【事件の表示】
　特許第２７２１２９７号「磁気ヘッドの製造方法」の請求項１ないし６に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結論】
　訂正を認める。
　特許第２７２１２９７号の請求項１ないし５に係る特許を維持する。
【理由】
Ｉ．手続の経緯
特許出願　　　　　　平成５年９月１４日
特許権設定登録　　　平成９年１１月２１日
特許異議の申立て　　平成１０年９月３日
　特許異議申立人　　矢野　寛
取消理由通知　　　　平成１０年１１月１３日
訂正請求　　　　　　平成１１年２月９日
訂正拒絶理由通知　　平成１１年６月１５日
手続補正書　　　　　平成１１年６月１５日
ＩＩ．訂正の適否についての判断
ア．訂正請求に対する補正の適否について
　特許権者は、訂正請求書の記載を下記のように補正するものであり、当該訂正請求に対する補正は、訂正請求書の要旨を変更するものでなく、特許法第１２０条の４第３項において準用する同法第１３１条第２項の規定に適合する。
　　　　　　　　　　　記
補正の内容
１．全文訂正明細書中の特許請求の範囲の欄の請求項１において、
（ａ）「化学的処理により除去し」とあるのを「化学的処理により除去するものであり」と補正する。
（ｂ）「前記パターニング工程は、前記転写工程の後、前記加工に必要なパターンとなるように、前記感光性レジスト膜を露光し、不要な前記感光性レジスト膜を除去するものであり」とあるのを「前記パターニング工程は、前記転写工程の後、前記空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように、前記感光性レジスト膜を露光し、かつ、不要な前記感光性レジスト膜を除去するものであり」と補正する。
（ｃ）「前記加工工程は、前記パターニング工程によって残された前記感光性レジスト膜の上から」とあるのを、「前記加工工程は、前記パターニング工程によって除去された前記感光性レジスト膜の除去跡を通して」と補正する。
２．全文訂正明細書中の特許請求の範囲の欄の請求項２、３、４及び５において、「前記レジスト膜」とあるのを「前記感光性レジスト膜」と補正する。
３．全文訂正明細書において、
（ａ）段落番号０００２、００１３に「空気ベアリング面」とあるのを、「空気ベアリング面となる被加工面」と補正する。
　段落番号００２２、００２４、００２５、００２６、００３３、００３５、００３７、００３９に「被加工面１０３」とあるのを、「被加工面１００」と補正する。
　段落番号０００７、０００８、００１０〜００１７、００３１に「レジスト膜」とあるのを、「感光性レジスト膜」と補正する。
　段落番号００２２〜００２６、００２８〜００３１、００３３〜００３５、００３７〜００３９に「レジスト膜５２」とあるのを、「感光性レジスト膜５２」と補正する。
（ｂ）段落番号００２４の末尾に「レジスト膜５２を除去する。」とあるのを、「感光性レジスト膜５２を除去する。被加工面１００のうち、感光性レジスト膜５２の下にあって、加工を受けなかった部分（残部）が空気ベアリング面（図１の参照符号１０３）として利用される。」と補正する。
（ｃ）段落番号００３３に「平面度の高い面となっている。」とあるのを「平面度の高い面となっている。被加工面１００は図１の空気ベアリング面（１０３）として用いられる。」と補正する。
（ｄ）段落番号００３５に「化学的または物理的エッチングにより行なう。」とあるのを、「化学的または物理的エッチングにより行なう。被加工面１００のうち、感光性レジスト膜５２の下にあって、第１のステップ部１０４及び第２のステップ部１０５のための加工を受けなかった部分（残部）が、空気ベアリング面（図１の参照符号１０３）として、そのまま用いられる。」と補正する。
（ｅ）段落番号００１０に「前記パターニング工程は、前記転写工程の後、前記加工に必要なパターンとなるように」とあるのを「前記パターニング工程は、前記転写工程の後、前記空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように」と補正する。
（ｆ）段落番号００１０に「前記パターニング工程によって残された前記レジスト膜の上から、前記被加工面に前記加工を施し」とあるのを、「前記パターニング工程によって除去された前記感光性レジスト膜の除去跡を通して、前記被加工面に加工を施し」と補正する。
（ｇ）段落番号００１４に「パターニング工程は、転写工程の後、加工に必要なパターンとなるように、不要なレジスト膜を除去するものであり、加工工程は、パターニング工程によって残されたレジスト膜の上から」とあるのを「パターニング工程は、転写工程の後、空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように、不要な感光性レジスト膜を除去するものであり、加工工程は、パターニング工程によって除去された感光性レジスト膜の除去跡を通して」と補正する。
（ｈ）段落番号００２３に「パターニング工程は、転写工程の後、加工に必要なパターンとなるように」とあるのを、「パターニング工程は、転写工程の後、空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように」と補正する。
（ｉ）段落番号００２４に「加工工程は、パターニング工程によって残されたレジスト膜５２の上から」とあるのを、「加工工程は、パターニング工程によって除去された感光性レジスト膜５２の除去跡を通して」と補正する。
４．図面中の参照符号の補正
（ａ）特許査定時の図２に図示された転写工程におい、て、参照符号１０３を、参照符号１００に補正する。
（ｂ）特許査定時の図３に図示された転写工程において、参照符号１０３を、参照符号１００に補正する。
（ｃ）特許査定時の図４、図５及び図７に図示された参照符号１０３を、参照符号１００に補正する。
５．明細書の図面の簡単な説明の欄における符号の説明の補正
（ａ）本件特許査定時の明細書の図面の簡単な説明の欄における符号の説明に、
「５２　　　　　　　　レジスト膜」とあるのを
「５２　　　　　　　　感光性レジスト膜」と補正する。
（ｂ）本件特許査定時の明細書の図面の簡単　な説明の欄における符号の説明に、「１０３空気ベアリング面または空気ベアリング面として用いられる被加工面）」とあるのを
「１０３　　　空気ベアリング面」と補正する。
（ｃ）本件特許査定時の明細書の図面の簡単な説明の欄における「符号の説明」に「１００　　　空気ベアリング面として用いられる被加工面」なる文を追加する。
６．訂正請求書「第３．訂正の要旨」の（１）〜（３）の欄を次の通り補正する。
　　　　　　　記
第３．訂正の要旨
（１）本件特許査定時の請求項１に「転写工程と、パターニング工程と、加工工程とを含み、磁気変換素子を支持したスライダの空気ベアリング面を加工する磁気ヘッドの製造方法であって、
　前記転写工程は、支持体上に有機質のレジスト膜が形成されたレジストフィルムを前記空気ベアリング面上に重ねて前記レジスト膜を転写し、その後、前記支持体を除去するものあり、
　前記パターニング工程は、前記転写工程の後、前記加工に必要なパターンとなるように、不要な前記レジスト膜を除去するものであり、
　前記加工工程は、前記パターニング工程によって残された前記レジスト膜の上から前記空気ベアリング面に前記加工を施し、その後、前記レジスト膜を除去するものである
磁気ヘッドの製造方法」とあるのを、「転写工程と、パターニング工程と、加工工程とを含み、磁気変換素子を支持したスライダの、空気ベアリング面となる被加工面を加工する磁気ヘッドの製造方法であって、
　前記転写工程は、支持体上に有機質の感光性レジスト膜が形成されたレジストフイルムを前記被加工面に重ねて前記感光性レジスト膜を転写し、その後、前記支持体を除去するものであって、前記支持体は、支持フィルムと、ドライフィルムレジスト膜とを含み、前記ドライフィルムレジスト膜は前記支持フィルム上に積層され、前記感光性レジスト膜は前記ドライフィルムレジスト膜の上に積層され、前記支持体を除去するに当たり、前記支持フィルムを前記ドライフィルムレジスト膜から剥離した後、前記ドライフィルムレジスト膜を化学的処理により除去するものであり、
　前記パターニング工程は、前記転写工程の後、前記空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように、前記感光性レジスト膜を露光し、かつ、不要な前記感光性レジスト膜を除去するものであり、
　前記加工工程は、前記パターニング工程によって除去された前記感光性レジスト膜の除去跡を通して、前記被加工面に加工を施し、その後、前記感光性レジスト膜を除去するものである
磁気ヘッドの製造方法」
と訂正する。
（２）本件特許査定時の請求項４を削除し、本件特許査定時の請求項５を請求項４とする。この場合において本件特許査定時の請求項５に
「前記ドライフィルムレジスト膜は、ネガ型のレジストでなり、前記レジスト膜は、ポジ型のレジストでなる請求項４に記載の磁気ヘッドの製造方法」とあるのを
「前記ドライフィルムレジスト膜は、ネガ型のレジストでなり、前記感光性レジスト膜は、ポジ型のレジストでなる請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法。」
と訂正する。
（３）本件特許査定時の請求項６を請求項５とする。この場合において、本件特許査定時の請求項６に「前記レジストフィルムは、前記ドライフィルムレジスト膜及び前記レジスト膜がスピンコートにより形成されたものである請求項４または５に記載の磁気ヘッド製造方法」
とあるのを
「前記レジストフィルムは、前記ドライフィルムレジスト膜及び前記感光性レジスト膜がスピンコートにより形成されたものである請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法」と訂正する。
７．訂正請求書「第３．訂正の要旨」の（４）の欄を次の通り補正する。
　　　　　　　　　記
（４）本件特許査定時の明細書の記載において、
（ａ）段落番号０００１、０００２、０００４、０００７、０００８、０００９、００１３、００１４、００１６、００１７、００３１、００４１に「空気ベアリング面」とあるのを、「空気ベアリング面となる被加工面」と訂正する。
　段落番号００２２に「空気ベアリング面１０３」とあるのを、「空気ベアリング面となる被加工面１００」と訂正する。
　段落番号００２４、００２５、００２６、００３３、００３５、００３７、００３９に「空気ベアリン面１０３」とあるのを、「被加工面１００」と訂正する。
