【事件の表示】
　特願２００６−２２９５７４「イオンガン、及び成膜装置」拒絶査定不服審判事件〔平成２０年　３月　６日出願公開、特開２００８−　５３１１６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続きの経緯
　本願は、平成１８年８月２５日の出願であって、平成２３年１０月１１日付けで手続補正がなされたが、平成２４年２月３日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年４月２５日に審判請求がなされたものである。
　
第２　本願発明
１．本願発明
　本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成２３年１０月１１日付けの手続補正で補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、次のとおりのものと認める。
　「スリット状の開口部が形成された陰極と、前記開口部の幅方向に磁場を発生させる磁石と、前記磁場に対し略垂直方向に電界を生じさせるように前記陰極の裏面から離間配置された陽極と、前記磁石及び前記陽極を囲むように設けられたヨークと、前記磁石、前記陽極、前記ヨークに接触する水冷用パイプと、を備え、前記陰極の表面の前記開口部からイオンビームが引き出されるイオンガンにおいて、
　前記磁石は、ＳｍＣｏ合金を主成分として構成され、
　前記開口部は、前記陰極の裏面から内部に向かって垂直に延びる隙間が略一定の垂直部と、該垂直部に連続し、前記陰極の表面に向かって隙間が漸次拡がる傾斜部と、から構成され、
　前記垂直部の隙間が、０．７ｍｍ以上２．５ｍｍ以下であることを特徴とするイオンガン。」
　
２．刊行物及びそれに記載された発明
　
　引用文献１：米国特許出願公開第２００５／０２４７８８５号明細書
　
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である、上記引用文献１には、以下の記載がある。
　
（１ａ）頁番号１、右欄１０行〜下から６行
「［００１４］FIG. 1  is a section view of prior art linear anode layer type ion source  100 . ・・・
［００１５］・・・FIG. 1  shows the magnetic field lines as calculated and mapped by a two-dimensional magnetic field software program. The field in the gap  120  is created by back shunt  110 , permanent magnet  130 , and pole pieces  140  and  150 . Electrically, poles  140 ,  150  and shunt  110  are connected to ground, and anode  102  is connected to the positive terminal of a high voltage power supply. 
［００１６］As those skilled in the art will appreciate, the anode  102  in a closed drift ion source is disposed a distance from the gap  120  between the poles  140  and  150 , where that distance exceeds the Larmor radius of the captured electrons. As those skilled in the art will further appreciate, the width of the gap  120  is adjusted to maintain a magnetic field of sufficient strength to magnetize electrons and to allow a plasma to exist therein. 
［００１７］Referring to  FIGS. 1 and 1 A, in prior art device  100 , the half bevel shaped poles  140  and  150  produce a magnetic fields with the strongest magnetic field line, described herein as the“primary field line,”emanating from the flat, gap facing pole surfaces  142  and  152 . The magnetic configuration and pole shapes of this prior art device, calculated using a Ceramic 8 ferrite type magnet  130 , results in a primary field line  170  having a magnetic field strength of 682 Gauss at first end  172  on surface  152 , 542 Gauss at second end  176  on surface  142  of outer pole  140 , and a minimum strength of 445 Gauss at location  174 . As those skilled in the art will appreciate, use of other magnetic materials will change the relative strengths of the field lines but will not substantially change the relative location of the primary line or ratio between surface and gap fields. 
