【事件の表示】
　特願２００７−　４９０３４「スタンパおよび防眩性反射防止物品とその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２０年　９月１１日出願公開、特開２００８−２０９８６７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯　
　本願は平成１９年２月２８日の出願であって、平成２２年２月１８日及び平成２３年１２月２６日付けで手続補正がなされ、平成２４年２月１６日付けで拒絶査定がなされ、これに対して同年５月１０日付けで拒絶査定不服審判請求がなされると同時に手続補正がなされ、当審において、平成２４年５月１０日付けの手続補正が平成２４年１２月３日付けで却下され、同日付けで拒絶の理由（以下「当審拒絶理由」という。）が通知され、平成２５年１月２８日付けで手続補正がなされたものである。
　なお、請求人は、平成２５年１月２８日付けで意見書を提出している。
　
２　本願発明
　本願の請求項１及び２に係る発明は、平成２５年１月２８日付け手続補正によって補正された特許請求の範囲の請求項１及び２に記載された事項によりそれぞれ特定されるものであるところ、その請求項１に係る発明は、平成２５年１月２８日付け手続補正によって補正された明細書、特許請求の範囲及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりの次のものと認める。
　
「アルミニウム基材の表面に形成された第１の微細凹凸構造上に、陽極酸化アルミナからなり、可視光の波長以下の周期の第２の微細凹凸構造が形成されたスタンパであって、
　前記第１の微細凹凸構造が、圧延されたアルムニウムの圧延痕であることを特徴とするスタンパ。」（以下「本願発明」という。）
　
３　刊行物の記載事項
　当審拒絶理由で引用した「本願の出願前に頒布された刊行物である特開２００５−１５６６９５号公報（以下「引用例」という。）」には、図とともに以下の事項が記載されている（下線は審決で付した。以下同じ。）。
　
（１）「【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
　本発明は、高分子膜（フィルム）の表面に形成され、
可視光域における反射を低減させる
反射防止膜
を形成するための
【背景技術】
【０００２】
　様々な情報機器用表示装置において、高分子フィルムが広く用いられているが、良好な視認性を確保するためには、反射光を抑制するための反射防止層の形成が必要とされる。通常，反射防止層としては，異なる屈折率からなる誘電体から構成される多層膜が用いられているが、誘電体層の形成には、真空蒸着法、あるいはスパッタ法が用いられており、反射層形成には、高価な装置と多大な作製時間を必要とするという問題点があった。
【０００３】
　一方、
高分子フィルムの表面に突起状の形状を付与し、屈折率が連続的に変化する層を形成することにより
突起形状に対応した窪み配列を有するスタンパ
【０００４】
　高分子フィルムの表面に突起形状を形成するためのスタンパに形成する
窪みは、光の波長に比較して微細な周期を有し、可視光域で反射率を十分減衰させるためには、波長の１／４程度の深さを有することが必要
屈折率を連続的に変化させる必要があることから、テーパー形状を有することが必要とされる
【０００５】
　このような条件を満たす窪み配列の形成のため、電子ビームリソグラフィー、あるいは光露光法によるパターニングとＳｉに代表される半導体単結晶の異方性エッチングを組み合わせる手法が一般に用いられている。これは、所望の周期の開口を各種リソグラフィーで形成した後、湿式あるいは乾式エッチング法によりテーパー形状の孔を形成するものである。リソグラフィー法として、電子ビームリソグラフィーは十分に微細な周期のパターンニングが可能であるが、加工に多大な時間と高価な装置が必要とされる。光露光法では、レーザー光の干渉を用いることでパターンを形成する方法が用いられるが、十分に微細な周期の構造を形成することは困難である。
【０００６】
　微細なパターンを形成する手法として、規則的な細孔配列を有する陽極酸化ポーラスアルミナを用いる方法が提案されている（たとえば、非特許文献１）。この方法では，規則的な細孔配列を有する陽極酸化ポーラスアルミナをマスクとし、反応性イオンエッチングを施すことによりＳｉ基板に窪みを形成する。このようにして形成された窪み配列を鋳型とし，高分子に同様の構造を形成する手法は容易に類推し得るが、この方法においては、無反射層形成に必須なテーパー形状の形成は困難であった。　
【０００７】
　これらの他、
陽極酸化ポーラスアルミナの多孔質構造にエッチングを施し
陽極酸化ポーラスアルミナの細孔形状は円柱状であ
単にこれをもとに反射防止膜に必要な制御されたテーパー形状を有する突起形状を高分子フィルムに形成することは困難である
【特許文献１】特開２００３―４３２０３号公報
