【事件の表示】
　特願２００８−１８９３２１「ディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材」拒絶査定不服審判事件〔平成２１年３月１２日出願公開、特開２００９−５５０１２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯・本願発明  
　本願は、平成２０年７月２３日（パリ条約による優先権主張２００７年８月２４日、大韓民国）の出願であって、平成２４年３月２３日付けで拒絶査定がなされ（発送日：同年３月２７日）、これに対し、同年７月２４日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに、その審判の請求と同時に手続補正（以下「本件補正」という。）がなされたものである。
　
　本件補正は、特許請求の範囲について、補正前（平成２３年８月９日付け手続補正）に、  
「【請求項１】
　一面に複数の楔形溝が形成され、前記楔形溝の内部が導電性物質で充填されている、ガラス基板または透明高分子樹脂からなる透明な基材と、
　ｉ）前記基材の少なくとも一枠領域に対応して形成された接地電極と、
　ｉｉ）前記接地電極と連結するように前記基材上に形成され、メッシュまたはストライプパターンを有する補助電極とを含む電極層と、
　前記電極層上にまたは前記基材と前記電極層との間に形成され、金属薄膜と金属酸化物薄膜が複数回積層された透明導電膜層と、
　を含み、
　前記補助電極は、線幅が１０〜１００μｍであり、ピッチが２〜１００ｍｍであることを特徴とするディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材。
　　【請求項２】
　前記補助電極は、カーボン、コバルト、および銅から成る群から選択された少なくとも１つの物質が含まれて黒化処理されたシルバーペーストで形成されたことを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材。」 
　とあったものを、  
　  
「【請求項１】
　一面に複数の楔形溝が形成され、前記楔形溝の内部が導電性物質で充填されている、ガラス基板または透明高分子樹脂からなる透明な基材と、
　ｉ）前記基材の少なくとも一枠領域に対応して形成された接地電極と、
　ｉｉ）前記接地電極と連結するように前記基材上に形成され、メッシュまたはストライプパターンを有する補助電極とを含む電極層と、
　前記電極層上にまたは前記基材と前記電極層との間に形成され、金属薄膜と金属酸化物薄膜が複数回積層された透明導電膜層と、
　を含み、
　前記補助電極は、線幅が１０〜１００μｍであり、ピッチが２〜１００ｍｍであり、
　前記補助電極は、カーボン、コバルト、および銅から成る群から選択された少なくとも１つの物質が含まれて黒化処理されたシルバーペーストで形成されたことを特徴とするディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材。」
　と補正するものである。
　
　補正前後の特許請求の範囲を比較すると、補正後の請求項１は補正前の請求項２であると認められるから、本件補正は、特許法第１７条の２第５項第１号に掲げる請求項の削除を目的とするものに該当する。
　
　そして、本願の請求項１に係る発明は、本件補正に係る手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりのものと認められる。 　
　　
第２　刊行物
　１　刊行物１
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用され、本願の優先権主張の日前に頒布された特開平１−１７００９８号公報（以下「刊行物１」という。）には、「電磁波遮蔽透明板」に関して、図面（特に、第３〜４図参照。）とともに、次の事項が記載されている。 
　  
（１）「［発明の解決しようとする問題点］
　本発明は、前述した様な欠点がなく、高い電磁波遮蔽性能を有し、かつ十分な太陽光の可視光域の透過性能を有するガラス等の透明材料、特に電磁波を遮蔽するビル、建物、部屋の窓や出入口などの開口部に使用するのに適した透明板を提供することを目的とする。
［問題点を解決するための手段］
　本発明は、前述の目的に基づき発明されたものであり、その要旨は、透明板であって、該透明板には透明性導電膜と導電性の格子パターンが形成されていることを特徴とする電磁波遮蔽透明体に関するものである。」（第２頁左下欄１行〜１３行）
