【事件の表示】
　特願２００９−５２６３３１「液晶表示装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２１年　２月１２日国際公開、ＷＯ２００９／０１９８３９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯・本願発明
　本願は、平成２０年８月１日（優先権主張平成１９年８月９日）を国際出願日とする出願であって、平成２４年６月１５日付けで手続補正がなされたところ、同年７月３１日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年１１月２日に拒絶査定不服審判請求がなされたものである。
　
　そして、本願の請求項に係る発明は、平成２４年６月１５日付け手続補正後の明細書、特許請求の範囲及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜８に記載された事項によって特定されるものと認められるところ、その請求項１に係る発明は次のものである。
　
「液晶層と、
　前記液晶層の観察者側に配置された第１基板と、
　前記液晶層を介して前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、
　前記液晶層と前記第２基板との間に設けられた鏡面反射層と、
　前記液晶層に電圧を印加する一対の電極と、
　前記第１基板の観察者側に配置された偏光層と、
　前記液晶層と前記偏光層との間に配置された位相差層と、
　前記偏光層の観察者側に設けられた光散乱層であって、光散乱性を有するマクロな凹凸構造と、前記マクロな凹凸構造に重畳的に形成された可視光の波長よりも小さいミクロな凹凸構造とを有する散乱性表面を備える光散乱層と
を有し、
　前記光散乱層と前記液晶層との距離は、画素ピッチの３倍以下である、液晶表示装置。」（以下「本願発明」という。）
　
　
２　引用刊行物の記載事項
（１）引用刊行物１
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００２−３１８３８３号公報（以下「引用刊行物１」という。）には、図とともに下記の事項が記載されている。
　
　ア　「【００１５】…本発明は…、その目的は散乱構造を簡易化するとともに、後方散乱をなくし、そして、光学補償が容易な構造を採用することで、コントラストを高め、優れた表示品位を達成した反射型液晶表示装置を提供することにある。」
　
　イ　「【００１８】図１は本発明の反射型液晶表示装置の概略断面図であり、…。
【００１９】６は…表示面側に偏光板を配した基板であり、１５は…鏡面の金属反射膜を形成した他の基板である。
【００２０】ガラスや合成樹脂などからなる基板１５の上にＡｌ，ＡｌＣＭｇ，ＡｌＮｄ，Ａｇ，ＡｇＰｄ，ＡｇＰｄＣｕ、誘電体ミラー等からなる反射膜１４を形成し、基板上を鏡面にする。
【００２１】この反射膜１４の上にカラーフィルタ１３を形成し、このカラーフィルタ１３上にガラスやアクリル系樹脂などからなるオーバーコート層１２を被膜させ、オーバーコート層１２上にＩＴＯなどからなる透明電極１１を複数配列し、この透明電極１１の上にポリイミド樹脂などからなる配向膜１０を塗布形成している。
…
【００２３】ガラスや合成樹脂などからなる基板６の上にはＩＴＯなどから成る透明電極７を複数配列し、この透明電極７の上にポリイミド樹脂などからなる配向膜８を塗布形成している。さらに基板６の外側面にはポリカーボネイトなどからなる第一位相差フィルム５と、ポリカーボネイトなどからなる第二位相差フィルム４と、ヨウ素系の偏光板３とを順次形成している。…
