(57)【要約】光透過層を通して光を照射する光ディスクにおいて、キャラクタの視認を容易にすることができる光学記録媒体およびその製造方法を提供する。光透過性の保護層を通して光学記録層に光を照射するタイプの大容量化に対応した光ディスクにおいて、媒体基板１５の一主面が信号部ＳＧとキャラクタ部ＣＡに区分されており、信号部ＳＧにおいて信号部用凹凸形状（１５ｐ）が形成され、かつ、キャラクタ部ＣＡにおいてキャラクタ部用凹凸形状（１５ｐ）が形成されており、信号部用凹凸形状およびキャラクタ部用凹凸形状の深さが２５ｎｍ以下である。ここで、キャラクタ部ＣＡにおいて、キャラクタ部用凹凸形状が形成された領域の輪郭により、媒体基板１５側（Ｙ方向）から見て正字に読めるようにキャラクタが記録されている構成とする。
2003085656.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一主面が信号部とキャラクタ部に区分され、上記信号部において信号部用凹凸形状が形成され、かつ、上記キャラクタ部においてキャラクタ部用凹凸形状が形成された媒体基板と、上記信号部用凹凸形状およびキャラクタ部用凹凸形状の形成面に形成された光学記録層と、上記光学記録層の上層に形成された光透過性の保護層とを有し、上記信号部用凹凸形状および上記キャラクタ部用凹凸形状の深さが２５ｎｍ以下であり、上記保護層を通して上記光学記録層に光を照射される光学記録媒体であって、
上記キャラクタ部において、上記キャラクタ部用凹凸形状が形成された領域の輸郭により、上記媒体基板側から見て正字に読めるようにキャラクタが記録されている
光学記録媒体。
【請求項２】
上記光学記録層の膜厚が、上記信号部用凹凸形状および上記キャラクタ部用凹凸形状の深さよりも厚い
請求項１に記載の光学記録媒体。
【請求項３】
上記光学記録層が相変化型の記録膜を含んでおり、
上記光学記録層は、上記信号部のみにおいて初期化されている
請求項１に記載の光学記録媒体。
【請求項４】
一主面が信号部とキャラクタ部に区分され、上記信号部において信号部用凹凸形状が形成され、かつ、上記キャラクタ部においてキャラクタ部用凹凸形状が形成された媒体基板と、上記信号部用凹凸形状およびキャラクタ部用凹凸形状の形成面に形成された光学記録層と、上記光学記録層の上層に形成された光透過性の保護層とを有し、上記保護層を通して上記光学記録層に光を照射される光学記録媒体であって、
上記信号部用凹凸形状および上記キャラクタ部用凹凸形状は連続溝状の凹凸形状であり、
少なくとも上記信号部用凹凸形状にウォブルが形成されていて、上記媒体基板から凸になっている部分の幅が略一定であり、
上記キャラクタ部において、上記キャラクタ部用凹凸形状が形成された領域の輪郭により、上記媒体基板側から見て正字に読めるようにキャラクタが記録されている
光学記録媒体。
【請求項５】
上記信号部用凹凸形状および上記キャラクタ部用凹凸形状の深さが２５ｎｍ以下である
請求項４に記載の光学記録媒体。
【請求項６】
上記光学記録層の膜厚が、上記信号部用凹凸形状および上記キャラクタ部用凹凸形状の深さよりも厚い
請求項５に記載の光学記録媒体。
【請求項７】
上記光学記録層が相変化型の記録膜を含んでおり、
上記光学記録層は、上記信号部のみにおいて初期化されている
請求項５に記載の光学記録媒体。
【請求項８】
媒体基板上に光学記録層とその上層に形成された光透過性の保護層を有し、当該保護層を通して上記光学記録層に光を照射される光学記録媒体の製造方法であって、
一主面を信号部とキャラクタ部に区分し、上記信号部において信号部用凹凸形状を形成し、かつ、上記キャラクタ部においてキャラクタ部用凹凸形状を形成して光学記録媒体製造用原盤を形成する工程と、
上記光学記録媒体製造用原盤から上記信号部用凹凸形状および上記キャラクタ部用凹凸形状を転写してマスタスタンパを形成する工程と、
上記マスタスタンパから上記信号部用凹凸形状および上記キャラクタ部用凹凸形状を転写してマザースタンパを形成する工程と、
上記マザースタンパから上記信号部用凹凸形状および上記キャラクタ部用凹凸形状を転写して媒体基板を形成する工程と、
上記媒体基板の上記信号部用凹凸形状および上記キャラクタ部用凹凸形状の形成面上に光学記録層を形成する工程と、
上記光学記録層の上層に光透過性の保護層を形成する工程と
を有し、
上記光学記録媒体製造用原盤を形成する工程において、上記キャラクタ部において、上記キャラクタ部用凹凸形状が形成された領域の輪郭により、上記光学記録媒体製造用原盤に対して正字に読めるようにキャラクタを記録する
光学記録媒体の製造方法。
【請求項９】
上記光学記録媒体製造用原盤を形成する工程において、上記信号部用凹凸形状および上記キャラクタ部用凹凸形状を深さが２５ｎｍ以下で形成する
請求項８に記載の光学記録媒体の製造方法。
【請求項１０】
上記光学記録層を形成する工程において、上記信号部用凹凸形状および上記キャラクタ部用凹凸形状の深さよりも上記光学記録層を厚く形成する
請求項９に記載の光学記録媒体の製造方法。
【請求項１１】
上記光学記録媒体製造用原盤を形成する工程は、原盤用基板上にレジスト膜を形成する工程と、上記信号部用凹凸形状および上記キャラクタ部用凹凸形状として連続溝状のパターンで上記レジスト膜を露光する工程と、上記レジスト膜を現像する工程と含み、
上記上記レジスト膜を露光する工程において、少なくとも上記信号部用凹凸形状にウォブルを形成する
請求項８に記載の光学記録媒体の製造方法。
【請求項１２】
上記光学記録層を形成する工程において、相変化型の記録膜を含む光学記録層を形成し、
上記光学記録層を形成する工程の後に、上記信号部のみにおいて初期化する工程をさらに有する
請求項８に記載の光学記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、光学記録媒体（以下光ディスクとも言う）およびその製造方法に関する。
背景技術
近年、動画、静止画などのビデオデータをデジタルに記録する技術の発展に伴い、大容量のデータが取り扱われるようになり、大容量記録装置としてＣＤ（コンパクトディスク）やＤＶＤ（デジタル多用途ディスク）などの光ディスク装置が脚光を浴びており、さらなる大容量化の研究が進められている。
図１Ａは、従来例に係る書き換え可能型の光ディスクにおける光の照射の様子を示す模式斜視図である。
光ディスクＤＣは、中心部にセンターホールＣＨが開口された厚さ約１．２ｍｍの円盤形状をしており、ドライブ方向ＤＲに回転駆動される。
情報を記録または再生するときには、光ディスクＤＣ中の光学記録層に対して、対物レンズＯＬによりレーザ光などの光ＬＴが照射される。
図１Ｂは光の照射の様子を示す模式断面図であり、図１Ａ中のＡ−Ａ’における断面図に相当する。また、図１Ｃは要部を拡大した断面図である。
