【事件の表示】
　特許第６２５９３３６号発明「Ｎｉ基合金およびその製造方法」の特許異議申立事件について、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第６２５９３３６号の明細書及び特許請求の範囲を訂正請求書に添付された訂正明細書及び訂正特許請求の範囲のとおり、訂正後の請求項〔１〜６〕について訂正することを認める。 
　特許第６２５９３３６号の請求項１、４〜６に係る特許を取り消す。 
　特許第６２５９３３６号の請求項２、３に係る特許についての特許異議の申立てを却下する。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　特許第６２５９３３６号の請求項１〜６に係る特許についての出願は、平成２６年３月２６日の出願であって、平成２９年１２月１５日に特許の設定登録がされ、平成３０年１月１０日に特許掲載公報が発行され、その後、同年７月９日にその請求項１〜６（全請求項）に係る特許に対して特許異議申立人　谷口　充弘により特許異議の申立てがされ、当審において同年１２月４日付けで取消理由が通知され、その指定期間内である平成３１年２月１日に意見書の提出及び訂正の請求（以下「本件訂正請求」という。）があり、本件訂正請求に対して、同年４月２６日に特許異議申立人から意見書が提出されたものである。
　そして、令和１年８月６日付けで取消理由（決定の予告）及び審尋を通知し、期間を指定して意見書を提出する機会を与えたが、特許権者から応答はなかった。
第２　訂正の適否
　１　訂正の内容
　本件訂正請求に係る訂正（以下「本件訂正」という。）の内容は、以下のとおりである。なお、下線は訂正された箇所を表す。
（１）訂正事項１
　本件訂正前の特許請求の範囲の請求項１に「Ｃ：０．００２〜０．０５％、Ｓ：０．０００１〜０．００５％、Ｃｒ：１０〜２５％、Ｍｏ：５〜２０％、Ｏ：０．０００１〜０．００５％、Ａｌ：０．０１〜０．５％、Ｆｅ：０．５〜１０％」とあるのを、「
必須の成分として
２．１８
Ｓｉ：０．０１〜１％およびＭｎ：０．０１〜１％、さらに、Ｗ：０．５〜１０％または、Ｔｉ：０．０１〜１％およびＮｂ：０．５〜５％
（２）訂正事項２
　本件訂正前の特許請求の範囲の請求項１に「不動態皮膜部における」とあるのを、「不動態皮膜部
の母材側境界部
（３）訂正事項３
　本件訂正前の特許請求の範囲の請求項１に「Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．２以上であり、」とある直後に、「
不動態皮膜の母材側境界部におけるＭｏ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．１以上、かつ、不動態皮膜最表層部における酸素濃度が５５（ａｔ．％）以上であり、
（４）訂正事項４
　本件訂正前の特許請求の範囲の請求項１に「ＡＳＴＭ  Ｇ４８  Ｍｅｔｈｏｄ  Ｄ試験」とある直前に、「
前記Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比と表面からの深さの関係において、前記Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比は、表面から不動態皮膜深さ方向に向けて増大して極大値を示し、次いで減少して、前記母材側境界部において極小値を示して、母材側において増大するものであり、
（５）訂正事項５
　本件訂正前の特許請求の範囲の請求項２を削除する。
（６）訂正事項６
　本件訂正前の特許請求の範囲の請求項３を削除する。
（７）訂正事項７
　本件訂正前の特許請求の範囲の請求項４に「請求項１〜３のいずれか」とあるのを、「請求項
１
（８）訂正事項８
　本件訂正前の明細書の【００１０】に「本発明のＮｉ基合金は、Ｃ：０．００２〜０．０５％、Ｓ：０．０００１〜０．００５％、Ｃｒ：１０〜２５％、Ｍｏ：５〜２０％、Ｏ：０．０００１〜０．００５％、Ａｌ：０．０１〜０．５％、Ｆｅ：０．５〜１０％、残部Ｎｉおよび不可避的不純物からなるＮｉ基合金であって、オージェ電子分光法を用いて、加速電圧１０ｋＶ、試料電流量０．０１μＡとしてＮｉ基合金の深さ方向に１ｋＶの条件でスパッタしながら測定した各元素のプロファイルから算出した場合の、合金の表面に形成される不動態皮膜部におけるＣｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．２以上であり、ＡＳＴＭ  Ｇ４８  Ｍｅｔｈｏｄ  Ｄ試験において臨界隙間腐食発生温度（ＣＣＴ）が４０℃以上であることを特徴とするものである。」とあるのを、「本発明のＮｉ基合金は、
必須の成分として
２．１８
Ｓｉ：０．０１〜１％およびＭｎ：０．０１〜１％、さらに、Ｗ：０．５〜１０％または、Ｔｉ：０．０１〜１％およびＮｂ：０．５〜５％
の母材側境界部
不動態皮膜の母材側境界部におけるＭｏ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．１以上、かつ、不動態皮膜最表層部における酸素濃度が５５（ａｔ．％）以上であり、前記Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比と表面からの深さの関係において、前記Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比は、表面から不動態皮膜深さ方向に向けて増大して極大値を示し、次いで減少して、前記母材側境界部において極小値を示して、母材側において増大するものであり、
　２　訂正の目的の適否、特許請求の範囲の拡張・変更の存否、新規事項の有無
（１）訂正事項１について
　ア　訂正の目的の適否、特許請求の範囲の拡張・変更の存否
　訂正事項１による訂正は、本件訂正前の請求項１における合金組成に対して、「必須成分として」を付加し、Ｆｅ含有量を訂正前の「０．５〜１０％」から訂正後の「２．１８〜１０％」の範囲に狭め、さらに「Ｓｉ：０．０１〜１％およびＭｎ：０．０１〜１％、さらに、Ｗ：０．５〜１０％または、Ｔｉ：０．０１〜１％およびＮｂ：０．５〜５％」を含有するとして付加することによってＮｉ基合金を具体的に特定し、限定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書き第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものであり、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないから、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項の規定に適合する。
　イ　新規事項の有無
　本件特許の願書に添付された明細書又は図面（以下「本件明細書等」という。）において、【００６１】表３の発明例３には、Ｆｅ含有量を「２．１８％」にすることが記載され、【００１３】には、「Ｓｉ：０．０１〜１％、Ｍｎ：０．０１〜１％、Ｔｉ：０．０１〜１％、Ｎｂ：０．５〜５％、Ｗ：０．５〜１０％のいずれか１種または２種以上を含有すること」が記載され、【００６１】表３の発明例１〜８には、Ｓｉ及びＭｎを必須の成分として含むことが記載され、さらに発明例１及び２はＷ、発明例３〜８はＴｉ及びＮｂを含有することが記載されているから、訂正事項１は、本件特許明細書等に記載した事項の範囲内の訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するものである。
（２）訂正事項２について
　ア　訂正の目的の適否、特許請求の範囲の拡張・変更の存否
　訂正事項２による訂正は、「合金の表面に形成される不動態皮膜部におけるＣｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比」が、不動態皮膜部のうちの「母材側境界部」の位置におけるものであることを明らかにすることから、特許法第１２０条の５第２項ただし書き第３号に掲げる「明瞭でない記載の釈明」を目的とするものであり、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないから、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項の規定に適合する。
イ　新規事項の有無
　本件明細書等の【００２５】には、「図２にＣｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）とスパッタ時間の関係として示す。図から、表面から見ていくと一旦極大値を示し、その後極小値を示す傾向が明らかである。この研究から、Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比率が、０．２以上あれば、要求されるＣＣＴ≧４０℃を満足できることが明らかとなった。さらに、このグラフから分かることは、スパッタ時間１分にて、Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比率が、極小を取ることである。まだ、Ｎｉ基合金の不動態皮膜に関しては明確にされていない点が多いが、本発明ではこの極小値を取る深さまでを厚みと定義した。」と記載され、同図２からも、不動態皮膜の厚みであるスパッタ時間１分でＣｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比率が、０．２以上であることが見て取れる。さらに、同【００３６】には、「不動態皮膜の母材側境界部におけるＭｏ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．１以上」と記載され、同図３において、Ｍｏ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．１以上となるのは、スパッタ時間１分であることが示されておりスパッタ時間１分の深さが「不動態皮膜の母材側境界部」であるといえ、Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．２以上となるのが「不動態皮膜部の母材側境界部」の位置であることは明らかだから、訂正事項２は、本件特許明細書等に記載した事項の範囲内の訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するものである。
（３）訂正事項３について
　ア　訂正の目的の適否、特許請求の範囲の拡張・変更の存否
　訂正事項３による訂正は、「不動態皮膜の母材側境界部におけるＭｏ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．１以上、かつ、不動態皮膜最表層部における酸素濃度が５５（ａｔ．％）以上」を付加することによってＮｉ基合金を具体的に特定し、限定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書き第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものであり、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないから、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項の規定に適合する。
　イ　新規事項の有無
　本件明細書等の【００３６】及び【００３７】には、「不動態皮膜の母材側境界部におけるＭｏ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．１以上」及び「不動態皮膜最表層部における酸素濃度が５５（ａｔ．％）以上」と記載されているから、訂正事項３は、本件特許明細書等に記載した事項の範囲内の訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するものである。
