【事件の表示】
　特願２００１−５４２３５７「ガスクラスターイオンビームを用いた基材表面の処理方法及び処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　６月　７日国際公開、ＷＯ０１／４１１８１、平成１５年　７月１５日国内公表、特表２００３−５２１８１２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　本願は、２０００年１２月６日（パリ条約による優先権主張　外国庁受理　１９９９年１２月６日　米国）を国際出願日とする出願であって、平成１４年６月１７日付けで手続補正書が提出され、平成２２年９月２４日付けで拒絶理由が通知され、平成２３年２月９日付けで意見書及び手続補正書が提出され、同年３月２３日付けで最後の拒絶理由が通知され、同年９月２９日付けで意見書及び手続補正書が提出されたが、同年１１月１日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、平成２４年３月６日付けで拒絶査定不服審判が請求されたものである。
　
第２　本願発明
　本願の請求項１〜７に係る発明は、平成２３年９月２９日付け手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１〜７に記載された事項により特定されるとおりのものであるところ、請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、次のとおりのものである。
「【請求項１】
　基材表面の処理方法であって、
　（ａ）複数の原子または分子を含んだガスクラスター粒子と、ガスモノマーとを含んで成るビームを形成するために圧縮ガスを使用するステップと、
　（ｂ）該ガスクラスター粒子と該ガスモノマーとをイオン化するステップと、
　（ｃ）前記ガスクラスター粒子と前記ガスモノマーとを加速するステップと、
　（ｄ）長い焦点距離を実現するためにレンズの組み合わせを使用して、加速された前記ガスクラスター粒子と前記ガスモノマーとを焦点処理するステップと、
　（ｅ）前記ガスモノマーを除去するために、永久磁石ビームフィルターを用いて焦点処理された前記ガスクラスター粒子と前記ガスモノマーとを濾過するステップと、
　（ｆ）減圧雰囲気中で、加速されて磁気的に濾過された前記ガスクラスター粒子を基材表面に照射するステップと、
を含むことを特徴とする方法。」
　
第３　刊行物等から認定される技術事項
　１．引用刊行物の記載事項
　原査定の拒絶の理由で「引用文献１」として引用された、本願の優先日前に日本国内で頒布された刊行物である特開平４−１９８４７５号公報（以下、「引用刊行物」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている。
　
（刊ａ）「２．特許請求の範囲
（１）原子または分子からなるイオン化クラスタビームを発生する発生源と、
　イオン化クラスタの進行線上に設置した２つのスリットと、
　前記２つのスリット間に設置され、イオン化クラスタの進行線に対して垂直な磁場を発生する電磁石とを有することを特徴とする蒸着装置。」（第１ページ左下欄第４〜１１行）
　
（刊ｂ）「〔従来の技術］
　半導体の表面保護膜や光学材料の表面処理などには、緻密で結晶性の良い膜を制御性良く形成することが求められている。これには、堆積させる原子または分子をイオン化・加速してエネルギーを与えることが有効である。このような装置の一つとして、数百から数千の原子（分子）からなるクラスタをイオン化・加速して堆積させる、イオン化クラスタビーム蒸着装置がある。」（第１ページ右下欄第２〜１０行）
　
（刊ｃ）「第３図に従来のイオン化クラスタビーム蒸着装置の概略図を示す。るつぼ加熱用電子線照射源３により加熱されたるつぼ２のノズルから噴出してクラスタ化した蒸着物質１は、イオン化用電子線照射源４から出た電子線によってイオン化される。イオン化したクラスタは加速電極５によって加速される。」（第２ページ左上欄第１〜７行）
　
（刊ｄ）「かかる構成のイオン化クラスタビーム発生装置においては、発生するクラスタサイズの分布は、るつぼ内部の蒸気圧、るつぼ内に存在する蒸発物質の量、るつぼのノズル大きさと形状、および真空槽内の真空度によって変化する。」（第２ページ左上欄第１６〜２０行）
　
