【事件の表示】
　特許第６３８１６１９号発明「研磨用組成物、及び研磨用組成物の製造方法」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第６３８１６１９号の請求項１ないし８、９ないし１０に係る特許を取り消す。
【理　由】
第１　手続の経緯
　特許第６３８１６１９号（以下「本件特許」という。）の請求項１〜１０に係る特許についての出願は、平成２４年８月２３日に特願２０１２−１８４５０７号として特許出願したものの一部を、平成２８年１２月１３日に特願２０１６−２４１５１５号として新たに特許出願したものであって、平成３０年８月１０日に特許権の設定登録がなされ、同年８月２９日に特許掲載公報が発行され、その特許に対し、平成３１年２月２８日に特許異議申立人である林ヶ谷健（以下「特許異議申立人」という。）により特許異議の申立てがなされたものである。
　特許異議の申立て後の手続の経緯は次のとおりである。
　平成３１年　４月２５日付け　取消理由通知
　令和　元年　７月１２日　　　意見書・訂正請求書（特許権者）
　　　　同年　７月１８日付け　訂正請求があった旨の通知
　　　　同年　８月２１日　　　意見書（特許異議申立人）
　　　　同年　９月１９日付け　取消理由通知（決定の予告）
　　　　同年１１月１５日　　　面接
　　　　同年１１月２５日　　　意見書・訂正請求書（特許権者）
　　　　同年１２月２０日　　　上申書（特許権者）
　　　　同年１２月２５日付け　訂正請求があった旨の通知
　令和　２年　２月　５日　　　意見書（特許異議申立人）
　　　　同年　４月　２日付け　訂正拒絶理由通知
　　　　同年　５月　８日　　　意見書（特許権者）
　
第２　訂正の適否
１．訂正請求の趣旨及び内容
　令和元年７月１２日付けの訂正請求による訂正は、特許法第１２０条の５第７項の規定により取り下げられたものとみなされるところ、
　令和元年１１月２５日付けの訂正請求による訂正（以下「本件訂正」という。）の「請求の趣旨」は『特許第６３８１６１９号の明細書、特許請求の範囲を、本訂正請求書に添付した訂正明細書、特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項１〜１０について訂正することを求める。』というものであり、その内容は、以下の訂正事項１〜１５からなるものである（なお、訂正箇所に下線を付す。）。
　
（１）訂正事項１
　本件訂正前の請求項１の「二酸化ケイ素と水溶性高分子と水とを含有する研磨用組成物であって、
　前記二酸化ケイ素の含有量は０．５質量％以下であり、
　前記二酸化ケイ素には前記水溶性高分子を含む吸着物が吸着され、
　研磨用組成物における前記吸着物の炭素換算濃度が４質量ｐｐｍ以上であり、且つ研磨用組成物の全炭素濃度に対する前記吸着物の炭素換算濃度の百分率が３７．２％以上かつ７１．３％以下であり、
　シリコン基板に適用されることを特徴とする研磨用組成物。」との記載を、
　本件訂正後の請求項１の「
コロイダルシリカ
　前記
コロイダルシリカ
　
研磨用組成物の全炭素濃度に対する前記水溶性高分子の炭素換算濃度の百分率が８５％以上であり、
　前記
コロイダルシリカ
　研磨用組成物における前記吸着物の炭素換算濃度が
５．５
　シリコン基板に適用されることを特徴とする研磨用組成物。」との記載に訂正する。
　
（２）訂正事項２
　本件訂正前の請求項５の「請求項１〜４のいずれか一項に記載の研磨用組成物の製造方法であって、
　二酸化ケイ素と水溶性高分子と水とを含有する研磨用組成物原液を調製する原液調製工程と、前記研磨用組成物原液を水又は塩基性水溶液により希釈して、二酸化ケイ素に水溶性高分子を含む吸着物を吸着させる希釈工程とを有し、
　前記希釈工程により得られた研磨用組成物における前記吸着物の炭素換算濃度を４質量ｐｐｍ以上とするとともに、研磨用組成物の全炭素濃度に対する前記吸着物の炭素換算濃度の百分率を３７．２％以上かつ７１．３％以下とすることを特徴とする研磨用組成物の製造方法。」との記載を、
　本件訂正後の請求項５の「請求項１〜４のいずれか一項に記載の研磨用組成物の製造方法であって、
　
コロイダルシリカ
コロイダルシリカ
　前記希釈工程により得られた研磨用組成物における前記吸着物の炭素換算濃度を
５．５
　
（３）訂正事項３
　本件訂正前の請求項６の「前記原液調製工程は、二酸化ケイ素と塩基性化合物との混合物に、更に水溶性高分子を混合し、得られた混合物をろ過する工程を有することを特徴とする請求項５に記載の研磨用組成物の製造方法。」との記載を、
　本件訂正後の請求項６の「前記原液調製工程は、
コロイダルシリカ
　
（４）訂正事項４
　本件訂正前の請求項７の「前記研磨用組成物原液における前記二酸化ケイ素の含有量を１質量％以上２０質量％以下とするとともに、前記塩基性化合物の含有量を０．０１質量％以上１質量％以下とすることを特徴とする請求項６に記載の研磨用組成物の製造方法。」との記載を、
　本件訂正後の請求項７の「前記研磨用組成物原液における前記
コロイダルシリカ
　
（５）訂正事項５
　本件訂正前の請求項８の「前記研磨用組成物原液における前記二酸化ケイ素の単位表面積あたりの塩基性化合物のモル数を８．５×１０−６ｍｏｌ／ｍ２以上とすることを特徴とする請求項６又は請求項７に記載の研磨用組成物の製造方法。」との記載を、
　本件訂正後の請求項８の「前記研磨用組成物原液における前記
コロイダルシリカ
　
（６）訂正事項６
　願書に添付した明細書の段落００７３の「実施例１〜１３及び比較例２〜８では」との記載部分を「実施例１〜１３及び比較例２〜８
（比較例３を除く、以下同じ）
　
（７）訂正事項７
　願書に添付した明細書の段落００７５の「実施例１〜１７及び比較例１〜８の」との記載部分を「実施例１〜１７及び比較例１〜８
（比較例３を除く、以下同じ）
　
（８）訂正事項８
　願書に添付した明細書の段落００８３の表２の「比較例３」の行を削除して訂正する。
　
（９）訂正事項９
　願書に添付した明細書の段落００８４の表３の「比較例３」の行を削除して訂正する。
　
（１０）訂正事項１０
　本件訂正前の請求項９の「二酸化ケイ素と水溶性高分子と水とを含有する研磨用組成物であって、
　前記二酸化ケイ素の含有量は、０．５質量％以下であり、
　前記水溶性高分子の含有量は、０．０３２質量％以下であり、
　前記二酸化ケイ素には前記水溶性高分子を含む吸着物が吸着され、
　研磨用組成物における前記吸着物の炭素換算濃度が４質量ｐｐｍ以上であり、且つ研磨用組成物の全炭素濃度に対する前記吸着物の炭素換算濃度の百分率が１５％以上であり、
　シリコン基板に適用されることを特徴とする研磨用組成物。」との記載を、
　本件訂正後の請求項９の「
コロイダルシリカ
　前記
コロイダルシリカ
　前記水溶性高分子の含有量は、０．０３２質量％以下であり、
　
研磨用組成物の全炭素濃度に対する前記水溶性高分子の炭素換算濃度の百分率が８５％以上であり、
　前記
コロイダルシリカ
　研磨用組成物における前記吸着物の炭素換算濃度が
５．５
９．３
かつ７１．３％以下
　シリコン基板に適用されることを特徴とする研磨用組成物。」との記載に訂正する。
　
（１１）訂正事項１１
　本件訂正前の請求項１０の「請求項９に記載の研磨用組成物の製造方法であって、
　二酸化ケイ素と水溶性高分子と水とを含有する研磨用組成物原液を調製する原液調製工程と、前記研磨用組成物原液を水又は塩基性水溶液により希釈して、二酸化ケイ素に水溶性高分子を含む吸着物を吸着させる希釈工程とを有し、
　前記希釈工程により得られた研磨用組成物における前記吸着物の炭素換算濃度を４質量ｐｐｍ以上とするとともに、研磨用組成物の全炭素濃度に対する前記吸着物の炭素換算濃度の百分率を１５％以上とすることを特徴とする研磨用組成物の製造方法。」との記載を、
　本件訂正後の請求項１０の「請求項９に記載の研磨用組成物の製造方法であって、
　
コロイダルシリカ
コロイダルシリカ
　前記希釈工程により得られた研磨用組成物における前記吸着物の炭素換算濃度を
５．５
９．３
かつ７１．３％以下
　
（１２）訂正事項１２（訂正事項６に重複）
　願書に添付した明細書の段落００７３の「実施例１〜１３及び比較例２〜８では」との記載部分を「実施例１〜１３及び比較例２〜８
（比較例３を除く、以下同じ）
　
（１３）訂正事項１３（訂正事項７に重複）
　願書に添付した明細書の段落００７５の「実施例１〜１７及び比較例１〜８の」との記載部分を「実施例１〜１７及び比較例１〜８
（比較例３を除く、以下同じ）
　
（１４）訂正事項１４（訂正事項８に重複）
　願書に添付した明細書の段落００８３の表２の「比較例３」の行を削除して訂正する。
　
（１５）訂正事項１５（訂正事項９に重複）