厚さが約１．１ｍｍのポリカーボネート樹脂などからなる媒体基板１５の一方の表面に、例えばスパイラル状に設けられた連続溝状の凹部１５ｄを含む凹凸形状が設けられており、この面上に、例えば反射膜、誘電体膜、記録膜、誘電体膜などがこの順番で積層された積層体からなる光学記録層１６が形成されている。光学記録層１６の層構成および層数は記録材料の種類や設計によって異なり、単層構成と多層積層体の構成の場合を含む。
上記の記録膜は、例えば相変化型の記録膜、光磁気記録膜、あるいは有機色素材料を含む記録膜である。
さらに、光学記録層１６の上層に約０．１ｍｍの膜厚の保護層１７が形成されている。
上記の光ディスクを記録あるいは再生する場合には、例えばレーザ光などの記録または再生光ＬＴを対物レンズＯＬで集光して媒体基板１５側から光学記録層１６に対して照射する。
光ディスクの再生時においては、光学記録層１６で反射された戻り光が受光素子で受光され、信号処理回路により所定の信号を生成して、再生信号が取り出される。
上記のような光ディスクにおいて、媒体基板１５の一方の表面に設けられた連続溝状の凹部１５ｄを含む凹凸形状に応じて、光学記録層１６も凹凸形状を有しており、この凹凸形状によりトラック領域がランドとグルーブに区分されており、記録／再生時にトラッキング用案内溝として使用される。
ランドとグルーブの両者に情報を記録するランド・グルーブ記録方式と、ランドとグルーブの一方のみ記録領域とする記録方式がある。
また、上記の媒体基板１５の凹凸形状を記録データに対応する長さを有する連続したピットの列として、上記の光学記録層１６として、アルミニウム膜などの反射膜を設けることにより、再生専用（ＲＯＭ）型の光ディスクとすることもできる。
上記の光ディスクの製造方法について説明する。
まず、図２Ａに示すように、例えば、マスタリング原盤用基板である平坦に研磨され、洗浄されたガラス基板１０上に、感光してアルカリ可溶性となるフォトレジスト材料を５０〜１００ｎｍ程度の所定膜厚で塗布してレジスト膜１１を形成し、レジスト原盤ＲＤを形成する。
次に、図２Ｂに示すように、例えば、レジスト膜露光用の光をレジスト膜１１に集光、照射して、ガラス基板１０を回転しながらガラス基板１０の半径方向に露光用の光を移動させることで、例えばスパイラル状に、媒体基板に転写するための凹凸形状のパターンで露光し、この結果、露光されたレジスト膜１１ｂと未露光のレジスト膜１１ａとする。
次に、図２Ｃに示すように、アルカリ性現像液によりレジスト膜１１を現像する。この結果、露光されたレジスト膜１１ｂが溶出され、未露光のレジスト膜１１ａのみが残され、ガラス基板１０とレジスト膜１１ａに、スパイラル状の凹凸形状である凹部１１ｄが形成される。
以上で、マスタリング原盤が得られる。
次に、図３Ａに示すように、上記で得られたマスタリング原盤上にニッケルなどの材料で厚さが例えば０．３〜０．５ｍｍとなるようにメッキ処理などを行い、マスタスタンパ１２を形成する。
ニッケルメッキ処理には、メッキ成長速度の早い電気メッキ法を用いるが、予めマスタリング原盤の表面に導電性を持たせておかなければならないので、前処理としてスパッタ法、または化学反応によってニッケルを析出させる無電解メッキ法によりニッケル薄膜をコーティングする必要がある。
ここで、マスタスタンパ１２の表面には、マスタリング原盤の表面の凹部１０ｄにおいて逆パターンの凹凸として転写され、凸部１２ｐが形成される。
大量生産を行う光ディスクについて、複数のスタンパが必要とされる場合には、１枚の原盤から複数のスタンパーを得る方法として、ニッケルメッキによるスタンパからスタンパへの転写プロセスが一般的に使用されている。以下、この方法について説明する。
即ち、図３Ｂに示すように、上記で得られたマスタスタンパ１２上に、酸化処理を行って酸化膜１２ａを形成し、さらにニッケルなどの材料でメッキ処理などを行い、マザースタンパ１３を形成する。１枚のマスタスタンパ１２から複数枚のマザースタンパ１３を形成することができる。
ここで、マザースタンパ１３の表面には、マスタスタンパ１２の表面の凸部１２ｐにおいて逆パターンの凹凸として転写され、凹部１３ｄが形成される。
次に、図４Ａに示すように、上記で得られたマザースタンパ１３上に、酸化処理を行って酸化膜１３ａを形成し、さらにニッケルなどの材料でメッキ処理などを行い、サンスタンパ１４を形成する。サンスタンパ１４は、マスタスタンパ１２と同じ凹凸形状パターンを有することになる。１枚のマザースタンパ１３から複数枚のサンスタンパ１４を形成することができる。
ここで、サンスタンパ１４の表面には、マザースタンパ１３の表面の凹部１３ｄにおいて逆パターンの凹凸として転写され、凸部１４ｐが形成される。
次に、図４Ｂに示すように、上記で得られたサンスタンパ１４を射出成形用金型にセットし、例えばポリカーボネートなどの樹脂を射出して、サンスタンパ１４の凹凸パターン上に媒体基板１５を形成する。
ここで、媒体基板１５の表面には、サンスタンパ１４の表面の凸部１４ｐにおいて逆パターンの凹凸として転写されて凹部１５ｄが形成される。
形成する光ディスクの枚数が少ない場合には、この射出成形工程において、サンスタンパ１４の代わりにマスタスタンパ１２を用いて媒体基板１５を形成してもよい。
次に、図５Ａに示すように、媒体基板１５の表面に、例えばスパッタリング法などにより、誘電体膜、記録膜、誘電体膜、反射膜の積層体などからなる光学記録層１６をこの成膜順序で成膜する。
次に、図５Ｂに示すように、光学記録層１６の上層に保護層１７を形成する。
以上で、図１に示すような光ディスクを製造することができる。
上記の製造工程において、マスタリング原盤作成工程における露光を信号ピットに合うように強度変調した光で露光することで、媒体基板１５の凹部１５ｄを含む凹凸形状として、記録データに対応する長さを有する連続した信号ピット列を形成し、光学記録層としてアルミニウム膜などの反射膜により形成することにより、再生専用（ＲＯＭ）型の光ディスクを製造することもできる。
上記の光ディスクには、図６Ａに示すように、これらピットやグルーブなどの情報の記録再生に関与する信号部ＳＧの他に、マスタリング原盤の通し番号、製造年月日、商品情報などの文字（キャラクタ）を記録するキャラクタ部ＣＡが同一面内（通常は信号部ＳＧの内周（センタホールＣＨ）側）に区分されている。
図６Ｂは、光ディスクの信号部ＳＧとキャラクタ部ＣＡに相当する部分の断面図である。
キャラクタは、キャラクタ部ＣＡ内において、断続したグルーブ（ＧＲ）の列、あるいはピット列によって、キャラクタの輪郭の内側を塗り潰すようにして描画される。キャラクタの輪郭の外側は無記録部分であり、鏡面（ＭＲ）となっているので、コントラストがつき、これによってキャラクタが浮き上がって、媒体基板側であるＺ方向から見たときにキャラクタとして視認可能となっている。
また、その逆にキャラクタの輪郭の内側を無記録で鏡面として、外側をグルーブ（ＧＲ）あるいはピット列で塗り潰しても良い。
