(57)【要約】  マイクロリソグラフィのための照明光学系（７）は、１次光源（６）から物体視野（３）に照明光（８）を誘導するのに使用される。照明光学系（７）のミラーアレイ（１０）は、アクチュエータによって互いに独立して傾斜させることができる関連付けられた傾斜アクチュエータ（１２）に接続した複数の個々のミラー（１１）を有する。アクチュエータ（１２）を起動するのにコントローラ（１４）が使用される。照明光学系（７）のラスターモジュール（１９）は、２次光源の空間分布配列を生成するための複数のラスター要素（２８，３０）を有する。ラスターモジュール（１９）は、照明光部分光束（１５）がラスター要素（３０）のうちの１つを射出する際の射出角（ＡＲx）が、物体視野（３）内で照明光部分光束（１５）が物体視野（３）上に入射する場所の領域に厳密に割り当てられる照明光学系（７）の平面（２０）の領域に配置される。コントローラ（１４）は、各個々のミラー（１１）における傾斜角の指定が、物体視野（３）にわたって配分された物体視野点が入射を受ける照明角度強度分布の事前判断される望ましい推移に割り当てられるように構成される。ラスターモジュール（１９）は、それぞれの実際の入射角に基づいて物体視野（３）内に別の強度推移を生成する。その結果は、全体の照明強度及び／又は異なる照明方向からの強度寄与に関して物体視野にわたる照明強度にターゲット方式で影響を及ぼすことができる照明光学系である。【選択図】図１
2013530534.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１次光源（６）から物体視野（３）に照明光（８）を誘導するためのマイクロリソグラフィのための照明光学系（７）であって、
アクチュエータによって互いに独立して傾斜させることができ、かつ関連付けられた傾斜アクチュエータ（１２）に接続した複数の個々のミラー（１１）を有するミラーアレイ（１０）と、
前記アクチュエータ（１２）を起動するためのコントローラ（１４）と、
２次光源の空間分布配列を生成するための複数のラスター要素（２８，３０）を有するラスターモジュール（１９）と、
を備え、
前記ラスターモジュール（１９）は、照明光部分光束（１５）が該ラスター要素（２８，３０）のうちの１つを射出する際の射出角（ＡＲx，ＡＲy）が、該照明光部分光束（１５）が該物体視野（３）上に入射する物体視野（３）内の場所の領域に厳密に割り当てられる照明光学系（７）の平面（２０）の領域に配置され、
前記コントローラ（１４）は、各個々のミラー（１１）に対する傾斜角の指定が、前記物体視野（３）にわたって配分された物体視野点が入射を受ける照明角度強度分布（Ｉ1（ｘ），Ｉ2（ｘ），Ｉ3（ｘ），Ｉ4（ｘ））の所定の視野依存の望ましい推移に割り当てられるような方法で構成される、
ことを特徴とする照明光学系。
【請求項２】
前記ラスターモジュール（１９）は、照明光学系（７）の瞳平面（３１）に隣接する平面（２０）、又は該瞳平面（３１）と共役であり、かつそこから離間した平面（２０）に配置されることを特徴とする請求項１に記載の照明光学系。
【請求項３】
前記ラスターモジュール（１９）は、前記照明光（８）のビーム経路に互いに前後に配置されて各々が複数のラスター要素（２８，３０）を有する２つのラスター配列（１８，２１）を有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の照明光学系。
【請求項４】
第２のラスター配列（２１）の前記ラスター要素（３０）のうちの１つの上に入射する前記照明光部分光束（１５）の直径（２９）が、該第２のラスター配列（２１）の該ラスター要素（３０）の全体の進入面又は入射面（３３）の半域（３５）よりも小さいような該２つのラスター配列（１８，２１）の配列及び構成を特徴とする請求項３に記載の照明光学系。
【請求項５】
前記２つのラスター配列（１８，２１）は、前記照明光部分光束（１５）の少なくとも特定の射出角（ＡＲxr1，ＡＲxr2）に対して、前記第２のラスター配列（２１）の前記ラスター要素（３０）上の入射場所（ＡＯ）に基づいて、少なくとも、各場合に該第２のラスター配列（２１）の該ラスター要素（３０）上の該照明光部分光束（１５）のそれぞれの入射場所（ＡＯ）に割り当てられた入射角（ＥＲx）に対して該ラスター要素（３０）からの該照明光部分光束（１５）の同じ射出角（ＡＲxr1，ＡＲxr2）がもたらされるように構成されることを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の照明光学系。
【請求項６】
前記２つのラスター配列（１８，２１）は、前記照明光部分光束（１５）の少なくとも特定の射出角（ＡＲxm）に対して、前記第２のラスター配列（２１）の前記ラスター要素（３０）上の前記照明光部分光束（１５）の前記入射角（ＥＲx）の小さい変化が、該ラスター要素（３０）からの該照明光部分光束（１５）の前記射出角（ＡＲx）の大きい変化をもたらすように構成されることを特徴とする請求項３から請求項５のいずれか１項に記載の照明光学系。
【請求項７】
前記ラスター要素（３０）上の前記照明光部分光束（１５）の前記入射角（ＥＲx）の前記変化の該ラスター要素（３０）からの該照明光部分光束（１５）の前記射出角（ＡＲx）の前記変化への依存性が、前記入射場所（ＡＯ）によって変化することを特徴とする請求項５又は請求項６に記載の照明光学系。
【請求項８】
前記ラスターモジュール（１９）及び前記コントローラ（４０）は、前記個々のミラー（１１）の実際の傾斜角の事前判断される分布及びその結果としての前記ラスター要素（２８，３０）上の前記照明光部分光束（１５）の実際の入射角（ＥＲx，ＥＲy）の事前判断される分布が、前記物体視野（３）にわたって配分された物体視野点が入射を受ける照明光角度強度分布Ｉ1（ｘ，ｙ）、Ｉ2（ｘ，ｙ）、Ｉ3（ｘ，ｙ）、Ｉ4（ｘ，ｙ）の事前判断される望ましい推移に割り当てられ、この割り当てが、該物体視野（３）の互いに垂直な２つの座標軸（ｘ，ｙ）に沿って存在するように構成されることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の照明光学系。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の照明光学系（７）を調節する方法であって、
物体視野（３）にわたって配分された物体視野点が入射を受ける照明角度強度分布Ｉ1（ｘ），Ｉ2（ｘ），Ｉ3（ｘ），Ｉ4（ｘ）の視野依存の望ましい推移を事前判断する段階と、
前記照明角度強度分布の前記所定の視野依存の望ましい推移に割り当てられたラスター要素（２８，３０）上の照明光部分光束（１５）の望ましい入射角（ＥＲx，ＥＲy）の分布を判断する段階と、
前記望ましい入射角（ＥＲx，ＥＲy）の前記判断された分布に従って望ましい傾斜角の分布を個々のミラー（１１）に割り当てる段階と、
前記個々のミラー（１１）の実際の傾斜角が前記望ましい傾斜角と一致するように傾斜アクチュエータ（１２）を起動する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項３から請求項８のいずれか１項に記載の照明光学系（７）のための第２のラスター要素（３０）を有する第２のラスター配列（２１）を有するラスターモジュール（１９）を生成する方法であって、
