【事件の表示】
　特許第２８１４７９５号「石英ガラスの製造方法」の請求項１ないし２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結論】
　特許第２８１４７９５号の請求項１ないし２に係る特許を維持する。
【理由】
１．手続きの経緯と発明の要点
　本件特許第２８１４７９５号は、平成３年１０月２５日に出願され、平成１０年８月１４日に設定の登録がなされたものである。その特許発明は、平成１０年１０月２７日に発行された特許公報に掲載された明細書及び図面の記載よりみて、その特許請求の範囲に記載された次のとおりのものである。
「【請求項１】『屈折率のばらつきΔｎ＝１０−５程度の光学的に不均質な石英ガラス』を、ＳｉＯ２の粉末又は塊で作った母型の中で０〜１０ｋｇ／ｃｍ２の加圧下で熱処理することを特徴とする『Δｎ＝１０−６程度以下の光学的に均質な石英ガラス』の製造方法。
　【請求項２】特許請求の範囲第１項において、処理する温度は１８００℃以上２２００℃以下、雰囲気はＨｅ、Ｎ２，Ａｒ、Ｈ２もしくはその混合ガスであることを特徴とする『均質な石英ガラス』の製造方法。」
　本件発明は、「紫外線リソグラフィー等装置に使われる光学素子（例えばレンズ）に有用な石英ガラスの製造方法」に関し、「この種のガラスは、高度に均質な屈折率分布をもつことが不可欠である」とされており、とりわけ、「近年の紫外線リソグラフィ装置に使用される光学素子」は、「紫外域の高透過率性」と共に、「屈折率のばらつきがΔｎ＝１０−６程度以下の光学的に均質なものが求められ」、そのため、従来、その解決手段として、「熱処理の条件（圧力、処理温度、降温時間等）を調整することにより、光学的に均質な石英ガラスを得ようとする試みがなされている」ところ、「例えば、大気圧下で１８００℃〜２２００℃に昇温し熱処理を行なうと、試料（熱処理前の石英ガラス）中央部の屈折率の不均一分布は少なくなる」が、その一方では、「試料の周辺部にΔｎ＝１０−４程度の変質層と呼ばれる不均質な部分ができ」、「この部分をレンズとして使用することは出来ないので、中央部のみを削り取って用いる」ことになるが、「これでは、下記のような問題」、すなわち、
「▲１▼試料である石英ガラスは高価なものであり、その試料のうち中央部のみレンズとして使用するのでは、最終製品はさらに高価なものとなる。
　▲２▼近年の紫外線リソグラフィーでは、レンズのの解像度を高める必要があり、レンズを大口径化してＮＡを大きくすることが急務とされているが、中央部のみの均質化では、大口径のレンズを製造することが出来ない。
　▲３▼変質層が、中央部の屈折率の分布にも影響を与える恐れがある」といった問題が「生じる」ことから、「本発明の目的は、このような問題点を解決することにあり、変質層のない、光学的に均質な（Δｎ＝１０−６程度以下の）大きな塊の石英ガラスを製造」しようとするにあり（【０００１】ないし【０００７】）、そのために「変質層」が生ずる原因について鋭意研究した結果、
「この変質層」は、熱処理の際、試料の外側と内側との降温速度の違いに起因して生ずるものであること、すなわち、「熱処理後は、試料全体が均一に降温していくことが望ましいが」、実際には「試料の外側と内側で降温速度が違うため、降温後に図１（ａ）のような温度分布ができ、それが屈折率の分布として現れ」、「特に、厚み方向（レンズとして用いるときの光軸方向）からみたときの試料周辺部には等温線の本数は多くなり、この部分に屈折率の値の大きな変質層が形成される」原因の一つであること、
あるいは、該熱処理における「試料内部からのガス放出、雰囲気からのガス拡散」にも原因の一端があるとの知見を得、前示構成に基づく解決手段は、この原因に対する対策を鋭意研究した結果、その「熱処理をする際にＳｉＯ２の粉末又は塊で作った母型の中に試料を置くことにより、試料である石英ガラスの広い範囲で均質性の良化が実現すること」、「さらに、このような母型を用いれば、試料を外型および雰囲気と直接触れさせずに熱処理することが可能であり、変質層の形成が抑えられる」との知見を得、この知見に基づいて「本発明をなすに至った」ものである。（【０００８】、【０００９】）