マスタリング原盤の形成における露光工程において、上記のキャラクタ部のキャラクタの輪郭の内部にグルーブあるいはピットの列を形成するように露光する。露光工程において用いる露光装置は、一般的にスパイラル状に記録を行うので、キャラクタ列を半径方向（トラックピッチ方向）に分解して、一トラック毎にキャラクタの輪郭の内部のみをグルーブまたはピット列で記録する。マスタリング原盤が一回転して、隣接するトラックを露光する際に、前トラックとキャラクタが正しく繋がるようにタイミングを合わせる必要がある。
ユーザが所望のキャラクタを露光装置に入力すると、露光装置内のキャラクタ作成器が上記動作に対応してキャラクタ列を記録信号へ変換し、露光する時にマスタリング原盤の回転周期に同調しながら、光変調器へ記録信号が出力される。
キャラクタ高さは、キャラクタの縦方向の長さのことであり、（記録トラックピッチ）ｘ（トラック数）となるが、通常は１μｍピッチｘ１０００トラック程度であり、キャラクタ高さとしては約１ｍｍで描画する。
ここで、従来方法においては、キャラクターをマスタリング原盤へ露光する際に、「逆字」（＝通常の「正字」を鏡で左右反転させたキャラクタ）で記録していた。その理由について、以下にそれを説明する。
従来のＣＤやＤＶＤフォーマット（追記可能型や書き換え可能型などの記録可能型を含む）では、マスタスタンパあるいはサンスタンパからポリカーボネート樹脂などの媒体基板に転写を行い、媒体基板上に反射膜あるいは記録膜などを成膜し、その上層に保護層を塗布する方法でディスクを製造していた。
このような光ディスクにおいて、キャラクタは保護層側から読むよりも、プラスチックの媒体基板側からの方が読み取り易い。なぜなら、パターン上に反射膜あるいは記録膜を成膜すると、グルーブなどの凹部が反射膜あるいは記録膜で埋められて、グルーブなどの凹部の段差が減少するからである。
また、ＣＤでは保護層面上に印刷を行うのでキャラクタが消されてしまう場合があり、ＤＶＤでは０．６ｍｍ厚のプラスチックの媒体基板を反射膜あるいは記録膜の成膜面側で貼り合わせる構造のため、媒体基板側からでないとキャラクタが読めないという事情がある。
以上の理由から、従来の光ディスクでは、媒体基板側から見て「正字」になっている場合が圧倒的に多かった。
上記のようにキャラクタを媒体基板側から「正字」に見えるためには、マスタリング原盤にキャラクタを記録する際に、「逆字」として記録する必要があった。これは、マスタリング工程中、マスタリング原盤からマスタスタンパへの転写、マスタスタンパからマザースタンパへの転写、マザースタンパからサンスタンパへの転写、そして各種スタンパから媒体基板への転写を行う際、キャラクタの正逆は反転する。上記の従来例に係る光ディスクの製造方法では、媒体基板への転写をサンスタンパあるいはマスタスタンパから行うため、サンスタンパまたはマスタスタンパ上でキャラクタは「正字」になっていれば良い。（マスタスタンパとサンスタンパでキャラクタの正逆は一致する。）  即ち、マスタリング原盤上においては、キャラクターを「逆字」とする必要がある。
ところで、上記のような光ディスクにおいて、記録／再生用のレーザ光は対物レンズにより光学記録層上に集光されるが、集光スポットの直径φが小さくなるほど、微小パターンの記録および再生が可能になる。
集光スポットの直径φは、記録／再生用のレーザ光の波長λと対物レンズ開口数ＮＡよりφ＝λ／ＮＡで表され、記録／再生光の短波長化、または対物レンズの高開口数化が高密度記録化、大容量化に寄与することを示している。
例えば、ＣＤでは、記録／再生用のレーザ光が７８０ｎｍ、対物レンズの開口数（ＮＡ）が０．４５であり、６５０ＭＢの記録容量であったが、ＤＶＤ−ＲＯＭ（再生専用メモリ）では、レーザ光波長が６５０ｎｍ、ＮＡが０．６であり、４．７ＧＢの記録容量となっている。
さらに、次世代の光ディスクシステムとして、光学記録層上に例えば０．１ｍｍ程度の薄い光透過性の層である保護層が形成され、保護層を通して光学記録層に記録／再生用の光を照射するタイプの光ディスクを用い、レーザ光波長を４５０ｎｍ以下（例えば４００ｎｍ）、ＮＡを０．７８以上（例えば０．８５）とし、例えばＤＶＤの５倍程度にまで大容量化した光ディスクシステムの開発が進められている。
しかしながら、上記のような大容量光ディスクにおいては、グルーブなどの凹凸形状をマザースタンパから媒体基板に転写する方法が検討されており、このような製造方法で従来例と同様にマスタリング原盤に「逆字」としてキャラクタを記録すると、最終的に形成される光ディスクでは厚さ０．１ｍｍの保護層側から観ないと「正字」とならなくなるが、上記の大容量光ディスクにおいてはグルーブが２５ｎｍ以下にまで浅くなってきており、グルーブ深さよりも反射膜や記録膜などの膜厚の方が厚くなってしまい、「正字」として読み取れる０．１ｍｍの厚さの保護層側からはキャラクタを視認することが非常に困難となってしまうという問題がある。
しかも、相変化型の記録膜を含む光学記録層を有する光ディスクの場合、光学記録層を記録可能にするために成膜後に初期化を行う必要があるが、この初期化の処理は信号を記録する信号部において行い、キャラクタ部については通常初期化処理を行っていない。
しかし、初期化処理を行っていない相変化型の記録膜を含む光学記録層は反射率が低くなっており、キャラクタ部用凹凸形状によるキャラクタはさらに視認しにくくなるという問題もある。
発明の開示
本発明は上記の状況に鑑みてなされたものであり、従って本発明の目的は、０．１ｍｍ程度の光透過性の保護層を通して光学記録層に光を照射するタイプの大容量化に対応した光ディスクにおいて、キャラクタの視認を容易にすることができる光学記録媒体およびその製造方法を提供することである。
上記の目的を達成するために、本発明の光学記録媒体は、一主面が信号部とキャラクタ部に区分され、上記信号部において信号部用凹凸形状が形成され、かつ、上記キャラクタ部においてキャラクタ部用凹凸形状が形成された媒体基板と、上記信号部用凹凸形状およびキャラクタ部用凹凸形状の形成面に形成された光学記録層と、上記光学記録層の上層に形成された光透過性の保護層とを有し、上記信号部用凹凸形状および上記キャラクタ部用凹凸形状の深さが２５ｎｍ以下であり、上記保護層を通して上記光学記録層に光を照射される光学記録媒体であって、上記キャラクタ部において、上記キャラクタ部用凹凸形状が形成された領域の輪郭により、上記媒体基板側から見て正字に読めるようにキャラクタが記録されている。
上記の本発明の光学記録媒体は、好適には、上記光学記録層の膜厚が、上記信号部用凹凸形状および上記キャラクタ部用凹凸形状の深さよりも厚い。
上記の本発明の光学記録媒体は、好適には、上記光学記録層が相変化型の記録膜を含んでおり、上記光学記録層は、上記信号部のみにおいて初期化されている。
上記の本発明の光学記録媒体は、光透過性の保護層を通して光学記録層に光を照射するタイプの大容量化に対応した光ディスクにおいて、媒体基板の一主面が信号部とキャラクタ部に区分されており、信号部において信号部用凹凸形状が形成され、かつ、キャラクタ部においてキャラクタ部用凹凸形状が形成されており、また、信号部用凹凸形状およびキャラクタ部用凹凸形状の深さが２５ｎｍ以下である。ここで、キャラクタ部において、キャラクタ部用凹凸形状が形成された領域の輪郭により、媒体基板側から見て正字に読めるようにキャラクタが記録されている。
