(57)【要約】不斉環境や不斉識別能を付与することができる式（１）で表される化合物を提供する。2003074535.tif 000052Ａｒ１とＡｒ２は異なっていて、置換基があってもよいフェニル基などを示し；Ｒ１はアルキル基などを示し；Ｙはビニル基、アリル基、水素原子、アジド基、シアノ基、ジアルキルアミノ基などを示す。
2003074535.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で表される有機ケイ素化合物。
2003074535.tif 000048
式（１）中、Ａｒ１およびＡｒ２はそれぞれ異なっていて、置換基があってもよいフェニル基、置換基があってもよい１−ナフチル基または置換基があってもよい２−ナフチル基を示し、Ｒ１は分岐があってもよい炭素数１〜６個のアルキル基または置換基があってもよいフェニル基を示し、Ｙはビニル基、アリル基、水素原子、アジド基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、下記式（２）で表されるエノールエーテル基、または下記式（３）で表されるケテンアセタール基のいずれかを示す。
2003074535.tif 000049
式（２）のＲ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ異なっていてもよく、水素原子、分岐があってもよい炭素数１〜６個のアルキル基、置換基があってもよいアラルキル基、置換基があってもよいアリール基、またはＲ３とＲ４とが一緒になって炭素数３〜６のアルキレンを示す。
2003074535.tif 000050
式（３）のＲ２およびＲ３は、それぞれ異なっていてもよく、水素原子、置換基があっても良いアリール基、置換基があってもよいアラルキル基、または分岐があってもよい炭素数１〜６個のアルキル基を示し、Ｒ５は、置換基があってもよいアリール基、置換基があってもよいアラルキル基、または分岐があってもよい炭素数１〜６個のアルキル基を示す。
【請求項２】
下記式（４）で表される有機ケイ素化合物から製造することを特徴とする請求項１記載の有機ケイ素化合物の製造方法。
2003074535.tif 000051
式（４）中、Ａｒ１およびＡｒ２はそれぞれ異なっていて、置換基があってもよいフェニル基、置換基があってもよい１−ナフチル基または置換基があってもよい２−ナフチル基を示し、Ｒ１は分岐があってもよい炭素数１〜６個のアルキル基または置換基があってもよいフェニル基を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。
【請求項３】
請求項１記載の有機ケイ素化合物の光学活性体。
【請求項４】
請求項３記載の光学活性な有機ケイ素化合物を用いた、光学活性体の合成方法。
【発明の詳細な説明】
＜技術分野＞
本発明は、新規な有機ケイ素化合物に関するものであり、有機合成における合成中間体、特に不斉合成補助剤、光学分割剤として有用な有機ケイ素化合物を提供するものである。
＜背景技術＞
有機ケイ素化合物が有機合成において有用な化合物であることはよく知られている（例えば、Ｃｏｌｖｉｎ，Ｅ．Ｗ．“Ｓｉｌｉｃｏｎ  Ｒｅａｇｅｎｔｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，”Ａｃａｄｅｍｉｃ  Ｐｒｅｓｓ，Ｌｏｎｄｏｎ，１９８８．）。アリルシラン、ビニルシランの特異な反応性や、その操作性の高さは代表的な例であり、このため精密有機合成において、欠くことのできないツールとして広く受け入れられている（例えば、Ｌａｎｇｋｏｐｆ，Ｅ．；Ｓｃｈｉｎｚｅｒ  Ｄ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，１９９５，９５，１３７５−１４０８．）。特に、トリメチルシリル基に代表される（トリ）アルキル型の有機ケイ素化合物が多用されている。
また、有機ケイ素化合物は精密有機合成において、水酸基の保護基として特徴ある性質を有しており、確固たる地位を占めている（例えば、Ｇｒｅｅｎ，Ｔ．Ｗ．；Ｗｕｔｓ  Ｐ．Ｇ．Ｍ．“Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，”３ｒｄ．Ｅｄ．，Ｗｉｌｅｙ−Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，１９９９，ｐ．１１３−１４８．）。水酸基の保護基でもトリメチルシリル基およびｔ−ブチルジメチルシリル基などの（トリ）アルキル型の有機ケイ素化合物が多く用いられている。
ケイ素原子に結合した隣接炭素原子が不斉炭素であり、その立体配置が明らかなアルキルハロゲノシラン類の報告は、下記の不斉ヒドロシリル化反応の研究の中にわずかに見られるだけで、非常に限定されている（Ｈａｙａｓｈｉ，Ｔ．Ｉｎ“Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ａｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ．”Ｊａｃｏｂｓｅｎ，Ｅ．Ｎ．；Ｐｆａｌｔｚ，Ａ．；Ｙａｍａｍｏｔｏ，Ｈ．（Ｅｄ），Ｓｐｒｉｎｇｅｒ  Ｂｅｒｌｉｎ，１９９９，ｐ．３１９−３３３．）。このため、有機ケイ素化合物のキラリティーに起因した不斉誘導反応や光学分割の研究は、医・農薬分野における有機合成の（中間）原料として多様な光学活性化合物が望まれているにもかかわらず、下記の文献以外はこれまでほとんど行われていない（Ｆｌｅｍｉｎｇ，Ｉ．；Ｂａｒｂｅｒｏ，Ａ，；  Ｗａｌｔｅｒ，Ｄ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，１９９７，９７，２０６３−２１９２．）。
＜発明の開示＞
本発明の目的は、医農薬分野における有機合成の中間原料、不斉合成補助剤および光学分割剤などに有用な新規な有機ケイ素化合物を提供することである。特に、不斉環境や不斉識別能を付与することが可能な新規化合物を提供することである。
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、下記式（１）で表される新規な有機ケイ素化合物が、上記課題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は下記式（１）で表される化合物およびこれらの光学活性体である。
2003074535.tif 000003
式（１）中、Ａｒ１およびＡｒ２はそれぞれ異なっていて、置換基があってもよいフェニル基、置換基があってもよい１−ナフチル基または置換基があってもよい２−ナフチル基を示し、Ｒ１は分岐があってもよい炭素数１〜６個のアルキル基または置換基があってもよいフェニル基を示し、Ｙはビニル基、アリル基、水素原子、アジド基、シアノ基、ジアルキルアミノ基、下記式（２）で表されるエノールエーテル基、または下記式（３）で表されるケテンアセタール基のいずれかを示す。
2003074535.tif 000004
式（２）のＲ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ異なっていてもよく、水素原子、分岐があってもよい炭素数１〜６個のアルキル基、置換基があってもよいアラルキル基、置換基があってもよいアリール基、またはＲ３とＲ４とが一緒になって炭素数３〜６のアルキレンを示す。
2003074535.tif 000005
式（３）のＲ２およびＲ３は、それぞれ異なっていてもよく、水素原子、置換基があっても良いアリール基、置換基があってもよいアラルキル基、または分岐があってもよい炭素数１〜６個のアルキル基を示し、Ｒ５は、置換基があってもよいアリール基、置換基があってもよいアラルキル基、または分岐があってもよい炭素数１〜６個のアルキル基を示す。
＜発明を実施するための最良の形態＞
前記式（１）で表される有機ケイ素化合物の１つである、［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル基を有する有機ケイ素化合物を例に説明する。
なお、前記式（１）で表される有機ケイ素化合物は、下記式（４）で表される化合物から通常の有機合成手段により製造することができる。
2003074535.tif 000006
式（４）中、Ａｒ１およびＡｒ２はそれぞれ異なっていて、置換基があってもよいフェニル基、置換基があってもよい１−ナフチル基または置換基があってもよい２−ナフチル基を示し、Ｒ１は分岐があってもよい炭素数１〜６個のアルキル基または置換基があってもよいフェニル基を示し、Ｘはハロゲン原子を示す。
式（１）並びに式（４）のＡｒ１、Ａｒ２、およびＲ１の置換基としては、次のようなものが例示できる。この置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アセトキシ基、シリルオキシ基、ハロゲン原子、アリール基、ビニル基およびアリル基などのアルケニル基、エチニル基、エポキシ基、ジアルキルアミノ基、並びにアシル基などである。そして、置換基としてのアルキル基は好ましくは炭素数１〜２０で特に好ましくは炭素数１〜６個のアルキル基が例示できる。置換基としてのアルコキシ基は好ましくは炭素数１〜２０で特に好ましくは炭素数１〜６のアルコキシ基が例示できる。置換基としてのシリルオキシ基に結合しているアルキル基としては炭素数１〜２０で特に好ましくは炭素数１〜６個のアルキル基が例示できる。置換基としてのハロゲン原子はフッ素原子、塩素原子または臭素原子が例示できる。置換基としてのアリール基は更にアルキル基または／およびアルコキシ基が結合していても良いものが例示できる。このアルキル基およびアルコキシ基は、上記記載のものが例示できる。置換基としてのビニル基およびアリル基などのアルケニル基は炭素数２〜２０で好ましく、炭素数２〜８が例示できる。置換基としてのエポキシ基は炭素数２〜６のものが例示できる。置換基としてのジアルキルアミノ基のアルキル基の炭素数は１〜２０で、特に好ましくは炭素数１〜６個のアルキル基が例示できる。置換基としてのアシル基のアルキル基の炭素数としては１〜２０で、特に好ましくは炭素数１〜６個のアルキル基が例示できる。しかしながら、これら記載のものに限定されるものではない。
前記式（１）のものとして例示できる［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルアリルシランおよび［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルビニルシランは、式（４）の１例である［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルクロリドと，ハロゲン化アリルもしくはビニルマグネシウム（Ｇｒｉｇｎａｒｄ試薬）とから合成できる。
前記式（１）のものとして例示できる［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシランは、式（４）の１例である［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルクロリドを過剰の水素化リチウムアルミニウムで還元することにより合成できる。あるいは（１−ナフチル）フェニルメタンをｎ−ブチルリチウムで処理して調製したリチウム塩をジメチルクロロシランで補足すると、［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシランが高収率で得られる。
式（１）のものとして例示できる［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルアジドは、［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルクロリドをアジ化ナトリウムと反応させて得られる。この反応で、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の溶媒を用いて加熱還流すると、副反応なく、シアニドを得ることができる。テトラヒドロフラン、もしくはこれよりも高沸点のエーテル類を反応溶剤に用いることが望ましい。
式（１）のものとして例示できる［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルシアニドは、［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルクロリドとシアン化カリウムやシアン化銀との反応で得ることができるが、トリメチルシリルシアニドとのシアノ交換反応によっても合成できる。安全面からは後者の方が望ましい。このとき、反応温度（浴温）を１５０〜１７０℃に維持し、副生するトリメチルシリルクロリドを除去しながら加熱を続けると、原料であるクロリドを完全に消費させることができる。少量のフッ化カリウムを反応液に加えると、幾分反応速度は加速される。
式（１）のものとして例示できる［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルジアルキルアミド、例えばジエチルアミドは、［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルクロリドと２当量以上のジエチルアミンをｎ−ヘキサンなどの炭化水素中で作用させることで得られる。
式（１）のものとして例示できる１−シクロヘキサノンのシリルエノールエーテル体である１−シクロヘキセニルオキシ−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシランは、１−シクロヘキサノンを低温（−７８℃）でリチウムジイソプロピルアミドにて処理してリチウムエノラートを発生させ、これを［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルクロリドで補足すればよい。同様にアセトンやベンゾフェノン等の活性水素を有するケトンからも、対応するシリルエノールエーテルに誘導することができる。
式（１）のものとして例示できる酢酸ベンジルのシリルケテンアセタール体は、酢酸ベンジルを低温（−７８℃）でリチウムジイソプロピルアミドにて処理してリチウムエノラートを発生させ、これを［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルクロリドで補足すればよい。同様に活性水素を有するカルボン酸エステルからも、対応するシリルケテンアセタールに誘導することができる。
前記の一連の反応は、式（４）のキラリティーを損なうことなく進行する。なお、（１−ナフチル）フェニルメチル基に代表される本発明の新規な有機ケイ素化合物は、キラルカラムを用いたＨＰＬＣ分析により両異性体を識別することが可能であり、この光学純度を決定することができる。
またラセミ体の［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルクロリドを用いて上記の各反応を行い、得られたラセミ体を、例えばキラルカラムを用いたＨＰＬＣによる分取によって光学分割して、両異性体（エナンチオマー）を得ることもできる。
以上の反応は（１−ナフチル）フェニルメチル基に限ったものでなく、前記式（１）で表される有機ケイ素化合物に適用できる。
