【事件の表示】
　特願２００８−２０８７０６「光学積層体」拒絶査定不服審判事件〔平成２１年　４月　２日出願公開、特開２００９−　６９８２０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯
　本願は、平成２０年８月１３日（優先権主張平成１９年８月２２日）の出願であって、平成２３年１１月１４日に手続補正がなされ、平成２４年８月３１日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年１２月４日に拒絶査定不服審判が請求されたものである。
　
２　本願発明
　本願の請求項１ないし１１に係る発明は、平成２３年１１月１４日に補正された特許請求の範囲の請求項１ないし１１に記載された事項によって特定されるものであるところ、その請求項１に係る発明は、平成２３年１１月１４日付け補正後の明細書、特許請求の範囲及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりの次のものと認める。
　
「透光性基体上に、透光性樹脂微粒子を含む放射線硬化型樹脂層が１層積層されている光学積層体において、前記光学積層体は、次式（１）〜（４）を充足する内部ヘイズ値（Ｘ）と全ヘイズ値（Ｙ）を有すると共に、前記樹脂層の最表面に平均傾斜角が０．４°〜１．６°である微細な凹凸形状を有し、該透光性微粒子の粒径（μｍ）を放射線硬化型樹脂層の膜厚（μｍ）で除した値が１．０未満であることを特徴とする光学積層体。
Ｙ＞Ｘ　　　　　（１）
Ｙ≦Ｘ＋７　　　（２）
Ｘ≦１５　　　　（３）
Ｘ≧１　　　　　（４）」（以下「本願発明」という。）
　
３　刊行物の記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された「本願の出願前に頒布された刊行物である国際公開第２００６／０８８２０４号（以下「引用例」という。）」には、図とともに次の事項が記載されている。
（１）「技術分野
［０００２］　本発明は、ＣＲＴ、液晶パネル等のディスプレイに用いられる防眩性光学積層体に関する。
背景技術
［０００３］　陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、または液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のような画像表示装置において、外光の反射または像の写り込みによるコントラストの低下、視認性の低下を防止することが要求される。このため、光の散乱原理または光学干渉の原理を用いて像の写り込みまたは反射率を低減する目的で画像表示装置の最表面に、反射防止積層体が設けられることが一般的である。
［０００４］　従来、画像表示装置、例えば、液晶ディスプレイにあっては、光学特性を調整し優れた画像表示を実現するために、反射防止積層体の一つとして防眩性積層体を使用することが知られている。防眩性積層体は、画像表示装置内における外光の反射または像の写り込みによる視認性の低下を防止することを目的として利用されるものである。防眩性積層体は、一般に基材の上に、凹凸形状を有した防眩層を形成することにより実現される。従来、画像表示装置、例えば、液晶ディスプレイにあっては、光学特性を調整し優れた画像表示を実現するために、反射防止積層体の一つとして防眩性積層体を使用することが知られている。防眩性積層体は、画像表示装置内における外光の反射または像の写り込みによる視認性の低下を防止することを目的として利用されるものである。防眩性積層体は、様々な粒子を添加した組成物を硬化して凹凸形状としたもの、または、エンボス賦型処理を施すことにより凹凸形状としたもの、として調整される（特許公開２００４−３４１０７０）。
［０００５］　近年、パネル解像度の高精細化の要求に伴い、防眩層の凹凸形状は微細なものとなってきている。従って、このような構成を採用する防眩性積層体は、ブロードで大きいカーブを描く凹凸形状のものは高精細化に不向きとされ採用されることはなかった。他方、パネル解像度の高精細化に伴い形成される凹凸形状の微細化は、パネル解像度の高精細化の要求に対応することができるものの、ディスプレイ表面への外光の反射光に対し、画像表示面が白くみえたり（白化）、コントラストが低下する等の指摘がしばしばなされていた。また、このような防眩性積層体が、ノートパソコン等の画像表示表面に使用された場合、ある程度十分な光学特性を発揮することが可能となるが、ディスプレイ内部におけるバックライト背面からの透過光が、パネル最表面に形成された防眩性積層体の凹凸形状面を透過するとき、その凹凸形状が微細なレンズの役割をして、表示される画素等を乱してしまう状態「ギラツキ」が生じ易く、防眩性積層体自体の効果を発揮し難くなっていることがあった。特に、パネル解像度の高精細化に伴い、この「ギラツキ」が生じ易く、これを有効に防止することが必要とされている。
［０００６］　この「ギラツキ」を解消する方法として、鮮明度を高める目的で表面凹凸を緻密にし、かつ、防眩層を形成する樹脂と屈折率差のある散乱粒子を添加することにより防眩性積層体に内部散乱効果を付与する等の手法が用いられていた。しかしながら、いずれの手段も「ギラツキ」に対して良好な解決がなされたものの、全体の画像視認性が低下することがあった。防眩層積層体において、高精細化パネルのギラツキを防止する手法は、表面の白化または内部散乱効果による白濁等のコントラストを低下させる主要因であるとされ、「ギラツキ防止」と「コントラスト向上」とはトレードオフの関係にあり、両者を満足させることは困難であるとされていた。例えば、画面表示における艶黒感（濡れたような艶のある黒色）を含む黒色再現性、コントラスト等において劣ることがあった。つまり、明室における黒色の階調表現、特に低階調において、黒色のグラデーションの差が認識し難く、感度が低いことがあった。具体的には、黒と灰色の色認識に於いて、色ぼけ、および同一の色調の黒としか認識できないことがあった。とりわけ、ギラツキ防止の性能を有する防眩性積層体ほど、これらの視認性は著しく低下していたといえる。
［０００７］　従って、現在、画像表面のギラツキを有効に防止することができ、かつ、黒色再現性、とりわけ艶黒感を達成しうる光学積層体の開発が望まれており、特に、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のみならず、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイの他用途においても使用できる光学積層体が切望されている。」（１頁８行〜３頁７行）
　
（２）「発明の開示
［０００８］　本発明者等は、本発明時において、防眩性を付与しつつ、かつ、ギラツキ防止性とコントラスト改善性、とりわけ黒色再現性を向上させていわゆる艶黒感を達成することができる光学積層体を得られるとの知見を得た。本発明はかかる知見によるものである。
　従って、本発明は防眩性機能と優れたギラツキ防止性を持ち、視認性の高い画像表示を同時に実現することができる光学積層体の提供を目的とする。
　よって、本発明による光学積層体は、
　光透過性基材と、該光透過性基材上に防眩層を備えてなるものであって、
　前記防眩層の最表面が凹凸形状を有してなり、
　前記防眩層が樹脂と微粒子とを含んでなる組成物により形成されてなり、前記樹脂と前記微粒子との屈折率との差ｎが０．０５以上０．２以下であり、
　前記防眩層の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の平均粗さをＲｚとした場合に、
　Ｓｍが１００μｍ以上６００μｍ以下であり、
　θａが０．１度以上１．２度以下であり、
　Ｒｚが０．２μｍ超過１μｍ以下であるものである。
［０００９］　本発明による光学積層体によれば、優れた防眩性と、艶黒感のある黒色再現性を実現することができ、かつ、高い鮮明度と、優れたギラツキ防止性、コントラスト、文字ボケ防止が実現することができ、かつ、様々なディスプレイにおいて使用可能な光学積層体を提供することが可能となる。とりわけ、本発明による光学積層体によれば、従来の防眩性積