【００２４】また、偏光板３の表示面側の主面に複数の凸部（底面がほぼ円形状）を並べて凸形配列群２を形成し、この凸形配列群２の上に反射防止膜１を被覆している。そして、両基板６、１５は、たとえば２００〜２６０°の角度でツイストされたカイラルネマチック液晶からなる液晶層９を介してシール部材により貼り合わせている。また、液晶層９にはスペーサを多数配して、その厚みを一定にしている。
…
【００３５】この反射防止膜１として低屈折率層ＭｇＦ２（ｎ＝１．３８）をスパッタリング法や蒸着法にて成膜した。
【００３６】通常の偏光板（まったく表面処理を施していない偏光板）では、入射光に対して４％の反射率があるのに対して、従来の偏光板上に偏光板に比べて低屈折率層を配置した構造では１％の反射率となる。
【００３７】かくして本例の反射型液晶表示装置においては、反射防止膜１を設けることで、後方散乱光が抑制され、これにより、コントラストの低下を防ぎ、その結果、表示品位を上げることができた。
…
【００４５】以上のように、本発明によれば、偏光板３上に凸形配列群２を形成したことで、その散乱機能でもって、入射光が液晶層に入らずに後方に散乱した場合、液晶層は黒表示モードを示しているにも係わらず、若干の後方散乱光が見えるというコントラストの劣化が生じたり、表示がぼやけるといった問題点があった。しかし、本発明のように反射防止膜１を設けることで、後方散乱光が抑制され、これにより、コントラストの低下を防ぎ、表示品位が向上する。
【００４６】かくして本発明の如く、コントラストが高く、表示品位の高い反射型液晶表示装置を実現する簡易化した散乱構造になるが、偏光板３に凸形配列群２を形成して、光散乱機能の役目を果たすとともに、凸形配列群２上の反射防止膜１にて偏光板表面反射の防眩性の役目も果たしている。」
　
　ウ　上記イの【００１９】及び【００２４】から、図１に示された「反射型液晶表示装置」は、「表示面側に偏光板を配した基板６」と「鏡面の金属反射膜を形成した他の基板１５」の間に、「たとえば２００〜２６０°の角度でツイストされたカイラルネマチック液晶からなる液晶層９」を介して「シール部材」により貼り合わせてなるものであるといえる。
　
　上記の記載を総合すると、引用刊行物１には、次の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されていると認められる。
　
「表示面側に偏光板を配した基板６と鏡面の金属反射膜を形成した他の基板１５の間に、たとえば２００〜２６０°の角度でツイストされたカイラルネマチック液晶からなる液晶層９を介してシール部材により貼り合わせてなる反射型液晶表示装置であって、
　ガラスや合成樹脂などからなる基板１５の上にＡｌ，ＡｌＣＭｇ，ＡｌＮｄ，Ａｇ，ＡｇＰｄ，ＡｇＰｄＣｕ、誘電体ミラー等からなる反射膜１４を形成し、基板上を鏡面にし、この反射膜１４の上にカラーフィルタ１３を形成し、このカラーフィルタ１３上にガラスやアクリル系樹脂などからなるオーバーコート層１２を被膜させ、オーバーコート層１２上にＩＴＯなどからなる透明電極１１を複数配列し、この透明電極１１の上にポリイミド樹脂などからなる配向膜１０を塗布形成し、
　ガラスや合成樹脂などからなる基板６の上にはＩＴＯなどから成る透明電極７を複数配列し、この透明電極７の上にポリイミド樹脂などからなる配向膜８を塗布形成し、
　さらに基板６の外側面にはポリカーボネイトなどからなる第一位相差フィルム５と、ポリカーボネイトなどからなる第二位相差フィルム４と、ヨウ素系の偏光板３とを順次形成し、
　また、偏光板３の表示面側の主面に複数の凸部（底面がほぼ円形状）を並べて凸形配列群２を形成し、この凸形配列群２の上に反射防止膜１を被覆し、
　この反射防止膜１として低屈折率層ＭｇＦ２をスパッタリング法や蒸着法にて成膜し、
　反射防止膜１を設けることで、後方散乱光が抑制され、これにより、コントラストの低下を防ぎ、その結果、表示品位を上げることができ、
