(57)【要約】芳香族ポリカーボネート１００重量部、炭素数１０〜２５の脂肪族モノカルボン酸と炭素数２〜１０の脂肪族多価アコールのエステル０．００５〜０．２重量部および少なくとも分子内に４個のベンゼン環を有する芳香族エーテル、エステルまたはカーボネート化合物である第１芳香族化合物０．０１５〜０．３重量部から成るポリカーボネート組成物であって、シリンダー温度３８０℃、金型温度８０℃、射出速度２００ｍｍ／ｓｅｃ、保持圧力３，４３２ｋＰａ（３５ｋｇｆ／ｃｍ２）の条件で１２０ｍｍ×５０ｍｍ、厚さ２ｍｍの板を射出成型したときに、金型のポリマー接触表面の付着物中に、第１芳香族化合物が上記エステル１重量部当り０．５〜３重量部となるように、上記エステルを上記重量範囲内で含有する、ポリカーボネート組成物。この組成物は、金型離型性に加えて成型時の熱安定性に優れている。【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）（ｉ）主たる繰返し単位が次式（Ｉ）
2004000940.tif 000014
（式中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のシクロアルコキシ基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、Ｗは単結合、酸素原子、カルボニル基、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数２〜２０のアルキリデン基、炭素数６〜２０のシクロアルキレン基、炭素数６〜２０のシクロアルキリデン基または炭素数６〜２０のアリーレン基または炭素数６〜２０のアルキレンアリーレンアルキレン基である。）
で表わされ、
（ｉｉ）粘度平均分子量が１２，０００〜１００，０００であり、
（ｉｉｉ）溶融粘度安定性が０．５％以下であり、
（ｉｖ）ポリマー１トンあたりの末端ＯＨ基量が５〜１００化学当量であり、そして
（ｖ）ｚ平均分子量（Ｍｚ）と重量平均分子量（Ｍｗ）の比が１．４〜１．７の範囲にある、
芳香族ポリカーボネート１００重量部、
（２）炭素数１０〜２５の脂肪族モノカルボン酸と炭素数２〜１０の脂肪族多価アルコールのエステル０．００５〜０．２重量部  および
（３）下記式（ＩＩ）
2004000940.tif 000015
ここで、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は互いに独立に水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基および炭素数７〜２０のアラルキル基よりなる群から選ばれる基であり、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は互いに独立に水素原子、および炭素数１〜１０のアルキル基よりなる群から選ばれる基であり、Ｗ１は、炭素数１〜６のアルキレン基、炭素数２〜１０のアルキリデン基、炭素数５〜１０のシクロアルキレン基、炭素数５〜１０のシクロアルキリデン基、炭素数８〜１５のアルキレン−アリーレン−アルキレン基、酸素原子、硫黄原子、スルホキシド基およびスルホン基よりなる群から選ばれる一員でありそしてＸ１およびＸ２は互いに独立にエーテル結合（−Ｏ−）、エステル結合（−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−）またはカーボネート結合（−ＯＣＯＯ−）である、
で表される第１芳香族化合物０．０１５〜０．３重量部から成るポリカーボネート組成物であって、
シリンダー温度３８０℃、金型温度８０℃、射出速度２００ｍｍ／ｓｅｃ、保持圧力３，４３２ｋＰａ（３５ｋｇｆ／ｃｍ２）の条件で１２０ｍｍ×５０ｍｍ、厚さ２ｍｍの板を射出成型したときに、金型のポリマー接触表面の付着物中に、第１芳香族化合物が上記エステル１重量部当り０．５〜３重量部となるように、上記エステルを上記重量範囲内で含有する、
ことを特徴とするポリカーボネート組成物。
【請求項２】
下記式（ＩＩＩ）
2004000940.tif 000016
ここで、Ｒ５〜Ｒ１０、Ｘ１およびＷ１の定義は上記式（ＩＩ）に同じである、
で表される第２芳香族化合物０．０１〜０．１重量部をさらに含有し、上記と同じ条件で射出成型したときに、金型のポリマー接触表面の付着物中に、第２芳香族化合物が上記エステル１重量部当り２．５〜１０重量部となるように上記重量範囲内で含有する請求項１に記載のポリカーボネート組成物。
【請求項３】
芳香族ポリカーボネートが芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとを、アルカリ金属化合物およびアルカリ土類金属化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種のエステル交換触媒の存在下に反応せしめて得られた請求項１または２に記載のポリカーボネート組成物。
【請求項４】
エステル交換触媒がアルカリ金属化合物でありそしてアルカリ金属化合物がセシウム化合物およびルビジウム化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する請求項３の芳香族ポリカーボネート組成物。
【請求項５】
アルカリ金属化合物が、セシウム化合物およびルビジウム化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有しそして全アルカリ金属元素数に対して、セシウムおよび／またはルビジウム金属元素数が０．００１〜１００％である請求項４の芳香族ポリカーボネート組成物。
【請求項６】
アルカリ金属化合物が、セシウム化合物およびルビジウム化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有しそして全アルカリ金属元素数に対して、セシウムおよび／またはルビジウム金属元素数が９０〜１００％である請求項４の芳香族ポリカーボネート組成物。
【請求項７】
芳香族ポリカーボネートが下記式（ＩＶ）
Ａ１−ＳＯ３Ｘ１      ……  （ＩＶ）
（ここで、Ａ１は置換していてもよい炭素数１〜３０の１価の炭化水素基であり、Ｘ１はアンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオンまたは炭素数１〜１０の一価の炭化水素基である）
で表わされるスルホン酸化合物を、芳香族ポリカーボネート１００重量部に対し１×１０−５〜１×１０−２重量部含有する請求項１に記載の芳香族ポリカーボネート組成物。
【請求項８】
上記式（ＩＶ）のスルホン酸化合物が下記式（ＩＶ）−１
2004000940.tif 000017
（ここで、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５およびＡ６は、互いに独立に、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基である）
で表わされる化合物である請求項７に記載の芳香族ポリカーボネート組成物。
【請求項９】
亜リン酸のエステルおよび／またはリン酸のエステルを、芳香族ポリカーボネート１００重量部に対し１×１０−４〜０．１重量部含有する請求項１に記載の芳香族ポリカーボネート組成物。
【請求項１０】
塩酸、リン酸、亜リン酸、ホウ酸、これらのアミン塩およびアンモニウム塩よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を、芳香族ポリカーボネート１００重量部に対し１×１０−５〜１×１０−２重量部含有する請求項１に記載の芳香族ポリカーボネート組成物。
【請求項１１】
