【事件の表示】
　特許第２８１２７５８号「光記録体及びその製造方法」の請求項１ないし１４に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結論】
　訂正を認める。
　特許第２８１２７５８号の請求項１ないし１４に係る特許を維持する。
【理由】
Ｉ．手続の経緯
　特許第２８１２７５８号の請求項１乃至請求項１４に係る発明についての出願は、平成１年４月１２日（優先権主張、昭和６３年４月１２日）に特許出願され、平成１０年８月７日にその特許の設定登録がなされ、その後、異議申立人滝口嘉三より特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１１年１１月５日に訂正請求がなされたものである。
ＩＩ．訂正の適否についての判断
ア．訂正明細書の請求項１乃至請求項１４に係る発明
　訂正明細書の請求項１乃至請求項１４に係る発明は、その特許請求の範囲の請求項１乃至請求項１４に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。
「１．基材上に、光反射率の差異によって識別され得る情報記録パターンが形成された光記録体であって、前記情報記録パターンが高反射率部分と低反射率部分とから構成されるとともに、該情報記録パターンの少なくとも一部分に回折格子またはホログラムからなる別の情報が記録されている、光記録体。
２．前記情報記録パターンの低反射率部分が、回析格子またはホログラムからなる、請求項１の光記録体。
３．前記情報記録パターンが回析格子を含み、該回析格子の一部のピッチ幅を変化させるようにしてパターンを形成してなる、請求項１の光記録体。
４．前記情報記録パターンが回析格子を含み、該回析格子の角度の一部を変化させるようにしてパターンを形成してなる、請求項１の光記録体。
５．前記情報記録パターンが回析格子を含み、角度の異なる回析格子を一部分２重焼きすることによって形成されたパターンが形成されてなる、請求項１の光記録体。
６．前記光記録体が光カードである、請求項１の光記録体。
７．前記光記録体が光ディスクである、請求項１の光記録体。
８．前記情報記録パターン部分を被覆するようにして基材の全面もしくは一部に光反射性材料層が積層されてなる、請求項１の光記録体。
９．前記情報記録パターン部分を被覆するようにして基材の全面もしくは一部に光記録材料層が積層されてなる、請求項１の光記録体。
１０．前記ホログラムの少なくとも一部分が、レーザー光の照射によってホログラムの再生画像が出現するタイプのホログラムからなる、請求項１の光記録体。
１１．基材上に、光反射率の差異によって識別され得る情報記録パターンを形成する光記録体の製造方法において、前記情報記録パターンを高反射率部分と低反射率部分によって形成するとともに、該情報記録パターンの少なくとも一部分に、別の情報が記録された回折格子またはホログラムを形成する、光記録体の製造方法。
１２．前記情報記録パターンの低反射率部分を、干渉性のある２光束あるいは物体波と参照波とで露光することにより形成する、請求項１１の光記録体の製造方法。
１３．前記情報記録パターンの低反射率部分を、該低反射率部分のサイズよりも小さい規則的パターンを有するマスクを介して露光することにより形成する、請求項１１の光記録体の製造方法。
１４．前記情報記録パターンの低反射率部分を、（ａ）該情報記録パターンを構成する情報ビットのサイズからなるパターンと（ｂ）前記情報記録パターンを構成する情報ビットのサイズよりも小さい規則的パターン、の双方を同一マスク中に有するマスクを介して露光することにより形成する、請求項１１の光記録体の製造方法。」
イ．訂正の内容
　特許権者が求めている訂正の内容は、以下のａ〜ｂのとおりである。
▲１▼訂正事項ａ
請求項１「基材上に、光反射率の差異によって識別され得る情報記録パターンが形成された光記録体であって、前記情報記録パターンが高反射率部分と低反射率部分とから構成されるとともに、該情報記録パターンの少なくとも一部分が回折格子またはホログラムによって構成されている光記録体。」を、「基材上に、光反射率の差異によって識別され得る情報記録パターンが形成された光記録体であって、前記情報記録パターンが高反射率部分と低反射率部分とから構成されるとともに、該情報記録パターンの少なくとも一部分に回折格子またはホログラムからなる別の情報が記録されている、光記録体。」と訂正する。
▲２▼訂正事項ｂ
請求項１１「基材上に、光反射率の差異によって識別され得る情報記録パターンを形成する光記録体の製造方法において、前記情報記録パターンを高反射率部分と低反射率部分によって形成するとともに、該情報記録パターンの少なくとも一部分を回折格子またはホログラムに形成する光記録体の製造方法。」を、「基材上に、光反射率の差異によって識別され得る情報記録パターンを形成する光記録体の製造方法において、前記情報記録パターンを高反射率部分と低反射率部分によって形成するとともに、該情報記録パターンの少なくとも一部分に、別の情報が記録された回折格子またはホログラムを形成する、光記録体の製造方法。」と訂正する。
ウ．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記訂正事項ａ及び訂正事項ｂについては、共に特許明細書の特許請求の範囲に記載された光記録体をより下位概念である、「光反射率の差異による情報記録パターンと、回折格子またはホログラムによる別の情報とを組み合わせた構造」に限定しようとするものである。また、当該訂正の記載は、出願当初の明細書第６頁第７〜１０行及び第４１頁第２〜６行の記載に基づくものである。
　したがって、上記訂正事項ａ及び訂正事項ｂは、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正であって、新規事項の追加に該当せず、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
エ．独立特許要件の判断
▲１▼特許法第２９条の２違反について
　訂正明細書の請求項１に係る発明（以下「本件発明１」という。）に対して、当審が通知した取消理由で引用した本件発明１の出願日前の出願であって、その出願後に出願公開された刊行物１（特願昭６２−１２０８５号（特開昭６３−１８１１４２号公報）参照）の出願（以下「先願」という。）の願書に最初に添付した明細書及び図面（以下「先願明細書」という。）には、「光学的記録媒体の製造方法」に関する発明について、以下の記載がある。
　「光学的に高い反射率を有する材料で凹凸パターンが形成され該凹凸パターンの凹部又は凸部の少なくとも一方に回折格子が形成されている光学的記録媒体の製造方法に於て、基材上にフォトレジストを塗布し、形成されたフォトレジスト層に微細な濃淡パターン状に情報が記録されたマスクを用いて露光を行い、次いでレーザー光線を用いてホログラフィックな露光をさせ回折格子の潜像を形成し、その後フォトレジストを現像し、得られた記録パターンのスタンパを起こし、該スタンパにより微細なパターン状に回折格子が設けられた光学的記録媒体を複製することを特徴とする光学的記録媒体の製造方法。」（特許請求の範囲）
「（発明の概要）
　本発明は基材上にフォトレジストを塗布し、形成されたフォトレジスト層に微細な濃淡パターン状に情報が記録されているマスクを用いて露光を行ない、次いでレーザー光線を用いてホログラフィックな露光を行ない、その後フォトレジストを現像させる。得られた記録パターンからスタンパを起こし、このスタンパにより微細なパターン状に回折格子が設けられた光学的記録媒体を複製させる光学的記録媒体の製造方法である。」（第２頁上右欄第１７行〜下左欄第７行）
「（発明の詳述）
　以下、本発明を図面に基づき詳細に説明する。
　途中略
　微細な濃淡パターン状に情報が記録されているマスク４を介してフォトレジスト層３を露光させ（第２図）、次いでレーザー露光装置を用いてフォトレジスト層３にホログラフィックな露光を行ない回折格子の潜像を形成させる（第３図）
　途中略
複製された基材７の表面には光学的に高い反射率を有する金属を選び、真空蒸着又はスパッタリングにより金属層８を形成させ、その上部には光学的に透明な材料９で保護層を形成させる（第７図）。この場合読み取り光は材料９側から照射するが、逆に基材７を光学的に透明な材質をも備えた材料を使い基材７の側から読み出し光を照射する方式も可能である。また、その表面に光学的に高い反射率を有する金属薄膜を設けた熱可塑性樹脂にスタンパ６で圧縮成型を行ない光学的記録情報を転写させる方法も可能である。
　途中略
反射率は、平滑部１００に対し回折格子部３４となり約６０％のコントラストが確認される。
　以下略
」（第２頁下左欄第８行〜第３頁下左欄第２行）
「（本発明の効果）
　本発明により回折格子部と平滑部を選択的に形成が行なえ、しかもレーザー光学装置の組み換え方により精度の高い種々の回折格子の形成も可能となり、しかも効率よく光学的記録媒体の大量複製も行なうことができる。」（第３頁下右欄第第６行〜第１１行）
　したがって、上記「光学的記録媒体の製造方法」に関する記載を考慮すると、以下の「光学的記憶媒体」が当然得られるものと認められる。
「基材上に、光反射率の差異によって識別され得る凹凸パターンが形成された光学的記録媒体であって、前記凹凸パターンが高反射率部分と低反射率部分とから構成されるとともに、該凹凸パターンの少なくとも一部分に回折格子が記録されている、光学的記録媒体。」
（対比、判断）
　本件発明１と、先願明細書に記載された発明とを対比する。
　先願明細書に記載された発明の「凹凸パターン」、「光学的記録媒体」は、本願発明１の「情報記録パターン」、「光記録体」に相当することは明らかであるので、本件発明１と先願明細書に記載された発明とは、
「基材上に、光反射率の差異によって識別され得る情報記録パターンが形成された光記録体であって、前記情報記録パターンが高反射率部分と低反射率部分とから構成されるとともに、情報記録パターンの少なくとも一部分に回折格子が記録されている、光記録体。」
