(57)【要約】
2003051883.tif 000028（式中、Ｃ環はベンゼン環またはシクロヘキセン環を表し、ＸおよびＹは同一または異なって、−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＯＨ）−、−ＣＨ（ＯＲｘ）−、−ＣＨ（ＳＲＹ）−またはカルボニルを表し、Ｒ１およびＲ２は同一または異なって、水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニルまたは置換もしくは非置換の低級アルカノイルを表すか、またはＲ１とＲ２が、それぞれが隣接する２つの炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成し、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は同一または異なって、水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル等を表す）悪性腫瘍または脳神経変性疾患の治療に有用な上記一般式（Ｉ）で表されるインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩を提供する。
2003051883.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
2003051883.tif 000026
《式中、
Ｃ環は
ベンゼン環または
シクロヘキセン環
を表し、
ＸおよびＹは同一または異なって、
−ＣＨ２−、
−ＣＨ（ＯＨ）−、
−ＣＨ（ＯＲＸ）−（式中、ＲＸは低級アルキルを表す）、
−ＣＨ（ＳＲＹ）−（式中、ＲＹは低級アルキルを表す）または
カルボニル
を表し、
Ｒ１およびＲ２は同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニルまたは
置換もしくは非置換の低級アルカノイル
を表すか、または
Ｒ１とＲ２が、それぞれが隣接する２つの炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成し、
Ｒ３は
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換のアラルキル、
置換もしくは非置換の低級アルカノイルまたは
置換もしくは非置換のアロイルを表すか、
Ｒ５と一緒になって、式（Ｔ）
2003051883.tif 000027
〈式中、
ＣＡ環は
ベンゼン環または
シクロヘキセン環
を表し、
ＸＡおよびＹＡは同一または異なって、
−ＣＨ２−、
−ＣＨ（ＯＨ）−、
−ＣＨ（ＯＲＸＡ）−（式中、ＲＸＡは低級アルキルを表す）、
−ＣＨ（ＳＲＹＡ）−（式中、ＲＹＡは低級アルキルを表す）または
カルボニル
を表し、
Ｒ１ＡおよびＲ２Ａは同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニルまたは
置換もしくは非置換の低級アルカノイル
を表すか、または
Ｒ１ＡとＲ２Ａが、それぞれが隣接する２つの炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成し、
Ｒ４Ａは
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換の低級アルカノイル、
置換もしくは非置換のアロイル、
置換もしくは非置換のアリール、
置換もしくは非置換の複素環基、
−ＮＲ６Ｒ７［式中、
Ｒ６およびＲ７は同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
低級アルコキシカルボニルまたは
−ＣＯＮＲ８Ｒ９（式中、
Ｒ８およびＲ９は同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換のアリール、
または置換もしくは非置換の複素環基
を表す）
を表す］、
−ＣＯＲ１０｛式中、
Ｒ１０は
ヒドロキシ、
低級アルコキシまたは
−ＮＲ１１Ｒ１２［式中、
Ｒ１１およびＲ１２は同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
シクロアルキル、
置換もしくは非置換のアラルキル、
置換もしくは非置換のアリール、
置換もしくは非置換の複素環基、
低級アルキルチオまたは
アミノ酸残基（該アミノ酸残基のアミノ基は保護基で保護されていてもよい）
を表すか、または
Ｒ１１とＲ１２が隣接する窒素原子と一緒になって複素環基を形成する］
を表す｝、
−ＣＯ（ＮＨ）ＮＲ１３Ｒ１４［式中、
Ｒ１３およびＲ１４は同一または異なって、
水素原子または
−ＣＯＲ１５（式中、
Ｒ１５は
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換のアリールまたは
置換もしくは非置換の複素環基
を表す）
を表すか、または
Ｒ１３とＲ１４が隣接する窒素原子と一緒になって複素環基を形成する］、
−ＣＨ＝ＮＯＲ１６（式中、
Ｒ１６は
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換のアラルキル、
置換もしくは非置換のアリールまたは
置換もしくは非置換の複素環基
を表す）または
−ＣＨ＝ＮＮＲ１７Ｒ１８［式中、
Ｒ１７およびＲ１８は同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換のアラルキル、
置換もしくは非置換のアリール、
置換もしくは非置換の複素環基または
−ＣＯＮＲ１１ＡＲ１２Ａ（式中、Ｒ１１ＡおよびＲ１２Ａはそれぞれ前記Ｒ１１およびＲ１２と同義である）
を表すか、または
Ｒ１７とＲ１８が隣接する窒素原子と一緒になって複素環基を形成する］
を表し、
Ｑ１は
置換もしくは非置換の低級アルキレン
を表し、
Ｑ２は
水素原子または
置換もしくは非置換の低級アルキル
を表す〉
を形成し、
（Ａ）Ｒ３が水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイルまたは置換もしくは非置換のアロイルであり、かつ
Ｒ１およびＲ２が同一または異なって、水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニルまたは置換もしくは非置換の低級アルカノイルであるとき、
Ｒ４およびＲ５は同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換の低級アルカノイル、
置換もしくは非置換のアロイル、
置換もしくは非置換のアリール、
置換もしくは非置換の複素環基、
−ＮＲ６ＡＲ７Ａ（式中、Ｒ６ＡおよびＲ７Ａはそれぞれ前記Ｒ６およびＲ７と同義である）、
−ＣＯＲ１０Ａ（式中、Ｒ１０Ａは前記Ｒ１０と同義である）、
−ＣＯ（ＮＨ）ＮＲ１３ＡＲ１４Ａ（式中、Ｒ１３ＡおよびＲ１４Ａはそれぞれ前記Ｒ１３およびＲ１４と同義である）、
−ＣＨ＝ＮＯＲ１６Ａ（式中、Ｒ１６Ａは前記Ｒ１６と同義である）または
−ＣＨ＝ＮＮＲ１７ＡＲ１８Ａ（式中、Ｒ１７ＡおよびＲ１８Ａはそれぞれ前記Ｒ１７およびＲ１８と同義である）
を表し、
（Ｂ）Ｒ３が水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイルまたは置換もしくは非置換のアロイルであり、かつ
Ｒ１とＲ２が、それぞれが隣接する２つの炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成するとき、
Ｒ４およびＲ５は同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換の低級アルカノイル、
置換もしくは非置換のアロイル、
置換もしくは非置換の脂肪族複素環基、
オキサゾリニル、
−ＮＲ６ＡＲ７Ａ（式中、Ｒ６ＡおよびＲ７Ａはそれぞれ前記Ｒ６およびＲ７と同義である）、
−ＣＯＲ１０Ａ（式中、Ｒ１０Ａは前記Ｒ１０と同義である）、
−ＣＯ（ＮＨ）ＮＲ１３ＡＲ１４Ａ（式中、Ｒ１３ＡおよびＲ１４Ａはそれぞれ前記Ｒ１３およびＲ１４と同義である）、
−ＣＨ＝ＮＯＲ１６Ａ（式中、Ｒ１６Ａは前記Ｒ１６と同義である）または
−ＣＨ＝ＮＮＲ１７ＡＲ１８Ａ（式中、Ｒ１７ＡおよびＲ１８Ａはそれぞれ前記Ｒ１７およびＲ１８と同義である）
を表し、
（Ｃ）Ｒ３とＲ５が一緒になって式（Ｔ）を形成するとき、
Ｒ４は
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換の低級アルカノイル、
置換もしくは非置換のアロイル、
置換もしくは非置換のアリール、
置換もしくは非置換の複素環基、
−ＮＲ６ＡＲ７Ａ（式中、Ｒ６ＡおよびＲ７Ａはそれぞれ前記Ｒ６およびＲ７と同義である）、
−ＣＯＲ１０Ａ（式中、Ｒ１０Ａは前記Ｒ１０と同義である）、
−ＣＯ（ＮＨ）ＮＲ１３ＡＲ１４Ａ（式中、Ｒ１３ＡおよびＲ１４Ａはそれぞれ前記Ｒ１３およびＲ１４と同義である）、
−ＣＨ＝ＮＯＲ１６Ａ（式中、Ｒ１６Ａは前記Ｒ１６と同義である）または
−ＣＨ＝ＮＮＲ１７ＡＲ１８Ａ（式中、Ｒ１７ＡおよびＲ１８Ａはそれぞれ前記Ｒ１７およびＲ１８と同義である）
を表す》
で表されるインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項２】
Ｒ３が水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイルまたは置換もしくは非置換のアロイルである請求の範囲１記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項３】
Ｒ３が置換もしくは非置換の低級アルキルである請求の範囲１記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項４】
Ｒ１とＲ２が、それぞれが隣接する２つの炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成する請求の範囲１〜３のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項５】
Ｒ１およびＲ２が同一または異なって、水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニルまたは置換もしくは非置換の低級アルカノイルである請求の範囲１〜３のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項６】
Ｃ環がベンゼン環である請求の範囲１〜５のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項７】
Ｒ３とＲ５が一緒になって式（Ｔ）を形成する請求の範囲１記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項８】
請求の範囲１〜７のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する抗腫瘍剤。
【請求項９】
請求の範囲１〜７のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する脳神経変性疾患治療剤。
【請求項１０】
請求の範囲１〜７のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する抗腫瘍剤の活性増強剤。
【請求項１１】
請求の範囲１〜７のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有するサイクリン依存性キナーゼ２（ＣＤＫ２）阻害剤。
【請求項１２】
請求の範囲１〜７のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有するＧ２期および／またはＳ期における集積作用解除剤。
【請求項１３】
請求の範囲１〜７のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する医薬。
【請求項１４】
抗腫瘍剤の製造のための請求の範囲１〜７のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩の使用。
【請求項１５】
抗腫瘍剤の活性増強剤の製造のための請求の範囲１〜７のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩の使用。
【請求項１６】
脳神経変性疾患治療剤の製造のための請求の範囲１〜７のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩の使用。
【請求項１７】
ＣＤＫ２阻害剤の製造のための請求の範囲１〜７のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩の使用。
【請求項１８】
Ｇ２期および／またはＳ期における集積作用解除剤の製造のための請求の範囲１〜７のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩の使用。
【請求項１９】
請求の範囲１〜７のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩の有効量を投与することを特徴とする悪性腫瘍の治療方法。
【請求項２０】
請求の範囲１〜７のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩の有効量を投与することを特徴とする脳神経変性疾患の治療方法。
【請求項２１】
請求の範囲１〜７のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩の有効量を投与することを特徴とするＣＤＫ２の関与する疾患の治療方法。
【請求項２２】
請求の範囲１〜７のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩の有効量を投与することを特徴とする抗腫瘍剤の活性増強方法。
【請求項２３】
請求の範囲１〜７のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩の有効量を投与することを特徴とするＧ２期および／またはＳ期における集積作用の解除方法。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、癌または脳神経変性疾患の治療に有用なインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩に関する。
背景技術
サイクリン依存性キナーゼ２（ＣＤＫ２）は、サイクリンＥと複合体を形成し、細胞周期のＧ１期において網膜芽腫（Ｒｂ）タンパクの特定残基のリン酸化を触媒する酵素であり、細胞周期の進展に重要な役割を担っている。ＣＤＫ２およびサイクリンＥは、乳癌やリンパ腫等において高発現していることが知られており、癌の悪性度との相関も報告されている［例えば、第５７回日本癌学会総会記事、２０頁（発表番号：Ｓ０６−４）（１９９８年）等］。従って、ＣＤＫ２阻害剤は抗腫瘍剤として有用であると考えられる。
一方、ＣＤＫ２阻害剤は、抗腫瘍剤、脳血管疾患、卒中、梗塞等により引き起こされる神経細胞死を抑制する効果を有することが報告されている（ＷＯ９９／４３６７５）。従って、ＣＤＫ２阻害剤は脳神経変性疾患治療剤として有用であると考えられる。
ＣＤＫ２を阻害する化合物として、フラボピリドール誘導体、オロモウシン、ロスコルビチン、プルバラノール、ＵＣＮ−０１等が知られている［キャンサー・リサーチ（Ｃａｎｃｅｒ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ）、５６巻、２９７３頁（１９９６年）、ＷＯ９７／４２９４９、エクスペリメンタル・セル・リサーチ（Ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔａｌ  Ｃｅｌｌ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ）、２４５巻、８頁（１９９８年）、サイエンス（Ｓｃｉｅｎｃｅ）、２８１巻、５３３頁（１９９８年）、キャンサー・リサーチ（Ｃａｎｃｅｒ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ）、５７巻、１４９５頁（１９９７年）］。
また、Ｇ２期またはＳ期における集積作用の解除剤は、ＤＮＡ作用性抗腫瘍剤または代謝拮抗剤により癌細胞がＤＮＡの損傷を受けた場合に、癌細胞が自らの細胞周期をＧ２期またはＳ期で止めることによりＤＮＡの損傷を修復する作用（Ｇ２期またはＳ期における集積作用）を解除（アブロゲート、ａｂｒｏｇａｔｅ）し、細胞周期の進行を促すことによってその損傷を修復させるチャンスを奪い、癌細胞をアポトーシス（ａｐｏｐｔｏｓｉｓ）に導くことにより、癌の治療において相乗的な併用効果を示すことが知られている［クリニカル・キャンサー・リサーチ（Ｃｌｉｎｉｃａｌ  Ｃａｎｃｅｒ  Ｒｅｓ．）、２巻、７９１頁（１９９６年）、セル・グロース・アンド・ディファレンシエーション（Ｃｅｌｌ  Ｇｒｏｗｔｈ  ＆  Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｔｉｏｎ）、８巻、７７９頁（１９９７年）、ジャーナル・オブ・ナショナル・キャンサー・インスティチュート（Ｊ．Ｎａｔｌ．Ｃａｎｃｅｒ  Ｉｎｓｔ．）、８８巻、９５６頁（１９９６年）、プロシーディングス・オブ・アメリカン・アソシエーション・フォー・キャンサー・リサーチ（Ｐｒｏｃ．Ａｍ．Ａｓｓｏｃ．Ｃａｎｃｅｒ  Ｒｅｓ．）、３９巻、７０頁（発表番号：４７６番）（１９９８年）］。
このようなＧ２期またはＳ期における集積作用の解除作用を有する化合物としては、スタウロスポリン誘導体、イソグラヌラチミド［キャンサー・リサーチ（Ｃａｎｃｅｒ  Ｒｅｓ．）、５８巻、５７０１頁（１９９８年）］、カフェイン［キャンサー・リサーチ（Ｃａｎｃｅｒ  Ｒｅｓ．）、５５巻、１６４３頁（１９９５年）］、ｃｄｃ２５ＣのＮ末端から２１１−２２１番目ののアミノ酸に相当するペプチド［キャンサー・リサーチ（Ｃａｎｃｅｒ  Ｒｅｓ．）、５９巻、５８８７頁（１９９９年）］が知られている。また、Ｋ−２５２ａに関しても、Ｇ２期おける集積作用の解除作用はないが、Ｓ期における集積作用の解除作用を有することが報告されている［バイオケミカル・ファーマコロジー（Ｂｉｏｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．）、５８巻、１７１３頁（１９９９年）］。
従来、インドール誘導体としては、特開平５−２０２０４８または特開平４−１７８３８７に、式（ＩＩ）
2003051883.tif 000003
（式中、Ｚはハロゲン、ヒドロキシ、アミノまたはそれらの置換基で置換された低級アルキルを表し、Ｒ１ＢおよびＲ２Ｂは同一または異なって、水素原子、カルボキシ、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニルまたは置換もしくは非置換の低級アルカノイル等を表すか、またはＲ１ＢとＲ２Ｂが、それぞれが隣接する２つの炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成し、Ｒ３Ｂは水素原子、カルバモイル、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイルまたは置換もしくは非置換のアロイル等を表し、（Ａ）Ｒ３Ｂが水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイルまたは置換もしくは非置換のアロイルであり、かつＲ１ＢおよびＲ２Ｂが同一または異なって、水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニルまたは置換もしくは非置換の低級アルカノイルであるとき、Ｒ４ＢおよびＲ５Ｂは同一または異なって、水素原子、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換のアロイルまたは置換もしくは非置換のアリール等を表し、（Ｂ）Ｒ３Ｂが水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、カルバモイル、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイルまたは置換もしくは非置換のアロイルであり、かつＲ１ＢとＲ２Ｂが、それぞれが隣接する２つの炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成するとき、Ｒ４ＢおよびＲ５Ｂは同一または異なって、水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルカノイル、置換もしくは非置換のアロイル、置換もしくは非置換の脂肪族複素環基、カルバモイルオキシまたはアミノ
等を表す）で表される化合物が、ＵＳ４，９１２，１０７またはＵＳ５，７２１，２６７に、式（ＩＩＩ）
2003051883.tif 000004
（式中、Ｒ３Ｃは水素原子、ヒドロキシまたは置換もしくは非置換の低級アルキル等を表わし、Ｒ５Ｃは置換もしくは非置換のアリールまたは置換もしくは非置換の複素環基を表す）で表される化合物が開示されている。
発明の開示
本発明の目的は、悪性腫瘍または脳神経変性疾患の治療に有用なインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩を提供することにある。
本発明は以下の（１）〜（２３）に関する。
（１）式（Ｉ）
2003051883.tif 000005
《式中、
Ｃ環は
ベンゼン環または
シクロヘキセン環
を表し、
ＸおよびＹは同一または異なって、
−ＣＨ２−、
−ＣＨ（ＯＨ）−、
−ＣＨ（ＯＲＸ）−（式中、ＲＸは低級アルキルを表す）、
−ＣＨ（ＳＲＹ）−（式中、ＲＹは低級アルキルを表す）または
カルボニル
を表し、
Ｒ１およびＲ２は同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニルまたは
置換もしくは非置換の低級アルカノイル
を表すか、または
Ｒ１とＲ２が、それぞれが隣接する２つの炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成し、
Ｒ３は
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換のアラルキル、
置換もしくは非置換の低級アルカノイルまたは
置換もしくは非置換のアロイルを表すか、
Ｒ５と一緒になって、式（Ｔ）
2003051883.tif 000006
〈式中、
ＣＡ環は
ベンゼン環または
シクロヘキセン環
を表し、
ＸＡおよびＹＡは同一または異なって、
−ＣＨ２−、
−ＣＨ（ＯＨ）−、
−ＣＨ（ＯＲＸＡ）−（式中、ＲＸＡは低級アルキルを表す）、
−ＣＨ（ＳＲＹＡ）−（式中、ＲＹＡは低級アルキルを表す）または
カルボニル
を表し、
Ｒ１ＡおよびＲ２Ａは同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニルまたは
置換もしくは非置換の低級アルカノイル
を表すか、または
Ｒ１ＡとＲ２Ａが、それぞれが隣接する２つの炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成し、
Ｒ４Ａは
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換の低級アルカノイル、
置換もしくは非置換のアロイル、
置換もしくは非置換のアリール、
置換もしくは非置換の複素環基、
−ＮＲ６Ｒ７［式中、
Ｒ６およびＲ７は同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
低級アルコキシカルボニルまたは
−ＣＯＮＲ８Ｒ９（式中、
Ｒ８およびＲ９は同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換のアリール、
または置換もしくは非置換の複素環基
を表す）
を表す］、
−ＣＯＲ１０｛式中、
Ｒ１０は
ヒドロキシ、
低級アルコキシまたは
−ＮＲ１１Ｒ１２［式中、
Ｒ１１およびＲ１２は同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
シクロアルキル、
置換もしくは非置換のアラルキル、
置換もしくは非置換のアリール、
置換もしくは非置換の複素環基、
低級アルキルチオまたは
アミノ酸残基（該アミノ酸残基のアミノ基は保護基で保護されていてもよい）
を表すか、または
Ｒ１１とＲ１２が隣接する窒素原子と一緒になって複素環基を形成する］
を表す｝、
−ＣＯ（ＮＨ）ＮＲ１３Ｒ１４［式中、
Ｒ１３およびＲ１４は同一または異なって、
水素原子または
−ＣＯＲ１５（式中、
Ｒ１５は
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換のアリールまたは
置換もしくは非置換の複素環基
を表す）
を表すか、または
Ｒ１３とＲ１４が隣接する窒素原子と一緒になって複素環基を形成する］、
−ＣＨ＝ＮＯＲ１６（式中、
Ｒ１６は
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換のアラルキル、
置換もしくは非置換のアリールまたは
置換もしくは非置換の複素環基  を表す）または
−ＣＨ＝ＮＮＲ１７Ｒ１８［式中、
Ｒ１７およびＲ１８は同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換のアラルキル、
置換もしくは非置換のアリール、
置換もしくは非置換の複素環基または
−ＣＯＮＲ１１ＡＲ１２Ａ（式中、Ｒ１１ＡおよびＲ１２Ａはそれぞれ前記Ｒ１１およびＲ１２と同義である）
を表すか、または
Ｒ１７とＲ１８が隣接する窒素原子と一緒になって複素環基を形成する］
を表し、
Ｑ１は
置換もしくは非置換の低級アルキレン
を表し、
Ｑ２は
水素原子または
置換もしくは非置換の低級アルキル
を表す〉
を形成し、
（Ａ）Ｒ３が水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイルまたは置換もしくは非置換のアロイルであり、かつ
Ｒ１およびＲ２が同一または異なって、水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニルまたは置換もしくは非置換の低級アルカノイルであるとき、
Ｒ４およびＲ５は同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換の低級アルカノイル、
置換もしくは非置換のアロイル、
置換もしくは非置換のアリール、
置換もしくは非置換の複素環基、
−ＮＲ６ＡＲ７Ａ（式中、Ｒ６ＡおよびＲ７Ａはそれぞれ前記Ｒ６およびＲ７と同義である）、
−ＣＯＲ１０Ａ（式中、Ｒ１０Ａは前記Ｒ１０と同義である）、
−ＣＯ（ＮＨ）ＮＲ１３ＡＲ１４Ａ（式中、Ｒ１３ＡおよびＲ１４Ａはそれぞれ前記Ｒ１３およびＲ１４と同義である）、
−ＣＨ＝ＮＯＲ１６Ａ（式中、Ｒ１６Ａは前記Ｒ１６と同義である）または
−ＣＨ＝ＮＮＲ１７ＡＲ１８Ａ（式中、Ｒ１７ＡおよびＲ１８Ａはそれぞれ前記Ｒ１７およびＲ１８と同義である）
を表し、
（Ｂ）Ｒ３が水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイルまたは置換もしくは非置換のアロイルであり、かつ
Ｒ１とＲ２が、それぞれが隣接する２つの炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成するとき、
Ｒ４およびＲ５は同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換の低級アルカノイル、
置換もしくは非置換のアロイル、
置換もしくは非置換の脂肪族複素環基、
オキサゾリニル、
−ＮＲ６ＡＲ７Ａ（式中、Ｒ６ＡおよびＲ７Ａはそれぞれ前記Ｒ６およびＲ７と同義である）、
−ＣＯＲ１０Ａ（式中、Ｒ１０Ａは前記Ｒ１０と同義である）、
−ＣＯ（ＮＨ）ＮＲ１３ＡＲ１４Ａ（式中、Ｒ１３ＡおよびＲ１４Ａはそれぞれ前記Ｒ１３およびＲ１４と同義である）、
−ＣＨ＝ＮＯＲ１６Ａ（式中、Ｒ１６Ａは前記Ｒ１６と同義である）または
−ＣＨ＝ＮＮＲ１７ＡＲ１８Ａ（式中、Ｒ１７ＡおよびＲ１８Ａはそれぞれ前記Ｒ１７およびＲ１８と同義である）
を表し、
（Ｃ）Ｒ３とＲ５が一緒になって式（Ｔ）を形成するとき、
Ｒ４は
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換の低級アルカノイル、
置換もしくは非置換のアロイル、
置換もしくは非置換のアリール、
置換もしくは非置換の複素環基、
−ＮＲ６ＡＲ７Ａ（式中、Ｒ６ＡおよびＲ７Ａはそれぞれ前記Ｒ６およびＲ７と同義である）、
−ＣＯＲ１０Ａ（式中、Ｒ１０Ａは前記Ｒ１０と同義である）、
−ＣＯ（ＮＨ）ＮＲ１３ＡＲ１４Ａ（式中、Ｒ１３ＡおよびＲ１４Ａはそれぞれ前記Ｒ１３およびＲ１４と同義である）、
−ＣＨ＝ＮＯＲ１６Ａ（式中、Ｒ１６Ａは前記Ｒ１６と同義である）または
−ＣＨ＝ＮＮＲ１７ＡＲ１８Ａ（式中、Ｒ１７ＡおよびＲ１８Ａはそれぞれ前記Ｒ１７およびＲ１８と同義である）
を表す》
で表されるインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
（２）Ｒ３が水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイルまたは置換もしくは非置換のアロイルである上記（１）記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
（３）Ｒ３が置換もしくは非置換の低級アルキルである上記（１）記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
（４）Ｒ１とＲ２が、それぞれが隣接する２つの炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成する上記（１）〜（３）のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
（５）Ｒ１およびＲ２が同一または異なって、水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニルまたは置換もしくは非置換の低級アルカノイルである上記（１）〜（３）のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
（６）Ｃ環がベンゼン環である上記（１）〜（５）のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
（７）Ｒ３とＲ５が一緒になって式（Ｔ）を形成する上記（１）記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
（８）上記（１）〜（７）のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する抗腫瘍剤。
（９）上記（１）〜（７）のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する脳神経変性疾患治療剤。
（１０）上記（１）〜（７）のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する抗腫瘍剤の活性増強剤。
（１１）上記（１）〜（７）のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有するサイクリン依存性キナーゼ２（ＣＤＫ２）阻害剤。
（１２）上記（１）〜（７）のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有するＧ２期および／またはＳ期における集積作用解除剤。
（１３）上記（１）〜（７）のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する医薬。
（１４）抗腫瘍剤の製造のための上記（１）〜（７）のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩の使用。
（１５）抗腫瘍剤の活性増強剤の製造のための上記（１）〜（７）のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩の使用。
（１６）脳神経変性疾患治療剤の製造のための上記（１）〜（７）のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩の使用。
（１７）ＣＤＫ２阻害剤の製造のための上記（１）〜（７）のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩の使用。
（１８）Ｇ２期および／またはＳ期における集積作用解除剤の製造のための上記（１）〜（７）のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩の使用。
（１９）上記（１）〜（７）のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩の有効量を投与することを特徴とする悪性腫瘍の治療方法。
（２０）上記（１）〜（７）のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩の有効量を投与することを特徴とする脳神経変性疾患の治療方法。
（２１）上記（１）〜（７）のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩の有効量を投与することを特徴とするＣＤＫ２の関与する疾患の治療方法。
（２２）上記（１）〜（７）のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩の有効量を投与することを特徴とする抗腫瘍剤の活性増強方法。
（２３）上記（１）〜（７）のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩の有効量を投与することを特徴とするＧ２期および／またはＳ期における集積作用の解除方法。
以下、式（Ｉ）で表される化合物を化合物（Ｉ）という。他の式番号の化合物についても同様である。
式（Ｉ）の各基の定義において、
（ｉ）低級アルキルとしては、例えば炭素数１〜９の直鎖または分岐状のアルキル、具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル等があげられる。
（ｉｉ）低級アルキレンは、前記低級アルキル（ｉ）から水素原子を１つ除いたものと同義である。
（ｉｉｉ）低級アルコキシ、低級アルキルチオおよび低級アルコキシカルボニルにおける低級アルキル部分は、前記低級アルキル（ｉ）と同義である。
（ｉｖ）シクロアルキルとしては、例えば炭素数３〜６のシクロアルキル、具体的にはシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル等があげられる。
（ｖ）低級アルケニルとしては、例えば炭素数２〜６のアルケニル、具体的にはビニル、アリル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル等があげられる。
