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　特願２００３−５０５９３９「蛍光Ｘ線分光システム及び蛍光Ｘ線分光方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年１２月２７日国際公開、ＷＯ０２／１０３７１０、平成１７年　４月２８日国内公表、特表２００５−５１２０２０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　本件は、平成１４年６月１８日（パリ条約による優先権主張　外国庁受理　平成１３年６月１９日、米国（ＵＳ））を国際出願日とする特許出願（２００３年特許願５０５９３９号。以下、「本件出願」という。）につき、拒絶査定が平成１９年６月１３日付け（発送日：同月１９日）でされたところ、同年９月１８日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに、同年１０月１８日付けで手続補正書が提出され、同年１２月１１日付けで通知した最後の拒絶の理由に対して、平成２０年６月２３日付けで誤訳訂正がなされ、同日付けで意見書及び手続補正書が提出されたものである。 
 　その後、平成２１年５月１２日付けで、「本件審判の請求は、成り立たない。」との審決がなされたところ、この審決に対し、知的財産高等裁判所第３部において審決の取消の判決（平成２１年（行ケ）第１０２８９号、平成２２年８月３１日判決言渡）があったので、本件について更に審理し、当審において平成２２年１２月２４日付けで拒絶の理由を通知したところ、意見書が平成２３年７月７日に提出されたものである。 
 　　　　　　　　　　 
第２　本願発明  
　本件出願の請求項１〜５３に係る発明は、平成２０年６月２３日提出の手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１〜５３に記載されたとおりのものであって、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は次のとおりのものである。 
 　　  
 「【請求項１】 
　少なくとも１つのＸ線放射源（１１０／２１０）と、 
　少なくとも１つのＸ線検出器（１５０／２５０）と、 
　サンプルの上の焦点から蛍光Ｘ線を集光して、所定の分析物の特徴のあるエネルギーの前記蛍光Ｘ線を前記Ｘ線検出器に向けるための、前記サンプル（１３０／２３０）と前記Ｘ線検出器との間に配置された、点ＳをＸ線源の位置、点Ｉを焦点、Ｒを点Ｉと点Ｓを含む集束円の半径として、集束円の面において２Ｒの曲率半径を有し、セグメントＳＩに垂直な中間面において２Ｒと異なる曲率半径を有する、少なくとも１つの二重湾曲回折光学部品を有する少なくとも１つの単色集光光学部品（１４０／２４０）と、 
　前記サンプルの分析物を刺激して蛍光Ｘ線を発生させるために、前記Ｘ線放射源からＸ線放射を集光して、該Ｘ線放射を前記サンプルの上の前記焦点に集束させるための、前記Ｘ線放射源と前記サンプルとの間に配置された少なくとも１つの励起光学部品（１２０／２２０）とを備え、 
　前記二重湾曲回折光学部品は、一重湾曲の光学部品よりも大きな集光立体角で前記サンプル上の前記焦点から前記光学部品へ向う前記蛍光Ｘ線が前記光学部品にほとんど全て当たり、ブラッグ角度条件を用いて前記蛍光Ｘ線を単色化する二重湾曲単色光学部品を有することを特徴とする波長分散蛍光Ｘ線分光システム。」
　
 第３　当審の拒絶理由  
　一方、当審において平成２２年１２月２４日付けで通知した拒絶の理由の概要は、本件出願の請求項１〜５３に係る発明は、本件出願の優先権主張の日前に頒布された、特開平７−２８０７５０号公報（以下、「引用刊行物Ａ」という。）、特開平１−１４１３４３号公報（以下、「引用刊行物Ｂ」という。）、特開２０００−１５５１０２号公報（以下、「引用刊行物Ｃ」という。）、特開平１１−１３３１９０号公報（以下、「引用刊行物Ｄ」という。）及び特開平７−２７０２８８号公報に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることできたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、というものである。  
 　　　　　　  
 第４　引用刊行物に記載された発明  
　（４Ａ）本件出願の優先権主張の日前に頒布された上記引用刊行物Ａには、次の事項が図面とともに記載されている。（下線は、当審で付加したものである。以下、同様である。） 
 （４Ａ−１）「【０００１】 
 【産業上の利用分野】本発明は，
Ｘ線
の放射線を試料に照射し
この試料より発生するＸ線から試料中の元素や原子の結合状態を分析する波長分散型Ｘ線分光装置に関する
 　 
 （４Ａ−２）「【０００２】 
 【従来の技術】一般に
波長分散型Ｘ線分光装置では
図４に示すような湾曲形状の分光結晶５１（分光器）を備えたＸ線光学系が用いられる
 　　２ｄ・ｓｉｎθ　＝　ｎ・λ　　　…（１） 
　で与えられる。ここで，ｄは結晶格子の間隔，θは試料５３からのＸ線の分光結晶５１への入射角である。ｎは整数（ｎ＝１，２，…）であるが，分光されるＸ線の強度が最も強いｎ＝１で用いられる場合が多い。分光されたＸ線は，Ｘ線検出器５２の方向へ出射角θで該分光結晶５１から反射する。同図（ａ）に示すように，分光結晶５１，試料５３上のＸ線の発光点５３ａ 及びＸ線検出器５２を同一円周上に配置すると，
試料５３から発生したＸ線は，分光結晶５１表面のどの場所にも等しい角度で入射し，更にＸ線検出器５２の位置に集光され，当該装置としての効率及び分解能が最大にな
【０００３】・・・そこで，従来は，例えば上述の「電子線マイクロアナリシス」（Ｐ．５１）や特公昭５７−５５１８４号公報に開示されているように，試料表面を観察して焦点の位置合せを行い得るように光学顕微鏡を設置したものが提案されている。即ち，図５に示す如く，予め光学顕微鏡の焦点位置とＸ線光学系の焦点位置が一致するように調整されている。従って，試料表面をこの光学顕微鏡で観察しながら該試料を調整してその焦点位置に移動させることにより，上記試料は分光結晶（不図示）の焦点深度領域内にセットされたことになり，正しく分析される。以上の説明はもっぱら結晶Ｘ線分光器の場合について述べたが，人工多層膜，回折格子等の回折型Ｘ線分光器についても一般に成り立つ。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このような光学顕微鏡を設置するには，比較的大きな領域（立体角）を確保する必要があり，特にイオンビーム励起型等のＸ線分光装置では，試料の多面的分析を行うために，波長分散型Ｘ線分光装置以外にも反跳イオン分析器，２次電子検出器，エネルギー分散型Ｘ線検出器等を設置しなければならず，前記のような光学顕微鏡を設置する余地がないのが現状である。そこで，本発明は，上記事情に鑑みて創案されたものであり，Ｘ線光学系の焦点位置への試料の位置調整を比較的簡単な構成の下に行い得るようにして，コンパクト化，あるいは省スペース化により他の検出機器等の設置をも可能とする波長分散型Ｘ線分光装置の提供を目的とするものである。」