である点で一致するものの、本件発明１は、「情報記録パターンの少なくとも一部分に、別の情報が記録された回折格子またはホログラムを形成する」点で、先願明細書記載の発明と相違するものと認められる。
　本件発明１は、この相違点に係る構成を有することにより、電子顕微鏡で情報パターンは読めたとしても回析格子またはホログラムを読むことができず、また回析格子またはホログラムは記録体内に埋没して情報パターンと同一層に形成されているため、光学的に読んだとしても埋没した深さのためにボケが生じて完全な再生を行うことはできず、その結果偽造防止に多大な効果が得られ、またカードに使用して過酷な環境に置かれてもキズがつかないという、先願明細書記載の発明にはない顕著な作用効果を有するものであるから、本件発明１が先願明細書に記載された発明と実質的に同一であるとすることはできない。
　そして、本件の請求項２乃至１０記載の発明は、本件発明１の構成をその主要部としているから、同様な理由により先願明細書に記載された発明と実質的に同一であるとすることはできない。
　また、本件の請求項１１に記載された発明（以下「本件発明１１」という。）と先願明細書に記載された発明とを対比すると、本件発明１１は、先願明細書に記載された発明と
「情報記録パターンの少なくとも一部分に、別の情報が記録された回折格子またはホログラムを形成する」点で相違するものと認められる。したがって、本件発明１１も、この相違点に係る構成を有することにより、先願明細書の発明にはない顕著な作用効果を有するものであるから、本件発明１１が先願明細書に記載された発明と実質的に同一であるとすることはできない。
　そして、本件の請求項１２乃至１４記載の発明は、本件発明１１の構成をその主要部としているから、同様な理由により先願明細書に記載された発明と実質的に同一であるとすることはできない。
▲２▼特許法第３９条第１項違反について
　本件発明１に対して、当審が通知した取消理由で引用した本件出願日前の出願の刊行物２（特許第２７５４３７３号公報、特願平８−２０９０９３号（特願昭６２−７２６４２号の分割出願）参照）の特許請求の範囲には、以下の発明が記載されている。
「１．光学的読み取り可能なデータ担体である光記録媒体であって、該光記録媒体のデータ領域が、平滑面部分と光を反射する、大きさ０．１〜２．０μｍ、深さ０．０５〜１．０μｍからなる規則的な回折格子表面を有する光散乱面部分とのパターンで構成され、前記平滑面部分と規則的な回折格子部分での光の反射量の差によりデータ信号を得ることを特徴とする光記録媒体。
２．前記データ領域が光反射性薄膜で覆われていることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。
３．支持体上に記録されるデータに対応した、平滑面部分と大きさ０．１〜２．０μｍ、深さ０．０５〜１．０μｍからなる規則的な回折格子表面を有する光散乱面部分とのパターンが形成されているマスタ版を用いて、光記録媒体部材の面を押圧することによりマスタ版のパターンを光記録媒体部材に複製して光記録媒体のデータ領域を作成する光記録媒体の製造方法において、前記マスタ版が、規則的な回折格子表面を有する支持体上に感光性樹脂層を設け、この感光性樹脂層に予め用意したデータパターンを露光し、現像、乾燥することにより得られる、データに対応した平滑面部分と規則的な回折格子表面を有する光散乱面部分とのパターンが形成されたマスタ版であることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
４．マスタ版のパターンを光記録媒体部材に複製した後に、光反射性薄膜を形成することを特徴とする請求項３記載の光記録媒体の製造方法。
５．記録されるデータに対応した平滑面部分と大きさ０．１〜２．０μｍ、深さ０．０５〜１．０μｍからなる規則的な回折格子表面を有する光散乱面部分とのパターンを金属板に複製して、該金属板を金型として用いてインジエクション法により光記録媒体のデータ領域を複製することを特徴とする光記録媒体の製造方法。」
（対比、判断）
　本件発明１と刊行物２の特許請求の範囲の第１項（「以下「先願発明１」という。）、第３項（「以下「先願発明２」という。）及び第５項（「以下「先願発明３」という。）にそれぞれ記載された発明を対比すると、先願発明１乃至３には、本件発明１特有の構成である、「情報記録パターンの少なくとも一部分に、別の情報が記録された回折格子またはホログラムを形成する」構成を有していない。
　したがって、本件発明１と先願発明１乃至３が同一であるとすることはできない。
　そして、本件の請求項２乃至１０記載の発明は、本件発明１の構成をその主要部としているから、同様な理由により先願発明１乃至３と同一であるとすることはできない。
　また、本件発明１１と先願発明１乃至３とを対比すると、先願発明１乃至３は、本件発明１１の特有の構成である「情報記録パターンの少なくとも一部分に、別の情報が記録された回折格子またはホログラムを形成する」構成を有していない。したがって、本件発明１１も、先願発明１乃至３と同一であるとすることはできない。
　そして、本件の請求項１２乃至１４記載の発明は、本件発明１１の構成をその主要部としているから、同様な理由により先願発明１乃至３と同一であるとすることはできない。
　したがって、本件の請求項１乃至請求項１４は特許出願の際独立して特許を受けることができたものである。
オ．むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項で準用する第１２６条第２−４項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
ＩＩＩ．特許異議申立てについての判断
ア．申立て理由の概要
　特許異議申立人滝口嘉三は、証拠として甲第１号証乃至甲第６号証を提出し、請求項１，２，６〜９及び１１に記載された発明は、甲第１号証の出願時の明細書及び図面に記載された発明であるからこれらの特許は特許法第２９条の２の規定に違反してなされたものであり、また、請求項１，２，６〜９及び１１に係る発明は、甲第６号証の特許請求の範囲に記載された発明であるからこれらの特許は特許法第３９条第１項の規定に違反してなされたものであり、また、請求項１及び１１の記載、本件特許明細書の「発明の詳細な説明」の記載には不備があり特許法第３６条第４項、第５項、第６項の規定に違反しているので請求項１乃至１４に記載された発明の特許は取り消されるべき旨主張している。
イ．申立人が提出した甲各号証記載の発明
　異議申立人が提出した甲第１〜６号証の刊行物には、以下の点が記載されていると認める。
ａ．甲第１号証（特開昭６３−１８１１４２号公報）
　甲第１号証は、当審の取消理由で引用した刊行物１であり、上記ＩＩ、エ、▲１▼において示した事項が記載されている。
ｂ．甲第２号証（特開昭６２−２５６２４８号公報）
　甲第２号証には、「データカード取扱システム」に関する発明について以下の記載がある。
「この発明は、光学的データ情報記憶装置および特に、目視読出し可能画像およびレーザ記録機械読出し可能データの双方を含む情報カードの個人情報を記録しかつ読出すための
システムに関するものである。」（第２頁下左欄第１２行〜第１６行）
ｃ．甲第３号証（特開昭６３−２０７３９号公報）
　甲第３号証には、「光カード記録担体」に関する発明について以下の記載がある。
「（１）カード状の基体の一部に、光エネルギーにより情報の記録及び／又は再生が可能な記録領域が設けられた記録担体において、前記記録領域の記録内容を分類するための情報が該記録領域とは別の領域に設けられていることを特徴とする光カード記録担体。」（特許請求の範囲）
ｄ．甲第４号証（特開昭５８−２００２７５号公報）
　甲第４号証には、「パターン状フレネルホログラムの製造方法」に関する発明について以下の記載がある。
「本発明は基本的には以上のようであるが、本発明の製造方法によって得られるフレネルホログラムは表面の微細な凹凸によりホログラム画像が記録されているので（以下略）」（第３頁上左欄第９行〜第１２行）
ｅ．甲第５号証（特開昭５９−１５４４８２号公報）
　甲第５号証には、「ホログラムおよびその制作方法」に関する発明について以下の記載がある。
「ホログラムは立体像を記録し、再生する上できわめて有効な手段であり、（以下略）」（第２頁上左欄第第５行〜第６行）
「本発明を適用できるホログラムは、（途中略）およびホログラフィック回折格子など多種類を包含する。」（第２頁上右欄第１３行〜第１９行）
ｆ．甲第６号証（特許第２７５４３７３号公報）
　甲第６号証は、当審の取消理由で引用した刊行物２であり、上記ＩＩ、エ、▲２▼において示した発明が記載されている。
ウ．対比、判断
▲１▼特許法第２９条の２違反について
　上記ＩＩ、エ、▲１▼で判断したように、甲第１号証の刊行物の出願当初の明細書及び図面には、本件の請求項１，２，６〜９、１１の特有の構成である「情報記録パターンの少なくとも一部分に、別の情報が記録された回折格子またはホログラムを形成する」構成がなく、上記各請求項記載の発明と実質的に同一の発明が記載されているとすることができない
　さらに、光学的記録媒体として光カードが周知であることを示す甲第２号証及び甲第３号証の各刊行物、並びに、表面の微細な凹凸によってホログラム画像を記録する技術が周知であることを示す甲第４号証及び甲第５号証の各刊行物にも、上記「情報記録パターンの少なくとも一部分に、別の情報が記録された回折格子またはホログラムを形成する」構成がなく、上記各請求項記載の発明と実質的に同一の発明が記載されているとすることができない。
　なお、出願人は、特許異議申立書第１４頁第２４行〜第１５頁４行において、
