【事件の表示】
　特願２００６−　５９５２９「エレクトロルミネッセント素子の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１９年　９月２０日出願公開、特開２００７−２４２２７２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１８年３月６日の出願であって、平成２３年５月２６日付けで拒絶理由が通知され、同年７月２２日付けで意見書が提出されるとともに、同日付けで手続補正書が提出され、平成２４年３月６日付けで拒絶査定がなされた。これに対して、平成２４年６月１１日に拒絶査定に対する審判請求がなされ、同時に手続補正がなされたものである。
　その後、平成２４年１１月６日付けで、審判請求人に前置報告の内容を示し意見を求めるための審尋を行ったが、回答書は提出されなかった。
　
第２　平成２４年６月１１日付けの手続補正についての補正の却下の決定
［補正の却下の決定の結論］
　平成２４年６月１１日付けの手続補正を却下する。
　
［理由］
１．補正後の請求項に記載された発明
　平成２４年６月１１日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）により、本願の特許請求の範囲の請求項１は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下単に「特許法」という。）第１７条の２第４項第２号に掲げられた特許請求の範囲の減縮を目的として補正された。
　よって、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下「本件補正発明」という。）は、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に記載された、次のとおりのものである。
　
「電極層、バッファー層、および発光層を含んでなる積層体が、各画素毎にパターニングされてなるエレクトロルミネッセント素子を製造する方法であって、
　基材上に、パターニングされた第一電極を形成する工程、
　前記第１電極を覆うように、前記基材上に、バッファー層を形成する工程、
　前記バッファー層上に、各画素に対応するようにパターニングされた隔壁を形成する工程、および
　前記隔壁で囲まれた画素毎に、インクジェット方式により発光層を形成する工程、を含んでなり、
　前記隔壁が、隔壁形成材料にフッ素系樹脂を含有させた撥液性材料から形成されてなることを特徴とする、方法。」
　
　そこで、上記本件補正発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるもであるか否か（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するか否か）について、以下に検討する。
　
２．引用刊行物
（１）原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である、特開２００４−２３５１２８号公報（以下「引用文献１」という。）には、以下の事項が記載されている。（下線は、当審が付した。）
（ａ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機ＥＬ素子の発光層形成用領域を、厚膜の隔壁と濡れ性の向上した基板表面との組合せにより構成し、インクジェット法により発光層を形成する際の厚みのバラツキをごく少なくした有機ＥＬ素子およびその製造方法に関するものである。」
　
（ｂ）「【００２２】
【発明の実施の形態】
図１（ａ）〜（ｇ）は、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法の各段階を例示する断面図であり、図１（ｇ）は、本発明の有機ＥＬ素子の積層構造の例を示す断面図である。
【００２３】
図１（ｇ）に例示するように、
本発明の有機ＥＬ素子１１は、基板１上に、パターン状の第１電極層２および正孔注入層３が順に積層されており、この正孔注入層３は、少なくとも有機ＥＬ素子の表示用の画素を設けるべき領域に、一面に、即ち、均一一様に積層されたものである。正孔注入層３上には、隔壁層４が非画素部に積層されており、隔壁層４で囲まれた画素部には少なくとも有機蛍光体層５が積層されており
【００２４】
