(57)【要約】本発明は、式（１）：2004007506.tif 000025［式中、Ｘ、Ｙは水素、ハロゲン等を、Ｐｘはホスフィン配位子を、Ｒ１〜Ｒ８は水素、アルキル基等を、Ａはアルキレン等を、ｎ１は１又は２を表す。また、Ａを構成する炭素原子、Ｃ＃１、Ｃ＃２のいずれか少なくとも１個が、光学活性を有する炭素である。］で表されるルテニウム化合物、及び該ルテニウム化合物を不斉還元触媒として用いて、縮合環ケトン類又はα−アミノケトン類を不斉還元する光学活性アルコール類の製造方法に関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）：
Ｒｕ（Ｘ）（Ｙ）（Ｐｘ）ｎ１〔Ｒ１Ｒ２Ｃ＃１（ＮＲ３Ｒ４）−Ａ−Ｒ５Ｒ６Ｃ＃２（ＮＲ７Ｒ８）〕〔式中、Ｘ及びＹは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、水酸基又はＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基を表し、Ｐｘは、ホスフィン配位子を表し、Ｒ１〜Ｒ８はそれぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルキル基、置換基を有してもよいＣ２〜Ｃ２０アルケニル基、置換基を有してもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換基を有してもよいＣ７〜Ｃ２０アラルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を示し、
また、Ｒ１とＲ３、および／または、Ｒ５とＲ７が結合して環を形成してもよく、
Ａは、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ８アルキレン、置換基を有していてもよい１〜２個の酸素原子を含むＣ２〜Ｃ８アルキレン、置換基を有していてもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキレン、置換基を有していてもよいアリーレンまたは置換基を有していてもよい２価のヘテロ環基を表す。Ａがアルキレンの場合はＲ２とＲ６が結合して環を形成してもよい。
また、Ａを構成する炭素原子、Ｃ＃１およびＣ＃２のいずれか少なくとも一個が、光学活性を有する炭素である。
ｎ１は１または２の整数を示す。〕で表されるルテニウム化合物。
【請求項２】
式（１）中のジアミンが式（２）：
［Ｒ１Ｒ２Ｃ＊（ＮＲ３Ｒ４）−Ａ−Ｒ５Ｒ６Ｃ＊（ＮＲ３Ｒ４）］
〔式中、Ａ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６は請求項１と同じ意味を示し、
＊は光学活性を有する原子であることを示す。〕で表される化合物である、請求項１記載のルテニウム化合物。
【請求項３】
式（１）中のジアミンが式（２’）：
〔Ｒ１Ｒ２Ｃ＊（ＮＲ３Ｒ４）−Ａ−Ｒ１Ｒ２Ｃ＊（ＮＲ３Ｒ４）〕
（式中、Ａ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、＊は請求項２と同じ意味を示す。）で表される化合物である請求項１および２記載のルテニウム化合物。
【請求項４】
式（２’）におけるＲ２、Ｒ３及びＲ４が水素原子である、請求項１、２および３記載のルテニウム化合物。
【請求項５】
式（２−１）：    Ｒ１Ｃ＊Ｈ（ＮＨ２）−Ａ−Ｒ１Ｃ＊Ｈ（ＮＨ２）
〔式中、Ｒ１およびＡは前記と同じ意味を示し、＊は光学活性を有する原子であることを示す。〕で表される  ジアミン化合物。但し、２，４−ペンタンジアミン、２，５−ヘキサンジアミン、（Ｒ，Ｒ）−１，４−ジフェニルブタン−１，４−ジアミンおよび３，４−Ｏ−イソプロピリデンジヒドロキシ−１，４−ブタンジアミンを除く。
【請求項６】
式（２−１）におけるＲ１がＣ１〜Ｃ８の直鎖、分岐、環状アルキル基、Ｃ２〜Ｃ８の直鎖、分岐、環状アルケニル基、置換基を有していても良いアリール基、または置換基を有していても良いヘテロアリール基である請求項５記載のジアミン化合物。
【請求項７】
式（２−１）におけるＲ１がメチル基、置換基を有していても良いアリール基、または置換基を有していても良いヘテロアリール基であり、Ａがエチレン、フェニレンまたは置換基を有していてもよい２価の含酸素ヘテロ環基である請求項５または６記載のジアミン化合物。
【請求項８】
式（３）又は（３’）
2004007506.tif 000023
（式中、ａ環部は置換基を有してもよい３〜８員炭素環または置換基を有してもよい４〜８員ヘテロ環を表し、ｂ環部は、置換基を有してもよい４〜８員炭素環または置換基を有してもよい５〜８員ヘテロ環を表す。）で表される縮合環ケトン類を、本発明のルテニウム化合物のいずれか１種若しくは２種以上の存在下に、水素ガス又は水素供与体を水素源として用いて不斉水素還元する工程を有することを特徴とする式（４）又は（４’）
2004007506.tif 000024
（式中、ａ環部、ｂ環部及び＊は前記と同じ意味を表す。）で表される光学活性アルコール類の製造方法。
【請求項９】
式（５）：Ｒａ−ＣＯ−ＣＨ（Ｒｂ）−Ｒｃ
〔式中、Ｒａ及びＲｃは、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルキル基、置換基を有してもよいＣ２〜Ｃ２０アルケニル基、置換基を有してもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換基を有してもよいＣ７〜Ｃ２０アラルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を表す。
Ｒｂは、
式（６）：Ｒ９ＣＯ（Ｒ１１）Ｎ−
式（７）：Ｒ９ＣＯ（Ｒ１０ＣＯ）Ｎ−
式（８）：Ｒ９Ｒ１１Ｎ−
で表されるいずれかの基を表す。
（ここで、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルキル基、置換基を有してもよいＣ２〜Ｃ２０アルケニル基、置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基、置換基を有してもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換基を有してもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルコキシ基、置換基を有してもよいＣ７〜Ｃ２０アラルキル基、置換基を有してもよいＣ７〜Ｃ２０アラルキルオキシ基、置換基を有してもよいアリール基又は置換基を有してもよいアリールオキシ基を表す。
また、Ｒ９とＲ１１又はＲ９とＲ１０は結合して、５〜８員の含窒素ヘテロ環を形成してもよい。）〕
で表されるα−アミノケトン類を、請求項１〜４記載のいずれかのルテニウム化合物の存在下に、水素ガス又は水素供与体を水素源として不斉水素還元する工程を有する、
式（９）：Ｒａ−Ｃ＊Ｈ（ＯＨ）−ＣＨ（Ｒｂ）−Ｒｃ
〔式中、Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ及び＊は前記と同じ意味を表す。〕で表される光学活性β−アミノアルコール類の製造方法。
【発明の詳細な説明】
技術分野：
本発明は、ルテニウム化合物、該ルテニウム化合物の配位子として好適に用いられるジアミン化合物、及び該ルテニウム化合物を不斉還元触媒として用いて、縮合環ケトン類又はα−アミノケトン類を不斉還元することを特徴とする光学活性アルコール類の製造方法に関する。
背景技術：
光学活性アルコール類は、医薬・農薬の合成中間体として有用である。
従来、縮合環ケトン類を触媒的不斉還元することによって、対応する光学活性アルコール類を得る方法としては、
▲１▼イリジウム錯体を触媒に用いる水素化による方法〔Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１５，３３１８（１９９３）〕、
▲２▼ルテニウムを触媒に用いる水素移動による方法（特開平１０−１３０２８９号公報）、
▲３▼ルテニウムを触媒に用いる水素化による方法（特開平１１−１８９６００号公報）等が知られている。
また、α−アミノケトン類を水素化反応することによって、対応する光学活性アミノアルコール類を得る方法としては、
▲４▼国際公開ＷＯ０２／０４４０１号公報および、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１２２，５１０（２０００）に報告例がある。
しかしながら、▲１▼の方法は、極めて高価なイリジウム錯体を用いるため、コスト面から実用化は困難であり、▲２▼の方法は、水素源として蟻酸等の有機化合物を用いなければならず、水素ガス等の安価な水素源を用いる場合に比べ、操作的・コスト的に不利であり、▲３▼の方法は、ケトン類の不斉還元方法として優れたものであるが、縮合環状ケトン類の不斉還元についての知見は得られておらず、また、▲４▼の方法は、α−アミノケトン類の不斉還元に関するものであるが、触媒としては複数の置換基を有する高価な２座ホスフィン配位子を用いなければ良好な結果が得られない等の問題があった。
従って、水素ガス等の安価な水素源を用いて、縮合環ケトン類やα−アミノケトン類から対応する光学活性アルコール類を高選択的、高収率に製造できる不斉還元触媒の開発が望まれている。
また、本発明に係わる配位性のアミノ基が置換した二つの炭素原子の間に一個あるいはそれ以上の炭素原子を含む光学活性ジアミン化合物としては、２，４−ペンタンジアミン、２，５−ヘキサンジアミン、３，４−Ｏ−イソプロピリデンジヒドロキシ−１，４−ブタンジアミンおよび（Ｒ，Ｒ）−１，４−ジフェニルブタンジアミン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ，２０００，１１，３００３−３０１５．）等が知られているが、該光学活性ジアミン化合物が縮合環ケトンやα−アミノケトンなどのケトン類の不斉還元触媒の配位子として極めて有用であることは知られていなかった。
発明の開示：
本発明は、製造容易なルテニウム化合物、該ルテニウム化合物の配位子として好適に用いることができるジアミン化合物、及び該ルテニウム化合物を不斉還元触媒として用いて、縮合環ケトン類又はα−アミノケトン類を不斉還元して、対応する光学活性アルコール類を高立体選択的、かつ高収率に製造する方法を提供することを課題とする。
本発明は、第１に、式（１）：
2004007506.tif 000002
（式中、Ｘ及びＹは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、水酸基又はＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基を表し、Ｐｘは、ホスフィン配位子を表し、Ｒ１乃至Ｒ８は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルキル基、置換基を有してもよいＣ２〜Ｃ２０アルケニル基、置換基を有してもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換基を有してもよいＣ７〜Ｃ２０アラルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を表す。
また、Ｒ１とＲ３、および／または、Ｒ５とＲ７が結合して環を形成してもよい。
Ａは、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ８アルキレン、置換基を有していてもよい１〜２個の酸素原子を含むＣ２〜Ｃ８アルキレン、置換基を有していてもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキレン、置換基を有していてもよいアリーレンまたは置換基を有していてもよい２価のヘテロ環基を表わす。Ａがアルキレンの場合はＲ２とＲ６とが結合して環を形成してもよい。
また、Ａを構成する炭素原子、Ｃ＃１およびＣ＃２のいずれか少なくとも一個が、光学活性を有する炭素である。
ｎ１は１または２の整数を表す。）で表されるルテニウム化合物であり、
第２に、式（２−１）：    Ｒ１Ｃ＊Ｈ（ＮＨ２）−Ａ−Ｒ１Ｃ＊Ｈ（ＮＨ２）
〔式中、Ｒ１およびＡは前記と同じ意味を示し、＊は光学活性を有する原子であることを示す。〕で表されるジアミン化合物を提供する。但し、２，４−ペンタンジアミン、２，５−ヘキサンジアミン、３，４−Ｏ−イソプロピリデンジヒドロキシ−１，４−ブタンジアミンおよび、（Ｒ，Ｒ）−１，４−ジフェニルブタン−１，４−ジアミンを除く。
本発明は第３に、式（３）又は（３’）
2004007506.tif 000003
（式中、ａ環部は、置換基を有してもよい３〜８員炭素環または置換基を有してもよい４〜８員ヘテロ環を表し、ｂ環部は、置換基を有してもよい４〜８員炭素環または置換基を有してもよい５〜８員ヘテロ環を表す。）で表される縮合環ケトン類を、本発明のルテニウム化合物のいずれか１種若しくは２種以上の存在下に、水素ガス又は水素供与体を水素源として用いて不斉水素還元する工程を有することを特徴とする式（４）又は（４’）
2004007506.tif 000004
（式中、ａ環部、ｂ環部及び＊は前記と同じ意味を表す。）で表される光学活性アルコール類の製造方法を提供する。
本発明は第４に、式（５）：Ｒａ−ＣＯ−ＣＨ（Ｒｂ）−Ｒｃ
〔式中、Ｒａ及びＲｃは、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルキル基、置換基を有してもよいＣ２〜Ｃ２０アルケニル基、置換基を有してもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換基を有してもよいＣ７〜Ｃ２０アラルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を表す。
Ｒｂは、
式（６）：Ｒ９ＣＯ（Ｒ１１）Ｎ−
式（７）：Ｒ９ＣＯ（Ｒ１０ＣＯ）Ｎ−
式（８）：Ｒ９Ｒ１１Ｎ−
で表される基から選ばれるいずれかの基を表す。
（ここで、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルキル基、置換基を有してもよいＣ２〜Ｃ２０アルケニル基、置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基、置換基を有してもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基、置換基を有してもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルコキシ基、置換基を有してもよいＣ７〜Ｃ２０アラルキル基、置換基を有してもよいＣ７〜Ｃ２０アラルキルオキシ基、置換基を有してもよいアリール基又は置換基を有してもよいアリールオキシ基を表し、また、Ｒ９とＲ１１若しくはＲ９とＲ１０が結合して、５〜８員の含窒素ヘテロ環を形成してもよい。）〕で表されるα−アミノケトン類を、本発明の式（１）で表されるルテニウム化合物のいずれか１種若しくは２種以上の存在下に、水素ガス又は水素供与体を水素源として用いて不斉水素還元する工程を有する、
式（９）：Ｒａ−Ｃ＊Ｈ（ＯＨ）−Ｃ（＊）Ｈ（Ｒｂ）−Ｒｃ
〔式中、Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ及び＊は前記と同じ意味を表し、Ｃ（＊）はＲｃが水素以外の場合に不斉炭素であることを示す。〕で表される光学活性β−アミノアルコール類の製造方法を提供する。
本発明のルテニウム化合物は、入手容易なルテニウム誘導体を出発原料として用いるものであって、容易に製造をすることができる。また、本発明のジアミン化合物は、本発明のルテニウム化合物の配位子として好適に用いることができる。さらに、本発明の光学活性アルコール類の製造方法によれば、該ルテニウム化合物を不斉還元触媒として用い、縮合環ケトン類又はα−アミノケトン類を出発原料として、医薬・農薬の合成中間体として有用な前記式（４）、（４’）及び（９）で表される光学活性アルコール類を、水素ガス等の安価な水素源を用いて高立体選択的かつ高収率に製造することができる。
