(57)【要約】本発明は、α４インテグリン阻害作用を有する下記のフェニルアラニン誘導体またはその類縁体、及びα４インテグリンに関与する各種疾病の治療薬に関する。2003070709.tif 000130
2003070709.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で示されるフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
2003070709.tif 000112
［Ａは下記一般式（２）、（３）、（３−１）又は（３−２）で表される基のいずれかを表し、
2003070709.tif 000113
（式中Ａｒｍは酸素原子、硫黄原子または窒素原子より選ばれるヘテロ原子を０、１、２、３または４個含んだ環状アルキル基または芳香環である。式（３−２）中の実線と点線の複合線は、単結合、または二重結合をあらわす。また、Ｕ、Ｖ、ＸはＣ（＝Ｏ）、Ｓ（＝Ｏ）２、Ｃ（−Ｒ５）（−Ｒ６）、Ｃ（＝Ｃ（Ｒ５）（Ｒ６））、Ｃ（＝Ｓ）、Ｓ（＝Ｏ）、Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）、Ｐ（−Ｈ）（＝Ｏ）のいずれかを表し、ＷはＣ（−Ｒ７）、窒素原子のいずれかを表し、
ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７はそれぞれ同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、置換された低級アルケニル基、低級アルキニル基、置換された低級アルキニル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでも良い）、アリール基、ヘテロアリール基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでも良い）で置換された低級アルキル基、アリール基で置換された低級アルキル基、ヘテロアリール基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでも良い）で置換された低級アルコキシ基および低級アルキルチオ基、アリール基で置換された低級アルコキシ基および低級アルキルチオ基、ヘテロアリール基で置換された低級アルコキシ基および低級アルキルチオ基、環状アルキル（環中にヘテロ原子を含んでも良い）オキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルケニル基、ヒドロキシ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルケニル基、ニトロ基、シアノ基、置換または無置換アミノ基、カルボキシル基、低級アルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のカルバモイル基、低級アルカノイル基、アロイル基、低級アルキルスルホニル基、置換または無置換スルファモイル基、アンモニウム基のいずれかを表し、また、Ｒ５及びＲ６は結合して環を形成してもよく、場合により、環中に１または２個の酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでいてよく、
Ｂは置換基を有する低級アルコキシ基、置換または無置換のアミノ基（ただしヒドロキシルアミノ基を除く）、置換または無置換のメルカプト基のいずれかを表し、
Ｃは水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでも良い）で置換された低級アルキル基、アリール基で置換された低級アルキル基、ヘテロアリール基で置換された低級アルキル基のいずれかを表し、
Ｄは低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでも良い）、アリール基、ヘテロアリール基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでも良い）で置換された低級アルキル基、アリール基で置換された低級アルキル基、ヘテロアリール基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでも良い）で置換された低級アルコキシ基、アリール基で置換された低級アルコキシ基、ヘテロアリール基で置換された低級アルコキシ基、環状アルキル（環中にヘテロ原子を含んでも良い）オキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルケニル基、ヒドロキシ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルケニル基、ニトロ基、シアノ基、置換または無置換アミノ基、カルボキシル基、低級アルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のカルバモイル基、低級アルカノイル基、アロイル基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルホニル基、置換または無置換スルファモイル基のいずれかを表す。
また、Ｃ及びＤは結合して環を形成してもよく、場合により、環中に１または２個の酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでいてもよい。
Ｔは原子間結合、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｓ）、Ｓ（＝Ｏ）、Ｓ（＝Ｏ）２、Ｎ（Ｈ）−Ｃ（＝Ｏ）、Ｎ（Ｈ）−Ｃ（＝Ｓ）のいずれかを表し、
Ｊ及びＪ’はそれぞれ同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルキルオキシ基、ニトロ基のいずれかを表す。
【請求項２】
式（１）においてＢが、下記式（Ｂ−１）又は（Ｂ−２）で表される有機基、置換または無置換のアミノ基又は置換または無置換のメルカプト基で表される、請求項１記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
2003070709.tif 000114
（式中、Ｙは、置換または無置換の低級炭化水素２価基を示し、Ｅは、置換または無置換のアシルオキシ基、置換または無置換の低級アルコキシカルボニルオキシ基、置換または無置換のアミノ基、カルボキシル基、置換または無置換の低級アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、アリール基、ヘテロアリール基、置換又は無置換のアルコキシ基又は置換または無置換のカルバモイル基を示し、Ｒｂ１は水素原子又は低級アルキル基を示す。ＹとＥは結合して環を形成してもよい。）
【請求項３】
式（１）においてＢが、請求項２記載の式（Ｂ−１）又は（Ｂ−２）で表される有機基、置換または無置換のアミノ基又は置換または無置換のメルカプト基で表され、
式（Ｂ−１）又は（Ｂ−２）において、
Ｙは、置換または無置換の低級炭化水素２価基を示し、Ｅは、置換または無置換のアシルオキシ基、置換または無置換の低級アルコキシカルボニルオキシ基、置換または無置換のアミノ基、カルボキシル基又は置換または無置換の低級アルコキシカルボニル基を示し、Ｒｂ１は水素原子又は低級アルキル基を示し、ＹとＥは結合して環を形成してもよい、
請求項１記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
【請求項４】
式（１）においてＢが、請求項２記載の式（Ｂ−１）で表される有機基又は置換または無置換のアミノ基を表し、
式（Ｂ−１）において、
Ｙは、置換または無置換の低級炭化水素２価基を示し、Ｅは、置換または無置換のアシルオキシ基、置換または無置換の低級アルコキシカルボニルオキシ基、置換または無置換のアミノ基、ハロゲン原子、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基又は置換または無置換のカルバモイル基のいずれかを示す、
請求項１記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
【請求項５】
式（１）において、Ｂが、請求項２記載の式（Ｂ−１）で表される基あるいは置換または無置換のアミノ基を表し、
式（Ｂ−１）において、
Ｙが、置換または無置換のメチレン基、置換または無置換のエチレン基又は置換または無置換のトリメチレン基を示し、及び
Ｅが、置換または無置換のアシルオキシ基、置換または無置換のアルコキシカルボニルオキシ基又は置換または無置換のアミノ基を示す、
請求項１記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
【請求項６】
式（１）において、Ｂが、請求項２記載の式（Ｂ−１）で表される基あるいは低級アルキル基で置換または無置換のアミノ基を表し、
式（Ｂ−１）において、
Ｙが、置換または無置換のメチレン基、置換または無置換のエチレン基又は置換または無置換のトリメチレン基を示し、及び
Ｅが、置換または無置換のアシルオキシ基、塩素原子、フッ素原子、置換または無置換のフリル基、置換または無置換のフェニル基、置換または無置換のチエニル基、置換または無置換のピリジル基、低級アルコキシ基、低級アルキル基で置換されてもよいカルバモイル基、置換または無置換の低級アルコキシカルボニルオキシ基又は置換または無置換のアミノ基を示す、
請求項１記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
【請求項７】
式（１）において、Ｂが、請求項２記載の式（Ｂ−１）で表される基あるいは置換または無置換のアミノ基を表し、
式（Ｂ−１）において、
Ｙが置換または無置換のメチレン基を示し、かつＥが置換または無置換のアシルオキシ基又は置換または無置換の低級アルコキシカルボニルオキシ基を示し、
あるいはＹが置換または無置換のエチレン基又は置換または無置換のトリメチレン基を示し、かつＥが置換または無置換のアミノ基を示し、
あるいはＹが、アシルオキシメチル基を置換基として有するエチレン基を示し、かつＥが置換または無置換のアシルオキシ基を示す、
請求項１記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
【請求項８】
式（１）においてＢが、請求項２記載の式（Ｂ−１）で表される基あるいは１つの低級アルキル基で置換されているか又は無置換のアミノ基を表し、
式（Ｂ−１）において、
Ｙが、低級アルキル基で置換されているか又は無置換のメチレン基を示し、かつＥが置換または無置換の低級アシルオキシ基、塩素原子、フッ素原子、置換又は無置換のフリル基、低級アルキル基で置換されてもよいカルバモイル基又は置換または無置換の低級アルコキシカルボニルオキシ基を示し、
あるいはＹが、置換または無置換のエチレン基又は置換または無置換のトリメチレン基を示し、かつＥが低級アルコキシ基又は低級アルキル基で置換されたアミノ基を示す、
請求項１記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
【請求項９】
式（１）においてＢが、請求項２記載の式（Ｂ−１）で表される基あるいは１つの低級アルキル基で置換されているか又は無置換のアミノ基を表し、
式（Ｂ−１）において、
Ｙが、低級アルキル基で置換されているか又は無置換のメチレン基を示し、かつＥが置換または無置換の低級アシルオキシ基又は置換または無置換の低級アルコキシカルボニルオキシ基を示し、
あるいはＹが、置換または無置換のエチレン基又は置換または無置換のトリメチレン基を示し、かつＥが低級アルキル基で置換されたアミノ基を示す、
請求項１記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
【請求項１０】
式（１）においてＢが、請求項２記載の式（Ｂ−１）で表される基あるいは１つの低級アルキル基で置換されているアミノ基を表し、
式（Ｂ−１）において、
Ｙが、低級アルキル基で置換されているメチレン基を示し、かつＥが無置換の低級アルコキシカルボニルオキシ基を示し、
あるいはＹが、無置換のメチレン基を示し、かつＥが無置換の低級アシルオキシ基を示し、
あるいはＹが、無置換のエチレン基を示し、かつＥが環状アミノ基を示す、
請求項１記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
【請求項１１】
式（１）においてＢが、請求項２記載の式（Ｂ−１）で表される基を表し、
式（Ｂ−１）において、
Ｙが、無置換のメチレン基を示し、かつＥが無置換の低級アシルオキシ基、塩素原子、フリル基、ジメチルカルバモイル基を示し、
あるいはＹが、無置換のエチレン基を示し、かつＥが低級アルコキシ基を示す、
請求項１記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
【請求項１２】
一般式（１）中において、
Ｃが水素原子または低級アルキル基、
Ｊ及びＪ’がそれぞれ水素原子であり、
一般式（２）、（３）中において、
Ａｒｍがベンゼン環、または酸素原子、硫黄原子または窒素原子より選ばれるヘテロ原子を１、２、３または４個含んだ芳香環であり、
Ｖ、ＸがＣ（＝Ｏ）、Ｓ（＝Ｏ）２、Ｃ（−Ｒ５）（−Ｒ６）のいずれかで表される基、
ＵがＣ（＝Ｏ）、Ｓ（＝Ｏ）２、Ｃ（−Ｒ５）（−Ｒ６）、Ｃ（＝Ｃ（Ｒ５）（Ｒ６））、Ｃ（＝Ｓ）、Ｓ（＝Ｏ）、Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）、Ｐ（−Ｈ）（＝Ｏ）のいずれかを表される基である請求項７記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
【請求項１３】
Ａが、下記式（３−４）あるいは（３−５）で表される請求項７記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
2003070709.tif 000115
（式中、Ａｒｍ、Ｒ１〜Ｒ４は請求項１におけると同じであり、式（３−５）中の実線と点線の複合線は、単結合、または二重結合を表す。）
【請求項１４】
一般式（１）中において、
Ａが、請求項１３記載の式（３−４）で表され、
Ａｒｍがベンゼン環、ピリジン環、ピラゾール環、シクロヘキサン環であり、
Ｒ１が低級アルキル基であり、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、トリアルキルアンモニウム基のいずれかで表される基である請求項４記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
【請求項１５】
一般式（１）中において、
Ａが、式（３−４）で表され、
Ａｒｍがベンゼン環、ピリジン環、ピラゾール環、シクロヘキサン環であり、
Ｒ１が低級アルキル基であり、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、トリアルキルアンモニウム基のいずれかで表される基である請求項１３記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
【請求項１６】
一般式（１）中、Ａが、下記式（３−４）あるいは（３−５）で表され
2003070709.tif 000116
（式中、Ａｒｍ、Ｒ１〜Ｒ４は請求項１におけると同じであり、式（３−５）中の実線と点線の複合線は、単結合、または二重結合を表す。）
Ｄが下記式（４−１）、（４−２）、（４−３）、又は（４−４）で表され、
2003070709.tif 000117
（式中、Ｒ１３はハロゲン原子、メチル基を示し、Ｒ８はハロゲン原子、メチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、水素原子を示し、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、トリアルキルアンモニウム基、メタンスルホニルアミノ基、テトラゾーリル基を示す。）、
Ｃが水素原子、
ＪおよびＪ’がそれぞれ水素原子であり、
ＴがＣ（＝Ｏ）であるような請求項６記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
【請求項１７】
一般式（１）中、Ａが、下記式（３−４）あるいは（３−５）で表され、
2003070709.tif 000118
（式中、Ａｒｍ、Ｒ１〜Ｒ４は請求項１におけると同じであり、式（３−５）中の実線と点線の複合線は、単結合、または二重結合を表す。）
Ｄが下記式（４−１）、（４−２）、（４−３）、又は（４−４）で表され、
2003070709.tif 000119
（式中、Ｒ１３はハロゲン原子、メチル基を示し、Ｒ８はハロゲン原子、メチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、水素原子を示し、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、トリアルキルアンモニウム基、メタンスルホニルアミノ基、テトラゾーリル基を示す。）、
Ｃが水素原子、
ＪおよびＪ’がそれぞれ水素原子であり、
ＴがＣ（＝Ｏ）であるような請求項７記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
【請求項１８】
一般式（１）中において、
Ａが、請求項１７記載の式（３−４）で表され、
Ａｒｍがベンゼン環、ピリジン環、ピラゾール環、シクロヘキサン環であり、
Ｒ１が低級アルキル基であり、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、トリアルキルアンモニウム基のいずれかで表される基であり、
Ｄが下記式（４−１）であり、
2003070709.tif 000120
（式中、Ｒ１３、Ｒ８は塩素原子、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、トリアルキルアンモニウム基、を示す。）
Ｃが水素原子、
ＪおよびＪ’がそれぞれ水素原子であり、
ＴがＣ（＝Ｏ）であるような請求項８記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
【請求項１９】
一般式（１）中において、
Ａが、請求項１７記載の式（３−４）で表され、
Ａｒｍがベンゼン環、ピリジン環、ピラゾール環、シクロヘキサン環であり、
Ｒ１が低級アルキル基であり、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、トリアルキルアンモニウム基のいずれかで表される基であり、
Ｄが下記式（４−１）であり、
2003070709.tif 000121
（式中、Ｒ１３、Ｒ８は塩素原子、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、トリアルキルアンモニウム基、を示す。）
Ｃが水素原子、
ＪおよびＪ’がそれぞれ水素原子であり、
ＴがＣ（＝Ｏ）であるような請求項９記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
【請求項２０】
下記の式で表される請求項９記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
2003070709.tif 000122
（式中、Ｒ１はメチル基又はエチル基を示し、Ｒ８はハロゲン原子又はメチル基を示し、Ｒ１１，Ｒ１２はそれぞれ同じでも異なってもよく水素原子、メチル基、エチル基又はプロピル基を示し、またＲ１１、Ｒ１２は結合して環を形成してもよくその場合Ｒ１１−Ｒ１２はトリメチレン、テトラメチレン又はペンタメチレン基を示す。Ｂは請求項９に記載のものと同一である。）
【請求項２１】
下記の式で表される請求項１１記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
2003070709.tif 000123
（式中、Ｒ１はメチル基又はエチル基を示し、Ｒ８はハロゲン原子又はメチル基を示し、Ｒ１１，Ｒ１２はそれぞれ同じでも異なってもよく水素原子、メチル基、エチル基又はプロピル基を示し、またＲ１１、Ｒ１２は結合して環を形成してもよくその場合Ｒ１１−Ｒ１２はトリメチレン、テトラメチレン又はペンタメチレン基を示す。Ｂは請求項１１に記載のものと同一である。）
【請求項２２】
Ａが、下記式（３−３）で表される請求項７記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
2003070709.tif 000124
（式中、Ａｒｍ、Ｕ及びＲ１〜Ｒ４は請求項１におけるのと同じである。）
【請求項２３】
一般式（１）中、Ａが請求項２２記載の式（３−３）で表され、式（３−３）中、ＵはＣ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｓ）を示し、Ｒ１は低級アルキル基を示し、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、トリアルキルアンモニウム基のいずれかを示し、
Ｃが水素原子を示し、
Ｄが式（４−１）、（４−２）、（４−３）、又は（４−４）で表され、
2003070709.tif 000125
［式中、Ｒ１３はハロゲン原子またはメチル基を示し、Ｒ８はハロゲン原子、メチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、水素原子を示し、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、トリアルキルアンモニウム基、メタンスルホニルアミノ基、テトラゾーリル基を示す。］
ＴがＣ（＝Ｏ）を示す
請求項６記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
【請求項２４】
一般式（１）中、Ａが請求項２２記載の式（３−３）で表され、式（３−３）中、ＵはＣ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｓ）を示し、Ｒ１は低級アルキル基を示し、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、トリアルキルアンモニウム基のいずれかを示し、
Ｃが水素原子を示し、
Ｄが式（４−１）、（４−２）、（４−３）、又は（４−４）で表され、
2003070709.tif 000126
［式中、Ｒ１３はハロゲン原子またはメチル基を示し、Ｒ８はハロゲン原子、メチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、水素原子を示し、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、トリアルキルアンモニウム基、メタンスルホニルアミノ基、テトラゾーリル基を示す。］
ＴがＣ（＝Ｏ）を示す
請求項９記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
【請求項２５】
一般式（１）中、Ａが式（３−３）で表され、式（３−３）中、ＵはＣ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｓ）を示し、Ｒ１はメチル基又はエチル基を示し、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、トリアルキルアンモニウム基のいずれかを示し、
Ｃが水素原子を示し、
Ｄが式（４−１）で表され、式（４−１）中、Ｒ１３、Ｒ８は塩素原子を示し、
Ｒ９が水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、トリアルキルアンモニウム基を示し、
ＴがＣ（＝Ｏ）を示し、
Ｊ及びＪ‘は水素原子を示す、
請求項２４記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩。
【請求項２６】
下記構造式で表される請求項１記載のフェニルアラニン誘導体又はその医薬的に許容し得る塩。
2003070709.tif 000127
【請求項２７】
下記構造式で表される請求項１記載のフェニルアラニン誘導体又はその医薬的に許容し得る塩。
2003070709.tif 000128
2003070709.tif 000129
【請求項２８】
請求項１、３、５、７、９、１０、１２、１３、１５、１７、１９、２０、２２及び２４〜２６のいずれか１項記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩を有効成分とするα４インテグリン阻害剤。
【請求項２９】
請求項２、４、６、８、１１、１４、１６、１８、２１、２３及び２７のいずれか１項記載のフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩を有効成分とするα４インテグリン阻害剤。
【請求項３０】
請求項１、３、５、７、９、１０、１２、１３、１５、１７、１９、２０、２２及び２４〜２６のいずれか１項記載のフェニルアラニン誘導体、またはその医薬的に許容しうる塩を有効成分とするα４インテグリン依存性の接着過程が病態に関与する炎症性疾患の治療剤または予防剤。
【請求項３１】
請求項２、４、６、８、１１、１４、１６、１８、２１、２３及び２７のいずれか１項記載のフェニルアラニン誘導体、またはその医薬的に許容しうる塩を有効成分とするα４インテグリン依存性の接着過程が病態に関与する炎症性疾患の治療剤または予防剤。
【請求項３２】
請求項１、３、５、７、９、１０、１２、１３、１５、１７、１９、２０、２２及び２４〜２６のいずれか１項記載のフェニルアラニン誘導体、またはその医薬的に許容しうる塩を含有する医薬組成物。
【請求項３３】
請求項２、４、６、８、１１、１４、１６、１８、２１、２３及び２７のいずれか１項記載のフェニルアラニン誘導体、またはその医薬的に許容しうる塩を含有する医薬組成物。
