【事件の表示】
　特願２００７−５２１３４６「荷電粒子線装置および荷電粒子線像生成方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年１２月２１日国際公開、ＷＯ２００６／１３５０２１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、２００６年６月１５日（優先権主張２００５年６月１６日、日本国）を国際出願日とする出願であって、平成２３年８月１日付けで拒絶理由が通知され、同年９月２３日付けで意見書が提出されるとともに、同日付けで手続補正書が提出され、同年１１月２日付けで拒絶理由（最後）が通知され、同年１２月２３日付けで意見書が提出されるとともに、同日付けで手続補正書が提出され、その後、平成２４年２月３日付けで平成２３年１２月２３日付けの手続補正の補正の却下の決定がなされるとともに、同日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年４月９日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同時に手続補正がなされたものである。
　その後、当審において、平成２５年１月２８日付けで平成２４年４月９日付けの手続補正の補正の却下の決定がなされるとともに、同日付けで拒絶理由（最後）が通知され、同年３月２９日付けで意見書が提出されるとともに、同日付けで手続補正書が提出された。
　
第２　平成２５年３月２９日付けの手続補正についての補正の却下の決定
［補正の却下の決定の結論］
　平成２５年３月２９日付けの手続補正を却下する。
　
［理由］
１．補正後の請求項に記載された発明
　平成２５年３月２９日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）により、本願の特許請求の範囲は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下単に「特許法」という。）第１７条の２第４項第２号に掲げられた特許請求の範囲の減縮を目的として補正された。
　よって、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下「本願補正発明」という。）は、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に記載された、次のとおりのものである。
　
「荷電粒子線を試料に照射するレンズ系と、荷電粒子線で前記試料を照射し放出あるいは透過した電子線などを検出して画像を生成する画像生成手段とを備えた荷電粒子線装置において、
　前記試料を収納する試料室に搬入する前に予備真空排気するサブチャンバーと試料搬送箱との間に設けた予備室に配置し、当該予備室内の圧力を大気圧から０．１Ｔｏｒｒの範囲内とした雰囲気で、当該予備室内で当該試料に向けて直接に軟Ｘ線を照射して、当該雰囲気中の分子あるいは原子の正イオンおよび負イオンを生成する軟Ｘ線発生器と、
　前記予備室を前記雰囲気で、前記軟Ｘ線発生器を制御して発生させた軟Ｘ線を前記試料に直接に向けて照射して当該雰囲気中の分子あるいは原子の正イオンおよび負イオンを生成し、当該試料の表面の電荷の除電を制御する手段と
を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。」
　
　そこで、上記本願補正発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否か（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するか否か）について、以下に検討する。
　
２．引用刊行物
　当審で通知した拒絶の理由に引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である、特開２００２−１３１８８７号公報（以下「引用文献１」という。）には、以下の事項が記載されている。（下線は当審が付した。）
　