　すなわち、「試料である石英ガラスと母型であるＳｉＯ２は、高温で保持しているときには共に熔融状態にあり、これらの物性は非常に近い」関係にあり、またその「試料と母型の降温時の温度分布は図１（ｂ）のように」、「つまり、変質層を形成すると思われる温度勾配の急な部分（等温線の多い部分）は母型のＳｉＯ２の方にあり、試料の石英ガラスは中央部から周辺部の広範囲にわたって均質化がなされる」ことによる、「あるいは、母型には微小の気泡が無数混入しているが、この気泡が断熱効果をもつことにより試料内の温度の分布が緩和される」ことによるものであると「推測される」ものであり、その結果、「本発明にしたがって熱処理を行った後は、試料のほぼ全体にわたって光学的に均質な石英ガラスが得られる。」ものである。（【００１１】、【００１２】）
　ここに、「原料（試料）としてΔｎ＝１０−５程度の石英ガラスを用いる」と限定した理由は、屈折率のばらつきがこれより大きい「Δｎ＝１０−４程度」では、ばらつきの値を大きくしている原因たる「粒状構造や脈理を取り除くことはできない。」からである。（【００１５】）
２．異議申立人の主張の概要
　異議申立人（東京都新宿区西新宿１丁目２２番２号　信越石英株式会社）の主張の概要は、
　その主張の第１は、
（ｉ）本件請求項１及び２に係る特許発明は、甲第１号証に記載された発明であるか、甲第３号証乃至甲第５号証を参酌すれば甲第１号証又は甲第２号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第１項第３号または同条第２項の規定によって特許を受けることができない発明であり、その特許は、取り消されるべきである、というものであり、
　また、その主張の第２は、
（ｉｉ）本件特許明細書には、記載不備があり、特許法第３６条に規定する明細書記載要件を備えていないものであるから、その特許は、取り消されるべきものである、というにある。
３．甲各号証の記載内容
　甲第１号証（特開昭６３−２１８５２２号公報）には、
「（１）歪みを含む石英ガラスを不活性ガス雰囲気内で１２００℃以上に加熱することを特徴とする石英ガラス中の歪みの除去方法。
　（２）不活性ガスが希ガス及び窒素ガスの中から選ばれたガスまたはその混合ガスである特許請求の範囲第１項記載の石英ガラス中の歪みの除去方法。
　（３）石英ガラスの周囲に石英ガラスに対して不活性な粉末を充填する特許請求の範囲第１項または第２項記載の石英ガラス中の歪みの除去方法。
　（４）石英ガラスの周囲に充填する粉末がＳｉＯ２、Ｃ、ＳｉＣ、安定化ＺｒＯ２の粉末である特許請求の範囲第３項記載の石英ガラス中の歪みの除去方法。」が記載され（特許請求の範囲）、
この「歪みの除去方法」の発明において、その処理の対象とする歪のある石英ガラスとしては、「光デバイス、光通信用ファイバ、光学用部品（窓、レンズプリズム、紫外線用素子等）及びマスク用基板等に使用される石英ガラス」が例示され（公報第１頁右欄）、「本発明は、歪みを含む石英ガラスを不活性ガス雰囲気内で１２００℃以上に加熱し結晶化を起こすことなく、さらに歪み除去前の形状を保ったまま石英ガラス中の歪みを除去することを特徴とする石英ガラス中の歪みの除去方法である。」こと（公報第２頁左下欄下段）、
「加熱温度は１２００℃以上であることが必要である。１２００℃未満では歪みを取除くのに十分な石英ガラスの流動、拡散が生じない。」こと、「不活性ガスとしては、例えば希ガスおよび窒素ガスの中から選ばれたガスまたはその混合ガスを好適に使用できる。」こと（公報第２頁右下欄下段）、
