【事件の表示】
　特願２００７−５１３９４４「インプリント方法に使用する変性された金属製成形型」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年１２月１５日国際公開、ＷＯ２００５／１１９３６０、平成２０年　１月１７日国内公表、特表２００８−５００９１４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
［１］手続の経緯
　本願は、２００５年５月２７日（パリ条約による優先権主張　外国庁受理２００４年５月２８日、米国、欧州特許庁）を国際出願日とする出願であって、平成２２年１２月９日付けで拒絶理由が通知され、平成２３年６月１４日付けで意見書および手続補正書が提出され、同年１１月１０日付けで拒絶査定がなされ、平成２４年３月１５日に拒絶査定不服審判の請求がなされ、同年５月１日に手続補正書（方式）が提出されたものである。
　
［２］本願発明
　本願請求項１−２９に係る発明は、平成２３年６月１４日付け手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１−２９に記載されたとおりのものと認められるところ、その請求項１に係る発明は以下のとおりである。
「構造化されたインプリント表面を有するベース金属製成形型と、
そのインプリント表面に形成された接着防止層と、を含んでなるナノ−インプリント成形型であって、
　前記接着防止層が、リン原子とアルキル基を含む置換基（Ｒ）とを含有する、フッ素化されたアルキルリン酸誘導体またはフッ素化されたアルキルポリ−リン酸誘導体を含んでなり、
　前記接着防止層が、前記ベース金属成形型のインプリント表面に直接結合し、かつ前記置換基（Ｒ）が、その置換基（Ｒ）の炭素原子に直接結合したリン原子とともに、水素、炭素およひフッ素からなる群から選択される原子を含有する、ことを特徴とする、成形型。」（以下、「本願発明」という。）
　
［３］引用刊行物の記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された、本出願の優先権主張日前に頒布された
国際公開第２００４／０００５６７号（以下、「引用刊行物１」という。）、国際公開０３／１０２００３号（以下、「引用刊行物２」という。）には、それぞれ、以下の事項が記載されている。
（１）引用刊行物１：国際公開第０４／０００５６７号
（１ａ）「CLAIMS 
 　……
7. A mold tool adapted to be used for forming a structured nano scale pattern on an object (24) and having a layer (16), which is anti-adhesive with regard to the object (24), characterised in that the mold tool (1) comprises a stamp blank (2), having a structured pattern on its surface (8), and a layer (6) of a metal, having a stable oxidation number and being capable of forming a mechanically stable oxide film, which layer (6) of metal has been applied on said surface (8) and thereafter brought to oxidise to form a mechanically stable oxide film (10), wherein the antiadhesive layer (16) comprises molecule chains (18), each having at least one linkage group (20), which by chemical bonding, preferably by a covalent bond, are bonded with the oxide film (10), and at least one group (22) comprising fluorine. 
……
9. The mold tool according to claim 7 or 8, wherein said stamp blank (2) comprises a metal and/or silicone. 
……　　　　　　　　　　　　　」（第１８頁第１行−第１９頁第１２行）
　当審による翻訳（以下、同じ）
（「請求の範囲
　……
７．物体（２４）上に構造化されたナノスケールパターンを形成するために使用され、前記物体（２４）に対して抗付着性のある層（１６）を有する成形工具であって、前記成形工具（１）が、表面（８）上に構造化されたパターンを有する成形工具であって、前記成形工具（１）が、表面（８）上に構造化されたパターンを有するスタンプブランク（２）と、安定した酸化数を有し且つ機械的に安定した酸化物被膜を形成し得る金属の層（６）とを含んでなり、前記金属層（６）が前記表面（８）上に設けられた後に酸化されて、機械的に安定した酸化物被膜（１０）を形成し、前記抗付着層（１６）が分子鎖（１８）を含んでなり、前記分子鎖が、化学結合により、好ましくは共有結合により、前記酸化物被膜（１０）と結合し得る少なくとも１個の結合基（２０）と、少なくとも１個のフッ素含有基（２２）を有する、ことを特徴とする、成形工具。
……
９．前記スタンプブランク（２）が、金属および／またはケイ素を含んでなる、請求の範囲７または８に記載の成形工具。
……」）
　
（１ｂ）「The present invention relates to a method for manufacturing a mold tool to be used for forming a structured nano scale pattern on an object, and which has an anti-adhesive layer with regard to the object.   