【請求項３４】
請求項１、３、５、７、９、１０、１２、１３、１５、１７、１９、２０、２２及び２４〜２６のいずれか１項記載のフェニルアラニン誘導体、またはその医薬的に許容しうる塩を有効成分とするリウマチ様関節炎、炎症性腸疾患、全身性エリテマトーデス、多発性硬化症、シェーグレン症候群、喘息、乾せん、アレルギー、糖尿病、心臓血管性疾患、動脈硬化症、再狭窄、腫瘍増殖、腫瘍転移、移植拒絶いずれかの治療剤または予防剤。
【請求項３５】
請求項２、４、６、８、１１、１４、１６、１８、２１、２３及び２７のいずれか１項記載のフェニルアラニン誘導体、またはその医薬的に許容しうる塩を有効成分とするリウマチ様関節炎、炎症性腸疾患、全身性エリテマトーデス、多発性硬化症、シェーグレン症候群、喘息、乾せん、アレルギー、糖尿病、心臓血管性疾患、動脈硬化症、再狭窄、腫瘍増殖、腫瘍転移、移植拒絶いずれかの治療剤または予防剤。
【発明の詳細な説明】
発明の背景
本発明は新規なフェニルアラニン誘導体及び医薬品としてのフェニルアラニン誘導体の使用に関するものである。また、α４インテグリン依存性の接着過程が病態に関与する炎症性疾患の治療薬または予防薬として有用な化合物に関する。また、リウマチ様関節炎、炎症性腸疾患、全身性エリテマトーデス、多発性硬化症、シェーグレン症候群、喘息、乾せん、アレルギー、糖尿病、心臓血管性疾患、動脈硬化症、再狭窄、腫瘍増殖、腫瘍転移、移植拒絶などの時に、α４インテグリンの関与が示されており、本発明の化合物はそのα４インテグリンに対する阻害作用を示し、これにより上記疾患の治療薬または予防薬として有用な化合物に関する。
炎症反応において、組織が微生物の進入を受けたり損傷を受けた場合、微生物の排除や損傷組織の修復に白血球が重要な役割を果たすことは広く一般に認識されている。また、この際通常血液中を循環している白血球が血管壁を通り抜け、障害を受けた組織中へ新規に補充される必要があることも広く一般に認識されている。白血球の血管内から組織中への浸潤は、白血球上に発現される一群のヘテロ二量体タンパク質であるインテグリン分子により担われることが明らかにされている。インテグリン分子はその使用するβ鎖により少なくも８つのサブファミリー（β１〜β８サブファミリー）に分類されるが、その代表的なものとしては、主にコラーゲン、フィブロネクチン等の細胞外マトリックスへの細胞成分の接着に作用するβ１、β３サブファミリー、免疫系の細胞―細胞間接着に作用するβ２サブファミリー、そして主に粘膜系組織への白血球の浸潤に関与するβ７サブファミリーが知られている（Ｓｈｉｍｉｚｕ  ｅｔ  ａｌ．Ａｄｖ．Ｉｍｍｕｎｏｌ．７２：３２５−３８０，１９９９）。前述のα４インテグリンとしては、この内β１サブファミリーに属しα４β１鎖よりなるＶＬＡ−４（ｖｅｒｙ  ｌａｔｅ  ａｎｔｉｇｅｎ−４）分子及びβ７サブファミリーに属しα４β７鎖よりなるＬＰＡＭ−１（ｌｙｍｐｈｏｃｙｔｅ  Ｐｅｙｅｒ’ｓ  ｐａｔｃｈ  ＨＥＶ  ａｄｈｅｓｉｏｎ  ｍｏｌｅｃｕｌｅ−１）分子の２種類が知られている。血中に循環している白血球の多くは通常、血管内皮細胞に対しての接着親和性は低く血管外へは移動出来ない。しかしながら、Ｔ細胞、Ｂ細胞を中心とするリンパ球は生理的条件下において血流中より血管壁を通過しリンパ組織へ移動後、リンパ管を経て再び血流中に戻る、いわゆるリンパ球ホーミングと言われる現象により血管外への移動を行う。ＬＰＡＭ−１分子は、パイエル板等の腸管リンパ組織へのリンパ球ホーミングに関与することが知られている（Ｂｕｔｃｈｅｒ  ｅｔ  ａｌ．Ａｄｖ．Ｉｍｍｕｎｏｌ．７２：２０９−２５３，１９９９）。一方、炎症時には、炎症組織より放出されるサイトカイン、ケモカインにより血管内皮細胞が活性化され、白血球の血管内皮細胞への接着に関与する一群の細胞表面抗原（接着分子）の発現が惹起され、これらの接着分子を介し多くの白血球が血管外へ浸潤し、炎症組織へ到達する。
これら、白血球の接着を介した浸潤に関与する血管内皮細胞上の細胞表面抗原としては、主に好中球の接着に関与する接着分子Ｅ−セレクチン、主にリンパ球の接着に関与するＩＣＡＭ−１、ＶＣＡＭ−１、主にパイエル板等の腸管リンパ組織でのリンパ球の接着に関与するＭＡｄＣＡＭ−１などが知られている（Ｓｈｉｍｉｚｕ  ｅｔ  ａｌ．Ａｄｖ．Ｉｍｍｕｎｏｌ．７２：３２５−３８０，１９９９）。これら接着分子の内、ＶＣＡＭ−１は、ＶＬＡ−４及びＬＰＡＭ−１の両者共通のリガンドとして、またＭＡｄＣＡＭ−１は、ＬＰＡＭ−１のリガンドとして作用することが報告されている。ＶＬＡ−４，ＬＰＡＭ−１共通のリガンドとして、細胞外マトリックスの一種であるフィブロネクチンも同様に知られている（Ｓｈｉｍｉｚｕ  ｅｔ  ａｌ．Ａｄｖ．Ｉｍｍｕｎｏｌ．７２：３２５−３８０，１９９９）。ＶＬＡ−４の属するβ１インテグリンサブファミリーは、リガンドとしてフィブロネクチン、コラーゲン、ラミニン等の細胞外マトリックスを用いる少なくも６つのインテグリン（ＶＬＡ−１〜ＶＬＡ−６）より成る。ＶＬＡ−５，β３サブファミリー、β５サブファミリーなど細胞外マトリックスをリガンドとするインテグリンの多くが、フィブロネクチン、ビトロネクチン、テネイシンやオステオポンチン中に存在するアルギニン−グリシン−アスパラギン酸（ＲＧＤ）配列を認識するのに対し、ＶＬＡ−４とフィブロネクチンとの結合ではこのＲＧＤ配列は関与せず、ロイシン−アスパラギン酸−バリン（ＬＤＶ）をコア配列とするＣＳ１ペプチド部分が関与する（Ｐｕｌｉｄｏ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ｂｉｏｌ．Ｃｈｅｍ．２６６：１０２４１−１０２４５，１９９１．）。Ｃｌｅｍｅｎｔｓらは、ＶＣＡＭ−１及びＭＡｄＣＡＭ−１のアミノ酸配列中に、ＬＤＶと類似の配列を見いだした。ＶＣＡＭ−１及びＭＡｄＣＡＭ−１分子のこのＣＳ−１類似配列の一部を改変した変異体がＶＬＡ−４及びＬＰＡＭ−１と結合出来ないことが明らかにされ（Ｃｌｅｍｅｎｔｓ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ｃｅｌｌ  Ｓｃｉ．１０７：２１２７−２１３５，１９９４，Ｖｏｎｄｅｒｈｅｉｄｅ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ｃｅｌｌ  Ｂｉｏｌ．１２５：２１５−２２２，１９９４，Ｒｅｎｚ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ｃｅｌｌ  Ｂｉｏｌ．１２５：１３９５−１４０６，１９９４，Ｋｉｌｇｅｒ  ｅｔ  ａｌ．Ｉｎｔ．Ｉｍｍｕｎｏｌ．９：２１９−２２６，１９９７．）、本ＣＳ−１類似配列がＶＬＡ−４／ＬＰＡＭ−１とＶＣＡＭ−１／ＭＡｄＣＡＭ−１との結合に重要であることが判明した。
また、ＣＳ−１類似構造を持つ同一のｃｙｃｌｉｃ  ｐｅｐｔｉｄｅがＶＬＡ−４及びＬＰＡＭ−１とＶＣＡＭ−１，ＭＡｄＣＡＭ−１及びＣＳ−１ペプチドとの結合を阻害することが報告されている（Ｖａｎｄｅｒｓ  ｌｉｃｅ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ｉｍｍｕｎｏｌ．１５８：１７１０−１７１８，１９９７）。以上の事実は、適切なα４インテグリン阻害剤（本明細書中でのα４インテグリン阻害剤とは、α４β１及び／もしくはα４β７インテグリンを阻害する物質を意味する）を用いることによりα４インテグリンとＶＣＡＭ−１，ＭＡｄＣＡＭ−１，フィブロネクチンとの全ての相互作用を遮断可能であることを示す。
血管内皮細胞におけるＶＣＡＭ−１の発現が、ＬＰＳやＴＮＦ−α、ＩＬ−１等の起炎症性物質により誘導されること、そして炎症時には白血球の血流から炎症組織への浸潤がこのＶＬＡ−４／ＶＣＡＭ−１接着機構を用い行われることも知られている（Ｅｌｉｃｅｓ，Ｃｅｌｌ  ６０：５７７−５８４，１９９０，Ｏｓｂｏｒｎ  ｅｔ  ａｌ．Ｃｅｌｌ  ５９：１２０３−１２１１，１９８９，Ｉｓｓｅｋｕｔｚ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ｅｅｘ．Ｍｅｄ．１８３：２１７５−２１８４，１９９６．）。ＶＬＡ−４は、活性化リンパ球、単球、エオジン好性白血球、マスト細胞、好中球細胞表面上に発現されるので、ＶＬＡ−４／ＶＣＡＭ−１の接着機構はこれら細胞の炎症組織への浸潤に重要な役割を果たす。また、ＶＬＡ−４は、黒色腫細胞をはじめ多くの肉腫細胞上に発現することも報告されており、ＶＬＡ−４／ＶＣＡＭ−１の接着機構がこれら腫瘍の転移に関与することも明らかにされている。種々の病理学的過程にこのＶＬＡ−４／ＶＣＡＭ−１の接着機構が関与することは、種々の病理組織におけるＶＣＡＭ−１の発現を検討することにより明らかにされている。即ち、活性化された血管内皮細胞に加え、ＶＣＡＭ−１はリウマチ様滑膜（ｖａｎ  Ｄｉｎｔｈｅｒ−Ｊａｎｓｓｅｎ，Ｊ．Ｉｍｍｕｎｏｌ．１４７：４２０７−４２１０，１９９１，Ｍｏｒａｌｅｓ−Ｄｕｃｒｅｔ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ｉｍｍｕｎｏｌ．１４９：１４２４−１４３１，１９９２．）、喘息（ｔｅｎ  Ｈａｃｋｅｎ  ｅｔ  ａｌ．Ｃｌｉｎ．Ｅｘｐ．Ａｌｌｅｒｇｙ  １２：１５１８−１５２５，１９９８．）及びアレルギー疾患における肺及び気道上皮（Ｒａｎｄｏｌｐｈ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ｃｌｉｎ．Ｉｎｖｅｓｔ．１０４：１０２１−１０２９，１９９９）、全身性エリテマトデス（Ｔａｋｅｕｃｈｉ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ｃｌｉｎ．Ｉｎｖｅｓｔ．９２：３００８−３０１６，１９９３．），シェーグレン症候群（Ｅｄｗａｒｄｓ  ｅｔ  ａｌ．Ａｎｎ．Ｒｈｅｕｍ．Ｄｉｓ．５２：８０６−８１１，１９９３．）、多発性硬化症（Ｓｔｅｆｆｅｎ  ｅｔ  ａｌ．Ａｍ．Ｊ．Ｐａｔｈｏｌ．１４５：１８９−２０１，１９９４．）、乾せん（Ｇｒｏｖｅｓ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ａｍ．Ａｃａｄ．Ｄｅｒｍａｔｏｌ．２９：６７−７２，１９９３．）等の自己免疫疾患での炎症組織、動脈硬化斑（Ｏ’Ｂｒｉｅｎ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ｃｌｉｎ．Ｉｎｖｅｓｔ．９２：９４５−９５１，１９９３．）、クローン病及び潰瘍性大腸炎等の炎症性腸疾患での腸組織（Ｋｏｉｚｕｍｉ  ｅｔ  ａｌ．Ｇａｓｔｒｏｅｎｔｅｒｏｌ．１０３：８４０−８４７，１９９２  ａｎｄ  Ｎａｋａｍｕｒａ  ｅｔ  ａｌ．Ｌａｂ．Ｉｎｖｅｓｔ．６９：７７−８５，１９９３．）、糖尿病における膵島炎組織（Ｍａｒｔｉｎ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ａｕｔｏｉｍｍｕｎ．９：６３７−６４３，１９９６）、心臓及び腎臓移植拒絶中の移植片（Ｈｅｒｓｋｏｗｉｔｚ  ｅｔ  ａｌ．Ａｍ．Ｊ．Ｐａｔｈｏｌ．１４５：１０８２−１０９４，１９９４  ａｎｄ  Ｈｉｌｌ  ｅｔ  ａｌ．Ｋｉｄｎｅｙ  Ｉｎｔ．４７：１３８３−１３９１，１９９５．）などで発現の増強が見られることが報告されており、これら種々の病態においてもＶＬＡ−４／ＶＣＡＭ−１の接着機構が関与する。
事実、これら炎症性疾患における動物モデルにおいて、ＶＬＡ−４もしくは、ＶＣＡＭ−１の抗体の生体内投与が病態の改善に有効であったことが多数報告されている。具体的には、Ｙｅｄｎｏｃｋら及びＢａｒｏｎらは、多発性硬化症モデルである実験的自己免疫性脳脊髄炎モデルにおいて、α４インテグリンに対する抗体の生体内投与が発症率の抑制もしくは脳脊髄炎の抑制に効果を示すことを報告している（Ｙｅｄｎｏｃｋ  ｅｔ  ａｌ．Ｎａｔｕｒｅ  ３５６：６３−６６，１９９２，Ｂａｒｏｎ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ｅｘｐ．Ｍｅｄ．１７７：５７−６８，１９９３．）。Ｚｅｉｄｌｅｒらは、リウマチモデルであるマウスコラーゲン関節炎においてα４インテグリンに対する抗体の生体内投与が発症率を抑制することを報告している（Ｚｅｉｄｌｅｒ  ｅｔ  ａｌ．Ａｕｔｏｉｍｍｕｎｉｔｙ  ２１：２４５２５２，１９９５．）。また、喘息モデルにおけるα４インテグリン抗体の治療効果は、Ａｂｒａｈａｍら及びＳａｇａｒａらにより（Ａｂｒａｈａｍ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ｃｌｉｎ．Ｉｎｖｅｓｔ．９３：７７６−７８７，１９９４  ａｎｄ  Ｓａｇａｒａ  ｅｔ  ａｌ．Ｉｎｔ．Ａｒｃｈ．Ａｌｌｅｒｇｙ  Ｉｍｍｕｎｏｌ．１１２：２８７−２９４，１９９７．）、炎症性腸疾患モデルにおけるα４インテグリン抗体の効果は、Ｐｏｄｏｌｓｋｙら（Ｐｏｄｏｌｓｋｙ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ｃｌｉｎ．Ｉｎｖｅｓｔ．９２：３７２−３８０，１９９３．）により、インシュリン依存型糖尿病モデルにおけるα４インテグリン抗体及びＶＣＡＭ抗体の効果は、Ｂａｒｏｎらにより（Ｂａｒｏｎ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ｃｌｉｎ．Ｉｎｖｅｓｔ．９３：１７００−１７０８，１９９４．）報告されている。また、動脈硬化での血管形成術後の再狭窄をα４インテグリン抗体の投与が抑制可能なことも、バブーンモデルを用い明らかにされている（Ｌｕｍｓｄｅｎ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ｖａｓｃ．Ｓｕｒｇ．２６：８７−９３，１９９７．）。同様に、α４インテグリンもしくはＶＣＡＭ抗体が、移植片拒絶の抑制及び癌転移の抑制に有効であることも報告されている（Ｉｓｏｂｅ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ｉｍｍｕｎｏｌ．１５３：５８１０−５８１８，１９９４  ａｎｄ  Ｏｋａｈａｒａ  ｅｔ  ａｌ．Ｃａｎｓｅｒ  Ｒｅｓ．５４：３２３３−３２３６，１９９４．）。
ＬＰＡＭ−１のリガンドであるＭＡｄＣＡＭ−１は、ＶＣＡＭ−１とは異なり腸管粘膜、腸間膜リンパ節、パイエル板、脾臓中の高内皮細静脈（Ｈｉｇｈ  ｅｎｄｏｔｈｅｌｉａｌ  ｖｅｎｕｌｅ；ＨＥＶ）上に恒常的に発現し、粘膜系リンパ球のホーミングに関与することは前述した。ＬＰＡＭ−１／ＭＡｄＣＡＭ−１接着機構が、リンパ球ホーミングにおける生理的役割に加え、幾つかの病理的過程にも関与することも知られている。Ｂｒｉｓｋｉｎらは、クローン病及び潰瘍性大腸炎等の炎症性腸疾患の腸管炎症局所でのＭＡｄＣＡＭ−１の発現増強を報告している（Ｂｒｉｓｋｉｎ  ｅｔ  ａｌ．Ａｍ．Ｊ．Ｐａｔｈｏｌ．１５１：９７−１１０，１９９７．）。また、Ｈａｎｎｉｎｅｎらはインシュリン依存性糖尿病モデルであるＮＯＤマウスの膵島炎組織中で、発現誘導が観察されることを報告している（Ｈａｎｎｉｎｅｎ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ｉｍｍｕｎｏｌ．１６０：６０１８−６０２５，１９９８．）。これら病態において、ＬＰＡＭ−１／ＭＡｄＣＡＭ−１接着機構が病態の進展に関与することは、抗ＭＡｄＣＡＭ抗体もしくは、抗β７インテグリン抗体の生体内投与により、炎症性腸疾患のマウスモデル（Ｐｉｃａｒｅｌｌａ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ｉｍｍｕｎｏｌ．１５８：２０９９−２１０６，１９９７．）や前述のＮＯＤマウスモデルにおいて病態の改善が認められる（Ｈａｎｎｉｎｅｎ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ｉｍｍｕｎｏｌ．１６０：６０１８−６０２５，１９９８  ａｎｄ  Ｙａｎｇ  ｅｔ  ａｌ．Ｄｉａｂｅｔｅｓ  ４６：１５４２−１５４７，１９９７．）ことにより明白である。
以上の事実は、適当なアンタゴニストによるＶＬＡ−４／ＶＣＡＭ−１，ＬＰＡＭ−１／ＶＣＡＭ−１，ＬＰＡＭ−１／ＭＡｄＣＡＭ−１接着機構の遮断は、前述の慢性炎症性疾患の治療に関し有効である可能性を提供する。前述のＶＬＡ−４アンタゴニストとしての抗ＶＬＡ−４抗体の使用は、ＷＯ９３／１３７９８，ＷＯ９３／１５７６４，ＷＯ９４／１６０９４，及びＷＯ９５／１９７９０に記載されている。また、ＶＬＡ−４アンタゴニストとしてのペプチド化合物は、ＷＯ９４／１５９５８，ＷＯ９５／１５９７３，ＷＯ９６／００５８１，ＷＯ９６／０６１０８に、そしてＶＬＡ−４アンタゴニストとしてのアミノ酸誘導体は、ＷＯ９９／１０３１２、ＷＯ９９／１０３１３、ＷＯ９９／３６３９３、ＷＯ９９／３７６１８及びＷＯ９９／４３６４２に記載されている。しかしながら、経口吸収性の欠如、長期使用での免疫原性等の理由で実際に治療に用いられているものは現在のところ存在しない。
発明の開示
本発明は、生体内でα４インテグリン阻害作用を有する新規化合物を提供することを目的とする。
本発明は、又、生体内でα４インテグリン阻害作用を有する、経口投与可能な化合物を提供することを目的とする。
本発明は、又、α４インテグリン阻害剤を提供することを目的とする。
本発明は、又、上記新規化合物を含有する医薬組成物を提供することを目的とする。
本発明は、又、α４インテグリン依存性の接着過程が病態に関与する炎症性疾患、リウマチ様関節炎、炎症性腸疾患、全身性エリテマトーデス、多発性硬化症、シェーグレン症候群、喘息、乾せん、アレルギー、糖尿病、心臓血管性疾患、動脈硬化症、再狭窄、腫瘍増殖、腫瘍転移、移植拒絶いずれかの治療剤または予防剤を提供することを目的とする。
発明者らは、上記の課題を解決するために、種々のフェニルアラニン誘導体を合成しα４インテグリン阻害活性を調べた結果、ある特定の新規フェニルアラニン誘導体に優れたα４インテグリン阻害活性を有することを見出し、さらにそのカルボキシル基を、生体内でカルボキシル基に変換される種々の有機基に置換した誘導体を合成し、本発明を完成するにいたった。
すなわち、本発明は下記一般式（１）で示されるフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩を提供する。
2003070709.tif 000003
［Ａは下記一般式（２）、（３）、（３−１）又は（３−２）で表される基のいずれかを表し、
2003070709.tif 000004
（式中Ａｒｍは酸素原子、硫黄原子または窒素原子より選ばれるヘテロ原子を０、１、２、３または４個含んだ環状アルキル基または芳香環である。式（３−２）中の実線と点線の複合線は、単結合、または二重結合をあらわす。また、Ｕ、Ｖ、ＸはＣ（＝Ｏ）、Ｓ（＝Ｏ）２、Ｃ（−Ｒ５）（−Ｒ６）、Ｃ（＝Ｃ（Ｒ５）（Ｒ６））、Ｃ（＝Ｓ）、Ｓ（＝Ｏ）、Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）、Ｐ（−Ｈ）（＝Ｏ）のいずれかを表し、ＷはＣ（−Ｒ７）、窒素原子のいずれかを表し、
ここで、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７はそれぞれ同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、置換された低級アルケニル基、低級アルキニル基、置換された低級アルキニル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでも良い）、アリール基、ヘテロアリール基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでも良い）で置換された低級アルキル基、アリール基で置換された低級アルキル基、ヘテロアリール基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでも良い）で置換された低級アルコキシ基および低級アルキルチオ基、アリール基で置換された低級アルコキシ基および低級アルキルチオ基、ヘテロアリール基で置換された低級アルコキシ基および低級アルキルチオ基、環状アルキル（環中にヘテロ原子を含んでも良い）オキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルケニル基、ヒドロキシ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルケニル基、ニトロ基、シアノ基、置換または無置換アミノ基、カルボキシル基、低級アルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のカルバモイル基、低級アルカノイル基、アロイル基、低級アルキルスルホニル基、置換または無置換スルファモイル基、アンモニウム基のいずれかを表し、また、Ｒ５及びＲ６は結合して環を形成してもよく、場合により、環中に１または２個の酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでいてよく、
Ｂは置換基を有する低級アルコキシ基、置換又は無置換のアミノ基（ただしヒドロキシルアミノ基を除く）、置換又は無置換のメルカプト基のいずれかを表し、
Ｃは水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでも良い）で置換された低級アルキル基、アリール基で置換された低級アルキル基、ヘテロアリール基で置換された低級アルキル基のいずれかを表し、
Ｄは低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでも良い）、アリール基、ヘテロアリール基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでも良い）で置換された低級アルキル基、アリール基で置換された低級アルキル基、ヘテロアリール基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでも良い）で置換された低級アルコキシ基、アリール基で置換された低級アルコキシ基、ヘテロアリール基で置換された低級アルコキシ基、環状アルキル（環中にヘテロ原子を含んでも良い）オキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルケニル基、ヒドロキシ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルケニル基、ニトロ基、シアノ基、置換または無置換アミノ基、カルボキシル基、低級アルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のカルバモイル基、低級アルカノイル基、アロイル基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルホニル基、置換または無置換スルファモイル基のいずれかを表す。
また、Ｃ及びＤは結合して環を形成してもよく、場合により、環中に１または２個の酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでいてもよい。
Ｔは原子間結合、Ｃ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｓ）、Ｓ（＝Ｏ）、Ｓ（＝Ｏ）２、Ｎ（Ｈ）−Ｃ（＝Ｏ）、Ｎ（Ｈ）−Ｃ（＝Ｓ）のいずれかを表し、
Ｊ及びＪ’はそれぞれ同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルキルオキシ基、ニトロ基のいずれかを表す。
本発明は、上記フェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩を有効成分とするα４インテグリン阻害剤を提供する。
本発明は、上記フェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩を含有する医薬組成物を提供する。
本発明は、又、上記フェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩を有効成分とするα４インテグリン依存性の接着過程が病態に関与する炎症性疾患、リウマチ様関節炎、炎症性腸疾患、全身性エリテマトーデス、多発性硬化症、シェーグレン症候群、喘息、乾せん、アレルギー、糖尿病、心臓血管性疾患、動脈硬化症、再狭窄、腫瘍増殖、腫瘍転移、移植拒絶いずれかの治療剤または予防剤を提供する。
発明を実施するための最良の形態
