【事件の表示】
　特願２００５−１５５２９８「エレクトロルミネッセント素子の製造方法及びエレクトロルミネッセント素子」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年１１月２４日出願公開、特開２００６−３１８８７６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、特許法第４１条に基づく優先権主張を伴う平成１７年５月２７日（優先日：平成１６年６月２９日、出願番号：特願２００４−１９２０２４号、平成１７年４月１３日、出願番号：特願２００５−１１５４６９号）を出願日とする出願であって、平成２３年１０月５日付けで手続補正がなされたが、同年１０月２１日付けで拒絶査定がなされた。
　本件は、これを不服として、平成２４年１月２５日に請求された拒絶査定不服審判であって、請求と同時に手続補正がなされ、その後、当審の同年７月２０日付け審尋に対して同年９月２１日に回答書が提出されたものである。
　
第２　平成２４年１月２５日付けの手続補正についての補正の却下の決定
　［補正の却下の決定の結論］
　平成２４年１月２５日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　［理由］
１　補正の内容
　本件補正は、特許請求の範囲を補正するものであって、そのうち特許請求の範囲の請求項１に係る発明は、本件補正前の
「【請求項１】
　バッファー層と発光層とを含んでなるエレクトロルミネッセント層を、フォトリソグラフィー法によりパターニングして形成する工程を少なくとも２回以上繰り返して、パターニングされた第一パターン部と第二パターン部とを含むエレクロトルミネッセント層が、基材上に形成されたエレクトロルミネッセント素子を製造する方法において、
　前記基材上に、第一バッファー層を最下層として含む第一パターン部を形成する工程と、
　前記第一パターン部を含む領域および前記第二パターン部を形成すべき領域が含まれるように、前記基材上に第二バッファー層形成用溶液を塗布して、前記第二バッファー層を最下層として含む第二パターン部を形成する工程を含んでなり、
　前記第一のバッファー層が、第二のバッファー層形成用溶液に混和しないものである、ことを特徴とする、エレクトロルミネッセント素子の製造方法。」を
「【請求項１】
　バッファー層と発光層とを含んでなるエレクトロルミネッセント層を、フォトリソグラフィー法によりパターニングして形成する工程を少なくとも２回以上繰り返して、パターニングされた第一パターン部と第二パターン部とを含むエレクロトルミネッセント層が、基材上に形成されたエレクトロルミネッセント素子を製造する方法において、
　前記基材上に、第一バッファー層を最下層として含む第一パターン部を形成する工程と、
　前記第一パターン部を含む領域および前記第二パターン部を形成すべき領域が含まれるように、且つ、前記パターニングにより露出した前記第一パターン部の端部を覆うように、前記基材上に第二バッファー層形成用溶液を塗布して、前記第二バッファー層を最下層として含む第二パターン部を形成する工程を含んでなり、
　前記第一のバッファー層が、第二のバッファー層形成用溶液に混和しないものである、ことを特徴とする、エレクトロルミネッセント素子の製造方法。」と補正するものである。
　
２　補正の目的についての検討
　上記本件補正は、本件補正前の請求項１に係る発明を補正したものであって、本件補正前の請求項１に係る発明の発明特定事項である「第二パターン部を形成する工程」の「基材上に第二バッファー層形成用溶液を塗布」する点に関し、「パターニングにより露出した前記第一パターン部の端部を覆うように」する点を追加する補正事項を含むものであり、この補正は明らかに本件補正前の請求項１に係る発明を限定的に減縮するものである。
　したがって、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２（以下単に「特許法第１７条の２」という。）第４項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とする補正を含むものである。
　そこで、本件補正後の請求項１に係る発明（以下「本件補正発明」という。）が、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか、すなわち、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否かについて、以下検討する。
　
３　本件補正発明
　本件補正発明は、本件補正後の特許請求の範囲の第１項に記載された上記のとおりのものである。（「第２」［理由］「１」参照。）