 　　　　 
 （４Ａ−３）「【００１２】・・・図３に，本発明の他の実施例に係るＸ線分光装置Ｂを示す。この実施例に係るＸ線分光装置Ｂは，放射線源２０からの放射線２７を試料１１に照射し，この試料１１より発生するＸ線を分析するようにしたものである。即ち，
該Ｘ線分光装置Ｂでは，放射線源２０より発生した放射線２７がコリメータ２１によって細いビームとされ，上記試料１１に照射される
放射線２７を照射された試料１１から発生するＸ線２８を分光結晶３１で分光
【００１３】
上記放射線源２０とコリメータ２１との間及び分光結晶３１と半導体検出器２９との間には，それぞれ軽金属元素薄膜の一例であるアルミニウムを蒸着した高分子薄膜２４，２５が配設されている。そして，各高分子薄膜２４，２５に対応して，レーザ光源２２（第２の光線照射手段，第２の可視光源），レーザ光源２３（第１の光線照射手段，第１の可視光源）がそれぞれ配設されており，レーザ光源２２，２３からのレーザ光２６，３５をＸ線光学系の光軸に導くように構成されている
 【００１４】・・・従って
，レーザ光源２２，２３からレーザ光２６，３５を照射すると，このレーザ光はそれぞれアルミニウムを蒸着した高分子薄膜２４，２５で反射してＸ線光学系の光軸に沿って導入される。更に，一方のレーザ光２６は，コリメータ２１のスリットを通過して試料１１に照射される。また，他方のレーザ光３５は，鏡面研磨された分光結晶３１の表面で反射され，試料１１に照射される。両レーザ光２６，３５はＸ線光学系の焦点位置で交差するように前述の如く予め調整されていることから，ＣＣＤカメラ３３で試料表面を観察しつつ，両レーザ光２６，３５が試料表面を照射する位置が一致するように試料１１の位置を調整すると，Ｘ線光学系での試料１１の焦点位置調整が終了する
 　　　　　　　　　　　　　　　 
　（４Ａ−４）図３には、
１つの放射線源２０と、２つのスリットを備えた１つのコリメータ２１、１つの分光結晶３１及び１つの半導体検出器２９（Ｘ線検出器）を用いる
分光結晶３１に反射するＸ線を半導体検出器２９（Ｘ線検出器）に集光する
 　 
　上記引用刊行物Ａの摘記事項（４Ａ−１）〜（４Ａ−４）の記載を参照すると、上記引用刊行物Ａには、
 「Ｘ線を発生する１つの放射線源２０と、
　１つの半導体検出器２９（Ｘ線検出器）と、
　Ｘ線を照射された試料１１から発生するＸ線２８を分光し、半導体検出器２９（Ｘ線検出器）に集光する１つの分光結晶３１と、
　放射線源２０より発生したＸ線を２つのスリットを介して細いビームにして、試料１１に照射する１つのコリメータ２１と、
　を用いた試料中の元素や原子の結合状態を分析する波長分散型Ｘ線分光装置。」
　の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されているものと認める。
 　 
 （４Ｂ）本件出願の優先権主張の日前に頒布された上記引用刊行物Ｂには、次の事項が図面とともに記載されている。
 （４Ｂ−１）「〔産業上の利用分野〕 
　本発明はＸ線分析装置に係り、特に
蛍光Ｘ線分祈及びＸ線回折を行なうＸ線分析装置
 〔従来の技術〕 
　従来、微細結晶のＸ線回折を行なうためには、ピンホール型コリメータのピンホールを微細化する方法か、又はガラス細管内壁でのＸ線全反射を利用したＸ線導管による方法が提案されていた（日本金属学会会報、第２４巻、第１１号、９３９〜９４５頁（１９８５））。後者の方法は、ガラス細管によってＸ線を遠方に導くもので、Ｘ線の微細化及び集光による高輝度化を目的とする。そして計算機シミュレーションにより、回転放物面集光型Ｘ線導管又は回転楕円体型Ｘ線導管等が提案されている。」（１頁右下欄１９行〜２頁左上欄１２行）
 　 
　（４Ｂ−２）「〔発明が解決しようとする問題点〕 
　上記
ピンホール型コリメータを用いたＸ線回折装置では、試料に到達するＸ線の輝度が低くなる点については配慮されていなかった
Ｘ線ターゲットより放射状に放出するＸ線の一部しかコリメータに入射せず
・・・
〔問題点を解決するための手段〕
　上記目的は、
Ｘ線源、該Ｘ線源からのＸ線を集束するためのＸ線導管
該Ｘ線導管の端部に近接し、上記Ｘ線によって照射される試料
Ｘ線分析装置
 　 
　（４Ｂ−３）「つぎに本発明に用いるＸ線導管の好ましい一例について説明する。 
　前記シミュレーションにより提案されている従来のＸ線導管は、第４図（ａ）、（ｂ）に示す如く、
Ｘ線導管２に入射したＸ線２６をその内壁による全反射を利用し、各焦点２２に集光することにより、照射Ｘ線ビームの微細化と高輝度化を計っている
の焦点位置で
４１０μｍ
 　　 
　（４Ｃ）本件出願の優先権主張の日前に頒布された上記引用刊行物Ｃには、次の事項が図面とともに記載されている。
　（４Ｃ−１）「【０００１】 
【発明の属する技術分野】この発明は、
Ｘ線を試料に入射し、試料で反射したＸ線を検出することにより、試料を
分析するためのＸ線測定装置
Ｘ線反射率測定やロッキングカーブ測定に好適なＸ線測定装置
 　 
　（４Ｃ−２）「【００２０】・・・そこで、この発明では、
湾曲モノクロメータとともにリフレクタを用いてＸ線を微小焦点に収束させ、その収束点に試料を配置する
 　 
　（４Ｄ）本件出願の優先権主張の日前に頒布された上記引用刊行物Ｄには、次の事項が図面とともに記載されている。 
　（４Ｄ−１）「【０００１】 
【発明の属する技術分野】本発明は、微小領域
Ｘ線分析
に用いられるＸ線集光装置
 　 
　（４Ｄ−２）「【０００２】 
【従来の技術】従来、
Ｘ線源から発散されるＸ線を集光するために
二次元的に湾曲させたdoubly-bent型結晶がある
【０００３】singly-bent型結晶を用いてＸ線を集光する場合、点状光源から出たＸ線は、線状に集められるため、別のsingly-bent型結晶を用いて線状に集められたＸ線を点状に集める必要がある。これに対して、