グルーブなどの凹凸形状の深さが２５ｎｍ以下にまで浅くなっても、「正字」として読み取れるのが媒体基板側からとなっており、保護層側からの場合よりも容易にキャラクタの視認が可能である。
また、上記の目的を達成するために、本発明の光学記録媒体は、一主面が信号部とキャラクタ部に区分され、上記信号部において信号部用凹凸形状が形成され、かつ、上記キャラクタ部においてキャラクタ部用凹凸形状が形成された媒体基板と、上記信号部用凹凸形状およびキャラクタ部用凹凸形状の形成面に形成された光学記録層と、上記光学記録層の上層に形成された光透過性の保護層とを有し、上記保護層を通して上記光学記録層に光を照射される光学記録媒体であって、上記信号部用凹凸形状および上記キャラクタ部用凹凸形状は連続溝状の凹凸形状であり、少なくとも上記信号部用凹凸形状にウォブルが形成されていて、上記媒体基板から凸になっている部分の幅が略一定であり、上記キャラクタ部において、上記キャラクタ部用凹凸形状が形成された領域の輪郭により、上記媒体基板側から見て正字に読めるようにキャラクタが記録されている。
上記の本発明の光学記録媒体は、光透過性の保護層を通して光学記録層に光を照射するタイプの大容量化に対応した光ディスクにおいて、媒体基板の一主面が信号部とキャラクタ部に区分されており、信号部において信号部用凹凸形状が形成され、かつ、キャラクタ部においてキャラクタ部用凹凸形状が形成されている。ここで、信号部用凹凸形状およびキャラクタ部用凹凸形状は連続溝状の凹凸形状であり、少なくとも信号部用凹凸形状にウォブルが形成されていて、媒体基板から凸になっている部分の幅が略一定であり、キャラクタ部において、キャラクタ部用凹凸形状が形成された領域の輪郭により、媒体基板側から見て正字に読めるようにキャラクタが記録されている。
信号部用凹凸形状にウォブルが形成されていて、媒体基板から凸になっている部分の幅が略一定となるのは、製造工程において、サンスタンパあるいはマスタスタンパからではなく、マザースタンパから媒体基板を転写する場合となる。このような場合にも、「正字」として読み取れるのが媒体基板側からとすることで、保護層側から見る場合よりも容易にキャラクタの視認が可能である。
また、上記の目的を達成するために、本発明の光学記録媒体の製造方法は、媒体基板上に光学記録層とその上層に形成された光透過性の保護層を有し、当該保護層を通して上記光学記録層に光を照射される光学記録媒体の製造方法であって、一主面を信号部とキャラクタ部に区分し、上記信号部において信号部用凹凸形状を形成し、かつ、上記キャラクタ部においてキャラクタ部用凹凸形状を形成して光学記録媒体製造用原盤を形成する工程と、上記光学記録媒体製造用原盤から上記信号部用凹凸形状および上記キャラクタ部用凹凸形状を転写してマスタスタンパを形成する工程と、上記マスタスタンパから上記信号部用凹凸形状および上記キャラクタ部用凹凸形状を転写してマザースタンパを形成する工程と、上記マザースタンパから上記信号部用凹凸形状および上記キャラクタ部用凹凸形状を転写して媒体基板を形成する工程と、上記媒体基板の上記信号部用凹凸形状および上記キャラクタ部用凹凸形状の形成面上に光学記録層を形成する工程と、上記光学記録層の上層に光透過性の保護層を形成する工程とを有し、上記光学記録媒体製造用原盤を形成する工程において、上記キャラクタ部において、上記キャラクタ部用凹凸形状が形成された領域の輪郭により、上記光学記録媒体製造用原盤に対して正字に読めるようにキャラクタを記録する。
上記の本発明の光学記録媒体の製造方法は、好適には、上記光学記録媒体製造用原盤を形成する工程において、上記信号部用凹凸形状および上記キャラクタ部用凹凸形状を深さが２５ｎｍ以下で形成する。
上記の本発明の光学記録媒体の製造方法は、好適には、上記光学記録層を形成する工程において、上記信号部用凹凸形状および上記キャラクタ部用凹凸形状の深さよりも上記光学記録層を厚く形成する。
上記の本発明の光学記録媒体の製造方法は、好適には、上記光学記録媒体製造用原盤を形成する工程は、原盤用基板上にレジスト膜を形成する工程と、上記信号部用凹凸形状および上記キャラクタ部用凹凸形状として連続溝状のパターンで上記レジスト膜を露光する工程と、上記レジスト膜を現像する工程と含み、上記上記レジスト膜を露光する工程において、少なくとも上記信号部用凹凸形状にウォブルを形成する。
上記の本発明の光学記録媒体の製造方法は、好適には、上記光学記録層を形成する工程において、相変化型の記録膜を含む光学記録層を形成し、上記光学記録層を形成する工程の後に、上記信号部のみにおいて初期化する工程をさらに有する。
上記の本発明の光学記録媒体の製造方法は、一主面を信号部とキャラクタ部に区分し、信号部において信号部用凹凸形状を形成し、かつ、キャラクタ部においてキャラクタ部用凹凸形状を形成して光学記録媒体製造用原盤を形成する。
次に、光学記録媒体製造用原盤から信号部用凹凸形状およびキャラクタ部用凹凸形状を転写してマスタスタンパを形成し、マスタスタンパから転写してマザースタンパを形成し、マザースタンパから転写して媒体基板を形成する。
次に、媒体基板の信号部用凹凸形状およびキャラクタ部用凹凸形状の形成面上に光学記録層を形成し、その上層に光透過性の保護層を形成する。
ここで、光学記録媒体製造用原盤を形成する工程において、キャラクタ部において、キャラクタ部用凹凸形状が形成された領域の輪郭により、光学記録媒体製造用原盤に対して正字に読めるようにキャラクタを記録する。
マザースタンパから転写して媒体基板を形成し、かつ、光学記録媒体製造用原盤を形成するときキャラクタを「正字」として記録するので、製造される光学記録媒体としては、キャラクタを「正字」として読み取れるのが媒体基板側となり、保護層側から見る場合よりも容易にキャラクタの視認が可能である。
発明を実施するための最良の形態
以下、本発明の実施の形態について図面を用いて詳しく説明する。
本実施の形態は、光学記録媒体（以下光ディスクとも言う）およびその製造方法に関する。
（第１実施形態）
図７Ａは、本実施形態に係る光ディスクの光の照射の様子を示す模式斜視図である。
光ディスクＤＣは、中心部にセンターホールＣＨが開口された略円盤形状をしており、ドライブ方向ＤＲに回転駆動される。
情報を記録または再生するときには、光ディスクＤＣの信号部ＳＧにおける光学記録層に対して、例えば開口数が０．８以上、例えば０．８５の対物レンズＯＬにより、青〜青紫色の領域、例えば波長が４０５ｎｍのレーザ光などの光ＬＴが照射されて用いられる。
図７Ｂは光の照射の様子を示す模式断面図であり、図７Ａ中のＡ−Ａ’における断面図に相当する。また、図７Ｃは要部を拡大した断面図である。