　
４　引用刊行物
（１）引用刊行物１
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前である平成１６年４月２２日に頒布された「特開２００４−１２７７２６号公報 」（以下「引用例１」という。）には、次の事項が記載されている。（下線は当審で付した。）
ａ　発明の詳細な説明の記載
「【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、発光層のパターン化を、従来法のフォトリソグラフィーによるのではなく、マスクを介したドライエッチングによって行なう、有機ＥＬ素子の新たな製造方法に関するものである。」
「【００１４】
【発明の実施の形態】
図１〜図３は、いずれも本発明の有機ＥＬ素子の製造方法の各過程を示す図である。
【００１５】
本発明の
有機ＥＬ素子の製造方法
基板１の上面の全面に、バッファー層２Ａおよび有機蛍光体層３Ａを順に積層して、
所定の形状の非開孔部（図中の符号５Ａで示すマスクの黒色部分である。）を有するマスク５Ａを介してドライエッチングすることにより
所定の形状の発光層４Ａ’を形成
【００１６】
このようにして、基板１上に、マスク５Ａの非開孔部の形状に基づく形状の発光層４Ａ’が積層される。基板１上に予め第１の電極を形成しておき、発光層４Ａ’の積層後にも、さらにその上に、第２の電極を先の第１の電極と向かい合わせて形成し、第１の電極および第２の電極の間に電位をかけることにより、発光層４Ａ’を発光させることができる。従って、マスク５Ａの非開孔部の形状を適宜なパターン状としておくことにより、適宜なパターン状の発光層４Ａ’を形成して、パターン状に発光させることが可能になる。あるいは、マスク５Ａとして、非開孔部の形状が、円形や四角形、もしくはストライプ等の多数の微細区域が密に配列した形状のものを用いることにより、そのような形状の多数の微細区域が密に配列した形状の発光層４Ａ’を形成し、そのうちの任意の微細区域を選択して、電位をかけることにより、文字や数字、もしくは画像等を表示させることもできる。
【００１７】
図１を引用した上記の説明においては、最初に基板１上に全面に積層した発光層４Ａから出発して、マスク５Ａを用いて、マスク５Ａの非開孔部の形状に基づく形状の発光層４Ａ’を形成しているので、発光層４Ａ’のどの部分も、発光色は同じであるが、以降に述べるように、発光層中の発光に関与する材料を変え、従って、発光色の異なる複数種の発光層を並べて形成して、各々を発光させることにより、一度に複数の発光色を得るようにすることもできる。
【００１８】
図２は、図１を引用した上記の説明により得られたもの（例えば、図１（ｄ）に示すもの。）に、別の発光層をさらに形成する過程を示し、図１（ｄ）で示したような、保護層６Ａで覆われた状態の
発光層４Ａ’が積層された基板１上の全面に、
バッファー層２Ｂおよび有機蛍光体層３Ｂを順に積層して、
既に形成されている発光層４Ａ’上（保護層６Ａを伴なう場合には、保護層６Ａ上）も含めた全面に積層
先のマスク５Ａとは異なる位置に非開孔部を有するマスク５Ｂを介してドライエッチングすることにより
所定の形状の発光層４Ｂ’を形成する
【００１９】
図２を引用した上記の説明においては、２種類の発光層４Ａおよび４Ｂを用いて、マスク５Ａの形状に基づく発光層４Ａ’、および、マスク５Ｂの形状に基づく発光層４Ｂ’を形成しているので、発光層４Ａおよび４Ｂを形成するための有機蛍光体として、発光色の異なるものどうしを選択して使用すれば、パターン状の発光層４Ａ’および４Ｂ’を異なる色に発光させることができ、例えば、各々の発光色を赤色と青色として、それら二色の発光を交互に行なわせたり、あるいは、それら二色の発光を同時に行なわせて混色させることもできる。
【００２０】
一般的に、有機ＥＬ素子で、フルカラー表示を行なわせるには、光の三原色である赤色、緑色、および青色の三色の発光色を要する。このように、三色の発光を行なえるようにするには、図２を引用した上記の説明で得られたものに、得られた発光層４Ａ’および４Ｂ’の発光色が、例えば、赤色と青色であれば、これらとは異なる、例えば、緑色の発光色の有機蛍光体を含む発光層４Ｃをさらに積層する（図３（ａ））。発光層４Ｃは、既に形成されている発光層４Ａ’上および４Ｂ’上（保護層６Ａおよび６Ｂを伴なう場合には、保護層６Ａ上および６Ｂ上）も含めた全面に積層する。次に、先のマスク５Ａおよび５Ｂとは異なる位置に非開孔部を有するマスク５Ｃを介してドライエッチングすることにより（図３（ｂ））、発光層４Ｃのうち、マスク５Ｃの非開孔部に相当する部分４Ｃ’を残留させると共に、そのほかの部分、即ち、マスク５Ｃの開孔部に相当する部分を除去して、所定の形状の発光層４Ｃ’を形成する（図３（ｃ））。発光層４Ａ’上および４Ｂ’上に伴なっている保護層６Ａおよび６Ｃが不要であるときは、発光層４Ｃ’の形成後、これらを除去することができる（図３（ｄ））。」
