【事件の表示】
　特願２００９−１０４０７４「タッチスクリーンパネル及びその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２２年　７月２９日出願公開、特開２０１０−１６５３３３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続きの経緯
　
　本件は、平成２１年４月２２日（パリ条約による優先権主張、２００９年１月１６日、韓国）の出願であって、平成２３年９月１日付けで拒絶理由が通知され、平成２３年１２月６日付けで手続補正がなされ、平成２４年２月６日付けで拒絶査定がなされ、それに対して、同年６月１４日に拒絶査定不服の審判が請求されるとともに、同時に手続補正がなされ、同年１２月２６日付けで審尋がなされ、平成２５年４月５日付けで回答書が提出されたものである。
　
第２　平成２４年６月１４日付けの手続補正についての補正却下の決定
　
 ［補正却下の決定の結論］  
　
　平成２４年６月１４日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。  
　
 ［補正却下の決定の理由］  
　
　（１）補正後の本願発明
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、
  「【請求項１】
　透明基板と、
　前記透明基板の一面に形成され、第１方向に沿って連結されるように形成された複数の第１感知パターンと、前記第１感知パターンの間にそれぞれが分離されたパターンを有するように形成された第２感知パターンと、
　前記第１及び第２感知パターン上に形成され、前記第２感知パターンの一領域のみを露出する多数のコンタクトホールが形成される第１絶縁膜と、
　前記第１絶縁膜上に形成され、前記コンタクトホールを介して前記第２感知パターンを第２方向に沿って連結する連結パターンと、
を含み、
　前記第１絶縁膜は透明性フォトレジストで形成され、
　前記透明性フォトレジストは、アクリル系又はシロキサン系の有機フォトレジストであることを特徴とするタッチスクリーンパネル。」
と補正された。
　
　審判請求人は、本件補正による特許請求の範囲の請求項１の補正について、審判請求書の請求の理由において、
「（イ）まず、補正前の請求項１に補正前の請求項２の内容の一部、即ち、透明性フォトレジストが、「アクリル系又はシロキサン系の有機フォトレジスト」であることを追加し、補正後の請求項１とした。本補正は、特許請求の範囲の限定的減縮を目的とするものである。 
 （ロ）また、補正後の請求項１において、「前記第１及び第２感知パターン上に形成され、前記第２感知パターンの一領域を露出する多数のコンタクトホールが形成される第１絶縁膜と」を「前記第１及び第２感知パターン上に形成され、前記第２感知パターンの一領域のみを露出する多数のコンタクトホールが形成される第１絶縁膜と」に修正した。本補正は、特許請求の範囲の限定的減縮を目的とするものである。 」
と述べている。
　
　そこで本件補正による特許請求の範囲の請求項１の補正について詳細に検討すると、本件補正による特許請求の範囲の請求項１の補正の内容は、以下の補正事項ア）〜ウ）について補正を行うものである。
ア）「第２感知パターンの一領域を露出する多数のコンタクトホールが形成される第１絶縁膜」を「第２感知パターンの一領域のみを露出する多数のコンタクトホールが形成される第１絶縁膜」とする補正。
　
イ）「前記第１絶縁膜は透明性フォトレジストで形成され」を「前記第１絶縁膜は透明性フォトレジストで形成され、
　前記透明性フォトレジストは、アクリル系又はシロキサン系の有機フォトレジストである」とする補正。
　
ウ）「前記コンタクトホールがフォトリソグラフィ工程を通じて前記第１絶縁膜に形成される」という記載を削除する補正。
　
　（２）補正事項ア）〜ウ）について
　本件補正による特許請求の範囲の請求項１の補正の補正事項ア）〜ウ）について、特許法第１７条の２第５項各号の規定に該当するものであるか検討する。
　
［補正事項ア）について］
　補正事項ア）は、本件補正前から発明の構成要素となっている「コンタクトホール」に関して、該「コンタクトホール」により露出される領域が「第２感知パターンの一領域のみ」であることを限定する補正であるから、本件補正前の発明特定事項を限定的に減縮するものであり、補正事項ア）は、特許請求の範囲の減縮を目的とする補正である。
　
［補正事項イ）について］
　補正事項イ）は、本件補正前から発明の構成要素となっている「透明性フォトレジスト」に関して、「アクリル系又はシロキサン系の有機フォトレジスト」であることを特定する補正であるから、本件補正前の発明特定事項を限定的に減縮するものであり、補正事項イ）は、特許請求の範囲の減縮を目的とする補正である。
　
［補正事項ウ）について］