発明の実施の形態：
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明は、▲１▼式（１）で表されるルテニウム化合物、▲２▼該ルテニウム化合物の配位子として好適に用いることができる式（２−１）で表される新規なジアミン化合物、▲３▼及び該ルテニウム化合物を不斉還元触媒として用いて、式（３）及び（３’）で表される縮合環ケトン類、又は式（５）で表されるα−アミノケトン類を、不斉還元して式（４），（４’）及び（９）で表される光学活性アルコール類を製造する方法である。
本発明の式（１）で表されるルテニウム化合物について説明する。
前記式（１）において、Ｘ及びＹはそれぞれ独立して、水素原子；フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、カルボキシル基、水酸基、又は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ペンチロキシ、ヘキシロキシ、シクロヘキシロキシ、ドデシロキシ等のＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基を表す。
Ｐｘはホスフィン配位子を表す。Ｐｘとしては、例えば、式：ＰＲＡＲＢＲＣで表される単座ホスフィン配位子や、式：ＲＤＲＥＰ−Ｗ−ＰＲＦＲＧで表される２座ホスフィン配位子等が挙げられるが、光学活性であるのが好ましい。
前記式：ＰＲＡＲＢＲＣで表される単座ホスフィン配位子において、ＲＡ、ＲＢ及びＲＣは、それぞれ独立して、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル及びその異性体，ヘキシル及びその異性体、ヘプチル及びその異性体、ノニル及びその異性体、ドデシルおよびその異性体等のＣ１〜Ｃ２０アルキル基；置換基を有してもよいフェニル基；シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチル基等のＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基；ベンジル、α−メチルベンジル、α，α−ジメチルベンジル基等のＣ７〜Ｃ２０アラルキル基；等を表す。また、ＲＡ、ＲＢ及びＲＣのうちの２つが結合して、置換基を有してもよいＰを含むヘテロ環を形成してもよい。
前記フェニル基及びＰを含むヘテロ環の置換基としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；水酸基；メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル，ヘキシル、ヘプチル、ノニル、ドデシル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキル基；エテニル、プロペニル、ブテニル、２−ヘキセニル基等のＣ２〜Ｃ２０アルケニル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル基等のＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基；ベンジル、α−メチルベンジル、α，α−ジメチルベンジル基等のＣ７〜Ｃ２０アラルキル基；フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル基等のアリール基；メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ペンチロキシ、ヘキシロキシ、ドデシロキシ基等のＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基；アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、ベンゾイルオキシ等のアシルオキシ基；ジオキソラン−２−イル、オキサゾリン−２−イル等のヘテロ環基；等が挙げられる。
単座ホスフィン配位子の具体例としては、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ（ｐ−トリル）ホスフィン、ジフェニルメチルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、ジイソプロピルメチルホスフィン、１−〔２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル〕エチルメチルエーテル、２−（ジフェニルホスフィノ）−２’−メトキシ−１，１’−ビナフチル等の３級ホスフィンが好適なものとして挙げることができる。また、エチルメチルブチルホスフィン、エチルメチルフェニルホスフィン、イソプロピルエチルメチルホスフィン、シクロヘキシル（Ｏ−アニシル）メチルホスフィン等のＲＡ、ＲＢ及びＲＣが３種とも異なる置換基からなるホスフィン配位子を用いることもできる。
前記式：ＲＤＲＥＰ−Ｗ−ＰＲＦＲＧで表される２座ホスフィン配位子において、ＲＤ、ＲＥ、ＲＦ及びＲＧは、それぞれ独立して、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル及びその異性体，ヘキシル及びその異性体、ヘプチル及びその異性体、ノニル及びその異性体、ドデシルおよびその異性体等のＣ１〜Ｃ２０アルキル基；置換基を有してもよいフェニル基；又はシクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等のＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基；等を表し、また、ＲＤとＲＥ及び／またはＲＦとＲＧが結合して置換基を有してもよいＰを含む複素環を形成してもよい。
前記フェニル基及び複素環の置換基としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；水酸基；メチル、エチル、プロピル、ブチル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキル基；エテニル、プロペニル、ブテニル基等のＣ２〜Ｃ２０アルケニル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル基等のＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基；ベンジル、α−メチルベンジル、α，α−ジメチルベンジル基等のＣ７〜Ｃ２０アラルキル基；フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル基等のアリール基；メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ基等のＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基；アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、ベンゾイルオキシ等のアシルオキシ基；ジオキソラン−２−イル、オキサゾリン−２−イル等のヘテロ環基；等が挙げられる。
Ｗは、置換基を有しても良い、メチレン、エチレン、プロピレン基等のＣ１〜Ｃ５アルキレン基；置換基を有しても良い、シクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレン基等のＣ３〜Ｃ６シクロアルキレン基；置換基を有しても良い、フェニレン、ナフチレン、１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル、１，１’−ビナフチル−２，２’−ジイル、１，１’−ビナフチル−７，７’−ジイル基等のアリーレン基；置換基を有しても良い、エテンジイル、プロペンジイル、イソプロペンジイル、ブテンジイル基等のＣ２〜Ｃ２０アルケンジイル基；置換基を有しても良い、エチンジイル、プロピンジイル基等のＣ２〜Ｃ２０アルキンジイル基；を表す。これらの２価基上の置換基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキル基；エテニル、プロペニル、ブテニル等のＣ２〜Ｃ２０アルケニル基；メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ基等のＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基；等が挙げられる。
２座ホスフィン配位子の具体例としては、ビスジフェニルホスフィノメタン、ビスジフェニルホスフィノエタン、ビスジフェニルホスフィノプロパン、ビスジフェニルホスフィノブタン、ビスジメチルホスフィノエタン、ビスジメチルホスフィノプロパン等が挙げられる。
さらに本発明においては、２，２’−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（以下、ＢＩＮＡＰと称す）、及びＢＩＮＡＰのナフチル環にアルキル基やアリール基等の置換基をもつＢＩＮＡＰ誘導体、フッ素置換基を有するＢＩＮＡＰ誘導体、リン原子上の２個のベンゼン環にそれぞれアルキル基やアルコキシ基等の置換基を１〜５個有するＢＩＮＡＰの誘導体等の不斉配位子も好適な２座ホスフィン配位子として例示できる。
これらの具体例としては、２，２’−ビス−（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ）、２，２’−ビス〔ビス（３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチル（Ｘｙｌｙｌ−ＢＩＮＡＰ）、１−〔１’，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル〕エチルジアミン、２，２’−ビス−（ジシクロヘキシルホスフィノ）−６，６’−ジメチル−１，１’−ビフェニル、２，３−ビス−（ジフェニルホスフィノ）ブタン、１−シクロヘキシル−１，２−ビス−（ジフェニルホスフィノ）エタン、１−置換−３，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）ピロリジン、２，３−Ｏ−イソプロピリデン−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）ブタン、１，２−ビス〔（Ｏ−メトキシフェニル）フェニルホスフィノ〕エタン、置換−１，２−ビス（ホスホラノ）ベンゼン、５，６−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−２−ノルボルネン、Ｎ，Ｎ’−ビス−（ジフェニルホスフィノ）−Ｎ，Ｎ’−ビス（１−フェニルエチル）エチレンジアミン、１，２−ビス−（ジフェニルホスフィノ）プロパン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）ペンタン、［（５，６），（５’，６’）−ビス（メチレンジオキシ）ビフェニル−２，２’−ジイル］ビス（ジフェニルホスフィン）、１，２−ビス（ｔ−ブチルメチルホスフィノ）エタン、２，４−ビス−（ジフェニルホスフィノ）ペンタン等が挙げられる。
なお、本発明に用いることのできるホスフィン配位子は、安定してルテニウム化合物を形成し得るものであれば、上記のものに限定されるものではない。
次に、式（１）で表されるルテニウム化合物における、式（２）で表されるジアミン配位子について説明する。
Ａは、メチレン、エチレン、プロピレン等のＣ１〜Ｃ８のアルキレン；２−オキサプロパン−１，３−ジイル、３−オキサペンタン−１，５−ジイル、３，６−ジオキサオクタン−１，８−ジイル等の１〜２個の酸素原子を含むＣ２〜Ｃ８アルキレン基；シクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン、シクロオクチレン等のＣ３〜Ｃ８のシクロアルキレン；フェニレン、ナフチレン等のアリーレン；または２価のヘテロ環基を表し、該ヘテロ環基としては、任意の位置に２価の結合手を有する、フラン、ピラン、ジオキソラン、チオフェン、チオピラン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、トリアゾール、チアゾール、イソチアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピラジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾピラゾール、ベンゾチアゾール、キノリン、インドリン、フェナントロリン、ジオキソラン−２−オン、ジオキサン、ジオキサン−２，３−ジオン、オキサゾリジン、オキサゾリジノン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロフラン−２，５−ジオン、テトラヒドロチオフェン、スルホラン等の飽和又は不飽和のヘテロ環が挙げられる。
これらの基は更に置換基を有していてよく、該置換基としては、メチル、エチル、プロピル等のＣ１〜Ｃ６アルキル基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ等のＣ１〜Ｃ６アルコキシ基；フェニル、ナフチル等のアリール基；フェノキシ等のアリールオキシ基；ベンジルオキシ基等のＣ７〜Ｃ２０アラルキルオキシ基が挙げられる。
Ａがアルキレン基、１〜２個の酸素原子を含むアルキレン基のとき、Ｒ２とＲ６が結合して環を形成してもよい。
Ｒ１〜Ｒ８は、それぞれ独立して、水素原子；置換基を有してもよい、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキル基（好ましくはＣ１〜Ｃ６のアルキル基）；置換基を有してもよい、エテニル、ｎ−プロペニル、イソプロペニル、ｎ−ブテニル、ｓｅｃ−ブテニル、ｔ−ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル基等のＣ２〜Ｃ２０アルケニル基（好ましくはＣ２〜Ｃ６のアルケニル基）；置換基を有してもよい、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等のＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基；ベンジル、α−メチルベンジル、α，α−ジメチルベンジル、α−エチルベンジル基等の置換基を有してもよいＣ７〜Ｃ２０アラルキル基；又は、置換基を有してもよい、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル基等のアリール基；を表す。
前記Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ７〜Ｃ２０アラルキル基及びアリール基の置換基としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；置換アミノ基；メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキル基；エテニル、ｎ−プロペニル、イソプロペニル、ｎ−ブテニル、ｓｅｃ−ブテニル、ｔ−ブテニル、１，３−ブタジエニル、ｎ−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、ヘキセニル基等のＣ２〜Ｃ２０アルケニル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等のＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基；ベンジル、α−メチルベンジル、α，α−ジメチルベンジル、α−エチルベンジル基等のＣ７〜Ｃ２０アラルキル基；フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル基等のアリール基；メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ基等のＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基；アシルオキシ基；又はヘテロ環基；等が挙げられる。