　願書に添付した明細書の段落００８４の表３の「比較例３」の行を削除して訂正する。
　
（１６）一群の請求項及び明細書の訂正と関係する請求項について
　訂正事項１〜５に係る訂正前の請求項１〜８について、その請求項２〜８は請求項１を直接又は間接的に引用するものであるから、訂正前の請求項１〜８に対応する訂正後の請求項１〜８は特許法第１２０条の５第４項に規定される一群の請求項である。
　また、訂正事項１０〜１１に係る訂正前の請求項９〜１０について、その請求項１０は請求項９を引用するものであるから、訂正前の請求項９〜１０に対応する訂正後の請求項９〜１０は特許法第１２０条の５第４項に規定される一群の請求項である。
　そして、訂正事項６〜９及び１２〜１５による明細書の訂正に係る請求項は、訂正前の請求項１〜８及び９〜１０であるから、特許法第１２０条の５第９項で準用する特許法第１２６条第４項に適合する。
　
２．訂正の適否
（１）訂正事項１について
　訂正事項１は、本件訂正前の請求項１の「二酸化ケイ素と水溶性高分子と水とを含有する研磨用組成物であって、前記二酸化ケイ素の含有量は０．５質量％以下であり」との記載部分を「
コロイダルシリカ
コロイダルシリカ
　そして、令和元年１１月２５日付けの訂正請求書の第１１頁において、特許権者は『訂正事項１の「コロイダルシリカ」は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。』と主張している。
　ここで、本件特許明細書の段落００１８の「使用される二酸化ケイ素としては、例えば、コロイダルシリカ、フュームドシリカ、ゾルゲル法シリカ等が挙げられる。…これらの二酸化ケイ素は…二種以上を組み合わせて用いてもよい。」との記載がなされているところ、本件訂正後の請求項１の「コロイダルシリカと水溶性高分子と水とを
含有する
　そうすると、例えば、コロイダルシリカ（Ａ）０．５質量％と、フュームドシリカ（Ｂ）０．６質量％と、ゾルゲル法シリカ（Ｃ）０．３質量％を含む研磨用組成物の態様（以下「態様Ａ」という。）は、その二酸化ケイ素の合計量がＡ＋Ｂ＋Ｃ＝１．４質量％になることから、本件訂正前の請求項１の「二酸化ケイ素の含有量は０．５質量％以下であり」との要件を満たさないものであったのに対して、本件訂正後の請求項１の「コロイダルシリカの含有量は０．５質量％以下であり」との要件を満たすものとなっている。
　してみると、本件訂正前の請求項１の「二酸化ケイ素と水溶性高分子と水とを含有する研磨用組成物であって、前記二酸化ケイ素の含有量は０．５質量％以下であり」との記載部分を「
コロイダルシリカ
コロイダルシリカ
　また、当該訂正が、同項第２号に掲げる「誤記又は誤訳の訂正」を目的とする訂正の場合に該当するとも、同３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものに該当するとも、同項第４号に掲げる「他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとすること」を目的とするものに該当するとも認められない。
　したがって、訂正事項１は、特許法第１２０条の５第２項に掲げる事項を目的とするものに該当しない。
　
　さらに、当該訂正は、本件訂正前の請求項１に含まれなかった「態様Ａ」などを、本件訂正後の請求項１の範囲に含ませるものであるから、当該訂正は実質上特許請求の範囲を拡張又は変更するものである。
　したがって、訂正事項１は、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないとはいえないから、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項の規定に適合するものではない。
　
　この点に関して、令和２年５月８日付けの意見書の第２頁において、特許権者は『審判便覧の３８−０３Ｐ訂正要件（…）に記載されるように、「上位概念から下位概念への変更」は、特許請求の範囲の減縮に該当する具体例として示されている（…）。また、訂正前の「二酸化ケイ素」を訂正後に「コロイダルシリカ」に訂正した意図は、「研磨用組成物内の二酸化ケイ素がコロイダルシリカからなる」ことを明確にしたものであり、本拒絶理由通知において指摘されているような発明を拡張する態様、つまりコロイダルシリカ以外の二酸化ケイ素を研磨用組成物内に含むことを許容する態様を本件特許請求の範囲内に含めることを意図したものではない。したがって、訂正事項１の１における「二酸化ケイ素」を「コロイダルシリカ」への訂正は、令和１年１１月２５日付け訂正請求書で述べた通り訂正要件を満たすものである。なお、訂正事項１の１は、上述した通り審判便覧の３８−０３Ｐ訂正要件の具体例に該当するものであるが、一方、訂正事項１の１が実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものであるとする上記判断又は解釈の具体的根拠（判例、審判便覧、審査基準等）は何ら示されておらず、理由にかけるものと思料する。』と主張している。
　しかしながら、訂正事項１は、単に本件訂正前の「二酸化ケイ素」を、本件訂正後の「コロイダルシリカ」に訂正することのみならず、上記のとおり「態様Ａ」を含むものとするなど、結果としてコロイダルシリカ以外の二酸化ケイ素（フュームドシリカ、ゾルゲル法シリカ等）の含有量を無制限に拡大させるものであるから、訂正事項１（訂正事項１の１）の訂正が「上位概念から下位概念への変更」に該当するとは認められない。
　また、訂正事項１による本件訂正後の請求項１の「…とを
含有する
　さらに、訂正事項１が「実質上特許請求の範囲を拡張又は変更するものである」とする具体的根拠は、上記「態様Ａ」を例に挙げて示したとおりである。
　したがって、上記意見書の主張は採用できない。
　
（２）訂正事項２について
　訂正事項２は、本件訂正前の請求項５の「二酸化ケイ素に水溶性高分子を含む吸着物を吸着させる希釈工程とを有し、前記希釈工程により得られた研磨用組成物における前記吸着物の炭素換算濃度を４質量ｐｐｍ以上とする」との記載部分を「
コロイダルシリカ
５．５
　そして、令和元年１１月２５日付けの訂正請求書の第１３頁において、特許権者は『訂正事項２の「コロイダルシリカ」は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。』と主張している。
　しかして、本件訂正後の請求項１〜４を引用する請求項５の「コロイダルシリカと水溶性高分子と水とを
含有する
　そのため、例えば、コロイダルシリカ（Ａ）０．５質量％に５．５質量％の吸着物が吸着し、フュームドシリカ（Ｂ）０．６質量％とゾルゲル法シリカ（Ｃ）０．３質量％の各々に０．１質量％の吸着物が吸着している態様（以下「態様Ｂ」という。）は、その二酸化ケイ素に対する吸着物の合計量が（０．５×５．５＋０．６×０．１＋０．３×０．１）÷（０．５＋０．６＋０．３）＝２．０質量％になることから、本件訂正前の請求項５の「二酸化ケイ素…４質量ｐｐｍ以上」という要件を満たさないのに対して、本件訂正後の請求項５の「コロイダルシリカ…５．５質量％以上」という要件を満たすものになっている。
　そうである以上、訂正事項２は、上記訂正事項１と同様の理由により、特許法第１２０条の５第２項に掲げる事項を目的とするものに該当しないし、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項の規定に適合するものでもないというほかない。
　
（３）訂正事項４、５について
　訂正事項４、５についても同様のことがいえる。
　すなわち、訂正事項４は、訂正前の請求項７の「前記二酸化ケイ素の含有量を１質量％以上２０質量％以下とする」との記載部分を「前記
コロイダルシリカ
　また、訂正事項５は、本件訂正前の請求項８の「前記二酸化ケイ素の単位表面積あたりの塩基性化合物のモル数を８．５×１０−６ｍｏｌ／ｍ２以上とする」との記載部分を「前記
コロイダルシリカ
　したがって、訂正事項４、５は、特許法第１２０条の５第２項に掲げる事項を目的とするものに該当しないし、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項の規定に適合するものでもない。
　　
（４）訂正事項１０、１１について
　訂正事項１０は、本件訂正前の請求項９の「二酸化ケイ素と水溶性高分子と水とを含有する研磨用組成物であって、前記二酸化ケイ素の含有量は０．５質量％以下であり」との記載部分を「
コロイダルシリカ
コロイダルシリカ
　そして、令和元年１１月２５日付けの訂正請求書の第３０頁において、特許権者は『訂正事項１の「コロイダルシリカ」は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。』と主張している。