正孔注入層３は、有機蛍光体層５と共に、有機ＥＬ素子の発光に関与するものであるが、有機ＥＬ素子を構成する有機蛍光体層５が画素毎に形成されなければならないのに対し、正孔注入層３は、各画素毎の有機蛍光体層と同様に画素毎に形成せず、表示用の画素を有する領域の一面に一つの層として積層しても差し支え無い。本発明におけるように一続きの連続的な正孔注入層３を有する構造とすると、予め隔壁層を設けてから各画素毎に正孔注入層を設けるときのように、隔壁層の影響によりインクのメニスカスに基づく正孔注入層の厚みムラが生じることが無く、正孔注入層の厚みムラが生じなければ、その上に有機蛍光体層を設けるときにも、下地の厚みムラに基づいて有機蛍光体層の厚みムラが大きくなることも解消する等の利点が、構造上生じる。
【００２５】
このような本発明の有機ＥＬ素子１１は、次に述べるような素材により構成され、また製造方法により形成される。
【００２６】
本発明の有機ＥＬ素子１１を製造するには、図１（ａ）に示すように、まず、基板１を準備する。
【００２７】
基板１は、板状、もしくはフィルム状の素材で構成され、具体的な素材としては、ガラス（シート状の薄膜ガラスを含む。）、もしくは石英等の無機材料、または、樹脂板、もしくは樹脂フィルム等を挙げることができる。なお、「基板」の用語は、フィルム状の物も含む意味で使うので、基材と言い換えてもよい。基板が樹脂フィルムであれば、丸めたり
曲げたりすることが可能な、フレキシブルな有機ＥＬ素子を得ることもできる。」
　
（ｃ）「【００３１】
以上のような基板１上に、まず、パターン状の第１電極層２を積層する。電極層の第１および第２の呼称は、形成する順序に基づいている。第１電極層２は、代表的には、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム、金、もしくはポリアニリン等を素材として構成されている。第１電極層２の形成は、これらの素材を、例えば、蒸着もしくはスパッタリング等の気相法等により一面に積層し、フォトレジストを用いたエッチング法等によりパターン化するか、マスクパターンを介した気相法により行なわれる。なお、ＴＦＴ基板を用いる場合には、ＴＦＴ基板が有する画素電極を上記の第１電極層として利用できる。
【００３２】
基板１上にパターン状の第１電極層２が積層された、さらに上に、少なくとも画素を表示する領域全域に、正孔注入層３を一面に積層する。
【００３３】
正孔注入層３の露出面は、後に説明する有機蛍光体層５を形成する際の下地となる面であるため、特に表面の平坦さが求められる。ロールコーティングやスプレイ、もしくはスクリーン印刷法によって有機蛍光体層５を形成すると、表面の十分な平坦さが得られないので、スピンコーティング等の回転塗布方法によって形成することが、表面が強制的に平坦化する点で、より好ましい。
【００３４】
上記のように、正孔注入層３の形成の際の塗布方法を選択することにより、正孔注入層３の露出面を平坦化し、上層に積層する有機蛍光体層５の厚みのバラツキを小さくすることが可能であるが、正孔注入層３を、有機蛍光体層５を形成する際の塗料組成物もしくはインク組成物に対する濡れ性が高いか、もしくは露光により濡れ性が向上する素材で構成することによっても、上層に積層する有機蛍光体層５の厚みのバラツキを小さくすることができ、より好ましい。
【００３５】
このような意味で、濡れ性が高いか、もしくは露光により濡れ性が向上する素材としては、一般的な体質顔料や界面活性剤も使用可能であるが、濡れ性変化性素材の単独、もしくは光触媒を伴なった濡れ性変化性素材を使用することが好ましい。濡れ性変化性素材の単独、もしくは光触媒を伴なった濡れ性変化性素材で構成した正孔層注入層３は濡れ性が高いが、さらに露光することにより、露光部において濡れ性がより向上する。」
　
（ｄ）「【００４８】
正孔注入層３が一面に積層された上の非画素部に相当する位置に、隔壁層４を積層する。
【００４９】
隔壁層４は、その形状を意図した通りに形成でき、また、厚みを十分確保する目的から、フォトリソグラフィー法によって形成されることが好ましく
【００５０】
隔壁層４の形成は、感光性樹脂の層の積層、パターン状の露光、および現像をこの順に行なうことにより行ない、ポジ型の感光性樹脂を用いる場合には、ポジ型の感光性樹脂の溶液を塗布するか、感光性樹脂の層の転写等により正孔注入層３上に積層し、パターンマスクとして、隔壁層４を形成すべき非画素部が光不透過性で、画素部が光透過性であるものを介して露光し、露光後、現像することにより、隔壁層４の形成を行なうことができる。
【００５１】
隔壁層４の形成後、隔壁層４の下層の正孔注入層３が、濡れ性変化性素材、または濡れ性変化性素材および光触媒で構成されている場合には、隔壁層４で囲まれた画素部における
