【事件の表示】
　特願２００４−５０７２９７「負荷不整合信頼性および安定性のあるＶＨＦプラズマ処理のための方法および装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年１２月　４日国際公開、ＷＯ０３／１０１１６０、平成１７年　９月　８日国内公表、特表２００５−５２７０７８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯
　本願は、平成１５年４月１４日（パリ条約による優先権主張２００２年５月２０日、米国）に出願された国際出願であって、平成２０年１１月１３日付けで拒絶理由が通知され、平成２１年２月２３日付けで特許請求の範囲について手続補正がなされるとともに意見書が提出されたものの、同年１１月９日付けで拒絶査定がなされた。
　本件は、前記拒絶査定を不服として、平成２２年３月１１日に請求された拒絶査定不服審判事件である。
　
２　本願発明
　本願の請求項１ないし２４に係る発明は、平成２１年２月２３日付け手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１ないし２４に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は次のとおりである。 
「非線形負荷不整合状態に抵抗力のあるプラズマ処理システム用の無線周波数（ＲＦ）発生器装置であって、
　ＲＦ信号を発生するように構成されたＲＦ発振器と、
　前記ＲＦ信号に応答し、プラズマチャンバ負荷を駆動するのに十分な電力を有するＶＨＦ・ＲＦ信号を生成するＲＦ増幅器と、
　前記増幅器に結合され、かつ広帯域範囲において前記プラズマチャンバ負荷の非線形性を前記ＲＦ増幅器から分離するように構成された広帯域ＶＨＦ帯サーキュレータと、
を含む装置。」
　
３　刊行物
（１）引用例１
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２０００−３１０７３号公報（以下「引用例１」という。）には、図面とともに以下の事項が記載ないし図示されている。
（１ａ）「【請求項１】　真空容器内に高周波電力を投入して、プラズマを生起させ、該プラズマにより処理を行うプラズマ処理装置において、
　高周波電力の基本発振周波数がＶＨＦ周波数であり、高周波電源の入射電力及び／又は反射電力検出回路に、基本発振周波数を透過し、その高調波成分をカットするローパスフィルターを挿入したことを特徴とするプラズマ処理装置。」
（１ｂ）「【００１７】すなわち、図２に示すようなプラズマＣＶＤ法による堆積膜形成装置においては、高周波の投入電力は一般に高周波電源１０２に設けた電力検出回路１１１によって入射電力、反射電力を読みとるが、常時電力を監視する方向性結合器１１６を用いた透過型の電力検出回路１１１では基本発振周波数に対してのみ正しい値を示すように較正されている。そのため、整合回路１１２から先で高周波の波形が歪み、高調波を生じると、高調波を多く含んだ反射波が高周波電源１０２の電力検出回路１１１に戻ってくるため、入射、反射電力が正確に読めなくなり、マッチングも正確に合わせることができない。
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、導入される高周波電力が歪んで高調波を生じ易く、入射、反射電力が正確に読めない、マッチングが正確に合わせられないという問題を解決し、再現性良く、大面積にわたって均一にプラズマ処理（例えば堆積膜の形成エッチング）を行うことのできるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供することである。」
（１ｃ）「【００２４】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明を詳細に説明する。
【００２５】図１に本発明のプラズマ処理装置の一例としてプラズマＣＶＤ法による堆積膜形成装置の例の模式的構成図を示す。
【００２６】図１に示した装置において、図２と同じ番号で示したものは同じものを示しており、堆積膜形成装置は大きくプラズマ処理部１０１と高周波電源部１０２を有する。