前記置換アミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ基等の炭化水素基が２個置換したアミノ基；アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ基等のアシルアミノ基；メタンスルホニルアミノ、トルエンスルホニルアミノ基等のスルホニルアミノ基；Ｎ−メチル−Ｎ−アセチルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−アセチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−アシルアミノ基等のＮ−アルキル−Ｎ−アシルアミノ基；Ｎ−メチル−Ｎ−スルホニルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−スルホニルアミノ基等のＮ−アルキル−Ｎ−スルホニルアミノ基；フタルイミド基等の環状イミド基；等が挙げられる。
前記アシルオキシ基としては、例えば、アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、イソプロピルカルボニルオキシ基等のＣ１〜Ｃ１２のアルキルカルボニルオキシ基；ベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基；フェニルメチルカルボニルオキシ基等のアラルキルカルボニルオキシ基；等が挙げられ、前記アシル基としては、例えば、プロパノイル、イソプロピルカルボニル基等のＣ１〜Ｃ１２のアルキルカルボニル基、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基；ベンゾイル基等のアリールカルボニル基；フェニルメチルカルボニル基等のアラルキルカルボニル基；等が挙げられる。
前記ヘテロ環基としては、例えば、フラニル、ピラニル、ジオキソラニル基等の含酸素ヘテロ環基；チエニル基等の含イオウヘテロ環基；ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、ピリジル、ピラダジル、ピラジニル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾピラゾリル、ペンゾチアゾリル、キノリル、アントラニル、インドリル、フェナントロニリル基等の飽和若しくは不飽和の含窒素ヘテロ環基；等が挙げられる。
これらの置換基は、その置換位置、置換基の種類、置換基の数等に特に制限はない。また、本発明においては、Ｒ１がＲ３と、Ｒ５がＲ７と、および／またはＲ２がＲ６と結合して環を形成したジアミン化合物を用いることもできる。
また、Ａを構成する炭素原子、Ｃ＃１およびＣ＃２のいずれか少なくとも一個が、光学活性を有する炭素である。
これらのジアミン化合物としては、合成及び入手容易性や経済性の観点から、式（２’）
Ｒ１Ｒ２Ｃ＊（ＮＲ３Ｒ４）−Ａ−Ｒ１Ｒ２Ｃ＊（ＮＲ３Ｒ４）（２’）
で表される化合物をより好適に用いることができる。
ここで、Ｒ１がＣ１〜Ｃ８の直鎖、分岐、環状アルキル基、Ｃ２〜Ｃ８の直鎖、分岐、環状アルケニル基、置換基を有していても良いアリール基、置換基を有していても良いヘテロ環基であり、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４が全て水素原子であり、Ａがアルキレン基、１〜２個の酸素原子を含むアルキレン、フェニレン基または下記式（２−Ａ），（２−Ｂ），（２−Ｃ）で表される２価基である化合物がより好ましい。
2004007506.tif 000005
［式中、Ｒａ’、Ｒｂ’は、それぞれ独立して、水素原子；置換基を有してもよいメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等のＣ１〜Ｃ６アルキル基；ベンジル、α−メチルベンジル、α，α−ジメチルベンジル、α−エチルベンジル基等の置換基を有してもよいＣ７〜Ｃ２０アラルキル基；置換基を有してもよいメトキシ、エトキシ、イソプロポキシ基等のＣ１〜Ｃ６アルコキシ基；置換基を有してもよいメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基等のＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基；ヘテロ環基；又は、置換基を有してもよいフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル基等のＣ６〜Ｃ１４アリール基を示すか、あるいは、式（２−Ａ）においては、Ｒａ’とＲｂ’が一緒になってカルボニル基を形成してもよく、式（２−Ｂ）においては、Ｒａ’、Ｒｂ’同士がそれぞれ一緒になってカルボニル基を形成してもよい。］
これらのジアミン化合物の具体例としては、ビス（２−アミノプロピル）エーテルの（Ｓ，Ｓ）および（Ｒ，Ｒ）体、ビス（２−アミノ−２−フェニルエチル）エーテルの（Ｓ，Ｓ）および（Ｒ，Ｒ）体、（１Ｓ，４Ｓ）−１，４−ジアミノ−１，４−ジフェニルブタン、１，４−ジアミノ−１，４−ジシクロヘキシルブタンの（Ｓ，Ｓ）および（Ｒ，Ｒ）体、１，２−ビス（１−アミノエチル）ベンゼンの（Ｓ，Ｓ）および（Ｒ，Ｒ）体、光学活性１，２−ビス（１−アミノエチル）シクロヘキサン、光学活性１，１−ビス（１−アミノエチル）シクロペンタン、光学活性１，２−ビス（１−アミノエチル）シクロペンタン、（２Ｒ、３Ｒ、４Ｒ、５Ｒ）−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−３，４−ジヒドロキシ−２，５−ヘキサンジアミン、（２Ｓ、３Ｓ、４Ｓ、５Ｓ）−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−３，４−ジヒドロキシ−２，５−ヘキサンジアミン、（１Ｒ、２Ｒ、３Ｒ、４Ｒ）−２，３−Ｏ−イソプロピリデン−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ジフェニル−１，４−ブタンジアミン、（１Ｓ、２Ｓ、３Ｓ、４Ｓ）−２，３−Ｏ−イソプロピリデン−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ジフェニル−１，４−ブタンジアミン、（１Ｒ、２Ｒ、３Ｒ、４Ｒ）−２，３−Ｏ−（１−フェニルエチリデン）−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ジフェニル−１，４−ブタンジアミン、（１Ｓ、２Ｓ、３Ｓ、４Ｓ）−２，３−Ｏ−（１−フェニルエチリデン）−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ジフェニル−１，４−ブタンジアミン、（２Ｒ、３Ｒ、４Ｒ、５Ｒ）−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−３，４−ジヒドロキシ−１，４−ジフェニル−２，５−ヘキサンジアミン、（２Ｓ、３Ｓ、４Ｓ、５Ｓ）−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−３，４−ジヒドロキシ−１，４−ジフェニル−２，５−ヘキサンジアミン、（３Ｒ、４Ｒ、５Ｒ、６Ｒ）−４，５−Ｏ−イソプロピリデン−４，５−ジヒドロキシ−３，６−オクタンジアミン、（３Ｓ、４Ｓ、５Ｓ、６Ｓ）−４，５−Ｏ−イソプロピリデン−４，５−ジヒドロキシ−３，６−オクタンジアミン等が挙げられる。
次に、本発明のルテニウム化合物の製造方法について説明する。
ルテニウム化合物の製造方法に用いられる出発原料としては、０価、１価、２価、３価及び、さらに高原子価のルテニウム誘導体を用いることができる。これらの中でも、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．，３７，１７０３（１９９８）に記載の２価ルテニウム錯体を用いる方法が簡便である。すなわち、２価のルテニウム−ハライド錯体と２座ホスフィン配位子の溶媒溶液を加熱後、ジアミン化合物を加えることで式（１）で表されるルテニウム化合物を製造することができる。
以下、出発原料として２価のルテニウム−ハライド錯体を用いた場合のルテニウム化合物の製造方法についてより詳細に説明する。
まず、出発原料の２価のルテニウム−ハライド錯体とホスフィン配位子とを、溶媒中、加熱し反応させ、対応するホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体を得る。
出発原料の２価のルテニウム−ハライド錯体としては、ホスフィン配位子及びアミン配位子と置換可能な配位子を有するルテニウム錯体であれば、特に制限されるものではない。その具体例としては、〔２塩化ルテニウム（ノルボルナジエン）〕多核体、〔２塩化ルテニウム（シクロオクタジエン）〕多核体、〔ビス（メチルアリル）ルテニウム（シクロオクタジエン）〕等のジエンが配位したハロゲン化ルテニウム化合物；〔２塩化ルテニウム（ベンゼン）〕二核体、〔２塩化ルテニウム（ｐ−シメン）〕二核体、〔２塩化ルテニウム（トリメチルベンゼン）〕二核体、〔２塩化ルテニウム（ヘキサメチルベンゼン）〕二核体等の芳香族化合物が配位したハロゲン化ルテニウム；等が挙げられる。
ホスフィン配位子の使用量は、ルテニウム−ハライド錯体１モルに対して、単座の場合は、通常２〜３倍モル、好ましくは２倍モルであり、２座の場合は、通常１〜２倍モル、好ましくは等モルである。
この反応に用いられる溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、トリクロロメタン、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン炭化水素類；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリジン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド（ＨＭＰＴ）等のアミド類；アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類；ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等が挙げられる。これらの溶媒は単独で、あるいは２種以上を混合して使用することもできる。
溶媒の使用量は、基質１ｇに対して１ｍｌ〜１００ｍｌ、好ましくは、基質１ｇに対し、１ｍｌ〜１０ｍｌの範囲である。反応温度は、通常、０〜２００℃、好ましくは、室温〜１００℃の範囲である。
次に、得られたホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体とジアミン化合物とを反応させて、対応するアミン−ホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体を得ることができる。
この反応に用いられるジアミン化合物の使用量は、ホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体に対して、通常１〜２倍モル、好ましくは等モルである。
反応温度は、通常、−１００〜２００℃、好ましくは−１０〜５０℃の範囲である。
また、あらかじめ単離したホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体に、前記と同様の条件下にジアミン化合物を作用させることによっても、アミン−ホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体を得ることができる。
次いで、得られたアミン−ホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体を、溶媒中、塩基と反応させることによって式（１）で表される化合物のうち、Ｘ＝Ｙ＝Ｈであるアミン−ホスフィン−ルテニウムヒドリド錯体を得ることができる。
用いられる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、１，４−ジアザビシクロ〔２，２，２〕オクタン（ＤＡＢＣＯ）、１，４−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデ−７−エン（ＤＢＵ）等の有機塩基；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド、マグネシウムエトキシド等の金属アルコキシド類；ｎ−ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）等の有機リチウム化合物；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の炭酸塩；水素化ナトリウム等の金属水素化物；等が挙げられる。
塩基の使用量はアミン−ホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体に対して、通常、２〜１０，０００倍モル、好ましくは、２〜４０倍モルの範囲である。
この反応に用いる溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、トリクロロメタン、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン炭化水素類；ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類；アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類；ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリジン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類；ＤＭＳＯ等が挙げられる。これらの溶媒は単独で、あるいは２種以上を混合して使用することができる
溶媒の使用量は、アミン−ホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体１ｇに対して、１ｍｌ〜１０１、好ましくは１ｍｌ〜１１の範囲である。また、反応温度は、通常、−１００〜２００℃、好ましくは、−１０〜５０℃の範囲である。
式（１）中、Ｘおよび／又はＹがカルボキシ基、水酸基、アルコキシ基であるルテニウム化合物は、上記の方法等で得られるアミン−ホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体にＲＣＯＯＮａやＲＯＮａ（Ｒはアルキル基を表す。）等を反応させて得ることができる。
次に本発明のジアミン化合物について説明する。
本発明のジアミン化合物は、前記式（２）で表されるジアミン化合物のうち、文献未記載の新規化合物であり、特に、式（２−１）で表される化合物である。
Ｒ１Ｃ＊Ｈ（ＮＨ２）−Ａ−Ｒ５Ｃ＊Ｈ（ＮＨ２）（２−１）
ここで、Ｒ１は前記のＣ１〜Ｃ８の直鎖、分岐、環状アルキル基、Ｃ２〜Ｃ８の直鎖、分岐、環状アルケニル基、置換基を有していても良いアリール基、置換基を有していても良いヘテロ環基であり、Ｒ５はＲ１と同一の基であり、Ａはアルキレン基、１〜２個の酸素原子を含むアルキレン基、フェニレン基または前記式（２−Ａ），（２−Ｂ），（２−Ｃ）で表される２価基である。
Ａがアルキレン基、１〜２個の酸素原子を含むアルキレン基、フェニレン基である化合物は、例えば、式（２ａ）で表されるジケトンを出発原料として、下記に示す反応スキームにしたがって製造することができる。
2004007506.tif 000006
（式中、Ａ，Ｒ１およびＲ５は前記と同じ意味を表し、Ｒ１２は水素原子、Ｃ７〜Ｃ２０の直鎖、分岐または環状アルキル基、Ｃ７〜Ｃ２０の直鎖、分岐または環状アラルキル基を表す。）
