(57)【要約】優れた抗ＨＩＶ作用、特にＡＺＴ、ｄｄＩ、ｄｄＣ、ｄ４Ｔ、３ＴＣなどの抗ＨＩＶ剤の複数の薬剤に耐性を有する多剤耐性ＨＩＶ株にも有効で、細胞毒性も問題とならない下記式［Ｉ］で表される４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシプリンヌクレオシド、および当該化合物と薬学的に許容される担体とを含有してなる医薬組成物に関する。2003068796.tif 000031（式中、Ｂはプリン塩基を示し、Ｒは水素原子またはリン酸残基を示す。）
2003068796.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式［Ｉ］
2003068796.tif 000026
（式中、Ｂはプリン塩基を示し、Ｒは水素原子またはリン酸残基を示す。）で表される４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシプリンヌクレオシド。
【請求項２】
Ｂが２位にアミノ基を有していないプリン塩基である、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシアデノシンである、請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシイノシンである、請求項１に記載の化合物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシプリンヌクレオシドと薬学的に許容される担体とを含有してなる医薬組成物。
【請求項６】
抗ウィルス剤である、請求項５に記載の医薬組成物。
【請求項７】
ＨＩＶ感染症治療薬である、請求項６に記載の医薬組成物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシプリンヌクレオシドまたはそれを含む医薬組成物をヒトを含む動物に投与することを特徴とするＨＩＶ感染症の治療方法。
【請求項９】
抗ウィルス剤を製造するための請求項１〜４のいずれか１項に記載の４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシプリンヌクレオシドの使用。
【請求項１０】
請求項５〜７のいずれか１項に記載の４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシプリンヌクレオシドを含む医薬組成物、及び該医薬組成物の使用に関する説明を記載した記載物を含むパッケージ。
【請求項１１】
（１）式［Ｖ］
2003068796.tif 000027
（式中、Ｂはプリン塩基を示し、Ｒ２は保護基を示す。）で表される３’−保護−２’−デオキシ−４’−Ｃ−ヒドロキシメチルプリンヌクレオシドの４’位ヒドロキシメチル基を保護し、次いで、５’位の水酸基を４’位ヒドロキシメチル基の保護基とは除去法の異なる保護基で保護した後、４’位ヒドロキシメチル基の保護基を選択的に除去して、式［ＶＩＩ］
2003068796.tif 000028
（式中、Ｂはプリン塩基を示し、Ｒ２とＲ４は保護基を示す。）で表される３’，５’−保護−２’−デオキシプリンヌクレオシド化合物を得る工程、
（２）式［ＶＩＩ］で表される化合物を酸化剤と反応させて４’位をアルデヒド基へ酸化し、次いで、アルデヒド化合物を有機溶媒中でヒドロキシルアミンと反応させてオキシム化合物とし、さらにオキシム化合物を有機溶媒中、塩基の存在下に脱水剤と反応させることによって式［ＶＩＩＩ］
2003068796.tif 000029
（式中、Ｂはプリン塩基を示し、Ｒ２とＲ４は保護基を示す。）で表される３’，５’−保護−４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシプリンヌクレオシドを得る工程、
（３）式［ＶＩＩＩ］で表される化合物における５’水酸基の保護基を除去し、所望により、５’位水酸基をリン酸化する工程、
からなる式［Ｉ］
2003068796.tif 000030
（式中、Ｂはプリン塩基を示し、Ｒは水素原子またはリン酸残基を示す。）で表される４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシプリンヌクレオシドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシプリンヌクレオシド及びその医薬用途、特にＨＩＶ感染症（たとえば、エイズ（ＡＩＤＳ））の治療用用途に関するものである。
背景技術
ＡＺＴ（ジドブジン）、ｄｄＩ（ジダノシン）、ｄｄＣ（ザルシタビン）、ｄ４Ｔ（スタブジン）、３ＴＣ（ラミブジン）などのヌクレオシド系逆転写酵素阻害剤（ｎｕｃｌｅｏｓｉｄｅ  ｒｅｖｅｒｓｅ  ｔｒａｎｓｃｒｉｐｔａｓｅ  ｉｎｈｉｂｉｔｏｒｓ；ＮＲＴＩｓ）にプロテアーゼ阻害剤（ｐｒｏｔｅａｓｅ  ｉｎｈｉｂｉｔｏｒｓ；ＰＩｓ）を加えた、いわゆる「強力な抗レトロウイルス剤による化学療法（ｈｉｇｈｌｙ  ａｃｔｉｖｅ  ａｎｔｉｒｅｔｒｏｖｉｒａｌ  ｔｈｅｒａｐｙ；ＨＡＡＲＴ）」と呼ばれる多剤併用療法によって、ＡＩＤＳの臨床像は一変し、ＡＩＤＳによる死亡者数も各国で激減した（Ｔｅｘｔｂｏｏｋ  ｏｆ  ＡＩＤＳ  Ｍｅｄｉｃｉｎｅ，ｐ７５１（Ｗｉｌｌｉａｍｓ  ＆  Ｗｉｌｋｉｎｓ，Ｂａｌｔｉｍｏｒｅ，１９９９））。
しかし、ＨＡＡＲＴによってＡＩＤＳによる死亡者が激減する一方で、複数の薬剤に対して交叉耐性を示す多剤耐性ＨＩＶ−１（ｈｕｍａｎ  ｉｍｍｕｎｏｄｅｆｉｃｉｅｎｃｙ  ｖｉｒｕｓ−１）株が出現し、たとえば、ＡＺＴと３ＴＣの両方に耐性のＨＩＶに感染した患者は、１９９０年初頭ではほとんど見られなかったのに対し、１９９５〜１９９６年になると４２％にものぼっていることが報告されている（ＡＩＤＳ，１１，１１８４（１９９７））。
大類らは、４’−Ｃ−エチニルヌクレオシドを合成し、それら化合物の抗ＨＩＶ活性を測定した結果、特定の構造を有する４’−Ｃ−エチニルヌクレオシドがＡＺＴと同等あるいはＡＺＴを凌ぐ優れた抗ＨＩＶ活性を有すること、ＡＺＴ、ｄｄＩ、ｄｄＣ、ｄ４Ｔ、３ＴＣなどの複数の抗ＨＩＶ剤に耐性を有する多剤耐性ウイルス株にも有効なことを明らかにした（Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，４３（２０００），４５１６−４５２５）。
また、４’位にシアノ基を有するヌクレオシドとして、Ｙａｎｇらにより４’−Ｃ−シアノチミジン、４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシシチジンなどが合成され、その抗ＨＩＶ活性が評価されている。その結果、４’−Ｃ−シアノチミジン（４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシ−５−メチルウリジン）に抗ＨＩＶ活性が確認されたものの、毒性が強く、医薬品としての実用には至っていない（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ．３３（１９９２），３７−４０、米国特許５１９２７４９）。
上記米国特許明細書には、４’位にシアノ基を有するプリンヌクレオシド誘導体を含む一般式が記載されているが、プリンヌクレオシド誘導体は実際には合成されておらず、抗ＨＩＶ活性についての確認もなされていない。
４’−Ｃ−シアノプリンヌクレオシドの合成法としては、糖を出発原料とし、シアノ基を導入した糖と核酸塩基を縮合して合成する方法が一般的であるが、この方法は多くの工程数を要し、必ずしも簡便な方法とはいえない。このような合成の困難性が、４’−Ｃ−シアノプリンヌクレオシドの研究開発を遅延させる一因となっていた。
発明の開示
本発明者らは、ＡＺＴ以上の抗ウイルス活性を有し、かつ近年問題とされている薬剤耐性のＨＩＶ株にも効果を示す化合物を見出すべく研究を重ねる過程で、プリンヌクレオシドを出発原料とした４’−Ｃ−シアノプリンヌクレオシドの簡便な合成法を確立し、該方法により種々の４’−Ｃ−シアノプリンヌクレオシドを合成し、抗ウイルス活性を測定した結果、特定の構造を有する４’−Ｃ−シアノプリンヌクレオシドが優れた抗ＨＩＶ活性を有し、ＡＺＴ、ｄｄＩ、ｄｄＣ、ｄ４Ｔ、３ＴＣなどの複数の抗ＨＩＶ剤に耐性を有する多剤耐性ウイルス株にも有効で、しかも細胞毒性も弱いことを見出し、本願発明を完成させた。
すなわち、本発明は、式［Ｉ］
2003068796.tif 000003
（式中、Ｂはプリン塩基を示し、Ｒは水素原子またはリン酸残基を示す。）で表される４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシプリンヌクレオシド、その製造方法、および当該化合物と薬学的に許容される担体とを含有してなる医薬組成物に関するものである。
また、本発明は、上記式［Ｉ］化合物またはそれを含む医薬組成物をヒトを含む動物に投与することを特徴とするエイズの治療方法に関するものである。
発明を実施するための最良の形態
