(57)【要約】本発明のボンド磁石は、平均粒径および配合比が特定された、界面活性剤で表面被覆されたＲ１ＦｅＢ系粗粉末と、界面活性剤で表面被覆されたＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末とバインダである樹脂とで構成されてなる（Ｒ１、Ｒ２は希土類元素である）。Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末の周囲がＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末の均一に分散した樹脂によって囲繞されるため、Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末はＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末および樹脂がクッションとなって劣化等しない。その結果、Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末は本来の優れた磁気特性を発現し、磁気特性および永久減磁率に優れたボンド磁石が得られた。
2003085684.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イットリウム（Ｙ）を含む希土類元素（以下、「Ｒ１」と称する。）と鉄（Ｆｅ）とホウ素（Ｂ）とを主成分とするＲ１ＦｅＢ系合金に水素化処理を施して得られた平均粒径が５０〜４００μｍであるＲ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末と該Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末の構成粒子の表面を被覆する第１界面活性剤とからなるＲ１ＦｅＢ系粗粉末が５０〜８４質量％（ｍａｓｓ％）と、
Ｙを含む希土類元素（以下、「Ｒ２」と称する。）とＦｅと窒素（Ｎ）またはＢとを主成分とする平均粒径が１〜１０μｍであるＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末と該Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末の構成粒子の表面を被覆する第２界面活性剤とからなるＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末が１５〜４０ｍａｓｓ％と、
バインダである樹脂が１〜１０ｍａｓｓ％とからなり、
最大エネルギー積（ＢＨ）ｍａｘが１６７〜２２３ｋＪ／ｍ３であり、
１００℃で１０００時間経過後に再着磁して得られる磁束の減少割合を示す永久減磁率が６％以下であることを特徴とする複合希土類異方性ボンド磁石。
【請求項２】
前記Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末または前記Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末の少なくとも一方は、全体を１００ａｔ％としたときに、ジスプロシウム（Ｄｙ）、テルビウム（Ｔｂ）、ネオジム（Ｎｄ）またはプラセオジム（Ｐｒ）の少なくとも一種以上の希土類元素（以下、「Ｒ３」という。）を０．０５〜５ａｔ％含有する請求の範囲第１項に記載の複合希土類異方性ボンド磁石。
【請求項３】
前記Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末または前記Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末の少なくとも一方は、全体を１００ａｔ％としたときにランタン（Ｌａ）を０．０１〜１ａｔ％含有する請求の範囲第１項に記載の複合希土類異方性ボンド磁石。
【請求項４】
Ｒ１とＦｅとＢとを主成分とするＲ１ＦｅＢ系合金に水素化処理を施して得られた平均粒径が５０〜４００μｍであるＲ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末の構成粒子の表面を第１界面活性剤で被覆してなるＲ１ＦｅＢ系粗粉末が５０〜８４ｍａｓｓ％と、Ｒ２とＦｅとＮまたはＢとを主成分とする平均粒径が１〜１０μｍであるＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末の構成粒子の表面を第２界面活性剤で被覆してなるＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末が１５〜４０ｍａｓｓ％と、バインダである樹脂が１〜１０ｍａｓｓ％とからなる混合物を、該樹脂の軟化点以上の温度に加熱すると共に該樹脂を軟化状態または溶融状態としつつ配向磁場を印加して該Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末および該Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末をを配向させる加熱配向工程と、
該加熱配向工程後の混合物を加熱加圧成形する成形工程とからなり、
該Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末の構成粒子間に該Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末および該樹脂が均一に充填されてなる複合希土類異方性ボンド磁石が得られることを特徴とする複合希土類異方性ボンド磁石の製造方法。
【請求項５】
前記混合物は、前記Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末の構成粒子の表面が、前記樹脂中に前記Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末が均一分散した被覆層で被覆されたコンパウンドからなる請求の範囲第４項に記載の複合希土類異方性ボンド磁石の製造方法。
【請求項６】
前記コンパウンドは、前記Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末と前記Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末と前記樹脂とを該樹脂の軟化点以上の温度で加熱混練する加熱混練工程を経て得られる請求の範囲第５項に記載の複合希土類異方性ボンド磁石用コンパウンドの製造方法。
【請求項７】
前記混合物は、前記コンパウンドを成形型のキャビティへ充填し加圧成形した予備成形体からなる請求の範囲第５項に記載の複合希土類異方性ボンド磁石の製造方法。
【請求項８】
前記樹脂は、熱硬化性樹脂であり、
前記加熱配向工程は、該熱硬化性樹脂の硬化点以上の温度で加熱してなされる請求の範囲第４項に記載の複合希土類異方性ボンド磁石の製造方法。
【請求項９】
Ｒ１とＦｅとＢとを主成分とするＲ１ＦｅＢ系合金に水素化処理を施して得られた平均粒径が５０〜４００μｍであるＲ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末と該Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末の構成粒子の表面を被覆する第１界面活性剤とからなるＲ１ＦｅＢ系粗粉末が５０〜８４質量％（ｍａｓｓ％）と、
Ｒ２とＦｅとＮまたはＢとを主成分とする平均粒径が１〜１０μｍであるＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末と該Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末の構成粒子の表面を被覆する第２界面活性剤とからなるＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末が１５〜４０ｍａｓｓ％と、
バインダである樹脂が１〜１０ｍａｓｓ％とからなり、
前記Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末の構成粒子の表面が、前記樹脂中に前記Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末が均一分散した被覆層で被覆されていることを特徴とする複合希土類異方性ボンド磁石用コンパウンド。
【請求項１０】
成形温度１５０℃、磁場２．０ＭＡ／ｍ、成形圧力３９２ＭＰａの条件下で加熱磁場成形した際に得られるボンド磁石の相対密度が９２〜９９％となる請求の範囲第９項に記載の複合希土類異方性ボンド磁石用コンパウンド。
【請求項１１】
前記Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末または前記Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末の少なくとも一方は、全体を１００ａｔ％としたときに、Ｄｙ、Ｔｂ、ＮｄまたはＰｒの少なくとも一種以上の希土類元素（Ｒ３）を０．０５〜５ａｔ％含有する請求の範囲第９項に記載の複合希土類異方性ボンド磁石用コンパウンド。
【請求項１２】
前記Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末または前記Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末の少なくとも一方は、それぞれの全体を１００ａｔ％としたときにＬａを０．０１〜１ａｔ％含有する請求の範囲第９項に記載の複合希土類異方性ボンド磁石用コンパウンド。
【請求項１３】
Ｒ１とＦｅとＢとを主成分とするＲ１ＦｅＢ系合金に水素化処理を施して得られた平均粒径が５０〜４００μｍであるＲ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末の構成粒子の表面を第１界面活性剤で被覆してなるＲ１ＦｅＢ系粗粉末を５０〜８４ｍａｓｓ％と、Ｒ２とＦｅとＮまたはＢとを主成分とする平均粒径が１〜１０μｍであるＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末の構成粒子の表面を第２界面活性剤で被覆してなるＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末を１５〜４０ｍａｓｓ％と、バインダである樹脂を１〜１０ｍａｓｓ％とを混合する混合工程と、
該混合工程後に得られた混合物を該樹脂の軟化点以上の温度で加熱混練する加熱混練工程とからなり、
前記Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末の構成粒子の表面が、前記樹脂中に前記Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末が均一分散した被覆層で被覆されたコンパウンドが得られることを特徴とする複合希土類異方性ボンド磁石用コンパウンドの製造方法。
【請求項１４】
請求の範囲第４〜８項のいずれかに記載した複合希土類異方性ボンド磁石の製造方法によって得られることを特徴とする複合希土類異方性ボンド磁石。
【請求項１５】
請求の範囲第１３項に記載した複合希土類異方性ボンド磁石用コンパウンドの製造方法によって得られることを特徴とする複合希土類異方性ボンド磁石用コンパウンド。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、磁気特性に優れると共にその経時変化が非常に少ない複合希土類異方性ボンド磁石と、それに用いるコンパウンドおよびそれらの製造方法に関するものである。
背景技術
硬質磁石（永久磁石）は、モータ等の各種機器に利用されている。中でも、小型で高出力が要求される車両モータ等への需要要求が強い。このような硬質磁石は、高性能な磁気特性を有することは勿論、モータ等の信頼性を確保する観点から、その経時変化が少ないことが求められている。
高い磁気特性という観点から、現在では、希土類元素（Ｒ）とホウ素（Ｂ）と鉄（Ｆｅ）とからなるＲＦｅＢ系の希土類磁石の開発が盛んに行われている。このようなＲＦｅＢ系希土類磁石として、例えば、米国特許４８５１０５８号公報（以下、「従来技術１」という。）、米国特許５４１１６０８号公報（以下、「従来技術２」という。）に、磁気等方性を有するＲＦｅＢ系磁石合金（組成物）が開示されている。
ところが、この希土類磁石は、その主成分である希土類元素やＦｅの酸化等により劣化し易く、その高い磁気特性を安定的に確保することは難しい。特に、室温以上で希土類磁石を使用する場合、その磁気特性が急激に低下する傾向にある。このような磁石の経時変化は、通常、永久減磁率（％）により定量的に指標されるが、従来の希土類異方性磁石の場合、この永久減磁率が１０％を超えるものがほとんどであった。この、永久減磁率は、高温（１００℃または１２０℃）下で長時間（１０００時間）経過した後に、再着磁しても復元しない磁束の減少割合である。