（ａ）「【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、マスクの検査を行うマスク検査装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、フォトマスクの欠陥の検査は、光学顕微鏡を用いて欠陥を観察することで行っていた。ウェハの高集積化、微細化が進むに伴い、フォトマスク上のパターンもますます微細化し、光学顕微鏡ではもはやその分解能を越えてしまい欠陥の観察が不可となってきた。このため、
より波長の短かい電子ビームを用いた走査型電子顕微鏡によるフォトマスクの欠陥の検査が行われるようになってきた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、フォトマスクの材質は電気絶縁性の石英ガラスが通常用いられ、静電気を帯びやすい性質のものである。そのため、走査型電子顕微鏡では、二次電子の発生率は１に近い加速電圧を使用することにより、電子ビームによる帯電を抑えて、像観察を行う。しかし、前工程のエッチングなどの際に、フォトマスク表面に電荷が付着し帯電する。
【０００４】このような帯電は、フォトマスクを大気中に取り出すことによって、部分的に緩和されるが、一部は残る。このようなフォトマスクを走査型電子顕微鏡で（フォトマスクを）高分解能で観察するときにドリフトやコントラストの変化が生じてしまい、正確に検査したり測長したりすることが困難であるという問題があった。
【０００５】本発明は、これらの問題を解決するため、マスクがチャンバーに搬送される直前のサブチャンバーでプラズマを発生させて静電気の除去を行った後にチャンバーに搬入し、マスクなどの静電気を除去してドリフトがなくかつコントラスト変動のない良質の画像の生成を実現することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
図１を参照して課題を解決するための手段を説明する。図１において、サブチャンバー１は、マスク１３を搬送して予備排気する容器であって、ここでは、ベルジャー２を真空的に接続したものである。
【０００７】
ベルジャー２は、非導電性の真空容器であって、外部に設けたコイルあるいは電極から内部に高周波電力を供給して残留ガスをプラズマ化するためのものである。
【０００８】
次に，動作を説明する。フォトマスク１３を大気中から搬送して予備排気するサブチャンバー１を設け、当該サブチャンバー１に真空的に接続したベルジャー２の外側にコイルあるいは電極を設けて内部に高周波電力を放射して残留ガスをプラズマ化し、サブチャンバー１に搬送されているマスク１３上の電荷を中和した後に、マスク１３をサブチャンバー１からメインチャンバー１１に搬入して観察位置に設定するようにしている。
【０００９】この際、プラズマを発生させる容器であるベルジャー２は、非導電性の真空容器で作成してサブチャンバー１に真空的に接続した構造を持ち、当該真空容器の外側に設けたコイルあるいは電極から高周波電力を当該真空容器の内部に放射して残留気体をプラズマ状態に励起するようにしている。
【００１０】従って、マスク１３がメインチャンバ１１に搬入される直前のサブチャンバー１でプラズマを発生させて静電気の除去を行った後にメインチャンバー１１に搬入することにより、マスク１３の静電気を除去してドリフトがなくかつコントラスト変動のない良質の画像（走査型電子顕微鏡像）の生成を実現することが可能となる。
【００１１】
【発明の実施の形態】次に、図１から図３を用いて本発明の実施の形態および動作を順次詳細に説明する。図１は、本発明のシステム構成図を示す。
【００１２】図１において、サブチャンバー１は、マスク１３を搬送して予備排気する容器であって、ここでは、ベルジャー２を真空的に接続したりするものである。ベルジャー２は、非導電性の真空容器であって、外部に設けた電極４から内部に高周波電力を供給して残留ガスをプラズマ化するためのものである。電極４は、コイルや平板上の電極であって、非導電性の真空容器（例えばガラス容器）の外部から内部に高周波電力を放射するためのコイルあるいは電極である。
【００１３】高周波電源３は、電極４に高周波電流を流してベルジャー２の内部に高周波電力を放射して残留ガスをプラズマ化するための電源である。バルブ５は、大気とサブチャンバー１との間の真空仕切り弁である。バルブ６は、サブチャンバー１内に大気を導入したり，遮断したりするバルブである。