　偏光板３上に凸形配列群２を形成したことで、その散乱機能でもって、入射光が液晶層に入らずに後方に散乱した場合、液晶層は黒表示モードを示しているにも係わらず、若干の後方散乱光が見えるというコントラストの劣化が生じたり、表示がぼやけるといった問題点があったところ、反射防止膜１を設けることで、後方散乱光が抑制され、これにより、コントラストの低下を防ぎ、表示品位が向上する、反射型液晶表示装置。」
　
（２）引用刊行物２
　同じく、特開２００５−１３２６６０号公報（以下「引用刊行物２」という。）には、図とともに下記の事項が記載されている。
　
　ア　「【０００１】
　本発明は、大面積に亘って、パターンずれの発生しない、高精度な無反射構造を有する光学素子を製造する方法、及び当該方法により製造された無反射構造を有する光学素子に関する。」
　
　イ　「【００２５】
  ［第１の実施の形態］
  本実施の形態においては、本発明の無反射構造を有する光学素子として、片面にピッチ０．１５μｍ、高さ０．１５μｍの円錐型の微細構造を有する平板光学素子を例に挙げて説明する。
【００２６】
  図１は無反射構造を有する光学素子のプレス成形用金型を作製するための無反射構造成形用マスター金型を示す断面図である。
【００２７】
  図１中、１は２０ｍｍ×２０ｍｍ×５ｍｍの石英ガラス基板である。…石英ガラス基板１の表面（プレス面）には、ピッチ０．１５μｍ、高さ０．１５μｍの円錐型の無反射構造２が形成されており、この無反射構造２が形成された石英ガラス基板１が無反射構造成形用マスター金型３として用いられる。
…
【００２９】
  以下、上記のような構成を有する無反射構造成形用マスター金型３を用いて、無反射構造を有する光学素子をプレス成形するための無反射構造成形用レプリカ金型を作製する方法について、図３、図４を参照しながら説明する。…
【００３０】
  図３（ａ）に示すように、まず、チャンバー１５で覆われ、雰囲気ガス導入口１８からＮ２ガスを導入した成形機の上ヘッド５に、上記した無反射構造成形用マスター金型３を上型６として固定し、当該上型６をプレスステージ８と共に所定の温度（ここでは、７５０℃）まで昇温した。また、予熱ステージ７も７５０℃まで昇温した。そして、光学材料よりも耐熱性に優れた１５ｍｍ×１５ｍｍ×１．０ｍｍの高融点ガラスであるアルカリフリーガラス（転移点（Ｔｇ）：６２５℃、屈伏点（Ａｔ）：６９６℃）２０を下型１０の上に載せ、当該高融点ガラス２０が載せられた下型１０を、チャンバー１５の金型投入口１２から成形機内に投入して、７５０℃に設定された予熱ステージ７で２分間加熱した。ここで、アルカリフリーガラス２０の表面には、離型のためのチッ化硼素（ＢＮ）微粒子離型剤２１が塗布されている（図４（ａ）参照）。
【００３１】
  次に、図３（ｂ）に示すように、アルカリフリーガラス２０が載せられた下型１０を、予熱ステージ７から同じく７５０℃に設定されたプレスステージ８に搬送した。次いで、シリンダー１３を下降させて、同じく７５０℃に設定され、かつ、上ヘッド５に固定された上型６により、アルカリフリーガラス２０を２０００Ｎの加圧力で２分間プレスした（図４（ａ）、（ｂ）参照）。そして、冷却せずに（そのままの温度で）シリンダー１３を上昇させることにより、上ヘッド５と共に上型６を上昇させて、上型６を、プレス成形したアルカリフリーガラス２０から離型させた（図４（ｂ）、（ｃ）参照）。ここで、冷却せずに（高温のままで）、上型６を、プレス成形したアルカリフリーガラス２０から離型させることができるのは、ＢＮ粒子とアルカリフリーガラス２０とのぬれ性が悪いからである。すなわち、…ＢＮ粒子（あるいはＣ粒子）は、アルカリフリーガラス２０とのぬれ性が非常に悪いため、冷却せずに（高温のままで）離型させることができる。上型６がプレス成形された高融点ガラス２０から離型すると、プレス成形された高融点ガラス２０は下型１０の上に載った状態となる。
