(57)【要約】挿入板と溝との相対位置検出、挿入板の運動異常検出、静止位置不良検出などのモニタリングを行う。第１の光導波路と第２の光導波路との交差位置に配置され、光導波路の光路を制御するための溝（１３）を有する導波路型光学装置において、溝（１３）に挿入可能に配置された挿入板（１４）と、挿入板（１４）の速度ベクトル（Ａ）と磁界ベクトル（Ｂ）とのベクトル積が０でない静磁場を与える手段と、速度ベクトルおよび磁界ベクトルと互いに直交する方向の配線部分（２０ａ）を一部に含む電気配線（２０）を有し、挿入板（１４）を支持するカンチレバー（１９）と、電気配線（２０）に誘導される電流を検出し、挿入板（１４）と溝（１３）との相対位置を検出する手段とを備えた。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に配置された第１の光導波路と、前記基板上に配置され前記第１の光導波路と交差する第２の光導波路と、前記第１の光導波路と前記第２の光導波路との交差位置に配置され、前記光導波路の光路を制御するための溝とを有する導波路型光学装置において、
前記溝に挿入可能に配置された挿入板と、
前記挿入板の速度ベクトルと磁界ベクトルとのベクトル積が０でない静磁場を与える手段と、
前記速度ベクトルおよび前記磁界ベクトルと互いに直交する方向の配線部分を一部に含む電気配線を有し、前記挿入板を支持するカンチレバーと、
前記電気配線に誘導される電流を検出し、前記挿入板と前記溝との相対位置を検出する手段と
を備えたことを特徴とする導波路型光学装置。
【請求項２】
前記溝は、前記光導波路の屈折率に整合する屈折率を有する液体が充填されていることを特徴とする請求項１に記載の導波路型光学装置。
【請求項３】
前記挿入板は反射面を有し、前記溝との相対位置により、前記第１の光導波路の入力ポートから該第１の光導波路の出力ポートに至る光路、ならびに前記第１の光導波路の入力ポートから前記第２の光導波路の出力ポートに至る光路の一方を選択することを特徴とする請求項１に記載の導波路型光学装置。
【請求項４】
前記電気配線は、前記挿入板を前記溝に挿入するために、前記カンチレバーを駆動するロレンツ力を与える印加電流を流すことを特徴とする請求項１に記載の導波路型光学装置。
【請求項５】
前記静磁場を与える手段は、前記光導波路上への垂直方向からの投影像が前記光導波路面内に収まる大きさと形状とを有する板状の磁石を含むことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の導波路型光学装置。
【請求項６】
前記静磁場を与える手段は、板状の磁石を含み、該磁石は、前記光導波路上へ垂直方向から投影した輪郭の直線部分の伸長方向が、前記磁石により生じる磁界方向と直交しないように配置されていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の導波路型光学装置。
【請求項７】
基板上に配置された光導波路の光路を制御するための溝に挿入可能に配置された挿入板と前記溝との相対位置を検出する位置検出方法であって、
前記挿入板の速度ベクトルと磁界ベクトルとのベクトル積が０でない静磁場を与え、
前記速度ベクトルおよび前記磁界ベクトルと互いに直交する方向の配線部分を一部に含む電気配線を有し、前記挿入板を支持するカンチレバーに、所定の時間だけパルス状の駆動力を加え、
前記電気配線に誘導される電流を検出し、
前記挿入板と前記溝との相対位置を検出することを特徴とする位置検出方法。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、導波路型光学装置および位置検出方法に関し、より詳細には、基板上に配置された光導波路の光路を制御するための溝に挿入可能に配置された挿入板を有する導波路型光学装置および挿入板と溝との相対位置を検出する位置検出方法に関する。
背景技術