【００１４】バルブ７は、ロータリポンプ１５とサブチャンバー１との間に設け、サブチャンパー１とロータリポンプ１５とを接続して予備排気するためのバルブである。バルブ８は、ターボポンプ９とロータリポンプ１５との間に設け、ターボポンプ９で圧縮された気体を排気するためのものである。
【００１５】ターボポンプ９は、サブチャンバー１を高真空に排気するポンプである。バルブ１０は、サブチャンバー１とターボポンプ９との間に設け，サブチャンバー１を高真空に排気するためのものである。
メインチャンバ−１１は、マスク１３を観察位置に搬入し、図示外の電子銃から放出されて縮小された電子ビームで面走査し、そのときに放出された２次電子を検出して２次電子像を表示させるための容器である。
【００１６】バルブ１２は、サブチャンバー１１とメインチャンバー１１との間の仕切り弁である。プラズマ１３は、高周波電極によって残留ガスがプラズマ化されたものであって、マスク１３上の電荷を中和するためのものである（図２参照）。
【００１７】搬送アーム１４は、マスク１３を搬送するものである。ロータリポンプ１５は、予備排気するポンプである。次に、動作を説明する。
（１）　バルブ１２およびバルブ１０を閉状態、バルブ６を開状態にして大気をサブチャンバー１内に導入した後（大気状態にした後）、バルブ５を開いてマスク１３を搬送アーム１４に載せてサブチャンバー１内の図示の位置に搬送する。
【００１８】（２）　
バルブ５およびバルブ６を閉状態にし、バルブ７を開状態にして、ロータリポンプ１５でサブチャンバー１およびベルジャー２内を予備排気する。
（３）  圧力が１Ｔｏｒｒ以下になったら、バルブ７を閉状態にして、バルブ８とバルブ１０を開状態にして、ターボポンプ９で更にサブチャンバー１内を真空排気する。
【００１９】（４）　
（３）の状態で圧力が２０ｍｍＴｏｒｒ位になったら、高周波電源３をＯＮにして、電極４からベルジャー２内に高周波電力を放射して残留ガスをプラズマ化してプラズマ１８を発生させる。
（５）　（４）で発生されたプラズマ１８は、しばらくしてサブチャンパー１内に広がる。約１秒間、圧力は約５ｍｍＴｏｒｒ位になったときに、高周波電源３をＯＦＦにする。これにより、マスク１３の表面にプラズマが覆って当該マスク１３上の電荷を中和して当該電荷を消去する（図２の説明参照）。
【００２０】（６）　次に、バルブ１２を開状態にし、メインチャンバー１１に電荷を消去した後のマスク１３を搬入して図示外の試料移動台に固定して観察位置に配置し、搬送アーム１４をサブチャンバー１に戻してバルブ１２を閉状態にする。
（７）　（６）の状態でメインチャンバー１１を高真空排気しつつ、細く絞った電子ビームでマスク１３を平面走査してそのときに放出された２次電子を検出してマスク１３の高分解能の２次電子画像を表示し、マスク１３の欠陥などを検査する。
【００２１】以上のように、マスク１３をサブチャンバー１内で予備排気している最中のプラズマ化に適した圧力になったときに高周波電源３をＯＮにしてプラズマ１８を発生させてマスク１３の表面を覆って当該マスク１３の表面の電荷を中和して消去した後、メインチャンバー１１に電荷を中和した後のマスク１２を搬入して試料移動台に固定して拡大した２次電子像を観察することにより、マスク１３の交換操作の途中で自動的にマスク１３の電荷をプラズマ１８で中和して消去した直後にメインチャンバーに搬入して２次電子像を形成させるため、マスク１３の電荷を確実かつ観察の直前に中和して消去でき、従来のマスク１３の帯電による２次電子観察時の２次電子像のドリフトやコントラストの変動を除去することが可能となる。
【００２２】図２は、本発明のプラズマによる静電気除去の説明図を示す。図２において、マスク１３上の静電気１６は、マスク１３上に細く絞った電子ビームを平面走査してそのときに当該マスク１３の表面から放出された２次電子を検出して表示した２次電子像について、ドリフトの発生やコントラストの変動の原因となるものである。
【００２３】
