(57)【要約】      （修正有）【課題】排ガス中のダストや水溶性ガスを高い効率で容易に除去して、排ガス分析装置のトラブルを低減できる排ガス浄化装置等、および排ガスサンプリング装置を提供する。【解決手段】排ガス浄化装置は、水の流入により生じた負圧によって吸引した排ガスを洗浄するためのエジェクタ１と、該エジェクタから流出した排ガスおよび水の混合流体から、洗浄された排ガスと水を分離するための気水分離器２を少なくとも含む装置である。また、排ガスサンプリング装置は、（Ａ）ロータリーキルンの窯尻に設置した排ガスの採取管、（Ｂ）フィルタ、（Ｃ）エジェクタ、および（Ｄ）気水分離器を少なくとも含み、エジェクタ１と気水分離器２の流入部２１の高低差が３〜６ｍである装置である。【選択図】図１
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
水の流入により生じた負圧によって吸引した排ガスを洗浄するためのエジェクタと、
該エジェクタから流出した排ガスおよび水の混合流体から、洗浄された排ガスと水を分離するための気水分離器を
少なくとも含む、排ガス浄化装置。
【請求項２】
（Ａ）ロータリーキルンの窯尻に設置した排ガスの採取管、（Ｂ）フィルタ、（Ｃ）エジェクタ、および（Ｄ）気水分離器を少なくとも含み、エジェクタと気水分離器の流入部の高低差が３〜６ｍである、排ガスサンプリング装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、排ガス中のダストや水溶性ガスを高い除去率で容易に除去して、排ガス分析装置のトラブルを低減できる排ガス浄化装置等に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、セメント製造時の運転状況を把握するため、ロータリーキルンの窯尻から排ガスの採取管を通じて排ガスの一部をサンプリングし、排ガス中の一酸化炭素と酸素の濃度を主に測定している。
しかし、排ガスには、一酸化炭素や酸素のほかに、ダストや、二酸化硫黄、塩素、およびアンモニア等の水溶性ガスが含まれている。そこで、従来、図３に示す排ガスサンプリング装置を用いてサンプリングした排ガスは、フィルタを通してダスト等を除去した後、さらに水タンク内でバブリングして水溶性ガスを除去し、一酸化炭素や酸素の測定に供していた。ところが、ダストはフィルタ、採取管および分析装置の中で詰まり易く、また、水溶性ガスの濃度が高い場合、水溶性ガスはバブリングでは除去しきれないため、一酸化炭素や酸素の濃度の測定精度が低下するほか、水溶性ガスが酸性であれば、分析装置内が腐食して故障する頻度が増加した。
【０００３】
そこで、排ガスのサンプリングを継続して円滑に行うことができる排ガス分析用サンプリング装置が提案されている（特許文献１）。該装置の構成は、具体的には、(i)排ガス洗浄器に接続され、下端部が水封された誘導管と、(ii)該誘導管から斜めに立ち上がって分岐された短尺なガス導入管と、(iii)該ガス導入管に接続された水エジェクタと、(iv)該水エジェクタに接続された水循環配管と、(v)該水循環配管に介装された気水セパレータとを備え、該排ガス洗浄器が加熱炉へと接続され、また該気水セパレータが分析計へと接続された装置である。しかし、該装置は構成が複雑であるため、より簡素な装置が望まれていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】実開平０７−５０４５号公報
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００５】
そこで、本考案は、排ガス中のダストや水溶性ガスを高い除去率で容易に除去して、排ガス分析装置のトラブルを低減できる、より簡素な排ガス浄化装置等を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本考案者は、前記目的を達成できる装置を種々検討したところ、エジェクタの負圧を利用して排ガスを吸引し、この吸引した排ガスと水をエジェクタ内で混合して排ガスを洗浄すれば、ダストや水溶性ガスを高い除去率で容易に除去できることを見い出し、本考案を完成させた。すなわち、本考案は、下記の構成を有する排ガス浄化装置と排ガスサンプリング装置である。
