【事件の表示】
　特願２００７−５０２９１６「拡張性熱プラズマ蒸着装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　９月２２日国際公開、ＷＯ２００５／０８７９７７、平成１９年１０月１１日国内公表、特表２００７−５２８４４６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯  
　本願は、平成１７年３月８日（パリ条約による優先権主張　２００４年３月９日　（ＵＳ）米国）を国際出願日とする出願であって、平成２２年１２月３日付けで拒絶理由が通知され、平成２３年４月７日付けで手続補正がなされた後、同年８月３１日付けで拒絶査定がなされたものである。
　そして、本件審判は、平成２４年１月４日にこの拒絶査定を不服として請求されたものであり、同日付けで手続補正がなされたものである。  
 　 
第２　本願発明  
　本願発明は、平成２４年１月４日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１〜２８に記載された事項により特定されるものと認められるところ、その請求項１に係る発明は、次のとおりのものである。  
　
「基体を被覆する方法において、
　二つ以上の拡張性熱プラズマ（ＥＴＰ）源で、オリフィスを有するアノードを夫々含むＥＴＰ源からプラズマを発生させ、そして
　前記プラズマ中へ気化反応物を注入して前記基体上に被覆を形成し、然も、前記反応物を前記ＥＴＰ源から離れた所に位置し且つ前記アノードと前記基体との間の領域内のどこかにある、前記アノードオリフィスから特定の距離の所で注入し、前記特定の距離が前記基体を覆って一つ以上の均一な被覆特性を得るように選択され、
　前記特定の距離は０．２５４〜１０．１６センチメートルである、
基体被覆方法。」（以下、「本願発明１」という。）  
　
第３　原査定の理由の概要  
　原審における拒絶の理由の概要は、本願の請求項１〜６、１３、１５〜１８、２１〜２６、３０、３１に係る発明は、その出願前日本国内または外国において頒布された次の刊行物１に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない、というものである。（審決注；請求項２１が現請求項１に相当する。）
　
　刊行物１：米国特許第６３９７７７６号明細書 
　
第４　刊行物１の主な記載事項
　原査定の理由に引用された前記刊行物１には、次の事項が記載されている。（なお、仮訳を併記する。）
　
（１ａ）「SUMMARY OF INVENTION 
　The present invention provides an ETP coating apparatus and 
process particularly adapted to efficiently coat large substrates. 
The invention can be configured so as to provide coatings having 
desirable properties, including uniformity and reproducibility. 
　One aspect of the invention is to provide a substrate coating 
apparatus. The apparatus comprises: a deposition chamber adapted 
to be maintained at subatmospheric pressure; support means in the 
deposition chamber for a substrate, the substrate having at least 
one surface; and a set of expanding thermal plasma generating 
means associated with the deposition chamber, the generating 
means being adapted to deposit a coating on the substrate. 
The set comprises at least two expanding plasma generating 
means, with all of the means in the set being codirectionally 
oriented. 
　Another aspect of the invention is to provide a method for 
coating a substrate. The method comprises generating a set of at 
least two expanding thermal plasma plumes to deposit a coating 
on said substrate, wherein each of the plumes in the set is 
codirectionally oriented.」
（明細書第１欄第５８行〜第２欄第１３行）
（仮訳）「発明の要約
　本発明は、特に効率的に大きな基体を被覆するために適用される、ＥＴＰを用いた被覆装置および被覆方法を提供するものである。本発明は、均一性および再現性を含む望ましい特性を有する被膜を供給するよう構成される。
　本発明の一態様は、基体の被覆装置を提供することにある。装置は、大気圧より低い圧力に維持されることに適した蒸着室、蒸着室内の基体の支持手段、少なくとも1つの表面を有する基体、および、蒸着室に関連して基体上に被膜を形成することに適した複数の拡張性熱プラズマ発生手段を含む。前記拡張性熱プラズマ発生手段は、少なくとも二つ以上を含み、すべての手段は、同一方向を向いている。
　本発明の別の態様は、基体に被覆する方法を提供することである。この方法は、基板上に被膜を成膜するための、おのおののプラズマが同一の方向に向かう少なくとも二つの拡張熱プラズマを発生させることを含む方法である。」
　
（１ｂ）「Associated with (i.e., in  FIG. 1 , outside but in 
effective communication with) deposition chamber  10  are 
ETP generating means  15 . According to the invention, 
a plurality of said means are present; two are shown in the 
figure, but there may and frequently will be more than two, 
for example up to about 12. ETP generating means  15  
may also be wholly within said deposition chamber. 