（４）訂正事項４について
　ア　訂正の目的の適否、特許請求の範囲の拡張・変更の存否
　訂正事項４による訂正は、「前記Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比と表面からの深さの関係において、前記Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比は、表面から不動態皮膜深さ方向に向けて増大して極大値を示し、次いで減少して、前記母材側境界部において極小値を示して、母材側において増大するものであり、」を付加することによってＮｉ基合金を具体的に特定し、限定するものであるから、特許法第１２０条の５第２項ただし書き第１号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とするものであり、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではないから、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第６項の規定に適合する。
　イ　新規事項の有無
　本件明細書等の【００２５】には、「Ｃｒ濃度（ａｔ．％）とＮｉ濃度（ａｔ．％）の比率を算出して、図２にＣｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）とスパッタ時間の関係として示す。図から、表面から見ていくと一旦極大値を示し、その後極小値を示す傾向が明らかである。」と記載され、同図２から、Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が極小値を示して以降、スパッタ時間の長い側、すなわち母材側において増大することが見て取れるから、訂正事項４は、本件特許明細書等に記載した事項の範囲内の訂正であり、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するものである。
（５）訂正事項５について
　訂正事項５による訂正は、請求項２を削除するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当し、また、当該訂正が、新規事項を追加するものではないことは明らかであるし、特許請求の範囲を拡張又は変更するものに該当しないことも明らかである。
（６）訂正事項６について
　訂正事項６による訂正は、請求項３を削除するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当し、また、当該訂正が、新規事項を追加するものではないことは明らかであるし、特許請求の範囲を拡張又は変更するものに該当しないことも明らかである。
（７）訂正事項７について
　訂正事項７による訂正は、訂正事項５及び６によって請求項２及び３を削除することに伴い、本件訂正前の請求項４において請求項２及び３を引用しないようにするものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当し、また、当該訂正が、新規事項を追加するものではないことは明らかであるし、特許請求の範囲を拡張又は変更するものに該当しないことも明らかである。
（８）訂正事項８について
　訂正事項８による訂正は、明細書の【００１０】の記載を、訂正事項１〜４により訂正される特許請求の範囲の請求項１の記載に整合させるために行うものであるから、明瞭でない記載の釈明を目的としたものである。 
　また、当該訂正が、新規事項を追加するものではないことは明らかであるし、特許請求の範囲を拡張又は変更するものに該当しないことも明らかである。 
　３　独立特許要件
　本件は、訂正前の全請求項に対して特許異議の申立てがなされているので、訂正事項１〜７について、特許法第１２０条の５第９項で読み替えて準用する特許法第１２６条第７項は適用されない。 
　４　一群の請求項
　本件訂正前の請求項１〜６について、請求項２〜６はそれぞれ請求項１を引用するものであって、訂正事項１〜４によって訂正される請求項１に連動して訂正されるものであるから、本件訂正前の請求項１〜６は一群の請求項であるところ、本件訂正請求は、上記一群の請求項についてされたものであるから、特許法第１２０条の５第４項の規定に適合する。 
　そして、本件訂正は、請求項間の引用関係の解消を目的とするものではなく、特定の請求項に係る訂正事項について別の訂正単位とする求めもないから、本件訂正請求は、訂正後の請求項〔１〜６〕を訂正単位として訂正の請求をするものである。 
　５　明細書の訂正に係る請求項について 
　訂正事項８による訂正は明細書の訂正であるところ、当該明細書の訂正に関連する請求項の全てである請求項１〜６について訂正が行われているといえるから、本件訂正は、特許法第１２０条の５第９項で準用する同法第１２６条第４項の規定に適合するものである。
　６　小括 
　以上のとおりであるから、本件訂正は、特許法第１２０条の５第２項ただし書き第１号及び第３号に掲げる事項を目的とするものであり、かつ、同条第４項及び同条第９項において準用する同法第１２６条第４項から第６項までの規定に適合するので、訂正後の請求項〔１〜６〕について、訂正を認める。 
第３　本件発明 
　本件訂正は、上記第２で検討したとおり適法なものであるから、本件特許の特許請求の範囲の請求項１〜６に係る発明（以下、それぞれ「本件発明１」〜「本件発明６」といい、総称して「本件発明」という。）は、本件訂正請求書に添付された訂正特許請求の範囲の請求項１〜６に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「【請求項１】
　必須の成分としてＣ：０．００２〜０．０５％、Ｓ：０．０００１〜０．００５％、Ｃｒ：１０〜２５％、Ｍｏ：５〜２０％、Ｏ：０．０００１〜０．００５％、Ａｌ：０．０１〜０．５％、Ｆｅ：２．１８〜１０％、Ｓｉ：０．０１〜１％およびＭｎ：０．０１〜１％、さらに、Ｗ：０．５〜１０％または、Ｔｉ：０．０１〜１％およびＮｂ：０．５〜５％、残部Ｎｉおよび不可避的不純物からなるＮｉ基合金であって、
　オージェ電子分光法を用いて、加速電圧１０ｋＶ、試料電流量０．０１μＡとして前記Ｎｉ基合金の深さ方向に１ｋＶの条件でスパッタしながら測定した各元素のプロファイルから算出した場合の、合金の表面に形成される不動態皮膜部の母材側境界部におけるＣｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．２以上であり、不動態皮膜の母材側境界部におけるＭｏ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．１以上、かつ、不動態皮膜最表層部における酸素濃度が５５（ａｔ．％）以上であり、
　前記Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比と表面からの深さの関係において、前記Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比は、表面から不動態皮膜深さ方向に向けて増大して極大値を示し、次いで減少して、前記母材側境界部において極小値を示して、母材側において増大するものであり、
　ＡＳＴＭ  Ｇ４８  Ｍｅｔｈｏｄ  Ｄ試験において臨界隙間腐食発生温度（ＣＣＴ）が４０℃以上であることを特徴とするＮｉ基合金。
【請求項２】（削除）
【請求項３】（削除）
【請求項４】
　請求項１に記載のＮｉ基合金を製造する方法であって、原料を電気炉で溶解し、ＡＯＤおよび／またはＶＯＤにて脱炭、Ｃｒ還元、脱硫を行い、溶融合金を、Ｃ：０．００２〜０．０５％、Ｓ：０．０００１〜０．００５％、Ｏ：０．０００１〜０．００５％、Ａｌ：０．０１〜０．５％に調整することを特徴とするＮｉ基合金の製造方法。
【請求項５】
　前記Ｎｉ基合金を所望の形状に成形した後、硝酸溶液に浸漬して不動態化処理を行うことを特徴とする請求項４に記載のＮｉ基合金の製造方法。
【請求項６】
　前記不動態化処理は、Ｘ：硝酸濃度（％）、Ｙ：浸漬時間（分）、Ｚ：温度（℃）とした場合、下記式を満足するように行うことを特徴とする請求項５に記載のＮｉ基合金の製造方法。
　８０００≦Ｘ２×Ｙ＋Ｚ
（１０≦Ｘ≦５０、１≦Ｙ≦１００、４０≦Ｚ≦８５）」
第４　異議申立理由
　特許異議申立人は、異議申立理由として以下１の証拠方法に基づき、以下２を概要とする新規性及び進歩性の欠如並びに記載要件違反を主張し、本件特許は取り消されるべき旨を申立てた。
　１　証拠方法
（１）甲第１号証：ASTM International, Designation:B622-10 Standard Specification for Seamless Nickel and Nickel-Cobalt Alloy Pipe and Tube, December 2010
（２）甲第２号証：特開平３−２２３４１４号公報
（３）甲第３号証：Ajit K.Mishra, Crevice Corrosion Behavior of Ni-Cr-Mo-W Alloys in Aggressive Environment, カナダ, The University of Western Ontario, [online], November 2013, ［平成３０年５月２５日検索］, インターネットURL:https://ir.lib.uwo.ca/cgi/viewcontent.cgi?article=3132context=etd
（４）甲第４号証：Stephen A.McCoy, Lewis E.Shoemaker, James R.Crum, Corrosion Performance and Fabricability of the New Generation of Highly Corrosion-Resistant Nickel-Chromium-Molybdenum Alloys, 英国, 米国, Special Metals Wiggin Ltd, Special Metals Corporation, [online], ［平成３０年５月２５日検索］, インターネットURL:http://www.pccforgedproducts.com/web/user_content/files/wyman/Corrosion%20Performance%20and%20Fabricability%20of%20the%20New%20Generation%20of%20Highly%20Corrosion%20Resistant %20NiCrMo%20Alloys.pdf
（当審注：甲第４号証に公知日の記載はないが、甲第５号証において、甲第４号証が参考文献として提示されており、甲第５号証の公知日が２０１２年５月であることから、甲第４号証は、本件発明の出願前公知であると認められる。）
（５）甲第５号証：Martin KRAUS, Pavel BILEK,Jaroslav BYSTRIANSKY, THE INFLUENCE OF STRUCTURE CHANGES ON SOME QUALITIES OF HIGH-ALLOYED MATERIALS IN THE SIMULATION OF LONG-TERM OPERATING CONDITIONS., チェコ共和国, METAL 2012,23.-25.5.2012
（６）甲第６号証：特開平７−１９０６５６号公報
（７）甲第７号証：長谷川正義編、「ステンレス鋼便覧（増訂版）」、日刊工業新聞社、昭和３５年５月３０日、ｐ．７７０−７７３