【００２７】プラズマ処理部１０１は真空容器１０３内部に放電室１０４が設けられ、放電室１０４には排気装置（不図示）に接続された排気管１０５と、堆積膜の原料ガス（エッチングの場合はエッチングガス，希釈ガスの導入も可）を導入するガス導入管１０６と、堆積膜を堆積する基板１０７と、基板１０７を加熱するヒーター１０８と、高周波電力を放射するアンテナ１０９が設けられ、加熱された基板１０７上にプラズマＣＶＤ法により堆積膜を形成できる。
【００２８】一方、高周波電源部１０２は、高周波を発振し、反射波を吸収する高周波電源回路１１０と、入射、反射電力を検出する電力検出回路１１１と、プラズマＣＶＤ装置１０１の負荷との間のインピーダンスマッチングを行う整合回路１１２と、高周波ケーブル１２１とを有する。
【００２９】高周波電源回路１１０は高周波発振回路１１３と、サーキュレーター１１４、反射波吸収負荷１１５からなり、電力検出回路１１１は、方向性結合器１１６と、検波器１１７と、アンプ１１８と、メーター１１９と、ローパスフィルター１２０からなり、ローパスフィルター１２０は方向性結合器１１６と検波器１１７との間に挿入されている。ローパスフィルター１２０の有無が図２の装置との大きな違いである。」
（１ｄ）「【００５５】＜高周波電力＞　本発明において用いられる高周波電力は、基本発振周波数がＶＨＦ周波数の高周波電力である。
【００５６】本発明においてＶＨＦ周波数としては、従来、一般的に用いられている１３．５６ＭＨｚ等のＲＦ周波数よりも高く、２．４５ＧＨｚ等のマイクロ波周波数よりも低い周波数範囲を指し、凡そ２０ＭＨｚ乃至５００ＭＨｚの周波数範囲である。
【００５７】その範囲の中でも、プラズマ密度を高め、堆積速度の向上を望む場合には比較的高い周波数領域を選択し、大面積の均一性を望む場合には、より波長が長く大面積での均一性が高い、比較的低い周波数領域を選択する。」
（１ｅ）「【図１】
」
　これら（１ａ）〜（１ｅ）の記載及び図示内容からして、引用例１には、 
「真空容器内に、凡そ２０ＭＨｚ乃至５００ＭＨｚの周波数範囲のＶＨＦ周波数から選択される周波数の高周波電力を投入してプラズマを生起させ、該プラズマにより処理を行うプラズマ処理装置であって、
　当該プラズマ処理装置は、プラズマ処理部１０１と高周波電源部１０２を有し、
　前記高周波電源部１０２は、
　高周波を発振する高周波発振回路１１３と、当該高周波発振回路１１３に接続された、反射波を吸収する、反射波吸収負荷１１５を具備するサーキュレーター１１４からなる高周波電源回路１１０と、
　入射、反射電力を検出する電力検出回路１１１と、
　高周波ケーブル１２１と、
　プラズマＣＶＤ装置１０１の負荷との間のインピーダンスマッチングを行う整合回路１１２とを有する装置。」の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているといえる。 
　
（２）引用例２
　同じく原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００２−１１０５６６号公報（以下「引用例２」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている。
（２ａ）「【０００２】
【従来の技術】従来、高周波プラズマ生成装置を用いたプラズマＣＶＤ成膜装置としては、例えば図５（当審注：「図３」の誤記と認める。以下同様。）に示すものが知られている。
　図中の符番１は反応容器である。この反応容器１内には、ヒータ２とラダ−型の放電用電極３が対向して配置されている。…（中略）…
【０００３】前記放電用電極３の所定の箇所には、分配器５ａ，整合器６ａを介して第１の高周波電源７ａが電気的に接続されている。また、前記放電用電極３の他の箇所には、分配器５ｂ，整合器６ｂを介して第２の高周波電源７ａが電気的に接続されている。
【０００４】前記第１の高周波電源７ａは、電力を測る方向性結合器８ａと、合成器９ａと、アンプ１０ａと、発振器１１ａとから構成されている。前記第２の高周波電源７ｂは、電力を測る方向性結合器８ｂと、合成器９ｂと、アンプ１０ｂと、発振器１１ｂとから構成されている。