Typically, each of said ETP generating means has provision 
for independent adjustment of spacing, distance to substrate, 
and reagent feed. 
　Each ETP generating means shown in  FIG. 1  is fitted 
with plasma nozzle  16  (although a nozzle is not a required 
aspect of the invention), whereby plumes  17  of plasma are 
produced which contact one side of substrate  12 . Each plume
 17  has a central axis  18  and said central axes are spaced 
from each other from each other at a distance D. As shown, 
plumes  17  intersect each other and there is an area of the 
substrate contacted by both plumes, and this will generally be 
the case as described in detail hereinafter. 　」
（明細書第３欄第４行〜第２２行）
（仮訳）「ＥＴＰ発生手段15は、蒸着室10と関連している。（すなわち、図１では、外側にあるが、密接に関係している。）本発明によれば、ＥＴＰ発生手段は複数配置され、図では２つであるが、しばしば２よりも多く、例えば、約１２まで有する。ＥＴＰ発生手段15は、完全に蒸着室内にある。ＥＴＰ発生手段は、それぞれの間隔、基体との距離、及び、試薬の供給の調整を独立に行う設備を有する。
　各ＥＴＰ発生手段15は、図１で示されるように、プラズマノズル16を備えており（ノズルは本発明の必須の要件ではない）、そこで、プラズマ柱17が発生し、基体12の片面に接触する。各プラズマ柱17は中心軸18を有し、それぞれの中心軸は間隔Ｄをおいて離間している。図示するように、プラズマ柱17は、互いに交差し、両方のプラズマ柱17に接触する基体の領域を有する。」
　
（１ｃ）「Referring again to  FIG. 4 , ETP generating means  
15  also contains at least one plasma gas supply line  417 . To 
form a plasma, at least one plasma gas is supplied through said 
plasma gas supply. The plasma gas may comprise a noble gas, 
nitrogen, ammonia, or hydrogen, for example, or any combination 
thereof, with argon often being preferred. If there is more than 
one plasma gas, then the plural gases may either be supplied 
through plural supply lines or may be premixed before being 
supplied to line  417 . Referring again to  FIG. 1 , the plasma 
gas in ETP generating means  15  is maintained at a higher 
pressure than the pressure in deposition chamber  10 , which 
is continuously evacuated by a pump. A DC voltage is then 
applied between cathode(s)  413  and the anode  419  to 
generate a plasma in ETP generating means  15 . The plasma 
is then emitted as a supersonic plasma via the anode  419  
aperture and expanded as a plasma plume into deposition 
chamber  10  due to the pressure difference between 
deposition chamber  10  and ETP generating means  15 .　」
（明細書第４欄第２５行〜第４４行）
（仮訳）「図４を参照すれば、ＥＴＰ発生手段15は、少なくとも１つのプラズマガス供給ライン417を含む。プラズマを形成するために、少なくとも一種のプラズマガス供給ラインを通して供給される。プラズマガスは希ガス、窒素、アンモニア、水素を含み、またはそれらの任意の組み合わせを含み、アルゴンが好まれる。複数のプラズマガスが存在する場合には、複数のガスは複数の供給ラインを介して供給してもよいし、ライン417に供給する前に予め混合して供給してもよい。図１を参照すれば、ＥＴＰ発生手段15においてプラズマガスは、蒸着室10よりも高圧が維持され、蒸着室10は、連続的にポンプで排気されている。直流電圧が、カソード413とアノード419間に印加され、ＥＴＰ発生手段15により、プラズマが発生する。発生したプラズマは、超音速プラズマとしてアノード419の開口を経由し放出され、蒸着室10とＥＴＰ発生手段15との圧力差により蒸着室にて膨張しプラズマ柱となる。」
　
（１ｄ）「Nozzle  418  is preferably attached to or mounted 
on anode  419 . Alternatively, nozzle  418  can be formed 
onto anode  419  as one contiguous unit. 
