(57)【要約】      （修正有）【課題】薬液開発側が所望する機能を有し、汎用であり、更に価格、サイズを出来る限り抑制した小型の処理装置を提供する。【解決手段】チャンバー部Ｃと、チャンバー部Ｃを支持する台座部Ｈと、チャンバー部Ｃの上部に取り付けられ内部に薬液を供給するノズル１およびスプレーヘッド２とを有する。チャンバー部Ｃは、半導体チップ等のワークＷを保持する基板保持用メッシュ４と、基板保持用メッシュを支持する基板保持用ステージ３と、ステージ３の下方にて基板保持用メッシュを通過した薬液を収集する傾斜した面とそこに形成されたドレイン口５とを備える。【選択図】図３
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
半導体チップを含む湿式処理可能なチップを処理可能な処理装置であって、
チャンバーと、
前記チャンバーを支持する支持手段と、
前記チャンバーの上部に取り付けられ、前記チャンバー内に薬液を供給する薬液供給手段とを有し、
前記チャンバーは、前記チップを保持するメッシュ状の保持部材と、前記保持部材を支持するステージと、前記ステージの下方にて前記メッシュ状の保持部材を通過した薬液を収集する収集機構とを備える、処理装置。
【請求項２】
前記薬液供給手段は、薬液を噴霧上に噴射するスプレーヘッドを有する、請求項１に記載の処理装置。
【請求項３】
前記ステージの高さを可変することにより前記薬液供給手段と前記メッシュ状の保持部材との間の距離を選択可能である、請求項１または２に記載の処理装置。
【請求項４】
前記収集機構は、傾斜された面と、傾斜された面に接続された排出口とを含む、請求項１に記載の処理装置。
【請求項５】
前記チャンバーには、チャンバー内を見ることができる透明な窓が形成されている、請求項１に記載の処理装置。
【請求項６】
前記メッシュ状の保持部材は、薬液に耐性のあるＰＴＦＥ、ＰＦＡあるいはポリプロピレンのいずれかを用いて構成される、請求項１に記載の処理装置。
【請求項７】
前記支持手段は、前記排出口から排出された薬液を回収する回収部材を含む、請求項１に記載の処理装置。
【請求項８】
前記チャンバーおよび前記支持手段は、取り外し可能である、請求項１に記載の処理装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、半導体基板等から切断された半導体チップやその他の湿式処理が可能な薄板状の小片またはチップを処理する簡易型の処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
主に電子産業分野において、例えば洗浄用、或いは加工（エッチング）用の化学処理液（以下、「薬液」と称す）の技術開発を行う際、多くの場合、新たな薬液を所望する相手、いわゆるユーザーから依頼を受けた化学薬品メーカー（以下、「薬液開発側」と称す）を中心に、先ずは薬液の調整、混合などを行い（少ないケースではあるが、場合によっては合成なども行われる可能性もある）、それらの中から所望の機能を有する薬液を選り出し、更に最終目的に近い機能を持つ薬液に仕上げていく。次に、実検体（小型、少量であることが大半）を用い、先に調整された薬液の効果を確認する。実検体は多くの場合、ユーザーから提供される。また、この段階まで来るとユーザーを交えた情報交換が頻繁となり、薬液開発の速度は最終レベルを目指し、急ピッチに高まって行く。これが薬液開発の初期段階、通常「ビーカー実験レベル」といわれる段階である。
【０００３】
この「ビーカー実験レベル」を経た後、薬液開発はいよいよ全姿からなる実検体を用いた本格的評価段階に移行する。この段階を「基板評価レベル」と称することとする。例えば、半導体を例に挙げるならば、円形のシリコン基板がそれである。現在では主に200mmや300mmの直径を有するシリコン基盤がその主な対象となる。このような全姿基板を薬液で処理する際には通常、薬液を所望するユーザー、或いは薬液が搭載される装置を製造している企業の協力を得て、量産、若しくはそれに近似の環境（多くは装置が備わっている施設に依存する）において、実験が繰り返される。その段階を経て、薬液の機能に満足が得られたものを導入の対象とし、更にユーザー環境において試験が繰り返され、最終的に所望の機能に適合した薬液が量産ラインに導入されていく。以上が、薬液の開発からユーザー量産ラインに導入されるまでの大まかな進行手順である。
