【事件の表示】
　特許第２６９１８６５号「極紫外線縮小投影露光装置」の請求項１ないし９、１２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結論】
　訂正を認める。
　特許第２６９１８６５号の請求項４、６、９に係る特許を維持する。
【理由】
１．手続きの経緯
　本件特許第２６９１８６５号は、平成６年３月１８日に出願され、平成９年９月５日に設定登録され、その後、特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１１年５月３１日に訂正請求がなされたものである。
１．１　異議申立ての概要
　異議申立人株式会社ニコンは、甲第１号証（特開平５−８２４１７号公報）、甲第２号証（特開平５−２１７８５８号公報）、甲第３号証（特開平２−３０６６１２号公報）、甲第４号証（特開平５−２１７８５７号公報）、甲第５号証（Ｋｏｉｃｈｉｒｏ　Ｈｉｒｏｓｈｉ　Ｔａｎｉｎｏ，”Ｆｅａｓｉｂｉ１１ｔｙ　Ｓｔｕｄｙ　ｏｎｔｈｅ　Ｅｘｔｒｅｍｅ　ＵＶ／Ｓｏｆｔ　Ｘ−ｒａｙ　Ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ−ｔｙｐｅ　Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ”：Ｂｕ１１ｅｔｉｎ　ｏｆ　ｔｈｅ　ＥｌｅｃｔｒｏｔｅｃｈｎｉｃａＩ　Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ　Ｖｏｌ．４９Ｎ０．１２（１９８５）Ｐ．９８３−Ｐ．９９０）及び甲第６号証（物理学事典編修委員会編「物理学事典」）を提出し、本件請求項１〜９及び１２に係る発明は、甲第６号証に記載された事項を考慮すると、甲第１〜５号証に記載された発明に基いて容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるので、請求項１〜９及び１２に係る発明の特許を取り消すべき旨主張している。
１．２　異議申立人菅原益男が提出した甲第１〜６号証の記載内容
１．２．１　甲第１号証の記載内容
　甲第１号証の【０００３】パラグラフの２行目〜９行目には、『縮小投影型のＸ線リソグラフィにおいては、装置全体が１つの真空室置かれているために、ウェーハの交換に時間がかかる、また、露光中にレジストから発生する有機物によって光学素子が汚染されるという重要な問題を抱えていた。これを解決するためには、光学系を配置する空間とウェーハを露光する空間を分離し、さらにウェーハの露光を大気圧中で行えるようにする必要がある。』と記載されている。
　甲第１号証の請求項１には『Ｘ線マスクならびにＸ線を結像させるための光学素子を配する空間とウェーハ試料を配置する空間を、差動排気機構および薄膜窓により分離することを特徴とする投影型リソグラフィ装置』と記載され、請求項９には『分離された試料配置用空間の真空度を差動排気により段階的に変化させる』と記載され、さらにパラグラフ【０００５】の４行目〜６行目には、『薄膜窓の低真空側の圧力が１０−２Ｔｏｒｒであれば、窓の薄膜が１μｍ程度の薄膜でも高真空側（光学系）との圧差に十分耐えられる。この結果、露光Ｘ線の強度をほとんど減衰させることなく２つの空間を分離させることが可能となる。』と記載され、図１にこの様子が描かれている。
　甲第１号証のパラグラフ【００１１】の３行目〜６行目には『大気圧下では、ウェーハのステージ上での保持に真空チャック方式が使用できるので、従来の機械的保持に比べて、露光精度が向上する。』と記載されている。
１．２．２　甲第２号証の記載内容
　甲第２号証の第１図には、真空分離フィルタ３及び真空分離バルブ４が示されている。
　甲第２号証のパラグラフ【０００３】には、『Ｘ線源にシンクロトロン等の放射光施設を用いた場合、この放射光施設の真空度は１０−１０Ｔｏｒｒより高い真空度がとする必要があった。・・・従来のＸ線露光光学系の真空度は１０−７Ｔｏｒｒ程度に設定されていた。そのために、Ｘ線源と露光光学系の間に真空度の違いにより生じる差圧を保つための差動排気系を設ける必要があった。』と記され、また、パラグラフ【０００４】には、『一方、Ｘ線源にレーザプラズマＸ線源を用いた場合、このＸ線源部の真空度は１０−４程度で十分である。・・・そのため、Ｘ線源側と露光光学系側とで各々真空度が異なるように設定し、差圧を保つための差動排気を設ける必要があった。』と記載述されている。
　更に、第２頁の左欄、下より１行目〜右欄４行目には、『Ｈｅ等のガスを１０−２Ｔｏｒｒ程程度導入しなければならないが、そうした場合、例えば波長１３ｎｍのＸ線では約１０ｃｍの光路を進むことで２０％程度に減衰してしまう。』と記載されている。
１．２．３　甲第３号証の記載内容
　甲第３号証の請求項１には、『光源が発する露光光により半導体基板上にパターンを焼き付ける半導体焼き付け装置において、露光光を検出して露光光の光軸位置を検出する手段と、その検出結果に基づいて露光光の光軸を補正する手段を具備することを特徴とする半導体焼き付け装置。』が記載され、第１図を見ると、検出手段の構成要素のハーフミラーが光軸上に配置されている。
１．２．４　甲第４号証の記載内容
　甲第４号証の請求項４には、『前記第２のフィルタによるＸ線の反射光量あるいは透過光量を検出する光検出器と、・・・』と記載され、Ｘ線露光装置内で使用されるフィルタ（薄膜）の透過光量を検出する光検知器が示されている。
１．２．５　甲第５号証の記載内容