厚さが約１．１ｍｍのポリカーボネート樹脂などからなる媒体基板１５の一方の表面に、例えばスパイラル状に連続的に設けられた凸部１５ｐを含む凹凸形状が設けられており、この面上に光学記録層１６が形成されており、さらに光学記録層１６の上層に例えば約０．１ｍｍのシート状ポリカーボネート樹脂フィルムが紫外線硬化樹脂系接着剤により貼り合わされて、光透過性の保護層１７が形成されている。
光学記録層１６は、例えば反射膜、誘電体膜、記録膜、誘電体膜などがこの順番で積層された積層体からなる光学記録層１６が形成されている。光学記録層１６の層構成および層数は記録材料の種類や設計によって異なり、単層構成と多層積層体の構成の場合を含む。上記の記録膜は、例えば相変化型の記録膜、光磁気記録膜、あるいは有機色素材料を含む記録膜である。
上記のような光ディスクにおいて、光学記録層は、媒体基板１５の表面に形成された凸部１５ｐに起因した凹凸形状を有している。
上記の光ディスクを記録あるいは再生する場合には、例えばレーザ光などの記録または再生光ＬＴを対物レンズＯＬで集光して保護層１７側から光学記録層１６に対して照射する。光ディスクの再生時においては、光学記録層１６で反射された戻り光が受光素子で受光され、信号処理回路により所定の信号を生成して、再生信号が取り出される。
例えば図８Ａに示すように、媒体基板１５に形成された凸部１５ｐは所定のトラックピッチＴＰでスパイラル状に連続的に形成された凸部となっており、この凸部を含む凹凸形状によりトラック領域が区分されている。後述するように、この凸部１５ｐの領域がグルーブＧＲ、凸部１５ｐ間の凹部の領域がランドと称され、ランドとグルーブの両者に情報を記録したり、ランドとグルーブのいずれか一方のみを記録領域とすることも可能である。
また、例えば図８Ｂに示すように、上記の媒体基板１５の凸部１５ｐとして、記録データに対応する長さを有するピットｐｉｔが連続してスパイラル状にトラック上に並べられた構成とし、光学記録層をアルミニウム膜などの反射膜で構成することにより、再生専用（ＲＯＭ）型の光ディスクとすることもできる。
媒体基板１５の表面における凹凸形状の深さ、即ち、凸部１５ｐの高さｄ１５ｐは２５ｎｍ以下であり、例えば２０ｎｍである。
また、光学記録層１６の膜厚ｄ１６は、層の構成にもよるが、例えば相変化型の記録膜を含む場合、２００ｎｍ程度となっており、媒体基板１５の表面の凹凸形状の深さより大きな値となっている。
図９Ａは本実施形態に係る光ディスクの平面図である。
上記の光ディスクには、ピットやグルーブなどの情報の記録再生に関与する信号部ＳＧの他に、光ディスク製造用のマスタリング原盤の通し番号、製造年月日、商品情報などの文字（キャラクタ）を記録するキャラクタ部ＣＡが同一面内（通常は信号部ＳＧの内周（センタホールＣＨ）側）に区分されている。
例えば、キャラクタ部に、図９Ｂに示すキャラクタの列が記録されている場合、図９Ｃに示す上記キャラクタの列の内のキャラクタ「Ｋ」の一部を拡大した模式平面図のように、キャラクタの輪郭の内側を塗り潰すようにして、トラック方向ＤＲｔｒに延伸する所定のトラックピッチＴＰの断続したグルーブ（ＧＲ）の列がディスクの半径方向ＤＲｒａｄに並べられて形成されている。キャラクタの輪郭の外側は無記録部分であり、鏡面（ＭＲ）となっている。このように鏡面なっている輪郭外側とグルーブで塗り潰された輪郭内側とでコントラストがつき、これによってキャラクタが浮き上がって視認可能となっている。
上記のキャラクタの輪郭の内側は、グルーブの代わりにピット列によって構成されていてもよい。
図１０Ａは、光ディスクの信号部ＳＧとキャラクタ部ＣＡに相当する部分の断面図である。
媒体基板１５の一主面が信号部ＳＧとキャラクタ部ＣＡに区分されており、信号部ＳＧにおいて、凸部１５ｐを含む凹凸形状はグルーブＧＲなどの信号部用凹凸形状となる。
一方、キャラクタ部ＣＡにおいては、凸部１５ｐを含む凹凸形状はグルーブＧＲなどのキャラクタ部用凹凸形状となり、上記のようにキャラクタの輪郭の内側を塗り潰すようにして設けられている。
図１０Ｂは正常に読み取ることのできる「正字」のパターンであり、一方、図１０Ｃは「正字」を鏡で左右反転させた「逆字」のパターンである。図１０Ａにおいて媒体基板１５側であるＹ方向からキャラクタ部ＣＡを見たときに、図１０Ｂに示すような「正字」となり、キャラクタとして視認可能となっている。一方、保護層側であるＹ方向の反対方向からは図１０Ｃに示すような「逆字」となる。
上記においてはキャラクタの輪郭の外を無記録で鏡面として、内側をグルーブあるいはピット列で塗り潰しているが、この逆パターンとして、キャラクタの輪郭の内側を無記録で鏡面として、外側をグルーブあるいはピット列で塗り潰した構成でも同様にキャラクタを記録することができる。
上記の本実施形態の光ディスクは、光透過性の保護層を通して光学記録層に光を照射するタイプの大容量化に対応した光ディスクにおいて、媒体基板の一主面が信号部とキャラクタ部に区分されており、信号部において信号部用凹凸形状が形成されている一方で、キャラクタ部においてキャラクタ部用凹凸形状が形成されている。信号部用凹凸形状およびキャラクタ部用凹凸形状の深さが２５ｎｍ以下であり、例えば２０ｎｍである。キャラクタ部において、キャラクタ部用凹凸形状が形成された領域の輪郭により、媒体基板側から見て正字に読めるようにキャラクタが記録されている。
グルーブなどの凹凸形状の深さが２５ｎｍ以下にまで浅くなり、光学記録層の膜厚が凹凸形状の深さより大きな値となっていても、キャラクタ部のキャラクタは「正字」として読み取れるのが媒体基板側からとなっており、保護層側からの場合よりも容易にキャラクタの視認が可能である。
また、光学記録層の膜厚が媒体基板の表面の凹凸形状の深さよりも大きいために、グルーブなどの凹凸形状が光学記録層で埋められてしまって、保護層側から見ると凹凸形状の段差がほとんどなくなってキャラクタを視認することが困難となるが、本実施形態の光ディスクでは、「正字」として読み取れるのが媒体基板側からとなっているので、容易にキャラクタの視認が可能である。
光学記録層が相変化型の記録膜を含む場合、成膜直後はアモルファス状態になっているので、反射率が５％程度と非常に低いが、光学記録層を記録可能にするために、信号部の相変化型の記録膜は光ディスク完成後にレーザー光照射による「初期化」が行われ、これにより相変化型の記録膜が結晶化して反射率が２５％程度まで向上する。しかし、初期化処理は信号部において行い、プロセス時間短縮のため、キャラクタ部については通常初期化処理を行わない。このため、キャラクタ部の光学記録層は反射率は５％程度のままで、キャラクタの視認が困難となるが、本実施形態の光ディスクにおいては、「正字」として読み取れるのが媒体基板側からとなっているので、容易にキャラクタの視認が可能である。
次に、上記の本実施形態に係る光ディスクの製造方法について図面を参照して説明する。各図面においては、信号部ＳＧとキャラクタ部ＣＡのそれぞれの領域を示している。
