(57)【要約】【課題】液体表面より上に可燃ガス炎を生成する装置を提供する。【解決手段】装置は、液体中に完全または部分的に配置されたマニホルド空間を有するマニホルドと、可燃ガス供給源とを備えている。ガス供給源からの可燃ガスはマニホルド空間に送られ、液体にまたは液体より上の空間に送られ得る。その後、可燃ガス炎を生成するために可燃ガスが点火され得る。マニホルド空間への配送に先立って、可燃ガスは空気または液体と混合されてもよい。さらに、所望の効果を生じさせるために供給液を液体出口から外へ圧送するポンプを備えてもよい。代わりに、装置は液体表面上のフロートの上に配置されてもよい。【選択図】図６
0003097929.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
液体表面より上に可燃ガス炎を生成する装置であって、
液体中に完全に配置され、マニホルド空間と少なくとも１つの孔とを区画形成するマニホルドと；
マニホルドに可燃ガスを送るように形成された可燃ガス供給源と、マニホルドは前記少なくとも１つの孔を通じて可燃ガスを液体中に送り、点火されて可燃ガス炎になるよう可燃ガスが液体から発生することと；
を備えた装置。
【請求項２】
空気をマニホルド空間に送るように形成された空気供給源をさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
マニホルドに隣接配置され、装置の外側表面によって区画形成された液体出口と；
前記液体出口に供給液を送るように構成されたポンプと、液体出口は供給液を液体中に送ることと；をさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記供給液は炎増強物質を含む、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
マニホルドを包囲し且つ液体から供給液を分離するために液体中に配置された隔離アセンブリをさらに備える、請求項３に記載の装置。
【請求項６】
可燃ガスが液体から発生した時に可燃ガスに点火し、可燃ガス炎が消えた時を感知する、電子制御点火・炎感知アセンブリをさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
液体表面より上に可燃ガス炎を生成する装置であって、
液体中に少なくとも部分的に配置され、マニホルド空間と少なくとも１つの孔とを区画形成するマニホルドと；
可燃ガス供給源に接続されたガス通路を区画形成するガス管と、該ガス通路は可燃ガス供給源からマニホルドに可燃ガスを送るように形成され、マニホルドは前記少なくとも１つの孔を通じて、点火されて可燃ガス炎となるよう可燃ガスを送ることと；
マニホルドの下に配置された液体通路を区画形成する少なくとも１つの液体管と、該液体通路はガス通路を包囲すると共に、供給液をポンプから液体出口へと送るように形成されたポンプと接続され、液体管が液体出口を少なくとも部分的に区画形成することと；
を備えた装置。
【請求項８】
前記ガス通路を包囲すると共に複数の液体通路を区画形成する複数の液体管を備える、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
マニホルドが液体中に完全に配置され、可燃ガスが液体に放出され、可燃ガスが液体から発生する、請求項７に記載の装置。
【請求項１０】
マニホルドを包囲するために液体中に配置された隔離アセンブリをさらに備え、該隔離アセンブリは液体から供給液を分離する、請求項７に記載の装置。
【請求項１１】
可燃ガスがマニホルドから送られてきた時に可燃ガスに点火し、可燃ガス炎が消えた時を感知する、電子制御点火・炎感知アセンブリをさらに備える、請求項７に記載の装置。
【請求項１２】
加熱ガスと混合する空気を供給するための、ガス通路と接続された空気供給源をさらに備える、請求項７に記載の装置。
【請求項１３】