第２のラスター配列（２１）のラスター要素（３０）上の照明光部分光束（１５）の入射場所（ＡＯ）と、該第２のラスター配列（２１）の該ラスター要素（３０）上の該照明光部分光束（１５）の入射角（ＥＲ）とに依存する該ラスター要素（３０）からの該照明光部分光束（１５）の得られる一定の射出角（ＡＲ）の推移の望ましい依存性（ＡＲ（ＥＲ，ＡＯ））を指定する段階と、
ラスターモジュール（１９）の所定の照明において前記所定の望ましい依存性に対応する実際の依存性がもたらされるように、前記第２のラスター配列（２１）の前記ラスター要素（３０）の進入面（３３）及び／又は射出面（３４）を構造化する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項３から請求項８のいずれか１項に記載の照明光学系（７）のための第２のラスター要素（３０）を有する第２のラスター配列（２１）を有するラスターモジュール（１９）を生成する方法であって、
第２のラスター配列（２１）のラスター要素（３０）の進入面（３３）及び／又は射出面（３４）の一般的な面設計によって達成することができる該第２のラスター配列（２１）の該ラスター要素（３０）上の照明光部分光束（１５）の入射場所（ＡＯ）と、該第２のラスター配列（２１）の該ラスター要素（３０）上の該照明光部分光束（１５）の入射角（ＥＲ）とに依存する該第２のラスター配列（２１）の該ラスター要素（３０）からの該照明光部分光束（１５）の得られる一定の射出角（ＡＲ）の推移の望ましい依存性（ＡＲ（ＥＲ，ＡＯ））の部類を判断する段階と、
前記判断された部類のうちの１つの中に含まれる前記第２のラスター配列（２１）の前記ラスター要素（３０）上の前記照明光部分光束（１５）の前記入射場所（ＡＯ）と、該第２のラスター配列（２１）の該ラスター要素（３０）上の該照明光部分光束（１５）の前記入射角（ＥＲ）とに依存する該第２のラスター配列（２１）の該ラスター要素（３０）からの該照明光部分光束（１５）の得られる一定の射出角（ＡＲ）の推移の望ましい依存性（ＡＲ（ＥＲ，ＡＯ））を指定する段階と、
ラスターモジュール（１９）の所定の照明において前記所定の望ましい依存性に対応する実際の依存性がもたらされるように、前記第２のラスター配列（２１）の前記ラスター要素（３０）の進入面（３３）及び／又は射出面（３４）を構造化する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の照明光学系（７）と、
物体視野（３）を像平面（２７）内の像視野に結像するための投影光学系（２６）と、
を備えることを特徴とする光学系。
【請求項１３】
請求項１２に記載の光学系と、
１次光源（６）と、
を備えることを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光系（１）。
【請求項１４】
微細構造化又はナノ構造化構成要素をマイクロリソグラフィ生成する方法であって、
感光材料の層が少なくとも部分的に付加された基板を準備する段階と、
結像される構造を有するレチクルを準備する段階と、
請求項１３に記載の投影露光系（１）を準備する段階と、
前記投影露光系（１）を用いて前記レチクルの少なくとも一部を前記層の一領域上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の方法によって生成された構成要素。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
ドイツ特許出願ＤＥ  １０  ２０１０  ０３０  ０８９．６及び米国特許仮出願ＵＳ  ６１／３５４  ７７２の内容が、引用によって組み込まれている。
【０００２】
本発明は、１次光源から物体視野まで照明光を誘導するためのマイクロリソグラフィのための照明光学系に関する。更に、本発明は、この種の照明光学系を有する光学系、及び物体視野を像視野に結像するための投影光学系に関する。更に、本発明は、この種の光学系を有するマイクロリソグラフィ投影露光系、微細構造化構成要素又はナノ構造化構成要素のためのマイクロリソグラフィ製造方法、及びこの種の方法によって製造された構成要素に関する。
【背景技術】
【０００３】
冒頭に示した種類の照明光学系は、ＷＯ  ２００７／０９３４３３  Ａ１及びＥＰ  １  ２６２  ８３６  Ａ１から公知である。厳しい投影作業では、照明視野又は物体視野にわたる照明光学特性にターゲット方式で影響を及ぼすことができることが望ましい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】ＤＥ  １０  ２０１０  ０３０  ０８９．６
【特許文献２】ＵＳ  ６１／３５４  ７７２
【特許文献３】ＷＯ  ２００７／０９３４３３  Ａ１
【特許文献４】ＥＰ  １  ２６２  ８３６  Ａ１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、全体の照明強度及び／又は異なる照明方向からの強度量に関して物体視野にわたる照明強度にターゲット方式又は望ましい方式で影響を及ぼすことができるような冒頭に示した種類の照明光学系を開発することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明により、この目的は、請求項１に開示する特徴を有する照明系によって達成される。
【０００７】
本発明は、実際には、ラスターモジュールを射出する照明光部分光束の射出角のラスターモジュールに進入する照明光部分光束の入射角への依存性が一般的に存在するという知識を利用する。ラスターモジュールは、ラスター要素上のそれぞれの実際の入射角に基づいて、このラスター要素に対応する照明角度からの照明の異なる強度推移を物体視野にわたって生成する。これまでこの依存性は、不安定化効果としてしか評価されなかった。ここでは、この依存性をターゲット方式に用いて、物体視野にわたる照明角度強度分布の望ましい推移の設計における付加的な自由度、言い換えれば、生成される照明角度に対する照明光学系の視野依存光学効果を与える。この事前判断される望ましい推移は、一般的に、物体視野の位置にわたって変化する。照明系の瞳平面内の目標とする望ましい強度推移と、視野にわたる照明角度強度分布の事前判断される望ましい推移とに依存するコントローラによる各個々のミラーにおける実際の傾斜角の指定又は事前判断される割り当ては、ラスター要素上の照明光部分光束の実際の入射角の事前判断される分布と、ラスター要素上の照明光部分光束の実際の入射位置又は入射場所の事前判断される分布との両方が同時に生成されることをもたらす。コントローラは、第１の照明設定、言い換えれば、第１の照明角度特性が、例えば、照明される物体の変位方向に対して垂直な、言い換えれば、例えば、照明光学系を使用することができる投影露光系の走査方向に対して垂直な物体視野の縁部のうちの１つにおいてもたらされ、物体視野の反対の縁部において、第１の照明設定とは異なる第２の照明設定がもたらされるように構成することができる。この場合、物体視野に配置された結像される物体、特に、高い精度で結像される構造を有する異なる設計のレチクルをこれらの視野縁部の間の照明角度によって結像することができ、それぞれの構造設計に適応させることができる。ミラーアレイを用いたラスターモジュールの入射により、特定の局所強度分布を有する照明設定を得ることができる。