(57)【要約】熱可塑性樹脂からなる、エンボスピットまたは案内溝が設けられた０．３〜２．０ｍｍ厚さの基板と、該基板上に設けられた反射層と、その上に設けられた厚さ３〜２００μｍの透明保護層とを具備し、当該透明保護層側から光ビームを照射してその反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する光学記録媒体において、当該基板が特定の化学構造のポリカーボネート樹脂並びに特定の物性を有する熱可塑性樹脂からなることを特徴とする光学記録媒体。本発明によれば、簡単な構成であって、表面記録再生用の光学記録媒体が提供される。特に記録密度が高密度化された光学記録媒体が提供される。【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱可塑性樹脂からなる、エンボスピットまたは案内溝が設けられた０．３〜２．０ｍｍ厚さの基板、該基板上に設けられた反射層およびその反射層上に設けられた厚さ３〜２００μｍの透明保護層を有し、その透明保護層の表面側から光ビームを照射してその反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する光学記録媒体において、該基板は、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン（ａ−１成分）および９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン（ａ−２成分）よりなる群から選ばれた少なくとも１種の芳香族ジヒドロキシ化合物（Ａ成分）を全ジヒドロキシ化合物に対して少なくとも２０モル％含むジヒドロキシ化合物をビスフェノール成分として重合された芳香族ポリカーボネート樹脂を５０重量％以上含有する熱可塑性樹脂より形成していることを特徴とする光学記録媒体。
【請求項２】
該基板は、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン（ａ−１成分）および９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン（ａ−２成分）よりなる群から選ばれた少なくとも１種の芳香族ジヒドロキシ化合物（Ａ成分）およびα，α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ｍ−ジイソプロピルベンゼン（Ｂ成分）をＡ成分：Ｂ成分＝２０：８０〜７０：３０のモル比で含むジヒドロキシ化合物をビスフェノール成分として重合された芳香族ポリカーボネート樹脂を５０重量％以上含有する熱可塑性樹脂より形成されている請求項１記載の光学記録媒体。
【請求項３】
該基板は、曲げ弾性率が２４，０００ｋｇｆ／ｃｍ２以上を有する熱可塑性樹脂より形成されている請求項１記載の光学記録媒体。
【請求項４】
該基板は、飽和吸水率が０．３３重量％以下を有する熱可塑性樹脂より形成されている請求項１記載の光学記録媒体。
【請求項５】
該基板は、荷重たわみ温度が１２５℃以上を有する熱可塑性樹脂より形成されている請求項１記載の光学記録媒体。
【請求項６】
該基板は、損失正接（ｔａｎδ）が０．００６以上を有する熱可塑性樹脂より形成されている請求項１記載の光学記録媒体。
【請求項７】
該基板は、転写率が９５％以上の特性を有する熱可塑性樹脂より形成されている請求項１記載の光学記録媒体。
【請求項８】
該基板は、チルト角の最大変化値（ΔＴｉｌｔ）が０．６°以下の特性を有する熱可塑性樹脂より形成されている請求項１記載の光学記録媒体。
【請求項９】
該基板は、２種以上の熱可塑性樹脂のブレンド物より形成されている請求項１記載の光学記録媒体。
【請求項１０】
該透明保護層は、該基板を形成する熱可塑性樹脂と同じ熱可塑性樹脂より形成されている請求項１記載の光学記録媒体。
【請求項１１】
該反射層と該透明保護層との間に記録層を有する請求項１記載の光学記録媒体。
【請求項１２】
該反射層あるいは記録層が複層積層されている多層構造である請求項１１記載の光学記録媒体。
【請求項１３】
熱可塑性樹脂からなる、エンボスピットまたは案内溝が設けられた０．３〜２．０ｍｍ厚さの基板、該基板上に設けられた反射層およびその反射層上に設けられた厚さ３〜２００μｍの透明保護層を有し、その透明保護層の表面側から光ビームを照射してその反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する光学記録媒体において、該基板は下記（１）〜（４）の特性を有する熱可塑性樹脂より形成されていることを特徴とする光学記録媒体。
（１）曲げ弾性率２４，０００ｋｇｆ／ｃｍ２以上
（２）飽和吸水率が０．３３重量％以下
（３）荷重たわみ温度が１２５℃以上かつ
（４）損失正接（ｔａｎδ）が０．００６以上
【請求項１４】
該基板は、曲げ弾性率が２６，０００ｋｇｆ／ｃｍ２以上を有する熱可塑性樹脂より形成されている請求項１３記載の光学記録媒体。
【請求項１５】
該基板は、飽和吸水率が０．３０重量％以下を有する熱可塑性樹脂より形成されている請求項１３記載の光学記録媒体。
【請求項１６】
該基板は、荷重たわみ温度が１２７℃以上を有する熱可塑性樹脂より形成されている請求項１３記載の光学記録媒体。
【請求項１７】
該基板は、損失正接（ｔａｎδ）が０．００８以上を有する熱可塑性樹脂より形成されている請求項１３記載の光学記録媒体。
【請求項１８】
該基板は、転写率が９５％以上の特性を有する熱可塑性樹脂より形成されている請求項１３記載の光学記録媒体。
【請求項１９】
該基板は、チルト角の最大変化値（ΔＴｉｌｔ）が０．６°以下の特性を有する熱可塑性樹脂より形成されている請求項１３記載の光学記録媒体。
【請求項２０】
該基板は、芳香族ポリカーボネート樹脂より形成されている請求項１３記載の光学記録媒体。
【請求項２１】
該基板は、２種以上の熱可塑性樹脂のブレンド物より形成されている請求項１３記載の光学記録媒体。
【請求項２２】
該透明保護層は、請求項１３記載の熱可塑性樹脂の特性（１）〜（４）を満足しかつ透明な熱可塑性樹脂より形成されている請求項１３記載の光学記録媒体。
【請求項２３】
該透明保護層は、該基板を形成する熱可塑性樹脂と同じ熱可塑性樹脂より形成されている請求項１３記載の光学記録媒体。
【請求項２４】
該反射層と該透明保護層との間に記録層を有する請求項１３記載の光学記録媒体。
