【事件の表示】
　特願２００７−１９５５１４「光学素子およびその製造方法、液晶装置、ならびに電子機器」拒絶査定不服審判事件〔平成２１年　２月１２日出願公開、特開２００９−　３１５３７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１９年７月２７日の出願であって、平成２３年１０月３日付けで手続補正がなされ、平成２４年６月１５日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年９月１８日付けで拒絶査定不服審判が請求されると同時に手続補正がなされたものである。
　なお、請求人は、当審における平成２５年１月２２日付けの審尋に対して同年３月２９日付けで回答書を提出している。
　
第２　平成２４年９月１８日付け手続補正についての補正却下の決定
〔補正却下の決定の結論〕
　平成２４年９月１８日付け手続補正を却下する。
　
〔理由〕
１　本件補正の内容
（１）平成２４年９月１８日付け手続補正（以下「本件補正」という。）は、特許請求の範囲についてするものであって、本件補正前の請求項１に、
　
「偏光分離機能を備えた光学素子であって、
　下地上に配置された
導体
状の
　前記複数の突起体の上部を覆うとともに隣り合う前記突起体同士の間に空洞部が形成されるように配置された保護層と、を備え、
　前記突起体の幅が、前記突起体の高さの１／２の位置よりも前記保護層側で最大となり、且つ、前記保護層側で最大となる前記突起体の高さの位置よりも下地側で最大となっていることを特徴とする光学素子。」とあったものを、
　
「偏光分離機能を備えた光学素子であって、
　下地上に配置された
導電体
状かつ一体構造の
　前記複数の突起体の上部を覆うとともに隣り合う前記突起体同士の間に空洞部が形成されるように配置された保護層と、を備え、
　前記突起体の幅が、前記突起体の高さの１／２の位置よりも前記保護層側で最大となり、且つ、前記保護層側で最大となる前記突起体の高さの位置よりも下地側で最大となっていることを特徴とする光学素子。」とする補正を含むものである（下線は審決で付した。以下同じ。）。
　
（２）本件補正後の請求項１に係る上記（１）の補正は、本件補正前の請求項１に係る発明を特定するために必要な事項である「導体」が「導電体」であることを限定し、本件補正前の請求項１に係る発明を特定するために必要な事項である「突起体」が「一体構造」のものであることを限定するものである。
　
２　本件補正の目的
　本件補正後の請求項１に係る上記１（２）の補正は、本件補正前の請求項１に係る発明を特定するために必要な事項を限定するものであるから、特許法第１７条の２第５項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　そこで、本件補正後の請求項１に係る発明（以下「本願補正発明」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に適合するか）について以下検討する。
　
３　引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された「本願の出願前に頒布された刊行物である国際公開２００７／０１１０４７号公報（以下「引用例」という。）」には、次の事項が図とともに記載されている。
（１）「技術分野
［０００１］　本発明は、光通信、光記録、センサー、画像表示装置等に使用されるグリッド偏光子及びその製法に関し、詳細には、耐擦傷性、防汚性を有し、且つ十分なフレキシビリティーと強度を有するグリッド偏光子及びその製法に関する。
背景技術
［０００２］　偏光面を自由に設定することができる偏光子としてグリッド偏光子が知られている。これは、多数の線状金属（ワイヤ）を一定の周期で平行に配列したグリッド構造をもつ光学部材である。このような
金属のグリッド構造を
グリッドの周期が入射光の波長より短い
グリッド構造を形成している線状金属に対して平行な偏光成分は反射し、垂直な偏光成分は透過する
偏光子として機能する
［０００３］　特許文献１には、図３１に示すような、 可視スペクトル用の埋込み型ワイヤ・グリッド偏光子であって、ある屈折率を有する第１の層４１０と、第１の層から分離した、ある屈折率を有する第２の層４１３と、第１の層と第２の層の間に挟まれ、要素間に複数のギャップ４１２を形成した、平行に離間した細長い要素のアレイ４１１であって、ギャップが第１の層の屈折率より低い屈折率を提供する、アレイと、を含む偏光子が提案されている。特許文献１ではこのギャップ４１２には空気、真空、水、フッ化マグネシウム、油、炭化水素を含むことができると開示している。特許文献１のグリッド偏光子は、第１の層４１１及び第２の層４１３と、アレイ４１１とが、フッ化マグネシウムなどの低屈折率物質を介して、結合している。
