(57)【要約】下記一般式（Ｉ）：2003103656.tif 000072（式中、Ｘは、主鎖の原子数が２ないし５である連結基（該連結基は置換基を有していてもよい）を表し、Ａは、置換基を有していてもよいアシル基（ただし、無置換のアセチル基及び無置換のアクリロイル基を除く）、又は置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基を表すか、あるいは連結基Ｘと結合して置換基を有していてもよい環構造を形成し、Ｅは、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を表し、環Ｚは、式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは上記定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは上記定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいアレーン、又は式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは上記定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは上記定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいヘテロアレーンを表す）で表される化合物及び薬理学的に許容されるその塩、並びにそれらの水和物及び溶媒和物からなる群から選ばれる物質を有効成分として含み、ＮＦ−κＢ活性化阻害作用を有する医薬。
2003103656.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）：
2003103656.tif 000068
（式中、
Ｘは、主鎖の原子数が２ないし５である連結基（該連結基は置換基を有していてもよい）を表し、
Ａは、置換基を有していてもよいアシル基（ただし、無置換のアセチル基及び無置換のアクリロイル基を除く）、又は置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基を表すか、あるいは連結基Ｘと結合して置換基を有していてもよい環構造を形成し、
Ｅは、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を表し、
環Ｚは、式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは上記定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは上記定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいアレーン、又は式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは上記定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは上記定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいヘテロアレーンを表す）で表される化合物及び薬理学的に許容されるその塩、並びにそれらの水和物及び溶媒和物からなる群から選ばれる物質を有効成分として含み、ＮＦ−κＢ活性化阻害作用を有する医薬。
【請求項２】
Ｘが、下記連結基群αより選択される基（該基は置換基を有していてもよい）である請求の範囲第１項に記載の医薬。
［連結基群α］下記式：
2003103656.tif 000069
（式中、左側の結合手が環Ｚに結合し右側の結合手がＥに結合する）
【請求項３】
Ｘが、下記式：
2003103656.tif 000070
（式中、左側の結合手が環Ｚに結合し右側の結合手がＥに結合する）で表される基（該基は置換基を有していてもよい）である請求の範囲第１項に記載の医薬。
【請求項４】
Ａが、下記置換基群ω：
［置換基群ω］置換基を有していてもよい炭化水素−カルボニル基、置換基を有していてもよいヘテロ環−カルボニル基、置換基を有していてもよい炭化水素−オキシ−カルボニル基、置換基を有していてもよい炭化水素−スルフォーニル基、置換基を有していてもよいスルファモイル基、置換基を有していてもよいスルフォー基、置換基を有していてもよいフォースフォーノ基、及び置換基を有していてもよいカルバモイル基
より選択される基（ただし、無置換のアセチル基及び無置換のアクリロイル基を除く）である請求の範囲第１項ないし第３項のいずれか１項に記載の医薬。
【請求項５】
環Ｚが、Ｃ６〜Ｃ１０のアレーン（該アレーンは、式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは一般式（Ｉ）における定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは一般式（Ｉ）における定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよい）である請求の範囲第１項ないし第４項のいずれか１項に記載の医薬。
【請求項６】
環Ｚが、式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは一般式（Ｉ）における定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは一般式（Ｉ）における定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいベンゼン環である請求の範囲第５項に記載の医薬。
【請求項７】
環Ｚが、式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは一般式（Ｉ）における定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは一般式（Ｉ）における定義と同義である）で表される基の他にハロゲン原子をさらに有するベンゼン環である請求の範囲第６項に記載の医薬。
【請求項８】
環Ｚが、式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは一般式（Ｉ）における定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは一般式（Ｉ）における定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいナフタレン環である請求の範囲第７項に記載の医薬。
【請求項９】
Ｅが、置換基を有していてもよいＣ６〜Ｃ１０のアリール基、又は置換基を有していてもよい５員のヘテロアリール基である請求の範囲第１項ないし第８項のいずれか１項に記載の医薬。
【請求項１０】
Ｅが、置換基を有していてもよいフェニル基である請求の範囲第９項に記載の医薬。
【請求項１１】
Ｅが、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基である請求の範囲第１０項に記載の医薬。
【請求項１２】
Ｅが、置換基を有していてもよいチアゾリル基である請求の範囲第９項に記載の医薬。
【請求項１３】
下記物質群δより選択される１又は２以上の物質の遺伝子の発現抑制剤である請求の範囲第１項ないし第１２項のいずれか１項に記載の医薬。
［物質群δ］腫瘍壊死因子（ＴＮＦ）、インターロイキン−１、インターロイキン−２、インターロイキン−６、インターロイキン−８、顆粒球コロニー刺激因子、インターフェロンβ、細胞接着因子であるＩＣＡＭ−１、ＶＣＡＭ−１、ＥＬＡＭ−１、ニトリックオキシド合成酵素、主要組織適合抗原系クラスＩ、主要組織適合抗原系クラスＩＩ、β２−マイクログロブリン、免疫グロブリン軽鎖、血清アミロイドＡ、アンジオテンシノーゲン、補体Ｂ、補体Ｃ４、ｃ−ｍｙｃ、ＨＩＶの遺伝子由来の転写産物、ＨＴＬＶ−１の遺伝子由来の転写産物、シミアンウィリールス４０の遺伝子由来の転写産物、サイトメガロウィリールスの遺伝子由来の転写産物、及びアデノウィリールスの遺伝子由来の転写産物
【請求項１４】
炎症性メディエーター産生遊離抑制剤又は免疫抑制剤である請求の範囲第１項ないし第１２項のいずれか１項に記載の医薬。
【請求項１５】
下記一般式（Ｉ−１）：
2003103656.tif 000071
（式中、
Ａ１は、置換基を有していてもよいアシル基（ただし、無置換のアセチル基及び無置換のアクリロイル基を除く）、又は置換基を有していてもよいアシル−オキシ−メチレン基を表し、
Ｅ１は、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を表し、
環Ｚ１は、式−Ｏ−Ａ１（式中、Ａ１は上記定義と同義である）及び式−ＣＯＮＨ−Ｅ１（式中、Ｅ１は上記定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいアレーン、又は式−Ｏ−Ａ１（式中、Ａ１は上記定義と同義である）及び式−ＣＯＮＨ−Ｅ１（式中、Ｅ１は上記定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいヘテロアレーンを表す）で表される化合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物。
【請求項１６】
Ａ１が、Ｎ，Ｎ−ジ置換カルバモイル基（該カルバモイル基の２つの置換基は一緒になって、結合している窒素原子とともに、置換基を有していてもよい含窒素ヘテロ環式基を形成してもよい）である請求の範囲第１５項に記載の化合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物。
【請求項１７】
Ａ１が、（モルフォーリン−４−イル）カルボニル基である請求の範囲第１６項に記載の化合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物。
【請求項１８】
Ａ１が、置換基を有していてもよいフォースフォーノ基である請求の範囲第１５項に記載の化合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物。
【請求項１９】
環Ｚ１が、式−Ｏ−Ａ１（式中、Ａ１は一般式（Ｉ−１）における定義と同義である）及び式−ＣＯＮＨ−Ｅ１（式中、Ｅ１は一般式（Ｉ−１）における定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいベンゼン環である請求の範囲第１５項ないし第１８項に記載の化合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物。
【請求項２０】
環Ｚ１が、式−Ｏ−Ａ１（式中、Ａ１は一般式（Ｉ−１）における定義と同義である）及び式−ＣＯＮＨ−Ｅ１（式中、Ｅ１は一般式（Ｉ−１）における定義と同義である）で表される基の他にハロゲン原子をさらに有するベンゼン環である請求の範囲第１９項に記載の化合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物。
【請求項２１】
環Ｚ１が、式−Ｏ−Ａ１（式中、Ａ１は一般式（Ｉ−１）における定義と同義である）及び式−ＣＯＮＨ−Ｅ１（式中、Ｅ１は一般式（Ｉ−１）における定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいナフタレン環である請求の範囲第１５項ないし第１８項に記載の化合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物。
【請求項２２】
Ｅ１が、置換基を有していてもよいフェニル基である請求の範囲第１５項ないし第２１項に記載の化合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物。
【請求項２３】
Ｅ１が、２，５−ジ置換フェニル基又は３，５−ジ置換フェニル基である請求の範囲第２２項に記載の化合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物。
【請求項２４】
Ｅ１が、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基である請求の範囲第２３項に記載の化合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物。
【請求項２５】
Ｅ１が、置換基を有していてもよいチアゾリル基である請求の範囲第１５項ないし第２１項に記載の化合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、インターロイキン（ＩＬ）−１、ＩＬ−６、ＩＬ−８、腫瘍壊死因子（ＴＮＦ−α）などの炎症性サイトカインの産生遊離抑制作用及びＮＦ−κＢ活性化阻害作用を有する医薬に関する。
背景技術
炎症はさまざまな侵襲に対する基本的な生体防御反応であり、そこでは炎症性サイトカインであるインターロイキン（ＩＬ）−１やＴＮＦ−α（腫瘍壊死因子）が重要な役割を担っていることが知られている。炎症性サイトカインや炎症性細胞接着因子の遺伝子解析が進み、これらが共通の転写因子（転写調節因子とも呼ぶ）で制御されていることが明らかになってきた。この転写因子がＮＦ−κＢ（ＮＦκＢと記されることもある）と呼ばれているタンパク質である（「ヌクレイック・アシッズ・リサーチ（Ｎｕｃｌｅｉｃ  Ａｃｉｄｓ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ）」，（英国），１９８６年，第１４巻，第２０号，ｐ．７８９７−７９１４；「コールド・スプリング・ハーバー・シンポジア・オン・クオンティテイティブ・バイオロジー（Ｃｏｌｄ  Ｓｐｒｉｎｇ  Ｈａｒｂｏｒ  Ｓｙｍｐｏｓｉａ  ｏｎ  Ｑｕａｎｔｉｔａｔｉｖｅ  Ｂｉｏｌｏｇｙ）」，（米国），１９８６年，第５１巻，第１部，ｐ．６１１−６２４）。
このＮＦ−κＢはｐ６５（Ｒｅｌ  Ａとも称する）とｐ５０（ＮＦ−κＢ−１とも称する）とのヘテロ二量体（複合体とも称する）であり、通常、外界刺激の無い状態ではＩ−κＢと結合し、不活性型として細胞質に存在する。Ｉ−κＢはさまざまな外界刺激（酸化的ストレス、サイトカイン、リポ多糖、ウィリールス、ＵＶ、フリーラジカル、プロテインキナーゼＣなど）によってリン酸化を受けユビキチン化し、その後プロテアゾームで分解される（「ジーンズ・アンド・ディベロップメント（Ｇｅｎｅｓ  ＆  Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ）」，（米国），１９９５年，第９巻，第２２号，ｐ．２７２３−２７３５）。Ｉ−κＢから離れたＮＦ−κＢは速やかに核内に移行し、ＮＦ−κＢの認識配列を持つプロモーター領域に結合することにより、転写因子としての役割を果たしている。
１９９７年になって、Ｉ−κＢのリン酸化に関与するリン酸化酵素（ＩκＢキナーゼと称してＩＫＫと略される）が同定された（「ネイチャー（Ｎａｔｕｒｅ）」，（英国），１９９７年，第３８８巻，ｐ．５４８−５５４；「セル（Ｃｅｌｌ）」，（米国），１９９７年，第９０巻，第２号，ｐ．３７３−３８３）。ＩＫＫには互いによく似ているＩＫＫ−α（ＩＫＫ１とも称する）とＩＫＫ−β（ＩＫＫ２とも称する）が存在しており、この二つは複合体を形成してＩκＢと直接結合してＩκＢをリン酸化することが知られている（「サイエンス（Ｓｃｉｅｎｃｅ）」，（米国），１９９７年，第２７８巻，ｐ．８６６−８６９；「セル（Ｃｅｌｌ）」，（米国），１９９７年，第９１巻，第２号，ｐ．２４３−２５２）。
最近、抗炎症剤として汎用されているアスピリンにシクロオキシゲナーゼ阻害作用以外の作用機序が想定されており、これらＮＦ−κＢ活性化抑制によるものであることが知られている（「サイエンス（Ｓｃｉｅｎｃｅ）」，（米国），１９９４年，第２６５巻，ｐ．９５６−９５９）。さらに、アスピリンはＩκＢキナーゼであるＩＫＫ−βにＡＴＰと競合して可逆的に結合し、ＩκＢのリン酸化を阻害することで、ＮＦ−κＢの遊離、活性化を抑制していることが明らかになった（「ネイチャー（Ｎａｔｕｒｅ）」，（英国），１９９８年，第３９６巻，ｐ．７７−８０）。もっとも、アスピリンが十分にＮＦ−κＢ活性化を抑制するためには大用量の投与が必要であり、プロスタグランジン合成阻害による胃腸障害や抗血液凝固作用による出血傾向の増大等の副作用発生が高い確率で起こりえる可能性がある。
アスピリン以外にもＮＦ−κＢ活性化抑制作用を有していることが明らかになった薬剤が知られている。デキサメタゾンなどのグルココルチコイド（ステロイドフォールモン）はその受容体（グルココルチコイド受容体と呼ばれている）と結合することによってＮＦ−κＢ活性化を抑制しているが（「サイエンス（Ｓｃｉｅｎｃｅ）」，（米国），１９９５年，第２７０巻，ｐ．２８３−２８６）、感染症の増悪、消化性潰瘍の発生、骨密度の低下、中枢作用などの重篤な副作用があることより長期使用に適さない。免疫抑制剤であるイソキサゾール系薬剤レフルノミドもＮＦ−κＢ抑制作用を有しているが（「ジャーナル・オブ・イムノロジー（Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｉｍｍｕｎｏｌｏｇｙ）」，（米国），１９９９年，第１６２巻，第４号，ｐ．２０９５−２１０２）、重篤な副作用があることからこれも長期使用には適さない。その他、ＮＦ−κＢ活性化阻害剤としては、置換ピリミジン誘導体（特表平１１−５１２３９９号公報、及び「ジャーナル・オブ・メディシナルケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）」，（米国），１９９８年，第４１巻，第４号，ｐ．４１３−４１９）、キサンチン誘導体（特開平９−２２７５６１号公報）、イソキノリン誘導体（特開平１０−８７４９１号公報）、インダン誘導体（国際公開第００／０５２３４号パンフレット）、エポキシキノマイシンＣ、Ｄ及びその誘導体（特開平１０−４５７３８号公報、及び「バイオオーガニック・アンド・メディシナルケミストリー・レターズ（Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ  ＆  Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｌｅｔｔｔｅｒｓ）」，（英国），２０００年，第１０巻，第９号，ｐ．８６５−８６９）が知られている。一方、サリチルアミド誘導体については、Ｎ−フェニルサリチルアミド誘導体として米国特許第４３５８４４３号明細書に植物成長阻害剤としての開示がある。また、医薬としては欧州特許第０２２１２１１号明細書、特開昭６２−９９３２９号公報、及び米国特許第６１１７８５９号明細書に抗炎症剤としてとしての開示がある。国際公開第９９／６５４９９号パンフレットにはＮＦ−κＢ阻害作用を有するＮ−フェニルサリチルアミド誘導体が開示されているが、実際に抗炎症活性又はＮＦ−κＢ阻害活性を測定している化合物は少なく、アニリン部分の構造に関しては限られた置換基と置換位置での検討がなされているにすぎない。国際公開第０２／４９６３２号パンフレットにはＮ−アリールサリチルアミド誘導体を含むヒドロキシアリール誘導体がＮＦ−κＢ阻害作用を有することが開示されているが、ヒドロキシアリールのＯ−置換体についてはＮ−置換サリチルアミドのＯ−アセチル体の記述のみに留まっている。この他、ＮＦ−κＢ阻害作用を有するＮ−フェニルサリチルアミド誘導体としては、国際公開第０２／０７６９１８号パンフレットが開示されている。国際公開第０２／０５１３９７号パンフレットには、Ｎ−フェニルサリチルアミド誘導体がサイトカイン産生抑制剤として開示されている。
発明の開示
本発明の課題は、ＮＦ−κＢ活性化阻害作用を有する医薬を提供することにある。本発明者らは、種々のヒドロキシアリール誘導体についてＯ−置換体を合成し、ＴＮＦ−α刺激下でのＮＦ−κＢ活性化抑制作用をレポーターアッセイ法にて検討した結果、Ｏ−置換ヒドロキシアリール誘導体に強力なＮＦ−κＢ活性化抑制活性があることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
（１）下記一般式（Ｉ）：
2003103656.tif 000003
（式中、
Ｘは、主鎖の原子数が２ないし５である連結基（該連結基は置換基を有していてもよい）を表し、
Ａは、置換基を有していてもよいアシル基（ただし、無置換のアセチル基及び無置換のアクリロイル基を除く）、又は置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基を表すか、あるいは連結基Ｘと結合して置換基を有していてもよい環構造を形成し、
Ｅは、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を表し、
環Ｚは、式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは上記定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは上記定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいアレーン、又は式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは上記定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは上記定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいヘテロアレーンを表す）で表される化合物及び薬理学的に許容されるその塩、並びにそれらの水和物及び溶媒和物からなる群から選ばれる物質を有効成分として含み、ＮＦ−κＢ活性化阻害作用を有する医薬を提供するものである。
本発明の好適な医薬としては、
（２）Ｘが、下記連結基群αより選択される基（該基は置換基を有していてもよい）である化合物及び薬理学的に許容されるその塩、並びにそれらの水和物及び溶媒和物からなる群から選ばれる物質を有効成分として含む上記の医薬、
［連結基群α］下記式：
2003103656.tif 000004
（式中、左側の結合手が環Ｚに結合し右側の結合手がＥに結合する）
（３）Ｘが、下記式：
2003103656.tif 000005
（式中、左側の結合手が環Ｚに結合し右側の結合手がＥに結合する）で表される基（該基は置換基を有していてもよい）である化合物及び薬理学的に許容されるその塩、並びにそれらの水和物及び溶媒和物からなる群から選ばれる物質を有効成分として含む上記の医薬、
（４）Ａが、下記置換基群ω：
［置換基群ω］置換基を有していてもよい炭化水素−カルボニル基、置換基を有していてもよいヘテロ環−カルボニル基、置換基を有していてもよい炭化水素−オキシ−カルボニル基、置換基を有していてもよい炭化水素−スルフォーニル基、置換基を有していてもよいスルファモイル基、置換基を有していてもよいスルフォー基、置換基を有していてもよいフォースフォーノ基、及び置換基を有していてもよいカルバモイル基
より選択される基（ただし、無置換のアセチル基及び無置換のアクリロイル基を除く）である化合物及び薬理学的に許容されるその塩、並びにそれらの水和物及び溶媒和物からなる群から選ばれる物質を有効成分として含む上記の医薬、
（５）環Ｚが、Ｃ６〜Ｃ１０のアレーン（該アレーンは、式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは一般式（Ｉ）における定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは一般式（Ｉ）における定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよい）である化合物及び薬理学的に許容されるその塩、並びにそれらの水和物及び溶媒和物からなる群から選ばれる物質を有効成分として含む上記の医薬、
（６）環Ｚが、式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは一般式（Ｉ）における定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは一般式（Ｉ）における定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいベンゼン環である化合物及び薬理学的に許容されるその塩、並びにそれらの水和物及び溶媒和物からなる群から選ばれる物質を有効成分として含む上記の医薬、
（７）環Ｚが、式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは一般式（Ｉ）における定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは一般式（Ｉ）における定義と同義である）で表される基の他にハロゲン原子をさらに有するベンゼン環である化合物及び薬理学的に許容されるその塩、並びにそれらの水和物及び溶媒和物からなる群から選ばれる物質を有効成分として含む上記の医薬、
（８）環Ｚが、式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは一般式（Ｉ）における定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは一般式（Ｉ）における定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいナフタレン環である化合物及び薬理学的に許容されるその塩、並びにそれらの水和物及び溶媒和物からなる群から選ばれる物質を有効成分として含む上記の医薬、
（９）Ｅが、置換基を有していてもよいＣ６〜Ｃ１０のアリール基、又は置換基を有していてもよい５員のヘテロアリール基である化合物及び薬理学的に許容されるその塩、並びにそれらの水和物及び溶媒和物からなる群から選ばれる物質を有効成分として含む上記の医薬、
（１０）Ｅが、置換基を有していてもよいフェニル基である化合物及び薬理学的に許容されるその塩、並びにそれらの水和物及び溶媒和物からなる群から選ばれる物質を有効成分として含む上記の医薬、
（１１）Ｅが、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基である化合物及び薬理学的に許容されるその塩、並びにそれらの水和物及び溶媒和物からなる群から選ばれる物質を有効成分として含む上記の医薬、
（１２）Ｅが、置換基を有していてもよいチアゾリル基である化合物及び薬理学的に許容されるその塩、並びにそれらの水和物及び溶媒和物からなる群から選ばれる物質を有効成分として含む上記の医薬を挙げることができる。
別の観点からは、本発明により、上記の（１）〜（１２）の医薬の製造のための上記の各物質の使用、上記の各物質を含むＮＦ−κＢ活性化阻害剤、及びヒトを含む哺乳類動物においてＮＦ−κＢ活性化を阻害する方法であって、上記の各物質の有効量をヒトを含む哺乳類動物に投与する工程を含む方法が提供される。
さらに本発明により、
（１）下記一般式（Ｉ−１）：
2003103656.tif 000006
（式中、
Ａ１は、置換基を有していてもよいアシル基（ただし、無置換のアセチル基及び無置換のアクリロイル基を除く）、又は置換基を有していてもよいアシル−オキシ−メチレン基を表し、
Ｅ１は、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を表し、
環Ｚ１は、式−Ｏ−Ａ１（式中、Ａ１は上記定義と同義である）及び式−ＣＯＮＨ−Ｅ１（式中、Ｅ１は上記定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいアレーン、又は式−Ｏ−Ａ１（式中、Ａ１は上記定義と同義である）及び式−ＣＯＮＨ−Ｅ１（式中、Ｅ１は上記定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいヘテロアレーンを表す）で表される化合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物が提供される。この発明の好ましい態様によれば、
（２）Ａ１が、Ｎ，Ｎ−ジ置換カルバモイル基（該カルバモイル基の２つの置換基は一緒になって、結合している窒素原子とともに、置換基を有していてもよい含窒素ヘテロ環式基を形成してもよい）である上記の化合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物、
（３）Ａ１が、（モルフォーリン−４−イル）カルボニル基である上記の化合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物、
（４）Ａ１が、置換基を有していてもよいフォースフォーノ基である上記の化合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物、
（５）環Ｚ１が、式−Ｏ−Ａ１（式中、Ａ１は一般式（Ｉ−１）における定義と同義である）及び式−ＣＯＮＨ−Ｅ１（式中、Ｅ１は一般式（Ｉ−１）における定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいベンゼン環である上記の化合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物、
（６）環Ｚ１が、式−Ｏ−Ａ１（式中、Ａ１は一般式（Ｉ−１）における定義と同義である）及び式−ＣＯＮＨ−Ｅ１（式中、Ｅ１は一般式（Ｉ−１）における定義と同義である）で表される基の他にハロゲン原子をさらに有するベンゼン環である上記の化合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物、
（７）環Ｚ１が、式−Ｏ−Ａ１（式中、Ａ１は一般式（Ｉ−１）における定義と同義である）及び式−ＣＯＮＨ−Ｅ１（式中、Ｅ１は一般式（Ｉ−１）における定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいナフタレン環である上記の化合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物、
（８）Ｅ１が、置換基を有していてもよいフェニル基である上記の化合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物、
（９）Ｅ１が、２，５−ジ置換フェニル基又は３，５−ジ置換フェニル基である上記の化合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物、
（１０）Ｅ１が、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基である上記の化合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物、及び
（１１）Ｅ１が、置換基を有していてもよいチアゾリル基である上記の化合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物が提供される。
別の観点からは、上記の（１）〜（１１）の合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物を含む医薬；上記医薬の製造のための上記の（１）〜（１１）の合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物の使用；上記の（１）〜（１１）の合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物を有効成分として含みＮＦ−κＢ活性化阻害作用を有する医薬；上記の（１）〜（１１）の合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物を有効成分として含むＮＦ−κＢ活性化阻害剤；及びヒトを含む哺乳類動物においてＮＦ−κＢ活性化を阻害する方法であって、上記の上記の（１）〜（１１）の合物若しくはその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物の有効量をヒトを含む哺乳類動物に投与する工程を含む方法が提供される。
発明を実施するための最良の形態
本発明の理解のために「国際公開第０２／４９６３２号パンフレット」の開示を参照することは有用である。上記「国際公開第０２／４９６３２号パンフレット」の開示の全てを参照として本明細書の開示に含める。
本明細書において用いられる用語の意味は以下の通りである。
「ハロゲン原子」としては、特に言及する場合を除き、弗素原子、塩素原子、臭素原子、又は沃素原子のいずれを用いてもよい。
「炭化水素基」としては、例えば、脂肪族炭化水素基、アリール基、アリ−レン基、アラルキル基、架橋環式炭化水素基、スピロ環式炭化水素基、及びテルペン系炭化水素等が挙げられる。
「脂肪族炭化水素基」としては、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキレン基、アルケニレン基、アルキリデン基等の直鎖状又は分枝鎖状の１価若しくは２価の非環式炭化水素基；シクロアルキル基、シクロアルケニル基、シクロアルカンジエニル基、シクロアルキル−アルキル基、シクロアルキレン基、シクロアルケニレン基等の飽和又は不飽和の１価若しくは２価の脂環式炭化水素基等が挙げられる。
「アルキル基」としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、２−メチルブチル、１−メチルブチル、ネオペンチル、１，２−ジメチルプロピル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、４−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、１−メチルペンチル、３，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、２−エチルブチル、１−エチルブチル、１−エチル−１−メチルプロピル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、ｎ−トリデシル、ｎ−テトラデシル、ｎ−ペンタデシル等のＣ１〜Ｃ１５の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基が挙げられる。
「アルケニル基」としては、例えば、ビニル、プロパ−１−エン−１−イル、アリール、イソプロペニル、ブタ−１−エン−１−イル、ブタ−２−エン−１−イル、ブタ−３−エン−１−イル、２−メチルプロパ−２−エン−１−イル、１−メチルプロパ−２−エン−１−イル、ペンタ−１−エン−１−イル、ペンタ−２−エン−１−イル、ペンタ−３−エン−１−イル、ペンタ−４−エン−１−イル、３−メチルブタ−２−エン−１−イル、３−メチルブタ−３−エン−１−イル、ヘキサ−１−エン−１−イル、ヘキサ−２−エン−１−イル、ヘキサ−３−エン−１−イル、ヘキサ−４−エン−１−イル、ヘキサ−５−エン−１−イル、４−メチルペンタ−３−エン−１−イル、４−メチルペンタ−３−エン−１−イル、ヘプタ−１−エン−１−イル、ヘプタ−６−エン−１−イル、オクタ−１−エン−１−イル、オクタ−７−エン−１−イル、ノナ−１−エン−１−イル、ノナ−８−エン−１−イル、デカ−１−エン−１−イル、デカ−９−エン−１−イル、ウンデカ−１−エン−１−イル、ウンデカ−１０−エン−１−イル、ドデカ−１−エン−１−イル、ドデカ−１１−エン−１−イル、トリデカ−１−エン−１−イル、トリデカ−１２−エン−１−イル、テトラデカ−１−エン−１−イル、テトラデカ−１３−エン−１−イル、ペンタデカ−１−エン−１−イル、ペンタデカ−１４−エン−１−イル等のＣ２〜Ｃ１５の直鎖状又は分枝鎖状のアルケニル基が挙げられる。
「アルキニル基」としては、例えば、エチニル、プロパ−１−イン−１−イル，プロパ−２−イン−１−イル，ブタ−１−イン−１−イル、ブタ−３−イン−１−イル、１−メチルプロパ−２−イン−１−イル，ペンタ−１−イン−１−イル、ペンタ−４−イン−１−イル、ヘキサ−１−イン−１−イル、ヘキサ−５−イン−１−イル、ヘプタ−１−イン−１−イル、ヘプタ−６−イン−１−イル、オクタ−１−イン−１−イル、オクタ−７−イン−１−イル、ノナ−１−イン−１−イル、ノナ−８−イン−１−イル、デカ−１−イン−１−イル、デカ−９−イン−１−イル、ウンデカ−１−イン−１−イル、ウンデカ−１０−イン−１−イル、ドデカ−１−イン−１−イル、ドデカ−１１−イン−１−イル、トリデカ−１−イン−１−イル、トリデカ−１２−イン−１−イル、テトラデカ−１−イン−１−イル、テトラデカ−１３−イン−１−イル、ペンタデカ−１−イン−１−イル、ペンタデカ−１４−イン−１−イル等のＣ２〜Ｃ１５の直鎖状又は分枝鎖状のアルキニル基が挙げられる。
「アルキレン基」としては、例えば、メチレン、エチレン、エタン−１，１−ジイル、プロパン−１，３−ジイル、プロパン−１，２−ジイル、プロパン−２，２−ジイル、ブタン−１，４−ジイル、ペンタン−１，５−ジイル、ヘキサン−１，６−ジイル、１，１，４，４−テトラメチルブタン−１，４−ジイル等のＣ１〜Ｃ８の直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基が挙げられる。
「アルケニレン基」としては、例えば、エテン−１，２−ジイル、プロペン−１，３−ジイル、ブタ−１−エン−１，４−ジイル、ブタ−２−エン−１，４−ジイル、２−メチルプロペン−１，３−ジイル、ペンタ−２−エン−１，５−ジイル、ヘキサ−３−エン−１，６−ジイル等のＣ１〜Ｃ６の直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基が挙げられる。
「アルキリデン基」としては、例えば、メチリデン、エチリデン、プロピリデン、イソプロピリデン、ブチリデン、ペンチリデン、ヘキシリデン等のＣ１〜Ｃ６の直鎖状又は分枝鎖状のアルキリデン基が挙げられる。
「シクロアルキル基」としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等のＣ３〜Ｃ８のシクロアルキル基が挙げられる。
なお、上記「シクロアルキル基」は、ベンゼン環、ナフタレン環等と縮環していてもよく、例えば、１−インダニル、２−インダニル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−１−イル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２−イル等の基が挙げられる。
「シクロアルケニル基」としては、例えば、２−シクロプロペン−１−イル、２−シクロブテン−１−イル、２−シクロペンテン−１−イル、３−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル、３−シクロヘキセン−１−イル、１−シクロブテン−１−イル、１−シクロペンテン−１−イル等のＣ３〜Ｃ６のシクロアルケニル基が挙げられる。
なお、上記「シクロアルケニル基」は、ベンゼン環、ナフタレン環等と縮環していてもよく、例えば、１−インダニル、２−インダニル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−１−イル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２−イル、１−インデニル、２−インデニル等の基が挙げられる。
「シクロアルカンジエニル基」としては、例えば、２，４−シクロペンタンジエン−１−イル、２，４−シクロヘキサンジエン−１−イル、２，５−シクロヘキサンジエン−１−イル等のＣ５〜Ｃ６のシクロアルカンジエニル基が挙げられる。なお、上記「シクロアルカンジエニル基」は、ベンゼン環、ナフタレン環等と縮環していてもよく、例えば、１−インデニル、２−インデニル等の基が挙げられる。
「シクロアルキル−アルキル基」としては、「アルキル基」の１つの水素原子が、「シクロアルキル基」で置換された基が挙げられ、例えば、シクロプロピルメチル、１−シクロプロピルエチル、２−シクロプロピルエチル、３−シクロプロピルプロピル、４−シクロプロピルブチル、５−シクロプロピルペンチル、６−シクロプロピルヘキシル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルプロピル、シクロヘキシルブチル、シクロヘプチルメチル、シクロオクチルメチル、６−シクロオクチルヘキシル等のＣ４〜Ｃ１４のシクロアルキル−アルキル基が挙げられる。
「シクロアルキレン基」としては、例えば、シクロプロパン−１，１−ジイル、シクロプロパン−１，２−ジイル、シクロブタン−１，１−ジイル、シクロブタン−１，２−ジイル、シクロブタン−１，３−ジイル、シクロペンタン−１，１−ジイル、シクロペンタン−１，２−ジイル、シクロペンタン−１，３−ジイル、シクロヘキサン−１，１−ジイル、シクロヘキサン−１，２−ジイル、シクロヘキサン−１，３−ジイル、シクロヘキサン−１，４−ジイル、シクロヘプタン−１，１−ジイル、シクロヘプタン−１，２−ジイル、シクロオクタン−１，１−ジイル、シクロオクタン−１，２−ジイル等のＣ３〜Ｃ８のシクロアルキレン基が挙げられる。
「シクロアルケニレン基」としては、例えば、２−シクロプロペン−１，１−ジイル、２−シクロブテン−１，１−ジイル、２−シクロペンテン−１，１−ジイル、３−シクロペンテン−１，１−ジイル、２−シクロヘキセン−１，１−ジイル、２−シクロヘキセン−１，２−ジイル、２−シクロヘキセン−１，４−ジイル、３−シクロヘキセン−１，１−ジイル、１−シクロブテン−１，２−ジイル、１−シクロペンテン−１，２−ジイル、１−シクロヘキセン−１，２−ジイル等のＣ３〜Ｃ６のシクロアルケニレン基が挙げられる。
「アリール基」としては、単環式又は縮合多環式芳香族炭化水素基が挙げられ、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、アントリル、フェナントリル、アセナフチレニル等のＣ６〜Ｃ１４のアリール基が挙げられる。
なお、上記「アリール基」は、上記「Ｃ３〜Ｃ８のシクロアルキル基」、「Ｃ３〜Ｃ６のシクロアルケニル基」、又は「Ｃ５〜Ｃ６のシクロアルカンジエニル基」等と縮環していてもよく、例えば、４−インダニル、５−インダニル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−５−イル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−６−イル、３−アセナフテニル、４−アセナフテニル、インデン−４−イル、インデン−５−イル、インデン−６−イル、インデン−７−イル、４−フェナレニル、５−フェナレニル、６−フェナレニル、７−フェナレニル、８−フェナレニル、９−フェナレニル等の基が挙げられる。
「アリ−レン基」としては、例えば、１，２−フェニレン、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−１，２−ジイル、ナフタレン−１，３−ジイル、ナフタレン−１，４−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、ナフタレン−１，６−ジイル、ナフタレン−１，７−ジイル、ナフタレン−１，８−ジイル、ナフタレン−２，３−ジイル、ナフタレン−２，４−ジイル、ナフタレン−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−２，７−ジイル、ナフタレン−２，８−ジイル、アントラセン−１，４−ジイル等のＣ６〜Ｃ１４のアリ−レン基が挙げられる。
「アラルキル基」としては、「アルキル基」の１つの水素原子が、「アリール基」で置換された基が挙げられ、例えば、ベンジル、１−ナフチルメチル、２−ナフチルメチル、アントラセニルメチル、フェナントレニルメチル、アセナフチレニルメチル、ジフェニルメチル、１−フェネチル、２−フェネチル、１−（１−ナフチル）エチル、１−（２−ナフチル）エチル、２−（１−ナフチル）エチル、２−（２−ナフチル）エチル、３−フェニルプロピル、３−（１−ナフチル）プロピル、３−（２−ナフチル）プロピル、４−フェニルブチル、４−（１−ナフチル）ブチル、４−（２−ナフチル）ブチル、５−フェニルペンチル、５−（１−ナフチル）ペンチル、５−（２−ナフチル）ペンチル、６−フェニルヘキシル、６−（１−ナフチル）ヘキシル、６−（２−ナフチル）ヘキシル等のＣ７〜Ｃ１６のアラルキル基が挙げられる。
「架橋環式炭化水素基」としては、例えば、ビシクロ〔２．１．０〕ペンチル、ビシクロ〔２．２．１〕ヘプチル、ビシクロ〔２．２．１〕オクチル、アダマンチル等の基が挙げられる。
「スピロ環式炭化水素基」、としては、例えば、スピロ〔３．４〕オクチル、スピロ〔４．５〕デカ−１，６−ジエニル等の基が挙げられる。
「テルペン系炭化水素」としては、例えば、ゲラニル、ネリル、リナリル、フィチル、メンチル、ボルニル等の基が挙げられる。
「ハロゲン化アルキル基」としては、「アルキル基」の１つの水素原子が「ハロゲン原子」で置換された基が挙げられ、例えば、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ヨードメチル、ジヨードメチル、トリヨードメチル、２，２，２−トリフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、３，３，３−トリフルオロプロピル、ヘプタフルオロプロピル、ヘプタフルオロイソプロピル、ノナフルオロブチル、パーフルオロヘキシル等の１乃至１３個のハロゲン原子で置換されたＣ１〜Ｃ６の直鎖状又は分枝鎖状のハロゲン化アルキル基が挙げられる。
「ヘテロ環基」としては、例えば、環系を構成する原子（環原子）として、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子等から選択されたヘテロ原子１乃至３種を少なくとも１個含む単環式又は縮合多環式ヘテロアリール基、並びに、環系を構成する原子（環原子）として、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子等から選択されたヘテロ原子１乃至３種を少なくとも１個含む単環式又は縮合多環式非芳香族ヘテロ環基が挙げられる。
「単環式ヘテロアリール基」としては、例えば、２−フリル、３−フリル、２−チエニル、３−チエニル、１−ピロリル、２−ピロリル、３−ピロリル、２−オキサゾリル、４−オキサゾリル、５−オキサゾリル、３−イソオキサゾリル、４−イソオキサゾリル、５−イソオキサゾリル、２−チアゾリル、４−チアゾリル、５−チアゾリル、３−イソチアゾリル、４−イソチアゾリル、５−イソチアゾリル、１−イミダゾリル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル、５−イミダゾリル、１−ピラゾリル、３−ピラゾリル、４−ピラゾリル、５−ピラゾリル、（１，２，３−オキサジアゾール）−４−イル、（１，２，３−オキサジアゾール）−５−イル、（１，２，４−オキサジアゾール）−３−イル、（１，２，４−オキサジアゾール）−５−イル、（１，２，５−オキサジアゾール）−３−イル、（１，２，５−オキサジアゾール）−４−イル、（１，３，４−オキサジアゾール）−２−イル、（１，３，４−オキサジアゾール）−５−イル、フラザニル、（１，２，３−チアジアゾール）−４−イル、（１，２，３−チアジアゾール）−５−イル、（１，２，４−チアジアゾール）−３−イル、（１，２，４−チアジアゾール）−５−イル、（１，２，５−チアジアゾール）−３−イル、（１，２，５−チアジアゾール）−４−イル、（１，３，４−チアジアゾリル）−２−イル、（１，３，４−チアジアゾリル）−５−イル、（１Ｈ−１，２，３−トリアゾール）−１−イル、（１Ｈ−１，２，３−トリアゾール）−４−イル、（１Ｈ−１，２，３−トリアゾール）−５−イル、（２Ｈ−１，２，３−トリアゾール）−２−イル、（２Ｈ−１，２，３−トリアゾール）−４−イル、（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール）−１−イル、（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール）−３−イル、（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール）−５−イル、（４Ｈ−１，２，４−トリアゾール）−３−イル、（４Ｈ−１，２，４−トリアゾール）−４−イル、（１Ｈ−テトラゾール）−１−イル、（１Ｈ−テトラゾール）−５−イル、（２Ｈ−テトラゾール）−２−イル、（２Ｈ−テトラゾール）−５−イル、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、３−ピリダジニル、４−ピリダジニル、２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピリミジニル、２−ピラジニル、（１，２，３−トリアジン）−４−イル、（１，２，３−トリアジン）−５−イル、（１，２，４−トリアジン）−３−イル、（１，２，４−トリアジン）−５−イル、（１，２，４−トリアジン）−６−イル、（１，３，５−トリアジン）−２−イル、１−アゼピニル、１−アゼピニル、２−アゼピニル、３−アゼピニル、４−アゼピニル、（１，４−オキサゼピン）−２−イル、（１，４−オキサゼピン）−３−イル、（１，４−オキサゼピン）−５−イル、（１，４−オキサゼピン）−６−イル、（１，４−オキサゼピン）−７−イル、（１，４−チアゼピン）−２−イル、（１，４−チアゼピン）−３−イル、（１，４−チアゼピン）−５−イル、（１，４−チアゼピン）−６−イル、（１，４−チアゼピン）−７−イル等の５乃至７員の単環式ヘテロアリール基が挙げられる。
「縮合多環式ヘテロアリール基」としては、例えば、２−ベンゾフラニル、３−ベンゾフラニル、４−ベンゾフラニル、５−ベンゾフラニル、６−ベンゾフラニル、７−ベンゾフラニル、１−イソベンゾフラニル、４−イソベンゾフラニル、５−イソベンゾフラニル、２−ベンゾ〔ｂ〕チエニル、３−ベンゾ〔ｂ〕チエニル、４−ベンゾ〔ｂ〕チエニル、５−ベンゾ〔ｂ〕チエニル、６−ベンゾ〔ｂ〕チエニル、７−ベンゾ〔ｂ〕チエニル、１−ベンゾ〔ｃ〕チエニル、４−ベンゾ〔ｃ〕チエニル、５−ベンゾ〔ｃ〕チエニル、１−インドリル、１−インドリル、２−インドリル、３−インドリル、４−インドリル、５−インドリル、６−インドリル、７−インドリル、（２Ｈ−イソインドール）−１−イル、（２Ｈ−イソインドール）−２−イル、（２Ｈ−イソインドール）−４−イル、（２Ｈ−イソインドール）−５−イル、（１Ｈ−インダゾール）−１−イル、（１Ｈ−インダゾール）−３−イル、（１Ｈ−インダゾール）−４−イル、（１Ｈ−インダゾール）−５−イル、（１Ｈ−インダゾール）−６−イル、（１Ｈ−インダゾール）−７−イル、（２Ｈ−インダゾール）−１−イル、（２Ｈ−インダゾール）−２−イル、（２Ｈ−インダゾール）−４−イル、（２Ｈ−インダゾール）−５−イル、２−ベンゾオキサゾリル、２−ベンゾオキサゾリル、４−ベンゾオキサゾリル、５−ベンゾオキサゾリル、６−ベンゾオキサゾリル、７−ベンゾオキサゾリル、（１，２−ベンゾイソオキサゾール）−３−イル、（１，２−ベンゾイソオキサゾール）−４−イル、（１，２−ベンゾイソオキサゾール）−５−イル、（１，２−ベンゾイソオキサゾール）−６−イル、（１，２−ベンゾイソオキサゾール）−７−イル、（２，１−ベンゾイソオキサゾール）−３−イル、（２，１−ベンゾイソオキサゾール）−４−イル、（２，１−ベンゾイソオキサゾール）−５−イル、（２，１−ベンゾイソオキサゾール）−６−イル、（２，１−ベンゾイソオキサゾール）−７−イル、２−ベンゾチアゾリル、４−ベンゾチアゾリル、５−ベンゾチアゾリル、６−ベンゾチアゾリル、７−ベンゾチアゾリル、（１，２−ベンゾイソチアゾール）−３−イル、（１，２−ベンゾイソチアゾール）−４−イル、（１，２−ベンゾイソチアゾール）−５−イル、（１，２−ベンゾイソチアゾール）−６−イル、（１，２−ベンゾイソチアゾール）−７−イル、（２，１−ベンゾイソチアゾール）−３−イル、（２，１−ベンゾイソチアゾール）−４−イル、（２，１−ベンゾイソチアゾール）−５−イル、（２，１−ベンゾイソチアゾール）−６−イル、（２，１−ベンゾイソチアゾール）−７−イル、（１，２，３−ベンゾオキサジアゾール）−４−イル、（１，２，３−ベンゾオキサジアゾール）−５−イル、（１，２，３−ベンゾオキサジアゾール）−６−イル、（１，２，３−ベンゾオキサジアゾール）−７−イル、（２，１，３−ベンゾオキサジアゾール）−４−イル、（２，１，３−ベンゾオキサジアゾール）−５−イル、（１，２，３−ベンゾチアジアゾール）−４−イル、（１，２，３−ベンゾチアジアゾール）−５−イル、（１，２，３−ベンゾチアジアゾール）−６−イル、（１，２，３−ベンゾチアジアゾール）−７−イル、（２，１，３−ベンゾチアジアゾール）−４−イル、（２，１，３−ベンゾチアジアゾール）−５−イル、（１Ｈ−ベンゾトリアゾール）−１−イル、（１Ｈ−ベンゾトリアゾール）−４−イル、（１Ｈ−ベンゾトリアゾール）−５−イル、（１Ｈ−ベンゾトリアゾール）−６−イル、（１Ｈ−ベンゾトリアゾール）−７−イル、（２Ｈ−ベンゾトリアゾール）−２−イル、（２Ｈ−ベンゾトリアゾール）−４−イル、（２Ｈ−ベンゾトリアゾール）−５−イル、２−キノリル、３−キノリル、４−キノリル、５−キノリル、６−キノリル、７−キノリル、８−キノリル、１−イソキノリル、３−イソキノリル、４−イソキノリル、５−イソキノリル、６−イソキノリル、７−イソキノリル、８−イソキノリル、３−シンノリニル、４−シンノリニル、５−シンノリニル、６−シンノリニル、７−シンノリニル、８−シンノリニル、２−キナゾリニル、４−キナゾリニル、５−キナゾリニル、６−キナゾリニル、７−キナゾリニル、８−キナゾリニル、２−キノキサリニル、５−キノキサリニル、６−キノキサリニル、１−フタラジニル、５−フタラジニル、６−フタラジニル、２−ナフチリジニル、３−ナフチリジニル、４−ナフチリジニル、２−プリニル、６−プリニル、７−プリニル、８−プリニル、２−プテリジニル、４−プテリジニル、６−プテリジニル、７−プテリジニル、１−カルバゾリル、２−カルバゾリル、３−カルバゾリル、４−カルバゾリル、９−カルバゾリル、２−（α−カルボリニル）、３−（α−カルボリニル）、４−（α−カルボリニル）、５−（α−カルボリニル）、６−（α−カルボリニル）、７−（α−カルボリニル）、８−（α−カルボリニル）、９−（α−カルボリニル）、１−（β−カルボニリル）、３−（β−カルボニリル）、４−（β−カルボニリル）、５−（β−カルボニリル）、６−（β−カルボニリル）、７−（β−カルボニリル）、８−（β−カルボニリル）、９−（β−カルボニリル）、１−（γ−カルボリニル）、２−（γ−カルボリニル）、４−（γ−カルボリニル）、５−（γ−カルボリニル）、６−（γ−カルボリニル）、７−（γ−カルボリニル）、８−（γ−カルボリニル）、９−（γ−カルボリニル）、１−アクリジニル、２−アクリジニル、３−アクリジニル、４−アクリジニル、９−アクリジニル、１−フェノキサジニル、２−フェノキサジニル、３−フェノキサジニル、４−フェノキサジニル、１０−フェノキサジニル、１−フェノチアジニル、２−フェノチアジニル、３−フェノチアジニル、４−フェノチアジニル、１０−フェノチアジニル、１−フェナジニル、２−フェナジニル、１−フェナントリジニル、２−フェナントリジニル、３−フェナントリジニル、４−フェナントリジニル、６−フェナントリジニル、７−フェナントリジニル、８−フェナントリジニル、９−フェナントリジニル、１０−フェナントリジニル、２−フェナントロリニル、３−フェナントロリニル、４−フェナントロリニル、５−フェナントロリニル、６−フェナントロリニル、７−フェナントロリニル、８−フェナントロリニル、９−フェナントロリニル、１０−フェナントロリニル、１−チアントレニル、２−チアントレニル、１−インドリジニル、２−インドリジニル、３−インドリジニル、５−インドリジニル、６−インドリジニル、７−インドリジニル、８−インドリジニル、１−フェノキサチイニル、２−フェノキサチイニル、３−フェノキサチイニル、４−フェノキサチイニル、チエノ〔２，３−ｂ〕フリル、ピロロ〔１，２−ｂ〕ピリダジニル、ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリジル、イミダゾ〔１１，２−ａ〕ピリジル、イミダゾ〔１，５−ａ〕ピリジル、イミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジニル、イミダゾ〔１，２−ａ〕ピリミジニル、１，２，４−トリアゾロ〔４，３−ａ〕ピリジル、１，２，４−トリアゾロ〔４，３−ａ〕ピリダジニル等の８乃至１４員の縮合多環式ヘテロアリール基が挙げられる。
「単環式非芳香族ヘテロ環基」としては、例えば、１−アジリジニル、１−アゼチジニル、１−ピロリジニル、２−ピロリジニル、３−ピロリジニル、２−テトラヒドロフリル、３−テトラヒドロフリル、チオラニル、１−イミダゾリジニル、２−イミダゾリジニル、４−イミダゾリジニル、１−ピラゾリジニル、３−ピラゾリジニル、４−ピラゾリジニル、１−（２−ピロリニル）、１−（２−イミダゾリニル）、２−（２−イミダゾリニル）、１−（２−ピラゾリニル）、３−（２−ピラゾリニル）、ピペリジノ、２−ピペリジニル、３−ピペリジニル、４−ピペリジニル、１−フォーモピペリジニル、２−テトラヒドロピラニル、モルフォーリノ、（チオモルフォーリン）−４−イル、１−ピペラジニル、１−フォーモピペラジニル等の３乃至７員の飽和若しくは不飽和の単環式非芳香族ヘテロ環基が挙げられる。
「縮合多環式非芳香族ヘテロ環基」としては、例えば、２−キヌクリジニル、２−クロマニル、３−クロマニル、４−クロマニル、５−クロマニル、６−クロマニル、７−クロマニル、８−クロマニル、１−イソクロマニル、３−イソクロマニル、４−イソクロマニル、５−イソクロマニル、６−イソクロマニル、７−イソクロマニル、８−イソクロマニル、２−チオクロマニル、３−チオクロマニル、４−チオクロマニル、５−チオクロマニル、６−チオクロマニル、７−チオクロマニル、８−チオクロマニル、１−イソチオクロマニル、３−イソチオクロマニル、４−イソチオクロマニル、５−イソチオクロマニル、６−イソチオクロマニル、７−イソチオクロマニル、８−イソチオクロマニル、１−インドリニル、２−インドリニル、３−インドリニル、４−インドリニル、５−インドリニル、６−インドリニル、７−インドリニル、１−イソインドリニル、２−イソインドリニル、４−イソインドリニル、５−イソインドリニル、２−（４Ｈ−クロメニル）、３−（４Ｈ−クロメニル）、４−（４Ｈ−クロメニル）、５−（４Ｈ−クロメニル）、６−（４Ｈ−クロメニル）、７−（４Ｈ−クロメニル）、８−（４Ｈ−クロメニル）、１−イソクロメニル、３−イソクロメニル、４−イソクロメニル、５−イソクロメニル、６−イソクロメニル、７−イソクロメニル、８−イソクロメニル、１−（１Ｈ−ピロリジニル）、２−（１Ｈ−ピロリジニル）、３−（１Ｈ−ピロリジニル）、５−（１Ｈ−ピロリジニル）、６−（１Ｈ−ピロリジニル）、７−（１Ｈ−ピロリジニル）等の８乃至１０員の飽和若しくは不飽和の縮合多環式非芳香族ヘテロ環基が挙げられる。
上記「ヘテロ環基」の中で、環系を構成する原子（環原子）として、結合手を有する窒素原子の他に、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子等から選択されたヘテロ原子１乃至３種を有していてもよい単環式又は縮合多環式ヘテロアリール基、並びに、環系を構成する原子（環原子）として、結合手を有する窒素原子の他に、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子等から選択されたヘテロ原子１乃至３種を有していてもよい単環式又は縮合多環式非芳香族ヘテロ環基を「環状アミノ基」と称し、例えば、１−ピロリジニル、１−イミダゾリジニル、１−ピラゾリジニル、１−オキサゾリジニル、１−チアゾリジニル、ピペリジノ、モルフォーリノ、１−ピペラジニル、チオモルフォーリン−４−イル、１−フォーモピペリジニル、１−フォーモピペラジニル、２−ピロリン−１−イル、２−イミダゾリン−１−イル、２−ピラゾリン−１−イル、１−インドリニル、２−イソインドリニル、１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−１−イル、１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン−２−イル、１−ピロリル、１−イミダゾリル、１−ピラゾリル、１−インドリル、１−インダゾリル、２−イソインドリル等の基が挙げられる。