「例えば特許権者は、本件特許明細書第３頁右欄第４９行目の記載に従って、ホログラムが「別の情報」を記録したものであることを限定し、甲１号媒体との差異を主張するかもしれない。しかし甲第１号証の第３頁右下欄第８〜１０行目には「レーザ光学装置の組み換え型により精度の高い種々の回折格子の形成も可能となり」と記載されており、甲第１号証には甲１号媒体に形成する回折格子に機能を持たせることが示唆されている。また甲第４号証や甲第５号証に開示されている様に、表面の微細な凹凸によってホログラム画像を記録する技術は本件出碩時点において既に当業者にとって周知であるところ、甲１号媒体の凸部に形成されてなる回折格子の微細な凹凸に「別の情報」を担持させることは当業者が必要に応じて適宜なし得る程度の設計事項にすぎないものである。」と主張している。
　しかし出願人が主張する甲第１号証の第３頁右下欄第８〜１０行目の記載は、レーザー装置の組み換え方により精度の高い回折格子の形成が行えることについての記載であり、回折格子に「別の情報」を担持させることを示唆しているものと認めることはできない。また、甲第４号証及び甲第５号証によって、表面の微細な凹凸によってホログラム画像を記録する技術が周知であることは認めるとしても、「情報記録パターンの少なくとも一部分に、別の情報が記録された回折格子またはホログラムを形成する」構成について記載されてない以上、甲第１号証記載の回折格子が当該構成を実質的に記載していると認めることはできない。
▲２▼特許法第３９条第１項違反について
　上記ＩＩ、エ、▲２▼で判断したように、甲第６号証の先願発明１乃至３は、本件請求項１，２，６〜９及び１１記載の発明の特有の構成である、「情報記録パターンの少なくとも一部分に、別の情報が記録された回折格子またはホログラムを形成する」構成を有していない。
　したがって、本件請求項１，２，６〜９及び１１記載の発明と先願発明１乃至３が同一であるとすることはできない。
▲３▼特許法第３６条第４項違反について
　特許異議申立人は「特許明細書に不備があり本件発明の技術範囲を正確に特定できない」旨の主張をしているので、係る特許法の適用条文は第３６条第３項（及び第４項）であると認められるので、そのように解釈して判断する。
　訂正明細書には、当業者が容易にその実施をすることができる程度に、訂正明細書の請求項１乃至請求項１４に係る発明の目的、構成、効果が記載されているものと認められる。そして、訂正明細書の請求項１乃至請求項１４に係る発明は、その構成が明確であるので、発明の詳細な説明中に請求項１乃至請求項１４に記載されている構成以外の構成が記載されていたとしても、各請求項の構成は特定できると認められるので、これをもって、本件請求項１乃至請求項１４の発明に係る特許を取り消すべきとすることはできない。
▲４▼特許法第３６条第５項及び第６項違反について
特許異議申立人は「本件請求項１及び１１には、特許を受けようとする発明が明確に記載されていない」旨の主張をしているので、係る特許法の適用条文は第３６条第４項及び第５項であると認められるので、そのように解釈して判断する。
　訂正明細書の請求項１乃至請求項１１に係る発明は、異議申立人が必須構成要件と主張する「情報記録パターンの少なくとも一部分に、別の情報が記録された回折格子またはホログラムを形成する」構成を有しており、請求項１及び請求項１１に係る発明の構成は明確であると認められるので、特許法第３６条第４項及び第５項に違反してはいないものと認められる。
エ．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申し立ての理由及び証拠によっては、本件請求項１乃至請求項１４に係る発明の特許を取り消すことができない。
　また、他に本件請求項１乃至請求項１４に係る発明についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり審決する。
【異議決定日】
平成１１年１２月７日（１９９９．１２．７）
【訂正の要旨】
▲１▼訂正事項ａ
請求項１「基材上に、光反射率の差異によって識別され得る情報記録パターンが形成された光記録体であって、前記情報記録パターンが高反射率部分と低反射率部分とから構成されるとともに、該情報記録パターンの少なくとも一部分が回折格子またはホログラムによって構成されている光記録体。」を、特許請求の範囲の減縮を目的として「基材上に、光反射率の差異によって識別され得る情報記録パターンが形成された光記録体であって、前記情報記録パターンが高反射率部分と低反射率部分とから構成されるとともに、該情報記録パターンの少なくとも一部分に回折格子またはホログラムからなる別の情報が記録されている、光記録体。」と訂正する。
▲２▼訂正事項ｂ
請求項１１「基材上に、光反射率の差異によって識別され得る情報記録パターンを形成する光記録体の製造方法において、前記情報記録パターンを高反射率部分と低反射率部分によって形成するとともに、該情報記録パターンの少なくとも一部分を回折格子またはホログラムに形成する光記録体の製造方法。」を、特許請求の範囲の減縮を目的として「基材上に、光反射率の差異によって識別され得る情報記録パターンを形成する光記録体の製造方法において、前記情報記録パターンを高反射率部分と低反射率部分によって形成するとともに、該情報記録パターンの少なくとも一部分に、別の情報が記録された回折格子またはホログラムを形成する、光記録体の製造方法。」と訂正する。
（５４）【発明の名称】
光記録体及びその製造方法
【発明の詳細な説明】
　　　　　　　　　技　術　分　野
　本発明は、光学的な情報記録が可能な光記録体に関し、さらに詳しくは、レーザ光により情報ビットを読取るリード・オンリー・メモリ（ＲＯＭ）タイプ、レーザ光による情報の書込みが可能なダイレクト・リード・アフター・ライト（ＤＲＡＷ）タイプ、あるいは消去ならびに書込みが可能なタイプの光記録体およびその製造方法に関する。
　　　　　　　　　背　景　技　術
　従来、クレジットカード、バンクカード等のカード類に埋設される記録材料としては、磁気記録材料が主として用いられている。この磁気記録材料は、情報の書込みならびに読出しが容易に行なえるという利点があるが、その反面、情報の改竄が比較的容易であり、しかも高密度の情報記録ができないという問題があった。
　近年、高密度情報の記録再生の観点からＩＣカードや光カードの開発が進められている。なかでも光学的な記録再生方式による光カードによれば記録される情報密度が従来の磁気方式によるものやＩＣ方式によるものに比べて飛蹴的に高いという利点がある。
　ところでこのような光カードに用いられる光記録体乃至光記録材料としては従来以下のようなものが提案されている。
　例えば第１９図（Ａ）に示す例はいわゆるＲＯＭ（リード・オンリーメモリ）型の光記録体の例であり、この場合は光カード５０の上に高反射率部分５１と低反射率部分５２によって構成される光記録体が形成されており、低反射率部分５２によって情報記録ビットが構成されている。
　第１９図（Ｂ）は光カード５０の断面図であり、透明基板５４上に写真製版法（ホトリソグラフィー）によって情報記録パターンに応じた光反射材料５５を形成し、一方基材５８上に黒色の印刷層５７が形成されたものを接着剤層５６を介して接合することによって光カード５０が形成されている。従ってこの場合は光反射材料５５と印刷層５７との光反射率の差異を検知することによって情報の読取りが行われる。
　また第２０図は特公昭５８−４８３５７号公報に開示されたＲＯＭ型の光記録体の例であり、この例の場合は、一定の基材上に形成されたハロゲン化銀乳剤の膜６０に対して記録情報に応じたパターン露光ならびに現像を行うことによって、周囲の部分６１と光反射率のことなる情報記録ビット６２に形成されている。
　また第２１図に示す例は情報の書込みの後に現像処理の必要はなく、書いた後に直読することができるいわゆるＤＲＡＷ型（ダイレクト・リード・アフター・ライトタイプ）の光記録体の例であり、この場合はホトポリマー７１の片面を凹凸状に形成し、この凹凸面に沿ってＴｅ等の光記録材料７２の薄膜を設け、これを接着剤７３により基板７４に接着すると共に、ホトポリマー７１の上面には光透過性のアクリル樹脂７５等を積層することによって光記録体が構成されている。
　そしてこの光記録体への情報の書込みは、第２２図に示すように照射されたレーザービーム７６により光記録材料７２に凹凸部を走査して、例えば凸部に位置を合わせて位置を確認した後、光記録材料７２の凸部にビット情報を書込んでいくことによって行われる。
　また第２３図は特公昭５８−４８３５７号公報に開示されたＤＲＡＷ型の光記録体を示すもので、この場合は基材上にハロゲン化銀乳剤の膜８０を形成し、この膜８０に対してパターン露光と現像を行うことによって光反射率の異なる８１および８２を形成し、光反射率の相違により部分８１の位置を確認して部分８１上にビット情報を書込むものである。
　また、このような光記録体をカードとして適用し、カード表面に別途作成したホログラムを貼付するようにしたものも提案されている。
　しかしながら、これら従来の光記録体はいずれも製造工程が比較的煩雑であり、大量に製造、複製を行う場合、必ずしも経済的な方法であるとは言えず、また得られる光記録体の経時的な保存性、耐久性の点でも十分満足のいくものではない。
　例えば第１９図に示した光記録体においては、光反射材料のパターニングを強酸等による湿式エッチングにより行うため、エッチング液の洗浄ならびに乾燥工程が煩雑で長時間を要し、また洗浄が不十分の場合には完成後に経時的に腐食が進行し、光記録体の寿命を短くする。またエッチング液のｐＨ管理は通常困難であって、さらにエッチング液中の異物による障害が発生する等の問題もある。
　また第２０図に示す光記録体においては、凸面の形成においてその高さならびに幅に一定以上の精度を要求されることから、その制御方法はいきおい困難になるという問題を有し、またそのために製造工程が複雑化し、コストが増大するという問題がある。
　また第２３図に示した光記録体においては、トラックの幅のみにおいて精度を要求される点で第２０図の記録体よりも製造が容易であると言えるものの、特殊なハロゲン化銀乳剤等の特定の写真材料を必要とするため、製造コストが増大するという問題を有している。
