(57)【要約】  局所適用に適した日焼け止め組成物が提供される。日焼け止め組成物は少なくとも１種の日焼け止め活性剤を含む。さらに、日焼け止め組成物は加水分解ホホバエステル、ホホバエステル、および水を含む耐水剤を含む。耐水剤は日焼け止め活性剤を使用者の皮膚にトラップし、それにより日焼け止め活性剤が水への曝露によって脱落しないようにする。日焼け止め組成物はホホバ油脂肪酸カリウムおよび／またはホホバアルコールをさらに含んでもよい。また、日焼け止め組成物は皮膚水和のためのグリセリンを含んでもよい。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種の日焼け止め活性剤；および
加水分解ホホバエステル、ホホバエステル、および水を含む耐水剤
を含む、局所適用に適した日焼け止め組成物。
【請求項２】
前記耐水剤が日焼け止め組成物の０．２％を形成する、請求項１に記載の日焼け止め組成物。
【請求項３】
ホホバ油脂肪酸カリウムをさらに含む、請求項１に記載の日焼け止め組成物。
【請求項４】
ホホバアルコールをさらに含む、請求項３に記載の日焼け止め組成物。
【請求項５】
皮膚水和のためのグリセリンをさらに含む、請求項４に記載の日焼け止め組成物。
【請求項６】
前記少なくとも１種の日焼け止め活性剤が、アセトアミノサロール；アラントインＰＡＢＡ；４−アミノ安息香酸；４−アミノ安息香酸；ベンザルフタリド；ベンゾフェノン−１；ベンゾフェノン−２；ベンゾフェノン−３；ベンゾフェノン−４；ベンゾフェノン−５；ベンゾフェノン−６；ベンゾフェノン−７；ベンゾフェノン−８；ベンゾフェノン−９；ベンゾフェノン−１０；ベンゾフェノン−１１；ベンゾフェノン−１２；ベンゾトリアゾリルドデシルｐ−クレゾール；３−ベンジリデンカンファー；ベンジリデンカンファー加水分解コラーゲンスルホンアミド；ベンジリデンカンファースルホン酸；ベンジルサリチレート；ビスジスリゾール二ナトリウム；ビス（安息香酸ブチル）ジアミノトリアジン；アミノプロピルトリシロキサン；ビス−エチルヘキシルオキシフェニルトリアジン；ボルネロン；ブメトリゾール；ブチルメトキシジベンゾイルメタン；カルシウムセリウムオキシド；テリハボク種子油；チャ葉エキス；カンファーベンザルコニウムメトサルフェート；カロテノイド；炭酸セリウム（３＋）、シリカとの焼成生成物；炭酸セリウム（３＋）、シリカおよびタルクとの焼成生成物；シノキサート；コバルトｄｎａ；ＤＥＡ−メトキシシンナメート；ナンキョクコメススキ葉エキス；ジアセチルクルクミン；ジベンゾキサゾイルナフタレン；ジ−ｔ−ブチルヒドロキシベンジリデンカンファー；ジエチルアミノメトキシシンナメート；ジアセチルクルクミン；ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート；ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン；ジエチルヘキシル２，６−ナフタレート；ジガロイルトリオレエート；ジイソプロピルメチルシンナメート；ジメチコン／ｐｅｇ−１５クロスポリマー；１−（３，４−ジメトキシフェニル）−４，４−ジメチル−１，３−ペンタンジオン；ジ−メトキシシンナミドプロピルエチルジモニウイムクロリドエーテル；４−（ジメチルアミノ）−，３−メチルブチルベンゾエート；ジメチルＰＡＢＡエチルセテアリルジモミウムトシレート；ジモルホリノピリダジノン；ジフェニルカルボメトキシアセトキシナフトピラン；ジフェニルメチルピペラジニルベンズイミダゾール；ビスエチルフェニルトリアミノトリアゾン二ナトリウム；スチルベンジスルホネート；ジスチリルビフェニルジスルホン酸二ナトリウム；フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム；ジ−ｔ−ブチルヒドロキシベンジリデンカンファー；ドロメトリゾール；ドロメトリゾールトリシロキサン；エチルシンナメート；エチルジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ；エチルジイソプロピルシンナメート；エチルヘキシルビス−イソペンチルベンゾキサゾリルフェニルメラミン；エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリジンプロピオネート；エチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ；エチルヘキシルフェルレート；エチルヘキシルメトキシシンナメート；２−エチルヘキシル４−（Ｎ−メチル−Ｎ−ニトロサミノ）ベンゾエート；エチルヘキシルサリチレート；エチルヘキシルトリアゾン；エチルメトキシシンナメート；エチルヘキシルメトキシクリレン；エチルヘキシルメトキシジベンゾイルメタン；エチルトリメチルベンゾイルフェニルホスフィネート；エトクリレン；蛍光増白剤２３０；４−（２−β−グルコピラノシロキシ）プロポキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルＰＡＢＡ；グリコールサリチレート；シロバナワタ種子エキス；ヒマワリ種子エキス；ヘキサンジオールジサリチレート；ヘキシロキシトリメチルフェノール；ホモサレート；加水分解アスペルギルス／朝鮮ニンジンエキス発酵物；加水分解ユーグレナエキス；加水分解アマ種子エキス；加水分解オリーブ果実；加水分解ふすま；加水分解ダイズエキス；２−ヒドロキシ−１，４−ナフタレンジオン；ヒドロキシプロピルフェニルヒドラジノイルｔ−ブチルカルバメート；インドシアニングリーン；イソアミルｐ−メトキシシンナメート；イソブチルフェニルヒドラジノイルメタンスルホンアミド；イソプロピルベンジルサリチレート；イソプロピルジベンゾイルメタン；イソプロピルメトキシシンナメート；ラウソン；リモニアアシジシマ樹皮エキス；リモニアアシジシマ樹皮粉末；マドゥラアウランティカ木エキス；マキサフィル；メトキシシンナミドプロピルＣ１８−２２アルキルジモニウムトシレート；メトキシシンナミドプロピルヒドロキシスルテイン；メトキシシンナミドプロピルラウルジモニウムトシレート；メトキシシンナミドプロピルポリシルセスキオキサン；メトキシシンナミドプロピルシルセスキオキサンシリケート；アクリル酸メチル／メチレンドロメトリゾール；メタクリル酸エステルコポリマー；メンチルアンスラニレート；メンチルサリチレート；４−メチルベンジリデンカンファー；４−メチルベンジリデンカンファースルホン酸；５−メチル−２−フェニルベンゾキサゾール；メチレンビスベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール；ナンバンカラスウリ仮種皮油；オクトクリレン；オクトリゾール；オクチルジメチル４−アミノ安息香酸；ＰＥＧ−２５ＰＡＢＡ；ペンチル４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート；フェニルベンズイミダゾールスルホン酸；フランス海岸松樹皮／芽エキス；ポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー；ポリシリコーン−１５；カリウムメトキシシンナメート；プリンセピアウチリス種子エキス；赤色ワセリン；ルチニルスクシネート；シトネミン；スピルリナパテンシス粉末；ＴＥＡ−サリチレート；テレフタリリデンジカンファースルホン酸；テトラヒドロクルクミンジアセテート；二酸化チタン；トリＰＡＢＡパンテノール；トリス−ビフェニルトリアジン；ブドウ種子エキス；および亜鉛セリウムオキシドからなる群から選択される、請求項１に記載の日焼け止め組成物。
【請求項７】