最近では、大小粒径を有する２種の希土類磁石粉末（以下、単に「磁粉」と適宜いう。）とバインダである樹脂とを混合して加圧成形した希土類ボンド磁石（以下、単に「ボンド磁石」と適宜いう。）が提案されている。この場合、大粒径の磁粉により形成された隙間に小粒径の磁粉が入り、全体として充填率（相対密度）が向上する。磁石の密度増加による磁気特性の向上は勿論、そこへの酸素や水分の侵入が抑制されて、磁石の耐候性や耐熱性が向上する。このようなボンド磁石に関する開示は、次に挙げるような公報になされている。
（１）特開平５−１５２１１６号公報（以下、「公報１」という。）
この公報には、Ｎｄ２Ｆｅ１４Ｂ合金からなる粒径５００μｍ以下の磁粉（以下、適宜「ＮｄＦｅＢ系合金粉末」という。）と、Ｓｍ２Ｆｅ１７Ｎ合金からなる粒径５μｍ以下の磁粉（以下、適宜「ＳｍＦｅＮ系合金粉末」という。）とを種々の割合で混合した混合粉末に、バインダーであるエポキシ樹脂を添加して、加圧成形し、熱硬化させたボンド磁石が開示されている。
この場合、Ｎｄ２Ｆｅ１４Ｂ合金を単に微粉砕してしまうとその特性が低下することと、Ｓｍ２Ｆｅ１７Ｎ合金がもともと単軸粒子の保磁力機構を有するものであることを考慮して、混合する粉末の粒径がそれぞれ定められている。そして、粗いＮｄＦｅＢ系合金粉末の粒子間にできた隙間を、細かいＳｍＦｅＮ系合金粉末が埋めることで、全体的に充填率が向上し、高い磁気特性（最大エネルギー積（ＢＨ）ｍａｘ：１２８ｋＪ／ｍ３）のボンド磁石を得ている。
（２）特開平６−１３２１０７号公報（以下、「公報２」という。）
この公報にも、上記公報１と同様に、ＮｄＦｅＢ系合金粉末とＳｍＦｅＮ系合金粉末とバインダ樹脂とを混合して加圧成形したボンド磁石が開示されているが、公報１のレベルを超えるものではない。
この公報には、各磁粉の粒径と配合割合については開示されているものの、ボンド磁石の性能に大きく影響する磁粉の磁気特性やその製造方法については、何ら具体的な開示がなされていない。
（３）特開平９−９２５１５号公報（以下、「公報３」という。）
この公報には、平均粒径１５０μｍのＮｄ２Ｆｅ１４Ｂからなる異方性磁石粉末と、平均粒径０．５〜１０．７μｍで配合割合が０〜５０ｗｔ％のＳｒＯ・６Ｆｅ２Ｏ３からなるフェライト磁石粉末と、バインダである３ｗｔ％のエポキシ樹脂とを混合し、真空乾燥、加圧成形および熱硬化させて得た異方性ボンド磁石が開示されている。このボンド磁石は、１３２〜１５０．１４ｋＪ／ｍ３の高磁気特性と、永久減磁率−３．５〜−５．６％の優れた耐熱性および耐候性を発揮しているが、磁気特性が未だ不十分であった。この公報でいう永久減磁率は、１００℃ｘ１０００時間後のものである。また、上記ＮｄＦｅＢ系合金粉末は、機械粉砕による磁気特性の劣化を防ぐために、ＨＤＤＲ法（水素処理法）を用いてインゴットを粉砕したものであり、Ｎｄ２Ｆｅ１４Ｂ正方晶相からなる再結晶粒の集合組織からなる。
この公報には、粒径の異なる２種の磁粉を混合してボンド磁石を製造する利点として、次のような説明がなされている。すなわち、ボンド磁石の成形に際して、異方性ＮｄＦｅＢ系合金粉末の粒子間隙（または、薄くバインダ樹脂で被覆されたその粉末の粒子間隙）に、フェライト磁石粉末が優先的に充填させる結果、ボンド磁石の空孔率が減少する。
これにより、▲１▼Ｏ２、Ｈ２Ｏの侵入が抑制されて、耐熱性や耐候性が向上する。▲２▼従来空孔であった部分がフェライト磁石粉末粉末で置換されることで、磁気特性が向上する。さらに、▲３▼ボンド磁石の成形時に生じるＮｄＦｅＢ系合金粉末への応力集中をフェライト磁石粉末が緩和する結果、ＮｄＦｅＢ系合金粉末の割れが抑制される。そのため、ボンド磁石中で非常に活性な金属破面が露出することが抑制されて、ボンド磁石の耐熱性や耐候性がさらに向上する。加えて、▲４▼そのフェライト磁石粉末による応力集中の緩和により、ＮｄＦｅＢ系合金粉末内への歪みの導入も抑制されて、磁気特性がさらに向上する。
（４）特開平９−１１５７１１号公報（以下、「公報４」という。）
この公報には、上記公報３のフェライト磁石粉末に替えて、平均結晶粒径５０ｎｍ以下の体心立方鉄および鉄ホウ化物を含む軟質磁性相とＮｄ２Ｆｅ１４Ｂ型結晶を有する硬質磁性相とからなる平均粒径３．８μｍの等方性ナノコンポジット磁石粉末を使用したボンド磁石が開示されている。このボンド磁石は、１３６．８〜１５０．４ｋＪ／ｍ３の高磁気特性と、永久減磁率−４．９〜−６．０％の優れた耐熱性および耐候性を発揮しているものの、磁気特性が未だ不十分であった。この永久減磁率の測定方法および異方性ＮｄＦｅＢ系磁石粉末の製造方法は、公報３の場合と同様である。
この公報４では、比較例として、ＮｄＦｅＢ系磁石粉末と、それよりも粒径の小さいＳｍＦｅＮ系磁石粉末とを混合して製造したボンド磁石も開示している。そのボンド磁石は、初期磁気特性に優れるものの（（ＢＨ）ｍａｘ：１４６．４〜１５２．８ｋＪ／ｍ３）、ＳｍＦｅＮ系磁石粉末の劣化（耐酸化性の弱さ）に起因して、耐候性が劣ること（永久減磁率：−１３．７〜−１３．１％）が示されている。
このように、磁気特性及び耐候性の劣化について開示されている点が、公報１や公報２と異なるところである。
（５）特開平１０−２８９８１４号公報（以下、「公報５」という。）
この公報には、磁石粉末の充填率と配向性とを向上させた異方性ボンド磁石が開示されている。具体的には、一粒子がほぼ一結晶粒で構成された磁石粉末（粗粉末）と、それよりも大幅に粒径が小さい粒子からなる磁石粉末（微粉末）と混合し、加圧成形、キュア熱処理を行って製作されたボンド磁石が開示されている。そこで使用されている両磁石粉末は、同一のＳｍ−Ｃｏ−Ｆｅ−Ｃｕ−Ｚｒ系合金を機械粉砕したものをさらに分級したものである。平均結晶粒径をＤ、粉末粒径をｄとしたとき、その粗粉末は０．５Ｄ≦ｄ≦１．５Ｄを満たし、その微粉末は０．０１Ｄ≦ｄ≦０．１Ｄを満たすように調製されている。
ちなみに、ＨＤＤＲ処理により得られた磁石粉末は、その組織変態により、平均結晶粒径は０．３μｍ程度、磁石粉末の粒径は約２００μｍ程度である。このため、ＨＤＤＲ処理により得られた磁石粉末を用いたボンド磁石は、上記のようなボンド磁石とは当然に異なったものとなる。
以上のように、粒径の異なる磁石粉末を混合してボンド磁石を製造し、ボンド磁石の磁気特性や耐候性等を向上させる方法が種々提案されてきた。しかし、未だ、その性能は不十分である。特に、ＮｄＦｅＢ系磁石粉末等の粗い磁性粉末とＳｍＦｅＮ系磁石粉末等の細かい磁性粉末とを混合したボンド磁石の場合、上記公報４等にもあったように、初期磁気特性には優れるものの、耐候性は劣るものとされてきた。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものである。すなわち、従来にない、高い磁気特性および高い耐候性を備えたボンド磁石を提供することを目的とする。また、そのボンド磁石の製造に適したコンパウンドやそれらの製造方法を提供することを目的とする。
発明の開示
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意研究し、各種系統的実験を重ねた結果、これまでの常識を覆し、粗いＮｄＦｅＢ系磁石粉末と細かなＳｍＦｅＮ系磁石粉末とを用いた場合でも、初期磁気特性のみならず、耐候性にも優れるボンド磁石が得られることを新たに見いだした。そして、これに基づいて、そのＮｄＦｅＢ系磁石粉末等からなるＲ１ＦｅＢ系粗粉末とそのＳｍＦｅＮ系磁石粉末等からなるＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末とについても広く同様の効果が得られることを思いつき本発明を完成させるに至った。
（複合希土類異方性ボンド磁石）
すなわち、本発明の複合希土類異方性ボンド磁石は、イットリウム（Ｙ）を含む希土類元素（以下、「Ｒ１」と称する。）と鉄（Ｆｅ）とホウ素（Ｂ）とを主成分とするＲ１ＦｅＢ系合金に水素化処理を施して得られた平均粒径が５０〜４００μｍであるＲ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末と該Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末の構成粒子の表面を被覆する第１界面活性剤とからなるＲ１ＦｅＢ系粗粉末が５０〜８４質量％（ｍａｓｓ％）と、Ｙを含む希土類元素（以下、「Ｒ２」と称する。）とＦｅと窒素（Ｎ）またはＢとを主成分とする平均粒径が１〜１０μｍであるＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末と該Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末の構成粒子の表面を被覆する第２界面活性剤とからなるＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末が１５〜４０ｍａｓｓ％と、バインダである樹脂が１〜１０ｍａｓｓ％とからなり、
最大エネルギー積（ＢＨ）ｍａｘが１６７〜２２３ｋＪ／ｍ３であり、１００℃で１０００時間経過後に再着磁して得られる磁束の減少割合を示す永久減磁率が６％以下であることを特徴とする。
これにより、従来になく優れた磁気特性を示すと共にその経時変化を非常に低く抑えられる複合希土類異方性ボンド磁石（以下、適宜、「ボンド磁石」という。）が得られた。具体例を挙げれば、そのボンド磁石は、１００℃で１０００時間経過後に再着磁して得られる磁束の減少割合を示す永久減磁率が６％以下、５％以下、さらには４．５％以下という優れた耐熱性、耐候性を示す。また、最大エネルギー積（ＢＨ）ｍａｘでいえば、例えば、１６７ｋＪ／ｍ３以上、１８０ｋＪ／ｍ３以上、１９０ｋＪ／ｍ３以上、２００ｋＪ／ｍ３以上、さらには２１０ｋＪ／ｍ３以上もの高い磁気特性を示す。なお、このような高磁気特性を得るために、Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末の（ＢＨ）ｍａｘが２７９．３ｋＪ／ｍ３以上、Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末の（ＢＨ）ｍａｘが３０３．２ｋＪ／ｍ３以上であることが好ましい。
このように本発明のボンド磁石は、磁気特性および耐候性を従来になく高次元で両立している。しかし、ボンド磁石の用途に応じて、いずれか一方の特性のみをさらに高めることも可能である。例えば、高温環境下で使用されるボンド磁石の場合、磁気特性より耐候性が優先されることがある。このような場合、例えば、磁気特性を（ＢＨ）ｍａｘで１６０〜１６５ｋＪ／ｍ３程度（例えば、１６４ｋＪ／ｍ３）に少し低下させつつも、耐候性を永久減磁率で−４％以下（例えば、−３．３％）という優れたものとすることが好ましい。また、均質化熱処理の省略による低コスト化を図れるものとして、従来のＲＦｅＢ系異方性磁石粉末よりもＢを多く含有させたものや耐候性のさらなる向上を図る観点からＬａを含有させたものなどがある。このようなボンド磁石では、磁気特性を（ＢＨ）ｍａｘで１４０〜１６０ｋＪ／ｍ３程度に低下させつつも、耐候性を永久減磁率で−４％以下（例えば、−３．４％）という優れたものにすることが好ましい。さらに、Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末等の配合量を低下させてボンド磁石の低コスト化を図る場合、磁気特性が（ＢＨ）ｍａｘで１３０〜１４０ｋＪ／ｍ３程度となっても、永久減磁率が−５％以下（例えば、−４．５％）という優れた耐候性が確保されれば実用上十分な場合も多い。そして、後述する実施例からも明らかなように、本発明者はこのようなボンド磁石を実際に得ている。
ところで、初期の磁気特性のみならず、その経時変化が非常に小さいボンド磁石が得られた理由およびメカニズムは、現状、次のように考えることができる。なお、本明細書でいうＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末には、ＳｍＦｅＮ系磁石粉末等のＲ２ＦｅＮ系異方性磁石粉末とＮｄＦｅＢ系磁石粉末等のＲ２ＦｅＢ系異方性磁石粉末とが含まれる。このため、Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末は、少なくともそれらの一方から構成されれば足る。以下では、適宜上、Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末の一例として、Ｒ２ＦｅＮ系異方性磁石粉末（特に、ＳｍＦｅＮ系磁石粉末）を使用した場合について説明するが、ＮｄＦｅＢ系磁石粉末等のＲ２ＦｅＢ系異方性磁石粉末を除く趣旨ではないことを断っておく。このような事情は、Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末についても同様である。
