【事件の表示】
　特願２００７−１８３３８８「塗布装置、基板の受け渡し方法及び塗布方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２１年　１月２９日出願公開、特開２００９−　１８９１７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１．手続の経緯
　本願は、平成１９年７月１２日の出願であって、平成２３年１２月６日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同２４年３月１２日に拒絶査定に対する審判請求がなされ、同時に特許請求の範囲を補正対象とする手続補正書が提出され、当審から同年７月２０日付けの拒絶理由通知がなされ、これに対して同年９月２４日付けで意見書とともに手続補正書が提出されたものである。
　
第２．本願発明
　本願の請求項１ないし９に係る発明は、平成２４年９月２４日付け手続補正書によって補正された特許請求の範囲の請求項１ないし９に記載された事項により特定されるとおりのものと認めるところ、請求項１の記載は以下のとおりである。
「【請求項１】
　基板を浮上させて搬送する基板搬送部と、前記基板搬送部に搬送させつつ前記基板の第一面に液状体を塗布する塗布部と、を備える塗布装置であって、
　前記基板搬送部には、前記基板を搬入する基板搬入領域と、前記基板を搬出する基板搬出領域とが設けられており、
　前記基板搬入領域及び前記基板搬出領域のうち少なくとも前記基板搬入領域には、外部搬送機構との間で前記基板を受け渡す際に当該外部搬送機構の一部を収容する収容部が設けられており、
　前記基板搬送部には、前記基板搬入領域に前記基板を浮上させる気体を供給する気体供給部が設けられており、
　前記基板搬送部は、前記基板搬入領域に前記基板が受け渡される際において前記基板が浮上する程度の前記気体が前記基板搬入領域に供給された状態で当該基板搬送部が待機するように前記気体供給部に前記気体を供給させると共に、前記基板が搬入された状態において前記基板のうち前記第一面とは反対の第二面が前記基板搬送部に対して非接触の状態で前記基板が浮上するように前記気体供給部に前記基板の前記第二面との間に前記気体を供給させるものであり、
　前記基板搬入領域のうち前記収容部が設けられた領域の周囲には、前記塗布部による塗布位置に対応するように、前記基板搬入領域に搬入され前記気体供給部から供給される前記気体によって浮上した前記基板を当該基板の搬送方向に直交する方向の両側から機械的に挟持することで、浮上した前記基板の位置を調節する第１アライメント機構が設けられており、
　前記基板搬送部には、前記基板搬入領域に浮上する前記基板の前記第二面を保持するパッドが設けられており、
　前記基板搬送部は、前記基板搬入領域に前記基板が受け渡される際において前記パッドが前記基板の浮上位置に対応する高さ位置に配置されるように前記パッドの高さ位置を調整するものである
　ことを特徴とする塗布装置。」（以下、請求項１に記載の発明を「本願発明１」という。）
　
第３．引用刊行物
○引用刊行物１
　当審で通知した拒絶の理由に引用された特開２００５−２４３６７０号公報（以下、「引用刊行物１」という。）には、「塗布膜形成装置」に関して、図面とともに、以下のとおり記載されている。
　
ア．【特許請求の範囲】
「【請求項１】
　基板を略水平姿勢で一方向に搬送しながら前記基板に所定の塗布液を供給して塗布膜を形成する塗布膜形成装置であって、
　基板を搬入するための基板搬入部と、
　基板に所定の塗布液を供給して塗布膜を形成するための塗布処理部と、
　塗布膜の形成された基板を搬出するための基板搬出部と、
　前記基板搬入部と前記基板搬出部との間に実質的に直列に配置され、前記基板搬入部から前記基板搬出部へ基板を搬送する複数の基板搬送機構と、
　を有することを特徴とする塗布膜形成装置。
【請求項２】
　（省略）
【請求項３】
　前記複数の基板搬送機構は、
　前記基板搬入部から前記塗布処理部へ基板を搬送する第１の基板搬送機構と、
　前記塗布処理部において基板を搬送する第２の基板搬送機構と、
　前記塗布処理部から前記基板搬出部へ基板を搬送する第３の基板搬送機構と、であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の塗布膜形成装置。
【請求項４】
　（省略）
【請求項５】
　前記塗布処理部は所定のガスを噴射するガス噴射口を有する主ステージを具備し、
　前記第２の基板搬送機構は、基板の基板搬送方向に垂直な方向の端部近傍で基板を保持する第１のチャック部材と、前記第１のチャック部材を移動させる第１のチャック移動機構と、を具備し、
　前記第１のチャック部材に保持された基板は、前記ガス噴射口から噴射されるガスによって前記主ステージから浮いた状態で搬送されることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の塗布膜形成装置。
【請求項６】
　前記基板搬入部および前記基板搬出部はそれぞれ、所定のガスを噴射するガス噴射口および基板搬送方向と平行に設けられた所定幅の帯状の貫通孔とを有する副ステージを具備し、
　前記第１および第３の基板搬送機構はそれぞれ、前記貫通孔に配置され、基板の裏面を吸着保持する第２のチャック部材と、前記第２のチャック部材を前記貫通孔の長手方向で移動させる第２のチャック移動機構と、を具備し、
　前記第２のチャック部材に保持された基板は、前記ガス噴射口から噴射されるガスによって前記ステージから浮いた状態で搬送されることを特徴とする請求項３から請求項５のいずれか１項に記載の塗布膜形成装置。
【請求項７】
　（省略）
【請求項８】
　（省略）
【請求項９】
　前記基板搬入部および塗布処理部は所定のガスを噴射するガス噴射口を有する主ステージを具備し、
　前記基板搬出部は所定のガスを噴射するガス噴射口および基板搬送方向と平行に設けられた所定幅の帯状の貫通孔とを有する副ステージを具備し、
　前記第１の基板搬送機構は、基板の基板搬送方向に垂直な方向の端部近傍で基板を保持する第１のチャック部材と、前記第１のチャック部材を移動させる第１のチャック移動機構と、を具備し、
　前記第２の基板搬送機構は、前記貫通孔に配置され、基板の裏面を吸着保持する第２のチャック部材と、前記第２のチャック部材を前記貫通孔の長手方向で移動させる第２のチャック移動機構と、を具備し、
　基板は、前記ガス噴射口から噴射されるガスによって前記主ステージおよび前記副ステージから浮いた状態で搬送されることを特徴とする請求項７または請求項８に記載の塗布膜形成装置。
【請求項１０】
　（省略）
【請求項１１】
　（省略）
【請求項１２】
　前記塗布処理部および基板搬出部は所定のガスを噴射するガス噴射口を有する主ステージを具備し、
　前記基板搬入部は所定のガスを噴射するガス噴射口および基板搬送方向と平行に設けられた所定幅の帯状の貫通孔とを有する副ステージを具備し、