　段落番号０００７、０００８、００１０〜００１７、００３１に「レジスト膜」とあるのを、「感光性レジスト膜」と訂正する。
　段落番号００２２〜００２６、００２８〜００３１、００３３〜００３５、００３７〜００３９に「レジスト膜５２」とあるのを、「感光性レジスト膜５２」と訂正する。
（ｂ）段落番号００２４の末尾に「レジスト膜５２を除去する。」とあるのを、「感光性レジスト膜５２を除去する。被加工面１００のうち、感光性レジスト膜５２の下にあって、加工を受けなかった部分（残部）が空気ベアリング面（図１の参照符号１０３）として利用される。」
と訂正する。
（ｃ）段落番号００３３に「平面度の高い面となっている。」とあるのを「平面度の高い面となっている。被加工面１００は図１の空気ベアリング面（１０３）として用いられる。」と訂正する。
（ｄ）段落番号００３５に「化学的または物理的エッチングにより行なう。」とあるのを「化学的または物理的エッチングにより行なう。被加工面１００のうち、感光性レジスト膜５２の下にあって、第１のステップ部１０４及び第２のステップ部１０５のための加工を受けなかった部分（残部）が、空気ベアリング面（図１の参照符号１０３）として、そのまま用いられる。」
と訂正する。
（ｅ）段落番号００１０に「スライダの空気ベアリング面を加工するものであって」とあるのを「スライダの空気ベアリング面となる被加工面を加工するものであって」と訂正する。
（ｆ）段落番号００１０に「前記パターニング工程は、前記転写工程の後、前記加工に必要なパターンとなるように」とあるのを　「前記パターニング工程は、前記転写工程の後、前記空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように」と訂正する。
（ｇ）段落番号００１０に「前記パターニング工程によって残された前記レジスト膜の上から、前記空気ベアリング面に前記加工を施し」とあるのを、「前記パターニング工程によって除去された前記感光性レジスト膜の除去跡を通して、前記被加工面に加工を施し」と訂正する。
（ｈ）段落番号００１４に「パターニング工程は、転写工程の後、加工に必要なパターンとなるように、不要なレジスト膜を除去するものであり、加工工程は、パターニング工程によって残されたレジスト膜の上から」とあるのを「パターニング工程は、転写工程の後、空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように、不要な感光性レジスト膜を除去するものであり、加工工程は、パターニング工程によって除去された感光性レジスト膜の除去跡を通して」と訂正する。
（ｉ）段落番号００２３に「パターニング工程は、転写工程の後、加工に必要なパターンとなるように」とあるのを、「パターニング工程は、転写工程の後、空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように」と訂正する。
（ｊ）段落番号００２４に「加工工程は、パターニング工程によって残されたレジスト膜５２の上から」とあるのを、「加工工程は、パターニング工程によって除去された感光性レジスト膜５２の除去跡を通して」と訂正する。
８．訂正請求書「第３．訂正の要旨」に（５）〜（８）の欄を追加する。
　　　　　　　　　記
（５）本件特許査定時の請求項２において「前記レジスト膜は、ポジ型のレジストでなる請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法」とあるのを、「前記感光性レジスト膜は、ポジ型のレジストでなる請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法」と訂正する。
（６）本件特許査定時の請求項３に「前記レジストフィルムは、前記レジスト膜がスピンコートにより形成されたものである請求項１または２に記載の磁気ヘッド製造方法」とあるのを、「前記レジストフィルムは、前記感光性レジスト膜がスピンコートにより形成されたものである請求項１または２に記載の磁気ヘッドの製造方法」と訂正する。
（７）図面中の参照符号の訂正
（ａ）特許査定時の図２に図示された転写工程において、参照符号１０３を、参照符号１００に訂正する。
（ｂ）特許査定時の図３に図示された転写工程において、参照符号１０３を、参照符号１００に訂正する。
（ｃ）特許査定時の図４、図５及び図７に図示された参照符号１０３を、参照符号１００に訂正する。
（８）明細書の図面の簡単な説明の欄における符号の説明の訂正
（ａ）本件特許査定時の明細書の図面の簡単な説明の欄における符号の説明に、「５２レジスト膜」とあるのを「５２感光性レジスト膜」と訂正する。
（ｂ）本件特許査定時の明細書の図面の簡単な説明の欄における符号の説明に、「１０３空気ベアリング面（または空気ベアリング面として用いられる被加工面）」とあるのを
「１０３　　　　　　空気ベアリング面」と訂正する。
（ｃ）本件特許査定時の明細書の図面の簡単な説明の欄における「符号の説明」に「１００　　　　　空気ベアリング面として用いられる被加工面」なる文を追加する。
９．訂正請求書「第４．請求の原因」の（一）、（１）の欄の（ｄ）の項を補正すると共に、（ｅ）の項を追加する。
　　　　　　　　記
（ｄ）「前記空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように、前記感光性レジスト膜を露光し、かつ、不要な前記感光性レジスト膜を除去するものであり」と訂正する点は、本件特許査定時の「前記加工に必要なパターンとなるように、不要な前記レジスト膜を除去するものであり」という記載を、更に明確化するものであり、特許請求の範囲の減縮、または、明瞭でない記載の釈明に該当する。
（ｅ）「前記加工工程は、前記パターニング工程によって除去された前記感光性レジスト膜の除去跡を通して、前記被加工面に加工を施し」と訂正する点は、加工工程のプロセスを、図面等で表示されたプロセスに従って、明確化するものであるから、特許請求の範囲の減縮、または、明瞭でない記載の釈明に該当する。
１０．訂正請求書「第４．請求の原因」の（一）、（２）及び（３）の欄を次の通り補正する。
　　　　　　　　　記
（２）本件特許査定時の請求項４を削除し、本件特許査定時の請求項５を請求項４とし、本件特許査定時の請求項５に「請求項４に記載の磁気ヘッドの製造方法」とあるのを「請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法」と訂正する点は、本件特許査定時の請求項４を請求項１の内容としたことにより、当然なさなければならない訂正であるから、特許法第１２０条の４第２項の規定には違反しない。
　また、本件特許査定時の請求項５に「前記レジスト膜」とあるのを「前記感光性レジスト膜」と訂正する点は、明細書の記載から、感光性であることが明らかなレジスト膜を「感光性レジスト膜」と記載して明確化するものであるから、特許請求の範囲の減縮、または、明瞭でない記載の釈明に該当する。
（３）本件特許査定時の請求項６を請求項５とし、本件特許査定時の請求項６に「請求項４または５に記載の磁気ヘッド製造方法」とあるのを「請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法」と訂正する点は、本件特許査定時の請求項４を請求項１の内容としたことにより、当然なさなければならない訂正であるから、特許法第１２０条の４第２項の規定には違反しない。
　本件特許査定時の請求項６に「前記レジスト膜」とあるのを「前記感光性レジスト膜」と訂正する点は、明細書の記載から、
　感光性であることが明らかなレジスト膜を「感光性レジスト膜」と記載して明確化するものであるから、特許請求の範囲の減縮、または、明瞭でない記載の釈明に該当する。
１１．訂正請求書「第４．請求の原因」の（一）、（４）の欄を次の通り補正する。
　　　　　　　　　記
（４）本件特許査定時の明細書の記載において、
（ａ）段落番号０００１、０００２、０００４、０００７、０００８、０００９、００１３、００１４、００１６、００１７、００３１、００４１に「空気ベアリング面」とあるのを、「空気ベアリング面となる被加工面」と訂正する点、
　段落番号００２２に「空気ベアリング面１０３」とあるのを、「空気ベアリング面となる被加工面１００」と訂正する点、及び、
　段落番号００２４、００２５、００２６、００３３、００３５、００３７、００３９に「空気ベアリング面１０３」とあるのを、「被加工面１００」と訂正する点は、本件特許査定時の明細書において、被加工面と、その結果得られる空気ベアリング面とを、空気ベアリング面と表現したために起こった混乱を回避するものであるから、明瞭でない記載の釈明に該当する。
（ｂ）段落番号０００７、０００８、００１０〜００１７、００３１に「レジスト膜」とあるのを、「感光性レジスト膜」と訂正する点、及び、
　段落番号００２２〜００２６、００２８〜００３１、００３３〜００３５、００３７〜００３９に「レジスト膜５２」とあるのを、「感光性レジスト膜５２」と訂正する点は、
明細書の記載から、感光性であることが明らかなレジスト膜を「感光性レジスト膜」と記載して明確化するものであるから、特許請求の範囲の減縮、または、明瞭でない記載の釈明に該当する。
（ｃ）段落番号００２４の末尾に「レジスト膜５２を除去する。」とあるのを、
「感光性レジスト膜５２を除去する。被加工面１００のうち、感光性レジスト膜５２の下にあって、加工を受けなかった部分（残部）が空気ベアリング面（図１の参照符号１０３）として利用される。」と訂正する点は、本件特許査定時の明細書において、被加工面と、その結果得られる空気ベアリング面とを、空気ベアリング面と表現したために起こった混乱を回避するものであるから、明瞭でない記載の釈明に該当する。
（ｄ）段落番号００３３に「平面度の高い面となっている。」とあるのを「平面度の高い面となっている。被加工面１００は図１の空気ベアリング面（１０３）として用いられる。」と訂正する点は、本件特許査定時の明細書において、被加工面と、その結果得られる空気ベアリング面とを、空気ベアリング面と表現したために起こった混乱を回避するものであるから、明瞭でない記載の釈明に該当する。
（ｅ）段落番号００３５に「化学的または物理的エッチングにより行なう。」とあるのを、「化学的または物理的エッチングにより行なう。被加工面１００のうち、感光性レジスト膜５２の下にあって、第１のステップ部１０４及び第２のステップ部１０５のための加工を受けなかった部分（残部）が、空気ベアリング面（図１の参照符号１０３）として、そのまま用いられる。」と訂正する点は、本件特許査定時の明細書において、被加工面と、その結果得られる空気ベアリング面とを、空気ベアリング面と表現したために起こった混乱を回避するものであるから、明瞭でない記載の釈明に該当する。