　Ｐ．９８９の§６　Ｓｕｍｍａｒｙの第１行目には、『Ｉｔ　ｉｓ　ｐｏｓｓｉｂｌｅ　ｔｏ　ｃｏｎｓｔｒｕｃｔ　ａ　ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ−ｔｙｐｅ　ｅｘｐｏｓｕｒｅ　ｓｙｓｔｅｍ　ｕｔｉｌｉｚｉｎｇ　ＸＵＶ／ＳＸ（１００Ａ−３００Ａ）ｒａｄｉａｔｉｏｎ．』（極端紫外線／軟Ｘ線（１００Ａ−３００Ａ）を用いた投影型の露光システムが可能である）と記載されている。
　また、Ｐ．９８９の図４にはマスクをウェハに投影する３枚の反射鏡からなる５：１の縮小投影系が記載されている。
　また、Ｐ．９８６の１２行目には「Ｔｈｅ　ｅｘｐｏｓｕｒｅ　ｉｓ　ａｌｓｏ　ｌｉｍｉｔｅｄ　ｉｎ　ａｎ　ａｒｃ−ｓｈａｐｅｄ　ｆｉｅｌｄ　ｓｏ　ｔｈａｔ　ｔｈｅ　ｍａｓｋ　ａｎｄ　ｔｈｅ　ｗａｆｅｒ　ｍｕｓｔ　ｂｅ　ｓｌｉｄｅｄ　ｓｙｎｃｈｒｏｎｏｕｓｌｙ　ｄｕｒｉｎｇｅｘｐｏｓｕｒｅ　ｏｆ　ｕｎｉｔｓｕｂｆｉｅｌｄ　ａｎｄ　ｔｈｅｎ　ｔｈｅ　ｗａｆｅｒ　ｍｕｓｔ　ｂｅ　ｓｅｐａｒｅｔｅｌｙ　ｓｈｉｆｔｅｄ　ｔｏ　ｅｘｐｏｓｅ　ｔｈｅ　ａｄｊａｃｅｎｔ　ｓｕｂｆｉｅｌｄ．」（露光はまた円弧状に限定されるからサブフィールドの露光中にマスクとウェハは同期して移動され、そしてｗａｆｅｒは単独に隣のサブフィールドを露光するために移動される）と記載されている。
１．２．６　甲第６号証の記載内容
　甲第６号証のＰ．９７１には、『波長が約３０ｎｍ以下の光は軟Ｘ線と呼ばれるが、極紫外線と波長が重なっていることから、ＸＵＶということも多い』と記載されている。
１．３　取消理由通知の概要
「特許異議申立人菅原益男が提示した甲第１〜６号証を引用し、本件請求項１〜９及び１２は、各請求項記載の発明が従来技術である甲第１〜６号証に対して差異が明確とならない程度に技術的に不明瞭であるので、本件請求項１〜９及び１２に係る発明の特許は、特許法第３６条の規定を満たしていないものになされたものである」旨通知した。
２．訂正の適否について
　本件訂正請求は、本件特許第２６９１８６５号の明細書（以下、「特許明細書」という。）を、本件訂正請求書に添付した訂正明細書のとおりに、訂正しようとするものである。
２．１　訂正事項
訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１〜請求項３を削除する。
訂正事項ｂ
　特許請求の範囲の請求項４を請求項１とし、その記載において、「すると共に、該薄膜窓の前後に窓付きゲートバルブを設ける」を、『すると共に、該薄膜窓の前後に薄膜窓交換のための窓付きゲートバルブを設ける』と訂正する。
訂正事項ｃ
　特許請求の範囲の請求項５を削除する。
訂正事項ｄ
　特許請求の範囲の請求項６を請求項２とし、その記載において、「差動排気機構又は薄膜窓の少なくとも一つを設けて」を、『差動排気機構及び薄膜窓を設けて』と訂正する。
訂正事項ｅ
　特許請求の範囲の請求項７及び請求項８を削除する。
訂正事項ｆ
　特許請求の範囲の請求項９を請求項３とし、その記載において、「設けると共に、該薄膜窓の前後に窓付きゲートバルブを設ける」を、『設けると共に、該薄膜窓の前後に薄膜窓交換のための窓付きゲートバルブを設ける』と訂正する。
訂正事項ｇ
　特許請求の範囲の請求項１０を請求項４とし、その記載において、「第９項」を、『第３項』と訂正する。
訂正事項ｈ
　特許請求の範囲の請求項１１を請求項５とし、その記載において、「第１０項」を、『第４項』と訂正する。
訂正事項ｉ
　特許請求の範囲の請求項１２を削除する。
訂正事項ｊ
　明細書【００１０】の「そのため本発明の極紫外線縮小投影露光装置の構成は、」を、『まず本発明の極紫外線縮小投影露光装置の前提となる構成を先に説明する。』と訂正する。
訂正事項ｋ
　明細書【００１０】の「差動排気機構１又は薄膜窓２の少なくとも一つを設け、これらの空間の間を分離したことを基本的特徴としている。」を、『差動排気機構１及び薄膜窓２を設け、これらの空間の間を分離している。』と訂正する。
訂正事項ｌ
　明細書【００１５】の「加えて薄膜窓２１の前後に窓付きゲートバルブ１０を設けると、」を、『加えて薄膜窓２１の前後に薄膜窓の交換のための窓付きゲートバルブ１０を設けると、』と訂正する。
訂正事項ｍ
　明細書【００１９】〜【００３０】までを削除する。
訂正事項ｎ
　明細書【００３１】の「次に本発明の別の実施例につき説明する。図２はＳＲ光縮小投影用の露光装置である本願第６乃至第９発明に係る実施例構成を示す装置概要図であり、」を、『【実施例】以下本発明の一実施例につき説明する。図２はＳＲ光縮小投影用の露光装置である本願第２乃至第３発明に係る実施例構成を示す装置概要図であり、』と訂正する。
訂正事項ｐ
　明細書【００４７】の「尚、二つの実施例では、」を、『尚、上記実施例では、』と訂正する。
訂正事項ｑ
　明細書【図面の簡単な説明】の欄を、
『　【図１】
本発明の前提構成となるＳＲ光縮小投影用の露光装置の概要図である。
　　【図２】
　ＳＲ光縮小投影用の露光装置である本願第２乃至第３発明に係る実施例構成を
示す装置概要図である。
　　【図３】
従来の極紫外線縮小投影露光装置構成を示す概略図である。
　【符号の説明】
１　　　　　　　　差動排気機構
２、２１　　　　　薄膜窓
３　　　　　　　　チャンバ
４　　　　　　　　照明光学系
５　　　　　　　　マスク
６ａ、６ｂ　　　　結像光学系
７　　　　　　　　ウェハ
８　　　　　　　　同期走査機構
９ａ、９ｂ　　　　排気系
１０　　　　　　　窓付きゲートバルブ
１１ａ、１１ｂ　　ビームモニタ
１１ｃ、１１ｄ　　　″
１２　　　　　　　連係制御系
１３ａ、１３ｂ　　圧力センサ
