(57)【要約】本発明は、式（Ｉ）2003031421.tif 000023（式中、Ｅは、Ｃ（＝Ｘ）Ｒ４基、Ｓ（Ｏ）ｎＲ４基、Ｐ（＝Ｘ）Ｒ４Ｒ５基等を表す。）で表されるエノール構造を有するエテン誘導体を、エノール二重結合における立体を制御してしかも高収率で得る方法を提供することを目的とし、式（ＩＩ）2003031421.tif 000024で表される化合物と、式（ＩＩＩ）2003031421.tif 000025（式中、Ｅは前記と同じ意味を表し、Ｙは、クロル原子、臭素原子、またはＣＮ基を表す。）で表される化合物を、塩基及び式（ＩＶ）2003031421.tif 000026（式中、Ｒ６はアルキル基等）で表されるピリジン誘導体の存在下に反応させる。
2003031421.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
2003031421.tif 000017
（式中、Ａは、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の炭化水素基、置換基を有していてもよいヘテロ環基、Ｒ１Ｏ基、Ｒ１Ｓ基、またはＲ１ｌＨ２−ｌＮ基を表し、Ｒ１は、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の炭化水素基、または置換基を有していてもよいヘテロ環基を表し、１は、１または２を表し、１が２の場合、Ｒ１は、同一または相異なっていてもよく、Ｂは、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の炭化水素基、置換基を有していてもよいヘテロ環基、ＣＮ基、イソニトリル基、ＮＯ２基、Ｎ３基、ＣＨＯ基、Ｃ（＝Ｘ）Ｒ２基、Ｓ（Ｏ）ｍＲ２基、Ｐ（＝Ｘ）Ｒ２Ｒ３基を表し、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいヘテロ環基、置換基を有していてもよいＣ１〜２０炭化水素基、Ｒ２０Ｏ基、Ｒ２０Ｓ基、Ｒ２０ＫＨ２−ＫＮ基を表し、Ｒ２０は、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０炭化水素基、または置換基を有していてもよいヘテロ環基を表し、Ｘは、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、またはＮＲ２１を表し、Ｒ２１は、置換を有していてもよいＣ１〜２０炭化水素基、置換基を有していてもよいヘテロ環基、水酸基、Ｒ２２Ｏ基、またはＲ２２ｔＨ２−ｔＮ基を表し、Ｒ２２は、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の炭化水素基、置換基を有していてもよいヘテロ環基を表し、ｍは０、１、または２を表し、ｋは１または２を表し、ｋが２の場合、Ｒ２０は、同一または相異なっていてもよく、ｔは１または２を表し、ｔが２の場合、Ｒ２２は同一または相異なっていてもよく、Ｄは、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の炭化水素基、または置換基を有していてもよいヘテロ環基を表し、Ｅは、Ｃ（＝Ｘ）Ｒ４基、Ｓ（Ｏ）ｎＲ４基、Ｐ（＝Ｘ）Ｒ４Ｒ５基、Ｃ１−６アルコキシメチル基、Ｃ１−６アルキルカルボニルオキシメチル基、Ｃ３−６シクロアルキルカルボニルオキシメチル基、Ｃ１−６アルコキシカルボニルオキシメチル基、置換基を有してもよいフェニルカルボニルオキシメチル基、Ｃ１−６アルキルチオメチル基、Ｃ１−６アルキルカルボニルチオメチル基、Ｃ３−６シクロアルキルカルボニルチオメチル基、Ｃ１−６アルコキシカルボニルチオメチル基、置換基を有してもよいフェニルカルボニルチオメチル基、または置換基を有してもよいフェニルメチル基を表し、Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいヘテロ環基、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０炭化水素基、Ｒ４０Ｏ基、Ｒ４０Ｓ基、Ｒ４０ｑＨ２−ｑＮ基を表し、Ｒ４０は、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０炭化水素基、または置換基を有していてもよいヘテロ環基を表し、Ｘは、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、またはＮＲ５１を表し、Ｒ５１は、置換基を有していてもよいＣ１〜２０炭化水素基または水酸基を表し、ｎは０、１、または２を表し、ｑは、１または２を表し、ｑが２の場合、Ｒ４０は、同一または相異なっていてもよい。）で表されるエテン誘導体の製造方法において、