この場合、ラスターモジュールのラスター要素への個別の照明光部分光束の割り当ての変化を個々のミラーの対応する傾斜を用いて保証することができるので、ラスターモジュール上の照明光部分光束の異なる進入角分布により、言い換えれば、個々のミラーの実際の傾斜角の異なる所定分布により、又は個々のミラーへの実際の傾斜角の異なる割り当てにより、ラスターモジュールの入射の１つの同じ強度分布を生成することができる。本発明による照明光学系は、ラスターモジュールのラスター配列の光誘導ラスター要素の球面の収差を利用することができる。従って、個々のミラーの実際の傾斜角分布の対応する選択によってそれぞれ選択される、ラスターモジュール上の照明光部分光束の進入角分布により、物体視野にわたる照明角度特性の望ましい変化を生成することができる。ＷＯ  ２００７／０９３４３３  Ａ１に説明されている照明光学系と比較すると、生成される照明角度に対して、本発明による照明光学系の光学効果のより強い視野依存性を与えることができる。照明角度強度分布の事前判断される望ましい推移にコントローラによって割り当てられる個々のミラーの実際の傾斜��の所定分布又は望ましい分布は、個々のミラーに対する傾斜角の分布である。従って、この望ましい分布の結果は、これらの個々のミラーのうちのどれが、どの傾斜角を使用するべきかに関する全ての個々のミラーに関する情報である。この場合、個々のミラーの群は、同じ傾斜角を有することができる。照明の対応する対称性により、この種の群は、互いから分離して配置されたミラーアレイのサブユニット上に収容することができる。
【０００８】
請求項２に記載のラスターモジュールの配列は、ラスターモジュールから発する照明光部分光束の射出角のラスターモジュールに向う照明光部分光束のそれぞれの入射角への依存性を高める。
【０００９】
請求項３に記載のラスターモジュールの第１のラスター配列は、物体視野内で互いに重ねて結像されるラスター要素を有することができる。第２のラスター配列は、物体視野上の場所の分布に直接相関付けられる照明光部分光束の射出角分布を生成することができる。
【００１０】
請求項４に記載の第２のラスター配列のラスター要素の全体の進入面又は入射面に対する照明光部分光束の直径のサイズ比は、ラスター要素上の様々な場所に入射する照明光部分光束の異なる光束影響付与段階中に相応に大きい自由度をもたらす。この種のサイズ比は、生成される照明角度に対する照明光学系の強い視野依存光学効果の可能性をもたらす。
【００１１】
請求項５に記載の構成は、特に、物体視野の視野縁部を定義する射出角を一定に保つように設計することができる。
【００１２】
請求項６及び請求項７に記載の構成は、特定の照明角度からの照明強度の視野依存性の指定を可能にする。
【００１３】
請求項８に記載の構成では、照明角度強度分布の事前判断される望ましい推移が、物体視野の２つの座標軸に拡張される。これは、特に、全物体視野が同時に、言い換えれば、走査法によらずに結像される場合に使用することができる。
【００１４】
請求項９に記載の調節方法の利点は、本発明による照明光学系に関連して上述したものに対応する。
【００１５】
請求項１０及び請求項１１に記載の製造方法は、一方で入射角及び入射場所と、他方で射出角との間で可能な依存性のそれぞれの境界条件に適合された利用を可能にする。
【００１６】
請求項１２に記載の光学系、請求項１３に記載の投影露光系、請求項１４に記載の製造方法、及び請求項１５に記載の構成要素の利点は、本発明による照明光学系及び本発明による方法を参照して上述したものに対応する。
【００１７】
本発明の実施形態を図面を用いて以下により詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】マイクロリソグラフィ投影露光系内でコントローラによって起動される傾斜アクチュエータを有するミラーアレイと２段ラスター配列を有するラスターモジュールとを有する照明光学系を有する本発明による照明系を通る略子午断面図である。
【図２】ミラーアレイとラスターモジュールの間の照明光部分光束の誘導の変形を有する図１に記載の照明光学系の詳細図である。
【図３】ミラーアレイの個々のミラーによって偏向され、照明光学系の瞳平面に対応することができるラスターモジュールの照明平面に同じ照明光強度分布をもたらす照明光部分光束によるラスターモジュールの照明の２つの変形のうちの１つを示す図である。
【図４】ミラーアレイの個々のミラーによって偏向され、照明光学系の瞳平面に対応することができるラスターモジュールの照明平面に同じ照明光強度分布をもたらす照明光部分光束によるラスターモジュールの照明の２つの変形のうちの１つを示す図である。
【図５】瞳平面内の強度スポットによって示す４つの優勢な照明方向からの照明光強度の視野依存性を各場合に略例示する図である。
【図６】ラスターモジュールの第１のラスター配列のラスター要素、及びラスターモジュールの第２のラスター配列の関連付けられたラスター要素、並びに第１のラスター要素上の照明光部分光束の第１の入射角においてこれらの２つのラスター要素によってもたらされる照明光部分光束の光束進路を拡大して示す図である。
【図７】２つのラスター要素及び第１のラスター要素上の照明光部分光束の更に別の入射角における照明光部分光束の図６と類似の図である。
【図８】２つのラスター要素及び第１のラスター要素上の照明光部分光束の更に別の入射角における照明光部分光束の図６と類似の図である。
【図９】第２のラスター要素からの照明光部分光束の視野縁部を定義する同じ射出角をもたらすパラメータ対（第２のラスター要素上の照明光部分光束の入射角、第２のラスター要素上の照明光部分光束の入射場所）に関する等値線を示すグラフである。
【図１０】視野中心を定義する第３の射出角に対するパラメータ対（入射角、入射場所）に関する等値線を付加的に示す図９と類似のグラフである。
【図１１】視野中心を定義する射出角のパラメータ対に関する等値線の異なる推移を示す図１０と類似のグラフである。
【図１２】視野中心を定義する射出角のパラメータ対に関する等値線の異なる推移を示す図１０と類似のグラフである。
【図１３】ラスターモジュールの第２のラスター配列のラスター要素の進入面の湾曲推移の例を示す図である。
【図１４】図１３に従って形成された進入面を有するラスター要素を有する第２のラスター配列を有するラスターモジュールの照明光部分光束による所定の照明への照明光学系の物体平面内の強度分布の依存性を示す図である。
【図１５】図１３に従って形成された進入面を有するラスター要素を有する第２のラスター配列を有するラスターモジュールの照明光部分光束による所定の照明への照明光学系の物体平面内の強度分布の依存性を示す図である。
【図１６】図１３に従って形成された進入面を有するラスター要素を有する第２のラスター配列を有するラスターモジュールの照明光部分光束による所定の照明への照明光学系の物体平面内の強度分布の依存性を示す図である。
【図１７】図１に記載の照明光学系の詳細を示し、フーリエレンズ配列の屈折効果をこの詳細の中に示す図２と類似の図である。
【図１８】ミラーアレイの個々のミラーによって偏向され、各場合に照明光学系の瞳平面に対応することができるラスターモジュールの照明平面に同じ照明光強度分布をもたらす照明光部分光束によるラスターモジュールの照明の３つの変形のうちの１つを示し、更に、フーリエレンズ配列の屈折を示す図３及び図４と類似の図である。
【図１９】ミラーアレイの個々のミラーによって偏向され、各場合に照明光学系の瞳平面に対応することができるラスターモジュールの照明平面に同じ照明光強度分布をもたらす照明光部分光束によるラスターモジュールの照明の３つの変形のうちの１つを示し、更に、フーリエレンズ配列の屈折を示す、図３及び図４と類似の図である。