【０００４】
ところで、前述した「薬液開発」の流れの中で近年、変化してきた状況がある。それは薬液開発における役割分担の変遷である。先にも記したが、「ビーカー実験レベル」から「基板評価レベル」に移行する際の概略手順を、特に、後者について辿りながら、薬液開発側の役割の変遷を検証してみることとする。
【０００５】
「基板評価レベル」の手順は、概ね次のようなものである。
（１）先ず、薬液開発側が開発した薬液を、ユーザー指定の環境において評価を行う。
（２）薬液に不都合が生じた場合は、薬液開発側の責務において、その都度調整を行う。
（３）薬液調整後、改良された薬液を改めて指定環境に持ち込み、評価を行う。
（４）良好な結果が得られた場合は、次の段階へ進むが、結果に満足のいかない場合は、改めて薬液調整を行う。
【０００６】
以上の如く、（１）ないし（４）の作業を繰り返しながら、薬液開発は徐々に完成に導かれる。この薬液開発手順についての大筋は、現在も基本的に変わってはいない。しかし、この手法には一つ弱点があった。それは「基板評価レベル」の段階になって、薬液開発側に対し、ようやく具体的な使用環境に関する情報が開示される、という点である。勿論、ユーザーとしては情報漏洩を防ぐことを目的とするため、この様な取り組みにならざるを得ないことは十分理解できる。しかしながら、薬液開発側としては、この時点で薬液に不都合が生じたとしても、多くの場合、自らにその実験環境がないため、薬液調整には、かなりの労を強いられこととなり、結果的に開発時間とコストの浪費を余儀なくされ、ユーザーの要求に即応できないという状況が増してきていた。
【０００７】
更に、近年においては薬液開発側に対し、上記問題点の克服、具体的には「基板評価レベル」を検証できる環境の整備という要求が盛り込まれるケースも増加しており、薬液開発側の役割分担は益々広がりつつある。つまり、開発された薬液については、ユーザーが使用する環境、詳細には量産ラインで使用する装置に搭載されることを予め考慮し、使用開始当初から、直ちに所望する機能を発揮することが出来るよう、薬液開発段階から高い完成度を要求され始めているのである。具体的には、半導体製造ラインやフラットパネルディスプレイ製造ライン、液晶製造ラインには近年、枚葉処理装置やそれに類似の装置の普及率が高まっている中、ユーザーとしては、それら生産装置において、新たな薬液を使用開始した際、直ちに所望の性能が発揮されることが重要であり、それを薬液開発側にも要求している。この動きは当然と考えられる。何故なら、薬液開発にかかる時間、コスト他を出来る限り短縮し、効率の良い量産ラインの立ち上げを行うことが、自らの生産性を挙げることに繋がるのである。この状況に対しては、薬液開発側も十分理解し始めており、よって、薬液開発段階から環境整備の必要性を感じると共に、装置導入を検討する傾向が高まりつつある。なお、枚葉式基板処理装置や基板処理装置の洗浄方法については特許文献１などに開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００９−６０１１２号
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、ここに大きなジレンマが生じている。それは、先にも記した装置に起因するものである。詳細には枚葉処理装置の機能とコストが要因である。同系装置は量産ラインで近年急速にその普及率が高まっていることは前述した。しかし、薬液開発側での同系装置の普及は未だ十分とは言えない。その理由として、薬液開発側が所望する装置の目的の違いが挙げられる。薬液開発側の装置目的は薬液の性能を確認することに第一義がある。ところが、ユーザーの量産ラインを対象とする同系装置は、極めて高機能であり、当然、機能を含む全体的なスペック、サイズ、コストは増大する傾向にある。よって薬液開発側が所望する『実験レベル用装置』という観点からは、全てにおいて高水準となっているのである。端的には、評価用装置は入用であることは十分承知しているものの、購入可能な装置が現存していない、というのが実態といえる。
