(57)【要約】有機エレクトロルミネッセンス素子の光取り出し効率を改善できる透明性基板、及びこれを用いる実用的な有機エレクトロルミネッセンス素子が提供される。有機エレクトロルミネッセンス素子の透明性基板において、透明性基板の少なくとも一方の表面上に、発光素子からの発光に対して反射、屈折角に乱れを生じさせる領域を設けたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子用基板、及び該基板を有する有機エレクトロルミネッセンス素子。
2003026357.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機エレクトロルミネッセンス素子用の透明性基板において、透明性基板の少なくとも一方の表面上に、発光素子からの発光に対して反射、屈折角に乱れを生じさせる領域を設けたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子用基板。
【請求項２】
反射、屈折角に乱れを生じさせる領域が、微粒子とバインダーを含む散乱層からなり、かつ微粒子の屈折率とバインダーの屈折率が異なるものよりなる請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用基板。
【請求項３】
微粒子の屈折率をバインダーの屈折率で割った相対屈折率ｎが、０．５＜ｎ＜２．０を満足する請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用基板。
【請求項４】
バインダーの屈折率が微粒子の屈折率より高い請求項２又は３に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用基板。
【請求項５】
バインダーの屈折率が微粒子の屈折率より低い請求項２又は３に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用基板。
【請求項６】
微粒子が、金属、無機酸化物、半導体、又は有機樹脂からなり、かつ直径０．０１〜１０μｍの粒子である請求項２〜５のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用基板。
【請求項７】
バインダーが、有機高分子または無機ゾルゲル材料である請求項２〜６のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用基板。
【請求項８】
透明性基板が、シリカガラス、ソーダガラス又は有機フィルムである請求項１〜７のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用透明性基板。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用基板を有する有機エレクトロルミネッセンス素子。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子用基板およびこれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子に関する。
背景技術
有機エレクトロルミネッセンス素子は近年のフラットディスプレイの需要の高まりから新たに注目されている素子である。素子の構成は、ガラス基板上に形成した陽極、ホール輸送層、電子輸送性発光層、陰極のものがＴａｎｇとＶａｎｓｌｙｋｅにより提案されている（Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．，５１，９１３，１９８７）。この他には、ガラス基板のかわりにフィルム基板を用いて軽量化やかとう性を実現した素子（Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  ＦＰＤ  Ｗｏｒｌｄ  ２００１，６，１５２）、前記素子構成のうち陰極に透明性材料を用い、さらにその上に透明性フィルムを設置して陰極側から発光を取り出すトップエミッション方式を採用した素子（Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  ＦＰＤ  Ｗｏｒｌｄ  ２００１，４，１３６）などが知られている。有機エレクトロルミネッセンス素子は、従来フラットパネルディスプレイとして広く用いられてきた液晶素子に比較して優れた点を有する。すなわち自発光素子であるがゆえに視野角依存性が少ないこと、消費電力が小さいこと、きわめて薄い素子にできることである。
