(57)【要約】製造工程の増加を伴うことなく反射型表示における輝度等を向上させるとともに、透過型表示のみを行う表示装置と同等レベルの透過型表示における輝度等をも確保でき液晶表示装置であって、反射型表示を行う反射領域Ａ及び透過型表示を行う透過領域Ｂを有する画素領域４が形成されたＴＦＴ基板１と、画素領域４に対応して位置するカラーフィルタ２９が形成されたカラーフィルタ基板２とが、液晶層３を挟んで対向して配設される表示パネルを有し、反射領域Ａに対応位置するカラーフィルタ２９が、透過領域Ｂに対応位置するカラーフィルタ２９ａと同一条件、具体的には同一膜厚、同一材料で形成される。そして、反射領域Ａに対応位置するカラーフィルタ２９には、少なくとも一つの開口部３３が形成されている。
2003085450.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射型表示を行う反射領域及び透過型表示を行う透過領域を有する画素領域が形成された基板と、該画素領域に対応して位置するカラーフィルタが形成された基板とが、液晶層を挟んで対向して配設される表示パネルを有する液晶表示装置において、
上記反射領域に対応位置するカラーフィルタは、上記透過領域に対応位置するカラーフィルタと同一条件で形成され、一または複数の無着色領域が形成されている
液晶表示装置。
【請求項２】
上記反射領域による上記表示パネルにおける光の反射率は、１％以上、３０％以下であり、上記透過領域による上記表示パネルにおける光の透過率は、４％以上、１０％以下である
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
上記無着色領域は、開口部を含む
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
上記無着色領域は、上記反射領域の略中央に対応する位置に形成されているる
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
上記無着色領域は、開口幅１μｍ以上、上記反射領域の面積以下に形成されている
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
上記無着色領域は、多角形状である
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
上記無着色領域は、円形状である
請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
第１の基板と第２の基板の間に行列状に配列された複数の画素領域と、該複数の画素領域と接続し、表示を行なうべき画素領域を選択する複数のゲート線と、該複数の画素領域と接続し、画像データを上記表示を行なうべき画素領域に伝送する複数のデータ信号線とを含む液晶表示装置であって、
上記画素領域に、外部からの光を反射して表示を行なう反射領域と、内部光源からの光を透過させて表示を行なう透過領域とが並列に配置されており、
上記画素領域において、上記第１の基板に、上記反射領域と上記透過領域に対応する位置に、カラーフィルタが設けられており、
隣接する画素領域の上記カラーフィルタ同士は、境界領域で重畳しており、
上記反射領域の対応する領域の一部に、無着色領域が形成されている
液晶表示装置。
【請求項９】
上記データ信号線上に、上記第１と第２の基板の間に、上記第１と第２の基板の間隙を制御するスペーサが形成されている
請求項８に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
上記無着色領域は、上記反射領域の上記スペーサが形成された領域及び上記重畳領域以外の部分に対応する上記カラーフィルタの位置に形成されている
請求項９に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
上記無着色領域は、上記反射領域の略中央に対応する上記カラーフィルタの位置に形成されている
請求項１０に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
上記無着色領域は、開口部を含む
請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
上記データ信号線と上記ゲート線が交差する領域に、上記第１と第２の基板の間に、上記第１と第２の基板の間隙を制御するスペーサが形成されている
請求項８に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
上記無着色領域は、上記反射領域の上記スペーサが形成された領域及び上記重畳領域以外の部分に対応する上記カラーフィルタの位置に形成されている
請求項１３に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
上記無着色領域は、開口部を含む
請求項１４に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
第１の基板と第２の基板の間に行列状に配列された複数の画素領域と、該複数の画素領域と接続し、表示を行なうべき画素領域を選択する復数のゲート線と、該複数の画素領域と接続し、画像データを上記表示を行なうべき画素領域に伝送する複数のデータ信号線とを含む液晶表示装置であって、
上記各画素領域に、外部からの光を反射して表示を行なう反射領域と、内部光源からの光を透過させて表示を行なう透過領域とが並列に配置されており、
上記各画素領域に、上記第１の基板に、上記反射領域と上記透過領域に対応する位置にカラーフィルタが設けられており、
上記第１の基板に、隣接する上記画素領域の上記カラーフィルタの間に、上記外部からの光を遮光する遮光膜が設けられており、
上記反射領域の対応する領域の一部に、無着色領域が形成されている
液晶表示装置。
【請求項１７】
上記データ信号線上に、上記第１と第２の基板の間に、上記第１と第２の基板の間隙を制御するスペーサが形成されている
請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
上記無着色領域は、上記反射領域の上記スペーサが形成された領域以外の部分に対応する上記カラーフィルタの位置に形成されている
請求項１７に記載の液晶表示装置。
【請求項１９】
上記無着色領域は、開口部を含む
請求項１８に記載の液晶表示装置。
【請求項２０】
上記データ信号線と上記ゲート線が交差する領域に、上記第１と第２の基板の間に、上記第１と第２の基板の間隙を制御するスペーサが形成されている
請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項２１】
上記カラーフィルタに、上記スペーサが形成された領域に対応する位置に、遮光膜が設けられている
請求項２０に記載の液晶表示装置。
【請求項２２】
上記無着色領域は、上記反射領域の上記スペーサが形成された領域以外の部分に対応する上記カラーフィルタの位置に形成されている
請求項２１に記載の液晶表示装置。
【請求項２３】
上記無着色領域は、開口部を含む
請求項２２に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
技  術  分  野
本発明は、液晶表示装置に関し、特に、反射型表示と透過型表示とが併用される液晶表示装置に関する。
背  景  技  術
液晶表示装置は、薄型で低消費電力であるという特徴を生かして、幅広い電子機器の表示装置として用いられている。例えば、ノート型パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション用の表示装置、携帯情報端末（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ａｓｓｉｓｔａｎｔ：ＰＤＡ）、携帯電話、デジタルカメラ、ビデオカメラ等の液晶表示装置を用いた電子機器がある。このような液晶表示装置には、大きく分けて、バックライトと呼ばれる内部光源からの光の透過と遮断とを液晶パネルで制御して表示を行う透過型の液晶表示装置と、太陽光などの外光を反射板などで反射して、この反射光の透過と遮断とを液晶パネルで制御して表示を行う反射型表示装置が知られている。
透過型の液晶表示装置においては、全消費電力の５０％以上をバックライトが占めており、消費電力を低減することが難しい。また、透過型の液晶表示装置には、周囲の光が明るい場合には表示が暗く見え、視認性が低下するという問題もある。一方、反射型の液晶表示装置においては、バックライトを設けていないため、消費電力の増加という問題はないが、周囲光が暗い場合には、視認性が極端に低下するという問題もある。
このような透過型、反射型の表示装置の双方の問題点を解消するために、透過型表示と反射型表示と両方を一つの液晶パネルで実現する反射透過併用型の液晶表示装置が提案されている。この反射透過併用型の液晶表示装置では、周囲が明るい場合には周囲光の反射によって表示を行ない、周囲が暗い場合には、バックライトの光によって表示を行う。
上述した透過反射併用型の液晶表示装置においては、透過型表示に際して、カラーフィルタを一回だけ通過する内部光源からの光によって表示を行っている。これに対し、反射型表示に際しては、外部から入射する時と、反射して外部へ出射する時の２回、カラーフィルタを通過する周囲光によって表示を行っている。このように、反射型表示の際には透過型表示よりも１回多くカラーフィルタを通過するため、光の減衰量は透過型表示の場合に比して極端に多くなり、反射率の低下の原因となっている。そして、この反射率の低下にともなって、反射型表示における表示輝度や色再現性が低下し、視認性も劣化するといった問題が生じていた。
このため、透過反射併用型の液晶表示装置においては、上述した問題を解消すべく、反射領域に対応するカラーフィルタの膜厚を薄く形成したり、樹脂に分散させる顔料を反射型液晶表示装置用に適したものを用いる等異なる材料を使用することにより、反射領域における光の減衰量を少なくして、反射率を高めていた。