　Nozzle  418  can optionally further include an integral 
or removable divergent portion, referred to as a nozzle extension  
439 , for confinement and further directing of the plasma and 
reactive species flow. 
　Reagent supply lines  412 ,  414  and  416  are in fluid 
communication with nozzle  418 . Nozzle  418  typically 
includes one or more injectors coupled to reagent supply line(s)
 412 ,  414 , and  416  providing for the delivery of reagents 
into the plasma. The injectors may include ring shaped reagent 
supply channels connected to injection holes or a slit-shaped 
injector. For example, as shown in  FIG. 4 , reagent supply line 
414  connects to reagent supply channel  435  formed inside 
the body of nozzle  418 . Reagent supply channel  435 
contains a plurality of openings  434 , which are preferably 
evenly distributed around the circumference of channel  435 . 」
（明細書第４欄第６３行〜第５欄第１４行）
（仮訳）「ノズル418は、好ましくは、アノードに接続されているか、または419に搭載されている。あるいは、ノズル418は、1つの連続したユニットとしてアノード419の上に形成することができる。
　ノズル418は、さらにプラズマと反応種の流れを閉じ込めまた方向づけするためのノズルエキステンション439のような一体型またはリムーバブル発散部分を必要に応じて含む。
　試薬供給ライン412、414および416は、ノズル418と連通している。ノズル418は、典型的には、プラズマ中へ試薬を供給するための試薬供給ライン412、414および416に結合された1つまたは複数のインジェクタを含む。インジェクターは、噴射孔またはスリット状のインジェクタに接続されたリング状の試薬供給チャネルを含む。例えば、図４に示すように、試薬供給ライン414は、ノズル418の本体の内部に形成された試薬供給路435に接続される。試薬供給路435は、好ましくは、均等にチャネル435の円周に沿って分布している開口部434が含まれる。」
　
（１ｅ）「Spacing of the ETP generating means also has an 
effect on the uniformity of the coating deposited on the substrate. 
In order to maximize uniformity, it is preferred to provide a 
spacing such that there is overlap between the edge portions of 
the plurality of plasma plumes. The precise amount of overlap 
will depend on numerous factors, such as the size of the plasma 
produced by the ETP generating means, the distance of the ETP 
generating means from the substrate, power to the ETP generating 
means, and flow rates of various reagents. It is a relatively 
simple matter to determine by simple experimentation the optimum 
spacings for each coating apparatus. It is often found, for example,
that excellent results are obtained when the anode (as shown in  
FIG. 4 ) of each ETP generating means is about 20-40 cm and 
especially about 25-28 cm from the substrate at a chamber pressure 
of about 30 to about 60 millitorr. The spacing (D in  FIG. 1 ) 
between center axes of the ETP generating means is generally about 
10-21 cm and especially about 12-18 cm for wall-stabilized DC arc 
plasma generators operated at a pressure of about 200-800 torr. 」
（明細書第６欄第２２行〜第６欄第４２行）
（仮訳）「ＥＴＰ発生手段の間隔はまた、基板上に被覆された被膜の均一性に影響を及ぼす。均一性を最大にするためには、複数のプラズマ柱のエッジ部分において重なりが生じるように間隔を設けることが好ましい。正確な重なり量は、ＥＴＰ発生手段により生成されたプラズマの大きさや基体とＥＴＰ発生手段の距離、ＥＴＰ発生手段への出力、種々の試薬の流量など、多くの要因に依存する。簡単な実験によってそれぞれの被覆装置に対して最適の間隔を決定することが比較的簡単である。例えば、蒸着室の圧力が約３０〜６０mTorrの条件で各ＥＴＰ発生手段の（図４に図示される）アノードの基体からの距離を約２０〜４０ｃｍ、特に２５〜２８ｃｍのときに優れた結果が得られることが見出された。また、２００〜８００Ｔｏｒｒの圧力下で操作される直流アークプラズマ発生手段を用いた際に、ＥＴＰ発生手段の中心軸間の間隔（図１のＤ）を一般的に１０〜２１ｃｍ、特には１２〜１８ｃｍとする。」
　
（１ｆ）「The invention is illustrated by the following examples. 
