【事件の表示】
　特願２０１０−５０２０４６「パターニングデバイスを照明するための照明システム、および照明システムを製造する方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２０年１０月　９日国際公開、ＷＯ２００８／１２０９８９、平成２２年　７月１５日国内公表、特表２０１０−５２４２３１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯  
　本願は、２００８年４月３日（優先権主張２００７年４月３日、米国）を国際出願日とする出願であって、平成２１年１１月２４日（受付日）に手続補正がなされ、平成２４年３月２日（起案日）に拒絶査定がなされた。
　これに対し、同年７月３日に拒絶査定に対する審判請求がなされ、同時に手続補正がなされたものである。
　その後、同年９月２６日（起案日）に、審判請求人に前置報告書の内容を示し意見を求めるための審尋を行ったところ、平成２５年３月２７日（受付日）に回答書が提出された。
　
第２　平成２４年７月３日付けの手続補正についての補正の却下の決定
［補正の却下の決定の結論］
　平成２４年７月３日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由１］
　本件補正は、「アセンブリ」に関する発明が、補正前には請求項７及びそれを引用する請求項８〜９の３つであった（平成２１年１１月２４日付けの手続補正書参照）ものを、補正後には請求項１及びそれを引用する請求項２〜５の５つ（平成２４年７月３日付けの手続補正書参照）に増加する補正を含むものである。
　すなわち、当該補正は、補正前の特許請求の範囲には記載されていなかった新たな発明を追加するものであり、特許法第１７条の２第５項に掲げる何れの事項（請求項の削除、特許請求の範囲の減縮、誤記の訂正、明りょうでない記載の釈明）にも該当しない。
　したがって、本件補正は、特許法第１７条の２第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
［理由２］
１．補正後の本願発明
　本件補正により、本願の特許請求の範囲の請求項１は、補正前の請求項７に記載の以下のもの
　
「【請求項７】
　照明システムと、
　放射源およびコレクタを含む放射源−コレクタモジュールと
を備え、
　前記照明システムは、
　ハウジングと、
　前記ハウジング内に配置された光学システムであって、前記光学システムは少なくとも1つの光学素子を含み、前記光学システムは中間集光点から発散する放射ビームでパターニングデバイスを照明するように構成され、前記中間集
光
を含み、
　前記放射源−コレクタモジュールの前記コレクタは、前記放射源を前記中間集光点内に結像する、アセンブリ。」（当審で付与した上記下線部は、特許請求の範囲には「交」と記載されているが、「光」の誤記であることは明らかであるから上記のとおり認定する。以下同様。）
　
から、次のとおりのものに補正された。
　
「【請求項１】
開口を有するフロアの下方に設置された、放射源およびコレクタを含む放射源−コレクタモジュールであって、前記放射源から放射された放射ビームの中間集光点を前記フロアの開口内に形成する、放射源−コレクタモジュールと、
　前記フロア上に設置され、前記開口を通過した前記放射ビームを受ける照明システムであって、
　ハウジングと、
　前記ハウジング内に配置された光学システムであって、前記光学システムは少なくとも1つのミラーを含み、前記光学システムは前記中間集光点から発散する前記放射ビームでパターニングデバイスを照明する、光学システムと
を含む、アセンブリ。」
　
２．判断
　本件補正は、補正前の請求項７に係る発明を特定するための事項である「前記放射源−コレクタモジュールの前記コレクタは、前記放射源を前記中間集光点内に結像する」という事項を削除する補正を含むものである。
　すなわち、上記補正は特許請求の範囲の減縮を目的とするものではない。また、上記補正が請求項の削除、誤記の訂正及び明りょうでない記載の釈明のいずれを目的とするものでないことは明らかである。
　以上のとおりであるから、本件補正は、特許法第１７条の２第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
　よって、補正の却下の決定の結論のとおり決定する。
　
第３　本願発明について
　
１．本願発明
　本件補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項７に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成２１年１１月２４日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項７に記載された事項により特定される、上記のとおりのものと認める。
