【事件の表示】
　特許第６４５７５３８号発明「フェノール含有水素化ニトリルゴム」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第６４５７５３８号の特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１−８、１４−１６〕、〔９−１３、１７〕について訂正することを認める。
　特許第６４５７５３８号の請求項１ないし５、７ないし１７に係る特許を維持する。
　特許第６４５７５３８号の請求項６に係る特許に対する特許異議申立てを却下する。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　特許第６４５７５３８号（請求項の数１７。以下、「本件特許」という。）は、２０１４年（平成２６年）１２月２９日（パリ条約による優先権主張　外国庁受理２０１３年１２月３０日、欧州特許庁（ＥＰ））を国際出願日とする特許出願（特願２０１６−５４３６７６号）に係るものであって、平成３０年１２月２８日に設定登録され、平成３１年１月２３日に特許掲載公報が発行され、その後、その特許に対して、令和１年７月２２日に、本件特許の請求項１〜１７に係る特許に対して、特許異議申立人　日本ゼオン株式会社（以下、「申立人」という。）により、特許異議の申立てがされたものである。
　手続の経緯は以下のとおりである。
　令和１年　７月２２日　　　特許異議申立書
　　　同年　９月１７日付け　取消理由通知書
　　　同年１２月１９日　　　意見書・訂正請求書（特許権者）
　令和２年　２月　７日　　　手続補正書（方式）（特許権者）
　　　同年　３月１７日　　　意見書（申立人）
　申立人の証拠方法は、以下のとおりである。
甲第１号証：ゴム工業便覧＜第四版＞、社団法人　日本ゴム協会編、２３６〜２５３頁（平成６年１月２０日） 
甲第２号証：試験報告書、一般財団法人　化学物質評価研究機構（平成２５年１１月２５日）
甲第３号証：日本ゼオン株式会社　総合開発センター　エラストマー研究所　渡辺　恭彰作成の実験成績証明書（令和１年７月１８日）
甲第４号証：特開２００３−２１１４７９号公報
甲第５号証：沖野泰治　外１名著、「老化防止剤」、日本ゴム協会誌、第５０巻、第１０号、６４５〜６５１頁（１９７７年）
甲第６号証：相村義昭著「水素化ニトリルゴムの基本特性と応用」、日本ゴム協会誌、第７０巻、第１２号、６８１〜６８８頁（１９９７年）
甲第７号証：特開２０１１−１７８８４２号公報
甲第８号証：特表２０１０−５２８１３９号公報
甲第９号証：特表２０１０−５２８１４０号公報
甲第１０号証：特表２０１１−５１１１１２号公報
甲第１１号証：特表２０１１−５１１１１１号公報
甲第１２号証：特開２００２−２１２２０３号公報 
（以下、甲１〜甲１２という。）
　また、申立人は、令和２年３月１７日に提出した意見書に、参考資料１を添付した。
参考資料１：隠塚裕之著、「フィラー分散が成形加工性に及ぼす効果」、日本ゴム協会誌、第８９巻、第４号、１１５〜１２０頁（２０１６年）
第２　訂正の適否についての判断
　特許権者は、特許法第１２０条の５第１項の規定により審判長が指定した期間内である令和１年１２月１９日に令和２年２月７日提出の手続補正書（方式）で補正された訂正請求書を提出し、本件特許の特許請求の範囲を訂正請求書に添付した訂正特許請求の範囲のとおり訂正後の請求項１〜８、１２及び１４〜１７について訂正することを求めた（以下「本件訂正」という。また、本件願書に添付した明細書及び特許請求の範囲を「本件特許明細書等」という。）。
１　訂正の内容
（１）訂正事項１
　訂正前の請求項１に「ことを特徴とする方法によって得られる、組成物。」と記載されているのを、
「ことを特徴とする方法によって得られ、
　次式
　　ＳＳ２（７２ｈ／１００℃）＝ＭＶ２−ＭＶ０
（式中、
ＭＶ０は、前記水素化ニトリルゴムについてＡＳＴＭ　Ｄ１６４６に従って測定したムーニー粘度ＭＬ１＋４＠１００℃であり、および
ＭＶ２は、同一の水素化ニトリルゴムについて、１００℃で７２時間保存した後にＡＳＴＭ　Ｄ１６４６に従って測定したムーニー粘度ＭＬ１＋４＠１００℃である）
で定義される前記組成物の貯蔵安定性ＳＳ２が５未満の値を有することを特徴とする、組成物。」に訂正する。
（２）訂正事項２
　請求項６を削除する。
（３）訂正事項３
　訂正前の請求項７に「請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物」と記載されているのを、「請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物」に訂正する。
（４）訂正事項４
　訂正前の請求項８に「請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物」と記載されているのを、「請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物」に訂正する。
（５）訂正事項５
　訂正前の請求項１４に「請求項１〜８のいずれか一項に記載の少なくとも１種の組成物」と記載されているのを、「請求項１〜５、７、および８のいずれか一項に記載の少なくとも１種の組成物」に訂正する。
（６）訂正事項６
　訂正前の請求項１２に「水素化のために使用された前記一般式（Ｉ）の前記置換フェノールの量を規準にして、２０重量％〜９８重量％の程度まで除去される」と記載されているのを、「前記水素化工程における溶液中に存在する前記一般式（Ｉ）の前記置換フェノールの量を規準にして、２０重量％〜９８重量％の程度まで除去される」に訂正する。
（７）訂正事項７
　訂正前の請求項１７に「請求項９〜１３のいずれか一項に記載のプロセスによって得られる組成物。」と記載されているのを、「請求項９〜１３のいずれか一項に記載のプロセスによって得られる組成物であって、
次式
　　ＳＳ２（７２ｈ／１００℃）＝ＭＶ２−ＭＶ０
（式中、
ＭＶ０は、前記水素化ニトリルゴムについてＡＳＴＭ　Ｄ１６４６に従って測定したムーニー粘度ＭＬ１＋４＠１００℃であり、および
ＭＶ２は、同一の水素化ニトリルゴムについて、１００℃で７２時間保存した後にＡＳＴＭ　Ｄ１６４６に従って測定したムーニー粘度ＭＬ１＋４＠１００℃である）
で定義される前記組成物の貯蔵安定性ＳＳ２が５未満の値を有することを特徴とする、組成物。」に訂正する。
（８）一群の請求項
　訂正事項１〜５に係る訂正前の請求項１〜８及び１４〜１６について、請求項２〜８及び１４〜１６はそれぞれ請求項１を直接的又は間接的に引用するものであって、訂正事項１によって記載が訂正される請求項１に連動して訂正されるものである。
　また、訂正事項６及び７に係る訂正前の請求項１２及び１７について、請求項１７は請求項１２を直接的に引用するものであって、訂正事項６によって記載が訂正される請求項１２に連動して訂正されるものである。
　よって、本件訂正は、一群の請求項に対してなされたものである。
２　判断
（１）訂正事項１及び７について
ア　訂正の目的について
　訂正事項１及び７は、訂正前の請求項１及び１７における「組成物」の、ＳＳ２（７２ｈ／１００℃）＝ＭＶ２−ＭＶ０（「ＭＶ２」及び「ＭＶ０」の定義は省略する。）という式で定義される「貯蔵安定性ＳＳ２」が、５未満の値を有すると限定する訂正である。
　したがって、訂正事項１及び７は、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正に該当する。
イ　実質上の特許請求の範囲の拡張・変更について
　訂正事項１及び７は、上記アで述べたとおり、特許請求の範囲を減縮する訂正であるから、特許請求の範囲を実質上拡張又は変更するものではない。
ウ　新規事項の追加について
　本件特許明細書等の特許請求の範囲の請求項６には、組成物の貯蔵安定性ＳＳ２が５未満の値であることが記載され、及び発明の詳細な説明の段落【００９７】及び【００９８】には、組成物の貯蔵安定性ＳＳ２が５以下の値である旨が記載されているから、願書に添付した明細書又は特許請求の範囲に記載した事項の範囲内であるといえる。
（２）訂正事項２について
ア　訂正の目的、実質上の特許請求の範囲の拡張・変更及び新規事項の追加について
　訂正事項２は、訂正前の請求項６を削除する訂正であるから、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正に該当し、また、実質上の特許請求の範囲の拡張・変更及び新規事項の追加ではないことは明らかである。
（３）訂正事項３〜５について
ア　訂正の目的について
　
　訂正事項３〜５は、訂正事項２により訂正前の請求項６が削除されたため、引用する請求項から請求項６を削除したものであり、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
イ　実質上の特許請求の範囲の拡張・変更及び新規事項の追加について
　訂正事項３〜５は、実質上の特許請求の範囲の拡張・変更及び新規事項の追加ではないことは明らかである。
（４）訂正事項６について
ア　訂正の目的について
　訂正事項６は、訂正前の「水素化のために使用された前記一般式（Ｉ）の前記置換フェノールの量を規準にして、２０重量％〜９８重量％の程度まで除去される」という記載の意味が不明瞭であったものを明瞭にするものであるから、明瞭でない記載の釈明を目的とするものである。
イ　実質上の特許請求の範囲の拡張・変更及び新規事項の追加について
　本件特許明細書等の発明の詳細な説明の段落【０４４５】及び【０４４６】には、本件発明の実施例において、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾールを含むニトリルゴムを水素化する具体的な方法が記載され、同【０４５７】〜【０４６０】には、本件発明の具体的な例である実施例５．５〜５．８、６．１２及び６．１６において、水素化工程において存在していた２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾールの量、水素化後の組成物中に含まれる２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾールの量及びジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾールの損失が３１〜８０％であることが記載されており、これは、水素化工程における溶液中に存在する２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾールが、３１〜８０％除去されたことであるから、訂正前の「水素化のために使用された前記一般式（Ｉ）の前記置換フェノールの量を規準にして、２０重量％〜９８重量％の程度まで除去される」は、「水素化工程における溶液中に存在する前記一般式（Ｉ）の前記置換フェノールの量を規準にして、２０重量％〜９８重量％の程度まで除去される」であるということができる。
　そうすると、訂正事項６は、新規事項の追加とはいえず、また、実質上特許請求の範囲の拡張・変更するものでもない。
（５）訂正事項のまとめ
　以上のとおりであるから、訂正事項１〜７は、特許法第１２０条の５第２項ただし書第１及び３号に掲げる目的に適合し、また、同法同条第９項において準用する同法第１２６条第５及び６項の規定に適合するから、本件訂正を認める。
第３　特許請求の範囲の記載
　上記のとおり、本件訂正は認められたので、特許第６４５７５３８号の特許請求の範囲の記載は、訂正後の特許請求の範囲の次のとおりのものである（以下、請求項１〜１７に記載された事項により特定される発明を「本件発明１」〜「本件発明１７」といい、これらをまとめて「本件発明」ともいう。）。
「【請求項１】
　水素化ニトリルゴムを含み、一般式（Ｉ）