（１）化合物
本発明化合物は、前記式［Ｉ］で表されるものであり、式中のＢで表される塩基は、アザプリン及びデアザプリンを含むプリン塩基を示す。
このようなプリン塩基は、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルケニル基、ハロアルケニル基、アルキニル基、アミノ基、アルキルアミノ基、水酸基、ヒドロキシアミノ基、アミノキシ基、アルコキシ基、メルカプト基、アルキルメルカプト基、アリール基、アリールオキシ基、シアノ基などの置換基を有していてもよく、置換基の数及び位置は特に制限されるものではない。
置換基としてのハロゲン原子としては、塩素、フッ素、ヨウ素、臭素が例示される。アルキル基としては、メチル、エチル、プロピルなどの炭素数１〜７の低級アルキル基が例示される。ハロアルキル基としては、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、ブロモメチル、ブロモエチルなどの炭素数１〜７のアルキルを有するハロアルキル基が例示される。アルケニル基としては、ビニル、アリルなどの炭素数２〜７のアルケニル基が例示される。ハロアルケニル基としては、ブロモビニル、クロロビニルなどの炭素数２〜７のアルケニルを有するハロアルケニル基が例示される。アルキニル基としては、エチニル、プロピニルなどの炭素数２〜７のアルキニル基が例示される。アルキルアミノ基としては、メチルアミノ、エチルアミノなどの炭素数１〜７のアルキルを有するアルキルアミノ基が例示される。
アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシなどの炭素数１〜７のアルコキシ基が例示される。アルキルメルカプト基としては、メチルメルカプト、エチルメルカプトなどの炭素数１〜７のアルキルを有するアルキルメルカプト基が例示される。アリール基としては、フェニル基；メチルフェニル、エチルフェニルなどの炭素数１〜５のアルキルを有するアルキルフェニル基；メトキシフェニル、エトキシフェニルなどの炭素数１〜５のアルコキシを有するアルコキシフェニル基；ジメチルアミノフェニル、ジエチルアミノフェニルなどの炭素数１〜５のアルキルアミノを有するアルキルアミノフェニル基；クロロフェニル、ブロモフェニルなどのハロゲノフェニル基などが例示される。
プリン系の塩基を具体的に例示すれば、プリン、６−アミノプリン（アデニン）、６−ヒドロキシプリン、６−フルオロプリン、６−クロロプリン、６−メチルアミノプリン、６−ジメチルアミノプリン、６−トリフルオロメチルアミノプリン、６−ベンゾイルアミノプリン、６−アセチルアミノプリン、６−ヒドロキシアミノプリン、６−アミノオキシプリン、６−メトキシプリン、６−アセトキシプリン、６−ベンゾイルオキシプリン、６−メチルプリン、６−エチルプリン、６−トリフルオロメチルプリン、６−フェニルプリン、６−メルカプトプリン、６−メチルメルカプトプリン、６−アミノプリン−１−オキシド、６−ヒドロキシプリン−１−オキシド、２−アミノ−６−ヒドロキシプリン（グアニン）、２，６−ジアミノプリン、２−アミノ−６−クロロプリン、２−アミノ−６−ヨードプリン、２−アミノプリン、２−アミノ−６−メルカプトプリン、２−アミノ−６−メチルメルカプトプリン、２−アミノ−６−ヒドロキシアミノプリン、２−アミノ−６−メトキシプリン、２−アミノ−６−ベンゾイルオキシプリン、２−アミノ−６−アセトキシプリン、２−アミノ−６−メチルプリン、２−アミノ−６−シクロプロピルアミノメチルプリン、２−アミノ−６−フェニルプリン、２−アミノ−８−ブロモプリン、６−シアノプリン、６−アミノ−２−クロロプリン（２−クロロアデニン）、６−アミノ−２−フルオロプリン（２−フルオロアデニン）、６−アミノ−３−デアザプリン、６−アミノ−８−アザプリン、２−アミノ−６−ヒドロキシ−８−アザプリン、６−アミノ−７−デアザプリン、６−アミノ−１−デアザプリン、６−アミノ−２−アザプリンなどが挙げられる。
このようなプリン塩基の中でも、２位にアミノ基を有していないプリン塩基が好ましく、好ましい本発明化合物を具体的に例示すれば、たとえば４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシアデノシン、４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシイノシンまたはそれらの５’−リン酸エステルが挙げられる。
本発明化合物は、塩、水和物または溶媒和物の形態であってもよい。そのような塩としては、Ｒが水素原子である場合には塩酸塩または硫酸塩などの酸付加物、Ｒがリン酸残基である場合にはナトリウム塩、カリウム塩またはリチウム塩などのアルカリ金属塩、カルシウム塩などのアルカリ土類金属塩もしくはアンモニウム塩などの薬学的に許容される任意の塩が例示される。
また、水和物または溶媒和物としては、本発明の化合物またはその塩１分子に対し、０．１〜３．０分子の水または溶媒が付着したものを例示することができる。さらに、本発明の化合物には、互変異性体などの各種異性体も包含されうる。
（２）製造法
本発明化合物は、以下に説明する工程により製造することができる。
第１工程；
第１工程は式［ＩＩ］で表される化合物の３’位水酸基を保護し、式［ＩＶ］で表される化合物を得る工程である。
2003068796.tif 000004
（式中、Ｂはプリン（アザプリンまたはデアザプリンも含む）塩基を示し、Ｒ１、Ｒ２は保護基を示す。）
式［ＩＶ］で表される化合物は、式［ＩＩ］で表される化合物の５’位水酸基を保護した後、３’位水酸基を５’位保護基とは除去法の異なる保護基で保護し、引き続き、５’位水酸基の保護基を選択的に除去して得ることができる。
Ｒ１で表される５’位水酸基の保護基としては、ヌクレオシドの５’位水酸基の保護基として常用されているものであればよく、具体的には、ジメトキシトリチル、メトキシトリチル、トリチル、ｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル、ベンゾイル基などが例示される。また、Ｒ２で表される３’位水酸基の保護基としては、水酸基などで通常使用されるものであればよく、たとえばエーテル系保護基、アシル系保護基、シリル系保護基、アセタール系保護基などを例示することができる。
より具体的には、エーテル系保護基としては、メチルエーテル、第３級ブチルエーテル、ベンジルエーテル、メトキシベンジルエーテル、トリチルエーテルなどを、アシル系保護基としてはアセチル、ベンゾイル、ピバロイルなどを、シリル系保護基としてはｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ−ブチルジフェニルシリル、トリメチルシリル、トリエチルシリルなどを、アセタール系保護基としてはイソプロピリデン、エチリデン、メチリデン、ベンジリデン、テトラヒドロピラニル、メトキシメチルなどをそれぞれ使用することができる。
各保護基の導入は、当該技術分野において知られる通常の方法によって行われる。
引き続き行う５’位保護基の除去は、使用した保護基に応じ、酸性加水分解、アルカリ性加水分解、フッ化テトラブチルアンモニウム処理、接触還元などの通常の処理方法から適宜選択して行えばよい。
第２工程；
第２工程は、式［ＩＶ］で表される化合物の４’位にヒドロキシメチル基を導入し、式［Ｖ］で表される化合物を得る工程である。
2003068796.tif 000005
（式中、Ｂはプリン（アザプリンまたはデアザプリンも含む）塩基を示し、Ｒ２は保護基を示す。）
式［Ｖ］で表される化合物は、式［ＩＶ］で表される化合物の５’−ヒドロキシメチル基をアルデヒド基へ変換後、ホルムアルデヒドとのアルドール反応による４’位へのヒドロキシメチル基の導入及びアルデヒド基の還元を経て合成することができる。
式［ＩＶ］で表される化合物の５’−ヒドロキシメチル基をアルデヒドに変換する場合の酸化剤としては、無水クロム酸、ピリジンと無水酢酸との複合試薬、ピリジンクロロクロメート、ピリジンジクロメートなどのクロム系酸化剤；デス−マーチン試薬などの高原子価ヨウ素酸化剤；ジメチルスルホキシドと無水酢酸、塩化オキサリルまたはジシクロヘキシルカルボジイミドとを組み合わせて用いるジメチルスルホキシド系酸化剤などを例示することができる。
反応条件は用いる酸化剤により異なり、たとえば、１−エチル−３−（ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩とジメチルスルホキシドを用いて酸化する場合、トルエンなどの有機溶媒とジメチルスルホキシドの混合溶媒中、必要によりアルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲気下、式［ＩＶ］化合物１モルに対して１−エチル−３−（ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩を１〜５モル用い、１０〜５０℃で１〜２時間程度反応させることにより実施できる。