荷電粒子１７は、既述した残留ガスがプラズマ化されて発生したプラズマ１８であって、ここでは、正電気を帯びた○＋（例えば正イオン）および負電気を帯びた○−（例えば電子）の両者の混在したものである。以上のように、マスク１３の表面に静電気１６があると、プラズマ化された荷電粒子１７を構成する正電気を帯びた○＋（例えば正イオン）あるいは負電気を帯びた○−（例えば電子）のうちの、当該静電気１６の反対の極性のものが図示の矢印のように結合し、中和されて静電気１６が消去される。
【００２４】また、高周波電源３をＯＮにするのは、サブチャンバー１１が排気され、ある真空エリアを通過するときだけであって、この間のみプラズマが発生されてマスク１３上の電荷の除電（中和）を行うため、スループットに全く影響しない（電荷の除電のために特別の時間を必要としなく、スループットに全く影響しない）。
【００２５】また、電極４は大気中に設け、当該電極４からベルジャー２内の低圧の残留ガスを高周波電力で励起してプラズマを発生させるため、当該電極４からコンタミの発生がなく、更に、低圧で短かい時間でマスク１３上の静電気の除去を行うたため、マスク１３にダメージを与えることを避けることができる。
【００２６】図３は、本発明の説明図を示す。図３の（ａ）はプラズマによる静電気除去（有）の２次電子画像を示し、図３の（ｂ）はプラズマによる静電気除去（無）の２次電子画像を示す。試料は、フォトマスクであって、”Ｈ”は、石英上のクロムパターンである。図３の（ｂ）の２次電子画像は静電気により生じたドリフトのある写真で、”Ｈ”形状の測長は困難である。図３の（ａ）の２次電子画像は静電気を除去した画像であって、シャープ、かつ一様なエッジが見える正常な画像である。両者の写真を見て判明するように、本願発明によるマスク１３上の静電気の除去（中和）を行うことで、図３の（ａ）のような帯電によるドリフトやコントラストの変動のないシャープ、かつ一様なエッジの２次電子画像を確実に得ることが可能となる。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、マスク１３がメインチャンバ１１に搬入される直前のサブチャンバー１でプラズマを発生させて静電気の除去を行った後にメインチャンバー１１に搬入して観察する構成を採用しているため、マスク１３の静電気を除去してドリフトがなくかつコントラスト変動のない良質の画像を確実に生成することが可能となる。これにより、スループットに全く影響を与えることなく、観察の直前のサブチャンバー１でマスク１３上の静電気を確実に除去（中和）してドリフトやコントラスト変動のないシャープかつエッジの綺麗な画像を生成できると共に、測長を正確に行うことができる。」
　
（ｂ）「
　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 」
　
（ｃ）「
　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 」
　
　すると、上記引用文献１の記載事項及び技術常識から、引用文献１には、以下の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。
　
「マスク１３を観察位置に搬入し、電子銃から放出されて縮小された電子ビームで面走査し、そのときに放出された２次電子を検出して２次電子像を表示させるための容器であるメインチャンバー１１と、
　マスク１３を搬送して予備排気する容器であるサブチャンバー１とを備え、
　サブチャンバー１には、外部に設けた電極４から内部に高周波電力を供給して残留ガスをプラズマ化するためのものであるベルジャー２が接続されており、
　サブチャンバー１及びベルジャー２内を予備排気して圧力が２０ｍｍＴｏｒｒくらいになったら、高周波電源３をＯＮにして、電極４からベルジャー２内に高周波電力を放射して残留ガスをプラズマ化してプラズマ１８を発生させ、
　プラズマ１８は、正電気を帯びた○＋（例えば正イオン）および負電気を帯びた○−（例えば電子）の両者の混在したものであり、マスク１３の表面に静電気１６があると、正電気を帯びた○＋（例えば正イオン）あるいは負電気を帯びた○−（例えば電子）のうちの、当該静電気１６の反対の極性のものが結合し、中和されて静電気１６が消去される、