 The invention also relates to a mold tool to be used for forming a structured nano scale pattern on an object and has an anti-adhesive layer with regard to the object.  　　
……　 
Background  
　A stamp is often used for the replication of nano scale structures. The stamp imprints a pattern on a plate coated with a layer of a suitable polymer, such as a thermoplastic. In order to avoid that the polymer sticks to the surface of the stamp and contaminates said surface when the stamp is released from the coated plate after the imprint process, it is necessary to provide an anti-adhesive interface surface between the pattern equipped stamp and the polymer. Such an adhesion can also damage the replicated pattern on the plate. A successful imprint thus requires the stamp to be chemically and mechanically stable and to have a low adhesion to polymers. 」（第１頁第４行−第２２行）
　
（「本発明は、物体上に構造化されたナノスケールパターンを形成するために使用する、物体に対して抗付着性のある層を有する成形工具の製造方法に関する。
　本発明は、物体上に構造化されたナノスケールパターンを形成するために使用する、物体に対して抗付着性のある層を有する成形工具にも関する。
　……　……
背景
　ナノスケール構造の複製にはスタンプが頻繁に使用される。スタンプは、熱可塑性樹脂等の好適な重合体からなる層で被覆したプレート上に、パターンを刻印する。刻印工程の後に被覆されたプレートからスタンプを引き離す際に、スタンプ表面に重合体が付着して表面が汚染されるのを避けるために、パターンを備えたスタンプと重合体との間に抗付着性の界面を設ける必要がある。重合体の付着により、プレート上に複製されたパターンも損傷されることがある。従って、良好に刻印するには、スタンプを化学的、機械的に安定化させ、重合体が付着しないようにする必要がある。」）
　
（１ｃ）「In other cases, such as when a layer of titanium or aluminium is applied on a stamp blank of nickel, also the oxide, titanium dioxide or aluminium oxide in said case, will have a good enough adhesion to the stamp blank.   ……  　
 An anti-adhesive layer is thereafter attached to the oxidised metal layer. In a preferred embodiment of the invention a first and second reagent is used. The first reagent is bonded with the metal layer at a first reaction, wherein the second reagent is bonded to the first reagent at a second reaction. The reason for this embodiment to be preferred is that it is quite a simple task to find commercial compounds suitable to be used as a first and second reagent, respectively.   　
 A first reagent to be used during the manufacturing of the stamp has at least two functional groups according to the invention. A first functional group has the purpose to bond with the surface of the metal layer. An example of such a first functional group is a silane group with the chemical formula (BO)3-nR'nSi-. The silane group can bond with the metal layer by means of a group B1 on the surface of the metal layer, wherein B1 usually is a M-O- or a M-OH where M is a metal atom comprised in the metal layer.   ……
……
 Another example of a suitable first functional group is a phosphate group,-H2P04.
