(57)【要約】一般式［Ｉ］で示されるイソオキサゾリン誘導体又はその塩と、［Ａ群］から選ばれる一種以上の化合物とを有効成分として含有することを特徴とする除草剤組成物。（式中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、本文中に定義される。）2004014138.tif 000023
2004014138.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式［Ｉ］で示されるイソオキサゾリン誘導体又はその塩と、［Ａ群］から選ばれる一種以上の化合物とを有効成分として含有することを特徴とする除草剤組成物。
2004014138.tif 000022
｛式中、
Ｒ１及びＲ２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基又はＣ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキル基を示すか、或いはＲ１とＲ２とが一緒になって、これらの結合した炭素原子と共にＣ３〜Ｃ７のスピロ環を示し、
Ｒ３及びＲ４は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基又はＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基を示すか、或いはＲ３とＲ４とが一緒になって、これらの結合した炭素原子と共にＣ３〜Ｃ７のスピロ環を示し、さらにＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４はこれらの結合した炭素原子と共に５〜８員環を形成することもでき、
Ｒ５及びＲ６は、独立して、水素原子又はＣ１〜Ｃ１０アルキル基を示し、
Ｙは窒素原子、酸素原子及び硫黄原子より選択される任意のヘテロ原子を有する５〜６員の芳香族ヘテロ環基又は芳香族ヘテロ縮合環基を示し、これらのヘテロ環基は置換基群αより選択される、０〜６個の同一又は相異なる基で置換されていてもよく、又、隣接したアルキル基同士、アルコキシ基同士、アルキル基とアルコキシ基、アルキル基とアルキルチオ基、アルキル基とアルキルスルホニル基、アルキル基とモノアルキルアミノ基又はアルキル基とジアルキルアミノ基が２個結合して１〜４個のハロゲン原子で置換されてもよい５〜８員環を形成されていてもよく、又、これらのヘテロ環基のヘテロ原子が窒素原子の時は酸化されてＮ−オキシドになってもよく、
ｎは０〜２の整数を示す。
「置換基群α」
水酸基、チオール基、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルチオ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルフィニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルフィニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニルオキシ基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環チオ基、置換されていてもよいフェニルスルフィニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニルオキシ基、アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、カルボキシル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい。）、Ｃ１〜Ｃ６アシルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンジルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンゾイルオキシ基、ニトロ基、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、Ｃ１〜Ｃ６アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい。）
「置換基群β」
水酸基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基（該基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されてもよい）、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニル基、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基で置換されていてもよい）、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基で置換されていてもよい）、Ｃ１〜Ｃ６アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシイミノ基、シアノ基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基。
「置換基群γ」
Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基で置換されていてもよい。）｝
［Ａ群］
アトラジン、シマジン、シアナジン、イソキサフルトール、メソトリオン、フルメツラム、イマゼタピル、イマザピル、ジカンバ、クロピラリド、プロスルフロン、ハロスルフロン・メチル、リムスルフロン、ベンタゾン、カルフェントラゾン・エチル、メトリブジン、チフェンスルフロン・メチル、ニコスルフロン、プリミスルフロン、クロランスラム・メチル、グルホシネート、グリホセート、スルホセート、ペンディメタリン、リニュロン、プロメトリン、ジフルフェニカン、フルミオキサジン、及びメトラクロール。
【請求項２】
イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、０〜６個の同一又は相異なる基で置換されていてもよいヘテロ環上の置換基群αが、水酸基、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルチオ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環チオ基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、カルボキシル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい。）、ニトロ基、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、Ｃ１〜Ｃ６アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい。）であるか、或いは隣接したアルキル基同士、アルコキシ基同士、アルキル基とアルコキシ基、アルキル基とアルキルチオ基、アルキル基とアルキルスルホニル基、アルキル基とモノアルキルアミノ基又はアルキル基とジアルキルアミノ基が２個結合して１〜４個のハロゲン原子で置換されてもよい５〜８員環を形成されていてもよい請求項１に記載の除草剤組成物。
【請求項３】
イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、０〜６個の同一又は相異なる基で置換されていてもよいヘテロ環上の置換基群αがハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシＣ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基（該基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されてもよい）、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキルオキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なってＣ１〜Ｃ１０アルキル基で置換されていてもよい）である請求項２に除草剤組成物。
【請求項４】
イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、Ｒ１及びＲ２が、同一又は異なってメチル基もしくはエチル基、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６が水素原子である請求項１、２又は３に記載の除草剤組成物。
【請求項５】
イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、Ｙが窒素原子、酸素原子及び硫黄原子より選択される任意のヘテロ原子を有する５員環又は６員環の芳香族ヘテロ環基である請求項１、２、３又は４に記載の除草剤組成物。
【請求項６】
イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、Ｙがチエニル基、ピラゾリル基、イソキサゾリル基、イソチアゾリル基、ピリジル基又はピリミジニル基である請求項５に記載の除草剤組成物。
【請求項７】
イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、Ｙがチオフェン−３−イル基、ピラゾール−４−イル基、ピラゾール−５−イル基、イソオキサゾール−４−イル基、イソチアゾール−４−イル基、ピリジン−３−イル基又はピリミジン−５−イル基である請求項６に記載の除草剤組成物。
【請求項８】
イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、Ｙがチオフェン−３−イル基で、置換基群αがチオフェン環の２及び４位に必ず置換した請求項７に記載に除草剤組成物。
【請求項９】
イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、Ｙがピラゾール−４−イル基で、置換基群αがピラゾール環の３及び５位に、さらに１位に水素原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい）、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい）が必ず置換した請求項７に記載の除草剤組成物。
【請求項１０】
イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、Ｙがピラゾール−５−イル基で、置換基群αがピラゾール環の４位に、さらに１位に水素原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい）、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい）が必ず置換した請求項７に記載の除草剤組成物。
【請求項１１】
イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、Ｙがイソオキサゾール−４−イル基で、置換基群αがイソオキサゾール環の３位及び５位に必ず置換した請求項７に記載の除草剤組成物。
【請求項１２】
イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、Ｙがイソチアゾール−４−イル基で、置換基群αがイソチアゾール環の３位及び５位に必ず置換した請求項７に記載の除草剤組成物。
【請求項１３】
イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、Ｙがピリジン−３−イル基で、置換基群αがピリジン環の２位及び４位に必ず置換した請求項７記載に除草剤組成物。
【請求項１４】
イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、Ｙがピリミジン−５−イル基で、置換基群αがピリミジン環の４位及び６位に必ず置換した請求項７に記載の除草剤組成物。
【請求項１５】
イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、ｎが２の整数である請求項１〜１４のいずれかに記載の除草剤組成物。
【請求項１６】
［Ａ群］の化合物が、アトラジン、シアナジン、シマジン、及びプロメトリンからなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１〜１４のいずれかに記載の除草剤組成物。
【請求項１７】
［Ａ群］の化合物が、グリホサート、グルホシネート、リニュロン、及びフルメツラムからなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１〜１４のいずれかに記載の除草剤組成物。
【請求項１８】
イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、請求項９に記載の化合物であり、かつ［Ａ群］の化合物が、アトラジン、シアナジン、シマジン、プロメトリン、グリホサート、グルホシネート、リニュロン、フルメツラム、メトリブジン、イソキサフルトール、メソトリオン、ジフルフェニカン、ペンディメタリン及びフルミオキサジンからなる群から選ばれる少なくとも１種である除草剤組成物。
【請求項１９】
イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、請求項９に記載の化合物であり、かつ［Ａ群］の化合物が、アトラジン、シアナジン、シマジン、及びプロメトリンからなる群から選ばれる少なくとも１種である除草剤組成物。
【請求項２０】
イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、請求項９に記載の化合物であり、かつ［Ａ群］の化合物が、グリホサート、グルホシネート、リニュロン、及びフルメツラムからなる群から選ばれる少なくとも１種である除草剤組成物。
【請求項２１】
式［Ｉ］で表されるイソオキサゾリン誘導体又はその塩１重量部に対して、Ａ群に示した化合物の一種以上が０．００１〜１００重量部含有される、請求項１〜２０に記載の除草剤組成物。
【請求項２２】
式［Ｉ］で表されるイソオキサゾリン誘導体又はその塩と、Ａ群より選ばれる少なくとも１種の化合物との合計量として０．５〜９０重量％含有する製剤で施用される、請求項１〜２１に記載の除草剤組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】  本発明は、除草性組成物に関するものである。
【背景技術】  長年にわたる除草剤の研究開発の中から多種多様な薬剤が実用化され、これら除草剤は、雑草防除作業の省力化や農園芸用作物の生産性向上に寄与してきた。しかし、今日においても、より優れた除草特性を有する新規薬剤の開発が要望されている。
有用作物に対して使用される除草剤は、土壌または茎葉に施用し、低薬量で十分な除草効果を示し、しかも作物・雑草間に高い選択性を発揮する薬剤であることが望まれる。
【発明の開示】
本発明除草性組成物の一つの活性成分である式［Ｉ］で表されるイソオキサゾリン化合物は、イネ、コムギ、オオムギ、トウモロコシ、グレインソルガム、ダイズ、ワタ、テンサイ、芝、果樹等に安全で、それ自体で優れた除草効果を有している。
本発明者らは、式［Ｉ］で表されるイソオキサゾリン誘導体に、Ａ群に示した除草剤の一種以上を所定の割合で混合することにより、それぞれの除草効果が単に相加的に得られるのみならず、相乗的殺草効果が現れることを見出した。すなわち、二種以上の薬剤の併用により、各単剤による除草適用範囲に比べ除草スペクトラムが拡大されると同時に除草効果が早期に達成され、効果も持続し、さらに単品使用薬量より低薬量で十分な効果を発揮するとともに、イネ、コムギ、オオムギ、トウモロコシ、グレインソルガム、ダイズ、ワタ、テンサイ、芝、果樹等に対する安全性も確保され、１回の処理で十分な除草効果を発揮することを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明は以下の要旨を有することを特徴とするものである。
１．一般式［Ｉ］で示されるイソオキサゾリン誘導体又はその塩と、［Ａ群］から選ばれる一種以上の化合物とを有効成分として含有することを特徴とする除草剤組成物。
2004014138.tif 000003
［式中、
Ｒ１及びＲ２は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基又はＣ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキル基を示すか、或いはＲ１とＲ２とが一緒になって、これらの結合した炭素原子と共にＣ３〜Ｃ７のスピロ環を示し、
Ｒ３及びＲ４は、独立して、水素原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基又はＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基を示すか、或いはＲ３とＲ４とが一緒になって、これらの結合した炭素原子と共にＣ３〜Ｃ７のスピロ環を示し、さらにＲ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４はこれらの結合した炭素原子と共に５〜８員環を形成することもでき、
Ｒ５及びＲ６は、独立して、水素原子又はＣ１〜Ｃ１０アルキル基を示し、
Ｙは窒素原子、酸素原子及び硫黄原子より選択される任意のヘテロ原子を有する５〜６員の芳香族ヘテロ環基又は芳香族ヘテロ縮合環基を示し、これらのヘテロ環基は置換基群αより選択される、０〜６個の同一又は相異なる基で置換されていてもよく、又、隣接したアルキル基同士、アルコキシ基同士、アルキル基とアルコキシ基、アルキル基とアルキルチオ基、アルキル基とアルキルスルホニル基、アルキル基とモノアルキルアミノ基又はアルキル基とジアルキルアミノ基が２個結合して１〜４個のハロゲン原子で置換されてもよい５〜８員環を形成されていてもよく、又、これらのヘテロ環基のヘテロ原子が窒素原子の時は酸化されてＮ−オキシドになってもよく、
ｎは０〜２の整数を示す。
「置換基群α」
水酸基、チオール基、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルチオ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルフィニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルフィニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニルオキシ基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環チオ基、置換されていてもよいフェニルスルフィニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、置換されていてもよいフェニルスルホニルオキシ基、アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、カルボキシル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい。）、Ｃ１〜Ｃ６アシルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンジルカルボニルオキシ基、置換されていてもよいベンゾイルオキシ基、ニトロ基、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、Ｃ１〜Ｃ６アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい。）
「置換基群β」
水酸基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基（該基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されてもよい）、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニル基、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基で置換されていてもよい）、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基で置換されていてもよい）、Ｃ１〜Ｃ６アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシイミノ基、シアノ基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基
「置換基群γ」
Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基で置換されていてもよい。）］で示されるイソオキサゾリン誘導体又はその塩と、Ａ群から選ばれる一種以上の化合物とを有効成分として含有することを特徴とする除草剤組成物。
［Ａ群］
アトラジン、シマジン、シアナジン、イソキサフルトール、メソトリオン、フルメツラム、イマゼタピル、イマザピル、ジカンバ、クロピラリド、プロスルフロン、ハロスルフロン・メチル、リムスルフロン、ベンタゾン、カルフェントラゾン・エチル、メトリブジン、チフェンスルフロン・メチル、ニコスルフロン、プリミスルフロン、クロランスラム・メチル、グルホシネート、グリホセート，スルホセート，ペンディメタリン、リニュロン、プロメトリン、ジフルフェニカン、フルミオキサジン、及びメトラクロール。
２．イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、０〜６個の同一又は相異なる基で置換されていてもよいヘテロ環上の置換基群αが、水酸基、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルチオ基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基、
置換されていてもよいフェニルチオ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環オキシ基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環チオ基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、Ｃ１〜Ｃ６アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、カルボキシル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい。）、ニトロ基、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、Ｃ１〜Ｃ６アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていいてもよいベンゾイル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい。）であるか、或いは隣接したアルキル基同士、アルコキシ基同士、アルキル基とアルコキシ基、アルキル基とアルキルチオ基、アルキル基とアルキルスルホニル基、アルキル基とモノアルキルアミノ基又はアルキル基とジアルキルアミノ基が２個結合して１〜４個のハロゲン原子で置換されてもよい５〜８員環を形成されていてもよい、上記１に記載の除草剤組成物。