doubly-bent型結晶を用いてＸ線を集光する場合、一つの結晶で点状に集光させることができる
【０００４】singly-bent型結晶を２つ組み合わせた光学系では、singly-bent型系に入射するＸ線の立体角が小さく、Ｘ線源から出たＸ線の大部分を集光できない。また、２つの結晶を用いて２回ブラッグ反射させるため、集められたＸ線の強度低下が大きい。更に、この光学系は、Ｘ線源から集光点までの距離が長くなり、そのため間に存在する空気によって吸収されるＸ線の量が増えるので、集められたＸ線の強度は一層弱くなる。このように、singly-bent型結晶を組み合わせた光学系では、Ｘ線の集光は可能であるが、集められたＸ線の強度はそれほど強くない。 
【０００５】結晶を
二次元的に湾曲させたdoubly-bent型結晶を用いる場合、singly-bent型結晶と比べると、結晶に入射するＸ線の立体角が大きくとれ、また、１回のブラッグ反射で集光できるため、singly-bent型結晶を用いる場合より強いＸ線強度を達成できる
doubly-bent型結晶を複数組み合わせてトロイダル形状にする
【０００６】湾曲結晶の具体的な態様として、図３（ａ）に示すようなヨハン型形状１、あるいは図３（ｂ）に示すようなヨハンソン型形状２がsingly-bent型結晶用として提案されている。また、ヨハン型またはヨハンソン型形状を
Ｘ線源（Ｓ）と集光点（Ｆ）を結ぶ直線を回転軸として部分的に回転させることによりdoubly-bent型形状が得られ
Ｘ線回折要素が得られる
 　 
 （４Ｄ−３）「【００１５】このような本発明のＸ線回折要素を使用して、
その一方の焦点にＸ線発散源を配置すると、他方の焦点にＸ線を効率良く集めることができる
 　 
　（４Ｄ−４）図３（ｂ）には、上記（４Ｄ−２）の段落【０００６】の記載を参照すると、
点ＳをＸ線源の位置、点Ｆを点状の集光点、Ｒを点Ｓと点Ｆを含む集束円の半径として、集束円の面において２Ｒの曲率半径を有し、線分ＳＦに垂直な中間面において、線分ＳＦを回転軸として回転して得られる曲率半径を有する二重湾曲Ｘ線回折要素が描かれている
 　 
第５　本願発明と引用発明との対比・判断 
　（５−１ａ）本願発明と引用発明とを対比する。 
 （i）引用発明の「Ｘ線を発生する」「放射線源２０」は、その構成・機能からみて、本願発明の「Ｘ線放射源（１１０／２１０）」に相当する。そして、本願発明の「少なくとも１つのＸ線放射源（１１０／２１０）」は引用発明の「Ｘ線を発生する１つの放射線源２０」を含むことから、引用発明の「Ｘ線を発生する」「放射線源２０」の個数と本願発明の「Ｘ線放射源（１１０／２１０）」の個数とは、「１つ」である点で一致する。 
 　 
　（ii）引用発明の「半導体検出器２９（Ｘ線検出器）」は、その構成・機能からみて、本願発明の「Ｘ線検出器（１５０／２５０）」に相当する。そして、本願発明の「少なくとも１つのＸ線検出器（１５０／２５０）」は引用発明の「１つの半導体検出器２９（Ｘ線検出器）」を含むことから、引用発明の「半導体検出器２９（Ｘ線検出器）」の個数と本願発明の「Ｘ線検出器（１５０／２５０）」の個数とは、「１つ」である点で一致する。
 　 
　（iii）引用発明の「試料１１」が、その構成・機能からみて、本願発明１の「サンプル」に相当し、さらに、引用発明では、放射線源２０からのＸ線がコリメータ２１の２つのスリットによって細いビームにされて、試料１１に照射されることから、引用発明のＸ線は試料１１上の小さな領域に照射されるものである。他方、本願発明の１つの励起光学部品（１２０／２２０）が、Ｘ線放射源からＸ線放射を集光して、Ｘ線放射をサンプルの上の前記焦点に集束させていることから、本願発明のＸ線もサンプル上の小さな領域に照射されることになる。 
　さらに、蛍光Ｘ線とは、例えば、特開２０００−３１４７０９号公報の段落【００１４】に、「蛍光Ｘ線とは、材料に入射したＸ線がＫ殻もしくはＬ殻に存在する電子を叩き出し、それに伴って発生する特性的なＸ線を言う。」と記載されており、さらに、上記引用刊行物Ａの摘記事項（２Ａ−３）の段落【００１２】には「この実施例に係るＸ線分光装置Ｂは，放射線源２０からの放射線２７を試料１１に照射し，この試料１１より発生するＸ線を分析するようにしたものである。」と記載されていることから、引用発明の分光結晶３１が分光する、Ｘ線を照射された試料１１から発生するＸ線２８が、蛍光Ｘ線であることは明らかである。 
　そして、上記引用刊行物Ａの摘記事項（４Ａ−１）には、「図４に示すような湾曲形状の分光結晶５１（分光器）を備えたＸ線光学系が用いられる・・・試料５３から発生したＸ線は，分光結晶５１表面のどの場所にも等しい角度で入射し，更にＸ線検出器５２の位置に集光され，当該装置としての効率及び分解能が最大になる。」と記載されていることから、引用発明の分光結晶３１が湾曲形状の分光結晶であり、この湾曲形状の分光結晶を用いて、試料１１から発生したＸ線２８を半導体検出器２９（Ｘ線検出器）に集光できること明らかである。 
　また、引用発明の「Ｘ線を照射された試料１１から発生するＸ線２８を分光し、半導体検出器２９（Ｘ線検出器）に集光する１つの分光結晶３１」は、湾曲形状の分光結晶であり、この分光結晶３１で分光される試料１１から発生するＸ線２８の波長λは、上記引用刊行物Ａの摘記事項（２Ａ−２）に記載されているように、 
 　　２ｄ・ｓｉｎθ　＝　ｎ・λ　　　…（１） 
　の式で表されるＸ線波長のみであることから、引用発明の分光結晶３１は、波長分散型Ｘ線分光装置が試料中の元素や原子の結合状態を分析する際に、試料中の元素や原子の結合状態に応じたＸ線波長のみを半導体検出器２９（Ｘ線検出器）に集光するための湾曲回折光学部品を有する単色集光光学部品であることになる。 
　そうすると、引用発明の「Ｘ線を照射された試料１１から発生するＸ線２８を分光し、半導体検出器２９（Ｘ線検出器）に集光する１つの分光結晶３１」と本願発明の「サンプルの上の焦点から蛍光Ｘ線を集光して、所定の分析物の特徴のあるエネルギーの前記蛍光Ｘ線を前記Ｘ線検出器に向けるための、前記サンプル（１３０／２３０）と前記Ｘ線検出器との間に配置された、点ＳをＸ線源の位置、点Ｉを焦点、Ｒを点Ｉと点Ｓを含む集束円の半径として、集束円の面において２Ｒの曲率半径を有し、セグメントＳＩに垂直な中間面において２Ｒと異なる曲率半径を有する、少なくとも１つの二重湾曲回折光学部品を有する少なくとも１つの単色集光光学部品（１４０／２４０）」とは、「サンプルの上の小さな領域から蛍光Ｘ線を集光して、所定の分析物の特徴のあるエネルギーの前記蛍光Ｘ線を前記Ｘ線検出器に向けるための、前記サンプルと前記Ｘ線検出器との間に配置された、湾曲回折光学部品を有する単色集光光学部品」である点で共通する。