【０００７】
［１］水の流入により生じた負圧によって吸引した排ガスを洗浄するためのエジェクタと、
該エジェクタから流出した排ガスおよび水の混合流体から、洗浄された排ガスと水を分離するための気水分離器を
少なくとも含む、排ガス浄化装置。
［２］（Ａ）ロータリーキルンの窯尻に設置した排ガスの採取管、（Ｂ）フィルタ、（Ｃ）エジェクタ、および（Ｄ）気水分離器を少なくとも含み、エジェクタと気水分離器の流入部の高低差が３〜６ｍである、排ガスサンプリング装置。
【考案の効果】
【０００８】
本考案の排ガス浄化装置は、排ガス中のダストや水溶性ガスを高い除去率で容易に除去して、排ガス分析装置のトラブルを低減できる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本考案の排ガス浄化装置の概要図である。
【図２】本考案の排ガス浄化装置を備えた、排ガスサンプリング装置の概要図である。
【図３】従来の排ガスサンプリング装置の概要図である。
【考案を実施するための形態】
【００１０】
本考案は、前記のとおり、水の流入により生じた負圧によって吸引した排ガスを洗浄するためのエジェクタと、該エジェクタから流出した排ガスおよび水の混合流体から、洗浄された排ガスと水を分離するための気水分離器を少なくとも含む、排ガス浄化装置等である。
以下、本考案を図１と図２を用いて説明する。
【００１１】
本考案の排ガス浄化装置は、少なくとも、エジェクタ１と気水分離器２から構成されている。
水がエジェクタ１の流入部１１から流入すると、エジェクタ１内は負圧になり、ロータリーキルン内の排ガスはエジェクタ１の吸気部１２から流入して、水と混じり合い混合流体になる。エジェクタ１の中央部がテーパ状に細くなっていて流速が増しているため、排ガス中のダストや水溶性ガスは水中に急速に移行・溶解して、排ガスは効率よく洗浄される。
次に、混合流体はエジェクタ１の流出部１３から流出して、気水分離器２の流入部２１に流入し、気水分離器２の中で洗浄後の排ガスと水が分離し、洗浄後の排ガスは気水分離器２の排気部２２からガス分析装置（図示せず。）に送られて、一酸化炭素と酸素の濃度が測定される。
ここで、水は、エジェクタ１の中に、給水用水槽（図示せず。）から注入するか、水道（管）から直接注入してもよい。
【００１２】
また、本考案の排ガスサンプリング装置は、ロータリーキルンの窯尻５に設置した排ガスの採取管４、フィルタ３、エジェクタ１、および気水分離器２を少なくとも含み、エジェクタ１と気水分離器２の流入部２１の高低差が３〜６ｍである装置である。該高低差が該範囲にあれば、気水分離器２からエジェクタ１への水の逆流を防止できて、排ガスの洗浄効果が格段に向上する。なお、該高低差は、好ましくは４〜５ｍである。
【実施例】
【００１３】
以下、本考案を実施例により説明するが、本考案はこれらの実施例に限定されない。
図２に示す本考案の排ガスサンプリング装置と、図３に示す従来の排ガスサンプリング装置を用いて、ロータリーキルンの窯尻から排ガスをサンプリングして二酸化硫黄、塩素およびアンモニアの濃度を測定した。
その結果、二酸化硫黄、塩素およびアンモニアの濃度は、従来の排ガスサンプリング装置を用いた場合、それぞれ、１００ｐｐｍ以上、１００ｐｐｍ、および１００ｐｐｍ以上であったのに対し、本考案の排ガスサンプリング装置を用いた場合、それぞれ、不検出、５０ｐｐｍ、および不検出であった。したがって、本考案により、排ガスの洗浄効果は格段に向上し、排ガス分析装置のトラブルを低減することができた。
【符号の説明】
【００１４】
１      エジェクタ
１１  流入部
１２  吸気部
１３  流出部
２      気水分離器
２１  流入部
２２  排気部
３  フィルタ
４  排ガスの採取管
５  ロータリーキルンの窯尻
６  バブリング装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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