前記少なくとも１種の日焼け止め活性剤が、アセトアミノサロール；アラントインＰＡＢＡ；４−アミノ安息香酸；４−アミノ安息香酸；ベンザルフタリド；ベンゾフェノン−１；ベンゾフェノン−２；ベンゾフェノン−３；ベンゾフェノン−４；ベンゾフェノン−５；ベンゾフェノン−６；ベンゾフェノン−７；ベンゾフェノン−８；ベンゾフェノン−９；ベンゾフェノン−１０；ベンゾフェノン−１１；ベンゾフェノン−１２；ベンゾトリアゾリルドデシルｐ−クレゾール；３−ベンジリデンカンファー；ベンジリデンカンファー加水分解コラーゲンスルホンアミド；ベンジリデンカンファースルホン酸；ベンジルサリチレート；ビスジスリゾール二ナトリウム；ビス（安息香酸ブチル）ジアミノトリアジン；アミノプロピルトリシロキサン；ビス−エチルヘキシルオキシフェニルトリアジン；ボルネロン；ブメトリゾール；ブチルメトキシジベンゾイルメタン；カルシウムセリウムオキシド；テリハボク種子油；チャ葉エキス；カンファーベンザルコニウムメトサルフェート；カロテノイド；炭酸セリウム（３＋）、シリカとの焼成生成物；炭酸セリウム（３＋）、シリカおよびタルクとの焼成生成物；シノキサート；コバルトｄｎａ；ＤＥＡ−メトキシシンナメート；ナンキョクコメススキ葉エキス；ジアセチルクルクミン；ジベンゾキサゾイルナフタレン；ジ−ｔ−ブチルヒドロキシベンジリデンカンファー；ジエチルアミノメトキシシンナメート；ジアセチルクルクミン；ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート；ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン；ジエチルヘキシル２，６−ナフタレート；ジガロイルトリオレエート；ジイソプロピルメチルシンナメート；ジメチコン／ｐｅｇ−１５クロスポリマー；１−（３，４−ジメトキシフェニル）−４，４−ジメチル−１，３−ペンタンジオン；ジ−メトキシシンナミドプロピルエチルジモニウイムクロリドエーテル；４−（ジメチルアミノ）−３−メチルブチルベンゾエート；ジメチルＰＡＢＡエチルセテアリルジモミウムトシレート；ジモルホリノピリダジノン；ジフェニルカルボメトキシアセトキシナフトピラン；ジフェニルメチルピペラジニルベンズイミダゾール；ビスエチルフェニルトリアミノトリアゾン二ナトリウム；スチルベンジスルホネート；ジスチリルビフェニルジスルホン酸二ナトリウム；フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム；ジ−ｔ−ブチルヒドロキシベンジリデンカンファー；ドロメトリゾール；ドロメトリゾールトリシロキサン；エチルシンナメート；エチルジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ；エチルジイソプロピルシンナメート；エチルヘキシルビス−イソペンチルベンゾキサゾリルフェニルメラミン；エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリジンプロピオネート；エチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ；エチルヘキシルフェルレート；エチルヘキシルメトキシシンナメート；２−エチルヘキシル４−（Ｎ−メチル−Ｎ−ニトロサミノ）ベンゾエート；エチルヘキシルサリチレート；エチルヘキシルトリアゾン；エチルメトキシシンナメート；エチルヘキシルメトキシクリレン；エチルヘキシルメトキシジベンゾイルメタン；エチルトリメチルベンゾイルフェニルホスフィネート；エトクリレン；蛍光増白剤２３０；４−（２−β−グルコピラノシロキシ）プロポキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルＰＡＢＡ；グリコールサリチレート；シロバナワタ種子エキス；ヒマワリ種子エキス；ヘキサンジオールジサリチレート；ヘキシロキシトリメチルフェノール；ホモサレート；加水分解アスペルギルス／朝鮮ニンジンエキス発酵物；加水分解ユーグレナエキス；加水分解アマ種子エキス；加水分解オリーブ果実；加水分解ふすま；加水分解ダイズエキス；２−ヒドロキシ−１，４−ナフタレンジオン；ヒドロキシプロピルフェニルヒドラジノイルｔ−ブチルカルバメート；インドシアニングリーン；イソアミルｐ−メトキシシンナメート；イソブチルフェニルヒドラジノイルメタンスルホンアミド；イソプロピルベンジルサリチレート；イソプロピルジベンゾイルメタン；イソプロピルメトキシシンナメート；ラウソン；リモニアアシジシマ樹皮エキス；リモニアアシジシマ樹皮粉末；マドゥラアウランティカ木エキス；マキサフィル；メトキシシンナミドプロピルＣ１８−２２アルキルジモニウムトシレート；メトキシシンナミドプロピルヒドロキシスルテイン；メトキシシンナミドプロピルラウルジモニウムトシレート；メトキシシンナミドプロピルポリシルセスキオキサン；メトキシシンナミドプロピルシルセスキオキサンシリケート；アクリル酸メチル／メチレンドロメトリゾール；メタクリル酸エステルコポリマー；メンチルアンスラニレート；メンチルサリチレート；４−メチルベンジリデンカンファー；４−メチルベンジリデンカンファースルホン酸；５−メチル−２−フェニルベンゾキサゾール；メチレンビスベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール；ナンバンカラスウリ仮種皮油；オクトクリレン；オクトリゾール；オクチルジメチル４−アミノ安息香酸；ＰＥＧ−２５ＰＡＢＡ；ペンチル４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート；フェニルベンズイミダゾールスルホン酸；フランス海岸松樹皮／芽エキス；ポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー；ポリシリコーン−１５；カリウムメトキシシンナメート；プリンセピアウチリス種子エキス；赤色ワセリン；ルチニルスクシネート；シトネミン；スピルリナパテンシス粉末；ＴＥＡ−サリチレート；テレフタリリデンジカンファースルホン酸；テトラヒドロクルクミンジアセテート；二酸化チタン；トリＰＡＢＡパンテノール；トリス−ビフェニルトリアジン；ブドウ種子エキス；および亜鉛セリウムオキシドからなる群から選択される化合物の塩である、請求項１に記載の日焼け止め組成物。
【請求項８】
前記少なくとも１種の日焼け止め活性剤が、アセトアミノサロール；アラントインＰＡＢＡ；４−アミノ安息香酸；４−アミノ安息香酸；ベンザルフタリド；ベンゾフェノン−１；ベンゾフェノン−２；ベンゾフェノン−３；ベンゾフェノン−４；ベンゾフェノン−５；ベンゾフェノン−６；ベンゾフェノン−７；ベンゾフェノン−８；ベンゾフェノン−９；ベンゾフェノン−１０；ベンゾフェノン−１１；ベンゾフェノン−１２；ベンゾトリアゾリルドデシルｐ−クレゾール；３−ベンジリデンカンファー；ベンジリデンカンファー加水分解コラーゲンスルホンアミド；ベンジリデンカンファースルホン酸；ベンジルサリチレート；ビスジスリゾール二ナトリウム；ビス（安息香酸ブチル）ジアミノトリアジン；アミノプロピルトリシロキサン；ビス−エチルヘキシルオキシフェニルトリアジン；ボルネロン；ブメトリゾール；ブチルメトキシジベンゾイルメタン；カルシウムセリウムオキシド；テリハボク種子油；チャ葉エキス；カンファーベンザルコニウムメトサルフェート；カロテノイド；炭酸セリウム（３＋）、シリカとの焼成生成物；炭酸セリウム（３＋）、シリカおよびタルクとの焼成生成物；シノキサート；コバルトｄｎａ；ＤＥＡ−メトキシシンナメート；ナンキョクコメススキ葉エキス；ジアセチルクルクミン；ジベンゾキサゾイルナフタレン；ジ−ｔ−ブチルヒドロキシベンジリデンカンファー；ジエチルアミノメトキシシンナメート；ジアセチルクルクミン；ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート；ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン；ジエチルヘキシル２，６−ナフタレート；ジガロイルトリオレエート；ジイソプロピルメチルシンナメート；ジメチコン／ｐｅｇ−１５クロスポリマー；１−（３，４−ジメトキシフェニル）−４，４−ジメチル−１，３−ペンタンジオン；ジ−メトキシシンナミドプロピルエチルジモニウイムクロリドエーテル；４−（ジメチルアミノ）−３−メチルブチルベンゾエート；ジメチルＰＡＢＡエチルセテアリルジモミウムトシレート；ジモルホリノピリダジノン；ジフェニルカルボメトキシアセトキシナフトピラン；ジフェニルメチルピペラジニルベンズイミダゾール；ビスエチルフェニルトリアミノトリアゾン二ナトリウム