【００１０】
以上のような環境的な問題点に加え、技術的にも装置を用いざるを得ない点がある。それは、薬液特性の検証という点であり、問題点中、最も重大な点である。前述したごとく、薬液開発の際の初期段階ではビーカーによる調整が多い。しかしながら、この時点で好結果が得られたとしても、次の「基板評価レベル」では事態が一変する。つまり装置の使用による薬液の特性変化という点である。では何故、薬液の特性変化が生じるかについて、詳細を具体的に説明する。
【００１１】
「ビーカー実験レベル」において「基板評価レベル」との大きな相違点は薬液の『流れの状態』である。ビーカー内で実験を行う場合、例えば、開発した薬液を必要量ビーカーに準備し、その中に対象となる検体を浸した状態で実験が行われる場合が多い。勿論、処理条件として必要となる液温度や処理時間は遵守される。その中で、化学反応を円滑に生じせしめる手段として薬液に対し、『撹拌』図１（a）や『揺動』図１（b）（状況によっては超音波などによる『振動』も考えられるが、枚葉処理との比較の場合は現実的ではない）が加えられる。
【００１２】
しかしながら、ビーカー内の状況において、化学反応に寄与する薬液としては検体に接する、或いはその近傍に存在するものしか関わることがなく、例えば薬液に与えられる『流れ』は図１（ｃ）に示す如く、一方向の直線的、或いはその往復運動でしかなく、それ以外の薬液は検体との化学反応に寄与することは少ない。
【００１３】
この点、前述した量産型の装置で作られる流れとは異質のものとなる。『枚葉処理装置によって作り出される流れ』図２（a）は『検体に向かってエネルギーを持った薬液が衝突する流れ』、即ちスプレー、或いはシャワーと呼ばれる薬液の流れCFであり、具体的には図２（b）であり、そこには圧力を有する濃度降下の少ない、鮮度の高い薬液が常に存在し続けることで、『流れ』に加わる薬液が全て化学反応に寄与する、という点である。
【００１４】
図２に示した『装置によって生み出される流れ』は、残念ながらビーカー内では達成することは不可能である。そこで装置が必要となってくるわけであるが、先にも記したとおり、薬液開発側はこの点も十分理解しているものの、装置導入に際しては、前述した大きなジレンマが生じているのが現状である。
【００１５】
我々は、以上のような諸問題に対し、鋭意検討の結果、薬液開発側が所望する機能、即ち『装置によって生み出される流れ』を生じさせることの出来る機能を盛り込んだ上で、汎用であり、更に価格、サイズを出来る限り抑制した小型装置を立案し、諸問題を解決する糸口を見出すに至ったので、以下にその詳細を説明する。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本考案に係る処理装置は、半導体チップを含む湿式処理可能なチップを処理可能であって、チャンバーと、前記チャンバーを支持する支持手段と、前記チャンバーの上部に取り付けられ、前記チャンバー内に薬液を供給する薬液供給手段とを有し、前記チャンバーは、半導体チップを保持するメッシュ状の保持部材と、前記保持部材を支持するステージと、前記ステージの下方にて前記メッシュ状の保持部材を通過した薬液を収集する収集機構とを備える。半導体チップは、例えば、半導体ウエハまたは半導体基板から切り落とされたものあるいはそれと同等の薄板状の小片もしくはチップを含む。小片またはチップは、好ましくは電子回路等が含むことができる。小片またはチップは、矩形状あるいは円形状その他の形状であることができる。湿式処理の一例は、小片またはチップの表面またはその裏面の洗浄やリンスなどの工程を含むことができる。
【００１７】