３．イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、０〜６個の同一又は相異なる基で置換されていてもよいヘテロ環上の置換基群αがハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシＣ１〜Ｃ３アルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基（該基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されてもよい）、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキルオキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なってＣ１〜Ｃ１０アルキル基で置換されていてもよい）である、上記２に除草剤組成物。
４．イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、Ｒ１及びＲ２が、同一又は異なってメチル基もしくはエチル基、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６が水素原子である、上記１、２又は３に記載の除草剤組成物。
５．イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、Ｙが窒素原子、酸素原子及び硫黄原子より選択される任意のヘテロ原子を有する５員環又は６員環の芳香族ヘテロ環基である、上記１、２、３又は４に記載の除草剤組成物。
６．イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、Ｙがチエニル基、ピラゾリル基、イソキサゾリル基、イソチアゾリル基、ピリジル基又はピリミジニル基である、上記５に記載の除草剤組成物。
７．イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、Ｙがチオフェン−３−イル基、ピラゾール−４−イル基、ピラゾール−５−イル基、イソオキサゾール−４−イル基、イソチアゾール−４−イル基、ピリジン−３−イル基又はピリミジン−５−イル基である、上記６に記載の除草剤組成物。
８．イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、Ｙがチオフェン−３−イル基で、置換基群αがチオフェン環の２及び４位に必ず置換した、上記７に記載に除草剤組成物。
９．イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、Ｙがピラゾール−４−イル基で、置換基群αがピラゾール環の３及び５位に、さらに１位に水素原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい）、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい）が必ず置換した、上記７に記載の除草剤組成物。
１０．イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、Ｙがピラゾール−５−イル基で、置換基群αがピラゾール環の４位に、さらに１位に水素原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたＣ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい）、アミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいベンジルスルホニル基又は置換されていてもよいフェニルスルホニル基で置換されていてもよい）が必ず置換した、上記７に記載の除草剤組成物。
１１．イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、Ｙがイソオキサゾール−４−イル基で、置換基群αがイソオキサゾール環の３位及び５位に必ず置換した、上記７に記載の除草剤組成物。
１２．イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、Ｙがイソチアゾール−４−イル基で、置換基群αがイソチアゾール環の３位及び５位に必ず置換した、上記７に記載の除草剤組成物。
１３．イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、Ｙがピリジン−３−イル基で、置換基群αがピリジン環の２位及び４位に必ず置換した、上記７に記載に除草剤組成物。
１４．イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、Ｙがピリミジン−５−イル基で、置換基群αがピリミジン環の４位及び６位に必ず置換した、上記７に記載の除草剤組成物。
１５．イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、一般式［１］において、ｎが２の整数である、上記１〜１４のいずれかに記載の除草剤組成物。
１６．［Ａ群］の化合物が、アトラジン、シアナジン、シマジン、及びプロメトリンからなる群から選ばれる少なくとも１種である、上記１〜１４のいずれかに記載の除草剤組成物。
１７．［Ａ群］の化合物が、グリホサート、グルホシネート、リニュロン、及びフルメツラムからなる群から選ばれる少なくとも１種である、上記１〜１４のいずれかに記載の除草剤組成物。
１８．イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、請求項９に記載の化合物であり、かつ［Ａ群］の化合物が、アトラジン、シアナジン、シマジン、プロメトリン、グリホサート、グルホシネート、リニュロン、フルメツラム、メトリブジン、イソキサフルトール、メソトリオン、ジフルフェニカン、ペンディメタリン及びフルミオキサジンからなる群から選ばれる少なくとも１種である除草剤組成物。
１９．イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、上記９に記載の化合物であり、かつ［Ａ群］の化合物が、アトラジン、シアナジン、シマジン、及びプロメトリンからなる群から選ばれる少なくとも１種である除草剤組成物。
２０．イソオキサゾリン誘導体又はその塩が、上記９に記載の化合物であり、かつ［Ａ群］の化合物が、グリホサート、グルホシネート、リニュロン、及びフルメツラムからなる群から選ばれる少なくとも１種である除草剤組成物。
２１．式［Ｉ］で表されるイソオキサゾリン誘導体又はその塩の１重量部に対して、Ａ群に示した化合物の一種以上が０．００１〜１００重量部含有される、上記１〜２０に記載の除草剤組成物。
２２．式［Ｉ］で表されるイソオキサゾリン誘導体又はその塩と、Ａ群より選ばれる少なくとも１種の化合物との合計量として０．５〜９０重量％含有する製剤で施用される、上記１〜２１に記載の除草剤組成物。
なお、本明細書において、用いられる用語の定義を以下に示す。
Ｃ１〜Ｃ１０等の表記は、この場合ではこれに続く置換基の炭素数が、１〜１０であることを示している。
ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を示す。
Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基とは、特に限定しない限り、炭素数が１〜１０の直鎖又は分岐鎖状のアルキル基を示し、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、３，３−ジメチルブチル基、ヘプチル基、又はオクチル基等を挙げることができる。
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキル基とは、炭素数が３〜８のシクロアルキル基を示し、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、又はシクロヘキシル基等を挙げることができる。
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキル基（該基はハロゲン原子又はアルキル基で置換されてもよい）とは、特に限定しない限り同一又は異なって、ハロゲン原子１〜４又はＣ１〜Ｃ３アルキル基で置換されてもよいＣ３〜Ｃ８シクロアルキル基により置換されたＣ１〜Ｃ３アルキル基を示し、例えばシクロプロピルメチル基、１−シクロプロピルエチル基、２−シクロプロピルエチル基、１−シクロプロピルプロピル基、２−シクロプロピルプロピル基、３−シクロプロピルプロピル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基、２−クロロシクロプロピルメチル基、２，２−ジクロロシクロプロピルメチル基、２−フルオロシクロプロピルメチル基、２，２−ジフルオロシクロプロピルメチル基、２−メチルシクロプロピルメチル基、２，２−ジメチルシクロプロピルメチル基、又は２−メチルシクロプロピルエチル基等を挙げることができる。
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキル基とは、炭素数が３〜８のシクロアルキル基により置換された炭素数１〜３のアルキル基を示し、例えばシクロプロピルメチル基、１−シクロプロピルエチル基、２−シクロプロピルエチル基、１−シクロプロピルプロピル基、２−シクロプロピルプロピル基、３−シクロプロピルプロピル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基、又はシクロヘキシルメチル基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基とは、特に限定しない限り、同一又は異なって、ハロゲン原子１〜９で置換されている炭素数が１〜４の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示し、例えばフルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、又はペンタフルオロエチル基等を挙げることができる。
Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基とは、炭素数が２〜６の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基を示し、例えばエテニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、イソプロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、又は２−ペンテニル基等を挙げることができる。
Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基とは、炭素数が２〜６の直鎖又は分岐鎖のアルキニル基を示し、例えばエチニル基、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、又は２−メチル−３−ブチニル基等を挙げることができる。
Ｃ２〜Ｃ６ハロアルケニル基とは、特に限定しない限り、同一又は異なって、ハロゲン原子１〜４で置換されている炭素数が２〜６の直鎖又は分岐鎖のアルケニル基を示し、例えば３−クロロ−２−プロペニル基、又は２−クロロ−２−プロペニル基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基とは、アルキル部分が上記の意味である（アルキル）−Ｏ−基を示し、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、又はイソブトキシ基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ４ハロアルコキシ基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である（ハロアルキル）−Ｏ−基を示し、例えばジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２−ジフルオロエトキシ基、又は２，２，２−トリフルオロエトキシ基等を挙げることができる。
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルオキシ基とは、シクロアルキル部分が上記の意味である（シクロアルキル）−Ｏ−基を示し、例えばシクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、又はシクロヘキシルオキシ基等を挙げることができる。
Ｃ３〜Ｃ８シクロアルキルＣ１〜Ｃ３アルキルオキシ基とは、シクロアルキルアルキル部分が上記の意味である（シクロアルキルアルキル）−Ｏ−基を示し、例えばシクロプロピルメトキシ基、１−シクロプロピルエトキシ基、２−シクロプロピルエトキシ基、１−シクロプロピルプロポキシ基、２−シクロプロピルプロポキシ基、３−シクロプロピルプロポキシ基、シクロブチルメトキシ基、シクロペンチルメトキシ基、又はシクロヘキシルメトキシ基等を挙げることができる。
Ｃ２〜Ｃ６アルケニルオキシ基及びＣ２〜Ｃ６アルキニルオキシ基とは、アルケニル又はアルキニル部分が上記の意味である（アルケニル）−Ｏ−基、（アルキニル）−Ｏ−基を示し、例えば２−プロペニルオキシ基、又は２−プロピニルオキシ基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシイミノ基とは、アルコキシ部分が上記の意味である（アルコキシ）−Ｎ＝基を示し、例えばメトキシイミノ基又はエトキシイミノ基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルフィニル基及びＣ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基とは、アルキル部分が上記の意味である（アルキル）−Ｓ−基、（アルキル）−ＳＯ−基、（アルキル）−ＳＯ２−基を示し、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、メチルスルフィニル基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、又はイソプロピルスルホニル基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニルオキシ基とは、アルキルスルホニル部分が上記の意味である（アルキルスルホニル）−Ｏ−基を示し、例えばメチルスルホニルオキシ基又はエチルスルホニルオキシ基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基とは、アルコキシ部分が上記の意味である（アルコキシ）−ＣＯ−基を示し、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、又はイソプロポキシカルボニル基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ６アシル基とは、炭素数１〜６の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アシル基を示し、例えばホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、イソプロピオニル基、ブチリル基、又はピバロイル基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ１０アシルオキシ基とは、アシル部分が上記の意味である（アシル）−Ｏ−基、を示し、例えばアセトキシ基、プロピオニルオキシ基、イソプロピオニルオキシ基、又はピバロイルオキシ基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルチオ基及びＣ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基とは、ハロアルキル部分が上記の意味である（ハロアルキル）−ＣＯ−基、（ハロアルキル）−Ｓ−基、（ハロアルキル）−ＳＯ２−基を示し、例えばクロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、ペンタフルオロプロピオニル基、ジフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルチオ基、クロロメチルスルホニル基、ジフルオロメチルスルホニル基、又はトリフルオロメチルスルホニル基等を挙げることができる。
Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニルオキシ基及びＣ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニルオキシ基とは、ハロアルキルカルボニル部分及びハロアルキルスルホニル部分が上記の意味である（ハロアルキルカルボニル）−Ｏ−基、（ハロアルキルスルホニル）−Ｏ−基を示し、例えばクロロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、クロロメチルスルホニルオキシ基、又はトリフルオロメチルスルホニルオキシ基等を挙げることができる。
（置換されていてもよい）フェニル基、（置換されていてもよい）芳香族ヘテロ環基、（置換されていてもよい）フェノキシ基、（置換されていてもよい）芳香族ヘテロ環オキシ基、（置換されていてもよい）フェニルチオ基、（置換されていてもよい）芳香族ヘテロ環チオ基、（置換されていてもよい）フェニルスルホニル基、（置換されていてもよい）フェニルスルホニルオキシ基、（置換されていてもよい）芳香族ヘテロ環スルホニル基、（置換されていてもよい）ベンジルカルボニル基、（置換されていてもよい）ベンジルカルボニルオキシ基、（置換されていてもよい）ベンジルスルホニル基、（置換されていてもよい）ベンゾイル基、（置換されていてもよい）ベンゾイルオキシ基、（置換されていてもよい）ベンジルオキシカルボニル基又は（置換されていてもよい）フェノキシカルボニル基における「置換されていてもよい基」とは、例えばハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシアルキル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルチオ基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、アシル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルコキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基で置換されていてもよい）、ニトロ基、又はアミノ基（該基の窒素原子は同一又は異なって、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６アシル基、Ｃ１〜Ｃ４ハロアルキルカルボニル基、Ｃ１〜Ｃ１０アルキルスルホニル基、又はＣ１〜Ｃ４ハロアルキルスルホニル基で置換されていてもよい）等で置換されていてもよいことを示す。
窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から任意に選択されるヘテロ原子を有する５員から６員の芳香族ヘテロ環基とは、例えばヘテロ原子を１から３個有するフリル基、チエニル基、ピロリル基、ピラゾリル基、イソキサゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基又はチアジアゾリル基を挙げることができる。
芳香族ヘテロ縮合環基とは、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から任意に選択されるヘテロ原子を１〜３個有する基を示し、例えばベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、インドリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾイソキサゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、インダゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、フサラジニル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、シンノリニル基又はベンゾトリアゾリル基を挙げることができる。
（置換されていてもよい）芳香族ヘテロ環基、（置換されていてもよい）芳香族ヘテロ環オキシ基、（置換されていてもよい）芳香族ヘテロ環チオ基又は（置換されていてもよい）芳香族ヘテロ環スルホニル基の芳香族ヘテロ環とは、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から任意に選択されるヘテロ原子を１〜３個有する５〜６員の基を示し、例えばフリル基、チエニル基、ピロリル基、ピラゾリル基、イソキサゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基又はチアジアゾリル基を挙げることができる。
薬理上許容される塩とは、一般式［Ｉ］を有する化合物において、水酸基、カルボキシル基又はアミノ基等がその構造中に存在する場合に、これらと金属もしくは有機塩基との塩又は鉱酸もしくは有機酸との塩であり、金属としてはナトリウム又はカリウム等のアルカリ金属或いはマグネシウム又はカルシウム等のアルカリ土類金属を挙げることができ、有機塩基としてはトリエチルアミン又はジイソプロピルアミン等を挙げることができ、鉱酸としては塩酸又は硫酸等を挙げることができ、有機酸としては酢酸、メタンスルホン酸又はｐ−トルエンスルホン酸等を挙げることができる。
上記した一般式［Ｉ］の中で好ましくは、Ｒ１及びＲ２が、独立して、メチル基又はエチル基であり、
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６が水素原子であり、
ｎが２の整数であり、
Ｙがチオフェン−３−イル基（ここで該基の２位及び４位は、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なってアルキル基で置換されていてもよい）が必ず置換する。）、
