【事件の表示】
　特許第２８７２６２８号「液晶表示素子の製造方法」の請求項１ないし８に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２８７２６２８号の請求項１ないし８に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件特許第２８７２６２８号（平成８年２月５日出願、平成１１年１月８日設定登録）の請求項１ないし８に係る発明（以下、本件第１発明ないし第８発明という。）は、その特許明細書特許請求の範囲の請求項１ないし８に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。
「【請求項１】 紫外線に感応し、液晶分子を平均的に表面に対して垂直に配向させる性質を有する垂直配向材料の膜を基板表面に形成した後、前記垂直配向材料の膜に、その面法線から傾いた方向から紫外線を照射する１回の工程により、液晶分子を一方向にプレチルト配向させることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項２】 前記紫外線を照射する工程が、自然光の紫外線を照射する請求項１記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項３】 前記紫外線を照射する工程が、直線偏光もしくは楕円偏光した紫外線を照射する請求項１記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項４】 前記直線偏光の電気ベクトル方向もしくは前記楕円偏光の電気ベクトルの長軸方向が、基板表面に垂直で紫外線照射方向を含む平面に沿っている請求項３記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項５】 前記垂直配向材料がポリイミド系である請求項１〜４のいずれかに記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項６】 前記垂直配向材料がシランカップリング系である請求項１〜４のいずれかに記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項７】 前記ポリイミド系の垂直配向材料が側鎖タイプである請求項５記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項８】 前記面法線から傾いた方向が、面法線から５度から８５度の範囲内である請求項１〜７のいずれかに記載の液晶表示素子の製造方法。」
　
２．特許異議申立ての理由の概要
　特許異議申立人五藤悦子は、甲第１号証ないし甲第３号証を提出し、本件第１発明ないし第８発明は甲各号証刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、本件第１発明ないし第８発明の特許は取り消されるべき旨主張している。
　
３．甲各号証の記載
（１）甲第１号証（特開平６−２７３７７２号公報）
　甲第１号証には、次の記載がある。
「【請求項１】 対向した基板間に液晶層を有す構成を持つ反射型液晶素子を備え、前記液晶素子により生成された光画像を投射する投射型液晶表示装置において、前記反射型液晶素子の液晶分子は、配向手段により、所定の傾斜角度（プレティルト角）を持つように配向されており、前記配向手段がラビング処理された垂直配向性のポリイミド膜であることを特徴とする投射型液晶表示装置。」
「【００４２】・・・・・ＤＡＰ型ＥＣＢモードに必要な傾斜垂直配向を実現するために提案されている従来の方法は以下のような欠点を有している。
【００４３】斜方蒸着法は蒸着角、蒸着速度、真空度、基板温度、膜厚などの蒸着条件や液晶物質、蒸着物質が異なると液晶のプレティルト角も大きく変化する。また、基板が大きい場合、該諸条件を面内で等しくすることは非常に困難である。
【００４４】従って、大面積で均一な傾斜垂直配向を再現性よく得るのは困難である。
【００４５】また、これまでに述べて来た従来配向方法をプロジェクションに応用する場合配向の高照度下における光安定性が必要となってくる。しかし、今までに光安定性のデータは報告されていない。
【００４６】
【課題を解決するための手段】対向した基板間に液晶層を有す構成を持つ反射型液晶素子を備え、前記液晶素子により生成された光画像を投射する投射型液晶表示装置において、前記反射型液晶素子の液晶分子は、ラビング処理された垂直配向性のポリイミド膜配向手段により所定の傾斜角度（プレティルト角）を持つように配向されている。
【００４７】