（ｖｉ）低級アルカノイルとしては、例えば炭素数１〜８の直鎖または分岐状のアルカノイル、具体的にはホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、オクタノイル等があげられる。
（ｖｉｉ）アリール、アラルキルおよびアロイルのアリール部分としては、例えばフェニル、ナフチル等があげられ、アラルキルのアルキレン部分は前記低級アルキレン（ｉｉ）と同義である。
（ｖｉｉｉ）脂肪族複素環基としては、例えばピロリジニル、ピペリジニル、ピペラジニル、モルホリニル、チオモルホリニル、オキサゾリニル、ジオキソラニル、テトラヒドロピラニル等があげられる。
芳香族複素環基としては、例えばフリル、チエニル、ピロリル、ピリジル、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、チアゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、ピリミジニル、インドリル、ベンゾチアゾリル、キノリル、イソキノリル、キナゾリニル等があげられる。
複素環基としては、例えば上記脂肪族複素環基および芳香族複素環基であげた基等があげられる。
（ｉｘ）隣接する窒素原子と一緒になって形成される複素環基は、酸素原子、硫黄原子または他の窒素原子を含んでもよく、例えばピロリジニル、モルホリノ、チオモルホリノ、Ｎ−メチルピペラジニル、ピラゾリジニル、ピペリジノ、ピペラジニル、ホモピペラジニル、ピロリル、インドリル、イソインドリル等があげられる。
（ｘ）アミノ酸残基のアミノ酸部分としては、例えばグリシン、アラニン、プロリン、グルタミン酸、リジン、セリン、システイン、フェニルアラニン、チロシン等のα−アミノ酸等があげられ、アミノ酸のアミノ基の保護基としては、通常ペプチド合成で用いられるものであればいずれでもよく、例えばベンジルオキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル等があげられる。
（ｘｉ）置換低級アルキル、置換低級アルキレン、置換低級アルケニルおよび置換低級アルカノイルの置換基としては、同一または異なって例えば置換数１〜３の、ヒドロキシ、ハロゲン、オキソ、アジド、低級アルコキシ、アラルキルオキシ、置換アラルキルオキシ［該置換アラルキルオキシの置換基は後記の置換アリールの置換基（ｘｉｉｉ）と同義である］、アリールオキシ、置換アリールオキシ［該置換アリールオキシの置換基は後記の置換アリールの置換基（ｘｉｉｉ）と同義である］、メルカプト、低級アルキルチオ、アラルキルチオ、置換アラルキルチオ［該置換アラルキルチオの置換基は後記の置換アリールの置換基（ｘｉｉｉ）と同義である］、アリールチオ、置換アリールチオ［該置換アリールチオの置換基は後記の置換アリールの置換基（ｘｉｉｉ）と同義である］、低級アルカノイル、アロイル、置換アロイル［該置換アロイルの置換基は後記の置換アロイルの置換基（ｘｉｉｉ）と同義である］、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、低級アルカノイルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシ、メタンスルホニルオキシ、−ＯＣＯＮＲ１９Ｒ２０（式中、Ｒ１９およびＲ２０は同一または異なって、水素原子、低級アルキル、アリールまたは複素環基を表す）、アリール、置換アリール［該置換アリールの置換基は後記の置換アリールの置換基（ｘｉｉｉ）と同義である］、複素環基、置換複素環基［該置換複素環基の置換基は後記の置換複素環基の置換基（ｘｉｉｉ）と同義である］、−ＮＲ２１Ｒ２２〈式中、Ｒ２１およびＲ２２は同一または異なって、水素原子、低級アルキル、置換低級アルキル（該置換低級アルキルの置換基としては、例えば複素環基があげられる）、ヒドロキシ低級アルキル、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル、シクロアルキル、アラルキル、アリール、置換アリール［該置換アリールの置換基は後記の置換アリールの置換基（ｘｉｉｉ）と同義である］、複素環基、置換複素環基［該置換複素環基の置換基は後記の置換複素環基の置換基（ｘｉｉｉ）と同義である］、−ＣＯＲ２３｛式中、Ｒ２３は低級アルキル、アリール、置換アリール［該置換アリールの置換基は後記の置換アリールの置換基（ｘｉｉｉ）と同義である］、複素環基または置換複素環基［該置換複素環基の置換基は後記の置換複素環基の置換基（ｘｉｉｉ）と同義である］を表す｝、−ＣＯＮＲ２４Ｒ２５｛式中、Ｒ２４およびＲ２５は同一または異なって、水素原子、ヒドロキシ、低級アルキル、アラルキル、アリール、置換アリール［該置換アリールの置換基は後記の置換アリールの置換基（ｘｉｉｉ）と同義である］、複素環基または置換複素環基［該置換複素環基の置換基は後記の置換複素環基の置換基（ｘｉｉｉ）と同義である］を表すか、またはＲ２４とＲ２５が隣接する窒素原子と一緒になって複素環基を形成する｝、低級アルコキシカルボニルまたはアラルキルオキシカルボニルを表すか、またはＲ２１とＲ２２が隣接する窒素原子と一緒になって複素環基を形成する〉、−ＯＲ２６（式中、Ｒ２６は複素環基を表す）または−ＣＯＮＲ２４ＡＲ２５Ａ（式中、Ｒ２４ＡおよびＲ２５Ａはそれぞれ前記Ｒ２４およびＲ２５と同義である）等があげられる。
ここで示した低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルカノイル、アロイル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキル、アリール、複素環基、隣接する窒素原子と一緒になって形成される複素環基、シクロアルキルおよびアラルキルは、それぞれ前記の低級アルコキシ（ｉｉｉ）、低級アルキルチオ（ｉｉｉ）、低級アルカノイル（ｖｉ）、アロイル（ｖｉｉ）、低級アルコキシカルボニル（ｉｉｉ）、低級アルキル（ｉ）、アリール（ｖｉｉ）、複素環基（ｖｉｉｉ）、隣接する窒素原子と一緒になって形成される複素環基（ｉｘ）、シクロアルキル（ｉｖ）およびアラルキル（ｖｉｉ）と同義であり、アラルキルオキシ、アリールオキシ、アラルキルチオ、アリールチオ、およびアラルキルオキシカルボニルのアリール部分は、前記アリール（ｖｉｉ）と同義であり、アラルキルオキシ、アラルキルチオおよびアラルキルオキシカルボニルのアルキレン部分は、前記低級アルキレン（ｉｉ）と同義であり、低級アルカノイルオキシの低級アルカノイル部分は、前記低級アルカノイル（ｖｉ）と同義であり、ヒドロキシ低級アルキルの低級アルキレン部分は前記低級アルキレン（ｉｉ）と同義であり、ジ低級アルキルアミノ低級アルキルの、２つの低級アルキル部分および低級アルキレン部分は、それぞれ前記低級アルキル（ｉ）および低級アルキレン（ｉｉ）と同義であり、ハロゲン（ｘｉｉ）としては、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素の各原子があげられる。
（ｘｉｉｉ）置換アリール、置換アラルキル、置換アロイル、置換脂肪族複素環基および置換複素環基における置換基としては、同一または異なって例えば置換数１〜３の、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルカノイル、アロイル、ハロゲン、トリフルオロメチル、ニトロ、低級アルコキシ、アラルキルオキシ、低級アルカノイルオキシ、アロイルオキシ、−ＯＣＯＮＲ１９ＡＲ２０Ａ（式中、Ｒ１９ＡおよびＲ２０Ａはそれぞれ前記Ｒ１９およびＲ２０と同義である）、−ＮＲ２７Ｒ２８［式中、Ｒ２７およびＲ２８は同一または異なって、水素原子、低級アルキル、低級アルカノイル、アロイル、低級アルコキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニルまたは−ＣＯＮＲ２９Ｒ３０（式中、Ｒ２９およびＲ３０は同一または異なって、水素原子、低級アルキルまたはアリールを表す）を表す］、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、−ＣＯＮＲ２９ＡＲ３０Ａ（式中、Ｒ２９ＡおよびＲ３０Ａはそれぞれ前記Ｒ２９およびＲ３０と同義である）またはシアノ等があげられる。
ここで示した低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルコキシカルボニル、低級アルケニル、低級アルカノイル、アロイル、ハロゲンおよびアリールは、それぞれ前記の低級アルキル（ｉ）、低級アルコキシ（ｉｉｉ）、低級アルコキシカルボニル（ｉｉｉ）、低級アルケニル（ｖ）、低級アルカノイル（ｖｉ）、アロイル（ｖｉｉ）、ハロゲン（ｘｉｉ）およびアリール（ｖｉｉ）と同義であり、アラルキルオキシ、アロイルオキシおよびアラルキルオキシカルボニルのアリール部分は、前記アリール（ｖｉｉ）と同義であり、アラルキルオキシおよびアラルキルオキシカルボニルのアルキレン部分は、前記低級アルキレン（ｉｉ）と同義であり、低級アルカノイルオキシの低級アルカノイル部分は、前記低級アルカノイル（ｖｉ）と同義である。
ＣＤＫ２の関与する疾患としては、例えば、脳血管疾患、卒中、梗塞、脳神経変性疾患、悪性腫瘍等があげられる。悪性腫瘍としては、例えば乳癌、リンパ腫、骨肉腫、膀胱癌等があげられる。
化合物（Ｉ）の薬理学的に許容される塩は、例えば薬理学的に許容される酸付加塩、金属塩、アンモニウム塩、有機アミン付加塩、アミノ酸付加塩等を包含する。酸付加塩としては、例えば塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩等の無機酸塩、酢酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩、乳酸塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸、コハク酸塩等の有機酸塩等があげられ、金属塩としては、例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、マグネシウム塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩、アルミニウム塩、亜鉛塩等があげられ、アンモニウム塩としては、例えばアンモニウム、テトラメチルアンモニウム等の塩があげられ、有機アミン付加塩としては、例えばモルホリン、ピペリジン等の付加塩があげられ、アミノ酸付加塩としては、例えばリジン、グリシン、フェニルアラニン等の付加塩があげられる。
次に化合物（Ｉ）の製造法について説明する。
以下に示す製造法において、定義した基が実施方法の条件下で変化するかまたは方法を実施するのに不適切な場合、有機合成化学で常用される官能基の保護、脱保護等［例えば、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）、グリーン（Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ）著、ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インコーポレイテッド（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ  Ｉｎｃ．）（１９８１年）］の手段に付すことにより、目的化合物を得ることができる。また、必要に応じて置換基導入等の反応工程の順序を変えることもできる。
化合物（Ｉ）は、以下に示す一連の反応工程により製造することができる。
製造法１
化合物（Ｉ）のうち、Ｃ環がシクロヘキセン環であり、ＸおよびＹがカルボニルであり、Ｒ３がＲ３ａ（式中、Ｒ３ａはＲ３の定義の中で、Ｒ５と一緒になって前記式（Ｔ）を形成する基以外の基を表す）であり、Ｒ５がＲ５ａ（式中、Ｒ５ａはＲ５の定義の中で、Ｒ３と一緒になって前記式（Ｔ）を形成する基以外の基を表す）である化合物（Ｉａ）は、下記の工程によって製造することができる。
2003051883.tif 000007
（式中、ＰＧはトリメチルシリル、トリフェニルメチル等の保護基を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３ａ、Ｒ４およびＲ５ａはそれぞれ前記と同義である）
工程１
化合物（Ａ）を、例えばキシレン、トルエン、ジクロロベンゼン等の溶媒中または無溶媒で、化合物（Ｂ）または化合物（Ｃ）と反応させ、保護基のある化合物（Ｂ）を用いた場合は、中間体化合物（ＩＶａ）を、文献［例えば、プロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）、グリーン（Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ）著、ジョン・ワイリー・アンド・サンズ・インコーポレイテッド（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ  Ｉｎｃ．）（１９８１年）］に記載の方法に準じてさらに脱保護に付すことにより、化合物（Ｉａ）を得ることができる。
化合物（Ａ）に対して、化合物（Ｂ）または化合物（Ｃ）は１〜２０当量用いられる。反応は通常６０℃と２００℃の間の温度で行われ、１分間〜４８時間で終了する。
なお、原料化合物（Ａ）は、例えば下記の工程によって得られる。
2003051883.tif 000008
｛式中、ＰＧ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３ａ、Ｒ４およびＲ５ａはそれぞれ前記と同義であり、Ｅｔはエチルを表し、Ｐｈはフェニルを表し、Ｘａはハロゲン［該ハロゲンは前記ハロゲン（ｘｉｉ）と同義である］を表す｝
原料化合物（Ａ）は、化合物（Ｄ）と化合物（Ｅ）のウィッティヒ反応、または化合物（Ｆ）と化合物（Ｇ）、化合物（Ｈ）もしくは化合物（Ｊ）のウィッティヒ反応もしくはホーナー・エモンズ反応［例えば、カナディアン・ジャーナル・オブ・ケミストリー（Ｃａｎ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．）、５１巻、７９２頁（１９７３年）、シンセシス（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）、７４３頁（１９９２年）等］により得られる。化合物（Ｇ）、化合物（Ｈ）および化合物（Ｊ）の調製方法についても、上記文献等に記載されている。
また、化合物（Ｄ）は、公知の方法［例えば、ザ・ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．）、５２巻、１９頁（１９８７年）、カナディアン・ジャーナル・オブ・ケミストリー（Ｃａｎ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．）、５１巻、７９２頁（１９７３年）等］に準じて得られ、化合物（Ｆ）は、公知の方法［例えば、ザ・ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．）、５２巻、１０４頁（１９８７年）、テトラヘドロン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ）、５０巻、６２９９頁（１９９４年）］に準じて得られる。
製造法２
化合物（Ｉ）のうち、Ｃ環がベンゼン環であり、ＸおよびＹがカルボニルであり、ＲがＲ３ａ（式中、Ｒ３ａは前記と同義である）であり、ＲがＲ５ａ（式中、Ｒ５ａは前記と同義である）である化合物（Ｉｂ）は、前記化合物（Ｉａ）または化合物（ＩＶａ）から、下記の工程によって製造することができる。
2003051883.tif 000009
（式中、ＰＧ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３ａ、Ｒ４およびＲ５ａはそれぞれ前記と同義である）
工程２
上記の製造法１または後述する製造法３により得られる化合物（Ｉａ）または化合物（ＩＶａ）を、例えばジクロロメタン、酢酸エチル、トルエン、ジオキサン等の単独溶媒中またはそれらの混合溶媒中、例えば２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−１，４−ベンゾキノン（以下、ＤＤＱと略す）、パラジウム炭素等の脱水素原子剤で処理し、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護を行うことにより、化合物（Ｉｂ）を得ることができる。
化合物（Ｉａ）または化合物（ＩＶａ）に対して、脱水素原子剤は２〜１５当量用いられる。
反応は通常−２０℃と１８０℃の間の温度で行われ、１分間〜２４時間で終了する。
製造法３
製造法１で得られる化合物（Ｉａ）および製造法２で得られる化合物（Ｉｂ）からなる化合物（Ｉｃ）のうち、例えば以下にそれぞれ示す化合物は、他の化合物（Ｉｃ）または製造法１で得られる化合物（ＩＶａ）および製造法２で得られる化合物（ＩＶｂ）からなる化合物（ＩＶｃ）から、それぞれ下記の工程で官能基変換を行うことによっても製造することができる。
工程３−１
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ５ａがＲ５ａ−２｛式中、Ｒ５ａ−２は置換基の少なくとも１つが低級アルカノイルオキシ、アロイルオキシ、または−ＯＣＯＮＲ１９ＡＲ２０Ａ（式中、Ｒ１９ＡおよびＲ２０Ａはそれぞれ前記と同義である）である置換アリール［該アリールは前記アリール（ｖｉｉ）と同義であり、該置換アリールの置換基は前記置換アリールの置換基（ｘｉｉｉ）と同義である］を表す｝である化合物（Ｉｃ−２）は、Ｒ５ａがＲ５ａ−１｛式中、Ｒ５ａ−１は置換基の少なくとも１つがヒドロキシである置換アリール［該アリールは前記アリール（ｖｉｉ）と同義であり、該置換アリールの置換基は前記置換アリールの置換基（ｘｉｉｉ）と同義である］を表す｝である化合物（Ｉｃ−１）、または化合物（ＩＶｃ−１）から得られる。
化合物（Ｉｃ−１）または化合物（ＩＶｃ−１）を例えばジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン等の単独溶媒中またはそれらの混合溶媒中、例えばトリエチルアミン、炭酸カリウム等の塩基存在下または非存在下、例えば塩化アセチル、塩化バレリル、塩化ベンゾイル等のカルボン酸塩化物または例えばイソシアン酸ブチル、イソシアン酸フェニル等のイソシアン酸誘導体と反応させ、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−２）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−１）または化合物（ＩＶｃ−１）に対して、カルボン酸塩化物またはイソシアン酸誘導体は１〜３０当量、塩基は０〜２５０当量用いられる。  反応は通常−２０℃と６０℃の間の温度で行われ、５分間〜２４時間で終了する。
工程３−２
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ１およびＲ２の少なくとも１つがヒドロキシメチルまたは−ＣＨ２ＮＲ２１Ｒ２２（式中、Ｒ２１およびＲ２２はそれぞれ前記と同義である）である化合物（Ｉｃ−４）は、Ｒ１およびＲ２の少なくとも１つがホルミルである化合物（Ｉｃ−３）または化合物（ＩＶｃ−３）から得られる。
化合物（Ｉｃ−３）または化合物（ＩＶｃ−３）を、例えば１，２−ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、水等の単独溶媒中またはそれらの混合溶媒中、ＨＮＲ２１Ｒ２２（式中、Ｒ２１およびＲ２２はそれぞれ前記と同義である）の存在下または非存在下、例えば酢酸等の酸存在下または非存在下、例えば水素化ホウ素ナトリウム、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウムまたはシアノ水素化ホウ素ナトリウム等の還元剤で処理し、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−４）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−３）または化合物（ＩＶｃ−３）に対して、ＨＮＲ２１Ｒ２２は０〜２０当量、還元剤は１〜２０当量用いられる。
反応は通常−２０℃と４０℃の間の温度で行われ、５分間〜２４時間で終了する。
工程３−３
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つが置換もしくは非置換の低級アルケニルである化合物（Ｉｃ−６）は、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つがホルミルである化合物（Ｉｃ−５）または化合物（ＩＶｃ−５）から得られる。
化合物（Ｉｃ−５）または化合物（ＩＶｃ−５）を、例えば１，２−ジクロロエタン、トルエン、テトラヒドロフラン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）等の単独溶媒中またはそれらの混合溶媒中、塩基存在下または非存在下で、Ｒ３１ＣＨ２ＰＰｈ３Ｘｂ｛式中、Ｒ３１は、置換もしくは非置換の低級アルキル［該低級アルキルは前記低級アルキル（ｉ）と同義であり、該置換低級アルキルの置換基は前記置換低級アルキルの置換基（ｘｉ）と同義である］または前記置換低級アルケニルの置換基として定義した置換基（ｘｉ）を表し、Ｘｂはハロゲン［該ハロゲンは前記ハロゲン（ｘｉｉ）と同義である］を表し、Ｐｈは前記と同義である｝またはＲ３１ＣＨ＝ＰＰｈ３（式中、Ｒ３１およびＰｈはそれぞれ前記と同義である）と反応させ、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｄ）を得ることができる。
塩基としては、例えばｎ−ブチルリチウム、水素化ナトリウム、炭酸カリウム等が用いられる。
化合物（Ｉｃ）または化合物（ＩＶｃ）に対して、上記Ｒ３１ＣＨ２ＰＰｈ３ＸｂまたはＲ３１ＣＨ＝ＰＰｈ３は１〜１０当量、塩基は０〜１０当量用いられる。
反応は通常−２０℃と１２０℃の間の温度で行われ、５分間〜２４時間で終了する。
工程３−４
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つが−ＣＯＲ１０Ｂ（式中、Ｒ１０Ｂは前記Ｒ１０の定義からヒドロキシを除いたものと同義である）または−ＣＯＮＨＮＲ１３Ｒ１４（式中、Ｒ１３およびＲ１４はそれぞれ前記と同義である）である化合物（Ｉｃ−８）は、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つがカルボキシである化合物（Ｉｃ−７）または化合物（ＩＶｃ−７）から得られる。
化合物（Ｉｃ−７）または化合物（ＩＶｃ−７）を、例えばジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ＤＭＦ等の単独溶媒中またはそれらの混合溶媒中、例えばトリエチルアミン等の塩基の存在下または非存在下、例えば塩化チオニル、五塩化リン、クロロギ酸エチル、クロロギ酸イソブチル、ジフェニルリン酸アジド等と反応させた後、または例えばジシクロヘキシルカルボジイミドもしくは水溶性カルボジイミド等の脱水縮合剤の共存下で、相当する低級アルコール［該低級アルコールの低級アルキル部分は、前記低級アルキル（ｉ）と同義である］、ＨＮＲ１１Ｒ１２（式中、Ｒ１１およびＲ１２はそれぞれ前記と同義である）またはＨ２ＮＮＲ１３Ｒ１４（式中、Ｒ１３およびＲ１４はそれぞれ前記と同義である）と反応させ、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−８）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−７）または化合物（ＩＶｃ−７）に対して、塩化チオニル、五塩化リン、クロロギ酸エチル、クロロギ酸イソブチル、ジフェニルリン酸アジド等、ジシクロヘキシルカルボジイミドもしくは水溶性カルボジイミド等、低級アルコール、ＨＮＲ１１Ｒ１２またはＨ２ＮＮＲ１３Ｒ１４は、それぞれ１〜２０当量、塩基は０〜２０当量用いられる。
反応は通常−２０℃と８０℃の間の温度で行われ、３０分間〜２４時間で終了する。
工程３−５
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つが−ＯＣＯＮＲ１９Ｒ２０（式中、Ｒ１９およびＲ２０はそれぞれ前記と同義である）で置換された低級アルキル［該置換された低級アルキルの低級アルキレン部分は前記低級アルキレン（ｉｉ）と同義である］である化合物（Ｉｃ−１０）は、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つがヒドロキシ低級アルキル［該ヒドロキシ低級アルキルの低級アルキレン部分は前記低級アルキレン（ｉｉ）と同義である］である化合物（Ｉｃ−９）または化合物（ＩＶｃ−９）から得られる。
化合物（Ｉｃ−９）または化合物（ＩＶｃ−９）をジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン等の単独溶媒中またはそれらの混合溶媒中、トリエチルアミン、炭酸カリウム等の塩基存在下もしくは非存在下、例えばイソシアン酸ブチル、イソシアン酸フェニル等のイソシアン酸誘導体と反応させ、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−１０）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−１０）または化合物（ＩＶｃ−１０）に対して、イソシアン酸誘導体は１〜１０当量、塩基は０〜１０当量用いられる。
反応は通常−２０℃〜６０℃で行われ、５分間〜２４時間で終了する。
工程３−６
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つがハロゲン化低級アルキル［該ハロゲン化低級アルキルのハロゲンおよび低級アルキレン部分はそれぞれ前記ハロゲン（ｘｉｉ）および低級アルキレン（ｉｉ）と同義である］である化合物（Ｉｃ−１１）は、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つがヒドロキシ低級アルキルである化合物（Ｉｃ−９）または化合物（ＩＶｃ−９）から得られる。
化合物（Ｉｃ−９）または化合物（ＩＶｃ−９）を例えばＤＭＦ等の溶媒中、例えばトリフェニルホスフィン等の存在下、例えば臭素、塩素、ヨウ素等のハロゲンと反応させ、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−１１）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−９）または化合物（ＩＶｃ−９）に対して、トリフェニルホスフィン等およびハロゲンはそれぞれ１〜１０当量用いられる。
反応は通常−２０℃と６０℃の間の温度で行われ、５分間〜２４時間で終了する。
工程３−７
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つが−ＮＲ２１Ｒ２２（式中、Ｒ２１およびＲ２２はそれぞれ前記と同義である）で置換された低級アルキル［該置換された低級アルキルの低級アルキレン部分は前記低級アルキレン（ｉｉ）と同義である］である化合物（Ｉｃ−１２）は、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つがハロゲン化低級アルキルである化合物（Ｉｃ−１１）または化合物（ＩＶｃ−１１）から得られる。
化合物（Ｉｃ−１１）または化合物（ＩＶｃ−１１）を例えばジクロロメタン、ＤＭＦ等の単独溶媒中またはそれらの混合溶媒中、ＨＮＲ２１Ｒ２２（式中、Ｒ２１およびＲ２２はそれぞれ前記と同義である）と反応させ、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−１２）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−１１）または化合物（ＩＶｃ−１１）に対して、ＨＮＲ２１Ｒ２２は１〜１０当量用いられる。
反応は通常０℃と１５０℃の間の温度で行われ、５分間〜２４時間で終了する。
工程３−８
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つが２−オキサゾリニルである化合物（Ｉｃ−１４）は、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つがヒドロキシエチルカルバモイルである化合物（Ｉｃ−１３）または化合物（ＩＶｃ−１３）から得られる。
化合物（Ｉｃ−１３）または化合物（ＩＶｃ−１３）を例えばテトラヒドロフラン等の溶媒中、テトラヘドロン・レターズ（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．）、３３巻、９０７頁（１９９２年）記載のバーガス試薬（Ｂｕｒｇｅｓｓ  Ｒｅａｇｅｎｔ：ＣＨ３ＯＣＯＮＳＯ２Ｎ（Ｃ２Ｈ５）３）で処理し、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−１４）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−１３）または化合物（ＩＶｃ−１３）に対して、バーガス試薬は０．１〜１０当量用いられる。
反応は通常２０℃と６０℃の間の温度で行われ、５分間〜２４時間で終了する。
工程３−９
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つがアミノまたは低級アルコキシカルボニルアミノ［該低級アルコキシカルボニルアミノの低級アルキル部分は前記低級アルキル（ｉ）と同義である］である化合物（Ｉｃ−１５）は、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つがカルボキシである化合物（Ｉｃ−７）または化合物（ＩＶｃ−７）から得られる。
化合物（Ｉｃ−７）または化合物（ＩＶｃ−７）を例えばテトラヒドロフラン、エタノール、水等の単独溶媒中またはそれらの混合溶媒中、ジフェニルリン酸アジド等と反応させた後、水または相当する低級アルコール［該低級アルコールの低級アルキル部分は前記低級アルキル（ｉ）と同義である］を添加し、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−１５）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−７）または化合物（ＩＶｃ−７）に対して、ジフェニルリン酸アジド等は１〜１０当量用いられる。
反応は通常６０℃と１００℃の間の温度で行われ、３０分間〜２４時間で終了する。
工程３−１０
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つがテトラヒドロピラニルオキシ低級アルキル［該テトラヒドロピラニルオキシ低級アルキルの低級アルキレン部分は前記低級アルキレン（ｉｉ）と同義である］である化合物（Ｉｃ−１６）は、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つがヒドロキシ低級アルキルである化合物（Ｉｃ−９）または化合物（ＩＶｃ−９）から得られる。
化合物（Ｉｃ−９）または化合物（ＩＶｃ−９）をジクロロメタン等の溶媒中、例えばｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム等の酸触媒存在下、ジヒドロピランと反応させ、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−１６）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−９）または化合物（ＩＶｃ−９）に対して、酸触媒は０．１〜１当量、ジヒドロピランは１〜１０当量用いられる。
反応は通常２０℃と６０℃の間の温度で行われ、３０分間〜２４時間で終了する。
工程３−１１
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つが−ＮＨＣＯＮＲ８Ｒ９（式中、Ｒ８およびＲ９はそれぞれ前記と同義である）である化合物（Ｉｃ−１７）は、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つがカルボキシである化合物（Ｉｃ−７）または化合物（ＩＶｃ−７）から得られる。
化合物（Ｉｃ−７）または化合物（ＩＶｃ−７）をＤＭＦ等の溶媒中、ジフェニルリン酸アジド等と反応させた後、ＨＮＲ８Ｒ９（式中、Ｒ８およびＲ９はそれぞれ前記と同義である）と反応させ、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−１７）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−７）または化合物（ＩＶｃ−７）に対して、ジフェニルリン酸アジド等およびＨＮＲ８Ｒ９はそれぞれ１〜１０当量用いられる。
反応は通常０℃と１００℃の間の温度で行われ、３０分間〜２４時間で終了する。
工程３−１２
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つがホルミルである化合物（Ｉｃ−１９）は、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つがアセトキシメチルである化合物（Ｉｃ−１８）または化合物（ＩＶｃ−１８）から得られる。
化合物（Ｉｃ−１８）または化合物（ＩＶｃ−１８）を、例えばジクロロメタン、１，４−ジオキサン等の単独溶媒中またはそれらの混合溶媒中、例えばＤＤＱ等の酸化剤で処理し、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−１９）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−１８）または化合物（ＩＶｃ−１８）に対して、酸化剤は１〜１０当量用いられる。
反応は通常２０℃と１２０℃の間の温度で行われ、３０分間〜２４時間で終了する。
工程３−１３
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つが−ＣＨ２ＮＲ２１Ｒ２２（式中、Ｒ２１およびＲ２２はそれぞれ前記と同義である）である化合物（Ｉｃ−２０）は、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つがホルミルである化合物（Ｉｃ−１９）または化合物（ＩＶｃ−１９）から得られる。
化合物（Ｉｃ−１９）または化合物（ＩＶｃ−１９）を、例えば１，２−ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、水等の単独溶媒中またはそれらの混合溶媒中、Ｈ２ＮＲ２１Ｒ２２（式中、Ｒ２１およびＲ２２はそれぞれ前記と同義である）の存在下、例えばトリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウムまたはシアノ水素化ホウ素ナトリウム等の還元剤で処理し、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−２０）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−１９）または化合物（ＩＶｃ−１９）に対して、Ｈ２ＮＲ２１Ｒ２２および還元剤はそれぞれ１〜１０当量用いられる。
