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　特願２００７−２７０３８７「記録ヘッド及び情報記録再生装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２１年　５月　７日出願公開、特開２００９−　９９２１２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　本願は、平成１９年１０月１７日の出願であって、平成２３年１２月２７日付けで拒絶理由が通知され、平成２４年２月２１日付けで手続補正がされたが、同年４月１０日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年７月１１日に拒絶査定不服の審判が請求されるとともに、同日付けで手続補正がされ、同年１１月２９日付けで審尋がなされ、平成２５年１月２９日に回答書が提出されたものである。
　
第２　補正却下の決定 
［補正却下の決定の結論］ 
　平成２４年７月１１日付けの手続補正を却下する。 
 　 
［理由］ 
１．本願発明と補正後の発明 
　上記手続補正（以下、「本件補正」という。）は補正前の平成２４年２月２１日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された 
　 
　「光束を集光して生成したスポット光により一定方向に回転する磁気記録媒体を加熱すると共に、磁気記録媒体に対して垂直方向の記録磁界を与えることで磁化反転を生じさせ、情報を記録させる記録ヘッドであって、
　前記磁気記録媒体の表面に対向配置されたスライダと、
　前記記録磁界を発生させる磁極を有し、前記スライダの先端面に固定された記録素子と、
　一端側から他端側に向かう方向に直交する断面積が漸次減少するように絞り成形され、一端側から導入された前記光束を内部で集光させながら他端側に向けて伝播させて前記スポット光を生成すると共に、該スポット光を他端側から外部に向けて発するコアと、該コアの前記他端側を少なくとも外部に露出させた状態でコアに密着してコアを内部に閉じ込めるクラッドとを有し、前記他端側を前記磁気記録媒体側に向けた状態で前記磁極に隣接して固定されて、前記スポット光を磁極の近傍に発生させるスポット光生成素子と、
　前記一端側から前記コア内に前記光束を導入させる光束導入手段と、を備え、
　前記スポット光生成素子は、前記スライダの厚みよりも長く形成され、前記コアの断面積の減少率が所定値以下となるように長さが調整され、
　前記スライダは、前記磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する２軸回りに回動自在とされたジンバル部を介して、前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に移動可能なビームの先端側に支持され、
　前記光束導入手段は、可撓性を有する光導波路とされ、前記ビームに固定されながら該ビームの先端側まで導かれた後、該ビームから離間し、その先端が前記スポット光生成素子の前記一端側に配置されていることを特徴とする記録ヘッド。」 
 　
という発明（以下、「本願発明」という。）を、 
　 
　「光束を集光して生成したスポット光により一定方向に回転する磁気記録媒体を加熱すると共に、磁気記録媒体に対して垂直方向の記録磁界を与えることで磁化反転を生じさせ、情報を記録させる記録ヘッドであって、
　前記磁気記録媒体の表面に対向配置されたスライダと、
　前記記録磁界を発生させる磁極を有し、前記スライダの先端面に固定された記録素子と、
　一端側から他端側に向かう方向に直交する断面積が漸次減少するように絞り成形され、一端側から導入された前記光束を内部で集光させながら他端側に向けて伝播させて前記スポット光を生成すると共に、該スポット光を他端側から外部に向けて発するコアと、該コアの前記他端側を少なくとも外部に露出させた状態でコアに密着してコアを内部に閉じ込めるクラッドとを有し、前記他端側を前記磁気記録媒体側に向けた状態で前記磁極に隣接して固定されて、前記スポット光を磁極の近傍に発生させるスポット光生成素子と、
　前記一端側から前記コア内に前記光束を導入させる光束導入手段と、を備え、
　前記スポット光生成素子は、前記スライダの厚みよりも長く形成され、前記コアのうち前記絞り成形された部分における前記厚み方向の長さが前記スライダの厚みよりも長く形成されることで、前記コアの断面積の減少率が所定値以下となるように長さが調整され、
　前記スライダは、前記磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する２軸回りに回動自在とされたジンバル部を介して、前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に移動可能なビームの先端側に支持され、
　前記光束導入手段は、可撓性を有する光導波路とされ、前記ビームに固定されながら該ビームの先端側まで導かれた後、該ビームから離間し、その先端が前記スポット光生成素子の前記一端側に配置されていることを特徴とする記録ヘッド。」
　
という発明（以下、「補正後の発明」という。）に変更することを含むものである。 
　
２．新規事項の有無、補正の目的要件について 
