(57)【要約】本発明の光学ユニットは、Ｘ線光学素子と、前記Ｘ線光学素子を気密に収納する気密容器と、前記気密容器のＸ線入射口及びＸ線出射口に取り付けられたバルブ又は開閉可能な開口機構と、を備えることを特徴とする。また、本発明のＸ線露光装置は、Ｘ線を発生させるＸ線光源と、Ｘ線光源からのＸ線をマスクに照射する照明光学系と、マスクに形成されたパターンの像を感応基板上に投影する投影光学系を構成するＸ線光学素子を収納する光学ユニットと、を有するＸ線露光装置において、前記光学ユニットは、Ｘ線光学素子を気密に収納する気密容器を備え、前記気密容器のＸ線入射口及びＸ線出射口には、バルブ又は開閉可能な開口機構が設けられていることを特徴とする。本発明の光学ユニットおよびＸ線露光装置によれば光学素子表面のコンタミネーションを抑制することができる。その結果、光学素子の反射率低下を抑え、露光装置のスループット低下を抑制することができる。
2004001821.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線光学素子と、
前記Ｘ線光学素子を気密に収納する気密容器と、
前記気密容器のＸ線入射口及びＸ線出射口に取り付けられたバルブ又は開閉可能な開口機構と、
を備えることを特徴とする光学ユニット。
【請求項２】
Ｘ線光学素子と、
前記Ｘ線光学素子を保持する保持部と、
前記Ｘ線光学素子及び前記保持部を気密に収納する気密容器と、
前記気密容器のＸ線入射口及びＸ線出射口に取り付けられたバルブ又は開閉可能な開口機構と、を備え、
前記気密容器の歪が前記保持部に伝達されるのを防ぐように構成されていることを特徴とする光学ユニット。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の光学ユニットであって、
前記バルブ又は開閉可能な開口機構が紫外光あるいは可視光に対して透明な部材からなることを特徴とする光学ユニット。
【請求項４】
請求項１乃至３に記載の光学ユニットであって、
前記気密容器には、さらに気密容器内の気体を排気する排気口と、
この排気口に接続されたバルブ又は開閉可能な開口機構と、
が設けられていることを特徴とする光学ユニット。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の光学ユニットであって、
前記気密容器の内部が真空又は清浄な置換気体で保持されていることを特徴とする光学ユニット。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかに記載の光学ユニットであって、
前記気密容器の外部の大気中からＸ線光学素子の位置、向きを調整する位置調整機構が設けられていることを特徴とする光学ユニット。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれかに記載の光学ユニットであって、
前記Ｘ線光学素子は、マスクに形成されたパターンの像を感応基板上に投影する投影光学系を構成するＸ線光学素子であることを特徴とする光学ユニット。
【請求項８】
請求項７に記載の光学ユニットであって、
前記Ｘ線光学素子は、Ｘ線光源からのＸ線をマスクに照射する照明光学系を構成するＸ線光学素子の一部をさらに含むことを特徴とする光学ユニット。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかに記載の光学ユニットであって、
前記気密容器は概略気密構造となっていることを特徴とする光学ユニット。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれかに記載の光学ユニットであって、
前記気密容器には、さらに温度調節機構が設けられていることを特徴とする光学ユニット。
【請求項１１】
Ｘ線を発生させるＸ線光源と、Ｘ線光源からのＸ線をマスクに照射する照明光学系と、マスクに形成されたパターンの像を感応基板上に投影する投影光学系を構成するＸ線光学素子を収納する光学ユニットと、を有するＸ線露光装置において、
前記光学ユニットは、Ｘ線光学素子を気密に収納する気密容器を備え、前記気密容器のＸ線入射口及びＸ線出射口には、バルブ又は開閉可能な開口機構が設けられていることを特徴とするＸ線露光装置。
【請求項１２】
Ｘ線を発生させるＸ線光源と、Ｘ線光源からのＸ線をマスクに照射する照明光学系と、マスクに形成されたパターンの像を感応基板上に投影する投影光学系を構成するＸ線光学素子を収納する光学ユニットと、を有するＸ線露光装置において、
前記光学ユニットは、Ｘ線光学素子を保持する保持部と、Ｘ線光学素子及び保持部を気密に収納する気密容器と、を備え、前記気密容器のＸ線入射口及びＸ線出射口には、バルブ又は開閉可能な開口機構が設けられていることを特徴とするＸ線露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】  本発明は、Ｘ線光学素子を収納する光学ユニット及びこの光学ユニットを使用したＸ線露光装置に関するものである。
【背景技術】  近年、半導体集積回路の一層の微細化要求に伴い、光の回折限界によって制限される光学系の解像力向上がさらに求められている。その解決策の１つとして、従来の紫外線に代えてこれより短い波長（１１〜１４ｎｍ）のＸ線を使用した投影リソグラフィ技術の開発が進められている（例えば、Ｄ．Ｔｉｃｈｅｎｏｒ，ｅｔ  ａｌ．，ＳＰＩＥ  ２４３７（１９９５）２９２参照）。この技術は、最近ではＥＵＶ（Ｅｘｔｒｅｍｅ  Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）リソグラフィと呼ばれており、従来の波長１９０ｎｍ程度の光線を用いた光リソグラフィでは実現不可能な、７０ｎｍ以下の解像力を得られる技術として期待されている。