 　 
　（iv）上記（iii）で検討したように、引用発明の「コリメータ２１」と本願発明の「励起光学部品（１２０／２２０）」とは、Ｘ線を「サンプル上の小さな領域に」照射している「励起光学部品」である点で共通するものである。 
　そして、引用発明の「コリメータ２１」は、放射線源２０より発生したＸ線を２つのスリットを介して細いビームにして、試料１１に照射していることから、引用発明の「放射線源２０より発生したＸ線を２つのスリットを介して細いビームにして、試料１１に照射する１つのコリメータ２１」と本願発明の「前記サンプルの分析物を刺激して蛍光Ｘ線を発生させるために、前記Ｘ線放射源からＸ線放射を集光して、該Ｘ線放射を前記サンプルの上の前記焦点に集束させるための、前記Ｘ線放射源と前記サンプルとの間に配置された少なくとも１つの励起光学部品（１２０／２２０）」とは、「前記サンプルの分析物を刺激して蛍光Ｘ線を発生させるために、該Ｘ線放射を前記サンプルの上の小さな領域に照射するための、前記Ｘ線放射源と前記サンプルとの間に配置された励起光学部品」である点で共通する。
　 　 
　（v）引用発明の分光結晶３１は、照射された試料１１から発生するＸ線２８を分光し、半導体検出器２９（Ｘ線検出器）に集光されることから、分光結晶３１に向かう照射された試料１１から発生するＸ線２８のほとんど全てが分光結晶３１に当たるのは明らかであり、さらに、上記（iii）で検討したように、分光結晶３１で分光される試料１１から発生するＸ線２８の波長λは、
 　２ｄ・ｓｉｎθ　＝　ｎ・λ　　　…（１） 
　の式で表されるＸ線波長のみであり、この（１）式はブラッグの角度条件に相当することから、引用発明の「Ｘ線を照射された試料１１から発生するＸ線２８を分光し、半導体検出器２９（Ｘ線検出器）に集光する１つの分光結晶３１」と本願発明の「前記二重湾曲回折光学部品は、一重湾曲の光学部品よりも大きな集光立体角で前記サンプル上の前記焦点から前記光学部品へ向う前記蛍光Ｘ線が前記光学部品にほとんど全て当たり、ブラッグ角度条件を用いて前記蛍光Ｘ線を単色化する二重湾曲単色光学部品」とは、「前記湾曲回折光学部品は、前記サンプル上の小さな領域から前記光学部品へ向う前記蛍光Ｘ線が前記光学部品にほとんど全て当たり、ブラッグ角度条件を用いて前記蛍光Ｘ線を単色化する湾曲単色光学部品」である点で共通する。 
 　 
　（vi）引用発明の「試料中の元素や原子の結合状態を分析する波長分散型Ｘ線分光装置」が、本願発明の「波長分散蛍光Ｘ線分光システム」に相当する。 
 　　　　　　　 
　そうすると、本願発明と引用発明とは、 
「１つのＸ線放射源と、 
　１つのＸ線検出器と、 
　サンプルの上の小さな領域から蛍光Ｘ線を集光して、所定の分析物の特徴のあるエネルギーの前記蛍光Ｘ線を前記Ｘ線検出器に向けるための、前記サンプルと前記Ｘ線検出器との間に配置された、湾曲回折光学部品を有する単色集光光学部品と、 
　前記サンプルの分析物を刺激して蛍光Ｘ線を発生させるために、該Ｘ線放射を前記サンプルの上の小さな領域に照射するための、前記Ｘ線放射源と前記サンプルとの間に配置された励起光学部品とを備え、 
　前記湾曲回折光学部品は、前記サンプル上の前記小さな領域から前記光学部品へ向う前記蛍光Ｘ線が前記光学部品にほとんど全て当たり、ブラッグ角度条件を用いて前記蛍光Ｘ線を単色化する湾曲単色光学部品を有する波長分散蛍光Ｘ線分光システム。」 
　である点で一致し、次の相違点（あ）〜相違点（う）で相違している。 
 　　　　　　 
・相違点（あ） 
　サンプルの上の小さな領域から蛍光Ｘ線を集光する湾曲回折光学部品を有する単色集光光学部品が、本願発明では、サンプルの上の「焦点から」蛍光Ｘ線を集光して、「点ＳをＸ線源の位置、点Ｉを焦点、Ｒを点Ｉと点Ｓを含む集束円の半径として、集束円の面において２Ｒの曲率半径を有し、セグメントＳＩに垂直な中間面において２Ｒと異なる曲率半径を有する、少なくとも１つの二重湾曲回折光学部品を有する少なくとも１つの単色集光光学部品」であるのに対して、引用発明では、２つのスリットを備えたコリメータ２１で細いビームにされたＸ線が照射された試料１１から発生するＸ線２８を、半導体検出器２９（Ｘ線検出器）に集光する分光結晶３１である点。
 　　 
・相違点（い） 
　サンプルの分析物を刺激して蛍光Ｘ線を発生させるために、該Ｘ線放射を前記サンプルの上の小さな領域に照射するための、前記Ｘ線放射源と前記サンプルとの間に配置された励起光学部品が、本願発明では、「Ｘ線放射源からＸ線放射を集光して、該Ｘ線放射をサンプルの上の焦点に集束させる」「少なくとも１つの励起光学部品」であるのに対して、引用発明では、放射線源２０より発生したＸ線を２つのスリットを介して細いビームにして、試料１１に照射する１つのコリメータ２１である点。  　
　　 
・相違点（う） 
　サンプル上の前記小さな領域から光学部品へ向う蛍光Ｘ線が前記光学部品にほとんど全て当たる湾曲回折光学部品が、本願発明では、「一重湾曲の光学部品よりも大きな集光立体角で前記サンプル上の前記焦点から前記光学部品へ向う前記蛍光Ｘ線が前記光学部品にほとんど全て当たる」「二重湾曲単色光学部品」であるのに対して、引用発明では、Ｘ線が照射された試料１１から発生するＸ線２８を分光し、半導体検出器２９（Ｘ線検出器）に集光する１つの分光結晶３１である点。 
 　　 
　（５−１ｂ）当審の判断 
（１）相違点（い）について（最初に、相違点（い）について検討する。）
　Ｘ線を試料上の照射して試料を分析するＸ線分析装置において、Ｘ線源からのＸ線を１つ又は２つの光学部品を用いて試料上の焦点に集束させることは、上記引用刊行物Ｂの摘記事項（４Ｂ−３）又は引用刊行物Ｃの摘記事項（４Ｃ−２）ごとく周知であり、引用発明も上記周知例もともに、光学部品を用いてＸ線源からのＸ線を試料上の小さな領域に照射して、試料のＸ線分析を行う点で共通し、さらに、例えば、特開２０００−８１３９９号公報に「【００１４】図１は本発明の原理を説明するための模式図である。固定されたＸ線源９から放射された単一波長の一次Ｘ線４は、ほぼ平行ビームとなって照射領域制限手段７を通過し、基板２の上に形成された薄膜１表面の微小領域に照射される。
薄膜１による回折Ｘ線５は
Ｘ線検出器６に導かれる