２２　　　　　　　薄膜フィルタ
』と訂正する。
２．　２　訂正後の本件請求項１〜５に係る発明
請求項１
「露光々に極紫外線の用いられる照明光学系が配置される空間と露光パターンの描かれたマスクが配置される空間との間、上記露光パターンを縮小投影しながら結像せしめる結像光学系が配置される空間と該マスク配置空間との間、縮小投影による上記パターンの結像面を有する試料が配置される空間と該結像光学系配置空間との間に、少なくとも薄膜窓を設けてこれらの空間の間を分離すると共に、該薄膜窓の前後に薄膜窓交換のための窓付きゲートバルブを設けることを特徴とする極紫外線縮小投影露光装置。」
請求項２
「露光々に極紫外線の用いられる照明光学系が配置される空間と露光パターンの描かれたマスクが配置される空間との間、上記露光パターンを縮小投影しながら結像せしめる結像光学系が配置きれる空間と該マスク配置空間との間、縮小投影による上記パターンの結像面を有する試料が配置される空間と該結像光学系配置空間との間に、差動排気機構及び薄膜窓を設けてこれらの空間の間を分離し、且つ露光領域を広げるために輪帯照明領域に対するマスクと前記試料の同期走査機構を設けると共に、マスク配置空間及び／又は試料配置空間に圧力センサ設けて該圧力センサと前記同期走査機構とを連係制御することを特徴とする極紫外線縮小投影露光装置。」
請求項３
「露光々に極紫外線の用いられる照明光学系が配置される空間と露光パターンの描かれたマスクが配置される空間との間、上記露光パターンを縮小投影しながら結像せしめる結像光学系が配置される空間と該マスク配置空間との間、縮小投影による上記パターンの結像面を有する試料が配置される空間と該結像光学系配置空間との間に、少なくとも薄膜窓を設けてこれらの空間の間を分離し、且つ露光領域を広げるために輸帯照明領域に対するマスクと前記試料の同期走査機構を設けると共に、該薄膜窓の前後に薄膜窓交換のための窓付きゲートバルブを設けることを特徴とする極紫外線縮小投影露光装置。」
請求項４
「請求項第１項乃至第３項記載の極紫外線縮小投影露光装置において、マスク配置空間と試料配置空間とを同一空間にしたことを特徴とする請求項第１項乃至第３項記載の極紫外線縮小投影露光装置。」
請求項５
「請求項第１項乃至第４項記載の極紫外線縮小投影露光装置において、照明光学系配置空間と結像光学系配空間とを同一空間にしたことを特徴とする請求項第１項乃至４項記載の極紫外線縮小投影露光装置。」
３．訂正の適否
３．１　訂正の目的の適否及び拡張・変更の存否
３．１．１　訂正事項ａ、ｃ、ｅ、ｊについて
　上記訂正事項ａ、ｃ、ｅ、ｊは、それぞれ、請求項１〜３、５、７及び８、１２の削除であるから、上記訂正事項ａ、ｃ、ｅ、ｊについては、特許請求の範囲の減縮にあたる。
　また、上記訂正事項ａ、ｃ、ｅ、ｊは、訂正前の各発明の目的の範囲内のものであるから、実質上特許請求の範囲を変更するものでもない。
３．１．２　訂正事項ｂについて
　上記訂正事項ｂは、特許請求の範囲の請求項４を請求項１とし、その記載において、「すると共に、該薄膜窓の前後に窓付きゲートバルブを設ける」を下位概念である『すると共に、該薄膜窓の前後に薄膜窓交換のための窓付きゲートバルブを設ける』と訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮にあたる。
　また、上記訂正事項ｂは、訂正前の各発明の目的の範囲内のものであるから、実質上特許請求の範囲を変更するものでもない。
３．１．３　訂正事項ｄについて
　上記訂正事項ｄは、特許請求の範囲の請求項６を請求項２とし、その記載において、「差動排気機構又は薄膜窓の少なくとも一つを設けて」を、下位概念である『差動排気機構及び薄膜窓を設けて』と訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮にあたる。
　また、上記訂正事項ｄは、訂正前の各発明の目的の１範囲内のものであるから、実質上特許請求の範囲を変更するものでもない。
３．１．４　訂正事項ｆについて
　上記訂正事項ｆは、特許請求の範囲の請求項９を請求項３とし、その記載において、「設けると共に、該薄膜窓の前後に窓付きゲートバルブを設ける」を、下位概念である『設けると共に、該薄膜窓の前後に薄膜窓交換のための窓付きゲートバルブを設ける』と訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮にあたる。
　また、上記訂正事項ｆは、訂正前の各発明の目的の範囲内のものであるから、実質上特許請求の範囲を変更するものでもない。
３．１．５　訂正事項ｇ．ｈについて
　上記訂正事項ｇ、ｈについては、請求項１〜３、５、７、８の削除に伴い、請求項番号及び引用する請求項番号を繰り上げるものであるから、明りょうでない記載の釈明にあたる。
　そして、上記訂正事項ｇ、ｈは、特許明細書又は図面に直接的に記載されたものであるし、また、訂正前の各発明の目的の範囲内のものであるから、実質上特許請求の範囲を変更するものでもない。
３．１．６　訂正事項ｊ、ｍ、ｎ、ｐ、ｑについて
　上記訂正事項ｊ、ｍ、ｎ、ｐ、ｑについては、請求項の削除に伴い、請求の範囲と発明の詳細な説明を整合させるものであるから、明りょうでない記載の釈明にあたる。
　そして、上記訂正事項ｊ、ｍ、ｎ、ｐ、ｑは、特許明細書又は図面に直接的に記載されたものであるし、また、訂正前の各発明の目的の範囲内のものであるから、実質上特許請求の範囲を変更するものでもない。
３．１．７　訂正事項ｋ、ｌについて