反応は通常０℃と４０℃の間の温度で行われ、５分間〜２４時間で終了する。
工程３−１４
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つが−ＣＨ＝ＮＯＲ１６（式中、Ｒ１６は前記と同義である）または−ＣＨ＝ＮＮＲ１７Ｒ１８（式中、Ｒ１７およびＲ１８はそれぞれ前記と同義である）である化合物（Ｉｃ−２１）は、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つがホルミルである化合物（Ｉｃ−１９）または化合物（ＩＶｃ−１９）から得られる。
化合物（Ｉｃ−１９）または化合物（ＩＶｃ−１９）を、例えばテトラヒドロフラン、エタノール、ＤＭＦ等の単独溶媒中またはそれらの混合溶媒中、例えばトリエチルアミン等の塩基存在下もしくは非存在下、Ｈ２ＮＯＲ１６（式中、Ｒ１６は前記と同義である）またはＨ２ＮＮＲ１７Ｒ１８（式中、Ｒ１７およびＲ１８はそれぞれ前記と同義である）と反応させ、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−２１）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−１９）または化合物（ＩＶｃ−１９）に対して、塩基は０〜１０当量、Ｈ２ＮＯＲ１６またはＨ２ＮＮＲ１７Ｒ１８は１〜１０当量用いられる。
反応は通常０℃と４０℃の間の温度で行われ、５分間〜２４時間で終了する。
工程３−１５
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つがアジド低級アルキル［該アジド低級アルキルの低級アルキレン部分は前記低級アルキレン（ｉｉ）と同義である］である化合物（Ｉｃ−２２）は、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つがヒドロキシ低級アルキルである化合物（Ｉｃ−９）または化合物（ＩＶｃ−９）から得られる。
化合物（Ｉｃ−９）または化合物（ＩＶｃ−９）を、例えばテトラヒドロフラン等の溶媒中、例えば１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデセ−７−エン（ＤＢＵ）等の塩基存在下、ビス（パラニトロフェニル）リン酸アジド等と反応させ、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−２２）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−９）または化合物（ＩＶｃ−９）に対して、塩基およびビス（パラニトロフェニル）リン酸アジド等はそれぞれ１〜１０当量用いられる。
反応は通常０℃と１００℃の間の温度で行われ、３０分間〜２４時間で終了する。
工程３−１６
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つがアミノ低級アルキル［該アミノ低級アルキルの低級アルキレン部分は前記低級アルキレン（ｉｉ）と同義である］である化合物（Ｉｃ−２３）は、Ｒ４およびＲ５ａの少なくとも１つがアジド低級アルキルである化合物（Ｉｃ−２２）または化合物（ＩＶｃ−２２）から得られる。
化合物（Ｉｃ−２２）または化合物（ＩＶｃ−２２）を、例えばテトラヒドロフラン、ＤＭＦ、エタノール、水等の単独溶媒中またはそれらの混合溶媒中、例えばトリフェニルホスフィン、水素化リチウムアルミニウム等の還元剤で処理するか、または例えばパラジウム炭素等の触媒存在下で接触還元に付し、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−２３）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−２２）または化合物（ＩＶｃ−２２）に対して、還元剤は１〜１０当量、接触還元触媒は５〜１００重量％用いられる。
反応は通常０℃と１００℃の間の温度で行われ、３０分間〜２４時間で終了する。
工程３−１７
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ３ａがヒドロキシプロピルである化合物（Ｉｃ−２５）は、Ｒ３ａがアリルである化合物（Ｉｃ−２４）または化合物（ＩＶｃ−２４）から得られる。
化合物（Ｉｃ−２４）または化合物（ＩＶｃ−２４）を、例えばテトラヒドロフラン等の溶媒中、例えばボランジメチルスルフィド錯体、９−ボラビシクロノナン二量体、ジエチルボラン等の還元剤で処理し、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−２５）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−２４）または化合物（ＩＶｃ−２４）に対して、還元剤は１〜１０当量用いられる。
反応は通常−２０℃と４０℃の間の温度で行われ、３０分間〜２４時間で終了する。
工程３−１８
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ３ａがカルボキシメチルである化合物（Ｉｃ−２７）は、Ｒ３ａがベンジルオキシカルボニルメチルである化合物（Ｉｃ−２６）または化合物（ＩＶｃ−２６）から得られる。
化合物（Ｉｃ−２６）または化合物（ＩＶｃ−２６）を、例えば酢酸エチル、ＤＭＦ、トルエン、エタノール、テトラヒドロフラン、水等の単独溶媒中またはそれらの混合溶媒中、例えばパラジウム炭素等の還元触媒存在下で接触還元に付し、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−２７）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−２６）または化合物（ＩＶｃ−２６）に対して、還元触媒は１０〜１００重量％用いられる。
反応は通常２０℃と１２０℃の間の温度で行われ、３分間〜７２時間で終了する。
工程３−１９
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ３ａがヒドロキシエチルである化合物（Ｉｃ−２９）は、Ｒ３ａがカルボキシメチルである化合物（Ｉｃ−２８）または化合物（ＩＶｃ−２８）から得られる。
化合物（Ｉｃ−２８）または化合物（ＩＶｃ−２８）を、例えばテトラヒドロフラン等の溶媒中、例えばボランジメチルスルフィド錯体等の還元剤で処理し、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−２９）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−２８）または化合物（ＩＶｃ−２８）に対して、還元剤は０．５〜１０当量用いられる。
反応は通常−２０℃と６０℃の間の温度で行われ、５分間〜２４時間で終了する。
工程３−２０
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ３ａが低級アルカノイルオキシ低級アルキル［該低級アルカノイルオキシ低級アルキルの低級アルカノイル部分および低級アルキレン部分はそれぞれ前記低級アルカノイル（ｖｉ）および低級アルキレン（ｉｉ）と同義である］である化合物（Ｉｃ−３１）は、Ｒ３ａがヒドロキシ低級アルキル［該ヒドロキシ低級アルキルの低級アルキレン部分は前記低級アルキレン（ｉｉ）と同義である］である化合物（Ｉｃ−３０）または化合物（ＩＶｃ−３０）から得られる。
化合物（Ｉｃ−３０）または化合物（ＩＶｃ−３０）を、例えばジクロロメタン、ピリジン等の単独溶媒中またはそれらの混合溶媒中、例えばトリエチルアミン等の塩基存在下もしくは非存在下、例えば無水酢酸等のアシル化剤と反応させ、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−３１）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−３０）または化合物（ＩＶｃ−３０）に対して、塩基は０〜１０当量、アシル化剤は１〜１０当量用いられる。
反応は通常−２０℃と６０℃の間の温度で行われ、５分間〜２４時間で終了する。
工程３−２１
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ３ａがハロゲン化低級アルキル［該ハロゲン化低級アルキルのハロゲン部分および低級アルキレン部分はそれぞれ前記ハロゲン（ｘｉｉ）および低級アルキレン（ｉｉ）と同義である］である化合物（Ｉｃ−３２）は、Ｒ３ａがヒドロキシ低級アルキルである化合物（Ｉｃ−３０）または化合物（ＩＶｃ−３０）から得られる。
化合物（Ｉｃ−３０）または化合物（ＩＶｃ−３０）を、例えばＤＭＦ等の溶媒中、トリフェニルホスフィン等の存在下、例えば臭素、塩素、ヨウ素等のハロゲンと反応させ、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−３２）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−３０）または化合物（ＩＶｃ−３０）に対して、トリフェニルホスフィン等およびハロゲンはそれぞれ１〜１０当量用いられる。
反応は通常−２０℃と６０℃の間の温度で行われ、５分間〜２４時間で終了する。
工程３−２２
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ３ａが−ＮＲ２１Ｒ２２（式中、Ｒ２１およびＲ２２はそれぞれ前記と同義である）で置換された低級アルキル［該置換された低級アルキルの低級アルキレン部分は前記低級アルキレン（ｉｉ）と同義である］である化合物（Ｉｃ−３４）は、Ｒ３ａが水素原子である化合物（Ｉｃ−３３）または化合物（ＩＶｃ−３３）から得られる。
化合物（Ｉｃ−３３）または化合物（ＩＶｃ−３３）を、例えばジクロロメタン、ＤＭＦ等の単独溶媒中またはそれらの混合溶媒中、例えば炭酸カリウム、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等の塩基存在下、ＸｃＲ３２ＮＲ２１Ｒ２２｛式中、Ｒ２１およびＲ２２はそれぞれ前記と同義であり、Ｘｃは前記Ｘｂと同義であり、Ｒ３２は低級アルキレン［該低級アルキレンは前記低級アルキレン（ｉｉ）と同義である］を表す｝と反応させ、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−３４）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−３３）または化合物（ＩＶｃ−３３）に対して、ＸｃＲ３２ＮＲ２１Ｒ２２および塩基はそれぞれ１〜１０当量用いられる。
反応は通常０℃と１００℃の間の温度で行われ、５分間〜２４時間で終了する。
工程３−２３
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ３ａが２，３−ジヒドロキシプロピルである化合物（Ｉｃ−３５）は、Ｒ３ａがアリルである化合物（Ｉｃ−２４）または化合物（ＩＶｃ−２４）から得られる。
化合物（Ｉｃ−２４）または化合物（ＩＶｃ−２４）を、例えばアセトン、水等の単独溶媒中またはそれらの混合溶媒中、例えばＮ−メチルモルホリン−Ｎ−オキシド等の共酸化剤存在下、例えば四酸化オスミウム等の酸化剤で処理し、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−３５）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−２４）または化合物（ＩＶｃ−２４）に対して、共酸化剤は１〜１０当量、酸化剤は０．０１〜１当量用いられる。
反応は通常０℃と４０℃の間の温度で行われ、５分間〜７２時間で終了する。
工程３−２４
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ３ａが２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン−４−イルメチルである化合物（Ｉｃ−３６）は、Ｒ３ａが２，３−ジヒドロキシプロピルである化合物（Ｉｃ−３５）または化合物（ＩＶｃ−３５）から得られる。
化合物（Ｉｃ−３５）または化合物（ＩＶｃ−３５）を、例えばＤＭＦ等の溶媒中、例えばｐ−トルエンスルホン酸等の酸触媒存在下、２，２−ジメトキシプロパンと反応させ、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−３６）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−３５）または化合物（ＩＶｃ−３５）に対して、酸触媒は０．０１〜１当量、２，２−ジメトキシプロパンは１〜１０当量用いられる。
反応は通常２０℃と１００℃の間の温度で行われ、５分間〜７２時間で終了する。
工程３−２５
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ３ａがアジド低級アルキル［該アジド低級アルキルの低級アルキレン部分は前記低級アルキレン（ｉｉ）と同義である］である化合物（Ｉｃ−３７）は、Ｒ３ａがヒドロキシ低級アルキルである化合物（Ｉｃ−３０）または化合物（ＩＶｃ−３０）から得られる。
化合物（Ｉｃ−３０）または化合物（ＩＶｃ−３０）を、例えばテトラヒドロフラン等の溶媒中、例えば１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデセ−７−エン（ＤＢＵ）等の塩基存在下、ビス（パラニトロフェニル）リン酸アジド等と反応させ、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−３７）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−３０）または化合物（ＩＶｃ−３０）に対して、塩基およびビス（パラニトロフェニル）リン酸アジド等はそれぞれ１〜１０当量用いられる。
反応は通常０℃と１００℃の間の温度で行われ、３０分間〜２４時間で終了する。
工程３−２６
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ３ａがアミノ低級アルキル［該アミノ低級アルキルの低級アルキレン部分は前記低級アルキレン（ｉｉ）と同義である］である化合物（Ｉｃ−３８）は、Ｒ３ａがアジド低級アルキルである化合物（Ｉｃ−３７）または化合物（ＩＶｃ−３７）から得られる。
化合物（Ｉｃ−３７）または化合物（ＩＶｃ−３７）を、例えば酢酸エチル、ＤＭＦ、トルエン、エタノール、テトラヒドロフラン、水等の単独溶媒中またはそれらの混合溶媒中、例えばパラジウム炭素、鉛で被毒されたパラジウム−炭酸カルシウム（リンドラー触媒）等の還元触媒存在下で接触還元に付し、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−３８）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−３７）または化合物（ＩＶｃ−３７）に対して、還元触媒は１０〜１００重量％用いられる。
反応は通常２０℃と１２０℃の間の温度で行われ、３分間〜７２時間で終了する。
工程３−２７
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ３ａが−ＮＨＣＯＲ２３（式中、Ｒ２３は前記と同義である）で置換された低級アルキル［該置換された低級アルキルの低級アルキレン部分は前記低級アルキレン（ｉｉ）と同義である］である化合物（Ｉｃ−３９）は、Ｒ３ａがアミノ低級アルキルである化合物（Ｉｃ−３８）または化合物（ＩＶｃ−３８）から得られる。
化合物（Ｉｃ−３８）または化合物（ＩＶｃ−３８）を、例えばジクロロメタン、クロロホルム、ＤＭＦ、テトラヒドロフラン等の単独溶媒中またはそれらの混合溶媒中、例えばトリエチルアミン等の塩基存在下、ＣｌＣＯＲ２３（式中、Ｒ２３は前記と同義である）と反応させるか、またはジシクロヘキシルカルボジイミドもしくは水溶性カルボジイミド等の脱水縮合剤の共存下で、ＨＯＣＯＲ２３（式中、Ｒ２３は前記と同義である）と反応させ、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−３９）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−３８）または化合物（ＩＶｃ−３８）に対して、塩基およびＣｌＣＯＲ２３またはＨＯＣＯＲ２３はそれぞれ１〜１０当量用いられる。
反応は通常０℃と６０℃の間の温度で行われ、３分間〜２４時間で終了する。
工程３−２８
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ３ａがジ低級アルキルアミノ低級アルキル［該ジ低級アルキルアミノ低級アルキルの２つの低級アルキル部分および低級アルキレン部分は、それぞれ前記低級アルキル（ｉ）および低級アルキレン（ｉｉ）と同義である］である化合物（Ｉｃ−４０）は、Ｒ３ａがアミノ低級アルキルである化合物（Ｉｃ−３８）または化合物（ＩＶｃ−３８）から得られる。
化合物（Ｉｃ−３８）または化合物（ＩＶｃ−３８）を、例えば１，２−ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、水等の単独溶媒中またはそれらの混合溶媒中、例えばホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロパナール、オクタナール等のアルデヒド存在下、例えばトリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウムまたはシアノ水素化ホウ素ナトリウム等の還元剤で処理し、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−４０）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ−３８）または化合物（ＩＶｃ−３８）に対して、アルデヒドは１〜１０当量用いられる。
反応は通常０℃と４０℃の間の温度で行われ、５分間〜２４時間で終了する。
工程３−２９
化合物（Ｉｃ）のうち、Ｒ３ａが置換もしくは非置換の低級アルキルまたは置換もしくは非置換のアラルキルである化合物（Ｉｃ−４１）は、Ｒ３ａが水素原子である化合物（Ｉｃ−３３）または化合物（ＩＶｃ−３３）から得られる。
化合物（Ｉｃ−３３）または化合物（ＩＶｃ−３３）を、例えばジクロロメタン、ＤＭＦ、水等の単独溶媒中またはそれらの混合溶媒中、塩基存在下、置換もしくは非置換のハロゲン化低級アルキル［該ハロゲン化低級アルキルのハロゲン部分および低級アルキレン部分はそれぞれ前記ハロゲン（ｘｉｉ）および低級アルキレン（ｉｉ）と同義であり、置換ハロゲン化低級アルキルの置換基は前記置換低級アルキルの置換基（ｘｉ）と同義である］または置換もしくは非置換のハロゲン化アラルキル［該ハロゲン化アラルキルのハロゲン部分およびアラルキル部分はそれぞれ前記ハロゲン（ｘｉｉ）およびアラルキル（ｖｉｉ）と同義であり、置換ハロゲン化アラルキルの置換基は前記置換アラルキルの置換基（ｘｉｉｉ）と同義である］等の求核剤と反応させ、保護基のある場合はさらに工程１と同様に脱保護することにより、化合物（Ｉｃ−４１）を得ることができる。
塩基としては、例えば炭酸カリウム、水酸化リチウム、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、水素化ナトリウム等が用いられる。
化合物（Ｉｃ−３３）または化合物（ＩＶｃ−３３）に対して、求核剤および塩基は、それぞれ１〜１０当量用いられる。
反応は通常０℃と１５０℃の間の温度で行われ、５分間〜２４時間で終了する。
製造法４
化合物（Ｉ）のうち、Ｒ３がＲ３ａ（式中、Ｒ３ａは前記と同義である）であり、Ｒ５がＲ５ａ（式中、Ｒ５ａは前記と同義である）であり、ＸおよびＹがそれぞれＸａおよびＹａ［式中、ＸａおよびＹａは同一または異なって、カルボニル、−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＯＨ）−または−ＣＨ（ＯＲｘ）−（式中、Ｒｘは前記と同義である）を表し、少なくとも１つが−ＣＨ２−、−ＣＨ（ＯＨ）−または−ＣＨ（ＯＲｘ）−である］である化合物（Ｉｄ）は、前述の製造法１〜３のいずれかにより得られる化合物（Ｉｃ）から、下記の工程によって製造することができる。
2003051883.tif 000010
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３ａ、Ｒ４、Ｒ５ａ、Ｘａ、ＹａおよびＣ環はそれぞれ前記と同義である）
工程４
化合物（Ｉｃ）を、例えばテトラヒドロフラン、メタノール等の単独溶媒中またはそれらの混合溶媒中、例えば水素化ホウ素ナトリウム等の還元剤で処理することにより、化合物（Ｉｄ）のうちＸａおよびＹａがともに−ＣＨ（ＯＲｘ）−でない化合物（Ｉｄ−１）を得ることができる。
また、例えば低級アルコール［該低級アルコールの低級アルキル部分は前記低級アルキル（ｉ）と同義である］溶媒中または低級アルコールとテトラヒドロフラン等との混合溶媒中、例えば水素化ホウ素ナトリウム等の還元剤で処理することにより、化合物（Ｉｄ）のうちＸａおよびＹａの少なくとも１つが−ＣＨ（ＯＲｘ）−である化合物（Ｉｄ−２）を得ることができる。
化合物（Ｉｃ）に対して、還元剤は１〜１０当量用いられる。
反応は−７８℃と３０℃の間の温度で行われ、３〜２４時間で終了する。
さらに、本工程で得られる化合物（Ｉｄ）は、前述の製造法３と同様にして官能基変換を行うことにより、他の化合物（Ｉｄ）へと導くことも可能である。
製造法５
化合物（Ｉ）において、Ｒ３がＲ５と一緒になって式（Ｔ）を形成する化合物（Ｉｆ）は、製造法１、２もしくは製造法３の工程３−２５で得られる化合物（Ｉｃ−３７）または製造法４で得られる化合物（Ｉｄ）のうち、Ｒ３ａがアジド低級アルキル［該アジド低級アルキルの低級アルキレン部分は前記低級アルキレン（ｉｉ）と同義である］であり、Ｒ５ａが置換もしくは非置換の低級アルカノイルである化合物（Ｉｅ）から、下記の工程によって製造することができる。
2003051883.tif 000011
｛式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｘ、Ｙ、Ｃ環、Ｑ１、Ｑ２、Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ、Ｒ４Ａ、ＸＡ、ＹＡおよびＣＡ環はそれぞれ前記と同義であり、Ｒ３ｅはアジド低級アルキル［該アジド低級アルキルの低級アルキレン部分は前記低級アルキレン（ｉｉ）と同義である］であり、Ｒ５ｅは置換もしくは非置換の低級アルカノイル［該アルカノイルは前記アルカノイル（ｖｉ）と同義であり、該置換アルカノイルの置換基は前記置換アルカノイルの置換基（ｘｉ）と同義である］である｝
工程５
化合物（Ｉｅ）を、例えばテトラヒドロフラン、メタノール、エタノール、水、クロロホルム、ジクロロメタン、ＤＭＦ等の単独溶媒中またはそれらの混合溶媒中、例えばトリフェニルホスフィン等で処理するか、または例えばパラジウム炭素、鉛で被毒されたパラジウム−炭酸カルシウム（リンドラー触媒）等の還元触媒存在下で接触還元に付すことにより、化合物（Ｉｆ）を得ることができる。
化合物（Ｉｅ）に対して、トリフェニルホスフィン等は１〜２０当量、還元触媒は５〜１００重量％用いられる。
反応は通常−２０℃と１００℃の間の温度で行われ、３０分間〜４８時間で終了する。
また、上記の工程においてアジド基の還元により生成するアミノ体を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーもしくは分取薄層クロマトグラフィー等で処理するか、または例えばテトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、メタノール、エタノール、水、クロロホルム、ジクロロメタン、ＤＭＦ等の単独溶媒中またはそれらの混合溶媒中、例えば塩酸、酢酸、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、１０−カンファースルホン酸等の酸で処理することによっても化合物（Ｉｆ）を得ることができる。
さらに、本工程で得られる化合物（Ｉｆ）は、前述の製造法３と同様にして官能基変換を行うことにより、他の化合物（Ｉｆ）へと導くことも可能である。
製造法６
化合物（Ｉ）において、ＸまたはＹのうち少なくとも１つが−ＣＨ（ＳＲＹ）−（式中、ＲＹは前記と同義である）である化合物（Ｉｇ）は、製造法４または製造法５により得られる化合物（Ｉｄ）または化合物（Ｉｆ）のうち、ＸおよびＹのうち少なくとも１つが−ＣＨ（ＯＨ）−である化合物から、ＷＯ８９／７１０５に記載の方法によって製造することができる。
化合物（Ｉ）および原料化合物におけるＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４またはＲ５の置換基に含まれる官能基の変換およびＸとＹの変換は、上記工程以外にも公知の他の方法［例えば、コンプリヘンシブ・オーガニック・トランスフォーメーションズ（Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓ）、Ｒ．Ｃ．ラロック（Ｌａｒｏｃｋ）著、（１９８９年）］によっても行うことができる。
さらに、本工程で得られる化合物（Ｉｇ）は、前述の製造法３と同様にして官能基変換を行うことにより、他の化合物（Ｉｇ）へと導くことも可能である。
上記の方法を適宜組み合わせて実施することにより、所望の位置に所望の官能基を有する化合物（Ｉ）を得ることができる。
上記製造法における生成物の単離、精製は、通常の有機合成で用いられる方法、例えば濾過、抽出、洗浄、乾燥、濃縮、結晶化、各種クロマトグラフィー等を適宜組み合わせて行うことができる。また、中間体においては、特に精製することなく次の反応に供することもできる。
化合物（Ｉ）には、位置異性体、幾何異性体または光学異性体のような異性体が存在し得るものもあるが、可能な異性体および該異性体のいかなる比率における混合物も本発明に包含される。
化合物（Ｉ）の塩を取得したい場合には、化合物（Ｉ）の塩が得られるときはそのまま精製すればよく、また化合物（Ｉ）が遊離の形で得られるときは化合物（Ｉ）を適当な溶媒に溶解または懸濁し、酸または塩基を加えて塩を形成させればよい。
また、化合物（Ｉ）またはその薬理学的に許容される塩は、水または各種溶媒との付加物の形で存在することもあるが、それら付加物も本発明に包含される。
化合物（Ｉ）の具体例を第１表〜第８表に示す。
なお、以下に記載の表におけるＰｈおよびＡｃは、それぞれフェニルおよびアセチルを意味する。
2003051883.tif 000012
2003051883.tif 000013
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次に、化合物（Ｉ）の毒性および活性について試験例で説明する。
試験例１：ＣＤＫ２阻害作用
ヒト由来ＣＤＫ２−サイクリンＥ発現バキュロウイルス（ヒト由来ＣＤＫ２−ｃｙｃｌｉｎ  Ｅ発現ｂａｃｕｌｏｖｉｒｕｓ）を感染させた昆虫細胞Ｓｐｏｄｏｐｅｔｒａ ｆｒｕｇｉｐｅｒｄａ（Ｓｆ−９）粗抽出液からアフィニティ（ａｆｆｉｎｉｔｙ）精製を行い、酵素液を得た。この酵素液４μＬ、試験化合物を溶解したジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）溶液（終濃度０．１％）を含む２０μＬの反応液および５μＬの基質溶液［５０μｍｏｌ／Ｌ  ＡＴＰ（終濃度）、２μＣｉ［γ−３２Ｐ］−ＡＴＰおよび５００ｎｇグルタチオンＳ−トランスフェラーゼリン酸バッファー（Ｇｌｕｔａｔｈｉｏｎｅ  Ｓ−ｔｒａｎｓｆｅｒａｓｅ−ＲＢ；ＧＳＴ−ＲＢ）］を３０℃で５分間インキュベートした。ドデシル硫酸ナトリウム−ポリアクリルアミドゲル電気泳動法（ＳＤＳ−ＰＡＧＥ）を行い、Ｉｍａｇｅ  Ａｎａｌｙｚｅｒ  ＢＡＳ２０００（富士写真フィルム社）でＧＳＴ−ＲＢへの［γ−３２Ｐ］−ＡＴＰからの放射活性の取り込みを定量し、酵素阻害活性を算出した。試験化合物の各濃度におけるＣＤＫ２阻害率（Ｉ）は、試験化合物無添加群の放射活性（Ｃ）、試験化合物添加群の放射活性（Ｓ）およびバックグランド（反応時間０時間のサンプル）の放射活性（Ｂ）を用いて、次式により算出し、各試験化合物のＣＤＫ２活性を５０％阻害する濃度をＩＣ５０とした。
Ｉ（％）＝［１−（Ｓ−Ｂ）／（Ｃ−Ｂ）］×１００
その結果を第９表に示す。
2003051883.tif 000023
試験例２：ヒト骨肉腫細胞Ｓａｏｓ−２およびＵ２ＯＳ細胞株に対する細胞増殖阻害作用
Ｓａｏｓ−２細胞およびＵ２ＯＳ細胞は、それぞれ１０％牛胎児血清およびペニシリン／ストレプトマイシンを含むＲｏｓｗｅｌｌ  Ｐａｒｋ  Ｍｅｍｏｒｉａｌ  Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ’ｓ  Ｍｅｄｉｕｍ（ＲＰＭＩ）１６４０培地（ニッスイ社製）および１０％牛胎児血清およびペニシリン／ストレプトマイシンを含むＤｕｌｂｅｃｃｏ’ｓ  Ｍｏｄｉｆｉｅｄ  Ｅａｇｌｅ  Ｍｅｄｉｕｍ（ＤＭＥ）培地（ニッスイ社製）で、それぞれ１．０ｘ１０４個／ｍＬに調製した。調製した細胞を、それぞれ９６穴マイクロタイタープレート（ヌンク社製＃１６７００８）に各ウェルあたり０．１ｍＬずつ分注した。各プレートを炭酸ガスインキュベーター内で３７℃、２０時間培養した。１０ｍｍｏｌ／Ｌに調製した試験化合物のＤＭＳＯ溶液を培養用の各培地で希釈したものを０．０５ｍＬずつ各ウェルに加え、プレート内でピペッティング操作により段階的に希釈し、さらに炭酸ガスインキュベーター内で３７℃、７２時間培養した。
培養上清を除去後、各ウェルを０．１ｍＬリン酸緩衝液（ＰＢＳバッファー）で２度洗浄し、改めて各ウェルに０．１ｍＬの上記各培地を添加した。各ウェルの細胞数の測定には、ｃｅｌｌ  ｐｒｏｌｉｆｅｒａｔｉｏｎ  ｋｉｔ  ＩＩ（Ｂｏｅｈｒｉｎｇｅｒ  Ｍａｎｎｈｅｉｍ社製）を用いた。発色反応試薬を加え、炭酸ガスインキュベーター内で３７℃、３時間培養後、マイクロプレートリーダーＭ−ＳＰｍａｘ２５０（和光純薬社製）で４９０ｎｍおよび６５０ｎｍでの吸光度を測定した。各ウェルの４９０ｎｍでの吸光度から６５０ｎｍでの吸光度を減じた値（差吸光度）を算出し、無処理細胞と既知濃度の試験化合物で処理した細胞から得られた差吸光度を比較することにより、細胞の増殖を５０％阻害する試験化合物の濃度を算出してＩＣ５０とした。
その結果を第１０表に示す。
2003051883.tif 000024
試験例３：Ｇ２期またはＳ期集積作用の解除作用
１０ｃｍシャーレ（Ｆａｌｃｏｎ社製、商品番号３００３）に１０％牛胎児血清を含むＤＭＥＭ培地（ニッスイ社製、以下培地Ａという）で６×１０４個／ｍＬに調製したヒト類表皮癌細胞Ａ４３１株（以下Ａ４３１細胞という）を５ｍＬずつ分注した。該プレートを炭酸ガスインキュベーター内で３７℃、２４時間培養後、これに培地Ａにより終濃度２０μｍｏｌ／Ｌとなるように調製したシスプラチン（Ｃｉｓｐｌａｔｉｎ、Ｓｉｇｍａ社製）を加えて、さらに炭酸ガスインキュベーター内で３７℃、１時間培養した。
培地を除去後、ＰＢＳ（−）［リン酸緩衝生理食塩水（カルシウムイオンを含まない）、大日本製薬社製］で洗浄し、さらに培地Ａを加えて炭酸ガスインキュベーター内で３７℃、１５時間培養後、培地Ａで適宜希釈した化合物を加え、さらに炭酸ガスインキュベーター内で３７℃、８時間培養した。培養上清を除去後、ＰＢＳ（−）で洗浄し、０．２５％トリプシン（０．２５％Ｔｒｙｐｓｉｎ、ＧＩＢＣＯ  ＢＲＬ社製）および０．０２％エチレンジアミン四酢酸（和光純薬社製）水溶液にて細胞を剥離し、７０％エタノール水溶液で細胞濃度が１０６個／ｍＬとなるように固定し、４℃の冷室で保存した。固定化した細胞はエタノールを遠心除去後、ＰＢＳ（−）で洗浄し０．１％Ｎｏｎｉｄｅｔ  Ｐ−４０（半井化学薬品）を含む０．２５ｍｇ／ｍＬ  ｒｉｂｏｎｕｃｌｅａｓｅ  Ａ  ｔｙｐｅ  １−Ａ（Ｓｉｇｍａ社製）ＰＢＳ（−）溶液で３７℃、３０分間処理後、ヨウ化プロピジウム（Ｐｒｏｐｉｄｉｕｍｉｏｄｉｄｅ、Ｓｉｇｍａ社製）０．１％のＮＰ−４０／ＰＢＳ（−）溶液を最終濃度５０μｇ／ｍＬとなるように加え、氷中で２０分間以上染色した。
ＤＮＡヒストグラムはＥＰＩＣＳ  ＥＬＩＴＥ  Ｆｌｏｗ  Ｃｙｔｏｍｅｔｅｒ（Ｃｏｕｌｔｅｒ社製）を用いて測定し、細胞周期の分布はＭｕｌｔｉＣｙｃｌｅ  Ｐｒｏｇｒａｍ（Ｐｈｏｎｅｎｉｘ  Ｆｌｏｗ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社製）を用いて解析した。
その結果を第１１表に示す。
2003051883.tif 000025
シスプラチン（２０μｍｏｌ／Ｌ）単独処理群での細胞周期分布では、無処理群での細胞周期分布に比べてＳ期の増加、（Ｇ２期＋Ｍ期）の増加、Ｇ１期の減少（次の細胞周期への進行阻止すなわちＧ２期またはＳ期における集積作用）が認められた。
化合物７０、化合物８５もしくは化合物８９（各３μｍｏｌ／Ｌ）または化合物９８（１０μｍｏｌ／Ｌ）とシスプラチン（２０μｍｏｌ／Ｌ）とを併用した場合には、Ｓ期の減少およびＧ１期の増加（Ｇ２期またはＳ期における集積作用の解除）が認められた。
従って本発明の化合物が癌細胞のＧ２期またはＳ期における集積作用を解除し、シスプラチンの殺細胞効果を増強することが示唆された。
化合物（Ｉ）またはその薬理学的に許容される塩は、その薬理作用およびその投与目的等に応じ、そのまま単独で、または各種の製薬形態で使用することができる。
本発明に係わる医薬製剤は、活性成分として有効な量の化合物（Ｉ）またはその薬理学的に許容される塩を単独で、または他の治療のための有効成分との混合物として含有することができる。また、それら医薬製剤は、活性成分と薬理学的に許容される担体等を混合し、製剤学の技術分野においてよく知られている任意の方法により製造できる。この担体は投与に対して望ましい製剤の形態に応じて、広い範囲の形態をとることができる。
投与経路としては、治療に際し最も効果的なものを使用するのが望ましく、経口または、例えば静脈内等の非経口をあげることができる。
投与形態としては、例えば錠剤、カプセル剤、顆粒剤、シロップ剤、注射剤等がある。
錠剤の調製にあたっては、例えば乳糖、グルコース、ショ糖、マンニット、メチルセルロース等の賦形剤、デンプン、アルギン酸ナトリウム、カルボキシメチルセルロースカルシウム、結晶セルロース等の崩壊剤、ステアリン酸マグネシウム、タルク等の滑沢剤、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース等の結合剤、ショ糖脂肪酸エステル、ソルビット脂肪酸エステル等の界面活性剤等を常法に従って用いればよい。錠剤１個あたり１〜２００ｍｇの活性成分を含有する錠剤が好適である。
顆粒剤の調製にあたっては、例えば乳糖、ショ糖等の賦形剤、デンプン等の崩壊剤、ゼラチン等の結合剤等を常法により用いればよい。
カプセル剤の調製にあたっては、例えば、ゼラチン、水、ショ糖、アラビアゴム、ソルビット、グリセリン、結晶セルロース、ステアリン酸マグネシウム、タルク等を常法により用いればよい。カプセル１個あたり１〜２００ｍｇの活性成分を含有するカプセル剤が好適である。
シロップ剤の調製にあたっては、例えばショ糖等の糖、水、エタノール等を常法により用いればよい。