【化１】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５は同一であるか、または異なっており、それぞれ水素、ヒドロキシル、直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ８アルキル基、直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ８アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、またはフェニル基であり、ここで、前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５基の少なくとも１つは水素ではない）の少なくとも１種の置換フェノールを、それぞれの場合において前記水素化ニトリルゴムを規準にして、０．０１重量％〜０．２５重量％の量で含む、組成物であって、ニトリルゴムと前記一般式（Ｉ）の少なくとも１種の置換フェノールとを含む組成物が、溶液中で水素化にかけられ、次いで溶媒が除去され、そして前記水素化ニトリルゴムと一般式（Ｉ）の少なくとも１種の置換フェノールとを含む組成物が分離および脱水されることを特徴とする方法によって得られ、
　次式
　　ＳＳ２（７２ｈ／１００℃）＝ＭＶ２−ＭＶ０
（式中、
ＭＶ０は、前記水素化ニトリルゴムについてＡＳＴＭ　Ｄ１６４６に従って測定したムーニー粘度ＭＬ１＋４＠１００℃であり、および
ＭＶ２は、同一の水素化ニトリルゴムについて、１００℃で７２時間保存した後にＡＳＴＭ　Ｄ１６４６に従って測定したムーニー粘度ＭＬ１＋４＠１００℃である）
で定義される前記組成物の貯蔵安定性ＳＳ２が５未満の値を有することを特徴とする、組成物。
【請求項２】　Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５が同一であるか、または異なっており、それぞれ水素、ヒドロキシル、メチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、シクロペンチル、シクロヘキシル、またはフェニル基であり、ここで、前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５基の少なくとも１つは水素ではないことを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】　前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５基の２つまたは３つが水素であり、かつ前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５基の他の２つまたは３つが同一であるか、または異なっており、それぞれヒドロキシル、直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ８アルキル基、直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ８アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、またはフェニル基であることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】　前記一般式（Ｉ）の前記少なくとも１種の置換フェノールが以下の化合物：
【化２】
からなる群から選択されることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】　水素化ニトリルゴムが、少なくともアクリロニトリルおよび１，３−ブタジエンから誘導される繰り返し単位を有することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】（削除）
【請求項７】　前記水素化ニトリルゴムの水素化度が、９４．５％超〜１００％の範囲であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項８】　前記水素化ニトリルゴムの水素化度が、９９．１％以上であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項９】　水素化ニトリルゴムと、一般式（Ｉ）
【化３】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５は同一であるか、または異なっており、それぞれ水素、ヒドロキシル、直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ８アルキル基、直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ８アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、またはフェニル基であり、ここで、前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５基の少なくとも１つは水素ではない）の少なくとも１種の置換フェノールとを含む組成物を製造するためのプロセスにおいて、ニトリルゴムと前記一般式（Ｉ）の少なくとも１種の置換フェノールとを含む組成物が、溶液中で水素化にかけられ、次いで溶媒が除去され、そして前記水素化ニトリルゴムと一般式（Ｉ）の少なくとも１種の置換フェノールとを含む組成物が分離および脱水され、ここで、最終的に得られる組成物中の前記一般式（Ｉ）の置換フェノールの含量が、水素化ニトリルゴムを規準として、０．０１重量％〜０．４５重量％未満の量に設定されるように調節されることを特徴とする、プロセス。
【請求項１０】　水素化触媒として、トリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロリド、トリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（ＩＩＩ）クロリド、トリス（ジメチルスルホキシド）ロジウム（ＩＩＩ）クロリド、ヒドリドロジウムテトラキス（トリフェニルホスフィン）、またはトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロリド、トリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（ＩＩＩ）クロリド、またはヒドリドロジウムテトラキス（トリフェニルホスフィン）の誘導体であって、その中のトリフェニルホスフィンがトリシクロヘキシルホスフィンで置換された誘導体の少なくとも１種が使用されることを特徴とする、請求項９に記載のプロセス。
【請求項１１】　乾式仕上げか、あるいは湿式仕上げかのいずれかにより、前記溶媒が除去されることを特徴とする、請求項９または１０に記載のプロセス。
【請求項１２】　前記仕上げがそれぞれ、前記水素化ニトリルゴムを含む組成物中に存在している前記一般式（Ｉ）の前記置換フェノールが、前記水素化のために使用された前記ニトリルゴムを含む組成物から、前記水素化工程における溶液中に存在する前記一般式（Ｉ）の前記置換フェノールの量を規準にして、２０重量％〜９８重量％の程度まで除去されるように実施されることを特徴とする、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１３】　湿式仕上げが、５重量％〜５０重量％の水分含量を有する前記水素化ニトリルゴムを含む組成物のクラムを通過する１００℃〜１８０℃の温度を有する空気流によって連続的に運転される流動床ドライヤーを用いて乾燥させる工程を含むことを特徴とする、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１４】　請求項１〜５、７、および８のいずれか一項に記載の少なくとも１種の組成物と、少なくとも１種の架橋剤を含む少なくとも１種の架橋系とを含む、加硫可能な混合物。
【請求項１５】　加硫物を製造するためのプロセスであって、請求項１４に記載の加硫可能な混合物が加硫されることを特徴とする、プロセス。
【請求項１６】　請求項１４に記載の加硫可能な混合物を加硫した加硫物。
【請求項１７】　水素化ニトリルゴムを含み、一般式（Ｉ）
【化４】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５は同一であるか、または異なっており、それぞれ水素、ヒドロキシル、直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ８アルキル基、直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ８アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、またはフェニル基であり、ここで、前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５基の少なくとも１つは水素ではない）の少なくとも１種の置換フェノールを、それぞれの場合において前記水素化ニトリルゴムを規準にして、０．０１重量％〜０．４５重量％未満の範囲の量で含む、請求項９〜１３のいずれか一項に記載のプロセスによって得られる組成物であって、
次式
　　ＳＳ２（７２ｈ／１００℃）＝ＭＶ２−ＭＶ０
（式中、
ＭＶ０は、前記水素化ニトリルゴムについてＡＳＴＭ　Ｄ１６４６に従って測定したムーニー粘度ＭＬ１＋４＠１００℃であり、および
ＭＶ２は、同一の水素化ニトリルゴムについて、１００℃で７２時間保存した後にＡＳＴＭ　Ｄ１６４６に従って測定したムーニー粘度ＭＬ１＋４＠１００℃である）
で定義される前記組成物の貯蔵安定性ＳＳ２が５未満の値を有することを特徴とする、組成物。」
第４　特許異議申立理由及び取消理由の概要
１　取消理由通知の概要
　当審が取消理由通知で通知した取消理由の概要は、以下に示すとおりである。
（１）取消理由１
　本件訂正前の請求項１〜５、７及び１７に係る発明は、甲１に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、これらの発明に係る特許は、特許法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。
（２）取消理由２
　本件訂正前の請求項１〜５、７及び１４〜１７に係る発明は、甲６に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、これらの発明に係る特許は、特許法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。
（３）取消理由３
　本件の特許請求の範囲の請求項１２及び１７の記載は、同各項に記載された特許を受けようとする発明が下記の点で明確とはいえないから、特許法第３６条第６項第２号に適合するものでなく、これらの発明に係る特許は、同法第３６条第６項に規定する要件を満たさない特許出願に対してされたものであるから、同法第１１３条第４号に該当し取り消されるべきものである。
　　　　　　　　　　　　　　　　記
　本件訂正前の請求項１２の「水素化のために使用された前記一般式（Ｉ）の前記置換フェノールの量」との記載は、どのような量を意味するのか不明である。
　本件訂正前の請求項１２を引用する本件訂正前の請求項１７も同様である。
２　特許異議申立理由
　申立人が特許異議申立書で申立てた取消理由の概要は、以下に示すとおりである。
（１）申立理由１
　本件訂正前の請求項１〜７、９及び１７に係る発明は、甲１に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し特許を受けることができない。よって、これらの発明に係る特許は、特許法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。
（２）申立理由２
　本件訂正前の請求項１〜１７に係る発明は、甲１に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。よって、これらの発明に係る特許は、特許法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。
