(57)【要約】本発明は、炭素数１０以上の高級αオレフィンから得られ、▲１▼示差走査型熱量計（ＤＳＣ）を用いて測定される融点（Ｔｍ）が２０〜１００℃であるか、又は、▲２▼固体ＮＭＲによるスピン−格子緩和時間（Ｔ１）の測定で、融点以上において単一のＴ１が観測される結晶性高級αオレフィン重合体、及び特定のメタロセン触媒を用いる該αオレフィン重合体の製造方法に関するものである。本発明の結晶性高級αオレフィン重合体は、低温特性、剛性、耐熱性、潤滑油との相溶性、無機充填剤との混合性、二次加工性が優れている。【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）炭素数１０以上の高級αオレフィンから得られ、以下のいずれかを満足することを特徴とする結晶性高級αオレフィン重合体。
（２Ａ）：示差走査型熱量計（ＤＳＣ）を用い、試料を窒素雰囲気下−１０℃で５分間保持した後、１９０℃まで、１０℃／分で昇温させることにより得られた融解吸熱カーブから観測されるピークのピークトップとして定義される融点（ＴｍＤ）を有し、更に、１９０℃で５分保持した後、−１０℃まで、５℃／分で降温させ、−１０℃で５分保持した後、１９０℃まで１０℃／分で昇温させることにより得られた融解吸熱カーブから観測されるピークが１つで、かつ、そのピークトップとして定義される融点（Ｔｍ）が２０〜１００℃である。
（２Ｂ）：固体ＮＭＲによるスピン−格子緩和時間（Ｔ１）の測定で、融点以上において単一のＴ１が観測される。
【請求項２】
ゲルパーミエイションクロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定した重量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００〜１０，０００，０００である請求項１に記載の結晶性高級αオレフィン重合体。
【請求項３】
ＧＰＣ法により測定した分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が５．０以下である請求項１に記載の結晶性高級αオレフィン重合体。
【請求項４】
立体規則性指標値Ｍ２が５０モル％以上である請求項１に記載の結晶性高級αオレフィン重合体。
【請求項５】
（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物、及び（Ｂ）（Ｂ−１）該（Ａ）成分の遷移金属化合物又はその派生物と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合物及び（Ｂ−２）アルミノキサンから選ばれる少なくとも一種類の成分を含有する重合用触媒の存在下、炭素数１０以上の高級αオレフィンを重合させることを特徴とする請求項１に記載の結晶性高級αオレフィン重合体の製造方法。
2003070790.tif 000013
〔式中、Ｍは周期律表第３〜１０族又はランタノイド系列の金属元素を示し、Ｅ１及びＥ２はそれぞれ置換シクロペンタジエニル基，インデニル基，置換インデニル基，ヘテロシクロペンタジエニル基，置換ヘテロシクロペンタジエニル基，アミド基，ホスフィド基，炭化水素基及び珪素含有基の中から選ばれた配位子であって、Ａ１及びＡ２を介して架橋構造を形成しており、又それらは互いに同一でも異なっていてもよく、Ｘはσ結合性の配位子を示し、Ｘが複数ある場合、複数のＸは同じでも異なっていてもよく、他のＸ，Ｅ１，Ｅ２又はＹと架橋していてもよい。Ｙはルイス塩基を示し、Ｙが複数ある場合、複数のＹは同じでも異なっていてもよく、他のＹ，Ｅ１，Ｅ２又はＸと架橋していてもよく、Ａ１及びＡ２は二つの配位子を結合する二価の架橋基であって、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン含有炭化水素基、珪素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−Ｓｅ−、−ＮＲ１−、−ＰＲ１−、−Ｐ（Ｏ）Ｒ１−、−ＢＲ１−又は−ＡｌＲ１−を示し、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基又は炭素数１〜２０のハロゲン含有炭化水素基を示し、それらは互いに同一でも異なっていてもよい。ｑは１〜５の整数で〔（Ｍの原子価）−２〕を示し、ｒは０〜３の整数を示す。〕
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、樹脂の改質剤、粘着剤成分、接着剤成分、潤滑油成分、有機無機複合材料、蓄熱材、軽油などの燃料油の改質剤、アスファルトの改質剤、高性能ワックスとして有用な結晶性炭素数１０以上の高級αオレフィン重合体及びその製造方法に関するものである。
背景技術
炭素数１０以上の高級αオレフィンの重合に関する検討は、従来より行われているが、主にチーグラーナッタ系触媒を用いて検討されている。
例えば、ＰｏｌｙｍｅｒＪ．，１０，６１９（１９７８）や、Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０，２６８３（１９８９）、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，ＲａｐｉｄＣｏｍｍ．，１３，４４７（１９９２）、特開平７−１４５２０５などが挙げられる。
しかしながら，これらの文献において得られる高級αオレフィン重合体は、分子量が低い場合や、規則性が高いために融点が高く、又、融点が２つあるなど不均一であることが示されている。
又、Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｓｃｉ．ＰｕｒｅＡｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．，Ａ３５、４７３（１９９８）や、Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．Ａ、３８，２３３（２０００）、Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｍａｔｅｒ．Ｅｎｇ．，２８６，４８０（２００１）、Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｍａｔｅｒ．Ｅｎｇ．，２８６，３５０（２００１）には、メタロセン触媒と呼ばれる均一系触媒により高級αオレフィン重合体が得られることが記載されている。
しかしながら、不均一系触媒により得られた重合体同様に、分子量が十分高いと言えなかったり、規則性が高いために融点が高く、又、融点が２つあるなど、不均一であることが示されている。
融点が複数あることは結晶の大きさなどが不均一であることを示しており、べとつきの原因となることもある。
改質剤として他の素材と混合した場合、ブレンドが均一に行われず、所望の改良物性が得られないこともある。
又、蓄熱剤などの用途では、効率向上の為に特定温度において急激に融解や結晶化が起こることで急激な発熱・吸熱が生じることが望まれており、不均一な樹脂は使用が難しい。
本発明は、熱可塑性樹脂、特に、ポリオレフィンとの相溶性、潤滑油や燃料油やワックスとの相溶性、無機充填剤との混合性、二次加工性に優れ、融解・結晶化の温度域が狭い結晶性高級αオレフィン重合体及びその製造方法を提供することを目的とするものである。
発明の開示
本発明者らは、上記の目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、炭素数１０以上の高級αオレフィンから得られ、ＤＳＣで測定した融点（Ｔｍ）が特定範囲にある結晶性樹脂が本目的に適うものであり、特定のメタロセン触媒を用いることによりこのような重合体を製造できることを見出し、本発明に到達した。
即ち、本発明は、以下の結晶性高級αオレフィン重合体及びその製造方法を提供するものである。
１．（１）炭素数１０以上の高級αオレフィンから得られ、以下のいずれかを満足することを特徴とする結晶性高級αオレフィン重合体。
（２Ａ）：示差走査型熱量計（ＤＳＣ）を用い、試料を窒素雰囲気下−１０℃で５分間保持した後、１９０℃まで、１０℃／分で昇温させることにより得られた融解吸熱カーブから観測されるピークのピークトップとして定義される融点（ＴｍＤ）を有し、更に、１９０℃で５分保持した後、−１０℃まで、５℃／分で降温させ、−１０℃で５分保持した後、１９０℃まで１０℃／分で昇温させることにより得られた融解吸熱カーブから観測されるピークが１つで、かつ、そのピークトップとして定義される融点（Ｔｍ）が２０〜１００℃である。
（２Ｂ）：固体ＮＭＲによるスピン−格子緩和時間（Ｔ１）の測定で、融点以上において単一のＴ１が観測される。
２．ゲルパーミエイションクロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定した重量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００〜１０，０００，０００である上記１に記載の結晶性高級αオレフィン重合体。
３．ＧＰＣ法により測定した分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が５．０以下である上記１に記載の結晶性高級αオレフィン重合体。
４．立体規則性指標値Ｍ２が５０モル％以上である上記１に記載の結晶性高級αオレフィン重合体。
５．（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物、及び（Ｂ）（Ｂ−１）該（Ａ）成分の遷移金属化合物又はその派生物と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合物及び（Ｂ−２）アルミノキサンから選ばれる少なくとも一種類の成分を含有する重合用触媒の存在下、炭素数１０以上の高級αオレフィンを重合させることを特徴とする上記１に記載の結晶性高級αオレフィン重合体の製造方法。
2003070790.tif 000002
〔式中、Ｍは周期律表第３〜１０族又はランタノイド系列の金属元素を示し、Ｅ１及びＥ２はそれぞれ置換シクロペンタジエニル基，インデニル基，置換インデニル基，ヘテロシクロペンタジエニル基，置換ヘテロシクロペンタジエニル基，アミド基，ホスフィド基，炭化水素基及び珪素含有基の中から選ばれた配位子であって、Ａ１及びＡ２を介して架橋構造を形成しており、又それらは互いに同一でも異なっていてもよく、Ｘはσ結合性の配位子を示し、Ｘが複数ある場合、複数のＸは同じでも異なっていてもよく、他のＸ，Ｅ１，Ｅ２又はＹと架橋していてもよい。Ｙはルイス塩基を示し、Ｙが複数ある場合、複数のＹは同じでも異なっていてもよく、他のＹ，Ｅ１，Ｅ２又はＸと架橋していてもよく、Ａ１及びＡ２は二つの配位子を結合する二価の架橋基であって、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン含有炭化水素基、珪素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−Ｓｅ−、−ＮＲ１−、−ＰＲ１−、−Ｐ（Ｏ）Ｒ１−、−ＢＲ１−又は−ＡｌＲ１−を示し、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基又は炭素数１〜２０のハロゲン含有炭化水素基を示し、それらは互いに同一でも異なっていてもよい。ｑは１〜５の整数で〔（Ｍの原子価）−２〕を示し、ｒは０〜３の整数を示す。〕
発明を実施するための最良の形態
以下に、本発明について詳細に説明する。
先ず、本発明の結晶性高級αオレフィン重合体は、炭素数１０以上の高級αオレフィンを５０ｍｏｌ％以上含むものである。
好ましくは７０〜１００ｍｏｌ％、更に好ましくは８５〜１００％、特に好ましくは炭素数１０以上の高級αオレフィンのみからなる重合体である。
炭素数１０以上の高級αオレフィンの含量が５０ｍｏｌ％以下では、結晶性が得られなったり、融点が高すぎてしまい各種物質との相溶性が低下してしまう。
炭素数１０以上の高級αオレフィンとしては、１−デセン、１−ウンデセン、１−ドデセン、１−トリデセン、１−テトラデセン、１−ペンタデセン、１−ヘキサデセン、１−ヘプタデセン、１−オクタデセン、１−ノナデセン、１−エイコセン等が挙げられ、これらのうち一種又は二種以上を用いることができる。