【非特許文献１】Kanamori et al., Appl. Phys. Lett., vol. 78, No.2, p.142 (2001)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
　上記のように、リソグラフィーを用いる方法では、大面積を加工可能なスタンパを安価に製造することは困難であり、またテーパー形状を制御することは困難であった。また、陽極酸化ポーラスアルミナを用いる手法においても、無反射層形成に必須な最適なテーパー形状を形成するのが困難であるという問題点を有していた。
【０００９】
　そこで本発明の課題は、上記従来技術における
問題点を解決するために
【課題を解決するための手段】
【００１０】
　上記課題を解決するために、本発明は、
陽極酸化と孔径拡大処理を組み合わせることで、連続的に細孔径が変化したテーパー形状を付与した陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として用いることで無反射高分子フィルムの作製を可能に
【００１１】
　この反射防止膜の製造方法においては、
細孔周期５０ｎｍ〜３００ｎｍ，細孔深さ１００ｎｍ以上の
【００１２】
　また、定電圧で長時間陽極酸化を施したのち、一旦酸化皮膜を除去し、再び同一条件で陽極酸化を施すことで作製した陽極酸化ポーラスアルミナを用いることで、高い孔配列規則性を有する陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型とすることが可能となる。
【００１３】
　使用する陽極酸化ポーラスアルミナとしては、たとえば、シュウ酸を電解液として用い、化成電圧３０Ｖ〜６０Ｖにおいて作製した陽極酸化ポーラスアルミナを用いることもでき、硫酸を電解液として用い、化成電圧２５Ｖ〜３０Ｖにおいて作製した陽極酸化ポーラスアルミナを用いることもできる。このような陽極酸化ポーラスアルミナを用いることで、より高い規則性を有する窪み配列を鋳型とすることが可能となる。
【００１４】
　さらに、陽極酸化ポーラスアルミナの作製において、陽極酸化に先立ちアルミニウム表面に微細な窪みを形成し、これを陽極酸化時の細孔発生点とすることもできる。これにより、任意の配列を有する窪み配列を有する鋳型とすることが可能となる。
【００１５】
　本発明に係る反射防止膜は、このような方法により製造されたものであり、所望形状に形成された表面凹凸により、優れた反射防止性能を有するものである。この反射防止膜は、とくに光透過性高分子膜の表面に形成することにより、各種用途において目標とする反射防止性能を発揮することができる。
【００１６】
　本発明に係る反射防止膜作製用スタンパの製造方法は、高分子膜の表面に凹凸を形成し、屈折率を連続的に変化させることで反射を低減させる反射防止膜の作製に用いるスタンパの製造方法であって、
表面に細孔を有し
連続的に細孔径が変化するテーパー形状を付与した陽極酸化ポーラスアルミナ
【００１７】
　本発明に係る反射防止膜作製用スタンパは、このような方法により製造されたものからなる。
【発明の効果】
【００１８】
　本発明によれば、従来の方法に比較し、より簡便に、またテーパー形状が制御された陽極酸化ポーラスアルミナに基づく鋳型の形成が可能となり、この結果、可視光域における反射を低減した反射防止層およびその製造方法、更には、反射防止層を形成するためのスタンパ、およびその製造が可能となる。」
　
（２）「【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
　以下に、本発明の望ましい実施の形態について、図面を参照して説明する。
　図１は，本発明において形成される高分子からなる反射防止膜（無反射膜）の構造例を示している。高分子膜１の表面にテーパー状の突起配列、つまり凹凸を有することで，屈折率が連続的に変化し、反射率の低減が可能となる。
【００２０】
　図２は，本発明において，テーパー形状を有する陽極酸化ポーラスアルミナの作製方法法を示したものである。陽極酸化ポーラスアルミナ３は、
アルミニウム基材２の表面に形成される
所定の時間陽極酸化を施して所望の深さの細孔を形成したのち、適当な酸溶液中に浸漬することにより孔径の拡大処理を施
この後、再び陽極酸化を施すことにより、１段階目に比較して孔径の小さな孔を形成する
操作を繰り返すことにより、テーパー形状を
繰り返し段数を増大することにより、より滑らかなテーパー形状
陽極酸化時間と孔径拡大処理時間とを調整することで、様々なテーパー形状
周期、孔深さに合わせて、最適な屈折率変化を設計
【００２１】
　このようにして形成されたテーパー形状を有する陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型とし、図３に示すように、
高分子フィルム（高分子膜）
構造を
たとえば、ポリマーを鋳型に充填することにより転写し