　
２．刊行物及びその記載内容
　引用例１：特開平１０−２２９０４４号公報
　
　原査定の拒絶の理由に引用文献４として引用され、本願の優先日前に頒布された上記引用例１には、以下の事項が記載されている。
（１）「【００１１】本発明の実施例を、添付図面に基づいて説明する。図１は、本発明の第１実施例にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。図１の露光装置は、光源手段として、たとえば２４８ｎｍまたは１９３ｎｍの波長光を射出するエキシマレーザー光源１を備えている。エキシマレーザー光源１から水平方向に供給された平行光束は、折り曲げミラーＭ１によって鉛直方向に偏向された後、第１集光レンズ２ａに入射する。第１集光レンズ２ａを介して一旦集光した光束は、第２集光レンズ２ｂを介して再び平行光束となって、折り曲げミラーＭ２に入射する。折り曲げミラーＭ２によって水平方向に偏向された光束は、たとえば一対のシリンドリカルレンズからなるビームエキスパンダ８に入射する。
【００１２】ビームエキスパンダ８では、後述のオプティカルインテグレータ３の入射面の形状と光束の形状とがほぼ一致するように、光軸ＡＸに垂直な面内において光束を二次元的に拡大する。ビームエキスパンダ８を介して整形された光束は、たとえばフライアイレンズのようなオプティカルインテグレータ３に入射する。オプティカルインテグレータ３に入射した光束は、オプティカルインテグレータ３を構成する複数のレンズエレメントにより二次元的に分割され、その後側焦点位置に複数の光源像を形成する。複数の光源像からの光束は、コンデンサーレンズ４に入射する。
【００１３】コンデンサーレンズ４により集光された光束は、折曲げミラーＭ３で反射された後、所定のパターンが形成されたマスク５を重畳的に照明する。マスク５を透過した光束は、投影光学系６を介して、感光性基板であるウエハ７上にマスク５のパターン像を形成する。なお、マスク５は、投影光学系６の光軸に対して垂直な平面内においてマスクステージ（不図示）上に載置されている。一方、ウエハ７は、投影光学系６の光軸に対して垂直な平面内において二次元的に移動可能なウエハステージ（不図示）上に載置されている。」
（２）「【００１４】こうして、投影光学系６に対してウエハステージをひいてはウエハ７を移動させながら露光を行うことにより、ウエハ７上の各露光領域にマスク６のパターンを逐次転写することができる。なお、第１実施例では、折り曲げミラーＭ１および第１集光レンズ２ａは、支持体１１によって支持されている。そして、エキシマレーザー光源１および支持体１１（ひいては折り曲げミラーＭ１および第１集光レンズ２ａ）は、第１の構造体である下階の床版Ｂによって支持されている。
【００１５】一方、折り曲げミラーＭ２はオプティカルインテグレータ３を含む露光装置本体１０によって支持され、第２集光レンズ２ｂは支持体１２によって支持されている。そして、露光装置本体１０および支持体１２（ひいては第２集光レンズ２ｂ）は、第１の構造体と実質的に隔絶された第２の構造体である上階の床版Ａによって支持されている。また、図１において破線で示すように、エキシマレーザー光源１と支持体１１との間、支持体１１と支持体１２との間、および露光装置本体１０と支持体１２との間には、伝搬する光が空気ゆらぎの影響を直接受けることのないように、たとえばフレキシブルなパイプ部材が設けられている。なお、後述の図３および図４においては、この種のパイプ部材の図示を省略している。」
（３)「【図１】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
　上記各記載事項を含む引用例１全体の記載及び当業者の技術常識を総合すれは、引用例１には、次の発明が記載されているものと認められる。
「エキシマレーザー光源（１）から水平方向に供給された平行光束は、第１の折り曲げミラー（Ｍ１）によって鉛直方向に偏向された後、第１集光レンズ（２ａ）に入射し、第１集光レンズを介して一旦集光した光束は、第２集光レンズ（２ｂ）を介して再び平行光束となって、第２の折り曲げミラー（Ｍ２）に入射し、第２の折り曲げミラーによって水平方向に偏向された光束は、ビームエキスパンダ（８）に入射し、
　ビームエキスパンダを介して整形された光束はオプティカルインテグレータ（３）に入射し、オプティカルインテグレータに入射した光束は、コンデンサーレンズ（４）に入射し、
　コンデンサーレンズにより集光された光束は、第３の折曲げミラー（Ｍ３）で反射された後、所定のパターンが形成されたマスク（５）を重畳的に照明する装置であって、