式（ＩＩ）
2003031421.tif 000018
（式中、Ａ、Ｂ、及びＤは前記と同じ意味を表す。）で表される化合物と、式（ＩＩＩ）
2003031421.tif 000019
（式中、Ｅは前記と同じ意味を表し、Ｙは、クロル原子、臭素原子、またはＣＮ基を表す。但し、Ｅが、Ｃ１−６アルコキシメチル基、Ｃ１−６アルキルカルボニルオキシメチル基、Ｃ３−６シクロアルキルカルボニルオキシメチル基、Ｃ１−６アルコキシカルボニルオキシメチル基、置換基を有してもよいフェニルカルボニルオキシメチル基、Ｃ１−６アルキルチオメチル基、Ｃ１−６アルキルカルボニルチオメチル基、Ｃ３−６チクロアルキルカルボニルチオメチル基、Ｃ１−６アルコキシカルボニルチオメチル基、置換基を有してもよいフェニルカルボニルチオメチル基、または置換基を有してもよいフェニルメチル基の場合に、Ｙは、クロル原子、臭素原子を表す。）で表される化合物を、塩基及び式（ＩＶ）
2003031421.tif 000020
（式中、Ｒ６は、Ｃ１〜Ｃ９炭化水素基を表し、ｐは０または、１〜３のいずれかの整数を表し、ｐが２以上の場合、Ｒ６はそれぞれ、同一または相異なっていてもよい。）で表されるピリジン誘導体の存在下に反応させることを特徴とする製造方法。
【請求項２】
ＥがＣ１−Ｃ１０のアルキルカルボニル基又は（アルキルチオ）カルボニル基である請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
Ａが置換されていてもよいフェニル基、ベンジル基又は芳香族ヘテロ環基である請求項１又は２記載の製造方法。
【請求項４】
Ｄが置換されていてもよいフェニル基又はピラゾリル基である請求項１〜３記載の製造方法。
【請求項５】
Ａ、Ｄ、Ｅがそれぞれ下記式で表される基である請求項１〜４記載の製造方法。
2003031421.tif 000021
2003031421.tif 000022
【請求項６】
ＢがＣＮ基である請求項１〜５の製造方法。
【請求項７】
反応を有機溶媒中で行う請求項１〜６記載の製造方法。
【請求項８】
塩基が３級アミンである請求項１〜７記載の製造方法。
【請求項９】
反応を水−有機溶媒不均一系で行う請求項１〜６記載の製造方法。
【請求項１０】
塩基がアルカリ金属水酸化物又は３級アミンである請求項１〜６又は請求項９記載の製造方法。
【請求項１１】
塩基がアルカリ金属塩及び３級アミンである請求項１〜６又は請求項９〜１０記載の製造方法。
【請求項１２】
式（ＩＶ）で表されるピリジン誘導体がルチジン又はγ−ピコリンである請求項１〜１１記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
技術分野：
本発明は、農医薬中間体として有用な部分構造であるエノール構造を有するエテン誘導体の製造方法に関し、詳しくは、エノールＯ−アシル体等の製造方法及びそれらの立体選択的な製造方法に関する。
背景技術：
エノールＯ−アシル体等の製造方法として、たとえば、特開２００１−１０６６６５号公報には、下記式に表す工程において、塩基としてアルカリ金属、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属水素化物、第３級アミンを用いて有機溶媒中で、チオカルボニルクロライド（Ｒ’Ｘ’）等を反応させる方法が記載されている。
2003031421.tif 000003
Ｑ’及びＴ’は、それぞれ独立に、置換されてもよいフェニル基またはヘテロ環基等を表す。）
また、特開昭５５−１５４９６２号公報には、下記式に示す方法が知られている。
2003031421.tif 000004
（式中、Ｂ＋は、アンモニウム塩、またはアルカリ金属陽イオンを表す。）
しかし、いずれの場合も収率が満足のいくものではなく、立体選択的に生成物が得られることが記載されているものの、収率を考慮すると必ずしも反応が選択的に進行しているとは言えない内容であった。