　本件補正は、願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲又は図面に記載した事項の範囲内において、補正前の特許請求の範囲の請求項１に記載された、「前記コアの断面積の減少率が所定値以下となるように長さが調整され」に関し、「前記コアのうち前記絞り成形された部分における前記厚み方向の長さが前記スライダの厚みよりも長く形成されることで」と限定して、特許請求の範囲を減縮するものであるから、特許法第１７条の２第３項（新規事項）及び特許法第１７条の２第５項第２号（補正の目的）の規定に適合している。 
　
３．独立特許要件について 
　本件補正は特許請求の範囲の減縮を目的とするものであるから、上記補正後の発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるのかどうかについて以下に検討する。 
　
（１）補正後の発明 
　上記「１．本願発明と補正後の発明」の項で補正後の発明として認定したとおりである。 
　
（２）引用発明 
Ａ　原審の拒絶理由に引用された特開２００７−１６４９３５号公報（以下、「引用例１」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている。 
　
イ．「【技術分野】
【０００１】
  本発明は、信号磁界の書き込み及び読み出しを行う薄膜磁気ヘッド、この薄膜磁気ヘッドを備えたヘッドジンバルアセンブリ（ＨＧＡ）及びこのＨＧＡを備えた磁気ディスク装置に関する。特に、本発明は、近接場光を利用して熱アシスト磁気記録方式により信号の書き込みを行う垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド、この薄膜磁気ヘッドを備えたＨＧＡ及びこのＨＧＡを備えた磁気ディスク装置に関する。」（３頁） 
　
ロ．「【００２６】
  図１は、本発明による磁気ディスク装置の一実施形態における要部の構成を概略的に示す斜視図である。
【００２７】
  同図において、１０はスピンドルモータ１１の回転軸の回りを回転する複数の垂直磁気記録用の磁気記録媒体である磁気ディスク、１２は垂直磁気記録用の薄膜磁気ヘッド（スライダ）２１をトラック上に位置決めするためのアセンブリキャリッジ装置、１３は、この薄膜磁気ヘッド２１の書き込み及び読み出し動作を制御し、さらに後に詳述する熱アシスト用のレーザ光を発生させる光源である半導体レーザ１８を制御するための記録再生及び発光制御回路をそれぞれ示している。
【００２８】
  アセンブリキャリッジ装置１２には、複数の駆動アーム１４が設けられている。これらの駆動アーム１４は、ボイスコイルモータ（ＶＣＭ）１５によってピボットベアリング軸１６を中心にして角揺動可能であり、この軸１６に沿った方向にスタックされている。各駆動アーム１４の先端部には、ＨＧＡ１７が取り付けられている。各ＨＧＡ１７には、スライダ２１が、各磁気ディスク１０の表面に対向するように設けられている。磁気ディスク１０、駆動アーム１４、ＨＧＡ１７及びスライダ２１は、単数であってもよい。
【００２９】
  半導体レーザ１８は、光ファイバ２６にレーザ光を供給するものであり、自身の活性層の位置に、第１のファイバホルダ１９によって光ファイバ２６の端断面が接続されている。発振レーザの波長は、例えば、８００ｎｍである。
【００３０】
  図２は、本発明によるＨＧＡの一実施形態を示す斜視図である。ここで、図２（Ａ）は、ＨＧＡ１７の媒体に対向する側の構成を示しており、図２（Ｂ）は、ＨＧＡ１７の媒体に対向する側とは反対側の構成を示している。
【００３１】
  図２（Ａ）によれば、ＨＧＡ１７は、サスペンション２０の先端部に、磁気ヘッド素子を有するスライダ２１を固着し、さらにそのスライダ２１の端子電極に配線部材２５の一端を電気的に接続して構成される。
【００３２】
  サスペンション２０は、ロードビーム２２と、このロードビーム２２上に固着され支持された弾性を有するフレクシャ２３と、ロードビーム２２の基部に設けられたベースプレート２４と、フレクシャ２３上に設けられておりリード導体及びその両端に電気的に接続された接続パッドからなる配線部材２５とから主として構成されている。
【００３３】
  図２（Ｂ）によれば、ＨＧＡ１７は、後に詳述するように、薄膜磁気ヘッド２１のヘッド端面からレーザ光を入射させるための光ファイバ２６をさらに備えている。光ファイバ２６の出光側の端部は、フレクシャ２３に設けられた第２のファイバホルダ２７によって、レーザ光が薄膜磁気ヘッド２１の所定のヘッド端面から入射可能となる位置に固定される。ここで、光ファイバ２６の出光側の端部の直径は、約５.０μｍ〜約５００μｍであり、放射されるレーザ光のビーム径もまた、約５.０μｍ〜約５００μｍである。
【００３４】
  なお、本発明のＨＧＡ１７におけるサスペンションの構造は、以上述べた構造に限定されるものではないことは明らかである。なお、図示されていないが、サスペンション２０の途中にヘッド駆動用ＩＣチップ又は光ファイバ２６にレーザ光を供給するための半導体レーザを装着してもよい。
【００３５】
  図３（Ａ）は、図２に示すＨＧＡの先端部に装着されている、本発明による薄膜磁気ヘッド（スライダ）の一実施形態を示す斜視図である。また、図３（Ｂ）は、この薄膜磁気ヘッドにおける磁気ヘッド素子部分の構成を示す平面図である。
【００３６】