（刊ｅ）「さらに、クラスタサイズの分布中には数原子（分子）以下のサイズの小さなクラスタまたは単原子（分子）も含まれている。これらは、単原子（分子）あたりのエネルギーが大きく、また速度も大きいため、ダメージに弱い基板材料、たとえばＨｇを含む化合物半導体基板上に、このサイズの小さなクラスタを堆積させると、基板材料表面の劣化を招く恐れがある。この事情はダメージに弱い材料をイオン化クラスタにして堆積させる場合についても同様である。
　本発明はイオン化クラスタビームのクラスタサイズを制御することによって、サイズの小さなクラスタによるダメージをなくすこと、およびイオン化クラスタの原子（分子）１個当りのエネルギーを再現性良く制御することを目的とする。」（第２ページ右上欄第１０行〜左下欄第４行）
　
（刊ｆ）「図において、２は蒸着物質を収容するるつぼ、３はるつぼ加熱用電子線照射源、４はイオン化用電子線照射源、５は加速電極であり、これらによりイオン化クラスタビーム源１０が構成される。
　さらに、シャッタ６とビーム源１０との間には、電磁石１３と、電磁石１３の前後に配したスリット１２，１４及び収束レンズ１１，１５とを有する。
　実施例において、イオン化クラスタビーム源１０から発生したイオン化クラスタビームは、収束レンズ１１によって発散をおさえられた後、第１のスリット１２を通ってイオン化クラスタの進行方向に対して垂直な磁場を発生する電磁石１３内に導入され、磁場による偏向をうける。第２のスリット１４を通過できるのは、構成原子（分子）数の大きな、すなわち質量が大きく磁場による偏向をあまり受けないイオン化クラスタのみであるから、質量の小さなイオン化クラスタまたは単原子（分子）イオンは取り除かれる。第２のスリット１４を通過したイオン化クラスタは、収束レンズ１５によって再び発散を抑えられ、蒸着基板７に堆積する。したがって、蒸着基板７の表面に与えるダメージが取り除かれる。第２のスリット１４を通過するイオン化クラスタの質量は下限の磁場の強さ及び第２のスリット１４の幅を変えることによって制御する。」（第３ページ左上欄第１５行〜右上欄第２０行）
　
（刊ｇ）「磁場を用いた質量分離では、イオンの進行方向から数１０°離れた位置にスリットを置き、磁場を調節することによって任意の質量のイオンをスリットから取り出すのが普通である。しかし、イオン化クラスタの比電荷は、通常のイオンの数百分の一から数千分の一しかないため、通常の方法でサイズの大きなイオン化クラスタを取りだそうとすると、実現が困難なほどの強磁場を必要とする。しかし本発明の方式を用いれば、通常の方式で必要とする磁場の数百分の一以下の磁場でイオン化クラスタの質量分離を行うことができる。また、この質量分離方式ではクラスタイオンが負イオンの場合でも磁場の向きを変える必要がない。」（第３ページ左下欄第８〜２０行）
　
（刊ｈ）第１図から、「蒸着基板７」が「真空槽９」中に設置されることが看取される。
　
　２．周知文献の記載事項
　本願の優先日前に日本国内又は外国において頒布された刊行物である国際公開第９７／３２３３６号（以下、「周知文献１」という。）、特表平８−５１１６５８号公報（以下、「周知文献２」という。）、特開平６−１３７９８６号公報（以下、「周知文献３」という。）、実願平４−３５３５４号（実開平５−９４９４４号）のＣＤ−ＲＯＭ（以下、「周知文献４」という。）、特開平３−２５３５８６号公報（以下、「周知文献５」という。）及び実願平５−４０５５２号（実開平７−７０６０号）のＣＤ−ＲＯＭ（以下、「周知文献６」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている。
　
（１）周知文献１（国際公開第９７／３２３３６号。「（）」内の当審による仮訳は、パテントファミリーである特表２０００−５０５５８９号公報に基づくものである。）
・「Downstream of the skimmer, the positively charged clusters are accelerated to form a narrow, coherent ion beam by an extraction lens 40. Such narrow beam is focused by an electrostatic lens system 42 or einzel lens which provides the focused particle beam 20 entering the mass selector 10 via the inlet aperture 18.」（第９ページ第８〜１２行）