［０００４］　特許文献２には、図３２に示すような、入射された光ビームを偏光する埋込み式ワイヤグリッド偏光子であって、一表面を有する基材４１４と、上記表面上に配置された上記入射光の波長よりも小さいグリッド間隔で隔てられる複合ワイヤ４１８の列と、を有しており、複合ワイヤ４１８間の溝部４１５の各々が、光学的な誘電材料で充填され、上記複合ワイヤの各々が、交互になった細長い金属層４１６及び細長い誘電層４１７からなるワイヤ内下部構造を有し、また、交互になった細長い金属ワイヤ４１６と細長い誘電層４１７とからなる上記ワイヤ内下部構造が、少なくとも２つの上記細長い金属ワイヤ４１６を有していることを特徴とする埋込み式ワイヤグリッド偏光子が開示されている。特許文献２には、溝部４１５に充填される光学的誘電材料として空気、光学的に透明な液体、接着剤又はゲルが挙げられている。そして、複合ワイヤの上に誘電部材４１９が積層されている。誘電部材４１９と複合ワイヤとは別の誘電部材を介して結合している。
［０００５］　特許文献３には、図３３に示すような、偏光子を有する偏光デバイスであって、前記偏光子は、光透過基板４２０、前記基板上に配置される周囲環境に敏感なグリッドワイヤ４２１、及び前記偏光子を包囲する密封包囲部材４２３を有し、前記包囲部材は前記偏光素子を周囲環境から保護するために不活性雰囲気を有することを特徴とする偏光デバイスが開示されている。この不活性雰囲気として、真空、不活性ガスが開示されている。この密封包囲部材は偏光子の側部に取り付けられたスペーサー４２４を介して、グリッドワイヤに接しないように設けられている。
［０００６］　特許文献１：特開２００３−５１９８１８号公報
特許文献２：特開２００４−２８００５０号公報
特許文献３：特開２００５−５１３５４７号公報
発明の開示
発明が解決しようとする課題
［０００７］　本発明の目的は、耐擦傷性、防汚性を有し、且つ十分なフレキシビリティーと強度を有するグリッド偏光子を提供することにある。
課題を解決するための手段
［０００８］　本発明者らは、前記目的を達成するために検討した結果、透明材料からなる第１層と、第１層に積層された第２層とを備え、第２層が細長く線状に延びたＡ層と細長く線状に延びたＢ層とを有し、これらのＡ層及びＢ層が交互に複数並んで配置され、Ａ層が複素屈折率（Ｎ＝ｎ−ｉκ）の実部ｎと虚部κの差の絶対値が１．０以上の材料を含み、Ｂ層が多孔質物質を含むことによって、耐擦傷性、防汚性を有し、且つ十分なフレキシビリティーと強度を有するグリッド偏光子が得られることを見出した。
［０００９］　また、
透明材料からなる第１層の主面に、複素屈折率（Ｎ＝ｎ−ｉκ）の実部ｎと虚部κの差の絶対値が１．０以上の材料を含むＡ層を、細長く線状に延び且つ離間して複数並べて形成し、
Ａ層の頂部双方を橋渡し且つＡ層間にある溝部の口を塞ぐ第３層
［００１０］　さらに、
Ａ層を無機材料に結合する反応基及び有機材料に結合する反応基を有する化合物を介して
第３層と結合させることによって、耐擦傷性、防汚性を有し、且つ十分なフレキシビリティーと強度を有するグリッド偏光子
　本発明はこれらの知見に基づいてさらに検討を重ねた結果、完成するに至ったものである。」
　
（２）「［００２６］　本発明のグリッド偏光子を構成する第２層は、
細長く線状に延びたＡ層と、細長く線状に延びたＢ層
が交互に複数並んで配置され、第１層に積層され
［００２７］　細長く線状に延びたＡ層は、複素屈折率（Ｎ＝ｎ−ｉκ）の実部ｎと虚部κの差の絶対値が１．０以上の材料を含む。該材料は複素屈折率の実部と虚部の何れかが大きく、その差の絶対値が１．０以上の材料の中から適宜選択することができる。
複素屈折率の実部と虚部の差の絶対値が１．０以上の材料
としては
より好ましく
ｎが２．０以下で、κが４．５以上で且つ｜ｎ−κ｜が３．０以上の
より好ましい範囲にあるものとしては、アルミニウム
等が
［００２８］　詳細は不明であるが｜ｎ−κ｜の値は次のような意義を持つ。まず、
ｎ＜κの場合
κが大きいものほど導電性が大きく
Ａ層に
電場が
平行な方向の偏光
前記偏光に対する反射率が高ま
ｎが小さい方が
光の透過率（Ａ層に直交する方向の偏光）、反射率（Ａ層に平行な方向の偏光）が高まる
［００２９］　一方ｎ＞κの場合においては、ｎがより大きく、κがより小さいものほど好ましいということを示している。ｎが大きいものほど、Ａ層とそれに隣接する部分（図１では多孔質物質）との屈折率ｎの差が大きくなり、構造複屈折が発現しやすくなる。一方κが大きいと光の吸収が大きくなるため、光の損失を防ぐ意味でκは小さいほど好ましい。ここで｜ｎ−κ｜が１．０以上というのは、ｎがより大きく、κがより小さいものほど好ましいということを示している。