しかしながら、上述した異なる膜厚又は材料で反射領域用のカラーフィルタと透過領域用のカラーフィルタとを形成する方法では、透過領域用のカラーフィルタを形成する工程と、反射領域用のカラーフィルタを形成する工程とを別個に行う必要がある。具体的には、反射領域用のカラーフィルタを赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）のそれぞれについて３工程で形成し、次いで透過領域用のカラーフィルタをＲ、Ｇ、Ｂについて３工程で形成する、合計６工程を行う必要がある。このような工程の増加によって、液晶表示装置の製造効率は低下していた。
一方で、従来の反射透過併用型の液晶表示装置は、反射型重視の液晶パネル構成を有しており、透過型表示の際に、透過型の表示装置と同様の輝度が望まれているにもかかわらず、透過輝度を犠牲にして反射率を確保するために、透過領域を狭めて周囲光を反射する領域の面積が広く確保されている。
しかしながら、使用する電子機器の種類によっては、反射型の表示よりも透過型の表示を多用する場合もある。したがって、反射透過併用型の液晶表示装置においては、上述したように反射型表示における輝度等を向上させる必要があるとともに、透過型表示における輝度や色再現性も十分なレベルを確保する必要がある。
また、このような反射透過併用型の液晶表示装置は、透過型表示と反射型表示の両方を兼ね備えているとされながら、通常の反射型及び通常の透過型の液晶表示装置より、輝度が不足しており、視認性が低いという問題があった。
液晶表示装置においては、屋内において使用する場合でも、屋外において使用する場合でも、表示の視認性を向上させることが望まれている。そのため、反射透過併用型の液晶表示装置において、反射型として使用される場合と透過型として使用される場合共に、視認性を向上させることが望まれている。
液晶表示パネルの画素領域において、構造上の原因で、表示に使えない非表示用領域が生じる。このような非表示用領域の面積をできる限り減少し、表示領域の面積を最大限にすべきである。また、周囲からの光が表示パネルに入射し、反射型表示を行なう場合に、液晶表示パネルの各構成成分での散乱及び吸収による入射光の損失を最小限に抑える必要がある。これによって、反射型表示の輝度を向上させることができる。
以上の目的を達成し、反射型表示及び透過型表示の表示視認性を向上させるためには、液晶表示装置の構造を最適化する必要がある。しかし、製造工程を複雑にする解決方法は好ましくない。
また、入射光の表示領域以外の場所での反射、たとえば、画像データを各画素に伝送するデータ信号線上の反射により、非表示用の光が液晶層に入射すると、液晶層の状態が不安定になり、画質が劣化する不具合が発生する問題がある。
発明の開示
本発明の第１の目的は、製造工程の増加を伴うことなく反射型表示における輝度や色再現性を向上させるとともに、透過型表示のみを行う表示装置と同等レベルの透過型表示における輝度や色再現性をも確保する反射透過併用型の液晶表示装置を提供することにある。
本発明の第２の目的は、非表示用領域の面積及び光の損失を極力抑え、反射型表示及び透過型表示の表示視認性及び画質を向上させるための最適な構造を有し、容易に製造できる液晶表示装置を提供することにある。
本発明の第１の観点の液晶表示装置は、反射型表示を行う反射領域及び透過型表示を行う透過領域を有する画素領域が形成された基板と、該画素領域に対応して位置するカラーフィルタが形成された基板とが、液晶層を挟んで対向して配設される表示パネルを有し、反射領域に対応位置するカラーフィルタが、透過領域に対応位置するカラーフィルタと同一条件で形成される。そして、反射領域に対応位置するカラーフィルタには、一または複数の開口部が形成されている。
上述した構成を有する本発明に係る液晶表示装置は、反射型表示を行うに際して、カラーフィルタを通過させることで色がついた状態で反射させた光とともに、カラーフィルタが形成されていない領域である開口部を通過させることで色がついていない状態で反射させた光を表示光として表示が行われる。そして、本発明は、この開口部を通過する、すなわちカラーフィルタを通過しないため減衰量が少ない光によって表示が行われることで、反射率が高められ、反射型表示における輝度や色再現性が向上する。そして、この開口部を通過する光が通過する開口部の大きさを調整することで、反射型表示における光の反射率、輝度等の調整が行われる。
したがって、本発明に係る液晶表示装置は、開口部の大きさを調整することで、反射型表示における反射率、輝度等を調整し得るため、反射領域に対応するカラーフィルタを、透過領域に対応するカラーフィルタと異なる条件で形成する必要が無くなり、同一条件、具体的には同一膜厚、同一材料にて形成することが可能となる。このため、本発明によれば、透過領域用のカラーフィルタと反射領域用のカラーフィルタとが同一工程で形成可能とされ、製造工程の増加をすることなく、高反射率、高輝度の反射型表示が可能な液晶表示装置が提供可能とされる。
また、本発明に係る液晶表示装置は、開口部の大きさを調整することで反射率、輝度等を調整し得るため、透過領域を狭めることなく、反射型表示における反射率、輝度等の向上が可能とされる。したがって、本発明によれば、高反射率による高輝度の反射型表示を実現しつつ、透過領域の面積が大きく、また透過型表示における輝度を高いレベルで維持する透過型重視の構造を採用することができ、これにより透過型表示における色再現性及び視認性が向上する。
上記の発明によれば、液晶表示パネルに集光部を設け、透過型表示に用いる表示光を集光し、表示光の輝度を増大させる。これによって、透過領域の面積が減少しても、透過型表示の輝度を十分確保できるので、高精細化に対応し、透過率が低く設定できる。具体的に、透過率を最小４％に設定する。
また、表示パネルの各構成層の吸収効果により、透過率は１０％以下となる。
また、低温多結晶シリコンを用い、画素ごとの薄膜トランジスタＴＦＴのサイズを減らし、反射領域及び反射率を向上させる。さらに、反射率の高い金属からなる反射膜を形成する、または、平坦な反射膜を形成し、反射輝度をさらに向上させる。
さらに、透過領域のみにカラーフィルタを設け、透過型表示だけ視認性の高いカラー表示とし、反射型表示は文字を表示するのに十分な白黒２色表示とする。これにより、反射領域でカラーフィルタでの吸収による光の減少がなくなり、かつ、白黒表示の場合には、Ｒ、Ｇ、Ｂ３つの色を表示する画素は全部白黒表示に用いるので、反射輝度がさらに向上する。
具体的に、反射率は、１％〜３０％の範囲内に設定することができる。
本発明の第１の観点の液晶表示装置は、第１の基板と第２の基板の間に行列状に配列された複数の画素領域と、該複数の画素領域と接続し、表示を行なうべき画素領域を選択する複数のゲート線と、該複数の画素領域と接続し、画像データを上記表示を行なうべき画素領域に伝送する複数のデータ信号線とを含む液晶表示装置であって、上記各画素領域に、外部からの光を反射して表示を行なう反射領域と、内部光源からの光を透過させて表示を行なう透過領域とが並列に配置されており、上記各画素領域において、上記第１の基板に、上記反射領域と上記透過領域に対応する位置に、カラーフィルタが設けられており、隣接する画素領域の上記カラーフィルタ同士は、境界領域で重畳しており、上記反射領域の対応する領域の一部に、無着色領域が形成されている。
好ましくは、上記データ信号線上に、上記第１と第２の基板の間に、上記第１と第２の基板の間隙を制御するスペーサが形成されている。
また、上記データ信号線と上記ゲート線が交差する領域に、上記第１と第２の基板の間に、上記第１と第２の基板の間隙を制御するスペーサが形成されている。
また、上記無着色領域は、上記反射領域の上記スペーサが形成された領域及び上記重畳領域以外の部分に対応する上記カラーフィルタの位置に形成されており、好適に、上記無着色領域は、上記反射領域の略中央に対応する上記カラーフィルタの位置に形成されている。また、上記無着色領域は、開口部を含む。
本発明の第３の観点の液晶表示装置は、第１の基板と第２の基板の間に行列状に配列された複数の画素領域と、該複数の画素領域と接続し、表示を行なうべき画素領域を選択する複数のゲート線と、該複数の画素領域と接続し、画像データを上記表示を行なうべき画素領域に伝送する複数のデータ信号線とを含む液晶表示装置であって、上記各画素領域に、外部からの光を反射して表示を行なう反射領域と、内部光源からの光を透過させて表示を行なう透過領域とが並列に配置されており、上記各画素領域に、上記第１の基板に、上記反射領域と上記透過領域に対応する位置にカラーフィルタが設けられており、上記第１の基板に、隣接する上記画素領域の上記カラーフィルタの間に、上記画素領域以外の領域へ入射する光を遮光する遮光膜が設けられており、上記反射領域の対応する領域の一部に、無着色領域が形成されている。
好ましくは、上記データ信号線上に、上記第１と第２の基板の間に、上記第１と第２の基板の間隙を制御するスペーサが形成されている。好適に、上記無着色領域は、上記反射領域の上記スペーサが形成された領域以外の部分に対応する上記カラーフィルタの位置に形成されている。また、上記無着色領域は、開口部を含む。
また、上記データ信号線と上記ゲート線が交差する領域に、上記第１と第２の基板の間に、上記第１と第２の基板の間隙を制御するスペーサが形成されている。好適に、上記カラーフィルタに、上記反射領域の上記スペーサが形成された領域に対応する位置に、遮光膜が設けられている。また、上記無着色領域は、上記反射領域の上記スペーサが形成された領域以外の部分に対応する上記カラーフィルタの位置に形成されている。また、上記無着色領域は、開口部を含む。
本発明の第２の観点によれば、隣接する画素領域のカラーフィルタを重畳して、その重畳部の下部のデータ信号線を遮光し、また、基板間のスペーサを反射領域におけるデータ信号線上に形成し、また、カラーフィルタに無着色領域を形成し、白色を混合する。或は、データ信号線とゲート線の交差する部分に、スペーサを形成する。これによって、スペーサが形成された領域及びスペーサ周辺の液晶配向異常領域による非表示領域を極力抑え、データ信号線上の反射を防止し、ゲート線とデータ信号線の間の容量の増加を抑制し、反射型表示の輝度が向上する。