【作用】液晶分子配向手段に垂直配向性のポリイミド膜を用いているので、配向安定性、塗工性、化学的安定性、特にプロジェクションに必要な耐熱性、光安定性が増し、信頼性の向上がはかれる。
【００４８】また、液晶分子を配向させるのに前記膜をラビングする方法を使用しているので、容易に広範囲にわたって再現性よく所要の微小プレティルト角を得る事ができる。さらに後述するラビング密度を変化させることにより、プレティルト角を自在に制御することができる。」
「【００５７】・・・・・ガラス基板１０１に対向するガラス基板１０２上には、錫をドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）からなる透明導電膜をスパッタ法を用いて蒸着することによって、対向電極１０５を形成する。次いで対向電極１０５及び誘電体ミラー１１１上に垂直配向性のポリイミド膜・・・・・をスピンコートにより薄膜化し３００℃で焼成することにより配向膜１０８ａ，ｂを形成する。膜厚はおよそ１０００オングストロームである。
【００５８】その後前記配向膜１０８ａ及び１０８ｂにラビングによる配向処理を施す。」
　つまり、甲第１号証には、
「垂直配向性のポリイミド膜をガラス基板上に形成した後、前記ポリイミド膜にラビングによる配向処理を施すことにより、液晶分子を所定のプレティルト角を持つように配向させる投射型液晶表示装置の製造方法。」
の発明が記載されている。
　
（２）甲第２号証(特開平７−１６８１８７号公報)
　甲第２号証には、次の記載がある。
「【０００１】【産業上の利用分野】本発明は、液晶の屈折率異方性を利用した液晶表示装置及びその製造方法に関する。」
「【００１０】本発明は、・・・・・液晶表示装置の表示品位を低下を抑え、また、製造工程数を大幅に増やさず、全ての視角方向での視角特性を改善することができる液晶表示装置およびその製造方法を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置は、一対の基板間に液晶層を挟持し、該基板と液晶層の間に配向膜をそれぞれ有する液晶表示装置であって、液晶を水平配向させる性質を有する該配向膜に、液晶を垂直配向させる垂直配向領域を任意に配置したものであり、そのことにより上記目的が達成される。」
「【００１７】さらに、本発明の液晶表示装置の製造方法は、一対の基板上にそれぞれ、液晶を水平配向させる性質のある配向膜をそれぞれ形成し、該一対の基板の配向膜間に液晶層を挟持する液晶表示装置の製造方法であって、少なくとも一方の基板の配向膜の所定領域に、表面を荒す表面処理を施すことにより、液晶を垂直配向させる垂直配向領域を任意に配置する工程を有するものであり、そのことにより上記目的が達成される。
【００１８】さらに、好ましくは、本発明の液晶表示装置の製造方法において垂直配向領域を配置する工程は、少なくとも一方の基板の配向膜の所定領域に、選択的に紫外光、可視光、赤外光、または該配向膜の材料に対する所定波長のレーザー光を照射して表面処理を施すものであり、そのことにより上記目的が達成される。」
「【００２４】
【作用】上記構成により、液晶を水平配向させる性質を有する配向膜に、液晶を垂直配向させる垂直配向領域を任意に配置するので、垂直配向領域における液晶分子は垂直配向する。液晶には連続性があるので、垂直配向領域に接する部分でも、液晶分子は垂直配向方向に揃おうとする。これにより、液晶分子は垂直配向領域が点状の場合は、それを中心として放射状または同心円状に並び、垂直配向領域が直線の場合には、それを挟んで２方向に配列する。同様に、直線であっても形状に変化のある場合、または曲線の場合には、液晶分子の配向方向に、点状に近い様々な方向性を持たせることができる。また、この垂直配向が規制力を持つ範囲は、数１０ミクロンであるので、表示領域の大きさに応じて単一または複数の垂直配向領域を形成することにより、全表示領域に渡って、良好な視角特性を得ることができる。さらに、この垂直配向となる部分は、常時黒表示となり、実質的に開口率を下げることになるので、垂直配向領域の面積は表示面積の５０パーセント以下に抑えることが望ましい。また、垂直配向領域をブラックマスクと重ねて形成すれば開口率の低下は全くない。
【００２５】また、上記構成により、少なくとも一方の基板の配向膜の所定領域に、表面を荒す表面処理を施すことにより、液晶を垂直配向させる垂直配向領域を任意に配置するので、表示領域の一部を選択的に垂直配向するだけで、全方向から均一な視角特性を有する液晶表示装置が得られる。しかも、その製造工程において、エッチングなどを用いない場合には配向膜に不純物が付着したりせず、液晶表示装置の表示品位は低下しない。また、ラビングなどの配向処理の必要がないというメリットがある。部分的に垂直配向させる手段としては、所定の場所に垂直配向膜を形成しても良いし、アルカリや酸等の薬液や、光を照射することなどで配向膜表面を荒す表面処理を施す方法もある。中でも、光を照射する方法は、配向膜に光を照射するだけでよいので、従来の視角改善方法のプロセスの欠点であった工程が長くなると言う問題はなくなる。」