式（２）としてのＲ２、Ｒ３およびＲ４は、式（２）のＲ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ異なっていてもよく、水素原子、分岐があってもよい炭素数１〜６個のアルキル基、置換基があってもよいアリール基、置換基があってもよいアラルキル基、またはＲ３とＲ４とが一緒になって炭素数３〜６のアルキレンを示す。この分岐があってもよい炭素数１〜６個のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、およびイソヘキシル基などが例示できる。置換基があっても良いアリール基としては、フェニル基やナフチル基などが例示でき、この置換基としては、式（１）のＲ１におけるものと同様なものである。置換基があってもよいアラルキル基としては、炭素数１〜３のアルキレンにアリール基が結合したものであり、このアリール基としては、式（２）において例示したものと同様なものである。Ｒ３とＲ４とが一緒になったものとしては、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、メチルテトラメチレン、およびエチルテトラメチレンなどが例示できる。
この式（２）が結合したものとして、１−シクロヘキセニルオキシ−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシラン、２−［［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルオキシ］プロペン、および１−フェニル−１−［［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルオキシ］エチレンなどが例示できる。
式（３）としてのＲ２およびＲ３は、それぞれ異なっていてもよく、水素原子、置換基があっても良いアリール基、置換基があってもよいアラルキル基、または分岐があってもよい炭素数１〜６個のアルキル基を示し、Ｒ５は、置換基があってもよいアリール基、置換基があってもよいアラルキル基、または分岐があってもよい炭素数１〜６個のアルキル基を示すものである。この式（３）のＲ２、Ｒ３およびＲ５における置換基があっても良いアリール基、分岐があってもよい炭素数１〜６個のアルキル基、および置換基があっても良いアラルキル基としては、式（２）において例示したものと同様なものである。
式（３）としては、Ｒ２とＲ３が水素原子でＲ５がベンジルであるもの、Ｒ２、Ｒ３およびＲ５が全てメチルであるもの、並びにＲ２が水素原子、Ｒ３がフェニルおよびＲ５がメチルであるものなどが例示できる。
○使用例
式（１）においてＹがシアノ基であるものは、例えば実施例７で合成した（Ｒ）−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルシアニドなどが例示でき、そしてこのものはエポキシドやカルボニルなどへの求核試薬（シアノ化剤）として使用することができる。
式（１）においてＹがアジド基であるものは、例えば実施例６で合成した（Ｒ）−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルアジドなどが例示でき、そしてこのものはエポキシドやカルボニルなどへの求核試薬（アジド化剤）として使用することができる。
式（１）においてＹが水素原子であるものは、例えば実施例４で合成した（Ｒ）−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシランなどが例示でき、そしてこのものはオレフィンやカルボニルなどへの付加（ヒドロシリル化剤）として使用することができる。
式（１）においてＹがアリル基であるものは、例えば実施例１で合成した（Ｓ）−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルアリルシランまたは例えば実施例２で合成した（Ｓ）−［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルアリルシランなどが例示でき、そしてこのものはカルボニルなどへの求核試薬（アリル化剤）として使用することができる。
式（１）においてＹが式（２）で表されるエノールエーテル基であるものは、例えば実施例９で合成した（Ｒ）−１−シクロヘキセニルオキシ−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシランなどが例示でき、そしてこのものはアルドール反応の試薬として使用することができる。
式（１）においてＹが式（３）で表されるケテンアセタール基であるものは、クライゼン反応の試薬として使用することができる。
式（１）においてＹがジアルキルアミノ基であるものは、例えば実施例８で合成した（Ｒ）−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルジエチルアミドなどが例示でき、そしてこのものはシリル化剤として使用することができる。
以上、式（１）における使用法を例示したが、これらの例に限定されるものではない。また、式（１）を合成するときに用いる式（４）は、光学分割が容易にできることから、必要に応じてそれぞれの光学活性体を用いることができる。式（１）に誘導したものを用いて、光学分割して、光学活性体を得ることもできる。
＜実施例＞
以下、本発明を参考例および実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。特に断りがない限り、アルゴン雰囲気下、市販の脱水溶媒を用いて各反応を実施した。また、シリカゲルカラムクロマトグラフィーは和光純薬工業（株）製ワコーゲルＣ−２００を使用して実施した。化学式中の「＊」は、光学活性体であることを示す。Ｍはモル濃度を、Ｎは規定度を示す。
また、１Ｈ−ＮＭＲは、重クロロホルム溶媒中、テトラメチルシランを内部標準として用いて測定し、そのケミカルシフト（δ／ｐｐｍ）を示した。
○キラルＨＰＬＣの条件
分析装置  ：Ｗａｔｅｒｓ社製ＬＣ−Ｍｏｄｕｌｅ  １ｐｌｕｓ
分析カラム：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ  ＯＤ（ダイセル化学工業（株）製カラム）またはＣｈｉｒａｌｃｅｌ  ＡＤ（ダイセル化学工業（株）製カラム）
（ともに４．６ｍｍＩ．Ｄ．×２５０ｍｍ＋ガードカラム５０ｍｍ）．
移動相：ｎ−ヘキサン／２−プロパノール（ｖ／ｖ）
Ａ系：１００／０，流速：０．４ｍＬ／ｍｉｎ，
Ｂ系：１００／０．０５，流速：１ｍＬ／ｍｉｎ，
Ｃ系：９０／１０，流速：１ｍＬ／ｍｉｎ
＜合成例１＞
○（１−ナフチル）フェニルメタンの合成
１−ブロモナフタレン（１５０ｍｌ，１．０８ｍｏｌ）、マグネシウム（２９．１７ｇ，１．２ｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン（ＴＨＦ，１．５Ｌ）より調製した１−ナフタレンマグネシウムブロミド溶液をベンジルクロリド（１３７ｍｌ，１．２ｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（５．２ｇ，５ｍｍｏｌ）を含むＴＨＦ（５００ｍｌ）溶液に３０分間かけて滴下し、更に室温で１終夜攪拌した。反応液に蒸留水（５０ｍｌ）を加え反応を停止し、ここから溶媒を減圧留去した。ここに１Ｎ塩酸（５００ｍｌ）を加え、ジエチルエーテル（５００ｍｌで３回）で抽出した。抽出層は合一し、これを１Ｎ塩酸（５００ｍｌ）、蒸留水（５００ｍｌで２回）、飽和食塩水（５００ｍｌ）で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、ろ過し、ろ液中の溶媒を減圧留去し、残渣を減圧蒸留（０．２ｍｍＨｇ）した。減圧蒸留の１４０〜１５０℃の留分（２２０ｇ）をエタノールから結晶化して（１−ナフチル）フェニルメタン（１６３．９ｇ，ｍｐ：６１．５℃，収率７０％）を得た。この合成は、下記反応式を参照。また、この１Ｈ−ＮＭＲデータを下記に記載した。
2003074535.tif 000007
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．０５−７．９５（ｍ，１Ｈ），７．９０−７．８２（ｍ，１Ｈ），７．７９−７．７２（ｍ，１Ｈ），７．５１−７．３７（ｍ，１Ｈ），７．３５−７．１４（ｍ，１Ｈ），４．４３（ｓ，２Ｈ）．
＜合成例２＞
○［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシランの合成
合成例１で合成した（１−ナフチル）フェニルメタン（１６３ｇ，０．７５ｍｏｌ）のＴＨＦ（８００ｍｌ）溶液を−７８℃に冷却した。この溶液に１０Ｍ  ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（８２．５ｍｌ，０．８２５ｍｏｌ）を３０分間かけて滴下した。滴下終了後そのままの温度で３０分間攪拌し、その後室温まで昇温して、更に１時間攪拌してリチウム塩を調製した。別途、ジメチルジクロロシラン（２７３ｍｌ，２．２５ｍｏｌ）をｎ−ヘキサン（１Ｌ）に溶解し−７８℃に冷却した。この溶液中に先のリチウム塩溶液を加え、その後、室温に昇温して１終夜攪拌した。１終夜後、生成した塩化リチウムをろ過し、ろ過液中の溶媒を減圧留去した。溶媒留去後の残渣を減圧蒸留して［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシラン（１９９．４ｇ，ｂｐ：１５３−１５５℃／０．２ｍｍＨｇ、収率８５％）を得た。この合成は、下記反応式を参照。また、この１Ｈ−ＮＭＲデータを下記に記載した。
2003074535.tif 000008
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１５−８．０２（ｍ，１Ｈ），７．８７−７．６７（ｍ，３Ｈ），７．５３−７．０５（ｍ，９Ｈ），４．５５（ｓ，１Ｈ），０．５１（ｓ，３Ｈ），０．４８（ｓ，３Ｈ）．
＜合成例３＞
○Ｏ−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルの合成
Ｅｂｂｅｒｓらの報告（Ｅｂｂｅｒｓ，Ｅ．Ｊ．；  Ａｒｉａａｎｓ，Ｇ．Ｊ．Ａ．；  Ｂｒｕｇｇｉｎｋ，Ａ．；  Ｚｗａｎｅｎｂｕｒｇ，Ｂ．Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，１９９９，１０，３７０１−３７１８．）を参考に合成した（Ｓ）−マンデル酸メチルエステル（［α］Ｄ２６＝＋１４４．３°（ｃ＝１．５，ＣＨ３ＯＨ），１１６．３ｇ，０．７０ｍｏｌ）とイミダゾール（５４．４６ｇ，０．８０ｍｏｌ）とを含むＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ，１Ｌ）溶液に、合成例２で合成した［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシラン（１９９．４ｇ，０．６４ｍｏｌ）を投入し、室温で１終夜攪拌した。１終夜後、反応液を氷浴で冷却した飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１Ｌ）中に入れて中和し、ｎ−ヘキサン／酢酸エチルエステル（１／１（ｖ／ｖ），１Ｌで１回，５００ｍｌで３回）で抽出した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５００ｍｌ）、蒸留水（５００ｍｌで２回）、飽和食塩水（５００ｍｌで２回）で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液をろ過した後、ろ液の溶媒を減圧留去し、Ｏ−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチル（ジアステレオマー混合物，粗精製品２８０ｇ）を得た。この合成は、下記反応式を参照。また、この１Ｈ−ＮＭＲデータを下記に記載した。
2003074535.tif 000009
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１３−８．０３（ｍ，１Ｈ），７．８６−７．６６（ｍ，３Ｈ），７．５１−７．０２（ｍ，１３Ｈ），４．９９（ｓ，０．５Ｈ），４．９６（ｓ，０．５Ｈ），４．３８（ｓ，０．５Ｈ），４．３４（ｓ，０．５Ｈ），３．６１（ｓ，１．５Ｈ），３．５８（ｓ，１．５Ｈ），０．２１（ｓ，１．５Ｈ），０．１８（ｓ，１．５Ｈ），０．１７（ｓ，１．５Ｈ），０．１５（ｓ，１．５Ｈ）．
得られた粗精製品はｎ−ヘキサン／酢酸エチルエステル（９５／５（ｖ／ｖ），１．５Ｌ）から結晶化し、１０７．８ｇの高純度品（４００ＭＨｚ  １Ｈ−ＮＭＲによるジアステレオマー過剰率８８．４％ｄｅ）を得た。更にこの結晶をｎ−ヘキサン／酢酸エチルエステル（９０／１０（ｖ／ｖ），１．０Ｌ）から再結晶化し、９５．４ｇの高純度ジアステレオマー（４００ＭＨｚ  １Ｈ−ＮＭＲによるジアステレオマー過剰率９９％ｄｅ、［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシランに対する収率３４％）を得た。下記に機器データを示す。
ｍｐ：１１３℃．
比旋光度：［α］Ｄ２３＋３８．６°（ｃ＝１．０３，ＣＨＣｌ３）．
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１２−８．０３（ｍ，１Ｈ），７．８８−７．６７（ｍ，３Ｈ），７．４９−７．０２（ｍ，１３Ｈ），４．９９（ｓ，１Ｈ），４．３４（ｓ，１Ｈ），３．６１（ｓ，３Ｈ），０．２１（ｓ，３Ｈ），０．１５（ｓ，３Ｈ）．
＜絶対配置の決定＞
○Ｏ−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチル（高純度ジアステレオマー）の玉尾酸化反応による絶対配置の決定
合成例３で得たＯ−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルの高純度ジアステレオマー（４００ＭＨｚ  １Ｈ−ＮＭＲによるジアステレオマー過剰率９９％ｄｅ，２．２０ｇ，５ｍｍｏｌ）、炭酸水素カリウム（１．５０ｇ，１５ｍｍｏｌ）、フッ化カリウム（０．８７ｇ，１５ｍｍｏｌ）を含むメタノール／ＴＨＦ（１／１（ｖ／ｖ），４０ｍｌ）懸濁液を０℃に冷却した。この懸濁液に３０％過酸化水素水を０．５ｍｌずつ６回（２５ｍｍｏｌ）に分けて加え、室温に昇温して２日間攪拌した。反応液を０℃に冷却し、飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を１ｍｌずつ１０回に分けて加え、そのままの温度で３０分間攪拌した。反応液はセライトを通してろ過し、セライトをジエチルエーテル（２５ｍｌで４回）で洗浄した。集めたろ液を飽和食塩水（５０ｍｌ）、蒸留水（５０ｍｌ）、飽和食塩水（５０ｍｌ）で順次洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。この溶液をろ過後、ろ液の溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチルエステル＝１０／１（ｖ／ｖ））で精製して、（１−ナフチル）フェニルメタノール（０．９５ｇ，収率８１％）を得た。この反応については、下記反応式を参照。