；スチルベンジスルホネート；ジスチリルビフェニルジスルホン酸二ナトリウム；フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム；ジ−ｔ−ブチルヒドロキシベンジリデンカンファー；ドロメトリゾール；ドロメトリゾールトリシロキサン；エチルシンナメート；エチルジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ；エチルジイソプロピルシンナメート；エチルヘキシルビス−イソペンチルベンゾキサゾリルフェニルメラミン；エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリジンプロピオネート；エチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ；エチルヘキシルフェルレート；エチルヘキシルメトキシシンナメート；２−エチルヘキシル４−（Ｎ−メチル−Ｎ−ニトロサミノ）ベンゾエート；エチルヘキシルサリチレート；エチルヘキシルトリアゾン；エチルメトキシシンナメート；エチルヘキシルメトキシクリレン；エチルヘキシルメトキシジベンゾイルメタン；エチルトリメチルベンゾイルフェニルホスフィネート；エトクリレン；蛍光増白剤２３０；４−（２−β−グルコピラノシロキシ）プロポキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルＰＡＢＡ；グリコールサリチレート；シロバナワタ種子エキス；ヒマワリ種子エキス；ヘキサンジオールジサリチレート；ヘキシロキシトリメチルフェノール；ホモサレート；加水分解アスペルギルス／朝鮮ニンジンエキス発酵物；加水分解ユーグレナエキス；加水分解アマ種子エキス；加水分解オリーブ果実；加水分解ふすま；加水分解ダイズエキス；２−ヒドロキシ−１，４−ナフタレンジオン；ヒドロキシプロピルフェニルヒドラジノイルｔ−ブチルカルバメート；インドシアニングリーン；イソアミルｐ−メトキシシンナメート；イソブチルフェニルヒドラジノイルメタンスルホンアミド；イソプロピルベンジルサリチレート；イソプロピルジベンゾイルメタン；イソプロピルメトキシシンナメート；ラウソン；リモニアアシジシマ樹皮エキス；リモニアアシジシマ樹皮粉末；マドゥラアウランティカ木エキス；マキサフィル；メトキシシンナミドプロピルＣ１８−２２アルキルジモニウムトシレート；メトキシシンナミドプロピルヒドロキシスルテイン；メトキシシンナミドプロピルラウルジモニウムトシレート；メトキシシンナミドプロピルポリシルセスキオキサン；メトキシシンナミドプロピルシルセスキオキサンシリケート；アクリル酸メチル／メチレンドロメトリゾール；メタクリル酸エステルコポリマー；メンチルアンスラニレート；メンチルサリチレート；４−メチルベンジリデンカンファー；４−メチルベンジリデンカンファースルホン酸；５−メチル−２−フェニルベンゾキサゾール；メチレンビスベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール；ナンバンカラスウリ仮種皮油；オクトクリレン；オクトリゾール；オクチルジメチル４−アミノ安息香酸；ＰＥＧ−２５ＰＡＢＡ；ペンチル４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート；フェニルベンズイミダゾールスルホン酸；フランス海岸松樹皮／芽エキス；ポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー；ポリシリコーン−１５；カリウムメトキシシンナメート；プリンセピアウチリス種子エキス；赤色ワセリン；ルチニルスクシネート；シトネミン；スピルリナパテンシス粉末；ＴＥＡ−サリチレート；テレフタリリデンジカンファースルホン酸；テトラヒドロクルクミンジアセテート；二酸化チタン；トリＰＡＢＡパンテノール；トリス−ビフェニルトリアジン；ブドウ種子エキス；および亜鉛セリウムオキシドからなる群から選択される化合物の誘導体である、請求項１に記載の日焼け止め組成物。
【請求項９】
少なくとも１種の日焼け止め活性剤；および
加水分解ホホバエステル
を含む、局所適用に適した日焼け止め組成物。
【請求項１０】
ホホバエステルをさらに含む、請求項９に記載の日焼け止め組成物。
【請求項１１】
水をさらに含む、請求項１０に記載の日焼け止め組成物。
【請求項１２】
ホホバ油脂肪酸カリウムをさらに含む、請求項１１に記載の日焼け止め組成物。
【請求項１３】
ホホバアルコールをさらに含む、請求項１２に記載の日焼け止め組成物。
【請求項１４】
グリセリンをさらに含む、請求項１３に記載の日焼け止め組成物。
【請求項１５】
前記少なくとも１種の日焼け止め活性剤が、アセトアミノサロール；アラントインＰＡＢＡ；４−アミノ安息香酸；４−アミノ安息香酸；ベンザルフタリド；ベンゾフェノン−１；ベンゾフェノン−２；ベンゾフェノン−３；ベンゾフェノン−４；ベンゾフェノン−５；ベンゾフェノン−６；ベンゾフェノン−７；ベンゾフェノン−８；ベンゾフェノン−９；ベンゾフェノン−１０；ベンゾフェノン−１１；ベンゾフェノン−１２；ベンゾトリアゾリルドデシルｐ−クレゾール；３−ベンジリデンカンファー；ベンジリデンカンファー加水分解コラーゲンスルホンアミド；ベンジリデンカンファースルホン酸；ベンジルサリチレート；ビスジスリゾール二ナトリウム；ビス（安息香酸ブチル）ジアミノトリアジン；アミノプロピルトリシロキサン；ビス−エチルヘキシルオキシフェニルトリアジン；ボルネロン；ブメトリゾール；ブチルメトキシジベンゾイルメタン；カルシウムセリウムオキシド；テリハボク種子油；チャ葉エキス；カンファーベンザルコニウムメトサルフェート；カロテノイド；炭酸セリウム（３＋）、シリカとの焼成生成物；炭酸セリウム（３＋）、シリカおよびタルクとの焼成生成物；シノキサート；コバルトｄｎａ；ＤＥＡ−メトキシシンナメート；ナンキョクコメススキ葉エキス；ジアセチルクルクミン；ジベンゾキサゾイルナフタレン；ジ−ｔ−ブチルヒドロキシベンジリデンカンファー；ジエチルアミノメトキシシンナメート；ジアセチルクルクミン；ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート；ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン；ジエチルヘキシル２，６−ナフタレート；ジガロイルトリオレエート；ジイソプロピルメチルシンナメート；ジメチコン／ｐｅｇ−１５クロスポリマー；１−（３，４−ジメトキシフェニル）−４，４−ジメチル−１，３−ペンタンジオン；ジ−メトキシシンナミドプロピルエチルジモニウイムクロリドエーテル；４−（ジメチルアミノ）−３−メチルブチルベンゾエート；ジメチルＰＡＢＡエチルセテアリルジモミウムトシレート；ジモルホリノピリダジノン；ジフェニルカルボメトキシアセトキシナフトピラン；ジフェニルメチルピペラジニルベンズイミダゾール；ビスエチルフェニルトリアミノトリアゾン二ナトリウム；スチルベンジスルホネート；ジスチリルビフェニルジスルホン酸二ナトリウム；フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム；ジ−ｔ−ブチルヒドロキシベンジリデンカンファー；ドロメトリゾール；ドロメトリゾールトリシロキサン；エチルシンナメート；エチルジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ；エチルジイソプロピルシンナメート；エチルヘキシルビス−イソペンチルベンゾキサゾリルフェニルメラミン；エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリジンプロピオネート；エチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ；エチルヘキシルフェルレート；エチルヘキシルメトキシシンナメート；２−エチルヘキシル４−（Ｎ−メチル−Ｎ−ニトロサミノ）ベンゾエート；エチルヘキシルサリチレート；エチルヘキシルトリアゾン；エチルメトキシシンナメート；エチルヘキシルメトキシクリレン；エチルヘキシルメトキシジベンゾイルメタン；エチルトリメチルベンゾイルフェニルホスフィネート；エトクリレン；蛍光増白剤２３０；４−（２−β−グルコピラノシロキシ）プロポキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルＰＡＢＡ；グリコールサリチレート；シロバナワタ種子エキス；ヒマワリ種子エキス；ヘキサンジオールジサリチレート；ヘキシロキシトリメチルフェノール；ホモサレート；加水分解アスペルギルス／朝鮮ニンジンエキス発酵物；加水分解ユーグレナエキス；加水分解アマ種子エキス；加水分解オリーブ果実；加水分解ふすま；加水分解ダイズエキス；２−ヒドロキシ−１，４−ナフタレンジオン；ヒドロキシプロピルフェニルヒドラジノイルｔ−ブチルカルバメート；インドシアニングリーン；イソアミルｐ−メトキシシンナメート；イソブチルフェニルヒドラジノイルメタンスルホンアミド；イソプロピルベンジルサリチレート；イソプロピルジベンゾイルメタン；イソプロピルメトキシシンナメート；ラウソン；リモニアアシジシマ樹皮エキス；リモニアアシジシマ樹皮粉末；マドゥラアウランティカ木エキス；マキサフィル；メトキシシンナミドプロピルＣ１８−２２アルキルジモニウムトシレート；メトキシシンナミドプロピルヒドロキシスルテイン；メトキシシンナミドプロピルラウルジモニウムトシレート；メトキシシンナミドプロピルポリシルセスキオキサン；メトキシシンナミドプロピルシルセスキオキサンシリケート；アクリル酸メチル／メチレンドロメトリゾール；メタクリル酸エステルコポリマー；メンチルアンスラニレート；メンチルサリチレート；４−メチルベンジリデンカンファー；４−メチルベンジリデンカンファースルホン酸；５−メチル−２−フェニルベンゾキサゾール；メチレンビスベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール；ナンバンカラスウリ仮種皮油；オクトクリレン；オクトリゾール；オクチルジメチル４−アミノ安息香酸；ＰＥＧ−２５ＰＡＢＡ；ペンチル  ４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート；フェニルベンズイミダゾールスルホン酸；フランス海岸松樹皮／芽エキス；ポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー；ポリシリコーン−１５；カリウムメトキシシンナメート；プリンセピアウチリス種子エキス；赤色ワセリン；ルチニルスクシネート；シトネミン；スピルリナパテンシス粉末；ＴＥＡ−サリチレート；テレフタリリデンジカンファースルホン酸；テトラヒドロクルクミンジアセテート；二酸化チタン；トリＰＡＢＡパンテノール；トリス−ビフェニルトリアジン；ブドウ種子エキス；および亜鉛セリウムオキシドからなる群から選択される、請求項９に記載の日焼け止め組成物。
【請求項１６】
前記少なくとも１種の日焼け止め活性剤が、アセトアミノサロール；アラントインＰＡＢＡ；４−アミノ安息香酸；４−アミノ安息香酸；ベンザルフタリド；ベンゾフェノン−１；ベンゾフェノン−２；ベンゾフェノン−３；ベンゾフェノン−４；ベンゾフェノン−５；ベンゾフェノン−６；ベンゾフェノン−７；ベンゾフェノン−８；ベンゾフェノン−９；ベンゾフェノン−１０；ベンゾフェノン−１１；ベンゾフェノン−１２；ベンゾトリアゾリルドデシルｐ−クレゾール；３−ベンジリデンカンファー；ベンジリデンカンファー加水分解コラーゲンスルホンアミド；ベンジリデンカンファースルホン酸；ベンジルサリチレート；ビスジスリゾール二ナトリウム；ビス（安息香酸ブチル）ジアミノトリアジン；アミノプロピルトリシロキサン；ビス−エチルヘキシルオキシフェニルトリアジン；ボルネロン；ブメトリゾール；ブチルメトキシジベンゾイルメタン；カルシウムセリウムオキシド；テリハボク種子油；チャ葉エキス；カンファーベンザルコニウムメトサルフェート；カロテノイド；炭酸セリウム（３＋）、シリカとの焼成生成物；炭酸セリウム（３＋）、シリカおよびタルクとの焼成生成物；シノキサート；コバルトｄｎａ；ＤＥＡ−メトキシシンナメート；ナンキョクコメススキ葉エキス；ジアセチルクルクミン；ジベンゾキサゾイルナフタレン；ジ−ｔ−ブチルヒドロキシベンジリデンカンファー；ジエチルアミノメトキシシンナメート；ジアセチルクルクミン；ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート；ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン；ジエチルヘキシル２，６−ナフタレート；ジガロイルトリオレエート；ジイソプロピルメチルシンナメート；ジメチコン／ｐｅｇ−１５クロスポリマー；１−（３，４−ジメトキシフェニル）−４，４−ジメチル−１，３−ペンタンジオン；ジ−メトキシシンナミドプロピルエチルジモニウイムクロリドエーテル；４−（ジメチルアミノ）−３−メチルブチルベンゾエート；ジメチルＰＡＢＡエチルセテアリルジモミウムトシレート；ジモルホリノピリダジノン；ジフェニルカルボメトキシアセトキシナフトピラン；ジフェニルメチルピペラジニルベンズイミダゾール；ビスエチルフェニルトリアミノトリアゾン二ナトリウム；スチルベンジスルホネート；ジスチリルビフェニルジスルホン酸二ナトリウム；フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム；ジ−ｔ−ブチルヒドロキシベンジリデンカンファー；ドロメトリゾール；ドロメトリゾールトリシロキサン；エチルシンナメート；エチルジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ；エチルジイソプロピルシンナメート；エチルヘキシルビス−イソペンチルベンゾキサゾリルフェニルメラミン；エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリジンプロピオネート；エチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ；エチルヘキシルフェルレート；エチルヘキシルメトキシシンナメート；２−エチルヘキシル４−（Ｎ−メチル−Ｎ−ニトロサミノ）ベンゾエート；エチルヘキシルサリチレート；エチルヘキシルトリアゾン；エチルメトキシシンナメート；エチルヘキシルメトキシクリレン；エチルヘキシルメトキシジベンゾイルメタン；エチルトリメチルベンゾイルフェニルホスフィネート；エトクリレン；蛍光増白剤２３０；４−（２−β−グルコピラノシロキシ）プロポキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルＰＡＢＡ；グリコールサリチレート；シロバナワタ種子エキス；ヒマワリ種子エキス；ヘキサンジオールジサリチレート；ヘキシロキシトリメチルフェノール；ホモサレート；加水分解アスペルギルス／朝鮮ニンジンエキス発酵物；加水分解ユーグレナエキス；加水分解アマ種子エキス；加水分解オリーブ果実；加水分解ふすま；加水分解ダイズエキス；２−ヒドロキシ−１，４−ナフタレンジオン；ヒドロキシプロピルフェニルヒドラジノイルｔ−ブチルカルバメート；インドシアニングリーン；イソアミルｐ−メトキシシンナメート；イソブチルフェニルヒドラジノイルメタンスルホンアミド；イソプロピルベンジルサリチレート；イソプロピルジベンゾイルメタン；イソプロピルメトキシシンナメート；ラウソン；リモニアアシジシマ樹皮エキス；リモニアアシジシマ樹皮粉末；マドゥラアウランティカ木エキス；マキサフィル；メトキシシンナミドプロピルＣ１８−２２アルキルジモニウムトシレート；メトキシシンナミドプロピルヒドロキシスルテイン；メトキシシンナミドプロピルラウルジモニウムトシレート；メトキシシンナミドプロピルポリシルセスキオキサン；メトキシシンナミドプロピルシルセスキオキサンシリケート；アクリル酸メチル／メチレンドロメトリゾール；メタクリル酸エステルコポリマー；メンチルアンスラニレート；メンチルサリチレート；４−メチルベンジリデンカンファー；４−メチルベンジリデンカンファースルホン酸；５−メチル−２−フェニルベンゾキサゾール；メチレンビスベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール；ナンバンカラスウリ仮種皮油；オクトクリレン；オクトリゾール；オクチルジメチル４−アミノ安息香酸；ＰＥＧ−２５ＰＡＢＡ；ペンチル  ４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート；フェニルベンズイミダゾールスルホン酸；フランス海岸松樹皮／芽エキス；ポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー；ポリシリコーン−１５；カリウムメトキシシンナメート；プリンセピアウチリス種子エキス；赤色ワセリン；ルチニルスクシネート；シトネミン；スピルリナパテンシス粉末；ＴＥＡ−サリチレート；テレフタリリデンジカンファースルホン酸；テトラヒドロクルクミンジアセテート；二酸化チタン；トリＰＡＢＡパンテノール；トリス−ビフェニルトリアジン；ブドウ種子エキス；および亜鉛セリウムオキシドからなる群から選択される化合物の塩である、請求項９に記載の日焼け止め組成物。