正孔注入層３を露光して、濡れ性を向上させておくことが、次の工程で形成される有機蛍光体層５の露出面の平坦さを実現し、ひいては、有機蛍光体層５の厚みのムラを解消することになるので好ましい。濡れ性の程度としては、この部分における有機蛍光体層を形成する際に用いるインクに対する接触角が、１０°以下であることが好ましい。なお、正孔注入層３をエッチングすることによっても、濡れ性の向上を図ることができる。
【００５２】
正孔注入層３上の非画素部に隔壁層４を形成した後、
隔壁層４で囲まれた画素部に有機蛍光体層５を形成する。
【００５３】
有機蛍光体層５は、例えば、色素系、金属錯体系、もしくは高分子系の有機蛍光体で構成され得る。
【００５４】
色素系のものとしては、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾ−ル誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、オキサジアゾールダイマー、もしくはピラゾリンダイマー等を挙げることができる。
【００５５】
金属錯体系のものとしては、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体等、中心金属に、Ａｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等または、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子にオキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、もしくはキノリン構造等を有する金属錯体等を挙げることができる。
【００５６】
高分子系のものとしては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体等、ポリフルオレン誘導体、もしくはポリビニルカルバゾール誘導体、または前記の色素系のもの、もしくは金属錯体系のものを高分子化したもの等を挙げることができる。
【００５７】
上記した有機蛍光体には、発光効率の向上、もしくは発光波長を変化させる目的でドーピングを行うことができる。このドーピング材料としては例えば、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィレン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン等を挙げることができる。
【００５８】
隔壁層で囲まれた画素部に有機蛍光体層５を積層するには、種々の方式を利用し得るが、有機蛍光体を含有する有機蛍光体インクを用いた手法であるディスペンサー法やインクジェット法、中でもインクジェット法により行なうのが、処理速度的にも、また、通常、行なわれる三原色の各色用の区域を所定の配列順で形成するのにも有利である。
　
（ｅ）「【００７１】
請求項５の発明によれば、請求項４の発明の効果に加え、
隔壁層が液体に対する非親和性を有している
　
（ｆ）「
　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 」
　
　上記引用文献１の記載事項から、引用文献１には、以下の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されている。
　
「基板１上に、パターン状の第１電極層２および正孔注入層３が順に積層されており、この正孔注入層３は、少なくとも有機ＥＬ素子の表示用の画素を設けるべき領域に、一面に、即ち、均一一様に積層されたものであり、この正孔注入層３上には、隔壁層４が非画素部に積層されており、隔壁層４で囲まれた画素部には少なくとも有機蛍光体層５が積層された有機ＥＬ素子の製造方法であって、
　基板１上にパターン状の第１電極層２が積層された、さらに上に、少なくとも画素を表示する領域全域に、正孔注入層３を一面に積層し、
　正孔注入層３が一面に積層された上の非画素部に相当する位置に、隔壁層４を積層し、この隔壁層４はその形状を意図した通りに形成でき、また、厚みを十分確保する目的から、フォトリソグラフィー法によって形成され、
　隔壁層４で囲まれた画素部に有機蛍光体層５を形成し、この有機蛍光体層５の積層はインクジェット法により行われ、
　隔壁層４が液体に対する非親和性を有している、方法。」
　
（２）平成２４年１１月６日付けの審尋中に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である、特開２００４−２３４９０１号公報（以下「引用文献２」という。）には、以下の事項が記載されている。（下線は、当審が付した。）