液体表面より上に可燃ガス炎を生成する装置であって、
液体中に少なくとも部分的に配置され、マニホルド空間を区画形成するマニホルドと；
通路を区画形成するチューブを通じてマニホルド空間に可燃ガスを送るように形成された可燃ガス供給源と；
前記通路を通じてマニホルドに供給液を送るように形成されたポンプと；を備え、
可燃ガスが供給液に導入され、可燃ガスと供給液が前記通路を通じてマニホルド空間に送られ、点火されて可燃ガス炎になるよう、マニホルドから放出される、装置。
【請求項１４】
ポンプが、供給液に渦を巻かせて、それにより供給液が実質的に無い中央部分を作成する回転式アセンブリを備え、可燃ガスは中央部分に導入される、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
ポンプが、供給液と可燃ガスを混合して混合物を形成するための回転式アセンブリを備える、請求項１３に記載の装置。
【請求項１６】
マニホルドが液体中に完全に配置され、可燃ガスが液体に放出され、可燃ガスが液体から発生する、請求項１３に記載の装置。
【請求項１７】
マニホルドを包囲し且つ液体から供給液を分離するために液体中に配置された隔離アセンブリをさらに備える、請求項１３に記載の装置。
【請求項１８】
可燃ガスが液体から発生した時に可燃ガスに点火し、可燃ガス炎が消えた時を感知する、電子制御点火・炎感知アセンブリをさらに備える、請求項１３に記載の装置。
【請求項１９】
液体表面より上に可燃ガス炎を生成する装置であって、
液体表面上で浮かぶように形成されたフロートと；
フロート上に配置され、マニホルド空間と少なくとも１つの孔とを区画形成するマニホルドと；
フロート上に配置され、マニホルドに接続された可燃ガス供給源と、可燃ガス供給源はマニホルド空間に可燃ガスを送り、可燃ガスは点火されて可燃ガス炎になるよう、マニホルドから送られることと；
を備えた装置。
【請求項２０】
フロート上に配置されたポンプをさらに備え、該ポンプは液体と流体の行き来が可能であるように連通するように配置されたポンプ入口を形成し、該ポンプは該通路を通じて該ポンプ入口に接続されたポンプ出口を形成し、該ポンプはポンプ入口から該通路を通じてポンプ出口の外へと液体を送るように形成されている、請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
液体表面より上に可燃ガス炎を生成する装置であって、
液体中に少なくとも部分的に配置され、かつマニホルド空間を区画形成するマニホルドと；
点火されて可燃ガス炎を生成するための、マニホルド空間に可燃ガスを送る手段と；
装置によって区画形成された液体出口に送るための、供給液を送る手段と；
を備えた装置。
【請求項２２】
可燃ガスと供給液を混合する手段をさらに備える、請求項２１に記載の装置。
【請求項２３】
可燃ガス炎を増強する手段をさらに備える、請求項２１に記載の装置。
【考案の詳細な説明】
【０００１】
【考案の属する技術分野】
本考案は炎を生成する装置に関する。より詳細には、本考案は液体表面より上に炎を生成する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
炎と水の集まりは、その美的に見て喜ばしい性質で知られている。例えば、多くの家が、中に生成される炎の美観を楽しむための１または複数の暖炉を備えている。さらに、池、噴水、渦巻プール、サウナ、スイミングプール、および他の水の集まりは、心を落ち着かせる効果を提供し、そのため鑑賞者を喜ばせるものとして知られている。従って、目を引き、美的に見て喜ばしく、心を和ませる効果を生じさせるために、水の集まりの鎮静効果と炎の美観とを組み合わせることが望ましいかもしれない。
【０００３】
炎および液体の要素の両方を含むシステムが知られている。例えば、複数の噴水要素と共に水の集まりの上に炎が設けられたシステムが知られている。しかしながら、そのようなシステムは、通常、大規模なプレゼンテーションのために設計されているため、使用方法が複雑であり、インプリメントすなわち実施に柔軟性がない。
【０００４】
【考案が解決しようとする課題】
従って、それほど複雑でなく且つより多目的に使える、液体表面より上に炎を生成するのに使用可能な装置が必要とされている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
一般に、本考案は、炎を生成する装置に関する。より詳細には、本考案は、液体表面より上に炎を生成する装置に関する。
【０００６】
１態様では、本考案は、液体表面より上に可燃ガス炎を生成する装置であって、液体中に完全に配置され、マニホルド空間と少なくとも１つの孔とを区画形成するマニホルドと；マニホルドに可燃ガスを送るように形成された可燃ガス供給源と、マニホルドは前記少なくとも１つの孔を通じて可燃ガスを液体中に送り、点火されて可燃ガス炎になるよう可燃ガスが液体から発生することと；を備えた装置に関する。
【０００７】
別の態様では、本考案は、液体表面より上に可燃ガス炎を生成する装置であって、液体中に少なくとも部分的に配置され、マニホルド空間と少なくとも１つの孔とを区画形成するマニホルドと；可燃ガス供給源に接続されたガス通路を区画形成するガス管と、該ガス通路は可燃ガス供給源からマニホルドに可燃ガスを送るように形成され、マニホルドは前記少なくとも１つの孔を通じて、点火されて可燃ガス炎となるよう可燃ガスを送ることと；マニホルドの下に配置された液体通路を区画形成する少なくとも１つの液体管と、該液体通路はガス通路を包囲すると共に、供給液をポンプから液体出口へと送るように形成されたポンプと接続され、液体管が液体出口を少なくとも部分的に区画形成することと；を備えた装置に関する。
【０００８】
さらに別の実施形態では、本考案は、液体表面より上に可燃ガス炎を生成する装置であって、液体中に少なくとも部分的に配置され、マニホルド空間を区画形成するマニホルドと；通路を区画形成するチューブを通じてマニホルド空間に可燃ガスを送るように形成された可燃ガス供給源と；前記通路を通じてマニホルドに供給液を送るように形成されたポンプと；を備え、可燃ガスが供給液に導入され、可燃ガスと供給液が前記通路を通じてマニホルド空間に送られ、点火されて可燃ガス炎になるよう、マニホルドから放出される、装置に関する。
【０００９】
さらに別の実施形態では、本考案は、液体表面より上に可燃ガス炎を生成する装置であって、液体表面上で浮かぶように形成されたフロートと；フロート上に配置され、マニホルド空間と少なくとも１つの孔とを区画形成するマニホルドと；フロート上に配置され、マニホルドに接続された可燃ガス供給源と、可燃ガス供給源はマニホルド空間に可燃ガスを送り、可燃ガスは点火されて可燃ガス炎になるよう、マニホルドから送られることと；を備えた装置に関する。
【００１０】
別の態様では、本考案は、マニホルド空間を区画形成するマニホルドを提供するステップであって、可燃ガスを液体中に放出し、かつ可燃ガスが液体から発展して液体の表面上で点火されるように、マニホルドが液体中に完全に配置されるように構成されているステップと；マニホルド空間に可燃ガスを供給するためにガス管を提供するステップと；から成る液体表面より上に可燃ガス炎を生成する方法に関する。
【００１１】
別の態様では、本考案は、液体表面より上に可燃ガス炎を生成する方法であって、可燃ガスの放出用のマニホルドを提供するステップと；可燃ガスを可燃ガス供給源からマニホルドに送るガス通路を区画形成するガス管を提供するステップであって、ガスが液体表面より上で点火されるステップと；ガス管を包囲する液体管を提供するステップであって、液体管とガス管は放出のために液体出口に供給液を送る液体通路を区画形成するステップと；から成る方法に関する。
【００１２】