層体では実現することが困難であった黒の階調表現（光沢性のある黒色再現性）を顕著に改善した光学積層体を提供することができる。具体的には、動画表示を行った際における画像が従来の凹凸形状のないクリアーハードコート層、さらにその上に反射防止層を有する積層体を配置したディスプレイとほぼ同様の階調を表現することが可能となり、かつ、文字の輪郭のシャープ感、面ギラを防止した画像が得られることを実現することが光学積層体を提供することが可能となる。また、本発明の好ましい態様によれば、防眩層の上に、表面調整層又は低屈折率層等の任意の層を付与する場合、防眩層を形成する凹凸形状の表面を目止めすることとなり、大きく滑らかな所望の凹凸形状を達成することが可能となり、かつ、帯電防止、屈折率の調整、汚染防止等の様々な機能を光学積層体に付与することが可能となる。防眩層の上に表面調整層又は低屈折率層等の任意の層が付与される場合、表面調整層又は低屈折率層等の任意の層の表面凹凸形状が、本発明における防眩層の表面凹凸形状の光学特性値とに一致するものである。つまり、本発明における光学積層体は、その最表面の凹凸形状が、本発明において規定した防眩層の表面凹凸形状の光学特性値と一致するものである。」（３頁８行〜４頁１５行）
　
（３）「発明を実施するための最良の形態
［００１１］　
定義
　本明細書（実施例等）において使用する用語は下記の通り定義される。　
　１）
１０点平均粗さ（Ｒｚ）
　平均粗さの測定方法は、表面形状を二次元または三次元のプロファイルとして測定する。実際には、走査型プローブ顕微鏡または原子間力顕微鏡を用いて測定する。曲線そのものを客観的に比較するのは一般には困難なため、そのプロファイル曲線データから色々な粗さ指数を計算する。従って、本発明にあっては、上記測定結果を用いて、１０点平均粗さ（Ｒｚ）を算出する。よって、１０点平均粗さ（Ｒｚ）とは、平均値からもとめた偏差値のうち、最大のものから上位５つの偏差値の平均と、最小のものから下位５つの偏差値の絶対値の平均値の和として表される。
［００１２］　２）
凹凸の平均間隔をＳｍ（μｍ）および平均傾斜角をθ
　本発明による光学積層体を構成する防眩層は凹凸形状を有する。Ｓｍ（μｍ）とは、この防眩層の凹凸の平均間隔を表し、θａ（度）は凹凸部の平均傾斜角を表す。これらは、表面粗さ測定器（型番：ＳＥ−３４００／（株）小坂研究所製）の取り扱い説明書（１９９５，０７，２０改訂）に記載されたものとして定義することができる。θａ（度）は角度単位であり、傾斜を縦横比率で表したものがΔaである場合、θａ（度）＝１/tanΔa＝１/（各凹凸の極小部と極大部の差（各凸部の高さに相当）の総和/基準長さ）で求められる。ここで、「基準長さ」とは、下記の測定条件１と同じである。
　本発明による光学積層体の表面粗さを表すパラメーター（Ｓｍ、θａ、Ｒｚ）を測定する場合、例えば、上記表面粗さ測定器を用いて、下記の測定条件により測定を行うことができ、この測定は本発明にあっては好ましいものである。
　
測定条件
　１）表面粗さ検出部の触針：
　　　型番／SE2555N（２μ標準）（株）小坂研究所製
　　（先端曲率半径２μｍ／頂角：９０度／材質：ダイヤモンド）
　２）表面粗さ測定器の測定条件：
　　　基準長さ（粗さ曲線のカットオフ値λｃ）：２．５ｍｍ
　　　評価長さ（基準長さ（カットオフ値λｃ）×５）：１２．５ｍｍ
　　　触針の送り速さ：０．５ｍｍ／ｓ
　
ψ≡Ｒｚ／Ｓｍ
　凹凸の平均粗さＲｚと凹凸の平均間隔Ｓｍとの比率ψは、ψ≡Ｒｚ／Ｓｍで定義し、凹凸の平均粗さＲｚと凹凸の平均間隔Ｓｍの比を取ることで、凹凸の傾斜の傾きを示す指標として用いることができる。凹凸の平均粗さＲｚと凹凸の平均間隔Ｓｍとの比率ψは、ψ≡Ｒｚ／Ｓｍで定義し、凹凸の平均粗さＲｚと凹凸の平均間隔Ｓｍの比を取ることで、凹凸の傾斜の傾き角を示す指標として用いることができる。
［００１３］　３）
反射Ｙ値
　反射Ｙ値は、島津製作所製　MPC3100分光光度計にて、5°正反射率を380〜780ｎｍまでの波長範囲で測定し、その後、人間が目で感じる明度として換算するソフト（ＭＰＣ３１００内蔵）で算出される、視感反射率を示す値である。なお、５°正反射率を測定する場合には、光学積層体であるフィルムの裏面反射を防止するため、測定膜面とは逆側に、黒テープ（寺岡製）を貼って測定する。
［００１４］　４）
ヘイズ値、全光線透過率、６０度グロスおよびと透過鮮明度
　ヘイズ値は、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に従って測定することができる。測定に使用する機器としては、反射・透過率計ＨＲ−１００（村上色彩技術研究所）が挙げられる。防眩性積層体の全光線透過率は、ＪＩＳ　Ｋ−７３６１に従って、ヘイズ値と同じ測定器で測定できる。なお、ヘイズ、全光線透過率は、塗工面を光源に向けて測定する。６０度グロスは、ＪＩＳ　Ｚ８７４１により、精密光沢計（（株）村上色彩研究所製　ＧＭ−２６Ｄ）を用いて測定可能である。測定は、サンプルの裏面反射の影響を除去するため、サンプルの裏面と測定器の黒蓋を両面テープ（寺岡製作所製）で貼り付けた状態で行う。透過鮮明度は、写像性測定器（スガ試験機（株）、品番；「ＩＣＭ−１ＤＰ」）を用いて、ＪＩＳ　Ｋ７１０５に準拠し、４種類の光学櫛（０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１ｍｍ、および２ｍｍ）で測定した数値の合計をもって表す。
［００１５］　５）
表面ヘイズの定義
　本発明で使用している「表面ヘイズ」は、以下のように求められる。防眩層の凹凸上にペンタエリスリトールトリアクリレートなどの樹脂（モノマー又はオリゴマー等の樹脂成分を包含する）をトルエンなどで希釈し、固形分６０％としたものをワイヤーバーで乾燥膜厚が８μｍとなるように塗布する。これによって、防眩層の表面凹凸がつぶれ、平坦な層となる。ただし、この防眩層を形成する組成物中にレベリング剤などが入っていることで、リコート剤がはじきやすく濡れにくいような場合は、あらかじめ防眩フィルムをケン化処理（２ｍｏｌ／ｌ　のＮａＯＨ（又はＫＯＨ）溶液　５５度　３分浸したのち、水洗し、キムワイプで水滴を完全に除去した後、５０度オーブンで１分乾燥）により、親水処理を施すとよい。この表面を平坦にしたフィルムは、表面凹凸によるヘイズをもたない、内部ヘイズだけを持つ状態となっている。このヘイズを、内部ヘイズとして求めることができる。そして、内部ヘイズを、元のフィルムのヘイズ（全体ヘイズ）から差し引いた値が、表面凹凸だけに起因するヘイズ（表面ヘイズ）として求められる。
［００１６］　６）
防眩層の層厚
　防眩層の層厚は、基材の表示面側界面から空気と接する防眩性凹凸最表面までをいう。基材界面から最表面までには、防眩層が一層である場合と、表面調整層、その他光学機能層などが積層され、多層になっている場合がある。
　
層厚の測定方法
　共焦点レーザー顕微鏡（LeicaTCS-NT：ライカ社製：倍率「１００〜３００倍」）にて、光学積層体の断面を透過観察し、界面の有無を判断し下記の評価基準で判断した。具体的には、ハレーションのない鮮明な画像を得るため、共焦点レーザー顕微鏡に、湿式の対物レンズを使用し、かつ、光学積層体の上に屈折率１．５１８のオイルを約２ｍｌ乗せて観察し判断した。オイルの使用は、対物レンズと光学積層体との間の空気層を消失させるために用いた。
　
測定手順
　１：レーザー顕微鏡観察により平均層厚を測定した。
　２：測定条件は、上記の通りであった。
　３：１画面につき　凹凸の最大凸部、最小凹部の基材からの膜厚を１点ずつ計２点測定し、それを５画面分、計１０点測定し、平均値を算出した。
［００１７］　
光学積層体