　
（２）「［実施例］
　以下、本発明の実施例について、図面を参照しながら説明する。
第１，３，５，７，９〜１２図は、本発明に係る電磁波遮蔽透明板の横断面図であり、第２図は第１図の、第４図は第３図の、第６図は第５図の、第８図は第７図の電磁波遮蔽透明板の平面図を示す。図において、ｌは電磁波遮蔽透明板、２，３，４は透明板、５，６は透明性導電膜、７，８，９は導電性の格子パターン、１０は合せ中間膜、１１は複層用スペーサー、１２は内部中空層を示す。
　本発明のおける透明体としては、透明性、半透明性、着色透明性、又は着色半透明性のガラス板、あるいは各種プラスチック板が使用できる。中でも、ガラス板は光学的特性、耐久性などの点から好ましい。この透明板は、第１，３，５，７，９図の様に透明板２が１枚からなるものであってもよい」（第２頁左下欄１４行〜右下欄１２行）
　
（３）「本発明において、透明板に形成される透明性導電膜としては、例えば、透明性酸化錫導電膜（アンチモンやフッ素のドーピングされた酸化錫導電膜）や透明性酸化インジウム導電膜（錫のドーピングされた酸化インジウム導電膜）などのほか、Ｃｒ，Ｔｉ，Ａｇ，Ａｕ，Ａｌ，Ｃｕ，Ｎｉ等の透明性金属又は透明性合金などからなる単層薄膜タイプのもの、もしくは、これらの透明性金属を例えば、ＺｎＯ，ＳｎＯ２，Ｉｎ２Ｏ３，ＴｉＯ２，Ｂｉ２Ｏ３，Ｔａ２Ｏ３，ＷＯ３，ＺｎＳなどからなる薄膜で上下からサンドイッチ状に挟み込んでなる多層薄膜タイプのもの、例えばＴｉＯ２膜／Ａｇ膜／ＴｉＯ２膜、ＺｎＯ膜／Ａｇ膜／ＺｎＯ膜、ＳｎＯ２膜／Ａｇ膜／ＳｎＯ２膜などの３層タイプ、ＴｉＯ２膜／Ａｇ膜／ＴｉＯ２膜／Ａｇ膜／ＴｉＯ２膜、ＺｎＯ膜／Ａｇ膜／ＺｎＯ膜／Ａｇ膜／ＺｎＯ膜などの５層タイプやその他適宜の構成のものを用いることができる。」（第３頁左上欄７行〜右上欄３行）
　
（４）「本発明の透明板に形成される導電性の格子パターンとしては、電磁波が遮蔽される様に、導電性の優れた材料から形成された格子パターンが用いられる。この導電性の格子パターンは、例えばＡｇ，Ａｌ，Ａｕ，Ｃｕなどの金属粉末とバインダーとを含む導電性ペーストを所定の格子パターンにプリント印刷し、硬化あるいは焼付けて形成されたものや、Ａｌ箔やＮｉ箔を所定の格子パターンに貼り付けて形成されたものや、導電性金属からなる格子パターンが表面に、あるいは中間層に形成されたプラスチックフィルムを貼り付けて、あるいはサンドイッチして形成されたものなどが使用される。」（第４頁左上欄５行〜１７行）
　
（５）「各単位の格子の対角線の長い方の長さ（内寸法）は、所望の透光性、電磁波遮蔽性能、デザインなどの点から決定される。一般的には、対角線の長さは、それぞれ１ｃｍ〜３０ｃｍとするのが適当である。なお、３０ｃｍより大とすると低周波帯の電磁波遮蔽性能が低下するので好ましくなく、又１ｃｍより小となると格子パターンが密となって透視性、透光性の点から好ましくない。」（第４頁左下欄２行〜１０行）
　
（６）「第２，６図に示した例は、透明板としてガラス板を使用し、このガラス板面に単位格子の形状が正方形である格子パターンに銀ペーストをプリント印刷し、焼付けて導電性の格子パターンを形成したものであり、正方形の格子の対角線の長さをｌ０ｃｍ、格子パターンの膜厚を２０μｍ、線巾を１ｍｍとすることにより４００ＭＨｚ以下の電磁波を効果的に遮蔽できる様にしたものである。」（第４頁左下欄１７行〜右下欄４行）ここで、「正方形の格子の対角線の長さをｌ０ｃｍ」としたとき、格子の一辺（間隔）、すなわちピッチは約７１ｍｍである。
　
（７）「本発明の透明性導電膜と導電性の格子パターンの形成された電磁波遮蔽透明板において、透明性導電膜と格子パターンとは透明板の同一の面に重ねて形成してもよいし、透明板の異なる面にそれぞれ形成してもよい。又透明性導電膜と格子パターンとを積層して透明板に形成する場合には、どちらを上面にしてもよいが、格子パターンの上面に透明性導電膜を形成する場合、透明性導電膜の重なった部分の膜性能が劣化することがあるので、格子パターンを透明性導電膜の上面に形成するのが好ましい。
　本発明の電磁波遮蔽透明板において、透明性導電膜と導電性の格子パターンとは、重ねて形成した場合、導通状態としても構わないが、透明導電膜がより高周波数域の電磁波（例えば、１００〜１０００ＭＨｚを、又格子パターンが低周波数域の電磁波（例えば、４００ＭＨｚ以下）をそれぞれ効果的に遮蔽される様に、透明性導電膜と導電性の格子パターンとを非導通状態とするのがより好ましい。」（第５頁左上欄１行〜２０行）