しかしながらフラットディスプレイとするにはいまだ解決すべき問題点も多い。そのうち一つは素子の発光寿命が短いことである。
これに対しては現在、素子の構成要素のうち発光層材料を改良することによって１万時間程度の寿命が達成されているが、フラットディスプレイにこの素子を適用するためにはまだ満足できる寿命ではない。寿命が短いとフラットディスプレイに静止画を長時間表示した場合、点灯画素と非点灯画素の間に輝度の差が生じ残像として視認されるという、残像現象があるためである。発光寿命に関係する要因は多々あるが、発光輝度を高めるためにより高い電圧を素子に印加すると、より寿命が短くなることが知られている。
しかしながら有機エレクトロルミネッセンス素子を用いたディスプレイの発光輝度は、低電圧の印加状態では満足できるものではなく、昼間室外でのディスプレイの視認性を確保するためには素子に高い電圧を印加して発光輝度を高める必要がある。このように有機エレクトロルミネッセンス素子には、寿命を長くしようとすれば発光輝度を弱くせねばならず、視認性を高めようとすれば寿命が短くなるというジレンマに陥っていた。
この問題を解決するために、従来より有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層材料の改良が精力的に進められてきた。すなわちより低い電圧印加で高い発光輝度を実現するため、内部エネルギー効率の高い発光層材料を開発するものである。
一方、Ｔｈｏｍｐｓｏｎらによれば有機エレクトロルミネッセンス素子の発光効率を示す外部エネルギー効率は、素子の内部エネルギー効率と光取り出し効率との積であらわせる（Ｏｐｔｉｃｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ  ２２，６，３９６，１９９７）。すなわち有機エレクトロルミネッセンス素子の発光効率を向上するためには、内部エネルギー効率を向上させるほかに、光取り出し効率も向上させる必要がある。
光取り出し効率とは、素子の発光に対して素子の透明性基板正面から大気中に放出される発光の割合である。すなわち発光層での発光が大気中に放出されるには、幾つかの屈折率の異なる媒質の界面を通過する必要があるが、スネルの屈折の法則に従えば、各界面にその臨界角以上の角度で入射した光は、界面で全反射されて層中にを導波し消失するか層側面より放出され、その分だけ素子正面からの光放出が減少する。
前記Ｔｈｏｍｐｓｏｎらによれば有機エレクトロルミネッセンス素子の光取り出し効率は約０．１７５であり、発光層で発生した光のおよそ１８％は素子外に取り出されるが、残り約８２％は素子中に封じ込められ消失するか素子側面から放出している。
このため、光取り出し効率を向上することが重要な課題であり、従来より様々な試みが行われている。透明電極や発光層に粒界を形成し可視光を散乱させるもの（特公平３−１８３２０号公報）、透明性基板として一方の表面が粗面化されたガラス基板を用いて発光を散乱させるもの（特開昭６１−１５６６９１号公報）、電極と有機層との界面付近に散乱領域を設けたもの（特開平０９−１２９３７５号公報）が開示されている。しかしながらこれらの試みは全て素子各層の膜厚を乱す恐れがあり、絶縁破壊および素子発光の不均一性を生じる原因となるため、素子の量産性の観点からは満足できるものではなかった。したがって有機エレクトロルミネッセンス素子の光取り出し効率が低いという問題点は依然解決されていない。
本発明は上述の背景に基づきなされてものであり、その目的は有機エレクトロルミネッセンス素子の光取り出し効率を改善することのできる透明性基板を提供し、これを用いることにより実用的な有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することにある。
発明の開示
本発明は、以下の特徴を有する有機エレクトロルミネッセンス素子用透明性基板、及びこれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
（１）有機エレクトロルミネッセンス素子用透明性基板において、透明性基板の少なくとも一方の表面上に、発光素子からの発光に対して反射、屈折角に乱れを生じさせる領域を設けたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子用基板。