　上記訂正事項ｋ、ｌについては、請求の範囲の減縮に伴い、請求の範囲と発明の詳細な説明を整合させるものであるから、明りょうでない記載の釈明にあたる。
　そして、上記訂正事項ｋ、ｌは、特許明細書又は図面に直接的に記載されたものであるし、また、訂正前の各発明の目的の範囲内のものであるから、実質上特許請求の範囲を変更するものでもない。
３．２　独立特許要件について
　異議申立人株式会社ニコンが提出した甲第１〜５号証のいずれにも、本件請求項１、３に係る発明の特徴である、「薄膜窓の前後に薄膜窓交換のための窓付きゲートバルブを設ける」点の構成（以下、「本件請求項１、３に係る発明の特徴的構成」という。）、また、本件請求項２に係る発明の特徴である、「マスク配置空間及び／又は試料配置空間に圧力センサ設けて該圧力センサと同期走査機構とを連係制御する」点の構成（以下、「本件請求項２に係る発明の特徴的構成」という。）を有しておらず、また、上記本件発明の特徴的構成の示唆もなく、そして、訂正後の本件請求項１，３に係る発明は、上記本件請求項１、３に係る発明の特徴的構成により、特許明細書詳細な説明【００１５】に記載された、上記甲１〜５号証いずれにもない効果を有し、また、訂正後の本件請求項２に係る発明は、上記本件請求項２に係る発明の特徴的構成により、特許明細書詳細な説明【００１１】、【００１２】に記載された、上記甲１〜６号証いずれにもない効果を有しているので、本件請求項１〜３に係る発明及び本件請求項１〜３をさらに限定した本件請求項４，５は、当業者が上記甲第１〜５号証に記載された発明及び甲第６号証に記載された事項に基いて容易に発明できたものとすることができない。
　付言すると、甲第２号証には、真空分離バルブ（当該「真空分離バルブ」は、本件請求項１記載の「ゲートバルブ」に相当する。）は、真空分離フィルタ（当該「真空分離フィルタ」は、本件請求項１記載の「薄膜窓フィルタ」に相当する。）の前後に設けられておらず、従って甲第２号証には、本件請求項２に係る発明の特徴的構成が開示又は示唆されていない。
　また、甲第２号証には、真空度とＸ線の減衰について示されているが、本件請求項１，３に係る発明の特徴的構成が開示又は示唆されていない。
　そうすると、訂正後の本件請求項１〜５に係る発明は、特許出願の際独立して特許を受けることができないものとすることができない。
３．３　訂正の適否の判断
　上記訂正事項は、上記３．１、３．２のとおりであるから、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項で準用する特許法１２６条第２項から４項の規定に適合する。
　従って、当該請求を認める。
４．特許異議申立てについての判断
４．１　本件請求項１〜３に係る発明
　上記２．２に記載のとおり。
４．２　異議申立ての理由の概要
　上記１．１に記載のとおり。
４．３　本件請求項１〜３に係る発明と甲各号証との対比、判断
　独立特許要件を判断した上記３．２のとおりであるから、特許異議の申立てがなされた訂正前の請求項に対応する本件請求項１〜３に係る発明は、上記甲第１〜５号証に記載された発明及び甲第６号証に記載された事項に基いて当業者が容易に発明できたものとすることができない。
５．むすび
　したがって、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件請求項１〜３に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１〜３に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１１年６月３日（１９９９．６．３）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　訂正事項ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｉは、特許請求の範囲の減縮を目的とし、訂正事項ｇ，ｈ、ｊ，ｋ，Ｉ，ｍ，ｎ，ｐ，ｑは、明りょうでない記載の釈明を目的とする。
訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１〜請求項３を削除する。
訂正事項ｂ
　特許請求の範囲の請求項４を請求項１とし、その記載において、「すると共に、該薄膜窓の前後に窓付きゲートバルブを設ける」を、『すると共に、該薄膜窓の前後に薄膜窓交換のための窓付きゲートバルブを設ける』と訂正する。
訂正事項ｃ
　特許請求の範囲の請求項５を削除する。
訂正事項ｄ
　特許請求の範囲の請求項６を請求項２とし、その記載において、「差動排気機構又は薄膜窓の少なくとも一つを設けて」とあるのを、『差動排気機構及び薄膜窓を設けて』と訂正する。
訂正事項ｅ
　特許請求の範囲の請求項７及び請求項８を削除する。
訂正事項ｆ
　特許請求の範囲の請求項９を請求項３とし、その記載において、「設けると共に、該薄膜窓の前後に窓付きゲートバルブを設ける」を、『設けると共に、該薄膜窓の前後に薄膜窓交換のための窓付きゲートバルブを設ける』と訂正する。
訂正事項ｇ
　特許請求の範囲の請求項１０を請求項４とし、その記載において、「第９項」を、『第３項』と訂正する。
訂正事項ｈ
　特許請求の範囲の請求項１１を請求項５とし、その記載において、「第１０項」を、『第４項』と訂正する。
訂正事項ｉ
　特許請求の範囲の請求項１２を削除する。
訂正事項ｊ
　明細書【００１０】の「そのため本発明の極紫外線縮小投影露光装置の構成は、」を、『まず本発明の極紫外線縮小投影露光装置の前提となる構成を先に説明する。』と訂正する。
訂正事項ｋ