本発明の結晶性高級αオレフィン重合体の原料のなる高級αオレフィンの炭素数が１０未満の場合は、結晶性が低く、べたつきや強度低下につながる。
該高級αオレフィンの炭素数の上限は２５以下が好ましい。
又、本発明の結晶性高級αオレフィン重合体は下記の（１−１）又は（１−２）の要件を満たす結晶性樹脂からなる結晶性高級αオレフィン重合体重合体であり、（２）〜（４）要件を満たすことが好ましい。
（１−１）：示差走査型熱量計（ＤＳＣ）を用い、試料を窒素雰囲気下−１０℃で５分間保持した後、１９０℃まで、１０℃／分で昇温させることにより得られた融解吸熱カーブから観測されるピークのピークトップとして定義される融点（ＴｍＤ）を有し、更に、１９０℃で５分保持した後、−１０℃まで、５℃／分で降温させ、−１０℃で５分保持した後、１９０℃まで１０℃／分で昇温させることにより得られた融解吸熱カーブから観測されるピークが１つで、かつ、そのピークトップとして定義される融点（Ｔｍ）が２０〜１００℃である。
（１−２）：固体ＮＭＲによるスピン−格子緩和時間（Ｔ１）の測定で、融点以上において単一のＴ１が観測される。
（２）ゲルパーミエイションクロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定した重量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００〜１０，０００，０００
（３）ＧＰＣ法により測定した分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が５．０以下
（４）立体規則性指標値Ｍ２が５０モル％以上
本発明のαオレフィン重合体の融点（ＴｍＤ及びＴｍ）は、示差走査型熱量計（ＤＳＣ）で観測される。
この融点（ＴｍＤ及びＴｍ）は、試料を窒素雰囲気下−１０℃で５分間保持した後、１９０℃まで、１０℃／分で昇温させることにより得られた融解吸熱カーブから観測されるピークのピークトップとして定義される融点がＴｍＤであり、更に、１９０℃で５分保持した後、−１０℃まで、５℃／分で降温させ、−１０℃で５分保持した後、１９０℃まで１０℃／分で昇温させることにより得られた融解吸熱カーブから観測されるピークが１つで、かつ、そのピークトップとして定義されるのがＴｍである。
このように定義される本発明のαオレフィン重合体の融点（Ｔｍ）は、２０〜１００℃であり、好ましくは２０〜８０℃、更に好ましくは２５〜５５℃である。
本発明のαオレフィン重合体はこのような関係を満たすことにより、常温でべたつきが発生しがたく、貯蔵性や二次加工性に優れたものとなるとともに、低温にて均一に溶融するため加工性に優れたものとなる。
スピン−格子緩和時間（Ｔ１）については後述する。
本発明のαオレフィン重合体は、ゲルパーミエイションクロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定した重量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００〜１０，０００，０００であることが好ましく、更に好ましくは１０，０００〜１０，０００，０００である。
Ｍｗが１，０００未満では強度が低下し、１０，０００，０００を超えると、成形、混練が困難となる。
又、本発明のαオレフィン重合体はＧＰＣ法により測定した分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が５．０以下であることが好ましく、更に好ましくは１．５〜３．５、特に好ましくは１．５〜３．０である。
分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が５．０を超えると組成分布が広くなり、表面特性の悪化、特にべたつき、強度低下につながる。
尚、上記の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ＧＰＣ法により、下記の装置及び条件で測定したポリスチレン換算の質量平均分子量Ｍｗ及び数平均分子量Ｍｎより算出した値である。
ＧＰＣ測定装置
カラム      ：ＴＯＳＯ  ＧＭＨＨＲ−Ｈ（Ｓ）ＨＴ
検出器      ：液体クロマトグラム用ＲＩ検出器  ＷＡＴＥＲＳ  １５０Ｃ
測定条件
溶媒        ：１，２，４−トリクロロベンゼン
測定温度    ：１４５℃
流速        ：１．０ミリリットル／分
試料濃度    ：２．２ｍｇ／ミリリットル
注入量      ：１６０マイクロリットル
検量線      ：Ｕｎｉｖｅｒｓａｌ  Ｃａｌｉｂｒａｔｉｏｎ
解析プログラム：ＨＴ−ＧＰＣ（Ｖｅｒ，１．０）
本発明のαオレフィン重合体は、アイソタクチック構造が良好で、立体規則性指標値Ｍ２が５０モル％以上であることが好ましい。
更に好ましくは５０〜９０モル％、特に好ましくは５５〜８５モル％、一層好ましくは５５〜７５モル％である。
このように立体規則性を中程度以上、更には中程度に制御することにより、本発明の目的を達成することができるようになる。
立体規則性指標値のＭ２が５０モル未満の場合、アクタクチック構造やシンジオタクチック構造となり、非晶性もしくは、結晶性が低下し、表面特性の悪化、特にべたつき、強度低下につながる。
この立体規則性指標値Ｍ２は、Ｔ．Ａｓａｋｕｒａ，Ｍ．Ｄｅｍｕｒａ，Ｙ．Ｎｉｓｈｉｙａｍａにより報告された「Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２４，２３３４（１９９１）」で提案された方法に準拠して求めた。
即ち、１３ＣＮＭＲスペクトルで側鎖α位のＣＨ２炭素が立体規則性の違いを反映して分裂して観測されることを利用してＭ２が求めることができる。
このＭ２の値が大きいほどアイソタクティシティーが高いことを示す。
尚、１３ＣＮＭＲの測定は以下の装置、条件にて行う。
装置：日本電子（株）製  ＥＸ−４００
測定温度：１３０℃
パルス幅：４５°
積算回数：１０００回
溶媒：１，２，４−トリクロロベンゼンと重ベンゼンの９０：１０（容量比）混合溶媒
又、立体規則性指標値Ｍ２の計算は以下のようにして求める。
混合溶媒に基づく大きな吸収ピークが、１２７〜１３５ｐｐｍに６本見られる。
このピークのうち、低磁場側から４本目のピーク値を１３１．１ｐｐｍとし、化学シフトの基準とする。
このとき側鎖α位のＣＨ２炭素に基づく吸収ピークが３４〜３７ｐｐｍ付近に観測される。
このとき以下の式を用いてＭ２（ｍｏｌ％）を求める。
2003070790.tif 000003
固体ＮＭＲ測定法は、下記に示す固体ＮＭＲ測定装置を用い、反転回復法（１８０°−τ−９０°パルス法）により、各温度でのスピン−格子緩和時間〔Ｔ１（ｍｓ）〕の測定を行い確認した。
装置：ＪＥＯＬ社製  ＪＮＭ−ＭＵ２５  （パルスＮＭＲ）スペクトロメータ  測定核：水素核（１Ｈ）
測定周波数：２５ＭＨｚ
９０°パルス幅：２．０マイクロ秒
一般的に、結晶性高分子で系中に結晶層と非晶層が混在していても、融点以下では、相間のスピン拡散が速ければ、緩和が平均化されて単一のＴ１が観測される。
しかしながら、融解等で相間のスピン拡散速度が低下すると複数のＴ１が観測されることがある。
これは、系が不均一で、結晶の大きさが大きいときや、大きさに分布があるときなどに観測されることがある。
つまり、融点以上で、単一のＴ１が観測されることは、系が均一で、結晶の大きさが小さく、大きさの分布が狭いことを意味している。
系が均一で結晶が小さければ、べたつきがなく、透明性の向上につながるばかりか、改質剤として他の素材と混合した場合、ブレンドが均一に行われるために優れた改良物性が得られるといった利点につながる。
次に、本発明のαオレフィン重合体は、以下に示すメタロセン系触媒を用いて製造することができ、その中でも特に、アイソタクチックポリマーを合成できる、Ｃ２対称及び、Ｃ１対称の遷移金属化合物を用いることが好ましい。
即ち、（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物、及び（Ｂ）（Ｂ−１）該（Ａ）成分の遷移金属化合物又はその派生物と反応してイオン性の錯体を形成しうる化合物及び（Ｂ−２）アルミノキサンから選ばれる少なくとも一種類の成分を含有する重合用触媒の存在下、炭素数１０以上の高級αオレフィンを重合させる方法である。
2003070790.tif 000004
〔式中、Ｍは周期律表第３〜１０族又はランタノイド系列の金属元素を示し、Ｅ１及びＥ２はそれぞれ置換シクロペンタジエニル基，インデニル基，置換インデニル基，ヘテロシクロペンタジエニル基，置換ヘテロシクロペンタジエニル基，アミド基，ホスフィド基，炭化水素基及び珪素含有基の中から選ばれた配位子であって、Ａ１及びＡ２を介して架橋構造を形成しており、又それらは互いに同一でも異なっていてもよく、Ｘはσ結合性の配位子を示し、Ｘが複数ある場合、複数のＸは同じでも異なっていてもよく、他のＸ，Ｅ１，Ｅ２又はＹと架橋していてもよい。Ｙはルイス塩基を示し、Ｙが複数ある場合、複数のＹは同じでも異なっていてもよく、他のＹ，Ｅ１，Ｅ２又はＸと架橋していてもよく、Ａ１及びＡ２は二つの配位子を結合する二価の架橋基であって、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン含有炭化水素基、珪素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−Ｓｅ−、−ＮＲ１−、−ＰＲ１−、−Ｐ（Ｏ）Ｒ１−、−ＢＲ１−又は−ＡｌＲ１−を示し、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基又は炭素数１〜２０のハロゲン含有炭化水素基を示し、それらは互いに同一でも異なっていてもよい。ｑは１〜５の整数で〔（Ｍの原子価）−２〕を示し、ｒは０〜３の整数を示す。〕
上記一般式（Ｉ）において、Ｍは周期律表第３〜１０族又はランタノイド系列の金属元素を示し、具体例としてはチタン，ジルコニウム，ハフニウム，イットリウム，バナジウム，クロム，マンガン，ニッケル，コバルト，パラジウム及びランタノイド系金属などが挙げられるが、これらの中ではオレフィン重合活性などの点からチタン，ジルコニウム及びハフニウムが好適である。
Ｅ１及びＥ２はそれぞれ、置換シクロペンタジエニル基，インデニル基，置換インデニル基，ヘテロシクロペンタジエニル基，置換ヘテロシクロペンタジエニル基，アミド基（−Ｎ＜），ホスフィン基（−Ｐ＜），炭化水素基〔＞ＣＲ−，＞Ｃ＜〕及び珪素含有基〔＞ＳｉＲ−，＞Ｓｉ＜〕（但し、Ｒは水素又は炭素数１〜２０の炭化水素基あるいはヘテロ原子含有基である）の中から選ばれた配位子を示し、Ａ１及びＡ２を介して架橋構造を形成している。
又、Ｅ１及びＥ２は互いに同一でも異なっていてもよい。
このＥ１及びＥ２としては、置換シクロペンタジエニル基，インデニル基及び置換インデニル基が好ましい。
又、Ｘはσ結合性の配位子を示し、Ｘが複数ある場合、複数のＸは同じでも異なっていてもよく、他のＸ，Ｅ１，Ｅ２又はＹと架橋していてもよい。
該Ｘの具体例としては、ハロゲン原子，炭素数１〜２０の炭化水素基，炭素数１〜２０のアルコキシ基，炭素数６〜２０のアリールオキシ基，炭素数１〜２０のアミド基，炭素数１〜２０の珪素含有基，炭素数１〜２０のホスフィド基，炭素数１〜２０のスルフィド基，炭素数１〜２０のアシル基などが挙げられる。
一方、Ｙはルイス塩基を示し、Ｙが複数ある場合、複数のＹは同じでも異なっていてもよく、他のＹやＥ１，Ｅ２又はＸと架橋していてもよい。
該Ｙのルイス塩基の具体例としては、アミン類，エーテル類，ホスフィン類，チオエーテル類などを挙げることができる。
次に、Ａ１及びＡ２は二つの配位子を結合する二価の架橋基であって、炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン含有炭化水素基、珪素含有基、ゲルマニウム含有基、スズ含有基、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ２−、−Ｓｅ−、−ＮＲ１−、−ＰＲ１−、−Ｐ（Ｏ）Ｒ１−、−ＢＲ１−又は−ＡｌＲ１−を示し、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン含有炭化水素基を示し、それらは互いに同一でも異なっていてもよい。
このような架橋基としては、例えば、一般式
2003070790.tif 000005