鋳型を除去することで表面に突起を有する無反射構造を得ることができ
良好な光透過性と加工性を有する
アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂等
また、高分子への転写には、モノマーを充填した後重合させる方法、適当な溶媒に溶解した高分子をキャストする方法のほか、加温あるいは溶媒を加えることで可塑化した状態の高分子フィルムへ鋳型を押し付けることにより達成することができる
　
（３）「【実施例】
【００２５】
　次に、実施例に基づいて、本発明を更に
具体的に
実施例１
　
純度９９．９９％のアルミニウム板を０．３Ｍシュウ酸を電解液とし、化成電圧４０Ｖとし、５０秒間陽極酸化を行
その後、２重量％リン酸３０℃中に５分間浸漬し、孔径拡大処理を施し
この操作を５回繰り返すことで
周期１００ｎｍ、細孔径開口部８０ｎｍ、底部２５ｎｍ、孔深さ３００ｎｍのテーパー状細孔を有する陽極酸化ポーラスアルミナ
得
【００２６】
　重合開始剤として５重量％の過酸化ベンゾイルを含むメタクリル酸メチルモノマーを細孔内に充填した後、紫外線を照射することで重合させた。重合後、高分子層を鋳型から剥離することで、表面に突起配列を有するポリメチルメタクリレート樹脂を得た。得られた高分子膜の反射率を測定した結果、反射率の低減が確認された。
【００２７】
実施例２
　実施例１と同様のアルミニウム板に対して、０．３Ｍ硫酸を電解液とし、化成電圧２５Ｖとし、陽極酸化、孔径拡大処理を繰り返した。その後、同様にポリメタクリル酸メチル樹脂に構造を転写することにより、反射率の低減が確認された。
【００２８】
実施例３
　実施例１と同様の条件で、２時間陽極酸化を施したのち、ポーラスアルミナ層をリン酸／クロム酸混合液により選択的に溶解除去した。この後、同一の条件で陽極酸化、孔径拡大処理を組み合わせることで、細孔が高度に配列したテーパー状孔を有する陽極酸化ポーラスアルミナを得た。その後、実施例１と同様の手法によりポリメタクリル酸メチル樹脂に構造を転写することにより、反射率の低減が確認された。
【００２９】
実施例４
　実施例１と同様の方法でテーパー形状孔を有する陽極酸化ポーラスアルミナを形成後、これを鋳型として、ポリカーボネート樹脂に転写を行うことで、低反射率特性を示すことが確認された。」
　
（４）上記（１）ないし（３）から、引用例には、
「高分子フィルムの表面に突起状の形状を付与し、屈折率が連続的に変化する層を形成することにより、可視光域における反射率を低減する反射防止膜を形成するための、アルミニウム基材の表面に形成される陽極酸化ポーラスアルミナの多孔質構造にエッチングを施して突起形状に対応した窪み配列を作製したスタンパにおいて、
　前記窪みは、光の波長に比較して微細な周期を有し、可視光域で反射率を十分減衰させるためには波長の１／４程度の深さを有することが必要であり、また、屈折率を連続的に変化させる必要があることからテーパー形状を有することが必要であるところ、陽極酸化ポーラスアルミナの細孔形状は円柱状であり、単にこれをもとに反射防止膜に必要な制御されたテーパー形状を有する突起形状を高分子フィルムに形成することは困難であるという問題点を解決するために、
　陽極酸化と孔径拡大処理を組み合わせることで連続的に細孔径が変化したテーパー形状を付与した陽極酸化ポーラスアルミナを鋳型として用いることで無反射高分子フィルムの作製を可能にしたスタンパであって、
　細孔周期５０ｎｍ〜３００ｎｍ、細孔深さ１００ｎｍ以上の連続的に細孔径が変化するテーパー形状を付与した細孔を表面に有する、アルミニウム基材の表面に形成される陽極酸化ポーラスアルミナ、具体的には、純度９９．９９％のアルミニウム板を０．３Ｍシュウ酸を電解液とし、化成電圧４０Ｖとし、５０秒間陽極酸化を行い、その後、２重量％リン酸３０℃中に５分間浸漬し、孔径拡大処理を施し、この操作を５回繰り返すことで得られた、細孔周期１００ｎｍ、細孔径開口部８０ｎｍ、底部２５ｎｍ、孔深さ３００ｎｍのテーパー状細孔を有する、アルミニウム基材の表面に形成される陽極酸化ポーラスアルミナからなり、
　所定の時間陽極酸化を施して所望の深さの細孔を形成したのち、適当な酸溶液中に浸漬することにより孔径の拡大処理を施し、この後、再び陽極酸化を施すことにより１段階目に比較して孔径の小さな孔を形成する操作を繰り返すことにより、テーパー形状を付与し、繰り返し段数を増大することにより、より滑らかなテーパー形状にでき、陽極酸化時間と孔径拡大処理時間とを調整することで様々なテーパー形状にできるので、周期、孔深さに合わせて、最適な屈折率変化を設計でき、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂等の良好な光透過性と加工性を有する高分子フィルム（高分子膜）の表面に、たとえば、ポリマーを鋳型に充填することにより構造を転写し鋳型を除去することで、突起を有する無反射構造を得ることができ、また、高分子への転写には、モノマーを充填した後重合させる方法、適当な溶媒に溶解した高分子をキャストする方法のほか、加温あるいは溶媒を加えることで可塑化した状態の高分子フィルムへ鋳型を押し付けることにより達成することができる、無反射高分子フィルムの作製を可能にしたスタンパ。」の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