好ましくは前記薬液供給手段は、薬液を噴霧上に噴射するスプレーヘッドを有する。好ましくは前記ステージの高さを可変することにより前記薬液供給手段と前記メッシュ状の保持部材との間の距離を選択可能である。好ましくは前記収集機構は、傾斜された面と、傾斜された面に接続された排出口とを含む。好ましくは前記チャンバーには、チャンバー内を見ることができる透明な窓が形成されている。好ましくは前記メッシュ状の保持部材は、薬液に耐性のあるＰＴＦＥ、ＰＦＡあるいはポリプロピレンのいずれかを用いて構成される。好ましくは前記支持手段は、前記排出口から排出された薬液を回収する回収部材を含む。好ましくは前記チャンバーおよび前記支持手段は取り外し可能である。
【考案の効果】
【００１８】
本考案によれば、従来のビーカー実験レベルから基板評価レベルの移行期間において、薬液開発側にて独自に量産ライン装置を模した評価実験を実施することが出来る。これにより、薬液開発側の負担を軽減することが可能となる。詳細には、基板評価レベルに完全移行した際、装置に沿った薬液の速やかな調整が可能となり、引いてはユーザーの所望する薬液にいち早く到達することが可能となる。よって、量産ラインを含む、全体的な開発速度が高まることが期待できる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】「ビーカー実験レベル」において、実験の態様を示す図である。図１（a）はビーカー中の薬液に撹拌による渦流を与え、検体を処理する一例を示し、図１（b）は同じくビーカー中の薬液に揺動によって生じる液流を使って検体を処理する一例を示した図である。図１（ｃ）は検体に対する薬液の流れの状態を模した図である。
【図２】「基板評価レベル」、或いは量産ラインにおいて処理される基板の態様を示す図である。図２（a）はスプレーノズルから照射される薬液、並びにそれによって処理される基板の態様の一例を示した図である。図２（ｂ）は基板に向かってスプレーノズルから照射される薬液の流れの状態を模した図である。
【図３】本考案に係る基板処理装置の概要を示した図である。
【図４】本考案に係る基板処理装置の概略図面である。図４（a）は本考案の平面図である。図４（ｂ）は本考案の正面図である。図４（ｃ）は本考案の側面図である。
【図５】本考案に使用する基板保持用ステージと保持用メッシュの概要図である。図５（a）は基板保持用ステージの平面図である。図５（ｂ）は基板保持用メッシュの平面図である。図５（ｃ）は基板保持用ステージと基板保持用メッシュの併用例を示した平面図である。図５（ｄ）は基板保持用ステージと基板保持用メッシュの併用例、並びに保持ステージの変更を行う際に用いられるサポートジョイントPを用いた際の側面図である。図５（e）はサポートジョイントｐの側面図である。図５（ｆ）はサポートジョイントｐを連結した例を示した側面図である。
【図６】本考案に係る装置の配管系統の一例を示した図である。
【図７】本考案の変更例（１）にかかる装置の一例を示した概略図である。図７（a）は実施例にて紹介したスプレーノズルを用いた際の薬液の照射状態を、図７（ｂ）は変更例（１）に示した、高圧、極細経路下での薬液照射状態を示した図である。
【図８】変更例（１）に係る配管系統の一例を示す図である。
【図９】変更例（１）に係る圧送を行う市販の圧送用加圧タンクの一例を示した図である。図９（a）は薬液ビン内蔵型、（ｂ）は薬液を直接封入して圧送するタイプであることを示す。
【図１０】変更例２に係るチャンバー部C内にホットプレートを取り付けた状態の一例を示した図である。図１０（a）は平面を、図１０（ｂ）は断面をそれぞれ示す。
【図１１】変更例（２）に係るSPDを実現するための配管系統の一例を示す図である。
【図１２】変更例（３）に係るプラズマ発生用の上下電極と電源の設置概略の一例を示す図である。
【図１３】変更例（３）に係る大気圧プラズマを発生させる際の配管系統の一例を示す図である。
【図１４】変更例（４）に係るUV処理を行う際の配管系統の一例を示す図である。
【図１５】変更例（５）に係る高周波電磁誘導加熱用コイル及び電源を取り付けたチャンバーの一例を示す概略図である。
【図１６】変更例（５）に係る液処理、リンス、乾燥の連続処理を行う際の配管系統の一例を示す図である。
【図１７】変更例（６）に係る応力試験用としてエアーシリンダをチャンバー部Cに設けた一例を示す概略構造図である。