また、本発明の第３の観点によれば、隣接する画素領域のカラーフィルタの間に遮光膜を形成しデータ信号線を遮光し、また、基板間のスペーサを反射領域におけるデータ信号線上に形成し、また、カラーフィルタに無着色領域を形成して白色を混合する。或は、データ信号線とゲート線の交差部に基板間スペーサを形成し、また、カラーフィルタにスペーサを遮光する遮光膜を設け、カラーフィルタに無着色領域を形成する。これによって、スペーサによる非表示領域を極力抑え、データ信号線上の反射を防止し、ゲート線とデータ信号線の間の容量の増加を抑制し、反射型表示の輝度が向上する。
発明を実施するための最良の形態
以下、本発明の液晶表示装置の実施の形態について、添付の図面を参照して述べる。
第１の実施形態
図１は、本実施形態の液晶表示装置において、表示パネル１の一画素分の平面図であり、図２は、図１中のＺ−Ｚ線における表示パネル１の断面構造を示す。
図２に示すように、表示パネル１は、透明絶縁基板８及びそれに形成された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）９、画素領域４などと、それらと対向して配設される透明絶縁基板２８及びそれに形成されたオーバーコート層２９、カラーフィルタ２９ａ、並びに対向電極３０、及び画素領域４と対向電極３０に挟持された液晶層３から構成される。
図１に示された画素領域４が行列状に配設され、画素領域４の周囲に図２に示されたＴＦＴ９に走査信号を供給するゲート線５と、ＴＦＴ９に表示信号を供給するための信号線６とが互いに直交するように設けられ、画素部が構成されている。
また、透明絶縁基板８、ＴＦＴ９側には、ゲート線５と平行な金属膜からなる保持容量用配線（以下、ＣＳ線と称する）７が設けられている。ＣＳ線７は、後述の接続電極２１との間に保持容量ＣＳを形成し、対向電極３０に接続されている。
図３に、液晶３、ＴＦＴ９、ゲート線５、信号線６、ＣＳ線７、および保持容量ＣＳを含む画素領域４の等価回路を示す。
また、図２に示すように、画素領域４には、反射型表示を行うための反射領域Ａと透過型表示を行うための透過領域Ｂとが設けられている。
透明絶縁基板８は、例えば、ガラスなどの透明材料で形成され、透明絶縁基板８上にＴＦＴ９と、絶縁膜を介してＴＦＴ９上に形成される散乱層１０と、この散乱層１０上に形成された平坦化層１１と、透明電極１３と、上述した反射領域Ａ及び透過領域Ｂを有する画素領域４を構成する反射電極１２とが形成されている。
ＴＦＴ９は、表示を行う画素を選択して、その画素の画素領域４に表示信号を供給するためのスイッチング素子である。図４に示すように、ＴＦＴ９は、例えば、いわゆるボトムゲート構造を有しており、透明絶縁基板８上にゲート絶縁膜１４で覆われたゲート電極１５が形成されている。ゲート電極１５は、ゲート線５と接続され、このゲート線５から、走査信号が入力され、ＴＦＴ９はこの走査信号に応じてＯＮ／ＯＦＦする。ゲート電極１５は、例えば、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）などの金属又は合金をスパッタリングなどの方法で成膜して形成される。
ＴＦＴ９は、ゲート絶縁膜１４上に１対のｎ＋拡散層１６、１７と半導体膜１８とが形成されている。一方のｎ＋拡散層１６には、第１の層間絶縁膜２４に形成されたコンタクトホール２４ａを介して、ソース電極１９が接続され、他方のｎ＋拡散層１７には、同様に第１の層間絶縁膜２４に形成されたコンタクトホール２４ｂを介して、ドレイン電極２０が接続される。
ソース電極１９及びドレイン電極２０は、例えば、アルミニウム（Ａｌ）をパターニングしたものである。ソース電極１９には、信号線６が接続され、データ信号が入力される。ドレイン電極２０には、図２に示す接続電極２１が接続され、さらに、コンタクトホール２２を介して画素領域４と電気的に接続される。接続電極２１は、ゲート絶縁膜１４を介してＣＳ線７との間に保持容量ＣＳを形成している。半導体薄膜層１８は、例えばＣＶＤ方などで得られる低温ポリシリコン（ｐｏｌｙ−Ｓｉ）の薄膜であり、ゲート絶縁膜１４を介してゲート電極１５と整合する位置に形成される。
半導体薄膜層１８の直上にストッパ２３が設けられている。ストッパ２３は、ゲート電極１９と整合する位置に形成された半導体薄膜層１８を上側から保護するものである。
ＴＦＴ９は、上述したように、半導体薄膜層１８を低温ポリシリコンで形成した場合には、アモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）で半導体薄膜層１８を形成した場合に比べて電子移動度が大きいことから、外径サイズを小さくすることができる。
図５および図６は、ａ−Ｓｉと低温ｐｏｌｙ−Ｓｉで半導体薄膜層１８を形成したＴＦＴのサイズを模式的に示す図である。
図５および図６に示すように、低温ｐｏｌｙ−Ｓｉで半導体薄膜層１８を形成したＴＦＴ９を用いた液晶表示装置では、反射領域Ａと透過領域Ｂとで構成される画素領域４の面積を大きくとることができ、反射領域Ａの面積を従来の表示装置と同程度とした場合も、透過領域Ｂの面積を増大させることができ、表示パネル全体の透過率を向上させることができる。
図７は、ａ−Ｓｉと低温ｐｏｌｙ−Ｓｉで半導体薄膜層１８を形成したＴＦＴ９を用いた反射透過併用型の液晶表示装置において、反射率及び透過率の違いを示す図である。図７において、横軸が反射率ＲＦＬを、縦軸が透過率ＴＲＭをそれぞれ示している。
図７に示す反射率と透過率の測定値は、図５および図６において、透過領域Ｂとなる開口部の面積を変えて得られたものである。以上の測定では、画素領域４が銀の反射膜を有し、画素サイズは１２６μｍ×４２μｍである。
図７に示すように、低温ｐｏｌｙ−ＳｉをＴＦＴ９に適用することにより、液晶表示装置の反射率は最大約２５％に達し、透過率は最大８％が得られる。一方、ａ−Ｓｉを使う場合は、最大反射率は約７％、最大透過率は約５％である。
散乱層１０及び平坦化層１１は、ＴＦＴ９の上に第１及び第２の層間絶縁膜２４，２５を介して形成される。第１の層間絶縁膜２４には、ソース電極１９及びドレイン電極２０が形成される一対のコンタクトホール２４ａ、２４ｂが開口している。
反射電極１２は、ロジウム、チタン、クロム、銀、アルミニウム、クロメルなどの金属膜からなる。反射電極１２の反射領域に、凹凸が形成されており、外光を拡散して反射する構成となっている。これによって、反射光の指向性を緩和して、広い角度範囲で画面を観察することができる。
特に、銀（Ａｇ）などを用いた場合には、反射型表示における反射率が高くなり、高反射率の反射領域Ａを得ることができる。このため、反射領域Ａの面積を小さくしても、必要なレベルの反射率を確保することができる。このような反射領域を小さくした液晶表示装置を、微反射液晶表示装置と呼ぶ。
また、透明電極１３は、ＩＴＯなどの透明導電膜からなる。
これらの反射電極１２及び透明電極１３は、コンタクトホール２２を介してＴＦＴ９に電気的に接続されている。
透明絶縁基板８の反対側の面、すなわち、図示しない内部光源となるバックライトが配設される側の面に、１／４波長板２６と偏光板２７が配設される。
透明絶縁基板８及びそれに形成された各成分と対向して、例えばガラスなどの透明材料を用いて形成された透明絶縁基板２８が配置されている。透明絶縁基板２８の液晶層３側の面に、カラーフィルタ２９ａ、カラーフィルタ２９ａ表面を平坦化するオーバーコート層２９とが形成され、オーバーコート層２９の表面に対向電極３０が形成されている。カラーフィルタ２９ａは、顔料や染料によって各色に着色された樹脂層であり、例えば、赤、緑、青の各色のフィルタ層が組み合わされて、構成されている。
カラーフィルタ２９ａには、反射領域Ａに対応する部分に、無着色領域としての開口部３３が形成されている。
開口部３３は、カラーフィルタを形成しないことで設けられる領域であり、例えば図８Ａに示す領域が反射領域Ａとされた場合、図８Ｂに示すように、その略中央に対応する位置に方形状の開口として設けられており、反射領域Ａに対応するカラーフィルタ２９ａ−１全体の面積に対して１０％以上、９０％以下の比率で形成されている。
開口部３３を通過する光は、各色に着色されたカラーフィルタ２９ａを通過しないため、色がつかず、また減衰量が少ない光となる。そして、液晶表示装置においては、反射型表示時に、この開口部３３を通過した光を、カラーフィルタ２９ａを通過した光とともに表示光とすることで、反射型表示全体での反射率、輝度及び色再現性を向上させることができる。
上述した開口部３３を通過する光は、開口部３３の大きさによって、その量が制整可能とされる。したがって、液晶表示装置においては、カラーフィルタ２９ａに形成する開口部３３の大きさを上述した範囲内で変更することで、反射型表示における反射率及び輝度を調整することができる。このため、液晶表示装置は、カラーフィルタ２９ａの全体を透過領域Ｂに対応する部分２９ａ−２と異なる膜厚や材料とすることによって反射型表示における反射率及び輝度を調整する必要が無くなる。したがって、液晶表示装置においては、カラーフィルタ２９ａ−１とカラーフィルタ２９ａ−２とを同一条件、具体的には同一膜厚、同一材料にて同一工程で簡易に形成することができ、製造工程を増加することなく、反射型表示における反射率、さらには輝度及び色再現性を向上させ、これによって反射型表示の視認性を向上させることができる。
また、液晶表示装置においては、反射領域Ａの割合を大きくせずに、開口部３３を大きくすることによって反射型表示における輝度を向上させることができるため、透過領域Ｂの大きさをそのまま維持することができる。したがって、液晶表示装置では、高反射率、高輝度の反射型表示を実現するとともに、透過領域Ｂの面積が大きく、また透過型表示における輝度を高いレベルで維持する透過型重視の構造を採ることができ、透過型表示における色再現性及び視認性を向上させることができる。