本明細書における低級アルキル基等の「低級」という語は、炭素数が１〜６の基を意味し、好ましくは炭素数１〜４である。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルカノイル基、アルキルアミノ基等の成分としてのアルキル基、アルケニル基、アルキニル基は直鎖若しくは分岐鎖状であることができる。アルキル基の例としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、セカンダリーブチル基、ターシャリーブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などが挙げられ、炭素数１〜６が好ましく、より好ましくは、１〜４である。アルケニル基はビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基等が挙げられ、炭素数２〜６が好ましく、より好ましくは、２〜４である。アルキニル基としてはエチニル基、プロピニル基、ブチニル基等が挙げられ、炭素数２〜８が好ましく、より好ましくは、２〜４である。環状アルキル基は、置換または無置換の環状アルキル基を意味し、例としてはシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、アダマンチル基、シクロヘキセニル基等が挙げられ、炭素数３〜８が好ましく、より好ましくは、３〜５である。アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、シクロプロポキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。アルコキシ基を形成する炭化水素基が鎖式基の場合、炭素数１〜６が好ましく、より好ましくは、１〜４である。アルコキシ基を形成する炭化水素基が脂環式基の場合、炭素数３〜６が好ましく、より好ましくは、５〜６である。ヘテロ原子は窒素、酸素、イオウ等が挙げられる。ハロゲン原子はフッ素、塩素、臭素、ヨウ素を示している。ハロゲノアルキル基としてはクロロメチル基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、トリフルオルエチル基、ペンタフルオロエチル基等が挙げられる。ハロゲノアルコキシ基としてはトリクロロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。ヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基等が挙げられる。環中にヘテロ原子を含んでも良い環状アルキル基は、置換または無置換のどちらでもよく、例としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ピロリジニル基、テトラヒドロフラニル基、ウラシル基等の４〜８員環が好ましく、より好ましくは５〜７員環である。
本明細書においてアリール基は、置換または無置換のアリール基を意味し、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等が挙げられ、好ましくはフェニル基及び置換されたフェニル基であり、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基、水酸基、ハロゲノアルキル基、ハロゲノアルコキシ基が特に置換基として好ましい。ヘテロアリール基は置換または無置換のヘテロアリール基を意味し、ピリジル基、ピラジル基、ピリミジニル基、ピラゾリル基、ピロリル基、トリアジニル基、フリル基、チエニル基、イソキサゾリル基、イソチアゾリル基、インドリル基、キノリル基、イソキノリル基、ベンゾイミダゾリル基等が挙げられ、好ましくはピリジル基、ピラジル基、ピリミジニル基、フリル基、チエニル基及び置換されたピリジル基、フリル基、チエニル基等であり、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基、水酸基、ハロゲノアルキル基、ハロゲノアルコキシ基が特に置換基として好ましい。アリール基で置換された低級アルキル基はたとえば、置換または無置換のベンジル基、置換または無置換のフェネチル基等があげられ、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基、水酸基、ハロゲノアルキル基、ハロゲノアルコキシ基が特に置換基として好ましい。ヘテロアリール基で置換された低級アルキル基の例としては例えばピリジルメチル基が挙げられハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基、水酸基、ハロゲノアルキル基、ハロゲノアルコキシ基が特に置換基として好ましい。アルカノイル基としては、ホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基、ピバロイル基等が挙げられる。アロイル基としてはそれぞれ置換または無置換のベンゾイル基、ピリジルカルボニル基等が挙げられ、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基、水酸基、ハロゲノアルキル基、ハロゲノアルコキシ基が特に置換基として好ましい。ハロゲノアルカノイル基としては、トリクロロアセチル基、トリフルオロアセチル基等が挙げられる。アルキルスルホニル基としては、メタンスルホニル基、エタンスルホニル基等があげられる。アリールスルホニル基としてはベンゼンスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基等が挙げられる。ヘテロアリールスルホニル基としては、ピリジルスルホニル基等があげられる。ハロゲノアルキルスルホニル基としては、トリフルオロメタンスルホニル基等が挙げられる。アルキルオキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ターシャリーブトキシカルボニル基等、またアリール置換アルコキシカルボニル基としてはベンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメトキシカルボニル基等があげられる。置換カルバモイル基としては、メチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基、置換フェニルカルバモイル基、等が挙げられ、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基、水酸基、ハロゲノアルキル基、ハロゲノアルコキシ基が特に置換基として好ましい。置換チオカルバモイル基としては、メチルチオカルバモイル基、フェニルチオカルバモイル基、置換フェニルチオカルバモイル基等が挙げられ、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基、水酸基、ハロゲノアルキル基、ハロゲノアルコキシ基が特に置換基として好ましい。本明細書において置換アミノ基とは、モノ置換あるいは、ジ置換アミノ基を示し、その置換基としては、低級アルキル基、アリール基で置換された低級アルキル基、ヘテロアリール基で置換された低級アルキル基、低級アルカノイル基、アロイル基、ハロゲノ低級アルカノイル基、低級アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、ハロゲノアルキルスルホニル基、低級アルキルオキシカルボニル基、アリール置換低級アルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のカルバモイル基、置換または無置換のチオカルバモイル基が挙げられる。また、アミノ基の２つの置換基が互いに結合して環を形成してもよく、さらに、該環形成の結合において酸素、窒素、硫黄等のヘテロ原子を１以上含んでいてもよい。このような環状アミノ基としては、例えば１−ピロリジニル基、１−ピペリジニル基、４−モルホリニル基、１−インドリニル基、４−チオモルホリニル基等があげられる。さらには、２−オキソ−１−ピロリジニル基のような環状アミド基又は２−オキソイミダゾリジン−１−イル基のような環状ウレア基も挙げられる。アンモニウム基としては例えばトリアルキルアンモニウム基が挙げられる。本明細書においてアシル基には、アルカノイル基とアロイル基が含まれ、アルカノイル基が好ましい。またアシル基とは、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数５〜１６のアシル基を示す。また炭素数２〜３も好ましい。アシル基を形成する炭化水素部分は直鎖でも分岐鎖でもよい。具体的には、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基、パルミトイル基、ステアロイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、サリチロイル基、フタロイル基等があげられる。
また一般式（１）で示されるフェニルアラニン誘導体には、不斉炭素を含む為、光学異性体があるが、本発明で示している化合物にはこれら光学異性体が含まれる。ただし、Ｌ体が好ましい。
また、ジアテステレオマーが存在する化合物については、そのジアステレオマー及びジアステレオマー混合物も含まれる。また、本発明の一般式（１）で示されるフェニルアラニン誘導体は移動性の水素原子を含むことがある為、種々の互変異性体も考えられるが、本発明で示している化合物はこの互変異性体も含んでいる。また、本発明化合物がカルボキシル基を有する場合のカルボキシル基は、生体内でカルボキシル基に変換される適当な置換基により置換されていてもよく、そのような置換基としては、例えば低級アルコキシカルボニル基が挙げられる。
上記一般式（１）において、
Ａで表される基としては一般式（２）、（３）共に好ましく、一般式（２）、（３）中のＡｒｍは、芳香環が好ましく、特にベンゼン環、置換されたベンゼン環が好ましい。又、一般式（２）中のＲ１は、水素原子、低級アルキル基、置換された低級アルキル基が好ましく、ここで置換基としては、フェニル基、シアノ基、カルボキシル基等が好ましい。又、一般式（２）、（３）中のＲ２〜Ｒ４は、水素原子、ハロゲン、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン低級アルキル基、ハロゲン低級アルコキシ基、置換または無置換アミノ基、アンモニウム基が好ましい。
Ｂは、置換基を有する低級アルコキシ基、置換又は無置換のアミノ基（ただしヒドロキシルアミノ基を除く）又は置換又は無置換のメルカプト基を表す。
Ｂが置換基を有する場合の置換基としては例えば、上記Ｒ１からＲ７としてあげたものと同様の置換基等があげられる。ただしＢには無置換の低級アルコキシ基は含まれない。
Ｂで表される基として好ましくは、下記式（Ｂ−１）又は（Ｂ−２）で表される有機基、置換または無置換のアミノ基又は置換または無置換のメルカプト基である。
2003070709.tif 000005
（式中、Ｙは、置換または無置換の低級炭化水素２価基を示し、Ｅは、置換または無置換のアシルオキシ基、置換または無置換の低級アルコキシカルボニルオキシ基、置換または無置換のアミノ基、カルボキシル基、置換または無置換の低級アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、アリール基、ヘテロアリール基、置換又は無置換のアルコキシ基又は置換または無置換のカルバモイル基を示し、Ｒｂ１は水素原子又は低級アルキル基を示す。ＹとＥは結合して環を形成してもよい。）
基Ｂが置換アミノ基を表す場合、該置換基は１又は２の低級アルキル基である。置換基としてはメチル基、エチル基、プロピル基が好ましい。またここでの置換アミノ基には、１−ピペリジニル基や４−モルホリニル基のような環状アミノ基も含まれる。
基Ｂが置換メルカプト基を表す場合、該置換基は低級アルキル基である。置換基としてはメチル基、エチル基、プロピル基が好ましい。
ここで低級炭化水素２価基とは、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜４のアルキレン基、アルケニレン基又はアルキニレン基、あるいはこれらの結合したものを示す。これらの基が結合して低級炭化水素２価基を形成する場合、該基中に含まれる炭素数の合計は３〜６、好ましくは３〜４である。このような基としては具体的にはメチレン基、エチレン基、プロペニレン基等があげられる。このうち、メチレン基、エチレン基が好ましい。該低級炭化水素２価基は１又は２の置換基で置換されていてもよい。そのような置換基としては、低級アルキル基、アシルオキシ低級アルキル基、ヒドロキシ基、ハロゲノ基、置換又は無置換のアミノ基等があげられる。このうち、メチル基、パルミトイルオキシメチル基等が好ましい。
基Ｅは、置換または無置換のアシルオキシ基、置換または無置換の低級アルコキシカルボニルオキシ基、置換または無置換のアミノ基、カルボキシル基、置換または無置換の低級アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、アリール基、ヘテロアリール基、置換又は無置換のアルコキシ基又は置換または無置換のカルバモイル基を示す。
好ましくは、置換又は無置換のアシルオキシ基、置換又は無置換の低級アルコキシカルボニルオキシ基、置換又は無置換のアミノ基、カルボキシル基、置換又は無置換の低級アルコキシカルボニル基である。このうち置換又は無置換のアシルオキシ、置換又は無置換の低級アルコキシカルボニルオキシ基、置換又は無置換のアミノ基が好ましい。
また、置換または無置換のアルコキシ基、塩素原子も好ましい。
基Ｅが置換アシルオキシ基を表すときの置換基としては、低級アルキル基、低級アルケニル基、置換又は無置換のアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ハロゲン原子等があげられる。このうち、ヒドロキシ基、フッ素原子が好ましい。
基Ｅが置換低級アルコキシカルボニルオキシ基を表すときの置換基としては、
低級アルキル基、低級アルケニル基、置換又は無置換のアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ハロゲン原子等があげられる。このうち、ヒドロキシ基、フッ素原子が好ましい。
基Ｅが置換アミノ基を表すときの置換基としては、低級アルキル基、低級アルカノイル基、置換スルホニル基等があげられる。このうち、メチル基、エチル基が好ましい。ここでの置換アミノ基には、１−ピペリジニル基や４−モルホリニル基のような環状アミノ基も含まれる。また、Ｅが表す置換アミノ基として、例えば２−オキソ−１−ピロリジニル基のような環状アミド基や、例えば２−オキソイミダゾリジン−１−イル基のような環状ウレア基も、好ましい例としてあげられる。
基Ｅが置換低級アルコキシカルボニル基を表すときの置換基としては、低級アルキル基、ヒドロキシ基、ハロゲノ基、置換又は無置換のアミノ基等があげられる。このうち、塩素原子、フッ素原子が好ましい。
基Ｅが示すアリール基として好ましくはフェニル基である。
基Ｅが示すヘテロアリール基として好ましくは、フリル基、ピリジル基、チエニル基であり、特にフリル基が好ましい。
基Ｒｂ１は、水素原子又は低級アルキル基を示すが、低級アルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基が好ましい。
ＹとＥが結合して環を形成する場合のＢとして具体的には、例えば下に示した基があげられる。
2003070709.tif 000006
Ｂで表される基としてより好ましくは、上記式（Ｂ−１）又は（Ｂ−２）で表される有機基、置換又は無置換のアミノ基あるいは置換又は無置換のメルカプト基であり、
ここで、Ｂが式（Ｂ−１）又は（Ｂ−２）を表す場合、Ｙは、置換又は無置換の低級炭化水素２価基を示し、Ｅは、置換又は無置換のアシルオキシ基、置換又は無置換の低級アルコキシカルボニルオキシ基、置換又は無置換のアミノ基、カルボキシル基、置換又は無置換の低級アルコキシカルボニル基を示し、Ｒｂ１は水素原子又は低級アルキル基を示し、ＹとＥは結合して環を形成してもよい。
Ｂで表される基としてまた好ましくは、式（Ｂ−１）で表される有機基又は置換または無置換のアミノ基であり、
ここで、Ｂが式（Ｂ−１）を表す場合、Ｙは、置換または無置換の低級炭化水素２価基を示し、Ｅは、置換または無置換のアシルオキシ基、置換または無置換の低級アルコキシカルボニルオキシ基、置換または無置換のアミノ基、ハロゲン原子、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基又は置換または無置換のカルバモイル基のいずれかを示す。
Ｂで表される基としてより好ましくは、式（Ｂ−１）で表される基あるいは置換又は無置換のアミノ基である。アミノ基の好適な置換基は既述のとおりである。
Ｂが式（Ｂ−１）で表される基である場合、
Ｙが、置換又は無置換のメチレン基、置換又は無置換のエチレン基又は置換又は無置換のトリメチレン基を示し、及び
Ｅが、置換又は無置換のアシルオキシ基、置換又は無置換の低級アルコキシカルボニルオキシ基又は置換又は無置換のアミノ基を示すのが好ましい。各基Ｙ及びＥ基の好適な置換基は既述の通りである。
Ｂで表される基としてまた好ましくは、式（Ｂ−１）で表される基あるいは低級アルキル基で置換または無置換のアミノ基であり、
ここで、式（Ｂ−１）において、
Ｙが、置換または無置換のメチレン基、置換または無置換のエチレン基又は置換または無置換のトリメチレン基を示し、及び
Ｅが、置換または無置換のアシルオキシ基、塩素原子、フッ素原子、置換または無置換のフリル基、置換または無置換のフェニル基、置換または無置換のチエニル基、置換または無置換のピリジル基、低級アルコキシ基、低級アルキル基で置換されてもよいカルバモイル基、置換または無置換の低級アルコキシカルボニルオキシ基又は置換または無置換のアミノ基を示す。
このときアシルオキシ基は低級のものがより好ましい。
Ｂで表される基としてより好ましくは、式（１）において、Ｂが、式（Ｂ−１）で表される基あるいは置換または無置換のアミノ基を表し、
式（Ｂ−１）において、
Ｙが置換または無置換のメチレン基を示し、かつＥが置換または無置換のアシルオキシ基又は置換または無置換の低級アルコキシカルボニルオキシ基を示し、
あるいはＹが置換または無置換のエチレン基又は置換または無置換のトリメチレン基を示し、かつＥが置換または無置換のアミノ基を示し、
あるいはＹが、アシルオキシメチル基を置換基として有するエチレン基を示し、がつＥが置換または無置換のアシルオキシ基を示す、のが好ましい。各基Ｙ及び基Ｅの好適な置換基は既述の通りである。
Ｂで表される基としてまた好ましくは、式（Ｂ−１）で表される基あるいは１つの低級アルキル基で置換されているか又は無置換のアミノ基であり、
ここで、式（Ｂ−１）において、
Ｙが、低級アルキル基で置換されているか又は無置換のメチレン基を示し、かつＥが置換または無置換の低級アシルオキシ基、塩素原子、フッ素原子、置換又は無置換のフリル基、低級アルキル基で置換されてもよいカルバモイル基又は置換または無置換の低級アルコキシカルボニルオキシ基を示し、
あるいはＹが、置換または無置換のエチレン基又は置換または無置換のトリメチレン基を示し、かつＥが低級アルコキシ基又は低級アルキル基で置換されたアミノ基を示す。
Ｂで表される基としてより好ましくは、式（１）においてＢが、式（Ｂ−１）で表される基あるいは１つの低級アルキル基で置換されているか又は無置換のアミノ基を表し、
式（Ｂ−１）において、
Ｙが、低級アルキル基で置換されているか又は無置換のメチレン基を示し、かつＥが置換または無置換の低級アシルオキシ基又は置換または無置換の低級アルコキシカルボニルオキシ基を示し、ここで、各基Ｙ及び基Ｅの好適な置換基は既述の通りであり、
あるいはＹが、置換または無置換のエチレン基又は置換または無置換のトリメチレン基を示し、かつＥが低級アルキル基で置換されたアミノ基を示し、ここで、基Ｙの好適な置換基は、低級アルキル基、ヒドロキシ基及びハロゲノ基であり、基Ｅの好適な例は環状アミノ基である、のが好ましい。
Ｂで表される基としてより好ましくは、式（１）においてＢが、式（Ｂ−１）で表される基あるいは１つの低級アルキル基で置換されているアミノ基を表し、
式（Ｂ−１）において、
Ｙが、低級アルキル基で置換されているメチレン基を示し、かつＥが無置換の低級アルコキシカルボニルオキシ基を示し、
あるいはＹが、無置換のメチレン基を示し、かつＥが無置換の低級アシルオキシ基を示し、
あるいはＹが、無置換のエチレン基を示し、かつＥが環状アミノ基を示す、のが好ましい。各基Ｙ及び基Ｅの好適な置換基は既述の通りである。
Ｂで表される基としてまた好ましくは、式（Ｂ−１）で表される基であり、ここで、式（Ｂ−１）において、
Ｙが、無置換のメチレン基を示し、かつＥが無置換の低級アシルオキシ基、塩素原子、フリル基、ジメチルカルバモイル基を示し、
あるいはＹが、無置換のエチレン基を示し、かつＥが低級アルコキシ基を示す。
Ｃで表される基としては低級アルキル基又は水素原子が好ましく、より好ましくは水素原子である。
Ｄで表される基としては環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでも良い）、アリール基、ヘテロアリール基が好ましい。
ここで、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでも良い）、アリール基、ヘテロアリール基は置換または無置換を意味し、ここで置換基としては上記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＲ７で述べたものと同様の置換基等が挙げられる。
これらの中でも、Ｄで表される基としては、特に置換又は無置換シクロヘキシル若しくはフェニル基が好ましく、特にその置換基としては、１〜３個、好ましくは、１又は２個の低級アルキル基若しくは低級アルコキシ基、ハロゲン原子が好ましい。
Ｊ及びＪ’で表される基としては水素原子が好ましい。
Ｔで表される基としてはＣ（＝Ｏ）が好ましい。
ＵとＶとＸはＣ（＝Ｏ）、Ｃ（＝Ｓ）であるのが好ましく、特にＣ（＝Ｏ）が好ましい。ＷはＣ（−Ｒ７）が好ましく、−Ｒ７は低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基であるのが好ましい。
本発明においては、さらに、一般式（１）において、Ａが、一般式（２）又は（３）で表される基のいずれかを表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７はそれぞれ同じでも異なってもよく、次の基を表すのが好ましい。
水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、置換された低級アルキル基、低級アルケニル基、置換された低級アルケニル基、低級アルキニル基、置換された低級アルキニル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでも良い）、アリール基、ヘテロアリール基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでも良い）で置換された低級アルキル基、アリール基で置換された低級アルキル基、ヘテロアリール基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでも良い）で置換された低級アルコキシ基および低級アルキルチオ基、アリール基で置換された低級アルコキシ基および低級アルキルチオ基、ヘテロアリール基で置換された低級アルコキシ基および低級アルキルチオ基、環状アルキル（環中にヘテロ原子を含んでも良い）オキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルケニル基、ヒドロキシ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルケニル基、ニトロ基、シアノ基、置換または無置換アミノ基、カルボキシル基、低級アルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のカルバモイル基、低級アルカノイル基、アロイル基、低級アルキルスルホニル基、置換または無置換スルファモイル基のいずれかを表し、また、Ｒ５及びＲ６は結合して環を形成してもよく、場合により、環中に１または２個の酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでいてよい。
またここで、Ｂが先述のＢとして好ましい基に限定された化合物はさらに好ましい。
本発明においては、さらに、一般式（１）において、
Ｃが水素原子または低級アルキル基、
Ｊ及びＪ’がそれぞれ水素原子であり、
一般式（２）、（３）中において、
Ｖ、ＸがＣ（＝Ｏ）、Ｓ（＝Ｏ）２、Ｃ（−Ｒ５）（−Ｒ６）のいずれかで表される基、
ＵがＣ（＝Ｏ）、Ｓ（＝Ｏ）２、Ｃ（−Ｒ５）（−Ｒ６）、Ｃ（＝Ｃ（Ｒ５）（Ｒ６））、Ｃ（＝Ｓ）、Ｓ（＝Ｏ）、Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）、Ｐ（−Ｈ）（＝Ｏ）のいずれかを表される基
であるのが好ましい。
またここで、Ｂが先述のＢとして好ましい基に限定された化合物はさらに好ましい。
又、一般式（１）において、
Ｃが水素原子または低級アルキル基、
Ｊ及びＪ’がそれぞれ水素原子であり、
一般式（２）、（３）中において
Ａｒｍがベンゼン環、または酸素原子、硫黄原子または窒素原子より選ばれるヘテロ原子を１、２、３または４個含んだ芳香環
であるのが好ましい。
またここで、Ｂが先述のＢとして好ましい基に限定された化合物はさらに好ましい。
又、一般式（１）において、
Ｃが水素原子または低級アルキル基、
Ｊ及びＪ’がそれぞれ水素原子であり、
一般式（２）、（３）中において、
Ａｒｍがベンゼン環、または酸素原子、硫黄原子または窒素原子より選ばれるヘテロ原子を１、２、３または４個含んだ芳香環であり、
Ｖ、ＸがＣ（＝Ｏ）、Ｓ（＝Ｏ）２、Ｃ（−Ｒ５）（−Ｒ６）のいずれかで表される基、
ＵがＣ（＝Ｏ）、Ｓ（＝Ｏ）２、Ｃ（−Ｒ５）（−Ｒ６）、Ｃ（＝Ｃ（Ｒ５）（Ｒ６））、Ｃ（＝Ｓ）、Ｓ（＝Ｏ）、Ｐ（＝Ｏ）（−ＯＨ）、Ｐ（−Ｈ）（＝Ｏ）のいずれかを表される基
であるのが好ましい。
またここで、Ｂが先述のＢとして好ましい基に限定された化合物はさらに好ましい。
又、一般式（１）中、Ｃが水素原子を示し、ＴがＣ（＝Ｏ）を示すのが好ましい。
またここで、Ｂが先述のＢとして好ましい基に限定された化合物はさらに好ましい。
又、一般式（１）において、Ａが、下記式（３−３）で表されるのが好ましい。
2003070709.tif 000007
（式中、Ａｒｍ、Ｕ及びＲ１〜Ｒ４は上記と同じである。）
一般式（３−３）において、Ａｒｍは、芳香環が好ましく、特にベンゼン環、置換されたベンゼン環が好ましい。また、一般式（３−３）中のＲ１は、水素原子、低級アルキル基、又はフェニル基、シアノ基若しくはカルボキシル基で置換された低級アルキル基が好ましい。また、一般式（３−３）中、Ｒ２〜４は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基または無置換アミノ基が好ましい。