　しかして、本件訂正後の請求項９の「コロイダルシリカと水溶性高分子と水とを
含有する
　そうすると、上記「態様Ａ」と同様のものは、その二酸化ケイ素の合計量がＡ＋Ｂ＋Ｃ＝１．４質量％になることから、本件訂正前の請求項９の「二酸化ケイ素の含有量は０．５質量％以下であり」との要件を満たさないものであったのに対して、本件訂正後の請求項９の「コロイダルシリカの含有量は０．５質量％以下であり」との要件を満たすものとなっている。
　してみると、本件訂正前の請求項９の「二酸化ケイ素と水溶性高分子と水とを含有する研磨用組成物であって、前記二酸化ケイ素の含有量は０．５質量％以下であり」との記載部分を「
コロイダルシリカ
コロイダルシリカ
　また、当該訂正が、同項第２号に掲げる「誤記又は誤訳の訂正」を目的とする訂正の場合に該当するとも、同３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものに該当するとも、同項第４号に掲げる「他の請求項の記載を引用する請求項の記載を当該他の請求項の記載を引用しないものとすること」を目的とするものに該当するとも認められない。
　したがって、訂正事項１０は、特許法第１２０条の５第２項に掲げる事項を目的とするものに該当しない。
　
　さらに、当該訂正は、本件訂正前の「二酸化ケイ素」を本件訂正後の「コロイダルシリカ」に改めることによって、本件訂正前の請求項９に含まれなかった「態様Ａ」と同様のものなどが本件訂正後の請求項９の範囲に含まれることになるから、当該訂正は実質上特許請求の範囲を拡張又は変更するものである。
　したがって、訂正事項１０は、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないとはいえないから、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項の規定に適合するものではない。
　訂正事項１１についてみても同様である。
　
３．まとめ
　以上総括するに、一群の請求項１〜８に関連する訂正事項１〜２及び４〜５、並びに一群の請求項９〜１０に関連する訂正事項１０〜１１は、特許法第１２０条の５第２項に掲げる事項を目的とするものに該当せず、また、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項の規定に適合するものではないから、その余の訂正事項について検討するまでもなく、請求項１〜８に係る一群の請求項に係る訂正及び請求項９〜１０に係る一群の請求項の訂正、すなわち本件訂正全体を認めることができない。
　
第３　本件発明
　本件訂正は上記のとおり認められないことから、本件特許の請求項１〜１０に係る発明（以下「本１発明」〜「本１０発明」ともいい、これらをまとめて「本件発明」ともいう。）は、設定登録時の特許請求の範囲の請求項１〜１０に記載された次の事項により特定されるとおりのものである。
「【請求項１】二酸化ケイ素と水溶性高分子と水とを含有する研磨用組成物であって、
　前記二酸化ケイ素の含有量は０．５質量％以下であり、
　前記二酸化ケイ素には前記水溶性高分子を含む吸着物が吸着され、
　研磨用組成物における前記吸着物の炭素換算濃度が４質量ｐｐｍ以上であり、且つ研磨用組成物の全炭素濃度に対する前記吸着物の炭素換算濃度の百分率が３７．２％以上かつ７１．３％以下であり、
　シリコン基板に適用されることを特徴とする研磨用組成物。
　【請求項２】前記水溶性高分子の重量平均分子量が３０００００以下であることを特徴とする請求項１に記載の研磨用組成物。
　【請求項３】前記水溶性高分子の重量平均分子量が２０００００以下であることを特徴とする請求項１に記載の研磨用組成物。
　【請求項４】前記水溶性高分子の重量平均分子量が１０００００以下であることを特徴とする請求項１に記載の研磨用組成物。
　【請求項５】請求項１〜４のいずれか一項に記載の研磨用組成物の製造方法であって、
　二酸化ケイ素と水溶性高分子と水とを含有する研磨用組成物原液を調製する原液調製工程と、前記研磨用組成物原液を水又は塩基性水溶液により希釈して、二酸化ケイ素に水溶性高分子を含む吸着物を吸着させる希釈工程とを有し、
　前記希釈工程により得られた研磨用組成物における前記吸着物の炭素換算濃度を４質量ｐｐｍ以上とするとともに、研磨用組成物の全炭素濃度に対する前記吸着物の炭素換算濃度の百分率を３７．２％以上かつ７１．３％以下とすることを特徴とする研磨用組成物の製造方法。
　【請求項６】前記原液調製工程は、二酸化ケイ素と塩基性化合物との混合物に、更に水溶性高分子を混合し、得られた混合物をろ過する工程を有することを特徴とする請求項５に記載の研磨用組成物の製造方法。
　【請求項７】前記研磨用組成物原液における前記二酸化ケイ素の含有量を１質量％以上２０質量％以下とするとともに、前記塩基性化合物の含有量を０．０１質量％以上１質量％以下とすることを特徴とする請求項６に記載の研磨用組成物の製造方法。
　【請求項８】前記研磨用組成物原液における前記二酸化ケイ素の単位表面積あたりの塩基性化合物のモル数を８．５×１０−６ｍｏｌ／ｍ２以上とすることを特徴とする請求項６又は請求項７に記載の研磨用組成物の製造方法。
　【請求項９】二酸化ケイ素と水溶性高分子と水とを含有する研磨用組成物であって、
　前記二酸化ケイ素の含有量は、０．５質量％以下であり、
　前記水溶性高分子の含有量は、０．０３２質量％以下であり、
　前記二酸化ケイ素には前記水溶性高分子を含む吸着物が吸着され、
　研磨用組成物における前記吸着物の炭素換算濃度が４質量ｐｐｍ以上であり、且つ研磨用組成物の全炭素濃度に対する前記吸着物の炭素換算濃度の百分率が１５％以上であり、
　シリコン基板に適用されることを特徴とする研磨用組成物。
【請求項１０】請求項９に記載の研磨用組成物の製造方法であって、
　二酸化ケイ素と水溶性高分子と水とを含有する研磨用組成物原液を調製する原液調製工程と、前記研磨用組成物原液を水又は塩基性水溶液により希釈して、二酸化ケイ素に水溶性高分子を含む吸着物を吸着させる希釈工程とを有し、
　前記希釈工程により得られた研磨用組成物における前記吸着物の炭素換算濃度を４質量ｐｐｍ以上とするとともに、研磨用組成物の全炭素濃度に対する前記吸着物の炭素換算濃度の百分率を１５％以上とすることを特徴とする研磨用組成物の製造方法。」
　
第４　取消理由の概要
　令和元年９月１９日付けの取消理由通知（決定の予告）で特許権者に通知した取消理由の概要は、次の理由２及び３を含むものである。　
　なお、当該理由２及び３は、平成３１年４月２５日付けの取消理由通知においても通知されている。
　
〔理由２〕本件特許の請求項１〜１０に係る発明は、発明の詳細な説明の記載が下記（あ）の点で不備のため、特許法第３６条第４項第１号に適合するものではない。
　よって、本件特許の請求項１〜１０に係る発明に係る特許は、同法第３６条第４項第１号の規定を満たさない特許出願に対してなされたものであり、同法第１１３条第４号の規定により取り消されるべきものである。
（あ）機能・特性等で特定された物の点
　
〔理由３〕本件特許の請求項１〜１０に係る発明は、特許請求の範囲の記載が下記（い）〜（お）の点で不備のため、特許法第３６条第６項第１号に適合するものではない。
　よって、本件特許の請求項１〜１０に係る発明に係る特許は、同法第３６条第６項の規定を満たさない特許出願に対してなされたものであり、同法第１１３条第４号の規定により取り消されるべきものである。
（い）実験結果による裏付けの点
（う）吸着物の炭素換算濃度及びその百分率の範囲の点
（え）二酸化ケイ素と水溶性高分子の範囲の点
（お）水溶性高分子を含む吸着物の点
　
第５　当審の判断
　当審は、上記の特許権者が提出した意見書の内容を参酌しても、上記取消理由の理由２及び理由３については、依然として妥当なものであると判断する。その理由は以下のとおりである。
　
１．理由２（実施可能要件）について
（１）実施可能要件の判断手法について
　本件発明は、本件特許の請求項１の「研磨用組成物の全炭素濃度に対する前記吸着物の炭素換算濃度の百分率が３７．２％以上かつ７１．３％以下であり」という発明特定事項、又は同請求項９の「研磨用組成物の全炭素濃度に対する前記吸着物の炭素換算濃度の百分率が１５％以上であり」という発明特定事項を有するものであり、これらは研磨用組成物の特性について特定したものであるから、本件発明は「研磨用組成物」という物の発明を特性により特定したものといえる。