（３）申立理由３
　本件訂正前の請求項１〜１７に係る発明は、甲７に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。よって、これらの発明に係る特許は、特許法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。
（４）申立理由４
　本件訂正前の請求項１〜８、１２、１４〜１７に係る発明は、下記の理由により明確ではないから、これらの発明に係る特許は、同法第３６条第６項に規定する要件を満たさない特許出願に対してされたものであり、同法第１１３条第４号に該当し取り消されるべきものである。
　　　　　　　　　　　　　　　　　記
ア　本件訂正前の特許請求の範囲の請求項１〜８及び１４〜１６並びに１７の記載は、同各項に記載された特許を受けようとする発明が、プロダクトバイプロセスの形式で記載されており、不可能・非実際的事情が説明されていないから、特許法第３６条第６項第２号に適合するものでない。
イ　本件訂正前の請求項１２の「水素化のために使用された前記一般式（Ｉ）の前記置換フェノールの量」との記載は、どのような量を意味するのか不明である。
　本件訂正前の請求項１２を引用する本件訂正前の請求項１７も同様である。（取消理由３と同旨）
第５　当審の判断
　当審は、本件発明６に係る特許については、特許異議申立を却下することとし、また、当審が通知した取消理由１〜３、及び申立人が申し立てた申立理由１〜４によっては、いずれも、本件発明１〜５及び７〜１７に係る特許を取り消すことはできないと判断する。
　その理由は以下のとおりである。
１　申立ての却下
　上記第２及び第３で示したとおり、請求項６は、本件訂正により削除されているので、請求項６についての申立てを却下する。
２　取消理由について
（１）取消理由１について
ア　甲号証の記載事項
（ア）甲１の記載事項について
　甲１には以下の記載がある。
（１ａ）「アクリロニトリル・ブタジエンゴムは，アクリロニトリルとブタジエンとの共重合体系合成ゴムで，ニトリルゴムとも呼ばれ，ＮＢＲと略される代表的な耐油ゴムである１〜３）．このＮＢＲの二重結合部分のみを選択的に水素化したゴムを，水素化ニトリルゴムと呼称し，その製造方法からＨＮＢＲと略される４）．」（２３６頁左欄２〜８行）
（１ｂ）「８．２　ＮＢＲ，ＨＮＢＲの製造法
　８．２．１　ＮＢＲの製法
　ＮＢＲはＳＢＲと同様に乳化重合設備で製造される．
　ブタジエン，アクリロニトリルのモノマーが重合缶に仕込まれ，脱イオン水，乳化剤と混合し，次いで重合触媒と調整剤を加えて乳化重合を行う．
・・・
　得られたラテックスは加熱，減圧，水蒸気蒸留などの方法によって未反応モノマーの除去・回収を行った後，貯蔵安定性を高めるために老化防止剤が加えられる．
　塩化カルシウム，硫酸アルミニウム，明ばん，食塩−硫酸，高分子凝集剤などを用いて凝固され，水洗・ろ過した後，乾燥され製品ができあがる（図８−１）．
・・・
　８．２．２　ＨＮＢＲの製法
　ＮＢＲの耐油性を維持し，耐熱老化性のみを向上させるためには，ＮＢＲの側鎖のシアノ基をそのままにし，炭素・炭素の二重結合部分のみを選択的に水素化することが有効である．ＮＢＲを適当な溶媒で溶解し，触媒を添加する．
　水素化反応ののち触媒・溶媒を回収，凝固乾燥して，ＨＮＢＲが得られる１１）．」（２３６頁左欄２５行〜２３８頁左欄１行）
（１ｃ）
「
」（２３７頁）
（１ｄ）
「
」（２４０頁右欄、表８−５）
（１ｅ）
「ＨＮＢＲの製造メーカーを表８−４に，市販品名を表８−５に示す７２，５３，１０１〜１０３）.」（２４１頁左欄８〜９行）
（イ）甲２の記載事項について
　甲２には以下の記載がある。
（２ａ）「試験報告書
・・・
３．件名　　ＢＨＴ（ジブチルヒドロキシトルエン）の定量
４．試料　　1.ZP2020 Lot 4T237612-05
　　　　　　2.ZP2020 Lot 4T239656-10
　　　　　　3.ZP2010H Lot 4T20X208-04
　　　　　　4.ZP2010H Lot 4T20Z248-03
　　　　　　5.ZP4310 Lot 4T237610
　　　　　　6.IR2200 Lot 4MA22037 　　　　　　計６点
・・・
６．試験結果
」（１頁１行〜２頁）
（ウ）甲３の記載事項について
　甲３には以下の記載がある。
（３ａ）「実験成績証明書
・・・
４．実験の目的
　日本ゼオン株式会社が製造販売している水素化ニトリルゴムであるゼットポール２０１０Ｈの貯蔵安定性を評価すること。
５．実験内容
５−１　評価用試料
　ゼットポール２０１０Ｈ（ロット番号　４Ｔ１７６０９２）を使用した。
５−２　乾燥させた未老化のＨＮＢＲのムーニー粘度の測定
　ＪＩＳ　Ｋ　６３００−１にしたがって、評価用試料の１００℃でのムーニー粘度ＭＬ（１＋４）を測定し、その値をＭＶ０とした。
５−３　熱老化試験後のＨＮＢＲのムーニー粘度の測定
　評価用試料をロール上で混錬してシートを作製し、そのシートから約５０ｇの長方形の断片を切り出した。次いで、その断片をアルミニウム皿（１０ｃｍ×１５ｃｍ）に載せ、空気循環型の乾燥器に入れて１００℃で７２時間放置した。その後、ゴム断片を取出し、ＪＩＳ　Ｋ　６３００−１にしたがって、評価用試料の１００℃でのムーニー粘度ＭＬ（１＋４）を測定し、その値をＭＶ２とした。
５−３　実験結果
　未老化ＨＮＢＲのムーニー粘度（ＭＶ０）は１３６、加熱処理後のムーニー粘度（ＭＶ２）は１３９であり、下記式で示される貯蔵安定性ＳＳ２（７２ｈ／１００℃）は３であった。
　ＳＳ２（７２ｈ／１００℃）＝ＭＶ２−ＭＶ０」（１頁１行〜２頁３行）
イ　甲１に記載された発明
　甲１の記載事項（１ｂ）には、一般的なＨＮＢＲ、すなわち、水素化ニトリルゴム（記載事項（１ａ）より）の製造方法について記載されており、これによれば、水素化ニトリルゴムは、ブタジエン、アクリロニトリルのモノマーが、脱イオン水、乳化剤、重合触媒、調整剤の存在下で乳化重合され、得られたラテックスに、老化防止剤が加えられ、凝固、水洗、ろ過後、乾燥されてニトリルゴムができあがり、ニトリルゴムを適当な溶媒で溶解し、触媒を添加して水素化反応し、水素化反応ののち触媒・溶媒を回収、凝固乾燥することにより得られるものである。
　そして、記載事項（１ｃ）には、ＨＮＢＲの市販品として種々のものが挙げられているところ、これらの種々の水素化ニトリルゴムの市販品も、上記一般的な水素化ニトリルゴムの製造方法で製造され、一般的な配合で使用されるとみるのがごく自然である。
　そうすると、甲１には、以下の発明が記載されていると認められる。
「製品名ゼットポール２０１０Ｈであって、ブタジエン、アクリロニトリルのモノマーが、脱イオン水、乳化剤、重合触媒、調整剤の存在下で乳化重合され、得られたラテックスに、老化防止剤が加えられ、凝固、水洗、ろ過後、乾燥されてニトリルゴムができあがり、ニトリルゴムを適当な溶媒で溶解し、触媒を添加して水素化反応し、水素化反応ののち触媒・溶媒を回収、凝固乾燥することにより得られる水素化ニトリルゴム。」（以下、「甲１−１発明」という。） 
「製品名ゼットポール２０２０であって、ブタジエン、アクリロニトリルのモノマーが、脱イオン水、乳化剤、重合触媒、調整剤の存在下で乳化重合され、得られたラテックスに、老化防止剤が加えられ、凝固、水洗、ろ過後、乾燥されてニトリルゴムができあがり、ニトリルゴムを適当な溶媒で溶解し、触媒を添加して水素化反応し、水素化反応ののち触媒・溶媒を回収、凝固乾燥することにより得られる水素化ニトリルゴム。」（以下、「甲１−２発明」という。）
ウ　対比・判断
（ア）本件発明１について
ａ　対比
　甲１−１発明の「老化防止剤」及び本件発明１の「一般式（Ｉ）」「の少なくとも１種の置換フェノール」は、いずれも添加剤であるということができ、両者は添加剤である限りで一致する。 
　甲１−１発明の、「ブタジエン、アクリロニトリルのモノマーが、脱イオン水、乳化剤、重合触媒、調整剤の存在下で乳化重合され、得られたラテックスに、老化防止剤が加えられ、凝固、水洗、ろ過後、乾燥されて」できあがった「ニトリルゴム」は、「ニトリルゴム」と「老化防止剤」を含むといえるから、本件発明１の「ニトリルゴムと前記一般式（Ｉ）の少なくとも１種の置換フェノールとを含む組成物」に、ニトリルゴムと添加剤を含む組成物である限りで一致する。
　また、甲１−１発明の「ニトリルゴムを適当な溶媒で溶解し、触媒を添加して水素化反応し、水素化反応ののち触媒・溶媒を回収」することは、本件発明１の「ニトリルゴムと前記一般式（Ｉ）の少なくとも１種の置換フェノールとを含む組成物が、溶液中で水素化にかけられ、次いで溶媒が除去され」ることに、ニトリルゴムと添加剤を含む組成物が、溶液中で水素化にかけられ、次いで溶媒が除去される限りで一致する。
　そして、甲１−１発明の「凝固乾燥すること」により得られる「水素化ニトリルゴム」は、老化防止剤と水素化ニトリルゴムとを含むものといえるから、甲１−１発明の「凝固乾燥すること」により「水素化ニトリルゴム」を得ることは、本件発明１の「前記水素化ニトリルゴムと一般式（Ｉ）の少なくとも１種の置換フェノールとを含む組成物が分離および脱水される」ことに、水素化ニトリルゴムと添加剤を含む組成物が分離および脱水される限りで一致し、また、甲１−１発明の「水素化ニトリルゴム」は本件発明１の「組成物」に、水素化ニトリルゴムと添加剤を含む組成物である限りで一致する。
　してみると本件発明１と甲１−１発明とは、
「水素化ニトリルゴムを含み、添加剤を含む組成物であって、ニトリルゴムと添加剤を含む組成物が、溶液中で水素化にかけられ、次いで溶媒が除去され、そして前記水素化ニトリルゴムと添加剤とを含む組成物が分離および脱水されるプロセスによって得られる、組成物。」である点で一致し、以下の点で相違する。
（相違点１）
　「添加剤」につき、本件発明１では、一般式（Ｉ）の少なくとも１種の置換フェノールであり、これを水素化ニトリルゴムを規準にして、０．０１重量％〜０．２５重量％の量で含むのに対して、甲１−１発明では、老化防止剤であり、その含有量については明らかでない点
（相違点２）
　組成物の「ＳＳ２（７２ｈ／１００℃）＝ＭＶ２−ＭＶ０」（「ＭＶ２」及び「ＭＶ０」の定義は省略する。）の式で表される貯蔵安定性ＳＳ２の値が、本件発明１では、５未満と特定されているのに対して、甲１−１発明では、明らかでない点
ｂ　判断
（ａ）相違点１について
　甲２には、ロット番号が４Ｔ２０Ｘ２０８−０４又は４Ｔ２０Ｚ２４８−０３である「ＺＰ２０１０Ｈ」中のＢＨＴ（ジブチルヒドロキシトルエン）を定量したこと、定量された量が「０．１１ｗｔ％」であったことが記載されている（記載事項（２ａ））。 
　上記記載におけるＢＨＴは、本件発明１の一般式（Ｉ）において、Ｒ１及びＲ３がｔ−ブチル基、Ｒ５がメチル基である化合物であるから（要すれば、「１３３９８の化学商品」化学工業日報社発行、（１９９８年１月２８日）、１１０９頁参照）、本件発明１の「一般式（Ｉ）の少なくとも１種の置換フェノール」に相当する化合物である。
　また、「０．１１ｗｔ％」の量は、本件発明１の、一般式（Ｉ）の少なくとも１種の置換フェノールの含有量である「０．０１重量％〜０．２５重量％」の範囲に包含される。 
　ここで、甲１の「ゼットポール２０１０Ｈ」は、供給元が「ゼオン」であるところ（記載事項（１ｃ））、日本ゼオン社製の部分水添ＮＢＲとして「ゼットポールＺＰ２０１０」なるものが知られており（特開平１−２７５６４６号公報の４頁右下欄６〜８行）、また、日本ゼオン社製の水素化アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ゴムとして「Ｚｐ２０２０」なるものが知られている（国際公開９８／４４０３９号の３４頁２３〜２４行）ことからみれば、「ゼオン」による水素化ニトリルゴムの「ゼットポール」は「ＺＰ」とも称されると解され、そうであれば、甲２に記載された「ＺＰ２０１０Ｈ」は、甲１に記載された市販の水素化ニトリルゴムの「ゼットポール２０１０Ｈ」を意味するものといえる。 また、ＢＨＴは老化防止剤であり（要すれば、前出「１３３９８の化学商品」の同箇所参照）、甲２で定量されたＢＨＴも老化防止剤であるといえる。 