［００３０］　Ａ層は、細長く線状に延びており、且つ離間して複数並んで設けられている。例えば、図６及び図１６に示すように、細長く線状に伸びた畝部が複数離間した状態で並んでいる表面形状を有する透明材料からなる第一層３１０の畝部の頂面上に、Ａ層３１１が積層された構造を成している。Ａ層のピッチは使用する光の波長の１／２以下になっている。Ａ層の幅及び高さは細いほど透過方向の偏光成分の吸収が小さくなり、特性上好ましい。可視光線に用いるグリッド偏光子では、Ａ層のピッチが通常５０〜６００ｎｍであり、Ａ層の幅が通常２５〜３００ｎｍ、Ａ層の高さは１０〜５００ｎｍである。Ａ層は、通常光の波長より長く延びており、好ましくは８００ｎｍ以上延びている。
［００３１］　細長く線状に延びたＢ層は、気体を含む。Ｂ層は、第１層とＡ層と第３層とによって囲まれる空間にある空気又は不活性ガスからなる層であってもよいし、気体を含む孔を有する多孔質物質を含んでなるものであってもよい。」
　
（３）「［００４３］　
Ａ層及びＢ層は、それぞれ細長く線状に延びており、且つそれらが交互に複数並んでいる
Ａ層とＢ層は略平行に並んでいる
［００４４］　
Ｂ層が、第１層とＡ層と第３層とに囲まれた空間にある空気または不活性ガスからなる
［００４５］　
Ａ層は、無機材料に結合する反応基及び有機材料に結合する反応基を有する化合物を介して
第３層と結合されている
　Ａ層と、第１層及び／又は第３層との結合に介される化合物は、無機材料に結合する反応基及び有機材料に結合する反応基を有するものであれば特に制限されない。
　該化合物の無機材料に結合する反応基は、Ａ層に含まれる複素屈折率（Ｎ＝ｎ−ｉκ）の実部ｎと虚部κの差の絶対値が１．０以上の材料との親和力が強い。一方、有機材料に結合する反応基は、第１層及び／又は第３層を構成する透明材料、特に透明樹脂との親和力が強い。Ａ層と、第１層及び／又は第３層との結合力は、無機材料に結合する反応基及び有機材料に結合する反応基を有する化合物によって強められる。そのため、Ａ層と、第１層及び／又は第３層とを結合させるために通常行われる加熱圧着工程において、加熱温度を低く且つ圧着圧力を低くすることができる。その結果、第１層とＡ層と第３層とに囲まれた空間が潰れて狭くなることを防ぐことができる。第１層とＡ層と第３層とに囲まれた空間（Ｂ層）には後述するように低屈折率の物質である空気又は不活性ガスが含まれているので、該空間が設計値どおりに広く十分に確保されるとグリッド偏光子の偏光率が高くなるのである。
［００４６］　無機材料に結合する反応基及び有機材料に結合する反応基を有する化合物としては、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミニウムカップリング剤が知られている。中でも無機材料と有機材料との結合力が大きい点で
シランカップリング剤が好まし
　
（４）「発明の効果
［００４９］　本発明のグリッド偏光子は、
耐擦傷性、防汚性を有し、且つ十分なフレキシビリティーと強度を有する
　
（５）「発明を実施するための最良の形態
［００５２］　次に本発明の実施態様を図面を参照しながら、詳細に説明する。
　図３は、本発明のグリッド偏光子の第１実施態様を示す断面図である。図１及び図２は、図３に示すグリッド偏光子の第３層３１４を積層する前の状態の断面図及び斜視図である。
　図１及び図２に示すグリッド偏光子は、透明樹脂などの透明な材料からなるフィルム状の第１層３１０の上に、アルミニウムやシリコンなどの複素屈折率（Ｎ＝ｎ−ｉκ）の実部ｎと虚部κの差の絶対値が１．０以上の材料を含むＡ層３１１が積層されている。Ａ層３１１は、図２に示すように、第１層３１０の面上に細長く線状に延びるように設けられている。
Ａ層３１１を第１層３１０の上に形成する方法は
例えば、フォトリソグラフ法によって得ることができ
第１層３１０上に金属膜を蒸着、めっきなどの方法で積層し、その金属膜の上に感光性レジスト膜を形成し、線状パターンの光を照射しレジスト膜をパターンに合わせて硬化させ、未硬化部分を取り除き、さらにレジストが取り除かれた金属膜部分をエッチングし、最後に硬化したレジストを取り除く
［００５３］　第１実施態様のグリッド偏光子では、図３に示すように、
Ａ層３１１の頂面に、無機材料に結合する反応基及び有機材料に結合する反応基を有する化合物からなる結合層３１５が設けられ、結合層３１５の上に透明材料からなる第３層３１４が積層され
結合層３１５は、Ａ層３１１の頂面に無機材料に結合する反応基及び有機材料に結合する反応基を有する化合物を含む塗布液を塗布するなどの方法によって