さらなる態様では、本考案は、液体表面より上に可燃ガス炎を生成する方法であって、可燃ガスを提供する可燃ガス供給源を提供するステップと；マニホルド空間を区画形成するマニホルドを備え、少なくとも部分的に液体中に配置された装置を提供するステップと；装置に供給液を供給するステップと；供給液が実質的に無い中心部分を作成するために装置内の供給液に渦を巻かせるステップと；可燃ガスを中心部分に導入するステップと；マニホルド空間に可燃ガスと供給液を提供するステップと；マニホルドから供給液と可燃ガスを放出するステップと；可燃ガス炎を生成するために可燃ガスに点火するステップと；から成る方法に関する。
【００１３】
さらなる態様では、本考案は、液体表面より上に可燃ガス炎を生成する装置であって、液体中に少なくとも部分的に配置され、かつマニホルド空間を区画形成するマニホルドと；点火されて可燃ガス炎を生成するための、マニホルド空間に可燃ガスを送る手段と；装置によって区画形成された液体出口に送るための、供給液を送る手段と；を備えた装置に関する。
【００１４】
上記の本考案の要約は、本考案のそれぞれの開示された実施形態やすべての実施例を説明することは意図していない。以下の詳細な説明中の図面は、考案の実施形態をより詳しく例証している。特定の実施形態が例証され、それが考案の実施形態を説明しているが、考案はそのような実施形態での使用に限定されているわけではない。
【００１５】
本考案は、本考案の様々な実施形態の以下の詳細な説明を添付図面と共に考慮すれば、より完全に理解されるであろう。
本考案は様々な改変物や代替形式が可能であり、その詳細が例示として図面に示されている。しかしながら、本考案は説明されている特定の実施形態に限定されないことは勿論である。そうではなく、本考案の趣旨および範囲内にあるすべての改変物、均等物、および代替物が包含されるものとする。
【００１６】
【考案の実施の形態】
本考案は、炎を生成する装置に関する。より詳細には本考案は、液体表面より上に炎を生成する装置に関する。本考案がそのように限定されているわけではないが、以下に与える種々の例の考察を通じて、本考案の様々な態様の理解が得られるだろう。
【００１７】
本考案に従って製造される装置は、一般に、液体表面より上に炎を生成することができ、好ましくは液体中に少なくとも部分的に配置される。本明細書に使用する場合、用語「炎」は、例えば手動の点火や電子制御による点火のような任意の既知のタイプの点火を使用して、炎を生成する可燃ガス（例えば天然ガス、ＬＰガス、または空気とそれらの混合物）のような可燃性物質に点火する時に生成される、任意のタイプの燃焼のことを指す。用語「液体」は、例えば池、湖、川、噴水、水のディスプレイ、ジャクージ、サウナ、スイミングプールまたは他のそのような集まりなどのいかなる液体の集まりをも指すために使用される。用語「液体」は水に限定されるものと解釈されるべきではなく、他の不燃性液体、複合液体またはゲルも含み得る。液体はその中に溶解または分散された物質もしくは化合物を含んでいてもよい。さらに、「液体表面より上」という句は、一般に、炎が生じたり炎が表面に触れたりする位置や表面より上の他の位置を含めた、液体表面より上のいかなる空間をも指すために使用される。
【００１８】
ここで図１〜６を参照すると、本考案の第１実施形態に従って製造された実施形態装置１００が示されている。装置１００は通常、マニホルドアセンブリ１１０と、液体アセンブリ１５０と、外側円筒形スリーブ１５１とを備えている。図５に断面図で示され図６に組立分解図で示されている、マニホルドアセンブリ１１０は、マニホルド１１２と円筒形部分１６９とを有している。マニホルド１１２はガス吸入口１１６および以下に記述されるように円筒形部分１６９に配置されたガス管１１５によって区画形成されたガス通路１１４と流体が行き来するように接続されたマニホルド空間１７０を区画形成する。任意選択で、ガス通路１１４を通じてマニホルド１１２に空気吸入口１１８がさらに接続されてもよい。
【００１９】