（スキマーの下流では、正電荷のクラスタが加速されて、抽出レンズ４０によって細く、凝縮したイオンビームを形成する。このような細いビームは、静電レンズシステム４２や、入口開口部１８を通って質量選別器１０に入る集束した粒子のビーム２０を形成する「アインゼルレンズ」によって集束される。）
・「The einzel lens 42 is also of the 3-electrode type, being charged at -200 V, -400 V and -200 V, respectively. The einzel lenses 44 and 68 are similarly both of the 3-electrode type, being charged at -200 V, -550 V and -200 V, respectively.」（第１２ページ第９〜１２行）
（アインゼルレンズ４２もまた、それぞれ、−２００Ｖ、−４００Ｖ、および−２００Ｖに印加されている３電極型である。アインゼルレンズ４４および６８も、同じように、両方とも３電極型で、それぞれ、−２００Ｖ、−５５０Ｖ、および−２００Ｖで充電されている。）
・「If the measured cluster beam current is satisfactory, the quadrupole deflector 54 is switched off and the cluster beam is focused onto the substrate 70 in the chamber 66 using the einzel lenses 44 and 68.」（第１４ページ第６〜９行）
（測定したクラスタビームの電流が満足のゆくものであった場合は、四重極デフレクタ５４のスイッチが切れ、クラスタビームは、アインゼルレンズ４４および６８を使って小室６６の中の基板７０上に集束される。）
・第２図から、「einzel lens 42」（アインゼルレンズ４２）及び「einzel lenses 44」（アインゼルレンズ４４）が、３つの電極から構成されることが看取される。
　
（２）周知文献２（特表平８−５１１６５８号公報）
・「３つの電極２８，３０および３２は、ここではアインゼル（Einzel）レンズ、または、さらに一般的には、キャビティーから抽出されるイオンビームの幾何学的な特性を調整するためのイオン光学システムを形成する。このイオン光学システムは、ソースの抽出電極２４と相互に作用し、このイオン調整光学システムの機能の１つは、走査磁石７の対物焦点の上に、キャビティーから抽出されるイオンビームの焦点を合わせることであって、この焦点合わせは、イオンビームを走査部品の中へ完全に通過させる。」（第１５ページ第８〜１４行）
・図２には、「アインゼル（Einzel）レンズ」を形成する「３つの電極２８，３０および３２」が図示されている。
　
（３）周知文献３（特開平６−１３７９８６号公報）
・「【００１８】質量分析部３００は、イオンソース室３０１、希土類磁石を使用した６０度偏向型のセクタ型磁場３０２、イオンコレクタ室３０３からなる。検知ガス透過膜１０６を透過した検知ガス（ヘリウム）と大気ガスはイオンソース室３０１でイオン化され、加速電極、スリットを通って、セクタ型磁場３０２で目的の質量数のイオンのみが弁別され、イオンコレクタ室３０３でイオン電流が検出される。」（段落【００１８】）
・「【００３０】なお、磁場偏向型の場合、一般に、質量走引法は、永久磁石を用いて、イオン化ガスの加速電圧を変える方法と、電磁石を用いて、電磁石の励磁電流を変える方法があるが、本発明の目的には、小型化、低価格化、高速走引の点で永久磁石を用いる方法が好ましい。一方、四重極型マスフィルターの場合、数秒以内の高速走引は容易であるが、磁場偏向型に較べ、高周波電源の価格が高く、電源の小型化が図りにくい欠点がある。以上の理由から、永久磁石を用いた磁場偏向型のヘリウムガス検知法が、本発明の目的には最も適している。」（段落【００３０】）
　
（４）周知文献４（実願平４−３５３５４号（実開平５−９４９４４号）のＣＤ−ＲＯＭ）
・「【０００８】
　　【考案が解決しようとする課題】
　上記の従来の電磁石を用いる質量分離計では、電磁石およびその電源が大形で重量の重い装置となる欠点があった。
　　　【０００９】
　また、従来のヘリウムディテクタでは磁場をヘリウムのみ検出できるように永久磁石を固定して用いているのでヘリウムしか検出できないものであった。
　　　【００１０】
　本考案は、上記事情に鑑みてなされたもので、簡易な装置構成で、所望とするガスの検知及び小型、軽量化が可能であるガス検知装置を提供することを目的としている。