（Ｄは炭素、ケイ素又はスズ、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ水素原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基で、それらは互いに同一でも異なっていてもよく、又互いに結合して環構造を形成していてもよい。ｅは１〜４の整数を示す。）
で表されるものが挙げられ、その具体例としては、メチレン基，エチレン基，エチリデン基，プロピリデン基，イソプロピリデン基，シクロヘキシリデン基，１，２−シクロヘキシレン基，ビニリデン基（ＣＨ２＝Ｃ＝），ジメチルシリレン基，ジフェニルシリレン基，メチルフェニルシリレン基，ジメチルゲルミレン基，ジメチルスタニレン基，テトラメチルジシリレン基，ジフェニルジシリレン基などを挙げることができる。
これらの中で、エチレン基，イソプロピリデン基及びジメチルシリレン基が好適である。
ｑは１〜５の整数で〔（Ｍの原子価）−２〕を示し、ｒは０〜３の整数を示す。
このような一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物の中では、一般式（ＩＩ）
2003070790.tif 000006
で表される二重架橋型ビスシクロペンタジエニル誘導体を配位子とする遷移金属化合物が好ましい。
上記一般式（ＩＩ）において、Ｍ，Ａ１，Ａ２，ｑ及びｒは、一般式（Ｉ）と同じである。
Ｘ１はσ結合性の配位子を示し、Ｘ１が複数ある場合、複数のＸ１は同じでも異なっていてもよく、他のＸ１又はＹ１と架橋していてもよい。
このＸ１の具体例としては、一般式（Ｉ）のＸの説明で例示したものと同じものを挙げることができる。
Ｙ１はルイス塩基を示し、Ｙ１が複数ある場合、複数のＹ１は同じでも異なっていてもよく、他のＹ１又はＸ１と架橋していてもよい。
このＹ１の具体例としては、一般式（Ｉ）のＹの説明で例示したものと同じものを挙げることができる。
Ｒ４〜Ｒ９はそれぞれ水素原子，ハロゲン原子，炭素数１〜２０の炭化水素基，炭素数１〜２０のハロゲン含有炭化水素基，珪素含有基又はヘテロ原子含有基を示すが、その少なくとも一つは水素原子でないことが必要である。
又、Ｒ４〜Ｒ９は互いに同一でも異なっていてもよく、隣接する基同士が互いに結合して環を形成していてもよい。
なかでも、Ｒ６とＲ７は環を形成していること及びＲ８とＲ９は環を形成していることが好ましい。
Ｒ４及びＲ５としては、酸素、ハロゲン、珪素等のヘテロ原子を含有する基が重合活性が高くなり好ましい。
この二重架橋型ビスシクロペンタジエニル誘導体を配位子とする遷移金属化合物は、配位子間の架橋基にケイ素を含むものが好ましい。
一般式（Ｉ）で表される遷移金属化合物の具体例としては、（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−メチレン）（２，１’−メチレン）−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−イソプロピリデン）（２，１’−イソプロピリデン）−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（３−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（４，５−ベンゾインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（４−イソプロピルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（５，６−ジメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（４，７−ジイソプロピルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（４−フェニルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（３−メチル−４−イソプロピルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（５，６−ベンゾインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−エチレン）（２，１’−イソプロピリデン）−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−メチレン）２，１’−エチレン）−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−メチレン）（２，１’−イソプロピリデン）−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（３−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（３−ｎ−ブチルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（３−ｉ−プロピルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（３−フェニルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（４，５−ベンゾインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（４−イソプロピルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（５，６−ジメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（４，７−ジ−ｉ−プロピルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（４−フェニルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１−ジメチルシリレン）ビス（３−メチル−４−ｉ−プロピルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（５，６−ベンゾインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）−ビス（３−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）−ビス（３−ｉ−プロピルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）−ビス（３−ｎ−ブチルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）−ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）−ビス（３−トリメチルシリルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）−ビス（３−フェニルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−メチレン）−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−メチレン）−ビス（３−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−メチレン）−ビス（３−ｉ−プロピルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−メチレン）−ビス（３−ｎ−ブチルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−メチレン）−ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−メチレン）−ビス（３−トリメチルシリルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジフェニルシリレン）（２，１’−メチレン）−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジフェニルシリレン）（２，１’−メチレン）−ビス（３−メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジフェニルシリレン）（２，１’−メチレン）−ビス（３−ｉ−プロピルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジフェニルシリレン）（２，１’−メチレン）−ビス（３−ｎ−ブチルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジフェニルシリレン）（２，１’−メチレン）−ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジフェニルシリレン）（２，１’−メチレン）−ビス（３−トリメチルシリルインデニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）（３−メチルシクロペンタジエニル）（３’−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）（３−メチルシクロペンタジエニル）（３’−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−エチレン）（３−メチルシクロペンタジエニル）（３’−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−エチレン）（２，１’−メチレン）（３−メチルシクロペンタジエニル）（３’−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−エチレン）（２，１’−イソプロピリデン）（３−メチルシクロペンタジエニル）（３’−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−メチレン）（２，１’−メチレン）（３−メチルシクロペンタジエニル）（３’−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−メチレン）（２，１’−イソプロピリデン）（３−メチルシクロペンタジエニル）（３’−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−イソプロピリデン）（２，１’−イソプロピリデン）（３−メチルシクロペンタジエニル）（３’−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）（３，４−ジメチルシクロペンタジエニル）（３’，４’−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）（３，４−ジメチルシクロペンタジエニル）（３’，４’−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−エチレン）（３，４−ジメチルシクロペンタジエニル）（３’，４’−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−エチレン）（２，１’−メチレン）（３，４−ジメチルシクロペンタジエニル）（３’，４’−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−エチレン）（２，１’−イソプロピリデン）（３，４−ジメチルシクロペンタジエニル）（３’，４’−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−メチレン）（２，１’−メチレン）（３，４−ジメチルシクロペンタジエニル）（３’，４’−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−メチレン）（２，１’−イソプロピリデン）（３，４−ジメチルシクロペンタジエニル）（３’，４’−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２−イソプロピリデン）（２，１’−イソプロピリデン）（３，４−ジメチルシクロペンタジエニル）（３’，４’−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）（３’−メチル−５−エチルシクロペンタジエニル）（３’−メチル−５’−エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）（３−メチル−５−エチルシクロペンタジエニル）（３’−メチル−５’−エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）（３−メチル−５−イソプロピルシクロペンタジエニル）（３’−メチル−５’−イソプロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）（３−メチル−５−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３’−メチル−５’−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）（３−メチル−５−フェニルシクロペンジエニル）（３’−メチル−５’−フェニルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）（３−メチル−５−エチルシクロペンタジエニル）（３’−メチル−５’−エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）（３−メチル−５−ｉ−プロピルシクロペンタジエニル）（３’−メチル−５’−ｉ−プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）（３−メチル−５−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３’−メチル−５’−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−イソプロピリデン）（３−メチル−５−フェニルシクロペンタジエニル）（３’−メチル−５’−フェニルシクロペンジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−エチレン）（３−メチル−５−エチルシクロペンタジエニル）（３’−メチル−５’−エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−エチレン）（３−メチル−５−ｉ−プロピルシクロペンタジエニル）（３’−メチル−５’−ｉ−プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−エチレン）（３−メチル−５−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３’−メチル−５’−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−エチレン）（３−メチル−５−フェニルシクロペンタジエニル）（３’−メチル−５’−フェニルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−メチレン）（３−メチル−５−エチルシクロペンタジエニル）（３’−メチル−５’−エチルシクロペンジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−メチレン）（３−メチル−５−ｉ−プロピルシクロペンタジエニル）（３’−メチル−５’−ｉ−プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−メチレン）（３−メチル−５−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３’−メチル−５’−ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−メチレン）（３−メチル−５−フェニルシクロペンタジエニル）（３’−メチル−５’−フェニルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−エチレン）（２，１’−メチレン）（３−メチル−５−ｉ−プロピルシクロペンタジエニル）（３’−メチル−５’−ｉ−プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−エチレン）（２，１’−イソプロピリデン）（３−メチル−５−ｉ−プロピルシクロペンタジエニル）（３’−メチル−５’−ｉ−プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−メチレン）（２，１’−メチレン）（３−メチル−５−ｉ−プロピルシクロペンタジエニル）（３’−メチル−５’−ｉ−プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド，（１，２’−メチレン）（２，１’−イソプロピリデン）（３−メチル−５−ｉ−プロピルシクロペンタジエニル）（３’−メチル−５’−ｉ−プロピルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−ジメチルシリレン）ビスインデニルジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジフェニルシリレン）（２，２’−ジメチルシリレン）ビスインデニルジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−ジメチルシリレン）ビスインデニルジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジイソプロピルシリレン）（２，２’−ジメチルシリレン）ビスインデニルジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−ジイソプロピルシリレン）ビスインデニルジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレンインデニル）（２，２’−ジメチルシリレン−３−トリメチルシリルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジフェニルシリレンインデニル）（２，２’−ジフェニルシリレン−３−トリメチルシリルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジフェニルシリレンインデニル）（２，２’−ジメチルシリレン−３−トリメチルシリルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−ジメチルシリレン）（インデニル）（３−トリメチルシリルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジフェニルシリレン）（２，２’−ジフェニルシリレン）（インデニル）（３−トリメチルシリルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジフェニルシリレン）（２，２’−ジメチルシリレン）（インデニル）（３−トリメチルシリルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−ジフェニルシリレン）（インデニル）（３−トリメチルシリルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジイソプロピルシリレン）（２，２’−ジメチルシリレン）（インデニル）（３−トリメチルシリルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−ジイソプロピルシリレン）（インデニル）（３−トリメチルシリルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジイソプロピルシリレン）（２，２’−ジイソプロピルシリレン）（インデニル）（３−トリメチルシリルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−ジメチルシリレン）（インデニル）（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジフェニルシリレン）（２，２’−ジフェニルシリレン）（インデニル）（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジフェニルシリレン）（２，２’−ジメチルシリレン）（インデニル）（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−ジフェニルシリレン）（インデニル）（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジイソプロピルシリレン）（２，２’−ジメチルシリレン）（インデニル）（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジメチルシリレン）（２，２’−ジイソプロピルシリレン）（インデニル）（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、（１，１’−ジイソプロピルシリレン）（２，２’−ジイソプロピルシリレン）（インデニル）（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロリドなど及びこれらの化合物におけるジルコニウムをチタン又はハフニウムに置換したものを挙げることができる。もちろんこれらに限定されるものではない。
又、他の族又はランタノイド系列の金属元素の類似化合物であってもよい。
又、上記化合物において、（１，１’−）（２，２’−）が（１，２’−）（２，１’−）であってもよく、（１，２’−）（２，１’−）が（１，１’−）（２，２’−）であってもよい。
次に、（Ｂ）成分のうちの（Ｂ−１）成分としては、上記（Ａ）成分の遷移金属化合物と反応して、イオン性の錯体を形成しうる化合物であれば、いずれのものでも使用できるが、次の一般式（ＩＩＩ），（ＩＶ）
（〔Ｌ１−Ｒ１０〕ｋ＋）ａ（〔Ｚ〕−）ｂ          ・・・（ＩＩＩ）
（〔Ｌ２〕ｋ＋）ａ（〔Ｚ〕−）ｂ                  ・・・（ＩＶ）
（ただし、Ｌ２はＭ２、Ｒ１１Ｒ１２Ｍ３、Ｒ１３３Ｃ又はＲ１４Ｍ３である。）〔（ＩＩＩ），（ＩＶ）式中、Ｌ１はルイス塩基、〔Ｚ〕−は、非配位性アニオン〔Ｚ１〕−及び〔Ｚ２〕−、ここで〔Ｚ１〕−は複数の基が元素に結合したアニオン、即ち〔Ｍ１Ｇ１Ｇ２・・・Ｇｆ〕−（ここで、Ｍ１は周期律表第５〜１５族元素、好ましくは周期律表第１３〜１５族元素を示す。Ｇ１〜Ｇｆはそれぞれ水素原子，ハロゲン原子，炭素数１〜２０のアルキル基，炭素数２〜４０のジアルキルアミノ基，炭素数１〜２０のアルコキシ基，炭素数６〜２０のアリール基，炭素数６〜２０のアリールオキシ基，炭素数７〜４０のアルキルアリール基，炭素数７〜４０のアリールアルキル基，炭素数１〜２０のハロゲン置換炭化水素基，炭素数１〜２０のアシルオキシ基，有機メタロイド基、又は炭素数２〜２０のヘテロ原子含有炭化水素基を示す。Ｇ１〜Ｇｆのうち２つ以上が環を形成していてもよい。ｆは〔（中心金属Ｍ１の原子価）＋１〕の整数を示す。）、〔Ｚ２〕−は、酸解離定数の逆数の対数（ｐＫａ）が−１０以下のブレンステッド酸単独又はブレンステッド酸及びルイス酸の組合わせの共役塩基、あるいは一般的に超強酸と定義される酸の共役塩基を示す。又、ルイス塩基が配位していてもよい。又、Ｒ１０は水素原子，炭素数１〜２０のアルキル基，炭素数６〜２０のアリール基，アルキルアリール基又はアリールアルキル基を示し、Ｒ１１及びＲ１２はそれぞれシクロペンタジエニル基，置換シクロペンタジエニル基，インデニル基又はフルオレニル基、Ｒ１３は炭素数１〜２０のアルキル基，アリール基，アルキルアリール基又はアリールアルキル基を示す。Ｒ１４はテトラフェニルポルフィリン，フタロシアニン等の大環状配位子を示す。ｋは〔Ｌ１−Ｒ１０〕，〔Ｌ２〕のイオン価数で１〜３の整数、ａは１以上の整数、ｂ＝（ｋ×ａ）である。Ｍ２は、周期律表第１〜３、１１〜１３、１７族元素を含むものであり、Ｍ３は、周期律表第７〜１２族元素を示す。〕
で表されるものを好適に使用することができる。