Ｘ線領域では全ての物質が強い吸収を持つため一般的な透過屈折型の光学素子（レンズなど）を用いることはできず、極薄い薄膜フィルターや多層膜を形成した反射鏡（ミラー）が光学素子として用いられる。また、Ｘ線は空気にも吸収されるため光路は真空状態とする必要がある。そのためにＸ線ミラー等は、所定の真空度になるように排気装置によって排気された真空チャンバー内に置かれる。以下に、従来のＸ線露光装置の構成の概略を説明する。
図８は、Ｘ線露光装置の概略構成を示す図である。このＸ線露光装置は、主にＸ線光源Ｓ、コンデンサＣ、照明光学系ＩＲ（ＩＲ１、ＩＲ２、ＩＲ３及びＩＲ４等）、マスクＭのステージＭＳ、投影光学系ＰＲ（ＰＲ１、ＰＲ２、ＰＲ３及びＰＲ４）、ウエハＷのステージＷＳ、真空チャンバーＶＣ、排気装置ＶＰ等により構成されている。
Ｘ線光源Ｓには、プラズマ励起用のレーザーＬからなるレーザープラズマ光源や放電プラズマ光源、放射光等が使用される。照明光学系ＩＲは、反射面に斜め方向から入射したＸ線を反射させる斜入射ミラー、反射面が多層膜により形成される多層膜ミラー（ＩＲ１、ＩＲ２、ＩＲ３及びＩＲ４）、および所定の波長のＸ線のみを透過させるフィルター等により構成されている。この照明光学系ＩＲによってマスクＭ上を所望の波長のＸ線で照明する。
Ｘ線の波長域では透明な物質は存在しないので、マスクＭには従来の透過型のマスクの代わりに反射型のマスクが使用される。投影光学系ＰＲは複数（例えば、４枚又は６枚）の多層膜ミラー（ＰＲ１、ＰＲ２、ＰＲ３及びＰＲ４）等により構成されている。マスクＭ上に形成された回路パターンが投影光学系によりレジストが塗布されたウエハＷ上に結像され、レジストに転写される。なお、Ｘ線は大気に吸収されて減衰するため、露光動作を行う際には、その光路は全て真空チャンバーＶＣ内に置かれている。そして、真空チャンバーＶＣの内部は、排気装置ＶＰによって所定の真空度（例えば、１×１０−３Ｐａ以下）に維持されている。
図８に示すＸ線露光装置では、露光動作中はチャンバー内では排気装置ＶＰが働いており、投影光学系ＰＲを構成する多層膜ミラー等のＸ線光学素子は真空中に配置されている。しかし、露光装置の組立て、調整を行う際には、真空チャンバー内は排気されていないので、Ｘ線光学素子は外気にさらされている。また、露光装置のメンテナンスや多層膜ミラー等の交換を行う場合も、真空チャンバー内を大気開放（リーク）する必要があるため、Ｘ線光学素子は外気にさらされることになる。外気は汚染原因物質（例えば、炭化水素を含有する有機ガス等）を含んでおり、この有機ガスによる光学素子のコンタミネーションが問題となっている。以下に、有機ガスによる光学素子のコンタミネーションの発生のメカニズムを簡単に説明する。
外気に含まれる有機ガス分子は、露光装置内のＸ線光学素子の表面に物理吸着する。光学素子の表面に物理吸着した有機ガス分子は、表面上で脱離と吸着とを繰り返しており、そのままでは厚く成長することはない。しかし、露光動作中に光学素子にＸ線が照射されると、光学素子の基板内部で二次電子が発生し、この二次電子が表面に吸着している有機ガス分子を分解して汚染物質である炭素が析出する。このように、吸着したガス分子が次々と分解されて析出されていくので、光学素子の表面には炭素層が形成され、その炭素層の厚さはＸ線の照射量に比例して増加する（Ｋ．Ｂｏｌｌｅｒ  ｅｔ  ａｌ．，Ｎｕｃｌ．Ｉｎｓｔｒ．Ａｎｄ  Ｍｅｔｈ．２０８（１９８３）２７３参照）。
上記のように、多層膜ミラー等の光学素子の表面に炭素層が形成されると、光学素子の反射率が低下してしまうという問題がある。通常、露光装置が設置されるクリーンルーム内の空気は汚染原因物質である有機ガスを多量に含むので、クリーンルーム内での装置組立て時やメンテナンス時に光学素子が外気にさらされると、光学素子の表面に物理吸着する有機ガス分子の数が多くなる。そのため、露光動作中に光学素子にＸ線が照射されると、光学素子の表面に形成される炭素層の厚さが増加し、光学素子の反射率が著しく低下する。Ｘ線型の露光装置は、光学素子の反射率が低下した場合に、スループットが低下してしまうという問題を抱えている。さらには光学素子が外気に曝される事により、外気に含まれる湿気が光学素子の表面に付着し、露光装置内の真空度が上がりにくくなるおそれもある。また、光学素子の表面に付着した水にＸ線が照射されることにより、光学素子の表面が酸化されて反射率が低下するという問題もある。
【発明の開示】
本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであって、多層膜ミラー等のＸ線光学素子表面のコンタミネーションを抑制することができる光学ユニット及びＸ線露光装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明に係る光学ユニットは、Ｘ線光学素子と、前記Ｘ線光学素子を気密に収納する気密容器と、前記気密容器のＸ線入射口及びＸ線出射口に取り付けられたバルブ又は開閉可能な開口機構と、を備えることを特徴とする。
本発明においては、気密容器の内部が真空又は清浄な置換気体で保持されていることが好ましい。
上記光学ユニットは、気密容器のＸ線入射口及びＸ線出射口に開閉可能なバルブ（又は開口機構）を備えている。このバルブを閉じた状態にすることにより、光学ユニットの内部が真空又は清浄な置換気体で保持されるので、内部に収納されている多層膜ミラー等のＸ線光学素子の表面に物理吸着する有機ガス分子の数が少なくなる。したがって、上記光学ユニットを用いることにより光学素子表面のコンタミネーションを抑制することができる。また、上記光学ユニットにおいては、バルブを開いた状態にすることにより気密容器のＸ線入射口及びＸ線出射口が開口となるので、気密容器によるＸ線の吸収を防ぐことができる。
また、本発明に係る光学ユニットは、Ｘ線光学素子と、前記Ｘ線光学素子を保持する保持部と、前記Ｘ線光学素子及び前記保持部を気密に収納する気密容器と、前記気密容器のＸ線入射口及びＸ線出射口に取り付けられたバルブ又は開閉可能な開口機構と、を備えることを特徴とする。