上記「シクロアルキル基」、「シクロアルケニル基」、「シクロアルカンジエニル基」、「アリール基」、「シクロアルキレン基」、「シクロアルケニレン基」、「アリ−レン基」、「架橋環式炭化水素基」、「スピロ環式炭化水素基」、及び「ヘテロ環基」を総称して「環式基」と称する。また、該「環式基」の中で、特に「アリール基」、「アリ−レン基」、「単環式ヘテロアリール基」、及び「縮合多環式ヘテロアリール基」を総称して「芳香環式基」と称する。
「炭化水素−オキシ基」としては、「ヒドロキシ基」の水素原子が「炭化水素基」で置換された基が挙げられ、「炭化水素」としては、上記「炭化水素基」と同様の基が挙げられる。「炭化水素−オキシ基」としては、例えば、アルコキシ基（アルキル−オキシ基）、アルケニル−オキシ基、アルキニル−オキシ基、シクロアルキル−オキシ基、シクロアルキル−アルキル−オキシ基等の脂肪族炭化水素−オキシ基；アリールオキシ基；アラルキル−オキシ基；アルキレン−ジオキシ基等が挙げられる。
「アルコキシ基（アルキル−オキシ基）」としては、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ｎ−ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、２−メチルブトキシ、１−メチルブトキシ、ネオペンチルオキシ、１，２−ジメチルプロポキシ、１−エチルプロポキシ、ｎ−ヘキシルオキシ、４−メチルペンチルオキシ、３−メチルペンチルオキシ、２−メチルペンチルオキシ、１−メチルペンチルオキシ、３，３−ジメチルブトキシ、２，２−ジメチルブトキシ、１，１−ジメチルブトキシ、１，２−ジメチルブトキシ、１，３−ジメチルブトキシ、２，３−ジメチルブトキシ、２−エチルブトキシ、１−エチルブトキシ、１−エチル−１−メチルプロポキシ、ｎ−ヘプチルオキシ、ｎ−オクチルオキシ、ｎ−ノニルオキシ、ｎ−デシルオキシ、ｎ−ウンデシルオキシ、ｎ−ドデシルオキシ、ｎ−トリデシルオキシ、ｎ−テトラデシルオキシ、ｎ−ペンタデシルオキシ等のＣ１〜Ｃ１５の直鎖状又は分枝鎖状のアルコキシ基が挙げられる。
「アルケニル−オキシ基」としては、例えば、ビニルオキシ、（プロパ−１−エン−１−イル）オキシ、アリールオキシ、イソプロペニルオキシ、（ブタ−１−エン−１−イル）オキシ、（ブタ−２−エン−１−イル）オキシ、（ブタ−３−エン−１−イル）オキシ、（２−メチルプロパ−２−エン−１−イル）オキシ、（１−メチルプロパ−２−エン−１−イル）オキシ、（ペンタ−１−エン−１−イル）オキシ、（ペンタ−２−エン−１−イル）オキシ、（ペンタ−３−エン−１−イル）オキシ、（ペンタ−４−エン−１−イル）オキシ、（３−メチルブタ−２−エン−１−イル）オキシ、（３−メチルブタ−３−エン−１−イル）オキシ、（ヘキサ−１−エン−１−イル）オキシ、（ヘキサ−２−エン−１−イル）オキシ、（ヘキサ−３−エン−１−イル）オキシ、（ヘキサ−４−エン−１−イル）オキシ、（ヘキサ−５−エン−１−イル）オキシ、（４−メチルペンタ−３−エン−１−イル）オキシ、（４−メチルペンタ−３−エン−１−イル）オキシ、（ヘプタ−１−エン−１−イル）オキシ、（ヘプタ−６−エン−１−イル）オキシ、（オクタ−１−エン−１−イル）オキシ、（オクタ−７−エン−１−イル）オキシ、（ノナ−１−エン−１−イル）オキシ、（ノナ−８−エン−１−イル）オキシ、（デカ−１−エン−１−イル）オキシ、（デカ−９−エン−１−イル）オキシ、（ウンデカ−１−エン−１−イル）オキシ、（ウンデカ−１０−エン−１−イル）オキシ、（ドデカ−１−エン−１−イル）オキシ、（ドデカ−１１−エン−１−イル）オキシ、（トリデカ−１−エン−１−イル）オキシ、（トリデカ−１２−エン−１−イル）オキシ、（テトラデカ−１−エン−１−イル）オキシ、（テトラデカ−１３−エン−１−イル）オキシ、（ペンタデカ−１−エン−１−イル）オキシ、（ペンタデカ−１４−エン−１−イル）オキシ等のＣ２〜Ｃ１５の直鎖状又は分枝鎖状のアルケニル−オキシ基が挙げられる。
「アルキニル−オキシ基」としては、例えば、エチニルオキシ、（プロパ−１−イン−１−イル）オキシ，（プロパ−２−イン−１−イル）オキシ，（ブタ−１−イン−１−イル）オキシ、（ブタ−３−イン−１−イル）オキシ、（１−メチルプロパ−２−イン−１−イル）オキシ，（ペンタ−１−イン−１−イル）オキシ、（ペンタ−４−イン−１−イル）オキシ、（ヘキサ−１−イン−１−イル）オキシ、（ヘキサ−５−イン−１−イル）オキシ、（ヘプタ−１−イン−１−イル）オキシ、（ヘプタ−６−イン−１−イル）オキシ、（オクタ−１−イン−１−イル）オキシ、（オクタ−７−イン−１−イル）オキシ、（ノナ−１−イン−１−イル）オキシ、（ノナ−８−イン−１−イル）オキシ、（デカ−１−イン−１−イル）オキシ、（デカ−９−イン−１−イル）オキシ、（ウンデカ−１−イン−１−イル）オキシ、（ウンデカ−１０−イン−１−イル）オキシ、（ドデカ−１−イン−１−イル）オキシ、（ドデカ−１１−イン−１−イル）オキシ、（トリデカ−１−イン−１−イル）オキシ、（トリデカ−１２−イン−１−イル）オキシ、（テトラデカ−１−イン−１−イル）オキシ、（テトラデカ−１３−イン−１−イル）オキシ、（ペンタデカ−１−イン−１−イル）オキシ、（ペンタデカ−１４−イン−１−イル）オキシ等のＣ２〜Ｃ１５の直鎖状又は分枝鎖状のアルキニル−オキシ基が挙げられる。
「シクロアルキル−オキシ基」としては、例えば、シクロプロポキシ、シクロブトキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ、シクロヘプチルオキシ、シクロオクチルオキシ等のＣ３〜Ｃ８のシクロアルキル−オキシ基が挙げられる。「シクロアルキル−アルキル−オキシ基」としては、例えば、シクロプロピルメトキシ、１−シクロプロピルエトキシ、２−シクロプロピルエトキシ、３−シクロプロピルプロポキシ、４−シクロプロピルブトキシ、５−シクロプロピルペンチルオキシ、６−シクロプロピルヘキシルオキシ、シクロブチルメトキシ、シクロペンチルメトキシ、シクロブチルメトキシ、シクロペンチルメトキシ、シクロヘキシルメトキシ、２−シクロヘキシルエトキシ、３−シクロヘキシルプロポキシ、４−シクロヘキシルブトキシ、シクロヘプチルメトキシ、シクロオクチルメトキシ、６−シクロオクチルヘキシルオキシ等のＣ４〜Ｃ１４のシクロアルキル−アルキル−オキシ基が挙げられる。
「アリールオキシ基」としては、例えば、フェノキシ、１−ナフチルオキシ、２−ナフチルオキシ、アントリルオキシ、フェナントリルオキシ、アセナフチレニルオキシ等のＣ６〜Ｃ１４のアリールオキシ基が挙げられる。
「アラルキル−オキシ基」としては、例えば、ベンジルオキシ、１−ナフチルメトキシ、２−ナフチルメトキシ、アントラセニルメトキシ、フェナントレニルメトキシ、アセナフチレニルメトキシ、ジフェニルメトキシ、１−フェネチルオキシ、２−フェネチルオキシ、１−（１−ナフチル）エトキシ、１−（２−ナフチル）エトキシ、２−（１−ナフチル）エトキシ、２−（２−ナフチル）エトキシ、３−フェニルプロポキシ、３−（１−ナフチル）プロポキシ、３−（２−ナフチル）プロポキシ、４−フェニルブトキシ、４−（１−ナフチル）ブトキシ、４−（２−ナフチル）ブトキシ、５−フェニルペンチルオキシ、５−（１−ナフチル）ペンチルオキシ、５−（２−ナフチル）ペンチルオキシ、６−フェニルヘキシルオキシ、６−（１−ナフチル）ヘキシルオキシ、６−（２−ナフチル）ヘキシルオキシ等のＣ７〜Ｃ１６のアラルキル−オキシ基が挙げられる。
「アルキレンジオキシ基」としては、例えば、メチレンジオキシ、エチレンジオキシ、１−メチルメチレンジオキシ、１，１−ジメチルメチレンジオキシ等の基が挙げられる。
「ハロゲン化アルコキシ基（ハロゲン化アルキル−オキシ基）」としては、「ヒドロキシ基」の水素原子が「ハロゲン化アルキル基」で置換された基が挙げられ、例えば、フルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、クロロメトキシ、ブロモメトキシ、ヨードメトキシートリフルオロメトキシートリクロロメトキシ、２，２，２−トリフルオロエトキシ、ペンタフルオロエトキシ、３，３，３−トリフルオロプポキシ、ヘプタフルオロプポキシ、ヘプタフルオロイソプロポキシ、ノナフルオロブトキシ、パ−フルオロヘキシルオキシ等の１乃至１３個のハロゲン原子で置換されたＣ１〜Ｃ６の直鎖状又は分枝鎖状のハロゲン化アルコキシ基が挙げられる。
「ヘテロ環−オキシ基」としては、「ヒドロキシ基」の水素原子が、「ヘテロ環基」で置換された基が挙げられ、「ヘテロ環」としては、上記「ヘテロ環基」と同様の基が挙げられる。「ヘテロ環−オキシ基」としては、例えば、単環式ヘテロアリールオキシ基、縮合多環式ヘテロアリールオキシ基、単環式非芳香族ヘテロ環−オキシ基、縮合多環式非芳香族ヘテロ環−オキシ基等が挙げられる。
「単環式ヘテロアリールオキシ基」としては、例えば、３−チエニルオキシ、（イソキサゾール３−イル）オキシ、（チアゾール４−イル）オキシ、２−ピリジルオキシ、３−ピリジルオキシ、４−ピリジルオキシ、（ピリミジン−４−イル）オキシ等の基が挙げられる。
「縮合多環式ヘテロアリールオキシ基」としては、５−インドリルオキシ、（ベンズイミダゾール２−イル）オキシ、２−キノリルオキシ、３−キノリルオキシ、４−キノリルオキシ等の基が挙げられる。
「単環式非芳香族ヘテロ環−オキシ基」としては、例えば、３−ピロリジニルオキシ、４−ピペリジニルオキシ等の基が挙げられる。
「縮合多環式非芳香族ヘテロ環−オキシ基」としては、例えば、３−インドリニルオキシ、４−クロマニルオキシ等の基が挙げられる。
「炭化水素−スルファニル基」としては、「スルファニル基」の水素原子が、「炭化水素基」で置換された基が挙げられ、「炭化水素」としては、上記「炭化水素基」と同様の基が挙げられる。「炭化水素−スルファニル基」としては、例えば、アルキル−スルファニル基、アルケニル−スルファニル基、アルキニル−スルファニル基、シクロアルキル−スルファニル基、シクロアルキル−アルキル−スルファニル基等の脂肪族炭化水素−スルファニル基；アリールスルファニル基、アラルキル−スルファニル基等が挙げられる。
「アルキル−スルファニル基」としては、例えば、メチルスルファニル、エチルスルファニル、ｎ−プロピルスルファニル、イソプロピルスルファニル、ｎ−ブチルスルファニル、イソブチルスルファニル、ｓｅｃ−ブチルスルファニル、ｔｅｒｔ−ブチルスルファニル、ｎ−ペンチルスルファニル、イソペンチルスルファニル、（２−メチルブチル）スルファニル、（１−メチルブチル）スルファニル、ネオペンチルスルファニル、（１，２−ジメチルプロピル）スルファニル、（１−エチルプロピル）スルファニル、ｎ−ヘキシルスルファニル、（４−メチルペンチル）スルファニル、（３−メチルペンチル）スルファニル、（２−メチルペンチル）スルファニル、（１−メチルペンチル）スルファニル、（３，３−ジメチルブチル）スルファニル、（２，２−ジメチルブチル）スルファニル、（１，１−ジメチルブチル）スルファニル、（１，２−ジメチルブチル）スルファニル、（１，３−ジメチルブチル）スルファニル、（２，３−ジメチルブチル）スルファニル、（２−エチルブチル）スルファニル、（１−エチルブチル）スルファニル、（１−エチル−１−メチルプロピル）スルファニル、ｎ−ヘプチルスルファニル、ｎ−オクチルスルファニル、ｎ−ノニルスルファニル、ｎ−デシルスルファニル、ｎ−ウンデシルスルファニル、ｎ−ドデシルスルファニル、ｎ−トリデシルスルファニル、ｎ−テトラデシルスルファニル、ｎ−ペンタデシルスルファニル等のＣ１〜Ｃ１５の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル−スルファニル基が挙げられる。
「アルケニル−スルファニル基」としては、例えば、ビニルスルファニル、（プロパ−１−エン−１−イル）スルファニル、アリールスルファニル、イソプロペニルスルファニル、（ブタ−１−エン−１−イル）スルファニル、（ブタ−２−エン−１−イル）スルファニル、（ブタ−３−エン−１−イル）スルファニル、（２−メチルプロパ−２−エン−１−イル）スルファニル、（１−メチルプロパ−２−エン−１−イル）スルファニル、（ペンタ−１−エン−１−イル）スルファニル、（ペンタ−２−エン−１−イル）スルファニル、（ペンタ−３−エン−１−イル）スルファニル、（ペンタ−４−エン−１−イル）スルファニル、（３−メチルブタ−２−エン−１−イル）スルファニル、（３−メチルブタ−３−エン−１−イル）スルファニル、（ヘキサ−１−エン−１−イル）スルファニル、（ヘキサ−２−エン−１−イル）スルファニル、（ヘキサ−３−エン−１−イル）スルファニル、（ヘキサ−４−エン−１−イル）スルファニル、（ヘキサ−５−エン−１−イル）スルファニル、（４−メチルペンタ−３−エン−１−イル）スルファニル、（４−メチルペンタ−３−エン−１−イル）スルファニル、（ヘプタ−１−エン−１−イル）スルファニル、（ヘプタ−６−エン−１−イル）スルファニル、（オクタ−１−エン−１−イル）スルファニル、（オクタ−７−エン−１−イル）スルファニル、（ノナ−１−エン−１−イル）スルファニル、（ノナ−８−エン−１−イル）スルファニル、（デカ−１−エン−１−イル）スルファニル、（デカ−９−エン−１−イル）スルファニル、（ウンデカ−１−エン−１−イル）スルファニル、（ウンデカ−１０−エン−１−イル）スルファニル、（ドデカ−１−エン−１−イル）スルファニル、（ドデカ−１１−エン−１−イル）スルファニル、（トリデカ−１−エン−１−イル）スルファニル、（トリデカ−１２−エン−１−イル）スルファニル、（テトラデカ−１−エン−１−イル）スルファニル、（テトラデカ−１３−エン−１−イル）スルファニル、（ペンタデカ−１−エン−１−イル）スルファニル、（ペンタデカ−１４−エン−１−イル）スルファニル等のＣ２〜Ｃ１５の直鎖状又は分枝鎖状のアルケニル−スルファニル基が挙げられる。
「アルキニル−スルファニル基」としては、例えば、エチニルスルファニル、（プロパ−１−イン−１−イル）スルファニル，（プロパ−２−イン−１−イル）スルファニル，（ブタ−１−イン−１−イル）スルファニル、（ブタ−３−イン−１−イル）スルファニル、（１−メチルプロパ−２−イン−１−イル）スルファニル、（ペンタ−１−イン−１−イル）スルファニル、（ペンタ−４−イン−１−イル）スルファニル、（ヘキサ−１−イン−１−イル）スルファニル、（ヘキサ−５−イン−１−イル）スルファニル、（ヘプタ−１−イン−１−イル、（ヘプタ−６−イン−１−イル）スルファニル、（オクタ−１−イン−１−イル）スルファニル、（オクタ−７−イン−１−イル）スルファニル、（ノナ−１−イン−１−イル）スルファニル、（ノナ−８−イン−１−イル）スルファニル、（デカ−１−イン−１−イル）スルファニル、（デカ−９−イン−１−イル）スルファニル、（ウンデカ−１−イン−１−イル）スルファニル、（ウンデカ−１０−イン−１−イル）スルファニル、（ドデカ−１−イン−１−イル）スルファニル、（ドデカ−１１−イン−１−イル）スルファニル、（トリデカ−１−イン−１−イル）スルファニル、（トリデカ−１２−イン−１−イル）スルファニル、（テトラデカ−１−イン−１−イル）スルファニル、（テトラデカ−１３−イン−１−イル）スルファニル、（ペンタデカ−１−イン−１−イル）スルファニル、（ペンタデカ−１４−イン−１−イル）スルファニル等のＣ２〜Ｃ１５の直鎖状又は分枝鎖状のアルキニル−スルファニル基が挙げられる。
「シクロアルキル−スルファニル基」としては、例えば、シクロプロピルスルファニル、シクロブチルスルファニル、シクロペンチルスルファニル、シクロヘキシルスルファニル、シクロヘプチルスルファニル、シクロオクチルスルファニル等のＣ３〜Ｃ８のシクロアルキル−スルファニル基が挙げられる。
「シクロアルキル−アルキル−スルファニル基」としては、例えば、（シクロプロピルメチル）スルファニル、（１−シクロプロピルエチル）スルファニル、（２−シクロプロピルエチル）スルファニル、（３−シクロプロピルプロピル）スルファニル、（４−シクロプロピルブチル）スルファニル、（５−シクロプロピルペンチル）スルファニル、（６−シクロプロピルヘキシル）スルファニル、（シクロブチルメチル）スルファニル、（シクロペンチルメチル）スルファニル、（シクロブチルメチル）スルファニル、（シクロペンチルメチル）スルファニル、（シクロヘキシルメチル）スルファニル、（２−シクロヘキシルエチル）スルファニル、（３−シクロヘキシルプロピル）スルファニル、（４−シクロヘキシルブチル）スルファニル、（シクロヘプチルメチル）スルファニル、（シクロオクチルメチル）スルファニル、（６−シクロオクチルヘキシル）スルファニル等のＣ４〜Ｃ１４のシクロアルキル−アルキル−スルファニル基が挙げられる。
「アリールスルファニル基」としては、例えば、フェニルスルファニル、１−ナフチルスルファニル、２−ナフチルスルファニル、アントリルスルファニル、フェナントリルスルファニル、アセナフチレニルスルファニル等のＣ６〜Ｃ１４のアリールスルファニル基が挙げられる。
「アラルキル−スルファニル基」としては、例えば、ベンジルスルファニル、（１−ナフチルメチル）スルファニル、（２−ナフチルメチル）スルファニル、（アントラセニルメチル）スルファニル、（フェナントレニルメチル）スルファニル、（アセナフチレニルメチル）スルファニル、（ジフェニルメチル）スルファニル、（１−フェネチル）スルファニル、（２−フェネチル）スルファニル、（１−（１−ナフチル）エチル）スルファニル、（１−（２−ナフチル）エチル）スルファニル、（２−（１−ナフチル）エチル）スルファニル、（２−（２−ナフチル）エチル）スルファニル、（３−フェニルプロピル）スルファニル、（３−（１−ナフチル）プロピル）スルファニル、（３−（２−ナフチル）プロピル）スルファニル、（４−フェニルブチル）スルファニル、（４−（１−ナフチル）ブチル）スルファニル、（４−（２−ナフチル）ブチル）スルファニル、（５−フェニルペンチル）スルファニル、（５−（１−ナフチル）ペンチル）スルファニル、（５−（２−ナフチル）ペンチル）スルファニル、（６−フェニルヘキシル）スルファニル、（６−（１−ナフチル）ヘキシル）スルファニル、（６−（２−ナフチル）ヘキシル）スルファニル等のＣ７〜Ｃ１６のアラルキル−スルファニル基が挙げられる。
「ハロゲン化アルキル−スルファニル基」としては、「スルファニル基」の水素原子が「ハロゲン化アルキル基」で置換された基が挙げられ、例えば、（フルオロメチル）スルファニル、（クロロメチル）スルファニル、（ブロモメチル）スルファニル、（ヨードメチル）スルファニル、（ジフルオロメチル）スルファニル、（トリフルオロメチル）スルファニル、（トリクロロメチル）スルファニル、（２，２，２−トリフルオロエチル）スルファニル、（ペンタフルオロエチル）スルファニル、（３，３，３−トリフルオロプロピル）スルファニル、（ヘプタフルオロプロピル）スルファニル、（ヘプタフルオロイソプロピル）スルファニル、（ノナフルオロブチル）スルファニル、（パーフルオロヘキシル）スルファニル等の１乃至１３個のハロゲン原子で置換されたＣ１〜Ｃ６の直鎖状又は分枝鎖状のハロゲン化アルキル−スルファニル基が挙げられる。
「ヘテロ環−スルファニル基」としては、「スルファニル基」の水素原子が、「ヘテロ環基」で置換された基が挙げられ、「ヘテロ環」としては、上記「ヘテロ環基」と同様の基が挙げられる。「ヘテロ環−スルファニル基」としては、例えば、単環式ヘテロアリールスルファニル基、縮合多環式ヘテロアリールスルファニル基、単環式非芳香族ヘテロ環−スルファニル基、縮合多環式非芳香族ヘテロ環−スルファニル基等が挙げられる。
「単環式ヘテロアリールスルファニル基」としては、例えば、（イミダゾール２−イル）スルファニル、（１，２，４−トリアゾール２−イル）スルファニル、（ピリジン−２−イル）スルファニル、（ピリジン−４−イル）スルファニル、（ピリミジン−２−イル）スルファニル等の基が挙げられる。
「縮合多環式ヘテロアリールスルファニル基」としては、（ベンズイミダゾール２−イル）スルファニル、（キノリン−２−イル）スルファニル、（キノリン−４−イル）スルファニル等の基が挙げられる。
「単環式非芳香族ヘテロ環−スルファニル基」としては、例えば、（３−ピロリジニル）スルファニル、（４−ピペリジニル）スルファニル等の基が挙げられる。「縮合多環式非芳香族ヘテロ環−スルファニル基」としては、例えば、（３−インドリニル）スルファニル、（４−クロマニル）スルファニル等の基が挙げられる。
「アシル基」としては、例えば、フォールミル基、グリオキシロイル基、チオフォールミル基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、スルファモイル基、スルフィナモイル基、カルボキシ基、スルフォー基、フォースフォーノ基、及び下記式：
2003103656.tif 000007
（式中、Ｒａ１及びＲｂ１は、同一又は異なって、炭化水素基又はヘテロ環基を表すか、あるいはＲａ１及びＲｂ１が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に環状アミノ基を表す）で表される基が挙げられる。
上記「アシル基」の定義において、
式（ω−１Ａ）で表される基の中で、Ｒａ１が炭化水素基である基を「炭化水素−カルボニル基」（具体例：アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ラウロイル、ミリストイル、パルミトイル、アクリロイル、プロピオロイル、メタクリロイル、クロトノイル、イソクロトノイル、シクロヘキシルカルボニル、シクロヘキシルメチルカルボニル、ベンゾイル、１−ナフトイル、２−ナフトイル、フェニルアセチル等の基）、Ｒａ１がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−カルボニル基」（具体例：２−テノイル、３−フロイル、ニコチノイル、イソニコチノイル等の基）と称する。
式（ω−２Ａ）で表される基の中で、Ｒａ１が炭化水素基である基を「炭化水素−オキシ−カルボニル基」（具体例：メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、フェノキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル等の基）、Ｒａ１がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−オキシ−カルボニル基」（具体例：３−ピリジルオキシカルボニル等の基）と称する。
式（ω−３Ａ）で表される基の中で、Ｒａ１が炭化水素基である基を「炭化水素−カルボニル−カルボニル基」（具体例：ピルボイル等の基）、Ｒａ１がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−カルボニル−カルボニル基」と称する。
式（ω−４Ａ）で表される基の中で、Ｒａ１が炭化水素基である基を「炭化水素−オキシ−カルボニル−カルボニル基」（具体例：メトキサリル、エトキサリル等の基）、Ｒａ１がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−オキシ−カルボニル−カルボニル基」と称する。
式（ω−５Ａ）で表される基の中で、Ｒａ１が炭化水素基である基を「炭化水素−スルファニル−カルボニル基」、Ｒａ１がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−スルファニル−カルボニル基」と称する。
式（ω−６Ａ）で表される基の中で、Ｒａ１が炭化水素基である基を「炭化水素−チオカルボニル基」、Ｒａ１がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−チオカルボニル基」と称する。
式（ω−７Ａ）で表される基の中で、Ｒａ１が炭化水素基である基を「炭化水素−オキシ−チオカルボニル基」、Ｒａ１がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−オキシ−チオカルボニル基」と称する。
式（ω−８Ａ）で表される基の中で、Ｒａ１が炭化水素基である基を「炭化水素−スルファニル−チオカルボニル基」、Ｒａ１がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−スルファニル−チオカルボニル基」と称する。
式（ω−９Ａ）で表される基の中で、Ｒａ１が炭化水素基である基を「Ｎ−炭化水素−カルバモイル基」（具体例：Ｎ−メチルカルバモイル等の基）、Ｒａ１がヘテロ環基である基を「Ｎ−ヘテロ環−カルバモイル基」と称する。
式（ω−１０Ａ）で表される基の中で、Ｒａ１及びＲｂ１が炭化水素基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（炭化水素）−カルバモイル基」（具体例：Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル等の基）、Ｒａ１及びＲｂ１がヘテロ環基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（ヘテロ環）−カルバモイル基」、Ｒａ１が炭化水素基でありＲｂ１がヘテロ環基である基を「Ｎ−炭化水素−Ｎ−ヘテロ環−置換カルバモイル基」、Ｒａ１及びＲｂ１が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に環状アミノ基である基を「環状アミノ−カルボニル基」（具体例：モルフォーリノカルボニル等の基）と称する。
式（ω−１１Ａ）で表される基の中で、Ｒａ１が炭化水素基である基を「Ｎ−炭化水素−チオカルバモイル基」、Ｒａ１がヘテロ環基である基を「Ｎ−ヘテロ環−チオカルバモイル基」と称する。
式（ω−１２Ａ）で表される基の中で、Ｒａ１及びＲｂ１が炭化水素基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（炭化水素）−チオカルバモイル基」、Ｒａ１及びＲｂ１がヘテロ環基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（ヘテロ環）−チオカルバモイル基」、Ｒａ１が炭化水素基でありＲｂ１がヘテロ環基である基を「Ｎ−炭化水素−Ｎ−ヘテロ環−チオカルバモイル基」、Ｒａ１及びＲｂ１が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に環状アミノ基である基を「環状アミノ−チオカルボニル基」と称する。
式（ω−１３Ａ）で表される基の中で、Ｒａ１が炭化水素基である基を「Ｎ−炭化水素−スルファモイル基」、Ｒａ１がヘテロ環基である基を「Ｎ−ヘテロ環−スルファモイル基」と称する。
式（ω−１４Ａ）で表される基の中で、Ｒａ１及びＲｂ１が炭化水素基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（炭化水素）−スルファモイル基」（具体例：Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル等の基）、Ｒａ１及びＲｂ１がヘテロ環基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（ヘテロ環）スルファモイル基」、Ｒａ１が炭化水素基でありＲｂ１がヘテロ環基である基を「Ｎ−炭化水素−Ｎ−ヘテロ環−スルファモイル基」、Ｒａ１及びＲｂ１が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に環状アミノ基である基を「環状アミノ−スルフォーニル基」（具体例：１−ピロリルスルフォーニル等の基）と称する。
式（ω−１５Ａ）で表される基の中で、Ｒａ１が炭化水素基である基を「Ｎ−炭化水素−スルフィナモイル基」、Ｒａ１がヘテロ環基である基を「Ｎ−ヘテロ環−スルフィナモイル基」と称する。
式（ω−１６Ａ）で表される基の中で、Ｒａ１及びＲｂ１が炭化水素基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（炭化水素）−スルフィナモイル基」、Ｒａ１及びＲｂ１がヘテロ環基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（ヘテロ環）−スルフィナモイル基」、Ｒａ１が炭化水素基でありＲｂ１がヘテロ環基である基を「Ｎ−炭化水素−Ｎ−ヘテロ環−スルフィナモイル基」、Ｒａ１及びＲｂ１が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に環状アミノ基である基を「環状アミノ−スルフィニル基」と称する。
式（ω−１７Ａ）で表される基の中で、Ｒａ１が炭化水素基である基を「炭化水素−オキシ−スルフォーニル基」、Ｒａ１がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−オキシ−スルフォーニル基」と称する。
式（ω−１８Ａ）で表される基の中で、Ｒａ１が炭化水素基である基を「炭化水素−オキシ−スルフィニル基」、Ｒａ１がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−オキシ−スルフィニル基」と称する。
式（ω−１９Ａ）で表される基の中で、Ｒａ１及びＲｂ１が炭化水素基である基を「Ｏ，Ｏ’−ジ（炭化水素）−フォースフォーノ基」、Ｒａ１及びＲｂ１がヘテロ環基である基を「Ｏ，Ｏ’−ジ（ヘテロ環）−フォースフォーノ基」、Ｒａ１が炭化水素基でありＲｂ１がヘテロ環基である基を「Ｏ−炭化水素−Ｏ’−ヘテロ環−フォースフォーノ基」と称する。
式（ω−２０Ａ）で表される基の中で、Ｒａ１が炭化水素基である基を「炭化水素−スルフォーニル基」（具体例：メタンスルフォーニル、ベンゼンスルフォーニル等の基）、Ｒａ１がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−スルフォーニル基」と称する。
式（ω−２１Ａ）で表される基の中で、Ｒａ１が炭化水素基である基を「炭化水素−スルフィニル基」具体例：メチルスルフィニル、ベンゼンスルフィニル等の基）、Ｒａ１がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−スルフィニル基」と称する。
上記式（ω−１Ａ）乃至（ω−２１Ａ）で表される基における「炭化水素」としては、上記「炭化水素基」と同様の基が挙げられる。例えば、式（ω−１Ａ）で表される「炭化水素−カルボニル基」としては、アルキル−カルボニル基、アルケニル−カルボニル基、アルキニル−カルボニル基、シクロアルキル−カルボニル基、シクロアルケニル−カルボニル基、シクロアルカンジエニル−カルボニル基、シクロアルキル−アルキル−カルボニル基等の脂肪族炭化水素−カルボニル基；アリールカルボニル基；アラルキル−カルボニル基；架橋環式炭化水素−カルボニル基；スピロ環式炭化水素−カルボニル基；テルペン系炭化水素−カルボニル基が挙げられる。以下、式（ω−２Ａ）乃至（ω−２１Ａ）で表される基も同様である。
上記式（ω−１Ａ）乃至（ω−２１Ａ）で表される基における「ヘテロ環」としては、上記「ヘテロ環基」と同様の基が挙げられる。例えば、式（ω−１Ａ）で表される「ヘテロ環−カルボニル基」としては、例えば、単環式ヘテロアリールカルボニル基、縮合多環式ヘテロアリールカルボニル基、単環式非芳香族ヘテロ環−カルボニル基、縮合多環式非芳香族ヘテロ環−カルボニル基が挙げられる。以下、式（ω−２Ａ）乃至（ω−２１Ａ）で表される基も同様である。
上記式（ω−１０Ａ）乃至（ω−１６Ａ）で表される基における「環状アミノ」としては、上記「環状アミノ基」と同様の基が挙げられる。
本明細書において、ある官能基について「置換基を有していてもよい」という場合には、特に言及する場合を除き、その官能基が、化学的に可能な位置に１個又は２個以上の「置換基」を有する場合があることを意味する。官能基に存在する置換基の種類、置換基の個数、及び置換位置は特に限定されず、２個以上の置換基が存在する場合には、それらは同一であっても異なっていてもよい。官能基に存在する「置換基」としては、例えば、ハロゲン原子、オキソ基、チオキソ基、ニトロ基、ニトロソ基、シアノ基、イソシアノ基、シアナト基、チオシアナト基、イソシアナト基、イソチオシアナト基、ヒドロキシ基、スルファニル基、カルボキシ基、スルファニルカルボニル基、オキサロ基、メソオキサロ基、チオカルボキシ基、ジチオカルボキシ基、カルバモイル基、チオカルバモイル基、スルフォー基、スルファモイル基、スルフィノ基、スルフィナモイル基、スルフェノ基、スルフェナモイル基、フォースフォーノ基、ヒドロキシフォースフォーニル基、炭化水素基、ヘテロ環基、炭化水素−オキシ基、ヘテロ環−オキシ基、炭化水素−スルファニル基、ヘテロ環−スルファニル基、アシル基、アミノ基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、ジアゼニル基、ウレイド基、チオウレイド基、グアニジノ基、カルバモイミドイル基（アミジノ基）、アジド基、イミノ基、ヒドロキシアミノ基、ヒドロキシイミノ基、アミノオキシ基、ジアゾ基、セミカルバジノ基、セミカルバゾノ基、アロファニル基、ヒダントイル基、フォースファノ基、フォースフォーロソ基、フォースフォー基、ボリル基、シリル基、スタニル基、セラニル基、オキシド基等を挙げることができる。
上記「置換基を有していてもよい」の定義における「置換基」が２個以上存在する場合、該２個以上の置換基は、それらが結合している原子と一緒になって環式基を形成してもよい。このような環式基には、環系を構成する原子（環原子）として、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子等から選択されたヘテロ原子１ないし３種が１個以上含有されていてもよく、該環上には１個以上の置換基が存在していてもよい。該環は、単環式又は縮合多環式のいずれであってもよく、芳香族又は非芳香族のいずれであってもよい。
上記「置換基を有していてもよい」の定義における「置換基」は、該置換基上の化学的に可能な位置で、上記「置換基」によって置換されていてもよい。置換基の種類、置換基の個数、及び置換位置は特に限定されず、２個以上の置換基で置換される場合には、それらは同一であっても異なっていてもよい。そのような例として、例えば、ハロゲン化アルキル−カルボニル基（具体例：トリフルオロアセチル等の基）、ハロゲン化アルキル−スルフォーニル基（具体例：トリフルオロメタンスルフォーニル等の基）、アシル−オキシ基、アシル−スルファニル基、Ｎ−炭化水素基−アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（炭化水素）−アミノ基、Ｎ−ヘテロ環−アミノ基、Ｎ−炭化水素−Ｎ−ヘテロ環−アミノ基、アシル−アミノ基、ジ（アシル）−アミノ基等の基が挙げられる。また、上記「置換基」上での「置換」は複数次にわたって繰り返されてもよい。
「アシル−オキシ基」としては、「ヒドロキシ基」の水素原子が「アシル基」で置換された基が挙げられ、例えば、フォールミルオキシ基、グリオキシロイルオキシ基、チオフォールミルオキシ基、カルバモイルオキシ基、チオカルバモイルオキシ基、スルファモイルオキシ基、スルフィナモイルオキシ基、カルボキシオキシ基、スルフォーキシ基、フォースフォーノオキシ基、及び下記式：
2003103656.tif 000008
（式中、Ｒａ２及びＲｂ２は、同一又は異なって、炭化水素基、又はヘテロ環基を表すか、あるいはＲａ２及びＲｂ２が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に環状アミノ基を表す）で表される基が挙げられる。
上記「アシル−オキシ基」の定義において、
式（ω−１Ｂ）で表される基の中で、Ｒａ２が炭化水素基である基を「炭化水素−カルボニル−オキシ基」（具体例：アセトキシ、ベンゾイルオキシ等の基）、Ｒａ２がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−カルボニル−オキシ基」と称する。
式（ω−２Ｂ）で表される基の中で、Ｒａ２が炭化水素基である基を「炭化水素−オキシ−カルボニル−オキシ基」、Ｒａ２がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−オキシ−カルボニル−オキシ基」と称する。
式（ω−３Ｂ）で表される基の中で、Ｒａ２が炭化水素基である基を「炭化水素−カルボニル−カルボニル−オキシ基」、Ｒａ２がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−カルボニル−カルボニル−オキシ基」と称する。
式（ω−４Ｂ）で表される基の中で、Ｒａ２が炭化水素基である基を「炭化水素−オキシ−カルボニル−カルボニル−オキシ基」、Ｒａ２がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−オキシ−カルボニル−カルボニル−オキシ基」と称する。
式（ω−５Ｂ）で表される基の中で、Ｒａ２が炭化水素基である基を「炭化水素−スルファニル−カルボニル−オキシ基」、Ｒａ２がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−スルファニル−カルボニル−オキシ基」と称する。
式（ω−６Ｂ）で表される基の中で、Ｒａ２が炭化水素基である基を「炭化水素−チオカルボニル−オキシ基」、Ｒａ２がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−チオカルボニル−オキシ基」と称する。
式（ω−７Ｂ）で表される基の中で、Ｒａ２が炭化水素基である基を「炭化水素−オキシ−チオカルボニル−オキシ基」、Ｒａ２がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−オキシ−チオカルボニル−オキシ基」と称する。
式（ω−８Ｂ）で表される基の中で、Ｒａ２が炭化水素基である基を「炭化水素−スルファニル−チオカルボニル−オキシ基」、Ｒａ２がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−スルファニル−チオカルボニル−オキシ基」と称する。
式（ω−９Ｂ）で表される基の中で、Ｒａ２が炭化水素基である基を「Ｎ−炭化水素−カルバモイル−オキシ基」、Ｒａ２がヘテロ環基である基を「Ｎ−ヘテロ環−カルバモイル−オキシ基」と称する。
式（ω−１０Ｂ）で表される基の中で、Ｒａ２及びＲｂ２が炭化水素基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（炭化水素）−カルバモイル−オキシ基」、Ｒａ２及びＲｂ２がヘテロ環基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（ヘテロ環）−カルバモイル−オキシ基」、Ｒａ２が炭化水素基でありＲｂ２がヘテロ環基である基を「Ｎ−炭化水素−Ｎ−ヘテロ環−カルバモイル−オキシ基」、Ｒａ２及びＲｂ２が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に環状アミノ基である基を「環状アミノ−カルボニル−オキシ基」と称する。
式（ω−１１Ｂ）で表される基の中で、Ｒａ２が炭化水素基である基を「Ｎ−炭化水素−チオカルバモイル−オキシ基」、Ｒａ２がヘテロ環基である基を「Ｎ−ヘテロ環−チオカルバモイル−オキシ基」と称する。
式（ω−１２Ｂ）で表される基の中で、Ｒａ２及びＲｂ２が炭化水素基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（炭化水素）−チオカルバモイル−オキシ基」、Ｒａ２及びＲｂ２がヘテロ環基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（ヘテロ環）−チオカルバモイル−オキシ基」、Ｒａ２が炭化水素基でありＲｂ２がヘテロ環基である基を「Ｎ−炭化水素−Ｎ−ヘテロ環−チオカルバモイル−オキシ基」、Ｒａ２及びＲｂ２が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に環状アミノ基である基を「環状アミノ−チオカルボニル−オキシ基」と称する。
式（ω−１３Ｂ）で表される基の中で、Ｒａ２が炭化水素基である基を「Ｎ−炭化水素−スルファモイル−オキシ基」、Ｒａ２がヘテロ環基である基を「Ｎ−ヘテロ環−スルファモイル−オキシ基」と称する。
式（ω−１４Ｂ）で表される基の中で、Ｒａ２及びＲｂ２が炭化水素基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（炭化水素）−スルファモイル−オキシ基」、Ｒａ２及びＲｂ２がヘテロ環基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（ヘテロ環）−スルファモイル−オキシ基」、Ｒａ２が炭化水素基でありＲｂ２がヘテロ環基である基を「Ｎ−炭化水素−Ｎ−ヘテロ環−スルファモイル−オキシ基」、Ｒａ２及びＲｂ２が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に環状アミノ基である基を「環状アミノ−スルフォーニル−オキシ基」と称する。
式（ω−１５Ｂ）で表される基の中で、Ｒａ２が炭化水素基である基を「Ｎ−炭化水素−スルフィナモイル−オキシ基」、Ｒａ２がヘテロ環基である基を「Ｎ−ヘテロ環−スルフィナモイル−オキシ基」と称する。
式（ω−１６Ｂ）で表される基の中で、Ｒａ２及びＲｂ２が炭化水素基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（炭化水素）−スルフィナモイル−オキシ基」、Ｒａ２及びＲｂ２がヘテロ環基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（ヘテロ環）−スルフィナモイル−オキシ基」、Ｒａ２が炭化水素基でありＲｂ２がヘテロ環基である基を「Ｎ−炭化水素−Ｎ−ヘテロ環−スルフィナモイル−オキシ基」、Ｒａ２及びＲｂ２が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に環状アミノ基である基を「環状アミノ−スルフィニル−オキシ基」と称する。
式（ω−１７Ｂ）で表される基の中で、Ｒａ２が炭化水素基である基を「炭化水素−オキシ−スルフォーニル−オキシ基」、Ｒａ２がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−オキシ−スルフォーニル−オキシ基」と称する。
式（ω−１８Ｂ）で表される基の中で、Ｒａ２が炭化水素基である基を「炭化水素−オキシ−スルフィニル−オキシ基」、Ｒａ２がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−オキシ−スルフィニル−オキシ基」と称する。
式（ω−１９Ｂ）で表される基の中で、Ｒａ２及びＲｂ２が炭化水素基である基を「Ｏ，Ｏ’−ジ（炭化水素）−フォースフォーノ−オキシ基」、Ｒａ２及びＲｂ２がヘテロ環基である基を「Ｏ，Ｏ’−ジ（ヘテロ環）−フォースフォーノ−オキシ基」、Ｒａ２が炭化水素基でありＲｂ２がヘテロ環基である基を「Ｏ−炭化水素置換−Ｏ’−ヘテロ環置換フォースフォーノ−オキシ基」と称する。
式（ω−２０Ｂ）で表される基の中で、Ｒａ２が炭化水素基である基を「炭化水素−スルフォーニル−オキシ基」、Ｒａ２がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−スルフォーニル−オキシ基」と称する。
式（ω−２１Ｂ）で表される基の中で、Ｒａ２が炭化水素基である基を「炭化水素−スルフィニル−オキシ基」、Ｒａ２がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−スルフィニル−オキシ基」と称する。
上記式（ω−１Ｂ）乃至（ω−２１Ｂ）で表される基における「炭化水素」としては、上記「炭化水素基」と同様の基が挙げられる。例えば、式（ω−１Ｂ）で表される「炭化水素−カルボニル−オキシ基」としては、アルキル−カルボニル−オキシ基、アルケニル−カルボニル−オキシ基、アルキニル−カルボニル−オキシ基、シクロアルキル−カルボニル−オキシ基、シクロアルケニル−カルボニル−オキシ基、シクロアルカンジエニル−カルボニル−オキシ基、シクロアルキル−アルキル−カルボニル−オキシ基等の脂肪族炭化水素−カルボニル−オキシ基；アリールカルボニル−オキシ基；アラルキル−カルボニル−オキシ基；架橋環式炭化水素−カルボニル−オキシ基；スピロ環式炭化水素−カルボニル−オキシ基；テルペン系炭化水素−カルボニル−オキシ基が挙げられる。以下、式（ω−２Ｂ）乃至（ω−２１Ｂ）で表される基も同様である。
上記式（ω−１Ｂ）乃至（ω−２１Ｂ）で表される基における「ヘテロ環」としては、上記「ヘテロ環基」と同様の基が挙げられる。例えば、式（ω−１Ｂ）で表される「ヘテロ環−カルボニル基」としては、例えば、単環式ヘテロアリールカルボニル基、縮合多環式ヘテロアリールカルボニル基、単環式非芳香族ヘテロ環−カルボニル基、縮合多環式非芳香族ヘテロ環−カルボニル基が挙げられる。以下、式（ω−２Ｂ）乃至（ω−２１Ｂ）で表される基も同様である。
上記式（ω−１０Ｂ）乃至（ω−１６Ｂ）で表される基における「環状アミノ」としては、上記「環状アミノ基」と同様の基が挙げられる。
上記「アシル−オキシ基」、「炭化水素−オキシ基」、及び「ヘテロ環−オキシ基」を総称して、「置換オキシ基」と称する。また、これら「置換オキシ基」と「ヒドロキシ基」を総称して、「置換基を有していてもよいヒドロキシ基」と称する。「アシル−スルファニル基」としては、「スルファニル基」の水素原子が「アシル基」で置換された基が挙げられ、例えば、フォールミルスルファニル基、グリオキシロイルスルファニル基、チオフォールミルスルファニル基、カルバモイルスルファニル基、チオカルバモイルスルファニル基、スルファモイルスルファニル基、スルフィナモイルスルファニル基、カルボキシスルファニル基、スルフォースルファニル基、フォースフォーノスルファニル基、及び下記式：
2003103656.tif 000009
（式中、Ｒａ３及びＲｂ３は、同一又は異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基、又は置換基を有していてもよいヘテロ環基を表すか、あるいはＲａ３及びＲｂ３が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に、置換基を有していてもよい環状アミノ基を表す）で表される基が挙げられる。
上記「アシル−スルファニル基」の定義において、
式（ω−１Ｃ）で表される基の中で、Ｒａ３が炭化水素基である基を「炭化水素−カルボニル−スルファニル基」、Ｒａ３がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−カルボニル−スルファニル基」と称する。
式（ω−２Ｃ）で表される基の中で、Ｒａ３が炭化水素基である基を「炭化水素−オキシ−カルボニル−スルファニル基」、Ｒａ３がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−オキシ−カルボニル−スルファニル基」と称する。
式（ω−３Ｃ）で表される基の中で、Ｒａ３が炭化水素基である基を「炭化水素−カルボニル−カルボニル−スルファニル基」、Ｒａ３がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−カルボニル−カルボニル−スルファニル基」と称する。
式（ω−４Ｃ）で表される基の中で、Ｒａ３が炭化水素基である基を「炭化水素−オキシ−カルボニル−カルボニル−スルファニル基」、Ｒａ３がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−オキシ−カルボニル−カルボニル−スルファニル基」と称する。
式（ω−５Ｃ）で表される基の中で、Ｒａ３が炭化水素基である基を「炭化水素−スルファニル−カルボニル−スルファニル基」、Ｒａ３がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−スルファニル−カルボニル−スルファニル基」と称する。
式（ω−６Ｃ）で表される基の中で、Ｒａ３が炭化水素基である基を「炭化水素−チオカルボニル−スルファニル基」、Ｒａ３がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−チオカルボニル−スルファニル基」と称する。
式（ω−７Ｃ）で表される基の中で、Ｒａ３が炭化水素基である基を「炭化水素−オキシ−チオカルボニル−スルファニル基」、Ｒａ３がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−オキシ−チオカルボニル−スルファニル基」と称する。
式（ω−８Ｃ）で表される基の中で、Ｒａ３が炭化水素基である基を「炭化水素−スルファニル−チオカルボニル−スルファニル基」、Ｒａ３がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−スルファニル−チオカルボニル−スルファニル基」と称する。
式（ω−９Ｃ）で表される基の中で、Ｒａ３が炭化水素基である基を「Ｎ−炭化水素−カルバモイル−スルファニル基」、Ｒａ３がヘテロ環基である基を「Ｎ−ヘテロ環−カルバモイル−スルファニル基」と称する。
式（ω−１０Ｃ）で表される基の中で、Ｒａ３及びＲｂ３が炭化水素基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（炭化水素）−カルバモイル−スルファニル基」、Ｒａ３及びＲｂ３がヘテロ環基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（ヘテロ環）−カルバモイル−スルファニル基」、Ｒａ３が炭化水素基でありＲｂ３がヘテロ環基である基を「Ｎ−炭化水素−Ｎ−ヘテロ環−カルバモイル−スルファニル基」、Ｒａ３及びＲｂ３が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に環状アミノ基である基を「環状アミノ−カルボニル−スルファモイル基」と称する。
式（ω−１１Ｃ）で表される基の中で、Ｒａ３が炭化水素基である基を「Ｎ−炭化水素−チオカルバモイル−スルファニル基」、Ｒａ３がヘテロ環基である基を「Ｎ−ヘテロ環−チオカルバモイル−スルファニル基」と称する。
式（ω−１２Ｃ）で表される基の中で、Ｒａ３及びＲｂ３が炭化水素基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（炭化水素）−チオカルバモイル−スルファニル基」、Ｒａ３及びＲｂ３がヘテロ環基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（ヘテロ環）−チオカルバモイル−スルファニル基」、Ｒａ３が炭化水素基でありＲｂ３がヘテロ環基である基を「Ｎ−炭化水素−Ｎ−ヘテロ環−チオカルバモイル−スルファニル基」、Ｒａ３及びＲｂ３が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に環状アミノ基である基を「環状アミノ−チオカルボニル−スルファニル基」と称する。
式（ω−１３Ｃ）で表される基の中で、Ｒａ３が炭化水素基である基を「Ｎ−炭化水素−スルファモイル−スルファニル基」、Ｒａ３がヘテロ環基である基を「Ｎ−ヘテロ環−スルファモイル−スルファニル基」と称する。
式（ω−１４Ｃ）で表される基の中で、Ｒａ３及びＲｂ３が炭化水素基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（炭化水素）−スルファモイル−スルファニル基」、Ｒａ３及びＲｂ３がヘテロ環基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（ヘテロ環）−スルファモイル−スルフィニル基」、Ｒａ３が炭化水素基でありＲｂ３がヘテロ環基である基を「Ｎ−炭化水素−Ｎ−ヘテロ環スルファモイル−スルファニル基」、Ｒａ３及びＲｂ３が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に環状アミノ基である基を「環状アミノ−スルフォーニル−スルファニル基」と称する。
式（ω−１５Ｃ）で表される基の中で、Ｒａ３が炭化水素基である基を「Ｎ−炭化水素−スルフィナモイル−スルファニル基」、Ｒａ３がヘテロ環基である基を「Ｎ−ヘテロ環−スルフィナモイル−スルファニル基」と称する。
式（ω−１６Ｃ）で表される基の中で、Ｒａ３及びＲｂ３が炭化水素基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（炭化水素）−スルフィナモイル−スルファニル基」、Ｒａ３及びＲｂ３がヘテロ環基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（ヘテロ環）−スルフィナモイル−スルファニル基」、Ｒａ３が炭化水素基でありＲｂ３がヘテロ環基である基を「Ｎ−炭化水素−Ｎ−ヘテロ環−スルフィナモイル−スルファニル基」、Ｒａ３及びＲｂ３が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に環状アミノ基である基を「環状アミノ−スルファニル−スルファニル基」と称する。
式（ω−１７Ｃ）で表される基の中で、Ｒａ３が炭化水素基である基を「炭化水素−オキシ−スルフォーニル−スルファニル基」、Ｒａ３がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−オキシ−スルフォーニル−スルファニル基」と称する。
式（ω−１８Ｃ）で表される基の中で、Ｒａ３が炭化水素基である基を「炭化水素−オキシ−スルフィニル−スルファニル基」、Ｒａ３がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−オキシ−スルフィニル−スルファニル基」と称する。
式（ω−１９Ｃ）で表される基の中で、Ｒａ３及びＲｂ３が炭化水素基である基を「Ｏ，Ｏ’−ジ（炭化水素）−フォースフォーノ−スルファニル基」、Ｒａ３及びＲｂ３がヘテロ環基である基を「Ｏ，Ｏ’−ジ（ヘテロ環）−フォースフォーノ−スルファニル基」、Ｒａ３が炭化水素基でありＲｂ３がヘテロ環基である基を「Ｏ−炭化水素−Ｏ’−ヘテロ環−フォースフォーノ−スルファニル基」と称する。
式（ω−２０Ｃ）で表される基の中で、Ｒａ３が炭化水素基である基を「炭化水素−スルフォーニル−スルファニル基」、Ｒａ３がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−スルフォーニル−スルファニル基」と称する。
式（ω−２１Ｃ）で表される基の中で、Ｒａ３が炭化水素基である基を「炭化水素−スルフィニル−スルファニル基」、Ｒａ３がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−スルフィニル−スルファニル基」と称する。
上記式（ω−１Ｃ）乃至（ω−２１Ｃ）で表される基における「炭化水素」としては、上記「炭化水素基」と同様の基が挙げられる。例えば、式（ω−１Ｃ）で表される「炭化水素−カルボニル−スルファニル基」としては、アルキル−カルボニル−スルファニル基、アルケニル−カルボニル−スルファニル基、アルキニル−カルボニル−スルファニル基、シクロアルキル−カルボニル−スルファニル基、シクロアルケニル−カルボニル−スルファニル基、シクロアルカンジエニル−カルボニル−スルファニル基、シクロアルキル−アルキル−カルボニル−スルファニル基等の脂肪族炭化水素−カルボニル−スルファニル基；アリールカルボニル−スルファニル基；アラルキル−カルボニル−スルファニル基；架橋環式炭化水素−カルボニル−スルファニル基；スピロ環式炭化水素−カルボニル−スルファニル基；テルペン系炭化水素−カルボニル−スルファニル基が挙げられる。以下、式（ω−２Ｃ）乃至（ω−２１Ｃ）で表される基も同様である。
上記式（ω−１Ｃ）乃至（ω−２１Ｃ）で表される基における「ヘテロ環」としては、上記「ヘテロ環基」と同様の基が挙げられる。例えば、式（ω−１Ｃ）で表される「ヘテロ環−カルボニル−スルファニル基」としては、例えば、単環式ヘテロアリールカルボニル−スルファニル基、縮合多環式ヘテロアリールカルボニル−スルファニル基、単環式非芳香族ヘテロ環−カルボニル−スルファニル基、縮合多環式非芳香族ヘテロ環−カルボニル−スルファニル基が挙げられる。以下、式（ω−２Ｃ）乃至（ω−２１Ｃ）で表される基も同様である。
上記式（ω−１０Ｃ）乃至（ω−１６Ｃ）で表される基における「環状アミノ」としては、上記「環状アミノ基」と同様の基が挙げられる。
上記「アシル−スルファニル基」、「炭化水素−スルファニル基」、及び「ヘテロ環−スルファニル基」を総称して、「置換スルファニル基」と称する。また、これら「置換スルファニル基」と「スルファニル基」を総称して、「置換基を有していてもよいスルファニル基」と称する。
「Ｎ−炭化水素−アミノ基」としては、「アミノ基」の１つの水素原子が、「炭化水素基」で置換された基が挙げられ、例えば、Ｎ−アルキル−アミノ基、Ｎ−アルケニル−アミノ基、Ｎ−アルキニル−アミノ基、Ｎ−シクロアルキル−アミノ基、Ｎ−シクロアルキル−アルキル−アミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ−アラルキル−アミノ基等が挙げられる。
「Ｎ−アルキル−アミノ基」としては、例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、ｎ−プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、ｎ−ブチルアミノ、イソブチルアミノ、ｓｅｃ−ブチルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ、ｎ−ペンチルアミノ、イソペンチルアミノ、（２−メチルブチル）アミノ、（１−メチルブチル）アミノ、ネオペンチルアミノ、（１，２−ジメチルプロピル）アミノ、（１−エチルプロピル）アミノ、ｎ−ヘキシルアミノ、（４−メチルペンチル）アミノ、（３−メチルペンチル）アミノ、（２−メチルペンチル）アミノ、（１−メチルペンチル）アミノ、（３，３−ジメチルブチル）アミノ、（２，２−ジメチルブチル）アミノ、（１，１−ジメチルブチル）アミノ、（１，２−ジメチルブチル）アミノ、（１，３−ジメチルブチル）アミノ、（２，３−ジメチルブチル）アミノ、（２−エチルブチル）アミノ、（１−エチルブチル）アミノ、（１−エチル−１−メチルプロピル）アミノ、ｎ−ヘプチルアミノ、ｎ−オクチルアミノ、ｎ−ノニルアミノ、ｎ−デシルアミノ、ｎ−ウンデシルアミノ、ｎ−ドデシルアミノ、ｎ−トリデシルアミノ、ｎ−テトラデシルアミノ、ｎ−ペンタデシルアミノ等のＣ１〜Ｃ１５の直鎖状又は分枝鎖状のＮ−アルキル−アミノ基が挙げられる。