まず、図１１Ａに示すように、例えば、光ディスク製造用のマスタリング原盤用基板である直径２００ｍｍ、厚さ６ｍｍのガラス基板１０ｓの一表面を、平坦に研磨し、洗浄する。
次に、図１１Ｂに示すように、例えば、ガラス基板１０の研磨および洗浄処理をなされた表面１０ｓ上に、感光してアルカリ可溶性となるフォトレジスト材料、例えば市販のＩ線用フォトレジスト材料をスピンコート法により塗布して、レジスト膜１１を２５ｎｍ以下、例えば２０ｎｍの膜厚で形成し、レジスト原盤ＲＤを作成する。
次に、図１１Ｃに示すように、レジスト原盤ＲＤ上の半径２０〜５８．５ｍｍの信号部ＳＧにおいて、例えば波長が３５１ｎｍの紫外レーザ光を、開口数が０．９０の対物レンズによりレジスト膜１１に集光、照射してガラス基板１０を回転しながらガラス基板１０の半径方向に露光用の光を移動させることで、例えばスパイラル状の連続溝など、媒体基板に転写するための信号部用凹凸形状のパターンで露光し、露光されたレジスト膜１１ｂと未露光のレジスト膜１１ａとする。例えば、記録線速度は２．０ｍ／ｓ、記録光強度（対物レンズ出力）は４００μＷ、送りピッチは０．３５μｍとする。
一方、レジスト原盤ＲＤ上の半径１８〜２０ｍｍのキャラクタ部ＣＡにおいては、上記と同様に、例えば波長が３５１ｎｍの紫外レーザ光を、開口数が０．９０の対物レンズによりレジスト膜１１に集光、照射して、例えば図９Ｃに示すパターンのようなキャラクタ部のキャラクタの輪郭の内部にグルーブあるいはピットの列を形成するように、キャラクタ部用凹凸形状のパターンで露光して、露光されたレジスト膜１１ｂと未露光のレジスト膜１１ａとする。例えば、記録線速度は２．０ｍ／ｓ、記録光強度（対物レンズ出力）は４００μＷ、送りピッチは１．０μｍとする。
ここで、キャラクタ部用凹凸形状の露光パターンは、従来のような「逆字」ではなく、「正字」のパターンとする。
露光工程において用いる露光装置は、一般的にスパイラル状に記録を行うので、キャラクタ列を半径方向（トラックピッチ方向）に分解して、１トラック毎にキャラクタの輪郭の内部のみをグルーブまたはピット列で記録する。マスタリング原盤が一回転して、隣接するトラックを露光する際に、前トラックとキャラクタが正しく繋がるようにタイミングを合わせる。
記録しようとする「正字」パターンのキャラクタ列を１トラックずつ上下方向に分解し、トラック毎にキャラクタ列の形状に合わせて、断続グルーブまたはピット列と無記録部分が交互に配置される信号波形として、記録信号へ変換し、露光する時にマスタリング原盤の回転周期に同調しながら、光変調器へ記録信号が出力して行う。
キャラクタの高さは（記録トラックピッチ）ｘ（トラック数）となるが、通常は１μｍピッチｘ１０００トラック程度であり、キャラクタ高さとしては約１ｍｍで描画する。
以降、マスタリング原盤を形成するための露光工程において露光した部分をグルーブまたはピット、未露光の部分をランドと表記する。
次に、図１２Ａに示すように、信号部ＳＧとキャラクタ部ＣＡともに、アルカリ性現像液（例えば商品名ＮＭＤ−３）によりレジスト膜１１を２０秒間現像処理する。この結果、露光されたレジスト膜１１ｂが溶出され、未露光のレジスト膜１１ａのみが残され、光ディスク製造用のマスタリング原盤が得られる。
ガラス基板１０とレジスト膜１１ａとから凹部１１ｄを含む凹凸形状が形成される。即ち、信号部ＳＧにおいては信号部用凹凸形状が形成され、キャラクタ部ＣＡにおいては「正字」パターンであるキャラクタ部用凹凸形状がそれぞれ形成される。ここで、凹部１１ｄの領域は露光工程の露光部に相当し、グルーブ（またはピット）となる。
次に、図１２Ｂに示すように、上記で得られたマスタリング原盤上にニッケルなどの材料で厚さが例えば２９０μｍ程度となるようにメッキ処理などを行い、マスタスタンパ１２を形成する。
ニッケルメッキ処理には、メッキ成長速度の早い電気メッキ法を用いるが、予めマスタリング原盤の表面に導電性を持たせておかなければならないので、前処理としてスパッタ法、または化学反応によってニッケルを析出させる無電解メッキ法によりニッケル薄膜をコーティングする必要がある。
ここで、マスタリング原盤の凹凸形状が、逆パターンとしてマスタスタンパ１２の表面の凹凸形状として転写され、グルーブに相当するマスタリング原盤の凹部１１ｄがマスタスタンパ１２の凸部１２ｐとなる。マスタスタンパ１２の凸部１２ｐの高さは、レジスト膜１１の膜厚に相当し、２５ｎｍ以下例えば２０ｎｍとなっている。
このように、マスタスタンパ１２において、信号部ＳＧにおいては信号部用凹凸形状となるパターンが、キャラクタ部ＣＡにおいて反転した「逆字」パターンであるキャラクタ部用凹凸形状となるパターンが形成される。
次に、図１２Ｃに示すように、上記で得られたマスタスタンパ１２上に、重クロム酸の浸漬処理などの酸化処理を行って酸化膜１２ａを形成する。
次に、図１３Ａに示すように、上記で得られたマスタスタンパ１２上にニッケルなどの材料で厚さが例えば２９０μｍ程度となるようにメッキ処理などを行い、マザースタンパ１３を形成する。１枚のマスタスタンパ１２から複数枚のマザースタンパ１３を形成することができる。
マザースタンパ１３をマスタスタンパ１２から剥離するときには、酸化膜１２ａが剥離皮膜となって容易に剥離することができる。
ここで、マスタスタンパ１２の凹凸形状が、逆パターンとしてマザースタンパ１３の表面の凹凸形状として転写され、グルーブに相当するマスタスタンパ１２の凸部１２ｐがマザースタンパ１３の凹部１３ｄとなる。マザースタンパ１３の凹部１３ｄの深さは、マスタスタンパ１３の凸部１２ｐの高さに相当し、２５ｎｍ以下、例えば２０ｎｍとなっている。
このように、マザースタンパ１３において、信号部ＳＧにおいては信号部用凹凸形状となるパターンが、キャラクタ部ＣＡにおいてさらに反転した「正字」パターンであるキャラクタ部用凹凸形状となるパターンが形成される。
次に、図１３Ｂに示すように、マスタスタンパ１２から離型してマザースタンパ１３を得る。
次に、図１４Ａに示すように、上記で得られたマザースタンパ１３を金型（ＭＤ１，ＭＤ２）からなるキャビティ内に、マザースタンパ１３の凹凸形状形成面１３ｓがキャビティ内側を臨むように設置して固定し、射出成形金型を構成する。
上記の射出成形金型のキャビティ内に、例えば溶融状態のポリカーボネートなどの樹脂１５ａを金型の注入口ＭＳから射出することで、図１４Ｂに示すように、マザースタンパ１３上に媒体基板１５を形成する。
ここで、マザースタンパ１３の凹凸形状が、逆パターンとして媒体基板１５の表面の凹凸形状として転写され、グルーブに相当するマザースタンパ１３の凹部１３ｄが媒体基板１５の凸部１５ｐとなる。媒体基板１５の凸部１５ｐの高さは、マザースタンパ１３の凹部１３ｄの深さに相当し、２５ｎｍ以下、例えば２０ｎｍとなっている。
このように、媒体基板１５において、信号部ＳＧにおいては信号部用凹凸形状となるパターンが、キャラクタ部ＣＡにおいてまたさらに反転した「逆字」パターンであるキャラクタ部用凹凸形状となるパターンが形成される。