　前記第２の基板搬送機構は、基板の基板搬送方向に垂直な方向の端部近傍で基板を保持する第１のチャック部材と、前記第１のチャック部材を移動させる第１のチャック移動機構と、を具備し、
　前記第１の基板搬送機構は、前記貫通孔に配置され、基板の裏面を吸着保持する第２のチャック部材と、前記第２のチャック部材を前記貫通孔の長手方向で移動させる第２のチャック移動機構と、を具備し、
　基板は、前記ガス噴射口から噴射されるガスによって前記主ステージおよび前記副ステージから浮いた状態で搬送されることを特徴とする請求項１０または請求項１１に記載の塗布膜形成装置。」
　
イ．段落【０００１】
「本発明は、液晶表示装置（ＬＣＤ）等のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）に用いられるガラス基板等の基板に、所定の塗布液を供給して塗布膜を形成する塗布膜形成装置に関する。」
　
ウ．段落【０００７】
「本発明は、基板表面における転写跡の発生を抑制し、また基板裏面へのパーティクルの付着を防止するとともに、さらにスループットを向上させ、装置コストを低く抑えた塗布膜形成装置を提供することを目的とする。」
　
エ．段落【００４０】−【００４７】
「次に、レジスト処理ユニット２３について詳細に説明する。図５はレジスト処理ユニット２３の概略平面図である。レジスト処理ユニット２３は、レジスト塗布装置（ＣＴ）２３ａと減圧乾燥装置（ＶＤ）２３ｂとから構成されている。
　レジスト塗布装置（ＣＴ）２３ａは、基板搬送方向の上流側から下流側に向かって、大略的に、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３２のパスユニット（ＰＡＳＳ）６５からＬＣＤ基板Ｇを搬入するためのエリアである基板搬入部５ａと、ＬＣＤ基板Ｇに塗布膜を形成するための塗布処理部５ｂと、ＬＣＤ基板Ｇを減圧乾燥装置（ＶＤ）２３ｂへ搬出するための基板搬出部５ｃと、に分けられる。
　基板搬入部５ａには、搬入ステージ１２ａと、第１基板搬送機構１３ａとが設けられている。搬入ステージ１２ａには、Ｘ方向に延在する帯状の孔部１０１がＹ方向に複数（例えば、図５に示すように３本）形成されている。また、搬入ステージ１２ａの表面には、窒素ガスや空気等のガスを噴射するための複数のガス噴射口１６が所定位置に形成されており、ガス噴射口１６から噴射されるガスによって、ＬＣＤ基板Ｇを略水平姿勢で搬入ステージ１２ａの表面から所定距離浮いた状態とすることができるようになっている。
　第１基板搬送機構１３ａは、搬入ステージ１２ａに設けられた孔部１０１を利用して配置されている。図６に第１基板搬送機構１３ａの概略構造を示す断面図を示す。第１基板搬送機構１３ａは、ＬＣＤ基板Ｇを保持するチャック部材１０２と、チャック部材１０２を支持するチャック支持部材１０３と、Ｘ方向に延在するガイド１０５と、ガイド１０５と嵌合し、チャック支持部材１０３をＸ方向で往復移動させるスライダ１０４と、を具備している。
　チャック部材１０２としては、例えば、真空ポンプ等の減圧装置１０６を作動することによって吸引力を発揮する吸着パッドを用いることができる。チャック部材１０２は、その基板吸着面（上面）が搬入ステージ１２ａの表面から所定高さ突出するようにして、Ｙ方向に並べられて、各孔部１０１に配置されている。
　熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３２のパスユニット（ＰＡＳＳ）６５から所定の手段によって基板搬入部５ａに搬入されたＬＣＤ基板Ｇは、搬入ステージ１２ａから浮いた状態で各チャック部材１０２に保持され、この状態でスライダ１０４をＸ方向に駆動してチャック支持部材１０３を移動させることにより、ＬＣＤ基板Ｇを塗布処理部５ｂへ搬送することができる。なお、ＬＣＤ基板Ｇの平面度を高くするためには、ガス噴射口１６の直径を短くして、ガス噴射口１６の配置数を多くすることが好ましい。
　スライダ１０４にはその位置を検出するためのリニアスケール１５０ａが取り付けられており、このリニアスケール１５０ａの指示値は、スライダ１０４の位置制御やＬＣＤ基板Ｇの位置制御、基板搬送速度制御等に用いられる。基板搬入部５ａにおいては、基板搬送速度の制御には高い精度は必要ではないことから、リニアスケール１５０ａとして高精度のものを用いる必要がなく、これによって装置コストを低減することができる。なおリニアスケール１５０ａは後述するリニアスケール１５０ｂと同じ構成を有し、このリニアスケール１５０ｂについては後に図８を参照しながらより詳しく説明することとする。
　塗布処理部５ｂには、塗布ステージ１２ｂと、ＬＣＤ基板Ｇの表面にレジスト液を供給するレジスト供給ノズル１４と、レジスト供給ノズル１４を洗浄等するためのノズル洗浄ユニット１５と、第２基板搬送機構１３ｂと、が配設されている。塗布ステージ１２ｂの表面には、搬入ステージ１２ａと同様に、所定位置にガス噴射口１６が形成されている。塗布ステージ１２ｂには、搬入ステージ１２ａのような孔部１０１は形成されていないために、ＬＣＤ基板Ｇを略水平姿勢で保持する際の平坦度を高めることができる。」
　
オ．段落【００４９】−【００５０】
「図７に第２基板搬送機構１３ｂの概略構成を示す断面図を示す。第２基板搬送機構１３ｂは、ＬＣＤ基板ＧのＹ方向端の一部を保持するチャック部材４８ａ・４８ｂと、チャック部材４８ａ・４８ｂをそれぞれ支持するチャック支持部材４９ａ・４９ｂと、チャック支持部材４９ａ・４９を連結する連結部材５０と、塗布ステージ１２ｂのＹ方向側面にＸ方向に延在するように配置されたガイド５１ａ・５１ｂと、ガイド５１ａ・５１ｂと嵌合し、連結部材５０をＸ方向で往復移動させるスライダ５２と、を備えている。
　チャック部材４８ａ・４８ｂとしては、チャック部材１０１と同様に、真空ポンプ等の減圧装置５３を動作させることにより、ＬＣＤ基板Ｇを吸着保持することができるパッドが好適に用いられる。チャック部材４８ａ・４８ｂは、ＬＣＤ基板Ｇにおいてレジスト液が塗布されない部分の裏面側、つまりＬＣＤ基板Ｇの裏面のＹ方向端部近傍で、ＬＣＤ基板Ｇを保持する。」
　
カ．段落【００６１】
「最初に、図１０（ａ）に示すように、基板搬入部５ａにおいて、第１基板搬送機構１３ａのチャック部材１０２を熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３２側に配置する。この状態で、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３２のパスユニット（ＰＡＳＳ）６５から、このパスユニット（ＰＡＳＳ）６５に設けられた所定の搬送機構、例えば、コロ搬送機構や搬送アームによって、ＬＣＤ基板Ｇ１が基板搬入部５ａに搬入され、チャック部材１０２がこのＬＣＤ基板Ｇ１の基板搬送方向後方端近傍を保持するととともに、ガス噴射口１６から噴射されるガスによってＬＣＤ基板Ｇ１は搬入ステージ１２ａから浮いた状態で保持される。」