【図１８】変更例（８）に係る空圧回路の一例を示す図である。
【考案を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本考案の最良の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。上記した従来の問題点を解決するため、図３に示すような基板処理装置を立案した。即ち、半導体ウエハ等のワークWを処理する、例えば矩形状や円筒状の内部空間を有するチャンバー部Ｃ、並びに同部を支える台座部Ｈとから成り、それぞれに分割可能とした。特に、チャンバー部Ｃには薬液処理に欠かすことの出来ない、薬液を照射するためのノズル部１、並びにスプレーヘッド２が装着されており、このことにより、ワークＷに対し、薬液を噴霧または照射することを可能とした。以下に、改めて、チャンバー部Ｃの各部位について、詳細を報告する。
【００２１】
チャンバー部Ｃのサイズ決定に際しては、ワークサイズを重要視した。ワークＷは、通常小片、具体的には、大型のものでもでも一辺１０ｃｍ前後の平方型、或いは直径１０ｃｍ前後の円形であることが多い。よって、チャンバー部Ｃの幅、奥行き、高さを必要最小限に定め、しかも装置全体を軽量化するため、具体的にはドラフトチャンバー内での処理をも可能とするために、一辺を凡そ２０ｃｍ程度に止め、総重量も１０ｋｇ以下にとどめることを目指した。この数値を実現することで、作業に携わる担当者の負担を出来る限り軽減することを目指した。さらに、チャンバー部Ｃは、内部を観察することができるように、アクリルや塩ビ等の透明プラスティック、ガラス、石英、サファイアガラスなどからなる観察窓を含むことができる。窓の形状や大きさは任意である。
【００２２】
また、薬液照射用ノズルについては、特にスプレーヘッド２の取り外しを容易ならしめることにより、状況に応じた新たなスプレーヘッドの交換、更には取り外した場合は管状（キャピラリー状）の薬液照射を可能とした。このことにより、スプレー状を含め、流状を多様化させることを可能とした。
【００２３】
更には、環境、コストへの配慮から、薬液の回収、或いは再利用への対応という面において、図４（ｂ）、（ｃ）に示した如く、チャンバー部Ｃの下部にドレイン口５を設けたことにより、例えば薬液回収用に定めたケミカル・ボトル６を台座部Ｈの脚部の空間より挿入させ、ドレイン口５の下部にあてがうことにより、薬液回収を可能とし、更にケミカル・ボトル６に回収された薬液を再利用することで、薬液の供給、回収を円滑ならしめることを目指した。このことは、薬液使用時間や頻度による耐久性、劣化状態などの評価を可能ならしめる。なお、回収した薬液を再利用する場合は、専用ポンプを用いて供給元のケミカル・ボトルにも戻しても良く、或いは供給と回収のボトルを同一のものとし、循環経路を作るなどして、適宜、円滑性や安全性など、使用者の都合や環境に合わせた状況で使用される工夫がなされて当然である。更にはドレイン口５にドレインチューブなどを装着し、更には同チューブに液流の開閉可能な栓を取り付けることで、回収の際の液流を制御するようにしても良い。ところで、台座Hの高さはケミカル・ボトル６の形状によって、設計時に任意に設定し、製作することが可能である。
【００２４】
また、使用時に装置全体に振動が生じるような際は、その振動によりチャンバー部Cと台座部Ｈの両部位のズレが生じないよう、任意の固定具を用いて固定する方式を採用しても良い。これまでの本考案の説明において、用途に関しては特に定めるものはなく、洗浄、湿式エッチング、塗布、堆積など、およそ薬液で処理可能であるものであればよい。
【実施例】
【００２５】
