【事件の表示】
　特願２００５−３５５７３４「複合荷電粒子ビーム装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１９年　６月２８日出願公開、特開２００７−１６４９９２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１７年１２月９日の出願であって、平成２３年５月２７日付けで手続補正がなされたが、平成２４年２月１６日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年５月１７日に拒絶査定に対する審判請求がなされ、同時に手続補正がなされたものである。
　その後、前置報告書の内容について、審判請求人の意見を求めるために平成２４年１０月２２日付けで審尋がなされ、同年１２月１８日付けで当該審尋に対する回答書が提出された。
　
第２　平成２４年５月１７日付けの手続補正についての補正の却下の決定
［補正の却下の決定の結論］
　　平成２４年５月１７日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
［理由］
１．補正後の本願発明
　本件補正により、本願明細書の特許請求の範囲の請求項１は、補正前の以下のもの
　
「集束イオンビーム装置と、走査電子顕微鏡と、気体イオンビーム装置と、試料ステージとを備えた複合荷電粒子ビーム装置において、
　前記試料ステージは、ユーセントリックチルト機構と、前記ユーセントリックチルト機構のユーセントリックチルト軸と直交する試料ステージ回転軸とを有し、
　前記集束イオンビーム装置と、前記走査電子顕微鏡と、前記気体イオンビーム装置とは、前記集束イオンビーム装置から照射される集束イオンビームと、前記走査電子顕微鏡から照射される電子ビームと、前記気体イオンビーム装置から照射される気体イオンビームとが、略同一領域で交わるよう配置され、
　前記集束イオンビーム装置の鏡筒の軸と前記電子顕微鏡の鏡筒の軸は、それぞれ前記ユーセントリックチルト軸と略直交するように配置され、
　前記集束イオンビームの鏡筒の軸と前記気体イオンビームの鏡筒の軸と前記ユーセントリックチルト軸は、略同一平面内に配置され、
　
前記試料ステージ回転軸は、前記集束イオンビーム装置の鏡筒の軸と一致するように配置された
　
から、次のとおりのものに補正された。
　
「集束イオンビーム装置と、走査電子顕微鏡と、気体イオンビーム装置と、試料を載置する試料ステージとを備えた複合荷電粒子ビーム装置において、
　前記試料ステージは、ユーセントリックチルト機構と、前記ユーセントリックチルト機構のユーセントリックチルト軸と直交する試料ステージ回転軸とを有し、
　前記集束イオンビーム装置と、前記走査電子顕微鏡と、前記気体イオンビーム装置とは、前記集束イオンビーム装置から照射される集束イオンビームと、前記走査電子顕微鏡から照射される電子ビームと、前記気体イオンビーム装置から照射される気体イオンビームとが、前記試料上の略同一領域で交わるよう配置され、
　前記集束イオンビーム装置の鏡筒の軸と前記電子顕微鏡の鏡筒の軸は、それぞれ前記ユーセントリックチルト軸と略直交するように配置され、
　前記集束イオンビームの鏡筒の軸と前記気体イオンビームの鏡筒の軸と前記ユーセントリックチルト軸は、略同一平面内に配置され、
　前記集束イオンビーム装置の鏡筒の軸方向と前記気体イオンビーム装置の軸方向とからなる平面に対し平行に前記試料に前記集束イオンビームを照射し形成した加工面を、前記試料ステージ回転軸を中心に前記試料ステージを回転し、前記ユーセントリックチルト軸と交差する方向と、前記試料ステージの回転軸方向とからなる平面に対し平行になるように配置し、前記加工面に前記気体イオンビームを照射する複合荷電粒子ビーム装置。」
　
２．判断
　本件補正は、補正前の請求項１に係る発明を特定するための事項である「前記試料ステージ回転軸は、前記集束イオンビーム装置の鏡筒の軸と一致するように配置された」（上記下線部分）という事項を削除する補正を含むものである。