走査型電子顕微鏡。」
　
３．対比
（１）本願補正発明と引用発明との対比
　本願補正発明と引用発明とを対比する。
（ａ）引用発明の「メインチャンバー１１」及び「走査型電子顕微鏡」が、それぞれ、本願補正発明の「試料室」及び「荷電粒子装置」に相当する。
　
（ｂ）引用発明の「マスク１３を観察位置に搬入し、電子銃から放出されて縮小された電子ビームで面走査し、そのときに放出された２次電子を検出して２次電子像を表示させる」「走査型電子顕微鏡」は、技術常識から、本願補正発明の「荷電粒子線を試料に照射するレンズ系と、荷電粒子線で前記試料を照射し放出あるいは透過した電子線などを検出して画像を生成する画像生成手段とを備えた荷電粒子線装置」に相当することは明らかである。
　
（ｃ）引用発明の「マスク１３を搬送して予備排気する容器であるサブチャンバー１とを備え、サブチャンバー１には、外部に設けた電極４から内部に高周波電力を供給して残留ガスをプラズマ化するためのものであるベルジャー２が接続されており、サブチャンバー１及びベルジャー２内を予備排気して圧力が２０ｍｍＴｏｒｒくらいになったら、高周波電源３をＯＮにして、電極４からベルジャー２内に高周波電力を放射して残留ガスをプラズマ化してプラズマ１８を発生させ」る構成において、「正電気を帯びた○＋（例えば正イオン）および負電気を帯びた○−（例えば電子）の両者の混在したものであ」る「プラズマ１８」は、「残留ガス」の分子あるいは原子の正イオンおよび負イオンであることは明らかであり、また、引用発明の「サブチャンバー１」と本願補正発明の「前記試料を収納する試料室に搬入する前に予備真空排気するサブチャンバーと試料搬送箱との間に設けた予備室」は、試料を収納する試料室に搬入する前に予備真空排気する室である点で共通するから、引用発明の「マスク１３を搬送して予備排気する容器であるサブチャンバー１とを備え、サブチャンバー１には、外部に設けた電極４から内部に高周波電力を供給して残留ガスをプラズマ化するためのものであるベルジャー２が接続されており、サブチャンバー１及びベルジャー２内を予備排気して圧力が２０ｍｍＴｏｒｒくらいになったら、高周波電源３をＯＮにして、電極４からベルジャー２内に高周波電力を放射して残留ガスをプラズマ化してプラズマ１８を発生させ」ることと、本願補正発明の「前記試料を収納する試料室に搬入する前に予備真空排気するサブチャンバーと試料搬送箱との間に設けた予備室に配置し、当該予備室内の圧力を大気圧から０．１Ｔｏｒｒの範囲内とした雰囲気で、当該予備室内で当該試料に向けて直接に軟Ｘ線を照射して、当該雰囲気中の分子あるいは原子の正イオンおよび負イオンを生成する軟Ｘ線発生器と」「を備え」ることとは、「試料を収納する試料室に搬入する前に予備真空排気する室に配置し、当該室内を所定圧力とした雰囲気で、当該雰囲気中の分子あるいは原子の正イオンおよび負イオンを生成する手段を備える」ことで一致する。
　
（ｄ）引用発明の「プラズマ１８は、正電気を帯びた○＋（例えば正イオン）および負電気を帯びた○−（例えば電子）の両者の混在したものであり、マスク１３の表面に静電気１６があると、正電気を帯びた○＋（例えば正イオン）あるいは負電気を帯びた○−（例えば電子）のうちの、当該静電気１６の反対の極性のものが結合し、中和されて静電気１６が消去される」において、「中和されて静電気１６が消去される」ことは除電されることを意味することは明らかであるから、引用発明の「プラズマ１８は、正電気を帯びた○＋（例えば正イオン）および負電気を帯びた○−（例えば電子）の両者の混在したものであり、マスク１３の表面に静電気１６があると、正電気を帯びた○＋（例えば正イオン）あるいは負電気を帯びた○−（例えば電子）のうちの、当該静電気１６の反対の極性のものが結合し、中和されて静電気１６が消去される」ことと、本願補正発明の「前記予備室を前記雰囲気で、前記軟Ｘ線発生器を制御して発生させた軟Ｘ線を前記試料に直接に向けて照射して当該雰囲気中の分子あるいは原子の正イオンおよび負イオンを生成し、当該試料の表面の電荷の除電を制御する手段とを備え」ることとは、「前記室を前記雰囲気で、当該雰囲気中の分子あるいは原子の正イオンおよび負イオンを生成し、当該試料の表面の電荷の除電を行う手段を備える」ことで一致する。