「１５００℃以上で加熱する場合は、石英ガラスが流動性を持つため形状の変化が極めて大きくなる。これを防止するためには石英ガラスの周囲に石英ガラスに対して不活性な粉末を充填する。充填する粉末はたとえばＳｉＯ２、Ｃ、ＳｉＣ、ＺｒＯ２、の粉末を使用する。これらの粉末を充填することで完全に初期形状を保つことができる。」こと（公報第３頁左上欄第５行ないし第１１行）、その加熱温度について「実施例」では、「１２００℃から・・・１９００℃までの温度で加熱を行った。加熱時間は、すべて１ｈｒとした」こと（公報第３頁右上欄）、が記載されている。
　甲第２号証（特開昭６３−１９５１３７号公報）には、
「（１）脈理を含む石英ガラスを不活性ガス雰囲気内で、１５００℃以上に加熱し、かつ１０ＭＰａ以上に加圧することを特徴とする石英ガラス中の脈理の除去方法。
（２）不活性ガスが希ガスもしくは窒素またはその混合ガスである特許請求の範囲第１項記載の石英ガラス中の脈理の除去方法。
（３）石英ガラスの周囲に石英ガラスに対して不活性な粉末を充填する特許請求の範囲第１項または第２項記載の石英ガラス中の脈理の除去方法。
（４）石英ガラスの周囲に充填する粉末がＳｉＯ２、Ｃ、安定化ＺｒＯ２である特許請求の範囲第３項記載の石英ガラス中の脈理の除去方法。
（５）石英ガラスの周囲に充填する粉末の粒度が５０μｍ〜５ｍｍである特許請求の範囲第３項または第４項記載の石英ガラス中の脈理の除去方法。」が記載され（特許請求の範囲）、
「本発明は光デバイス、光通信用ファイバ、光学用部品（窓、レンズプリズム、紫外線用素子等）、マスク用基板等に使用される石英ガラスのうち脈理を含有する石英ガラス中の脈理の除去方法に関するものである。」こと（公報第１頁右欄）、
「本発明の方法は、脈理を含む石英ガラスを不活性ガス雰囲気内で軟化させ同時に圧力を加え、粘性をもたせた攪拌効果をもたせることで、脈理除去を行うものである。」こと、
「脈理の除去の難易は、石英ガラスの大きさおよびその強さに左右されるが、処理温度を１５００℃以上、処理圧力を１０ＭＰａ以上とすることにより、比較的短時間で脈理が除かれる。」こと、
「雰囲気としては、高温、高圧にするためアルゴンガスを使用するのが一般的であるが、他の希ガスもしくは窒素またはその混合ガスでもよい。
　さらに、石英ガラスの周囲に石英ガラスに対して不活性な粉末、たとえばＳｉＯ２、Ｃ、ＳｉＣ、安定化ＺｒＯ２等の粉末を充填することにより、石英ガラスの初期形状をより完全に保ったまま短時間で脈理を除去することができる。」こと（公報第２頁左上欄ないし右上欄）、が記載されている。
　甲第３号証（特開昭６２−１５８１２１号公報）には、
「（１）光学的性質が不均質なガラスを高圧ガス雰囲気中で加熱することを特徴とするガラスの均質化方法。
（２）珪酸含有率が９５％以上である高珪酸質ガラス及び石英ガラスを均質化する特許請求の範囲第１項記載のガラスの均質化方法。
（３）ガラスを１８００℃以上好ましくは２２００℃〜２４００℃において２気圧以上好ましくは５〜２５気圧の高圧ガス雰囲気中で加熱することを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載のガラスの均質化方法。
（４）高圧ガス雰囲気がアルゴン、チッ素、ヘリウムのいずれかもしくはその混合ガスであることを特徴とする特許請求の範囲第３項に記載のガラスの均質化方法。」が記載され（特許請求の範囲）、この均質化処理に供される光学的に不均質なガラスとしては、「天然石英ガラス柱（ＨｅｒａｓｉｌＩＩＩ）」や「合成石英ガラス（ＳｕｐｒａｓｉｌＩＩ）」が記載されている。（公報第２頁右下欄、同第３頁右上欄）