開口部３３は、上述した一つの方形状を呈する開口である場合に限らず、図９Ａ〜図９Ｄに示すように、三角形や六角形等の他の多角形状でも円形でも良く、またその数も二つ以上であっても良い。ただし、開口部３３が、多角形状とされた場合、外部からの入射光と外部への反射光の光量に差異が生じてしまうため、いかなる入射光に対しても反射光の量が等しくなる円形の開口とした方が反射光の利用効率が向上する。したがって、開口部３３は、円形とした方が好ましい。また、円形の開口部３３が良好であることと同様の理由により、開口部３３を多角形状とする場合でも、点対称の多角形とする方が好ましい。
また、開口部３３は、上述した反射領域Ａの略中央に対応する位置以外にも、反射領域Ａに対応するカラーフィルタ２９ａ−１の範囲内であればどこに形成しても良いが、透過領域Ｂの近傍に配置すると、透過表示時に開口部３３から内部光源からの光が漏れる原因となるため、反射領域Ａの略中央に位置するよう形成することが好ましい。
開口部３３の大きさは、カラーフィルタ２９ａをフォトリソグラフィ工程にて形成する際に、その材料としてネガパターンを使用し、またカラーフィルタとしての機能を果たすために膜厚が１μｍ以上必要であることを考慮すると、パターン精度がとりやすい大きさ、例えば開口部３３の形状を円形とする場合には直径２０μｍ以上に形成することが望ましい。また、反射領域Ａに対応するカラーフィルタ２８を無くすことはできないので、開口部３３の大きさは、反射領域Ａの大きさ以下であることを要する。なお、フォトリソグラフィ工程にて使用するカラーフィルタ材料の光感度や、寸法精度が向上すれば、更に微細加工が可能となり得るため、開口部３３の大きさは、上述した範囲に限定するものではなく、開口幅、具体的には開口部３３が円形である場合には直径、開口部３３が多角形状である場合には相対向する辺間の距離又は辺と頂点との距離が１μｍ以上であっても良い。
そして、上述したように反射領域Ａに対応するカラーフィルタ２９ａ−１に開口部３３を設けることで、高反射率の反射領域Ａを得ることができ、例えば最低限必要なレベルの視認性を得るための反射領域Ａの面積を小さくすることができ、その結果透過領域Ｂを大きく確保し得る透過型重視の構造の液晶表示装置を容易に実現することができる。このため、大きな透過領域Ｂによって透過型表示における色再現性を向上させるとともに、高輝度の透過型表示によって視認性を向上させることができる。
対向電極３０は、上述したように開口部３３が形成されたカラーフィルタ２９ａの表面を平坦化するオーバーコート層２９上に形成され、ＩＴＯなどの透明導電膜からなる。
透明絶縁基板２８の反対側の面に、１／４波長板３１と偏光板３２が配設される。
画素領域４と対向電極３０とに挟持された液晶層３は、負の誘電異方性を有するネマティック液晶分子を主体とし、かつ二色性色素を所定の割合で含有しているゲストホスト液晶が封入されたものであり、図示せぬ配向層によって垂直配向されている。この液晶層３においては、電圧無印加状態では、ゲストホスト液晶が垂直配向し、電圧印加状態では水平配向に移行する。
図１０は、本実施形態に係る液晶表示装置におけるバックライト及びその集光光学系を示している。
図１０において、７１ａ、７１ｂはバックライト、７２は導光板、７３は拡散板、７４はレンズシートをそれぞれ示している。
バックライト７１ａ、７１ｂは、例えば、冷陰極蛍光管により構成される。導光板７２は、バックライト７１ａ、７１ｂの光を表示パネル１に導く。拡散板７３は、凹凸表面が形成されており、これによりバックライト７１ａ、７１ｂの光を表示パネル１に均一に照射する。レンズシート７４は、拡散板７３に拡散された光を表示パネル１の中央に集光する。レンズシート７４に集光された光は偏光板２７と１／４波長板２６と透明基板８を経由して、透過領域Ｂを透過する。
図１１は、図１０に示されたバックライト及びその集光光学系の斜視図である。
レンズシート７４が集光機能を持っているので、拡散板７３に拡散された光の散乱による損失を抑え、照明光の輝度をアップさせる。
前述したように、従来は液晶装置の精細度が１００ｐｐｉから１４０ｐｐｉの間で作成されていた。精細度が低いので、透過領域Ｂの開口率は比較的に大きく形成することができた。具体的に、１４０ｐｐｉに対応した場合の開口率が５０％は最低確保でき、これによって、従来の透過率は５％となっていた。
なお、液晶表示装置における透過率は、一般的に、透過領域Ｂの開口率の１０分の１とされている。透過領域Ｂの開口率は、画素領域４全体の面積に対する透過領域Ｂの割合と定義されている。
透過率を透過領域Ｂの開口率の１０分の１にする理由は、表示パネル１を構成する透明絶縁基板８，２８、ＴＦＴ９上に形成された第１及び第２の層間絶縁膜２４，２５、液晶層３、偏光板２７，３２、及び１／４波長板２６、３１により、バックライトからの光が吸収、反射されるためである。
２００ｐｐｉの高精細化に関しては、例えば、画素サイズ１２６μｍ×４２μｍと小さくなり、また、液晶画素のデザイン上、例えば、信号線、ゲート線の最小幅又は間隔が５μｍ以上などの制限により、透過領域Ｂの面積が小さくなる。具体的に、開口率は最低４０％となる。
画素領域４全体の面積に対する反射領域Ａの面積の割合、すなわち、反射領域Ａの開口率は、透過領域Ｂ以外の画素領域４を反射領域Ａが占める場合は６０％以下となり、また反射領域Ａの開口率は０％とすることはできない。このことから、反射透過併用型の液晶表示装置に最低限必要な反射領域Ａの開口率は、１％以上、６０％以下の範囲とされる。
透過型表示の輝度を確保しながら、高精細度に対応するために、例えば、バックライト７１ａ、７１ｂの輝度を２５％増加させることができるが、液晶表示装置の消費電力が増加する。
そこで、以上述べたレンズシート７４を用いれば、バックライト７１ａ、７１ｂの消費電力を増加させずに高精細度に対応が可能になる。具体的に、バックライト７１ａ、７１ｂの輝度は、レンズシート７４により、通常の４００ｃｄ／ｍ２〜２００００ｃｄ／ｍ２の範囲から５００ｃｄ／ｍ２〜２５０００ｃｄ／ｍ２とすることができる。
したがって、本実施形態において、１５０ｐｐｉ以上の高精細度の液晶表示装置の場合において、微反射構造の液晶表示装置は、透過輝度を確保するために、透過率は最低４％に設定することができる。
一方、高精細度に対応し、かつ、バックライト７１ａ、７１ｂの輝度を増加させないために、透過率は最低４％に設定することが最適な選択である。以下に、その理由について説明する。
液晶で表示を行うために、表示パネル１の表面輝度を一定の範囲内にしなければならない。
図１２は、表示パネル表面に必要な最低輝度を示す調査結果を示す図であって、表示輝度が２〜３４ｃｄ／ｍ２の範囲内に変化した場合、文字表示を認識できる人の数の調査結果を示す図である。図１２において、横軸が輝度ＬＭを、縦軸がサンプル数ＳＭＰＬＮをそれぞれ示している。なお、この場合、図１２に示すように、平均値（ＡＶＲ）は８．９ｃｄ／ｍ２、中心値（ＣＴＲ）は７．５ｃｄ／ｍ２、ＲＭＳは１０．９ｃｄ／ｍ２である。
図１２によれば、表示輝度が２０ｃｄ／ｍ２以上であれば、９０％以上の人間が文字表示を認識できる。また、１０００ｃｄ／ｍ２以下であれば、人間が文字を識別することができる結果も知られている。
したがって、液晶で表示を行う時、表示パネル１の表面輝度が２０ｃｄ／ｍ２以上、１０００ｃｄ／ｍ２以下に維持しなければならない。
表示パネル１の表面輝度を２０ｃｄ／ｍ２に維持する場合には、表示パネル１の透過率とバックライトの輝度との積は２０ｃｄ／ｍ２であると意味し、したがって、透過率とバックライトの輝度の関係は、図１３に示すような反比例関数で表わすことができる。図１３において、横軸が透過率ＴＲＭを、縦軸がバックライトの輝度ＢＬＭをそれぞれ示している。
透過率とバックライトの輝度をできる限り最小限度に抑えるには、図１３に示すような曲線の接線法線が座標系の原点と交差する位置がもっとも望ましい条件となる。ここでは、透過率が４％である。すなわち、４％以上が高精細化に対応するには最適な透過率の値となる。
透過率が最大１０％となる理由は、表示パネル１を構成する透明絶縁基板８，２８、ＴＦＴ９上に形成された第１及び第２の層間絶縁膜２４，２５、液晶層３、偏光板２７，３２、及び１／４波長板２６、３１により、バックライトからの光が吸収、反射されるためである。
表示パネル１において、偏光板２７、３２は５０％の偏光板であり、それぞれの透過率が５０％である。残りの部分、すなわち、透明絶縁基板８、２８、液晶層３、ＴＦＴ９上に形成された第１と第２の層間絶縁膜２４、２５、及び１／４波長板２６、３１の透過率の合計は４０％とする。仮に、全部の画素が透過できると考えても、表示パネル１の最大透過率は、５０％（偏光板）×５０％（偏光板）×４０％（ガラス＋ＴＦＴ）＝１０％となる。
したがって、本実施形態において、透過率の範囲は透過率４％以上、１０％以下となる。
反射率に関しては、屋外で観測される照度は、非常に暗い日（雷雲、降雪中）で２０００ｃｄ／ｍ２、晴れの状態で、５００００ｌｘ（ｃｄ／ｍ２）となることが知られている。また、上記と同様に、人間が文字表示を識別するには、表示輝度が２０ｃｄ／ｍ２以上であることが必要である。したがって、表示パネルの反射率は１％となる。反射率の定義と測定方法について、後程述べる。この結果は、本願発明者が暗室において、ＰＤＡに前面から輝度を当てて最低照度を調査した結果と一致する。
最大反射率については、例えば、Ａｇを反射電極１２の全面を覆う場合、４２％の反射率が限界であることが測定により分かっている。図１４に示す図表は反射電極１２の全面を反射面とした場合の反射率の測定結果を示す。図１４において、ＰＮＬＮが表示パネル番号を、ＲＦＬが反射率をそれぞれ示している。図１４に示された測定データの平均値は４２．２３％である。したがって、本実施形態に係る表示パネルは、反射電極１２の全面を反射面とした場合の平均反射率は約４２％である。