【請求項２５】
該反射層あるいは記録層が複層積層されている多層構造である請求項２４記載の光学記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】  本発明は、光学的情報記録媒体、より具体的には表面記録再生のための光学情報記録媒体に関する。
【背景技術】  通常のＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭなどの光ディスク（これらを“ＣＤディスク”と略称する）においては、１．２ｍｍ厚の透明基板の一方の面上に記録データに応じたエンボスピットが形成され、さらにその上にアルミニウム（Ａｌ）などからなる反射膜が形成されている。こうしたＣＤディスクに記録された情報は、反射膜が設けられた面とは反対側の透明基板側から集光ビームを照射することにより再生される。
これに対して、より記録密度が高密度化されたＤＶＤやＤＶＤ−ＲＯＭディスク（これらを“ＤＶＤディスク”と略称する）においては、０．６ｍｍ厚の透明基板の一方の面上にＣＤディスクの場合よりも微細なエンボスピットが形成され、さらにその上にＡｌなどからなる反射膜が形成されている。こうしたＤＶＤディスクの記録面に記録された情報の再生は、ＣＤディスクの場合と同様に反射膜が形成されている面とは反対側の透明基板側から集光ビームを照射することにより行われる。
０．６ｍｍ厚の基板の材料としては、透明な樹脂材料であるＰＣ（ポリカーボネート）が一般的に使用されている。０．６ｍｍ厚のＰＣ基板では、機械的特性が十分ではなく、そのままでは基板が反ってしまうため、記録面が内側となるよう２枚の０．６ｍｍＰＣ基板を貼り合わせて、合計厚さ１．２ｍｍのディスクとして機械的特性を確保している。
なお、ＤＶＤディスクの基板厚が０．６ｍｍとなったのは、チルトマージンを確保するためである。トラックピッチ、ピット密度がより詰まるとディスクの傾き、いわゆるチルトのマージンが減少してしまう。１．２ｍｍから０．６ｍｍへと基板厚を小さくすることによって、チルトマージンは確保することができるが、機械的強度の低下は避けられない。
そこで、基板を薄くして機械的強度を確保するため、ディスクの中央部を厚くすることにより機械的強度を確保することが提案されている（特開平９−２０４６８６号公報）。しかしながら機械的強度を確保するためには、信号記録領域の基板厚さは０．６ｍｍが限界であった。また、透明基板の厚さを０．１ｍｍ〜０．６ｍｍとすることが報告されている（特開平９−２０４６８８号公報）が、記録膜を保持する保護基板の厚さ、反射膜の膜厚等については言及されておらず、実施するうえでは問題であった。
ところが近年になって、新しい方式の光学記録媒体が種々提案されている。例えば、米国特許第５９７２４５９号明細書（特開平１１−７６５８号公報）には、“熱可塑性樹脂からなり、０．３〜１．２ｍｍの厚さの支持体と、上記支持体上に案内溝と、該案内溝上に、順に、少なくとも反射膜と、相変化型記録膜とからなる記録領域を有し、少なくとも上記記録領域において、３〜１７７μｍの厚さの透明保護層が形成されて成り、上記透明保護層の、厚さムラをΔｔとしたときに、再生、もしくは記録再生する光学系の開口数（Ｎ．Ａ．）および波長（λ）との間に、
Δｔ≦５．２６（λ／Ｎ．Ａ．４）（μｍ）（Ｎ．Ａ．は開口数）
の関係を満たすことを特徴とする光学記録媒体”が提案され、透明保護層の厚さと、その厚さむらの関係を規定することにより、大容量化が可能な光記録媒体が提供されるとしている。
そして一つの例として、記憶容量８ＧＢの高密度を達成するための光学記録媒体に必要な条件をまとめ、次のように示されている。すなわち、記録再生光学系がλ≦０．６８μｍかつＮ．Ａ．／λ≦１．２０をみたし、かつ、記録領域内で透明保護層の厚さｔ＝３〜１７７μｍ、透明保護層の厚さむらは、
Δｔ≦±５．２６（λ／Ｎ．Ａ．４）（μｍ）
トラックピッチＰ≦０．６４（μｍ）
公差ΔＰ≦±０．０４Ｐ（μｍ）
線密度ｄ≦０．１１６１／Ｐ（μｍ／ｂｉｔ）
ディスクスキュー  Θ≦８４．１１５×（λ／Ｎ．Ａ．３／ｔ）
偏心Ｅ≦６７．５７Ｐ（μｍ）
表面粗さＲａ≦±３λ／１００（スポット照射領域内）
というものである。
また、米国特許第６１５９５７２号明細書（特開平１１−２９６９０４号公報）には、片面記録方式として、“エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形成された側である第１の表面と、この第１の表面に対向する第２の表面との２つの面により表面が構成され、前記第１の表面側から光ビームを照射してその反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の記録面から前記第１の表面までの距離は、前記基板の厚さより小さく前記第１の表面は平滑であることを特徴とする情報記録媒体”が提案されている。また両面記録方式として“エンボスピットまたは案内溝が設けられ、対向する第１および第２の記録面を有する基板と、この基板の前記第１および第２の記録面にそれぞれ形成された第１および第２の反射膜と、この第１および第２の反射膜の上にそれぞれ形成された第１および第２の保護膜とを具備し、前記第１の保護膜が形成された側である第１の表面と、前記第２の保護膜が形成された側である第２の表面との２つの面により表面が構成され、前記第１の表面側および第２の表面側から、それぞれ光ビームを照射してその反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の第１の記録面から前記第１の表面までの距離、および前記基板の第２の記録面から前記第２の表面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．６ｍｍ以下（λは光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記第１または第２の保護膜の光屈折率である）であり、前記基板の厚さは０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であり、前記第１の表面から第２の表面までの距離は１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体”が提案されている。