2003074535.tif 000010
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．０５−８．００（ｍ，１Ｈ），７．８９−７．７７（ｍ，２Ｈ），７．６２（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），７．５２−７．３７（ｍ，２Ｈ），７．３５−７．２２（ｍ，２Ｈ），６．５１（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１Ｈ），２．３７（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，１Ｈ）．
得られたアルコールの比旋光度は［α］Ｄ２８＋５８．７°（ｃ＝０．８２，Ｃ６Ｈ６）であり、文献値｛［α］Ｄ２５＋５９．５°（ｃ＝０．８２，Ｃ６Ｈ６），Ｓｅｅｂａｃｈ  Ｄ．；Ｂｅｃｋ，Ａ．Ｋ．；Ｒｏｇｇｏ，Ｓ，；Ｗｏｎｎａｃｏｔｔ，Ａ．Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．，１９８５，１１８，３６７３−３６８２．｝との比較から、得られた（１−ナフチル）フェニルメタノールがＲ配置であることが判った。この反応、いわゆる玉尾酸化反応は立体保持で進行することが広く知られている（玉尾皓平，有機合成化学協会誌，１９８８，４６，８６１−８７８．）。従って，用いた高純度ジアステレオマーのＯ−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルはＲ配置であると決定した。
＜合成例４＞
○（Ｒ）−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシラン（ＮＡＰ＊（Ｒ）−Ｃｌ）の合成
合成例３で合成して得た（Ｒ）−Ｏ−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチル（９５．３６ｇ，０．２１６ｍｏｌ）にアセチルクロリド（８０ｍｌ，１．１３ｍｏｌ）を加えた懸濁液を０℃に冷却し、０．５Ｍの塩化亜鉛ＴＨＦ溶液（０．８６ｍｌ，０．４３ｍｍｏｌ）を加えた。これを室温に昇温して１時間攪拌すると、反応液は均一となった。さらに１終夜攪拌した。過剰に用いた塩化アセチルを反応液から減圧留去した後、ｎ−ヘキサン（５０ｍｌ）とアセトン（５ｍｌ）を加え、４５分間攪拌した。ここから、溶媒を減圧留去した後、残渣を減圧蒸留して、（Ｒ）−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシラン（６０．９ｇ，収率９１％）を得た。
この合成は、下記反応式を参照。また、この下記に機器データを示す。
2003074535.tif 000011
ｂｐ：１５８−１６０℃／０．３ｍｍＨｇ．
ｍｐ：７３．５−７６．０℃．
比旋光度：［α］Ｄ２３−１０．６°（ｃ＝１．０２，ＣＨＣｌ３）．
＜合成例５＞
○（Ｓ）−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシラン（ＮＡＰ＊（Ｓ）−Ｃｌ）の合成
合成例３で合成したＯ−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルからＲ体のＯ−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルを得た母液（合成例３）より、Ｓ体を分離した。このＳ体を合成例４と同様に操作して、（Ｓ）−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシラン（ＮＡＰ＊（Ｓ）−Ｃｌ）を得た。
＜参考例１＞
○［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシラン（下記式（５））の立体配置とそのエナンチオマー過剰率の算出
［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシランのエナンチオマー過剰率は、この合成前駆体であるＯ−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルのジアステレオマー過剰率をそのままエナンチオマー過剰率として用いた。即ち、光学分割したＯ−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルの１Ｈ−ＮＭＲを測定し、検出されたシグナルのうち、（Ｒ）−Ｏ−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルに由来するシグナル（δ４．９９（ｓ），４．３４（ｓ），３．６１（ｓ））と、各々に対応した（Ｓ）−Ｏ−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルに由来するシグナル（δ４．９６（ｓ），４．３８（ｓ），３．５８（ｓ））との積分比からジアステレオマー過剰率を算出した。
エナンチオマー過剰率（％ｅｅ）＝
［（Ｒ異性体の積分値−Ｓ異性体の積分値）／
（Ｒ異性体の積分値＋Ｓ異性体の積分値）］×１００
一方の異性体のシグナルが検出できなかった場合は、過剰率を９９％ｅｅと表記した。
４００ＭＨｚ  １Ｈ−ＮＭＲによる光学純度の推定値９９％ｅｅの（Ｒ）−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシランの物性値を下記に記載する。
ｂｐ  １５８−１６０℃／０．３ｍｍＨｇ．
ｍｐ  ７３．５−７６．０℃．
比旋光度  ［α］Ｄ２３−１０．６°（ｃ＝１．０２，ＣＨＣｌ３）．
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１５−８．０２（ｍ，１Ｈ），７．８７−７．６７（ｍ，３Ｈ），７．５３−７．０５（ｍ，９Ｈ），４．５５（ｓ，１Ｈ），０．５１（ｓ，３Ｈ），０．４８（ｓ，３Ｈ）．
2003074535.tif 000012
＜実施例１＞
○［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルアリルシランの合成
Ｈｗａらの報告（Ｈｗａ  Ｊ．Ｃ．Ｈ．；Ｓｉｍｓ  Ｈ．Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．，Ｃｏｌｌｅｃｔ．Ｖｏｌ．Ｖ，６０８−６１２．）に基づき、アリルブロミド（５．６ｍｌ，６５ｍｍｏｌ）、マグネシウム（３．４８ｇ，１４３ｍｍｏｌ）およびジエチルエーテル（６５ｍｌ）から調製したアリルマグネシウムブロミドのジエチルエーテル溶液を、合成例５で得た［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシラン（１３．０３ｇ，４２ｍｍｏｌ，４００ＭＨｚ  １Ｈ−ＮＭＲによる光学純度の推定値４９％ｅｅ（Ｓ））のジエチルエーテル（３０ｍｌ）溶液中に室温で加え、そのまま６時間攪拌した。この反応液を氷水（１００ｍｌ）中に入れ、ジエチルエーテル抽出を行った。更に水層をジエチルエーテル（１００ｍｌで２回）で抽出した。このジエチルエーテル抽出液を飽和食塩水（１００ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、ろ過し、ろ液中の溶媒留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１００／３（ｖ／ｖ））で精製し、［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルアリルシランを９．６２ｇ（収率７２％）得た。この合成は、下記反応式を参照。また、［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルアリルシランの１Ｈ−ＮＭＲデータを下記に記載した。
2003074535.tif 000013
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１６−８．０７（ｍ，１Ｈ），７．８６−７．６７（ｍ，２Ｈ），７．６３−７．５５（ｍ，１Ｈ），７．５２−７．３５（ｍ，３Ｈ），７．３２−７．１５（ｍ，４Ｈ），７．１０−７．０３（ｍ，１Ｈ），５．７６−５．５６（ｍ，１Ｈ），４．８７−４．６９（ｍ，２Ｈ），４．３８（ｓ，１Ｈ），１．６１（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），０．１４（ｓ，３Ｈ）．０．１２（ｓ，３Ｈ）．
また、［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルアリルシランのキラルＨＰＬＣ分析のチャートを図１に示す。
＜合成例６＞
○１−ブロモ−２−メトキシナフタレンの合成
水素化ナトリウム（６０〜７２％含有，１４．７８ｇ）を石油エーテルで洗浄し、ＴＨＦ（１００ｍｌ）に懸濁した。これに１−ブロモ−２−ナフトール（７５ｇ，３３６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１００ｍｌ）を室温で１．５時間かけて滴下し、そのまま１時間かき混ぜた。ここにヨウ化メチル（４２ｍｌ，６７５ｍｍｏｌ）を室温で加えてかきまぜた後、そのまま１終夜静置し、さらに６時間加熱還流した。この反応液に精製水と酢酸エチルエステルとを加えて抽出し、この有機層（１．６Ｌ）は飽和食塩水で洗浄した。その後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、ろ過し、ろ液から溶媒を減圧留去した。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム）に供し、１−ブロモ−２−メトキシナフタレン（８０．６ｇ，収率１００％）を得た。この合成は、下記反応式を参照。また、この１Ｈ−ＮＭＲデータを下記に記載した。
2003074535.tif 000014
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．２２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．８１−７．７６（ｍ，２Ｈ），７．５７−７．５３（ｍ，１Ｈ），７．４０−７．３６（ｍ，１Ｈ），７．２５（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ），４．０１（ｓ，３Ｈ）．
＜合成例７＞
○（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメタンの合成
１−ブロモ−２−メトキシナフタレン（８９．９ｇ，３７９ｍｍｏｌ、合成例６で合成したもの）、マグネシウム（１８．５ｇ，７５９ｍｍｏｌ）、１，２−ジブロモエタン（１ｍｌ、１１．６ｍｍｏｌ）およびＴＨＦ（７００ｍｌ）より調製した２−メトキシ−１−ナフチルマグネシウムブロミド溶液をベンジルブロミド（９０ｍｌ，７５７ｍｍｏｌ）、およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）（５．８８ｇ，５．０９ｍｍｏｌ）を含むＴＨＦ（１００ｍｌ）溶液に４２分間かけて滴下し、７１時間加熱還流後、室温で更に２日間攪拌した。この反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液中に入れ、ジエチルエーテルで抽出した。この有機層（１．４Ｌ）は、飽和塩化アンモニウム水溶液、純水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、ろ過し、ろ液から溶媒を減圧留去し、残渣にｎ−ヘキサンを加えてかき混ぜた後（１５０ｍｌで２回）、固体をろ取した。この固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム）に供し、（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメタン（５１．８ｇ，収率５５％）を得た。この合成は、下記反応式を参照。また、この１Ｈ−ＮＭＲデータを下記に記載した。
2003074535.tif 000015
１Ｈ−ＮＭＲ：δ７．９０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．８１−７．７８（ｍ，２Ｈ），７．４２−７．１１（ｍ，８Ｈ），４．４８（ｓ，２Ｈ），３．９３（ｓ，３Ｈ）．
＜実施例２＞
○［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルアリルシランの合成
（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメタン（０．７４６ｇ，３．００ｍｍｏｌ，合成例７で合成したもの）のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ，３ｍｌ）溶液を０℃に冷却した。この溶液に１．５８Ｍ  ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（２．０ｍｌ，３．１４ｍｍｏｌ）を加えた後、そのままの温度で１時間攪拌しリチウム塩を調製した。別にジメチルジクロロシラン（１．１ｍｌ，９．０７ｍｍｏｌ）をｎ−ヘキサン（３ｍｌ）に溶解し０℃に冷却した。この溶液中に先のリチウム塩溶液を加えた後、そのままの温度で１時間攪拌した。デカンテーションにより得た上澄み液から、溶媒を減圧留去して［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシランを得た。この［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシランのＴＨＦ溶液（３ｍｌ）に、別にアリルクロリド（０．４９ｍｌ，６．０ｍｍｏｌ）、マグネシウム（０．２９９ｇ，１２．２ｍｍｏｌ）、少量のヨウ素およびＴＨＦ（６ｍｌ）から調製したアリルマグネシウムクロリドのＴＨＦ溶液を室温で加え、３０分間攪拌した後、室温で３日間静置した。この反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液とジエチルエーテルとを加えて分液し、さらに水層からジエチルエーテル抽出した。ジエチルエーテル抽出液を合一し、飽和塩化アンモニウム水溶液（３回）、純水（２回）、および飽和食塩水（１回）で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、ろ過し、ろ液中の溶媒留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９５／５（ｖ／ｖ））で精製し、［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルアリルシラン０．８２８ｇ（収率７９％）を得た。この合成は、下記反応式を参照。また、この１Ｈ−ＮＭＲデータを下記に記載した。
2003074535.tif 000016