 The first reagent has a second functional group X1, preferably chosen so as to not react or only to a limited extent react with the surface of the metal layer.  ……
……. Suitable groups of X1 are e.g.-SH, NH2, and-OH. …… 
……
 It is preferable to choose a first reagent that fulfils the above-described criteria and which is commercially available. Example of a preferred first reagent is thus mercaptopropyltriethoxysilane:  　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　」（第８頁第６行−第１０頁第４行）
　
（「他の場合、例えばチタンまたはアルミニウムの層をニッケルのスタンプブランク上に付ける場合、酸化物（これらの場合、二酸化チタンまたは酸化アルミニウム）もスタンプブランクに対して十分に良好な密着性を有する。……
　その後、抗付着層を酸化された金属層に設ける。本発明の好ましい実施態様においては、第一および第二の試薬を使用する。第一試薬は第一反応で金属層と結合し、第二試薬は第二反応で第一試薬に結合する。この実施態様が好ましい理由は、それぞれ第一および第二試薬として使用するのに好適な市販の化合物を探すのが極めて簡単であることである。
　本発明により、スタンプ製造の際に使用する第一試薬は少なくとも２個の官能基を有する。第一官能基の目的は、金属層の表面と結合することである。そのような第一官能基としては、化学式（ＢＯ）３−ｎR’ｎＳｉ−を有するシラン基が例示できる。シラン基は金属層の表面上で基Ｂ１により金属層と結合することができる（ここで、Ｂ１は通常Ｍ−ＯまたはＭ−ＯＨであり、Ｍは金属層中に含まれる金属原子である）。 ……
……
　好適な第一官能基の別の例は、ホスフェート基（Ｈ２ＰＯ４）である。
　第一試薬は、好ましくは金属層の表面と反応しないか、または限られた程度にしか反応しないように選択された第二官能基Ｘ１を有する。……
……Ｘ１の好適な基としては、例えば−ＳＨ、ＮＨ２、および−ＯＨである。……
　上記の基準を満たし、市販されている第一試薬を選択するのが好ましい。従って、好ましい第一試薬の例は、メルカプトプロピルトリエトキシシランである。
」）
　
（１ｄ）「The second reagent comprises a first portion X2, supposed to bond with the Xl-group of the first reagent, and a second portion R2, having an anti-adhesive functionality.   
 The group X2 can be chosen in order to be suitable for reacting with the Xl- group present in the first reagent. The reaction shall result in a bond being strong enough to maintain the anti-adhesive functionality at the surface of the stamp. ……
……
 It is suitable to choose a second reagent that fulfils the above-described criteria and which is commercially available. Examples of such preferred second reagents are thus 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctanethiol: 
   ＳＨ−（ＣＨ２）２−（ＣＦ２）５−ＣＦ３ 」（第１０頁第６行−第１１頁第１１行）
　
（「第二試薬は、第一試薬のＸ１基と結合すると考えられる第一部分Ｘ２と抗付着性官能基を有する第二部分Ｒ２を含んでなる。
　基Ｘ２は、第一試薬中に存在するＸ１基と反応するのに適しているように選択することができる。この反応により、スタンプ表面における抗付着性官能基を維持するのに十分に強い結合が得られる。……
　上記の基準を満たし、市販されている第二試薬を選択するのが好ましい。従って、そのような好ましい第二試薬の例は、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ペルフルオロオクタンチオールである。
　ＳＨ−（ＣＨ２）２−（ＣＦ２）５−ＣＦ３ 」）
　
（１ｅ）「In case of a stamp blank having a metal layer of titanium and the abovementioned preferred first reagent can thus the following result be obtained after the first treatment :  
 The bond between the metal layer and the actual structure of the silane group and the residue product, ethane of ethanol in the above example, may be effected to some extent depending on the original structure of the surface. The bond between the titanium surface and the silane group is assumed to look like (Ti)3Si or (Ti- O)3Si, but the precise appearance is not completely established. The above formulas thereby intend to denote a silane group bonded with a metal surface independently of the precise appearance of the actual bond.   