注射剤の調製にあたっては、例えば水、生理食塩水、植物油（例えばオリーブ油、落花生油等）、オレイン酸エチル、プロピレングリコール等の溶剤、安息香酸ナトリウム、サリチル酸ナトリウム、ウレタン等の可溶化剤、食塩、グルコース等の等張化剤、フェノール、クレゾール、ｐ−ヒドロキシ安息香酸エステル、クロロブタノール等の保存剤、アスコルビン酸、ピロ亜硫酸ナトリウム等の抗酸化剤等を常法により用いればよい。
化合物（Ｉ）またはその薬理学的に許容される塩は、経口的方法または注射等の非経口的方法で投与可能であり、その有効容量および投与回数は投与形態、患者の年齢、体重、症状等により異なるが、通常一日当たり、０．１〜５０ｍｇ／ｋｇを投与するのが好ましい。
発明を実施するための最良の形態
以下に、実施例により本発明を詳細に説明する。
実施例に用いられるプロトン核磁気共鳴スペクトル（１Ｈ−ＮＭＲ）においては、化合物および測定条件によって交換性水素が明瞭には観測されないことがある。なお、シグナルの多重度の表記としては通常用いられるものを用いるが、ｂｒとは見かけ上巾広いシグナルであることを表す。
実施例１：化合物１
工程１
２−［２−（２−ヒドロキシフェニル）ビニル］−１−メチルピロール９．６ｇ（４８ｍｍｏｌ）をピリジン２５ｍＬに溶解し、無水酢酸４．７５ｍＬ（５０．３ｍｍｏｌ）およびジメチルアミノピリジン２９６．０ｍｇ（２．４２３ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。反応溶液に氷水を加え、エーテルで希釈後、６ｍｏｌ／Ｌ塩酸で反応溶液を酸性とした。反応溶液をエーテルで抽出し、有機層を塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水にて順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層から溶媒を留去することにより、２−［２−（２−アセトキシフェニル）ビニル］−１−メチルピロールを得た。
工程２
工程１で得られた２−［２−（２−アセトキシフェニル）ビニル］−１−メチルピロールにマレイミド９．３７ｇ（９６．５ｍｍｏｌ）を加え、１８０℃で３０分間攪拌した後、反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製し、化合物１  １３．７１ｇ（８４％；２工程通算）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δ）；２．３１（ｓ，３Ｈ），２．７９（ｄｄ，Ｊ＝４．３Ｈｚ，１５．２Ｈｚ，１Ｈ），３．１２（ｍ，１Ｈ），３．３８（ｍ，１Ｈ），３．５２（ｓ，３Ｈ），３．６５（ｄｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ，７．６Ｈｚ，１Ｈ），４．０８（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），６．２７（ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，１Ｈ），６．５９（ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，１Ｈ），７．０５（ｍ，１Ｈ），７．２２−７．４５（ｍ，３Ｈ），７．６８（ｍ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３３９［Ｍ＋１］＋
実施例２：化合物２
アルゴン雰囲気下、ＤＭＦ０．６５ｍＬ（８．９ｍｍｏｌ）に、塩化ホスホリル１３６ｍＬ（０．８８８ｍｍｏｌ）を加え、室温で２０分間攪拌後、−２０℃にて実施例１で得られた化合物１  １０５．０ｍｇ（０．３１０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応溶液に氷水を加えた後、炭酸カリウムを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水にて洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層から溶媒を留去後、残渣を薄層クロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝２／３）にて精製し、化合物２  ９０ｍｇ（７９％）を得た。１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δ）；２．３３（ｓ，３Ｈ），２．９１（ｍ，１Ｈ），３．２３（ｍ，１Ｈ），３．４３（ｍ，１Ｈ），３．７１（ｄｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），４．０８（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．０６（ｓ，１Ｈ），７．０９（ｍ，１Ｈ），７．２６−７．３９（ｍ，３Ｈ），７．６０（ｍ，１Ｈ），９．５１（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３６７［Ｍ＋１］＋
実施例３：化合物３
実施例１の工程１に準じて、２−［２−（３−ヒドロキシフェニル）ビニル］−１−メチルピロール１３．８２ｇ（６９．３６ｍｍｏｌ）に無水酢酸６．８ｍＬ（７２．０７ｍｍｏｌ）およびジメチルアミノピリジン４２８．０ｍｇ（３．５０３ｍｍｏｌ）を作用させた後、実施例１の工程２に準じて、マレイミド１３．４６ｇ（１３８．７ｍｍｏｌ）と反応させることにより化合物３  １８．７８ｇ（８０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δ）；２．２８および２．３１（２ｓ，計  ３Ｈ），２．７６−３．２７（ｍ，２Ｈ），３．３５−３．８９（ｍ，２Ｈ），３．４７および３．５２（２ｓ，計  ３Ｈ），３．９７および４．１１（２ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，計  １Ｈ），６．２６（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ），６．５８（ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ，１Ｈ），６．８６−７．３８（ｍ，４Ｈ），７．５２および７．７６（２ｂｒｓ，計  １Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３３９［Ｍ＋１］＋
実施例４：化合物４
実施例２に準じて、実施例３で得られた化合物３  １７．７８ｇ（４５．９０ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ４２．７ｍＬ（５５１ｍｍｏｌ）および塩化ホスホリル１２．８ｍＬ（１３７ｍｍｏｌ）から、化合物４  ５．９０ｇ（３５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δ）；２．２８および２．３０（２ｓ，計  ３Ｈ），２．９１−３．１２（ｍ，２Ｈ），３．４７（ｍ，１Ｈ），３．６７および３．９１（２ｍ，計  １Ｈ），３．８３および３．８８（２ｓ，計  ３Ｈ），４．０１および４．１１（２ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，計  １Ｈ），６．８１−７．３８（ｍ，５Ｈ），７．７６および８．０１（２ｂｒｓ，計  １Ｈ），９．５０および９．５１（２ｓ，計  １Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３６７［Ｍ＋１］＋
実施例５：化合物５
実施例１の工程２に準じて、２−［２−（４−ベンジルオキシフェニル）ビニル］−１−メチルピロール１８．７６ｇ（６４．８３ｍｍｏｌ）およびマレイミド１８．９１ｇ（１９４．８１ｍｍｏｌ）から、化合物５  ２０．７０ｇ（８３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δ）；２．７２−３．０６（ｍ，２Ｈ），３．３９（ｍ，１Ｈ），３．４７および３．５２（２ｓ，計  ３Ｈ），３．５８および３．７８（２ｍ，計  １Ｈ），３．９６および４．１２（２ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，計  １Ｈ），５．０２および５．０５（２ｓ，計  ２Ｈ），６．２７（ｍ，１Ｈ），６．５９（ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ，１Ｈ），６．８５−７．４５（ｍ，９Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３８７［Ｍ＋１］＋
実施例６：化合物６
実施例４で得られた化合物４  ５．９０ｇ（１６．１０ｍｍｏｌ）をジオキサン３００ｍＬに溶解し、ＤＤＱ３６．５５ｇ（１６１．０ｍｍｏｌ）を加え、１．５時間加熱還流した。反応溶液を減圧ろ過して沈殿物を除去し、溶媒を留去後、酢酸エチルにてトリチュレーションし、化合物６  ４．３６ｇ（７５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δ）；２．２６（ｓ，３Ｈ），４．１１（ｓ，３Ｈ），７．０９−７．５１（ｍ，４Ｈ），７．２５（ｓ，１Ｈ），７．５３（ｓ，１Ｈ），７．７１（ｓ，１Ｈ），９．９７（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３６３［Ｍ＋１］＋
実施例７：化合物７
実施例６に準じて、実施例２で得られた化合物２  １００．０ｍｇ（０．２７３ｍｍｏｌ）およびＤＤＱ５７６．０ｍｇ（２．５３７ｍｍｏｌ）から、化合物７  ６９．８ｍｇ（７０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；１．９５（ｓ，３Ｈ），４．１２（ｓ，３Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．４５（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），７．５３−７．５９（ｍ，２Ｈ），７．８６（ｓ，１Ｈ），７．８７（ｓ，１Ｈ），１０．１５（ｓ，１Ｈ），１１．１５（ｂｒｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３６３［Ｍ＋１］＋
実施例８：化合物８
実施例６で得られた化合物６  １１．０ｍｇ（０．０３０ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン５ｍＬに溶解し、アルゴン雰囲気下、トリフェニルホスホラニリデン酢酸メチル１４．０ｍｇ（０．０４２ｍｍｏｌ）を加え、３．５時間加熱還流した。反応液に水を加えて反応を停止し、ジクロロメタンで希釈後、抽出した。有機層を飽和食塩水にて洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。有機層から溶媒を留去後、残渣を薄層クロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝４０／１）で精製し、ヘキサンでトリチュレーションすることにより、化合物８  １２．８ｍｇ（定量的）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δ）；２．３３（ｓ，３Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ），３．９２（ｓ，３Ｈ），６．６９（ｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ，１Ｈ），７．１６−７．７０（ｍ，７Ｈ），７．８０（ｄ，Ｊ＝１５．８Ｈｚ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４１９［Ｍ＋１］＋
実施例９：化合物９および化合物１０
実施例６で得られた化合物６  ５０．４ｍｇ（０．１３９ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン８０ｍＬに溶解し、シクロヘキシルアミン０．１２ｍＬ（１．０５ｍｍｏｌ）、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム２２２．５ｍｇ（１．０５０ｍｍｏｌ）および酢酸０．０６３ｍＬ（１．１ｍｍｏｌ）を加え、室温で終夜攪拌した。反応液に水を加えて反応を停止し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和後、分液した。有機層を飽和食塩水にて洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去した。残渣を薄層クロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝１５／１）にて精製することにより、化合物９  ４６．６ｍｇ（７５％）および化合物１０  １４．０ｍｇ（２８％）を得た。
化合物９
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；１．０２−１．２９（ｍ，６Ｈ），１．６８−１．７７（ｍ，２Ｈ），１．８８−２．０６（ｍ，２Ｈ），２．３０（ｓ，３Ｈ），２．４５（ｍ，１Ｈ），３．８６（ｓ，３Ｈ），３．９８（ｓ，２Ｈ），６．７７（ｓ，１Ｈ），７．１６（ｄｔ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，６．９Ｈｚ，１Ｈ），７．３５（ｔ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，１Ｈ），７．４３−７．５２（ｍ，２Ｈ），７．７１（ｓ，１Ｈ），１０．８３（ｂｒｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４４６［Ｍ＋１］＋
化合物１０
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；２．３０（ｓ，３Ｈ），３．８５（ｓ，３Ｈ），４．７４（ｂｒｄ，Ｊ＝４．３Ｈｚ，２Ｈ），４．５１（ｂｒｍ，１Ｈ），６．７９（ｓ，１Ｈ），７．１７（ｄｔ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，６．９Ｈｚ，１Ｈ），７．３６（ｂｒｓ，１Ｈ），７．４４−７．５３（ｍ，２Ｈ），７．７４（ｓ，１Ｈ），１０．８６（ｂｒｍ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３６５［Ｍ＋１］＋
実施例１０：化合物１１
実施例６で得られた化合物６  １．１０ｇ（３．０４ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン２５０ｍＬおよびメタノール１２５ｍＬの混合溶媒に溶解し、氷冷下、炭酸カリウム４．２４ｇ（３０．７ｍｍｏｌ）を加え、室温で５分間攪拌した。反応溶液を氷水に入れ、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸にて酸性にし、生じた沈殿物を濾取して、５０℃にて減圧下で乾燥した。得られた結晶をイソプロピルエーテルでトリチュレーションすることにより、化合物１１  ８５１．２ｍｇ（８８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；４．１３（ｓ，３Ｈ），６．８３（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），６．９９−７．０２（ｍ，２Ｈ），７．２５（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），７．７８（ｓ，１Ｈ），７．８８（ｓ，１Ｈ），９．５０（ｓ，１Ｈ），１０．０７（ｓ，１Ｈ），１１．０８（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３２１［Ｍ＋１］＋
実施例１１：化合物１２
実施例１０で得られた化合物１１  ２０１．２ｍｇ（０．０６２８２ｍｍｏｌ）をジクロロメタン１５０ｍＬに溶解し、トリエチルアミン１．７５ｍＬ（１２．６ｍｍｏｌ）および塩化バレリル０．１９ｍＬ（１．６ｍｍｏｌ）を加え、室温で終夜攪拌した。反応液に炭酸カリウム水溶液を加え、ジクロロメタンで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。残渣を分取薄層クロマトグラフィー（クロロホルム／アセトン＝２０／１）で精製し、化合物１２  １１７．１ｍｇ（４６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；０．９３（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．３９（ｍ，２Ｈ），１．６３（ｍ，２Ｈ），２．６１（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），４．１５（ｓ，３Ｈ），７．２０（ｄｔ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，９．２Ｈｚ，１Ｈ），７．３９（ｂｒｓ，１Ｈ），７．４７−７．５２（ｍ，２Ｈ），７．８０（ｓ，１Ｈ），７．９６（ｓ，１Ｈ），１０．０９（ｓ，１Ｈ），１１．１３（ｂｒｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４０５［Ｍ＋１］＋
実施例１２：化合物１３
実施例９に準じて、実施例６で得られた化合物６  ５６９．２ｍｇ（１．２３４ｍｍｏｌ）にＮ，Ｎ，Ｎ’−トリメチルエチレンジアミン１．４ｍＬ（１１ｍｍｏｌ）、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム２．４０ｇ（１１．４ｍｍｏｌ）および酢酸０．７１ｍＬ（１１ｍｍｏｌ）を作用させた後、実施例１０に準じて、炭酸カリウム１．７２ｇ（１２．４ｍｍｏｌ）で処理することにより化合物１３  ４１１．９ｍｇ（６２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；２．１５（ｓ，６Ｈ），２．２０（ｓ，３Ｈ），２．４０−２．５６（ｍ，４Ｈ），３．７４（ｓ，２Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），６．７６（ｓ，１Ｈ），６．８０（ｄｄｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１．７Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），６．９６（ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，１Ｈ），６．９８（ｍ，１Ｈ），７．２２（ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．６６（ｓ，１Ｈ），９．４４（ｓ，１Ｈ），１０．８２（ｂｒｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４０７［Ｍ＋１］＋
実施例１３：化合物１４
実施例１２で得られた化合物１３  ３０．６ｍｇ（０．０７５３ｍｍｏｌ）をジクロロメタン６０ｍＬに溶解し、アルゴン雰囲気下、トリエチルアミン０．１０ｍＬ（０．７５ｍｍｏｌ）およびイソシアン酸エチル１６ｍＬ（０．２ｍｍｏｌ）を加え、終夜攪拌した。反応液に水を加えて反応を停止し、ジクロロメタンで抽出後、有機層を飽和食塩水洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。有機層から溶媒を留去後、残渣を薄層クロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝６／１）で精製し、化合物１４  ２６．７ｍｇ（７４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δ）；１．２２（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），２．２７（ｓ，６Ｈ），２．２８（ｓ，３Ｈ），２．５２（ｍ，２Ｈ），２．６３（ｍ，２Ｈ），３．３３（ｍ，２Ｈ），３．７２（ｓ，２Ｈ），３．８８（ｓ，３Ｈ），５．１３（ｂｒｍ，１Ｈ），６．９０（ｓ，１Ｈ），７．２１（ｍ，１Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．３８−７．４４（ｍ，３Ｈ），７．６６（ｂｒｍ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４７８［Ｍ＋１］＋
実施例１４：化合物１５
実施例１０に準じて、実施例７で得られた化合物７  １．１０ｇ（３．０５ｍｍｏｌ）および炭酸カリウム４．２４ｇ（３０．６ｍｍｏｌ）から化合物１５  ９３３．２ｍｇ（９６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；４．１２（ｓ，３Ｈ），６．８６−６．９２（ｍ，２Ｈ），７．２１−７．３０（ｍ，２Ｈ），７．７８（ｄ，Ｊ＝０．７Ｈｚ，１Ｈ），７．８３（ｂｒｓ，１Ｈ），９．４７（ｂｒｍ，１Ｈ），１０．０８（ｓ，１Ｈ），１１．００（ｂｒｍ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３２１［Ｍ＋１］＋
実施例１５：化合物１６
実施例１３に準じて、実施例１４で得られた化合物１５  ３０８．３ｍｇ（０．９６２５ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン１．３４ｍＬ（９．６１ｍｍｏｌ）およびイソシアン酸フェニル０．１３ｍＬ（１．２ｍｍｏｌ）から化合物１６  １１４．１ｍｇ（２７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；４．０４（ｓ，３Ｈ），６．８８−７．５５（ｍ，９Ｈ），７．７６（ｄ，Ｊ＝０．７Ｈｚ，１Ｈ），７．８３（ｄ，Ｊ＝０．７Ｈｚ，１Ｈ），９．８１（ｂｒｓ，１Ｈ），１０．０５（ｓ，１Ｈ），１１．０６（ｂｒｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４４０［Ｍ＋１］＋
実施例１６：化合物１７
実施例９に準じて、実施例１５で得られた化合物１６  ４１．０ｍｇ（０．０９３ｍｍｏｌ）、エタノールアミン８２ｍＬ（１．４ｍｍｏｌ）、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム２００．０ｍｇ（０．９４４ｍｍｏｌ）および酢酸０．０５６ｍＬ（０．９３ｍｍｏｌ）から化合物１７  ３７．２ｍｇ（８２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；２．６３（ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ），３．４８（ｍ，２Ｈ），３．７３（ｓ，３Ｈ），３．９４（ｓ，２Ｈ），４．５２（ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，１Ｈ），６．７５（ｓ，１Ｈ），６．９７（ｍ，１Ｈ），７．１８−７．４２（ｍ，６Ｈ），７．４５−７．５１（ｍ，２Ｈ），７．５８（ｓ，１Ｈ），９．８２（ｂｒｓ，１Ｈ），１０．７７（ｂｒｍ，２Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４８５［Ｍ＋１］＋
実施例１７：化合物１８
実施例１６で得られた化合物１７  １６．０ｍｇ（０．０３３１ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド１．０ｍＬに溶解し、室温で１２０時間静置した。反応液を凍結乾燥した後、残渣を分取薄層クロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝４／１）にて精製し、化合物１８  １０．０ｍｇ（６２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；３．５１（ｓ，４Ｈ），３．７９（ｓ，３Ｈ），４．８９（ｓ，２Ｈ），５．３６（ｂｒｓ，１Ｈ），６．７５（ｓ，１Ｈ），６．８０−７．００（ｍ，３Ｈ），７．１６−７．３０（ｍ，４Ｈ），７．３６−７．４６（ｍ，２Ｈ），７．６１（ｓ，１Ｈ），８．８１（ｓ，１Ｈ），９．２９（ｓ，１Ｈ），１０．７０（ｂｒｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４８５［Ｍ＋１］＋
実施例１８：化合物１９
実施例６に準じて、実施例３で得られた化合物３  ８．５３ｇ（２５．２ｍｍｏｌ）およびＤＤＱ１１．４７ｇ（５０．５２ｍｍｏｌ）から化合物１９  ４．８２ｇ（５７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；２．３０（ｓ，３Ｈ），３．９２（ｓ，３Ｈ），６．８３（ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ，１Ｈ），７．１８（ｍ，１Ｈ），７．３５（ｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１Ｈ），７．４４−７．４９（ｍ，２Ｈ），７．７５−７．７５（ｍ，２Ｈ），１０．８９（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３３５［Ｍ＋１］＋
実施例１９：化合物２０
実施例２に準じて、実施例１８で得られた化合物１９  ５．２９ｇ（１５．８ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ４９ｍＬ（６３０ｍｍｏｌ）および塩化ホスホリル１４．８０ｍＬ（１５８．８ｍｍｏｌ）から、化合物２０  ５．２９ｇ（９２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；２．３０（ｓ，３Ｈ），４．００（ｓ，３Ｈ），７．２２（ｍ，１Ｈ），７．３７（ｍ，１Ｈ），７．４６−７．５３（ｍ，２Ｈ），７．８９（ｓ，１Ｈ），８．５３（ｓ，１Ｈ），１０．８７（ｓ，１Ｈ），１１．２１（ｂｒｍ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３６３［Ｍ＋１］＋
実施例２０：化合物２１
実施例１０に準じて、実施例１９で得られた化合物２０  １．００ｇ（２．７７ｍｍｏｌ）および炭酸カリウム３．８５ｇ（２７．８ｍｍｏｌ）から化合物２１  ７７３．２ｍｇ（８７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；３．９９（ｓ，３Ｈ），６．８３（ｍ，１Ｈ），６．９７−７．００（ｍ，２Ｈ），７．２４（ｄｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．８６（ｓ，１Ｈ），８．５３（ｓ，１Ｈ），９．５１（ｂｒｓ，１Ｈ），１０．８５（ｓ，１Ｈ），１１．２１（ｂｒｍ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３２１［Ｍ＋１］＋
実施例２１：化合物２２
実施例１３に準じて、実施例２０で得られた化合物２１  ５０４．５ｍｇ（１．５７５ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン８．８０ｍＬ（６３．１ｍｍｏｌ）およびイソシアン酸ブチル０．５２ｍＬ（４．７ｍｍｏｌ）から化合物２２  ８１．７ｍｇ（１２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；０．９７（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），１．２９−１．５１（ｍ，４Ｈ），２．９２−３．０８（ｍ，２Ｈ），４．０１（ｓ，３Ｈ），７．１７（ｍ，１Ｈ），７．３４（ｓ，１Ｈ），７．４０−７．４６（ｍ，２Ｈ），７．７８（ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，１Ｈ），７．９２（ｓ，１Ｈ），８．５５（ｓ，１Ｈ），１０．８５（ｓ，１Ｈ），１１．２５（ｂｒｍ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４２０［Ｍ＋１］＋
実施例２２：化合物２３
実施例９に準じて、実施例２０で得られた化合物２１  １０３．４ｍｇ（０．３２２８ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチルエチレンジアミン０．６０ｍＬ（４．７ｍｍｏｌ）、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム１．０３ｇ（４．８８ｍｍｏｌ）および酢酸０．３ｍＬ（４．８ｍｍｏｌ）から化合物２３  ９７．３ｍｇ（９４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；２．１２（ｓ，６Ｈ），２．２０（ｓ，３Ｈ），２．３６（ｍ，２Ｈ），２．５０（ｍ，２Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），４．０４（ｓ，２Ｈ），６．７９（ｍ，１Ｈ），６．９３−６．９６（ｍ，２Ｈ），７．２１（ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．６２（ｓ，１Ｈ），７．６３（ｓ，１Ｈ），９．４３（ｓ，１Ｈ），１０．８５（ｂｒｍ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４０７［Ｍ＋１］＋
実施例２３：化合物２４
実施例１の工程２に準じて、２−（２−ヒドロキシメチルビニル）−１−メチルインドール２．２ｇ（１１．８ｍｍｏｌ）およびマレイミド２．３ｇ（２３．５ｍｍｏｌ）から化合物２４  ２．３７ｇ（７１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；２．０５−２．０９（ｍ，１Ｈ），２．３１−２．４２（ｍ，１Ｈ），２．９２−３．００（ｍ，１Ｈ），３．６１（ｓ，３Ｈ），３．８３−４．０２（ｍ，２Ｈ），４．１６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），４．７９（ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，１Ｈ），７．００（ｄｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．０９（ｄｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ），１１．４４（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；２８５［Ｍ＋１］＋
実施例２４：化合物２５
実施例１の工程２に準じて、２−［２−（２−ヒドロキシエチル）ビニル］−１−メチルインドール７５ｍｇ（０．３７ｍｍｏｌ）およびマレイミド３９０ｍｇ（０．７５ｍｍｏｌ）から化合物２５  ７３．６ｍｇ（６８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；２．０５−２．０９（ｍ，１Ｈ），２．３１−２．４２（ｍ，１Ｈ），２．９２−３．００（ｍ，１Ｈ），３．３３（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，２Ｈ），３．６１（ｓ，３Ｈ），３．８３−４．０２（ｍ，２Ｈ），４．１６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），４．７９（ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，１Ｈ），７．００（ｄｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，７．６Ｈｚ，１Ｈ），７．０９（ｄｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），１１．５４（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；２９９［Ｍ＋１］＋
実施例２５：化合物２６
実施例１の工程２に準じて、１−ベンジル−２−［２−（１，３−ジオキソラン−２−イルメチル）ビニル］インドール５０ｍｇ（０．１６ｍｍｏｌ）およびマレイミド３２ｍｇ（０．３２ｍｍｏｌ）から化合物２６  ６２．５ｍｇ（９４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；１．０３（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），３．５７−３．８５（ｍ，５Ｈ），４．１５−４．２０（ｍ，１Ｈ），４．９２−４．９５（ｍ，１Ｈ），５．３６（ｓ，２Ｈ），７．００−７．０９（ｍ，４Ｈ），７．２１−７．３１（ｍ，３Ｈ），７．３９（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），７．７６（ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ，１Ｈ），１０．９１（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；２０２［Ｍ＋１］＋
実施例２６：化合物２７
実施例１の工程２に準じて、２−（２−メトキシカルボニルビニル）−１−メチルインドール１．３８ｇ（４．４ｍｍｏｌ）をマレイミド８５０ｍｇ（８．７６ｍｍｏｌ）と反応させた後、実施例６に準じて、ＤＤＱ４．８０ｇ（２１．２ｍｍｏｌ）で処理することにより、化合物２７  １．０３ｇ（７６％）を得た。１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；３．９３（ｓ，３Ｈ），７．３８（ｄｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６２（ｄｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），８．１３（ｓ，１Ｈ），８．８７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），１１．３１（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３０９［Ｍ＋１］＋
実施例２７：化合物２８