　上記補正は特許請求の範囲の減縮を目的とするものではない。また、上記補正が請求項の削除、誤記の訂正及び明りょうでない記載の釈明のいずれを目的とするものでないことは明らかである。
　以上のとおりであるから、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　よって、補正の却下の決定の結論のとおり決定する。
　
第３　本願発明について
１．本願発明
　平成２４年５月１７日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成２３年５月２７日付けの手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものである。（上記、「第２」の「１．」参照）
　
２．引用例
（１）引用例１
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である国際公開第２００５／００３７３６号（以下「引用例１」という。）には、以下の記載がある。
（１ａ）頁番号１、１０〜１４行
「背景技術
　集束イオンビーム照射系と電子ビーム照射系とからなる複合装置を用いて、集束イオンビームにて試料表面の所望箇所をスパッタリングエッチング加工して薄片試料を作製し、作製した薄片試料を取り出し、取り出した薄片試料を透過電子顕微鏡にて観察する方法が知られている・・・。」
（１ｂ）頁番号５、１６〜１７行
「図４は、試料ステージのチルト方向を示す説明図で、（ａ）は正面図、（ｂ）はその側面図である。」
（１ｃ）頁番号７、１３行〜頁番号８、２６行
「本発明による装置の第二の実施例を図５を参照して説明する。
　液体金属イオン源から発生するイオンを集束イオン光学系で集束し、試料表面に焦点を合わせて走査照射する集束イオンビーム鏡筒５０１と、エミッタチップから発生する電子を電子ビーム光学系で集束し、試料表面に焦点を合わせて走査照射する電子ビーム鏡筒５０２と、アルゴンなどの不活性イオンビームを発生して試料に照射する不活性イオンビーム鏡筒５０３が試料室５０４に取り付けられている。試料室内は、真空ポンプ５０５によって真空排気され、高真空状態を保持している。試料室５０４の内側には、試料５０６を載置して移動する試料ステージ５０７が設置されている。
　集束イオンビーム鏡筒５０１と、電子ビーム鏡筒５０２と、不活性イオンビーム鏡筒５０３は、集束イオンビーム鏡筒５０１から発射される集束イオンビームと、電子ビーム鏡筒５０２から発射される電子ビームと、不活性イオンビーム鏡筒５０３から発射される不活性イオンビームは、試料ステージ５０７に載置された試料５０６の表面一箇所で交差するように調製されている。
　試料ステージ５０７は、複数の駆動軸を持っていて、試料５０６を載置して三次元空間を移動可能となっているが、図６に示すように、集束イオンビーム鏡筒６０１、不活性イオンビーム鏡筒６０３を含む第一の平面６０８に対して直交する第二の平面６０９を基準とし、その交差角度が変更可能な構造になっている。不活性イオンビームを照射するにあたり、試料への入射角度を変更することにより、不活性イオンビームによるエッチングで発生した再付着物の試料表面の残存を最小限に抑制する。
　本装置を用いて薄片試料を作成する場合、集束イオンビームにてスパッタリングエッチング加工している試料５０６の露出した断面の状態を該断面への電子ビーム走査照射による走査電子顕微鏡像で観察し、薄片の厚さが設定された厚さになったところで、装置制御システムは集束イオンビームの試料への照射を終了する。このとき、試料の厚さは、試料の厚さ、材質などと、電子ビームの加速電圧で決まる透過電子量の変化を測定することにより、測定する。通常、電子は試料を透過しないが、所定の加速電圧を超えたり、試料の厚さがある厚さ以下になったりすると、電子が試料を透過する。その結果、電子顕微鏡による観察像が透過電子の影響で変化する。この変化を見つけることにより試料の厚さを制御することができる。