「【００２２】
従って、発光層の積層工程およびマスクを介したドライエッチング工程を、二回以上繰り返すことにより、二種類以上の発光層を形成することができ、このことを利用して、発光色の異なる複数種類の発光層を形成することができる。なお、発光層の積層工程およびマスクを介したドライエッチング工程を二回以上繰り返すのに替えて、他の発光層形成工程を併用することもできる。他の発光層形成工程としては、蒸着等の気相形成法によるものや、インクジェットもしくは印刷によるものを挙げることができ、あるいは、一面に形成した発光層上に、フォトレジストを用いてレジストパターンを形成し、そのレジストパターンを利用して、エッチング液によりエッチングするフォトリソグラフィー法も挙げることができる。」
「【００３８】
本発明に用いられるバッファー層を形成する材料としては、具体的にはポリアルキルチオフェン誘導体、ポリアニリン誘導体、トリフェニルアミン等の正孔輸送性物質の重合体、無機酸化物のゾルゲル膜、トリフルオロメタン等の有機物の重合膜、ルイス酸を含む有機化合物膜等を挙げることができ、正孔注入バッファー層形成用組成物として市販されている、例えばポリ（３、４）エチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホネート（略称ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、バイエル社製、商品名；Ｂａｙｔｒｏｎ　Ｐ　ＡＩ　４０８３、水溶液として市販。）等を用いることもできる。これらの素材は、溶剤に溶解もしくは分散させて塗料化して、適宜な
塗布方法もしくは印刷方法により、バッファー層とする
「【００５４】
ところで、発光層積層工程およびドライエッチング工程とを繰り返す際に、前回形成されたパターン状の発光層上も含めて、次の発光層を全面に形成するので、後から発光層を形成する際に、発光層形成用組成物を用いるときは、組成物中の溶剤が、先に形成されたパターン状の発光層に影響を与えることがあるので、パターン状の発光層を形成する毎に、パターン状の発光層に応じた保護層を形成してから、次の発光層を全面に形成すると、先に形成されたパターン状の発光層への影響を解消でき、好ましい。保護層は、図１（ｄ）中の符号６Ａ、並びに図２（ｄ）中の符号６Ａおよび６Ｂで例示するように、パターン状の発光層の各々の上面のみならず、側面のすべてを被覆するものであることが好ましい。」
　
ｂ　図面の記載
「【図１】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
「【図２】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
「【図３】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
ｃ　引用例１記載の発明
　ａ、ｂの記載事項によると、引用例１には、以下の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
「基板１の上面の全面に、バッファー層２Ａおよび有機蛍光体層３Ａを順に積層して、所定の形状の非開孔部を有するマスク５Ａを介してドライエッチングすることにより、所定の形状の発光層４Ａ’を形成し、
発光層４Ａ’が積層された基板１上の既に形成されている発光層４Ａ’上も含めた全面に、バッファー層２Ｂおよび有機蛍光体層３Ｂを順に積層して、
先のマスク５Ａとは異なる位置に非開孔部を有するマスク５Ｂを介してドライエッチングすることにより、所定の形状の発光層４Ｂ’を形成し、
バッファー層２Ａ，２Ｂは塗布方法により形成する、
有機ＥＬ素子の製造方法。」
　
（２）引用刊行物２
　また、原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先日前である平成１４年１２月２０日に頒布された「特開２００２−３６７７７５号公報 」（以下「引用例２」という。）には、次の事項が記載されている。
ａ　発明の詳細な説明の記載
「【０００５】しかしながら、近年においてＥＬ素子はカラー化することが必要とされており、このためには発光層を複数層形成する必要がある。この際、この複数の発光層を上記フォトリソグラフィー法により形成した場合は、製造工程においてこれらの発光層が接触する場合があり、この際混色を生じてしまうといった問題が生じる可能性があった。
【０００６】
