４４にＶＡＤ法による高純度石英ガラスの特性の説明と母材合成、母材焼結の工程の図解を記載しており、１７４頁下から５行〜１行に「ＶＡＤ法は直接法と同様にＳｉＣｌ４などのガラス原料をＯ２、Ｈ２ガスとともにバーナーから供給し、火炎中で生成したＳｉＯ２微粒子を出発材に堆積させて多孔体（母材）を得、この母材を加熱焼結して繊密で透明な石英ガラスプリフオームとする方法である。他の製造方法と大きく異なり、製造工程中で一度多孔質の状態を経るため、焼結法や母材改質工程の有無などにより、種々の品質の制御が可能である。」と記載され、１７６頁下から４行〜１７７頁１行には、「ＶＡＤ法合成石英ガラスのＯＨ基濃度は直接法合成石英ガラス（１，０００ｐｐｍ程度）よりも低濃度となっている。ＶＡＤ法合成石英ガラスは、ＳｉＯ２ガラス微粒子合成過程で火炎内に多量に存在するＯＨがシラノール基（ＯＨ基）として母材中に混入するが、母材は水分を含まない雰囲気中で焼結される過程で脱水され、石英ガラス中のＯＨ基は低濃度となる。また、ＶＡＤ法では母材の焼結条件を変えることで、ＯＨ基濃度を０〜数１００ｐｐｍの範囲で制御できる利点がある。」と記載される。
　甲第３号証；
　請求項１には、「ガラス形成原料を加熱加水分解させて形成される多孔質石英ガラス体を加熱して透明ガラス化して石英ガラスを製造する」こと、及び「多孔質石英ガラス体を透明ガラス化温度以下の温度域で水蒸気分圧の低い雰囲気中に一定時間加熱保持する工程を含む」ことが記載される。２頁右下欄１２〜１５行には「これらのガラス形成原料を酸素水素火炎中での加水分解法や・・・により加水分解し、基材上に堆積させることにより形成される」こと、２頁右下欄１６〜１９行には「このようにして得られた多孔質体は・・・透明ガラス化温度まで昇温されてガラス化を完了することにより石英ガラスとなる」ことが記載される。
　請求項２には「透明ガラス化温度域以下の温度で保持する雰囲気の露点温度が−７０℃以下である」ことが記載され、請求項３には「透明ガラス化温度域以下の保持温度域が８００〜１２５０℃である」ことが記載される。
　甲第４号証；
　ＶＡＤ法等によって得られる円柱状のガラスインゴットを角柱状等の所望の形状に成形し、同時にガラス中に存在する脈理等の不均一性を除去する方法に関するものであり（２頁右上欄１２〜１７行、２頁右下欄１１〜１８行）、請求項１には「天然もしくは合成石英ガラスを、・・・不活性ガス雰囲気下もしくは真空下に、１７００℃以上の温度に加熱加圧成形し、ついで１１００〜１３００℃まで急冷する合成石英ガラスの成形方法」が記載され、５頁左上欄１７行〜右上欄１行には「１１００〜１３００℃に降温した後は、９００℃まで時間当たり５０℃から１００℃またはそれ以下の割合で下げる必要がある。」と記載される。
　甲第５号証；
　高純度合成石英ガラスの製造方法に関するもので、２頁左下欄１４〜１８行には「（合成石英ガラスインゴットを）１７３０℃以上での加熱保持が終了した後の降温速度は任意であるが、ガラス中に熱的歪みを残さないためには１２００〜１０００℃の範囲を３０℃／ｈｒ程度ないしそれ以下の速度で冷却する必要がある。」ことが記載される。
　甲第６号証；
　ＶＡＤ法による耐紫外線用合成石英ガラスの製造方法に関するものであり、２頁左下欄１６〜２１行には「ＯＨ基含有量を・・・好ましくは１〜２００ｐｐｍの範囲とすると共にハロゲン基，ＳまたはＮを１０ｐｐｍ以下とすれば１６０ｎｍの短波長での紫外線透過率が上がること」が、また３頁左上欄１９〜右上欄３行には「このようにして得られた石英ガラスはＯＨ基が５００ｐｐｍ以下で、Ｃｌ，ＦなどのハロゲンやＳ，Ｎもほとんど含有していないし、これはまた構造欠陥が少ないので各部分の屈折率のバラツキ（△ｎ）も１０−６以下と小さい」ことが記載される。
４　対比・判断
［本件発明１について］
　本件発明１と甲第１〜６号証記載の発明とを比較検討する。
　本件発明１は、紫外線レーザーを照射して用いる石英ガラス光学部材の製造方法であって、請求項１に記載される（１）〜（５）の工程を備えることにより、石英ガラス中にＣｌ元素などの不純物の残存を生じさせることなくＯＨ基量を低減させることが可能であり、それに基づく屈折率の揺らぎを抑止せしめ、石英ガラスの屈折率変動幅を１０−６以下にして均質性を向上することが可能であるという効果を奏するものである。
　本件発明１と甲第１〜３号証記載の発明とを対比すると、両者は、紫外線レーザーを照射して用いる石英ガラス光学部材の製造方法であって、請求項１に記載される（１）〜（４）の工程を備えるものである点で一致するが、後者には、前者の「（５）成形石英ガラス体を、少なくとも１１００〜１２００℃の温度域では４０℃／時間以下の冷却速度となるように徐冷する工程」を備えることについて記載がない点で相違する。
　上記相違点について、甲第４〜６号証を検討する。
　甲第４号証には、請求項１に「天然もしくは合成石英ガラスを、・・・不活性ガス雰囲気下もしくは真空下に、１７００℃以上の温度に加熱加圧成形し、ついで１１００〜１３００℃まで急冷する合成石英ガラスの成形方法」が記載され、５頁左上欄１７行〜右上欄１行には「１１００〜１３００℃に降温した後は、９００℃まで時間当たり５０℃から１００℃またはそれ以下の割合で下げる必要がある。」と記載されるが、本件発明１のように「（５）成形石英ガラス体を、少なくとも
１１００〜１２００℃の温度域では４０℃／時間以下の
　甲第５号証は、高純度合成石英ガラスの製造方法に関するもので、２頁左下欄１４〜１８行には「（合成石英ガラスインゴットを）１７３０℃以上での加熱保持が終了した後の降温速度は任意であるが、ガラス中に熱的歪みを残さないためには１２００〜１０００℃の範囲を３０℃／ｈｒ程度ないしそれ以下の速度で冷却する必要がある。」ことが記載されるが、甲第５号証には、合成石英ガラスを、本件発明１のように用途として紫外線レーザーを照射して用いる石英ガラス光学部材用に使用する記載はないし、さらに、本件発明１のように「（２）前記多孔質石英ガラス体を非塩素低水蒸気分圧雰囲気下において、透明ガラス化温度以下の温度域で一定時間保持し加熱処理してＯＨ基含有量を低減する工程」を備えることを前提として上記（５）の徐冷工程を備えるものでもない。
　また、甲第６号証のものは、本件発明１の工程（２）或いは工程（５）を具備することについて何等の記載もない。
　したがって、本件発明１は、甲第１〜６号証に記載の各発明に基づいて当業者が容易になし得たものであるとはいえない。
［本件発明２〜６について］
　本件発明１を引用する本件発明２〜６は、本件発明１についての上記の判断と同様の理由により、甲第１〜６号証に記載の各発明に基づいて当業者が容易になし得たものであるとはいえない。
５．むすび
　以上のとおり、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件発明１〜６の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１〜６の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１１年月１１月２２日（１９９９．１１．２２）