【事件の表示】
　特願２００３−５６６８９６「荷電粒子感応性レジストの為のシステム及び方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年８月１４日国際公開、ＷＯ０３／６７６５２、平成１８年２月９日国内公表、特表２００６−５０５０９３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯
　本願は、パリ条約に基づく優先権主張（優先日　平成１４年２月４日　米国）を伴って、平成１５年１月２７日を国際出願日として出願された特願２００３−５６６８９６号であって、平成２２年４月１日付けで拒絶査定がなされた。
　本件は、前記拒絶査定を不服として、平成２２年８月６日に請求された拒絶査定不服審判事件であって、当審において平成２３年１１月２２日付けで拒絶理由を通知したところ、平成２４年５月２３日付けで意見書ならびに手続補正書が提出された。
　
２　本願発明
　平成２４年５月２３日付け手続補正は、特許請求の範囲を補正するものであって、本願に係る発明は、当該補正によって補正された、特許請求の範囲の請求項１ないし２４に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は以下のとおりである。
「荷電粒子ビームでレジストを含むパターンを走査する方法であって、
　第１走査路に沿ってパターンと相互作用するように荷電粒子ビームを導くステップであって、パターンは、荷電粒子ビームとの相互作用の結果、その特性の一つを変え、その特性の変化には前記パターンの線を形成するレジストの収縮が含まれる、前記ステップと、
　第２走査路に沿ってパターンと相互作用するように荷電粒子ビームを導くステップであって、第１走査路と第２走査路との間の距離は、荷電粒子ビームの径より大きく、かつ、線の線幅粗さのスペクトル表示の高空間周波数構成要素に対応する部分の幅の１／２より小さい、前記ステップと、
を備える、前記方法。」
　
３　拒絶理由
　当審において平成２３年１１月２２日付けで通知した拒絶理由のうち、理由Ｄ、及び、理由Ｄに中で援用した理由Ｃは、以下のとおりである。
〈理由Ｄ〉 
　本願明細書の発明の詳細な説明の記載は、下記の点で、本願発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載したものではなく、特許法第３６条第４項第１号の規定に適合しない。
 　　　　　　　　　　　　　　　記
　本願明細書の【００１０】〜【００１３】の記載からすると、本願発明は、所定の走査方式を採用することにより、電子（荷電粒子）ビームとレジスト材料との間の相互作用から生じる結像電荷密度を減少させてレジストの収縮を減じつつ、精度ロスとなる粗さ情報を失うことなく線変動を決定することができる技術に係る発明であると認められるものの、本願明細書の発明の詳細な説明の記載からは、以下の点で、具体的に、如何なる走査方式を採用することによって、前述のごとき所望の作用効果を奏することができるのか、明確かつ十分に把握することができない。
（１）測定時にレジストに照射する荷電粒子密度を低減するために、如何なる手段、手法を用いているのか、発明の詳細な説明に記載された「走査用ウインドウ」、「画成される矩形画素」、「荷電粒子ビーム径」等が如何に関連しているのか明らかでなく、その手段や手法を明確に把握することができない。
（２）上記「（１）」に関する請求人からのＦＡＸによる回答（平成２３年１１月５及び１２日付け）を参酌すると、本願発明は、アパーチャのような開口を利用して荷電粒子ビーム形状を規定、制限したり、画素を画成するものではなく、荷電粒子ビームは円形（ビームの横断面を楕円形とする場合を除く）であって、当該ビームを所定の間隔の走査路に沿って走査せしめることにより、その走査路上に仮想的な縦長の画素が画成され、その結果得られるデータを前記縦長の画素の代表値として採用することにより、レジストに照射する荷電粒子密度を低減させる発明と解することができるが、その場合、如何にして、線幅に関する「粗さ情報を失うことなく線変動を決定する」ことができるのか、すなわち、所定の間隔の走査路に沿って走査した結果得られるデータは、線４４の長手方向の線幅データ（線幅粗さについてのデータ）について間引かれたデータとなり、そのような離散的なデータを用いて如何にして粗さ情報を失うことなく線変動を決定することができるのか明らかでない。