 The washed stamp is thereafter treated with the second reagent.  ……
  ……
 In a reaction between the above described product after the first treatment and the above described preferred second reagents can thus the following result be obtained after the second treatment when the XI-and X2-groups have reacted and formed a group Q in form of S-S: 　  　
 When the first functional group is a phosphate group in stead of a silane group can e.g. a first reagent in form of a mercaptopropylphosporic acid be used:    
 When the first reagent has been attached to the metal layer according to any of the above described procedures, the above-mentioned second reagent 1H, 1H, 2H, 2H-perfluorooctanethiol can be used in a second treatment as described above in order to obtain the following anti-adhesive layer on the surface of the metal layer (Me in the formula below denotes a simple metal, such as Ti): 　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　
　……   
 In another embodiment the anti-adhesive layer is formed by directly attaching a ready molecule chain on the surface of the stamp, e.g. a molecule chain comprising a group capable of bonding with the surface of the stamp and at least a fluorine-comprising group. A ready molecule chain means that the anti-adhesive layer is attached to the surface of the stamp in a single step, which facilitates the practical operation. Attaching a complete ready molecule chain in one single step is carried out in substantially the same way and under the same conditions as have been described above for the first treatment. The resulting anti-adhesive layer can in a metal layer of titanium e.g. obtain the following appearance: 　　　　　　　　　　　　　  
                １
　　　　　　　　　　　　　　　」（第１１頁第３７行−第１４頁第４行）　　　　
（「チタンの金属層を有するスタンプブランクおよび上記の好ましい第一試薬の場合、第一処理の後、下記の結果物を得ることができる。
　金属層とシラン基の実際の構造および残留生成物、上記の例ではエタノールのエタンとの結合は、表面の本来の構造に応じてある程度影響される。チタン表面とシラン基との結合は、（Ｔｉ）３Ｓｉまたは（Ｔｉ）３−Ｓｉのように見えるが、正確な構造は完全には確立していない。　従って、上記の式は、実際の結合の構造とは無関係に、金属表面と結合したシラン基を表す。
　次いで、洗浄したスタンプを第二試薬で処理する。……
　……
　第一処理後の上記の生成物と、上記の好ましい第二試薬との間の反応では、Ｘ１基とＸ２基が反応し、Ｓ−Ｓの形態にある基Ｑが形成される場合、第二処理の後に下記の結果物が得られる。
　
　
　第一官能基が、シラン基の代わりに、ホスフェート基である場合、例えばメルカプトプロピルリン酸の形態にある第一試薬を使用できる。
　
　上記手順のいずれかにより、第一試薬が金属層に結合している場合、第二処理において上記の第二試薬１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ペルフルオロオクタンチオ−ルを上記のように使用して、下記の抗付着層を金属層の表面上に形成することができる（下記の式中のＭｅは、単純な金属、例えばＴｉを表す）。
　……
　
　別の実施態様においては、準備された分子鎖、例えばスタンプ表面と結合し得る基および少なくとも１個のフッ素含有基を含んでなる分子鎖をスタンプ表面上に直接結合させることにより、抗付着層を形成する。準備された分子鎖とは、実際の操作を容易にする単一工程で抗付着層をスタンプ表面に結合させることを意味する。完全に準備された分子鎖を単一工程で結合させることは、第一処理に関して上に説明したものと実質的に同じ方法でかつ同じ条件下で行う。得られる抗付着層は、チタン金属層中に、例えば下記の構造のものを得ることができる。
　」）
　
（２）引用刊行物２：国際公開０３／１０２００３号
（２ａ）「What is claimed is:
……
3. An article comprising a substrate having a surface, the surface intimately contacting at least a partial monolayer of a fluorinated phosphonic acid compound having the formula: 
 wherein:
 R1 is a straight chain alkylene group having from 3 to 21 carbon atoms, an oxa-substituted straight chain alkylene group having from 2 to 20 carbon atoms, or a thia-substituted straight chain alkylene group having from 2 to 20 carbon atoms; 
 R2 is a perfluoroalkyl group having from 4 to 10 carbon atoms; 
 R3 is hydrogen, an alkali metal cation, or an alkyl group having from 1 to 6 carbon atoms; and 
 M is hydrogen or an alkali metal cation, 
with the proviso that if R1 is an unsubstituted straight chain alkylene group, then the sum of carbon atoms in R1 and R2 combined is at least 10.  」（第２１頁第１行−第２２頁第１７行）
　
（「請求の範囲
……
３．１つの表面を有する基質を含む物品であって、前記表面は、式：
　（ここで、Ｒ１は炭素原子３〜２１の直鎖アルキレン基、炭素原子２〜２０の酸素置換直鎖アルキレン基または炭素原子２〜２０の硫黄置換直鎖アルキレン基であり、
　Ｒ２は炭素原子４〜１０のパーフルオロアルキル基であり、
　Ｒ３は水素、アルカリ金属カチオンまたは炭素原子１〜６のアルキル基であり、
　Ｍは水素またはアルカリ金属カチオンであり、
ただし、Ｒ１が置換されていない直鎖アルキレン基であるとき、Ｒ１とＲ２の炭素原子の合計が少なくとも１０である。）
で表されるフッ素化ホスホン酸化合物からなる少なくとも部分的な単分子膜と密接している物品。」）
　
（２ｂ）「TECHNICAL FIELD                       
 The present invention relates to fluorinated organic compounds that self-assemble to form monolayers, and in particular to fluorinated phosphonic acids. 