またここで、Ｂが先述のＢとして好ましい基に限定された化合物はさらに好ましい。
又、一般式（１）において、Ａが、下記式（３−４）あるいは（３−５）で表されるのが好ましい。
2003070709.tif 000008
（式中、Ａｒｍ、Ｒ１〜Ｒ４は上記と同じであり、式（３−５）中の実線と点線の複合線は、単結合、または二重結合を表す。）
またここで、Ｂが先述のＢとして好ましい基に限定された化合物はさらに好ましい。
又、一般式（１）において、Ｄが、下記式（４−１）、（４−２）、（４−３）、又は（４−４）で表されるのが好ましい。
2003070709.tif 000009
［式中、Ｒ１３はハロゲン原子またはメチル基を示し、Ｒ８はハロゲン原子、メチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、水素原子を示し、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、トリアルキルアンモニウム基、メタンスルホニルアミノ基、テトラゾーリル基を示す。］
またここで、Ｂが先述のＢとして好ましい基に限定された化合物はさらに好ましい。
上記式中、式（４−１）が好ましく、特に式（４−１）中、Ｒ１３、Ｒ８は塩素原子を示し、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、トリアルキルアンモニウム基を示すのが好ましい。
又、一般式（１）中において、
Ａが、式（３−４）で表され、
Ａｒｍがベンゼン環、ピリジン環、ピラゾール環、シクロヘキサン環であり、
Ｒ１が低級アルキル基であり、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、トリアルキルアンモニウム基のいずれかで表される基であるのが好ましい。
またここで、Ｂが先述のＢとして好ましい基に限定された化合物はさらに好ましい。
又、一般式（１）中において、Ａが、式（３−４）あるいは（３−５）で表され、
Ｄが式（４−１）、（４−２）、（４−３）、又は（４−４）で表され、
Ｃが水素原子、
ＪおよびＪ’がそれぞれ水素原子であり、
ＴがＣ（＝Ｏ）であるのが好ましい。
またここで、Ｂが先述のＢとして好ましい基に限定された化合物はさらに好ましい。
本発明では、さらに、一般式（１）中において、
Ａが、式（３−４）で表され（式中、Ａｒｍがベンゼン環、ピリジン環、ピラゾール環、シクロヘキサン環であり、
Ｒ１が低級アルキル基であり、
Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、トリアルキルアンモニウム基のいずれかで表される基であり）、
Ｄが式（４−１）であり（式中、Ｒ１３、Ｒ８は塩素原子、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、トリアルキルアンモニウム基、を示す。）、
Ｃが水素原子、
ＪおよびＪ’がそれぞれ水素原子であり、
ＴがＣ（＝Ｏ）であるのが好ましい。
またここで、Ｂが先述のＢとして好ましい基に限定された化合物はさらに好ましい。
本発明では、又、一般式（１）中、Ａが式（３−３）で表され、式（３−３）中、ＵはＣ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｓ）を示し、Ｒ１は低級アルキル基を示し、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、トリアルキルアンモニウム基のいずれかを示し、
Ｃが水素原子を示し、
Ｄが式（４−１）、（４−２）、（４−３）、又は（４−４）で表され、
ＴがＣ（＝Ｏ）を示すのが好ましい。
またここで、Ｂが先述のＢとして好ましい基に限定された化合物はさらに好ましい。
本発明では、さらに、Ａが式（３−３）で表され、式（３−３）中、ＵはＣ（＝Ｏ）又はＣ（＝Ｓ）を示し、Ｒ１はメチル基又はエチル基を示し、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、トリアルキルアンモニウム基のいずれかを示し、
Ｃが水素原子を示し、
Ｄが式（４−１）で表され、式（４−１）中、Ｒ１３、Ｒ８は塩素原子を示し、Ｒ９は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでもよい）、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、低級アルキル基で置換されたアミノ基、トリアルキルアンモニウム基を示し、
ＴがＣ（＝Ｏ）を示し、
Ｊ及びＪ‘は水素原子を示すのが好ましい。
またここで、Ｂが先述のＢとして好ましい基に限定された化合物はさらに好ましい。
本発明では、さらに、下記の式で表されるフェニルアラニン誘導体またはその医薬的に許容しうる塩が好ましい。
2003070709.tif 000010
（式中、Ｒ１はメチル基又はエチル基を示し、Ｒ８はハロゲン原子又はメチル基を示し、Ｒ１１，Ｒ１２は同じでも異なってもよく水素原子、メチル基、エチル基又はプロピル基を示し、またＲ１１、Ｒ１２は結合して環を形成してもよくその場合Ｒ１１−Ｒ１２はトリメチレン、テトラメチレン又はペンタメチレン基を示す。Ｂは式（１）と同一）
またここで、Ｂが先述のＢとして好ましい基に限定された化合物はさらに好ましい。
より具体的には、これらに限定されるものではないが、実施例に記載の化合物が好ましい。
また、特に好ましい化合物として以下が挙げられる。
2003070709.tif 000011
また、特に好ましい化合物として以下も挙げられる。
2003070709.tif 000012
2003070709.tif 000013
本発明のフェニルアラニン誘導体（１）の製造方法としては、例えば以下に示した方法を用いることができる。
2003070709.tif 000014
カルボン酸（Ｘ−１）において、Ａ’、Ｃ’、Ｔ’、Ｄ’はそれぞれ式（１）記載のＡ、Ｃ、Ｔ、Ｄの構造を持つか後の工程でそれらに変換可能な基を示す。式（Ｘ−１）中のカルボキシル基に対し、公知のエステル化、アミド化、チオエステル化反応を施すことにより、−ＣＯ−Ｂ基に変換することができる。より具体的には例えば以下の方法があげられる。適当なアルコールと酸触媒下、脱水条件で処理する。ハロゲン化アルキル等のＯ−アルキル化剤と、必要に応じて塩基又は酸存在下で処理する。例えばチオニルクロライド等により酸ハロゲン化物に変換したのち、必要に応じて塩基存在下、適当なアルコール、アミン又はチオールと処理する。例えば塩基条件下、クロロ蟻酸エチルと処理することにより酸無水物に変換した後、必要に応じて塩基存在下、適当なアルコール、アミン又はチオールと処理する。また、ジシクロカルボジイミドなどの縮合剤および必要に応じてジメチルアミノピリジンなどの触媒存在下、適当なアルコール、アミン又はチオールと処理する。
そうした後に必要に応じてＡ’、Ｃ’、Ｔ’、Ｄ’の変換反応を施すことにより本発明化合物（１）を製造することができる。
上記製造法において原料として用いられる、カルボン酸（Ｘ−１）の製造方法の例として、次に示した方法があげられる。
2003070709.tif 000015
適切に保護されたカルボン酸（４）を定法に基づいて樹脂に導入する。この時、カルボン酸（４）の置換基Ｐについては一般式（１）の説明の中で述べられたＣの構造を持つか、または合成工程のいずれかの時点でＣへと変換可能な置換基、またはその置換基が適切な形で保護された構造をとる。また、カルボン酸（４）の置換基Ｑについては一般式（１）の説明の中で述べられたＤ−Ｔの構造を持つか、または合成工程のいずれかの時点でＤ−Ｔへと変換可能な置換基、またはその置換基が適切な形で保護された構造をとる。さらに、カルボン酸（４）の置換基Ｒについては、ＮＨ２へと変換可能な置換基、またはＮＨ２基が適切な形で保護された構造をとる。
導入の反応条件としては例えば、必要に応じてＨＯＡｔ（１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール）、ＨＯＢｔ（１−ヒドロキシベンゾトリアゾール）、ＤＭＡＰ（ジメチルアミノピリジン）等の適切な添加剤と共にＤＩＣ（ジイソプロピルカルボジイミド）、ＤＣＣ（ジシクロヘキシルカルボジイミド）、ＥＤＣ（１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド）などの縮合剤を用い、ジクロロメタン、ＤＭＦ（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、ＮＭＰ（Ｎ−メチル−２−ピロリドン）等の有機溶媒中で反応させることができる。例えば樹脂としてＷａｎｇレジンを用いた場合にはピリジンと２，６−ジクロロベンゾイルクロリドの存在下ＤＭＦ中で反応を行いエステル（５）が得られる。
エステル（５）は選択された置換基Ｒに応じて適切な条件にてアミン（６）へと導ける。例えばＲとしてニトロ基を用いた場合にはＮＭＰ、ＤＭＦ、エタノールなどの溶媒中でＳｎＣｌ２またはその水和物などの還元剤を作用されることによりアミン（６）へと導くことができる。また、Ｆｍｏｃ基（９−フルオレニルメトキシカルボニル基）により保護されたアミンの場合（ＦｍｏｃＮＨ）は、ＤＭＦなどの溶媒中でピペリジン等の塩基の作用で脱保護され、アミン（６）へ導くことができる。
一般式（Ｘ−１）においてＡ’が一般式（２）であり、Ｕ，Ｖが共にＣ（＝Ｏ）である化合物の中間体、キナゾリンジオン（９）は、アミン（６）に対してオルト位にカルボン酸エステル基を有するイソシアネートを反応させることでウレア（７）に導いた後、ＤＭＦなどを溶媒に用いたピペリジン、または、ＴＭＧ（テトラメチルグアニジン）などの塩基処理によりキナゾリンジオン（８）へと閉環させ、さらに、アルキルハライドやアリールハライドなどの試薬を用いて反応する、あるいは、アルコールを用いた光延反応を行うことにより得ることができる。
2003070709.tif 000016
また、一般式（Ｘ−１）においてＡ’が一般式（２）であり、Ｕ，Ｖが共にＣ（＝Ｏ）である化合物の中間体、キナゾリンジオン（９）のその他合成方法の例としては、アミン（６）と、ＮＭＰなどの溶媒中において２，６−ルチジン塩基存在下でオルト位にニトロ基を有するカルボン酸クロライドとの反応、または、ＤＭＦ，ＮＭＰ，ジクロロメタンなどの有機溶媒中で必要に応じてＨＯＡｔ、ＨＯＢｔ等の適切な添加剤とともにＤＩＣ等の縮合剤を用いて活性化されたオルト位にニトロ基を有するカルボン酸との反応により得られたアミド（１０）について、ニトロ基をＳｎＣｌ２またはその水和物などにより還元することでアミン（１１）へ導いた後、ＣＤＩ（カルボニルジイミダゾール）、トリホスゲン、ｐ−ニトロフェニルクロロフォルメートなどの試薬で環化させることでキナゾリンジオン（８）を得る方法が挙げられる。
また、その他の合成法の例として（６）とＤＭＦ、ＮＭＰ、ジクロロメタンなどの有機溶媒中で必要に応じてＨＯＡｔ、ＨＯＢｔ等の適切な添加剤とともにＤＩＣ等の縮合剤を用いて活性化されたオルト位にアミノ基を有するカルボン酸との反応により得られたアミド（１１）について、ＣＤＩ、トリホスゲン、ｐ−ニトロフェニルクロロフォルメートなどの試薬で環化させることでキナゾリンジオン（８）を得る方法が挙げられる。この方法において用いるカルボン酸に各種サリチル酸を用い、エタノールアミン等の塩基で処理した後、ＣＤＩ、トリホスゲン、ｐ−ニトロフェニルクロロフォルメートなどの試薬で環化させると、一般式（Ｘ−１）においてＡ’が一般式（３−１）であり、ＵとＶがＣ（＝Ｏ）の場合の中間体合成の一方法となる。
2003070709.tif 000017
一般式（Ｘ−１）においてＡ’が一般式（２）であり、Ｕ，Ｖが共にＣ（＝Ｏ）で、Ｒ２、Ｒ３あるいはＲ４としてニトロ基などの電子吸引性の置換基を有する化合物の中間体、キナゾリンジオン（９）は、（６）とＤＭＦ，ＮＭＰ，ジクロロメタンなどの有機溶媒中で必要に応じてＨＯＡｔ、ＨＯＢｔ等の適切な添加剤とともにＤＩＣ等の縮合剤を用いて活性化されたオルト位にフルオロ基を有するカルボン酸との反応により得られたアミド（４２）について、フルオロ基をアミンで置換することでアミン（４３）へ導いた後、ＣＤＩ、トリホスゲン、ｐ−ニトロフェニルクロロフォルメートなどの試薬で環化させることで得られる。
2003070709.tif 000018
また、一般式（Ｘ−１）においてＡ’が一般式（２）であり、ＵがＣ（＝Ｓ）、ＶがＣ（＝Ｏ）である化合物の中間体、エステル（１２）の合成方法の例としては、ＮＭＰなどの溶媒中においてオルト位にカルボン酸エステル基を有するイソチオシアネートとアミン（６）を反応させることにより得ることができる。
2003070709.tif 000019
また、一般式（Ｘ−１）においてＡ’が一般式（２）であり、ＵがＣ（＝Ｓ）、ＶがＣ（＝Ｏ）である化合物の中間体、エステル（４４）の合成方法の例としては、デカヒドロナフタレン、トルエンなどの溶媒中でチオカルボニルジイミダゾールとアミン（４３）と反応させることにより得るという方法が挙げられる。
2003070709.tif 000020
また、一般式（Ｘ−１）においてＡ’が一般式（３）であり、ＷがＣ（−Ｒ７）である化合物の中間体、エステル（１３）の中で、特にＲ７が低級アルキルチオ基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでも良い）で置換された低級アルキルチオ基、アリール基で置換された低級アルキルチオ基、ヘテロアリール基で置換された低級アルキルチオ基である場合は、エステル（１２）とアルキルハライド、アリールハライドなどの試薬との反応で得ることができる。
2003070709.tif 000021
また、一般式（Ｘ−１）においてＡ’が一般式（３）であり、ＷがＣ（−Ｒ７）である化合物の中間体、エステル（１４）の中で、特にＲ７が水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでも良い）、アリール基、ヘテロアリール基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでも良い）で置換された低級アルキル基、アリール基で置換された低級アルキル基、ヘテロアリール基で置換された低級アルキル基、低級アルコキシ基、環状アルキル基（環中にヘテロ原子を含んでも良い）で置換された低級アルコキシ基、アリール基で置換された低級アルコキシ基、ヘテロアリール基で置換された低級アルコキシ基、環状アルキル（環中にヘテロ原子を含んでも良い）オキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、ヒドロキシ低級アルキル基、ヒドロキシ低級アルケニル基、ヒドロキシ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルキル基、ハロゲノ低級アルコキシ基、ハロゲノ低級アルケニル基、ニトロ基、シアノ基、置換または無置換アミノ基、カルボキシル基、低級アルキルオキシカルボニル基、置換または無置換のカルバモイル基、低級アルカノイル基、アロイル基、低級アルキルチオ基、低級アルキルスルホニル基、置換または無置換スルファモイル基の場合は、アミン（１１）と種々のオルソフォルメートまたはその等価体との反応により得ることができ、また、アルデヒドもしくはアセタールとの反応後に酸化することによっても得ることができる。
2003070709.tif 000022
一般式（Ｘ−１）においてＡ’が一般式（３）であり、ＷがＣ（−Ｒ７）である化合物の中間体、エステル（１４）の中で、特にＲ７が置換アミノ基の場合は、以下のように合成することができる。まず、エステル（１５）において、Ｙはアジド基またはアミノ基などであり、それぞれ、トリフェニルホスフィン又はジイソプロピルアゾジカルボン酸の存在下、トリフェニルホスフィンを作用させることによりイミノホスフィン（１６）へ導くことができる。イミノホスフィン（１６）とオルト位にカルボン酸エステルを有するイソシアネートとのＡｚａ−Ｗｉｔｔｉｇ反応によりカルボジイミド（１７）に導いた後（ｎは０から４を表す。）、アミンのカルボジイミドへの求核攻撃と続く閉環反応によりエステル（１８）を合成することができる。
2003070709.tif 000023
一般式（Ｘ−１）においてＡ’が一般式（３）であり、ＷがＮで、ＸがＣ（＝Ｏ）である化合物の中間体、エステル（４５）の合成法の例として、酢酸などの溶媒中、亜硝酸ナトリウムとアミン（１１）を反応させる方法が挙げられる。
2003070709.tif 000024
一般式（Ｘ−１）においてＡ’が一般式（２）であり、ＵがＳ（＝Ｏ）で、ＶがＣ（＝Ｏ）である化合物の中間体、エステル（４６）の合成法の例として、ジクロロメタンなどの溶媒中、チオニルクロリドなどとアミン（４３）を反応させる方法が挙げられる。
2003070709.tif 000025
一般式（Ｘ−１）においてＡ’が一般式（２）であり、ＵがＣ（＝Ｏ）で、ＶがＳ（＝Ｏ）２である化合物の中間体、エステル（５０）の合成法の例として、アミン（６）と、ＮＭＰ、ジクロロメタンなどの溶媒中において２，６−ルチジンなどの塩基存在下でオルト位にニトロ基を有するスルホン酸クロライドとの反応により得られたスルホンアミド（４７）について、ニトロ基をＳｎＣｌ２またはその水和物などにより還元することでアミン（４８）へ導いた後、ＣＤＩ、トリホスゲン、ｐ−ニトロフェニルクロロフォルメートなどの試薬で環化させ（４９）とした後、アルキルハライドを用いて反応することにより得る方法が挙げられる。
2003070709.tif 000026
一般式（Ｘ−１）においてＡ’が一般式（２）であり、Ｕ、Ｖが共にＣ（＝Ｏ）であり、Ｒ２，Ｒ３あるいはＲ４がアミノ基である化合物の中間体、エステル（５４）の合成法の例として、（６）とＤＭＦ，ＮＭＰ，ジクロロメタンなどの有機溶媒中で必要に応じてＨＯＡｔ、ＨＯＢｔ等の適切な添加剤とともにＤＩＣ等の縮合剤を用いて活性化されたオルト位にアミノ基を有し置換基としてニトロ基を有するカルボン酸との反応により得られたアミド（５１）について、ＣＤＩ、トリホスゲン、ｐ−ニトロフェニルクロロフォルメートなどの試薬で環化させ（５２）とした後、アルキルハライドを用いて反応し、その後、ニトロ基をＳｎＣｌ２またはその水和物などにより還元することでアミン（５４）得る方法が挙げられる。
2003070709.tif 000027
一般式（Ｘ−１）においてＡ’が一般式（２）であり、Ｕ、Ｖが共にＣ（＝Ｏ）であり、Ｒ２，Ｒ３あるいはＲ４がアシルアミノ基である化合物の中間体、エステル（５５）の合成法の例として、（５４）をＤＭＦ，ＮＭＰ，ジクロロメタンなどの有機溶媒中でピリジンなどの塩基存在下、アシルハライドと反応させることにより得る方法が挙げられる。
2003070709.tif 000028
一般式（Ｘ−１）においてＡ’が一般式（２）であり、Ｕ、Ｖが共にＣ（＝Ｏ）であり、Ｒ２，Ｒ３あるいはＲ４が置換アミノ基である化合物の中間体、エステル（６１）の合成法には以下のような例がある。（６）とＤＭＦ，ＮＭＰ，ジクロロメタンなどの有機溶媒中で必要に応じてＨＯＡｔ、ＨＯＢｔ等の適切な添加剤とともにＤＩＣ等の縮合剤を用いて活性化されたオルト位にニトロ基を有し置換基としてフルオロ基を有するカルボン酸との反応により得られたアミド（５６）について、ＮＭＰ、ＤＭＳＯなどの溶媒中置換アミンを反応させ、アミン（５７）を得る。その後、ニトロ基をＳｎＣｌ２またはその水和物などにより還元することで（５８）とし、ＣＤＩ、トリホスゲン、ｐ−ニトロフェニルクロロフォルメートなどの試薬で環化させ（６０）とした後、アルコールとジイソプロピルアゾジカルボン酸などを用いて光延反応を行い（６１）が得られる。
2003070709.tif 000029
一般式（Ｘ−１）においてＡ’が一般式（２）であり、Ｕ、Ｖが共にＣ（＝Ｏ）であり、Ｒ２，Ｒ３あるいはＲ４がアンモニウム基である化合物の中間体、エステル（６２）の合成法の例として、（６１）をＤＭＦ，ＮＭＰなどの有機溶媒中でジイソプロピルエチルアミンなどの塩基存在下、アルキルハライドと反応させることにより得る方法が挙げられる。
2003070709.tif 000030
一般式（Ｘ−１）においてＡ’が一般式（３−２）である化合物の中間体、エステル（６８）の合成法の例として以下の方法が挙げられる。（６）とＤＭＦ，ＮＭＰ，ジクロロメタンなどの有機溶媒中で必要に応じてＨＯＡｔ、ＨＯＢｔ等の適切な添加剤とともにＤＩＣ等の縮合剤を用いて活性化されたβ位にＦｍｏｃで保護されたアミノ基を有するカルボン酸との反応により得られたアミド（６３）について、Ｆｍｏｃの脱保護を行いアミン（６４）とする。その後、ＮＭＰ、ジクロロメタンなどの溶媒中において２，６−ルチジンなどの塩基存在下で置換基としてニトロ基を有するスルホン酸クロリドとの反応により、スルホンアミド（６５）とする。そして、ジイソプロピルエチルアミンなどの塩基の存在下アルキルハライドと作用させ（６６）とし、メルカプトエタノール、ジアザビシクロウンデセンなどを反応させることによりアミン（６７）とする。その後、ＣＤＩ、トリホスゲン、ｐ−ニトロフェニルクロロフォルメートなどの試薬で環化させることにより（６８）が得られる。
2003070709.tif 000031
一般式（Ｘ−１）においてＡ’が一般式（３−３）であり、Ａｒｍがベンゼン環である化合物の中間体、エステル（７２）は、次に示した方法により製造することができる。ベンゼン環以外のＡｒｍについても同様に合成できる。
2003070709.tif 000032
ＮＭＰなどの溶媒を用い、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン存在下、アミン（６）とオルト位にニトロ基を有するハロゲン化メチルベンゼンを反応させ、ベンジルアミン（６９）を得、これを塩化スズなどにより還元し、アミン（７０）へと導いた後、導入したベンジル部分のベンゼン環上アミンを種々の方法により、モノＲ１化しアミン（７１）とし、最後に、ＣＤＩ、トリホスゲン、ｐ−ニトロフェニルクロロフォルメートなどの試薬により環化させることでエステル（７２）を得ることができる。
また、一般式（Ｘ−１）におけるＤ’−Ｔ’部分は以下のようにして構築することができる。例えば、一般式（Ｘ−１）においてＴ’がＣ（＝Ｏ）である場合は、エステル（１９）において、置換基ＧはＣの構造を持つか、または合成工程のいずれかの時点でＣへと変換可能な置換基、またはその置換基が適切な形で保護された構造をとるとして、置換基Ｚは（２）、（３）、（３−１）、（３−２）の構造を持つか、または合成工程のいずれかの時点でＡへと変換可能な置換基、またはその置換基が適切な形で保護された構造をとるとすると、保護基Ｅに応じて適切な条件にて脱保護を行いアミン（２０）へと導ける。例えばＥとしてＦｍｏｃ基（９−フルオレニルメトキシカルボニル基）を用いた場合にはＤＭＦなどの溶媒中でピペリジン等の塩基を作用されることにより脱保護が可能である。アミン（２０）はＤＭＦ，ＮＭＰ，ジクロロメタンなどの有機溶媒中で必要に応じてＨＯＡｔ、ＨＯＢｔ等の適切な添加剤とともにＤＩＣ等の縮合剤を用いて適当なカルボン酸を縮合させることでアミド（２１）へと導ける。
2003070709.tif 000033
また、アミン（２０）に対しては、ＤＭＦ、ＮＭＰ、ジクロロメタンなどの有機溶媒中、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン等の有機塩基あるいは炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどの無機塩基の存在下、カルボン酸ハライド、カルボン酸無水物、スルホン酸ハライド、スルホン酸無水物を作用させ対応するアミド型、スルホンアミド型構造を形成することができる。
さらに、アミン（２０）に対しては、ＤＭＦ，トルエン、ジクロロメタンなどの有機溶媒中、必要に応じてトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン等の有機塩基の存在下、各種イソシアナート、イソチオシアナートと反応させることにより対応する尿素型、あるいはチオ尿素型構造を形成できる。
以上のようにして合成されたエステル（９）、（１２）、（１３）、（１４）、（１８）、（２１）、（４４）、（４５）、（４６）、（５０）、（５４）、（５５）、（６１）、（６２）、（６８）、（７２）などを、適切な条件で樹脂より切断することで、カルボン酸（Ｘ−１）を得ることができる。例えば樹脂としてＷａｎｇレジンを用いた場合にはエステル（２２）においてＡ１、Ｃ１、Ｄ１をそれぞれＡ’、Ｃ’、Ｄ’であるか、または、脱樹脂条件下においてそれぞれＡ’、Ｃ’、Ｄ’に変換される基であるとすると、エステル（２２）をＴＦＡ（トリフルオロ酢酸）等を含む酸性の反応液で処理することにより、カルボン酸（Ｘ−１）の溶液を得る。またこのように得られたカルボン酸（Ｘ−１）から、濃縮、抽出、晶析、カラムクロマトグラフィー、ＨＰＬＣ、再結晶などの公知の分離精製手段により、純粋なカルボン酸（Ｘ−１）を得ることができる。
また、カルボン酸（Ｘ−１）の合成は、これまで示した固相上での合成法を、適当な保護基を選択し公知の分離精製手段を用いて、液相法に適用することによっても可能である。
2003070709.tif 000034
本発明の一般式（１）で示される化合物が塩の形態を成し得る場合、その塩は医薬的に許容しうるものであればよく、例えば、式中のカルボキシル基等の酸性基に対しては、アンモニウム塩、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属との塩、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属との塩、アルミニウム塩、亜鉛塩、トリエチルアミン、エタノールアミン、モルホリン、ピペリジン、ジシクロヘキシルアミン等の有機アミンとの塩、アルギニン、リジン等の塩基性アミノ酸との塩が挙げることができる。式中に塩基性基が存在する場合の塩基性基に対しては、塩酸、硫酸、リン酸などの無機酸との塩、酢酸、クエン酸、安息香酸、マレイン酸、フマル酸、酒石酸、コハク酸等の有機カルボン酸との塩、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機スルホン酸との塩が挙げることができる。塩を形成する方法としては、一般式（１）の化合物と必要な酸または塩基とを適当な量比で溶媒、分散剤中で混合することや、他の塩の形より陽イオン交換または陰イオン交換を行うことによっても得られる。
