【事件の表示】
　特願２００６−２４０５１６「有機電界発光表示装置及びその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１９年　８月　９日出願公開、特開２００７−２００８５６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１８年（２００６年）９月５日（パリ条約による優先権主張　平成１８年１月２７日　大韓民国）に出願された特願２００６−２４０５１６号であって、平成２１年１０月２９日付けで拒絶理由が通知され、平成２２年２月１日付けで意見書が提出され、同日付けで手続補正がなされ、同年１２月２７日付けで拒絶査定がなされ、これに対し平成２３年４月２８日に拒絶査定不服審判の請求がなされた。
　その後、当審において平成２４年３月２９日付けで拒絶理由を通知し、これに対して同年７月２日付けで意見書が提出された。
　
第２　本願発明  
　本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明１」という。）及び請求項７に係る発明（以下「本願発明７」という。）は、それぞれ、平成２２年２月１日付け手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１及び請求項７に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
　
「【請求項１】
　画素領域と非画素領域で分けられて、前記画素領域には第１電極、有機薄膜層及び第２電極でなる有機電界発光素子が形成されて、前記非画素領域にはスキャンドライバが形成された第１基板と、
　前記第１基板の画素領域及び非画素領域と所定間隔が離隔されて封着される第２基板と、
　前記第２基板の非画素領域の周辺部に沿って形成されたフリットを含み、
　前記フリットは、前記第１基板の画素領域を覆うシール領域外で、かつ前記非画素領域に形成されたスキャンドライバの活性領域を除いた部分まで重畳されるように形成されることを特徴とする有機電界発光表示装置。」
　
「【請求項７】
　画素領域と非画素領域で分けられた第１基板の前記画素領域に第１電極、有機薄膜層及び第２電極でなる有機電界発光素子を形成し、非画素領域にスキャンドライバを形成する段階と、
　前記第１基板と所定間隔が離隔されて封着される第２基板で前記第１基板の非画素領域のスキャンドライバと対応される位置の周辺部に沿ってフリットを形成する段階と、
　前記第２基板に形成されたフリットが、前記第１基板の画素領域を覆うシール領域外で、かつ前記第１基板の非画素領域であるスキャンドライバの活性領域を除いた部分まで重畳されるように前記第２基板を前記第１基板上部に配置する段階と、
　前記第２基板の背面で前記フリットにレーザビームを照射して前記第１基板と前記第２基板を接着させる段階と、
　を含むことを特徴とする有機電界発光表示装置の製造方法。」
　
第３　特許法第３６条第６項第２号の規定違反の拒絶理由（当審拒絶理由）について
１　当審での拒絶理由
　当審において平成２３年３月２９日付けで通知した拒絶理由の「第２　特許法第３６条第６項第２号違反の拒絶理由について」には次の事項が記載されている。
　
『１　本願発明１及び７における「第１基板の画素領域を覆うシール領域外」については、「シール領域」が何を意味しているのか不明であり、発明を明確に特定できない。
　
２　上記「シール領域」に関連して、本願明細書の発明の詳細な説明及び図面には、次の事項が記載されている。
・・・・・以下略・・・・・・・。
　
３（１）上記の【００１５】、【図１】及び【図２】の記載から、「シール領域」は、画素領域と非画素領域の間の領域であって、フリットを形成する領域であるものと認められる。
　これに対して、【００３７】【００３８】【図３】及び【図５】の記載から、「シール領域」は、非画素領域の内側の領域であることは認められるものの、画素領域との関係は明確でなく、また、当該「シール領域」には、フリットは形成されていない。