第１芳香族化合物が下記式（ＩＩ）−１
2004000940.tif 000018
ここで、Ｒ５〜Ｒ８およびＷ１の定義は上記式（ＩＩ）に同じである、
で表される請求項１に記載の芳香族ポリカーボネート組成物。
【請求項１２】
第２芳香族化合物が下記式（ＩＩＩ）−１
2004000940.tif 000019
ここで、Ｒ５〜Ｒ８およびＷ１の定義は上記式（ＩＩＩ）に同じである、
で表される請求項２に記載の芳香族ポリカーボネート組成物。
【請求項１３】
上記と同じ条件下で射出成型したときに、金型のポリマー接触表面の臨界表面張力をＪＩＳ  Ｋ６７６８に基づく測定で３２〜３９ｄｙｎ／ｃｍの範囲とする、請求項１に記載の芳香族ポリカーボネート組成物。
【請求項１４】
請求項１の芳香族ポリカーボネート組成物からなる光記録媒体用基板。
【請求項１５】
請求項１４の基板および該基板の片面上に直接または中間層を介して存在する光記録層からなる光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】  本発明は金型離型性に優れたポリカーボネート組成物、光記録媒体用基板および光記録媒体に関する。
【背景技術】  ポリカーボネートは、色相、透明性、機械強度に優れたエンジニアリングプラスチックである。近年その用途は多岐にわたり様々な成型品への加工がなされているが、特に優れた機械強度を持つことから光ディスク基板や電化製品のハウジングといった、肉薄で表面積比の高い成型品の材料として大量に使用されている。かかる成型品は一般に金型を用いた射出成型法によって成型されるが、該成型方法では成型品を離型する過程において、成型品の金型離型性が悪いと生産効率に支障をもたらすことが従来より懸念され、生産規模が大きいほど重要な問題とされている。
特に光ディスク基板は通常、スタンパーに刻印された信号をポリカーボネート基板上に正確に転写するために、射出成型機のシリンダー温度を３５０〜４００℃の高温にして樹脂の流動性を向上させる。そのためスタンパーが装着される金型の温度も８０〜１２０℃の高温に設定する必要がある。しかし金型温度が高いとポリカーボネート成型品の金型離型性の低下や離型むら発生、転写性が悪くなるといった問題が生じる。これを防ぐために成型品の離型前に金型を十分に冷却する必要があるが、そうすると成型サイクルが長くなり生産性が低下するため望ましくない。かかる理由から近年、射出成型において金型離型性が良好なポリカーボネートの開発が強く望まれている。
ポリカーボネートの離型性を改善するために離型剤を添加する方法が有効であることが従来公知である。離型剤としては通常、滑剤と言われる種々の化合物が知られている。特公昭４７−４１０９２号公報には、高級脂肪族カルボン酸と、高級脂肪族アルコールもしくは多価アルコールとのエステルまたは部分エステルを離型剤として添加することが提案されている。
然るに離型剤の添加は周知のごとくコスト面、工程数増加の点から望ましくなく、また剤の影響で製造されるポリマーの色相や透明性、機械強度といったポリカーボネートの特徴に悪影響をおよぼすことが懸念される。かかる背景から、簡便、安価な成型品製造のために離型剤を特に加えることなしに、ポリカーボネートの金型離型性を改善する方法の開発が強く望まれている。
また、特開平６−２５５２３号公報には、優れた流動性と耐衝撃性および高い曲げ弾性率と熱変形温度を有するポリカーボネート樹脂組成物の提供を目的として、重量平均分子量４０，０００〜３００，０００の高分子量芳香族ポリカーボネート５〜９５重量％と、重量平均分子量７，０００〜２８，０００の低分子量芳香族ポリカーボネート９５〜５重量部からなりそして重量平均分子量が２０，０００〜５０，０００であり且つ分子量１，０００以下の部分が１．５重量％以下であるポリカーボネート樹脂組成物が開示されている。
特開平８−７３７２４号公報には、優れた離型性、耐熱性、転写性を持ち、光ディスクの如き光学用途に適したポリカーボネート樹脂組成物の提供を目的として、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定した分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が２．０〜２．８である芳香族ポリカーボネート樹脂１００重量部と脂肪族カルボン酸と多価アルコールとの部分エステル０．０１〜０．１重量部を含むポリカーボネート樹脂組成物が開示されている。
さらに、特許第３１２４７８６号公報には、Ｍｗ／Ｍｐの値が１．５以下（Ｍｐはゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定したクロマトグラムのピークトップの分子量を表す）でありそして実質的に塩素を含まない芳香族ポリカーボネートが、溶融成形に適した流動性、優れたカラー、押出成形やブロー成形に適した溶融張力を有しそして高温での成形時に着色や劣化のない芳香族ポリカーボネートの提供を目的として、開示されている。
【発明の開示】
本発明の目的は、金型離型性特に射出成形における金型離型性に優れたポリカーボネート組成物を提供することにある。
本発明の他の目的は、金型離型性に加えて成型時の熱安定性に優れたポリカーボネート組成物を提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、残存フェノール類の含有量が少なくかつ上記のごとき性能を備えたポリカーボネート組成物を提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、本発明のポリカーボネート組成物からなる光記録媒体用基板を提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、本発明の光記録媒体用基板を用いた光記録媒体を提供することにある。
本発明のさらに他の目的および利点は以下の説明から明らかになろう。
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第１に、
（１）（ｉ）主たる繰返し単位が次式（Ｉ）
2004000940.tif 000002
（式中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のシクロアルコキシ基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、Ｗは単結合、酸素原子、カルボニル基、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数２〜２０のアルキリデン基、炭素数６〜２０のシクロアルキレン基、炭素数６〜２０のシクロアルキリデン基または炭素数６〜２０のアリーレン基または炭素数６〜２０のアルキレンアリーレンアルキレン基である。）
で表わされ、
（ｉｉ）粘度平均分子量が１２，０００〜１００，０００であり、
（ｉｉｉ）溶融粘度安定性が０．５％以下であり、
（ｉｖ）ポリマー１トンあたりの末端ＯＨ基量が５〜１００化学当量であり、そして
（ｖ）ｚ平均分子量（Ｍｚ）と重量平均分子量（Ｍｗ）の比が１．４〜１．７の範囲にある、
芳香族ポリカーボネート１００重量部、
（２）炭素数１０〜２５の脂肪族モノカルボン酸と炭素数２〜１０の脂肪族多価アルコールのエステル０．００５〜０．２重量部  および
（３）下記式（ＩＩ）
2004000940.tif 000003