これらは記録密度を高めても十分なチルトマージンと機械的強度とを確保しうる情報記録媒体を提供することを目的としている。
ところでこれらの提案の記録媒体においては基板を構成する材料については特別な考慮は払われておらず、例えば前記米国特許第６１５９５７２号明細書には、基板材料として、例えばポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）のようなアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、スチレン樹脂、ガラス、Ａｌなどの金属、合金、およびセラミック等が挙げられている。
しかし、前述した記録媒体の構成では、下記▲１▼〜▲４▼の理由により、スキュー（ＳＫＥＷ）の発生を回避することは困難である。
▲１▼射出時：キャビティー内を樹脂が流動する際にせん断応力による応力の発生（分子配向歪）。
▲２▼充填完了：樹脂がキャビティーに充填されたときスクリューの運動の急激な停止と共に樹脂の流動が急激に停止し樹脂とスクリューの慣性力がすべて基板にかかる。
▲３▼保圧：射出時の樹脂がゲートシールされるまで樹脂の逆流防止と体積収縮によるヒケ等の防止のために樹脂に圧力をかけているため基板全体に圧力分布が発生する。
▲４▼冷却：熱収縮により温度分布にしたがった応力が発生する。
そのため、特開平１１−２４２８２９号公報では、その改良として、
“基板上に少なくとも記録層と透明保護層とが順次形成されており、当該透明保護層側から光が入射されて情報信号の記録および／または再生が行われる光記録媒体であって、上記基板は、上記記録層が形成される側の面を形成する第１の樹脂層と、上記第１の樹脂層に積層され、上記第１の樹脂層を形成する樹脂材料よりも曲げ弾性率の大きい樹脂材料からなる第２の樹脂層とを備えることを特徴とする光記録媒体”が提案されている。
一方、上記改良により機械特性の課題を解決しても片面信号の光記録媒体では温度湿度の環境変化における吸湿によりディスクに変形が生じる。
ＤＶＤディスクの場合は通常の吸水率０．３％以上のポリカーボネート基板を使用しているが０．６ｍｍディスクを信号側を内側に背中合わせに貼り合せているため、吸水率が大きくても吸水バランスが取れ変形を起こしにくく、問題になることはなかった。しかし、高Ｎ．Ａ．（開口率）の高密度ディスクでは表層の片側に信号があるために吸水バランスが異なり、吸水変形を起こす問題が生じている。特にドライブ運転中は機内温度が高く湿度も低いところから急激な変化がおこりやすくディスクの変形により信号が読み出せない等のフォーカスエラーを起こしやすい。
このような吸水変形を抑えるために、米国特許第６２０１７８３号明細書（特開２０００−１１４４９号公報）では、“基板と、この基板に配置されて情報信号を記録するための記録層とその記録層に積層される透明保護層を有し、透明保護層側から光を入射することで情報信号の記録／再生を行うディスク状の情報記録媒体であり、この基板は、樹脂製のコア層と、コア層に一体になっており、一方の面に記録層側の情報信号の凸凹が存在し、ゴア層に比べて流動性を有する樹脂製の表層とから構成されていることを特徴とする情報記録媒体。”であって、基板の表層樹脂として吸水率が０．３％以下の樹脂を用いることが提案されており、２色成形、サンドイッチ成形による複雑な基板構成で問題を解決する方向が示されている。
【発明が解決しようとする課題】
本発明者らは、前記のごとき従来技術の動向に鑑み、複雑な構成にすることなく、単純な構成の上記形式の光学記録媒体の基板を提供することを目的とし、鋭意研究し、本発明に到達した。
【課題を解決するための手段】
本発明者らの研究によれば、前記本発明の目的は、熱可塑性樹脂からなる、エンボスピットまたは案内溝が設けられた０．３〜２．０ｍｍ厚さの基板、該基板上に設けられた反射層およびその上に設けられた厚さ３〜２００μｍの透明保護層を有し、その透明保護層の表面側から光ビームを照射してその反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する光学記録媒体において、当該基板は、
（ｉ）１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンおよび９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンよりなる群から選ばれた少なくとも１種の芳香族ジヒドロキシ化合物を全ジヒドロキシ化合物に対して少なくとも２０モル％含むジヒドロキシ化合物をビスフェノール成分として重合された芳香族ポリカーボネート樹脂を５０重量％以上含有する熱可塑性樹脂より形成されていること、より一般的には当該基板は、
（ｉｉ）下記（１）〜（４）の特性を有する熱可塑性樹脂より形成されていることを特徴とする光学記録媒体によって達成される。
（１）曲げ弾性率が２４，０００ｋｇｆ／ｃｍ２以上
（２）飽和吸水率が０．３３重量％以下
（３）荷重たわみ温度が１２５℃以上かつ
（４）損失正接（ｔａｎδ）が０．００６以上、
前記本発明の光学記録媒体は、３〜２００μｍの透明保護層の表面側から光ビームを照射して記録媒体を記録再生する光学記録媒体であって、大容量の情報を記録再生することが可能であり、短波長レーザー（例えば波長４０５ナノメートルの青紫色半導体レーザー）を用いる光学記録媒体に適用することができる。このような光学記録媒体は、従来のＣＤやＤＶＤと区別して、ブルーレイ・ディスク（Ｂｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃ）と称されたりもしている。
【図面の簡単な説明】  図１
本発明に適用する光学記録媒体の一例におけるディスク面の垂直断面の部分的模式図を示す。
図２
本発明に適用する光学記録媒体の他の一例におけるディスク面の垂直断面の部分的模式図を示す。
図３
本発明に適用する光学記録媒体の他の一例におけるディスク面の垂直断面の部分的模式図を示す。
図４
環境変化によって生じる光ディスクの中心から５８ｍｍ部におけるＴｉｌｔ経時変化を安定時を基準として示したものである。
【発明を実施するための最良の形態】  以下、本発明の光学記録媒体の具体的な実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。図１〜３は、いずれも本発明の光学記録媒体の一例を示すディスク面における垂直の断面の部分的模式図である。なお、本発明で提案する光学記録媒体の構成はここに挙げた例に限定されるものではない。