［００１８］By“primary field line,”Applicant means the field line having the least curvature and the strongest field strength in the gap. As the bloom of the field in the gap is viewed, the primary field line is the centerline of the bloom. Field lines to both sides of the primary field line are concave, i.e. curved, and face this field line.」
（仮訳）「［００１４］図１は従来技術のリニア陽極層型イオン源１００の断面図である。・・・
［００１５］・・・図１は２次元磁場ソフトウエアプログラムで計算され描かれた磁力線を示している。隙間１２０内の磁場は後方分路１１０、永久磁石１３０及び磁極片１４０と１５０によって生成される。電気的に、磁極片１４０、１５０と分路１１０は接地され、陽極１０２は高電圧電源のプラス端子に接続されている。
［００１６］当業者にとって明らかなように、閉じ込められたドリフトイオン源内にある陽極１０２は、磁極片１４０と１５０間の隙間１２０から捕捉電子のラーマー半径を超える距離に隔てて配置される。当業者にとってさらに明らかなように、隙間１２０の間隔は、電子を磁化し、その中でプラズマが存在するのに十分な強度の磁場を持続させるように調節される。
［００１７］従来機器１００の図１と１Ａを参照して、途中まで傾斜を有する形状の磁極片１４０と１５０は最も強い磁力線、ここでは、「基本磁力線」と表現される、磁極片表面の１４２と１５２に面する平坦な隙間から放出される磁力線を有する磁場を生み出す。この従来機器の磁石の形状と極の形は、セラミック８フェライト型の磁石１３０を用いて計算すると、基本磁力線１７０は面１５２の第１端面１７２で６８２ガウス、外側の磁極片１４０の面１４２の第２端面１７６で５４２ガウス、１７４の位置で最小値４４５ガウスの磁力を有する。当業者にとって明らかなように、他の磁性材料を用いれば相対的な磁力線の強度は変化するが、基本磁力線の配置や表面と隙間の磁場の間隔の割合は実質的に不変である。
［００１８］「基本磁力線」とは隙間においてほとんど直線的で最も強い強度を有する磁力線を指す。隙間における磁場の展開状態に見て取れるように、基本磁場は展開状態の中心線である。基本磁力線の両脇の磁力線は凹んで、例えば屈曲して、この磁力線に対向する。」
（１ｂ）頁番号５、右欄下から２２行〜下から１６行
「Note: While water cooling is not shown in the figures, it is often required in industrial applications where high powers and continuous usage is the norm. One option is to gun drill the poles and directly flow water through them. In this case, a magnetic stainless steel such as grade  416  is a good choice. It does not corrode easily, is machinable, and has decent magnetic properties.」
（仮訳）「［００７９］注：図面には水冷装置は描かれていないが、高出力で継続的な使用が基準となる工業的な応用においてはしばしば必要になる。１つの選択肢としては磁極片に穴を穿って水をその中に直接流すことである。このような場合には、グレード４１６のようなステンレススチール磁石が好適である。それは腐食しにくく、工作しやすく、磁気的特性が優れている。」
（１ｃ）「
」
（１ｄ）「
」
　
　これらの記載及び図面を含む引用文献１全体の記載並びに当業者の技術常識を総合すると、引用文献１には、以下の発明が記載されているものと認められる。
　
「セラミック８フェライト型の永久磁石（１３０）、隙間（１２０）を有して配置された２つの磁極片（１４０、１５０）、後方分路（１１０）及び陽極（１０２）を備え、
　隙間内の磁場は後方分路、永久磁石及び２つの磁極片によって生成され、
　電気的に、２つの磁極片と後方分路は接地され、陽極は高電圧電源のプラス端子に接続されており、
　閉じ込められたドリフトイオン源内にある陽極は、２つの磁極片間の隙間から捕捉電子のラーマ半径を超える距離に隔てて配置され、
　２つの磁極片は、途中まで傾斜を有し、平坦な隙間を形成する磁極片表面を有する形状を有し、
　磁極片に穴を穿って水をその中に直接流す水冷装置を有する、
　リニア陽極層型イオン源（１００）。」（以下「引用発明」という。）
　
３．対比・判断
　本願発明と引用発明を対比する。
（１）引用発明の「リニア陽極層型イオン源」は本願発明の「イオンガン」に相当する。同様に、「永久磁石」は「磁石」に、「陽極」は「陽極」に、それぞれ相当する。
　また、引用発明では「隙間内の磁場は後方の分路、永久磁石及び２つの極子によって生成され」るから、引用発明の「分路」は本願発明の「磁石及び前記陽極を囲むように設けられたヨーク」に相当する。
（２）引用発明の「２つの極子」は接地されているから本願発明の「陰極」に相当する。したがって、引用発明の「２つの極子間の隙間」は本願発明の「陰極」に形成された「スリット状の開口部」に相当する。