　　
（８）「透明性導電膜及び電気導電性である格子パターンの少なくともいずれか一方には、これらに入射した電磁波がアースに落され、電磁波遮蔽性能が発揮される様に、アース用のアース接続端を設けることができる。透明性導電膜と格子パターンが非導通状態の場合には、それぞれ別々にアース接続端が設けられ、又導通状態の場合には、それぞれ別々にあるいはいずれか一方にアース接続端が設けられる。透明性導電膜及び／又は格子パターンにおいては、通常Ａｇ，Ａｌなど導電性金属粉末を含む導電性ペーストを透明性導電膜面上の適宜の周辺部に所定パターンをもってプリント印刷し、焼付け、あるいは硬化させてブスバーを形成したり、あるいは、所定パターンのＡｌ箔やＣｕ箔を貼り付けてブスバーを形成し、このブスバーの適宜の位置にアース接続端を設ける。」（第５頁右上欄１２行〜左下欄８行）
　
（９）「［作用及び効果］
　本発明によれば、透明板に透明性導電膜及び導電性の格子パターンが形成されているので、透明性導電膜と導電性の格子パターンの両方の作用により高い電磁波遮蔽効果が得られる。特に、透明性導電膜は、３００ＭＨｚ以上の高周波の電磁波の遮蔽性能が高く、又電気良導体である格子パターンは４００ＭＨｚ以下の低周波の電磁波の遮蔽性能が高いので、透明性導電膜と格子パターンの組合せ使用により、コンピューター、ワードプロセッサー、計測器類、ロボット類、その他各種デジタル技術を応用した電子機器類から周囲に放射する周波数域の電磁波、及びこれら種種の電子機器類や情報ネットワーク等に誤動作や悪影響を与える周波数域の電磁波、例えば１０ＭＨｚ〜１０００ＭＨｚ以上の広い帯域の電磁波を効果的に遮蔽することができる。」（第５頁右下欄１行〜１７行）
　
（１０）第３図及び第４図には、透明板２の上面全域に透明性導電膜５及び導電性の格子パターン７を積層することが示されており、上記（８）の「透明性導電膜と格子パターンが非導通状態の場合には、それぞれ別々にアース接続端が設けられ、又導通状態の場合には、それぞれ別々にあるいはいずれか一方にアース接続端が設けられる。透明性導電膜及び／又は格子パターンにおいては、通常Ａｇ，Ａｌなど導電性金属粉末を含む導電性ペーストを透明性導電膜面上の適宜の周辺部に所定パターンをもってプリント印刷し、焼付け、あるいは硬化させてブスバーを形成した」との記載と合わせみると、第３図及び第４図には、導電性の格子パターン７において、前記透明板２の周辺部に対応してブスバーが形成されることが記載されているといえる。
　
　これらの記載事項及び図面の図示内容を総合すると、刊行物１には、次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。  
　　  
「透明性のガラス板あるいは各種プラスチック板からなる透明板２と、
　ｉ）前記透明板２の周辺部に対応して形成されたブスバーと、
　ｉｉ）前記ブスバーと連結するように前記透明板２上に形成され、正方形である格子パターンとを含む導電性の格子パターン７と、
　前記透明板２と前記導電性の格子パターン７との間に形成され、例えばＴｉＯ２膜／Ａｇ膜／ＴｉＯ２膜、ＺｎＯ膜／Ａｇ膜／ＺｎＯ膜、ＳｎＯ２膜／Ａｇ膜／ＳｎＯ２膜などの３層タイプの透明性導電膜５と、
　を含み、
　前記格子パターンは、線巾が１ｍｍであり、ピッチが約７１ｍｍであり、
　前記格子パターンは、Ａｇの金属粉末とバインダーとを含む導電性ペーストで形成された電磁波遮蔽透明板。」
　
　２　刊行物２
　同じく、原査定の拒絶の理由に引用され、本願の優先権主張の日前に頒布された特開２００６−１８９８６７号公報（以下「刊行物２」という。）には、「ディスプレイ装置用フィルター及びこれを含んだディスプレイ装置」に関して、図面（特に、図１〜２参照。）とともに、次の事項が記載されている。 
　  
（１）「【００２１】
　以下、本発明の実施形態を図１〜図７Ｂを参照して説明する。
【００２２】
　図１は、本発明の一実施形態に係るＰＤＰ装置を示す分解斜視図である。　図１に示すように、ＰＤＰ装置１００は、ケース１１０と、ケース１１０の上部を覆うカバー１５０と、駆動回路基板１２０と、ガス放電現象が起こる放電セルを含むパネルアセンブリー１３０と、ＰＤＰフィルター１４０と、を備える。ＰＤＰフィルター１４０は、透明基板上に導電性に優れた材料で形成された導電層が備えられ、この導電層はカバー１５０を通じてケース１１０に接地される。すなわち、パネルアセンブリー１３０から発生された電磁波が視聴者に到達する前に、これをＰＤＰフィルター１４０の導電層を通じてカバー１５０とケース１１０に接地させる。