本発明を適用した光学記録媒体１は、図１に示すように、案内溝を有する基板２上に光反射層３、記録層４および透明保護層５が順次積層形成されてなるものである。基板２には、その上部表面にデータ情報やトラッキングサーボ信号等の記録がなされる位相ピットや、プリグルーブ等の微細な凸凹等の所定の凸凹パターンからなる案内溝が形成されている。
また、光学記録媒体２は、図２に示すように、案内溝を有する基板２上に記録膜あるいは反射層と、透明保護層が複数積層された多層構造であることを特徴としており、さらに、光学記録媒体３では、図３に示すようにエンボスピットまたは案内溝が基板２の両面に設けられ、該反射層および透明保護層も共に両面に順次積層形成することを特徴としている。なお、これら光学記録媒体（光ディスク）を構成する基板、光反射層、記録層、透明保護層には同一もしくは類似の特性を持つ材料が使用可能である。
以下本発明の光学記録媒体（以下“光ディスク”と略称することがある。）を構成する基板についてさらに詳細に説明する。
基板２は、厚さが０．３〜２．０ｍｍ、好ましくは０．５〜１．１ｍｍである。ちなみに透明保護層は厚みが３〜２００μｍ、好ましくは１０〜１２０μｍであって、基板と透明保護層を合計した厚みは、図１に示す光学記録媒体の場合、実用的には約１．２ｍｍである。
基板２に用いられる熱可塑成樹脂の曲げ弾性率は２４，０００ｋｇｆ／ｃｍ２以上であることが好ましく、より好ましくは２６，０００ｋｇｆ／ｃｍ２以上であり、２７，０００ｋｇｆ／ｃｍ２以上であることが最も好ましい。曲げ弾性率が２４，０００ｋｇｆ／ｃｍ２より小さいと、成形された光ディスクが高速回転する際に起こる面振れが大きくなり、高密度の記憶容量を要する光ディスクとして好ましくない。曲げ弾性率は、成形性が保持できれば高い程好ましい。通常は３７，０００ｋｇｆ／ｃｍ２以下、好ましくは３５，０００ｋｇｆ／ｃｍ２以下である。
本発明における熱可塑性樹脂は、さらに２３℃の純水に浸漬した場合の飽和吸水率が０．３３重量％以下であることが好ましい。さらに好ましくは０．３０重量％以下である。殊に飽和吸水率が０．２７重量％以下であることが最も好ましい。飽和吸水率が０．３３重量％を超えると、吸湿および脱湿過程における光ディスクの反り変形が生じやすくなり、フォーカスエラーやトラッキングエラーを起こしやすくなるので好ましくない。
光ディスクの吸湿および脱湿過程における反り変形に関しては以下の測定法を用いた。すなわち、ディスクを温度３０℃、湿度９０％ＲＨの環境下（Ａ環境）に飽和吸水率に達するまで暴露した後、温度２３℃、湿度５０％ＲＨ環境（Ｂ環境）に移した時に生じる中心から５８ｍｍ部のチルト（Ｔｉｌｔ）変化を経時的に測定し、チルト（Ｔｉｌｔ）変化の最大値と定常に達したときの値の差（ΔＴｉｌｔ）を比較したものである。このときのディスクのΔＴｉｌｔは０．６度以下、好ましくは０．５度以下である。
また、本発明における熱可塑性樹脂は、ＡＳＴＭ  Ｄ−６４８に従って、１．８２ＭＰａにて測定した荷重たわみ温度（ＨＤＴ）が、１２５℃以上であることが好ましく、１２７℃以上であることがより好ましく、１２９℃以上がさらに好ましい。荷重たわみ温度が低くなると、ディスクとしての耐熱性が不足する。荷重たわみ温度は、通常の射出成形に適用する場合、一般的には１５０℃以下、好ましくは１４０℃以下である。
さらに、該熱可塑性樹脂は、ＩＳＯ  ６７２１−４に準じて４０℃、１８Ｈｚにて測定した損失正接（ｔａｎδ）の値が０．００６以上であることが好ましく、より好ましくは０．００８以上であり、０．０１以上であることが最も好ましい。損失正接（ｔａｎδ）が０．００６より小さいと該樹脂の制振性が小さくなり、成形された光ディスクが高速回転する際に起こる面振れが大きくなるため好ましくない。損失正接（ｔａｎδ）の上限は一般的には０．０８以下、通常０．０７以下である。
本発明のディスク基板は、高密度の記録容量を対象としているため、樹脂は成形時の案内溝（グループ）への転写率が高いことが要求される。後述する測定法に従って樹脂は、転写率は９５％以上、好ましくは９８％以上であるのが適当である。
また、本発明の光学記録媒体は、透明保護層５側から光を入射させて情報信号の記録および／または再生が行われるため、基板２は光学的な記録および／または再生特性に影響を与えることがなく、透明性を特に必要としない。大きく屈折率が異なった２種以上の樹脂のブレンド材料は光散乱によりヘイズ（Ｈａｚｅ）が生じるため、従来の光学特性を必要とするＣＤ、ＤＶＤ等の基板材料として使用することは容易ではなかったが、上述したように本発明の基板２には、大きく屈折率が異なった２種以上の樹脂のブレンド材料でも用いることが可能である。
次にかかる熱可塑性樹脂の例を挙げる。しかし、本発明における基板を形成する熱可塑性樹脂はその特性が前記（１）〜（４）を満足する限り、以下の例に限定するものではない。
本発明における熱可塑性樹脂としては、吸水率が低く、かつ制振性および曲げ弾性率が良好で、ディスク材料として良好な耐熱性を有する樹脂を主成分とする前記特性を満たす樹脂であればよい。このような熱可塑性樹脂の例としてはポリカーボネート樹脂、非晶性ポリ環状オレフィン類および水添ポリスチレンなどから選ぶことができるが、特にポリカーボネート樹脂を主成分とする熱可塑性樹脂から選ぶのが好ましい。
上記ポリカーボネート樹脂は、通常芳香族ジヒドロキシ化合物とカーボネート結合前駆体とを例えば溶液法または溶融法等で重合させて得られるものである。ここで使用される芳香族ジヒドロキシ化合物は、上記の条件を満たすことができるならば、どのような化合物でも差し支えないが、例えば、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレンまたはα，α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ｍ−ジイソプロピルベンゼンが好ましい。なお、前記α，α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ｍ−ジイソプロピルベンゼンは、下記化学構造式により表される化合物である。
2004005371.tif 000002