　すると、【００１５】、【図１】及び【図２】の記載と、【００３７】【００３８】【図３】及び【図５】の記載とでは、「シール領域」の意味するところが異なり、明細書全体を通じて「シール領域」が何を意味しているのか不明である。
　また、実施例の記載である【００３７】【００３８】【図３】及び【図５】の記載では、「シール領域」はフリットが形成される領域とは異なる領域となり、それであれば、「シール領域」は、何によってシールする（又はシールされる）領域であるのか不明で、「シール領域」の意味するところは、明細書の発明の詳細な説明の記載を参酌しても明確でない。
　
（２）本願発明１，７のように「第１基板の画素領域を覆うシール領域外」にフリットを形成することによりどのような作用効果が生じるのかが不明で、「前記フリットは、前記第１基板の画素領域を覆うシール領域外で、かつ前記非画素領域に形成されたスキャンドライバの活性領域を除いた部分まで重畳されるように形成される」ことに技術的意義を把握できず、発明を明確に特定できない。
　この点、明細書の発明の詳細な説明においては、【００２０】において「デッドスペースを減少することができる」ことを本願発明の効果としており、また、審判請求書において「「フリットは、第１基板の画素領域を覆うシール領域に形成せず、スキャンドライバの活性領域を除いた部分まで重畳にまで形成することで、デッドスペースを減少させることができる」（本願明細書の段落００３７）、との効果を奏するものであります。」と主張している。
　しかしながら、【図２】と【図５】を比較することによって容易にわかることであるが、フリットを「第１基板の画素領域を覆うシール領域に形成せず、スキャンドライバの活性領域を除いた部分まで重畳にまで形成する」ことによって、「非画素領域」の一部のデッドスペースを有効利用できるといえると同時に、「シール領域」がデッドスペースとなり（なお、【図５】と【図３】は正確に対応しておらず、【図３】では新たに生じるデッドスペースもシール領域４３０の外側となる）、すなわち、フリットの位置を移動させたことにより、デッドスペースの位置もそれに応じて、フリットの配置されていないところに移動しただけであるといえる。そうすると、実質的に何らの効果を生じるものではないから、本願発明１，７のように、フリットを「第１基板の画素領域を覆うシール領域外」に形成することの技術的意義は不明で、本願発明１，７は明確でない。』
　
２　請求人の応答
　上記の拒絶理由に応答して、請求人は、平成２４年７月２日付けで提出された意見書において次のように主張している。
　
『（１-２）審査官殿は、項目３の（１）において、“上記段落の００１５、図１及び図２の記載から、「シール領域」は、画素領域と非画素領域の間の領域であって、フリットを形成する領域であるものと認められる。これに対して、段落００３７、００３８、図３及び図５の記載から、「シール領域」は、非画素領域の内側の領域であることは認められるものの、画素領域との関係は明確でなく、また、当該「シール領域」には、フリットは形成されていない。すると、段落００１５、図１及び図２の記載と、段落００３７、００３８、図３及び図５の記載とでは、「シール領域」の意味するところが異なり、明細書全体を通じて「シール領域」が何を意味しているのか不明である”とのご見解を示されています。
　これにつきましては、審査官殿が示されます、本願明細書の段落００１５には「画素領域１１と非画素領域１５の間のシール１４領域内にフリット３０を形成する」と記載されていますが、これは、「画素領域１１と非画素領域１５の間にフリット３０が配置される」との意味であって、シール領域の箇所を示すものではない、と解されます。
　前述したように、図１、図３及び図５の記載から、「シール領域（１４／４３０）は画素領域（１１／２１０）を覆うように配置される」と見るのが自然であると思量致します。
　