ピラゾール−４−イル基（ここで該基の３位及び５位は、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、シクロアルキルアルキルオキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なってアルキル基で置換されていてもよい）が、さらに１位に水素原子、アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたアルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルスルホニル基、置換基群γより選択される任意の基でモノ置換されたアルキルスルホニル基、ハロアルキルスルホニル基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環基、置換されていてもよいフェニルスルホニル基、置換されていてもよい芳香族ヘテロ環スルホニル基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンジルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイル基、アルコキシカルボニル基、置換されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換されていてもよいフェノキシカルボニル基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なって、アルキル基又は置換されていてもよいフェニル基で置換されていてもよい）が必ず置換する。）、
ピラゾール−５−イル基（ここで該基の４位はハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、ハロアルコキシ基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なってアルキル基で置換されていてもよい）が、さらに１位は水素原子、アルキル基、置換基群βより選択される任意の基でモノ置換されたアルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基又は置換されていてもよいフェニル基が必ず置換する。）、
イソオキサゾール−４−イル基（該基の３位及び５位は、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なってアルキル基で置換されていてもよい）が必ず置換する。）、
イソチアゾール−４−イル基（該基の３位及び５位は、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、置換されていてもよいフェノキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なってアルキル基で置換されていてもよい）が必ず置換する。）、
ピリジン−３−イル基（該基の２位及び４位は、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なってアルキル基で置換されていてもよい）が必ず置換する。）、或いは
ピリミジン−５−イル基（該基の４位および６位は、ハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、アシル基、ハロアルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基又はカルバモイル基（該基の窒素原子は同一又は異なってアルキル基で置換されていてもよい）が必ず置換する。）であるイソオキサゾリン誘導体又はその塩である。
発明を実施するための形態
本発明組成物は、各成分の相対的活性にもよるが、一般的には、式［Ｉ］で表されるイソオキサゾリン誘導体又はその塩の１重量部に対して、［Ａ群］に示した化合物の一種以上を、好ましくは０．００１〜１００重量部、より好ましくは、０．０１〜５０重量部、特に好ましくは０．０５〜３０重量部含んでいる。
本発明組成物の一つの活性成分は、式［Ｉ］で表される化合物であり、それ自体単独でも優れた除草活性を有する。
特に、イネ、コムギ、オオムギ、トウモロコシ、グレインソルガム、ダイズ、ワタ、テンサイ、芝、果樹等に薬害が少なく、畑地において問題となる種々の雑草、例えばイヌビエ、メヒシバ、エノコログサ、スズメノカタビラ、ジョンソングラス、ノスズメノテッポウ、野生エンバク等のイネ科雑草をはじめ、オオイヌタデ、アオビユ、シロザ、ハコベ、イチビ、アメリカキンゴジカ、アメリカツノクサネム、ブタクサ、アサガオの広葉雑草、ハマスゲ、キハマスゲ、ヒメクグ、カヤツリグサ、コゴメガヤツリ等の多年生および１年生カヤツリグサ科雑草の発芽前から生育期の広い範囲にわたって優れた除草効果を発揮する。
更に、水田に発生するタイヌビエ、タマガヤツリ、コナギ、アゼナ等の１年生雑草及びミズガヤツリ、クログワイ、ホタルイ等の多年生雑草についても発芽前から生育期の広い範囲にわたって低薬量で防除することができる。
本発明組成物に使用することができる、式［Ｉ］で表される化合物の代表例を表１から表１４に示すが、これらに限定されるものではない。
本明細書における表中の次の表記は下記の通りそれぞれ該当する基を表す。
Ｍｅ    ：メチル基                      Ｅｔ      ：エチル基
Ｐｒ    ：ｎ−プロピル基                Ｐｒ−ｉ  ：イソプロピル基
Ｐｒ−ｃ：シクロプロピル基              Ｂｕ      ：ｎ−ブチル基
Ｂｕ−ｉ：ｉｓｏ−ブチル基              Ｂｕ−ｓ  ：ｓｅｃ−ブチル基
Ｂｕ−ｔ：ｔｅｒｔ−ブチル基            Ｂｕ−ｃ  ：シクロブチル基
Ｐｅｎ  ：ｎ−ペンチル基                Ｐｅｎ−ｃ：シクロペンチル基
Ｈｅｘ  ：ｎ−ヘキシル基                Ｈｅｘ−ｃ：シクロヘキシル基
Ｐｈ    ：フェニル基
又、例えば（４−Ｃｌ）Ｐｈの表記は４−クロロフェニル基、３−Ｈｅｘは３−ヘキシル基を表す。
尚、本発明化合物は置換基として水酸基を含む場合、ケト−エノール互変異性体を有する化合物があるが、何れの異性体もその混合物も本発明化合物に含まれる。
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本発明の組成物において、式［Ｉ］で表されるイソオキサゾリン誘導体又はその塩に加えて使用されるもう一つの活性成分である以下のＡ群に示した化合物は、トウモロコシ、小麦などのイネ科作物に、比較的薬害が小さく、イヌビユ、シロザ、イチビなどの広葉雑草およびエノコログサなどのごく一部のイネ科雑草に活性を示す、殺草スペクトラムの狭い薬剤が多い除草剤である。
［Ａ群］
アトラジン、シマジン、シアナジン、イソキサフルトール、フルメツラム、イマゼタピル、イマザピル、ジカンバ、クロピラリド、プロスルフロン、ハロスルフロン・メチル、リムスルフロン、ベンタゾン、カルフェントラゾン・エチル、メトリブジン、チフェンスルフロン・メチル、ニコスルフロン、プリミスルフロン、クロランスラム・メチル、グルホシネート、グリホセート，スルホセート，ペンディメタリン、リニュロン、プロメトリン、ジフルフェニカン、フルミオキサジン、メトラクロール。
本発明の組成物は、広範囲の雑草を選択的に防除する上で、また、不耕起栽培のような新しい栽培方法への適用をする上で効果的な除草組成物を提供するものであり、特に、トウモロコシ畑における主要な雑草、例えばソバカズラ、サナエタデ、スベリヒユ、シロザ、アオゲイトウ、ノハラガラシ、アメリカツノクサネム、エビスグサ、イチビ、アメリカキンゴジカ、アメリカアサガオ、マルバアサガオ、ヨウシュチョウセンアサガオ、イヌホオズキ、オナモミ、ヒマワリ、セイヨウヒルガオ、トウダイグサ、アメリカセンダングサ、ブタクサ等の双子葉植物および、イヌビエ、エノコログサ、アキノエノコログサ、キンノエノコロ、メヒシバ、オヒシバ、セイバンモロコシ、シバムギ、シャッターケーン等の単子葉植物を有効に除草する一方、作物であるトウモロコシやトウモロコシの後作物であるダイズに対して問題となるような薬害を生じない。
本発明の除草性組成物は、式［Ｉ］で表されるイソオキサゾリン誘導体又はその塩の１重量部に対して、Ａ群に示した化合物の一種以上が好ましく０．００１〜１００重量部、より好ましくは０．０１〜５０重量部、特に好ましくは０．０５〜３０重量部含有されることが好適である。Ａ群に示した除草剤が０．００１重量部未満の場合は充分な効果を示さなくなり、逆に１００重量部より大きい場合には充分な作物安全性を示さなくなり好ましくない。
本発明の除草性組成物いおいては、上記Ａ群に示した化合物のなかでも、アトラジン、シアナジン、シマジン、及びプロメトリンからなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましく、または、グリホサート、グルホシネート、リニュロン、及びフルメツラムからなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。上記Ａ群に示した化合物としては、特にシアナジン又はアトラジンが好ましい。
本発明の組成物を除草剤として使用するには他成分を加えず混合した形で使用してもよいが、製剤化に一般的に用いられる担体、界面活性剤、分散剤または補助剤等を配合して、水和剤、粒剤、微粒剤、粉剤、乳剤、水溶剤、懸濁剤、フロアブル等に製剤して使用することもできる。
製剤化に際して用いられる担体としては、例えばタルク、ベントナイト、クレー、カオリン、珪藻土、ホワイトカーボン、バーミキュライト、炭酸カルシウム、消石灰、珪砂、硫安、尿素等の固体担体、イソプロピルアルコール、キシレン、シクロヘキサン、メチルナフタレン等の液体担体等があげられる。
界面活性剤及び分散剤としては、例えばアルキルベンゼンスルホン酸金属塩、アルキルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリオキシエチレングリコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンモノアルキレート等があげられる。補助剤としては、例えばカルボキシメチルセルロース、ポリエチレングリコール、アラビアゴム等があげられる。
本発明組成物は、夫々の有効成分を上述の製剤手法により製剤した後、これらを混合することにより調製することもできる。このようにして製剤化された本発明組成物は、そのままでまたは水等で希釈して植物体に施用される。本発明組成物は、さらに、他の除草剤と混合して用いることにより除草効力の増強を期待でき、さらに殺虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤、肥料、土壌改良剤等と併用することもできる。
本発明組成物は、その有効成分である、式［Ｉ］で表されるイソオキサゾリン誘導体又はその塩と、Ａ群より選ばれる少なくとも１種の化合物との合計量として好ましくは０．５〜９０重量％、好ましくは１〜８０重量％含有する製剤で施用されるのが好適である。
また、本発明組成物の施用量は、式［Ｉ］で表されるイソオキサゾリン誘導体又はその塩と、Ａ群より選ばれる２種以上とを混和してもよく、その場合には、両者の化合物が合計量として好ましくは０．５〜９０重量％、好ましくは１〜８０重量％含有する製剤で施用されるのが好適である。
本発明組成物に使用することができる、式［Ｉ］で表される化合物の製造例は以下の製造例に示す方法により製造することができるが、これらに限定されるものではない。
＜製造例１＞
３−（５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−０００１）の製造
３−メチルスルホニル−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン２．３ｇ（１３．１ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム水和物２．１ｇ（純度７０％、２６．２ミリモル）を加え２時間攪拌した。その後、無水炭酸カリウム１．８ｇ（１３．１ミリモル）、ロンガリット２．０ｇ（１３．１ミリモル）及び４−ブロモメチル−５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール３．６ｇ（１０．５ミリモル）を加え、さらに室温で１５時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、白色結晶（融点８９〜９０℃）の３−（５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン２．７ｇ（収率６５．５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：７．５５−７．５０（５Ｈ，ｍ），４．３３（２Ｈ，ｓ），２．８３（２Ｈ，ｓ），１．４５（６Ｈ，ｓ）
＜製造例２＞
３−（５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−０００２）の製造
３−（５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．４ｇ（１．０ミリモル）のクロロホルム１５ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸０．６３ｇ（純度７０％、２．６ミリモル）を加え、室温で２２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出した結晶をヘキサンで洗浄し、白色結晶（融点１３２〜１３３℃）の３−（５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．４ｇ（収率８３．２％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：７．６０−７．５１（５Ｈ，ｍ），４．７３（２Ｈ，ｓ），３．１４（２Ｈ，ｓ），１．５３（６Ｈ，ｓ）
＜製造例３＞
３−（５−クロロ−１−メチル−３−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルフィニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−０００３）の製造
３−（５−クロロ−１−メチル−３−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．８５ｇ（２．５３ミリモル）のクロロホルム３０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸０．８７ｇ（純度７０％、３．５４ミリモル）を加え、室温で１時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、透明アメ状物質の３−（５−クロロ−１−メチル−３−フェニル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルフィニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．４８ｇ（収率５３．９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ，δ（ｐｐｍ））：７．６３−７．６０（２Ｈ，ｍ），７．４８−７．３７（３Ｈ，ｍ），４．２９（２Ｈ，ｑ），３．９１（３Ｈ，ｓ），３．１２（１Ｈ，ｄ），２．７９（１Ｈ，ｄ），１．４１（３Ｈ，ｓ），１．３５（３Ｈ，ｓ）
＜製造例４＞
５，５−ジメチル−３−（５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−００２１）の製造
５，５−ジメチル−３−メチルスルホニル−２−イソオキサゾリン（化合物番号２−１）１８．７ｇ（１０５．７ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３００ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム水和物９．３ｇ（純度７０％、１１６．３ミリモル）を加え２時間攪拌した。反応系を氷冷し、４−ブロモメチル−５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール３０．３ｇ（９３．８ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２００ｍｌ溶液を加え、さらに０℃で３０分間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、黄色油状物質の５，５−ジメチル−３−（５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン１３．１１ｇ（収率３７．４％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：７．６５−７．３９（５Ｈ，ｍ），４．２４（２Ｈ，ｓ），２．８１（２Ｈ，ｓ），１．４３（６Ｈ，ｓ）
＜製造例５＞
５，５−ジメチル−３−（５−エチルチオ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−００２２）の製造
エタンチオール０．２５ｇ（４．０ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液に、水酸化ナトリウム０．２ｇ（４．０ミリモル）、水１ｍｌを加え、室温で３０分間攪拌した。５，５−ジメチル−３−（５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン０．５ｇ（１．４ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌ溶液を加え、さらに１時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、５，５−ジメチル−３−（５−エチルチオ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン０．６ｇ（収率１００％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：７．６２−７．４７（５Ｈ，ｍ），４．４４（２Ｈ，ｓ），２．８３（２Ｈ，ｓ），２．５０（２Ｈ，ｑ），１．４５（６Ｈ，ｓ），１．０２（３Ｈ，ｔ）
＜製造例６＞
５，５−ジメチル−３−（５−エチルスルホニル−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−０００４）の製造
５，５−ジメチル−３−（５−エチルチオ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン０．６ｇ（１．３ミリモル）のクロロホルム１０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１．７ｇ（純度７０％、６．７ミリモル）を加え、室温で１６時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出した結晶をヘキサンで洗浄し、淡黄色結晶（融点１５８〜１６０℃）の５，５−ジメチル−３−（５−エチルスルホニル−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−２−イソオキサゾリン０．６ｇ（収率９３．０％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：７．５８−７．５４（５Ｈ，ｍ），５．１６（２Ｈ，ｓ），３．１８（２Ｈ，ｓ），３．１５（２Ｈ，ｑ），１．５５（６Ｈ，ｓ），１．２４（３Ｈ，ｔ）
＜製造例７＞
５，５−ジメチル−３−（５−ジメチルアミノ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−００２３）の製造
５，５−ジメチル−３−（５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン０．５ｇ（１．３ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液に、ジメチルアミン４０％水溶液０．８ｇ（６．７ミリモル）を加え、封管で１００℃で９時間攪拌した。ジメチルアミン４０％水溶液３．０ｇ（２６．６ミリモル）を加え、さらに９時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、５，５−ジメチル−３−（５−ジメチルアミノ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン０．４ｇ（収率８０．６％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：７．５８−７．３８（５Ｈ，ｍ），４．３５（２Ｈ，ｓ），２．８２（２Ｈ，ｓ），２．７７（６Ｈ，ｓ），１．４５（６Ｈ，ｓ）
＜製造例８＞
５，５−ジメチル−３−（５−ジメチルアミノ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−０００５）の製造
５，５−ジメチル−３−（５−ジメチルアミノ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン０．４ｇ（１．１ミリモル）のクロロホルム１０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸０．７ｇ（純度７０％、２．７ミリモル）を加え、室温で２０時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出した結晶をヘキサンで洗浄し、白色粉末（融点１５０〜１５１℃）の５，５−ジメチル−３−（５−ジメチルアミノ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−２−イソオキサゾリン０．２ｇ（収率５２．０％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：７．６１−７．３８（５Ｈ，ｍ），４．７５（２Ｈ，ｓ），３．１３（２Ｈ，ｓ），２．７６（６Ｈ，ｓ），１．５３（６Ｈ，ｓ）
＜製造例９＞
３−（１−ｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−０００６）の製造