　
（ａ）「【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
このように従来のディスプレイ基板の製造工程においては、ガラス基板１の面上にバンク９を形成した後に、正孔注入層３や発光層４を形成していた。このため、バンク９により囲まれる領域の各々に対し、まず、正孔注入層３を形成するための液体材料（水分散性高分子インク組成物）を例えばインクジェットヘッドを用いて吐出させ、その後、乾燥させて正孔注入層３を形成させる。次いで、発光層４を形成するための液体材料（発光ポリマーインク組成物）をさらに吐出させて、その後、乾燥させて発光層４を形成させる。発光層４はＲＧＢ各色を別々に形成するため、インクジェット工程が３回必要であった。正孔注入層の形成まで含めると、インクジェット工程が４回必要であった。このように、製造工程が非常に煩雑になる問題があった。
【０００６】
また、バンク９は５ミクロン以下の位置精度および寸法精度で設けられているのに対し、インクジェット工程による各種インク組成物のインク滴塗布位置精度は１０ミクロン以上のばらつきを有している。このため、バンク９により囲まれるすべての領域に位置精度よく液体材料を吐出させるのが生産技術上困難であるという問題があった。この問題を回避する手段として、バンク９形成後のガラス基板１に対し、酸素プラズマ処理後にＣＦ４プラズマ処理を行い、陽極表面は上記インク組成物になじみ（親液性）、バンク９表面は上記インク組成物をはじく（撥液性）ような表面改質処理を施す手段がある。このような処理を施すことにより、インクジェット工程でインク滴の着弾位置が多少ずれても、インク滴の一部が親液性の陽極表面にかかって引き寄せられるとともに、撥液性のバンク９表面から押しやられるため、インク滴がすべてバンク９で囲われる領域に収まる効果が得られ
る。」
　
（ｂ）「【００２２】
このように、本実施形態に係るディスプレイ基板１００は、従来のディスプレイ基板と構造上の違いはあるものの、従来と同様の正孔注入層３の機能が確保されているのである。
また正孔注入層３は、ＰｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅおよびＰｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅｓｕｌｆｏｎａｔｅを水に分散させた溶液（Ｂａｙｔｒｏｎ  Ｐ、バイエル社商標）またはポリアニリンおよびＰｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅｓｕｌｆｏｎａｔｅを水に分散させた溶液を塗布、焼成して所定厚みの薄膜層とするが、焼成後の正孔注入層３はほとんどの有機溶剤に対して不溶である。そのため、
有機溶剤現像タイプの含フッ素感光性樹脂を用いてバンク９を形成する
以上が本発明者の着眼点であり、本発明の原理である。
【００２３】
さて、前出の含フッ素感光性樹脂の主体となる含フッ素樹脂としては、たとえばフッ素化エポキシ樹脂、フッ素化ポリイミド樹脂、フッ素化ポリアミド樹脂、フッ素化ポリウレタン樹脂、フッ素化シロキサン樹脂およびそれらの変性樹脂などを用いることができる。
また、含フッ素樹脂としては、特に限定されるものではないが、フッ素化エポキシ樹脂の好ましい例として、式［１］で示される樹脂を挙げることができる。」
　
（ｃ）「【００３１】
上記したフッ素原子を含有する樹脂は、それ自体撥水性を有する樹脂材料として本発明において好適に用いることができる。
上記した樹脂材料を、本発明の目的達成上有用な感光性樹脂材料とするには、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物とする通常の方法が採用され、活性エネルギー線によるパターニングによって精密で高解像度のパターンを形成することのできる感光性樹脂材料が採用される。
【００３２】
すなわち、樹脂材料単独では露光波長に対して十分な感度が得られない場合には、必要に応じて例えば、４，４’−ジアジドジフェニルメタン、４，４’−ジアジドジフェニルスルフィド等のアジド系開始剤、α，α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン等のアセトフェノン系開始剤、トリフェニルスルフォニウム塩等のカチオン系開始剤、２，６−ビス（４’−アジドベンザル）メチルシクロヘキサノン、２，６−ビス（４’−アジドベンジリデン）−ｔ−ブチルシクロヘキサノン等のビスアジド系感光剤、１−ナフチル−ビス−トリクロロメチル−２−トリアジン、１−（４−メトキシアントラセニル）−ビス−トリクロロ−２−トリアジン等のトリアジン系感光剤、のような感光剤、あるいはこれらの感光剤とペリレン、アントラセン、フェノチアジン、５−ニトロアセナフテン、Ｎ−アセチル−４−ニトロ−１−ナフチルアミン、ミヒラーズケトン、９−フルオレノン、ｐ−ニトロアニリン、ベンジル，１，２−ベンズアントラセン、ピレン、ｐ−キノン、４−ニトロ−１−ナフチルアミン、エリスロシンのような増感剤とを、通常用いられる量的範囲で併用することにより感度を向上させることができる。