ここで、Ｌ１の具体例としては、アンモニア，メチルアミン，アニリン，ジメチルアミン，ジエチルアミン，Ｎ−メチルアニリン，ジフェニルアミン，Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン，トリメチルアミン，トリエチルアミン，トリ−ｎ−ブチルアミン，メチルジフェニルアミン，ピリジン，ｐ−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン，ｐ−ニトロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンなどのアミン類、トリエチルホスフィン，トリフェニルホスフィン，ジフェニルホスフィンなどのホスフィン類、テトラヒドロチオフェンなどのチオエーテル類、安息香酸エチルなどのエステル類、アセトニトリル，ベンゾニトリルなどのニトリル類などを挙げることができる。
Ｒ１０の具体例としては水素，メチル基，エチル基，ベンジル基，トリチル基などを挙げることができ、Ｒ１１，Ｒ１２の具体例としては、シクロペンタジエニル基，メチルシクロペンタジエニル基，エチルシクロペンタジエニル基，ペンタメチルシクロペンタジエニル基などを挙げることができる。
Ｒ１３の具体例としては、フェニル基，ｐ−トリル基，ｐ−メトキシフェニル基などを挙げることができ、Ｒ１４の具体例としてはテトラフェニルポルフィリン，フタロシアニン，アリル，メタリルなどを挙げることができる。
又、Ｍ２の具体例としては、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｂｒ，Ｉ，Ｉ３などを挙げることができ、Ｍ３の具体例としては、Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｚｎなどを挙げることができる。
又、〔Ｚ１〕−、即ち〔Ｍ１Ｇ１Ｇ２・・・Ｇｆ〕において、Ｍ１の具体例としてはＢ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂなど、好ましくはＢ及びＡｌが挙げられる。
又、Ｇ１，Ｇ２〜Ｇｆの具体例としては、ジアルキルアミノ基としてジメチルアミノ基，ジエチルアミノ基など、アルコキシ基若しくはアリールオキシ基としてメトキシ基，エトキシ基，ｎ−ブトキシ基，フェノキシ基など、炭化水素基としてメチル基，エチル基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，イソブチル基，ｎ−オクチル基，ｎ−エイコシル基，フェニル基，ｐ−トリル基，ベンジル基，４−ｔ−ブチルフェニル基，３，５−ジメチルフェニル基など、ハロゲン原子としてフッ素，塩素，臭素，ヨウ素，ヘテロ原子含有炭化水素基としてｐ−フルオロフェニル基，３，５−ジフルオロフェニル基，ペンタクロロフェニル基，３，４，５−トリフルオロフェニル基，ペンタフルオロフェニル基，３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基，ビス（トリメチルシリル）メチル基など、有機メタロイド基としてペンタメチルアンチモン基、トリメチルシリル基，トリメチルゲルミル基，ジフェニルアルシン基，ジシクロヘキシルアンチモン基，ジフェニル硼素などが挙げられる。
又、非配位性のアニオン、即ちｐＫａが−１０以下のブレンステッド酸単独又はブレンステッド酸及びルイス酸の組合わせの共役塩基〔Ｚ２〕−の具体例としては、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン（ＣＦ３ＳＯ３）−，ビス（トリフルオロメタンスルホニル）メチルアニオン，ビス（トリフルオロメタンスルホニル）ベンジルアニオン，ビス（トリフルオロメタンスルホニル）アミド，過塩素酸アニオン（ＣｌＯ４）−，トリフルオロ酢酸アニオン（ＣＦ３ＣＯ２）−，ヘキサフルオロアンチモンアニオン（ＳｂＦ６）−，フルオロスルホン酸アニオン（ＦＳＯ３）−，クロロスルホン酸アニオン（ＣｌＳＯ３）−，フルオロスルホン酸アニオン／５−フッ化アンチモン（ＦＳＯ３／ＳｂＦ５）−，フルオロスルホン酸アニオン／５−フッ化砒素（ＦＳＯ３／ＡｓＦ５）−，トリフルオロメタンスルホン酸／５−フッ化アンチモン（ＣＦ３ＳＯ３／ＳｂＦ５）−などを挙げることができる。
このような前記（Ａ）成分の遷移金属化合物と反応してイオン性の錯体を形成するイオン性化合物、即ち（Ｂ−１）成分化合物の具体例としては、テトラフェニル硼酸トリエチルアンモニウム，テトラフェニル硼酸トリ−ｎ−ブチルアンモニウム，テトラフェニル硼酸トリメチルアンモニウム，テトラフェニル硼酸テトラエチルアンモニウム，テトラフェニル硼酸メチル（トリ−ｎ−ブチル）アンモニウム，テトラフェニル硼酸ベンジル（トリ−ｎ−ブチル）アンモニウム，テトラフェニル硼酸ジメチルジフェニルアンモニウム，テトラフェニル硼酸トリフェニル（メチル）アンモニウム，テトラフェニル硼酸トリメチルアニリニウム，テトラフェニル硼酸メチルピリジニウム，テトラフェニル硼酸ベンジルピリジニウム，テトラフェニル硼酸メチル（２−シアノピリジニウム），テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリエチルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリ−ｎ−ブチルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリフェニルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸テトラエチルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ベンジル（トリ−ｎ−ブチル）アンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチルジフェニルアンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリフェニル（メチル）アンモニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチルアニリニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ジメチルアニリニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリメチルアニリニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチルピリジニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ベンジルピリジニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチル（２−シアノピリジニウム），テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ベンジル（２−シアノピリジニウム），テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸メチル（４−シアノピリジニウム），テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリフェニルホスホニウム，テトラキス〔ビス（３，５−ジトリフルオロメチル）フェニル〕硼酸ジメチルアニリニウム，テトラフェニル硼酸フェロセニウム，テトラフェニル硼酸銀、テトラフェニル硼酸トリチル，テトラフェニル硼酸テトラフェニルポルフィリンマンガン，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸フェロセニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸（１，１’−ジメチルフェロセニウム），テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸デカメチルフェロセニウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸銀、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸トリチル，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸リチウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸ナトリウム，テトラキス（ペンタフルオロフェニル）硼酸テトラフェニルポルフィリンマンガン，テトラフルオロ硼酸銀，ヘキサフルオロ燐酸銀，ヘキサフルオロ砒素酸銀，過塩素酸銀，トリフルオロ酢酸銀，トリフルオロメタンスルホン酸銀などを挙げることができる。
（Ｂ−１）は一種用いてもよく、又二種以上を組み合わせて用いてもよい。
一方、（Ｂ−２）成分のアルミノキサンとしては、一般式（Ｖ）
2003070790.tif 000007
（式中、Ｒ１５は炭素数１〜２０、好ましくは１〜１２のアルキル基，アルケニル基，アリール基，アリールアルキル基などの炭化水素基あるいはハロゲン原子を示し、ｗは平均重合度を示し、通常２〜５０、好ましくは２〜４０の整数である。尚、各Ｒ１５は同じでも異なっていてもよい。）で示される鎖状アルミノキサン、及び一般式（ＶＩ）
2003070790.tif 000008
（式中、Ｒ１５及びｗは前記一般式（Ｖ）におけるものと同じである。）で示される環状アルミノキサンを挙げることができる。
前記アルミノキサンの製造法としては、アルキルアルミニウムと水などの縮合剤とを接触させる方法が挙げられるが、その手段については特に限定はなく、公知の方法に準じて反応させればよい。
例えば、▲１▼有機アルミニウム化合物を有機溶剤に溶解しておき、これを水と接触させる方法、▲２▼重合時に当初有機アルミニウム化合物を加えておき、後に水を添加する方法、▲３▼金属塩などに含有されている結晶水、無機物や有機物への吸着水を有機アルミニウム化合物と反応させる方法、▲４▼テトラアルキルジアルミノキサンにトリアルキルアルミニウムを反応させ、更に水を反応させる方法などがある。
尚、アルミノキサンとしては、トルエン不溶性のものであってもよい。
これらのアルミノキサンは一種用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
（Ａ）触媒成分と（Ｂ）触媒成分との使用割合は、（Ｂ）触媒成分として（Ｂ−１）化合物を用いた場合には、モル比で好ましくは１０：１〜１：１００、より好ましくは２：１〜１：１０の範囲が望ましく、上記範囲を逸脱する場合は、単位質量ポリマーあたりの触媒コストが高くなり、実用的でない。
又、（Ｂ−２）化合物を用いた場合には、モル比で好ましくは１：１〜１：１００００００、より好ましくは１：１０〜１：１００００の範囲が望ましい。
この範囲を逸脱する場合は単位質量ポリマーあたりの触媒コストが高くなり、実用的でない。
又、触媒成分（Ｂ）としては（Ｂ−１），（Ｂ−２）を単独又は二種以上組み合わせて用いることもできる。
又、本発明のαオレフィン重合体を製造する際の重合用触媒は、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分に加えて（Ｃ）成分として有機アルミニウム化合物を用いることができる。
ここで、（Ｃ）成分の有機アルミニウム化合物としては、一般式（ＶＩＩ）
Ｒ１６ｖＡｌＪ３−ｖ      ・・・（ＶＩＩ）
〔式中、Ｒ１６は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｊは水素原子、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基又はハロゲン原子を示し、ｖは１〜３の整数である〕
で示される化合物が用いられる。
前記一般式（ＶＩＩ）で示される化合物の具体例としては、トリメチルアルミニウム，トリエチルアルミニウム，トリイソプロピルアルミニウム，トリイソブチルアルミニウム，ジメチルアルミニウムクロリド，ジエチルアルミニウムクロリド，メチルアルミニウムジクロリド，エチルアルミニウムジクロリド，ジメチルアルミニウムフルオリド，ジイソブチルアルミニウムヒドリド，ジエチルアルミニウムヒドリド，エチルアルミニウムセスキクロリド等が挙げられる。