「【００２８】図２は本発明の第１の実施例における本液晶表示装置の製造工程図である。図２に示すように、まず、基板３１に絵素３２，３３を形成する。次に、この絵素３２，３３を覆って基板３１の全面に配向膜３４を形成する。この配向膜３４としては、有機高分子膜の１つであるポリイミド膜を使用する。この配向膜３４は液晶分子を水平配向させる性質を有している。この基板３１の表面に対向する位置には、後述する光照射工程時のマスク３５が配置されている。このマスク３５において、斜線で示される部分３５ａは光３６を透過しない遮光部分であり、また、斜線が施されていない部分３５ｂは光３６を透過する透過部分である。この透過部分３５ｂは、絵素３２，３３の中心部分に対応しており、配向膜３４を形成した後、このマスク３５を通して光３６を配向膜３４に照射し、絵素３２，３３のそれぞれの中央部分の表面を荒す表面処理を施して液晶分子の垂直配向領域を形成する。この光照射は、液晶表示装置を構成する片方の基板３１に対して行う。光３６の照射後、ラビングなどの配向処理は行わずに液晶セルを組み立てる。なお、本発明は従来から液晶表示装置に使用されているすべての基板構造に対して適用可能である。
【００２９】この光３６の照射工程は、配向膜３４の形成後の任意の時点で実施できる。具体的には、配向膜３４塗布後でも、仮焼成後でもよく、本焼成後でもよい。マスク３５を用いて光を照射した場合に得られる垂直配向領域は、本実施例においては、直径１０ミクロンの真円形で絵素面積の３％を占めている。また、マスク３５としては、例えば、通常使用されるフォトマスクと同様のマスクを使用することができる。さらに、ポリイミド膜からなる配向膜３４に照射する光３６としては、紫外光、可視光、赤外光、または配向膜３４の材料に対する所定波長のレーザ光のいずれを用いてもよいが、配向状態を変化させるための高エネルギーが容易に得られる光源として、波長が４００ｎｍ以下の紫外光が好ましい。このような波長の光は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、水銀キセノン灯などで容易に得られる。この紫外光を照射する場合、３０Ｊ／ｃｍ2以上の条件で照射する。」
「【００４６】ここでは、第１の実施例と同様に、配向膜に垂直配向領域８２を作る方法として、フォトマスクを用いて光を照射する方法を用いるが、あらかじめ垂直配向膜を形成し、垂直配向領域８２以外の領域に適度の光を照射することによって、プレチルト角を低下させ、水平配向としてもよい。照射する光の量は配向膜により異なるが、１０Ｊ／ｃｍ2以上必要である。これにより、光照射部のプレチルト角は１０度以下になる。」
「【００４８】また、逆に、配向膜として垂直配向膜を用いることもでき、この場合には、垂直領域以外の配向膜を適度に荒す表面処理をしてプレチルト角を小さくし、水平配向状態にすればよい。」
　
（３）甲第３号証(特開平７−５６１７３号公報)
　甲第３号証には、次の記載がある。
「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶分子にプレチルトを与えた液晶表示素子と液晶の配向処理方法ならびに液晶表示素子の製造方法に関する。」
「【００１９】本発明の目的は、視角依存性をもたらし、表示不良や素子破壊といった製品不良の原因となるラビング処理を不要とするとともに、先願の特願平４−２３６６５２号と特願平５−１５９６０６号で開示されたマルチドメイン構造の液晶セルあるいは光偏光記憶膜を用いて積極的配向処理をする液晶表示素子においてプレチルト角を与えてより安定で均一な視角特性を持った高表示品質の液晶表示素子と配向処理方法ならびにその方法を利用した液晶表示素子を提供することにある。」
「【００２０】
【課題を解決するための手段】本発明による液晶表示素子は、少なくとも一方の透明基板に微視的に配向方向が揃い、巨視的に配向が異なる積極的配向構造を有する一対の透明基板と、前記一対の基板間に挟まれた液晶層とを有し、前記基板の前記積極的配向処理を施した面が前記液晶層の液晶分子にプレチルト角を与えるようにした。」
「【００２２】さらに、本発明による液晶の配向処理方法は、透明基板の表面に所与の偏光の偏光方向と関連した方向に液晶分子が配向するような光偏光記憶特性を持つ配向膜を形成する工程と、前記基板の鉛直軸に対して傾いた方向から前記配向膜に対して前記偏光を照射して配向制御をする工程とを有する。