　そして、理由Ｃで述べたとおり、本願発明は、第１走査路と第２走査路の間の距離に関して、「線幅粗さスペクトルの高空間周波数構成要素の１／２以下」という発明特定事項を有するものであるが、その特定事項が具体的に如何なる技術内容を意味するのか、発明の詳細な説明の記載を参酌しても明確とはいえない。
　そうすると、本願明細書の発明の詳細な説明の記載は、当業者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載したものであるとはいえない。
　
〈理由Ｃ〉
　本願の特許請求の範囲の記載は、下記の点で明確でなく、特許法第３６条第６項第２号の規定に適合しない。
 　　　　　　　　　　　　　　　記
（１）特許請求の範囲に記載された、第１走査路と第２走査路の間の距離に関する特定事項である、「線幅粗さスペクトルの高空間周波数構成要素の１／２以下」とは、如何なる距離を意味するのか明らかでなく、請求項１ないし２４に係る発明は明確でない。
　すなわち、「線幅粗さスペクトルの高空間周波数構成要素」は、周波数を意味するものと解され、「距離」の単位と一致しない。また、発明の詳細な説明の【００１３】、【００３２】、【図３】の記載ないし図示内容からして、「線幅粗さスペクトル」は、レジストを含むパターンを走査した後に得られるものと考えられ、走査路の間の距離を定める要素が、走査の開始前に与えられるとすると、何をもって「線幅粗さスペクトルの高空間周波数構成要素」とするのか、明らかでない。
（【００３５】には、「高い空間周波数の閾値は、約５０ナノメートルに設定される…」と記載され、【００４３】、【００４６】、【００５５】には、走査路間の距離が約２５ナノメートルであることが記載されているものの、前記閾値は「設定される」ものであって、図３に図示されているような線幅粗さスペクトルではないと認められるので、上述の記載の関係を意味していると解することはできない。また、空間周波数を、図２に図示されているようなラインアンドスペースを識別するためのサンプリング周波数のごときものと解すると、当該サンプリング間隔の２倍のことを意味しているようにも解されるが、発明の詳細な説明の記載を参酌しても、その意味するところが明らかでない。また、その具体的意義について、平成２３年５月９日付けの前置報告書の内容に関する審尋において、「サンプリング定理」そのものであるという審査官の見解が示されているが、その理解の当否について明らかともいえないので、その点についても釈明されたい。）
…（以下略）
　
４　本願の発明の詳細な説明の記載
　本願の発明の詳細な説明には、本願発明の技術背景、走査路間の距離（間隔）、線幅粗さスペクトルについて、以下の記載がある。
（ａ）「【０００７】
　[0007]製造不良は、集積回路の電気特性に影響する。これらの不良の一部は、パターンの要求寸法からの不必要なズレから生じる。「限界寸法」は、パターン化された線の幅又はパターン化された２本の線間の距離である。
【０００８】
　[0008]検査プロセスの目標の一つは、検査されたウエハが、これらの限界寸法からずれているかを決定することである。この検査は、通常、前記ズレを測定する為に必要な高解像度を提供する荷電粒子ビーム結像により行われる。」
（ｂ）「【００１３】
　[0013]本発明の他の実施形態によると、走査路は、走査用ウインドウ内に含まれる。走査用ウインドウは、互いに間隔を開けて配置され、線幅変動のスペクトル分析に感応して画成可能である。本発明の更なる態様によると、走査用ウインドウ内の、隣接する走査路の間隔は、前記線幅変動の高空間周波数の構成要素に感応する。換言すると、線（線粗さ）に沿ったサンプリングは、線（線粗さ）に沿って線変動を満足し、疑似ライン効果による精度ロスを発生するかもしれない粗さ情報を失うことなく、線変動の決定を容易にする。
【００１４】