（８）甲第８号証：ASTM International, Designation:B444-06 Standard Specification for Nickel-Chromium-Molybdenum-Columbium Alloys(UNS N06625 and UNS N06852) and Nickel-Chromium-Molybdenum-Silicon Alloy(UNS N06219) Pipe and Tube, January 2007
（９）甲第９号証：米国特許出願公開第２００６／０２６１００３号明細書
（１０）甲第１０号証：特開２００８−２７２７８６号公報
　２　異議申立理由の概要 
（１）異議申立理由１（新規性及び進歩性）（異議申立書第１１〜４２頁（（４）イ）
　以下のとおり、本件発明１〜４は、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができず、また、本件発明１〜６は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　ア　本件発明１は、甲第１号証又は甲第６号証に記載された発明であり、また、甲第１号証に記載された発明と甲第２〜４号証に記載された事項又は甲第６号証に記載された発明と甲第２号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　イ　本件発明２は、甲第６号証に記載された発明であり、また、甲第１号証に記載された発明と甲第２、７号証に記載された事項又は甲第６号証に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　ウ　本件発明３は、甲第１号証、甲第６号証又は甲第８号証に記載された発明であり、また、甲第１号証に記載された発明と甲第２、７号証に記載された事項、甲第６号証に記載された発明又は甲第８号証に記載された発明と甲第２、７号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　エ　本件発明４は、甲第１０号証に記載された発明であり、また、甲第１０号証に記載された発明と甲第２号証に記載された事項又は甲第１、６、８号証に記載され事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　オ　本件発明５は、甲第１０号証に記載された発明と甲第２、７号証又は甲第１、６、７、８号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　カ　本件発明６は、甲第１０号証に記載された発明と甲第２、７号証又は甲第１、６、７、８号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである
（２）異議申立理由２（サポート要件）（異議申立書第４３〜４４頁（（４）ウのＡのＡ１）及び第４８〜５０頁（同ＢのＢ１及びＢ２））
　本件発明１〜６は、発明の詳細な説明に記載したものでないから、特許請求の範囲の記載が特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない。
（３）異議申立理由３（明確性）（異議申立書第４４〜４５頁（（４）ウのＡのＡ２）
　本件発明１〜３は明確でないから、特許請求の範囲の記載が特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない。
（４）異議申立理由４（実施可能要件）（異議申立書第４５〜４８頁（（４）ウのＡのＡ３及びＡ４）及び第５０〜５１頁（同ＢのＢ３））
　本件出願は、発明の詳細な説明の記載について、当業者が本件発明１〜４及び６を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されたものでないから、特許法第３６条第４項第１号に規定する要件を満たしていない。
第５　取消理由の概要
　１　本件訂正前の請求項１〜６に係る特許に対して、平成３０年１２月４日付けで特許権者に通知した取消理由の概要は、次のとおりである。
（１）取消理由１（新規性及び進歩性）
　以下のとおり、本件発明１は、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができず、また、本件発明１〜６は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　ア　本件発明１について
　本件発明１は、甲第１号証に記載された発明であり、また、甲第１号証に記載された発明と甲第２〜４号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　イ　本件発明２について
　本件発明２は、甲第１号証に記載された発明と甲第２〜４、７号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　ウ　本件発明３について
　本件発明３は、甲第８号証に記載された発明と甲第２、７、９号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　エ　本件発明４〜６について
　本件発明４〜６は、甲第１０号証に記載された発明と甲第２〜４、７、９号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明することができたものである。
（２）取消理由２（サポート要件）
　本件発明１〜６は、発明の詳細な説明に記載したものでないから、本件出願は、特許請求の範囲の記載が特許法第３６条第６項第１号に規定する要件を満たしていない。
（３）取消理由３（明確性）
　本件発明１〜６は明確でないから、本件出願は、特許請求の範囲の記載が特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない。
　２　本件訂正後の請求項１、４〜６に係る特許に対して、令和１年８月６日付けで特許権者に通知した取消理由（決定の予告）の概要は、以下のとおり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないというものである。
（１）本件発明１について
　本件発明１は、甲第８号証に記載された発明と甲第２、７、９号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
（２）本件発明４について
　本件発明４は、甲第１０号証に記載された発明と甲第２、７〜９号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
（３）本件発明５について
　本件発明５は、甲第１０号証に記載された発明と甲第２、７〜９号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
（４）本件発明６について
　本件発明６は、甲第１０号証に記載された発明と甲第２、７〜９号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
第６　甲号証の記載事項
　甲各号証の記載事項は、次のとおりである。なお、「・・・」は省略を表し、下線は強調のために当審が付与した。
　１　甲第１号証
　甲第１号証には次の記載がある。
（１ａ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（第１頁脚注１）
（当審訳：「現在の版は、２０１０年１２月１５日に承認された。刊行は２０１０年１２月である。原版は１９７７年に承認された。１つ前の版は２００６年にＢ６２２−０６として承認された。ＤＯＩは１０．１５２０／Ｂ０６２２−１０である。」）
（１ｂ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（第２頁）
（当審訳：「表１　化学組成
・・・
　　　　　　　Ｎｉ　・・・
・・・
Ｎ１０２７６　残部　・・・
Ｎ０６０２２　残部　・・・」）
（１ｃ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（第３頁）
（当審訳：「表１　続き
・・・
　　　　　　　Ｎｉ　・・・
・・・
Ｎ０６０５９　残部　・・・」）
　２　甲第２号証
　甲第２号証には次の記載がある。
（２ａ）「既に知られているように、鉄基合金、コバルト基合金、ニッケル基合金は、機械的性質、耐熱性ならびに耐食性において優れた性質を有するものが多い。ところが残留酸素及び残留硫黄が多いと加工性が低下するので、残留酸素及び残留硫黄を十分に少なくすることが重要である。」（第３頁左上欄第２〜７行）
（２ｂ）「この方法の骨子は、Ａｌの添加により裏付け耐火物中のＣａＯを還元し、還元生成物であるＣａにより溶鋼中の硫黄、酸素を除去するものである。」（第３頁右上欄第３〜５行）
（２ｃ）「前記の従来方法によれば、溶鋼の硫黄をおよそ０．００４重量％まで、酸素を０．００２重量％までに減少することができる。」（第３頁右上欄第１６〜１８行）
　３　甲第３号証
　甲第３号証には次の記載がある。
（３ａ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（第ｉｉ頁第２〜９行)
（当審訳：「Ｃｒ、Ｍｏ及びＷの濃度を最適化したＮｉ−Ｃｒ−Ｍｏ（Ｗ）合金は、厳しい腐食環境においても、優れた耐食性を有する合金である。しかしながら、高い印加電位及び高温で隙間が形成された場合、これらの材料は隙間腐食感受性がある。そこで本研究は、様々な量のＣｒ、Ｍｏ及びＷを含有する７種の市販のＮｉ−Ｃｒ−Ｍｏ（Ｗ）合金に焦点を当てる。異なる電気化学的手法を用いて、隙間腐食に対する感受性を示す特徴的な電位及び温度を決定し、主要及び副合金元素の個々及び相乗的な役割を調べた。」）
（３ｂ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（第ｉｉｉ頁第４〜６行)
（当審訳：「走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、エネルギ一分散型Ｘ線（ＥＤＸ）分析、プロフィルメトリー及びオージェ電子分光法（ＡＥＳ）を用いて、隙間腐食
を起こしたＮｉ−Ｃｒ−Ｍｏ（Ｗ）表面を分析した。」）
（３ｃ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（第８６頁第６〜１３行)
（当審訳：「オージェ分析は、５ＫｅＶの励起エネルギーを有するＰＨ１６６０オージェ電子分光計（ＡＥＳ）を用いて行った。深さプロファイルは、Ａｒ＋イオンビームを用いたスパッタリングによって得た。各試料について調査スキャンを行い、深さプロファイリング中にＮｉ、Ｃｒ、Ｍｏ及びＯの信号強度をスパッタリング時間の関数としてモニターした。スパッタリング時間を浸入深さに変換するために、同様の測定を、空気で形成された自然酸化物で覆われたＡｌｌｏｙ５９試験片に対して行った。この基準試料で得られたスパッタリング速度は３２ｎｍ／分であり、腐食した表面上で同様のスパッタリング速度が達成されたと仮定した。」）
（３ｄ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（第９８頁第２〜４行)
（当審訳：「Ｍｏが活性位置に濃縮されていることを確認するために、図４．１１に示すように、５９の隙間領域のＡＥＳの深さプロファイルを記録した。図４．１１（ｂ）及び図４．１１（ｃ）に、非腐食領域（１）及び腐食領域（２）のプロファイルをそれぞれ示す。」）
（３ｅ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（第１００頁、図４．１１)