　　　【００１１】
　　【課題を解決するための手段】
　上記目的を達成するため本考案は、供給される気体をイオン化し、このイオン化気体に磁場を与えて質量分離することにより特定の気体を検知するガス検知装置において、前記磁場は交換可能に構成される永久磁石によって任意の磁場が形成されることを要旨とする。」（段落【０００８】〜【００１１】）
　
（５）周知文献５（特開平３−２５３５８６号公報）
・「ここで、第７図に、磁場偏向型質量分析器の一例を斜視図で示す。
　この装置には、一様な磁場（約１０００ガウス）を発生させるための永久磁石３６２と継鉄３６１、アパーチャ３６０、偏向管３６３、コレクタ３６４、ケース３６５が配置されている。偏向管３６３、ケース３６５には直流電源が、コレクタ３６４には電流計が結線されている。
　偏向管３６３には、約１０００ガウスの磁場がかかっているため、アパーチャ３６０から偏向管３６３に入ってきたイオンのうち、特定の質量をもつイオンのみが円軌道を描き、コレクタ３６４に流入し、電流として検出される。この円軌道の半径は、イオンのラーモア半径として知られている。」（第９ページ右下欄第１５行〜第１０ページ左上欄第９行）
　
（６）周知文献６（実願平５−４０５５２号（実開平７−７０６０号）のＣＤ−ＲＯＭ）
・「【００１０】
　本考案は、Ｅ×Ｂフィルタ方式によらずに、磁界内でのイオンのラーマー運動を利用したイオンの質量分離機構を有するイオンビ−ム引出し電極系装置の提供を目的とするものである。」（段落【００１０】）
・「【００１３】
　　【作用】
　引出し電極を通過したイオンは、磁界によってラーマー運動を行い、イオンビ−ムは曲げられる。曲がり方は、質量の小さいバランスガスイオンは大きく、同イオンより質量の大きいドーパントイオンは小さく、両イオンの分離を行うことができる。」（段落【００１３】）
・「【００１５】
　　【実施例】
　本考案の実施例について図面を参照して説明する。図１は、ビーム引出し電極系の断面図であり、図２，図３と同一符号は同一もしくは同等部分を示す。イオン源のソースプラズマからプラズマ電極１及び引出し電極２によってイオンビームが引出される。引出し電極２及び電子抑制電極５の間のビームが通る空間部に、点線枠で示すように永久磁石１７を対向配置することにより、紙面と垂直方向に磁界Ｂが形成されている。」（段落【００１５】）
　
　３．引用刊行物に記載された発明
（１）上記「１．」の記載事項（刊ａ）（以下、「摘記刊ａ」という。（刊ｂ）〜（刊ｈ）についても同様。）から、引用刊行物には直接的には「蒸着装置」についての発明が記載されているが、同引用刊行物から「蒸着方法」についての発明も理解できるものである。
　
（２）摘記刊ｆの「イオン化クラスタビーム源１０」を構成する「２は蒸着物質を収容するるつぼ、３はるつぼ加熱用電子線照射源、４はイオン化用電子線照射源、５は加速電極」との記載で示された各構成要素は、摘記刊ｃの「従来のイオン化クラスタビーム蒸着装置」における「るつぼ２」、「るつぼ加熱用電子線照射源３」、「イオン化用電子線照射源４」及び「加速電極５」との各構成要素に対応するものである。また、引用刊行物の図面を参照すると、実施例を表す第１図に示された「るつぼ２」、「るつぼ加熱用電子線照射源３」、「イオン化用電子線照射源４」及び「加速電極５」からなる「イオン化クラスタビーム源１０」の構成と、従来のイオン化クラスタビーム蒸着装置を表す第３図に示された「るつぼ２」、「るつぼ加熱用電子線照射源３」、「イオン化用電子線照射源４」及び「加速電極５」からなる部分の構成とは、各構成の配置関係等も含め、差異が認められない。さらに、摘記刊ｆの「イオン化クラスタビーム源１０」から発生する「イオン化クラスタビーム」は、摘記刊ｃの「るつぼ２」、「るつぼ加熱用電子線照射源３」、「イオン化用電子線照射源４」及び「加速電極５」からなる部分から発生する「クラスタ」とは、「イオン化」され「加速」されたものである点で実質的に相違のないものである。以上のことから、摘記刊ｆの「イオン化クラスタビーム源１０」は、摘記刊ｃの「従来のイオン化クラスタビーム蒸着装置」における「るつぼ２」、「るつぼ加熱用電子線照射源３」、「イオン化用電子線照射源４」及び「加速電極５」からなる部分と同一の構成及び機能を有することが理解できる。