ＮｄＦｅＢ系磁石粉末等のＲ１ＦｅＢ系磁石粉末とＳｍＦｅＮ系磁石粉末等のＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系磁石粉末とからなる複合希土類異方性ボンド磁石の経年劣化の主因は、前述した公報４にも記載されていたように、ＳｍＦｅＮ系磁石粉末等からなるＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系磁石粉末の酸化のし易さにあるとこれまで考えられていた。ところが、本発明者が鋭意研究したところ、水素化処理により得られたＲ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末（特に、ＮｄＦｅＢ系磁石粉末）とＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末（特に、ＳｍＦｅＮ系磁石粉末）とからなるボンド磁石の場合、経年劣化の主因はむしろ、ボンド磁石の成形時に発生するＲ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末粒子のマイクロクラックによる割れにあると思われる。このマイクロクラックが発生すると、活性な金属破面が露出し、Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末の酸化が進行して、ボンド磁石の経年劣化が生じると考えられるからである。特に、水素化処理されて得られたＲ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末は、マイクロクラックによる割れ感受性が高いため、上記経年劣化が生じ易い。
前述の公報１、２または４にあったように、単に、水素化処理したＲ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末とＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系磁石粉末と樹脂とを配合混合してボンド磁石を常温成形すると、その成形時に生じる応力の緩和が不十分で、Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末の構成粒子に生じるマイクロクラックによる割れを抑制または防止することはできない。さらに、常温成形の場合、樹脂の流動性が不十分で高密度化が困難であり磁気特性の向上が図れないし、酸化の要因である酸素の排除が不十分なため、磁気特性および耐候性ともに不十分なものとなっていた。
そこで本発明者は、複合した磁石粉末からボンド磁石を成形する際に加熱成形を採用し、割れ感受性の高いＲ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末の各構成粒子が、その加熱成形中にできた流体層（以下、本発明ではこれを「強磁性流体層」という。）に浮遊したような状態を生じさせて、前記構成粒子間の流動性を高め、構成粒子間に生じる応力を緩和することを着想した。また、このような強磁性流体層を、バインダである樹脂とこの樹脂中に分散した細かなＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末で構成することを着想した。そして、優れた磁気特性および耐候性を備えたボンド磁石を得ることに成功した。
ここで注意すべきことは、本発明のボンド磁石は、従来のように、粒径の異なる磁石粉末とバインダである樹脂とを単に混合、成形しただけのものではない。従来の常温成形の技術に対して、単に加熱成形を採用した場合には、必ずしも、Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末が流体層中に浮遊したような状態とはならず、その構成粒子間で十分な流動性が得られないことを本発明者は確認している。本発明のように、粗いＲ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末が流体層中に浮遊したような状態となり各構成粒子間の流動性を高めるには、Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末およびＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末が共にバインダである樹脂に強くなじんでいる必要がある。
そこで本発明では、その樹脂に対する界面の自由エネルギーを低下させる界面活性剤で、Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末とＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末とをそれぞれ被覆することで上記問題を解決した。この界面活性剤の介在により、その樹脂内で、Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末とＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末とは、従来とは異なる高い流動性を発揮する。すなわち、ボンド磁石の加熱成形時に、Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末やＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末が、まるで前述の流体層に浮遊しているかのような状態となる。粒径の大きなＲ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末から観れば、樹脂中に粒径の小さいＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末が流動性の高い強磁性流体層中に浮遊しているかのような状態となる。
こうして、上記の通り、ボンド磁石の成形時に非常に高い応力緩和効果が得られ、Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末のマイクロクラックの発生等に伴う磁気特性の経年劣化が著しく低減された考えられる。さらに、この優れた流動性により、十分に高密度で非常に高い磁気特性をもつボンド磁石が得られるようになった。これは、各磁性粉末間の潤滑性が向上して、非常に優れた充填性が得られたことを意味する。この高充填率は従来にないレベルであり、これにより、磁石の基本特性である最大エネルギー積（ＢＨ）ｍａｘが従来にない非常に優れた特性とすることができる。ここで、従来の常温成形等によって充填率向上による高密度化を図った場合、Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末を破壊するために、（ＢＨ）ｍａｘは向上するものの耐候性（永久減磁特性）は劣化するのが通常であった。すなわち、このような高密度化に際して、磁気特性と耐候性とを両立させることは困難で、両特性は背反関係にあった。
ところが本発明のようにすることで、Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末の破壊を防止しつつ高密度化を達成でき、さらに、高密度化による空隙の減少による酸素排除効果も加わり、非常に優れた最大エネルギー積と永久減磁率とが得られ、従来にないハイレベルで磁気特性および耐候性を両立させることができた。
また、上記の優れた流動性は、ボンド磁石を磁場中成形する際にも有効に作用する。すなわち、各異方性磁性粉末の流動性が高い故に、優れた配向性と充填性が得られる。この非常に優れた配向性と充填性との両立により、磁気特性は一層高められる。
なお、本明細書では、便宜上、粗いＲ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末の表面が第１界面活性剤で被覆されたものをＲ１ＦｅＢ系粗粉末と呼び、細かいＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末の表面が第２界面活性剤で被覆されたものをＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末と呼んでいる。
ところで、前述したように、上記強磁性流体層は、バインダである樹脂とこの樹脂中に均一分散したＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末とからなる。これは、Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末とＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末と樹脂とからなる混合物（粉末状でも成形体状でも良い。）を加熱してボンド磁石を成形する際に形成されるものである。具体的には、その樹脂の軟化点以上で生じる液状層である。従って、この強磁性流体層は、樹脂の融点または軟化温度域で生じる。この樹脂が反応若しくは変質しない範囲であれば、その加熱温度が高い方が当然に流動性の高い強磁性流体層が得られる。この樹脂は、熱可塑性樹脂でも熱硬化性樹脂でも良い。
また、その樹脂が熱硬化性樹脂の場合、短時間ならその硬化点以上に加熱しても良い。硬化点以上に加熱していても、直ぐに熱硬化性樹脂が架橋等によって硬化を開始することはないからである。むしろ、加熱成形の初期から硬化点以上に加熱することで、流動性に優れた強磁性流体層が素早く形成される。特に、通常の工業上に必要とされるタクトにおいては、高い流動性をもつ強磁性流体層が形成され、高密度で磁気特性に優れると共に耐候性にも優れるボンド磁石が得られる。なお、いうまでもないが、硬化点以上の温度で加熱する場合、所定時間を経過すると熱硬化性樹脂は硬化を開始して、上記強磁性流体層は硬化層となる。また、その樹脂が熱可塑性樹脂の場合なら、その後の冷却によって強磁性流体層は固化層となる。
なお、熱硬化性樹脂を使用して後述のコンパウンドを製造する場合、加熱混練中の温度は、その樹脂の軟化点以上、硬化点未満とすることが良い。硬化点以上の温度で加熱混練して製造したコンパウンドを用いると、得られたボンド磁石に割れが生じたり、磁気特性が劣化したりするからである。
上述のように、樹脂が軟化する温度域で、その強磁性流体層は高い流動性をもち、粒径の粗いＲ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末は界面活性剤を介して、その強磁性流体層によって良好に潤滑される。その結果、ボンド磁石の成形時に非常に高い応力緩和効果が得られ、前述のマイクロクラックの発生やそれに伴う割れが防止でき、新生破面の酸化に伴う磁気特性の経年劣化が著しく低減される。また、このような優れた流動性に起因して、高充填性、高充填性に伴う酸素高排除性、高配向性、高潤滑性等も得られ、非常に高い磁気特性と高い耐候性とを備えたボンド磁石が得られるようになった。
そして、このような優れた耐候性を有するボンド磁石は、室温環境下で使用される機器のみならず、酸化劣化が進行し易い高温環境下で使用される機器（例えば、ハイブリット車や電気自動車の駆動モータ等）に、非常に好適である。これらの用途においては、最大エネルギー積（ＢＨ）ｍａｘ１６７ｋＪ／ｍ３以上の高磁気特性と永久減磁率が６％以下の優れた耐候性を保有するボンド磁石が求められている。本発明のボンド磁石は、これらを初めて満足させたものである。
（複合希土類異方性ボンド磁石用コンパウンド）
本発明は、上記ボンド磁石の製造に適したコンパウンドとしても把握できる。
すなわち本発明は、Ｒ１とＦｅとＢとを主成分とするＲ１ＦｅＢ系合金に水素化処理を施して得られた平均粒径が５０〜４００μｍであるＲ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末と該Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末の構成粒子の表面を被覆する第１界面活性剤とからなるＲ１ＦｅＢ系粗粉末が５０〜８４質量％（ｍａｓｓ％）と、Ｒ２とＦｅとＮまたはＢとを主成分とする平均粒径が１〜１０μｍであるＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末と該Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末の構成粒子の表面を被覆する第２界面活性剤とからなるＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末が１５〜４０ｍａｓｓ％と、バインダである樹脂が１〜１０ｍａｓｓ％とからなり、
前記Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末の構成粒子の表面が、前記樹脂中に前記Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末が均一分散した被覆層で被覆されていることを特徴とする複合希土類異方性ボンド磁石用コンパウンドとしても良い。