次に、４’位へのヒドロキシメチル基の導入は、得られたアルデヒド化合物とホルムアルデヒドとのアルドール反応により実施することができる。
アルドール化は、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの有機溶媒中、１〜５モルの水酸化ナトリウムなどの塩基存在下、アルデヒド化合物１モルに対して１〜１０モルのホルムアルデヒドを用い、反応させることにより実施することができる。
引き続き行うアルデヒド基の還元は、メタノール、エタノール、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の有機溶媒中、アルデヒド化合物１モルに対して、１〜５モルの水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミニウムなどの還元剤を用い、−７８℃から室温で１５分から１時間程度反応させればよい。
第３工程；
第３工程は、式［Ｖ］で表される化合物の５’位に保護基を導入する工程である。
2003068796.tif 000006
（式中、Ｂはプリン（アザプリンまたはデアザプリンも含む）塩基を示し、Ｒ２〜Ｒ４は保護基を示す。）
式［ＶＩＩ］で表される化合物は、式［Ｖ］で表される化合物の４’位ヒドロキシメチル基を保護した後、５’位水酸基を４’位ヒドロキシメチル基の保護基とは除去法の異なる保護基で保護し、引き続き、４’位ヒドロキシメチル基の保護基を選択的に除去して得られる。
Ｒ３で表される４’位ヒドロキシメチル基の保護基としては、ヌクレオシドの５’位水酸基の保護基として常用されているものであればよく、具体的には、前記第１工程で例示したものを使用することができる。
各保護基の導入は、当該技術分野において知られる通常の方法によって行われる。
４’位ヒドロキシメチル基の保護基の除去は、使用した保護基に応じ、酸性加水分解、アルカリ性加水分解、フッ化テトラブチルアンモニウム処理、接触還元などの通常の処理方法から適宜選択して行えばよい。
第４工程；
第４工程は、式［ＶＩＩ］で表される化合物の４’位ヒドロキシメチル基をシアノ基に変換する工程である。
2003068796.tif 000007
（式中、Ｂはプリン（アザプリンまたはデアザプリンも含む）塩基を示し、Ｒ２とＲ４は保護基を示す。）
式［ＶＩＩＩ］で表される化合物は、式［ＶＩＩ］の４’位ヒドロキシメチル基をアルデヒド基へと酸化した後、これをオキシム基へと変換し、引き続き、得られたオキシム化合物を脱水することにより合成できる。
式［ＶＩＩ］で表される化合物の４’−ヒドロキシメチル基をアルデヒドに変換する場合、用いる酸化剤としては、前記第２工程で例示したものを使用することができる。
反応条件は用いる酸化剤により異なり、たとえば、１−エチル−３−（ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩とジメチルスルホキシドを用いて酸化する場合、トルエンなどの有機溶媒とジメチルスルホキシドの混合溶媒中、必要によりアルゴン、窒素などの不活性ガス雰囲気下、式［ＶＩＩ］化合物１モルに対して１−エチル−３−（ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩を１〜５モル用い、１０〜５０℃で１〜２時間程度反応させることにより実施できる。
アルデヒド化合物のオキシム化合物への変換は、ピリジンなどの有機溶媒中、アルデヒド化合物１モルに対して、１〜５モルの塩酸ヒドロキシルアミンを使用し、室温〜１００℃で３０分〜３時間反応させることにより実施できる。
オキシム化合物の脱水は、ジクロロメタン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン等の有機溶媒中、ピリジン、トリエチルアミン、酢酸ナトリウム等の塩基存在下、ホスゲン、カルボニルジイミダゾール、塩化メタンスルホニル、無水酢酸等の脱水剤を用いることで実施できる。
脱水反応条件は用いる脱水剤により異なり、たとえば、塩化メタンスルホニルを用いて脱水する場合、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、ピリジンなどの有機溶媒中、式［ＶＩＩ］化合物１モルに対して塩化メタンスルホニルとトリエチルアミンをそれぞれ１〜５モル、５〜１０モル用い、−５０℃〜室温で１５分〜２時間程度反応させることにより実施できる。
こうして得られた化合物［ＶＩＩＩ］の保護基を除去して、Ｒが水素である本発明化合物を得、必要に応じてリン酸化して本発明化合物を得る。
2003068796.tif 000008
（式中、Ｂはプリン（アザプリンまたはデアザプリンも含む）塩基を示し、Ｒは水素原子またはリン酸残基を示し、Ｒ２とＲ４は保護基を示す。）
保護基の除去は、使用した保護基に応じ、酸性加水分解、アルカリ性加水分解、フッ化テトラブチルアンモニウム処理、接触還元などの通常の処理方法から適宜選択して行えばよい。
さらに、所望により塩基中のアミノ基を脱アミノしたい場合には、アデノシンデアミナーゼ、シチジンデアミナーゼなどの各種デアミナーゼを用いて常法により脱アミノすることも可能である。
また、Ｒがモノリン酸残基、ジリン酸残基などのリン酸残基である化合物を得る場合には、Ｒが水素原子である化合物をオキシ塩化リン、テトラクロロピロリン酸などのヌクレオシドの５’位の選択的なリン酸化に使用されるリン酸化剤と反応させることにより、遊離酸型または塩型の目的化合物を得ることができる。
上記各反応の実施に際し、必要に応じて、プリン塩基中の官能基を通常の方法で保護し、ついで、脱保護することができる。
本発明化合物は、一般のヌクレオシド、ヌクレオチドの単離精製に使用されている方法（例えば、再結晶法、イオン交換カラムクロマトグラフィー、吸着カラムクロマトグラフィーなど）を適宜組み合わせて分離精製することができる。このようにして得られた化合物は、必要に応じて塩型とすることもできる。
（３）用途
本発明化合物は、抗ウィルス作用を有し、後述の試験例に示すようにレトロウイルスに対して優れた抗ウイルス作用を有することから、これらを有効成分とする本発明組成物は医薬としての使用、具体的にはレトロウイルスの感染症の処置、特にヒト免疫不全ウイルス（ＨＩＶ）感染に起因するＨＩＶ感染症（たとえば、エイズなど）の治療に有用である。
本発明の医薬組成物が有効に使用できるヒト以外の動物としては、家畜、家禽類のほか、実験動物が含まれる。
本発明化合物の投与量は、患者の年齢、体重、疾病、疾病の重篤度、薬物に対する忍容性、投与方法などにより異なり、これらの条件を総合した上で適宜決定されるものであるが、通常１日当たり０．００００１〜１０００ｍｇ／ｋｇ体重、好ましくは０．０００１〜１００ｍｇ／ｋｇ体重の範囲内から選ばれ、一回または複数回に分けて投与される。
投与方法は、経口、非経口、経皮、経腸、局所投与などのいずれの経路によっても投与することができる。
本発明化合物の製剤化に際しては、通常使用される製剤用担体、賦形剤、その他の添加剤を含む組成物として使用するのが普通である。担体としては、乳糖、カオリン、ショ糖、結晶セルロース、コーンスターチ、タルク、寒天、ペクチン、ステアリン酸、ステアリン酸マグネシウム、レシチン、塩化ナトリウムなどの固体状担体、グリセリン、落花生油、ポリビニルピロリドン、オリーブ油、エタノール、ベンジルアルコール、プロピレングリコール、水などの液状担体を例示することができる。
剤型としては任意の形態を採ることができ、たとえば固体状製剤としては錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル化剤、座剤、トローチ剤、バッカル剤、貼付剤などを、液状製剤としてはシロップ剤、乳液剤、軟ゼラチンカプセル剤、クリームないしペースト剤、ゲル剤、スプレー剤、リポソーム剤、注射剤などをそれぞれ例示することができる。
本発明の医薬組成物と該医薬組成物の使用に関する説明を記載した記載物を含むパッケージにおいて、記載物としては、用途・効能や投与方法などに関する説明事項を記載したいわゆる能書などが挙げられる。
また、本発明の化合物およびその医薬組成物は、ＡＺＴ、ｄｄＩ、ｄｄＣ、ｄ４Ｔ、３ＴＣなどの他の抗ウィルス剤と併用投与することができる。
実施例
以下、本発明を合成例、試験例、製剤例などをあげて具体的に説明するが、本発明はこれらによって何等限定されるものではない。
以下の各式中、Ａはアデニン、ＡＢＺはＮ６−ベンゾイル−アデニン、Ｈはイノシン、Ｇはグアニン、ＤＡＰは２，６−ジアミノプリン、ＤＡＰＢＺ２は２，６−ジベンズアミドプリン、ＤＭＴｒはジメトキシトリチル、ＴＢＳはｔ−ブチルジメチルシリルを示す。
合成例１：４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシアデノシンの合成
（１）Ｎ６−ベンゾイル−３’−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−２’−デオキシアデノシン（化合物２）の合成
