【事件の表示】
　上記当事者間の特許第４５５２３２７号発明「超純水製造装置」の特許無効審判事件について、次のとおり審決する。
【結　論】
　特許第４５５２３２７号の請求項１に係る発明についての特許を無効とする。
　審判費用は、被請求人の負担とする。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯　  
　本件特許第４５５２３２７号は、栗田工業株式会社を出願人とし、平成１３年１月１８日を出願日とする出願であって、平成２２年７月２３日に設定登録がなされたものであって、平成２３年４月１８日にオルガノ株式会社を請求人として審判請求がなされたものであり、以後の経緯は以下で示すとおりである。 
 　平成２３年７月２２日　　　被請求人：答弁書  
 　平成２３年１１月１０日　　請求人：口頭審理陳述要領書 
 　平成２３年１１月１１日　　被請求人：口頭審理陳述要領書 
 　平成２３年１１月２５日　　口頭審理 
 　 
II．請求人の主張
　請求人は、無効審判請求書および口頭審理陳述要領書を提出し、
「本件特許の請求項１に記載の発明は、甲第１号証に記載された発明及び周知技術に基づいて、又は、甲第１号証に記載された発明及び甲第２号証に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　よって、本件発明に係る特許は、同法第１２３条第１項第２号の規定に該当し、無効とすべきである。」旨を主張する。
＜証拠方法＞
・無効審判請求書
　○甲第１号証：特開平１１−７７０９１号公報
　○甲第２号証：特開平９−１９２６５８号公報
　○甲第３号証：特開平５−３００号公報
　
・口頭審理陳述要領書
　本要領書の３頁の「（２）御庁見解の妥当性　イ」には、「（甲第３号証（【００２４】）の他、特開昭６０−７１０８５号公報（特許請求の範囲等）、特開平８−１６８７８４号公報（【００１２】、【００１７】〜【００１８】）、特開平１１−２２６５６９号公報（【００３１】）特開平８−１６８７５６号公報（【０００８】）、特開平１０−２７２４７４号公報（【０００５】）、特開昭５８−７９５９０号公報（２頁左上欄１８行〜左下欄１３行）、特開平５−２６９３０６号公報（【００１３】〜【００１４】参照）。」との記載があるが、請求人は、口頭審理において、「口頭審理陳述要領書の３頁『（２）御庁見解の妥当性　イ』に記載した甲第３号証を除く特許文献７件については、証拠として提出したものではない。」と陳述した。 
　よって、特開昭６０−７１０８５号公報、特開平８−１６８７８４号公報、特開平１１−２２６５６９号公報、特開平８−１６８７５６号公報、特開平１０−２７２４７４号公報、特開昭５８−７９５９０号公報、特開平５−２６９３０６号公報の特許文献７件は、証拠としては取り扱われない。
　
III．被請求人の主張
　被請求人は、答弁書および口頭審理陳述要領書を提出し、
「本件発明は、甲第１〜３号証に記載された事項に基づいて当業者が容易に想到できるものではなく、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものではない。
　したがって、本件特許は同法第１２３条第１項各号のいずれかに該当するものではないため、本件特許は当然に維持されるべきものである。」旨を主張する。
　
IV．本件特許発明  
　本件特許の請求項１に係る発明は、本件特許明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。（以下、「本件特許発明」という。）  
「１８５ｎｍ付近の波長を有する紫外線を照射する紫外線酸化装置と、 
　触媒式酸化性物質分解装置と、 
　脱気装置と、 
　混床式イオン交換装置と、 
　微粒子分離膜装置と 
を有し、この順に通水可能とした超純水製造装置であって、 