実施例２６で得られた化合物２７  ９．８５ｇ（３２ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン２００ｍＬに溶解し、６ｍｏｌ／Ｌ塩酸５ｍＬを加え２．５時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却し、メタノール５０ｍＬを加えた後、析出した結晶を濾取し、乾燥することにより化合物２８  ７．９４ｇ（８４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；３．９９（ｓ，３Ｈ），７．３８（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．６４（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．７６（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），８．１７（ｓ，１Ｈ），８．８５（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），１１．４６（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；２９５［Ｍ＋１］＋
実施例２８：化合物２９
工程１
実施例２７で得られた化合物２８  ８００ｍｇ（２．７ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン１０ｍＬに溶解し、塩化チオニル５．０ｍＬ（６９ｍｍｏｌ）を加え２時間加熱還流した。減圧下、反応液を濃縮し、酸塩化物を８１２ｍｇ（９６％）得た。
工程２
２−アミノ−２−メチルプロパノール０．０５０ｍＬ（０．５２ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン０．５ｍＬに溶解し、トリエチルアミン０．１０ｍＬ（０．７２ｍｍｏｌ）を加え、次いで工程１で得られた酸塩化物５０ｍｇ（０．１６ｍｍｏｌ）を加え１時間攪拌した。減圧下、反応液から溶媒を留去し、残渣をクロロホルムにてトリチュレーションすることにより、化合物２９  ４２．３ｍｇ（６７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；０．９２（ｓ，６Ｈ），３．８９（ｓ，２Ｈ），３．９７（ｓ，３Ｈ），７．３２（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．７０（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．８２（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），８．１８（ｓ，１Ｈ），８．８０（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），９．８２−９．８５（ｍ，１Ｈ），１１．４５（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３６６［Ｍ＋１］＋
実施例２９：化合物３０
実施例２８の工程２に準じて、実施例２８の工程１で得られた酸塩化物５０ｍｇ（０．１６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン０．１０ｍＬ（０．７２ｍｍｏｌ）およびＤ，Ｌ−セリンメチルエステル３７．３ｍｇ（０．２４ｍｍｏｌ）から化合物３０  ４２．３ｍｇ（６７％）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３９６［Ｍ＋１］＋
実施例３０：化合物３１
実施例２８の工程２に準じて、実施例２８の工程１で得られた酸塩化物５０ｍｇ（０．１６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン０．１０ｍＬ（０．７２ｍｍｏｌ）および１−アミノモルホリン０．０５ｍＬ（０．８ｍｍｏｌ）から化合物３１  ２４．８ｍｇ（４１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；３．７１−３．８７（ｍ，４Ｈ），３．８９−４．００（ｍ，４Ｈ），７．３２（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．６４（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．７６（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），８．１７（ｓ，１Ｈ），８．７４（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），９．８１−９．８５（ｍ，１Ｈ），１１．４５（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３７９［Ｍ＋１］＋
実施例３１：化合物３２
実施例２８の工程２に準じて、実施例２８の工程１で得られた酸塩化物５０ｍｇ（０．１６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン０．１０ｍＬ（０．７２ｍｍｏｌ）およびアセトヒドラジド１７．８ｍｇ（０．２４０ｍｍｏｌ）から化合物３２  ４２．３ｍｇ（７６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；３．７９（ｓ，３Ｈ），３．９６（ｓ，３Ｈ），７．３２（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．７０（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），７．８２（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），８．２０（ｓ，１Ｈ），８．８０（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），９．８０−９．８２（ｍ，１Ｈ），１１．４５（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３５１［Ｍ＋１］＋
実施例３２：化合物３３
実施例２８の工程２に準じて、実施例２８の工程１で得られた酸塩化物５０ｍｇ（０．１６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン０．１０ｍＬ（０．７２ｍｍｏｌ）および４−アミノ−１，２，４−トリアゾール２０．２ｍｇ（０．２４０ｍｍｏｌ）から化合物３３  ３９．７ｍｇ（６９％）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３６１［Ｍ＋１］＋
実施例３３：化合物３４
実施例６に準じて、実施例２３で得られた化合物２４  ２．３６ｇ（８．３ｍｍｏｌ）およびＤＤＱ３．５ｇ（１５ｍｍｏｌ）から、化合物３４  ２．４２ｇ（定量的）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；３．９３（ｓ，３Ｈ），５．０９（ｓ，２Ｈ），７．３３（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，７．６Ｈｚ，１Ｈ），７．６５（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．７０（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．０５（ｓ，１Ｈ），８．８２（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），１１．３０（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；２８１［Ｍ＋１］＋
実施例３４：化合物３５
実施例６に準じて、実施例２４で得られた化合物２５  ５０ｍｇ（０．１７ｍｍｏｌ）およびＤＤＱ８０ｍｇ（０．３５ｍｍｏｌ）から、化合物３５  ２２．７ｍｇ（４５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；３．３１（ｔ，Ｊ＝６．７７Ｈｚ，２Ｈ），３．７３（ｔ，Ｊ＝６．９３Ｈｚ，２Ｈ），３．８７（ｓ，３Ｈ），７．３０（ｄｄ，Ｊ＝６．９３Ｈｚ，７．２６Ｈｚ，１Ｈ），７．５４−７．６４（ｍ，２Ｈ），７．６８（ｓ，１Ｈ），８．７８（ｄ，Ｊ＝７．９２Ｈｚ，１Ｈ），１１．０５（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；２９５［Ｍ＋１］＋
実施例３５：化合物３６
アルゴン雰囲気下、トリフェニルホスフィン８．４２ｇ（３２．２ｍｍｏｌ）をＤＭＦ２００ｍＬに溶解し、−１０℃で臭素１．６６ｍＬ（３２．２ｍｍｏｌ）を滴下した。反応液を１０分間攪拌後、実施例３３で得られた化合物３４  ６．００ｇ（２１．４ｍｍｏｌ）を反応液に加え、室温まで昇温し、１８時間攪拌した。減圧下、反応液から溶媒を留去し、残渣をメタノールにてトリチュレーションし、化合物３６  ２．５７ｇ（２３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；３．９６（ｓ，３Ｈ），５．２０（ｓ，２Ｈ），７．３６（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，７．６Ｈｚ，１Ｈ），７．６５（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．７１（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．０４（ｓ，１Ｈ），８．８２（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），１１．２７（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３４３［Ｍ＋１］＋
実施例３６：化合物３７
実施例３５で得られた化合物３６  ５０ｍｇ（０．１５ｍｍｏｌ）をＤＭＦ１ｍＬに溶解し、エタノールアミン１．０ｍＬ（１７ｍｍｏｌ）を加え室温で３０分間攪拌した。減圧下、反応液から溶媒を留去し、残渣をメタノールにてトリチュレーションし、化合物３７  ３３．５ｍｇ（７１％）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３２４［Ｍ＋１］＋
実施例３７：化合物３８
実施例３６に準じて、実施例３５で得られた化合物３６  ５０ｍｇ（０．１５ｍｍｏｌ）および３−アミノメチルピリジン０．１０ｍＬ（０．９８ｍｍｏｌ）から、化合物３８  ４４．９ｍｇ（８３％）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３７１［Ｍ＋１］＋
実施例３８：化合物３９
実施例３６に準じて、実施例３５で得られた化合物３６  ５０ｍｇ（０．１５ｍｍｏｌ）および１−アミノ−４−メチルピペラジン０．１０ｍＬ（０．８３ｍｍｏｌ）から、化合物３９  １０．７ｍｇ（１９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；２．１２−２．２５（ｍ，４Ｈ），２．３６−２．３９（ｍ，４Ｈ），３．９４（ｓ，３Ｈ），３．９８（ｓ，３Ｈ），４．０７（ｓ，２Ｈ），７．３４（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），７．６２（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），７．６９（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），７．８７（ｓ，１Ｈ），８．８４（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），１１．１３（ｓ，１Ｈ）．Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３７８［Ｍ＋１］＋
実施例３９：化合物４０
実施例１の工程２に準じて、１−アリル−２−（２−エトキシカルボニルビニル）インドール１８．８ｇ（７３．７ｍｍｏｌ）をマレイミド７．１５ｇ（１４７ｍｍｏｌ）と反応させた後、実施例６に準じて、ＤＤＱ８．４ｇ（３７ｍｍｏｌ）で処理することにより、化合物４０  ６．２ｇ（２４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；１．３６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），４．３９（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），４．８８（ｄ，Ｊ＝１７．０Ｈｚ，１Ｈ），５．１１（ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，１Ｈ），５．２０（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，２Ｈ），６．０２−６．０６（ｍ，１Ｈ），７．３９（ｄｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６５（ｄｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．７２（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），８．１０（ｓ，１Ｈ），８．９１（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），１１．３３（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３４９［Ｍ＋１］＋
実施例４０：化合物４１
実施例２７に準じて、実施例３９で得られた化合物４０  ４．７０ｇ（１３．６ｍｍｏｌ）から、化合物４１  ４．０４ｇ（９３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；４．８９（ｄ，Ｊ＝１７．２Ｈｚ，１Ｈ），５．１２（ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，１Ｈ），５．２０（ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ，２Ｈ），５．９７−６．０７（ｍ，１Ｈ），７．４０（ｄｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６５（ｄｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），８．１７（ｓ，１Ｈ），８．９２（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），１１．４８（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３２１［Ｍ＋１］＋
実施例４１：化合物４２
実施例２８の工程１および工程２に準じて、実施例４０で得られた化合物４１  １．０ｇ（３．１ｍｍｏｌ）およびエタノールアミン０．２１ｍＬ（３．４ｍｍｏｌ）から、化合物４２  １．０８ｇ（９６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；３．４５（ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，２Ｈ），３．６０（ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，２Ｈ），４．８７（ｄ，Ｊ＝１７．２Ｈｚ，１Ｈ），５．１２（ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，１Ｈ），５．２０（ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，２Ｈ），５．９５−６．０９（ｍ，１Ｈ），７．３９（ｄｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．６５（ｄｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），８．２４（ｓ，１Ｈ），８．９４（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），９．４３（ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，１Ｈ），１１．３３（ｂｒｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３６４［Ｍ＋１］＋
実施例４２：化合物４３
実施例４１で得られた化合物４２  ５００ｍｇ（１．３８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１０ｍＬに溶解し、バーガス試薬３１．５ｍｇ（０．１３ｍｍｏｌ）を加え、７０℃で５０分間攪拌した。反応液に水を加えクロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残渣を分取薄層クロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９／１）により精製し、化合物４３  ２７．２ｍｇ（７３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；４．０３（ｔ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，２Ｈ），４．４８（ｔ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，２Ｈ），４．８７（ｄ，Ｊ＝１７．２Ｈｚ，１Ｈ），５．１１（ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，１Ｈ），５．２３（ｂｒｓ，２Ｈ），５．９６−６．０６（ｍ，１Ｈ），７．４１（ｄｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６６（ｄｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），８．０８（ｓ，１Ｈ），８．９４（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３４６［Ｍ＋１］＋
実施例４３：化合物４４
実施例４０で得られた化合物４１  １００ｍｇ（０．３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン２ｍＬに懸濁させ、ジフェニルリン酸アジド０．１４ｍＬ（０．６３ｍｍｏｌ）、エタノール０．１５ｍＬおよびトリエチルアミン０．０８ｍＬ（０．６ｍｍｏｌ）を加え、４時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却後、析出した結晶を濾取することにより、化合物４４  ３２．５ｍｇ（３０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；１．２９（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，３Ｈ），４．２１（ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），４．８８（ｄ，Ｊ＝１７．２Ｈｚ，１Ｈ），５．００−５．０１（ｍ，２Ｈ），５．１４（ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，１Ｈ），５．９５−６．０５（ｍ，１Ｈ），７．３０（ｄｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，７．６Ｈｚ，１Ｈ），７．５４（ｄｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．６３（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），８．２６（ｓ，１Ｈ），８．６８（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），９．１７（ｓ，１Ｈ），１１．３３（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）３６４［Ｍ＋１］＋
実施例４４：化合物４５
実施例４０で得られた化合物４１  １．０ｇ（３．１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１５ｍＬに懸濁させ、ジフェニルリン酸アジド１．４ｍＬ（６．３ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン０．８０ｍＬ（６．３ｍｍｏｌ）を加え１時間加熱還流した後、水１．０ｍＬを添加しさらに２時間加熱還流した。反応液を室温まで冷却後、減圧下溶媒を留去し、残渣をメタノールにてトリチュレーションすることにより、化合物４５  ９４２．１ｍｇ（定量的）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；４．８９−４．９４（ｍ，３Ｈ），５．１４（ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，１Ｈ），５．８２−６．２０（ｍ，１Ｈ），６．３８（ｓ，２Ｈ），６．８６（ｓ，１Ｈ），７．２１（ｄｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，７．６Ｈｚ，１Ｈ），７．４２（ｄｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．４８（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），８．６３（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），１０．８８（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）２９２［Ｍ＋１］＋
実施例４５：化合物４６
実施例１の工程２に準じて、１−アリル−２−（２−ヒドロキシメチルビニル）インドール１８．３ｇ（９９．０ｍｍｏｌ）をマレイミド１９．０ｇ（１９８ｍｍｏｌ）と反応させた後、実施例６に準じて、ＤＤＱ３６．６ｇ（１６０ｍｍｏｌ）で処理することにより、化合物４６  １３．０ｇ（５３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；４．８７（ｄ，Ｊ＝１７．２Ｈｚ，１Ｈ），５．１０（ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，１Ｈ），５．１６−５．１７（ｍ，４Ｈ），５．９２−６．０５（ｍ，１Ｈ），７．３６（ｍ，１Ｈ），７．６３−７．７１（ｍ，２Ｈ），８．１５（ｓ，１Ｈ），８．８３（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），１０．９１（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３０７［Ｍ＋１］＋
実施例４６：化合物４７
実施例４５で得られた化合物４６  １．５３ｇ（５ｍｍｏｌ）をジクロロメタン５０ｍＬに懸濁させ、ｐ−トルエンスルホン酸１９０．２ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）および３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン１．３７ｍＬ（１５ｍｍｏｌ）を加え、アルゴン雰囲気下室温で３０分間攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝２０／１）にて精製し、化合物４７  １．４５ｇ（７５％）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３９１［Ｍ＋１］＋
実施例４７：化合物４８
実施例４５で得られた化合物４６  ７１．９ｍｇ（０．２３５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン５ｍＬに溶解し、ＤＢＵ０．１４０ｍＬ（０．９３６ｍｍｏｌ）およびビス（パラニトロフェニル）リン酸アジド３４１．８ｍｇ（０．９３６ｍｍｏｌ）を加えて１時間加熱還流した。反応液を室温に冷却後、攪拌しながら氷水を加えた。生じた沈殿を濾取し、メタノールにてトリチュレーション後、酢酸エチルにて再結晶を行い、化合物４８  ３５．８ｍｇ（４６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；４．９４（ｄｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，１７．２Ｈｚ，１Ｈ），５．０２（ｓ，２Ｈ），５．１４（ｄｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，１０．６Ｈｚ，１Ｈ），５．１９（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，２Ｈ），６．０２（ｄｄｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１０．６Ｈｚ，１７．２Ｈｚ，１Ｈ），７．３８（ｄｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６３（ｄｄｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，６．９Ｈｚ，８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．９９（ｓ，１Ｈ），８．８９（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），１１．２７（ｂｒｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３３２［Ｍ＋１］＋
実施例４８：化合物４９
実施例４７で得られた化合物４８  １０．８ｍｇ（０．０３２６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１ｍＬに溶解し、トリフェニルホスフィン１３．１ｍｇ（０．０４９９ｍｍｏｌ）を加えて２０分間攪拌した。反応液に水０．０８０ｍＬを加えて、６０℃で２時間攪拌し、さらに室温で終夜攪拌した。反応液を分取薄層クロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝４／１）にて精製し、化合物４９  ２．９ｍｇ（２９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；４．２４（ｓ，２Ｈ），４．９６（ｄｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，１６．８Ｈｚ，１Ｈ），５．１５（ｍ，３Ｈ），６．０３（ｍ，１Ｈ），７．３５（ｄｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，７．６Ｈｚ，１Ｈ），７．５９（ｄｄｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，６．９Ｈｚ，８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．６８（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），８．８７（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３０６［Ｍ＋１］＋
実施例４９：化合物５０
実施例１の工程２に準じて、１−アリル−２−（２−ホルミルビニル）インドール３．５１ｇ（１６．６ｍｍｏｌ）をマレイミド３．２４ｇ（３３．４ｍｍｏｌ）と反応させた後、実施例６に準じて、ＤＤＱ６．７２ｇ（２９．６ｍｍｏｌ）で処理することにより、化合物５０  ３．６９ｇ（８２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；４．９０（ｄｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１７．２Ｈｚ，１Ｈ），５．１３（ｄｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，１０．２Ｈｚ，１Ｈ），５．２６（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，２Ｈ），６．０２（ｍ，１Ｈ），７．４２（ｄｄｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，６．７Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．７０（ｍ，２Ｈ），８．２８（ｓ，１Ｈ），８．９４（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），１１．００（ｓ，１Ｈ），１１．５０（ｂｒｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３０５［Ｍ＋１］＋
実施例５０：化合物５１
実施例４９で得られた化合物５０  ５０．８ｍｇ（０．１６７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン３ｍＬに溶解し、ヒドロキシルアミン塩酸塩３２．８ｍｇ（０．４７２ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン０．０５０ｍＬ（０．１８ｍｍｏｌ）を加えて、室温で一昼夜攪拌した。生じた沈殿を濾取し、テトラヒドロフランと水の混合溶媒でトリチュレーションを行い、化合物５１  １２．５ｍｇ（２３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；４．９１（ｄｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，１７．０Ｈｚ，１Ｈ），５．１６（ｍ，３Ｈ），６．０３（ｍ，１Ｈ），７．３８（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，１Ｈ），７．６４（ｄｄｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，６．９Ｈｚ，７．３Ｈｚ，１Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），８．１６（ｓ，１Ｈ），８．９０（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），９．１２（ｓ，１Ｈ），１１．７２（ｂｒｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３２０［Ｍ＋１］＋
実施例５１：化合物５２
実施例５０に準じて、実施例４９で得られた化合物５０  ２０．９ｍｇ（０．０６９ｍｍｏｌ）およびＯ−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩１３．５ｍｇ（０．１６２ｍｍｏｌ）から、化合物５２  １７．６ｍｇ（６９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；３．９５（ｓ，３Ｈ），４．９０（ｄ，Ｊ＝１７．２Ｈｚ，１Ｈ），５．１５（ｍ，３Ｈ），６．０４（ｍ，１Ｈ），７．３８（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），７．６４（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），８．９０（ｓ，１Ｈ），８．９０（ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），９．７６（ｓ，１Ｈ），１１．３６（ｂｒｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３３４［Ｍ＋１］＋
実施例５２：化合物５３
実施例５０に準じて、実施例４９で得られた化合物５０  ２０．０ｍｇ（０．０６６ｍｍｏｌ）およびｐ−ヒドラジノ安息香酸１１．３ｍｇ（０．０７４ｍｍｏｌ）から、化合物５３  １２．８ｍｇ（４５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；５．０３（ｄｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，１７．２Ｈｚ，１Ｈ），５．２０（ｄｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，１０．２Ｈｚ，１Ｈ），５．２６（ｍ，２Ｈ），６．０７（ｍ，１Ｈ），７．２６（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），７．３６（ｄｄｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，６．９Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．６２（ｄｄｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，６．９Ｈｚ，８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．７０（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．８６（ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，２Ｈ），８．４０（ｓ，１Ｈ），８．９０（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），９．１１（ｓ，１Ｈ），１１．２８（ｂｒｓ，１Ｈ），１１．３６（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４３９［Ｍ＋１］＋
実施例５３：化合物５４
実施例５０に準じて、実施例４９で得られた化合物５０  ２０．１ｍｇ（０．０６６１ｍｍｏｌ）および２−ヒドロキシエチルヒドラジン０．００５０ｍＬ（０．０７４ｍｍｏｌ）から、化合物５４  １６．９ｍｇ（７１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；３．３２（ｍ，２Ｈ），３．６２（ｍ，２Ｈ），４．７１（ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，１Ｈ），４．８６（ｄｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，１７．２Ｈｚ，１Ｈ），５．１３（ｍ，３Ｈ），６．０３（ｍ，１Ｈ），７．３３（ｄｄｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，６．９Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．５８（ｄｄｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，６．９Ｈｚ，８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．６５（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．９７（ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），８．０９（ｓ，１Ｈ），８．６１（ｓ，１Ｈ），８．８７（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），１１．１５（ｂｒｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３６３［Ｍ＋１］＋