【００３２】
  次に、図３（ｃ）に示すように、プレス成形された高融点ガラス２０が載せられた下型１０を、プレスステージ８から４００℃に設定された冷却ステージ９に搬送し、そこで２分間冷却した。
【００３３】
  最後に、チャンバー１５の金型取り出し口１４から下型１０と共にプレス成形された高融点ガラス２０を外部に取り出し、プレス成形された高融点ガラス２０を下型１０から取り外した後、離型剤２１を除去し、スパッタリング法を用いて、表面保護のためのＩｒ−Ｒｈ合金膜を０．０５μｍの厚みで形成した。これにより、無反射構造成形用レプリカ金型２２が得られた（図４（ｃ）参照）。
【００３４】
  以下、上記のような構成を有する無反射構造成形用レプリカ金型２２と下金型４を用いて、無反射構造を有する光学素子を製造する方法について説明する。…
【００３５】
  図５中、２２は無反射構造成形用レプリカ金型であり、下金型４は、以下のような構造を有している。すなわち、２０ｍｍ×２０ｍｍ×５ｍｍのＷＣを主成分とする超硬合金の中央部分に、１５ｍｍ×１５ｍｍ×０．５ｍｍの窪み４ａが形成され、窪み４ａが形成された表面には、スパッタリング法を用いて、表面保護のためのＩｒ−Ｒｈ合金膜が０．５μｍの厚みで形成されている。
【００３６】
  図６（ａ）に示すように、まず、チャンバー１５で覆われ、雰囲気ガス導入口１８からＮ２ガスを導入した成形機の上ヘッド５に、上記した無反射構造成形用レプリカ金型２２を上型６として固定し、当該上型６をプレスステージ８と共に所定の温度（ここでは、５９０℃）まで昇温した。また、予熱ステージ７も５９０℃まで昇温した。そして、上記した下金型４を下型１０として用い、１５ｍｍ×１５ｍｍ×１．０ｍｍのクラウン系の硼珪酸ガラス（転移点（Ｔｇ）：５０１℃、屈伏点（Ａｔ）：５４９℃）を、光学材料１１として下型１０の上に載せ、光学材料１１が載せられた下型１０を、チャンバー１５の金型投入口１２から成形機内に投入して、５９０℃に設定された予熱ステージ７で３分間加熱した。ここで、光学材料１１の表面には、離型のためのチッ化硼素（ＢＮ）微粒子離型剤１６が塗布されている（図７（ａ）参照）。
【００３７】
  次に、図６（ｂ）に示すように、光学材料１１が載せられた下型１０を、予熱ステージ７から同じく５９０℃に設定されたプレスステージ８に搬送した。次いで、シリンダー１３を下降させて、同じく５９０℃に設定され、かつ、上ヘッド５に固定された上型６により、光学材料１１を１０００Ｎの加圧力で３分間プレスした（図７（ａ）、（ｂ）参照）。そして、冷却せずに（そのままの温度で）シリンダー１３を上昇させることにより、上ヘッド５と共に上型６を上昇させて、上型６を、プレス成形された光学材料１１から離型させた（図７（ｂ）、（ｃ）参照）。ここで、冷却せずに（高温のままで）、上型６を、プレス成形した光学材料１１から離型させることができるのは、上記と同様の理由による。上型６がプレス成形された光学材料１１から離型すると、プレス成形された光学材料１１は下型１０の上に載った状態となる。
【００３８】
  次に、図６（ｃ）に示すように、プレス成形された光学材料１１が載せられた下型１０を、プレスステージ８から３００℃に設定された冷却ステージ９に搬送し、そこで３分間冷却した。
【００３９】
  最後に、チャンバー１５の金型取り出し口１４から下型１０と共にプレス成形された光学材料１１を外部に取り出し、プレス成形された光学材料１１を下型１０から取り外した後、離型剤１６を除去した。これにより、無反射構造を有する光学素子１７が得られた（図７（ｃ）参照）。
【００４０】