照射領域制限手段７としては、一つまたは複数のスリットからなるスリットシステム、一つまたは複数のＸ線反射鏡からなる集光システム
１次Ｘ線照射領域の大きさは、これらの照射領域制限手段を適宜使用する
照射領域制限手段８には、１つまたは複数のスリットからなるスリットシステムや、１つまたは複数のＸ線反射鏡からなる集光システム
が用いられる
照射領域制限手段８にて制限される一次Ｘ線４の試料３に対する照射領域は、数μｍ〜数ｍｍ程度の範囲で適宜選択される
 　　 
（２）相違点（あ）について 
　上記引用刊行物Ａの摘記事項（４Ａ−３）に「【００１３】上記放射線源２０とコリメータ２１との間及び分光結晶３１と半導体検出器２９との間には，それぞれ軽金属元素薄膜の一例であるアルミニウムを蒸着した高分子薄膜２４，２５が配設されている。そして，各高分子薄膜２４，２５に対応して，レーザ光源２２（第２の光線照射手段，第２の可視光源），レーザ光源２３（第１の光線照射手段，第１の可視光源）がそれぞれ配設されており，レーザ光源２２，２３からのレーザ光２６，３５をＸ線光学系の光軸に導くように構成されている。・・・ 【００１４】レーザ光源２２，２３からレーザ光２６，３５を照射すると，このレーザ光はそれぞれアルミニウムを蒸着した高分子薄膜２４，２５で反射してＸ線光学系の光軸に沿って導入される。更に，一方のレーザ光２６は，コリメータ２１のスリットを通過して試料１１に照射される。また，他方のレーザ光３５は，鏡面研磨された分光結晶３１の表面で反射され，試料１１に照射される。両レーザ光２６，３５はＸ線光学系の焦点位置で交差するように前述の如く予め調整されていることから，ＣＣＤカメラ３３で試料表面を観察しつつ，両レーザ光２６，３５が試料表面を照射する位置が一致するように試料１１の位置を調整する」と記載されており、この記載によれば、試料１１の位置調整の際に、レーザ光２６が放射線源２０とコリメータ２１との間の高分子薄膜２４に照射され、コリメータ２１のスリットを通過してＸ線光学系の焦点位置に照射され、さらに、レーザ光３５は、分光結晶３１と半導体検出器２９との間の高分子薄膜２５に照射され、分光結晶３１の表面で反射されて試料１１上の焦点位置に照射されることから、引用発明の放射線源２０からのコリメータ２１の２つのスリットを介して細いビームされるＸ線は、レーザ光２６と同様に、コリメータのスリットを通過して試料１１上の焦点位置に照射されることは明らかであり、さらに、Ｘ線光学系の１つを構成する分光結晶３１の焦点位置が、放射線源２０からの細いビームのＸ線が照射される試料１１の焦点位置と一致することは明らかである。
　ところで、湾曲回折光学部品として、Ｘ線源Ｓの位置と点状の集光点Ｆを含む集束円の半径とし、集束円の面において２Ｒの曲げ半径を有し、Ｘ線源Ｓの位置と集光点Ｆを結ぶ線に垂直な中間面において２Ｒとは異なる曲げ半径を有する二重湾曲回折光学部品は、上記引用刊行物Ｄの摘記事項（４Ｄ−４）に記載されているように周知（他に、例えば特許第２５５５５９２号公報の２頁３欄２７〜４２行、第４図参照）であり、さらに、上記引用刊行物Ｄの摘記事項（４Ｄ−２）の段落【０００５】に「doubly-bent型結晶を複数組み合わせてトロイダル形状にする」と記載されていることから、二重湾曲回折光学部品を１つでだけでなく、複数用いることも周知の構成であるといえる。そして、引用発明の試料１１からのＸ線２８を集光する分光結晶３１も上記周知例の二重湾曲回折光学部品もともに、湾曲回折光学部品に向かうＸ線を所定の位置へ集光する点で共通し、さらに、二重湾曲回折光学部品を、試料にＸ線を照射して発生させたＸ線を検出器へ集光させるのに用いることも、例えば特公平６−７２８５０号公報に「結晶の中心点０における円周Ｃに切する方向は以下Ｘ方向とされる。結晶の上側の境界面は作図されており、紙面上の曲率半径はＲである。Ｘ方向と垂直な方向は以下Ｙ方向というが、その方向での結晶の上側の境界面のもう一方の主要断面は曲率半径２Ｒを持ち、従ってそれはその方向でのローランド球とは一致しない。・・・Ｘ線管５は試料６を照射する位置にある。それからのＸ線ビームは入射スリット３で結晶中心点０を通過する主要Ｘ線７となり、結晶１で回折され、出射スリット４の後におかれた検出器８によってとらえられる。」（３頁５欄４１行〜６欄６行）と記載されているように、技術常識であることから、引用発明において、サンプルの上の小さな領域から蛍光Ｘ線を集光する湾曲回折光学部品を有する単色集光光学部品として、試料１１の焦点位置から発生するＸ線２８を半導体検出器２９（Ｘ線検出器）に集光する、湾曲状の分光結晶３１の代わりに、上記周知例の、Ｘ線源Ｓの位置と点状の集光点Ｆ、すなわち、焦点を含む集束円の半径とし、集束円の面において２Ｒの曲げ半径を有し、Ｘ線源Ｓの位置と集光点Ｆを結ぶ線に垂直な中間面において２Ｒとは異なる曲げ半径を有する少なくとも１つの二重湾曲回折光学部品を採用し、本願発明のごとく、サンプルの上の小さな領域から蛍光Ｘ線を集光する湾曲回折光学部品を有する単色集光光学部品が、「点ＳをＸ線源の位置、点Ｉを焦点、Ｒを点Ｉと点Ｓを含む集束円の半径として、集束円の面において２Ｒの曲率半径を有し、セグメントＳＩに垂直な中間面において２Ｒと異なる曲率半径を有する、少なくとも１つの二重湾曲回折光学部品を有する少なくとも１つの単色集光光学部品」とすることは当業者が容易になし得るものである。 
　そして、上記相違点（い）で検討したように、Ｘ線源からのＸ線を１つ又は２つの光学部品を用いて試料上の焦点に集束させる構成を採用すれば、引用発明において、Ｘ線等の放射線源２０からＸ線が試料１１の焦点に照射されたことにより試料１１から発生するＸ線２８を集光する分光結晶３１が、試料１１の「焦点から」蛍光Ｘ線を集光するから、本願発明と同様に、サンプルの上の小さな領域から蛍光Ｘ線を集光する湾曲回折光学部品を有する単色集光光学部品が、サンプルの上の「焦点から」蛍光Ｘ線を集光することになるのは明らかである。 
  　　　 
（３）相違点（う）について 
　サンプルの上の小さな領域から蛍光Ｘ線を集光する湾曲回折光学部品を有する単色集光光学部品が、サンプルの上の「焦点から」蛍光Ｘ線を集光することは、上記相違点（あ）で検討したとおりであり、さらに、上記引用刊行物Ｄの摘記事項（４Ｄ−２）に記載されているように、二重湾曲単色光学部品が一重湾曲の光学部品よりも大きな集光立体角で集光できることは技術常識であることから、引用発明において、Ｘ線源からのＸ線を１つ又は２つの光学部品を用いて試料上の焦点に集束させる構成を採用し、湾曲回折光学部品として二重湾曲単色光学部品を採用すれば、本願発明のごとく、サンプル上の前記小さな領域から光学部品へ向う蛍光Ｘ線が前記光学部品にほとんど全て当たる湾曲回折光学部品が、「一重湾曲の光学部品よりも大きな集光立体角で前記サンプル上の前記焦点から前記光学部品へ向う前記蛍光Ｘ線が前記光学部品にほとんど全て当たる」「二重湾曲単色光学部品」となることは明らかである。