【本発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、複数の発光層をフォトリソグラフィー法により形成した場合でも、混色等の問題点の生じることの無いＥＬ素子の製造方法を提供することを主目的とするものである。」
「【００２１】
【発明の実施の形態】以下、本発明のＥＬ素子の製造方法について説明する。本発明のＥＬ素子の製造方法は、電極層が形成された基体上に、種類の異なる発光層を複数回にわたりフォトリソグラフィー法により形成するＥＬ素子の製造方法において、２回目以降に形成される発光層の発光層形成用溶媒が、既に形成されている発光層に対して貧溶媒であることを特徴とするものである。なお、本発明において、「貧溶媒」とは、溶質を溶かす能力の小さい溶媒をいう。
【００２２】既に形成されている発光層（以下、既形成発光層とする場合がある。）上に、さらに発光層形成用塗料を塗布して発光層を形成する際には、通常既形成発光層上にはレジスト層が形成されているため、全面的に発光層形成用塗料が既形成発光層と接触することはない。しかしながら、既形成発光層の端部は通常レジスト層に覆われていないため、この部分において発光層形成用塗料と既形成発光層とが接触する。このように接触した際、発光層形成用塗料に含まれる溶媒に対して、既形成発光層が容易に溶解する場合は、発光層形成用塗料中に既形成発光層の発光材料が溶け込んでしまい、混色が生じることになる。本発明はこのような問題点を解決するためになされたものであり、発光層形成用溶媒が、既形成発光層に対して貧溶媒であるものを用いることにより、上記問題点を解決したものである。
【００２３】図１は、本発明のＥＬ素子の製造方法の一例を示すものである。この例においては、まず図１（ａ）に示すように基体１上にパターニングされた第１電極層２およびバッファー層３が形成される。このバッファー層に関しては後で詳述する。
【００２４】そして、これらの上に第1発光層形成用塗料をスピンコート法等を用いて全面に塗布する。この第1発光層形成用塗料は少なくとも第1色を発光する発光材料および溶媒と、必要に応じて添加されるドーピング剤等からなるものである。全面塗布された第1発光層形成用塗料を乾燥させて硬化させることにより、第1発光層４が形成される（図1（ａ））。
【００２５】次に、この第1発光層４上に、ポジ型レジストを全面塗布してポジ型レジスト層５を形成し（図1（ｂ））、第1発光層４を形成する部分が露光しないように、フォトマスク６を用い紫外線７をパターン照射する（図１（ｃ））。そしてポジ型レジスト層５の露光した部分をレジスト現像液によって現像し、水洗することにより、図１（ｄ）に示すように露光部のポジ型レジスト層５が除去される。そして発光層現像液により現像することにより、ポジ型レジスト層５で覆われていない部分の第１発光層４のみ除去され、ポジ型レジスト層５と、これに被覆された第１発光層４が残る（図１（ｅ））。なお、この際の発光層の現像は、後述するようにドライエッチングを用いて行うことができる。
【００２６】次に、これらの上に第２発光層形成用塗料をスピンコート法等により全面に塗布する（図１（ｆ））。この第２発光層形成用塗料も、上記第１発光層形成用塗料と同様に、発光材料および溶媒、さらには必要に応じて添加されるドーピング剤等からなるものである。ただし、第２発光層に用いられる発光層形成用溶媒は、上記第１発光層に対して貧溶媒となるように選択される。
【００２７】この際、図１（ｆ）から明らかなように、上記全面に塗布された第２発光層形成用塗料と、第１発光層４とが接触する部分が生じる。すなわち、上述したように基体１上に残る第１発光層４はポジ型レジスト層５にその表面は覆われているが、発光層現像液により現像された端部ａは露出された状態となっている。したがって、この上に上記第２発光層形成用塗料を塗布すると、この端部ａにおいて第１発光層４と第２発光層形成用塗料とが接触するのである。この際、第２発光層形成用塗料は、上述したような第１発光層に対して貧溶媒となるような発光層形成用溶媒を用いているので、第１発光層、特に発光材料が上記第２発光層形成用溶媒に溶出する量は極めて微小となる。
【００２８】そして、上記第２発光層形成用塗料を乾燥させて固化させることにより第２発光層８が形成されるのであるが、第２発光層８内には第１発光層４の成分、特に第１発光層４の発光材料の溶出量は極めて少なく、したがって、第２発光層８において、混色等の問題が生じる可能性は極めて少なくすることができるのである。