【図２０】ミラーアレイの個々のミラーによって偏向され、各場合に照明光学系の瞳平面に対応することができるラスターモジュールの照明平面に同じ照明光強度分布をもたらす照明光部分光束によるラスターモジュールの照明の３つの変形のうちの１つを示し、更に、フーリエレンズ配列の屈折を示す、図３及び図４と類似の図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
図１は、ウェーハスキャナとして設計され、半導体組立部品及び他の微細構造化構成要素の製造に使用されるマイクロリソグラフィ投影露光系１を略示している。投影露光系１は、特に、深紫外範囲（ＤＵＶ又はＶＵＶ）からの光を用いて数分の１マイクロメートルまでの分解能を得るように作動する。
【００２０】
位置関係の呈示を容易するために、図面内に直交ｘｙｚ座標系を再現している。ｘ方向は、図１の上方に延びている。ｙ方向は、図１の作図面と垂直に、そこから飛び出すように延びている。ｚ方向は図１の右に延びている。
【００２１】
投影露光系１の走査方向は、ｙ方向に、言い換えれば、図１の作図面と垂直に延びている。図１に示す子午断面図では、投影露光系１の複数の光学要素が、ｚ方向に延びる光軸２に沿って一列に配置される。図１に示すもの以外に、特に、投影露光系１を小型にするために、光軸２の折り返しが可能であることは明らかである。
【００２２】
投影露光系１の全体を５で表す照明系は、詳細には示していないレチクルの形態にある転写される構造が配置された物体平面又はレチクル平面４の物体視野又は照明視野３の定義された照明に使用される。照明系５は、１次光源６と、照明光又は結像光８を物体視野３に誘導するための光学構成要素を備えた結像光学系７とを含む。１次光源６は、１９３ｎｍの作動波長を有するＡｒＦレーザであり、その照明光ビームは、光軸２に対して同軸に向けられる。他のＵＶ光源、例えば、１５７ｎｍの作動波長を有するＦ2エキシマレーザ、２４８ｎｍの作動波長を有するＫｒＦエキシマレーザ、及びより大きいか又は小さい作動波長を有する１次光源も可能である。
【００２３】
光源６から到着する小さい矩形断面を有する照明光８のビームは、最初にビーム拡幅光学系９上に入射し、ビーム拡幅光学系９は、実質的に平行な光及びより大きい矩形断面を有する照明光８の射出ビームを生成する。ビーム拡幅光学系９は、照明光８の望ましくない干渉効果を低減する要素を含むことができる。照明光８は、ビーム拡幅光学系７によって実質的に平行にされ、次に、マイクロミラーアレイ（多ミラーアレイＭＭＡ）１０上に入射して照明光角度分布を生成する。マイクロミラーアレイ１０は、ｘｙラスターで配置された多数の矩形個々のミラー１１を有する。個々のミラー１１の各々は、関連付けられた傾斜アクチュエータ１２に接続される。傾斜アクチュエータ１２の各々は、アクチュエータ１２を起動するコントローラ１４に制御線１３によって接続される。アクチュエータ１２は、コントローラ１４によって互いに独立して作動させることができる。アクチュエータ１２の各々は、関連付けられた個々のミラー１１によって反射される照明光部分光束１５の反射角ＡＳxをｘｚ平面内で事前判断することができ、それに応じて図面には示していない反射角ＡＳyをｙｚ平面内で事前判断することができるように、個々のミラー１１の事前判断されるｘ傾斜角（ｘｚ平面内での傾斜）を調節することができ、それとは独立してｙ傾斜角（ｙｚ平面内での傾斜）を調節することができる。
【００２４】
ＭＭＡ１０によって生成される照明光部分光束１５の反射角ＡＳの角度分布は、焦点距離の間隔だけＭＭＡ１０から離れて位置決めされたフーリエレンズ配列又はコンデンサー１６を通過する時に、光軸２に対して垂直な２次元の場所依存照明光強度、従って、分布に変換される。従って、このようにして生成された強度分布は、照明系５の第１の照明平面１７内に現れる。従って、フーリエレンズ配列１６と併せて、ＭＭＡ１０は、２次元照明光強度分布を生成する光分布デバイスである。
【００２５】
第１の照明平面１７の領域内には、ハニカムコンデンサーとも呼ぶラスターモジュール１９の第１のラスター配列１８が配置される。ラスターモジュール１９上の照明光８のｘｚ平面内の入射角ＥＲx（図１の）及びｙｚ平面内の入射角ＥＲy（図面には示していない）は、ＭＭＡ１０からの照明光部分光束１５の反射角ＡＳx（図１の）、ＡＳy（図面には示していない）、及び／又はそれぞれの照明光部分光束１５がＭＭＡ１０、言い換えれば、それぞれの個々のミラー１１から射出する場所に相関付けられる。この相関性は、フーリエレンズ配列１６によって事前判断される。フーリエレンズ配列１６を使用する場合、言い換えれば、コンデンサーを用いない場合には、ラスター配列１８上では反射角はＡＳx及びＡＳyであり、フーリエレンズ配列１６は、近似的に角度の場所の座標への変換をもたらすので、第１のラスター配列１８上の照明光部分光束１５の入射場所は、ＭＭＡ１０からの照明光部分光束１５の反射角ＡＳx、ＡＳyに直接相関付けられる。フーリエレンズ配列１６を使用する場合とコンデンサー１６を使用する場合の両方において、フーリエレンズ配列１６の使用とコンデンサー１６の使用の両方が、場所の座標の角度への変換をもたらすので、ラスターモジュール１９上の照明光部分光束１５の入射角ＥＲx、ＥＲyは、ＭＭＡ１０上の照明光部分光束１５の位置、言い換えれば、それぞれの照明光部分光束１５が射出する個々のミラー１１と直接相関付けられる。
【００２６】
ラスターモジュール１９は、２次光源の空間分布配列、言い換えれば、１次光源６の像の空間分布配列を生成すること、従って、ラスターモジュール１９を射出する照明光の定義された照明角度分布の生成に使用される。
【００２７】
第２のラスター配列２１が、更に別の照明平面２０に配置される。照明平面１７は、第２のラスター配列２１の個別要素の前側焦点面内又はその近くに存在する。２つのラスター配列１８、２１は、照明光学系７のハニカムコンデンサーである。更に別の照明平面２０は、照明系５の瞳平面であり、又は照明系５の瞳平面に隣接する。従って、ラスターモジュール１９を視野定義要素（ＦＤＥ）とも呼ぶ。
【００２８】
照明光部分光束１５が第２のラスター配列２１を射出する際のｘｚ平面内の射出角ＡＲx（図１を参照されたい）及びｘｚ平面内の射出角ＡＲy（図面には示していない）は、物体視野３内でそれぞれの照明光部分光束１５が物体視野３上に入射する場所の領域に厳密に割り当てられる。
【００２９】
ラスターモジュール１９の下流には、視野レンズとも呼ぶ更に別のコンデンサー２２が配置される。第２のラスター配列２１と共に、コンデンサー２２は、第１の照明平面１７を照明系５の視野中間平面２３に結像する。視野中間平面２３内には、照明光強度分布の鮮明な縁部を生成するために調節可能な遮蔽マスクとして使用されるレチクルマスキング系（ＲＥＭＡ）２４を配置することができる。後続レンズ系２５は、視野中間平面２３をレチクル、言い換えれば、レチクル平面４内に位置したリソグラフィ原版上に結像する。投影レンズ系２６を用いて、レチクル平面４は、走査方向（ｙ）に断続的又は連続的に変位した図１には示していないウェーハ又は上ウェーハ上の像平面２７上に結像される。
【００３０】
第１のラスター配列１８は、ｘｙ平面に列毎及び行毎に配置された個別の第１のラスター要素２８を有する。第１のラスター要素２８は、例えば、１／１のｘ／ｙアスペクト比を有する矩形の開口部を有する。第１のラスター要素２８の他の、特に、より大きい、例えば、２／１のｘ／ｙアスペクト比が可能である。