本発明化合物は一般式（１）で示される化合物の溶媒和物、例えば水和物、アルコール付加物等も含んでいる。
一般式（１）で示される化合物またはその塩は、そのままあるいは各種の医薬組成物として投与される。このような医薬組成物の剤形としては、例えば錠剤、散剤、丸剤、顆粒剤、カプセル剤、坐剤、溶液剤、糖衣剤、デボー剤、またはシロップ剤にしてよく、普通の製剤助剤を用いて常法に従って製造することができる。
例えば錠剤は、本発明の有効成分であるフェニルアラニン誘導体を既知の補助物質、例えば乳糖、炭酸カルシウムまたは燐酸カルシウム等の不活性希釈剤、アラビアゴム、コーンスターチまたはゼラチン等の結合剤、アルギン酸、コーンスターチまたは前ゼラチン化デンプン等の膨化剤、ショ糖、乳糖またはサッカリン等の甘味剤、ペパーミント、またはチェリー等の香味剤、ステアリン酸マグネシウム、タルクまたはカルボキシメチルセルロース等の滑湿剤、脂肪、ワックス、半固形及び液体のポリオール、天然油または硬化油等のソフトゼラチンカプセル及び坐薬用の賦形剤、水、アルコール、グリセロール、ポリオール、スクロース、転化糖、グルコース、植物油等の溶液用賦形剤と混合することによって得られる。
本発明化合物（１）中の−ＣＯ−Ｂで表される基は、たとえば、Ｐｒｏｇ．Ｍｅｄ．５：２１５７−２１６１（１９８５）、医薬品の開発（広川書店１９９０年刊）７巻  分子設計  Ｐ．１６３−１９８、あるいは最新  創薬化学（テクノミック１９９９年刊）下巻  Ｐ．２７１−２９８に記載されているように、生体内でカルボキシル基に変換される、プロドラッグ化修飾をうけたカルボキシル基である。
しかも、一般式（１）においてＢがヒドロキシ基を示す化合物は、後の参考試験例に示すように優れたα４インテグリン阻害活性を示している。
このことから、本発明の新規フェニルアラニン誘導体は、生体に投与されることにより、優れたα４インテグリン阻害活性を発揮しうる。
従って、一般式（１）で示される化合物またはその塩を有効成分とする阻害剤は、α４インテグリン依存性の接着過程が病態に関与する炎症性疾患、リウマチ様関節炎、炎症性腸疾患、全身性エリテマトーデス、多発性硬化症、シェーグレン症候群、喘息、乾せん、アレルギー、糖尿病、心臓血管性疾患、動脈硬化症、再狭窄、腫瘍増殖、腫瘍転移、移植拒絶いずれかの治療剤または予防剤を提供するものである。なお、上記炎症性腸疾患としては、クローン病及び潰瘍性大腸炎が含まれる。
上記目的のために用いる投与量は、目的とする治療効果、投与方法、治療期間、年齢、体重などにより決定されるが、経口もしくは非経口のルートにより、通常成人一日あたりの投与量として経口投与の場合で１μｇ〜５ｇ、非経口投与の場合で０．０１μｇ〜１ｇを用いる。
この目的において、本発明化合物は経口投与時の血中濃度あるいはバイオアベイラビリティーが高く、経口剤として有用である。
また、本発明化合物は、酸性あるいはアルカリ性溶液中での安定性に優れ有用である、例えば種々の剤型への適用が可能である。
（実施例）
以下の実施例により本発明を詳細に説明する。これらは本発明の好ましい実施態様でありこれらの実施例に限定されるものではない。なお、本発明化合物の原料化合物の製造法を参考例に示す。
実施例１  （２Ｓ）−２−［（２，６−ジクロロベンゾイル）アミノ］−３−［４−［６−（ジメチルアミノ）−１−メチル−２，４−ジオキソ−１，４−テトラヒドロ−３−（２Ｈ）キナゾリニル］フェニル］プロピオン酸  １−［［（シクロヘキシルオキシ）カルボニル］オキシ］エチルエステル  トリフルオロ酢酸塩の合成
シクロヘキシルアルコール（４．３ｍｌ）、ピリジン（３．３ｍｌ）のジクロロメタン（６０ｍｌ）溶液にクロロ蟻酸  １−クロロエチル（４ｍｌ）を−７８℃にて加えた後、室温で１５時間撹拌した。反応液をジクロロメタンで希釈し、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去することにより１−クロロエチルシクロヘキシルカーボナートの粗精製物（７．５ｇ）を得た。
得られた粗製生物（７．５ｇ）にヨウ化ナトリウム（１．６ｇ）、アセトニトリル（１６ｍｌ）を加え、６０℃で２時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去することにより、１−クロロエチルシクロヘキシルカーボナートと１−ヨードエチルシクロヘキシルカーボナートの混合物（４２０ｍｇ）を得た。
得られた混合物（５４ｍｇ）に参考例１０８で得られる化合物（５０ｍｇ）、トリエチルアミン（２６ｕｌ）、ジクロロメタン（７５０ｕｌ）を加え、室温で１６時間撹拌した。反応液を留去した後、逆相高速液体クロマトグラフィー（逆相ＨＰＬＣ）（水−アセトニトリル、それぞれ０．１％トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）入り）で精製することにより表題化合物（２５ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：７２５
ＣＨＮＯ：Ｃ３６Ｈ３８Ｃｌ２Ｎ４Ｏ８
実施例２  ピバリン酸［［（２Ｓ）−２−［（２，６−ジクロロベンゾイル）アミノ］−３−［４−［６−ジメチルアミノ−１−メチル−２，４−ジオキソ−１，４−テトラヒドロ−３−（２Ｈ）キナゾリニル］フェニル］プロパノイル］オキシ］メチルエステル  トリフルオロ酢酸塩の合成
参考例１０８で得られる化合物にＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）、トリエチルアミン（１５０ｕｌ）、ピバリン酸  クロロメチル（９００ｕｌ）を加え、室温にて４日間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去することにより表題化合物の粗精製物を得た。この粗精製物を逆相高速液体クロマトグラフィー（逆相ＨＰＬＣ）（水−アセトニトリル、それぞれ０．１％トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）入り）で精製することにより表題化合物（３１ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：６６９
ＣＨＮＯ：Ｃ３３Ｈ３４Ｃｌ２Ｎ４Ｏ７
実施例２の化合物のＮＭＲデータ：１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１．２４（９Ｈ，ｓ），３．１３（６Ｈ，ｓ），３．３４（２Ｈ，ｍ），３．６２（３Ｈ，ｓ），５．３３（１Ｈ，ｍ），５．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），５．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），６．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．１６−７．４２（８Ｈ，ｍ），７．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．９５（１Ｈ，ｓ）．
実施例３  （２Ｓ）−２−［（２，６−ジクロロベンゾイル）アミノ］−３−［４−（６−ジメチルアミノ−１−メチル−２，４−ジオキソ−１，４−テトラヒドロ−３−（２Ｈ）キナゾリニル）フェニル］プロピオン酸  ２−（４−モルホリニル）エチルエステル  ２トリフルオロ酢酸塩の合成
参考例１０８で得られる化合物（塩酸塩）（５０ｍｇ）にジクロロメタン（１０ｍｌ）、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（１８ｍｇ）、４−ジメチルアミノピリジン（１１ｍｇ）、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）モルホリン（７０ｕｌ）を加え、室温にて４日間撹拌した。反応液を濃縮した後、酢酸エチルを加え、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去することにより表題化合物の粗精製物を得た。この粗精製物を逆相高速液体クロマトグラフィー（逆相ＨＰＬＣ）（水−アセトニトリル、それぞれ０．１％トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）入り）で精製することにより表題化合物（１１ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：６６８
ＣＨＮＯ：Ｃ３３Ｈ３５Ｃｌ２Ｎ５Ｏ６
実施例４  下記表Ａに表される化合物の合成
参考例１で得られる化合物（２９．６ｍｇ）、Ｂｏｃ２Ｏ（２７．５ｍｇ）、炭酸水素アンモニウム（１１．６ｍｇ）と１，４−ジオキサン（１．５ｍｌ）の混合物に、ピリジン（０．０５ｍｌ）を加え攪拌した。１日攪拌したあとに反応液に水を加え、析出してきた結晶を吸引ろ過し、目的物を１８．６ｍｇ（６３％）得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ２．９２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４  ａｎｄ  １０Ｈｚ），３．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０  ａｎｄ  ３Ｈｚ），４．７６（１Ｈ，ｍ），７．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．２０（１Ｈ，ｓ），７．４０（８Ｈ，ｍ），７．８３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ），８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），８．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）．
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５１１
ＣＨＮＯ：Ｃ２５Ｈ２０Ｃｌ２Ｎ４Ｏ４
実施例５  下記表Ａに表される化合物の合成
参考例１で得られる化合物（３０．０ｍｇ）をジクロロメタン（２ｍｌ）に溶解し、チオニルクロリド（４２．８μｌ）をジクロロメタン（０．５ｍｌ）で希釈した溶液を加えた。２０分後、ＤＭＦを１滴加えてさらに攪拌した。１０分後、溶媒を減圧下で留去し、再びジクロロメタン（２ｍｌ）に溶解した。この溶液を、２Ｍメチルアミンテトラヒドロフラン溶液（１４７μｌ）をジクロロメタン（２ｍｌ）で希釈したものに滴下した。１時間撹拌後に溶媒留去し、残渣を薄相シリカゲルクロマトグラフィーにて精製して、目的物を５．０ｍｇ（１６％）得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ２．７６（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），３．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４  ａｎｄ  ８Ｈｚ），３．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１４  ａｎｄ  ６Ｈｚ），３．６４（３Ｈ，ｓ），４．９３（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝８  ａｎｄ  ６Ｈｚ），５．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Ｈｚ），６．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．２８（７Ｈ，ｍ），７．４６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．７４（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝８  ａｎｄ  １Ｈｚ），８．２３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８  ａｎｄ  １Ｈｚ）．
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５２５
ＣＨＮＯ：Ｃ２６Ｈ２２Ｃｌ２Ｎ４Ｏ４
実施例６  下記表Ａに表される化合物の合成
参考例１で得られる化合物（３０．０ｍｇ）と２Ｍジメチルアミン  テトラヒドロフラン溶液（１４７μｌ）から実施例５と同様な方法により、目的物を１３．８ｍｇ（４４％）得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ２．５７（３Ｈ，ｓ），２．８８（３Ｈ，ｓ），３．０８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３  ａｎｄ  １０Ｈｚ），３．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３  ａｎｄ  ５Ｈｚ），３．６５（３Ｈ，ｓ），５．３９（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１０，８  ａｎｄ  ５Ｈｚ），６．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ），７．２１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．２８（５Ｈ，ｍ），７．４４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝９Ｈｚ），７．７４（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝８  ａｎｄ  １Ｈｚ），８．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８  ａｎｄ  １Ｈｚ）．
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５３９
ＣＨＮＯ：Ｃ２７Ｈ２４Ｃｌ２Ｎ４Ｏ４
実施例７  下記表Ａに表される化合物の合成
参考例１で得られる化合物と１，３−ジパルミチンを用いて実施例３と同様にして目的物を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ０．９５（６Ｈ，ｔ），１．３０（４８Ｈ，ｓ），１．６０（４Ｈ，ｍ），２．３５（４Ｈ，ｍ），３．３５（２Ｈ，ｄ），３．６０（３Ｈ，ｓ），４．１５（２Ｈ，ｍ），４．３５（２Ｈ，ｍ），５．２５−５．４０（２Ｈ，ｍ），６．４０（１Ｈ，ｄ），７．１５−７．５０（９Ｈ，ｍ），７．７５（１Ｈ，ｔ），８．２５（１Ｈ，ｄ）．
実施例８  （２Ｓ）−２−［（２，６−ジクロロベンゾイル）アミノ］−３−［４−［１−メチル−２，４−ジオキソ−１，４−テトラヒドロ−３−（２Ｈ）キナゾリニル］フェニル］プロピオン酸  １−［［（シクロヘキシルオキシ）カルボニル］オキシ］エチルエステルの合成
参考例１で得られる化合物を用いて、実施例１と同様にして得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：６８２
実施例９  ピバリン酸［［（２Ｓ）−２−［（２，６−ジクロロベンゾイル）アミノ］−３−［４−［１−メチル−２，４−ジオキソ−１，４−テトラヒドロ−３−（２Ｈ）キナゾリニル］フェニル］プロパノイル］オキシ］メチルエステル  参考例１で得られる化合物を用いて、実施例２と同様にして得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：６２６
実施例１０  （２Ｓ）−２−［（２，６−ジクロロベンゾイル）アミノ］−３−［４−（１−メチル−２，４−ジオキソ−１，４−テトラヒドロ−３−（２Ｈ）キナゾリニル）フェニル］プロピオン酸  ２−（４−モルホリニル）エチルエステル
参考例１で得られる化合物を用いて、実施例３と同様にして得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：６２５
実施例１１  （２Ｓ）−２−［（２，６−ジクロロベンゾイル）アミノ］−３−［４−（６−ジメチルアミノ−１−メチル−２，４−ジオキソ−１，４−テトラヒドロ−３−（２Ｈ）キナゾリニル）フェニル］プロピオン酸  ２−（ジメチルアミノ）エチルエステル  ２トリフルオロ酢酸塩の合成
２−ジメチルアミノエタノールを用いて実施例３と同様にして得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：６２６
実施例１２  （２Ｓ）−２−［（２，６−ジクロロベンゾイル）アミノ］−３−［４−（６−ジメチルアミノ−１−メチル−２，４−ジオキソ−１，４−テトラヒドロ−３−（２Ｈ）キナゾリニル）フェニル］プロピオン酸  テトラヒドロフラン−２−イルメチルエステル  トリフルオロ酢酸塩の合成
２−ヒドロキシメチル−テトラヒドロフランを用いて実施例３と同様にして得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：６３９
実施例１３  （２Ｓ）−２−［（２，６−ジクロロベンゾイル）アミノ］−３−［４−（６−ジメチルアミノ−１−メチル−２，４−ジオキソ−１，４−テトラヒドロ−３−（２Ｈ）キナゾリニル）フェニル］プロピオン酸  アセトキシメチルエステル  トリフルオロ酢酸塩の合成
アルキルハライドとして酢酸ブロモメチル、溶媒としてジクロロメタンを用いて実施例２と同様にして得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：６２７
実施例１４  （２Ｓ）−２−［（２，６−ジクロロベンゾイル）アミノ］−３−［４−（６−ジメチルアミノ−１−メチル−２，４−ジオキソ−１，４−テトラヒドロ−３−（２Ｈ）キナゾリニル）フェニル］プロピオン酸  塩化メチルエステル  トリフルオロ酢酸塩の合成
アルキルハライドとしてクロロヨードメタンを用いて実施例２と同様にして得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：６０３
実施例１５  （２Ｓ）−２−［（２，６−ジクロロベンゾイル）アミノ］−３−［４−（６−ジメチルアミノ−１−メチル−２，４−ジオキソ−１，４−テトラヒドロ−３−（２Ｈ）キナゾリニル）フェニル］プロピオン酸  ２−メトキシエチルエステル  トリフルオロ酢酸塩
２−メトキシエタノールを用いて実施例３と同様にして得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：６１３
実施例１６  （２Ｓ）−２−［（２，６−ジクロロベンゾイル）アミノ］−３−［４−（６−ジメチルアミノ−１−メチル−２，４−ジオキソ−１，４−テトラヒドロ−３−（２Ｈ）キナゾリニル）フェニル］プロピオン酸  フラン−２−イルメチルエステル  トリフルオロ酢酸塩
フルフリルアルコールを用いて実施例３と同様にして得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：６３５
実施例１７  （２Ｓ）−２−［（２，６−ジクロロベンゾイル）アミノ］−３−［４−（６−ジメチルアミノ−１−メチル−２，４−ジオキソ−１，４−テトラヒドロ−３−（２Ｈ）キナゾリニル）フェニル］プロピオン酸  ２−（２−オキソイミダゾリジン−１−イル）エチルエステル  トリフルオロ酢酸塩
１−（２−ヒドロキシエチル）−２−イミダゾリジノンを用いて実施例３と同様にして得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：６６７
実施例１８  （２Ｓ）−２−［（２，６−ジクロロベンゾイル）アミノ］−３−［４−（６−ジメチルアミノ−１−メチル−２，４−ジオキソ−１，４−テトラヒドロ−３−（２Ｈ）キナゾリニル）フェニル］プロピオン酸  ２−（ピペリジン−１−イル）エチルエステル  ２トリフルオロ酢酸塩
Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）ピペリジンを用いて実施例３と同様にして得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：６６６
実施例１９  （２Ｓ）−２−［（２，６−ジクロロベンゾイル）アミノ］−３−［４−（６−ジメチルアミノ−１−メチル−２，４−ジオキソ−１，４−テトラヒドロ−３−（２Ｈ）キナゾリニル）フェニル］プロピオン酸  ２−ジエチルアミノエチルエステル  ２トリフルオロ酢酸塩
ジエチルアミノエタノールを用いて実施例３と同様にした得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：６５４
実施例２０  （２Ｓ）−２−［（２，６−ジクロロベンゾイル）アミノ］−３−［４−（６−ジメチルアミノ−１−メチル−２，４−ジオキソ−１，４−テトラヒドロ−３−（２Ｈ）キナゾリニル）フェニル］プロピオン酸  ２−（２−オキソ−ピロリジン−１−イル）エチルエステル  トリフルオロ酢酸塩
１−（２−ヒドロキシエチル）−２−ピロリドンを用いて実施例３と同様にして得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：６６６
実施例２１  （２Ｓ）−２−［（２，６−ジクロロベンゾイル）アミノ］−３−［４−（６−ジメチルアミノ−１−メチル−２，４−ジオキソ−１，４−テトラヒドロ−３−（２Ｈ）キナゾリニル）フェニル］プロピオン酸  ジメチルカルバモイルメチルエステル  トリフルオロ酢酸塩
Ｎ，Ｎ−ジメチルクロロアセトアミドを用いて実施例２と同様にして得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：６４０
実施例２２  （２Ｓ）−２−［（２，６−ジクロロベンゾイル）アミノ］−３−［４−（１−メチル−２−オキソ−１，４−テトラヒドロ−３−（２Ｈ）キナゾリニル）フェニル］プロピオン酸  アセトキシメチルエステルの合成
参考例１４７で得られる化合物３０ｍｇ、トリエチルアミン１８μｌ、酢酸ブロモメチルエステル１９ｍｇとジクロロメタン１ｍｌの混合物を室温で一晩攪拌した。溶媒を留去し、逆相高速液体クロマトグラフィー（逆相ＨＰＬＣ）（水−アセトニトリル、それぞれ０．１％トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）入り）で精製することにより表題化合物（１０ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５７０
実施例２３  （２Ｓ）−２−［（２，６−ジクロロベンゾイル）アミノ］−３−［４−（１−メチル−２−オキソ−１，４−テトラヒドロ−３−（２Ｈ）キナゾリニル）フェニル］プロピオン酸  ２−（４−モルホリニル）エチルエステル  トリフルオロ酢酸塩の合成
参考例１４７で得られる化合物を用いて実施例３と同様にして得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：６１１
実施例１〜２３で得られた化合物の構造式を、遊離体の形態で以下の表Ａに示す。
2003070709.tif 000035
2003070709.tif 000036
2003070709.tif 000037
また以下に化学構造式を掲記する化合物は、前記実施例若しくは製造法に記載の方法とほぼ同様にして、又は、それらに当業者に自明の若干の変法を適用して容易に製造される。
2003070709.tif 000038
2003070709.tif 000039
本発明の新規フェニルアラニン誘導体は、生体内でカルボキシル体に変換されるプロドラッグ体である。このカルボキシル体への変換は、例えば、生物薬科学実験講座  １５巻  薬物代謝酵素（廣川書店  ２００１年刊）記載の方法を参考に、各種代謝酵素系、特に、肝臓あるいは小腸Ｓ９画分を用いて確認することができる。また、本発明化合物を動物（マウス、ラット等、ヒトを含む）に投与しその血中薬物を分析することによっても確認することができる。
また、本発明の新規フェニルアラニン誘導体は、生体に投与されることにより、優れたα４インテグリン阻害活性を発揮する。このことは、一般式（１）においてＢがヒドロキシ基である活性本体が、参考試験例１および２の評価方法において、優れたα４インテグリン阻害活性を示したことから明らかである。さらに、このことは、動物（マウス、ラット等、ヒトを含む）に本発明化合物を投与し、その動物から採取した血漿のα４インテグリン阻害活性を参考試験例１及び２の方法に準じて評価することによっても確認することができる。
以下に、参考例として本発明化合物の原料化合物の製造方法を記載するが、原料化合物やその製造法はこれらに限定されない。
参考例１  表１の参考例１に示す置換基を有する下記一般式（２３）で表される化合物の合成
工程１  樹脂の調製
Ｗａｎｇレジン（０．７６ｍｍｏｌ／ｇ、２．３ｇ）にＦｍｏｃ−Ｐｈｅ（４−ｎｉｔｒｏ）−ＯＨ（２．５ｇ）、２，６−ジクロロベンゾイルクロリド（０．７４５ｍＬ）、ピリジン（１．５ｍＬ）のＮＭＰ（２５ｍＬ）溶液を加え、室温で１６時間撹拌した。余分な溶媒を除きさらに樹脂をＤＭＦで３回、ジクロロメタンで３回、ＮＭＰで２回洗浄した。さらに、樹脂上の未反応の水酸基をキャッピングするために、無水酢酸（２０ｍＬ）、ピリジン（２０ｍＬ）、ＮＭＰ（２０ｍＬ）で２時間処理した後、余分な溶媒を除きさらに樹脂をＤＭＦで３回、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し減圧下で乾燥させた。