　該触媒式酸化性物質分解装置の酸化性物質分解触媒が、二酸化チタン、アルミナ、活性炭、ゼオライト、イオン交換樹脂に担持された、パラジウム触媒又は白金触媒であることを特徴とする超純水製造装置。」 
　
V．甲各号証記載の発明 
(V-1)甲第１号証（特開平１１−７７０９１号公報）には、以下の記載がある。 
(1)「【請求項１】 一次純水を、少なくとも１８５nm付近の波長を照射可能な紫外線酸化装置、合成炭素系粒状吸着剤を充填した酸化性物質分解装置、膜式脱気装置、非再生型イオン交換装置の順に通水して超純水を得るように設置したことを特徴とする超純水製造装置。」 
 　 
(2)「【００１８】次に、本発明の超純水製造装置を用いて超純水を製造する手順を図１を参照して説明する。図１は本発明に実施の形態における超純水製造装置を示す系統図である。各種前処理工程により得られた、例えば、ＴＯＣ濃度２ppb 以下の一次純水は、二次系システム１０の純水貯槽２４に供給される。純水貯槽２４に蓄えられる一次純水の抵抗率は、通常、１０ＭΩ・ｃｍ以上である。純水貯槽２４を出た純水は、紫外線酸化装置２６で処理される。紫外線酸化装置２６は、高い有機物分解能力がある１８５nm付近の紫外線も強く照射可能な低圧水銀ランプを備えた紫外線酸化装置であり、水中の有機物を炭酸や有機酸に分解するために設置されている。紫外線酸化装置２６の前後の溶存酸素濃度を測定したところ、該溶存酸素濃度が２２ppb から６ppb へと激変する現象が認められる。この現象は、紫外線酸化装置２６の被処理水中の溶存酸素が有機物の酸化のための酸素源として消費されたり、紫外線と水との相互作用によるラジカル、オゾン及び過酸化水素等の生成によって消費されたりするためと考えられる。従って、紫外線酸化装置２６の前後の過酸化水素濃度は数ppb から５０ppb へと増加する。」 
 　 
(3)「【００１９】次に、紫外線酸化装置２６で処理された水を、酸化性物質分解装置２７に通水し、該装置に充填された合成炭素系粒状吸着剤に接触させることにより、処理水中の過酸化水素を分解する。この場合、合成炭素系粒状吸着剤への被処理水の接触は充填方式で行うことが過酸化水素の除去効率の点で好ましい。このような充填方式で被処理水を合成炭素系粒状吸着剤に接触させる場合、通水条件は線流速１００m/h 以下、特に２０〜５０m/h とすることが好ましい。線流速が１００m/h を超えると過酸化水素が十分に除去されないことがある。」 
 　 
(4)「【００２０】次に、酸化性物質分解装置２７で処理された水を膜式脱気装置５０に通水して、処理水中の溶存酸素を１ppb 以下、全溶存ガス濃度を３０００ppb 以下に低減する。」 
 　 
(5)「【００２１】次に、この処理水を非再生型イオン交換装置であるカートリッジポリッシャ２８に通水して、前記膜式脱気装置５０から発生する溶出イオンを含む一次純水中のイオンを更に除去する。このように、処理水を酸化性物質分解装置２７→膜式脱気装置５０→カートリッジポリッシャ２８の順に通水することにより、膜式脱気装置５０からの溶出イオンを有効に除去できるが、処理水を酸化性物質分解装置２７→カートリッジポリッシャ２８→膜式脱気装置５０の順に通水したのでは、膜式脱気装置５０からの溶出イオンを除去できないばかりか溶存酸素や過酸化水素によるカートリッジポリッシャ２８の酸化劣化を有効に防止できない。」 
 　 
(6)「【００２２】また、限外濾過膜分離装置３０は、水中の残存微粒子等を除去して超純水を製造し、この超純水は使用場所３２に供給される。該超純水は使用している時及び使用していない時のいずれの場合でも二次純水循環配管３４を通って純水貯槽２４に戻り、純水貯槽２４→紫外線酸化装置２６→酸化性物質分解装置２７→膜式脱気装置５０→カートリッジポリッシャ２８→限外濾過膜分離装置３０→純水貯槽２４からなる閉ループを常時循環している。」 
 　 
(7)「【００２７】（各装置の仕様等） 
 紫外線酸化装置； 低圧型ＴＤＦＬ−４（千代田工販社製）紫外線照射量０．３kW・h/m３　