　したがって、摘記刊ｃにおいて、「従来のイオン化クラスタビーム蒸着装置」における「るつぼ２」、「るつぼ加熱用電子線照射源３」、「イオン化用電子線照射源４」及び「加速電極５」からなる部分について記載された、「るつぼ加熱用電子線照射源３により加熱されたるつぼ２のノズルから噴出してクラスタ化した蒸着物質１は、イオン化用電子線照射源４から出た電子線によってイオン化される。イオン化したクラスタは加速電極５によって加速される。」との事項は、摘記刊ｆで示された蒸着方法においても採用されていることは明らかである。
　
（３）摘記刊ｂ、摘記刊ｄ、摘記刊ｅ及び摘記刊ｆから、クラスタサイズの分布中には、「数百から数千の原子（分子）からなるクラスタ」と、「単原子（分子）」とが含まれていることが理解される。
　
（４）摘記刊ｆから、「イオン化クラスタビーム源１０から発生した」もの、すなわち加速電極５によって加速されたものが「イオン化クラスタビーム」であり、当該「イオン化クラスタビーム」が、「収束レンズ１１によって発散をおさえられ」、その後、「イオン化クラスタの進行方向に対して垂直な磁場を発生する電磁石１３内に導入され、磁場による偏向をうけ」、「質量の小さなイオン化クラスタまたは単原子（分子）イオンは取り除かれ」、さらにその後、「イオン化クラスタは、」「蒸着基板７に堆積する。」ことが理解される。
　
（５）摘記刊ｈから、イオン化クラスタが蒸着基板７に堆積するのは「真空槽９」中であることが理解される。
　
　上記（１）〜（５）を整理すると、引用刊行物には、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認める。
　
「蒸着方法であって、るつぼ加熱用電子線照射源３により加熱されたるつぼ２のノズルから噴出してクラスタ化した蒸着物質１を得て、クラスタサイズの分布中には、数百から数千の原子（分子）からなるクラスタと、単原子（分子）とが含まれており、クラスタ化した蒸着物質１をイオン化用電子線照射源４から出た電子線によってイオン化し、イオン化したクラスタを加速電極５によって加速してイオン化クラスタビームとし、収束レンズ１１によってイオン化クラスタビームの発散を抑え、その後、イオン化クラスタビームがその進行方向に対して垂直な磁場を発生する電磁石１３内に導入され、磁場による偏向を受け、質量の小さなイオン化クラスタまたは単原子（分子）イオンが取り除かれ、さらにその後、真空槽９中でイオン化クラスタが蒸着基板７に堆積する、方法。」
　
第４　対比
　本願発明と引用発明とを対比する。
　
　１．引用発明の「るつぼ加熱用電子線照射源３により加熱されたるつぼ２のノズルから噴出してクラスタ化した蒸着物質１」に含まれている、「数百から数千の原子（分子）からなるクラスタ」及び「単原子（分子）」は、「蒸発」（摘記刊ｄ）されたものであるから、明らかに「ガス」の状態である。したがって、引用発明の「数百から数千の原子（分子）からなるクラスタ」及び「単原子（分子）」は、それぞれ本願発明の「複数の原子または分子を含んだガスクラスター粒子」及び「ガスモノマー」に相当する。
　さらに、引用発明では、「るつぼ加熱用電子線照射源３により加熱されたるつぼ２のノズルから噴出」することで「クラスタ化した蒸着物質１」を得ており、上記の「噴出」されるものは上記のとおりガスであるから、当該ガスを使用することで、「クラスタ化した蒸着物質１」、すなわち数百から数千の原子（分子）からなるクラスタと、単原子（分子）とを含んでなるものを形成している。
　したがって、引用発明の「るつぼ加熱用電子線照射源３により加熱されたるつぼ２のノズルから噴出してクラスタ化した蒸着物質１を得」るとの事項は、「複数の原子または分子を含んだガスクラスター粒子と、ガスモノマーとを含んで成る」ものを形成するために「ガスを使用するステップ」である点において、本願発明の「複数の原子または分子を含んだガスクラスター粒子と、ガスモノマーとを含んで成るビームを形成するために圧縮ガスを使用するステップ」との事項と共通する。
　
　２．引用発明の「蒸着基板７」は、本願発明の「基材」に相当する。また、引用発明では、イオン化クラスタが蒸着基板７に堆積されるのであるから、イオン化クラスタが蒸着基板７表面に照射されることは当然である。
　本願発明の「表面の処理」は、ガスクラスターを基材の表面に照射することで、当該基材の表面を処理するという意味合いのものであり、本願明細書で例示されている「材料表面のエッチング、清浄および平滑化」（段落【０００５】）に限られるものではない。他方、引用発明の「蒸着」も、ガスの状態であるクラスタ化した蒸着物質１を蒸着基板７に堆積するもの、すなわちガスクラスターを基材の表面に照射することで、当該基材の表面状態に変化を与えるものである。