2003068796.tif 000009
Ｎ６−ベンゾイル−２’−デオキシ−５’−Ｏ−ジメトキシトリチルアデノシン１（２．００ｇ、３．０４ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（６．００ｍｌ）に溶解し、イミダゾール（０．８３ｇ、１２．２ｍｍｏｌ）、ｔｅｒｔ−ブチルクロロジメチルシラン（０．９２ｇ、６．１０ｍｍｏｌ）を加え、室温で終夜撹拌した。
メタノールを加えて反応を停止させた後、反応液を酢酸エチルで希釈し、有機層を水洗、乾燥（無水硫酸マグネシウム）した。乾燥剤をろ去後、ろ液を減圧下濃縮した。得られた残さをクロロホルム（７０．０ｍｌ）に溶解し、氷冷下、トルエンスルホン酸１水和物（２．００ｇ）のメタノール溶液（３０．０ｍｌ）を滴下し、同温度で３０分間撹拌した。
反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え撹拌した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶液を減圧下濃縮し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル  １００ｃｃ、ヘキサン：酢酸エチル＝１：３）により精製し、白色泡状の化合物２（１．２０ｇ、２．５６ｍｍｏｌ、８４．２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ９．０５（１Ｈ，ｓ，ＮＨ），８．７８（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），８．１０（１Ｈ，ｓ，Ｈ−２），８．０９−７．５２（５Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−１’，Ｊ＝５．３６，９．２８），５．７８（１Ｈ，ｄｄ，５’−ＯＨ，Ｊ＝１．９２，１１．２），４．７４（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３’，Ｊ＝４．８８），４．１７（１Ｈ，ｓ，Ｈ−４’），４．００−３．７４（２Ｈ，ｍ，Ｈ−５’），３．０７（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．２７（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ），０．９４（９Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂｕ），０．１３（６Ｈ，ｓ，Ｍｅ）．
（２）Ｎ６−ベンゾイル−３’−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−２’−デオキシ−４’−Ｃ−ヒドロキシメチルアデノシン（化合物３）の合成
2003068796.tif 000010
化合物２（２．５５ｇ、５．４３ｍｍｏｌ）をトルエン（１０．０ｍｌ）、ジメチルスルホキシド（１５．０ｍｌ）に溶解し、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（３．１２ｇ、１６．３ｍｍｏｌ）、ピリジン（０．４１ｍｌ）、トリフルオロ酢酸（０．２１ｍｌ）を加え、室温で２時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈した後、有機層を水洗、乾燥（無水硫酸マグネシウム）した。乾燥剤をろ去後、ろ液を減圧下濃縮し、粗アルデヒドを得た。粗アルデヒドをジオキサン（１５．０ｍｌ）に溶解し、３７％  ホルムアルデヒド水溶液（２．８６ｍｌ）、２Ｎ  水酸化ナトリウム水溶液（２．８６ｍｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。
反応液を酢酸で中和後、酢酸エチルで希釈し、水洗、乾燥した。乾燥剤をろ去後、ろ液を減圧下濃縮して得られた残さをエタノール（２５．０ｍｌ）に溶解し、氷冷下、水素化ホウ素ナトリウム（０．２１ｇ、５．５５ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌した。反応液を酢酸で中和後、酢酸エチルで希釈し、水洗、乾燥（無水硫酸マグネシウム）した。乾燥剤をろ去後、ろ液を減圧下濃縮し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル  ３００ｃｃ、ヘキサン：酢酸エチル＝１：３〜１：４〜１：５）により精製し、淡黄色泡状の化合物３（１．６８ｇ、３．３６ｍｍｏｌ、６１．９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ９．０５（１Ｈ，ｓ，ＮＨ），８．７９（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），８．０８（１Ｈ，ｓ，Ｈ−２），８．０４−７．５２（５Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−１’），５．５６（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，ＯＨ），４．９４（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’，Ｊ＝１．４８，５．８８），３．８６−３．６３（４Ｈ，ｍ，Ｈ−５’  ａｎｄ  Ｈ−６’），３．２４（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．６７（１Ｈ，ｂｒ．ｓ，ＯＨ），２．３８（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ），０．９６（９Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂｕ），０．１９，０．１８（ｅａｃｈ  ３Ｈ，ｓ，Ｍｅ）．
（３）Ｎ６−ベンゾイル−３’−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−４’−Ｃ−ジメトキシトリチルオキシメチルアデノシン（化合物４）の合成
2003068796.tif 000011
化合物３（０．８４ｇ、１．６８ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１７．０ｍｌ）に溶解し、氷冷下、トリエチルアミン（０．４７ｍｌ、３．３７ｍｍｏｌ）、塩化ジメトキシトリチル（０．８５ｇ、２．５１ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌した。メタノールを加えて反応を停止させた後、有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下濃縮し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル  ２００ｃｃ、ヘキサン：酢酸エチル＝２：１〜１：１）により精製し、淡黄色泡状の化合物４（０．９１ｇ、１．１３ｍｍｏｌ、６７．３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ９．３０（１Ｈ，ｂｓ，ＮＨ），８．９４（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），８．２４（１Ｈ，ｓ，Ｈ−２），８．１８−６．９４（１８Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．４１（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−１’，Ｊ＝５．８４，８．８０），５．３６（１Ｈ，ｂｒ．ｓ，ＯＨ），４．８５（１Ｈ，ｄ，Ｈ−３’，Ｊ＝３．９２），４．４２（１Ｈ，ｂｒ．ｄ，Ｈ−５’ａ），３．９１（６Ｈ，ｓ，ＯＭｅ），３．７８（１Ｈ，ｂｒ，ｔ，Ｈ−５’ｂ），３．６６（１Ｈ，ｄ，Ｈ−６’ａ，Ｊ＝１０．７６），３．２８（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），３．２０（１Ｈ，ｄ，Ｈ−６’ｂ，Ｊ＝１０．７６），２．４１（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ），０．８９（９Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂｕ），０．１３，０．１１（ｅａｃｈ  ３Ｈ，ｓ，Ｍｅ）．
（４）Ｎ６−ベンゾイル−３’，５’−ジ−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−２’−デオキシ−４’−Ｃ−ヒドロキシメチルアデノシン（化合物５）の合成
2003068796.tif 000012