（１-３）審査官殿は、項目３の（２）において、“本願発明１，７のように「第１基板の画素領域を覆うシール領域外」にフリットを形成することによりどのような作用効果が生じるのかが不明で、「前記フリットは、前記第１基板の画素領域を覆うシール領域外で、かつ前記非画素領域に形成されたスキャンドライバの活性領域を除いた部分まで重畳されるように形成される」ことに技術的意義を把握できず、発明を明確に特定できない。（中略）　図２と図５を比較することによって容易にわかることであるが、フリットを「第１基板の画素領域を覆うシール領域に形成せず、スキャンドライバの活性領域を除いた部分まで重畳にまで形成する」ことによって、「非画素領域」の一部のデッドスペースを有効利用できるといえると同時に、「シール領域」がデッドスペースとなり（なお、図５と図３は正確に対応しておらず、図３では新たに生じるデッドスペースもシール領域４３０の外側となる）、すなわち、フリットの位置を移動させたことにより、デッドスペースの位置もそれに応じて、フリットの配置されていないところに移動しただけであるといえる。そうすると、実質的に何らの効果を生じるものではないから、本願発明１，７のように、フリットを「第１基板の画素領域を覆うシール領域外」に形成することの技術的意義は不明で、本願発明１，７は明確でない”とのご見解を示されています。
　
これにつきましては、本願の図１及び図２と段落００１５を参照すると、フリット（３０）は、シール領域（１４）の内側に形成され、該シール領域（１４）は、フリット（３０）が形成される領域であり、密封材が形成される領域を意味します。さらに、図５及び段落００３７を参照すると、フリット（３２０）は、シール領域（４３０）の外側に形成され、該シール領域（４３０）は、フリット（３２０）によって密封される領域を意味します。
　すなわち、本願図面の図２（本願従来図）と、図５（本願発明図）とを比較して分かるように、従来図の図２では「フリット３０が第１基板１０の画素領域１１を覆うシール領域１４の内側縁部に配置」され、これに対して、本願図面の図５では「フリット３２０がシール領域４３０の外側縁部にあるとともに、非画素領域２２０に形成されたスキャンドライバ４１０の活性領域を除いた部分に配置」されるものであります。
　図５（本願発明図）に示されるフリット３２０の配置領域は、特に使用目的のないデッドスペースであるのに対して、図２（本願従来図）に示されるフリット３０の配置領域は、「フリット３０が第１基板１０の画素領域１１を覆うシール領域１４の内側縁部、すなわち、画素領域１１の一部を覆う領域」であり、該画像領域１１の一部を占有してしまうと解されます。
　その結果、本願発明のフリット３２０は、従来図である図２のフリット３０と比べてスペースの有効利用が図られたもので、審査官殿が示されます“フリットを「第１基板の画素領域を覆うシール領域外」に形成することの技術的意義は不明”とのご認定は当を得ない思量致します。』
　
３　当審の判断
（１）上記「２」の意見書の（１-２）において請求人は、「図１、図３及び図５の記載から、「シール領域（１４／４３０）は画素領域（１１／２１０）を覆うように配置される」と見るのが自然であると思量致します。」と述べており、上記から、請求人は「シール領域」は、「画素領域を覆うように配置される」領域としているが、この請求人の主張からも、「シール領域」と「画素領域」の関係は明確ではない。すなわち、「シール領域」は「画素領域」を覆うとだけ特定され、「シール領域」が「画素領域」と略同じ領域である等とは特定されていないから、「画素領域」が既知であったとしても、当該「画素領域」から、上記「シール領域」は特定されない。（なお、仮に、「シール領域」が「画素領域」と略同じ領域であると仮定した場合は、下記の「第４　特許法第２９条第２項の規定違反の拒絶理由（原査定の拒絶理由）について」で述べるように、原査定が維持されることになる。）
　
（２）上記「２」の意見書の（１-３）において請求人は、「本願の図１及び図２と段落００１５を参照すると、フリット（３０）は、シール領域（１４）の内側に形成され、該シール領域（１４）は、フリット（３０）が形成される領域であり、密封材が形成される領域を意味します。さらに、図５及び段落００３７を参照すると、フリット（３２０）は、シール領域（４３０）の外側に形成され、該シール領域（４３０）は、フリット（３２０）によって密封される領域を意味します。」と述べており、この主張から、「シール領域」が、「フリット」（シール部材）の位置から特定されるものではないことは明らかである。