　また、集束イオンビームにて薄片を所定の厚さに加工した後に、試料５０６を載置した試料ステージ５０７を傾斜して、試料５０６の表面が電子ビーム鏡筒５０２と不活性イオンビーム鏡筒５０３とで形成される平面に対して概ね垂直になるようにする。不活性イオンビーム鏡筒５０３から発射される不活性イオンビームを試料５０６表面の薄片周辺に照射してスパッタリングエッチング加工を行うのと同時に、電子ビームを試料側壁に対して平行な方向から走査照射して薄膜周辺を走査電子顕微鏡像で観察し、薄片の厚さが設定された厚さになったところで、装置制御システムは不活性イオンビームの試料への照射を終了する。このとき、試料ステージ５０７を移動させて、不活性イオンビームの試料５０６への入射角度を変更し、試料に残るエッチングによる再付着物を最小限にする。」
（１ｄ）頁番号１０、１１行〜頁番号１１、２２行
「図７に本発明による第二の実施例に示した装置を用いた方法の実施例を説明する。
・・・
　続いて、図７ｅに示すように、薄片７０６をＴＥＭ観察用グリッド７０７に移し、薄片７０６を含む領域７０５に不活性イオンビーム７１５を照射して、薄片周辺をスパッタリングエッチング加工する。そのとき、不活性イオンビーム７１５は薄片７０６の側壁に概ね平行な方向から照射する。そして、薄片周辺に薄片７０６の側壁に対して垂直な方向から電子ビーム７１４を走査照射して、薄片７０６の表面を走査電子顕微鏡観察する。そして、透過電子量の相違から起きる観察像の明るさの変化から薄片の厚さを判断し、所定の厚さになったところで、集束イオンビーム７１２の照射を終了する。」
（１ｅ）「図４
」
（１ｆ）「図５
」
（１ｇ）「図６
」
（１ｈ）「図７（ｅ）（部分）
」
（１ｇ）上記摘記事項（１ｄ）並びに図５、図６及び図７（ｅ）の記載から、「集束イオンビーム鏡筒と電子ビーム鏡筒を含む面」は「集束イオンビーム鏡筒と不活性イオンビーム鏡筒を含む第一の平面」と直交する第三の平面をなしていることが分かる。
　
　これらの記載を含む引用例１全体の記載及び当業者の技術常識を参酌すれば、引用例１には、以下の発明が記載されているものと認められる。
「集束イオンビーム鏡筒から発射される集束イオンビームと、電子ビーム鏡筒から発射される電子ビームと、不活性イオンビーム鏡筒から発射される不活性イオンビームは、試料ステージに載置された試料の表面一箇所で交差するように調製されており、
　集束イオンビーム鏡筒と電子ビーム鏡筒を含む面は集束イオンビーム鏡筒と不活性イオンビーム鏡筒を含む第一の平面と直交する第三の平面をなしており、
　試料ステージは、複数の駆動軸を持っていて、試料を載置して三次元空間を移動可能で、集束イオンビーム鏡筒、不活性イオンビーム鏡筒を含む第一の平面に対して直交する第二の平面を基準とし、その交差角度が変更可能な構造になっている、
複合装置。」（以下「引用発明」という。）
　
（２）引用例２
　同じく原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である特開２００５−５１０８号公報（以下「引用例２」という。）には、以下の記載がある。
（２ａ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は透過型電子顕微鏡、走査型電子顕微等のための試料を作製するために使用して好適な集束イオンビーム装置に関し、特に、透過型電子顕微鏡用試料を作成するのに好適な集束イオンビーム装置に関する。」
（２ｂ）「【００１９】
図４を参照して、本例の集束イオンビーム装置の構成について説明する。図４は、図３の本例の集束イオンビーム装置のｘｚ方向の断面構成を示す。試料室３１内には試料ステージ１００が装着されている。試料ステージ１００は、上述のように、図２の試料移動ステージ２０に相当し、略Ｌ字形のステージフレームを有し、ステージフレームは底板１１０ａとそれに垂直な側板１１０ｂからなる。ステージフレームの底板１１０ａは、試料室３１の底部に取り付けられたベース１０２の上に固定されている。