【００２３】さらに、本発明の液晶の配向処理方法は、透明基板の表面に所与の偏光の偏光方向と関連した方向に液晶分子が配向するような光偏光記憶特性を持つ配向膜を形成する工程と、前記配向膜に対して多数の異なる偏光方向を持った光を照射して配向制御をする工程とを有する液晶の配向処理方法。」
「【００２６】
【作用】光偏光記憶特性を持つ配向膜には液晶分子にプレチルト角を与える機能が形成されているために、液晶分子は一定方向に立ち上がる。このため、視角特性が向上する。
【００２７】
【実施例】プレチルト角を発生する実施例としては大まかに三つの方法をこれから説明する。」
「【００２９】第２の方法としては、光偏光記憶膜に偏光を照射して配向処理をする際に偏光の照射方向を斜め方向として光偏光記憶膜そのものにプレチルト角を与える性質を持たせるものである。
【００３０】第３の方法としては、光偏光記憶膜に対して多数の異なる偏光方向を持った光、例えば自然光を照射して光偏光記憶膜そのものにプレチルト角を与える性質を持たせるものである。」
「【００４４】ＩＩ．プレチルト角を発生する第２の方法：図４に示す方法は、図１〜図３に示したような光偏光記憶膜２にスロープ構造を物理的に加工するのではなく、偏光照射による配向処理工程において、偏光照射方向を制御してプレチルト角を与えようとするものである。
【００４５】図４において、配向処理の装置は先願の特願平５−１５９６０６号に開示した手段などを利用できる。ただし、光源１０から出た照射偏光１１の偏光方向１２に液晶分子が配向する光偏光記憶膜２を用い、照射偏光１１の照射方向は基板１の鉛直線Ｐに対してある角度傾けてある。
【００４６】このような方法を用いれば液晶分子は照射偏光の偏光方向１２にプレチルト角θφを持って配向する。従来の技術の説明の欄で引用した（１）〜（３）の三つの文献における光偏光記憶膜による配向では、いずれも液晶分子は偏光方向に対して直角に配向しているためにプレチルト角は発生していない。
【００４７】ＩＩＩ．プレチルト角を発生する第３の方法：図５（Ａ）に示すように、光偏光記憶膜２として例えばポリビニル４−メトキシシンナメート（Ｐｏｌｙ ｖｉｎｙｌ ４−ｍｅｔｈｏｘｙｃｉｎｎａｍａｔｅ）を用いて、あらゆるランダムな方向の偏光成分が存在する例えば自然光１３を基板面に照射することによりプレチルト角θφを得ることができることが実験的に確かめられている。
【００４８】自然光を前記光配向記憶膜を形成した基板に対して垂直方向から照射した場合は、液晶分子は基板に対して垂直に配向し、斜め方向から入射した光に対してはあるプレチルト角を持った配向をした。
【００４９】したがって、この方法により０°から９０°までのプレチルト角の制御ができる。なぜプレチルト配向するのかの理由ははっきりしないが、この樹脂の性質から以下のようであると考えられる。
【００５０】図５（Ａ）に示すこの光配向記憶膜は、直線偏光により図５（Ｃ）のように光二重化し、ポリマー間の重合を行ない、偏光方向に対して垂直方向に屈折率の異方性を生じる（一般にベンゼン環が連なった場合、その連なる方向に光軸を持つ正の異方性が生じることが知られている）。
【００５１】これを液晶配向膜として用いると、液晶はファンデルワールス相互作用等により異方性の方向、つまり偏光方向に対して直角に配向する。したがって、直線偏光を照射した場合には、偏光方向と直角の方向に配向する。
【００５２】しかし、自然光（ランダム偏光）を基板法線方向から入射した場合には、光配向制御膜上での偏光方向は平面全ての方向を向くことになるため、平面内では異方性が生じない。
【００５３】これに対して、基板法線方向（入射方向）の成分は全ての方向の総和となるため、その方向の屈折率が膜面上のそれより大きくなり、基板法線方向に光軸を持つ正の異方性を生じることになり、その方向に液晶分子が配向する。斜めから光をあてた場合も同様の理由により入射角に応じた斜め方向に軸を持った異方性が生じ、プレチルト角が発生する。」
　
４．対比、判断
（１）本件第１発明について
［甲第１号証記載の発明との対比］
　本件第１発明と甲第１号証に記載された発明（以下、引用発明という。）とを比較すると、引用発明における「垂直配向性のポリイミド膜」、「ガラス基板上」、「液晶分子を所定のプレティルト角を持つように配向させる」及び「投射型液晶表示装置」は、本件第１発明における「液晶分子を平均的に表面に対して垂直に配向させる性質を有する垂直配向材料の膜」、「基板表面」、「液晶分子を一方向にプレチルト配向させる」及び「液晶表示素子」に各々相当し、引用発明における「ポリイミド膜にラビングによる配向処理を施すこと」と本件第１発明における「垂直配向材料の膜に、その面法線から傾いた方向から紫外線を照射する１回の工程」は、いずれも垂直配向材料の膜に対する処理であるから、両発明は、