酸化性物質分解装置；合成炭化系粒状吸着剤（アンバーソーブ５７２、ローム＆ハース社製）を充填した円筒状の充填塔（高さ９０cm、内径３０cm）
膜式脱気装置； ＭＪ−５２０ｐ（大日本インキ化学工業社製）真空度１８Torr 
カートリッジポリッシャ；カチオン交換樹脂とアニオン交換樹脂とを混合充填した混床式イオン交換装置、ＳＶ７０〜８０h−１　
外濾過膜分離装置；ＦＩＴ−３０１６型（旭化成工業社製）」 
 　 
(8)「【００３０】 
【発明の効果】本発明によれば、紫外線酸化装置で生成した過酸化水素は、後段の合成炭素系粒状吸着剤を充填した酸化性物質分解装置及び膜式脱気装置で除去して、過酸化水素濃度が極めて低い超純水を得ることができる。また、溶存酸素は膜式脱気装置で除去されるため、過酸化水素濃度及び溶存酸素濃度が共に極めて低い超純水を得ることができ、シリコンウエハ上の自然酸化膜の形成を抑制できる。」 
 　 
(9)上記(2)の「【００１８】・・・ 紫外線酸化装置２６は、高い有機物分解能力がある１８５nm付近の紫外線も強く照射可能な低圧水銀ランプを備えた紫外線酸化装置であり、水中の有機物を炭酸や有機酸に分解するために設置されている。・・・」との記載、および、一般的に、超純水におけるＴＯＣ濃度を極めて少なくすること自体、普通に行われている事項であることから、 
　甲第１号証には、「超純水におけるＴＯＣ濃度を極めて少なくする（ＴＯＣ濃度が極めて少ない超純水を得る）」ことが記載されているということができる。 
 　 
(10)上記(5)の「【００２１】・・・このように、処理水を酸化性物質分解装置２７→膜式脱気装置５０→カートリッジポリッシャ２８の順に通水することにより、膜式脱気装置５０からの溶出イオンを有効に除去できるが、処理水を酸化性物質分解装置２７→カートリッジポリッシャ２８→膜式脱気装置５０の順に通水したのでは、膜式脱気装置５０からの溶出イオンを除去できないばかりか溶存酸素や過酸化水素によるカートリッジポリッシャ２８の酸化劣化を有効に防止できない。」との記載からして、 
　甲第１号証には、「過酸化水素と溶存酸素（ＤＯ）によるカートリッジポリッシャ２８の酸化劣化を防止する」ことが記載されているということができる。 
 　 
　上記(1)〜(8)の記載事項および上記(9)(10)の検討事項より、甲第１号証には、 
「１８５ｎｍ付近の波長を有する紫外線を照射する紫外線酸化装置２６と、
　酸化性物質分解装置２７と、 
　膜式脱気装置５０と、 
　カートリッジポリッシャ（混床式イオン交換装置）２８と、 
　限外濾過膜分離装置３０と 
を有し、この順に通水可能とした超純水製造装置であって、 
　該酸化性物質分解装置２７の吸着剤が、合成炭素系粒状吸着剤であり、 
　過酸化水素濃度とＴＯＣ濃度と溶存酸素（ＤＯ）濃度が極めて低い超純水を得る、超純水製造装置。」の発明（以下、「甲第１号証記載の発明」という。）が開示されている。 
 　 
(V-2)甲第２号証（特開平９−１９２６５８号公報）には、以下の記載がある。 
(11)「【０００２】 
【従来の技術】従来から、液晶や半導体素子（ＬＳＩ）、あるいは医薬品の製造工程においては、イオン状物質、微粒子、有機物、溶存ガスおよび生菌等の含有量の極めて少ない超純水が用いられている。特に、電子工業においては、ＬＳＩの集積度の増加に伴って超純水の純度に対する要求は益々厳しくなってきており、特に、超純水中のΤＯＣおよび溶存酸素の低減が大きな課題である。」 
 　 
(12)「【０００７】 
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来の問題を解決すべくなされたもので、超純水中のＴＯＣ濃度および溶存酸素濃度の増加と機器の劣化とをほぼ防止する超純水製造装置を提供することを目的とする。」 
　 