 　 
　そして、本願発明によってもたらされる効果は、引用発明及び周知の技術事項から予測される範囲内のものであり、格別のものではない。
　
　なお、請求人は、平成２３年６月２３日に提出した意見書において、下記のごとく主張しているが、これらの主張は次の理由で採用できない。
（ア）請求人の「（ａ−１）相違点（い）について」の主張（意見書２頁８行〜３頁６行）
（ア−１）請求人は「審判官殿は、引用発明１では、『Ｘ線放射をサンプルの上の小さな領域に照射する』ということを前提にされていると思います。
　ここで、『小さな領域』とは、引用発明１においては、線状の領域を意味します。すなわち、引用刊行物Ａの図３でいえば、試料１１上において紙面に垂直な方向に延びた線状の領域であると考えられます。なぜなら、引用刊行物Ａの６欄３８〜３９行には『レーザ光２６は，コリメータ２１のスリットを通過して』と記載されており、従って、引用刊行物Ａの図３において、放射線源２０より発生した放射線２７も、コリメータ２１のスリット（すなわち、細長い穴）を通過することによって、線状の放射線となり、試料１１上に照射されると考えられるからです。
　これに対し、審判官殿が周知であり、引用刊行物ＢおよびＣに記載されていると指摘されている『Ｘ線源からのＸ線を１つ又は２つの光学部品を用いて試料上の焦点に集束させる』という技術は、Ｘ線を『点』に集束させる技術であって、『線』状の領域に集束させる技術ではありません。
　よって、「Ｘ線源からのＸ線を１つ又は２つの光学部品を用いて試料上の焦点に集束させる」という技術を、引用発明１に適用する動機づけはありません。」旨の主張している。
　しかしながら、例えば、特開２０００−３１４７０９号公報の段落【００１１】に「コリメータ２は、Ｘ線源１からのＸ線ビームを所要の形状に成形するもので、本例では、図２に示すように・・・１辺が数十μｍの正方形のビームを作り出すことができるようになっている。」と記載され、また、特開平８−３１３４５８号公報の段落【０００９】に「図４は、・・・モノクロメータを用いてＸ線源から放射されたＸ線を単色化してＣｕＫαを取り出し、さらにそのＸ線をスリット直径が０．０５ｍｍ、０．２ｍｍ及び０．５ｍｍの３種類のコリメータを通したときのＸ線強度を測定したときの結果を示している。」と、記載されているようにコリメータのスリットを介して形成される小さな領域が、正方形や円形の点状であることも技術常識であることから、請求人の「引用刊行物Ａの図３において、放射線源２０より発生した放射線２７も、コリメータ２１のスリット（すなわち、細長い穴）を通過することによって、線状の放射線となり、試料１１上に照射されると考えられる」との主張は採用できないものである。
　さらに、上記「（５−１ｂ）当審の判断 」の「（２）相違点（あ）について」において検討したように、上記引用刊行物Ａの摘記事項（４Ａ−３）の記載より、試料１１の位置調整の際に、レーザ光２６が放射線源２０とコリメータ２１との間の高分子薄膜２４に照射され、コリメータ２１の２つのスリットを介してＸ線光学系の焦点位置に照射されることから、引用発明の放射線源２０からのコリメータ２１のスリットを介した細いビームのＸ線は、レーザ光２６と同様に、コリメータの２つのスリットを介して試料１１上の焦点に照射されることは明らかであり、さらに、広辞苑によれば、「焦点」は「〔理〕光学系に於いて光軸に平行な入射光線が像（実像又は虚像）を結ぶ点。」（第５版）と記載されていることから、引用発明の放射線源２０からのコリメータ２１の２つのスリットを介して細いビームにされたＸ線は試料１１上の焦点、すなわち、点状に照射されるものと推認されるものである。
　そうすると、「（５−１ｂ）当審の判断 」の（１）で検討したように、Ｘ線分析装置において、Ｘ線源からのＸ線を１つ又は２つの光学部品を用いて試料上の焦点に集束させることは、上記引用刊行物Ｂの摘記事項（４Ｂ−３）又は引用刊行物Ｃの摘記事項（４Ｃ−２）ごとく周知であり、引用発明の２つのスリットを備えたコリメータ２１もＸ線源からのＸ線を１つ又は２つの光学部品を用いて試料上の焦点に集束させる周知例もともに、Ｘ線源からのＸ線を試料上の小さな点状の領域に照射して、試料のＸ線分析を行うＸ線分析装置に用いられる光学部品である点で共通するから、放射線源２８から発生したＸ線を試料１１上の小さな領域に照射する光学部品として、Ｘ線を２つのスリットを細いビームにする備えたコリメータ２１を用いる代わりに、引用発明と同じＸ線分析装置の分野に用いられる、上記周知例のＸ線を試料上の焦点に集束させる１つ又は２つのＸ線反射鏡からなる光学部品を採用することは、当業者が容易になし得るものであって、上記「引用刊行物ＢおよびＣに記載されていると指摘されている『Ｘ線源からのＸ線を１つ又は２つの光学部品を用いて試料上の焦点に集束させる』という技術は、Ｘ線を『点』に集束させる技術であって、『線』状の領域に集束させる技術ではありません。よって、「Ｘ線源からのＸ線を１つ又は２つの光学部品を用いて試料上の焦点に集束させる」という技術を、引用発明１に適用する動機づけはありません。」という請求人の主張は採用できないものである。
（ア−１’）仮に、引用発明において、引用発明において、試料１１上の小さな領域にコリメータ２１を介して照射される細いＸ線ビームが点状でないとしても、上記「（５−１ｂ）当審の判断」の「（１）」で検討したように、例えば、特開２０００−８１３９９号公報や特開２００１−１４１６７５号公報に記載されているように、Ｘ線分析装置において、Ｘ線分析装置において、Ｘ線を試料上の小さな領域に照射する光学部品として、周知の光学部品のうちどのような手段を用いるかは、当業者が必要に応じて適宜採用する選択事項といえることから、引用発明の波長分散型Ｘ線分光装置において、放射線源２８から発生したＸ線を試料１１上の小さな領域に照射する光学部品として、Ｘ線を２つのスリットを細いビームにする備えたコリメータ２１を用いる代わりに、引用発明と同じＸ線分析装置の分野に用いられる、上記引用刊行物Ｂ又は引用刊行物Ｃに記載された周知例のＸ線を試料上の焦点に集束させる１つ又は２つのＸ線反射鏡からなる光学部品を採用することは、当業者が容易になし得るものであって、請求人の上記「Ｘ線源からのＸ線を１つ又は２つの光学部品を用いて試料上の焦点に集束させる」という技術を、引用発明１に適用する動機づけはありません。」という主張は採用できないものである。