　本発明による光学積層体は、防眩性特性と優れた黒色再現性、コントラストとを兼ね備えたものである。本発明では、この光学積層体をハーフグレア光学積層体（ＨＧ）と称する。ＨＧは、従来の優れた防眩性を有するアンチグレア光学積層体（ＡＧ）と優れた黒色再現性、コントラストを有するクリアーハードコート（グレア）層に低反射率層を備えた光学積層体（ＡＲ）の両特性を兼ね備えたものということができる。具体的には、ハーフグレア光学積層体（ＨＧ）の形成方法の一つとして考えられる表面調整層をアンチグレア光学積層体（ＡＧ）上に形成させることにより、防眩層の凹凸形状は滑らかになり、更に、アンチグレア（ＡＧ）と同等の表面粗さパラメーターを持たせることで、充分な防眩性を付与しつつ、極めて艶黒感の高い防眩性積層体を作製することが可能となる。そこで、本発明による光学積層体（ＨＧ）の内容について、従来のＡＲとＡＧとの対比において説明する。
［００１８］　図１は、光学積層体における表面ヘイズ値（％）と反射Ｙ値（％）との関係を表す図である。図１によれば、従来のＡＲは、その表面ヘイズ値が０．３％程度未満の領域、具体的には、符号１の罫線より左側領域に属するものである。また、従来のＡＧはその表面ヘイズ値が４．０％〜２５．０％程度（一般的には１０．０％以上）であり、反射Ｙ値が１．０〜４．５程度の領域に属するものであり、具体的には符号５で囲まれた領域（一般的には、符号５で囲まれた右側領域）のものが利用されている。他方、本発明による光学積層体（ＨＧ）は、その
表面ヘイズ値が０．２％以上３．５％以下（好ましくは３．０以下）程度であり、
［００１９］　本発明による光学積層体の光学物性について図２を用いて説明する。図２は、光学積層体における防眩層の凹凸部の平均傾斜角θａ（deg.「度」）と、この凹凸の平均間隔Ｓｍ（μｍ）との関係を表す図である。図２によれば、従来のＡＧは、具体的には、θａ値が１．５度以上２．５度以下であり、Ｓｍ値が３０μｍ超過３００μｍ以下程度（符号９の領域）となっており、符号１１の領域に含まれるものが好ましいものとして利用されていた。他方、本発明による光学積層体（ＨＧ）は、そのθａ値が０．１度超過１．２度以下であり、好ましくは下限値が０．３度以上であり、上限値が０．６度以下であり、Ｓｍ値が１００μｍ以上６００μｍ以下程度であり、好ましくは下限値が１２０μｍ以上であり、上限値が４００μｍ以下であり、具体的には符号７の領域に属するものが利用される。また、本発明による光学積層体のＲｚの値は、０．２μｍ超過（好ましくは０．３５μｍ以上）であり、下限値が１．２μｍ以上（好ましくは１μｍ以下、より好ましくは０．９μｍ以下）である。
［００２０］　
層構成
　本発明による光学積層体（ＨＧ）について図３を用いて説明する。図３は本発明による光学積層体の断面図を示す。光透過性基材２の上面に防眩層４が形成されてなり、この防眩層４は樹脂と微粒子とを含んでなるものである。本発明の好ましい態様によれば、防眩層４の上部には表面調整層６が形成されてなるものが好ましい。本発明のより好ましい態様によれば、表面調整層６の表面に、防眩層４または表面調整層６の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層８が形成されてなる光学積層体が好ましい。
［００２１］　
１．防眩層
　本発明にあっては、光透過性基材の上に、防眩層を形成する。本発明にあっては、光学積層体の表面に、樹脂に微粒子を添加した防眩性用組成物を用いて凹凸形状を有した防眩層を形成する。防眩層の層厚Ｈμｍは、０．５μｍ以上２７μｍ以下（１６μｍ以下が好ましい）であり、好ましくは下限が２μｍ以上であり上限が２３μｍ以下（１２μｍ以下が好ましい）である。
［００２２］　
屈折率の差ｎ／内部ヘイズ
　本発明においては、
樹脂と微粒子との屈折率との差ｎが０．０５以上０．２０以下であ
　　本発明にあっては、
内部ヘイズ値は、０．１以上５５以下であり、好ましくは下限が５．０以上であり、上限が４０以下である
［００２３］　他方、本発明の別の好ましい態様によれば、樹脂と微粒子との屈折率との差ｎが０以上０．０５以下であり、好ましくは下限が０．００１以上であり、より好ましくは０．００５以上であり、好ましくは上限が０．０３以下であり、より好ましくは、０．０１以下であることが好ましい。樹脂と微粒子との屈折率との差ｎが上記範囲内にあることにより、高いコントラストと低いヘイズ値を実現することができる。光学積層体として、このような特性を実現することを目的とする場合、樹脂と微粒子との屈折率との差ｎが上記範囲内にすることが好ましいこととなる。
［００２４］　本発明にあって、樹脂と微粒子との屈折率との差ｎが上記二種類に分けて数値範囲を定めるものであるが、このことは技術的に矛盾するものではない。光学積層体としてそれぞれ所望の光学特性、特に、本発明の光学積層体が実装される液晶、ＰＤＰ、ＣＲＴ等の各パネルのモードに最適な光学特性、を発揮するために必要となるからである。
［００２５］　
微粒子
　微粒子は球状、例えば真球状、楕円状等のものであってよく、好ましくは真球状のものが挙げられる。また、微粒子は凝集型微粒子であってよい。本発明にあっては、微粒子の平均粒子径Ｒ（μｍ）が１.０μｍ以上２０μｍ以下であり、好ましくは上限が１５．０μｍ以下であり、より好ましくは１３．５μｍ以下であり、好ましくは下限が、３．０μｍ以上であり、より好ましくは３．５μｍ以上（さらに好ましくは４．０μｍ以上）であるものが好ましい。微粒子の平均粒子径Ｒが上記の範囲内にあることにより、適切な凹凸形状を形成することができ、また、防眩層の層厚が好ましい範囲となるので好ましい。
［００２６］　本発明では、前記微粒子の全体の８０％以上（好ましくは９０％以上）が、前記微粒子の粒径平均分布がＲ±１.０μｍ、好ましくはＲ±０．５μｍ、さらに好ましくはＲ±０．３μｍの範囲内にあるものが好ましい。微粒子の粒径平均分布が上記の範囲とされてなることにより、防眩性積層体の凹凸形状の均一性を良好なものとし、かつ、メンギラ等を有効に防止することが可能となる。また、微粒子とその平均粒径が異なる第二微粒子、第三微粒子、複数微粒子をさらに含んでなるものを有するものであってもよく、例えば、微粒子の平均粒子径Ｒ（μｍ）が下限の３．５μｍ程度の小粒子径については、単分散微粒子ではなく、平均粒子径が３．５μｍの粒度分布をもつ微粒子で効率良く凹凸層を形成させることが可能となる。
［００２７］　
Ｈ−Ｒ
　本発明の好ましい態様によれば、防眩層の層厚Ｈμｍから前記微粒子の平均粒子径Ｒμｍを引いた値「Ｈ−Ｒ」が、０．３μｍ以上２０μｍ以下（８．０μｍ以下が好ましく）であり、好ましくは下限が０．５μｍ以上であり、より好ましくは１．０μｍ以上であり、好ましくは上限が１８μｍ以下（６．０μｍ以下が好ましく）であり、より好ましくは６．０μｍ以下（４．５μｍ以下が好ましく）であることが好ましい。ここで、複数の微粒子を用いた場合、最大平均粒径を有するものを「Ｒ」とする。
［００２８］　本発明の好ましい態様によれば、前記微粒子の単位面積当たりの総重量ｍ、前記樹脂の単位面積当たりの総重量Ｍとした場合に、前記微粒子と前記樹脂との単位面積当たりの総重量比（ｍ／Ｍ）が、０．０１以上１．２以下であり、好ましくは下限が０．０１２以上であり、より好ましくは０．０１５以上であり、好ましくは上限が１．０以下であり、より好ましくは０．３以下であることが好ましい。
［００２９］　
凝集型微粒子
　本発明の好ましい態様によれば、微粒子の中でも凝集型微粒子を用いることが好ましい。凝集型微粒子は、同一の微粒子であっても、または平均粒径が異なる複数の微粒子で構成されてよい。本発明の好ましい態様によれば、凝集型微粒子は、第一微粒子とその平均粒径が異なる第二微粒子を含んでなるものが好ましくは挙げられる。また、本発明のより好ましい態様によれば、第二微粒子の単体自体またはその凝集部自体のみでは、防眩層において防眩性を発揮しないものが好ましい。
［００３０］　本発明にあっては、微粒子の平均粒子径をＲ（μｍ）とし、第二微粒子の平均粒子径をｒ（μｍ）とした場合に、下記式：
０.２５Ｒ（好ましくは０．５０）≦ｒ≦１．０Ｒ（好ましくは０．７０）
を満たすものが好ましい。