　してみると、甲１−１発明の「ゼットポール２０１０Ｈ」も、老化防止剤として、ＢＨＴ、すなわち一般式（Ｉ）の置換フェノールを、本件発明１で特定される範囲内で含むとみるのがごく自然である。 
　よって、相違点１は実質的な相違点ではない。
（ｂ）相違点２について
　甲３には、日本ゼオン株式会社が製造販売している水素化ニトリルゴムであるゼットポール２０１０Ｈ（ロット番号　４Ｔ１７６０９２）における、ムーニー粘度（ＭＶ０）が１３６であり、ムーニー粘度（ＭＶ２）が１３９であり、その差であるＳＳ２の値が３であることが記載されている。
ｉ　まず、甲３におけるムーニー粘度の測定方法について検討する。
　甲３には、ムーニー粘度の測定方法は、ＪＩＳ　Ｋ　６３００−１にしたがってなされたと記載されており、この測定方法は、本件発明１における測定方法であるＡＳＴＭ　Ｄ１６４６とは同一であるか否か明らかでない測定方法である。
　そうすると、いくら甲３において、ＳＳ２の値が３であることが記載されていたとしても、本件発明１における測定方法であるＡＳＴＭ　Ｄ１６４６であってもＳＳ２の値が３であるとは直接的にはいえないし、また、５未満であるともいえない。さらに、ＪＩＳ　Ｋ　６３００−１にしたがって測定されたＳＳ２の値が３である場合に、ＡＳＴＭ　Ｄ１６４６で測定された場合あってもＳＳ２の値が５未満となる技術常識があるとはいえない。
　よって、甲３をみても、相違点２は実質的な相違点である。
ｉｉ　念のため、甲３において使用された水素化ニトリルゴムであるゼットポール２０１０Ｈの試料について検討する。
　甲３には、ムーニー粘度を測定したゼットポール２０１０Ｈのロット番号は、４Ｔ１７６０９２と記載されている。一方、上記（ａ）で述べたように、ゼットポール２０１０Ｈ中に含まれるＢＨＴの含有量を測定した結果が記載されている甲２（試験報告書）には、ゼットポール２０１０Ｈのロット番号は、４Ｔ２０Ｘ２０８−０４又は４Ｔ２０Ｚ２４８−０３と記載されており、甲３で試験したロット番号と異なるものである。そして、ゼットポール２０１０Ｈにおいて、ロット番号が異なる場合でも、同じムーニー粘度の値を示すという技術常識はない。
　そうすると、甲２においてＢＨＴが０．１１ｗｔ％とされたゼットポール２０１０Ｈが、甲３において示されるように本件発明１と同じＳＳ２の値を有するとはいえず、相違点１が一致するゼットポール２０１０Ｈが、相違点２も一致するとはいえない。
ｉｉｉ　申立人の主張
　申立人は、上記ｉについて、令和２年３月１７日に提出した意見書において、添付した参考資料１をみれば、ＡＳＴＭ　Ｄ１６４６で測定しても、ＪＩＳ　Ｋ　６３００−１で測定しても、ムーニー粘度ＭＬ１＋４＠１００℃の値は、ほぼ同じ値を示す旨を主張する。
　そこで、参考資料１を検討するが、参考資料１は、本件出願後の２０１６年に発行された文献であり、本件出願の優先日時点における技術常識を示す文献とはいえない。
　念のため、その記載内容を参照することとする。
　参考文献１には、「ゴム製品の性能評価は，製品や材料に応じて多岐にわたって行われ，その評価方法はＪＩＳ（・・・），ＩＳＯ（・・・），ＡＳＴＭ（・・・）等の物理試験方法が引用されている．」（１１５頁左欄１２〜１６行）、「２．各種規格における加工性評価
・・・
２．２　粘度（可塑度）
　未加硫ゴムの評価において，もっとも汎用的に使用されているのが粘度（可塑度）であろう．実際に粘度（可塑度）は，製造工程に大きな影響を及ぼすことが知られており，加工性評価として種々の試験方法が規定されている．・・・
　ゴム工業においては，ＪＩＳ　Ｋ　６３００−１：２０１３・・・，ＩＳＯ２８９−１：２０１５・・・及びＡＳＴＭ　Ｄ　１６４６−０７・・・に規定されるムーニー粘度が一般的で，標準条件（１００℃，１分予熱，４分後）で測定した測定値（ＭＬ１＋４　１００℃）は世界共通でデータが認識可能である．」（１１６頁左欄１〜３３行）と記載されている。
　このように、参考資料１をみれば、未加硫ゴムの粘度を測定する場合、ＪＩＳ　Ｋ　６３００−１：２０１３３、及びＡＳＴＭ　Ｄ　１６４６−０７に規定されるムーニー粘度が一般的であり、（ＭＬ１＋４　１００℃）は世界共通でデータが認識可能であることが理解できるが、ＡＳＴＭ　Ｄ１６４６で測定しても、ＪＩＳ　Ｋ　６３００−１で測定しても、ムーニー粘度ＭＬ１＋４＠１００℃の値は、ほぼ同じ値を示すことは直接記載されていない。また、ほぼ同じ値となる技術常識が示されているわけでもない。
　よって、申立人の主張は採用できない。
ｉｖ　小括
　以上のとおりであるので、相違点２は、実質的な相違点である。
ｃ　まとめ
　本件発明１は甲１に記載された発明ではない。
（イ）本件発明２〜５及び７について
　本件発明２〜５及び７は、本件発明１を直接的又は間接的に引用する発明であるから、上記（ア）で述べた理由と同じ理由により、本件発明２〜５及び７は、甲１に記載された発明ではない。
（ウ）本件発明１７について
ａ　甲１−１発明との対比・判断
（ａ）対比
　上記（ア）ａを参酌すると、本件発明１７と甲１−１発明とは
「水素化ニトリルゴムを含み、添加剤を含む組成物」である点で一致し、以下の点で相違する。
（相違点３）
　「添加剤」につき、本件発明１７では、一般式（Ｉ）の少なくとも１種の置換フェノールであり、これを水素化ニトリルゴムを規準にして、０．０１重量％から０．４５重量％未満の量で含むのに対して、甲１−１発明では、老化防止剤であり、その含有量については明らかでない点
（相違点４）
　「組成物」につき、本件発明１７では、「請求項９〜１３のいずれか一項に記載のプロセスによって得られる」のに対して、甲１−１発明では、ブタジエン、アクリロニトリルのモノマーが、脱イオン水、乳化剤、重合触媒、調整剤の存在下で乳化重合され、得られたラテックスに、老化防止剤が加えられ、凝固、水洗、ろ過後、乾燥されてニトリルゴムができあがり、ニトリルゴムを適当な溶媒で溶解し、触媒を添加して水素化反応し、水素化反応ののち触媒・溶媒を回収、凝固乾燥することにより得られる」点
（相違点５）
　組成物の「ＳＳ２（７２ｈ／１００℃）＝ＭＶ２−ＭＶ０」（「ＭＶ２」及び「ＭＶ０」の定義は省略する。）の式で表される貯蔵安定性ＳＳ２の値が、本件発明１では、５未満と特定されているのに対して、甲１−１発明では、明らかでない点
（ｂ）判断
　事案に鑑み、まず、相違点５について検討する。
　相違点５は、上記（ア）ａで述べた相違点２と同じであり、上記（ア）ｂ（ｂ）で述べたとおり、実質的な相違点である。
（ｃ）小括
　そうすると、相違点３及び４について検討するまでもなく、本件発明１７は甲１−１発明ではない。
ｂ　甲１−２発明との対比・判断
　甲１−２発明は、「製品名ゼットポール２０１０Ｈ」ではなく、「製品名ゼットポール２０２０」である点のみで、甲１−１発明と相違する。
　そうすると、両者は、上記ａ（ａ）で述べた相違点３〜５で相違し、上記ａ（ｂ）で述べたとおり、相違点５は実質的な相違点である。
　よって、本件発明１７は甲１−２発明ではない。
ｃ　まとめ
　よって、本件発明１７は、甲１に記載された発明ではない。
エ　まとめ
　取消理由１によっては、本件発明１〜５、７及び１７に係る特許を取り消すことはできない。
（２）取消理由２について
ア　甲６の記載事項について
　甲６には以下の記載がある。
（６ａ）
「２．３　ＨＮＢＲの品番の選択
　ＨＮＢＲの基本特性は，炭素・炭素不飽和結合量を示すヨウ素価（水素化率），アクリロニトリル含有量およびポリマー粘度によって決定される．表１に現在当社で商品化しているＨＮＢＲであるゼットポールの品番およびその主な用途をまとめて示す．要求される耐熱性・化学安定性のレベルにより適切なヨウ素価を選択し，耐油性・耐寒性のレベルから適切なアクリロニトリル含有量を選択することによって，これら多くの品番の中で最も適した品番を選択することができる．加工性の面からはポリマー粘度の低い品番が有利であるが，表２に示すように圧縮永久ひずみが若干悪化する傾向を示す．」（６８３頁右欄、２〜１５行）
（６ｂ）
「
」
（６８４頁表１）
イ　甲６に記載された発明
　甲６には、記載事項（６ｂ）から、以下の発明が記載されていると認められる。
「Ｚｅｔｐｏｌ　２０１０Ｈ」（以下、「甲６−１発明」という。）
「Ｚｅｔｐｏｌ　２０１０Ｈと、Ｖｕｌｃｕｐ　４０ＫＥを含む配合物。」（以下、「甲６−２発明」という。
「甲６−２発明の配合物を１７０℃×２０分プレス加硫する方法。」（以下、「甲６−３発明」という。
「甲６−２発明の配合物を１７０℃×２０分プレス加硫した加硫物。」（以下、「甲６−４発明」という。
ウ　対比・判断
（ア）本件発明１〜５、７、１７について
　甲６−１発明の「Ｚｅｔｐｏｌ　２０１０Ｈ」は、商品化されているＨＮＢＲであって（記載事項（６ａ））、甲１−１発明の「製品名ゼットポール２０１０Ｈ」である水素化ニトリルゴムと同一の水素化ニトリルゴムであると解される。
　そうすると、本件発明１〜５、７、１７と甲６−１発明とは、少なくとも（１）ウ（ア）ａで述べた相違点１及び相違点２で相違する。
　そして、上記（１）ウ（ア）ｂ（ｂ）で述べたように、ゼットポール２０１０Ｈである甲６−１発明において、相違点２は、実質的な相違点である。
　よって、本件発明１〜５、７、１７は、甲６に記載された発明ではない。
（イ）本件発明１４について
　本件発明１４は、請求項１〜５、７及び８のいずれか一項に記載の少なくとも１種の組成物と、少なくとも１種の架橋剤を含む少なくとも１種の架橋系とを含む、加硫可能な混合物に係る発明である。
　これに対して、甲６−２発明は、Ｚｅｔｐｏｌ　２０１０Ｈと、Ｖｕｌｃｕｐ　４０ＫＥを含む配合物の発明であり、上記（ア）で述べたとおり、両者は少なくとも（１）ウ（ア）ａで述べた相違点１及び相違点２で相違し、相違点２は実質的な相違点である。
　よって、本件発明１４は、甲６に記載された発明ではない。
（ウ）本件発明１５について
　本件発明１５は、加硫物を製造するためのプロセスであって、本件発明１４に記載の加硫可能な混合物が加硫されるプロセスに係る発明である。
　これに対して、甲６−３発明は、「Ｚｅｔｐｏｌ　２０１０Ｈと、Ｖｕｌｃｕｐ　４０ＫＥを含む配合物」である甲６−２発明の配合物を１７０℃×２０分プレス加硫する方法の発明であり、上記（ア）で述べたとおり、両者は少なくとも（１）ウ（ア）ａで述べた相違点１及び相違点２で相違し、相違点２は実質的な相違点である。
　よって、本件発明１５は、甲６に記載された発明ではない。
（エ）本件発明１６について
　本件発明１６は、本件発明１４に記載の加硫可能な混合物を加硫した加硫物に係る発明である。
　これに対して、甲６−４発明は、「Ｚｅｔｐｏｌ　２０１０Ｈと、Ｖｕｌｃｕｐ　４０ＫＥを含む配合物」である甲６−２発明の配合物を１７０℃×２０分プレス加硫した加硫物の発明であり、上記（ア）で述べたとおり、両者は少なくとも（１）ウ（ア）ａで述べた相違点１及び相違点２で相違し、相違点２は実質的な相違点である。そうすると、本件発明１６の加硫物は、甲６−４発明であるとはいえない。
　よって、本件発明１６は、甲６に記載された発明ではない。
エ　まとめ
　取消理由２によっては、本件発明１〜５、７及び１４〜１７に係る特許を取り消すことはできない。
（３）取消理由３について
ア　判断
　取消理由３は、上記「第４　１（３）」で述べたとおり、本件訂正前の請求項１２の「水素化のために使用された前記一般式（Ｉ）の前記置換フェノールの量」との記載は、どのような量を意味するのか不明である、というものである。
　本件訂正前の請求項１２の上記の記載は、本件訂正により「水素化工程における溶液中に存在する前記一般式（Ｉ）の前記置換フェノールの量」と訂正され、その意味は明確となった。
イ　まとめ
　以上のとおりであるから、取消理由３は解消したことは明らかである。
３　取消理由通知において採用しなかった申立人がした申立理由について