　そして、このような何れの方法により作成した光記録体を光カードに適用した場合には、情報記録パターンを顕微鏡等で容易に見ることができるため、光学的手法により偽造が可能であるという問題がある。この点、光カード表面に別途作成したホログラムを貼付するようにしたものは、ホログラム部分が電子顕微鏡で読めない効果はあるが、表面に露出していると型取りや光学的手法で複製が可能であると共に、簡単に剥がされてしまうため同様に偽造防止に対して必ずしも充分な効果はない。
　　　　　　　　発　明　の　開　示
　本発明は上記問題点を解決するためのもので、光記録体の性能に何ら影響を及ぼすことなく、情報記録パターンを形成した記録体の少なくとも一部に回折格子或いはホログラムより成る別種の情報を重畳させることにより、作成が容易で低コスト化が可能であり、光記録体の偽造を防止すると共に装飾的効果も得ることが可能な光記録体及びその製造方法を提供することを目的とする。
　本発明の光記録体は、基材上に、光反射率の差異によって識別され得る情報記録パターンが形成された光記録体であって、前記情報記録パターンが高反射率部分と低反射率部分とから構成されるとともに、該情報記録パターンの少なくとも一部分が回折格子またはホログラムによって構成されていることを特徴としている。
　さらに、本発明の光記録体の製造方法は、基材上に、光反射率の差異によって識別され得る情報記録パターンを形成する光記録体の製造方法において、前記情報記録パターンを高反射率部分と低反射率部分によって形成するとともに、該情報記録パターンの少なくとも一部分を回折格子またはホログラムに形成することを特徴としている。
　本発明は光反射率の差異によって識別される情報記録パターン部を有する光記録体、例えば、光カード、光ディスク等において、記録体の少なくとも一部、例えば情報記録パターンの低反射率部分に回折格子あるいはホログラムからなる別の情報を記録するようにしたものであり、製造コストを低減化すると共に、光学的手法による偽造を防止し、また色彩的に非常に美しく、装飾体をも兼ねられる効果が得られる。また、回折格子またはホログラムは情報パターンと同一面内に形成され、記録体内に埋没しているため、電子顕微鏡で情報パターンは読めたとしても回折格子またはホログラムを読むことができず、光学的に読んだとしても埋没した深さのためにボケが生じて完全な再生を行うことはできず、さらにカードに使用して過酷な環境に置かれてもキズがつきにくい。
　　　　　　　　図面の簡単な説明
　第１図は本発明の光記録体をＲＯＭタイプの光カードとして構成した場合の例を示す図、第２図は光カードの情報記録部にホログラムを重ねて記録した場合を示す図、第３図は本発明の光記録体をＤＲＡＷタイプの光カードとして構成した場合の例を示す図、第４図はＲＯＭタイプの光カード全面に回折格子を形成した場合を示す図、第５図は回折格子のピッチ幅を変えてパターンを形成した場合を示す図、第６図は第５図の回折格子のピッチ幅を変えて形成したパターンを情報記録部に重ねて記録した場合を示す図、第７図は光カードの断面図、第８図は干渉縞記録方法を示す図、第９図、第１０図、第１１図、第１２図、第１３図、第１４図、第１５図、第１６図は本発明の光記録体の製造方法の例を説明するための図、第１７図は本発明の光記録体の書込み方式を説明するための図、第１８図は本発明の光記録体の製造工程で用いる装置の断面図、第１９図は従来の光カードの一例を示す図で、第１９図（Ａ）は平面図、第１９図（Ｂ）は断面図、第２０図、第２１図は従来の光カードの他の例を示す図、第２２図は第２１図の書込み方式を説明するための図、第２３図は従来の光記録体の他の例を示す図である。
　　　　　発明を実施するための最良の形態
　以下、本発明の実施例を図面に基づき説明する。
　第１図は本発明の光記録体をＲＯＭタイプの光カードとして構成した場合の例を示す図で、１は光カード、２は情報記録部、２ａは高反射率部分、２ｂは低反射率部分、Ｐは情報記録ビット、３はホログラムを示している。
　この光カード１では、高反射率部分２ａに対して低反射率部分２ｂからなる情報記録部２が形成されると共に、情報記録部２とは別の場所に後述する方法でホログラム３が形成されている。
　第２図は光カードの情報記録部にホログラム３を重ねて記録した場合を示す図である。
　第２図の光カードの場合には、後述するように情報記録部の低反射率部分２ｂにホログラムを形成したもので、人の目には装飾的効果のある像が観察できるが、この情報をレーザー光で読み取る場合に、ホログラム記録部分はレーザー光を回折ないし散乱するために黒い部分として認識され、情報の読取り性能の向上に役立ち、何等の悪影響を与えない。
　第３図は本発明の光記録体をＤＲＡＷタイプの光カードとして構成した場合の例を示す図で、情報記録部にホログラムを重ねて記憶すると共に、情報記録部以外の場所にもホログラムを記録させた場合を示している。
　第３図において、高反射率部分２ａは光により書込み可能な光記録トラックを形成し、低反射率部分２ｂは案内トラックを形成している。そして、この案内トラック部分にホログラムを形成している。なお、第３図においては光記録トラックと案内トラックが交互に形成されているが、案内トラックの本数を減少させることも可能である。また、低反射率部分をビット化したプレフォーマットを形成しておいてもよい。
　第４図はＲＯＭタイプの光カード全面に回折格子を形成した場合を示し、回折格子と直交方向に色分散が生じて見る角度により色々な色で光カードが見えることになる。また、第２図で説明したように読取り用のレーザー光に対しては回折格子は回折ないし散乱要素として機能する。
　第５図は回折格子のピッチ幅を変えた５ａ部分と５ｂ部分を形成し、それによりパターンを形成したものである。
　また第６図は、第５図の回折格子のピッチ幅を変えて形成したパターンを情報記録部に重ねて記録したものである。なお、回折格子のピッチ幅を変えてパターンを形成する方法の他に、一部回折格子の角度を異ならせる方法、或いは角度の異なる回折格子を一部二重焼きする方法によってパターンを形成してもよい。
　第７図は上記光カードの断面図を示す図で、第７図（Ａ）は第１図、第３図、第４図、第５図の場合の天地断面図、第７図（Ｂ）は微細凹凸の拡大図、第７図（Ｃ）は回折格子の場合の凹凸の拡大図、第７図（Ｄ）はホログラムの場合の凹凸の拡大図である。更に第７図（Ｅ）は、別の態様の回折格子の表面凹凸を示す断面図である。図中、１０１は透明基材、１０２は型取剤またはフォトレジスト層、１０３は光反射材料または光記録材料層、１０４は接着剤層、１０５は支持基材、１０６は情報パターン、１０７、１０８は微細凹凸である。
　透明基材１０１は光透過性のあるプラスチックフィルムシート、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリスチレン、エポキシ等のシート、フィルム或いはガラス等からなり、その厚みは、０．２〜０．７ｍｍ程度である。この透明基材は、記録媒体を強度的に支持すると共に、この厚みにより、微細凹凸１０８を偽造の目的のために光学的に複写することができなくなる。
　なお、透明基材の外側表面に表面硬化層を設けることが可能で、この層はＵＶ硬化性樹脂あるいは電子線硬化性樹脂により形成すればよい。
　１０２の層は、表面に（ａ）ホログラム干渉縞による凹凸、（ｂ）回折格子縞による凹凸もしくはマスキングパターン露光による凹凸、（ｃ）スリガラス等の粗面を通しての露光により形成した単なる微細な凹凸（低反射率部）１０７を有する情報パターン（ＤＲＡＷ型、ＲＯＭ型）１０６からなる情報記録部と（ｄ）ホログラム干渉縞による凹凸、（ｅ）回折格子縞からなる凹凸もしくはマスキングパターン露光による凹凸１０８とを有する層であり、この層は後述する電子線硬化樹脂、紫外線硬化樹脂あるいは熱硬化性樹脂またはフォトレジスト等により後述する方法で形成される。この層に記録される情報パターンは、例えばＲＯＭ型であれば（５〜１５）×（５〜２０）μｍ程のビット、ＤＲＡＷ型であれば巾３〜１０μｍでピッチ１０〜２０μｍ程のトラッキング溝と記録溝である。さらに、この上に形成される微細凹凸１０７は上記（ａ）、（ｂ）の凹凸であれば０．３〜１．０μｍ、上記（ｃ）の凹凸であれば０．８μｍ程度のピッチを持ち、深さ（山谷間）は０．１〜５μｍ程度のものである。層としての厚みは、最大の厚みを持つパターン部の高さで１０〜４０μｍ程度である。また、微細凹凸１０８は通常のレリーフホログラムのものと同じであり、記録されるホログラムは後述される種々のホログラムである。この様に微細凹凸１０８（特にホログラム）と情報パターン１０６とが同一部材で構成されているので、従来のホログラムラベルの貼着による偽造防止と異なり、ホログラムと情報パターンを分離させることができずに、極めて高いセキュリティーを持つ。
　なお、透明基材の型取剤との面にはこの両者の接着を高めるために必要に応じてプライマー層を設けることができる。この層はＵＶ硬化性、電子線硬化性樹脂あるいは熱硬化性樹脂等の樹脂で形成される。
　１０３の層は、ＲＯＭ、ＤＲＡＷ型によって後述する光反射材料または光記録材料を後述する方法によって形成させるものであり、この層により微細凹凸１０８（特にホログラム）反射型ホログラムとして観察されることになる。
　１０４の層は、支持基材と情報パターン１０６等が形成されている透明基材１０１とを接着させるもので、通常の種々の型の感圧、感熱、常温反応型接着剤、二液硬化タイプ、ウレタン系、エポキシ系、塩酢ビ等により形成される。
　１０５の支持基材は、ある意味で情報パターン１０６と微細凹凸１０８を保護するものであり、かつ、記録媒体の一例であるカードにおいてはカードの体をなすものである。この層１０５は通常プラスチックフィルムシートが用いられ、塩化ビニルフィルムが加工上の点から好的に用いられる。この層１０５には、印刷等により、絵柄、文字を設けることができる。又、この厚みが記録媒体の形態により異なるが、カードであれば０．１〜０．５ｍｍ程度である。
　こうして形成した第７図（Ｂ）に示す微細な凹凸が回折格子の場合は第７図（Ｃ）に示すように正弦波状もしくはブレーズド形状となり、ホログラムの場合は第７図（Ｄ）のようになる。