【００２３】
　まず、電磁波、近赤外線、外部環境光などを遮蔽するＰＤＰフィルター１４０について説明し、その後、ＰＤＰフィルター１４０とパネルアセンブリー１３０とを備えるＰＤＰ装置１００について説明する。なお、ＰＤＰフィルターは、電磁波、近赤外線、外部環境光などを複数遮蔽するものであってもよく、また、電磁波、近赤外線、外部環境光などの反射を防止するものであってもよい。
【００２４】
　図２は、本発明の一実施形態に係るＰＤＰフィルターを示す断面図である。
　図２に示すように、ＰＤＰフィルター２００は、フィルターベース２７０及び外光遮蔽層２３０を含む。
【００２５】
　フィルターベース２７０は、透明基板２１０、電磁波遮蔽層２２０及び反射防止層２５０が順序に関係なく積層されて形成される。以下、本発明の実施形態では、電磁波遮蔽機能、反射防止機能に対応する層がそれぞれ別個のこととして分離して説明するが、本発明はこれに限定されることではない。すなわち、本発明の一実施形態によるフィルターベース２７０は、一つ又はその以上の層から構成でき、各層は電磁波遮蔽機能、反射防止機能又はこれらを組み合わせた機能を有することができる。また、フィルターベース２７０は、前述した電磁波遮蔽機能、反射防止機能又はこれらを組み合わせた機能を全て有しても良く、このうちのいずれか一つのみを有しても良い。
【００２６】
　ＰＤＰフィルター２００は、フィルターベース２７０の一面に外光遮蔽層２３０を備えることができる。図２に示す外光遮蔽層２３０は、フィルターベース２７０のパネルアセンブリー側の面、すなわちＰＤＰフィルター２００がＰＤＰ装置に装着されたときに視聴者側と反対側面に配置されているが、本発明はこれに限定されなく、フィルターベース２７０の他面に外光遮蔽層２３０が配置される場合にも同一な作用及び効果を得ることができる。
【００２７】
　外光遮蔽層２３０は、支持体２３２、支持体２３２の一面に形成された基盤（ｍａｔｒｉｘ）２３４及び基盤２３４内に形成されて外部からパネルアセンブリーへ流入される外部環境光を遮断する多数の楔形ブラックストライプ２３６を含む。
【００２８】
　ここで、楔形ブラックストライプ２３６が形成された基盤２３４は、直接フィルターベース２７０に形成しても良いが、図２に示すように支持体２３２に基盤２３４を形成した後、フィルターベース２７０と結合できる。支持体２３２は、楔形ブラックストライプ２３６が形成された基盤２３４を支持する役割を果たす。図２に示す実施形態では、基盤２３４とフィルターベース２７０の一面が支持体２３２を媒介に結合しているが、本発明はこれに限定されない。すなわち、支持体２３２は、基盤２３４を支持する役割を目的とするので、外光遮蔽層２３０がフィルターベース２７０の他面に配置される場合、基盤２３４とフィルターベース２７０が直接結合しても良い。
【００２９】
　本発明の一実施形態において、支持体２３２は紫外線透過性を有する透明な樹脂フィルムが好ましい。支持体２３２の材質としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰｏｌｙＥｔｈｙｌｅｎｅ  Ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ；ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰｏｌｙＣａｒｂｏｎａｔｅ；ＰＣ）、ポリ塩化ビニール（ＰＶＣ）などが使用できる。勿論、支持体２３２の代わりにフィルターの固有機能を有した膜、例えば、反射防止層２５０又は電磁波遮蔽層２２０などを使用できる。
【００３０】
　そして、楔形ブラックストライプ２３６は、断面が楔形状であり、パネルアセンブリー（図示せず）に対向する基盤２３４の一面に並列に形成されて外部環境光がパネルアセンブリーの内部に流入されることを防止する役割を果たす。
【００３１】
　基盤２３４は、紫外線硬化性樹脂で形成され、楔形ブラックストライプ２３６は光を吸収できる黒色無機物、黒色有機物及び黒色金属のうち少なくとも１つから形成できる。また、基盤２３４は、透明樹脂材質からなる。特に、金属の場合には、電気伝導度が大きく、すなわち電気抵抗が低いので、金属粉末を添加して楔形ブラックストライプ２３６を形成する場合、金属粉末の濃度による電気抵抗の調節が可能であるので、楔形ブラックストライプ２３６は、電磁波遮蔽機能をも有することとなる。ひいて表面が黒く処理された金属又は黒色の金属を使用する場合、外光遮蔽機能及び電磁波遮蔽機能を効率的に実現できる。また、楔形ブラックストライプ２３６としては、炭素を含む紫外線硬化性樹脂を使用できる。基盤２３４に楔形ブラックストライプ２３６を形成する方法は次の通りである。