化合物４（１．６１ｇ、２．０１ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミド（８．００ｍｌ）に溶解し、イミダゾール（０．４１ｇ、６．０２ｍｍｏｌ）、ｔｅｒｔ−ブチルクロロジメチルシラン（０．４５ｇ、２．９９ｍｍｏｌ）を加え、室温で終夜撹拌した。メタノールを加えて反応を停止させた後、反応液を酢酸エチルで希釈し、有機層を水洗、乾燥（無水硫酸マグネシウム）した。乾燥剤をろ去し、ろ液を減圧下濃縮した。得られた残さをクロロホルム（７０．０ｍｌ）に溶解し、氷冷下、トルエンスルホン酸１水和物（１．００ｇ）のメタノール溶液（３０．０ｍｌ）を滴下し、同温度で３０分間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え撹拌した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。得られた溶液を減圧下濃縮し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル  ２００ｃｃ、ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）により精製し白色泡状の化合物５（１．００ｇ、１．６３ｍｍｏｌ、８１．１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ９．０９（１Ｈ，ｂｓ，ＮＨ），８．８０（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），８．２８（１Ｈ，ｓ，Ｈ−２），８．０４−７．５１（５Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．５２（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１’，Ｊ＝６．３２），４．８７（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’，Ｊ＝４．４０，６．３６），３．９０−３．７２（４Ｈ，ｍ，Ｈ−５’  ａｎｄ  Ｈ−６’），３．０３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．６０（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ），２．５３（１Ｈ，ｂｒ．ｓ，ＯＨ），０．９５，０．８９（ｅａｃｈ  ９Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂｕ），０．１６，０．０６（ｅａｃｈ  ６Ｈ，ｓ，Ｍｅ）．
（５）Ｎ６−ベンゾイル−３’，５’−ジ−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシアデノシン（化合物６）の合成
2003068796.tif 000013
化合物５（１．００ｇ、５．４３ｍｍｏｌ）をトルエン（３．００ｍｌ）とジメチルスルホキシド（６．００ｍｌ）に溶解し、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（０．９４ｇ、４．９０ｍｍｏｌ）、ピリジン（０．１３ｍｌ）、トリフルオロ酢酸（６２．８μｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈した後、有機層を水洗、乾燥（無水硫酸マグネシウム）した。乾燥剤をろ去後、ろ液を減圧下濃縮し、粗アルデヒドを得た。粗アルデヒドをピリジン（１０．０ｍｌ）に溶解し、塩酸ヒドロキシルアミン（０．１７ｇ、２．４５ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、残さを酢酸エチル−水で分配した。有機層を無水硫酸マグネシウム上で乾燥した後、減圧下乾固し、粗オキシムを得た。粗オキシムをジクロロメタン（１０．０ｍｌ）に溶解し、氷冷下、トリエチルアミン（０．４５ｍｌ、３．２３ｍｍｏｌ）、塩化メタンスルホニル（０．１９ｍｌ、２．４５ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌した。反応液をクロロホルムで希釈した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下乾固し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル  ２００ｃｃ、クロロホルム：メタノール＝１００：１）により精製した。エタノール−水から結晶化し、化合物６（０．８７ｇ、１．４１ｍｍｏｌ、８７．７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ９．００（１Ｈ，ｂｒ．ｓ，ＮＨ），８．７８（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），８．１３（１Ｈ，ｓ，Ｈ−２），８．０３−７．５１（５Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｉｃ），６．５２（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１’，Ｊ＝５．８８），５．０２（１Ｈ，ｔ，Ｈ−３’，Ｊ＝５．８４），４．０５（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝１１．２４），３．８９（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝１１．２４），３．２４，２．６２（ｅａｃｈ  １Ｈ，ｍ，Ｈ−２’），０．９８，０．８７（ｅａｃｈ  ９Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂｕ），０．２１，０．１９，０．０８，０．０３（ｅａｃｈ  ３Ｈ，ｓ，Ｍｅ）．
（６）４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシアデノシン（化合物７）の合成
2003068796.tif 000014
化合物６（０．７０ｇ、１．１５ｍｍｏｌ）をメタノール（１０．５ｍｌ）に溶解し、２８％  アンモニア水（３．５０ｍｌ）を加え、室温で終夜撹拌した。析出した結晶をテトラヒドロフラン（７．８０ｍｌ）に溶解し、フッ化テトラブチルアンモニウム（１Ｍ  テトラヒドロフラン溶液、２．１８ｍｌ、２．１８ｍｍｏｌ）を加え、室温で１５分間撹拌した。反応液を減圧下濃縮した後、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル  ５０ｃｃ、酢酸エチル：メタノール＝２０：１〜１０：１）により精製した。水から結晶化し、化合物７（０．２１ｇ、０．７６ｍｍｏｌ、６６．１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ  ８．３２（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），８．１５（１Ｈ，ｓ，Ｈ−２），７．３３（２Ｈ，ｂ．ｓ，ＮＨ２），６．５２（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１’，Ｊ＝６．８４），６．３１（１Ｈ，ｄ，３’−ＯＨ，Ｊ＝５．４０），５．８３（１Ｈ，ｔ，５’−ＯＨ，Ｊ＝５．８８），４．７５（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’，Ｊ＝５．３６，５．８８），３．８４（１Ｈ，ｍ，Ｈ−５’），３．６７（１Ｈ，ｍ，Ｈ−５’），２．９９（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’），２．４７（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’）．
ＦＡＢＭＳ  ｍ／ｚ：２７７（ＭＨ＋）．
合成例２：４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシイノシン（化合物８）の合成
2003068796.tif 000015
化合物７（０．１５ｇ、０．５４ｍｍｏｌ）を５０ｍＭ  Ｔｒｉｓ−ＨＣｌ緩衝液（ｐＨ  ７．５０、３０．０ｍｌ）に溶解し、アデノシンデアミナーゼ（０．３０ｍｌ、１３５ｕｎｉｔ）を加え、４０℃で２時間撹拌した。反応液を減圧下濃縮した後、ＯＤＳシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ＯＤＳシリカゲル  ５０ｃｃ、Ｈ２Ｏ〜２．５％エタノール）で精製した。水から結晶化し、化合物  ８（９０．０ｍｇ、０．３２ｍｍｏｌ、５９．３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ  １２．３６（１Ｈ，ｂ．ｓ，ＮＨ），８．３１（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），８．０９（１Ｈ，ｓ，Ｈ−２），６．５０（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１’，Ｊ＝６．８４），６．３４（１Ｈ，ｂ．ｓ，ＯＨ），５．７４（１Ｈ，ｂ．ｓ，ＯＨ），４．６９（１Ｈ，ｔ，Ｈ−３’，Ｊ＝５．８４），３．７９（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ａ），３．６６（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ｂ），２．９３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．５０（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ）．