（１）申立理由１について
　申立理由１は、甲１を証拠として新規性を理由とするものであり、これは、上記２（１）で述べた取消理由１と同じであるが、上記２（１）では、本件発明９を対象としていないので、ここでは、本件発明９に対して判断する。
ア　甲１に記載された事項及び記載された発明
　甲１には、上記２（１）ア（ア）で示した事項が記載されており、上記２（１）イによれば以下の発明が記載されていると認める。
「製品名ゼットポール２０１０Ｈであって、ブタジエン、アクリロニトリルのモノマーが、脱イオン水、乳化剤、重合触媒、調整剤の存在下で乳化重合され、得られたラテックスに、老化防止剤が加えられ、凝固、水洗、ろ過後、乾燥されてニトリルゴムができあがり、ニトリルゴムを適当な溶媒で溶解し、触媒を添加して水素化反応し、水素化反応ののち触媒・溶媒を回収、凝固乾燥することにより得られる水素化ニトリルゴムを製造する方法。」（以下、「甲１−３発明」という。） 
「製品名ゼットポール２０２０であって、ブタジエン、アクリロニトリルのモノマーが、脱イオン水、乳化剤、重合触媒、調整剤の存在下で乳化重合され、得られたラテックスに、老化防止剤が加えられ、凝固、水洗、ろ過後、乾燥されてニトリルゴムができあがり、ニトリルゴムを適当な溶媒で溶解し、触媒を添加して水素化反応し、水素化反応ののち触媒・溶媒を回収、凝固乾燥することにより得られる水素化ニトリルゴムを製造する方法。」（以下、「甲１−４発明」という。）
イ　本件発明９との対比・判断
（ア）甲１−３発明との対比・判断
ａ　対比
　上記２（１）ウ（ア）ａで述べられたこと、及び甲１−３発明の「水素化ニトリルゴムを製造する方法」は、水素化ニトリルゴムに老化防止剤が加えられているから、本件発明９の「水素化ニトリルゴムと添加剤を含む組成物を製造するためのプロセス」に相当することによれば、本件発明９と甲１−３発明とは、
「水素化ニトリルゴムと、添加剤とを含む組成物を製造するためのプロセスにおいて、ニトリルゴムと添加剤を含む組成物が、溶液中で水素化にかけられ、次いで溶媒が除去され、そして前記水素化ニトリルゴムと添加剤とを含む組成物が分離および脱水される、プロセス。」である点で一致し、以下の点で相違する。
（相違点６）
　「添加剤」につき、本件発明９では、一般式（Ｉ）の少なくとも１種の置換フェノールであり、これを水素化ニトリルゴムを規準にして、０．０１重量％〜０．４５重量％の量で含むのに対して、甲１−３発明では、老化防止剤であり、その含有量については明らかでない点
（相違点７）
　水素化ニトリルゴムと添加剤を含む組成物を製造するためのプロセスが、本件発明９では、最終的に得られる組成物中の前記一般式（Ｉ）の置換フェノールの含量が、水素化ニトリルゴムを規準として、０．０１重量％〜０．４５重量％未満の量に設定されるように調節されることを特徴とする、プロセスであるのに対し、甲１−３発明では、このような特定がされていない点
ｂ　判断
　事案に鑑み、相違点７から検討する。
　甲１には、ＨＮＢＲの製造方法として、ニトリルゴムと老化防止剤を配合した組成物が、溶液中で水素化にかけられ、次いで溶媒が除去され、そして、水素化ニトリルゴムと添加剤とを含む組成物が分離および脱水されるプロセスが記載され、供給元が日本ゼオンであるゼットポール２０１０Ｈが市販されていることが記載され、上記２（１）ウ（ア）ｂ（ａ）で述べた甲２の記載をみれば、ゼットポール２０１０Ｈは、本件発明９の一般式（Ｉ）を満たすＢＨＴの含有量が０．１１重量％であり、結果として相違点７で特定される０．０１〜０．４５重量％未満の量を満たすということはできるが、甲１には、最終的に得られる組成物中のＢＨＴの含量が０．１１重量％となるように調節される方法は記載されていない。また、最終的に得られる組成物中のＢＨＴの含量が０．１１重量％となるように調節される方法が技術常識であるともいえない。
　そうすると、相違点７は実質的な相違点である。
　よって、相違点６について検討するまでもなく、本件発明９は、甲１−３発明ではない。
（イ）甲１−４発明との対比・判断
　甲１−４発明は、「製品名ゼットポール２０１０Ｈ」ではなく、「製品名ゼットポール２０２０」である点のみで、甲１−３発明と相違する。
　そうすると、両者は、上記（ア）ａで述べた相違点６及び７で相違し、上記（ア）ｂで述べたとおり、相違点７は実質的な相違点である。
　よって、本件発明９は、甲１−４発明ではない。
（ウ）小括
　よって、本件発明９は、甲１に記載された発明ではない。
ウ　まとめ
　申立理由１によっては本件発明９を取り消すことはできない。
（２）申立理由２について
　申立理由２は、本件発明は、甲１に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである、というものである。以下に検討する。
ア　本件発明１について
（ア）対比
　上記２（１）ウ（ア）ａで述べたとおり、本件発明１と甲１−１発明とは、相違点２で相違する。
　以下に相違点２を再掲する。
（相違点２）
　組成物の「ＳＳ２（７２ｈ／１００℃）＝ＭＶ２−ＭＶ０」（「ＭＶ２」及び「ＭＶ０」の定義は省略する。）の式で表される貯蔵安定性ＳＳ２の値が、本件発明１では、５未満と特定されているのに対して、甲１−１発明では、明らかでない点
（イ）判断
　上記２（１）ア（ア）によれば、甲１には、水素化ニトリルゴムであるＨＮＢＲの製法として、ニトリルゴムであるＮＢＲの耐油性を維持し、耐熱老化性のみを向上させるため、炭素・炭素の二重結合部分のみを選択的に水素化することが有効である旨の記載がされており、ＨＮＢＲの市販品名の記載はある。しかしながら、甲１−１発明である水素化ニトリルゴムを含む組成物が貯蔵安定性に優れることの記載はない。
　そうすると、他の文献を参照するまでもなく、甲１−１発明において、相違点２である組成物の貯蔵安定性ＳＳ２の値が５未満であるとする動機付けはない。
　念のため、他の文献の記載をみてみる。
　甲６は「水素化ニトリルゴムの基本特性と応用」と題する文献であって、「ＨＮＢＲは，ＮＢＲポリマーの主鎖中の二重結合を水素化することにより得られ，ＮＢＲと比べて耐熱性や耐候性・化学安定性が大きく改良されている．」（６８１頁左欄６〜９行）、「図２にＨＮＢＲポリマーのヨウ素価と熱老化性との関係を示す．このようにヨウ素価が小さくなる（水素化率が高くなる）にしたがい，ポリマーの耐熱老化性が改良されていくことがわかる．」（６８２頁左欄５〜８行）と記載されており、図２は、ヨウ素価と１５０℃で７２時間後の伸び変化率と関係を示したグラフであるといえる。
　甲１２には、「水素化（％）が１００に達する時、水素化アクリロニトリル−ブタジエンコポリマーの老化特性はかなり向上することは良く知られている。」（段落【００４５】）と記載されている。
　しかしながら、甲６及び甲１２には、ＨＮＢＲが貯蔵安定性に優れること、本件発明１で定義されるＳＳ２の値が５未満であることの記載はない。
　また、甲８には、その特許請求の範囲の請求項１に、（ｉ）前記ニトリルゴムを基準にして少なくとも１５０ｐｐｍのカルシウム含量と、ニトリルゴムを基準にして少なくとも４０ｐｐｍの塩素含量とを有し、（ｉｉ）２，２，４，６，６−ペンタメチルヘプタン−４−チオおよび／または２，４，４，６，６−ペンタメチルヘプタン−２−チオおよび／または２，３，４，６，６−ペンタメチルヘプタン−２−チオおよび／または２，３，４，６，６−ペンタメチルヘプタン−３−チオの末端基を含むニトリルゴムであること、請求項３には、１００℃で４８時間貯蔵した後のムーニー粘度の差が５未満であること、実施例では、１００℃で４８時間貯蔵した後のムーニー粘度の差が５未満であるニトリルゴムの具体例が記載されている（段落【０１８６】以降参照）。
　甲１０には、その特許請求の範囲の請求項１に、ニトリルゴムに対して４〜２５ｐｐｍの範囲の塩素含有量を有する、ニトリルゴムが記載され、実施例では、１００℃で４８時間貯蔵した後のムーニー粘度の差が５未満であるニトリルゴムの具体例が記載されている（段落【０２３５】参照）。
　甲１１には、その特許請求の範囲の請求項１に、特定の範囲のイオン指数を有するニトリルゴムが記載され、実施例では、１００℃で４８時間貯蔵した後のムーニー粘度の差が５未満であるニトリルゴムの具体例が記載されている（段落【０２４１】参照）。
　しかしながら、甲８、甲１０及び甲１１には、ニトリルゴムにおいて１００℃で４８時間貯蔵した後のムーニー粘度の差が５未満であることが記載されているだけであり、ＨＮＢＲが貯蔵安定性に優れること、本件発明１で定義されるＳＳ２の値が５未満であることの記載はない。
　そうすると、いくら上記した文献の記載をみても、甲１−１発明において、相違点２に関する構成を導くことはできない。
　よって、本件発明１は、甲１−１発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたとはいえない。
イ　本件発明２〜５、７、８、１４〜１６について
　本件発明１を直接的又は間接的に引用する本件発明２〜５、７、８、１４〜１６も同じ理由により容易ではない。
ウ　本件発明９について
　上記（１）イ（ア）ａ及び（イ）で述べたとおり、本件発明９と甲１に記載された発明とは、相違点６及び７で相違する。
　事案に鑑み、まず相違点７について検討する。相違点７を再掲する。
（相違点７）
　水素化ニトリルゴムと添加剤を含む組成物を製造するためのプロセスが、本件発明９では、最終的に得られる組成物中の前記一般式（Ｉ）の置換フェノールの含量が、水素化ニトリルゴムを規準として、０．０１重量％〜０．４５重量％未満の量に設定されるように調節されることを特徴とする、プロセスであるのに対し、甲１−３発明では、このような特定がされていない点
　上記（１）イ（ア）ｂによれば、甲１には、ＨＮＢＲの製造方法として、ニトリルゴムと老化防止剤を配合した組成物が、溶液中で水素化にかけられ、次いで溶媒が除去され、そして、水素化ニトリルゴムと添加剤とを含む組成物が分離および脱水されるプロセスが記載され、供給元が日本ゼオンであるゼットポール２０１０Ｈが市販されていることが記載され、上記２（１）ウ（ア）ｂ（ａ）で述べた甲２の記載をみれば、ゼットポール２０１０Ｈは、本件発明９の一般式（Ｉ）を満たすＢＨＴの含有量が０．１１重量％であり、結果として相違点７で特定される０．０１〜０．４５重量％未満の量を満たすということはできるが、甲１には、最終的に得られる組成物中のＢＨＴの含量が０．１１重量％となるように調節される方法は記載されていない。
　そうすると、他の文献を参照するまでもなく、甲１−３発明又は甲１−４発明において、相違点７を構成する動機付けはない。
　また、他の文献をみても、甲１−３発明又は甲１−４発明において、相違点７に関する構成を導くことはできない。
　よって、本件発明９は、甲１−３発明又は甲１−４発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたとはいえない。
エ　本件発明１０〜１３について
　本件発明９を直接的又は間接的に引用する本件発明１０〜１３も同じ理由により容易ではない。
オ　本件発明１７について
　上記２（１）ウ（ウ）ａ（ａ）及びｂで述べたとおり、本件発明１７と甲１に記載された発明とは、相違点３〜５で相違する。
　事案に鑑み、まず相違点５について検討するが、相違点５は、相違点２と同じであり、上記ア（イ）で述べたように、甲１−１発明又は甲１−２発明において、相違点２に関する構成を導くことはできない。
　よって、本件発明１７は、甲１−１発明又は甲１−２発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたとはいえない。
カ　まとめ
　申立理由２によっては本件発明１〜５、７〜１７を取り消すことはできない。
（３）申立理由３について
ア　甲７の記載事項及び甲７に記載された発明について
　甲７の特許請求の範囲、発明の詳細な説明の特に【００７４】〜【００７６】に記載された実施例１及び【００８０】に記載された実施例２からみて、甲７には、以下の発明が記載されていると認める。