ポリカーボネート樹脂は、前記した芳香族ジヒドロキシ化合物を、単独で用いたホモポリカーボネートであってもよく、また２種以上を使用したコポリカーボネートであってもよい。さらに前記した芳香族ジヒドロキシ化合物に、他のジヒドロキシ化合物を組合せたコポリカーボネートであってもよい。他のジヒドロキシ化合物の例としては２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）が挙げられる。ちなみにビスフェノールＡの単独によるポリカーボネート樹脂は、本発明の前記（１）〜（４）の特性の全てを満足する樹脂には該当しない。またポリカーボネート樹脂は単独であっても２種以上のブレンド物であってもよい。
好ましい樹脂組成物は、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン（ａ−１成分）および９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン（ａ−２成分）よりなる群から選ばれた少なくとも１種の芳香族ジヒドロキシ化合物（Ａ成分）を全ジヒドロキシ化合物に対して、少なくとも２０モル％含むジヒドロキシ化合物をビスフェノール成分として重合された芳香族ポリカーボネート樹脂を５０重量％以上含有する熱可塑性樹脂である。
さらに好ましい熱可塑性樹脂の具体例を挙げれば、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンおよび／または９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンとα，α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ｍ−ジイソプロピルベンゼンとを２０：８０〜７０：３０、好ましくは４０：６０〜７０：３０のモル比で含むビスフェノール成分をカーボネート前駆体と反応させて得られる共重合ポリカーボネート樹脂、またはそれらのブレンドカーボネート組成物が挙げられる。
また、その共重合ポリカーボネート樹脂を５０重量％以上含有する他の樹脂（好ましくは他のポリカーボネート樹脂）とのブレンド物が挙げられる。
前記ポリカーボネート樹脂は、そのポリマー０．７ｇを１００ｍｌの塩化メチレンに溶解し、２０℃で測定した比粘度が０．２〜０．５のものが好ましく、０．２５〜０．４の範囲のものがより好ましい。比粘度が０．２未満では成形品が脆くなり、０．５より高くなると溶融流動性が悪く、成形不良を生じ、光学的に良好な成形品が得難くなる。
本発明の熱可塑性樹脂には、熱安定剤としてリン酸、亜リン酸、ホスホン酸、亜ホスホン酸およびこれらのエステルよりなる群から選択された少なくとも１種のリン化合物を配合することができる。これらのリン化合物は縮合物であってもよい。このリン化合物を配合することにより、かかる光ディスク用樹脂の熱安定性が向上し、成形時における分子量の低下や色相の悪化が防止される。
かかる熱安定剤の配合量は、該熱可塑性樹脂に対して０．０００１〜０．０５重量％であり、０．０００５〜０．０２重量％が好ましく、０．００１〜０．０１重量％が特に好ましい。
本発明の熱可塑性樹脂には、酸化防止の目的で通常知られた酸化防止剤を添加することができる。その例としてはフェノール系酸化防止剤を示すことができる。これら酸化防止剤の好ましい添加量の範囲は該熱可塑性樹脂に対して、０．０００１〜０．０５重量％である。
さらに本発明の熱可塑性樹脂には、必要に応じて一価または多価アルコールの高級脂肪酸エステルを加えることもできる。この一価または多価アルコールの高級脂肪酸エステルを配合することにより、前記熱可塑性樹脂の成形時の金型からの離型性が改良され、ディスク基板の成形においては、離型荷重が少なく離型不良によるディスク基板の変形、ピットずれを防止できる。また、該熱可塑性樹脂の溶融流動性が改善される利点もある。
かかるアルコールと高級脂肪酸とのエステルの配合量は、該熱可塑性樹脂に対して０．０１〜２重量％であり、０．０１５〜０．５重量％が好ましく、０．０２〜０．２重量％がより好ましい。
本発明の光ディスク基板用の樹脂には、さらに他の熱可塑性樹脂、光安定剤、着色剤、帯電防止剤、滑剤などの添加剤を、転写性、並びに成形したディスクの吸湿および脱湿過程における反りの低減効果を損わない範囲で加えることができる。
本発明の樹脂組成物の調製において、ポリカーボネート樹脂同士の混合および／または他の樹脂との混合は、ポリマー溶液、粉粒体またはペレット等の成形品の各段階での実施が考えられるが、特に制限するものではない。また混合の方法については、ポリマー溶液の段階では、例えば、攪拌機付き容器が主として考えられ、また、粉粒体、ペレット等の成形品の段階では、例えばタンブラー、Ｖ型ブレンダー、ナウターミキサー、バンバリーミキサー、混練ロールまたは押出機などで混合する方法が用いられる。いずれの場合も任意の方法が採用でき、特に制限はないが、混合操作中の異物混入に対する除去方法の簡便さからポリマー溶液状態での混合後、適切な目開きのフィルターを通過させる方法が好ましい。
ポリカーボネート樹脂および他の樹脂を溶液にて混合する場合は、ポリカーボネート樹脂並びに他の樹脂が共に可溶な溶媒を用いることが好ましい。この場合、溶液状態において濾過処理を行い未反応成分等の不純物や異物を除去することが好ましい。さらに射出成形に供するためのペレット状樹脂組成物を得る押出工程（ペレット化工程）では溶融状態のときに濾過精度５０μｍ以下の焼結金属フィルター等を通すなどして異物を除去することが好ましい。必要により、例えばリン系等の酸化防止剤などの添加剤を加えることも好ましい。いずれにしても射出成形前の原料樹脂は異物、不純物、溶媒などの含有量を極力低くしておくことが必要である。
次に光ディスクの成形方法について説明する。
上記光ディスク基板用樹脂より光ディスク基板を製造する場合には光記録媒体に必要なスペックを満たすピッチおよびグルーブ、並びに表面精度を実現したスタンパが装着された射出成形機（射出圧縮成形機を含む）を用い、射出成形法にて作成する。この時ディスク基板の厚さは０．３〜２．０ｍｍとする。この射出成形機としては一般的に使用されているものでよいが、炭化物の発生を抑制しディスク基板の信頼性を高める観点からシリンダーやスクリューと樹脂との付着性が低く、かつ耐食性、耐摩耗性を有する材料を使用してなるものを用いるのが好ましい。成形工程での環境は、本発明の目的から考えて、可能な限りクリーンであることが好ましい。また、成形に供する材料を十分乾燥して水分を除去することや、溶融樹脂の分解を招くような滞留を起こさないように配慮することも重要となる。