［００３１］　ｒが０.２５Ｒ以上であることにより、組成物の分散が容易となり、粒子が凝集することがない。また、塗布後の乾燥工程においてフローティング時の風の影響を受けることなく、均一な凹凸形状を形成することができる。また、ｒが０．８５Ｒ以下であることにより、微粒子と第一粒子との役割を明確に区別することが可能となるので好ましい。
［００３２］　また、本発明の別の態様によれば、樹脂と、微粒子と、第二微粒子との単位面積当りの総重量比が、微粒子の単位面積当りの総重量をＭ１、第二微粒子の単位面積当りの総重量をＭ２、樹脂の単位面積当りの総重量をＭとした場合に、下記の式：
　　　　　　０.０８≦(Ｍ１＋Ｍ２)／Ｍ≦０．３６　
　　　　　　　　０≦Ｍ２≦４.０Ｍ１　
を満たすものが好ましい。
［００３３］　また、本発明の別の好ましい態様によれば、微粒子と、第二微粒子と、および樹脂の屈折率をそれぞれ、ｎ１、ｎ２、ｎ３とした場合に、下記の式（IV）：
　Δｎ＝|ｎ１−ｎ３|＜０．１５および/またはΔｎ＝|ｎ２−ｎ３|＜０．１８
を満たすものが好ましい。
［００３４］　微粒子（第二の微粒子）は無機系、有機系のものが挙げられるが、好ましくは
有機系材料により形成されてなる
透明性を有する
［００３５］　
導電剤（帯電防止剤）
　本発明の好ましい態様によれば、防眩層に、導電剤（帯電防止剤）含んでなることが好ましい。導電剤の添加により、光学積層体の表面における塵埃付着を有効に防止することができる。導電剤（帯電防止剤）の具体例としては、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマーまたはオリゴマー、或いは官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。
［００３６］　また、導電性微粒子が挙げられる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるのものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ＺｎＯ（屈折率１．９０、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。）、ＣｅＯ２（１．９５）、Ｓｂ２Ｏ２（１．７１）、ＳｎＯ２（１．９９７）、ＩＴＯと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（１．９５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．００）、Ａｌ２Ｏ３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称；ＡＴＯ、２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称；ＡＺＯ、２．０）等を挙げることができる。微粒子とは、１ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が０．１ｎｍ〜０．１μｍのものである。
［００３７］　また、帯電防止剤として、導電性ポリマーが挙げられ、その具体例としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、芳香族共役系のポリ（パラフェニレン）、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）が挙げられ、これら以外に、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重した高分子である導電性複合体等を挙げられる。　
［００３８］　
樹脂
　本発明による防眩層は（硬化型）樹脂により形成することができる。本発明において、「樹脂」は、モノマー、オリゴマー等の樹脂成分を包含する概念である。硬化型樹脂としては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、
紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂
［００３９］　電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴマー又はプレポリマー、反応性希釈剤が挙げられ、これらの具体例としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
［００４０］　電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホソフィン等が挙げられる。
［００４１］　電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂は一般的に例示されるものが利用される。溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。好ましい熱可塑性樹脂の具体例としては、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂、及びゴム又はエラストマー等が挙げられる。樹脂としては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶な樹脂が使用される。特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高い樹脂、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。
　本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材の材料がトリアセチルセルロース「ＴＡＣ」等のセルロース系樹脂の場合、熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えばニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。セルロース系樹脂を用いことにより、光透過性基材と帯電防止層（必要に応じて）との密着性と透明性とを向上させることができる。さらに、上記したアセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体の他に、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタアクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。
［００４２］　熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。
［００４３］　
レベリング剤
　本発明の好ましい態様によれば、防眩層用組成物に、フッ素系またはシリコーン系等のレベリング剤を添加することが好ましい。レベリング剤を添加した防眩層用組成物は、塗布または乾燥時に塗膜表面に対して酸素による硬化阻害を有効に防止し、かつ、耐擦傷性の効果とを付与することを可能とする。レベリング剤は、耐熱性が要求されるフィルム状光透過性基材（例えばトリアセチルセルロース）に好ましくは利用される。
　
防眩層の形成法
　防眩層は、微粒子または凝集型微粒子（好ましくは第一微粒子と第二微粒子）と樹脂とを、適切な溶剤、例えば、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；またはこれらの混合物に混合して得た防眩層用組成物を光透過性基材に塗布することにより形成されてよい。
［００４４］　防眩層用組成物を光透過性基材に塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。防眩層用組成物の塗布後に、乾燥と紫外線硬化を行う。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、または直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。樹脂が硬化し、樹脂中の微粒子が固定されて、防眩層の最表面に所望の凹凸形状が形成される。