BACKGROUND
 Self-assembling materials, as their name implies, spontaneously form a structure (for example, micelle or monolayer) when they contact another substance. Monolayer formation is particularly useful when it occurs on the surface of a solid substrate (for example, a piece of metal). If a monolayer is formed from a material that imparts a low surface energy to a surface of a substrate, then one or more useful properties such as water repellency, corrosion resistance, lubricity, and adhesive release may be imparted to that surface. If the surface energy is low enough, oil repellency and soil (that is, stain) resistance may be achieved. Generally, surface energies this low may be achieved through use of fluorocarbon materials. 
 Fluorinated self-assembled monolayers have been employed in soil resistant coatings, anti-reflective glass coatings, and release coatings. Typical self-assembling materials consist of a polar head group attached to a hydrophobic tail. Despite their relatively higher cost, self-assembling materials having a fluorinated tail have gained wide acceptance in industry. This is because they typically substantially outperform alternative materials, such as those having a hydrocarbon or silicone tail, for example, in terms of adhesive release and soil resistance. Commercial products in this area have typically utilized materials bearing seven-and eight-carbon perfluoroalkyl groups. Recently, there has been a significant effort in industry to find alternative materials to such groups. 
 It would be desirable to have new materials that self-assemble to form monolayers having low surface energies on a wide range of substrates, and it would be especially desirable that such materials not contain seven-and eight-carbon perfluoroalkyl groups.」（第１頁第４行−第２９行）　
　
（「技術分野
　本発明は、自己組織化して単分子膜を形成するフッ素化有機化合物に係り、特にフッ素化ホスホン酸に関する。
背景
　自己組織化材料は、その名が示すように、他の物質と接触すると、自発的にある構造（例えば、ミセルまたは単分子膜）を形成する。単分子膜の形成は、固体基質（例えば、金属片）の表面上になされるとき、特に有用である。もし、基質表面に低表面エネルギーを付与するような物質で単分子膜が形成されるならば、撥水性、耐食性、潤滑性および接着剤剥離性などの１つもしくはそれ以上の有用な特性をその表面に与えることができる。もし、表面エネルギーが十分に低いならば、撥油性および耐汚れ（すなわち汚染）性を付与することができる。この程度にまで低い表面エネルギーは、一般には、フッ化炭化水素の使用によって達成できる。
　フッ素化された自己組織化単分子膜は、防汚コーティング、ガラスの反射
コーティングおよび剥離コーティングに採用されてきた。
　典型的な自己組織化材料は、疎水性の尾に結合した、極性を有する頭部基からなる。比較的高価格であるにもかかわらずフッ素化された尾を有する自己組織化材料は、工業的に広く受け入れられてきている。これは、例えば接着剤の剥離性や防汚性に関して、これらの材料の性能が、炭化水素またはシリコーンの尾を有する代替材料よりも、概して実質的に優れていることによる。この分野における商業製品には、これまで炭素数が７〜８個のパーフルオロアルキル基を有する材料が一般に用いられてきた。近年、工業界においてはそのような基に替わる材料を見出すべく、大きな努力がなされている。
　自己組織化して、様々な基質上に低い表面エネルギーの単分子膜を形成するような新規な材料を得ることが要望されており、特に、炭素数が７〜８個のパーフルオロアルキル基を含まない材料が要望されている。」）
　
（２ｃ）「Fluorinated phosphonic acids of the present invention self-assemble (for example, forming monolayer films) when applied to a wide variety of substrates, resulting in coatings on the substrates that exhibit at least one of low surface energy, adhesive release, lubricity, water repellency, and/or soil resistance. 