次に、図１５Ａに示すように、信号部ＳＧおよびキャラクタ部ＣＡにおいて、媒体基板１５の表面に、例えばスパッタリング法などにより、反射膜、誘電体膜、記録膜、誘電体膜の積層体などからなる光学記録層１６をこの成膜順序で成膜する。
光学記録層１６としては、層の構成にもよるが、例えば相変化型の記録膜を含む場合、２００ｎｍ程度として形成する。これは、媒体基板１５の表面の凹凸形状の深さより大きな値となっている。
例えば、アルミニウム反射膜：１００ｎｍ／ＺｎＳ−ＳｉＯ２膜：２０ｎｍ／／ＧｅＳｂＴｅなどの相変化型の記録膜：１５ｎｍ／ＺｎＳ−ＳｉＯ２膜：８０ｎｍの順に成膜する。このように、光学記録層１６の合計の膜厚ｄ１６は２１５ｎｍとなり、キャラクタなどのパターン深さｄ１５ｐ（例えば２０ｎｍ）に対して十分厚いため、成膜後の表面はほぼ平滑化されており、信号転写面側からのパターンの視認は非常に困難となっている。
次に、図１５Ｂに示すように、信号部ＳＧおよびキャラクタ部ＣＡにおいて、例えばスピンコート法により薄く均一に塗布した紫外線硬化樹脂系接着剤上に０．１ｍｍのシート状ポリカーボネート樹脂フィルムを重ね、紫外線照射によって接着し、光学記録層１６の上層に保護層１７を形成する。
上記の光学記録層１６として相変化型の記録膜を含む光学記録層を形成する場合には、上記の保護層の形成工程前あるいは形成工程後に、光学記録層を記録可能にするために成膜後に初期化を行う。ここでは、信号部ＳＧとキャラクタ部ＣＡの内の信号部ＳＧのみにおいて初期化する。通常、キャラクタ部については初期化処理を行わない。
以上で、図７に示すような光ディスクを製造することができる。
上記のように製造された光ディスクのキャラクタ部ＣＡにおいては、媒体基板１５の凸部１５ｐによるキャラクタは、「逆字」パターンとなっており、従って、媒体基板１５側からキャラクタ部ＣＡを見たときに「正字」パターンとなり、媒体基板１５側から「正字」として読み取ることが可能となる。
上記の製造工程において、マスタリング原盤作成工程における信号部の露光を信号ピットに合うように強度変調した光で露光することで、媒体基板１５の凹部１５ｄを含む凹凸形状として、記録データに対応する長さを有する連続した信号ピット列を形成し、光学記録層としてアルミニウム膜などの反射膜により形成することにより、再生専用（ＲＯＭ）型の光ディスクを製造することもできる。
上記の本実施形態に係る光ディスクの製造方法では、マザースタンパから転写して媒体基板を形成し、かつ、マスタリング原盤を形成するときキャラクタを「正字」として記録するので、製造される光ディスクとしては、キャラクタを「正字」として読み取れるのが媒体基板側となる。
媒体基板の凹凸形状の深さは、媒体基板１５の凸部１５ｐの高さに相当し、２５ｎｍ以下、例えば２０ｎｍとなっているが、このようにグルーブなどの凹凸形状の深さが２５ｎｍ以下にまで浅くなっても、「正字」として読み取れるのが媒体基板側からとなっているので、保護層側からの場合よりも容易にキャラクタの視認が可能である。
また、光学記録層の膜厚が媒体基板の表面の凹凸形状の深さよりも大きいために、グルーブなどの凹凸形状が光学記録層で埋められてしまって、保護層側から見ると凹凸形状の段差がほとんどなくなってキャラクタを視認することが困難となるが、本実施形態の製造方法で製造した光ディスクにおいては、「正字」として読み取れるのが媒体基板側からとなっているので、容易にキャラクタの視認が可能である。
光学記録層が相変化型の記録膜を含む場合、成膜直後はアモルファス状態になっているので、反射率が５％程度と非常に低いが、光学記録層を記録可能にするために、信号部の相変化型の記録膜は光ディスク完成後にレーザー光照射による「初期化」が行われ、これにより相変化型の記録膜が結晶化して反射率が２５％程度まで向上する。しかし、初期化処理は信号部において行い、プロセス時間短縮のため、キャラクタ部については通常初期化処理を行わない。このため、キャラクタ部の光学記録層は反射率は５％程度のままで、キャラクタの視認が困難となるが、本実施形態の製造方法で製造した光ディスクにおいては、「正字」として読み取れるのが媒体基板側からとなっているので、容易にキャラクタの視認が可能である。
（第２実施形態）
本実施形態に係る光ディスクは、実質的に第１実施形態と同様であるが、信号部の凹凸形状であるグルーブにウォブルが形成されていることが異なる。
図１６はグルーブに設けられたウォブルの様子を示す平面図である。第１実施形態と同様に、媒体基板１５の凸部１５ｐがグルーブＧＲとなり、凸部１５ｐと凸部１５ｐの間の凹部領域がランドＬＤとなる。
信号部のグルーブＧＲには、図１６に示すような所定の周期で振動するウォブルＷＢが設けられている。ウォブルＷＢから得られる信号からアドレス情報などを得ることができ、記録容量の増大を図ることができる。
上記のグルーブＧＲは幅が略一定となっている。これは、ウォブルＷＢは、マスタリング原盤でのレジスト膜の露光時に露光する光を所定の周期で振動させて得るため、露光された領域に相当するグルーブＧＲの幅は光のスポット径に相当し、略一定となるためである。例えば、図中のある箇所でのグルーブ幅ＷＧＲ１と他の箇所でのグルーブ幅ＷＧＲ２は略等しくなっている。
一方で、隣接するグルーブＧＲの位相は必ずしも一致しないため、ランドＬＤは幅が一定とはならない。例えば、図中のある箇所でのランド幅ＷＬＤ１と他の箇所でのランド幅ＷＬＤ２は大きく異なっている。
本実施形態に係る上記の光ディスクにおいても、第１実施形態と同様に信号部とキャラクタ部が同一面内で区分されており、このキャラクタ部において、例えばキャラクタの輪郭の内側を塗り潰すようにしてグルーブあるいはピットの列が形成され、媒体基板側からキャラクタ部を見たときに「正字」となり、キャラクタとして視認可能となっている。ここで、キャラクタ部のグルーブには、ウォブルはなくてもよい。
本実施形態に係る上記の光ディスクは、マスタリング原盤でのレジスト膜の露光時に露光する光を所定の周期で振動させることにより、第１実施形態と同様に製造することが可能である。
従って、マスタリング原盤でのレジスト膜の露光においては、キャラクタ部に露光するキャラクタ部用凹凸形状の露光パターンは、第１実施形態と同様に「正字」のパターンとする。
上記の本実施形態に係る光ディスクにおいて、グルーブにウォブルが形成されていて、媒体基板から凸になっている部分の幅が略一定、即ちグルーブとなるのは、製造工程において、サンスタンパあるいはマスタスタンパからではなく、マザースタンパから媒体基板を転写する場合となる。
このような場合にも、「正字」として読み取れるのが、第１実施形態と同様に媒体基板側からとすることで、保護層側から見る場合よりも容易にキャラクタの視認が可能である。
本発明は、上記の実施の形態に限定されない。