ガス吸入口１１６は、例えば天然ガスやＬＰガスのような可燃ガスを提供するために可燃ガス供給源（図示せず）に接続され得る。また、他の選択肢として、ガス吸入口１１６にガス／空気混合物が供給されてもよい。ガス吸入口１１６に送られたガスは、ガス通路１１４を通じて、マニホルド１１２のマニホルド空間１７０に向けられる。さらなる空気供給源が望まれる場合、空気吸入口１１８からの空気も通路１１４を通じてマニホルドへ導入してよい。空気吸入口１１８からの空気は、ガス吸入口１１６からのガスと混合し得る。マニホルド１１２は次に、ガスまたはガス／空気混合物が、マニホルド１１２の上部表面に形成された１または複数の孔を介してマニホルド１１２のマニホルド空間１７０から発生し、マニホルド１１２より上の空間へと送られるのを許容する。
【００２０】
所望の炎の形や効果を生じさせるために、孔１１３は特定のパターンに配列される。さらに、複数の孔１１３が示されているが、可燃ガスを燃焼のために送るためには１つの孔１１３が使用されてもよい。マニホルド１１２から出るか放出される可燃ガスは、可燃ガス炎を形成するために、電子制御点火・炎感知アセンブリ１２０により点火され得る。代わりに、可燃ガスは手動で点火されてもい。電子制御点火システムと手動点火システムについては、いずれも以下で詳しく説明する。
【００２１】
図５に断面図で示され図６に組立分解図で示されている液体アセンブリ１５０は、ガス吸入口１１６、液体取入口１５２、周囲液体出口１５６、およびマニホルドアセンブリ１１０と外側スリーブ１５１の間に形成された空洞１６２に液体取入口１５２を流体の行き来が可能に接続する複数の液体管１５５によって形成された複数の液体通路１５４とを備えている。空洞１６２は液体出口１５６に通じている。液体取入口１５２はねじ部１６０を介してポンプ（図示しない）に接続されてよく、ポンプは、供給液を１または複数の液体通路１５４と液体出口１５６の中を移動させるのに十分な圧力下で、供給液を提供する。液体出口１５６は、図示されているように、スリーブ１５１の端部１５３とマニホルド１１２との間に形成される。代わりに、液体出口１５６は、液体管１５５自体によって完全に形成されてもよい。また代わりに、液体出口１５６は、供給液がマニホルドの空間より上の空間に出るよう液体通路１５４をマニホルド１１２を越えて延ばすことにより、マニホルド１１２の上に配置されてもよい。
【００２２】
供給液は少なくとも３つの供給源に由来し得る：（１）供給液は液体に由来し得る（つまり供給液は装置が中に配置された液体から得られる）；（２）供給液は別の供給源に由来し得る；または（３）供給液は供給液自体に由来し、供給液自体から再利用され得る（つまり供給液は装置が中に配置された液体からは分離され、供給液は装置を通じて再利用され得る）。
【００２３】
図１〜６に示された上述の装置１００の構成はあくまで例であって、他の構成も可能である。例えば、ガス通路１１４を包囲する複数の液体通路１５４と空洞１６２は必要ではない。複数の液体通路１５４が単純にガス通路１１４と並んで通っていてもよいし、または代わりにガス通路１１４が液体通路１５４を包囲していてもよい。さらに、複数の液体管１５５と通路１５４を、１つの通路と置き換えてもよいし、および／または多数のガス通路を設けてもよい。
【００２４】
装置１００は以下のように作動することができる。装置１００は部分的または完全に液体中に配置され得る。装置１００が液体中に部分的に配置される場合、マニホルド１１２の少なくとも一部が液体表面より上に配置され得る。このように配置されると、ガス吸入口１１６からガス通路１１４を通ってマニホルド１１２に形成された孔１１３の外まで、可燃ガスが供給される。空気も空気吸入口１１８から供給され、可燃ガスと混合する。一旦可燃ガスがマニホルド１１２から液体より上の空間に発生すれば、可燃ガス炎を生成するために、可燃ガスは点火されるかまたは点火後に連続的に燃焼される。
【００２５】