【００３１】
図１に記載の子午断面図は、ラスター列に沿って延びている。第１のラスター要素２８は、例えば、正の屈折力を有するマイクロレンズとして構成される。第１のラスター要素２８は、その矩形形状に対応する、言い換えれば、区域を実質的に埋めるラスターで互いに直接に隣接して配置される。第１のラスター要素２８を視野ハニカムとも呼ぶ。
【００３２】
基本的にラスター構造及びラスターモジュール１９の機能は、ＷＯ  ２００７／０９３４３３  Ａ１に説明されているものに対応する。
【００３３】
図２は、ＭＭＡ１０からラスターモジュール１９の第２のラスター配列２１までの２つの照明光部分光束１５1及び１５2の進路を示している。それぞれの照明光部分光束１５の中心反射角、入射角、又は射出角を余す位置なく示している。図２には、ＭＭＡ１０からの２つの照明光部分光束１５の反射角ＡＳx、第２のラスター配列２１上の２つの照明光部分光束１５の一方の入射角ＥＲx（他方の照明光部分光束の対応する中心入射角はゼロである）、及びラスターモジュール１９からの照明光部分光束１５の射出角ＡＲxを例示的に示している。
【００３４】
図２にはフーリエレンズ配列１６の屈折効果を簡略化した方式に示している。実際には、この種の屈折効果は、ＭＭＡ１０からの照明光部分光束１５の反射角ＡＳxが、第１のラスター配列１８上の照明光部分光束１５のそれぞれの入射角ＥＲxと一致しないように存在する。フーリエレンズ配列１６の屈折効果を用いて、ＭＭＡ１０からのそれぞれの照明光部分光束１５の反射角ＡＳx及びそれぞれの照明光部分光束１５がＭＭＡ１０から射出される場所の第１のラスター配列１８上の同じ照明光部分光束１５の入射角ＥＲxへの相関性が与えられる。
【００３５】
上述した図を参照して上記に解説したものに対応する構成要素は同じ参照番号を有し、これらに対しては再度詳細には説明しない。
【００３６】
図２の上部に示す照明光部分光束１５1は、ＭＭＡ１０の図２の上部に示す個々のミラー１１1から反射角ＡＳx1で、フーリエレンズ配列又はコンデンサー１６を通じて、ラスターモジュール１９の第１のラスター配列１８の上から第２に示す第１のラスター要素２８にもたらされる。照明光部分光束１５1は、フーリエレンズ配列１６の屈折効果を無視した場合、図２の図にある反射角ＡＳx1と同一入射角で第１のラスター配列１８上に入射する。第１のラスター配列２８を通過した後に、照明光部分光束１５1は、第２のラスター配列２１の第２のラスター要素３０の第１の場所の領域２９上に入射する。この第１の場所の領域２９は、第２のラスター要素３０上に入射する照明光部分光束１５1の直径に対応し、第２のラスター要素３０上の照明光に対する第１の入射場所を事前判断する。
【００３７】
一方で第１のラスター配列１８の照明光部分光束１５1の光路と、他方で第１のラスター配列１８の照明光部分光束１５1の光路とを通じて互いに割り当てられる２つのラスター要素２８、３０は、照明光チャンネルを事前判断する。
【００３８】
現実のラスターモジュール１９の場合には、図面内に示すものよりも実質的に多くのチャンネル、例えば、数百個、数千個、又は更に数万個のこの種のチャンネルが存在する。各場合にチャンネルに割り当てられる第２のラスター配列２１の第２のラスター要素３０は、第１のラスター配列１８の第１のラスター要素２８の背後の光路に配置される。第２のラスター要素３０は、特に、正の屈折力を有するマイクロレンズとしても構成される。第２のラスター要素３０を瞳ハニカムとも呼び、このラスター要素は、第２の照明平面２０、言い換えれば、照明光学系７の瞳平面に配置される。第２の照明平面２０は、投影レンズ系２６の瞳平面３１と共役である。第２のラスター要素３０は、視野レンズ２２と共に、第２の照明平面１７、言い換えれば、視野ハニカムに配置された第１のラスター要素２８を視野中間平面２３に結像する。従って、第１のラスター要素２８の像は、視野中間平面２３内で重ね合わされる。
【００３９】
図１は、ラスター要素２８、３０を平凸レンズとして略示している。図面の更に別の図では、ラスター要素２８、３０を双凸レンズとしても略示している。
【００４０】
図２に示す第２の照明光部分光束１５2は、下から第２のものとして示すＭＭＡ１０の個々のミラー１１2から図２に示す第１の照明光部分光束１５1と同じ第１のラスター要素２８にもたらされる。個々のミラー１１2からの照明光部分光束１５2の反射角ＡＳx2は、フーリエレンズ配列１６の屈折効果を無視した場合、図２に記載の図の照明光部分光束１５1の反射角ＡＳx1と反対の符号を有する。
【００４１】
フーリエレンズ配列１６の屈折効果を考慮すると、照明光部分光束１５2及び照明光部分光束１５1が、第１のラスター配列１８の同じラスター要素２８上に入射する場合には、個々のミラー１１2からの照明光部分光束１５2の反射角ＡＳx2は、照明光部分光束１５1の反射角ＡＳx1にほぼ等しいとすることができる。照明光部分光束１５1、１５2は、ＭＭＡ１０の異なる場所から、言い換えれば、異なる個々のミラー１１から射出し、従って、フーリエレンズ配列１６上の異なる場所に入射するので、この場合、上述のことにも関わらず、第１のラスター配列１８上の照明光部分光束１５1、１５2の２つの入射角の間に差がもたらされる。上述のように、図２には、様々な照明光部分光束１５1、１５2の同じ入射角が、フーリエレンズ配列１６に異なる射出角で伝達されるこの関連を示していない。
【００４２】
第１のラスター要素２８を通過した後に、第２の照明光部分光束１５2は、第１の照明光部分光束１５1と同じ第２のラスター要素３０の第２の場所の領域２９’上に入射する。第２の場所の領域２９’は、この第２のラスター要素３０上の第２の照明光部分光束１５2の入射場所を指定する。図示の実施形態では、２つの照明光部分光束１５1、１５2が第２のラスター要素３０上に入射する２つの場所の領域２９と２９’とは、互いから空間的に分離される。２つの照明光部分光束１５1、１５2が第２のラスター要素３０上に入射する場所の領域２９と２９’とが互いに部分的に重なる別の実施形態が可能である。
【００４３】
図２は、第２のラスター配列２１及び第２のラスター要素３０の２つの別々に可能な効果を示しており、図２の実線に示す第１の光束誘導では、第２のラスター要素３０から射出する２つの照明光部分光束１５1、１５2において、同じ射出角ＡＲx1、ＡＲx2がもたらされる。この場合、射出角ＡＲxは、第２のラスター要素３０上のそれぞれの照明光部分光束の入射場所２９又は２９’には依存しない。第２のラスター配列２１の図２の一点鎖線に示す別の光学効果では、照明光部分光束１５2における射出角ＡＲx2は、照明光部分光束１５1における射出角ＡＲx1よりも小さい。この場合、すなわち、反射角ＡＲxは、第２のラスター要素３０上の入射場所２９に依存する。それに応じて、射出角ＡＲxは、第２のラスター配列２１の第２のラスター要素３０上のそれぞれの照明光部分光束１５の入射角ＥＲxにも依存する可能性がある。図２には、この入射角ＥＲxを照明光部分光束１１2において例として示している。第１のラスター配列１８の第１のラスター要素２８上のそれぞれの照明光部分光束１５の入射角ＥＲxと射出角ＡＲxの間に対応する依存性が存在する。多くの場合に、第２のラスター要素３０は、射出角ＡＲxが、第２のラスター要素３０上の入射角ＥＲxと入射場所２９との組合せに依存するように構成される。
【００４４】