例えば、光学記録層の層構成は、実施形態で説明した構成に限らず、記録膜の材料などに応じて種々の構造とすることができ、例えば、相変化型の光学記録媒体の他、光磁気記録媒体や、有機色素材料を用いた光ディスク、さらには再生専用の光ディスクにも適用可能である。
また、本発明は１層の光学記録層を有する光ディスクのみでなく、中間層を介して２層以上の光学記録層を積層した光ディスクにも適用できる。いずれの場合も、媒体基板側から見て「正字」となるように、媒体基板上にキャラクタ部用凹凸形状を設ける。
その他、本発明の要旨を変更しない範囲で種々の変更をすることができる。
本発明の光学記録媒体によれば、グルーブなどの凹凸形状の深さが２５ｎｍ以下にまで浅くなっても、あるいは、信号部用凹凸形状にウォブルが形成されていて、媒体基板から凸になっている部分の幅が略一定となる場合にも、「正字」として読み取れるのが媒体基板側からとすることで、保護層側から見る場合よりも容易にキャラクタの視認が可能である。
本発明の光学記録媒体の製造方法によれば、マザースタンパから転写して媒体基板を形成し、かつ、光学記録媒体製造用原盤を形成するときキャラクタを「正字」として記録するので、製造される光学記録媒体としては、キャラクタを「正字」として読み取れるのが媒体基板側となり、保護層側から見る場合よりも容易にキャラクタの視認が可能である。
産業上の利用可能性
本発明は、相変化型記録材料、光磁気記録材料あるいは有機色素材料を含む記録材料などを記録材料とする光学記録層を有する書換可能型などのメモリ形態に対応でき、安価な大容量ファイルの実現を可能とする光ディスクとその製造方法に利用可能である。
【図面の簡単な説明】
図１Ａは、従来例に係る光ディスクの光の照射の様子を示す模式斜視図であり、図１Ｂは図１Ａの光の照射の様子を示す模式断面図であり、図１Ｃは図１Ａの要部を拡大した断面図である。
図２Ａ〜図２Ｃは従来例に係る光ディスクの製造方法の製造工程を示す断面図である。
図３Ａおよび図３Ｂは図２Ｃの続きの工程を示す断面図である。
図４Ａおよび図４Ｂは図３Ｂの続きの工程を示す断面図である。
図５Ａおよび図５Ｂは図４Ｂの続きの工程を示す断面図である。
図６Ａは従来例に係る光ディスクの信号部とキャラクタ部の区分を示す平面図であり、図６Ｂは従来例に係る光ディスクの信号部とキャラクタ部に相当する部分の断面図である。
図７Ａは本発明の第１実施形態に係る光ディスクの光の照射の様子を示す模式斜視図であり、図７Ｂは図７Ａの光の照射の様子を示す模式断面図であり、図７Ｃは図７Ａの要部を拡大した断面図である。
図８ＡおよびＢは本発明の第１実施形態に係る光ディスクの媒体基板に形成された凸部の構成を示す斜視図である。
図９Ａは本発明の第１実施形態に係る光ディスクの信号部とキャラクタ部の区分を示す平面図であり、図９Ｂはキャラクタ部に記録されるキャラクタの列の例であり、図９Ｃはキャラクタ列の内のキャラクタ「Ｋ」の一部を拡大した模式平面図である。
図１０Ａは本発明の第１実施形態に係る光ディスクの信号部とキャラクタ部に相当する部分の断面図であり、図１０Ｂは正常に読み取ることのできる「正字」のパターンであり、図１０Ｃは「正字」を鏡で左右反転させた「逆字」のパターンである。
図１１Ａ〜図１１Ｃは本発明の第１実施形態に係る光ディスクの製造方法の製造工程を示す断面図である。
図１２Ａ〜図１２Ｃは図１１Ｃの続きの工程を示す断面図である。
図１３Ａおよび図１３Ｂは図１２Ｃの続きの工程を示す断面図である。
図１４Ａおよび図１４Ｂは図１３Ｂの続きの工程を示す断面図である。
図１５Ａおよび図１５Ｂは図１４Ｂの続きの工程を示す断面図である。
図１６は本発明の第２実施形態に係る光ディスクのグルーブに設けられたウォブルの様子を示す平面図である。
符号の説明
１０…ガラス基板
１１，１１ａ，１１ｂ…レジスト膜
１１ｄ…凹部
１２…マスタスタンパ
１２ａ…酸化膜
１２ｐ…凸部
１３…マザースタンパ
１３ｄ…凹部
１３ｓ…凹凸形状形成面
１４…サンスタンパ
１４ｐ…凸部
１５…媒体基板
１５…凸部
１５ｄ…凹部
１５ａ…溶融樹脂
１６…光学記録層
１７…保護層
ＧＲ…グループ
ＬＤ…ランド
ＭＲ…鏡面
ｐｉｔ…ピット
ＳＧ…信号部
ＣＡ…キャラクタ部
ＣＨ…センターホール
ＯＬ…対物レンズ
ＬＴ…光
ＤＣ…光ディスク
ＤＲ…駆動方向
ＲＤ…レジスト原盤
ＭＤ１，ＭＤ２…金型
ＭＳ…注入口
ＷＢ…ウォブル
【図１Ａ】
2003085656.tif 000003
【図１Ｂ】
2003085656.tif 000004
【図１Ｃ】
2003085656.tif 000005
【図２Ａ】
2003085656.tif 000006
【図２Ｂ】
2003085656.tif 000007
【図２Ｃ】
2003085656.tif 000008
【図３Ａ】
2003085656.tif 000009
【図３Ｂ】
2003085656.tif 000010
【図４Ａ】
2003085656.tif 000011
【図４Ｂ】
2003085656.tif 000012
【図５Ａ】
2003085656.tif 000013
【図５Ｂ】
2003085656.tif 000014
【図６Ａ】
2003085656.tif 000015
【図６Ｂ】
2003085656.tif 000016
【図７Ａ】
2003085656.tif 000017
【図７Ｂ】
2003085656.tif 000018
【図７Ｃ】
2003085656.tif 000019
【図８Ａ】
2003085656.tif 000020
【図８Ｂ】
2003085656.tif 000021
【図９Ａ】
2003085656.tif 000022
【図９Ｂ】
2003085656.tif 000023
【図９Ｃ】
2003085656.tif 000024
【図１０Ａ】
2003085656.tif 000025
【図１０Ｂ】
2003085656.tif 000026
【図１０Ｃ】
2003085656.tif 000027
【図１１Ａ】
2003085656.tif 000028
【図１１Ｂ】
2003085656.tif 000029
【図１１Ｃ】
2003085656.tif 000030
【図１２Ａ】
2003085656.tif 000031
【図１２Ｂ】
2003085656.tif 000032
【図１２Ｃ】
2003085656.tif 000033
【図１３Ａ】
2003085656.tif 000034
【図１３Ｂ】
2003085656.tif 000035
【図１４Ａ】
2003085656.tif 000036
【図１４Ｂ】
2003085656.tif 000037
【図１５Ａ】
2003085656.tif 000038
【図１５Ｂ】
2003085656.tif 000039
【図１６】
2003085656.tif 000040
【国際調査報告】
2003085656.tif 000041
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