上述の含フッ素感光性樹脂を用いることによって、正孔注入層３上に撥水性を有するバンク９を形成可能となる。
　
（ｄ）「【００３４】
（基板１の製造方法）
次に、ディスプレイ基板１の製造方法について説明する。
図３は、製造方法のプロセスを示した図である。以下、図３に従って説明する。
（１）陽極側の処理（ステップＳａ１〜Ｓａ３）
はじめに、ガラス基板１の面のうちの表示領域にＴＦＴ１１を配設する
ＴＦＴ１１の配設方法は従来の方法と同様であるため、その一例（低温ポリシリコンの例）を簡単に説明する。まず、ガラス基板１（表示領域）の前処理として、ガラス基板１上に絶縁層を形成し、その上に、アモルファスのシリコン層を積層する。その後、シリコン層に対し、たとえばレーザアニール処理等の加熱処理を施すことにより、アモルファスのシリコン層を再結晶させ、結晶性のポリシリコン層を形成しておく。次に、形成されたポリシリコン層をパターニングし、半導体層（図２における１１Ｓ，１１Ｃ，１１Ｄに相当）を形成した上にゲート絶縁層１１Ｚを積層する。
【００３５】
次に、タンタルなどの材料でゲート配線およびゲート電極１１Ｇを形成した後、ＰＨ３／Ｈ２イオンをドーピングする。ゲート電極１１Ｇの上に第一層間絶縁層１１Ｙを形成した後、ソース電極１１Ｓ、ドレイン電極１１Ｄに導通を取るためのコンタクトホールをゲート絶縁層１１Ｚおよび第一層間絶縁層１１Ｙに形成する。その後、アルミをスパッタおよびパターニングしてアルミ電極１１Ａを形成し、その上に第二層間絶縁膜１１Ｘを形成後、陽極１４とアルミ電極１１Ａを導通させるためのコンタクトホールを形成する。
【００３６】
このようにしてＴＦＴ１１を配設した後、その上に平坦化層１３を形成し
その後、平坦化層１３の上部に、陽極１４を設ける
なお、図２には示さなかったが、その後必要に応じて、陽極１４の画素部分を囲うように、厚さ５０〜３００ｎｍ程度の酸化シリコン、窒化シリコンなどの無機絶縁薄膜を設けることとしてもよい。
【００３７】
（２）正孔注入層３の形成（ステップＳａ４）
次に、ガラス基板１の面のうちの表示領域全面に、正孔注入層３を形成する。
正孔注入層３を形成する段階におけるガラス基板１の面は、陽極１４が平坦に形成された状態にあり、正孔注入層３を厚さが均一な薄膜として形成できる。
【００３８】
（３）バンク９の形成（ステップＳａ５）
正孔注入層３を形成した後、バンク９を形成する。バンク９は、前出の有機溶剤現像タイプの含フッ素感光性樹脂を凸状に加工した仕切部材である。正孔注入層３の層上にバンク９をパターン配置していくことにより、後に発光層４を形成するための領域を形成していく。
【００３９】
具体的な一例を以下に示す。
まず、フッ素化エポキシ樹脂（上掲式［１］で示される）２０ｇおよび１−（２−メトキシナフチル）−ビス−トリクロロメチル−２−トリアジン０．２ｇをメチルイソブチルケトン８０ｇに溶解し、含フッ素感光性樹脂溶液を調製する。次に正孔注入層３形成後のガラス基板１に、前記含フッ素感光性樹脂溶液を膜厚５μｍとなるように塗布し、溶剤を乾燥させる。その後、
バンク９が形成される部分のみに光が当たるようなフォトマスクを介して露光し、メチルイソブチルケトンを用いて現像することで、バンク９を形成する。
【００４０】
別の一例を以下に示す。
フッ素化ポリイミド樹脂（式［２］で示される）１０ｇを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン９０ｇに溶解して、含フッ素感光性樹脂溶液を調整した。次に正孔注入層３形成後のガラス基板１に、前記含フッ素感光性樹脂溶液を膜厚５μｍとなるように塗布し、溶剤を乾燥させる。その後、バンク９が形成される部分のみに光が当たるようなフォトマスクを介して露光し、メチルイソブチルケトンを用いて現像することで、バンク９を形成する。この場合、フッ素化エポキシ樹脂の重合を完結させるため、２００℃から３５０℃での加熱処理を加えても良い。
【００４１】
（４）発光層４の形成（ステップＳａ６）