「金属製容器に、イオン交換水１８０部、濃度１０％のドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム水溶液５部、アクリロニトリル３７部、メタクリル酸４部、ｔ−ドデシルメルカプタン（分子量調整剤）０．５部の順に仕込み、内部の気体を窒素で３回置換した後、１，３−ブタジエン５９部を仕込み、そして、金属製容器を５℃に保ち、クメンハイドロパーオキサイド（重合開始剤）０．１部を仕込み、金属製容器内を攪拌させながら１６時間重合反応し、そして、１６時間の重合反応後、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシル（重合停止剤）０．１部を加えて重合反応を停止した後、水温６０℃のロータリーエバポレータを用いて残留単量体を除去することにより、アクリロニトリル単位３６．２％、ブタジエン単位６０．２％、メタクリル酸単位３．６％の重合体ラテックス（固形分濃度３０％）を得て、次いで、上記にて得られたラテックスに含有されるゴムの乾燥重量に対するパラジウム含有量が１，０００ｐｐｍになるように、オートクレーブ中に、上記にて製造したラテックスおよびパラジウム触媒（１重量％酢酸パラジウムアセトン溶液と等重量のイオン交換水を混合した溶液）を添加して、水素圧３ＭＰａ、温度５０℃で６時間水素添加反応を行い、そして、水素添加反応後の重合体ラテックスに、重合体ラテックス中の重合体１００部に対して、０．３部のオクタデシル３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（イルガノックス１０７６、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製、老化防止剤）を加え、次いで、重合体ラテックスの２倍容量のメタノールを加えることにより凝固させた後、ろ過し、固形分を６０℃で１２時間真空乾燥することにより得られたカルボキシル基含有ニトリルゴム」（以下「甲７発明Ａ」という。）、及び、「甲７発明Ａを製造するための方法」（以下「甲７発明Ｂ」という。）
　また、「甲７発明Ａにおいてオクタデシル３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートの使用量を０．１部としたカルボキシル基含有ニトリルゴム」（以下「甲７発明Ｃ」という。）、及び、「甲７発明Ｃを製造するための方法」（以下「甲７発明Ｄ」という。）
イ　対比・判断
（ア）本件発明１について
ａ　甲７発明Ａ及びＣとの対比
　甲７発明Ａ及びＣの「オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（老化防止剤）」及び本件発明１の「一般式（Ｉ）」「の少なくとも１種の置換フェノール」は、いずれも添加剤であるということができ、両者は添加剤である限りで一致する。 
　甲７発明Ａ及びＣの「アクリロニトリル」「メタクリル酸」「１，３−ブタジエン」を「重合反応し」得られた「重合体ラテックス」に「水素添加反応を行」った「水素添加反応後の重合体ラテックス」は、本件発明１の「水素化ニトリルゴム」に相当し、これに「オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートを加え」「凝固させた後、ろ過し」「真空乾燥することにより得られたカルボキシル基含有ニトリルゴム」は、水素化ニトリルゴムと添加剤を含むから、本件発明１の「水素化ニトリルゴムを含み、添加剤を含む組成物」である限りで一致する。
　甲７発明Ａ及びＣの「水素添加反応後の重合体ラテックス」に、「オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートを加え」「凝固させた後、ろ過し」「真空乾燥することにより得られたカルボキシル基含有ニトリルゴム」を得ることは、本件発明１の組成物が「分離」されることにより得られる限りにおいて一致し、また、甲７発明Ａ及びＣの「真空乾燥」は、真空乾燥により、水が除去されるから、本件発明１の「脱水」に相当する。
　そうすると、本件発明１と甲７発明Ａ及びＣとは、
「水素化ニトリルゴムを含み、添加剤を含む、組成物であって、組成物が、分離および脱水されることを特徴とする方法によって得られる組成物」である点で一致し、以下の点で相違する。
（相違点８）
　添加剤が、本件発明１では、一般式（Ｉ）の少なくとも１種の置換フェノールであるのに対して、甲７発明Ａ及びＣでは、「オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート」である点
（相違点９）
　水素化ニトリルゴムを規準とした添加剤の混合量が、本件発明１では、０．０１重量％〜０．２５重量％であるのに対して、甲７発明Ａ又はＣでは、水素添加後の重合体ラテックス中の重合体１００部に対して、０．３部又は０．１部である点
（相違点１０）
　本件発明１では、ニトリルゴムと添加剤を含む組成物が溶液中で水素化にかけられているが、甲７発明Ａ及びＣでは、ニトリルゴムが溶液中で水素化された後、添加剤が配合されている点
（相違点１１）
　組成物の「ＳＳ２（７２ｈ／１００℃）＝ＭＶ２−ＭＶ０」（「ＭＶ２」及び「ＭＶ０」の定義は省略する。）の式で表される貯蔵安定性ＳＳ２の値が、本件発明１では、５未満と特定されているのに対して、甲７発明Ａ及びＣでは、明らかでない点
ｂ　判断
　事案に鑑み相違点８、９及び１１を検討する。
（ａ）相違点８について
　甲７の特許請求の範囲の請求項１には、「ヨウ素価が１２０以下であるカルボキシル基含有ニトリルゴムであって、過酸化物架橋剤である１，３−ビス（ｔ−ブチルペルオキシイソプロピル）ベンゼンの添加量を変化させて架橋させた場合における、前記１，３−ビス（ｔ−ブチルペルオキシイソプロピル）ベンゼンの添加量に対する、架橋時のトルク値の変化量から求められる架橋指数が、０．２以下であることを特徴とするカルボキシル基含有ニトリルゴム。」と記載され、同請求項４には、「請求項１に記載のカルボキシル基含有ニトリルゴムを製造する方法であって、前記カルボキシル基含有ニトリルゴムを形成することとなる単量体混合物を乳化重合により重合する工程と、重合系に、安定なフリーラジカルを含む化合物を添加して、重合反応を停止させて、重合体ラテックスを得る工程と、得られた重合体ラテックスに、分子内の硫黄原子含有量が０．５重量％以下の老化防止剤を添加する工程と、を有することを特徴とするカルボキシル基含有ニトリルゴムの製造方法。」と記載され、老化防止剤を添加することが記載されている。また、発明の詳細な説明の段落【００４７】〜【００４９】には、老化防止剤の具体例が記載され、本件発明１の一般式（１）で表される化合物の具体例であるといえるジブチルヒドロキシトルエンが例示の一つとして記載されている。
　しかしながら、ここには、甲７発明Ａ及びＣで用いられるオクタデシル３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートが本発明の作用効果がより顕著になるという点により好ましいと記載されていることからすれば、いくら甲７に、老化防止剤としてジブチルヒドロキシトルエンが例示の一つの化合物としてされていたとしても、甲７発明Ａ及びＣにおいて、好ましいとして使用されたオクタデシル３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートに代えてジブチルヒドロキシトルエンを使用する動機付けがあるとはいえない。
（ｂ）相違点９について
　甲７の段落【００５０】には、老化防止剤の使用量について、「重合体ラテックスに含まれる重合体１００重量部に対して、好ましくは０．０１〜５重量部であり、より好ましくは０．０５〜１重量部、さらに好ましくは０．１〜０．５重量部である。」と記載されており、この記載からすれば、甲７発明Ａ又はＣにおける水素添加後の重合体ラテックス中の重合体１００部に対して、０．３部又は０．１部とは、水素化ニトリルゴム１００重量部に対して添加剤を０．３重量部又は０．１重量部添加すると解することができる。
　甲７発明Ａ及びＣでは、水素化ニトリルゴムラテックスに添加剤を添加した後、凝集させ、６０℃で１２時間真空乾燥させているが、乾燥後の混合物に含まれている添加剤の混合量は不明である。甲７には、上記乾燥により添加剤がどの程度揮散するのか記載はない。そして、甲７発明Ａ又はＣにおいて特定される条件で乾燥した場合に、添加剤の混合量が本件発明１で特定される０．０１〜０．２５重量％となる技術常識もない。
　そうすると、甲７発明Ａ又はＣにおいて、水素化ニトリルゴムを規準とした添加剤の混合量が、本件発明１で特定される０．０１重量％〜０．２５重量％とする動機付けがあるとはいえない。
（ｃ）相違点１１について
　甲７の段落【０００６】には、過酸化物架橋剤を用いて架橋した場合においても、機械的強度、および耐圧縮永久歪み性に優れた架橋物を与えることのできるカルボキシル基含有ニトリルゴムおよび該ニトリルゴムの製造方法を提供することを目的とすることの記載がされている。しかしながら、甲７発明Ａ及びＣである水素化ニトリルゴムを含む組成物が貯蔵安定性に優れることの記載はない。
　そうすると、他の文献を参照するまでもなく、甲７発明Ａ及びＣにおいて、相違点１１である組成物の貯蔵安定性ＳＳ２の値が５未満であるとする動機付けはない。
ｃ　小括
　以上のとおりであるから、本件発明１は、相違点１０について検討するまでもなく、甲７発明Ａ及びＣに基いて当業者が容易に想到することができたとはいえない。
（イ）本件発明２〜５、７、８、１４〜１６について
　本件発明１を直接的又は間接的に引用する本件発明２〜５、７、８、１４〜１６も同じ理由により容易ではない。
（ウ）本件発明９
ａ　甲７発明Ｂ及びＤとの対比
　上記（ア）で述べたことからすれば、本件発明９と甲７発明Ｂ及びＤとは、
「水素化ニトリルゴムと、添加剤とを含む組成物を製造するためのプロセスにおいて、組成物が、分離および脱水されることを特徴とするプロセス」である点で一致し、以下の点で相違する。
（相違点１２）
　添加剤が、本件発明９では、一般式（Ｉ）の少なくとも１種の置換フェノールであるのに対して、甲７発明Ｂ及びＤでは、「オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート」である点
（相違点１３）
　水素化ニトリルゴムを規準とした添加剤の混合量が、本件発明９では、０．０１重量％〜０．４５重量未満の量に設定されるように調節されるのに対して、甲７発明Ｂ又はＤでは、水素添加後の重合体ラテックス中の重合体１００部に対して、０．３部又は０．１部である点
（相違点１４）
　本件発明９では、ニトリルゴムと添加剤を含む組成物が溶液中で水素化にかけられているが、甲７発明Ｂ及びＤでは、ニトリルゴムが溶液中で水素化された後、添加剤が配合されている点
ｂ　判断
 事案に鑑み、相違点１２及び１３を検討する。
（ａ）相違点１２について
　相違点１２は、上記（ア）ａで述べた相違点８と同じであり、上記（ア）ｂ（ａ）で述べた理由と同じ理由により動機付けがあるとはいえない。
（ｂ）相違点１３について
　上記（ア）ｂ（ｂ）で述べたように、甲７発明Ｂ及びＤでは、水素化ニトリルゴムラテックスに添加剤を添加した後、凝集させ、６０℃で１２時間真空乾燥させているが、乾燥後の混合物に含まれている添加剤の混合量は不明であり、また、水素化ニトリルゴムを規準とした添加剤の混合量が、０．０１重量％〜０．４５重量未満の量に設定されるように調節されることについて記載はない。また、水素化ニトリルゴムを規準とした添加剤の混合量が、０．０１重量％〜０．４５重量未満の量に設定されるように調節されることが技術常識であるともいえない。
　そうすると、甲７発明Ｂ又はＤにおいて、水素化ニトリルゴムを規準とした添加剤の混合量が、本件発明１で特定される０．０１重量％〜０．４５重量未満の量に設定されるように調節されるとする動機付けがあるとはいえない。
ｃ　小括
　以上のとおりであるから、本件発明９は、相違点１４について検討するまでもなく、甲７発明Ｂ及びＤに基いて当業者が容易に想到することができたとはいえない。