【００３２】
　支持体２３２の一面に紫外線硬化性樹脂から構成された基盤２３４を塗布した後、楔形ブラックストライプ２３６と反対形状が表面に形成されているブラックストライプ成型用ロール（図示せず）の間にこの支持体２３２を通過させる。したがって、支持体２３２の一面に基盤２３４にブラックストライプ成型用ロールの形状が転写され、その後この基盤２３４に紫外線を照射して硬化させて最終的に楔形溝が形成された基盤２３４に成型される。そして、基盤２３４に形成された楔形溝に炭素を含む紫外線硬化性樹脂を供給した後、紫外線を照射して硬化させて楔形ブラックストライプ２３６を完成できる。
【００３３】
　本発明は、こうした楔形ブラックストライプ２３６の成型方法に限定されることではなく、熱可塑性樹脂を用いた熱プレス法や楔形ブラックストライプ２３６と反対形状が転写された基盤２３４内に熱可塑性又は熱硬化性樹脂を充填して成型する射出成型法などを用いることができる。また、基盤２３４を構成する紫外線硬化性樹脂が反射防止機能、電磁波遮蔽機能、色調節機能又はこれらを組み合わせた機能を有している場合、外光遮蔽層２３０は付加的にこうした機能を遂行しても良い。」
　
（２）「【００７１】
　本発明の一実施形態で電磁波遮蔽層２２０として透明導電膜を使用する場合、導電性メッシュフィルムを使用する場合より電磁波遮蔽能が落ちることができるが、楔形ブラックストライプ２３６に金属粉末を添加して電磁波遮蔽能を補完又は強化する場合、透明導電膜としても十分な電磁波遮蔽機能を実現できる。」
　
第３　対比
　本願発明と引用発明とを対比すると、後者の「透明性のガラス板あるいは各種プラスチック板」は前者の「ガラス基板または透明高分子樹脂」に相当し、以下同様に、「透明板２」は「透明な基材」に、「前記透明板２の周辺部」は「前記基材の少なくとも一枠領域」に、「ブスバー」はアース接続端が設けられるから「接地電極」に、「正方形である格子パターン」は「メッシュを有する補助電極」に、「導電性の格子パターン７」は「電極層」に、「前記透明板２と前記導電性の格子パターン７との間に形成され」は「前記基材と前記電極層との間に形成され」に、「例えばＴｉＯ２膜／Ａｇ膜／ＴｉＯ２膜、ＺｎＯ膜／Ａｇ膜／ＺｎＯ膜、ＳｎＯ２膜／Ａｇ膜／ＳｎＯ２膜などの３層タイプの透明性導電膜５」は「金属薄膜と金属酸化物薄膜が複数回積層された透明導電膜層」に、「線巾」は「線幅」に、「Ａｇの金属粉末とバインダーとを含む導電性ペースト」は「シルバーペースト」に、「電磁波遮蔽透明板」は「電磁波遮蔽部材」にそれぞれ相当する。
　
　したがって、両者は、  
「ガラス基板または透明高分子樹脂からなる透明な基材と、
　ｉ）前記基材の少なくとも一枠領域に対応して形成された接地電極と、
　ｉｉ）前記接地電極と連結するように前記基材上に形成され、メッシュを有する補助電極とを含む電極層と、
　前記基材と前記電極層との間に形成され、金属薄膜と金属酸化物薄膜が複数回積層された透明導電膜層と、
　を含み、
　前記補助電極は、シルバーペーストで形成された電磁波遮蔽部材。」
　である点で一致し、以下の点で相違している。 
　 
〔相違点〕 
　本願発明の電磁波遮蔽部材は、「ディスプレイ装置用」であって、透明な基材に「一面に複数の楔形溝が形成され、前記楔形溝の内部が導電性物質で充填されて」おり、前記補助電極は、「線幅が１０〜１００μｍであり、ピッチが２〜１００ｍｍ」であり、前記補助電極を形成するシルバーペーストが「カーボン、コバルト、および銅から成る群から選択された少なくとも１つの物質が含まれて黒化処理され」ているのに対し、
　引用発明の電磁波遮蔽透明板は、用途が特定されておらず、透明板２が楔形溝を備えず、格子パターンの線巾が１ｍｍであり、ピッチが約７１ｍｍであり、格子パターンを形成する導電性ペーストが黒化処理されているか否か不明である点。
　
第４　当審の判断
　相違点について検討する。
　１　用途について　
　刊行物１には、用途に関して、電磁波を遮蔽するビル、建物、部屋の窓や出入口などの開口部に使用することが記載されているが（前記「第２の１（１）」）、その他に、引用発明がコンピューター、その他各種デジタル技術を応用した電子機器類から周囲に放射する周波数域の電磁波、例えば１０ＭＨｚ〜１０００ＭＨｚ以上の広い帯域の電磁波を効果的に遮蔽することができるとの記載もある（前記「第２の１（９）」）。