（当審訳：「図４．１１（ａ）５９における隙間腐食領域の光学顕微鏡画像：（ｂ）（ａ）の位置１において記録されたＡＥＳの深さプロファイル：（ｃ）（ａ）の位置２において記録されたＡＥＳの深さプロファイル」）
（当審注：図中の各プロットについて、カラーである原文によれば、１００ｎｍ深さ位置において、上からＮｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｏのことである。）
　４　甲第４号証
　甲第４号証には次の記載がある。
（４ａ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（第１頁脚注）
（当審訳：「ＩＮＣＯＮＥＬ、ＩＮＣＯＬＯＹ、６８６ＣＰＴ及びＩＮＣＯ−ＷＥＬＤは、Ｓｐｅｃｉａｌ　Ｍｅｔａｌｓグループの登録商標である。」）
（４ｂ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（第２頁第２〜４行）
（当審訳：「ＩＮＣＯＮＥＬ　Ａｌｌｏｙｓ６２５及びＣ−２７６といった耐腐食性材料は、長年にわたり、化学、電力生産、公害防止、海洋及び同様の用途の機器に対して、優れた耐食性を提供してきた。」）
（４ｃ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（第２頁表１）
（４ｄ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（第３頁表３）
　５　甲第５号証
　甲第５号証には次の記載がある。
（５ａ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（第１頁第１行）
（５ｂ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（最終頁文献［７］）
　６　甲第６号証
　甲第６号証には次の記載がある。
（６ａ）「【請求項１】  Ｃｒを含むＮｉ基合金からなるパイプ本体内面に酸化物不働態膜が形成されている酸化物不働態膜被覆パイプの内部に作動液として水が充填されているヒートパイプであって、前記酸化物不働態膜を酸素を１０原子％以上含むものとするとき、その厚さをｔとし、さらに酸化物不働態膜における最大酸素原子％を示す箇所での全金属成分（原子％）に対するＣｒ（原子％）の割合をＲ（％）とすると、
ｔ：２０〜２０００（オングストローム）
４０％≦Ｒ≦１００％
の範囲内にあることを特徴とするヒートパイプ。」
（６ｂ）「【請求項16】  前記パイプ本体内面に形成される酸化物不働態膜は、最大酸素濃度が４０〜７０原子％の範囲内にあることを特徴とする請求項１〜１５のいずれかに記載のヒートパイプ。」
（６ｃ）「（６）パイプ本体内面に形成される酸化物不働態膜を酸素を１０原子％以上含むものとするとき、その厚さｔは２０〜２０００（オングストローム）の範囲内にあり、さらに酸化物不働態膜における最大酸素原子％を示す箇所での全金属成分（原子％）に対するＣｒ（原子％）の割合をＲとすると、Ｒ：４０％〜１００％の範囲内にあることが好ましい、（７）パイプ本体内面に形成される酸化物不働態膜を酸素を１０原子％以上含むものとするとき、その厚さｔは２０〜２０００（オングストローム）の範囲内にあり、Ｒが４０％〜１００％の範囲内にあり、かつｌｏｇｔ＜０．０７６７Ｒ−１．３０の式を満足する範囲内にあることが一層好ましい、（８）パイプ本体内面に形成される酸化物不働態膜を酸素を１０原子％以上含むものとするとき、その厚さｔは２０〜２０００（オングストローム）の範囲内にあり、さらに酸化物不働態膜における最大酸素原子％を示す箇所での全金属成分（原子％）に対するＣｒ（原子％）の割合をＲとすると、Ｒが６５％〜１００％の範囲内にあることがより一層好ましい、（９）前記パイプ本体内面に形成される酸化物不働態膜は、いずれも最大酸素濃度が４０〜７０原子％あることが好ましい、などの知見を得たのである。」（【０００５】）
（６ｄ）「【００１７】【表２】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（６ｅ）「前記酸化物不働態膜の厚さｔ、全金属成分（原子％）に対するＣｒ（原子％）の割合Ｒおよび最大酸素濃度は、オージェ分析により測定し、これらの測定値を表３〜表５に示した。」（【００１８】）
　７　甲第７号証
　甲第７号証には次の記載がある。
（７ａ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（第７７１頁）
　８　甲第８号証
　甲第８号証には次の記載がある。
（８ａ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（第１頁脚注）
（当審訳：「現在の版は２００６年１２月１日に承認された。刊行は２００７年１月である。原版は１９６６年に承認された。１つ前の版は２００４年にＢ４４４−０４として承認された。」）
（８ｂ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（第２頁表２）
（当審訳：「表２　化学成分
元素　　　組成上限、％
　　　　　・・・
炭素　　　　　　　　　　　・・・
マンガン　　　　　　　　　・・・
ケイ素　　　　　　　　　　・・・
リン　　　　　　　　　　　・・・
硫黄　　　　　　　　　　　・・・
クロム　　　　　　　　　　・・・
ニオブ＋タンタル　　　　　・・・
ニオブ　　　　　　　　　　・・・
コバルト（測定された場合）・・・
モリブデン　　　　　　　　・・・
鉄　　　　　　　　　　　　・・・
アルミニウム　　　　　　　・・・
チタン　　　　　　　　　　・・・
銅　　　　　　　　　　　　・・・
ニッケルＡ   　　　　　　　 ・・・
Ａ元素は、差分の計算によって決定される。」）
　９　甲第９号証
　甲第９号証には次の記載がある。
（９ａ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（第１頁右欄第３９〜４２行）
（当審訳：「ＡＬ６ＸＮの耐食性が不十分な場合、Ｉｎｃｏｎｅｌ　６２５（Ｉ６２５）が用いられる（Ｎｉ６１重量％、Ｃｒ２１．５重量％、Ｍｏ9重量％、Ｆｅ2.5重量％、Ｃｂ＋Ｔａ３．７重量％及び少量のその他の元素）。」）
（９ｂ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（第５頁左欄第３５〜３７行）
（当審訳：「この実施例では、塩溶液中の金属腐食に対する温度の影響をＡＳＴＭ　Ｇ４８のＤ法に従って測定する。」）
（９ｃ）「
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
（第５頁表２）
（当審訳：表２
隙間腐食発生温度
・・・」）
　１０　甲第１０号証
　甲第１０号証には次の記載がある。
（１０ａ）「【請求項１】
Fe基合金および
Ni基合金を連続鋳造するに当たり、
  燃焼後の化学成分が、CaO：20〜26mass%、SiO2：32〜38mass%、F：4.0〜5.5mass%、Na2O：3〜7mass%、K2O：7〜10mass%と、Al2O3：0.1〜2.5mass%以下、MgO：0.1〜２mass%以下、および不可避混入不純物を含む酸化物からなり、かつ、塩基度(CaOmass%／SiO2mass%)が0.60以上0.70未満、融点が1050℃〜1150℃、1300℃における粘度が1.5poise〜2.5poiseの物性を有する連続鋳造用発熱性モールドパウダー、
  を投入することを特徴とする、Fe基合金および
Ni基合金の連続鋳造方法
（１０ｂ）「本発明の発熱性モールドパウダーを適用する
Ni基合金については、Cr：10〜30mass%、Fe：1〜20mass%、Mo：20mass%以下、Wを：5mass%以下、Co：5mass%以下、Nb：5mass%以下、残部Niおよび不可避的不純物で構成される
（１０ｃ）「まず、鋼種によって、鉄屑、
Ni
を、電気炉において溶解し
その後、AODあるいはVODにおいて、脱炭、Cr還元を行い、最終的に脱硫処理をした。
第７　当審の判断
　当審は、上記のとおり令和１年８月６日付けで取消理由（決定の予告）を通知し、期間を指定して意見書を提出する機会を与えたが、特許権者は応答しなかったところ、当該取消理由（決定の予告）は妥当なものと認められ、請求項１、４〜６に係る特許は取り消すべきものと判断する。その理由は次のとおりである。
　１　本件発明１について
（１）甲第８号証に記載された発明
　上記第６の８の摘示（８ｂ）における「Ｎ０６６２５」の化学組成から、「Ｃ：０．１０％以下、Ｍｎ：０．５０%以下、Ｓｉ：０．５０％以下、Ｐ：０．０１５％以下、Ｓ：０．０１５％以下、Ｃｒ：２０．０〜２３．０％、Ｎｂ＋Ｔａ：３．１５〜４．１５％、Ｃｏ：１．０％以下、Ｍｏ：８．０〜１０．０％、Ｆｅ：５．０％以下、Ａｌ：０．４０％以下、Ｔｉ：０．４０％以下、Ｎｉ：５８．０％以上であるＮｉ基合金。」が記載されているから、本件発明１の記載に則して整理すれば、甲第８号証には以下の発明が記載されている（以下「甲８発明」という。）。
「Ｃ：０．１０％以下、Ｓ：０．０１５％以下、Ｃｒ：２０．０〜２３．０％、Ｍｏ：８．０〜１０．０％、Ａｌ：０．４０％以下、Ｆｅ：５．０％以下、Ｍｎ：０．５０%以下、Ｓｉ：０．５０％以下、Ｐ：０．０１５％以下、Ｎｂ＋Ｔａ：３．１５〜４．１５％、Ｃｏ：１．０％以下、Ｔｉ：０．４０％以下、Ｎｉ：５８．０％以上であるＮｉ基合金。」
（２）甲８発明との対比
　本件発明１と甲８発明とを対比すると、両者は、Ｃ、Ｓ，Ｃｒ、Ｍｏ、Ａｌ，Ｆｅ、Ｓｉ、Ｍｎ、Ｔｉ及びＮｂの化学組成において重複することから、「Ｃ：０．００２〜０．０５％、Ｓ：０．０００１〜０．００５％、Ｃｒ：２０．０〜２３．０％、Ｍｏ：８．０〜１０．０％、Ａｌ：０．１〜０．４％、Ｆｅ：０．５〜５．０％、Ｓｉ：０．０１〜０．５％、Ｍｎ：０．０１〜０．５％、Ｔｉ：０．０１〜０．４０％、残部ＮｉからなるＮｉ基合金」である点で一致し、以下の点で相違している。
＜相違点１＞
　本件発明１は、「Ｏ：０．０００１〜０．００５％」及び「不可避不純物」を含有するものであるのに対し、甲８発明は、その特定事項について不明な点。
＜相違点２＞
　本件発明１は、Ｐ、Ｔａ及びＣｏの含有について特定していないのに対し、甲８発明は、「Ｐ：０．０１５％以下」、「Ｎｂ＋Ｔａ：３．１５〜４．１５％」としての「Ｔａ」及び「Ｃｏ：１．０％以下」を含有するものである点。
＜相違点３＞
　本件発明１は、「オージェ電子分光法を用いて、加速電圧１０ｋＶ、試料電流量０．０１μＡとして前記Ｎｉ基合金の深さ方向に１ｋＶの条件でスパッタしながら測定した各元素のプロファイルから算出した場合の、合金の表面に形成される不動態皮膜部におけるＣｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．２以上」であるのに対し、甲８発明は、その特定事項について不明な点。
。
＜相違点４＞
　本件発明１は、「オージェ電子分光法を用いて測定した不動態皮膜の母材側境界部におけるＭｏ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．１以上」であるのに対し、甲８発明は、その特定事項について不明な点。
＜相違点５＞
　本件発明１は、「不動態皮膜最表層部における酸素濃度が５５（ａｔ．％）以上」であるのに対し、甲８発明は、その特定事項について不明な点。
＜相違点６＞
　本件発明１は、「Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比と表面からの深さの関係において、前記Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比は、表面から不動態皮膜深さ方向に向けて増大して極大値を示し、次いで減少して、前記母材側境界部において極小値を示して、母材側において増大するもの」であるのに対し、甲８発明は、その特定事項について不明な点。
