(57)【要約】      （修正有）【課題】内外の二つのコイルで形成された加熱コイルが二つの集中する磁場波ピークを発生し、鍋の負荷に二つの集中する加熱渦流を具備させて、ホール熱を発生し、これにより鍋の底部を広く加熱し或いは内外の鍋を均一に加熱することができる内外環型加熱コイル盤の提供。【解決手段】コイル盤支持フレーム、鉄粉芯と加熱コイルを具え、該コイル盤支持フレームは内環支持フレームと外環支持フレームに分けられ、内、外環支持フレームと鉄粉芯の上に設置された加熱コイルも相互に隔離された内加熱コイル盤と外加熱コイル盤に分けられ、内、外環支持フレーム及び内、外加熱コイル盤が同一平面上、或いは異なる平面上、或いは円弧鍋底の内に凹んだ円弧面に位置し、内加熱コイル盤と外加熱コイル盤が直列或いは並列の方式で接続され、加熱コイル盤は一般に内に凹んだ盤状とされる。【選択図】図１
0003106257.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
コイル盤支持フレーム、鉄粉芯と加熱コイルを具えた内外環型加熱コイル盤において、該コイル盤支持フレームは内環支持フレーム（５）と外環支持フレーム（６）に分けられ、内、外環支持フレームと鉄粉芯の上に設置された加熱コイルも相互に隔離された内加熱コイル盤（７）と外加熱コイル盤（８）に分けられたことを特徴とする、内外環型加熱コイル盤。
【請求項２】
請求項１記載の内外環型加熱コイル盤において、内環支持フレーム（５）と外環支持フレーム（６）、及び内加熱コイル盤（７）と外加熱コイル盤（８）が同一平面上、或いは異なる平面上、或いは円弧鍋底の内に凹んだ円弧面に位置することを特徴とする、内外環型加熱コイル盤。
【請求項３】
請求項２記載の内外環型加熱コイル盤において、内加熱コイル盤（７）の最外周（１０）と外加熱コイル盤（８）の最内周（９）が直列の方式で接続されたことを特徴とする、内外環型加熱コイル盤。
【請求項４】
請求項２記載の内外環型加熱コイル盤において、内加熱コイル盤（７）と外加熱コイル盤（８）が並列の方式で接続され、内加熱コイル盤（７）と開始端子（１）と外加熱コイル盤（８）の開始端子（３）が接続され、内加熱コイル盤（７）の終了端子（２）と外加熱コイル盤（８）の終了端子（４）が接続されたことを特徴とする、内外環型加熱コイル盤。
【請求項５】
請求項２記載の内外環型加熱コイル盤において、内加熱コイル盤（７）と外加熱コイル盤（８）が回路により単独制御されることを特徴とする、内外環型加熱コイル盤。
【請求項６】
請求項２、３、４、５のいずれか記載の内外環型加熱コイル盤において、加熱コイル盤が内に凹んだ盤状とされ、内環支持フレーム（５）と内加熱コイル盤（７）が盤底面に設置され、外環支持フレーム（６）と外加熱コイル盤（８）が盤上面に設置されたことを特徴とする、内外環型加熱コイル盤。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は電磁調理器及び類似の装置中での使用に適合する加熱コイル盤に係り、特に内外環型加熱コイル盤に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在の電磁調理器に採用されている加熱コイル盤は、コイル盤サポートフレーム、鉄粉芯、及び加熱コイルが組み合わされてなる。そのうち加熱コイルは複数のコイルが同心円状、同平面をなすコイル盤とされ、且つコイルとコイルの間が緊密に当接されて一体とされ、その後コイル盤サポートフレームに支持される。このようなタイプの加熱コイルは磁場中の磁力線の特徴により、円盤コイルの中間位置に発生する磁場強度が最大となり、集中磁場ピークを形成し、電磁調理器で鍋類に加熱する時はこの区域に集中する。もし鍋類の加熱底部が比較的大きかったり或いは図４、５のように親子型の鍋である場合は、加熱が非常に不均一となり、加熱効果が下がる。このため、改善の必要がある。
【考案の開示】
【考案が解決しようとする課題】
【０００３】
本考案の主要な目的は、二つの集中磁場ピークを発生でき、鍋に二つの集中する加熱渦流を具備させてジュール熱を発生させる内外加熱コイル盤を提供し、従来の技術の不足のところを克服することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
請求項１の考案は、コイル盤支持フレーム、鉄粉芯と加熱コイルを具えた内外環型加熱コイル盤において、該コイル盤支持フレームは内環支持フレーム（５）と外環支持フレーム（６）に分けられ、内、外環支持フレームと鉄粉芯の上に設置された加熱コイルも相互に隔離された内加熱コイル盤（７）と外加熱コイル盤（８）に分けられたことを特徴とする、内外環型加熱コイル盤としている。
請求項２の考案は、請求項１記載の内外環型加熱コイル盤において、内環支持フレーム（５）と外環支持フレーム（６）、及び内加熱コイル盤（７）と外加熱コイル盤（８）が同一平面上、或いは異なる平面上、或いは円弧鍋底の内に凹んだ円弧面に位置することを特徴とする、内外環型加熱コイル盤としている。
請求項３の考案は、請求項２記載の内外環型加熱コイル盤において、内加熱コイル盤（７）の最外周（１０）と外加熱コイル盤（８）の最内周（９）が直列の方式で接続されたことを特徴とする、内外環型加熱コイル盤としている。