すなわち、ジケトン（２ａ）を不斉還元して光学活性ジオール（２ｂ）とし（工程Ｉ）、該光学活性ジオール（２ｂ）を光学活性アジド（２ｃ）に誘導し（工程ＩＩ）、光学活性アジド（２ｃ）を還元することにより（工程ＩＩＩ）、容易にジアミン化合物（２−１）を製造するこができる。
また、ジケトン（２ａ）をジオキシム（２ｄ）に変換し（工程ＩＶ）、このものを不斉還元してジアミン化合物（２−１）を製造することもできる（工程Ｖ）。
出発原料として用いられるジケトン（２ａ）としては、例えば、２，４−ペンタンジオン、２，５−ヘキサンジオン、１，３−ジフェニル−１，３−プロパンジオン、１，４−ジフェニル−１，４−ブタンジオン、１，２−ジ（アセチル）ベンゼン等が挙げられる。
工程Ｉのジケトン（２ａ）の不斉還元反応は、例えば、特開平１１−１８９６００号公報の記載と同様にして行うことができる。すなわち、ジケトン（２ａ）と不斉還元触媒とを有機溶媒中に混合し、さらに所望により塩基を添加して、所定圧力の水素ガス又は水素供与体の存在下に不斉還元する方法によって光学活性ジオール（２ｂ）を得ることができる。
不斉還元触媒としては、例えば、本発明化合物である光学活性アミン−ホスフィン−ルテニウム−ハライド錯体を使用することができる。不斉還元触媒の使用量は、ジケトン（２ａ）に対して１／５０〜１／２，０００，０００倍モル、好ましくは１／１００〜１／１，０００，０００倍モルの範囲である。
添加する塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ＤＡＢＣＯ、ＤＢＵ等の有機塩基；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム  ｔ−ブトキシド、マグネシウムエトキシド等の金属アルコキシド類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カルシウム等の炭酸塩；水素化ナトリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物；等が挙げられる。これら塩基の使用量は、不斉還元触媒の１モルに対し、２〜１０，０００倍モル、好ましくは、２〜４０倍モルの範囲である。
有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、トリクロロメタン、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン炭化水素類；ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリジン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン、ＨＭＰＴ等のアミド類；アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類；ＤＭＳＯ等を用いることができ、これらの溶媒は単独で、あるいは２種以上を混合して使用することもできる。これらの中でも、反応生成物がアルコール化合物であることからアルコール類の使用が好ましい。
水素の圧力は、通常、１〜２００気圧、好ましくは３〜５０気圧の範囲である。また、水素供与体としては、例えば、水素貯蔵合金やジイミド等を用いることができ、その使用量は、式（３）、（３’）又は（５）で表されるケトン類に対して、通常、１〜１００倍モルの範囲である。
反応は−３０〜１００℃、好ましくは２５〜４０℃の温度範囲で円滑に進行する。反応時間は、ジケトン（２ａ）濃度、温度、圧力等の反応条件に依存するが、通常、数分〜１日である。
なお、本工程Ｉのジケトン（２ａ）の不斉還元反応は、オキサザボロジンを触媒として不斉ホウ素還元反応（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．，３１，６０１（１９９０））等の公知の方法に準じて行うこともできる。
工程ＩＩの光学活性ジオール（２ｂ）のアジド化反応としては、▲１▼溶媒中、アジド化剤及び塩基の存在下に室温あるいは加熱下に反応させる方法や、▲２▼ジオール（２ｂ）とトシルクロリド、トリフルオロメチルスルホニルクロリド等とを塩基存在下に反応させることによりジスルホン酸エステルとした後、これとアジド化剤を反応させる方法、▲３▼ジオール（２ｂ）と塩化チオニル等のハロゲン化剤と反応させることによりジハライドとした後、これとアジド化剤を反応させる方法等が挙げられる。
アジド化剤としては、ジフェニルホスホリルアジド等の有機アジド化剤、アジ化ナトリウム等無機アジド化剤等の一般的に購入できるものを使用することができる。アジド化剤の使用量は、光学活性ジオール（２ｂ）に対して、通常２〜１０倍モルの範囲である。
アジド化反応に添加する塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ピリジン、ＤＡＢＣＯ、ＤＢＵ等の有機塩基；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム  ｔ−ブトキシド、マグネシウムエトキシド等の金属アルコキシド類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カルシウム等の炭酸塩；水素化ナトリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物；等が挙げられる。これらの中でも、ＤＢＵ等の有機塩基が好ましい。
アジド化反応に用いられる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、トリクロロメタン、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン炭化水素類；ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリジン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン、ＨＭＰＴ等のアミド類；アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類；等を用いることができる。これらの溶媒は単独で、あるいは２種以上を混合して使用することもできる
反応は、通常−７８℃〜溶媒の沸点、好ましくは−３０℃〜室温の範囲で円滑に進行する。反応時間は、通常、数分〜１日、好ましくは３〜１８時間である。
また、光学活性ジアルコール（２ｂ）を光学活性ジアジド（２ｃ）に直接誘導することも可能である。すなわち、▲１▼溶媒中、２ｂとジフェニルホスホリルアジド等のホスホリルアジド系のアジド化剤を、例えば、トリエチルアミン、ピリジン、ＤＡＢＣＯ、ＤＢＵ等の有機塩基の存在下に反応させる方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９９３，５８，５８８６．）、▲２▼溶媒中で、２ｂ、ＤＥＡＤ（（ＮＣＯＯＥｔ）２）などのアゾジカルボキシレート類、トリフェニルホスフィンなどのホスフィン類、およびアジ化水素を反応させる方法（Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ．，１９７８，６１，１８３２．）等である。
工程ＩＩＩの光学活性アジド（２ｃ）の還元反応は、溶媒中、還元剤の存在下に室温又は加熱下に反応させて行う。
還元剤としては、一般的に使用される還元剤を用いることができるが、その具体例としては、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム、三水素化シアノホウ素ナトリウム、トリエチル水素化ホウ素リチウム、ジボラン等を挙げることができる。また、パラジウムや白金の炭素担持体を触媒として水添条件下で反応を行うこともできる。
還元反応に用いられる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリジン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン、ＨＭＰＴ等のアミド類を用いることができる。これらの溶媒は単独で、あるいは２種以上を混合して使用することもできる。
反応は、通常−７８℃〜溶媒の沸点、好ましくは−３０℃〜室温の温度範囲で円滑に進行する。反応時間は、通常、数分〜１日、好ましくは、３〜１８時間である。
工程ＩＶのジケトン（２ａ）のオキシム化は、溶媒中、ジケトン（２ａ）と式：Ｒ１２ＯＮＨ２（Ｒ１２は前記と同じ意味を示す。）で表されるアルコキシアミンとを室温又は加熱下に反応させて行う。なお、アルコキシアミンは塩の形で用い、塩基で中和させながら反応させることもできる。かかるアルコキシアミンの塩としては、例えば、メトキシアミン塩酸塩、エトキシアミン塩酸塩、ベンジルオキシアミン塩酸塩等が挙げられる。その使用量は、ジケトン（２ａ）に対して、１〜１００倍モル、好ましくは２〜２０倍モルの範囲である。
この反応に用いられる溶媒としては、不活性なものであればよく、工業的に使用できる一般的なものを用いることができる。その具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、トリクロロメタン、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン炭化水素類；ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリジン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン、ＨＭＰＴ等のアミド類；アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類；ＤＭＳＯ、水等が挙げられる。これらの溶媒は単独で、あるいは２種以上を混合して使用することもできる。
反応は、通常−５０℃〜溶媒の沸点、好ましくは、室温〜溶媒の沸点の温度範囲で円滑に進行する。反応時間は、通常、数分〜１日、好ましくは、８〜１８時間である。
工程Ｖのジオキシム（２ｄ）の不斉還元反応は、例えば、オキサザボロリジンによる不斉ホウ素還元反応（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，６５（１８），５８７９（２０００）参照。）等の公知の方法に準じて行うことができる。
本発明のジアミン化合物において、Ａが前記（２−Ａ），（２−Ｂ），（２−Ｃ）で表される２価基である化合物のうち（２−Ａ）は、下記反応図に従って、式（ａ）で表される光学活性ジエステルを出発原料として製造することができる。
2004007506.tif 000007
（図中、Ｒ１、Ｒａ’、Ｒｂ’および＊は前記と同じ意味を示し、ｒａおよびｒｂは低級アルキル基を、ｒｃはアルカンスルホニルやアレーンスルホニル基等を示す。）
すなわち、式（ａ）で表される光学活性酒石酸誘導体を出発原料として、これにアミンを作用させて光学活性ジアミド（ｂ）に変換し（工程ＶＩ）、ｂをグリニャール反応で光学活性ジケトン（ｃ）に誘導する（工程ＶＩＩ）。ｃを還元して得た光学活性ジアルコール（ｄ）（工程ＶＩＩＩ）を光学活性ジスルホネート（ｅ）（工程ＩＸ）を経由して光学活性ジアジド（ｆ）に誘導して（工程Ｘ）、ｆを還元すれば（工程ＸＩ）、一般式（２）のＡの残基が２−Ａであるものを製造するこができる。
出発原料として用いられるａとしては、例えば、ジメチル  ２，３−Ｏ−イソプロピリデン−タルタレート、ジメチル  ２，３−ベンジリデン−タルタレート、ジメチル  ２，３−Ｏ−（１−フェニルエチリデン）−タルタレート等が挙げられる。
工程ＶＩの、光学活性酒石酸誘導体（ａ）を光学活性ジアミド（ｂ）に誘導する方法は、例えば、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，１９９６，３９，２１６３．記載と同様に行うことができる。すなわち、Ｎ，Ｏ−置換ヒドロキシルアミンの塩酸または硫酸塩とトリアルキルアルミニウムを有機溶媒中、−７０℃〜溶媒の沸点好ましくは−２０℃〜室温で、１分〜１６時間好ましくは１５分〜３時間、混合し、この溶液にａを、−７０℃〜溶媒の沸点好ましくは−４０℃〜室温で、反応させることによってｂを得ることができる。
Ｎ，Ｏ−置換ヒドロキシルアミンとしては、例えば、Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミン、Ｎ−メチル−Ｏ−ベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ−ベンジル−Ｏ−ベンジルヒドロキシルアミンを使用することができる。Ｎ，Ｏ−置換ヒドロキシルアミンの使用量はａの２倍モル〜１０倍モル好ましくは３〜４倍モルである。
トリアルキルアルミニウムとしては、例えば、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウムなどのトリ低級アルキルアルミニウムが好適である。トリアルキルアルミニウムの使用量はＮ，Ｏ−置換ヒドロキシルアミンの０．１倍モル〜５倍モル好ましくは０．５倍〜２倍モルである。
有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、トリクロロメタン、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類；ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル類等を用いることができ、これらの溶媒は単独で、あるいは２種以上を混合して使用することもできる。これらの中でも、ハロゲン系炭化水素類の使用が好ましい。
工程ＶＩＩの、光学活性ジアミド（ｂ）の光学活性ジケトン（ｃ）への誘導は、一般的に行われるグリニャール反応を適用することで、行うことができる。すなわち、（ｂ）の有機溶媒溶液に一般式  Ｒ１Ｍｇｘ
（Ｒ１は前記と同じ意味を、ｘは塩素、臭素等のハロゲン原子を示す。）で表されるグリニャール試薬を、−７０℃〜溶媒の沸点好ましくは−２０℃〜室温で、０．５時間〜１６時間好ましくは１時間〜１０時間、反応させることで（ｃ）を得ることができる。
Ｒ１Ｍｇｘの使用量は（ｂ）の等モル〜８倍モル好ましくは２倍モル〜４倍モルである。
有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル類等を用いることができ、これらの溶媒は単独で、あるいは２種以上を混合して使用することもできる。これらの中でも、エーテル類の使用が好ましい。
工程ＶＩＩＩの、光学活性ジケトン（ｃ）の光学活性ジアルコール（ｄ）への誘導は、一般的に行われる還元剤による還元反応によって、行うことができる。すなわち、（ｃ）の有機溶媒溶液に還元剤を、−１００℃〜溶媒の沸点好ましくは−７０℃〜室温で、数分〜数日間好ましくは１時間〜１０時間、反応させることで主生成物として（ｄ）を得ることができる。
還元剤は一般的に使用されるホウ素系、あるいはアルミニウム系のものを用いることができるが、その具体例としては、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム、三水素化シアノホウ素ナトリウム、トリエチル水素化ホウ素リチウム、ジボラン、Ｌ−セレクトライド、ＬＳ−セレクトライド等を挙げることができる。また、パラジウムや白金の炭素担持体を触媒として水添条件下で反応を行うこともできる。
還元剤の使用量はｂの０．５倍モル当量〜３倍モル当量好ましくは等モル当量〜３倍モル当量である。
還元反応に用いられる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリジン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン、ＨＭＰＴ等のアミド類等を用いることができる。これらの溶媒は単独で、あるいは２種以上を混合して使用することもできる。
工程ＩＸの、光学活性ジアルコール（ｄ）の光学活性ジスルホネート（ｅ）への誘導は、塩基存在下にｄにスルホン酸ハロゲン化物あるいは無水スルホン酸を反応させる、一般的に行われる方法によって行われる。すなわち、ｄと塩基の有機溶媒溶液にスルホン酸ハロゲン化物あるいは無水スルホン酸を、−４０℃〜溶媒の沸点好ましくは−２０℃〜６０℃で、１時間〜２４時間好ましくは６時間〜１８時間、反応させることでｅを得ることができる。