通常、光学ユニットの内部を真空に排気した場合、光学ユニットの外側の大気圧により気密容器が歪む。その結果、気密容器に接続されているＸ線光学素子の変形、位置ずれ等が生じてしまう場合がある。これに対し、上記光学ユニットは、気密容器とは別にＸ線光学素子を保持する保持部を備え、気密容器の歪みが保持部に伝達することを防いでいる。例えば、図５を参照しつつ後述するように、保持部を気密容器から機械構造的に切り離された構造体とし、独立に露光装置上に設置している。したがって、気密容器内を真空に排気した場合でも、保持部に気密容器の歪（変形）は伝わらず、Ｘ線光学素子の変形、位置ずれ等の発生を抑制することができる。
本発明においては、前記バルブ又は開閉可能な開口機構が紫外光あるいは可視光に対して透明な部材からなることが好ましい。これにより光学ユニットの内部が真空又は清浄な置換気体で保持されている状態で、Ｘ線の代わりに簡便なレーザー光等を利用したミラー等の光学系の位置調整が可能となる。
また、本発明においては、気密容器には、さらに気密容器内の気体を排気する排気口と、この排気口に接続されたバルブ又は開閉可能な開口機構とが設けられていることが好ましい。
また、本発明においては、気密容器の外部の大気中からＸ線光学素子の位置、向きを調整する位置調整機構が設けられていることが好ましい。これにより、光学ユニット内を真空又は清浄な置換気体で保持したまま、Ｘ線光学素子の位置や向き等を調整することができる。
本発明においては、Ｘ線光学素子は、マスクに形成されたパターンの像を感応基板上に投影する投影光学系を構成するＸ線光学素子であることが好ましい。さらに、本発明においては、Ｘ線光学素子は、Ｘ線光源からのＸ線をマスクに照射する照明光学系を構成するＸ線光学素子の一部をさらに含むことが好ましい。これにより、Ｘ線投影露光に使用する多くの光学素子に対して、その表面のコンタミネーションを抑制することができる。
なお、本発明においては、気密容器は厳密な気密構造となっていなくても、概略気密構造となっていてもよい。すなわち容器内部と外部との間の通気性（コンダクタンス）が相当程度以上低ければ、多少の気体の流入、流出が可能であっても良い。さらに、本発明においては、気密容器には、さらに温度調節機構が設けられていることが好ましい。
本発明に係るＸ線露光装置は、Ｘ線を発生させるＸ線光源と、Ｘ線光源からのＸ線をマスクに照射する照明光学系と、マスクに形成されたパターンの像を感応基板上に投影する投影光学系を構成するＸ線光学素子を収納する光学ユニットと、を有するＸ線露光装置において、前記光学ユニットは、Ｘ線光学素子を気密に収納する気密容器を備え、前記気密容器のＸ線入射口及びＸ線出射口には、バルブ又は開閉可能な開口機構が設けられていることを特徴とする。
また、本発明に係るＸ線露光装置は、Ｘ線を発生させるＸ線光源と、Ｘ線光源からのＸ線をマスクに照射する照明光学系と、マスクに形成されたパターンの像を感応基板上に投影する投影光学系を構成するＸ線光学素子を収納する光学ユニットと、を有するＸ線露光装置において、前記光学ユニットは、Ｘ線光学素子を保持する保持部と、Ｘ線光学素子及び保持部を気密に収納する気密容器と、を備え、前記気密容器のＸ線入射口及びＸ線出射口には、バルブ又は開閉可能な開口機構が設けられていることを特徴とする。
本発明においては、前記バルブ又は開閉可能な開口機構が紫外光あるいは可視光に対して透明な部材からなることが好ましい。
また、本発明においては、気密容器には、さらに気密容器内の気体を排気する排気口と、この排気口に接続されたバルブ又は開閉可  ｂ能な開口機構とが設けられていることが好ましい。
また、本発明においては、気密容器は照明光学系を構成するＸ線光学素子の一部をさらに収納することが好ましい。
本発明においては、気密容器の外部の大気中からＸ線光学素子の位置、向きを調整する位置調整機構が設けられていることが好ましい。
また、本発明においては、光学ユニットの温度を調整する温度調整機構が気密容器の外部の大気中に設けられていることが好ましい。これにより、装置構造を単純にすることができ、製造コストを低く抑えることができる。
さらに、本発明においては、気密容器は厳密な気密構造となっていなくても、概略気密構造となっていてもよい。すなわち容器内部と外部との間の通気性（コンダクタンス）が相当程度以上低ければ、多少の気体の流入、流出が可能であっても良い。
【図面の簡単な説明】  第１図は、本発明の実施の形態に係る光学ユニットを示す概略構成図である。
第２図は、図１に示す光学ユニットに排気装置（ターボ分子ポンプ等）を取り付けた状態を示す概略構成図である。
第３図は、本発明の実施の形態に係るＸ線露光装置であり、図１に示す光学ユニットを使用したＸ線露光装置を示す概略構成図である。
第４図は、本発明の他の実施の形態に係るＸ線露光装置であり、図１に示す光学ユニットを使用したＸ線露光装置を示す概略構成図である。
第５図は、本発明の他の実施の形態に係る光学ユニットを示す概略構成図である。
第６図は、本発明の別の実施の形態に係る光学ユニットを示す概略構成図である。
第７図は、本発明の別の実施の形態に係るＸ線露光装置であり、図６に示す光学ユニットを使用したＸ線露光装置の光学ユニット近傍を示す概略構成図である。
第８図は、従来のＸ線露光装置の概略構成を示す図である。
第９図は、本発明の他の実施の形態に係るミラー位置調整機構を示す概略構成図である。
【符号の説明】
１０・・・光学ユニット
１１、１２、１３、１４・・・多層膜ミラー
１１ａ、１２ａ、１３ａ、１４ａ・・・保持機構
１１ｂ、１２ｂ、１３ｂ、１４ｂ・・・ミラー位置調整機構
１５・・・気密容器
１６・・・Ｘ線入射口
１７・・・Ｘ線出射口
１８、１９・・・ゲートバルブ
２０・・・水冷ジャケット
２１・・・ターボ分子ポンプ
２２・・・圧力計
２３・・・フランジ
３０・・・Ｘ線露光装置
３１・・・圧力計
３２・・・取り付けコラム
４０・・・Ｘ線露光装置
４１・・・第１真空チャンバー
４２・・・第２真空チャンバー
４３、４４・・・ゲートバルブ
４５・・・温度調節機構
５０・・・光学ユニット
５１、５２、５３、５４・・・多層膜ミラー
５１ａ、５２ａ、５３ａ、５４ａ・・・保持機構
５５・・・気密容器
５６・・・Ｘ線入射口
５７・・・Ｘ線出射口
５８、５９・・・ゲートバルブ
６１・・・ミラー保持部
６２・・・支持部材
６３・・・支持体
６４・・・ベロー管
６５・・・支持部材
７０・・・光学ユニット
７１、７２、７３、７４・・・多層膜ミラー
７１ａ、７２ａ、７３ａ、７４ａ・・・保持機構
７５・・・気密容器
７６・・・Ｘ線入射口
７７・・・Ｘ線出射口
７８、７９・・・開口機構
８１・・・流入スロット
８２・・・流出スロット
８３・・・バルブ
８４・・・フィルター
８５・・・供給源（ボンベ）
８６・・・バルブ
８７・・・圧力計
９０・・・Ｘ線露光装置
９１・・・気体導入用配管
９２・・・フィードスルーフランジ
１００・・ミラー
１０１・・ミラー台
１０２・・ガイド
１０３・・隔壁
１０４・・ピエゾ素子
１０５・・戻しバネ
発明を実施するための形態
以下、図面を参照しつつ説明する。
図１は、本発明の実施の形態に係る光学ユニットを示す概略構成図である。光学ユニット１０は、投影光学系を構成する複数（図１では４枚）の多層膜ミラー１１、１２、１３及び１４を気密に収納する気密容器１５を有している。多層膜ミラーとしては、例えば、基板上にＭｏ／Ｓｉ多層膜やＭｏ／Ｂｅ多層膜等を成膜したものを用いることができる。多層膜ミラー１１、１２、１３及び１４はそれぞれ保持機構１１ａ、１２ａ、１３ａ及び１４ａを介して気密容器１５に取り付けられている。各保持機構１１ａ〜１４ａは、気密容器１５内を真空に排気した時に気密容器の歪みが多層膜ミラー１１〜１４に伝わらないように、緩衝機構を備えていることが好ましい。緩衝機構はミラークランプ、熱膨張逃がし板バネ機構、ピエゾ素子型の位置・姿勢微調整アクチュエータ等を含むものとすることができる。
さらに、光学ユニット１０内を真空に保持した状態で、多層膜ミラー１１〜１４の位置や向き等を調整することができるように、光学ユニット１０にはミラー位置調整機構１１ｂ〜１４ｂが設けられていることが好ましい。ミラー位置調整機構１１ｂ〜１４ｂによって、光学ユニット１０の外部（大気側）から光学ユニット１０の内部（真空側）に変位を伝達し、多層膜ミラーの調整を行う。
一例としてのミラー位置調整機構１１ｂ〜１４ｂは、図９に示すように気密容器１５の一部分をなす薄い金属箔（例えば、厚さ０．１ｍｍ以下のステンレス等の薄板）からなる隔壁１０３を有する。そして、同隔壁の気密容器１５の内側には、ミラー１００を載置するミラー台１０１と、同ミラー台を案内するガイド１０２とが設けられている。一方、気密容器１５の外側には、隔壁１０３を挟んでミラー台１０１と対向するピエゾ素子１０４と、ミラー台１０１をピエゾ素子１０４に常に押し付けるように気密容器１５とミラー台１０１の間に付勢状態で取り付けられた戻しバネ１０５が設けられている。ミラー１００の移動は、ミラー台１０１をピエゾ素子１０４の駆動力で押すか、戻しバネ１０５の縮む力で引き戻すかして行う。このようにミラー１００を載せたミラー台１０１の位置が、ピエゾ素子１０４と戻しバネ１０５を組み合わせることにより、大気側から押し引き可能となり、多層膜ミラーの位置の調整ができる。
なお、ミラー位置調整機構としては、他に磁気を利用したものを用いることができる。磁気を利用する場合、真空側のミラー保持機構等に内部磁石を取り付けておき、大気側にこの内部磁石と磁気結合された外部磁石を配する。そして、外部磁石を大気側で移動することにより真空側の内部磁石を固定したミラー保持機構に変位を伝達し、多層膜ミラーの調整を行う。
上記調整機構においては、ゲートバルブ１８、１９が紫外光あるいは可視光に対して透明な部材（例えば、ガラス等）で作製されていることが好ましい。これにより、光学ユニット１０の内部を真空に保持した状態で、Ｘ線の代わりに簡便なレーザー光等を利用したミラー等の光学系の位置調整が可能となる。
気密容器１５は、温度変化による気密容器の伸び縮みによる多層膜ミラーの変形、位置ずれ等の発生を抑制するために、インバー等の低熱膨張材で作製されている。また、真空排気されたときに放出されるアウトガスが少なくなるように、気密容器１５の内外両側の表面には電解研磨が施されている。さらに、気密容器１５の外部には、光学ユニット１０の温度を調整するための水冷ジャケット２０等の温度調整機構が設けられていることが好ましい。
気密容器１５のＸ線入射口１６とＸ線出射口１７にはそれぞれゲートバルブ１８、１９が設けられている。ゲートバルブ１８、１９は一例として圧縮ガスによるシリンダ機構で開閉を行えるもの（市販のものなど）を使用できる。ゲートバルブ１８、１９を閉じた状態にすることにより、光学ユニット１０はその内部を密閉できる構造となっている。また、ゲートバルブ１８、１９を開いた状態にすることにより、気密容器１５のＸ線入射口１６とＸ線出射口１７は開口となる。
光学ユニット１０の外部に配置されたマスクで反射、回折されたＸ線は、気密容器１５のＸ線入射口１６を通って気密容器内に入射する。気密容器１５内に入射したＸ線は、多層膜ミラー１１〜１４で反射された後、気密容器１５のＸ線出射口１７を通って光学ユニット１０の外部に出射し、レジストが塗布された感応基板（ウエハ）上に照射される。これにより、マスクに形成されたパターンの像がウエハ上に投影される。
次に、図１の光学ユニット１０のメンテナンスあるいは調整をする場合の手順の一例について説明する。まずゲートバルブ１８、１９が閉められる。真空に保たれた状態で光学ユニット１０が露光装置から外される。
次に、光学ユニット１０はきれいな雰囲気に保たれた整備室等に運びこまる。そして、光学ユニット内に清浄なガス（例えば、Ｄｒｙ  Ｎ２、Ｄｒｙ  Ｈｅ、Ｄｒｙ  Ａｉｒなど）を大気圧と等しくなるまで注入した後、ゲートバルブ１８、１９が開けられてここで初めて大気圧状態となる。メンテナンス、調整を終えてからゲートバルブ１８、１９が閉められ、光学ユニット内は再び真空排気され露光装置に組み込まれる。
この光学ユニット１０内を真空に排気する場合について、図２を参照しつつ説明する。図２は、図１に示す光学ユニット１０に排気装置（ターボ分子ポンプ等）を取り付けた状態を示す概略構成図である。
光学ユニット１０内を真空排気する最初の手順は、気密容器１５のＸ線入射口１６に取り付けられているゲートバルブ１８にターボ分子ポンプ２１が接続される。そして、ゲートバルブ１８が開かれ、ゲートバルブ１９が閉じられた状態でターボ分子ポンプ２１が光学ユニット１０内を排気する。このとき、圧力計２２により気密容器１５内の圧力が測定され、その測定値に基づいて制御装置（図示されず）により排気速度が調整されることが好ましい。このような手順をとることによって、光学ユニット１０内での急激な圧力差の発生を防ぎ、この圧力差に起因する多層膜ミラーの変形、位置ずれ等の発生を抑制することができる。光学ユニット１０内の真空度が所定値（例えば、１×１０−３Ｐａ以下）に達した後、ゲートバルブ１８は閉じられて、ターボ分子ポンプ２１は取り外される。これにより、光学ユニット１０内は真空に保持される。
なお、本実施の形態では、真空排気用のターボ分子ポンプはＸ線入射口側のゲートバルブに取り付けられているが、Ｘ線出射口側のゲートバルブでも良い。また、Ｘ線入射口側のゲートバルブ、Ｘ線出射口側のゲートバルブとは別の部分にターボ分子ポンプが取り付けられても良い。例えば、ターボ分子ポンプは気密容器内の気体を排気する排気口に接続されたゲートバルブに取り付けても良い。
また、本実施の形態では、Ｘ線入射口等にゲートバルブが設けられているが、本発明はこれに限定されるものではなく、バルブ又は開閉可能な開口機構であればどのようなものでも良い。例えば、ボールバルブ又はバタフライバルブ等を用いても良い。
上記のように、図１に示す光学ユニット１０は、その内部を真空に保持することができるので、内部に収納された光学素子の表面に物理吸着する有機ガス分子の数が少なくなる。したがって、光学ユニット１０は光学素子表面のコンタミネーションを抑制することができる。
次に、図１に示す光学ユニットを使用したＸ線露光装置について、図３を参照しつつ説明する。図３は、本発明の実施の形態に係るＸ線露光装置であり、図１に示す光学ユニットを使用したＸ線露光装置を示す概略構成図である。
図３に示すように、Ｘ線露光装置３０は、主にＸ線光源Ｓ、コンデンサＣ、照明光学系ＩＲ（ＩＲ１、ＩＲ２、ＩＲ３及びＩＲ４等）、マスクＭのステージＭＳ、投影光学系を有する光学ユニット１０、ウエハＷのステージＷＳ、真空チャンバーＶＣ、排気装置ＶＰ等により構成されている。ここで、光学ユニット１０は以下のようにしてＸ線露光装置３０に組み込まれたものである。
光学ユニット１０がＸ線露光装置３０に組み込まれる手順は次のとおりである。まず最初に、光学ユニット１０の内部が真空に保持された状態で、露光装置３０内の取り付けコラム３２に、光学ユニット１０外面のフランジ２３において固定され取り付けられる。そして、ゲートバルブ１８、１９の駆動のために、ゲートバルブ１８、１９のそれぞれに圧縮ガス用の配管（ガス流入用及びガス流出用；図示されず）が接続される。各圧縮ガス配管（図示されず）は、真空チャンバーＶＣの壁を介して真空チャンバー外の配管に取り付けられている。圧縮ガスとしては、万が一ガスが真空チャンバーＶＣ内に漏れた場合でも汚染の原因にならないように、ヘリウム（Ｈｅ）、アルゴン（Ａｒ）、クリプトン（Ｋｒ）、キセノン（Ｘｅ）等の希ガスや窒素（Ｎ２）ガス等が用いられる。この状態で真空チャンバーＶＣ内の排気を開始し、真空チャンバー内の真空度が所定値（例えば、１×１０−３Ｐａ以下）に達した後、ゲートバルブ１８、１９が開かれる。これにより、Ｘ線露光装置の組立て時において、光学ユニット１０内は真空に保つことができる。
光学ユニット１０がＸ線露光装置３０に組み込まれた後、露光動作が開始され、マスクＭに形成されたパターンの像がレジストの塗布されたウエハＷ上に投影される。図３に示すＸ線露光装置３０では、Ｘ線光源Ｓには、プラズマ励起用のレーザーＬからなるレーザープラズマ光源の他に放電プラズマ光源や放射光等が使用される。照明光学系ＩＲは、反射面に斜め方向から入射したＸ線を反射させる斜入射ミラー、反射面が多層膜により形成される多層膜ミラー、および所定の波長のＸ線のみを透過させるフィルター等により構成されている。この照明光学系によって反射型のマスクＭ上を所望の波長のＸ線で照明する。
光学ユニット１０内に収納された投影光学系は複数（図３では４枚）の多層膜ミラー１１〜１４等により構成されている。マスクＭ上に形成された回路パターンは、投影光学系によりレジストが塗布されたウエハＷ上に結像され、レジストに転写される。なお、Ｘ線は大気に吸収されて減衰するため、露光動作を行う際には、その光路は全て真空チャンバーＶＣ内に置かれている。そして、真空チャンバーＶＣ内は、排気装置ＶＰによって所定の真空度に維持されている。これにより、露光動作時において、光学ユニット１０内は真空に保たれる。
所定の期間露光が行われた後に、Ｘ線露光装置３０のメンテナンス等で真空チャンバーＶＣが大気開放（リーク）される場合には、ゲートバルブ１８、１９が閉じられた後、真空チャンバーＶＣ内がリークされる。この手順により、露光装置のメンテナンス等で真空チャンバーＶＣ内がリークされる場合でも、光学ユニット１０内は真空に保たれる。
なお、真空チャンバーＶＣ内が排気又はリークされる場合には、圧力計３１により真空チャンバーＶＣ内の圧力が測定され、その測定値に基づいて制御装置（図示されず）により排気速度又はリーク速度が調整されることが好ましい。この手順により、光学ユニット１０内での急激な圧力差の発生が防がれ、この圧力差に起因する多層膜ミラーの変形、位置ずれ等の発生が抑制される。
上記のように、図３に示すＸ線露光装置３０は、Ｘ線露光装置の組立て、露光動作及びメンテナンス時に、光学ユニット１０内が真空に保持されているので、光学ユニット内部に収納された多層膜ミラー等の光学素子の表面に物理吸着する有機ガス分子の数が少なくなる。また、ゲートバルブ１８、１９が閉じた状態で真空チャンバーＶＣ内がリークされているので、Ｘ線露光装置３０のリーク時にチャンバーＶＣ内で舞い上がった微粒子が光学ユニット１０の内部に侵入することを防いでいる。したがって、ユニット１０内の光学素子表面のコンタミネーションを抑制することができる。