５，５−ジメチル−３−メチルスルホニル−２−イソオキサゾリン２４．１ｇ（１３６．０ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２００ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム２１．８ｇ（純度７０％、２７２．５ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、無水炭酸カリウム１８．８ｇ（１３６．２ミリモル），ロンガリット２１．０ｇ（１３６．２ミリモル）を加え、更に２時間攪拌後、４−ブロモメチル−１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール４０ｇ（１２５ミリモル）を氷冷下加えた。その後、室温で２時間攪拌し、反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、淡桃色結晶（融点７９．０〜８１．０℃）の３−（１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン２３．０ｇ（収率５７．１％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．２４（２Ｈ，ｓ），２．８０（２Ｈ，ｓ），１．７１（９Ｈ，ｓ），１．４３（６Ｈ，ｓ）
＜製造例１０＞
３−（５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−０００７）の製造
３−（１−ｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン１９．８ｇ（５３．４ミリモル）を２５％臭化水素−酢酸溶液１７０ｍｌに加え、４０〜５０℃で，２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、淡黄色結晶（融点１２０．０〜１２２．０℃）の３−（５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン１２．０ｇ（収率６０．６％）を得た。（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．２６（２Ｈ，ｓ），２．８１（２Ｈ，ｓ），１．４４（６Ｈ，ｓ）
＜製造例１１＞
３−（５−クロロ−１−ジフルオロメチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−０００８）及び３−（３−クロロ−１−ジフルオロメチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−０００９）の製造
３−（５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン２．３ｇ（７．３ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌ溶液に、無水炭酸カリウム３．１ｇ（２２．５ミリモル）を加え、クロロジフルオロメタンを反応溶液に吹き込み、１３０〜１４０℃で３時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、淡黄色結晶（融点４１．０〜４２．０℃）の３−（５−クロロ−１−ジフルオロメチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．６９ｇ（収率２５．８％）および白色粉末（融点８９．０〜９０．０℃）の３−（３−クロロ−１−ジフルオロメチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．５４ｇ（収率２０．２％）を得た。
３−（５−クロロ−１−ジフルオロメチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：７．２２（１Ｈ，ｔ），４．２５（２Ｈ，ｓ），２．８０（２Ｈ，ｓ），１．４４（６Ｈ，ｓ）
３−（３−クロロ−１−ジフルオロメチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））７．１９（１Ｈ，ｔ），４．２８（２Ｈ，ｓ），２．８０（２Ｈ，ｓ），１．４４（６Ｈ，ｓ）
＜製造例１２＞
３−（５−クロロ−１−ジフルオロメチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−００１０）の製造
３−（５−クロロ−１−ジフルオロメチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．６９ｇ（１．９ミリモル）のクロロホルム２０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１．４ｇ（純度７０％，８．１ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた固体をｎ−ヘキサンで洗浄し，白色粉末（融点１２６．０〜１２７．０℃）の３−（５−クロロ−１−ジフルオロメチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．４ｇ（収率５３．３％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：７．２６（１Ｈ，ｔ），４．６８（２Ｈ，ｓ），３．１１（２Ｈ，ｓ），１．５３（６Ｈ，ｓ）
＜製造例１３＞
３−（３−クロロ−１−ジフルオロメチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−００１１）の製造
３−（３−クロロ−１−ジフルオロメチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．５４ｇ（１．５ミリモル）のクロロホルム２０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１．１ｇ（純度７０％，６．４ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた固体をｎ−ヘキサンで洗浄し，白色粉末（融点１３６．０〜１３７．０℃）の３−（３−クロロ−１−ジフルオロメチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．４７ｇ（収率７９．７％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：７．２３（１Ｈ，ｔ），４．７１（２Ｈ，ｓ），３．１１（２Ｈ，ｓ），１．５３（６Ｈ，ｓ）
＜製造例１４＞
５，５−ジメチル−３−（３−メトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−００２４）の製造
５，５−ジメチル−３−エチルスルホニル−２−イソオキサゾリン３．３ｇ（１７．３ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム水和物３．１ｇ（純度７０％、２２．０ミリモル）を加え２時間攪拌した。その後、無水炭酸カリウム３．１ｇ（２２．０ミリモル）、ロンガリット２．７ｇ（１７．５ミリモル）及び４−クロロメチル−３−メトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール４．０ｇ（１７．５ミリモル）を加え、さらに室温で２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、５，５−ジメチル−３−（３−メトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン２．８ｇ（収率５２．０％）を得た。
＜製造例１５＞
５，５−ジメチル−３−（３−ヒドロキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−００２５）の製造
２５％臭化水素酸酢酸溶液２０ｍｌに５，５−ジメチル−３−（３−メトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン３．３ｇ（１０．６ミリモル）を加え、５０℃で３時間攪拌した。反応終了後、反応溶液減圧下溶媒を留去し、得られた残渣を水中に注いだ。析出した結晶を濾取し水洗後乾燥し、目的とする５，５−ジメチル−３−（３−ヒドロキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン３．１ｇ（収率９６．０％）を得た。
＜製造例１６＞
５，５−ジメチル−３−（３−エトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−００２６）の製造
５，５−ジメチル−３−（３−ヒドロキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン０．３０ｇ（１．０ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液に無水炭酸カリウム０．２０ｇ（１．３ミリモル）及びヨウ化エチル０．２０ｇ（１．５ミリモル）を加え、５０℃で３時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、目的とする５，５−ジメチル−３−（３−エトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン０．３０ｇ（収率９２．０％）を得た。
＜製造例１７＞
５，５−ジメチル−３−（３−エトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−００１２）の製造
５，５−ジメチル−３−（３−エトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン０．３０ｇ（０．９２ミリモル）のクロロホルム１０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸０．６８ｇ（純度７０％、２．７６ミリモル）を加え、室温で５時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出した結晶をヘキサンで洗浄し、白色結晶（融点１２４〜１２５℃）の５，５−ジメチル−３−（３−エトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−２−イソオキサゾリン０．２４ｇ（収率７３．０％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．５０（２Ｈ，ｓ），４．２７（２Ｈ，ｑ），３．８６（３Ｈ，ｓ），３．０４（２Ｈ，ｓ），１．４９（６Ｈ，ｓ），１．３９（３Ｈ，ｔ）
＜製造例１８＞
５，５−ジメチル−３−（５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−００２７）の製造
５，５−ジメチル−３−メチルスルホニル−２−イソオキサゾリン２１．３ｇ（１２０．３ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２００ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム１９．３ｇ（純度７０％、３４４．６ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、無水炭酸カリウム１６．７ｇ（１２１．０ミリモル），ロンガリット１８．６ｇ（１２０．７ミリモル）を加え、更に２時間攪拌後、４−ブロモメチル−５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール３１．４ｇ（１２０．３ミリモル）を氷冷下加えた。その後、室温で２時間攪拌し、反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、黄色油状物の５，５−ジメチル−３−（５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン２９．０ｇ（収率９０．３％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．２４（２Ｈ，ｓ），３．９０（３Ｈ，ｓ），２．７８（２Ｈ，ｓ），１．４２（６Ｈ，ｓ）
＜製造例１９＞
５，５−ジメチル−３−（５−メトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−００２８）の製造
５，５−ジメチル−３−（５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン０．５ｇ（１．６ミリモル）のメタノール２０ｍｌ溶液に、ナトリウムメトキシド０．７７ｇ（４．０ミリモル，２８％メタノール溶液）を加え，還流下，４時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、黄色油状物の５，５−ジメチル−３−（５−メトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン０．５ｇ（収率９６．７％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．２６（２Ｈ，ｓ），４．０７（３Ｈ，ｓ），３．７２（３Ｈ，ｓ），２．８０（２Ｈ，ｓ），１．４３（６Ｈ，ｓ）
＜製造例２０＞
５，５−ジメチル−３−（５−メトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）２−イソオキサゾリン（化合物番号３−００１３）の製造
５，５−ジメチル−３−（５−メトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン０．５ｇ（１．５ミリモル）のクロロホルム２０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１．３ｇ（純度７０％，７．５ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた固体をｎ−ヘキサンで洗浄し，白色粉末（融点１１３．０〜１１４．０℃）の５，５−ジメチル−３−（５−メトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−２−イソオキサゾリン０．３１ｇ（収率５８．２％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．６０（２Ｈ，ｓ），４．１１（３Ｈ，ｓ），３．７９（３Ｈ，ｓ），３．１０（２Ｈ，ｓ），１．５１（６Ｈ，ｓ）
＜製造例２１＞
３−（５−（２−クロロフェノキシ）−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−００２９）の製造
２−クロロフェノール０．４４ｇ（３．４ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌ溶液に、水素化ナトリウム０．２ｇ（８．３ミリモル，純度６０％）を氷冷下で加え、１時間攪拌した後、更に５，５−ジメチル−３−（５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン０．７ｇ（２．２ミリモル）を加え、１２０〜１３０℃で５時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、黄色油状物の３−（５−（２−クロロフェノキシ）−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．６３ｇ（収率６６．７％）を得た。
＜製造例２２＞
３−（５−（２−クロロフェノキシ）−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−００１４）の製造
３−（５−（２−クロロフェノキシ）−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．６３ｇ（１．５ミリモル）のクロロホルム２０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１．０ｇ（純度７０％，５．８ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた固体をｎ−ヘキサンで洗浄し，白色粉末（融点６７．０〜７０．０℃）の３−（５−（２−クロロフェノキシ）−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．３１ｇ（収率４５．７％）を得た。（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：７．５０−６．９１（４Ｈ，ｍ），４．４５（２Ｈ，ｓ），３．７１（３Ｈ，ｓ），３．０３（２Ｈ，ｓ），１．４７（６Ｈ，ｓ）
＜製造例２３＞
３−（５−シクロペンチルオキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−００３０）の製造
トリフェニルホスフィン０．４３ｇ（１．６ミリモル）のベンゼン１０ｍｌ溶液にシクロペンタノール０．１４ｇ（１．６ミリモル），５，５−ジメチル−３−（５−ヒドロキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン０．５ｇ（１．６ミリモル），及びアゾジカルボン酸ジエチルエステル０．７ｇ（４０％トルエン溶液，１．６ミリモル）を加え、室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、無色透明油状物の３−（５−シクロペンチルオキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．５２ｇ（収率８５．２％）を得た。
＜製造例２４＞
３−（５−シクロペンチルオキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−００１５）の製造
３−（５−シクロペンチルオキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．５２ｇ（１．４ミリモル）のクロロホルム２０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸０．８５ｇ（純度７０％，４．９ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた固体をｎ−ヘキサンで洗浄し，白色粉末（融点１１３．０〜１１４．０℃）の３−（５−シクロペンチルオキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．２ｇ（収率３５．５％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：５．０３（１Ｈ，ｂｒ），４．６０（２Ｈ，ｓ），３．７３（３Ｈ，ｓ），３．０５（２Ｈ，ｓ），１．８８−１．７０（８Ｈ，ｍ），１．５０（６Ｈ，ｓ）
＜製造例２５＞
３−（５−シアノ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−００３１）の製造
５，５−ジメチル−３−（５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン０．５ｇ（１．６ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌ溶液にシアン化ナトリウム０．２ｇ（４．０ミリモル）を加え、４０℃で１時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、黄色油状物の３−（５−シアノ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリンの粗化合物０．９ｇを得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．３０（２Ｈ，ｓ），４．０８（３Ｈ，ｓ），２．８１（２Ｈ，ｓ），１．４３（６Ｈ，ｓ）
＜製造例２６＞
３−（５−シアノ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−００１６）の製造
３−（５−シアノ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．９ｇ（粗化合物）のクロロホルム５０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸２．１ｇ（純度７０％，１２．２ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた固体をｎ−ヘキサンで洗浄し，白色粉末（融点１０５．０〜１０８．０℃）の３−（５−シアノ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．４３ｇ（収率７６．４％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．７３（２Ｈ，ｓ），４．１６（３Ｈ，ｓ），３．１４（２Ｈ，ｓ），１．５３（６Ｈ，ｓ）
＜製造例２７＞
３−（３，５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−００３２）の製造
５，５−ジメチル−３−エチルスルホニル−２−イソオキサゾリン０．７ｇ（３．７ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム０．６ｇ（純度７０％、１０．７ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、無水炭酸カリウム０．５１ｇ（３．７ミリモル），ロンガリット０．５６ｇ（３．６ミリモル）を加え、更に２時間攪拌後、４−ブロモメチル−３，５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール０．９ｇ（３．５ミリモル）を氷冷下加えた。その後、室温で２時間攪拌し、反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、無色透明油状物の３−（３，５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．８ｇ（収率７０．８％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．１４（２Ｈ，ｓ），４．１４（２Ｈ，ｑ），２．８１（２Ｈ，ｓ），１．４３（６Ｈ，ｓ），１．４２（３Ｈ，ｔ）
＜製造例２８＞
３−（３，５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−００１７）の製造
３−（３，５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．８ｇ（２．６ミリモル）のクロロホルム２０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸２．０ｇ（純度７０％，１１．６ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた固体をｎ−ヘキサンで洗浄し，白色粉末（融点１０５．０〜１０７．０℃）の３−（３，５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．４１ｇ（収率４６．６％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．４８（２Ｈ，ｓ），４．１９（２Ｈ，ｑ），３．０５（２Ｈ，ｓ），１．５１（６Ｈ，ｓ），１．４５（３Ｈ，ｔ）