ここで、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は互いに独立に水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基および炭素数７〜２０のアラルキル基よりなる群から選ばれる基であり、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は互いに独立に水素原子、および炭素数１〜１０のアルキル基よりなる群から選ばれる基であり、Ｗ１は、炭素数１〜６のアルキレン基、炭素数２〜１０のアルキリデン基、炭素数５〜１０のシクロアルキレン基、炭素数５〜１０のシクロアルキリデン基、炭素数８〜１５のアルキレン−アリーレン−アルキレン基、酸素原子、硫黄原子、スルホキシド基およびスルホン基よりなる群から選ばれる一員でありそしてＸ１およびＸ２は互いに独立にエーテル結合（−Ｏ−）、エステル結合（−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−）またはカーボネート結合（−ＯＣＯＯ−）である、
で表される第１芳香族化合物０．０１５〜０．３重量部から成るポリカーボネート組成物であって、
シリンダー温度３８０℃、金型温度８０℃、射出速度２００ｍｍ／ｓｅｃ、保持圧力３，４３２ｋＰａ（３５ｋｇｆ／ｃｍ２）の条件で１２０ｍｍ×５０ｍｍ、厚さ２ｍｍの板を射出成型したときに、金型のポリマー接触表面の付着物中に、第１芳香族化合物が上記エステル１重量部当り０．５〜３重量部となるように、上記エステルを上記重量範囲内で含有する、
ことを特徴とするポリカーボネート組成物によって達成される。
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第２に、
本発明の芳香族ポリカーボネート組成物からなる光記録媒体用基板によって達成される。
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第３に、
本発明の上記基板および該基板の片面上に直接または中間層を介して存在する光記録層からなる光記録媒体によって達成される。
発明の好ましい実施形態
本発明において用いられる芳香族ポリカーボネート（１）は、主たる繰返し単位が下記式（Ｉ）
2004000940.tif 000004
（式中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のシクロアルコキシ基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、Ｗは単結合、酸素原子、カルボニル基、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数２〜２０のアルキリデン基、炭素数６〜２０のシクロアルキレン基、炭素数６〜２０のシクロアルキリデン基または炭素数６〜２０のアリーレン基または炭素数６〜２０のアルキレンアリーレンアルキレン基である。）
で表されるものである。
上記芳香族ポリカーボネートは、粘度平均分子量が１２，０００〜１００，０００であり、好ましくは１３，０００〜２８，０００のものである。
また、ｚ平均分子量（Ｍｚ）と重量平均分子量（Ｍｗ）の比は、１．４〜１．７の範囲にあり、好ましくは１．４５〜１．６の範囲にある。
ｚ平均分子量（Ｍｚ）と重量平均分子量（Ｍｗ）との比（Ｍｚ／Ｍｗ）はポリマーの分子量分布を評価する重要なパラメーターであり、上記範囲を逸脱した場合流動性等の変動により光学歪や転写性不良を生じ易くなるため好ましくない。すなわち、（Ｍｚ／Ｍｗ）が上記範囲にある芳香族ポリカーボネートを使用した光記録媒体用基板は、光記録媒体用基板として、光学的特性や転写性に優れた基板となる。
分子量分布（Ｍｚ／Ｍｗ）の調整は末端封止剤の添加や重合反応条件により調節することができる。例えば溶融重合の場合には原料である芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルの仕込みモル比を変更したり、重合条件（温度／真空度／滞留時間）を変更することにより分子量分布（Ｍｚ／Ｍｗ）を変更することができる。ｚ平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定した分子量分布から求められる。
さらに、芳香族ポリカーボネートは、溶融粘度安定性が０．５％以下である。溶融粘度安定性とは、窒素気流下、せん断速度１ｒａｄ／ｓｅｃ、３００℃で３０分間測定した溶融粘度の変化を絶対値で評価し、１分間当りの変化率で表した数値である。
このような溶融粘度安定性は、重合後のポリカーボネートに溶融粘度安定剤を加えることにより得ることができる。
溶融粘度安定化剤は、ポリカーボネート製造時に使用した重合触媒の活性の一部または全部を失活させる作用も有している。
溶融粘度安定化剤を添加する方法としては、例えば、反応生成物であるポリカーボネートが溶融状態にある間に添加してもよいし、一旦ポリカーボネートをペレタイズした後、再溶融し添加してもよい。前者においては、反応槽内または押し出し機内の反応生成物であるポリカーボネートが溶融状態にある間に添加してもよいし、また重合後得られたポリカーボネートが反応槽から押し出し機を通ってペレタイズされる間に、溶融粘度安定化剤を添加して混練することもできる。
溶融粘度安定化剤としては、公知のいかなる剤も使用できるが、得られるポリマーの色調や耐熱性、耐沸水性などの物性の向上に対する効果が大きい点から、有機スルホン酸の塩、有機スルホン酸エステル、有機スルホン酸無水物、および有機スルホン酸ベタインなどのスルホン酸化合物を使用することが好ましい。なかでもスルホン酸のホスホニウム塩および／またはスルホン酸のアンモニウム塩を使用することが好ましい。そのなかでも特に、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩（以下ＤＢＳＰと略す）やパラトルエンスルホン酸テトラブチルアンモニウム塩などが好ましい例として挙げられる。
本発明におけるこれら溶融粘度安定化剤の使用量は触媒として用いたアルカリ金属、アルカリ土類金属に対して０．０５〜２０倍相当の化学当量の範囲から選択される。
上記ポリカーボネートにおいて、末端水酸基濃度はポリマー１トンあたり５〜１００当量の範囲であり、好ましくは５〜８０当量、さらに好ましくは５〜６０当量、特に好ましくは５〜５０当量である。かかる量比で末端水酸基が含有されることにより、金型表面と成型品表面との接着性が、離型性を良好にする範囲に制御されるものと判断される。末端水酸基は少ないほど良好な離型性が得られるが、末端水酸基濃度を５当量より減少させてもさらなる転写性の向上は少ない。また末端水酸基濃度を１００当量以上導入したときは、成型時に酸化反応に起因すると推定される成型品の焼けが発生し本発明の目的に好ましくない。
本発明で射出成型されるポリカーボネート組成物はいかなる方法で製造してもよいが、プロセス、原料を含めたコスト面や、含ハロゲン溶媒などの重合溶媒を用いずに済む点、さらに炭酸エステル形成性化合物としてホスゲンなどの有害化合物を用いずに済む点から溶融法や固相重合法、なかでも溶融法で製造するのが好ましい。
溶融法は常圧およびまたは減圧不活性ガス雰囲気下で芳香族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとを加熱しながら攪拌して、生成するアルコールまたはフェノールを留出させることで行われる。その反応温度は生成物の沸点等により異なるが、反応により生成するアルコールまたはフェノールを除去するため通常１２０〜３５０℃の範囲である。従来、溶融法によるポリカーボネートの製造において、通常、反応初期には１８０〜２２０℃の温度範囲で徐々に昇温しつつ、反応系内を１０〜１００ｍｍＨｇに徐々に減圧するが、本発明のポリカーボネートの製造においては、連続射出成型時の金型のポリマー接触表面に付着する成分中の上記の特定成分含有量を特定範囲にするために、特に反応初期において１８０〜２２０℃の温度範囲で徐々に昇温しつつ、反応系内を４０〜１５０ｍｍＨｇの範囲と、系内圧を通常よりも高めにし、反応時間を通常よりも長くして反応させるのが好ましい。反応後期には系内をさらに減圧にして生成するアルコールまたはフェノールの留出を容易にさせる。反応後期の系の内圧は、通常１ｍｍＨｇ以下である。
