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特許第２７３３６２９号「イオン生成方法およびイオン生成装置」の請求項１ないし２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結論】
特許第２７３３６２９号の請求項１ないし２に係る特許を維持する。
【理由】
〔１〕本件発明
　本件特許第２７３３６２９号は、平成２年３月９日に出願され、平成１０年１月９日に設定登録されたものであって、その請求項１、２に係る発明は、特許請求の範囲に記載された次のとおりのものと認める。
「【請求項１】
　放電によりプラズマを発生させる工程と、前記プラズマ中から電子を引き出して加速し、所定のガスに照射して第１のイオンを生成するとともに、絶縁性の保持手段に保持された固体原料物質に前記電子を照射し前記固体原料物質を負に帯電させることにより、前記第１のイオンを前記固体原料物質に衝突させ、前記固体原料物質をスパッタする工程と、前記スパッタされた物質に電子を照射して第２のイオンを生成する工程とを具備したことを特徴とするイオン生成方法。
　【請求項２】
　放電によりプラズマを発生させる電子発生室と、溢路および電子引き出し用の多孔電極を介して前記電子発生室に連設され、イオン引き出し用開口を有するイオン生成室と、前記イオン生成室内に、前記多孔電極と対向する如く固体原料物質を着脱自在に保持する絶縁性の保持手段と、前記電子発生室と前記多孔電極、および、前記多孔電極と前記イオン生成室との間に電子引き出し用の電圧を印加し、前記プラズマ中から電子を引き出し加速し、前記イオン生成室内に導入された所定のガスに引き出した電子を照射して第１のイオンを生成するとともに、前記固体原料物質に引き出した電子を照射し前記固体原料物質を負に帯電させ、前記第１のイオンを前記固体原料物質に衝突させて前記固体原料物質をスパッタし、さらに、前記スパッタされた物質に電子を照射して第２のイオンを生成する手段とを具備したことを特徴とするイオン生成装置。」
〔２〕異議申立ての理由の概要
　特許異議申立人川崎重工業株式会社の異議申立ての理由は、本件請求項１に係る発明は、甲第１号証（特開昭６１−２７３８４０号公報、甲第２号証（特開昭６３−３０４５６０号公報）、甲第３号証（特開昭６３−１３８６３４号公報）に記載された発明に基づいて、また本件請求項２に係る発明は、甲第１〜３号証及び甲第４号証（特開昭６３−２２１５４０号公報）に記載された発明に基づいて、当業者が容易に想到できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、特許法第１１３条第１項第２号の規定により取り消すべきものというにある。
〔３〕甲号各証に記載の発明
　甲第１号証には、電子ビーム励起イオン照射装置に関して、「第１図は、本発明の電子ビーム励起イオン照射装置の一実施例の概略図である。カソ一ド１、アノードを兼ねる加速陰極２、加速陽極３および導電性イオン被照射体設置部である試料設置部４がこの順で設けられている。カソード１と加速陰極２との間はプラズマが充填するプラズマ領域５となり、加速陰極２と加速陽極３との間がプラズマ領域５から引き出された電子を加速する電子ビーム加速領域６となり、加速領域３と試料設置部４との間がイオン生成領域７となる。カソード１と加速陰極２との間には放電用電極８によって電圧が与えられて、プラズマ領域５内においてプラズマ生成放電が生じるようになっている。加速陰極２と加速陽極３との間に電位差を生じせしめる加速電源９は、プラズマ領域５内の電子を引き出し、かつイオン生成領域７中のイオンを加速陰極２まで引き出す。加速陰極２は直接アースされており、また、試料設置部４は電圧可変のイオンエネルギー制御用電源１０を介してアースされており、試料設置部４は加速陽極３に対する電圧を制御しうるようにされている。通常アルゴンガス等の不活性ガスが流入口１１ａ、１１ｂから装置内部に流入され、排出口１２ａ、１２ｂ、１２ｃから排出される。また、本実施例において電子およびイオンの進行方向に沿って磁場が与えられており、電子流の横方向の拡がりが防止されている。プラズマ領域５に設けられた仕切り１３ａ、１３ｂはガスの圧力差をつけるためのものである。」（第２頁左下欄第２行〜同右下欄第９行）、「第８図は、本発明をスパッタ装置として使用した場合の実施例を示す。イオン生成領域７において生成されたイオンは、導電性設置部４′上のターゲット２５に衝突する。イオンの衝突によって飛散したターゲット材料は基板２６上に堆積する。基板２６に図示されるように電位を印加すると、イオンの衝突によってガス状に飛散され、さらにこの後電子ビームの照射によってイオン化されたターゲット原子を、基板２６に引きつけることもできる。第９図は、本発明をスパッタ装置として使用した場合の別の実施例を示す。ターゲット２５が電子ビームの照射を受けることによってターゲット材料ガスが発生し、さらにこのガスが電子ビームの照射を受けることによってイオンが生成される。このターゲット材料ガスイオンは加速陰極２に引かれて、プラズマ領域５へ向うがこの際イオンを捕えることにより基板２６上に成膜が行われる。」（第３頁右下欄第１９行〜第４頁左上欄第１６行）旨が図面とともに記載されている。