【請求項１７】
前記少なくとも１種の日焼け止め活性剤が、アセトアミノサロール；アラントインＰＡＢＡ；４−アミノ安息香酸；４−アミノ安息香酸；ベンザルフタリド；ベンゾフェノン−１；ベンゾフェノン−２；ベンゾフェノン−３；ベンゾフェノン−４；ベンゾフェノン−５；ベンゾフェノン−６；ベンゾフェノン−７；ベンゾフェノン−８；ベンゾフェノン−９；ベンゾフェノン−１０；ベンゾフェノン−１１；ベンゾフェノン−１２；ベンゾトリアゾリルドデシルｐ−クレゾール；３−ベンジリデンカンファー；ベンジリデンカンファー加水分解コラーゲンスルホンアミド；ベンジリデンカンファースルホン酸；ベンジルサリチレート；ビスジスリゾール二ナトリウム；ビス（安息香酸ブチル）ジアミノトリアジン；アミノプロピルトリシロキサン；ビス−エチルヘキシルオキシフェニルトリアジン；ボルネロン；ブメトリゾール；ブチルメトキシジベンゾイルメタン；カルシウムセリウムオキシド；テリハボク種子油；チャ葉エキス；カンファーベンザルコニウムメトサルフェート；カロテノイド；炭酸セリウム（３＋）、シリカとの焼成生成物；炭酸セリウム（３＋）、シリカおよびタルクとの焼成生成物；シノキサート；コバルトｄｎａ；ＤＥＡ−メトキシシンナメート；ナンキョクコメススキ葉エキス；ジアセチルクルクミン；ジベンゾキサゾイルナフタレン；ジ−ｔ−ブチルヒドロキシベンジリデンカンファー；ジエチルアミノメトキシシンナメート；ジアセチルクルクミン；ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート；ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン；ジエチルヘキシル２，６−ナフタレート；ジガロイルトリオレエート；ジイソプロピルメチルシンナメート；ジメチコン／ｐｅｇ−１５クロスポリマー；１−（３，４−ジメトキシフェニル）−４，４−ジメチル−１，３−ペンタンジオン；ジ−メトキシシンナミドプロピルエチルジモニウイムクロリドエーテル；４−（ジメチルアミノ）−３−メチルブチルベンゾエート；ジメチルＰＡＢＡエチルセテアリルジモミウムトシレート；ジモルホリノピリダジノン；ジフェニルカルボメトキシアセトキシナフトピラン；ジフェニルメチルピペラジニルベンズイミダゾール；ビスエチルフェニルトリアミノトリアゾン二ナトリウム；スチルベンジスルホネート；ジスチリルビフェニルジスルホン酸二ナトリウム；フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム；ジ−ｔ−ブチルヒドロキシベンジリデンカンファー；ドロメトリゾール；ドロメトリゾールトリシロキサン；エチルシンナメート；エチルジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ；エチルジイソプロピルシンナメート；エチルヘキシルビス−イソペンチルベンゾキサゾリルフェニルメラミン；エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリジンプロピオネート；エチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ；エチルヘキシルフェルレート；エチルヘキシルメトキシシンナメート；２−エチルヘキシル４−（Ｎ−メチル−Ｎ−ニトロサミノ）ベンゾエート；エチルヘキシルサリチレート；エチルヘキシルトリアゾン；エチルメトキシシンナメート；エチルヘキシルメトキシクリレン；エチルヘキシルメトキシジベンゾイルメタン；エチルトリメチルベンゾイルフェニルホスフィネート；エトクリレン；蛍光増白剤２３０；４−（２−β−グルコピラノシロキシ）プロポキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルＰＡＢＡ；グリコールサリチレート；シロバナワタ種子エキス；ヒマワリ種子エキス；ヘキサンジオールジサリチレート；ヘキシロキシトリメチルフェノール；ホモサレート；加水分解アスペルギルス／朝鮮ニンジンエキス発酵物；加水分解ユーグレナエキス；加水分解アマ種子エキス；加水分解オリーブ果実；加水分解ふすま；加水分解ダイズエキス；２−ヒドロキシ−１，４−ナフタレンジオン；ヒドロキシプロピルフェニルヒドラジノイルｔ−ブチルカルバメート；インドシアニングリーン；イソアミルｐ−メトキシシンナメート；イソブチルフェニルヒドラジノイルメタンスルホンアミド；イソプロピルベンジルサリチレート；イソプロピルジベンゾイルメタン；イソプロピルメトキシシンナメート；ラウソン；リモニアアシジシマ樹皮エキス；リモニアアシジシマ樹皮粉末；マドゥラアウランティカ木エキス；マキサフィル；メトキシシンナミドプロピルＣ１８−２２アルキルジモニウムトシレート；メトキシシンナミドプロピルヒドロキシスルテイン；メトキシシンナミドプロピルラウルジモニウムトシレート；メトキシシンナミドプロピルポリシルセスキオキサン；メトキシシンナミドプロピルシルセスキオキサンシリケート；アクリル酸メチル／メチレンドロメトリゾール；メタクリル酸エステルコポリマー；メンチルアンスラニレート；メンチルサリチレート；４−メチルベンジリデンカンファー；４−メチルベンジリデンカンファースルホン酸；５−メチル−２−フェニルベンゾキサゾール；メチレンビスベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール；ナンバンカラスウリ仮種皮油；オクトクリレン；オクトリゾール；オクチルジメチル４−アミノ安息香酸；ＰＥＧ−２５ＰＡＢＡ；ペンチル  ４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート；フェニルベンズイミダゾールスルホン酸；フランス海岸松樹皮／芽エキス；ポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー；ポリシリコーン−１５；カリウムメトキシシンナメート；プリンセピアウチリス種子エキス；赤色ワセリン；ルチニルスクシネート；シトネミン；スピルリナパテンシス粉末；ＴＥＡ−サリチレート；テレフタリリデンジカンファースルホン酸；テトラヒドロクルクミンジアセテート；二酸化チタン；トリＰＡＢＡパンテノール；トリス−ビフェニルトリアジン；ブドウ種子エキス；および亜鉛セリウムオキシドからなる群から選択される化合物の誘導体である、請求項９に記載の日焼け止め組成物。
【請求項１８】
少なくとも１種の日焼け止め活性剤；および
加水分解ホホバエステルおよび水を含む耐水剤
を含む、局所適用に適した耐水性日焼け止め組成物。
【請求項１９】
前記加水分解ホホバエステルが日焼け止め組成物の約１６重量％を形成する、請求項１８に記載の耐水性日焼け止め組成物。
【請求項２０】
前記少なくとも１種の日焼け止め活性剤が日焼け止め組成物の約１２重量％を形成する、請求項１に記載の耐水性日焼け止め組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
優先権主張