　明細書【００１０】の「差動排気機構１又は薄膜窓２の少なくとも一つを設け、これらの空間の間を分離したことを基本的特徴としている。」を、『差動排気機構１及び薄膜窓２を設け、これらの空間の間を分離している。』と訂正する。
訂正事項ｌ
　明細書【００１５】の「加えて薄膜窓２１の前後に窓付きゲートバルブ１０を設けると、」を、『加えて薄膜窓２１の前後に薄膜窓の交換のための窓付きゲートバルブ１０を設けると、』と訂正する。
訂正事項ｍ
　明細書【００１９】〜【００３０】までを削除する。
訂正事項ｎ
　明細書【００３１】の「次に本発明の別の実施例につき説明する。図２はＳＲ光縮小投影用の露光装置である本願第６乃至第９発明に係る実施例構成を示す装置概要図であり、」を、『【実施例】以下本発明の一実施例につき説明する。図２はＳＲ光縮小投影用の露光装置である本願第２乃至第３発明に係る実施例構成を示す装置概要図であり、』と訂正する。
訂正事項ｐ
　明細書【００４７】の「尚、二つの実施例では、」を、『尚、上記実施例では、』と訂正する。
訂正事項ｑ
　明細書【図面の簡単な説明】の欄を、
『　【図１】
本発明の前提構成となるＳＲ光縮小投影用の露光装置の概要図である。
　　【図２】
　ＳＲ光縮小投影用の露光装置である本願第２乃至第３発明に係る実施例構成を
示す装置概要図である。
　　【図３】
従来の極紫外線縮小投影露光装置構成を示す概略図である。
　【符号の説明】
１　　　　　　差動排気機構
２、２１　　　薄膜窓　
３　　　　　　チャンバ
４　　　　　　照明光学系
５　　　　　　マスク
６ａ、６ｂ　　結像光学系
７　　　　　　ウエハ
８　　　　　　同期走査機構
９ａ、９ｂ　　排気系
１０　　　　　窓付きゲートバルブ
１１ａ、１１ｂ　ビームモニタ
１１ｃ、１１ｄ　　″
１２　　　　　　連係制御系
１３ａ　１３ｂ　圧カセンサ
２２　　　　　薄膜フィルタ
』と訂正する。
（５４）【発明の名称】
極紫外線縮小投影露光装置
（５７）【特許請求の範囲】
　　【
請求項１
　　【
請求項２
差動排気機構及び薄膜窓
　　【
請求項３
薄膜窓交換のための
　　【
請求項４
第３項
第３項
　　【
請求項５
第４項
第４項
【発明の詳細な説明】
　　　【０００１】
　　【産業上の利用分野】
　本発明は、リソグラフィ技術や、マイクロメカニクス分野において、半導体素子や量子効果素子等のＵＬＳＩの製造、或いはマイクロロボット用部品の製造でパターン形成に使用される極紫外線縮小投影露光装置に関する。
　　　【０００２】
　　【従来の技術】
　レーザプラズマや固体レーザ、ＳＲ光源等から得られる真空紫外線やＸ線等の極紫外線を露光々としてパターン形成を行う露光技術では、マスクの精度によって転写性能が左右される等倍方式の欠点に鑑みて、拡大したマスクパターンを縮小してウェハ等の試料に転写する縮小投影露光方式の採用が検討されるようになった。
　　　【０００３】
　　【発明が解決しようとする課題】
　このような極紫外線縮小投影露光法（ＥＵＶＬ）では、露光波長が４．４〜１００ｎｍの領域であるため、光路上にある大気やＨｅ等による光の減衰が著しく、図３に示すように、照明光学系４、マスク５、結像光学系６ａや６ｂ、ウェハ等の試料７を含む露光構成を、チャンバ３中で高真空に保つ必要がある。
　　　【０００４】
　このようなエネルギーレベルの高い極紫外線の照射によってマスク５や上記試料７に熱が発生した場合、高真空中であるため熱の逃げ場がなく、これらの温度が上昇し、露光精度が低下することになる。
　　　【０００５】
　またマスク５や試料７の交換の際、大気圧程度まで一旦開放してからその交換を行うため、作業終了後再び高真空域まで真空引きを行う必要があり、作業効率が低下する。更に上記露光々の照射により試料７のパターン結像面に塗布されたレジスト等が分解し、その分解物が結像光学系６ａや６ｂに到達して付着するため、該光学系が汚染されて反射率が低下し、照度が低下する結果、露光スループットが低下する。
　　　【０００６】
　通常ウェハへの露光は、露光フィールドと呼ばれるある面積でウェハの一部分を露光し、該ウェハを所定位置に移動させ、別の領域を露光し、再度ウェハの移動を順次繰り返してウェハ全面を露光する。ところが該結像光学系が徐々に汚染されて照度が低下する経時変化のため、ウェハ面内の露光フィールド毎やウェハ毎でレジストに同一露光量を与えることが困難となる。
　　　【０００７】
　またＳＲ光を光源として用いる場合、ＳＲ光の発光点の位置が経時変化して、発光点から下流の光学系の所定の位置にＳＲ光が届かず、露光照度が変動する問題がある。
　　　【０００８】
　一方上記縮小投影露光法では結像光学系６ａや６ｂに反射光学系が用いられており、露光領域を広げるために同期走査機構８により輪帯照明領域に対するマスク５及び試料７の高精度な同期走査を行う必要がある。しかし高真空中での上述した同期走査は困難を極め、露光精度を更に低下せしめることになる。
　　　【０００９】
　本発明は従来技術の以上のような問題に鑑み創案されたもので、露光精度、露光スループット、作業効率の低下を来すことのない極紫外線縮小投影露光装置の構成を提案せんとするものである。
　　　【００１０】
　　【課題を解決するための手段】
　
まず
の前提となる構成を先に説明する。
差動排気機構１及び薄膜窓２を設け、
分離している。
　　　【００１１】
　また上記構成に加え、露光領域を広げるために輪帯照明領域に対するマスク５及び試料７の高精度な同期走査を行う同期走査機構８を更に設けた構成も併せて提案する。
　　　【００１２】