　甲第４号証（「Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｎｏｎ−Ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ　Ｓｏｌｉｄｓ」ｖｏｌ．５（１９７０）ｐ．１２３−１７５、Ｎｏｒｔｈ−Ｈｏｌｌａｎｄ　Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ　Ｃｏ．、１９７０年発行）は、“ＰＲＯＰＥＲＴＩＥＳ　ＡＮＤ　ＳＴＲＵＣＴＵＲＥ　ＯＦ　ＶＩＴＲＥＯＵＳ　ＳＩＬＩＣＡ．Ｉ（ガラス状シリカＩの性質と構造）”と題する技術報文から抜粋した図面（第１２７頁Ｆｉｇ．２、第１３３頁Ｆｉｇ．６）であって、Ｆｉｇ．２には、石英ガラスの温度と容積の関係を示すグラフが、そして、Ｆｉｇ．６には、仮想温度と屈折率ｎとの関係を示すグラフがそれぞれ記載されている。
　甲第５号証（信越石英株式会社、「信越石英石英ガラス総合カタログ」ｐ．２７、１９９１年９月発行）には、『光学用石英ガラスの特性一覧表』が掲載され、表中には、各種品級の光学用石英ガラスについて、多数に及ぶ各種物性、特性が記載され、その特性の一つに『均一性最大屈折率変動（Δｎ）』の値も示されている。
４．当審の判断
　主張（ｉ）について：
　本件請求項１ないし２に係る発明（以下、本件発明という）と甲各号証とを対比すると、
本件発明は、変質層のない、屈折率のばらつきΔｎに基づき、光学的均質度が特定の値以下の、高い均質度を有する、すなわち、「Δ＝１０−６程度以下の光学的に均質な」、大きな塊の石英ガラスを得る方法を提供しようとするものであり、その解決手段として、出発石英ガラスを、屈折率のばらつきΔｎに基づいて、Δｎが特定の値のものを選定し、これを、ＳｉＯ２の粉末又は塊で作った母型の中で０〜１０ｋｇ／ｃｍ２の加圧下で熱処理するものであって、この技術的手段を講ずることによって、従来、光学ガラスの均質化手段として採用されていた熱処理自体によって引き起こされる二次的問題、試料周辺部に変質層が生成する現象、を抑制することが出来、光学的に均質な大きな塊の石英ガラスを製造することが出来る方法を提供しようというものであることは叙上のとおりである。
　これに対して、甲第１号証には、歪を含む石英ガラスを熱処理することによって、歪を除去し、光学的に均質なものを得るという、光学ガラスの分野においては一般的にすぎない目標が記載されているにすぎず、そこには、本件発明において意図している、屈折率のばらつきΔｎに基づき、「Δｎ＝１０−６程度以下」の石英ガラスを得るという特有なねらいについては記載するところはない。
　また、その講じている解決手段も、甲第１号証の解決手段は、歪を含んだ石英ガラスを対象とし、これを熱処理するというものにすぎず、そこには、本件発明で講じている、出発原料を、Δｎの値に基づいて、「Δｎ＝１０−５程度」のものを選定することについては、少なくとも記載するところはない。
　ただ、甲第１号証には、その熱処理が、１５００℃以上の場合に、試料の流動変形を防止するため試料周囲にＳｉＯ２粉末等の不活性粉末を充填して熱処理するという態様があり、これを、本件発明と対比すると、本件発明の「ＳｉＯ２の粉末・・・で作った母型の中で・・・熱処理する」事項に相当し、両者は、この点では共通しているものの、この場合においても、その処理される出発材料は、単に歪みを含んだものを対象としているにすぎず、そこには本件発明で講じている、Δｎの値に基づく出発材料の選定については記載がない以上、この特定の原料選定を要件事項としている本件発明が、この原料の選定について記載のない前示事項を以て、そこに本件発明が記載されているとすることはできない。
　本件発明は、その特有な要件事項に基づく解決手段によって、変質層のない、Δｎ＝１０−６程度以下の光学的に均質な、大きな塊の石英ガラスを得ることが出来るという特有な作用効果が奏せられるものであることは叙上のとおりであり、甲第１号証には、本件発明の特有な作用効果について、これを示唆する記載はない。
　してみれば、甲第１号証を以て、そこに、本件発明が記載されている、とすることはできないし、また、これより容易に発明することができたもの、とすることもできない。