更に、本発明と類似の反応として特開昭５４−２７５４７号公報に下記反応式で示されるシクロヘキサン−１，３−ジオンエノール類のＯ−アシル化物の製造方法が記載されている。
2003031421.tif 000005
しかし、これらの化合物は、上記反応式からも明らかなように、エノール二重結合における立体異性体の存在しない化合物である。
本発明は、高い収率でエノール構造を有するエテン誘導体を得る製造方法を提供することを目的とするともに、エノール二重結合における立体を制御してエテン誘導体を得る方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、用いる塩基種類及び触媒を適宜選択すること、さらに反応方法を調整することにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
発明の開示：
本発明は、式（Ｉ）
2003031421.tif 000006
（式中、Ａは、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の炭化水素基、置換基を有していてもよいヘテロ環基、Ｒ１Ｏ基、Ｒ１Ｓ基、またはＲ１ｌＨ２−ｌＮ基を表し、Ｒ１は、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の炭化水素基、または置換基を有していてもよいヘテロ環基を表し、１は、１または２を表し、１が２の場合、Ｒ１は、同一または相異なっていてもよく、Ｂは、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の炭化水素基、置換基を有していてもよいヘテロ環基、ＣＮ基、イソニトリル基、ＮＯ２基、Ｎ３基、ＣＨＯ基、Ｃ（＝Ｘ）Ｒ２基、Ｓ（Ｏ）ｍＲ２基、Ｐ（＝Ｘ）Ｒ２Ｒ３基を表し、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいヘテロ環基、置換基を有していてもよいＣ１〜２０炭化水素基、Ｒ２０Ｏ基、Ｒ２０Ｓ基、Ｒ２０ＫＨ２−ＫＮ基を表し、Ｒ２０は、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０炭化水素基、または置換基を有していてもよいヘテロ環基を表し、Ｘは、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、またはＮＲ２１を表し、Ｒ２１は、置換を有していてもよいＣ１〜２０炭化水素基、置換基を有していてもよいヘテロ環基、水酸基、Ｒ２２Ｏ基、またはＲ２２ｔＨ２−ｔＮ基を表し、Ｒ２２は、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の炭化水素基、置換基を有していてもよいヘテロ環基を表し、ｍは０、１、または２を表し、ｋは１または２を表し、ｋが２の場合、Ｒ２０は、同一または相異なっていてもよく、ｔは１または２を表し、ｔが２の場合、Ｒ２２は同一または相異なっていてもよく、Ｄは、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０の炭化水素基、または置換基を有していてもよいヘテロ環基を表し、Ｅは、Ｃ（＝Ｘ）Ｒ４基、Ｓ（Ｏ）ｎＲ４基、Ｐ（＝Ｘ）Ｒ４Ｒ５基、Ｃ１−６アルコキシメチル基、Ｃ１−６アルキルカルボニルオキシメチル基、Ｃ３−６シクロアルキルカルボニルオキシメチル基、Ｃ１−６アルコキシカルボニルオキシメチル基、置換基を有してもよいフェニルカルボニルオキシメチル基、Ｃ１−６アルキルチオメチル基、Ｃ１−６アルキルカルボニルチオメチル基、Ｃ３−６シクロアルキルカルボニルチオメチル基、Ｃ１−６アルコキシカルボニルチオメチル基、置換基を有してもよいフェニルカルボニルチオメチル基、または置換基を有してもよいフェニルメチル基を表し、Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいヘテロ環基、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０炭化水素基、Ｒ４０Ｏ基、Ｒ４０Ｓ基、Ｒ４０ｑＨ２−ｑＮ基を表し、Ｒ４０は、置換基を有していてもよいＣ１〜Ｃ２０炭化水素基、または置換基を有していてもよいヘテロ環基を表し、Ｘは、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、またはＮＲ５１を表し、Ｒ５１は、置換基を有していてもよいＣ１〜２０炭化水素基または水酸基を表し、ｎは０、１、または２を表し、ｑは、１または２を表し、ｑが２の場合、Ｒ４０は、同一または相異なっていてもよい。）で表されるエテン誘導体の製造方法において、