　また、一般に「表面の処理」という技術用語は、本願明細書で例示されている「材料表面のエッチング、清浄および平滑化」の意味に限定されるものではなく、塗装、コーティング、粗面化及び硬化等の様々な意味を包含するものとして解釈するのが普通である。そうすると、引用発明における「蒸着」は、蒸着基板７の表面状態に変化を与えるものであるから、「表面の処理」の一種であると解釈するのが自然である。
　さらに、引用刊行物には、イオン化クラスタビーム蒸着装置による「堆積」が、「緻密で結晶性の良い膜を制御性良く形成することが求められている」「光学材料の表面処理」（摘記刊ｂ）において実施される旨示されている。
　したがって、引用発明における「蒸着方法」は、本願発明の「基材表面の処理方法」に相当するものである。
　
　３．引用発明の「クラスタ化した蒸着物質１をイオン化用電子線照射源４から出た電子線によってイオン化し」との事項及び「イオン化したクラスタを加速電極５によって加速し」との事項は、それぞれ本願発明の「該ガスクラスター粒子と該ガスモノマーとをイオン化するステップ」との事項及び「前記ガスクラスター粒子と前記ガスモノマーとを加速するステップ」との事項に相当する。
　
　４．本願明細書では、本願発明の「焦点処理」について、「ガスクラスター粒子を焦点に集め」（段落【００３３】）るとの記載がある。一方、引用発明の「収束レンズ１１」は、加速電極５によって加速して得たイオン化クラスタビームについて、これを「収束」し、その「発散を抑え」ているが、このことは、イオン化クラスタビームを焦点に集めていることと実質的に同じことである。
　したがって、引用発明の「収束レンズ１１によってイオン化クラスタビームの発散を抑え」との事項は、「レンズ」「を使用して、加速された前記ガスクラスター粒子と前記ガスモノマーとを焦点処理するステップ」である点において、本願発明の「長い焦点距離を実現するためにレンズの組み合わせを使用して、加速された前記ガスクラスター粒子と前記ガスモノマーとを焦点処理するステップ」との事項と共通する。
　
　５．引用発明の「電磁石１３」は、収束レンズ１１を通過したイオン化クラスタビームから、質量の小さなイオン化クラスタまたは単原子（分子）（前記「１．」のとおり、本願発明の「ガスモノマー」に相当。）のイオンを取り除くという機能を有するのであるから、「ガスモノマーを除去するため」に用いられる「磁石ビームフィルター」である点において、本願発明の「永久磁石ビームフィルター」と共通する。
　そうすると、引用発明の「イオン化クラスタの進行方向に対して垂直な磁場を発生する電磁石１３内に導入され、磁場による偏向を受け、質量の小さなイオン化クラスタまたは単原子（分子）イオンが取り除かれ」るとの事項は、「前記ガスモノマーを除去するために」「磁石ビームフィルターを用いて焦点処理された前記ガスクラスター粒子と前記ガスモノマーとを濾過するステップ」である点において、本願発明の「前記ガスモノマーを除去するために、永久磁石ビームフィルターを用いて焦点処理された前記ガスクラスター粒子と前記ガスモノマーとを濾過するステップ」との事項と共通する。
　
　６．引用発明における、イオン化クラスタの蒸着基板７への堆積は、「真空槽９中」でなされるのであるから、減圧雰囲気中でなされることは明らかである。また、ここでのイオン化クラスタは、加速電極５によって加速され、電磁石１３によって磁気的に濾過されたものである。
　したがって、引用発明の「真空槽９中でイオン化クラスタが蒸着基板７に堆積する」との事項は、本願発明の「減圧雰囲気中で、加速されて磁気的に濾過された前記ガスクラスター粒子を基材表面に照射するステップ」との事項に相当する。
　
　よって、両者は、次の点で一致する。
＜一致点＞ 
　基材表面の処理方法であって、
　（ａ）複数の原子または分子を含んだガスクラスター粒子と、ガスモノマーとを含んで成るものを形成するためにガスを使用するステップと、
　（ｂ）該ガスクラスター粒子と該ガスモノマーとをイオン化するステップと、
　（ｃ）前記ガスクラスター粒子と前記ガスモノマーとを加速するステップと、
　（ｄ）レンズを使用して、加速された前記ガスクラスター粒子と前記ガスモノマーとを焦点処理するステップと、
　（ｅ）前記ガスモノマーを除去するために、磁石ビームフィルターを用いて焦点処理された前記ガスクラスター粒子と前記ガスモノマーとを濾過するステップと、
　（ｆ）減圧雰囲気中で、加速されて磁気的に濾過された前記ガスクラスター粒子を基材表面に照射するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