　
（２）一致点
　してみると、両者は、
　「荷電粒子線を試料に照射するレンズ系と、荷電粒子線で前記試料を照射し放出あるいは透過した電子線などを検出して画像を生成する画像生成手段とを備えた荷電粒子線装置において、
　前記試料を収納する試料室に搬入する前に予備真空排気する室に配置し、当該室内を所定圧力とした雰囲気で、当該雰囲気中の分子あるいは原子の正イオンおよび負イオンを生成する手段と、
　前記室を前記雰囲気で、当該雰囲気中の分子あるいは原子の正イオンおよび負イオンを生成し、当該試料の表面の電荷の除電を行う手段と
を備えた荷電粒子線装置。」で一致し、次の各点で相違する。
　
（３）相違点
（イ）所定圧力とした雰囲気で、当該雰囲気中の分子あるいは原子の正イオンおよび負イオンを生成する手段を配置する室が、本願補正発明では「前記試料を収納する試料室に搬入する前に予備真空排気するサブチャンバーと試料搬送箱との間に設けた予備室」であるのに対して、引用発明では「マスク１３を搬送して予備排気する容器であるサブチャンバー１」である点。
　
（ロ）室内の雰囲気中の分子あるいは原子の正イオンおよび負イオンを生成する手段が、本願補正発明では「予備室内の圧力を大気圧から０．１Ｔｏｒｒの範囲内とした雰囲気で、当該予備室内で当該試料に向けて直接に軟Ｘ線を照射」する「軟Ｘ線発生器」であるのに対して、引用発明では「サブチャンバー１には、外部に設けた電極４から内部に高周波電力を供給して残留ガスをプラズマ化するためのものであるベルジャー２が接続されており、サブチャンバー１及びベルジャー２内を予備排気して圧力が２０ｍｍＴｏｒｒくらいになったら、高周波電源３をＯＮにして、電極４からベルジャー２内に高周波電力を放射」する手段である点。
　
（ハ）試料の表面の電荷の除電を行う手段について、本願補正発明では「試料の表面の電荷の除電を制御する手段」を備えるのに対して、引用発明では試料の表面の電荷の除電を制御する手段を備えるか否かが不明である点。
　
４．判断
（１）上記相違点（イ）について検討する。
　高真空を必要とする荷電粒子線装置の試料室において、予備真空排気する室を１つだけでなく２つ設けることは、特開昭５４−２０５５号公報（「予備排気室５」及び「試料処理室６」を参照）、特開平９−６３５２７号公報（「試料交換室３」及び「試料交換室１５」を参照）、特開平１１−３２９３２８号公報（「第一の予備排気室２８」及び「第二の予備排気室２９」を参照）、実願平４−７５４６６号（実開平６−３６１９８号）のＣＤ−ＲＯＭ（中真空予備室１６ａ、ｂ」及び「低真空予備室１４ａ、ｂ」を参照）に示されるように周知であり、また、予備真空排気する室の試料室とは反対側に試料搬送箱を設けることは、上記特開平９−６３５２７号公報（「ＡＵＴＯ−ＬＯＡＤＥＲ４」を参照）、上記実願平４−７５４６６号（実開平６−３６１９８号）のＣＤ−ＲＯＭ（「カセット１８ａ、ｂ」を参照）に示されるように周知であるから、引用発明において、「サブチャンバー１」の「メインチャンバー１１」側に予備真空排気する室をさらに１室設け、また、「サブチャンバー１」の「メインチャンバー１１」とは反対側に試料搬送箱を設けて、上記相違点（イ）に係る本願発明の発明特定事項を得ることは当業者が容易に想到し得ることである。
　
（２）上記相違点（ロ）について検討する。
　試料の表面を除電するために、雰囲気中の分子あるいは原子の正イオンおよび負イオンを生成する手段として、雰囲気中の分子あるいは原子に軟Ｘ線を照射する軟Ｘ線発生器を使用することは、特開２０００−２１７２６号公報、特開平７−２９４９２８号公報、特開平８−４５８８４号公報、特開平９−３６００９号公報に示されるように周知であり、さらに、軟Ｘ線をどの向きに照射するかは適宜設計し得るところ、試料に直接向けて照射する構成も上記特開２０００−２１７２６号公報（図４等参照）、上記特開平７−２９４９２８号公報（図２等参照）、上記特開平８−４５８８４号公報（図１等参照）、上記特開平９−３６００９号公報（図４等参照）に記載されるように周知であるから、引用発明において、高周波電力により雰囲気中の分子あるいは原子の正イオンおよび負イオンを生成する構成に換えて、軟Ｘ線を試料に直接向けて照射する軟Ｘ線発生器を採用することは、当業者が容易になし得ることである。