このような優れた均一分散性、すなわち、Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末のまわりにＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末と樹脂とが均一分散していることにより、ボンド磁石を成形する際の成形圧力を比較的低くしても、十分に高密度で非常に高い磁気特性をもつボンド磁石が得られるようになった。この成形圧力の低減は、設備費の削減や製造タクトの短縮による製造コスト低減に寄与する。
これは、Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末のまわりにＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末と樹脂とが均一分散していることで、Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末間の空隙にＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末が移動する移動距離を短くできたことによると思われる。
また、このような作用効果に加えて、Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末のまわりにＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末と樹脂とが均一分散することで、Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末が加熱磁場成形中で偏在することが無くなり、Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末の各構成粒子間の空隙にＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末が均一、かつ、すばやく供給されるようになる。そして、さらに高い充填率とＲ１ＦｅＢ系粗粉末の割れに対する高い抑止効果とが低圧力下で容易に達成されるようになったと思われる。そして、これらの作用効果は、Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末、Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末および樹脂を予め加熱混練してコンパウンドとしておいた場合に顕著に現れる。
この複合希土類異方性ボンド磁石用コンパウンドは、例えば、成形温度１５０℃、磁場２．０ＭＡ／ｍ、成形圧力３９２ＭＰａの条件下で加熱磁場成形した際に得られるボンド磁石の相対密度が９２〜９９％となると好適である。
（複合希土類異方性ボンド磁石およびそのコンパウンドの製造方法）
さらに、本発明は、上記ボンド磁石やコンパウンドの製造方法としても把握できる。
すなわち、本発明は、Ｒ１とＦｅとＢとを主成分とするＲ１ＦｅＢ系合金に水素化処理を施して得られた平均粒径が５０〜４００μｍであるＲ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末の構成粒子の表面を第１界面活性剤で被覆してなるＲ１ＦｅＢ系粗粉末が５０〜８４ｍａｓｓ％と、Ｒ２とＦｅとＮまたはＢとを主成分とする平均粒径が１〜１０μｍであるＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末の構成粒子の表面を第２界面活性剤で被覆してなるＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末が１５〜４０ｍａｓｓ％と、バインダである樹脂が１〜１０ｍａｓｓ％とからなる混合物を、該樹脂の軟化点以上の温度に加熱すると共に該樹脂を軟化状態または溶融状態としつつ配向磁場を印加して該Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末および該Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末をを配向させる加熱配向工程と、該加熱配向工程後の混合物を加熱加圧成形する成形工程とからなり、
該Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末の構成粒子間に該Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末および該樹脂が均一に充填されてなる複合希土類異方性ボンド磁石が得られることを特徴とする複合希土類異方性ボンド磁石の製造方法としても良い。
ここで、上記混合物は、前記Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末の構成粒子の表面が、前記樹脂中に前記Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末が均一分散した被覆層で被覆されたコンパウンドからなると好適である。
前述したように、Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末のまわりにＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末と樹脂とが均一分散していることにより、ボンド磁石を成形する際の成形圧力を比較的低くしても、十分に高密度で非常に高い磁気特性をもつボンド磁石が得られる。この成形圧力の低減は、設備費の削減や製造タクトの短縮による製造コスト低減に寄与する。さらに、Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末が加熱磁場成形中で偏在することが無くなり、Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末の各構成粒子間の空隙にＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末が均一、かつ、すばやく供給されるようになる。そして、さらに高い充填率とＲ１ＦｅＢ系粗粉末の割れに対する高い抑止効果とが低圧力下で容易に達成され、磁気特性および耐候性等に関して安定した品質のボンド磁石を得易い。
このようなコンパウンドは、例えば、前記Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末と前記Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末と前記樹脂とを該樹脂の軟化点以上の温度で加熱混練する加熱混練工程を経て得られる。
すなわち、Ｒ１とＦｅとＢとを主成分とするＲ１ＦｅＢ系合金に水素化処理を施して得られた平均粒径が５０〜４００μｍであるＲ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末の構成粒子の表面を第１界面活性剤で被覆してなるＲ１ＦｅＢ系粗粉末を５０〜８４ｍａｓｓ％と、Ｒ２とＦｅとＮまたはＢとを主成分とする平均粒径が１〜１０μｍであるＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末の構成粒子の表面を第２界面活性剤で被覆してなるＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末を１５〜４０ｍａｓｓ％と、バインダである樹脂を１〜１０ｍａｓｓ％とを混合する混合工程と、該混合工程後に得られた混合物を該樹脂の軟化点以上の温度で加熱混練する加熱混練工程とからなり、
前記Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末の構成粒子の表面が、前記樹脂中に前記Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末が均一分散した被覆層で被覆されたコンパウンドが得られることを特徴とする本発明の複合希土類異方性ボンド磁石用コンパウンドの製造方法により得られる。
ところで、ボンド磁石の成形に必要となる各工程を、連続的に一段階で行っても良いし、生産性、寸法精度、品質安定性等を考慮して多段階で行っても良い。例えば、加熱配向工程とその後の成形工程とを一つの成形型中で連続的に行っても良いし（一段成形）、異なる成形型中で行っても良い（二段成形）。また、加熱配向工程中に加圧を伴っても良い。さらに、原料（混合粉末または本発明のコンパウンド）を秤量する工程をさらに別の成形型中で行っても良い（三段成形）。この３段成形の場合、加熱配向工程前の混合物を、前記コンパウンド等を成形型のキャビティへ充填して加圧成形した予備成形体としておいても良い。そして、加熱配向工程は、この予備成形体に対して行えば良い。このように、ボンド磁石の成形に必要な工程を多段階とすることで、生産性の向上を図り易いし、設備の自由度も増す。
ちなみに、上記製造方法で、加熱配向工程を設けているのは、各異方性磁性粉末を配向させることで、高磁気特性のボンド磁石が得られるからである。また、高磁気特性が要求されるボンド磁石の場合、その用途に応じて要求される磁界の方向が決っているからである。この加熱配向工程中での各磁性粉末の流動性が大きい程、磁気特性に優れたボンド磁石が得られる。そこで、例えば、熱硬化性樹脂を使用する場合、その熱硬化性樹脂を硬化点以上に加熱して、樹脂の流動性を高めた状態で上記加熱配向工程を行うとより好適である。
（その他）
さらに、上記製造方法を実施して得られたボンド磁石またはコンパウンドとして把握することもできる。
すなわち、本発明は、上記複合希土類異方性ボンド磁石の製造方法によって得られることを特徴とする複合希土類異方性ボンド磁石としても良い。
また、本発明は、上記複合希土類異方性ボンド磁石用コンパウンドの製造方法によって得られることを特徴とする複合希土類異方性ボンド磁石用コンパウンドとしても良い。
発明を実施するための最良の形態
Ａ．実施形態
以下に実施形態を挙げて、本発明をより詳しく説明する。以下の内容は、適宜、本発明のボンド磁石のみならず、コンパウンドやそれらの製造方法にも該当する。
（１）Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末
▲１▼Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末は、Ｒ１とＦｅとＢとを主成分とするＲ１ＦｅＢ系合金に水素化処理を施して得られた粉末である。
本発明でいう水素化処理には、ＨＤＤＲ処理法（ｈｙｄｒｏｇｅｎａｔｉｏｎ−ｄｅｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ−ｄｉｓｐｒｏｐｏｔｉｏｎａｔｉｏｎ−ｒｅｃｏｍｂｉｎａｔｉｏｎ）やｄ−ＨＤＤＲ処理法がある。
ＨＤＤＲ処理法は、主に２つの工程からなる。すなわち、１００ｋＰａ（１ａｔｍ）程度の水素ガス雰囲気中で５００〜１０００℃に保持し、三相分解不均化反応を起こさせる第１工程（水素化工程）と、その後真空にして脱水素を行う脱水素工程（第２工程）とからなる。脱水素工程は、例えば、水素圧力を１０−１Ｐａ以下の雰囲気にする工程である。また、その温度は、例えば、５００〜１０００℃とすれば良い。なお、本明細書でいう水素圧力は、特に断らない限り水素の分圧を意味する。従って、各工程中の水素分圧が所定値内であれば、真空雰囲気でも不活性ガス等の混合雰囲気でも良い。その他、ＨＤＤＲ処理自体については、特公平７−６８５６１号公報、特許第２５７６６７１号公報等に詳しく開示されているので、適宜参照できる。
一方、ｄ−ＨＤＤＲ処理は、公知文献（三嶋ら：日本応用磁気学会誌、２４（２０００）、ｐ．４０７）にも詳細に報告されているように、室温から高温にかけて、Ｒ１ＦｅＢ系合金と水素との反応速度を制御することによりなされる。具体的には、室温でその合金に水素を十分に吸収させる低温水素化工程（第１工程）と、低水素圧力下で三相分解不均化反応を起こさせる高温水素化工程（第２工程）と、可能な限り高い水素圧力下で水素を解離させる第１排気工程（第３工程）と、その後の材料から水素を除去する第２排気工程（第４工程）の４つの工程から主になる。ＨＤＤＲ処理と異なる点は、温度や水素圧力の異なる複数の工程を設けることで、Ｒ１ＦｅＢ系合金と水素との反応速度を比較的緩やかに保ち、均質な異方性磁粉が得られるように工夫されている点である。
具体的にいうと、低温水素化工程は、例えば、水素圧力が３０〜２００ｋＰａで６００℃以下の水素ガス雰囲気中に保持する工程である。高温水素化工程は、水素圧力が２０〜１００ｋＰａで７５０〜９００℃の水素ガス雰囲気中に保持する工程である。第１排気工程は、水素圧力が０．１〜２０ｋＰａで７５０〜９００℃の水素ガス雰囲気中に保持する工程である。第２排気工程は、水素圧力を１０−１Ｐａ以下の雰囲気に保持する工程である。
このような上記ＨＤＤＲ処理法やｄ−ＨＤＤＲ処理法を用いることにより、Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末を工業レベルで量産できる。特に、異方性を高めた高性能な磁石粉末を量産する観点からは、ｄ−ＨＤＤＲ処理法が好ましい。