「Ｎ−アルケニル−アミノ基」としては、例えば、ビニルアミノ、（プロパ−１−エン−１−イル）アミノ、アリールアミノ、イソプロペニルアミノ、（ブタ−１−エン−１−イル）アミノ、（ブタ−２−エン−１−イル）アミノ、（ブタ−３−エン−１−イル）アミノ、（２−メチルプロパ−２−エン−１−イル）アミノ、（１−メチルプロパ−２−エン−１−イル）アミノ、（ペンタ−１−エン−１−イル）アミノ、（ペンタ−２−エン−１−イル）アミノ、（ペンタ−３−エン−１−イル）アミノ、（ペンタ−４−エン−１−イル）アミノ、（３−メチルブタ−２−エン−１−イル）アミノ、（３−メチルブタ−３−エン−１−イル）アミノ、（ヘキサ−１−エン−１−イル）アミノ、（ヘキサ−２−エン−１−イル）アミノ、（ヘキサ−３−エン−１−イル）アミノ、（ヘキサ−４−エン−１−イル）アミノ、（ヘキサ−５−エン−１−イル）アミノ、（４−メチルペンタ−３−エン−１−イル）アミノ、（４−メチルペンタ−３−エン−１−イル）アミノ、（ヘプタ−１−エン−１−イル）アミノ、（ヘプタ−６−エン−１−イル）アミノ、（オクタ−１−エン−１−イル）アミノ、（オクタ−７−エン−１−イル）アミノ、（ノナ−１−エン−１−イル）アミノ、（ノナ−８−エン−１−イル）アミノ、（デカ−１−エン−１−イル）アミノ、（デカ−９−エン−１−イル）アミノ、（ウンデカ−１−エン−１−イル）アミノ、（ウンデカ−１０−エン−１−イル）アミノ、（ドデカ−１−エン−１−イル）アミノ、（ドデカ−１１−エン−１−イル）アミノ、（トリデカ−１−エン−１−イル）アミノ、（トリデカ−１２−エン−１−イル）アミノ、（テトラデカ−１−エン−１−イル）アミノ、（テトラデカ−１３−エン−１−イル）アミノ、（ペンタデカ−１−エン−１−イル）アミノ、（ペンタデカ−１４−エン−１−イル）アミノ等のＣ２〜Ｃ１５の直鎖状又は分枝鎖状のＮ−アルケニル−アミノ基が挙げられる。
「Ｎ−アルキニル−アミノ基」としては、例えば、エチニルアミノ、（プロパ−１−イン−１−イル）アミノ，（プロパ−２−イン−１−イル）アミノ，（ブタ−１−イン−１−イル）アミノ、（ブタ−３−イン−１−イル）アミノ、（１−メチルプロパ−２−イン−１−イル）アミノ、（ペンタ−１−イン−１−イル）アミノ、（ペンタ−４−イン−１−イル）アミノ、（ヘキサ−１−イン−１−イル）アミノ、（ヘキサ−５−イン−１−イル）アミノ、（ヘプタ−１−イン−１−イル、（ヘプタ−６−イン−１−イル）アミノ、（オクタ−１−イン−１−イル）アミノ、（オクタ−７−イン−１−イル）アミノ、（ノナ−１−イン−１−イル）アミノ、（ノナ−８−イン−１−イル）アミノ、（デカ−１−イン−１−イル）アミノ、（デカ−９−イン−１−イル）アミノ、（ウンデカ−１−イン−１−イル）アミノ、（ウンデカ−１０−イン−１−イル）アミノ、（ドデカ−１−イン−１−イル）アミノ、（ドデカ−１１−イン−１−イル）アミノ、（トリデカ−１−イン−１−イル）アミノ、（トリデカ−１２−イン−１−イル）アミノ、（テトラデカ−１−イン−１−イル）アミノ、（テトラデカ−１３−イン−１−イル）アミノ、（ペンタデカ−１−イン−１−イル）アミノ、（ペンタデカ−１４−イン−１−イル）アミノ等のＣ２〜Ｃ１５の直鎖状又は分枝鎖状のＮ−アルキニル−アミノ基が挙げられる。
「Ｎ−シクロアルキル−アミノ基」としては、例えば、シクロプロピルアミノ、シクロブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、シクロヘキシルアミノ、シクロヘプチルアミノ、シクロオクチルアミノ等のＣ３〜Ｃ８のＮ−シクロアルキル−アミノ基が挙げられる。
「Ｎ−シクロアルキル−アルキル−アミノ基」としては、例えば、（シクロプロピルメチル）アミノ、（１−シクロプロピルエチル）アミノ、（２−シクロプロピルエチル）アミノ、（３−シクロプロピルプロピル）アミノ、（４−シクロプロピルブチル）アミノ、（５−シクロプロピルペンチル）アミノ、（６−シクロプロピルヘキシル）アミノ、（シクロブチルメチル）アミノ、（シクロペンチルメチル）アミノ、（シクロブチルメチル）アミノ、（シクロペンチルメチル）アミノ、（シクロヘキシルメチル）アミノ、（２−シクロヘキシルエチル）アミノ、（３−シクロヘキシルプロピル）アミノ、（４−シクロヘキシルブチル）アミノ、（シクロヘプチルメチル）アミノ、（シクロオクチルメチル）アミノ、（６−シクロオクチルヘキシル）アミノ等のＣ４〜Ｃ１４のＮ−シクロアルキル−アルキル−アミノ基が挙げられる。
「Ｎ−アリールアミノ基」としては、例えば、フェニルアミノ、１−ナフチルアミノ、２−ナフチルアミノ、アントリルアミノ、フェナントリルアミノ、アセナフチレニルアミノ等のＣ６〜Ｃ１４のＮ−モノ−アリールアミノ基が挙げられる。
「Ｎ−アラルキル−アミノ基」としては、例えば、ベンジルアミノ、（１−ナフチルメチル）アミノ、（２−ナフチルメチル）アミノ、（アントラセニルメチル）アミノ、（フェナントレニルメチル）アミノ、（アセナフチレニルメチル）アミノ、（ジフェニルメチル）アミノ、（１−フェネチル）アミノ、（２−フェネチル）アミノ、（１−（１−ナフチル）エチル）アミノ、（１−（２−ナフチル）エチル）アミノ、（２−（１−ナフチル）エチル）アミノ、（２−（２−ナフチル）エチル）アミノ、（３−フェニルプロピル）アミノ、（３−（１−ナフチル）プロピル）アミノ、（３−（２−ナフチル）プロピル）アミノ、（４−フェニルブチル）アミノ、（４−（１−ナフチル）ブチル）アミノ、（４−（２−ナフチル）ブチル）アミノ、（５−フェニルペンチル）アミノ、（５−（１−ナフチル）ペンチル）アミノ、（５−（２−ナフチル）ペンチル）アミノ、（６−フェニルヘキシル）アミノ、（６−（１−ナフチル）ヘキシル）アミノ、（６−（２−ナフチル）ヘキシル）アミノ等のＣ７〜Ｃ１６のＮ−アラルキル−アミノ基が挙げられる。
「Ｎ，Ｎ−ジ（炭化水素）−アミノ基」としては、「アミノ基」の２つの水素原子が、「炭化水素基」で置換された基が挙げられ、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−プロピルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ、Ｎ−アリールＮ−メチルアミノ、Ｎ−（プロパ−２−イン−１−イル）−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルアミノ、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−シクロヘキシルメチルアミノ−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ、Ｎ−ベンジル−Ｎ−メチルアミノ等の基が挙げられる。
「Ｎ−ヘテロ環−アミノ基」としては、「アミノ基」の１つ水素原子が、「ヘテロ環基」で置換された基が挙げられ、例えば、（３−ピロリジニル）アミノ、（４−ピペリジニル）アミノ、（２−テトラヒドロピラニル）アミノ、（３−インドリニル）アミノ、（４−クロマニル）アミノ、（３−チエニル）アミノ、（３−ピリジル）アミノ、（３−キノリル）アミノ、（５−インドリル）アミノ等の基が挙げられる。
「Ｎ−炭化水素−Ｎ−ヘテロ環−アミノ基」としては、「アミノ基」の２つの水素原子が、「炭化水素基」及び「ヘテロ環基」で１つずつ置換された基が挙げられ、例えば、Ｎ−メチル−Ｎ−（４−ピペリジニル）アミノ、Ｎ−（４−クロマニル）−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−（３−チエニル）アミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−（３−ピリジル）アミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−（３−キノリル）アミノ等の基が挙げられる。
「アシル−アミノ基」としては、「アミノ基」の１つの水素原子が、「アシル基」で置換された基が挙げられ、例えば、フォールミルアミノ基、グリオキシロイルアミノ基、チオフォールミルアミノ基、カルバモイルアミノ基、チオカルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、スルフィナモイルアミノ基、カルボキシアミノ基、スルフォーアミノ基、フォースフォーノアミノ基、及び下記式：
2003103656.tif 000010
（式中、Ｒａ４及びＲｂ４は、同一又は異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基、又は置換基を有していてもよいヘテロ環基を表すか、あるいはＲａ４びＲｂ４が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に、置換基を有していてもよい環状アミノ基を表す）で表される基が挙げられる。
上記「アシル−アミノ基」の定義において、
式（ω−１Ｄ）で表される基の中で、Ｒａ４が炭化水素基である基を「炭化水素−カルボニル−アミノ基」、Ｒａ４がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−カルボニル−アミノ基」と称する。
式（ω−２Ｄ）で表される基の中で、Ｒａ４が炭化水素基である基を「炭化水素−オキシ−カルボニル−アミノ基」、Ｒａ４がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−オキシ−カルボニル−アミノ基」と称する。
式（ω−３Ｄ）で表される基の中で、Ｒａ４が炭化水素基である基を「炭化水素−カルボニル−カルボニル−アミノ基」、Ｒａ４がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−カルボニル−カルボニル−アミノ基」と称する。
式（ω−４Ｄ）で表される基の中で、Ｒａ４が炭化水素基である基を「炭化水素−オキシ−カルボニル−カルボニル−アミノ基」、Ｒａ４がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−オキシ−カルボニル−カルボニル−アミノ基」と称する。
式（ω−５Ｄ）で表される基の中で、Ｒａ４が炭化水素基である基を「炭化水素−スルファニル−カルボニル−アミノ基」、Ｒａ４がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−スルファニル−カルボニル−アミノ基」と称する。
式（ω−６Ｄ）で表される基の中で、Ｒａ４が炭化水素基である基を「炭化水素−チオカルボニル−アミノ基」、Ｒａ４がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−チオカルボニル−アミノ基」と称する。
式（ω−７Ｄ）で表される基の中で、Ｒａ４が炭化水素基である基を「炭化水素−オキシ−チオカルボニル−アミノ基」、Ｒａ４がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−オキシ−チオカルボニル−アミノ基」と称する。
式（ω−８Ｄ）で表される基の中で、Ｒａ４が炭化水素基である基を「炭化水素−スルファニル−チオカルボニル−アミノ基」、Ｒａ４がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−スルファニル−チオカルボニル−アミノ基」と称する。
式（ω−９Ｄ）で表される基の中で、Ｒａ４が炭化水素基である基を「Ｎ−炭化水素−カルバモイル基」、Ｒａ４がヘテロ環基である基を「Ｎ−ヘテロ環−カルバモイル−アミノ基」と称する。
式（ω−１０Ｄ）で表される基の中で、Ｒａ４及びＲｂ４が炭化水素基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（炭化水素）−カルバモイル−アミノ基」、Ｒａ４及びＲｂ４がヘテロ環基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（ヘテロ環）−カルバモイル−アミノ基」、Ｒａ４が炭化水素基でありＲｂ４がヘテロ環基である基を「Ｎ−炭化水素−Ｎ−ヘテロ環−カルバモイル−アミノ基」、Ｒａ４及びＲｂ４が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に環状アミノ基である基を「環状アミノ−カルボニル−アミノ基」と称する。
式（ω−１１Ｄ）で表される基の中で、Ｒａ４が炭化水素基である基を「Ｎ−炭化水素−チオカルバモイル−アミノ基」、Ｒａ４がヘテロ環基である基を「Ｎ−ヘテロ環−チオカルバモイル−アミノ基」と称する。
式（ω−１２Ｄ）で表される基の中で、Ｒａ４及びＲｂ４が炭化水素基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（炭化水素）−チオカルバモイル−アミノ基」、Ｒａ４及びＲｂ４がヘテロ環基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（ヘテロ環）−チオカルバモイル−アミノ基」、Ｒａ４が炭化水素基でありＲｂ４がヘテロ環基である基を「Ｎ−炭化水素−Ｎ−ヘテロ環−チオカルバモイル−アミノ基」、Ｒａ４及びＲｂ４が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に環状アミノ基である基を「環状アミノ−チオカルボニル−アミノ基」と称する。
式（ω−１３Ｄ）で表される基の中で、Ｒａ４が炭化水素基である基を「Ｎ−炭化水素−スルファモイル−アミノ基」、Ｒａ４がヘテロ環基である基を「Ｎ−ヘテロ環−スルファモイル−アミノ基」と称する。
式（ω−１４Ｄ）で表される基の中で、Ｒａ４及びＲｂ４が炭化水素基である基を「ジ（炭化水素）スルファモイル−アミノ基」、Ｒａ４及びＲｂ４がヘテロ環基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（ヘテロ環）スルファモイル−アミノ基」、Ｒａ４が炭化水素基でありＲｂ４がヘテロ環基である基を「Ｎ−炭化水素−Ｎ−ヘテロ環−スルファモイル−アミノ基」、Ｒａ４及びＲｂ４が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に環状アミノ基である基を「環状アミノ−スルフォーニル−アミノ基」と称する。
式（ω−１５Ｄ）で表される基の中で、Ｒａ４が炭化水素基である基を「Ｎ−炭化水素−スルフィナモイル−アミノ基」、Ｒａ４がヘテロ環基である基を「Ｎ−ヘテロ環−スルフィナモイル−アミノ基」と称する。；式（ω−１６Ｄ）で表される基の中で、Ｒａ４及びＲｂ４が炭化水素基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（炭化水素）−スルフィナモイル−アミノ基」、Ｒａ４及びＲｂ４がヘテロ環基である基を「Ｎ，Ｎ−ジ（ヘテロ環）−スルフィナモイル−アミノ基」、Ｒａ４が炭化水素基でありＲｂ４がヘテロ環基である基を「Ｎ−炭化水素−Ｎ−ヘテロ環−スルフィナモイル−アミノ基」、Ｒａ４及びＲｂ４が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に環状アミノ基である基を「環状アミノ−スルフィニル−アミノ基」と称する。
式（ω−１７Ｄ）で表される基の中で、Ｒａ４が炭化水素基である基を「炭化水素−オキシ−スルフォーニル−アミノ基」、Ｒａ４がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−オキシ−スルフォーニル−アミノ基」と称する。
式（ω−１８Ｄ）で表される基の中で、Ｒａ４が炭化水素基である基を「炭化水素−オキシ−スルフィニル−アミノ基」、Ｒａ４がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−オキシ−スルフィニル−アミノ基」と称する。
式（ω−１９Ｄ）で表される基の中で、Ｒａ４及びＲｂ４が炭化水素基である基を「Ｏ，Ｏ’−ジ（炭化水素）−フォースフォーノ−アミノ基」、Ｒａ４及びＲｂ４がヘテロ環基である基を「Ｏ，Ｏ’−ジ（ヘテロ環）−フォースフォーノ−アミノ基」、Ｒａ４が炭化水素基でありＲｂ４がヘテロ環基である基を「Ｏ−炭化水素−Ｏ’−ヘテロ環−フォースフォーノ−アミノ基」と称する。
式（ω−２０Ｄ）で表される基の中で、Ｒａ４が炭化水素基である基を「炭化水素−スルフォーニル−アミノ基」、Ｒａ４がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−スルフォーニル−アミノ基」と称する。
式（ω−２１Ｄ）で表される基の中で、Ｒａ４が炭化水素基である基を「炭化水素−スルフィニル−アミノ基」、Ｒａ４がヘテロ環基である基を「ヘテロ環−スルフィニル−アミノ基」と称する。
上記式（ω−１Ｄ）乃至（ω−２１Ｄ）で表される基における「炭化水素」としては、上記「炭化水素基」と同様の基が挙げられる。例えば、式（ω−１Ｄ）で表される「炭化水素−カルボニル−アミノ基」としては、アルキル−カルボニル−アミノ基、アルケニル−カルボニル−アミノ基、アルキニル−カルボニル−アミノ基、シクロアルキル−カルボニル−アミノ基、シクロアルケニル−カルボニル−アミノ基、シクロアルカンジエニル−カルボニル−アミノ基、シクロアルキル−アルキル−カルボニル−アミノ基等の脂肪族炭化水素−カルボニル−アミノ基；アリールカルボニル−アミノ基；アラルキル−カルボニル−アミノ基；架橋環式炭化水素−カルボニル−アミノ基；スピロ環式炭化水素−カルボニル−アミノ基；テルペン系炭化水素−カルボニル−アミノ基が挙げられる。以下、式（ω−２Ｄ）乃至（ω−２１Ｄ）で表される基も同様である。
上記式（ω−１Ｄ）乃至（ω−２１Ｄ）で表される基における「ヘテロ環」としては、上記「ヘテロ環基」と同様の基が挙げられる。例えば、式（ω−１Ｄ）で表される「ヘテロ環−カルボニル−アミノ基」としては、例えば、単環式ヘテロアリールカルボニル−アミノ基、縮合多環式ヘテロアリールカルボニル−アミノ基、単環式非芳香族ヘテロ環−カルボニル−アミノ基、縮合多環式非芳香族ヘテロ環−カルボニル−アミノ基が挙げられる。以下、式（ω−２Ｄ）乃至（ω−２１Ｄ）で表される基も同様である。
上記式（ω−１０Ｄ）乃至（ω−１６Ｄ）で表される基における「環状アミノ」としては、上記「環状アミノ基」と同様の基が挙げられる。
「ジ（アシル）−アミノ基」としては、「アミノ基」の２つの水素原子が、上記「置換基を有していてもよい」の「置換基」の定義における「アシル基」で置換された基が挙げられ、例えば、ジ（フォールミル）−アミノ基、ジ（グリオキシロイル）−アミノ基、ジ（チオフォールミル）−アミノ基、ジ（カルバモイル）−アミノ基、ジ（チオカルバモイル）−アミノ基、ジ（スルファモイル）−アミノ基、ジ（スルフィナモイル）−アミノ基、ジ（カルボキシ）−アミノ基、ジ（スルフォー）−アミノ基、ジ（フォースフォーノ）−アミノ基、及び下記式：
2003103656.tif 000011
（式中、Ｒａ５及びＲｂ５は、同一又は異なって、水素原子、置換基を有していてもよい炭化水素基、又は置換基を有していてもよいヘテロ環基を表すか、あるいはＲａ５及びＲｂ５が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に、置換基を有していてもよい環状アミノ基を表す）で表される基があげられる
上記「ジ（アシル）−アミノ基」の定義において、
式（ω−１Ｅ）で表される基で、Ｒａ５が炭化水素基である基を「ビス（炭化水素−カルボニル）−アミノ基」、Ｒａ５がヘテロ環基である基を「ビス（ヘテロ環−カルボニル）−アミノ基」と称する。
式（ω−２Ｅ）で表される基で、Ｒａ５が炭化水素基である基を「ビス（炭化水素−オキシ−カルボニル）−アミノ基」、Ｒａ５がヘテロ環基である基を「ビス（ヘテロ環−オキシ−カルボニル）−アミノ基」と称する。
式（ω−３Ｅ）で表される基で、Ｒａ５が炭化水素基である基を「ビス（炭化水素−カルボニル−カルボニル）−アミノ基」、Ｒａ５がヘテロ環基である基を「ビス（ヘテロ環−カルボニル−カルボニル）−アミノ基」と称する。
式（ω−４Ｅ）で表される基で、Ｒａ５が炭化水素基である基を「ビス（炭化水素−オキシ−カルボニル−カルボニル）−アミノ基」、Ｒａ５がヘテロ環基である基を「ビス（ヘテロ環−オキシ−カルボニル−カルボニル）−アミノ基」と称する。
式（ω−５Ｅ）で表される基で、Ｒａ５が炭化水素基である基を「ビス（炭化水素−スルファニル−カルボニル）−アミノ基」、Ｒａ５がヘテロ環基である基を「ビス（ヘテロ環−スルファニル−カルボニル）−アミノ基」と称する。
式（ω−６Ｅ）で表される基で、Ｒａ５が炭化水素基である基を「ビス（炭化水素−チオカルボニル）−アミノ基」、Ｒａ５がヘテロ環基である基を「ビス（ヘテロ環−チオカルボニル）−アミノ基」と称する。
式（ω−７Ｅ）で表される基で、Ｒａ５が炭化水素基である基を「ビス（炭化水素−オキシ−チオカルボニル）−アミノ基」、Ｒａ５がヘテロ環基である基を「ビス（ヘテロ環−オキシ−チオカルボニル）−アミノ基」と称する。
式（ω−８Ｅ）で表される基で、Ｒａ５が炭化水素基である基を「ビス（炭化水素−スルファニル−チオカルボニル）−アミノ基」、Ｒａ５がヘテロ環基である基を「ビス（ヘテロ環−スルファニル−チオカルボニル）−アミノ基」と称する。
式（ω−９Ｅ）で表される基で、Ｒａ５が炭化水素基である基を「ビス（Ｎ−炭化水素−カルバモイル）アミノ基」、Ｒａ５がヘテロ環基である基を「ビス（Ｎ−ヘテロ環−カルバモイル）−アミノ基」と称する。
式（ω−１０Ｅ）で表される基で、Ｒａ５及びＲｂ５が炭化水素基である基を「ビス［Ｎ，Ｎ−ジ（炭化水素）−カルバモイル］−アミノ基」、Ｒａ５及びＲｂ５がヘテロ環基である基を「ビス［Ｎ，Ｎ−ジ（ヘテロ環）−カルバモイル］−アミノ基」、Ｒａ５が炭化水素基でありＲｂ５がヘテロ環基である基を「ビス（Ｎ−炭化水素−Ｎ−ヘテロ環−カルバモイル）−アミノ基」、Ｒａ５及びＲｂ５が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に環状アミノ基である基を「ビス（環状アミノ−カルボニル）−アミノ基」と称する。
式（ω−１１Ｅ）で表される基で、Ｒａ５が炭化水素基である基を「ビス（Ｎ−炭化水素−チオカルバモイル）−アミノ基」、Ｒａ５がヘテロ環基である基を「ビス（Ｎ−ヘテロ環−チオカルバモイル）−アミノ基」と称する。
式（ω−１２Ｅ）で表される基で、Ｒａ５及びＲｂ５が炭化水素基である基を「ビス［Ｎ，Ｎ−ジ（炭化水素）−チオカルバモイル］−アミノ基」、Ｒａ５及びＲｂ５がヘテロ環基である基を「ビス［Ｎ，Ｎ−ジ（ヘテロ環）−チオカルバモイル］−アミノ基」、Ｒａ５が炭化水素基でありＲｂ５がヘテロ環基である基を「ビス（Ｎ−炭化水素−Ｎ−ヘテロ環−チオカルバモイル）−アミノ基」、Ｒａ５及びＲｂ５が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に環状アミノ基である基を「ビス（環状アミノ−チオカルボニル）−アミノ基」と称する。
式（ω−１３Ｅ）で表される基で、Ｒａ５が炭化水素基である基を「ビス（Ｎ−炭化水素−スルファモイル）−アミノ基」、Ｒａ５がヘテロ環基である基を「ビス（Ｎ−ヘテロ環−スルファモイル）−アミノ基」と称する。
式（ω−１４Ｅ）で表される基で、Ｒａ５及びＲｂ５が炭化水素基である基を「ビス［Ｎ，Ｎ−ジ（炭化水素）−スルファモイル］−アミノ基」、Ｒａ５及びＲｂ５がヘテロ環基である基を「ビス［Ｎ，Ｎ−ジ（ヘテロ環）−スルファモイル］−アミノ基」、Ｒａ５が炭化水素基でありＲｂ５がヘテロ環基である基を「ビス（Ｎ−炭化水素−Ｎ−ヘテロ環−スルファモイル）−アミノ基」、Ｒａ５及びＲｂ５が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に環状アミノ基である基を「ビス（環状アミノ−スルフォーニル）−アミノ基」と称する。
式（ω−１５Ｅ）で表される基で、Ｒａ５が炭化水素基である基を「ビス（Ｎ−炭化水素−スルフィナモイル）−アミノ基」、Ｒａ５がヘテロ環基である基を「ビス（Ｎ−ヘテロ環−スルフィナモイル）−アミノ基」と称する。
式（ω−１６Ｅ）で表される基で、Ｒａ５及びＲｂ５が炭化水素基である基を「ビス［Ｎ，Ｎ−ジ（炭化水素）−スルフィナモイル］−アミノ基」、Ｒａ５及びＲｂ５がヘテロ環基である基を「ビス［Ｎ，Ｎ−ジ（ヘテロ環）−スルフィナモイル］−アミノ基」、Ｒａ５が炭化水素基でありＲｂ５がヘテロ環基である基を「ビス（Ｎ−炭化水素−Ｎ−ヘテロ環−スルフィナモイル）−アミノ基」、Ｒａ５及びＲｂ５が一緒になって、それらが結合している窒素原子と共に環状アミノ基である基を「ビス（環状アミノ−スルフィニル）−アミノ基」と称する。
式（ω−１７Ｅ）で表される基で、Ｒａ５が炭化水素基である基を「ビス（炭化水素−オキシ−スルフォーニル−）アミノ基」、Ｒａ５がヘテロ環基である基を「ビス（ヘテロ環−オキシ−スルフォーニル）−アミノ基」と称する。
式（ω−１８Ｅ）で表される基で、Ｒａ５が炭化水素基である基を「ビス（炭化水素−オキシ−スルフィニル）−アミノ基」、Ｒａ５がヘテロ環基である基を「ビス（ヘテロ環−オキシ−スルフィニル）−アミノ基」と称する。
式（ω−１９Ｅ）で表される基で、Ｒａ５及びＲｂ５が炭化水素基である基を「ビス［Ｏ，Ｏ’−ジ（炭化水素）−フォースフォーノ］−アミノ基」、Ｒａ５及びＲｂ５がヘテロ環基である基を「ビス［Ｏ，Ｏ’−ジ（ヘテロ環）−フォースフォーノ］−アミノ基」、Ｒａ５が炭化水素基でありＲｂ５がヘテロ環基である基を「ビス（Ｏ−炭化水素−Ｏ’−ヘテロ環−フォースフォーノ）−アミノ基」と称する。
式（ω−２０Ｅ）で表される基で、Ｒａ５が炭化水素基である基を「ビス（炭化水素−スルフォーニル）−アミノ基」、Ｒａ５がヘテロ環基である基を「ビス（ヘテロ環−スルフォーニル）−アミノ基」と称する。
式（ω−２１Ｅ）で表される基で、Ｒａ５が炭化水素基である基を「ビス（炭化水素−スルフィニル）−アミノ基」、Ｒａ５がヘテロ環基である基を「ビス（ヘテロ環−スルフィニル）−アミノ基」と称する。
上記式（ω−１Ｅ）乃至（ω−２１Ｅ）で表される基における「炭化水素」としては、上記「炭化水素基」と同様の基が挙げられる。例えば、式（ω−１Ｅ）で表される「ビス（炭化水素−カルボニル）−アミノ基」としては、ビス（アルキル−カルボニル）−アミノ基、ビス（アルケニル−カルボニル）−アミノ基、ビス（アルキニル−カルボニル）−アミノ基、ビス（シクロアルキル−カルボニル）−アミノ基、ビス（シクロアルケニル−カルボニル）−アミノ基、ビス（シクロアルカンジエニル−カルボニル）−アミノ基、ビス（シクロアルキル−アルキル−カルボニル）−アミノ基等のビス（脂肪族炭化水素−カルボニル）−アミノ基；ビス（アリールカルボニル）−アミノ基；ビス（アラルキル−カルボニル）−アミノ基；ビス（架橋環式炭化水素−カルボニル）−アミノ基；ビス（スピロ環式炭化水素−カルボニル）−アミノ基；ビス（テルペン系炭化水素−カルボニル）−アミノ基が挙げられる。以下、式（ω−２Ｅ）乃至（ω−２１Ｅ）で表される基も同様である。
上記式（ω−１Ｅ）乃至（ω−２１Ｅ）で表される基における「ヘテロ環」としては、上記「ヘテロ環基」と同様の基が挙げられる。例えば、式（ω−１Ｅ）で表される「ビス（ヘテロ環−カルボニル）−アミノ基」としては、例えば、ビス（単環式ヘテロアリールカルボニル）−アミノ基、ビス（縮合多環式ヘテロアリールカルボニル）−アミノ基、ビス（単環式非芳香族ヘテロ環−カルボニル）アミノ基、ビス（縮合多環式非芳香族ヘテロ環−カルボニル）−アミノ基が挙げられる。以下、式（ω−２Ｅ）乃至（ω−２１Ｅ）で表される基も同様である。
上記式（ω−１０Ｅ）乃至（ω−１６Ｅ）で表される基における「環状アミノ」としては、上記「環状アミノ基」と同様の基が挙げられる。
上記「アシル−アミノ基」及び「ジ（アシル）−アミノ基」を総称して、「アシル置換アミノ基」と称する。また、上記「Ｎ−炭化水素−アミノ基」、「Ｎ，Ｎ−ジ（炭化水素）−アミノ基」、「Ｎ−ヘテロ環−アミノ基」、「Ｎ−炭化水素−Ｎ−ヘテロ環−アミノ基」、「環状アミノ基」、「アシル−アミノ基」、及び「ジ（アシル）−アミノ基」を総称して、「置換アミノ基」と称する。
以下、上記一般式（Ｉ）で表される化合物について具体的に説明する。
Ｘの定義における「主鎖の原子数が２ないし５である連結基」とは、環ＺとＥの間に、主鎖の原子が２ないし５個連なっている連結基を意味する。上記「主鎖の原子数」は、ヘテロ原子の有無に関わらず、環ＺとＥとの間に存在する原子の数が最小となるように数えるものとする。例えば、１，２−シクロペンチレンの原子数を２個、１，３−シクロペンチレンの原子数を３個、１，４−フェニレンの原子数を４個、２，６−ピリジンジイルの原子数を３個として数える。
上記「主鎖の原子数が２ないし５である連結基」は、下記「２価基群ζ−１」より選択される基１個で形成されるか、あるいは、下記「２価基群ζ−２」より選択される基１ないし４種が２ないし４個結合して形成される。
［２価基群ζ−１］下記式：
2003103656.tif 000012
［２価基群ζ−２］下記式：
2003103656.tif 000013
該２価基が２個以上結合する場合、各基は同一であっても異なっていてもよい。
上記「主鎖の原子数が２ないし５である連結基」としては、好適には、下記連結基群αより選択される基である。
［連結基群α］下記式：
2003103656.tif 000014
（式中、左側の結合手が環Ｚに結合し右側の結合手がＥに結合する）
最も好適には、下記式：
2003103656.tif 000015
（式中、左側の結合手が環Ｚに結合し右側の結合手がＥに結合する）
で表される基である。
「主鎖の原子数が２ないし５である連結基」の定義における「該連結基は置換基を有していてもよい」の置換基としては、上記「置換基を有していてもよい」の定義における「置換基」と同様の基が挙げられ、好適には、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基であり、さらに好適には、メチル基である。該置換基は、環Ｚ又はＥが有する置換基と一緒になって、それらが結合している原子と共に、置換基を有していてもよい環式基を形成してもよい。このような例としては、一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記式：
2003103656.tif 000016
である化合物が挙げられる。
上記Ａの定義における、「置換基を有していてもよいアシル基（ただし、無置換のアセチル基及び無置換のアクリロイル基を除く）」の「置換基」としては、上記「置換基を有していてもよい」の「置換基」と同様の基が挙げられる。該置換基のアシル基上での置換位置は特に限定されない。また、該置換基が２個以上存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
上記Ａの定義における「置換基を有していてもよいアシル基（ただし、無置換のアセチル基及び無置換のアクリロイル基を除く）」の「アシル基」としては、上記定義における「アシル基」と同様の基が挙げられる。
上記Ａの定義における「置換基を有していてもよいアシル基」としては、無置換のアセチル基及び無置換のアクリロイル基は除く。
上記Ａの定義における、「置換基を有していてもよいアシル基（ただし、無置換のアセチル基及び無置換のアクリロイル基を除く）」としては、好適には、下記「置換基群ω」から選択される基であり、更に好適には、置換基を有していてもよいヘテロ環−カルボニル基、置換基を有していてもよいフォースフォーノ基、及び置換基を有していてもよいカルバモイル基である。
［置換基群ω］置換基を有していてもよい炭化水素−カルボニル基、置換基を有していてもよいヘテロ環−カルボニル基、置換基を有していてもよい炭化水素−オキシ−カルボニル基、置換基を有していてもよい炭化水素−スルフォーニル基、置換基を有していてもよいスルファモイル基、置換基を有していてもよいスルフォー基、置換基を有していてもよいフォースフォーノ基、及び置換基を有していてもよいカルバモイル基
上記Ａの定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよいヘテロ環−カルボニル基」である場合、該「ヘテロ環基」としては、上記定義における「ヘテロ環基」と同様の基が挙げられる。
上記Ａの定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよいヘテロ環−カルボニル基」である場合、好適な基の具体例としては、下記「置換基群δ−１ａ」に示す基が挙げられる。
［置換基群δ−１ａ］ニコチノイル基〔（ピリジン−３−イル）カルボニル基〕、イソニコチノイル基〔（ピリジン−４−イル）カルボニル基〕、（ピロリジン−１−イル）カルボニル基、（モルフォーリン−４−イル）カルボニル基〔モルフォーリノカルボニル基〕、（４−メチルピペラジン−１−イル）カルボニル基、［４−（エトキシカルボニル）ピペリジン−１−イル］カルボニル基、（４−カルボキシピペリジン−１−イル）カルボニル基
上記Ａの定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよいヘテロ環−カルボニル基」である場合、更に好適には、「５ないし６員の非芳香族ヘテロ環−カルボニル基であって、該ヘテロ環を構成する原子（環原子）として窒素原子を少なくとも１個含み、カルボニル基とは窒素原子を介して結合している基」であり、特に更に好適には、（ピロリジン−１−イル）カルボニル基、（モルフォーリン−４−イル）カルボニル基、（４−メチルピペラジン−１−イル）カルボニル基、［４−（エトキシカルボニル）ピペリジン−１−イル］カルボニル基、（４−カルボキシピペリジン−１−イル）カルボニル基であり、最も好適には、（モルフォーリン−４−イル）カルボニル基である。
上記Ａの定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよいフォースフォーノ基」である場合、好適には、フォースフォーノ基、及びジベンジルフォースフォーノ基であり、更に好適には、フォースフォーノ基である。
上記Ａの定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよいカルバモイル基」である場合、好適な基の具体例としては、下記「置換基群δ−２ａ」に示す基が挙げられる。
［置換基群δ−２ａ］Ｎ−イソプロピルカルバモイル基、Ｎ−ベンジルカルバモイル基、Ｎ−（エトキシカルボニルメチル）カルバモイル基、Ｎ−（カルボキシメチル）カルバモイル基、Ｎ−（１−メトキシカルボニルエチル）カルバモイル基、Ｎ−（１−メトキシカルボニル−２−フェニルエチル）カルバモイル基、Ｎ−［１−メトキシカルボニル−２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）エチル］カルバモイル基、Ｎ−（｛Ｎ−［１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−フェニルエチル］カルバモイル｝メチル）カルバモイル基、Ｎ−｛［Ｎ−（１−カルボキシ−２−フェニルエチル）カルバモイル］メチル｝カルバモイル基、Ｎ−（｛Ｎ−［１，２−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）エチル］カルバモイル｝メチル）カルバモイル基、Ｎ−｛［Ｎ−（１，２−ジカルボキシエチル）カルバモイル］メチル｝カルバモイル基、Ｎ−（｛Ｎ−［１，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ペンチル］カルバモイル｝メチル）カルバモイル基、Ｎ−［（４−メチルスルファニル）フェニル］カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ビス［（エトキシカルボニル）メチル］カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ビス（カルボキシメチル）カルバモイル基
上記Ａの定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよいカルバモイル基」である場合、更に好適には、「Ｎ，Ｎ−ジ置換カルバモイル基」であり、特に更に好適には、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ビス［（エトキシカルボニル）メチル］カルバモイル基、及びＮ，Ｎ−ビス（カルボキシメチル）カルバモイル基である。
上記Ａの定義における、「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよい炭化水素−カルボニル基」である場合、該「炭化水素基」としては、上記定義における「炭化水素基」と同様の基が挙げられる。
上記Ａの定義における、「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよい炭化水素−カルボニル基」である場合、好適な基の具体例としては、下記「置換基群δ−３ａ」に示す基が挙げられる。
［置換基群δ−３ａ］ピバロイル基〔（２，２−ジメチル）プロピオニル基〕、バレリル基、デカノイル基、ベンゾイル基、２−アセトキシベンゾイル基、フェニルアセチル基、（３，４−メチレンジオキシフェニル）アセチル基、メトキシアセチル基、アセトキシアセチル基、フェノキシアセチル基、（４−クロロフェノキシ）アセチル基、（２，３−ジクロロフェノキシ）アセチル基、２−フェノキシプロピオニル基、２−（４−クロロフェノキシ）イソブチリル基、（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アセチル基、３−（ベンジルオキシカルボニル）プロピオニル基、３−（ピペリジノカルボニル）プロピオニル基、（アセチルアミノ）アセチル基、［（ベンジルオキシカルボニル）アミノ］アセチル基、［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］アセチル基、アミノアセチル基、２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］イソバレリル基、２−アミノイソバレリル基、２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］−４−メチルパレリル基、２−アミノ−４−メチルパレリル基、２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］−３−フェニルプロピオニル基、２−アミノ−３−フェニルプロピオニル基、２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］−３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）プロピオニル基、２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ブチリル基、２−アミノ−４−カルボキシブチリル基、２，６−ビス［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］ヘキサノイル基、２，６−ジアミノヘキサノイル基、２−｛２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］−３−フェニルプロピオニル｝アミノ−４−メチルバレリル基、２−（２−アミノ−３−フェニルプロピオニル）アミノ−４−メチルバレリル基、２−｛２，３−ビス［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］プロピオニル｝アミノ−４−メチルバレリル基、２−（２−アミノ−３−カルボキシプロピオニル）アミノ−４−メチルバレリル基、２−｛２，６−ビス［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］ヘキサノイル｝アミノ−４−メチルバレリル基、２−（２，６−ジアミノヘキサノイル）アミノ−４−メチルバレリル基、２−（２−アミノ−４−メチルバレリル）アミノ−３−フェニルプロピオニル基、２−（２−アミノ−３−カルボキシプロピオニル）アミノ−３−フェニルプロピオニル基
上記Ａの定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよい炭化水素−オキシ−カルボニル基」である場合、該「炭化水素基」としては、上記定義における「炭化水素基」と同様の基が挙げられる。
上記Ａの定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよい炭化水素−オキシ−カルボニル基」である場合、好適な基の具体例としては、メトキシカルボニル基が挙げられる。
上記Ａの定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよい炭化水素−スルフォーニル基」である場合、該「炭化水素基」としては、上記定義における「炭化水素基」と同様の基が挙げられる。
上記Ａの定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよい炭化水素−スルフォーニル基」である場合、好適な基の具体例としては、メタンスルフォーニル基〔メシル基〕、プロパンスルフォーニル基、イソプロピルスルフォーニル基、及びｐ−トールエンスルフォーニル基〔トシル基〕が挙げられる。
上記Ａの定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよいスルファモイル基」である場合、好適な基の具体例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基が挙げられる。
上記Ａの定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよいスルフォー基」である場合、好適な基の具体例としては、スルフォー基が挙げられる。
上記Ａの定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「５ないし６員の非芳香族ヘテロ環−カルボニル基であって、該ヘテロ環を構成する原子（環原子）として窒素原子を少なくとも１個含み、カルボニル基とは窒素原子を介して結合している基」である場合、及び「Ｎ，Ｎ−ジ置換カルバモイル基」である場合を合わせて、「Ｎ，Ｎ−ジ置換カルバモイル基（該カルバモイル基の２つの置換基は一緒になって、結合している窒素原子とともに、置換基を有していてもよい含窒素ヘテロ環式基を形成してもよい）」と定義することができる。このとき、好適な基の具体例としては、（ピロリジン−１−イル）カルボニル基、（モルフォーリン−４−イル）カルボニル基、（４−メチルピペラジン−１−イル）カルボニル基、（４−エトキシピペリジン−１−イル）カルボニル基、（４−カルボキシピペリジン−１−イル）カルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ビス［（エトキシカルボニル）メチル］カルバモイル基、及びＮ，Ｎ−ビス（カルボキシメチル）カルバモイル基を挙げることができ、最も好適には、（モルフォーリン−４−イル）カルボニル基を挙げることができる。
上記Ａの定義における、「置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基」の「置換基」としては、上記「置換基を有していてもよい」の「置換基」と同様の基が挙げられる。該置換基のアルキル基上での置換位置は特に限定されない。また、該置換基が２個以上存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
上記Ａの定義における、「置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基」の「Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基」としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、２−メチルブチル、１−メチルブチル、ネオペンチル、１，２−ジメチルプロピル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、４−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、１−メチルペンチル、３，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、２−エチルブチル、１−エチルブチル、１−エチル−１−メチルプロピル等のＣ１〜Ｃ６の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基が挙げられる。
上記Ａの定義における「置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基」の好適な具体例としては、下記「置換基群δ−４ａ」に示す基が挙げられる。
［置換基群δ−４ａ］エチル基、イソプロピル基、メトキシメチル基、アセトキシメチル基、（ピバロイルオキシ）メチル基、１−（エトキシカルボニルオキシ）エチル基、［（ピペリジノカルボニル）オキシ］メチル基〔｛［（ピペリジン−１−イル）カルボニル］オキシ｝メチル基〕、［（モルフォーリノカルボニル）オキシ］メチル基〔｛［（モルフォーリン−４−イル）カルボニル］オキシ｝メチル基〕、（｛［４−（エトキシカルボニル）ピペリジン−１−イル］カルボニル｝オキシ）メチル基、｛［（４−カルボキシピペリジン−１−イル）カルボニル］オキシ｝メチル基、（｛Ｎ，Ｎ−ビス［（エトキシカルボニル）メチル］カルバモイル｝オキシ）メチル基、｛［Ｎ，Ｎ−ビス（カルボキシメチル）カルバモイル］オキシ｝メチル基、２−ヒドロキシエチル基、エトキシカルボニル）メチル基、カルボキシメチル基、（ベンジルオキシカルボニル）メチル基、３，４，５，６−テトラアセトキシ−テトラヒドロピラン−２−イル基、Ｎ−フタリルメチル基
上記Ａの定義における「置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基」としては、更に好適には、置換基を有していてもよいアシル−オキシ−メチレン基であり、特に更に好適には、アセトキシメチル基、（ピバロイルオキシ）メチル基、１−（エトキシカルボニルオキシ）エチル基、［（ピペリジノカルボニル）オキシ］メチル基、［（モルフォーリノカルボニル）オキシ］メチル基、（｛［４−（エトキシカルボニル）ピペリジン−１−イル］カルボニル｝オキシ）メチル基、｛［（４−カルボキシピペリジン−１−イル）カルボニル］オキシ｝メチル基、（｛Ｎ，Ｎ−ビス［（エトキシカルボニル）メチル］カルバモイル｝オキシ）メチル基、及び｛［Ｎ，Ｎ−ビス（カルボキシメチル）カルバモイル］オキシ｝メチル基である。
Ａは、連結基Ｘと結合して置換基を有していてもよい環構造を形成してもよい。このような場合、一般式（Ｉ）で表される化合物の好適な具体例としては、下記式：
2003103656.tif 000017
である化合物が挙げられる。
環Ｚの定義における「式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは上記定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは上記定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいアレーン」の「アレーン」としては、単環式又は縮合多環式芳香族炭化水素が挙げられ、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アンラセン環、フェナントレン環、アセナフチレン環等が挙げられる。好適には、ベンゼン環、ナフタレン環等のＣ６〜Ｃ１０のアレーンであり、さらに好適には、ベンゼン環及びナフタレン環であり、最も好適には、ベンゼン環である。
上記環Ｚの定義における「式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは上記定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは上記定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいアレーン」の「置換基」としては、上記「置換基を有していてもよい」の定義における「置換基」と同様の基が挙げられる。該置換基のアレーン上での置換位置は特に限定されない。また、該置換基が２個以上存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
上記環Ｚの定義における「式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは上記定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは上記定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいアレーン」が「式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは上記定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは上記定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいベンゼン環」である場合、好適には、「式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは上記定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは上記定義と同義である）で表される基の他に更に１ないし２個の置換基を有するベンゼン環」であり、更に好適には、「式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは上記定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは上記定義と同義である）で表される基の他に更に１個の置換基を有するベンゼン環」である。このとき、該置換基としては、好適には、下記「置換基群γ−１ｚ」から選択される基であり、更に好適には、ハロゲン原子及びｔｅｒｔ−ブチル基〔（１，１−ジメチル）エチル基〕であり、最も好適には、ハロゲン原子である。
［置換基群γ−１ｚ］ハロゲン原子、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−フェニルエテン−１−イル基、トリフルオロメチル基、フェニル基、３−チエニル基〔チオフェン−３−イル基〕
上記環Ｚの定義における「式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは上記定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは上記定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいアレーン」が「式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは上記定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは上記定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいベンゼン環」である場合、該置換基が１個であり、一般式（Ｉ）における環Ｚを含む下記部分構造式（Ｉｚ−１）：
2003103656.tif 000018
が下記式（Ｉｚ−２）：
2003103656.tif 000019
で表される場合のＲｚの位置に存在することが最も好ましい。このとき、該置換基をＲｚと定義することができる。Ｒｚとしては、好適には、下記「置換基群γ−２ｚ」から選択される基であり、更に好適には、ハロゲン原子及びｔｅｒｔ−ブチル基であり、最も好適には、ハロゲン原子である。
［置換基群γ−２ｚ］ハロゲン原子、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−フェニルエテン−１−イル基、トリフルオロメチル基、フェニル基、３−チエニル基
上記環Ｚの定義における「式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは上記定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは上記定義と同義である）で表される基の他に更に置換基を有していてもよいアレーン」が「式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは上記定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは上記定義と同義である）で表される基の他に更に置換基を有していてもよいナフタレン環」である場合、好適には、ナフタレン環である。
環Ｚの定義における「式−Ｏ−Ａ（式中、Ａは上記定義と同義である）及び式−Ｘ−Ｅ（式中、Ｘ及びＥは上記定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいヘテロアレーン」の「ヘテロアレーン」としては、環系を構成する原子（環原子）として、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子等から選択されたヘテロ原子１ないし３種を少なくとも１個含む単環式又は縮合多環式芳香族複素環が挙げられ、例えば、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、１，２，３−オキサジアゾール環、１，２，３−チアジアゾール環、１，２，３−トリアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、１，２，３−トリアジン環、１，２，４−トリアジン環、１Ｈ−アゼピン環、１，４−オキセピン環、１，４−チアゼピン環、ベンゾフラン環、イソベンゾフラン環、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン環、ベンゾ〔ｃ〕チオフェン環、インドール環、２Ｈ−イソインドール環、１Ｈ−インダゾール環、２Ｈ−インダゾール環、ベンゾオキサゾール環、１，２−ベンゾイソオキサゾール環、２，１−ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、１，２−ベンゾイソチアゾール環、２，１−ベンゾイソチアゾール環、１，２，３−ベンゾオキサジアゾール環、２，１，３−ベンゾオキサジアゾール環、１，２，３−ベンゾチアジアゾール環、２，１，３−ベンゾチアジアゾール環、１Ｈ−ベンゾトリアゾール環、２Ｈ−ベンゾトリアゾール環、キノリン環、イソキノリン環、シンノリン環、キナゾリン環、キノキサリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、１Ｈ−１，５−ベンゾジアゼピン環、カルバゾール環、α−カルボリン環、β−カルボリン環、γ−カルボリン環、アクリジン環、フェノキサジン環、フェノチアジン環、フェナジン環、フェナントリジン環、フェナントロリン環、チアントレン環、インドリジン環、フェノキサチイン環等の５ないし１４員の単環式又は縮合多環式芳香族複素環が挙げられる。
Ｅの定義における「置換基を有していてもよいアリール基」の「アリール基」としては、上記「炭化水素基」の定義における「アリール基」と同様の基が挙げられ、好適には、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等のＣ６〜Ｃ１０のアリール基であり、最も好適には、フェニル基である。
上記Ｅの定義における「置換基を有していてもよいアリール基」の「置換基」としては、上記「置換基を有していてもよい」の定義における「置換基」と同様の基が挙げられる。該置換基のアリール基上での置換位置は特に限定されず、該置換基が２個以上存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
上記Ｅの定義における「置換基を有していてもよいアリール基」が「置換基を有していてもよいフェニル基」である場合、好適には、「モノ置換フェニル基」、及び「ジ置換フェニル基」であり、更に好適には、「ジ置換フェニル基」である。
上記Ｅの定義における「置換基を有していてもよいアリール基」が「ジ置換フェニル基」である場合、好適な基の具体例としては、下記「置換基群δ−１ｅ」に示す基が挙げられる。
［置換基群δ−１ｅ］３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）フェニル基、３，５−ビス［（１，１−ジメチル）エチル］フェニル基、２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、３−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル基、２−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル基、２−クロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル基、５−（１，１−ジメチル）プロピル−２−フェノキシフェニル基、２−（４−メトキシフェノキシ）−５−（トリフルオロメチル）フェニル基
上記Ｅの定義における「置換基を有していてもよいアリール基」が「ジ置換フェニル基」である場合、更に好適には、「２，５−ジ置換フェニル基」及び「３，５−ジ置換フェニル基」である。
上記Ｅの定義における「置換基を有していてもよいアリール基」が「２，５−ジ置換フェニル基」である場合、好適な基の具体例としては、下記「置換基群δ−２ｅ」に示す基が挙げられる。
［置換基群δ−２ｅ］２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）フェニル基、２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、２−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル基、２−（４−メトキシフェノキシ）−５−（トリフルオロメチル）フェニル基
上記Ｅの定義における「置換基を有していてもよいアリール基」が「２，５−ジ置換フェニル基」である場合、更に好適には、「２，５−ジ置換フェニル基（但し、該置換基の少なくとも１個はトリフルオロメチル基である）」であり、特に更に好適には、下記「置換基群δ−３ｅ」から選択される基であり、最も好適には、２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基である。
［置換基群δ−３ｅ］２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）フェニル基、２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、２−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル基、２−（４−メトキシフェノキシ）−５−（トリフルオロメチル）フェニル基
上記Ｅの定義における「置換基を有していてもよいアリール基」が「３，５−ジ置換フェニル基」である場合、好適な基の具体例としては、下記「置換基群δ−４ｅ」に示す基が挙げられる。
［置換基群δ−４ｅ］３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、３，５−ビス［（１，１−ジメチル）エチル］フェニル基、３−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル基
上記「置換基を有していてもよいアリール基」が「３，５−ジ置換フェニル基」である場合、更に好適には、「３，５−ジ置換フェニル基（但し、該置換基の少なくとも１個はトリフルオロメチル基である）」であり、特に更に好適には、下記「置換基群δ−５ｅ」から選択される基であり、最も好適には、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基である。
［置換基群δ−５ｅ］３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、３−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル基
上記Ｅの定義における「置換基を有していてもよいアリール基」が「モノ置換フェニル基」である場合、好適な基の具体例としては、ビフェニル−４−イル基が挙げられる。
Ｅの定義における「置換基を有していてもよいヘテロアリール基」の「ヘテロアリール基」としては、上記「ヘテロ環基」の定義における「単環式ヘテロアリール基」及び「縮合多環式ヘテロアリール基」と同様の基が挙げられる。好適には、５員のヘテロアリール基であり、最も好適には、チアゾリル基である。