【００２０】
試料ステージ１００は、試料１０を保持する試料ホルダ（以下、走査型電子顕微鏡試料ホルダという。）１３０と、試料１０をｘ方向、ｙ方向及びｚ方向に移動するｘテーブル１４０、ｙテーブル１５０及びｚテーブル１６０と、試料１０をｚ軸周りに回転させるローテーションテーブル１７０と試料１０をｘ軸に平行な軸線周りに回転させるチルトテーブル１８０とを有する。
【００２１】
上述のように、ｘ軸、ｙ軸及びｚ軸は、集束イオンビーム装置に設定している。従って、例えば、チルトテーブル１８０が傾斜している場合には、ｙテーブル１５０及びｚテーブル１６０は、ｙ軸及びｚ軸に対して傾斜した軸線に沿って移動する。しかしながら、説明の都合上、ｘテーブル１４０、ｙテーブル１５０及びｚテーブル１６０の移動方向は、チルトテーブル１８０の傾斜角がゼロであると仮定している。
【００２２】
チルトテーブル１８０の回転軸線は、試料１０の表面とｚ軸（光軸）の交点を通るように設定されている。従って、チルトテーブル１８０を回転させることによって、試料１０を傾斜させても、顕微鏡の視野が移動しないユーセントリック構造になっている。」
（２ｃ）「【００２９】
ローテーションテーブル１７０は、玉軸受１７３ａ、１７３ｂを介してｘテーブル１４０に回転自在に結合されている。ローテーションテーブル１７０にはウォームホィール１７２aが取り付けられ、図６に示すように、ウォームギヤ１７２ｂは両端を玉軸受１７６ａ、１７６ｂで支持され、軸受ハウジング１７７ａ、１７７ｂでｘテーブル１４０に取り付けられている。ウォームギヤ１７２ｂの一端にはカップリング１７８を介してＤＣモータ１７９が連結されている。ＤＣモータ１７９はｘテーブル１４０に取り付けられている。ローテーションテーブル１７０は、ＤＣモータ１７９を駆動し、ウォームギヤ１７２ｂ、ウォームホィール１７２aを回転させることにより回転し、試料１０を回転させる。」
（２ｄ）「【図４】
」
　
３．対比
　本願発明と引用発明とを対比する。
（１）引用発明は「集束イオンビーム鏡筒」、「電子ビーム鏡筒」及び「不活性イオンビーム鏡筒」を有するから、本願発明の「集束イオンビーム装置」、「走査電子顕微鏡」及び「気体イオンビーム装置」に相当する構成を有することは明らかである。
　また、引用発明の「試料ステージ」及び「複合装置」は、それぞれ本願発明の「試料ステージ」及び「複合荷電粒子ビーム装置」に相当する。
（２）図６及び当業者の技術常識を参酌すれば、引用発明の第二の平面は集束イオンビーム鏡筒と直交する平面であり、試料ステージと当該第二の平面との交差角度が変更可能な構造は、本願発明の「チルト機構」に相当する。ここで、チルト軸が第二の平面と平行なことは自明である。
（３）引用発明の「集束イオンビーム鏡筒から発射される集束イオンビームと、電子ビーム鏡筒から発射される電子ビームと、不活性イオンビーム鏡筒から発射される不活性イオンビームは、試料ステージに載置された試料の表面一箇所で交差するように調製されて」いる構成は、本願発明の「前記集束イオンビーム装置と、前記走査電子顕微鏡と、前記気体イオンビーム装置とは、前記集束イオンビーム装置から照射される集束イオンビームと、前記走査電子顕微鏡から照射される電子ビームと、前記気体イオンビーム装置から照射される気体イオンビームとが、略同一領域で交わるよう配置され」ている構成に相当する。
（４）引用発明の第二の平面は集束イオンビーム鏡筒と直交する平面であるから、引用発明の「集束イオンビーム鏡筒と電子ビーム鏡筒を含む」「第三の平面」が当該第二の平面と直交することは明らかであり、その結果、引用発明の第三の平面は、第二の平面と平行なチルト軸と直交することも自明である。
　したがって、引用発明は、本願発明の「前記集束イオンビーム装置の鏡筒の軸と前記電子顕微鏡の鏡筒の軸は、それぞれチルト軸と略直交するように配置され」に相当する構成を有する。