これらの有機アルミニウム化合物は一種用いてもよく、二種以上を組合せて用いてもよい。
前記（Ａ）触媒成分と（Ｃ）触媒成分との使用割合は、モル比で好ましくは１：１〜１：１００００、より好ましくは１：５〜１：２０００、更に好ましくは１：１０ないし１：１０００の範囲が望ましい。
該（Ｃ）触媒成分を用いることにより、遷移金属当たりの重合活性を向上させることができるが、あまり多いと有機アルミニウム化合物が無駄になるとともに、重合体中に多量に残存し、好ましくない。
本発明のαオレフィン重合体の製造においては、触媒成分の少なくとも一種を適当な担体に担持して用いることができる。
該担体の種類については特に制限はなく、無機酸化物担体、それ以外の無機担体及び有機担体のいずれも用いることができるが、特に無機酸化物担体あるいはそれ以外の無機担体が好ましい。
無機酸化物担体としては、具体的には、ＳｉＯ２，Ａｌ２Ｏ３，ＭｇＯ，ＺｒＯ２，ＴｉＯ２，Ｆｅ２Ｏ３，Ｂ２Ｏ３，ＣａＯ，ＺｎＯ，ＢａＯ，ＴｈＯ２やこれらの混合物、例えば、シリカアルミナ，ゼオライト，フェライト，グラスファイバーなどが挙げられる。
これらの中では、特にＳｉＯ２，Ａｌ２Ｏ３が好ましい。
尚、上記無機酸化物担体は、少量の炭酸塩，硝酸塩，硫酸塩などを含有してもよい。
一方、上記以外の担体として、ＭｇＣｌ２，Ｍｇ（ＯＣ２Ｈ５）２などで代表される一般式ＭｇＲ１７ｘＸ１ｙで表されるマグネシウム化合物やその錯塩などを挙げることができる。
ここで、Ｒ１７は炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基又は炭素数６〜２０のアリール基、Ｘ１はハロゲン原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を示し、ｘは０〜２、ｙは０〜２でり、かつｘ＋ｙ＝２である。
各Ｒ１７及び各Ｘ１はそれぞれ同一でもよく、又異なってもいてもよい。
又、有機担体としては、ポリスチレン，スチレン−ジビニルベンゼン共重合体，ポリエチレン，ポリ１−ブテン，置換ポリスチレン，ポリアリレートなどの重合体やスターチ，カーボンなどを挙げることができる。
本発明のαオレフィン重合体の製造に用いられる触媒の担体としては、ＭｇＣｌ２，ＭｇＣｌ（ＯＣ２Ｈ５），Ｍｇ（ＯＣ２Ｈ５）２，ＳｉＯ２，Ａｌ２Ｏ３などが好ましい。
又、担体の性状は、その種類及び製法により異なるが、平均粒径は通常１〜３００μｍ、好ましくは１０〜２００μｍ、より好ましくは２０〜１００μｍである。
粒径が小さいと重合体中の微粉が増大し、粒径が大きいと重合体中の粗大粒子が増大し嵩密度の低下やホッパーの詰まりの原因になる。
又、担体の比表面積は、通常１〜１０００ｍ２／ｇ、好ましくは５０〜５００ｍ２／ｇ、細孔容積は通常０．１〜５ｃｍ３／ｇ、好ましくは０．３〜３ｃｍ３／ｇである。
比表面積又は細孔容積の何れかが上記範囲を逸脱すると、触媒活性が低下することがある。尚比表面積及び細孔容積は、例えば、ＢＥＴ法に従って吸着された窒素ガスの体積から求めることができる〔Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、６０，３０９（１９８３）参照〕。
更に、上記担体が無機酸化物担体である場合には、通常１５０〜１０００℃、好ましくは２００〜８００℃で焼成して用いることが望ましい。
触媒成分の少なくとも一種を前記担体に担持させる場合、（Ａ）触媒成分及び（Ｂ）触媒成分の少なくとも一方を、好ましくは（Ａ）触媒成分及び（Ｂ）触媒成分の両方を担持させるのが望ましい。
該担体に、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の少なくとも一方を担持させる方法については、特に制限されないが、例えば▲１▼（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の少なくとも一方と担体とを混合する方法、▲２▼担体を有機アルミニウム化合物又はハロゲン含有ケイ素化合物で処理した後、不活性溶媒中で（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の少なくとも一方と混合する方法、▲３▼担体と（Ａ）成分及び／又は（Ｂ）成分と有機アルミニウム化合物又はハロゲン含有ケイ素化合物とを反応させる方法、▲４▼（Ａ）成分又は（Ｂ）成分を担体に担持させた後、（Ｂ）成分又は（Ａ）成分と混合する方法、▲５▼（Ａ）成分と（Ｂ）成分との接触反応物を担体と混合する方法、▲６▼（Ａ）成分と（Ｂ）成分との接触反応に際して、担体を共存させる方法などを用いることができる。
尚、上記▲４▼、▲５▼及び▲６▼の方法において、（Ｃ）成分の有機アルミニウム化合物を添加することもできる。
このようにして得られた触媒は、いったん溶媒留去を行って固体として取り出してから重合に用いてもよいし、そのまま重合に用いてもよい。
又、本発明のαオレフィン重合体の製造においては、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の少なくとも一方の担体への担持操作を重合系内で行うことにより触媒を生成させることができる。
例えば、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の少なくとも一方と担体と更に必要により前記（Ｃ）成分の有機アルミニウム化合物を加え、エチレンなどのオレフィンを常圧〜２ＭＰａ（ｇａｕｇｅ）加えて、−２０〜２００℃で１分〜２時間程度予備重合を行い触媒粒子を生成させる方法を用いることができる。
本発明のαオレフィン重合体の製造に用いられる触媒における（Ｂ−１）成分と担体との使用割合は、質量比で好ましくは１：５〜１：１００００、より好ましくは１：１０〜１：５００とするのが望ましく、（Ｂ−２）成分と担体との使用割合は、質量比で好ましくは１：０．５〜１：１０００、より好ましくは１：１〜１：５０とするのが望ましい。
（Ｂ）成分として二種以上を混合して用いる場合は、各（Ｂ）成分と担体との使用割合が質量比で上記範囲内にあることが望ましい。
又、（Ａ）成分と担体との使用割合は、質量比で、好ましくは１：５〜１：１００００、より好ましくは１：１０〜１：５００とするのが望ましい。
（Ｂ）成分〔（Ｂ−１）成分又は（Ｂ−２）成分〕と担体との使用割合、又は（Ａ）成分と担体との使用割合が上記範囲を逸脱すると、活性が低下することがある。
このようにして調製された重合用触媒の平均粒径は、通常２〜２００μｍ、好ましくは１０〜１５０μｍ、特に好ましくは２０〜１００μｍであり、比表面積は、通常２０〜１０００ｍ２／ｇ、好ましくは５０〜５００ｍ２／ｇである。
平均粒径が２μｍ未満であると重合体中の微粉が増大することがあり、２００μｍを超えると重合体中の粗大粒子が増大することがある。
比表面積が２０ｍ２／ｇ未満であると活性が低下することがあり、１０００ｍ２／ｇを超えると重合体の嵩密度が低下することがある。
又、１−ブテン系重合体の製造に用いられる触媒において、担体１００ｇ中の遷移金属量は、通常０．０５〜１０ｇ、特に０．１〜２ｇであることが好ましい。
遷移金属量が上記範囲外であると、活性が低くなることがある。
このように担体に担持することによって工業的に有利な高い嵩密度と優れた粒径分布を有する重合体を得ることができる。
本発明のαオレフィン重合体において、重合方法は特に制限されず、スラリー重合法，気相重合法，塊状重合法，溶液重合法，懸濁重合法などのいずれの方法を用いてもよいが、スラリー重合法，気相重合法が特に好ましい。
重合条件については、重合温度は通常−１００〜２５０℃、好ましくは−５０〜２００℃、より好ましくは０〜１３０℃である。
又、反応原料に対する触媒の使用割合は、原料モノマー／上記（Ａ）成分（モル比）が好ましくは１〜１０８、特に１００〜１０５となることが好ましい。
重合時間は通常５分〜１０時間、反応圧力は好ましくは常圧〜２０ＭＰａ（ｇａｕｇｅ）、更に好ましくは常圧〜１０ＭＰａ（ｇａｕｇｅ）である。
本発明のαオレフィン重合体の製造方法において、水素を添加すると重合活性が向上するので好ましい。
水素を用いる場合は、通常、常圧〜５ＭＰａ（ｇａｕｇｅ）、好ましくは常圧〜３ＭＰａ（ｇａｕｇｅ）、更に好ましくは常圧〜２ＭＰａ（ｇａｕｇｅ）である。
重合溶媒を用いる場合、例えば、ベンゼン，トルエン，キシレン，エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素、シクロペンタン，シクロヘキサン，メチルシクロヘキサンなどの脂環式炭化水素、ペンタン，ヘキサン，ヘプタン，オクタンなどの脂肪族炭化水素、クロロホルム，ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素などを用いることができる。
これらの溶媒は一種を単独で用いてもよく、二種以上のものを組み合わせてもよい。
又、α−オレフィンなどのモノマーを溶媒として用いてもよい。
尚、重合方法によっては無溶媒で行うことができる。
重合に際しては、前記重合用触媒を用いて予備重合を行うことができる。
予備重合は、固体触媒成分に、例えば、少量のオレフィンを接触させることにより行うことができるが、その方法に特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。
予備重合に用いるオレフィンについては特に制限はなく、前記に例示したものと同様のもの、例えば、エチレン、炭素数３〜２０のα−オレフィン、あるいはこれらの混合物などを挙げることができるが、該重合において用いるオレフィンと同じオレフィンを用いることが有利である。
予備重合温度は、通常−２０〜２００℃、好ましくは−１０〜１３０℃、より好ましくは０〜８０℃である。
予備重合においては、溶媒として、脂肪族炭化水素，芳香族炭化水素，モノマーなどを用いることができる。
これらの中で特に好ましいのは脂肪族炭化水素である。
又、予備重合は無溶媒で行ってもよい。
予備重合においては、予備重合生成物の極限粘度〔η〕（１３５℃デカリン中で測定）が０．１デシリットル／ｇ以上、触媒中の遷移金属成分１ミリモル当たりに対する予備重合生成物の量が１〜１００００ｇ、特に１０〜１０００ｇとなるように条件を調整することが望ましい。
又、重合体の分子量の調節方法としては、各触媒成分の種類、使用量、重合温度の選択、更には水素存在下での重合などがある。
窒素等の不活性ガスを存在させても良い。
以上のように、本発明の方法により、結晶性高級αオレフィン重合体を効率よく得ることができ、低温特性、剛性、耐熱性、潤滑油との相溶性、無機充填剤との混合性、二次加工性が優れた結晶性高級αオレフィン重合体が得られる。
以下に、実施例に基づいて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら制限されるものではない。
先ず、本発明のαオレフィン重合体の物性の評価方法について説明する。
（１）立体規則性指標値のＭ２
明細書本文中に記載した方法により測定した。
（２）重量平均分子量（Ｍｗ）及び分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）
明細書本文中に記載した方法により測定した。
（３）ＤＳＣ測定
示差走査型熱量計（パーキン・エルマー社製，ＤＳＣ−７）を用い、試料１０ｍｇを窒素雰囲気下−１０℃で５分間保持した後、１９０℃まで、１０℃／分で昇温させることにより得られた融解吸熱量（ΔＨＤ）カーブから観測されるピークのピークトップの融点（ＴｍＤ）を測定し、更に、１９０℃で５分保持した後、−１０℃まで、５℃／分で降温させ、−１０℃で５分保持した後、１９０℃まで１０℃／分で昇温させることにより得られた融解吸熱量（ΔＨ）カーブから観測されるピークのピークトップの融点（Ｔｍ）を測定した。
（４）結晶性
上記のＤＳＣ測定において、融点（ＴｍＤ）が測定された場合を○、融点（ＴｍＤ）が測定されなかった場合を×とした。
製造例１（２−クロロジメチルシリルインデンの製造）
窒素気流下、１リットルの三つ口フラスコにＴＨＦ（テトラヒドロフラン）５０ミリリットルとマグネシウム２．５ｇ（４１ミリモル）を加え、ここに１，２−ジブロモエタン０．１ミリリットルを加えて３０分間攪拌し、マグネシウムを活性化した。
攪拌後、溶媒を抜き出し、新たにＴＨＦ５０ミリリットルを添加した。
ここに２−ブロモインデン５．０ｇ（２５．６ミリモル）のＴＨＦ（２００ミリリットル）溶液を２時間かけて滴下した。