スルホン酸ハロゲン化物あるいは無水スルホン酸としては、置換基を有していても良いＣ１〜Ｃ２０アルカンスルホニルハライド、置換基を有していても良いＣ６〜Ｃ１４アレーンスルホニルハライド、置換基を有していても良いＣ１〜Ｃ２０アルカンスルホン酸無水物、置換基を有していても良いＣ６〜Ｃ１４アレーンスルホン酸無水物であり、置換基としては、塩素、臭素、Ｃ１〜Ｃ６の低級アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６の低級アルコキシ基、フェニル基である。通常用いられるメシルクロライドや無水メタンスルホン酸、トシルクロリドや無水トシル酸、トリフロロメタンスルホン酸クロライドや無水トリフロロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸クロリドや無水ベンゼンスルホン酸が好適に使用できる。
塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ＤＡＢＣＯ、ＤＢＵ等の有機塩基；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム  ｔ−ブトキシド、マグネシウムメトキシド、マグネシウムエトキシド等の金属アルコキシド類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩；炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩；水素化ナトリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物；が挙げられる。
使用するスルホン酸ハロゲン化物あるいは無水スルホン酸の量は、（ｄ）の２倍モル〜１０倍モル、好ましくは２．５倍モル〜５倍モルである。
添加する塩基の量は、使用するスルホン酸ハロゲン化物あるいは無水スルホン酸の量の等モル〜大過剰量、好ましくは１．２倍モル〜３倍モルであるが有機塩基を溶媒として使用する場合は大過剰量である。
有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、トリクロロメタン、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類；ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリジン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン、ＨＭＰＴ等のアミド類；アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類；ＤＭＳＯ等を用いることができ、有機塩基を溶媒として用いることも可能であり、これらの溶媒は単独で、あるいは２種以上を混合して使用することもできる。
工程Ｘの、光学活性ジスルホネート（ｅ）の光学活性ジアジド（ｆ）への誘導は、（ｅ）にアジド化剤を反応させる一般的に行われるアジド化反応によって行われる。すなわち、ｅの有機溶媒溶液にアジド化剤を、−４０℃〜溶媒の沸点好ましくは０℃〜溶媒の沸点で、１時間〜４８時間好ましくは６時間〜２４時間、反応させることでｆを得ることができる。
アジド化剤としては、アジ化ナトリウムやアジ化リチウム等の無機アジド化剤の一般的に購入できるものを使用することができる。アジド化剤の使用量は、（ｅ）に対して、通常２倍〜１００倍モル、好ましくは２．５倍〜５０倍の範囲である。
本アジド化反応に用いられる溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、トリクロロメタン、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン炭化水素類；ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリジン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン、ＨＭＰＴ等のアミド類；アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類；ＤＭＳＯ；スルホラン等を用いることができる。これらの溶媒は単独で、あるいは２種以上を混合して使用することもできる。
工程ＸＩＩの、光学活性ジアジド（ｆ）の一般式（２）の（２−Ａ）への誘導は、（ｆ）を還元することにより行われる。すなわち、溶媒中、（ｆ）を還元剤の存在下に室温又は加熱下に反応させて行う。反応は、通常−７８℃〜溶媒の沸点、好ましくは−３０℃〜室温の範囲で円滑に進行する。反応時間は、通常、数分〜１日、好ましくは、３〜１８時間である。
還元剤としては、一般的に使用される還元剤を用いることができるが、その具体例としては、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム、三水素化シアノホウ素ナトリウム、トリエチル水素化ホウ素リチウム、ジボラン等を挙げることができる。また、パラジウムや白金の炭素担持体を触媒として水添条件下で反応を行うこともできる。
還元反応に用いられる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリジン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン、ＨＭＰＴ等のアミド類を用いることができる。これらの溶媒は単独で、あるいは２種以上を混合して使用することもできる。
また、工程ＸＩのように、光学活性ジアルコール（ｄ）を光学活性ジアジド（ｆ）に直接誘導することも可能である。すなわち、▲１▼溶媒中、（ｄ）とジフェニルホスホリルアジド等のホスホリルアジド系のアジド化剤を例えば、トリエチルアミン、ピリジン、ＤＡＢＣＯ、ＤＢＵ等の有機塩基の存在下に反応させる方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９９３，５８，５８８６．）、▲２▼溶媒中で、（ｄ）、ＤＥＡＤ（（ＮＣＯＯＥｔ）２）などのアゾジカルボキシレート類、トリフェニルホスフィンなどのホスフィン類、およびアジ化水素を反応させる方法（Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ．，１９７８，６１，１８３２．）等である。
式（２−Ｂ）および（２−Ｃ）で表されるジアミン化合物は、上記方法に準じて製造することができる。
次に、本発明のルテニウム化合物を用いた光学活性アルコール類の製造方法について説明する。
2004007506.tif 000008
縮合ケトン類（３）、（３’）又はα−アミノケトン類（５）を出発原料として、本発明のルテニウム化合物を触媒として不斉水素化還元反応により、それぞれに対応する光学活性アルコール（４）、（４’）又は（９）を製造することができる。
まず、基質となる縮合ケトン類（３）及び（３’）について説明する。
式（３）及び（３’）において、ａ環部は、置換基を有してもよい３〜８員炭素環または置換基を有してもよい４〜８員ヘテロ環を表し、ｂ環部は、置換基を有してもよい４〜８員炭素環または置換基を有してもよい５〜８員ヘテロ環を表す。ａ環部における３〜８員炭素環としては、例えば、シクロプロペン、シクロブテン、シクロブタジエン、シクロペンテン、シクロペンタジエン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、ベンゼン環等の不飽和炭化水素環が挙げられ、４〜８員ヘテロ環としては、例えば、フラン、ピラン、ジオキソラン等の含酸素ヘテロ環；チオフェン等の含イオウヘテロ環；ピロール、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、トリアゾール、チアゾール、イソチアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピラジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾピラゾール、ペンゾチアゾール、キノリン、インドリン、フェナントロリン等の飽和若しくは不飽和の含窒素ヘテロ環；等が挙げられる。
ｂ環部における４〜８員炭素環としては、例えば、シクロブテン、シクロブタジエン、シクロペンテン、シクロペンタジエン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、ベンゼン環等の不飽和炭化水素環が挙げられ、５〜８員ヘテロ環としては、例えば、フラン、ピラン等の含酸素ヘテロ環；チオフェン等の含イオウヘテロ環；ピロール、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、トリアゾール、チアゾール、イソチアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピラジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾピラゾール、ペンゾチアゾール、キノリン、インドリン、フェナントロリン等の飽和若しくは不飽和の含窒素ヘテロ環；等が挙げられる。
縮合環ケトン類の具体例としては、置換基を有してもよいα−テトラロン類、置換基を有してもよいβ−テトラロン類、置換基を有してもよいクロモン類、置換基を有してもよい４−クロマノン類、置換基を有してもよいチオクロマン−４−オン類、置換基を有してもよい２，３−ジヒドロ−１Ｈ−キノリン−４−オン類、置換基を有してもよい２−イソチオクロマン−４−オン類、置換基を有してもよい２，３−ジヒドロ−１Ｈ−イソキノリン−４−オン類、置換基を有してもよい１−インダノン類、置換基を有してもよい２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン類、置換基を有してもよい２Ｈ−ベンゾチオピラン−３−オン類、置換基を有してもよいインドリン−３−オン類、置換基を有していてもよい４−ケト−４，５，６，７−テトラヒドロチアナフテン類等が挙げられる。
前記縮合環ケトン類の置換基としては、反応を阻害しないものであれば何でもよく、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；水酸基；アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アセチルアミノ等の置換されていてもよいアミノ基；メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキル基；エテニル、ｎ−プロペニル、イソプロペニル、ｎ−ブテニル、ｓｅｃ−ブテニル、ｔ−ブテニル、１，３−ブタジエニル、ｎ−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、ヘキセニル基等のＣ２〜Ｃ２０アルケニル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等のＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基；ベンジル、α−メチルベンジル、α，α−ジメチルベンジル、α−エチルベンジル基等のＣ７〜Ｃ２０アラルキル基；フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル基等のアリール基；メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ基等のＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基；アシルオキシ基；アシル基；ヘテロ環基；等が挙げられる。
前記アシルオキシ基としては、例えば、アセトキシ、エチルカルボニルオキシ、イソプロピルカルボニルオキシ基等のＣ１〜Ｃ１２のアルキルカルボニルオキシ基；ベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基；フェニルメチルカルボニルオキシ基等のアラルキルカルボニルオキシ基；等が挙げられ、前記アシル基としては、例えば、プロパノイル、イソプロピルカルボニル基等のＣ１〜Ｃ１２のアルキルカルボニル基、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基；ベンゾイル基等のアリールカルボニル基；フェニルメチルカルボニル基等のアラルキルカルボニル基；等が挙げられる。
前記ヘテロ環基としては、例えば、フラニル、ピラニル、ジオキソラニル基等の含酸素ヘテロ環基；チエニル基等の含イオウヘテロ環基；ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、ピリジル、ピラダジル、ピラジニル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾピラゾリル、ペンゾチアゾリル、キノリル、アントラニル、インドリル、フェナントロニリル基等の飽和若しくは不飽和の含窒素ヘテロ環基；等が挙げられる。
これらの置換基は、その置換位置、置換基の種類、置換基の数等に特に制限はない。また、例示した縮合環ケトン類のベンゼン環がこれらの置換基を有してもよい他の縮合環に置き換わってもよい。
さらに、前記した置換基は反応を阻害しない範囲において置換基をさらに有してもよい。かかる置換基としては、例えば、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子；水酸基；カルボキシル基；アミノ基；メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等のＣ１〜Ｃ６アルキル基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ基等のＣ１〜Ｃ６アルコキシ基；メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基等のＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基；ベンゼン環の任意の位置に置換基を有してもよいフェニル基；ナフタレン環の任意の位置に置換基を有してもよい、１−ナフチル、２−ナフチル基等のナフチル基；環の任意の位置に置換基を有してもよい、フラン、ピラン、ジオキソラン、ジオキサン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、トリアゾール、チアゾール、イソチアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピラジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾピラゾール、ベンゾチアゾール、キノリン等のヘテロ環基；等が挙げられる。
次に、α−アミノケトン類（５）について説明する。
式中、Ｒａ及びＲｃは、それぞれ独立して、水素原子；置換基を有してもよい、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ドデシル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキル基；置換基を有してもよい、ビニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−イソプロペニル、１−ブテニル、１−イソプロペニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１，３−ブタジエニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル基等のＣ２〜Ｃ２０アルケニル基；置換基を有してもよい、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等のＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基；置換基を有してもよい、ベンジル、α−メチルベンジル、α，α−ジメチルベンジル、α−エチルベンジル基等のＣ７〜Ｃ２０アラルキル基；置換基を有してもよい、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル基等のアリール基；置換基を有してもよいヘテロ環基等を表す。