【００２９】次に、図１（ｇ）に示すようにポジ型レジスト層５を全面に形成し、図１（ｈ）に示すように第１および第２発光層を形成する部分をマスクするようにフォトマスク６を配置し、紫外線７により露光する。そしてレジスト現像液により現像、水洗することにより、第１および第２発光層を形成する部分のポジ型レジスト層を残し、他の部分を除去する。その後、第２発光層現像液により露出している第２発光層を除去する。この際、第２発光層現像液は、第１発光層に対して貧溶媒となるものが選択されて用いられる。これは、第２発光層を現像する際に、第２発光層現像液と第１発光層とが上記第１発光層の端部ａの部分で接触することから、上記第２発光層現像液を第１発光層に対して貧溶媒となるものを用いることにより、混色等の問題を回避することができるからである。
【００３０】このような第２発光層現像液により現像することにより、図１（ｉ）に示すようにポジ型レジスト層５が残存していない部分の第２発光層８のみ除去され、ポジ型レジスト層５に被覆された部分のみ残る。なお、この第２発光層８の現像工程においても、後述するドライエッチング法を用いることができる。
【００３１】さらに、第１および第２発光層の形成と同様に、第３発光層形成用塗料をスピンコート法等を用いて全面に塗布する。この際の第３発光層形成用塗料も、上記第１および第２発光層形成用塗料と同様に、発光材料と溶媒、さらには必要に応じて添加されるドーピング剤とを有するものである。また、この際に用いられる第３発光層形成用溶媒は、上記第１発光層４および第２発光層８に対して貧溶媒となるような溶媒が選択される。
【００３２】このように第３発光層形成用塗料を塗布した際にも、例えば図１（ｊ）に示すように、最初に形成された第１発光層４の端部ａにおいて第１発光層と、さらには第２発光層８の端部ｂおよび端部ｃにおいて第２発光層と、塗布した第３発光層形成用塗料とが接触する。この際にも同様に、第３発光層形成用溶媒が、第１発光層４および第２発光層８に対して貧溶媒となることから、上記第１発光層４および第２発光層８が第３発光層形成用塗料中に溶出する量は極めて少なくなる。したがって、この後第３発光層形成用塗料を乾燥させ、固化させて第３発光層９を形成した場合でも、第３発光層９において混色等の問題が生じることはない。
【００３３】次いで、第３発光層９上にポジ型レジスト層５を全面にわたって形成する（図１（ｊ））。そして、図１（ｋ）に示すように第１、第２および第３発光層を形成する部分をマスクするようにフォトマスク６を配置し、紫外線７で露光する。これをレジスト現像液によって現像、水洗する。そして、第３発光層用現像液を用いて現像を行うのであるが、この際にも同様に第３発光層用現像液は、上記第１発光層４および第２発光層８、特にそれぞれの発光材料に対して貧溶媒となるものを選択して使用する。したがって、この第３発光層の現像工程においても、第１発光層４および／または第２発光層８、特にこれらの発光材料が現像液中に溶出し、混色等の問題が生じることがない。
【００３４】このような第３発光層現像液により第３発光層９を現像することにより、図１（ｌ）に示すようにポジ型レジスト層５により被覆されていない部分の第３発光層９のみ除去され、他のポジ型レジスト層５に被覆された部分が残る。
【００３５】そして、レジスト剥離液により剥離処理をするとレジストが形成された部分から上の層が剥離し、図１（ｍ）に示すように、第１発光層４（通常は青）、第２発光層８（通常は緑）、第３発光層９（通常は赤）といった３色の発光層が剥き出しに形成される。最後に図１（ｎ）のようにこれらの発光層上に第２電極層１０を形成すると図の下方にＥＬ発光１１を放つＥＬ素子が製造できる。」
「【００４３】ここで、貧溶媒であるとは、2回目以降に形成される発光層の発光層形成用溶媒の、既に形成されている発光層の発光層構成材料に対する２５℃、１気圧における溶解度が、０．１ｇ／ｇ溶媒以下であることを示し、特に、本発明においては、上記溶解度が０．０５ｇ／ｇ溶媒以下であることが好ましい。
【００４４】この程度の溶解度であれば、新たに形成される発光層の発光層形成用溶媒に既に形成された発光層構成材料が溶解し、新たに形成される発光層内に既に形成された発光層構成材料が混入した場合であっても、その量が極めて少ないことから、混色等の問題が生じないからである。
【００４５】また、発光層の他にバッファー層もフォトリソグラフィー法で形成される場合は、発光層の製膜の際にバッファー層と発光材料が混合や溶解することを防ぎ、発光材料本来の発光特性を保つためにバッファー層を溶解しないことが望ましい。」
　
ｂ　図面の記載
「【図１】
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
　
５　本件補正発明と引用発明の対比
　ここで、本件補正発明と引用発明を対比する。
（１）引用発明の「基板１」及び「バッファー層２Ａ」が、それぞれ本件補正発明の「基材」及び「第一バッファー層」に相当する。