実際に、透過率は４％以上、つまり、開口率は４０％以上、１００％未満である。すなわち、反射領域の面積比率は６０％以下である。そうすると、表示パネル１の最大反射率は６０％（反射率）×４２％（全面反射率）＝２５％となる。開口率が１００％未満である理由は次のとおりである。すなわち、画素内部の信号線、ゲート配線、トランジスタ部により、透過領域は必ず遮光されるため、開口率は１００％はとれず、１００％未満となる。
図１５は、第１の実施形態に係る液晶表示装置における透過率と反射率の設定可能な範囲を示す図である。図１５において、横軸が反射率ＲＦＬを、縦軸が透過率ＴＲＭをそれぞれ示している。また、図１５において、符号ａで示す領域が本実施形態に係る液晶表示装置における透過率と反射率の設定可能な範囲を示し、符号ｂで示す領域が従来の液晶表示装置における透過率と反射率の設定可能な範囲を示している。
以上の本実施形態の液晶表示装置によって、表示パネル１における反射率は１％から２５％の間で、透過率４％以上、１０％以下、すなわち、図１５に示す領域ａの範囲に設定することができる。これにより、本実施形態の液晶表示装置は、従来のバックライトの輝度であっても、例えば、２００ｐｐｉの高精細度表示においても、透過型表示のみの液晶表示装置と同等の表示光の輝度を確保でき、かつ、反射型の特性を確保することができ、太陽光や照明光などの外光が暗い場合であっても、高い視認性の表示を実現することができる。
これに対して、従来の液晶表示装置においては、図１５に示された領域ｂの範囲で反射率と透過率を設定していたので、本実施形態と近い反射率を確保できるものの、透過率が低く、透過型表示における表示光の輝度が十分ではなく、視認性が低下する。
次に、上述した液晶表示装置の反射率の測定方法について述べる。
図１６Ａに示すように、上述した構成の液晶表示パネル１に外部光源５２から光を照射する。表示パネル１に白を表示するように、駆動回路５１は表示パネル１に適切な駆動電圧を印加して表示パネル１を駆動する。そして、上記入射光は表示パネル１内の反射膜に反射され、射出され、光センサ５５に入射する。光ファイバ５３が、光センサ５５が受光した光を光ファイバ５３を経由して光検出装置５４及び測定装置５６に伝送し、測定装置５６で反射光の白表示での出力を測定する。
この時、外部光源５２からの照射光は、図１６Ｂに示すように、表示パネル１の中央に入射角θ１が３０°となり、表示パネル１にて反射された反射光が光センサ５５に対して正面から入射するように、すなわち光センサ５５への入射角θが０°とされるように照射する。このようにして得られた反射光の出力を用いて、次の式１に示すように反射領域Ａの反射率を求める。
Ｒ＝Ｒ（Ｗｈｉｔｅ）＝（白表示からの出力／反射標準からの出力）
×反射標準の反射率      …（１）
ここで、反射標準とは、標準的な反射物であり、その反射率は既に知られているものである。入射光が一定の場合は、測定対象からの反射光の光量を該反射標準からの反射光光量と比較すれば、測定対象の反射率を推定できる。
実際に、カラーフィルタ２９ａに開口部３３を形成した場合と、形成しない場合との反射率を測定した結果について図１０に示す。なお、カラーフィルタ２９ａは、開口部３３の有無に関わらず、カラーフィルタ２９ａ部分と同一条件、すなわち同一膜厚、同一材料で形成されている。同図に示すように、開口部３３を形成した場合の反射率が６％と高いのに対し、開口部３３を形成しない場合には反射率が２％となっている。このように、開口部３３を形成した方が形成しない場合に比してはるかに反射率が向上する。なお、この反射率の測定においては、画素サイズが１９０．５μｍ×１９０．５μｍであり、ドットサイズが９３．５μｍ×９３．５μｍの液晶表示装置を使用した。
なお、上記の説明に、ＴＦＴ９がボトムゲート構造を有するものとして説明したが、ＴＦＴ９はこのような構造に限定されるものではなく、図１７に示すいわゆるトップゲート構造を有するものであってもよい。図１７において、図４に示すＴＦＴ９と同様な構成成分について同一符号を用い、説明を省略する。
ＴＦＴ４０は、透明絶縁基板８上に、１対のｎ＋拡散層１６、１７と半導体薄膜層１８とが形成されている。これらがゲート絶縁膜１４で覆われている。ゲート絶縁膜１４上には、半導体薄膜層１８と整合する位置にゲート電極１５が形成され、層間絶縁膜４１により覆われている。層間絶縁膜４１上に、ソース電極１９とドレイン電極２０が形成され、ソース電極１９は層間絶縁膜４１に形成されたコンタクトホール４１ａを介して、一方のｎ＋拡散層１６に、ドレイン電極２０は、層間絶縁膜４１に形成されたコンタクトホール４１ｂを介して、ｎ＋拡散層１７に接続されている。
本実施形態によれば、バックライトからの光をレンズシート７４により集光することで、バックライトの輝度を向上させ、透過率を４％以上、１０％以下に設定し、反射率を１％から２５％の間で設定し、透過型表示のみの表示装置と同等の表示光輝度、及び表示に必要な反射表示光輝度を確保しながら、バックライトの消費電力を増加させずに、高精細度の表示に伴う画素サイズ及び透過領域面積の減少に対応できるようになる。
第２実施形態
図１９は、第２の実施形態に係る液晶表示装置における表示パネル１Ａの一画素分の構造を示す断面図である。
本第２の実施形態の表示パネル１Ａは、反射領域Ｘと前記透過領域Ｂに対応する位置に、カラーフィルタ２９ｂが設けられており、反射領域Ｘの対応する領域の一部に、無着色領域としての開口部３４が形成されている点は第１の実施形態と同様であるが、さらに、隣接する画素領域のカラーフィルタ同士は、境界領域で重畳するように構成されている。
その他の構成は、上述した第１の実施形態と同様である。以下、本第２の実施形態の特徴的な構成を中心に図面に関連付けて説明する。
本実施形態において、図１９に示すように、カラーフィルタ２９ａの反射領域Ｘに対応する部分に、開口部３４を設け、開口部３４を通過した反射光は、カラーフィルタ２９ｂによる減衰がなくなるので、反射表示光の輝度が増加する。また、開口部３４ａを通過した反射光は色がついていないので白い表示となる。
ここの開口部３４は、請求項１の「無着色領域」に対応する。また、一例として、開口部が１つ設けられているが、得られる反射表示の輝度により、開口部の数と大きさを任意に設定できる。
図２０は、１色画素を表示する赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）色のカラーフィルタに覆われ、それぞれ赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）色を表示する３つの画素領域４ａ、４ｂ、４ｃにおいて、配線の配置を示す平面図である。
図２０に示すように、画素領域４ａ、４ｂ、４ｃが行列に配設され、各画素領域の周囲に図１９に示されたＴＦＴ９に走査信号を供給するゲート線５ａ、５ｂと、ＴＦＴ９に表示信号を供給するための信号線６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄとが互いに直交するように配置されている。
また、図２０に示すように、画素領域４ｂと４ｃの間に、反射領域Ｘにおいて、信号線６ｃ上にスペーサ８５が設けられている。
液晶表示装置において、セルギャップ及び液晶層３の厚さを制御し、液晶層３の厚さを均一に維持し、表示ムラを防ぐために、基板２８と８の間にスペーサを設けることが必要である。特に、本実施形態の表示パネル１Ａにおいては、反射領域Ｘと透過領域Ｂのセルギャップが異なり、反射領域Ｘのセルギャップが狭く、透過領域Ｂのセルギャップが広い場合に、スペーサを形成することによって、セルギャップの制御性を上げる。
しかし、スペーサを形成する場所は問題となる。従来は、コンタクトホール２２ａ、２２ｂ、２２ｃなどにスペーサを形成していたが、スペーサが反射領域のかなりの部分を占め、また、スペーサ周辺に液晶配向異常領域が生じ、表示に使えない非表示領域が生じた。
本発明において、反射型表示及び透過型表示の表示視認性を向上させるためには、非表示領域を最小限に抑えなければならない。
したがって、本実施形態において、表示に使うことのない領域に、スペーサを形成する。たとえば、反射領域Ｘにおいて、信号線６ｃ上に、スペーサ８５を形成する。
図２１は、表示パネル１におけるカラーフィルタの配置を示す平面図である。カラーフィルタ２９Ｒ，２９Ｇ，２９Ｂはそれぞれ赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）色に着色され、画素領域４ａ、４ｂ、４ｃと整合した位置に配置され、画素領域４ａ、４ｂ、４ｃからの反射表示光と透過表示光に色をつけ、Ｒ、Ｇ、Ｂ３原色によりカラー表示を行う。
前述したように、カラーフィルタによる反射表示光の減衰を抑制し、反射表示光の輝度を増加させるために、たとえば、カラーフィルタ２９Ｒと２９Ｂに、図示のような形状の開口部３４ａと３４ｂが設けられている。開口部３４ａと３４ｂの大きさを調整することによって、開口部３４ａと３４ｂを通過する光の量を調整可能であり、これによって、反射型表示輝度を調整することができる。さらに、開口部３４ａと３４ｂを形成されたカラーフィルタ２９Ｒと２９Ｂは、製造工程を増加することがなく、容易に製造できる。
前述したように、開口部の数と形状は、以上の説明に限定されず、必要に応じて設定できる。
図２０に示す信号線６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄが、外部から入射された光を反射する。その反射光は非表示光であるので、上層の液晶層３に入射すると、液晶層が応答し、表示ムラを生じる問題がある。この問題を解消するために、信号線６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄを遮蔽し、外部からの光を照射されないようにすれば良い。
本実施形態において、信号線６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄを遮光する方法として、図２１に示すように、カラーフィルタ２９Ｒ，２９Ｇ，２９Ｂのうち、隣接するものを重ねて、その重畳領域８２ａと８２ｂは、信号線６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄを遮光する。