　
（３）以上のとおりであるから、請求人の意見書における主張から、本願発明１，７の「シール領域」は、「画素領域」によって特定されるものではなく、また、「フリット」の位置によって特定されるものでもないといえる。
　すると、「シール領域」がどのように特定されるかは、上記意見書における請求人の主張を参酌しても、明確でなく、上記の「１　当審での拒絶理由」は、解消されていない。
　すなわち、本願発明１及び本願発明７は明確でなく、本願は特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たさないから拒絶すべきものである。
　
第４　特許法第２９条第２項の規定違反の拒絶理由（原査定の拒絶理由）について
１　原査定の拒絶理由維持の検討をする前提
　上記の「第３　特許法第３６条第６項第２号の規定違反の拒絶理由（当審拒絶理由）について」の「３　当審の判断」の「（１）」で述べたように「仮に、「シール領域」が「画素領域」と略同じ領域であると仮定した場合」、原査定の拒絶理由が維持できるか検討する。
　
２　引用例
（１）引用例１
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００４−１５１７１６号公報（以下「引用例１」という）には、次の事項が記載されている。（下線は当審で付したものである。）
　
「【技術分野】
　【０００１】
　本発明は、液晶等の光学部材を用いた表示装置に関し、特に、駆動回路を内蔵した表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
　所定の電極配線が形成された一組の基板を細隙をもって貼り合わせ、その細隙に液晶を封入することで、表示画素として液晶を誘電層とした容量を構成してなる液晶表示装置（ＬＣＤ）、あるいは、電流量により発光量が制御できる有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）を用いた有機ＥＬ表示装置は、小型、薄型、低消費電力の利点から、ＯＡ機器、ＡＶ機器の分野において、ディスプレイとして広く用いられている。特に、ＬＣＤにおいて、各表示画素容量に表示信号電圧の書き込みと保持を制御するためにスイッチング素子として薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を接続形成したアクティブマトリクス型は、高精細な表示を行うことができ、主流となっている。
【０００３】
　図１１は、ＬＣＤの全容を示す平面図である。
（１）は紙面向こう側に位置するＴＦＴ基板、（２）は紙面手前に位置する対向基板、（３）は基板（１）と基板（２）とを貼り合わせる周縁シール材
ＴＦＴ基板（１）と対向基板（２）との間には、不図示のスペーサにより支持された細隙があり
【０００４】
　ＴＦＴ基板（１）は、基板上にチャンネル層として多結晶シリコン（ｐ−Ｓｉ）を用いたＴＦＴが形成されてなる。この基板（１）上には、複数のゲートライン（ＧＬ）とドレインライン（ＤＬ）が交差配置され、これらの交差部には画素ＴＦＴ（ＳＥ）及び画素ＴＦＴ（ＳＥ）に接続された表示画素容量の一方を成す画素電極（ＰＸ）が形成されてなる表示領域（４）と、表示領域（４）の周辺に、主として双方向シフトレジスタからなり画素ＴＦＴ（ＳＥ）に走査信号を供給するゲートドライバー（５）、および、主として双方向シフトレジスタとアナログスイッチからなりゲートドライバー（５）の走査に同期して画素ＴＦＴ（ＳＥ）に表示信号電圧を供給するドレインドライバー（６）、さらには、シフトレジスタのシフト方向を切り換えて各ドライバー（５，６）の動作方向を切り換える制御回路（７）が形成されている。これらドライバー（５，６）は、表示領域（４）と同じ構造のｐ−ＳｉＴＦＴから構成されるが、ｐ−ＳｉＴＦＴは動作速度が十分に速いため、このように画素ＴＦＴ（ＳＥ）としてのみならず、これを駆動するための周辺ドライバーをも構成することができ、ドライバーを表示パネルに内蔵形成したドライバー内蔵型ＬＣＤが可能となっている。これらのＴＦＴはアクリル樹脂、ＳＯＧ（SPIN ON GLASS）、ＢＰＳＧ（BORO-PHOSPHO SILICATE GLASS）等の平坦化絶縁膜により覆われており、表示領域（４）においては、画素電極（ＰＸ）がこの上に形成されて、平坦化絶縁膜に開けられたコンタクトホールを介して画素ＴＦＴ（ＳＥ）に接続された構造となっている。（８）はこれらドライバーの信号入力端子である。