　
キ．段落【００６４】−【００６５】
「図１０（ｂ）に示すように、チャック部材１０２がその可動範囲である塗布処理部５ｂ側の終点に到達したら、ＬＣＤ基板Ｇ１を第２基板搬送機構１３ｂのチャック部材４８ａ・４８ｂに持ち替える。この状態でもＬＣＤ基板Ｇ１全体は、搬入ステージ１２ａおよび塗布ステージ１２ｂから浮いた状態に維持される。ここでも、ＬＣＤ基板Ｇ１は塗布ステージ１２ｂから浮上しているために、ＬＣＤ基板Ｇ１を搬送するために必要な力は小さくて済む。
　その後、図１０（ｃ）に示すように、ＬＣＤ基板Ｇ１をレジスト供給ノズル１４側へ移動させる。ＬＣＤ基板Ｇ１がレジスト供給ノズル１４の下を通過する際に、ＬＣＤ基板Ｇ１の表面にレジスト液が帯状に供給され、これによって塗布膜が形成される。第２基板搬送機構１３ｂには、前述したように、高精度のリニアスケール１５０ｂが設けられているために、ＬＣＤ基板Ｇ１を高精度で搬送することができ、これによって厚み均一性等に優れた品質の高い塗布膜を形成することができる。」
　
　そして、搬入ステージ１２ａ、及び、塗布ステージ１２ｂの表面に形成されたガス噴射口１６から噴射されるガスの向きはＬＣＤ基板Ｇ１の裏面に向けられていることは明らかである。
　
　以上によれば、引用刊行物１には、
「基板を略水平姿勢で一方向に搬送しながら前記基板に所定の塗布液を供給して塗布膜を形成する塗布膜形成装置であって、
　基板を搬入するための基板搬入部５ａと、
　基板に所定の塗布液を供給して塗布膜を形成するための塗布処理部５ｂと、
　塗布膜の形成された基板を搬出するための基板搬出部５ｃと、
　前記基板搬入部と前記基板搬出部との間に実質的に直列に配置され、前記基板搬入部から前記基板搬出部へ基板を搬送する複数の基板搬送機構と、
　を有し、
　前記複数の基板搬送機構は、
　前記基板搬入部から前記塗布処理部へ基板を搬送する第１の基板搬送機構１３ａと、
　前記塗布処理部において基板を搬送する第２の基板搬送機構１３ｂと、
　前記塗布処理部から前記基板搬出部へ基板を搬送する第３の基板搬送機構１３ｃと、であり、
　前記塗布処理部は所定のガスを噴射するガス噴射口１６を有する主ステージ１２ｂを具備し、
　前記第２の基板搬送機構は、基板の基板搬送方向に垂直な方向の端部近傍で基板を保持する第１のチャック部材４８ａ・４８ｂと、前記第１のチャック部材を移動させる第１のチャック移動機構５２と、を具備し、
　前記第１のチャック部材に保持された基板は、前記ガス噴射口から基板の裏面に向けて噴射され、ガスによって前記主ステージから浮いた状態で搬送され、前記第１のチャック部材であるチャック部材４８ａ・４８ｂは、ＬＣＤ基板Ｇにおいてレジスト液が塗布されない部分の裏面側、つまりＬＣＤ基板Ｇの裏面のＹ方向端部近傍で、ＬＣＤ基板Ｇを保持する、
塗布膜形成装置。」
　との発明（以下、「引用刊行物発明１」という。）が開示されていると認められる。
　
○引用刊行物２
　当審で通知した拒絶の理由に引用された特開２００５−２２８４４号公報（以下、「引用刊行物２」という。）には、「基板搬送装置」に関して、図面とともに、以下のとおり記載されている。
　
ク．【特許請求の範囲】
「【請求項１】
　搬送のために基板を吸引により吸着保持する基板保持部と、
　上記基板保持部と上記基板を挟んで対向して配置され、気体を該基板に吐出する気体吐出部と、を具備し、
　上記基板が上記基板保持部に吸着保持される際に、気体吐出部から気体を該基板に吐出して、該基板を該基板保持部へ押し付けることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
　ガラス基板を浮上状態で載置する浮上ステージと、
　上記浮上ステージ上の上記ガラス基板を吸着保持する基板保持部と、
　上記基板保持部と上記ガラス基板を挟んで対向して配置され、該基板保持部により該ガラス基板を吸着保持する際に、気体を吐出して、該基板保持部へ該ガラス基板を押し付ける気体吐出部と、
　上記基板保持部を搬送方向に移動させて上記ガラス基板を搬送する基板搬送部と、
を具備することを特徴とする基板搬送装置。
【請求項３】
　上記基板搬送装置において、さらに、
　上記基板保持部に設けられ、搬送される上記ガラス基板の反り量を検出するセンサ部を具備し、
　上記ガラス基板の反り量に応じて上記気体吐出部の気体の流量を調整することを特徴とする請求項２に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
　上記センサ部は、上記ガラス基板の反り方向を検出し、反り方向が上向きと判断されたときには、上記気体吐出部より上記ガラス基板に気体を吐出し、上記反り方向が下向きと判断されたときには、上記気体吐出部からの気体の吐出を停止させることを特徴とする請求項３に記載の基板搬送装置。」
　
ケ．段落【０００１】
「【発明の属する技術分野】
本発明は、大型基板、例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）又はプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等のディスプレイ用基板の搬送装置に関する。」
　
コ．段落【０００４】
「ディスプレイ用の基板は主としてガラス基板が用いられており、複数の製造工程を経て、そのガラス基板上に多数の画素や駆動回路等が形成されている。これらの製造工程において、ガラス基板を空気浮上させて搬送する技術が提案されている。例えば、特許文献１においては、検査装置内において、液晶基板などの薄板の前端部を把持し、エアスライダとエアベアリングとを用いて、薄板を空気浮上させて定盤上を移送する技術が開示されている。」
　
サ．段落【０００６】
「【発明が解決しようとする課題】
上記特許文献１では、液晶基板等の薄板を把持して移送を行っている。一般的に液晶基板としては、ガラス基板が用いられている。前述したように、ガラス基板は大型化されると共に、厚さが薄くなっている。このため、機械的な部位により把持されているガラス基板は、その把持した箇所へ応力が集中的に掛かり、割れて破損する虞がある。」
　
シ．段落【００１０】−【００１２】
「そこで本発明は、端部に反りや捻れが発生している基板を確実に吸着して保持し搬送エラーの発生を防止する基板搬送装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
本発明は上記目的を達成するために、搬送のために基板を吸引により吸着保持する基板保持部と、上記基板保持部と上記基板を挟んで対向して配置され、気体を該基板に吐出する気体吐出部とを具備し、上記基板が上記基板保持部に注着保持される際に、気体吐出部から気体を該基板に吐出して、該基板を該基板保持部へ押し付ける基板搬送装置を提供する。