本発明のポリカーボネートの製造に使用する芳香族ジヒドロキシ化合物としては、たとえば２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（以下ビスフェノールＡと略す）、ビス（２−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（２−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）サルファイド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン等およびその芳香環に例えばアルキル基、アリール基等が置換されたものがあげられ、これらは単独で用いてもまたは二種以上併用してもよい。なかでもコスト面からビスフェノールＡが特に好ましい。
また炭酸ジエステルとしては例えばジフェニルカーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス（ジフェニル）カーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネート等があげられ、なかでもコスト面からジフェニルカーボネートが好ましい。
本発明においては、重合速度を速めるために重合触媒を使用することができる。重合触媒としては、アルカリ金属化合物およびアルカリ土類金属化合物が好ましく用いられる。かかる化合物としては、例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属の水酸化物、炭化水素化合物、炭酸塩、酢酸塩、硝酸塩、亜硝酸塩、亜硫酸塩、シアン酸塩、チオシアン酸塩、ステアリン酸塩、水素化ホウ素塩、安息香酸塩、リン酸塩、酸性リン酸塩、ビスフェノール、フェノールの塩等が挙げられる。
具体例としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化セシウム、水酸化ルビジウム、水酸化フランシウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸セシウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸ルビジウム、硝酸リチウム、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム、亜硝酸ルビジウム、亜硝酸リチウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、シアン酸ナトリウム、シアン酸カリウム、シアン酸リチウム、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシアン酸リチウム、チオシアン酸セシウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸セシウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素リチウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム、リン酸水素ジナトリウム、リン酸水素ジカリウム、リン酸水素ジリチウム、ビスフェノールＡのジナトリウム塩、ジカリウム塩、ジリチウム塩、ジセシウム塩、モノナトリウム塩、モノカリウム塩、モノセシウム塩、ナトリウムカリウム塩、ナトリウムリチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩などが挙げられる。中でも、セシウム化合物およびルビジウム化合物が好ましい。
アルカリ金属化合物としてはセシウム化合物およびルビジウム化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有しそして全アルカリ金属元素数に対して、セシウムおよび／またはルビジウム金属元素数が０．００１〜１００％であるものが好ましく、全アルカリ金属元素数に対して、セシウムおよび／またはルビジウム金属元素数が９０〜１００％であるものがさらに好ましい。
これらの重合触媒の使用量は、芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対し好ましくは０．０５〜５μ化学当量、より好ましくは０．０７〜３μ化学当量、特に好ましくは０．０７〜２μ化学当量の範囲から選択される。
これらのアルカリ金属化合物およびアルカリ土類金属化合物は、含窒素塩基性化合物および／または含リン塩基性化合物と組合せで用いるのが好ましい。この組合せ使用により、色相や熱安定性に優れたポリカーボネートが大きい重合速度で得られる。
含窒素塩基性化合物の具体的例としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（Ｍｅ４ＮＯＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド（Ｅｔ４ＮＯＨ）、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド（Ｂｕ４ＮＯＨ）、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド（ＰｈＣＨ２（Ｍｅ）３ＮＯＨ）、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムヒドロキシドなどのアルキル、アリール、アラルキル基などを有するアンモニウムヒドロキシド；テトラメチルアンモニウムアセテート、テトラエチルアンモニウムフェノキシド、テトラブチルアンモニウム炭酸塩、ベンジルトリメチルアンモニウム安息香酸塩、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムエトキシドなどのアルキル、アリール、アルキルアリール基などを有する塩基性アンモニウム塩；トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジメチルベンジルアミン、ヘキサデシルジメチルアミンなどの第三級アミン；あるいはテトラメチルアンモニウムボロハイドライド（Ｍｅ４ＮＢＨ４）、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド（Ｂｕ４ＮＢＨ４）、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート（Ｂｕ４ＮＢＰｈ４）、テトラメチルアンモニウムテトラフェニルボレート（Ｍｅ４ＮＢＰｈ４）などの塩基性塩などを挙げることができる。
また含リン塩基性化合物の具体例としては、テトラメチルホスホニウムヒドロキシド（Ｍｅ４ＰＯＨ）、テトラエチルホスホニウムヒドロキシド（Ｅｔ４ＰＯＨ）、テトラブチルホスホニウムヒドロキシド（Ｂｕ４ＰＯＨ）、テトラフェニルホスホニウムヒドロキシド（Ｐｈ４ＰＯＨ）、ベンジルトリメチルホスホニウムヒドロキシド（ＰｈＣＨ２（Ｍｅ）３ＰＯＨ）、ヘキサデシルトリメチルホスホニウムヒドロキシドなどのアルキル、アリール、アルキルアリール基などを有するホスホニウムヒドロキシド類；あるいはテトラメチルホスホニウムボロハイドライド（Ｍｅ４ＰＢＨ４）、テトラブチルホスホニウムボロハイドライド（Ｂｕ４ＰＢＨ４）、テトラブチルホスホニウムテトラフェニルボレート（Ｂｕ４ＰＢＰｈ４）、テトラメチルホスホニウムテトラフェニルボレート、（Ｍｅ４ＰＢＰｈ４）などの塩基性塩などを挙げることができる。
