【事件の表示】
　特願２００８−７４８０１号「付着物除去装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２１年１０月８日出願公開、特開２００９−２２６３１０号〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯 
　本願は、平成２０年３月２４日の出願であって、平成２４年１２月１８日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、平成２５年３月１４日に拒絶査定不服審判の請求がなされたものである。
　
２．本願発明
　本願の特許請求の範囲の請求項１ないし４に係る発明は、平成２４年７月１７日に提出された手続補正書により補正された明細書、特許請求の範囲及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１ないし４に記載されたとおりのものであると認められるところ、請求項２に係る発明（以下「本願発明」という。）は、以下のとおりである。
「外部への電気力線の漏れがない状態で静電気によって物体の表面に付着している付着物を物体の表面から除去する付着物除去装置において、少なくともひとつの高電圧印加装置と、該高電圧印加装置によって高電圧が印加される電極と、イオンエアーブロー源からなり、前記付着物にイオンエアーをブローしながら、付着物の付着面の帯電と同極性の高電圧が印加される電極を、付着物または物体に近接あるいは接触して物体側に配置し、前記電極によって付着物を物体の表面から少なくとも部分的に離して外部に電気力線を露呈させ、外部に電気力線が露呈された付着物の部分の電荷を前記イオンエアーで除電し、付着物を除去することを特徴とする付着物除去装置。」
　
３．引用例
　これに対して、原査定の拒絶理由に引用された本願出願前に頒布された刊行物である特開平５−１５８６２号公報（以下「引用例１」という。）及び米国特許第５４１０１２２号明細書（以下「引用例２」という。）には、それぞれ以下の各事項が記載されている。
　
［引用例１について］
（１ａ）「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、イオン化エアーを吹き付け、ワーク表面に付着した微細な不純物・異物などの塵を除去する除塵装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、電極間に生じさせたコロナ放電により空気をイオン化し、このイオン化エアーによりワーク表面の静電気を中和除去し、ワーク表面に静電付着する塵を除く除電器は公知である。」
　
（１ｂ）「【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、単に空気をイオン化し、ワーク表面の静電気を除去しようとする手段では、十分な除塵効果を発揮し得ない。」
　
（１ｃ）「【００１１】
【作用】ノズル１より射出されるイオン化エアーがワーク２に吹き付けられる。
【００１２】このイオン化エアーによりワーク２に帯電する静電気が中和除去され、ワーク２表面に静電付着している塵６の付着力が失われ、且つエアー風圧により塵６は飛散され、除塵される。」
　
　以上の記載によると、引用例１には、
「イオン化エアーを吹き付け、ワーク表面に付着した微細な不純物・異物などの塵を除去する除塵装置であって、
　イオン化エアーによりワークに帯電する静電気が中和除去され、ワーク表面に静電付着している塵の付着力が失われ、且つエアー風圧により塵は飛散され、除塵される除塵装置。」の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
　
［引用例２について］（括弧内は日本語訳）
（２ａ）「This application relates to control of contaminating particles in materials processing.」（この出願は、材料処理における汚染粒子を制御することに関する。）（第１欄８〜９行参照）
　
（２ｂ）「The invention repels particles from the upper surface of a substrate in a plasma chamber by inducing positive or negative charge, or alternating charge, on the substrate without generating a gas plasma above the substrate. The repelled particles are then swept away from the substrate by a horizontal force generated, for example, by a high gas flow rate or by a magnetic field.」（本発明は、基板上におけるガスプラズマの生成なしで、基板に正または負電荷、あるいは交互の電荷を引き起こすことにより、プラズマチャンバー内の基板の上部表面から粒子を離す。そして該離された粒子は、例えば、高いガス流速または磁界によって生成される水平の力によって、基板から排除される。）（第２欄６２〜６８行参照）
　
（２ｃ）「Thus, as illustrated in FIG. 3A, those particles resting on the wafer may carry positive (+) or negative (-) charges. These charges are induced on the particles by contact with the plasma and by abrasion with the surfaces of the chamber. These charges are not easily removed in vacuo by mere contact with the wafer.