（エ）本件発明１０〜１３について
　本件発明９を直接的又は間接的に引用する本件発明１０〜１３も同じ理由により容易ではない。
（オ）本件発明１７について
ａ　甲７発明Ａ及びＣとの対比
　上記（ア）ａで述べたことからすれば、本件発明１７と甲７発明Ａ及びＣとは
「水素化ニトリルゴムを含み、添加剤を含む組成物」である点で一致し、以下の点で相違する。
（相違点１５）
　添加剤が、本件発明１７では、一般式（Ｉ）の少なくとも１種の置換フェノールであるのに対して、甲７発明Ａ及びＣでは、「オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート」である点
（相違点１６）
　水素化ニトリルゴムを規準とした添加剤の混合量が、本件発明１７では、０．０１重量％〜０．４５重量未満の範囲の量であるのに対して、甲７発明Ａ又はＣでは、水素添加後の重合体ラテックス中の重合体１００部に対して、０．３部又は０．１部である点
（相違点１７）
　「組成物」につき、本件発明１７では、「請求項９〜１３のいずれか一項に記載のプロセスによって得られる」のに対して、甲７発明Ａ及びＣでは、「アクリロニトリル」「メタクリル酸」「１，３−ブタジエン」を「重合反応し」得られた「重合体ラテックス」に「水素添加反応を行」った「水素添加反応後の重合体ラテックス」に「オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートを加え」「凝固させた後、ろ過し」「真空乾燥することにより得られ」る点
（相違点１８）
　組成物の「ＳＳ２（７２ｈ／１００℃）＝ＭＶ２−ＭＶ０」（「ＭＶ２」及び「ＭＶ０」の定義は省略する。）の式で表される貯蔵安定性ＳＳ２の値が、本件発明１７では、５未満と特定されているのに対して、甲７発明Ａ及びＣでは、明らかでない点
ｂ　判断
　事案に鑑み相違点１５、１６及び１８を検討する。
（ａ）相違点１５について
　相違点１５は、上記（ア）ａで述べた相違点８と同じであり、上記（ア）ｂ（ａ）で述べた理由と同じ理由により動機付けがあるとはいえない。
（ｂ）相違点１６について
　上記（ア）ｂ（ｂ）で述べたとおり、甲７発明Ａ及びＣでは、水素化ニトリルゴムラテックスに添加剤を添加した後、凝集させ、６０℃で１２時間真空乾燥させているが、乾燥後の混合物に含まれている添加剤の混合量は不明である。甲７には、上記乾燥により添加剤がどの程度揮散するのか記載はない。そして、甲７発明Ａ又はＣにおいて特定される条件で乾燥した場合に、添加剤の混合量が本件発明１で特定される０．０１〜０．４５重量％となる技術常識もない。
　そうすると、甲７発明Ａ又はＣにおいて、水素化ニトリルゴムを規準とした添加剤の混合量が、本件発明１で特定される０．０１重量％〜０．４５重量％とする動機付けがあるとはいえない。
（ｃ）相違点１８について
　相違点１８は、上記（ア）ａで述べた相違点１１と同じであり、上記（ア）ｂ（ｃ）で述べた理由と同じ理由により動機付けがあるとはいえない。
ｃ　小括
　以上のとおりであるから、本件発明１７は、相違点１７について検討するまでもなく、甲７発明Ａ及びＣに基いて当業者が容易に想到することができたとはいえない。
ウ　まとめ
　以上のとおりであるので、申立理由３によっては本件発明１〜５、７〜１７を取り消すことはできない。
（４）申立理由４のアについて
ア　請求項１の記載
　請求項１には、「水素化ニトリルゴムを含み、一般式（Ｉ）（化学構造式は省略する。）の少なくとも１種の置換フェノールを、それぞれの場合において前記水素化ニトリルゴムを規準にして、０．０１重量％〜０．２５重量％の量で含む、組成物」と記載がされているから、本件発明１は物の発明であるといえる。
　また、請求項１には、「ニトリルゴムと前記一般式（Ｉ）の少なくとも１種の置換フェノールとを含む組成物が、溶液中で水素化にかけられ、次いで溶媒が除去され、そして前記水素化ニトリルゴムと一般式（Ｉ）の少なくとも１種の置換フェノールとを含む組成物が分離および脱水されることを特徴とする方法によって得られ、」という記載がなされているから、請求項１には、その物の製造方法が記載されているといえる。
イ　物の発明に係る特許請求の範囲にその物を製造方法が記載されている場合の考え方について
　物の発明に係る特許請求の範囲にその物を製造方法が記載されている場合、当該特許請求の範囲の記載が特許法第３６条第６項第２号にいう「発明が明確であること」という要件に適合するといえるのは、出願時において当該物をその構造又は特性により直接特定することが不可能であるか、又はおよそ実際的でないという事情（以下「不可能・非実際的事情」という）が存在するときに限られると解するのが相当である（最高裁第二小法廷平成２７年６月５日　平成２４年（受）第１２０４号、平成２４年（受）第２６５８号）。
　以下、この考え方に従って検討する。
ウ　本件特許明細書等の記載
　本件特許明細書等には、本件発明の背景技術は、「特には高温における長期の保存の後でも、高い弾性率レベルおよび低い圧縮永久歪みを有するＨＮＢＲの加硫物が、大きな役割を果たしている。」（段落【０００６】）及び「ＨＮＢＲベースの加硫物の、特に弾性率レベルおよび圧縮永久歪みに関連した機械的性質において、現在のところ得られるレベルは依然として不十分である。」（段落【０００７】）であることが記載され、本件発明の課題は、「本発明が対象としている問題は、特に高温で保存した後に、極めて良好な弾性率および低い圧縮永久歪み値を有する加硫物を与える水素化ニトリルゴムを提供するという問題であった。それと同時に、その水素化ニトリルゴムは、高温で長期間保存した後でさえも、優れた貯蔵安定性を有しているべきである。したがって、課題となった問題はさらに、ニトリルゴムを適切に水素化し、その後でその溶液から単離することによる、そのような水素化ニトリルゴムを製造するためのプロセスを提供することであった。」（段落【００４１】）であることが記載されている。
　そして、段落【０４１８】以降の実施例においては、本件発明で特定される水素化ニトリルゴムに、置換フェノールを０．０１〜０．２５重量％含む組成物であって、本件発明で特定される製造方法により得られる組成物が、良好な弾性率、低い圧縮永久歪みを有する加硫物を与えることが具体的なデータとともに記載されている。
エ　審判請求書の記載
　本件特許に係る特許出願における平成３０年４月１８日に提出された審判請求書には、この審判請求書と同時に提出した手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１には、組成物の発明が記載されているところ、以下の記載がされている。
「ここで、補正後の請求項１〜８は、「組成物」（物）の発明に係る請求項に、「ニトリルゴムと前記一般式（Ｉ）の少なくとも１種の置換フェノールとを含む組成物が、溶液中で水素化にかけられ、次いで溶媒が除去され、そして前記水素化ニトリルゴムと一般式（Ｉ）の少なくとも１種の置換フェノールとを含む組成物が単離および脱水されることを特徴とするプロセスによって得られる」という、その物の製造方法が記載されている場合に該当することとなります。しかしながら、この記載に関しては、平成２９年１２月５日付の意見書において旧請求項１８について申し上げたいわゆる不可能・非実際的事情と同様の事情が存在いたします。以下にその詳細を申し述べます。
　補正後の請求項１〜８に係る「組成物」は、上述のプロセスによって製造されます。このプロセスによって製造された組成物は、以下に詳述いたしますとおり、改善された弾性率及び圧縮永久歪みという優れた性質を有します。
　このような、本願発明において奏される優れた性質は、その組成物中に含まれる様々な化合物の作用によるものですが、この作用を、物の構造又は特性により直接特定することは、不可能であるといえます。
　以下に述べますとおり、上記プロセスは、引用文献２及び３に記載された方法とは異なっており、また、得られた組成物の物性も異なりますので、組成物の構造も異なっていることは明らかであると思料します。しかしながら、たとえ構造が異なることが明確であったとしても、一般に高分子化合物を含む組成物の構造を完全に特定することは不可能です。加えて、本願の組成物は、補正後の請求項１に記載いたしましたとおり、ニトリルゴムと一般式（Ｉ)の置換フェノールを特定の量で混合し、水素化、溶媒除去、脱水等の複数の工程等を含む極めて複雑なプロセスにより製造されるものです。したがって、当業者であれば、本発明のプロセスにより製造した組成物の構造を特定することは不可能であることは当然に理解できると思料します。」
　また、この審判請求書には、引用文献等に記載された発明との対比において、以下の記載がされている。
「理論に拘束されるものではありませんが、水素化の前に存在する不飽和のニトリルゴムは、水素化後に得られる飽和ニトリルゴムよりも副反応に対する感受性が高いことが考えられます。本願発明者らは、一般式（Ｉ）の置換フェノールが存在することによって、不飽和ニトリルゴムの副反応が抑制され、そのことが、対応する飽和ニトリルゴムの加硫物の性質の改善に寄与することを見出しました。」
オ　審査段階で引用された引用文献の記載
　本件特許に係る特許出願における平成３０年４月１８日に提出された審判請求書に記載された審査段階で引用された引用文献２及び３には、以下の記載がされている。
（ア）引用文献２（特開平１０−１５２５２５号公報）
　引用文献２には、引張強さ及び耐摩耗性に優れ、繊維との接着強度が高く、ロール加工性に優れるカルボキシル化ニトリル基含有高飽和共重合体ゴムの製造方法を提供することを課題とし（段落【０００６】）、特許請求の範囲の請求項２に記載された
「　加熱密閉式混練機において、ゴム温度６０〜１７０℃の範囲でニトリル基含有高飽和共重合体ゴムに、エチレン性不飽和カルボン酸又はその無水物を添加し、次いでゴム温度２００〜２８０℃の範囲でニトリル基含有高飽和共重合体ゴムとエチレン性不飽和ジカルボン酸又はその無水物とを付加反応させることを特徴とするカルボキシル化ニトリル基含有高飽和共重合体ゴムの製造方法。」の発明が記載されている。
　また、段落【００６８】には、加熱密閉式混練機中で混練するに際して老化防止剤を添加することにより、ゴムのゲル化、ムーニー粘度の上昇を防止することができることが記載されており、同【００７１】には、フェノール系老化防止剤として、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノールが例示され、同【００７２】には、老化防止剤の量は、ニトリル基含有高飽和重合体ゴム１００重量部に対して、好ましくは０．１〜２重量部であることが記載されている。
　そして、実施例においては、ニトリル基含有高飽和重合体ゴム１００重量部を、加熱密閉式混練機である加圧ニーダーを用いて素練りし、ゴム温度が１３０℃まで上昇したのち、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．５部配合することが記載されている（段落【００９１】参照）。
（イ）引用文献３（特開平１０−２７９７３４号公報）
　引用文献３には、ゴム材料の強度特性、耐摩耗性等をさらに向上させることを課題とし（段落【０００６】）、特許請求の範囲の請求項１に記載された「酸当量が２×１０−３ｅｐｈｒ以上、ムーニー粘度が１５〜２００、ヨウ素価が８０以下のカルボキシル化ニトリル基含有高飽和共重合体ゴム、α，β−エチレン性不飽和カルボン酸の金属塩及び有機過酸化物を配合してなる加硫性ゴム組成物。」の発明が記載されている。
　そして、実施例においては、水素化ニトリルゴム１００重量部に老化防止剤としのＢＨＴ０．５重量部配合することが記載されている。（段落【０１１７】参照）。
カ　判断
　本件発明１は、良好な弾性率、低い圧縮永久歪を有する加硫物を与える組成物を提供することを課題とし、本件発明１で特定される水素化ニトリルゴムに、置換フェノールを０．０１〜０．２５重量％含む組成物であって、本件発明１で特定される製造方法により得られる組成物である。