近年、光通信システムにおいて、光路を変換して光信号のスイッチングを行う光スイッチが用いられている。特に、複数の入力と複数出力との間で、光路の切替を行うためのマトリクス型光スイッチの需要が高い。代表的なマトリクス型光スイッチとして、光路間に設けられた溝に、ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ  Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｓｙｓｔｅｍｓ）技術で構築された微小ミラーを出し入れすることにより、光路を切り替える光スイッチが知られている。
図１Ａ，１Ｂに、従来のマトリクス型光スイッチの構成を示す。マトリクス型光スイッチは、入力数をｍ、出力数をｎとすると、互いに平行なｍ本の光導波路と互いに平行なｎ本の光導波路とを交差させ、それぞれの交差位置に溝を形成し、交差する光導波路のコア部分を切削している。図１Ａは、溝部分を拡大して示した上面図である。コア層とクラッド層とからなる２つの光導波路５１，５２の交点に溝５３が設けられている。
図１Ｂは、図１ＡのＩＢ−ＩＢの断面図である。基板５５上に光導波路を構成する下部クラッド層５６と、コア層５７とを順次堆積し、フォトリソグラフィで光導波路５１，５２を形成する。下部クラッド層５６とコア層５７とを上部クラッド層５８で覆い、光導波路が完成する。溝５３は、コア層５７と下部クラッド層５６の一部とを削除して設けられている。
溝５３の上部には、先端部に挿入板５４が取り付けられたカンチレバー５９が設置されている。挿入板５４は、溝５３の深さ方向、すなわち光導波路の垂直方向に移動可能なように構成されている。挿入板５４がコア層５７を遮らない場合には、光導波路５１，５２の各々は透過状態になり、挿入板５４がコア層５７を遮断する場合には、光導波路５１，５２の各々は遮断状態となる。挿入板５４が反射面を有することにより、遮断状態においては、光導波路５１ａから入射した光を光導波路５２ａに、または光導波路５１ｂから入射した光を光導波路５２ｂに結合することができる。このようにして、ｍ×ｎのマトリクス型光スイッチを構成することができる。
挿入板５４と溝５３との相対位置関係の制御は、カンチレバー５９の駆動によって行われている。典型的な駆動原理としては、バイメタルを用いた温度制御による。例えば、カンチレバー５９に抵抗発熱源となる電気配線を付し、印加電流を変えることで温度制御を行い、バイメタルによる駆動力とカンチレバーに固定されたバネの反発力との釣り合いから位置合わせを行う。また、カンチレバーの自由先端部分を静電気の引力によって固定基板側に引き寄せる方法が、Ｍ．Ｋａｔａｙａｍａ  ｅｔ  ａｌ  “Ｍｉｃｒｏｍａｃｈｉｎｅｄ  ２ｘ２  Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｓｗｉｔｃｈ  Ａｒｒａｙ  ｂｙ  Ｓｔｒｅｓｓ−Ｉｎｄｕｃｅｄ  Ｂｅｎｄｉｎｇ”，Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ  Ｄｉｇｅｓｔ  Ｆｏｒｔｈ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｔｏｐｉｃａｌ  Ｍｅｅｔｉｎｇ  ｏｎ  Ｃｏｎｔｅｍｐｏｒａｒｙ  Ｐｈｏｔｏｎｉｃ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ（ＣＴＰ  ２００１），ｐ．２７−２８，Ｍｃ−４，Ｊａｎ．１５−１７，２００１に記載されている。
従来の駆動原理においては、カンチレバーのバネの反発力を制御するためにバイメタルを加熱する印加電流、反発力に対抗して与える静電気量を定める印加電圧を制御する。しかしながら、挿入板と溝との相対位置関係を検出し、挿入板の静止位置を決めるための情報を得ることができないという問題があった。
従って、カンチレバーのバイメタルとしての機械的特性の変化、挿入板とカンチレバーとの接続支持部分の変形などによって生ずる挿入板と溝との相対位置の経時変化を検出することができず、カンチレバーの折損などによる故障の検出もできないという問題もあった。
発明の開示