かかるヘテロ環基としては、例えば、フラニル、ピラニル、ジオキソラニル基等の含酸素ヘテロ環基；チエニル基等の含イオウヘテロ環基；ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、トリアゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、ピリジル、ピラダジル、ピラジニル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾピラゾリル、ペンゾチアゾリル、キノリル、アントラニル、インドリル、フェナントロニリル基等の飽和若しくは不飽和の含窒素ヘテロ環基；等が挙げられる。
前記アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基及びヘテロ環基の置換基としては、本反応を阻害することのない置換基であれば、その置換位置、置換基の種類、置換基の数等に特に制限はない。その具体例としては、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子；水酸基；カルボキシル基；アミノ基；メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等のＣ１〜Ｃ６アルキル基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ基等のＣ１〜Ｃ６アルコキシ基；メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基等のＣ１〜Ｃ６アルコキシカルボニル基；ベンゼン環の任意の位置に置換基を有してもよいフェニル基；ナフタレン環の任意の位置に置換基を有してもよい（１−ナフチル、２−ナフチル基等の）ナフチル基；環の任意の位置に置換基を有してもよい（フラン、ピラン、ジオキソラン、ジオキサン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、トリアゾール、チアゾール、イソチアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピラジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾピラゾール、ベンゾチアゾール、キノリン等の）ヘテロ環基；等が挙げられる。
Ｒｂは、式（６）：Ｒ９ＣＯ（Ｒ１１）Ｎ−、式（７）：Ｒ９ＣＯ（Ｒ１０ＣＯ）Ｎ−、式（８）：Ｒ９Ｒ１１Ｎ−、のいずれかの基を表す。
ここで、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１はそれぞれ独立して、水素原子；メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔ−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキル基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｔ−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ｔ−ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル基等のＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基；シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ基等のＣ３〜Ｃ８シクロアルコキシ基；置換基を有してもよいＣ１〜Ｃ２０アルケニル基；ベンジル、４−クロロベンジル、α−メチルベンジル基等の置換基を有してもよいＣ７〜Ｃ２０アラルキル基；ベンジルオキシ、４−クロロベンジルオキシ、４−メチルベンジルオキシ基等の置換基を有してもよいＣ７〜Ｃ２０アラルキルオキシ基；フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル基等の置換基を有してもよいアリール基；ベンゾイルオキシ、１−ナフチルオキシ、２−ナフチルオキシ基等の置換基を有してもよいアリールオキシ基；等を表す。
本発明において、Ｒｃが水素原子以外の置換基の場合において、Ｒｂが式（６）で表される基であって、Ｒ１１が水素原子、かつ、Ｒ９がアルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基及びアラルキルオキシ基の何れかであると、アンチ立体配置の光学活性アミノアルコールが優先的に得られる。このためシン立体配置の光学活性アミノアルコールを得る場合にはそれ以外の置換基の組み合わせを選択する必要がある。
ここで、シン立体配置とは炭素鎖を主鎖としてジグザグに左右方向に置いた場合に、その上下方向にそれぞれ置換するアミノ基とヒドロキシルが同じ面を向くような立体配置のことをいい、アンチ立体配置とはアミノ基とヒドロキシル基が逆の面を向くような立体配置のことをいう。
前記アルコキシ基、アルケニル基、アラルキル基、アラルキルオキシ基、アリール基及びアリールオキシ基の置換基としては、本反応を阻害することのない置換基であれば、その置換位置、置換基の種類、置換基の数等に特に制限はない。その具体例としては、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子；水酸基；カルボキシル基；アミノ、メチルアミノ、アセチルアミノ等の置換基を有していてもよいアミノ基；メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等のＣ１〜Ｃ２０アルキル基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ基等のＣ１〜Ｃ２０アルコキシ基；メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基等のＣ１〜Ｃ２０アルコキシカルボニル基；ベンゼン環の任意の位置に置換基を有してもよいフェニル基；ナフタレン環の任意の位置に置換基を有してもよい（１−ナフチル、２−ナフチル基等の）ナフチル基；環の任意の位置に置換基を有してもよい（フラン、ピラン、ジオキソラン、ジオキサン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、トリアゾール、チアゾール、イソチアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピラジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾピラゾール、ベンゾチアゾール、キノリン等の）ヘテロ環基；等が挙げられる
また、Ｒ９とＲ１０とが又はＲ９とＲ１１とが結合して、５〜８員の含窒素ヘテロ環を形成してもよい。かかるヘテロ環のとしては、例えば、スクシンイミド、マレイミド、フタルイミド、１，２−シクロヘキサンカルボキサミド、２，４，６−トリオキソピペリジン、α−ピリドン等のイミド類等が挙げられる。
Ｒｂの具体例としては、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、プロピルカルボニルアミノ、ベンゾイルアミノ、４−メチルベンゾイルアミノ、２−クロロベンゾイルアミノ、３−メトキシベンゾイルアミノ、２−クロロ−４−メトキシベンゾイルアミノ基等のアシルアミノ基；ジアセチルアミノ、ジベンゾイルアミノ基等のジアシルアミノ基；Ｎ−アセチル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−ベンジルアミノ、Ｎ−ベンゾイル−Ｎ−ベンジルアミノ、４−メチルベンゾイルメチルアミノ基等のＮ−アルキル−Ｎ−アシルアミノ基；Ｎ−アセチル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−４−メチルファニルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−２−クロロフェニルアミノ、Ｎ−アセチル−Ｎ−２，４−ジクロロフェニルアミノ、Ｎ−ベンジル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−ベンジル−Ｎ−４−メチルフェニルアミノ、Ｎ−ベンジル−Ｎ−２−クロロフェニルアミノ、Ｎ−ベンジル−Ｎ−２，４−ジクロロフェニルアミノ基等のＮ−アリール−Ｎ−アシルアミノ基；Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エトキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−エトキシカルボニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−プロポキシカルボニル−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−イソプロポキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−ブトキシカルボニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−ブトキシアミノ基等のＮ−アルコキシカルボニル−Ｎ−アルキルアミノ基；
Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エトキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−エトキシカルボニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−プロポキシカルボニル−Ｎ−プロピルアミノ、Ｎ−イソプロポキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−ブトキシカルボニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−ブトキシアミノ基等のＮ−アルコキシカルボニル−Ｎ−アルキルアミノ基；Ｎ−メトキシカルボニル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−エトキシカルボニル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−プロポキシカルボニル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−イソプロポキシカルボニル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−ブトキシカルボニル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−フェニルアミノ基等のＮ−アルコキシカルボニル−Ｎ−アリールアミノ基；
Ｎ−メチル−メチルスルホニルアミノ、Ｎ−エチル−メチルスルホニルアミノ、Ｎ−プロピル−メチルスルホニルアミノ、Ｎ−イソプロピル−メチルスルホニルアミノ、Ｎ−ベンジル−メチルスルホニルアミノ、Ｎ−ブチル−メチルスルホニルアミノ、Ｎ−メチル−エチルスルホニルアミノ、Ｎ−エチル−エチルスルホニルアミノ、Ｎ−メチル−プロピルスルホニルアミノ、Ｎ−エチル−プロピルスルホニルアミノ、Ｎ−メチル−イソプロピルスルホニルアミノ、Ｎ−エチル−イソプロピルスルホニルアミノ、Ｎ−メチル−ブチルスルホニルアミノ、Ｎ−エチル−ブチルスルホニルアミノ、Ｎ−メチル−ｔ−ブチルスルホニルアミノ、Ｎ−エチル−ｔ−ブチルスルホニルアミノ等のＮ−アルキル−アルキルスルホニルアミノ基；Ｎ−メチル−フェニルスルホニルアミノ、Ｎ−エチル−フェニルスルホニルアミノ、Ｎ−ベンジル−フェニルスルホニルアミノ、Ｎ−メチル−４−メチルフェニルスルホニルアミノ、Ｎ−ベンジル−４−メチルフェニルスルホニルアミノ、Ｎ−エチル−２−クロロフェニルスルホニルアミノ、Ｎ−メチル−２，４−ジクロロフェニルスルホニルアミノ基等のＮ−アルキル−置換フェニルスルホニルアミノ基；
Ｎ−フェニル−メチルスルホニルアミノ、Ｎ−フェニル−エチルスルホニルアミノ、Ｎ−フェニル−プロピルスルホニルアミノ、Ｎ−フェニル−イソプロピルスルホニルアミノ、Ｎ−フェニル−ブチルスルホニルアミノ、Ｎ−フェニル−ｔ−ブチルスルホニルアミノ等のＮ−アリール−アルキルスルホニルアミノ基；Ｎ−フェニル−フェニルスルホニルアミノ、Ｎ−フェニル−４−メチルフェニルスルホニルアミノ、Ｎ−フェニル−２−クロロフェニルスルホニルアミノ、Ｎ−フェニル−２，４−ジクロロフェニルスルホニルアミノ基等のＮ−アリール−置換フェニルスルホニルアミノ基；スクシンイミドイル基、マレイミドイル基、フタルイミドイル基、３−メチルフタルイミドイル基、４−メチルフタルイミドイル基、４−ｎ−ブチルフタルイミドイル基、４−クロロフタルイミドイル基、テトラメチルフタルイミドイル基、１，２−シクロヘキサンカルボキサミドイル基、２，４，６−トリオキソピペリジン−１−イル基、α−ピリドン−１−イル基等のイミド基等を挙げることができる。
以上説明したような縮合ケトン類及びα−アミノケトン類は、公知の方法で製造し、入手することができる。
次に不斉水素化反応について説明する。
不斉水素化反応は、基質となる上記した縮合ケトン類（３）、（３’）又はα−アミノケトン類（５）を、式（１）で表されるルテニウム化合物の存在下に、所望により塩基を添加して、所定圧力の水素ガス又は水素供与体の存在下に不斉還元することにより行う。
また、本発明においては、ルテニウム化合物の原料となる▲１▼ルテニウム錯体（又はルテニウム塩）、リン化合物及びジアミン化合物とを別々に反応系に添加、又は▲２▼ホスフィン配位子を有するルテニウム錯体（又はルテニウム塩）及びジアミン化合物とを別々に反応系に添加して、必要に応じて塩基を添加してルテニウム化合物を生成させた後、該ルテニウム化合物を反応系から取り出すことなく、そこへ基質を添加することにより、ｉｎ  ｓｉｔｕで不斉水素化反応を行わせることもできる。
触媒として使用する式（１）で表されるルテニウム化合物の使用量は、反応容器の大きさや触媒活性によって異なるが、反応基質である縮合ケトン類又はα−ジアミノケトン類に対して、通常１／５０〜１／２，０００，０００倍モル、好ましくは１／５００〜１／５００，０００倍モルの範囲である。
用いられる塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ＤＡＢＣＯ、ＤＢＵ等の有機塩基；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム  ｔ−ブトキシド、マグネシウムメトキシド、マグネシウムエトキシド等の金属アルコキシド類；ｎ−ブチルリチウム等の有機リチウム化合物；ＬＤＡ、リチウムビストリメチルシリルアミド等のリチウムアミド類；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩；炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩；水素化ナトリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物；が挙げられる。
添加する塩基の量は、ルテニウム化合物に対し、通常２〜５００，０００倍モル、好ましくは、２〜５，０００倍モルの範囲である。