ＦＡＢＭＳ  ｍ／ｚ：２７８（ＭＨ＋）．
合成例３：９−（２−デオキシ−４−Ｃ−シアノ−β−Ｄ−リボ−ペントフラノシル）−２，６−ジアミノプリンの合成
（１）９−（２−デオキシ−β−Ｄ−リボ−ペントフラノシル）−２，６−ジベンズアミドプリン（化合物１０）の合成
2003068796.tif 000016
化合物９（２６．２ｇ、１００ｍｍｏｌ）をピリジンで２回共沸した後、ピリジン（４００ｍｌ）に懸濁させ、０℃でクロロトリメチルシラン（８８ｍｌ、７００ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下した。０℃で３０分間撹拌した後、塩化ベンゾイル（８２ｍｌ、７００ｍｍｏｌ）を２０分かけて滴下し、さらに室温で２時間撹拌した。０℃で反応液に氷水（２００ｍｌ）をゆっくり注ぎ、１５分間撹拌した後、同温度で濃アンモニア水（３００ｍｌ）を滴下し３０分間撹拌した。減圧下で溶媒を留去し、残さに酢酸エチル（６００ｍｌ）、飽和重曹水（６００ｍｌ）を注ぎ、０℃で１時間撹拌した。析出した結晶をろ取し、水、酢酸エチルで洗浄後、真空乾燥して無色結晶状の化合物１０（３６．２２ｇ、７６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６）δ  １１．１９、１０．９８（ｅａｃｈ  １Ｈ，ｓ，ＮＨ），８．６１（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），８．０７−７．５０（１０Ｈ，ｓ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．４２（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１’，Ｊ＝７．３２），５．３３（１Ｈ，ｄ，３’−ＯＨ，Ｊ＝３．８８），４．９３（１Ｈ，ｔ，５’−ＯＨ，Ｊ＝５．３６），４．４４（１Ｈ，ｂ．ｍ，Ｈ−３’），３．８８（１Ｈ，ｂ．ｍ，Ｈ−４’），３．６２（１Ｈ，ｍ，Ｈ−５’ａ），３．５５（１Ｈ，ｍ，Ｈ−５’ｂ），２．７９（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．３３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ）．
（２）９−（２−デオキシ−３−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−β−Ｄ−リボ−ペントフラノシル）−２，６−ジベンズアミドプリン（化合物１１）の合成
2003068796.tif 000017
化合物１０（３６．２２ｇ、７６．４ｍｍｏｌ）をピリジンで２回共沸脱水した後、ピリジン（３００ｍｌ）に溶解し、室温で塩化ジメトキシトリチル（３７．６ｇ、１１１ｍｍｏｌ）を加え、３時間撹拌した。反応液にエタノール（１０ｍｌ）を加え、減圧下、溶媒を留去した。残さを酢酸エチル（２５０ｍｌ）に懸濁させ、水を加えた後、セライトろ過して不溶物を除去した。有機層を回収し、さらに水で２回、飽和食塩水で１回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル  ３００ｇ、クロロホルム〜クロロホルム：メタノール＝２００：１〜１００：１〜５０：１）にて精製した。得られた残さ（６９．９ｇ）をジメチルホルムアミドで２回共沸脱水した後、ジメチルホルムアミド（３７０ｍｌ）に溶解し、イミダゾール（８．８ｇ、１２９ｍｍｏｌ）、ｔｅｒｔ−ブチルクロロジメチルシラン（１６．５ｇ、１０９ｍｍｏｌ）を加え室温で一晩攪拌した。
反応液に水を注ぎ、減圧下で溶媒を留去した。残さを酢酸エチル（５００ｍｌ）に溶解し、水（５００ｍｌｘ３）、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた残さをクロロホルム（５１０ｍｌ）に溶解し、０℃でトルエンスルホン酸１水和物−メタノール溶液（２２０ｍｌのＭｅＯＨ中に１４．６ｇ、７６．８ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した（５分間）。０℃で１５分間攪拌した後、飽和重曹水（６００ｍｌ）を加えて中和し、有機層を回収後、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、さらに酢酸エチル（１５０ｍｌ）で共沸した。残さに酢酸エチル（３００ｍｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した後、析出した結晶をろ取した。結晶を酢酸エチルで洗浄後、真空乾燥して無色結晶状の化合物１１（２８．７６ｇ、６４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ９．３３，９．１７（ｅａｃｈ  １Ｈ，ｓ，ＮＨ），８．０７−７．４５（１０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．２９（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−１’，Ｊ＝６．３６，７．８０），４．９５（１Ｈ，ｂ．ｍ，Ｈ−３’），４．８６（１Ｈ，ｂ．ｔ，５’−ＯＨ），４．０４（１Ｈ，ｂ．ｄ，Ｈ−４’），３．９５（１Ｈ，ｍ，Ｈ−５’ａ），３．８５（１Ｈ，ｍ，Ｈ−５’ｂ），１．４２（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．３０（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ）．
（３）９−（２−デオキシ−３−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−４−Ｃ−ヒドロキシメチル−β−Ｄ−リボ−ペントフラノシル）−２，６−ジベンズアミドプリン（化合物１２）の合成
2003068796.tif 000018
化合物１１（５０．０ｇ、８５．０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド（２９０ｍｌ）−トルエン（１９０ｍｌ）に溶解し、室温下で１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（２４．６ｇ、１２７．５ｍｍｏｌ）、ピリジン（６．９ｍｌ、８５．０ｍｍｏｌ）、トリフルオロ酢酸（３．３ｍｌ、４２．５ｍｍｏｌ）を加え２時間攪拌した。反応液に０℃で酢酸エチル（７５０ｍｌ）、氷水（７５０ｍｌ）を加え１時間攪拌した。析出した結晶（一部のホルミル体）をろ取し、ろ液の有機層を回収した。有機層を水で２回、飽和食塩水で１回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、残さとろ取した結晶をあわせて、粗アルデヒドを得た。粗アルデヒドをジオキサン（２４０ｍｌ）に溶解し、室温下で３７％ホルムアルデヒド水溶液（４５ｍｌ）、２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（４５ｍｌ）を加え、室温で３時間攪拌した。反応液を氷酢酸（８．６ｍｌ）で中和し、酢酸エチル（７００ｍｌ）で抽出した。有機層を水、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた残さをエタノール（３６０ｍｌ）に溶解し、０℃で水素化ホウ素ナトリウム（３．２ｇ、８５．０ｍｍｏｌ）を加え、同温で３０分間攪拌した。反応液に氷酢酸（２．５ｍｌ）を加えて反応を停止し、クロロホルム−メタノール（１０：１）（１．１Ｌ）で抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、さらに酢酸エチル（２００ｍｌ）で共沸した。残さに酢酸エチル（５００ｍｌ）を加え、室温で５分間攪拌した後、析出した結晶をろ取した。結晶を酢酸エチルで洗浄し、真空乾燥して化合物１２を無色の結晶として３０．８３ｇ（５９％）得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ  １１．２１，１１．０１（ｅａｃｈ  １Ｈ，ｓ，ＮＨ），８．６３−７．５０（１２Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．４３（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１’，Ｊ＝６．３２），４．９１（１Ｈ，ｔ，ＯＨ，Ｊ＝５．３６），４．７８（１Ｈ，ｔ，Ｈ−３’，Ｊ＝５．８４），４．４７（１Ｈ，ｔ，ＯＨ，Ｊ＝６．３６），３．６５−３．５２（４Ｈ，ｍ，Ｈ−５’  ａｎｄ  Ｈ−６’），２．９６（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．４３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ），０．８９（９Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂｕ），０．１０（６Ｈ，ｓ，Ｍｅ）．