(13)「【０００９】これらの問題について、本発明者らが鋭意研究した結果、有機物濃度を極めて低濃度にまで減少させた一次純水に対し、１８０〜１９０ｎｍの波長を有する紫外線、特に、１８４．９ｎｍに波長のピークを有する紫外線を紫外線照射装置により照射した場合、当該紫外線照射装置出口において微量の過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）がリークすることを見いだした。微量の過酸化水素が生成する機構としては次式に示すように、水の紫外線分解により生成したＯΗラジカル（ヒドロキシラジカル）が一次純水中の微量な有機物と反応できず、ＯＨラジカル同士が反応して生成する機構が提示される。」 
 　 
(14)「【００１０】Ｈ２Ｏ＋ｈν→・ＯＨ 
・ＯＨ＋・ＯＨ→Ｈ２Ｏ２　
そして、リークした過酸化水素が後段に設置されたポリッシャー装置（イオン交換装置）内部のイオン交換樹脂を酸化劣化させることによりイオン交換樹脂から微細な樹脂の破片や有機物等が発生し、ポリッシャー装置（イオン交換装置）を通過した被処理水中のＴＯＣ濃度が、二次系システムにおいて処理する以前の一次純水に比べて上昇したと推測することができるのである。また、リークした過酸化水素がポリッシャー装置（イオン交換装置）内部のイオン交換樹脂を酸化劣化させる際、一部の過酸化水素が酸素と水とに分解されることにより、ポリッシャー装置（イオン交換装置）を通過した被処理水中の溶存酸素濃度が、二次系システムにおいて処理する以前の一次純水に比べて上昇したと推測される。さらに、１８０〜１９０ｎｍの波長を有する紫外線を発生する紫外線照射装置の後段に膜脱気装置を配置した場合には、リークした過酸化水素により膜脱気装置の脱気膜が急速に酸化劣化したと推測することができるのである。」 
 　 
(15)「【００１５】また、本発明においては、被処理水である一次純水は、アニオン交換樹脂、特に好ましくは強塩基性アニオン交換樹脂を充填した単床式イオン交換装置に導入され、被処理水中のアニオン成分が除去されるとともに、被処理水中のｐＨはアルカリサイドにシフトされる。次に、被処理水は、１８０〜１９０ｎｍの波長を有する紫外線を発生する紫外線照射装置に導入され、被処理水中に溶存する有機物がほぼ完全に有機酸あるいは二酸化炭素にまで分解される。また同時に、ＯΗラジカル同士の反応により生成した過酸化水素は、被処理水のｐΗがアルカリサイドにシフトしているために自己分解し、酸素と水に変化する。次いで、被処理水は、気体透過膜を装備した膜脱気装置に導入され、紫外線照射装置により発生した酸素と二酸化炭素が除去される。最後に、膜脱気装置において脱ガスされた被処理水は、ポリッシャー装置に導入され、被処理水中のイオン成分が除去される。」
　
(16)「【００１６】さらに、本発明においては、被処理水である一次純水は、１８０〜１９０ｎｍの波長を有する紫外線を発生する紫外線照射装置に導入され、被処理水中に溶存する有機物がほぼ完全に有機酸あるいは二酸化炭素にまで分解される。次に、被処理水はパラジウムを担持した触媒樹脂が充填された触媒樹脂装置に導入され、被処理水中の過酸化水素がパラジウムを担持した触媒樹脂媒表面上で紫外線照射装置において生成した水素と反応して水に変化する。」 
 　 
(17)「【００１７】Ｈ２Ｏ２＋Ｈ２＋Ｐｄ→２Ｈ２Ｏ＋Ｐｄ 
最後に、被処理水はポリッシャー装置に導入され、被処理水中のイオン成分が除去される。」 
 　 
(18)「【００２２】（５）Ｈ２Ｏ２＋ｈν→Ｏ２＋Ｈ２Ｏ 
また、紫外線照射装置により紫外線を照射した後に、被処理水中からイオン成分を除去する場合、通常、ポリッシャー装置に被処理水を導入する。このとき使用されるポリッシャー装置としては、被処理水中の二酸化炭素、有機酸あるいは他のイオン成分を除去するために強塩基性アニオン交換樹脂及びカチオン交換樹脂を充填した非再生型の混床式イオン交換装置を好ましく用いることができる。イオン交換装置に用いるイオン交換樹脂としては、新品もしくはそれに類する破砕が無く、イオン交換性能が高く、また溶出のないものが望ましい。イオン交換樹脂に要求される性能は、本発明で用いられる再生型あるいは非再生型の単床式イオン交換装置に充填して用いられる強塩基性アニオン交換樹脂についても同様である。」 