［００４５］
２．表面調整層
　本発明にあっては、防眩層の凹凸表面を調整するために、表面調整層を形成してもよい。この場合、表面調整層は防眩層と一体となって防眩性機能を発揮するものである。従って、表面調整層を形成する場合、表面の凹凸形状の値であるＳｍ、θa、Ｒｚ等の光学特性値は本願発明の範囲内にある。付言すれば、防眩層の上に表面調整層が付与される場合、表面調整層の表面凹凸形状が、本発明における防眩層の表面凹凸形状の光学特性値と当然に一致する。以上のことは、表面調整層の下記内容及び実施例からも理解される。
［００４６］　表面調整層は、防眩層の凹凸形状を形成している表面粗さにおいて凹凸スケール（凹凸の山高さと山間隔）の１／１０以下のスケールで凹凸形状に沿って存在している微細な凹凸を目止めして、スムージングを掛けて滑らかな凹凸を形成させること、または、凹凸の山間隔や山高さ、山の頻度（個数）の調整することが可能となる。また、表面調整層は、帯電防止、屈折率調整、高硬度化、防汚染性、等を付与することを目的として形成されるものである。表面調整層の膜厚（硬化時）は０．５μｍ以上２０μｍ以下（１２μｍ以下が好ましい）であり、好ましくは下限が３μｍ以上であり上限が８μｍ以下である。
［００４７］　
Ｈ’−Ｒ
　本発明にあっては、防眩層の上に表面調整層を形成する場合、防眩層＋表面調整層の層厚Ｈ’μｍは、４μｍ以上２７μｍ以下であり、好ましくは下限が７μｍ以上であり上限が２３μｍ以下である。また、本発明の好ましい態様によれば、防眩層＋表面調整層の層厚Ｈ’の層厚Ｈ’μｍから前記微粒子の平均粒子径Ｒμｍを引いた値「Ｈ’−Ｒ」が、０．３μｍ以上２０μｍ以下であり、好ましくは下限が０．５μｍ以上であり、より好ましくは１．０μｍ以上であり、好ましくは上限が１８μｍ以下であり、より好ましくは６μｍ以下であることが好ましい。
［００４８］　
表面調整剤
　表面調整剤としては、帯電防止剤、屈折率調整剤、防汚染剤、撥水剤、撥油剤、指紋付着防止剤、高硬化剤および硬度調整剤（緩衝性付与剤）からなる群から選択される一種または二種以上の混合物が挙げられる。
［００４９］　
帯電防止剤（導電剤）
　表面調整層中に、帯電防止剤を含んでなることにより、光学積層体の表面における塵埃付着を有効に防止することができる。帯電防止剤の具体例としては、第４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第１〜第３アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられ、さらに上記に列記した化合物を高分子量化した化合物が挙げられる。また、第３級アミノ基、第４級アンモニウム基、または金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマーまたはオリゴマー、或いは官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。
［００５０］　また、導電性超微粒子が挙げられる。導電性微粒子の具体例としては、金属酸化物からなるのものを挙げることができる。そのような金属酸化物としては、ＺｎＯ（屈折率１．９０、以下、カッコ内の数値は屈折率を表す。）、ＣｅＯ２（１．９５）、Ｓｂ２Ｏ２（１．７１）、ＳｎＯ２（１．９９７）、ＩＴＯと略して呼ばれることの多い酸化インジウム錫（１．９５）、Ｉｎ２Ｏ３（２．００）、Ａｌ２Ｏ３（１．６３）、アンチモンドープ酸化錫（略称；ＡＴＯ、２．０）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（略称；ＡＺＯ、２．０）等を挙げることができる。微粒子とは、１ミクロン以下の、いわゆるサブミクロンの大きさのものを指し、好ましくは、平均粒径が０．１ｎｍ〜０．１μｍのものである。
［００５１］　また、帯電防止剤として、導電性ポリマーが挙げられ、その具体例としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、芳香族共役系のポリ（パラフェニレン）、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）が挙げられ、これら以外に、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフトまたはブロック共重した高分子である導電性複合体等を挙げられる。
［００５２］　本発明の好ましい態様によれば、表面調整層に含まれる樹脂と帯電防止剤との添加比が５以上２５以下であり、好ましくは上限が２０以下であり下限が５以上である。
［００５３］　
屈折率調整剤
　表面調整層に、屈折率調整剤を添加し、光学積層体の光学特性を調整することが可能となる。屈折率調整剤には、低屈折率剤、中屈折率剤、高屈折率剤等が挙げられる。
［００５４］　１）
低屈折率剤
　低屈折率剤は、その屈折率が防眩層より低いものである。本発明の好ましい態様によれば、防眩層の屈折率が１．５以上であり、低屈折率剤の屈折率が１．５未満であり、好ましくは１．４５以下で構成されてなるものが好ましい。
［００５５］　低屈折率剤の具体例としては、シリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体が挙げられ、その例としてはフッ化ビニリデン３０〜９０重量％及びヘキサフルオロプロピレン５〜５０重量％を含有するモノマー組成物が共重合されてなるフッ素含有割合が６０〜７０重量％であるフッ素含有共重合体１００重量部と、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物８０〜１５０重量部とからなる組成物が挙げられる。
［００５６］　このフッ素含有共重合体は、フッ化ビニリデンとヘキサフルオロプロピレンとを含有するモノマー組成物を共重合することによって得られる共重合体が挙げられる。このモノマー組成物における各成分の割合は、フッ化ビニリデンが３０〜９０重量％、好ましくは４０〜８０重量％、特に好ましくは４０〜７０重量％であり、またはヘキサフルオロプロピレンが５〜５０重量％、好ましくは１０〜５０重量％、特に好ましくは１５〜４５重量％である。このモノマー組成物は、更にテトラフルオロエチレンを０〜４０重量％、好ましくは０〜３５重量％、特に好ましくは１０〜３０重量％含有するものであってもよい。
［００５７］　このフッ素含有共重合体を得るためのモノマー組成物は、必要に応じて、他の共重合体成分が、例えば、２０重量％以下、好ましくは１０重量％以下の範囲で含有されたものであってもよい。この共重合体の具体例としては、フルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、１，２−ジクロロ−１，２−ジフルオロエチレン、２−ブロモー３，３，３−トリフルオロエチレン、３−ブロモー３，３−ジフルオロプロピレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、α−トリフルオロメタクリル酸等のフッ素原子を有する重合性モノマーを挙げることができる。
［００５８］　このようなモノマー組成物から得られるフッ素含有共重合体のフッ素含有割合は６０〜７０重量％であることが好ましく、より好ましくは６２〜７０重量％、特に好ましくは６４〜６８重量％である。添加割合がこのような範囲であることにより、後述の溶剤に対して良好な溶解性を有する。または、フッ素含有共重合体を成分として含有することにより、優れた密着性と、高い透明性と、低い屈折率とを有し、優れた機械的強度を有する光学積層体を形成することが可能となる。
［００５９］　フッ素含有共重合体は、その分子量がポリスチレン換算数平均分子量で５０００〜２０００００、特に１００００〜１０００００であることが好ましい。このような大きさの分子量を有するフッ素含有共重合体を用いることにより、得られるフッ素系樹脂組成物の粘度が好適な大きさとなり、従って、確実に好適な塗布性を有するフッ素系樹脂組成物とすることができる。