　また、引用発明の「所定の形状の発光層４Ａ’」は、「基板１の上面の全面に、バッファー層２Ａおよび有機蛍光体層３Ａを順に積層して、所定の形状の非開孔部を有するマスク５Ａを介してドライエッチングすることにより」形成するものであるから、本件補正発明の「第一バッファー層を最下層として含む第一パターン部」に相当する。
　そうすると、引用発明の「基板１の上面の全面に、バッファー層２Ａおよび有機蛍光体層３Ａを順に積層して、所定の形状の非開孔部を有するマスク５Ａを介してドライエッチングすることにより、所定の形状の発光層４Ａ’を形成」する点は、本件補正発明の「基材上に、第一バッファー層を最下層として含む第一パターン部を形成する工程」を含む点に相当する。
　
（２）引用発明の「バッファー層２Ｂ」は、本件補正発明の「第二バッファー層」に相当する。
　また、引用発明の「所定の形状の発光層４Ｂ’」は、「基板１上の既に形成されている発光層４Ａ’上も含めた全面に、バッファー層２Ｂおよび有機蛍光体層３Ｂを順に積層して、先のマスク５Ａとは異なる位置に非開孔部を有するマスク５Ｂを介してドライエッチングすることにより」形成するものであるから、本件補正発明の「第二バッファー層を最下層として含む第二パターン部」に相当する。
　ここで、引用発明は、「バッファー層２Ｂおよび有機蛍光体層３Ｂを」、「基板１上の既に形成されている発光層４Ａ’上も含めた全面に」積層するものであるから、当然「発光層４Ａ’」を含む領域及び「発光層４Ｂ’」を含む領域が含まれるように「バッファー層２Ｂおよび有機蛍光体層３Ｂを」積層するものである。
　また、引用発明の「発光層４Ａ’」は「基板１の上面の全面に、バッファー層２Ａおよび有機蛍光体層３Ａを順に積層して、所定の形状の非開孔部を有するマスク５Ａを介してドライエッチングすることにより」形成するものであるから、引用発明は、「バッファー層２Ａ」のエッチング面が露出しているものであって、「発光層４Ａ’が積層された基板１上の既に形成されている発光層４Ａ’上も含めた全面に、バッファー層２Ｂおよび有機蛍光体層３Ｂを順に積層」することからみて、「バッファー層２Ａ」のエッチング面が露出している状態でバッファー層２Ｂを積層するものであるといえる。
　さらに、引用発明は「バッファー層２Ａ，２Ｂ」を「塗布方法により形成する」ものであるから、「バッファー層２Ｂ」を形成する際には、溶液を塗布するものであるといえる。
　したがって、引用発明の「発光層４Ａ’が積層された基板１上の既に形成されている発光層４Ａ’上も含めた全面に、バッファー層２Ｂおよび有機蛍光体層３Ｂを順に積層して、先のマスク５Ａとは異なる位置に非開孔部を有するマスク５Ｂを介してドライエッチングすることにより、所定の形状の発光層４Ｂ’を形成し、バッファー層２Ａ，２Ｂは塗布方法により形成する」点は、本件補正発明の「第一パターン部を含む領域および前記第二パターン部を形成すべき領域が含まれるように、且つ、前記パターニングにより露出した前記第一パターン部の端部を覆うように、前記基材上に第二バッファー層形成用溶液を塗布して、前記第二バッファー層を最下層として含む第二パターン部を形成する工程」を含む点に相当する。
　
（３）引用発明の「有機蛍光体層３Ａ」及び「有機蛍光体層３Ｂ」は、いずれも本件補正発明の「発光層」に相当する。
　また、引用発明の「バッファー層２Ａおよび有機蛍光体層３Ａ」及び「バッファー層２Ｂおよび有機蛍光体層３Ｂ」は、いずれも本件補正発明の「バッファー層と発光層とを含んでなるエレクトロルミネッセント層」に相当する。
　さらに、引用発明の「有機ＥＬ素子」は、本件補正発明の「エレクトロルミネッセント素子」に相当する。
　そして、引用発明の「バッファー層２Ａおよび有機蛍光体層３Ａを順に積層して、」「マスク５Ａを介してドライエッチングすることにより、所定の形状の発光層４Ａ’を形成し、発光層４Ａ’が積層された基板１上の既に形成されている発光層４Ａ’上も含めた全面に、バッファー層２Ｂおよび有機蛍光体層３Ｂを順に積層して、」「マスク５Ｂを介してドライエッチングすることにより、所定の形状の発光層４Ｂ’を形成」する「有機ＥＬ素子の製造方法」と、本件補正発明の「バッファー層と発光層とを含んでなるエレクトロルミネッセント層を、フォトリソグラフィー法によりパターニングして形成する工程を少なくとも２回以上繰り返して、パターニングされた第一パターン部と第二パターン部とを含むエレクロトルミネッセント層が、基材上に形成されたエレクトロルミネッセント素子を製造する方法」とは「バッファー層と発光層とを含んでなるエレクトロルミネッセント層を、パターニングして形成する工程を少なくとも２回以上繰り返して、パターニングされた第一パターン部と第二パターン部とを含むエレクロトルミネッセント層が、基材上に形成されたエレクトロルミネッセント素子を製造する方法」である点で一致する。