＜製造例２９＞
３−（５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−００２０）の製造
５，５−ジメチル−３−エチルスルホニル−２−イソオキサゾリン１．９ｇ（１０．０ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム水和物１．２ｇ（純度７０％、１５．０ミリモル）を加え２時間攪拌した。その後、無水炭酸カリウム２．１ｇ（１５．０ミリモル）、ロンガリット２．３ｇ（１５．０ミリモル）及び４−ブロモメチル−５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール２．６ｇ（１０．０ミリモル）を加え、さらに室温で１５時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、無色粘稠性液体（▲ｎＤ２０▼＝１．５１８３）の３−（５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン２．１ｇ（収率６８．０％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：６．７０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５４．２Ｈｚ），４．２４（２Ｈ，ｓ），３．８６（３Ｈ，ｓ），２．８０（２Ｈ，ｓ），１．４２（６Ｈ，ｓ）
＜製造例３０＞
３−（５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−００１８）の製造
３−（５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン１．８ｇ（５．８ミリモル）のクロロホルム１５ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸３．６ｇ（純度７０％、１４．５ミリモル）を加え、室温で２２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出した結晶をヘキサンで洗浄し、白色結晶（融点７８〜７９℃）の３−（５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン１．７ｇ（収率８５．９％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））６．８０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５４．８Ｈｚ），４．６０（２Ｈ，ｓ），３．９１（３Ｈ，ｓ），３．０８（２Ｈ，ｓ），１．５１（６Ｈ，ｓ）
＜製造例３１＞
５，５−ジメチル−３−（５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン（化合物番号４−０００３）の製造
５，５−ジメチル−３−メチルスルホニル−２−イソオキサゾリン０．４ｇ（２．３ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム水和物０．４ｇ（純度７０％、４．６ミリモル）を加え２時間攪拌した。その後、炭酸カリウム０．３ｇ（２．３ミリモル）、ロンガリット０．４ｇ（２．３ミリモル）及び４−ブロモメチル−５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール０．５ｇ（１．８ミリモル）を加え、さらに室温で１４時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、５，５−ジメチル−３−（５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン０．４ｇ（収率７０．０％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．１１（２Ｈ，ｓ），２．７７（２Ｈ，ｓ），２．５４（３Ｈ，ｓ），１．４２（６Ｈ，ｓ）
＜製造例３２＞
５，５−ジメチル−３−（５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール−４−イルメチルスルホニル）−２−イソオキサゾリン（化合物番号４−０００１）の製造
５，５−ジメチル−３−（５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール−４−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン０．４ｇ（１．３ミリモル）のクロロホルム１０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸０．８ｇ（純度７０％、３．２ミリモル）を加え、室温で４時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、析出した結晶をヘキサンで洗浄し、白色結晶（融点１３５〜１３６℃）の５，５−ジメチル−３−（５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール−４−イルメチルスルホニル）−２−イソオキサゾリン０．４ｇ（収率９５．０％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．５４（２Ｈ，ｓ），３．１１（２Ｈ，ｓ），２．６１（３Ｈ，ｓ），１．５２（６Ｈ，ｓ）
＜製造例３３＞
［（５−クロロ−３−メチル−イソチアゾール−４−イル）−メチルチオ］−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（化合物番号４−０００４）の製造
５，５−ジメチル−３−メチルスルホニル−２−イソオキサゾリン０．８９ｇ（５．００ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液に、室温で水硫化ナトリウム０．８２ｇ（純度７０％，１０．００ミリモル）を加え２時間攪拌した。その後反応溶液中に無水炭酸カリウム０．７０ｇ（５．００ミリモル）、ロンガリット０．７８ｇ（５．００ミリモル）及び５−クロロ−４−クロロメチル−３−メチルイソチアゾール０．９１ｇ（５．００ミリモル）を加え、さらに室温で一夜攪拌した。反応終了確認後、水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、［（５−クロロ−３−メチル−イソチアゾール−４−イル）−メチルチオ］−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン１．３８ｇ（収率定量的）を得た。
＜製造例３４＞
［（５−クロロ−３−メチル−イソチアゾール−４−イル）−メチルスルホニル］−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（化合物番号４−０００２）の製造
［（５−クロロ−３−メチル−イソチアゾール−４−イル）−メチルチオ］−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン１．３８ｇ（５．００ミリモル）のクロロホルム２０ｍｌ溶液に、ｍ−クロロ過安息香酸２．９６ｇ（純度７０％，１２．００ミリモル）を氷冷下で加え、１時間攪拌し、さらに室温で一夜攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、淡黄色粉末（融点１１３〜１１４℃）の［（５−クロロ−３−メチル−イソチアゾール−４−イル）−メチルスルホニル］−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．６５ｇ（収率４７．０％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））８．８９（１Ｈ，ｓ），４．６７（２Ｈ，ｓ），３．０５（２Ｈ，ｓ），２．５９（３Ｈ，ｓ），１．５１（６Ｈ，ｓ）
＜製造例３５＞
５，５−ジメチル−３−［２，５−ジメチル−４−（１−メトキシイミノエチル）−チオフェン−３−イルメチルチオ］−２−イソオキサゾリン（化合物番号２−０００２）の製造
３−（４−アセチル−２，５−ジメチルチオフェン−３−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン１．０ｇ（３．４ミリモル）のエタノール５０ｍｌ溶液にＯ−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩０．５７ｇ（６．８ミリモル）と酢酸ナトリウム０．５６ｇ（６．８ミリモル）を加え、還流下，５時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、黄色油状物の５，５−ジメチル−３−［２，５−ジメチル−４−（１−メトキシイミノエチル）−チオフェン−３−イルメチルチオ］−２−イソオキサゾリン０．４ｇ（３６．４％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．２１（２Ｈ，ｓ），３．９５（３Ｈ，ｓ），２．７６（２Ｈ，ｓ），２．３８（３Ｈ，ｓ），２．３４（３Ｈ，ｓ），２．１３（３Ｈ，ｓ），１．４２（６Ｈ，ｓ）
＜製造例３６＞
５，５−ジメチル−３−［２，５−ジメチル−４−（１−メトキシイミノエチル）−チオフェン−３−イルメチルスルホニル］−２−イソオキサゾリン（化合物番号２−０００１）の製造
５，５−ジメチル−３−［２，５−ジメチル−４−（１−メトキシイミノエチル）−チオフェン−３−イルメチルチオ］−２−イソオキサゾリン０．４ｇ（１．２ミリモル）のクロロホルム３０ｍｌ溶液に、ｍ−クロロ過安息香酸０．６１ｇ（純度７０％，３．５ミリモル）を氷冷下で加え１時間攪拌し、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、白色結晶（融点９５．０〜９６．０℃）の５，５−ジメチル−３−（４−（１−メトキシイミノエチル−２，５−ジメチル−チオフェン−３−イルメチルスルホニル）−２−イソオキサゾリン０．３５ｇ（８０％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．７９（２Ｈ，ｓ），３．９５（３Ｈ，ｓ），２．９３（２Ｈ，ｓ），２．４２（３Ｈ，ｓ），２．３７（３Ｈ，ｓ），２．１７（３Ｈ，ｓ），１．４７（６Ｈ，ｓ）
＜製造例３７＞
５，５−ジメチル−３−（４−トリフルオロメチル−ピリジン−３−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン（化合物番号７−０００３）の製造
５，５−ジメチル−３−エチルスルホニル−２−イソオキサゾリン０．３ｇ（１．６ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌ溶液に、水硫化ナトリウム０．２６ｇ（純度７０％、４．６ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、無水炭酸カリウム０．２２ｇ（１．６ミリモル），ロンガリット０．２５ｇ（１．６ミリモル）を加え、更に２時間攪拌後、３−ブロモメチル−４−トリフルオロメチル−ピリジン０．３ｇ（１．３ミリモル）を氷冷下加えた。その後、室温で２時間攪拌し、反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、黄色油状物の５，５−ジメチル−３−（４−トリフルオロメチル−ピリジン−３−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン０．４５ｇ（収率９８．９％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：８．９８（１Ｈ，ｓ），８．７０（１Ｈ，ｄ），７．５１（１Ｈ，ｄ），４．４７（２Ｈ，ｓ），２．７９（２Ｈ，ｓ），１．４３（６Ｈ，ｓ）
＜製造例３８＞
５，５−ジメチル−３−（４−トリフルオロメチル−ピリジン−３−イルメチルスルホニル）−２−イソオキサゾリン（化合物番号７−０００１）および
５，５−ジメチル−３−（４−トリフルオロメチル−ピリジン−Ｎ−オキシド−３−イルメチルスルホニル）−２−イソオキサゾリン（化合物番号７−０００２）の製造
５，５−ジメチル−３−（４−トリフルオロメチル−ピリジン−３−イルメチルチオ）−２−イソオキサゾリン０．４５ｇ（１．６ミリモル）のクロロホルム２０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸０．７７ｇ（純度７０％，４．５ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、淡黄色結晶（融点７７．０〜８０．０℃）の５，５−ジメチル−３−（４−トリフルオロメチル−ピリジン−３−イルメチルスルホニル）−２−イソオキサゾリン０．０６ｇ（収率１２．０％）および白色結晶（融点１１４．０〜１１６．０℃）の５，５−ジメチル−３−（４−トリフルオロメチル−ピリジン−Ｎ−オキシド−３−イルメチルスルホニル）−２−イソオキサゾリン０．１２ｇ（収率２３．１％）を得た。
５，５−ジメチル−３−（４−トリフルオロメチル−ピリジン−３−イルメチルスルホニル）−２−イソオキサゾリン
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：８．９８（１Ｈ，ｓ），８．８４（１Ｈ，ｄ），７．６４（１Ｈ，ｄ），４．９２（２Ｈ，ｓ），３．０９（２Ｈ，ｓ），１．５２（６Ｈ，ｓ）
５，５−ジメチル−３−（４−トリフルオロメチル−ピリジン−Ｎ−オキシド−３−イルメチルスルホニル）−２−イソオキサゾリン
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：８．５０（１Ｈ，ｓ），８．２５（１Ｈ，ｄ），７．５９（１Ｈ，ｄ），４．８１（２Ｈ，ｓ），３．１２（２Ｈ，ｓ），１．５３（６Ｈ，ｓ）
＜製造例３９＞
５，５−ジメチル−［（４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）−メチルチオ］−２−イソオキサゾリン（化合物番号８−０００２）の製造
５，５−ジメチル−３−メチルスルホニル−２−イソオキサゾリン０．３５ｇ（２．００ミリモル）のジメチルホルムアミド１０ｍｌ溶液に、室温で水硫化ナトリウム０．３２ｇ（純度７０％，４．００ミリモル）を加え２時間攪拌した。その後反応溶液中に無水炭酸カリウム０．２８ｇ（２．００ミリモル）、ロンガリット０．３１ｇ（２．００ミリモル）及び５−クロロメチル−４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン０．４５ｇ（２．００ミリモル）を加え、さらに室温で２時間攪拌した。反応終了確認後、水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、５，５−ジメチル−［（４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）−メチルチオ］−２−イソオキサゾリン０．５５ｇ（収率８５．９％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：８．８１（１Ｈ，ｓ），４．４４（２Ｈ，ｄ），４．１２（３Ｈ，ｓ），２．８１（２Ｈ，ｓ），１．４５（６Ｈ，ｓ）
＜製造例４０＞
５，５−ジメチル−［（４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）−メチルスルホニル］−２−イソオキサゾリン（化合物番号８−０００１）の製造
５，５−ジメチル−［（４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）−メチルチオ］−２−イソオキサゾリン０．５５ｇ（１．７１ミリモル）のクロロホルム２０ｍｌ溶液に、氷冷下でｍ−クロロ過安息香酸１．０５ｇ（純度７０％，４．２８ミリモル）を加え１時間攪拌し、さらに室温で４時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、白色羽毛状結晶（融点１７５〜１７６℃）の５，５−ジメチル−［（４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）−メチルスルホニル］−２−イソオキサゾリン０．４５ｇ（収率７５．０％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：８．８９（１Ｈ，ｓ），５．００（２Ｈ，ｄ），４．１１（３Ｈ，ｓ），３．１１（２Ｈ，ｓ），１．５３（６Ｈ，ｓ）
＜製造例４１＞
３−（５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン−３−イルチオメチル）−２−トリフルオロメチル−６，７ジヒドロ−５Ｈ−ピラゾロ［５，１−ｂ］［１，３］オキサジン（化合物番号３−００３３）の製造
水素化ナトリウム０．１１ｇ（２．８ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１５ｍｌ懸濁液に３−［５−クロロ−１−（３−ヒドロキシプロピル）−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル−メチルチオ］−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾール０．８２ｇ（２．３ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍｌ溶液を室温で滴下した。滴下終了後、反応溶液を室温で３０分攪拌し、その後１００℃に加熱し１時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層をクエン酸水溶液、食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、３−（５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン−３−イルチオメチル）−２−トリフルオロメチル−６，７ジヒドロ−５Ｈ−ピラゾロ［５，１−ｂ］［１，３］オキサジン０．７７ｇ（収率１００％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．３７（２Ｈ，ｔ），４．１９（２Ｈ，ｔ），４．１５（２Ｈ，ｓ），２．８０（２Ｈ，ｓ），２．３１（２Ｈ，ｍ），１．４２（６Ｈ，ｓ）
＜製造例４２＞
３−（５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン−３−イルスルホニルメチル）−２−トリフルオロメチル−６，７−ジヒドロ−５Ｈ−ピラゾロ［５，１−ｂ］［１，３］オキサジン（化合物番号３−００１９）の製造
３−（６，７−ジヒドロ−３−トリフルオロメチル−５Ｈ−ピラゾロ［５，１−ｂ］［１，３］オキサジン−４−イル−メチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン０．７７ｇ（２．３ミリモル）のクロロホルム溶液２０ｍｌに、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１．２５ｇ（純度７０％，５．１ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、白色粉末（融点１５１．０−１５２．０℃）の３−（５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン−３−イルスルホニルメチル）−２−トリフルオロメチル−６，７−ジヒドロ−５Ｈ−ピラゾロ［５，１−ｂ］［１，３］オキサジン０．３６ｇ（収率４３％）を得た。（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．４７（２Ｈ，ｓ），４．４０（２Ｈ，ｔ），４．２３（２Ｈ，ｔ），３．０９（２Ｈ，ｓ），２．３４（２Ｈ，ｍ），１．５０（６Ｈ，ｓ）
＜製造例４３＞
３−（５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−０１８６）の製造
５，５−ジメチル−３−エタンスルホニル−２−イソオキサゾリン６．８４ｇ（３５．８ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２００ｍｌ溶液に、室温にて水硫化ナトリウム水和物５．５９ｇ（純度７０％、６９．８ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、無水炭酸カリウム４．９４ｇ（３５．８ミリモル）及びロンガリット５．５１ｇ（３５．８ミリモル）を加え、更に４−ブロモメチル−５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール９．４６ｇ（３４．１ミリモル）を加えた。その後、室温で一夜攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、３−（５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン８．９７ｇ（収率：８０．３％）を得た。
＜製造例４４＞
３−（５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イルメタンスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン（化合物番号３−００３９）の製造
３−（５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン８．９７ｇ（２７．４ミリモル）のクロロホルム３００ｍｌ溶液に、氷冷下にてｍ−クロロ過安息香酸１６．８７ｇ（純度７０％，６８．４ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、室温で一夜攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、得られた固体をｎ−ヘキサンで洗浄し，白色粉末（融点１１５．０〜１１６．０℃）の３−（５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチルピラゾール−４−イルメタンスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン９．３６ｇ（収率９５．１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．６３（２Ｈ，ｓ），３．９５（３Ｈ，ｓ），３．１０（２Ｈ，ｓ），１．５２（６Ｈ，ｓ）
＜製造例４５＞