工程２  Ｆｍｏｃ基除去
工程１で得られた樹脂に、２０％ピペリジンのＤＭＦ溶液（２５ｍＬ）を加えて１５分反応させた後、溶媒を除去し、ＤＭＦ、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し減圧下で乾燥させた。
工程３  アシル化反応
工程２で得られた樹脂２．０ｇに、２，６−ジクロロベンゾイルクロリド（１．１ｍＬ）、２，６−ルチジン（１．６ｍＬ）、ＮＭＰ（２６ｍＬ）を加えて１６時間反応させた後、溶媒を除去し、ＤＭＦ、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し減圧下で乾燥させた。
工程４  ニトロ基の還元
ＳｎＣｌ２・２Ｈ２Ｏ（１５．０ｇ）のＮＭＰ（３０ｍＬ）・ＥｔＯＨ（１．５ｍＬ）溶液を、工程３で得られた樹脂１．５ｇに加えて室温１６時間反応させた後、反応溶液を除き、ＤＭＦ、ジクロロメタンでそれぞれ３回ずつ樹脂を洗浄した。
工程５  キナゾリン−２，４−ジオン環の構築
工程４で得られた樹脂２ｇを、メチル  ２−イソシアネートベンゾエート（１．９２ｇ）、ＮＭＰ（３２ｍｌ）溶液中にて１６時間反応させた後、反応溶液を除き、ＤＭＦ、ジクロロメタンでそれぞれ３回ずつ樹脂を洗浄した。その後、２０％ピペリジンのＤＭＦ溶液を樹脂に加えて１時間反応させた、反応溶液を除き、ＤＭＦ、ジクロロメタンでそれぞれ３回ずつ樹脂を洗浄し、減圧下乾燥させた。
工程６  アルキル化
工程５で得られた樹脂２０ｍｇに、ヨウ化メチル（０．７５ｍｍｏｌ）、１８−クラウン−６（３０ｍｇ）、ＮＭＰ（１ｍＬ）、Ｋ２ＣＯ３（３５ｍｇ）を加えて３日間反応させた後、反応溶液を除き、ＤＭＦ、水、ＤＭＦ、ジクロロメタンでそれぞれ３回ずつ樹脂を洗浄し、減圧下乾燥させた。
工程７  脱樹脂
工程６で得られた樹脂を、５％の水を含有するトリフルオロ酢酸で１時間処理し、樹脂をろ別した後、減圧下にて濃縮した。その後、高圧液体クロマトグラフィ（水・アセトニトリル）を用いて精製を行い目的物を８ｍｇ得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５１２
ＣＨＮＯ：Ｃ２５Ｈ１９Ｃｌ２Ｎ３Ｏ５
参考例２〜７
以下の化合物は、それぞれ対応するアルキル化試薬を参考例１工程６にて用いて、参考例１と同様の工程を経ることで合成した。なお、表１における  Ｒは下記一般式（２３）中の置換基であり、また、参考例２は参考例１工程６のアルキル化工程を行わずに参考例１と同様の工程を経ることで合成した。
2003070709.tif 000040
2003070709.tif 000041
参考例８  表２の参考例８に示す置換基を有する下記一般式（２４）で表される化合物の合成
工程１  キナゾリン−２，４−ジオン環の構築とＦｍｏｃ基の除去
参考例１工程１で得られた樹脂（１ｇ）を参考例１工程４に従ってニトロ基を還元し、さらに、参考例１工程５の方法に従ってキナゾリン−２，４−ジオン環の構築とＦｍｏｃ基の除去を行った。
工程２  アシル化、アルキル化、脱樹脂
参考例８工程１で得られた樹脂（２５ｍｇ）、２，６−ジメチル安息香酸（０．４ｍｍｏｌ）、ＤＩＣ（０．４ｍｍｏｌ）、ＨＯＡｔ（０．４ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ（２ｍＬ）を使用してアシル化を行い、参考例１工程６に従ってアルキル化、次に、参考例１工程７と同様の工程を経ることにより脱樹脂および精製を行い目的物（９ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：４７２
ＣＨＮＯ：Ｃ２７Ｈ２５Ｎ３Ｏ５
参考例９〜１３
以下の化合物は、それぞれ対応するカルボン酸を参考例８工程２にて用いて、参考例８と同様の工程を経ることで合成した。なお、表２におけるＲは下記一般式（２４）中の置換基であり、また、参考例１３においては参考例８工程２の２倍量のＤＩＣおよびＨＯＡｔを用いて反応および精製を行い目的物（７ｍｇ）を得た。
2003070709.tif 000042
2003070709.tif 000043
参考例１４    表３の参考例１４に示す置換基を有する下記一般式（２５）で表される化合物の合成
工程１  キナゾリン−２−チオキソ−４−オン環の構築
参考例１工程４で得られた樹脂（２．００ｇ）に、メチル２−イソチオシアネートベンゾエート（１．４０ｇ）、ＮＭＰ（２５ｍＬ）溶液中にて１６時間反応させた後、反応溶液を除き、ＤＭＦ、ジクロロメタンでそれぞれ３回ずつ樹脂を洗浄し、減圧下乾燥させた。
工程２  脱樹脂
工程１で得られた樹脂（２５ｍｇ）を参考例１工程７に従って処理し、目的物（１０ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５１３
ＣＨＮＯ：Ｃ２４Ｈ１７Ｃｌ２Ｎ３Ｏ４Ｓ
参考例１５  表３の参考例１５に示す置換基を有する下記一般式（２５）で表される化合物の合成
工程１  アシル化
参考例１工程２で得られた樹脂（２５ｍｇ）、２，６−ｄｉｍｅｔｈｙｌｂｅｎｚｏｉｃ  ａｃｉｄ（０．４ｍｍｏｌ）、ＤＩＣ（０．４ｍｍｏｌ）、ＨＯＡｔ（０．４ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ（２ｍＬ）を使用してアシル化を行った。
工程２  キナゾリン−２−チオキソ−４−オン環の構築
工程１で得られた樹脂（２．００ｇ）に、メチル２−イソチオシアネートベンゾエート（１．４０ｇ）、ＮＭＰ（２５ｍＬ）溶液中にて１６時間反応させた後、反応溶液を除き、ＤＭＦ、ジクロロメタンでそれぞれ３回ずつ樹脂を洗浄し、減圧下乾燥させた。
工程３  脱樹脂
工程２で得られた樹脂（２５ｍｇ）を参考例１工程７に従って処理し、目的物（８ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：４７４
ＣＨＮＯ：Ｃ２６Ｈ２３Ｎ３Ｏ４Ｓ
2003070709.tif 000044
2003070709.tif 000045
参考例１６  表４の参考例１６に示す置換基を有する下記一般式（２６）で表される化合物の合成
工程１  アルキル化
参考例１４工程１で得られた樹脂（２５ｍｇ）に、アリルブロマイド（０．５ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（１．０ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ（２ｍＬ）を加えて１６時間反応させた後、反応溶液を除き、ＤＭＦ、ジクロロメタンでそれぞれ３回ずつ樹脂を洗浄し、減圧下乾燥させた。
工程２  脱樹脂
工程１で得られた樹脂を参考例１工程７に従って処理し目的物（６ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５５４
ＣＨＮＯ：Ｃ２７Ｈ２１Ｃｌ２Ｎ３Ｏ４Ｓ
参考例１７〜３０
表４に示す以下の化合物は、参考例１４工程１または参考例１５工程２で得られた樹脂を用いて、かつ、参考例１６工程１にてそれぞれ対応するハライドを用いて、参考例１６と同様の工程を経ることで合成した。なお、表４におけるＲ１、Ｒ２は下記一般式（２６）中の置換基である。
2003070709.tif 000046
2003070709.tif 000047
参考例１８の化合物のＮＭＲデータ：Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ＝２．５３（３Ｈ，ｓ），３．４０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），５．２０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），７．２１−７．３５（６Ｈ，ｍ），７．４１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．５０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）
参考例３１  表５の参考例３１に示す置換基を有する下記一般式（２７）で表される化合物の合成
工程１  アシル化
参考例１工程４で得られた樹脂（１．００ｇ）に、２−ｎｉｔｒｏｂｅｎｚｏｙｌｃｈｌｏｒｉｄｅ（４ｍｍｏｌ）、２，６−ルチジン（８ｍｍｏｌ）、ＮＭＰを加えて、１６時間攪拌した後、ＤＭＦ、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。
工程２  ニトロ基の還元
工程１で得られた樹脂（２５ｍｇ）に参考例１工程４の処理を行い目的とする樹脂を得た。
工程３  オルトエステルによる環化と脱樹脂
工程２で得られた樹脂（２５ｍｇ）に、トリメチルオルソアセテート（１ｍＬ）、ＡｃＯＨ（５０μＬ）、ＮＭＰ（１ｍＬ）を加えて５０℃にて１６時間攪拌した後、ＤＭＦ、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた後、参考例１工程７に従って処理して目的物（８ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：４９６
ＣＨＮＯ：Ｃ２５Ｈ１９Ｃｌ２Ｎ３Ｏ
参考例３２〜４４
以下の表５に示す化合物は、参考例１工程４または参考例１５工程１により得られた樹脂を参考例３１工程１にて用いて、参考例３１工程３にてそれぞれ対応するオルソエステルを用いて、参考例３１と同様の工程を経ることで合成した。なお、表５におけるＲ１およびＲ２は下記一般式（２７）中の置換基である。
2003070709.tif 000048
2003070709.tif 000049
参考例３２の化合物のＮＭＲデータ：Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ＝１．２１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），２．４７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），３．３２−３．４２（２Ｈ，ｍ），５．１９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），７．１０−７．２０（２Ｈ，ｍ），７．２２−７．３５（４Ｈ，ｍ），７．４３−７．５４（３Ｈ，ｍ），７．７０−７．８３（２Ｈ，ｍ），８．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）
参考例４５  表６の参考例４５に示す置換基を有する下記一般式（２８）で表される化合物の合成
工程１  アシル化
参考例１工程４で得られた樹脂（２００ｍｇ）に、３−ｃｈｌｏｒｏ−２−ｎｉｔｒｏｂｅｎｚｏｉｃ  ａｃｉｄ（２１０ｍｇ、１．０４ｍｍｏｌ）、ＨＯＡｔ（１４１ｍｇ、１．０４ｍｍｏｌ）、ＤＩＣ（１６１ｕＬ、１．０４ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ（２ｍＬ）を加えて、６４時間攪拌した後、ＤＭＦ、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。
工程２  ニトロ基の還元
工程１で得られた樹脂に参考例１工程４の処理を行った。
工程３  キナゾリン−２，４−ジオン環の構築
工程２で得られた樹脂に、カルボニルジイミダゾール（８４４ｍｇ、５．２１ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ（２ｍＬ）を加えて８０℃にて１６時間攪拌した後、ＤＭＦ、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた後、参考例１工程７に従って処理を行い目的物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５３２
ＣＨＮＯ：Ｃ２４Ｈ１６Ｃｌ３Ｎ３Ｏ５
参考例４６〜５４
以下の表６に示す化合物は、それぞれ対応する置換２−ニトロ安息香酸を参考例４５工程１にて用いて、参考例４５と同様の工程を経ることで合成した。なお、表６におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は下記一般式（２８）中の置換基である。
2003070709.tif 000050
2003070709.tif 000051
参考例５７  表８の参考例５７に示す置換基を有する下記一般式（２９）で表される化合物の合成
工程１  アシル化
参考例１工程４で得られた樹脂（１ｇ）に、２−ｆｌｕｏｒｏ−５−ｎｉｔｒｏｂｅｎｚｏｉｃ  ａｃｉｄ（１．６３ｇ、８．８１ｍｍｏｌ）、ＨＯＡｔ（１．２ｇ、８．８１ｍｍｏｌ）、ＤＩＣ（６７５ｕＬ、４．３６ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ（２５ｍＬ）を加えて、１４時間攪拌した後、ＤＭＦ、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。
工程２  フルオロ基のアミンによる置換
工程１で得られた樹脂（２００ｍｇ）にイソプロピルアミン（４００ｕＬ）、ＮＭＰ（２ｍＬ）を加えて２１時間攪拌した後、ＤＭＦ、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。
工程３  キナゾリン−２，４−ジオン環の構築
工程２で得られた樹脂に、カルボニルジイミダゾール（２００ｍｇ）、ｔｒａｎｓ−デカヒドロナフタレン（２ｍＬ）を加えて９５℃にて１５時間攪拌した後、ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた後、参考例１工程７に従って処理を行い目的物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５８５
ＣＨＮＯ：Ｃ２７Ｈ２２Ｃｌ２Ｎ４Ｏ７
参考例５８〜６５
以下の表８に示す化合物は、それぞれ対応するアミンを参考例５７工程２にて用いて、参考例５７と同様の工程を経ることで合成した。なお、表８におけるＲは下記一般式（２９）中の置換基である。
2003070709.tif 000052
2003070709.tif 000053
参考例６６  表９の参考例６６に示す置換基を有する下記一般式（３０）で表される化合物の合成
工程１  フルオロ基のアミンによる置換
参考例５７工程１で得られた樹脂（１５０ｍｇ）に２．０ＭメチルアミンのＴＨＦ溶液（３ｍＬ）、ＮＭＰ（２ｍＬ）を加えて１４時間攪拌した後、ＤＭＦ、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。
工程２  キナゾリン−２−チオキソ−４−オン環の構築
工程１で得られた樹脂に、チオカルボニルジイミダゾール（２００ｍｇ）、ｔｒａｎｓ−デカヒドロナフタレン（２ｍＬ）を加えて９５℃にて１５時間攪拌した後、ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた後、参考例１工程７に従って処理を行い目的物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５７３
ＣＨＮＯ：Ｃ２５Ｈ１８Ｃｌ２Ｎ４Ｏ６Ｓ
参考例６７〜６９
以下の表９に示す化合物は、それぞれ対応するアミンを参考例６６工程１にて用いて、参考例６６と同様の工程を経ることで合成した。なお、表９におけるＲは下記一般式（３０）中の置換基である。
2003070709.tif 000054
2003070709.tif 000055
参考例７０  表１０の参考例７０に示す置換基を有する下記一般式（３１）で表される化合物の合成
工程１  アシル化
参考例１工程４で得られた樹脂（５００ｍｇ）に、２−ａｍｉｎｏ−３，６−ｄｉｃｈｌｏｒｏｂｅｎｚｏｉｃ  ａｃｉｄ（８４５ｍｇ、４．１０ｍｍｏｌ）、ＨＯＡｔ（５５８ｍｇ、４．１０ｍｍｏｌ）、ＤＩＣ（３１７ｕＬ、２．０５ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ（１１．５ｍＬ）を加えて、２４時間攪拌した後、ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。
工程２  キナゾリン−２，４−ジオン環の構築
工程１で得られた樹脂（２００ｍｇ）に、カルボニルジイミダゾール（２００ｍｇ）、ｔｒａｎｓ−デカヒドロナフタレン（２ｍＬ）を加えて９５℃にて１５時間攪拌した後、ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。
工程３  アルキル化
工程２で得られた樹脂を参考例１工程６に従ってアルキル化した。
工程４  脱樹脂
参考例１工程７に従って処理を行い目的物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５８０
ＣＨＮＯ：Ｃ２５Ｈ１７Ｃｌ４Ｎ３Ｏ５
参考例７１〜８０
以下の表１０に示す化合物のうち参考例７１〜７５の化合物は、それぞれ対応する安息香酸誘導体を参考例７０工程１にて用いて、参考例７０と同様の工程を経ることで合成した。また、参考例７６〜８０は参考例７０工程３のアルキル化工程を行わず、他は、参考例７０と同様の工程を経ることで合成した。表１０におけるＲは下記一般式（３１）中の置換基である。
2003070709.tif 000056
2003070709.tif 000057
参考例８１  表１１の参考例８１に示す置換基を有する下記一般式（３２）で表される化合物の合成
工程１  アシル化
参考例１工程４で得られた樹脂に対し、参考例７０工程１に従いアシル化を行った。
工程２  トリアゼン環の構築
工程１で得られた樹脂（９０ｍｇ）に亜硝酸ナトリウム（１５０ｍｇ）、酢酸（４．５ｍｌ）を加えて２４時間攪拌した後、ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた後、参考例１工程７の処理を行い目的物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５５１
ＣＨＮＯ：Ｃ２３Ｈ１４Ｃｌ４Ｎ４Ｏ４
参考例８２〜８３
以下の表１１参考例８２〜８３に示す化合物は、それぞれ対応する２−アミノ安息香酸を参考例８１工程１にて用いて、参考例８１と同様の工程を経ることで合成した。なお、表１１におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は下記一般式（３２）中の置換基である。
参考例８４  表１１の参考例８４に示す置換基を有する下記一般式（３２）で表される化合物の合成
工程１  アシル化、ニトロ基の還元
参考例１工程４で得られた樹脂（１ｇ）、５−ｍｅｔｈｏｘｙ−２−ｎｉｔｒｏｂｅｎｚｏｉｃ  ａｃｉｄ（１．６２ｇ，８．２１ｍｍｏｌ）、ＤＩＣ（６３５ｕＬ，４．１１ｍｍｏｌ）、ＨＯＡｔ（１．１２ｇ，８．２１ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ（２３ｍＬ）を用いてアシル化を行い、参考例３１工程２に従いニトロ基の還元を行った。
工程２  トリアゼン環の構築、脱樹脂
工程１で得られた樹脂を参考例８１工程２に従い処理した後、参考例１工程７の処理を行い目的物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５１３
ＣＨＮＯ：Ｃ２４Ｈ１８Ｃｌ２Ｎ４Ｏ５
参考例８５〜８９
以下の表１１参考例８５〜８９に示す化合物は、それぞれ対応する２−ニトロ安息香酸を参考例８４工程１にて用いて、参考例８４と同様の工程を経ることで合成した。なお、表１１におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は下記一般式（３２）中の置換基である。
参考例９０  表１１の参考例９０に示す置換基を有する下記一般式（３２）で表される化合物の合成
工程１  トリアゼン環の構築、脱樹脂
参考例３１工程２で得られた樹脂を参考例８１工程２に従い処理した後、参考例１工程７の処理を行い目的物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：４８３
ＣＨＮＯ：Ｃ２３Ｈ１６Ｃｌ２Ｎ４Ｏ４
2003070709.tif 000058
2003070709.tif 000059
参考例９１  表１２の参考例９１に示す置換基を有する下記一般式（３３）で表される化合物の合成
工程１  アシル化、ニトロ基の還元
参考例１工程４で得られた樹脂を用い、参考例８４工程１に従いアシル化、ニトロ基の還元を行った。
工程２  オルトエステルによる環化、脱樹脂
工程１で得られた樹脂（１５０ｍｇ）に、テトラエトキシメタン（８００ｕｌ）、酢酸（２００ｕｌ）、ＮＭＰ（２ｍｌ）を加えて５５℃にて１５時間攪拌した後、ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた後、参考例１工程７に従って処理を行い目的物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５５６
ＣＨＮＯ：Ｃ２７Ｈ２３Ｃｌ２Ｎ３Ｏ６
参考例９２〜９４
以下の表１２参考例９２〜９４に示す化合物は、それぞれ対応する２−ニトロ安息香酸を参考例９１工程１にて用いて、参考例９１と同様の工程を経ることで合成した。なお、表１２におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は下記一般式（３３）中の置換基である。
参考例９５  表１２の参考例９５に示す置換基を有する下記一般式（３３）で表される化合物の合成
工程１  アシル化
参考例１工程４で得られた樹脂（５００ｍｇ）に、２−ａｍｉｎｏ−４−ｆｌｕｏｒｏｂｅｎｚｏｉｃ  ａｃｉｄ（６３６ｍｇ、４．１０ｍｍｏｌ）、ＨＯＡｔ（５５８ｍｇ、４．１０ｍｍｏｌ）、ＤＩＣ（３１７ｕＬ、２．０５ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ（１１．５ｍＬ）を加えて、２４時間攪拌した後、ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。
工程２  オルトエステルによる環化、脱樹脂
工程１で得られた樹脂を、参考例９１工程２に従い環化した後、参考例１工程７に従って処理を行い目的物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５４４
ＣＨＮＯ：Ｃ２６Ｈ２０Ｃｌ２ＦＮ３Ｏ５
2003070709.tif 000060
2003070709.tif 000061
参考例９６  表１３の参考例９６に示す置換基を有する下記一般式（３４）で表される化合物の合成
工程１  アシル化、ニトロ基の還元
参考例１工程４で得られた樹脂（１ｇ）に対し、６−ｍｅｔｈｙｌ−２−ｎｉｔｒｏｂｅｎｚｏｉｃ  ａｃｉｄ（１．４９ｇ，８．２１ｍｍｏｌ）、ＤＩＣ（６３５ｕＬ，４．１１ｍｍｏｌ）、ＨＯＡｔ（１．１２ｇ，８．２１ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ（２３ｍＬ）を用いて１８時間反応させることにより、アシル化したのち、参考例３１工程２に従いニトロ基の還元を行った。
工程２  環化反応
工程１で得られた樹脂（２００ｍｇ）に、カルボニルジイミダゾール（４００ｍｇ）、ＮＭＰ（２ｍＬ）を加えて９５℃にて１５時間攪拌した後、ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。
工程３  アルキル化
工程２で得られた樹脂（２００ｍｇ）に、ヨウ化エチル（２００ｕｌ）、テトラメチルグアニジン（２００ｕｌ）を加え、２４時間攪拌した後、水、ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。その後、参考例１工程７に従って処理を行い目的物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５４０
ＣＨＮＯ：Ｃ２７Ｈ２３Ｃｌ２Ｎ３Ｏ５
参考例９７
以下の表１３参考例９７に示す化合物は、対応するハライドを参考例９６工程３にて用いて、参考例９６と同様の工程を経ることで合成した。なお、表１３におけるＲは下記一般式（３４）中の置換基である。
2003070709.tif 000062
2003070709.tif 000063
参考例９８  表１４の参考例９８に示す置換基を有する下記一般式（３５）で表される化合物の合成
工程１  スルホンアミド化、ニトロ基の還元
参考例１工程４で得られた樹脂（４００ｍｇ）に２−ニトロベンゼンスルホニルクロリド（４５０ｍｇ）、２，６−ルチジン（４５０ｕｌ）、ジクロロメタン（１０ｍｌ）を加えて１４時間攪拌した後、ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。その後、参考例３１工程２に従いニトロ基の還元を行った。
工程２  環化反応
工程１で得られた樹脂（２００ｍｇ）に、カルボニルジイミダゾール（４００ｍｇ）、ＮＭＰ（２ｍｌ）を加えて９５℃にて１５時間攪拌した後、ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。
工程３  アルキル化、脱樹脂
工程２で得られた樹脂（２００ｍｇ）に、ヨウ化メチル（４００ｕｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（４００ｕｌ）、ＮＭＰ（２ｍｌ）を加えて１７時間攪拌した後、水、ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。その後、参考例１工程７に従って処理を行い目的物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５４８
ＣＨＮＯ：Ｃ２４Ｈ１９Ｃｌ２Ｎ３Ｏ６Ｓ
参考例９９〜１０３