　　EXAMPLE 1  
　A flat substrate, 30×30 cm, of a commercially available 
bisphenol A polycarbonate, coated with a chemically deposited 
silicone hardcoat, was vertically mounted in a deposition chamber 
of a coating apparatus containing two ETP generating means. 
The working distance between the anodes of the ETP generating 
means and the substrate was 36 cm, the center-to-center spacing 
between the ETP generating means was 19 cm, and the effective 
scanning width of the deposition was about 30 cm. 
・・・.
　Coating thickness was 2.6 micron in average with a standard 
deviation of 0.2 micron. The average Taber haze increase was 
1.8% with a standard deviation of 0.4. Control panel sections 
which had not been coated showed a Taber haze increase in the 
range of about 12-16%.」
（明細書第８欄第４行〜第８欄第４６行）
「本発明は以下の実施例によって示されている。
　　実施例１
　化学的にシリコ−ン被覆された市販のビスフェノールAポリカーボネートの30×30cmの平坦な基板が、二つのＥＴＰ発生手段を含む被覆装置の蒸着室に取り付けられた。ＥＴＰ発生手段のアノードと基体間の距離は36cm、二つのＥＴＰ発生手段の中心軸の間隔は19 cm、被覆の際の有効走査幅は約30cmであった。
・・・。
　被膜の厚さは平均で2.6μｍ、標準偏差は0.2ミクロン。テーバーのヘイズ値は、平均2.8％増で標準偏差は0.4％であった。コントロールパネルの被覆されていなかった領域では、約12から16％の範囲でテーバーのヘイズ値は増加を示した。」
　
（１ｇ）図１
（１ｈ）図４
　
第５　当審の判断
　
１．刊行物１に記載された発明
　
ア）刊行物１の（１ａ）、（１ｂ）の記載や図１によれば、刊行物１には、「基体を被覆する方法として、少なくとも二つ以上の拡張性熱プラズマ（ＥＴＰ）発生手段にて拡張性熱プラズマ（ＥＴＰ）を発生させ、基体上に均一な特性を有する被膜を形成する、基体被覆方法。」が記載されているといえる。（以下、「拡張性熱プラズマ（ＥＴＰ）発生手段」を「ＥＴＰ発生手段」という。）
　そして、ここでいう「ＥＴＰ発生手段」は、図１によれば「15」と図示され、刊行物１の（１ｂ）の記載によれば、「プラズマノズル16」とは異なる部材とされており、さらに、刊行物１の（１ｃ）の記載、及び、図４によれば、「ＥＴＰ発生手段」は、主にカソード413、アノード419、及び、プラズマガス供給ラインから構成されるものである。
　
イ）そこで、ＥＴＰ発生手段による拡張性熱プラズマの発生機構についてみると、刊行物１の（１ｃ）の記載及び図１、図４によれば、拡張性熱プラズマは、プラズマガスを導入した状態で、前記カソードと前記アノード間に直流電圧を印加することにより、特に、カソードとアノードの狭い開口部にて発生したプラズマが、高圧のＥＴＰ発生手段から低圧の蒸着室に超音速にて放出されるため、その圧力差により膨張することによって生じたものである。
　そうすると、前記「ＥＴＰ発生手段」は、狭い開口部を有するアノードを含むものといえる。
　
ウ）また、刊行物１の（１ｄ）の記載及び図４によれば、試薬が試薬供給ラインより、プラズマ中に供給されることにより、かかる試薬が反応するなどして基体上に被膜が形成されるものであって、前記試薬供給ラインは、前記ＥＴＰ発生手段のアノードとは別部材であって、アノードを含むＥＴＰ発生手段と基体の間に配置されるノズルに配設されるものである。