　
（イ）請求人の「（ａ−２）相違点（あ）について」の主張（意見書３頁７〜３５行）
（イ−１）請求人は「ここで審判官殿がいう周知例・・・の光学部品は、いずれも点から発生した放射線等を回折するものです。
　・・・引用発明１の光学部品は、線から発生した放射線等を回折するものです。
　よって、引用発明１において、分光結晶３１の代わりに、審判官殿がいう上記周知例の光学部品を採用すれば、分光結晶３１を用いていた際に想定していた回折とは全く異なる回折が起こり、誤検出等の予期せぬ結果が生じるおそれがあります。
　したがって、引用発明１において、分光結晶３１の代わりに、審判官殿がいう上記周知例の光学部品を採用することには阻害事由が存在します。また、当業者が、そのような不利益を伴うそのような採用を行うとは考えられません。
　よって、引用発明１において、分光結晶３１の代わりに、審判官殿がいう上記周知例の光学部品を採用することが当業者にとって容易であったとはいえません。」旨の主張している。
　しかしながら、上記（ア−１）において検討したように、引用発明の放射線源２０からのコリメータ２１の２つのスリットを介して形成された細いビームのＸ線は試料１１上の焦点、すなわち、点状に照射されるものと推認されるものであり、さらに、上記「（２）相違点（あ）について」において検討したように、引用発明の半導体検出器２９（Ｘ線検出器）に集光する１つの分光結晶３１の焦点位置は、放射線源２０からの細いビームのＸ線が試料１１上に照射される焦点位置と一致することから、引用発明の分光結晶３１は、放射線源２０からの細いビームのＸ線が試料１１上に照射される焦点位置から発生するＸ線を半導体検出器２９（Ｘ線検出器）に集束させるものであり、さらに、周知の二重湾曲回折光学部品も同じく点状の焦点位置からのＸ線を点状の集光点に集束するものであるから、引用発明の分光結晶３１の代わりに、周知の二重湾曲回折光学部品を採用したとしても、何ら阻害事由は存在しないことは明らかである。
（イ−２）また、上記「（１）相違点（い）について」において検討したように、Ｘ線を試料上の小さな領域に照射する光学部品として、周知の光学部品のうちどのような手段を用いるかは、当業者が必要に応じて適宜採用する選択事項といえることから、引用発明の波長分散型Ｘ線分光装置において、放射線源２８から発生したＸ線を試料１１上の小さな領域に照射する光学部品として、Ｘ線を２つのスリットを細いビームにする備えたコリメータ２１を用いる代わりに、引用発明と同じＸ線分析装置の分野に用いられる、上記周知例のＸ線を試料上の焦点に集束させる１つ又は２つのＸ線反射鏡からなる光学部品を採用したとしても、１つ又は２つのＸ線反射鏡からなる光学部品は、Ｘ線を試料上の焦点に集束させていることから、引用発明の分光結晶３１の代わりに周知の二重湾曲回折光学部品を採用したとしても、何ら阻害事由は存在しないものであり、請求人の主張は採用できないものである。
　　　
（ウ）請求人の「（ｂ）技術分野の相違による動機づけの欠如の観点から」の主張（意見書３頁３６行〜４頁２６行）
（ウ−１）請求人は「波長分散型の蛍光Ｘ線分光システムにおいて、「Ｘ線源からのＸ線を１つ又は２つの光学部品を用いて試料上の焦点に集束させる」という技術事項を導入する必要性を示唆する記載は、引用刊行物Ａ〜Ｅのいずれの箇所にも見当たりません。
　よって、波長分散型の蛍光Ｘ線分光システムにおいて、「Ｘ線源からのＸ線を１つ又は２つの光学部品を用いて試料上の焦点に集束させる」という技術事項を導入する動機づけは存在せず、従って、引用発明１において、本願発明１の相違点（い）に係る構成を備えるようにすることが当業者にとって容易であったとはいえません。」旨の主張している。　
　しかしながら、上記引用刊行物Ｂの摘記事項（４Ｂ−２）及び（４Ｂ−３）には、「ピンホール型コリメータを用いたＸ線回折装置（Ｘ線分析装置）」では、試料に到達するＸ線の輝度が低くなる」ので、「微小結晶や微小領域のＸ線回折を行なうことが困難であるという問題」を解決するために、「Ｘ線源からのＸ線を集束するためのＸ線導管」を用いることにより、「試料」に「照射」される「照射Ｘ線ビームの微細化と高輝度化を計っている。」ことが記載されていることから、引用刊行物Ｂには、Ｘ線分析装置において、試料に到達するＸ線の輝度が低いコリメータによる困難となる問題点を解決するために、コリメータの代わりに照射するＸ線を集束して試料に照射されるＸ線ビームを高輝度にして容易に分析を行えるようにすることが記載されている。
　そして、上記引用刊行物ＢのＸ線分析装置と同様に、引用発明の波長分散型Ｘ線分光装置においても、容易に分析を行えるようにしようとする共通の課題は存在するから、引用発明の２つのスリットを備えた１つのコリメータ２１を用いたことによる試料に到達するＸ線の輝度が低くなる問題点を解決するために、スリットを備えた１つのコリメータ２１の代わりに、引用発明と同じＸ線分析装置の分野に用いられる、上記周知例の試料に照射されるＸ線を高輝度にすることができるＸ線を試料上の焦点に集束させる１つ又は２つのＸ線反射鏡からなる光学部品を採用して、試料に照射されるＸ線を高輝度にして容易に分析を行えるようにすることは当業者であれば容易に想到しうることから、波長分散型の蛍光Ｘ線分光システムにおいて、「Ｘ線源からのＸ線を１つ又は２つの光学部品を用いて試料上の焦点に集束させる」という技術事項を導入する動機づけは存在するものであり、請求人の主張は採用できない。
（ウ−２）また、当審で拒絶の理由において提示した特開２００１−１２４７１１号公報に、「【００２９】・・・図３は、本発明の第２の実施の形態に用いる
波長分散型蛍光Ｘ線分析装置
一次Ｘ線１２を
集光するＸ線ミラー１３
分光器２２
　
（エ）請求人の「主引用発明と副引用発明の目的の相違による阻害事由の観点から（その１）」の主張（意見書４頁２７行〜５頁８行）
　請求人は「審判官殿のいう周知技術の目的（試料に照射するＸ線をより強くすること）を減殺する方向で、引用発明１と審判官殿のいう周知技術との組合せを当業者が行うことは考えられません。よって、引用発明１のコリメータ２１に代えて、審判官殿のいう周知技術（Ｘ線源からのＸ線を１つ又は２つの光学部品を用いて試料上の焦点に集束させること）を採用することを当業者が容易に想到し得たとは考えられません。」旨の主張をしている。