  図３（Ａ）によれば、本実施形態における薄膜磁気ヘッド２１は、適切な浮上量を得るように加工された媒体対向面である浮上面（ＡＢＳ）３０を有するスライダ基板２１０と、スライダ基板２１０のＡＢＳ３０に垂直な素子形成面３１上に形成された磁気ヘッド素子３２と、熱アシスト磁気記録のための近接場光を発生させる近接場光発生層３５と、素子形成面３１上に形成された被覆層４０の層面から露出した合計４つの信号端子電極３６及び３７とを備えている。信号端子電極３６及び３７は、磁気ヘッド素子３２が備えている読み出し用のＭＲ効果素子及び書き込み用の電磁コイル素子にそれぞれ接続されている。なお、これらの信号端子電極の数及び位置は、図３（Ａ）の形態に限定されるものではない。同図において端子電極は４つであるが、例えば、電極を３つとした上でグランドをスライダ基板に接地した形態でもよい。
【００３７】
  ここで、光ファイバ２６からの光は、ＡＢＳ３０側にあって同じく媒体に対向する面となっているヘッド端面３００とは反対側のヘッド端面３０１から、近接場光発生層３５に向けて入射される。
【００３８】
  図３（Ｂ）によれば、磁気ヘッド素子３２は、読み出し用のＭＲ効果素子３３と、書き込み用の電磁コイル素子３４とを備えている。ＭＲ効果素子３３及び電磁コイル素子３４の一端は、ヘッド端面３００に達している。書き込み又は読み出し動作時には、薄膜磁気ヘッド２１が回転する磁気ディスク表面上において流体力学的に所定の浮上量をもって浮上する。この際、これらの素子端が磁気ディスクと対向することによって、信号磁界の感受による読み出しと信号磁界の印加による書き込みとが行われる。
【００３９】
  近接場光発生層３５は、本実施形態において、電磁コイル素子３４上に設けられており、媒体に対向する面であるヘッド端面３００に向かって先細りした形状を有している。ここで、近接場光発生層３５は、光ファイバ２６からレーザ光を受けることにより近接場光を発生させる近接場光発生部３５０と、光ファイバ２６からのレーザ光を近接場光発生部３５０に向けるための反射面３５１ａを有する反射部３５１とを備えている。
【００４０】
  近接場光発生部３５０は、ヘッド端面３００に達した先端を含んでいて、例えば、２等辺三角形の形状を有しており、さらに、受光面３５０ａを有している。光ファイバ２６からのレーザ光がこの受光面３５０ａに照射されると、後に詳述するように、近接場光発生部３５０のヘッド端面３００に達した先端から非常に強い電界強度を有する近接場光が発生する。この近接場光を用いて熱アシスト動作が行われる。」（６〜８頁）
　
ハ．「【００４１】
  図４（Ａ）は、図３に示した薄膜磁気ヘッドの要部の構成を概略的に示す図３（Ａ）のＡ−Ａ線断面図である。また、図４（Ｂ）は、互いに重ねられた近接場光発生層及び主磁極層の端部の構成を示す斜視図である。なお、図４（Ａ）におけるコイル層の巻き数は図を簡略化するため、実際の巻き数より少なく表されている。
【００４２】
  図４（Ａ）によれば、ＭＲ効果素子３３は、ＭＲ効果積層体３３２と、この積層体を挟む位置に配置されている下部電極層３３０及び上部電極層３３４とを備えている。ＭＲ効果積層体３３２は、磁化自由層と磁化固定層とがトンネルバリア層を挟んで積層されたトンネル磁気抵抗（ＴＭＲ）効果多層膜、垂直通電型巨大磁気抵抗（ＣＰＰ（Current Perpendicular to Plain）−ＧＭＲ）効果多層膜、及び面内通電型巨大磁気抵抗（ＣＩＰ（Current In Plain）−ＧＭＲ）効果多層膜のうちのいずれか１つを備えている。いずれであっても、非常に高い感度で磁気ディスクからの信号磁界を感受して読み出しを行う。なお、ＭＲ効果積層体３３２がＣＩＰ−ＧＭＲ多層膜を備えている場合、上下部電極層３３４及び３３０の代わりに、ＭＲ効果積層体との間にシールドギャップ層を介する上下部シールド層がそれぞれ設けられ、さらにＭＲ効果積層体にセンス電流を供給するための素子リード導体層が設けられることになる。
【００４３】
  下部シールド層３３０は、アルティック（Ａｌ２Ｏ３−ＴｉＣ）等からなるスライダ基板２１０の素子形成面３１に積層されており、例えば、厚さ約０.３μｍ〜約３μｍのＮｉＦｅ、ＮｉＦｅＣｏ、ＣｏＦｅ、ＦｅＮ又はＦｅＺｒＮ等から形成されている。上部シールド層３３４は、例えば、厚さ約０.３μｍ〜約４μｍのＮｉＦｅ、ＮｉＦｅＣｏ、ＣｏＦｅ、ＦｅＮ又はＦｅＺｒＮ等から形成されている。なお、上下部シールド層３３４及び３３０の間隔である再生ギャップ長は、約０.０２μｍ〜約１μｍである。
【００４４】
  電磁コイル素子３４は、垂直磁気記録用であり、補助磁極層３４０、コイル層３４１、コイル絶縁層３４２、ギャップ層３４３及び主磁極層３４４を備えている。主磁極層３４４は、コイル層３４１によって誘導された磁束を、書き込みがなされる磁気ディスクの記録層まで収束させながら導くための導磁路である。ここで、主磁極層３４４のヘッド端面３００側の端部３４４ａの層厚方向の長さ（厚さ）は、他の部分に比べて小さくなっている。この結果、高記録密度化に対応した微細な書き込み磁界が発生可能となる。」（８〜９頁）
　
ニ．「【００４７】
  また、同じく図４（Ａ）において、近接場光発生層３５は、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈ若しくはＩｒ、若しくはこれらのうちのいくつかの組合せからなる合金、又はＡｌ、Ｃｕ等が添加されたこれらの合金等からなる近接場光発生部３５０及び反射部３５１を備えている。近接場光発生部３５０が有する受光面３５０ａは、素子形成面３１に対してヘッド端面３００側が上がる形で傾いていて、光ファイバ２６からヘッド端面３０１を介して入射したレーザ光が少なくとも一部に照射され得る位置に形成されている。実際の熱アシスト動作においては、コヒーレントなレーザ光が、光ファイバ２６からヘッド端面３０１を介して近接場光発生部３５０の受光面３５０ａに照射されると、Ａｕ等の内部の自由電子がレーザ光の電界によって一様に強制振動させられることによりプラズモンが励起される。このプラズモンは、近接場光発生部３５０の、ヘッド端面３００側の頂点である先端３５ａに向かって伝播し、この先端３５ａの近傍に非常に強い電界強度を有する近接場光を発生させる。この近接場光によって磁気ディスク表面の対向する局所部分が加熱される。これにより、この局所部分の保磁力が、書き込み磁界による書き込みが可能な大きさまでに低下するので、高密度記録用の高保磁力の磁気ディスクを使用しても、電磁コイル素子３４による書き込みが可能となる。」（９頁）