　雰囲気圧力が変動すると、該雰囲気中の光路における露光々の減衰率が変化するため、試料面に到達する露光々の強度が変動する。そのため、図２に示されるように、マスク配置空間及び／又は試料配置空間に圧カセンサ１３ａ、１３ｂを設け、圧カセンサ１３ａ、１３ｂと同期走査機構８とを連係制御させることで、雰囲気圧力の変動に応じてマスク５及び試料７の移動速度を変化させて、一試料の全面、或いは２以上の試料間における照射面に到達する露光々の強度が常に同じになるように制御し、このような構成によって更に高精度な露光量の制御を行うことができる。
　　　【００１３】
　一方上記構成に加え、図２に示されるように、光路途中にビームモニタ１１ａ（１１ｂ、１１ｃ、１１ｄについても同じ）を設け、更に該ビームモニタ１１ａと照明光学系４ａ及び／又は４ｂとを連係制御させることで、ＳＲ発光点の位置の経時的変動に追随させることができるようになり、露光照度を安定化させることができる。
　　　【００１４】
　更に同図に示すように、薄膜窓２１の前後に少なくとも一対のビームモニタ１１ｂ、１１ｃ、１１ｄを設ければ、薄膜窓２１前後の光強度差の経時変化を調べることによって薄膜窓２１の汚れや破損を確認でき、薄膜窓２１の交換時期を正確に知ることができる。
　　　【００１５】
　加えて薄膜窓２１の前後に薄膜窓の交換のための窓付きゲートバルブ１０を設けると、該薄膜窓２１の交換の際、前後のゲートバルブ１０を閉じることで、この薄膜窓２１の近傍の空間のみ大気圧にすることができるようになる。
　　　【００１６】
　これらの構成については、マスク配置空間と試料配置空間とを同一空間としてその構成を組み立てても良いし、また照明光学系配置空間と結像光学系配置空間とを同一空間としてその構成を組み立てても良い。
　　　【００１７】
　　【作用】
　これらの構成では、照明光学系配置空間とマスク配置空間との間、結像光学系配置空間と該マスク配置空間との間、試料配置空間と該結像光学系配置空間との間に、差動排気機構１や薄膜窓２で構成される雰囲気乃至雰囲気圧の分離機構が導入されることになる。そのため、照明光学系配置空間と結像光学系配置空間とは排気系９ａ、９ｂによって高真空に保たれる一方で、マスク配置空間と試料配置空間とは大気圧又は減圧雰囲気に調整でき、このような雰囲気中でのマスク５への照明及び試料７への露光が可能となる。
　　　【００１８】
　尚上記構成中、照明光学系４の構成としては、レーザプラズマや固体レーザ、ＳＲ光源等から得られる真空紫外線やＸ線等の極紫外線を露光々とする場合に用いられる透過・反射型等の光学系で構成されており、例えば凸面と凹面の組み合わせた２面の非球面反射光学系等がある。マスク５の構成としては、上記露光々に対応した構成が用いられており、例えば露光々が波長５ｎｍであればＳｉＣ基板上にクロム（Ｃｒ）とカーボン（Ｃ）を夫々１．２ｎｍ、１．２ｎｍの厚さで交互に数十層重ねた多層膜を形成し、ドライエッチングにより多層膜を加工してマスクパターンとしたものが用いられる。結像光学系６ａ、６ｂの構成としては、上記露光々の減衰率の少ない反射光学系（例えば５ｎｍ露光々用には膜厚１．２ｎｍのＣｒと１．２ｎｍのＣが交互に百数十層ずつ積層された多層膜が蒸着しているものが用いられる）で構成され、凸面構成及び凹面構成等の組み合わせでマスクパターンの縮小投影ができるようになっている。試料７の構成どしては、半導体ウェハ等の構成が用いられ、その結像面側には上記露光々に感光するレジスト［例えばＳＲ光用のＡＺ−ＰＮ１００（ヘキスト社製）］１等が塗布されている。差動排気機構１は公知の差動排気構成が利用可能であり、例えば光路方向に複数段の狭い空間が設けられ、それらの空間にスリット乃至管で接続された他側でロータリポンプ、ターボ分子ポンプ、クライオポンプ、イオンポンプ等の真空ポンプが設置される構成が使用可能である。薄膜窓２の構成は、露光々が透過可能で且つ透過減衰率のできるだけ低い材質（例えば露光波長が５ｎｍの場合、ダイヤモンド薄膜やダイヤモンドとアモルファスカーボンの積層膜）で構成され、光路上で十分露光が可能な程度の面積にした場合に、その両面の差圧に十分耐えられる可能な限り薄い構成のものが良い。
　　　【
００１９
　　【実施例】
　　　【
００２０
　　　【
００２１
　　　【
００２２
　　　【
００２３
　　　【
００２４
　　　【
００２５
　　　【
００２６
　　　【
００２７
　　　【
００２８
　　　【
００２９
　　　【
００３０
　　　【
００３１
　
以下本発明の一実施例につき説明する。
　　　【００３２】
　本実施例では、照明光学系配置空間とマスク配置空間との間、該マスク配置空間と結像光学系配置空間との間、該結像光学系配置空間とウェハ配置空間との間の夫々に差動排気機構１や薄膜窓２１で構成される雰囲気乃至雰囲気圧の分離機構が設けられている。
　　　【００３３】
　そして上記差動排気機構１の構成は、光路方向に各３段＃１〜＃３及び＃４〜＃６の狭い空間が設けられ、それらの空間に開放される円弧状スリット及びそれに続く管で接続され、他側で除振設備（図示せず）を有しているロータリポンプ及びターボ分子ポンプが設置された構成からなり、照明光学系配置空間とマスク配置空間との間、及び該マスク配置空間と結像光学系配置空間との間に設けられる差動排気機構１は一つの構成＃１〜＃３で兼ねられている。
　　　【００３４】