　そして、一般に『物の有する機能・特性等からその物の構造等を予測することが困難な技術分野（例：化学物質）において、機能・特性等で特定された物のうち、発明の詳細な説明に具体的に製造方法が記載された物（及びその具体的な物から技術常識を考慮すると製造できる物）以外の物について、当業者が、技術常識を考慮してもどのように作るか理解できない場合（例えば、そのような物を作るために、当業者に期待しうる程度を越える試行錯誤や複雑高度な実験等を行う必要があるとき）は、実施可能要件違反となる。』とされている。
　そこで、本件特許の請求項１及び９に記載された「研磨用組成物の全炭素濃度に対する前記吸着物の炭素換算濃度の百分率」という「機能・特性等」で特定される「所望の数値範囲」を満たす「研磨用組成物」を作るために『当業者に期待しうる程度を越える試行錯誤や複雑高度な実験等を行う必要』があるか否かについて検討する。
　
（２）本件特許明細書の記載について
ア．「研磨用組成物の全炭素濃度に対する前記吸着物の炭素換算濃度の百分率（Ａ／Ｂ）」の調整方法や測定方法について
　本件訂正による訂正後の本件特許明細書の発明の詳細な説明には「研磨用組成物の全炭素濃度に対する前記吸着物の炭素換算濃度の百分率（Ａ／Ｂ）」（以下「相対百分率（Ａ／Ｂ）」ともいう。）に関して、次の記載がある。
　
摘示ａ：段落００３７
「【００３７】…上記吸着物の炭素換算濃度、及び研磨用組成物の全炭素濃度に対する吸着物の炭素換算濃度の百分率は、例えば、二酸化ケイ素と水溶性高分子の種類の組み合わせ、二酸化ケイ素の含有量に対する水溶性高分子の含有量の比率を変化させることによって調整することができる。」
　
摘示ｂ：段落００７５〜００７８
「【００７５】…実施例１〜１７及び比較例１〜８…
　【００７６】表２に各例の研磨用組成物原液及び研磨用組成物の詳細を示す。二酸化ケイ素としてはコロイダルシリカを用いた。水溶性高分子としては、ヒドロキシエチルセルロース（ＨＥＣ）、加水分解処理を施したヒドロキシエチルセルロース（加水分解ＨＥＣ）、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンのグラフトポリマー（ＰＶＡ−ｇ−ＰＶＰ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、カチオン化処理を施したポリビニルアルコール（カチオン化ＰＶＡ）を用いた。塩基性化合物としてはアンモニアを用いた。界面活性剤としては、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン共重合体（ＰＥＯ−ＰＰＯ−ＰＥＯ）、ポリオキシエチレンデシルエーテル（Ｃ−ＰＥＯ）を用いた。塩としては、クエン酸三アンモニウム、炭酸アンモニウムを用いた。なお、界面活性剤及び塩の含有量はそれぞれ０．０００５質量％である。また、表２中、二酸化ケイ素の粒径欄は、マイクロメリテックス社製の“Flow SorbII 2300”を用いて比表面積の値から算出した平均一次粒子径を示す。
　【００７７】次に、実施例１〜１７及び比較例１〜８の研磨用組成物について、二酸化ケイ素に吸着した吸着物の炭素換算濃度（Ａ）、及び研磨用組成物の全炭素濃度（Ｂ）を測定した。具体的には、各研磨用組成物のそれぞれに対して、二酸化ケイ素を含まない点のみが異なる測定用の含炭素組成物を調製した。その含炭素組成物について、島津製作所社製の“ＴＯＣ−５０００Ａ”を用いてＴＯＣ値を測定し、測定された含炭素組成物のＴＯＣ値を研磨用組成物の全炭素濃度（Ｂ）とした。
　【００７８】また、実施例１〜１７及び比較例１〜８の研磨用組成物に対して遠心分離処理（２００００ｒｐｍ、３０分）を行うことにより研磨用組成物を、二酸化ケイ素を含む沈降物と上澄液とに分離した後、上澄液のＴＯＣ値を測定した。そして、二酸化ケイ素に吸着した吸着物の炭素換算濃度（Ａ）を、含炭素組成物のＴＯＣ値と上澄液のＴＯＣ値との差として算出した。さらに、研磨用組成物の全炭素濃度（Ｂ）に相当する含炭素組成物の炭素濃度に対する吸着物の炭素換算濃度（Ａ）の百分率（Ａ／Ｂ）を算出した。それらの結果を表３に示す。」
　
摘示ｃ：段落００８３〜００８４
「【００８３】【表２】
　【００８４】【表３】
」
　
イ．実施例６〜８並びに比較例３〜４及び６の実験結果について
　実施例６〜８並びに比較例３〜４及び６は、いずれも二酸化ケイ素（コロイダルシリカ）の濃度が０．４６質量％であり、水溶性高分子が重量平均分子量が２５万のＨＥＣ（ヒドロキシエチルセルロース）であり、塩基性化合物（アンモニア）の濃度が０．０１２質量％であって、その水溶性高分子であるＨＥＣの濃度のみが異なる具体例であって、次の表のとおりに整理される。
──────────────────────────────────
　　　　　　　　　　　吸着物の炭素　　全炭素濃度　　
　　　　　ＨＥＣ濃度　換算濃度（Ａ）　　（Ｂ）　　　Ａ／Ｂ　撥水距離
　　　　　〔質量％〕　〔質量ｐｐｍ〕 〔質量ｐｐｍ〕　〔％〕〔ｍｍ〕
比較例３　 （注１） 　　　０．７　　　　　２．４　　２９．７　８５　
比較例４　０．００１　　　３．０　　　　　４．９　　６１．８　８５　
実施例６　０．００５　　１７．４　　　　２４．３　　７１．３　４０　
実施例７　０．０１８　　４５．９　　　　８７．７　　５２．３　　５　
実施例８　０．０３２　　５７．０　　　１５３．４　　３７．２　１５　
比較例６　０．１００　　５７．０　　　４８７．０　　１１．７　８５　
──────────────────────────────────
　ここで、上記（注１）について、令和元年７月１２日付けの意見書の第４頁では、実験成績証明書（乙第１号証）により、比較例３のＨＥＣ濃度の値が、正しくは「０．０００５」（質量％）であることが釈明されている。
　そして、これらの具体例から、ＨＥＣ濃度を、０．０００５質量％、０．００１質量％、０．００５質量％、０．０１８質量％、０．０３２質量％、０．１００質量％の順に増加するよう変化させた場合に、その相対百分率（Ａ／Ｂ）の値は、２９．７％、６１．８％、７１．３％、５２．３％、３７．２％、１１．７％の順に、増加したり、減少したりしながら、変化することが見てとれる。
　
ウ．実施例５、７及び９〜１０並びに比較例８の実験結果について
　実施例５、７及び９は、水溶性高分子としてのＨＥＣ（ヒドロキシエチルセルロース）の重量平均分子量（Ｍｗ）が、実施例５が１２万であり、実施例７が２５万であり、実施例９が５０万である以外は同じ条件の具体例であり、実施例１０は、実施例５、７及び９の半分の量のＨＥＣを用いた具体例であり、比較例８は重量平均分子量が７万５千のＰＶＡ（ポリビニルアルコール）を少なめの量の０．００８質量％で用いた具体例であって、次の表のとおりに整理される。
──────────────────────────────────
　　　　　水溶性　　　吸着物の炭素　　全炭素濃度　　　　　　　重量
　　　　　高分子濃度　換算濃度（Ａ）　　（Ｂ）　　　Ａ／Ｂ　　平均
　　　　　〔質量％〕　〔質量ｐｐｍ〕　〔質量ｐｐｍ〕　〔％〕　分子量
実施例５　０．０１８　　１４．０　　　　７２．５　　１９．３　１２万
実施例７　０．０１８　　４５．９　　　　８７．７　　５２．３　２５万
実施例９　０．０１８　　４５．０　　　　７４．５　　６０．４　５０万
実施例10　０．００９　　４９．３　　　　８７．７　　５６．２　２５万
比較例８　０．００８　　　０．０　　　７８５．９　　　０．０　7.5万
──────────────────────────────────
　そして、これらの具体例から、その相対百分率（Ａ／Ｂ）の値は、ＨＥＣの重量平均分子量が１２万から２５万に倍増した場合に約２．７１倍の増加を示すのに対して、２５万から５０万に倍増した場合に約１．１５倍の微増を示すにとどまり、ＨＥＣの量を実施例５、７及び９のものよりも半減させた実施例１０の場合に、全炭素濃度（Ｂ）が同等かそれ以上の値に増大し、水溶性高分子の種類を「ＨＥＣ」と異なる「ＰＶＡ」に変更すると、吸着物の炭素換算濃度（Ａ）が「ゼロ」になり、水溶性高分子濃度が低くても全炭素濃度（Ｂ）が「７８５．９ｐｐｍ」になり、その相対百分率（Ａ／Ｂ）の値が「０．０％」になることが見てとれる。
　
エ．実施例７、１０及び１４〜１５の実験結果について
　実施例１４及び１５は、界面活性剤として、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン共重合体（ＰＥＯ−ＰＰＯ−ＰＥＯ）又はポリオキシエチレンデシルエーテル（Ｃ−ＰＥＯ）を０．０００５質量％の量で、実施例７の組成〔二酸化ケイ素０．１４質量％、水溶性高分子（ＨＥＣ）０．０１８質量％、塩基性化合物（アンモニア）０．０１２質量％、及びイオン交換水〕に更に添加した具体例であり、実施例１０は、実施例７の半分の量の水溶性高分子（ＨＥＣ）０．００９質量％を用いたものであって、次の表のとおりに整理される。