［００６０］　フッ素含有共重合体自体の屈折率は１．４５以下、好ましくは１．４２以下、より好ましくは１．４０以下であるものが好ましい。屈折率がこの範囲にあることにより、形成される光学積層体の反射防止効果が好ましいものとなる。
［００６１］　樹脂の添加量は、フッ素含有共重合体１００重量部に対して３０〜１５０重量部、好ましくは３５〜１００重量部、特に好ましくは４０〜７０重量部である。また、フッ素含有共重合体と樹脂とを含む重合体形成成分の合計量におけるフッ素含有割合が３０〜５５重量％、好ましくは３５〜５０重量％であることが好ましい。
［００６２］　添加量またはフッ素含有割合が、上記した範囲内にあることにより、表面調整層の基材に対する密着性が良好となり、また、屈折率が低く良好な反射防止効果を得ることが可能となる。
［００６３］　本発明の好ましい態様によれば、低屈折率剤として、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」は表面調整層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることを可能とする。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び／又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来
の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、塗膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。
［００６４］　空隙を有する無機系の微粒子の具体例としては、特開２００１−２３３６１１号公報で開示されている技術を用いて調製したシリカ微粒子が好ましくは挙げられる。空隙を有するシリカ微粒子は製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して表面調整層表面調整層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を１．２０〜１．４５程度の範囲内に調製することを可能とする。特に、空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開２００２−８０５０３号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子が好ましく挙げられる。
［００６５］　塗膜の内部及び／又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラムおよび表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子、または断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体的としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名ＮｉｐｓｉｌやＮｉｐｇｅｌの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業（株）製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカＵＰシリーズ（商品名）から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。
［００６６］　「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、好ましくは下限が８ｎｍ以上であり上限が１００ｎｍ以下であり、より好ましくは下限が１０ｎｍ以上であり上限が８０ｎｍ以下である。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、表面調整層に優れた透明性を付与することが可能となる。
［００６７］　２）
高屈折率剤／中屈折率剤
　高屈折率剤、中屈折率剤は、反射防止性をさらに向上させるために表面調整層に添加されてよい。高屈折率剤、中屈折率剤の屈折率は１．４６〜２．００の範囲内で設定されてよく、中屈折率剤は、その屈折率が１．４６〜１．８０の範囲内のものを意味し、高屈折率剤は、その屈折率が１．６５〜２．００の範囲内のものを意味する。
［００６８］　これら屈折率剤は、微粒子が挙げられ、その具体例（かっこ内は屈折率を示す）としては、酸化亜鉛（１．９０）、チタニア（２．３〜２．７）、セリア（１．９５）、スズドープ酸化インジウム（１．９５）、アンチモンドープ酸化スズ（１．８０）、イットリア（１．８７）、ジルコニア（２．０）が挙げられる。
［００６９］　
レベリング剤
　表面調整層は、レベリング剤を添加することができる。レベリング剤の好ましいものとしては、フッ素系またはシリコーン系等が挙げられる。レベリング剤を添加した表面調整層は、塗工面を良好にし、塗布または乾燥時に塗膜表面に対して酸素による硬化阻害を有効に防止し、かつ、耐擦傷性の効果とを付与することを可能とする。
　
防汚染剤
　表面調整層は防汚染剤を添加することができる。防汚染剤は、光学積層体の最表面の汚れ防止を主目的とし、さらに光学積層体の耐擦傷性を付与することが可能となる。防汚染剤の具体例としては、撥水性、撥油性、指紋拭き取り性を発現するような添加剤が有効である。より具体例としては、フッ素系化合物、ケイ素系化合物、またはこれらの混合化合物が挙げられる。より具体的には、２−パーフロロオクチルエチルトリアミノシラン等の
フロロアルキル基を有するシランカップリング剤等が挙げられ、特に、アミノ基を有するものが好ましくは使用することができる。
［００７０］　
樹脂
　表面調整層は、表面調整剤と、樹脂（モノマー、オリゴマー等の樹脂成分を包含する）とにより少なくとも調整されてよい。表面調整剤を含まない場合には、この樹脂が高効果剤として、または防眩層の凹凸を滑面とする役割を担う。樹脂としては、透明性のものが好ましく、その具体例としては、紫外線または電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂との混合物、または熱硬化型樹脂の三種類が挙げられ、好ましくは電離放射線硬化型樹脂が挙げられる。
［００７１］　電離放射線硬化型樹脂の具体例としては、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アルリレート等のオリゴマー又はプレポリマー、反応性希釈剤が挙げられ、これらの具体例としては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
［００７２］　電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。
　また、電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合には、光重合開始剤または光重合促進剤を添加することができる。光重合開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いる。また、カチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、光重合開始剤として、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いる。光重合開始剤の添加量は、電離放射線硬化性組成物１００重量部に対し、０．１〜１０重量部である。