なお、本実施の形態では、ゲートバルブを駆動するために圧縮ガスが用いられているが、本発明はこれに限定されるものではなく、ゲートバルブの開閉が遠隔操作できるものであればどのような方式でも良い。例えば、電気的に駆動するようなものであれば、本実施の形態のようにガス配管の必要がなくなるので、光学ユニットの設置作業が容易になる。また、ゲートバルブの他に、ボールバルブ又はバタフライバルブ等が用いられても良い。
また、本実施の形態では、光学ユニット１０内に投影光学系を構成する多層膜ミラーが収納されているが、さらに、照明光学系を構成する多層膜ミラーの一部（例えばＩＲ４）が同一の光学ユニット１０内に収納されても良い。Ｘ線露光装置の光学系は反射系であるので、投影光学系を構成する多層膜ミラーと照明光学系を構成する多層膜ミラーが近接して配置されている。そのため、投影光学系と照明光学系の一部が同一の光学ユニットに収納されることが可能であり、より多くの光学素子に対して、光学素子の表面のコンタミネーションを抑制することができる。
次に、図３に示すＸ線露光装置３０の変形例について、図４を参照しつつ説明する。図４は、本発明の他の実施形態に係るＸ線露光装置であり、図１に示す光学ユニットを使用したＸ線露光装置を示す概略構成図である。
図４に示すＸ線露光装置４０の光学ユニット１０は真空チャンバー内に配置されるのではなく、大気中に置かれる。図３に示すＸ線露光装置では、光学ユニットが真空チャンバー内に配置されているため、光学ユニットの外部から温度調整を行うための冷媒等を真空中に導入する必要がある。そのため、装置構造が複雑となり製造コストが高くなる可能性がある。そこで、図４に示すＸ線露光装置４０では、光学ユニット１０の外面が大気に露出するように構成し、温度調整機構４５等を大気中に設けることができるようにしている。
具体的には、Ｘ線露光装置４０は、第１真空チャンバー４１、光学ユニット１０、第２真空チャンバー４２及び排気装置ＶＰ等により構成されている。そして、最下部の第２真空チャンバー４２の上に光学ユニット１０が載り、さらにその上に第１真空チャンバー４１が載る構造となっている。第１真空チャンバー４１にはゲートバルブ４３が付設されており、ゲートバルブ４３と光学ユニット１０のゲートバルブ１８とは接続可能である。また、第２真空チャンバー４２にはゲートバルブ４４が付設されており、ゲートバルブ４４と光学ユニット１０のゲートバルブ１９とは接続可能である。なお、図には示していないが、第１真空チャンバー４１の内部には、主にＸ線光源、コンデンサ、照明光学系、マスク、マスクステージ等が設けられている。また、第２真空チャンバー４２の内部には、ウエハ、ウエハステージ等が設けられている。排気装置ＶＰは、第１真空チャンバー４１及び第２真空チャンバー４２の内部を別々に真空排気することができる。光学ユニット１０には、その外部にミラー等を冷却するための冷媒供給用配管等の温度調節機構４５が設けられている。
光学ユニット１０をＸ線露光装置４０に組み込む最初の手順は、第１真空チャンバー４１、光学ユニット１０、第２真空チャンバー４２のそれぞれの内部を所定の真空度（例えば、１×１０−３Ｐａ以下）に排気する。そして、ゲートバルブ１８とゲートバルブ４３を接続して、光学ユニット１０に第１真空チャンバー４１を取り付ける。また、ゲートバルブ１９とゲートバルブ４４を接続し、光学ユニット１０に第２真空チャンバー４２を取り付ける。このように第１真空チャンバー４１、光学ユニット１０、第２真空チャンバー４２を接続した後に、ゲートバルブ１８、１９、４３及び４４を開く。その後、排気装置ＶＰが作動した状態で、Ｘ線の光路は所定の真空度に維持されて露光動作が行なわれる。
なお、本実施の形態では、光学ユニット１０が取り付けられる前にあらかじめ第１真空チャンバー４１及び第２真空チャンバー４２の内部が所定の真空度に排気されているが、光学ユニット１０に第１真空チャンバー４１及び第２真空チャンバー４２が取り付けられた後に、各真空チャンバー４１、４２の内部が真空に排気されても良い。この場合、各真空チャンバー４１、４２内の真空度が所定値に達した後、ゲートバルブ１８、１９、４３及び４４が開かれ、露光が行われる。
所定の期間露光が行われた後で、Ｘ線露光装置４０のメンテナンス等のために第１真空チャンバー４１、第２真空チャンバー４２がリークされる場合には、ゲートバルブ１８、１９、４３及び４４が閉じられた後、それぞれの真空チャンバー内がリークされる。
上記のように、図４に示すＸ線露光装置４０は、Ｘ線露光装置の組立て、露光動作及びメンテナンス時に、光学ユニット１０内が真空に保持されているので、光学ユニット内部に収納された多層膜ミラー等の光学素子の表面に物理吸着する有機ガス分子の数が少なくなる。したがって、Ｘ線露光装置４０は、光学素子表面のコンタミネーションを抑制することができる。さらに、光学ユニット１０の外部に配置されている温度調整機構４５は大気中に付設されることが可能であるので、光学ユニットの構造は単純化され、製造コストは低く抑えられる。
次に、図１に示す光学ユニット１０の変形例について、図５を参照しつつ説明する。図５は、本発明の他の実施形態に係る光学ユニットを示す概略構成図である。
図５に示す光学ユニット５０は、気密容器５５とは独立のミラー保持機構５１ａ〜５４ａを接続するミラー保持部６１を設けている。図１に示す光学ユニット１０が真空に排気された場合、大気圧により気密容器１５が歪み、気密容器１５に接続されているミラー保持機構１１ａ〜１４ａが緩衝機構を備えているにもかかわらず多層膜ミラーの変形、位置ずれ等が生じてしまう場合がある。そこで、図５に示す光学ユニット５０では、気密容器５５とは独立のミラー保持部６１により、気密容器５５の歪みがミラーを保持しているミラー保持部６１に伝達しない。