（４）９−（２−デオキシ−３−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−４−Ｃ−ジメトキシトリチルオキシメチル−β−Ｄ−リボ−ペントフラノシル）−２，６−ジベンズアミドプリン（化合物１３）の合成
2003068796.tif 000019
化合物１２（２４．８ｇ、４０．０ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミドで１回共沸脱水した後、ジメチルホルムアミド（２００ｍｌ）に溶解し、トリエチルアミン（１１．２ｍｌ、８０．０ｍｍｏｌ）、塩化ジメトキシトリチル（２０．３ｇ、６０．０ｍｍｏｌ）を加え室温で１時間攪拌した。反応液を酢酸エチル（６００ｍｌ）で抽出し、水（６００ｍｌｘ３）、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル  ６００ｇ、クロロホルム〜クロロホルム−酢酸エチル５：１〜２：１〜１：２〜１：３〜酢酸エチル）にて精製し、化合物１３（２２．２ｇ、６０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ９．３３，９．２４（ｅａｃｈ  １Ｈ，ｓ，ＮＨ），８．１３−６．８９（２５Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．２７（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１’，Ｊ＝６．８４），５．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’，Ｊ＝３．９２，６．３６），４．５９（１Ｈ，ｄｄ，５’−ＯＨ，Ｊ＝５．４０，８．３２），４．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝５．３６，１２．７２），３．８７（６Ｈ，ｓ，ＯＭｅ），３．８２（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝８．８０，１２．２），３．５９（１Ｈ，ｄ，Ｈ−６’ａ，Ｊ＝１０．７６），３．２７（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），３．１８（１Ｈ，ｄ，Ｈ−６’ｂ，Ｊ＝１０．７２），２．４８（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ），０．８４（９Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂｕ），０．０９，０．０７（ｅａｃｈ  ３Ｈ，Ｍｅ）．
（５）９−（２−デオキシ−３，５−ジ−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−４−Ｃ−ヒドロキシメチル−β−Ｄ−リボ−ペントフラノシル）−２，６−ジベンズアミドプリン（化合物１４）の合成
2003068796.tif 000020
化合物１３（２９．９ｇ、３２．５ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミドで２回共沸脱水した後、ジメチルホルムアミド（１００ｍｌ）に溶解し、イミダゾール（３．３ｇ、４８．８ｍｍｏｌ）、ｔｅｒｔ−ブチルクロロジメチルシラン（５．９ｇ、３９．０ｍｍｏｌ）を加え室温で一晩攪拌した。反応液を酢酸エチル（３００ｍｌ）で抽出し、水（３００ｍｌｘ３）、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた残さをクロロホルム（６２０ｍｌ）に溶解し、−１０℃でトルエンスルホン酸−メタノール溶液（１９０ｍｌのＭｅＯＨ中に６．２ｇ、３２．５ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した（５分間）。同温で２０分間攪拌した後、飽和重曹水（３００ｍｌ）を加えて中和した。有機層を回収し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル  ３００ｇ、クロロホルム〜クロロホルム−酢酸エチル２：１〜１：１〜１：２）にて精製し、無色結晶の化合物１４（１７．５ｇ、７４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ９．２０，９．１６（ｅａｃｈ  １Ｈ，ｓ，ＮＨ），８．１３（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），８．０３−７．４８（１０Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．４５（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１’，Ｊ＝６．３２），４．９９（１Ｈ，ｔ，Ｈ−３’，Ｊ＝６．３６），３．９１−３．７３（４Ｈ，ｍ，Ｈ−５’  ａｎｄ  Ｈ−６’），３．１２（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．７１（１Ｈ，ｂ．ｄｄ，ＯＨ），２．５４（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ），０．９３，０．８６（ｅａｃｈ  ９Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂｕ），０．１６，０．１５，０．０２，０．００７（ｅａｃｈ  ３Ｈ，ｓ，Ｍｅ）．
（６）９−（２−デオキシ−３，５−ジ−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−４−Ｃ−シアノ−β−Ｄ−リボ−ペントフラノシル）−２，６−ジベンズアミドプリン（化合物１５）の合成
2003068796.tif 000021
化合物１４（１．００ｇ、５．４３ｍｍｏｌ）をトルエン（６．００ｍｌ）、ジメチルスルホキシド（１２．０ｍｌ）に溶解し、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（１．５７ｇ、８．１９ｍｍｏｌ）、ピリジン（０．２２ｍｌ）、トリフルオロ酢酸（０．１１ｍｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈した後、有機層を水洗、乾燥（無水硫酸マグネシウム）した。乾燥剤をろ去後、ろ液を減圧下濃縮し、粗アルデヒドを得た。粗アルデヒドをピリジン（２０．０ｍｌ）に溶解し、塩酸ヒドロキシルアミン（０．２８ｇ、４．０３ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間撹拌した。反応液を減圧下濃縮し、残さを酢酸エチル−水で分配した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下乾固し、粗オキシムを得た。粗オキシムをジクロロメタン（２０．０ｍｌ）に溶解し、氷冷下、トリエチルアミン（０．７６ｍｌ、５．４５ｍｍｏｌ）、塩化メタンスルホニル（０．３２ｍｌ、４．１３ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌した。反応液をクロロホルムで希釈した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下乾固し、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル  ２００ｃｃ、ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）により精製し、淡黄色泡状の化合物１５（１．７７ｇ、２．４３ｍｍｏｌ、８９．０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ  ９．１５，９．１１（ｅａｃｈ  １Ｈ，ｓ，ＮＨ），８．０１−７．４８（１１Ｈ，ｍ，ａｒｏｍａｔｉｃ），６．４０（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１’，Ｊ＝６．３６），５．２０（１Ｈ，ｔ，Ｈ−３’，Ｊ＝５．３６），４．２１（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ａ，Ｊ＝１１．２４），３．９９（１Ｈ，ｄ，Ｈ−５’ｂ，Ｊ＝１０．７６），３．４０（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．５３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’），０．９７（９Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂｕ），０．８６（９Ｈ，ｓ，ｔ−Ｂｕ），０．２３（３Ｈ，ｓ，Ｍｅ），０．１７（３Ｈ，ｓ，Ｍｅ），０．０５（６Ｈ，ｓ，Ｍｅ）．