３−（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリンの製造（化合物番号３−０１８７）
３−（５−ヒドロキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン９０．３ｇ（０．２９モル）のテトラヒドロフラン１０００ｍｌ溶液に、室温にて粉末状水酸化カリウム４９．４ｇ（０．８８モル）及びテトラｎ−ブチルアンモニウムブロミド０．９４ｇ（２．９ミリモル）を加えた。さらに系内の温度が２０℃以下となるように冷却しながら、反応系内が飽和となるように過剰量のクロロジフルオロメタンを導入した。その後室温にて１７時間撹拌した。反応終了確認後、反応溶液を氷水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し３−（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン６６．６ｇ（純度：８５％、収率：５４．０％）を得た。
＜製造例４６＞
３−（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメタンスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリンの製造（化合物番号３−０１８８）
３−（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン５６．５ｇ（０．１６モル）のクロロホルム１０００ｍｌ溶液に、氷冷下にてｍ−クロロ過安息香酸１５７．６ｇ（純度：７０％、０．６４モル）を加えた。さらに室温にて４時間撹拌した。反応終了確認後、反応液の不溶物を濾別した。得られた濾液を氷水に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を１０％水酸化ナトリウム水溶液、水、亜硫酸水素ナトリウム溶液、飽和食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をｎ−ヘキサンで洗浄し白色結晶（融点：１２９．０〜１３０．０℃）の３−（５−ジフルオロメトキシ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメタンスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン５２．７ｇ（収率：８６．０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：６．８３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７１．９Ｈｚ），４．６０（２Ｈ，ｓ），３．８８（３Ｈ，ｓ），３．１１（２Ｈ，ｓ），１．５２（６Ｈ，ｓ）
＜製造例４７＞
３−（５−ジフルオロメトキシ−１−エチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリンの製造（化合物番号３−０１８９）
３−（１−エチル−５−ヒドロキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン３４．７ｇ（１０７．３ミリモル）のジクロロメタン１００ｍｌ溶液に、粉末状水酸化カリウム３０．１ｇ（５３６．６ミリモル）及びテトラｎ−ブチルアンモニウムブロミド０．５ｇを加えた。さらに反応系内が飽和となるように過剰量のクロロジフルオロメタンを導入した。その後室温にて３時間撹拌した。反応終了確認後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し３−（５−ジフルオロメトキシ−１−エチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン２６．３ｇ（収率：６５．５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：６．７１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７２．１Ｈｚ），４．１９（２Ｈ，ｓ），４．１３（２Ｈ，ｑ），２．７８（２Ｈ，ｓ），１．４５（３Ｈ，ｔ），１．４１（６Ｈ，ｓ）
＜製造例４８＞
３−（５−ジフルオロメトキシ−１−エチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメタンスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリンの製造（化合物番号３−０１９０）
３−（５−ジフルオロメトキシ−１−エチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメチルチオ）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン１８．５ｇ（４９．６ミリモル）のクロロホルム２００ｍｌ溶液に、氷冷下にてｍ−クロロ過安息香酸３０．５ｇ（純度：７０％、１２３．９ミリモル）を加えた。その後室温にて一夜撹拌した。反応終了確認後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をｎ−ヘキサンで洗浄し白色粉末（融点：９８〜１００℃）の３−（５−ジフルオロメトキシ−１−エチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イルメタンスルホニル）−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン１９．３ｇ（収率：９６．０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：６．８３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７２．０Ｈｚ），４．６０（２Ｈ，ｓ），４．１９（２Ｈ，ｑ），３．１１（２Ｈ，ｓ），１．５２（６Ｈ，ｓ），１．４９（３Ｈ，ｔ）
（中間体の製造例）
＜参考例１＞
３−クロロ−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリンの製造
グリオキシル酸アルドオキシム１８２．７ｇ（２．０５モル）の１，２−ジメトキシエタン２１溶液に、６５〜７０℃でＮ−クロロこはく酸イミド５３４．０ｇ（４．０モル）を徐々に加えた後、１時間加熱還流した。氷冷下、炭酸水素カリウム１４４０．０ｇ（１４．４モル）及び水１０ｍｌを加えた後、２−メチルプロペン３６０．０ｇ（６．４モル）を反応溶液に加え、室温で２４時間攪拌した。反応溶液を水中に注ぎジイソプロピルエーテルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、黄色粘調性液体の３−クロロ−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン１０７．７ｇ（収率４０．０％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：２．９３（２Ｈ，ｓ）、１．４７（６Ｈ，ｓ）
＜参考例２＞
３−クロロ−５−エチル−５−メチル−２−イソオキサゾリンの製造
グリオキシル酸アルドオキシム２０．６ｇ（２３１．７ミリモル）の１，２−ジメトキシエタン５００ｍｌ溶液に、６０℃でＮ−クロロこはく酸イミド６１．９ｇ（４６３．４ミリモル）を徐々に加えた。加え終わった後、１０分間加熱還流した。次に、氷冷下、２−メチル−１−ブテン５０ｍｌ（４６３．４ミリモル）、炭酸水素カリウム９８．９ｇ（１６２２ミリモル）及び水１０ｍｌを加え１２時間攪拌した。反応溶液を水中に注ぎｎ−ヘキサンで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、淡黄色粘調性液体の３−クロロ−５−エチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン１３．９ｇ（収率４０．６％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：２．９１（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．０，Δν＝４６．１Ｈｚ），１．７３（２Ｈ，ｑ）、１．４２（３Ｈ，ｓ）、０．９６（３Ｈ，ｔ）
＜参考例３＞
３−ベンジルチオ−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリンの製造
ベンジルメルカプタン２．８ｇ（２２．５ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌ溶液に、窒素気流下、無水炭酸カリウム３．２ｇ（２３．２ミリモル）及び３−クロロ−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン３．０ｇ（２２．５ミリモル）を加え１００℃で２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、黄色油状物質（屈折率▲ｎＤ２０▼＝１．５５２１）の３−ベンジルチオ−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン３．１ｇ（収率６２．０％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：７．２４−７．３９（５Ｈ，ｍ）、４．２６（２Ｈ，ｓ）、２．７７（２Ｈ，ｓ）、１．４０（６Ｈ，ｓ）
＜参考例４＞
３−（２，６−ジフルオロベンジルスルフィニル）−５−エチル−５−メチル−２−イソオキサゾリンの製造
３−（２，６−ジフルオロベンジルチオ）−５−エチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン４．１ｇ（１５．０ミリモル）のクロロホルム５０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸４．６ｇ（純度７０％、１８．８ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、白色粉末（融点３０℃以下）の３−（２，６−ジフルオロベンジルスルフィニル）−５−エチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン１．５ｇ（収率３４．８％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：７．３９−７．２８（１Ｈ，ｍ）、７．０３−６．９４（２Ｈ，ｍ）、４．３８（２Ｈ，ｓ）、３．０４（１Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．２，Δν＝８５．７Ｈｚ）＋３．１２（１Ｈ，ｓ）、１．７５（２Ｈ，ｍ）、１．４４（３Ｈ，ｓ）＋１．４１（３Ｈ，ｓ）、０．９７（３Ｈ，ｍ）
＜参考例５＞
３−（２，６−ジフルオロベンジルスルホニル）−５−エチル−５−メチル−２−イソオキサゾリンの製造
３−（２，６−ジフルオロベンジルスルフィニル）−５−エチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン０．８ｇ（２．８ミリモル）のクロロホルム５０ｍｌ溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１．０ｇ（純度７０％、４．１ミリモル）を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、白色粉末（融点６４〜６５℃）の３−（２，６−ジフルオロベンジルスルホニル）−５−エチル−５−メチル−２−イソオキサゾリン０．６ｇ（収率７５．０％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：７．３６−７．４６（１Ｈ，ｍ）、６．９８−７．０４（２Ｈ，ｍ）、４．７３（２Ｈ，ｓ）、３．０４（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１７．２，Δν＝５１．１Ｈｚ）、１．７７（２Ｈ，ｑ）、１．４６（３Ｈ，ｓ）、０．９７（３Ｈ，ｔ）
＜参考例６＞
５，５−ジメチル−３−メチルスルホニル−２−イソオキサゾリンの製造
３−クロロ−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリン１４３．０ｇ（１．０７モル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５００ｍｌ溶液に、氷冷下、メチルメルカプタンナトリウム水溶液１．０ｋｇ（含量１５％、２．１４モル）を滴下し、その後室温で１２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、５，５−ジメチル−３−メチルチオ−２−イソオキサゾリンを１１５．０ｇ（収率７４．１％）得た。この抽出物（７４１．２ミリモル）をクロロホルム１１に溶解し、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸３９２．０ｇ（純度７０％、１．５９モル）を加え１時間攪拌した。その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了後、析出したｍ−クロロ安息香酸を濾別し、濾液を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、水、炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をジイソプロピルエーテルで洗浄し、白色粉末（融点８２〜８４℃）の５，５−ジメチル−３−メチルスルホニル−２−イソオキサゾリン７７．６ｇ（収率５９．１％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：３．２６（３Ｈ，ｓ）、３．１２（２Ｈ，ｓ）、１．５１（６Ｈ，ｓ）
＜参考例７＞
５，５−ジメチル−３−エチルチオ−２−イソオキサゾリンの製造
３−クロロ−５，５−ジメチル−２−イソオキサゾリンを含有した反応溶液に、エチルメルカプタン５６０．０ｇ（９．０モル）および水酸化ナトリウム３６０．０ｇ（９．０モル）の水溶液１５００ｍｌを加えた。その後、６０〜７０℃で１６時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、濃赤色油状の５，５−ジメチル−３−エチルチオ−２−イソオキサゾリンの粗化合物２７０．０ｇ得た。
＜参考例８＞
５，５−ジメチル−３−エチルスルホニル−２−イソオキサゾリンの製造
５，５−ジメチル−３−エチルチオ−２−イソオキサゾリンの粗油状物２７０．０ｇ（１．７モル）をクロロホルム１．０１に溶解し、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸１０５０ｇ（純度７０％，６．１モル）を加え１時間攪拌し、その後、さらに室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、析出したｍ−クロロ安息香酸を濾別し、濾液を亜硫酸水素ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をｎ−ヘキサンで洗浄し、白色粉末の５，５−ジメチル−３−エチルスルホニル−２−イソオキサゾリン１３３．６ｇ（収率６５．４％）を得た。
＜参考例９＞
１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オールの製造
トリフルオロアセト酢酸エチルエステル３４．１ｇ（１８４．９ミリモル）のエタノール５００ｍｌ溶液にフェニルヒドラジン２０ｇ（１８４．９ミリモル）及び濃塩酸４ｍｌを加えた後、１時間加熱還流した。反応終了後、減圧下溶媒を大部分留去し、残渣に水を加えて結晶を析出させた。ろ過し、得られた結晶をろ液が中性になるまで水で洗浄した後、乾燥して、黄土色結晶の１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール３７．１ｇ（収率８７．９％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：７．６８−７．４１（５Ｈ，ｍ），５．８６（１Ｈ，ｓ），３．７１（１Ｈ，ｓ）
＜参考例１０＞
５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒドの製造
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７．７ｇ（１０５．２ミリモル）に、氷冷下、オキシ塩化リン３３．６ｇ（２１９．１ミリモル）を加えた。次に、室温で１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール２０ｇ（８７．７ミリモル）を加えた後、１時間加熱還流した。反応終了後、氷冷下、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、白色結晶の５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド１９．１ｇ（収率７９．１％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：１０．０６（１Ｈ，ｓ），７．５７（５Ｈ，ｓ）
＜参考例１１＞
（５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノールの製造
水素化リチウムアルミニウム０．２１ｇ（５．５ミリモル）のＴＨＦ７０ｍｌ溶液を−３０℃に冷却し、５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド３ｇ（１０．９ミリモル）のテトラヒドロフラン３０ｍｌ溶液を徐々に加えた。さらに−３０℃で３０分間攪拌した。反応終了後、酢酸エチルを加えて攪拌した後、水を加え、しばらく攪拌した。この反応混合物を減圧ろ過し、ろ液を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、白色結晶の（５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノール３．０ｇ（収率９９．９％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：７．５４−７．５１（５Ｈ，ｍ），４．７１（２Ｈ，ｄ），１．７９（１Ｈ，ｂ）
＜参考例１２＞
４−ブロモメチル−５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
（５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノール３．０ｇ（１０．９ミリモル）のジエチルエーテル６０ｍｌ溶液を−１０℃に冷却し、三臭化リン１．０ｇ（３．８ミリモル）を加え、さらに室温で１時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、白色結晶の４−ブロモメチル−５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール３．６ｇ（収率９５．８％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：７．５８−７．４８（５Ｈ，ｍ），４．４８（２Ｈ，ｓ）
＜参考例１３＞
５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒドの製造
５−クロロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド３３．０ｇ（１２０．１ミリモル）のジメチルスルホキシド５００ｍｌ溶液に、ふっ化カリウム１０．５ｇ（１８０．２ミリモル）を加え、１００℃で２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド２６．５ｇ（収率８５．０％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：９．９６（１Ｈ，ｓ），７．６８−７．５１（５Ｈ，ｍ）
＜参考例１４＞
（５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノールの製造
水素化ホウ素ナトリウム１．６ｇ（４１．０ミリモル）のメタノール３００ｍｌ溶液に、氷冷下、５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド２６．５ｇ（１０２．５ミリモル）のメタノール２００ｍｌ溶液を加え、０℃で３０分間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、（５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノール２８．５ｇ（収率１００％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：７．６５−７．４１（５Ｈ，ｍ），４．６８（２Ｈ，ｄ），１．７３（１Ｈ，ｔ）
＜参考例１５＞
４−ブロモメチル−５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
（５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノール２７．５ｇ（１０５．７ミリモル）のジエチルエーテル３００ｍｌ溶液を０℃に冷却し、三臭化りん１０．０ｇ（３７．０ミリモル）を加え、さらに室温で２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、４−ブロモメチル−５−フルオロ−１−フェニル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール３０．３ｇ（収率８８．８％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：７．６６−７．４２（５Ｈ，ｍ），４．４４（２Ｈ，ｓ）
＜参考例１６＞
１−ｔｅｒｔ−ブチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オールの製造
トリフルオロアセト酢酸エチルエステル５５２．３ｇ（３．０モル）のエタノール１５００ｍｌ溶液にｔｅｒｔ−ブチルヒドラジン塩酸塩３７３．８ｇ（３．０モル）及び濃塩酸５０ｍｌを加えた後、２日間加熱還流した。反応終了後、減圧下溶媒を大部分留去し、残渣を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をｎ−ヘキサンで洗浄し、白色粉末の１−ｔｅｒｔ−ブチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール３６９．０ｇ（収率５９．１％）を得た。
＜参考例１７＞
１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒドの製造