──────────────────────────────────
　　　　　　Mw=250000 吸着物の炭素 全炭素濃度　　
　　　　　　ＨＥＣ濃度 換算濃度（Ａ） （Ｂ）　 Ａ／Ｂ　　　添加剤　
　　　　　　〔質量％〕 〔質量ppm〕 〔質量ppm〕 〔％〕
実施例７　　０．０１８　４５．９　　８７．７　５２．３　
実施例１０　０．００９　４９．３　　８７．７　５６．２　
実施例１４　０．０１８　４７．３　　８７．７　５４．０　PEO-PPO-PEO 
実施例１５　０．０１８　５２．６　　８７．７　６０．０　　 C-PEO　　
──────────────────────────────────
　そして、これらの具体例から、炭素源となる炭素原子を有する添加剤を追加して配合した場合、及び水溶性高分子（ＨＥＣ）の使用する量を半分にした場合に、その全炭素濃度（Ｂ）の値は全く変化せず、その相対百分率（Ａ／Ｂ）の値は変化することが見てとれる。
　
（３）判断
ア．相対百分率（Ａ／Ｂ）の調整方法
　上記（２）ア．の摘示ａのとおり、本件特許明細書の段落００３７には、相対百分率（Ａ／Ｂ）を調整する方法として、
（α）二酸化ケイ素と水溶性高分子の種類の組み合わせを変化させることによって調整する方法、
（β）二酸化ケイ素の含有量に対する水溶性高分子の含有量の比率を変化させることによって調整する方法、という二つの方法が例示されている。
　しかしながら、本件特許明細書をみても、当該（α）について、二酸化ケイ素の種類や、水溶性高分子の種類（化学構造や分子量）によって、相対百分率（Ａ／Ｂ）の値がどのような傾向で変化するかなどの具体的な指針は明示されておらず、当該（β）についても、各成分の含有量をどの程度の範囲で変化させれば、相対百分率（Ａ／Ｂ）の値が所望の範囲に収まるようになるかなどの具体的な指針は明示されていない。
　そこで、本件特許明細書の実験結果に基づき『当業者に期待しうる程度を越える試行錯誤や複雑高度な実験等を行う必要』なく、相対百分率（Ａ／Ｂ）の値を調整できるか否かについて、以下に検討する。
　
イ．上記（α）の方法について
　上述のとおり、二酸化ケイ素の種類や、水溶性高分子の種類（化学構造や分子量）によって、相対百分率（Ａ／Ｂ）の値がどのような傾向で変化するかなどの具体的な指針は、本件特許明細書の発明の詳細な説明に明示されておらず、当該「相対百分率（Ａ／Ｂ）」という「機能・特性等」で特定される「所望の数値範囲」を満たす「研磨用組成物」を作ることができる「二酸化ケイ素と水溶性高分子の種類の組み合わせ」の種類ないし範囲が、本件特許の出願時に技術常識として知られていたといえる根拠も見当たらない。
　そして、例えば、甲第１号証（特開２０００−３１３８１５号公報）の段落００３１〜００３２及び００３７には、研磨液組成物全体に対し、砥粒（ヒュームドシリカ）が１５重量％、水溶性高分子化合物が０．０５％、アンモニア水でｐＨが１１、残分が水になるように仕込んだ研磨液組成物における吸着率の値が、水溶性高分子が「ポリ（１００）エチレングリコール」の場合に「９５重量％」になることが示されているのに対して、特許権者の令和元年７月１２日付けの意見書の第１５頁で言及されている平成３０年５月３０日付けの意見書に添付された参考資料１に記載の追加比較例１では、二酸化ケイ素として「コロイダルシリカ」を用い、水溶性高分子として甲第１号証の表１にある「ポリ（１００）エチレングリコール」を用いた場合の相対百分率（Ａ／Ｂ）が「３．０％」にしかならないことが示されている。
　してみると、上記（α）の調整方法について、二酸化ケイ素の種類が異なるなどの各種の条件の違いにより、その相対百分率（Ａ／Ｂ）の値が予想外に変動することが示されているので、上記（α）の調整する方法は、その組み合わせごとに、各種の条件などを試行錯誤しなければ、当業者といえども調整できないといわざるを得ない。
　さらに、二酸化ケイ素の種類が「ヒュームドシリカ」であるか「コロイダルシリカ」であるかによって、その相対百分率（Ａ／Ｂ）の値が大きく変動することが示されているので、本件特許明細書の段落００１８の「使用される二酸化ケイ素としては、例えば、コロイダルシリカ、フュームドシリカ、ゾルゲル法シリカ等が挙げられる。」との記載にある各種の二酸化ケイ素の全般にわたり、実際に試験をしなければ、その相対百分率（Ａ／Ｂ）を所望の値に調整ないし制御できるとはいえない。
　また、水溶性高分子の種類が「ポリ（１００）エチレングリコール」である場合に、これと組み合わせて用いられる二酸化ケイ素の種類によって、その相対百分率（Ａ／Ｂ）の値が大きく変動することが示されているので、本件特許明細書の段落００２２の「水溶性高分子としては、例えば、セルロース誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピロリドンを含む共重合体が挙げられる。」との記載に例示されてない上記「ポリ（１００）エチレングリコール」などを含む広範な種類の水溶性高分子の全般にわたり、実際に試験をしなければ、その相対百分率（Ａ／Ｂ）を所望の値に調整ないし制御できるとはいえない。
　そして、二酸化ケイ素の種類は「ヒュームドシリカ」や「コロイダルシリカ」などの多種にわたり、水溶性高分子の種類も「ポリ（１００）エチレングリコール」や「ヒドロキシエチルセルロース」など非常に多種にわたるので、両者の組み合わせの数は膨大になるところ、これらの組み合わせの相対百分率（Ａ／Ｂ）がどのような値になるかは、当業者といえども
個々の組み合わせごとに非常に多くの試験を実際にしてみなければ予測できない
　したがって、上記（α）の調整方法において、二酸化ケイ素の全般、及び水溶性高分子の全般にわたり、本件特許の請求項１の「３７．２％以上かつ７１．３％以下」及び同請求項９の「１５％以上」の「所望の数値範囲」に調整するためには、過度の試行錯誤を要するものというべきである。
　
ウ．上記（β）の方法について
　本件特許明細書の段落００７７（摘示ｂ）の「その含炭素組成物について、島津製作所社製の“ＴＯＣ−５０００Ａ”を用いてＴＯＣ値を測定し、測定された含炭素組成物のＴＯＣ値を研磨用組成物の全炭素濃度（Ｂ）とした。」との記載（及び技術常識）からみて、本件特許の請求項１及び９の「研磨用組成物の全炭素濃度」の値は、試料を完全燃焼した時に発生するＣＯ２の量を測定して決定されるものと認められ、炭素源となる炭素原子を有する含炭素化合物（水溶性高分子など）の量ないし濃度（含有量）に比例して「全炭素濃度」の値が増えるものと理論的には理解される。
　これに対して、上記（２）ウ．の実験結果では、水溶性高分子（ＨＥＣ）の濃度（含有量）を実施例５、７及び９よりも半減させた実施例１０の場合に、その「全炭素濃度（Ｂ）」の値が、同等又はそれ以上の値に増大している。
　また、上記（２）エ．の実験結果では、炭素源となる炭素原子を有する添加剤を追加して配合した場合（実施例１４及び１５）や水溶性高分子の濃度を増やした場合（実施例１０に対する実施例７の場合）に、理論的には増加することが期待される「全炭素濃度（Ｂ）」の値が、全て「８７．７質量ｐｐｍ」で、実際に測定してみると全く変化しなかったことが示されている。
　してみると、本件特許明細書の具体例の記載内容は、炭素源となる炭素原子を有する添加剤や水溶性高分子の含有量を変動（減少又は増大）させた場合に、その変動に比例して「全炭素濃度（Ｂ）」の値が増減すると、理論的には予測されるべきなのに、このような挙動が示されていないという点において「正しい記載内容」になっているとは認められない。
　このため、本件特許明細書の発明の詳細な説明の記載によっては、当業者といえども「全炭素濃度（Ｂ）」という発明特定事項を備える本件特許の請求項１及び９並びにその従属項に係る発明の内容を正しく理解して、その実施をすることができると認めることはできない。
　また、本件特許明細書の具体例の記載が「正しい記載内容」になっているものと仮定しても、炭素源となる炭素原子を有する添加剤を追加して配合した場合に、理論的には増加することが期待される「全炭素濃度（Ｂ）」の値が、実際に試験してみると全く変化しなかったことが示されているので、このような予想外の挙動を示す「全炭素濃度（Ｂ）」及び当該（Ｂ）を分母とする「相対百分率（Ａ／Ｂ）」の値は、実際に試験をしなければ当業者といえども容易に予測することができないと結論づけざるを得ない。
　したがって、上記（β）の調整方法において、二酸化ケイ素の全般、及び水溶性高分子の全般にわたり、本件特許の請求項１の「３７．２％以上かつ７１．３％以下」及び同請求項９の「１５％以上」の「所望の数値範囲」に調整できるものを見出すためには、過度の試行錯誤を要するものというべきである。