　
　上記（１）〜（３）の点から、本件補正発明と引用発明は、
「バッファー層と発光層とを含んでなるエレクトロルミネッセント層を、パターニングして形成する工程を少なくとも２回以上繰り返して、パターニングされた第一パターン部と第二パターン部とを含むエレクロトルミネッセント層が、基材上に形成されたエレクトロルミネッセント素子を製造する方法において、
　前記基材上に、第一バッファー層を最下層として含む第一パターン部を形成する工程と、
　前記第一パターン部を含む領域および前記第二パターン部を形成すべき領域が含まれるように、且つ、前記パターニングにより露出した前記第一パターン部の端部を覆うように、前記基材上に第二バッファー層形成用溶液を塗布して、前記第二バッファー層を最下層として含む第二パターン部を形成する工程を含んでなる、ことを特徴とする、エレクトロルミネッセント素子の製造方法。」
で一致し、以下（ａ）、（ｂ）の点で相違する。
　
（相違点）
（ａ）本件補正発明は、第一のバッファー層が、第二のバッファー層形成用溶液に混和しないものであるのに対し、引用発明は、そのような特定がない点。
　
（ｂ）バッファー層と発光層とを含んでなるエレクトロルミネッセント層のパターニングを、本件補正発明は、フォトリソグラフィー法により行っているのに対し、引用発明は、マスクを介してドライエッチングしている点。
　
６　当審の判断
　以下、上記相違点（ａ）、（ｂ）について検討する。
（ａ）の点について
　複数の発光層を形成する場合に、既形成発光層と発光層形成塗料とが接触する際、発光層形成塗料に含まれる溶媒に対し既形成発光層が溶出しにくくする点が、引用例２（引用例２では、【００２１】乃至【００２７】並びに図１参照。）に記載されている。
　一方、引用発明は、上記したように（「第２」［理由］「５」「（２）」参照。）、基板１上の全面にバッファー層２Ｂを形成する際にバッファー層２Ａが露出しているものであるから、バッファー層２Ｂはバッファー層２Ａと直接接触するものである。
　さらに、引用例２には、「発光層の他にバッファー層もフォトリソグラフィー法で形成される場合は、発光層の製膜の際にバッファー層と発光材料が混合や溶解することを防ぎ、発光材料本来の発光特性を保つためにバッファー層を溶解しないことが望ましい」（【００４５】）と記載されており、発光層のみならずバッファー層も溶解する懸念があることが示唆されているといえる。
　したがって、引用発明におけるバッファー層の形成に際し、引用例２記載の既形成層が層形成溶媒に対し溶出しにくくする技術を採用して、バッファー層２Ａ（本件補正発明の「第一バッファー層」に相当。）がバッファー層２Ｂ形成用溶媒（本件補正発明の「第二バッファー層形成用溶液」に相当。）に溶出しにくくすることは、当業者が容易になしえたことである。
　よって、その際に、第一のバッファー層が、第二のバッファー層形成用溶液に混和しないようにして、上記相違点（ａ）に係る本件補正発明の発明特定事項を得ることに、格別の困難性はない。
（ｂ）の点について
　引用発明は、マスクを介してドライエッチングを行って、バッファー層２Ａ，２Ｂおよび有機蛍光体層３Ａ，３Ｂのパターニングを行っている。
　しかしながら、有機ＥＬ素子の分野において、パターニングをフォトリソグラフィー法により行うことは周知技術であり、また、引用例１には、「他の発光層形成工程としては、・・・・・一面に形成した発光層上に、フォトレジストを用いてレジストパターンを形成し、そのレジストパターンを利用して、エッチング液によりエッチングするフォトリソグラフィー法も挙げることができる。」（【００２２】）と記載されている。
　したがって、引用発明において、バッファー層２Ａ，２Ｂおよび有機蛍光体層３Ａ，３Ｂからなる発光層４Ａ’，４Ｂ’の形成をフォトリソグラフィー法により行って上記相違点（ｂ）に係る本件補正発明の発明特定事項を得ることは、当業者が容易になしえたことである。
　
　相違点（ａ）、（ｂ）については上記のとおりであり、本件補正発明によってもたらされる効果は、引用発明及び引用例２記載の発明並びに周知技術から当業者が当然に予測できる範囲内のものと認められる。
　よって、本件補正発明は、引用発明及び引用例２記載の発明並びに周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　
７　請求人の主張