　そして、サブチャンバー内の圧力については、 雰囲気中の分子あるいは原子の正イオンおよび負イオンを生成するために適した圧力に調整することは当業者であれば当然に行うことであり、また、本願明細書及び図面の全記載を見ても、本願補正発明の「大気圧から０．１Ｔｏｒｒの範囲内」という数値範囲に格別臨界的な意味が認められないことを参酌すると、引用発明に軟Ｘ線発生器を採用する際に、雰囲気中の分子あるいは原子の正イオンおよび負イオンを生成するために適した圧力に調整して、「大気圧から０．１Ｔｏｒｒの範囲内」とすることは、当業者が適宜行う設計的事項であるといえる。
　
（３）上記相違点（ハ）について検討する。
　一般に、機器に何らかの動作を行わせる際に、その動作を制御する手段を使用することが普通に行われることであるから、引用発明に除電を制御する手段を備えることは、当業者が容易になし得ることである。
　
（４）そして、本願補正発明が奏し得る効果は、引用発明及び周知技術から当業者が予測し得る程度のものである。
　
（５）したがって、本願補正発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
５．小括
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
１．本願発明
　平成２５年３月２９日付けの手続補正は上記のとおり却下され、平成２４年４月９日付けの手続補正は平成２５年１月２８日付けで、平成２３年１２月２３日付けの手続補正は平成２４年２月３日付けで補正の却下の決定がなされているので、本願の特許請求の範囲の請求項１に係る発明は、平成２３年９月２３日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
　
「荷電粒子線を試料に照射するレンズ系と、荷電粒子線で前記試料を照射し放出あるいは透過した電子線などを検出して画像を生成する画像生成手段とを備えた荷電粒子線装置において、
　前記試料を収納する試料室に搬入する前に予備真空排気するサブチャンバー、あるいは当該サブチャンバーと試料搬送箱との間に設けた予備室、に配置し、当該サブチャンバーあるいは予備室内で当該試料に向けて直接に軟Ｘ線を照射する軟Ｘ線発生器と、
　前記サブチャンバーあるいは予備室を所定雰囲気にした状態で、前記軟Ｘ線発生器を制御して発生させた軟Ｘ線を前記試料に直接に向けて照射して正イオンおよび負イオンを生成し、当該試料の表面の電荷の除電を制御する手段と
を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。」
（なお、「サブチェンバー」、「徐電」は、それぞれ、「サブチャンバー」、「除電」の誤記であると認める。）
　
２．引用刊行物
　当審で通知した拒絶の理由に引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物、その記載内容及び引用発明は、前記「第２」「［理由］」「２．」に記載したとおりである。
　
３．対比・判断
　本願発明は、前記「第２」で検討した本願補正発明から、「当該予備室内の圧力を大気圧から０．１Ｔｏｒｒの範囲内とした雰囲気で、」、「当該雰囲気中の分子あるいは原子の正イオン及び負イオンを生成する」及び「当該雰囲気中の分子あるいは原子の」という事項を削除し、本願補正発明の「前記雰囲気で」を「所定雰囲気にした状態で」に補正し、本願補正発明では、「軟Ｘ線発生器」を配置する室が「予備室」だけであったものを「サブチャンバ−」あるいは「予備室」と補正するものである。
　すると、本願発明の発明特定事項をすべて含み、更に限定したものに相当する本願補正発明が、前記「第２」「３．」及び「４．」に記載したとおり、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
第４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、本願の他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。