　
ホ．「【００５１】
  被覆層４０は、ＭＲ効果素子３３、電磁コイル素子３４及び近接場光発生層３５を覆うように、素子形成面３１上に形成されている。この被覆層４０は、積層方向（素子形成面３１に垂直である方向）において、素子形成面から主磁極層３４４の端部３４４ａを除く上面までの領域を占める第１の被覆層４００と、この上面から近接場光発生部よりも上方までの領域を占める第２の被覆層４０１と、この領域上の領域を占める第３の被覆層４０２との積層構造となっている。
【００５２】
  ここで、第２の被覆層４０１は、ヘッド端面３０１から入射した光の受光面３５０ａまでの光路をすべて含んでおり、半導体レーザ１８（図１）から発生するレーザ光の透過率が十分に高い、ＳｉＯ２又はＳｉＯ２を主成分とする酸化物によって形成されている。これにより、薄膜磁気ヘッドに入射したレーザ光の減衰をできるだけ小さくすることができるので、結果として受光面３５０ａが受ける光量が増加して近接場光発生効率が向上する。なお、第１及び第３の被覆層４００及び４０２は、被覆用として通常用いられるＡｌ２Ｏ３から形成されている。なお、第２の被覆層４０１は、受光面３５０ａまでの光路を含んでおればよいので、例えば、この光路を含む所定のトラック幅方向の幅を有する層であってもよい。この場合、この層のトラック幅方向の両側に、Ａｌ２Ｏ３からなる層を形成することにより、この層を挟む第１及び第３の被覆層間の密着強度が高まり、被覆層の機械的強度を十分に維持することができる。」（１０頁）
　
　上記引用例１の記載及び図面並びにこの分野における技術常識を考慮すると、上記ロ．の【００２６】〜【００２８】の記載、図１及び図２（Ａ）によれば、磁気ディスク装置は、薄膜磁気ヘッド（２１）を備えている。そして、薄膜磁気ヘッド（２１）は、磁気ディスク（１０）の表面に対向配置されたものである。ここで、同ロ．の【００３６】における「 本実施形態における薄膜磁気ヘッド２１は、適切な浮上量を得るように加工された媒体対向面である浮上面（ＡＢＳ）３０を有するスライダ基板２１０と、スライダ基板２１０のＡＢＳ３０に垂直な素子形成面３１上に形成された磁気ヘッド素子３２と、熱アシスト磁気記録のための近接場光を発生させる近接場光発生層３５と、素子形成面３１上に形成された被覆層４０の層面から露出した合計４つの信号端子電極３６及び３７とを備えている。」との記載、図３（Ａ）及び図４（Ａ）によれば、薄膜磁気ヘッド（２１）を構成するスライダ基板（２１０）は、磁気ディスク（１０）の表面に対向配置されることは明らかである。
　また、上記ロ．の【００３１】における「ＨＧＡ１７は、サスペンション２０の先端部に、磁気ヘッド素子を有するスライダ２１を固着し、さらにそのスライダ２１の端子電極に配線部材２５の一端を電気的に接続して構成される。」との記載、同ロ．の【００３２】における「サスペンション２０は、ロードビーム２２と、このロードビーム２２上に固着され支持された弾性を有するフレクシャ２３と、ロードビーム２２の基部に設けられたベースプレート２４と、フレクシャ２３上に設けられておりリード導体及びその両端に電気的に接続された接続パッドからなる配線部材２５とから主として構成されている。」との記載、及び図２（Ａ）（Ｂ）によれば、前述のスライダ基板（２１０）は、フレクシャ（２３）を介して、ロードビーム（２２）の先端側に支持されていることが読み取れる。ここで、図１によれば、ロードビーム（２２）は、磁気ディスク（１０）の表面に平行な方向に移動可能なものであることが見て取れる。
　また、上記ハ．の【００４４】における「電磁コイル素子３４は、垂直磁気記録用であり、補助磁極層３４０、コイル層３４１、コイル絶縁層３４２、ギャップ層３４３及び主磁極層３４４を備えている。主磁極層３４４は、コイル層３４１によって誘導された磁束を、書き込みがなされる磁気ディスクの記録層まで収束させながら導くための導磁路である。ここで、主磁極層３４４のヘッド端面３００側の端部３４４ａの層厚方向の長さ（厚さ）は、他の部分に比べて小さくなっている。この結果、高記録密度化に対応した微細な書き込み磁界が発生可能となる。」との記載、及び図４（Ａ）によれば、薄膜磁気ヘッド（２１）は、書き込み磁界を発生させる主磁極層（３４４）を有し、薄膜磁気ヘッド（２１）の先端面に固定された電磁コイル素子（３４）を備えていることが読み取れる。ここで、図３（Ａ）（Ｂ）及び図４（Ａ）によれば、電磁コイル素子（３４）は、スライダ基板（２１０）の先端面に固定されていることが見て取れる。