下記では、入射場所又は場所の領域２９（又は図２の２９’）をＡＯとも呼ぶ。
【００４５】
ラスターモジュール１９の第２のラスター配列２１の第２のラスター要素３０の進入面３３及び／又は射出面３４の面設計は、特定の射出角ＡＲxにおいて、この射出角が、第２のラスター要素３０上の照明光部分光束１５の入射場所と、第２のラスター要素３０上の照明光部分光束１５の入射角ＥＲxとの特定の組合せにおいて等しく、それに対して他の射出角では、ＡＲxが、今度は入射場所及び／又は入射角ＥＲxに依存するように設計することができる。以下に説明するが、この設計は、一方で物体視野３の視野縁部を鮮明に定義するのに使用することができ、他方で物体視野３上の特定の照明方向の強度分布を事前判断するのに使用することができる。
【００４６】
ラスター要素３０の進入面３３及び／又は射出面３４は、設計上球面、非球面、特に、円錐面とすることができる。
【００４７】
コントローラ１４は、ＭＭＡ１０の個々のミラー１１の実際の傾斜角の所定分布、及びその結果としての第１のラスター要素２８上の照明光部分光束１５の実際の入射角ＥＲx、ＥＲyの所定分布が、物体視野３にわたる物体視野点が入射を受ける照明角度強度分布の事前判断される望ましい推移に割り当てられるように構成される。
【００４８】
これを図３及び図４を用いて以下により詳細に説明する。これらの図には、ｘ軸に対してゼロとは異なる角度で互いに隣合わせに配置された個々のミラー１１を有するＭＭＡ１０を示している。他の点では、図３及び図４に記載のＭＭＡ１０は、図１に記載のＭＭＡ１０に対応する。上述した図を参照して上記に解説したものに対応する構成要素は同じ参照番号を有し、これらに対しては再度詳細には説明しない。
【００４９】
概略的な図３及び図４では、ＭＭＡ１０とラスターモジュール１９の間のフーリエレンズ配列又はコンデンサー１６を省略している。概略的な図３及び図４のいずれにも、図２に関連して上述したものに従ってこのフーリエレンズ配列１６のいずれの屈折効果も示していない。図２に関連して上述したことは、この屈折効果に適用される。従って、現実には、ＭＭＡ１０からの照明光部分光束１５の反射角が、ラスターモジュール１９上の照明光部分光束１５の入射角と一致することはない。
【００５０】
第２の照明平面２０内の図３及び図４に示すラスターモジュール１９における別々の照明は、四重極強度分布を生成する。言い換えれば、この場合、瞳平面３１内に４つの瞳スポット又は強度スポットＩ1からＩ4が照明され、これらのスポットを図５に示し、最上部に示す強度スポットＩ1で始まって反時計方向に順次付番している。
【００５１】
図３は、ラスターモジュール１９の第１のラスター配列１８の第１のラスター要素２８上の照明光部分光束１５の実際の入射角ＥＲxの対応する分布をもたらす個々のミラーの実際の傾斜角の第１の分布を示している。
【００５２】
図３に記載の実際の傾斜角分布は、ラスターモジュール１９の第１のラスター要素２８上の照明光部分光束１５の最小入射角ＥＲx、ＥＲyをもたらし、その結果、物体視野３内の全ての場所で、言い換えれば、視野に関係なく、強度スポットＩ1からＩ4に対応する４つの照明方向が、照明光の同じ強度で表されるということをもたらす。
【００５３】
図４は、図５に記載の４つの強度スポット（極）Ｉ1からＩ4を有するが、ラスターモジュール１９の第１のラスター要素２８上に照明光部分光束１５の実際の入射角ＥＲx、ＥＲyの異なる分布を有する四重極照明設定を同じくもたらすＭＭＡ１０の個々のミラー１１の実際の傾斜角の分布の変形を示している。図４に記載の実際の傾斜角分布は、図３と比較して、実質的に大きい入射角ＥＲx、ＥＲyがもたらされるようなものである。図３及び図４に記載の照明において照明光部分光束１５による入射を受けるラスター要素２８、３０は、図４に記載の実際の入射角分布における入射角の増大が、物体視野３にわたる４つの強度スポットＩ1からＩ4の方向からの照明角度強度Ｉ（ｘ）の傾斜をもたらすことができるように構成される。この傾斜が基とする効果は、この傾斜が、ラスターモジュールの補助的な照明角度変更デバイスを用いて、言い換えれば、ＭＭＡを用いずに生成されているＷＯ  ２００７／０９３４３３  Ａ１に説明されている。図５には、物体視野にわたって物体視野点が入射を受ける図４に記載の実際の入射角分布に基づいてもたらされる照明角度強度分布の実際の推移を四重極照明設定の４つの照明方向Ｉ1からＩ4に対して示している。図４には、図５に記載の視野依存性をもたらす照明光部分光束１５の一部しか示していない。図５の上部に示すＩ（ｘ）グラフは、視野座標ｘにわたるＩ1極の方向からの強度の依存性を示している。傾斜は、強度が、左の視野縁部（ｘ＝０）から右の視野縁部（Ｘ＝ｘ0）に線形に減少するように調節される。
【００５４】
図５の左には、極Ｉ2の方向からの照明強度の対応する視野依存性を示している。Ｉ2強度は、左の視野縁部から右の視野縁部に進んで線形に増大する。
【００５５】
図５の下部には、Ｉ3極におけるＩ（ｘ）依存性を示している。Ｉ3極の方向からの強度Ｉ3（ｘ）は、視野座標（ｘ）に依存しない。
【００５６】
図５の右には、Ｉ4極の方向からの照明強度でのＩx依存性を示している。Ｉ4極の方向からの照明強度Ｉ4（ｘ）は、依存性Ｉ2（ｘ）の傾きと比較してより小さい傾きを有して左の視野縁部から右の視野縁部に進んで増大する。
【００５７】
第１のラスター要素２８及び第２のラスター要素３０の屈折効果の設計に基づいて、物体視野にわたって物体視野点が入射を受ける照明角度強度分布の大きい帯域幅の他の望ましい推移を事前判断することができる。次に、投影露光系１の作動を準備するための照明光学系７の調節中に、最初に、事前判断される望ましい推移に対して、ラスターモジュール１９のラスター要素２８上の照明光部分光束１５の入射角ＥＲx、ＥＲyの望ましい分布が判断される。更に、個々のミラー１１の望ましい傾斜角の分布が、この判断された望ましい入射角分布に割り当てられる。従って、望ましい傾斜角が、各個々のミラー１１に対して事前判断される。最後に、個々のミラー１１の実際の傾斜角が、関連付けられた望ましい傾斜角と一致するように個々のミラー１１の傾斜アクチュエータ１２が起動される。
【００５８】
物体視野３にわたって物体視野点が入射を受ける照明角度強度分布の望ましい推移Ｉ（ｘ）の第１のラスター要素２８上の照明光部分光束１５の実際の入射角ＥＲx、ＥＲy、又は第２のラスター要素３０上のＥＲx、ＥＲyの分布への依存度に対して、照明光学系７の少なくとも１つの瞳平面に対するラスターモジュール１９の２つのラスター配列１８、２１の位置関係によって影響を及ぼすことができる。例えば、第２の照明平面２０が、照明光学系７の瞳平面と一致するか否か、又は第２の照明平面２０と照明光学系７の瞳平面の間に定義された間隔が存在するか否かに基づいて、照明角度強度分布の望ましい推移の実際の入射角ＥＲxへの弱い又は強い依存性をもたらすことができる。
【００５９】
ＭＭＡ１０の個々のミラー１１の実際の傾斜角分布の指定に基づいて、ラスターモジュール１９上の照明光部分光束１５の事前判断される強度分布、及び瞳平面３１内に対応して事前判断される強度分布をもたらすことができる。図３から図５に関連して上述した四重極強度分布を補足する更に別の例は、瞳平面３１内で図５に記載の図の強度スポットＩ1及びＩ3のものに対応することができる位置を有する２つの瞳スポット又は強度スポットが照明される二重極強度分布である。
【００６０】