次に発光層４を形成する。具体的には、インクジェット塗布装置を用いて、発光層４を形成するための液体材料（発光材を有機溶媒で溶解させた発光ポリマーインク組成物）をバンク９によって囲まれた各領域に、順番に吐出させていくことになる。
　
（ｅ）「
　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 」
　
（ｆ）「
　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 　 」
　
３．対比
（１）本件補正発明と引用発明との対比
（ａ）引用発明の「第１電極層１」、「正孔注入層３」、「有機蛍光体層５」、「隔壁層４」、「有機ＥＬ素子」が、それぞれ、本件補正発明の「電極層」及び「第１電極」、「バッファー層」、「発光層」、「隔壁」、「エレクトロルミネッセント素子」に相当する。
　
（ｂ）引用発明の「基板１上に、パターン状の第１電極層２および正孔注入層３が順に積層されており、この正孔注入層３は、少なくとも有機ＥＬ素子の表示用の画素を設けるべき領域に、一面に、即ち、均一一様に積層されたものであり、この正孔注入層３上には、隔壁層４が非画素部に積層されており、隔壁層４で囲まれた画素部には少なくとも有機蛍光体層５が積層された有機ＥＬ素子の製造方法」が、本件補正発明の「電極層、バッファー層、および発光層を含んでなる積層体が、各画素毎にパターニングされてなるエレクトロルミネッセント素子を製造する方法」に相当することは、当業者には明らかである。
　
（ｃ）引用発明の「基板１上にパターン状の第１電極層２が積層」することが、本件補正発明の「基材上に、パターニングされた第一電極を形成する工程」に相当することは、当業者には明らかである。
　
（ｄ）引用発明の「さらに上に、少なくとも画素を表示する領域全域に、正孔注入層３を一面に積層」することが、本件補正発明の「前記バッファー層上に、各画素に対応するようにパターニングされた隔壁を形成する工程」に相当することは、当業者には明らかである。
　
（ｅ）引用発明の「正孔注入層３が一面に積層された上の非画素部に相当する位置に、隔壁層４を積層し、この隔壁層４はその形状を意図した通りに形成でき、また、厚みを十分確保する目的から、フォトリソグラフィー法によって形成」することが、本件補正発明の「前記バッファー層上に、各画素に対応するようにパターニングされた隔壁を形成する工程」に相当することは、当業者には明らかである。
　
（ｆ）引用発明の「隔壁層４で囲まれた画素部に有機蛍光体層５を形成し、この有機蛍光体層５の積層はインクジェット法により行われ」ることが、本件補正発明の「前記隔壁で囲まれた画素毎に、インクジェット方式により発光層を形成する工程」に相当することは、当業者には明らかである。
　
（ｇ）引用発明の「隔壁層４が液体に対する非親和性を有している」ことと、本件補正発明の「前記隔壁が、隔壁形成材料にフッ素系樹脂を含有させた撥液性材料から形成されてなる」こととは、「隔壁が、撥液性を有している」ことで一致する。
　
（２）一致点
　してみると、両者は、
「電極層、バッファー層、および発光層を含んでなる積層体が、各画素毎にパターニングされてなるエレクトロルミネッセント素子を製造する方法であって、
　基材上に、パターニングされた第一電極を形成する工程、
　前記第１電極を覆うように、前記基材上に、バッファー層を形成する工程、
　前記バッファー層上に、各画素に対応するようにパターニングされた隔壁を形成する工程、および
　前記隔壁で囲まれた画素毎に、インクジェット方式により発光層を形成する工程、を含んでなり、
　前記隔壁が、撥液性を有している、方法。」
で一致し、次の点で相違する。
　
（３）相違点
（イ）「隔壁が、撥液性を有している」ことについて、本件補正発明では「隔壁が、隔壁形成材料にフッ素系樹脂を含有させた撥液性材料で形成されてなる」ものであるのに対して、引用発明では「隔壁」にどのように撥液性を付与しているのかが不明である点。
　
 ４．判断
　上記相違点（イ）について検討する。
　上記引用文献２には、ガラス基板１上にＴＦＴ１１を配設した後、その上に平坦化層１３を形成し、この平坦化層１３の上部に陽極１４を設け、次に、ガラス基板１の面のうちに表示領域全面に正孔注入層３を形成した後、バンク９をフォトリソグラフィ法により形成し、このバンク９によって囲まれた各領域に発光層４をインクジェット塗布装置を用いて形成するという、本件補正発明と同様の、有機ＥＬ表示装置の製造方法において、バンク９を撥水性のものとするために、含フッ素感光性樹脂で形成するという技術事項（以下「引用文献２の技術事項」という。）が記載されているから、引用発明の「液体に対する非親和性を有している」「隔壁層４」を形成する方法として、含フッ素感光性樹脂、すなわち、フッ素系樹脂を含有させた撥液性材料で形成する方法を採用して、上記相違点（イ）に係る本件補正発明の発明特定事項を得ることは、当業者が容易に想到し得ることである。