【０００５】
　対向基板（２）は、表示画素容量の他方を成す共通電極（９）が表示領域（４）に対応して全面的に形成されている。表示画素容量は、液晶および共通電極（９）が画素電極に区画された形で構成されている。共通電極（９）の一部は、基板（２）の角部に引き出されて第２の対極接続端子（９１）とされている。また、ＴＦＴ基板（１）には、共通電極（９）用の対極信号入力端子（９１）が設けられており、引き回し線（８２）により対極接続端子（９１）に対応する領域に形成された第１の対極接続端子（８３）へと引き回され、これら第１および第２の対極接続端子（９１，８３）が導電性接着材（９２）により接続されている。」
　
「【００２７】
　図１は、本発明の第１の実施の形態にかかる
液晶表示装置
ＴＦＴ基板（１）は、
画素電極（ＰＸ）がマトリクス状に配列されてなる表示領域（４）を有している。また、表示領域（４）の周辺には、双方向の垂直シフトレジスタ（５１）とその出力部であるバッファ部（５２）からなるゲートドライバー、及び、双方向の水平シフトレジスタ（６１）とこれに制御される出力部であるサンプリング部（５２）（当審注；（６２）の誤りと思われる。）からなるドレインドライバーが設けられている。更に、表示領域（４）の周辺には、これらシフトレジスタ（５１，６１）のシフト方向を切り換えて、ドライバーの動作方向を正逆に切り換えるための制御回路（７）が設けられている。
　
「【００４３】
　図１０は本発明の第８の実施の形態にかかる
液晶表示装置
本実施の形態では、
シール材（３）はドレインドライバー（６１，６２）あるいはゲートドライバー（５１，５２）の内側を迂回して設けられている
　
「【図１０】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
（２）引用例１に記載された発明
　【図１０】から、シール材（３）が表示領域（４）の外側に、表示領域（４）に沿って設けらていることは明らかである。よって、上記記載（図面の記載も含む）から、引用例１には、
「ＴＦＴ基板（１）、対向基板（２）、及び、ＴＦＴ基板（１）と対向基板（２）と細隙を介して貼り合わせる周縁シール材（３）を有し、
  ＴＦＴ基板（１）は、画素電極（ＰＸ）がマトリクス状に配列されてなる表示領域（４）を有し、また、表示領域（４）の周辺領域には、双方向の垂直シフトレジスタ（５１）とその出力部であるバッファ部（５２）からなるゲートドライバー、及び、双方向の水平シフトレジスタ（６１）とこれに制御される出力部であるサンプリング部（６２）からなるドレインドライバーが設けられ、更に、これらシフトレジスタ（５１，６１）のシフト方向を切り換えて、ドライバーの動作方向を正逆に切り換えるための制御回路（７）が設けられ、
　シール材（３）は、表示領域（４）の外側に表示領域（４）に沿って、ドレインドライバー（６１，６２）あるいはゲートドライバー（５１，５２）の内側を迂回して設けられている液晶表示装置。」の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。
　
（３）引用例２
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平１０−７４５８３号公報（以下「引用例２」という）には、次の事項が記載されている。
　