さらに、ガラス基板を搬送する基板搬送部と、外部と上記ガラス基板の受け渡しを行い、該ガラス基板を浮上状態で載置する基板ステージと、上記搬送部に設けられ、上記ガラス基板を浮上状態で載置し、且つ移動可能な移動基板ステージと、上記浮上ステージの移動と別体又は一体的に移動可能で、上記ガラス基板を吸着保持する基板保持部と、上記基板ステージ及び上記基板搬送部上に設けられ、搬送される上記ガラス基板の反り又は捻れを検出するセンサ部と、上記基板保持部と上記ガラス基板を挟んで対向し、上記受け渡しを行う位置に配置され、該基板保持部により該ガラス基板を吸着保持する際に、気体を吐出して、該基板保持部へ該ガラス基板を押し付ける気体吐出部と、を具備する基板搬送装置を提供する。」
　
ス．段落【００１５】−【００２０】
「この基板検査装置は、大別して、基板搬入部１、装置本体（基板搬送部）２、検査部３、基板搬出部４及び基板搬送ロボット５，６とで構成される。
基板搬入部１は、基板搬送ロボット５の搬送アーム８に吸着保持されているガラス基板７を基板ステージ９で受け取る。基板ステージ９の上面（基板載置面）には多数の空気孔１０と、搬送アーム８が受け渡し時に入り込むための溝１１が設けられている。また、基板ステージ９の搬送方向側の両端には、ガラス基板７の保持面７ｂを吸着して保持する基板保持部として機能する吸着パッド部１２，１３がそれぞれ設けられている。
この基板搬入部１は、吸着パッド部１２，１３でガラス基板７の保持面７ｂの端部を吸着しつつ、基板ステージ９上の空気孔１０から圧搾空気を吐出してガラス基板７を浮上させた状態で保持し、次の装置本体２へ搬送する。
上記基板ステージ９の前方の両端には、装置本体の両サイドに設けられたスライダ１４，１５に沿って移動可能な支持部１７ａ，１７ｂが設けられている。また、基板搬出部４は、基板搬入部１と同様な構成であり、基板搬送ロボット６は、基板搬送ロボット５と同様な構成である。
さらに、装置本体２の両サイドには、前述したスライダ１４，１５が基板搬出部４までかかるように設けられ、その内側には移動基板ステージ１９を移動させるための２本のレール１６が設けられる。この移動基板ステージ１９は、前述した基板ステージ９と同様に、複数の空気孔１０が設けられており、これらの空気孔１０から圧搾空気を吐出して、ガラス基板７を浮上させた状態で保持する。さらにら、装置本体２上には、検査部３が設けられている。
また、基板搬送ロボット５から基板ステージ９へガラス基板７を受け渡す際に支持部１７ａが配置される受け渡し位置Ａと、基板ステージ９から移動基板ステージ１９へガラス基板７を受け渡す際に支持部１７ｂが配置される受け渡し位置Ｂとには、それぞれ後述する気体吐出部として機能するブローノズル１８が設けられている。」
　
セ．段落【００２１】−【００２３】
「図２は、基板搬送装置における基板７を保持する保持機構の外観構成を示す図であり、図３は、保持機構のブロック構成を示す図である。
図２に示すように、吸着パッド部１３（１２）は、ガラス基板７の保持面７ｂを吸着する複数の吸着パッド１３ａ、１３ｂ、１３ｃ（１２ａ、１２ｂ、１２ｃ）が支持部１７ａ，１７ｂ上に配列されて構成される。これらの吸着パッドは、基板ステージ９の両側に１つ以上設けられればよく、特にその数量は限定されるものではない。本実施形態では、それぞれ３個の吸着パッドを設けた例である。
これらの吸着パッド部１２、１３の全吸着パッドは、バルブ２２を介して、排気ポンプ等からなる吸引源２４に接続される。また、ブローノズル１８は、基板７の素子形成面７ａの上方で吸着パッド１３ｂ（１３ａ）とほぼ対向する位置に設けられる。このブローノズル１８は、バルブ２１を介してコンプレッサ２０に接続されている。このコンプレッサ２０は、気体例えば、圧搾された空気をブローノズル１８に供給する。この実施形態では、ガラス基板に吹き付ける気体として空気を用いた例で説明するが、これに限定されるものではなく、例えば、不活性ガスである窒素ガス、アルゴンガス等を用いてもよい。」
　
ソ．段落【００２５】
「このように構成された保持機構の作用について説明する。
まず、基板搬送ロボット５に載置されたガラス基板７は、搬送アーム８によって、基板搬入部１の基板ステージ９へ受け渡される。この際に、空気孔１０から圧搾空気を吐出して、基板ステージ９へガラス基板７に接触しないようにガラス基板７を浮上させた状態で受け取ってもよい。また、支持部１７ａ，１７ｂは、受け渡し位置Ａに移動させ、移動基板ステージ１９は、基板搬入部１の基板ステージ９に当接させておく。」
　
　以上によれば、引用刊行物２には、
「ガラス基板７を浮上状態で載置する移動基板ステージ１９と、上記移動基板ステージ１９上の上記ガラス基板７を吸着保持する吸着パッド部１２，１３と、上記吸着パッド部１２，１３と上記ガラス基板７を挟んで対向して配置され、該吸着パッド部により該ガラス基板を吸着保持する際に、気体を吐出して、該吸着パッド部１２，１３へ該ガラス基板７を押し付ける気体吐出部１８と、上記吸着パッド部１２，１３を搬送方向に移動させて上記ガラス基板７を搬送する基板搬送部５，６と、を具備する基板搬送部２に関し、
　基板搬入部１は、基板搬送ロボット５の搬送アーム８に吸着保持されているガラス基板７を基板ステージ９で受け取り、基板ステージ９の上面（基板載置面）には多数の空気孔１０と、搬送アーム８が受け渡し時に入り込むための溝１１が設けられ、また、基板ステージ９の搬送方向側の両端には、ガラス基板７の保持面７ｂを吸着して保持する基板保持部として機能する吸着パッド部１２，１３がそれぞれ設けられており、
　基板搬送ロボット５に載置されたガラス基板７は、搬送アーム８によって、基板搬入部１の基板ステージ９へ受け渡され、この際に、空気孔１０から圧搾空気を吐出して、基板ステージ９へガラス基板７に接触しないようにガラス基板７を浮上させた状態で受け取る基板搬送部２。」
　との事項（以下、「引用刊行物２事項」という。）が開示されていると認められる。
　
○引用刊行物３
　同じく、当審で通知した拒絶の理由に引用された国際公開第０３／０８６９１７号（以下、「引用刊行物３」という。）には、「基板搬送装置」に関して、図面とともに、以下のとおり記載されている。
　
タ．明細書第１頁第４〜８行
「本発明は、例えば大型の液晶ディスプレイ（以下、ＬＣＤと省略する）やプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと省略する）などのフラットパネルディスプレイ（以下、ＦＰＤと省略する）等におけるガラス基板を搬送路に浮上させて搬送する基板搬送装置に関する。」
　
チ．明細書第２頁第１２〜１９行
「そこで本発明は、非接触状態で搬送して、ガラス基板に傷を付けることなく高速搬送ができる基板搬送装置を提供することを目的とする。
発明の開示
　本発明の主要な観点によれば、搬送路上に沿って設けられ、基板を搬送路上で浮上させる基板浮上機構と、基板浮上機構により浮上した基板の両端部を保持して搬送路に沿って搬送する搬送機構とを具備した基板搬送装置が提供される。」
　
ツ．明細書第３頁第１２行〜第６頁第７行
「発明を実施するための最良の形態
　以下、本発明の第１の実施の形態について図面を参照して説明する。