装置１００が液体中に完全に配置される（つまり装置が液体表面より下に配置される）場合、可燃ガスはマニホルド１１２により液体に直接送られる。その後、可燃ガスは表面で液体から発生し、手動または電子制御点火システムを使用して燃焼され、それにより液体表面かまたはそれより上で可燃ガス炎を生成する。例で示した実施形態では、マニホルド１１２が液体表面から３インチ（約７．６２ｃｍ）またはそれ未満のところに配置され得る。しかしながら、マニホルド１１２は、マニホルド１１２により液体に導入されるガスの量に応じて、液体表面のより近くに配置してもよいし、より遠くに配置してもよい。
【００２６】
液体出口１５４が液体表面より上に位置する場合、液体取入口１５２から複数の液体通路１５４を通って供給される供給液は、液体出口１５６を出て液体表面より上の空間に至り、液体中に戻る。代わりに、液体出口１５４が液体表面より下に位置する場合、供給液は液体へ直接分配されてもよい。代わりに装置１００は液体アセンブリ１５０無しで完全に機能してもよく、その代わりにマニホルドアセンブリ１１０を介してガス炎だけが提供される。
【００２７】
本考案に従って製造された装置２００の第２の例示的実施形態が図７，８に示される。装置２００は装置１００と同様に機能するが、違いを以下に示す。装置２００はマニホルドアセンブリ２１０と液体アセンブリ２５０を備えている。マニホルドアセンブリ２１０は、ガス供給源２ｌ７に接続されたガス吸入口２１６、マニホルド２１２、および円筒壁２１５を備えたチューブ２１８によって形成された通路２１４を備えている。通路２１４は、上側チューブ２２１によって形成された上側通路２２０に接続されている。代替的に、別個のチューブ２１８と上側チューブ２２１の代わりに、１つのチューブを使用することもできる。通路２１４，２２０は共に、ガス吸入口２１６をマニホルド２１２に接続する。マニホルド２ｌ２は、以下に説明するように、ガスがマニホルド２１２から発生することを可能にするようマニホルド２１２に形成された１または複数の孔２１３を有し得る。
【００２８】
液体アセンブリ２５０は、液体ポンプ２６０に接続された液体取入口２５２を有する。ポンプ２６０は液体取入口２５２に供給液を供給する。さらに、ポンプ２６０は、液体取入口２５２に関して軸方向に配置された回転式アセンブリ２６２を有する。回転式アセンブリ２６２は、供給液を所与の速度で回転させるか渦巻かせるプロペラ（図示しない）を備えている。この回転運動は、供給液が液体ポンプ２６０を出て液体取入口２５２に入った時に、供給液に、通路２１４の円筒壁２１５に抗する遠心方向の力をかけ、それにより図７のＡ−Ａ線に沿った図８の断面図に示されるような、いかなる液体も概ね含まれていない通路２１４の中央部分２７０が作成される。
【００２９】
装置２００は以下のように作動することができる。繰り返し述べるが、装置２００は液体中に部分的に配置されてもよいし、または液体中に完全に配置されてもよい。ポンプ２６０が液体取入口２５２に供給液を供給する。供給液はポンプ２６０を出ると、回転式アセンブリ２６２によって回転される。供給液が矢印２８１によって示された方向で液体取入口２５２の中に入ると、方向２７２のような回転運動が、通路２１４の円筒壁２１５に抗して遠心方向にかかり、それによりいかなる供給液も概ね存在しない中央部分２７０が作成される。
【００３０】
ガス供給源２１７からの可燃ガスは矢印２８０によって示された方向へガス吸入口２１６を介して通路２１４に入り、中央部分２７０に導入され、該中央部分２７０を少なくとも部分的に満たす。供給液とガスは、燃焼ガスと供給液の両方がマニホルド２１２に到達するまで、このようにして通路２１４，２２０を上方に運ばれる。
【００３１】
装置２００が液体中に単に部分的に配置され、マニホルド２１２の少なくとも一部分が液体表面より上にある場合、マニホルド２１２に入る可燃ガスは孔２１３を介して発生し、可燃ガス炎を生成するために例えば電子制御点火・炎感知アセンブリにより点火され得る。供給液は、液体より上の空間に推進されることにより噴水と同様な様式でマニホルド２１２を出てもよいし、または代わりに、供給液は、単にマニホルド２１２を出て液体に戻ってもよい。別の実施形態では（図示しない）、供給液が孔ではなく液体出口を出るように、マニホルドまたは液体アセンブリに液体出口を設けてもよい。