　そうすると、プラズマ中に試薬を供給して基体上に被膜を形成するに際して、試薬の供給位置は、前記ＥＴＰ発生手段から離れた所に位置し、且つ、アノードと基体との間の領域内にあることは明らかである。
　
　以上の記載事項及び認定事項を本願発明１の記載ぶりに則り整理すると、刊行物１には、次の発明が記載されているといえる。
　
「基体を被覆する方法において、
　少なくとも二つ以上の拡張性熱プラズマ（ＥＴＰ）発生手段で、狭い開口部を有するアノードを夫々含むＥＴＰ発生手段からプラズマを発生させ、そして
　前記プラズマ中へ試薬を注入して前記基体上に被膜を形成し、前記試薬を前記ＥＴＰ発生手段から離れた所に位置し且つ前記アノードと前記基体との間の領域内のどこかにある所で注入し、基体上に均一な特性を有する被膜を形成する、基体被覆方法。」（以下、「刊行物１発明」という。）  
　
２．本願発明１と刊行物１発明との対比
　本願発明１と刊行物１発明とを対比すると、刊行物１発明の「少なくとも二つ以上の拡張性熱プラズマ（ＥＴＰ）発生手段」、「ＥＴＰ発生手段」、「狭い開口部を有するアノード」、「試薬」は、それぞれ、本願発明１の「二つ以上の拡張性熱プラズマ（ＥＴＰ）源」、「ＥＴＰ源」、「オリフィスを有するアノード」、「気化反応物」に相当する。
　また、刊行物１発明の「被膜を形成」は、本願発明１の「被覆を形成」に相当する。
　
　そうすると、本願発明１と刊行物１発明とは、「基体を被覆する方法において、二つ以上の拡張性熱プラズマ（ＥＴＰ）源で、オリフィスを有するアノードを夫々含むＥＴＰ源からプラズマを発生させ、そして　前記プラズマ中へ気化反応物を注入して前記基体上に被覆を形成し、然も、前記反応物を前記ＥＴＰ源から離れた所に位置し且つ前記アノードと前記基体との間の領域内のどこかにある所で注入する、基体被覆方法。」である点において、一致し、以下の点で相違する。
　
相違点；本願発明１は、前記プラズマ中へ気化反応物を注入する位置が、前記アノードオリフィスから特定の距離の所であって、前記特定の距離が前記基体を覆って一つ以上の均一な被覆特性を得るように選択され、前記特定の距離は０．２５４〜１０．１６センチメートルであるのに対し、刊行物１発明は、前記プラズマ中へ試薬を注入する位置やその選択理由が、そのようなものであるか不明である点
　
３．相違点についての検討
　本願発明１において、「前記アノードオリフィスから特定の距離の所」とは、本願明細書の発明に詳細な説明の【０００６】の「基体を蒸着室中に配置し、各ＥＴＰ源から中心軸を有するプラズマジェットを発生させると共に、注入器から気化反応物をそのプラズマ中へ注入し、基体上に蒸着する被覆を形成する。反応物の注入は、その反応物の注入が不均一になることがあっても、全体的に被覆特性を有する被膜が一般に得られるように、中心軸から特定の距離内に位置する。」との記載によれば、ＥＴＰ源の中心軸からの半径方向の距離をいうものと認められる。
　これに対して、刊行物１の（１ｅ）の記載及び図１によれば、二つのＥＴＰ発生手段の中心軸間の距離は、Ｄとして記載され、１０〜２１ｃｍ、特には、１２〜１８ｃｍとされているところ、試薬の注入は、ノズル１６の位置、すなわち、ＥＴＰ発生手段の中心軸からＤ／２以内の５〜１０．５ｃｍ、特には、６〜９ｃｍの箇所で行われることは明らかであり、さらに、刊行物１の（１ｆ）の実施例の記載によれば、Ｄが１９ｃｍであり、Ｄ／２は、９．５ｃｍ以内であることは明らかであるから、本願発明１と刊行物１発明との気化反応物の注入位置は一致しており、相違点とはならない。
　また、刊行物１の（１ｅ）及び（１ｆ）の記載によれば、刊行物１発明において、前記二つのＥＴＰ発生手段の中心軸間の距離Ｄは、被膜の均一性を得るための手段として定めたものであり、また、被膜厚みの均一性やヘイズ値の均一性が達成されているのであるから、本願発明１の「前記特定の距離が前記基体を覆って一つ以上の均一な被覆特性を得るように選択され（た）」点においても一致する。
　よって、前記相違点は、実質的なものではない。
　
　したがって、本願発明１は、刊行物１に記載された発明である。
　
第６　むすび
　以上のとおり、本願発明１は、刊行物１に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができないものであり、その余の発明について検討するまでもなく、本願は原査定の理由により拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。