[0001]  本出願は「加水分解ホホバエステル日焼け止め固定剤」の名称で２０１０年５月２４日に出願された米国特許仮出願第６１／３４７，７４０号の優先権を主張する。当該出願はその全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【０００２】
[0002]  本明細書は一般的に日焼け止め組成物、より特定すれば耐水性が改良された日焼け止め組成物に関する。
【背景技術】
【０００３】
[0003]  皮膚に適用される日焼け止め組成物は、紫外放射線による損傷作用に対する保護を提供する。近年、太陽の紫外放射線による皮膚への損傷作用に関する一般的な知識が広がってきた。その結果、日光の下で時を過ごす人々にとって、日焼け止め組成物を用いることが標準となってきた。
【０００４】
[0004]  日焼け止め組成物には少なくとも１種の活性日焼け止め剤が含まれ、これは典型的には紫外光吸収成分である。一般に活性日焼け止め剤は限られた波長範囲の紫外光を吸収するので、日焼け止め組成物には多くの場合、異なった、または部分的に重複する波長範囲を吸収する複数の活性日焼け止め剤が用いられている。紫外放射線からの保護を効果的に提供するために、日焼け止め剤は良好な持続性、即ち容易に脱落しない性質、または皮膚上に残留する性質を有さなければならない。たとえば、日焼け止め組成物は衣服、家具、もしくは他の人の皮膚に起こる通常の接触による通常の摩擦またはブラッシングによる脱落に対して耐性であることが重要である。さらに、多くの消費者が暑い日に水中スポーツと関連して、および／または激しい身体活動と関連して日焼け止め組成物を用いるので、日焼け止め組成物は水との接触または発汗によって失われない程度の耐水性を有することが重要である。さらに、耐水性によって持続性が向上する。
【０００５】
[0005]  持続性の改良はよく知られた目標であるが、日焼け止め組成物には他に考慮すべき点がある。重要なこととして、日焼け止め組成物は皮膚を刺激してはならず、または健康への長期の影響があってはならない。さらに、日焼け止め組成物は皮膚への適用が容易であるべきであり、また適用後の除去が容易であるべきである。同時に、日焼け止め組成物は通常の使用の間に布地を汚してはならない。また、日焼け止め組成物のテクスチャー、匂い、および外観は満足できるものでなければならない。
【０００６】
[0006]  化粧品工業において消費者の他の要求を満たす十分な耐水性を有する日焼け止め剤を形成する方法を特定するための努力が続けられているが、特に耐水性の見地から改良された持続性を有する日焼け止め組成物が依然として必要である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
[0007]  したがって、局所適用のための耐水性が改良された日焼け止め組成物を提供することが望ましい。さらに、本発明の他の望ましい特色および特徴は、本発明の背景と合わせて、次の本発明の詳細な説明および添付した特許請求の範囲から明確になるであろう。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
[0008]  局所適用に適した日焼け止め組成物が提供される。１つの実施形態によれば、日焼け止め組成物は少なくとも１種の日焼け止め活性剤を含む。さらに、日焼け止め組成物は加水分解ホホバエステル、ホホバエステル、および水を含む耐水剤を含む。ある実施形態において、耐水剤は日焼け止め組成物の０．２％を形成する。機能的には、耐水剤は日焼け止め活性剤を使用者の皮膚にトラップし、それにより日焼け止め活性剤が水への曝露、または水への曝露に続く物理的接触によって脱落しないようにする。日焼け止め組成物はホホバ油脂肪酸カリウム（potassium jojobate）および／またはホホバアルコールをさらに含んでもよい。また、日焼け止め組成物は皮膚水和のためのグリセリンを含んでもよい。
【０００９】
[0009]  別の実施形態において、局所適用に適した日焼け止め組成物は少なくとも１種の日焼け止め活性剤および加水分解ホホバエステルを含む。かかる実施形態はホホバエステルおよび／または水をさらに含んでもよい。本実施形態はまた、ホホバ油脂肪酸カリウムまたはホホバアルコールを含んでもよい。さらに、これはグリセリンを含んでもよい。
【００１０】
[0010]  局所適用に適した耐水性日焼け止め組成物の実施形態も提供される。この実施形態において、少なくとも１種の日焼け止め活性剤が提供される。加水分解ホホバエステルおよび水を含む耐水剤も提供される。例示的な実施形態において、加水分解ホホバエステルは日焼け止め組成物の約１６重量％を形成する。日焼け止め活性剤は日焼け止め組成物の約１２重量％を形成し得る。
【００１１】
[0011]  各々の実施形態において、日焼け止め活性剤は、以下の化合物の１種もしくは複数、以下の化合物の１種もしくは複数の塩、および／または以下の化合物の１種または複数の誘導体であってよい：アセトアミノサロール；アラントインＰＡＢＡ；４−アミノ安息香酸；４−アミノ安息香酸；ベンザルフタリド；ベンゾフェノン−１；ベンゾフェノン−２；ベンゾフェノン−３；ベンゾフェノン−４；ベンゾフェノン−５；ベンゾフェノン−６；ベンゾフェノン−７；ベンゾフェノン−８；ベンゾフェノン−９；ベンゾフェノン−１０；ベンゾフェノン−１１；ベンゾフェノン−１２；ベンゾトリアゾリルドデシルｐ−クレゾール；３−ベンジリデンカンファー；ベンジリデンカンファー加水分解コラーゲンスルホンアミド；ベンジリデンカンファースルホン酸；ベンジルサリチレート；ビスジスリゾール二ナトリウム（bisdisulizole disodium）；ビス（安息香酸ブチル）ジアミノトリアジン；アミノプロピルトリシロキサン；ビス−エチルヘキシルオキシフェニルトリアジン；ボルネロン；ブメトリゾール；ブチルメトキシジベンゾイルメタン；カルシウムセリウムオキシド；テリハボク種子油；チャ葉エキス；カンファーベンザルコニウムメトサルフェート；カロテノイド；炭酸セリウム（３＋）、シリカとの焼成生成物；炭酸セリウム（３＋）、シリカおよびタルクとの焼成生成物；シノキサート；コバルトｄｎａ；ＤＥＡ−メトキシシンナメート；ナンキョクコメススキ葉エキス；ジアセチルクルクミン；ジベンゾキサゾイルナフタレン；ジ−ｔ−ブチルヒドロキシベンジリデンカンファー；ジエチルアミノメトキシシンナメート；ジアセチルクルクミン；ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾエート；ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン；ジエチルヘキシル２，６−ナフタレート；ジガロイルトリオレエート；ジイソプロピルメチルシンナメート；ジメチコン／ｐｅｇ−１５クロスポリマー；１−（３，４−ジメトキシフェニル）−４，４−ジメチル−１，３−ペンタンジオン；ジ−メトキシシンナミドプロピルエチルジモニウイムクロリドエーテル；４−（ジメチルアミノ）−３−メチルブチルベンゾエート；ジメチルＰＡＢＡエチルセテアリルジモミウムトシレート；ジモルホリノピリダジノン；ジフェニルカルボメトキシアセトキシナフトピラン；ジフェニルメチルピペラジニルベンズイミダゾール；ビスエチルフェニルトリアミノトリアゾン二ナトリウム；スチルベンジスルホネート；ジスチリルビフェニルジスルホン酸二ナトリウム；フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム；ジ−ｔ−ブチルヒドロキシベンジリデンカンファー；ドロメトリゾール；ドロメトリゾールトリシロキサン；エチルシンナメート；エチルジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ；エチルジイソプロピルシンナメート；エチルヘキシルビス−イソペンチルベンゾキサゾリルフェニルメラミン；エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリジンプロピオネート；エチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ；エチルヘキシルフェルレート；エチルヘキシルメトキシシンナメート；２−エチルヘキシル４−（Ｎ−メチル−Ｎ−ニトロサミノ）ベンゾエート；エチルヘキシルサリチレート；エチルヘキシルトリアゾン；エチルメトキシシンナメート；エチルヘキシルメトキシクリレン；エチルヘキシルメトキシジベンゾイルメタン；エチルトリメチルベンゾイルフェニルホスフィネート；エトクリレン；蛍光増白剤２３０；４−（２−β−グルコピラノシロキシ）プロポキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート；グリセリルＰＡＢＡ；グリコールサリチレート；シロバナワタ種子エキス；ヒマワリ種子エキス；ヘキサンジオールジサリチレート；ヘキシロキシトリメチルフェノール；ホモサレート；加水分解アスペルギルス／朝鮮ニンジンエキス発酵物；加水分解ユーグレナエキス；加水分解アマ種子エキス；加水分解オリーブ果実；加水分解ふすま；加水分解ダイズエキス；２−ヒドロキシ−１，４−ナフタレンジオン；ヒドロキシプロピルフェニルヒドラジノイルｔ−ブチルカルバメート；インドシアニングリーン；イソアミルｐ−メトキシシンナメート；イソブチルフェニルヒドラジノイルメタンスルホンアミド；イソプロピルベンジルサリチレート；イソプロピルジベンゾイルメタン；イソプロピルメトキシシンナメート；ラウソン；リモニアアシジシマ(limonia acidissima)樹皮エキス；リモニアアシジシマ樹皮粉末；マドゥラアウランティカ（Madura aurantica）木エキス；マキサフィル；メトキシシンナミドプロピルＣ１８−２２アルキルジモニウムトシレート；メトキシシンナミドプロピルヒドロキシスルテイン；メトキシシンナミドプロピルラウルジモニウムトシレート；メトキシシンナミドプロピルポリシルセスキオキサン；メトキシシンナミドプロピルシルセスキオキサンシリケート；アクリル酸メチル／メチレンドロメトリゾール；メタクリル酸エステルコポリマー；メンチルアンスラニレート；メンチルサリチレート；４−メチルベンジリデンカンファー；４−メチルベンジリデンカンファースルホン酸；５−メチル−２−フェニルベンゾキサゾール；メチレンビスベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール；ナンバンカラスウリ仮種皮油；オクトクリレン；オクトリゾール；オクチルジメチル４−アミノ安息香酸；ＰＥＧ−２５ＰＡＢＡ；ペンチル  ４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート；フェニルベンズイミダゾールスルホン酸；フランス海岸松樹皮／芽エキス；ポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー；ポリシリコーン−１５；カリウムメトキシシンナメート；プリンセピアウチリス種子エキス；赤色ワセリン；ルチニルスクシネート；シトネミン；スピルリナパテンシス（spirulina patensis）粉末；ＴＥＡ−サリチレート；テレフタリリデンジカンファースルホン酸；テトラヒドロクルクミンジアセテート；二酸化チタン；トリＰＡＢＡパンテノール；トリス−ビフェニルトリアジン；ブドウ種子エキス；および亜鉛セリウムオキシド。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
[0012]  以下の本発明の詳細な説明は全く単に例示的なものに過ぎず、本発明または本発明の用途および使用を限定する意図はない。さらに、上述の本発明の背景または下記の本発明の詳細な説明において提示するいかなる理論にも束縛される意図はない。
【００１３】
[0013]  本明細書において、局所適用のための耐水性が向上した日焼け止め組成物が提供される。耐水性を向上させるため、日焼け止め組成物は加水分解ホホバエステルを含む。ホホバ油中に見出されるもの等の非鹸化性物質の加水分解については、参照により本明細書に組み込まれる、２００８年１０月１４日に発行され、Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｆｌｏｒａ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社に付与された米国特許第７，４３５，４２４号で論じられている。
【００１４】
[0014]  一般に、加水分解ホホバエステルは、水性アルカリ金属水酸化物、たとえばＫＯＨ（好ましい水酸化物）、ＮａＯＨ、ＬｉＯＨ、ＣａＯＨ、ＭｇＯＨ等と精製ホホバ油との反応によって製造される。精製ホホバ油は様々な割合の長鎖ジ不飽和（diunsaturated）エステルを含む。精製ホホバ油の加水分解物は極性親水性長鎖の塩（アルカリ塩）と比較的非極性の親油性物質（脂肪族アルコール）との約５５：４５の混合物である。親油性画分は非鹸化性物質、即ち鹸化反応の完了後も非水溶性のままである物質である。（A.O.C.S. Official Method Ca6b-53に定義されているように、非鹸化性物質は油脂の成分としてしばしば見出され、通常の苛性処理によっては鹸化されないが、普通の油脂には溶解する物質である。）
【００１５】
[0015]  典型的には、親水性および親油性の両方の加水分解物の炭素鎖長はＣ１８〜Ｃ２４を含み、かつ、これらの間で変動し、各々の分子の一部としてω−９二重結合を有している。本発明者らは、ホホバ加水分解物の鹸化性および非鹸化性画分の組み合わせは、日焼け止め組成物の製剤化の助けとなる性質を有していることを見出した。具体的には、加水分解ホホバエステルは有用な特性を含み、適用された表面にその特性を与えることができる。これらの表面は生物の表面、特にヒトの皮膚、植物の表面であってよく、さらには非生物対象物、たとえば木材、繊維、またはプラスチックの対象物の表面であってもよい。特に、加水分解ホホバエステルはヒトの皮膚上での持続性および耐水性を改良することができる。
【００１６】
[0016]  第１の例示的な実施形態において、加水分解ホホバエステルは、他の成分と組み合わせて用いられ、耐水剤を形成する。具体的には、耐水剤は、加水分解ホホバエステル、ホホバエステル、および水を含む。この例示的な実施形態において、耐水剤は、日焼け止め組成物の０．２％または０．５％を形成し得る。その目的によって必要とされれば、日焼け止め組成物は紫外放射線を吸収する少なくとも１種の日焼け止め活性剤も含む。さらに、日焼け止め組成物は、ホホバ油、ホホバ油脂肪酸カリウム、および／またはホホバアルコールを含んでもよい。日焼け止め組成物は、皮膚水和のためにグリセリンを含んでもよい。典型的には、日焼け止め組成物は、他の増粘剤、分散剤、懸濁剤および乳化剤；キレート化剤；ｐＨ中和剤；保存剤；保湿剤；皮膚軟化剤；滑剤；および香料を含んでもよい。
【００１７】
[0017]  耐水剤は、日焼け止め活性剤を使用者の皮膚にトラップすることによって作用すると考えられる。その結果、耐水剤は日焼け止め活性剤の水への曝露を防ぐ。一般に、水への曝露は日焼け止め活性剤の持続性を短くする。したがって、日焼け止め活性剤と水との間のバリアを形成することにより、耐水剤は日焼け止め活性剤による紫外線吸収の持続期間を増加させることができる。
【００１８】
[0018]  この実施形態において、耐水剤は２５℃において約０．８５〜約１．０の比重および２９０℃を超える引火点（クリーブランド開放式）を示すことになる。２５℃において１：１の割合で１つの相を形成することを溶解度の定義として、例示的な耐水剤はエチルアルコール、イソプロピルホホベート、イソプロピルアルコール、オレイルアルコール、およびプロピレングリコールに可溶であり；ポリソーベート２０およびポリソーベート８０に一部可溶であり；アセトン、ブチレングリコール、トリカプリル・カプリン酸グリセリル、ヒマシ油、シクロメチコン、デシルグルコシド、デシルオレエート、ジメチコン、酢酸エチル、グリセリン、イソノニルイソノアノエート、イソプロピルミリステート、イソプロピルパルミテート、ホホバ油、ラノリン油、鉱油、オクチルドデシルステアロイルステアレート、ＰＰＧ−１５ステアリルエーテル、ラウリル硫酸ナトリウム（３０％溶液）、ソルビトール、ヒマワリ油、および水に不溶であることが留意される。