上記Ｅの定義における「置換基を有していてもよいヘテロアリール基」の「置換基」としては、上記「置換基を有していてもよい」の定義における「置換基」と同様の基が挙げられる。該置換基のヘテロアリール基上での置換位置は特に限定されず、該置換基が２個以上存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
上記Ｅの定義における「置換基を有していてもよいヘテロアリール基」が「置換基を有していてもよいチアゾリル基」である場合、更に好適には、「置換基を有していてもよいチアゾール−２−イル基」であり、特に更に好適には、「ジ置換チアゾール−２−イル基」であり、最も好適には、４−［（１，１−ジメチル）エチル］−５−［（２，２−ジメチル）プロピオニル］チアゾール−２−イル基である。以下、上記一般式（Ｉ−１）で表される化合物について具体的に説明する。
上記Ａ１の定義における、「置換基を有していてもよいアシル基（ただし、無置換のアセチル基及び無置換のアクリロイル基を除く）」の「置換基」としては、上記「置換基を有していてもよい」の「置換基」と同様の基が挙げられる。該置換基のアシル基上での置換位置は特に限定されない。また、該置換基が２個以上存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
上記Ａ１の定義における「置換基を有していてもよいアシル基（ただし、無置換のアセチル基及び無置換のアクリロイル基を除く）」の「アシル基」としては、上記定義における「アシル基」と同様の基が挙げられる。
上記Ａ１の定義における「置換基を有していてもよいアシル基」としては、無置換のアセチル基及び無置換のアクリロイル基は除く。
上記Ａ１の定義における、「置換基を有していてもよいアシル基（ただし、無置換のアセチル基及び無置換のアクリロイル基を除く）」としては、好適には、下記「置換基群ω１」から選択される基であり、更に好適には、置換基を有していてもよいヘテロ環−カルボニル基、置換基を有していてもよいフォースフォーノ基、及び置換基を有していてもよいカルバモイル基である。
［置換基群ω１］置換基を有していてもよい炭化水素−カルボニル基、置換基を有していてもよいヘテロ環−カルボニル基、置換基を有していてもよい炭化水素−オキシ−カルボニル基、置換基を有していてもよい炭化水素−スルフォーニル基、置換基を有していてもよいスルファモイル基、置換基を有していてもよいスルフォー基、置換基を有していてもよいフォースフォーノ基、及び置換基を有していてもよいカルバモイル基
上記Ａ１の定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよいヘテロ環−カルボニル基」である場合、該「ヘテロ環基」としては、上記定義における「ヘテロ環基」と同様の基が挙げられる。
上記Ａ１の定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよいヘテロ環−カルボニル基」である場合、好適な基の具体例としては、下記「置換基群δ１−１ａ」に示す基が挙げられる。
［置換基群δ１−１ａ］ニコチノイル基〔（ピリジン−３−イル）カルボニル基〕、イソニコチノイル基〔（ピリジン−４−イル）カルボニル基〕、（ピロリジン−１−イル）カルボニル基、（モルフォーリン−４−イル）カルボニル基〔モルフォーリノカルボニル基〕、（４−メチルピペラジン−１−イル）カルボニル基、［４−（エトキシカルボニル）ピペリジン−１−イル］カルボニル基、（４−カルボキシピペリジン−１−イル）カルボニル基
上記Ａ１の定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよいヘテロ環−カルボニル基」である場合、更に好適には、「５ないし６員の非芳香族ヘテロ環−カルボニル基であって、該ヘテロ環を構成する原子（環原子）として窒素原子を少なくとも１個含み、カルボニル基とは窒素原子を介して結合している基」であり、特に更に好適には、（ピロリジン−１−イル）カルボニル基、（モルフォーリン−４−イル）カルボニル基、（４−メチルピペラジン−１−イル）カルボニル基、［４−（エトキシカルボニル）ピペリジン−１−イル］カルボニル基、（４−カルボキシピペリジン−１−イル）カルボニル基であり、最も好適には、（モルフォーリン−４−イル）カルボニル基である。
上記Ａ１の定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよいフォースフォーノ基」である場合、好適には、フォースフォーノ基、及びジベンジルフォースフォーノ基であり、更に好適には、フォースフォーノ基である。
上記Ａ１の定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよいカルバモイル基」である場合、好適な基の具体例としては、下記「置換基群δ１−２ａ」に示す基が挙げられる。
［置換基群δ１−２ａ］Ｎ−イソプロピルカルバモイル基、Ｎ−ベンジルカルバモイル基、Ｎ−（エトキシカルボニルメチル）カルバモイル基、Ｎ−（カルボキシメチル）カルバモイル基、Ｎ−（１−メトキシカルボニルエチル）カルバモイル基、Ｎ−（１−メトキシカルボニル−２−フェニルエチル）カルバモイル基、Ｎ−［１−メトキシカルボニル−２−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）エチル］カルバモイル基、Ｎ−（｛Ｎ−［１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−フェニルエチル］カルバモイル｝メチル）カルバモイル基、Ｎ−｛［Ｎ−（１−カルボキシ−２−フェニルエチル）カルバモイル］メチル｝カルバモイル基、Ｎ−（｛Ｎ−［１，２−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）エチル］カルバモイル｝メチル）カルバモイル基、Ｎ−｛［Ｎ−（１，２−ジカルボキシエチル）カルバモイル］メチル｝カルバモイル基、Ｎ−（｛Ｎ−［１，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ペンチル］カルバモイル｝メチル）カルバモイル基、Ｎ−［（４−メチルスルファニル）フェニル］カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ビス［（エトキシカルボニル）メチル］カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ビス（カルボキシメチル）カルバモイル基
上記Ａ１の定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよいカルバモイル基」である場合、更に好適には、「Ｎ，Ｎ−ジ置換カルバモイル基」であり、特に更に好適には、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ビス［（エトキシカルボニル）メチル］カルバモイル基、及びＮ，Ｎ−ビス（カルボキシメチル）カルバモイル基である。
上記Ａ１の定義における、「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよい炭化水素−カルボニル基」である場合、該「炭化水素基」としては、上記定義における「炭化水素基」と同様の基が挙げられる。
上記Ａ１の定義における、「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよい炭化水素−カルボニル基」である場合、好適な基の具体例としては、下記「置換基群δ１−３ａ」に示す基が挙げられる。
［置換基群δ１−３ａ］ピバロイル基〔（２，２−ジメチル）プロピオニル基〕、バレリル基、デカノイル基、ベンゾイル基、２−アセトキシベンゾイル基、フェニルアセチル基、（３，４−メチレンジオキシフェニル）アセチル基、メトキシアセチル基、アセトキシアセチル基、フェノキシアセチル基、（４−クロロフェノキシ）アセチル基、（２，３−ジクロロフェノキシ）アセチル基、２−フェノキシプロピオニル基、２−（４−クロロフェノキシ）イソブチリル基、（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アセチル基、３−（ベンジルオキシカルボニル）プロピオニル基、３−（ピペリジノカルボニル）プロピオニル基、（アセチルアミノ）アセチル基、［（ベンジルオキシカルボニル）アミノ］アセチル基、［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］アセチル基、アミノアセチル基、２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］イソバレリル基、２−アミノイソバレリル基、２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］−４−メチルパレリル基、２−アミノ−４−メチルパレリル基、２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］−３−フェニルプロピオニル基、２−アミノ−３−フェニルプロピオニル基、２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］−３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）プロピオニル基、２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ブチリル基、２−アミノ−４−カルボキシブチリル基、２，６−ビス［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］ヘキサノイル基、２，６−ジアミノヘキサノイル基、２−｛２−［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］−３−フェニルプロピオニル｝アミノ−４−メチルバレリル基、２−（２−アミノ−３−フェニルプロピオニル）アミノ−４−メチルバレリル基、２−｛２，３−ビス［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］プロピオニル｝アミノ−４−メチルバレリル基、２−（２−アミノ−３−カルボキシプロピオニル）アミノ−４−メチルバレリル基、２−｛２，６−ビス［（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）アミノ］ヘキサノイル｝アミノ−４−メチルバレリル基、２−（２，６−ジアミノヘキサノイル）アミノ−４−メチルバレリル基、２−（２−アミノ−４−メチルバレリル）アミノ−３−フェニルプロピオニル基、２−（２−アミノ−３−カルボキシプロピオニル）アミノ−３−フェニルプロピオニル基
上記Ａ１の定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよい炭化水素−オキシ−カルボニル基」である場合、該「炭化水素基」としては、上記定義における「炭化水素基」と同様の基が挙げられる。
上記Ａ１の定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよい炭化水素−オキシ−カルボニル基」である場合、好適な基の具体例としては、メトキシカルボニル基が挙げられる。
上記Ａ１の定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよい炭化水素−スルフォーニル基」である場合、該「炭化水素基」としては、上記定義における「炭化水素基」と同様の基が挙げられる。
上記Ａ１の定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよい炭化水素−スルフォーニル基」である場合、好適な基の具体例としては、メタンスルフォーニル基〔メシル基〕、プロパンスルフォーニル基、イソプロピルスルフォーニル基、及びｐ−トールエンスルフォーニル基〔トシル基〕が挙げられる。
上記Ａ１の定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよいスルファモイル基」である場合、好適な基の具体例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基が挙げられる。
上記Ａ１の定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「置換基を有していてもよいスルフォー基」である場合、好適な基の具体例としては、スルフォー基が挙げられる。
上記Ａ１の定義における「置換基を有していてもよいアシル基」が「５ないし６員の非芳香族ヘテロ環−カルボニル基であって、該ヘテロ環を構成する原子（環原子）として窒素原子を少なくとも１個含み、カルボニル基とは窒素原子を介して結合している基」である場合、及び「Ｎ，Ｎ−ジ置換カルバモイル基」である場合を合わせて、「Ｎ，Ｎ−ジ置換カルバモイル基（該カルバモイル基の２つの置換基は一緒になって、結合している窒素原子とともに、置換基を有していてもよい含窒素ヘテロ環式基を形成してもよい）」と定義することができる。このとき、好適な基の具体例としては、（ピロリジン−１−イル）カルボニル基、（モルフォーリン−４−イル）カルボニル基、（４−メチルピペラジン−１−イル）カルボニル基、（４−エトキシピペリジン−１−イル）カルボニル基、（４−カルボキシピペリジン−１−イル）カルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ビス［（エトキシカルボニル）メチル］カルバモイル基、及びＮ，Ｎ−ビス（カルボキシメチル）カルバモイル基を挙げることができ、最も好適には、（モルフォーリン−４−イル）カルボニル基を挙げることができる。
上記Ａ１の定義における、「置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基」の「置換基」としては、上記「置換基を有していてもよい」の「置換基」と同様の基が挙げられる。該置換基のアルキル基上での置換位置は特に限定されない。また、該置換基が２個以上存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
上記Ａ１の定義における、「置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基」の「Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基」としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、２−メチルブチル、１−メチルブチル、ネオペンチル、１，２−ジメチルプロピル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、４−メチルペンチル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、１−メチルペンチル、３，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、２−エチルブチル、１−エチルブチル、１−エチル−１−メチルプロピル等のＣ１〜Ｃ６の直鎖状又は分枝鎖状のアルキル基が挙げられる。
上記Ａ１の定義における「置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基」の好適な具体例としては、下記「置換基群δ１−４ａ」に示す基が挙げられる。
［置換基群δ１−４ａ］エチル基、イソプロピル基、メトキシメチル基、アセトキシメチル基、（ピバロイルオキシ）メチル基、１−（エトキシカルボニルオキシ）エチル基、［（ピペリジノカルボニル）オキシ］メチル基〔｛［（ピペリジン−１−イル）カルボニル］オキシ｝メチル基〕、［（モルフォーリノカルボニル）オキシ］メチル基〔｛［（モルフォーリン−４−イル）カルボニル］オキシ｝メチル基〕、（｛［４−（エトキシカルボニル）ピペリジン−１−イル］カルボニル｝オキシ）メチル基、｛［（４−カルボキシピペリジン−１−イル）カルボニル］オキシ｝メチル基、（｛Ｎ，Ｎ−ビス［（エトキシカルボニル）メチル］カルバモイル｝オキシ）メチル基、｛［Ｎ，Ｎ−ビス（カルボキシメチル）カルバモイル］オキシ｝メチル基、２−ヒドロキシエチル基、エトキシカルボニル）メチル基、カルボキシメチル基、（ベンジルオキシカルボニル）メチル基、３，４，５，６−テトラアセトキシ−テトラヒドロピラン−２−イル基、Ｎ−フタリルメチル基
上記Ａ１の定義における「置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基」としては、更に好適には、置換基を有していてもよいアシル−オキシ−メチレン基であり、特に更に好適には、アセトキシメチル基、（ピバロイルオキシ）メチル基、１−（エトキシカルボニルオキシ）エチル基、［（ピペリジノカルボニル）オキシ］メチル基、［（モルフォーリノカルボニル）オキシ］メチル基、（｛［４−（エトキシカルボニル）ピペリジン−１−イル］カルボニル｝オキシ）メチル基、｛［（４−カルボキシピペリジン−１−イル）カルボニル］オキシ｝メチル基、（｛Ｎ，Ｎ−ビス［（エトキシカルボニル）メチル］カルバモイル｝オキシ）メチル基、及び｛［Ｎ，Ｎ−ビス（カルボキシメチル）カルバモイル］オキシ｝メチル基である。
Ａ１は、−ＣＯＮＨ−基と結合して置換基を有していてもよい環構造を形成してもよい。このような場合、一般式（Ｉ−１）で表される化合物の好適な具体例としては、下記式：
2003103656.tif 000020
である化合物が挙げられる。
環Ｚ１の定義における「式−Ｏ−Ａ１（式中、Ａ１は上記定義と同義である）及び式−ＣＯＮＨ−Ｅ１（式中、Ｅ１は上記定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいアレーン」の「アレーン」としては、単環式又は縮合多環式芳香族炭化水素が挙げられ、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アンラセン環、フェナントレン環、アセナフチレン環等が挙げられる。好適には、ベンゼン環、ナフタレン環等のＣ６〜Ｃ１０のアレーンであり、さらに好適には、ベンゼン環及びナフタレン環であり、最も好適には、ベンゼン環である。上記環Ｚ１の定義における「式−Ｏ−Ａ１（式中、Ａ１は上記定義と同義である）及び式−ＣＯＮＨ−Ｅ１（式中、Ｅ１は上記定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいアレーン」の「置換基」としては、上記「置換基を有していてもよい」の定義における「置換基」と同様の基が挙げられる。該置換基のアレーン上での置換位置は特に限定されない。また、該置換基が２個以上存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
上記環Ｚ１の定義における「式−Ｏ−Ａ１（式中、Ａ１は上記定義と同義である）及び式−ＣＯＮＨ−Ｅ１（式中、Ｅ１は上記定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいアレーン」が「式−Ｏ−Ａ１（式中、Ａ１は上記定義と同義である）及び式−ＣＯＮＨ−Ｅ１（式中、Ｅ１は上記定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいベンゼン環」である場合、好適には、「式−Ｏ−Ａ１（式中、Ａ１は上記定義と同義である）及び式−ＣＯＮＨ−Ｅ１（式中、Ｅ１は上記定義と同義である）で表される基の他に更に１ないし２個の置換基を有するベンゼン環」であり、更に好適には、「式−Ｏ−Ａ１（式中、Ａ１は上記定義と同義である）及び式−ＣＯＮＨ−Ｅ１（式中、Ｅ１は上記定義と同義である）で表される基の他に更に１個の置換基を有するベンゼン環」である。このとき、該置換基としては、好適には、下記「置換基群γ１−１ｚ」から選択される基であり、更に好適には、ハロゲン原子及びｔｅｒｔ−ブチル基〔（１，１−ジメチル）エチル基〕であり、最も好適には、ハロゲン原子である。
［置換基群γ１−１ｚ］ハロゲン原子、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−フェニルエテン−１−イル基、トリフルオロメチル基、フェニル基、３−チエニル基〔チオフェン−３−イル基〕
上記環Ｚ１の定義における「式−Ｏ−Ａ１（式中、Ａ１は上記定義と同義である）及び式−ＣＯＮＨ−Ｅ１（式中、Ｅ１は上記定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいアレーン」が「式−Ｏ−Ａ１（式中、Ａ１は上記定義と同義である）及び式−ＣＯＮＨ−Ｅ１（式中、Ｅ１は上記定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいベンゼン環」である場合、該置換基が１個であり、一般式（Ｉ−１）における環Ｚ１を含む下記部分構造式（Ｉｚ１−１）：
2003103656.tif 000021
が下記式（Ｉｚ１−２）：
2003103656.tif 000022
で表される場合のＲｚ１の位置に存在することが最も好ましい。このとき、該置換基をＲｚ１と定義することができる。Ｒｚ１としては、好適には、下記「置換基群γ１−２ｚ」から選択される基であり、更に好適には、ハロゲン原子及びｔｅｒｔ−ブチル基であり、最も好適には、ハロゲン原子である。
［置換基群γ１−２ｚ］ハロゲン原子、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−フェニルエテン−１−イル基、トリフルオロメチル基、フェニル基、３−チエニル基
上記環Ｚ１の定義における「式−Ｏ−Ａ１（式中、Ａ１は上記定義と同義である）及び式−ＣＯＮＨ−Ｅ１（式中、Ｅ１は上記定義と同義である）で表される基の他に更に置換基を有していてもよいアレーン」が「式−Ｏ−Ａ１（式中、Ａ１は上記定義と同義である）及び式−ＣＯＮＨ−Ｅ１（式中、Ｅ１は上記定義と同義である）で表される基の他に更に置換基を有していてもよいナフタレン環」である場合、好適には、ナフタレン環である。
環Ｚ１の定義における「式−Ｏ−Ａ１（式中、Ａ１は上記定義と同義である）及び式−ＣＯＮＨ−Ｅ１（式中、Ｅ１は上記定義と同義である）で表される基の他にさらに置換基を有していてもよいヘテロアレーン」の「ヘテロアレーン」としては、環系を構成する原子（環原子）として、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子等から選択されたヘテロ原子１ないし３種を少なくとも１個含む単環式又は縮合多環式芳香族複素環が挙げられ、例えば、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、１，２，３−オキサジアゾール環、１，２，３−チアジアゾール環、１，２，３−トリアゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、１，２，３−トリアジン環、１，２，４−トリアジン環、１Ｈ−アゼピン環、１，４−オキセピン環、１，４−チアゼピン環、ベンゾフラン環、イソベンゾフラン環、ベンゾ〔ｂ〕チオフェン環、ベンゾ〔ｃ〕チオフェン環、インドール環、２Ｈ−イソインドール環、１Ｈ−インダゾール環、２Ｈ−インダゾール環、ベンゾオキサゾール環、１，２−ベンゾイソオキサゾール環、２，１−ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、１，２−ベンゾイソチアゾール環、２，１−ベンゾイソチアゾール環、１，２，３−ベンゾオキサジアゾール環、２，１，３−ベンゾオキサジアゾール環、１，２，３−ベンゾチアジアゾール環、２，１，３−ベンゾチアジアゾール環、１Ｈ−ベンゾトリアゾール環、２Ｈ−ベンゾトリアゾール環、キノリン環、イソキノリン環、シンノリン環、キナゾリン環、キノキサリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、１Ｈ−１，５−ベンゾジアゼピン環、カルバゾール環、α−カルボリン環、β−カルボリン環、γ−カルボリン環、アクリジン環、フェノキサジン環、フェノチアジン環、フェナジン環、フェナントリジン環、フェナントロリン環、チアントレン環、インドリジン環、フェノキサチイン環等の５ないし１４員の単環式又は縮合多環式芳香族複素環が挙げられる。
Ｅ１の定義における「置換基を有していてもよいアリール基」の「アリール基」としては、上記「炭化水素基」の定義における「アリール基」と同様の基が挙げられ、好適には、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等のＣ６〜Ｃ１０のアリール基であり、最も好適には、フェニル基である。
上記Ｅ１の定義における「置換基を有していてもよいアリール基」の「置換基」としては、上記「置換基を有していてもよい」の定義における「置換基」と同様の基が挙げられる。該置換基のアリール基上での置換位置は特に限定されず、該置換基が２個以上存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。上記Ｅ１の定義における「置換基を有していてもよいアリール基」が「置換基を有していてもよいフェニル基」である場合、好適には、「モノ置換フェニル基」、及び「ジ置換フェニル基」であり、更に好適には、「ジ置換フェニル基」である。
上記Ｅ１の定義における「置換基を有していてもよいアリール基」が「ジ置換フェニル基」である場合、好適な基の具体例としては、下記「置換基群δ１−１ｅ」に示す基が挙げられる。
［置換基群δ１−１ｅ］３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）フェニル基、３，５−ビス［（１，１−ジメチル）エチル］フェニル基、２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、３−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル基、２−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル基、２−クロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル基、５−（１，１−ジメチル）プロピル−２−フェノキシフェニル基、２−（４−メトキシフェノキシ）−５−（トリフルオロメチル）フェニル基
上記Ｅ１の定義における「置換基を有していてもよいアリール基」が「ジ置換フェニル基」である場合、更に好適には、「２，５−ジ置換フェニル基」及び「３，５−ジ置換フェニル基」である。
上記Ｅ１の定義における「置換基を有していてもよいアリール基」が「２，５−ジ置換フェニル基」である場合、好適な基の具体例としては、下記「置換基群δ１−２ｅ」に示す基が挙げられる。
［置換基群δ１−２ｅ］２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）フェニル基、２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、２−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル基、２−（４−メトキシフェノキシ）−５−（トリフルオロメチル）フェニル基
上記Ｅ１の定義における「置換基を有していてもよいアリール基」が「２，５−ジ置換フェニル基」である場合、更に好適には、「２，５−ジ置換フェニル基（但し、該置換基の少なくとも１個はトリフルオロメチル基である）」であり、特に更に好適には、下記「置換基群δ１−３ｅ」から選択される基であり、最も好適には、２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基である。
［置換基群δ１−３ｅ］２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）フェニル基、２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、２−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル基、２−（４−メトキシフェノキシ）−５−（トリフルオロメチル）フェニル基
上記Ｅ１の定義における「置換基を有していてもよいアリール基」が「３，５−ジ置換フェニル基」である場合、好適な基の具体例としては、下記「置換基群δ１−４ｅ」に示す基が挙げられる。
［置換基群δ１−４ｅ］３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、３，５−ビス［（１，１−ジメチル）エチル］フェニル基、３−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル基
上記「置換基を有していてもよいアリール基」が「３，５−ジ置換フェニル基」である場合、更に好適には、「３，５−ジ置換フェニル基（但し、該置換基の少なくとも１個はトリフルオロメチル基である）」であり、特に更に好適には、下記「置換基群δ１−５ｅ」から選択される基であり、最も好適には、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基である。
［置換基群δ１−５ｅ］３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、３−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル基
上記Ｅ１の定義における「置換基を有していてもよいアリール基」が「モノ置換フェニル基」である場合、好適な基の具体例としては、ビフェニル−４−イル基が挙げられる。
Ｅ１の定義における「置換基を有していてもよいヘテロアリール基」の「ヘテロアリール基」としては、上記「ヘテロ環基」の定義における「単環式ヘテロアリール基」及び「縮合多環式ヘテロアリール基」と同様の基が挙げられる。好適には、５員のヘテロアリール基であり、最も好適には、チアゾリル基である。
上記Ｅ１の定義における「置換基を有していてもよいヘテロアリール基」の「置換基」としては、上記「置換基を有していてもよい」の定義における「置換基」と同様の基が挙げられる。該置換基のヘテロアリール基上での置換位置は特に限定されず、該置換基が２個以上存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。
上記Ｅ１の定義における「置換基を有していてもよいヘテロアリール基」が「置換基を有していてもよいチアゾリル基」である場合、好適には、「置換基を有していてもよいチアゾール−２−イル基」であり、更に好適には、「ジ置換チアゾール−２−イル基」であり、特に更に好適には、「ジ置換チアゾール−２−イル基」であり、最も好適には、４−［（１，１−ジメチル）エチル］−５−［（２，２−ジメチル）プロピオニル］チアゾール−２−イル基である。
上記一般式（Ｉ）で表される化合物としては、好適には、「下記一般式（Ｘ−１）で表される置換安息香酸誘導体、及び／又は下記化合物群φ−１で表される化合物」以外の化合物である。
2003103656.tif 000023
（式中、
Ｒ１００１は、下記の一般式（Ｘ−２）：
2003103656.tif 000024
または、下記の一般式（Ｘ−３）：
2003103656.tif 000025
（式中、Ｒ１００３、Ｒ１００４およびＲ１００５は各々独立に水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数１〜６のアルコキシ基であり、Ｒ１００９およびＲ１０１０は各々独立に水素原子、炭素数１〜６のアルキル基または炭素数２〜１１のアシル基を示す）であり；
Ｒ１００２は、水素原子、置換されていてもよい炭素数１〜６の低級アルキル基、置換されていてもよい炭素数６〜１２のアリール基、置換されていてもよい炭素数４〜１１のヘテロアリール基、置換されていてもよい炭素数７〜１４のアラルキル基、置換されていてもよい炭素数５〜１３のヘテロアリールアルキル基を示すか、あるいは炭素数２〜１１のアシル基であり；
Ｘ１００１は、エステル化またはアミド化されていてもよいカルボキシル基を示す。）
［化合物群φ−１］
2003103656.tif 000026
上記一般式（Ｉ−１）で定義される化合物若しくは薬理学的に許容されるその塩、又はそれらの水和物若しくはそれらの溶媒和物はいずれも新規化合物であり、本物質発明に基づく化合物の用途に関しては特に限定されない。
上記一般式（Ｉ）及び（Ｉ−１）で表される化合物は塩を形成することができる。薬理学的に許容される塩としては、酸性基が存在する場合には、例えば、リチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩、カルシウム塩等の金属塩、又はアンモニウム塩、メチルアンモニウム塩、ジメチルアンモニウム塩、トリメチルアンモニウム塩、ジシクロヘキシルアンモニウム塩等のアンモニウム塩をあげることができ、塩基性基が存在する場合には、例えば、塩酸塩、臭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩等の鉱酸塩、あるいはメタンスルフォーン酸塩、ベンゼンスルフォーン酸塩、パラトールエンスルフォーン酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、酒石酸塩、フマール酸塩、マレイン酸塩、リンゴ酸塩、シュウ酸塩、コハク酸塩、クエン酸塩、安息香酸塩、マンデル酸塩、ケイ皮酸塩、乳酸塩等の有機酸塩をあげることができる。グリシンなどのアミノ酸と塩を形成する場合もある。本発明の医薬の有効成分としては、薬学的に許容される塩も好適に用いることができる。
上記一般式（Ｉ）及び（Ｉ−１）で表される化合物又はその塩は、水和物又は溶媒和物として存在する場合もある。本発明の医薬の有効成分としては、上記のいずれの物質を用いてもよい。さらに一般式（Ｉ）及び（Ｉ−１）で表される化合物は１以上の不斉炭素を有する場合があり、光学活性体やジアステレオマーなどの立体異性体として存在する場合がある。本発明の医薬の有効成分としては、純粋な形態の立体異性体、光学対掌体又はジアステレオマーの任意の混合物、ラセミ体などを用いてもよい。
また、一般式（Ｉ）及び（Ｉ−１）で表される化合物が例えば２−ヒドロキシピリジン構造を有する場合、その互変異性体（ｔａｕｔｏｍｅｒ）である２−ピリドン構造として存在する場合がある。本発明の医薬の有効成分としては、純粋な形態の互変異性体又はそれらの混合物を用いてもよい。また、一般式（Ｉ）及び（Ｉ−１）で表される化合物がオレフィン性の二重結合を有する場合には、その配置はＺ１配置又はＥ配置のいずれでもよく、本発明の医薬の有効成分としてはいずれかの配置の幾何異性体又はそれらの混合物を用いてもよい。
本発明の医薬の有効成分として一般式（Ｉ）及び（Ｉ−１）に包含される化合物を以下に例示するが、本発明の医薬の有効成分は下記の化合物に限定されることはない。
なお、下記表において用いられる略語の意味は下記の通りである。
Ｍｅ：メチル基、Ｅｔ：エチル基。
2003103656.tif 000027
2003103656.tif 000028
2003103656.tif 000029
2003103656.tif 000030
2003103656.tif 000031
2003103656.tif 000032
2003103656.tif 000033
2003103656.tif 000034
2003103656.tif 000035
2003103656.tif 000036
2003103656.tif 000037
2003103656.tif 000038
2003103656.tif 000039
2003103656.tif 000040
2003103656.tif 000041
2003103656.tif 000042
2003103656.tif 000043
2003103656.tif 000044
2003103656.tif 000045
2003103656.tif 000046
2003103656.tif 000047
2003103656.tif 000048
2003103656.tif 000049
2003103656.tif 000050
2003103656.tif 000051
2003103656.tif 000052
2003103656.tif 000053
2003103656.tif 000054
一般式（Ｉ）で表される化合物は、例えば、以下に示した方法によって製造することができる。まず、以下に示す＜方法１＞ないし＜方法５＞などの方法によって、一般式（Ｉ）で表される化合物の前駆体となるヒドロキシアリール誘導体（一般式（Ｉ）においてＡが水素原子である化合物に相当する）を製造し、次いで、以下に示す＜方法６＞などの方法によって、該ヒドロキシアリール誘導体のヒドロキシ基をアシル化又はアルキル化することにより、一般式（Ｉ）で表される化合物を製造することができる。
＜方法１＞
一般式（Ｉ）において、Ａが水素原子、Ｘが−ＣＯＮＨ−（窒素上の水素原子は置換されていてもよい）で表される化合物は、例えば、反応工程式１に示す方法によって製造することができる。
反応工程式１
2003103656.tif 000055
（式中、環Ｚ及びＥは、一般式（Ｉ）における定義と同意義であり、Ａ１０１は水素原子又はヒドロキシ基の保護基（好ましくは、メチル基等のアルキル基；ベンジル基等のアラルキル基；アセチル基；メトキシメチル基等のアルコキシアルキル基；トリメチルシリル基等の置換シリル基）を表し、Ｒ１０１は水素原子、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基等を表し、Ｅ１０１は、一般式（Ｉ）の定義におけるＥ又はＥの前駆体を表し、Ｇはヒドロキシ基、ハロゲン原子（好ましくは、塩素原子）、炭化水素−オキシ基（好ましくは、ハロゲン原子で置換されていてもよいアリールオキシ基）、アシル−オキシ基、イミド−オキシ基等を表す）
（第１工程）
カルボン酸誘導体（１）とアミン（２）とを脱水縮合させることにより、アミド（３）製造することができる。この反応は、酸ハロゲン化剤又は脱水縮合剤の存在下、塩基の存在又は非存在下、無溶媒又は非プロトン性溶媒中０℃〜１８０℃の反応温度で行われる。
この反応は、酸ハロゲン化剤又は脱水縮合剤の存在下、塩基の存在又は非存在下、無溶媒又は非プロトン性溶媒中０℃〜１８０℃の反応温度で行われる。
酸ハロゲン化剤としては、例えば、塩化チオニル、臭化チオニル、塩化スルフリル、オキシ塩化リン、三塩化リン、五塩化リンなどを挙げることができ、Ａ１０１が水素原子の場合には三塩化リンが、Ａ１０１がアセチル基等の場合にはオキシ塩化リンが好ましい。脱水縮合剤としては、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、ジフェニルフォースフォーリルアジドなどを挙げることができる。塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基、あるいはピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等の有機塩基が挙げられる。非プロトン性溶媒としてはジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロフォールム、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ベンゼン、トールエン、モノクロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジメチルフォールムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどを挙げることができ、酸ハロゲン化剤の存在下に反応を行う場合には、特に、トールエン、モノクロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼンが好ましい。
また、例えば、「ジャーナル・オブ・メディシナルケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）」，（米国），１９９８年，第４１巻，第１６号，ｐ．２９３９−２９４５に記載の方法及びこれらに準じた方法により、予めカルボン酸から酸塩化物を製造、単離し、次いでＥ１０１を有するアミンと反応させることにより目的とするアミドを製造することもできる。
Ｇがヒドロキシ基である場合の好適な反応条件として、例えば、「アーキブ・デア・ファルマツィー（Ａｒｃｈｉｖ  ｄｅｒ  Ｐｈａｒｍａｚｉｅ）」，（ドイツ），１９９８年，第３３１巻，第１号，ｐ．３−６．に記載された反応条件を用いることができる。
カルボン酸誘導体（１）及びアミン（２）の種類は特に限定されず、文献公知の製造方法を適宜参照しつつ新規に合成するか、あるいは市販の試薬を入手して上記反応に用いることができる。
（第２工程）
アミド（３）が保護基を有する場合及び／又は官能基修飾に有利な置換基（例えば、アミノ基及びその保護体若しくは前駆体；カルボキシ基及びその保護体若しくは前駆体；ヒドロキシ基及びその保護体若しくは前駆体など）を有する場合、この工程で脱保護反応及び／又は官能基修飾反応を行うことによりアミド（４）を製造することができる。該反応は、種々の公知の方法を用いることができ、脱保護反応及び官能基修飾反応としては、例えば、セオドラ・Ｗ．・グリーン（Ｔｈｅｏｄｏｒａ  Ｗ．Ｇｒｅｅｎ），ピーター・Ｇ．・Ｍ．・ブッツ（Ｐｅｔｅｒ  Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ）編「プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシズ（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ）」，（米国），第３版，ジョン・ウィリー・アンド・サンズ・インク（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．），１９９９年４月；「ハンドブック・オブ・リエージェンツ・フォー・オーガニック・シンセシス（Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｒｅａｇｅｎｔｓ  ｆｏｒ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）」，（米国），全４巻，ジョン・ウィリー・アンド・サンズ・インク（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．），１９９９年６月，等に記載の方法を；官能基修飾反応としては、例えば、リチャード・Ｆ．・ヘック（Ｒｉｃｈａｒｄ  Ｆ．Ｈｅｃｋ）著「パラジウム・リエージェンツ・イン・オーガニック・シンセシス（Ｐａｌｌａｄｉｕｍ  Ｒｅａｇｅｎｔｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ）」，（米国），アカデミック・プレス（Ａｃａｄｅｍｉｃ  Ｐｒｅｓｓ），１９８５年；辻二郎（Ｊ．Ｔｓｕｊｉ）著「パラジウム・リエージェンツ・アンド・カタリスツ：イノベーションズ・イン・オーガニック・シンセシス（Ｐａｌｌａｄｉｕｍ  Ｒｅａｇｅｎｔｓ  ａｎｄ  Ｃａｔａｌｙｓｔｓ：Ｉｎｎｏｖａｔｉｏｎｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）」，（米国），ジョン・ウィリー・アンド・サンズ・インク（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．），１９９９年，等に記載の方法を用いることができる。
上記方法は、Ｘが他の連結基（例えば、−ＳＯ２ＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＮＨＳＯ２−、−ＣＯＮＨＣＨ２−、−ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＮＨＣＨ２ＣＯＮＨ−、−ＣＯＮＨＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨＮＨＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨＮＨ−；該連結基上の水素原子は置換されていてもよい）である場合においても、原料を適切に組み合わせることによって適用可能である。
＜方法２＞
一般式（Ｉ）において、Ａが水素原子、Ｘが−ＣＨ２ＮＨ−で表される化合物は、例えば、反応工程式２に示す方法によって製造することができる。
反応工程式２
2003103656.tif 000056
（式中、環Ｚ及びＥは、一般式（Ｉ）における定義と同意義であり、Ａ２０１は水素原子又はヒドロキシ基の保護基（好ましくは、メチル基等のアルキル基；ベンジル基等のアラルキル基；アセチル基；メトキシメチル基等のアルコキシアルキル基；トリメチルシリル基等の置換シリル基）を表す）
まず、アルデヒド（５）とアミン（６）とを脱水縮合させることにより、式（７）のイミン誘導体を製造することができる。この反応は、脱水剤の存在下又は非存在下において、溶媒中で０℃〜１００℃の反応温度で行われる。脱水剤としては無水硫酸マグネシウム、モレキュラーシーブなどを挙げることができる。溶媒としては非反応性の溶媒が挙げられるが、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、メタノール、エタノール等が好ましい。
上記方法は、Ｘが他の連結基（例えば、−ＣＯＮＨＮ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＮＮＨＣＯ−、−ＣＨＮＮＨ−；該連結基上の水素原子は置換されていてもよい）である場合においても、原料を適切に組み合わせることによって適用可能である。
イミン誘導体（７）のＡ２０１がヒドロキシ基の保護基である場合、脱保護反応を行うことにより、Ａ２０１が水素原子である化合物を製造することができる。該反応は、種々の公知の方法を用いることができ、例えば、セオドラ・Ｗ．・グリーン（Ｔｈｅｏｄｏｒａ  Ｗ．Ｇｒｅｅｎ），ピーター・Ｇ．・Ｍ．・ブッツ（Ｐｅｔｅｒ  Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ）編「プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシズ（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ）」，（米国），第３版，ジョン・ウィリー・アンド・サンズ・インク（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．），１９９９年４月；「ハンドブック・オブ・リエージェンツ・フォー・オーガニック・シンセシス（Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｒｅａｇｅｎｔｓ  ｆｏｒ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）」，（米国），全４巻，ジョン・ウィリー・アンド・サンズ・インク（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．），１９９９年６月，等に記載の方法を用いることができる。
イミン誘導体（７）を還元することにより目的化合物である（８）を製造することができる。この反応は、還元剤の存在下に溶媒中で０℃〜１００℃の反応温度で行われる。還元剤としては水素化フォー素ナトリウム、水素化フォー素リチウムなどを挙げることができる。溶媒としては非反応性の溶媒が挙げられるが、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、メタノール、エタノール等が好ましい。またこの反応は、接触水素添加法によっても行われる。触媒としてはパラジウム炭素、白金炭素、水酸化パラジウム、パラジウムブラックなどを挙げることができる。溶媒としては非反応性の溶媒が挙げられるが、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、メタノール、エタノール、水等が好ましい。反応は０℃〜２００℃の反応温度、水素圧は常圧又は加圧下で行われる。
＜方法３＞
一般式（Ｉ）において、Ｘが−ＣＨ＝ＣＨ−（該連結基上の水素原子は置換されていてもよい）で表される化合物は、例えば、反応工程式３−１、又は反応工程式３−２に示す方法によって製造することができる。
反応工程式３−１
2003103656.tif 000057
（式中、環Ｚ及びＥは、一般式（Ｉ）における定義と同意義であり、Ｗ３０１は、Ｏ，Ｏ’−ジ−炭化水素−フォースフォーノ基又はトリアリールフォースフォーニウム基を表す）
アルデヒド（９−１）とリン化合物（１０−１）とを脱水縮合させることにより、目的化合物である（１１）を製造することができる。この反応は、塩基存在下、溶媒中で０℃〜溶媒沸点の反応温度で行われる。塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基、あるいはピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等の有機塩基が挙げられる。溶媒としては、非反応性の溶媒が挙げられるが、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、メタノール、エタノール、水等が好ましい。
反応工程式３−２
2003103656.tif 000058
（式中、Ｅは、一般式（Ｉ）における定義と同意義であり、Ｗ３０２は、ハロゲン原子（好ましくは沃素原子、臭素原子）、（トリフルオロメタンスルフォーニル）オキシ基などを表す）
ハロゲン化物（９−２）とスチレン誘導体（１０−２）とを遷移金属錯体触媒の存在下、カップリング反応させることにより、目的化合物である（１１）を製造することができる。この反応は、遷移金属錯体触媒の存在下、配位子及び／又は塩基の存在又は非存在下、溶媒中で０℃〜溶媒沸点の反応温度で行われる。遷移金属錯体触媒としては、例えば、酢酸パラジウム、ジクロロビス（トリフェニルフォースフィン）パラジウム等のパラジウム系触媒が挙げられる。配位子としては、例えば、トリフェニルフォースフィン等のフォースフィン系配位子が挙げられる。塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基、あるいはピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等の有機塩基が挙げられる。溶媒としては、非反応性の溶媒が挙げられるが、Ｎ，Ｎ−ジメチルフォールムアミド、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等が好ましい。
＜方法４＞
一般式（Ｉ）において、Ｘが−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−及び−ＣＯＣＨ２ＣＨ２−（該連結基上の水素原子は置換されていてもよい）で表される化合物は、例えば、反応工程式４に示す方法によって製造することができる。
反応工程式４
2003103656.tif 000059
（式中、環Ｚ及びＥは、一般式（Ｉ）における定義と同意義である）
まず、ケトン（１２）とアルデヒド（１３）とを脱水縮合させることにより、目的化合物であるエノン（１４）を製造することができる。この反応は、塩基の存在下、溶媒中で０℃〜溶媒沸点の反応温度で行われる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基、あるいはピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等の有機塩基が挙げられる。非反応性の溶媒が挙げられるが、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、メタノール、エタノール、水等が好ましい。
次いで、エノン（１４）を還元することにより目的化合物である（１５）を製造することができる。この反応は、還元剤の存在下に溶媒中で０℃〜１００℃の反応温度で行われる。還元剤としては水素化フォー素ナトリウム、水素化フォー素リチウムなどを挙げることができる。溶媒としては非反応性の溶媒が挙げられるが、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、メタノール、エタノール等が好ましい。またこの反応は、接触水素添加法によっても行われる。触媒としてはパラジウム炭素、白金炭素、水酸化パラジウム、パラジウムブラックなどを挙げることができる。溶媒としては非反応性の溶媒が挙げられるが、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、メタノール、エタノール、水等が好ましい。反応は０℃〜２００℃の反応温度、水素圧は常圧又は加圧下で行われる。
＜方法５＞
一般式（Ｉ）において、Ｘが−ＮＨＣＯＮＨ−（該連結基上の水素原子は置換されていてもよい）で表される化合物は、例えば、反応工程式５に示す方法によって製造することができる。
反応工程式５
2003103656.tif 000060
（式中、環Ｚ及びＥは、一般式（Ｉ）における定義と同意義である）
まず、アミン（１６）とイソシアネート（１７）とを反応させることにより、目的化合物であるウレア（１８）を製造することができる。この反応は、塩基の存在又は非存在下、溶媒中で０℃〜溶媒沸点の反応温度で行われる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基、あるいはピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等の有機塩基が挙げられる。非反応性の溶媒が挙げられるが、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、メタノール、エタノール、水等が好ましい。上記各方法で得られたヒドロキシアリール誘導体（１９）（一般式（Ｉ）においてＡが水素原子を表す化合物）を、アシル化又はアルキル化することにより、最終目的物である、一般式（Ｉ）においてＡが置換基を有していてもよいアシル基（ただし、無置換のアセチル基及び無置換のアクリロイル基を除く）、又は置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ６のアルキル基を表すか、あるいは連結基Ｘと結合して置換基を有していてもよい環構造を形成する化合物を製造することができる（反応工程式６）。
反応工程式６
2003103656.tif 000061
（式中、Ａ、Ｘ、及びＥは、一般式（Ｉ）における定義と同意義である）
ヒドロキシアリール誘導体（１９）のアシル化及びアルキル化反応は、種々の公知の方法を用いることができる。
アシル化反応としては、例えば、カルボン酸との脱水縮合反応、カルボン酸の酸ハロゲン化物、カルボン酸無水物、スルフォーン酸の酸ハロゲン化物、スルフォーン酸無水物、リン酸の酸ハロゲン化物、又はリン酸無水物などとの置換反応、イソシアネート、イソチオシアネート、三酸化硫黄などとの付加反応などが挙げられ、アルキル化反応としては、例えば、ハロゲン化アルキルとの置換反応などが挙げられる。
ヒドロキシアリール誘導体（１９）とカルボン酸との脱水縮合反応は、酸ハロゲン化剤又は脱水縮合剤の存在下、塩基の存在又は非存在下、無溶媒又は非プロトン性溶媒中０℃〜１８０℃の反応温度で行われる。酸ハロゲン化剤としては、例えば、塩化チオニル、臭化チオニル、塩化スルフリル、オキシ塩化リン、三塩化リン、五塩化リンなどを挙げることができる。脱水縮合剤としては、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、ジフェニルフォースフォーリルアジドなどを挙げることができる。塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基、あるいはピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等の有機塩基が挙げられる。非プロトン性溶媒としてはジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロフォールム、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ベンゼン、トールエン、モノクロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジメチルフォールムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどを挙げることができ、酸ハロゲン化剤の存在下に反応を行う場合には、特に、トールエン、モノクロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼンが好ましい。
ヒドロキシアリール誘導体（１９）とカルボン酸の酸ハロゲン化物、カルボン酸無水物、スルフォーン酸の酸ハロゲン化物、スルフォーン酸無水物、リン酸の酸ハロゲン化物、又はリン酸無水物などとの置換反応は、塩基の存在又は非存在下、無溶媒又は非プロトン性溶媒中−５０℃〜１８０℃の反応温度で行われる。塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基、あるいはピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等の有機塩基が挙げられる。非プロトン性溶媒としてはジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロフォールム、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ベンゼン、トールエン、モノクロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジメチルフォールムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどを挙げることができる。
例えば、一般式（Ｉ）において、Ａが（モルフォーリン−４−イル）カルボニル基である化合物は、ヒドロキシアリール誘導体（１９）と（モルフォーリン−４−イル）カルボニルクロリドを、トリエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジンの存在下、テトラヒドロフラン中で反応させることにより製造することができる。
一般式（Ｉ）において、Ａがジベンジルフォースフォーノ基である化合物は、ヒドロキシアリール誘導体（１９）と亜リン酸ジベンジルを、ジイソプロピルエチルアミン、４−ジメチルアミノピリジンの存在下、四塩化炭素中で反応させることにより製造することができる。
一般式（Ｉ）において、Ａがスルフォー基である化合物は、ヒドロキシアリール誘導体（１９）と三酸化イオウ−ピリジン複合体を、ピリジン中で反応させることにより製造することができる。
また、Ｘが−ＣＯＮＨ−基であるヒドロキシアリール誘導体（１９）とクロロギ酸エチルを、ピリジン中加熱還流すると、環Ｚ上のヒドロキシ基と−ＣＯＮＨ−がカルボニル基を介して結合した化合物を得ることができる。