　請求人は平成２４年９月２１日付けの回答書において、（１）引用例１の【００５４】の記載を挙げて、「引用例１に接した当業者が、発光層４Ａ’の溶出を考慮した場合に、発光層４Ａ’に続いて発光層４Ｂを形成しようとする際に保護層６Ａを省略して、発光層４Ａ’が設けられた基板上の全面に発光層４Ｂの形成用組成物を塗布して発光層４Ｂを形成しようとは決して考えません。よって、「保護層６Ａは必須のものではなく任意のものである」とする認定はあたらないものであると請求人は考えます」及び（２）「引用例２（特開２００２−３６７７５号公報）」「には、第２バッファー層自体を、既に形成した第１バッファー層および第１発光層（即ち、第一パターン部）の保護層として機能させるという技術思想が何ら開示されていない」と主張している。
　以下、これらの点について検討する。
（１）の点について
　確かに、引用例１には、「発光層積層工程およびドライエッチング工程とを繰り返す際に、前回形成されたパターン状の発光層上も含めて、次の発光層を全面に形成するので、後から発光層を形成する際に、発光層形成用組成物を用いるときは、組成物中の溶剤が、先に形成されたパターン状の発光層に影響を与えることがあるので、パターン状の発光層を形成する毎に、パターン状の発光層に応じた保護層を形成してから、次の発光層を全面に形成すると、先に形成されたパターン状の発光層への影響を解消でき、好ましい。」（【００５４】）と記載されている。
　しかしながら、この記載は保護層の形成に関し、「形成すると、」「好ましい」という表現を用いており必須であるとは解釈できない。
　しかも、引用例１には、「必要に応じて、発光層４Ａ’を被覆する保護層６Ａを積層することができる」（【００１５】）、「発光層４Ｂは、既に形成されている発光層４Ａ’上（保護層６Ａを伴なう場合には、保護層６Ａ上）も含めた全面に積層する。」（【００１８】）と保護層６Ａ形成することが任意のものである表現が用いられているから、引用例１には、保護層６Ａを形成しない発明も記載されていると認める。
　したがって、請求人の「「保護層６Ａは必須のものではなく任意のものである」とする認定はあたらないものである」との主張は当を得ないものである。
（２）の点について
　確かに、引用例２には「第２バッファー層自体を、既に形成した第１バッファー層および第１発光層（即ち、第一パターン部）の保護層として機能させる」という技術思想は何ら開示されていない。
　しかしながら、「第２バッファー層自体を、既に形成した第１バッファー層および第１発光層（即ち、第一パターン部）の保護層として機能させる」点は、引用発明が有するものであるから、たとえ引用例２にこの点が何ら開示されていないからといって、本件補正発明が、引用発明及び引用例２記載の発明並びに周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたとする結論に何ら影響をするものではない。
　したがって、請求人の主張は採用できない。
　
８　本件補正についての補正の却下の決定のむすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであるから、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　平成２４年１月２５日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成２３年１０月５日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりのものである。（「第２」［理由］「１」参照。）
　
２　引用刊行物
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の優先日前に頒布された引用刊行物及びその記載事項、並びに引用発明は、上記「第２」［理由］「４」に記載したとおりである。
　
３　対比及び当審の判断
　本願発明は、本件補正発明の発明特定事項である「第二パターン部を形成する工程」の「基材上に第二バッファー層形成用溶液を塗布」する点に関し、「パターニングにより露出した前記第一パターン部の端部を覆うように」する点を削除したものである。
　したがって、本願発明の発明特定事項を全て含み、さらに上記点を追加した本件補正発明が、上記「第２」［理由］「５」及び「６」に記載したとおり、引用発明及び引用例２記載の発明並びに周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も同様の理由により、引用発明及び引用例２記載の発明並びに周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び引用例２記載の発明並びに周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について言及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。