　
　また、本願の優先権主張の日前に、高い電磁波遮蔽性能及び可視光域の透過性能が求められる物品の一つとしてディスプレイ装置があり、窓用のシールド部材を転用して電磁波の遮蔽ができることは、周知の技術事項（例えば、特開平９−２８３９７７号公報の段落【００１３】の「例えば電子機器に付属している液晶表示画面における電磁波シールド用やシールドルームの窓ガラスにおける電磁波シールド用などとして用いるのに適するようにシート状に形成する場合の例で、その断面構造を模式化して示す図１に見られるように、基材層１、導電層である薄膜層２、保護層３、及び接地用端子層４とからなるシート状の構造とする。」との記載、同段落【００２４】の「例えば電子機器に付属している液晶表示画面やシールドルームの窓などのように実質的に透明であるような高い透光性を求められる部分の電磁波シールドを効果的に行なう」との記載参照。）である。
　
　そうすると、引用発明を、刊行物１に記載された事項及び前記周知の技術事項に基づいて、「ディスプレイ装置用」に用いることは、当業者が容易に想到し得たことである。
　
　２　楔形溝について
　刊行物２には、プラズマディスプレイパネル装置（ＰＤＰ装置）において、基盤２３４の一面に断面が楔形状の多数の楔形ブラックストライプ２３６を並列に設けること（前記「第２の２（１）」の段落【００２２】ないし段落【００３０】）、当該基盤２３４は透明樹脂材質からなり、楔形ブラックストライプ２３６を形成する際に表面が黒く処理された金属又は黒色の金属を使用すると外光遮蔽機能及び電磁波遮蔽機能を効率的に実現できること（前記「第２の２（１）」の段落【００３１】）、ＰＤＰフィルターの電磁波遮蔽層２２０として透明導電膜を使用すると電磁波遮蔽能が低下するが、楔形ブラックストライプ２３６に金属粉末を添加することで電磁波遮蔽能を補完又は強化できること（前記「第２の２（２）」の段落【００７１】）が記載されている。
　
　これらの記載によれば、刊行物２の楔形ブラックストライプは、引用発明の格子パターンと、電磁波を遮蔽する透明性導電膜の電磁波遮蔽性能を補完又は強化するという機能を有する点で共通し、また、刊行物２の基盤２３４は、引用発明の透明板２と、透明樹脂材質からなる点でも共通する。
　
　そうすると、引用発明の透明板２に刊行物２の楔形ブラックストライプを設けて「一面に複数の楔形溝が形成され、前記楔形溝の内部が導電性物質で充填され」るようにして、透明性導電膜の電磁波遮蔽性能を強化することは、当業者が容易に想到し得たことである。
　
　３　黒化処理について
　本願発明は、補助電極を形成するシルバーペーストにカーボン、コバルト、および銅から成る群から選択された少なくとも１つの物質が含まれて黒化処理を行うことによって、「黒化処理を行わない場合には、伝導性金属粒子として用いた銀や銅などの色相がそのまま表れるようになるため、ブラック物質を微量添加することによって色相が補正され、画面の反射率を減少して視認性を良くする」（本願明細書の段落【００３８】）ものである。
　
　本願の優先権主張の日前に、プラズマディスプレイパネルからの電磁波を遮蔽する導電性パターンを形成するインキが銀粒子を含有し、カーボンブラックのような黒色化剤を添加することは、周知の技術事項（例えば、特開２００４−２７７６８８号公報の段落【０００１】及び段落【０００２】の「本発明は、電磁波シールド材の製造等に用いられるインキに関するものである。また、本発明は、電磁波シールド材とその製造方法に関するものである。電磁波シールド材は、例えば、プラズマディスプレイパネル等のディスプレイから漏洩する電磁波を遮蔽するために、ディスプレイに装着される前面板に使用され、通常、透明基材上に導電性パターンを形成させたものが広く用いられている。そして、この導電性パターンを形成させる方法の１つとして、金属粒子を含有するインキの印刷により、透明基材上に金属粒子を含有する樹脂組成物パターンを形成した後、そのパターンの上にメッキにより金属層を形成させることが知られている。」との記載、同段落【００１０】の「本発明は、バインダー樹脂成分、および該樹脂成分１００重量部に対して、平均粒径１μｍ以下の銀粒子０．１〜２５０重量部を含有するインキに係るものである。」