「【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記装置において、有機ＥＬからなる白色発光体（４）は湿気に弱いので、湿気から遮断する必要がある。そこで第１，第２の透明基板（１，２）の間に白色発光体（４）を封止して、湿気から遮断している。ガラスからなる第１，第２の透明基板（１，２）は、湿気を通さないが、側面のシール材（６）は樹脂からなるので、どうしても湿気が侵入する恐れがあった。このため、シール材（６）から装置の内部に入って来る湿気によって、有機ＥＬからなる白色発光体が劣化してしまうという問題が生じていた。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は上記従来の欠点に鑑み成されたもので、第１の透明基板と、前記第１の透明基板上に形成された陰極と、前記陰極上に形成された有機ＥＬからなる発光体と、前記発光体上に形成された陽極と、前記第１の透明基板に対向配置された第２の透明基板と、少なくとも前記発光体を封止するように前記第１の透明基板と前記第２の透明基板とを接着するシール材を有し、かつ前記シール材は、フリットガラス（低融点ガラス）からなることを特徴とする有機ＥＬディスプレイや、　第１の透明基板上に陰極を形成する工程と、前記陰極上に有機ＥＬからなる発光体を形成する工程と、前記発光体上に陽極を形成する工程と、前記第１の透明基板上に、少なくとも前記発光体を取り囲むようにフリットガラスからなるシール材を形成する工程と、前記シール材が形成された前記第１の透明基板上に、第２の透明基板を対向配置して載置する工程と、レーザビームを用いて選択的に前記シール材を加熱して溶融し、前記第１の透明基板と前記第２の透明基板とを接着する工程とを有することを特徴とする有機ＥＬディスプレイの製造方法により、上記課題を解決するものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下で、本発明の実施形態に係る有機ＥＬディスプレイについて図面を参照しながら説明する。なお、図２は本実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの構造を説明する上面図であって、図１は図２のＸ−Ｘ線断面図である。このディスプレイは、図１，図２に示すように、ガラスからなる第１，第２の透明基板（１１，１２），MgInなどからなる陰極（１３），有機ＥＬなどからなる白色発光体（１４），ＩＴＯ膜などからなる陽極（１５）及び低融点のフリットガラスからなるシール材（１６）から構成されている。なお、図２では白色発光体（１４）の図示を省略している。
【０００９】
　第１の透明基板（１１）上には、陰極（１３）がストライプ状に配置され、表示領域の陰極（３）の上には白色発光体（１４）が形成されている。また、白色発光体（１４）上には、陰極（１３），白色発光体（１４）と直交するように配置された陽極（１５）が形成されており、これらはマトリクス状に配置されている。
【００１０】
　この第１の透明基板（１１）上に、第２の透明基板（１２）が対向配置され、両者はシール材（１６）で接着されている。このシール材（１６）は、上述のようにフリットガラスからなるので、ここで湿気が透過することは殆どない。従って、シール材として湿気が透過しやすい低融点のエポキシ樹脂若しくはＵＶ硬化性の樹脂などを用いていた従来装置に比して、湿気による発光体の劣化が少ないので、ディスプレイの耐久性が向上し、寿命の短縮を抑止できる。」
　
（４）引用例３
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である国際公開第２００４／０９５５９７号（以下「引用例３」という）には、次の事項が記載されている。（日本語訳を記載した）
　
「本発明は、密封ＯＬＥＤディスプレイおよび密封ＯＬＥＤディスプレイを製造する方法を含む。基本的に、密封ＯＬＥＤディスプレイは、第１の基板および第２の基板を提供し、フリットを第２の基板上に配置することによって製造される。ＯＬＥＤを第１の基板上に堆積させる。次いで、照射源（例えば、レーザ、赤外線）を用いて、フリットを加熱し、このフリットが溶融して、第１の基板を第２の基板に連結し、ＯＬＥＤを保護もする密封シールを形成する。フリットは、少なくとも一種類の遷移金属と、ことによると、照射源がフリットを加熱したときに、フリットが軟化し、結合部を形成するようなＣＴＥ低下充填剤とがドープされたガラスである。これにより、ＯＬＥＤへの熱的損傷を避けながら、フリットが溶融し、密封シールを形成することができる。」（明細書第３ページ第２６行〜第４ページ第８行）