…（中略）…
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図５に示すように１つの放電用電極３に複数の高周波電源７ａ，７ｂが接続する構成のプラズマＣＶＤ製膜装置においては、１台の高周波電源７ａ（又は７ｂ）からの電力が放電用電極３を介して他の高周波電源７ｂ（又は７ａ）に逆流・干渉する。その結果、一方の高周波電源７ｂに負荷が加わり、最悪の場合機器を損傷する恐れがあった。また、高周波電源７ａ，７ｂが相互に干渉するため、１台の高周波電源（整合器）を調整した際に、他の電源の整合条件を変化させてしまい、適正な入力が行なえなかった。」
（２ｂ）「【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明に係るプラズマ生成装置は、反応容器内に配置された放電用電極へ給電を行う複数の高周波電源と、前記放電用電極と前記高周波電源間に配置された、反射電力を分離処理する逆流防止回路とを具備したことを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明について更に詳しく説明する。
【００１２】本発明において、前記逆流防止回路としては、例えば高周波電源からの電力を分岐するサーキュレータと、このサーキュレータに電気的に接続されて電力を測定する方向性結合器と、前記サーキュレータに電気的に接続されて電力を消費する負荷（ダミーロード）とを具備する構成のものが挙げられる。」
（２ｃ）「【００１４】
【実施例】以下、本発明の一実施例について図１を参照して説明する。ここで、図１は本実施例に係るプラズマ生成装置を用いたプラズマＣＶＤ装置の全体図を示す。
…（中略）…
【００１６】前記放電用電極２３の所定の箇所（例えば上部）には、分配器２５ａ、整合器２６ａ及び逆流防止回路２７ａを介して第１の高周波電源２８ａが電気的に接続されている。また、前記放電用電極２３の他の箇所（例えば下部）には、分配器２５ｂ、整合器２６ｂ及び逆流防止回路２７ｂを介して第２の高周波電源２８ｂが電気的に接続されている。
【００１７】前記逆流防止回路２７ａは、第１の高周波電源２８ａからの電力を分岐するサーキュレータ２９ａと、このサーキュレータ２９ａに電気的に接続されて電力を測定する方向性結合器３０ａと、前記サーキュレータ２９ａ及び後述するコントローラに電気的に接続されて電力を消費する負荷（ダミーロード）３１ａとから構成されている。
【００１８】前記逆流防止回路２７ｂは、第１の（当審注：「第２の」の誤記と認める。）高周波電源２８ｂからの電力を分岐するサーキュレータ２９ｂと、このサーキュレータ２９ｂに電気的に接続されて電力を測定する方向性結合器３０ｂと、前記サーキュレータ２９ｂ及び後述するコントローラに電気的に接続されて電力を消費する負荷（ダミーロード）３１ｂとから構成されている。
【００１９】前記第１の高周波電源２８ａは、電力を測る方向性結合器３２ａと、合成器３３ａと、アンプ３４ａと、発振器３５ａとから構成されている。前記第２の高周波電源２８ｂは、電力を測る方向性結合器３２ｂと、合成器３３ｂと、アンプ３４ｂと、発振器３５ｂとから構成されている。」
（２ｄ）「【００２５】上記実施例によれば、放電用電極２３に接続する整合器２６ａと第１の高周波電源２８ａ間にサーキュレータ２９ａと方向性結合器３０ａと負荷３１ａとから構成される逆流防止回路２７ａを配置するとともに、放電用電極２３に接続する整合器２６ｂと第２の高周波電源２８ｂ間にサーキュレータ２９ｂと方向性結合器３０ｂと負荷３１ｂとから構成される逆流防止回路２７ｂを配置した構成となっているため、一方の第１の高周波電源２８ａ（又は他方の高周波電源２８ｂ）からの電力が放電用電極２３を介して他の高周波電源２８ｂ（又は高周波電源２８ａ）に逆流・干渉することを防止できる。」
（２ｅ）「【００２９】