本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、挿入板と溝との相対位置検出、挿入板の運動異常検出、静止位置不良検出などのモニタリングを行うことができる導波路光学装置および位置検出方法を提供することにある。
本発明は、このような目的を達成するために、基板上に配置された第１の光導波路と、この第１の光導波路と交差する第２の光導波路と、第１の光導波路と第２の光導波路との交差位置に配置され、光導波路の光路を制御するための溝とを有する導波路型光学装置において、溝に挿入可能に配置された挿入板と、挿入板の速度ベクトルと磁界ベクトルとのベクトル積が０でない静磁場を与える手段と、速度ベクトルおよび磁界ベクトルと互いに直交する方向の配線部分を一部に含む電気配線を有し、挿入板を支持するカンチレバーと、電気配線に誘導される電流を検出し、挿入板と溝との相対位置を検出する手段とを備えた。
従って、挿入板と溝との相対位置検出、挿入板の運動異常検出、静止位置不良検出などのモニタリングを行うことができる。
溝には、光導波路の屈折率に整合する屈折率を有する液体を充填することができる。
挿入板は、反射面を有し、溝との相対位置により、第１の光導波路の入力ポートから第１の光導波路の出力ポートに至る光路、ならびに第１の光導波路の入力ポートから第２の光導波路の出力ポートに至る光路の一方を選択することができる。
電気配線には、挿入板を溝に挿入するために、カンチレバーを駆動するロレンツ力を与える印加電流を流す。
また、本発明は、基板上に配置された光導波路の光路を制御するための溝に挿入可能に配置された挿入板と溝との相対位置を検出する位置検出方法であって、挿入板の速度ベクトルと磁界ベクトルとのベクトル積が０でない静磁場を与え、速度ベクトルおよび磁界ベクトルと互いに直交する方向の配線部分を一部に含む電気配線を有し、挿入板を支持するカンチレバーに、所定の時間だけパルス状の駆動力を加え、電気配線に誘導される電流を検出し、挿入板と溝との相対位置を検出する。
発明を実施するための最良の形態
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について詳細に説明する。導波路光学装置の一例として、光スイッチについて説明する。
図２に、本発明の一実施形態にかかる光スイッチの構成を示す。基板１５上に光導波路を構成する下部クラッド層１６と、コア層１７とを順次堆積し、フォトリソグラフィで光導波路を形成する。下部クラッド層１６とコア層１７とを上部クラッド層１８で覆い、光導波路が完成する。溝１３は、コア層１７と下部クラッド層１６の一部とを削除して設けられている。溝１３の上部には、先端部に挿入板１４が取り付けられたカンチレバー１９が設置されている。挿入板１４は、溝１３の深さ方向（矢印Ａ）、すなわち光導波路の垂直方向に移動可能なように構成されている。
また、溝１３には、光導波路の屈折率に整合する屈折率を有するマッチングオイルが充填され、挿入板１４が運動する空間には、静磁場が矢印Ｂの方向に印加されている。静磁場を与える手段（不図示）としては、基板１５の裏面に近接して、または上部クラッド層１８に近接して、例えば、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系の組成を有する磁石を設置する。基板１５は１ｍｍ以下のＳｉ基板であり、非磁性材料であるから、挿入板１４が運動する空間に近接磁場を形成することができる。
図３Ａ，３Ｂに、本発明の一実施形態にかかる挿入板の駆動機構を示す。図３Ａは上面図であり、図３Ｂは下面図である。カンチレバー１９には挿入板１４が取り付けられている。挿入板１４は、図２に示した矢印Ａの方向に取り付けられていればよく、図４に示すように、挿入板１４の方向は問わない。カンチレバー１９の下面には、電気配線２０が付され、駆動機構の外部に設けられた電流計２１に接続されている。
電気配線２０は、図２に示した静磁場の方向Ｂと垂直の方向に、一定の長さの配線部分２０ａを有している。静磁場は、磁界ベクトルＢと挿入板１４の速度ベクトルｖとのベクトル積Ｂ×ｖが０でない系となるように印加される。