具体的には、図５に示す光学ユニット５０は、投影光学系を構成する複数（図５では４枚）の多層膜ミラー５１、５２、５３及び５４を有している。多層膜ミラー５１、５２、５３及び５４はそれぞれ保持機構５１ａ、５２ａ、５３ａ及び５４ａを介してミラー保持部６１に取り付けられている。ミラー保持部６１はインバー製であり、温度変化による伸び縮みが少なく、そのためミラーの変形、位置ずれ等が生じにくい。気密容器５５はミラー保持部６１を覆っているがミラー保持部６１とは接触していない。
ミラー保持部６１は支持部材（脚）６２により支持体（台）６３に接続されている。支持部材６２は円周状に等間隔で（例えば、３個の支持部材が１２０度間隔で）配置されている。気密容器５５と支持体６３の間にはベロー管６４が支持部材６２の周りを取り囲んで設けられている。支持部材６２は、ベロー管６４と接触しないようにベロー管６４の中を通して支持体６３に接続されている。また、気密容器５５は支持部材６５により支持体６３に接続されている。支持部材６５も円周状に等間隔で（例えば、３個の支持部材が１２０度間隔で）配置されている。支持部材６２と６５はお互いに干渉しないように６０度ずらして配置されている。また、ミラー保持部６１と気密容器５５は、真空排気されたときに放出されるアウトガスが少なくなるように、その表面に電解研磨が施されている。
気密容器５５のＸ線入射口５６には圧縮ガスによるシリンダ機構で開閉するゲートバルブ５８が設けられている。また、気密容器５５のＸ線出射口５７には同じく圧縮ガスによるシリンダ機構で開閉するゲートバルブ５９が設けられている。このように、光学ユニット５０はその内部を密閉できる構造となっている。また、ゲートバルブ５８には排気装置（ターボ分子ポンプ等）を取り付けることができるようになっている。
光学ユニット５０内を真空状態にする場合には、気密容器５５のＸ線入射口５６に取り付けられているゲートバルブ５８にターボ分子ポンプが接続される。そして、ゲートバルブ５８が開かれ、ゲートバルブ５９が閉じられた状態でターボ分子ポンプが作動し、光学ユニット５０内が排気される。光学ユニット５０内の真空度が所定値（例えば、１×１０−３Ｐａ以下）に達した後、ゲートバルブ５８が閉じられて、ターボ分子ポンプが外される。これにより、光学ユニット５０内を真空に保持することができる。
上記のように、光学ユニット５０内を真空に排気した場合でも、本実施の形態によれば、ミラー保持機構を接続するミラー保持部６１が気密容器５５とは独立に設けられているので、気密容器５５の歪みがミラーを保持しているミラー保持部６１に伝達しない。このため、光学ユニット５０は多層膜ミラーの変形、位置ずれ等の発生を抑制することができる。
光学ユニット５０がＸ線露光装置３０に組み込まれる最初の手順は、光学ユニット５０の内部が真空に保持された状態で、露光装置内の取り付けコラム（例示；図３参照）等に支持体６３が取り付けられる。そして、ゲートバルブ５８、５９の駆動のために、ゲートバルブ５８、５９のそれぞれに圧縮ガス用の配管（図示されず）が接統される。各圧縮ガス配管（図示されず）は、露光装置の真空チャンバーＶＣの壁を介して真空チャンバー外の配管に取り付けられている。圧縮ガスとしては、万が一ガスが真空チャンバー内に漏れた場合でも汚染の原因にならないように、Ｈｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅ等の希ガスやＮ２ガス等が用いられる。この状態で真空チャンバー内の排気を開始し、真空チャンバー内の真空度が所定値に達したら、ゲートバルブ５８、５９が開かれ、露光が行われる。
所定の期間露光を行った後、Ｘ線露光装置のメンテナンス等で真空チャンバーＶＣが大気開放（リーク）される場合には、ゲートバルブ５８、５９が閉じられた後、真空チャンバー内がリークされる。
上記のように、図５に示す光学ユニット５０を使用したＸ線露光装置は、Ｘ線露光装置の組立て、露光動作及びメンテナンス時に、光学ユニット５０内が真空に保持されているので、光学ユニット内部に収納された多層膜ミラー等の光学素子の表面に物理吸着する有機ガス分子の数が少なくなる。したがって、光学素子表面のコンタミネーションを抑制することができる。さらに、光学ユニット５０内が真空に排気された場合でも、気密容器５５の歪みがミラーを保持しているミラー保持部６１に伝達しない構造になっているので、多層膜ミラーの変形、位置ずれ等の発生を抑制することができる。
次に、図１に示す光学ユニット１０の他の変形例について、図６を参照しつつ説明する。図６は、本発明の別の実施形態に係る光学ユニットを示す概略構成図である。図６に示す光学ユニット７０は、その内部が真空に排気されるのではなく、微粒子やミラー汚染の原因となる有機物等が排除された清浄な置換気体で置換される。
具体的には、図６に示す光学ユニット７０は、投影光学系を構成する複数（図６では４枚）の多層膜ミラー７１、７２、７３及び７４を気密に収納する気密容器７５を有している。多層膜ミラー７１、７２、７３及び７４はそれぞれ保持機構７１ａ、７２ａ、７３ａ及び７４ａを介して気密容器７５に取り付けられている。気密容器７５は概略密閉構造となっており、容器内部と外部との間の通気性（コンダクタンス）は相当程度以上低いけれども、多少の気体の流入、流出が可能である。気密容器７５のＸ線入射口７６には開閉可能な開口機構７８が設けられている。また、気密容器７５のＸ線出射口７７には開口機構７９が設けられている。この開口機構７８、７９は、例えば電磁シャッターであり、外部からの電気信号により開閉を行うことができる。
気密容器７５には、さらに置換気体の流入スロット８１、流出スロット８２が設けられている。置換気体の流入スロット８１には、気密容器７５の外部に設置されたバルブ８３、フィルター８４、置換気体の供給源（ボンベ）８５が配管を介して接続されている。ボンベ８５には高純度のＡｒが入っており、ボンベ８５から出たＡｒガスは、フィルター８４（微粒子フィルター、ケミカルフィルター等）で不純物を除去された後、バルブ８３を通って気密容器７５内に流入する。また、流出スロット８２には、気密容器７５の外部に設置されたバルブ８６が接続されている。このバルブ８６を開けることにより、気密容器７５内のガスは外部に流出される。