との記載、並びに同段落【００２８】及び段落【００２９】の「本発明のインキには、印刷品位、生産性、チキソトロピー性等の向上のために、必要に応じて、前記の銀粒子、バインダー樹脂成分および溶剤以外に、添加剤が含まれていてもよい。この添加剤としては、例えば、カーボンブラック、酸化鉄のような黒色化剤・・・が挙げられる。特に本発明のインキを電磁波シールド材の製造に使用する場合には、インキの印刷により形成される樹脂組成物パターンが黒色であることが好ましいため、黒色化剤、特にカーボンブラックをインキに含有させるのが望ましい。このカーボンブラックの使用量は、バインダー樹脂成分１００重量部に対して、通常１〜２００重量部であり、またカーボンブラックの粒径は、平均で通常１０〜１００ｎｍである。」との記載参照。）である。
　
　引用発明をディスプレイ装置用に用いるに際して、その「Ａｇの金属粉末とバインダーとを含む導電性ペースト」からの反射を抑制し画質を向上させることは、普通の技術的課題であるから、前記周知の技術事項を適用して、引用発明の「Ａｇの金属粉末とバインダーとを含む導電性ペースト」を「カーボン、コバルト、および銅から成る群から選択された少なくとも１つの物質が含まれて黒化処理」されたものとすることは、当業者が容易に想到し得たことである。
　
　４　補助電極の線幅及びピッチについて
　本願発明は、補助電極の線幅が１０〜１００μｍであり、ピッチが２〜１００ｍｍであることによって、「パネルアセンブリからの入射光を外部に放出するときに、ディスプレイの鮮明な画質のためには、可視領域Ｂの開口率を向上させ、モアレ現象を抑制しなければならない。このために、補助電極の線幅Ｈ１を制限する必要がある。線幅Ｈ１が広すぎれば、可視領域Ｂの開口率が小くなり、パネルアセンブリからの入射光が画面に放出する量が少なくなるため、透視性が低下するようになる。また、線幅Ｈ１が狭すぎれば、均一な線幅を有する補助電極を製作することが容易ではない。したがって、本発明において、ガラス基板１２０上に形成された補助電極１６０の線幅Ｈ１は１０〜１００μｍであり、好ましくは２０〜３０μｍである。また、互いに隣接した補助電極１６０間のピッチＨ２は、２〜１００ｍｍである。既存のメッシュタイプの電磁波遮蔽層において、エッチングメッシュの場合には線幅が１２μｍ内外であり、メッシュ線間の間隔、すなわち、ピッチ（ｐｉｔｃｈ）は２５０〜３００μｍが一般的である。しかしながら、本発明では、透明導電膜層の補助電極として用いられるため、数ｍｍ〜数十ｍｍ程度の間隔を有する。このように、補助電極１６０のピッチＨ２が広いため、線幅Ｈ１が相対的に広くても視聴者の目には見えないようになる。」（本願明細書の段落【００４１】及び段落【００４２】）ものである。
　
　一方、引用発明は、格子パターンが線巾を１ｍｍでありピッチが約７１ｍｍであるが、刊行物１に「各単位の格子の対角線の長い方の長さ（内寸法）は、所望の透光性、電磁波遮蔽性能、デザインなどの点から決定される。・・・３０ｃｍより大とすると低周波帯の電磁波遮蔽性能が低下するので好ましくなく、又１ｃｍより小となると格子パターンが密となって透視性、透光性の点から好ましくない。」（第２の１（５））との記載があるように、格子パターンは、相反する関係にある透視性及び電磁波遮蔽性能が適切なものとなるよう定めるものである。
　
　また、本願の優先権主張の日前に、銀を含む導電性インクによって電磁遮蔽シールドの格子パターンを形成するにあたって、格子パターンの線幅を十数μｍないし数百μｍとすることは、周知の技術事項（例えば、前掲特開２００４−２７７６８８号公報の段落【００４２】及び段落【００４３】の「実施例２　実施例１と同じグラビアインキ１００部に、実施例１と同じＡｇペースト５．２部を添加して、印刷インキ（２）を作製した。このインキ（２）の銀の含有量は、バインダー樹脂成分１００部に対し５．２〜１５．６部と計算される。このインキ（２）を、幅約１８μｍで深さ約１０μｍの溝が１インチ（２．５４ｃｍ）当たり１００本の間隔（約２５４μｍ間隔）で格子状に刻まれた円筒状のグラビア凹版を用いて、グラビア印刷法により、印刷速度４２ｍ／ｍｉｎにて、実施例１と同じポリエステルフィルム上に格子状に印刷した後、インキ中の溶剤を蒸発除去した。得られた印刷物には、樹脂組成物パターンの印刷ムラが見られず、また該パターンは基材のポリエステルフィルムから剥がれ難いものであった。」