　補正事項ウ）は、本件補正前から発明の構成要素となっている「コンタクトホール」に関して、「フォトリソグラフィ工程を通じて前記第１絶縁膜に形成される」と特定することを削除する補正であるから、補正事項ウ）は、特許請求の範囲の減縮を目的とする補正とは認められない。
　また、補正事項ウ）は、請求項の削除を目的とする補正、誤記の訂正を目的とする補正、明りようでない記載の釈明を目的とする補正の何れに該当しないことも明らかである。
　
　（３）むすび
　したがって、本件補正は、特許法第１７条の２第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
　平成２４年６月１４日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下，「本願発明」という。）は、平成２３年１２月６日付手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
　「【請求項１】
　透明基板と、
　前記透明基板の一面に形成され、第１方向に沿って連結されるように形成された複数の第１感知パターンと、前記第１感知パターンの間にそれぞれが分離されたパターンを有するように形成された第２感知パターンと、
　前記第１及び第２感知パターン上に形成され、前記第２感知パターンの一領域を露出する多数のコンタクトホールが形成される第１絶縁膜と、
　前記第１絶縁膜上に形成され、前記コンタクトホールを介して前記第２感知パターンを第２方向に沿って連結する連結パターンと、
を含み、
　前記第１絶縁膜は透明性フォトレジストで形成され、
　前記コンタクトホールがフォトリソグラフィ工程を通じて前記第１絶縁膜に形成されることを特徴とするタッチスクリーンパネル。」
　
　（１）引用例等
　原査定の拒絶の理由に引用された本願の優先日前に頒布された、特開２００８−３１０５５１号公報（以下「引用例」という。）には、図面とともに、次の技術事項が記載されている。
　ａ）「【０００１】
　本発明は、指の接触位置を静電容量の変化として検出可能な静電容量型入力装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
　携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行の端末などの電子機器では、近年、
液晶装置などの表面にタブレット型の入力装置が配置され、液晶装置の画像表示領域に表示された指示画像を参照しながら、この指示画像が表示されている箇所に指などを触れることで、指示画像に対応する情報の入力が行えるもの
【０００３】
　
このような入力装置（タッチパネル）
　
　ｂ）「【００２２】
　入力装置１０は静電容量型のタッチパネルであり、１枚の透光性基板１５と、透光性基板１５の端部に接続されたフレキシブル基板１９とを備えている。フレキシブル基板１９には、入力装置１０において入力位置の検出を行うための駆動回路（図示せず）が接続されている。入力装置１０においては、透光性基板１５の上面によって入力面１０ｂが構成されており、透光性基板１５の入力面１０ｂの略中央領域が指先による入力が行われる入力領域１０ａになっている。
【００２３】
　図１（ｂ）に示すように、透光性基板１５の入力面１０ｂのうち、入力領域１０ａには、第１の方向（矢印Ｘで示す方向）に延在する複数列の第１の透光性電極パターン１１と、第１の方向に交差する第２の方向（矢印Ｙで示す方向）に延在する複数列の第２の透光性電極パターン１２とが形成されている。」（【００２２】〜【００２３】の記載。）
　
　ｃ）「【００５１】
　図５および図６（ａ）において、本形態の入力装置１０も、実施の形態１と同様、静電容量型のタッチパネルであり、
透光性基板１５の入力面１０ｂのうち、入力領域１０ａには、第１の方向（矢印Ｘで示す方向）に延在する複数列の第１の透光性電極パターン１１と、第１の方向に交差する第２の方向（矢印Ｙで示す方向）に延在する複数列の第２の透光性電極パターン１２とが形成され
第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２との交差部分１８において、第１の透光性電極パターン１１は繋がっている一方、第２の透光性電極パターン１２は途切れている
【００５２】
　ここで、
第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の上層側には、透光性の層間絶縁膜４ｂが入力領域１０ａの略全体に形成され、かかる層間絶縁膜４ｂの上層には、層間絶縁膜４ｂのコンタクトホール４ｃ（第１のコンタクトホール）を介して、交差部分１８で途切れている第２の透光性電極パターン１２同士を電気的に接続する透光性の中継電極５ａが形成されている
【００５３】