得ることができ
第３層３１４の内面には接着層
が積層され
該接着層と結合層３１５とを接しさせて、第３層３１４とＡ層３１１とを結合させることができ
［００５４］　結合層３１５を介してＡ層３１１と第３層３１４を結合するために、好ましくは
加熱圧着する
［００５５］　第１実施態様のグリッド偏光子では、
第１層、Ａ層及び第３層の間に空間
Ｂ層
３１２が形成され
Ｂ層３１２には、空気又は不活性ガスが含まれ
［００５６］　図５は、本発明グリッド偏光子の第２実施態様を示す断面図である。図４は、図５に示すグリッド偏光子の第３層３１４を積層する前の状態の断面図である。
　図４、図５に示すように、第２実施態様のグリッド偏光子は、第１層３１０の表面に細長く線状に延びた畝部が離間した状態で複数並んで形成されており、細長く線状に延びたＡ層３１１が前記第１層の畝部のそれぞれの頂面状に畝部に沿って設けられている。
［００５７］　図７は、本発明グリッド偏光子の第３実施態様を示す断面図である。図６は、図７に示すグリッド偏光子の第３層３１４を積層する前の状態の断面図である。
　図６、図７に示すように、第３実施態様のグリッド偏光子は、第２実施態様のグリッド偏光子において、複素屈折率（Ｎ＝ｎ−ｉκ）の実部ｎと虚部κの差の絶対値が１．０以上の材料を含むＡ’層３１１’が第１層の畝部間の溝部の底面上に溝部に沿って細長く線状に延びて設けられているものである。
［００５８］　第２実施態様及び第３実施態様における、Ａ層３１１、第３層３１４及び結合層３１５は、第１実施態様で説明したものと同様のものである。
　これらの実施態様における第１層は、その表面に細長く線状に延びた畝部がある以外は第１実施態様で説明したものと同様のものである。
　第１層の表面に形成された細長く線状に延びた畝部のピッチは、好ましくは５０〜６００ｎｍであり、畝部の巾は、通常、光の波長よりも短く、好ましくは２５〜３００ｎｍであり、畝部の高さは、好ましくは５０〜５００ｎｍである。畝部は線状に延びており、その長さは、光の波長より長く、通常８００ｎｍ以上である。細額線状に延びた畝部が形成された第１層は、その製法によって特に制限されない。該第１層の好適な製法は、線状に延びた溝部を有する転写用の型、好適には転写ロールを用いて長尺の樹脂フィルム表面に線状に延びた畝部を転写することを含むものである。」
　
（６）「実施例
［０１０２］　以下、実施例及び比較例を示し、本発明を更に具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。また、部および％は、特に記載のない限り重量基準である。
［０１０３］（切削工具）
  ８ｍｍ×８ｍｍ×６０ｍｍのＳＵＳ製シャンクにろう付けされた寸法０．２ｍｍ×１ｍｍ×１ｍｍの直方体単結晶ダイヤモンドの０．２ｍｍ×１ｍｍの面に、アルゴンイオンビームを照射して切削加工を行って、長さ１ｍｍの辺に平行な幅７０ｎｍ、深さ１３０ｎｍの溝をピッチ１５０ｎｍで彫り込み、幅８０ｎｍ、高さ１３０ｎｍの直線状の突起約１３００本をピッチ１５０ｎｍで形成して、切削工具を得た。
［０１０４］（転写ロール）
  直径２００ｍｍで長さ１５０ｍｍのステンレス鋼ＳＵＳ４３０製ロールの周面に、厚さ１００μｍのニッケル−リン無電解メッキを施した。次いで、先に作製した直線状突起を形成した切削工具を精密円筒研削盤に取付けて、該研削盤で、前記ロールのニッケル−リン無電解メッキ面に、ロール周方向に延びる、幅７０ｎｍ、高さ１３０ｎｍ、ピッチ１５０ｎｍの直線状の畝部を形成して、転写ロールを得た。
  なお、集束イオンビーム加工による切削工具の作製と、ニッケル−リン無電解メッキ面の切削加工は、温度２０．０±０．２℃、振動制御システムにより０．５Ｈｚ以上の振動の変位が１０μｍ以下に管理された恒温低振動室内で行った。
［０１０５］比較例１（グリッド偏光子０）
  直径７０ｍｍのゴム製ロールからなるニップロール及び上記転写ロールを備えた転写装置を用いて、転写ロールの表面温度１７０℃、ニップロールの表面温度１００℃、フィルムの搬送テンション１ＭＰａ、及びニップ圧１５ＭＰａの条件で、厚さ１００μｍのシクロオレフィンポリマーフィルム（商品名：ゼオノアフィルムＺＦ−１４、株式会社オプテス製）表面上に転写ロール表面の凹凸形状を転写することにより、フィルムの流れ方向と平行に
幅７５ｎｍ、
ピッチ１５０ｎｍ
［０１０６］  次いで、フィルムの畝部を形成した面に法線方向からアルミニウムを真空蒸着することにより、畝部の頂面及び畝部間の溝部の底面に
厚さ５０ｎｍのアルミニウムからなるＡ層
・・・（中略）・・・
［０１１９］（接着剤層用樹脂）
　