式（ＩＩ）
2003031421.tif 000007
（式中、Ａ、Ｂ、及びＤは前記と同じ意味を表す。）で表される化合物と、式（ＩＩＩ）
2003031421.tif 000008
（式中、Ｅは前記と同じ意味を表し、Ｙは、クロル原子、臭素原子、またはＣＮ基を表す。但し、Ｅが、Ｃ１−６アルコキシメチル基、Ｃ１−６アルキルカルボニルオキシメチル基、Ｃ３−６シクロアルキルカルボニルオキシメチル基、Ｃ１−６アルコキシカルボニルオキシメチル基、置換基を有してもよいフェニルカルボニルオキシメチル基、Ｃ１−６アルキルチオメチル基、Ｃ１−６アルキルカルボニルチオメチル基、Ｃ３−６シクロアルキルカルボニルチオメチル基、Ｃ１−６アルコキシカルボニルチオメチル基、置換基を有してもよいフェニルカルボニルチオメチル基、または置換基を有してもよいフェニルメチル基の場合に、Ｙは、クロル原子、臭素原子を表す。）で表される化合物を、塩基及び式（ＩＶ）
2003031421.tif 000009
（式中、Ｒ６は、Ｃ１〜Ｃ９炭化水素基を表し、ｐは０または、１〜３のいずれかの整数を表し、ｐが２以上の場合、Ｒ６はそれぞれ、同一または相異なっていてもよい。）で表されるピリジン誘導体の存在下に反応させることを特徴とする製造方法である。
Ｅ、Ａ、Ｄで表される置換基を例示すると下記のものが挙げられる。
Ｅ：Ｃ１〜Ｃ１０のアルキルカルボニル基、アルキルチオカルボニル基又は（アルキルチオ）カルボニル基；
Ａ：置換基を有していてもよいフェニル基、ベンジル基又は芳香族ヘテロ環基；
Ｄ：置換基を有していてもよいフェニル基又はピラゾリル基；
更に具体的に例示すると下記のものが挙げられる。
2003031421.tif 000010
2003031421.tif 000011
本発明は、ＢとしてＣＮ基を有する化合物の製造方法として特に有用である。
式（ＩＩ）で表される化合物中、Ｙはクロル原子、臭素原子又はＣＮ基を表すが、ＣＮ基の場合は、Ｅの種類によっては反応が進行しないあるいは目的物が得られない場合がある。上記定義中、置換基を有していてもよいと表現されている炭化水素基、フェニル基、ヘテロ環基等を置換している置換基としては、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ４アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基等が挙げられる。
反応は、有機溶媒中又は水−有機溶媒不均一系で行なわれる。
有機溶媒中で行う場合、▲１▼式（ＩＩ）で表される化合物を含む有機溶媒中に、式（ＩＩＩ）で表される化合物、塩基を順次添加する方法、▲２▼塩基を含む有機溶媒中に、式（ＩＩ）で表される化合物、式（ＩＩＩ）で表される化合物を順次添加する方法、▲３▼塩基を含有する有機溶媒中に、式（ＩＩ）で表される化合物および式（ＩＩＩ）で表される化合物の混合物を添加する方法、▲４▼式（ＩＩ）で表される化合物を含有する有機溶媒中に、式（ＩＩＩ）で表される化合物および塩基を同時添加する方法、▲５▼塩基を含有する有機溶媒中に、式（ＩＩ）で表される化合物および式（ＩＩＩ）で表される化合物を同時に添加する方法、▲６▼式（ＩＩ）で表される化合物及び３級アミンの溶液中に、式（ＩＩＩ）で表される化合物を添加し、さらに含窒素複素環化合物を添加する方法等を例示することができる。それぞれの化合物、溶媒を混合、または添加する方法は、特に制限されず、一方に他方を徐々に滴下する方法、一度に加える方法、分割して加える方法等温度等の反応条件を逸脱しない範囲で用いることができる。
反応温度は−１０〜５０℃、好しくは３０℃以下で行うことが好しい。５０℃以上では異性体比が低下する傾向があり、−１０℃以下では反応速度が遅く収率が低下する傾向がある。用いる塩基としては特に制限はないが、３級アミンを用いることが好しい。