ラスターモジュール１９のラスター配列１８、２１の光チャンネルに割り当てられた２つのラスター要素２８、３０による照明光部分光束１５の誘導における比を図６から図８を用いて以下に詳細に説明する。図６から図８では、ラスター要素２８、３０を平凸レンズに示している。これらのレンズは、双凸レンズとすることができる。
【００６１】
上述した図を参照して上記に解説したものに対応する構成要素は同じ参照番号を有し、これらに対しては再度詳細には説明しない。
【００６２】
図６に記載の照明光部分光束１５の誘導中には、照明光部分光束１５は、第２のラスター要素３０上に入射角ＥＲx＝０で入射する。図示のｘｚ平面内では、ラスター要素２８と３０の間に集束される照明光部分光束１５の進路は、ｚ軸に対して対称である。場所の領域２９、言い換えれば、照明光部分光束１５の直径は、第２のラスター要素３０の全進入面３３の半域３５よりも小さい。場所の領域２９と全進入面３３の間の別の区域サイズ比も可能である。
【００６３】
図７は、第２のラスター要素３０上の１５°程度の入射角ＥＲxにおける照明光部分光束１５の誘導の変形を示している。図７に記載の光束誘導における照明光部分光束１５の入射場所２９は、ｚ軸、言い換えれば、ラスター要素２８、３０の対称軸の上方に位置する半平面に完全に収まる。
【００６４】
図８は、第２のラスター要素３０上の図７に記載の関連と比較して反対の符号を有するが、同じ絶対サイズを有する入射角ＥＲxにおける照明光部分光束１５の光束誘導の更に別の変形を示している。図８に記載の光束誘導における第２のラスター要素３０の進入面３３上の照明光部分光束１５の入射場所２９は、ｚ軸の下方に位置する半平面に完全に収まる。
【００６５】
図７に記載の光束誘導と図８に記載の光束誘導とを比較すると、これらの図における入射場所、言い換えれば、第２のラスター要素３０上に入射する照明部分光束１５の直径は、互いから完全に分離される。従って、第２のラスター要素３０からの照明光部分光束１５の射出角ＡＲxの図６から図８に示す入射角ＥＲxへの依存特性に、第２のラスター要素３０の進入面３３の適切な設計によって影響を及ぼすことができる。
【００６６】
図９は、ラスターモジュール１９から発する射出角ＡＲxの一方でそれぞれの第２のラスター要素３０上の入射角ＥＲxへの依存性、他方で第２のラスター要素３０上のそれぞれの照明光部分光束１５の入射場所ＡＯへの依存性を略示している。図９では、第１のラスター要素２８のそれぞれの縁部を通過する照明光部分光束１５は、各場合に直線を形成する。第１のラスター要素２８の縁部は、物体視野３の視野縁部上に結像される。従って、図９では、物体視野３の２つの対向するｘ視野縁部を定義する２つの射出角ＡＲxr1、ＡＲxr2の等値線がもたらされる。各場合に、所定のパラメータ対（ＥＲx、ＡＯ）に対して一方の視野縁部射出角ＡＲxr1がもたらされ、パラメータ対（ＥＲｘ、ＡＯ）の別の線形推移に対して他方の視野縁部射出角ＡＲxr2がもたらされる。パラメータ対のこの推移を視野縁部射出角ＡＲxr1、ＡＲxr2に関する等値線３６、３７とも呼ぶ。
【００６７】
図９に記載の等値線３６、３７に従うパラメータ対条件が厳守される場合には、同じ射出角ＡＲxr1/2が常にもたらされ、従って、物体視野３のｘ方向の視野縁部、言い換えれば、物体視野３のｘ方向の左の視野縁部及びｘ方向の右の視野縁部は、鮮明に定義されたまま状態を維持する。実際には、パラメータ対は、図９に示すように線形に延びる必要はなく、異なる推移を有することができる。図９に示す線形推移は、視野縁部における物体視野の均一な照明をもたらすことができる。
【００６８】
図１０は、ｘ方向の物体視野中心を定義する第３の射出角ＡＲxmに関する第３の等値線３８を２つの視野縁部射出角に関する等値線３６、３７に加えて同じく示す図９に対応する図を示している。等値線３８は、２つの等値線３６と３７との間を等距離で延び、それによって照明光８による物体視野３の均一な照明がもたらされる。
【００６９】
図１１は、ｘ方向の物体視野中心を定義する射出角ＡＲxmに関する等値線３８の推移の変形を示している。図１１の入射場所ＡＯの左縁部では、等値線３７における入射角ＥＲxと等値線３８における入射角ＥＲxとは、互いの近くに位置する。これは、物体視野中心における射出角ＡＲxmをもたらす入射角ＥＲxmが、それぞれの第２のラスター要素３０上の入射場所に関して、例えば、物体視野３のｘ方向の左の縁部における射出角ＡＲxr2をもたらす入射角ＥＲxの近くに予め位置していることを意味する。この場合、物体視野３のこの「左」半域は、第２のラスター要素３０上の入射角ＥＲxの均一な分布を仮定すると、右の物体視野半域よりも弱い強度で照明される。２つの等値線３６と３８とが互いに接近する図１１の入射場所ＡＯの右縁部における条件は逆である。入射場所ＡＯのこの領域が使用される場合には、他方の物体視野半域はより弱い強度で照明される。
【００７０】
図１２は、物体視野中心を定義する射出角ＡＲxmに関する等値線３８の更に別の推移の可能性を示している。中心の入射場所ＡＯ及び入射角ＥＲxの領域内で、等値線３８は、等値線３７に隣接する推移から等値線３６に隣接する推移に変化する。それに応じて、左の物体視野半域の強い照明と右の物体視野半域の強い照明の間の移行は、入射場所のそれぞれ使用される領域に依存してより急激である。図１２に記載の関連は、ほぼ限界の場合であり、言い換えれば、ラスター要素３０の進入面３３の半域上の面領域２９が、物体視野又は照明視野３の半域を照明し、この半域とは反対のラスター要素３０の進入面３３の他方の半域上の面領域２９（図６及び図７を参照されたい）が、物体視野又は照明視野３の他方の半域を照明する配列である。
【００７１】
図１３は、上述の限界の場合を得るための第２のラスター要素３０のうちの１つの進入面３３の構造化の例を示している。円錐寄与４０が、図１３に破線に示す進入面３３の球面の基本推移３９又は光軸からの間隔への依存性に関して非球面の基本推移３９の上に重ね合わされ、従って、進入面３３は、屋根の稜線の方式で中心において隆起する。図１３には、この隆起の場所をＫで例示している。隆起Ｋは、図１４から図１６を用いて以下に説明するように、隆起Ｋを有するラスター要素３０に起因して、照明光部分光束１５が、物体視野３の幅の半分だけｘ方向に偏向されるように無条件に選択することができる。
【００７２】
進入面３３が図１３に記載の設計に従って形成された第２のラスター要素３０を有する第２のラスター配列２１を有するラスターモジュール１９の効果を図１４から図１６を用いて例示する。この場合、図１４から図１６は、ラスター要素２８、３０を双凸レンズとして示している。ＭＭＡ１０を互いから分離された２つの部分に分割されるように示している。これらの部分の各々は、互いに対して個々に傾斜させることができる複数の個々のミラー１１を有することができる。各々が複数の個々のミラー１１を有するより多くの部分へのＭＭＡ１０の再分割も可能である。
【００７３】
上述した図を参照して上記に解説したものに対応する構成要素は同じ参照番号を有し、これらに対しては再度詳細には説明しない。
【００７４】
図１４は、第１の入射角ＥＲx1を有する入射方向からのラスターモジュール１９の照明をｚｘ平面に示している。ＭＭＡ１０をラスターモジュール１９の上に示す図１４に記載の図では、この照明は、左上から傾斜して発生する。図１３に記載の照明される第２のラスター要素３０の進入面３３の円錐設計に起因して、ラスターモジュール１９によってもたらされる照明光部分光束１５の物体視野３内での正のｘ値への変位がもたらされ、この変位を図１４の下部にあるＩ（ｘ）グラフに示している。図１４に記載の照明では、右の物体視野半域のみが、照明されるラスター要素２８、３０に対応する瞳スポットの方向から光を捉える。