　また、マスクパターン露光によって微細凹凸を形成する場合は、凹凸形状を第７図（Ｅ）に示すような規則的な矩形波形状にすることができる。この場合は、低反射領域と高反射領域の境界がシャープになるため、より高精度のパターンが得られる。
　以上のように本発明は、情報パターンと共に回折格子或いはホログラムを記録したもので、言わずミクロパターンとマクロパターンとを同時に記録しているので、ミクロパターンは電子顕微鏡で観察できたとしてもマクロパターンは観察することはできず、また後述するようにマクロパターンは情報パターンと同じ面内に埋没されて形成されるので、光学的に読みだしても記録深さのためにボケが生じ、完全な再生を行うことができず偽造を防止することができる。
　次に、回折格子の作成方法及び、ホログラム作成方法について簡単に説明する。
　第８図は回折格子作成方法を示す図で、レーザー６からの光をミラー７ａで反射させ、ハーフミラー７ｂで２分し、さらにビームエキスパンダー８ａ、８ｂで拡大した２光束を感光材料９上で干渉させて形成する。この際、２光束の交差角θを大きくすると格子のピッチは小さくなり、θを小さくすると格子のピッチは大きくなる。従ってθを変えることにより回折格子のピッチ幅を選択することができる。
　第８図はホログラムの記録方法を示す図で、物体波と参照波を感光材料９に照射することにより、感光材料９上には物体波の振幅と位相情報が記録され、これに再生用照明波を照射するとその回折波は物体波で変調されたものとなり、元の物体が再生されて観測することができる。
　なお、本発明で使用するホログラムとしては、物体を透過または反射するフレネル回折波を物体波とし、感光材料面から任意の距離にある平行光或いは拡散光を参照波として記録されるフレネルホログラム、物体を透過、あるいは反射する波がフランホォーファー回折波になる場合に記録されるフランホォーファーホログラム、記録しようとする物体をレンズ等の結像光学系により感光材料上に結像するように配置して記録するイメージホログラム、白色光の再生を可能にしたレインボーホログラム、感光材料に対して反対方向から物体波と参照波を照射し、感光材料の厚み方向に干渉縞を形成するようにしたリップマンホログラム等のホログラムを適用することが可能であるが、複製を行う場合はリップマンホログラム以外のレリーフタイプである必要がある。
　また、本発明の光記録体においては、ホログラムの少なくとも一部分が、レーザー光の照射によってホログラムの再生画像が出現するタイプのホログラム（レーザー光再生型ホログラム）によって構成されていてもよい。このようなホログラムは、通常の白色光では結像されず、レーザー光の照射によってホログラムの再生画像が出現するので、偽造防止効果においてすぐれている。
　次に、本発明の光記録体の主たる構成材料について説明する。
基　材
　基材としては、従来公知の材料が適宜用いられ得る。特に光透過性の材料としては、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート、ポリエステル、エポキシ樹脂、ポリオレフィン、ポリスチレンなどの樹脂やガラスが用いられ得る。これらの基材の詳細については、後述する製造方法（Ｉ）〜（ＶＩＩＩ）においても詳述する。
光反射材料
　上記ＲＯＭタイプに用いる光反射材料としては基材と屈折率が異なる材料であればいずれの材料でも使用可能であり、例えば、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓｅ、Ｍｏ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｐｔ、Ａｕ等の金属及びこれらの合金、化合物、その他ＴｉＯ２、ＴｉＮ等に代表される酸化物、窒化物、有機系色素薄膜等反射率の高い材料が使用され得る。
光記録材料
　上記ＤＲＡＷタイプに用いる光記録材料としては、例えば、金属系（Ｔａ、Ｂｉ、Ｉｎ、Ａｌ、Ｃ／Ａｌ、Ｃｒ／Ａｌ、Ｚｎ／Ａｌ、Ｓｉ、ＧｅＳｍＳ等）、カルコゲン系（Ｔｅ、Ｔｅ‐Ａｓ、Ｔｅ‐Ｓｅ、Ｔｅ‐Ｓｅ‐Ａｓ、Ｔｅ‐ＣＳ２、Ｔｅ‐Ｃ、Ｔｅ複合物、Ａｓ‐Ｓｅ‐Ｓ‐Ｇｅ等酸化物系（ＴｅＯｘ、ＧｅＯｘ、ＭｏＯｘ、ＶＯ２等）、有機物系（色素薄膜＋樹脂、Ａｇ＋ポリマー、熱可塑性樹脂、Ｃｕ‐Ｐｃ／Ｔｅ等）が用いられる。
　なお、消去、書き込みが可能なタイプに用いる光記録材料としては、光照射により膜を構成する原子間の秩序状態が可逆的に変化し、かつ、両者間の光反射率が異なる材料として、例えば、Ｔｅ‐Ａｓ、Ｔｅ‐Ｓｅ、Ｔｅ‐Ｓｅ‐Ａｓ、Ｔｅ‐ＣＳ２、Ｔｅ‐Ｃ、Ａｓ‐Ｓｅ‐Ｓ‐Ｇｅ等の材料が用いられる。
　上記のうちでも、本発明において、ＤＲＡＷ型の光記録材料としては、一般式ＴｅＯｘ（ｘは正の実数）で表させるテルルの酸化物からなる第１の層と、一般式ＴｅＯｙ（ｙは正の実数）で表されるテルルの酸化物からなる第２の層とが積層されてなり、上記一般式においてｘ＜ｙなる関係を有するものが特に好ましく用いられ得る。通常、上記一般式において、０＜ｘ≦１．５であり、０．５≦ｙ≦２の範囲である。
　上記のようなテルルの酸化物からなる光記録材料層は、ＤＲＡＷ型記録層としての安定性、耐候性に特にすぐれ、光記録体を密閉型の光カードとして構成する場合の記録感度、再生感度にすぐれている。
　上記のような光記録材料層を製造するにあたっては、上記第１ならびに第２の層を反応性スパッタリング法により容易に作製することができる。あるいはその他の方法としては、基材上に真空蒸着によりテルルを蒸発させると同時に含酸素ガスからなるイオンビームを該基材上に照射することによって上記のような組成を有する各層を作製することができ、いずれにしても簡易かつ迅速な方法により比較的安価に光記録材料層を作製することができる。
　次に、本発明の光記録体の製造方法について具体的に説明する。なお、本発明においては回折格子またはホログラムの記録は記録媒体の任意の場所でよいが、以下では情報記録部に形成し、回折格子またはホログラムが低反射率部分を構成する例について説明する。
製造方法（Ｉ）
　本発明の第一の態様に係る製造方法においては基材上に、高反射率部分と低反射率部分とから構成される情報記録パターンが形成された光記録体を製造するにあたり、前記低反射率部分を、情報記録パターンに応じた回析格子またはホログラムの記録による粗面化処理によって形成するものであり、この情報記録パターンに応じて干渉縞が形成されて低反射率部分の形成工程が、以下の工程からなる。
　（イ）基材上にフォトレジスト層を形成する工程、
　（ロ）情報記録パターンに応じたマスクを介して上記フォトレジスト層に対して第１の露光（パターニング露光）を行う工程、
　（ハ）次いで、上記第１の露光が行われたフォトレジスト層に対して、回析格子またはホログラムの記録のための第２の露光（干渉縞形成粗面化露光）を行う工程、
　（ニ）上記第２の露光が行われたフォトレジスト層に対して現像を行うことによって、表面に干渉縞を形成された低反射率部分からなる情報記録パターンを得る工程。
　さらに、本発明の方法においては、上記工程で得られた低反射率部分を覆うようにして基材の全面または一部に前述した光反射材料層または光記録材料層を積層する工程を含んでいてもよい。
　第９図は、上記製造方法の具体例を示す工程断面図であり、この図に従って具体的に説明するとまず、光透過性の基材１０上に回転フォトレジスト塗布機によりフォトレジスト層１１を４０００〜２０００Åの厚さで均一に塗布する。次にマスク合わせ装置を用いて、情報記録パターンに応じて形成したフォトマスク１２をフォトレジスト層１１に重ね合わせた後、第１の露光（パターニング露光）を行う（第９図（ａ））。
　次に、第９図（ｂ）に示すように、回折格子またはホログラムの記録のために再び露光（干渉縞形成による粗面化露光）する。
　次いで、第９図（ｃ）に示すように、フォトレジスト層１１を現像すると、ポジタイプのレジストを用いた場合では、紫外線の当たったところのフォトレジストは流れ去り、当たらない部分のレジストが残り、フォトマスク１２のパターンが光透過性の基材１０上に転写される。これにより、表面が粗面化されたフォトレジスト層１１が、第１図で示した情報記録ピットＰあいるいは第３図で示した案内トラックの形状として、例えば、幅５μ程度、ピッチ１５μ程度で形成される。
　次に、第９図（ｄ）に示すように、光反射材料または光記録材料１３の薄膜層を蒸留、スパッタリング或いは化学的方法等により形成する。
　次に、第９図（ｅ）に示すように、ポリ塩化ビニール等の基板１５を接着し、高反射率部分１３ｂと低反射率部分１３ｃを有する光記録体を得る。なお、上記露光工程（ａ）および（ｂ）の間に現像工程を設け、一旦フォトレジストを残した後該フォトレジストに干渉縞形成のための露光をするようにしてもよいし、露光過程（ａ）および（ｂ）の順序を逆にしてもよい。また、上記例においては、基材１０が光透過性材料からなっているが、基板１５を光透過性にして基板１５側から光を照射して読み取ることも可能であり、この場合、基材１０は光透過性材料でなくてもよい。
　本発明においては、第９図（ｂ）に示すような露光方法の代わりに、第９図（ｆ）に示すように、フォトマスク１２よりもさらに微細な規則的パターンを有するマスク１２０を介して露光を行うことにより回析格子の形成を行うこともできる。また、この場合のマスク１２０のパターン形状の例としては、情報記録パターンピットの径が１０μｍの場合、これより微細なピッチであれば足りるが、ピッチ径が０．１μｍ以下になると逆に粗面化効果が不十分となる。したがって、通常は、０．３〜３μｍの範囲が好ましい。第９図（ｇ）、（ｈ）および（ｉ）は、上記の回析格子形成用のマスクパターンの形状の例である。たとえば、第９図（ｇ）の例の場合は、ピッチ径を０．５μｍとすると、一つの情報ピット中に２００個の凹部ないし凸部が形成されることになる。なお、本発明においては、これら格子状の形状の他に、任意の形状のものが使用できる。