　また、本件発明１で特定される製造方法により得られる組成物が、従来技術であるといえる審査段階で引用された引用文献２及び３には記載されていない、良好な弾性率、低い圧縮永久歪を有する加硫物を与えるという効果を示すことがデータととも確認することができる。
　そして、これらの点や、審判請求書における、水素化前のニトリルゴムに一般式（Ｉ）の置換フェノールが存在することが重要であること、このような優れた性質を有する組成物は、組成物の構造又は特性により直接特定することは不可能であることという主張からすると、本件発明１は、単なる「組成物」と解することはできないといえるところ、水素化ニトリルゴムと一般式（Ｉ）の置換フェノールの混合状態や両者の存在状態により記載することはできないといえる。
　そうすると、本件発明１の組成物をその構造又は特性により直接特定することには、不可能・非実際的事情があるということができる。
　また、本件発明１を直接的又は間接的に引用する本件発明２〜５、７、８、１４及び１６並びに本件発明１７も、同じ理由により、不可能・非実際的事情があるといえる。
　なお、本件発明１５は、「加硫物を製造するためのプロセス」の発明であり、物の発明ではないから、本件発明１５に対する申立理由４には理由がない。
キ　申立人の主張
　申立人は、特許異議申立書において、本件発明１の混合物は、水素化ニトリルゴムと一般式（Ｉ）の置換フェノールの２種が含まれているだけであり、作用は起こらないこと、ニトリルゴムと一般式（Ｉ）の置換フェノールは化学的に反応を生じないことを理由に、不可能・非実際的事情はない旨の主張をする。
　しかしながら、この主張は、あくまで水素化ニトリルゴムと一般式（Ｉ）の置換フェノールとが単純に混合された組成物であることを前提とした主張にすぎず、上記カで述べた判断を覆すことはできない。
　よって、申立人の主張は採用できない。
ク　まとめ
　以上のとおりであるので、申立理由４のアによっては本件発明１〜５、７、８、１４〜１７を取り消すことはできない。
第６　むすび
　したがって、請求項６に係る特許については、特許異議申立を却下することとする。
　また、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、請求項１〜５、７〜１７に係る特許を取り消すことはできない。　
　さらに、他に請求項１〜５、７〜１７に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
令和２年６月８日（２０２０．６．８）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　水素化ニトリルゴムを含み、一般式（Ｉ）
　【化１】
（式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５は同一であるか、または異なっており、それぞれ水素、ヒドロキシル、直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ８アルキル基、直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ８アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、またはフェニル基であり、ここで、前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５基の少なくとも１つは水素ではない）
の少なくとも１種の置換フェノールを、それぞれの場合において前記水素化ニトリルゴムを規準にして、０．０１重量％〜０．２５重量％の量で含む、組成物であって、
ニトリルゴムと前記一般式（Ｉ）の少なくとも１種の置換フェノールとを含む組成物が、溶液中で水素化にかけられ、次いで溶媒が除去され、そして前記水素化ニトリルゴムと一般式（Ｉ）の少なくとも１種の置換フェノールとを含む組成物が分離および脱水されることを特徴とするプロセスによって得られ
、
次式
　
ＳＳ２（７２ｈ／１００℃）＝ＭＶ２−ＭＶ０
（式中、
ＭＶ０は、前記水素化ニトリルゴムについてＡＳＴＭ　Ｄ１６４６に従って測定したムーニー粘度ＭＬ１＋４＠１００℃であり、および
ＭＶ２は、同一の水素化ニトリルゴムについて、１００℃で７２時間保存した後にＡＳＴＭ　Ｄ１６４６に従って測定したムーニー粘度ＭＬ１＋４＠１００℃である）
で定義される前記組成物の貯蔵安定性ＳＳ２が５未満の値を有することを特徴とす
　【請求項２】
　Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５が同一であるか、または異なっており、それぞれ水素、ヒドロキシル、メチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、シクロペンチル、シクロヘキシル、またはフェニル基であり、ここで、前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５基の少なくとも１つは水素ではないことを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
　【請求項３】
　前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５基の２つまたは３つが水素であり、かつ前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５基の他の２つまたは３つが同一であるか、または異なっており、それぞれヒドロキシル、直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ８アルキル基、直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ８アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、またはフェニル基であることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
　【請求項４】
　前記一般式（Ｉ）の前記少なくとも１種の置換フェノールが以下の化合物：
　【化２】
からなる群から選択されることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
　【請求項５】
　水素化ニトリルゴムが、少なくともアクリロニトリルおよび１，３−ブタジエンから誘導される繰り返し単位を有することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物。
　【請求項６】
　
（削除）
　【請求項７】
　前記水素化ニトリルゴムの水素化度が、９４．５％超〜１００％の範囲であることを特徴とする、請求項１〜
５
　【請求項８】
　前記水素化ニトリルゴムの水素化度が、９９．１％以上であることを特徴とする、請求項１〜
５
　【請求項９】
　水素化ニトリルゴムと、一般式（Ｉ）
　【化３】
（式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５は同一であるか、または異なっており、それぞれ水素、ヒドロキシル、直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ８アルキル基、直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ８アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、またはフェニル基であり、ここで、前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５基の少なくとも１つは水素ではない）
の少なくとも１種の置換フェノールとを含む組成物を製造するためのプロセスにおいて、ニトリルゴムと前記一般式（Ｉ）の少なくとも１種の置換フェノールとを含む組成物が、溶液中で水素化にかけられ、次いで溶媒が除去され、そして前記水素化ニトリルゴムと一般式（Ｉ）の少なくとも１種の置換フェノールとを含む組成物が分離および脱水され、ここで、最終的に得られる組成物中の前記一般式（Ｉ）の置換フェノールの含量が、水素化ニトリルゴムを規準として、０．０１重量％〜０．４５重量％未満の量に設定されるように調節されることを特徴とする、プロセス。
　【請求項１０】
　水素化触媒として、トリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロリド、トリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（ＩＩＩ）クロリド、トリス（ジメチルスルホキシド）ロジウム（ＩＩＩ）クロリド、ヒドリドロジウムテトラキス（トリフェニルホスフィン）、またはトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロリド、トリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（ＩＩＩ）クロリド、またはヒドリドロジウムテトラキス（トリフェニルホスフィン）の誘導体であって、その中のトリフェニルホスフィンがトリシクロヘキシルホスフィンで置換された誘導体の少なくとも１種が使用されることを特徴とする、請求項９に記載のプロセス。
　【請求項１１】
　乾式仕上げか、あるいは湿式仕上げかのいずれかにより、前記溶媒が除去されることを特徴とする、請求項９または１０に記載のプロセス。
　【請求項１２】
　前記仕上げがそれぞれ、前記水素化ニトリルゴムを含む組成物中に存在している前記一般式（Ｉ）の前記置換フェノールが、前記水素化のために使用された前記ニトリルゴムを含む組成物から、
前記
工程における溶液中に存在する
　【請求項１３】
　湿式仕上げが、５重量％〜５０重量％の水分含量を有する前記水素化ニトリルゴムを含む組成物のクラムを通過する１００℃〜１８０℃の温度を有する空気流によって連続的に運転される流動床ドライヤーを用いて乾燥させる工程を含むことを特徴とする、請求項１１に記載のプロセス。
　【請求項１４】
　請求項１〜
５、７、および
　【請求項１５】
　加硫物を製造するためのプロセスであって、請求項１４に記載の加硫可能な混合物が加硫されることを特徴とする、プロセス。
　【請求項１６】
　請求項１４に記載の加硫可能な混合物を加硫した加硫物。
　【請求項１７】
　水素化ニトリルゴムを含み、一般式（Ｉ）
　【化４】
（式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５は同一であるか、または異なっており、それぞれ水素、ヒドロキシル、直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ８アルキル基、直鎖状もしくは分岐状のＣ１〜Ｃ８アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、またはフェニル基であり、ここで、前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、およびＲ５基の少なくとも１つは水素ではない）
の少なくとも１種の置換フェノールを、それぞれの場合において前記水素化ニトリルゴムを規準にして、０．０１重量％〜０．４５重量％未満の範囲の量で含む、
請求項９〜１３のいずれか一項に記載のプロセスによって得られる組成物
であって、
次式
　
ＳＳ２（７２ｈ／１００℃）＝ＭＶ２−ＭＶ０
（式中、
ＭＶ０は、前記水素化ニトリルゴムについてＡＳＴＭ　Ｄ１６４６に従って測定したムーニー粘度ＭＬ１＋４＠１００℃であり、および
ＭＶ２は、同一の水素化ニトリルゴムについて、１００℃で７２時間保存した後にＡＳＴＭ　Ｄ１６４６に従って測定したムーニー粘度ＭＬ１＋４＠１００℃である）
で定義される前記組成物の貯蔵安定性ＳＳ２が５未満の値を有することを特徴とする、組成物