［００７３］　電離放射線硬化型樹脂に混合して使用される溶剤乾燥型樹脂としては、主として熱可塑性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂は一般的に例示されるものが利用される。好ましい熱可塑性樹脂の具体例としては、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂、及びゴム又はエラストマー等が挙げられる。樹脂としては、通常、非結晶性であり、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶な樹脂が使用される。特に、成形性又は製膜性、透明性や耐候性の高い樹脂、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。
　溶剤乾燥型樹脂の添加により、塗布面の塗膜欠陥を有効に防止することができる。本発明の好ましい態様によれば、光透過性基材の材料がＴＡＣ等のセルロース系樹脂の場合、
熱可塑性樹脂の好ましい具体例として、セルロース系樹脂、例えばニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。
［００７４］　熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂を用いる場合、必要に応じて、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等をさらに添加して使用することができる。
［００７５］　
重合開始剤
　表面調整層を形成する際に、光重合開始剤を用いることができ、その具体例としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンが挙げられる。この化合物は市場入手可能であり、例えば商品名イルガキュア１８４（チバスペシャリティーケミカルズ社製）が挙げられる。
［００７６］　
溶剤
　表面調整層を形成するには、上記成分を溶剤ともに混合した表面調整層用組成物を利用する。溶剤の具体例としては、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類；ハロゲン化炭化水素；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；またはこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、ケトン類、エステル類が挙げられる。
［００７７］　
表面調整層の形成法
　表面調整層は、表面調整層用組成物を防眩層に付与することにより形成されてよい。表面調整層用組成物を塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の塗布方法が挙げられる。表面調整層用組成物の塗布後に、乾燥と紫外線硬化を行う。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、または直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
［００７８］　
４．任意の層
　本発明による光学積層体は、光透過性基材と、防眩層と、必要に応じて表面調整層とにより構成されてなるが、さらに任意の層として帯電防止層、低屈折率層、防汚染層等を備えてなるものであってよい。任意の層は、それが形成された本発明による光学積層体の最表面の凹凸形状が、本発明における防眩層の表面凹凸形状の光学特性値と当然に一致することは先に述べた通りである。低屈折率層は、防眩層または表面調整層の屈折率よりも低い屈折率を有するものが好ましい。帯電防止層、低屈折率層、防汚染層は表面調整層において説明した、帯電防止剤、低屈折率剤、防汚染剤等に、樹脂等を添加した組成物を調整し、それぞれの層を形成してよい。従って、帯電防止剤、低屈折率剤、防汚染剤、樹脂等も同様であってよい。
［００７９］　５
．光透過性基材
　光透過性基材は、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものが好ましい。光透過性基材を形成する材料の具体例としては、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、またはポリウレタン等の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましくはポリエステル（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、セルローストリアセテートが挙げられる。
［００８０］　その他に、脂環構造を有した非晶質オレフィンポリマー（Cyclo-Olefin-Polymer：COP）フィルムもあり、これは、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体樹脂などが用いられる基材で、例えば、日本ゼオン(株)製のゼオネックスやゼオノア（ノルボルネン系樹脂）、住友ベークライト(株)製　スミライトFS-1700、JSR(株)製　アートン（変性ノルボルネン系樹脂）、三井化学(株)製　アペル（環状オレフィン共重合体）、Ticona社製の　Topas（環状オレフィン共重合体）、日立化成(株)製　オプトレッツOZ-1000シリーズ（脂環式アクリル樹脂）などが挙げられる。また、トリアセチルセルロースの代替基材として旭化成ケミカルズ(株)製のFVシリーズ（低複屈折率、低光弾性率フィルム）も好ましい。
［００８１］　本発明にあっては、これらの熱可塑性樹脂を薄膜の柔軟性に富んだフィルム状体として使用することが好ましいが、硬化性が要求される使用態様に応じて、これら熱可塑性樹脂の板またはガラス板の板状体のものも使用することも可能である。
［００８２］　光透過性基材の厚さは、２０μｍ以上３００μｍ以下、好ましくは上限が２００μｍ以下であり、下限が３０μｍ以上である。光透過性基材が板状体の場合にはこれらの厚さを越える厚さであってもい。基材は、その上に防眩層を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行なってもよい。」（４頁２４行〜２６頁２行）
　
（４）「　　　　　　　　　請求の範囲
［１］　
光透過性基材と、該光透過性基材上に防眩層を備えてなる光学積層体であって、
　
前記防眩層の最表面が凹凸形状を有してなり、
　
前記防眩層が樹脂と微粒子とを含んでなる防眩層用組成物により形成されてなり、前記樹脂と前記微粒子との屈折率との差ｎが０．０５以上０．２以下であり、
　
前記防眩層の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の平均粗さをＲｚとした場合に、
　Ｓ
ｍが１００μｍ以上６００μｍ以下であり、
　
θａが０．１度以上１．２度以下であり、
　
Ｒｚが０．２μｍ超過１μｍ以下である、光学積層体。
［２］　前記樹脂と前記微粒子との屈折率との差ｎが０以上０．０５以下である、請求項１に記載の光学積層体。
［３］　前記微粒子が無機微粒子または有機微粒子である、請求項１に記載の光学積層体。
［４］　前記微粒子が凝集型微粒子である、請求項１に記載の光学積層体。
［５］　前記微粒子の平均粒子径Ｒが１.０μｍ以上２０μｍ以下である、請求項１に記載の光学積層体。
［６］　
前記防眩層の層厚Ｈμｍから前記微粒子の平均粒子径Ｒμｍを引いた値「Ｈ−Ｒ」が、０．３μｍ以上２０μｍ以下である、
［７］　前記微粒子の総数の８０％において、前記微粒子の平均粒径分布が前記微粒子の平均粒子径Ｒにおいて、Ｒ±１．０μｍの範囲内にある、請求項１に記載の光学積層体。
［８］　前記微粒子の単位面積当たりの総重量ｍ、前記樹脂の単位面積当たりの総重量Ｍとした場合に、前記微粒子と前記樹脂との単位面積当たりの総重量比（ｍ／Ｍ）が、０．０１以上１．２以下である、請求項１に記載の光学積層体。
［９］　前記樹脂が電離放射線硬化型樹脂と、熱硬化性樹脂とを含んでなるものである、請求項１に記載の光学積層体。
［１０］　前記防眩層が導電剤をさらに含んでなる、請求項１に記載のの光学積層体。