＜相違点７＞
　本件発明１は、「ＡＳＴＭ  Ｇ４８  Ｍｅｔｈｏｄ  Ｄ試験において臨界隙間腐食発生温度（ＣＣＴ）が４０℃以上」であるのに対し、甲８発明は、その特定事項について不明な点。
（３）相違点についての判断
　ア　相違点１について
　当該技術分野において、合金組成に不可避的に酸素が含まれることは技術常識であって、例えば上記第６の２の摘示（２ａ）〜（２ｃ）に記載のように、溶鋼にＡｌを添加してＯ含有量を０．００２％以下まで低減するのは通常知られた技術的事項である。
　さらに、合金組成に不可避的不純物の含有を許容することも、当該技術分野において周知の事項である。
  したがって、上記相違点１は実質的なものではない。
　イ　相違点２について
　甲８発明の合金成分であるＰ及びＣｏは、含有量の上限が示されているものであって、必須に含有する成分ではなく、含有しない場合も含むものである。
　また、甲８発明の合金成分であるＴａは、Ｎｂとの合計で３．１５〜４．１５％含有するものであって、Ｔａを含有しない場合も含むものであり、この場合、Ｎｂのみの含有量は本件発明１と重複するものである。
　してみると、上記それぞれの場合は本件発明１と相違しないことになるから、上記相違点２は、実質的なものではない。
　ウ　相違点３〜６について
　本件発明１の不動態皮膜を得るためには、不動態化処理として、以下の条件を満足することが好ましい旨、本件明細書の【００３８】に記載されている。
「８０００≦Ｘ２×Ｙ＋Ｚ
（Ｘ：硝酸濃度（％）、Ｙ：浸漬時間（分）、Ｚ：温度（℃）、ただし、硝酸濃度１０〜５０％、時間１〜１００分、温度４０〜８５℃の範囲とする。）」
　ここで、上記第６の７の摘示（７ａ）に記載のとおり、ステンレス鋼について不動態化処理を行うために硝酸に浸漬する方法は周知の技術的手段であって、特に、Ｃｒ−Ｎｉ鋼に対しては、不動態化処理浴として２０〜４０％、５０〜７０℃の硝酸に３０〜６０分の条件にて浸漬するのが適切であることも記載されている。当該条件から上記関係式右辺の「Ｘ２×Ｙ＋Ｚ」を求めると１２０５０〜９６０７０となり、関係式を満たすことになる。
　すなわち、本件発明１の不動態皮膜を得るための不動態化処理は、甲第７号証に記載されるように周知の処理であり、同様の処理を同様の成分組成のＮｉ基合金である甲８発明に施せば、生成する不動態皮膜は、「オージェ電子分光法を用いて測定した不動態皮膜の母材側境界部におけるＭｏ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．１以上」、「不動態皮膜最表層部における酸素濃度が５５（ａｔ．％）以上」及び「Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比と表面からの深さの関係において、前記Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比は、表面から不動態皮膜深さ方向に向けて増大して極大値を示し、次いで減少して、前記母材側境界部において極小値を示して、母材側において増大するもの」のようになるものと認められる。
　してみると、甲８発明において、不動態化処理として、周知な条件によって行うことは当業者が適宜なし得ることであり、それにより上記相違点３〜６に係る特定事項を有する不動態皮膜を得ることは、当業者にとって容易である。
　エ　相違点７について
  上記第６の９の摘示（９ａ）〜（９ｃ）には、インコネル６２５（Ｉ６２５）合金の臨界隙間腐食発生温度（ＣＣＴ）が６０℃であることが記載されている。
　また、同（４ｂ）及び（４ｃ）によれば、インコネル６２５は、Ｎ０６６２５であるといえる。
　してみると、Ｎ０６６２５である甲８発明の臨界隙間腐食発生温度（ＣＣＴ）が６０℃であることから、相違点７は、実質的なものではない。
（４）小括
　したがって、本件発明１は、甲第８号証に記載された発明と甲第２、７、９号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　２　本件発明４について
（１）甲第１０号証に記載された発明
　上記第６の１０の摘示（１０ａ）〜（１０ｃ）からみて、甲第１０号証には以下の発明が記載されている（以下「甲１０発明」という。）。
「Cr：10〜30mass%、Fe：1〜20mass%、Mo：20mass%以下、Wを：5mass%以下、Co：5mass%以下、Nb：5mass%以下、残部Niおよび不可避的不純物で構成されるNi基合金を連続鋳造するに当たり、Ni等を、電気炉において溶解し、その後、AODあるいはVODにおいて、脱炭、Cr還元を行い、最終的に脱硫処理するNi基合金の連続鋳造方法。」
（２）甲１０発明との対比
　本件発明４と甲１０発明とを対比すると、両者は、「原料を電気炉で溶解し、ＡＯＤまたはＶＯＤにて脱炭、Ｃｒ還元、脱硫を行うＮｉ基合金の製造方法。」である点で一致し、以下の点で相違している。
＜相違点８＞
　製造するＮｉ基合金について、本件発明４は、「請求項１に記載のＮｉ基合金」であるのに対し、甲１０発明は、「Cr：10〜30mass%、Fe：1〜20mass%、Mo：20mass%以下、Wを：5mass%以下、Co：5mass%以下、Nb：5mass%以下、残部Niおよび不可避的不純物で構成されるNi基合金」である点。
＜相違点９＞
　本件発明４は、「溶融合金を、Ｃ：０．００２〜０．０５％、Ｓ：０．０００１〜０．００５％、Ｏ：０．０００１〜０．００５％、Ａｌ：０．０１〜０．５％に調整する」ものであるのに対し、甲１０発明は、その特定事項について不明な点。
（３）相違点についての判断
　ア　相違点８について
　「請求項１に記載のＮｉ基合金」は、本件発明１のことであるところ、本件発明１は、上記１のとおり進歩性を有していないものであって、甲１０発明において製造するＮｉ基合金を本件発明１のものとすることは、当業者が適宜選択し得ることにすぎない。
　イ　相違点９について
　Ｎｉ基合金の成分調整において、Ｃ、Ｓ及びＡｌを本件発明４と同程度とすることは、例えば甲８発明のとおり通常行われており、Ｏの成分調整についても、上記１（３）アのとおりである。
（４）小括
　したがって、本件発明４は、甲第１０号証に記載された発明と甲第２、７〜９号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明することができたものである。
　３　本件発明５について
（１）甲１０発明との対比
　本件発明５と甲１０発明とを対比すると、上記２（２）の点で一致し、以下の点で相違している。
＜相違点８’＞
　製造するＮｉ基合金について、本件発明５は、「請求項１に記載のＮｉ基合金」であるのに対し、甲１０発明は、「Cr：10〜30mass%、Fe：1〜20mass%、Mo：20mass%以下、Wを：5mass%以下、Co：5mass%以下、Nb：5mass%以下、残部Niおよび不可避的不純物で構成されるNi基合金」である点。
＜相違点９’＞
　本件発明５は、「溶融合金を、Ｃ：０．００２〜０．０５％、Ｓ：０．０００１〜０．００５％、Ｏ：０．０００１〜０．００５％、Ａｌ：０．０１〜０．５％に調整する」ものであるのに対し、甲１０発明は、その特定事項について不明な点。
＜相違点１０＞
　本件発明５は、「Ｎｉ基合金を所望の形状に成形した後、硝酸溶液に浸漬して不動態化処理を行う」ものであるのに対し、甲１０発明は、その特定事項について不明な点。
（２）相違点についての判断
　ア　相違点８’及び９’について
　相違点８’及び９’は、上記２（２）の相違点８及び９と実質的に同じである。そして、相違点８及び９についての判断は、上記２（３）のとおり、当業者が適宜選択し得ることにすぎないか、通常行われていることである。
　イ　相違点１０について
　上記第６の７の摘示（７ａ）のとおり、Ｎｉを含有するものであるＣｒ−Ｎｉ鋼等のステンレス鋼について、硝酸溶液に浸漬して不動態化処理するのは周知の技術的事項であることから、甲１０発明の「Ｎｉ基合金」の「製造方法」において、Ｎｉ基合金に当該事項を適用することは、当業者が適宜なし得ることにすぎない。
（３）小括
　したがって、本件発明５は、甲第１０号証に記載された発明と甲第２、７〜９号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明することができたものである。
　４　本件発明６について
（１）甲１０発明との対比
　本件発明６と甲１０発明とを対比すると、上記３（１）の点で一致し、以下の点で相違している。
＜相違点８’’＞
　製造するＮｉ基合金について、本件発明６は、「請求項１に記載のＮｉ基合金」であるのに対し、甲１０発明は、「Cr：10〜30mass%、Fe：1〜20mass%、Mo：20mass%以下、Wを：5mass%以下、Co：5mass%以下、Nb：5mass%以下、残部Niおよび不可避的不純物で構成されるNi基合金」である点。
＜相違点９’’＞
　本件発明６は、「溶融合金を、Ｃ：０．００２〜０．０５％、Ｓ：０．０００１〜０．００５％、Ｏ：０．０００１〜０．００５％、Ａｌ：０．０１〜０．５％に調整する」ものであるのに対し、甲１０発明は、その特定事項について不明な点。
＜相違点１０’＞
　本件発明６は、「Ｎｉ基合金を所望の形状に成形した後、硝酸溶液に浸漬して不動態化処理を行う」ものであって、「不動態化処理は、Ｘ：硝酸濃度（％）、Ｙ：浸漬時間（分）、Ｚ：温度（℃）とした場合」に、 「８０００≦Ｘ２×Ｙ＋Ｚ（１０≦Ｘ≦５０、１≦Ｙ≦１００、４０≦Ｚ≦８５）」を「満足するように行う」ものであるのに対し、甲１０発明は、その特定事項について不明な点。
（２）相違点についての判断
　ア　相違点８’’及び９’’について
　相違点８’’及び９’’は、上記２（２）の相違点８及び９と実質的に同じである。そして、相違点８及び９についての判断は、上記２（３）のとおり、当業者が適宜選択し得ることにすぎないか、通常行われていることである。
　イ　相違点１０’について
　上記第６の７の摘示（７ａ）のとおり、ステンレス鋼について不動態化処理を行うために硝酸に浸漬する方法は周知の技術的手段であって、特に、Ｃｒ−Ｎｉ鋼に対しては、不動態化処理浴として２０〜４０％、５０〜７０℃の硝酸に３０〜６０分の条件にて浸漬するのが適切であることも記載されている。当該条件から上記相違点１０に係る関係式右辺の「Ｘ２×Ｙ＋Ｚ」を求めると１２０５０〜９６０７０となり、当該関係式を満たすことになる。
　してみると、甲１０発明において、相違点１０’に係る関係式を満たす周知な条件により不動態化処理を行うことは、当業者が容易に想到し得ることである。
（３）小括
　したがって、本件発明６は、甲第１０号証に記載された発明と甲第２、７〜９号証に記載された事項に基いて、当業者が容易に発明することができたものである。
第８　むすび
　以上のとおり、請求項１、４〜６に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであって、同法第１１３条第２号に該当するから、請求項１、４〜６に係る特許は取り消されるべきものである。
　また、請求項２、３に係る特許は、訂正により削除されたから、請求項２、３に係る特許異議の申立ては、その対象が存在しないものとなったため、特許法第１２０条の８第１項で準用する同法第１３５条の規定により却下する。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
令和１年１１月１４日（２０１９．１１．１４）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
Ｎｉ基合金およびその製造方法
　【技術分野】
　【０００１】