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド８７．７ｇ（１．２モル）に、氷冷下、オキシ塩化リン４６２．０ｇ（３．０モル）を加えた。次に、室温で１−ｔｅｒｔ−ブチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール２０８．２ｇ（１．０モル）を加えた後、１０時間加熱還流した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を水、５％水酸化ナトリウム水溶液及び水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、白色結晶の１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド１３１．５ｇ（収率２１．７％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：９．９７（１Ｈ，ｄ），１．７６（９Ｈ，ｓ）
＜参考例１８＞
（１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノールの製造
１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド３９．９ｇ（１５６．９ミリモル）のメタノール３００ｍｌ溶液を０℃に冷却し、水素化ホウ素ナトリウム６．５ｇ（１７２．６ミリモル）を徐々に加え、さらに室温で３時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、（１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノール３７．７ｇ（収率９３．６％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．６０（２Ｈ，ｄ），１．７２（９Ｈ，ｓ），１．５８（１Ｈ，ｔ）
＜参考例１９＞
４−ブロモメチル−１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
（１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノール９．２ｇ（３５．７ミリモル）のジエチルエーテル１００ｍｌ溶液を−１０℃に冷却し、三臭化リン１１．６ｇ（４２．９ミリモル）を加え、さらに室温で一夜攪拌した。反応終了後、反応溶液を氷水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、４−ブロモメチル−１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール１０．０ｇ（収率８７．３％）を得た。
＜参考例２０＞
（１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタンチオールの製造
水硫化ナトリウム水和物２１．８ｇ（純度７０％、２７２．２ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３００ｍｌ溶液に４−ブロモメチル−１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール４３．５ｇ（１３６．１ミリモル）を加え、さらに室温で一夜攪拌した。反応終了後、反応溶液を氷水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、（１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタンチオール３２．３ｇ（収率８７．０％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：３．６５（２Ｈ，ｄ），１．９０（１Ｈ，ｔ），１．７０（９Ｈ，ｓ）
＜参考例２１＞
１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
１−ｔｅｒｔ−ブチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール１８．８ｇ（９０．３ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌ溶液に、室温で無水炭酸カリウム１５．０ｇ（１０８．４ミリモル）及びヨウ化メチル１９．３ｇ（１３５．５ミリモル）を加え、さらに１５時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール２０．０ｇ（収率９９．８％）を得た。
＜参考例２２＞
１−ｔｅｒｔ−ブチル−４−クロロメチル−５−メトキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
１−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール２０．０ｇ（９０．１ミリモル）の酢酸９０ｍｌ溶液に、パラホルムアルデヒド５．４ｇ（ホルムアルデヒド換算１８０．２ミリモル）及び濃塩酸２０ｍｌを加え６０℃で３０分間加熱攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎジイソプロピルエーテルで抽出した。得られた有機層を水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、１−ｔｅｒｔ−ブチル−４−クロロメチル−５−メトキシ−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール２１．７ｇ（収率８９．０％）を得た。
＜参考例２３＞
３−メトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
３−ヒドロキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール１０．０ｇ（６０．２ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌ溶液に、室温で無水炭酸カリウム１０．０ｇ（７２．３ミリモル）及びヨウ化メチル１２．８ｇ（９０．３ミリモル）を加え、さらに１５時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、３−メトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール９．８ｇ（収率９０．７％）を得た。
＜参考例２４＞
４−クロロメチル−３−メトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
３−メトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール１．００ｇ（５．６ミリモル）の酢酸２５ｍｌ溶液に、パラホルムアルデヒド０．４５ｇ（ホルムアルデヒド換算１５．０ミリモル）及び濃塩酸５ｍｌを加え８０℃で２時間加熱攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ炭酸カリウムを用いて中和した後、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し４−クロロメチル−３−メトキシ−１−メチル−５−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール０．８３ｇ（収率６５．０％）を得た。
＜参考例２５＞
５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒドの製造
５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド６０．４ｇ（２８２．７ミリモル）のジメチルスルホキシド７００ｍｌ溶液に、ふっ化カリウム４２．０ｇ（７１１．９ミリモル）を加え、１２０〜１４０℃で５時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−３６．８ｇ（収率６６．０％）を得た。
＜参考例２６＞
（５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノールの製造
水素化ホウ素ナトリウム３．９ｇ（１０２．６ミリモル）のメタノール５００ｍｌに溶液、氷冷下、５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド３６．８ｇ（１８７．６ミリモル）のメタノール２００ｍｌ溶液を加えた。０℃で３０分間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、（５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノール３５．４ｇ（収率９５．４％）を得た。
＜参考例２７＞
４−ブロモメチル−５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド３５．４ｇ（１７８．７ミリモル）のジエチルエーテル５００ｍｌ溶液を−３０℃に冷却し、三臭化りん５４．０ｇ（１９９．５ミリモル）を加えた。室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、４−ブロモメチル−５−フルオロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール３１．４ｇ（収率８０．８％）を得た。
＜参考例２８＞
（エトキシカルボニル）マロンジアルデヒドの製造
水素化ナトリウム１２．６ｇ（純度６０％、５２５．０ミリモル）をジエチルエーテルで数回デカントした後、ジエチルエーテル５００ｍｌ溶液とした。そして、窒素気流下、０〜１０℃で、ギ酸エチル１９４ｇ（２．６モル）および３，３−ジエトキシ−プロピオン酸エチルエステル５０ｇ（２６２．０ミリモル）を加えた。その後、室温で１５時間攪拌し、反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、ジエチルエーテルで洗浄した。得られた水層を塩酸でｐＨ１とした後、ジクロロメタンで抽出した。更に、得られた有機層を食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、濃赤色油状の（エトキシカルボニル）マロンジアルデヒドの粗化合物３７．６ｇ（収率１００％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：９．０９（２Ｈ，ｓ），５．２６（１Ｈ，ｓ），４．２７（２Ｈ，ｑ），１．２８（３Ｈ，ｔ）
＜参考例２９＞
１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステルの製造
（エトキシカルボニル）マロンジアルデヒド２７．６ｇ（１９２ミリモル）のエタノール１５０ｍｌ溶液に氷冷下、ヒドラジン６．２ｇ（１９３ミリモル）を加え、室温で１７時間攪拌した。その後、減圧下エタノールを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ジクロロメタン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、黄色結晶の１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステル１９．４ｇ（７２．４％）を得た
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：８．０８（２Ｈ，ｓ），５．３０（１Ｈ，ｓ），４．３１（２Ｈ，ｑ），１．３６（３Ｈ，ｔ）
＜参考例３０＞
１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステルの製造
１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステル１．５ｇ（１０．７ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌ溶液に無水炭酸カリウム３．７ｇ（２６．８ミリモル），ヨウ化エチル４．２ｇ（２６．６ミリモル）を加え、室温で２０時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、黄色油状物の１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステル１．６ｇ（収率８８．９％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：７．９０（２Ｈ，ｓ），４．２８（２Ｈ，ｑ），４．１８（２Ｈ，ｑ），１．５１（３Ｈ，ｔ），１．３５（３Ｈ，ｔ）
＜参考例３１＞
３，５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステルの製造
１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステル１．６ｇ（９．５ミリモル），Ｎ−クロロこはく酸イミド５．１ｇ（３８．３ミリモル）をガラス封管に入れ、１６０℃で６時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、反応物を四塩化炭素およびクロロホルムで洗浄、減圧ろ過した。得られたろ液（有機層）を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、黄色油状物の３，５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステル１．０ｇ（収率４４．２％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．３６（２Ｈ，ｑ），４．２１（２Ｈ，ｑ），１．４４（３Ｈ，ｔ），１．３８（３Ｈ，ｔ）
＜参考例３２＞
（３，５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）メタノールの製造
水素化リチウムアルミニウム０．１６ｇ（４．２ミリモル）のテトラヒドロフラン７０ｍｌ溶液を−５０℃に冷却し、３，５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステル１．０ｇ（４．２ミリモル）のテトラヒドロフラン３０ｍｌ溶液をゆっくり滴下し、更に−５０℃で３時間攪拌した。反応終了確認後、酢酸エチルを加えて、しばらく攪拌した後、更に水を加え、しばらく攪拌した。減圧ろ過し、ろ液を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、茶色油状物の（３，５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）メタノール０．８２ｇ（収率１００％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．５２（２Ｈ，ｓ），４．１６（２Ｈ，ｑ），１．４３（３Ｈ，ｔ）
＜参考例３３＞
４−ブロモメチル−３，５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
（３，５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）メタノール０．８２ｇ（４．２ミリモル）のジエチルエーテル５０ｍｌ溶液を−３０℃に冷却し、三臭化リン１．３ｇ（４．８ミリモル）を加え、更に室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、黄色油状物の４−ブロモメチル−３，５−ジクロロ−１−エチル−１Ｈ−ピラゾール０．９ｇ（収率８１．８％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．３３（２Ｈ，ｓ），４．１３（２Ｈ，ｑ），１．４３（３Ｈ，ｔ）
＜参考例３４＞
３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オールの製造
ジフルオロアセト酢酸エチルエステル３０．０ｇ（１８０．６ミリモル）のエタノール２００ｍｌ溶液にメチルヒドラジン８．３ｇ（１８０．６ミリモル）及び濃塩酸５ｍｌを加えた後、２日間加熱還流した。反応終了後、減圧下溶媒を大部分留去した。残渣を水中に注ぎクエン酸でｐＨ４とした後、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール８．９ｇ（収率３３．３％）を得た。
＜参考例３５＞
５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒドの製造
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７．９ｇ（１０８．０ミリモル）に、氷冷下、オキシ塩化リン４１．６ｇ（２７０．１ミリモル）を加えた。次に、室温で３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−５−オール８．０ｇ（５４．０ミリモル）を加えた後、４時間加熱還流した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を水、５％水酸化ナトリウム水溶液及び水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、白色結晶の５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド７．７ｇ（収率７３．３％）を得た。（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：９．９６（１Ｈ，ｓ），６．９０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５３．６Ｈｚ），３．９３（３Ｈ，ｓ）
＜参考例３６＞
（５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノールの製造
５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボアルデヒド７．２ｇ（３７．０ミリモル）のメタノール１００ｍｌ溶液を０℃に冷却し、水素化ホウ素ナトリウム２．１ｇ（５５．５ミリモル）を徐々に加え、さらに室温で３時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、（５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノール３．８ｇ（収率５２．１％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：６．７０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４０．８Ｈｚ），４．６３（２Ｈ，ｓ），３．８６（３Ｈ，ｓ），１．７９（１Ｈ，ｂｒ）
＜参考例３７＞
４−ブロモメチル−５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾールの製造
（５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−イル）−メタノール２．０ｇ（１０．０ミリモル）のジエチルエーテル５０ｍｌ溶液を−１０℃に冷却し、三臭化リン１．０ｇ（３．５ミリモル）を加え、さらに室温で一夜攪拌した。反応終了後、反応溶液を氷水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、４−ブロモメチル−５−クロロ−３−ジフルオロメチル−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール２．６ｇ（収率１００．０％）を得た。
＜参考例３８＞
トリフルオロアセトアルデヒドオキシムエーテレートの製造
トリフルオロアセトアルデヒドヘミエチルアセタール５０．０ｇ（３４７．０ミリモル）のメタノール８０ｍｌ溶液に、ヒドロキシルアミン塩酸塩２４．１ｇ（３４７．０ミリモル）、水１６０ｍｌを加え、氷冷下、５０％水酸化ナトリウム水溶液８０．０ｇ（１．７モル）を滴下した。滴下終了後室温で６時間攪拌した。反応終了後、１０％塩酸を加えてｐＨ６とし、ジエチルエーテルで抽出した。減圧下溶媒を留去し、残渣を蒸留し、トリフルオロアセトアルデヒドオキシムエーテレート２４．７ｇ（収率３８．０％）を得た。
＜参考例３９＞
トリフルオロアセトヒドロキシモイルブロミドエーテレートの製造
トリフルオロアセトアルデヒドオキシムエーテレート２４．７ｇ（１３１．７ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌ溶液に、氷冷下、Ｎ−ブロモこはく酸イミド３８．８ｇ（２１８．０ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１２５ｍｌ溶液を加え、室温で３時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣を蒸留し、褐色油状物質のトリフルオロアセトヒドロキシモイルブロミドエーテレート３３．３ｇ（収率９５．０％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：９．３０（１Ｈ，ｓ）
＜参考例４０＞
４−エトキシカルボニル−５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾールの製造
アセト酢酸エチル６．７ｇ（５１．３ミリモル）のメタノール８０ｍｌ溶液に、ナトリウムメトキシド２．８ｇ（５１．３ミリモル）を加え、氷冷下、トリフルオロアセトヒドロキシモイルブロミドエーテレート５．０ｇ（１８．８ミリモル）のメタノール２０ｍｌ溶液を加えた。室温で３時間攪拌した。反応終了後、減圧下溶媒を留去し、水を加え、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、無色油状物質の４−エトキシカルボニル−５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール２．９ｇ（収率６９．０％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．３６（２Ｈ，ｑ），２．７７（３Ｈ，ｓ），１．３７（３Ｈ，ｔ）
＜参考例４１＞
（５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール−４−イル）−メタノールの製造