　図１は基板搬送装置を大型のＬＣＤやＰＤＰなどのＦＰＤの製造工程におけるインライン検査に適用した場合の平面構成図であり、図２は同装置の側面構成図である。
　搬入用の基板載置台１は、除振台２上に設けられている。この基板載置台１は、搬入されたガラス基板３を載置するもので、その幅（搬送方向Ｃに対して垂直方向）は、ガラス基板３の幅よりも僅かに短く形成されている。この基板載置台１の上面には、エアー吹上げと吸引とを兼用する複数の空気孔４が設けられている。なお、これら空気孔４は、基板載置台１の全面にほぼ規則的に設けられていればよい。この基板載置台１上には、２本の溝５が搬送方向Ｃに対して平行方向でかつ所定の間隔をおいて形成されている。又、基板載置台１には、ガラス基板３の搬入時に昇降する複数のリフトピン６が設けられている。
　基板載置台１の搬送方向Ｃに対して垂直方向の入口側には、搬入用搬送ロボット７が設けられている。この搬入用搬送ロボット７は、２本のハンドアーム８を図示しない多関節アームにより回転、前進及び後退させながら未検査のガラス基板３をカセットから取り出して基板載置台１上に搬入する。
　基板載置台１の出口側には、搬送架台９が搬送方向Ｃに沿って並設されている。この搬送架台９は、ガラス基板３の搬入側から搬出側に至る長さに形成されている。この搬送架台９は、除振台１０上に載せられている。
　この搬送架台９上の搬入側から搬出側には、これら搬入側と搬出側との全長に亘って浮上ブロック１１が設けられている。この浮上ブロック１１は、その幅（搬送方向Ｃに対して垂直方向）をガラス基板３の幅よりも僅かに短く形成している。この浮上ブロック１１の上面には、エアー吹上げと吸引とを兼用する複数の空気孔１２が設けられている。なお、これら空気孔１２は、浮上ブロック１１の全面にほぼ均一に設けられていればよい。この浮上ブロック１１上には、２本の溝１３が搬送方向Ｃに対して平行方向でかつ所定の間隔をおいて形成されている。浮上ブロック１１の表面高さは、基板載置台１の表面の高さとほぼ同一である。
　搬送架台９における搬送方向Ｃの略中間位置には、一定速度で搬送されるガラス基板３に対する各種検査を行う検査部Ｅが設けられている。この検査部Ｅは、例えば顕微鏡、ラインセンサ又はＣＣＤカメラなどの各種検査用機器１４を門型アーム１５に搭載している。例えば、検査用機器１４は、複数配列したラインセンサによりガラス基板３の画像データを取得する。そして、この画像データを画像処理等して例えばガラス基板３のパターン検査、欠陥検査などが行なわれる。
　搬送架台９の出口側には、搬出用の基板載置台１６が搬送方向Ｃに沿って並設されている。この基板載置台１６は、除振台１７上に設けられている。この基板載置台１６は、浮上ブロック１１から搬送されてきたガラス基板３を搬出するために一時載置するもので、その幅（搬送方向Ｃに対して垂直方向）は、ガラス基板３の幅よりも僅かに短く形成されている。この基板載置台１６の上面には、エアー吹上げと吸引とを兼用する複数の空気孔１８が設けられている。なお、これら空気孔１８は、基板載置台１６の全面にほぼ規則的に設けられていればよい。この基板載置台１６上には、２本の溝１９が搬送方向Ｃに対して平行方向でかつ所定の間隔をおいて形成されている。又、基板載置台１６には、ガラス基板３の搬出時に昇降する複数のリフトピン２０が設けられている。基板載置台１６の表面高さは、浮上ブロック１１の表面の高さとほぼ同一である。
　基板載置台１６の搬送方向Ｃに対して垂直方向の出口側には、搬出用搬送ロホット２１が設けられている。この搬出用搬送ロホット２１は、２本のハンドアーム２２を図示しない多関節アームにより回転、前進及び後退させながら検査済みのガラス基板３をカセット内に収納する。
　搬送架台９及び除振台１７上には、浮上ブロック１１及び基板載置台１６を挟んで一対の各スライダ２３〜２８が複数組み搬送方向Ｃに沿って互いに平行に設けられている。一対のスライダ２３、２４及び２７、２８は、一対のスライダ２５、２６よりも外側に設けられている。又、これらスライダ２３〜２８の高さ位置は同一に設けられている。」
　
テ．明細書第６頁第８行〜第８頁第１６行
「一対のスライダ２３、２４は、搬送架台９の入口側のアライメント部Ａに設けられている。これらスライダ２３、２４には、それぞれ一対となる各搬送端部２９、３０が移動可能に設けられている。これら搬送端部２９、３０は、それぞれ上下方向に伸縮可能でかつ回転自在に設けられた各アーム２９ａ、３０ａと、これらアーム２９ａ、３０ａの先端部に設けられ、ガラス基板３の裏面の両端部をそれぞれ吸着保持する各吸着パッド２９ｂ、３０ｂと、各搬送端部２９、３０内に設けられ、各アーム２９ａ、３０ａを搬送方向Ｃと垂直方向に移動させる各プランジャとを有する。
　一対のスライダ２５、２６は、アライメント部Ａの出口側と搬送架台９の出口側の間に設けられている。これらスライダ２５、２６には、それぞれ一対となる各搬送端部３１、３２が移動可能に設けられている。これら搬送端部３１、３２は、各搬送端部２９、３０と同様に、各アーム３１ａ、３２ａと各吸着パッド３１ｂ、３２ｂとを有する。
　一対のスライダ２７、２８は、搬送架台９の出口側と基板載置台１６の出口側との間に設けられている。これらスライダ２７、２８には、それぞれ一対となる各搬送端部３３、３４が移動可能に設けられている。これら搬送端部３３、３４は、各搬送端部２９、３０と同様に、各アーム３３ａ、３４ａと各吸着パッド３３ｂ、３４ｂとを有する。
　なお、一対のスライダ２３、２４及び２７、２８は一対のスライダ２５、２６よりも外側に設けられているので、各スライダ２３、２４及び２７、２８の各吸着パッド２９ｂ、３０ｂ、３３ｂ、３４ｂの位置は、各スライダ２５、２６の各吸着パッド３１ｂ、３２ｂの位置と同一になるように各アーム２９ａ、３０ａ、３３ａ、３４ａの長さが設定されている。
　なお、これら搬送端部２９、３０、３１、３２、３３、３４は、ガラス基板３を保持する各アーム２９ａ、３０ａ、３１ａ、３２ｂ、３３ａ、３４ａをＸＹ方向に微動できる機構であれば、どのような構成であってもよい。
　浮上ブロック１１上におけるアライメント部Ａには、３つの位置決めセンサ４３〜４５が設けられている。これら位置決めセンサ４３〜４５は、ガラス基板３の互いに直交する２辺（縦、横）の各エッジを検出し、そのエッジ位置を示す各検出信号を出力する。これら位置決めセンサ４３〜４５は、それぞれ複数の検出素子をライン状に配列したラインセンサである。
　位置決めセンサ４３は、浮上ブロック１１の幅方向の中間位置で、ライン検出方向を搬送方向Ｃと同一方向に設けられている。この位置決めセンサ４３は、アライメント部Ａで浮上停止しているガラス基板３の搬送方向Ｃの前方側のエッジを検出する。
　各位置決めセンサ４４、４５は、浮上ブロック１１の側面に所定の間隔をおいて設けられている。これら位置決めセンサ４４、４５は、ライン検出方向を搬送方向Ｃに対して垂直方向に設けられている。これら位置決めセンサ４４、４５は、アライメント部Ａで浮上停止しているガラス基板３の搬送方向Ｃと同一方向のエッジを検出する。