　
３　本願発明１と引用発明との対比 
（１）対比
　本願発明１と引用発明とを対比する。
　
ア　引用発明の「画素電極（ＰＸ）がマトリクス状に配列されてなる表示領域（４）」及び「表示領域（４）の周辺領域」が、本願発明１の「画素領域」及び「非画素領域」に相当する。
　また、平成２２年２月１日付けで出願人（請求人）から提出された意見書における［２］の（４）の「この点に関し、「スキャンドライバの活性領域」とは、スキャンドライバ（４１０）によって駆動される部分、例えば、特開２００４−１５１７１６号公報では、スキャンドライバに相当する駆動回路７で駆動されるシフトレジスタ５１、バッファ部５２に相当する部分であります。」を参酌すれば、引用発明の「制御回路（７）」によって動作方向が正逆に切り換えられる「双方向の垂直シフトレジスタ（５１）とその出力部であるバッファ部（５２）からなるゲートドライバー、及び、双方向の水平シフトレジスタ（６１）とこれに制御される出力部であるサンプリング部（６２）からなるドレインドライバー」が、本願発明１の「スキャンドライバ」に相当する。
　よって、引用発明の「画素電極（ＰＸ）がマトリクス状に配列されてなる表示領域（４）を有し、また、表示領域（４）の周辺領域には、双方向の垂直シフトレジスタ（５１）とその出力部であるバッファ部（５２）からなるゲートドライバー、及び、双方向の水平シフトレジスタ（６１）とこれに制御される出力部であるサンプリング部（６２）からなるドレインドライバーが設けられ、更に、これらシフトレジスタ（５１，６１）のシフト方向を切り換えて、ドライバーの動作方向を正逆に切り換えるための制御回路（７）が設けられ」ている「ＴＦＴ基板（１）」と、本願発明１の「画素領域と非画素領域で分けられて、前記画素領域には第１電極、有機薄膜層及び第２電極でなる有機電界発光素子が形成されて、前記非画素領域にはスキャンドライバが形成された第１基板」とは、「画素領域と非画素領域で分けられて、前記非画素領域にはスキャンドライバが形成された第１基板」である点で一致する。
　
イ　引用発明の「対向基板（２）」は、「表示領域（４）」（本願発明１の「画素領域」に相当）及び「表示領域（４）の周辺領域」（本願発明１の「非画素領域」に相当）を有するＴＦＴ基板（１）と、「細隙を介して」「周縁シール材（３）」で「貼り合わせて」設けられているのであるから、引用発明の上記「対向基板（２）」が、本願発明１の「前記第１基板の画素領域及び非画素領域と所定間隔が離隔されて封着される第２基板」に相当する。
　
ウ　引用発明において、「シール材（３）は、表示領域（４）の外側に表示領域（４）に沿って」設けられていることから、「シール材（３）」は、「表示領域（４）の周辺領域」の（表示領域側の）周辺部に沿って形成されているといえる。（なお、この点は、本願発明１も同様であるといえる。）
　また、本願発明１の「フリット」は、引用発明の「シール材（３）」と同様に、「封止材」であるといえる。
　よって、引用発明の「表示領域（４）の外側に表示領域（４）に沿って」設けられている「シール材（３）」と、本願発明１の「前記第２基板の非画素領域の周辺部に沿って形成されたフリット」とは、「前記第２基板の非画素領域の周辺部に沿って形成された封止材」である点で一致する。
　
エ　上記「ア」に示した意見書の記載から、引用発明の「ドレインドライバー（６１，６２）あるいはゲートドライバー（５１，５２）」が設けられた領域が、本願発明１の「スキャンドライバの活性領域」に相当する。
　また、上記「１　原査定の拒絶理由維持の検討をする前提」で述べたように、本願発明１の「シール領域」は「（画素領域を覆う）画素領域」と略同じ領域であると仮定されている。