　As shown in FIG. 3B, when a positive charge is induced in the wafer, those particles which are positively charged are repelled from the surface of the wafer. Similarly, when a negative charge is induced in the wafer, those particles which are negatively charged are repelled from the surface of the wafer. Thus, to clear the wafer of particles, first the wafer is charged positively (as shown in FIG. 3B), and then a horizontal force is used to sweep the repelled (positively charged) particles out of the chamber. Once the positively charged particles are removed from the chamber, the wafer is charged negatively (as shown in FIG. 3C), repelling the negatively charged particles and allowing them to be swept out of the chamber.」（したがって、図３Ａに図示されるように、ウエハー上に存在するそれらの粒子は、正（＋）または負（−）電荷を保持しているかもしれない。これらの電荷は、プラズマとの接触及びチャンバーの表面との摩擦によって粒子上に引き起こされる。これらの電荷は、ウエハーとのわずかな接触により、減圧下では容易に取り除けない。
　図３Ｂに図示されるように、正電荷がウエハーに引き起こされるときは、正に荷電しているそれらの粒子はウエハーの表面から離される。同様に、負電荷がウエハーに引き起こされるときは、負に荷電しているそれらの粒子はウエハーの表面から離される。したがって、ウエハーから粒子を取り除くために、最初にウエハーは正に荷電され（図３Ｂに図示されるように）、そして上記離された（正に荷電している）粒子をチャンバーの外へ排出するために水平の力が用いられる。いったん正に荷電された粒子がチャンバーから取り除かれと、ウエハーは負に荷電され（図３Ｃに図示されるように）、負に荷電している粒子を離し、そしてそれらをチャンバーの外へ排出する。）（第４欄１１〜３１行参照）
　
（２ｄ）「Thus,・・・ particles can be removed from wafers by alternately charging the wafer positively and negatively, and generating a horizontal force (such as a gas flow) to sweep particles which are repelled from the wafer out of the chamber.」（したがって、・・・正または負にウエハーを交互に荷電することにより、粒子はウエハーから離され、そして、粒子をチャンバーの外へ排出するために水平の力（ガスフローのような）を発生する。）（第５欄５〜１０行参照）
　
　以上の記載によると、引用例２には、
「プラズマチャンバー内において、ウエハーから粒子を取り除くために、ウエハーは正（または負）に荷電され、正（または負）に荷電している粒子はウエハーの表面から離され、そしてガスフローにより該離された正（または負）に荷電している粒子をチャンバーの外へ排出する」技術が記載されている。
　
４．対比
　本願発明と引用発明とを対比すると、
　引用発明の「ワーク」、「塵」、「イオン化エアー」及び「除塵装置」は、それぞれ本願発明の「物体」、「付着物」、「イオンエアー」及び「付着物除去装置」に相当し、
　引用発明の「吹き付け」ることは、本願発明の「ブロー」することに相当し、
　引用発明は、イオン化エアーを吹き付けるものであるから、本願発明でいう「イオンエアーブロー源」を備えていることは明らかであり、
　また、引用発明は、イオン化エアーによりワークに帯電する静電気が中和除去されるものではあるが、塵の電荷も本願発明と同様にイオン化エアーで除電されることは明らかであるので、両者は、
「静電気によって物体の表面に付着している付着物を物体の表面から除去する付着物除去装置において、イオンエアーブロー源を備え、付着物にイオンエアーをブローし、付着物の電荷を前記イオンエアーで除電し、付着物を除去する付着物除去装置。」