　本発明は、化学プラント、天然ガス配管及び容器に代表される各種用途に使用される耐食性に優れたＮｉ基合金に関するものである。
　【背景技術】
　【０００２】
　Ｎｉ基合金は、優れた耐食性を有するため腐食性の強い過酷な環境で使用される。Ｎｉ基合金は、主成分であるＮｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、合金によってはＮｂ、Ｗといった比較的高価な金属元素を含有し、その母材そのものの耐食性を高めている。
　【０００３】
　この合金の耐食性を十分に引き出すには、適切な表面処理を施す必要がある。ステンレス鋼では、各種表面処理方法により耐食性を維持する技術が開示されている（たとえば、特許文献１参照）。
　【０００４】
　しかしながら、Ｎｉ基合金においては、耐食性に及ぼす表面状態の影響が十分に解明されているとは言いがたかった。その理由は、Ｎｉ含有量が高くなるほど不動態皮膜は緻密になるが薄くなることに起因する。
　【０００５】
　このような事実から、Ｎｉ基合金の表面状態を均一かつ安定に制御することは困難であったといえる。さらに、その表面状態つまり不動態皮膜の厚みや組成を正確に測定する技術も完成しているとは言いがたかった。
　【０００６】
　また、合金に含有される非金属介在物や析出物の存在も、耐食性に影響を及ぼす事が知られている。その理由は、非金属介在物や析出物の上に皮膜が形成せずに、腐食の起点になるためである。代表的な非金属介在物としては、脱酸生成物、硫化物があり、代表的な析出物には炭化物あるいは金属間化合物がある。したがって、合金中の酸素（Ｏ）、硫黄（Ｓ）、炭素（Ｃ）濃度を安定して低下させる技術も望まれていた（以上、例えば、非特許文献参照）。
　【先行技術文献】
　【特許文献】
　【０００７】
　【特許文献１】特開２０１２−１７０９６１号公報
　【非特許文献】
　【０００８】
　【非特許文献１】杉本克久：“金属腐食工学”、内田老鶴圃、２００９年Ｐ．１１３
　【非特許文献２】原　信義：“鉄鋼材料の腐食科学に関する最近の進歩と今後の展望”、第２１１、２１２回西山記念技術講座、２０１２年Ｐ．１３７
　【非特許文献３】杉本克久：鉄と鋼、７０（１９８４）、Ｐ．６３７
　【非特許文献４】和泉　修　監修：“非鉄材料”、日本金属学会編、丸善、（１９８７）、Ｐ．１５４
　【発明の概要】
　【発明が解決しようとする課題】
　【０００９】
　上記した従来技術に鑑み、まずＮｉ基合金の表面状態を正しく測定する技術開発を推進した。その測定技術に基づいて、不動態皮膜の厚み並びに組成を把握することを第一の目的に置いた。すなわち、本発明は、優れた耐食性を引き出すことのできる不動態皮膜の状態を有するＮｉ基合金を提供することを目的とする。さらに、本発明では、合金の耐食性を安定化するために、Ｏ、Ｓ、Ｃを低く制御する製造方法も提案することを目的とする。
　【課題を解決するための手段】
　【００１０】
　本発明のＮｉ基合金は、
必須の成分として
２．１８
Ｓｉ：０．０１〜１％およびＭｎ：０．０１〜１％、さらに、Ｗ：０．５〜１０％または、Ｔｉ：０．０１〜１％およびＮｂ：０．５〜５％、
の母材側境界部
不動態皮膜の母材側境界部におけるＭｏ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．１以上、かつ、不動態皮膜最表層部における酸素濃度が５５（ａｔ．％）以上であり、Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比と表面からの深さの関係において、Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比は、表面から不動態皮膜深さ方向に向けて増大して極大値を示し、次いで減少して、母材側境界部において極小値を示して、母材側において増大するものであり、
　【００１１】
　本発明においては、前述のオージェ電子分光法を用いて測定した不動態皮膜の母材側境界部におけるＭｏ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．１以上、かつ、不動態皮膜最表層部における酸素濃度が５５（ａｔ．％）以上であることを好ましい態様としている。
　【００１３】
　本発明においては、Ｓｉ：０．０１〜１％、Ｍｎ：０．０１〜１％、Ｔｉ：０．０１〜１％、Ｎｂ：０．５〜５％、Ｗ：０．５〜１０％のいずれか１種または２種以上を含有することを好ましい態様としている。
　【００１４】
　本発明のＮｉ基合金の製造方法は、上記いずれかに記載のＮｉ基合金を製造する方法であって、原料を電気炉で溶解し、ＡＯＤおよび／またはＶＯＤにて脱炭、Ｃｒ還元、脱硫を行い、溶融合金を、Ｃ：０．００２〜０．０５％、Ｓ：０．０００１〜０．００５％、Ｏ：０．０００１〜０．００５％、Ａｌ：０．０１〜０．５％に調整することを特徴とするものである。
　【００１５】
　本発明においては、前記Ｎｉ基合金を所望の形状に成形した後、硝酸溶液に浸漬して不動態化処理を行うことを特徴とするものである。
　【００１６】
　本発明においては、前記不動態化処理は、Ｘ：硝酸濃度（％）、Ｙ：浸漬時間（分）、Ｚ：温度（℃）とした場合、下記式を満足するように行うことを特徴とするものである。
　８０００≦Ｘ２×Ｙ＋Ｚ　（但し１０≦Ｘ≦５０、１≦Ｙ≦１００、４０≦Ｚ≦８５）
　【発明の効果】
　【００１７】
　本発明によれば、介在物を抑制し、良好な不動態皮膜を形成することにより、極めて耐食性に優れたＮｉ基合金を製造することができる。
　【図面の簡単な説明】
　【００１８】
　【図１】ＮＣＦ６２５の不動態皮膜組成を示し、各元素濃度とスパッタ時間（表面からの深さ）の関係を示すグラフである。
　【図２】Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）比とスパッタ時間（表面からの深さ）の関係を示すグラフである。
　【図３】Ｍｏ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）比とスパッタ時間（表面からの深さ）の関係を示すグラフである。
　【発明を実施するための形態】
　【００１９】
　本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた。まず、不動態皮膜の状態を精度よく測定する方法、つまり、耐食性を十分維持する皮膜とそうではない皮膜の差を見出す測定方法を、実験を通して開発することから始めた。具体的には、Ｎｉをベースに０．０１５％Ｃ、０．１２％Ｓｉ、０．１１％Ｍｎ、０．０００１％Ｓ、２２％Ｃｒ、９．１％Ｍｏ、３．４２％Ｎｂ、２．８６％Ｆｅ、０．２３％Ｔｉ、０．２１％Ａｌを含有するＮＣＦ６２５（ＵＮＳ　Ｎ０６６２５）の試験片を用いて実験した。試験片サイズは厚み２ｍｍ、幅２５ｍｍ、長さ５０ｍｍとした。
　【００２０】
　基本的に、ＡＳＴＭ　Ｇ４８　Ｍｅｔｈｏｄ　Ｄに定められた調整方法により試験片を仕上げた。この規格の中には、湿式研磨の詳細な実施方法や、研磨後の乾燥手順は定められていない。そこで、本発明者らは、様々な研磨方法や乾燥方法、具体的には熱風や冷風などを試した。
　【００２１】
　このようにして試料調整した後、各試験片に対して、不動態化処理（４５％ＨＮＯ３、８０℃、６分間）を行った。この試験片について、オージェ電子分光法（Ａｕｇｅｒ　Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ；ＡＥＳ）を用いて、不動態皮膜の板厚方向の組成を測定した。ＡＥＳは、日本電子製ＪＡＭＰ−９５００Ｆ、測定条件は、加速電圧１０ｋＶ、試料電流量０．０１μＡを用いて深さ方向に１ｋＶの条件でスパッタしながら、測定した各元素のプロファイルからその原子比を求めた。
　【００２２】
　その結果、精度よく、かつ正しく皮膜を測定するために必要とされる手順として、次の事項を見出した。
　（１）最終仕上げである＃２０００のエメリー研磨紙は、試験片毎に新しい研磨紙に交換して研磨すること。
　（２）湿式研磨工程の後、キシレンおよびエタノールにて脱脂を行うが、その後の乾燥は冷風で行うこと。
このように試行錯誤を繰り返し行った末に、図１に示す不動態皮膜の組成プロファイルを得るに至った。なお、図１〜３の横軸に示すスパッタ時間は、金属の厚さと関連しており、本実施形態においては、スパッタ時間１分がほぼ厚さ３．５ｎｍに相当する。
　【００２３】
　次に、十分な耐食性を示す不動態皮膜状態を把握するために、ＡＳＴＭ　Ｇ４８　Ｍｅｔｈｏｄ　Ｄに定められた臨界すきま腐食試験を実施した。すなわち、以下に示す方法により試験した。試験片のサイズは、厚み２ｍｍ、幅２５ｍｍ、長さ５０ｍｍであり、平面中央に直径７ｍｍの孔を空けた。＃１２０のエメリー紙で研磨して仕上げた。ＡＳＴＭ　Ｇ４８　Ｔｙｐｅ　Ｂに規定されているセラミック製の冶具を、Ｔｉ製ボルトとナットを用いて、０．２８Ｎ・ｍの締め付けトルクで固定した。この試験片を６％ＦｅＣｌ３と１％ＨＣｌを混合した６００ｍＬ以上の溶液に、５℃間隔で様々に温度を変えて、各温度あたり７２時間浸漬した。浸漬後冶具を取り外し、腐食生成物を除去し洗浄後、すきま腐食の深さを測定し、０．０２５ｍｍ以上発生した場合をすきま腐食が発生したと見なした。試験は５℃間隔でそれぞれ２同ずつ試験し、すきま腐食が発生した最低温度を臨界すきま腐食発生温度（ＣＣＴ）とした。
　【００２４】
　【表１】
　【００２５】
　表１に、試料調整後の表面処理と、対応するＣＣＴの結果を示す。まず、表１に示す３種類の処理方法で比較を試みた。上記に説明した方法により、不動態皮膜組成のプロファイルを測定した。このグラフから、Ｃｒ濃度（ａｔ．％）とＮｉ濃度（ａｔ．％）の比率を算出して、図２にＣｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）とスパッタ時間の関係として示す。図から、表面から見ていくと一旦極大値を示し、その後極小値を示す傾向が明らかである。この研究から、Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比率が、０．２以上あれば、要求されるＣＣＴ≧４０℃を満足できることが明らかとなった。さらに、このグラフから分かることは、スパッタ時間１分にて、Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比率が、極小を取ることである。まだ、Ｎｉ基合金の不動態皮膜に関しては明確にされていない点が多いが、本発明ではこの極小値を取る深さまでを厚みと定義した。
　【００２６】
　同様に、Ｍｏ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比率をスパッタ時間に対してプロットしたものを図３に示す。スパッタ時間１分、つまり、皮膜の最深位置におけるＭｏ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比率は、０．１以上あれば、強固な皮膜となることが分かった。さらに、この条件を満たす時、不動態皮膜の最表層部における酸素濃度も５５（ａｔ．％）以上となり、耐食性に優れた皮膜となることも明らかとなった。
　【００２７】
　以上をまとめると、的確な不動態化処理を行うことにより、Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）≧０．２、Ｍｏ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）≧０．１、かつ、不動態皮膜の最表層部における酸素濃度も５５（ａｔ．％）以上となり、要求する耐食性ＣＣＴ≧４０℃を確実に満足できることが明確となった。的確な不動態化処理については、硝酸濃度、温度、時間などの条件を、実施例にて明確に説明する。
　【００２８】