　本形態においても、実施の形態１と同様、第２の透光性電極パターン１２は、膜厚が１０〜２０ｎｍの第１のＩＴＯ膜１ａ、膜厚が４０〜６０ｎｍのシリコン酸化膜２ａ、および膜厚が１０〜２０ｎｍの第２のＩＴＯ膜３ａが順に積層されてなる多層膜からなり、中継電極５ａは、第２の透光性電極パターン１２において最上層に積層された第２のＩＴＯ膜３ａに接続されている。本形態において、中継電極５ａはＩＴＯ膜からなる。また、
層間絶縁膜４ｂは、感光性樹脂からなり、本形態において、層間絶縁膜４ｂは、厚さが１〜２μｍのアクリル樹脂からなる
【００５４】
　第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２は各々、交差部分１８で挟まれた領域に菱形形状のパッド部１１ａ、１２ａを備えており、第１の電極パターンにおいて交差部分１８に位置する接続部分１１ｃは、パッド部より幅の狭い細幅形状になっている。また、中継電極５ａも、パッド部より幅の狭い細幅形状で短冊状に形成されている。
【００５５】
　図６（ｂ）に示すように、透光性基板１５において入力領域１０ａの外側領域には、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の各々に電気的に接続する複数の金属配線９ａが形成されており、これらの金属配線９ａの端部には、フレキシブル基板を接続するための端子１９ａが形成されている。ここで、第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２はいずれも、第１のＩＴＯ膜１ａ、シリコン酸化膜２ａ、および第２のＩＴＯ膜３ａが順に積層されてなる多層膜からなるため、金属配線９ａは、第１の透光性電極パターン１１配線および第２の透光性電極パターン１２において最上層に積層された第２のＩＴＯ膜３ａに接続されている。」（【００５１】〜【００５５】の記載。）
　
　ｄ）「【００６１】
　次に、
第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の表面側にアクリル樹脂を塗布した後、露光現像し、図７（ｄ）に示すように、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２の交差部分１８に重なるように層間絶縁膜４ｂを形成する。その際、層間絶縁膜４ｂにはコンタクトホール４ｃ、４ｄが同時形成される
【００６２】
　次に、
層間絶縁膜４ｂの上層側に多結晶のＩＴＯ膜を形成した後
ＩＴＯ膜をエッチングし、層間絶縁膜４ｂの表面およびコンタクトホール４ｃの内側に中継電極５ａを形成する
　
　してみると、引用例には以下の発明が（以下「引用例記載の発明」という。）が記載されている。
　「液晶装置などの表面にタブレット型の入力装置が配置され、液晶装置の画像表示領域に表示された指示画像を参照しながら、この指示画像が表示されている箇所に指などを触れることで、指示画像に対応する情報の入力が行えるものである、入力装置（タッチパネル）であり、
　透光性基板１５の入力面１０ｂのうち、入力領域１０ａには、第１の方向（矢印Ｘで示す方向）に延在する複数列の第１の透光性電極パターン１１と、第１の方向に交差する第２の方向（矢印Ｙで示す方向）に延在する複数列の第２の透光性電極パターン１２とが形成され、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２との交差部分１８において、第１の透光性電極パターン１１は繋がっている一方、第２の透光性電極パターン１２は途切れており、
　第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の上層側には、透光性の層間絶縁膜４ｂが入力領域１０ａの略全体に形成され、かかる層間絶縁膜４ｂの上層には、層間絶縁膜４ｂのコンタクトホール４ｃ（第１のコンタクトホール）を介して、交差部分１８で途切れている第２の透光性電極パターン１２同士を電気的に接続する透光性の中継電極５ａが形成されており、
　層間絶縁膜４ｂは、感光性樹脂からなり、厚さが１〜２μｍのアクリル樹脂からなり、
　第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の表面側にアクリル樹脂を塗布した後、露光現像し、第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２の交差部分１８に重なるように層間絶縁膜４ｂを形成し、その際、層間絶縁膜４ｂにはコンタクトホール４ｃ、４ｄが同時形成され、
　層間絶縁膜４ｂの上層側に多結晶のＩＴＯ膜を形成した後、ＩＴＯ膜をエッチングし、層間絶縁膜４ｂの表面およびコンタクトホール４ｃの内側に中継電極５ａを形成した、
　入力装置（タッチパネル）。」
　