 　 
(19)「【００３８】図２において、符号１３は、単床式イオン交換装置であり、アニオン交換樹脂として強塩基性アニオン交換樹脂デュオライトＡ−１１３ｐｌｕｓ（ローム＆ハース社）５６ｌを予め再生し、ＯＨ型に変換した後に充填したものである。符号９、１１および１２は、それぞれ低圧紫外線ランプ酸化装置、膜脱気装置およびポリッシャー装置であり、図１と全く同一のものである。」
　
(20)「【００４２】表２に、本実施例および本比較例における、ポリッシャー装置１２の入口および出口での被処理水の水質測定結果を示す。」
　
(21)「【００４４】表２から明らかなように、実施例２においては、ポリッシャー装置１２の入口および出口での被処理水中の過酸化水素濃度は０．００ｐｐｍであり、一方、比較例１においては、ポリッシャー装置１２の入口での被処理水中の過酸化水素濃度は、低圧紫外線ランプ酸化装置９の出口における被処理水中の過酸化水素濃度０．０２ｐｐｍと同値であった。これは、実施例２では、単床式イオン交換装置１３に被処理水を通過させたために被処理水のｐＨがアルカリ側にシフト（本実施例におけるｐＨは８．７、ｐＨの測定は純水用ｐＨ計、東亜電波工業（株）、ＦＡＲ−１０１による）することから、低圧紫外線ランプ酸化装置９で発生した過酸化水素が自己分解したのに対し、比較例２では単床式イオン交換装置１３をバイパスしたために、低圧紫外線ランプ酸化装置９に供給される被処理水のｐＨが中性付近であり、このため低圧紫外練ランプ酸化装置９内で発生した過酸化水素が自己分解しないために低圧紫外線ランプ酸化装置９より過酸化水素がリークしてポリッシャー装置１２の入口まで到達したものと推測される。」
　
(22)「【００４７】（実施例３および比較例３）図３は、本発明の他の実施例である超純水製造装置（二次系システム）の構成を示した図である。」 
 　 
(23)「【００５４】表３から明らかなように、実施例３においては、ポリッシャー装置１２の入口および出口での被処理水中の過酸化水素濃度は０．００ｐｐｍであり、一方、比較例３においては、ポリッシャー装置１２の入口での被処理水中の過酸化水素濃度は、低圧紫外線ランプ酸化装置９の出口における被処理水中の過酸化水素濃度０．０２ｐｐｍと同値であった。これは、実施例３では、パラジウム触媒樹脂装置１４に被処理水を通過させたために低圧紫外線ランプ酸化装置９内で発生した過酸化水素が分解されたのに対し、比較例３では、パラジウム触媒樹脂装置１４をバイパスしたために低圧紫外線ランプ酸化装置９内で発生した過酸化水素が分解されず、低圧紫外線ランプ酸化装置９よりリークした過酸化水素がポリッシャー装置１２の入口まで到達したものと推測される。」 
 　 
(24)【００４３】【表２】には、「実施例２の入口の溶存酸素が０．５ppbであり、同Ｈ２Ｏ２が０．００ppmである」ことの表示がある。
　
(25)【００５３】【表３】には、「実施例３の入口の溶存酸素が０．８ppbであり、同Ｈ２Ｏ２が０．００ppmである」ことの表示がある。
　
(26)【図２】には、「ポリッシャー装置１２のすぐ上流に膜脱気装置１１が配置されている」ことの図示がある。
　
(27)【図３】には「パラジウム触媒樹脂装置１４のすぐ下流にポリッシャー装置１２が配置されている」ことの図示がある。 
 　 
(28)上記(11)の「【０００２】 
【従来の技術】従来から・・・特に、超純水中のΤＯＣおよび溶存酸素の低減が大きな課題である。」との記載、上記(12)の「【０００７】 