　甲第２号証には、スパッタ中性粒子質量分析装置に関して、「本装置の概略を第１図に示す。カソードＫと電極Ｓ１との間に放電電極Ｖｄにより電圧が印加されて放電が発生され、外部から流入されたガスがプラズマ化される。このプラズマの内電子は電極Ｓ３と加速電極Ａ１との間に加速電源Ｖａｃｃによって形成された電場によって加速されて電子ビームとしてプラズマ室Ｃに進入する。この進入した電子ビームはプラズマ室中に充填されるガスを励起してこのガスをプラズマ化する。このプラズマを構成するイオンの一部は電極Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３方向に流れ、これら電極開口に形成される電位の障壁が解消あるいは低くされる。これによって、大電流の電子ビームが得られ、生成されるプラズマも極めて密度の高いものとなる。このプラズマを構成するイオンは（例えば、図示するように試料ホルダーＨに電源ＶＴにより負の電位を印加することにより）プラズマ電位よりも低い電位を有する試料Ｓに引きつけられて、これをスパッタする。プラズマ密度が高いので、低エネルギーイオン、具体的には、試料ホルダーＨを介して試料に印加する電位を低くしても大電流イオンが得られ、深さ方向に高分解能を有しかつ効率的に試料のスパッタが行われる。このスパッタにより飛散した試料の中性粒子は加速電極Ａ１の開口から放出される電子ビームの照射を受けて、イオン化される。イオン化された試料粒子はエネルギー分析器Ｅ、質量分析器Ｍ、および検出器Ｄを介してその質量および個数（電流値）が検出される。」（第２頁左下欄第１８行〜第３頁左欄第５行）旨が図面とともに記載されている。
　甲第３号証には、電子ビーム励起イオン照射装置に関して、「本発明においては、イオン被照射体の電位が浮動電位に保たれている。浮動電位は、流入する電子とイオンの数が等しく、全電流が打ち消されて零になる状態である。プラズマ電位と浮動電位にある試料の電位の差（入射イオンのエネルギーに相当）は、プラズマの電子温度（電子のエネルギー分布）によって強く影響される。エネルギーの大きい電子がプラズマ中に多くなってくると、流入する電子電流が増えることになる。従って、浮動電位にある試料は負に帯電し、流入する電子電流が減少する。こうして、イオン電流と等しくなるまで浮動電位が低下して再びつり合いが保たれる。本発明では、入射電子ビームによってプラズマが生成されており、試料設置部付近のプラズマ中に存在する電子及び電子ビームのエネルギー分布の形は、電子ビームの加速電圧、ビーム電流、イオン生成領域のガス圧もしくは加速陽極と試料設置部との距離を変化させることにより大幅に制御することができる。このようにして、試料設置部の電位を浮動電位状態にしたままイオンエネルギーを制御することが可能である。」（第２頁右上欄第２０行〜同左下欄第２０行）、「このように構成されたイオン照射装置は以下のように作動する。カソード１と加速陰極２との間の放電によってプラズマ領域５内にプラズマが発生する。このプラズマを構成する電子は加速陽極３に引かれてイオン生成領域７に突入して、イオンを生成する。このイオンの一部は加速陰極２に引かれて加速陰極２の開口付近に形成される負のポテンシャルバリアを引き下げる。従って、プラズマ領域５内のプラズマ密度に比例した電流値の電子流がイオン生成領域７に流入する。イオン生成領域７においては、流入した電子の電流値（数）に比例するイオンが生成される。このイオンは試料設置部４上に設けられた試料１８の電位によってそのエネルギーを制御されて試料１８に照射される。」（第３頁左上欄第６〜２０行）旨が図面とともに記載されている。
　甲第４号証には、電子ビーム励起イオン源に関して、「そして、カソード電極５の貫通孔４を通して、チャンバ１内に放電ガス、例えばアルゴンガス等を導入する。カソード電極５とアノード電極２との間には、放電電源８から例えば直流５００Ｖ程度の放電電圧を印加する。この電圧印加により、グロー放電を起こし、この時プラズマを生成する。電子ビーム加速用電極３には、電子ビーム加速用電源９から例えば直流電圧３００Ｖ程度の加速電圧を印加する。この加速電圧により、前記放電により生じたプラズマの中から電子を引き出し、引き出した電子はさらに例えば１００ｅＶ〜５００ｅＶに加速してイオン生成室１０内に入射させる。」（第４頁左上欄第１７行〜同右上欄第８行）、「次にイオン発生部２００を説明する。イオン生成室１０内には、予めイオン注入のためのガス例えばヒ素ガスがガス圧０．０１Ｔｏｒｒ〜０．０２Ｔｏｒｒとなるように供給されている。このイオン生成室１０内に導入された電子ビームは、ヒ素ガス分子に衝突し、濃いプラズマを発生する。これは電離断面積の大きなエネルギーを有する電子ビームを用いてプラズマを発生するためである。」（第４頁右上欄第１６行〜同左下欄第３行）旨が図面とともに記載されている。
〔４〕対比・判断