ワークWを処理する場合、先ず、チャンバー部Ｃの前面に位置する前扉Ｄを開放する。次に、ワークＷを例えばＰＴＦＥ（テトラフルオロエチレン）、ＰＦＡ（テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体）、或いはＰＰ（ポリプロピレン）などの耐薬品性の高いフッ素樹脂やプラスティック素材からなる基板保持用メッシュ４によって保持する。ワークＷを保持した基板保持用メッシュ４を基板保持用ステージ３にセットする。基板保持用ステージ３は、ドレインのために傾斜を設けているチャンバー底部の傾斜底５に常に水平が保てるよう図５（ｄ）の如く、支持脚の寸法を違えた構造を成している。その上で、薬液処理による効果、具体的にはスプレー照射範囲（図２（a））は、照射距離ｄ、或いは照射面積Ａによって予め予想されることから、基板保持用ステージ３の高さを変えることにより、その効果の検証を行うことが可能である。即ち、位置変えを行う際は、基板保持用ステージ３に予め用意されているサポートジョイントｐを所定の方法により着脱することにより、スプレーの照射距離ｄ、或いは照射面積Ａをある程度任意に変更可能とした。勿論、基板保持用ステージ３の高さを一定にした上で、スプレーヘッド２を含むノズル部全体を上下稼動可変にする手法を採用しても良いことは当然である。
【００２６】
以上の点を含め、全ての配置準備が整った上で、前扉Dを閉じ、次に薬液照射の準備を行う。この時、ドレイン口５は予めドレインチューブ等を装着し、その一部をピンチコックなどで閉栓しておくのもよい。以上の準備が整った後、薬液をチャンバー部Ｃに供給する準備を行う。実際には以下の手順となる。
【００２７】
図６に示すように、先ず、エアバルブＶ１を開栓してポンプ駆動用の圧搾空気（以下、圧空と称す）を必要量、ポンプＰに送り込む。この時、圧空量が不足したり、過剰であったりするとポンプの脈動を引き起こし、引いては薬液照射の際の液流量に不安定さが生じるなどの悪影響を及ぼすため、ガス流量調整用レギュレーターＲ１を用いて、流量制御を行う。なお、この際バルブＶ１に三方弁を用いることで圧空量の制御が更に容易となる。以上の要領にてポンプＰが稼動したら、次に液ストップバルブＶ２を開栓して薬液ラインに薬液を流す。ここでは、チャンバー部Ｃでの薬液の流れを安定化させるため、脈動を予防するため、液流量調整用レギュレーターＲ２や液圧力計Ｍｍ、液流量計Ｆｍを用いて、液の潤滑な流れを得ることを最優先とする。この様にして、チャンバー部Ｃの上部から供給された薬液がノズル部１、スプレーヘッド２を介して照射され、ワークＷを処理することとなる。なお、薬液の温度調整を行う際は恒温槽７などを用いて調整などする方法が考えられる。
【００２８】
次に、本考案の変更例を示す。
（１）薬液の一例に『純水』を加えた上での薬液を、本考案を用いて、高圧下において、極細経路を通して排出させることにより、紙、木材、金属、プラスティックなどの切断加工を可能とする。詳細には図７〜図９に示す如く、本考案に使用するノズル部１、並びにスプレーヘッド２を高圧に耐えられるようSUS製とし、且つ一体化した上で、特に薬液が通る流路を極細にすることにより高速、高圧の流れを発生させることが可能となり、その結果、液流の威力によって、前記素材等の切断を可能ならしめる。この状態を達成させる条件としては例えばノズルの穴径を凡そφ0.1〜2.0mm程度に、液圧力を１〜５MPaに設定することで可能となる。因みに、薬液を加圧する際には加圧ビンを用いると良い。この様にして生じた液流は先にも記した切断加工に加え、金属加工後のバリ取り、基板上の異物除去などにも使用が見込まれる。
【００２９】
（２）例えば、本考案を用いて、図１０〜図１１に示す如く、特にチャンバー部Cを石英やSUSなどの耐熱性素材に変更し、またノズル部１、スプレーヘッド２を一体化した上でSUS製に変更した上で、更に、チャンバー内部に加熱用のホットプレートを設けることにより、Spray  Pyrolysis  Deposition（SPD：スプレー熱分解薄膜形成）法による薄膜形成を可能とならしめる。
【００３０】
なお、薄膜原料は液体であることが大半であるため、ホットプレートは本考案にかかる基板保持用ステージ３、同メッシュ４の上に設置されるのが望ましく、当然ながらそれらも石英やSUSなど、耐熱性であることが望ましい。ただ、薬液供給方法は本考案にかかる手法をそのまま用いることが可能である。因みに、SPD法に用いられる成膜温度は使用する薬液によって異なることが知られるが、概ね２００〜３５０℃程度である。