　一方、圧搾空気供給部４６は、配管を通して搬入用の基板載置台１と、浮上ブロック１１と、搬出用の基板載置台１６の各空隙部に連通し、それぞれ選択的に圧搾エアーを供給して各空気孔４、１２、１８から圧搾エアーを吹き上げ、搬入用の基板載置台１、浮上ブロック１１又は搬出用の基板載置台１６上においてガラス基板３を浮上させる。又、圧搾空気供給部４６は、各空気孔４、１２、１８から除電効果を有するエアー、例えばプラスイオン又はマイナスイオンにイオン化されたエアーを吹上げる。」
　
ト．明細書第８頁第１７行〜第１１頁第５行
「真空吸着部４７は、配管を通して搬入用の基板載置台１と、浮上ブロック１１と、搬出用の基板載置台１６の各空隙部とに連通し、それぞれ選択的に真空引きし、各空気孔４、１２、１８を介して搬入用の基板載置台１や搬出用の基板載置台１６上にガラス基板３を吸着保持させる。
　又、真空吸着部４７は、配管を通して各吸着パッド２９ｂ、３０ｂ、３１ｂ、３２ｂ、３３ｂ、３４ｂにそれぞれ連通し、これら吸着パッド２９ｂ、３０ｂ、３１ｂ、３２ｂ、３３ｂ、３４ｂを真空引きしてガラス基板３を吸着保持する。
　移動制御部４８は、各搬送端部２９、３０、３１、３２、３３、３４をそれぞれ各スライダ２３、２４、２５、２６、２７、２８上に移動制御する。
　姿勢認識部４９は、３つの位置決めセンサ４３〜４５からそれぞれ出力された各検出信号を入力し、これら検出信号により示されるガラス基板３の３箇所のエッジ位置情報に基づいてガラス基板３の姿勢を認識する。
　姿勢制御部５０は、姿勢認識部４９により認識されたガラス基板３の姿勢を基準位置にアライメントするために一対の搬送端部３１、３２を搬送方向Ｃと、搬送方向Ｃに対して垂直方向に移動制御する。
　次に、上記の如く構成された装置の動作について説明する。
　各搬送端部２９、３０は、各スライダ２３、２４上の搬入側に移動して停止し待機している。
　搬入用搬送ロボット７は、ハンドアーム８を回転、前進及び後退して未検査のガラス基板３をカセットから取り出し、基板載置台１の上方に搬送する。これと共に基板載置台１の各リフトピン６は、上昇する。搬入用搬送ロボット７は、ハンドアーム８を下降させてガラス基板３を各リフトピン６上に載置する。各リフトピン６が下降することにより、ガラス基板３は基板載置台１上に載置される。ガラス基板３の幅は、基板載置台１の幅よりも長いので、ガラス基板３の両端部分が基板載置台１から出る。
　次に、各搬送端部２９、３０は、各アーム２９ａ、３０ａを上昇させて、各吸着パッド２９ｂ、３０ｂを基板載置台１から出ているガラス基板３の裏面に吸着させる。これら吸着パッド２９ｂ、３０ｂの吸着位置は、ガラス基板３における回路パターンの形成されていない裏面端部であって、例えば搬送方向Ｃに向ってガラス基板３の前方側となる裏面の両端部である。このとき各吸着パッド２９ｂ、３０ｂは、ガラス基板３の裏面に吸着した状態で基板載置台１の表面高さよりも僅かに上昇する。
　これと共に圧搾空気供給部４６は、配管を通して基板載置台１の空隙部に圧搾エアーを供給し、空気孔４から圧搾エアーを吹き上がらせる。このとき圧搾エアーは、除電効果を有するイオン化されているものを使用することで、ガラス基板３の静電気を中和してガラス基板３への帯電を阻止する。
　圧搾エアーの吹き上げにより、基板載置台１とガラス基板３との間にエアー層が形成され、ガラス基板３は図３に示すように基板載置台１の表面から浮上する。このとき、各空気孔４から吹上げられたエアーは、基板載置台１とガラス基板３との間にエアー層から各溝５を通して流れる。従って、エアーは、基板載置台１とガラス基板３との間に溜まらずに流通するので、ガラス基板３は平面度を保って基板載置台１上に浮上する。
　次に、移動制御部４８は、図４に示すようにガラス基板３の裏面に吸着している各吸着パッド２９ｂ、３０ｂを有する各搬送端部２９、３０（アーム２９ａ、３０ａ）をそれぞれ同一速度で同期させて各スライダ２３、２４上を搬送方向Ｃに移動させる。
　これにより、ガラス基板３は、浮上して基板載置台１上面及び浮上ブロック１１上面とは完全に非接触の状態で、各搬送端部２９、３０により引っ張られて、搬送方向Ｃに高速で搬送される。この高速搬送によりガラス基板３は、浮上ブロック１１上におけるアライメント部Ａに到達する。」
　
ナ．明細書第１１頁第６行〜第１２頁第２０行
「アライメント部Ａに到達したときガラス基板３は、図５に示すように搬送方向Ｃに対して傾いている場合がある。アライメント部Ａにおいて位置決めセンサ４３は、アライメント部Ａで浮上停止しているガラス基板３の搬送方向Ｃの前方側の一辺のエッジを検出してその検出信号を出力する。
　又、各位置決めセンサ４４、４５は、アライメント部Ａで浮上停止しているガラス基板３の搬送方向Ｃと同一方向の他辺のエッジを検出してその検出信号を出力する。
　姿勢認識部４９は、３つの位置決めセンサ４３〜４５からそれぞれ出力された各検出信号を入力し、これら検出信号により示されるガラス基板３の３箇所のエッジ位置情報に基づいてガラス基板３の姿勢を認識する。この場合、ガラス基板３は、搬送方向Ｃに対して先端側の右端部が左端部よりも前側に出て搬送方向Ｃに対して左側に傾いている。
　次に、姿勢制御部５０は、姿勢認識部４９によるガラス基板３の姿勢の認識結果から、先ず、図５に示すように一方の搬送端部３０を搬送方向Ｃに対して逆方向（後側）に微動させる。これにより、カラス基板３は、吸着パッド２９ａを中心軸にして矢印Ｆ方向に回転して、搬送方向Ｃに対して平行に配置される。
　再び、姿勢認識部４９は、３つの位置決めセンサ４３〜４５からそれぞれ出力された各検出信号を入力してガラス基板３の姿勢を認識する。この認識の結果、ガラス基板３は、図６に示すように左端部がスライダ２３側に寄っている。
　姿勢制御部５０は、図６に示すように一方の搬送端部２９のプランジャを駆動してアーム２９ａを矢印Ｈ方向（搬送方向Ｃに対して垂直方向）に伸ばすと共に、これと同期して他方の搬送端部３０のプランジャを駆動してアーム３０ａを矢印Ｈ方向に縮め、ガラス基板３を矢印Ｈ方向に移動してガラス基板３の中心位置を搬送路の中心位置を合せる。
　この後、姿勢制御部５０は、位置決めセンサ４３の中心にガラス基板３の先端部が合致するように各搬送端部２９、３０を同期させて前側に移動させる。この場合、各搬送端部２９、３０は、例えば図７に示すように矢印Ｎ方向に微動する。
　この結果、ガラス基板３は、図７に示すように基準位置、すなわち搬送方向Ｃに対して平行で、かつガラス基板３の中心が搬送路の中心位置に略一致するようにアライメントされる。なお、基準位置は、３つの位置決めセンサ４３〜４５においてそれぞれガラス基板３の各エッジ位置がセンサ中心で検出するところである。」
　
ニ．明細書１８頁第６行〜第１９頁第２０行
「次に、本発明の第２の実施の形態について説明する。なお、図１と同一部分には同一符号を付してその詳しい説明は省略する。