（ｆ）段落番号００１０に「スライダの空気ベアリング面を加工するものであって」とあるのを「スライダの空気ベアリング面となる被加工面を加工するものであって」と訂正する点は、本件特許査定時の明細書において、被加工面と、その結果得られる空気ベアリング面とを、空気ベアリング面と表現したために起こった混乱を回避するものであるから、明瞭でない記載の釈明に該当する。
（ｇ）段落番号００１０に「前記パターニング工程は、前記転写工程の後、前記加工に必要なパターンとなるように」とあるのを「前記パターニング工程は、前記転写工程の後、前記空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように」と訂正する点は、明瞭でない記載の釈明に該当する。
（ｈ）段落番号００１０に「前記パターニング工程によって残された前記レジスト膜の上から、前記空気ベアリング面に前記加工を施し」とあるのを、「前記パターニング工程によって除去された前記感光性レジスト膜の除去跡を通して、前記被加工面に加工を施し」と訂正する点は、明瞭でない記載の釈明に該当する。
（ｉ）段落番号００１４に「パターニング工程は、転写工程の後、加工に必要なパターンとなるように、不要なレジスト膜を除去するものであり、加工工程は、パターニング工程によって残されたレジスト膜の上から」とあるのを「パターニング工程は、転写工程の後、空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように、不要な感光性レジスト膜を除去するものであり、加工工程は、パターニング工程によって除去された感光性レジスト膜の除去跡を通して」と訂正する点は、明瞭でない記載の釈明に該当する。
（ｊ）段落番号００２３に「パターニング工程は、転写工程の後、加工に必要なパターンとなるように」とあるのを、「パターニング工程は、転写工程の後、空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように」と訂正する点は、明瞭でない記載の釈明に該当する。
（ｋ）段落番号００２４に「加工工程は、パターニング工程によって残されたレジスト膜５２の上から」とあるのを、「加工工程は、パターニング工程によって除去された感光性レジスト膜５２の除去跡を通して」と訂正する点は、明瞭でない記載の釈明に該当する。
１２．訂正請求書「第４．請求の原因」の（一）に、次の（５）〜（８）の欄を追加する。
　　　　　　　　　　記
（５）本件特許査定時の請求項２において「前記レジスト膜は、ポジ型のレジストでなる請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法」とあるのを、「前記感光性レジスト膜は、ポジ型のレジストでなる請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法」と訂正する点は、本件特許明細書の記載から、感光性であることが明らかなレジスト膜を「感光性レジスト膜」と明確化するものであるから、特許請求の範囲の減縮、または、明瞭でない記載の釈明に該当する。
（６）本件特許査定時の請求項３に「前記レジストフィルムは、前記レジスト膜がスピンコートにより形成されたものである請求項１または２に記載の磁気ヘッド製造方法」とあるのを、「前記レジストフィルムは、前記感光性レジスト膜がスピンコートにより形成されたものである請求項１または２に記載の磁気ヘッドの製造方法」と訂正する点は、明細書の記載から、感光性であることが明らかなレジスト膜を「感光性レジスト膜」と記載して明確化するものであるから、特許請求の範囲の減縮、または、明瞭でない記載の釈明に該当する。
（７）図面中の参照符号の訂正特許査定時の図２に図示された転写工程において、参照符号１０３を、参照符号１００に訂正する点、特許査定時の図３に図示された転写工程において、参照符号１０３を、参照符号１００に訂正する点、及び、特許査定時の図４、図５及び図７に図示された参照符号１０３を参照符号１００に訂正する点は、明瞭でない記載の釈明に該当する。
（８）明細書の図面の簡単な説明の欄における符号の説明の訂正
（ａ）本件特許査定時の明細書の図面の簡単な説明の欄における符号の説明に、「５２　　　　　　　レジスト膜」とあるのを、
「５２　　　　　　　感光性レジスト膜」と訂正する点は、明瞭でない記載の釈明に該当する。
（ｂ）本件特許査定時の明細書の図面の簡単な説明の欄における符号の説明に、
「１０３　　　　　　空気ベアリング面（または空気ベアリング面として用いられる被加工面）」とある
のを
「１０３　　　　　　空気ベアリング面」と訂正する点は、明瞭でない記載の釈明に該当する。
（ｃ）本件特許査定時の明細書の図面の簡単な説明の欄における「符号の説明」に「１００　　　　　　空気ベアリング面として用いられる被加工面」なる文を追加する点は、明瞭でない記載の釈明に該当する。
１３．訂正請求書「第４．請求の原因］の（二）、（１）の欄に（ｄ）及び（ｅ）の項を追加する。
　　　　　　　　　　記
（ｄ）「前記空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように、前記感光性レジスト膜を露光し、かつ、不要な前記感光性レジスト膜を除去するものであり」と訂正する点については、原明細書段落００３４「次に、パターニング工程を説明する。露光用マスク７は、加工に必要なパターンを有し、．．．レジスト膜５２を露光させる。具体的には、ポール部Ｐ１、Ｐ２部分（図１参照）に対応する部分が露光しないように遮断され、第１のステップ部１０４及び第２のステップ部１０５（図１参照）に対応する部分が露光するように貫通している。．．．ＴＰＣ型スライダ１の第１のステップ部１０４及び第２のステップ部１０５によって挟まれた部分のみにレジスト膜５２が残る。このようにして、レジスト膜５２は、ＴＰＣ型スライダ１の第１のステップ部１０４及び第２のステップ部１０５の加工に必要なパターンとなるようにパターニングされる。」と記載されている。
第１及び第２のステップ部１０４、１０５を除いた部分が空気ベアリング面となることは、例えば、図１の表示から明らかであるから、「前記空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように、不要な前記レジスト膜を除去する」点が原明細書に記載されていたことは明らかである。
（ｅ）［前記加工工程は、前記パターニング工程によって除去された前記感光性レジスト膜の除去跡を通し、前記被加工面に加工を施し」と訂正する点は、段落００３５「次に、加工工程を説明する。図８に示すように、パターニング工程によって残されたレジスト膜５２の上から、スライダ１の空気ベアリング面１０３に加工を施す。この加工は、イオンミリング等の手段によって、第１のステップ部１０４及び第２のステップ部１０５　　を必要な深さとなるように加工する。」の記載によって裏づけられている。
１４．訂正請求書「第４．請求の原因」の（二）に、次の（２）の欄を追加する。
　　　　　　　　　記
（２）本件特許査定時の明細書の記載において、
（ａ）段落番号０００１、０００２、０００４、０００７、０００８、０００９、００１３、００１４、００１６、００１７、００３１、００４１に「空気ベアリング面」とあるのを、「空気ベアリング面となる被加工面」と訂正する点、
段落番号００２２に「空気ベアリング面１０３」とあるのを、「空気ベアリング面となる被加工面１００」と訂正する点、及び、段落番号００２４、００２５、００２６、００３３、００３５、００３７、００３９に「空気ベアリング面１０３」とあるのを、「被加工面１００」と訂正する点
は、図２〜図９の図示及び対応する原明細書の記載において、参照符号１０３で表示され、かつ、空気ベアリング面と称されていた面が被加工面となること、加工後に残った部分が、図１に図示された空気ベアリング面１０３となることが明らかであること、及び、参照符号１０３を参照符号１００に変更する点は、内容変更を伴わない単なる符号変更に該当することから、原明細書及び図面の記載範囲内である。
（ｂ）段落番号０００７、０００８、００１０〜００１７、００３１に「レジスト膜］とあるのを、「感光性レジスト膜」と訂正する点、及び、
　段落番号００２２〜００２６、００２８〜００３１、００３３〜００３５、００３７〜００３９に「レジスト膜５２」とあるのを、「感光性レジスト膜５２」と訂正する点は、原明細書段落番号００２２「レジスト膜５２は、一般には感光性レジストが用いられ、ネガ型、ポジ型の何れの感光性レジストを使用してもよい。実施例は、ポジ型の感光性レジストを採用している。ポジ型の感光性レジストとしては、例えば、商品名ＰＦＲ３００４（日本合成ゴム社製）等がある。」と記載されているから、原明細書の記載範囲内である。
（ｃ）段落番号００２４の末尾に「レジスト膜５２を除去する。」とあるのを、「感光性レジスト膜５２を除去する。被加工面１００のうち、感光性レジスト膜５２の下にあって、加工を受けなかった部分（残部）が空気ベアリング面（図１の参照符号１０３）として利用される。」と訂正する点は、図２〜図９の図示及び対応する原明細書の記載から、参照符号１０３で表示され、かつ、空気ベアリング面と称されていた面が被加工面となること、及び、加工後に残った部分が、図１に図示された空気ベアリング面１０３となることが自明であるから、原明細書及び図面の記載範囲内である。
（ｄ）段落番号００３３に「平面度の高い面となっている。」とあるのを「平面度の高い面となっている。被加工面１００は図１の空気ベアリング面（１０３）として用いられる。」と訂正する点は、図２〜図９の図示及び対応する原明細書の記載から、参照符号１０３で表示され、かつ、空気ベアリング面と称されていた面が被加工面となること、及び、加工後に残った部分が、図１に図示された空気ベアリング面１０３となることが自明であるから、原明細書及び図面の記載範囲内である。
（ｅ）段落番号００３５に「化学的または物理的エッチングにより行なう。」とあるのを「化学的または物理的エッチングにより行なう。被加工面１００のうち、レジスト膜５２の下にあって、第１のステップ部１０４及び第２のステップ部１０５のための加工を受けなかった部分（残部）が、空気ベアリング面（図１の参照符号１０３）として、そのまま用いられる。」と訂正する点は、図２〜図９の図示及び対応する原明細書の記載から、参照符号１０３で表示され、かつ、空気ベアリング面と称されていた面が被加工面となること、及び、加工後に残った部分が、図１に図示された空気ベアリング面１０３となることが自明であるから、原明細書及び図面の記載範囲内である。