【００３１】
（３）本考案を応用することにより、乾式処理装置を実現する。具体的には、図１２〜図１３に示す如く、チャンバー部Ｃの上部に上部金属電極を、対極に下部電極を置載した後、各々にRF電源、若しくはパルス電源を接続し、上部金属電極からガスを供給することにより大気圧プラズマチャンバーとして薄膜成膜、表面改質、エッチング、乾式洗浄処理用途に使用可能である。使用する電源の周波数は凡そ100kHz〜5GHz が見込まれる。因みに、処理基板が小型であるため、チャンバー部Cの素材は従来のプラスティック材でも良いし、他の金属や石英部材であっても良い。但し、金属素材を使用する場合は電流等のリークが生じないよう、絶縁措置が必要となる。
【００３２】
（４）本考案を用いて表面改質チャンバーとして使用することが可能である。詳細には、図１４に示す如く、チャンバー部Ｃ内にUVランプを設置した後、チャンバー内に所望のガスを供給する。これにより酸化、窒化処理などの表面改質処理チャンバーとして使用可能となる。UVランプの種類としては、エキシマランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、超高圧ランプ、ＬＥＤなどがあり、波長は凡そ126〜400nm程度のものが有効とされる。
【００３３】
（５）本考案を応用することで、電磁誘導加熱装置として使用することが可能となる。例えば図１５〜図１６に示す如く、チャンバー部Cの外部に高周波電源付コイルを取り付けることにより電磁誘導加熱を行う事が可能となる。これにより、薬液によるエッチング・洗浄処理後の加熱乾燥に、若しくは変更例（２）に示したSPDでの被処理物の加熱、また更には特殊な例ではあるが拡散炉として、また単なる加熱装置として使用可能である。電磁誘導加熱を行う電源の周波数は10kHz〜100MHz程度が最適で、加熱具合により最適な周波数が選ばれる。
【００３４】
（６）チャンバー部C、及び基板保持用ステージ３、同メッシュ４を十分に強度のある材質、例えばSUS等で構成し、スプレーヘッド２を含むノズル部１全体をエアーシリンダ、若しくは油圧シリンダに変更、設置した上で、それぞれを制御可能な機構を備えることにより、ワークWに対して繰り返し力を加えることが可能となる。このことにより、例えば具体的な用途の一例として、卓上型粉砕機としてや、卓上型機械応力試験機としての用途が広がる。
【００３５】
本考案を用いることの効果として、「ビーカー実験レベル」から「基板評価レベル」の移行期間において、薬液開発側にて独自に量産ライン装置を模した評価実験を実施することが出来る点にある。このことにより、薬液開発側の負担を軽減することが可能となる。詳細には「基板評価レベル」に完全移行した際、装置に沿った薬液の速やかな調整が可能となり、引いてはユーザーの所望する薬液にいち早く到達することが可能となる。よって、量産ラインを含む、全体的な開発速度が高まることが期待できる。
【００３６】
上記実施例にも示した如く、具体的な効果として、以下の内容が列挙される。
（１）低価格、小型軽量
・幅（W）：奥行き（D）：高さ（H）の各数値が500mm程度となり、実験ドラフト内での取り扱いを可能とした。
・装置重量を１０ｋｇ以下にすることを実現。
（２）マルチプル対応（酸、アルカリ不問）を実現。
・無機、有機に関わらず酸、アルカリに対応可能なＰＰ、若しくはＰＴＦＥチャンバーを採用。
（３）開発時の少量、多品種薬液への対応
・具体的には、薬液供給を少量、例えば１L程度から可能とした。
（４）本考案を用いることでビーカー実験では達成不可能な結果を期待でき、エンドユーザーのニーズに近い形での成果を、チップレベルでの基板評価段階から検証できる。
・スプレー、キャピラリー両方の液照射方式を搭載することで、ビーカー実験では確認し得ない薬液の『流れ』効果を確認可能とした。
（５）本考案を用いることにより、開発に関わる時間、人、モノ、コストの低減に繋がる。
・実ラインの環境を具現化することで、先見性を高めることが見込まれる。
（６）簡便性を高めた仕様