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．０１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．７８−７．７６（ｍ，２Ｈ），７．４１−７．１５（ｍ，７Ｈ），７．０６−７．０２（ｍ，１Ｈ），５．７５−５．６４（ｍ，１Ｈ），４．８１−４．７８（ｍ，１Ｈ），４．７６５−４．７５９（ｍ，１Ｈ），４．３２（ｓ，１Ｈ），３．９８（ｓ，３Ｈ），１．６１−１．５９（ｍ，２Ｈ），０．０５（ｓ，３Ｈ）．−０．０２（ｓ，３Ｈ）．
＜実施例３＞
○［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルビニルシランの合成
実施例１と同様にして［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルビニルシランを合成した。即ち、合成例５で得た［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシラン（４．１８ｇ，１３．５ｍｍｏｌ，４００ＭＨｚ  １Ｈ−ＮＭＲによる光学純度の推定値４９％ｅｅ（Ｓ））のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液を０℃に冷却した。この溶液に０．９７ＭビニルマグネシウムブロミドのＴＨＦ溶液（関東化学（株）製，１５．５ｍｌ，１５ｍｍｏｌ）を加え、室温に昇温して２４時間攪拌した。この反応液を氷水（１００ｍｌ）中に入れ、ジエチルエーテル（１００ｍｌで１回，５０ｍｌで２回）で抽出した後、この有機層を飽和食塩水（１００ｍｌで２回）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、ろ過し、ろ液中の溶媒留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１００／３（ｖ／ｖ））で精製し、（（１−ナフチル）フェニルメチル）ジメチルビニルシランを１．６６ｇ（収率４１％）得た。この合成は、下記反応式を参照。また、この１Ｈ−ＮＭＲデータを下記に記載した。
2003074535.tif 000017
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１５−８．０７（ｍ，１Ｈ），７．８４−７．６７（ｍ，２Ｈ），７．６７−７．５４（ｍ，１Ｈ），７．５４−７．３５（ｍ，３Ｈ），７．３１−７．１４（ｍ，４Ｈ），７．１０−７．０２（ｍ，１Ｈ），６．２３（ｄｄ，Ｊ＝１４．８，２０．０Ｈｚ，１Ｈ），５．９９（ｄｄ，Ｊ＝３．６，１４．８Ｈｚ，１Ｈ），５．６９（ｄｄ，Ｊ＝３．６，２０．０Ｈｚ，１Ｈ），４．３７（ｓ，１Ｈ），０．１７（ｓ，３Ｈ）．０．１６（ｓ，３Ｈ）．
［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルビニルシランのキラルＨＰＬＣ分析のチャートを図２に示す。
＜実施例４＞
○（Ｒ）−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシランの合成
合成例４で合成して得た［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシラン（３．４１ｇ，１１ｍｍｏｌ，４００ＭＨｚ  １Ｈ−ＮＭＲによる光学純度の推定値９９％ｅｅ（Ｒ））のジエチルエーテル（２０ｍｌ）溶液に、アルゴン気流下、水素化リチウムアルミニウム（２６０ｍｇ，５．５ｍｍｏｌ）を投入した。投入直後、反応液は発熱し、ここからガスが発生していることが確認できた。この反応液を室温で５時間攪拌し、氷水（１００ｍｌ）中に反応液を入れ、反応を停止させた。この反応液をジエチルエーテル（５０ｍｌで３回）で抽出し、ジエチルエーテル層を蒸留水（１００ｍｌ）、および飽和食塩水（１００ｍｌ）で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、ろ過し、ろ液中の溶媒留去して、（Ｒ）−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシランを２．８３ｇ（収率９４％）得た。この合成は、下記反応式を参照。この機器データを下記に示す。
2003074535.tif 000018
比旋光度：［α］Ｄ２３＋１２．２°（ｃ＝０．９９，ＣＨＣｌ３）．
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１６−８．０７（ｍ，１Ｈ），７．８８−７．７８（ｍ，１Ｈ），７．７５−７．６８（ｍ，１Ｈ），７．６５−７．５８（ｍ，１Ｈ），７．５２−７．３７（ｍ，３Ｈ），７．３２−７．１６（ｍ，４Ｈ），７．１３−７．０４（ｍ，１Ｈ），４．４１−４．３０（ｍ，２Ｈ），０．１８（ｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ，３Ｈ），０．１０（ｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ，３Ｈ）．
（Ｒ）−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシランのキラルＨＰＬＣ分析のチャートを図３下段に示す。
＜実施例５＞
○［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシランの合成
合成例１で合成した（１−ナフチル）フェニルメタン（２２．１４ｇ，０．１０ｍｏｌ）のＴＨＦ（２００ｍｌ）溶液を−７８℃に冷却した。この溶液に１．５５Ｍ  ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（７２ｍｌ，０．１１２ｍｏｌ）を１０分間かけて滴下した。滴下終了後、そのままの温度で３０分間、室温まで昇温して３時間攪拌し、リチウム塩を調製した。この溶液を０℃に冷却し、ジメチルクロロシラン（１２．４ｍｌ，０．１１２ｍｏｌ）を加え、室温に昇温して１終夜攪拌した。この反応液を氷水（２００ｍｌ）中に入れ、ジエチルエーテル（３００ｍｌで１回、２００ｍｌで２回）で抽出し、この有機層を蒸留水（２００ｍｌ）、および飽和食塩水（２００ｍｌ）で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、ろ過し、ろ液中の溶媒留去して、［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシランを２６．２ｇ（収率９５％）得た。この合成は、下記反応式を参照。
2003074535.tif 000019
［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシランのキラルＨＰＬＣ分析のチャートを図３上段に示す。また、［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシランを光学分割したもののキラルＨＰＬＣ分析のチャートを図３下段に示す。
＜実施例６＞
○（Ｒ）−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルアジドの合成
合成例４で合成して得た［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシラン（３．３７ｇ，１０．８ｍｍｏｌ，４００ＭＨｚ  １Ｈ−ＮＭＲによる光学純度の推定値９９％ｅｅ（Ｒ））、アジ化ナトリウム（７１５ｍｇ，１１ｍｍｏｌ）を含むＴＨＦ（５ｍｌ）の懸濁液を７２時間加熱還流した。この反応液は、グラスフィルターでろ過し、ジエチルエーテルで洗浄した。ろ液中の溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝９／１（ｖ／ｖ））で精製し、（Ｒ）−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルアジドを２．６５ｇ（収率７７％）得た。この合成は、下記反応式を参照。下記に、この機器データを示す。
2003074535.tif 000020
比旋光度：［α］Ｄ２３＋１２．０°（ｃ＝１．０４，ＣＨＣｌ３）．
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１４−８．０７（ｍ，１Ｈ），７．８６−７．６９（ｍ，３Ｈ），７．５２−７．３８（ｍ，３Ｈ），７．３４−７．１９（ｍ，４Ｈ），７．１３−７．０６（ｍ，１Ｈ），４．３３（ｓ，１Ｈ），０．２３（ｓ，６Ｈ）．
ラセミ体の［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシランを用いて、同様に操作して［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルアジドを合成した。
（Ｒ）−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルアジドのキラルＨＰＬＣ分析のチャートを図４下段に示す。上段は［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルアジドのラセミ体のものである。
＜実施例７＞
○［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルシアニドの合成
合成例４で合成して得た［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシラン（３．１４ｇ，１０ｍｍｏｌ，４００ＭＨｚ  １Ｈ−ＮＭＲによる光学純度の推定値９９％ｅｅ（Ｒ））にトリメチルシリルシアニド（２．７ｍｌ，２０ｍｍｏｌ）を加え、１６０℃に加熱した。この液を３０分間加熱還流し、副生したトリメチルクロロシランを除去しながら更に２時間加熱を続けた。この反応液を室温に冷却し、白色固体を得た。この固体をｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝８／１（ｖ／ｖ，４５ｍｌ）から結晶化を行い、（Ｒ）−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルシアニドを２．４１ｇ（収率７９％）得た。この合成は、下記反応式を参照。下記に、この機器データを示す。
2003074535.tif 000021
ｍｐ：１２３−１２６℃．
比旋光度：［α］Ｄ２３−２５．６°（ｃ＝１．０４，ＣＨＣｌ３）．
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．０６−７．９９（ｍ，１Ｈ），７．８７−７．７６（ｍ，２Ｈ），７．６５−７．６０（ｍ，１Ｈ），７．５４−７．４１（ｍ，３Ｈ），７．３５−７．２３（ｍ，４Ｈ），７．１９−７．１２（ｍ，１Ｈ），４．５３（ｓ，１Ｈ），０．４３（ｓ，３Ｈ），０．４１（ｓ，３Ｈ）．
ラセミ体の［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシランを用いて、同様に操作して［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルシアニドを合成した。
（Ｒ）−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルシアニドのキラルＨＰＬＣ分析のチャートを図５の下段に示す。上段は［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルシアニドのラセミ体のものである。
＜実施例８＞
○（Ｒ）−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルジエチルアミド合成
合成例４で合成して得た（（１−ナフチル）フェニルメチル）ジメチルクロロシラン（１５．０８ｇ，４８．５ｍｍｏｌ，４００ＭＨｚ  １Ｈ−ＮＭＲによる光学純度の推定値９９％ｅｅ（Ｒ））のｎ−ヘキサン（１５０ｍｌ）溶液にジエチルアミン（１０．６ｍｌ，１０２ｍｍｏｌ）を加え、室温で２日間攪拌した。反応液中の生成した塩酸塩をろ過し、ろ液中の溶媒を減圧留去した。残渣を減圧蒸留して（Ｒ）−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルジエチルアミドを１２．２２ｇ（収率７２％）得た。この合成は、下記反応式を参照。下記に、この機器データを示す。
2003074535.tif 000022
ｂｐ：１６０−１６２℃／０．２ｍｍＨｇ．
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１８−８．１０（ｍ，１Ｈ），７．８５−７．７７（ｍ，１Ｈ），７．７２−７．６５（ｍ，２Ｈ），７．５０−７．３６（ｍ，３Ｈ），７．３３−７．２２（ｍ，２Ｈ），７．０９−７．０１（ｍ，１Ｈ），４．３８（ｓ，１Ｈ），２．７０（ｓｅｐｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，４Ｈ），０．８５（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，６Ｈ），０．１７（ｓ，３Ｈ）．０．１５（ｓ，３Ｈ）．
＜実施例９＞
○１−シクロヘキセニルオキシ−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシランの合成
リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）の２Ｍ溶液（アルドリッチ社製，５．５ｍｌ，１１ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１０ｍｌ）に溶解し、−７８℃に冷却した。この溶液にシクロヘキサノン（１．０ｍｌ，１０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液を加え、そのままの温度で１時間攪拌した。別に合成例４で合成して得た（（１−ナフチル）フェニルメチル）ジメチルクロロシラン（３．１３ｇ，１０ｍｍｏｌ，４００ＭＨｚ  １Ｈ−ＮＭＲによる光学純度の推定値９９％ｅｅ（Ｒ））のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液を調製して、先の反応溶液中に加え、その後、室温まで昇温した。この反応液に１００ｍｌのジエチルエーテル加え、飽和食塩水（２×５０ｍｌ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、ろ過し、ろ液中の溶媒留去して、１−シクロヘキセニルオキシ−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシランを３．１３ｇ（粗精製品，収率８４％）得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１００／２（ｖ／ｖ））で精製して、高純度品２．０３ｇ（収率５４％）を得た。この合成は、下記反応式を参照。下記に、この機器データを示す。
2003074535.tif 000023
比旋光度：［α］Ｄ２３−２３．０°（ｃ＝１．０６，ＣＨＣｌ３）．
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１５−８．０８（ｍ，１Ｈ），７．８６−７．６９（ｍ，３Ｈ），７．５２−７．３７（ｍ，３Ｈ），７．３４−７．２８（ｍ，２Ｈ），７．２３−７．１６（ｍ，２Ｈ），７．１２−７．０４（ｍ，１Ｈ），４．８０−４．７５（ｍ，１Ｈ），４．４２（ｓ，１Ｈ），１．９９−１．８０（ｍ，４Ｈ），１．６１−１．３６（ｍ，４Ｈ），０．２４（ｓ，３Ｈ）．０．２３（ｓ，３Ｈ）．