本発明における光ディスク基板用樹脂は、射出成形または射出圧縮成形の際に、転写性の良好となる十分な流動性を有していることが好ましい。
本発明の光ディスク基板は、その片面に少なくとも反射膜を形成させることにより光ディスクとなる。この材料としては、金属元素を単独で、あるいは複合させて用いることができる。そのうちＡｌおよびＡｕを単独で使用するか、もしくは０．５重量％以上１０重量％以下、特に好ましくは３．０重量％以上１０重量％以下のＴｉを含有するＡｌ合金、０．５重量％以上１０重量％以下のＣｒを含有するＡｌ合金を使用するのが好ましい。また該反射膜は、イオンビームスパッタ法、ＤＣスパッタ法またはＲＦスパッタ法などの手段で形成することができる。
この金属薄膜（反射層）だけでもよいが、さらにこの他に、記録層４（ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＤＶＤ−Ｒの場合は相変化膜、染料が挙げられ、光磁気ディスクの場合は光磁気記録膜が挙げられる）および透明保護層５が形成されて本発明の光ディスクとすることができる。
かかる相変化膜記録材料層としては、例えば単体のカルコゲンやカルコゲン化合物が用いられる。具体的には、Ｔｅ、Ｓｅの各単体、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ，Ｇｅ−Ｔｅ，Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ，Ｉｎ−Ｓｅ−Ｔｅ−Ａｇ，Ｉｎ−Ｓｅ，Ｉｎ−Ｓｅ−Ｔｌ−Ｃｏ，Ｉｎ−Ｓｂ−Ｓｅ，Ｂｉ２Ｔｅ３，ＢｉＳｅ，Ｓｂ２Ｓｅ３，Ｓｂ２Ｔｅ３等のカルコゲナイト系材料が使用される。
また、光磁気記録膜層には、Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ等の非晶質合金薄膜等の、カー効果やファラデー効果等の磁気光学特性を有する垂直磁化膜等が用いられる。
透明保護層５は記録層４上に形成される。この透明保護層５は、レーザー光を透過させる材料よりなり、かかる材料としては、例えば、ポリカーボネートや非晶性ポリ環状オレフィン系樹脂などの熱可塑性樹脂や、各種熱硬化性樹脂等が挙げられる。
透明保護層を形成する手段は、例えば、記録層４上にポリカーボネートや非晶性ポリ環状オレフィン系樹脂などの熱可塑性樹脂からなるシートやガラス板等の透明版を貼り合わせる方法、また紫外線硬化樹脂をスピンコート等の手法によって塗布し、紫外線照射することによって形成する方法が挙げられる。さらにこの透明保護層はコマ収差をかなり小さく抑えるために、３〜２００μｍの厚さに制限される。
透明保護層は、本発明の基板の熱可塑性樹脂と同じ特性（１）〜（４）を満足する透明な樹脂より形成されていることが好ましく、基板の樹脂と同じ樹脂で形成されているのが特に好ましい。
以上が本発明の光学記録媒体（光ディスク）の基本的構成例であるが、この構成に加えて誘電体層を設けて、光学的特性や熱的特性を制御してもよい。この場合、基板２上に光反射層３、第一の誘電体層、記録層４、第２の誘電体層、透明保護層５を順次、形成することができる。
【実施例】  以下に実施例を挙げて本発明をさらに説明する。なお実施例中の部は重量部である。なお、評価は下記の方法に従った。
（１）荷重たわみ温度
ＡＳＴＭ  Ｄ−６４８に従って、荷重１．８２ＭＰａにて測定した。
（２）飽和吸水率
１．２ｍｍ厚さのシート６ｇを２３℃の純水に浸漬し、２０日後における重量の変化率を測定した。
（３）曲げ弾性率
ペレットを１２０℃で５時間乾燥した後、射出成形機［住友重機（株）製ＳＧ−１５０］により、シリンダー温度３４０℃で射出成形した試験片を用い、ＡＳＴＭ  Ｄ−０７９０に従って測定した。
（４）標準ディスクの製法
グルーブ・デプス４０ｎｍ、グルーブ・ピッチ０．６μｍのスタンパーを装備した、名機製作所（株）製Ｍ３５Ｂ−Ｄ−ＤＭを用いて各ペレットから１２０ｍｍφ、１．２ｍｍ厚みのディスク基板を射出成形した。表１に各基板の成形条件（高転写率を与える条件に設定）を示した。その後、射出成形により得られたディスク基板に順に下記構成の反射膜、誘電体層１、相変化記録膜、誘電体層２をスパッタ蒸着させ、その上にポリカーボネート製薄膜カバー層を貼り合わせることで目的の光ディスクを得た。
反射膜：１００ｎｍのＡｇ・Ｐｔ・Ｐｄ・Ｃｕ合金（Ｖｎａｘｉｓ社製ＴＴＴ４０−Ａ）層
誘電体層１：１５ｎｍのＺｎＳ・ＳｉＯ２層
相変化記録膜：１５ｎｍのＧｅＳｂＴｅ層
誘電体層２：４０ｎｍのＺｎＳ・ＳｉＯ２層
カバー層：２０μｍのイソシアネート架橋アクリル系粘着剤を付与した８０μｍのポリカーボネート（帝人化成（株）製Ｃ−１４００）層
（５）初期機械特性
ディスク１０枚を互いに接触しないようスペーサーを挟んだ状態で、温度２３℃、湿度５０％ＲＨ環境に２日間以上放置した。熱収縮および環境変化に対するＴｉｌｔの変化が安定した時点でジャパン・イー・エム（株）製３次元形状測定器ＤＬＤ−３０００ＵによりＴｉｌｔ（初期ディスク形状）の評価を行い、初期機械特性とした。値は１０枚のディスクの平均値である。
（６）転写率
上記（４）初期機械特性の測定のために作成した各基板の、半径５８ｍｍの場所のグルーブ・デプス（ｄ）をセイコー・エプソン製ＡＦＭ−３８００Ｎを用いて測定し、下記式より転写率を求める。
2004005371.tif 000003
（７）ΔＴｉｌｔ
初期機械特性を評価したディスクを温度３０℃、湿度９０％ＲＨの環境下（Ａ環境）に飽和吸水率に達するまで暴露した後、温度２３℃、湿度５０％ＲＨ環境（Ｂ環境）に移した。
移動後、環境変化によって生じる中心から５８ｍｍ部のＴｉｌｔ変化をジャパン・イー・エム（株）製３次元形状測定器ＤＬＤ−３０００Ｕにより経時的に測定し、Ｔｉｌｔ変化が最大に達した値および定常に達した値の差をΔＴｉｌｔとした。
（８）損失正接（ｔａｎδ）
ＩＳＯ  ６７２１−４に準じ、レオメトリックス社製ＲＤＡＩＩを用いて４０℃、１８Ｈｚにて測定した。