　また、上述したような露光用のマスクパターンは、フォトリソグラフィー法に使用される通常のマスク作製方法によって製造され得る。例えば、クロム原版上にＥＢ（エレクトロン・ビーム）用のレジストを塗布し、ＥＢ描画装置によって任意のパターンを露光して、現像エッチングを行うことにより、所望パターンのクロムマスクを製作することができる。この他にも、ドライエッチング法を用いる方法、銀塩フィルムを用いる方法によっても微細パターンを有するマスクを作成することができる。
　本発明においては、上記のようなフォトマスクを用いて露光を行う場合、情報記録パターンを、（ａ）該情報記録パターンを構成する情報ピットのサイズからなるパターンと（ｂ）前記情報記録パターンを構成する情報ピットのサイズよりも小さい規則的パターン、の双方を同一マスク中に有するマスクを介して露光することによって、種類のことなる情報を同時に形成することが可能となる。上記の第９図の例について言えば、第９図（ａ）のフォトマスク１２中に、さらに第９図（ｇ）、（ｈ）あるいは（ｉ）に示すような微細パターンが複合的に形成されたマスクを用いて露光することによって、一回の露光によって、視覚情報とビット情報を同時に形成することが可能となる。
　この他にも、本発明においては、上述したマスク１２とマスク１２０とを重ね、これらのマスクにさらに絵柄などのマクロサイズのマスクを重ねて露光してもよい。また、マスク１２０とはピッチの異なる別のフォトマスクを用意し、このマスクを上記マスク１２０とは異なる領域に配置して露光することもできる。さらに、本発明においては、上記のような複数種類の形状ないしピッチのパターンを同一マスク中に形成したマスクを用いて露光を行ってもよい。
　本発明の光記録体は、光透過性の基材１０から光が入射されると、例えば、高反射率部分１３ｂにおいては光が強く反射され、低反射率部分１３ｃにおいては表面が干渉縞形成により粗面化されたフォトレジストの存在により、反射率が低下することになる。そしてＲＯＭタイプのカードを製造する場合には、層１３として前述した光反射材料を採用することにより、低反射率部分１３ｃに第１図で示した情報記録ビットＰを形成し、一方、ＤＲＡＷタイプのカードを製造することにより、高反射率部分１３ｂに第３図で示した光記録トラックを形成し、低反射率部分１３ｃに案内トラックを形成することができる。
　上記方法で使用するフォトレジスト１１としては、オルソキノンジアジド／ノボラック系、アジド／ゴム系、ｐ‐ジアゾジフェニルアミン・パラホルムアルデヒド縮合系、アジドポリマー系、ポリケイ皮酸ビニル系、ポリシンナミリデン酢酸ビニル系等の材料が用いられる。
　そして、上記のようにして製造したＲＯＭタイプの光記録体においては、低光反射率の情報記録ビットをラインセンサ（例えばＣＣＤラインセンサ）或いはレーザビームにより読み取ることになる。なお、ＲＯＭタイプの光記録体においては、案内トラックは必ずしも必要でなく、情報記録ビット列を案内トラックとして使用できる。
　また、上記のようにして製造したＤＲＡＷタイプの光記録体においては、光記録トラック１３ｂと案内トラック１３ｃとの光反射率を、４００〜７００ｎｍの白色光ランプを用いて測定した結果、例えば、光記録トラック１３ｂは５０％程度、案内トラック１３ｃは１０％程度の光反射率となった。光記録体にビット情報を書き込む場合には、２ビーム或いは３ビームを用いるが、３ビームを用いる例においては第１７図に示すように、両側のビームＡ、Ｃにより案内トラック１３ｃと光記録体トラック１３ｂの反射率の差を検出することにより、案内トラック１３ｃ、１３ｃの位置を確認して左右にずれないようにして、真中のビームＢにより光記録トラック１３ｂにビット情報を書き込むもので、制御方式が１ビームのものと比較して簡単となる。なお、案内トラック１３ｃは必ずしも光記録トラック１３ｂと交互に形成することなく、案内トラックの本数を間引いてもよい。この場合には、案内トラック１３ｃの距離を演算して光記録トラック１３ｂの位置を決め、ビット情報を書き込むものである。
製造方法（ＩＩ）
　本発明の第２の態様に係る製造方法においては基材上に、高反射率部分と低反射率部分とから構成される情報記録パターンが形成された光記録体を製造するにあたり、前記低反射率部分を、情報記録パターンに応じた回析格子またはホログラムの記録による粗面化処理によって形成するものであり、この情報記録パターンに応じて粗面化された低反射率部分の形成工程が、以下の工程からなる。
　（イ）回析格子またはホログラムの記録によって表面に微細な凹凸が形成された原版基材上にフォトレジスト層を形成する工程、
　（ロ）情報記録パターンに応じたマスクを介して上記フォトレジスト層に対してパターニング露光を行う工程、
　（ハ）上記パターニング露光が行われたフォトレジスト層に対して現像を行うことによって微細な凹凸面を有する基材の表面を情報記録パターンに応じて露出させて、情報記録パターンが形成された光記録体を得る工程。
　さらに、本発明の方法においては、上記工程で得られた低反射率部分を覆うようにして基材の全面または一部に前述した光反射材料層または光記録材料層を積層する工程を含んでいてもよい。
　第１０図は、上記製造方法の具体例を示す工程断面図であり、この図に従って具体的に説明するとまず、第１０図（ａ）に示すように、別途回析格子またはホログラムの記録によって微細に粗面化したガラス板１７上に、回転式フォトレジスト塗布機によりフォトレジスト層１１を４０００〜２００００Åの厚さで均一に塗布した後、マスク合わせ装置を用いてフォトレジスト１２をフォトレジスト層１１に重ね合わせた後、露光する。次に第５図（ｂ）に示すように、フォトレジスト層１１を現像すると、ポジタイプのレジストでは、紫外線が照射されたところのフォトレジストは流れ去り、当たらない部分のレジストが残り、フォトマスク１２のパターンがガラス板１７上に転写される。これにより、フォトレジスト層１１に幅５μ程度、ピッチ１５μ程度の開口が形成されてガラス板１７の粗面がパターン状に露出することによって本発明の光記録体を得る。
　さらに、本発明においては、上記光記録体を原版としてさらに光記録体を複製することができる。
　すなわち、第１０図（ｃ）に示すように、光透過性の基材１０上に、例えば電離性放射線硬化樹脂或いは熱硬化樹脂の成型樹脂からなる型取り剤１６を介して第１０図（ｂ）で作った原版を積層してプレス機でプレスを行った後、第１０図（ｄ）に示すように、原版と型取り剤１６とを剥離、硬化または、第１０図（ｃ）の状態で所定の硬化手段にて硬化後剥離させることにより、型取り剤１６上に突部の表面が粗面化された例えば情報記録ビットが幅５μ程度、長さ２０μ程度で形成される。
　次いで、第１０図（ｅ）に示すように、膜厚５００〜１０００Åの光反射材料または光記録材料１３の薄膜層を蒸留、スパッタリング或いは化学的方法等により形成させる。次に、第１０図（ｆ）に示すように、ポリ塩化ビニル等の基板１５を接着剤等を使用して接着し、高反射率部分１３ｂと低反射率部分１３ｃを有する光記録体を製造する。そして、第９図の具体例と同様に、ＲＯＭタイプのカードを製造する場合には、層１３として光反射材料を採用することにより、低反射率部分１３ｃに第１図で示した情報記録ビットＰを形成し、一方、
ＤＲＡＷタイプのカードを製造する場合には、層１３として光記録材料を採用することにより、高反射率部分１３ｂに第３図で示した光記録トラックを形成し、低反射率部分１３ｃに案内トラックを形成するものである。
　なお、上記具体例において、光反射率部分１３ｂには図示のように樹脂部分１６が存在しているが、これは必ずしも必要ではなく、低反射率部分１３ｃに粗面化された樹脂が存在していれば足りる。
　上記方法において用いる型取り用樹脂としては以下のようなものが用いられ得る。
（Ａ）電離性放射線光樹脂
　▲１▼電子線硬化型樹脂
　ウレタンアクリレート、オリゴエステルアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、エポキシアクリレートポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、メラミンアクリレート等アクリロイル基をもつ重合性オリゴマーモノマーとアクリル酸、アクリルアミド、アクリロニトリル、スチレン等重合性ビニル基を含む単官能もしくは多官能モノマーとを配合したもの。
　▲２▼紫外線硬化樹脂
　上記▲１▼の樹脂組成に光重合開始剤、増感剤もしくは所望の添加剤を添加したもの。
（Ｂ）熱硬化性樹脂
　エポキシ樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ユリア樹脂、アミド樹脂、フェノール／フォルマリン樹脂。
製造方法（ＩＩＩ）
　第３に態様に係る製造方法においては、情報記録パターンの形成は次のように行われ得る。
　（イ）回析格子またはホログラムの記録により表面に微細な凹凸が形成された基材上にフォトレジスト層を形成する工程、
　（ロ）情報パターンに応じたマスクを介して上記フォトレジスト層に対してパターニング露光を行う工程、
　（ハ）次いで、現像ならびにエッチングを行うことによって、基材のレジスト層が存在しない部分を選択的に粗面化もしくは平面化することによって、情報記録パターンが形成された光記録体を得る。
　第１１図および第１２図は、上記第１０図の具体例と同様の型取りタイプの他の例を示している。これらの具体例においてはプレス型の耐久性が向上するメリットを有する。
　第１１図において、回析格子またはホログラムの記録によって微細に粗面化したガラス板１７上に、フォトレジスト層１１を塗布した後、フォトマスク１２をフォトレジスト層１１に重ね合わせたのち露光し（第１１図（ａ））、次に、フォトレジスト層１１を現像（第１１図（ｂ））後、フッ化アンモニウム／硝酸の水溶液等のガラスのエッチング液にて湿式エッチングを１分〜１時間行い（第１１図（ｃ））、ガラス板１７のフォトレジストがない開口部分の粗面を平滑化する。この際、ガラスのエッチング液はエッチング面が平滑化されるものであれば他のものでもよく、エッチング深さも平面化されるまで行いとくに規定されない。この状態で光記録体として使用し得る。