（７）９−（２−デオキシ−４−Ｃ−シアノ−β−Ｄ−リボ−ペントフラノシル）−２，６−ジアミノプリン（化合物１６）の合成
2003068796.tif 000022
化合物１５（１．００ｇ、１．３７ｍｍｏｌ）をメタノール（１０．０ｍｌ）に溶解し、４０％  メチルアミン水溶液（１０．０ｍｌ）を加え、室温で３日間撹拌した。析出した結晶（０．２５ｇ、０．４８ｍｍｏｌ、３５．０％）をテトラヒドロフラン（９．００ｍｌ）に溶解し、フッ化テトラブチルアンモニウム（１Ｍ  テトラヒドロフラン溶液、１．００ｍｌ、１．００ｍｍｏｌ）を加え、室温で１５分間撹拌した。反応液を減圧下濃縮した後、残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル  １００ｃｃ、酢酸エチル：メタノール＝１０：１）により精製した。２−プロパノールから結晶化し、化合物１６（０．１０ｇ、０．３４ｍｍｏｌ、２４．８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ  ７．９５（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），６．７５（２Ｈ，ｂ．ｓ，ＮＨ２），６．３５（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１’，Ｊ＝６．８４），６．２５（１Ｈ，ｄ，３’−ＯＨ，Ｊ＝４．８５），５．８５（１Ｈ，ｔ，５’−ＯＨ，Ｊ＝６．３６），５．８３（２Ｈ，ｂ．ｓ，ＮＨ２），４．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’，Ｊ＝４．８８，５．８４），３．７８（１Ｈ，ｍ，Ｈ−５’ａ），３．６７（１Ｈ，ｍ，Ｈ−５’ｂ），２．８８（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．３７（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ）．
ＦＡＢＭＳ  ｍ／ｚ：２９２（ＭＨ＋）．
合成例４：４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシグアノシン（化合物１７）の合成
2003068796.tif 000023
化合物１６（７０．０ｍｇ、０．２４ｍｍｏｌ）を５０ｍＭ  Ｔｒｉｓ−ＨＣｌ緩衝液（ｐＨ７．５０、１３．３ｍｌ）に加熱溶解し、アデノシンデアミナーゼ（０．１３ｍｌ、５８．５ｕｎｉｔ）を加え、４０℃で１時間撹拌した。析出した結晶を水から再結晶化し、化合物１７（５６．０ｍｇ、０．１９ｍｍｏｌ、７９．２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ  １０．６８（１Ｈ，ｓ，ＮＨ），７．９３（１Ｈ，ｓ，Ｈ−８），６．５３（２Ｈ，ｂ．ｓ，ＮＨ２），６．２９（１Ｈ，ｔ，Ｈ−１’，Ｊ＝６．８４），６．２７（１Ｈ，ｄ，３’−ＯＨ，Ｊ＝４．８８），５．７３（１Ｈ，ｔ，５’−ＯＨ，Ｊ＝５．８４），４．６０（１Ｈ，ｄｄ，Ｈ−３’，Ｊ＝４．８８，５．８８），３．７３（１Ｈ，ｍ，Ｈ−５’ａ），３．６５（１Ｈ，ｍ，Ｈ−５’ｂ），２．８０（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ａ），２．４１（１Ｈ，ｍ，Ｈ−２’ｂ）．
ＦＡＢＭＳ  ｍ／ｚ：２９３（ＭＨ＋）．
製剤例１：錠剤
本発明化合物                    ３０．０ｍｇ
微粉末セルロース                ２５．０ｍｇ
乳糖                            ３９．５ｍｇ
スターチ                        ４０．０ｍｇ
タルク                            ５．０ｍｇ
ステアリン酸マグネシウム          ０．５ｍｇ
上記組成から常法によって錠剤を調製する。
製剤例２：カプセル剤
本発明化合物                    ３０．０ｍｇ
乳糖                            ４０．０ｍｇ
スターチ                        １５．０ｍｇ
タルク                            ５．０ｍｇ
上記組成から常法によってカプセル剤を調製する。
製剤例３：注射剤
本発明化合物                    ３０．０ｍｇ
グルコース                    １００．０ｍｇ
上記組成を注射用精製水に溶解して注射剤を調製する。
以下に試験例を示す。試験においては薬剤として以下の２つの本発明化合物と２つの公知化合物を使用した。
本発明化合物：
化合物７：４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシアデノシン
化合物８：４’−Ｃ−シアノ−２’−デオキシイノシン
公知化合物：
アジドチミジン（ＡＺＴ）
２’，３’−ジデオキシ−３’−チアシチジン（３ＴＣ）
試験例
＜方法＞ヒト免疫不全ウイルス（ＨＩＶ）活性
１）ＭＴ−４細胞を用いたＭＴＴ法
１．９６ウエルプレートを用いて被験薬剤を希釈する（１００μｌ）。ここに１ウエルあたり１００００個になるようにＨＩＶ−１（ＩＩＩｂ株；１００ＴＣＩＤ５０）感染および非感染ＭＴ−４細胞を加えて、３７℃で５日間培養する。
２．ＭＴＴ（２０μｌ、７．５ｍｇ／ｍｌ）を加えてさらに２〜３時間培養する。
３．培養終了後、１２０μｌをとり、ＭＴＴ停止液（Ｔｒｉｔｏｎ  Ｘ−１００  ４％、ＨＣｌ  ０．０４Ｎを加えたイソプロパノール（Ｉｓｏｐｒｏｐａｎｏｌ））を加え、撹拌して生成したホルマザン（ｆｏｒｍａｚａｍ）を溶解し、５４０ｎｍにおける吸光度を測定する。この測定値は生細胞数に比例するため、感染ＭＴ−４細胞を用いた試験の測定値が５０％になった被験薬剤の濃度をＥＣ５０、また非感染ＭＴ−４細胞を用いた試験の測定値が５０％になった被験薬剤の濃度をＣＣ５０とする。
２）ＨｅＬａ  ＣＤ４／ＬＴＲ−ｂｅｔａ−Ｇａｌ細胞を用いたＭＡＧＩアッセイ
１．ＨｅＬａ  ＣＤ４／ＬＴＲ−ｂｅｔａ−Ｇａｌ細胞を１ウエルあたり１００００個の割合で９６ウエルに加える。１２〜２４時間後に培養液を捨て、希釈した被験薬剤（１００μｌ）を加える。
２．各種ＨＩＶ株（薬剤耐性株：ＭＤＲ、Ｍ１８４Ｖ；各５０ＴＣＩＤ５０相当）を加えて４８時間培養する。
３．培養終了後、１％ホルムアルデヒド（ｆｏｒｍａｌｄｅｈｙｄｅ）、０．２％グルタルアルデヒド（ｇｌｕｔａｒａｌｄｅｈｙｄｅ）を加えたＰＢＳで細胞を５分間固定する。
４．ＰＢＳで３回洗浄後、０．４ｍｇ／ｍｌ  Ｘ−Ｇａｌで１時間染色し、青く染色された細胞の数を透過型実体顕微鏡下で数え、青染された細胞を５０％減少させる被験薬剤の濃度をＥＣ５０とする。
＜結果＞ヒト免疫不全ウイルス（ＨＩＶ）活性および細胞毒性
表１〜２は２〜５回の測定値の平均を示したものである。
１）ＭＴ−４細胞を用いたＭＴＴ法
2003068796.tif 000024
２）ＨｅＬａ  ＣＤ４／ＬＴＲ−ｂｅｔａ−Ｇａｌ細胞を用いたＭＡＧＩアッセイ
2003068796.tif 000025
これらの結果は、本発明の化合物が、多剤耐性株に対して顕著に優れた抗ウィルス活性を示し、細胞毒性も低いことを示している。
産業上の利用可能性
本発明化合物は、優れた抗ＨＩＶ作用、特にＡＺＴ、ｄｄＩ、ｄｄＣ、ｄ４Ｔ、３ＴＣなどの抗ＨＩＶ剤の複数の薬剤に耐性を有する多剤耐性ＨＩＶ株にも有効であり、細胞毒性も低いことから、医薬品、特にＨＩＶ感染症治療薬として有用である。
本出願は、日本で出願された特願２００２−３８０７８、及び特願２００２−２５６６３４を基礎としており、それらの内容は、本明細書に全て包含される。
【国際調査報告】
2003068796.tif 000032
2003068796.tif 000033
2003068796.tif 000034
2003068796.tif 000035
2003068796.tif 000036
2003068796.tif 000037