（ｆ）段落番号００１０に「スライダの空気ベアリング面を加工するものであって」とあるのを「スライダの空気ベアリング面となる被加工面を加工するものであって」と訂正する点に関しては、本件特許査定時の明細書において、空気ベアリング面と称されていた部分が、被加工面となることは、上記（ｅ）に述べたように、明細書に記載があるから、原明細書及び図面の記載範囲内である。
（ｇ）段落番号００１０に「前記パターニング工程は、前記転写工程の後、前記加工に必要なパターンとなるように」とあるのを「前記パターニング工程は、前記転写工程の後、前記空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように」と訂正する点に関しては、それが、原明細書及び図面の記載範囲内であることは、本件特許査定時の明細書段落００２３の記載、及び、図２の表示から自明であるから、原明細書及び図面の記載範囲内である。
（ｈ）段落番号００１０に「前記パターニング工程によって残された前記レジスト膜の上から、前記空気ベアリング面に前記加工を施し」とあるのを、「前記パターニング工程によって除去された前記感光性レジスト膜の除去跡を通して、前記被加工面に加工を施し」と訂正する点に関しては、それが、原明細書及び図面の記載範囲内であることは、本件特許査定時の明細書段落００２４の記載、及び、図２の表示から自明であるから、原明細書及び図面の記載範囲内である。
（ｉ）段落番号００１４に「パターニング工程は、転写工程の後、加工に必要なパターンとなるように、不要なレジスト膜を除去するものであり、加工工程は、パターニング工程によって残されたレジスト膜の上から」とあるのを「パターニング工程は、転写工程の後、空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように、不要な感光性レジスト膜を除去するものであり、加工工程は、パターニング工程によって除去された感光性レジスト膜の除去跡を通して」と訂正する点に関しては、本件特許査定時の図２の表示、明細書段落番号００２３に記載されたパターンニング工程、及び、段落番号００２４に記載された加工工程の説明から自明な訂正であるから、原明細書及び図面の記載範囲内である。
（ｊ）段落番号００２３に「パターニング工程は、転写工程の後、加工に必要なパターンとなるように」とあるのを、「パターニング工程は、転写工程の後、空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように」と訂正する点に関しては、本件特許査定時の図２の表示、及び、明細書段落番号００２３の記載から自明な訂正であるから、原明細書及び図面の記載範囲内である。
（ｋ）段落番号００２４に「加工工程は、パターニング工程によって残されたレジスト膜５２の上から」とあるのを、「加工工程は、パターニング工程によって除去された感光性レジスト膜５２の除去跡を通して」と訂正する点に関しては、本件特許査定時の図２の表示、及び、明細書段落００２４の記載から自明な訂正であるから、原明細書及び図面の記載範囲内である。
１５．訂正請求書「第４．請求の原因」の（二）、（３）の欄を次の通り補正する。
　　　　　　　　　　記
（３）本件特許査定時の請求項２において「前記レジスト膜は、ポジ型のレジストでなる請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法」とあるのを、「前記感光性レジスト膜は、ポジ型のレジストでなる請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法」と訂正する点に関しては、レジスト膜が感光性であることは明細書に明記されているから、原明細書及び図面の記載範囲内である。
１６．訂正請求書「第４．請求の原因」の（二）に、次の（４）〜（６）の欄を追加する。
　　　　　　　　　　記
（４）本件特許査定時の請求項３に「前記レジストフィルムは、前記レジスト膜がスピンコートにより形成されたものである請求項１または２に記載の磁気ヘッド製造方法」とあるのを、「前記レジストフィルムは、前記感光性レジスト膜がスピンコートにより形成されたものである請求項１または２に記載の磁気ヘッドの製造方法」と訂正する点に関しては、レジスト膜が感光性であることは明細書に明記されているから、原明細書及び図面の記載範囲内である。
（５）図面中の参照符号の訂正
特許査定時の図２に図示された転写工程において、参照符号１０３を、参照符号１００に訂正する点、特許査定時の図３に図示された転写工程において、参照符号１０３を、参照符号１００に訂正する点、及び、特許査定時の図４、図５及び図７に図示された参照符号１０３を参照符号１００に訂正する点は、単なる参照符号の訂正であるから、原明細書及び図面の記載範囲内である。
（６）明細書の図面の簡単な説明の欄における符号の説明の訂正
（ａ）本件特許査定時の明細書の図面の簡単な説明の欄における［符号の説明］に、「５２　　　　　　　レジスト膜」とあるのを、
「５２　　　　　　感光性レジスト膜」と訂正する点は、明細書の記載から感光性レジスト膜であることが明らかな「レジスト膜」を「感光性レジスト膜」と、単に変更するものであるから、原明細書及び図面の記載範囲内である。
（ｂ）本件特許査定時の明細書の図面の簡単な説明の欄における［符号の説明］に、「１０３　　　　　　空気ベアリング面（または空気ベアリング面として用いられる被加工面）」とあるのを
「１０３　　　　　　空気ベアリング面」と訂正する点は、「空気ベアリング面」について、出願当初の明細書及び図面で用いられていた参照符号１０３を割り当てるものであるから、原明細書及び図面の記載範囲内である。
（ｃ）本件特許査定時の明細書の図面の簡単な説明の欄における「符号の説明」に「１００　　　　　　空気ベアリング面として用いられる被加工面」なる文を追加する点は、空気ベアリング面として用いられる被加工面に対する、単なる参照符号の付加であるから、原明細書及び図面の記載範囲内である。
イ．訂正の内容
　　特許権者は、上記手続補正によって補正された訂正請求によって、以下の訂正を行った。
（１）本件特許査定時の請求項１に「転写工程と、パターニング工程と、加工工程とを含み、磁気変換素子を支持したスライダの空気ベアリング面を加工する磁気ヘッドの製造方法であって、
前記転写工程は、支持体上に有機質のレジスト膜が形成されたレジストフィルムを前記空気ベアリング面上に重ねて前記レジスト膜を転写し、その後、前記支持体を除去するものあり、
　前記パターニング工程は、前記転写工程の後、前記加工に必要なパターンとなるように、不要な前記レジスト膜を除去するものであり、
　前記加工工程は、前記パターニング工程によって残された前記レジスト膜の上から前記空気ベアリング面に前記加工を施し、その後、前記レジスト膜を除去するものである磁気ヘッドの製造方法」とあるのを、
「転写工程と、パターニング工程と、加工工程とを含み、磁気変換素子を支持したスライダの、空気ベアリング面となる被加工面を加工する磁気ヘッドの製造方法であって、
　前記転写工程は、支持体上に有機質の感光性レジスト膜が形成されたレジストフィルムを前記被加工面上に重ねて前記感光性レジスト膜を転写し、その後、前記支持体を除去するものであって、前記支持体は、支持フィルムと、ドライフィルムレジスト膜とを含み、前記ドライフィルムレジスト膜は前記支持フィルム上に積層され、前記感光性レジスト膜は前記ドライフィルムレジスト膜の上に積層され、前記支持体を除去するに当たり、前記支持フイルムを前記ドライフィルムレジスト膜から剥離した後、前記ドライフィルムレジスト膜を化学的処理により除去するものであり、
　前記パターニング工程は、前記転写工程の後、前記空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように、前記感光性レジスト膜を露光し、かつ、不要な前記感光性レジスト膜を除去するものであり、
　前記加工工程は、前記パターニング工程によって除去された前記感光性レジスト膜の除去跡を通して、前記被加工面に加工を施し、その後、前記感光性レジスト膜を除去するものである
磁気ヘッドの製造方法」
と訂正する。
（２）本件特許査定時の請求項４を削除し、本件特許査定時の請求項５を請求項４とする。この場合において、本件特許査定時の請求項５に「前記ドライフィルムレジスト膜は、ネガ型のレジストでなり、前記レジスト膜は、ポジ型のレジストでなる請求項４に記載の磁気ヘッドの製造方法」とあるのを「前記ドライフィルムレジスト膜は、ネガ型のレジストでなり、前記感光性レジスト膜は、ポジ型のレジストでなる請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法。」
と訂正する。
（３）本件特許査定時の請求項６を請求項５とする。この場合において、本件特許査定時の請求項６に「前記レジストフィルムは、前記ドライフィルムレジスト膜及び前記レジスト膜がスピンコートにより形成されたものである請求項４または５に記載の磁気ヘッド製造方法」とあるのを「前記レジストフィルムは、前記ドライフィルムレジスト膜及び前記感光性レジスト膜がスピンコートにより形成されたものである請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法」と訂正する。
（４）本件特許査定時の明細書の記載において、
（ａ）段落番号０００１、０００２、０００４、０００７、０００８、０００９、００１３、００１４、００１６、００１７、００３１、００４１に「空気ベアリング面」とあるのを、「空気ベアリング面となる被加工面」と訂正する。
　段落番号００２２に「空気ベアリング面１０３」とあるのを、「空気ベアリング面となる被加工面１００」と訂正する。
　段落番号００２４、００２５、００２６、００３３、００３５、００３７、００３９に「空気ベアリング面１０３」とあるのを、「被加工面１００」と訂正する。
段落番号０００７、０００８、００１０〜００１７、００３１に「レジスト膜」とあるのを、「感光性レジスト膜」と訂正する。
　段落番号００２２〜００２６、００２８〜００３１、００３３〜００３５、００３７〜００３９に「レジスト膜５２」とあるのを、「感光性レジスト膜５２」と訂正する。
（ｂ）段落番号００２４の末尾に「レジスト膜５２を除去する。」とあるのを、「感光性レジスト膜５２を除去する。被加工面１００のうち、感光性レジスト膜５２の下にあって、加工を受けなかった部分（残部）が空気ベアリング面（図１の参照符号１０３）として利用される。」