１−シクロヘキセニルオキシ−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシランのキラルＨＰＬＣ分析のチャートを図６に示す。
＜実施例１０＞
○２−［［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルオキシ］プロペンの合成
実施例９と同様に操作して２−［［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルオキシ］プロペンを合成した。即ち、ＬＤＡの２Ｍ溶液（１３．５ｍｌ，２７ｍｍｏｌ）、アセトン（２．７ｍｌ，２６ｍｍｏｌ）、合成例４で合成して得た［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシラン（８．１０ｇ，２６ｍｍｏｌ，４００ＭＨｚ  １Ｈ−ＮＭＲによる光学純度の推定値９９％ｅｅ（Ｒ））から２−［［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルオキシ］プロペンの粗精製品を３．７８ｇ（収率９８％）得た。下記に、この機器データを示す。
比旋光度：［α］Ｄ２３−２４．２°（ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ３）．
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１６−８．０６（ｍ，１Ｈ），７．８７−７．６７（ｍ，３Ｈ），７．５３−７．１４（ｍ，８Ｈ），４．４５（ｓ，１Ｈ），４．０３（ｓ，１Ｈ），３．９７（ｓ，１Ｈ），１．６８（ｓ，３Ｈ），０．２７（ｓ，３Ｈ），０．２５（ｓ，３Ｈ）．
＜実施例１１＞
○１−フェニル−１−［［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルオキシ］エチレンの合成
実施例９と同様に操作して１−フェニル−１−［［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルオキシ］エチレンを合成した。即ち、ジイソプロピルアミン（１３．２ｍｌ，２１ｍｍｏｌ）、ｎ−ブチルリチウムの１．５８Ｍ溶液（関東化学（株）製，１３．２ｍｌ，２１ｍｍｏｌ）、アセトフェノン（２．３ｍｌ，２０ｍｍｏｌ）、および合成例４で合成して得た［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシラン（６．３８ｇ，２０ｍｍｏｌ，４００ＭＨｚ  １Ｈ−ＮＭＲによる光学純度の推定値９９％ｅｅ（Ｒ））から１−フェニル−１−［［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルオキシ］エチレンの粗精製品を７．９０ｇ（収率９８％）得た。下記のこの１Ｈ−ＮＭＲデータを記載する。
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１６−８．０８（ｍ，１Ｈ），７．８７−７．７１（ｍ，３Ｈ），７．５２−７．３２（ｍ，７Ｈ），７．２７−７．１８（ｍ，５Ｈ），７．１４−７．０７（ｍ，１Ｈ），４．８７（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ、１Ｈ），４．５５（ｓ，１Ｈ），４．２８（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ、１Ｈ），０．３４（ｓ，３Ｈ）．０．３１（ｓ，３Ｈ）．
＜合成例８＞
○（２−ナフチル）フェニルメタノール（下記式（６））の合成
２−ナフトアルデヒド（１５．６ｇ，１００ｍｍｏｌ）を含むＴＨＦ（４０ｍｌ）溶液中に１−ブロモベンゼン（１１．６ｍｌ，１１０ｍｍｏｌ）、マグネシウム（２．８ｇ，１１５ｍｍｏｌ）およびＴＨＦ（４０ｍｌ）より調製したフェニルマグネシウムブロミド溶液を８０分間かけて滴下し、その後、室温で１終夜攪拌した。この反応液に塩化アンモニウム（１８．７２ｇ，３５０ｍｍｏｌ）の水溶液（１００ｍｌ）を加えて反応を停止させ、酢酸エチルエステルを加えて溶媒抽出した。この有機層は飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液をろ過した後、ろ液の溶媒を減圧留去し、（２−ナフチル）フェニルメタノール（２３．２６ｇ，粗精製品，収率９９％）を得た。
2003074535.tif 000024
１Ｈ−ＮＭＲ：δ７．８６−７．７４（ｍ，４Ｈ），７．４４−７．２１（ｍ，８Ｈ），６．０２（ｄ，Ｊ＝３．４Ｈｚ，１Ｈ），２．２５（ｄ，Ｊ＝３．４Ｈｚ，１Ｈ）．
＜合成例９＞
○（２−ナフチル）フェニルメタン（下記式（７））の合成
ヨウ化ナトリウム（２．３６２ｇ，１５．７６ｍｍｏｌ）を含むアセトニトリル（５ｍｌ）懸濁液にトリメチルクロロシラン（２．０ｍｌ，１５．７６ｍｍｏｌ）を添加し、室温で１５分間攪拌した後、氷浴下で冷却した。ここに上記合成した（２−ナフチル）フェニルメタノール（式（６）、１．１７２ｇ，５ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（６ｍｌ）溶液を３０分かけて滴下した。滴下終了後、室温に昇温し１終夜攪拌した。反応溶液に水酸化ナトリウム（７００ｍｇ、１７．５ｍｍｏｌ）水溶液を滴下し反応を停止し、酢酸エチルエステルを加えて抽出した。この有機層は、チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液をろ過した後、ろ液の溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチルエステル＝９０／１０（ｖ／ｖ））で精製し、（２−ナフチル）フェニルメタン（９５０ｍｇ，収率８７％）を得た。
2003074535.tif 000025
１Ｈ−ＮＭＲ：δ７．８０−７．７４（ｍ，３Ｈ），７．６３（ｓ，１Ｈ），７．４４−７．３９（ｍ，２Ｈ），７．３３−７．１８（ｍ，６Ｈ），４．１５（ｓ，２Ｈ）．
＜合成例１０＞
○［（２−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシラン（下記式（８））の合成
（２−ナフチル）フェニルメタン（式（７）、２１８ｍｇ，１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍｌ）溶液を０℃に冷却した。この溶液に１．５７Ｍ  ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（６６０μｌ，１．０４ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後そのままの温度で３時間攪拌しリチウム塩を調製した。別にジメチルジクロロシラン（８００μｌ，６．６ｍｍｏｌ）をｎ−ヘキサン（２ｍｌ）に溶解し、−７８℃に冷却した。この溶液に先のリチウム塩溶液を加え、そのままの温度で２時間攪拌した後、室温に昇温して１終夜攪拌した。生成した塩化リチウムをろ過し、ろ液中の溶媒を減圧留去して、［（２−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシランを得た。
2003074535.tif 000026
１Ｈ−ＮＭＲ：δ７．８０−７．７５（ｍ，４Ｈ），７．４７−７．１９（ｍ，８Ｈ），３．９４（ｓ，１Ｈ），０．４５（ｓ，６Ｈ）．
この［（２−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシランは精製せず、このまま次反応に用いた。
＜合成例１１＞
○Ｏ−［（２−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチル（下記式（９））の合成
（Ｓ）−マンデル酸メチル（［α］Ｄ２６＋１４４．３°（ｃ＝１．５，ＣＨ３ＯＨ），１６６．２ｍｇ，１ｍｍｏｌ）とイミダゾール（１０２．１ｍｇ，１．５ｍｍｏｌ）を含むＤＭＦ（２ｍｌ）溶液に、上記合成した［（２−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシラン（式（８））のＤＭＦ溶液（２ｍｌ）を添加して、室温で１終夜攪拌した。この反応液を氷浴で冷却した飽和炭酸水素ナトリウム溶液に注ぎ入れ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチルエステルで抽出した。この有機層を飽和炭酸水素ナトリウム溶液、蒸留水、および飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。その後ろ過し、ろ液中の溶媒を減圧留去し、この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチルエステル＝９５／５〜９０／１０（ｖ／ｖ））で精製し、Ｏ−［（２−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチル（式（９）、ジアステレオマー混合物，３１２ｍｇ，（２−ナフチル）フェニルメタンに対する収率７１％）を得た。
2003074535.tif 000027
１Ｈ−ＮＭＲ：δ７．７９−７．６７（ｍ，４Ｈ），７．４８−７．２０（ｍ，１２Ｈ），７．１８−７．１０（ｍ，１Ｈ），５．０１（ｓ，１Ｈ），３．７７（ｓ，１Ｈ），３．６１（ｓ，１．５Ｈ），３．６０（ｓ，１．５Ｈ），０．１６（ｓ，３Ｈ），０．１２（ｓ，３Ｈ）．
このジアステレオマー混合物であるＯ−［（２−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルは、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより光学分割することができる。
＜合成例１２＞
○（１−ナフチル）（２−ナフチル）メタノール（下記式（１０））の合成
１−ブロモナフタレン（１３．８ｍｌ，９９ｍｍｏｌ）、マグネシウム（２．５３ｇ，１０４ｍｍｏｌ）およびＴＨＦ（４０ｍｌ）より調製した１−ナフタレンマグネシウムブロミド溶液を、２−ナフトアルデヒド（１４．０６ｇ，９０ｍｍｏｌ）を含むＴＨＦ（４０ｍｌ）溶液中に３０分間かけて滴下し、その後、室温で１終夜攪拌した。反応液に塩化アンモニウム（１８．７２ｇ，３５０ｍｍｏｌ）の水溶液（１００ｍｌ）を加えて反応を停止させ、酢酸エチルエステル（１５０ｍｌ）を加えて抽出した。この有機層は飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この有機層は乾燥後、ろ過し、ろ液中の溶媒を減圧留去し、（１−ナフチル）（２−ナフチル）メタノール（式（１０）、２０．６７ｇ，粗精製品，収率９８％）を得た。
2003074535.tif 000028
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．０６（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．８８−７．７３（ｍ，６Ｈ），７．６０（ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，１Ｈ），７．４６−７．２１（ｍ，６Ｈ），６．６２（ｓ，１Ｈ），２．５４（ｓ，１Ｈ）．
＜合成例１３＞
○（１−ナフチル）（２−ナフチル）メタン（下記式（１１））の合成
ヨウ化ナトリウム（２．３６２ｇ，１５．７５ｍｍｏｌ）を含むアセトニトリル（１０ｍｌ）懸濁液に、トリメチルクロロシラン（２．０ｍｌ，１５．７６ｍｍｏｌ）を添加し、室温で１５分間攪拌した後、氷浴下で１５分間攪拌した。ここに上記合成した（１−ナフチル）（２−ナフチル）メタノール（式（１０）、１．４２ｇ，５ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（１５ｍｌ）溶液を１時間かけて滴下した。滴下終了後、反応液は室温に昇温して、１終夜攪拌した。その後、反応溶液に水酸化ナトリウム（７００ｍｇ、１７．５ｍｍｏｌ）水溶液（１０ｍｌ）を滴下して反応を停止させ、酢酸エチルエステルで抽出した。この有機層はチオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この有機層は、ろ過し、ろ液中の溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチルエステル＝９５／５（ｖ／ｖ））で精製して、（１−ナフチル）（２−ナフチル）メタン（式（１１）、９５１ｍｇ，収率７１％）を得た。
2003074535.tif 000029
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．０５（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），７．８９−７．６０（ｍ，６Ｈ），７．４８−７．３４（ｍ，７Ｈ），４．６１（ｓ，２Ｈ）．
＜合成例１４＞
○［（１−ナフチル）（２−ナフチル）メチル］ジメチルクロロシラン（下記式（１２））の合成
（１−ナフチル）（２−ナフチル）メタン（式（１１）、２８６．４ｍｇ，１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍｌ）溶液を氷浴で冷却した。この溶液に１．５７Ｍ  ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（６６０μｌ，１．０４ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後、反応液は、そのままの温度で２．５時間攪拌し、リチウム塩を調製した。別にジメチルジクロロシラン（８００μｌ，６．６ｍｍｏｌ）をｎ−ヘキサン（２ｍｌ）に溶解し、−７８℃に冷却した。この溶液に先のリチウム塩溶液を加え、そのままの温度で１時間、室温に昇温して１終夜攪拌した。反応液中に生成した塩化リチウムをろ過し、ろ液中の溶媒を減圧留去し、［（１−ナフチル）（２−ナフチル）メチル］ジメチルクロロシラン（式（１２））を得た。
2003074535.tif 000030
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１２（ｍ，１Ｈ），７．８４−７．７０（ｍ，６Ｈ），７．５２−７．３６（ｍ，７Ｈ），４．７２（ｓ，１Ｈ），０．５５（ｓ，３Ｈ），０．５２（ｓ，３Ｈ）．
［（１−ナフチル）（２−ナフチル）メチル］ジメチルクロロシランは精製せず、このまま次反応に用いた。
＜合成例１５＞
○Ｏ−［（１−ナフチル）（２−ナフチル）メチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチル（下記式（１３））の合成