上記含窒素塩基性化合物および／または含リン塩基性化合物は、塩基性窒素原子あるいは塩基性リン原子が芳香族ジヒドロキシ化合物、１モルに対し、１０〜１，０００μ化学当量となる割合で好ましく用いられる。より好ましい使用割合は同じ基準に対し２０〜５００μ化学当量となる割合であり、特に好ましい割合は同じ基準に対し５０〜５００μ化学当量となる割合である。
本発明においては、特に射出成型後に分子量の低下や着色の起こりにくい良好な安定性をもつポリカーボネート組成物を得るために、重合後の該ポリマーの各種状況下の安定性を良好なものとするため、溶融ポリマーの溶融粘度安定性に注目し、上記のごとく、この値を０．５％以下にすることが必須であり、そのために特に重合後に溶融粘度安定化剤を用いることが好ましい。なお溶融粘度安定性は、窒素気流下、剪断速度１ｒａｄ／ｓｅｃ、３００℃で３０分間測定した溶融粘度の変化を絶対値で評価し、１分間あたりの変化率で表わす。
本発明における溶融粘度安定化剤は、ポリカーボネート製造時に使用する重合触媒の活性の一部または全部を失活させる作用もある。
溶融粘度安定化剤を添加する方法としては、例えば、反応生成物であるポリカーボネートが溶融状態にある間に添加してもよいし、一旦ポリカーボネートをペレタイズした後、再溶融し添加してもよい。前者においては、反応槽内または押し出し機内の反応生成物であるポリカーボネートが溶融状態にある間に添加してもよいし、また重合後得られたポリカーボネートが反応槽から押し出し機を通ってペレタイズされる間に、溶融粘度安定化剤を添加して混練することもできる。
溶融粘度安定化剤としては、公知のいかなる剤も使用できるが、得られるポリマーの色相や耐熱性、耐沸水性などの物性の向上に対する効果が大きい点から、有機スルホン酸の塩、有機スルホン酸エステル、有機スルホン酸無水物、および有機スルホン酸ベタインなどのスルホン酸化合物を使用することが好ましい。
なかでも、好ましいスルホン酸化合物は、下記式（ＩＶ）
Ａ１−ＳＯ３Ｘ１      ……  （ＩＶ）
（ここで、Ａ１は置換していてもよい炭素数１〜３０の１価の炭化水素基であり、Ｘ１はアンモニウムカチオン、ホスホニウムカチオンまたは炭素数１〜１０の１価の炭化水素基である）
で表わされるスルホン酸化合物を含有するのが好ましい。
これを含有することで、エステル交換触媒として使用したアルカリ金属またはアルカリ土類金属化合物の活性を低下もしくは失活させることができ、色相、耐熱性、耐加水分解性などの品質に優れたポリカーボネートを得ることができる。
スルホン酸化合物としては、下記式（ＩＶ）−１
2004000940.tif 000005
（ここで、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５およびＡ６は、互いに独立に、炭素数１〜２０の１価の炭化水素基である）
で表わされるスルホン酸ホスホニウム塩が効果が大きく、好ましい。
なお、上記式（ＩＶ）−１におけるＡ２は、例えば、水素原子、メチル基、ヘキシル基、ドデシル基、Ａ３〜Ａ６は、それぞれ独立に、メチル基、ブチル基、オクチル基から選ばれる基が好ましい。
このようなスルホン酸化合物は、ポリマー中に残存するエステル交換触媒の失活剤として機能するもので、触媒失活剤としては、例えば特開平８−５９９７５号公報記載のような公知の剤も有効に使用されるが、この中でもスルホン酸のアンモニウム塩、スルホン酸のホスホニウム塩が好ましい。さらに具体的は、ドデシルベンゼンスルホン酸のアンモニウム塩、ホスホニウム塩、パラトルエンスルホン酸のアンモニウム塩、ホスホニウム塩やベンゼンスルホン酸のアンモニウム塩、ホスホニウム塩が好ましい。
本願発明においては、これらの触媒失活剤のうち、上記式（ＩＶ）−１のスルホン酸化合物、とりわけドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩や、パラトルエンスルホン酸テトラブチルアンモニウム塩が最も好ましく使用される。
触媒失活剤は触媒の活性を著しく低下させるものであり、このような触媒失活剤はそれだけでポリカーボネート樹脂に添加してもよく、水と触媒失活剤との混合液として同時にポリカーボネート樹脂に添加してもよい。
溶融重合で得られるポリカーボネート樹脂に対する触媒失活剤の添加量は、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物より選ばれた前記主重縮合触媒１モル当り０．５〜５０モルの割合で、好ましくは０．５〜１０モルの割合で、さらに好ましくは０．８〜５モルの割合で使用する。これは通常、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対し１×１０−５〜１×１０−２重量部の割合で使用することに相当する。
また、本発明におけるポリカーボネート組成物は、上記ポリカーボネート１００重量部あたり、炭素数１０〜２５の脂肪族モノカルボン酸と炭素数２〜１０の脂肪族多価アルコールのエステルを０．００５〜０．２重量部の範囲で含有する。炭素数１０〜２５の脂肪族モノカルボン酸と炭素数２〜１０の脂肪族多価アルコールのエステルは、より良好な離型性を得るために好ましくはポリカーボネート１００重量部あたり０．００５〜０．１重量部、さらに好ましくは０．００７５〜０．０７重量部、特に好ましくは０．０１〜０．０５重量部の範囲であることが好ましい。
このエステル成分が０．００５重量部に満たない場合、所望の離型性が得られず、０．２重量部を超える場合、成型品の表面性低下や、成型金型汚染を生じるため好ましくない。
本発明でいう炭素数１０〜２５の脂肪族モノカルボン酸とは、脂肪族の直鎖状あるいは分岐状カルボン酸を含有し、また飽和あるいは不飽和カルボン酸を共に含有する。かかる脂肪族モノカルボン酸としては、具体的には、直鎖状カルボン酸であるラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、および分岐脂肪酸であるイソデカン酸、イソトリデカン酸、イソミリスチン酸、イソパルミチン酸、イソステアリン酸、イソアラキン酸、イソヘキサコ酸が挙げられる。その他不飽和カルボン酸である、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、５，８，１１，１４−エイコサテトラエン酸、４，７，１０，１３，１６，１９−ドコサヘキサエン酸等が例示される。
また、本発明にいう炭素数２〜１０脂肪族多価アルコールとしては具体的にはエチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、グリセロール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、或は１，４−ブテンジオール、さらにはソルビトール、ソルビタン、ショ糖等が例示される。
これら脂肪族モノカルボン酸と脂肪族多価アルコールのエステルの具体例としては、上記脂肪族モノカルボン酸の少なくとも一種と、脂肪族多価アルコールの少なくとも一種とのエステルが示される。