と訂正する。
（ｃ）段落番号００３３に「平面度の高い面となっている。」とあるのを「平面度の高い面となっている。被加工面１００は図１の空気ベアリング面（１０３）として用いられる。」
と訂正する。
（ｄ）段落番号００３５に「化学的または物理的エッチングにより行なう。」とあるのを
「化学的または物理的エッチングにより行なう。被加工面１００のうち、感光性レジスト膜５２の下にあって、第１のステップ部１０４及び第２のステップ部１０５のための加工を受けなかった部分（残部）が、空気ベアリング面（図１の参照符号１０３）として、そのまま用いられる。」
と訂正する。
（ｅ）段落番号００１０に「スライダの空気ベアリング面を加工するものであって」とあるのを「スライダの空気ベアリング面となる被加工面を加工するものであって」と訂正する。
（ｆ）段落番号００１０に「前記パターニング工程は、前記転写工程の後、前記加工に必要なパターンとなる　ように」とあるのを「前記パターニング工程は、前記転写工程の後、前記空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように」と訂正する。
（ｇ）段落番号００１０に「前記パターニング工程によって残された前記レジスト膜の上から、前記空気ベアリング面に前記加工を施し」とあるのを、「前記パターニング工程によって除去された前記感光性レジスト膜の除去跡を通して、前記被加工面に加工を施し」と訂正する。
（ｈ）段落番号００１４に「パターニング工程は、転写工程の後、加工に必要なパターンとなるように、不要なレジスト膜を除去するものであり、加工工程は、パターニング工程によって残されたレジスト膜の上から」とあるのを「パターニング工程は、転写工程の後、空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように、不要な感光性レジスト膜を除去するものであり、加工工程は、パターニング工程によって除去された感光性レジスト膜の除去跡を通して」と訂正する。
（ｉ）段落番号００２３に「パターニング工程は、転写工程の後、加工に必要なパターンとなるように」とあるのを、「パターニング工程は、転写工程の後、空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように」と訂正する。
（ｊ）段落番号００２４に「加工工程は、パターニング工程によって残されたレジスト膜５２の上から」とあるのを、「加工工程は、パターニング工程によって除去された感光性レジスト膜５２の除去跡を通して」と訂正する。
（５）本件特許査定時の請求項２において「前記レジスト膜は、ポジ型のレジストでなる請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法」とあるのを、
「前記感光性レジスト膜は、ポジ型のレジストでなる請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法」と訂正する。
（６）本件特許査定時の請求項３に
「前記レジストフィルムは、前記レジスト膜がスピンコートにより形成されたものである請求項１または２に記載の磁気ヘッド製造方法」とあるのを、
「前記レジストフィルムは、前記感光性レジスト膜がスピンコートにより形成されたものである請求項１または２に記載の磁気ヘッドの製造方法」と訂正する。
（７）図面中の参照符号の訂正
（ａ）特許査定時の図２に図示された転写工程において、参照符号１０３を、参照符号１００に訂正する。
（ｂ）特許査定時の図３に図示された転写工程において、参照符号１０３を、参照符号１００に訂正する。
（ｃ）特許査定時の図４、図５及び図７に図示された参照符号１０３を、参照符号１００に訂正する。
（８）明細書の図面の簡単な説明の欄における符号の説明の訂正
（ａ）本件特許査定時の明細書の図面の簡単な説明の欄における符号の説明に、「５２レジスト膜」とあるのを「５２　　　　　　　感光性レジスト膜」と訂正する。
（ｂ）本件特許査定時の明細書の図面の簡単な説明の欄における「符号の説明」に「１００　　　　　　空気　ベアリング面として用いられる被加工面」なる文を追加する。
ウ．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　　上記訂正事項（１）〜（３）は、「空気ベアリング面」と「空気ベアリング面となる被加工面」を明確にするとともに、「支持体」及び「レジスト膜」をより一層限定し、さらに、この限定に伴って一部の特許請求の範囲の項の統合を行うもので、この訂正は、特許請求の範囲の減縮及び不めいりょうな記載の釈明を目的とするものに当たる。また訂正事項（４）〜（７）は、上記「空気ベアリング面」と「空気ベアリング面となる被加工面」を明確にするための図番の付け替え及び整理、「支持体」「レジスト膜」の限定に伴い関連記載を特許請求の範囲と一致させるための訂正であって、不めいりょうな記載の釈明を目的とするものに当たる。
　そして、これら訂正はいずれも、出願当初の願書に添付した明細書の記載若しくは記載から自明の事項に基づいていることから、新規事項の追加に該当せず、実質上特許請求の範囲を拡張・変更するものでもない。
エ．独立特許要件
い．訂正明細書の請求項１乃至５に係る発明
　上記訂正請求と同時に提出された訂正明細書の請求項１乃至５に係る発明は、その請求項１乃至５に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
　【請求項１】転写工程と、パターニング工程と、加工工程とを含み、磁気変換素子を支持したスライダの、空気ベアリング面となる被加工面を加工する磁気ヘッドの製造方法であって、
　前記転写工程は、支持体上に有機質の感光性レジスト膜が形成されたレジストフィルムを前記被加工面上に重ねて前記感光性レジスト膜を転写し、その後、前記支持体を除去するものであって、前記支持体は、支持フイルムと、ドライフィルムレジスト膜とを含み、前記ドライフィルムレジスト膜は前記支持フィルム上に積層され、前記感光性レジスト膜は前記ドライフィルムレジスト膜の上に積層され、前記支持体を除去するに当たり、前記支持フィルムを前記ドライフィルムレジスト膜から剥離した後、前記ドラィフイルムレジスト膜を化学的処理により除去するものであり、
　前記パターニング工程は、前記転写工程の後、前記空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように、前記感光性レジスト膜を露光し、かつ、不要な前記感光性レジスト膜を除去するものであり、前記加工工程は、前記パターニング工程によって除去された前記感光性レジスト膜の除去跡を通して、前記被加工面に加工を施し、その後、前記感光性レジスト膜を除去するものである
　磁気ヘッドの製造方法。
　【請求項２】前記感光性レジスト膜は、ポジ型のレジストでなる
　請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法。
　【請求項３】前記レジストフィルムは、前記感光性レジスト膜がスピンコートにより形成されたものである
　請求項１または２に記載の磁気ヘッドの製造方法。
　【請求項４】前記ドライフィルムレジスト膜は、ネガ型のレジストでなり、
　前記感光性レジスト膜は、ポジ型のレジストでなる
　請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法。
　【請求項５】前記レジストフィルムは、前記ドライフィルムレジスト膜及び前記感光性レジスト膜がスピンコートにより形成されたものである
　請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法。
ろ．刊行物に記載の発明
　当審が、取消理由通知において示した特開平５−６２４０４号公報（以後刊行物１と称す）には、特許請求の範囲の【請求項１】〜【請求項４】、【０００８】第３〜７行、【０００９】第３〜７行、【００１０】第２２〜２７行、【００２０】第１〜１０行、【００２２】第１〜９行、【００２３】第１〜２３行、【００２４】第１〜８行の記載及び各図を総合すると、
「フィルム形状の感光性材料からなるマスク材（レジスト材）をスライダー被加工面に熱圧着形成する熱圧着工程と、パターニング工程と、加工工程とを含み、磁気変換素子を支持したスライダー面上に空気ベアリング面を呈するレール形状を形成する磁気ヘッド用スライダーの製造方法であって、前記熱圧着工程は、有機質の感光性フィルム（ネガ型感光性を有する芳香族ポリアミド酸係フィルム等のレジストフィルム）のマスク材をスライダー被加工面に熱圧着するものであり、前記パターニング工程は、圧着工程の後、加工に必要なパターンとなるように、不要なマスク材を除去するものであり、前記加工工程は、パターニング工程によって残されたマスク材の上からスライダー被加工面に加工を施し、その後マスク材を除去するものである磁気ヘッド用スライダーの製造方法」
が開示されている。
　同様に、同時に示した特開平５−２１０９３２号公報（以後、刊行物２と称す）には、【０００８】第１〜６行、【００１８】第１〜１４行、【００２５】第１〜１８行及び各図の記載を総合すると、
「感光性樹脂からなるレジスト積層工程と、パターニング工程と、加工工程とを経て、磁気変換素子を支持したスライダーの表面にレールを形成した後、同一の操作、即ち、レジスト積層工程と、パターニング工程と、加工工程とを経て、このスライダーのレールの表面に切り欠き部を形成して磁気ヘッドを搭載するフライト用スライダーの製造方法」
が開示されている。
　同じく特開平５−１５２７２０号公報（以後、刊行物３と称す）には、【０００２】〜【０００５】、【０００８】第２〜１７行、【０００９】第１〜１３行及び各図の記載を総合すると、
「分離フィルム上に、感光性のフォトポリマーレジストフィルムが積層され、このフォトポリマーレジストフィルム上にカバーフィルム（支持体に相当する。）が積層された３層構造のドライフィルムを分離フィルムを除去した後、感光性のフォトポリマーレジストフィルムをエッチング処理される被加工物に熱圧着し、カバーフィルムを除去した後、露光現像するパターニング工程を経て、エッチング処理することによってポリマーレジストフィルムを物理的ショックから保護すると共に微細パターンの高密度化を可能にする」
ことが開示されている。