（Ｓ）−マンデル酸メチル（［α］Ｄ２６＋１４４．３°（ｃ＝１．５，ＣＨ３ＯＨ），１６６．２ｍｇ，１ｍｍｏｌ）とイミダゾール（１０２．１ｍｇ，１．５ｍｍｏｌ）を含むＤＭＦ（２ｍｌ）溶液に、上記合成した［（１−ナフチル）（２−ナフチル）メチル］ジメチルクロロシラン（式（１２））のＤＭＦ（２ｍｌ）溶液を加え、室温で１終夜攪拌した。反応液を氷浴で冷却した飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ入れ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチルエステル（１／１（ｖ／ｖ），１００ｍｌ）で抽出した。この有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥した有機層をろ過後、ろ液中の溶媒を減圧留去し、Ｏ−［（１−ナフチル）（２−ナフチル）メチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチル（式（１３）、ジアステレオマー混合物，粗精製品４０２ｍｇ，（１−ナフチル）（２−ナフチル）メタンに対する収率８２％）を得た。
2003074535.tif 000031
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１１（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．９２−７．２５（ｍ，１８Ｈ），５．００（ｓ，０．５Ｈ），４．９９（ｓ，０．５Ｈ），４．５６（ｓ，０．５Ｈ），４．５６１（ｓ，０．５Ｈ），３．６０（ｓ，１．５Ｈ），３．５５（ｓ，１．５Ｈ），０．２５（ｓ，１．５Ｈ），０．２２（ｓ，１．５Ｈ），０．２０（ｓ，１．５Ｈ），０．１８（ｓ，１．５Ｈ）．
このジアステレオマー混合物であるＯ−［（１−ナフチル）（２−ナフチル）メチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルは、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより光学分割することができる。
＜合成例１６＞
○１−ブロモ−２−メトキシナフタレンの合成
水素化ナトリウム（６０〜７２％含有，１４．７８ｇ）を石油エーテルで洗浄し、ＴＨＦ（１００ｍｌ）に懸濁した。これに１−ブロモ−２−ナフトール（７５ｇ，３３６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（１００ｍｌ）を室温で１．５時間かけて滴下し、そのまま１時間かき混ぜた。ここにヨウ化メチル（４２ｍｌ，６７５ｍｍｏｌ）を室温で加えてかきまぜた後、そのまま１終夜静置し、さらに６時間加熱還流した。この反応液に精製水と酢酸エチルエステルとを加えて抽出し、この有機層（１．６Ｌ）は飽和食塩水で洗浄した。その後、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、ろ過し、ろ液から溶媒を減圧留去した。この残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム）に供し、１−ブロモ−２−メトキシナフタレン（８０．６ｇ，収率１００％）を得た。この合成は、下記反応式を参照。
2003074535.tif 000032
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．２２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．８１−７．７６（ｍ，２Ｈ），７．５７−７．５３（ｍ，１Ｈ），７．４０−７．３６（ｍ，１Ｈ），７．２５（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ），４．０１（ｓ，３Ｈ）．
＜合成例１７＞
○（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメタンの合成
１−ブロモ−２−メトキシナフタレン（８９．９ｇ，３７９ｍｍｏｌ、上記のようにして合成したもの）、マグネシウム（１８．５ｇ，７５９ｍｍｏｌ）、１，２−ジブロモエタン（１ｍｌ、１１．６ｍｍｏｌ）およびＴＨＦ（７００ｍｌ）より調製した２−メトキシ−１−ナフチルマグネシウムブロミド溶液をベンジルブロミド（９０ｍｌ，７５７ｍｍｏｌ）、およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（５．８８ｇ，５．０９ｍｍｏｌ）を含むＴＨＦ（１００ｍｌ）溶液に４２分間かけて滴下し、７１時間加熱還流後、室温で更に２日間攪拌した。この反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液中に入れ、ジエチルエーテルで抽出した。この有機層（１．４Ｌ）は、飽和塩化アンモニウム水溶液、純水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、ろ過し、ろ液から溶媒を減圧留去し、残渣にｎ−ヘキサンを加えてかき混ぜた後（１５０ｍｌで２回）、固体をろ取した。この固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム）に供し、（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメタン（５１．８ｇ，収率５５％）を得た。
この合成は、下記反応式を参照。
2003074535.tif 000033
１Ｈ−ＮＭＲ：δ７．９０（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．８１−７．７８（ｍ，２Ｈ），７．４２−７．１１（ｍ，８Ｈ），４．４８（ｓ，２Ｈ），３．９３（ｓ，３Ｈ）．
＜合成例１８＞
○［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシランの合成
合成例１７で合成した（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメタン（５１．６ｇ，２０８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２０７ｍｌ）溶液を０℃に冷却した。この溶液に１．５８Ｍ  ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（１３８ｍｌ，２１８ｍｍｏｌ）を加えた後、そのままの温度で３時間攪拌しリチウム塩を調製した。別途、ジメチルジクロロシラン（７６ｍｌ，６２７ｍｍｏｌ）をｎ−ヘキサン（２０７ｍｌ）に溶解し０℃に冷却した。この溶液に先のリチウム塩溶液を加えた後、そのままの温度で２時間、室温で１終夜攪拌した。生成した塩化リチウムをろ過し、溶媒を減圧留去して［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシランを得た。この合成は、下記反応式を参照。
2003074535.tif 000034
１Ｈ−ＮＭＲ：δ７．９７（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．８３−７．７７（ｍ，２Ｈ），７．４３−７．０５（ｍ，８Ｈ），４．５０（ｓ，１Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），０．３９（ｓ，３Ｈ），０．３６（ｓ，３Ｈ）．
ここで得たものは精製せずに、Ｏ−［（１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルの合成に用いた。
＜合成例１９＞
○Ｏ−［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルの合成
（Ｓ）−マンデル酸メチル（［α］Ｄ２６＋１４４．３°（ｃ＝１．５，ＣＨ３ＯＨ），３４．５ｇ，２０８ｍｍｏｌ）とイミダゾール（２１．２ｇ，３１１ｍｍｏｌ）を含むＤＭＦ（１３０ｍｌ）溶液を０℃に冷却し、ここに合成例１８で合成した［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシランのＤＭＦ（２５５ｍｌ）溶液を０℃に冷却して添加した後、室温で１終夜静置した。この反応液に純水（１．６Ｌ）とｎ−ヘキサン／酢酸エチルエステル（１／１（ｖ／ｖ），１Ｌ）とを加えて抽出した。この有機層を純水（２×１．２Ｌ）、飽和食塩水（１Ｌ）で順次洗浄し、この有機層は、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、ろ過し、ろ液中の溶媒を減圧留去し、Ｏ−［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチル（ジアステレオマー混合物，粗精製品９４．０ｇ，粗収率９６％）を得た。この合成は、下記反応式を参照。
2003074535.tif 000035
１Ｈ−ＮＭＲ：δ７．９９−７．７６（ｍ，３Ｈ），７．５０−７．０２（ｍ，１３Ｈ），５．１７（ｓ，０．５Ｈ），５．１６（ｓ，０．５Ｈ），４．４４（ｓ，０．５Ｈ），４．３７（ｓ，０．５Ｈ），３．９２（ｓ，１．５Ｈ），３．９０（ｍ，１．５Ｈ），３．６６３（ｓ，１．５Ｈ），３．６５７（ｓ，１．５Ｈ），０．１２（ｓ，１．５Ｈ），０．０９６（ｓ，１．５Ｈ），０．０６（ｓ，１．５Ｈ），−０．０３（ｓ，１．５Ｈ）．
＜合成例２０＞
○Ｏ−［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチル（粗精製品、ジアステレオマー混合物）の光学分割
合成例１９で合成したＯ−［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルの粗精製品（ジアステレオマー混合物）５４．４２ｇをクロロホルム／メタノール混合溶媒（１／１３（ｖ／ｖ））６５４ｍｌに加熱溶解後、室温で１終夜静置して結晶化し、結晶１７．６１ｇ（ＨＰＬＣ分析によるジアステレオマー過剰率４４．９％ｄｅ、回収率３２％）を得た。このものを、クロロホルム／メタノール混合溶媒（１／１３（ｖ／ｖ））１４０ｍｌから同様に再結晶し、高純度ジアステレオマーの針状結晶１０．０５ｇ（ＨＰＬＣ分析によるジアステレオマー過剰率９８．７％ｄｅ、回収率１８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ：δ７．９８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．７９−７．７６（ｍ，２Ｈ），７．４４−７．００（ｍ，１３Ｈ），５．１６（ｓ，１Ｈ），４．４４（ｓ，１Ｈ），３．９２（ｓ，３Ｈ），３．６６０（ｓ，３Ｈ），０．０９５（ｓ，３Ｈ），０．０６（ｓ，３Ｈ）．
上記、１回目の結晶化のろ液から溶媒を減圧留去して得られた残渣にクロロホルム／メタノール混合溶媒（１／１３（ｖ／ｖ））５４６ｍｌを用いて結晶化を行い、もう一方の高純度ジアステレオマーの板状結晶８．９４ｇ（ＨＰＬＣ分析によるジアステレオマー過剰率９９．３％ｄｅ、回収率１６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ：δ７．９１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．８０−７．７６（ｍ，２Ｈ），７．５０−７．０２（ｍ，１３Ｈ），５．１７（ｓ，１Ｈ），４．３７（ｓ，１Ｈ），３．９０（ｓ，３Ｈ），３．６６５（ｓ，３Ｈ），０．１２（ｓ，３Ｈ），−０．０３（ｓ，３Ｈ）．
＜合成例２１＞
○［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジフェニルクロロシラン（式（１４））の合成
（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメタン（２４８．３ｍｇ，１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍｌ）溶液を氷浴で冷却した。この溶液に１．５８Ｍ  ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（６６０μｌ，１．０５ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後そのままの温度で１時間攪拌しリチウム塩を調製した。別途、ジメチルジクロロシラン（８００μｌ，６．６ｍｍｏｌ）をｎ−ヘキサン（２ｍｌ）に溶解し、−７８℃で冷却した。この溶液に先のリチウム塩溶液を加え、室温に昇温して１終夜攪拌した。この反応液から溶媒を除去し、ｎ−ヘキサンで固体を洗浄し、［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジフェニルクロロシラン（式（１４）、粗精製品）を得た。
2003074535.tif 000036
１Ｈ−ＮＭＲ：δ７．９８（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．８０−７．０５（ｍ，２５Ｈ），５．１３（ｓ，１Ｈ）３．３１（ｓ，３Ｈ）．
ここで合成した［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジフェニルクロロシランは精製せず、このまま次反応に用いた。
＜合成例２２＞
○Ｏ−［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジフェニルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチル（下記式（１５））の合成
（Ｓ）−マンデル酸メチル（［α］Ｄ２６＋１４４．３°（ｃ＝１．５，ＣＨ３ＯＨ），５４９ｍｇ，３．３ｍｍｏｌ）とイミダゾール（３０６ｍｇ，４．５ｍｍｏｌ）を含むＤＭＦ（２ｍｌ）溶液に、合成例２１で合成した［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジフェニルクロロシランのＤＭＦ（２ｍｌ）溶液を加え、室温で１終夜攪拌した。この反応液を氷浴で冷却した飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中に注ぎ入れ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチルエステル（１／１（ｖ／ｖ），１００ｍｌ）で抽出した。この有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、ろ過し、ろ液中の溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチルエステル＝９５／５〜９０／１０（ｖ／ｖ））で精製して［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジフェニルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチル（式（１５）、２５３ｍｇ，（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメタンに対する収率４８％）を得た。
2003074535.tif 000037
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．０１−７．９０（ｍ，１Ｈ），７．７８−７．６９（ｍ，２Ｈ），７．４１−７．００（ｍ，１８Ｈ），５．１７（ｓ，０．５Ｈ），５．１４（ｓ，０．５Ｈ），５．０２（ｓ，０．５Ｈ），４．９５（ｓ，０．５Ｈ），３．３３（ｓ，１．５Ｈ），３．３２（ｓ，１．５Ｈ），３．３０（ｓ，１．５Ｈ），３．２３（ｓ，１．５Ｈ）．