　しかしながら、上記（ウ）において検討したように、引用刊行物Ｂには、Ｘ線分析装置において、試料に到達するＸ線の輝度が低いコリメータによる困難となる問題点を解決するために、コリメータの代わりに照射するＸ線を集束して試料に照射されるＸ線ビームを高輝度にして容易に分析を行えるようにすることが記載されており、この引用刊行物Ｂでは、Ｘ線分析装置において、試料に到達する輝度が減殺する方向のコリメータの代わりに、照射するＸ線を集束して試料に照射されるＸ線ビームをより強くして、高輝度にして容易に分析を行えるようにしていることから、請求人の「審判官殿のいう周知技術の目的（試料に照射するＸ線をより強くすること）を減殺する方向で、引用発明１と審判官殿のいう周知技術との組合せを当業者が行うことは考えられません。」旨の主張は採用できないし、さらに、引用発明の波長分散型Ｘ線分光装置において、２つのスリットを備えた１つのコリメータ２１を用いたことによる試料に到達するＸ線の輝度が低くなる問題点を解決するために、スリットを備えた１つのコリメータ２１の代わりに、引用発明と同じＸ線分析装置の分野に用いられる、上記周知例の試料に照射されるＸ線を高輝度にすることができるＸ線を試料上の焦点に集束させる１つ又は２つのＸ線反射鏡からなる光学部品を採用することに何ら阻害事由は存在しないことは明らかである。
　
（オ）請求人の「主引用発明と副引用発明の目的の相違による阻害事由の観点から（その２）」の主張（意見書５頁９行〜５頁８行）
（オー１）請求人は「引用発明１は、従来の光学顕微鏡を用いた構成では比較的大きな領域を確保する必要があるという問題点を解決するもの、すなわち、コンパクト化、省スペース化を図り、他の検出機器等の設置をも可能とすることを目的とするものです（引用刊行物Ａの段落【０００４】をご参照ください）。
　このような引用発明１において、コリメータ２１に代えて、審判官殿のいう周知技術（Ｘ線源からのＸ線を１つ又は２つの光学部品を用いて試料上の焦点に集束させる構成）を採用すれば、コリメータを用いた場合に比べて装置が大きくなってしまい、従って、コンパクト化、省スペース化を図り、他の検出機器等の設置をも可能とするという引用発明１の目的に反することになってしまいます。
　・・・
　したがって、引用発明１のコリメータ２１に代えて、審判官殿のいう引用刊行物Ｂ、Ｃ等に記載の周知技術を採用することには阻害事由があるといえます。よって、引用発明１のコリメータ２１に代えて、審判官殿のいう周知技術を採用することを当業者が容易に想到し得たとはいえません。」旨の主張をしている。
　しかしながら、上記引用刊行物の摘記事項（４Ａ−２）には「【０００３】・・・図５に示す如く，予め
光学顕微鏡の焦点位置とＸ線光学系の焦点位置が一致するように調整されている。従って，試料表面をこの光学顕微鏡で観察しながら該試料を調整してその焦点位置に移動させる
光学顕微鏡を設置する
比較的大きな領域
を確保する必要
Ｘ線光学系の焦点位置への試料の位置調整を比較的簡単な構成の下に行い得るようにして，コンパクト化，あるいは省スペース化
可能とする波長分散型Ｘ線分光装置の提供を目的とする
レーザ光２６，３５はＸ線光学系の焦点位置で交差するように前述の如く予め調整されている
レーザ光２６，３５が試料表面を照射する位置が一致するように試料１１の位置を調整すると，Ｘ線光学系での試料１１の焦点位置調整が終了する
　そして、上記「相違点（い）について」において検討したように、光学部品を用いてＸ線源からのＸ線を試料上の小さな領域に照射して、試料のＸ線分析を行うＸ線分析装置において、Ｘ線を試料上の小さな領域に照射する際に用いられる照射領域制限手段として、一つまたは複数のスリットからなるスリットシステム、一つまたは複数のＸ線反射鏡からなる集光システムの何れかを用いることは当業者が適宜採用する選択事項であり、さらに、照射領域制限手段として一つまたは複数のスリットからなるスリットシステム、１つまたは複数のＸ線反射鏡からなる集光システム等照射領域制限手段を選択する際にはそれぞれの特徴を見極めた上で、当業者が所望の特徴を有する照射領域制限手段を適宜採用するものであり、また、一般に、どのＸ線分析装置においても、コンパクト化，あるいは省スペース化は共通の目的であるから、上記「（１）相違点（い）について」において提示した、特開２０００−８１３９９号公報や特開２００１−１４１６７５号公報のＸ線分析装置においても、コンパクト化，あるいは省スペース化という共通の目的を持ちつつも、照射領域制限手段を選択する際に、一つまたは複数のスリットからなるスリットシステムを採用するか、１つまたは複数のＸ線反射鏡からなる集光システムを採用するかを選択しているのである。
　そうすると、上記引用刊行物Ａに「本発明は，上記事情に鑑みて創案されたものであり，Ｘ線光学系の焦点位置への試料の位置調整を比較的簡単な構成の下に行い得るようにして，コンパクト化，あるいは省スペース化により他の検出機器等の設置をも可能とする波長分散型Ｘ線分光装置の提供を目的とするものである。」と記載されていたとしても、上記のごとく、引用発明は、Ｘ線光学系の焦点位置への試料の位置調整を、比較的大きな領域を確保する必要となる光学顕微鏡を用いて行う代わりに、比較的簡単な構成からなり、光学顕微鏡に比べて必要とする領域がわずかなＸ線光学系の焦点位置で交差するように調整されたレーザ光２６とレーザ光３５を用いることにより、波長分散型Ｘ線分光装置のコンパクト化、あるいは省スペース化を行うものであって、Ｘ線光学系の、例えば、照射領域制限手段が必要とする領域を小さくすることにより、コンパクト化，あるいは省スペース化を図ることを目的とするものではないから、引用発明において、スリットを備えたコリメータの代わりに、周知例のように１つ又は２つのＸ線反射鏡からなる光学部品を選択することが、阻害要因となるとはいえないものであり、請求人の主張は採用できない。
　
　したがって、本願発明は、引用発明及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
  　　　　　　　　　　　　 
 第６　むすび  
　以上のとおり、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、その余の請求項について検討するまでもなく、本件出願は、拒絶をすべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。