【００１９】
[0019]  この第１の実施形態の試験を、以下の活性剤、即ちベンゾフェノン−３  ０．５％；オクチルメトキシシンナメート１．９％；およびオクチルサリチレート０．７５％を含むベース日焼け止め剤を用いて実施した。具体的には、ベース日焼け止め剤を物品Ａとして試験し；ベース日焼け止め剤＋この第１の例示的実施形態の耐水剤０．５％を物品Ｂとして試験し；ベース日焼け止め剤＋この第１の例示的実施形態の耐水剤０．２％を物品Ｃとして試験し；ベース日焼け止め剤に２％のＤｅｒｍａｃｒｙｌ７９（工業標準の日焼け止め耐水成分、Indopco, Inc. DBA National Starch and Chemical Company，Bridgewater，NJの製品）を加えたものを物品Ｄとして試験した。
【００２０】
[0020]  試験の１日目に、被験者の各々の掌側前腕部に約１インチ×１インチの領域を有する３つの部位を画定した。各々の前腕部の１つの部位は未処理とした。各々の前腕部の他の２つの部位を４０μｌのＡ；エタノール中１２．５％のベース日焼け止め剤；エタノール中２５％のベース日焼け止め剤；またはアルコール中５０％のベース日焼け止め剤のいずれかで処置した。各々の試験物品について、４０μｌを分配し、指定された皮膚の領域に均一に塗擦した。処置の後、各々の部位を１５分間風乾した。次いで各々の処置部位においてＡＴＲ−ＦＴＩＲ（減衰全反射フーリエ変換赤外分光法）測定を行ない、皮膚の赤外スペクトルを測定した。
【００２１】
[0021]  試験の２日目に、以前の部位と重ならないように、各々の掌側前腕部に約１インチ×１インチの領域を有する２つの部位を画定した。未処置部位のＡＴＲ−ＦＴＩＲ測定を行なった。次いで各々の前腕部の１つの指定された領域に試験物品を適用し、１５分間風乾した。
【００２２】
[0022]  次いで各々の腕を別々の容器で、撹拌下の室温の淡水（fresh water）に２０分間浸漬し、直ちに２０分間風乾した。この浸漬および乾燥サイクルを、全浸漬時間が８０分に到達するまで繰り返した。最後の浸漬の後、各々の前腕部をブロードライヤーからの温風で風乾した。次いでＡＴＲ−ＦＴＩＲを測定した。
【００２３】
[0023]  ３日目に、２日目のプロセスを繰り返したが、ここでは淡水の代わりに汗と類似した濃度の塩水（塩化ナトリウム、１１４７ｍｇ／ｌ）を用いた。
【００２４】
[0024]  試験結果を以下の表に示す。
【００２５】
【表１】
2013543478.tif 000002
【００２６】
【表２】
2013543478.tif 000003
【００２７】
【表３】
2013543478.tif 000004
【００２８】
【表４】
2013543478.tif 000005
【００２９】
【表５】
2013543478.tif 000006
【００３０】
【表６】
2013543478.tif 000007
【００３１】
[0025]  表Iに示すように、物品Ｃは試験ビヒクル（物品Ａ）よりもやや高いオクチルサリチレート（OS）の保持を示した。表ＩＩにおいて、物品Ｃはビヒクルよりもやや高いオクチルサリチレートの保持（０．３％）を示した。表ＩＩＩにおいて、物品Ｂおよび物品Ｃは試験ビヒクルよりも多いベンゾフェノン−３（Ｂ−３）を保持していた。表ＩＶから、物品Ｂ、物品Ｃ、および物品Ｄの全てが塩水への曝露で試験ビヒクルよりも増加したベンゾフェノン−３の保持を示したことがわかる。表Ｖにおいて、淡水への曝露でビヒクルはオクチルメトキシシンナメート（OMC）の最大の保持を示した。しかし、表ＶＩは、塩水への曝露で物品Ｃがビヒクルよりも１７．８％多いオクチルメトキシシンナメートを保持したことを示している。
【００３２】
[0026]  試験結果から明らかなように、ベース日焼け止め剤＋この第１の例示的実施形態の耐水剤０．２％は、塩水条件下で３種の日焼け止め活性剤の各々について最大の保持をもたらした。さらにこれは、塩水および淡水の両方の条件においてオクチルサリチレートの保持をもたらした唯一の試験物品であった。また、第１の例示的実施形態の耐水剤を含む両方の試験物品（物品ＢおよびＣ）は、常に工業標準（物品Ｄ）よりも大きな日焼け止め活性剤の保持を示した。
【００３３】
[0027]  第２の実施形態において、加水分解ホホバエステルは他のホホバ由来成分なしに用いられる。たとえば、日焼け止め組成物中の耐水剤は加水分解ホホバエステルおよび水のみを含んでもよい。かかる耐水剤は、含水率８０％、加水分解ホホバエステル含量２０％であり得る。さらに、例示的な耐水剤は、２５℃において約０．８５〜約１．０の比重および２９０℃を超える引火点（クリーブランド開放式）を示すことになる。２５℃において１：１の割合で１相を形成することを溶解度の定義として、例示的な耐水剤はエチルアルコール、グリセリン、イソプロピルアルコール、およびポリソーベート２０に可溶；水、アセトン、デシルグルコシド、イソプロピルホホベート、プロピレングリコール、ラウリル硫酸ナトリウム（３０％溶液）に一部可溶；ブチレングリコール、トリカプリル・カプリン酸グリセリル、ヒマシ油、シクロメチコン、デシルオレエート、ジメチコン、酢酸エチル、イソノニルイソノアノエート、イソプロピルミリステート、イソプロピルパルミテート、ホホバ油、ラノリン油、鉱油、オクチルドデシルステアロイルステアレート、オレイルアルコール、ポリソーベート８０、ＰＰＧ−１５ステアリルエーテル、ソルビトール、およびヒマワリ油に不溶であることが留意される。
【００３４】
[0028]  この第２の例示的な実施形態の試験も、以下の活性剤、即ちベンゾフェノン−３  ０．５％；オクチルメトキシシンナメート１．９％；およびオクチルサリチレート０．７５％を含むベース日焼け止め剤を用いて実施した。具体的には、ベース日焼け止め剤を物品Ａとして試験し；ベース日焼け止め剤＋第２の例示的実施形態の耐水剤１％を物品Ｂとして試験し；ベース日焼け止め剤に２％のＤｅｒｍａｃｒｙｌ７９を加えたものを物品Ｃとして試験した。
【００３５】
[0029]  試験は上記と同じ方法で行なった。試験結果を以下の表に示す。
【００３６】
【表７】
2013543478.tif 000008
【００３７】
【表８】
2013543478.tif 000009
【００３８】
【表９】
2013543478.tif 000010
【００３９】
【表１０】
2013543478.tif 000011
【００４０】
【表１１】
2013543478.tif 000012
【００４１】
【表１２】
2013543478.tif 000013
【００４２】
[0030]  表ＶＩＩ〜ＸＩＩからわかるように、物品Ｂ（ベース日焼け止め剤＋第２の例示的実施形態の耐水剤１％）は、淡水条件下におけるオクチルサリチレートの保持については工業標準（物品Ｃ）と実質的に同じ性能を示し、他の全ての試験においては工業標準より優れた性能を示した。
【００４３】
[0031]  第３の例示的な実施形態において、日焼け止め組成物は他の成分とともに以下の成分、即ち脱イオン水４６．６５重量％、加水分解ホホバエステル１６．６７重量％、ホホバ油３．３３重量％、および日焼け止め活性剤１２．０重量％を含んでもよい。単一の日焼け止め活性剤を用いてもよいが、より一般的には２種以上が用いられる。たとえば、第３の例示的実施形態ではエチルヘキシルメトキシシンナメート７．００重量％、エチルヘキシルサリチレート３．００重量％、およびベンゾフェノン−３  ２．００重量％を用いてもよい。
【００４４】
[0032]  上述の本発明の詳細な説明において少なくとも１つの例示的実施形態を提示したが、数多くの変形形態が存在することを認識されたい。また例示的実施形態（１つまたは複数）は単なる例であって、決して本発明の範囲、適用性、または形態を限定することを意図するものではないことを認識されたい。むしろ、上述の詳細な説明は本発明の例示的実施形態を実行するための便利なロードマップを当業者に提供することになり、添付した特許請求の範囲およびその法的等価物において説明した本発明の範囲から逸脱することなく、例示的実施形態において記述した要素の機能および配置において種々の変更が可能であることが理解されよう。