【実施例１】  温度計、攪拌機、還流冷却器付き反応器にイオン交換水９２９．２部、４８％水酸化ナトリウム水溶液６１．３部を入れ、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン（成分ａ−１）４３．９部、α，α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ｍ−ジイソプロピルベンゼン（成分ａ−２）４３．６部およびハイドロサルファイト０．１７部を溶解した後、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール１．５１部と塩化メチレン６３７．９部を加えトリエチルアミン０．０９部を添加した後攪拌下１５〜２５℃でホスゲン３２．４部を４０分を要して吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液１５．６部を加え、２８〜３３℃で１時間攪拌して反応を終了した。反応終了後、生成物を塩化メチレンで希釈して水洗したのち塩酸酸性にして水洗し、水相の導電率がイオン交換水と殆ど同じになったところで、軸受部に異物取り出し口を有する隔離室を設けたニーダーにて塩化メチレンを蒸発して、成分ａ−１と成分ａ−２の比がモル比で５３：４７の比粘度が０．２７である無色のポリマー８６．４部を得た（収率９７％）。
このポリカーボネート樹脂粉粒体にトリスノニルフェニルフォスフェートを０．００５％、トリメチルフォスフェートを０．００３％、ステアリン酸モノグリセリドを０．０３０％加えて、ベント付きφ３０ｍｍ二軸押出機を用いて、ペレット化した後、名機製作所（株）製Ｍ３５−Ｄ−ＤＭを用いて１２０ｍｍφ、０．６ｍｍ厚みのディスク基板に射出成形した。このディスク基板を用いて標準ディスク製法に基づき光ディスクを製造した。このディスクの初期機械特性およびΔＴｉｌｔ並びに損失正接を評価した。評価結果および環境変化によって生じる中心から５８ｍｍ部のＴｉｌｔ変化（安定時を基準として図示した）をそれぞれ表１および図４に示す。
【実施例２】  温度計、攪拌機、還流冷却器およびホスゲン吹き込み管を備えた反応器にイオン交換水３２，１６５部、水酸化ナトリウム１，７５７部を入れ、９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレン（成分ａ−３）２，２１３部およびα，α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ｍ−ジイソプロピルベンゼン（成分ａ−４）３，０３９部およびハイドロサルファイト１１部を溶解した後、塩化メチレン１０，９５０部を加え、攪拌下１６〜１８℃でホスゲン１，６６７部を６０分を要して吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール９２部と水酸化ナトリウム２９３部を加え、さらにトリエチルアミン４部を加えて３０℃で１時間攪拌して反応を終了した。反応終了後、生成物を塩化メチレンで希釈して水洗したのち塩酸酸性にして水洗し、水相の導電率がイオン交換水と殆ど同じになったところで、ニーダーにて塩化メチレンを蒸発して、成分ａ−３と成分ａ−４の比がモル比で４０：６０である白色粉粒体５，５５０部を得た（収率９６％）。この粉粒体の比粘度は０．２４５、二次転移温度（Ｔｇ）は１４３℃であった。
この樹脂粉粒体にトリスノニルフェニルフォスフェートを０．００５％、トリメチルフォスフェートを０．００３％、ステアリン酸モノグリセリドを０．０３０％加えて、ベント付きφ３０ｍｍ二軸押出機を用いて、ペレット化した後、名機製作所（株）製Ｍ３５Ｂ−Ｄ−ＤＭを用いて１２０ｍｍφ、１．２ｍｍ厚みのディスク基板を射出成形した。このディスク基板を用いて、標準ディスクを得た。このディスクの初期機械特性およびΔＴｉｌｔ並びに損失正接を評価した。評価結果および環境変化によって生じる中心から５８ｍｍ部のＴｉｌｔ変化（安定時を基準として図示した）をそれぞれ表１および図４に示す。
【実施例３】（Ａ）ビスフェノールＡからのポリカーボネート単独重合体（ポリマーＡ）の合成；
温度計、攪拌機および還流冷却器付き反応器にイオン交換水１１，０５７部、４８％水酸化ナトリウム水溶液１，５６０部を仕込み、これにビスフェノールＡ２，１３４部およびハイドロサルファイト２．１部を溶解した後、塩化メチレン６，４４５部を加え、攪拌下１５〜２０℃でホスゲン１，００５部を６０分要して吹込んだ。ホスゲン吹込み終了後ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール９２部および４８％水酸化ナトリウム水溶液８３０部を加え、攪拌して乳化させた後トリエチルアミン０．０９部を加え、２８〜３３℃で１時間攪拌して反応を終了した。反応終了後生成物溶液を多孔板付遠心抽出機［（株）日立製作所製ウルトレックスＥＰ−０２］にてイオン交換水流量１，０００ｍｌ／分、反応生成物溶液流量１，５００ｍｌ／分、回転数３，５００ｒｐｍの条件で遠心分離した後、塩化メチレン相を塩酸酸性にし、さらに同様の条件で遠心分離操作を繰返し、水相の導電率がイオン交換水と殆ど同じになったところで、軸受部に異物取出口を有する隔離室を設けたニーダーにより塩化メチレンを蒸発して、粉粒状の無色のポリカーボネート樹脂２，４００部（収率９２％）を得た。
（Ｂ）ポリカーボネート共重合体（ポリマーＢ）の合成；
温度計、攪拌機、還流冷却器付き反応器にイオン交換水９２９．２部、４８％水酸化ナトリウム水溶液６１．３部を入れ、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン（成分ａ−１）４３．９部、α，α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ｍ−ジイソプロピルベンゼン（成分ａ−２）４３．６部およびハイドロサルファイト０．１７部を溶解した後、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール１．５１部と塩化メチレン６３７．９部を加えトリエチルアミン０．０９部を添加した後攪拌下１５〜２５℃でホスゲン３２．４部を４０分を要して吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、４８％水酸化ナトリウム水溶液１５．６部を加え、２８〜３３℃で１時間攪拌して反応を終了した。反応終了後、生成物を塩化メチレンで希釈して水洗したのち塩酸酸性にして水洗し、水相の導電率がイオン交換水と殆ど同じになったところで、軸受部に異物取り出し口を有する隔離室を設けたニーダーにて塩化メチレンを蒸発して、成分ａ−１と成分ａ−２の比がモル比で５３：４７の比粘度が０．２７である無色のポリマー８６．４部を得た（収率９７％）