冷却管、窒素ガス導入管及び滴下ロートを備えた反応器に９−メチルーテトラシクロ［６．２．１．１
３，６
．０
２，７
］ドデカ−３−エンの開環重合体の水素添加物（Ｔｇ＝１４０℃、水素添加率＝約１００％、Ｍｎ＝約２８０００）２０１ｇ、無水マレイン酸６．３７ｇ、及びｔ−ブチルベンゼン４７０．４ｇを入れ、Ｎ
２
ガス雰囲気下１３５℃に加熱して開環重合体水素添加物を溶解し
この溶液に、１３５℃に維持した状態で、ジクミルパーオキサイド１．７６ｇをシクロヘキサノン３３．４ｇに溶解した溶液を、２時間かけて滴下し
さらに３時間、１３５℃を維持してマレイン化変性反応させ
反応液を室温まで冷却し、その反応液にトルエン２リットルを加えて希釈し
次いで、イソプロピルアルコール７容積部及びアセトン２容積部の混合液に、前記で希釈した溶液を滴下し、樹脂を凝固させ、ろ過し、分取し
分取した樹脂を１０５℃で１２時間真空乾燥して接着剤層用樹脂を得た
［０１２０］（
第３層用フィルム
　前記
接着剤層用樹脂２０ｇをシクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ、沸点１０６℃）８０ｇに溶解し、１μｍフィルターでろ過して、粘度１３０ｃＰの樹脂溶液を得た
膜厚８０μｍの透明熱可塑性樹脂フィルム（株式会社オプテス製、商品名：ゼオノアフィルム）にドクターブレード（１００μｍ膜厚用）を用いて塗工し
次いで窒素気流下、１１０℃で１５分間乾燥して、厚み５μｍの接着剤層を有するフィルムを得
［０１２１］実施例２
　比較例１と同様にしてグリッド偏光子０を得た。
グリッド偏光子０のＡ層を形成した面に、アミノプロピルトリエトキシシラン０．２％溶液（エタノール：水＝４：１重量比）を塗布し、１５０℃で２分間乾燥し
次いで前記第３層用フィルムの接着剤層がグリッド偏光子０のＡ層に接するように、グリッド偏光子０と第３層用フィルムとを重ね、それらを真空ラミネータ（三機工業社製）を用いて熱圧着して
条件は真空引き１５秒、熱圧着温度８０℃、圧着圧力１ＭＰａ、保持時間３００秒間
［０１２２］　グリッド偏光子０の畝部頂面に形成されたアルミニウム薄膜層（Ａ層）のみが第３層用フィルムの接着剤層と接した状態で積層されており、
第１層、Ａ層及び第３層に囲まれる
Ｂ層
は接着剤で埋もれずにほぼ１００％設計どおりの空間
が確保されている
　２００サイクル折り曲げ後のグリッド偏光子３には剥離などの異常が目視では認められなかった。スチールウールで擦った後のグリッド偏光子３には細かい傷がついていることが目視で認められた。」
　
（７）上記（１）ないし（６）から、引用例には次の発明が記載されているものと認められる。
「透明材料からなる第１層の主面に、複素屈折率（Ｎ＝ｎ−ｉκ）の実部ｎと虚部κの差の絶対値が１．０以上の材料を含むＡ層を、細長く線状に延び且つ離間して複数略平行に並べて形成し、
　Ａ層の頂部双方を橋渡し且つＡ層間にある溝部の口を塞ぐ第３層を、無機材料に結合する反応基及び有機材料に結合する反応基を有する化合物を介してＡ層と結合させ、
　第１層とＡ層と第３層とによって囲まれた空間にある空気又は不活性ガスにより、細長く線状に延びておりＡ層と交互に並んでいるＢ層を構成した、
　耐擦傷性、防汚性を有し、且つ十分なフレキシビリティーと強度を有するグリッド偏光子であって、
　Ａ層を金属とし、そのピッチを入射光の波長より短くすると、Ａ層に電場が平行な方向の偏光成分は反射し、Ａ層に直交する方向の偏光成分は透過する偏光子として機能するものであり、
　前記Ａ層を構成する複素屈折率の実部と虚部の差の絶対値が１．０以上の材料としては、ｎ＜κの場合には、κが大きいものほど導電性が大きく、Ａ層に電場が平行な方向の偏光成分の反射率が高まり、ｎが小さいものほどＡ層に直交する方向の偏光成分の透過率及びＡ層に平行な方向の偏光成分の反射率が高まることから、ｎが２．０以下で、κが４．５以上で且つ｜ｎ−κ｜が３．０以上であるアルミニウム等が好ましく、
　前記無機材料に結合する反応基及び有機材料に結合する反応基を有する化合物としては、シランカップリング剤が好ましく、
　Ａ層を第１層の上に形成する方法としては、例えば、第１層上に金属膜を蒸着、めっきなどの方法で積層し、その金属膜の上に感光性レジスト膜を形成し、線状パターンの光を照射しレジスト膜をパターンに合わせて硬化させ、未硬化部分を取り除き、さらにレジストが取り除かれた金属膜部分をエッチングし、最後に硬化したレジストを取り除くというフォトリソグラフ法を用いることができ、
　第３層を、無機材料に結合する反応基及び有機材料に結合する反応基を有する化合物を介してＡ層と結合させる方法としては、当該化合物を含む塗布液を塗布するなどの方法によって、Ａ層の頂面に結合層を設け、第３層の内面に接着層を積層し、接着層と結合層とを接しさせて、加熱圧着することで、第３層とＡ層とを結合させるという方法を用いることができ、