ヒドロキシアリール誘導体（１９）とイソシアネート、イソチオシアネート、三酸化硫黄などとの付加反応は、塩基の存在又は非存在下、無溶媒又は非プロトン性溶媒中−５０℃〜１８０℃の反応温度で行われる。塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基、あるいはピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等の有機塩基が挙げられる。非プロトン性溶媒としてはジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロフォールム、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ベンゼン、トールエン、モノクロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジメチルフォールムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどを挙げることができる。
ヒドロキシアリール誘導体（１９）とハロゲン化アルキルとの置換反応は、塩基の存在又は非存在下、無溶媒又は非プロトン性溶媒中−５０℃〜１８０℃の反応温度で行われる。塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基、あるいはピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン等の有機塩基が挙げられる。非プロトン性溶媒としてはジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロフォールム、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ベンゼン、トールエン、モノクロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジメチルフォールムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどを挙げることができる。上記ヒドロキシアリール誘導体（１９）を用いた各反応においては、（１９）を一旦、ナトリウム塩、カリウム塩などの金属塩に変換してから各反応を行うこともできる。
こうして製造された一般式（Ｉ）で表される化合物が保護基を有する場合及び／又は官能基修飾に有利な置換基（例えば、アミノ基及びその保護体若しくは前駆体；カルボキシ基及びその保護体若しくは前駆体；ヒドロキシ基及びその保護体若しくは前駆体など）を有する場合、脱保護反応及び／又は官能基修飾反応を行うことができる。該反応は、種々の公知の方法を用いることができ、脱保護反応及び官能基修飾反応としては、例えば、セオドラ・Ｗ．・グリーン（Ｔｈｅｏｄｏｒａ  Ｗ．Ｇｒｅｅｎ），ピーター・Ｇ．・Ｍ．・ブッツ（Ｐｅｔｅｒ  Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ）編「プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシズ（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ）」，（米国），第３版，ジョン・ウィリー・アンド・サンズ・インク（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．），１９９９年４月；「ハンドブック・オブ・リエージェンツ・フォー・オーガニック・シンセシス（Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｒｅａｇｅｎｔｓ  ｆｏｒ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）」，（米国），全４巻，ジョン・ウィリー・アンド・サンズ・インク（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．），１９９９年６月，等に記載の方法を；官能基修飾反応としては、例えば、リチャード・Ｆ．・ヘック（Ｒｉｃｈａｒｄ  Ｆ．Ｈｅｃｋ）著「パラジウム・リエージェンツ・イン・オーガニック・シンセシス（Ｐａｌｌａｄｉｕｍ  Ｒｅａｇｅｎｔｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｅｓ）」，（米国），アカデミック・プレス（Ａｃａｄｅｍｉｃ  Ｐｒｅｓｓ），１９８５年；辻二郎（Ｊ．Ｔｓｕｊｉ）著「パラジウム・リエージェンツ・アンド・カタリスツ：イノベーションズ・イン・オーガニック・シンセシス（Ｐａｌｌａｄｉｕｍ  Ｒｅａｇｅｎｔｓ  ａｎｄ  Ｃａｔａｌｙｓｔｓ：Ｉｎｎｏｖａｔｉｏｎｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）」，（米国），ジョン・ウィリー・アンド・サンズ・インク（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，Ｉｎｃ．），１９９９年，等に記載の方法を用いることができる。
また、上記一般式（Ｉ−１）で表される化合物も、上記一般式（Ｉ）と同様に製造することができる。
以上のような方法で製造された一般式（Ｉ）及び（Ｉ−１）で表される化合物は、当業者に周知の方法、例えば、抽出、沈殿、分画クロマトグラフィー、分別結晶化、懸濁洗浄、再結晶などにより、単離、精製することができる。また、本発明化合物の薬理学的に許容される塩、並びにそれらの水和物及び溶媒和物も、それぞれ当業者に周知の方法で製造することができる。
なお、本明細書の実施例には、一般式（Ｉ）及び（Ｉ−１）に包含される代表的化合物の製造方法が具体的に説明されている。従って、当業者は、上記の一般的な製造方法の説明及び実施例の具体的製造方法の説明を参照しつつ、適宜の反応原料、反応試薬、反応条件を選択し、必要に応じてこれらの方法に適宜の修飾ないし改変を加えることによって、一般式（Ｉ）及び（Ｉ−１）に包含される化合物をいずれも製造可能である。
一般式（Ｉ）及び（Ｉ−１）で示される本発明の化合物は、ＮＦ−κＢ活性化阻害作用及び炎症性サイトカイン産生遊離抑制作用を有しており、ＮＦ−κＢ活性化阻害剤及び炎症性サイトカイン産生遊離抑制剤などの医薬の有効成分として有用である。上記の医薬は、腫瘍壊死因子（ＴＮＦ）、インターロイキン−１、インターロイキン−２、インターロイキン−６、インターロイキン−８、顆粒球コロニー刺激因子、インターフェロンβ、細胞接着因子であるＩＣＡＭ−１やＶＣＡＭ−１及びＥＬＡＭ−１、ニトリックオキシド合成酵素、主要組織適合抗原系クラスＩ、主要組織適合抗原系クラスＩＩ、β２−マイクログロブリン、免疫グロブリン軽鎖、血清アミロイドＡ、アンジオテンシノーゲン、補体Ｂ、補体Ｃ４、ｃ−ｍｙｃ、ＨＩＶの遺伝子由来の転写産物、ＨＴＬＶ−１の遺伝子由来の転写産物、シミアンウィリールス４０の遺伝子由来の転写産物、サイトメガロウィリールスの遺伝子由来の転写産物、及びアデノウィリールスの遺伝子由来の転写産物からなる群より選ばれる１又は２以上の物質の遺伝子の発現抑制剤として好適に用いることができる。また、上記の医薬は、ＮＦ−κＢ活性化に起因する疾患及び炎症性サイトカイン産生過剰に起因する疾患の予防及び／又は治療のための医薬として有用である。
一般式（Ｉ）及び（Ｉ−１）で示される本発明の化合物は、他のシグナル伝達経路に影響を及ぼさずに、つまり重篤な副作用を示さずに目的とする炎症性サイトカインの産生遊離抑制作用及び炎症性細胞接着分子の産生抑制を示す。外界刺激によりＮＦ−κＢ活性化がおこり炎症性サイトカインなどのタンパク質が発現するが、例えば、炎症性サイトカインの中でも特にＴＮＦ−αとインターロイキン（ＩＬ）−１はその遺伝子発現自体がＮＦ−κＢによって正に制御されて正のフィードバック・ループ［ＴＮＦ−α→ＮＦ−κＢ→ＴＮＦ−α］を構成し、炎症の慢性化の一端を担うものと考えられている（第１８回日本炎症学会、シンポジウム「抗リウマチ薬の作用機序と新しい展開」、東京、２０００年）。従って、本発明の化合物は慢性化した炎症性疾患並びにＴＮＦ−α、ＩＬ−１により引き起こされる疾患に対して極めて有効性の高い医薬として用いることができる。
より具体的には、本発明の医薬は、次に示すようなＮＦ−κＢの活性化及び／又は炎症性サイトカインが関与していると考えられる疾患、例えば慢性関節リウマチ、変形性関節症、全身性エリテマトーデス、全身性強皮症、多発性筋炎、シェーグレン症候群、血管炎症候群、抗リン脂質抗体症候群、スティル病、ベーチェット病、結節性動脈周囲炎、潰瘍性大腸炎、クローン病、活動性慢性肝炎、糸球体腎炎などの自己免疫疾患、慢性腎炎、慢性膵炎、痛風、アテローム硬化症、多発性硬化症、動脈硬化、血管内膜肥厚、乾癬、乾癬性関節炎、接触性皮膚炎、アトピー性皮膚炎、花粉症等のアレルギー疾患、喘息、気管支炎、間質性肺炎、肉芽腫を伴う肺疾患、慢性閉塞性肺疾患、慢性肺血栓塞栓症、炎症性大腸炎、インスリン抵抗性、肥満症、糖尿病とそれに伴う合併症（腎症、網膜症、神経症、高インスリン血症、動脈硬化、高血圧、末梢血管閉塞等）、高脂血症、網膜症等の異常血管増殖を伴った疾患、肺炎、アルツハイマー症、脳脊髄炎、急性肝炎、慢性肝炎、薬物中毒性肝障害、アルコール性肝炎、ウィリールス性肝炎、黄疸、肝硬変、肝不全、心房粘液腫、キャッスルマン症候群、メサンギウム増殖性腎炎、腎臓癌、肺癌、肝癌、乳癌、子宮癌、膵癌、その他の固形癌、肉腫、骨肉腫、癌の転移浸潤、炎症性病巣の癌化、癌性悪液質、癌の転移、急性骨髄芽球性白血病等の白血病、多発性骨髄腫、レンネルトリンパ腫、悪性リンパ腫、癌の抗癌剤耐性化、ウィリールス性肝炎および肝硬変等の病巣の癌化、大腸ポリープからの癌化、脳腫瘍、神経腫瘍、サルコイドーシス、エンドトキシンショック、敗血症、サイトメガロウィリールス性肺炎、サイトメガロウィリールス性網膜症、アデノウィリールス性感冒、アデノウィリールス性プール熱、アデノウィリールス性眼炎、結膜炎、エイズ、ぶどう膜炎、その他バクテリア・ウィリールス・真菌等感染によって惹起される疾患または合併症、全身炎症症候群等の外科手術後の合併症、経皮的経管的冠状動脈形成術後の再狭窄、虚血再灌流障害等の血管閉塞開通後の再灌流障害、心臓または肝臓または腎臓等の臓器移植後拒絶反応及び再灌流障害、掻痒、歯周病、食欲不振、倦怠感、慢性疲労症候群などの疾患の予防及び／又は治療に有用である。また、炎症性サイトカインならびにＮＦ−κＢが破骨細胞の分化と活性化に関与していることから、本発明の医薬は、骨粗鬆症、骨癌性疼痛等の代謝性骨疾患などの予防及び／又は治療にも有用である。移植前臓器保存時の臓器の劣化を防ぐ用途にも利用可能である。
本発明の医薬の有効成分としては、一般式（Ｉ）及び（Ｉ−１）で表される化合物及び薬理学的に許容されるそれらの塩、並びにそれらの水和物及びそれらの溶媒和物からなる群から選ばれる物質の１種又は２種以上を用いることができる。
本発明の医薬としては上記の物質自体を用いてもよいが、好適には、本発明の医薬は有効成分である上記の物質と１又は２以上の薬学的に許容される製剤用添加物とを含む医薬組成物の形態で提供される。上記医薬組成物において、製剤用添加物に対する有効成分の割合は、１重量％から９０重量％程度である。一般式（Ｉ）及び（Ｉ−１）で表される化合物のうちの一部の化合物は、経口投与により血中に移行した後、血中のエステラーゼなどの作用により加水分解などの化学的修飾を受けて、ＮＦ−κＢ活性化阻害作用を有する別の化合物に変化する。このような性質を有する化合物はいわゆる「プロドラッグ」として利用可能であるが、上記の使用形態が本発明の範囲に包含されることは言うまでもない。
本発明の医薬は、例えば、顆粒剤、細粒剤、散剤、硬カプセル剤、軟カプセル剤、シロップ剤、乳剤、懸濁剤、又は液剤などの経口投与用の医薬組成物として投与してもよいし、静脈内投与、筋肉内投与、若しくは皮下投与用の注射剤、点滴剤、坐剤、経皮吸収剤、経粘膜吸収剤、点鼻剤、点耳剤、点眼剤、吸入剤などの非経口投与用の医薬組成物として投与することもできる。粉末の形態の医薬組成物として調製された製剤を用時に溶解して注射剤又は点滴剤として使用してもよい。医薬用組成物の製造には、固体又は液体の製剤用添加物を用いることができる。製剤用添加物は有機又は無機のいずれであってもよい。すなわち、経口用固形製剤を製造する場合は、主薬に賦形剤、さらに必要に応じて結合剤、崩壊剤、滑沢剤、着色剤、矯味矯臭剤などを加えた後、常法により錠剤、被覆錠剤、顆粒剤、散剤、カプセル剤などの形態の製剤を調製することができる。用いられる賦形剤としては、例えば、乳糖、蔗糖、白糖、ブドウ糖、コーンスターチ、デンプン、タルク、ソルビット、結晶セルロース、デキストリン、カオリン、炭酸カルシウム、二酸化ケイ素などを挙げることができる。結合剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルエーテル、エチルセルロース、メチルセルロース、アラビアゴム、トラガント、ゼラチン、シェラック、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、クエン酸カルシウム、デキストリン、ペクチンなどを挙げることができる。滑沢剤としては、例えば、ステアリン酸マグネシウム、タルク、ポリエチレングリコール、シリカ、硬化直物油などを挙げることができる。着色剤としては、通常医薬品に添加することが許可されているものであればいずれも使用することができる。矯味矯臭剤としては、ココア末、ハッカ脳、芳香酸、ハッカ油、龍脳、桂皮末などを使用することができる。これらの錠剤、顆粒剤には、糖衣、ゼラチン衣、その他必要により適宜コーテイングを付することができる。また、必要に応じて、防腐剤、抗酸化剤等を添加することができる。
経口投与のための液体製剤、例えば、乳剤、シロップ剤、懸濁剤、液剤の製造には、一般的に用いられる不活性な希釈剤、例えば水又は植物油を用いることができる。この製剤には、不活性な希釈剤以外に、補助剤、例えば湿潤剤、懸濁補助剤、甘味剤、芳香剤、着色剤又は保存剤を配合することができる。液体製剤を調製した後、ゼラチンのような吸収されうる物質のカプセル中に充填してもよい。非経口投与用の製剤、例えば注射剤又は坐剤等の製造に用いられる溶剤又は懸濁剤としては、例えば、水、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ベンジルアルコール、オレイン酸エチル、レシチンを挙げることができる。坐剤の製造に用いられる基剤としては、例えば、カカオ脂、乳化カカオ脂、ラウリン脂、ウィリーテップゾールを挙げることができる。製剤の調製方法は特に限定されず、当業界で汎用されている方法はいずれも利用可能である。
注射剤の形態にする場合には、担体として、例えば、水、エチルアルコール、マクロゴール、プロピレングリコール、クエン酸、酢酸、リン酸、乳酸、乳酸ナトリウム、硫酸及び水酸化ナトリウム等の希釈剤；クエン酸ナトリウム、酢酸ナトリウム及びリン酸ナトリウム等のｐＨ調整剤及び緩衝剤；ピロ亜硫酸ナトリウム、エチレンジアミン四酢酸、チオグリコール酸及びチオ乳酸等の安定化剤等が使用できる。なお、この場合、等張性の溶液を調製するために十分な量の食塩、ブドウ糖、マンニトール又はグリセリンを製剤中に配合してもよく、通常の溶解補助剤、無痛化剤又は局所麻酔剤等を使用することもできる。
軟膏剤、例えば、ペースト、クリーム及びゲルの形態にする場合には、通常使用される基剤、安定剤、湿潤剤及び保存剤等を必要に応じて配合することができ、常法により成分を混合して製剤化することができる。基剤としては、例えば、白色ワセリン、ポリエチレン、パラフィン、グリセリン、セルロース誘導体、ポリエチレングリコール、シリコン及びベントナイト等を使用することができる。保存剤としては、パラオキシ安息香酸メチル、パラオキシ安息香酸エチル、パラオキシ安息香酸プロピル等を使用することができる。貼付剤の形態にする場合には、通常の支持体に上記軟膏、クリーム、ゲル又はペースト等を常法により塗布することができる。支持体としては、綿、スフ及び化学繊維からなる織布又は不織布；軟質塩化ビニル、ポリエチレン及びポリウレタン等のフィルム又は発泡体シートを好適に使用できる。
本発明の医薬の投与量は特に限定されないが、経口投与の場合には、成人一日あたり有効成分である上記物質の重量として通常０．０１〜５，０００ｍｇである。この投与量を患者の年令、病態、症状に応じて適宜増減することが好ましい。前記一日量は一日に一回、又は適当な間隔をおいて一日に２〜３回に分けて投与してもよいし、数日おきに間歇投与してもよい。注射剤として用いる場合には、成人一日あたり有効成分である上記物質の重量として０．００１〜１００ｍｇ程度である。
実施例
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲は下記の実施例に限定されることはない。実施例中、化合物番号は上記の表において示した化合物の番号と対応させてある。また、本実施例中には、市販の試薬を購入しそのまま試験に供した化合物が含まれる。そのような化合物については、試薬の販売元及びカタログに記載されているコード番号を示す。
例１：化合物番号１の化合物の製造
（１）５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド
５−クロロサリチル酸（６．９０ｇ，４０ｍｍｏｌ）、３，５−ビス（トリフルオロメチル）アニリン（９．１６ｇ，４０ｍｍｏｌ）、三塩化リン（１．７４ｍＬ，２０ｍｍｏｌ）、トールエン（８０ｍＬ）の混合物を、アルゴン雰囲気下、３時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却後、酢酸エチル（２４０ｍＬ）で希釈し、水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製して、標題化合物の微黄色固体（１３．１２ｇ，８５．５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．８５（１Ｈ，ｓ），７．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．４５（２Ｈ，ｓ），１０．８５（１Ｈ，ｓ），１１．３９（１Ｈ，ｓ）．
この化合物は、反応溶媒としてトールエンのかわりにモノクロロベンゼンを用いても得ることができた（収率：８５．５％）。
以下の実施例において例１（１）の方法が引用されている場合、酸ハロゲン化剤としては、三塩化リンを用いた。また、反応溶媒としては、モノクロロベンゼン、トールエン等の溶媒を用いた。
（２）５−クロロ−２−ピバロイルオキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号１）
６０％水素化ナトリウム（２１．８ｍｇ，０．５５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３ｍＬ）懸濁液に、氷浴下、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（０．２０ｇ，０．５２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３ｍＬ）溶液を加え、５分間攪拌した。次いでピバロイルクロリド（７１μＬ，０．５７ｍｍｏｌ）を加え１０分間攪拌した。反応混合物を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をイソプロピルエーテル／ｎ−ヘキサンで懸濁洗浄して、標題化合物の白色結晶（１９５ｍｇ，８０．２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  １．２１（９Ｈ，ｓ），７．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．３６（２Ｈ，ｓ），１１．１０（１Ｈ，ｓ）．
例２：化合物番号２の化合物の製造
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物；２００ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）、吉草酸（８０ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５ｍＬ）溶液に、アルゴン雰囲気下、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（以下、ＷＳＣ・ＨＣｌと略す；１５０ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝６：１）で精製して、標題化合物の白色粉末（２５０ｍｇ，１００％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ０．８９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），１．３８（２Ｈ，ｓｅｘｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），１．７０（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．６２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｓ），７．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．０７（２Ｈ，ｓ），８．４９（１Ｈ，ｂｒｓ）．
例３：化合物番号３の化合物の製造
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物；１００ｍｇ，０．２６１ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（５０μＬ，０．３５９ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルフォールムアミド（１．５ｍＬ）溶液に、アルゴン雰囲気下、デカノイルクロリド（７０μＬ，０．３３９ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応混合物に水を加え酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製して、標題化合物の無色油状物（１２５ｍｇ，８９．３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ０．８７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．２１−１．３３（１２Ｈ，ｍ），１．６５−１．７５（２Ｈ，ｍ），２．６１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｓ），７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．０９（２Ｈ，ｓ），８．３８（１Ｈ，ｓ）．
例４：化合物番号４の化合物の製造
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物；１９２ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）、ピリジン（４７ｍｇ，０．６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５ｍＬ）溶液に、氷冷下、ベンゾイルクロリド（６４μＬ，０．５５ｍｍｏｌ）を加え、次いで室温で２時間攪拌した。反応混合物に２規定塩酸（１ｍＬ）及び水（５０ｍＬ）を加え酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ジクロロメタン：メタノール＝９５：５）で精製して、標題化合物の微黄色固体（２２６ｍｇ，９２．７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．５３−７．５８（３Ｈ，ｍ），７．７０−７．７６（１Ｈ，ｍ），７．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，３．０Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｓ），７．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．０７−８．１０（２Ｈ，ｍ），８．２５（２Ｈ，ｓ），１１．１３（１Ｈ，ｓ）．
例５：化合物番号５の化合物の製造
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物；０．２０ｇ，０．５２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５ｍＬ）に溶解し、Ｏ−アセチルサリチロイルクロリド（０．１２４ｇ，０．６２ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．２ｍＬ，１．４３ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間攪拌した。反応混合物を希塩酸にあけ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製、イソプロピルエーテル／ｎ−ヘキサンで懸濁洗浄して、標題化合物の白色粉末（２３６．７ｍｇ，８３．４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ２．１３（３Ｈ，ｓ），７．２９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．２Ｈｚ），７．４５（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝７．８，１．２Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝８．４，１．８Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．４Ｈｚ），７．８２（１Ｈ，ｓ），７．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８，１．５Ｈｚ），８．２９（２Ｈ，ｓ），１１．１２（１Ｈ，ｓ）．
例６：化合物番号６の化合物の製造
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物；１００ｍｇ，０．２６１ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルフォールムアミド（１．５ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（８０μＬ，０．５４７ｍｍｏｌ）、ニコチン酸クロリド塩酸塩（４９２ｍｇ，０．２７４ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製して、標題化合物の白色固体（１２０ｍｇ，９４．５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６２（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝８．１，４．８，０．９Ｈｚ），７．８１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．８１（１Ｈ，ｓ），７．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．２６（２Ｈ，ｓ），８．４３（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝８．１，２．１，１．５Ｈｚ），８．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，１．５Ｈｚ），９．２３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，０．９Ｈｚ），１１．１６（１Ｈ，ｓ）．
例７：化合物番号７の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びイソニコチン酸クロリド塩酸塩を用いて例６と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：５５．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．８１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．８２（１Ｈ，ｓ），７．９６（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５，１．８Ｈｚ），７．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．２６（２Ｈ，ｓ），８．８５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５，１．８Ｈｚ），１１．１６（１Ｈ，ｓ）．
例８：化合物番号８の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びフェニルアセチルクロリドを用いて例３と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：７１．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ３．８９（２Ｈ，ｓ），７．０３−７．０９（１Ｈ，ｍ），７．１２−７．１７（３Ｈ，ｍ），７．２２−７．２７（３Ｈ，ｍ），７．５１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，３．０Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｓ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），７．８２（２Ｈ，ｓ），７．９１（１Ｈ，ｓ）．
例９：化合物番号９の化合物の製造
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物；０．２０ｇ，０．５２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５ｍＬ）溶液に、３，４−メチレンジオキシフェニル酢酸（１０３．１ｍｇ，０．５７ｍｍｏｌ）、ＷＳＣ・ＨＣｌ（０．１３ｇ，０．６８ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（１０ｍｇ）を加え、５時間攪拌した。反応混合物を希塩酸にあけ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製して、標題化合物の白色結晶（２２８．３ｍｇ，８０．４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ３．８３（２Ｈ，ｓ），５．８９（２Ｈ，ｓ），６．５６−６．７３（２Ｈ，ｍ），６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ），７．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．３２（２Ｈ，ｓ），１１．０１（１Ｈ，ｓ）．
例１０：化合物番号１０の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びメトキシ酢酸を用いて例９と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：６３．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ３．５５（３Ｈ，ｓ），４．３８（２Ｈ，ｓ），７．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．７Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｓ），８．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．２２（２Ｈ，ｓ），９．２８（１Ｈ，ｓ）．
例１１：化合物番号１１の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びアセチルオキシアセチルクロリドを用いて例３と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：５２．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ２．１８（３Ｈ，ｓ），４．８４（２Ｈ，ｓ），７．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．７Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｓ），７．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．１７（２Ｈ，ｓ），８．３１（１Ｈ，ｓ）．
例１２：化合物番号１２の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びフェノキシアセチルクロリドを用いて例３と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：５２．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ４．９４（２Ｈ，ｓ），６．８９−７．０２（３Ｈ，ｍ），７．２１−７．２９（３Ｈ，ｍ），７．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｓ），７．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．１０（２Ｈ，ｓ），８．６３（１Ｈ，ｓ）．
例１３：化合物番号１３の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及び４−クロロフェノキシ酢酸を用いて例９と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：３４．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ４．９１（２Ｈ，ｓ），６．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．１Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｓ），７．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．０８（２Ｈ，ｓ），８．４２（１Ｈ，ｓ）．
例１４：化合物番号１４の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及び２，３−ジクロロフェノキシ酢酸を用いて例９と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：１０．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ４．９９（２Ｈ，ｓ），６．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，１．５Ｈｚ），７．０３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，１．５Ｈｚ），７．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．４Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｓ），７．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．０８（２Ｈ，ｓ），８．４９（１Ｈ，ｓ）．
例１５：化合物番号１５の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及び２−フェノキシプロピオニルクロリドを用いて例３と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８０．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．７４（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），５．０２（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），６．８６−６．９６（３Ｈ，ｍ），７．１６−７．２３（３Ｈ，ｍ），７．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｓ），７．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．１１（２Ｈ，ｓ），８．７５（１Ｈ，ｓ）．
例１６：化合物番号１６の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及び２−（４−クロロフェノキシ）イソ酪酸を用いて例９と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９５．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．６９（６Ｈ，ｓ），６．７７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．５９（１Ｈ，ｓ），８．０７（２Ｈ，ｓ），８．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），９．１３（１Ｈ，ｓ）．
例１７：化合物番号１７の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びマロン酸  モノｔｅｒｔ−ブチルエステルを用いて例２と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：２９．２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．４２（９Ｈ，ｓ），３．６５（２Ｈ，ｓ），７．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｂｒｓ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．２５（２Ｈ，ｓ），９．０７（１Ｈ，ｂｒｓ）．
例１８：化合物番号１８の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びコハク酸  モノベンジルエステルを用いて例２と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９９．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ２．８１−２．９３（４Ｈ，ｍ），５．０９（２Ｈ，ｓ），７．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２７−７．３４（５Ｈ，ｍ），７．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｓ），７．８８（１Ｈ，ｍ），８．２０（２Ｈ，ｓ），８．５８（１Ｈ，ｂｒｓ）．
例１９：化合物番号１９の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びコハク酸  モノピペリジンアミドを用いて例２と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９７．５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．４５−１．６７（６Ｈ，ｍ），２．７７−２．８９（４Ｈ，ｍ），３．３９−３．４９（４Ｈ，ｍ），７．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．６２（１Ｈ，ｓ），８．０４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７，０．６Ｈｚ），８．３８（２Ｈｓ），９．７３（１Ｈ，ｓ）．
例２０：化合物番号２０の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びＮ−アセチルグリシンを用いて例２と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９５．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ２．０４（３Ｈ，ｓ），４．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），６．１７（１Ｈ，ｍ），７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．６１（１Ｈ，ｂｒｓ），７．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．２４（２Ｈ，ｓ），８．７８（１Ｈ，ｂｒｓ）．
例２１：化合物番号２１の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びＮ−（ベンジルオキシカルボニル）グリシンを用いて例９と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：７４．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ４．１９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），５．１２（２Ｈ，ｓ），５．３６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．３２（５Ｈ，ｓ），７．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｓ），７．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．２１（２Ｈ，ｓ），８．４０（１Ｈ，ｓ）．
例２２：化合物番号２２の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びＮ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）グリシンを用いて例２と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：７０．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．４１（９Ｈ，ｓ），４．１０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），５．１６（１Ｈ，ｂｒｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｓ），７．８９（１Ｈ，ｓ），８．２３（２Ｈ，ｓ），８．７４（１Ｈ，ｂｒｓ）．
例２３：化合物番号２３の化合物の製造
２−［Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）グリシル］オキシ−５−クロロ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号２２；１４６ｍｇ，０．２７ｍｍｏｌ）に４規定塩化水素／酢酸エチル溶液（８ｍＬ）を加え、室温で１時間攪拌した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をｎ−ヘキサン／酢酸エチルで晶析して、標題化合物の白色粉末（１１０．７ｍｇ，８５．９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ４．０９（２Ｈ，ｂｒｓ），７．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，１．８Ｈｚ），７．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．８８（１Ｈ，ｓ），８．０１（１Ｈ，ｄ，２．７Ｈｚ），８．４１（２Ｈ，ｓ），８．４４−８．６２（３Ｈ，ｂｒｓ），１１．２１（１Ｈ，ｂｒｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）．
例２４：化合物番号２４の化合物の製造
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物；０．２０ｇ，０．５２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３ｍＬ）溶液に、Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−バリン（１３５．８ｍｇ，０．６２ｍｍｏｌ）、ＷＳＣ・ＨＣｌ（０．２０ｇ，１．０４ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（１０ｍｇ）、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン（１．５ｍＬ）を加え、室温で１．５時間攪拌した。反応混合物を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製して、標題化合物の白色固体（２７７．２ｍｇ，９１．４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．０６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．１１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．３７（９Ｈ，ｓ），２．２４（１Ｈ，ｍ），４．１６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），５．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），７．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｓ），８．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．２６（２Ｈ，ｓ），８．９６（１Ｈ，ｓ）．
例２５：化合物番号２５の化合物の製造
２−［Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−バリル］オキシ−５−クロロ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号２４；２２６．１ｍｇ，０．３９ｍｍｏｌ）に４規定塩化水素／酢酸エチル溶液（２ｍＬ）を加え、室温で１６時間攪拌した。溶媒を減圧留去し得られた残渣をイソプロピルエーテル／ｎ−ヘキサンで懸濁洗浄して、標題化合物の白色粉末（１９９．８ｍｇ，９３．６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ０．９９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），２．２６−２．３５（１Ｈ，ｍ），４．２０−４．２５（１Ｈ，ｍ），７．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．８７（１Ｈ，ｓ），７．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．３９（２Ｈ，ｓ），８．５４（３Ｈ，ｓ），１１．２１（１Ｈ，ｓ）．
例２６：化合物番号２６の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びＮ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−ロイシンを用いて例２４と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９６．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ０．９３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），０．９５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１．３７（９Ｈ，ｓ），１．５８−１．７９（３Ｈ，ｍ），４．３１−４．３８（１Ｈ，ｍ），４．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｓ），７．９９（１Ｈ，ｄ，ｄ＝２．７Ｈｚ），８．２７（２Ｈ，ｓ），８．９１（１Ｈ，ｓ）．
例２７：化合物番号２７の化合物の製造
原料として、２−［Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−ロイシル］オキシ−５−クロロ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号２６）を用いて例２５と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８９．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ０．７７−０．８１（６Ｈ，ｍ），１．６３（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．７３−１．８１（２Ｈ，ｍ），４．１８（１Ｈ，ｓ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．８８（１Ｈ，ｓ），７．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．４３（２Ｈ，ｓ），８．６９（１Ｈ，ｓ），１１．２８（１Ｈ，ｓ）．
例２８：化合物番号２８の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びＮ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−フェニルアラニンを用いて例２４と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９１．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．３２（９Ｈ，ｓ），３．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．６１（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝７．２，６．６Ｈｚ），５．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），６．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２３−７．３６（５Ｈ，ｍ），７．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，３．０Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｓ），８．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．２３（２Ｈ，ｓ），８．９１（１Ｈ，ｓ）．
例２９：化合物番号２９の化合物の製造
原料として、２−［Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−フェニルアラニル］オキシ−５−クロロ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号２８）を用いて例２５と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：７８．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ３．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．７，６．９Ｈｚ），３．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．７，６．９Ｈｚ），４．６０（１Ｈ，ｓ），７．２２−７．３５（６Ｈ，ｍ），７．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．８８（１Ｈ，ｓ），７．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．４１（２Ｈ，ｓ），８．６６（３Ｈ，ｓ），１１．２１（１Ｈ，ｓ）．
例３０：化合物番号３０の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びＮ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−アスパラギン酸  β−（ｔｅｒｔ−ブチル）エステルを用いて例２４と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８７．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．４２（９Ｈ，ｓ），１．４２（９Ｈ，ｓ），２．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１７．１，４．８Ｈｚ），３．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１７．１，４．８Ｈｚ），４．６７−４．７４（１Ｈ，ｍ），５．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．４Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｓ），８．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．３６（２Ｈ，ｓ），８．９３（１Ｈ，ｓ）．
例３１：化合物番号３１の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びＮ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−グルタミン酸  γ−（ｔｅｒｔ−ブチル）エステルを用いて例２４と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８３．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．３８（９Ｈ，ｓ），１．４１（９Ｈ，ｓ），２．０５−２．２６（２Ｈ，ｍ），２．４２−２．４８（２Ｈ，ｍ），４．３４−４．４１（１Ｈ，ｍ），５．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），７．２４−７．２７（１Ｈ，ｍ），７．５１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｓ），８．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．２８（２Ｈ，ｓ），９．０２（１Ｈ，ｓ）．
例３２：化合物番号３２の化合物の製造
原料として、２−［Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−γ−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチル）−α−Ｌ−グルタミル］オキシ−５−クロロ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号３１）を用いて例２５と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：７８．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）：δ  ２．１７−２．２９（１Ｈ，ｍ），２．３５−２．４７（１Ｈ，ｍ），２．６３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），４．３２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．３５−７．３８（１Ｈ，ｍ），７．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．７２（１Ｈ，ｓ），７．８９−７．９１（１Ｈ，ｍ），８．３２（２Ｈ，ｓ）．
例３３：化合物番号３３の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びＮα，Ｎε−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−リジンを用いて例２４と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８７．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．３８（９Ｈ，ｓ），１．４３（９Ｈ，ｓ），１．４６−１．４９（４Ｈ，ｍ），１．８８−１．９３（２Ｈ，ｍ），３．０３−３．１７（２Ｈ，ｍ），４．２７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．２，６．０Ｈｚ），４．５８−４．６２（１Ｈ，ｍ），５．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），７．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．７Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｓ），７．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．２８（２Ｈ，ｓ），９．０４（１Ｈ，ｓ）．
例３４：化合物番号３４の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−［Ｎα，Ｎε−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−リジル］オキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号３３）用いて例２５と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９５．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  １．５５（４Ｈ，ｂｒ  ｓ），１．９１−２．０２（２Ｈ，ｍ），２．７２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ），４．２３（１Ｈ，ｂｒ  ｓ），７．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．８７（１Ｈ，ｓ），８．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．０１（３Ｈ，ｂｒ  ｓ），８．４５（２Ｈ，ｓ），８．８８（３Ｈ，ｂｒ  ｓ），１１．３４（１Ｈ，ｓ）．