　また、上記ホ．の【００５２】における「第２の被覆層４０１は、ヘッド端面３０１から入射した光の受光面３５０ａまでの光路をすべて含んでおり、半導体レーザ１８（図１）から発生するレーザ光の透過率が十分に高い、ＳｉＯ２又はＳｉＯ２を主成分とする酸化物によって形成されている。これにより、薄膜磁気ヘッドに入射したレーザ光の減衰をできるだけ小さくすることができるので、結果として受光面３５０ａが受ける光量が増加して近接場光発生効率が向上する。なお、第１及び第３の被覆層４００及び４０２は、被覆用として通常用いられるＡｌ２Ｏ３から形成されている。なお、第２の被覆層４０１は、受光面３５０ａまでの光路を含んでおればよいので、例えば、この光路を含む所定のトラック幅方向の幅を有する層であってもよい。この場合、この層のトラック幅方向の両側に、Ａｌ２Ｏ３からなる層を形成することにより、この層を挟む第１及び第３の被覆層間の密着強度が高まり、被覆層の機械的強度を十分に維持することができる。」との記載、及び図４（Ａ）によれば、薄膜磁気ヘッド（２１）は、ヘッド端面（３０１）から入射されたレーザ光を透過させ、近接場光を受光面（３５０ａ）から外部に向けて発する第２の被覆層（４０１）と、第２の被覆層（４０１）の出射面を外部に露出させた状態で第２の被覆層（４０１）に密着して第２の被覆層（４０１）を内部に閉じ込める第１及び第３の被覆層（４００，４０２）とを有していることが読み取れる。ここで、第２の被覆層（４０１）、第１及び第３の被覆層をまとめると、出射面を磁気ディスク（１０）側に向けた状態で主磁極層（３４４）に隣接して固定されて、近接場光を主磁極層（３４４）の近傍に発生させるものであり、これを近接場光生成部と称することは任意である。
　また、上記ロ．の【００３３】の記載、図２（Ｂ）及び図４（Ａ）によれば、薄膜磁気ヘッド（２１）は、ヘッド端面（３０１）から第２の被覆層（４０１）内にレーザ光を導入させる光ファイバ（２６）を備えている。そして、図２（Ｂ）によれば、光ファイバ（２６）は、可撓性を有する光導波路とされ、ロードビーム（２２）に固定されながらロードビーム（２２）の先端側まで導かれた後、ロードビーム（２２）から離間していることが見て取れ、さらに、図４（Ａ）によれば、その先端が前述の近接場光生成部のヘッド端面（３０１）に配置されていることが見て取れる。
　また、上記イ．の【０００１】における「本発明は、近接場光を利用して熱アシスト磁気記録方式により信号の書き込みを行う垂直磁気記録用薄膜磁気ヘッド・・・に関する。」との記載、上記ニ．の【００４７】における「同じく図４（Ａ）において、近接場光発生層３５は、・・・光ファイバ２６からヘッド端面３０１を介して入射したレーザ光が少なくとも一部に照射され得る位置に形成されている。・・・近接場光発生部３５０の、ヘッド端面３００側の頂点である先端３５ａに向かって伝播し、この先端３５ａの近傍に非常に強い電界強度を有する近接場光を発生させる。この近接場光によって磁気ディスク表面の対向する局所部分が加熱される。これにより、この局所部分の保磁力が、書き込み磁界による書き込みが可能な大きさまでに低下するので、高密度記録用の高保磁力の磁気ディスクを使用しても、電磁コイル素子３４による書き込みが可能となる。」との記載によれば、薄膜磁気ヘッド（２１）は、レーザ光を照射して生成した近接場光により一定方向に回転する磁気ディスク（１０）を加熱すると共に、磁気ディスク（１０）に対して垂直方向の書き込み磁界を与えることで磁化反転を生じさせ、情報を記録させるものであることが読み取れる。
　
　したがって、上記引用例１には、以下の発明（以下、「引用発明１」という。）が記載されているものと認められる。
　
　「レーザ光を照射して生成した近接場光により一定方向に回転する磁気ディスク（１０）を加熱すると共に、磁気ディスク（１０）に対して垂直方向の書き込み磁界を与えることで磁化反転を生じさせ、情報を記録させる薄膜磁気ヘッド（２１）であって、
　前記磁気ディスク（１０）の表面に対向配置されたスライダ基板（２１０）と、
　前記書き込み磁界を発生させる主磁極層（３４４）を有し、前記スライダ基板（２１０）の先端面に固定された電磁コイル素子（３４）と、
　ヘッド端面（３０１）から入射されたレーザ光を透過させ、近接場光を受光面（３５０ａ）から外部に向けて発する第２の被覆層（４０１）と、第２の被覆層（４０１）の出射面を外部に露出させた状態で第２の被覆層（４０１）に密着して第２の被覆層（４０１）を内部に閉じ込める第１及び第３の被覆層（４００，４０２）とを有し、前記出射面を前記磁気ディスク（１０）側に向けた状態で前記主磁極層（３４４）に隣接して固定されて、前記近接場光を主磁極層（３４４）の近傍に発生させる近接場光生成部と、
　前記ヘッド端面（３０１）から前記第２の被覆層（４０１）内に前記レーザ光を導入させる光ファイバ（２６）と、を備え、
　前記スライダ基板（２１０）は、フレクシャ（２３）を介して、前記磁気ディスク（１０）の表面に平行な方向に移動可能なロードビーム（２２）の先端側に支持され、
　前記光ファイバ（２６）は、可撓性を有する光導波路とされ、前記ロードビーム（２２）に固定されながら該ロードビーム（２２）の先端側まで導かれた後、該ロードビーム（２２）から離間し、その先端が前記近接場光生成部の前記ヘッド端面（３０１）に配置されている薄膜磁気ヘッド（２１）。」
　
Ｂ　原審の拒絶理由に引用された国際公開第２００７／１０５３９３号（以下、「引用例２」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている。 
　
ヘ．「［０００１］
　本発明は記録ヘッド及び記録装置に関するものであり、例えば、情報記録に光を利用する微小光記録ヘッド及びそれを用いた微小光記録装置、並びに情報記録に磁界と光を利用する光アシスト式磁気記録ヘッド及びそれを用いた光アシスト式磁気記録装置に関するものである。」（１頁） 
　
ト．「［００４０］