赤、緑、青のカラーフィルタ２９Ｒ，２９Ｇ，２９Ｂは、互いに重なると、その重畳領域８２ａと８２ｂの色は濃くなり、良好な遮光物として機能する。
なお、８１ａと８１ｂは、カラーフィルタ２９Ｒと２９Ｂの反射エッジである。また、下層のスペーサ８５の形成領域に対応するカラーフィルタ２９Ｇと２９Ｂの境界線の反射領域Ｘ側の端部に、カラーフィルタ２９Ｇと２９Ｂは重なっておらず、即ち、遮光膜を設けていない。
図２２は、図２０においてａ−ａ′線における表示パネル１Ａの要部断面図である。図２３は、図２０においてｂ−ｂ′線における表示パネル１Ａの要部断面図である。
図２２と図２３には、図１９と同様の構成成分に同じ符号を用い、また、重複する説明を省略する。
図２２に示すように、スペーサ８５は、透明の平坦層１１を介して信号線６ｃ上に形成される。また、上記したように、スペーサ８５に対応する位置のカラーフィルタ２９Ｇと２９Ｂは重なっていない。スペーサ８５に反射された光は、上方の１／４波長板３１で遮断され、表示に支障はないからである。
図２３はスペーサ８５が形成されていない領域の構造を示す。図２３において、カラーフィルタ２９Ｇと２９Ｂは重なっており、透明の平坦層１１を介して信号線６ｃに入射する周囲光を遮蔽する。
本実施形態によれば、隣接するカラーフィルタ２９ｂを重ねて、遮光物として信号線６を遮光する。また、スペーサ８５を信号線６上に形成する。また、カラーフィルタには、開口部３４ａと３４ｂを形成し、白色を混合する。これによって、カラーフィルタを容易に製造でき、スペーサが占める領域及びその周辺の液晶配向異常領域による非表示領域を極力抑え、信号線上の反射を防止し、ゲート線とデータ信号線の間の容量の増加を抑制し、反射型表示の輝度と画質を向上させる。
なお、上記の説明に、ＴＦＴ９がボトムゲート構造を有するものとして説明したが、ＴＦＴ９はこれに限定されるものではなく、トップゲート構造を有するものであってもよい。
また、上記の説明に、１つのＲＧＢ色画素に１つのスペーサを形成する例を挙げたが、本実施形態はこれに限定されず、必要に応じて配設しても良い。
第３の実施形態
本第３の実施形態の液晶表示装置は、図１９に示す構造と同じ構造を有する透過反射併用型液晶表示装置である。
図２４は、Ｒ、Ｇ、Ｂ３色を表示する３つの画素領域４ａ、４ｂ、４ｃにおいて、配線の配置を示す平面図である。
画素領域４ａ、４ｂ、４ｃの隣接部に、ゲート線５ａ、５ｂと、信号線６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄとが互いに直交するように配置されている。
画素領域４ｂと４ｃの間に、反射領域Ｘにおいて、信号線６ｃ上にスペーサ９５が設けられている。
図２５は、表示パネル１Ａにおけるカラーフィルタの配置を示す平面図である。カラーフィルタ２９Ｒ，２９Ｇ，２９ＢはそれぞれＲ、Ｇ、Ｂ色に着色され、画素領域４ａ、４ｂ、４ｃと整合した位置に配置され、画素領域４ａ、４ｂ、４ｃからの反射表示光と透過表示光に色をつけ、Ｒ、Ｇ、Ｂ３原色によりカラー表示を行なう。たとえば、カラーフィルタ２９Ｇと２９Ｂに、スペーサ９５に対応する位置の近傍に、図示のような四角形状の開口部３５ａと３５ｂが設けられており、白色を混合する。開口部３５ａと３５ｂの配置、大きさと数を調整することによって、開口部３５ａと３５ｂを通過する光の量を調整可能であり、これによって、反射型表示輝度を調整することができる。
なお、開口部の配置、数と大きさを必要に応じて設定できる。
図２４に示す信号線６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄでの光反射を防止するために、本実施形態において、図２５に示すように、隣接するカラーフィルタ２９Ｒと２９Ｇ，２９Ｇと２９Ｂの間に、たとえば、クロムの金属膜からなる遮光膜９２ａと９２ｂが形成され、信号線６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄを遮光する。
図２６は、図２４においてｃ−ｃ′線における図１に示す表示パネル１Ａの要部断面図である。図２７は、図２４においてｄ−ｄ′線における表示パネル１Ａの要部断面図である。
図２６と図２７には、図１９と同様の構成成分に同じ符号を用いる。
図２６に示すように、スペーサ９５は、透明の平坦層１１を介して信号線６ｃ上に形成されている。スペーサ９５上に、金属の遮光膜９２ｂが形成されている。
図２７はスペーサ９５が形成されていない領域の構造を示す。図２７において、カラーフィルタ２９Ｇと２９Ｂの上に金属の遮光膜９２ｂが形成されており、透明の平坦層１１を介して信号線６ｃに入射する周囲光を遮蔽する。
本実施形態によれば、カラーフィルタの間に金属遮光膜を形成し、信号線６を遮光する。また、スペーサ９５を信号線６上に形成する。また、カラーフィルタには、開口部３５ａと３５ｂを形成し、白色を混合する。これによって、金属膜に容易に様々な形状の開口を加工でき、また、スペーサによる非表示領域を極力抑え、信号線上の反射を防止し、ゲート線とデータ信号線の間の容量の増加を抑制し、反射型表示の輝度と画質を向上させる。
なお、１つのＲＧＢ色画素において、スペーサの数は以上の例に限定されない。
第４の実施形態
本第４の実施形態の液晶表示装置は、図１９に示す表示パネル１Ａと同じ基本構造を有する透過反射併用型液晶表示装置である。
図２８は、Ｒ、Ｇ、Ｂ３色を表示する３つの画素領域４ａ、４ｂ、４ｃにおいて、配線の配置を示す平面図である。図２８において、画素領域４ａ、４ｂ、４ｃの隣接部に、ゲート線５ａ、５ｂと、信号線６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄとが互いに直交するように配置されている。
本実施形態では、スペーサが信号線６ｃ上に設けられておらず、後述のように、ゲート線５と信号線６ｃの交差部に形成されている。
図２９は、表示パネル１におけるカラーフィルタの配置を示す平面図である。カラーフィルタ２９Ｒ，２９Ｇ，２９ＢはそれぞれＲ、Ｇ、Ｂ色に着色され、画素領域４ａ、４ｂ、４ｃと整合した位置に配置され、画素領域４ａ、４ｂ、４ｃからの反射表示光と透過表示光に色をつけ、Ｒ、Ｇ、Ｂ３原色によりカラー表示を行なう。
たとえば、カラーフィルタ２９Ｒと２９Ｂに、図示のような四角形状の開口部３６ａと３６ｂが設けられており、白色を混合する。開口部３６ａと３６ｂの配置、大きさと数を調整することによって、開口部３６ａと３６ｂを通過する光の量を調整可能であり、これによって、反射型表示輝度を調整することができる。
なお、開口部の配置、数と大きさを必要に応じて設定できる。
図２８に示す信号線６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄでの光反射を防止するために、本実施形態において、第２の実施形態と同じように、図２９に示すように、隣接するカラーフィルタ２９Ｒと２９Ｇ，２９Ｇと２９Ｂの間に、たとえば、クロムの金属膜からなる遮光膜１０２ａと１０２ｂが形成され、信号線６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄを遮光する。
後述するように、本実施形態において、信号線６ｃとゲート線５ａの交差部、及び、信号線６ｃとゲート線５ｂの交差部にスペーサを設ける。そのため、信号線６ｃとゲート線５ａの交差部、及び、信号線６ｃとゲート線５ｂの交差部に対応するカラーフィルタ２９Ｇと２９Ｂの境界線の両端部に、たとえば、クロムの金属膜からなるスペーサを遮光する膜が形成されている。
図３０は、図２８においてｅ−ｅ′線における図１９に示す表示パネル１Ａの要部断面図である。
図３０には、図１９と同様の構成成分に同じ符号を用いる。
図３０に示すように、スペーサ１０５は、信号線６ｃとゲート線５ａの交差部、及び、信号線６ｃとゲート線５ｂの交差部に、透明の絶縁膜２５などを介して信号線６ｃとゲート線５ａ上に形成されている。スペーサ１０５上に、カラーフィルタ２９Ｇと２９Ｂの隣接部に、金属の遮光膜１０２ｂが形成されている。
本実施形態によれば、カラーフィルタ２９ｂの間に金属遮光膜１０２を形成し、信号線６を遮光する。また、スペーサ１０５をゲート線５と信号線６の交差部に形成し、かつ、スペーサ１０５の上方に金属遮光膜を形成する。また、カラーフィルタには、開口部３６ａと３６ｂを形成し、白色を混合する。これによって、スペーサによる非表示領域を極力抑え、信号線上の反射を防止し、ゲート線とデータ信号線の間の容量の増加を抑制し、反射型表示の輝度と画質を向上させる。
第５の実施形態
本第５の実施形態の液晶表示装置は、図１９に示す表示パネル１Ａと同じ基本構造を有する透過反射併用型液晶表示装置である。
図３１は、Ｒ、Ｇ、Ｂ３色を表示する３つの画素領域４ａ、４ｂ、４ｃにおいて、配線の配置を示す平面図である。図３１において、画素領域４ａ、４ｂ、４ｃの隣接部に、ゲート線５ａ、５ｂと、信号線６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄとが互いに直交するように配置されている。
本実施形態においても、後述のように、スペーサがゲート線５と信号線６ｃの交差部に形成されている。
図３２は、表示パネル１におけるカラーフィルタの配置を示す平面図である。カラーフィルタ２９Ｒ，２９Ｇ，２９ＢはそれぞれＲ、Ｇ、Ｂ色に着色され、画素領域４ａ、４ｂ、４ｃと整合した位置に配置され、画素領域４ａ、４ｂ、４ｃからの反射表示光と透過表示光に色をつけ、Ｒ、Ｇ、Ｂ３原色によりカラー表示を行なう。たとえば、カラーフィルタ２９Ｒと２９Ｂに、図示のような形状の開口部３７ａと３７ｂが設けられており、白色を混合し、反射型表示輝度を調整する。
なお、開口部の配置、数と大きさを必要に応じて設定できる。
図３１に示す信号線６ａ、６ｂ、６ｃ、６ｄでの光反射を防止するために、本実施形態において、第１の実施形態と同じように、図３２に示すように、赤、緑、青のカラーフィルタ２９Ｒ，２９Ｇ，２９Ｂは、互いに重なって、その重畳領域１１２ａと１１２ｂの色は濃くなり、良好な遮光物として機能する。