▲２▼Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末の平均粒径を５０〜４００μｍとしたのは、５０μｍ未満では、保磁力（ｉＨｃ）が低下し、４００μｍを超えると残留磁束密度（Ｂｒ）が低下するからである。その平均粒径は、７４〜１５０μｍであるとより好ましい。
また、その配合比を５０〜８４ｍａｓｓ％としたのは、５０ｍａｓｓ％未満では最大エネルギー積（ＢＨ）ｍａｘが低下し、８４ｍａｓｓ％を超えると、強磁性流体層が相対的に少なくなり、永久減磁の抑制効果が薄れるからである。その配合比は、７０〜８０ｍａｓｓ％であるとより好ましい。なお、本明細書でいうｍａｓｓ％は、ボンド磁石全体またはコンパウンド全体を１００ｍａｓｓ％としたときの割合である。
▲３▼Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末の組成は、特に限定されないが、例えば、Ｒ１が１１〜１６原子％（ａｔ％）、Ｂが５．５〜１５原子％（ａｔ％）およびＦｅを主成分とするものであり、適宜、不可避不純物を含み得る。代表的なものは、Ｒ１２Ｆｅ１４Ｂを主相とするものである。この場合、Ｒ１が１１ａｔ％未満ではαＦｅ相が析出して磁気特性が低下し、１６ａｔ％を超えるとＲ１２Ｆｅ１４Ｂ相が減少し磁気特性が低下する。また、Ｂが５．５ａｔ％未満では、軟磁性のＲ１２Ｆｅ１７相が析出して磁気特性が低下し、１５ａｔ％を超えると、磁石粉末中のＢリッチ相の体積分率が高くなり、Ｒ１２Ｆｅ１４Ｂ相が減少して磁気特性が低下するため好ましくない。
このようなＲ１は、スカンジウム（Ｓｃ）、イットリウム（Ｙ）、ランタノイドからなる。もっとも、磁気特性に優れる元素として、Ｒ１が、Ｙ、ランタン（Ｌａ）、セリウム（Ｃｅ）、プラセオジム（Ｐｒ）、ネオジム（Ｎｄ）、サマリウム（Ｓｍ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、テルビウム（Ｔｂ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ホルミウム（Ｈｏ）、エルビウム（Ｅｒ）、ツリウム（Ｔｍ）およびルテチウム（Ｌｕ）の少なくとも１種以上からなると好適である。この点は、後述のＲ２に関しても同様である。Ｒ１は、特に、コスト及び磁気特性の観点から、Ｎｄ、ＰｒおよびＤｙの一種以上から主になると好ましい。
さらに、本発明に係るＲ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末は、上記Ｒ１とは別に、Ｄｙ、Ｔｂ、ＮｄまたはＰｒの少なくとも一種以上の希土類元素（Ｒ３）を含有していると好ましい。具体的には、各粉末全体を１００ａｔ％としたときに、Ｒ３を０．０５〜５．０ａｔ％含有すると好ましい。これらの元素は、Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末の初期保磁力を高め、ボンド磁石の経年劣化抑制にも効果を発揮するからである。これらのことは、後述のＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末についても同様であり、例えば、Ｒ１とＲ２とは同一でも良い。
Ｒ３が０．０５ａｔ％未満では、初期保磁力の増加が少なく、５ａｔ％を超えると（ＢＨ）ｍａｘの低下を生じる。Ｒ３は０．１〜３ａｔ％であるとより好ましい。
また、本発明のＲ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末は、上記Ｒ１とは別に、Ｌａを含有していると好ましい。具体的には、各粉末全体を１００ａｔ％としたときと、Ｌａを０．００１〜１．０ａｔ％含有すると好ましい。これにより、その磁石粉末やボンド磁石の経年劣化が抑制されるからである。これらのことも、後述のＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末についても同様である。
ここで、Ｌａが経年劣化の抑制に有効なのは、Ｌａは希土類元素（Ｒ．Ｅ．）中で最も酸化電位の大きな元素である。このため、Ｌａがいわゆる酸素ゲッタとして作用し、前記Ｒ１（Ｎｄ、Ｄｙ等）よりもＬａが選択的に（優先的に）酸化され、結果的にＬａを含有した磁石粉末やボンド磁石の酸化が抑制されるからである。
ここで、Ｌａは、不可避不純物のレベルを越える微量含有されている程度で、耐候性等の向上効果を発揮する。そして、Ｌａの不可避不純物レベル量が、０．００１ａｔ％未満であることから、本発明では、Ｌａ量を０．００１ａｔ％以上とした。一方、Ｌａが１．０ａｔ％を超えると、ｉＨｃの低下を招き好ましくない。ここで、Ｌａ量の下限が、０．０１ａｔ％、０．０５ａｔ％、さらには０．１ａｔ％であると、十分な耐候性等の向上効果が発揮されより好ましい。そして、耐候性等の向上およびｉＨｃの低下抑制の観点から、Ｌａ量が０．０１〜０．７ａｔ％であると一層好ましい。なお、Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末中のＢが１０．８〜１５ａｔ％の場合、Ｌａを含有する磁石粉末の組成は、Ｒ１２Ｆｅ１４Ｂ１相を単一相若しくはほぼ単一相として存在させ得る合金組成ではなく、Ｒ１２Ｆｅ１４Ｂ１相とＢ−ｒｉｃｈ相等の多相組織からなる合金組成となる。
Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末は、Ｒ１、ＢおよびＦｅ以外に、その磁気特性等を向上させる種々の元素を含有しても良い。
例えば、０．０１〜１．０ａｔ％のガリウム（Ｇａ）、０．０１〜０．６ａｔ％のニオブ（Ｎｂ）の１種または２種を含有することが好ましい。Ｇａを含有することで、Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末の保磁力が向上する。ここで、Ｇａの含有量が０．０１ａｔ％未満では保磁力の向上の効果が得られず、１．０ａｔ％を超えると逆に保磁力を減少させる。Ｎｂを含有することで、水素化処理における順組織変態および逆組織変態の反応速度が容易にコントロールできるようになる。ここで、Ｎｂの含有量が０．０１ａｔ％未満では反応速度をコントロールするのが難しく、０．６ａｔ％を超えると保磁力を減少させる。特にＧａ、Ｎｂを上記範囲内で複合含有すると、単体で含有した場合に比べ保磁力及び異方化とも向上させることができ、その結果（ＢＨ）ｍａｘを増加させる。
また、アルミニウム（Ａｌ）、ケイ素（Ｓｉ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、クロム（Ｃｒ）、マンガン（Ｍｎ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ハウニウム（Ｈｆ）、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、鉛（Ｐｂ）のうち１種または２種以上を合計で０．００１〜５．０ａｔ％含有することが好ましい。これらの原子を含有することで、得られた磁石の保磁力、角形比を改善することができる。また、含有量が０．００１ａｔ％未満では磁気特性の改善の効果が現れず、５．０ａｔ％を超えると析出相などが析出し保磁力が低下する。
さらに、コバルト（Ｃｏ）を０．００１〜２０ａｔ％で含有することが好ましい。Ｃｏを含有することで、ボンド磁石のキュリー温度を上げることができ、温度特性が改善される。ここで、Ｃｏの含有量が０．００１ａｔ％未満ではＣｏ含有の効果が見られず、２０ａｔ％を超えると残留磁束密度が低下し磁気特性が低下するようになる。
Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末の原料合金の調製方法は、特に限定されないが、一般的な方法として、高純度の合金材料を用い、所定の組成となるようにそれぞれを用意する。これらを混合した後に、高周波溶解法等の各溶解法により溶解し、これを鋳造して合金のインゴットを作成する。このインゴットを原料合金とし、これを粉砕して粗粉末状のものを原料合金としても良い。さらに、原料インゴットに均質化処理を施して組成分布の偏りを減少させた合金を原料合金とすることもできる。加えて、この均質化処理したインゴットを粉砕して粗粉末状とし、これを原料合金とすることもできる。なお、インゴットの粉砕や、上記水素化処理後に行う粉末化は、乾式若しくは湿式の機械粉砕（ジョークラッシャ、ディスクミル、ボールミル、振動ミル、ジェットミル等）等を用いて行うことができる。
前述した、Ｄｙ、Ｔｂ、ＮｄまたはＰｒ（Ｒ３）、Ｌａ、Ｇａ、Ｎｂ、Ｃｏ等の合金元素も、上記調製中に原料合金に含有させれば効率的である。もっとも、前述したように、Ｒ３やＬａはＲ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末等の耐候性を向上させる元素であるから、Ｌａが磁石粉末の構成粒子等の表面またはそれらの近傍に存在する方が好ましい。従って、原料合金中に最初からＲ３やＬａを含有させておくよりも、磁石粉末の製造途中または製造後に、Ｒ３系粉末やＬａ系粉末をＲ１ＦｅＢ系粉末に混合して、磁石粉末の表面または内部にＬａを拡散等させる方がより耐候性に優れる磁石粉末が得られる。
なお、Ｒ３系粉末は、少なくとも上記Ｒ３をを含有しておれば良く、例えば、Ｒ３単体、Ｒ３合金、Ｒ３化合物およびそれらの水素化物等の一種以上からなる。また、同様に、Ｌａ系粉末は、少なくともＬａを含有しておれば良く、例えば、Ｌａ単体、Ｌａ合金、Ｌａ化合物およびそれらの水素化物等の一種以上からなる。Ｒ３合金やＬａ合金には、磁気特性への影響等を考慮して、遷移金属元素（ＴＭ）とＬａとの合金、化合物（金属間化合物を含む）または水素化物からなると好ましい。これらの具体例を挙げれば、例えば、ＬａＣｏ（Ｈｘ）、ＬａＮｄＣｏ（Ｈｘ）、ＬａＤｙＣｏ（Ｈｘ）、Ｒ３Ｃｏ（Ｈｘ）、Ｒ３ＮｄＣｏ（Ｈｘ）、Ｒ３ＤｙＣｏ（Ｈｘ）等がある。
Ｒ３系粉末についても同様である。
なお、それらの粉末が合金または化合物（水素化物を含む）からなる場合、その合金等に含有されるＲ３やＬａは２０ａｔ％以上、さらには６０ａｔ％以上であれば好適である。また、磁石粉末の表面または内部にＲ３やＬａを拡散する場合は、例えば、Ｒ１ＦｅＢ系磁石粉末にＲ３系粉末やＬａ系粉末を混合してなる混合粉末を、６７３〜１１２３Ｋに加熱する拡散熱処理工程により行うことができる。この拡散熱処理工程は、Ｒ３系粉末やＬａ系粉末の混合後に行っても、その混合と同時に行っても良い。この処理温度が６７３Ｋ未満では、Ｒ３系粉末やＬａ系粉末が液相になり難く、十分な拡散処理が困難となる。一方、１１２３Ｋを超えると、Ｒ１ＦｅＢ系磁石粉末等の結晶粒成長を生じ、ｉＨｃの低下を招き、耐候性（永久減磁率）を十分に向上させることができない。その処理時間は、０．５〜５時間が好ましい。０．５時間未満ではＲ３やＬａの拡散が不十分となり、磁石粉末の耐候性等があまり向上しない。一方、５時間を超えるとｉＨｃの低下を招く。
なお、言うまでもないが、この拡散熱処理工程は、酸化防止雰囲気（例えば、真空雰囲気）中で行われるのが好ましい。また、この拡散熱処理工程を、ＨＤＤＲ処理の脱水素工程やｄ−ＨＤＤＲ処理の第１排気工程または第２排気工程に融合させて行う場合は、それらの処理温度、処理時間および処理雰囲気を両者の共通する範囲に調整する。
これらの処理を行う際のＲ１ＦｅＢ系磁石粉末、Ｒ３系粉末またはＬａ系粉末の形態（粒径等）は問わないが、拡散熱処理工程を効率的に進める観点から、Ｒ１ＦｅＢ系磁石粉末の平均粒径が１ｍｍ以下、Ｒ３系粉末やＬａ系粉末の平均粒径が２５μｍ以下程度であれば好適である。なお、このＲ１ＦｅＢ系磁石粉末は、水素化処理の進行具合により、水素化物であったり磁石粉末であったりし、また、組織も３相分解したものであったり、それらが再結晶したものであったりする。
また、Ｒ１ＦｅＢ系磁石粉末の製造途中でＲ３やＬａを添加する場合、相手材であるＲ１ＦｅＢ系磁石粉末は、多かれ少なかれ水素化物の状態となっている（以下、この水素化物の粉末を「Ｒ１ＦｅＢＨｘ粉末」という。）。何故なら、水素化工程後、脱水素工程終了前または高温水素化工程後、第２排気工程終了前にＲ３やＬａを添加することになるからである。このＲ１ＦｅＢＨｘ粉末等は、水素を含有しない場合に比べて、Ｒ１やＦｅが非常に酸化され難い状態にある。このため、酸化が抑制された状態でＲ３やＬａの拡散やコーティングを行うことでき、耐候性に優れる磁石粉末を安定した品質で製造できる。そして同理由により、Ｒ３系粉末やＬａ系粉末も水素化物の状態にあることが好ましい。例えば、Ｒ３ＣｏＨｘやＬａＣｏＨｘ等であれば良い。
さらに、本発明の優れた磁気特性をもつボンド磁石を得る上で、Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末は、２７９．３ｋＪ／ｍ３以上、さらには３４４ｋＪ／ｍ３以上が好ましい。
上述した事情は、後述のＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末の場合、特に、Ｒ２ＦｅＢ系異方性磁石粉末の場合にも同様である。
（２）Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末