　
　そして、両者は、次の３点（相違点１〜相違点３）で相違する。
＜相違点１＞ 
　（ａ）のステップにおいて、本願発明では、複数の原子または分子を含んだガスクラスター粒子と、ガスモノマーとを含んで成る「ビーム」を形成するために「圧縮ガス」を使用するのに対して、引用発明では、るつぼ２のノズルから噴出してクラスタ化した、数百から数千の原子（分子）からなるクラスタと、単原子（分子）とを含んで成るものが「ビーム」であるとの特定がなく、また、これを形成するために使用するガスが「圧縮ガス」であるとの特定がない点。
　
＜相違点２＞
　（ｄ）のステップにおいて、本願発明では、「長い焦点距離を実現するために」レンズの「組み合わせ」を使用しているのに対して、引用発明では、レンズを用いることについて、「長い焦点距離を実現するために」との特定がなく、また、その「組み合わせ」を使用することについての特定がない点。
　
＜相違点３＞
　（ｅ）のステップにおいて、本願発明では、「永久磁石」ビームフィルターを用いているのに対して、引用発明では、イオン化クラスタビームから単原子（分子）イオンを取り除く手段として「電磁石」を用いている点。
　
第５　相違点についての判断
　１．相違点１について
（１）上記「第４　１．」のとおり、引用発明における「るつぼ２のノズルから噴出してクラスタ化した蒸着物質１」は、ガスの状態であって、数百から数千の原子（分子）からなるクラスタと、単原子（分子）とが含まれている。そして、当該「クラスタ化した蒸着物質１」を得るにあたり、「ノズル」という一般に高圧の、すなわち圧縮された流体を吐出する部材が使用され、しかも当該「クラスタ化した蒸着物質１」は、ノズルから「噴出」、すなわち強い勢いで噴き出ている。したがって、当該「クラスタ化した蒸着物質１」は、圧縮ガスであるとの明記はないものの、実質的には、ある程度圧縮されたガスであると考えられる。
　また、本願発明においては、圧縮ガスを使用することで、複数の原子または分子を含んだガスクラスター粒子及びガスモノマーが形成されており、引用発明においても、ノズルからのガスの噴出によって、クラスタ化した蒸着物質１、すなわち数百から数千の原子（分子）からなるクラスタ及び単原子（分子）を含むものが形成されている。このような作用の共通性からも、引用発明における、クラスタ化した蒸着物質１を得るために使用する、ノズルから噴出されるガスが、圧縮ガスであると考えられる。
　
（２）また、一般に「ノズルから噴出」されたガスは、直線状に進むのが普通である。そして、引用発明におけるノズルから噴出された「クラスタ化した蒸着物質１」も、「イオン化用電子線照射源４」及び「加速電極５」の順に直線状に進むから、その態様は実質的に、微小な複数の物質が並進する「ビーム」に相当するものである。
　
（３）以上のことから、引用発明において、るつぼ２のノズルから噴出してクラスタ化した、数百から数千の原子（分子）からなるクラスタと、単原子（分子）とを含んで成るものは、実質的に「ビーム」であり、また、これを形成するために使用するガスは、実質的に「圧縮ガス」である。
　したがって、相違点１は実質的なものではない。
　
（４）なお、仮に、本願明細書の「高電圧電極１２６によるビーム形成」（段落【００５４】）との記載から本願発明の「ビーム」が「加速するステップ」を経た後のものであると解釈したとしても、引用発明においても、イオン化したクラスタを加速電極５によって加速したものは「イオン化クラスタビーム」であるから、この場合でも相違点１は実質的なものではない。
　また、圧縮ガスを利用してクラスタ化を実施することは、本願の優先日前に日本国内で頒布された刊行物である特開平８−１６８９６１号公報に「２気圧以上の圧力で供給されたガスを超音速で噴射させ、・・・（略）・・・減圧雰囲気に保たれた容器中に断熱膨張させる。その結果、凝集して得られた粒子塊ビームの形を成形するスキマーからなるガスクラスター源を用いた。」（段落【００２８】）と記載されているように、周知の事項である。そして、イオン照射による基材表面のエッチングや平滑化も、イオン照射による基材表面への蒸着も、いずれも基材にイオンを照射するという共通の原理を利用する一般的な手法である。これらのことをふまえると、相違点１に係る本願発明の発明特定事項は、当業者が適宜採用し得たものともいえる。
　
　２．相違点２について
　イオンビームを照射するものにおいて、当該ビームを収束するためのレンズを使用する際に、「レンズの組み合わせ」を使用することは、周知文献１及び周知文献２に示されるように、本願の優先日前に周知の技術（以下、「周知技術１」という。）である。