　同じく特開平５−５３３１９号公報（以後、刊行物４と称す）には、【０１３６】第１〜１０行、【０１３８】第１〜７行、【０１３９】第１〜５行、【０１４０】第１〜３行、【００２５】第１〜７行の記載を総合すると、「フィルムレジストの支持体は、支持フィルムと非感光性被膜層とを含み、かつ非感光性被膜層は有機質で支持フィルム上に形成されたものであり、その後、非感光性被膜層を化学的処理により除去する」
ことが開示されている。
は．対比・判断
　訂正明細書の請求項１に係る発明を、刊行物１乃至４に記載の発明と対比すると、各刊行物に記載の発明は、上記請求項１に係る発明を特定する事項である、
「前記支持体は、支持フィルムと、ドライフィルムレジスト膜を含み、前記ドライフィルムレジスト膜は前記支持フィルム上に積層され、前記有機質のレジスト膜は前記ドライフィルムレジスト膜上に積層され、前記支持体を除去するに当たり、前記支持フィルムを前記ドライフィルムレジスト膜から剥離した後、前記ドライフィルムレジスト膜を科学的処理により除去」
する点をを備えておらず、当該事項により上記請求項１に係る発明は、転写工程において、ドライフィルムレジスト膜５１２によりレジスト膜５２の機械的強度を補強して、支持フィルム５１１の剥離時のレジスト膜５２の剥離、皺の発生を防止することによってレジスト膜５２を薄くすることを可能にするとともに、支持フィルム５１１，ドライフィルムレジスト膜５１２の積層の弾力性によって、転写工程でレジスト膜に印可される転圧を吸収して保護する等の顕著な効果を奏するものであるから、上記請求項１に係る発明が上記刊行物１乃至４に記載の発明であるとも、同発明に基づいて当業者が容易に発明することが出来たとは言えない。
　また、上記請求項２乃至５の発明は、上記請求項１に係る発明の全てをその一部に含むものであるから、同様に上記刊行物１乃至４に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明することが出来たとは言えない。
　なお、同時に取消理由として通知した記載不備については、上記補正により解消しており、他に上記請求項１乃至５に係る発明を拒絶する理由を発見することは出来なかった。
　従って、訂正明細書の請求項１乃至５に係る発明は、特許出願の際独立して特許を受けることが出来たものである。
に．むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び第３項で準用する同法第１２６条第２項乃至第４項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
ＩＩＩ．特許異議申立てについての判断
ア．申立ての理由の概要
　特許異議申立人　矢野　寛は、上記請求項１乃至６に係る発明は、甲第１号証（特開平５−６２４０４号公報：上記刊行物１と同一物）、甲第２号証（特開平５−２１０９３２号公報：上記刊行物２と同一物）、甲第３号証（特開平５−１５２７２０号公報：上記刊行物３と同一物）及び甲第４号証（特開平５−５３３１９号公報：上記刊行物４と同一物）に記載された発明及び常套手段、技術常識に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであって、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、特許法第１１３条第１項第２号の規定により、上記各項に係る発明に対する特許は取り消されれべきであると主張している。
イ．判断
　上記ＩＩにおいて示したように、訂正請求が認められた結果、本件の特許請求の範囲は訂正明細書の請求項１乃至５に記載されるように減縮され、ＩＩ．エで論じたように、訂正後の各請求項に係る発明は、上記甲第１乃至４号と同一物である刊行物１乃至４に記載の発明にない新規な発明を特定する事項を備え、当該事項によって顕著な作用効果を奏することから、上記甲各号証に記載の発明であるとも、本件出願時の常套手段、技術常識を考慮しても、同発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたとも言えないことは明白である。
　また、他に上記訂正後の請求項１乃至５に係る発明を拒絶する理由を発見しない。
エ．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、上記訂正後の請求項１乃至５に係る発明に対する特許を取り消すことはできない。
　また、他に同特許を取り消す理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１１年８月３０日（１９９９．８．３０）
【訂正の要旨】
訂正の要旨
　（１）本件特許査定時の請求項１に「転写工程と、パターニング工程と、加工工程とを含み、磁気変換素子を支持したスライダの空気ベアリング面を加工する磁気ヘッドの製造方法であって、
前記転写工程は、支持体上に有機質のレジスト膜が形成されたレジストフィルムを前記空気ベアリング面上に重ねて前記レジスト膜を転写し、その後、前記支持体を除去するものあり、
前記パターニング工程は、前記転写工程の後、前記加工に必要なパターンとなるように、不要な前記レジスト膜を除去するものであり、
前記加工工程は、前記パターニング工程によって残された前記レジスト膜の上から前記空気ベアリング面に前記加工を施し、その後、前記レジスト膜を除去するものである
磁気ヘッドの製造方法」とあるのを、
　「転写工程と、パターニング工程と、加工工程とを含み、磁気変換素子を支持したスライダの、空気ベアリン　グ面となる被加工面を加工する磁気ヘッドの製造方法であって、
前記転写工程は、支持体上に有機質の感光性レジスト膜が形成されたレジストフィルムを前記被加工面上に重ねて前記感光性レジスト膜を転写し、その後、前記支持体を除去するものであって、前記支持体は、支持フィルムと、ドライフィルムレジスト膜とを含み、前記ドライフィルムレジスト膜は前記支持フィルム上に積層され、前記感光性レジスト膜は前記ドライフィルムレジスト膜の上に積層され、前記支持体を除去するに当たり、前記支持フィルムを前記ドライフィルムレジスト膜から剥離した後、前記ドライフィルムレジスト膜を化学的処理により除去するものであり、
前記パターニング工程は、前記転写工程の後、前記空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように、前記感光性レジスト膜を露光し、かつ、不要な前記感光性レジスト膜を除去するものであり、前記加工工程は、前記パターニング工程によって除去された前記感光性レジスト膜の除去跡を通して、前記被加工面に加工を施し、その後、前記感光性レジスト膜を除去するものである磁気ヘッドの製造方法」と訂正する。
（２）本件特許査定時の請求項４を削除し、本件特許査定時の請求項５を請求項４とする。この場合において、本件特許査定時の請求項５に「前記ドライフィルムレジスト膜は、ネガ型のレジストでなり、前記レジスト膜は、ポジ型のレジストでなる請求項４に記載の磁気ヘッドの製造方法」とあるのを「前記ドライフィルムレジスト膜は、ネガ型のレジストでなり、前記感光性レジスト膜は、ポジ型のレジストでなる請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法。」と訂正する。
（３）本件特許査定時の請求項６を請求項５とする。この場合において、本件特許査定時の請求項６に「前記レジストフィルムは、前記ドライフィルムレジスト膜及び前記レジスト膜がスピンコートにより形成されたものである請求項４または５に記載の磁気ヘッド製造方法」とあるのを「前記レジストフィルムは、前記ドライフィルムレジスト膜及び前記感光性レジスト膜がスピンコートにより形成されたものである請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法」と訂正する。
（４）本件特許査定時の明細書の記載において、
（ａ）段落番号０００１、０００２、０００４、０００７、０００８、０００９、００１３、００１４、００１６、００１７、００３１、００４１に「空気ベアリング面」とあるのを、「空気ベアリング面となる被加工面」と訂正する。
　段落番号００２２に「空気ベアリング面１０３」とあるのを、「空気ベアリング面となる被加工面１００」と訂正する。
段落番号００２４、００２５、００２６、００３３、００３５、００３７、００３９に「空気ベアリング面１０３」とあるのを、「被加工面１００」と訂正する。
　段落番号０００７、０００８、００１０〜００１７、００３１に「レジスト膜」とあるのを、「感光性レジスト膜」と訂正する。
　段落番号００２２〜００２６、００２８〜００３１、００３３〜００３５、００３７〜００３９に「レジスト膜５２」とあるのを、「感光性レジスト膜５２」と訂正する。
（ｂ）段落番号００２４の末尾に「レジスト膜５２を除去する。」とあるのを、「感光性レジスト膜５２を除去する。被加工面１００のうち、感光性レジスト膜５２の下にあって、加工を受けなかった部分（残部）が空気ベアリング面（図１の参照符号１０３）として利用される。」
　と訂正する。
（ｃ）段落番号００３３に「平面度の高い面となっている。」とあるのを
　「平面度の高い面となっている。被加工面１００は図１の空気ベアリング面（１０３）として用いられる。」
　と訂正する。
（ｄ）段落番号００３５に「化学的または物理的エッチングにより行なう。」とあるのを
　「化学的または物理的エッチングにより行なう。被加工面１００のうち、感光性レジスト膜５２の下にあって、第１のステップ部１０４及び第２のステップ部１０５のための加工を受けなかった部分（残部）が、空気ベアリング面（図１の参照符号１０３）として、そのまま用いられる。」
　と訂正する。
（ｅ）段落番号００１０に「スライダの空気ベアリング面を加工するものであって」とあるのを「スライダの空気ベアリング面となる被加工面を加工するものであって」と訂正する。
（ｆ）段落番号００１０に「前記パターニング工程は、前記転写工程の後、前記加工に必要なパターンとなるように」とあるのを「前記パターニング工程は、前記転写工程の後、前記空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように」と訂正する。
（ｇ）段落番号００１０に「前記パターニング工程によって残された前記レジスト膜の上から、前記空気ベアリング面に前記加工を施し」とあるのを、「前記パターニング工程によって除去された前記感光性レジスト膜の除去跡を通して、前記被加工面に加工を施し」と訂正する。