実施例５４：化合物５５
実施例５０に準じて、実施例４９で得られた化合物５０  ２０．１ｍｇ（０．０６６１ｍｍｏｌ）および２−ヒドラジノピリジン１滴から、化合物５５１２．４ｍｇ（４７％）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３９６［Ｍ＋１］＋
実施例５５：化合物５６
実施例５０に準じて、実施例４９で得られた化合物５０  ２１．２ｍｇ（０．０７０ｍｍｏｌ）、ヒドラジン二塩酸塩３４．７ｍｇ（０．３３１ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン０．１１８ｍＬ（０．８４７ｍｍｏｌ）から、化合物５６  １４．７ｍｇ（６６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；４．８７（ｄｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，１７．２Ｈｚ，１Ｈ），５．１５（ｍ，３Ｈ），６．０２（ｍ，１Ｈ），７．３４（ｄｄｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，６．９Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．５９（ｄｄｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，６．９Ｈｚ，８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．６７（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），８．１２（ｓ，１Ｈ），８．７７（ｓ，１Ｈ），８．８８（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），１１．１７（ｂｒｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３１９［Ｍ＋１］＋
実施例５６：化合物５７
実施例４５で得られた化合物４６  １．０ｇ（３．２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍＬに溶解し、氷冷下９−ボラビシクロノナン二量体３．９ｇ（１６ｍｍｏｌ）を加え、室温で１６時間攪拌した後、再び氷冷し、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液１１ｍＬおよび過酸化水素水１１ｍＬを加え、室温で１５分間攪拌した。反応液に飽和食塩水を加え、テトラヒドロフランで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残渣をカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９／１）により精製し、化合物５７  １２３．８ｍｇ（１２％）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３２５［Ｍ＋１］＋
実施例５７：化合物５８
実施例３５に準じて、実施例５６で得られた化合物５７  １００ｍｇ（０．３ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン２４３ｍｇ（０．９ｍｍｏｌ）および臭素０．０４ｍＬ（０．９ｍｍｏｌ）から、化合物５８  ９９．６ｍｇ（７４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；２．２８−２．３５（ｍ，２Ｈ），３．５４（ｔ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，２Ｈ），４．５７（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），５．２０（ｓ，２Ｈ），７．３６（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．６５（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），８．０９（ｓ，１Ｈ），８．８４（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），１１．２９（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４４９［Ｍ＋１］＋
実施例５８：化合物５９
実施例３６に準じて、実施例５７で得られた化合物５８  ５０ｍｇ（０．１１ｍｍｏｌ）およびモルホリン０．０２５ｍＬ（０．２８ｍｍｏｌ）から、化合物５９  ４４．９ｍｇ（８８％）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４６３［Ｍ＋１］＋
実施例５９：化合物６０
実施例５６に準じて、実施例４６で得られた化合物４７  ３９０ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を９−ボラビシクロノナン４８７ｍｇ（２．０ｍｍｏｌ）と反応させた後、反応液を水酸化ナトリウム水溶液および過酸化水素水で処理することにより、化合物６０  ３４３．２ｍｇ（８４％）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３９１［Ｍ＋１］＋
実施例６０：化合物６１
実施例４７に準じて、実施例５９で得られた化合物６０  ３．８２ｇ（９．４ｍｍｏｌ）、ＤＢＵ２．１ｍＬ（１４ｍｍｏｌ）およびビス（パラニトロフェニル）リン酸アジド５．１５ｇ（１４．１ｍｍｏｌ）から、化合物６１  ２．２７ｇ（５６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；１．５３−１．８０（ｍ，８Ｈ），１．８４−２．１０（ｍ，２Ｈ），３．５２−３．６５（ｍ，１Ｈ），３．８０−４．００（ｍ，１Ｈ），４．４０−４．５８（ｍ，２Ｈ），４．８２−４．９０（ｍ，１Ｈ），５．０５（ｄ，Ｊ＝１４．２Ｈｚ，１Ｈ），５．２１（ｄ，Ｊ＝１４．２Ｈｚ，１Ｈ），７．３５（ｄｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，７．８６Ｈｚ，１Ｈ），７．６２（ｄｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．９６（ｓ，１Ｈ），８．８５（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），１１．１５（ｂｒｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４３４［Ｍ＋１］＋
実施例６１：化合物６２
実施例６０で得られた化合物６１  １．６ｇ（３．８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン２４ｍＬおよびエタノール９６ｍＬの混合溶媒に溶解し、１０％パラジウム炭素１ｇ存在下、水素雰囲気下室温で５時間攪拌した。反応液をセライト濾過後、濾液を減圧下濃縮し、残渣をメタノールにてトリチュレーションし、化合物６２  １．５３ｇ（９９％）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４０８［Ｍ＋１］＋
実施例６２：化合物６３
実施例６１で得られた化合物６２  １２０ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）をジクロロメタン２ｍＬに溶解し、トリエチルアミン存在下、塩化ベンゾイル０．０７ｍＬ（０．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。反応液にアミノメチルレジン２５０ｍｇ（０．８ｍｍｏｌ／ｇ、国産化学）を加え２時間攪拌後、ＡＧ１−Ｘ８レジン２００ｍｇ（１．６ｍｍｏｌ／ｇ、Ｂｉｏ−Ｒａｄ）を加え３０分間攪拌した。反応液を濾過し、濾液を減圧下濃縮した後、残渣を分取薄層クロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９／１）にて精製し、化合物６３  １３７．０ｍｇ（８９％）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；５１２［Ｍ＋１］＋
実施例６３：化合物６４
工程１
実施例１の工程２に準じて、２−（２−アセトキシメチルビニル）インドール１２．９４ｇ（６０．１２ｍｍｏｌ）をＮ−トリフェニルメチルマレイミド２３．４７ｇ（６９．１５ｍｍｏｌ）と反応させた後、実施例６に準じて、ＤＤＱ１８．１１ｇ（７９．７８ｍｍｏｌ）で処理することにより、４−アセトキシメチル−１，３−ジオキソ−１，２，３，６−テトラヒドロ−２−トリフェニルメチルピロロ［３，４−ｃ］カルバゾール１８．２８ｇ（５６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δ）；２．１３（ｓ，３Ｈ），５．４５（ｓ，２Ｈ），７．１７−７．３３（ｍ，１１Ｈ），７．４３（ｓ，１Ｈ），７．４６（ｄｄｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，７．２Ｈｚ，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．５８（ｄｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，７．３Ｈｚ，６Ｈ），８．０８（ｂｒｓ，１Ｈ），８．８０（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ）．
工程２
実施例６３の工程１で得られた４−アセトキシメチル−１，３−ジオキソ−１，２，３，６−テトラヒドロ−２−トリフェニルメチルピロロ［３，４−ｃ］カルバゾール１８．２８ｇ（３３．８２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン３００ｍＬおよびメタノール１００ｍＬの混合溶媒に溶解し、炭酸カリウム４．７０ｇ（３４．０ｍｍｏｌ）を加えて、室温で１時間攪拌した。反応液に氷水を加え、生じた沈殿を濾取した。次いで実施例６に準じて、得られた沈殿をＤＤＱ８．１３ｇ（３５．８ｍｍｏｌ）で処理することにより、１，３−ジオキソ−４−ホルミル−１，２，３，６−テトラヒドロ−２−トリフェニルメチルピロロ［３，４−ｃ］カルバゾール５．４０ｇ（３５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δ）；７．２０−７．３５（ｍ，１０Ｈ），７．４１（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．５６（ｄｄｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，７．３Ｈｚ，８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．５９（ｄｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，７．１Ｈｚ，６Ｈ），８．１４（ｓ，１Ｈ），８．４８（ｂｒｓ，１Ｈ），８．９１（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），１０．９４（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；５０７［Ｍ＋１］＋
工程３
実施例６３の工程２で得られた１，３−ジオキソ−４−ホルミル−１，２，３，６−テトラヒドロ−２−トリフェニルメチルピロロ［３，４−ｃ］カルバゾール４０５．３ｍｇ（０．８００ｍｍｏｌ）をＤＭＦ１０ｍＬに溶解し、３−ジメチルアミノプロピルクロリド塩酸塩３８６．０ｍｇ（２．４４ｍｍｏｌ）を加えた。１００℃で０．５ｍｏｌ／Ｌカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドの２−メチル−２−プロパノール溶液９．６ｍＬ（４．８ｍｍｏｌ）を３０分間かけて混合物に滴下した。さらにその温度で２０分間攪拌し、室温に冷却後氷水を加えて生じた沈殿を濾取することにより、６−（３−ジメチルアミノプロピル）−１，３−ジオキソ−４−ホルミル−１，２，３，６−テトラヒドロ−２−トリフェニルメチルピロロ［３，４−ｃ］カルバゾール１７５．７ｍｇ（３７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δ）；１．９２（ｍ，２Ｈ），２．１２（ｓ，６Ｈ），２．５０（ｍ，２Ｈ），４．６３（ｍ，２Ｈ），７．１９（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ），７．３０（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，６Ｈ），７．３７（ｍ，１Ｈ），７．５８（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，６Ｈ），７．７０（ｍ，１Ｈ），７．８１（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），８．４５（ｓ，１Ｈ），８．７８（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），１０．８９（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；５９２［Ｍ＋１］＋
工程４
実施例６３の工程３で得られた６−（３−ジメチルアミノプロピル）−１，３−ジオキソ−４−ホルミル−１，２，３，６−テトラヒドロ−２−トリフェニルメチルピロロ［３，４−ｃ］カルバゾール１６９．０ｍｇ（０．２８６ｍｍｏｌ）にトリフルオロ酢酸２ｍＬおよびジクロロメタン１ｍＬを加え、室温で２．５時間攪拌した。減圧下溶媒を留去し、残渣を水にてトリチュレーションした後、分取薄層クロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール／アンモニア水＝９／１／１）にて精製し、化合物６４のトリフルオロ酢酸塩７３．２ｍｇ（７３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δ）；２．０４（ｍ，２Ｈ），２．４１（ｓ，６Ｈ），２．６４（ｍ，２Ｈ），４．６３（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ），７．４４（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．７４（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．８４（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），８．４１（ｓ，１Ｈ），８．９６（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），１１．０５（ｓ，１Ｈ），１１．５１（ｂｒｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３５０［Ｍ＋１］＋
実施例６４：化合物６５
実施例５０に準じて、実施例６３で得られた化合物６４  １０．０ｍｇ（０．０２９ｍｍｏｌ）、ヒドロキシルアミン塩酸塩３．３ｍｇ（０．０４７ｍｍｏｌ）および１ｍｏｌ／Ｌトリエチルアミンのテトラヒドロフラン溶液０．０７５ｍＬ（０．０７５ｍｍｏｌ）から、化合物６５  ８．６ｍｇ（８２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；１．９２（ｍ，２Ｈ），２．１２（ｓ，６Ｈ），２．１４（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ），４．５３（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），７．３７（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，１Ｈ），７．６５（ｍ，１Ｈ），７．７５（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），８．２８（ｓ，１Ｈ），８．８９（ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，１Ｈ），９．１３（ｓ，１Ｈ），１１．２８（ｂｒｓ，１Ｈ），１１．７２（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３６５［Ｍ＋１］＋
実施例６５：化合物６６
工程１
実施例６３の工程３に準じて、実施例６３の工程２で得られた１，３−ジオキソ−４−ホルミル−１，２，３，６−テトラヒドロ−２−トリフェニルメチルピロロ［３，４−ｃ］カルバゾール４０５．８ｍｇ（０．８０１ｍｍｏｌ）、２−ジメチルアミノプロピルクロリド塩酸塩３７９．０ｍｇ（２．４０ｍｍｏｌ）および０．５ｍｏｌ／Ｌカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドの２−メチル−２−プロパノール溶液９．６ｍＬ（４．８ｍｍｏｌ）から、６−（２−ジメチルアミノプロピル）−１，３−ジオキソ−４−ホルミル−１，２，３，６−テトラヒドロ−２−トリフェニルメチルピロロ［３，４−ｃ］カルバゾールを３１３．２ｍｇ（６６％）および６−（２−ジメチルアミノ−１−メチルエチル）−１，３−ジオキソ−４−ホルミル−１，２，３，６−テトラヒドロ−２−トリフェニルメチルピロロ［３，４−ｃ］カルバゾール６４．９ｍｇ（１４％）を得た。
６−（２−ジメチルアミノプロピル）−１，３−ジオキソ−４−ホルミル−１，２，３，６−テトラヒドロ−２−トリフェニルメチルピロロ［３，４−ｃ］カルバゾール
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；０．９１（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），２．１４（ｓ，６Ｈ），３．０８（ｍ，１Ｈ），４．４５（ｄｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，１４．９Ｈｚ，１Ｈ），４．６７（ｄｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１４．９Ｈｚ，１Ｈ），７．１９（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），７．３０（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，６Ｈ），７．３６（ｍ，１Ｈ），７．５８（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，６Ｈ），７．６９（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．８１（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），８．３７（ｓ，１Ｈ），８．７９（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），１０．８８（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；５９２［Ｍ＋１］＋
６−（２−ジメチルアミノ−１−メチルエチル）−１，３−ジオキソ−４−ホルミル−１，２，３，６−テトラヒドロ−２−トリフェニルメチルピロロ［３，４−ｃ］カルバゾール
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；１．６２（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），２．０１（ｓ，６Ｈ），２．６５（ｄｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，１３．２Ｈｚ，１Ｈ），３．２１（ｍ，１Ｈ），５．３４（ｍ，１Ｈ），７．１９（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），７．３０（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，６Ｈ），７．３６（ｄｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．５８（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，６Ｈ），７．６６（ｄｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．９４（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），８．４１（ｂｒｓ，１Ｈ），８．８６（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），１０．８８（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；５９２［Ｍ＋１］＋
工程２
実施例６３の工程４に準じて、実施例６５の工程１で得られた６−（２−ジメチルアミノプロピル）−１，３−ジオキソ−４−ホルミル−１，２，３，６−テトラヒドロ−２−トリフェニルメチルピロロ［３，４−ｃ］カルバゾール３０７．４ｍｇ（０．５２０ｍｍｏｌ）およびトリフルオロ酢酸２ｍＬから、化合物６６のトリフルオロ酢酸塩１６１．１ｍｇ（８９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；１．１０（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，３Ｈ），２．８９（ｍ，６Ｈ），３．９０（ｂｒｍ，１Ｈ），４．８７（ｂｒｍ，２Ｈ），７．４８（ｍ，１Ｈ），７．７８（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．９４（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），８．５３（ｂｒｓ，１Ｈ），９．０１（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），１０．００（ｂｒｓ，１Ｈ），１１．０６（ｓ，１Ｈ），１１．５８（ｂｒｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３５０［Ｍ＋１］＋
実施例６６：化合物６７
実施例６３の工程４に準じて、実施例６５の工程１で得られた６−（２−ジメチルアミノ−１−メチルエチル）−１，３−ジオキソ−４−ホルミル−１，２，３，６−テトラヒドロ−２−トリフェニルメチルピロロ［３，４−ｃ］カルバゾール６４．９ｍｇ（０．１１０ｍｍｏｌ）およびトリフルオロ酢酸１ｍＬから、化合物６７のトリフルオロ酢酸塩７．１ｍｇ（１４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；１．６３（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ），２．０４（ｓ，６Ｈ），２．６７（ｄｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，１２．９Ｈｚ，１Ｈ），３．２１（ｄｄ，Ｊ＝９．９Ｈｚ，１２．９Ｈｚ，１Ｈ），５．３４（ｍ，１Ｈ），７．４１（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．６８（ｄｄｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．３Ｈｚ，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．９４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．３９（ｓ，１Ｈ），９．０６（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），１１．０３（ｓ，１Ｈ），１１．５１（ｂｒ，１Ｈ）．
実施例６７：化合物６８
実施例５０に準じて、実施例６５で得られた化合物６６  １３．５ｍｇ（０．０３９ｍｍｏｌ）、ヒドロキシルアミン塩酸塩３．５ｍｇ（０．０５０ｍｍｏｌ）および１ｍｏｌ／Ｌトリエチルアミンのテトラヒドロフラン溶液０．０７７ｍＬ（０．０７７ｍｍｏｌ）から、化合物６８  １１．２ｍｇ（８０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；０．９２（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），２．２１（ｓ，６Ｈ），３．１２（ｍ，１Ｈ），４．３６（ｄｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，１４．９Ｈｚ，１Ｈ），４．５７（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１４．９Ｈｚ，１Ｈ），７．３６（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．６４（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．２１（ｓ，１Ｈ），８．９０（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），９．１３（ｓ，１Ｈ），１１．２６（ｂｒｓ，１Ｈ），１１．７５（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３６５［Ｍ＋１］＋
実施例６８：化合物６９
実施例５０に準じて、実施例６５で得られた化合物６６  １０．３ｍｇ（０．０２９ｍｍｏｌ）、ヒドラジン水和物０．００２ｍＬから、化合物６９  ７．７ｍｇ（７２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；０．９１（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ），２．２２（ｓ，６Ｈ），３．１２（ｍ，１Ｈ），４．３１（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１４．８Ｈｚ，１Ｈ），４．５１（ｄｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，１４．８Ｈｚ，１Ｈ），７．３２（ｄｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．４８（ｓ，２Ｈ），７．５９（ｍ，１Ｈ），７．６８（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），８．１６（ｓ，１Ｈ），８．７９（ｓ，１Ｈ），８．８７（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），１１．１４（ｂｒｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３６４［Ｍ＋１］＋
実施例６９：化合物７０
実施例５０に準じて、実施例６６で得られた化合物６７  ５．１ｍｇ（０．０１５ｍｍｏｌ）、ヒドロキシルアミン塩酸塩１５．３ｍｇ（０．２２ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン０．０６１ｍＬ（０．４４ｍｍｏｌ）から、化合物７０  ３．８ｍｇ（７１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；１．６２（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ），２．０６（ｓ，６Ｈ），２．６９（ｄｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，１２．５Ｈｚ，１Ｈ），３．１５（ｄｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ，１２．５Ｈｚ，１Ｈ），５．１９（ｍ，１Ｈ），７．３５（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６１（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．８６（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），８．２８（ｓ，１Ｈ），８．９８（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），９．１３（ｓ，１Ｈ），１１．７１（ｂｒ，１Ｈ），１１．７４（ｂｒｓ，１Ｈ）．
実施例７０：化合物７１
２−ホルミルインドール６．６０ｇ（４５．５ｍｍｏｌ）をＤＭＦ４０ｍＬとトルエン８０ｍＬの混合溶媒に溶解し、氷冷下６０％水素化ナトリウム３．０ｇ（７５ｍｍｍｏｌ）を加え４５分間攪拌したのち、氷冷下２−ブロモ酢酸ベンジル１４．４ｍＬ（７５．１ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で３０分間攪拌した。反応液に水を加えクロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９／１）により精製した。次いで、得られた化合物をトルエン１００ｍＬに溶解し、トリフェニルホスホラニリデン酢酸エチル２３．５ｇ（６７．５ｍｍｏｌ）を加え、１時間加熱還流した。反応液から、減圧下溶媒を留去し、酢酸エチル３００ｍＬを加えて不溶物を濾別後、濾液を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）で精製した。次いで実施例１の工程２に準じて、上記で得られた化合物をＮ−トリフェニルメチルマレイミド８．７３ｇ（９０ｍｍｏｌ）と反応させた後、実施例６に準じて、ＤＤＱ２０．４ｇ（９０ｍｍｏｌ）で処理することにより、化合物７１  ６．０２ｇ（３０％）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４５７［Ｍ＋１］＋
実施例７１：化合物７２
実施例２７に準じて、実施例７０で得られた化合物７１  ４５６ｍｇ（１ｍｍｏｌ）から、化合物７２  ２３５ｍｇ（７０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；５．４７（ｓ，２Ｈ），７．３９（ｄｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６７（ｄｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），８．２２（ｓ，１Ｈ），８．９３（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），１１．４９（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３３９［Ｍ＋１］＋
実施例７２：化合物７３
実施例３９で得られた化合物４０  ２．０９ｇ（６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン３０ｍＬに溶解し、ピリジン３ｍＬ、２．５重量％四酸化オスミウムの２−メチル−２−プロパノール溶液１．０ｍＬおよびＮ−メチルモルホリン−Ｎ−オキシド３．５１ｇ（３０ｍｍｏｌ）を加え、アルゴン雰囲気下遮光し、室温で１２時間攪拌した。反応液に亜硫酸ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムとメタノールの混合溶媒で抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残渣をメタノールでトリチュレーションし、化合物７３  １．３３ｇ（８７％）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３８３［Ｍ＋１］＋
実施例７３：化合物７４
実施例２７に準じて、実施例７２で得られた化合物７３  １．３ｇ（１ｍｍｏｌ）から、化合物７４  １．０１ｇ（８４％）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３５５［Ｍ＋１］＋
実施例７４：化合物７５
実施例７３で得られた化合物７４  １．０１ｇ（２．８５ｍｍｏｌ）をＤＭＦ２０ｍＬに溶解し、２，２−ジメトキシプロパン０．６２ｍＬ（５．０５ｍｍｏｌ）およびｐ−トルエンスルホン酸１０８ｍｇ（０．５７ｍｍｏｌ）を加え、室温で５時間攪拌した。反応液に水を加え、析出した結晶を濾取することにより、化合物７５  １．２１ｇ（定量的）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；１．１６（ｓ，３Ｈ），１．２４（ｓ，３Ｈ），３．７２−３．７５（ｍ，１Ｈ），４．１３−４．１８（ｍ，１Ｈ），４．５１−４．７８（ｍ，３Ｈ），７．４０（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．６７（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．８５（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．９５（ｓ，１Ｈ），８．３１（ｓ，１Ｈ），８．９３（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），１１．４８（ｂｒｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３９５［Ｍ＋１］＋
実施例７５：化合物７６
実施例７４で得られた化合物７５  ８０ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）をジクロロメタン２ｍＬに懸濁させ、チオモルホリン０．０５ｍＬ、水溶性カルボジイミド８０ｍｇおよびトリエチルアミン０．０５ｍＬを加え５０℃で２時間攪拌した。室温まで冷却した後、減圧下溶媒を留去し、残渣を水でトリチュレーションし、化合物７６  ９７．８ｍｇ（定量的）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４８０［Ｍ＋１］＋