［１１］　前記導電剤が導電性微粒子または導電性ポリマーである、請求項１０に記載のの光学積層体。
［１２］　前記防眩層の凹凸形状の表面に表面調整層を形成してなる、請求項１に記載の光学積層体。
［１３］　前記防眩層の表面または前記表面調整層の表面に、前記防眩層または前記表面調整層の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層をさらに備えてなる、請求項１２に記載の光学積層体。
［１４］　前記低屈折率層が、中空シリカを含んでなるものである、請求項１３に記載の光学積層体。
［１５］　Ｒｚが０．２μｍ超過１．２μｍ以下である、請求項１に記載の光学積層体。
［１６］　
内部ヘイズ値が、０．１以上５５以下である、
［１７］　偏光素子を備えてなる偏光板であって、
　前記偏光素子の表面に、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の光学積層体を該光学積層体における防眩層が存在する面と反対の面に備えてなる、偏光板。
［１８］　透過性表示体と、前記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなる画像表示装置であって、
　前記透過性表示体の表面に、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の光学積層体、または請求項１７に記載の偏光板を備えてなる、画像表示装置。」（５２頁１行〜５３頁末行）
　
（５）上記（１）ないし（４）から、引用例には、
「光透過性基材と、該光透過性基材上に防眩層を備えてなる光学積層体であって、　
　前記防眩層の最表面が凹凸形状を有してなり、　
　前記防眩層が、電離放射線硬化型樹脂と、有機系材料により形成されてなり透明性を有する微粒子と、を含んでなる防眩層用組成物により形成されてなり、前記樹脂と前記微粒子との屈折率との差ｎが０．０５以上０．２以下であり、　
　前記防眩層の凹凸の平均間隔をＳｍとし、凹凸部の平均傾斜角をθａとし、凹凸の平均粗さをＲｚとした場合に、　
　Ｓｍが１００μｍ以上６００μｍ以下であり、　
　θａが０．１度以上１．２度以下であり、　
　Ｒｚが０．２μｍ超過１μｍ以下であり、
　前記防眩層の層厚Ｈμｍから前記微粒子の平均粒子径Ｒμｍを引いた値「Ｈ−Ｒ」が、０．３μｍ以上２０μｍ以下であり、
　表面ヘイズ値が０．２％以上３．５％以下（好ましくは３．０以下）程度であり、
　内部ヘイズ値が、０．１以上５５以下であり、好ましくは下限が５．０以上であり、上限が４０以下である、光学積層体。」の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
４　対比
　本願発明と引用発明とを対比する。
（１）引用発明の「光透過性基材」、「有機系材料により形成されてなり透明性を有する微粒子」、「『電離放射線硬化型樹脂と、有機系材料により形成されてなり透明性を有する微粒子と、を含んでなる防眩層用組成物により形成され』てなる『防眩層』」、「電離放射線硬化型樹脂」、「光学積層体」、「内部ヘイズ値」、「『表面ヘイズ値』と『内部ヘイズ値』との和」、「平均傾斜角θａ」、「凹凸形状」、「微粒子の平均粒子径Ｒμｍ」及び「防眩層の層厚Ｈμｍ」は、それぞれ、本願発明の「透光性基体」、「『透光性樹脂微粒子』、『透光性微粒子』」、「放射線硬化型樹脂層」、「放射線硬化型樹脂」、「光学積層体」、「内部ヘイズ値（Ｘ）」、「全ヘイズ値（Ｙ）」、「平均傾斜角」、「微細な凹凸形状」、「透光性微粒子の粒径（μｍ）」及び「放射線硬化型樹脂層の膜厚（μｍ）」に相当する。
　
（２）引用発明の「光学積層体」は、「透光性基体（光透過性基材）」と、該「透光性基体」上に「放射線硬化型樹脂（電離放射線硬化型樹脂）」と「透光性樹脂微粒子（有機系材料により形成されてなり透明性を有する微粒子）」とを含んでなる防眩層用組成物により形成されてなる「放射線硬化型樹脂層（防眩層）」を備えてなるものであるから、本願発明の「光学積層体」と、「透光性基体上に、透光性樹脂微粒子を含む放射線硬化型樹脂層が１層積層されている」点で一致する。
　
（３）引用発明の「光学積層体」は、「樹脂層（防眩層）」の最表面が「微細な凹凸形状（凹凸形状）」を有してなり、「微細な凹凸形状」部の「平均傾斜角（平均傾斜角θａ）」が０．１度以上１．２度以下であるから、本願発明の「光学積層体」と、「前記樹脂層の最表面に微細な凹凸形状を有」する点で一致し、引用発明の「微細な凹凸形状の平均傾斜角（凹凸部の平均傾斜角をθａ）」の範囲「０．１度以上１．２度以下」と本願発明の「微細な凹凸形状の平均傾斜角」の範囲「０．４°〜１．６°」とは「０．４°〜１．２°」で一致する。
　
（４）引用発明において、「全ヘイズ値（Ｙ）」は、表面ヘイズ値と「内部ヘイズ値（Ｘ）（内部ヘイズ値）」との和であり、表面ヘイズ値の範囲は０．２％以上３．５％以下（好ましくは３．０以下）であるから、引用発明の「内部ヘイズ値（Ｘ）」と「全ヘイズ値（Ｙ）」とは、「Ｙ＞Ｘ」との（１）式及び「Ｙ≦Ｘ＋７」との（２）式を充足する。また、引用発明の「内部ヘイズ値（Ｘ）」の範囲「０．１以上５５以下」と本願発明の「内部ヘイズ値（Ｘ）」の範囲「１≦Ｘ≦１５」とは「１≦Ｘ≦１５」の範囲で一致する。
　
（５）引用発明において、「放射線硬化型樹脂層の膜厚（μｍ）（防眩層の層厚Ｈμｍ）」から「透光性微粒子の粒径（μｍ）（微粒子の平均粒子径Ｒμｍ）」を引いた値「Ｈ−Ｒ」が、０．３μｍ以上２０μｍ以下であるから、該「透光性微粒子の粒径（μｍ）」を「放射線硬化型樹脂層の膜厚（μｍ）」で除した値は１．０未満である。
　したがって、引用発明は、本願発明の「該透光性微粒子の粒径（μｍ）を放射線硬化型樹脂層の膜厚（μｍ）で除した値が１．０未満である」との事項を備えている。
　
（６）上記（１）ないし（５）から、本願発明と引用発明とは、
「透光性基体上に、透光性樹脂微粒子を含む放射線硬化型樹脂層が１層積層されている光学積層体において、前記光学積層体は、次式（１）〜（４）を充足する内部ヘイズ値（Ｘ）と全ヘイズ値（Ｙ）を有すると共に、前記樹脂層の最表面に平均傾斜角が０．４°〜１．２°である微細な凹凸形状を有し、該透光性微粒子の粒径（μｍ）を放射線硬化型樹脂層の膜厚（μｍ）で除した値が１．０未満である光学積層体。
Ｙ＞Ｘ　　　　　（１）
Ｙ≦Ｘ＋７　　　（２）
Ｘ≦１５　　　　（３）
Ｘ≧１　　　　　（４）」の点で一致し、次の点で相違する。
　
相違点１：
　前記傾斜角の範囲が、本願発明では「０．４°〜１．６°」であるのに対して、引用発明では「０．１°〜１．２°」である点。
　
相違点２：
　前記内部ヘイズ値（Ｘ）が、本願発明では「１≦Ｘ≦１５」であるのに対して、引用発明では「０．１≦Ｘ≦５５」である点。
　
５　判断
　上記相違点１及び２について検討する。
（１）相違点１について
　引用発明において、前記傾斜角は「０．１°〜１．２°」の範囲内であればよいのであるから、例えばその中央値である０．６５程度にすること、すなわち、引用発明において上記相違点１に係る本願発明の構成となすことは、当業者が適宜なし得た程度のことである。
　
（２）相違点２について
　引用発明において、前記内部ヘイズ値（Ｘ）は「０．１〜５５」の範囲内であればよいのであり、その下限は５．０以上が好ましいとされているから、引用発明において、内部ヘイズ値（Ｘ）を、その好ましい範囲の下限である５．０程度となすこと、すなわち、引用発明において上記相違点２に係る本願発明の構成となすことは、当業者が適宜なし得た程度のことである。
　
（３）効果について
　本願発明の奏する効果は、引用発明の奏する効果から当業者が予測することができた程度のことである。
　
（４）まとめ
　したがって、本願発明は、当業者が引用例に記載された発明に基づいて容易に発明をすることができたものである。
　
６　むすび
　本願発明は、以上のとおり、当業者が引用例に記載された発明に基づいて容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。