　さらに本発明においては、第１１図（ｄ）に示すように、レジストを除去した後、第１１図（ｅ）に示すように、光透過性の基材１０上に、後述する電離性放射線硬化樹脂或いは熱硬化樹脂からなる型取り剤１６を介して第１１図（ｄ）で作った原版を積層してプレス機でプレスを行った後、電子線、紫外線を照射または加熱し、硬化後、第１１図（ｆ）に示すように、原版と型取り剤１６とを剥離させることにより、型取り剤１６上の一部に干渉縞により表面が粗面化された例えば情報記録ビットが形成され、その後、第１０図（ｅ）および（ｆ）の工程と同様にして光記録体を製造する。
　前記型取り剤１６の例を下記に示す。
（Ａ）電離性放射線光樹脂
　▲１▼電子線硬化型樹脂
　ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、メラミンアクリレート等アクリロイル基をもつ重合性オリゴマー、モノマーと、アクリル酸、アクリルアミド、アクリロニトリル、スチレン等重合性ビニル基を含む単官能又は多官能モノマーを配合したもの。
　▲２▼紫外線硬化樹脂
　上記▲１▼の樹脂組成に光重合開始剤を添加したもの。
（Ｂ）熱硬化性樹脂
　エポキシ樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ユリア樹脂、アミド樹脂、フェノール／フォルマリン樹脂。
　第１２図に示す具体例が上記第１１図の具体例と相違する点は、第１２図（ｃ）のエッチングによりガラス板１７上に、粗面を形成し、情報記録ビットまたは案内トラック部分を形成する点である。この場合のエッチングとしては、ドライエッチング、湿式エッチングのいずれもが用いられ得る。ドライエッチング法としては、ＣＦ４プラズマ、ＨＦガス等を用いてガラスのエッチング面が粗面化する様にエッチングすることにより行われ得る。さらに、湿式エッチングとしては、上記第１１図の例で用いたエッチング液の他に高濃度のフッ酸溶液、たとえば、酸性フッ化アンモニウム／鉱酸系溶液が用いられ得る。
　第１３図の具体例は、第１０図〜１２図の具体例が光反射材料または光記録材料１３を型取り剤１６上に形成したものに対して、基材１０上に光反射材料または光記録材料１３を蒸留、スパッタリング、メッキ法により形成し、粗面を形成した型取り剤１６および基材１５を積層したものの例である。
　第１０図〜１２図、第１４図の具体例においては、基材１０、基材１５のどちら側からでも読み込み、書き込みが可能であるが、本具体例においては、基板１５側からのみ読み込み、書き込みを行う。
製造方法（ＩＶ）
　次に、第１４図に示した具体例について説明する。本具体例においては、第１０図（ｃ）の型取り工程の前に、第１４図（ｃ）に示すように、メッキ工程を設けフォトレジスト層１１を覆うように金属メッキ層１８を形成した後、該金属メッキ層１８を剥離して、金属メッキ層１８上に回析格子またはホログラムの記録により表面が粗面化された情報記録ビットまたは案内トラックのパターンを形成する。次いでこれを原版として第１４図（ｄ）に示すように、成型樹脂１９にプレスを行なった後、同（ｅ）に示すように、原版と成型樹脂１９とを剥離、硬化させることにより、成型樹脂１９上に干渉縞が形成されて表面が粗面化された情報記録パターンが形成され、次いで、光反射材料または光記録材料１３の薄膜層を形成させるものである。
　なお、上記具体例においては、プレスの原版として金属メッキ１８を用いているが、精密エッチングされた金板をプレス型として用いてもよい。また、上記金板に応用し射出成形により、表面に回析格子またはホログラムの記録により粗面化された情報記録パターンが形成された成形樹脂を得ることもできる。さらに、第１５図に示すように、基材１０に光反射材料または光記録材料１３を蒸留、スパッタリング、メッキ法により形成し、前記金板をプレス型としてパターンを型押した後基板１５を積層するようにしてもよい。
製造方法（Ｖ）
　本発明においては、情報パターンに応じて粗面化された低反射率部分の形成工程を、第１６Ａ図に示すように、以下の工程に従って行うことができる。
　（イ）光透過性基材３０上に情報記録パターンに応じたマスクパターン３１を形成する工程（第１６Ａ図（ａ））、
　（ロ）上記光透過性基材３０の表面に、前記マスクパターン３１を覆うようにしてフォトレジスト層３３を形成する工程（第１６Ａ図（ｂ））、
　（ハ）上記光透過性基材３０のフォトレジスト層３３と反対側の面から第１の露光（パターニング露光）を行う工程（同（ｂ））、
　（ニ）次いで、上記第１の露光が行われたフォトレジスト層３３に対して、回析格子またはホログラムの記録のため、該フォトレジスト層３３側から第２の露光（粗面化露光）を行う工程（同（ｃ））、
　（ホ）上記第２の露光が行われたフォトレジスト層３３に対して現像を行うことにより干渉縞が形成され表面が粗面化された低反射率部分からなる情報記録パターンを得る工程（同（ｄ））。
　上記方法をさらに具体的に説明すると、例えばガラス等の光透過性基板の表面に、常法に従って、所望の金属、たとえばＣｒ薄膜のパターンからなるＣｒ製マスクパターンを形成する。さらにこのＣｒマスクパターン上に、ポジ型フォトレジストをスピンナーによってコートし、９０〜１００℃で３０秒程度プリベークする。
　次に、このようにして形成されたフォトレジスト層に対して、裏面の光透過性基板側から超高圧水銀灯（４ｋＷ）によって８０ｃｍの距離から８秒間露光する（パターニング露光）。次いで、フォトレジスト層側の表面に回析格子またはホログラムの記録のための第２露光（干渉縞形成による粗面化露光）を行う。さらに、所定の現像液（たとえばアルカリ現像液）を用いて３０分程度で現像処理を施して、Ｃｒマスクパターン上に粗面化された表面を有するレジスト層が積層された構造の情報パターンを得ることができる。
　上記の方法は、パターニングの際の密着むらが解消される点で極めてすぐれていいる。すなわち、上記の方法によれば、粗面化露光がレジスト層パターンの精度を上げると共にレジスト層の表面を良好な粗面化状態に仕上げることが可能となる。
　この具体例を次に説明する。
▲１▼　ガラス板上に案内トラック幅５μｍ、情報トラック幅１０μｍの所定のパターンをフォトリソグラフィー法により形成したＣｒスパッタマスクに、ポジ型フォトレジストを以下の条件で塗布した。
　スピンコート：　２０００ｒｐｍ、２０秒
　レジスト：　シプレーマイクロポジット１４００
　厚み：　１．５μｍ
▲２▼　塗布後、プリベークを９０℃で２０分間行った。
▲３▼　次に、Ｃｒマスクのガラス側よりパターン露光を以下の条件で行った。
　超高圧水銀灯：　４ｋＷ（８０Ｗ／ｃｍ）、８秒
▲４▼　次に、回析格子またはホログラムの記録により粗面化露光をＣｒマスクのレジスト側より行った。
▲５▼　露光後、シプレーマイクロポジットデベロッパに６０秒浸漬し、水洗して現像を行った。
▲６▼　ポストベークは９０℃で２０分行い、これにより粗面化原版が得られた。
　さらに複製について説明する。
▲７▼　マザーマスク複製
材　料
　基材：　透明性のある平面性の良い基板、１２ｍ／ｍアクリル板（上記の他、上記特性のあるものであれば特に材質は問わない。）
マザーマスク樹脂：
　ＵＶ硬化性樹脂（諸星インキ製、ＳＥＬ−ＸＡ）（ポリエステルアクリレートオリゴマーとネオペンチルグリコールジアクリレートモノマーを主体とし、光重合開始剤（イルガキュアー１８４を添加したもの。）
　粘度１００ｃｐｓ（低粘度５０〜１０００ｃｐｓ程度であれば他のＵＶ硬化性樹脂でも可能である。離型性によっては離型剤等を添加する。）
複製方法
　上記透明基材と、（▲６▼で作製したレジスト粗面化原版の間にマザーマスク樹脂をはさみ込み、プレス５ｋｇ／ｃｍ２、３０ｓｅｃ後、ＵＶ２ｋＷ高圧水銀灯距離４００ｍ／ｍで１分間照射後レジスト粗面化原版と透明基材を離型し透明基材側にパターンを複製する。
▲８▼　複製
材　料
　複製用樹脂としてＵＶ硬化性樹脂（スリーボンド用、ＳＳ−１２０、ウレタンアクリレート系）を使用。
　粘度８０〜１００ｃｐｓ（低粘度であれば他のＵＶ硬化性樹脂でも可能である。）
複製方法
　０．４ｍｍ厚のアクリル板にＵＶ硬化性プライマー（スリーボンドＲ−４２８−２０）を１μｍ設けた透明基材のプライマー側と、▲８▼で作製したマザーマスクのＵＶ硬化樹脂側の間に複製用樹脂（ＳＳ−１２０）をはさみ込み、プレス５ｋｇ／ｃｍ２、３０ｓｅｃ後、ＵＶ（２ｋＷ高圧水銀灯）距離４００ｍ／ｍで１分間照射後、透明基材とマザーマスクを剥離し透明基材側にパターンを複製した。尚ＵＶ硬化樹脂層の厚みは２５μｍであった。
▲９▼　光記録材料層の形成
　ＴｅＯｘ膜とＴｅＯｙ膜（但し、ｘ＝０．５、ｙ＝１．８）の積層膜を形成した。
　上記積層膜の形成は下記の条件で行った。例えば、反応性スパッタリング装置を用いた。
（イ）ＴｅＯｘ膜
　（１）チャンバー内を１×１０−５Ｔｏｒｒ程度の真空度まで排気する。
　（２）ＡｒとＯ２ガスを以下の流量でチャンバー内に導入し、真空度を５×１０−３に調整する。
　Ａｒ：　３ｃｃ／ｍｉｎ、Ｏ２：０．５ｃｃ／ｍｉｎ
　（３）スパッタリング開始
　投入電力　１００Ｗ
　成膜時間　２０秒
（ロ）ＴｅＯｘ膜
　（１）同上
　（２）Ａｒ：　２ｃｃ／ｍｉｎ、
　　　　Ｏ２：　１．５ｃｃ／ｍｉｎ
　（３）投入電力　１００Ｗ
　成膜時間　２０秒
▲１０▼　
ラミネート方法
　塩化ビニル、ＰＥＴ等０．３ｍ／ｍの基材に印刷されたカード基材と上記（５）で作製した記録層を設けた基材に接着剤（二液硬化タイプ、ウレタン系、東レ製ＵＨ−１２０６０Ｃ）を介してラミネートを行い本発明の一例であるＤＲＡＷ型光カードを得た。
　さらに、次のようにしてＲＯＭ型光カードを得ることができる。
　▲１▼のパターンを１０×２０μｍのピットパターンとした以外は▲６▼の工程まで同様に行った。
　▲６▼の工程まで同様に行った。
　▲７▼▲８▼の工程は、透明基板として０．４μｍのポリカーボネート板を使った以外同様に行った。
　▲９▼の光反射材料層は以下の様に行った。
　▲９▼の次に、光反射材料層の形成を以下の条件で行い、ＵＶ硬化樹脂層上に形成した。直流２極スパッタリング装置を用いて厚さ５００Åの層を形成（Ａｌスパッタリング）