　第１の折り曲げミラーおよび第１集光レンズは、第１の支持体（１１）によって支持されており、エキシマレーザー光源および第１の支持体（ひいては第１の折り曲げミラーおよび第１集光レンズ）は、第１の構造体である下階の床版（Ｂ）によって支持されており、
　一方、第２の折り曲げミラーはオプティカルインテグレータを含む露光装置本体（１０）によって支持され、第２集光レンズは第２の支持体（１２）によって支持されており、露光装置本体および第２の支持体（ひいては第２集光レンズ）は、第１の構造体と実質的に隔絶された第２の構造体である上階の床版（Ａ）によって支持されている、装置。」（以下「引用発明」という。）
　
５．対比・判断
　本願発明と引用発明とを対比する。
（１）引用発明の「エキシマレーザー光源」は本願発明の「放射源」に相当する。
　引用発明の「第１集光レンズ」は「エキシマレーザー光源から水平方向に供給された平行光束」を「一旦集光」するから、本願発明の「放射源を中間集光点内に結像する」「コレクタ」に相当する。また、引用発明の上記「一旦集光した」点は本願発明の「中間集光点」に相当する。
（２）引用発明の「所定のパターンが形成されたマスク」は本願発明の「パターニングデバイス」に相当する。
　引用発明は上記「一旦集光した光束」が「第２集光レンズ」、「第２の折り曲げミラー」、「ビームエキスパンダ」、「オプティカルインテグレータ」、「コンデンサーレンズ」及び「コンデンサーレンズ」を介して「マスクを重畳的に照明」し、これらの構成は本願発明の「少なくとも1つの光学素子を含」む「光学システム」に相当するから、引用発明は本願発明の「光学システムであって、前記光学システムは少なくとも1つの光学素子を含み、前記光学システムは中間集光点から発散する放射ビームでパターニングデバイスを照明するように構成され」た「照明システム」に相当する構成を有する。
（３）引用発明の「第２集光レンズ」は、階下にある第１の構造体の上階にある第２の構造体によって支持されており、該「第２集光レンズ」は上記「照明システム」に相当する構成のうちの最初の構成要素であるから、引用発明の「照明システム」に相当する構成の底部は、「第２集光レンズ」がこれに相当する。
　そして「一旦集光した点」が「第２集光レンズ」より下方に位置することは明らかであるから、引用発明は「中間集光点は照明システムの底部よりも下方の位置に配置される」構成を有する。
（４）引用発明の「装置」は本願発明の「アセンブリ」に相当する。
　
　したがって、両者は、
「照明システムと、
　放射源およびコレクタ
を備え、
　前記照明システムは、
　光学システムであって、前記光学システムは少なくとも1つの光学素子を含み、前記光学システムは中間集光点から発散する放射ビームでパターニングデバイスを照明するように構成され、前記中間集光点は前記照明システムの底部よりも下方の位置に配置される、光学システムと
を含み、
　前記コレクタは、前記放射源を前記中間集光点内に結像する、アセンブリ。」である点で一致し、次の点で相違する。
　
（相違点）
　本願発明は放射源およびコレクタが「放射源−コレクタモジュール」として構成され、照明システムが「ハウジング」を備え、光学システムが該ハウジング内に配置されているのに対して、引用発明はそのような構成を有さない点。
　
　上記相違点について検討する。
　光学要素を含むアセンブリにおいて、複数の要素を１つのモジュールとして構成することも、該モジュールをハウジング内に配置することも、ともにごく普通に行われている周知技術である。
　引用文献１には、「エキシマレーザー光源１と支持体１１との間、支持体１１と支持体１２との間、および露光装置本体１０と支持体１２との間には、伝搬する光が空気ゆらぎの影響を直接受けることのないように、たとえばフレキシブルなパイプ部材が設けられている。」（上記摘記事項（２）の段落【００１５】参照）と記載されているとおり、各光学要素をハウジング内に配置することが示唆されている。
　これらのことを考慮すれば、引用発明に上記相違点に係る構成を採用することは、当業者が容易になしうる事項である。
　
　そして、本願発明の効果も、引用発明及び周知技術から当業者が予測しうる範囲のものであって、格別のものではない。
　
第４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条２項の規定により特許を受けることができない。したがって、本願の他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶をすべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。