４　対比
　本願発明と引用発明を対比する。
（１）引用発明の「アルミニウム基材」、「アルミニウム基材の表面に」、「陽極酸化ポーラスアルミナ」、「『陽極酸化ポーラスアルミナの多孔質構造にエッチングを施して』作製した『突起形状に対応した窪み配列』」、「光の波長に比較して微細な周期」及び「スタンパ」は、それぞれ、本願発明の「アルミニウム基材」、「アルミニウム基材の表面に」、「陽極酸化アルミナ」、「第２の微細凹凸構造」、「可視光の波長以下の周期」及び「スタンパ」に相当する。
　
（２）引用発明の「第２の微細凹凸構造（陽極酸化ポーラスアルミナの多孔質構造にエッチングを施して突起形状に対応した窪み配列）」の窪みは、「可視光の波長以下の周期（光の波長に比較して微細な周期）」を有することが必要であり、その細孔周期は、５０ｎｍ〜３００ｎｍであり、具体的には１００ｎｍであって、可視光の波長以下の周期であるから、引用発明の「第２の微細凹凸構造」と本願発明の「第２の微細凹凸構造」とは「可視光の波長以下の周期の」構造である点で一致する。
　また、引用発明の陽極酸化ポーラスアルミナはアルミニウム基材の表面に形成されているから、陽極酸化ポーラスアルミナの多孔質構造にエッチングを施して突起形状に対応した窪み配列である引用発明の「第２の微細凹凸構造」もアルミニウム基材の表面に形成されていることになる。したがって、引用発明の「第２の微細凹凸構造」と本願発明の「『アルミニウム基材の表面に形成された第１の微細凹凸構造上に』形成された、『陽極酸化アルミナからなり、可視光の波長以下の周期の第２の微細凹凸構造』」とは、「『アルミニウム基材の表面に』形成された、『陽極酸化アルミナからなり、可視光の波長以下の周期の第２の微細凹凸構造』」である点で一致する。
　
（３）上記（１）及び（２）から、本願発明と引用発明とは、
「アルミニウム基材の表面に、陽極酸化アルミナからなり、可視光の波長以下の周期の第２の微細凹凸構造が形成されたスタンパ。」である点で一致し、次の点で相違する。
　
相違点：
　アルミニウム基材の表面に形成された前記第２の微細凹凸構造が、
　本願発明では、「アルミニウム基材の表面に形成された、圧延されたアルムニウムの圧延痕である第１の微細凹凸構造」を介してアルミニウム基材の表面に形成されるのに対して、
　引用発明では、アルミニウム基材、具体的にはアルミニウム板が、圧延されたものかどうか、その表面に圧延されたアルムニウムの圧延痕が形成されているかどうかが明確でない点。
　
５　判断
　上記相違点について検討する。
（１）周期が５μｍないし２０μｍ以上の表面凹凸により防眩性を発現させることは、本願の出願前に周知である（以下「周知技術１」という。例．特開２００５−２３４５５４号公報（【０００２】〜【０００８】参照。）、特開２００４−３３３９３６号公報（【０００４】〜【００１５】参照。）、特開２００５−１９５７２６号公報（【０００２】、【００３９】〜【００４２】参照。）、特開２００２−１８９１０６号公報（【請求項１】、【０００１】、【００１５】参照。））。
　
（２）アルミニウム板の表面に凹凸構造を形成する方法として、アルミニウム板を圧延する際に形成する方法は、本願の出願前に周知である（以下「周知技術２」という。例．特開２００６−２８１５６７（【００４０】参照。）、特開２００５−２６２４６６号公報（【００２６】、【００３４】参照。）、特開平３−１０６５３１号公報、特開平２−４１７０３号公報）。
　
（３）引用発明の「アルミニウム基材」は、具体的にはアルミニウム板であるから、上記（１）及び（２）からみて、引用発明において、防舷性を発現させるために、周期が５μｍないし２０μｍ以上の表面凹凸をアルミニウム板を圧延する際に圧延痕として形成すること、すなわち、引用発明において上記相違点に係る本願発明の構成となすことは、当業者が周知技術１及び周知技術２に基づいて容易になし得た程度のことである。
　
（４）効果について
　本願発明の奏する効果は、引用発明の奏する効果、周知技術１の奏する効果及び周知技術２の奏する効果から当業者が予測できた程度のものである。
　
（７）まとめ
　以上のとおりであるから、本願発明は、当業者が引用例に記載された発明、周知技術１及び周知技術２に基づいて容易に発明をすることができたものである。
　
６　むすび
　本願発明は、以上のとおり、当業者が引用例に記載された発明、周知技術１及び周知技術２に基づいて容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。