　
　そして、本件補正発明が奏し得る効果は、引用発明及び引用文献２の技術事項から当業者が予測し得る範囲のものであって格別なものではない。
　
　したがって、本件補正発明は、引用発明及び引用文献２の技術事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
５．小括
  以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
１．本願発明
　平成２４年６月１１日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成２３年７月２２日付けの手続補正により補正された、本願の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
　
「電極層、バッファー層、および発光層を含んでなる積層体が、各画素毎にパターニングされてなるエレクトロルミネッセント素子を製造する方法であって、
　基材上に、パターニングされた第一電極を形成する工程、
　前記第１電極を覆うように、前記基材上に、バッファー層を形成する工程、
　前記バッファー層上に、各画素に対応するようにパターニングされた隔壁を形成する工程、および
　前記隔壁で囲まれた画素毎に、インクジェット方式により発光層を形成する工程、を含んでなり、
　前記隔壁が、撥液性材料から形成されてなることを特徴とする、方法。」
　
２．引用刊行物
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である、上記引用文献１の記載内容及び引用発明は、上記「第２」「［理由］」、「２．」「（１）」に記載したとおりである。
　
３．対比・判断
（１）本願発明と引用発明との対比
　上記「第２」「［理由］」、「３．」「（１）」「（ａ）」〜「（ｆ）」に記載したとおりであり、また、引用発明の「隔壁層４が液体に対する非親和性を有している」ことと、本願発明の「前記隔壁が、撥液性材料から形成されてなる」こととは、「隔壁が、撥液性を有している」ことで一致する。
　
（２）一致点
　してみると、両者は、
「電極層、バッファー層、および発光層を含んでなる積層体が、各画素毎にパターニングされてなるエレクトロルミネッセント素子を製造する方法であって、
　基材上に、パターニングされた第一電極を形成する工程、
　前記第１電極を覆うように、前記基材上に、バッファー層を形成する工程、
　前記バッファー層上に、各画素に対応するようにパターニングされた隔壁を形成する工程、および
　前記隔壁で囲まれた画素毎に、インクジェット方式により発光層を形成する工程、を含んでなり、
　前記隔壁が、撥液性を有している、方法。」
で一致し、次の点で相違する。
　
（３）相違点
（ロ）「隔壁が、撥液性を有している」ことについて、本願発明では「隔壁が、撥液性材料で形成されてなる」ものであるのに対して、引用発明では「隔壁」にどのように撥液性を付与しているのかが不明である点。
　
 ４．判断
　上記相違点（ロ）について検討する。
　本願発明と同様の、隔壁によって囲まれた領域にインクジェット方式により発光層を形成する有機ＥＬ素子の形成方法において、隔壁を撥液性材料で形成する方法が、上記引用文献２（特に、段落【００３１】、【００３２】【００３８】参照）、特開２００４−３２７３５７号公報（特に、段落【０１６１】参照）に示されるように周知技術であるから、引用発明の「液体に対する非親和性を有している」「隔壁層４」を形成する方法として、撥液性材料で形成する方法を採用して、上記相違点に係る本願発明の発明特定事項を得ることは、当業者が容易に想到し得ることである。
　
　そして、本願発明が奏し得る効果は、引用発明及び周知技術から当業者が予測し得る範囲のものであって格別なものではない。
　
　したがって、本願発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
第４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから、本願の他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。