　前記接着層を構成する接着剤層用樹脂として、冷却管、窒素ガス導入管及び滴下ロートを備えた反応器に９−メチルーテトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−３−エンの開環重合体の水素添加物（Ｔｇ＝１４０℃、水素添加率＝約１００％、Ｍｎ＝約２８０００）２０１ｇ、無水マレイン酸６．３７ｇ、及びｔ−ブチルベンゼン４７０．４ｇを入れ、Ｎ２ガス雰囲気下１３５℃に加熱して開環重合体水素添加物を溶解し、この溶液に、１３５℃に維持した状態で、ジクミルパーオキサイド１．７６ｇをシクロヘキサノン３３．４ｇに溶解した溶液を、２時間かけて滴下し、さらに３時間、１３５℃を維持してマレイン化変性反応させ、反応液を室温まで冷却し、その反応液にトルエン２リットルを加えて希釈し、次いで、イソプロピルアルコール７容積部及びアセトン２容積部の混合液に、前記で希釈した溶液を滴下し、樹脂を凝固させ、ろ過し、分取し、分取した樹脂を１０５℃で１２時間真空乾燥して得た接着剤層用樹脂を用い、
　当該接着剤層用樹脂２０ｇをシクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ、沸点１０６℃）８０ｇに溶解し、１μｍフィルターでろ過して得た粘度１３０ｃＰの樹脂溶液を、膜厚８０μｍの透明熱可塑性樹脂フィルム（株式会社オプテス製、商品名：ゼオノアフィルム）にドクターブレード（１００μｍ膜厚用）を用いて塗工し、次いで窒素気流下、１１０℃で１５分間乾燥して、厚み５μｍの接着剤層を有する第３層用フィルムとし、幅７５ｎｍ、ピッチ１５０ｎｍ、厚さ５０ｎｍのアルミニウムからなるＡ層の頂面に、アミノプロピルトリエトキシシラン０．２％溶液（エタノール：水＝４：１重量比）を塗布し、１５０℃で２分間乾燥して結合層とし、次いで前記第３層用フィルムの接着剤層が当該結合層に接するように重ね、真空ラミネータ（三機工業社製）を用いて、真空引き１５秒、熱圧着温度８０℃、圧着圧力１ＭＰａ、保持時間３００秒間という条件で、熱圧着して作成した場合には、第１層、Ａ層及び第３層に囲まれるＢ層が接着剤で埋もれずにほぼ１００％設計どおりの空間が確保される、
　グリッド偏光子。」（以下「引用発明」という。）
　
４　対比
　本願補正発明と引用発明とを対比する。
（１）引用発明の「Ａ層に電場が平行な方向の偏光成分は反射し、Ａ層に直交する方向の偏光成分は透過する偏光子として機能する」、「グリッド偏光子」、「第１層」、「『金属』、『アルミニウム』」、「略平行」、「線状」、「Ａ層」、「Ａ層の頂部」、「第１層とＡ層と第３層とによって囲まれた空間」及び「第３層」は、それぞれ、本願補正発明の「偏光分離機能」、「光学素子」、「下地」、「導電体」、「ほぼ平行」、「直線状」、「突起体」、「突起体の上部」、「空洞部」及び「保護層」に相当する。
　
（２）引用発明の「光学素子（グリッド偏光子）」は、「突起体（Ａ層）」を「導電体（『金属』、『アルミニウム』）」とし、そのピッチを入射光の波長より短くすることで、「偏光分離機能（Ａ層に電場が平行な方向の偏光成分は反射し、Ａ層に直交する方向の偏光成分は透過する偏光子として機能する）」を得ているから、本願補正発明の「光学素子」と、「偏光分離機能を備えた」点で一致する。
　
（３）引用発明の「突起体（Ａ層）」は、「導電体（『金属』、『アルミニウム』）」からなるものであり、かつ、「下地（第１層）」の主面に細長く「直線状（線状）」に延び且つ離間して複数「ほぼ平行（略平行）」に並べて形成されているから、本願補正発明の「突起体」と、「下地上に配置された導電体からなる複数の互いにほぼ平行な直線状かつ一体構造」のものである点で一致する。
　
（４）引用発明の「保護層（第３層）」は、「突起体の上部（Ａ層の頂部）」双方を橋渡し且つ「突起体（Ａ層）」間にある溝部の口を塞ぐものであって、これによって、「空洞部（第１層とＡ層と第３層とによって囲まれた空間）」を形成しているから、本願補正発明の「保護層」と、「複数の突起体の上部を覆うとともに隣り合う突起体同士の間に空洞部が形成されるように配置された」点で一致する。
　
（５）上記（１）ないし（４）からみて、本願補正発明と引用発明とは、
「偏光分離機能を備えた光学素子であって、
　下地上に配置された導電体からなる複数の互いにほぼ平行な直線状かつ一体構造の突起体と、
　前記複数の突起体の上部を覆うとともに隣り合う前記突起体同士の間に空洞部が形成されるように配置された保護層と、を備えた、
　光学素子。」の点で一致し、次の点で相違する。