　本願の優先日前に頒布された、（Ｃ）（当審注：（Ｃ）は丸付きＣを置き換えたものである。）半導体用語大辞典編集委員会、「半導体用語大辞典」、第１版第１刷、日本、株式会社日刊工業新聞社、１９９９年３月２０日、ｐ．１０９１（以下「周知例１」という。）には、図面とともに、次の技術事項が記載されている。
　
　ｅ）「リソグラフィ技術　−ぎじゅつ
〔lithography technology〕　もともとは石版術のことを表したが，半導体製造プロセスにおいては，回路設計に基づくパターンを形成する技術のこと．
・・・
一般的に，狭義のリソグラフィとして，転写プロセスにおけるパターン形成をリソグラフィと呼ぶ．すなわち，光や放射線に感光する材料（感光性樹脂＝レジスト）を用いて，回路設計に基づくレジストパターンを形成する技術のことをリソグラフィ技術いう．
・・・
リソグラフィは露光に用いる線源（露光装置）によりフォトリソグラフィ・Ｘ線リソグラフィ・電子ビームリソグラフィ・イオンビームリソグラフィに分けられる．」（第１０９１頁の記載。）
　
　原査定で引用された本願の優先日前に頒布された、特開昭６２−３１４２０号公報（以下「周知例２」という。）には、図面とともに、次の技術事項が記載されている。
　
　ｆ）「第１図は本発明の実施例１の入力装置の断面図である。１はフレキシブルなプラスティックもしくはガラスの基板、２はガラスもしくはプラスチックの基板、３ａ，３ｂはそれぞれ前記基板１，２上の全面に形成された電極、４は紫外線硬化型のフォトレジストをフォトリソグラフィにより高さ約５μｍ、直径約１０μｍの大きさで、第２図に示すような配置に形成したスペーサーである。」（第２頁左上欄第１４行〜同頁右上欄第１行の記載。）
　
　（２）対比
　そこで、本願発明と引用例記載の発明とを対比する。
　引用例記載の発明の「透光性基板１５」は本願発明の「透明基板」に相当する。
　引用例記載の発明の「第１の透光性電極パターン１１」は、「透光性基板１５の入力面１０ｂのうち、入力領域１０ａに」、「第１の方向（矢印Ｘで示す方向）に延在」して形成されるものであり、「第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２との交差部分１８において、第１の透光性電極パターン１１は繋がっている」から、引用例記載の発明の「第１の透光性電極パターン１１」は本願発明の「前記透明基板の一面に形成され、第１方向に沿って連結されるように形成された複数の第１感知パターン」に相当する。
　引用例記載の発明の「第２の透光性電極パターン１２」は、「透光性基板１５の入力面１０ｂのうち、入力領域１０ａに」、「第１の方向に交差する第２の方向（矢印Ｙで示す方向）に延在」して形成されるものであり、「第１の透光性電極パターン１１と第２の透光性電極パターン１２との交差部分１８において、」「第２の透光性電極パターン１２は途切れて」いるから、引用例記載の発明の「第２の透光性電極パターン１２」は本願発明の「前記第１感知パターンの間にそれぞれが分離されたパターンを有するように形成された第２感知パターン」に相当する。
　引用例記載の発明の「層間絶縁膜４ｂ」は、「第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の表面側にアクリル樹脂を塗布し」て形成されるものであり、「コンタクトホール４ｃ、４ｄが同時形成」されるものであるから、引用例記載の発明の「層間絶縁膜４ｂ」は本願発明の「前記第１及び第２感知パターン上に形成され、前記第２感知パターンの一領域を露出する多数のコンタクトホールが形成される第１絶縁膜」に相当する。
　引用例記載の発明の「中継電極５ａ」は、「層間絶縁膜４ｂの上層に」、「層間絶縁膜４ｂのコンタクトホール４ｃ（第１のコンタクトホール）を介して、交差部分１８で途切れている第２の透光性電極パターン１２同士を電気的に接続する」ように形成されたものであるから、引用例記載の発明の「中継電極５ａ」は本願発明の「前記第１絶縁膜上に形成され、前記コンタクトホールを介して前記第２感知パターンを第２方向に沿って連結する連結パターン」に相当する。
　そして、引用例記載の発明の「層間絶縁膜４ｂ」は、「透光性」のものであるから、引用例記載の発明の「層間絶縁膜４ｂ」は本願発明の「前記第１絶縁膜は透明性フォトレジストで形成され」ることと、「透明性材料で形成される」点で共通するといえる。
　また、引用例記載の発明の「入力装置（タッチパネル）」は、「液晶装置などの表面にタブレット型の入力装置が配置され、液晶装置の画像表示領域に表示された指示画像を参照しながら、この指示画像が表示されている箇所に指などを触れることで、指示画像に対応する情報の入力が行えるものである」から、引用例記載の発明の「入力装置（タッチパネル）」は本願発明の「タッチスクリーンパネル」に相当する。
　
　したがって両者は、
「透明基板と、
　前記透明基板の一面に形成され、第１方向に沿って連結されるように形成された複数の第１感知パターンと、前記第１感知パターンの間にそれぞれが分離されたパターンを有するように形成された第２感知パターンと、