以下の表１４に示す化合物は、それぞれ対応するスルホニルクロリドを参考例９８工程１にて用いて、参考例９８と同様の工程を経ることで合成した。なお、表１４におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は下記一般式（３５）中の置換基であり、また、参考例１０１〜１０３は参考例９８工程３のアルキル化工程を行わずに参考例９８と同様の工程を経ることで合成した。
2003070709.tif 000064
2003070709.tif 000065
参考例１０４  表１５の参考例１０４に示す置換基を有する下記一般式（３６）で表される化合物の合成
工程１  アシル化、キナゾリン−２，４−ジオン環の構築、アルキル化、ニトロ基の還元
参考例１工程４で得られた樹脂（５００ｍｇ）、２−ａｍｉｎｏ−５−ｎｉｔｒｏｂｅｎｚｏｉｃ  ａｃｉｄ（７４６ｍｇ，４．１０ｍｍｏｌ）、ＤＩＣ（３１７ｕｌ，２．０５ｍｍｏｌ）、ＨＯＡｔ（５５８ｍｇ，４．１０ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ（１１．５ｍｌ）を用いてアシル化を行い、参考例９６工程２に従いキナゾリン−２，４−ジオン環の構築、参考例１工程６に従いアルキル化を行った。さらに参考例１工程４と同様にニトロ基の還元を行った。
工程２  アシル化
工程１で得られた樹脂に、無水酢酸（６００ｕｌ）、ピリジン（６００ｕｌ）、ＮＭＰ（３ｍｌ）を加えて１９時間攪拌した後、ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。その後、参考例１工程７に従って処理を行い目的物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５６９
ＣＨＮＯ：Ｃ２７Ｈ２２Ｃｌ２Ｎ４Ｏ６
参考例１０５〜１０７
以下の表１５に示す化合物は、それぞれ対応する酸クロリドを参考例１０４工程２にて用いて、参考例１０４と同様の工程を経ることで合成した。なお、表１５におけるＲは下記一般式（３６）中の置換基である、また、参考例１０７は参考例１０４工程２のアシル化工程を行わずに参考例１０７と同様の工程を経ることで合成した。
2003070709.tif 000066
2003070709.tif 000067
参考例１０８  表１６の参考例１０８に示す置換基を有する下記一般式（３７）で表される化合物の合成
工程１  アシル化
参考例１工程４で得られた樹脂（１ｇ）に対し、５−ｆｌｕｏｒｏ−２−ｎｉｔｒｏｂｅｎｚｏｉｃ  ａｃｉｄ（１．６３ｇ，８．８１ｍｍｏｌ）、ＤＩＣ（６７５ｕｌ，４．３６ｍｍｏｌ）、ＨＯＡｔ（１．２ｇ，８．８１ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ（２５ｍｌ）を用いてアシル化を行った。
工程２  フルオロ基のアミンによる置換、ニトロ基の還元
工程１で得られた樹脂（２００ｍｇ）にジメチルアミンの２．０Ｍ  ＴＨＦ溶液（３ｍＬ）、ＮＭＰ（２ｍＬ）を加えて１４時間攪拌した後、ＤＭＦ、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。その後、参考例３１工程２に従いニトロ基の還元を行った。
工程３  キナゾリン−２，４−ジオン環の構築
工程２で得られた樹脂を参考例９６工程２に従い処理し、キナゾリン−２，４−ジオン環の構築を行った。
工程４  アルキル化
工程３で得られた樹脂にトリフェニルホスフィン（５２０ｍｇ）、メタノール（８０ｕｌ）、ジイソプロピルアゾジカルボン酸の４０％トルエン溶液（１ｍｌ）、ジクロロメタン（２ｍｌ）を加え、７時間攪拌した後、水、ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。その後、参考例１工程７に従って処理を行い目的物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５５５
ＣＨＮＯ：Ｃ２７Ｈ２４Ｃｌ２Ｎ４Ｏ５
参考例１０９〜１１１
以下の表１６参考例１０９〜１１１に示す化合物は、それぞれ対応するアミンを参考例１０８工程２にて用いて、参考例１０８と同様の工程を経ることで合成した。なお、表１６におけるＲは下記一般式（３７）中の置換基である。
参考例１１２  表１６の参考例１１２に示す置換基を有する下記一般式（３７）で表される化合物の合成
工程１  フルオロ基のアミンによる置換、ニトロ基の還元
参考例１０８工程１で得られた樹脂（２００ｍｇ）にジメチルアミンの２．０Ｍ  ＴＨＦ溶液（３ｍＬ）、ＮＭＰ（２ｍＬ）を加えて１４時間攪拌した後、ＤＭＦ、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。その後、参考例３１工程２に従いニトロ基の還元を行った。
工程３  キナゾリン−２，４−ジオン環の構築
工程２で得られた樹脂を参考例９６工程２に従い処理し、キナゾリン−２，４−ジオン環の構築を行った。
工程４  アルキル化
工程３で得られた樹脂（２００ｍｇ）に、ヨウ化メチル（４００ｕｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（４００ｕｌ）、ＮＭＰ（２ｍｌ）を加えて８０℃で１７時間攪拌した後、水、ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。その後、参考例１工程７に従って処理を行い目的物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５６９
ＣＨＮＯ：Ｃ２８Ｈ２７Ｃｌ２Ｎ４Ｏ５
参考例１１３
以下の表１６参考例１１３に示す化合物は、対応するアミンを参考例１１２工程１にて用いて、参考例１１２と同様の工程を経ることで合成した。なお、表１６におけるＲは下記一般式（３７）中の置換基である。
2003070709.tif 000068
2003070709.tif 000069
2003070709.tif 000070
式Ｘ１とＸ２を下記に示す。
参考例１０８の化合物のＮＭＲデータ：１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ２．９４（６Ｈ，ｓ），３．０２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．２，１４．１Ｈｚ），３．２２（１Ｈ，ｍ，Ｊ＝４．４，１４．１Ｈｚ），３．４９（３Ｈ，ｓ），４．８２（１Ｈ，ｍ），７．１７（２Ｈ，ｄ），７．２４（１Ｈ，ｄ），７．３０（１Ｈ，ｍ），７．３６−７．４５（５Ｈ，ｍ），９．１５（１Ｈ，ｄ）．１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ３０．９０，３６．６４，４０．７７，５３．６８，１０９．２１，１１６．００，１１６．２２，１２１．３７，１２８．２６，１２８．９３，１２９．９０，１３１．２３，１３１．８２，１３２．１０，１３５．２３，１３６．５６，１３７．５７，１４６．７２，１５０．３８，１６１．８８，１６３．９１，１７２．７２．
2003070709.tif 000071
参考例１１４  表１７の参考例１１４に示す置換基を有する下記一般式（３８）で表される化合物の合成
工程１  アルキル化
参考例１工程５で得られた樹脂（１５０ｍｇ）に２，６−ジクロロベンジルアルコール（５３１ｍｇ）、トリフェニルホスフィン（７８６ｍｇ）、ジクロロメタン（３ｍｌ）、ジイソプロピルアゾジカルボン酸の４０％トルエン溶液（１．５ｍｌ）を加えて１４時間攪拌した後、水、ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた後、参考例１工程７に従って処理を行い目的物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：６５６
ＣＨＮＯ：Ｃ３１Ｈ２１Ｃｌ４Ｎ３Ｏ５
参考例１１５〜１２３
以下の表１７参考例１１５〜１２３に示す化合物は、それぞれ対応するアルコールを参考例１１４工程１にて用いて、参考例１１４と同様の工程を経ることで合成した。なお、表１７におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、ｎは下記一般式（３８）中の置換基である。
参考例１２４  表１７の参考例１２４に示す置換基を有する下記一般式（３８）で表される化合物の合成
工程１  アシル化
参考例１工程４で得られた樹脂（１５０ｍｇ）をＮ−フェニルアントラニル酸（４３７ｍｇ，２．０５ｍｍｏｌ）、ＨＯＡｔ（２７９ｍｇ，２．０５ｍｍｏｌ）、ＤＩＣ（１０６ｕｌ，１．０３ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ（６ｍｌ）を用いてアシル化した。
工程２  キナゾリン−２，４−ジオン環の構築
工程１で得られた樹脂を参考例９６工程２に従い処理し、キナゾリン−２，４−ジオン環の構築を行った後、参考例１工程７に従って処理を行い目的物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５７４
ＣＨＮＯ：Ｃ３０Ｈ２１Ｃｌ２Ｎ３Ｏ５
2003070709.tif 000072
2003070709.tif 000073
参考例１２５  表１８の参考例１２５に示す置換基を有する下記一般式（３９）で表される化合物の合成
工程１  イミノホスフィンの合成
参考例１工程４で得られた樹脂（１ｇ）にトリフェニルホスフィン（７．８６ｇ）、ジイソプロピルアゾジカルボン酸の４０％トルエン溶液（３０ｍｌ）、トルエン（３０ｍｌ）を加えて１６時間攪拌した後、ジクロロメタンで１０回洗浄し、減圧下乾燥させた。
工程２  カルボジイミドの合成、アミンの求核付加および閉環反応
工程１で得られた樹脂（１００ｍｇ）に、メチル２−イソシアネートベンゾエート（２００ｍｇ）、ジクロロメタン（１ｍｌ）を加えて１時間攪拌した後、ＤＭＦ、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄した。得られた樹脂にシクロブチルアミン（６００ｕｌ）、ＮＭＰ（３ｍｌ）を加えて１３時間攪拌した後、ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。その後、参考例１工程７に従って処理を行い目的物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５５１
ＣＨＮＯ：Ｃ２８Ｈ２４Ｃｌ２Ｎ４Ｏ４
参考例１２６〜１３０
以下の表１８に示す化合物は、それぞれ対応するアミンを参考例１２５工程２にて用いて、参考例１２５と同様の工程を経ることで合成した。なお、表１８におけるＲは下記一般式（３９）中の置換基である。
2003070709.tif 000074
2003070709.tif 000075
参考例１３１  表１８の参考例１３１に示す置換基を有する下記一般式（４０）で表される化合物の合成
工程１  フルオロ基のアミンによる置換
参考例５７工程１で得られた樹脂（１５０ｍｇ）に２．０ＭメチルアミンのＴＨＦ溶液（３ｍＬ）、ＮＭＰ（２ｍＬ）を加えて１４時間攪拌した後、ＤＭＦ、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。
工程２  チオニルクロリドによる閉環
工程１で得られた樹脂に、トリアゾール（２５０ｍｇ）、チオニルクロリド（８０ｕｌ）、ジクロロメタン（１ｍｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（４００ｕｌ）を加えて１５時間攪拌した後、ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。その後、参考例１工程７に従って処理を行い目的物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５７６
ＣＨＮＯ：Ｃ２４Ｈ１８Ｃｌ２Ｎ４Ｏ７Ｓ
参考例１３２〜１３３
以下の表１８に示す化合物は、それぞれ対応するアミンを参考例１３１工程１にて用いて、参考例１３１と同様の工程を経ることで合成した。なお、表１８におけるＲは下記一般式（４０）中の置換基である。
2003070709.tif 000076
2003070709.tif 000077
参考例１３４  表１９の参考例１３４に示す置換基を有する下記一般式（４１）で表される化合物の合成
工程１  アシル化、Ｆｍｏｃ基の除去
参考例１工程４で得られた樹脂（５００ｍｇ）に対して、Ｆｍｏｃ−β−ａｌａｎｉｎｅ（８１０ｍｇ，２．６０ｍｍｏｌ）、ＤＩＣ（２００ｕｌ，１．３０ｍｍｏｌ）、ＨＯＡｔ（３５１ｍｇ，２．６０ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ（１０ｍｌ）を用いて、１８時間反応することによりアシル化をした後、参考例１工程２に従いＦｍｏｃ基の除去を行った。
工程２  カルボニルジイミダゾールによる閉環
工程１で得られた樹脂に、カルボニルジイミダゾール（４００ｍｇ）、ＮＭＰ（２ｍｌ）を加えて３時間攪拌した後、ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。得られた樹脂にＮＭＰ（２ｍｌ）を加え、９５℃にて１５時間攪拌した後、ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥した。その後、参考例１工程７に従って処理を行い目的物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：４５０
ＣＨＮＯ：Ｃ２０Ｈ１７Ｃｌ２Ｎ３Ｏ５
参考例１３５  表１９の参考例１３５に示す置換基を有する下記一般式（４１）で表される化合物の合成
工程１  ２−ニトロスルホニル化、アルキル化
参考例１３４工程１で得られた樹脂（２５０ｍｇ）に、２−ニトロスルホニルクロリド（１７６ｍｇ）、２，６−ルチジン（１８４ｕｌ）、ジクロロメタン（４ｍｌ）を加え、４℃にて１６時間攪拌した後、ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。得られた樹脂を参考例１０８工程４に従いアルキル化した。
工程２  ２−ニトロスルホニル基の除去
工程１で得られた樹脂に、２−メルカプトエタノール（６００ｕｌ）、ジアザビシクロウンデセン（３００ｕｌ）、ＮＭＰ（３ｍｌ）を加えて１時間攪拌した後、ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。
工程３  カルボニルジイミダゾールによる閉環
工程２で得られた樹脂にカルボニルジイミダゾール（５００ｍｇ）、ジクロロメタン（２．５ｍｌ）を加え１０時間攪拌した後、ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。得られた樹脂に炭酸カリウム（２００ｍｇ）、ＮＭＰ（１ｍｌ）を加えて９５℃にて１７時間攪拌した後、水、ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥した。その後、参考例１工程７に従って処理を行い目的物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：４６４
ＣＨＮＯ：Ｃ２１Ｈ１９Ｃｌ２Ｎ３Ｏ５
2003070709.tif 000078
2003070709.tif 000079
参考例１３６  表２０の参考例１３６に示す置換基を有する下記一般式（７３）で表される化合物の合成
工程１  アシル化、Ｏ−アシル基の除去
参考例１工程４で得られた樹脂（３００ｍｇ）に、サリチル酸（７４ｍｇ，０．５３５ｍｍｏｌ）、ＰｙＢＯＰ（２７８ｍｇ，０．５３５ｍｍｏｌ）、ＨＯＢｔ（１２０ｍｇ，０．８９ｍｍｏｌ）、ＤＩＥＡ（０．１８６ｍｌ，１．０６８ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ（３．６ｍｌ）を加え、１９時間攪拌。ＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで８回ずつ洗浄した後、３０％エタノールアミン／ＤＭＦ（５ｍｌ）を加え、４時間攪拌したのちＤＭＦ、メタノール、ジクロロメタンで８回洗浄した。
工程２  カルボニルジイミダゾールによる閉環、脱樹脂
工程１で得られた樹脂（５０ｍｇ）に、カルボニルジイミダゾール（９８ｍｇ）、ＤＣＭ（６ｍｌ）を加えて１時間攪拌した後、ジクロロメタンで５回洗浄した。ジクロロメタン（４ｍｌ）を加え、室温で３時間攪拌ののち、ジクロロメタンで５回洗浄した。その後、参考例１工程７と同様に樹脂からの切り出し処理、ＨＰＬＣ精製を行い、目的物を得た（３ｍｇ）。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：４９９
ＣＨＮＯ：Ｃ２４Ｈ１６ＣＬ２Ｎ２Ｏ６
参考例１３７〜１４４
以下の表２０に示す化合物はそれぞれ対応するサリチル酸を参考例１３６工程１に用いて参考例１３６と同様の工程を経ることで合成した。なお、表２０におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３は下記一般式（７３）中の置換基である。
2003070709.tif 000080
2003070709.tif 000081
2003070709.tif 000082
参考例１４５  下記式（７４）で表される化合物の合成
工程１  チオカルボニルジイミダゾールによる閉環
参考例９８工程１で得られた樹脂２００ｍｇにチオカルボニルジイミダゾール（５００ｍｇ）、ジクロロメタン（２．５ｍｌ）を加えて室温にて１６時間攪拌した後、メタノール、ＤＭＦ、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。
工程２  脱樹脂
工程１にて得られた樹脂（１００ｍｇ）に対して、参考例１工程７に従った処理を行い目的物を１．２ｍｇ得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５５０
ＣＨＮＯ：Ｃ２３Ｈ１７Ｃｌ２Ｎ３Ｏ５Ｓ２
2003070709.tif 000083
参考例１４６  下記式（７５）で表される化合物の合成
メチル化および脱樹脂
参考例１４５工程１で得られた樹脂１００ｍｇにジイソプロピルエチルアミン（２００ｕｌ）、ヨウ化メチル（１００ｕｌ）、ＮＭＰ（３ｍｌ）を加えて室温にて１６時間攪拌した後、メタノール、ＤＭＦ、ジクロロメタンで３回ずつ洗浄し、減圧下乾燥させた。その後、参考例１工程７に従った処理を行い目的物を１３ｍｇ得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５６４
ＣＨＮＯ：Ｃ２４Ｈ１９Ｃｌ２Ｎ３Ｏ５Ｓ２
2003070709.tif 000084
参考例１４７  表２１の参考例１４７に示す置換基を有する下記一般式（７６）で表される化合物の合成
参考例１の工程４で得られる樹脂を調製し、原料とした。この樹脂１００ｍｇに、２−ニトロベンジルブロマイド５００ｍｇ、ジイソプロピルエチルアミン５００μｌ、ＮＭＰ５ｍｌを加え、室温で１２時間攪拌した。反応溶液を除き樹脂をジクロロメタン、ＮＭＰ、ジクロロメタンでそれぞれ３回ずつ樹脂を洗浄した。ＳｎＣｌ２・２Ｈ２Ｏ（１．５ｇ）のＮＭＰ（０．５ｍＬ）・ＥｔＯＨ（３ｍＬ）溶液を得られた樹脂に加えて室温１６時間反応させた後、反応溶液を除き、ＮＭＰ、ジクロロメタンでそれぞれ３回ずつ樹脂を洗浄した。得られた樹脂に、２−ニトロベンゼンスルフォニルクロライド２００ｍｇ、２，６−ルチジン４００μｌ、ジクロロメタン２ｍｌを加え、０℃で２４時間反応させた。反応溶液を除き、樹脂をジクロロメタン、ＮＭＰ、ジクロロメタンでそれぞれ３回ずつ樹脂を洗浄した。
得られたスルホンアミド樹脂にヨウ化メチル２００μｌ，炭酸カリウム０．５ｇ、ＮＭＰ７．５ｍｌを加え、この溶液を４５℃で２４時間振とうした。反応溶液を除き樹脂をジクロロメタン、ＮＭＰ、ジクロロメタンでそれぞれ３回ずつ樹脂を洗浄した。得られた樹脂にジアザビシクロウンデセン２００μｌ、２−メルカプトエタノール４００μｌ，ＮＭＰ５００μｌを加え、２４時間，室温で振とうした。続いて、反応溶液を除き樹脂をジクロロメタン、ＮＭＰ、ジクロロメタンでそれぞれ３回ずつ樹脂を洗浄した。得られた樹脂に、カルボニルジイミダゾール５００ｍｇ、ジクロロメタン４ｍｌを加えて、５０℃で２４時間振とうした。続いて、反応溶液を除き樹脂をジクロロメタン、ＮＭＰ、ジクロロメタンでそれぞれ３回ずつ樹脂を洗浄し、減圧下、乾燥させた。得られた樹脂は１００％トリフルオロ酢酸で１時間処理し、樹脂をろ別した。得られた液を濃縮し、逆相ＨＰＬＣ（ＳＹＭＭＥＴＲＹ  １９＊５０ｍｍ移動相水：アセトニトリルそれぞれ０．１％ＴＦＡ入り）にて、精製し、０．９ｍｇの目的化合物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：４９８，５００
ＣＨＮＯ：Ｃ２５Ｈ２１Ｃｌ２Ｎ３Ｏ４
参考例１４８  表２１の参考例１４８に示す置換基を有する下記一般式（７６）で表される化合物の合成
参考例１４７と同様にして、原料の樹脂を調製した。参考例１４７中で用いたカルボニルジイミダゾールを、チオカルボニルジイミダゾールに変えて、操作して、目的物０．８ｍｇを得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５１４，５１６
ＣＨＮＯ：Ｃ２５Ｈ２１Ｃｌ２Ｎ３Ｏ３Ｓ
参考例１４９  表２１の参考例１４９に示す置換基を有する下記一般式（７６）で表される化合物の合成
参考例１の工程４で得られる樹脂を調製し、原料とした。この樹脂１００ｍｇに、２−ニトロベンジルブロマイド５００ｍｇ、ジイソプロピルエチルアミン５００μｌ、ＮＭＰ５ｍｌを加え、室温で１２時間攪拌した。反応溶液を除き樹脂をジクロロメタン、ＮＭＰ、ジクロロメタンでそれぞれ３回ずつ樹脂を洗浄した。ＳｎＣｌ２・２Ｈ２Ｏ（１．５ｇ）のＮＭＰ（０．５ｍＬ）・ＥｔＯＨ（３ｍＬ）溶液を得られた樹脂に加えて室温１６時間反応させた後、反応溶液を除き、ＮＭＰ、ジクロロメタンでそれぞれ３回ずつ樹脂を洗浄した。得られた樹脂に、カルボニルジイミダゾール５００ｍｇ、ジクロロメタン４ｍｌを加えて、５０℃で２４時間振とうした。続いて、反応溶液を除き樹脂をジクロロメタン、ＮＭＰ、ジクロロメタンでそれぞれ３回ずつ樹脂を洗浄し、減圧下、乾燥させた。得られた樹脂は１００％トリフルオロ酢酸で１時間処理し、樹脂をろ別した。得られた液を濃縮し、逆相ＨＰＬＣ（ＳＹＭＭＥＴＲＹ  １９＊５０ｍｍ移動相水：アセトニトリルそれぞれ０．１％ＴＦＡ入り）にて、精製し、０．９ｍｇの目的化合物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：４８４，４８６
ＣＨＮＯ：Ｃ２４Ｈ１９Ｃｌ２Ｎ３Ｏ４
参考例１５０  表２１の参考例１５０に示す置換基を有する下記一般式（７６）で表される化合物の合成
２−フルオロ−６−ニトロベンジルブロマイドを用いて、参考例１４９と同様にして合成し、１．６ｍｇの目的化合物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５０２，５０４
ＣＨＮＯ：Ｃ２４Ｈ１８Ｃｌ２ＦＮ３Ｏ４
参考例１５１〜１５９
以下の表２１に示す化合物は、参考例１４７合成工程中のヨウ化メチルのかわりにそれぞれ、対応するアルキル化試薬を用い、参考例１４７と同様にして、合成した。なお表２１における、Ｒ１、ＲＡ１、ＲＡ２、ＲＡ３、ＲＡ４、Ｕは下記一般式（７６）中の置換基である。
2003070709.tif 000085
2003070709.tif 000086
参考例１６０
（２Ｓ）−２−アミノ−３−［４−（１−メチル−２，４−ジオキソ−１，３−テトラヒドロキナゾリン−３−イル）フェニル］プロピオン酸  メチルエステル  塩酸塩の合成
工程１  ４−ニトロフェニルアラニン  メチルエステル  塩酸塩の合成
チオニルクロライド１．４９ｍｌ、メタノール２５ｍｌを混合し、得られた溶液をドライアイス−アセトニトリルバスで冷却し、Ｂｏｃ−Ｐｈｅ（４−ＮＯ２）−ＯＨ  ２ｇを加えた。１時間攪拌後、バスをはずし室温まで昇温しさらに２時間半攪拌した。反応液を減圧下、濃縮乾固し、目的化合物１．８３ｇを白色粉末として得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：２２５
ＣＨＮＯ：Ｃ１０Ｈ１２Ｎ２Ｏ４  ＨＣｌ
工程２  Ｎ−第３ブチルオキシカルボニル−４−ニトロフェニルアラニン  メチルエステルの合成
工程１で得られた４−ニトロフェニルアラニン  メチルエステル  塩酸塩５２１ｍｇをテトラヒドロフラン１０ｍｌとトリエチルアミン５５４μｌの混合溶媒に溶解し、氷冷下、（Ｂｏｃ）２Ｏ  ４８０ｍｇを加えた。５分後、氷浴をはずし、４時間半攪拌した。反応液に酢酸エチル（１５ｍｌ）を加え、１０％クエン酸水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄した。酢酸エチル層を乾燥後、減圧濃縮し目的化合物７３５ｍｇを得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：３２５
ＣＨＮＯ：Ｃ１５Ｈ２０Ｎ２Ｏ６
工程３  （２Ｓ）−２−第３ブチルオキシカルボニルアミノ−３−（４−アミノフェニル）プロピオン酸  メチルエステルの合成
工程２で得られたＮ−第３ブチルオキシカルボニル−４−ニトロフェニルアラニン  メチルエステル６４８ｍｇをエタノール２０ｍｌに溶解し、５％Ｐｄ／Ｃ１５０ｍｇを加え、水素雰囲気下（１気圧）、室温で１８時間攪拌した。セライトろ過後得られたものをシリカゲルカラム（ヘキサン：酢酸エチル；４：１→２：１）にて精製し目的化合物４４１ｍｇを得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：２９５
ＣＨＮＯ：Ｃ１５Ｈ２２Ｎ２Ｏ４
工程４  （２Ｓ）−２−第３ブチルオキシカルボニルアミノ−３−［４−（２，４−ジオキソ−１，３−テトラヒドロキナゾリン−３−イル）フェニル］プロピオン酸  メチルエステルの合成