　薄膜窓２１の構成は、ＳＲ光が透過可能で且つ透過減衰率のできるだけ低い材質である窒化ケイ素（ＳｉＮ）膜で構成され、光路上で十分露光が可能な程度の面積にした場合でも、これらの片面側における差動排気のために殆ど差圧がかからないので、§１１は〜§１３とも１００ｎｍと極めて薄くできる。薄膜フィルタ２２は１００ｎｍ厚の窒化ケイ素膜と５００ｎｍ厚のベリリウム（Ｂｅ）膜の積層膜であり、光軸から退避移動できるようになっている。ベリリウム（Ｂｅ）膜によりＳＲ光の可視光および紫外線成分をカットする。薄膜フィルタ２２は必要に応じて露光装置の複数の場所に設けてもよい。
　　　【００３５】
　上記照明光学系４ａ及び４ｂは裏面より冷媒流路を有する反射鏡保持器（図示せず）に固定されており、ここでは鏡面研磨された白金（Ｐｔ）反射鏡が図示されている。照明光学系４ｂは、ＳＲリング（図示なし）から放射されたＳＲ光を斜入射でその鏡面で反射せしめて、照明光学系４ａの所定の位置にＳＲ光を送る。照明光学系４ｂの前後にはＳＲ光の位置とエネルギー強度を検出できるビームモニタ１１ａが設置されている。ビームモニタ１１ａは光軸から退避移動できるようになっている。照明光学系４ｂには、ＳＲ光の発光位置が変動しても、照明光学系４ａの所定の位置にＳＲ光を送ることができるように、このビームモニタ１１ａで検出された位置に応じて白金反射鏡が所定の位置および角度になるような連係制御系１２が設けられている。通常、レジストの塗布された試料たるウェハにマスクのパターンを焼き付ける前、即ち露光する前に、ビームモニタ１１ａでＳＲ光の位置を確認し、所定の位置にＳＲ光が来るように照明光学系４ｂを調節する。そしてビームモニタ１１ａを光軸から退避して露光を行い、露光と露光の間、例えばウェハの交換時間に再度、ビームモニタ１１ａでＳＲ光の位置を確認する。これらの操作を繰り返すことにより、ＳＲ光の発光点の変動に対して追随できる。
　　　【００３６】
　またビームモニタは照明光学系４ｂの前後のみだけでなく、ＳＲ光発光点近傍、マスク面近傍、ウェハ面近傍、薄膜窓２２の前後に設置してもよい。例えば薄膜窓２２の前後にビームモニタ１１ｂ、１１ｃ、１１ｄを設け、薄膜窓前後の光強度差の経時変化を調べることにより薄膜窓の汚れや破損を確認でき、薄膜窓の交換時期を正確に知ることができる。
　　　【００３７】
　上記照明光学系４ａは、図面では鏡面研磨された石英反射鏡からなり、該照明光学系４ａは、照明光学系４ｂから反射してきたＳＲ光を斜入射角４度でその鏡面で反射せしめて、§１１の薄膜窓２１を透過させ、薄膜２２フィルタ、該放射光を＃１〜＃３の差動排気機構１の空間を通過させて、マスク５に照射せしめている。尚照明光学系配置空間の出口近傍には上述の排気系９ａが設けられ、ＳＲリングの真空域と同様な高真空が保たれている。
　　　【００３８】
　薄膜窓２１の前後に窓付きゲートバルブ１０が配置されている。窓付きゲートバルブ１０の窓は厚さ５ｍｍの石英の板である。図２では窓付きゲートバルブ１０が閉の状態を示しているが、露光の際は開の状態で使用する。該薄膜窓２１の前後に窓付きゲートバルブ１０が配置されていると、薄膜窓２１を交換する際、薄膜窓２１の近傍の空間のみ大気圧にできる。また薄膜窓２１を交換する際、ＳＲ光が薄膜窓２１の所定の位置を通過するように薄膜窓２１及び照明光学系４ｂを調節しておく必要があるが、薄膜窓２１の前後に石英窓付きゲートバルブ１０が配置されているので、該バルブ１０が閉の状態でＳＲ光の可視光領域を用いて光軸出しを行い、ＳＲ光が薄膜窓２１の所定の位置を通過するように薄膜窓２１及び照明光学系４ｂを調節できる。
　　　【００３９】
　マスク５は、石英基板上にモリブデン（Ｍｏ）とケイ素（Ｓｉ）を夫々２．７ｎｍ、４ｎｍの厚さで交互に６０層重ねた多層膜が形成され、その最上層に所定の構造を有する厚さ１００ｎｍの金（Ａｕ）の吸収体パターンが配置されている。このマスク配置空間には圧力センサ１３ａが設置されていて、Ｈｅガス雰囲気が満たされており、常に１００Ｔｏｒｒの圧力になるように管理されている。また上記マスクパターンの設けられた面と＃１の差動排気機構１の壁面との間隙は０．５ｍｍである。
　　　【００４０】
　結像光学系６ａ及び６ｂは、マスク５と同様に直入射近傍で最大の反射率を与える波長が１３ｎｍ近傍の軟Ｘ線となるように一層当りの膜厚を調節したＭｏとＳｉを交互に６０層重ねた多層膜を蒸着している反射光学系のものが用いられ、前記照明光学系４ａ及び４ｂと同様に、裏面より冷媒流路を有する反射鏡保持器（図示せず）に固定されており、本実施例では凸面構成（６ａ）及び凹面構成（６ｂ）の組み合わせでマスクパターンの縮小投影ができるようになっている。尚この結像光学系配置空間には上述の排気系９ｂが設けられ、上記差動排気機構１及び薄膜窓２１の構成による雰囲気圧の分離機構の構成も手伝って、１０−８Ｔｏｒｒの真空度に保たれている。
　　　【００４１】
　ウェハ７は、シリコンウェハで構成されるものが用いられ、その結像面側には縮小投影されて進入してくるＳＲ光に感光するＳＡＬ６０１（シップレイ社製）のレジストがスピンコートされている。このウェハ配置空間にも圧力センサ１３ａが設置されていて、Ｈｅガス雰囲気が満たされており、同様に常に１００Ｔｏｒｒの圧力になるように管理されている。また上記レジスト塗布側の面と＃６の差動排気機構１の壁面との間隙は０．５ｍｍである。
　　　【００４２】
　同期走査機構８は、露光領域を広げるために輪帯照明領域に対するマスク５及びウェハ７の高精度な同期走査を行うマスク駆動装置８ａ及びウェハ駆動装置８ｂの他、制御系８ｃを有する装置構成であり、これによりマスク５とウェハ７は同一方向に移動するが、前記結像光学系６ａ及び６ｂによる縮小投影分、マスク５の移動量に対してウェハ７の移動量は小さくなる。即ちマスクとウェハは縮小率に応じた速度比で移動する。
　　　【００４３】