　甲第２号証には、脈理を含む石英ガラスを不活性雰囲気内で、１５００℃以上に加熱し、且つ１０ＭＰａ以上に加圧することにより、脈理を除去する方法が、記載され、本件発明とは、石英ガラスを熱処理し、これによって、均質な石英ガラスを得ようとする上位概念においては、共通しているところはあるが、そこには、本件発明の「Δｎ＝１０−６程度以下」の石英ガラスを得ようとする特有なねらいについて示唆する記載はなく、また、そのために、本件発明において講じている、出発原料を、Δｎの値に基づき、「Δｎ＝１０−５程度」の屈折率のばらつきを有するものを選定し、これを、ＳｉＯ２の粉末又は塊で作った母型の中で、熱処理する、という特有な解決手段についてもこれを示唆する記載はないし、この特有な解決手段によって奏せられる本件発明の特有な作用効果についても、これを示唆する記載はない。
　してみれば、本件発明は、その特有なねらいと解決手段および作用効果についてこれを示唆する記載のない甲第２号証に基づいて、容易に発明することができたもの、とすることはできない。
　異議申立人は、本件発明と甲第１号証ないし甲第２号証との、発明のねらいとするところあるいはこれに基づく技術思想の違いについて、この違いは、甲第３号証ないし甲第５号証に示唆されており、本件発明は、甲第１号証ないし甲第２号証に、甲第３号証ないし甲第５号証を結び付けることによって容易に発明することができたものである、とも主張しているものである。
　しかしながら、甲第３号証ないし甲第５号証を検討しても、その何れにも、本件発明特有のねらいと技術思想についてこれを示唆する記載があるとすることはできない。
　すなわち、甲第３号証に記載するところは、光学的性質が不均質なガラスを高圧ガス雰囲気中で加熱することにより、ガラスを均質化する方法が記載され、この方法において対象とするガラスには、石英ガラスも含まれていること、熱処理条件は、１８００℃以上の温度で、アルゴン、チッ素、ヘリウム、もしくはその混合ガス雰囲気によることが記載されているにすぎず、本件発明とは、石英ガラスを熱処理し、これによって均質な石英ガ
ラスを得ようとする上位概念において、互いに共通するにすぎず、そこには、「Δｎ＝１０−６程度以下」の石英ガラスを得ようとすること、そのため、出発材料を、Δｎの値に基づき、「Δｎ＝１０−５程度」のものを選定し、これをＳｉＯ２の粉末又は塊で作った母型の中で熱処理すること、について、これを窺わせる記載はない。
　甲第４号証のＦｉｇ．２、及びＦｉｇ．６は、それぞれ、石英ガラスの温度と容積との関係、及び石英ガラスの仮想温度と屈折率との関係を、示しているだけで、そこに、本件発明特有のねらいとこれを解決するための特有な解決手段とについて、これを示唆する記載がある、とすることはできない。
　これについて、異議申立人は、次のように述べているものである。
　すなわち、Ｆｉｇ．２は、「石英ガラスの溶融状態及び固化した状態の温度と容積の関係を表すグラフ」を示しているものであって、グラフ中、「Ｖ字状の曲線」は、「溶融状態のガラスの温度−容積曲線」を示し、「左下がりの直線」は、「固化した状態のガラスの急冷却及び徐冷却の場合の温度と容積の関係を示」し、「横軸のｔｇｆ及びｔｇｓはそれぞれ急冷却及び徐冷却の場合のガラス転移温度」を示しているものであり（異議申立書第７頁下第３行ないし第８頁第２行）、
これによると、「石英ガラスでは急冷却と徐冷却でガラス転移温度、すなわち仮想温度に差が出ること、従ってそれに対応してガラスの容積も相違することが分かる。例えば曲線のピークの左側で見ると、急冷却の場合のｔｇｆは徐冷却の場合のｔｇｓよりも大きく、これに対応する容積は急冷却の場合が徐冷却の場合より小さい。ある一定の大きさの石英ガラス体を想定した場合、その表面近傍は急冷却されるが中心部は徐冷却される。これに、上記現象を当てはめてみると溶融したガラスが固化する際に表面の容積よりも内部の容積が大きくなり、表面近傍には引っ張り応力が、内部には圧縮応力が作用することとなる。この応力に応じて石英ガラスが変位し、歪みが発生する。これが甲第１号証にいう歪みを有する石英ガラスの状態である。ピークの右側についても応力の作用する方向が逆になるだけで、この仮想温度に差が出ることと、内部に歪みを生ずることとは全く同一である。」（異議申立書第８頁下第９行ないし第９頁第３行）、