（５）当業者の技術常識に照らせば、引用発明のチルト軸が「集束イオンビーム鏡筒と不活性イオンビーム鏡筒を含む第一の平面」と略同一平面内に配置されていることは明らかである。
　
　したがって両者は、
「集束イオンビーム装置と、走査電子顕微鏡と、気体イオンビーム装置と、試料ステージとを備えた複合荷電粒子ビーム装置において、
　前記試料ステージは、チルト機構を有し、
　前記集束イオンビーム装置と、前記走査電子顕微鏡と、前記気体イオンビーム装置とは、前記集束イオンビーム装置から照射される集束イオンビームと、前記走査電子顕微鏡から照射される電子ビームと、前記気体イオンビーム装置から照射される気体イオンビームとが、略同一領域で交わるよう配置され、
　前記集束イオンビーム装置の鏡筒の軸と前記電子顕微鏡の鏡筒の軸は、それぞれ前記チルト軸と略直交するように配置され、
　前記集束イオンビームの鏡筒の軸と前記気体イオンビームの鏡筒の軸と前記チルト軸は、略同一平面内に配置された複合荷電粒子ビーム装置。」
の点で一致し、以下の各点で相違している。
　
（相違点１）
　チルト機構が、本願発明は「ユーセントリック」であるのに対して、引用発明はユーセントリックであるかどうか不明な点。
（相違点２）
　試料ステージが、本願発明は「チルト軸と直交する試料ステージ回転軸を有し」ているのに対して、引用発明はそのような回転軸を有していない点。
（相違点３）
　本願発明は「試料ステージ回転軸は集束イオンビーム装置の鏡筒の軸と一致するように配置され」ているのに対して、引用発明は、そのような構成を有するかどうか不明な点。
　
４．判断
　上記各相違点について検討する。
（相違点１）
　集束イオンビーム装置のチルト機構をユーセントリックにすることは、ごく普通に行われている周知技術（上記引用例２、摘記事項（２ｂ）参照）である。
　そして、引用発明がチルト機構としてユーセントリックチルト機構を排除するものでないことは明らかである（上記摘記事項（１ｂ）及び図４参照）。
　そうすると、引用発明に上記相違点１に係る構成を採用することは当業者が容易になし得る事項である。
（相違点２）
　集束イオンビーム装置の試料ステージの複数の駆動軸として、チルト軸と直交する試料ステージ回転軸を設けることは引用例２（上記摘記事項（２ｂ）及び（２ｃ）参照）に見られるとおり、ごく普通に行われている周知技術である。
　そして、引用発明の試料ステージに当該周知技術を適用することに格別の技術的困難性も、阻害要因もない。
　してみると、引用発明に上記相違点２に係る構成を採用することは、当業者が容易になし得る事項である。
（相違点３）
　本願発明における上記相違点３に係る構成の有する技術的意味は必ずしも明確ではないが、本願明細書の段落【００１６】の「回転ステージ９の回転軸１０は直交３軸ステージ１２の動作により、必ずしも垂直に配置されたＦＩＢ鏡筒１の軸とは一致しないが、直交３軸ステージ１２の動作を伴うことで、擬似的にＦＩＢ鏡筒１の軸上での回転が可能となる。この部分は本発明の本質には関係しないので、以降説明を簡単にするために、回転軸１０はＦＩＢ鏡筒１の軸と一致しており、試料は回転軸上に配置されているものとして説明を行う。」の記載に照らせば、引用発明も上記の構成と同様に「試料ステージは、複数の駆動軸を持っていて、試料を載置して三次元空間を移動可能で」であるから、「試料は回転軸上に配置されているもの」とすることができる。
　してみると、引用発明も上記相違点３に係る構成を有するから、相違点３は実質的な相違点ではない。
　
　また、本願発明の作用効果も、引用発明及び周知技術から当業者が予測できる範囲のものである。
　
　したがって、本願発明は、引用発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
第４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。