　
相違点：
　前記突起体の幅が、本願補正発明では、前記突起体の高さの１／２の位置よりも前記保護層側で最大となり、且つ、前記保護層側で最大となる前記突起体の高さの位置よりも下地側で最大となっているのに対して、引用発明ではそうはなっていない点。
　
５　判断
　上記相違点について検討する。
（１）基板上に導電体が形成されたワイヤグリッド偏光素子であって、導電体の断面が、基板側で幅が狭く、基板から遠くなるほど幅が大きい台形の形状のものは、本願出願日前に周知である（以下「周知技術」という。例．特開平３−１０３８０２号公報（２頁左下欄１１行〜右下欄１行、２頁右下欄１４〜末行、図参照。）、原査定で引用された特開２００２−３２８２２２号公報（【０１０３】、【０１０４】、図８参照。））。
　
（２）引用発明の「下地（第１層）」及び「突起体（Ａ層）」は、それぞれ、上記周知技術の「基板」及び「導電体」に相当するところ、引用発明において、「突起体」を、その断面が「下地」側で幅が狭く、「下地」から遠くなるほど、すなわち「保護層（第３層）」側に近づくほど幅が大きい台形の形状のものとなすことは、当業者が周知技術に基づいて適宜なし得た程度のことである。
　
（３）ア　本願補正発明の「突起体の幅が、突起体の高さの１／２の位置よりも保護層側で最大となり、且つ、保護層側で最大となる突起体の高さの位置よりも下地側で最大となっている」点について、本願明細書の発明の詳細な説明には次の（ア）ないし（エ）の記載がある。
（ア）「
突起体上に保護層の材料を塗布して製膜する工程において、
（イ）「突起体の幅が突起体の高さの１／２の位置よりも保護層側で最大となっているので、保護層に接する突起体上部の表面積は大きくなっている。このため、
突起体上部を覆う保護層を形成する際
（ウ）「レジストパターン２５をマスクとして、導体材料層２３をエッチングする。これにより、図３（ｃ）に示すように、導体材料層２３のうちレジストパターン２５でマスクされない部分が除去され、下地２１上に複数の互いにほぼ平行な直線状の導体層２２ａが形成される。この状態から、導体層２２ａの幅の最小値がレジストパターン２５のピッチＰの１／２よりも小さくなるように、さらにオーバーエッチングする。このオーバーエッチングにより、導体層２２ａの幅は、レジストパターン２５側で最大となり、下地２１に近いほど小さくなる。また、導体層２２ａのレジストパターン２５に接する側の角部が丸くなる。」（【００５４】）
（エ）「図２に示すように、複数の突起体２２の上部を覆うように
保護層２４の材料を、例えばスパッタリング法により配置し、保護層２４を形成する
　ここで、突起体２２の幅は保護層２４側で最大となるので、保護層２４に接する突起体２２の上部の表面積を大きくできる。このため、突起体２２上に保護層２４の材料を配置する際、保護層２４の材料が広い表面積で支持される。また、突起体２２の幅の最大値Ｗ１はピッチＰの１／２よりも大きいので、保護層２４側では隣り合う突起体２２同士の間隔は突起体２２の幅よりも小さい。これにより、保護層２４に接する突起体２２の上部の表面積を大きくでき、かつ、保護層２４側における隣り合う突起体２２同士の間隔を小さくできるので、保護層２４の材料が隣り合う突起体２２同士の間に入り込むのを抑制できる。したがって、空洞部２６を容易かつ確実に形成できる。また、
保護層２４の材料として樹脂材料を突起体２２の上部に塗布する場合、
　一方、突起体２２の幅は下地２１に近いほど小さくなっているので、隣り合う突起体２２同士の間隔は下地２１に近いほど大きくなる。また、突起体２２の下地２１側の幅の最小値Ｗ２はピッチＰの１／２よりも小さいので、下地２１近傍における隣り合う突起体２２同士の間隔は突起体２２の幅よりも大きい。これにより、保護層２４側における隣り合う突起体２２同士の間隔が小さくても、下地２１側における隣り合う突起体２２同士の間のスペースを大きくできるので、空洞部２６を容易かつ確実に形成できる。」（【００５６】〜【００５８】）
　
　イ　上記アの（ア）ないし（エ）の記載からみて、本願補正発明の「突起体の幅が、突起体の高さの１／２の位置よりも保護層側で最大となっている」との技術事項には次の（ア）及び（イ）の技術上の意義があるものと解される。
（ア）保護層の材料をスパッタリング法や塗布により突起体の上部に配置して保護層を形成する場合に、保護層の材料が空洞部に入り込むのを抑制すること。
（イ）空洞部となるスペースを確保すること。
　
　ウ　本願補正発明の保護層は、保護層の材料をスパッタリング法や塗布により突起体の上部に配置して形成したものに限られておらず、基板と粘着層とを有する保護層も含むものである。