具体的には、エチレングリコールモノイソパルミテート、エチレングリコールジステアレート、プロピレングリコールジオレート、プロピレングリコールモノイソミリステート、１，４−ブタンジオールジイソパルミテート、１，４−ブテンジオールジイソステアレート、１，４−ブテンジオールモノステアレート、１，４−ブテンジオールジステアレート、グリセロールモノラウレート、グリセロールモノミリステート、グリセロールモノステアレート、グリセロールモノベヘネート、グリセロールモノイソミリステート、グリセロールモノイソステアレート、グリセロールモノオレート、グリセロールモノリノレート、グリセロールジパルミテート、グリセロールジステアレート、グリセロールジイソパルミテート、グリセロールジイソステアレート、グリセロールジオレート、グリセロールステアレートイソパルミテート、グリセロールトリミリステート、グリセロールトリステアレート、グリセロールトリベヘネート、グリセロールトリイソステアレート、トリメチロールプロパンモノステアレート、トリメチロールプロパンモノベヘネート、トリメチロールプロパンモノイソパルミテート、トリメチロールプロパンモノオレート、トリメチロールプロパンジパルミテート、トリメチロールプロパンジイソステアレート、トリメチロールプロパントリステアレート、トリメチロールプロパントリイソミリステート、トリメチロールプロパントリオレート、ペンタエリスリトールモノパルミテート、ペンタエリスリトールジイソパルミテート、ペンタエリスリトールトリオレート、ペンタエリスリトールテトラステアレート、ペンタエリスリトールテトライソパルミテート、ペンタエリスリトールジオレートジステアレート、その他ソルビタンモノステアレート、ショ糖ジイソステアレート等が例示される。
これらの中でのグリセロール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールのエステル類が好ましく使用される。
また、本発明の組成物中に含有される第１芳香族化合物は下記式（ＩＩ）
2004000940.tif 000006
で表される。
式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は互いに独立に水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基および炭素数７〜２０のアラルキル基よりなる群から選ばれる基であり、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１およびＲ１２は互いに独立に水素原子、および炭素数１〜１０のアルキル基よりなる群から選ばれる基であり、Ｗ１は、炭素数１〜６のアルキレン基、炭素数２〜１０のアルキリデン基、炭素数５〜１０のシクロアルキレン基、炭素数５〜１０のシクロアルキリデン基、炭素数８〜１５のアルキレン−アリーレン−アルキリデン基、酸素原子、硫黄原子、スルホキシド基およびスルホン基よりなる群から選ばれる一員でありそしてＸ１およびＸ２は互いに独立にエーテル結合（−Ｏ−）、エステル結合（−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−）またはカーボネート結合（−ＯＣＯＯ−）である。
上記式（ＩＩ）中のＲ５〜Ｒ１２およびＷ１を定義するそれぞれの基の具体例は、前記式（Ｉ）中のＲ１〜Ｒ４およびＷについて例示した具体例から明らかであろう。
上記第１芳香族化合物としては、下記式（ＩＩ）−１
2004000940.tif 000007
ここで、Ｒ５〜Ｒ８およびＷ１の定義は上記式（ＩＩ）に同じである、
で表される化合物が好ましく、例えば下記式
2004000940.tif 000008
で表される化合物が挙げられる。
第１芳香族化合物は、芳香族ポリカーボネート１００重量部に対し、０．０１５〜０．３重量部、好ましくは０．０１６〜０．２８重量部、さらに好ましくは０．０１７〜０．２５重量部で含有される。
本発明の組成物は、上記脂肪族モノカルボン酸と脂肪族多価アルコールのエステルと上記第１芳香族化合物とを、シリンダー温度３８０℃、金型温度８０℃、射出速度２００ｍｍ／ｓｅｃ、保持圧力３，４３２ＫＰａ（３５ｋｇｆ／ｃｍ２）の条件下で１２０ｍｍ×５０ｍｍ、厚さ２ｍｍの板を射出したときに、金型のポリマー接触表面の付着物中に見られる上記エステルと第１芳香族化合物の量によって適切に決定される。すなわち、上記エステルは、前記した重量範囲で用いられるが、さらに、上記付着物中に第１芳香族化合物がエステル１重量部当り０．５〜３重量部、好ましくは０．６〜２．８重量部となる割合で用いられる。
エステルと第１芳香族化合物が上記付着物中に上記割合で含有されるとき、所望の離型性が得られまた色調や機械物性に悪影響がない成型品が得られる。
本発明の組成物は、さらに下記式（ＩＩＩ）
2004000940.tif 000009
ここで、Ｒ５〜Ｒ１０、Ｘ１およびＷ１の定義は上記式（ＩＩ）に同じである、
で表される第２芳香族化合物を含有することができる。
上記式（ＩＩＩ）の化合物としては、下記式（ＩＩＩ）−１
2004000940.tif 000010
ここで、Ｒ５〜Ｒ８およびＷ１の定義は上記式（ＩＩＩ）に同じである、
で表される化合物が好ましく、例えば下記式
2004000940.tif 000011
で表される化合物が挙げられる。
第２芳香族化合物は、芳香族ポリカーボネート１００重量部に対し、好ましくは０．０１〜０．１重量部、さらに好ましくは０．０１１〜０．０９５重量部、特に好ましくは０．０１２〜０．０９重量部で含有される。
また、上記脂肪族モノカルボン酸と脂肪族多価アルコールのエステルと上記第２芳香族化合物とは、上記付着物中に第２芳香族化合物が上記エステル１重量部当り好ましくは２．５〜１０重量部、より好ましくは２．６〜９．５重量部となる割合で用いられる。
さらに、上記式（ＩＩＩ）で表される第２芳香族化合物は、前記式（ＩＩ）で表される第１芳香族化合物１重量部に対し、好ましくは０．５〜５０重量部、より好ましくは０．５〜２．５重量部、特に好ましくは０．５〜２．０重量部で用いられる。第２芳香族化合物を上記割合で含有することにより、より望ましい離型性が達成される。
第１芳香族化合物および場合によりさらに第２芳香族化合物の含有量を上記の範囲に制御するには、ポリカーボネートを製造する溶融重合反応初期条件および／または溶融重合反応後期条件で温度、減圧度を適切に保ち重合反応と同時に、該化合物を合成かつ制御する方法や、重合の最終段階で別途合成した該化合物を溶融状態のポリカーボネートへ混合する方法や、重合終了後一旦ポリカーボネートを固化し再溶融時に該化合物を混合する方法等が挙げられる。好ましくは、溶融重合反応中に該化合物を合成かつ制御する方法である。
該重量比を上記範囲に制御する方法としては、例えば重合反応装置の特徴を考え重合反応仕込み時の炭酸ジエステル／芳香族ジヒドロキシ化合物モル比を高める方法（例えば１．０３〜１．１０の間に設定し重合を行うこと；重合原料仕込みモル比制御法）、および／または重合反応終了時点において米国特許第５６９６２２２号に記載の方法に従い、サリチル酸エステル系化合物によりＯＨ末端基を封止する方法等が具体的に挙げられる。
ポリマー中のこれらの化合物の含有量は公知の方法で測定可能だが、ポリマー再沈殿法により抽出される有機低分子化合物を高速液体クロマトグラフィーで測定し、検量する方法；有機低分子化合物に対しては溶解性が高く、ポリカーボネートには溶解性がない有機溶媒を用いてソックスレー抽出を行い、溶媒を溜去して検量する方法等が挙げられる。前者の方法がより好ましい。
本発明の芳香族ポリカーボネート組成物は、任意成分として、亜リン酸エステルおよび／またはリン酸エステルを芳香族ポリカーボネート１００重量部に対し、１×１０−４〜０．１重量部でさらに含有することができる。