用いられる３級アミンとして、具体的には、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕ウンデク−７−エン、１，５−ジアザビシクロ〔４．３．０〕ノン−５−エン、６−ジブチルアミノ−１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕ウンデク−７−エン、トリエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、キノリン、ジイソプロピルエチルアミン等を例示することができる。また、これらは、１種単独で、また２種以上組み合わせて用いることができる。用いる塩基の量は、式（ＩＶ）で表されるピリジン誘導体の量によっても異るが、塩基とピリジン誘導体の総量として式（ＩＩ）で表される化合物に対して、モル比で１当量以上が好ましく、さらには１．０５〜１．５０当量の範囲で用いるのが好ましい。１．０５当量以下では、反応が完結せずに原料が残り、１．５０当量以上では、式（ＩＩＩ）の加水分解が起こり同様に反応が完結しない場合がある。
本発明に用いる式（ＩＶ）で表されるピリジン誘導体中、Ｒ６は、Ｃ１〜Ｃ９炭化水素基を表し、ｎは０または、１〜３のいずれかの整数を表し、ｎが２以上の場合、Ｒ６はそれぞれ、同一または相異なっていてもよい。Ｒ６として、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基等を例示することができ、式（ＩＶ）で表されるピリジン誘導体として、具体的には、ピリジン、α−ピコリン、β−ピコリン、γ−ピコリン、３，５−ルチジン、２，４−ルチジン、ｓ−コリジン、γ−コリジン、４−ベンジルピリジン等例示することができる。
ピリジン誘導体は、式（ＩＩ）で表される化合物に対して触媒量用いるのが好ましい。触媒量とは、式（ＩＩ）で表される化合物に対して当量モル以下で用いることをいい、０．０５〜６０モル％の範囲で用いるのが好ましく、さらに、０．１〜２０モル％の範囲で用いるのが好ましい。用いられる有機溶媒としては特に制限されず、反応に不活性であり、原料、目的物等をある程度溶解するものならば使用でき、具体的には、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒、ニトロベンゼン等のニトロ系溶媒、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、等を例示することができ、これらは１種単独で、また２種以上を混合して用いることができる。
本発明の更に好しい態様として、反応を水と有機溶媒の不均一系で行うことが挙げられる。この場合、塩基としては、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩等の無機塩基又は３級アミン等の有機塩基が使用できる。更に無機塩基と有機塩基とを併用することにより、異性体比を向上させることができる場合がある。また、式（ＩＩ）で表される化合物のアルカリ金属塩を用いることにより塩基の代用をすることも可能である。３級アミンとしては有機溶媒中で行う場合と同様のアミンが使用できる。
本反応に用いられる溶媒としては、式（ＩＩＩ）で表される化合物に対して不活性な溶媒であれば特に制限されないが、水に対する溶解度が低い溶媒が好ましく、また式（ＩＩ）で表され化合物をある程度溶解する溶媒が好ましい。具体的には、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒、ニトロベンゼン等のニトロ系溶媒等を例示することができ、これらは１種単独で、また２種以上を混合して用いることができる。極性基を有して水との親和性が高いと考えられる溶媒であっても、分子内の非極性基部分の割合が大きいものについては本反応に用いることができる。水−有機溶媒の用いる合計の溶媒量は、式（ＩＩ）で表される化合物が溶解、または反応系内で攪拌できる量であれば特に制限されない。また、水と有機溶媒の混合比は、特に限定されないが、有機溶媒を増やすことにより選択性が向上する場合がある。この不均一系の反応の場合、更に相間移動触媒を用いることにより、反応の選択性を向上させることができる場合がある。用いる相間移動触媒として具体的には、４級アンモニウム塩類、４級ホスホニウム塩類等のオニウム塩類、クラウン化合物等を例示することができる。さらに具体的に、塩化テトラブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリブチルアンモニウム、塩化テトラエチルホスホニウム、臭化テトラフェニルホスホニウム、１８−クラウン−６等が挙げられる。