　図９は基板搬送装置の構成図である。この基板搬送装置は、搬入用及び搬出用の各搬送ロボット７、２１の各ハンドアーム８、２２の前進及び後退の方向を搬送方向Ｃと同一方向になるように各搬送ロボット７、２１を設け、かつ搬送架台９上にガラス基板３を吸着保持するホルダ６０を搬送方向Ｃに移動可能にしている。
　又、搬入用及び搬出用の各基板載置台１及び１６に備えられていた各リフトピン６、２０は除かれている。これにより、各搬送ロボット７、２１は、各ハンドアーム８、２２を各基板載置台１及び１６の各溝５、１９内に入れることによりガラス基板３を直接基板載置台１上に載置したり、ガラス基板３を基板載置台１６から直接取り出す。
　搬送架台９上には、２本のレール６１が搬送方向Ｃに対して互いに平行に敷設されている。これらレール６１上に移動用浮上ブロック（以下、ホルダと称する）６０が移動可能に設けられている。
　ホルダ６０の表面には、エアーの吹き上げと吸引とを兼用する複数の空気孔６２が全面に設けられている。このホルダ６０は、基板載置台１と同様に、幅がガラス基板３の幅よりも僅かに短く形成され、かつホルダ表面の高さが基板載置台１の表面の高さとほぼ同一に形成されている。
　搬送架台９上には、ホルダ６０を挟んで一対のスライダ６３、６４が搬送方向Ｃに沿って互いに平行に設けられている。これらスライダ６３、６４は、搬入側の基板載置台１と搬出側の搬送ロボット２１との間に設けられている。これらスライダ６３、６４には、それぞれ一対となるアライメント側の各搬送端部２９、３０と、検査側の各搬送端部３１、３２とが移動可能に設けられている。
　アライメント側の各搬送端部２９、３０は、各スライダ６３、６４上における搬入側の搬送ロボット７側の左側端部とアライメント部Ａの右側端部Ａａとの間を往復移動する。検査側の各搬送端部３１、３２は、各スライダ６３、６４上におけるアライメント部Ａの右側端部Ａａと搬出用の基板載置台１６側の右側端部との間を往復移動する。アライメント側の各搬送端部２９、３０から検査側の各搬送端部３１、３２へのガラス基板３の受渡しは、上記第１の実施の形態と同様に行なわれる。」
　
　以上によれば、引用刊行物３には、
「例えば大型の液晶ディスプレイ（以下、ＬＣＤと省略する）やプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと省略する）などのフラットパネルディスプレイ（以下、ＦＰＤと省略する）等におけるガラス基板を搬送路に浮上させて搬送する基板搬送装置に関し、
搬送路上に沿って設けられ、基板を搬送路上で浮上させる基板浮上機構と、基板浮上機構により浮上した基板の両端部を保持して搬送路に沿って搬送する搬送機構とを具備した基板搬送装置であり、
アライメント部Ａに姿勢制御部５０を備え、アライメント部Ａに到達した圧搾エアーの吹き上げにより浮上しているガラス基板３が搬送方向Ｃに対して傾いている場合、
一方の搬送端部２９のプランジャを駆動してアーム２９ａを矢印Ｈ方向（搬送方向Ｃに対して垂直方向）に伸ばすと共に、これと同期して他方の搬送端部３０のプランジャを駆動してアーム３０ａを矢印Ｈ方向に縮め、ガラス基板３を矢印Ｈ方向に移動してガラス基板３の中心位置を搬送路の中心位置を合せること。」
　との事項（以下、「引用刊行物３事項」という。）が開示されていると認められる。
　
第４．対比・判断
　
　本願発明１と引用刊行物発明１とを比較すると、後者の「塗布処理部」は、「所定のガスを噴射するガス噴射口１６を有する主ステージ１２ｂを具備」するものであり、塗布処理部において基板を搬送する「第２の基板搬送機構」は、「基板の基板搬送方向に垂直な方向の端部近傍で基板を保持する第１のチャック部材４８ａ・４８ｂと、前記第１のチャック部材を移動させる第１のチャック移動機構５２と、を具備」しており、これにより、「前記第１のチャック部材に保持された基板は、前記ガス噴射口から基板の裏面に向けて噴射されるガスによって前記主ステージから浮いた状態で搬送され」るものであるから、後者の「主ステージ１２ｂ」は、前者の「基板を浮上させて搬送する基板搬送部」に相当するものである。
　そして、後者の「基板を略水平姿勢で一方向に搬送しながら」、「基板に所定の塗布液を供給して塗布膜を形成するための塗布処理部５ｂ」は、「前記基板に所定の塗布液を供給して塗布膜を形成する」ものであり、塗布液を供給するのが基板の面であることは明らかであるから、前者の「前記基板搬送部に搬送させつつ前記基板の第一面に液状体を塗布する塗布部」に相当するものである。
　また、後者の「基板を搬入するための基板搬入部５ｃ」と、「塗布膜の形成された基板を搬出するための基板搬出部５ａ」が、前者の「前記基板を搬入する基板搬入領域と、前記基板を搬出する基板搬出領域」に相当しているのは明らかであり、これらが「基板搬送部」に設けてあることは自明な事項である。
　また、後者の「主ステージ１２ｂ」は、「所定のガスを噴射するガス噴射口１６を有する」から、前者の「前記基板搬送部には、前記基板搬入領域に前記基板を浮上させる気体を供給する気体供給部が設けられ」ている点に相当するものである。
　また、後者の「第２の基板搬送機構」が、「前記第１のチャック部材に保持された基板」を、「前記ガス噴射口から基板の裏面に向けて噴射され、ガスによって前記主ステージから浮いた状態で搬送」することは、前者の「前記基板搬送部」が、「前記基板が搬入された状態において前記基板のうち前記第一面とは反対の第二面が前記基板搬送部に対して非接触の状態で前記基板が浮上するように前記気体供給部に前記基板の前記第二面との間に前記気体を供給させるものであ」ることに相当している。
　また、後者の、「前記第１のチャック部材であるチャック部材４８ａ・４８ｂ」が、「ＬＣＤ基板Ｇにおいてレジスト液が塗布されない部分の裏面側、つまりＬＣＤ基板Ｇの裏面のＹ方向端部近傍で、ＬＣＤ基板Ｇを保持する」点は、前者の「前記基板搬送部には、前記基板搬入領域に浮上する前記基板の前記第二面を保持するパッドが設けられている」点に相当する。
　
　してみれば、両者の一致点は以下のとおりである。
＜一致点＞
「基板を浮上させて搬送する基板搬送部と、前記基板搬送部に搬送させつつ前記基板の第一面に液状体を塗布する塗布部と、を備える塗布装置であって、
　前記基板搬送部には、前記基板を搬入する基板搬入領域と、前記基板を搬出する基板搬出領域とが設けられており、
　前記基板搬送部には、前記基板搬入領域に前記基板を浮上させる気体を供給する気体供給部が設けられており、
　前記基板搬送部は、前記基板が搬入された状態において前記基板のうち前記第一面とは反対の第二面が前記基板搬送部に対して非接触の状態で前記基板が浮上するように前記気体供給部に前記基板の前記第二面との間に前記気体を供給させるものであり、
　前記基板搬送部には、前記基板搬入領域に浮上する前記基板の前記第二面を保持するパッドが設けられている、
塗布装置。」
　
　そして、以下の各点で相違している。
　
＜相違点１＞