滴下終了後、室温において２時間攪拌した後、−７８℃に冷却し、ジクロロジメチルシラン３．１ミリリットル（２５．６ミリモル）のＴＨＦ（１００ミリリットル）溶液を１時間かけて滴下し、１５時間攪拌した後、溶媒を留去した。
残渣をヘキサン２００ミリリットルで抽出した後、溶媒を留去することにより、２−クロロジメチルシリルインデン６．６ｇ（２４．２ミリリモル）を得た（収率９４％）。
製造例２〔（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（インデン）の製造〕
窒素気流下、１リットルの三つ口フラスコにＴＨＦ４００ミリリットルと製造例１で得られた２−クロロジメチルシリルインデン８ｇを加え、−７８℃に冷却した。この溶液へ、ＬｉＮ（ＳｉＭｅ３）２のＴＨＦ溶液（１．０モル／リットル）を３８．５ミリリットル（３８．５ミリモル）滴下した。
室温において１５時間攪拌した後、溶媒を留去し、ヘキサン３００ミリリットルで抽出した。溶媒を留去することにより、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）−ビス（インデン）を２．０ｇ（６．４ミリモル）得た（収率３３．４％）。
製造例３〔（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）（インデニル）（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムクロライドの製造〕
窒素気流下、２００ミリリットルのシュレンク瓶にエーテル５０ミリリットルと製造例２で得られた（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（インデン）３．５ｇ（１０．２ミリモル）を加えた。
ここに−７８℃でｎ−ブチルリチウム（ｎ−ＢｕＬｉ）のヘキサン溶液（１．６０Ｍ、１２．８ミリリットル）を滴下した。
室温で８時間接触した後、溶媒を留去し、得られた固体を減圧乾燥することにより白色固体５．０ｇを得た。
この固体をＴＨＦ５０ミリリットルに溶解させ、ここへヨードメチルトリメチルシラン１．４ミリリットルを室温で滴下した。
水１０ミリリットルを加え、有機相をエーテル５０ミリリットルで抽出した。有機相を乾燥し溶媒を留去した。
ここへエーテル５０ミリリットルを加え、−７８℃でｎ−ＢｕＬｉのヘキサン溶液（１．６０Ｍ、１２．４ミリリットル）を滴下した。
室温に上げ３時間撹拌後、エーテルを留去した。
得られた固体をヘキサン３０ミリリットルで洗浄した後減圧乾燥した。
この白色固体５．１１ｇをトルエン５０ミリリットルに混濁させ、別のシュレンク中でトルエン１０ミリリットルに懸濁した四塩化ジルコニウム２．０ｇ（８．６ｍｍｏｌ）を添加した。
室温で１２時間撹拌後、溶媒を留去し、残渣をヘキサン５０ミリリットルで洗浄した。
残渣をジクロロメタン３０ミリリットルから再結晶化させることにより（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）（インデニル）（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムクロライドの黄色微結晶１．２ｇを得た（収率２５％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ３）：δ−０．０９（ｓ、−ＳｉＭｅ３、９Ｈ）；０．８９、０．８６、１．０３、１．０６（ｓ、−Ｍｅ２Ｓｉ−、１２Ｈ）；２．２０、２．６５（ｄ、−ＣＨ２−、２Ｈ）；６．９９（ｓ、ＣＨ、１Ｈ）；７．０−７．８（ｍ、ＡｒＨ、８Ｈ）
実施例１
加熱乾燥した１リットルオートクレーブに、ヘプタン２００ミリリットル、１−オクタデセン（Ｃ１８）２００ミリリットル、トリイソブチルアルミニウム０．５ミリモル、メチルアルミノキサン１ミリモルを加え、更に水素０．０３ＭＰａ導入した。
攪拌しながら温度を６０℃にした後、製造例３で得られた（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）（３−トリメチルシリルメチルインデニル）（インデニル）ジルコニウムジクロライドを１マイクロモル加え３０分間重合した。
重合反応終了後、反応物を加熱、減圧下、乾燥することにより、高級αオレフィン重合体を２５ｇ得た。
得られた重合体の物性測定結果を第１表に示す。
実施例２
加熱乾燥した１リットルオートクレーブに、１−オクタデセン（Ｃ１８）２００ミリリットル、メチルアルミノキサン１０ミリモルを加え、更に水素０．２ＭＰａ導入した。
攪拌しながら温度を６０℃にした後、製造例３で得られた（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）（３−トリメチルシリルメチルインデニル）（インデニル）ジルコニウムジクロライドを１０マイクロモル加え３０分間重合した。
重合反応終了後、反応物を加熱、減圧下、乾燥することにより、高級αオレフィン重合体を１０ｇ得た。
得られた重合体の物性測定結果を第１表に示す。
実施例３
加熱乾燥した１リットルオートクレーブに、１−ヘキサデセン（Ｃ１６）２００ミリリットル、メチルアルミノキサン１０ミリモルを加え、更に水素０．２ＭＰａ導入した。
攪拌しながら温度を６０℃にした後、製造例３で得られた（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）（３−トリメチルシリルメチルインデニル）（インデニル）ジルコニウムジクロライドを１０マイクロモル加え３０分間重合した。
重合反応終了後、反応物を加熱、減圧下、乾燥することにより、高級αオレフィン重合体を１６ｇ得た。
得られた重合体の物性測定結果を第１表に示す。
製造例４〔エチル（２−インデニル）アセテートの製造〕
窒素気流下、水素化ナトリウム３．３ｇ（０．１４モル）をテトラヒドロフラン３００ミリリットルに懸濁させ、１０℃に冷却した。
この懸濁液に、エチルジエチルホスホノアセテート２８．３ｇ（０．１１モル）のテトラヒドロフラン溶液２００ミリリットルを１時間で滴下した。
滴下終了後、３０分間室温で攪拌し、氷冷した後、これに２−インダノン１６．３３ｇ（０．１２モル）のテトラヒドロフラン溶液７５ミリリットルを１時間で滴下した。
滴下後、３０分間室温で攪拌した後、水により加水分解し、次いでジエチルエーテル５００ミリリットルにより抽出を行い、有機相分離後、減圧下に溶媒を留去した。
残渣を減圧蒸留することにより、薄黄色オイルとして、エチル（２−インデニル）アセテートを単離した。収量１１．０６ｇ、収率４９．５％であった。
このものの１Ｈ−ＮＭＲを求めたところ、次の結果が得られた。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）（δ，ｐｐｍ）：１．２３（ｔ，３Ｈ），３．４０（ｓ，２Ｈ），３．４５（ｓ，２Ｈ），４．１６（ｑ，２Ｈ），６．６５（ｓ，１Ｈ），６．９４〜７．５０（ｍ，４Ｈ）
製造例５〔２−（２−インデニル）−エタノールの製造〕
窒素気流下、水素化リチウムアルミニウム２．２ｇ（５８．４９ミリモル）をジエチルエーテル１００ミリリットルに懸濁させた。
この懸濁液に、製造例４で得られたエチル（２−インデニル）アセテート１１．０６ｇ（５９．０６ミリモル）のジエチルエーテル溶液５０ミリリットルを１時間で滴下した。
滴下後３０分間室温で攪拌した後、氷冷し、水５０ミリリットルを徐々に加え、更に希塩酸を加え、不溶物を溶解した。
有機相を分離し、減圧下に溶媒を留去して、２−（２−インデニル）−エタノールを白色固体として得た。
２−（２−インデニル）−エタノールの収量は７．８９ｇであった。
このものは、これ以上精製することなく、次の反応に用いた。
このものの１Ｈ−ＮＭＲを求めたところ、次の結果が得られた。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）（δ，ｐｐｍ）：１．５６（ｓ，１Ｈ），２．７６（ｔ，２Ｈ），３．３７（ｓ，２Ｈ），３．８３（ｔ，２Ｈ），６．６２（ｓ，１Ｈ），６．９５〜７．６２（ｍ，４Ｈ）
製造例６〔１−ブロモ−２−（２−インデニル）エタンの製造〕
窒素気流下、製造例５で得られた２−（２−インデニル）−エタノール４．６１ｇ（２８．７７ミリモル）をジクロロメタン６５ミリリットルに溶解した。
この溶液にトリフェニルホスフィン７．６６ｇ（２９．２０ミリモル）を加えた後、Ｎ−ブロモコハク酸イミド５．１９ｇ（２９．１６ミリモル）を徐々に加えた。
Ｎ−ブロモコハク酸イミドの添加終了後、室温で３０分間攪拌した後、これに水を加え攪拌し、次いで有機相を分離して、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラム（展開溶媒：ヘキサン）で精製し、１−ブロモ−２−（２−インデニル）エタンを無色油状物として得た。
収量５．０７ｇ、収率８０．８５％であった。
このものの１Ｈ−ＮＭＲを求めたところ、次の結果が得られた。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）（δ，ｐｐｍ）：３．０２（ｔ，２Ｈ），３．３２（ｓ，２Ｈ），３．５２（ｔ，２Ｈ），６．６０（ｓ，１Ｈ），６．９３〜７．５３（ｍ，４Ｈ）
製造例７〔（１，２‘−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（インデン）の製造〕
窒素気流下、テトラヒドロフラン５０ミリリットルに、ジイソプロピルアミン６．８７ミリリットル（５２．４１ミリモル）を加え、−７８℃に冷却した。
この溶液にｎ−ブチルリチウム１．６４モル／リットル濃度のヘキサン溶液３１．９６ミリリットル（ｎ−ブチルリチウム：５２．４１ミリモル）を１０分間で滴下した。
滴下終了後、反応混合物を０℃まで自然昇温させることにより、ＬＤＡ（リチウムジイソプロピルアミド）溶液を調製した。
次に、窒素気流下、テトラヒドロフラン５００ミリリットルに製造例６で得られた１−ブロモ−２−（２−インデニル）エタン１１．６９ｇ（５２．３９ミリモル）を加え、攪拌溶解させた後、−７８℃に冷却した。
次いで、この溶液に、先に調製したＬＤＡ溶液を−７８℃に冷却して、３０分間かけて滴下した。
ＬＤＡ溶液の滴下終了後、そのまま室温まで自然昇温させた後、１２時間攪拌を行った。
この反応混合物に水５００ミリリットルを加え、有機相を洗浄した後、無水硫酸マグネシウムを加えて有機相を乾燥した。
硫酸マグネシウムを濾別後、減圧下溶媒を留去したところ、白色固体として、（１，２‘−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（インデン）の粗生成物５．９５ｇを得た。
この粗生成物をＦＤ−ＭＳ（フィールドディソープションマススペクトル）法により分析したところ、目的物である（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（インデン）（２量体）を確認した。
この粗生成物を０．２ｔｏｒｒ（０．０２７ｋＰａ），１５０℃で昇華精製することにより、（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（インデン）１．８７ｇを得た。
収率２５．１％であった。
このものの構造は、ＦＤ−ＭＳ及び１Ｈ−ＮＭＲより確認を行った。
尚、ＦＤ−ＭＳの測定は加速電圧８ｋＶで行った。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）（δ，ｐｐｍ）：３．０２（ｓ，８Ｈ），３．２９（ｓ，４Ｈ），７．０〜７．５（ｍ，８Ｈ）
ＦＤ−ＭＳ：Ｍ＋＝２８４
製造例８〔（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（インデン）のジリチウム塩の製造〕
窒素気流下、上記製造例７で得られた（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（インデン）１．８７ｇ（６．５８ミリモル）にジエチルエーテル１００ミリリットルを加え、攪拌し、−７８℃まで冷却した。
これに、ｎ−ブチルリチウム１．６４モル／リットル濃度のヘキサン溶液８．０２ミリリットル（ｎ−ブチルリチウム：１３．１５ミリモル）を３０分間で滴下した。
この反応混合物を室温まで自然昇温させた後、室温で１２時間攪拌し、次いでこの反応混合物を減圧下で処理して溶媒を留去し、残渣をヘキサン５０ミリリットルで２回洗浄した。