　前記第１及び第２感知パターン上に形成され、前記第２感知パターンの一領域を露出する多数のコンタクトホールが形成される第１絶縁膜と、
　前記第１絶縁膜上に形成され、前記コンタクトホールを介して前記第２感知パターンを第２方向に沿って連結する連結パターンと、
を含み、
　前記第１絶縁膜は透明性材料で形成されることを特徴とするタッチスクリーンパネル。」で一致し、次の点で相違する。
　
　［相違点］
　本願発明は、「前記第１絶縁膜は透明性フォトレジストで形成され、
　前記コンタクトホールがフォトリソグラフィ工程を通じて前記第１絶縁膜に形成される」るのに対し、引用例記載の発明は、「層間絶縁膜４ｂ」は、「アクリル樹脂」である透光性の「感光性樹脂」からなり、「第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の表面側にアクリル樹脂を塗布した後、露光現像し、」「層間絶縁膜４ｂにはコンタクトホール４ｃ、４ｄが同時形成」されると記載されるのみである点。
　
　（３）判断
　［相違点］について
　周知例１に記載されるように、「光や放射線に感光する材料（感光性樹脂＝レジスト）を用いて，」「レジストパターンを形成する技術のことをリソグラフィ技術」といい、「リソグラフィは露光に用いる線源（露光装置）によりフォトリソグラフィ」等に分けられるものであり、また、周知例２に記載されるように、入力装置において、フォトレジストをフォトリソグラフィにより加工して絶縁部材を形成することは周知技術であるので、引用例記載の発明に上記周知技術を適用して、「層間絶縁膜４ｂ」は、「アクリル樹脂」である「透光性」の「感光性樹脂」からなり、「第１の透光性電極パターン１１および第２の透光性電極パターン１２の表面側にアクリル樹脂を塗布した後、露光現像し、」「層間絶縁膜４ｂにはコンタクトホール４ｃ、４ｄが同時形成」されることを、「層間絶縁膜４ｂ」は透明性「フォトレジスト」からなり、「フォトリソグラフィ工程を通じて」「層間絶縁層４ｂ」に「コンタクトホール４ｃ、４ｄ」が形成されるものとすることは当業者が容易に想到し得たことである。
　
　また、本願発明の作用効果も、引用例記載の発明及び周知技術から当業者が予測できる範囲のものである。
　
　（４）むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例記載の発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。
　
　
　なお、審判請求書の「【請求の理由】」「３．本願発明が特許されるべき理由」「３−４．本願発明と引用発明との対比」において、補正後の本願発明（上記「第２」に記載したように補正却下となった）について請求人は、「本願発明は、コンタクトホールおよび連結パターンが第２検知パターンに達するまで形成されるのか、透明基盤に達するまで形成されるのか、という点で引用発明と相違する。
　引用発明は、コンタクトホールを形成するために、絶縁膜が透明基盤に達するまで除去されるので、絶縁膜の除去の際に透明基盤が損傷する可能性がある。また、引用発明は、連結パターンが透明基盤に達するまで形成されるので、連結パターンを形成する際に透明基盤が損傷する可能性がある。」旨主張しているが、引用例に記載された「第２の透光性電極パターン１２同士を電気的に接続する透光性の中継電極５ａが形成される」「コンタクトホール４ｃ」は、「第２のＩＴＯ膜３ａ」に達するまで形成されるものであり、「透光性基板１５」に達するまで形成されるものではない。
　そして、「透光性電極パターン」を単一の導電層で形成することは、周知技術（必要あれば、審尋で提示された前置報告書に記載された、特開昭５８−１６６４３７号公報参照）であり、引用例記載の発明に当該周知技術を適用して、「透光性電極パターン１１，１２」を単一の導電層で形成し、「層間絶縁膜４ｂ」に形成するコンタクトホールを「中継電極５ａ」が形成される「コンタクトホール４ｃ」のみとすることは、当業者が容易になし得たことである。
　
　また、審尋に対する回答書において、「請求項１に、例えば 
 「前記透明基板の他面に形成された透明接地電極を更に含む」 
 という請求項４の構成、および 
 「前記透明設置電極は、前記第１及び第２感知パターンと静電容量を形成する」 
 という明細書段落００５２に基づく構成を追加するための補正」を行うことを請求人は希望しているが、実用新案登録第３１３０５７０号公報の第９図及び関連する記載、特表平１１−５０５６４１号公報の図２ｂ及び関連する記載、特開２００４−３１０７３２号公報の図５及び関連する記載に記載されるように、Ｘ軸電極、Ｙ軸電極に加え、接地電極を設けることは本願出願前周知技術であり、請求人が希望する前記補正により追加される構成は、当業者が適宜為し得る設計事項と認められる。