【００３２】
反対に、装置２００が完全に液体表面より下に配置される場合、供給液はマニホルド２１２を出て液体に至り得る。可燃ガスも孔２１３を介してマニホルド２１２を出て液体に至り得る。その後、可燃ガスは液体表面に上昇し、液体から発生し得る。一旦可燃ガスが液体から発生し、液体表面より上の空間に入ると、可燃ガス炎を生成するために可燃ガスに点火することができる。
【００３３】
代替的に、供給液に渦を巻かせてガスを中央部分に導入する代わりに、回転式アセンブリを用いるか、供給液とガスがそれぞれの吸入口または取入口に入ったときより低い圧力でガスと供給液を混合するかにより、ガスと供給液を混合することができる。混合法を使用する場合、マニホルドが完全に液体中に配置されるとすれば、ガスはマニホルドを出た後に供給液から発生し、液体表面より上で、可燃ガス炎を生成するために燃焼されるか、点火される。
【００３４】
本考案に従って製造された装置３００の第３の例証的実施形態が図９に示される。装置３００は、ガス通路３１８を通じて可燃ガス供給源３１７に接続されたマニホルド３１２を備えている。可燃ガス供給源３１７は自蔵ユニットであってよいし、可燃ガスの別個の供給源（図示しない）に接続されてもよい。例証的実施形態では、ガス供給源３１７は１ポンド（約４５４ｇ）のＬＰガスシリンダを備える。装置３００はまた、マニホルド３１２とガス供給源３１７が上に配置されたフロート３０１も備えている。フロート３０１は、装置３００が液体３０３の表面３０２に浮かぶように構成される。例証的実施形態では、フロート３０１は発泡スチロールから作られているが、いかなる浮かぶ材料を使用してもよい。
【００３５】
フロート３０１上にはポンプ３１５も備えられ、ポンプ３１５は、ポンプ３１５によって形成されたポンプ入口３２１が液体３０３と流体の行き来が可能であるように連通し、ポンプ３１５によって形成されたポンプ出口３２２が液体３０３の表面３０２より上の空間に通じるように形成され得る。ポンプ３１５によってやはり形成された通路３２０は、ポンプ出口３２１とポンプ出口３２２を接続する。ポンプ３１５は、太陽エネルギーや直接の電気配線接続のような電池または他の代替電力供給源によって作動するように構成され得る。
【００３６】
装置３００は以下のように作動することができる。可燃ガスはガス供給源３１７からガス通路３１８を通じてマニホルド３１２に供給される。可燃ガスは、マニホルド３１２の上部表面に形成された１または複数の孔３１３を介してマニホルド３１２から放出され、可燃ガス炎を生成するために、点火されるかまたは点火後に連続的に燃焼される。さらにポンプ３１５は、ポンプ入口３２１から通路３２０を通じてポンプ出口３２２から外へ出るように供給液を圧送するように機能し、ポンプ出口３２２から外へ出た供給液は、液体表面３０２より上の空間に入り、液体３０３に戻り得る。液体は所望の効果を生じるために種々の方法でポンプ出口３２２から出ることができる。
【００３７】
装置１００，２００に加えてまたは装置１００，２００に関連して、追加の構成要素および／またはアセンブリを使用してもよい。例えば、当該技術分野において周知のように、図１に示されている符号１２０のような電子制御点火・炎感知アセンブリを使用してもよい。電子制御点火は、スパークを生成することにより可燃ガス炎を生成すべく可燃ガスに点火するための、電極のような電気要素を備える。アセンブリの炎感知部分は、可燃ガス炎が消えた時を感知し、可燃ガスに再度点火を試みることができる。さらに炎感知部分は、再点火が失敗に終わった一定時間間隔後、例えば５秒後に、未燃焼ガスの過剰蓄積を回避するために可燃ガス供給を打ち切る。代わりに、電子制御点火・炎感知アセンブリ１２０が望まれない場合には、ライターの使用やパイロットの使用による簡単な可燃ガスの点火を含めた様々な他の方法を使用して点火を遂行することができる。