用いる相間移動触媒の量は、式（ＩＩ）で表される化合物に対してモル比で１当量以下であれば特に制限されないが、０．５〜３０モル％の範囲で用いるのが好ましい。
反応方法としては、▲１▼有機溶媒−水の混合溶媒中、式（ＩＩ）で表される化合物及び式（ＩＩＩ）で表される化合物を混合し、塩基を添加する方法、▲２▼有機溶媒−水の混合溶媒中、式（ＩＩＩ）で表される化合物と塩基を混合し、式（ＩＩ）で表される化合物を添加する方法、▲３▼有機溶媒−水の混合溶媒中、式（ＩＩ）で表される化合物と塩基を混合し、式（ＩＩＩ）で表される化合物を添加する方法、▲４▼塩基−水溶液または塩基−水−有機溶媒の混合溶液中に、式（ＩＩ）で表される化合物と式（ＩＩＩ）で表される化合物の混合物または混合溶液を添加する方法、▲５▼塩基−水溶液または塩基−水−有機溶媒の混合溶液中に、式（ＩＩ）で表される化合物と式（ＩＩＩ）で表される化合物またはその溶液を同時に添加する方法等いずれの方法をも採用することができるが、式（ＩＩＩ）で表される化合物の安定性を考慮した場合、▲２▼、▲３▼、または▲４▼の方法が好ましい。それぞれの化合物、溶媒を混合、または添加する方法は、特に制限されず、一方に他方を徐々に滴下する方法、一度に加える方法、分割して加える方法等温度等の反応条件を逸脱しない範囲で用いることができる。相間移動触媒を用いる場合、その添加時期、方法は特に制限されない。
反応は全体を通じて、−１０〜５０℃の範囲で行うのが好ましく、さらに４０℃以下、特に３０℃以下で行うのが好ましい。５０℃以上で行った場合、原料である式（ＩＩ）である化合物が残存し、５℃以下おいては、反応速度が遅く式（ＩＩＩ）の化合物の分解が進行し、原料が残る傾向にある。有機溶媒中、水−有機溶媒不均一系いずれの方法で反応を行なった場合も反応終了後は通常の後処理を行うことにより目的物を得ることができる。
本発明の製造方法により製造される代表例を以下に示す。尚、表中のＡ１−Ａ９、Ｄ１−Ｄ６、Ｅ１−Ｅ６はそれぞれ前記と同様の意味を示す。
2003031421.tif 000012
2003031421.tif 000013
式（ＩＩ）で表され化合物は、単一の化合物として存在する場合もあるが、二重結合における立体異性体を含む混合物の場合、また、下式に示す平衡混合物の場合もありえる。
2003031421.tif 000014
発明を実施するための最良の形態：
以下、本発明を実施例を用いて詳細に説明するが、本発明の範囲は実施例に限定されるものではない。
なお、実施例１−１７、比較例１において、目的物は２種類の幾何異性体の混合物として得られる場合があるが、主生成物（Ａと略称）は下記条件における逆相液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）において、より短い保持時間を有する生成物を指し、より長い保持時間を有する幾何異性体（Ｂと略称）との生成比はこのクロマトグラフィーで得られる２つのピークの面積比で表す。
ＨＰＬＣ測定条件
2003031421.tif 000015
2003031421.tif 000016
実施例１
２−〔４−（２，６−ジフルオロフェニル）−チアゾール−２−イル〕−３−ヒドロキシ−３−（２−トリフルオロメチルフェニル）−アクリロニトリル２．５ｇと苛性ソーダ水溶液（ＮａＯＨ０．２６ｇを含む）２０ｍｌ及びトルエン２０ｍｌの混合物に、３，５−ルチジン０．１３ｇを添加し、３０℃にて２，２−ジメチルペンタノイルクロリド１．０９ｇを滴下した。同温度で１時間攪拌した後、反応液を高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）で定量したところ、目的物３．０７ｇを含有していた。収率９９．３％（生成比Ａ：Ｂ＝９５．３：４．７）
実施例２
２−〔４−（２，６−ジフルオロフェニル）−チアゾール−２−イル〕−３−ヒドロキシ−３−（２−トリフルオロメチルフェニル）−アクリロニトリル２．５ｇと水１０ｍｌ及びトルエン３０ｍｌの混合物に、炭酸カリウム０．８５ｇ、３，５−ルチジン０．２６ｇを添加し、３０℃にて、２，２−ジメチルペンタノイルクロリド１．１９ｇを滴下した。同温度で１時間攪拌した後、反応液をＨＰＬＣで定量したところ、目的物３．１７ｇを含有していた。収率９９．６％（生成比Ａ：Ｂ＝９３．２：６．８）