溶媒としては、基質及び触媒を可溶化するものであれば特に制限ない。その具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール等のアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類；ジクロロメタン、クロロホルム、トリクロロメタン、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン炭化水素類；ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；ＤＭＦ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド、１，３−ジメチルイミダゾリジン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン、ＨＭＰＴ等のアミド類；アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類；ＤＭＳＯ等を用いることができる。これらの溶媒は単独で、あるいは２種以上を混合して使用することもできる。これらの溶媒の中でも、反応生成物がアルコール化合物であることから、アルコール類の使用が好ましい。
溶媒の使用量は、式（３）、（３’）又は（５）で表されるケトン類の溶解度及び経済性に依存し、場合によっては無溶媒又は高希釈条件に近い状態でも反応は進行するが、通常、該ケトン類１００重量部に対して０．１〜１０，０００重量部、好ましくは２０〜１，０００重量部の範囲である。
水素の圧力は、通常、１〜２００気圧、好ましくは３〜５０気圧の範囲であり、水素供与体としては、例えば、水素貯蔵合金やジイミド等を用いることができ、その使用量は、式（３）、（３’）又は（５）で表されるケトン類に対して、通常、１〜１００倍当量の範囲である。
反応温度は、通常−５０〜１００℃、好ましくは２５〜４０℃の温度範囲である。また、反応時間は、反応基質濃度や温度、圧力等の反応条件に依存するが、通常、数分〜数日である。反応形式としては特に制限はないが、例えば、バッチ式においても連続式においても実施することができる。
反応終了後は、通常の有機合成化学的手法により、単離・精製を行い目的物を得ることができる。目的物の構造は、１Ｈ−ＮＭＲ、旋光度測定、液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段によって決定することができる。
発明の実施のための最良の形態：
次に、実施例で本発明を詳しく説明するが、本発明はこれらのみに限定されるものではない。尚、各実施例における物性の測定に用いた装置は次の通りである。
ＮＭＲスペクトル：Ｖａｒｉａｎ  ＧＥＭＩＮＩ−３００（３００ＭＨｚ）、バリアン社製
旋光度：ＪＡＳＣＯ  ＤＩＰ−３６０、日本分光（株）製
高速液体クロマトグラフィー：ＬＣ−１０Ａｄｖｐ、ＳＰＤ−１０Ａｖｐ、島津製作所（株）製
ガスクロマトグラフィー：ＧＣ−１７Ａ、Ｃ−Ｒ７Ａ  Ｐｌｕｓ、島津製作所（株）製
実施例１  （Ｒ，Ｒ）−１，４−ジアミノ−１，４−ジフェニルブタン塩酸塩
（工程１）（Ｓ，Ｓ）−１，４−ジヒドロキシ−１，４−ジフェニルブタンの製造
2004007506.tif 000009
１，４−ジオキソ−１，４−ジフェニルブタン０．４７７ｇ（２ｍｍｏｌ）のイソプロパノール３ｍｌ溶液、トルエン５ｍｌ及び水酸化カリウムイソプロパノール溶液（１Ｍ）０．２ｍｌを混合し脱気し、〔（Ｒ）−Ｘｙｌｙｌ−ＢＩＮＡＰ〕ＲｕＣｌ２〔（Ｒ）−１，１’−ジアニシル−２−イソプロピル−１，２−エチレンジアミン｛（Ｒ）−ＤＡＩＰＥＮと略す：Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１２０、１３５２９（１９９８）｝〕１２ｍｇ（０．０１ｍｍｏｌ）を加えた。その後、水素を８気圧まで圧入し、室温で１８時間攪拌した。反応液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製して、目的の（Ｓ，Ｓ）−１，４−ジヒドロキシ−１，４−ジフェニルブタン０．４３ｇを得た。収率９０％
（工程２）（Ｒ，Ｒ）−１，４−ジアジド−１，４−ジフェニルブタンの製造
2004007506.tif 000010
（Ｓ，Ｓ）−１，４−ジヒドロキシ−１，４−ジフェニルブタン０．５５ｇ（２．２７ｍｍｏｌ）とＤＢＵ０．７ｍｌ（２．７２ｍｍｏｌ）のトルエン６ｍｌ溶液にジフェニルホスホリルアジド１．７８ｇ（２．７２ｍｍｏｌ）を攪拌しながら０℃で添加した。室温で１８時間攪拌した後、反応液を希塩酸にあけ酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）で精製することにより、目的の（Ｒ，Ｒ）−１，４−ジアジド−１，４−ジフェニルブタン０．２１ｇを得た。収率３２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δｐｐｍ）：７．５−７．３（ｍ，１０Ｈ）、４．４（ｔ，２Ｈ）、１．９（ｍ，２Ｈ）、１．７（ｍ，２Ｈ）
（工程３）（１Ｒ，４Ｒ）−１，４−ジアミノ−１，４−ジフェニルブタン塩酸塩の製造
2004007506.tif 000011
（Ｒ，Ｒ）−１，４−ジアジド−１，４−ジフェニルブタン０．２１ｇ（０．８３ｍｍｏｌ）のエタノール６ｍｌ溶液に、５％パラジウムカーボン０．１ｇを加え、反応系を水素置換して、常温、常圧下に４８時間攪拌した。反応終了後、反応溶液から不溶物を濾別し、濾液に濃塩酸を加えて濃縮し、析出した結晶を濾取した。得られた結晶を酢酸エチルで洗浄し、乾燥することにより、目的とする（１Ｒ，４Ｒ）−１，４−ジアミノ−１，４−ジフェニルブタン塩酸塩０．１ｇを得た。収率３７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δｐｐｍ）：８．６（ｓ，６Ｈ）、７．４（ｓ，１０Ｈ）、４．２（ｍ，２Ｈ）、２．０（ｍ，２Ｈ）、１．５（ｍ，２Ｈ）
［α］Ｄ２４＝−１０．１°（ｃ＝１．０，ＭｅＯＨ）
実施例２  （１Ｒ，４Ｒ）−１，４−ジアミノ−１，４−ジシクロヘキシルブタン
オートクレーブ中に（１Ｒ，４Ｒ）−１，４−ジアミノ−１，４−ジフェニルブタン０．２ｇをメタノール３ｍｌに溶解し、ロジウム／アルミナ触媒を加えた後に１０気圧の水素加圧下室温で５時間撹拌した。触媒を濾過し、濾液を濃縮することにより目的物を定量的に得た。第１表に１Ｈ−ＮＭＲデータを示した。
実施例３  （２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−３，４−ジヒドロキシ−２，５−ジアミノヘキサン
（工程１）（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−３，４−ジヒドロキシ−２，５−ジアジドヘキサンの製造
（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−３，４−ジヒドロキシ−２，５−ヘキサンジオール  ビスメタンスルホナート（１．５２ｇ、４．４ｍｍｏｌ）をＤＭＳＯ（１５ｍｌ）に溶解し、アジ化ナトリウム（１．２７ｇ、１７．５ｍｍｏｌ）を加えて５０度で２４時間撹拌した。反応終了後、反応溶液に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）で精製することによりジアジド体０．７１ｇを得た。収率６７％。
（工程２）（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−３，４−ジヒドロキシ−２，５−ジアミノヘキサンの製造
３，４−Ｏ−イソプロピリデン−（３Ｒ，４Ｒ）−ジヒドロキシ−（２Ｒ，５Ｒ）−ジアジドヘキサン０．７１ｇをメタノール５ｍｌに溶解し、５％パラジウムカーボン０．１ｇを加え反応系を水素置換して常温、常圧下２４時間撹拌した。反応終了後反応溶液から不溶物を濾別し、濾液を濃縮して得られた残留物をクーゲルロールで蒸留（１６０度／５ｍｍＨｇ）して目的物０．４９ｇを得た。収率８８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δｐｐｍ）：３．６８（ｍ，２Ｈ）、３．０（ｍ，２Ｈ）、１．４６（ｂｓ，４Ｈ）、１．３９（ｓ，６Ｈ）、１．１６（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，６Ｈ）
〔α〕Ｄ２３＝２８．９°（ｃ＝１．４，ＭｅＯＨ）
上記実施例と同様にして得られた本発明のジアミン化合物を第１表に示した。
2004007506.tif 000012
実施例４  ＲｕＣｌ２〔（Ｓ）−Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ〕〔（２Ｒ，５Ｒ）−２，５−ジアミノヘキサン〕
2004007506.tif 000013
シュレンクチューブ中にイソプロパノール２ｍｌ、（２Ｒ，５Ｒ）−２，５−ジアミノヘキサン５ｍｇ（０．０２５ｍｍｏｌ）を加え、脱気した後、ＲｕＣｌ２〔（Ｓ）−Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ〕のＤＭＦ付加物２５ｍｇ（０．０２５ｍｍｏｌ）を加えて溶解させた。溶媒を減圧留去することにより目的物を得た。
この化合物の３１Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）を測定した結果、４３．９ｐｐｍにシングレットピークが観測された。
実施例５  ＲｕＣｌ２〔（Ｒ）−Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ〕〔（１Ｒ，４Ｒ）−１，４−ジアミノ−１，４−ジフェニルブタン〕
2004007506.tif 000014
シュレンクチューブ中にイソプロパノール２ｍｌ、（１Ｒ，４Ｒ）−１，４−ジアミノ−１，４−ジフェニルブタン８ｍｇ（０．０２５ｍｍｏｌ）を加え、脱気した後、ＲｕＣｌ２〔（Ｒ）−Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ〕のＤＭＦ付加物２５ｍｇ（０．０２５ｍｍｏｌ）を加えて溶解させた。溶媒を減圧留去することにより目的物を得た。
この化合物の３１Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）を測定した結果、４４．６ｐｐｍにシングレットピークが観測された。
実施例６  ＲｕＣｌ２［（Ｓ）−ｂｉｎａｐ］［（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−３，４−ジヒドロキシ−２，５−ジアミノヘキサン］
シュレンクチューブ中に脱気したイソプロパノール５ｍｌ、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−３，４−Ｏ−イソプロピリデン−３，４−ジヒドロキシ−２，５−ジアミノヘキサン５０ｍｇ（０．２６６ｍｍｏｌ）、［ＲｕＣｌ２（シメン）］２８２ｍｇ（０．１３４ｍｍｏｌ）を加え、還流下３０分撹拌した。続いて（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ１６６ｍｇ（０．２６６ｍｍｏｌ）を加えて還流下４５分撹拌した。冷却した後ヘキサンを加えて析出した結晶を濾別して目的物を得た。
この化合物の３１Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）を測定した結果、４５．４ｐｐｍにシングレットピークが観測された。
実施例７  （Ｒ）−１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフトールの製造
2004007506.tif 000015
アルゴン雰囲気下、簡易型オートクレーブ（容量１００ｍｌ）中に、（２Ｒ，５Ｒ）−２，５−ジアミノヘキサン塩酸塩１ｍｇ（０．００５ｍｍｏｌ）、テトラロン０．３７ｇ（２．５ｍｍｏｌ）、水酸化カリウムイソプロパノール溶液（１Ｍ）７５μｌ及びイソプロパノール１．５ｍｌを室温で添加し、脱気した後、ＲｕＣｌ２［（Ｓ）−Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ］のＤＭＦ付加物５ｍｇ（０．００５ｍｍｏｌ）を加えた。反応系内に水素を８気圧まで圧入し、室温にて１．５時間攪拌した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ジエチルエーテル）で精製して光学異性体混合物を得た。転化率６４％
このものの光学純度をガスクロマトグラフィー（移動相：ヘリウム、カラム：ＣＰ−Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ−Ｄｅｘ  ＣＢ、クロムパック（株）製）で測定したところ、９１％ｅｅであった。
実施例７と同じ条件で、原料のテトラロンを変えた場合の反応生成物の光学純度（％ｅｅ）を第２表に示した。
2004007506.tif 000016
実施例８  （Ｓ）−１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフトールの製造
2004007506.tif 000017
アルゴン雰囲気下、簡易型オートクレーブ（容量１００ｍｌ）中に、（Ｓ，Ｓ）−２，４−ジアミノペンタン塩酸塩１．ｍｇ（０．００５ｍｍｏｌ）、テトラロン０．３７ｇ（２．５ｍｍｏｌ）、水酸化カリウムイソプロパノール（１Ｍ）７５μｌ及びイソプロパノール３ｍｌを室温で添加し、脱気した後、ＲｕＣｌ２［（Ｒ）−Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ］のＤＭＦ付加物５ｍｇ（０．００５ｍｍｏｌ）を加えた。反応系内に水素ガスを８気圧まで圧入し、室温にて１．５時間攪拌した後、反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ジエチルエーテル）で精製して光学異性体混合物を得た。転化率８３％。
このものの光学純度を高速液体クロマトグラフィー（移動相：ヘキサン／イソプロパノール＝９／１、カラム：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ  ＯＢ、ダイセル化学工業（株）製）で測定したところ７５％ｅｅであった。
実施例８と同じ条件で、ジアミンを変えて反応を行い、得られた（Ｓ）−１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフトールの転化率％、光学純度％ｅｅを第３表に示した。
2004007506.tif 000018
実施例９  光学活性７−メトキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフトールの製造
簡易型オートクレーブ（容量１００ｍｌ）中に、７−メトキシ−１−テトラロン０．１９ｇ（１ｍｍｏｌ）、ＲｕＣｌ２［（Ｒ）−ｂｉｎａｐ］［（１Ｒ，４Ｒ）−１，４−ジフェニルブタン−１，４−ジアミン］５ｍｇ（０．００５ｍｍｏｌ）を加えアルゴン置換した後に、脱気したイソプロパノール２．５ｍｌおよび水酸化カリウムイソプロパノール溶液（１Ｍ）１００μｌを加えた。反応系内に水素を８気圧まで圧入し、室温にて１．５時間撹拌した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）で精製し光学異性体混合物を定量的に得た。
このものの光学純度を高速液体クロマトグラフィー（移動相：ヘキサン／イソプロパノール＝９２／８、カラム：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ  ＯＤ−Ｈ、ダイセル化学工業（株）製）で測定したところ、９２％ｅｅであった。
実施例１０  光学活性５−メトキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフトールの製造
簡易型オートクレーブ（容量１００ｍｌ）中に、５−メトキシ−１−テトラロン０．４１ｇ（２．５ｍｍｏｌ）、ＲｕＣｌ２［（Ｓ）−ｂｉｎａｐ］［（２Ｒ，５Ｒ）−ジアミノヘキサン］５ｍｇ（０．００５ｍｍｏｌ）を加えアルゴン置換した後に、脱気したイソプロパノール２ｍｌおよび水酸化カリウムイソプロパノール溶液（１Ｍ）１００μｌを加えた。反応系内に水素を８気圧まで圧入し、室温にて２時間撹拌した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）で精製し光学異性体混合物０．３６ｇを得た。収率８７％