従って、配線部分２０ａは、速度ベクトルおよび磁界ベクトルと互いに直交するので、挿入板１４が、図２に示した矢印Ａの方向に移動すると、電気配線２０に誘導電流が流れ、電流計２１で検出することができる。一定時間Δｔの間だけ一定の駆動力Δｆをカンチレバー１９に加えた時の、挿入板１４の変位Δｘは、電流計２１で検出された電流値に対応する。不図示の検出手段により、電流計２１の電流値に応じて、挿入板と溝との相対位置を検出する。
なお、配線部分２０ａは、速度ベクトルおよび磁界ベクトルと互いに直交するような直線部分としたが、配線部分２０ａは、斜めであってもよいし、曲線であってもよい。すなわち、速度ベクトルおよび磁界ベクトルと互いに直交する成分を、一部に含む配線部分であればよい。カンチレバー１９の駆動力としては、バイメタルによる力、または静電気力を利用することができる。また、カンチレバー１９の駆動力として、ロレンツ力を利用することもできる。この場合には、カンチレバー１９の上面に、別の駆動用電気配線を設置するか、または本実施形態にかかる電気配線２０を駆動系の配線として使用して、駆動とモニタリングとを時間軸上で使い分けることもできる。
バイメタルによる力、静電気力、またはロレンツ力を駆動力としてカンチレバー１９に加えた場合、挿入板１４に生ずる速度ｖは、２つの要因によって決まる。第１に、カンチレバー１９のバネ定数にもとづく反発力、カンチレバー１９とともに運動するカンチレバー１９上の電気配線２０および電極とカンチレバー１９外に固定された電極との間の電圧印加によって生じる静電気力、カンチレバー１９上の電気配線２０に加える電流と静磁場とによって生じるロレンツ力など、カンチレバーを駆動する様々な方法による駆動力またはそれらを組み合わせた駆動力である。
第２に挿入板１４が溝１３に充填されたマッチングオイルから受ける粘性抵抗力である。粘性抵抗が大きいほど、挿入板１４に生ずる速度ｖは小さくなり、電流計２１で検出される電流値も小さい。粘性抵抗は、挿入板１４が溝１３に収まった状態の時に最大となる。
粘性抵抗により、等速運動で挿入板１４が移動するとき、挿入板１４表面と溝１３の導波路端面との間隙をＧ、マッチングオイルの粘性係数をμ、一定時間Δｔの間だけ駆動力が加わった時の挿入板１４の速度をｖ、挿入板１４の変位をΔｙ、粘性減衰係数をＣ、挿入板１４の面積をＡとする。このとき、挿入板１４が駆動力によって運動する間に受ける粘性抵抗力Ｆとすると、
Δｆ＝Ｆ＝Ｃ・ｖ＝Ｃ・Δｙ／Δｔ      （１）
ここで、
Ｃ＝２μＡ／Ｇ
となる。
挿入板１４が接するマッチングオイル層の厚さが薄くなると、すなわち間隙Ｇが小さくなると、粘性抵抗力Ｆは強くなる。挿入板１４と溝１３との相対位置関係も粘性抵抗力Ｆに影響する。挿入板１４が溝１３から完全に離れた透過状態では、間隙Ｇが大きくなり、並行平板に生ずる粘性抵抗成分は、無視できる程度に小さくなる。この場合は、挿入板１４とカンチレバー１９の形状に依存する成分となる。この成分は、球体に対する粘性抵抗（ストークス則）に基づいた値となって、挿入板１４が溝１３内部にある時の粘性抵抗と比較して小さな値となる。
一定時間Δｔの間だけ一定の駆動力Δｆをカンチレバー１９に加えたとき、式（１）の左辺は一定であるから、間隙Ｇが小さいほど挿入板１４の速度ｖが小さく、すなわち変位Δｘも小さいことがわかる。挿入板１４とカンチレバー１９が動くと配線部分２０ａが静磁場を横切るので、フレミングの法則により、挿入板１４の速度ｖに比例した誘導電流が、電気配線２０に流れる。従って、電流計２１で検出する誘導電流は、間隙Ｇの大小と対応した値となる。
上述した原理に基づいて、カンチレバー１９に対して、わずかな時間だけパルス状の駆動力を加え、その際、誘起される電流を検出することにより、挿入板１４と溝１３との相対位置関係を検出することができる。
図５に、本発明の一実施形態にかかる駆動機構のシミュレーション結果を示す。横軸は、カンチレバー１９のバネの弾性力を開放した瞬間から経過した時間を示し、縦軸は、挿入板１４の移動距離を示す。カンチレバー１９は、ＳｉＮｘ／Ａｌの層構成で、厚さはそれぞれ０．２５μｍ／０．２５μｍ、幅１００μｍ、長さ６００μｍである。マッチングオイルの動粘性率は１ｃｍＳｔｏｋｅｓである。