光学ユニット７０内を清浄なＡｒガスに置換する場合、電磁シャッター（開口機構）７８、７９が閉じられ、バルブ８３、８６は開けた状態で高純度のＡｒガスが光学ユニット７０内に導入される。このとき、圧力計８７により気密容器７５内の圧力が測定され、その測定値に基づいて制御装置（図示されず）によりバルブ８３、８６の開閉量が気密容器７５内の圧力が外圧と同じか極僅かに高くなるように調整される。これにより、光学ユニット７０内のガスは汚染原因物質を含まない清浄な置換気体に置換され、その状態を保持することができる。
なお、本実施の形態では、置換気体にＡｒガスを用いているが、本発明はこれに限定されるものではなく、Ｈｅ、Ｋｒ、Ｘｅ等の希ガスやＮ２ガス等を用いても良い。また、図１と同様に、気密容器７５の外部に水冷ジャケット等の温度調節機構を設け、光学ユニット７０の温度を一定に保つように制御しても良い。
上記のように、図６に示す光学ユニット７０は、その内部を清浄な置換気体で保持することができるので、内部に収納された多層膜ミラー等の光学素子の表面に物理吸着する有機ガス分子の数が少なくなる。したがって、光学ユニット７０は光学素子表面のコンタミネーションを抑制することができる。
次に、図６に示す光学ユニットを使用したＸ線露光装置について、図７を参照しつつ説明する。図７は、本発明の別の実施形態に係るＸ線露光装置であり、図６に示す光学ユニットを使用したＸ線露光装置の光学ユニット近傍を示す概略構成図である。
光学ユニット７０をＸ線露光装置９０に組み込む場合には、光学ユニット７０は、内部が清浄な置換気体で保持された状態で、露光装置内の取り付けコラム（例示；図３参照）等に取り付けられる。そして、バルブ８３、８６が閉じられ、光学ユニット７０からフィルター８４及びボンベ８５が取り外された後、バルブ８３に気体導入用の配管９１が取り付けられる。この気体導入用配管９１は、Ｘ線露光装置９０の真空チャンバーＶＣのフィードスルーフランジ９２に接続されている。フィードスルーフランジ９２には、真空チャンバーＶＣの外部に設置されたフィルター、高純度のＡｒが入ったボンベが配管を介して接続されていて、その構造により不純物を除去されたＡｒガスをバルブ８３を介して気密容器７５内に導入させることができる。Ａｒガス導入時には、バルブ８３、８６は開けた状態にする。
真空チャンバーＶＣ内を真空排気する場合には、バルブ８３、８６を閉じ、電磁シャッター７８、７９を開けて光学ユニット７０内のＡｒガスが排気される。これにより、光学ユニット７０内外の圧力差が生じないようにすることができる。真空チャンバーＶＣ内の真空度が所定値（例えば、１×１０−３Ｐａ以下）に達した後、露光を行う。
所定の期間露光が行われた後に、Ｘ線露光装置のメンテナンス等で真空チャンバーＶＣがリークされる場合には、電磁シャッター７８、７９が閉じられた後、真空チャンバーＶＣ内がリークされる。このとき、圧力計８７により気密容器７５内の圧力が測定され、また、圧力計（図示されず）により真空チャンバーＶＣ内の圧力が測定され、その測定値に基づいて制御装置によりバルブ８３、８６の開閉量及び真空チャンバーＶＣ内に注入するガス量が調整されて、気密容器７５内外の圧力差が生じないように高純度Ａｒガスが導入される。真空チャンバーＶＣ内のリークが完了したら、気密容器７５内の圧力が外圧と同じか極僅かに高くなるように維持される。
上記のように、図７に示すＸ線露光装置９０は、Ｘ線露光装置の組立て及びメンテナンス時に、光学ユニット７０内が清浄な置換気体で保持されるので、内部に収納された多層膜ミラー等の光学素子の表面に物理吸着する有機ガス分子の数が少なくなる。また、電磁シャッター７８、７９が閉じた状態で真空チャンバーＶＣがリークされているので、リーク時にチャンバー内で舞い上がった微粒子が光学ユニット７０の内部に侵入することを防いでいる。したがって、Ｘ線露光装置９０は光学素子表面のコンタミネーションを抑制することができる。また、真空チャンバーＶＣ内が排気される際に、光学ユニット７０内も真空に排気されているので、露光動作が通常通り行われる。
なお、本実施の形態では、気密容器７５内のガスを外部に流出する流出スロット８２を設けているが、電磁シャッター７８、７９又は気密容器７５からガスが流出可能であれば、流出スロットを設けなくても良い。
また、気密容器７５内外の僅かな圧力差により多層膜ミラーの変形、位置ずれ等が発生する場合には、図５に示す光学ユニット５０と同様に、気密容器とは独立にミラー保持部が設けられることが好ましい。このとき、外側の気密容器に置換気体の流入スロット、流出スロット、圧力計、電磁シャッター等が設けられれば良い。電磁シャッターは、紫外光や可視光に対して透明な部材で作製されていることが好ましい。これにより、光学ユニットの内部を清浄なガスで置換した状態で、紫外光や可視光のレーザー等を用いてミラー等の光学系の位置調整を行うことができる。
以上、本発明の実施の形態に係る光学ユニット及びこの光学ユニットを使用したＸ線露光装置について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、様々な変更を加えることができる。
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の光学ユニット及びＸ線露光装置によれば、Ｘ線露光装置の組立て、露光動作及びメンテナンス時に、光学ユニット内部に収納された多層膜ミラー等の光学素子の表面に物理吸着する有機ガス分子の数を少なくすることができる。したがって、光学素子表面のコンタミネーションを抑制することができる。その結果、光学素子の反射率低下を抑え、露光装置のスループット低下を抑制することができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【国際調査報告】
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