水素化リチウムアルミニウム０．１６ｇ（４．２ミリモル）のＴＨＦ１５ｍｌ溶液を０℃に冷却し、４−エトキシカルボニル−５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール０．９３ｇ（４．２ミリモル）のＴＨＦ１５ｍｌ溶液を徐々に加えた。０℃で１時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチルを加えてしばらく攪拌した後、水を加え、しばらく攪拌した。減圧ろ過し、ろ液をジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、（５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール−４−イル）−メタノール０．５ｇ（収率６０．０％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．６０（２Ｈ，ｄ），２．５４（３Ｈ，ｓ），１．６６（１Ｈ，ｂｒ）
＜参考例４２＞
４−ブロモメチル−５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾールの製造
（５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール−４−イル）−メタノール０．４５ｇ（２．５ミリモル）のジエチルエーテル１０ｍｌ溶液を０℃に冷却し、三臭化りん０．２ｇ（８．９ミリモル）を加えた。室温で１時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、４−ブロモメチル−５−メチル−３−トリフルオロメチルイソキサゾール０．５ｇ（収率７４．０％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．３１（２Ｈ，ｄ），２．５１（３Ｈ，ｓ）
＜参考例４３＞
（５−クロロ−３−メチル−イソチアゾール−４−イル）−メタノールの製造
水素化リチウムアルミニウム０．４２ｇ（１１．０ミリモル）のＴＨＦ１０ｍｌ溶液に、−３０℃で５−クロロ−３−メチル−イソチアゾール−４−カルボン酸エチルエステル２．０６ｇ（１０．０ミリモル）のＴＨＦ１０ｍｌ溶液を滴下し、さらに同温度で１時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液に酢酸エチルを加えた後、水中にあけ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、（５−クロロ−３−メチル−イソチアゾール−４−イル）−メタノール１．５０ｇ（収率９１．５％）を得た。
＜参考例４４＞
４−クロロメチル−５−クロロ−３−メチルイソチアゾールの製造
（５−クロロ−３−メチル−イソチアゾール−４−イル）−メタノール１．５０ｇ（９．１５ミリモル）のクロロホルム１０ｍｌ溶液に、室温で塩化チオニル３．２６ｇ（２７．４４ミリモル）を加え３時間攪拌した。反応終了確認後、減圧下溶媒を留去し、４−クロロメチル−５−クロロ−３−メチルイソチアゾール１．６７ｇ（収率定量的）を得た。
＜参考例４５＞
４−トリフルオロメチルニコチン酸メチルエステルの製造
４−トリフルオロメチルニコチン酸４．６ｇ（２４．１ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７０ｍｌ溶液に、無水炭酸カリウム６．７ｇ（４８．６ミリモル），ヨウ化メチル６．９ｇ（４８．６ミリモル）を加え、室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、黄色油状物の４−トリフルオロメチルニコチン酸メチルエステル２．７７ｇ（収率５６．１％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：９．１１（１Ｈ，ｓ），８．９２（１Ｈ，ｄ），７．６４（１Ｈ，ｄ），３．９９（３Ｈ，ｓ）
＜参考例４６＞
（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）−メタノールの製造
水素化リチウムアルミニウム０．３７ｇ（９．７ミリモル）のＴＨＦ１００ｍｌ溶液を−５０℃に冷却し、４−トリフルオロメチルニコチン酸メチルエステル２．０ｇ（９．８ミリモル）のＴＨＦ３０ｍｌ溶液をゆっくり滴下し、更に−５０℃で３時間攪拌した。反応終了確認後、酢酸エチルを加えて、しばらく攪拌した後、更に水を加え、再度しばらく攪拌した。反応混合物を減圧ろ過し、ろ液を酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、黄色油状物の（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）メタノール０．６ｇ（収率３５．３％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：９．００（１Ｈ，ｓ），８．７３（１Ｈ，ｄ），７．５１（１Ｈ，ｄ），４．９５（２Ｈ，ｓ）
＜参考例４７＞
３−ブロモメチル−４−トリフルオロメチルピリジンの製造
（４−トリフルオロメチルピリジン−３−イル）メタノール０．６ｇ（３．４ミリモル）のジエチルエーテル５０ｍｌ溶液を−３０℃に冷却し、三臭化リン１．４ｇ（５．２ミリモル）を加え、更に室温で１２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、黄色油状物の３−ブロモメチル−４−トリフルオロメチルピリジン０．６１ｇ（収率７５．３％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：８．８８（１Ｈ，ｓ），８．７３（１Ｈ，ｄ），７．５４（１Ｈ，ｄ），４．６３（２Ｈ，ｓ）
＜参考例４８＞
５−ブロモ−４−ヒドロキシ−６−トリフルオロメチルピリミジンの製造
４−ヒドロキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン４９．２ｇ（３００．０ミリモル）の酢酸６００ｍｌ溶液に、室温で無水酢酸ナトリウム７７．５ｇ（９４５．０ミリモル）を加えた。さらに４５℃で反応溶液中に臭素５０．３ｇ（３１５ミリモル）を徐々に加え、同温度で３時間攪拌した。反応終了確認後、減圧下溶媒を留去した。残渣を水にあけ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をｎ−ヘキサンで洗浄し５−ブロモ−４−ヒドロキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン３８．９ｇ（収率５３．４％）を得た。
＜参考例４９＞
５−ブロモ−４−クロロ−６−トリフルオロメチルピリミジンの製造
５−ブロモ−４−ヒドロキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン２４．３ｇ（１００．０ミリモル）をオキシ塩化リン１８．５ｇ（１２０．０ミリモル）に懸濁させ、１００℃で２時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を徐々に水にあけクロロホルムで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、５−ブロモ−４−クロロ−６−トリフルオロメチルピリミジン２１．５ｇ（収率８２．４％）を得た。
＜参考例５０＞
５−ブロモ−４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジンの製造
５−ブロモ−４−クロロ−６−トリフルオロメチルピリミジン２１．５ｇ（８２．２ミリモル）のメタノール１００ｍｌ溶液に、室温でナトリウムメトキシド１６．７ｍｌ（２８％メタノール溶液８６．４ミリモル）を加え攪拌した。反応終了確認後、減圧下溶媒を留去した。残渣を水にあけ、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をｎ−ヘキサンで洗浄し、５−ブロモ−４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン１９．２ｇ（収率９１．０％）を得た。
＜参考例５１＞
５−ブロモ−４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジンの製造
５−ブロモ−４−クロロ−６−トリフルオロメチルピリミジン３．００ｇ（１１．４８ミリモル）のエタノール５０ｍｌ溶液に、室温でナトリウムエトキシド０．９４ｇ（１３．７７ミリモル）を加え攪拌した。反応終了確認後、減圧下溶媒を留去した。残渣を水にあけ、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し５−ブロモ−４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン２．４４ｇ（収率８２．９％）を得た。
＜参考例５２＞
４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−カルボアルデヒドの製造
５−ブロモ−４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン１０．３ｇ（４０．０ミリモル）のテトラヒドロフラン１００ｍｌ溶液に、−６５〜−６０℃でｎ−ブチルリチウム３０．０ｍｌ（１．６ｍｏｌ／ｌ  ｎ−ヘキサン溶液４８．０ミリモル）を徐々に加えた後、３０分間攪拌した。さらに同温度で、ギ酸エチル３．６ｇ（４８．０ミリモル）を加えた後、同温度で３時間攪拌した。反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−カルボアルデヒド１．３ｇ（収率１５．８％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：１０．４１（１Ｈ，ｑ），８．９８（１Ｈ，ｓ），４．１８（３Ｈ，ｓ）
＜参考例５３＞
４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−カルボアルデヒドの製造
５−ブロモ−４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン５．７６ｇ（２１．３ミリモル）のＴＨＦ２５０ｍｌ溶液を−７８℃に冷却し、ｎ−ブチルリチム２２．６ｍｌ（１．６ｍｏｌ／ｌ  ｎ−ヘキサン溶液３６．１ミリモル）を滴下し、４０分間攪拌した。ギ酸メチル２．７ｇ（４５．１ミリモル）を加え、さらに１．５時間攪拌した。反応終了後、塩化アンモニウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−カルボアルデヒド３．８２ｇ（収率８１．６％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：１０．４１（１Ｈ，ｓ），８．９５（１Ｈ，ｓ），４．６３（２Ｈ，ｑ），１．４８（３Ｈ，ｔ）
＜参考例５４＞
（４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）−メタノールの製造
４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−カルボアルデヒド１．３ｇ（６．３ミリモル）のメタノール３０ｍｌ溶液に、室温で水素化ホウ素ナトリウム０．２４ｇ（６．３ミリモル）を徐々に加え３時間攪拌した。反応終了確認後、水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、（４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）−メタノール０．４２ｇ（収率３２．１％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：８．９３（１Ｈ，ｓ），４．８１（２Ｈ，ｓ），４．１３（３Ｈ，ｓ），２．２６（１Ｈ，ｂｒ）
＜参考例５５＞
（４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）−メタノールの製造
水素化ホウ素ナトリウム１．７ｇ（４５．７ミリモル）のメタノール５０ｍｌ溶液に、氷冷下、４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−カルボアルデヒド３．８２ｇ（１７．２ミリモル）のメタノール５０ｍｌ溶液を加え、さらに０℃で１時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、（４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）−メタノール３．７７ｇ（収率９７．８％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：８．８０（１Ｈ，ｓ），４．８１（２Ｈ，ｓ），４．５９（２Ｈ，ｑ），２．２８（１Ｈ，ｂ），１．４８（３Ｈ，ｔ）
＜参考例５６＞
５−クロロメチル−４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジンの製造
（４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）−メタノール０．４２ｇ（２．０２ミリモル）のクロロホルム１０ｍｌ溶液に、室温で塩化チオニル１．１９ｇ（１０．１ミリモル）を加え３時間攪拌した。反応終了確認後、減圧下溶媒を留去し、５−クロロメチル−４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン０．４５ｇ（収率：定量的）を得た。
＜参考例５７＞
５−ブロモメチル−４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジンの製造
（４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−イル）−メタノール３．７７ｇ（１７．０ミリモル）のジエチルエーテル５０ｍｌ溶液を０℃に冷却し、三臭化りん２．０ｇ（７．２ミリモル）を加えた。室温で１時間攪拌した。生じた塩をメタノールで溶解し、さらに１時間攪拌した。反応溶液を水中に注ぎジエチルエーテルで抽出した。得られた有機層を食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、５−ブロモメチル−４−エトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジンの粗合物を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：８．７９（１Ｈ，ｓ），４．６１（２Ｈ，ｑ），４．５５（２Ｈ，ｓ），１．４９（３Ｈ，ｔ）
＜参考例５８＞
４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−カルボアルデヒドの製造
５−ブロモ−４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン１０．３ｇ（４０．０ミリモル）のテトラヒドロフラン１００ｍｌ溶液に、−６５〜−６０℃でｎ−ブチルリチウム（１．６ｍｏｌ／ｌ  ｎ−ヘキサン溶液）３０．０ｍｌ（４８．０ミリモル）を徐々に加えた後、３０分間攪拌した。さらに同温度で、ギ酸エチル３．６ｇ（４８．０ミリモル）を加えた後、同温度で３時間攪拌した。反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、４−メトキシ−６−トリフルオロメチルピリミジン−５−カルボアルデヒド１．３ｇ（収率１５．８％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：１０．４１（１Ｈ，ｑ），８．９８（１Ｈ，ｓ），４．１８（３Ｈ，ｓ）
＜参考例５９＞
（２−クロロ−４−メチルピリジン−３−イル）メタノールの製造
水素化リチウムアルミニウム０．４ｇ（１０．０ミリモル）のテトラヒドロフラン３０ｍｌ懸濁液に、−６５〜−６０℃でメチル２−クロロ−４−メチルニコチン酸１．９ｇ（１０．０ミリモル）のＴＨＦ５．０ｍｌ溶液を徐々に加えた後、３０分間攪拌した。さらに−２０℃で、１時間攪拌した。反応溶液を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、（２−クロロ−４−メチルピリジン−３−イル）メタノール０．６ｇ（収率３８．２％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：８．１９（１Ｈ，ｄ），７．０８（１Ｈ，ｄ），４．８５（２Ｈ，ｓ），２．４９（３Ｈ，ｓ）
＜参考例６０＞
３−アセチル−４−クロロメチル−２，５−ジクロロチオフェンの製造
３−アセチル−２，５−ジクロロチオフェン５．０ｇ（３２．４ミリモル）のクロロメチルメチルエーテル２６ｍｌ（３２３．０ミリモル）溶液に、氷冷下１０℃での四塩化チタン（２ｍｏｌ／ｌジクロロメタン溶液）３３ｍｌ（６６．０ミリモル）を滴下した。その後室温で２時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を氷水中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を重曹及び水、食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）で精製し、黄色結晶の３−アセチル−４−クロロメチル−２，５−ジクロロチオフェン２．６ｇ（収率３９．７％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：４．７０（２Ｈ，ｓ），２．５６（３Ｈ，ｓ），２．５４（３Ｈ，ｓ）２．３９（３Ｈ，ｓ）
＜参考例６１＞
３−ブロモ−２−ブロモメチルベンゾフランの製造
３−ブロモ−２−メチルベンゾフラン２．８ｇ（１３．３ミリモル）のモノクロロベンゼン３０ｍｌ溶液に、Ｎ−ブロモコハク酸イミド２．７ｇ（１５．３ミリモル）及びアゾビスイソブチロニトリル０．４ｇ（２．７ミリモル）を加えた後、８０℃で３０分間攪拌した。原料消失を確認した後、反応溶液を室温にまで冷却した。不溶物を濾別し、濾液を減圧下溶媒を留去した。残渣を水中に注ぎ酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水及び食塩水で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、３−ブロモ−２−ブロモメチルベンゾフラン３．０ｇ（収率７９．０％）を得た。
＜参考例６２＞
１−ジフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステルの製造
１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステル３．０ｇ（２１．４ミリモル）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌ溶液に、無水炭酸カリウム６．０ｇ（４３．５ミリモル）を加え、クロロジフルオロメタンを反応溶液に吹き込み、１３０〜１４０℃で３時間攪拌した。反応終了確認後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を水および食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル混合溶媒）で精製し、無色透明油状物の１−ジフルオロメチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルエステル１．６７ｇ（収率４１．０％）を得た。
（１Ｈ−ＮＭＲ値（ＣＤＣｌ３／ＴＭＳ  δ（ｐｐｍ））：８．３２（１Ｈ，ｓ），８．０４（１Ｈ，ｓ），７．２０（１Ｈ，ｔ），４．３２（２Ｈ，ｑ），１．３７（３Ｈ，ｔ）
次に、実施例を示す。以下の例では部は重量部を示す。
〈製剤例１〉  水和剤
化合物番号３−０００２の５部、シアナジンの４０部にポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルの０．５部、アルキルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０．５部、珪藻土の１２部、クレーの４２部を混合粉砕し、水和剤を得る。
混合比、気象条件、製剤形態、施用時期、施用方法、施用場所、防除対象雑草、対象作物により変わり得るが、１ヘクタール当り有効成分化合物の合計量として、通常５０〜１５００ｇである。乳剤、水和剤、懸濁剤等は、その所定量を１ヘクタール当り通常１００〜１０００リットルの水で希釈して施用する。
次に試験例をあげて本発明の除草剤組成物の奏する効果を説明する。
〈試験例１〉  畑地土壌処理による雑草に対する除草効果試験
縦、幅、深さがいずれも１１ｃｍのプラスチックポットに畑土壌を充填し、トウモロコシ、エノコログサ、シロザの種子を播種して覆土した。製剤例１に準じて調製した水和剤を有効成分が所定量になるよう秤り取り、水で希釈し、１０アール当り１００リットルの散布水量で小型噴霧器を用いて土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理３０日目に表１５の基準に従って、除草効果を調査した。結果を表１６及び表１７に示す。
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〈試験例２〉  畑地土壌処理による雑草に対する除草効果試験
縦、幅、深さがいずれも１１ｃｍのプラスチックポットに畑土壌を充填し、トウモロコシ、イチビの種子を播種して覆土した。製剤例１に準じて調製した水和剤を有効成分が所定量になるよう秤り取り、水で希釈し、１０アール当り１００リットルの散布水量で小型噴霧器を用いて土壌表面に均一に散布した。その後、温室内で育成し、処理３０日目に表１５の基準に従って、除草効果を調査した。結果を表１８に示す。
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産業上の利用性
一般式［Ｉ］で表される化合物にＡ群から選ばれる１種以上の化合物とを含む本発明の除草剤組成物は、各単剤で得られる活性の単純な合計に留まらず、相乗的に殺草効果が発揮される。従って、畑地において問題となる種々の雑草、例えばイヌビエ、メヒシバ、エノコログサ、スズメノカタビラ、ジョンソングラス、ノスズメノテッポウ、野生エンバク等のイネ科雑草をはじめ、オオイヌタデ、アオビユ、シロザ、ハコベ、イチビ、アメリカキンゴジカ、アメリカツノクサネム、ブタクサ、アサガオの広葉雑草、ハマスゲ、キハマスゲ、ヒメクグ、カヤツリグサ、コゴメガヤツリ等の多年生および１年生カヤツリグサ科雑草の発芽前から生育期の広い範囲にわたって低薬量で優れた除草効果を発揮する。
更に、水田に発生するタイヌビエ、タマガヤツリ、コナギ、アゼナ等の１年生雑草及びミズガヤツリ、クログワイ、ホタルイ等の多年生雑草についても発芽前から生育期の広い範囲にわたって低薬量で防除することができる。
一方、本発明の除草剤組成物は、作物に対する安全性も高く、中でもイネ、コムギ、オオムギ、トウモロコシ、グレインソルガム、ダイズ、ワタ、テンサイ、芝、果樹等に対して高い安全性を示す。
【国際調査報告】
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