実施例７６：化合物７７
実施例６に準じて、実施例２５で得られた化合物２６  ３０ｍｇ（０．０７ｍｍｏｌ）およびＤＤＱ６０ｍｇ（０．２６ｍｍｏｌ）から化合物７７  ２０．６ｍｇ（７１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；３．４８（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，２Ｈ），３．７３−３．７９（ｍ，２Ｈ），３．８３−３．８８（ｍ，２Ｈ），５．１６（ｍ，１Ｈ），５．７５（ｓ，２Ｈ），７．１８（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），７．２２−７．３０（ｍ，３Ｈ），７．３５（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．５６（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．９３（ｓ，１Ｈ），８．８９（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），１１．１７（ｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４１３［Ｍ＋１］＋
実施例７７：化合物７８
実施例１の工程２に準じて、１−ベンジル−２−［２−（１，３−ジオキソラン−２−イル）ビニル］インドール４０ｍｇ（０．１３ｍｍｏｌ）をマレイミド２６ｍｇ（０．２６ｍｍｏｌ）と反応させた後、実施例６に準じて、ＤＤＱ６０ｍｇ（０．２６ｍｍｏｌ）で処理することにより、化合物７８  ４４．１ｍｇ（８５％）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３９９［Ｍ＋１］＋
実施例７８：化合物７９
工程１
実施例１の工程２に準じて、２−（２−ヒドロキシメチルビニル）インドール２．６６ｇ（１５．４ｍｍｏｌ）をＮ−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）マレイミド６．２５ｇ（２９．６ｍｍｏｌ）と反応させることにより、２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）−１，３−ジオキソ−４−ヒドロキシメチル−１，２，３，３ａ，４，５，６，１０ｃ−オクタヒドロピロロ［３，４−ｃ］カルバゾール１．０７ｇ（１８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δ）；０．３０および０．３８（２ｓ，計  ６Ｈ），０．７０（ｓ，９Ｈ），２．３２（ｍ，１Ｈ），２．７１（ｄｄ，Ｊ＝４．６Ｈｚ，１６．２Ｈｚ，１Ｈ），２．９２（ｍ，１Ｈ），３．５２（ｄｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ，７．６Ｈｚ，１Ｈ），３．９９−４．２７（ｍ，３Ｈ），４．３０（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），７．０９−７．１９（ｍ，２Ｈ），７．２８（ｍ，１Ｈ），７．８９（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．９６（ｂｒｓ，１Ｈ）．
工程２
実施例７８の工程１で得られた２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）−１，３−ジオキソ−４−ヒドロキシメチル−１，２，３，３ａ，４，５，６，１０ｃ−オクタヒドロピロロ［３，４−ｃ］カルバゾール７３２．９ｍｇ（１．７７６ｍｍｏｌ）をジクロロメタン１００ｍＬに溶解し、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン０．２４５ｍＬ（２．６９ｍｍｏｌ）およびｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム４７．３ｍｇ（０．１８８ｍｍｏｌ）を加えて、室温で終夜攪拌した。反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝２／１）にて精製し、２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）−１，３−ジオキソ−１，２，３，３ａ，４，５，６，１０ｃ−オクタヒドロ−４−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシメチル）ピロロ［３，４−ｃ］カルバゾール５１１．６ｍｇ（６１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δ）；０．３０および０．３７（２ｓ，計  ６Ｈ），０．６８および０．６９（２ｓ，計  ９Ｈ），１．４４−１．９１（ｂｒｍ，６Ｈ），２．４２（ｍ，１Ｈ），２．６９（ｍ，１Ｈ），２．８９（ｍ，１Ｈ），３．５４（ｍ，３Ｈ），３．８９（ｍ，１Ｈ），３．９３（ｍ，１Ｈ），４．２４（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），４．６７（ｍ，１Ｈ），７．１４（ｍ，２Ｈ），７．２９（ｍ，１Ｈ），７．９０（ｂｒｍ，２Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４６８［Ｍ］＋
工程３
実施例６に準じて、実施例７８の工程２で得られた２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）−１，３−ジオキソ−１，２，３，３ａ，４，５，６，１０ｃ−オクタヒドロ−４−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシメチル）ピロロ［３，４−ｃ］カルバゾール４５３．４ｍｇ（０．９１３ｍｍｏｌ）およびＤＤＱ６２７．０ｍｇ（２．７６２ｍｍｏｌ）から、２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）−１，３−ジオキソ−１，２，３，６−テトラヒドロ−４−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシメチル）ピロロ［３，４−ｃ］カルバゾール３８９．４ｍｇ（９２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δ）；０．５８（ｓ，６Ｈ），１．０３（ｓ，９Ｈ），１．６０−１．９８（ｍ，６Ｈ），３．６０（ｍ，１Ｈ），３．９９（ｍ，１Ｈ），４．８７（ｍ，１Ｈ），５．２５（ｄｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１４．８Ｈｚ，１Ｈ），５．４０（ｄｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１４．８Ｈｚ，１Ｈ），７．３４（ｄｄｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，６．６Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．４８（ｄｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．５５（ｄｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．９１（ｓ，１Ｈ），８．６５（ｂｒｓ，１Ｈ），９．０１（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ）．
工程４
実施例７８の工程３で得られた２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）−１，３−ジオキソ−１，２，３，６−テトラヒドロ−４−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシメチル）ピロロ［３，４−ｃ］カルバゾール２０．２ｍｇ（０．０４３ｍｍｏｌ）をＤＭＦ１ｍＬに溶解し、４−ブロモメチル安息香酸メチル１２．０ｍｇ（０．０５２ｍｍｏｌ）および炭酸カリウム１９．９ｍｇ（０．１４４ｍｍｏｌ）を加えて、室温で４時間攪拌した。反応液に氷水を加え、生じた沈殿を濾取し、この沈殿をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／アセトニトリル＝９／１）で精製し、化合物７９  ９．２ｍｇ（４３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；１．５２−１．８６（ｍ，６Ｈ），３．４９（ｍ，１Ｈ），３．８２８（ｓ，３Ｈ），３．８２９（ｍ，１Ｈ），４．８５（ｍ，１Ｈ），４．８９（ｓ，２Ｈ），５．０８（ｄ，Ｊ＝１４．３Ｈｚ，１Ｈ），５．２４（ｄ，Ｊ＝１４．３Ｈｚ，１Ｈ），７．３１（ｄｄｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，６．６Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．５１（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．５６（ｄｄｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，６．６Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．６２（ｂｒｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．９２（ｓ，１Ｈ），７．９４（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），８．８０（ｂｒｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），１２．０５（ｂｒｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４９９［Ｍ＋１］＋
実施例７９：化合物８０
実施例７８の工程４に準じて、実施例７８の工程３で得られた２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）−１，３−ジオキソ−１，２，３，６−テトラヒドロ−４−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシメチル）ピロロ［３，４−ｃ］カルバゾール２０．０ｍｇ（０．０４３ｍｍｏｌ）、２−ブロモメチルナフタレン１０．８ｍｇ（０．０４９ｍｍｏｌ）および炭酸カリウム２３．９ｍｇ（０．１７３ｍｍｏｌ）から、化合物８０  １０．８ｍｇ（５１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；１．５３−１．７９（ｍ，６Ｈ），３．５１（ｍ，１Ｈ），３．８４（ｍ，１Ｈ），４．８５（ｂｒｓ，１Ｈ），４．９９（ｓ，２Ｈ），５．０９（ｄ，Ｊ＝１４．５Ｈｚ，１Ｈ），５．２６（ｄ，Ｊ＝１４．５Ｈｚ，１Ｈ），７．３０（ｍ，１Ｈ），７．４７−７．６３（ｍ，５Ｈ），７．８８−７．９５（ｍ，５Ｈ），８．８３（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），１２．０７（ｂｒｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４９１［Ｍ＋１］＋
実施例８０：化合物８１
実施例７８の工程４に準じて、実施例７８の工程３で得られた２−（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）−１，３−ジオキソ−１，２，３，６−テトラヒドロ−４−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシメチル）ピロロ［３，４−ｃ］カルバゾール４０．２ｍｇ（０．０８７ｍｍｏｌ）、２−ニトロベンジルブロミド１７．８ｍｇ（０．０８２ｍｍｏｌ）および炭酸カリウム１１．４ｍｇ（０．０８２ｍｍｏｌ）から、化合物８１  １７．６ｍｇ（４２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；１．５０−２．００（ｍ，６Ｈ），３．６４（ｍ，１Ｈ），４．０４（ｍ，１Ｈ），４．９０（ｍ，１Ｈ），５．１９（ｄｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１４．２Ｈｚ，１Ｈ），５．２５（ｓ，２Ｈ），５．３７（ｄｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１４．２Ｈｚ，１Ｈ），７．２７−７．５９（ｍ，６Ｈ），７．８３（ｓ，１Ｈ），８．１１（ｄｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，８．１Ｈｚ，１Ｈ），８．８１（ｂｒｓ，１Ｈ），８．８９（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４８６［Ｍ＋１］＋
実施例８１：化合物８２
実施例８０で得られた化合物８１  ５．１ｍｇ（０．０１１ｍｍｏｌ）をエタノール１ｍＬとテトラヒドロフラン０．６ｍＬの混合溶媒に溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム３．０ｍｇ（０．０１２ｍｍｏｌ）を加えて、５０℃にて３時間攪拌した。反応液を濃縮後、残渣を薄層クロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９／１）にて精製し、化合物８２  ５．１ｍｇ（定量的）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；５．０９（ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，２Ｈ），５．１４（ｓ，２Ｈ），５．５６（ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ，１Ｈ），７．３０（ｄｄｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，６．８Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．６９（ｄｔ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．６Ｈｚ，１Ｈ），７．４８−７．６３（ｍ，４Ｈ），７．９８（ｓ，１Ｈ），８．１２（ｄｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，８．２Ｈｚ，１Ｈ），８．７７（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ），１２．０９（ｂｒｓ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４０２［Ｍ＋１］＋
実施例８２：化合物８３
実施例５６に準じて、実施例３９で得られた化合物４０  １０．０ｇ（２８．７ｍｍｏｌ）を９−ボラビシクロノナン二量体１４．０ｇ（５７．５ｍｍｏｌ）と反応させた後、水酸化ナトリウム水溶液および過酸化水素水で処理することにより、化合物８３  ８．５６ｇ（８２％）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３６７［Ｍ＋１］＋
実施例８３：化合物８４
実施例４７に準じて、実施例８２で得られた化合物８３  １．７４ｇ（４．７５ｍｍｏｌ）、ＤＢＵ１．１ｍＬ（７．１ｍｍｏｌ）およびビス（パラニトロフェニル）リン酸アジド２．６ｇ（７．１ｍｍｏｌ）から化合物８４  １．４７ｇ（７９％）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３９２［Ｍ＋１］＋
実施例８４：化合物８５
実施例６１に準じて、実施例８３で得られた化合物８４  １．４７ｇ（３．７６ｍｍｏｌ）を、テトラヒドロフランとエタノールの混合溶媒に溶解し、１０％パラジウム炭素７００ｍｇ存在下、接触還元を行い、化合物８５  １．３４ｇ（９８％）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３６６［Ｍ＋１］＋
実施例８５：化合物８６
実施例７０で得られた化合物７１  １．９４ｇ（４．２５ｍｍｏｌ）をＤＭＦに溶解し、１０％パラジウム炭素２１０ｍｇ存在下、水素雰囲気下室温で５時間攪拌した。反応液をセライト濾過後、濾液を減圧下濃縮し、残渣をメタノールにてトリチュレーションし、化合物８６  １．６９ｇ（定量的）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３６７［Ｍ＋１］＋
実施例８６：化合物８７
実施例８５で得られた化合物８６  １．４３ｇ（３．９１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍＬに溶解し、氷冷下ボランジメチルスルフィド錯体１．１１ｍＬ（１１．７ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で２日間攪拌した。反応液に氷水を入れ、テトラヒドロフランと酢酸エチルの混合溶媒で抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝４０／１）にて精製し、化合物８７  ７３５ｍｇ（５３％）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３５３［Ｍ＋１］＋
実施例８７：化合物８８
実施例４７に準じて、実施例８６で得られた化合物８７  １９９ｍｇ（０．５６５ｍｍｏｌ）、ＤＢＵ０．１３ｍＬ（０．８５ｍｍｏｌ）およびビス（パラニトロフェニル）リン酸アジド３１０ｍｇ（０．８４９ｍｍｏｌ）から、化合物８８  １７６ｍｇ（８３％）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３７８［Ｍ＋１］＋
実施例８８：化合物８９
実施例６１に準じて、実施例８７で得られた化合物８８  １７０ｍｇ（０．４５２ｍｍｏｌ）を、テトラヒドロフランとエタノールの混合溶媒に溶解し、１０％パラジウム炭素１０６ｍｇ存在下、接触還元を行い、化合物８９  ６７ｍｇ（４２％）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３５２［Ｍ＋１］＋
実施例８９：化合物９０
工程１
マグネシウム３１７．２ｍｇ（１３．０５ｍｍｏｌ）をエーテル５ｍＬに懸濁し、懸濁液に３−ベンジルオキシプロピルブロミド２．３０ｍＬ（１３．０ｍｍｏｌ）のエーテル（７ｍＬ）溶液を１０分間かけて滴下し、ヨウ素を一片加えて１時間加熱還流した。反応混合物を氷−メタノール浴で冷却し、Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチル−（１−メチルインドール）−２−カルボキサミド５．１ｍｇ（０．０１１ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液を加えて、０℃で２時間攪拌した。反応液に氷水を加え、６ｍｏｌ／Ｌ塩酸にて酸性とした後、エーテルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝８／１）にて精製し、２−（４−ベンジルオキシ−１−オキソブチル）−１−メチルインドール０．７９ｇ（５４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；２．０９（ｍ，２Ｈ），３．１０（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），３．５８（ｔ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，２Ｈ），４．０５（ｓ，３Ｈ），４．５０（ｓ，２Ｈ），７．１５（ｍ，１Ｈ），７．２６−７．３９（ｍ，８Ｈ），７．６９（ｄｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，８．３Ｈｚ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３０８［Ｍ＋１］＋
工程２
ジエチルホスホノ酢酸エチル５．１４ｍＬ（２５．７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１００ｍＬに溶解し、６０％水素化ナトリウム１．０ｇ（２５ｍｍｏｌ）を加えて室温で２０分間攪拌後、実施例８９の工程１で得られた２−（４−ベンジルオキシ−１−オキソブチル）−１−メチルインドールを０．７９ｇ（２．６ｍｍｏｌ）を加えて、８時間加熱還流した。反応液を室温に冷却後、水を加えてエーテルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝８／１）にて精製した。次いで実施例１の工程２に準じて、上記で得られた生成物をマレイミド３１４．３ｍｇ（３．２３８ｍｍｏｌ）と反応させた後、実施例６に準じて、ＤＤＱ５６１．７ｍｇ（２．４７４ｍｍｏｌ）で処理することにより、化合物９０  ２５８．７ｍｇ（２２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；１．４２（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），２．０８（ｍ，２Ｈ），３．３５（ｍ，２Ｈ），３．６３（ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），４．１８（ｓ，３Ｈ），４．５３（ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），４．５６（ｓ，２Ｈ），７．３１−７．４９（ｍ，７Ｈ），７．５３（ｂｒｓ，１Ｈ），７．６５（ｍ，１Ｈ），９．１２（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４７１［Ｍ＋１］＋
実施例９０：化合物９１
実施例８９で得られた化合物９０  １０８．３ｍｇ（０．２３０ｍｍｏｌ）を、酢酸エチルとエタノールの混合溶媒に溶解し、１０％パラジウム炭素５２．９ｍｇ存在下、接触還元を行い、化合物９１  ６０．４ｍｇ（６９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；１．３５（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，３Ｈ），１．７９−１．８６（ｍ，２Ｈ），３．１６−３．２４（ｍ，２Ｈ），３．５３−３．５９（ｍ，２Ｈ），４．２１（ｓ，３Ｈ），４．４３（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），４．７５（ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，１Ｈ），７．３８（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ），７．６７（ｄｄｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ，７．３Ｈｚ，８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．８１（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．９９（ｂｒｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３８１［Ｍ＋１］＋
実施例９１：化合物９２
実施例３５に準じて、実施例９０で得られた化合物９１  ０．１７ｇ（０．４５ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン３５７．０３ｍｇ（１．３６１ｍｍｏｌ）および臭素０．０６３ｍＬ（１．２ｍｍｏｌ）から、化合物９２  １８６．６ｍｇ（９４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，δ）；１．４６（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），２．３４（ｍ，２Ｈ），３．３９（ｍ，２Ｈ），３．５８（ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，２Ｈ），４．２２（ｓ，３Ｈ），４．５７（ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），７．３９−７．７０（ｍ，４Ｈ），９．１３（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４４３［Ｍ＋１］＋
実施例９２：化合物９３
実施例９１で得られた化合物９２  １４８．１ｍｇ（０．３３４ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロベンゼン１ｍＬに懸濁させ、ベンジルアミン０．０５５ｍＬ（０．５０ｍｍｏｌ）を加えて３０分間加熱還流した。室温に冷却後、ジクロロメタンおよび１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液を加え抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残渣を薄層クロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝７／１）にて精製し、化合物９３  ９６．８ｍｇ（６２％）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；４７０［Ｍ＋１］＋
実施例９３：化合物９４および化合物９５
実施例３９で得られた化合物４０  ２０ｍｇ（０．０５６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン０．５ｍＬに溶解し、−７８℃で水素化ホウ素ナトリウム２ｍｇ（０．０６ｍｍｏｌ）を加え、同温度で１．５時間攪拌した。さらに水素化ホウ素ナトリウム２１ｍｇ（０．５６ｍｍｏｌ）を加え、−１８℃まで昇温しながら１時間攪拌した後、水素化ホウ素ナトリウム２０ｍｇ（０．５３ｍｍｏｌ）を加え、室温で１５．５時間攪拌した。反応液に水およびメタノールを加え、クロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残渣を分取薄層クロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール＝９／１）で精製し、化合物９４を８．７ｍｇ（４４％）、化合物９５を１．０ｍｇ（５％）得た。
化合物９４
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；１．３８（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），４．３８（ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），４．８１（ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ，１Ｈ），５．１０（ｄ，Ｊ＝９．２Ｈｚ，１Ｈ），５．２１（ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，２Ｈ），６．０２（ｍ，１Ｈ），６．１２（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），６．３３（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），７．３０（ｄｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，７．６Ｈｚ，１Ｈ），７．５７（ｄｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，７．２Ｈｚ，１Ｈ），７．６７（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），８．２１（ｓ，１Ｈ），９．０６（ｓ，１Ｈ），９．１６（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ）．
ＡＰＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３５１［Ｍ＋１］＋
化合物９５
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；１．３２（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），４．３３（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），４．８７（ｄ，Ｊ＝１８．８Ｈｚ，１Ｈ），５．１０（ｄ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ，１Ｈ），５．１７（ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，２Ｈ），６．００（ｍ，１Ｈ），６．３２（ｄ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ，１Ｈ），６．５７（ｄ，Ｊ＝９．９Ｈｚ，１Ｈ），７．３２（ｄｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．５６（ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６８（ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，１Ｈ），７．７９（ｓ，１Ｈ），８．３４（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），８．８１（ｓ，１Ｈ）．
ＡＰＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３５１［Ｍ＋１］＋
実施例９４：化合物９６、化合物９７および化合物９８
実施例８４で得られた化合物８５  １０１ｍｇ（０．２７７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン２．５ｍＬとメタノール２．５ｍＬの混合溶媒に溶解し、−１８℃で水素化ホウ素ナトリウム５４ｍｇ（１．４ｍｍｏｌ）を加え、−１８℃で５０分間攪拌した。反応系にさらに水素化ホウ素ナトリウム５５ｍｇ（１．５ｍｍｏｌ）を加え、−１８℃で２時間攪拌した。反応液に水および２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、氷冷下１時間攪拌した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムとメタノールの混合溶媒で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残渣を分取薄層クロマトグラフィー［アンモニア含有クロロホルム（クロロホルムを２８％アンモニア水と６／１の比で混合させた後のクロロホルム層）／メタノール＝６／１］で精製し、化合物９６を２９ｍｇ（２８％）、化合物９７を１０ｍｇ（１０％）、化合物９８を１５ｍｇ（１４％）得た。
化合物９６
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；１．４８（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，３Ｈ），２．０４（ｍ，２Ｈ），２．７６（ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，２Ｈ），３．２０（ｓ，３Ｈ），４．５０（ｍ，２Ｈ），４．５５（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ），６．５０（ｍ，２Ｈ），７．３５（ｄｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，７．４Ｈｚ，１Ｈ），７．５２（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．６０（ｄｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，６．９Ｈｚ，１Ｈ），８．３２（ｓ，１Ｈ），９．２８（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３８２［Ｍ＋１］＋
化合物９７
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；１．４０（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），１．８８（ｍ，２Ｈ），２．５７（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ），４．４０（ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），４．６０（ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ），６．１２（ｂｒ，１Ｈ），６．３５（ｓ，１Ｈ），７．３０（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，７．３Ｈｚ，１Ｈ），７．６０（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，７．９Ｈｚ，１Ｈ），７．７６（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１Ｈ），８．３１（ｓ，１Ｈ），９．０６（ｓ，１Ｈ），９．１７（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３６８［Ｍ＋１］＋
化合物９８
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；１．３４（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），２．０１（ｍ，２Ｈ），２．７９（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），４．３５（ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，２Ｈ），４．６０（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ），６．３４（ｄ，Ｊ＝９．９Ｈｚ，１Ｈ），６．６０（ｄ，Ｊ＝９．９Ｈｚ，１Ｈ），６．８９（ｂｒ，２Ｈ），７．３４（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，７．３Ｈｚ，１Ｈ），７．６０（ｄｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，７．３Ｈｚ，１Ｈ），７．８０（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．９１（ｓ，１Ｈ），８．３５（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），８．８３（ｓ，１Ｈ）．