このジアステレオマー混合物である［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジフェニルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルは、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより光学分割することができる。
＜合成例２３＞
○（１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メタンの合成
１−ブロモアニソール（６５ｇ，３４８ｍｍｏｌ）、マグネシウム（１１．０ｇ，４５２ｍｍｏｌ）、１，２−ジブロモエタン（１ｍｌ、１１．６ｍｍｏｌ）およびＴＨＦ（３００ｍｌ）より調製した２−メトキシフェニルマグネシウムブロミド溶液を１−（クロロメチル）ナフタレン（６７．５ｇ，３８２ｍｍｏｌ）、およびテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）（２．０ｇ，１．７５ｍｍｏｌ）を含むＴＨＦ（５０ｍｌ）溶液に約７０分間かけて滴下し、室温で１終夜攪拌した。更にテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（Ｏ）（１．０ｇ，０．８７ｍｍｏｌ）を加え、室温で約１０５時間、加熱還流下で約１２．５時間反応させた。この反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液中に入れ、ジエチルエーテルで抽出した。この有機層（５００ｍｌ）は、飽和塩化アンモニウム水溶液、純水、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、ろ過し、ろ液中の溶媒を減圧留去し、残渣に石油エーテルを加えてかき混ぜた後、ろ過した（１５０ｍｌで２回）。ろ液から溶媒を減圧留去し、残渣を２回減圧蒸留して、（１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メタンを１４０〜１６４℃／０．０７ｍｍＨｇの留分（２８．７ｇ，収率３３％）として得た。この合成は、下記反応式を参照。
2003074535.tif 000038
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．００−７．９８（ｍ，１Ｈ），７．８６−７．８４（ｍ，１Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．４６−７．３７（ｍ，３Ｈ），７．２４−７．１６（ｍ，２Ｈ），６．９２−６．９０（ｍ，１Ｈ），６．８４−６．７５（ｍ，２Ｈ），４．４２（ｓ，２Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ）．
＜合成例２４＞
○［（１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メチル］ジメチルクロロシランの合成
先に示したものと同様に、（１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メタン（２８．４ｇ，１１４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１１４ｍｌ）溶液と１．５８Ｍ  ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（７３ｍｌ，１１５ｍｏｌ）からリチウム塩を調製し、これとジメチルジクロロシラン（４２ｍｌ，３４６ｍｍｏｌ）のｎ−ヘキサン（１１４ｍｌ）溶液とを反応させて、［（１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メチル］ジメチルクロロシランを得た。この合成は、下記反応式を参照。また、下記に１Ｎ−ＮＭＲのシグナルを示す。
2003074535.tif 000039
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１７−８．１５（ｍ，１Ｈ），７．８３−７．７９（ｍ，２Ｈ），７．７２（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．４７−７．４１（ｍ，３Ｈ），７．２１−７．１９（ｍ，１Ｈ），７．１３−７．０９（ｍ，１Ｈ），６．８９（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），６．８１−６．７８（ｍ，１Ｈ），５．１０（ｓ，１Ｈ），３．９５（ｓ，３Ｈ），０．４７（ｓ，３Ｈ），０．４６（ｓ，３Ｈ）．
ここで合成した［（１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メチル］ジメチルクロロシランは、精製せずに、Ｏ−［（１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルの合成に用いた。
＜合成例２５＞
○Ｏ−［（１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルの合成
（Ｓ）−マンデル酸メチル（［α］Ｄ２６＋１４４．３°（ｃ＝１．５，ＣＨ３ＯＨ），１９．０ｇ，１１４ｍｍｏｌ）とイミダゾール（１１．７ｇ，１７２ｍｍｏｌ）とを含むＤＭＦ（７０ｍｌ）溶液と、合成例２４で合成した［（１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メチル］ジメチルクロロシランのＤＭＦ溶液（１４０ｍｌ）とを反応させ、Ｏ−［（１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチル（ジアステレオマー混合物，粗精製品５６．２ｇ）を得た。この合成は、下記反応式を参照。
このうち１１．２ｇをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチルエステル＝９０／１０（ｖ／ｖ））に供し、高純度品８．４ｇ（回収率７５％，ＨＰＬＣによるジアステレオマー過剰率５．３％ｄｅ）を得た。また、下記に１Ｎ−ＮＭＲのシグナルを示す。
2003074535.tif 000040
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１７−８．１５（ｍ，１Ｈ），７．９７−７．９１（ｍ，１Ｈ），７．７９−７，７６（ｍ，１Ｈ），７．６９−７．６６（ｍ，１Ｈ），７．４３−７．１５（ｍ，９Ｈ），７．１０−７．０３（ｍ，１Ｈ），６．８６−６．６６（ｍ，２Ｈ），５．０２（ｓ，０．５Ｈ），４．９８（ｓ，０．５Ｈ），４．８９（ｓ，１Ｈ），３．８８（ｓ，１．５Ｈ），３．８７（ｍ，１．５Ｈ），３．６０（ｓ，１．５Ｈ），３．５８（ｓ，１．５Ｈ），０．１９（ｓ，１．５Ｈ），０．１３（ｓ，１．５Ｈ），０．１２（ｓ，３Ｈ）．
＜合成例２６＞
○Ｏ−［（１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルのＨＰＬＣによる光学分割
先の合成例で得られた（Ｒ）−［（１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルおよび（Ｓ）−［（１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルのジアステレオマー混合物（より強く吸着するジアステレオマーの過剰率  ５．３％ｄｅ）４５．７ｍｇをシリカゲルカラム（野村化学社製ＤＥＶＥＬＯＳＩＬ、粒子径５μｍ、内径０．４６ｃｍ、長さ２５ｃｍ）により下記の条件で、より弱く吸着するジアステレオマー１８．３ｍｇ（ジアステレオマー過剰率９９．８％ｄｅ、回収率８５％）、より強く吸着するジアステレオマー２１．０ｍｇ（ジアステレオマー過剰率９５．２％ｄｅ、回収率８７％）を得た。
移動相：ｎ−ヘキサン／酢酸エチルエステル＝９７／３（体積比），流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ，検出：ＵＶ２５４ｎｍ，温度：３０℃，サンプル注入量：５０．８ｍｇ／ｍｌ×１５０μｌ．
より弱く吸着するジアステレオマーの１Ｎ−ＮＭＲのシグナルを下記に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１６（ｍ，１Ｈ），７．９７（ｄｄ，Ｊ＝７．１／１．０Ｈｚ，１Ｈ），７．７８（ｍ，１Ｈ），７．６８（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．４４−７．２４（ｍ，８Ｈ），７．１６（ｄｄ，Ｊ＝７．６／１．７Ｈｚ，１Ｈ），７．０５（ｍ，１Ｈ），６．８２（ｄｄ，Ｊ＝７．４／１．０Ｈｚ，１Ｈ），６．６８（ｔｄ，Ｊ＝７．４／１．０Ｈｚ，１Ｈ），５．０２（ｓ，１Ｈ），４．８８（ｓ，１Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），３．６０（ｓ，３Ｈ），０．１９（ｓ，３Ｈ），０．１３（ｓ，３Ｈ）．
より強く吸着するジアステレオマーの１Ｎ−ＮＭＲのシグナルを下記に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１６（ｍ，１Ｈ），７．９２（ｄｄ，Ｊ＝７．２／１．１Ｈｚ，１Ｈ），７．７８（ｍ，１Ｈ），７．６７（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．４３−７．２４（ｍ，９Ｈ），７．８０（ｍ，１Ｈ），６．８５（ｄｄ，Ｊ＝８．２／１．１Ｈｚ，１Ｈ），６．７６（ｔｄ，Ｊ＝７．６／１．２Ｈｚ，１Ｈ），４．９７（ｓ，１Ｈ），４．８８（ｓ，１Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），３．５８（ｓ，３Ｈ），０．１４（ｓ，３Ｈ），０．１２（ｓ，３Ｈ）．
＜合成例２７＞
○（２−メトキシ−１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メタノール（下記式（１６））の合成
２−ブロモアニソール（７．５ｍｌ，６０ｍｍｏｌ）、マグネシウム（１．５３ｇ，６３ｍｍｏｌ）およびＴＨＦ（１５ｍｌ）より調製したマグネシウムブロミド溶液を２−メトキシ−１−ナフトアルデヒド（９．３１ｇ，５０ｍｍｏｌ）を含むＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液中に２０分間かけて滴下し、室温で２時間攪拌した。この反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止しさせた。これに、飽和食塩水を加え、酢酸エチルエステル（２００ｍｌ）で抽出した。この有機層は飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、ろ過し、ろ液中の溶媒を減圧留去し、（２−メトキシ−１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メタノール（式（１６）、粗精製品，１４．６８ｇ）を定量的に得た。下記にこの１Ｎ−ＮＭＲのシグナルを示す。
2003074535.tif 000041
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１７（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．８４（ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ，１Ｈ），７．７８（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４５−７．２２（ｍ，３Ｈ），７．０６（ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１Ｈ），６．９７−６．７７（ｍ，３Ｈ），４．４５，（ｄ，Ｊ＝１３．０Ｈｚ，１Ｈ），３．９４（ｓ，３Ｈ），３．９０（ｓ，３Ｈ）．
＜合成例２８＞
○（２−メトキシ−１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メタン（下記式（１７））の合成
ヨウ化ナトリウム４．７２１ｇ（３１．５ｍｍｏｌ）を含むクロロホルム（１０ｍｌ）懸濁液にトリメチルクロロシラン（４．０ｍｌ，３１．５ｍｍｏｌ）を添加し、室温で１５分間攪拌した後、氷浴で冷却した。ここに合成例２７で合成した（２−メトキシ−１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メタノール（２．９４３５ｇ，１０ｍｍｏｌ）のクロロホルム（１２ｍｌ）溶液を１時間かけて滴下した。滴下終了後、反応液は室温に昇温して１終夜攪拌した。この反応液中に水酸化ナトリウム（１４００ｍｇ、３５ｍｍｏｌ）水溶液（１０ｍｌ）を滴下し反応を停止しさせ、酢酸エチルエステルで抽出をした。この有機層はチオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、ろ過し、ろ液中から溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチルエステル＝９０／１０（ｖ／ｖ））で精製し、（２−メトキシ−１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メタン（式（１７），２．０ｇ，収率７２％）を得た。下記にこの１Ｎ−ＮＭＲのシグナルを示す。
2003074535.tif 000042
１Ｈ−ＮＭＲ：δ７．８３−７．７６（ｍ，３Ｈ），７．３８−７．２７（ｍ，３Ｈ），７．１２（ｍ，１Ｈ），６．９０（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），６．６６（ｍ，１Ｈ），６．５６（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），４．３１，（ｓ，２Ｈ），３．９７（ｓ，３Ｈ），３．９２（ｓ，３Ｈ）．
＜合成例２９＞
○［（２−メトキシ−１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メチル］ジメチルクロロシラン（下記式（１８））の合成
（２−メトキシ−１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メタン（２７８．４ｍｇ，１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２ｍｌ）溶液を氷浴で冷却した。この溶液に１．５８Ｍ  ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（６４０μｌ，１．０ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後そのままの温度で１時間攪拌しリチウム塩を調製した。別にジメチルジクロロシラン（８００μｌ，６．６ｍｍｏｌ）をｎ−ヘキサン（２ｍｌ）に溶解し氷浴で冷却した。この溶液に先のリチウム塩溶液を加え、室温に昇温して１終夜攪拌した。生成した反応液中の塩化リチウムをろ過し、ろ液中の溶媒を減圧留去し、［（２−メトキシ−１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メチル］ジメチルクロロシラン（式（１８））を得た。下記にこの１Ｎ−ＮＭＲのシグナルを示す。