▲１▼Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末は、粗いＲ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末間を充填して、ボンド磁石の磁気特性、特に最大エネルギー積を向上させる上で有効となる。このＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末には、前述したように、Ｒ２ＦｅＮ系異方性磁石粉末とＲ２ＦｅＮ系異方性磁石粉末とが含まれ、それらの少なくとも一種からなる。いずれの場合でも、Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末は、Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末よりも粒径が相当小さいものである。
その組成は、特に限定されず、適宜、不可避不純物を含んでも良い。代表的なものは、Ｓｍ２Ｆｅ１７Ｎを主相とするものである。また、Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末の場合も、主成分以外に、その磁気特性等を向上させる種々の元素を含有しても良い。
ちなみに、Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末の一つであるＳｍＦｅＮ系磁石粉末は、例えば、次のような方法により得ることができる。所望する組成のＳｍ−Ｆｅ合金を溶体化処理して窒素ガス中で粉砕する。その粉砕後、ＮＨ３＋Ｈ２混合ガス中で窒化処理を行った後に冷却する。そして、ジェットミル等で微粉砕すれば、１０μｍ以下の細かなＳｍＦｅＮ系磁石粉末が得られる。
▲２▼このＳｍＦｅＮ系磁石粉末は、単磁区粒子サイズとなる粒径にすることで、高い保磁力が発生する。このような観点から、Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末の平均粒径を１〜１０μｍとした。１μｍ未満では、▲１▼酸化し易くなり、▲２▼残留磁束密度が低下し最大エネルギー積（ＢＨ）ｍａｘも低下するため好ましくない。１０μｍを超えると▲１▼単磁区粒子が得られず、▲２▼保磁力が低下するため好ましくない。
また、その配合比を１５〜４０ｍａｓｓ％としたのは、１５ｍａｓｓ％未満では、Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末の構成粒子間を充填するには量が少ない。一方、４０ｍａｓｓ％を超えると、相対的にＲ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末が少なくなり、最大エネルギー積（ＢＨ）ｍａｘが低下する。
さらに、本発明の優れた磁気特性をもつボンド磁石を得る上で、Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末は、３０３．２ｋＪ／ｍ３以上、さらには３１９ｋＪ／ｍ３以上が好ましい。
（３）界面活性剤および樹脂
▲１▼界面活性剤を用いるのは、ボンド磁石を加熱成形する際に、Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末およびＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末の樹脂中での流動性を高めるためである。これにより、その加熱成形時に高潤滑性、高充填性、高配向性等が発現されて、磁気特性および耐候性に優れたボンド磁石が得られる。
特に、粒径の大きなＲ１ＦｅＢ系粗粉末に着目すれば、上記加熱成形時、Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末はその全面を覆う第１界面活性剤の存在によって、強磁性流体層の海の中に浮遊したような状態で存在するようになる。その結果、割れ感受性の高いＲ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末からボンド磁石を成形する際にも、その構成粒子は容易に回転等して、応力集中が大幅に緩和され、マイクロクラックの進展が防止される。
また、Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末を界面活性剤で被覆することにより、バインダである樹脂とＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末との結合度が強まる。つまり、両者は一体となって、前記強磁性流体層は一層擬似的な流体として振舞うようになる。また、Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末は、第２界面活性剤の存在により、樹脂内に均一に分散した状態となり、ボンド磁石の相対密度および磁気特性の向上にも大きく寄与する。
このように、Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末側のみならず、そのＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末側にも界面活性剤は不可欠である。
本発明の場合、Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末の粒子表面を被覆する界面活性剤と、Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末の粒子表面を被覆する界面活性剤とを便宜上区別しているが、両者は同一でも異なっても良い。共通の界面活性剤を利用すればその被覆処理が容易となり、生産上好ましい。
このような界面活性剤の種類は、特に限定されないが、バインダとしてしようされる樹脂の種類を考慮して決定される。例えば、その樹脂がエポキシ樹脂なら、界面活性剤としてチタネート系カップリング剤あるいはシラン系カップリング剤を挙げることができる。このほか、樹脂と界面活性剤との組み合わせとして、フェノール樹脂ならシラン系カップリング剤を利用できる。
▲２▼本発明で用いる樹脂は、ボンド磁石中のバインダとしての役割を果たす。それは、熱硬化性樹脂に限らず、熱可塑性樹脂でも良い。熱硬化性樹脂には、例えば、前述のエポキシ樹脂、フェノール樹脂等あり、熱可塑性樹脂には、例えば１２ナイロン、ポリフェニレンサルファイド等がある。
本発明で樹脂の配合比を１〜１０ｍａｓｓ％としたのは、１ｍａｓｓ％未満では、バインダとしての結合力に欠け、１０ｍａｓｓ％を超えると高い（ＢＨ）ｍａｘ等の磁気特性が低下する。
▲３▼本発明では、界面活性剤で被覆した各磁石粉末をＲ１ＦｅＢ系粗粉末およびＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末と呼んでいるが、「粗」粉末または「微」粉末は、それぞれの相対的な粒径を便宜的に呼称するために用いているだけに過ぎない。Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末は、例えば、Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末と上記第１界面活性剤の溶液とを攪拌後に乾燥させる第１被覆工程により得られる。同様に、Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末は、例えば、Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末と上記第２界面活性剤の溶液とを攪拌後に乾燥させる第２被覆工程により得られる。こうして得られた界面活性剤層は、膜厚が０．５〜２μｍ程度のものであり、各粉末粒子の全面をコーティングしている。
（４）コンパウンドとボンド磁石
本発明のコンパウンドは、例えば、Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末とＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末と樹脂とを混合した後に、それらの混合物を加熱混錬して得られるものである。その形態は、粒径が５０〜５００μｍ程度の顆粒状である。
この様子を、上記磁性粉末の一例である粗いＮｄＦｅＢ系磁石粉末と微細なＳｍＦｅＮ系磁石粉末とについてＳＥＭ観察により撮影したＥＰＭＡ写真に基づき模式的に転写したものを図１Ａに示す。図１Ｂは、ＮｄＦｅＢ系磁石粉末と樹脂とからなる従来のコンパウンドの様子を模式的に示したものである。図１Ｂから判るように、従来のコンパウンドの場合、ＮｄＦｅＢ系磁石粉末の粒子表面に、樹脂が吸着しているだけである。
これに対し、図１Ａから判るように、本発明のコンパウンドの場合は、ＳｍＦｅＮ系磁石粉末が第２界面活性剤を介して樹脂に包込まれた状態にあるＳｍＦｅＮ系微粉末が、ＮｄＦｅＢ系磁石粉末が第１界面活性剤によって被覆された状態にあるＮｄＦｅＢ系粗粉末の粒子表面に均一に分散した状態となっている。そして、その周囲がさらに樹脂により埋められた状態となっている。なお、図１Ａでは、ＮｄＦｅＢ系粗粉末が一粒毎に分離している様子を示しているが、本発明にいうコンパウンドはこのような状態のものには限られない。すなわち、本発明のコンパウンドは、Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末の構成粒子が複数結着したものからなっていても良いし、さらには、一粒毎に分離したものと複数粒が結着したものの混合物からなっても良い。
次に、これらのコンパウンドを加熱磁場中で加圧成形して得たボンド磁石の一部を拡大し、図１Ａ、Ｂと同様に模式的に示したものが図２Ａ、Ｂである。図２Ａは本発明のボンド磁石を示し、図２Ｂは従来のボンド磁石を示す。図２Ｂをみれば明らかなように、従来のボンド磁石の場合、加圧成形に際して、ＮｄＦｅＢ系磁石粉末の粒子同士が直接接触し合って局部に応力が集中する。その結果、水素化処理されて割れ感受性が高くなっているＮｄＦｅＢ系磁石粉末の粒子は、マイクロクラックやそれによる割れ等を生じる。そして、新たに生成された活性な破面には磁気特性の劣化原因となる酸化層が形成されるようになる。
一方、本発明のボンド磁石の場合、コンパウンドを加熱磁場中成形する際、図２Ａから明らかなように、ＮｄＦｅＢ系粗粉末の各構成粒子の表面は、ＳｍＦｅＮ系微粉末と樹脂とにより均一に囲繞された状態となる。つまり、ＮｄＦｅＢ系粗粉末の各構成粒子間は、それらによって密に充填された状態となっている。その結果、ＮｄＦｅＢ系粗粉末は、ＳｍＦｅＮ系微粉末と樹脂とによって形成された強磁性流体層中にまるで浮遊しているかのような状態となっている。この強磁性流体層による高い流動性によって、ＮｄＦｅＢ系粗粉末の粒子同士は潤滑性に優れた環境下に置かれ、ＮｄＦｅＢ系粗粉末の粒子同士は大きな姿勢自由度を得る。また、ＮｄＦｅＢ系粗粉末の構成粒子間に存在する強磁性流体層はいわゆるクッションの役割を果して、ＮｄＦｅＢ系粗粉末の各構成粒子が直接に接触して、局部的な応力集中を生じるのを妨げる。こうして、従来のボンド磁石内部に生じていたようなマイクロクラックやそれによる割れ等が抑制、防止されて、経年劣化が非常に少ないボンド磁石が得られた。
ここでは、Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末とＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末と樹脂とを加熱混練して得たコンパウンドから、ボンド磁石を加熱成形した場合について説明したが、上記のような事情はこのような場合に限られるものではない。
すなわち、上記コンパウンドを使用せずに、各磁性粉末と樹脂との混合粉末等を成形型のキャビティ等へ直接充填して、加熱成形した場合であっても、上述の場合と同様に、磁気特性および耐候性に優れたボンド磁石が得られることを本発明者は確認している。これは、各磁性粉末の表面を界面活性剤で被覆することで、加熱により軟化または溶融した樹脂とのなじみ性または濡れ性が非常に向上したため、溶融した樹脂の流動性が向上したと考えられる。このような場合、樹脂を素早く軟化溶融状態とするのがより好ましいので、比較的高温で加熱すると良い。例えば、熱硬化性樹脂を使用する場合であれば、磁場配向する段階から硬化点以上に加熱して成形すれば良い。
勿論、上記コンパウンドを使用することで、強磁性流体層中でのＲ１ＦｅＢ系粗粉末の均一分散性がさらに向上し、高磁気特性および高耐候性のボンド磁石がより安定して得られるのは言うまでもない。
ところで、本明細書でいう「流動性」は、上記強磁性流体層中での、Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末の充填性、潤滑性、配向性等に関連し、より具体的には、その回転等の移動容易性や姿勢自由度等に関連する。