【発明の効果】以上詳述した如く本発明によれば、反応容器内に配置された放電用電極へ給電を行う複数の高周波電源と、前記放電用電極と前記高周波電源間に配置されて反射電力を分離処理する逆流防止回路とを具備した構成にすることにより、高周波電源の逆流・干渉による機器の破損を回避でき、また高周波電源の相互干渉を回避して整合条件が変化するのを防止しえ、もって均一な製膜分布が得られるプラズマ生成装置を提供できる。」
（２ｆ）「【図１】
」
　
４　対比 
　本願発明と引用発明を対比する。 
（１）引用発明の「プラズマ処理装置」が、本願発明の「プラズマ処理システム」に相当することは明らかであり、引用発明の「高周波電源部１０２」は、プラズマ処理装置の真空容器内に高周波電力を供給するための部材であることは明らかであるから、引用発明の「高周波電源部１０２」が、本願発明の「プラズマ処理システム用の無線周波数（ＲＦ）発生器装置」に相当する。
（２）引用発明の「高周波を発振する高周波発振回路１１３」は、プラズマ処理装置の真空容器内に、凡そ２０ＭＨｚ乃至５００ＭＨｚの周波数範囲のＶＨＦ周波数から選択される周波数の高周波電力を供給するための部材である前記「高周波電源部１０２」の一部であって、引用発明の前記「高周波電源部１０２」には、他に高周波電力供給をするための部材が存在しないことからして、引用発明の前記「高周波を発振する高周波発振回路１１３」と、本願発明の「ＲＦ信号を発生するように構成されたＲＦ発振器と、前記ＲＦ信号に応答し、プラズマチャンバ負荷を駆動するのに十分な電力を有するＶＨＦ・ＲＦ信号を生成するＲＦ増幅器」という構成は、「ＲＦ信号を発生するように構成されたＲＦ発振器と、前記ＲＦ信号に応答し、プラズマチャンバ負荷を駆動するのに十分な電力を有するＶＨＦ・ＲＦ信号を生成する高周波電力供給手段」である点で共通しているといえる。
（３）そして、引用発明の「反射波を吸収する、反射波吸収負荷１１５を具備するサーキュレーター１１４」は、前記「高周波発振回路１１３」に接続されていて、プラズマ処理装置の真空容器内に投入されたＶＨＦ周波数の高周波電力の反射波を吸収することを意味することは明らかであるから、実質的に、本願発明の「ＶＨＦ帯サーキュレータ」に相当し、上記（２）で共通するとした「高周波電力供給手段」に結合されているといえる。
　したがって、本願発明と引用発明は、 
「プラズマ処理システム用の無線周波数（ＲＦ）発生器装置であって、
　ＲＦ信号を発生するように構成されたＶＨＦ・ＲＦ発振器と、
　前記ＲＦ信号を発生するように構成されたＲＦ発振器と、前記ＲＦ信号に応答し、プラズマチャンバ負荷を駆動するのに十分な電力を有するＶＨＦ・ＲＦ信号を生成する高周波電力供給手段と、
前記高周波電力供給手段に結合されたＶＨＦ帯サーキュレータと、
を含む装置。」の点で一致し、以下の点で相違する。 
〈相違点〉
　本願発明は、ＲＦ信号に応答し、プラズマチャンバ負荷を駆動するのに十分な電力を有するＶＨＦ・ＲＦ信号を生成する「ＲＦ増幅器」を具備するとともに、ＶＨＦ帯サーキュレータが、「広帯域」であって、「前記増幅器に結合され、かつ広帯域範囲において前記プラズマチャンバ負荷の非線形性を前記ＲＦ増幅器から分離するように構成され」ていることにより、「非線形負荷不整合状態に抵抗力のある」装置であるのに対し、
引用発明は、前記「ＲＦ増幅器」についての明示、及び、ＶＨＦ帯サーキュレータが「広帯域」であるか否か明らかでないとともに、その機能についての明示がなく、「非線形負荷不整合状態に抵抗力のある」装置であるか否か明らかでない点。
　 
５　検討・判断
　上記相違点について検討する。
（１）ＲＦ増幅器について
　引用例２に記載ないし図示されている（上記（２ａ）、（２ｃ）、（２ｆ）参照）ように、プラズマ生成装置の放電用電極に電気的に接続される高周波電源を、アンプと発振器によって構成することは当業者に周知の事項であるから、引用発明のプラズマ処理装置における高周波電力の供給を、ＲＦ増幅器を用いて達成すること、すなわち、高周波を発振するＲＦ発振器と、当該ＲＦ発振器で発振した高周波を増幅するＲＦ増幅器で構成することは、何らの創意も要しない事項、もしくは、引用発明が実質的に具備している事項ということができる。