2003074535.tif 000043
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１６（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．８４−７．７３（ｍ，２Ｈ），７．４５−７．２７（ｍ，４Ｈ），７．０４−６．６５（ｍ，３Ｈ），５．０５（ｓ，１Ｈ），３．９９（ｓ，３Ｈ），３．９６（ｓ，３Ｈ），０．４８（ｓ，３Ｈ），０．３８（ｓ，３Ｈ）．
この［（２−メトキシ−１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メチル］ジメチルクロロシランは精製せず、このまま次反応に用いた。
＜合成例３０＞
○Ｏ−［（２−メトキシ−１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチル（下記式（１９））の合成
（Ｓ）−マンデル酸メチル（［α］Ｄ２６＋１４４．３°（ｃ＝１．５，ＣＨ３ＯＨ），８３ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）とイミダゾール（５１ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）を含むＤＭＦ（２ｍｌ）溶液に、合成例２９で得た［（２−メトキシ−１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メチル］ジメチルクロロシランのＤＭＦ（２ｍｌ）溶液を添加し、室温で１終夜攪拌した。この反応液は氷浴で冷却した飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中に注ぎ入れ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチルエステル（１／１（ｖ／ｖ），１００ｍｌ）で抽出した。この有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、ろ過し、ろ液中の溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチルエステル＝９５／５（ｖ／ｖ））で精製してＯ−［（２−メトキシ−１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチル（式（１９），ジアステレオマー混合物，９１ｍｇ，（２−メトキシ−１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メタンに対する収率１２％）を得た。下記にこの１Ｎ−ＮＭＲのシグナルを示す。
2003074535.tif 000044
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．１２（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．７４−７．６８（ｍ，２Ｈ），７．４２−７．２０（ｍ，８Ｈ），７．０９−６．９６（ｍ，２Ｈ），６．８０（ｍ，１Ｈ），６．６８（ｍ，１Ｈ），５．１２（ｓ，０．５Ｈ），５．０５（ｓ，０．５Ｈ）４．８８（ｓ，１Ｈ），３．９３（ｓ，１．５Ｈ），３．９１（ｓ，１．５Ｈ），３．８１（ｓ，１．５Ｈ），３．７４（ｓ，１．５Ｈ），３．５７（ｓ，１．５Ｈ），３．５０（ｓ，１．５Ｈ），０．２１（ｓ，１．５Ｈ），０．１６（ｓ，１．５Ｈ），０．０９（ｓ，１．５Ｈ），０．０５（ｓ，１．５Ｈ）．
このジアステレオマー混合物であるＯ−［（２−メトキシ−１−ナフチル）（２−メトキシフェニル）メチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチル（式（１９））は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより光学分割することができる。
＜合成例３１＞
○［（２−メトキシ−１−ナフチル）−（１−ナフチル）メチル］ジメチルクロロシラン（下記式（２０））の合成
（２−メトキシ−１−ナフチル）−（１−ナフチル）メタン（８９５．１ｍｇ，３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（３ｍｌ）溶液を氷浴で冷却した。この溶液に１．５７Ｍ  ｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（２．０ｍｌ，３．１５ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後そのままの温度で１時間攪拌しリチウム塩を調製した。別にジメチルジクロロシラン（１．８ｍｌ，１５ｍｍｏｌ）をｎ−ヘキサン（５ｍｌ）に溶解し、氷浴で冷却した。この溶液に先のリチウム塩溶液を加え、室温に昇温して１時間攪拌した。生成した反応液中の塩化リチウムをろ過し、ろ液中の溶媒を減圧留去し、［（２−メトキシ−１−ナフチル）−（１−ナフチル）メチル］ジメチルクロロシラン（式（２０））を得た。下記にこの１Ｎ−ＮＭＲのシグナルを示す。
2003074535.tif 000045
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．８１（ｍ，１Ｈ），８．０６−７．２１（ｍ，１２Ｈ），５．３２，（ｓ，１Ｈ），４．０５（ｓ，３Ｈ），０．４８（ｓ，３Ｈ），０．４３（ｓ，３Ｈ）．
ここで得た［（２−メトキシ−１−ナフチル）−（１−ナフチル）メチル］ジメチルクロロシラン（式（２０））は精製せず、このまま次反応に用いた。
＜合成例３２＞
○Ｏ−［（２−メトキシ−１−ナフチル）−（１−ナフチル）メチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチル（下記式（２１））の合成
（Ｓ）−マンデル酸メチル（［α］Ｄ２６＋１４４．３°（ｃ＝１．５，ＣＨ３ＯＨ），４９９ｍｇ，３ｍｍｏｌ）とイミダゾール（３０６ｍｇ，４．５ｍｍｏｌ）を含むＤＭＦ（３ｍｌ）溶液に、（（２−メトキシ−１−ナフチル）−（１−ナフチル）メチル）ジメチルシリルクロリドのＤＭＦ（３ｍｌ）溶液を投入し、室温で１終夜攪拌した。この反応液を氷浴で冷却した飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中に注ぎ入れ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチルエステル（１／１（ｖ／ｖ），１００ｍｌ）で抽出した。この有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、ろ過し、ろ液中の溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン／酢酸エチルエステル＝９５／５〜９２／８（ｖ／ｖ））で精製し、［（２−メトキシ−１−ナフチル）−（１−ナフチル）メチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチル（式（２１））の２つのジアステレオマー（ＴＬＣのＲｆ値０．５１と０．４３のもの）を得た。
2003074535.tif 000046
・Ｒｆ＝０．５１（クロロホルム）
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．７８（ｍ，１Ｈ），７．９８−７．７３（ｍ，４Ｈ），７．５７（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１Ｈ），７．４４−７．１４（ｍ，１２Ｈ），５．２６（ｓ，１Ｈ），４．９６（ｓ，１Ｈ），４．０１（ｓ，３Ｈ），３．６２（ｓ，３Ｈ），０．２１（ｓ，３Ｈ），−０．０３（ｓ，３Ｈ）．
・Ｒｆ＝０．４３（クロロホルム）
１Ｈ−ＮＭＲ：δ８．７５（ｍ，１Ｈ），７．９８−７．７１（ｍ，４Ｈ），７．５８−７．１４（ｍ，１３Ｈ），５．２３（ｓ，１Ｈ），４．９０（ｓ，１Ｈ），３．９７（ｓ，３Ｈ），３．４７（ｓ，３Ｈ），０．０３（ｓ，３Ｈ），０．０２（ｓ，３Ｈ）．
このジアステレオマー混合物である［（２−メトキシ−１−ナフチル）−（１−ナフチル）メチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルは、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより光学分割することができる。
＜合成例３３＞
○（＋）−［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシラン（（＋）−ＮＯＭｅ−ＮＡＰ−Ｃｌ）の合成
Ｏ−［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルを光学分割して得た一方のジアステレオマー［１Ｈ−ＮＭＲ：δ７．９８（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．７９−７．７６（ｍ，２Ｈ），７．４４−７．００（ｍ，１３Ｈ），５．１６（ｓ，１Ｈ），４．４４（ｓ，１Ｈ），３．９２（ｓ，３Ｈ），３．６６０（ｓ，３Ｈ），０．０９５（ｓ，３Ｈ），０．０６（ｓ，３Ｈ）、ＨＰＬＣ分析によるジアステレオマー過剰率＞９８％ｄｅ］（１１５．２ｇ，２４５ｍｍｏｌ）に塩化アセチル（６０．９ｍｌ，８５７ｍｍｏｌ）と塩化水素の１．０Ｍジエチルエーテル溶液（１７．１ｍｌ，１７．１ｍｍｏｌ）を加え、氷浴中で良く混合した後、室温で２日間静置した。析出した結晶をアルゴン雰囲気下ろ取し、ジエチルエーテル、次いでヘキサンで順次洗浄した後、残留溶媒を減圧留去して、［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシランの一方のエナンチオマー（５９．９ｇ、収率７２％）を得た。この合成は、下記反応式を参照。下記にこの１Ｎ−ＮＭＲのシグナルと比旋光度を示す。
2003074535.tif 000047
１Ｈ−ＮＭＲ：δ７．９７（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．８４−７．７７（ｍ，２Ｈ），７．４４−７．０６（ｍ，８Ｈ），４．５０（ｓ，１Ｈ），３．９８（ｓ，３Ｈ），０．３９（ｓ，３Ｈ），０．３７（ｓ，３Ｈ）．
［α］Ｄ２８＋１４９．３°（ｃ１．０，ＣＨＣｌ３）．
＜合成例３４＞
○（−）−［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシランの合成
合成例３３と同様にして、Ｏ−［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリル−（Ｓ）−マンデル酸メチルのもう一方のジアステレオマー［１Ｈ−ＮＭＲ：δ７．９１（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．８０−７．７６（ｍ，２Ｈ），７．５０−７．０２（ｍ，１３Ｈ），５．１７（ｓ，１Ｈ），４．３７（ｓ，１Ｈ），３．９０（ｓ，３Ｈ），３．６６５（ｓ，３Ｈ），０．１２（ｓ，３Ｈ），−０．０３（ｓ，３Ｈ）、ＨＰＬＣ分析によるジアステレオマー過剰率＞９９％ｄｅ］（１０３．３ｇ，２１９ｍｍｏｌ）から、［（２−メトキシ−１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルクロロシランのもう一方のエナンチオマー（５１．２ｇ、収率６８％）を得た。この合成は、上記反応式を参照。下記にこの１Ｎ−ＮＭＲのシグナルと比旋光度を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ：δ７．９７（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．８４−７．７７（ｍ，２Ｈ），７．４４−７．０６（ｍ，８Ｈ），４．５０（ｓ，１Ｈ），３．９８（ｓ，３Ｈ），０．３９（ｓ，３Ｈ），０．３７（ｓ，３Ｈ）．
［α］Ｄ２８−１５１．６°（ｃ１．０，ＣＨＣｌ３）．
＜産業上の利用可能性＞
本発明の新規有機ケイ素化合物は、不斉炭素を有し、かつその立体配置が明らかであるという特徴を有する。このため有機合成、特に不斉合成に関わるの中間原料、不斉合成補助剤および光学分割剤として有用である。その他に無機化合物の表面処理剤、ポリマーの改質剤、あるいは高分子樹脂の構成成分として用いることも可能である。
【図面の簡単な説明】
第１図は、［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルアリルシランのキラルＨＰＬＣ分析チャートを示す。分析条件は、カラムとしてＣｈｉｒａｌｃｅｌ  ＡＤを、移動相としてＡ系を使用した。
第２図は、［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルビニルシランのキラルＨＰＬＣ分析チャートを示す。分析条件は、カラムとしてＣｈｉｒａｌｃｅｌ  ＡＤを、移動相としてＡ系を使用した。
第３図は、［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシランのキラルＨＰＬＣ分析チャートを示す。なお、上段はラセミ体の分析チャート、下段は光学分割したものの分析チャートである。分析条件は、カラムとしてＣｈｉｒａｌｃｅｌ  ＯＤを、移動相としてＢ系を使用した。
第４図は、［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルアジドのキラルＨＰＬＣ分析チャートを示す。なお、上段はラセミ体の分析チャート、下段は（Ｒ）−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルジエチルアミドの分析チャートである。分析条件は、カラムとしてＣｈｉｒａｌｃｅｌ  ＯＤを、移動相としてＣ系を使用した。
第５図は、［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルシアニドのキラルＨＰＬＣ分析チャートを示す。なお、上段はラセミ体の分析チャート、下段は（Ｒ）−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシリルシアニドの分析チャートである。分析条件は、カラムとしてＣｈｉｒａｌｃｅｌ  ＯＤを、移動相としてＣ系を使用した。
第６図は、１−シクロヘキセニルオキシ−［（１−ナフチル）フェニルメチル］ジメチルシランのキラルＨＰＬＣ分析チャートを示す。分析条件は、カラムとしてＣｈｉｒａｌｃｅｌ  ＡＤを、移動相としてＡ系を使用した。
これらの図の縦軸ＡＵは吸光度を、横軸は溶出時間を示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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