  本実施の形態によれば、上記のように、冷却せずに上型６（無反射構造成形用マスター金型３）をプレス成形した高融点ガラス２０から離型させることが可能になると共に、冷却せずに上型６（無反射構造成形用レプリカ金型２２）をプレス成形した光学材料１１から離型させることが可能となるので、上型６（無反射構造成形用マスター金型３）とプレス成形される高融点ガラス２０との熱膨張率の差に起因する熱応力の発生、及び上型６（無反射構造成形用レプリカ金型２２）とプレス成形される光学材料１１との熱膨張率の差に起因する熱応力の発生をともに防止して、無反射構造成形用マスター金型３→無反射構造成形用レプリカ金型２２→光学材料１１の順番で転写されるパターンの精度の劣化を抑えることができる。その結果、大面積に亘って、パターンずれの発生しない、高精度な無反射構造を有する光学素子１７を、繰り返し成形することが可能となる。」
　
　ウ　「【００５９】
　［第４の実施の形態］
　本実施の形態においては、本発明の無反射構造を有する光学素子として、ピッチ０．１５μｍ、高さ０．１５μｍの円錐型の微細構造を有する、ピッチ５０μｍ、中心高さ３μｍ、曲率半径１００μｍの凸面形状のマイクロレンズアレイを製造する場合について説明する。
【００６０】
　本実施の形態においては、無反射構造を有する光学素子のプレス成形用金型を作製するための無反射構造成形用マスター金型として、以下のようにして作製した金型を用いた。…
【００６１】
　図８（ａ）に示すように、まず、無反射構造成形用マスター金型となる、２０ｍｍ×２０ｍｍ×５ｍｍの石英ガラス基板２９の表面を、高精密研削加工及び研磨加工によって平滑に加工した（Ｒａ約２ｎｍ）。次いで、図８（ｂ）に示すように、平滑に加工された石英ガラス基板２９の表面に、スピンコート法を用いて、フォトレジスト３０を３μｍの厚みで形成した。次いで、図８（ｃ）に示すように、フォトレジスト３０が形成された石英ガラス基板２９の表面に、ピッチ５０μｍの円形パターンが形成されたフォトマスクを介して、紫外線を照射した後、現像を行って、感光していない部分を除去することにより、円柱状のフォトレジストパターン３１を形成した。次いで、図８（ｄ）に示すように、フォトレジストが溶融する温度（２００℃）に基板全体を加熱し、それぞれの円柱状のフォトレジストが表面張力によってマイクロレンズ形状になるまで、加熱溶融を行った。これにより、石英ガラス基板２９の表面に半球状のフォトレジストパターン３２が形成された。次いで、図８（ｅ）に示すように、半球状のフォトレジストパターン３２が形成された石英ガラス基板２９を、冷却した後、ＲＦドライエッチング装置の中に入れ、ＣＨＦ３＋Ｏ２ガスを用いて、石英ガラス基板２９の表面をエッチングした。これにより、石英ガラス基板２９の表面に、ピッチ５０μｍ、高さ３μｍのマイクロレンズアレイ３３が形成され、石英マイクロレンズアレイ３４が得られた。
【００６２】
　続いて、以上のようにして作製した石英マイクロレンズアレイ３４の表面に、図９の工程により、無反射構造を形成した。
【００６３】
　図９（ａ）に示すように、まず、石英マイクロレンズアレイ３４の表面に、スピンコート法を用いて、Ｘ線リソグラフィ用レジストであるＰＭＭＡレジスト３５を０．５μｍの厚みで形成した。次いで、図９（ａ）、（ｂ）に示すように、Ｘ線３６を照射しながらＸ線リソグラフィ用マスク３７を高精度に移動させて現像することにより、石英マイクロレンズアレイ３４の表面に、無反射構造に対応するマスク３８として、ＰＭＭＡレジストからなる直径０．１５μｍ、高さ０．３μｍの円錐状パターンをピッチ０．１５μｍで形成した。このマスク３８は、使用波長以下のピッチでアレイ状に形成されている。次いで、図９（ｃ）に示すように、ＰＭＭＡレジストからなるマスク３８が形成された石英マイクロレンズアレイ３４を、ＲＦドライエッチング装置の中に入れ、ＣＨＦ３＋Ｏ２ガスを用いて、石英マイクロレンズアレイ３４の表面をエッチングした。これにより、石英マイクロレンズアレイ３４の表面に、ピッチ０．１５μｍ、高さ０．１５μｍの円錐型の無反射構造３９が形成された。最後に、円錐型の無反射構造３９が形成された石英マイクロレンズアレイ３４の表面に、スパッタリング法を用いて、Ｃｒ膜を介して表面保護のためのＩｒ−Ｒｈ合金膜を０．０５μｍの厚みで形成した。以上により、無反射構造成形用マスター金型４０が得られた。