　▲１０▼のラミネート工程はＤＲＡＷ型の場合と同様に行いＲＯＭ型光カードを得た。
製造方法（ＶＩ）
　本発明においては、情報パターンに応じて粗面化された低反射率部分の形成工程を、第１６Ｂ図に示すように、以下の工程で行うことができる。
　（イ）光透過性基材３０上に金属マスク層３１を形成する工程（第１６Ｂ図（ａ））、
　（ロ）上記金属マスク層３１の表面にフォトレジスト層３３を形成する工程（同（ｂ））、
　（ハ）上記フォトレジスト層３３の側からフォトマスク１２を介して第１の露光（パターニング露光）を行う工程（同（ｃ））、
　（ニ）次いで、上記第１の露光が行われたフォトレジスト層３３に対して現像を行うことによって情報記録パターンに応じたフォトレジスト層３３を形成する工程（同（ｄ））、
　（ホ）更に、金属マスク層３１をエッチングすることによって、情報記録パターンに応じたフォトレジスト層３３と金属マスク層３１の積層物を形成する工程（同（ｅ））、
　（へ）フォトレジスト層３３に対して、回析格子またはホログラムの記録のための第２の露光（干渉縞形成による粗面化露光）を行う工程（同（ｆ））、
　（ト）上記第２の露光が行われたフォトレジスト層３３に対して更に現像を行うことによって表面が粗面化された低反射率部分からなる情報記録パターンを得る工程（同（ｇ））、
　なお、上記光透過性基材、マスク層等の材料としては、前記製造方法（Ｖ）の材料が同様に用いられ得る。
製造方法（ＶＩＩ）
　本発明に係る光記録体は、それ自体、製造工程の簡略化においてすぐれているが、本発明においては次のような方法を採用することによって、工業的規模における大量生産、大量複製に一層適したものとなる。
　たとえば、この態様における製造方法においては、前記製造方法（Ｉ）ないし（ＶＩ）において得られたところの、回析格子またはホログラムの記録により表面が粗面化された低反射率部分からなる情報記録パターンが形成されてなる光記録体を粗面化用原版とし、さらにこの粗面化用原版から型取りプレス等の方法により光記録体を複製することができる。
　さらに、本発明においては、上記粗面化原版から一旦マザーマスクを作製し、このマザーマスクを大量複製用の複製原版として用いて、型取りによって光記録体を得ることができる。
　このようなマザーマスクを介した光記録体の製造方法は、粗面化用原版が機械的ないし化学的に弱い材料によって形成される場合において特に有用である。
　上記のようなマザーマスクを複製用原版として用いて型取りによって得られた光記録体は、さらに光記録体の低反射率部分を覆うようにして基材の全面または一部に光反射材料層または光記録材料層を積層することができる。
　また、大量複製に関して言えば、第１８図に示すように、マザーマスク２１０を円筒体ロール２００に設置し、ロール２０４から供給された支持フィルムに樹脂液２０１を塗布して紫外光源２０６からの紫外線照射により樹脂液を硬化させ、回析格子またはホログラムをマザーマスク２０６から転写記録してロール２０７ｂで巻き取ることにより、例えばＲＯＭ型の光カードを、巻き取り方式で連続的に大量に製造することが可能となる。なお、樹脂塗布量、樹脂や支持フィルムの性質等により光源２０６だけでは硬化が充分でない場合は、さらに光源２０８により紫外線照射して硬化するようにしてもよい。
製造方法（ＶＩＩＩ）
　本発明においては、上記製造方法（Ｉ）〜（ＩＸ）で得られた各々の光記録体を原版として、この原版からメッキ、プレス法等によりスタンパーを作成し、このスタンパーを用いて、さらにインジェクション法、熱圧プレス法あるいは前述したような樹脂型取り法により、光記録体を複製することができる。
　この場合に用いるスタンパーの材質としては、Ｎｉ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｃｒなどの金属が挙げられる。一方、複製用の樹脂としては、特に限定されるものではないが、特に熱圧プレス法において熱可塑性樹脂が好ましく用いられる。
　本発明の使用するホログラムとしては、物体を透過または反射するフレネル回析波を物体波とし、感光材料面から任意の距離にある点光源から生ずる波を参照波として記録されるフレネルホログラム、物体を透過、あるいは反射する波がフランホォーファー回析波になる場合に記録されるフランホォーファーホログラム、記録使用とする物体をレンズ等の結像光学系により感光材料上に結像するように配置して記録するイメージホログラム、白色光の再生を可能にしたレインボーホログラム、感光材料に対して反対方向から物体波と参照波を照射し、感光材料の厚み方向に干渉縞を形成するようにしたリップホログラム等各種のホログラムを適用することが可能である。
　なお、上記説明では情報記録部を構成する低反射率部分を回析格子またはホログラムの記録による粗面化処理のみによって形成する例について述べたが、例えば第１図においては情報記録部の低反射率部分はスリガラスの微細の凹凸、微細な明暗パターンを有する透明体を利用して形成した微細な凹凸等他の粗面化処理により形成する等、適宜他の粗面化処理と組合せるようにしてもよい。
　以上のように本発明によれば、光反射率の差異によって識別される情報記録パターン部を有する光記録体の少なくとも一部、例えば情報記録パターンの低反射率部分に回析格子あるいはホログラムからなる別の情報を記録することにより、エッチング等による工程の煩雑化を極力避けることができ、製造工程が簡易化し、かつ原料に関しても特定の光記録材料に限定されることがなく、更に工業的規模での大量複製にも適しているので製造コストの低減化の点でも優れた効果を有している。また保存性、耐久性ならびに経時的な安定性の点でも優れている。さらに、光学的手法による偽造を防止し、色彩的にも非常に美しく、装飾体をも兼ねられる効果が得られる。また、回析格子またはホログラムを情報パターンと同一面内に形成したので、電子顕微鏡で情報パターンは読めたとしても回析格子またはホログラムを読むことができず、また回析格子またはホログラムは記録体内に埋没して情報パターンと同一層に形成されているため、光学的に読んだとしても埋没した深さのためにボケが生じて完全な再生を行うことはできず、その結果偽造防止に多大な効果が得られ、またカードに使用して過酷な環境に置かれてもキズがつかないという利点がある。
　　　　　　　　産業上の利用可能性
　本発明の光記録体はフレキシブルディスク、カード、テープ等の様々な形態の光記録材料として利用することができ、例えば以下の用途に適用される。
（１）金属流通産業：　キャッシングカード、クレジットカード、プリペイドカード。
（２）医療健康産業：　健康証書、カルテ、医療カード、緊急カード。
（３）娯楽産業：　ソフトウェア媒体、会員カード、入場券、遊戯機械制御媒体、テレビゲーム用媒体、カラオケ用媒体、ゴルフスコアカード。
（４）運輸旅行産業：　旅行者カード、免許証、定期券、パスポート、運転記録カード。
（５）出版産業：　電子出版。
（６）情報処理産業：　電子機械の外部記憶装置、ファイリング。
（７）教育産業：　教材プログラム、成績管理カード、キャンパスカード、身分証明書、図書館の入出管理および書籍管理。
（８）自動車産業：　整備記録、運行管理、動作記録カード、ナビゲート用カード。
（９）ＦＡ：　ＭＣ、ＮＣ、ロボット等のプログラム記録媒体、メンテナンスパーツカード。
（１０）その他：　ビルコントロール、ホームコントロール、ＩＤカード、自動販売機用媒体、住所録カード、クッキングカード、社員カード。
（５７）【特許請求の範囲】
　１．　基材上に、光反射率の差異によって識別され得る情報記録パターンが形成された光記録体であって、前記情報記録パターンが高反射率部分と低反射率部分とから構成されるとともに、該情報記録パターンの少なくとも一部分に回折格子またはホログラムからなる別の情報が記録されている、光記録体。
　２．　前記情報記録パターンの低反射率部分が、回析格子またはホログラムからなる、請求項１の光記録体。
　３．　前記情報記録パターンが回析格子を含み、該回析格子の一部のピッチ幅を変化させるようにしてパターンを形成してなる、請求項１の光記録体。
　４．　前記情報記録パターンが回析格子を含み、該回析格子の角度の一部を変化させるようにしてパターンを形成してなる、請求項１の光記録体。
　５．　前記情報記録パターンが回析格子を含み、角度の異なる回析格子を一部分２重焼きすることによって形成されたパターンが形成されてなる、請求項１の光記録体。
　６．　前記光記録体が光カードである、請求項１の光記録体。
　７．　前記光記録体が光ディスクである、請求項１の光記録体。
　８．　前記情報記録パターン部分を被覆するようにして基材の全面もしくは一部に光反射性材料層が積層されてなる、請求項１の光記録体。
　９．　前記情報記録パターン部分を被覆するようにして基材の全面もしくは一部に光記録材料層が積層されてなる、請求項１の光記録体。
　１０．　前記ホログラムの少なくとも一部分が、レーザー光の照射によってホログラムの再生画像が出現するタイプのホログラムからなる、請求項１の光記録体。
　１１．　基材上に、光反射率の差異によって識別され得る情報記録パターンを形成する光記録体の製造方法において、前記情報記録パターンを高反射率部分と低反射率部分によって形成するとともに、該情報記録パターンの少なくとも一部分に、別の情報が記録された回折格子またはホログラムを形成する、光記録体の製造方法。
　１２．　前記情報記録パターンの低反射率部分を、干渉性のある２光束あるいは物体波と参照波とで露光することにより形成する、請求項１１の光記録体の製造方法。
　１３．　前記情報記録パターンの低反射率部分を、該低反射率部分のサイズよりも小さい規則的パターンを有するマスクを介して露光することにより形成する、請求項１１の光記録体の製造方法。
　１４．　前記情報記録パターンの低反射率部分を、（ａ）該情報記録パターンを構成する情報ピットのサイズからなるパターンと（ｂ）前記情報記録パターンを構成する情報ピットのサイズよりも小さい規則的パターン、の双方を同一マスク中に有するマスクを介して露光することにより形成する、請求項１１の光記録体の製造方法。