実施例３
２−〔４−（２，６−ジフルオロフェニル）−チアゾール−２−イル〕−３−ヒドロキシ−３−（２−トリフルオロメチルフェニル）−アクリロニトリル２．５ｇとトルエン３０ｍｌ及び水５ｍｌの混合物に、ジイソプロピルエチルアミン０．７９ｇ、３，５−ルチジン０．２６ｇを添加し、３０℃にて２，２−ジメチルペンタノイルクロリド１．１９ｇを滴下した。同温度で２時間攪拌した後、反応液をＨＰＬＣで定量したところ、目的物３．１０ｇを含有していた。収率９７．３％（生成比Ａ：Ｂ＝９５．４：４．６）
実施例４
２−〔４−（２，６−ジフルオロフェニル）−チアゾール−２−イル〕−３−ヒドロキシ−３−（２−トリフルオロメチルフェニル）−アクリロニトリル２．５ｇとトルエン３０ｍｌ及び水５ｍｌの混合物に、トリエチルアミン０．６２ｇ、３，５−ルチジン０．２６ｇを添加し、３０℃にて２，２−ジメチルペンタノイルクロリド１．１９ｇを滴下した。同温度で１時間攪拌した後、反応液をＨＰＬＣで定量したところ、目的物３．１７ｇを含有していた。収率９９．５％（生成比Ａ：Ｂ＝９６．２：３．８）
実施例５
２−〔４−（２，６−ジフルオロフェニル）−チアゾール−２−イル〕−３−ヒドロキシ−３−（２−トリフルオロメチルフェニル）−アクリロニトリル２．５ｇとトルエン１５ｍｌ及び、苛性ソーダ水溶液（ＮａＯＨ０．２６ｇを含む）１５ｍｌの混合物に、γ−ピコリン０．１１ｇを添加し、３０℃にて２，２−ジメチルペンタノイルクロリド１．１９ｇを滴下した。同温度で１時間攪拌した後、反応液をＨＰＬＣで定量したところ、目的物３．１７ｇを含有していた。収率９９．５％（生成比Ａ：Ｂ＝９４．４：５．６）
実施例６
２−〔４−（２，６−ジフルオロフェニル）−チアゾール−２−イル〕−３−ヒドロキシ−３−（２−トリフルオロメチルフェニル）−アクリロニトリル２．５ｇとトルエン２０ｍｌの混合物に、トリエチルアミン０．７４ｇ、２，２−ジメチルペンタノイルクロリド１．１９ｇを添加し、この混合物にγ−ピコリン０．１１ｇと水１０ｍｌの溶液を１０℃にてを滴下した。１０〜２２℃で１時間攪拌した後、反応液をＨＰＬＣで定量したところ、目的物３．１８ｇを含有していた。収率９９．９％（生成比Ａ：Ｂ＝９８．８：１．２）
実施例７
トルエンをクロロホルムに変えた以外は実施例６と同様に反応して、反応液をＨＰＬＣで定量したところ、目的物３．１７ｇを含有していた。収率９９．５％（生成比Ａ：Ｂ＝９９．４：０．６）
実施例８
トルエンを酢酸ブチルに変えた以外は実施例６と同様に反応して、反応液をＨＰＬＣで定量したところ、目的物３．１８ｇを含有していた。収率９９．９％（生成比Ａ：Ｂ＝９９．９：０．１）
実施例９
２−〔４−（２，６−ジフルオロフェニル）−チアゾール−２−イル〕−３−ヒドロキシ−３−（２−トリフルオロメチルフェニル）−アクリロニトリル２．５ｇトルエン８ｍｌと水１５ｍｌの混合物に、２，２−ジメチルペンタノイルクロリド１．１９ｇを添加し、トリエチルアミン０．７４ｇとγ−ピコリン０．１１ｇを含有するトルエン溶液７ｍｌを２５℃、２５分間で滴下し、さらに、２５〜３０℃で３０分間攪拌した後、反応液をＨＰＬＣで定量したところ、目的物３．１８ｇを含有していた。収率９９．７％（生成比Ａ：Ｂ＝８９：１１）
実施例１０
２−〔４−（２，６−ジフルオロフェニル）−チアゾール−２−イル〕−３−ヒドロキシ−３−（２−トリフルオロメチルフェニル）−アクリロニトリル１．９８ｇのクロロホルム１５ｍｌの混合物に、トリエチルアミン０．５９ｇ、２，２−ジメチルペンタノイルクロリド０．９４ｇを添加し、この混合物にγ−ピコリン０．０９ｇを１０〜１５℃にてを添加した。１０〜１５℃で５分間攪拌した後、反応液をＨＰＬＣで定量したところ、目的物２．４５ｇを含有していた。収率９６．８％（生成比Ａ：Ｂ＝９９．５：０．５）
実施例１１
２−〔４−（２，６−ジフルオロフェニル）−チアゾール−２−イル〕−３−ヒドロキシ−３−（２−トリフルオロメチルフェニル）−アクリロニトリル１．９８ｇのトルエン１５ｍｌの混合物に、トリエチルアミン０．５９ｇ、γ−ピコリン０．０９ｇを添加し、この混合物に２，２−ジメチルペンタノイルクロリド０．９４ｇを１０〜１５℃にてを滴下した。１０〜１５℃で３時間攪拌した後、反応液をＨＰＬＣで定量したところ、目的物２．５３ｇを含有していた。収率９９．９％（生成比Ａ：Ｂ＝９８．５：１．５）