例３５：化合物番号３５の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びＮ−［Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−フェニルアラニル］−Ｌ−ロイシンを用いて例２４と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：３２．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ０．８７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），０．９０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１．３８（９Ｈ，ｓ），１．５４−１．７３（３Ｈ，ｍ），３．００（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．１，７．２Ｈｚ），３．０７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．８，６．９Ｈｚ），４．４４−４．５１（１Ｈ，ｍ），４．８８（１Ｈ，ｂｒ  ｓ），６．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．１２−７．２８（７Ｈ，ｍ），７．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｓ），７．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．３３（２Ｈ，ｓ），８．９６（１Ｈ，ｓ）．
例３６：化合物番号３６の化合物の製造
原料として、２−｛Ｎ−［Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−フェニルアラニル］−Ｌ−ロイシル｝オキシ−５−クロロ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号３５）を用いて例２５と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８４．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ０．７７（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１．５３−１．６７（３Ｈ，ｍ），２．９２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．１，８．１Ｈｚ），３．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４．４，５．４Ｈｚ），４．０６（１Ｈ，ｂｒ  ｓ），４．５１−４．５６（１Ｈ，ｍ），７．２３−７．２８（６Ｈ，ｍ），７．７５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｓ），７．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．２３（３Ｈ，ｓ），８．４０（２Ｈ，ｓ），９．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１１．２２（１Ｈ，ｓ）．
例３７：化合物番号３７の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びＮ−［Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−β−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチル）−α−Ｌ−アスパルチル］−Ｌ−ロイシンを用いて例２４と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：３１．２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ０．９０（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），０．９５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１．３７（９Ｈ，ｓ），１．４３（９Ｈ，ｓ），１．６９−１．７８（３Ｈ，ｍ），２．６０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１７．１，７．５Ｈｚ），２．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１７．１，４．５Ｈｚ），４．４５−４．５４（２Ｈ，ｍ），５．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２３−７．２７（１Ｈ，ｍ），７．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．４Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｓ），７．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．３０（２Ｈ，ｓ），８．９１（１Ｈ，ｓ）．
例３８：化合物番号３８の化合物の製造
原料として、２−｛Ｎ−［Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−β−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチル）−α−Ｌ−アスパルチル］−Ｌ−ロイシル｝オキシ−５−クロロ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号３７）を用いて例２５と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：７６．５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ０．７５（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．５３−１．６９（３Ｈ，ｍ），２．７２−２．８９（２Ｈ，ｍ），３．４９（２Ｈ，ｂｒ  ｓ），４．１４（１Ｈ，ｂｒ  ｓ），４．４３−４．５１（１Ｈ，ｍ），７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７０−７．７４（１Ｈ，ｍ），７．８７（１Ｈ，ｓ），７．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．３０（３Ｈ，ｓ），８．４２（２Ｈ，ｓ），９．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１１．２３（１Ｈ，ｓ）．
例３９：化合物番号３９の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びＮ−［Ｎα，Ｎε−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−リジル］−Ｌ−ロイシンを用いて例２４と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：４４．５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ０．９３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），０．９８（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１．３３−１．４０（５Ｈ，ｍ），１．４０（９Ｈ，ｓ），１．４４（９Ｈ，ｓ），１．７２−１．８５（４Ｈ，ｍ），２．８７−２．９３（２Ｈ，ｍ），４．０１−４．０７（１Ｈ，ｍ），４．５６−４．６１（２Ｈ，ｍ），５．２２（１Ｈ，ｂｒ  ｓ），６．６５（１Ｈ，ｂｒ  ｓ），７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｓ），７．８７（１Ｈ，ｓ），８．３３（２Ｈ，ｓ），９．５８（１Ｈ．ｓ）．
例４０：化合物番号４０の化合物の製造
原料として、２−｛Ｎ−［Ｎα，Ｎε−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−リジル］−Ｌ−ロイシル｝オキシ−５−クロロ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号３９）を用いて例２５と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８６．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ０．７３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），０．７６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１．４１−１．７９（９Ｈ，ｍ），２．６７−２．７６（２Ｈ，ｍ），３．８６（１Ｈ，ｂｒ  ｓ），４．４５−４．５１（１Ｈ，ｍ），７．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．８８（１Ｈ，ｓ），７．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．００（３Ｈ，ｓ），８．３７（３Ｈ，ｓ），８．４５（２Ｈ，ｓ），９．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１１．３２（１Ｈ，ｓ）．
例４１：化合物番号４１の化合物の製造
（１）２−｛Ｎ−［Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−ロイシル］−Ｌ−フェニルアラニル｝オキシ−５−クロロ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びＮ−［Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−ロイシル］−Ｌ−フェニルアラニンを用いて例２４と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：３８．５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ０．９３（６Ｈ，ｓ），１．４１（９Ｈ，ｓ），１．６５−１．７９（４Ｈ，ｍ），３．３４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），４．５４−４．６２（１Ｈ，ｍ），５．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），５．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．２１−７．２８（５Ｈ，ｍ），７．４７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．４Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｓ），７．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．９１（２Ｈ，ｓ），９．０６（１Ｈ，ｓ）．
（２）５−クロロ−２−［Ｎ−（Ｌ−ロイシル）−Ｌ−フェニルアラニル］オキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド  塩酸塩（化合物番号４１）
原料として、２−｛Ｎ−［Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−ロイシル］−Ｌ−フェニルアラニル｝オキシ−５−クロロ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミドを用いて例２５と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：７１．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ０．６６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），０．７１（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），１．５５−１．６１（１Ｈ，ｍ），１．７０−１．７９（３Ｈ，ｍ），３．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．８，１０．２Ｈｚ），３．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．８，４．８Ｈｚ），４．０８（１Ｈ，ｍ），４．７３−４．８０（１Ｈ，ｍ），７．２１−７．２７（１Ｈ，ｍ），７．２９−７．３５（２Ｈ，ｍ），７．４２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），７．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．７９（１Ｈ，ｓ），８．３３（２Ｈ，ｓ），８．５７（３Ｈ，ｓ），９．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），１１．０９（１Ｈ，ｓ）．
例４２：化合物番号４２の化合物の製造
（１）２−｛Ｎ−［Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−β−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチル）−α−Ｌ−アスパルチル］−Ｌ−フェニルアラニル｝オキシ−５−クロロ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びＮ−［Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−β−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチル）−α−Ｌ−アスパルチル］−Ｌ−フェニルアラニンを用いて例２４と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：１９．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．４０（９Ｈ，ｓ），１．４４（９Ｈ，ｓ），２．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１７．４，４．５Ｈｚ），３．０２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１７．１，４．８Ｈｚ），３．３９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），４．８２−４．８５（１Ｈ，ｍ），５．０７−５．１５（１Ｈ，ｍ），５．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２９（５Ｈ，ｍ），７．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｓ），７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．８８（２Ｈ，ｓ），９．０７（１Ｈ，ｓ）．
（２）２−［Ｎ−（α−Ｌ−アスパルチル）−Ｌ−フェニルアラニル］オキシ−５−クロロ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド  塩酸塩（化合物番号４２）
原料として、２−｛Ｎ−［Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−β−Ｏ−（ｔｅｒｔ−ブチル）−α−Ｌ−アスパルチル］−Ｌ−フェニルアラニル｝オキシ−５−クロロ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミドを用いて例２５と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：６７．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ２．８２−２．９６（２Ｈ，ｍ），３．１１−３．１７（１Ｈ，ｍ），３．２４−３．３１（１Ｈ，ｍ），４．６０−４．６８（１Ｈ，ｍ），４．８８−４．９５（１Ｈ，ｍ），６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．１８−７．２３（１Ｈ，ｍ），７．２６−７．３６（４Ｈ，ｍ），７．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．７Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｓ），７．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），８．３１（４Ｈ，ｓ），９．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），１１．１２（１Ｈ，ｓ），１２．０４（１Ｈ，ｓ）．
例４３：化合物番号４３の化合物の製造
（１）５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド  １ナトリウム塩
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物；３．８４ｇ，１０ｍｍｏｌ）のエタノール（１００ｍＬ）溶液に、２規定水酸化ナトリウム水溶液（５ｍＬ，１０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１分間攪拌した。溶媒を減圧留去して、標題化合物の白色固体（４．０６ｇ，１００％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ６．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），６．９７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，３．０Ｈｚ），７．５９（１Ｈ，ｓ），７．６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），８．２９（２Ｈ，ｓ）．
（２）５−クロロ−２−（メトキシカルボニル）オキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号４３）
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド  １ナトリウム塩（２００ｍｇ，０．４９ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５ｍＬ）溶液に、氷冷下、クロロギ酸メチル（４２μＬ，０．５４ｍｍｏｌ）を加え、室温で１０分間攪拌した。反応混合物を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をｎ−ヘキサンで懸濁洗浄して、標題化合物の白色固体（１７１．２ｍｇ，７８．６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ３．８０（３Ｈ，ｓ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．８７（１Ｈ，ｓ），７．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．３６（２Ｈ，ｓ），１１．１１（１Ｈ，ｓ）．
例４４：化合物番号４４の化合物の製造
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物；０．２０ｇ，０．５２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（０．１５ｍＬ，１．０７ｍｍｏｌ）、メタンスルフォーニルクロリド（４５μＬ、０．５８ｍｍｏｌ）を加え、室温で１０分間攪拌した。反応混合物を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１→２：１）で精製して、標題化合物の白色結晶（２１４．３ｍｇ，８９．２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ３．４３（３Ｈ，ｓ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．７Ｈｚ），７．８７（１Ｈ，ｓ），７．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），８．３６（２Ｈ，ｓ），１１．１４（１Ｈ，ｓ）．
例４５：化合物番号４５の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及び１−プロパンスルフォーニルクロリドを用いて例４４と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８６．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ０．９１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．７１−１．８３（２Ｈ，ｍ），３．５２−３．５７（２Ｈ，ｍ），７．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．８６（１Ｈ，ｓ），７．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），８．３６（２Ｈ，ｓ），１１．１６（１Ｈ，ｓ）．
例４６：化合物番号４６の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及び２−プロパンスルフォーニルクロリドを用いて例４４と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：５９．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．５７（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．５４−３．６８（１Ｈ，ｍ），７．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｓ），７．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．２１（２Ｈ，ｓ），９．１０（１Ｈ，ｓ）．
例４７：化合物番号４７の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びパラトールエンスルフォーニルクロリドを用いて例４４と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８４．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ２．１９（３Ｈ，ｓ），７．２４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），７．８６（１Ｈ，ｓ），８．１９（２Ｈ，ｓ），１０．８０（１Ｈ，ｓ）．
例４８：化合物番号４８の化合物の製造
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド  １ナトリウム塩（例４３（１）の化合物；０．２０ｇ，０．４９ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４ｍＬ）溶液に、氷冷下、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイルクロリド（５２μＬ，０．４８ｍｍｏｌ）を加え、室温で１２時間攪拌した。さらにＮ，Ｎ−ジメチルスルファモイルクロリド（４０μＬ，０．３７ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で６時間攪拌した。反応混合物を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製して、標題化合物の白色結晶（２３０．７ｍｇ，９５．９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ２．８５（６Ｈ，ｓ），７．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．７Ｈｚ），７．８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．３８（２Ｈ，ｓ），１１．１６（１Ｈ，ｓ）．
例４９：化合物番号４９の化合物の製造
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物；０．４ｇ，１ｍｍｏｌ）のピリジン（１０ｍＬ）溶液に三酸化イオウ−ピリジン複合体（６６４ｍｇ，４ｍｍｏｌ）を加え、アルゴン雰囲気下、室温で８時間攪拌した。溶媒を減圧留去して得られた残渣を酢酸エチル（１５ｍＬ）で希釈し、水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をｎ−ヘキサン／クロロフォールムで晶析して、標題化合物の白色粉末（４２５ｍｇ，８７．９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），７．８５（１Ｈ，ｓ），８．３６（２Ｈ，ｓ），１１．０４（１Ｈ，ｓ）．
例５０：化合物番号５０の化合物の製造
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物；０．２ｇ，０．５ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（８ｍＬ）溶液に、アルゴン雰囲気下、０℃で、四塩化炭素（４０１ｍｇ，５．６ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（１４１ｍｇ，１．１ｍｍｏｌ）、ジメチルアミノピリジン（触媒量）、亜リン酸ジベンジル（１９８ｍｇ，０．７ｍｍｏｌ）を順次加え、次いで同温で４０分間攪拌した。反応混合物を酢酸エチル（５０ｍＬ）で希釈し、２規定塩酸、水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製して、標題化合物の白色粉末（３３８ｍｇ，１００％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ５．０４−５．１７（４Ｈ，ｍ），７．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，１．２Ｈｚ），７．２２−７．３３（１１Ｈ，ｍ），７．６１（１Ｈ，ｓ），７．８５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７，０．９Ｈｚ）８．２０（２Ｈ，ｓ），９．２５（１Ｈ，ｓ）．
例５１：化合物番号５１の化合物の製造
５−クロロ−２−（ジベンジルフォースフォーノ）オキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号５０；１００ｍｇ，０．１６ｍｍｏｌ）の酢酸エチル（１０ｍＬ）溶液に水酸化パラジウム−炭素（１０ｍｇ）を加え、水素雰囲気下、室温で１時間攪拌した。反応混合物をセライト濾過、溶媒を減圧留去して、標題化合物の白色粉末（７８ｍｇ，１００％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．４１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，１．２Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．７Ｈｚ），７．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｂｒｓ），８．４０（２Ｈ，ｓ），１１．３５（１Ｈ，ｂｒｓ）．
例５２：化合物番号５２の化合物の製造
５−クロロ−２−フォースフォーノオキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号５１；１０２ｍｇ，０．２ｍｍｏｌ）のエタノール（２ｍＬ）溶液に、ナトリウムエトキシド（１８ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をｎ−ヘキサン／酢酸エチルで晶析して、標題化合物の淡褐色粉末（１１０ｍｇ，１００％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｂｒｓ），８．５２（２Ｈ，ｓ）．
例５３：化合物番号５３の化合物
本化合物は、市販化合物である。
販売元：ナカライテスク社
カタログコード番号：２３８−２２
例５４：化合物番号５４の化合物の製造
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物；０．１０ｇ，０．２６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２ｍＬ）溶液に、アルゴン雰囲気下、０℃でトリエチルアミン（０．０５５ｍＬ，０．３９ｍｍｏｌ）、イソシアン酸イソプロピル（３３．３ｍｇ，０．３９ｍｍｏｌ）を加え、室温で一昼夜攪拌した。反応混合物に１規定塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をｎ−ヘキサン／酢酸エチルで懸濁洗浄して、標題化合物の白色粉末（３３ｍｇ，２７．０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．２１（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），３．８４−３．９３（１Ｈ，ｍ），５．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．６１（１Ｈ，ｓ），７．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．０９（２Ｈ，ｓ），９．０８（１Ｈ，ｓ）．
例５５：化合物番号５５の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びイソシアン酸ベンジルを用いて例５４と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：４８．２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ４．２１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．１２−７．１５（３Ｈ，ｍ），７．２０−７．２３（２Ｈ，ｍ），７．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），７．８５（１Ｈ，ｓ），８．４０（２Ｈ，ｓ），８．４１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），１１．０３（１Ｈ，ｓ）．
例５６：化合物番号５６の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及び２−イソシアナト酢酸エチルを用いて例５４と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：４０．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  １．１２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），４．０２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｓ），８．３０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），８．３７（２Ｈ，ｓ），１０．９８（１Ｈ，ｓ）．
例５７：化合物番号５７の化合物の製造
５−クロロ−２−｛Ｎ−［（エトキシカルボニル）メチル］カルバモイル｝オキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号５６；７０ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３ｍＬ）溶液に、水（０．１ｍＬ）、濃硫酸（３滴）を加え、６０℃で１１時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却後、氷水にあけ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をイソプロピルエーテル／ｎ−ヘキサンで懸濁洗浄して、標題化合物の白色結晶（６１．４ｍｇ，９３．２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ３．６８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），７．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．７Ｈｚ），７．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｓ），８．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），８．３６（２Ｈ，ｓ），１０．９８（１Ｈ，ｓ），１２．６２（１Ｈ，ｂｒｓ）．
例５８：化合物番号５８の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及び（Ｓ）−（−）−２−イソシアナトプロピオン酸メチルを用いて例５４と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：６２．５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．４６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．７５（３Ｈ，ｓ），４．３７（１Ｈ，ｍ），５．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｓ），７．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．１５（２Ｈ，ｓ），８．７８（１Ｈ，ｓ）．
例５９：化合物番号５９の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及び（Ｓ）−（−）−２−イソシアナト−３−フェニルプロピオン酸メチルを用いて例５４と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：５３．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ３．１５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．０，４．２Ｈｚ），３．７５（３Ｈ，ｓ），４．６６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝７．２，６．０Ｈｚ），５．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．０４−７．０８（３Ｈ，ｍ），７．２０−７．２７（３Ｈ，ｍ），７．４５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｓ），７．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．１１（２Ｈ，ｓ），８．７２（１Ｈ，ｓ）．
例６０：化合物番号６０の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及び（Ｓ）−（−）−２−イソシアナト−３−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）プロピオン酸メチルを用いて例５４と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：２６．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ３．５１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），３．５７（３Ｈ，ｓ），４．１７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，５．１Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｓ），８．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．３９（２Ｈ，ｓ），１０．９４（１Ｈ，ｓ）．
例６１：化合物番号６１の化合物の製造
２−［Ｎ−（カルボキシメチル）カルバモイル］オキシ−５−クロロ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号５７；０．２０ｇ，０．４１ｍｍｏｌ）のＮ−メチル−２−ピロリジノン（４ｍＬ）溶液に、氷冷下、Ｌ−フェニルアラニン（ｔｅｒｔ−ブチル）エステル塩酸塩（１５９．４ｍｇ，０．６２ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（８３．６ｍｇ，０．６２ｍｍｏｌ）、ＷＳＣ・ＨＣｌ（１５８．２ｍｇ，０．８２ｍｍｏｌ）を加え、次いで室温で４時間攪拌した。反応混合物を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：２→１：１）で精製、ｎ−ヘキサンで結晶化して、標題化合物の白色固体（１５７．９ｍｇ，５６．０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．４０（９Ｈ，ｓ），２．９６−２．９９（２Ｈ，ｍ），３．８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），４．７２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝７．５，６．０Ｈｚ），６．１２（１Ｈ，ｍ），６．３５（１Ｈ，ｍ），７．０６−７．１２（３Ｈ，ｍ），７．２０−７．２６（３Ｈ，ｍ），７．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．６２（１Ｈ，ｓ），７．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．１５（２Ｈ，ｓ），９．００（１Ｈ，ｓ）．
例６２：化合物番号６２の化合物の製造
（Ｓ）−２−［Ｎ−（｛Ｎ−［１−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−２−フェニルエチル］カルバモイル｝メチル）カルバモイル］オキシ−５−クロロ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号６１；１０６ｍｇ，０．１５ｍｍｏｌ）に４規定塩化水素／酢酸エチル溶液（１ｍＬ）を加え、室温で４時間攪拌した。反応混合物にイソプロピルエーテル／ｎ−ヘキサンを加え、析出した粉末を濾取して、標題化合物の白色粉末（８１ｍｇ，８３．２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ２．８４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．８，９．０Ｈｚ），３．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．８，５．１Ｈｚ），３．６０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．３７−４．４５（１Ｈ，ｍ），７．１５−７．２６（５Ｈ，ｍ），７．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｓ），８．０５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．３６（２Ｈ，ｓ），１０．９８（１Ｈ，ｓ）．
例６３：化合物番号６３の化合物の製造
原料として、２−［Ｎ−（カルボキシメチル）カルバモイル］オキシ−５−クロロ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号５７）、及びＬ−アスパラギン酸  ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）エステル塩酸塩を用いて例６１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：３５．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  １．３６（１８Ｈ，ｓ），２．４６−２．５４（１Ｈ，ｍ），２．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１６．５，６．０Ｈｚ），３．６４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），４．４６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝７．５，６．６Ｈｚ），７．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．４Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｓ），８．１１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），８．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３７（２Ｈ，ｓ），１０．９７（１Ｈ，ｓ）．
例６４：化合物番号６４の化合物の製造
原料として、（Ｓ）−２−［Ｎ−（｛Ｎ−［１，２−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）エチル］カルバモイル｝メチル）カルバモイル］オキシ−５−クロロ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号６３）を用いて例６２と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：７４．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ２．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１６．５，６．６Ｈｚ），２．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１６．５，５．７Ｈｚ），３．６５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），４．５３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．１，６．３Ｈｚ），７．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，３．０Ｈｚ），７．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｓ），８．０９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），８．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．３７（２Ｈ，ｓ），１０．９７（１Ｈ，ｓ），１２．２−１２．９（２Ｈ，ｂｒ）．
例６５：化合物番号６５の化合物の製造
原料として、２−［Ｎ−（カルボキシメチル）カルバモイル］オキシ−５−クロロ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号５７）、及びＮε−（ｔｅｒｔ−ブトキシ）カルボニル−Ｌ−リジン  （ｔｅｒｔ−ブチル）エステル塩酸塩を用いて例６１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：１４．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  １．１８−１．４３（４Ｈ，ｍ），１．３６（９Ｈ，ｓ），１．３７（９Ｈ，ｓ），１．５１−１．６４（２Ｈ，ｍ），２．８４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），２．８６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），３．６４−３．６８（２Ｈ，ｍ），４．０２−４．１０（１Ｈ，ｍ），６．７１（１Ｈ，ｍ），７．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），７．８２（１Ｈ，ｓ），８．０１−８．０６（２Ｈ，ｍ），８．３７（２Ｈ，ｓ），１０．９３（１Ｈ，ｓ）．
例６６：化合物番号６６の化合物
本化合物は、市販化合物である。
販売元：シグマ−アルドリッチ社
カタログコード番号：Ｓ７１８２４−６
例６７：化合物番号６７の化合物の製造
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物；１．１５ｇ，３ｍｍｏｌ）、ピリジン（２８５ｍｇ，３．６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液に、氷冷下、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルクロリド（３０４μＬ，３．３ｍｍｏｌ）を加え、次いで室温で３．５時間攪拌した。反応混合物にトリエチルアミン（０．５ｍＬ，３．６ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルクロリド（３０４μＬ，３．３ｍｍｏｌ）、及び４−ジメチルアミノピリジン（１１０ｍｇ，０．９ｍｍｏｌ）を加え、さらに室温で２０時間攪拌した。反応混合物に２規定塩酸（６ｍＬ）及び水（３０ｍＬ）を加え酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して、標題化合物の白色固体（１．２９ｇ，９４．２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ２．８１（３Ｈ，ｓ），２．９８（３Ｈ，ｓ），７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｓ），８．３５（１Ｈ，ｓ），１１．０３（１Ｈ，ｓ）．
例６８：化合物番号６８の化合物の製造
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物；０．２０ｇ，０．５２ｍｍｏｌ）のピリジン（３ｍＬ）溶液に、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルクロリド（８０μＬ，０．６３ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で４時間攪拌した。反応混合物を２規定塩酸にあけ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をイソプロピルエーテル／ｎ−ヘキサンで結晶化して、標題化合物の白色結晶（２３１．２ｍｇ，９２．１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．１６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．２０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．４１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．４５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．７Ｈｚ），７．６２（１Ｈ，ｓ），７．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．０９（２Ｈ，ｓ），９．２５（１Ｈ，ｓ）．
例６９：化合物番号６９の化合物の製造
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物；０．２０ｇ，０．５２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３ｍＬ）に溶液に、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイルクロリド（１０５．８ｍｇ，０．６２ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．２ｍＬ，１．４３ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（１０ｍｇ）を加え、室温で３時間攪拌した。反応混合物を希塩酸にあけ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をイソプロピルエーテル／ｎ−ヘキサンで懸濁洗浄して、標題化合物の白色粉末（２３９．３ｍｇ，８９．０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ３．２８（３Ｈ，ｓ），７．１５−７．３４（５Ｈ，ｍ），７．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．８７（１Ｈ，ｓ），８．３４（２Ｈ，ｓ），１１．００（１Ｈ，ｓ）．
例７０：化合物番号７０の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及び１−ピロリジンカルボニルクロリドを用いて例６９と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：７０．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  １．７１−１．８１（４Ｈ，ｍ），３．１９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），３．４５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．８５（１Ｈ，ｓ），８．３４（２Ｈ，ｓ），１１．０３（１Ｈ，ｓ）．
例７１：化合物番号７１の化合物の製造
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物；０．２０ｇ，０．５２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３ｍＬ）に溶液に、モルフォーリン−４−カルボニルクロリド（７３μＬ，０．６２ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．２ｍＬ，１．４３ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（１０ｍｇ）を加え、室温で２時間攪拌した。反応混合物を希塩酸にあけ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をイソプロピルエーテル／ｎ−ヘキサンで懸濁洗浄して、標題化合物の白色粉末（２３７．２ｍｇ，９１．８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ３．３５（４Ｈ，ｓ），３．５４（４Ｈ，ｓ），７．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，３．０Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），７．８７（１Ｈ，ｓ），８．３９（２Ｈ，ｓ），１１．０６（１Ｈ，ｓ）．
例７２：化合物番号７２の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及び４−メチルピペラジン−１−カルボニルクロリドを用いて例６９と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：６９．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ２．２８（３Ｈ，ｓ），２．３４−２．４４（４Ｈ，ｍ），３．６０−３．７３（４Ｈ，ｍ），７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．３３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．６１（１Ｈ，ｓ），７．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．０５（２Ｈ，ｓ），９．１８（１Ｈ，ｓ）．
例７３：化合物番号７３の化合物の製造
トリフォースゲン（５４９ｍｇ，１．８５ｍｍｏｌ）のジクロロエタン（１０ｍＬ）溶液に、氷冷下、イソニペコチン酸エチル（７８６ｍｇ，５．００ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（５０６ｍｇ，５．００ｍｍｏｌ）のジクロロエタン（５ｍＬ）溶液を加え、室温で１時間撹拌した。反応混合物を減圧留去して得られた残渣をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に溶解し、氷冷下、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物；１．９２ｇ，５．００ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液、トリエチルアミン（５４９ｍｇ，５．００ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（１００ｍｇ）を加え、室温で３２時間撹拌した。反応混合物を希塩酸水溶液で洗浄、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製して、標題化合物の白色結晶（１．８１４ｇ，６４．０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．２５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．６３−１．７３（２Ｈ，ｍ），１．９５−２．００（２Ｈ，ｍ），２．４８−２．５８（１Ｈ，ｍ），３．０５−３．１３（１Ｈ，ｍ），３．１８−３．２５（１Ｈ，ｍ），４．０８−４．１８（２Ｈ，ｍ），４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，３．０Ｈｚ），７．６２（１Ｈ，ｓ），７．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．０６（２Ｈ，ｓ），９．１３（１Ｈ，ｓ）．
例７４：化合物番号７４の化合物の製造
５−クロロ−２−｛［４−（エトキシカルボニル）ピペリジン−１−イル］カルボニル｝オキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号７３；５０４ｍｇ，０．８８９ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液に、水（０．６ｍＬ）、濃硫酸（２０滴）を加え、６０℃で５時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却後、氷水にあけ、析出した固体を濾取、酢酸エチル／ｎ−ヘキサンから再結晶して、標題化合物の白色結晶（４１９．８ｍｇ，８７．６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  １．２４−１．３４（１Ｈ，ｍ），１．３９−１．５１（１Ｈ，ｍ），１．７７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．３Ｈｚ），２．３８−２．４６（１Ｈ，ｍ），２．９０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ），３．０８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ），３．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ），４．０２−４．０７（１Ｈ，ｍ），７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．８２（１Ｈ，ｓ），８．３６（２Ｈ，ｓ），１１．０３（１Ｈ，ｓ），１２．２１（１Ｈ，ｂｒｓ）．
例７５：化合物番号７５の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びイミノジ酢酸ジエチルを用いて例７３と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：６４．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  １．１１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），１．１３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．０１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．０２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．０８（２Ｈ，ｓ），４．２７（２Ｈ，ｓ），７．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｓ），８．３７（２Ｈ，ｓ），１０．９８（１Ｈ，ｓ）．
例７６：化合物番号７６の化合物の製造
原料として、２−｛Ｎ，Ｎ−ビス［（エトキシカルボニル）メチル］カルバモイル｝オキシ−５−クロロ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号７５）を用いて例７４と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：３６．５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ３．９８（２Ｈ，ｓ），４．１８（２Ｈ，ｓ），７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），７．８２（１Ｈ，ｓ），８．３５（２Ｈ，ｓ），１０．９６（１Ｈ，ｓ），１２．７５（２Ｈ，ｂｒｓ）．