　（ｈ）段落番号００１４に「パターニング工程は、転写工程の後、加工に必要なパターンとなるように、不要なレジスト膜を除去するものであり、加工工程は、パターニング工程によって残されたレジスト膜の上から」とあるのを「パターニング工程は、転写工程の後、空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように、不要な感光性レジスト膜を除去するものであり、加工工程は、パターニング工程によって除去された感光性レジスト膜の除去跡を通して」と訂正する。
（ｉ）段落番号００２３に「パターニング工程は、転写工程の後、加工に必要なパターンとなるように」とあるのを、「パターニング工程は、転写工程の後、空気ベアリング面を画定するのに必要なパターンが得られるように」と訂正する。
（ｊ）段落番号００２４に「加工工程は、パターニング工程によって残されたレジスト膜５２の上から」とあるのを、「加工工程は、パターニング工程によって除去された感光性レジスト膜５２の除去跡を通して」と訂正する。
（５）本件特許査定時の請求項２において「前記レジスト膜は、ポジ型のレジストでなる請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法」とあるのを、「前記感光性レジスト膜は、ポジ型のレジストでなる請求項１に記載の磁気ヘッドの製造方法」と訂正する。
（６）本件特許査定時の請求項３に「前記レジストフィルムは、前記レジスト膜がスピンコートにより形成されたものである請求項１または２に記載の磁気ヘッド製造方法」とあるのを、「前記レジストフィルムは、前記感光性レジスト膜がスピンコートにより形成されたものである請求項１または２に記載の磁気ヘッドの製造方法」と訂正する。
（７）図面中の参照符号の訂正
（ａ）特許査定時の図２に図示された転写工程において、参照符号１０３を、参照符号１００に訂正する。
（ｂ）特許査定時の図３に図示された転写工程において、参照符号１０３を、参照符号１００に訂正する。
（ｃ）特許査定時の図４、図５及び図７に図示された参照符号１０３を、参照符号１００に訂正する。
（８）明細書の図面の簡単な説明の欄における符号の説明の訂正
（ａ）本件特許査定時の明細書の図面の簡単な説明の欄における符号の説明に、「５２　　　　　　　　レジスト膜」とあるのを
「５２　　　　　　　感光性レジスト膜」と訂正する。
（ｂ）本件特許査定時の明細書の図面の簡単な説明の欄における「符号の説明」
に「１００　　　　　　空気ベアリング面として用いられる被加工面」なる文を追加する。
（５４）【発明の名称】
磁気ヘッドの製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　　【請求項１】　転写工程と、パターニング工程と、加工工程とを含み、磁気変換素子を支持したスライダの、
空気ベアリング面となる被加工面
　前記転写工程は、支持体上に有機質の
感光性レジスト膜
被加工面
感光性レジスト膜
であって、前記支持体は、支持フィルムと、ドライフィルムレジスト膜とを含み、前記ドライフィルムレジスト膜は前記支持、フィルム上に積層され、前記感光性レジスト膜は前記ドライフィルムレジスト膜の上に積層され、前記支持体を除去するに当たり、前記支持フィルムを前記ドライフィルムレジスト膜から剥離した後、前記ドライフィルムレジスト膜を科学的処理により途去するものであり、
　前記パターニング工程は、前記転写工程の後
、前記空気ベアリング面を画定するのに
前記感光性レジスト膜を露光し、かつ、
感光性レジスト膜
　前記加工工程は、前記パターニング工程によって
除去
前記感光性レジスタ膜
除去跡を通して、
被加工面
加工
感光性レジスト膜
磁気ヘッドの製造方法。
　　【請求項２】　前記
感光性レジスト膜
　　【請求項３】　前記レジストフィルムは、前記
感光性
請求項１または２に記載の磁気ヘッドの製造方法。
　　【請求項４】　前記ドライフィルムレジスト膜は、ネガ型のレジストでなり、
　前記
感光性レジスト膜
請求項１
　　【請求項５】　
前記レジストフィルムは、前記ドライフィルムレジスト膜及び前記感光性レジスト膜がスピンコートにより形成されたものである
【発明の詳細な説明】
　　　【０００１】
　　【産業上の利用分野】
　本発明は、磁気ヘッドの製造方法に関し、更に詳しくは、空気ベアリング面
となる被加工面
　　　【０００２】
　　【従来の技術】
　この種の磁気ヘッドでは、ポール部のトラック方向幅設定、電磁変換特性改善または浮上姿勢改善等のために、
空気ベアリング面となる被加工面に微細加工
空気ベアリング面となる被加工面
　　　【０００３】
　また、特開昭６１−２７８０８７号公報、実開昭５７−１２２０６３号（実願昭５６−５８１８号）公報、米国特許第４，６７３，９９６号明細書、米国特許第４，８７０，５１９号明細書等に開示されたＴＰＣ（Ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ　Ｐｒｅｓｓｕｒｅ　Ｃｏｎｔｏｕｒ横方向加圧形状）型スライダでは、レール部の側部に微小ステップ部またはテーパを設け、ロータリ・アクチュエータ式磁気ディスク装置に組み込んだ場合、スキュー角の大きい位置において、横方向から流入する空気流により、ステップ部に揚力動圧を発生させ、これによってスキュー角の大きい位置での浮上量低下を防ぎ、全体として一定の浮上量を確保すると共に、浮上姿勢を安定化できるようにしてある。
　　　【０００４】
　
空気ベアリング面となる被加工面
空気ベアリング面となる被加工面
　　　【０００５】
　レジストの膜厚は、微細加工量に応じて適切な厚みに設定される。特に、加工量が少ないときは、膜厚が薄くなるので、膜厚の均一性も要求される。膜厚を均一にする技術として、特開平３−１９０２１５号、特開平３−２１２８１１号公報がある。
　　　【０００６】
　　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、上述した加工方法は、以下のような問題点を有している。
（Ａ）スピンコート法を用いた場合は、回転方向に向いた端縁部上にレジスト液が溜り、レジスト膜の膜厚が不均一となるので、被処理基板（一例として磁気ヘッドのスライダ）の端縁部を傾斜状に削除しなければならず、磁気ヘッドの形状が制約される。また、傾斜状部分を後で切削する場合は、製造工程が増加すると共に、単位面積当りの生産量が低下する。
（Ｂ）ドライエッチング加工用治具を用いた場合は、膜厚の精度を向上させるために、被加工物と治具との段差に高い寸法精度が要求されるので、治具が高価となる。また、治具に挿入する前の被加工物の加工精度も高くしなければならず、製造コストが高くなる。
　　　【０００７】
　そこで、本発明の第１の課題は、
空気ベアリング面となる被加工面
感光性レジスト膜
空気ベアリング面となる被加工面
　　　【０００８】
　第２の課題は、薄く、かつ、均一な
感光性レジスト膜
空気ベアリング面となる被加工面
　　　【０００９】
　第３の課題は、
空気ベアリング面となる被加工面
　　　【００１０】
　　【課題を解決するための手段】
　上述した第１の課題解決のため、本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、転写工程と、パターニング工程と、加工工程とを含み、磁気変換素子を支持したスライダの
空気ベアリング面となる被加工面
　前記転写工程は、支持体上に有機質の
感光性レジスト膜
被加工面
感光性レジスト膜
　前記パターニング工程は、前記転写工程の後、
前記空気ベアリング面を画定するのに
が得られる
感光性レジスト膜
　前記加工工程は、前記パターニング工程によって除去された前記
感光性レジスト膜
除去跡を通して、
被加工面
加工
感光性レジスト膜
　　　【００１１】
　第２の課題解決のため、前記支持体は、支持フィルムと、ドライフィルムレジスト膜とを含み、前記ドライフィルムレジスト膜が有機質のレジストでなり、前記支持フィルム上に形成されたものであり、
　前記転写工程は、前記
感光性レジスト膜
　　　【００１２】
　第３の課題解決のため、本発明に係るレジストフィルムは、支持体と、
感光性レジスト膜
　前記支持体は、可撓性のフィルムでなり、
　前記
感光性レジスト膜
　　　【００１３】
　　【作用】
　転写工程は、支持体上に有機質の
感光性レジスト膜
空気ベアリング面となる被加工面
感光性レジスト膜
空気ベアリング面となる被加工面
となる被加工面
感光性レジスト膜
空気ベアリング面となる被加工面
感光性レジスト膜
感光性レジスト膜
　　　【００１４】
　パターニング工程は、転写工程の後、
空気ベアリング面を画定するの
が選られる
感光性レジスト膜
除去
感光性レジスト膜の除去跡を通して、空気ベアリング面となる被加工面
感光性レジスト
空気ベアリング面となる被加工面
感光性レジスト膜
空気ベアリング面となる被加工面
空気ベアリング面となる被加工面
感光性レジスト膜
空気ベアリング面となる被加工面
　　　【００１５】
　また、支持体は、支持フィルムと、ドライフィルムレジスト膜とを含み、ドライフィルムレジスト膜が有機質のレジストでなり、支持フィルム上に形成されており、転写工程は、
感光性レジスト膜
感光性レジスト膜
感光性レジスト膜
感光性レジスト膜
感光性レジスト膜
感光性レジスト膜
感光性レジスト膜
ドライフィルムレジスト膜がクッションとなり、感光性レジスト膜
　　　【００１６】
　転写工程は、ドライフィルム膜を化学的処理により除去するから、
感光性レジスト膜
感光性レジスト膜
感光性レジスト膜
感光性レジスト膜
空気ベアリング面となる被加工面
　　　【００１７】
　支持体は、可撓性のフィルムでなり、
感光性レジスト膜
空気ベアリング面となる被加工面
感光性レジスト膜
　　　【００１８】
　　【実施例】
　図１は本発明に係る製造方法が適用され得る磁気ヘッドの斜視図である。図はＴＰＣ型スライダを有する磁気ヘッドを示している。図において、寸法は誇張されている。図を参照すると、磁気ヘッドＡは、スライダ１と、磁気変換素子２とを含んでいる。スライダ１は媒体対向面側にレール部１０１、１０２を有している。レール部１０１、１０２のそれぞれは、媒体対向面側に、空気ベアリング面１０３と第１のステップ部１０４と、第２のステップ部１０５とを有している。第１のステップ部１０４は、空気ベアリング面１０３の幅方向の一端縁に、空気ベアリング１０３の長さ方向に沿って設けられており、第２のステップ部１０５は、空気ベアリング面１０３の幅方向の他端縁に、空気ベアリング１０３の長さ方向に沿って設けられている。
　　　【００１９】