（Ｃ）樹脂組成物の調製
（Ａ）で合成したビスフェノールＡの単独重合体（ポリマーＡ）の塩化メチレン溶液と（Ｂ）で合成したポリマーＢの共重合体の塩化メチレン溶液とを溶液中のポリマー重量比（ポリマーＡ：ポリマーＢ）が８０：２０となるようにそれぞれ攪拌機付容器に投入した後、攪拌して混合した。混合後、目開き０．３μｍのフィルターを通過させた後、軸受部に異物取出口を有する隔離室を設けたニーダーにこの混合溶液を投入して塩化メチレンを蒸発することにより該ポリカーボネート樹脂粉粒体を得た。
この樹脂粉粒体にトリスノニルフェニルフォスフェートを０．００５％、トリメチルフォスフェートを０．００３％、ステアリン酸モノグリセリドを０．０３０％加えて、ベント付きφ３０ｍｍ二軸押出機を用いて、ペレット化した後、名機製作所（株）製Ｍ３５Ｂ−Ｄ−ＤＭを用いて１２０ｍｍφ、１．２ｍｍ厚みのディスク基板を射出成形した。このディスク基板を用いて標準ディスクを得た。このディスクの初期機械特性およびΔＴｉｌｔ並びに損失正接を評価した。
評価結果および環境変化によって生じる中心から５８ｍｍ部のＴｉｌｔ変化（安定時を基準として図示した）をそれぞれ表１および図４に示す。
【実施例４】  実施例３の（Ａ）で合成したビスフェノールＡの単独重合体（ポリマーＡ）の塩化メチレン溶液と、（Ｂ）で合成したポリマーＢの共重合体の塩化メチレン溶液とを溶液中のポリマー重量比（ポリマーＡ：ポリマーＢ）が６０：４０となるようにそれぞれ攪拌機付容器に投入した後、攪拌して混合した。混合後、目開き０．３μｍのフィルターを通過させた後、軸受部に異物取出口を有する隔離室を設けたニーダーにこの混合溶液を投入して塩化メチレンを蒸発することにより該ポリカーボネート樹脂粉粒体を得た。
この樹脂粉粒体にトリスノニルフェニルフォスフェートを０．００５％、トリメチルフォスフェートを０．００３％、ステアリン酸モノグリセリドを０．０３０％加えて、ベント付きφ３０ｍｍ二軸押出機を用いて、ペレット化した後、名機製作所（株）製Ｍ３５Ｂ−Ｄ−ＤＭを用いて１２０ｍｍφ、１．２ｍｍ厚みのディスク基板を射出成形した。このディスク基板を用いて標準ディスクを得た。このディスクの初期機械特性およびΔＴｉｌｔ並びに損失正接を評価した。評価結果および環境変化によって生じる中心から５８ｍｍ部のＴｉｌｔ変化（安定時を基準として図示した）をそれぞれ表１および図４に示す。
【実施例５】  （成分ａ−１）を３８．９部、（成分ａ−２）を４９．１部とする以外は実施例１と同様にして、（成分ａ−１）／（成分ａ−２）＝４７／５３（モル比）の無色ポリマー８７．５部（収率９８％）を得た。
実施例１と同様に光ディスクを作成し、各特性を評価したが、実施例１と同等であった。
比較例１
ローム  アンド  ハース  ジャパン製のポリメチルメタクリレート（ＶＬＤ−１００）を名機製作所（株）製Ｍ３５Ｂ−Ｄ−ＤＭを用いて１２０ｍｍφ、１．２ｍｍ厚みのディスク基板を射出成形した。このディスク基板を用いて標準ディスクを製造した。このディスクの初期機械特性およびΔＴｉｌｔ並びに損失正接を評価した。評価結果および環境変化によって生じる中心から５８ｍｍ部のＴｉｌｔ変化（安定時を基準として図示した）をそれぞれ表１および図４に示す。
比較例２
エー・アンド・エム  スチレン（株）製のポリスチレン（ＨＦ７７）を名機製作所（株）製Ｍ３５Ｂ−Ｄ−ＤＭを用いて１２０ｍｍφ、１．２ｍｍ厚みのディスク基板を射出成形した。このディスク基板を用いて標準ディスクを得た。このディスクの初期機械特性およびΔＴｉｌｔ並びに損失正接を評価した。評価結果および環境変化によって生じる中心から５８ｍｍ部のＴｉｌｔ変化（安定時を基準として図示した）をそれぞれ表１および図４に示す。
比較例３
ビスフェノールＡの単独重合体として、帝人化成（株）製のポリカーボネート樹脂（パンライトＡＤ−５５０３（ペレット））を使用し、名機製作所（株）製Ｍ３５Ｂ−Ｄ−ＤＭを用いて１２０ｍｍφ、１．２ｍｍ厚みのディスク基板を射出成形した。このディスク基板を用いて標準ディスクを得た。このディスクの初期機械特性およびΔＴｉｌｔ並びに損失正接を評価した。評価結果を表１に示す。
2004005371.tif 000004
表１に示すように、実施例１〜４に示した樹脂および実施例５の樹脂は飽和吸水率を０．３３重量％以下であり、荷重たわみ温度が１２５℃以上であり、ΔＴｉｌｔを１．０以下に抑えることが可能となった。また、曲げ弾性率および損失正接（ｔａｎδ）も十分に大きいため、成形された光ディスクが高速回転する際に起こる面振れは小さく抑えることが可能であった。
比較例１のＰＭＭＡは飽和吸水率が２．０％と高いため、ΔＴｉｌｔは５．０以上と非常に大きくなり、実用上、適さないことがわかった。また、比較例２のポリスチレンは吸水率が低いため、ΔＴｉｌｔは非常に小さく抑えることができたが、ガラス転移点（Ｔｇ）が低いため、ディスク基板としての耐熱性が不足する結果となった。
比較例３のポリカーボネート樹脂は、飽和吸水率が０．３５％とやや高く、また曲げ弾性率がやや不足しているので光ディスク基板の特性として十分満足すべきものではなく、殊にチルト角の最大変化値（ΔＴｉｌｔ）が０．７°であるのは、記録の読み取りに支障を来す恐れを有している。また比較例３の基板は転写率が低く、基板としての成形特性が不満足である。
【発明の効果】
本発明の光学記録媒体は、基板上に、順に、少なくとも反射膜、記録層および透明保護層とが形成され、透明保護層側から光が照射されて情報記号の記録および／または再生が行われる光ディスクを対象としている。この光ディスクにおいて、直径１２ｃｍのディスク片面で１５ＧＢを越える記録容量を持つものも開発されているが、本発明の光ディスク基板は複雑な構成にすることなく、これらのものにも十分に適応することが可能である。
【図１】
2004005371.tif 000005
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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