　[0014]本発明の更なる態様によると、走査用ウインドウの幅は、線幅変動を持った低空間周波数の構成要素に感応する。」
（ｃ）「【００１７】
　[0017]そのため、本発明は、荷電粒子ビームでパターンを走査する方法であって：（ｉ）第１走査路に沿ってパターンと相互作用するように荷電粒子ビームを導くステップであって、当該パターンは、荷電粒子との相互作用の結果、その特性の一つを変える、上記ステップと；（ｉｉ）第２走査路に沿ってパターンと相互作用するように荷電粒子ビームを導くステップであって、第１走査路と第２走査路間の距離は、荷電粒子径より大きい、上記ステップと；を含む。
【００１８】
　[0018]本発明は、また、荷電粒子ビームでパターンを走査する為の更なる方法を提供するが、当該方法は、（ｉ）第１走査路に沿ってパターンと相互作用するように荷電粒子ビームを導くステップであって、当該パターンは、荷電粒子との相互作用の結果、その特性の一つを変える、上記ステップと；（ｉｉ）第２走査路に沿ってパターンと相互作用するように荷電粒子ビームを導くステップであって、第１走査路と第２走査路の各々は、複数の連続したサンプルを備え、第１走査路と第２走査路間の距離は、隣接したサンプル間の距離より大きい、上記ステップと；を含む。」
（ｄ）「【００３２】
　[0037]図３を参照すると、線４４と線幅変動のスペクトル表示（線幅粗さとも呼ばれる。）が、本発明の一実施態様に従って、詳細に例示されている。前記スペクトル表示は、線４４の複数線幅測定値を高速フーリエ変換により変換することにより発生可能であるが、前記変換を実施する為の他の手段（例えば、相互相関関数法）も適用可能である。
【００３３】
　[0038]線４４の幅は、複数の測定６０（ｊ,ｋ）、ここで、ｋは、測定セッションを識別する正の整数、ｊは１とＪの間の範囲であり、Ｊは、様々な精度、信号対ノイズ比及び／又は一貫性の要求に従って定義可能な所定値を有する。線数は、使用者により定義可能であるが、数本から千本の範囲でもよい。線数は、走査用ウインドウの長さと２つの隣接した線間の垂直変位との間の比により定義可能である。走査路当たりの画素数は、変更可能であることに注意されない。典型的な線は、２４０から９６０画素を含む。」
（ｅ）「【００３４】
　[0039]曲線７０は、線幅粗さのスペクトル表示を例示し、低空間周波数（Ｄlow）構成要素７８、高空間周波数（Ｄhigh）構成要素７４のような多くの空間周波数構成要素を含むが、各構成要素は、かなりの量のスペクトルエネルギを含む。高空間周波数構成要素７４は、隣接した走査路間の距離を定義するが、低空間周波数構成要素７８は走査用ウインドウ８０の幅を定義し、反復性の限界寸法測定を可能にする。
【００３５】
　[0040]多くの場合、高空間周波数の閾値（例えば、閾値７２）が与えられる。これは、製造プロセス限界、より具体的には、非常に高い空間周波数線幅変動を補償する限界能力を表示する。したがって、閾値を超える周波数は、無視される。通常、高い空間周波数の閾値は、約５０ナノメートルに設定されるが、将来の製造技術は、その閾値を減少させることが期待されている。」
（ｆ）「【００３８】
　[0043]線幅の変動を突き止める為には、２つの連続した走査路間の距離（画素の幅）が、線（線粗さ）に沿った線変動、特に、高空間周波数の構成要素に感応すべきである。Ｄhighによる高い空間周波数構成要素７４の空間周波数を表示する場合、各画素の長さはＤhigh／２以下になる。画素の幅は、システム要求解像度に応じて定義される。
【００３９】
　[0044]本発明の態様に従って、走査路は、走査用ウインドウ（例えば、走査用ウインドウ９０）内に含まれる。走査用ウインドウの高さは、低空間周波数の構成要素７８の空間周波数Ｄlowに応答可能である。限界寸法測定の反復性は、低い空間周波数構成要素７８の空間周波数より大きいか実質的に等しい幅を選択することにより、増加される。」
　
５　検討・判断
 本願発明につき、上記理由Ｄについて検討する。
（１）本願発明の技術的意義の検討