（２）反射、屈折角に乱れを生じさせる領域が、微粒子とバインダーを含む散乱層からなり、かつ微粒子の屈折率とバインダーの屈折率が異なるものよりなる上記（１）に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用基板。
（３）微粒子の屈折率をバインダーの屈折率で割った相対屈折率ｎが、０．５＜ｎ＜２．０を満足する上記（２）に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用基板。
（４）バインダーと微粒子の相対屈折率ｎが好ましくは０．５＜ｎ＜０．９１の範囲であるバインダーの屈折率が微粒子より高い上記（２）又は（３）に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用基板。
（５）バインダーと微粒子の相対屈折率ｎが、好ましくは１．０９＜ｎ＜２．０の範囲であるバインダーの屈折率が微粒子より低い上記（２）又は（３）に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用基板。
（６）微粒子が、金属、無機酸化物、半導体、又は有機樹脂からなり、かつ直径０．０１〜１０μｍの粒子である上記（２）〜（５）のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用基板。
（７）バインダーが、有機高分子または無機ゾルゲル材料である上記（２）〜（６）のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用基板。
（８）透明性基板が、シリカガラス、ソーダガラス又は有機フィルムである上記（１）〜（７）のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用透明性基板。
（９）上記（１）〜（８）のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用基板を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
発明を実施するための最良の形態
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子用透明性基板はガラス、有機フィルムなど透明性基体の両面または一方に、発光素子からの発光に対して反射・屈折角に乱れを生じさせる領域として、表面が平滑な散乱層を設けたことを特徴とする。散乱層は基体表面を粗面化したのち透明性樹脂などで平坦化したものや基体表面に散乱性の構造物を設けること、または多孔質の層を設けることができるが、量産性や表面平滑性を考慮すると好ましくはこの散乱層は微粒子をバインダーに分散させ、塗布したものが用いられる。
本発明の透明性基板を用いた有機エレクトロルミネッセンス素子の例を図１に示す。図１の構成の素子は、通常本発明による透明性基板９の上に透明電極２、発光層を含む有機層３、電極４、を順次堆積してゆくことにより作成される。これらの堆積層の厚みは非常に薄く、透明性基板表面が粗面であると絶縁破壊をおこす恐れがある。したがって本発明による透明性基板９の素子側表面は充分に平滑化されている必要がある。
また、トップエミッション方式の素子構成にも本発明は適用でき、この方式には発光素子を別の基板に形成した後に本発明による透明性基板を組み合わせて作成される。
有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層より発生した光は、素子内の各層を透過して透明性基板に達する。図２に示すように従来の透明性基板１を用いた場合は透明電極２と透明性基板１の間で反射・屈折が起こり臨界角θ１以上の角度で入射した光は全反射される。全反射された光５はもう一方の電極表面３で再び全反射され、これを繰り返すことによって光は素子内を導波し消失する。臨界角θ１以下の角度で入射し透明性基板内に入射した光であっても、透明性基板１と大気界面において再び反射・屈折が起こり、臨界角θ２以上の角度で入射した光６は全反射されて、透明性基板内を導波してしまい基板正面より光をとりだすことはできない。すなわち従来の透明性基板を用いている限りにおいては、各界面において全反射臨界角θ１、θ２より小さい入射角度を持つ光７しか素子正面より取り出すことは出来なかった。
一方、図３に示すように、本発明による反射・屈折角に乱れを生じさせる領域８ａ、８ｂを一方の面もしくは両面に備えた透明性基板９を用いると、入射光はこの領域８ａ、８ｂで多方向性となる。このため透明性基板との界面に臨界角θ１およびθ２以上の角度で入射した光１０、１１であっても、透明性基板正面より取り出すことが出来るようになる。さらに素子内に閉じ込められた光であっても、散乱領域８ａ、８ｂのために導波が継続されなくなり、最終的にはほとんどの光を透明性基板正面から取り出すことができる。したがって本発明による透明性基板９を用いるだけで通常の有機エレクトロルミネッセンス素子の外部発光効率を大幅に向上させることができ、ひいては先述のように有機エレクトロルミネッセンス素子の発光輝度と寿命の両立を達成することが可能となる。
本発明に用いる透明性基板とはシリカガラス、ソーダガラス、有機フィルムなどの透明な基体である。表面にカラーフィルタやブラックマトリクスが形成されているものでもよい。この透明性基板の一方もしくは両方の表面に、入射光に対して反射・屈折角に乱れを生じさせうる領域（以下散乱層ともいう）を形成する。
詳述すれば、この領域は少なくとも２つの相互に屈折率の異なる物質からなる領域であり、かつ上記反射・屈折角に乱れを生じせしめるために相互の物質界面が複雑に乱れたものである。モアレなど回折現象を回避するためには該領域の物質界面の乱れは微視的に規則性を持たないものであることが望ましい。また素子の光取り出し効率をより向上させるためには、該領域の後方散乱を減少させ、より前方散乱にした方がよい。これを実現させるものとしては基体表面を粗面化したのち透明性樹脂などで平坦化したものや基体表面に散乱性の構造物を設けること、または多孔質の層を設けることやこれら複数の組み合わせなどが適用できる。しかし、量産性や表面平滑性および前方散乱性を考慮すると、この散乱層は微粒子１００重量部に対してバインダーを好ましくは０．０１〜１００重量部、特に好ましくは０．１〜１０重量部の比率で分散させたものが用いられる。
ここで用いられる微粒子とは、直径０．０１〜１０μｍの球形や板状などの粒子である。その材質は有機物、無機物を問わないがバインダー中での分散性や透明性基板への塗布性、屈折率や透明性などを考慮して決定される。また微粒子は単独でも２種以上の混合でも使用できる。２種以上の混合の場合には、屈折率の異なる２種以上の微粒子であってもよく、単に粒子径の異なる２種以上の微粒子であってもよい。
微粒子としては金、銀、銅、クロム、ニッケル、亜鉛、鉄、アンチモン、白金及びロジウムなど金属微粒子、ＡｇＣｌ、ＡｇＢｒ、ＡｇＩ、ＣｓＩ、ＣｓＢｒ、ＣｓＩなどの金属塩、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＡｌＡｓ、ＡｌＳｂ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＧａＳｂ、ＩｎＰ、ＩｎＡｓ、ＩｎＳｂ、ＳｉＣ、ＰｂＳ、ＨｇＳ、Ｓｉ及びＧｅなど半導体微粒子、ＴｉＯ２、ＳｒＴｉＯ３、ＳｉＯ２、ＺｎＯ、ＭｇＯ、Ａｇ２Ｏ、ＣｕＯ、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＺｒＯ２、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、ＢａＯ、ＣａＯ、ＰｂＯ、Ｐ２Ｏ、Ｃｓ２Ｏ、Ｌａ２Ｏ３、ＳｒＯ、ＷＯ３、ＣｄＯ及びＴａ２Ｏ５など無機酸化物微粒子及びこれらの混合物無機系の微粒子、ポリアクリレート、ポリメタアクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、ベンゾグアナミン、シリコーン樹脂及びメラミン樹脂等の有機系の微粒子が用いられうるが、好ましくはシリカ微粒子、ポリアクリレート微粒子、又はポリスチレン微粒子が適用される。
またバインダーとは、前記微粒子をよく分散させ、かつ透明性基板への塗布性に優れるものである。その材質は有機物、無機物を問わないが微粒子の分散性や透明性基板への塗布性、屈折率や透明性などを考慮して決定される。また、熱可塑性、熱硬化性、紫外線硬化性のバインダーを使用することもできる。
バインダーとしては、ウレタン系物質、アクリル系物質、アクリル−ウレタン共重合物質、エポキシ樹脂系物質、メラミン樹脂系物質、ポリビニルアセタール系物質、ポリビニルアルコール系物質、ポリカーボネート樹脂系及び金属アルコキシドの加水分解物であるゾルゲル材料等が用いられる。なかでも、アルコキシシランの加水分解物であるゾルゲル材料、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール及びポリカーボネート樹脂等が好ましい。