亜リン酸エステルとしては、例えばトリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリブチルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリス（２−エチルヘキシル）ホスファイト、トリノニルホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、トリステアリルホスファイトなどのトリアルキルホスファイト、トリシクロヘキシルホスファイトなどのトリシクロアルキルホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリクレジルホスファイト、トリス（エチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ヒドロキシフェニル）ホスファイトなどのトリアリールホスファイト、フェニルジデシルホスファイト、ジフェニルデシルホスファイト、ジフェニルイソオクチルホスファイト、フェニルイソオクチルホスファイト、２−エチルヘキシルジフェニルホスファイトなどのアリールアルキルホスファイトなどを挙げることができる。
さらに、亜リン酸エステルとして、ジステアリルペンタエリスリチルジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリチルジホスファイトなどを挙げることができる。
リン酸エステルとしては、例えばトリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリデシルホスフェート、トリオクタデシルホスフェート、ジステアリルペンタエリスリチルジホスフェートなどのトリアルキルホスフェート、トリシクロヘキシルホスフェートなどのトリシクロアルキルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリス（ノニルフェニル）ホスフェート、２−エチルフェニルジフェニルホスフェートなどのトリアリールホスフェートなどを挙げることができる。
これらの化合物は１種のみ、あるいは２種以上組み合わせて用いることができる。これらのうち芳香族亜リン酸エステルが好ましく用いられる。
亜リン酸エステルおよび／またはリン酸エステルは、芳香族ポリカーボネート（Ａ）１００重量部に対し、好ましくは１×１０−３〜５×１０−２重量部含有させる。
さらに、本発明の芳香族ポリカーボネート組成物は、任意成分として、塩酸、リン酸、亜リン酸、ホウ酸、これらのアミン塩およびアンモニウム塩よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を、芳香族ポリカーボネート（Ａ）１００重量部当り、１×１０−５〜１×１０−２重量部の割合で、さらに含有することができる。
これらの任意成分の使用はポリカーボネート樹脂組成物における高温時、特に３００℃以上の高温での溶融成形時の着色や品質劣化あるいはシルバーストリークの発生等の不具合を解消するのに有効である。
上記アミン塩を構成するアミンとしては、例えばジメチルアミン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、ジオクチルアミン、ジラウリルアミン、ピペラジン、ピペリジンおよびシクロブチルアミンのごとき２級アミン；並びにトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミンおよびピリジンのごとき３級アミンが挙げられる。
任意成分としてのこれらの化合物は、芳香族ポリカーボネート１００重量部当り、好ましくは１×１０−４〜５×１０−３重量部である。
本発明の前記芳香族ポリカーボネート組成物には、用途に応じて従来公知の離型剤、加工安定剤、耐熱安定剤、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、金属不活性化剤、金属石鹸、造核剤、帯電防止剤、難燃剤などを添加することができる。
従来公知の離型剤としては、脂肪族カルボン酸と多価アルコールとの部分エステル化合物、すなわち多価アルコールの少なくとも１つの水酸基が未反応のままで遊離の状態にあるエステル化合物を挙げることができる。
上記脂肪族カルボン酸としては特に限定されず、飽和および不飽和脂肪族カルボン酸のいずれであってもよい。脂肪族カルボン酸としては飽和一価脂肪酸が好ましく炭素数１２〜２４のものが特に好ましい。
かかる脂肪族カルボン酸としては、具体的には、ドデシル酸、ペンダデシル酸、パルチミン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸などが挙げられる。
上記多価アルコールとしても、特に限定されず、２価、３価、４価、５価、６価いずれも用いることができる。例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールなどが好ましく、グリセリンが特に好ましい。
上記部分エステル化合物としては、炭素数１２〜２４の飽和一価脂肪族のモノグリセリドおよび／またはジグリセリドが好ましい。
上記部分エステル化合物は、上記式（Ｉ）で表されるエポキシ化合物対部分エステル化物の重量比が好ましくは０．２５〜５、さらに好ましくは０．４２〜１となる割合で使用するのが望ましい。
加工安定剤としては、例えば２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェニルアクリレート等が挙げられる。
光安定剤としては、例えば２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ペンチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）フェニル〕ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］ベンゾトリアゾールのごときベンゾトリアゾール系化合物；２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンホゾフェノンのごときベンゾフェノン系化合物；２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエートのごときヒドロキシベンゾフェノン系化合物；エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート等のシアノアクリレート系化合物などの紫外線吸収剤、ニッケルジブチルジチオカーバメート、［２，２’−チオビス（４−ｔ−オクチルフェノラート）］−２−エチルヘキシルアミンニッケルなどのニッケル系クエンチャーなどが挙げられる。
金属不活性化剤としては、例えばＮ，Ｎ’−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヒドラジン等が、金属石鹸類としては例えばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸ニッケル等が挙げられる。
造核剤としては、例えばジ（４−ｔ−ブチルフェニル）ホスホン酸ナトリウム、ジベンジリデンソルビトール、メチレンビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェノール）アシッドホスフェートナトリウム塩等のソルビトール系、リン酸塩系化合物が挙げられる。
帯電防止剤としては、例えば（β−ラウラミドプロピル）トリメチルアンモニウムメチルスルフェート等の第４級アンモニウム塩系、アルキルホスフェート系化合物が挙げられる。
難燃剤としては、例えばトリス（２−クロロエチル）ホスフェートなどの含ハロゲンリン酸エステル類、ヘキサブロモシクロドデカン、デカブロモフェニルオキサイドなどのハロゲン化物、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、水酸化アルミニウムなどの金属無機化合物類、これらの混合物等が挙げられる。