【００６４】
  尚、無反射構造成形用マスター金型４０を用いて、無反射構造を有する光学素子としてのマイクロレンズアレイをプレス成形するための無反射構造成形用レプリカ金型を作製する方法、及び無反射構造成形用レプリカ金型と下金型を用いて、無反射構造を有する光学素子としてのマイクロレンズアレイを製造する方法は、上記第１の実施の形態と同様である…。
【００６５】
　本実施の形態によっても、上記第１の実施の形態と同様の理由により、冷却せずに上型６（無反射構造成形用マスター金型４０）をプレス成形したアルカリフリーガラス２０から離型させることが可能になると共に、冷却せずに上型６（無反射構造成形用レプリカ金型）をプレス成形した光学材料１１から離型させることが可能となるので、大面積に亘って、パターンずれの発生しない、高精度な無反射構造を有する光学素子としてのマイクロレンズアレイを、繰り返し成形することが可能となる。
【００６６】
　以上のように、本実施の形態によれば、反転形状である凹面形状を有する金型を作製することが非常に困難であるマイクロレンズアレイ成形用金型を容易に作製することが可能となり、マイクロレンズアレイの表面に無反射構造を形成することが非常に容易になる。」
　
　エ　上記ウの「【００６４】…無反射構造成形用マスター金型４０を用いて、無反射構造を有する光学素子としてのマイクロレンズアレイをプレス成形するための無反射構造成形用レプリカ金型を作製する方法、及び無反射構造成形用レプリカ金型と下金型を用いて、無反射構造を有する光学素子としてのマイクロレンズアレイを製造する方法は、上記第１の実施の形態と同様である…」との記載、及びイの【００２９】〜【００４０】の記載に照らせば、上記ウの［第４の実施の形態］で製造される「無反射構造を有する光学素子として、ピッチ０．１５μｍ、高さ０．１５μｍの円錐型の微細構造を有する、ピッチ５０μｍ、中心高さ３μｍ、曲率半径１００μｍの凸面形状のマイクロレンズアレイ」は、上記ウの【００６１】〜【００６３】の方法で作製された「無反射構造成形用マスター金型４０」を、「（表面に離型のためのチッ化硼素（ＢＮ）微粒子離型剤２１が塗布された）アルカリフリーガラス２０」にプレス成形して「無反射構造成型用レプリカ金型２２」を得、その後、当該「無反射構造成型用レプリカ金型２２」を、「（表面に離型のためのチッ化硼素（ＢＮ）微粒子離型剤２１が塗布された）光学材料１１」にプレス成形することにより作製されるものであるといえる。
　
　上記の記載を総合すると、引用刊行物２には、次の発明（以下「引用発明２」という。）が記載されていると認められる。
　
「石英マイクロレンズアレイ３４の表面に、スピンコート法を用いて、Ｘ線リソグラフィ用レジストであるＰＭＭＡレジスト３５を０．５μｍの厚みで形成し、次いで、Ｘ線３６を照射しながらＸ線リソグラフィ用マスク３７を高精度に移動させて現像することにより、石英マイクロレンズアレイ３４の表面に、無反射構造に対応するマスク３８として、ＰＭＭＡレジストからなる直径０．１５μｍ、高さ０．３μｍの円錐状パターンをピッチ０．１５μｍで形成し、次いで、ＰＭＭＡレジストからなるマスク３８が形成された石英マイクロレンズアレイ３４を、ＲＦドライエッチング装置の中に入れ、ＣＨＦ３＋Ｏ２ガスを用いて、石英マイクロレンズアレイ３４の表面をエッチングし、これにより、石英マイクロレンズアレイ３４の表面に、ピッチ０．１５μｍ、高さ０．１５μｍの円錐型の無反射構造３９が形成され、最後に、円錐型の無反射構造３９が形成された石英マイクロレンズアレイ３４の表面に、スパッタリング法を用いて、Ｃｒ膜を介して表面保護のためのＩｒ−Ｒｈ合金膜を０．０５μｍの厚みで形成し、以上により、無反射構造成形用マスター金型４０を得、
　該無反射構造成形用マスター金型４０を、表面に離型のためのチッ化硼素（ＢＮ）微粒子離型剤２１が塗布されたアルカリフリーガラス２０にプレス成形して無反射構造成型用レプリカ金型２２を得、
　その後、当該無反射構造成型用レプリカ金型２２を、表面に離型のためのチッ化硼素（ＢＮ）微粒子離型剤２１が塗布された光学材料１１にプレス成形することにより作製される、無反射構造を有する光学素子として、ピッチ０．１５μｍ、高さ０．１５μｍの円錐型の微細構造を有する、ピッチ５０μｍ、中心高さ３μｍ、曲率半径１００μｍの凸面形状のマイクロレンズアレイ。」
　
　
３　対比
　本願発明と引用発明１を対比する。
　
（１）引用発明１は、「表示面側に偏光板を配した基板６と鏡面の金属反射膜を形成した他の基板１５の間に、たとえば２００〜２６０°の角度でツイストされたカイラルネマチック液晶からなる液晶層９を介してシール部材により貼り合わせてなる」ものであるから、引用発明１の「液晶層９」、「（表示面側に偏光板を配した）基板６」及び「（鏡面の金属反射膜を形成した他の）基板１５」は、それぞれ、本願発明の「液晶層」、「（前記液晶層の観察者側に配置された）第１基板」及び「（前記液晶層を介して前記第１基板に対向するように配置された）第２基板」に相当する。
　
（２）引用発明１は、「…基板１５の上にＡｌ，ＡｌＣＭｇ，ＡｌＮｄ，Ａｇ，ＡｇＰｄ，ＡｇＰｄＣｕ、誘電体ミラー等からなる反射膜１４を形成し、基板上を鏡面にし、この反射膜１４の上にカラーフィルタ１３を形成し、このカラーフィルタ１３上に…オーバーコート層１２を被膜させ、オーバーコート層１２上にＩＴＯなどからなる透明電極１１を複数配列」するとともに、「…基板６の上にはＩＴＯなどから成る透明電極７を複数配列」するものであるから、引用発明１の「反射膜１４」及び「『透明電極１１』及び『透明電極７』」は、それぞれ、本願発明の「（前記液晶層と前記第２基板との間に設けられた）鏡面反射層」及び「（前記液晶層に電圧を印加する）一対の電極」に相当する。
　
（３）引用発明１は、「基板６の外側面にはポリカーボネイトなどからなる第一位相差フィルム５と、ポリカーボネイトなどからなる第二位相差フィルム４と、ヨウ素系の偏光板３とを順次形成」するものであるから、引用発明１の「偏光板３」及び「『第一位相差フィルム５』及び『第二位相差フィルム４』」は、それぞれ、本願発明の「（前記第１基板の観察者側に配置された）偏光層」及び「（前記液晶層と前記偏光層との間に配置された）位相差層」に相当する。
　
（４）引用発明１は、「偏光板３の表示面側の主面に複数の凸部…を並べて凸形配列群２を形成」するものであり、該「凸形配列群２」は「（光の）散乱機能」を有するものであるから、引用発明１の「凸形配列群２」と、本願発明の「前記偏光層の観察者側に設けられた光散乱層であって、光散乱性を有するマクロな凹凸構造と、前記マクロな凹凸構造に重畳的に形成された可視光の波長よりも小さいミクロな凹凸構造とを有する散乱性表面を備える光散乱層」とは、「前記偏光層の観察者側に設けられた光散乱層であって、光散乱性を有するマクロな凹凸構造を有する散乱性表面を備える光散乱層」である点で一致する。
　
（５）引用発明１の「反射型液晶表示装置」は、本願発明の「液晶表示装置」に相当する。
　