　これらの点を踏まえれば、引用発明の「シール材（３）は、表示領域（４）の外側に表示領域（４）に沿って、ドレインドライバー（６１，６２）あるいはゲートドライバー（５１，５２）の内側を迂回して設けられている」ことと、本願発明１の「前記フリットは、前記第１基板の画素領域を覆うシール領域外で、かつ前記非画素領域に形成されたスキャンドライバの活性領域を除いた部分まで重畳されるように形成される」こととは、「前記封止材は、前記第１基板の画素領域を覆うシール領域外で、かつ前記非画素領域に形成されたスキャンドライバの活性領域を除いた部分まで重畳されるように形成される」点で一致する。
　
オ　引用発明の「液晶表示装置」と、本願発明１の「有機電界発光表示装置」とは、「表示装置」である点で一致する。
　
（２）一致点
　そうすると、本願発明１と引用発明とは、
「　画素領域と非画素領域で分けられて、前記非画素領域にはスキャンドライバが形成された第１基板と、
　前記第１基板の画素領域及び非画素領域と所定間隔が離隔されて封着される第２基板と、
　前記第２基板の非画素領域の周辺部に沿って形成された封止材を含み、
　前記封止材は、前記第１基板の画素領域を覆うシール領域外で、かつ前記非画素領域に形成されたスキャンドライバの活性領域を除いた部分まで重畳されるように形成される表示装置。」
の発明である点で一致し、次の各点で相違する。
　
（３）相違点
ア　相違点１
　表示装置が、本願発明１では「画素領域には第１電極、有機薄膜層及び第２電極でなる有機電界発光素子が形成されて」なる「有機電界発光表示装置」であるのに対して、引用発明では「液晶表示装置」である点。
　
イ　相違点２
　封止材が、本願発明１では、「フリット」であるのに対して、引用発明ではその点の限定がない点。
　
４　当審の判断
（１）　各相違点についての検討
ア　相違点１について
　引用例１には、発明の技術分野に関して、【０００１】に「液晶
等
　そうすると、引用発明の技術を、有機ＥＬ表示装置の技術分野にまで拡張することは当業者が容易に想到し得ることである。より具体的述べれば、引用発明の、対向する２つの基板間の封止材の、表示領域や駆動回路に対する位置関係の特定事項を、有機ＥＬ表示装置の、対向する２つの基板間の封止材の、表示領域や駆動回路に対する位置関係に適用し、上記相違点１に係る本願発明１の発明特定事項を得ることは当業者が容易になし得たことである。
　
イ　相違点２について
　（ガラス）フリットは、表示装置の封止材として用いられる周知の部材であり、樹脂のシール材よりも湿気や酸素等に対する密封度が高いことで知られており、特に、引用例２，３にも記載されているように、より厳しい密封性が要請される有機ＥＬ表示装置に適用されることは周知の技術的事項であるといえる。
　すると、上記「相違点１について」の検討により、引用発明を有機ＥＬ表示装置に適用した際に、より厳しい密封性の要請に対応すべく、上記周知技術を適用し、封止材（シール材）をフリットとして、上記相違点２に係る本願発明１の発明特定事項を得ることは当業者が容易になし得たことである。
　
（２）本願発明１が奏する作用効果
　本願発明１が奏する効果は、引用発明及び周知技術から当業者が予測し得る範囲内のものに過ぎない。
　
（３）まとめ
　以上のとおりであるから、本願発明１は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に想到し得たものである。よって、本願発明１は特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
第６　むすび
　以上のとおり、本願の請求項１，７に係る発明は、「画素領域を覆うシール領域」の意味が明確でなく、発明が明確でないから、本願は特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たさないから拒絶すべきものである。
　また、仮に、本願の請求項１に係る発明における「画素領域を覆うシール領域」が「画素領域と略同じ領域」と仮定した場合には、本願の請求項１に係る発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。