　すなわち、周知文献１及び周知文献２のいずれにも、３つの電極すなわちレンズを備えた「アインゼルレンズ」を使用してイオンビームを集束することが示されている。
　また、「長い焦点距離を実現」することは、実施化条件等に応じて当業者が適宜なし得た設計事項にすぎない。
　したがって、引用発明において、周知技術１を考慮して、相違点２に係る本願発明の発明特定事項とすることに、当業者にとっての格別の創意工夫を見いだすことはできない。
　
　３．相違点３について
（１）引用発明における、イオン化クラスタビームから単原子（分子）イオンを取り除く手段、すなわちフィルターの作用は、イオン化クラスタビームがその進行方向に対して垂直な磁場を発生する電磁石１３内に導入され、磁場による偏向を受け、質量の小さなイオン化クラスタまたは単原子（分子）イオンが取り除かれる、というものである。この点で、本願発明の永久磁石ビームフィルターと基本的に異なるものではない。
　
（２）そして、永久磁石自体は、周知文献３〜６に示されるように、イオン化されたガスについて質量分離するフィルターとして普通に用いられるものであり、また、これを利用してイオンの流れに垂直な磁場を発生させ、特定の質量を持つものを分離する考え方自体は、本願の優先日前に周知（以下、「周知技術２」という。）である（すなわち、周知文献３には、磁場偏向型の質量分析部によって目的の質量数のイオンのみを弁別するものにおいて、小型化、低価格化等の点で永久磁石を用いることが示されている。周知文献４には、イオン化気体に磁場を与えて質量分離することにより特定の気体を検知するガス検知装置において、交換可能に構成される永久磁石によって任意の磁場が形成されることが示されている。周知文献５には、特定の質量をもつイオンのみを偏向させて検出する磁場偏向型質量分析器において、一様な磁場を発生させるために永久磁石が用いられることが示されている。周知文献６には、磁界内でのイオンのラーマー運動を利用したイオンの質量分離機構を有するイオンビ−ム引出し電極系装置において、永久磁石を対向配置することにより磁界を形成することが示されている。）。
　また、永久磁石が、電磁石と比較して、安価でかつ構成が簡素であることは、周知文献３にも記載されるように、周知の事項である。
　
（３）そして、装置の構造をできるだけ簡素にし、かつ安価にすることは、従来周知の一般的技術課題であるところ、引用発明において、イオン化クラスタビームの進行方向に対して垂直な磁場を発生させて当該ビームを偏向させるための磁石として、電磁石よりも安価で構成が簡素な永久磁石を利用するようにし、相違点３に係る本願発明の発明特定事項とすることは、当業者が容易に想到し得たことである。
　引用刊行物の「本発明の方式を用いれば、通常の方式で必要とする磁場の数百分の一以下の磁場でイオン化クラスタの質量分離を行うことができる。また、この質量分離方式ではクラスタイオンが負イオンの場合でも磁場の向きを変える必要がない。」（摘記刊ｇ）といった記載も、そのような構成変更を示唆しているともいえる。
　
（４）なお、引用刊行物には「第２のスリット１４を通過するイオン化クラスタの質量は下限の磁場の強さ及び第２のスリット１４の幅を変えることによって制御する。」（摘記刊ｆ）とも記載されている。しかしながら、引用発明は、動作中に磁場の強さを積極的に変化させなければならないものとは解せない。また、周知文献４に記載されているように、永久磁石によっても、これを交換することで、磁場の強さを変化させられることは、周知の事項である。
　したがって、引用刊行物の上記記載は、引用発明において電磁石に代えて永久磁石を利用することを妨げる事情にはあたらない。
　
　４．効果について
　本願発明を全体としてみても、本願発明により奏されるとされる効果は、引用発明、周知技術１及び周知技術２からみて格別なものとはいえない。特に、ガスモノマーを除去するために「永久磁石」のフィルターを用いたことによる、経済的利点及び構造の簡易化という効果は、周知技術２から当業者が当然に予測できる程度のものにすぎない。
　
第６　むすび 
　以上のとおり、本願発明は、引用発明、周知技術１及び周知技術２に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本願は、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、拒絶されるべきものである。 
　
　よって、結論のとおり審決する。