　よって、本願発明と引用発明１とは、
「液晶層と、
　前記液晶層の観察者側に配置された第１基板と、
　前記液晶層を介して前記第１基板に対向するように配置された第２基板と、
　前記液晶層と前記第２基板との間に設けられた鏡面反射層と、
　前記液晶層に電圧を印加する一対の電極と、
　前記第１基板の観察者側に配置された偏光層と、
　前記液晶層と前記偏光層との間に配置された位相差層と、
　前記偏光層の観察者側に設けられた光散乱層であって、光散乱性を有するマクロな凹凸構造を有する散乱性表面を備える光散乱層と
を有する、液晶表示装置。」
の点で一致し、以下の点で相違するものと認められる。  
 　  
　ａ　光散乱層の散乱性表面が、本願発明では、マクロな凹凸構造に重畳的に形成された可視光の波長よりも小さいミクロな凹凸構造を有するのに対し、引用発明１では、そのようなミクロな凹凸構造を有していない点（以下「相違点１」という。）
　ｂ　光散乱層と液晶層との距離が、本願発明では、画素ピッチの３倍以下であるのに対し、引用発明１では、画素ピッチに対してどの程度であるのか明らかでない点（以下「相違点２」という。）
　
　
４　判断
　上記相違点につき検討する。
（１）相違点１について
　引用発明１は、「…凸形配列群２の上に反射防止膜１を被覆し、…反射防止膜１を設けることで、後方散乱光が抑制され、これにより、コントラストの低下を防ぎ、その結果、表示品位を上げることができ」るものであるところ、上記２（２）によれば、引用刊行物２には、「無反射構造を有する光学素子（ピッチ５０μｍ、中心高さ３μｍ、曲率半径１００μｍの凸面形状のマイクロレンズアレイ）」を得るべく、その表面に「ピッチ０．１５μｍ、高さ０．１５μｍの円錐型の微細構造」を形成する発明（引用発明２）が記載されているから、引用発明１において、「（反射光を抑制する）反射防止膜１」に換えて、引用発明２の「（ピッチ０．１５μｍ、高さ０．１５μｍ程度の）円錐型の微細構造（無反射構造）」を採用し、当該「円錐型の微細構造」を前記「凸形配列群２」の上に形成して、上記相違点１に係る本願発明の構成とすることは、当業者は容易になし得ることである。
　
（２）相違点２について
　引用発明１において、「凸形配列群２」（光散乱層）と「液晶層９」（液晶層）との距離をどの程度とするかは、当業者が当該引用発明１を実施する上で設計上適宜に定めるべき事項であるところ、本願明細書の記載をみても、本願発明において、光散乱層と液晶層との距離を、画素ピッチの３倍以下とした点に設計的事項の域を超えるほどの格別の技術的意義があるものとは認められない。
　そして、本願発明の奏する効果が、引用発明１から当業者が予測困難な程の格別顕著なものということはできない。
　なお、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００２−１０７７１４号公報には、その「拡散層１５」の具体的構造が引用発明１の「凸形配列群２」（光散乱層）とは異なるものの、当該「拡散層１５」と「液晶層３０」との距離が、液晶表示装置の画像のぼけに影響することが記載されていることが記載されており（【００４７】〜【００５１】）、この記載に照らしても、引用発明１において、「凸形配列群２」（光散乱層）と「液晶層９」との距離をどの程度とするかは、当業者が設計上適宜に定めるべき事項であると認められる。
　よって、引用発明１において、上記相違点２に係る本願発明の構成となすことは、当業者が適宜になし得ることである。
　
　
５　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用刊行物１、２に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　よって、結論のとおり審決する。