後述するように、本実施形態において、信号線６ｃとゲート線５ａの交差部、及び、信号線６ｃとゲート線５ｂの交差部にスペーサを設ける。
図３３は、図３１においてｆ−ｆ′線における図１９に示す表示パネル１Ａの要部断面図である。図３４は、図３１においてｇ−ｇ′線における図１９に示す表示パネル１Ａの要部断面図である。
図３３と図３４には、図１９と同様の構成成分に同じ符号を用いる。
図３３に示すように、スペーサ１１５は、信号線６ｃとゲート線５ａの交差部、及び、信号線６ｃとゲート線５ｂの交差部に、透明の絶縁膜２５などを介して信号線６ｃとゲート線５ａ上に形成されている。スペーサ１１５上に、カラーフィルタ２９Ｇと２９Ｂが配置されている。
図３４はスペーサ１１５が形成されていない領域の構造を示す。図３４において、カラーフィルタ２９Ｇと２９Ｂは重なっており、透明の平坦層１１を介して信号線６ｃに入射する周囲光を遮蔽する。
本実施形態によれば、隣接するカラーフィルタ２９ｂを重ねて、遮光物として信号線６を遮光する。また、スペーサ１１５をゲート線５と信号線６の交差部に形成する。また、カラーフィルタには、開口部３７ａと３７ｂを形成し、白色を混合する。これによって、スペーサによる非表示領域を極力抑え、信号線上の反射を防止し、反射型表示の輝度を向上させる。
第６の実施形態
次に、図３５〜図４０に関連付けて、本発明の第５の実施形態を説明する。
上述した第１〜第５の実施形態にあっては、Ｃｓ線７を独立に配線し、このＣｓ線７と接続電極２０との間に補助容量Ｃを形成する液晶表示装置について説明したが、本発明はこのような構成を有する液晶表示装置に限定されるものではない。
そこで、本第６の実施形態は、例えば図３５に示すように、Ｃｓ線を独立に配線せずに、Ｃｓ線の役割をゲート線に持たせ、このゲート線に補助容量が重畳されてなる、いわゆるＣｓオンゲート構造を有する液晶表示装置に対しても適用するように構成している。
Ｃｓオンゲート構造の液晶表示装置は、図３５に示すように、複数本のゲート線５と複数本の信号線６とが、互いに直交するように配線されることでマトリクス状に区画される画素領域４が設けられ、この画素領域４毎にゲート線５と信号線６との交点にＴＦＴが形成されるＴＦＴ部１２１が設けられている。そして、ゲート線５には、信号線６に沿ってかつＴＦＴ部１２１との接続側とは反対側に延在する延在部６ａが設けられている。また、画素領域４には、ＴＦＴ部１２１を介してＴＦＴに接続される接続電極１２２が、前段のゲート線５の延在部５と対向するように配線されている。このような構成の液晶表示装置においては、前段のゲート線５の延在部５ａと、接続電極１２２との重畳部分が、補助容量が形成される補助容量領域（以下、Ｃｓ領域と称する。）１２３とされている。
また、図３５において、ゲート線５はゲートドライバ１２４により駆動され、信号線６はソースドライバ１２５により駆動される。
また、図３６は、図３５とは異なる駆動方法を採用した液晶表示装置の等価回路図である。
図３５の回路では、一定の対向電位Ｖｃｏｍを印加する場合であるが、図３６の回路は、１Ｈ毎に極性を反転させた対向電圧Ｖｃｏｍを印加する駆動方法を採用している。この場合、図３５の回路では９Ｖの信号電位が必要であったが、図３６の回路では、５Ｖの信号電位で足りる。
また、図３７は、低温ポリシリコンのパネル回路を有する液晶表示装置の等価回路図である。なお、図３７においても、図３５および図３６と同様な構成要素には、同一符号を付している。
図３７の回路では、図３５および図３６の回路と異なりソースドライバを同一パネルに搭載しない構成をとる。図示しないソースドライバからの信号ＳＶは、複数の転送ゲートＴＭＧを有するセレクタＳＥＬを介して信号線６に転送される。各転送ゲート（アナログスイッチ）ＴＭＧは外部からの相補的レベルをとる選択信号Ｓ１とＸＳ１、Ｓ２とＸＳ２、Ｓ３とＸＳ３、・・により導通状態が制御される。
図３８Ａ，Ｂおよび図３９Ａ，Ｂは、ＣＳ線７とゲート線５は共通する、いわゆるＣＳオンゲート構造において配線の直上に反射領域Ａを形成する例を示す図である。
図３８Ａは、２×２画素領域の平面図であり、これらの画素領域において、複数のゲート線５と複数の信号線６とが互いに直交して配線されて、マトリクス状に区画されている。画素ごとに、ゲート線５と信号線６との交点にＴＦＴ９が形成される。
ゲート線５に、信号線６に沿ってかつＴＦＴ９との接続側とは反対側にＣＳ線７が設けられている。ＣＳ線７が独立に配線されず、前段のゲート線との間に図示のように、保持容量ＣＳが形成されている。
金属膜からなるゲート線配線領域、信号線配線領域、ＣＳ形成領域、及びＴＦＴ形成領域のうちいずれか１つまたは複数組み合わせた領域の直上の領域に、反射電極６２の反射領域Ａが形成されている。
図３８Ｂは、ゲート線配線領域とＴＦＴ形成領域を反射領域Ａとした場合、図３９Ａは信号線配線領域のみを反射領域Ａとした場合、図３９ＢはＴＦＴ形成領域のみを反射領域Ａとした場合、図４０はゲート線のみを反射領域Ａとした場合である。
このようにして画素内のスペースを有効に使用することで、透過領域Ｂの面積を大きく確保でき透過率を向上させることができる。
このような液晶表示装置にあっても、画素領域４において、内部光源であるバックライトからの光を遮蔽する金属配線等の金属膜が設けられた領域、具体的には上述したゲート線５が配線された領域や信号線６が配線された領域、Ｃｓ領域９３が形成された領域、またＴＦＴが形成されたＴＦＴ部１２１のうちいずれか一つ又は複数組み合わせた領域の直上に反射領域Ａが設けられている。
例えば、図３８Ａに示すような構成の画素領域４にあっては、図３８Ｂに示すＣｓ線配線領域とゲート線配線領域との直上に反射領域Ａが設けられる。このように、内部光源からの光を遮蔽する領域を有効に利用して反射領域Ａとすることで、効率よく画素領域４内で反射領域Ａと透過領域Ｂとを分けることができる。その結果、透過領域Ｂの面積を大きく確保して透過型重視の構造とすることができる。
また、上述した画素領域４においては、この画素領域４に対応して設けられるカラーフィルタ（図示は省略する。）の反射領域に対応する部分に開口部３３を形成し、また平坦化層上に平坦な反射電極を形成することで、表示パネルにおける反射率及び透過率を上述した範囲、すなわち反射率を１０％以上、透過率を４％以上、１０％以下の範囲に設定することができる。
上述したＣｓオンゲート構造を有する図３５の液晶表示装置の駆動方法について説明する。このようなＣｓオンゲート構造の場合、前段のゲート線がＣｓ容量機能を加味するため、自段のゲート線がＯＮ状態の時には、前段のゲート線は容量変動を抑えるためにＯＦＦ状態とする必要がある。この液晶駆動装置においては、例えば５Ｖの一定の対向電位Ｖｃｏｍが印加され、またゲート波形は同図に示すような波形となる。
上記液晶表示装置では、まず第１のゲート線５−１をＯＮとし、その後にゲート電位をＯＦＦ電位に固定する。次に、第２のゲート線５−２がＯＮとされる。このとき、Ｃｓ線機能を有する第１のゲート線５−１はＯＦＦとされているため、第１のゲート線５−１に接続された補助容量Ｃｓ１（Ｃｓ領域１２３）に、ＴＦＴ部９１のソース、ドレインを通じて画素の保持電荷が注入され、画素電位が確定される。そして、第２のゲート線５−２がＯＦＦとされるとともに、第３のゲート線５−３がＯＮとされ、上述した保持容量Ｃｓ１と同様に、第２のゲート線５−２に接続された保持容量Ｃｓ２に保持電荷が注入され、画素電位が確定される。
なお、上述した駆動方法において、走査方向は図３５中矢印Ａ方向である。また、この駆動方法におけるＯＦＦ電位は−３Ｖであるが、ＯＦＦ電位をこの電圧としたのは、ＴＦＴ部１２１に使用したＮｃｈにおいて、完全に電流をカットする電位がマイナス電位であるためであり、ＴＦＴ部１２１の電流カット電位がプラス側にある場合には、ＧＮＤ電位をＯＦＦ電位とすることができることは勿論である。
以上、本発明を好ましい実施の形態に基づき説明したが、本発明は以上に説明した実施の形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の改変が可能である。
以上、詳細に説明したように本発明にかかる液晶表示装置は、減衰量の少ない光が通過する開口部の大きさを調整することで、反射型表示における反射率を調整することができるため、透過領域を狭めることなく、反射型表示における反射率を向上させ、これにより高輝度で色再現性の高い反射型表示を行うことができる。したがって、本発明によれば、高反射率による高輝度で良好な色再現性の反射型表示を実現しつつ、表示領域の面積が広く、また透過型表示における輝度を高いレベルで維持しうる透過型重視の構造を採用することができるようになり、この透過型重視の構造によって透過型表示における色再現性及び視認性を向上させることができる。
また、隣接するカラーフィルタを重ねて、遮光物として信号線を遮光することから、信号線上の反射を抑制しながら、製造工程を増加させず、遮光膜を容易に製造できる。また、隣接するカラーフィルタの間に、または、スペーサに対応する位置に、遮光膜を形成して信号線を遮光することから、信号線上の反射を抑制する。また、スペーサを信号線上に形成することから、表示できない非表示領域を極力抑えることができる。また、カラーフィルタには、開口部を形成し、白色を混合することから、反射型表示の輝度を向上させる。
さらに、本発明によれば、液晶表示装置の表示パネルの透過率を４％以上、１０％以下に設定し、反射率を１％から３０％の間で設定し、透過型表示のみの表示装置と同等の表示光輝度、及び表示に必要な反射表示光輝度を確保しながら、液晶表示装置の消費電力を増加させずに、高精細度の表示に対応できるようになる。
また、透過領域のみ覆うカラーフィルタを設けることによって、反射率をさらに向上させることが可能となる。
また、反射領域に対応するカラーフィルタに開口部を設けることで、高反射率の反射領域を得ることができ、例えば最低限必要なレベルの視認性を得るための反射領域の面積を小さくすることができ、その結果、透過領域を大きく確保しえ得る透過型重視の液晶表示装置を実現できる。