請求項４の考案は、請求項２記載の内外環型加熱コイル盤において、内加熱コイル盤（７）と外加熱コイル盤（８）が並列の方式で接続され、内加熱コイル盤（７）と開始端子（１）と外加熱コイル盤（８）の開始端子（３）が接続され、内加熱コイル盤（７）の終了端子（２）と外加熱コイル盤（８）の終了端子（４）が接続されたことを特徴とする、内外環型加熱コイル盤としている。
請求項５の考案は、請求項２記載の内外環型加熱コイル盤において、内加熱コイル盤（７）と外加熱コイル盤（８）が回路により単独制御されることを特徴とする、内外環型加熱コイル盤としている。
請求項６の考案は、請求項２、３、４、５のいずれか記載の内外環型加熱コイル盤において、加熱コイル盤が内に凹んだ盤状とされ、内環支持フレーム（５）と内加熱コイル盤（７）が盤底面に設置され、外環支持フレーム（６）と外加熱コイル盤（８）が盤上面に設置されたことを特徴とする、内外環型加熱コイル盤としている。
【考案の効果】
【０００５】
本考案は内外の二つのコイルで形成された加熱コイルを採用したことにより、二つの集中する磁場ピークを発生し、これにより鍋に二つの集中する加熱渦流ループを発生させてジュール熱の効果を発生させることができる。これにより鍋の底部が大きい場合も、或いは親子式の鍋であっても均一な加熱が行なえ、良好な加熱効果を形成できる。
【考案を実施するための最良の形態】
【０００６】
本考案は、コイル盤支持フレーム、鉄粉芯と加熱コイルを具えた内外環型加熱コイル盤において、該コイル盤支持フレームは内環支持フレームと外環支持フレームに分けられ、内、外環支持フレームと鉄粉芯の上に設置された加熱コイルも相互に隔離された内加熱コイル盤と外加熱コイル盤に分けられたことを特徴とする。
【０００７】
上述の内環支持フレームと外環支持フレーム、及び内加熱コイル盤と外加熱コイル盤は同一平面上、或いは異なる平面上、或いは円弧鍋底の内に凹んだ円弧面に位置する。また、内加熱コイル盤の最外周と外加熱コイル盤の最内周が直列の方式で接続されうる。或いは内加熱コイル盤と外加熱コイル盤が並列の方式で接続され、即ち、内加熱コイル盤と開始端子と外加熱コイル盤の開始端子が接続され、内加熱コイル盤の終了端子と外加熱コイル盤の終了端子が接続される。加熱コイル盤は内に凹んだ盤状とされ、内環支持フレームと内加熱コイル盤が盤底面に設置され、外環支持フレームと外加熱コイル盤が盤上面に設置される。
【０００８】
本考案は内外の二つのコイルで形成された加熱コイルを採用したことにより、二つの集中する磁場ピークを発生し、これにより鍋に二つの集中する加熱渦流ループを発生させてジュール熱の効果を発生させることができる。これにより鍋の底部が大きい場合も、或いは親子式の鍋であっても均一な加熱が行なえ、良好な加熱効果を形成できる。
【実施例１】
【０００９】
図１、２に示されるように、本考案の内外環型加熱コイル盤は、コイル盤支持フレーム、鉄粉芯と加熱コイルを具え、該コイル盤支持フレームは内環支持フレーム（５）と外環支持フレーム（６）に分けられ、内、外環支持フレームと鉄粉芯の上に設置された加熱コイルも相互に隔離された内加熱コイル盤（７）と外加熱コイル盤（８）に分けられている。加熱コイル盤が内に凹んだ盤状とされ、内環支持フレーム（５）と内加熱コイル盤（７）が盤底面に設置され、外環支持フレーム（６）と外加熱コイル盤（８）が盤上面に設置されている。内加熱コイル盤（７）の最外周（１０）と外加熱コイル盤（８）の最内周（９）が直列の方式で接続されている。或いは、内加熱コイル盤（７）と外加熱コイル盤（８）が並列の方式で接続され、内加熱コイル盤（７）と開始端子（１）と外加熱コイル盤（８）の開始端子（３）が接続され、内加熱コイル盤（７）の終了端子（２）と外加熱コイル盤（８）の終了端子（４）が接続される。
【００１０】
加熱コイル盤は図３のように平板盤状とされて内環支持フレーム（５）と外環支持フレーム（６）、及び内加熱コイル盤（７）と外加熱コイル盤（８）が同一平面上に設けられうる。図３において、他の構造に変更はない。このような加熱コイル盤は図４、５に示される親子型の鍋に特に適合し、図４、５中、符号１１は内鍋、符号１２は外鍋を示す。
【００１１】
加熱コイル盤は更に鍋底の内凹円弧面上に設置可能である。内加熱コイル盤（７）と外加熱コイル盤（８）は回路により単独制御されうる。
【００１２】
本考案の技術に基づき、２周以上の加熱コイル盤を設計可能で、例えば、３周、４周、或いはそれ以上の周数の加熱コイル盤とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本考案の実施構造表示図である。
【図２】図１の断面図である。
【図３】図１の応用実施例の断面図である。
【図４】周知の親子鍋の構造表示図である。
【図５】図４の平面図である。
【符号の説明】
【００１４】
（１）開始端子
（３）開始端子
（２）終了端子
（４）終了端子
（５）内環支持フレーム
（６）外環支持フレーム
（７）内加熱コイル盤
（８）外加熱コイル盤
（９）最内周
（１０）最外周
（１１）内鍋
（１２）外鍋
【図１】
0003106257.tif 000003
【図２】
0003106257.tif 000004
【図３】
0003106257.tif 000005
【図４】
0003106257.tif 000006
【図５】
0003106257.tif 000007