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来の問題を解決すべくなされたもので、超純水中のＴＯＣ濃度および溶存酸素濃度の増加と機器の劣化とをほぼ防止する超純水製造装置を提供することを目的とする。」との記載、および、一般的に、超純水におけるＴＯＣ濃度と溶存酸素（ＤＯ）濃度を極めて少なくすること自体、普通に行われている事項であることから、
　甲第２号証には、「超純水におけるＴＯＣ濃度と溶存酸素（ＤＯ）濃度を極めて少なくする（ＴＯＣ濃度と溶存酸素（ＤＯ）濃度が極めて少ない超純水を得る）」ことが記載されているということができる。 
　
(29）上記(14)の「【００１０】・・・リークした過酸化水素が後段に設置されたポリッシャー装置（イオン交換装置）内部のイオン交換樹脂を酸化劣化させることによりイオン交換樹脂から微細な樹脂の破片や有機物等が発生し、ポリッシャー装置（イオン交換装置）を通過した被処理水中のＴＯＣ濃度が、二次系システムにおいて処理する以前の一次純水に比べて上昇したと推測することができるのである。また、リークした過酸化水素がポリッシャー装置（イオン交換装置）内部のイオン交換樹脂を酸化劣化させる際、一部の過酸化水素が酸素と水とに分解されることにより、ポリッシャー装置（イオン交換装置）を通過した被処理水中の溶存酸素濃度が、二次系システムにおいて処理する以前の一次純水に比べて上昇したと推測される。さらに、１８０〜１９０ｎｍの波長を有する紫外線を発生する紫外線照射装置の後段に膜脱気装置を配置した場合には、リークした過酸化水素により膜脱気装置の脱気膜が急速に酸化劣化したと推測することができるのである。」との記載、上記(16)の「【００１６】さらに、本発明においては、被処理水である一次純水は、１８０〜１９０ｎｍの波長を有する紫外線を発生する紫外線照射装置に導入され、被処理水中に溶存する有機物がほぼ完全に有機酸あるいは二酸化炭素にまで分解される。次に、被処理水はパラジウムを担持した触媒樹脂が充填された触媒樹脂装置に導入され、被処理水中の過酸化水素がパラジウムを担持した触媒樹脂媒表面上で紫外線照射装置において生成した水素と反応して水に変化する。」との記載、上記(17)の「【００１７】Ｈ２Ｏ２＋Ｈ２＋Ｐｄ→２Ｈ２Ｏ＋Ｐｄ・・・」との記載、上記(22)の「【００４７】（実施例３および比較例３）図３は、本発明の他の実施例である超純水製造装置（二次系システム）の構成を示した図である。」との記載、上記(23)の「【００５４】表３から明らかなように、実施例３においては、ポリッシャー装置１２の入口および出口での被処理水中の過酸化水素濃度は０．００ｐｐｍであり・・・」との記載、上記(25)の「実施例３の入口の溶存酸素が０．８ppbであり、同Ｈ２Ｏ２が０．００ppmである」との表示内容、および、一般的に、超純水における過酸化水素濃度を極めて少なくすること自体、普通に行われている事項であることから、 
　甲第２号証には、「酸素を発生させずに過酸化水素を完全に除去する、パラジウムを担持した触媒樹脂が充填された触媒樹脂装置１４」、「触媒樹脂装置１４の触媒が、イオン交換樹脂に担持されたパラジウム触媒である」こと、および「過酸化水素によるイオン交換樹脂と脱気膜の酸化劣化を防止すると共に、超純水における過酸化水素濃度を極めて少なくする（過酸化水素濃度が極めて少ない超純水を得る）」ことが記載されているということができる。 
　
(30)上記(11)の「【０００２】・・・従来から・・・微粒子・・・の含有量の極めて少ない超純水が用いられている。・・・超純水の純度に対する要求は益々厳しくなってきており・・・」との記載からして、超純水製造装置において、微粒子を除去（分離）する装置を設けること自体、普通に行われている事項であるということができるので、甲第２号証には、「微粒子分離装置を有する」ことが記載されているということができる。 
 　 
　上記(11)〜(27)の記載事項および上記(28)〜(30)の検討事項からして、甲第２号証（実施例３）には、 
「１８５ｎｍ付近の波長を有する紫外線を照射する紫外線酸化装置と、 