また、低温多結晶シリコンを用いることから、画素ごとの薄膜トランジスタＴＦＴのサイズを小さくすることができ、反射領域と透過領域の全面積は増加する。さらに、反射率の高い金属からなる反射膜、または、平坦な反射膜を形成する、特に、配線領域の直上に形成することにより、透過領域の面積を増大することができ、反射率と透過率共に向上できる。
したがって、本発明によって、反射透過併用型の液晶表示装置において、反射表示と透過型表示両方の視認性および色再現性を向上できる。
産業上の利用可能性
以上のように、本発明に係る液晶表示装置は、反射表示と透過型表示両方の視認性および色再現性を向上できることから、ノート型パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション用の表示装置、携帯情報端末（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ａｓｓｉｓｔａｎｔ：ＰＤＡ）、携帯電話、デジタルカメラ、ビデオカメラ等の電子機器に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
図１は、本発明の第１の実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの構造を示す部分平面図である。
図２は、本発明の第１の実施形態に係る液晶表示装置の表示パネルの構造を示す断面図である。
図３は、画素領域の等価回路図である。
図４は、本発明の第１の実施形態に係る液晶表示装置において、薄膜トランジスタの構造の一例を示す断面図である。
図５は、本発明の第１の実施形態に係る液晶表示装置において、画素のレイアウトの一例を示す平面図である。
図６は、本発明の第１の実施形態に係る液晶表示装置において、画素のレイアウトの他の例を示す平面図である。
図７は、Ｐｏｌｙ−Ｓｉで形成されたＴＦＴとａ−Ｓｉで形成されたＴＦＴを用いた液晶表示装置の反射率と透過率の測定データである。
図８Ａおよび図８Ｂは、画素領域に対応位置して形成されるカラーフィルタに形成された開口部を説明するための図である。
図９Ａ〜図９Ｄは、他の形状の同開口部を説明するための図である。
図１０は、本発明の第１の実施形態に係る液晶表示装置においてバックライト及びその集光光学系を示す図である。
図１１は、図１０に示されたバックライト及びその集光光学系の斜視図である。
図１２は、本発明の第１の実施形態に係る液晶表示装置において、表示パネルに必要な最低表示輝度の調査結果を示す図である。
図１３は、本発明の第１の実施形態に係る液晶表示装置において、表示パネルの表面に一定の輝度を維持する場合、透過率とバックライト輝度の関係を示すグラフである。
図１４は、表示パネルの反射電極の全面を反射膜とした場合の反射率の測定結果を示す図である。
図１５は、本発明の第１の実施形態に係る液晶表示装置における透過率と反射率の設定可能な範囲を示す図である。
図１６Ａおよび図１６Ｂは、反射率を測定する方法を説明する図である。
図１７は、本発明の第１の実施形態に係る液晶表示装置において、薄膜トランジスタの構造の他の例を示す断面図である。
図１８は、開口部が形成された液晶表示装置と形成されていない液晶表示装置の反射率の差異を説明するための特性図である。
図１９は、本発明の第２の実施形態に係る液晶表示装置における表示パネルの構造を示す断面図である。
図２０は、本発明の第２の実施形態に係る液晶表示装置における画素のレイアウトを示す平面図である。
図２１は、本発明の第２の実施形態に係る液晶表示装置におけるカラーフィルタの配置図である。
図２２は、図２０において、ａ−ａ′線に沿った断面図であり、表示パネルのスペーサ部の構造を示す。
図２３は、図２０において、ｂ−ｂ′線に沿った断面図である。
図２４は、本発明の第３の実施形態に係る液晶表示装置における画素のレイアウトを示す平面図である。
図２５は、本発明の第３の実施形態に係る液晶表示装置におけるカラーフィルタの配置図である。
図２６は、図２４において、ｃ−ｃ′線に沿った断面図であり、表示パネルのスペーサ部の構造を示す。
図２７は、図２４において、ｄ−ｄ′線に沿った断面図である。
図２８は、本発明の第４の実施形態に係る液晶表示装置における画素のレイアウトを示す平面図である。
図２９は、本発明の第４の実施形態に係る液晶表示装置におけるカラーフィルタの配置図である。
図３０は、図２７において、ｅ−ｅ′線に沿った断面図であり、表示パネルのスペーサ部の構造を示す。
図３１は、本発明の第５の実施形態に係る液晶表示装置における画素のレイアウトを示す平面図である。
図３２は、本発明の第５の実施形態に係る液晶表示装置におけるカラーフィルタの配置図である。
図３３は、図３１において、ｆ−ｆ′線に沿った断面図であり、表示パネルのスペーサ部の構造を示す。
図３４は、図３１において、ｇ−ｇ′線に沿った断面図であり、表示パネルのスペーサ部の構造を示す。
図３５は、本発明の第６の実施形態に係る液晶表示装置を説明するための図で、Ｃｓオンゲート構造を有する液晶表示装置の等価回路図である。
図３６は、図３５とは異なる駆動方法を採用した液晶表示装置の等価回路図である。
図３７は、低温ポリシリコンのパネル回路を有する液晶表示装置の等価回路図である。
図３８Ａ本発明の第６の実施形態に係る液晶表示装置における画素領域のレイアウトの第２の例を示し、図３８Ｂは、画素領域において、反射領域の配置位置を示す図である。
図３９Ａおよび図３９Ｂは、図３８Ｂに続いて、本発明の第６の実施形態に係る液晶表示装置の各画素領域において、反射領域の配置位置を示す図である。
図４０は、図３８Ｂに続いて、本発明の第５の実施形態に係る液晶表示装置において、各画素領域の反射領域の配置位置を示す図である。
符号の説明
１，１Ａ…液晶表示パネル
３…液晶層
４…画素領域
５…ゲート線
６…データ信号線
７…ＣＳ線
８…透明絶縁基板
９，９ａ…ＴＦＴ
１０…散乱層
１１…平坦化層
１２…反射電極
１３…透明電極
１４…ゲート絶縁膜
１５…ゲート電極
１６、１７…ｎ＋型拡散層
１８…半導体薄膜層
１９…ソース電極
２０…ドレイン電極
２１…接続電極
２２…コンタクトホール
２３…ストッパ
２４…絶縁膜
２４ａ，２４ｂ…コンタクトホール
２５…絶縁膜
２６…１／４波長板
２７…偏光板
２８…透明絶縁基板
２９…オーバーコート層
２９ａ，２９ｂ，２９Ｒ，２９Ｇ，２９Ｂ…カラーフィルタ
３０…対向電極
３１…１／４波長板
３２…偏光板
３３，３４，３５，３７…開口部
５１…駆動回路
５２…光源
５３…光ファイバ
５４…光検知装置
５５…光センサ
５６…測定装置
６２…反射電極
６３…透明電極
６４…画素電極
７１ａ，７１ｂ…バックライト
７２…導光板
７３…拡散板
７４…レンズシート
ＣＳ…保持装置
Ａ，Ｘ…反射領域
Ｂ，Ｂ…透過領域。
【図１】
2003085450.tif 000003
【図２】
2003085450.tif 000004
【図３】
2003085450.tif 000005
【図４】
2003085450.tif 000006
【図５】
2003085450.tif 000007
【図６】
2003085450.tif 000008
【図７】
2003085450.tif 000009
【図８Ａ】
2003085450.tif 000010
【図８Ｂ】
2003085450.tif 000011
【図９Ａ】
2003085450.tif 000012
【図９Ｂ】
2003085450.tif 000013
【図９Ｃ】
2003085450.tif 000014
【図９Ｄ】
2003085450.tif 000015
【図１０】
2003085450.tif 000016
【図１１】
2003085450.tif 000017
【図１２】
2003085450.tif 000018
【図１３】
2003085450.tif 000019
【図１４】
2003085450.tif 000020
【図１５】
2003085450.tif 000021
【図１６Ａ】
2003085450.tif 000022
【図１６Ｂ】
2003085450.tif 000023
【図１７】
2003085450.tif 000024
【図１８】
2003085450.tif 000025
【図１９】
2003085450.tif 000026
【図２０】
2003085450.tif 000027
【図２１】
2003085450.tif 000028
【図２２】
2003085450.tif 000029
【図２３】
2003085450.tif 000030
【図２４】
2003085450.tif 000031
【図２５】
2003085450.tif 000032
【図２６】
2003085450.tif 000033
【図２７】
2003085450.tif 000034
【図２８】
2003085450.tif 000035
【図２９】
2003085450.tif 000036
【図３０】
2003085450.tif 000037
【図３１】
2003085450.tif 000038
【図３２】
2003085450.tif 000039
【図３３】
2003085450.tif 000040
【図３４】
2003085450.tif 000041
【図３５】
2003085450.tif 000042
【図３６】
2003085450.tif 000043
【図３７】
2003085450.tif 000044
【図３８Ａ】
2003085450.tif 000045
【図３８Ｂ】
2003085450.tif 000046
【図３９Ａ】
2003085450.tif 000047
【図３９Ｂ】
2003085450.tif 000048
【図４０】
2003085450.tif 000049
【国際調査報告】
2003085450.tif 000050
2003085450.tif 000051
2003085450.tif 000052
2003085450.tif 000053