(57)【要約】
【課題】構造が簡単で、組み立ても簡単な、密封後でも分解ができ、生産コストを下げ、生産効率を上げることができると同時に真空効果が強化できる、放熱器の真空密封構造を提供する。
【解決手段】　主に中空の管体４０、或いは箱体と密封蓋４３と密封用のねじ４４により構成する。該ねじ４４のねじ軸部４４１上には少なくとも１つの切削部４４２を設ける。ねじ４４のねじ軸部４４１上にワッシャ−４５を嵌入し、ネジを筒体の密封蓋のネジ孔４３１に軽く締結した仮止め状態で管体内を排気すると、管内の空気はネジの切削部４４２を通じて排気され管内は真空となる。次いでネジを強固に締結して組み立てを完了する。
【選択図】図６
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
　主に中空の管体、或いは箱体と密封蓋と密封用のねじにより構成されており、
　上記中空の管体、或いは箱体は、その一端に開口部が設けられており、
　上記密封蓋は、上述の管体、或いは箱体の開口部上に設置されており、該密封蓋は厚みを持っており、通し孔が設けられており、
　上記密封ねじは、上述の密封蓋の通し孔上に設置されており、該ねじのねじ軸部上には少なくとも１つの切削部が設けられており、
　それにより、ねじを通し孔に完全に締結していない状態の時、管体、或いは箱体内の空気は、ねじの切削部を通り外接された真空処理装置へと吸い出され、管体、或いは箱体内が真空になったあと、ねじを完全に締結して開口部の密封ができることを特徴とする放熱器の真空密封構造。
【請求項２】
上記管体の底部には板体が設けられており、管体が板体上に直立して溶接されており、板体により放熱効果を強化したことを特徴とする請求項１記載の放熱器の真空密封構造。
【請求項３】
　上記管体、或いは箱体の底部下方に発熱体を連結して使用することを特徴とする請求項１、或いは２に記載の放熱器の真空密封構造。
【請求項４】
　通し孔は密封蓋の凹陥部分に設けられており、ねじを下向きに締結した後、ねじの表面と密封蓋の表面は平面を形成することを特徴とする請求項１に記載の放熱器の真空密封構造。
【請求項５】
　上記ねじには気密用のワッシャ−が嵌入されていることを特徴とする請求項１に記載の放熱器の真空密封構造。
【請求項６】
　上記ねじと密封蓋の接合部を、更に、はんだ、或いは接着剤により密封することを特徴とする請求項１に記載の放熱器の真空密封構造。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は放熱器の真空密封構造に係り、特に構造が簡単で、組み立てがすばやく、容易にでき、密封した後でも分解ができ、直立式柱形放熱器（thermal tower or thermal column）や箱型放熱器（thermal chamber or vapor chamber）等のCPU等の発熱する電子パーツの放熱器の密封に適する放熱器の真空密封構造に関わる。
【背景技術】
【０００２】
従来の放熱器の真空密封構造は、図１，２，３，４に示すように、中空の管体２に上部蓋２１と下部蓋２２が溶接されており、上部蓋２１の表面に貫通孔２１１が設けられており、そこに細管３を貫通しており、真空処理作業を行う時は、真空処理装置を細管３に連結し、中空の管体２内の空気を吸出し、管体２内が真空状態になった後、細管３を切断、溶接して、上部蓋２１の表面を管体２内部に押入れ、細管３は切断した後でも上部蓋２１の表面に突出しているので、樹脂状の物を上部蓋２１上に流し入れ、上部蓋２１の表面を平面にする構造の物が多い。
【考案の開示】
【考案が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、以上の従来技術によれば、以下の欠点が指摘される。
公知構造の柱形放熱器１において、真空処理後、細管３を切断、溶接する過程で、空気の管体２への進入を防ぐことは難しく、一旦、密封の為の溶接、或いは樹脂状の物の流し込みを行ってしまうと、たとえ管体２内が真空状態に至っていないことが発見されても、再び上部蓋２１を開けて真空処理作業を行うことはできないので、無駄な廃物が発生し、生産コストが上がってしまう。
公知構造の柱形放熱器１において、密封作業を行う時、圧力を掛けたり、細管を切断したり、溶接したりと工程が繁雑であり、尚且つ管体２内に空気が入らないように注意深く作業を行う必要があるため、作業時間が掛かってしまうと同時に、上部蓋２１の表面を平面に保つため、シリカゲルを流し込まなければならなかったり、或いは更にもう一つ蓋を設置したりと、生産コストを下げることができない。
そこで本考案は、上記欠点を解決すべく、
構造が簡単で、組み立ても簡単な、密封後でも分解ができる、
生産コストを下げ、生産効率を上げることができると同時に真空効果を強化できる、放熱器の真空密封構造を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
　上記課題を解決するために、本考案の放熱器の真空密封構造は、主に中空の管体、或いは箱体と密封蓋と密封ねじにより構成されており、上記中空の管体、或いは箱体は、その一端に開口部が設けられており、上記密封蓋は、上述の管体、或いは箱体の開口部上に設置されており、該密封蓋は厚みを持っており、通し孔が設けられており、上記密封ねじは、上述の密封蓋の通し孔上に設置されており、該ねじのねじ軸部上には少なくとも１つの切削部が設けられている。
　それにより、ねじを通し孔に完全に締結していない状態の時、管体、或いは箱体内の空気は、ねじの切削部を通り外接された真空処理装置へと吸い出され、管体、或いは箱体内が真空になったあと、ねじを完全に締結し開口部の密封ができる。
【考案の効果】
【０００５】