　本願発明１は、「前記基板搬入領域及び前記基板搬出領域のうち少なくとも前記基板搬入領域には、外部搬送機構との間で前記基板を受け渡す際に当該外部搬送機構の一部を収容する収容部が設けられて」いるのに対して、引用刊行物発明１は、そのような「収容部」を有するものではない点。
　
＜相違点２＞
　本願発明１は、「前記基板搬送部は、前記基板搬入領域に前記基板が受け渡される際において前記基板が浮上する程度の前記気体が前記基板搬入領域に供給された状態で当該基板搬送部が待機するように前記気体供給部に前記気体を供給させる」ものであるのに対して、引用刊行物発明１の基板搬送機構は、気体供給の態様については不明である点。
　
＜相違点３＞
　本願発明１は、「前記基板搬入領域のうち前記収容部が設けられた領域の周囲には、前記塗布部による塗布位置に対応するように、前記基板搬入領域に搬入され前記気体供給部から供給される前記気体によって浮上した前記基板を当該基板の搬送方向に直交する方向の両側から機械的に挟持することで、浮上した前記基板の位置を調節する第１アライメント機構が設けられて」いるのに対して、引用刊行物発明１は、そのような「アライメント機構」を有するものではない点。
　
＜相違点４＞
　本願発明１は、「前記基板搬送部は、前記基板搬入領域に前記基板が受け渡される際において前記パッドが前記基板の浮上位置に対応する高さ位置に配置されるように前記パッドの高さ位置を調整するものである」のに対して、引用刊行物発明１のチャック部材がそのような調整をされるものであるのか不明な点。
　
＜相違点１＞について検討する。
　引用刊行物２に係る基板搬送装置は、塗布装置ではないが、ガラス基板を圧搾空気により浮上させ、浮上させた状態で搬送する点では共通しており、その際、基板搬入部１の基板ステージ９にて、ガラス基板を外部の基板搬送ロボット５から受け取る点でも共通している。
　そして、引用刊行物２事項には、「基板搬送部２に関し、基板搬入部１は、基板搬送ロボット５の搬送アーム８に吸着保持されているガラス基板７を基板ステージ９で受け取り、基板ステージ９の上面（基板載置面）には多数の空気孔１０と、搬送アーム８が受け渡し時に入り込むための溝１１が設けられ」る点が示されている。
　ここで、引用刊行物２事項の「基板搬送ロボット５」は、相違点１に係る「外部搬送機構」に相当し、同じく、「基板搬入部１」は、「基板搬入領域」に相当し、さらに、基板搬送ロボット５の搬送アーム８がガラス基板受け渡し時に入り込むための「溝１１」が、相違点１に係る「収容部」に相当することも、その作用から明らかである。
　
　以上のとおり、相違点１に係る本願発明１の発明特定事項は引用刊行物２事項に示されているということができ、技術分野に関しても、引用刊行物発明１と引用刊行物２事項は、気体を供給することにより基板を浮上させて搬送するものである点で共通しているし、これらを組み合わせるにあたっての阻害要因もない。
　してみれば、相違点１に係る発明特定事項の違いは、引用刊行物発明１に引用刊行物２事項を組み合わせたにすぎないものであり、当業者が容易に想到し得たものである。
　
＜相違点２＞について検討する。
　引用刊行物２事項として、次の点が示されている。すなわち、「基板搬送ロボット５に載置されたガラス基板７は、搬送アーム８によって、基板搬入部１の基板ステージ９へ受け渡され、この際に、空気孔１０から圧搾空気を吐出して、基板ステージ９へガラス基板７に接触しないようにガラス基板７を浮上させた状態で受け取る」ことが示されている。
　これは、「ガラス基板７を浮上させた状態で受け取る」というものであり、基板ステージ９へガラス基板７を接触させないということであるから、ガラス基板の受け渡しの際には、予め、空気孔１０から圧搾空気を吐出しておくものと理解できる。
　なぜなら、基板ステージ９へガラス基板７を乗せてから圧搾空気を吐出したのでは、基板ステージ９にガラス基板７が接触してしまうからである。
　してみれば、引用刊行物２事項も、「基板搬入部１にガラス基板が受け渡される際において前記ガラス基板が浮上する程度の圧搾空気が前記基板搬入部１に供給された状態で当該基板搬入部１が待機するように空気孔１０から圧搾空気を吐出しておく」ものであるということができる。
　
　以上のとおり、相違点２に係る本願発明１の発明特定事項は引用刊行物２事項に示されているということができ、技術分野に関しても、引用刊行物発明１と引用刊行物２事項は、気体を供給することにより基板を浮上させて搬送するものである点で共通しているし、これらを組み合わせるにあたっての阻害要因もない。
　してみれば、相違点１に係る発明特定事項の違いは、引用刊行物発明１に引用刊行物２事項を組み合わせたにすぎないものであり、当業者が容易に想到し得たものである。
　
＜相違点３＞について検討する。
　引用刊行物３事項は、基板搬送装置に関して、搬送されたガラス基板３が、搬送方向Ｃに対して傾いている場合、アーム２９ａを矢印Ｈ方向（搬送方向Ｃに対して垂直方向）に伸ばすと共に、これと同期して他方のアーム３０ａを矢印Ｈ方向に縮めることが示されている。
　これは、相違点３に係る「基板の搬送方向に直交する方向の両側から機械的に挟持する」ことに対応しており、その際、基板が気体により浮上している点も同様である。
　
　以上のとおり、相違点３に係る本願発明１の発明特定事項は引用刊行物３事項に示されているということができ、技術分野に関しても、引用刊行物発明１と引用刊行物３事項は、気体を供給することにより基板を浮上させて搬送するものである点で共通しているし、これらを組み合わせるにあたっての阻害要因もない。
　してみれば、相違点１に係る発明特定事項の違いは、引用刊行物発明１に引用刊行物３事項を組み合わせたにすぎないものであり、当業者が容易に想到し得たものである。
　
＜相違点４＞について検討する。
　相違点４を検討するに、ここで、「パッドの高さ位置を調整する」のは、「パッドが基板の浮上位置に対応する高さ位置に配置されるように」するためであると理解される。
　これは要するに、パッドの高さと基板の浮上位置を一致させるというものであるが、基板に吸着するパッドのように、接触するものどうしの位置を一致させるのは、広く一般的な周知事項である。
　してみれば、相違点４に係る発明特定事項の違いは、引用刊行物発明１に周知事項を適用したにすぎないものであり、当業者が容易に想到し得たものである。
　
　作用ないし効果について
　本願発明１の作用ないし効果も引用刊行物発明１、引用刊行物２事項、引用刊行物３事項、及び周知事項から当業者が予想できる範囲のものである。
　
第５．むすび
　
　以上のとおり、本願発明１は、引用刊行物発明１、引用刊行物２事項、引用刊行物３事項、及び周知事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができず、本願は、その余の請求項に係る発明について見るまでもなく、拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。