　本願発明は、荷電粒子ビームでレジストを含むパターンを走査する際、レジストパターンと荷電粒子ビームの相互作用の結果、前記パターンの線を形成するレジストが収縮することを回避するために、荷電粒子ビームを走査せしめる走査路の間の距離を、「荷電粒子ビームの径より大きく、かつ、線の線幅粗さのスペクトル表示の高空間周波数構成要素に対応する部分の幅の１／２より小さい」とすることを特定するものである。
　ここで、荷電粒子ビームでレジストを含むパターンを走査する目的は、上記４の（ａ）の記載からして、パターン化された線の幅又はパターン化された２本の線間の距離の要求寸法からの不必要なズレを測定するためであり、また、上記４の（ｂ）の記載からして、隣接する走査路の間隔を「線幅変動の高空間周波数構成要素」と関連づけるのは、精度ロスを発生するかもしれない粗さ情報を失うことなく、線幅変動の決定を容易にするためであるといえる。
（２）本願の発明の詳細な説明の記載の検討
　上記４の（ｄ）の記載からして、上記パターン化された線の幅とは、図３に図示された線状パターンの幅であって、そのズレは、図３に図示されている線幅変動を意味し、本願発明が特定する上記「線の線幅粗さのスペクトル表示」は、図３に図示されている線幅変動を複数箇所にわたって測定し、その結果をフーリエ変換することによって得られるものであるといえる。
　そして、上記４の（ｅ），（ｆ）の記載からして、線幅変動を突き止めるために必要な要件は、２つの連続した走査路間の距離を、線（線粗さ）に沿った線変動、特に、高空間周波数の構成要素Ｄhighの１／２以下とすることであって、前記Ｄhighは、線の線幅粗さのスペクトル表示から得られるものであるといえる。
　これらの事項を総合すると、線幅変動を突き止めるために必要な２つの連続した走査路間の距離を特定するために必要な高空間周波数の構成要素Ｄhighを得るためには、図３に図示されている線幅変動を複数箇所にわたって測定した結果が必要であることが明らかであって、その線幅変動を複数箇所にわたって測定した結果を得るためには、図３に図示されている多数の走査線６０における走査が必要であるといえる。
（３）判断
　上記（１）で述べたとおり、本願発明は、荷電粒子ビームでレジストパターンを走査してパターンの線幅変動を測定する際、レジストの収縮を回避するために、走査路の間隔を、パターンの線幅変動の情報が失われないように、「荷電粒子ビームの径より大きく、かつ、線の線幅粗さのスペクトル表示の高空間周波数構成要素に対応する部分の幅の１／２より小さい」と特定したものである。
　しかしながら、上記（２）で述べたとおり、本願の発明の詳細な説明の記載によると、前記特定事項である「線幅粗さのスペクトル表示の高空間周波数構成要素」は、図３に図示されている多数の走査線６０における走査が必要となるものである。
　そうすると、本願発明の走査路の間隔を定めるために特定する要素を求めるために、線幅変動の被測定対象となるべきレジストパターンについて、事前に多数の走査を行うことが必要となってしまい、「レジストが収縮することを回避する」という本願発明の技術的意義が失われてしまうことは明らかである。
　してみると、本願発明の技術的意義を達成しつつ、「線の線幅粗さのスペクトル表示の高空間周波数構成要素に対応する部分の幅の１／２より小さい」という走査路の間の距離を、どのようにして特定することができるのか、すなわち、本願発明の技術的意義を達成しつつ、粗さ情報を失うことなく線変動を決定することができる離散的なデータを如何にして得ることができるのか、当業者といえども、本願の発明の詳細な説明の記載をもって理解することはできない。
　したがって、本願の発明の詳細な説明の記載は、本願発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載したものではなく、特許法第３６条第４項第１号の規定に違反している。
　
６　むすび
　以上のとおり、本願の発明の詳細な説明の記載は、その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載したものではない。
　したがって、本願は、特許法第３６条第４項第１号の規定に違反しているので、特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。