図５は、カンチレバー１９の自由端を１００μｍの距離まで引き上げ、バネ弾性による戻りの運動過程を示している。時間軸上０〜１ミリ秒までの初期過程を見ると、間隙Ｇが５μｍと１μｍの場合で、運動速度が５倍以上異なることがわかる。換言すれば、電流計２１で検出した誘導電流が、５倍以上異なることがわかる。
図６は、挿入板と溝との相対位置と、粘性抵抗力および誘導電流との関係を示す図である。式（１）によれば、挿入板１４が溝１３の内壁の影響を受けた粘性抵抗は、挿入板１４と溝１３との位置関係により、３つの領域に分かれる。領域Ｉは、挿入板１４が溝１３内部に完全に埋没した状態であり、挿入板１４が受ける粘性抵抗は一定となる。領域ＩＩは、挿入板１４の上方の一部が溝１３から外に出た状態であり、粘性抵抗は挿入板１４と溝１３との相対位置に反比例する。領域ＩＩＩは、挿入板１４が溝１３から離れた状態であり、粘性抵抗は一定となる。
カンチレバー１９に対して、わずかな時間だけパルス状の駆動力を加えると、挿入板１４に生ずる運動速度の違いが、誘起される電流の違いとなって検出される。このようなパルス状の駆動力は、印加時間を短くすることにより、挿入板１４の動作状態に擾乱を与えない程度の微弱なものとする必要がある。従って、電流計２１の感度を向上し、電気配線２０を含むインピーダンスを低減する必要がある。このようにして、挿入板１４の動作状態に擾乱を与えずにモニタリングすることができる。
導波路光学装置において、静磁場を与える磁石の形状を最適化し、光導波路の効率的な配置と光導波路チップの面積を縮小することができる。
図７に、本発明の一実施形態にかかる導波路光学装置における光導波路のスリット部と挿入板近傍の構成を示す。光導波路の支持基板６２上に光導波路６１が形成されている。この光導波路６１の上には、挿入板駆動機構（ＭＥＭＳ）を収容する領域であるＭＥＭＳ収容域６３を備えるＭＥＭＳ支持基板６４と、磁石６５とが配置されている。磁石６５は、光導波路６１上への垂直方向からの投影像が、光導波路６１の面内に収まる大きさと形状とを有する。磁石６５の素材として好適には、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系の組成を持つ磁石が用いられるが、これに限定されるものではない。
光導波路６１と入力側および出力側ファイバ６６、６７との図面内の上下方向での位置合わせについて説明する。入力側および出力側ファイバ６６、６７は、ファイバコア６８とファイバクラッド層６９とを有する。そこで、光信号の入力側ファイバ６６と出力側ファイバ６７のファイバコア６８の中心を、光導波路６１内のコア端面に高精度に位置合わせした後に、機械的に固定して導波路光学装置とする。
図８に、本発明の一実施形態にかかる導波路光学装置の光導波路の構成を示す。光導波路３２は、矩形の光導波路の支持基体３１の上に設けられており、各々が異なる役割を担う５つの導波路領域から構成されている。領域１（３３）は、任意の数の光信号を入力する光ファイバとの接続端面を含む領域である。領域４（３６）は、領域１（３３）から入力されスリット部Ｓ内を透過して直進してきた光信号を出力する光ファイバとの接続端面を含む領域である。領域３（３５）は、領域１（３３）から入力されスリット部Ｓ内で反射された光信号を出力する光ファイバとの接続端面を含む領域である。領域５（３７）は、光導波路と光ファイバとの接続端面を含まない領域である。
これらの領域に囲まれた矩形の領域２（３４）には、スリット部Ｓが設けられている。スリット部Ｓには、磁場により駆動される挿入板Ｍの抜差しが行なわれて、信号光の進路制御がなされる。従って、領域２（３４）には、挿入板Ｍが運動したときに、カンチレバー上の電流路に電流を誘起させる静磁場Ｂが与えられる。
図８には、入力側の領域１（３３）内の代表的な光導波路の状態を、入力光である光ビームＩ１とＩ２で例示している。光ビームＩ１の場合には、挿入板Ｍがスリット部Ｓ内にあるために、入力ビームＩ１は挿入板Ｍで反射され、反射出力側の領域３（３５）に属する反射光Ｒを出力する。一方、光ビームＩ２の場合には、スリット部Ｓ内に挿入板Ｍがない。従って、光ビームＩ２は、スリット部Ｓ内を透過直進して出力側の領域４（３６）に透過光Ｔが出力される。