比較例１
γ−ピコリンを用い無いことを除いて、他は実施例１０と同様にして反応を行った。反応液をＨＰＬＣで定量したところ、目的物１．７５ｇを含有していた。収率５４．８％（生成比Ａ：Ｂ＝８８：１２）
実施例１２
２−〔４−（２，６−ジフルオロフェニル）−チアゾール−２−イル〕−３−ヒドロキシ−３−（２−トリフルオロメチルフェニル）−アクリロニトリル１．９８ｇとトルエン１５ｍｌ、水５．５ｍｌおよび水酸化ナトリウム０．２０ｇの混合物に、２，２−ジメチルペンタノイルクロリド０．９４ｇを１０〜１５℃の範囲で添加し、ついで、同温度で、ベンジル−ｎ−ブチルアンモニウムクロリド（ＢＴＢＡＣ）０．３０ｇ、γ−ピコリン０．０９ｇを添加し、同温度で０．５時間攪拌した後、反応液をＨＰＬＣで定量したところ、目的物２．４５ｇを含有していた。収率９８．０％（生成比Ａ：Ｂ＝９６．６：３．４）
実施例１３
２−〔４−（２，６−ジフルオロフェニル）−チアゾール−２−イル〕−３−ヒドロキシ−３−（２−トリフルオロメチルフェニル）−アクリロニトリル１．９８ｇとトルエン１５ｍｌ及び水５ｍｌの混合物に、水酸化ナトリウム水溶液０．７１ｇ（ＮａＯＨを０．２０ｇ含有）、２，２−ジメチルペンタノイルクロリド０．９４ｇを１０〜１５℃の範囲で添加し、ついで、同温度で、トリエチルアミン０．１０ｇ、γ−ピコリン０．０９ｇを添加し、同温度で１時間攪拌した後、反応液をＨＰＬＣで定量したところ、目的物２．５３ｇを含有していた。収率１００％（生成比Ａ：Ｂ＝９８．２：１．８）
実施例１４
トリエチルアミンをトリ−ｎ−ブチルアミンに代えた以外は実施例１３と同様に反応した。反応液をＨＰＬＣで定量したところ、目的物２．５０ｇを含有していた。収率９９％（生成比Ａ：Ｂ＝９９．４：０．６）
実施例１５
水酸化ナトリウム水溶液０．６９ｇ（ＮａＯＨを０．１９４ｇ含む）、γ−ピコリン０．０４５ｇ、及びトリ−ｎ−ブチルアミン０．１８ｇおよびクロロホルム５ｍｌの混合物に、２−〔４−（２，６−ジフルオロフェニル）−チアゾール−２−イル〕−３−ヒドロキシ−３−（２−トリフルオロメチルフェニル）−アクリロニトリル１．９８ｇおよび２，２−ジメチルペンタノイルクロリド０．９４ｇをクロロホルム１０ｍｌに溶解した混合液を１０〜１５℃の範囲で滴下し、ついで同温度で１．５時間攪拌した後、反応液をＨＰＬＣで定量したところ、目的物２．５２ｇを含有していた。収率９９．９％（生成比Ａ：Ｂ＝９９．８：０．２）
実施例１６
水酸化ナトリウム０．２７ｇ、γ−ピコリン０．１２ｇ、およびトリ−ｎ−ブチルアミン０．２７ｇのクロロホルム２０ｍｌ及び水７ｍｌの混合物に、２−〔４−（２，６−ジフルオロフェニル）−チアゾール−２−イル〕−３−ヒドロキシ−３−（２−トリフルオロメチルフェニル）−アクリロニトリル２．５ｇおよび２，２−ジメチルペンタノイルクロリド１．２８ｇの混合液を１０〜１５℃の範囲で添加し、ついで同温度で１時間攪拌した後、反応液をＨＰＬＣで定量したところ、目的物３．１３ｇ含有していた。収率９８．１％（生成比Ａ：Ｂ＝９９：１）
実施例１７
水酸化ナトリウム水溶液０．９８ｇ（ＮａＯＨを０．２０ｇ含む）、γ−ピコリン０．０２３ｇ、およびトリ−ｎ−ブチルアミン０．０４５ｇおよびクロロホルム１０ｍｌの混合物に、２−〔４−（２，６−ジフルオロフェニル）−チアゾール−２−イル〕−３−ヒドロキシ−３−（２−トリフルオロメチルフェニル）−アクリロニトリル１．９８ｇおよび２，２−ジメチルペンタノイルクロリド０．９４ｇをクロロホルム１０ｍｌに溶解した混合液を１０〜１５℃の範囲で滴下し、ついで同温度で１．５時間攪拌した後、反応液をＨＰＬＣで定量したところ、目的物２．５２ｇを含有していた。収率１００％（生成比Ａ：Ｂ＝９９．５：０．５）
産業上の利用可能性：
本発明の製造方法を用いることで、短時間で収率よく、しかも立体選択的にエノール型化合物のＯ−アシル体等を製造することができ、これらの化合物は農医薬の中間体、または最終生成物として有用な化合物であり、本製造方法の産業上の利用価値は高いといえる。
【国際調査報告】
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