　レール部１０１、１０２は、それぞれが間隔を隔てて平行に設けられている。第１のステップ部１０４は、レール部１０１、１０２が互いに向き合う内側に設けられており、第２のステップ部１０５は外側に設けられている。第１のステップ部１０４及び第２のステップ部１０５は、深さｄが１μｍ≧ｄ≧０．６μｍを満たすように微小寸法に形成される。本発明は、このような微小寸法を持つ第１のステップ部１０４及び第２のステップ部１０５の形成に適用できる。
　　　【００２０】
　磁気変換素子２は、誘導型、ＭＲ（磁気抵抗効果）型もしくはそれらの組み合わせ等を含み得る。これらの素子は、ＩＣ製造テクノロジと同様のプロセスによって形成された薄膜素子によって構成できる。また、面内記録方式に限らず、垂直記録方式のものであってもよい。磁気変換素子２は、ポール部Ｐ１、Ｐ２を含み、ポール部Ｐ１、Ｐ２の端面が空気ベアリング面１０３の表面に現れている。参照符号２１、２２は取り出し電極である。
　　　【００２１】
　図２は本発明に係る磁気ヘッドの製造方法を示す工程図である。本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、転写工程と、パターニング工程と、加工工程とを含んでいる。磁気ヘッドＡは、治具３上に配列され、かつ、一面が接着等の手段によって固定されている。
　　　【００２２】
　転写工程は、支持体５１上に有機質の感光性レジスト膜５２が形成されたレジストフィルム５を、
空気ベアリング面となる被加工面１００
感光性レジスト膜５２
感光性レジスト膜５２
感光性レジスト膜５２
感光性レジスト膜５２
空気ベアリング面となる被加工面１００
　　　【００２３】
　パターニング工程は、転写工程の後、
空気ベアリング面を画定するのに
得られる
感光性レジスト膜５２
感光性レジスト膜５２
感光性レジスト膜５２
感光性レジスト膜５２
　　　【００２４】
　加工工程は、パターニング工程によって
除去
感光性レジスト膜５２
除去跡を通して、被加工面１００
感光性レジスト膜５２
被加工面１００のうち、感光性レジスト膜５２の下にあって、加工を受けなかった部分（残部）が空気ベアリング面（図１の参照符号１０３）として利用される。
　　　【００２５】
　上述したように、転写工程は、支持体５１上に有機質の
感光性レジスト膜５２
被加工面１００
感光性レジスト膜５２
被加工面１００
被加工面１００
感光性レジスト膜５２
被加工面１００
感光性レジスト膜５２
感光性レジスト膜５２
得られる。
　　　【００２６】
　パターニング工程は、転写工程の後、加工に必要なパターンとなるように、不要な
感光性レジスト膜５２
除去
感光性レジスト膜５２
除去跡を通して、被加工面１００
感光性レジスト膜５２
被加工面１００
感光性レジスト膜５２
被加工面１００
感光性レジスト膜５２
被加工面１００
　　　【００２７】
　図３は本発明に係る磁気ヘッドの製造方法を示す別の工程図である。図において、図２と同一参照符号は同一性ある構成部分を示している。
　　　【００２８】
　支持体５１は、支持フィルム５１１と、ドライフィルムレジスト膜５１２とを含んでいる。支持フィルム５１１は、ポリエチレン・テレフタレート等の可撓性フィルムで構成されている。ドライフィルムレジスト膜５１２は、有機質のレジストでなり、支持フィルム５１１上に形成されている。ドライフィルムレジスト膜５１２は、ネガ型、ポジ型の何れの感光性レジストを使用してもよい。実施例は、アルカリ現像液でエッチング可能なネガ型の感光性レジストを採用している。ネガ型の感光性レジストとしては、例えば、商品名４７０６（デュポン社
製）等がある。
感光性レジスト膜５２
　　　【００２９】
　転写工程は、
感光性レジスト膜５２
感光性レジスト膜５２
　　　【００３０】
　この製造方法においては、支持体５１は、支持フィルム５１１と、ドライフィルムレジスト膜５１２とを含み、ドライフィルムレジスト膜５１２が有機質のレジストでなり、支持フィルム５１１上に形成されており、転写工程は、
感光性レレジスト膜５２
感光性レジスト膜５２
感光性レジスト膜５２
感光性レジスト膜５２
感光性レジ
５２
ドライフィルムレジスト膜５１２がクッションとなり、感光性レジスト膜５２
　　　【００３１】
　転写工程は、ドライフィルムレジスト膜５１２を化学的処理により除去するから、
感光レジスト膜５２
感光性レジスト膜５２
感光レジスト膜５２
感光性レジスト膜
空気ベアリング面となる被加工面
磁気ヘッドの製造方法が得られる。
　　　【００３２】
　次に、図１に示したＴＰＣの磁気ヘッドについて、本発明を適用した具体例を図４〜図９を参照して簡単に説明する。図において、図１及び図２と同一参照符号は同一性ある構成部分を示している。図４及び図５は転写工程を示し、図６及び図７はパターニング工程を示し、図８及び図９は加工工程を示している。
　　　【００３３】
　まず、転写工程について説明する。磁気ヘッドＡは、図４に示すように、治具３の上に配置される。磁気ヘッドＡのそれぞれは、一面が接着等の手段によって固定され、接着面とは反対側に現れる
被加工面１００
被加工面１００は図１の空気ベアリング面（１０３）として用いられる。
感光性レジスト膜５２
被加工面１００
感光性レジスト膜５２
　　　【００３４】
　次に、パターニング工程を説明する。露光用マスク７は、加工に必要なパターンを有し、図６に示すように
感光性レジスト膜５２
感光性レジスト膜５２
感光性レジスト膜５２
感光性レジスト膜５２
　　　【００３５】
　次に、加工工程を説明する。図８に示すように、パターニング工程によって残された
感光性レジスト膜５２
被加工面１００
　この加工は、イオンミリング等の手段によって、第１のステップ部１０４及び第２のステップ部１０５を必要な深さとなるように加工する。次に、図９に示すように、
感光レジスト膜５２
感光性レジスト膜５２
被加工面１００のうち　感光性レジスト膜５２の下にあって、第１のステップ部１０４び第２のステップ。１０５のための加工を受けなかった部分（残部）が、空気ベアリング面（図１の参照符号１０３）として　そのまま　いられる。
　　　【００３６】
　図３に示す製造方法も同様に適用できる。
　　　【００３７】
　本実施例は、ＴＰＣ型スライダを得る場合について、図面を参照して具体的に説明したが、
被加工面１００
　転写工程では、支持体５１上に有機質の
感光性レジスト膜５２
被加工面１００
感光性レジスト膜５２
　パターニング工程では、転写工程の後、加工に必要なパターンとなるように、不要な
感光性レジスト膜５２
感光性レジスト膜５２
感光性レジスト膜５２
感光性レジスト膜５２
　加工工程は、パターニング工程によって残された
感光性レジスト膜５２
被加工面１００
感光性レジスト膜５２
　図３に示した製造方法を適用した場合は、同図を参照して、次のように説明される。
　まず、転写工程では、
感光性レジスト膜５２
感光性レジスト膜５２
　この後、図２で説明したパターニング工程及び加工工程を実行することにより、特開平４−２７４０１４号、４−２７４００８号公報に開示されているようなポールパターンを有する磁気ヘッドが得られる。
　　　【００３８】
　図２に示すレジストフィルム５は、スピン治具（図示しない）に支持体５１を構成するポリエチレン・テレフタレート等の可撓性のフィルムを貼り、ポジ型の有機質のレジストをスピンコートすることにより得られる。ポジ型レジストとして商品名ＰＦＲ３００４（日本合成ゴム社製）を使用した場合は、粘度１６０ｃｐ、回転数３０００ｒｐｍでスピンコートすることにより、膜厚４．５μｍの
感光性レジスト膜５２
一であるから、スピンコートされたレジストの膜厚も均一となる。感光性レジスト膜５２の形成方法は、平坦な面へ均一な膜圧に塗布可能な工法であればよく、ディップ法、ロールコート法、スプレーコート法等でもよい。
　　　【００３９】
　上述したように、支持体５１は、ポリエチレン・テレフタレート等の可撓性のフィルムでなり、
感光性レジスト膜５２
被加工面１００
感光レジスト膜５２
　　　【００４０】
　図３に示すレジストフィルム５は、スピン治具（図示しない）に支持フィルム５１１の上にドライフィルムレジスト膜５１２が形成された支持体５１を貼り、必要に応じて９０〜１３０℃でプリベークを行ない、バリアコート剤を塗布して、その後ポジ型の有機質のレジストをスピンコートすることにより得られる。プリベーク及びバリアコート剤の塗布により、ポジ型のレジストとネガ型にレジストとの反応が防止される。バリアコート剤として、商品名ＢＣ−５（信越化学社製）がある。支持体５１は、スピン治具に支持フィルム５１１を貼り、ネガ型の有機質のレジストをスピンコート法によってドライフィルムレジスト膜５１２を形成することによって得てもよい。
　　　【００４１】
　　【発明の効果】
　以上述べたように、本発明によれば、以下のような効果が得られる。
（ａ）
空気ベアリング面となる被加工面
被加工面
（ｂ）転写法を採用したことにより、薄く、かつ、均一なレジスト膜を容易に得て
空気ベアリング面となる被加工面
（ｃ）
空気ベアリング面となる被加工面
【図面の簡単な説明】
　　【図１】
　本発明に係る製造方法が適用され得る磁気ヘッドの斜視図である。
　　【図２】
　本発明に係る磁気ヘッドの製造方法を示す工程図である。
　　【図３】
　本発明に係る磁気ヘッドの製造方法を示す別の工程図である。
　　【図４】
　ＴＰＣ型の磁気ヘッドについて本発明を適用した場合の転写工程の最初の工程を示す図である。
　　【図５】
　ＴＰＣ型の磁気ヘッドについて本発明を適用した場合の転写工程の次の工程を示す図である。
　　【図６】
　ＴＰＣ型の磁気ヘッドについて本発明を適用した場合のパターニング工程の最初の工程を示す図である。
　　【図７】
　ＴＰＣ型の磁気ヘッドについて本発明を適用した場合のパターニング工程の次の工程を示す図である。
　　【図８】
　ＴＰＣ型の磁気ヘッドについて本発明を適用した場合の加工工程の最初の工程を示す図である。
　　【図９】
　ＴＰＣ型の磁気ヘッドについて本発明を適用した場合の加工工程の次の工程を示す図である。
　　【符号の説明】
Ａ　　　　　　　　磁気ヘッド
１　　　　　　　　スライダ
１０１、１０２　　レール部
１０３　　　　　　
空気ベアリング面
２　　　　　　　　磁気変換素子
３　　　　　　　　治具
５　　　　　　　　レジストフイルム
５１　　　　　　　支持体
５２　　　　　　　
感光性レジスト膜
６　　　　　　　　熱ロール
７　　　　　　　　露光マスク
１００　　　　　　
空気ベアリング面として用いられる被加工面
【図面】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図７】