この流動性は、使用するコンパウンドの粘度、ボンド磁石の成形時におけるせん断トルク、任意の成形圧力下での成形した場合のボンド磁石の相対密度等のいずれによっても、指標することができる。但し、本明細書では、相対密度をその流動性の指標とした。なぜなら、相対密度を測定した試料そのもので目的である永久減磁率を測定できるからである。ここで相対密度とは、原料の配合比から決る理論密度に対する、成形体の密度の比率である。
次に、実際に、種々の成形圧力下で成形した場合の成形圧力と、得られた成形体の相対密度との関係を調べた結果を図３に示した。同図中の■は、後述する第２実施例の試料Ｎｏ．２３の成形圧力を種々変更した場合の相対密度を示す。同様に、▲は試料Ｎｏ．２６に係る相対密度であり、◆は試料Ｎｏ．Ｈ１に係る相対密度である。
試料Ｎｏ．２６（▲）は、界面活性剤を付与したＮｄＦｅＢ系粗粉末およびＳｍＦｅＮ系微粉末と樹脂とを加熱混練したコンパウンドを使用してボンド磁石を成形した場合である。この場合、成形圧力が低い段階から相対密度が急増する。そして、成形圧力が１９８ＭＰａ（２ｔｏｎ／ｃｍ２）程度で、ほぼその相対密度が飽和状態に到達する。このため、所望の特性をもつボンド磁石を成形する際、非常に低い成形圧力で行うことができる。すなわち、優れた低圧成形性を発現する。この成形圧力の低減は、単に生産性の向上のみならず、Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末の割れ等をさらに抑制し、充填率の向上に起因する含有酸素量の低下による耐候性（永久減磁率）の向上にも有効である。さらには、限界付近までの充填率の引上げと、高い流動性による配向性の向上により、（ＢＨ）ｍａｘで代表される磁気特性が非常に高いレベルまで向上し得る。
試料Ｎｏ．２３（■）は、各磁性粉末と樹脂とを室温で混練したものを加熱磁場成形した場合である。この場合、成形圧力に対する相対密度の立上がりが鈍く、試料Ｎｏ．２６（▲）の場合のような低圧成形性は得られない。従って、所望のボンド磁石を得るには相当の高圧成形をしなければならない。もっともこの場合でも、表５を観れば明らかなように、耐候性（永久減磁率）は十分に優れたものとなっている。
試料Ｎｏ．Ｈ１（◆）は、加熱混練も加熱磁場成形もしなかった場合である。つまり、室温で混練および加圧成形を行った場合である。この場合、成形圧力に対する相対密度の立上がりがさらに鈍く、低圧成形性は得られない。さらに、表５を観れば明らかなように、耐候性（永久減磁率）および磁気特性もあまり優れたものではなかった。
試料Ｎｏ．２６（▲）の場合のように、低圧成形したボンド磁石であっても、非常に優れた磁気特性および耐候性が得られるのは、その加熱磁場成形中に出現する強磁性流体層に依るところが大きいと考えられる。この強磁性流体層は、前述しように、樹脂中にＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末が分散したものであって、Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末の周囲を囲繞しているものである。この強磁性流体層の機能は、主として流動性と均一分散性とに分けることができる。
流動性は、各磁石粉末の回転容易性および姿勢制御容易性の向上に寄与する。そして、異方性磁石粉末の充填率および配向性を高め、さらには、成形時のＲ１ＦｅＢ系粗粉末の割れ抑止に作用する。前述したように、充填率および配向性の向上は（ＢＨ）ｍａｘおよび永久減磁率を向上させ、Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末の割れ抑止は永久減磁率を向上させる。
均一分散性は、ボンド磁石成形時のＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末および樹脂の移動距離短縮化とＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末の偏在抑止に寄与する。これらは共にＲ１ＦｅＢ系粗粉末の構成粒子間に形成される空隙を埋めて充填率を向上させ、ボンド磁石の（ＢＨ）ｍａｘおよび永久減磁率を高める。また、Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末等の移動距離短縮化は、成形圧力を低減し低圧成形性を高めて、ボンド磁石の生産性向上に寄与する。また、Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末の偏在抑止は、この低圧成形性に伴う生産性向上に加えて、Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末の割れ抑止にも有効でボンド磁石の永久減磁率向上に寄与する。なお、この偏在抑止により、磁石の表面磁束の均一性も保持されて、量産時、ボンド磁石の品質が安定し易い。
このようにボンド磁石の成形時に出現する強磁性流体層の機能を客観的に対比可能とするために、本明細書では、特定条件下でボンド磁石を成形したときの相対密度を使用する。
主として、配向性、充填率および割れ抑止性の観点から、（ＢＨ）ｍａｘおよび永久減磁率に影響を及す前記流動性を指標する際には、成形温度１５０℃、磁場２．０ＭＡ／ｍ（２．５Ｔ）、成形圧力８８２ＭＰａ（工業上、最終的な製品成形時に付与される圧力）の条件下で加熱磁場成形したときに得られるボンド磁石の相対密度を使用する。
本発明のように、十分な流動性が得られる場合の相対密度は、９４〜９９％という非常に高い値となる。相対密度が９４％未満では、流動性が不十分で、Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末およびＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末の回転容易性や姿勢制御容易性も低い。このため、ボンド磁石の成形時における充填性、配向性および割れ抑止性も低下して、（ＢＨ）ｍａｘおよび永久減磁率に優れたボンド磁石が得られない。一方、相対密度の上限を９９％以下としたのは、それが量産レベルでの製造限界だからである。
ここでさらに十分な均一分散性を付与した場合（例えば、各磁性粉末と樹脂との加熱混練を行った場合）の相対密度は、９５〜９９％という非常に高い値となる。これは、均一分散性の付与により、Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末および樹脂の移動距離短縮化とＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末の偏在化防止によって、更に、流動性が増して充填率および割れ抑止効果が向上するからである。この結果、（ＢＨ）ｍａｘおよび永久減磁率の一層優れたボンド磁石が得られる。
次に、主として低圧成形性の観点から、生産性の向上に影響を及す前記均一分散性を指標する際には、成形温度１５０℃、磁場２．０ＭＡ／ｍ（２．５Ｔ）、成形圧力３９２ＭＰａの条件下で加熱磁場成形したときに得られるボンド磁石の相対密度を使用する。
ここでさらに十分な均一分散性を付与した場合（例えば、上記加熱混練を行った場合）の相対密度は、９２〜９９％という高い値となる。相対密度が９２％未満では、流動性が不十分で良好な低圧成形性が得られない。この相対密度の上限が９９％である理由は前述した通りである。
Ｂ．実施例
（ａ）第１実施例
（試料の製造）
（１）Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末の製造
▲１▼Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末の製造
本発明に係る実施例およびその比較例に使用されるＲ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末として、表１および表２に示す組成をもつ試料（ＮｄＦｅＢ系磁石粉末）をｄ−ＨＤＤＲ処理により製造した。具体的には、先ず、表１および表２に示した組成に調製した合金インゴット（３０ｋｇ程度）を溶解・鋳造して製造した。このインゴットにアルゴンガス雰囲気中で１１４０〜１１５０℃ｘ４０時間の均質化処理を施した（但し、試料Ｎｏ．５、６は除く）。さらに、このインゴットをジョークラッシャにより平均粒径が１０ｍｍ以下の粗粉砕物に粉砕した。この粗粉砕物に、次の条件の低温水素化工程、高温水素化工程、第１排気工程および第２排気工程とからなるｄ−ＨＤＤＲ処理を施した。すなわち、室温、水素圧力１００ｋＰａの水素ガス雰囲気下で、各試料合金へ十分に水素を吸収させた（低温水素化工程）。次に、８００℃で３０ｋＰａ（水素圧力）の水素ガス雰囲気下で、４８０分間の熱処理を施した（高温水素化工程）。引き続き、８００℃に保持したまま、水素圧力０．１〜２０ｋＰａの水素ガス雰囲気下で、１６０分間の熱処理を施した（第１排気工程）。最後に、６０分間、ロータリポンプおよび拡散ポンプで真空引きして、１０−１Ｐａ以下の真空雰囲気下で冷却した（第２排気工程）。こうして、１バッチ当たり、各１０ｋｇ程度のＮｄＦｅＢ系磁石粉末をそれぞれ作製した。なお、平均粒径は、ふるい分級後の各級の重量を測定し、おもみつき平均により求めた。これは、本明細書中の他の平均粒径についても同様である。
▲２▼界面活性剤の被覆
こうして得られた各組成からなるＮｄＦｅＢ系磁石粉末に、界面活性剤の溶液を加えて、攪拌させならがら真空乾燥させた（第１被覆工程）。界面活性剤の溶液は、シラン系カップリング剤（日本ユリカー株式会社製、ＮＵＣシリコーンＡ−１８７）をエタノールで２倍に稀釈したものである。但し、試料Ｎｏ．４については、界面活性剤の溶液として、チタネート系カップリング剤（味の素株式会社製、プレンアクトＫＲ４１（Ｂ））をメチルエチルケトンで２倍に稀釈したものを使用した。
こうして、界面活性剤で表面が被覆された粒子からなるＲ１ＦｅＢ系粗粉末（ＮｄＦｅＢ系粗粉末）が得られた。但し、表２中の試料Ｎｏ．Ｃ１については、界面活性剤の被覆を行わなかった。
（２）Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末の製造
先ず、Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末として、表１中の試料Ｎｏ．１〜８および表２中の各比較試料には、市販のＳｍＦｅＮ系磁石粉末（住友金属鉱山株式会社製）を使用した。また、表１中の試料Ｎｏ．９〜１２には、同じく市販のＳｍＦｅＮ系磁石粉末（日亜化学工業株式会社製）を使用した。いずれの試料の場合にも、前述したものと同様の界面活性剤の溶液を加えて、攪拌させならがら真空乾燥させた（第２被覆工程）。こうして、界面活性剤で表面が被覆された粒子からなる各種のＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末（ＳｍＦｅＮ系微粉末）が得られた。但し、表２中の試料Ｎｏ．Ｃ２については、この界面活性剤の被覆を行わなかった。
なお、界面活性剤の被覆方法は、上述のＮｄＦｅＢ系粗粉末やＳｍＦｅＮ系微粉末について行った方法には限られない。例えば、Ｒ１ＦｅＢ系異方性磁石粉末とＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末とをヘンシェルミキサー等で混合した後、界面活性剤の溶液を加えて攪拌させながら真空乾燥するという方法をとっても良い。
（３）複合希土類異方性ボンド磁石用コンパウンドの製造
上記ＮｄＦｅＢ系粗粉末とＳｍＦｅＮ系微粉末とを表１および表２に示した配合比（ｍａｓｓ％）で、ヘンシェエルミキサーによりそれぞれ混合した。その混合物に表１および表２に示した割合でエポキシ樹脂を加えて（混合工程）、バンバリーミキサーにより、１１０℃で加熱混錬を行ってコンパウンドを得た（加熱混練工程）。この混錬には、上記バンバリーミキサーの他、ニーダー等の混錬機を使用しても良い。
この加熱混練工程を行う温度は、そのエポキシ樹脂の軟化点以上であれば良く、例えば、９０〜１３０℃の範囲で行える。エポキシ樹脂の場合、９０℃未満では溶融状態とならなず、ＳｍＦｅＮ系微粉末を樹脂中に均一分散させることができない。また、この加熱混練温度がエポキシ樹脂の硬化点以上であっても、樹脂が磁石粉末の周りをコーティングし、均一に分散はし得る。但し、この場合、エポキシ樹脂の硬化が進行するため、その後に磁場配向させることができず、成形後の磁気特性が大幅に低下し得る。なお、ここで均一に分散とは、ＳｍＦｅＮ系微粉末とＮｄＦｅＢ系粗粉末との間にエポキシ樹脂が必ず存在している状態をいう。
今回使用した樹脂の軟化点は、９０℃で、硬化温度（硬化点）は１５０℃である。ここで、硬化温度は、その温度で３０分間加熱することで、樹脂の９５％が硬化反応を終了する温度とする。
（４）複合希土類異方性ボンド磁石の製造
得られた各種コンパウンドを用いて、磁気測定用ボンド磁石を製造した。このときの成形条件は、成形温度１５０℃、２．０ＭＡ／ｍの磁場中で（加熱配向工程）、成形圧力８８２ＭＰａ（９ｔｏｎ／ｃｍ２）の条件の下で加熱加圧成形した（成形工程）。