　
エ．従属項の実施可能要件について
　本件特許の請求項２〜８に係る発明は請求項１の記載を直接又は間接的に引用するものであり、請求項１０に係る発明は請求項９の記載を直接的に引用するものであるところ、本件特許の請求項１又は９に記載された「研磨用組成物の全炭素濃度に対する前記吸着物の炭素換算濃度の百分率」に関する発明特定事項は、本件特許の請求項２〜８及び１０の記載において更に限定されるものではない。
　してみると、上記ア．〜ウ．に示した理由と同様な理由により、本件特許明細書の実験結果に基づき『当業者に期待しうる程度を越える試行錯誤や複雑高度な実験等を行う必要』なく、本２〜本８及び本１０発明の相対百分率（Ａ／Ｂ）の値を調整できるとはいえない。
　
オ．実施可能要件のまとめ
　以上総括するに、本件特許明細書の発明の詳細な説明は、発明の詳細な説明に具体的に製造方法が記載された物（及びその具体的な物から技術常識を考慮すると製造できる物）以外の物について、当業者が本１〜本１０発明の実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載しているものではないから、特許法第３６条第４項第１号に適合するものではない。
　
（４）実施可能要件に関する特許権者の主張について
　特許権者は、令和元年１１月２５日付けの意見書の第２〜５頁の『５（３）（ｃ）』の項で「コロイダルシリカのシラノール基に吸着する水溶性高分子としては、本件明細書の段落００２２に記載されるようにヒドロキシエチルセルロース等のエーテル結合（−Ｏ−）を有する水溶性高分子、ポリビニルピロリドン等の含窒素水溶性高分子が例示される。…一方、ポリアクリル酸等のカルボキシル基のような解離する基を有する水溶性高分子は、コロイダルシリカのシラノール基と結合しない。また、ポリビニルアルコールのような水酸基を有し、エーテル結合を有していない水溶性高分子は、本件実施例に示されるような塩基性化合物が共存する環境下においてはコロイダルシリカのシラノール基と水素結合や静電結合は生じず、コロイダルシリカに吸着しない（本件比較例８参照）。…以上により、従来の技術常識に基づけば、コロイダルシリカの表面上に存在するシラノール基と水溶性高分子の表面基が結合するため、化学的な構造を見れば、その水溶性高分子が使用環境下において、コロイダルシリカに吸着するか否かを判断することができる。」と主張している。
　しかしながら、本件特許明細書の比較例７では、水溶性高分子として「カチオン化ＰＶＡ」を塩基性化合物の共存する環境下で用いて１２．７ｐｐｍの「吸着物の炭素換算濃度（Ａ）」を示すとされており、甲第１号証の段落００３１の表１の「
」との記載にある比較試料ｍでは、水溶性高分子として「ポリアクリル酸」を用いて、二酸化ケイ素（ヒュームドシリカ）に対して、１０重量％の吸着率で吸着すると示されているので、エーテル結合を有さない「カチオン化ＰＶＡ」や「ポリアクリル酸」などの水溶性高分子が、シラノール基を有する二酸化ケイ素（コロイダルシリカやヒュームドシリカなど）に対して、どのような条件下でも「全く吸着しない」と解することはできない。
　そして、本件特許の請求項１〜１０に係る発明の「水溶性高分子」の範囲は、上記「カチオン化ＰＶＡ」や「ポリアクリル酸」などの『コロイダルシリカのシラノール基と結合せず或いは結合し難い水溶性高分子』を含む概念となっているので、このような非常に広い概念を含む「水溶性高分子」の中から、コロイダルシリカやヒュームドシリカなどを含む各種の「二酸化ケイ素」に対して、本件特許の請求項１の「３７．２％以上かつ７１．３％以下」及び同請求項９の「１５％以上」という「所望の数値範囲」の相対百分率（Ａ／Ｂ）に調整できるものを見出すためには、過度の試行錯誤を要するものというべきである。
　このため、上記意見書の主張は採用できない。
　
２．理由３（サポート要件）について
（１）サポート要件の判断手法について
　一般に『特許請求の範囲の記載が，明細書のサポート要件に適合するか否かは，特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載とを対比し，特許請求の範囲に記載された発明が，発明の詳細な説明に記載された発明で，発明の詳細な説明の記載により当業者が当該発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるか否か，また，その記載や示唆がなくとも当業者が出願時の技術常識に照らし当該発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるか否かを検討して判断すべきものであり，明細書のサポート要件の存在は，特許出願人（…）が証明責任を負うと解するのが相当である。…当然のことながら，その数式の示す範囲が単なる憶測ではなく，実験結果に裏付けられたものであることを明らかにしなければならないという趣旨を含むものである。』とされている〔平成１７年（行ケ）１００４２号判決参照。〕。
　
（２）本件発明の解決しようとする課題について
　本件特許明細書の段落０００６の記載を含む発明の詳細な説明の全ての記載からみて、本件発明の解決しようとする課題は『基板に生じる微小な表面欠陥を抑制することが容易な研磨用組成物、及び研磨用組成物の製造方法の提供』にあるものと認められる。
　
（３）実験結果による裏付けの点
ア．具体例の試験結果及び表３の試験項目について
　本件特許明細書の段落００８３〜００８４（摘示ｃ）には、実施例１〜１７及び比較例１〜１０の具体例が記載され、その表３の実施例と比較例との対比結果では、その評価項目として「撥水距離」と「洗浄性」の２種類が示されている。
　しかしながら、上記１．（３）ウ．に示したように、本件特許明細書の具体例の記載内容は、例えば、実施例７、１０及び１４〜１５における「全炭素濃度（Ｂ）」の値が全て「８７．７質量ｐｐｍ」となっている等の点において「正しい記載内容」になっていると認められないので、このような試験結果によっては、本件発明が上記課題を解決できると認識できる範囲のものであると直ちに認めることができない。
　また、表３の評価項目は「基板に生じる微小な表面欠陥を抑制」するか否かを直接評価するものではないし、これらの評価項目の試験結果と「基板に生じる微小な表面欠陥を抑制」することとの関係も不明であるから、本件特許明細書の発明の詳細な説明の「試験結果」の記載により、本件発明が上記課題を解決できると認識できる範囲のものであると直ちに認めることができない。
　
イ．表３の「撥水距離」の試験結果について
　特許権者は、令和元年１１月２５日付けの意見書の第６〜７頁の『５（４−１）（ｂ）』の項で『本件明細書中において「その結果、基板表面に付与される親水性を効果的に高めることができる。その結果、基板に生じる微小な表面欠陥を抑制することが容易となる。」と記載する（段落００３３参照）。…例えば、甲第２号証（国際公開第２０１１／１４２３６２号）において「研磨終了後のウェーハ表面の親水性を高くすることにより、研磨後に行う洗浄工程までの間にシリコーンウェーハ用研磨組成物や研磨雰囲気中のダストがシリコンウェーハに付着することを防止し、パーティクル抑制効果を高める。」（段落００３３参照）と記載する。また、甲第４号証（特開２０１０−３４５０９号公報）は、「半導体基板表面の濡れ性が不足し、表面に付着する微小なパーティクルが増加する傾向にある。」（段落００１６参照）と記載する。つまり、基板表面の親水性とパーティクルの付着との関係は、従来より知られている。…例えば、直径２００ｍｍのウェーハを用いて研磨を行い、欠陥マップにより表面欠陥を目視化することができれば直接的ではある。しかしながら、コスト的、時間的に常に容易に行うことができる評価方法ではない。そのため、６０ｍｍ角の基板及び小型研磨機を用いて研磨試験を行い、表面の親水性の状態を撥水距離により置き換えて評価を行っている。参考までに、乙第５号証（参考資料１：撥水距離と表面欠陥との関係を示す資料）において、（Ａ）撥水距離が長くなる研磨用組成物（本件比較例相当）と（Ｂ）撥水距離が短い研磨用組成物（本件実施例相当）について、シリコーンウェーハに対して研磨処理を行い、表面欠陥を可視化した写真を示す。…そして、本件発明の発明者は、「撥水距離」が上限値４５ｍｍの範囲で表面欠陥が従来よりも抑制できる範囲と定め、かかる範囲が得られる研磨用組成物を実施例と定めている。』と主張する。
　しかしながら、以下に述べるとおり、本件特許明細書の試験例のように「表面の親水性の状態を撥水距離により置き換えて評価」することに合理性があるとはいえない。