上記の各成分の芳香族ポリカーボネート配合は、例えば、溶融状態にあるポリカーボネートに加えて混練してもよく、また、ポリカーボネートの溶液に加えて混練してもよい。より具体的には、重合反応が終了して得られる溶融状態にある反応器内または押出機内の反応生成物であるポリカーボネートに、直接、加えて混練する方法、あるいは、得られたポリカーボネートをペレット化し、このペレットと共に一軸または二軸押出機などに供給して溶融混練する方法、さらに、得られたポリカーボネートを適当な溶媒（例えば塩化メチレン、クロロホルム、トルエン、テトラヒドロフラン等）に溶解させ、この溶液に加えて攪拌する方法などを挙げることができるが、溶融状態の熱履歴時間および再溶融回数を減らすという点から、溶融重合で得られた溶融状態のポリカーボネートにスルホン酸化合物、環状化合物等の成分を添加混練しペレット化するのが好ましい。
本発明のポリカーボネート組成物は射出成型により種々の成型品とすることができる。射出成型はいかなる装置を用いて行ってもよいが、成型機のシリンダーにおける設定温度は２５０〜４００℃が好ましい。設定温度が２５０℃に満たない場合ポリマーの流動性が低いために良好な成型品が得られず、特にポリカーボネートの主要用途の一つである光ディスク基板の成型ではスタンパー信号の転写性が低下するため好ましくない。４００℃を超える場合ポリマーが熱劣化を生じ色調や機械物性が著しく悪化するため好ましくない。また、金型における設定温度は５０〜１４０℃が好ましく、設定温度が５０℃に満たない場合は成型品に離型むらが生じ、１４０℃を超える場合は所望の離型性が得られず好ましくない。
本発明によれば、上記のごとく射出成型をする際に、芳香族ポリカーボネートを受け入れる射出成型金型の芳香族ポリカーボネートを接触する金型内表面に、上記式（ＩＩ）で表される第１芳香族化合物を金型内表面１ｃｍ２当り０．００５〜０．１ｍｇの割合で付着せしめるときには、第１芳香族化合物の離型作用により、射出成型品が離型性良く製造し得る。
本発明の芳香族ポリカーボネート組成物の成型品には、例えば電子・通信器材；ＯＡ機器；レンズ、プリズム、光ディスク基板のごとき光記録媒体用基板、光ファイバーなどの光学部品；家庭電器、照明部材、重電部材などの電子・電機材料；車両内外装、精密機械、絶縁材などの機械材料；医療材料；保安・保護材料；スポーツレジャー用品；家庭用品などの雑貨材料；容器・包装材料；表示・装飾材料が包含される。また、上記光ディスク基板としては、例えば成型基板の厚みが１．２ｍｍのＣＤ、ＬＤ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｒ、光磁気ディスク、相変化型ディスク等の基板、厚みが１．２ｍｍの単板を２枚貼り合わせることによって得られる基板、厚みが０．６ｍｍの基板、厚みが０．６ｍｍの単板であるＤＶＤ用の成型基板を２枚張貼り合わせることによって得られるＤＶＤ基板などが挙げられる。ＤＶＤ基板としては例えば、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＡＭなどの基板が挙げられる。
本発明の光記録媒体用基板は、好ましくは臨界表面張力が３４．８〜３６．４の範囲にある。
本発明によれば、本発明のポリカーボネート組成物からなる光記録媒体用基板、および上記の光記録媒体用基板および該基板の片面上に直接または中間層を介して存在する光記録層からなる光記録媒体が同様に提供される。
この光記録媒体は、公知の光記録媒体と同様に、必要により誘電体層および反射層を備えることができる。
【実施例】  以下に実施例を挙げてさらに説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。なお、ポリマーの各評価は以下の方法で行った。
（１）粘度平均分子量（Ｍｖ）
塩化メチレン中２０℃での極限粘度［η］を測定し、下記式にて粘度平均分子量に換算した。
［η］＝１．２３×１０−４Ｍｗ０．８３
（２）分子量分布
昭和電工社製ゲル浸透クロマトグラフィー（ｓｈｏｄｅ×ＧＰＣ  Ｓｙｓｔｅｍ−１１）を用いて測定した。
（３）末端ＯＨ基濃度
ＪＥＯＬ社製高分解能ＮＭＲ（ＥＸ−２７０）を用いて測定し、全末端基量に対する末端ＯＨ基量の割合を算出した。
（４）臨界表面張力の測定
ＪＩＳ規格Ｋ６７６８に準拠した。すなわち、ぬれ試験液（ホルムアミド、エチレングリコールモノメチルエーテル混合液；和光純薬（株））および発色剤（ビクトリアブルーＢ；和光純薬（株））を用いて成型板表面の表面張力（３０〜５６ｄｙｎ／ｃｍ；３３０〜５６０μＮ／ｃｍ）を測定した。各ポリマーにつき３０検体の成型板を用い、各成型板ごとに５点ずつの測定を行い平均した。
（５）離型性
コンパクトディスク基盤を連続１００ショット成型し、そのうちディスクまたはスプルーの金型への残りがあったショット数を不良率（％）として評価した。
（６）転写性
上の方法にて得たディスク基盤に転写されたピットを光学顕微鏡（８００倍）で観察し、評価した。実施例、比較例それぞれについて、ディスク１００枚を評価した。
具体的には、転写されたピット形状に異常が認められるか否かを評価した。ここで形状にムラがあるとは、ディスク基盤に転写されたピットの形状にムラがあり、ミクロンオーダーの転写が不良になることを意味する。
（７）熱安定性
得られたペレットを射出成型機内（シリンダー温度３４０℃、金型温度８０℃）で５分滞留させた後、厚さ２ｍｍの成型板を作成した。滞留前後の色差（ΔＥ）を日本電色工業（株）製のカラーメーターで測定した。
【実施例１、２、３および比較例１】
ビスフェノールＡ（以下ＢＰＡ）２２８重量部、ジフェニルカーボネート（以下ＤＰＣ）２２３重量部およびテトラメチルアンモニウムヒドロキシド０．００９重量部、ビスフェノールＡジナトリウム塩０．０００１４重量部を攪拌装置、蒸留塔および減圧装置を備えた反応槽に仕込み窒素置換した後、１４０℃で溶解した。３０分間攪拌後、内温を２０５℃に昇温し、内圧１００ｍｍＨｇで５０分間反応させ、生成するフェノールを留去した。ついで内温を２４０℃に昇温しつつ内圧を徐々に２０ｍｍＨｇまで減圧し、同温度、同圧下で７０分間さらに反応を続行した。最終的に２７０℃まで昇温し内圧１ｍｍＨｇでポリカーボネートの重縮合を継続した。得られたポリカーボネートの粘度平均分子量は１５，２００であった。次いで溶融状態のままで、このポリマーをギアポンプにて二軸押出機（Ｌ／Ｄ＝１７．５、バレル温度２７０℃）に挿入し、ポリマーに対して表記載のエステル化合物、酸、スルホン酸化合物、亜リン酸エステルをそれぞれ所定量添加混練し、ダイを通してストランド状とし、カッターで切断しペレットとした。
【実施例４】  ２７０℃まで昇温後、反応系内にＤＰＣ２重量部を添加する操作を追加する以外は実施例１と同様にして実施した。
【実施例５】  ビスフェノールＡジナトリウム塩０．０００１４重量部に代わり、水酸化セシウム０．００００４重量部を用いた以外は実施例１と同様に実施した。
比較例２
ＤＰＣ２２３重量部およびテトラメチルアンモニウムヒドロキシド０．００９重量部に代えて、ＤＰＣ２３１重量部およびビスフェノールＡジナトリウム塩０．０００３重量部を使用し、最終的に３００℃の温度でポリカーボネートの重縮合を継続した以外は実施例１と同様にして実施した。
比較例３
ＤＰＣ２２３重量部に代えて、ＤＰＣ２３１重量部を使用した以外は実施例１と同様にして実施した。
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【国際調査報告】
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