例７７：化合物番号７７の化合物の製造
（１）５−ブロモ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド
原料として、５−ブロモサリチル酸、及び３，５−ビス（トリフルオロメチル）アニリンを用いて例１（１）と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８８．５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ６．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．５９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．８Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｓ），７．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ），８．４３（２Ｈ，ｓ），１０．８２（１Ｈ，ｓ），１１．３７（１Ｈ，ｓ）．
（２）５−ブロモ−２−（モルフォーリノカルボニル）オキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号７７）
原料として、５−ブロモ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド、及びモルフォーリン−４−カルボニルクロリドを用いて例７１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８７．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ３．５９−３．７０（８Ｈ，ｍ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｓ），７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．０５（２Ｈ，ｓ），８．９９（１Ｈ，ｓ）．
例７８：化合物番号７８の化合物の製造
（１）５−［（１，１−ジメチル）エチル］サリチル酸
５−［（１，１−ジメチル）エチル］−２−ヒドロキシベンズアルデヒド（２．１５ｇ，１２．１ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（１００ｍＬ）、水（４０ｍＬ）溶液に、スルファミン酸（１．７６ｇ，１８．１ｍｍｏｌ）、リン酸一ナトリウム（７．３３ｇ，４７ｍｍｏｌ）を加えた。この混合物に、氷冷下、亜塩素酸ナトリウム（１．７６ｇ，１５．５ｍｍｏｌ）の水溶液（１０ｍＬ）を滴下し、１時間攪拌した。次いでこの混合物に、亜硫酸ナトリウム（１．８０ｇ，１４．３ｍｍｏｌ）を加え、３０分間攪拌した。反応混合物に濃塩酸を加えｐＨを１とした。１，４−ジオキサンを減圧留去して得られた残渣を酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をｎ−ヘキサンで懸濁洗浄して、標題化合物の白色粉末（１．８１ｇ，７７．４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  １．２６（９Ｈ，ｓ），６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．５８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），１１．０７（１Ｈ，ｂｒｓ）．
（２）５−［（１，１−ジメチル）エチル］エチル−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド
原料として、５−［（１，１−ジメチル）エチル］サリチル酸、及び３，５−ビス（トリフルオロメチル）アニリンを用いて例１（１）と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：５３．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：  １．３０（９Ｈ，ｓ），６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｓ），８．４６（２Ｈ，ｓ），１０．８０（１Ｈ，ｓ）１１．１２（１Ｈ，ｓ）．
（３）５−［（１，１−ジメチル）エチル］−２−［（モルフォーリノカルボニル）オキシ］−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号７８）
原料として、５−［（１，１−ジメチル）エチル］−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド、及びモルフォーリン−４−カルボニルクロリドを用いて例７１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９５．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．３５（９Ｈ，ｓ）３．６０−３．６７（８Ｈ，ｍ），７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｓ），７．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．１２（２Ｈ，ｓ），９．０２（１Ｈ，ｓ）．
例７９：化合物番号７９の化合物の製造
（１）２−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチル−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド
原料として、２−ヒドロキシ−５−（トリフルオロメチル）安息香酸、及び３，５−ビス（トリフルオロメチル）アニリンを用いて例１（１）と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：４４．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，δ）：７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）７．７２−７．７５（２Ｈ，ｍ），７．８６（１Ｈ，ｓ），８．１７（２Ｈ，ｓ），８．３５（１Ｈ，ｓ）１１．８８（１Ｈ，ｓ）．
［２−ヒドロキシ−５−（トリフルオロメチル）安息香酸：「ケミカル・アンド・ファーマシューティカル・ブレティン（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  ＆  Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ  Ｂｕｌｌｅｔｉｎ）」，１９９６年，第４４巻，第４号，ｐ．７３４−７４５参照］
（２）２−（モルフォーリノカルボニル）オキシ−５−トリフルオロメチル−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号７９）
原料として、２−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチル−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド、及びモルフォーリン−４−カルボニルクロリドを用いて例７１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８３．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ３．３０−３．３８（２Ｈ，ｍ），３．４８−３．５８（６Ｈ，ｍ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．８７（１Ｈ，ｓ），８．０１（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝８．４，２．４，０．６Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．３９（２Ｈ，ｓ），１１．１４（１Ｈ，ｓ）．
例８０：化合物番号８０の化合物の製造
（１）４−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド
原料として、４−クロロサリチル酸、及び３，５−ビス（トリフルオロメチル）アニリンを用いて例１（１）と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：５５．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．０５−７．０８（２Ｈ，ｍ），７．８４−７．８７（２Ｈ，ｍ），８．４５（２Ｈ，ｓ），１０．８４（１Ｈ，ｓ）１１．６４（１Ｈ，ｂｒｓ）．
（２）４−クロロ−２−（モルフォーリノカルボニル）オキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号８０）
原料として、４−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド、及びモルフォーリン−４−カルボニルクロリドを用いて例７１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８４．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ３．５６−３．６８（８Ｈ，ｍ），７．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．８Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｓ），７．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．０８（２Ｈ，ｓ），８．９１（１Ｈ，ｓ）．
例８１：化合物番号８１の化合物の製造
（１）２−ヒドロキシ−５−ヨード−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド
原料として、５−ヨードサリチル酸、及び３，５−ビス（トリフルオロメチル）アニリンを用いて例１（１）と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：６２．２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ６．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｓ），８．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．８４（２Ｈ，ｓ），１０．８２（１Ｈ，ｓ），１１．４１（１Ｈ，ｓ）．
（２）２−ヒドロキシ−５−フェニル−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド
２−ヒドロキシ−５−ヨード−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（２００ｍｇ，０．４２ｍｍｏｌ）、の１，２−ジメトキシエタン（３ｍＬ）溶液に、アルゴン雰囲気下、テトラキス（トリフェニルフォースフィン）パラジウム（１６ｍｇ，０．００１４ｍｍｏｌ）を加え、室温で５分間攪拌した。次いでジヒドロキシフェニルボラン（５７ｍｇ，０．４７ｍｍｏｌ）、１ｍｏｌ／Ｌ炭酸ナトリウム水溶液（１．３ｍＬ）を加え、２時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却後、希塩酸にあけ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝６：１→３：１）で精製して、標題化合物の白色結晶（１０９ｍｇ，６１．１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．３３−７．３８（１Ｈ，ｍ），７．４８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．６７−７．７０（２Ｈ，ｍ），７．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．４Ｈｚ），７．８７（１Ｈ，ｓ），８．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．４９（２Ｈ，ｓ），１０．９２（１Ｈ，ｓ），１１．４１（１Ｈ，ｓ）．
（３）２−（モルフォーリノカルボニル）オキシ−５−フェニル−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号８１）
原料として、２−ヒドロキシ−５−フェニル−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド、及びモルフォーリン−４−カルボニルクロリドを用いて例７１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９１．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ３．３０−３．３９（２Ｈ，ｍ），３．４８−３．６１（６Ｈ，ｍ），７．３９−７．４５（２Ｈ，ｍ），７．４９−７．５４（２Ｈ，ｍ），７．７６−７．７９（２Ｈ，ｍ），７．８５（１Ｈ，ｓ），７．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），８．０１（１Ｈ，ｄＪ＝２．４Ｈｚ），８．４３（２Ｈ，ｓ），１１．０５（１Ｈ，ｓ）．
例８２：化合物番号８２の化合物の製造
（１）３−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−２−ナフトアミド
原料として、３−ヒドロキシナフタレン−２−カルボン酸、及び３，５−ビス（トリフルオロメチル）アニリンを用いて例１（１）と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：４６．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．３６−７．４１（２Ｈ，ｍ），７．５０−７．５５（１Ｈ，ｍ），７．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝０．６Ｈｚ），７．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），８．５１（２Ｈ，ｓ），１０．９８（１Ｈ，ｓ），１１．０５（１Ｈ，ｓ）．
（２）３−（モルフォーリノカルボニル）オキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−２−ナフトアミド（化合物番号８２）
原料として、３−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−２−ナフトアミド、及びモルフォーリン−４−カルボニルクロリドを用いて例７１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８１．２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ３．４２−３．６５（８Ｈ，ｍ），７．５９−７．７０（２Ｈ，ｍ），７．８２−７．８７（２Ｈ，ｍ），７．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．３８（１Ｈ，ｓ），８．４６（２Ｈ，ｓ），１１．１５（１Ｈ，ｓ）．
例８３：化合物番号８３の化合物の製造
（１）２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−１−ナフトアミド
原料として、２−ヒドロキシナフタレン−１−カルボン酸、及び３，５−ビス（トリフルオロメチル）アニリンを用いて例１（１）と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：３０．２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．３２−７．３８（１Ｈ，ｍ），７．４５−７．５０（１Ｈ，ｍ），７．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．８２−７．９３（３Ｈ，ｍ），８．５０（１Ｈ，ｓ），１０．２８（１Ｈ，ｓ），１１．０７（１Ｈ，ｂｒｓ）．
（２）２−（モルフォーリノカルボニル）オキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−１−ナフトアミド（化合物番号８３）
原料として、３−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−２−ナフトアミド、及びモルフォーリン−４−カルボニルクロリドを用いて例７１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９８．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ３．４３−３．６７（８Ｈ，ｍ）、７．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．５４−７．６５（２Ｈ，ｍ），７．６９（１Ｈ，ｓ），７．９２（１Ｈ，ｄ，７．８，２．１Ｈｚ），７．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），８．０８（１Ｈ，ｄ，８．１，１．２Ｈｚ），８．２０（２Ｈ，ｓ），８．９２（１Ｈ，ｓ）．
例８４：化合物番号８４の化合物の製造
（１）５−クロロ−Ｎ−［２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）フェニル］−２−ヒドロキシベンズアミド
原料として、５−クロロサリチル酸、及び２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）アニリンを用いて例１（１）と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：４９．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，３．０Ｈｚ），７．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．７Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），８．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），１１．１４（１Ｈ，ｓ），１２．３９（１Ｈ，ｓ）．
（２）５−クロロ−Ｎ−［２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）フェニル］−２−［（モルフォーリノカルボニル）オキシ］ベンズアミド（化合物番号８４）
原料として、５−クロロ−Ｎ−［２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）フェニル］−２−ヒドロキシベンズアミド、及びモルフォーリン−４−カルボニルクロリドを用いて例７１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９５．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ３．５４−３．６８（８Ｈ，ｍ），７．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．３５−７．３９（１Ｈ，ｍ），７．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．６１（１Ｈ，ｓ），８．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）．
例８５：化合物番号８５の化合物の製造
（１）５−ブロモ−Ｎ−［２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）フェニル］−２−ヒドロキシベンズアミド
原料として、５−ブロモサリチル酸、及び２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）アニリンを用いて例１（１）と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：３４．２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５６（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝８．１，２．４，１．２Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，１．２Ｈｚ），８．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），１１．１２（１Ｈ，ｓ），１２．４２（１Ｈ，ｓ）．
（２）５−ブロモ−Ｎ−［２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）フェニル］−２−［（モルフォーリノカルボニル）オキシ］ベンズアミド（化合物番号８５）
原料として、５−ブロモ−Ｎ−［２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）フェニル］−２−ヒドロキシベンズアミド、及びモルフォーリン−４−カルボニルクロリドを用いて例７１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：６８．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ３．３０−３．７５，（８Ｈ，ｍ），７．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．８Ｈｚ），７．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．４Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４），７．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）１０．３９（１Ｈ，ｓ）．
例８６：化合物番号８６の化合物の製造
（１）５−ブロモ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［２−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド
原料として、５−ブロモサリチル酸、及び２−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）アニリンを用いて例１（１）と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：７１．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ３．９９（３Ｈ，ｓ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４７−７．５１（１Ｈ，ｍ），７．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．４Ｈｚ），８．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）１１．０３（１Ｈ，ｓ），１２．１９（１Ｈ，ｓ）．
（２）５−ブロモ−Ｎ−［２−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル］−２−［（モルフォーリノカルボニル）オキシ］ベンズアミド（化合物番号８６）
原料として、５−ブロモ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［２−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド、及びモルフォーリン−４−カルボニルクロリドを用いて例７１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９４．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ３．５２−３．６５（８Ｈ，ｍ），３．９４（３Ｈ，ｓ），６．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．３７−７．４１（１Ｈ，ｍ），７．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．５２（１Ｈ，ｓ），８．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）．
例８７：化合物番号８７の化合物の製造
（１）５−ブロモ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド
原料として、５−ブロモサリチル酸、及び３−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）アニリンを用いて例１（１）と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：５８．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ３．８５（３Ｈ，ｓ），６．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．０３（１Ｈ，ｓ），７．５７−７．６１（２Ｈ，ｍ），７．７７（１Ｈ，ｓ），８．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），１０．５７（１Ｈ，ｓ），１１．５６（１Ｈ，ｓ）．
（２）５−ブロモ−Ｎ−［３−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル］−２−［（モルフォーリノカルボニル）オキシ］ベンズアミド（化合物番号８７）
原料として、５−ブロモ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド、及びモルフォーリン−４−カルボニルクロリドを用いて例７１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８５．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ３．５６−３．６６（８Ｈ，ｍ），３．８７（３Ｈ，ｓ），６．９２（１Ｈ，ｍ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２３（１Ｈ，ｍ），７．５７−７．６１（２Ｈ，ｍ），７．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．５４（１Ｈ，ｓ）．
例８８：化合物番号８８の化合物の製造
（１）５−ブロモ−Ｎ−［２−クロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル］−２−ヒドロキシベンズアミド
原料として、５−ブロモサリチル酸、及び２−クロロ−４−（トリフルオロメチル）アニリンを用いて例１（１）と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：３４．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．１Ｈｚ），７．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），１１．１５（１Ｈ，ｓ），１２．４２（１Ｈ，ｓ）．
（２）５−ブロモ−Ｎ−［２−クロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル］−２−［（モルフォーリノカルボニル）オキシ］ベンズアミド（化合物番号８８）
原料として、５−ブロモ−Ｎ−［２−クロロ−４−（トリフルオロメチル）フェニル］−２−ヒドロキシベンズアミド、及びモルフォーリン−４−カルボニルクロリドを用いて例７１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９３．５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ３．５４−３．６８（８Ｈ，ｍ），７．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．４Ｈｚ），７．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．６５（１Ｈ，ｓ），８．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）．
例８９：化合物番号８９の化合物の製造
（１）５−クロロ−Ｎ−（３，５−ジクロロフェニル）−２−ヒドロキシベンズアミド
原料として、５−クロロサリチル酸、及び３，５−ジクロロアニリンを用いて例１（１）と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：４１．２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．３６−７．３７（１Ｈ，ｍ），７．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．８３−７．８４（３Ｈ，ｍ），１０．５６（１Ｈ，ｓ），１１．４４（１Ｈ，ｓ）．
（２）５−クロロ−Ｎ−（３，５−ジクロロフェニル）−２−［（モルフォーリノカルボニル）オキシ］ベンズアミド（化合物番号８９）
原料として、５−クロロ−Ｎ−（３，５−ジクロロフェニル）−２−ヒドロキシベンズアミド、及びモルフォーリン−４−カルボニルクロリドを用いて例７１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８３．２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ３．３３（２Ｈ，ｓ），３．５３（６Ｈ，ｓ），７．３４−７．３７（２Ｈ，ｍ），７．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．７４−７．７６（３Ｈ，ｍ），１０．７４（１Ｈ，ｓ）．
例９０：化合物番号９０の化合物の製造
（１）５−ブロモ−Ｎ−｛３，５−ビス［（１，１−ジメチル）エチル］フェニル｝−２−ヒドロキシベンズアミド
原料として、５−ブロモサリチル酸、及び３，５−ビス［（１，１−ジメチル）エチル］アニリンを用いて例１（１）と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：４５．２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）：１．３０（１８Ｈ，ｓ），６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．５６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．５８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），１０．３９（１Ｈ，ｓ），１１．９８（１Ｈ，ｓ）．
（２）５−ブロモ−Ｎ−｛３，５−ビス［（１，１−ジメチル）エチル］フェニル｝−２−［（モルフォーリノカルボニル）オキシ］ベンズアミド（化合物番号９０）
原料として、５−ブロモ−Ｎ−｛３，５−ビス［（１，１−ジメチル）エチル］フェニル｝−２−ヒドロキシベンズアミド、及びモルフォーリン−４−カルボニルクロリドを用いて例７１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９３．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．３３（１８Ｈ，ｓ），３．５４−３．６４（８Ｈ，ｍ），７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．２２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．４４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．５９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．１３（１Ｈ，ｓ）．
例９１：化合物番号９１の化合物の製造
（１）５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド
原料として、５−クロロサリチル酸、及び２，５−ビス（トリフルオロメチル）アニリンを用いて例１（１）と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：３．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４３−７．４８（２Ｈ，ｍ），６．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．３６（１Ｈ，ｂｒｓ），８．６０（１Ｈ，ｓ），１１．３１（１Ｈ，ｓ）．
（２）５−クロロ−２−（モルフォーリノカルボニル）オキシ−Ｎ−［２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号９１）
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド、及びモルフォーリン−４−カルボニルクロリドを用いて例７１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９２．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ３．５５−３．６９（８Ｈ，ｍ），７．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．４Ｈｚ），７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．４１（１Ｈ，ｓ），８．５９（１Ｈ，ｓ）．
例９２：化合物番号９２の化合物の製造
（１）４−ブロモ−２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオン〔α−ブロモ−ジピバロイルメタン〕
２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオン（ジピバロイルメタン；１．００ｇ，５．４２ｍｍｏｌ）の四塩化炭素（１０ｍＬ）溶液に、Ｎ−ブロモコハク酸イミド（９６５．８ｍｇ，５．４２ｍｍｏｌ）を加え、２時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却後、不溶物を濾過して除去し、濾液を減圧留去して、標題化合物の白色結晶（１．４２ｇ，定量的）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．２７（１８Ｈ，ｓ），５．６７（１Ｈ，ｓ）．
（２）２−アミノ−４−［（１，１−ジメチル）エチル］−５−［（２，２−ジメチル）プロピオニル］チアゾール
４−ブロモ−２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオン（α−ブロモ−ジピバロイルメタン；１．４２ｇ，５．４０ｍｍｏｌ）、チオウレア（４５１．８ｍｇ，５．９４ｍｍｏｌ）、エタノール（１５ｍＬ）の混合物を２時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にあけ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をジクロロメタン／ｎ−ヘキサンで結晶化して、標題化合物の白色結晶（１．２３ｇ，９４．５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．２６（９Ｈ，ｓ），１．２９（９Ｈ，ｓ），５．０３（２Ｈ，ｓ）．
（３）５−クロロ−Ｎ−｛４−［（１，１−ジメチル）エチル］−５−［（２，２−ジメチル）プロピオニル］チアゾール−２−イル｝−２−ヒドロキシベンズアミド
５−クロロサリチル酸（１４３．６ｍｇ，０．８３ｍｍｏｌ）、２−アミノ−４−［（１，１−ジメチル）エチル］−５−［（２，２−ジメチル）プロピオニル］チアゾール（２００．０ｍｇ，０．８３ｍｍｏｌ）、三塩化リン（４０μＬ、０．４６ｍｍｏｌ）、クロロベンゼン（４ｍＬ）の混合物を３時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却後、溶媒を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製して、標題化合物の白色粉末（１５９．１ｍｇ，４８．４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．３３（９Ｈ，ｓ），１．３５（９Ｈ，ｓ），６．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．７Ｈｚ），７．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），１０．５２（２Ｈ，ｂｒ）．
（４）５−クロロ−Ｎ−｛４−［（１，１−ジメチル）エチル］−５−［（２，２−ジメチル）プロピオニル］チアゾール−２−イル｝−２−［（モルフォーリノカルボニル）オキシ］ベンズアミド（化合物番号９２）
原料として、５−クロロ−Ｎ−｛４−［（１，１−ジメチル）エチル］−５−［（２，２−ジメチル）プロピオニル］チアゾール−２−イル｝−２−ヒドロキシベンズアミド、及びモルフォーリン−４−カルボニルクロリドを用いて例７１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９３．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．３２（９Ｈ，ｓ），１．３３（９Ｈ，ｓ），３．６０（２Ｈ，ｂｒｓ），３．７５（２Ｈ，ｂｒｓ），３．８３（４Ｈ，ｂｒｓ），７．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．７Ｈｚ），８．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），９．７８（１Ｈ，ｂｒｓ）．
例９３：化合物番号９３の化合物の製造
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド  １ナトリウム塩（例４３（１）の化合物；２０３ｍｇ，０．５０ｍｍｏｌ）、沃化メチル（８５ｍｇ，０．６０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルフォールムアミド（５ｍＬ）の混合物を６０℃で２時間加熱した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製して、標題化合物の白色結晶（１５６．９ｍｇ，７９．１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ３．８９（３Ｈ，ｓ），７．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．７Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｓ），８．４３（２Ｈ，ｓ），１０．８３（１Ｈ，ｓ）．
例９４：化合物番号９４の化合物の製造
原料として、５−［（１，１−ジメチル）エチル］−２−メトキシ安息香酸、及び３，５−ビス（トリフルオロメチル）アニリンを用いて例１（１）と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：７５．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  １．２９（９Ｈ，ｓ），３．８９（３Ｈ，ｓ），７．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｓ），８．４７（２Ｈ，ｓ），１０．７０（１Ｈ，ｓ）．
例９５：化合物番号９５の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド  １ナトリウム塩（例４３（１）の化合物）、及び沃化エチルを用いて例９３と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：７０．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  １．３４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．１６（４Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），７．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．７Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｓ），８．４０（２Ｈ，ｓ），１０．８０（１Ｈ，ｓ）．
例９６：化合物番号９６の化合物の製造
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物；０．２０ｇ，０．５２ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルフォールムアミド（４ｍＬ）溶液に、イソプロピルブロミド（６０μＬ，０．６４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１４３．７ｍｇ，１．０４ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で６０時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却後、水にあけ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製して、標題化合物の白色結晶（１６４．９ｍｇ，７４．５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．５５（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），４．８５（１Ｈ，ｍ），７．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｓ），８．１４（２Ｈ，ｓ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），１０．４７（１Ｈ，ｓ）．
例９７：化合物番号９７の化合物の製造
６０％水素化ナトリウム（４１．６ｍｇ，１．０４ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルフォールムアミド（１ｍＬ）懸濁液に、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物；０．２０ｇ，０．５２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２ｍＬ）溶液を加え、室温で１０分間攪拌した。次いで、クロロメチルメチルエーテル（５０μＬ，０．６５ｍｍｏｌ）を加え、さらに室温で３時間攪拌した。反応混合物を希塩酸にあけ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１→３：１）で精製して、標題化合物の白色結晶（４４．５ｍｇ，２０．０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ３．３８（３Ｈ，ｓ），５．３０（２Ｈ，ｓ），７．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｓ），８．４１（２Ｈ，ｓ），１０．９３（１Ｈ，ｓ）．
例９８：化合物番号９８の化合物の製造
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド  １ナトリウム塩（例４３（１）の化合物；４０６ｍｇ，１．００ｍｍｏｌ）、酢酸  ブロモメチルエステル（１８４ｍｇ，１．２０ｍｍｏｌ）、沃化ナトリウム（３０ｍｇ，０．２０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルフォールムアミド（５ｍＬ）の混合物を、アルゴン雰囲気下、５０℃で１時間加熱した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製して、標題化合物の白色結晶（２８１．３ｍｇ，６１．７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ２．０５（３Ｈ，ｓ），５．８２（２Ｈ，ｓ），７．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），７．８５（１Ｈ，ｓ），８．３８（２Ｈ，ｓ），１０．８８（１Ｈ，ｓ）．
例９９：化合物番号９９の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド  １ナトリウム塩（例４３（１）の化合物）、及びピバリン酸  クロロメチルエステルを用いて例９８と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：７１．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．１３（９Ｈ，ｓ），５．９７（２Ｈ，ｓ），７．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．５１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｓ），８．２４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．３２（２Ｈ，ｓ），９．８４（１Ｈ，ｓ）．
例１００：化合物番号１００の化合物の製造
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物；０．２ｇ，０．５ｍｍｏｌ）、炭酸  １−クロロエチル  エチルエステル（１１９ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド（８８ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）、１８−クラウン−６（触媒量）のアセトニトリル（８ｍＬ）溶液を、アルゴン雰囲気下、６０℃で８時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却後、酢酸エチルで希釈し、水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製して、標題化合物の白色粉末（５６ｍｇ，２１．５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．２４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．８５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），４．０１−４．２７（２Ｈ，ｍ），６．５０（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），７．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．７Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝０．９Ｈｚ），８．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．１９（２Ｈ，ｓ），９．８３（１Ｈ，ｂｒｓ）．
例１０１：化合物番号１０１の化合物の製造
（１）１−［（クロロメトキシ）カルボニル］ピペリジン
クロロギ酸  クロロメチルエステル（６４５ｍｇ，５ｍｍｏｌ）のｎ−ヘキサン（１５ｍＬ）溶液に、アルゴン雰囲気下、０℃でピペリジン（１．０６ｇ，１２．５ｍｍｏｌ）を加え、同温で３０分間攪拌した。反応混合物をヘキサンで希釈し、１規定塩酸（２０ｍＬ）、水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して、標題化合物の無色油状物（７９６ｍｇ，８９．６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．５４−１．６３（６Ｈ，ｍ），３．４３−３．４７（４Ｈ，ｍ），５．８０（２Ｈ，ｓ）．
（２）５−クロロ−２−［（ピペリジノカルボニル）オキシ］メトキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号１０１）
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド  １ナトリウム塩（例４３（１）の化合物）、及び１−［（クロロメトキシ）カルボニル］ピペリジンを用いて例９８と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８６．２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．３８−１．５８（６Ｈ，ｍ），３．３４（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），５．９３（２Ｈ，ｓ），７．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．６２（１Ｈ，ｓ），８．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．４１（２Ｈ，ｓ），１０．０７（１Ｈ，ｓ）．
例１０２：化合物番号１０２の化合物の製造
（１）４−［（クロロメトキシ）カルボニル］モルフォーリン
原料として、クロロギ酸  クロロメチルエステル、及びモルフォーリンを用いて例１０１（１）と同様の操作を行い、標題化合物の粗生成物を得、精製することなく次反応に用いた。
（２）５−クロロ−２−［（モルフォーリノカルボニル）オキシ］メトキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号１０２）
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド  １ナトリウム塩（例４３（１）の化合物）、及び４−［（クロロメトキシ）カルボニル］モルフォーリンを用いて例９８と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：６１．５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ３．４０−３．４２（４Ｈ，ｍ），３．５５−３．５８（４Ｈ，ｍ），５．９５（２Ｈ，ｓ），７．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．７Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｓ），８．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．３８（２Ｈ，ｓ），１０．００（１Ｈ，ｓ）．
例１０３：化合物番号１０３の化合物の製造
（１）１−［（クロロメトキシ）カルボニル］イソニペコチン酸エチル
原料として、クロロギ酸  クロロメチルエステル、及びイソニペコチン酸エチルを用いて例１０１（１）と同様の操作を行い、標題化合物の粗生成物を得、精製することなく次反応に用いた。
（２）５−クロロ−２−（｛［４−（エトキシカルボニル）ピペリジン−１−イル］カルボニル｝オキシ）メトキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号１０３）
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド  １ナトリウム塩（例４３（１）の化合物）、及び１−［（クロロメトキシ）カルボニル］イソニペコチン酸エチルを用いて例９８と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：６５．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．２４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．４９−１．６１（２Ｈ，ｍ），１．８２（２Ｈ，ｍ），２．３８−２．４８（１Ｈ，ｍ），２．８１−２．９８（２Ｈ，ｍ），３．８７−３．９８（２Ｈ，ｍ），４．１２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），５．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ），５．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．６２（１Ｈ，ｓ），８．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．３９（２Ｈ，ｓ），１０．０３（１Ｈ，ｓ）．
例１０４：化合物番号１０４の化合物の製造
５−クロロ−２−（｛［４−（エトキシカルボニル）ピペリジン−１−イル］カルボニル｝オキシ）メトキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号１０３；１４９ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ）のメタノール（５ｍＬ）溶液に、２規定水酸化ナトリウム水溶液（０．２５ｍＬ，０．５ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で３０分撹拌した。反応混合物を室温まで冷却後、希塩酸にあけ、析出した固体を濾取、水洗後、酢酸エチル／ｎ−ヘキサンから再結晶して、標題化合物の白色結晶（７６．０ｍｇ，５３．４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  １．２８−１．３９（２Ｈ，ｍ），１．７５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１２．３Ｈｚ），２．３６−２．４１（１Ｈ，ｍ），２．７８−２．９５（２Ｈ，ｍ），３．８０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．５Ｈｚ），５．８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ），７．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．７Ｈｚ），７．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｓ），８．３９（２Ｈ，ｓ），１０．８０（１Ｈ，ｓ）．
例１０５：化合物番号１０５の化合物の製造
（１）Ｎ−［（クロロメトキシ）カルボニル］イミノジ酢酸ジエチル
原料として、クロロギ酸  クロロメチルエステル、及びイミノジ酢酸ジエチルを用いて例１０１（１）と同様の操作を行い、標題化合物の粗生成物を得、精製することなく次反応に用いた。
（２）２−（｛Ｎ，Ｎ−ビス［（エトキシカルボニル）メチル］カルバモイル｝オキシ）メトキシ−５−クロロ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号１０５）
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド  １ナトリウム塩（例４３（１）の化合物）、及びＮ−［（クロロメトキシ）カルボニル］イミノジ酢酸ジエチルを用いて例９８と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：３８．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．１６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），１．２０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），３．９９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．０１（２Ｈ，ｓ），４．０７（２Ｈ，ｓ），４．０８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），５．９７（２Ｈ，ｓ），７．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．４７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．７Ｈｚ），７．６１（１Ｈ，ｓ），８．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．３７（２Ｈ，ｓ），９．８２（１Ｈ，ｓ）．
例１０６：化合物番号１０６の化合物の製造
原料として、２−（｛Ｎ，Ｎ−ビス［（エトキシカルボニル）メチル］カルバモイル｝オキシ）メトキシ−５−クロロ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号１０５）を用いて例１０４と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９８．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ３．９６（２Ｈ，ｓ），４．０２（２Ｈ，ｓ），５．８４（２Ｈ，ｓ），７．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．５９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｓ），８．４０（２Ｈ，ｓ），１０．７７（１Ｈ，ｓ），１２．７７（２Ｈ，ｂｒｓ）．