　実施例１〜３(図２〜図４)は光路中に全反射のあるタイプの磁気記録ヘッド、実施例４(図５)は光路中に全反射のないタイプの磁気記録ヘッドであり、いずれも図１中の磁気記録ヘッド３に相当するものである。図２〜図５において、１１はスライダ、１２Ａは光導波路を有する光アシスト部、１２Ｂは磁気記録部、１２Ｃは磁気再生部、１３はシリコンベンチ、１４は光ファイバー、１５は球レンズ、１９は基板であり、図２〜図４において１７はマイクロプリズムであり、図４において１６は半球レンズであり、図５において１８はマイクロミラーである。
  ［００４１］
　実施例１〜４において、磁気記録部１２Ｂはディスク２に対して磁気情報の書き込みを行う磁気記録素子であり、磁気再生部１２Ｃはディスク２に記録されている磁気情報の読み取りを行う磁気再生素子であり、光アシスト部１２Ａはディスク２の被記録部分を近赤外レーザー光でスポット加熱するための光アシスト素子である。なお、各実施例ではディスク２の記録領域の流入側から流出側にかけて、磁気再生部１２Ｃ，光アシスト部１２Ａ，磁気記録部１２Ｂの順に配置されているが、配置順はこれに限らない。光アシスト部１２Ａの流出側直後に磁気記録部１２Ｂが位置すればよいので、例えば、光アシスト部１２Ａ，磁気記録部１２Ｂ，磁気再生部１２Ｃの順に配置してもよい。」（１０〜１１頁）
　
チ．「［００５３］
　具体例３でのコア２１ａの幅は、図１１，図１２に示すように、両方向の断面において光入力側から光出力側にかけて徐々に細くなるように変化している。つまり、具体例３における光導波路のコア２１ａの幅は、図１１に示すように、光入力側で５μｍ、光出力側で０．３μｍとなっている。この光導波路径の滑らかな変化により、モードフィールド径が変換される。このように、光導波路のコアを徐々に太く(又は厚く)なるようにすると、その形状に依存して光スポットは拡大する。光の逆進性により上記のように拡大された光スポットと同じ形状の光を入射させれば、光スポットを縮小することができる。
  ［００５４］
　前述したように、通常のレンズやＳＩＬでディスク上に光スポットを形成する場合、スポットサイズを小さくするためにＮＡを大きくとらなければならない。これは集光点に向かう光線の角度が大きいことを意味するので、光が磁気記録部や磁気再生部と干渉してしまうことになり、また、ビーム径や磁気記録ヘッドの大型化を招くことにもなる。それに対し前述した磁気記録ヘッド３では、スライダ１１に光導波路を有する構成になっているため、磁気記録部や磁気再生部との配置的干渉は問題とならない。また、光導波路の少なくとも一部で構成されるスポットサイズ変換器により、スライダ１１の上部におけるモードフィールド径を大きくしておけば、上部レンズのＮＡを小さくすることができ、ビーム径も小さくとることができるため、光学系の小型化に寄与することができる。
  ［００５５］
　通常、光導波路部の長さはスライダ厚さと一致させるが、特殊な構成ではその前後としてもよい。例えば、位置合わせ用としてスライダに凹形状(又は凸形状)を設け、逆にシリコンベンチに凸形状(又は凹形状)を設けた場合では、光導波路部の長さがスライダ厚さと一致していなくてもよい。また、スポットサイズ変換器の長さは、０．２ｍｍ以上であることが好ましい。スポットサイズ変換を急激に行うと漏れ光が発生し、この過剰損失を低減するには０．２ｍｍ以上の長さが必要となるからである。なお、具体例１〜３におけるスポットサイズ変換器の長さは、コア２１ａの幅が光入力側から光出力側にかけて徐々に変化している部分の長さに相当し、具体例１，２ではサブコア２３ａの長さに相当する。」（１６〜１７頁）
　
　上記引用例２の記載及び図面並びにこの分野における技術常識を考慮すると、上記チ．の［００５３］における「コア２１ａの幅は、図１１，図１２に示すように、両方向の断面において光入力側から光出力側にかけて徐々に細くなるように変化している。つまり、具体例３における光導波路のコア２１ａの幅は、図１１に示すように、光入力側で５μｍ、光出力側で０．３μｍとなっている。この光導波路径の滑らかな変化により、モードフィールド径が変換される。」との記載、図１１及び図１２によれば、光アシスト式磁気記録ヘッドは、光入力側から光出力側に向かう方向に直交する断面積が漸次減少するように絞り成形され、光入力側から導入された光束を内部で集光させながら光出力側に向けて伝播させてスポット光を生成すると共に、該スポット光を光出力側から外部に向けて発するコア（２１ａ）と、該コア（２１ａ）の前記他端側を少なくとも外部に露出させた状態でコア（２１ａ）に密着してコア（２１ａ）を内部に閉じ込めるクラッド（２４ａ）とを有する前記スポット光を磁気記録部の近傍に発生させる光アシスト部を備えていることが読み取れる。
　
　したがって、上記引用例２には、以下の発明（以下、「引用発明２」という。）が記載されているものと認められる。
　
　「光入力側から光出力側に向かう方向に直交する断面積が漸次減少するように絞り成形され、光入力側から導入された光束を内部で集光させながら光出力側に向けて伝播させてスポット光を生成すると共に、該スポット光を光出力側から外部に向けて発するコア（２１ａ）と、該コア（２１ａ）の前記他端側を少なくとも外部に露出させた状態でコア（２１ａ）に密着してコア（２１ａ）を内部に閉じ込めるクラッド（２４ａ）とを有する前記スポット光を磁気記録部の近傍に発生させる光アシスト部を備えている光アシスト式磁気記録ヘッド。」
　
（３）対比・判断 
　補正後の発明と引用発明１とを対比する。 