また、本発明の低圧成形性を確認するために、成形温度１５０℃、２．０ＭＡ／ｍの磁場中で（加熱配向工程）、成形圧力３９２ＭＰａ（４ｔｏｎ／ｃｍ２）の条件の下でも加熱加圧成形した（成形工程）。これらにより、いずれも７ｘ７ｘ７ｍｍの立方体状の成形体を得た。
これらの成形体に、空芯コイルを用いて励磁電流１００００Ａを加えることにより、４．０Ｔの磁場中で着磁を行い（着磁工程）、複合希土類異方性ボンド磁石とした。なお、成形工程には、圧縮成形に限らず、射出成形、押し出し成形等の公知の成形方法を利用しても良い。
（試料の測定）
（１）表１および表２に示す各試料からなる磁気測定用ボンド磁石について、磁気特性、永久減磁率および相対密度をそれぞれ測定した。具体的には次の通りである。
得られた各試料のボンド磁石の最大エネルギー積をＢＨトレーサー（理研電子販売株式会社製、ＢＨＵ−２５）で測定して求めた。永久減磁率は、成形されたボンド磁石の初期磁束と、１００℃の大気雰囲気中に１０００時間保持した後に再着磁して得られた磁束との差から、その減少分の初期磁束に対する割合を求めたものである。この磁束の測定には、電子磁気株式会社製、ＭＯＤＥＬ  ＦＭ−ＢＩＤＳＣを用いた。
相対密度は、前述した方法で求めた。すなわち、加圧成形後の成形体の寸法をマイクロメータで測定してその体積を算出し、電子天秤でその重量を測定することで、その成形体の密度を求めた。これを各試料の磁性粉末および樹脂の配合比から求まる理論密度で除して相対密度を求めた。
こうして得られた結果を表３および表４に示す。
（２）表１の試料Ｎｏ．１からなるボンド磁石について、ＳＥＭ観察した写真を図４〜６に示す。この写真は、島津製作所株式会社製、ＥＰＭＡ−１６００を用いて撮影したものである。
図４は、２次電子像を示す。図５は、Ｎｄ元素のＥＰＭＡ像を示す。この図５中では、青→黄→赤の順でＮｄ元素の濃度が濃くなっていることが示されており、大径粒子にＮｄが濃化していることから、その粒子がＮｄＦｅＢ系粉末粒子であることが解る。
図６は、Ｓｍ元素のＥＰＭＡ像を示す。この図６中では、青→黄→赤の順でＳｍ元素の濃度が濃くなっていることが示されている。この図６から、全ての大径粒子（ＮｄＦｅＢ系粉末粒子）の周囲全面が、ＳｍＦｅＮ系粉末粒子で覆いつくされていることと、ＮｄＦｅＢ系粉末からなる大径粒子間に形成された隙間にＳｍＦｅＮ系粉末の小径粒子が均一にかつ密に分散していることが解る。
（評価）
表１〜４から次のことが解る。
（１）実施例について
試料Ｎｏ．１〜１２のいずれの実施例も、本発明でいう平均粒径、配合比を備えたものである。いずれの試料からなるボンド磁石も、（ＢＨ）ｍａｘが１４４ｋＪ／ｍ３以上の高い磁気特性を示している。また、その経年劣化の指標となる永久減磁率は、全ての試料で６．５％以下という優れた特性を示した。特に、１００℃環境下での永久減磁率は、全ての試料で、５％以下という優れた特性を示した。また、ボンド磁石の加熱成形時におけるコンパウンドの流動性を指標する相対密度は、いずれも９２％以上という高密度である。特に、試料Ｎｏ．１〜１２の場合、成形圧力の相違による相対密度の変化が非常に小さい。つまり、低圧で成形した場合でも、十分に大きな相対密度が得られること、つまり、本発明の低圧成形性が確認された。
試料Ｎｏ．１〜３、７〜１０、１２は、磁気特性および耐候性の両立を重視したものである。これらの複合希土類異方性ボンド磁石は、（ＢＨ）ｍａｘが１６８ｋＪ／ｍ３以上という非常に優れた特性を示す。さらに、そのボンド磁石は、その優れた磁気特性と共に、従来の複合ボンド磁石では到達し得なかった永久減磁率−５．０％（１００℃）という非常に優れた耐候性をも発揮している。
上記試料Ｎｏ．１〜３のボンド磁石等をベースに、さらに、高温雰囲気での使用に適した耐候性を高めた複合希土類異方性ボンド磁石を試料Ｎｏ．４に示した。これは、試料Ｎｏ．１〜３のボンド磁石に比べて（ＢＨ）ｍａｘが１６４ｋＪ／ｍ３と僅かに低いものの、永久減磁率は−４％以下（具体的には−３．３％）という優れた耐候性を示している。
また、試料Ｎｏ．１〜３のボンド磁石等をベースに、一層の耐候性向上と製造コスト低減とを図った複合希土類異方性ボンド磁石を試料Ｎｏ．５、６に示した。これらのボンド磁石は、Ｂ含有量を高くすることで、均質化熱処理を省略し、製造コストの低減を図ったものである。また、酸素ゲッタとして機能するＬａを含有させることで、永久減磁率をさらに高めたものである。これらのボンド磁石は、試料Ｎｏ．１〜３のボンド磁石等に比べて（ＢＨ）ｍａｘが１４５ｋＪ／ｍ３、１５３ｋＪ／ｍ３と若干低くなっているものの、永久減磁率はいずれも−３．２％で非常に耐候性に優れたものとなっている。
さらに、試料Ｎｏ．１１のボンド磁石は、Ｒ１ＦｅＢ系粗粉末であるＮｄＦｅＢ系磁石粉末の配合量を低減した低コストタイプのものである。このボンド磁石では、（ＢＨ）ｍａｘが１４４ｋＪ／ｍ３と試料Ｎｏ．１〜３のボンド磁石等よりも若干低くなっているものの、永久減磁率は−４．５％であり優れた耐候性を示していることに変わりない。
（２）比較例について
▲１▼試料Ｎｏ．Ｃ１は、試料Ｎｏ．１のＮｄＦｅＢ系磁石粉末に界面活性剤の被覆を施さなかった場合である。試料Ｎｏ．Ｃ２は、試料Ｎｏ．１のＳｍＦｅＮ系磁石粉末に界面活性剤の被覆を施さなかった場合である。いずれの場合も、低圧成形（３９２ＭＰａ）した際の相対密度が低くなっている。これは、ボンド磁石の加熱成形時の流動性が低かったためと思われる。具体的には、試料Ｎｏ．Ｃ１の場合、ＮｄＦｅＢ系磁石粉末の表面に界面活性剤の被覆がないために、ボンド磁石の加熱成形中において、ＮｄＦｅＢ系磁石粉末と強磁性流体層との流動性が低かったためと思われる。このため、通常の工業レベルでの成形圧力である８８２ＭＰａで成形した時の永久減磁率は劣っている。試料Ｎｏ．Ｃ２の場合、ＳｍＦｅＮ系磁石粉末が樹脂中に十分に分散した強磁性流体層がそもそも形成されず、流動性が低かったためと思われる。これに伴い、同様に、通常の工業レベルでの成形圧力である８８２ＭＰａで成形した時の永久減磁率は劣っている。
▲２▼試料Ｎｏ．Ｄ１は、ＮｄＦｅＢ系磁石粉末の平均粒径が小さ過ぎた場合である。試料Ｎｏ．Ｄ２は、試料Ｎｏ．４に対して平均粒径が大き過ぎた場合である。いずれの場合も、（ＢＨ）ｍａｘが大きく低下している。従って、磁気特性の向上を図る上で、ＮｄＦｅＢ系磁石粉末の平均粒径が本発明の範囲内であることが重要である。
▲３▼試料Ｎｏ．Ｅ１は、試料Ｎｏ．１に対してＮｄＦｅＢ系粗粉末の配合量が少なかった場合である。試料Ｎｏ．Ｅ２は、その配合量が多すぎた場合である。ＮｄＦｅＢ系粗粉末の配合量が少ないと、その分磁気特性が低下している。逆に、その配合量が多くなると、相対的にＳｍＦｅＮ系微粉末の配合量が少なくなり、ＮｄＦｅＢ系粗粉末の全表面にＳｍＦｅＮ系微粉末が均一に分散できなくなる。その結果、ボンド磁石の加熱成形時の相対密度（流動性）が低下して、その分、永久減磁率も劣化している。
▲４▼試料Ｎｏ．Ｆ１は、試料Ｎｏ．４に対してＳｍＦｅＮ系微粉末の配合量が少なかった場合である。試料Ｎｏ．Ｆ２は、試料Ｎｏ．４に対して配合量が多すぎた場合である。ＳｍＦｅＮ系微粉末が少ない場合は、試料Ｎｏ．Ｅ２と同様に、ＳｍＦｅＮ系微粉末がＮｄＦｅＢ系粗粉末の全表面に均一に分散されなくなる。その結果、ボンド磁石の加熱成形時の相対密度（流動性）が低下して、その分、その永久減磁率および磁気特性が劣化している。ＳｍＦｅＮ系微粉末が多い場合は、試料Ｎｏ．Ｅ１と同様、相対的にＮｄＦｅＢ系粗粉末が少なくなり、磁気特性が劣化している。
▲５▼試料Ｎｏ．Ｇ１は、エポキシ樹脂の配合量が少なかった場合である。試料Ｎｏ．Ｇ２は、その配合量が多すぎた場合である。樹脂の配合量が少ないと、ボンド磁石を加熱成形際にできる強磁性流体層の形成が不十分となり、ＮｄＦｅＢ系粗粉末の流動性が失われて、永久減磁率が低下する。樹脂の配合量が多すぎると、相対的にＮｄＦｅＢ系粗粉末等の配合量が少なくなるため、ボンド磁石の磁気特性が低下する傾向となる。
以上のことから、磁気特性に優れ、経年劣化の少ないボンド磁石を得るためには、ＮｄＦｅＢ系粗粉末等のＲ１ＦｅＢ系粗粉末、ＳｍＦｅＮ系微粉末等のＲ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系微粉末および樹脂が、本発明でいう平均粒径や配合比を満たさなければならないことが確認された。
（ｂ）第２実施例
（試料の製造および測定）
ボンド磁石の成形に使用するコンパウンドの製造条件（混練温度）と、そのコンパウンドを用いてボンド磁石を成形する際の成形条件（成形温度および成形圧力）とを種々変更して、磁気特性、相対密度、永久減磁率および均一分散性について調べた結果を表５に示す。ここで使用したＮｄＦｅＢ系粗粉末、ＳｍＦｅＮ系微粉末および樹脂の種類と配合量は、第１実施例の試料Ｎｏ．１と同様である。また、各ボンド磁石の製造条件も第１実施例の場合と同様である。また、各試料からなるボンド磁石の測定も、第１実施例の場合と同様に行った。
（評価）
表５から次のことが解る。
▲１▼試料Ｎｏ．２１〜２４は、各磁性粉末と樹脂とを室温で混練して得たコンパウンドを使用したものである。この場合、各磁性粉末と樹脂とは物理的に混合するのみであり、コンパウンド中における樹脂分散性は低い。このため、相対密度が低く、低圧成形は困難である。
もっとも、加熱混練を行わない場合であっても、軟化点（９０℃）以上の加熱成形を行うと、ＮｄＦｅＢ系粗粉末とＳｍＦｅＮ系微粉末は界面活性剤で被覆されているため、その加熱成形中にできた樹脂の溶融層からなる流体層中に、ＳｍＦｅＮ系微粉末が強くなじみ、結果的に本発明でいう強磁性流体層が形成されるに至っていたと考えられる。この強磁性流体層に出現により、ボンド磁石の成形中に高い流動性が付与される。そして、磁石粉末の高充填性、高配向性、ＮｄＦｅＢ系粗粉末のマイクロクラックの抑止性（割れ抑止性）等が発現した結果、磁気特性および耐候性に優れた複合希土類異方性ボンド磁石が得られたと思われる。この場合、成形圧力を８８２ＭＰａや９８０ＭＰａまで高めることで、相対密度も十分に高まり、磁気特性および耐候性に優れたボンド磁石が得られる。また、加熱磁場成形中の温度を硬化点（１５０℃）以上とすることで、上記強磁性流体層による流動性が早期に得られる。
▲２▼試料Ｎｏ．２５、２６は、各磁性粉末と樹脂とを軟化点以上に加熱して混練して得たコンパウンドを使用したものである。この場合、コンパウンド中におけるＳｍＦｅＮ系微粉末の均一分散性が良好となっている。このため、低圧成形した際にも十分な相対密度および磁気特性が得られ、ボンド磁石の量産に好適な低圧成形性に優れることが解る。そして、強磁性流体層による流動性および均一分散性が高いために、同一成形圧での充填率もより高くなっている。その結果、磁気特性の向上と共に酸素の排除に伴う耐候性の向上が得られる。
また、加熱磁場成形中の温度を硬化点（１５０℃）以上とすることで、その成形中の流動性が増し、磁気特性や永久減磁率の向上、さらには、タクト短縮による量産性の向上が望める。
▲３▼試料Ｎｏ．Ｈ１の場合、各磁性粉末と樹脂とを室温混練すると共に室温磁場成形をしている。このため、ボンド磁石の成形時における樹脂中の磁石粉末の流動性や溶融した樹脂中での均一分散性および低圧成形性が悪く、各成形圧力での相対密度も一層低いものとなっている。この場合、高圧成形しても、相対密度も磁気特性も低いボンド磁石しか得られていない。
▲４▼試料Ｎｏ．Ｈ２は、各磁性粉末と樹脂とを熱硬化性樹脂の硬化点以上に加熱して混練し、さらに、その硬化点以上で加熱磁場成形したものである。硬化点以上で加熱混練した場合、各磁性粉末の表面を樹脂がコーティングしてコンパウンド中における均一分散性は良好である。しかし、この段階から熱硬化性樹脂の硬化が進行する。このため、その後の加熱磁場成形中で樹脂が軟化せず、ボンド磁石の成形時における樹脂中での磁石粉末の流動性が劣り、十分な磁場配向をさせることができないので、ボンド磁石の磁気特性は大きく低下したものとなる。
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【図面の簡単な説明】
図１Ａは、本発明に係る複合希土類異方性ボンド磁石用コンパウンドを模式的に示した図である。
図１Ｂは、従来のボンド磁石用コンパウンドを模式的に示した図である。
図２Ａは、本発明に係る複合希土類異方性ボンド磁石を模式的に示した図である。
図２Ｂは、従来のボンド磁石を模式的に示した図である。
図３は、成形圧力と相対密度との関係を示すグラフである。
図４は、本発明に係る複合希土類異方性ボンド磁石を観察したＳＥＭ２次電子像写真であり、ボンド磁石の金属粉末に注目したものである。
図５は、本発明に係る複合希土類異方性ボンド磁石を観察したＮｄのＥＰＭＡ像写真であり、ＮｄＦｅＢ系磁石粉末のＮｄ元素に注目したものである。
図６は、本発明に係る複合希土類異方性ボンド磁石を観察したＳｍのＥＰＭＡ像写真であり、Ｒ２Ｆｅ（Ｎ、Ｂ）系異方性磁石粉末のＳｍ元素に注目したものである。
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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