Ｆｉｇ．６は、「仮想温度の関数としての屈折率ｎの関係を表すグラフを示す。ここで仮想温度とは、溶融状態のガラスがその状態を保って固化したその温度を意味し、Ｆｉｇ．２のそれぞれのガラス転移温度に相当するものである。また、Ｆｉｇ．６のグラフのピーク（１５００℃）がＦｉｇ．２の最小値に対応する。」（異議申立書第８頁第２行ないし第８頁第６行）、このグラフからは、「仮想温度と共に石英ガラスの屈折率ｎが変化することが分かる。従って、甲第１号証にいう歪みを有する石英ガラスはその表面近傍と内部で仮想温度に差がある（仮想温度の分布がある）ものであるが、これはとりもなおさずＦｉｇ．６から明らかなように屈折率ｎに差がある（分布ある）ことを意味し、すなわち、「石英ガラス体に『歪みを有する』ということは必然的に『屈折率分布を有する』ということであり、逆に『歪みを除去する』ということは『屈折率の分布をなくす、即ちΔｎを小さくする』ということとなる。」（異議申立書第９頁第４行ないし第１１行）、というものである。
　しかしながら、Ｆｉｇ．２、Ｆｉｇ．６の記載内容とその技術的意義が、前掲摘示のとおり、異議申立人の述べているとおりであるとしても、そこからは、本件発明の特定のΔｎ値を有するものを製造しようというねらいやそのためにΔｎの値に基づいて原料を選定し、これを特定の材質に基づく母型によって熱処理することによって解決することについてまで、これを直接的に窺うことはできず、Ｆｉｇ．２、Ｆｉｇ．６を以て、本件発明が示唆されている、あるいは、本件発明と甲第１号証ないし甲第２号証との差異が示されている、とすることもできない。
　甲第５号証には、光学用石英ガラスの特性として、最大屈折率変動Δｎの値を１０−６程度に設定したものが記載されてはいるが、この特性を持ったものを製造するために、どのような手段を講ずべきかについては、示唆する記載はなく、そこに、Δｎについて特定の値を有するものの製造方法に係る本件発明について、これが記載されている、とすることはできない。
　以上、甲第３号証ないし甲第５号証は、本件発明のねらいとするところとそのねらいを達成するための解決手段について、これを示すものではなく、また、本件発明と甲第１号証ないし甲第２号証との差異を示すものでもない。
　以上のとおりであるので、主張（ｉ）の理由と証拠によっては、その申し立てられた請求項１ないし２の各発明の特許は、これを取り消すことはできない。
主張（ｉｉ）について：
　明細書の記載不備について、異議申立人の指摘するところは、発明の要件事項としている屈折率のばらつきΔｎについて、「Δｎ＝１０−５程度」、「Δｎ＝１０−６程度以下」と記載しているが、これは、極めて不明瞭、あいまいな記載であり、発明が明確且つ十分に記載されているとはいえない、というものである。〔異議申立書第１２頁（Ｄ）記載不備の理由〕
　しかしながら、１０−５程度の数値が、１０−４と１０−６との間に存する数値であること、同じく、１０−６程度の数値が、１０−５と１０−７との間に存する値であることは自明の理とするところであって、各数値とも特定可能であり、不明瞭、あいまいである、との主張は当たらないし、これによって、発明が実施できない、とする特段の事情も見出すこともできない。
　してみれば、主張（ｉｉ）の理由によって、本件特許を取り消すことはできない。
５．むすび
　したがって、本件特許異議申立は、これを理由あるものとすることができない。
　また、他に本件各請求項に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１１年９月２２日（１９９９．９．２２）