　さらに、本発明者らは合金の耐食性を安定化するために、Ｏ、Ｓ、Ｃを低く制御する製造方法も、鋭意研究を重ねた。具体的には２０ｋｇの高周波誘導炉を用いて、基本組成Ｎｉ−２２％Ｃｒ−１０％Ｍｏ−３．５Ｎｂ−３％ＦｅとしたＮＣＦ６２５を溶解した。Ｃ濃度を無添加〜０．１の範囲で変化させた。ＯとＳは、ＣａＯ−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−ＭｇＯ−Ｆ系スラグを添加し、かつＡｌ濃度を変化させることで、脱酸、脱硫の度合いを変化させて、種々のＯとＳ濃度を得た。このようにして鋼塊を製造し、鍛造して冷間圧延を行い、厚み２ｍｍ、幅２５ｍｍ、長さ５０ｍｍの試験片を作製した。これを、上記した試験方法により耐食性を評価した。その結果、Ｃ：０．００２〜０．０５％、Ｓ：０．０００１〜０．００５％、Ｏ：０．０００１〜０．００５％、Ａｌ：０．０１〜０．５％が好ましいことが分かった。
　【００２９】
　なお、Ｓ：０．０００１〜０．００５％以下、Ｏ：０．０００１〜０．００５％以下に制御するには、Ａｌ濃度を０．０１〜０．５％に制御すれば良いことも分かった。この制御を行うには、スラグ中ＳｉＯ２濃度は１０％以下に制御すべきとの指針も得た。
　【００３０】
　すなわち、本発明は実験を繰り返すことにより完成したものであり、以下の通りである。まず、合金の表面に形成される不動態皮膜部におけるＣｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．２以上であり、ＡＳＴＭ　Ｇ４８　Ｍｅｔｈｏｄ　Ｄ試験において臨界隙間腐食発生温度（ＣＣＴ）が４０℃以上であることを特徴とする耐食性に優れたＮｉ基合金を提案する。
　【００３１】
　さらに、本Ｎｉ基合金の不動態皮膜の母材側境界部におけるＭｏ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．１以上、かつ不動態皮膜中の酸素濃度が５５（ａｔ．％）以上であると、さらに耐食性が向上する。
　【００３２】
　さらに、本発明のＮｉ基合金は、Ｎｉ基合金に含有するＣ：０．００２〜０．０５％、Ｓ：０．０００１〜０．００５％、Ｃｒ：１０〜２５％、Ｍｏ：５〜２０％、Ｏ：０．０００１〜０．００５％、Ａｌ：０．０１〜０．５％、Ｆｅ：０．５〜１０％以下、残部Ｎｉおよび不可避的不純物からなることが望ましい。
　【００３３】
　また、本Ｎｉ基合金は、Ｓｉ：０．０１〜１％、Ｍｎ：０．０１〜１％、Ｔｉ：０．０１〜１％、Ｎｂ：０．５〜５％、Ｗ：０．５〜１０％のいずれか１種または２種以上を含有しても良い。
　【００３４】
　さらに本発明では、上記の化学成分を持つＮｉ基合金の製造方法も提案する。つまり、原料を電気炉で溶解し、ＡＯＤおよび／またはＶＯＤにて脱炭、Ｃｒ還元、脱硫を行い、溶融合金を、Ｃ：０．００２〜０．０５％、Ｓ：０．０００１〜０．００５％、Ｏ：０．０００１〜０．００５％以下、Ａｌ：０．０１〜０．５％に調整することを特徴とする耐食性に優れたＮｉ基合金の製造方法である。
　【００３５】
　以下に本発明における各数値の限定理由を以下に述べる。
不動態皮膜部におけるＣｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．２以上：
必要とされるＣＣＴ≧４０℃以上の耐食性を有するためには、不動態皮膜中にＮｉに対するＣｒの濃度比は、０．２以上が必要である。そのため、不動態皮膜部におけるＣｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比を０．２以上と規定した。好ましくは０．２２以上、より好ましくは、０．２５以上である。
　【００３６】
不動態皮膜の母材側境界部におけるＭｏ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．１以上：
　不動態皮膜中のＭｏは、特に皮膜の最深部に濃化して、耐食性を向上させる性質を持つ。上記のとおり、不動態皮膜部におけるＣｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．２以上を満たし、不動態皮膜部と母材側境界部におけるＭｏ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．１以上を満たすことにより、さらに耐食性を向上させることが出来る。具体的には、後述する酸素濃度、Ａｌ濃度、硫黄濃度が本発明の範囲を外れても、必要とされるＣＣＴ≧４０℃以上を満たすことができる。そのため、不動態皮膜の母材側境界部におけるＭｏ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比を０．１以上と定めた。好ましくは、０．１３以上、より好ましくは０．１５以上である。
　【００３７】
不動態皮膜最表層部における酸素濃度が５５（ａｔ．％）以上：
　不動態皮膜最表層部における酸素濃度が５５（ａｔ．％）以上となると、不動態皮膜部と母材側境界部におけるＭｏ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．１以上を満たし、より強固な不動態皮膜を構成することが出来る。そのため、不動態皮膜最表層部における酸素濃度は５５（ａｔ．％）以上と規定した。より好ましくは、５７（ａｔ．％）以上、さらに好ましくは、６０（ａｔ．％）以上である。
　【００３８】
　不動態皮膜は上記の態様が望ましい。特に限定はしないが、この態様を得るためには、不動態化処理にて達成することが出来る。この皮膜を得るには、下記の条件を満足することが好ましい。
　８０００≦Ｘ２×Ｙ＋Ｚ
（Ｘ：硝酸濃度（％）、Ｙ：浸漬時間（分）、Ｚ：温度（℃）、ただし、硝酸濃度１０〜５０％、時間１〜１００分、温度４０〜８５℃の範囲とする。）
　【００３９】
　続けて、本発明で定めた合金元素の限定理由を説明する。
Ｃ：０．００２〜０．０５％
　Ｃは合金の強度を保つために有用な元素であるため、０．００２％は必要である。しかしながら、熱処理過程や溶接時における熱影響部等において、ＣｒやＭｏと結合し炭化物を析出する。Ｃｒ、Ｍｏは耐食性を維持するために有効な元素であり、析出物の周囲では欠乏層が生じてしまい、その部位の耐食性を低下させるとともに、析出物上には不動態皮膜が形成しにくくなるため、耐食性を損なう。そのため、Ｃは０．００２〜０．０５％以下と定めた。好ましくは、０．００３〜０．０３％以下、さらに好ましくは、０．００４〜０．０２％以下である。
　【００４０】
Ｓ：０．０００１〜０．００５％
　Ｓは構造材の溶接時に湯流れ性を向上させるために有用な元素であるため、最低０．０００１％は必要である。硫化物を形成する元素でもある。特にＭｎと結合してＭｎＳを形成する。硫化物上には不動態皮膜が形成しにくくなるため、耐食性を損なう。そのため、０．０００１〜０．００５％とした。好ましくは、０．０００１〜０．００２％、より好ましくは、０．０００２〜０．００１％である。なお、Ｓ濃度を０．０００１〜０．００５％に制御するためには、精錬工程でＡｌを本発明で定める範囲０．０１〜０．５％に制御して、脱酸することによって、酸素濃度を０．０００１〜０．００５％に制御することで達成できる。つまり、下記の反応を、より右辺に進行することで脱硫する。
　２
Ａｌ
Ｓ
下線は溶鋼中成分、括弧はスラグ中の成分を示す。
　【００４１】
Ｃｒ：１０〜２５％
　Ｃｒは不動態皮膜を構成して耐食性を維持するために重要な元素である。母材のＣｒ濃度は１０％以上の含有、なおかつ、後述する本発明の表面処理を施すことで、不動態皮膜部におけるＣｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．２以上を有することが可能である。したがって、１０％以上含有する必要がある。しかし、過剰な含有は炭化物を析出し易くする。２５％を超えるとこの傾向が顕著となり、耐食性を低下させるため１０〜２５％と規定した。好ましくは、１４〜２３％であり、より好ましくは、１６〜２３％である。
　【００４２】
Ｍｏ：５〜２０％
　Ｍｏは不動態皮膜を構成して耐食性を維持するために重要な元素である。母材のＭｏ濃度は５％以上の含有、なおかつ、後述する本発明の表面処理を施すことで、不動態皮膜の最深部におけるＭｏ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．１以上を有することが可能である。したがって、５％以上含有する必要がある。しかし、過剰な含有は炭化物を析出し易くなることに加え、強度が高くなり加工性が悪化するため５〜２０％と規定した。好ましくは、７〜１５％であり、より好ましくは、９〜１２％である。
　【００４３】
Ｏ：０．０００１〜０．００５％
　Ｏは非金属介在物を形成する元素である。その非金属介在物が合金表面に存在すると、不動態皮膜が安定に形成されずに腐食の起点と成り得るために０．００５％以下と定めた。しかし、低下させすぎると、介在物組成がＭｇＯ・Ａｌ２Ｏ３となり、連続鋳造機の浸漬ノズル内に堆積して、ノズルが閉塞してしまう。そのため、０．０００１〜０．００５％と定めた。好ましくは、０．０００２〜０．００２％以下、より好ましくは０．０００２〜０．００１％以下である。なお、酸素濃度を０．０００１〜０．００５％以下に制御するためには、精錬工程でＡｌを本発明で定める範囲０．０１〜０．５％に制御すればよい。すなわち、下記の反応を、より右に進行することで酸素濃度を低下させる。
　２
Ａｌ
Ｏ
　【００４４】
Ａｌ：０．０１〜０．５％
　Ａｌは脱酸および脱硫のために重要な元素である。脱酸、脱硫を行い、本発明の範囲であるＳ：０．００５％以下、Ｏ：０．００５％以下を満足するためには０．０１％は必要であるが、０．５％を超えての添加は、非金属介在物をＭｇＯ・Ａｌ２Ｏ３に変化させてしまい、浸漬ノズルの閉塞を引き起こす危険性がある。そのため、０．０１〜０．５％と規定した。好ましくは、０．０２〜０．３、より好ましくは０．０３〜０．２５％である。なお、精錬工程時に、スラグ中のＳｉＯ２濃度を１０％以下に抑えることで、Ａｌを本発明で定める範囲０．０１〜０．５％に制御し易くなる。この理由は、スラグ中のＳｉＯ２濃度が１０％を超えて高いと、下記の反応が右側に進行して溶鋼中のＡｌを消費してしまうためである。
　４
Ａｌ
Ｓｉ
　【００４５】
Ｆｅ：０．５〜１０％
　Ｆｅは製造コストを低減させるために添加されることがある。０．５％未満の添加ではコストが著しく上昇する。また、不動態皮膜中のＦｅ濃度が高くなると耐食性を低下させるために、０．５〜１０％と定めた。
　【００４６】
　基本的に本発明の合金はＮｉ基合金である。その理由は、次の通りである。Ｎｉは貴金属であるから、Ｆｅより耐食性に優れている。不動態皮膜中においてはＦｅのように水酸化物Ｆｅ（ＯＨ）２を生成しないため、不動態皮膜は緻密かつ保護作用も高い。また、Ｎｉ基合金はＦｅ基合金に比べて固溶できる合金元素の含有量が高いため、ＣｒやＭｏ等の耐食性を高める元素をより多く含有できる。そのため優れた耐食性を有する保護皮膜を母材表面に形成させるためにはＮｉ基合金である必要がある。また、本発明で言う不可避的不純物とは、Ｐ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｔａ、Ｖ、Ｎ、Ｂ、Ｈである。
　【００４７】
　なお、本発明の合金では、Ｓｉ：０．０１〜１％以下、Ｍｎ：０．０１〜１％以下、Ｔｉ：０．０１〜１％以下、Ｎｂ：０．５〜５％以下、Ｗ：０．５〜１０％以下のいずれか１種または２種以上を含有しても構わない。
Ｓｉ：０．０１〜１％
　Ｓｉは脱酸のために有効な元素であり、０．０１〜１％の範囲で添加しても構わない。
　【００４８】
Ｍｎ：０．０１〜１％
　Ｍｎは脱酸のために有効な元素であり、０．０１〜１％の範囲で添加しても構わない。