との記載、同段落【００４７】及び段落【００４９】の「実施例４　４−アクリロイルモルフォリン、ジエチレングリコールエチルエーテルアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、イソホロンジイソシアネート系ウレタンアクリレート、およびｏ−ベンゾイル安息香酸メチル（重合開始剤）からなる紫外線硬化型のラジカル重合性混合物に、実施例１と同じＡｇペーストと、実施例３と同じカーボンブラックを添加して、上記混合物１００部に対し、平均粒径４．３ｎｍの銀粒子および平均粒径２４ｎｍのカーボンブラックをそれぞれ下記の割合で含有する印刷インキ（８）〜（１１）を作製した。インキ（８）：  銀粒子４部、  カーボンブラック  ９部。インキ（９）：  銀粒子２部、  カーボンブラック１０部。インキ（１０）：銀粒子２部、  カーボンブラック  ２部。インキ（１１）：銀粒子２部、  カーボンブラック２９部。これらのインキ（８）〜（１１）をそれぞれ、幅約１５μｍで深さ約５μｍの溝が１インチ（２．５４ｃｍ）当たり１３０本の間隔（約１９５μｍ間隔）で格子状に刻まれたガラス製の凹版を用いて、グラビアオフセット印刷法により、実施例１と同じポリエステルフィルム上に格子状にグラビアオフセット印刷した後、高圧水銀ランプ（ウシオ電機製ＵＶＣ−３５３３）を用いて、約１２０ｍＷ／ｃｍ２、４８０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、インキを硬化させた。得られた印刷物には、樹脂組成物パターンの印刷ムラが見られず、また該パターンは基材のポリエステルフィルムから剥がれ難いものであった。」との記載、前掲特開平９−２８３９７７号公報の段落【００２０】及び段落【００２１】の「網状層７は、例えば上述した接地用端子層４と同様に銀粉をインクベース混入させた導電性インクを用い、この導電性インクをスクリーン印刷法で例えば格子縞パターンに塗布して形成する。なお基材層１、保護層３、接地用端子層４及び粘着層５は第１の実施形態におけると同様であるので説明を省略する。本実施形態における透光性電磁波シールド体は、網状層７の格子縞パターンにおける線Ｌの幅を０．２ｍｍ、線Ｌの厚みを２０μｍ、線Ｌの間隔��を０．５ｍｍとした場合の一つのデータ例によると、例えば１ＭＨｚ〜１０００ＭＨｚの電磁波までほぼ均一的に４０デシベル強のシールド効果を持っている。」との記載、並びに同段落【００２２】及び段落【００２３】の「本発明の第３の実施形態による透光性電磁波シールド体は、同じくシート状に形成する場合の例で、その断面構造を示す図３に見られるように、その導電層を薄膜層１０と網状層１１の組み合わせで形成する。これら薄膜層１０と網状層１１は第１及び第２の各実施形態におけるのと同様に形成する。その他の構造は上記各実施形態と同様であるので説明を省略する。本実施形態における透光性電磁波シールド体は、網状層１１の格子縞パターンにおける線Ｌの幅を０．３ｍｍ、線Ｌの厚みを２５μｍ、線Ｌの間隔Ｗを１０ｍｍとした場合の一つのデータ例によると、例えば３ＭＨｚの電磁波に対し６０デシベル強程度のシールド効果を持ち、１０００ＭＨｚの電磁波では３０デシベル程度となる点では第１の実施形態のそれと同様であるが、３ＭＨｚ〜１００ＭＨｚの範囲の電磁波については第２の実施形態のそれと同様にほぼ均一的なシールド効果を持っている。」との記載参照。）である。
　
　そして、本願明細書及び図面からみて、本願発明が、補助電極が「線幅が１０〜１００μｍであり、ピッチが２〜１００ｍｍ」であることによって臨界的効果を生じているとはいえないから、引用発明に刊行物２の楔形ブラックストライプを組み合わせるに際して、前記周知の技術事項を適用して、その格子パターンを適切に調整し、補助電極の「線幅が１０〜１００μｍであり、ピッチが２〜１００ｍｍ」とすることは、当業者が容易になし得た設計変更である。
　
　５　効果について
　全体としてみても、本願発明が奏する効果は、引用発明、刊行物１及び２に記載された事項、並びに前記周知の技術事項から、当業者が予測できる範囲内のものであって、格別なものでない。
　
　したがって、本願発明は、引用発明、刊行物１及び２に記載された事項、並びに前記周知の技術事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　　 
第５　むすび  
　本願発明は、引用発明、刊行物１及び２に記載された事項、並びに前記周知の技術事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。  
　  
　したがって、本願は拒絶をすべきものである。  
　  
　よって、結論のとおり審決する。