　酸素を発生させずに過酸化水素を完全に除去する、パラジウムを担持した触媒樹脂が充填された触媒樹脂装置（「触媒式」酸化性物質分解装置）と、
　ポリッシャー装置（混床式イオン交換装置）と、 
　微粒子分離装置と 
を有する超純水製造装置であって、 
　該触媒樹脂装置の触媒（酸化性物質分解触媒）が、イオン交換樹脂に担持されたパラジウム触媒であり、 
　過酸化水素濃度とＴＯＣ濃度と溶存酸素（ＤＯ）濃度が極めて低い超純水を得る、超純水製造装置。」の発明（以下、「甲第２号証記載の発明」という。）が開示されている。 
 　 
VI．対比・判断 
　本件特許発明と甲第１号証記載の発明とを対比する。
　甲第１号証記載の発明の「紫外線酸化装置２６」、「酸化性物質分解装置２７」、「膜式脱気装置５０」、「カートリッジポリッシャ（混床式イオン交換装置）２８」、「微粒子分離膜装置」は、
　本件特許発明の「紫外線酸化装置」、「酸化性物質分解装置」、「脱気装置」、「混床式イオン交換装置」、「微粒子分離膜装置」にそれぞれ相当する。
　
　上記より、本件特許発明と甲第１号証記載の発明とは、 
「１８５ｎｍ付近の波長を有する紫外線を照射する紫外線酸化装置と、 
　酸化性物質分解装置と、 
　脱気装置と、 
　混床式イオン交換装置と、 
　微粒子分離膜装置と 
を有し、この順に通水可能とした超純水製造装置。」という点で一致し、以下の点で相違している。 
＜相違点＞ 
　本件特許発明では、「酸化性物質分解触媒が、二酸化チタン、アルミナ、活性炭、ゼオライト、イオン交換樹脂に担持された、パラジウム触媒又は白金触媒である」「触媒式」酸化性物質分解装置であるのに対して、 
　甲第１号証記載の発明では、「吸着剤が、合成炭素系粒状吸着剤である」酸化性物質分解装置である点。 
 　 
＜相違点＞について検討する。 
　上記(V-1)(V-2)より、甲第１、２号証記載の発明は、
「１８５ｎｍ付近の波長を有する紫外線を照射する紫外線酸化装置と、 
　酸化性物質分解装置と、
　混床式イオン交換装置と、 
　微粒子分離装置と 
を有する超純水製造装置であって、 
　過酸化水素濃度とＴＯＣ濃度と溶存酸素（ＤＯ）濃度が極めて低い超純水を得る、超純水製造装置。」という点で共通している。
　さらに、甲第１号証には、上記(V-1)(10)で示したように、「過酸化水素と溶存酸素（ＤＯ）によるカートリッジポリッシャ２８の酸化劣化を防止する」こと、つまり、「過酸化水素と溶存酸素（ＤＯ）によるイオン交換樹脂の酸化劣化を防止する」ことが記載されているということができ、 
　一方、甲第２号証には、上記(V-2)(29)で示したように、「過酸化水素によるイオン交換樹脂と脱気膜の酸化劣化を防止する・・・」ことが記載されているということができ、 
　これらからして、甲第１、２号証記載の発明は、「酸化性物質（過酸化水素、溶存酸素（ＤＯ））による部材（イオン交換樹脂、脱気膜）の酸化劣化を防止する」という点でも共通している。 
　そうすると、甲第１号証記載の発明の「酸化性物質分解装置２７と、膜式脱気装置（脱気装置）５０」および「酸化性物質分解装置２７の吸着材が、合成炭素系粒状吸着材であ」ることについて、上記の点で共通する甲第２号証記載の発明の「酸素を発生させずに過酸化水素を完全に除去する、パラジウムを担持した触媒樹脂が充填された触媒樹脂装置（「触媒式」酸化性物質分解装置）１４」および「触媒樹脂装置１４の触媒（酸化性物質分解触媒）が、イオン交換樹脂に担持されたパラジウム触媒であ」ることを適用してこれに代えることは、当業者であれば容易に想到し得ることである。
　そして、上記(v-2)によれば、
　甲第２号証記載の発明の実施例３（【表３】【図３】等）では、「酸素を発生させずに過酸化水素を完全に除去する、パラジウムを担持した触媒樹脂が充填された触媒樹脂装置（「触媒式」酸化性物質分解装置）１４」から出た、溶存酸素（ＤＯ）濃度が０．８ppbであると共にＨ２Ｏ２濃度が０．００ppmである被処理水をポリッシャー装置（混床式イオン交換装置）１２に送り、