　まず、本件特許明細書の段落０００３の「基板に生じる微小な表面欠陥の一つとして、基板表面に吸着した異物に起因する表面欠陥がある。上記異物は…洗浄工程において除去しきれなかったものである。」との記載からみて、同段落００８４の表３における「洗浄性」の評価は「基板に生じる微小な表面欠陥」についての指標を与えるものと解されるところ、表３の試験結果においては、撥水距離が１ｍｍの実施例９の洗浄性の評価がＣであり、撥水距離が５ｍｍの実施例１の洗浄性の評価がＡであり、撥水距離が１５ｍｍの実施例８の洗浄性の評価がＢである。そうすると、同段落００８０に説明される「撥水距離」の値が、微小パーティクル数（ＬＰＤ）などの「基板に生じる微小な表面欠陥」に直結した指標として正しく機能していると認めることはできない。
　さらに、乙第５号証（参考資料１）では「（Ａ）撥水距離が長いもの（本件比較例相当）」と「（Ｂ）撥水距離が短いもの（本件実施例相当）」の２つの「欠陥マップ」の写真が示されているが、これら２つの事例における「撥水距離」の具体的な値や測定方法は明らかにされておらず、その「研磨後のシリコンウェーハを第１の洗浄槽に４分、その後超純水によるリンス槽を経て、第２の洗浄槽に４分浸漬し、その後ＤＩＷに浸漬し、引き上げてスピンドライヤーで乾燥させた。」という「洗浄条件」は、本件特許明細書の段落００８０の「研磨後、シリコン基板の表面を流量７Ｌ／分の流水で１０秒間洗浄した。シリコン基板を垂直状態として静置し、３０秒後、シリコン基板のコーナ部からの撥水距離を測定した。その結果を表３に示す。」との記載にある「洗浄条件」と一致せず、その「撥水距離」の意味するところが同じであるとは解せない。このため、乙第５号証の「撥水距離と表面欠陥との関係を示す資料」によっては、表３の「撥水距離」の値が「基板に生じる微小な表面欠陥」に直結した指標として有効に機能するとは認められない。
　また、上記「本件発明の発明者は、「撥水距離」が上限値４５ｍｍの範囲で表面欠陥が従来よりも抑制できる範囲と定め、かかる範囲が得られる研磨用組成物を実施例と定めている。」との主張について、当該「上限値４５ｍｍ」を「表面欠陥が従来よりも抑制できる範囲」の境界値に設定することの技術的な根拠（具体的な実験データによる裏付けなど）は本件特許明細書の発明の詳細な説明に見当たらないので、当該「上限値４５ｍｍ」を境界として、上記『基板に生じる微小な表面欠陥を抑制することが容易な研磨用組成物、及び研磨用組成物の製造方法の提供』という課題が解決できる範囲になると直ちに認めることはできない。
　以上のことを総括するに、本件特許明細書の発明の詳細な説明の記載を精査しても、本件発明の「撥水距離」が短い範囲にあれば、表面欠陥の原因物質となる「水溶性高分子等の異物」を十分に除去できるという作用機序が「単なる憶測」ではなく「実験結果に裏付けられたものである」といえる具体的な根拠は見当たらず、そのような「実験結果」がなくとも、本件発明の課題を解決できると認識できる範囲にあるといえる「作用機序」についての説明の記載や、本件特許の出願時における「技術常識」の存在も見当たらないので、本件特許の請求項１及び９並びにその従属項の記載が明細書のサポート要件を満たしていると認めることはできない。
　
ウ．表３の「洗浄性」の試験結果について
　本件特許明細書の段落０００３には「
基板に生じる微小な表面欠陥
異物に起因する表面欠陥
水溶性高分子等の
異物が基板表面に吸着したもの
洗浄工程において除去しきれなかったもの
　また、同段落００８１の「
比較例１〜８
基板の表面に水溶性高分子が吸着していない
　この点について、特許権者は、令和２年５月８日付けの意見書の第１１〜１２頁の『５（３）（ｇ）』の項で「『「撥水距離が短」ければ「洗浄性が高められ」て「微小な表面欠陥の低減効果が期待」される』とは、本件特許明細書の段落００５５に基づいて主張している。段落００５５において「研磨後の基板表面の親水性を高めることができる。その結果、基板表面の洗浄性が高められて、基板表面に吸着した異物に起因するナノオーダーの微小な表面欠陥を低減させることが容易となる。」と記載する。また、表３の洗浄性は、水溶性高分子の洗浄性（除去容易性）を評価したと記載する（段落００８１）。表３の洗浄性は、段落００５５とは異なる段落００５６の水溶性高分子の除去容易性を示すことは明らかであり、整合性が不明であるとは認められない。」と主張する。
　しかしながら、本件特許明細書の段落００５５の「基板表面に吸着した異物」とは、同段落０００３の「基板表面に吸着した異物…は…水溶性高分子等の添加剤」との記載にあるように「水溶性高分子」等の異物を意味しており、同段落００５６の「基板表面に付着した水溶性高分子を除去する際の洗浄性（除去容易性）が高められる」との記載にある「除去」の対象は「基板表面に付着した水溶性高分子」であると解されるから、同段落００５５と同段落００５６の「水溶性高分子」という異物が異なるものとは解せず、上記主張は採用できない。
　そして、本件特許明細書の実施例９のものは、水溶性高分子の重量平均分子量が５０万であるという点において、本件特許の請求項２に記載された「水溶性高分子の重量平均分子量が３０００００以下である」という発明特定事項、同請求項３に記載された「水溶性高分子の重量平均分子量が２０００００以下である」という発明特定事項、及び同請求項４に記載された「水溶性高分子の重量平均分子量が１０００００以下である」という発明特定事項を満たすものではないところ、本件発明の「洗浄性」の評価が「Ｃ」の実施例９の場合を包含する、本件特許の請求項１及び５〜８並びに請求項９〜１０に記載された発明は、表面欠陥の原因物質となる「水溶性高分子等の異物」を十分に除去できると認識できる範囲にあるとは認められないので、本件特許の請求項１及び５〜１０の記載が明細書のサポート要件を満たしていると認めることはできない。
　
（４）吸着物の炭素換算濃度及びその百分率の範囲の点
　本件特許の請求項１及び９に記載された「研磨用組成物における前記吸着物の炭素換算濃度が４質量ｐｐｍ以上であり」という発明特定事項における「吸着物の炭素換算濃度」の「４質量ｐｐｍ以上」という広範な数値範囲、並びに本件特許の請求項１に記載された「研磨用組成物の全炭素濃度に対する前記吸着物の炭素換算濃度の百分率が３７．２％以上かつ７１．３％以下であり」という発明特定事項、及び同請求項９の「研磨用組成物の全炭素濃度に対する前記吸着物の炭素換算濃度の百分率が１５％以上であり」という発明特定事項における「吸着物の炭素換算濃度の百分率」の「３７．２％以上かつ７１．３％以下」又は「１５％以上」という広範な数値範囲について、例えば、本件特許明細書の段落００８４の「比較例４」の「吸着物の炭素換算濃度（Ａ）」の「３．０ｐｐｍ」を若干増やした「４．０ｐｐｍ」のものや、同段落００８４の「比較例７」の「Ａ／Ｂ」の「１４．３％」を若干増やした１５％（１４．５％）のものが、上記課題を解決できると認識できる範囲のものであるといえる「試験結果」や「作用機序」や「技術常識」などの根拠は見当たらないので、上記広範な数値範囲のもの全てが課題を解決できると認識できる範囲にあるとは認められない。
　したがって、本件特許の請求項１及び９並びにその従属項の記載が明細書のサポート要件を満たしていると認めることはできない。
　この点について、特許権者は、令和元年１１月２５日付けの意見書の第８頁の『５（４−２）（ｂ）』の項で「本件発明１，９（併せて本件発明５，１０）について「吸着物の炭素換算濃度（Ａ）」を実施例３に対応させ「５．５質量ｐｐｍ以上」に訂正した。…したがって、本指摘に関する取消理由は、解消したものと思料する。」と主張する。
　しかしながら、本件訂正は認められないから、上記主張は採用できない。
　
（５）二酸化ケイ素と水溶性高分子の範囲の点
ア．二酸化ケイ素の範囲について
　本件特許の請求項１及び９に記載された「二酸化ケイ素」という広範な発明特定事項について、本件特許明細書の段落００１８には「二酸化ケイ素として…コロイダルシリカを使用した場合には、研磨により基板表面に発生するスクラッチが減少する」との記載がなされているところ、研磨用組成物に用いられる「二酸化ケイ素」の有用性がその種類によらず同程度であるといえる技術常識の存在は見当たらないので、本件特許明細書の実施例１〜１７の具体例で用いられている「コロイダルシリカ」で課題を解決できることが裏付けられているとしても、当該「コロイダルシリカ」以外の「二酸化ケイ素」を用いた場合に、本件発明の所定の課題を解決できると直ちに認識することはできない。
　したがって、本件特許の請求項１及び９並びにその従属項の記載が明細書のサポート要件を満たしていると認めることはできない。