【００３８】
電子制御点火・炎感知アセンブリに関連して様々なオン−オフアセンブリを利用することが可能である。そのようなオン−オフアセンブリは、ユーザが装置をオンやオフにすることを可能にする。オン−オフアセンブリはオンとオフの位置を有するスイッチや、ユーザが炎および／または供給液の大きさを変えることができる可変スイッチを有し得る。さらに、例えば光電池を使用する、自動オン−オフスイッチを使用してもよい。光電池は、利用可能な光の量を測定し、且つ、それが十分に暗い時には装置をオンにし、それが十分に明るい時には装置をオフにするように構成され得る。オン−オフアセンブリのための他の構成を使用してもよい。
【００３９】
装置１００，２００，３００は、図１０，１１に示される隔離アセンブリ４００のような隔離アセンブリをさらに備え得る。隔離アセンブリは、装置が中に配置された液体から供給液を分離するのに望ましいことがある。例えば、供給液は、液体と混合するのに望ましくない可能性がある物質を供給液中に含んでいることがある。さらに、供給液を液体よりも高温で維持する場合には、供給液を液体と混合することが不適当であることもある。隔離アセンブリ４００は、装置４１０のマニホルド４１５を包囲する円筒壁４０５を含むように形成され得る。装置４１０の外表面に封止配列で接続された隔離アセンブリ４００の基部４０６も含まれる。この構成では、隔離アセンブリ４００は、隔離アセンブリ４００に含まれ装置４１０を通って循環されている供給液４２５が、装置４１０が中に配置されている液体４２０に入るのを分離し、それにより溶解可燃ガスのような任意の量の望ましくない物質や熱エネルギーが液体４２０に入るのを最小限にする。このように、例えば魚または植物のような液体中に存在する他の脆弱な成分を保護することができる。
【００４０】
所望の効果を生じさせるために、液体または炎自体に１または複数の炎増強物質を加えてもよい。例えば所望の色を生成するために液体または供給液に着色剤を加えることができる。また、燃焼する炎の色を変えるために、液体、供給液、または燃焼する炎自体に物質を導入することができる。例えば、ナトリウムの場合には明るい橙色というように、特定の色の炎を生成するために、燃焼の炎にナトリウムや銅のような炎増強物質を導入することができる。他の着色剤や物質も使用してもよい。さらに、例えばマニホルド上やマニホルドに隣接して配置された電灯のような他のアクセント灯を、所望の効果を生じさせるために設けてもよい。
【００４１】
本考案は上述の特定の例や物質に限定して考慮されるべきでなく、請求項で適切に述べられているような本考案のすべての態様を包含するものと理解すべきである。本明細書を読めば、本考案が関与する技術分野の当業者には、本考案を適用可能な多くの改変、均等なプロセス、ならびに多くの構造が、容易に理解されよう。
【図面の簡単な説明】
【図１】本考案に従って製造された装置の第１の実施形態の側面図。
【図２】図１の装置の反対側の側面図。
【図３】図１の装置の平面図。
【図４】図１の装置の底面図。
【図５】図３のＣ−Ｃ線に沿った装置の断面図。
【図６】図１の装置の組立分解図。
【図７】本考案に従って製造された装置の第２の実施形態の側面図。
【図８】図７のＡ−Ａ線に沿った装置の反対側の断面図。
【図９】本考案に従って製造された装置の第３の実施形態の側面図。
【図１０】隔離アセンブリの例証的実施形態を備えた、本考案に従って製造された装置の第４の実施形態の側面図。
【図１１】図１０の隔離アセンブリを備えた装置の平面図。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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