・小型軽量化に伴い、用力を含むランニング、メンテナンスなどを含む維持管理費が低く、また操作性や使用後の後片付け等、取り扱いが容易。
（７）用力に電気を使用していないため、薬液起因による火災などについても比較的、安全性が見込まれる。
（８）付帯設備の省略を実現
・装置の小型化によって、ドラフトチャンバー内で処理することを可能としたため、装置自体への強制排気設備を省略することを可能にした。
【００３７】
本考案を提案することは、これまで問題となっていた薬液開発側の抱える諸問題を一掃する手段として、今後の重要性は高いと思われる。例えば、「ビーカー実験レベル」を経て「基板評価レベル」に移行する際、薬液開発側には装置導入の必要性という意識と同時に、不必要なスペックと装置の大きさ、更にコストの高さ、というジレンマが重くのしかかっていた。然るに、本考案を導入することにより、その難問から開放される可能性は高いと考えて差し支えないと思われる。何故なら、本考案は量産ラインに匹敵する機能を持つ上、『研究開発向けに開発した装置』という点で、サイズ、コスト、簡便性などに優れており、仕様そのものも含め、薬液開発側の自由度が広がることが予想される。
【００３８】
具体的には、薬液開発側の視点に立った場合、ユーザーからの高い目標に対しては、「高額な装置を購入しなければならない」という難題を潜り抜け、「ビーカー実験レベル」を終了した時点から、簡易とは言え、量産ラインに沿った評価を行うことが出来、仮に、不満足な結果が得られた場合でも、実践に即した形で、直ちに、かつ容易に次なる薬液の調整を行うことが出来る。これらのことは薬液開発側にとって、かかる開発リスクを低減するばかりでなく、ユーザーへの即応が可能となることで、信頼性の高い回答を迅速に提案することが出来るため、他者をリードすることにも繋がる。よって本考案は、係る点において極めて優れているということができよう。
【００３９】
なお、本考案の用途としては洗浄、湿式エッチング、レジスト塗布、湿式薄膜堆積など、湿式法で行われる処理に汎用性が高いことも優れた点の一つということができよう。また、変更例にも列記した如く、本考案を様々に変更することで、小型、且つ実用的な実験装置としての機能を保有するこが期待される点が、優れている点といえる。さらに、各変更例を基に、装置に十分な排気システムや制御システム、搬送システム、具体的にはロボットアーム方式やローラー方式、またコンベア方式を採用することにより、自動機としても利用できることはいうまでもない。
【００４０】
以上本考案の好ましい実施例について詳述したが、本考案は係る特定の実施形態に限定されるものではなく、実用新案登録請求の範囲に記載された本考案の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
【符号の説明】
【００４１】
Ｗ     ：ワーク
Ｂ     ：ビーカー
ＣＦ   ：薬液及びその流れ
Ｃ     ：チャンバー部
Ｈ     ：台座部
Ｐ     ：ポンプ
Ｒ１   ：ガス流量調整用レギュレーター
Ｒ２   ：液流量調整用レギュレーター
Ｖ１   ：エアバルブ
Ｖ２   ：液ストップバルブ
MFC    ：マスフローコントローラー
Ｍｍ   ：液圧力計
Ｆｍ   ：液流量計
Air    ：ガスの流れ（ポンプ駆動用）
Chemi  ：液の流れ（ポンプ → チャンバー）
Bt    ：傾斜底  
D    ：前扉
ｐ    ：サポートジョイント
M    ：マグネット
Hj    ：高圧容器
HP    ：ホットプレート
RF    ：RF電源
UE    ：上部電極
LE    ：下部電極
Coil  ：コイル
UV    ：UV（紫外線）ランプ
１    ：ノズル
２    ：スプレーヘッド
３    ：基板保持用ステージ
４    ：基板保持用メッシュ
５    ：ドレイン口
６    ：ケミカル・ボトル
７    ：恒温槽（ヒーター）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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