　である点で一致し、以下の各点で相違する。
　
　相違点１；本願発明では、付着物の静電気による物体の表面への付着が、外部への電気力線の漏れがない状態であるとされているのに対し、引用発明では、そのような特定がない点。
　
　相違点２；本願発明では、少なくともひとつの高電圧印加装置と、該高電圧印加装置によって高電圧が印加される電極とを備え、付着物にイオンエアーをブローしながら、付着物の付着面の帯電と同極性の高電圧が印加される電極を、付着物または物体に近接あるいは接触して物体側に配置し、前記電極によって付着物を物体の表面から少なくとも部分的に離して外部に電気力線を露呈させ、外部に電気力線が露呈された付着物の部分の電荷を前記イオンエアーで除電しているのに対し、引用発明では、イオン化エアーを吹き付けているが、上記のような高電圧印加装置と組み合わせていない点。　
　
５．判断
　上記各相違点について検討すると、
・相違点１について
　付着物の静電気による物体の表面への付着が、外部への電気力線の漏れがない状態であるとは、本願の明細書の段落【０００４】に「ワーク、装置等と付着物間で電気力線のカップリングができてしまい、その結果外部への電気力線の漏れがなくなってしまう」、【０００８】に「図５ｂの拡大図で示すように、ワーク、装置１０等と付着物１２間で、ワーク、装置１０等の＋帯電（＋電荷）１４から、付着物の−帯電（−電荷）１６側に向かって電気力線の結合ができてしまい、電気力線は外部に漏れることがなく」との各記載及び図５ｂの拡大図を参酌すると、付着物が静電気により物体の表面へ付着している電気的な状態をいうものに過ぎなく、引用発明における塵のワーク表面への静電付着についても、同様な電気的な状態になっているものと認められる。
　よって、上記相違点１は、実質的な相違とは認められない。
　
・相違点２について
（ア）引用例２に記載された技術において、ウエハーの荷電は、粒子と同極性の荷電であり、「粒子」及び「ウエハー」は、それぞれ引用発明の「塵」及び「ワーク」に相当することから、引用例２に記載された技術は、ワーク表面に静電付着している塵をガスフローにより除去する際に、ワークを塵と同極性に荷電することにより、該粒子をワーク表面から離すものといえる。ここで、ワークを粒子と同極性の荷電することは、ガスフローによる塵の除去を容易にするための手段といえる。
　一方、引用発明に係る引用例１には、「単に空気をイオン化し、ワーク表面の静電気を除去しようとする手段では、十分な除塵効果を発揮し得ない」との技術課題が記載され（記載事項（１ｂ））、また、技術課題を解決するために種々の手段を組み合わせて用いることは当業者にとって通常の創作能力の発揮といえ、そして、引用発明と引用例２に記載された技術は、いずれも気体の流れを用いてワークから塵を除去する点では共通する技術である。
　よって、引用発明において、イオン化エアーを吹き付てワーク表面に付着した塵を除去する際に、その除去を容易にするため、引用例２に記載された上記手段、すなわち、ワークを塵と同極性に荷電することを組み合わせて用いることは、当業者が容易になし得たことである。また、そのように組み合わせて用いることの作用効果についても、当業者が容易に想到しうる範囲のものである。
（イ）引用例２に記載された技術において、ウエハー（ワーク）の荷電により粒子（塵）がウエハー表面から離れた状態（図３Ｂ及び図３Ｃに図示されている「粒子」の状態。）は、本願発明でいう「付着物を物体の表面から少なくとも部分的に離して外部に電気力線を露呈させ」た状態といえる。その状態において、イオン化エアーを吹き付ければ、粒子（塵）の荷電が除電できることは、当然の事項である。
（ウ）ワークを荷電するためには、何らかの電圧印加装置を用い、電圧が印加される電極（または接地される電極）を該ワークに接触させることが必要なことは当然の事項であり、また、荷電するのに高電圧を用いることは周知の技術である。
　
　上記（ア）〜（ウ）より、引用発明において、引用例２に記載された技術を参酌し、上記相違点２に係る本願発明のようになすことは、当業者が容易になし得たことである。
　
　したがって、本願発明は、引用発明及び引用例２に記載された技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
６．むすび
　以上のとおり、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、本願は、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、拒絶をすべきものである。
　よって、原査定は妥当であり、結論のとおり審決する。