　放熱管の真空処理後、上方にはその他装置を外部接続しなければならないので、管体の端面は、その他装置を連結し易くする為に必ず平面である必要がある。公知構造においては、密封作業時に細管の切断をし、溶接後、シリカゲルを流し込んだり、蓋体を更に設置したりして管体の端面を平面する必要があるため、作業が繁雑になるが、本考案においては、真空処理後、ねじで密封蓋を締めるだけでねじの表面と密封蓋の表面は平面を形成するので、作業時間を大幅に短縮できる効果が得られる。
【０００６】
　公知構造においては、真空処理後、溶接、或いは樹脂状の物を流し入れる方式により、蓋体の貫通孔を密封する必要があり、一旦作業ミス等により管体内が真空状態に至っていない場合でも、再び真空処理作業をやり直すことは不可能で、そのため無駄な廃物が発生してしまうが、本考案においては、ねじによって管体を密封するので、真空処理作業をやり直すことが可能であり、生産コストを大幅に下げる効果が得られる。
【０００７】
　ねじのねじ軸部上にはワッシャ−が嵌入されており、真空処理作業時、管体から内側に吸い込む力が発生するので、ねじ上のワッシャ−は通し孔に下向きに吸引され密封されるため、ねじを締結した後の気密効果を更に高める効果が得られる。
【考案を実施するための最良の形態】
【０００８】
　本考案の実施例を図に沿って説明する。
　図５，６，７に示すように、直立式中空柱形放熱器（thermal tower or thermal column）を例に説明する。
【０００９】
　主に中空の柱形管体４０と密封蓋４３と密封用のねじ４４により構成されており、上記中空の柱形管体４０は、一端に底部４１（図６参照）、もう一端に開口部４２が設けられており、上記密封蓋４３は、上述の管体４０の開口部４２上に溶接されており、該密封蓋４３は厚みを持っており、通し孔４３１が設けられている。
【００１０】
　上記密封用のねじ４４は、上述の密封蓋４３の通し孔４３１上に設置されており、該ねじ４４のねじ軸部４４１上の中段から下に向かって少なくとも１つの切削部４４２が設けられており、それにより、ねじ４４を通し孔４３１に完全に締結していない状態の時、柱形管体４０内の空気は、ねじ４４の切削部４４２を通り外接された真空処理装置９へと吸い出され、管体４０内が真空になったあと、ねじ４４を完全に締結することで開口部４２の密封ができる。
【００１１】
　更に気密効果を高める為に、ねじ４４のねじ軸部４４１上にワッシャ−４５を嵌入する。該ワッシャ−４５は軟質の耐熱性にすぐれた材質により作られており、真空処理作業時、管体４０から内側に吸い込む力が発生するので、ねじ４４上のワッシャ−４５は通し孔４３１に下向きに吸い付き、気密効果を高めることが可能になる。
【００１２】
　密封後、上記ねじ４４と密封蓋４３の接合部を、更に、溶接、或いは接着剤等により密封し、管体４０内の真空効果を強化する。
【００１３】
　図５に示すように、管体４０の底部４１に板体６を設け、管体４０を板体６上に溶接することにより、管体４０底部４１の下方の電子部品との接触面積を増やし、放熱効果を高めることができる。
【００１４】
　図８，９に示すように、箱型放熱器（thermal chamber or vapor chamber）を例にした場合、構成と実施方法は前述の直立式中空柱形放熱器４と同様であり、密封蓋７１とワッシャ−７２とねじ７３が箱体７４の開口部上に設置されている。
【００１５】
　図８、１０に示すように、本考案を実施する時、先ず密封蓋４３を管体４０上の一端の開口部４２上に溶接する。次にオートドライバー８を外接した真空処理装置９の吸気管内に嵌入する。ねじ４４を通し孔４３１に完全に締結していない状態の時、管体４０内の空気は、ねじ４４の切削部４４２を通り外接された真空処理装置９（ポンプ等）へと吸い出され、管体４０内が真空になったあと、オートドライバー８によりねじ４４を完全に締結し開口部４２の密封ができる。
【００１６】
　ねじ４４を締結した後、該ねじ４４表面は密封蓋４３の表面と平面を形成する。
【００１７】
　真空処理後の管体４０底部４１の下方にCPU等の発熱体を連結し、発熱体からの熱は真空の管体４０に伝わりすばやく放熱される。
【００１８】
　本考案は密封蓋４３を密封した後でも、仮に解体の必要があれば、ねじ６を緩めるだけで密封構造を解体でき、非常に便利である。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】公知構造における円柱形放熱器の立体外観図である。
【図２】図１における構造を示す断面図である。
【図３】公知構造における円柱形放熱器の真空密封処理後の立体外観図である。
【図４】図３における構造を示した断面図である。
【図５】直立式中空柱形放熱器の下方に板体を設置した立体外観図である。
【図６】本考案の実施例における各部構造を示す立体外観分解図である。
【図７】本考案の実施例における真空密封処理後の局部断面図である。
【図８】本考案における箱型放熱器を例にした立体外観図である。
【図９】図８の箱型放熱器における各部構造を示す断面分解図である。
【図１０】本考案における真空密封処理時の様子を示した図である。
【符号の説明】
【００２０】
　１　　　公知構造の柱形放熱器
　２　　　管体
　２１　　上部蓋
　２１１　貫通孔
　２２　　下部蓋
　３　　　細管
　４　　　直立式中空柱形放熱器
　４０　　管体
　４１　　底部
　４２　　開口部
　４３　　密封蓋
　４３１　通し孔
　４４　　ねじ
　４４１　ねじ軸部
　４４２　切削部
　４５　　ワッシャ−
　６　　　板体
　７　　　箱型放熱機
　７１　　密封蓋
　７２　　ワッシャ−
　７３　　ねじ
　７４　　箱体
　８　　　オートドライバ−
　９　　　真空処理装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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