ＥＳＩ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３６８［Ｍ＋１］＋
実施例９５：化合物９９
実施例１の工程２に準じて、１−アリル−２−（２−アセチルビニル）インドール１．６１ｇ（７．１６ｍｍｏｌ）をマレイミド２．０８ｇ（２１．５ｍｍｏｌ）と反応させた後、実施例６に準じて、室温でＤＤＱ２．５０ｇ（１１．０ｍｍｏｌ）で処理することにより、化合物９９  １．２５ｇ（７１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３−ＣＤ３ＯＤ，δ）；２．８６（ｓ，３Ｈ），５．０１（ｍ，３Ｈ），５．２３（ｄｄ，Ｊ＝０．７Ｈｚ，１０．２Ｈｚ，１Ｈ），６．００（ｍ，１Ｈ），７．４１（ｄｄｄ，Ｊ＝０．９Ｈｚ，７．２Ｈｚ，８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．４８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．６５（ｍ，１Ｈ），７．６７（ｓ，１Ｈ），９．０６（ｄｄｄ，Ｊ＝０．９Ｈｚ，０．９Ｈｚ，８．１Ｈｚ，１Ｈ），９．９３（ｂｒ，１Ｈ）．
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３１９［Ｍ＋１］＋
実施例９６：化合物１００
実施例５６に準じて、実施例９５で得られた化合物９９  １．１５ｇ（３．６０ｍｍｏｌ）を９−ボラビシクロノナン二量体１．７６ｇ（７．２１ｍｍｏｌ）と反応させた後、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液および過酸化水素水で処理することにより、化合物１００  １．２１ｇ（９９％）を得た。
Ｆａｂ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３３９［Ｍ＋１］＋
実施例９７：化合物１０１
実施例９６で得られた化合物１００  １．１９ｇ（３．５２ｍｍｏｌ）を１，４−ジオキサン１００ｍＬに溶解し、ＤＤＱ１．６０ｇ（７．０５ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、２時間攪拌した。反応液を氷冷した後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた。反応液を酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム／メタノール２０／１）にて精製し、化合物１０１  ０．４０ｇ（３４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＣＤ３ＯＤ，δ）；２．０１（ｍ，２Ｈ），２．７３（ｓ，３Ｈ），３．５１（ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，２Ｈ），４．８４（ｍ，２Ｈ），７．２８（ｄｄｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，６．４Ｈｚ，８．０Ｈｚ，１Ｈ），７．５３−７．６３（ｍ，２Ｈ），７．８２（ｓ，１Ｈ），８．９１（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ）．
実施例９８：化合物１０２
実施例４７に準じて、実施例９７で得られた化合物１０１  ３９２ｍｇ（１．１７ｍｍｏｌ）、ＤＢＵ０．４４ｍＬ（２．９ｍｍｏｌ）およびビス（パラニトロフェニル）リン酸アジド１．０７ｇ（２．９３ｍｍｏｌ）から化合物１０２  ３４３ｍｇ（８１％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３６２［Ｍ＋１］＋
実施例９９：化合物１０３
実施例９８で得られた化合物１０２  ２５０ｍｇ（０．６９１ｍｍｏｌ）をエタノール２５ｍＬとテトラヒドロフラン１５ｍＬの混合溶媒に溶解し、鉛で被毒された５％パラジウム・炭酸カルシウム（リンドラー触媒）２４９ｍｇを加え、水素雰囲気下、室温で６時間攪拌した。触媒を濾別した後、減圧下溶媒を留去した。残渣をクロロホルムでトリチュレーションし、化合物１０３１５７ｍｇ（６８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；１．８５（ｍ，２Ｈ），２．５４（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），２．７３（ｓ，３Ｈ），４．５８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．３９（ｄｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，７．８Ｈｚ，１Ｈ），７．６６（ｍ，１Ｈ），７．８１（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），８．００（ｓ，１Ｈ），８．９４（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ）．
ＡＰＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３３４［Ｍ−１］−
実施例１００：化合物１０４
実施例１の工程２に準じて、１−アリル−２−（２−ブチリルビニル）インドール５７１ｍｇ（２．２５ｍｍｏｌ）をマレイミド６８９ｍｇ（６．７９ｍｍｏｌ）と反応させた後、実施例６に準じて、室温でＤＤＱ７３０ｍｇ（３．２２ｍｍｏｌ）で処理することにより、化合物１０４  ３６１ｍｇ（６５％）を得た。１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；０．９６（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，３Ｈ），１．６７（ｍ，２Ｈ），３．０５（ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ），４．９５（ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ，１Ｈ），５．１３（ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ，１Ｈ），５．２０（ｍ，２Ｈ），６．０１（ｍ，１Ｈ），７．４０（ｄｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，８．１Ｈｚ，１Ｈ），７．６６（ｄｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．７４（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），７．９４（ｓ，１Ｈ），８．９３（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ），１１．３４（ｓ，１Ｈ）．
ＡＰＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３４７［Ｍ＋１］＋
実施例１０１：化合物１０５および化合物１０６
実施例５６に準じて、実施例１００で得られた化合物１０４  ３５６ｍｇ（１．０３ｍｍｏｌ）を９−ボラビシクロノナン二量体５０２ｍｇ（２．２４ｍｍｏｌ）と反応させた後、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液および過酸化水素水で処理し、化合物１０５  １２１ｍｇ（３２％）および化合物１０６  １１７ｍｇ（３１％）を得た。
化合物１０５
ＡＰＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３６５［Ｍ＋１］＋
化合物１０６
ＡＰＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３６５［Ｍ−１］−
実施例１０２：化合物１０７
実施例４７に準じて、実施例１０１で得られた化合物１０５  １７４ｍｇ（０．４７７ｍｍｏｌ）、ＤＢＵ０．１７８ｍＬ（１．１９ｍｍｏｌ）およびビス（パラニトロフェニル）リン酸アジド４４０ｍｇ（１．２１ｍｍｏｌ）から、化合物１０７  １２２ｍｇ（６５％）を得た。
ＡＰＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３８８［Ｍ−１］−
実施例１０３：化合物１０８および化合物１０８のコハク酸塩
実施例９９に準じて、実施例１０２で得られた化合物１０７  １１９ｍｇ（０．３０７ｍｍｏｌ）を水素雰囲気下、鉛で被毒された５％パラジウム−炭酸カルシウム（リンドラー触媒）１２３ｍｇにより接触還元し、化合物１０８  ６２ｍｇ（５５％）を得た。
得られた化合物１０８  ２７ｍｇ（０．０７３ｍｍｏｌ）およびコハク酸８．６ｍｇ（０．０７３ｍｍｏｌ）をクロロホルム、メタノールおよび水の混合溶媒（８／３／０．３）１ｍＬに溶解した後、減圧下溶媒を留去した。残渣をクロロホルムでトリチュレーションし、化合物１０８のコハク酸塩２２ｍｇ（５１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；０．９８（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），１．６９（ｍ，２Ｈ），２．０４（ｍ，２Ｈ），２．３０（ｓ，７．２Ｈ），２．８２（ｍ，２Ｈ），３．０６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），４．６３（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ），７．４３（ｄｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，７．５Ｈｚ，１Ｈ），７．７０（ｄｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，８．２Ｈｚ，１Ｈ），７．８５（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１Ｈ），８．０４（ｓ，１Ｈ），８．９４（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ）．
ＡＰＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；３６２［Ｍ−１］−
実施例１０４：化合物１０９
実施例９８で得られた化合物１０２  １０ｍｇ（０．０２８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン０．５ｍＬに溶解し、テトラヒドロフラン０．５ｍＬに溶解したトリフェニルホスフィン８ｍｇ（０．０３ｍｍｏｌ）を加え、室温で３．５時間攪拌した。反応液に水０．７５ｍＬを加え、室温で３時間攪拌した。さらに反応液にテトラヒドロフラン１ｍＬに溶解したトリフェニルホスフィン１５ｍｇ（０．０５７ｍｍｏｌ）および水１．５ｍＬを加え、室温で１５．５時間攪拌した後、減圧下溶媒を留去した。残渣を分取薄層クロマトグラフィー［アンモニア含有クロロホルム（クロロホルムを２８％アンモニア水と８／１の比で混合させた後のクロロホルム層）／メタノール＝８／１］で精製し、化合物１０９  ５．４ｍｇ（６２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（２７０ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−ｄ６，δ）；２．０８（ｓ，６Ｈ），２．１０（ｍ，４Ｈ），３．２８（ｍ，４Ｈ），４．３３（ｍ，４Ｈ），７．１６（ｓ，２Ｈ），７．３３（ｍ，２Ｈ），７．４２（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．５６（ｍ，２Ｈ），８．７３（ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ）．
ＡＰＣＩ−ＭＳ（ｍ／ｚ）；６３５［Ｍ＋１］＋
実施例１０５：錠剤
常法により、次の組成からなる錠剤を作成する。
化合物６８                          ５ｍｇ
乳糖                              ６０ｍｇ
馬鈴薯デンプン                    ３０ｍｇ
ポリビニルアルコール                ２ｍｇ
ステアリン酸マグネシウム            １ｍｇ
タール色素                          微量
実施例１０６：顆粒剤
常法により、次の組成からなる顆粒剤を作成する。
化合物６６                          ５ｍｇ
乳糖                            ２８０ｍｇ
実施例１０７：シロップ剤
常法により、次の組成からなるシロップ剤を作成する。
化合物６９                          １ｍｇ
精製白糖                      ４０００ｍｇ
ｐ−ヒドロキシ安息香酸エチル      ４０ｍｇ
ｐ−ヒドロキシ安息香酸プロピル    １０ｍｇ
ストロベリーフレーバー              ０．１ｃｃ
これに水を加えて全量を１００ｃｃとする。
産業上の利用可能性
本発明により、悪性腫瘍または脳神経変性疾患の治療に有用なインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月20日(2004.12.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】  式(I)
【化１】
2003051883.tif 000029
《式中、
C環は
ベンゼン環または
シクロヘキセン環
を表し、
Xは、
−CH2−、
−CH(OH)−、
−CH(ORX)−（式中、RXは低級アルキルを表す）、
−CH(SRY)−（式中、RYは低級アルキルを表す）または
カルボニル
を表し、
Yは、
−CH(OH)−、
−CH(ORXX)−（式中、RXXは低級アルキルを表す）、
−CH(SRYY)−（式中、RYYは低級アルキルを表す）または
カルボニル
を表し、
R1およびR2は同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニルまたは
置換もしくは非置換の低級アルカノイル
を表すか、または
R1とR2が、それぞれが隣接する2つの炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成し、
R3は
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換のアラルキル、
置換もしくは非置換の低級アルカノイルまたは
置換もしくは非置換のアロイルを表すか、
R5と一緒になって、式(T)
【化２】
2003051883.tif 000030
〈式中、
CA環は
ベンゼン環または
シクロヘキセン環
を表し、
XAおよびYAは同一または異なって、
−CH2−、
−CH(OH)−、
−CH(ORXA)−（式中、RXAは低級アルキルを表す）、
−CH(SRYA)−（式中、RYAは低級アルキルを表す）または
カルボニル
を表し、
R1AおよびR2Aは同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニルまたは
置換もしくは非置換の低級アルカノイル
を表すか、または
R1AとR2Aが、それぞれが隣接する2つの炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成し、
R4Aは
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換の低級アルカノイル、
置換もしくは非置換のアロイル、
置換もしくは非置換のアリール、
置換もしくは非置換の複素環基、
−NR6R7［式中、
R6およびR7は同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
低級アルコキシカルボニルまたは
−CONR8R9（式中、
R8およびR9は同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換のアリール、
または置換もしくは非置換の複素環基
を表す）
を表す］、
−COR10｛式中、
R10は
ヒドロキシ、
低級アルコキシまたは
−NR11R12［式中、
R11およびR12は同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
シクロアルキル、
置換もしくは非置換のアラルキル、
置換もしくは非置換のアリール、
置換もしくは非置換の複素環基、
低級アルキルチオまたは
アミノ酸残基（該アミノ酸残基のアミノ基は保護基で保護されていてもよい）
を表すか、または
R11とR12が隣接する窒素原子と一緒になって複素環基を形成する］
を表す｝、
−CO(NH)NR13R14［式中、
R13およびR14は同一または異なって、
水素原子または
−COR15（式中、
R15は
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換のアリールまたは
置換もしくは非置換の複素環基
を表す）
を表すか、または
R13とR14が隣接する窒素原子と一緒になって複素環基を形成する］、
−CH＝NOR16（式中、
R16は
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換のアラルキル、
置換もしくは非置換のアリールまたは
置換もしくは非置換の複素環基
を表す）または
−CH＝NNR17R18［式中、
R17およびR18は同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換のアラルキル、
置換もしくは非置換のアリール、
置換もしくは非置換の複素環基または
−CONR11AR12A（式中、R11AおよびR12Aはそれぞれ前記R11およびR12と同義である）
を表すか、または
R17とR18が隣接する窒素原子と一緒になって複素環基を形成する］
を表し、
Q1は
置換もしくは非置換の低級アルキレン
を表し、
Q2は
水素原子または
置換もしくは非置換の低級アルキル
を表す〉
を形成し、
(A)R3が水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイルまたは置換もしくは非置換のアロイルであり、かつ
R1およびR2が同一または異なって、水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニルまたは置換もしくは非置換の低級アルカノイルであるとき、
R4は、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換の低級アルカノイル、
置換もしくは非置換のアロイル、
置換もしくは非置換のアリール、
置換もしくは非置換の複素環基、
−NR6AR7A（式中、R6AおよびR7Aはそれぞれ前記R6およびR7と同義である）、
−COR10A（式中、R10Aは前記R10と同義である）、
−CO(NH)NR13AR14A（式中、R13AおよびR14Aはそれぞれ前記R13およびR14と同義である）、
−CH=NOR16A（式中、R16Aは前記R16と同義である）または
−CH=NNR17AR18A（式中、R17AおよびR18Aはそれぞれ前記R17およびR18と同義である）
を表し、
R5は、
水素原子、
置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換の低級アルカノイル、
置換もしくは非置換のアロイル、
置換もしくは非置換のアリール、
置換もしくは非置換の複素環基、
−NR6AAR7AA（式中、R6AAおよびR7AAはそれぞれ前記R6およびR7と同義である）、
−COR10AA（式中、R10AAは前記R10と同義である）、
−CO(NH)NR13AAR14AA（式中、R13AAおよびR14AAはそれぞれ前記R13およびR14と同義である）、
−CH=NOR16AA（式中、R16AAは前記R16と同義である）または
−CH=NNR17AAR18AA（式中、R17AAおよびR18AAはそれぞれ前記R17およびR18と同義である）
を表し、
(B)R3が水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイルまたは置換もしくは非置換のアロイルであり、かつ
R1とR2が、それぞれが隣接する2つの炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成するとき、
R4は、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換の低級アルカノイル、
置換もしくは非置換のアロイル、
置換もしくは非置換の脂肪族複素環基、
オキサゾリニル、
−NR6AR7A（式中、R6AおよびR7Aはそれぞれ前記R6およびR7と同義である）、
−COR10A（式中、R10Aは前記R10と同義である）、
−CO(NH)NR13AR14A（式中、R13AおよびR14Aはそれぞれ前記R13およびR14と同義である）、
−CH＝NOR16A（式中、R16Aは前記R16と同義である）または
−CH＝NNR17AR18A（式中、Ｒ17AおよびR18Aはそれぞれ前記R17およびR18と同義である）
を表し、
R5は、
置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換の低級アルカノイル、
置換もしくは非置換のアロイル、
置換もしくは非置換の脂肪族複素環基、
オキサゾリニル、
−NR6AAR7AA（式中、R6AAおよびR7AAはそれぞれ前記R6およびR7と同義である）、
−COR10AA（式中、R10AAは前記R10と同義である）、
−CO(NH)NR13AAR14AA（式中、R13AAおよびR14AAはそれぞれ前記R13およびR14と同義である）、
−CH＝NOR16AA（式中、R16AAは前記R16と同義である）または
−CH＝NNR17AAR18AA（式中、Ｒ17AAおよびR18AAはそれぞれ前記R17およびR18と同義である）
を表し、
(C)R3とR5が一緒になって式(T)を形成するとき、
R4は
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換の低級アルカノイル、
置換もしくは非置換のアロイル、
置換もしくは非置換のアリール、
置換もしくは非置換の複素環基、
−NR6AR7A（式中、R6AおよびR7Aはそれぞれ前記R6およびR7と同義である）、
−COR10A（式中、R10Aは前記R10と同義である）、
−CO(NH)NR13AR14A（式中、R13AおよびR14Aはそれぞれ前記R13およびR14と同義である）、
−CH＝NOR16A（式中、R16Aは前記R16と同義である）または
−CH＝NNR17AR18A（式中、R17AおよびR18Aはそれぞれ前記R17およびR18と同義である）
を表す》
で表されるインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項２】  R3が水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイルまたは置換もしくは非置換のアロイルである請求項1記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項３】  R3が置換もしくは非置換の低級アルキルである請求項1記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項４】  R3とR5が一緒になって式(T)を形成する請求項1記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項５】  R1とR2が、それぞれが隣接する２つの炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成する請求項1〜4のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項６】  R1およびR2が同一または異なって、水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニルまたは置換もしくは非置換の低級アルカノイルである請求項1〜4のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項７】  C環がベンゼン環である請求項1〜6のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩。
【請求項８】  請求項1〜7のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する抗腫瘍剤。
【請求項９】  請求項1〜7のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する脳神経変性疾患治療剤。
【請求項１０】  式(IA)
【化３】
2003051883.tif 000031
《式中、
C環は
ベンゼン環または
シクロヘキセン環
を表し、
XXおよびYXは同一または異なって、
−CH2−、
−CH(OH)−、
−CH(ORX)−（式中、RXは低級アルキルを表す）、
−CH(SRY)−（式中、RYは低級アルキルを表す）または
カルボニル
を表し、
R1およびR2は同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニルまたは
置換もしくは非置換の低級アルカノイル
を表すか、または
R1とR2が、それぞれが隣接する2つの炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成し、
R3は
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換のアラルキル、
置換もしくは非置換の低級アルカノイルまたは
置換もしくは非置換のアロイルを表すか、
R5Xと一緒になって、式(T)
【化４】
2003051883.tif 000032
〈式中、
CA環は
ベンゼン環または
シクロヘキセン環
を表し、
XAおよびYAは同一または異なって、
−CH2−、
−CH(OH)−、
−CH(ORXA)−（式中、RXAは低級アルキルを表す）、
−CH(SRYA)−（式中、RYAは低級アルキルを表す）または
カルボニル
を表し、
R1AおよびR2Aは同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニルまたは
置換もしくは非置換の低級アルカノイル
を表すか、または
R1AとR2Aが、それぞれが隣接する2つの炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成し、
R4Aは
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換の低級アルカノイル、
置換もしくは非置換のアロイル、
置換もしくは非置換のアリール、
置換もしくは非置換の複素環基、
−NR6R7［式中、
R6およびR7は同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
低級アルコキシカルボニルまたは
−CONR8R9（式中、
R8およびR9は同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換のアリール、
または置換もしくは非置換の複素環基
を表す）
を表す］、
−COR10｛式中、
R10は
ヒドロキシ、
低級アルコキシまたは
−NR11R12［式中、
R11およびR12は同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
シクロアルキル、
置換もしくは非置換のアラルキル、
置換もしくは非置換のアリール、
置換もしくは非置換の複素環基、
低級アルキルチオまたは
アミノ酸残基（該アミノ酸残基のアミノ基は保護基で保護されていてもよい）
を表すか、または
R11とR12が隣接する窒素原子と一緒になって複素環基を形成する］
を表す｝、
−CO(NH)NR13R14［式中、
R13およびR14は同一または異なって、
水素原子または
−COR15（式中、
R15は
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換のアリールまたは
置換もしくは非置換の複素環基
を表す）
を表すか、または
R13とR14が隣接する窒素原子と一緒になって複素環基を形成する］、
−CH＝NOR16（式中、
R16は
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換のアラルキル、
置換もしくは非置換のアリールまたは
置換もしくは非置換の複素環基
を表す）または
−CH＝NNR17R18［式中、
R17およびR18は同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換のアラルキル、
置換もしくは非置換のアリール、
置換もしくは非置換の複素環基または
−CONR11AR12A（式中、R11AおよびR12Aはそれぞれ前記R11およびR12と同義である）
を表すか、または
R17とR18が隣接する窒素原子と一緒になって複素環基を形成する］
を表し、
Q1は
置換もしくは非置換の低級アルキレン
を表し、
Q2は
水素原子または
置換もしくは非置換の低級アルキル
を表す〉
を形成し、
(A)R3が水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイルまたは置換もしくは非置換のアロイルであり、かつ
R1およびR2が同一または異なって、水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニルまたは置換もしくは非置換の低級アルカノイルであるとき、
R4XおよびR5Xは同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換の低級アルカノイル、
置換もしくは非置換のアロイル、
置換もしくは非置換のアリール、
置換もしくは非置換の複素環基、
−NR6AR7A（式中、R6AおよびR7Aはそれぞれ前記R6およびR7と同義である）、
−COR10A（式中、R10Aは前記R10と同義である）、
−CO(NH)NR13AR14A（式中、R13AおよびR14Aはそれぞれ前記R13およびR14と同義である）、
−CH=NOR16A（式中、R16Aは前記R16と同義である）または
−CH=NNR17AR18A（式中、R17AおよびR18Aはそれぞれ前記R17およびR18と同義である）
を表し、
(B)R3が水素原子、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換のアラルキル、置換もしくは非置換の低級アルカノイルまたは置換もしくは非置換のアロイルであり、かつ
R1とR2が、それぞれが隣接する2つの炭素原子と一緒になってベンゼン環を形成するとき、
R4XおよびR5Xは同一または異なって、
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換の低級アルカノイル、
置換もしくは非置換のアロイル、
置換もしくは非置換の脂肪族複素環基、
オキサゾリニル、
−NR6AR7A（式中、R6AおよびR7Aはそれぞれ前記R6およびR7と同義である）、
−COR10A（式中、R10Aは前記R10と同義である）、
−CO(NH)NR13AR14A（式中、R13AおよびR14Aはそれぞれ前記R13およびR14と同義である）、
−CH＝NOR16A（式中、R16Aは前記R16と同義である）または
−CH＝NNR17AR18A（式中、Ｒ17AおよびR18Aはそれぞれ前記R17およびR18と同義である）
を表し、
(C)R3とR5Xが一緒になって式(T)を形成するとき、
R4Xは
水素原子、
置換もしくは非置換の低級アルキル、
置換もしくは非置換の低級アルケニル、
置換もしくは非置換の低級アルカノイル、
置換もしくは非置換のアロイル、
置換もしくは非置換のアリール、
置換もしくは非置換の複素環基、
−NR6AR7A（式中、R6AおよびR7Aはそれぞれ前記R6およびR7と同義である）、
−COR10A（式中、R10Aは前記R10と同義である）、
−CO(NH)NR13AR14A（式中、R13AおよびR14Aはそれぞれ前記R13およびR14と同義である）、
−CH＝NOR16A（式中、R16Aは前記R16と同義である）または
−CH＝NNR17AR18A（式中、R17AおよびR18Aはそれぞれ前記R17およびR18と同義である）
を表す》
で表されるインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する抗腫瘍剤の活性増強剤。
【請求項１１】  請求項1〜7のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する抗腫瘍剤の活性増強剤。
【請求項１２】  請求項１０に記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有するサイクリン依存性キナーゼ2（CDK2）阻害剤。
【請求項１３】  請求項1〜7のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有するサイクリン依存性キナーゼ2（CDK2）阻害剤。
【請求項１４】  請求項１０に記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有するG2期および／またはS期における集積作用解除剤。
【請求項１５】  請求項1〜7のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有するG2期および／またはS期における集積作用解除剤。
【請求項１６】  請求項1〜7のいずれかに記載のインドール誘導体またはその薬理学的に許容される塩を有効成分として含有する医薬。
【国際調査報告】
2003051883.tif 000033
2003051883.tif 000034
2003051883.tif 000035
2003051883.tif 000036
2003051883.tif 000037
2003051883.tif 000038
2003051883.tif 000039
2003051883.tif 000040