　したがって、本願発明が、ＲＦ信号に応答し、プラズマチャンバ負荷を駆動するのに十分な電力を有するＶＨＦ・ＲＦ信号を生成する「ＲＦ増幅器」を具備する点、及び、ＶＨＦ帯サーキュレータが「前記増幅器に結合されている」点は格別なものとはいえない。
（２）ＶＨＦ帯サーキュレータについて
　本願発明の広帯域ＶＨＦ帯サーキュレータに関する「広帯域範囲において前記プラズマチャンバ負荷の非線形性を前記ＲＦ増幅器から分離する」という発明特定事項について検討すると、当該事項は、本願の発明の詳細な説明の「一構成において、分離部１４には、ＶＨＦ帯サーキュレータ３２が含まれ、このサーキュレータ３２が、増幅器３０に結合されて、プラズマチャンバ負荷１６の非線形性をＲＦ増幅器３０から分離するように構成されている。一構成において、サーキュレータ３２は、一ポート３４から隣接ポート３６をＲＦエネルギを伝える一方で、逆方向においては、他のポートからエネルギを切り離す受動非可逆（一方向）フェライト素子である。サーキュレータ３２の第３のポート３８は、終端抵抗器４０を介して、接地に結合されている。」（段落【００３３】参照）、「サーキュレータ３２によって、相互作用するプラズマインピーダンスが引き起こす反射電力の分離および抑制がもたらされるが、反射電力は、さもなければ、全体的な発生器／プラズマ負荷システムの安定性および信頼性を劣化させるであろう。さらに、プラズマ負荷の状態、ＲＦ発生器装置１０と負荷１６との間のケーブル長、または任意の負荷不整合にもかかわらず、サーキュレータ３２によって、ＲＦ発生器装置１０は、性能パラメータに何の変化もなく、定格通りに動作が可能となる。」（段落【００６８】参照）という記載からして、具体的には、「プラズマインピーダンス等の任意の負荷不整合によって引き起こされる反射電力を、終端抵抗器を介して接地することによって分離および抑制し、全体的な発生器／プラズマ負荷システムの安定性および信頼性を保つ」ことを意味するものと解される。
　ここで、プラズマチャンバに配された電極と高周波電源部の間にサーキュレータを設けることにより、プラズマチャンバからの反射高周波電力をダミーロードに導いて、高周波電力の逆流を防止して機器の破損を防止することができることは引用例２に記載されている（上記（２ａ）〜（２ｆ）参照）ように、本願の優先日前に公知の事項である。
　加えて、引用例１には、プラズマ処理装置における高周波電力波形に歪みによって生じる高調波等による反射波の発生やインピーダンス不整合の問題が指摘されている（上記（１ｂ）参照）ことからして、引用発明の、反射波吸収負荷１１５を具備するサーキュレーター１１４からなる構成は、プラズマチャンバからの反射高周波電力を反射波吸収負荷１１５に導くことにより、その反射高周波電力が高周波発振回路１１３へ逆流することを防止する機能を果たし得ることは当然であるといえる。
　そして、引用例１で指摘されている、高周波電力波形に歪みによって生じる高調波等による反射波やインピーダンス不整合の発生が線形に発生するものでなく、また広帯域周波数において発生することは、当業者に明らかな事項である。
　そうすると、引用発明の反射波吸収負荷１１５を具備するサーキュレーター１１４なる構成を、「広帯域」において「プラズマインピーダンス等の任意の負荷不整合によって引き起こされる反射電力を、終端抵抗器を介して接地することによって分離および抑制し、全体的な発生器／プラズマ負荷システムの安定性および信頼性を保つ」ために用いること、すなわち、引用発明のＶＨＦサーキュレーターを、「広帯域」とし、「プラズマチャンバ負荷の非線形性を前記ＲＦ増幅器から分離する」ために用いて、「非線形負荷不整合状態に抵抗力のある」装置とすることは、当業者が格別の困難なくなし得る事項である。
（３）小括
　以上のとおりであるので、本願発明は、引用発明、引用例２に記載された技術的事項、及び、当業者に周知または明らかな事項に基いて当業者が容易に発明できたものである。 
　
６　むすび
　上記のとおり、本願の請求項１に係る発明は、本願の優先日前に頒布された刊行物である引用例１に記載された発明、引用例２に記載された技術的事項、及び、当業者に周知または明らかな事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。