　そして、保護層が基板と粘着層とを有するものであった場合、本願補正発明の光学素子を製造する際には、保護層を粘着層が突起体の上部に接するように配置し、基板側から加圧して突起体の上部に固着することになり、本願補正発明の光学素子は、保護層が基板を有しているので、保護層の平坦性が向上することにより、突起体同士の間により確実に空洞部を形成でき、粘着層により保護層を突起体に固着するのでより容易に製造できるものである（【００８４】、【００８５】）。
　してみると、保護層を突起体の上部に配置して突起体の上部に固着するような本願補正発明の光学素子においては、上記イの（ア）は、本願補正発明の「突起体の幅が、突起体の高さの１／２の位置よりも保護層側で最大となっている」との技術事項の技術上の意義にはならず、当該技術事項の技術上の意義は上記イの（イ）にあるものと解される。
　
　エ　また、上記アの（ア）ないし（エ）の記載からみて、本願補正発明の「突起体の高さの１／２の位置よりも保護層側で幅が最大となっている突起体」の幅が最大となっている位置が、「前記保護層側で最大となる前記突起体の高さの位置」よりも「下地側」である点については、「オーバーエッチングにより、導体層２２ａのレジストパターン２５に接する側の角部が丸くなる。」（上記ア（ウ）参照。）ことに起因するものであると解されるが、発明の詳細な説明の記載からは、この「下地側」である点に設計上の事項を超える技術上の意義は見出せないから、本願補正発明の「前記突起体の幅が、前記保護層側で最大となる前記突起体の高さの位置よりも下地側で最大となっている」点は設計上の事項にすぎない。
　
（４）引用発明において、「突起体」を上記（２）のとおりになすと、「突起体」の幅が最大となる位置は、「突起体の高さの１／２の位置よりも保護層側」になるから、上記（２）及び（３）からみて、引用発明において、前記突起体の幅が、前記突起体の高さの１／２の位置よりも前記保護層側で最大となるようになすことは、当業者が周知技術に基づいて適宜なし得たことであり、本願補正発明の「前記突起体の幅が、前記保護層側で最大となる前記突起体の高さの位置よりも下地側で最大となっている」点は設計上の事項にすぎない。
　したがって、引用発明において、上記相違点に係る本願補正発明の構成となすことは、当業者が周知技術に基づいて適宜なし得た程度のことである。
　
（５）本願補正発明の奏する効果は、当業者が引用発明の奏する効果及び周知技術の奏する効果から予測することができた程度のものである。
　
（６）まとめ
　したがって、本願補正発明は、当業者が引用発明及び周知技術に基づいて容易に発明をすることができたものである。
　本願補正発明は、当業者が当業者が引用発明及び周知技術に基づいて容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
６　小括
　以上のとおり、本願補正発明は、特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるから、本件補正は、特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　本件補正は上記第２のとおり却下されたので、本願の請求項１ないし１９に係る発明は、平成２３年１０月３日付けで補正された特許請求の範囲の請求項１ないし１９に記載された事項によって特定されるものであるところ、請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成２３年１０月３日付けで補正された明細書、特許請求の範囲及び図面の記載からみて、上記「第２〔理由〕１」に本件補正前の請求項１として記載したとおりのものであると認める。
　
２　引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例及びその記載事項は、上記「第２〔理由〕３」に記載したとおりである。
　
３　対比・判断
　本願補正発明は、上記「第２〔理由〕１（２）」のとおり、本願発明の発明特定事項を限定するものである。
　そうすると、本願発明の構成要件をすべて含み、さらに限定を付加したものに相当する本願補正発明が、上記「第２〔理由〕５」に記載したとおり、当業者が引用発明及び周知技術に基づいて容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も同様の理由により、当業者が引用発明及び周知技術に基づいて容易に発明をすることができたものである。
　
４　むすび
　本願発明は、以上のとおり、当業者が引用発明及び周知技術に基づいて容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。