　この点について、特許権者は、令和元年１１月２５日付けの意見書の第１０頁の『５（４−３）（ｂ）』の項で「本件発明１〜１０について、同日付の訂正請求書において「二酸化ケイ素」の発明特定事項を「コロイダルシリカ」に特定する訂正を行った。したがって、二酸化ケイ素の構成に関する本取消理由は、解消したものと思料する。」と主張する。
　しかしながら、本件訂正は認められないから、上記主張は採用できない。
　
イ．水溶性高分子の範囲について
　本件特許の請求項１及び９に記載された「水溶性高分子」という広範な発明特定事項について、甲第４号証の段落０００９〜００１０及び００１５には、水溶性高分子の粘度や分子量の違いで「微小欠陥の発生原因」となる「異物」の除去性が異なり、洗浄性の観点からすると「ポリビニルアルコール」などよりも「ヒドロキシエチルセルロース」が好ましい旨が記載されており、甲第１号証の段落００３１には、水溶性高分子の吸着率が「ポリエチレングリコール」等と「ポリアクリル酸」等とで大きくことなることが記載されているので、研磨用組成物に用いられる「水溶性高分子」の有用性がその種類によらず同程度であるとはいえない。
　このような技術常識に照らすと、本件特許明細書の実施例１〜１７の具体例で用いられている「ヒドロキシエチルセルロース（ＨＥＣ）」等で課題を解決できることが裏付けられているとしても、それ以外の種類の「水溶性高分子」を用いた場合に、本件発明の所定の課題を解決できると直ちに認識することはできない。
　そして、水溶性高分子の種類（及び重量平均分子量）が異なる以外は、条件が同じ実施例５、７、９、１２及び１３の具体例を、その「相対百分率（Ａ／Ｂ）」のパラメータの順に並べてみると、次の表のとおりに整理される。
──────────────────────────────────
　　　　　水溶性　　　吸着物の炭素　　　　　　　　　　水溶性高分子
　　　　　高分子濃度　換算濃度（Ａ）　Ａ／Ｂ　撥水距離　 の種類
　　　　　〔質量％〕　〔質量ｐｐｍ〕　〔％〕　〔ｍｍ〕　
実施例５　０．０１８　　１４．０　　１９．３　　１０　HEC(Mw=12万)
実施例13　０．０１８　　５１．９　　５０．８　　２５　PVA-g-PVP
実施例７　０．０１８　　４５．９　　５２．３　　　５　HEC(Mw=25万)
実施例９　０．０１８　　４５．０　　６０．４　　　１　HEC(Mw=50万)
実施例12　０．０１８　　２５．６　　６１．５　　１０　加水分解HEC
──────────────────────────────────
　ここで、撥水距離の値が１０ｍｍという同程度の有用性を得るための「相対百分率（Ａ／Ｂ）」の値は、実施例５の場合は「１９．３％」となるのに対して、実施例１２の場合は「６１．５％」となることが、具体的な試験結果によって裏付けられているといえる。
　また、相対百分率（Ａ／Ｂ）の値が近似する実施例１３（５０．８％）と実施例７（５２．３％）の「撥水距離」の値を比べると、実施例１３（ＰＶＡ−ｇ−ＰＶＰ）の場合に「２５ｍｍ」となるのに対して、実施例７（ＨＥＣ）の場合に「５ｍｍ」となり、同程度の有用性が得られないことが、具体的な試験結果によって裏付けされているといえる。
　してみると、本１発明の「研磨用組成物の全炭素濃度に対する前記吸着物の炭素換算濃度の百分率が３７．２％以上」という相対百分率（Ａ／Ｂ）の下限値は、重量平均分子量が２５万のＨＥＣを用いた実施例８を根拠に設定されているところ、水溶性高分子の種類（及び重量平均分子量）が異なる場合に、実施例８と同程度の有用性を得るための相対百分率（Ａ／Ｂ）の下限値が、実施例８の「３７．２％」と同程度の値になると類推できない。
　したがって、本１発明の「３７．２％以上」という相対百分率（Ａ／Ｂ）の下限値を、実施例８の「重量平均分子量が２５万のＨＥＣ」以外の水溶性高分子にまで一般化できるとはいえず、同様に本９発明の「１５％以上」という相対百分率（Ａ／Ｂ）の下限値を、実施例１２で用いられている加水分解処理を施したヒドロキシエチルセルロース（加水分解ＨＥＣ）や、実施例１３で用いられているポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンのグラフトポリマー（ＰＶＡ−ｇ−ＰＶＰ）などを含む広範な「水溶性高分子」の全般にまで拡張ないし一般化できるとはいえない。
　したがって、本件特許の請求項１及び９並びにその従属項の記載が明細書のサポート要件を満たしていると認めることはできない。
　この点について、特許権者は、令和元年１１月２５日付けの意見書の第１２〜１３頁の『５（４−４）（ｄ）』の項で「本件特許記載の技術では、水溶性高分子のコロイダルシリカへの吸着比を制御することで研磨後ウェーハ表面の親水性が制御可能となる。それは、シリカがキャリアとなり、シリカ表面に吸着した水溶性高分子をシリコーンウェーハ表面に吸着させ得ることに基づく。シリカによりウェーハ表面にこすり付けられた水溶性高分子は、その構造がストレッチし、ウェーハ表面と多点吸着することで、好適なウェーハ表面への吸着維持特性を有し、研磨後のウェーハ表面の親水性に寄与すると考え得る。」と主張する。
　しかしながら、コロイダルシリカへの「吸着比」である「相対百分率（Ａ／Ｂ）」の値を、本１発明の「３７．２％以上」や本９発明の「１５％以上」に制御しても、水溶性高分子の種類（及び重量平均分子量）が異なる場合に得られる有用性が同程度にならないことは、上記「実施例５、７、９、１２及び１３の具体例」の実験データによって裏付けられているので、当該「考え得る」との仮説ないし憶測に基づく主張は採用できない。
　
（６）水溶性高分子を含む吸着物の点
　本件特許明細書の００２５には「他成分を含有する場合には、炭素換算濃度において、研磨用組成物中における水溶性高分子の占める割合を高くすることが好ましい。具体的には、研磨用組成物の全炭素濃度に対する水溶性高分子の炭素換算濃度の百分率が５０％以上であることが好ましく、より好ましくは７０％以上であり、更に好ましくは８５％以上である。」との記載がなされているところ、本件特許の請求項１及び９には、当該「水溶性高分子の占める割合」や、吸着物に占める水溶性高分子の割合（又は「他成分」の割合）は特定されていない。
　そして、本件特許の請求項１及び９に記載された「水溶性高分子を含む吸着物」について、水溶性高分子を除いた他成分（不純物）が、水溶性高分子と同様に機能して、本件発明の所定の課題に関する有用性を示すといえる根拠は、本件特許明細書の発明の詳細な説明に実験結果や作用機序の説明による裏付けがなされておらず、そのような裏付けがなくとも当業者が出願時の技術常識に照らし本件発明の課題を解決できるといえる根拠も見当たらないので、当該「吸着物」の広範な範囲の全て（特に上記「他成分」が大半を占めるような態様）が、明細書のサポート要件を満たす範囲にあるとは認められない。
　したがって、本件特許の請求項１及び９並びにその従属項の記載が明細書のサポート要件を満たしていると認めることはできない。
　この点について、特許権者は、令和元年１１月２５日付けの意見書の第１４〜１５頁の『５（４−５）（ｂ）』の項で「本件発明１，９について「研磨用組成物の全炭素濃度に対する前記水溶性高分子の炭素換算濃度の百分率が８５％以上」の発明特定事項を加入する訂正を行った。…以上により、「吸着物」に関する本取消理由の指摘はすべて説明し、解消したものと思料する。」と主張する。
　しかしながら、本件訂正は認められないから、上記主張は採用できない。
　
（７）サポート要件のまとめ
　以上総括するに、先に示した〔理由３〕の（い）〜（お）の不備について、上記（３）〜（６）に示したように、その（い）〜（お）の不備は、依然として解消されているとはいえない。
　したがって、本１〜本１０発明が、発明の詳細な説明に記載された発明で、発明の詳細な説明の記載により当業者が当該発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるとは認められず、また、その記載や示唆がなくとも当業者が出願時の技術常識に照らし当該発明の課題を解決できると認識できる範囲のものであるとも認められないので、本件特許の請求項１〜１０の記載は、特許法第３６条第６項第１号に適合するものではない。
　
第６　むすび
　以上のとおり、本件特許の請求項１〜８及び９〜１０に係る発明の特許は、特許法第３６条第４項第１号及び第６項に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるから、同法第１１３条第４号の規定により取り消されるべきものである。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
令和２年９月２８日（２０２０．９．２８）