ａ．引用発明１の「レーザ光」、「磁気ディスク（１０）」、「書き込み磁界」、「スライダ基板（２１０）」、「主磁極層（３４４）」、「電磁コイル素子（３４）」、「第２の被覆層（４０１）」、「第１及び第３の被覆層（４００，４０２）」、「光ファイバ（２６）」及び「ロードビーム」は、補正後の発明の「光束」、「磁気記録媒体」、「記録磁界」、「スライダ」、「磁極」、「記録素子」、「コア」、「クラッド」、「光束導入手段」及び「ビーム」にそれぞれ相当する。
ｂ．引用発明１の「レーザ光を照射して生成した近接場光」と、補正後の発明の「光束を集光して生成したスポット光」とは、いずれも、「特定の光」という点で一致する。
ｃ．引用発明１の「ヘッド端面（３０１）から入射されたレーザ光を透過させ、近接場光を受光面（３５０ａ）から外部に向けて発する第２の被覆層（４０１）と、第２の被覆層（４０１）の出射面を外部に露出させた状態で第２の被覆層（４０１）に密着して第２の被覆層（４０１）を内部に閉じ込める第１及び第３の被覆層（４００，４０２）とを有し、前記出射面を前記磁気ディスク（１０）側に向けた状態で前記主磁極層（３４４）に隣接して固定されて、前記近接場光を主磁極層（３４４）の近傍に発生させる近接場光生成部」と、補正後の発明の「一端側から他端側に向かう方向に直交する断面積が漸次減少するように絞り成形され、一端側から導入された前記光束を内部で集光させながら他端側に向けて伝播させて前記スポット光を生成すると共に、該スポット光を他端側から外部に向けて発するコアと、該コアの前記他端側を少なくとも外部に露出させた状態でコアに密着してコアを内部に閉じ込めるクラッドとを有し、前記他端側を前記磁気記録媒体側に向けた状態で前記磁極に隣接して固定されて、前記スポット光を磁極の近傍に発生させるスポット光生成素子」とは、引用発明１の「ヘッド端面（３０１）」及び「出射面」は、光束（レーザ光）を導入する側及び出射する側であるから、それぞれ「一端側」及び「他端側」ということができ、また、上記ａ．の対比を考慮すれば、いずれも、「一端側から導入された光束により特定の光を他端側から外部に向けて発するコアと、該コアの前記他端側を少なくとも外部に露出させた状態でコアに密着してコアを内部に閉じ込めるクラッドとを有し、前記他端側を前記磁気記録媒体側に向けた状態で前記磁極に隣接して固定されて、前記特定の光を磁極の近傍に発生させる特定の光生成部」という点で一致する。
ｄ．引用発明１の「フレクシャ（２３）」と、補正後の発明の「前記磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する２軸回りに回動自在とされたジンバル部」とは、いずれも、「スライダを支持する中間部」という点で一致する。
ｅ．引用発明１の「薄膜磁気ヘッド（２１）」は、「記録ヘッド」の一種である。
　
 　したがって、補正後の発明と引用発明１は、以下の点で一致ないし相違している。 
 　 
（一致点） 
　「特定の光により一定方向に回転する磁気記録媒体を加熱すると共に、磁気記録媒体に対して垂直方向の記録磁界を与えることで磁化反転を生じさせ、情報を記録させる記録ヘッドであって、
　前記磁気記録媒体の表面に対向配置されたスライダと、
　前記記録磁界を発生させる磁極を有し、前記スライダの先端面に固定された記録素子と、
　一端側から導入された光束により特定の光を他端側から外部に向けて発するコアと、該コアの前記他端側を少なくとも外部に露出させた状態でコアに密着してコアを内部に閉じ込めるクラッドとを有し、前記他端側を前記磁気記録媒体側に向けた状態で前記磁極に隣接して固定されて、前記特定の光を磁極の近傍に発生させる特定の光生成部と、
　前記一端側から前記コア内に前記光束を導入させる光束導入手段と、を備え、
　前記スライダは、スライダを支持する中間部を介して、前記磁気記録媒体の表面に平行な方向に移動可能なビームの先端側に支持され、
　前記光束導入手段は、可撓性を有する光導波路とされ、前記ビームに固定されながら該ビームの先端側まで導かれた後、該ビームから離間し、その先端が前記特定の光生成部の前記一端側に配置されていることを特徴とする記録ヘッド。」
　
（相違点１）
　「特定の光」に関し、
　補正後の発明は、「光束を集光して生成したスポット光」であるのに対し、引用発明１は、「レーザ光を照射して生成した近接場光」である点。
　
（相違点２）
　「一端側から導入された光束により特定の光を他端側から外部に向けて発するコアと、該コアの前記他端側を少なくとも外部に露出させた状態でコアに密着してコアを内部に閉じ込めるクラッドとを有し、前記他端側を前記磁気記録媒体側に向けた状態で前記磁極に隣接して固定されて、前記特定の光を磁極の近傍に発生させる特定の光生成部」に関し、
　補正後の発明は、「一端側から他端側に向かう方向に直交する断面積が漸次減少するように絞り成形され、一端側から導入された前記光束を内部で集光させながら他端側に向けて伝播させて前記スポット光を生成すると共に、該スポット光を他端側から外部に向けて発するコアと、該コアの前記他端側を少なくとも外部に露出させた状態でコアに密着してコアを内部に閉じ込めるクラッドとを有し、前記他端側を前記磁気記録媒体側に向けた状態で前記磁極に隣接して固定されて、前記スポット光を磁極の近傍に発生させるスポット光生成素子」であるのに対し、引用発明１は、「ヘッド端面（３０１）から入射されたレーザ光を透過させ、近接場光を受光面（３５０ａ）から外部に向けて発する第２の被覆層（４０１）と、第２の被覆層（４０１）の出射面を外部に露出させた状態で第２の被覆層（４０１）に密着して第２の被覆層（４０１）を内部に閉じ込める第１及び第３の被覆層（４００，４０２）とを有し、前記出射面を前記磁気ディスク（１０）側に向けた状態で前記主磁極層（３４４）に隣接して固定されて、前記近接場光を主磁極層（３４４）の近傍に発生させる近接場光生成部」である点。