　またウェハ面に到達する露光々の強度はウェハの移動速度に依存する。マスク配置空間およびウェハ配置空間の雰囲気圧力は圧カセンサ１３ａ、１３ｂでモニタされている。雰囲気圧力が変動すると、Ｈｅ雰囲気中の０．５ｍｍの光路長における露光々の減衰率が変化するため、ウェハ面に到達する露光々の強度が変動する。圧カセンサ１３ａ、１３ｂは同期走査制御系８ｃと連係しており、雰囲気圧力の変動に応じてマスク１駆動装置８ａ及びウェハ駆動装置８ｂの移動速度を変化させて、複数枚のウェハ間、一枚のウェハに形成される複数のチップ間におけるウェハ面に到達する露光々の強度が常に同じになるように制御する。さらに同期走査制御系８ｃとビームモニタ１１を連係し、露光々の強度に応じてマスクとウェハの移動速度を変えることもできる。ここでビームモニタ１１の位置はウェハのできるだけ近いものが望ましい。
　　　【００４４】
　上記本実施例構成で、照明光学系４から入射されてきたＳＲ光は、§１１の薄膜窓２１を透過して、＃３〜＃１の差動排気機構１の壁面に夫々設けられた開口部を通り、更に薄膜フィルタ２１を透過して、マスク５のパターン形成面に照射される。そしてマスクパターンに応じてコントラストの異なる状態で反射された上記放射光は、更に同じく＃１〜＃３の差動排気機構１の壁面の開口部を通過し、§１２の薄膜窓２１を透過して前記結像光学系６ａに至る。放射光はその凸反射鏡面で反射され、向かい側の結像光学系６ｂの凹反射鏡面に至り、その間に上記マスクパターンが縮小投影された状態になって該凹反射鏡面から反射される。その後該放射光は、§１３の薄膜窓２１を透過し、＃６〜＃４の差動排気機構１の壁面開口部を通過して、ウェハ７のレジスト塗布面に照射され、前記マスクパターンを結像せしめる。この照射によってウエハ７に到達する露光々は波長１３ｎｍ近傍のＸ線である。また以上の照射の最中に同期走査機構８は、マスク５とウェハ７を上述のように同期走査させて、その露光量域を広げるようにこれらを移動せしめる。
　　　【００４５】
　また上述の差動排気機構１の各空間は、夫々の差動排気により、＃１と＃４が１Ｔｏｒｒ、＃２と＃５が０．０１Ｔｏｒｒ、＃３と＃６が１０−５Ｔｏｒｒの真空度になるよう制御され、それらの作用と前記排気系９ｂによって結像光学系配置空間は前述のように１０−８Ｔｏｒｒの真空度に調整されている。
　　　【００４６】
　本実施例構成による特有な作用効果は、マスク５及びウェハ７の各配置空間がＨｅ雰囲気で満たされ、且つ１００Ｔｏｒｒに制御された状態であるので、これらマスク５及びウェハ７の温度上昇も起こらず、高い露光精度が実現できると共に、同期走査機構８によるマスク５及びウェハ７の同期走査も高精度に実施できる。またマスク配置空間及びウェハ配置空間におけるＨｅ雰囲気圧力１００Ｔｏｒｒで０．５ｍｍ光路長における１３ｎｍの露光々の減衰は２０％未満と少なかった。更に§１１〜§１３の各薄膜窓２１の厚さは、上記＃１〜＃６の差動排気機構１の差動排気により殆ど差圧がかからないので、上述のように１００ｎｍと極めて薄くでき、露光々の減衰が更に小さくでき、結果的に露光強度が大きくなるので、露光スループットが稼げることとなった。加えて結像光学系配置空間の真空度が１０−８Ｔｏｒｒ台に保たれ、且つ＃２と＃３の薄膜窓２１によりマスク配置空間やウェハ配置空間と分離されているので、レジスト等の分解物による該光学系の汚染がない。またビームモニタ１１ａでＳＲ光の位置を確認し、所定の位置にＳＲ光が来るように照明光学系４ｂを調節しているので、ＳＲ光発光点の位置の変動による下流の光学系へのＳＲ光の位置が変わらず、照度の変化はない。薄膜窓２１の前後にビームモニタ１１ｂ、１１ｃ、１１ｄを設け、薄膜窓前後の光強度差の経時変化を調べているので、薄膜窓の汚れや破損を確認でき、薄膜窓の交換時期を正確に知ることができる。薄膜窓２１の前後に窓付きゲートバルブ１０が配置されているので、薄膜窓２１を交換する際、該薄膜窓２１の近傍の空間のみ大気圧にできる。薄膜窓２１を交換する際、ＳＲ光が薄膜窓２１の所定の位置を通過するように薄膜窓２１及び照明光学系４ｂを調節するために、該バルブ１０が閉の状態でＳＲ光の可視光領域を用いて光軸出しを行い、ＳＲ光が薄膜窓２１の所定の位置を通過するように薄膜窓２１及び照明光学系４ｂを調節できる。また圧カセンサ１３ａ、１３ｂを同期走査制御系８ｃと連係して設けることにより、雰囲気圧力の変動に応じてマスク駆動装置８ａ及びウェハ駆動装置８ｂの移動速度を変化させて、ウェハ毎、露光フィールド毎におけるウェハ面に到達する露光々の強度が常に同じになるように制御できる。
　　　【００４７】
　尚、
上記
　　　【００４８】
　　【発明の効果】
　本発明に係る極紫外線縮小投影露光装置によれば、露光精度、露光スループットが向上し、またマスク、試料、薄膜窓の交換に伴う露光作業効率の低下も来すことがなくなることになる。
【図面の簡単な説明】
　　【図１】
　
本発明の前提構成となるＳＲ光縮小投影用の露光装置の概要図である。
　　【図２】
　ＳＲ光縮小投影用の露光装置である本願
第２乃至第３発明
　　【図３】
　従来の極紫外線縮小投影露光装置構成を示す概略図である。
　【符号の説明】
　１　　　　　　差動排気機構
　２、２１　　　薄膜窓
　３　　　　　　チャンバ
　４　　　　　　照明光学系
　５　　　　　　マスク
　６ａ、６ｂ　　結像光学系
　７　　　　　　ウェハ
　８　　　　　　同期走査機構
　９ａ、９ｂ　　排気系
１０　　　　　　窓付きゲートバルブ
１１ａ、１１ｂ　ビームモニタ
１１ｃ、１１ｄ　　　〃
１２　　　　　　連係制御系
１３ａ、１３ｂ　圧カセンサ
２２　　　　　　薄膜フィルタ