　同実施例２（【表２】【図２】等）では、「膜脱気装置１１」から出た、溶存酸素（ＤＯ）濃度が０．５ppbであると共にＨ２Ｏ２濃度が０．００ppmである被処理水をポリッシャー装置１２に送っており、
　また、甲第１、２号証記載の発明は、「過酸化水素濃度とＴＯＣ濃度と溶存酸素（ＤＯ）濃度が極めて低い超純水を得る、超純水製造装置」であり、そうである以上、過酸化水素濃度とＴＯＣ濃度と溶存酸素（ＤＯ）濃度をさらに低くしたいとの技術的思想を内包するものであるとみるのが妥当である。
　そうすると、上記のように、甲第１号証記載の発明について、「酸素を発生させずに過酸化水素を完全に除去する、パラジウムを担持した触媒樹脂が充填された触媒樹脂装置（「触媒式」酸化性物質分解装置）１４」および「触媒樹脂装置１４の触媒（酸化性物質分解触媒）が、イオン交換樹脂に担持されたパラジウム触媒であ」ることに代えたとき、
　「触媒式」酸化性物質分解装置から出た、溶存酸素（ＤＯ）濃度が０．８ppbであると共にＨ２Ｏ２濃度が（Ｈ２Ｏ２による脱気膜の酸化劣化を生じさせない）０．００ppmであるとみることができる被処理水について、これの溶存酸素（ＤＯ）濃度をさらに低くするために、上記被処理水を膜脱気装置（脱気装置）１１に送って処理して溶存酸素（ＤＯ）濃度が０．５ppbであると共にＨ２Ｏ２濃度が０．００ppmである被処理水にする、つまり、「触媒式」酸化性物質分解装置のすぐ下流に「脱気装置」を配置し、「脱気装置」から出た被処理水をカートリッジポリッシャ２８（ポリッシャー装置１２）に送ることは、当業者であれば適宜決定する設計的事項であるということができる。
　そして、酸素を発生させずに過酸化水素を完全に除去する、パラジウムを担持した「触媒式」酸化性物質分解装置のすぐ下流に「脱気装置」を配置し、「脱気装置」から出た被処理水をカートリッジポリッシャ（混床式イオン交換装置）２８に送るとき、「脱気装置」から出た被処理水の溶存酸素（ＤＯ）濃度は、上記で示したように、「脱気装置」を配置しないときと比べてより低減し、また、Ｈ２Ｏ２濃度は０．００ppmになっていることから、上記(V-1)(5)の「【００２１】・・・溶存酸素や過酸化水素によるカートリッジポリッシャ２８の酸化劣化を有効に防止できない。」および上記(V-2)(14)の「【００１０】・・・リークした過酸化水素が後段に設置されたポリッシャー装置（イオン交換装置）内部のイオン交換樹脂を酸化劣化させることによりイオン交換樹脂から微細な樹脂の破片や有機物等が発生し、ポリッシャー装置（イオン交換装置）を通過した被処理水中のＴＯＣ濃度が、二次系システムにおいて処理する以前の一次純水に比べて上昇し・・・リークした過酸化水素がポリッシャー装置（イオン交換装置）内部のイオン交換樹脂を酸化劣化させる際、一部の過酸化水素が酸素と水とに分解されることにより、ポリッシャー装置（イオン交換装置）を通過した被処理水中の溶存酸素濃度が、二次系システムにおいて処理する以前の一次純水に比べて上昇し・・・」というようなことの発生がより抑制される、つまり、ＴＯＣ濃度と溶存酸素（ＤＯ）濃度をさらに低減させることができることは、当業者であれば甲第１、２号証記載の発明から十分に予測し得ることである。
　よって、本件特許発明は、甲第１、２号証記載の発明に基いて当業者が容易に発明することができたものである。
　
VII．むすび
　以上のとおりであるので、本件特許発明は、甲第１、２号証記載の発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本件特許は、特許法第１２３条第１項第２号の規定に該当し、無効とすべきである。
　審判に関する費用については、特許法第１６９条第２項の規定で準用する民事訴訟法第６１条の規定により、被請求人が負担すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。