　
（相違点３）
　「特定の光生成部」の態様に関し、
　補正後の発明は、「前記スポット光生成素子は、前記スライダの厚みよりも長く形成され、前記コアのうち前記絞り成形された部分における前記厚み方向の長さが前記スライダの厚みよりも長く形成されることで、前記コアの断面積の減少率が所定値以下となるように長さが調整され」ているのに対し、引用発明１は、その様な特定がない点。
　
（相違点４）
　「スライダを支持する中間部」に関し、
　補正後の発明は、「前記磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する２軸回りに回動自在とされたジンバル部」であるのに対し、引用発明１は、「フレクシャ（２３）」である点。
　
　そこで、まず、上記相違点１及び２について検討する。 
　引用発明１及び引用発明２は、レーザ光を補助的に用いて磁気記録媒体を加熱すると共に、垂直磁気記録をする記録ヘッドという共通の技術分野に属し、引用発明１に引用発明２を採用する際に特段の阻害要因は見あたらない。そして、スポット光と近接場光のいずれを採用するかは適宜なし得る設計的事項であるから、補正後の発明のように「一端側から他端側に向かう方向に直交する断面積が漸次減少するように絞り成形され、一端側から導入された前記光束を内部で集光させながら他端側に向けて伝播させて前記スポット光を生成すると共に、該スポット光を他端側から外部に向けて発するコアと、該コアの前記他端側を少なくとも外部に露出させた状態でコアに密着してコアを内部に閉じ込めるクラッドとを有し、前記他端側を前記磁気記録媒体側に向けた状態で前記磁極に隣接して固定されて、前記スポット光を磁極の近傍に発生させるスポット光生成素子」とすること（相違点２）は当業者が容易になし得ることである。その際、「特定の光」に関し、補正後の発明のように「光束を集光して生成したスポット光」となること（相違点１）は当然である。
　
　次に、上記相違点３について検討する。
　上記引用例２の上記チ．の［００５５］における「通常、光導波路部の長さはスライダ厚さと一致させるが、特殊な構成ではその前後としてもよい。例えば、位置合わせ用としてスライダに凹形状(又は凸形状)を設け、逆にシリコンベンチに凸形状(又は凹形状)を設けた場合では、光導波路部の長さがスライダ厚さと一致していなくてもよい。また、スポットサイズ変換器の長さは、０．２ｍｍ以上であることが好ましい。スポットサイズ変換を急激に行うと漏れ光が発生し、この過剰損失を低減するには０．２ｍｍ以上の長さが必要となるからである。」との記載があり、スポット光生成素子を、スライダの厚みより長くし、光伝搬効率を考慮することが示唆されているから、補正後の発明のように「前記スポット光生成素子は、前記スライダの厚みよりも長く形成され、前記コアのうち前記絞り成形された部分における前記厚み方向の長さが前記スライダの厚みよりも長く形成されることで、前記コアの断面積の減少率が所定値以下となるように長さが調整され」ていることは格別なことではない。
　
　次に、上記相違点４について検討する。
　記録ヘッドの技術分野において、磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する２軸回りに回動自在とされたジンバル部を設けることは、例えば、特開平９−１６７３２４号公報（段落【００２６】〜【００２８】、図２、３）、特開平９−１６９３２号公報（段落【００５３】、【００５４】、図１）に開示されるように周知であるから、補正後の発明のように「前記磁気記録媒体の表面に平行で且つ互いに直交する２軸回りに回動自在とされたジンバル部」とすることは当業者が容易になし得ることである。
　
　そして、補正後の発明の作用効果も、引用発明１、２及び周知技術から当業者が容易に予測できる範囲のものである。 
 　 
　以上のとおり、補正後の発明は引用発明１、２及び周知技術に基づいて容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。 
 　 
４．結語 
　したがって、本件補正は、特許法第１７条の２第６項において準用する同法第１２６条第７項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。  
 　 
第３　本願発明について 
１．本願発明 
　平成２４年７月１１日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願発明は、上記「第２　補正却下の決定　１．本願発明と補正後の発明」の項で「本願発明」として認定したとおりである。 
　 
２．引用発明 
　引用発明は、上記「第２　補正却下の決定」の項中の「３．独立特許要件について」の項中の「（２）引用発明」の項で認定したとおりである。 
 　 
３．対比・判断 
　本願発明は上記補正後の発明から当該本件補正に係る限定を省いたものである。 
　そうすると、本願発明の構成に当該本件補正に係る限定を付加した補正後の発明が、上記「第２　補正却下の決定」の項中の「３．独立特許要件について」の項で検討したとおり、引用発明１、２及び周知技術に基づいて容易に発明できたものであるから、本願発明も同様の理由により、容易に発明できたものである。 
　 
４．むすび 
　以上のとおり、本願発明は、引用発明１、２及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 
 　 
　よって、結論のとおり審決する。