　【００４９】
Ｔｉ：０．０１〜１％以下
　Ｔｉは炭素と結合しＴｉＣを形成するため、Ｃｒと炭素の結合を防ぐ。そのため、耐食性を高める性質を持つため、０．０１〜１％の範囲で添加しても構わない。
　【００５０】
Ｎｂ：０．５〜５％
　Ｎｂは強度を高める元素である。さらに、炭素と結合しＮｂＣを形成するため、Ｃｒと炭素の結合を防ぐため、耐食性を高める役割もある。そのため、０．５〜５％の範囲で添加しても構わない。
　【００５１】
Ｗ：０．５〜１０％
　Ｗは、Ｍｏと同様に不動態皮膜を構成して耐食性を維持するために重要な元素である。そのため、０．５〜１０％の範囲で添加しても構わない。
　【００５２】
　本発明では、上記の化学成分を持つＮｉ基合金の製造方法も提案する。
原料を電気炉で溶解し、ＡＯＤ（Ａｒｇｏｎ　Ｏｘｙｇｅｎ　Ｄｅｃａｒｂｕｒｉｚａｔｉｏｎ）および／またはＶＯＤ（Ｖａｃｕｕｍ　Ｏｘｙｇｅｎ　Ｄｅｃａｒｂｕｒｉｚａｔｉｏｎ）にて脱炭を行い、Ｃ濃度を０．０５％以下とする。ＡＯＤおよびＶＯＤは、送酸速度が高く発生するＣＯガス分圧を低下できるため、Ｃｒ含有合金の精錬に適している。その後、スラグ中に移行したＣｒ酸化物を還元するＣｒ還元を行う。還元剤は、特に限定しないが、ＦｅＳｉ合金またはＡｌが好適である。同時に、石灰石および蛍石を添加するとともに、脱酸に必要なＡｌを添加する。
　【００５３】
　この操作により、溶融合金上に形成するスラグはＣａＯ−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−ＭｇＯ−Ｆ系となる。スラグ中ＳｉＯ２濃度を１０％以下に制御することで、Ａｌ濃度を安定して０．０１〜０．５％に制御することが可能となる。スラグ中ＳｉＯ２濃度を１０％以下に制御するのは、ＦｅＳｉ合金の投入量を調節すれば良い。この操作により、脱酸だけではなく、脱硫も進行し、Ｓ：０．００５％以下、Ｏ：０．００５％以下に調整することができる。
　【実施例】
　【００５４】
　スクラップ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏなどの原料を電気炉で溶解し、ＡＯＤおよび／またはＶＯＤにて酸素吹精して脱炭を行った。その後、Ａｌと石灰石を投入してＣｒ還元を行い、さらに石灰石と蛍石を投入し、溶融合金上にＣａＯ−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−ＭｇＯ−Ｆ系スラグを形成して脱酸、脱硫を行った。スラグ中ＳｉＯ２濃度は１０％以下に制御した。このようにして精錬した溶融合金を、連続鋳造機にて鋳造しスラブを得た。その後、スラブを熱間圧延し、冷間圧延して板厚２ｍｍの冷延板を製造した。
　【００５５】
　原料の配合比を様々に変更し、上記方法によって製造することで、表３に化学成分を示す発明例１〜８および比較例９〜１３の冷延板を製造した。このようにして製造した各冷延板について、次の方法により耐食性および不動態皮膜の評価を実施した。
　【００５６】
　（１）ＣＣＴ試験
　耐食性の評価は、基本的にＡＳＴＭ　Ｇ４８　Ｍｅｔｈｏｄ　Ｄにしたがい行った。試験片は、上記の冷延板から、厚み２ｍｍ、幅２５ｍｍ、長さ５０ｍｍのサイズを切り出して、平面中央に直径７ｍｍの孔を空けた。その後、エメリー紙＃１２０番まで湿式研磨を行い、アルコールによる脱脂後、冷風によってアルコールを除去し、表３に示すように各発明例・比較例毎に定めた硝酸溶液への浸漬による表面処理Ａ〜Ｇを施した。なお、処理Ａ〜Ｇの実施条件は下記表２に示した。
　【００５７】
　【表２】
　【００５８】
　表面処理後、ＡＳＴＭ　Ｇ４８　Ｔｙｐｅ　Ｂに規定されているセラミック製の冶具をＴｉ製ボルトとナットを用いて、各冷延板に０．２８Ｎ・ｍの締め付けトルクで固定した。この試験片を６％ＦｅＣｌ３と１％ＨＣｌを混合した６００ｍＬ以上の溶液に、５℃間隔で様々に温度を変えて、各温度あたり７２時間浸漬した。浸漬後冶具を取り外し、腐食生成物を除去し洗浄後、すきま腐食の深さを測定し、０．０２５ｍｍ以上発生した場合をすきま腐食が発生したと見なした。試験は５℃間隔でそれぞれ２回ずつ試験し、すきま腐食が発生した最低温度を臨界すきま腐食発生温度（ＣＣＴ）とした。判定方法は、表３において、ＣＣＴ≧５０℃のものを◎、ＣＣＴ≧４０℃を○とし、ＣＣＴ＜４０℃のものを×とした。
　【００５９】
　（２）不動態皮膜の評価
　耐食性試験と同様に、エメリー紙＃２０００番まで湿式研磨を行い、アルコールによる脱脂後、冷風によってアルコールを除去した。表３に示すように上記の表面処理Ａ〜Ｇを施した後、ＡＥＳを用いて不動態皮膜厚みと組成を測定した。ＡＥＳは、日本電子製　ＪＡＭＰ−９５００Ｆ、測定条件は、加速電圧１０ｋＶ、試料電流量０．０１μＡを用いて深さ方向に１ｋＶでスパッタしながら、測定した各元素のプロファイルからその原子比を求めた。求められた各元素の比から、Ｃｒ／Ｎｉ比、Ｍｏ／Ｎｉ比、不動態皮膜最表層部の酸素濃度を求め、表３に示した。その他の測定方法は、以下の通りとした。
　【００６０】
　（３）合金の化学成分
　蛍光Ｘ線分析により行った。ただし、ＣとＳは燃焼重量法、Ｏは不活性ガスインパルス融解赤外線吸収法によった。
　（４）スラグ成分
　蛍光Ｘ線分析により行った。
　【００６１】
　【表３】
　【００６２】
　表３に実施例を示して、本発明の効果を明確にする。発明例であるＮｏ．１〜５は、全て本発明の好ましい範囲を満たすことから、ＣＣＴは全て５０℃以上となり極めて良好（◎）な結果を得た。
　【００６３】
　Ｎｏ．６の合金は、Ｍｏ／Ｎｉの比率が０．１を下回って０．０９であった。さらに、不動態皮膜最表層部の酸素濃度が５４（ａｔ．％）と低く、ＣＣＴは概ね良好（○）ではあるものの少々低い４５℃であった。
　【００６４】
　Ｎｏ．７の合金は、脱炭がうまく進行せず、Ｃ濃度が０．０７９％と高かったため、Ｃｒ炭化物を形成したのとＭｏ／Ｎｉの比率が０．１を下回って０．０８であった。さらに、不動態皮膜最表層部の酸素濃度は５４（ａｔ．％）と低く、ＣＣＴは４０℃であった。Ｎｏ．１〜７の合金を製造する際のスラグ組成は、いずれもスラグ中ＳｉＯ２濃度が１０％を下回っており、問題ないことを確認している。
　【００６５】
　Ｎｏ．８の合金は、Ａｌ濃度が０．０１％を下回って低く、そのために脱酸、脱硫が進まず、ＳとＯ濃度が高かった。しかし、Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）＝０．２８、Ｍｏ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）＝０．１４、かつ、不動態皮膜の最表層部における酸素濃度も５７（ａｔ．％）と、これらの範囲は満たしたために、ＣＣＴは４０℃を満足した。なお、Ａｌ濃度が０．０１％を下回って低くなったのは、スラグ中のＳｉＯ２濃度が１１．２％と１０％を超えて高かったためである。
　【００６６】
　一方、比較例Ｎｏ．９〜１２はいずれかの範囲を外れたため、ＣＣＴは４０℃未満と低くなってしまった。まず、Ｎｏ．９は表面処理がＡ処理、つまり、１５％ＨＮＯ３中に６０℃で６分浸漬という不十分な不動態化条件であったため、不動態皮膜が十分な組成を有さず、Ｃｒ／Ｎｉの比率、Ｍｏ／Ｎｉの比率、不動態皮膜の最表層部における酸素濃度、いずれも本発明の範囲を下回ってしまった。そのため、ＣＣＴは３５℃となってしまった。
　【００６７】
　Ｎｏ．１０は、表面処理がＢ処理、つまり、１５％ＨＮＯ３中に６０℃で３０分浸漬という不十分な不動態化条件であったため、不動態皮膜が十分な組成を有さず、Ｃｒ／Ｎｉの比率、Ｍｏ／Ｎｉの比率、不動態皮膜の最表層部における酸素濃度、いずれも本発明の範囲を下回ってしまった。さらに脱炭がうまく行かず、０．０９２％と高濃度になったため、ＣＣＴは３０℃となってしまった。
　【００６８】
　Ｎｏ．１１は、表面処理がＤ処理、つまり、３０％ＨＮＯ３中に６０℃で１分浸漬という不十分な不動態化条件であったため、不動態皮膜が十分な組成を有さず、Ｃｒ／Ｎｉの比率、Ｍｏ／Ｎｉの比率、不動態皮膜の最表層部における酸素濃度、いずれも本発明の範囲を下回ってしまった。さらに脱炭がうまく行かず、０．０６１％と高濃度になった。さらにＡｌ濃度が０．０１％を下回って低く、そのために脱酸、脱硫が進まず、ＳとＯ濃度が高くなってしまった。なお、Ａｌ濃度が０．０１％を下回って低くなったのは、スラグ中のＳｉＯ２濃度が１２．８％と１０％を超えて高かったためである。このため、ＣＣＴは３０℃となってしまった。
　【００６９】
　Ｎｏ．１２は、表面処理がＡ処理、つまり、１５％ＨＮＯ３中に６０℃で６分浸漬という不十分な不動態化条件であったため、不動態皮膜が十分な組成を有さず、Ｃｒ／Ｎｉの比率、Ｍｏ／Ｎｉの比率、不動態皮膜の最表層部における酸素濃度、いずれも本発明の範囲を下回ってしまった。さらにＡｌ濃度が０．０１％を下回って低く、そのために脱酸、脱硫が進まず、ＳとＯ濃度が高くなってしまった。なお、Ａｌ濃度が０．０１％を下回って低くなったのは、スラグ中のＳｉＯ２濃度が１０．９％と１０％を超えて高かったためである。このため、ＣＣＴは３０℃となってしまった。
　【００７０】
　Ｎｏ．１３は、Ａｌが高く介在物組成がＭｇＯ・Ａｌ２Ｏ３となってしまい、ノズル閉塞により鋳造中止のため、製品が製造できなかった。
　【００７１】
　また、不動態化処理の特性式８０００≦Ｘ２×Ｙ＋Ｚ（Ｘ：硝酸濃度（％）、Ｙ：浸漬時間（分）、Ｚ：温度（℃）、ただし、硝酸濃度１０〜５０％、時間１〜１００分、温度４０〜８５℃の範囲）を満たす表面処理Ｃ、Ｅ、Ｆ、Ｇ（表２の評価で○）は、全て良好な結果であったのに対して、特性式を満たさない処理Ａ、Ｂ、Ｄ（表２の評価で×）は、ＣＣＴを満足しなかった。
　【産業上の利用可能性】
　【００７２】
　腐食性の強い過酷な環境下で長期間に亘って使用することができる高耐食性のＮｉ基合金を製造することができ、有望である。
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　
必須の成分として
２．１８
Ｓｉ：０．０１〜１％およびＭｎ：０．０１〜１％、さらに、Ｗ：０．５〜１０％または、Ｔｉ：０．０１〜１％およびＮｂ：０．５〜５％、
　オージェ電子分光法を用いて、加速電圧１０ｋＶ、試料電流量０．０１μＡとして前記Ｎｉ基合金の深さ方向に１ｋＶの条件でスパッタしながら測定した各元素のプロファイルから算出した場合の、合金の表面に形成される不動態皮膜部
の母材側境界部
不動態皮膜の母材側境界部におけるＭｏ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比が０．１以上、かつ、不動態皮膜最表層部における酸素濃度が５５（ａｔ．％）以上であり、
　
前記Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比と表面からの深さの関係において、前記Ｃｒ濃度（ａｔ．％）／Ｎｉ濃度（ａｔ．％）の比は、表面から不動態皮膜深さ方向に向けて増大して極大値を示し、次いで減少して、前記母材側境界部において極小値を示して、母材側において増大するものであり、
　ＡＳＴＭ　Ｇ４８　Ｍｅｔｈｏｄ　Ｄ試験において臨界隙間腐食発生温度（ＣＣＴ）が４０℃以上であることを特徴とするＮｉ基合金。
　【請求項２】（削除）
　【請求項３】（削除）
　【請求項４】
　請求項
１
　【請求項５】
　前記Ｎｉ基合金を所望の形状に成形した後、硝酸溶液に浸漬して不動態化処理を行うことを特徴とする請求項４に記載のＮｉ基合金の製造方法。
　【請求項６】
　前記不動態化処理は、Ｘ：硝酸濃度（％）、Ｙ：浸漬時間（分）、Ｚ：温度（℃）とした場合、下記式を満足するように行うことを特徴とする請求項５に記載のＮｉ基合金の製造方法。
　８０００≦Ｘ２×Ｙ＋Ｚ
（１０≦Ｘ≦５０、１≦Ｙ≦１００、４０≦Ｚ≦８５）