「液晶分子を平均的に表面に対して垂直に配向させる性質を有する垂直配向材料の膜を基板表面に形成した後、前記垂直配向材料の膜に対する処理を施すことにより、液晶分子を一方向にプレチルト配向させることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。」
である点で一致し、
ａ．垂直配向材料の膜が、本件第１発明においては、紫外線に感応するものであるのに対し、引用発明においてはそのような材料ではない点、及び
ｂ．垂直配向材料の膜に対する処理が、引用発明においては「ラビングによる配向処理」であるのに対し、本件第１発明においては「面法線から傾いた方向から紫外線を照射する１回の工程」である点
で相違している。
［判断］
　前記相違点ｂ．について検討する。
　甲第２号証には、基板に形成した垂直配向材料の膜に対する処理に関して、「ポリイミド膜からなる配向膜３４に照射する光３６としては、紫外光、可視光、赤外光、または配向膜３４の材料に対する所定波長のレーザ光のいずれを用いてもよいが、配向状態を変化させるための高エネルギーが容易に得られる光源として、波長が４００ｎｍ以下の紫外光が好ましい。」（段落００２９参照）、「あらかじめ垂直配向膜を形成し、垂直配向領域８２以外の領域に適度の光を照射することによって、プレチルト角を低下させ、水平配向としてもよい。」（段落００４６参照）なる記載がある。しかしながら、この甲第２号証に記載された方法は、液晶を水平配向させる性質を有する配向膜に、液晶を垂直配向させる垂直配向領域を任意に配置するために、少なくとも一方の基板の配向膜の所定領域に、選択的に紫外光等の光を照射して表面処理を施すものであり、「配向膜として垂直配向膜を用いることもでき、この場合には、垂直領域以外の配向膜を適度に荒す表面処理をしてプレチルト角を小さくし、水平配向状態にすればよい。」（段落００４８参照）との記載からも明らかなように、甲第２号証の方法における光の照射は、垂直配向領域以外の配向膜を適度に荒すためのものであり、光の照射方向は特に限定されず、光の照射方向と照射された領域における液晶のプレチルト配向の方向が関連しているともいえない。したがって、甲第２号証の記載からは、本件第１発明における「面法線から傾いた方向から紫外線を照射する」という技術的事項を想起することはできない。
　甲第３号証には、光偏向記憶膜を形成した基板に対して斜め方向から光を照射してプレチルト角を発生させるという方法が記載されているが、前記光偏向記憶膜による液晶配向性は光の照射によってはじめて生じるのであり（段落００５０及び００５１参照）、光を照射する前の光偏向記憶膜は、それ自体では液晶配向性を有していない。そして、甲第１号証及び甲第２号証に記載された方法は、すでに配向性を有している膜にさらに処理を施し、当該配向性に変化を生じさせるというものであるところ、甲第３号証に記載された前記方法における光の照射は、甲第１号証及び甲第２号証に記載された方法における前記処理とは、その作用において相違している。したがって、甲第３号証に「基板に対して斜め方向から光を照射する」という技術的事項が記載されているものの、かかる技術を甲第１号証や甲第２号証に記載の方法と組み合わせることは、当業者といえども容易になし得ることではない。
　以上のことから、本件第１発明は、甲第１号証ないし甲第３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易になし得た発明であるとはいえない。
　
（２）本件第２発明ないし第８発明について
　本件第２発明ないし第８発明は、本件第１発明の構成をさらに技術的に限定したものである。したがって、本件第２発明ないし第８発明は、上記４．（１）で述べたと同様の理由により、甲第１号証ないし甲第３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるということはできない。
　
５．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件請求項１ないし８に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１ないし８に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１２年２月１日（２０００．２．１）