このものの光学純度を高速液体クロマトグラフィー（移動相：ヘキサン／イソプロパノール＝９／１、カラム：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ  ＯＢ、ダイセル化学工業（株）製）で測定したところ、９５％ｅｅであった。
実施例１１  光学活性シス−２−メチル−１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフトールの製造
簡易型オートクレーブ（容量１００ｍｌ）中に、ＲｕＣｌ２［（Ｓ）−ｂｉｎａｐ］［３，４−Ｏ−イソプロピリデン−（３Ｒ，４Ｒ）−ジヒドロキシ−（２Ｒ，５Ｒ）−ジアミノヘキサン］５ｍｇ（０．００５ｍｍｏｌ）を加えアルゴン置換した後に、イソプロパノール２．５ｍｌ中に水酸化カリウムイソプロパノール溶液（１Ｍ）１００μｌおよび２−メチル−１−テトラロン０．１６ｇ（１ｍｍｏｌ）を溶解したものを脱気した後に加えた。反応系内に水素を８気圧まで圧入し、室温にて２時間撹拌した。
このものをガスクロマトグラフィー（移動相：ヘリウム、カラム：βＤＥＸ３２５、スペルコ製）で測定したところ、転化率＞９９％、９８％ｄｅ、８８％ｅｅであった。
比較例１
ホスフィン配位子として（Ｒ）−Ｘｙｌｙｌ−ＢＩＮＡＰを用い、ジアミンとして（１Ｒ，２Ｒ）−ジフェニルエチレンジアミンを用いた以外は実施例１０と同じ条件で実験を行った。転化率２６％、２６％ｄｅ、８４％ｅｅ（ｃｉｓ体）、３３％ｅｅ（ｔｒａｎｓ体）であった。
実施例１２  光学活性−１−フェニル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイルアミノ）−１−プロパノールの製造
2004007506.tif 000019
アルゴン雰囲気下、簡易型オートクレーブ（容量１００ｍｌ）中に、（２Ｒ，５Ｒ）−２，５−ジアミノヘキサン塩酸塩２．２ｍｇ（０．０１２５ｍｍｏｌ）、１−フェニル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイル）アミノプロパン−１−オン０．６７ｇ（２．５ｍｍｏｌ）、０．１Ｎのｔ−ブトキシカリウムのイソプロパノール１．５ｍｌ溶液及びイソプロパノール５ｍｌを室温で添加し、脱気した後、ＲｕＣｌ２〔（Ｓ）−Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ〕のＤＭＦ付加物１２．５ｍｇ（０．０１２５ｍｍｏｌ）を加えた。反応系内に水素を１２気圧まで圧入し、２５℃にて１時間攪拌した後、反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ジエチルエーテル）で精製して、光学活性−１−フェニル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイルアミノ）−１−プロパノール０．６５ｇを得た。収率９７％
このものの光学純度及びジアステレオマー純度を高速液体クロマトグラフィー（移動相：ヘキサン／エタノール＝１５／１、カラム：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ  ＯＪ、ダイセル化学工業（株）製）で測定したところ、光学純度は８９％ｅｅであり、ジアステレオマー純度は９９％ｄｅ以上であった。
実施例１３  光学活性−１−フェニル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイルアミノ）−１−プロパノールの製造
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アルゴン雰囲気下、簡易型オートクレーブ（容量１００ｍｌ）中に、（１Ｒ，４Ｒ）−１，４−ジフェニルブタン−１，４−ジアミン３．６ｍｇ（０．０１ｍｍｏｌ）、１−フェニル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイル）アミノプロパン−１−オン０．５３ｇ（２ｍｍｏｌ）、水酸化カリウムイソプロパノール（１Ｍ）１００μｌ及びイソプロパノール５ｍｌを室温で添加し、脱気した後、ＲｕＣｌ２［（Ｒ）−Ｔｏｌ−ＢＩＮＡＰ］のＤＭＦ付加物の１０ｍｇ（０．０１ｍｍｏｌ）を加えた。反応系内に水素ガスを１２気圧まで圧入し、２５℃にて１時間攪拌した後、反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ジエチルエーテル）で精製して、光学活性−１−フェニル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイルアミノ）−１−プロパノール０．５ｇを得た。収率９４％
このものの光学純度及びジアステレオマー純度を高速液体クロマトグラフィー（移動相：ヘキサン／エタノール＝１５／１、カラム：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ  ＯＪ、ダイセル化学工業（株）製）で測定したところ、光学純度９４％ｅｅであり、ジアステレオマー純度９９％ｄｅ以上であった。
実施例１４  光学活性−１−フェニル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイル）アミノ−１−プロパノールの製造
簡易型オートクレーブ（容量１００ｍｌ）中に１−フェニル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイル）アミノプロパン−１−オン１３．４ｇ（５０ｍｍｏｌ）およびイソプロパノール５０ｍｌを加え脱気した後アルゴン雰囲気に置換した。このものへ、脱気した１Ｍ水酸化カリウムのイソプロパノール０．５ｍｌ溶液及びイソプロパノール３ｍｌにＲｕＣｌ２［（Ｓ）−ｂｉｎａｐ］［３，４−Ｏ−イソプロピリデン−（３Ｒ，４Ｒ）−ジヒドロキシ−（２Ｒ，５Ｒ）−ジアミノヘキサン］２．５ｍｇ（０．００２５ｍｍｏｌ）を室温で添加ししばらく撹拌する事により調製した触媒溶液を加えた。反応系内に水素を１００気圧まで圧入し、２５℃にて１８時間攪拌した後、転化率、光学純度及びジアステレオマー純度を高速液体クロマトグラフィー（移動相：ヘキサン／エタノール／イソプロパノール＝８０／１０／１０、カラム：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ  ＯＪ、ダイセル化学工業（株）製）で測定したところ、転化率９０％、光学純度は９５％ｅｅであり、ジアステレオマー純度は９９％ｄｅ以上であった。
このものをヘキサン−イソプロパノール混合溶媒で再結晶することにより光学的に純粋な（１Ｒ，２Ｒ）−１−フェニル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイル）アミノ−１−プロパノールを９．８６ｇ得た。収率７４％。
実施例１５（１Ｓ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）−２，３−Ｏ−イソプロピリデン−（２，３）−ジヒドロキシ−（１，４）−ジアミノ−（１，４）−ジフェニルブタン
（工程１）（２Ｒ，３Ｒ）−２，３−Ｏ−イソプロピリデン−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ジフェニル−１，４−ブタンジオンの製造
２Ｒ，３Ｒ−Ｏ−イソプロピリデン酒石酸  ビスＮ，Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミド（２．０ｇ、７．２５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（５０ｍｌ）に溶解し、０℃でフェニルマグネシウムブロマイドの１Ｍ溶液３０ｍｌ（３０ｍｍｏｌ）を加えて、２時間撹拌した。反応終了後、反応溶液に水を加え１規定の塩酸で中和した後に酢酸エチルで抽出した。有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１９／１−４／１）で精製することによりジケトン体１．８７ｇを得た。収率８２％。
（工程２）（１Ｒ，２Ｓ、３Ｓ，４Ｒ）−２，３−Ｏ−イソプロピリデン−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ジフェニル−１，４−ブタンジオールの製造
（２Ｒ，３Ｒ）−２，３−Ｏ−イソプロピリデン−（２，３）−ジヒドロキシ−（１，４）−ジフェニル−（１，４）−ブタンジオン８０ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）をＴＨＦ５ｍｌに溶解し、水素化ホウ素ナトリウム１０ｍｇをメタノール５ｍｌに溶かした溶液を−７８度で加えて、１時間撹拌した。反応終了後、反応溶液に水を加え１規定の塩酸で中和した後に酢酸エチルで抽出した。有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１９／１−２／１）で精製することによりジオール体５１ｍｇを得た。収率６４％。
（工程３）（１Ｒ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）−２，３−Ｏ−イソプロピリデン−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ジフェニル−１，４−ブタンジオール  ビスメタンスルホナートの製造
（１Ｒ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）−２，３−Ｏ−イソプロピリデン−（２，３）−ジヒドロキシ−（１，４）−ジフェニル−（１，４）−ブタンジオール８０ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）をジクロロメタン１ｍｌ、ピリジン１ｍｌに溶解し、無水メタンスルホン酸を０度で加えて、室温で１８時間撹拌した。反応終了後、反応溶液に水を加え１規定の塩酸で中和した後に酢酸エチルで抽出した。有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝４／１−２／１）で精製することによりジオール体８８ｍｇを得た。収率７５％。
（工程４）（１Ｓ，２Ｓ、３Ｓ，４Ｓ）−２，３−Ｏ−イソプロピリデン−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ジアジド−１，４−ジフェニルブタンの製造
（１Ｒ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｒ）−２，３−Ｏ−イソプロピリデン−（２，３）−ジヒドロキシ−（１，４）−ジフェニル−（１，４）−ブタンジオール  ビスメタンスルホナート１．０３ｇ（２．１９ｍｍｏｌ）をＤＭＳＯ２０ｍｌに溶解し、アジ化ナトリウム５．５ｇ（８４．６ｍｍｏｌ）を加えて６０度で１８時間撹拌した。反応終了後、反応溶液に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１−４／１）で精製することによりジアジド体０．６１ｇを得た。収率７７％。
（工程５）（１Ｓ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）−２，３−Ｏ−イソプロピリデン−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ジアミノ−１，４−ジフェニルブタンの製造
（１Ｓ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）−２，３−Ｏ−イソプロピリデン−（２，３）−ジヒドロキシ−（１，４）−ジアジド−（１，４）−ジフェニルブタン０．６１ｇをメタノール１０ｍｌに溶解し、５％パラジウムカーボン０．５ｇを加え１気圧の水素雰囲気下、室温で２４時間撹拌した。反応終了後反応溶液から不溶物を濾別し、濾液を濃縮して得られた残留物をメタノール／ジエチルエーテルで再結晶することにより目的物０．１２２ｇを得た。収率２３％。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δｐｐｍ）：７．２６（ｍ，１０Ｈ）、４．１７（ｍ，２Ｈ）、３．９５（ｍ，２Ｈ）、１．１６（ｓ，６Ｈ）
〔α〕Ｄ２８＝−４２．５°（ｃ＝０．２，ＭｅＯＨ）
前記の実施例３および１５の合成方法によって合成した１，４−ジアミン
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2004007506.tif 000022
実施例１６  ＲｕＣｌ２〔（Ｒ）−ｂｉｎａｐ〕〔（１Ｓ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）−２，３−Ｏ−イソプロピリデン−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ジアミノ−１，４−ジフェニルブタン〕の製造
シュレンクチューブ中にイソプロパノール２ｍｌ、（１Ｓ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）−２，３−Ｏ−イソプロピリデン−（２，３）−ジヒドロキシ−（１，４）−ジアミノ−（１，４）−ジフェニルブタン７．８ｍｇ（０．０２５ｍｍｏｌ）を加え、脱気した後、ＲｕＣｌ２〔（Ｒ）−ＢＩＮＡＰ〕のＤＭＦ付加物２５ｍｇ（０．０２５ｍｍｏｌ）を加えて溶解させた。溶媒を減圧留去することにより目的物を得た。
この化合物の３１Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）を測定した結果、４５．０ｐｐｍにシングレットピークが観測された。
実施例１７  （１Ｓ，２Ｓ）−１−フェニル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイルアミノ）−１−プロパノールの製造
アルゴン雰囲気下、簡易型オートクレーブ（容量１００ｍｌ）中に、１−フェニル−２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ベンゾイル）アミノプロパン−１−オン０．１０ｇ（０．３８ｍｍｏｌ）、水酸化カリウムイソプロパノール溶液（０．１Ｍ）１ｍｌ及びイソプロパノール２ｍｌを室温で添加し、脱気した後、ＲｕＣｌ２〔（Ｒ）−ｂｉｎａｐ〕〔（１Ｓ，２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）−２，３−Ｏ−イソプロピリデン−２，３−ジヒドロキシ−１，４−ジアミノ−１，４−ジフェニルブタン〕３ｍｇ（０．００３ｍｍｏｌ）を加えた。反応系内に水素を１０気圧まで圧入し、２５℃にて１時間攪拌した後、反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：ジエチルエーテル）で精製して光学異性体混合物を得た。転化率９９％以上。
このものの光学純度及びジアステレオマー純度を高速液体クロマトグラフィー（移動相：ヘキサン／エタノール／イソプロパノール＝８／１／１、カラム：Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ  ＯＪ、ダイセル化学工業（株）製）で測定したところ、光学純度は９８％ｅｅであり、ジアステレオマー純度は９９％ｄｅ以上であった。
産業上の利用可能性：
以上説明したように、本発明によれば、入手容易なルテニウム化合物、該ルテニウム化合物の配位子として好適に用いることができるジアミン化合物を提供できる。
また、該ルテニウム化合物を触媒として用いて、縮合環ケトン類やα−アミノケトン類を不斉還元することにより、対応する光学活性アルコール類を、高立体選択的かつ高収率で製造することができる。
【国際調査報告】
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