減圧下で乾燥することにより、（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（インデン）のジリチウム塩を淡黄色の粉末として得た。
このものの１Ｈ−ＮＭＲを求めたところ、次の結果が得られた。
尚、ＴＨＦはテトラヒドロフランである。
このものはジエチルエーテル付加物であり、そのまま次の反応に使用した。
収量１．６３ｇ，収率６９．３％であった。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＴＨＦ−ｄ８）（δ，ｐｐｍ）：３．２２（８Ｈ），５．３８（ｓ，２Ｈ），５．９５〜６．３５（ｍ，４Ｈ），６．７０〜７．２０（ｍ，４Ｈ）
製造例９〔（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリドの製造〕
窒素気流下、製造例８で得られた（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（インデン）のジリチウム塩１．６３ｇ（４．５６ミリモル）をトルエン５０ミリリットルに懸濁させた後、−７８℃に冷却した。
一方、窒素気流下、四塩化ジルコニウム１．０６ｇ（４．５６ミリモル）をトルエン１００ミリリットルに懸濁させた後、−７８℃に冷却した。
この四塩化ジルコニウムのトルエン懸濁液に、先に調製した（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（インデン）ジリチウム塩のトルエン懸濁液を３０分間で滴下した。
この反応混合物を室温まで自然昇温させ、室温で１２時間攪拌した後、トルエン上澄みをろ別後、残渣をジクロロメタン５０ミリリットルで２回抽出した。
減圧下に溶媒を留去した後、残渣をジクロロメタン／ヘキサンで再結晶することにより、（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）−ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド０．２５ｇを得た。
収率１２．３％であった。
このものの１Ｈ−ＮＭＲを求めたところ、次の結果が得られた。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）（δ，ｐｐｍ）：３．６２（８Ｈ），６．５３（ｓ，２Ｈ），６．９０〜７．６０（ｍ，８Ｈ）
この遷移金属化合物の構造を次に示す。
2003070790.tif 000009
実施例４
加熱乾燥した１リットルオートクレーブに、１−ドデセン（Ｃ１２）２００ミリリットル、メチルアルミノキサン５ミリモルを加え、更に水素０．５ＭＰａ導入した。
撹絆しながら温度を６０℃にした後、製造例９で得られた（１，２’−エチレン）（２，１’−エチレン）ビスインデニルジルコニウムジクロライドを５マイクロモル加え３０分間重合した。
重合反応終了後、反応物を加熱、減圧下、乾燥することにより、高級αオレフィン重合体を１４ｇ得た。
得られた重合体の物性測定結果を第１表に示す。
比較例１
加熱乾燥した１リットルオートクレーブに、ヘプタン２００ミリリットル、１−オクテン（Ｃ８）２００ミリリットル、トリイソブチルアルミニウム０．５ミリモル、メチルアルミノキサン１ミリモルを加え、更に水素０．０３ＭＰａ導入した。
攪拌しながら温度を６０℃にした後、製造例３で得られた（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）（３−トリメチルシリルメチルインデニル）（インデニル）ジルコニウムジクロライドを１マイクロモル加え３０分間重合した。
重合反応終了後、反応物を加熱、減圧下、乾燥することにより、高級αオレフィン重合体を６８ｇ得た。
得られた重合体の物性測定結果を第１表に示す。
2003070790.tif 000010
以上の実施例１〜４では融点（Ｔｍ）が２８．２〜４１．８℃であり、その温度以下ではべたつきが発生しない。
一方、比較例１では室温（２５℃程度）でべたつきが認められた。
このように、本発明の重合体は、べたつきが発生する温度が高いので、ペレット化が容易であり、又、ペレットの貯蔵を室温で行なうことができることなどから、取扱性に優れている。
製造例１０〔（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロライドの製造〕
窒素気流下、２００ミリリットルのシュレンク瓶に製造例２で得られた（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（インデン）２．５ｇ（７．２ミリモル）とエーテル１００ミリリットルを加えた。
−７８℃に冷却しｎ−ブチルリチウム（ｎ−ＢｕＬｉ）のヘキサン溶液（１．６Ｍ）を９．０ミリリットル（１４．８ミリモル）加えた後、室温で１２時間攪拌した。
溶媒を留去し、得られた固体をヘキサン２０ミリリットルで洗浄し減圧乾燥することによりリチウム塩を白色固体として定量的に得た。
シュレンク瓶中、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（インデン）のリチウム塩（６．９７ミリモル）をＴＨＦ５０ミリリットルに溶解し、室温でヨードメチルトリメチルシラン２．１ミリリットル（１４．２ミリモル）をゆっくりと滴下し１２時間攪拌した。
溶媒を留去し、エーテル５０ミリリットル加えて飽和塩化アンモニウム溶液で洗浄した。
分液後、有機相を乾燥し、溶媒を除去することにより（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（３−トリメチルシリルメチルインデン）３．０４ｇ（５．９ミリモルを）得た。（収率８４％）
次に、窒素気流下においてシュレンク瓶に、上記で得られた（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（３−トリメチルシリルメチルインデン）３．０４ｇ（５．９ミリモル）とエーテル５０ミリリットルを加えた。
−７８℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウム（ｎ−ＢｕＬｉ）のヘキサン溶液（１．６Ｍ）を７．４ミリリットル（１１．８ミリモル）を加えた後、室温で１２時間攪拌した。
溶媒を留去し、得られた固体をヘキサン４０ミリリットルで洗浄することによりリチウム塩をエーテル付加体として３．０６ｇを得た。
このものの１Ｈ−ＮＭＲを求めたところ、次の結果が得られた。
１Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ，ＴＨＦ−ｄ８）：δ０．０４（ｓ，−ＳｉＭｅ３，１８Ｈ），０．４８（ｓ，−Ｍｅ２Ｓｉ−，１２Ｈ），１．１０（ｔ，−ＣＨ３，６Ｈ），２．５９（ｓ，−ＣＨ２−，４Ｈ），３．３８（ｑ，−ＣＨ２−，４Ｈ），６．２−７．７（ｍ，Ａｒ−Ｈ，８Ｈ）
窒素気流下で上記で得られたリチウム塩３．０６ｇをトルエン５０ミリリットルに懸濁させた。
−７８℃に冷却し、ここへ予め−７８℃に冷却した四塩化ジルコニウム１．２ｇ（５．１ミリモル）のトルエン（２０ミリリットル）懸濁液を滴下した。
滴下後、室温で６時間攪拌した。
反応溶液の溶媒を留去後、得られた残渣をジクロロメタンにより再結晶化することにより（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロライドの黄色微結晶０．９ｇ（１．３３ミリモル）を得た。（収率２６％）
このものの１Ｈ−ＮＭＲを求めたところ、次の結果が得られた。
１Ｈ−ＮＭＲ（９０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ０．０（ｓ，−ＳｉＭｅ３−，１８Ｈ），１．０２，１．１２（ｓ，−Ｍｅ２Ｓｉ−，１２Ｈ），２．５１（ｄｄ，−ＣＨ２−，４Ｈ），７．１−７．６（ｍ，Ａｒ−Ｈ，８Ｈ）
実施例５
加熱乾燥した１リットルオートクレーブに、１−オクタデセン（Ｃ１８）２００ミリリットル、トリイソブチルアルミニウム１ミリモル、製造例１０で得られたメチルアルミノキサン１ミリモル、（１，２’−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロライドを１マイクロモルを加え、更に水素０．０３ＭＰａ導入し、重合温度３０℃にて６０分間重合した。
重合反応終了後、反応物をアセトンにて沈殿させた後、減圧下、加熱乾燥することにより、高級αオレフィン重合体を５９ｇ得た。
得られた重合体の物性測定結果を第２表及び第３表に示す。
実施例６
加熱乾燥した１リットルオートクレーブに、ヘプタン２００ミリリットル、１−オクタデセン（Ｃ１８）２００ミリリットル、トリイソブチルアルミニウム１．０ミリモル、メチルアルミノキサン１．０ミリモルを加え、更に水素０．０３ＭＰａ導入した。
攪拌しながら温度を６０℃にした後、製造例３で得られた（１，２‘−ジメチルシリレン）（２，１’−ジメチルシリレン）、ビス（３−トリメチルシリルメチルインデニル）ジルコニウムジクロライドを１．０マイクロモル加え、６０分間重合した。
重合反応終了後、アセトンで再沈操作を繰り返すことにより、反応物を析出させ、減圧下、加熱乾燥することにより、高級αオレフィン重合体を５０．７ｇ得た。
得られた重合体の物性測定結果を第２表及び第３表に示す。
製造例１１［固体触媒成分の製造］
（固体触媒成分の調製）
内容積０．５リットルの攪拌機付きの三つ口フラスコを窒素ガスで置換した後、脱水処理したヘプタンを８０ｍｌ、ジエトキシマグネシウム４．０ｇ（３５ミリモル）を加えた。
８０℃まで昇温した後、フタル酸−ｎ−ジブチル１３．２ミリモルを添加した。
この溶液を８０℃で保持し、引き続き四塩化チタンを１１６ｍｌ（１．０６モル）加え、内温１１０℃で、２時間攪拌して担持操作を行った。
その後、脱水ヘプタンを用いて充分に洗浄した。更に、四塩化チタンを１１６ｍｌ（１．０６モル）加え、内温１１０℃で、２時間攪拌して２回目の担持操作を行った。
その後、脱水ヘプタンを用いて充分に洗浄を行い、固体触媒成分を得た（チタン担持量＝１．２１重量％）
比較例２
加熱乾燥した１リットルオートクレーブに、ヘプタン２００ミリリットル、１−オクタデセン（Ｃ１８）２００ミリリットル、トリイソブチルアルミニウム０．８ミリモル、ジシクロペンチルジメトキシシラン０．０４ミリモルを加え、更に水素０．０５ＭＰａ導入した。
攪拌しながら温度を６０℃にした後、製造例１１で得られた固体触媒成分をＴｉ原子換算で８．０マイクロモル加え、６０分間重合した。
重合反応終了後、アセトンで再沈操作を繰り返すことにより、反応物を析出させ、減圧下、加熱乾燥することにより、高級αオレフィン重合体を３０．０ｇ得た。
得られた重合体の物性測定結果を第２表及び第３表に示す。
比較例３
加熱乾燥した１０リットルオートクレーブに、ヘプタン４０００ミリリットル、１−オクタデセン（Ｃ１８）４０００ミリリットル、トリイソブチルアルミニウム２４．０ミリモル、ジシクロペンチルジメトキシシラン１．２ミリモルを加え、更に水素０．８ＭＰａ導入した。
攪拌しながら温度を８０℃にした後、製造例１１で得られた固体触媒成分をＴｉ原子換算で１６０マイクロモル加え、１２０分間重合した。
重合反応終了後、アセトンで再沈操作を繰り返すことにより、反応物を析出させ、減圧下、加熱乾燥することにより、高級αオレフィン重合体を７６０．０ｇ得た。
得られた重合体の物性測定結果を第２表及び第３表に示す。
2003070790.tif 000011
2003070790.tif 000012
第２及び第３表から、実施例５及び実施例６の重合体は、融点（Ｔｍ）は単一で、融点以降も単一のＴ１のみが観測され、べたつきがないのに対し、比較例２及び比較例３の重合体は融点（Ｔｍ）が２つ観測され、融点付近以上では明確に異なる２つのＴ１が観測され、べたつきがある。
産業上の利用可能性
本発明の方法により、低温特性、剛性、耐熱性、潤滑油との相溶性、無機充填剤との混合性、二次加工性等の優れた結晶性高級αオレフィン重合体が効率よく得られ、樹脂の改質剤、潤滑油成分、粘着材成分、接着剤成分、蓄熱材、燃料油改質剤、アスファルト改質剤、高性能ワックス、有機無機複合材料などに有用である。
【国際調査報告】
2003070790.tif 000014
2003070790.tif 000015
2003070790.tif 000016