　ここで、引用発明の「永久磁石」が「スリット状の開口部の幅方向に磁場を発生させる」こと、「陽極」が「磁場に対し略垂直方向に電界を生じさせるように陰極の裏面から離間配置され」ていること、及び、「陰極の表面の前記開口部からイオンビームが引き出される」ことは、いずれも、リニア陽極層型イオン源における当業者の技術常識に照らして、自明である。
（３）引用発明の「２つの極子は、途中まで傾斜を有し、平坦な隙間を形成する極子表面を有する形状」を有しているから、引用発明の「２つの磁極片間の隙間」が、「陰極の裏面から内部に向かって垂直に延びる隙間が略一定の垂直部と、該垂直部に連続し、前記陰極の表面に向かって隙間が漸次拡がる傾斜部と、から構成され」ていることがわかる。
（４）引用発明の「水冷装置」と本願発明の「水冷用パイプ」は、ともに「穴の中に水を流す水冷装置」である点で共通する。
　
　してみると両者は、
「スリット状の開口部が形成された陰極と、前記開口部の幅方向に磁場を発生させる磁石と、前記磁場に対し略垂直方向に電界を生じさせるように前記陰極の裏面から離間配置された陽極と、前記磁石及び前記陽極を囲むように設けられたヨークと、穴の中に水を流す水冷装置と、を備え、前記陰極の表面の前記開口部からイオンビームが引き出されるイオンガンにおいて、
　前記開口部は、前記陰極の裏面から内部に向かって垂直に延びる隙間が略一定の垂直部と、該垂直部に連続し、前記陰極の表面に向かって隙間が漸次拡がる傾斜部と、から構成されるイオンガン。」
の点で一致し、以下の各点で相違している。
　
（相違点１）
　穴の中に水を流す水冷装置が、本願発明では「磁石、陽極、ヨークに接触する水冷用パイプ」であるのに対して、引用発明では「極子に穴を穿って水をその中に直接流す水冷装置」である点。
（相違点２）
　磁石が、本願発明では「ＳｍＣｏ合金を主成分として構成され」るものであるのに対して、引用発明ではセラミック８フェライト型である点。
（相違点３）
　本願発明では「垂直部の隙間が、０．７ｍｍ以上２．５ｍｍ以下である」のに対して、引用発明は、その隙間の大きさが不明な点。　
　
　上記各相違点について検討する。
（相違点１について）
　成膜装置等の技術分野において、冷却すべき部材に水冷用のパイプを接触させて冷却を行うことはごく普通に行われている周知技術であり、陽極の発熱に伴って隣接する磁石とヨークも高温に曝されることは、当業者にとって自明であるから、引用発明に該周知技術を用い相違点１に係る構成を採用することに格別の困難性も、阻害要因もない。
（相違点２について）
　成膜装置等に用いられる永久磁石として、ＳｍＣｏ合金を主成分としたものはごく普通に用いられる周知のもの（特開２００５−８−２８１８３２号公報参照）であって、引用発明の磁石として当該周知のものを用いることは、当業者が適宜なし得る事項である。
（相違点３について）
（１）「垂直部の隙間」によって、スリット状の開口部の磁場強度が左右される（本願明細書段落【００３９】及び図５参照）。
　しかしながら、当該部分の磁場強度は、当該隙間の大きさのみならず、陰極の大きさや材質、垂直部の寸法（上記摘記事項（１ａ）段落［００１７］参照）、さらにはヨークの材質や構造等の種々の要因に依存するものであることは、当業者の技術常識である。
　これに対して、本願発明は「垂直部の隙間」以外には、スリット状の開口部の磁場強度を左右する他の要因については規定していない。
　してみると、本願発明が特定のスリット状の開口部の磁場強度を規定したものでないことは明らかである。
（２）同様に「垂直部の隙間」によって、イオンビーム透過率も左右される（同段落【００３３】及び図４参照）。
　しかしながら、イオンビーム透過率は、当該隙間の大きさのみならず、垂直部の高さによっても変化する（同段落【００３４】〜【００３５】）ものと認められる。
  これに対して、本願発明は「垂直部の隙間」以外には、イオンビーム透過率を左右する他の要因については規定していない。
　してみると、本願発明が特定のイオンビーム透過率を規定したものでないことは明らかである。
（３）さらに同様に「垂直部の隙間」によって、最大使用可能圧力も左右される（同段落【００４０】〜【００４２】及び図６参照）。
　しかしながら、最大使用可能圧力は、当該隙間の大きさのみならず、開口部内に形成される磁場の強度（同段落【００４１】）や印加電圧等の種々の要因によっても変化するものと認められる。
　これに対して、本願発明は「垂直部の隙間」以外には、最大使用可能圧力を左右する他の要因については規定していない。
　してみると、本願発明が特定の最大使用可能圧力を規定したものでないことは明らかである。
　
　そして、上記相違点３に係る隙間の大きさが従来のものと比べて大きく異なるものであるという根拠もない。
　してみると、本願発明において、上記相違点に係る構成が従来のものと比べて格別のもにとすることはできず、引用発明に上記相違点３に係る構成を採用することは、種々の要因を総合的に勘案して、当業者が適宜選択しうる事項である。
　
　また、本願発明の効果も引用発明及び周知技術から当業者が予測し得る範囲のものであって格別なものではない。
　
　したがって、本願発明は、引用発明及び周知技術に基づき当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
第３　むすび  
　以上のとおりであるから、本願発明は特許を受けることができない。
　したがって、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。