駆動板Ｍの運動によって誘起される電流は、静磁場Ｂの方向と、図８のように上方向からみたスリットの断面に平行な面（あるいは挿入板のスリット内とその近傍に挿入板がつくる運動軌跡面）との成す角度が直角の場合に、最も効率が高い。従って、磁場Ｂの方向が、図８中の点線で示す矢印方向となるように磁石ｔが配置される。なお、挿入板Ｍは、図示しないカンチレバーに固定接続され、挿入板Ｍとカンチレバーとが連動して駆動される。この駆動は、図示しない駆動機構によるバイメタルによる力、静電気力、またはローレンツ力が利用される。
図９に、本発明の一実施形態にかかる導波路光学装置の磁石の形状を示す。図８に示した光導波路に重ね合わせて示した。上述した領域１（３３）、領域４（３６）、領域３（３５）、領域５（３７）、およびこれらの領域に囲まれた領域２（３４）には、挿入板Ｍが運動したときに、カンチレバー上の電流路に電流を誘起させるための静磁場が必要であり、この静磁場Ｂを発生させる磁石３８が設けられている。磁石３８は、矩形の４隅（ａ，ｂ，ｃ，ｄ）を切欠いた８角形の形状を有し、光導波路３２上への垂直方向からの投影像が、光導波路３２の領域内に収まる大きさと形状とを有している。これにより、領域２（３４）全域の磁場強度が均一となるとともに、光導波路３２の全体の面積も小さくすることができる。
図１０に、導波路光学装置の磁石の他の実施例を示す。この実施例では、領域２（３４）の全域を覆う磁石３８が配置されている。磁石３８は、光導波路上へ垂直方向から投影した輪郭の直線部分の伸長方向が、磁石により生じる磁界方向（この図の場合には、挿入板に直交する方向）と直交しないように配置されている。磁石３８の形状は、領域２（３４）を覆う最小限の面積の矩形である。磁石３８の形状をこのようにすることにより、領域２（３４）全域の磁場強度が均一となるとともに、光導波路３２の全体面積を必要最小限にすることができる。なお、図１０に示した例では、磁石３８の形状を、最も単純で作製が容易な矩形としたが、これに限定されるものではなく、磁界の向きが挿入板に直交し、磁石の端面がスリット部を覆う形状であれば良く、例えば菱形等であってもよい。
以上説明したように、静磁場を与える磁石の形状を最適化したので、光導波路の効率的な配置や光導波路チップの面積を縮小することができる低コストの導波路光学装置を提供することが可能となる。
産業上の利用可能性
以上説明したように、本発明によれば、挿入板と溝との相対位置検出、挿入板の運動異常検出、静止位置不良検出などのモニタリングを行うことができる導波路光学装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
図１Ａは、従来のマトリクス型光スイッチの構成を示し、溝部分を拡大して示した上面図。
図１Ｂは、図１ＡのＩＢ−ＩＢの断面図。
図２は、本発明の一実施形態にかかる光スイッチの構成を示す断面図。
図３Ａは、本発明の一実施形態にかかる挿入板の駆動機構を示す上面図。
図３Ｂは、本発明の一実施形態にかかる挿入板の駆動機構を示す下面図。
図４は、他の実施形態にかかる挿入板の駆動機構を示す下面図。
図５は、本発明の一実施形態にかかる駆動機構のシミュレーション結果を示す図。
図６は、挿入板と溝との相対位置と、粘性抵抗力および誘導電流との関係を示す図。
図７は、本発明の一実施形態にかかる導波路光学装置における光導波路のスリット部と挿入板近傍の構成を示す断面図。
図８は、本発明の一実施形態にかかる導波路光学装置の光導波路の構成を示す平面図。
図９は、本発明の一実施形態にかかる導波路光学装置の磁石の形状を示す平面図。
図１０は、導波路光学装置の磁石の他の実施例を示す平面図。
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【国際調査報告】
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