例１０７：化合物番号１０７の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド  １ナトリウム塩（例４３（１）の化合物）、及び２−ブロモエタノールを用いて例９８と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：６９．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ２．１０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），４．１８−４．２２（２Ｈ，ｍ），４．３３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ），６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．５９（１Ｈ，ｓ），８．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．３５（２Ｈ，ｓ），１０．５４（１Ｈ，ｓ）．
例１０８：化合物番号１０８の化合物の製造
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物；６００ｍｇ，１．６ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１．１０ｇ，８．０ｍｍｏｌ）、クロロ酢酸エチル（３８３ｍｇ，３．２ｍｍｏｌ）、アセトン（１０ｍＬ）の混合物を、アルゴン雰囲気下、１時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却後、不溶物を濾過し、濾液を減圧濃縮して得られた残渣を酢酸エチル（１５ｍＬ）で希釈した。酢酸エチル溶液を水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製して、標題化合物の白色粉末（４２７ｍｇ，５８．１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．３８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．４１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），４．７９（２Ｈ，ｓ），６．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．６２（１Ｈ，ｓ），８．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈ），８．５２（２Ｈ，ｓ），１０．８８（１Ｈ，ｂｒｓ）．
例１０９：化合物番号１１０の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びクロロ酢酸ベンジルを用いて例１０８と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：３０．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ４．８２（２Ｈ，ｓ），５．３５（２Ｈ，ｓ），６．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．３８−７．４１（６Ｈ，ｍ），７．６３（１Ｈ，ｂｒｓ），８．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．５４（２Ｈ，ｓ），１０．８６（１Ｈ，ｂｒｓ）．
例１１０：化合物番号１０９の化合物の製造
２−［（ベンジルオキシ）カルボニル］メトキシ−５−クロロ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号１１０；４３０ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）のメタノール／水（５ｍＬ＋５ｍＬ）混合溶液に水酸化ナトリウム（６６．７ｍｇ，１．６ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で４０分間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却後、溶媒を減圧留去して得られた残渣を酢酸エチル（１５ｍＬ）で希釈した。酢酸エチル溶液を２規定塩酸、水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をｎ−ヘキサン／酢酸エチルで晶析して、標題化合物の白色粉末（３１０ｍｇ，８６．８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ４．９５（２Ｈ，ｓ），７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．８５（１Ｈ，ｂｒｓ），７．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．５３（２Ｈ，ｓ），１１．１２（１Ｈ，ｓ）．
例１１１：化合物番号１１１の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド  １ナトリウム塩（例４３（１）の化合物）、及びＮ−（クロロメチル）フタルイミドを用いて９８と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８０．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ５．９４（２Ｈ，ｓ），７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．６２（１Ｈ，ｓ），７．７８−７．８５（２Ｈ，ｍ），７．９０−７．９６（２Ｈ，ｍ），８．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．３７（２Ｈ，ｓ），９．９０（１Ｈ，ｓ）．
例１１２：化合物番号１１２の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及び２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−α−Ｄ−グルコピラノシルブロミドを用いて１０８と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：２６．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  １．９９（３Ｈ，ｓ），２．０３（３Ｈ，ｓ），２．０５（３Ｈ，ｓ），２．０６（３Ｈ，ｓ），３．９２（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１０．２，５．４，２．４Ｈｚ），４．１１−４．１６（１Ｈ，ｍ），４．３３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２．６，５．７Ｈｚ），５．１５−５．２１（１Ｈ，ｍ），５．３０−５．４０（３Ｈ，ｍ），７．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｓ），８．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．２６（２Ｈ，ｓ），９．２７（１Ｈ，ｓ）．
例１１３：化合物番号１１３の化合物の製造
本化合物は、市販化合物である。
販売元：ＭＡＹＢＲＩＤＧＥ社
カタログコード番号：ＲＤＲ０３０９９
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，１．２Ｈｚ），７．９９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．９，２．７Ｈｚ），８．０１（１Ｈ，ｓ），８．２７（２Ｈ，ｓ），８．３５（１Ｈ，ｓ）．
例１１４：化合物番号１１４の化合物の製造
５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物；０．２ｇ，０．５ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（０．５ｍＬ）のジクロロメタン（８ｍＬ）溶液に、氷冷、アルゴン雰囲気下、コハク酸ジクロリド（１２１ｍｇ，０．８ｍｍｏｌ）を加え、次いで室温で１時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、２規定塩酸、水、飽和食塩水で順次洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製して、標題化合物の淡黄色粉末（１６１ｍｇ，６６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ２．２５（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１３．５，１０．０Ｈｚ），２．５５（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１８．０，１０．０，１．８Ｈｚ），２．７５（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１３．５，９．３，２．４Ｈｚ），２．９９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１８．９，９．３Ｈｚ），７．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．８８（２Ｈ，ｓ），８．００（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．０１（１Ｈ，ｓ）．
例１１５：化合物番号１１５の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物）、及びジクロロ酢酸メチル、溶媒としてアセトニトリルを用いて例１０８と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率７９．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ３．７７（３Ｈ，ｓ），５．９９（１Ｈ，ｓ），７．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．８７（１Ｈ，ｓ），７．９５（２Ｈ，ｓ），７．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）．
例１１６：化合物番号１１６の化合物の製造
原料として、６−クロロ−３，４−ジヒドロ−４−オキソ−３−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］−２Ｈ−１，３−ベンゾオキサジン−２−カルボン酸  メチルエステル（化合物番号１１５）を用いて例１１０と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８９．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ６．０２（１Ｈ，ｓ），７．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．８７（１Ｈ，ｂｒ），７．９５（２Ｈ，ｓ），７．９９（１Ｈ，ｂｒｓ）．
例１１７：化合物番号１１７の化合物の製造
アルゴン雰囲気下、無水メタノール（２．０ｍＬ）に金属ナトリウム（１．２ｍｇ）を加え、室温で攪拌、溶解した。この溶液に、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１（１）の化合物；２００ｍｇ，０．５２１ｍｍｏｌ）を加え、さらにアセチレンジカルボン酸ジメチル（８１ｍｇ，０．５７３ｍｍｏｌ）を４０分かけて滴下、次いで室温で４８時間攪拌した。反応混合物に飽和食塩水を加えテトラヒドロフランで抽出した。テトラヒドロフラン層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製して、標題化合物の白色固体（１４１ｍｇ，５１．５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ３．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ），３．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．２Ｈｚ），３．３９（３Ｈ，ｓ），３．７９（３Ｈ，ｓ），７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），７．９４（２Ｈ，ｓ）．
例１１８：化合物番号１１８の化合物の製造
（１）５−クロロ−Ｎ−［５−（１，１−ジメチル）プロピル−２−フェノキシフェニル］−２−ヒドロキシベンズアミド
原料として、５−クロロサリチル酸、及び５−（１，１−ジメチル）プロピル−２−フェノキシアニリンを用いて例１（１）と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：６５．２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ０．６９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），１．２９（６Ｈ，ｓ），１．６４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），６．９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．７，７．６Ｈｚ），６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），７．１０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．７，７．６Ｈｚ），７．１６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．７，７．６Ｈｚ），７．３１−７．４０（４Ｈ，ｍ），８．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０，７．９Ｈｚ），８．５３（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）１１．９４（１Ｈ，ｓ）．
（２）６−クロロ−３−［５−（１，１−ジメチル）プロピル−２−フェノキシフェニル］−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，３−ベンズオキサジン−２，４−ジオン（化合物番号１１８）
５−クロロ−Ｎ−［５−（１，１−ジメチル）プロピル−２−フェノキシフェニル］−２−ヒドロキシベンズアミド（９９ｍｇ，０．２４ｍｍｏｌ）、クロロギ酸エチル（２５μＬ，０．２６ｍｍｏｌ）、ピリジン（１ｍＬ）の混合物を１時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却後、溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）で精製して、標題化合物の白色固体（４６ｍｇ，４３．６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ０．６５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），１．２４（６Ｈ，ｓ），１．５９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），６．９６（３Ｈ，ｍ），７．１８−７．２９（４Ｈ，ｍ），７．３３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０，１．６Ｈｚ），７．４０（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．４，１．５Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），８．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）．
例１１９：化合物番号１１９の化合物の製造
原料として、Ｎ−（４−ビフェニル）−２−ヒドロキシ−５−（トリフルオロメチル）ベンズアミド、及びモルフォーリン−４−カルボニルクロリドを用いて例７１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８８．９％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ３．２９−３．３８（２Ｈ，ｍ），３．４８−３．５８（６Ｈ，ｍ），７．３１−７．３７（１Ｈ，ｍ），７．４４−７．４９（２Ｈ，ｍ），７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．６７−７．７１（４Ｈ，ｍ），７．７９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．９５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２，４Ｈｚ），８．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），１０．６０（１Ｈ，ｓ）．
［Ｎ−（４−ビフェニル）−２−ヒドロキシ−５−（トリフルオロメチル）ベンズアミド：国際公開第９９／６５４４９号パンフレット参照］
例１２０：化合物番号１２０の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例９１（１）の化合物）、及び亜リン酸ジベンジルを用いて例５０と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９０．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ５．１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），５．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．２９−７．３５（１０Ｈ，ｍ），７．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，０．９Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．０９（１Ｈ，ｓ），１０．６１（１Ｈ，ｓ）．
例１２１：化合物番号１２１の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−（ジベンジルフォースフォーノ）オキシ−Ｎ−［２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号１２０）を用いて例５１と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９５．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．４７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，０．９Ｈｚ），７．６３−７．６８（２Ｈ，ｍ），７．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．１５（１Ｈ，ｓ），１０．３８（１Ｈ，ｓ）．
例１２２：化合物番号１２２の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−フォースフォーノオキシ−Ｎ−［２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号１２１）を用いて例５２と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９３．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．４０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，０．９Ｈｚ）７．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，３．０Ｈｚ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），７．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．９８（１Ｈ，ｓ），８．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１１．９５（１Ｈ，ｓ）．
例１２３：化合物番号１２３の化合物の製造
原料として、５−クロロ−Ｎ−［２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）フェニル］−２−ヒドロキシベンズアミド（例８４（１）の化合物）、及び亜リン酸ジベンジルを用いて例５０と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９９．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ５．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），５．１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．２７−７．３３（１０Ｈ，ｍ），７．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ），７．６１−７．６６（２Ｈ，ｍ），７．７７−７．８０（２Ｈ，ｍ），８．１９（１Ｈ，ｓ），１０．４３（１Ｈ，ｓ）．
例１２４：化合物番号１２４の化合物の製造
原料として、５−クロロ−Ｎ−［２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）フェニル］−２−［（ジベンジルフォースフォーノ）オキシ］ベンズアミド（化合物番号１２３）を用いて例５１と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９５．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１，２．１Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，３．０Ｈｚ），７．７９−７．８２（２Ｈ，ｍ），８．４４（１Ｈ，ｓ），１０．３１（１Ｈ，ｓ）．
例１２５：化合物番号１２５の化合物の製造
原料として、５−クロロ−Ｎ−［２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）フェニル］−２−（フォースフォーノオキシ）ベンズアミド（化合物番号１２４）を用いて例５２と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９０．２％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，３．０Ｈｚ）７．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．１Ｈｚ），７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６９−７．７２（２Ｈ，ｍ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），１１．７０（１Ｈ，ｓ）．
例１２６：化合物番号１２６の化合物の製造
原料として、５−クロロ−Ｎ−｛４−［（１，１−ジメチル）エチル］−５−［（２，２−ジメチル）プロピオニル］チアゾール−２−イル｝−２−ヒドロキシベンズアミド（例９２（３）の化合物）、及び亜リン酸ジベンジルを用いて例５０と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：１００．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  １．２１（９Ｈ，ｓ），１．２５（９Ｈ，ｓ），５．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），５．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）７．２３−７．３８（１１Ｈ，ｍ），７．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．８２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７，０．９Ｈｚ），１３．００（１Ｈ，ｓ）．
例１２７：化合物番号１２７の化合物の製造
原料として、５−クロロ−２−（ジベンジルフォースフォーノ）オキシ−Ｎ−｛４−［（１，１−ジメチル）エチル］−５−［（２，２−ジメチル）プロピオニル］チアゾール−２−イル｝ベンズアミド（化合物番号１２６）を用いて例５１と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９８．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  １．２６（９Ｈ，ｓ），１．２８（９Ｈ，ｓ），７．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，１．２Ｈｚ），７．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）．
例１２８：化合物番号１２８の化合物の製造
原料として、５−クロロ−Ｎ−｛４−［（１，１−ジメチル）エチル］−５−［（２，２−ジメチル）プロピオニル］チアゾール−２−イル｝−２−（フォースフォーノオキシ）ベンズアミド（化合物番号１２７）を用いて例５２と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：３５．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  １．２６（９Ｈ，ｓ），１．２７（９Ｈ，ｓ），７．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．７Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）．
例１２９：化合物番号１２９の化合物の製造
（１）５−ブロモ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド
原料として、５−ブロモサリチル酸、及び２，５−ビス（トリフルオロメチル）アニリンを用いて例１（１）と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：２４．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）８．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．７４（１Ｈ，ｓ），１１．０２（１Ｈ，ｓ），１２．３４（１Ｈ，ｓ）．
（２）５−ブロモ−２−（モルフォーリノカルボニル）オキシ−Ｎ−［２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号１２９）
原料として、５−ブロモ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド、及びモルフォーリン−４−カルボニルクロリドを用いて例７１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８９．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ３．５５−３．６８（８Ｈ，ｍ），７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．７Ｈｚ），７．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．３９（１Ｈ，ｓ），８．６０（１Ｈ，ｓ）．
例１３０：化合物番号１３０の化合物の製造
（１）２−ヒドロキシ−Ｎ−［２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド
サリチル酸（６．９０ｇ，５０ｍｍｏｌ）、２，５−ビス（トリフルオロメチル）アニリン（１１．４６ｇ，５０ｍｍｏｌ）、三塩化りん（２．１８ｍｌ，２５ｍｍｏｌ）、クロロベンゼン（１５０ｍｌ）の混合物を４時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却後、酢酸エチルで希釈した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をｎ−ヘキサンで洗浄して、標題化合物の白色固体（８．４ｇ，４７．８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）：δ  ７．００−７．０６（２Ｈ，ｍ），７．４８（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．５，７．５Ｈｚ），７．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．０１−８．０８（２Ｈ，ｍ），８．７９（１Ｈ，ｓ），１１．０９（１Ｈ，ｓ），１２．０３（１Ｈ，ｓ）．
（２）３，５−ジブロモ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド
２−ヒドロキシ−Ｎ−［２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（１７５ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）の四塩化炭素（５ｍＬ）溶液に、鉄（３ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）、臭素（１２９μｌ，２．５ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で１２時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却後、飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製して、標題化合物の白色結晶（１８４．２ｍｇ，７２．７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．９２−７．９８（１Ｈ，ｍ），８．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），８．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．２７−８．３２（１Ｈ，ｍ），１１．３１（１Ｈ，ｓ）．
（３）３，５−ジブロモ−２−（モルフォーリノカルボニル）オキシ−Ｎ−［２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号１３０）
３，５−ジブロモ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド、及びモルフォーリン−４−カルボニルクロリドを用いて例７１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：７０．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３−ｄ６）：δ  ３．５４−３．７７（８Ｈ，ｍ），７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．５４（２Ｈ，ｂｒｓ）．
例１３１：化合物番号１３１の化合物の製造
例１３０（１）のｎ−ヘキサン洗液から標題化合物の白色固体（２１１．７ｍｇ，０．９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ６．９８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．０３（１Ｈ，ｄ，８．４Ｈｚ），７．４６−７．６０（３Ｈ，ｍ），７．６７−７．７２（１Ｈ，ｍ），７．８０−７．８４（２Ｈ，ｍ），７．８８−７．９１（１Ｈ，ｍ），７．９７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．２，８．１Ｈｚ），８．０２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），１０．２３（１Ｈ，ｓ），１０．５２（１Ｈ，ｓ）．
例１３２：化合物番号１３２の化合物の製造
２−ヒドロキシ−Ｎ−［２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１３０（１）の化合物）、及びモルフォーリン−４−カルボニルクロリドを用いて例７１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ３．５７−３．７１（８Ｈ，ｍ），７．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．３７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝７．８，１．２Ｈｚ），７．５３−７．５９（２Ｈ，ｍ），７．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５，７．８Ｈｚ），８．４２（１Ｈ，ｂｒｓ），８．６８（１Ｈ，ｓ）．
例１３３：化合物番号１３３の化合物の製造
（１）５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［２−（４−メトキシフェノキシ）−５−（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド
原料として、５−クロロサリチル酸、及び３−アミノ−４−（４−メトキシフェノキシ）ベンゾトリフルオライドを用いて例１（１）と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８８．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ３．８５（３Ｈ，ｓ）６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），６．９７−７．０２（３Ｈ，ｍ），７．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｍ），７．４０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８，１．９Ｈｚ），７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），８．７０（１Ｈ，ｓ），８．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ），１１．７６（１Ｈ，ｓ）．
（２）５−クロロ−Ｎ−［２−（４−メトキシフェノキシ）−５−（トリフルオロメチル）フェニル］−２−［（モルフォーリノカルボニル）オキシ］ベンズアミド（化合物番号１３３）
原料として、５−クロロ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［２−（４−メトキシフェノキシ）−５−（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド、及びモルフォーリン−４−カルボニルクロリドを用いて例７１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率６０．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ３．３７−３．４１（２Ｈ，ｍ），３．６２（６Ｈ，ｓ），３．８３（３Ｈ，ｓ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），６．９３−７．０３（４Ｈ，ｍ），７．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．２４−７．２８（１Ｈ，ｍ），７．４７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．９０−８．９３（２Ｈ，ｍ）．
例１３４：化合物番号１３４の化合物の製造
原料として、５−ブロモ−Ｎ−［２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）フェニル］−２−ヒドロキシベンズアミド（例８５（１）の化合物）、及び亜リン酸ジベンジルを用いて例５０と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８９．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ５．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），５．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２３−７．３９（１１Ｈ，ｍ），７．６１−７．６４（１Ｈ，ｍ），７．７４−７．８０（２Ｈ，ｍ），７．９１（１Ｈ，ｍ），８．１９（１Ｈ，ｍ），１０．４５（１Ｈ，ｓ）．
例１３５：化合物番号１３５の化合物の製造
原料として、５−ブロモ−Ｎ−［２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）フェニル］−２−［（ジベンジルフォースフォーノ）オキシ］ベンズアミド（化合物番号１３４）を用いて例５１と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８９．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，１．２Ｈｚ），７．６１，（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．１Ｈｚ），７．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．４Ｈｚ），７．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），８．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ），１０．２７（１Ｈ，ｓ）．
例１３６：化合物番号１３６の化合物の製造
原料として、５−ブロモ−Ｎ−［２−クロロ−５−（トリフルオロメチル）フェニル］−２−（フォースフォーノオキシ）ベンズアミド（化合物番号１３５）を用いて例５２と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：１００．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，０．９Ｈｚ），７．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１．８Ｈｚ），７．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），１１．９６（１Ｈ，ｓ）．
例１３７：化合物番号１３７の化合物の製造
原料として、５−［（１，１−ジメチル）エチル］−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例７８（１）の化合物）、及び亜リン酸ジベンジルを用いて例５０と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９４．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  １．３２（９Ｈ，ｓ），５．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），５．１０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２２−７．３６（１１Ｈ，ｍ），７．６０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，ｓ），８．３９（２Ｈ，ｓ），１１．０５（１Ｈ，ｓ）．
例１３８：化合物番号１３８の化合物の製造
原料として、２−（ジベンジルフォースフォーノ）オキシ−５−［（１，１−ジメチル）エチル］−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号１３７）を用いて例５１と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：１００．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  １．３１（９Ｈ，ｓ），７．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．５８−７．６３（２Ｈ，ｍ），７．８２（１Ｈ，ｓ），８．４３（２Ｈ，ｓ），１１．１１（１Ｈ，ｓ）．
例１３９：化合物番号１３９の化合物の製造
原料として、５−［（１，１−ジメチル）エチル］−２−フォースフォーノオキシ−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号１３８）を用いて例５２と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８５．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  １．２９（９Ｈ，ｓ），７．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），７．７４（１Ｈ，ｓ），８．５５（２Ｈ，ｓ），１３．４７（１Ｈ，ｓ）．
例１４０：化合物番号１４０の化合物の製造
原料として、５−ブロモ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１２９（１）の化合物）、及び亜リン酸ジベンジルを用いて例５０と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８４．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ５．１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），５．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２６−７．３９（１１Ｈ，ｍ），７．７６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．１Ｈｚ），７．８７（１Ｈ，ｍ），７．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．０９（１Ｈ，ｓ），１０．６１（１Ｈ，ｓ）．
例１４１：化合物番号１４１の化合物の製造
原料として、５−ブロモ−２−（ジベンジルフォースフォーノ）オキシ−Ｎ−［２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号１４０）を用いて例５１と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８５．４％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７５−７．７９（２Ｈ，ｍ），７．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），８．１５（１Ｈ，ｓ），１０．４２（１Ｈ，ｓ）．
例１４２：化合物番号１４２の化合物の製造
原料として、５−ブロモ−２−フォースフォーノオキシ−Ｎ−［２，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号１４１）を用いて例５２と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８９．３％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．７Ｈｚ），７．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．９２（１Ｈ，ｓ），８．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），１２．４４（１Ｈ，ｓ）．
例１４３：化合物番号１４３の化合物の製造
原料として、５−ブロモ−Ｎ−｛３，５−ビス［（１，１−ジメチル）エチル］フェニル｝−２−ヒドロキシベンズアミド（例９０（１）の化合物）、及び亜リン酸ジベンジルを用いて例５０と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９４．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  １．２３（１８Ｈ，ｓ），５．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），５．１０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．１６−７．３４（１２Ｈ，ｍ），７．６５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．０，２．７Ｈｚ），７．８２−７．８３（１Ｈ，ｍ），１０．４３（１Ｈ，ｓ）．
例１４４：化合物番号１４４の化合物の製造
原料として、５−ブロモ−２−（ジベンジルフォースフォーノ）オキシ−Ｎ−｛３，５−ビス［（１，１−ジメチル）エチル］フェニル｝ベンズアミド（化合物番号１４３）を用いて例５１と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９４．８％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  １．２８（１８Ｈ，ｓ），７．１５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．３８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，０．９Ｈｚ），７．６１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７，０．６Ｈｚ），１０．３１（１Ｈ，ｓ）．
例１４５：化合物番号１４５の化合物の製造
原料として、５−ブロモ−Ｎ−｛３，５−ビス［（１，１−ジメチル）エチル］フェニル｝−２−（フォースフォーノオキシ）ベンズアミド（化合物番号１４４）を用いて例５２と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：７５．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  １．２８（１８Ｈ，ｓ），７．１１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，０．６Ｈｚ），７．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．７Ｈｚ），７．７２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），１２．００（１Ｈ，ｓ）．
例１４６：化合物番号１４６の化合物の製造
（１）２−ヒドロキシ−５−（３−チエニル）−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド
原料として、２−ヒドロキシ−５−ヨード−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例８１（１）の化合物）、及び３−チオフェンボロン酸を用いて例８１（２）と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：３８．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，１．５Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，３．０Ｈｚ），７．８１−７．８４（２Ｈ，ｍ），７．８６（１Ｈ，ｓ），８．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．４９（２Ｈ，ｓ），１０．９０（１Ｈ，ｓ），１１．３３（１Ｈ，ｓ）．
（２）２−（モルフォーリノカルボニル）オキシ−５−（３−チエニル）−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号１４６）
原料として、２−ヒドロキシ−５−（３−チエニル）−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド、及びモルフォーリン−４−カルボニルクロリドを用いて例７１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９２．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ３．５８−３．７２（８Ｈ，ｍ），７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，１．２Ｈｚ）７．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，３．０Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．０，１．５Ｈｚ），７．６０−７．６４（２Ｈ，ｍ），７．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．０９（２Ｈ，ｓ），９．１５（１Ｈ，ｓ）．
例１４７：化合物番号１４７の化合物の製造
原料として、５−ブロモ−２−ヒドロキシ−Ｎ−［３−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例８７（１）の化合物）、及び亜リン酸ジベンジルを用いて例５０と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：７７．７％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ３．７８（３Ｈ，ｓ），５．０９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），５．１０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．００（１Ｈ，ｓ），７．２３−７．３６（１１Ｈ，ｍ），７．５６（１Ｈ，ｍ），７．７３−７．７７（２Ｈ，ｍ），７．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），１０．８４（１Ｈ，ｓ）．
例１４８：化合物番号１４８の化合物の製造
原料として、５−ブロモ−２−（ジベンジルフォースフォーノ）オキシ−Ｎ−［３−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号１４７）を用いて例５１と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９８．１％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ３．８３（３Ｈ，ｓ），７．００（１Ｈ，ｓ），７．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．５７（１Ｈ，ｓ），７．７１−７．７７（３Ｈ，ｍ），１０．８０（１Ｈ，ｓ）．
例１４９：化合物番号１４９の化合物の製造
原料として、５−ブロモ−Ｎ−［３−メトキシ−５−（トリフルオロメチル）フェニル］−２−（フォースフォーノオキシ）ベンズアミド（化合物番号１４８）を用いて例５２と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９８．６％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ３．８２（３Ｈ，ｓ），６．９５（１Ｈ，ｓ），７．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，２．４Ｈｚ），７．７０（１Ｈ，ｓ），７．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．８６（１Ｈ，ｓ），１２．６２（１Ｈ，ｂｒｓ）．
例１５０：化合物番号１５０の化合物の製造
（１）２−ヒドロキシ−５−フェニルエテニル−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド
２−ヒドロキシ−５−ヨード−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例８１（１）の化合物；４７５ｍｇ，１ｍｍｏｌ）、スチレン（１３０ｍｇ，１．２５ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（４．５ｍｇ，０．０２ｍｍｏｌ）、トリス（オルト−トリル）ホスフィン（１２．２ｍｇ，０．０４ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルアミン（３８８ｍｇ，３ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルフォールムアミド（２ｍＬ）の混合物を８時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：イソプロピルエーテル＝２：１→１：１）で精製して、標題化合物の淡黄色固体（１７３ｍｇ，３８．３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ７．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．２０−７．２９（３Ｈ，ｍ），７．３８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．５９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．７２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．１Ｈｚ），７．８６（１Ｈ，ｓ），８．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．４９（２Ｈ，ｓ），１０．８９（１Ｈ，ｓ），１１．３３（１Ｈ，ｂｒｓ）．
（２）２−（モルフォーリノカルボニル）オキシ−５−フェニルエテニル−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（化合物番号１５０）
原料として、２−ヒドロキシ−５−フェニルエテニル−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド、及びモルフォーリン−４−カルボニルクロリドを用いて例７１と同様の操作を行い、標題化合物を得た。
収率：９９．５％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ  ３．６１−３．６９（８Ｈ，ｍ），７．０８−７．１２（３Ｈ，ｍ），７．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．３６−７．４１（２Ｈ，ｍ），７．５１−７．５３（２Ｈ，ｍ），７．５９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，２．４Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｓ），７．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．１１（２Ｈ，ｓ），９．０５（１Ｈ，ｓ）．
例１５１：化合物番号１５１の化合物の製造
原料として、２−ヒドロキシ−５−フェニルエテニル−Ｎ−［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ベンズアミド（例１５０（１）の化合物）、及び亜リン酸ジベンジルを用いて例５０と同様な操作を行い、標題化合物を得た。
収率：８２．０％
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  ５．１２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），５．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．２５−７．４３（１６Ｈ，ｍ），７．６３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．７８−７．８２（２Ｈ，ｍ），７．９６（１Ｈ，ｓ），８．４０（２Ｈ，ｓ），１１．１７（１Ｈ，ｓ）．
試験例：ＮＦ−κＢ活性化阻害測定
ＮＦ−κＢ活性化阻害作用をＨｉｌｌらの方法（「セル（Ｃｅｌｌ）」，（米国），１９９３年，第７３巻，第２号，ｐ．３９５−４０６参照。）を参考にして実施した。ＮＦ−κＢ結合配列（ＴＧＧＧＧＡＣＴＴＴＣＣＧＣ）を５個連結（タンデムに）したオリゴヌクレオチドをフォータルルシフェラーゼ遺伝子（Ｌｕｃ）の上流に組み込んだプラスミド（ｐＮＦκＢ−Ｌｕｃ  Ｒｅｐｏｒｔｅｒ  Ｐｌａｓｍｉｄ：ＳＴＲＡＴＡＧＥＮＥ社製）をトランスフェクション試薬（Ｅｆｆｅｃｔｅｎｅ、ＱＩＡＧＥＮ社製）を用いてヒト肝癌由来細胞株ＨｅｐＧ２にＱＩＡＧＥＮ社のプロトコールに従いトランスフェクトして、６〜２４時間培養した。その後、被検化合物の存在下又は非存在下で、ＴＮＦ−α（４０ｎｇ／ｍｌ）を加えて４時間培養した後、細胞内ノールシフェラーゼ活性をピッカジーンＬＴ（東洋インキ社製）及び化学発光測定装置、（ＳＰＥＣＴＲＡＦＬＵＯＲＰＬＵＳ、ＴＥＣＡＮ社製）を用いて測定した。被検化合物非存在下におけるルシフェラーゼ活性値に対しての比率で阻害率を求めた。被検化合物１０μｇ／ｍｌ及び１μｇ／ｍｌ存在下におけるＮＦ−κＢ活性阻害率を下記の表に示す。
2003103656.tif 000062
2003103656.tif 000063
2003103656.tif 000064
2003103656.tif 000065
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2003103656.tif 000067
産業上の利用可能性
本発明の医薬は転写因子ＮＦ−κＢの活性化阻害作用を有し、さらに炎症性サイトカインの産生遊離抑制作用を有するので、ＮＦ−κＢ活性化に起因する疾患及び炎症性サイトカイン産生過剰に起因する疾患の予防及び／又は治療剤として有用である。
【国際調査報告】
2003103656.tif 000073
2003103656.tif 000074
2003103656.tif 000075
2003103656.tif 000076
2003103656.tif 000077
2003103656.tif 000078
2003103656.tif 000079
2003103656.tif 000080
2003103656.tif 000081