工程３で得られた（２Ｓ）−２−第３ブチルオキシカルボニルアミノ−３−（４−アミノフェニル）プロピオン酸メチルエステル６８３ｍｇをアセトニトリル２０ｍｌに溶解したのちメチル  ２−イソシアノベンゾエート４１２ｍｇを加え７０度で１６時間半、攪拌した。室温まで冷却後、生じた粉末をろ取、乾燥し、目的物５８８ｍｇを白色粉末として得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：４４０
ＣＨＮＯ：Ｃ２３Ｈ２５Ｎ３Ｏ６
工程５  （２Ｓ）−２−第３ブチルオキシカルボニルアミノ−３−［４−（１−メチル−２，４−ジオキソ−１，３−テトラヒドロキナゾリン−３−イル）フェニル］プロピオン酸  メチルエステルの合成
工程４で得られた（２Ｓ）−２−第３ブチルオキシカルボニルアミノ−３−［４−（２，４−ジオキソ−１，３−ジヒドロキナゾリン−３−イル）フェニル］プロピオン酸  メチルエステル１．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解し、炭酸カリウム３７８ｍｇ、ヨードメタン０．２８４ｍｌを加え１時間攪拌した。反応液に酢酸エチル７０ｍｌを加え、水、飽和食塩水で、順次洗浄した。酢酸エチル層を乾燥後、減圧濃縮し目的化合物１．０４ｇを黄色粉末として得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：４５４
ＣＨＮＯ：Ｃ２４Ｈ２７Ｎ３Ｏ６
工程６  （２Ｓ）−２−アミノ−３−［４−（１−メチル−２，４−ジオキソ−１，３−ジヒドロキナゾリン−３−イル）フェニル］プロピオン酸  メチルエステル  塩酸塩の合成
工程５で得られた（２Ｓ）−２−第３ブチルオキシカルボニルアミノ−３−［４−（１−メチル−２，４−ジオキソ−１，３−ジヒドロキナゾリン−３−イル）フェニル］プロピオン酸  メチルエステル５００ｍｇを４Ｎ塩化水素−ジオキサン溶液１１ｍｌに溶解し、室温で１時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、目的化合物４２６ｍｇを白色粉末として得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：３５４
ＣＨＮＯ：Ｃ１９Ｈ１９Ｎ３Ｏ４  ＨＣｌ
参考例１６１
表２２の参考例１６１に示す置換基を有する下記一般式（７７）で表される化合物の合成
２−クロロ−６−メチル安息香酸８８．２ｍｇ、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩９９．１ｍｇ、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール・１水和物７９．１ｍｇ、トリエチルアミン１０７μｌ、（２Ｓ）−２−アミノ−３−［４−（１−メチル−２，４−ジオキソ−１，３−ジヒドロキナゾリン−３−イル）フェニル］プロピオン酸  メチルエステル  塩酸塩１００ｍｇ、ジクロロメタン１ｍｌの混合物を４５℃で一晩攪拌した。この混合物をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）、逆相ＨＰＬＣで順次精製することにより目的物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５０６
ＣＨＮＯ：Ｃ２７Ｈ２４Ｎ３Ｏ５Ｃｌ
参考例１６２
表２２の参考例１６２に示す置換基を有する一般式（７７）で表される化合物の合成
参考例１６１で得られたメチルエステル体２０ｍｇ、水酸化リチウム１水和物２ｍｇ、テトラヒドロフラン１ｍｌと水０．２ｍｌの混合物を室温で１時間撹拌した。１Ｍ塩酸を加えて中和したのち溶媒を留去し逆相ＨＰＬＣで精製して目的物（６．０ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：４９２
ＣＨＮＯ：Ｃ２６Ｈ２２Ｎ３Ｏ５Ｃｌ
参考例１６３、１６６、１６８、１７０、１７２、１７４、１７６
表２２の対応する参考例に示す置換基を有する一般式（７７）で表される化合物の合成
参考例１６１合成工程中の２−クロロ−６−メチル安息香酸のかわりにそれぞれ、対応するカルボン酸を用い、参考例１６１と同様にして、目的化合物を得た。表２２参照。
参考例１６４、１６５、１６７、１６９、１７１、１７３、１７５
表２２の対応する参考例に示す置換基を有する一般式（７７）で表される化合物の合成
上述した参考例で得られたそれぞれ対応するメチルエステル体を用いて、参考例１６２と同様の工程を経ることで合成した。表２２参照。
参考例１７７
表２２の対応する参考例に示す置換基を有する一般式（７７）で表される化合物の合成
参考例１６１合成工程中の２−クロロ−６−メチル安息香酸のかわりに２，６−ジクロロケイ皮酸を用い、参考例１６１と同様にして、メチルエステル体を得、参考例１６２と同様の工程を経ることで合成した。表２２参照。
2003070709.tif 000087
2003070709.tif 000088
2003070709.tif 000089
参考例１７８  表２３の参考例１７８に示す置換基を有する下記一般式（７８）で表される化合物の合成
工程１  ２−ニトロスルホニル化、メチル化
参考例１０４工程１で得られた樹脂を参考例１４７に従い２−ニトロスルホニル化およびメチル化を行った。
工程２  ２−ニトロスルホニル基の除去
工程１で得られた樹脂を参考例１３５工程２に従い処理し、２−ニトロスルホニル基の除去を行った後、参考例１工程７に従って処理を行い目的物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５４１
ＣＨＮＯ：Ｃ２６Ｈ２２Ｃｌ２Ｎ４Ｏ５
参考例１７９
表２３の参考例１７９に示す置換基を有する下記一般式（７８）で表される化合物の合成
臭化エチルを参考例１７８工程１にて用いて、参考例１７８と同様の工程を経ることで合成した。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５５５
ＣＨＮＯ：Ｃ２７Ｈ２４Ｃｌ２Ｎ４Ｏ５
なお、表２３におけるＲは下記一般式（７８）中の置換基である。
2003070709.tif 000090
2003070709.tif 000091
参考例１８０〜１８９
以下の表２４に示す化合物は、それぞれ対応する置換２−ニトロ安息香酸を参考例４５工程１にて用い、参考例４５と同様の工程を経たのち、参考例１工程６および７を経て合成した。なお、表２４におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は下記一般式（７９）中の置換基である。
2003070709.tif 000092
2003070709.tif 000093
参考例１８０の化合物のＮＭＲデータ：Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ＝３．２２−３．４８（２Ｈ，ｍ），３．８３（３Ｈ，ｓ），３．９３（３Ｈ，ｓ），５．１６−５．２３（１Ｈ，ｍ），７．１６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．１９−７．３４（６Ｈ，ｍ），７．４４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，６．６Ｈｚ）
参考例１９０
表２５の参考例１９０に示す置換基を有する下記一般式（８０）で表される化合物の合成
表１の参考例１に示す置換基を有する一般式（２３）で表される化合物（３．２ｍｇ）をメタノール（７３μｌ）とトルエン（２２４μｌ）の混合溶媒に懸濁し、２Ｍトリメチルシリルジアゾメタンのヘキサン溶液（７３μｌ）を加えた。３０分放置後、反応液を減圧濃縮し目的化合物３ｍｇを得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５２６
ＣＨＮＯ：Ｃ２６Ｈ２１Ｃｌ２Ｎ３Ｏ５
参考例１９１
表２５の参考例１９１に示す置換基を有する下記一般式（８０）で表される化合物の合成
表２４の参考例１８３に示す置換基を有する一般式（７９）で表される化合物（７２．７ｍｇ）をジクロロメタン（１０ｍｌ）とイソプロパノール（０．２ｍｌ）の混合溶媒に溶解し、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（２６ｍｇ）および４−ジメチルアミノピリジン（２６．２ｍｇ）を加え攪拌した。１８時間攪拌後、反応液に１Ｎ塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。水層をさらに酢酸エチルで抽出し、先の抽出層と合わせ、飽和重曹水および飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した。得られたものを高圧液体クロマトグラフィー（水・アセトニトリル）を用いて精製し、目的物を１０ｍｇ得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５８８
ＣＨＮＯ：Ｃ２８Ｈ２４Ｃｌ３Ｎ３Ｏ５
参考例１９２
表２５の参考例１９２に示す置換基を有する下記一般式（８０）で表される化合物の合成
表１６の参考例１１１に示す置換基を有する一般式（３７）で表される化合物（１２ｍｇ）をメタノール（０．５ｍｌ）に溶解し、マイナス７８度に冷却し、塩化チオニル（０．０４ｍｌ）を加えた。室温にて７時間３０分攪拌後、反応液を減圧濃縮し目的化合物１２ｍｇを得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５９７
ＣＨＮＯ：Ｃ３０Ｈ３０Ｃｌ２Ｎ４Ｏ５
参考例１９３〜２０２
以下の化合物は、それぞれ対応する参考例記載のカルボン酸を原料とし、参考例１９３〜１９５、２０１は適当なアルコールを用い参考例１９１と同様の工程を経て、また、参考例１９６〜２００、２０２は、参考例１９２と同様の工程を経て合成した。なお、表２５におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３は下記一般式（８０）中の置換基である。
2003070709.tif 000094
2003070709.tif 000095
参考例１９６の化合物のＮＭＲデータ：１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ２．９４（６Ｈ，ｓ），３．０２（１Ｈ，ｍ），３．２２（１Ｈ，ｍ），３．５８（３Ｈ，ｓ），３．７０（３Ｈ，ｓ），４．８２（１Ｈ，ｍ），７．１８−７．４７（１０Ｈ，ｍ），９．２８（１Ｈ，ｄ）．１３Ｃ−ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６）δ３０．８８，３６．３７，４０．７５，５２．２８，５３．６６，１０９．１７，１１６．００，１１６．２２，１２１．３５，１２８．３２，１２８．９９，１２９．８８，１３１．３６，１３１．７９，１３２．０７，１３５．３５，１３６．３５，１３７．２１，１４６．７４，１５０．３７，１６１．８９，１６３．９９，１７１．７２．
参考例２０３
下記式（８１）で表される化合物の合成
工程１  アシル化
参考例１工程４で得られた樹脂（２００ｍｇ）に対し、シス−２−［（９−フルオレニルメチルオキシカルボニル）アミノ］−１−シクロヘキサンカルボン酸（２７４ｍｇ）、ＤＩＣ（０．０５８ｍｌ）、ＨＯＡｔ（１０１ｍｇ）、ＮＭＰ（２．５ｍｌ）を用いてアシル化を行った。
工程２  ９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基の除去
工程１で得られた樹脂を２０％ピペリジン−ＮＭＰ溶液中で１０分間、２回攪拌した後ＮＭＰ、メタノール、ジクロロメタンで４回ずつ洗浄した。
工程３  環化反応、脱樹脂
工程２で得られた樹脂を、参考例９６工程２と同様に処理したのち、参考例１工程７と同様に処理を行い、目的化合物を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：５０４
ＣＨＮＯ：Ｃ２４Ｈ２３Ｃｌ２Ｎ３Ｏ５
2003070709.tif 000096
参考例２０５〜２０６
表２６の参考例に示す置換基を有する下記一般式（８２）で表される化合物の合成は、参考例１０８にて得られたカルボン酸を原料とし、それぞれ適当なアルコールを用い参考例１９１と同様の工程を経て行った。なお、表２６におけるＲは下記一般式（８２）中の置換基である。
2003070709.tif 000097
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参考例２０７〜２０８
表２７の参考例に示す置換基を有する下記一般式（８３）で表される化合物の合成は、それぞれ対応する置換２−ニトロベンジルブロマイド用い参考例１４９と同様の工程を経て行った。なお、表２７におけるＲ１、Ｒ２は下記一般式（８３）中の置換基である。
2003070709.tif 000099
2003070709.tif 000100
参考例２０９
表２８の参考例２０９に示す置換基を有する下記一般式（８４）で表される化合物の合成は、３−ｃｈｌｏｒｏ−２−ｎｉｔｒｏｂｅｎｚｏｉｃ  ａｃｉｄの代わりに１−ｅｔｈｙｌ−４−ｎｉｔｒｏ−１Ｈ−ｐｙｒａｚｏｌｅ−３−ｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ  ａｃｉｄを参考例４５工程１にて用い、参考例４５と同様の工程を経たのち、参考例１工程６および７を経て合成した。なお、表２８におけるＲは下記一般式（８４）中の置換基である。
参考例２１０
表２８の参考例２１０に示す置換基を有する下記一般式（８４）で表される化合物の合成は、参考例２０９にて得られた化合物を原料として用い、参考例１９２の工程を経て合成した。なお、表２８におけるＲは下記一般式（８４）中の置換基である。
2003070709.tif 000101
2003070709.tif 000102
参考例２１１
下記式（８５）で表される化合物の合成は、以下のように行った。表１の参考例１に示す置換基を有する一般式（２３）で表される化合物（２８．９ｍｇ）をＤＭＦ（１ｍｌ）に溶解し、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（１２．９ｍｇ）、１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール（１０．７ｍｇ）、塩酸ヒドロキシルアミン（１１．５ｍｇ）およびＮ−メチルモルホリン（９．１ｍｇ）を加え撹拌した。さらに、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（１１．７ｍｇ）、１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール（８．２ｍｇ）、塩酸ヒドロキシルアミン（９．５ｍｇ）、Ｎ−メチルモルホリン（１０．５ｍｇ）およびＤＭＦ（０．５ｍｌ）を加え撹拌し、２時間後、反応液に水を加え、析出してきた結晶を乾燥し、目的物を１４．８ｍｇ得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ−）：５２５
ＣＨＮＯ：Ｃ２５Ｈ２０Ｃｌ２Ｎ４Ｏ５
2003070709.tif 000103
参考例２１２
表２９の参考例２１２に示す置換基を有する下記一般式（８６）で表される化合物の合成
工程１  （２Ｓ）−２−（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−３−［４−（１−メチルウラシル−３−イル）フェニル］プロピオン酸  メチルエステルの合成
（２Ｓ）−２−（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−３−［４−（ジヒドロキシボラニル）フェニル］プロピオン酸３０ｍｇ、１−メチルウラシル２５ｍｇ、酢酸銅（ＩＩ）２７ｍｇ、トリエチルアミン４０ｍｇとジクロロメタン４ｍｌの混合物を室温で一晩撹拌した。反応液をエタノールで希釈した後、セライト濾過を行った。濾液を濃縮して得られた残査を１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液で希釈し、酢酸エチルで洗浄した。水層を塩酸で酸性にしたのち酢酸エチルで抽出し飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を留去し（２Ｓ）−２−（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−３−［４−（１−メチルウラシル−３−イル）フェニル］プロピオン酸の粗製物を得た。この粗製物をメタノール５ｍｌで希釈し、２Ｍトリメチルシリルジアゾメタンを含有するヘキサン溶液を加えることによりメチルエステル化を行った。反応液を濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル−エタノール）で精製することにより表題化合物（７ｍｇ）を得た。ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：４０４
Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ１．４５（９Ｈ，ｓ），３．１５（２Ｈ，ｄ），３．４０（３Ｈ，ｓ），３．７０（３Ｈ，ｓ），４．６０（１Ｈ，ｍ），５．００（１Ｈ，ｍ），５．８５（１Ｈ，ｄ），７．１５（２Ｈ，ｄ），７．２０（１Ｈ，ｄ），７．３０（２Ｈ，ｄ）
工程２  （２Ｓ）−２−（２，６−ジクロロベンゾイルアミノ）−３−［４−（１−メチルウラシル−３−イル）フェニル］プロピオン酸  メチルエステルの合成
（２Ｓ）−２−（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−３−［４−（１−メチルウラシル−３−イル）フェニル］プロピオン酸  メチルエステル８６ｍｇに４Ｎ塩化水素を含有するジオキサン溶液６ｍｌを加え、室温で１時間撹拌した。溶媒を留去して得られた残留物にジメチルホルムアミド１０ｍｌ、トリエチルアミン６２μｌ、２，６−ジクロロベンゾイルクロライド３４μｌを加え３０分撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、１Ｎ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去して表題化合物粗製物を得た。逆相ＨＰＬＣで精製し表題化合物（２６ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：４７６
Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ３．３０（２Ｈ，ｂｒ），３．４０（３Ｈ，ｓ），３．７５（３Ｈ，ｓ），５．２５（１Ｈ，ｑ），５．８５（１Ｈ，ｄ），６．４０（１Ｈ，ｄ）７．１５（２Ｈ，ｄ），７．２０−７．４０（６Ｈ，ｍ）
参考例２１３
表２９の参考例２１３に示す置換基を有する下記一般式（８６）で表される化合物の合成
（２Ｓ）−２−（２，６−ジクロロベンゾイルアミノ）−３−［４−（１−メチルウラシル−３−イル）フェニル］プロピオン酸  メチルエステル１０ｍｇ、４Ｎ塩化水素を含有するジオキサン溶液３ｍｌと水３ｍｌの混合物を８０℃で４時間撹拌した。溶媒を留去し、残留物を逆相ＨＰＬＣで精製し表題化合物（３ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ  ＭＨ＋）：４６２
2003070709.tif 000104
2003070709.tif 000105
参考例２１４  ２−クロロ−６−トリフルオロメチル安息香酸
３−クロロベンゾトリフルオリド５００ｍｇとテトラヒドロフラン３ｍｌの混合物を−５０℃に冷却し、そこへ１．６Ｍノルマルブチルリチウム  ヘキサン溶液２ｍｌを加え１時間攪拌した。この混合物をドライアイスに開けたのち、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液で希釈した。トルエンで洗浄後、水層を塩酸で酸性とし酢酸エチルで抽出した。溶媒を留去して得られた残留物を逆相ＨＰＬＣで精製し表題化合物を得た。
収量  ２４４ｍｇ
Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ７．６８（１Ｈ，ｔ），７．８０（１Ｈ，ｄ），７．８８（１Ｈ，ｄ）．
ＭＳ（ＥＳＩ，ｍ／ｚ）２２３（Ｍ−Ｈ）−
参考例２１５  ２−ブロモ−６−クロロ安息香酸
３−ブロモクロロベンゼン５００ｍｇ、テトラヒドロフラン３ｍｌの混合物を−７８℃に冷却し、そこへ２．０Ｍリチウムジイソプロピルアミド  ヘプタン／テトラヒドロフラン／エチルベンゼン溶液１．３ｍｌを加えた。２時間撹拌後、ドライアイスにあけ参考例１と同様の洗浄、抽出操作を行い粗製物を得た。この粗製物をヘキサン−酢酸エチル混合溶媒洗浄することにより表題化合物を得た。収量  ３１７ｍｇ
Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ７．４０（１Ｈ，ｔ），７．６０（１Ｈ，ｄ），７．７０（１Ｈ，ｄ）．
ＭＳ（ＥＳＩ，ｍ／ｚ）２３３（Ｍ−Ｈ）−
2003070709.tif 000106
参考試験例１  ＶＣＡＭ−１／α４β１結合阻害活性評価
インテグリンα４β１を発現していることが知られているヒトＴ細胞系細胞株Ｊｕｒｋａｔ（ＡＴＣＣ  ＴＩＢ−１５２）のＶＣＡＭ−１への結合を阻害する試験物質の能力を測定した。
９６ウェルのマイクロタイタープレート（Ｎｕｎｃ  Ｍａｘｉｓｏｒｐ）に緩衝液Ａ（０．１Ｍ  ＮａＨＣＯ３、ｐＨ９．６）で希釈した組換えヒトＶＣＡＭ−１（Ｒ＆Ｄ  ｓｙｓｔｅｍｓ）溶液（５００ｎｇ／ｍｌ）を１００μｌ／ウェル加え、４℃で一晩インキュベートした。結合していないＶＣＡＭ−１はＰＢＳで１回洗浄することにより除いた。洗浄後、ブロックエース（大日本製薬）をＰＢＳで４倍に希釈した緩衝液（緩衝液Ｂ）を１５０μｌ／ウェル加え、室温で１時間インキュベートした。緩衝液Ｂの除去後に、ＰＢＳで１回洗浄を実施した。
Ｊｕｒｋａｔ細胞をダルベッコ改変イーグル培地（ＳＩＧＭＡ、以下ＤＭＥＭと呼ぶ）で２回洗浄し、１０μｇ／ｍｌのＣａｌｃｅｉｎ−ＡＭ（和光純薬）を含むＤＭＥＭ中で３７℃、３０分間、暗所にてインキュベートすることにより蛍光標識した後、結合緩衝液（２０ｍＭ  ＨＥＰＥＳ、０．１％ＢＳＡを含むＤＭＥＭ）に再懸濁した。
プレートに結合緩衝液で希釈した種々の濃度の試験物質を５０μｌ加え、直ちに蛍光標識したＪｕｒｋａｔ細胞（４×１０６細胞／ｍｌ）を５０μｌ加え（最終容量１００μｌ／ウェル）、室温、暗所にて３０分間インキュベートした。プレート振盪機（ＩＫＡ  ＭＴＳ−４）上で８００ｒｐｍ、３０秒間振盪し、直ちに溶液を除去することにより、結合していない細胞を除いた。蛍光プレートリーダー（Ｗａｌｌａｃ  １４２０  ＡＲＶＯマルチラベルカウンター）を用いてウェルに残った結合細胞の蛍光量を定量した（フィルター  励起波長：４８５ｎｍ、発光波長：５３５ｎｍ）。ここで得られた蛍光強度はＶＣＡＭ−１に結合してプレート上に残ったＪｕｒｋａｔ細胞の数に比例する。試験物質を含まないウェルの蛍光強度を１００％とした時の種々の濃度における各試験物質の結合率を求め、５０％結合阻害をもたらす濃度ＩＣ５０を計算した。
得られた試験結果を表３１に示す。
参考試験例２  ＶＣＡＭ−１／α４β７結合阻害活性評価
インテグリンα４β７を発現していることが知られているヒトＢ細胞リンパ腫細胞株ＲＰＭＩ−８８６６のＶＣＡＭ−１への結合を阻害する試験物質の能力を測定した。
９６ウェルのマイクロタイタープレート（Ｎｕｎｃ  Ｍａｘｉｓｏｒｐ）に緩衝液Ａ（０．１Ｍ  ＮａＨＣＯ３、ｐＨ９．６）で希釈した組換えヒトＶＣＡＭ−１（Ｒ＆Ｄ  ｓｙｓｔｅｍｓ）溶液（５００ｎｇ／ｍｌ）を１００μｌ／ウェル加え、４℃で一晩インキュベートした。結合していないＶＣＡＭ−１はＰＢＳで１回洗浄することにより除いた。洗浄後、ブロックエース（大日本製薬）をＰＢＳで４倍に希釈した緩衝液（緩衝液Ｂ）を１５０μｌ／ウェル加え、室温で１時間インキュベートした。緩衝液Ｂの除去後に、ＰＢＳで１回洗浄を実施した。
ＲＰＭＩ−８８６６細胞をＤＭＥＭで２回洗浄し、１０μｇ／ｍｌのＣａｌｃｅｉｎ−ＡＭ（和光純薬）を含むダルベッコ改変イーグル培地（ＳＩＧＭＡ、以下ＤＭＥＭと呼ぶ）中で３７℃、３０分間暗所にてインキュベートすることにより蛍光標識した後、４ｍＭのＭｎＣｌ２を含む結合緩衝液（２０ｍＭ  ＨＥＰＥＳ、０．１％ＢＳＡを含むＤＭＥＭ）に再懸濁した。
プレートに結合緩衝液で希釈した種々の濃度の試験物質を５０μｌ加え、直ちに蛍光標識したＲＰＭＩ−８８６６細胞（４×１０６細胞／ｍｌ）を５０μｌ加え（最終容量１００μｌ／ウェル）、室温、暗所にて３０分間インキュベートした。プレート振盪機（ＩＫＡＭＴＳ−４）上で８００ｒｐｍ、３０秒間振盪し、直ちに溶液を除去することにより、結合していない細胞を除いた。蛍光プレートリーダー（Ｗａｌｌａｃ  １４２０  ＡＲＶＯマルチラベルカウンター）を用いてウェルに残った結合細胞の蛍光量を定量した（フィルター  励起波長：４８５ｎｍ、発光波長：５３５ｎｍ）。ここで得られた蛍光強度はＶＣＡＭ−１に結合してプレート上に残ったＲＰＭＩ−８８６６細胞の数に比例する。試験物質を含まないウェルの蛍光強度を１００％とした時の種々の濃度における各試験物質の結合率を求め、５０％結合阻害をもたらす濃度ＩＣ５０を計算した。
得られた試験結果を表３１に示す。
2003070709.tif 000107
2003070709.tif 000108
2003070709.tif 000109
2003070709.tif 000110
2003070709.tif 000111
【国際調査報告】
2003070709.tif 000131
2003070709.tif 000132
2003070709.tif 000133