バインダーの屈折率に対する微粒子の相対屈折率（球状微粒子の屈折率を透明高分子バインダーの屈折率で割った値で、以下単に相対屈折率という）をｎとしたときに、この相対屈折率ｎが、好ましくは、０．５＜ｎ＜２．０、特に好ましくは、０．５＜ｎ＜０．９１または１．０９＜ｎ＜２．０であることが好適である。
また、該散乱層全体の屈折率は、大気側の散乱層は使用する透明性基板の屈折率に近い方がよく、素子側の散乱層は透明性電極の屈折率により近いほうがよい。好ましくは散乱層全体の屈折率ｎ′が１．２０＜ｎ′＜２．００である。
また、該散乱層には、この他に分散剤、レベリング剤、着色剤、可塑剤、架橋材、感光材、増感剤、界面活性剤等を必要に応じ添加することができる。
ところで粒子は必ずしも層内部にのみ存在するわけではなく、表面付近や表面から突出する粒子が存在する場合もある。この表面から突出した粒子は、表面に凹凸を形成し、有機エレクトロルミネッセンス素子の絶縁破壊の原因になってしまう。このような場合は該散乱層表面を研磨、プレス、透明性平坦化膜の塗布などの方法によって平滑化しなければならない。
次に、本発明による有機エレクトロルミネッセンス素子用透明性基板の製造方法の一例について説明する。
まず、前述のバインダーを溶剤等で適当な粘度に調整した後、前述の微粒子を、攪拌、サンドミル、ジェットミル等の方法で分散し、塗布液を作製する。
次に、透明性基板の片面に該塗布液をスピンコーターや印刷等の方法で、所定の膜厚になるように塗布後、塗布液に応じて熱風乾燥、ＵＶ硬化等の方法で乾燥、硬化させて有機エレクトロルミネッセンス素子用透明性基板を形成する。
また透明性基板の両面に散乱層を形成する場合には、この他にディップ法を用いることができる。
この後、散乱層を形成した透明性基板を必要に応じ研磨、プレス、透明性平坦化膜の塗布などの方法によって平滑化してもよい。
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、これらは例示的なものであって、本発明をなんら限定するものではない。
実施例１
還流管を備えつけた反応フラスコにアルコキシシランとして、テトラエトキシシラン２０．８ｇと、溶媒としてエタノールを７０．１ｇを入れ、マグネチックスターラーを用いて攪拌、混合した。そこへ、触媒として蓚酸０．１ｇを水９ｇに溶解したものを添加し混合した。混合後、液温は約１０℃発熱した。そのまま３０分間攪拌を続け、次いで７６℃で６０分間加温し、その後、室温まで冷却して、固形分濃度がＳｉＯ２として６質量％含まれる溶液を作成した。この溶液をシリコン基板に塗布、焼成し、屈折率を測定したところ、１．３２であった。
上記の溶液１０ｇと、粒子径８０ｎｍでＳｉＯ２として３０質量％のシリカ粒子（屈折率は１．３５）を含有しＩＰＡ（イソプロパノール）を分散媒とするシリカゾル１３．３ｇと、溶媒としてエタノール３４．２ｇ及びブチルセロソルブ５７．５ｇをマグネチックスターラーを用いて混合し、塗布液とした。この塗布液の固形分質量比は、６／４０であった。
このようにして得られた塗布液を、波長５５０ｎｍの透過率が９１％の厚さ１．１ｍｍのソーダライムガラス基板上にスピンコーターを用いて成膜し、８０℃のホットプレート上で５分間乾燥させた後、３００℃のクリンオーブンで６０分間加熱して、膜厚約１０００Å（オングストローム）の硬化被膜とした。そして、波長５５０ｎｍで分光光度計（島津製作所製、Ｗ−１６０型）により透過率の測定を行ったところ９４．８％であった。
同様の方法によりシリコン基板上に膜厚約１０００Å（オングストローム）の硬化被膜を作成し、屈折率の測定を行ったところ１．３２であった。屈折率はエリプソメーター（（株）溝尻光学工業所製）により測定した。
実施例２
ポリビニルブチラール７００ｇをｎ−ブタノール６３０ｇに溶解した後、メタノール４００ｇ、水１００ｇ、さらに架橋剤としてテトラメトキシシラン５ｇを添加して均一になるまで撹拌した。次に、これに硬化触媒としてＰ−トルエンスルホン酸１ｇ、及び界面活性剤１ｇを添加して撹拌した。バインダーのみの屈折率は１．４０であった。そして、粒子径１μｍの塩化銀微粒子（屈折率２．０９）を分散させた水溶液（固形分濃度０．１質量％）２０ｇを添加して、さらに１時間撹拌することによりコート液を作製した。低圧水銀ランプの紫外線を１分間照射して前処理を行ったアクリル製基板に前記コート液をディップコート法により引き上げ速度２ｍｍ／秒にて塗布した。１００℃で１５分間の加熱処理を施すことにより硬化させて本実施例の散乱層付き透明性基板を作製した。