【００７５】
図１５は、同じ第２のラスター要素３０であるが、今度は反対の符号を有する入射角ＥＲxIIを有する照明、言い換えれば、図１５に記載の配列内の右上から傾斜した照明を示している。このようにしてもたらされる照明光部分光束１５の負のｘ方向への変位は、物体視野３内で図１５の下部のＩ（ｘ）グラフに示すようにもたらされる。それによって図１５に記載の照明では、左の物体視野半域のみが、照明されるラスター要素２８、３０に対応する瞳スポットの方向から光を捉える。
【００７６】
図１６は、図１４に記載の照明と図１５に記載の照明との組合せを示している。この場合、物体視野全体が、照明されるラスター要素２８、３０の方向から、言い換えれば、関連付けられた瞳スポットの方向から照明される。図１６には、いずれの付加的なＩ（ｘ）グラフも示していない。このＩ（ｘ）グラフは、図１４及び図１５の２つのＩ（ｘ）グラフの重ね合わせから生成される。
【００７７】
図９から図１２を参照して上述したものに対応する射出角依存性を指定する第２のラスター要素３０を有する第２のラスター配列２１を有するラスターモジュール２９を製造するために、これらのラスター要素３０上の照明光部分光束１５の入射場所ＡＯと、これらのラスター要素３０上の照明光部分光束１５の入射角ＥＲxとに依存する第２のラスター要素３０からの照明光部分光束１５の得られる一定の射出角ＡＲxの推移の望ましい依存性ＡＲ（ＥＲ，ＡＯ）を事前判断することができる。次に、第２のラスター要素３０の進入面３３及び任意的に更に射出面３４が、ラスターモジュール１９の所定照明において、事前判断される望ましい依存性に対応する射出角推移の実際の依存性がもたらされるように構造化される。
【００７８】
ラスターモジュール１９に関する別の製造方法では、第２のラスター要素３０の進入面３３及び／又は射出面３４の一般的な面設計を用いて得ることができる第２のラスター配列２１上のこれらのラスター要素３０上の照明光部分光束１５の入射場所ＡＯと、これらのラスター要素３０上の照明光部分光束１５の入射角ＥＲxとに基づいて、第２のラスター要素３０からの照明光部分光束１５の得られる一定の射出角ＡＲxの推移の望ましい依存性ＡＲ（ＥＲ，ＡＯ）の部類が判断される。望ましい依存性ＡＲ（ＥＲ，ＡＯ）のこれらの部類は、図９から図１２に関連して上述したように、同じ射出角ＡＲxをもたらす、入射角ＥＲxと入射場所ＡＯとのパラメータ対の等値線推移を有することができる。次に、判断された部類のうちの１つの中で得られる望ましい依存性ＡＲ（ＥＲ，ＡＯ）が事前判断され、ラスターモジュール１９の所定照明を用いて、事前判断される許容限界範囲の事前判断される望ましい依存性に対応する推移の実際の依存性がもたらされるように、第２のラスター配列２１のラスター要素３０の進入面３３及び／又は射出面３４が構造化される。
【００７９】
照明光部分光束１５に対するラスターモジュール１９の効果に対しては、上記では主にｘｚ平面内で説明した。対応する効果及び依存性は、ｙｚ平面内にも同じくもたらされる。これは、物体視野３のｙ視野縁部を定義するために、更に、照明設定によって事前判断される照明角度からの物体視野３にわたるｙ方向の強度分布を事前判断するために使用することができる。これは、特に、物体視野３全体が同時に、言い換えれば、走査法によらずに照明及び結像されるステッパとしての投影露光系１の構成の場合に使用することができる。
【００８０】
説明した実施形態では、ラスター要素２８、３０は、屈折結像ラスター要素、言い換えれば、屈折ラスター要素である。原理的に、ラスター要素２８、３０は、反射ラスター要素、言い換えれば、反射ラスター要素として設計することができる。
【００８１】
図２では、簡略的にフーリエレンズ配列１６のいずれの屈折効果も示していないことは既に上述している。図１７は、フーリエレンズ配列１６の屈折効果を示す図２に対応する配列を示している。上述した図、特に、図２を参照して上記に既に解説したものに対応する構成要素は同じ参照番号を有し、これらに対しては再度詳細には説明しない。
【００８２】
ここではマイクロミラーアレイ１０のそれぞれの個々のミラー１１1及び１１2からの２つの照明光部分光束１５1及び１５2の進路を示している。２つの部分光束１５1、１５2は、個々のミラー１１1及び１１2からの反射角ＡＳx1及びＡＳx2を有する。フーリエレンズ配列１６の屈折効果は、これらの反射角ＡＳx1及びＡＳx2のフーリエレンズ配列１６の後の反射角ＡＳ’x1及びＡＳ’x2への変換をもたらす。第２のラスター配列２１の同じラスター要素３０の進入面３３上の２つの照明光部分光束１５1、１５2の入射角ＥＲx1及びＥＲx2も示している。図１７に記載の図では、このラスター要素は、上から３番目のラスター要素３０である。この場合、図１７は、フーリエレンズ配列１６上の同じ入射角、言い換えれば、角ＡＳx1及びＡＳx2が、異なる反射角ＡＳ’x1及びＡＳ’x2に転換される状況を示している。
【００８３】
更に、図１７は、２つの部分光束１５1、１５2による作用を受ける第２のラスター配列２１及びラスター要素３０の２つの代替として可能な効果を示している。図１７の実線に示す第１の光束誘導では、第２のラスター配列２１のラスター要素３０を射出する１５1、１５2という２つの照明光部分光束において、同じ射出角ＡＲx1、ＡＲx2がもたらされる。部分光束１５1、１５2の主ビームは、この場合、ｚ軸に沿って延びるので、これらの射出角ＡＲx1及びＡＲx2は各場合にゼロである。図１７に一点鎖線に示す第２のラスター配列２１の別の光学効果では、照明光部分光束１５1においてゼロよりも小さい、言い換えれば、負のｘ方向に進路成分を有する射出角ＡＲx1'がもたらされ、部分光束１５2においてゼロよりも大きい、言い換えれば、正のｘ方向に進路成分を有する射出角ＡＲx2'がもたらされる。
【００８４】
図１８から図２０は、第２の照明平面２０内で各場合に同じラスター要素３０の入射をもたらすが、入射角ＥＲxの異なる分布を有するラスターモジュール１９における別の照明を示している。図１８から図２０では、フーリエレンズ配列の屈折効果が考慮されている。２つのラスター配列１８及び２１のラスター要素２８及び３０上の部分光束１５の異なる入射角に起因して、既に上述のように、物体視野３の照明の異なる視野依存効果を生成することができる。
【００８５】
投影露光系１を用いた微細構造化構成要素又はナノ構造化構成要素のマイクロリソグラフィ製造では、最初にウェーハ平面２７内の基板又はウェーハが準備される。ウェーハには、少なくとも１つの感光材料層が付加される。更に、結像される構造を有するレチクルが、レチクル平面４内に準備される。次に、物体視野３に配置されたレチクルの一部が、像視野に配置された層の一領域上に投影露光系１を用いて投影される。
【符号の説明】
【００８６】
３  物体視野
５  照明系
１０  マイクロミラーアレイ
１２  アクチュエータ
１４  コントローラ
１６  フーリエレンズ配列
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【国際調査報告】
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