（１）本件請求項１に係る発明と甲第１号証に記載された発明を対比すると、甲第１号証に記載された発明は、「放電によりプラズマを発生させる工程と、前記プラズマ中から電子を引き出して加速し、所定のガスに照射して第１のイオンを生成するとともに、絶縁性の保持手段に保持された固体原料物質に前記電子を照射」する構成は具備するも、本件請求項１に係る発明の構成に係る「電子を照射し前記固体原料物質を負に帯電させることにより、前記第１のイオンを前記固体原料物質に衝突させ、前記固体原料物質をスパッタする工程と、前記スパッタされた物質に電子を照射して第２のイオンを生成する工程」を具備していない点で、本件請求項１に係る発明と相違する。
　本件請求項１に係る発明と甲第２号証に記載された発明を対比すると、甲第２号証に記載された発明は、「放電によりプラズマを発生させる工程と、前記プラズマ中から電子を引き出して加速」する構成を具備するも、本件請求項１に係る発明の構成に係る「所定のガスに照射して第１のイオンを生成するとともに、絶縁性の保持手段に保持された固体原料物質に前記電子を照射し前記固体原料物質を負に帯電させることにより、前記第１のイオンを前記固体原料物質に衝突させ、前記固体原料物質をスパッタする工程と、前記スパッタされた物質に電子を照射して第２のイオンを生成する工程」を具備していない点で、本件請求項１に係る発明と相違する。
　本件請求項１に係る発明と甲第３号証に記載された発明を対比すると、甲第３号証に記載された発明は、「放電によりプラズマを発生させる工程と、前記プラズマ中から電子を引き出して加速し、所定のガスに照射して第１のイオンを生成するとともに、絶縁性の保持手段に保持された固体原料物質に前記電子を照射」する構成は具備するも、本件請求項１に係る発明の構成に係る「電子を照射し前記固体原料物質を負に帯電させることにより、前記第１のイオンを前記固体原料物質に衝突させ、前記固体原料物質をスパッタする工程と、前記スパッタされた物質に電子を照射して第２のイオンを生成する工程」を有するものでない点で、本件請求項１に係る発明と相違する。
　そして、本件請求項１に係る発明は、「電子を照射し前記固体原料物質を負に帯電させることにより、前記第１のイオンを前記固体原料物質に衝突させ、前記固体原料物質をスパッタする工程と、前記スパッタされた物質に電子を照射して第２のイオンを生成する工程」を採択したことにより、「各種イオンの生成の柔軟に対応することができるので所望するイオンを生成することができ、各種イオンを効率よく生成することができる。」という明細書に記載の効果を奏するものと認められる。
　したがって、本件請求項１に係る発明が、甲第１〜３号証に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとすることはできない。
（２）次に、本件請求項２に係る発明と甲第１号証に記載されて発明を対比すると、甲第１号証に記載された発明は、「放電によりプラズマを発生させる電子発生室と、溢路および電子引き出し用の孔電極を介して前記電子発生室に連設され、イオン引き出し用開口を有するイオン生成室と、前記イオン生成室内に、前記電子発生室と前記孔電極および、前記孔電極と前記イオン生成室との間に電子引き出し用の電圧を印加し、前記プラズマ中から電子を引き出し加速し、前記イオン生成室内に導入された所定のガスに引き出した電子を照射して第１のイオンを生成」する構成は具備するも、本件請求項２に係る発明の構成に係る「固体原料物質に引き出した電子を照射し前記固体原料物質を負に帯電させ、前記第１のイオンを前記固体原料物質に衝突させて前記固体原料物質をスパッタし、さらに、前記スパッタされた物質に電子を照射して第２のイオンを生成する手段」を有するものでない点で、本件請求項２に係る発明と相違する。
　本件請求項２に係る発明と甲第２〜４号証に記載された発明を対比すると、甲第２〜４号証に記載された発明は、本件請求項２に係る発明の構成に係る「固体原料物質に引き出した電子を照射し前記固体原料物質を負に帯電させ、前記第１のイオンを前記固体原料物質に衝突させて前記固体原料物質をスパッタし、さらに、前記スパッタされた物質に電子を照射して第２のイオンを生成する手段」を、いずれも有するものでない点で本件請求項２に係る発明と相違する。
　そして、本件請求項２に係る発明は、上記構成を採択したことによって、「各種イオンの生成の柔軟に対応することができるので所望するイオンを生成することができ、各種イオンを効率よく生成することができる。」という明細書に記載の効果を奏するものと認められる。
　したがって、本件請求項２に係る発明は、甲第１〜４号証に記載の発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることはできたものとすることはできない。
〔５〕まとめ
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては本件請求項１、２に係る発明についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１１年７月２１日（１９９９．７．２１）