実施例３
ビスフェノールＡ型ポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量４万、屈折率１．６５）２４０ｇと塩化メチレン６０ｇとを溶解し混合した。この混合溶液８０体積％とアクリル樹脂製微粒子（綜研化学（株）製  数平均粒径：０．５μｍ、屈折率１．４５）２０体積％とを混合し、超音波により２時間分散させた。これをガラス基板上にスピンコート（８４０ｒｐｍ；１０秒）し、オーブンを用いて１００℃で１０分プリベーク後、２３０℃で２０分ポストベークを行い、本実施例の散乱層付き透明性基板を作製した。
実施例４
上記実施例１〜３より得られた散乱層を有する透明性基板、および散乱層を形成していない透明性基板を比較例として用いて、それぞれ有機エレクトロルミネッセンス素子を作成した。それぞれの透明性基板の散乱層の上に、透明性電極としてスパッタ法によりインジウムチンオキサイド（ＩＴＯ）を１００ｎｍの厚みで成膜した。このときのシート抵抗値は２０Ω／ｃｍ２であった。この表面にホール輸送層材料としては本出願人が先に出願した特願２０００−３４１７７５号に記載のオリゴアニリン誘導体（アニリン５量体をＤＭＦに溶解させそれに３倍モル当量の５−スルホサリチルをドーピングしたもの）を７０ｎｍの厚みで、発光層としてはＮ，Ｎ’−ビス（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１，１’−ビスフェニル−４，４’−ジアミン（α−ＮＰＤ）を５０ｎｍの厚みで、電子輸送層としてはトリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム（Ａｌｑ３）を５０ｎｍの厚みで順次形成した。続いて陰極としてマグネシウム−銀合金を蒸着し形成した。このときの陰極の膜厚は２００ｎｍとした。
このようにして作成した有機エレクトロルミネッセンス素子の両電極に電圧を１０Ｖ印加し、透明性基板正面からの発光量を測定し、比較例の測定値を１として実施例１と実施例２の透明性基板より作成した素子の測定値と比較した。
結果、実施例１の素子では１．１、実施例２の素子では１．５、実施例３の素子では１．３となり、このことから本発明による透明性基板を用いることで従来構造の有機エレクトロルミネッセンス素子の面発光輝度を大幅に上昇させることを確認するに至った。
産業上の利用可能性
以上、詳述したようにこの発明の有機エレクトロルミネッセンス素子用基板は量産性に優れ、かつこの基板を用いて素子を構成することにより、発光の不均一性や絶縁破壊等を生じることなく、光の外部取り出し効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
図１：実施例４にて作成した透明性基板を有機エレクトロルミネッセンス素子に適用したものを示した断面図。
図２：従来の透明性基板を用いた場合の発光層からの光の内部閉じ込めを示したものを示した断面図。
図３：実施例４にて作成した透明性基板を用いた場合の発光層からの光の、散乱および基板正面からの取り出しを示したものを示した断面図。
符号の説明
１．透明性基板
２．透明性電極
３．発光層を含む有機層
４．電極
５．透明性電極と透明性基板との界面で反射し素子内を導波する光
６．透明性基板と大気との界面で反射し素子内を導波する光
７．界面で全反射せず、素子より取り出される光
８ａ．入射光の反射、屈折角に乱れを生じさせる領域
８ｂ．入射光の反射、屈折角に乱れを生じさせる領域
９．本発明による有機エレクトロルミネッセンス素子用透明性基板
１０．透明性基板の発光層側において反射、屈折角に乱れが生じたために素子外へ取り出された光
１１．透明性基板の大気側において反射、屈折角に乱れが生じたために素子外へ取り出された光
θ１．透明性電極と透明性基板との界面の全反射角
θ２．透明性基板と大気との界面の全反射角
【図１】
2003026357.tif 000003
【図２】
2003026357.tif 000004
【図３】
2003026357.tif 000005
【国際調査報告】
2003026357.tif 000006
2003026357.tif 000007