 As used herein:
 perfluororefers to the exhaustive substitution of hydrogen by fluorine in the group or molecule to which it refers. 」（第４頁第３行−第９行）
　
（「本発明のフッ素化ホスホン酸は、様々な基質に塗布されると、自己組織化（例えば、単分子膜の形成）して、低表面エネルギ−特性、接着剤剥離性、潤滑性、撥水性および／または防汚性の少なくとも１つを示す塗膜を、それらの基質上に形成する。
　ここで使われているように、「パーフルオロ」は、対象としている基または分子中の全ての水素がフッ素で置換されていることを意味する。」）
　
（２ｄ）「Fluorinated phosphonic acids of the present invention may be advantageously applied to a wide variety of substrates, whereby they may form a monolayer covering at least a portion of surface of the substrate. Such a monolayer is typically oriented such that the phosphono group contacts the substrate surface with the perfluoroalkyl group extending away from the substrate surface. Fluorinated phosphonic acids of the present invention may be advantageously applied to the native oxide surface layer of a variety of metallic substrates, although other substrates are also useful. Exemplary metals include chromium, aluminum, copper, nickel, titanium, silver, and alloys and mixtures thereof. Exemplary other materials include metal oxides and mixed metal oxides and nitrides including alumina, titania, titanium nitride, and indium tin oxide. Desirably, the substrate comprises chromium, aluminum, copper, and/or nickel.
…… 
 Fluorinated phosphonic acids of the present invention have applicability, for example, as mold release agents, soil resistant coatings, lubricity coatings, water-repellent coatings, and/or in fabrication of microfluidic and/or microelectromechanical devices. 」（第５頁第１７行−第６頁第１４行）
　
（「本発明によるフッ素化ホスホン酸は、有利なことに、様々な種類の基質に広く適用でき、それら基質の少なくとも１部の表面を覆う単分子膜を形成できる。このような単分子膜は、典型的には、ホスホン基が基質表面に接触し、パーフルオロアルキル基が基質表面から離れて突き出すように配向する。本発明のフッ素化ホスホン酸は、他の基質にも有用であるが、様々な種類の金属基質の自然な表面酸化層に適用できることも有利な点である。代表的な金属としては、クロム、アルミニウム、銅、ニッケル、チタン、銀並びにこれらの合金および混合物が挙げられる。代表的な他の材料としては、金属酸化物や金属酸化物と金属窒化物の混合物が挙げられ、これにはアルミナ、チタニア、窒化チタンおよびインジウム錫酸化物が含まれる。基質は、クロム、アルミニウム、銅／および／またはニッケルを含んでいることが好ましい。……
　本発明のフッ素化ホスホン酸は、例えば、金型剥離剤、防汚コーティング、潤滑コーティング、撥水コーティング、並びに／または、マイクロ流体工学的なおよび／もしくはマイクロエレクトロメカニカルなデバイスの製造に適用される。」）     　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　
［４］引用刊行物記載の発明
　引用刊行物１には、上記記載事項（１ａ）、（１ｂ）によれば、物体上に構造化されたナノスケールパターンを形成するために使用するスタンプであって、表面上に構造化されたパターンを有するスタンプブランクと、前記表面に設けられた金属層と、前記金属層が酸化して形成された酸化物被膜と、さらに前記物体に対して抗付着性のある層、すなわち、抗付着層を有するスタンプであって、前記抗付着層が分子鎖を含んでなり、前記分子鎖が、化学結合により、前記酸化物被膜と結合し得る少なくとも１個のホスフェート基等の結合基と、少なくとも１個のフッ素含有基を有する、スタンプが記載されており、前記抗付着層は、酸化物被膜の表面と直接結合していることは明らかである。
　また、同（１ｃ）によれば、前記抗付着層の形成には、一つの実施態様として、第一試薬を金属層と結合させた（第一反応）後、第二試薬を第一試薬に結合させる（第二反応）ものがあること、そして、この場合、第一試薬は少なくとも２個の官能基を有し、第一官能基は、例えば、シラン基あるいはホスフェート基（Ｈ２ＰＯ４）であり、第二官能基Ｘ１は、例えば−ＳＨ、ＮＨ２、−ＯＨであって、好ましい例として、メルカプトプロピルトリエトキシシランがあることが記載され、同（１ｄ）によれば、前記第二試薬は、第一試薬のＸ１基と結合する第一部分Ｘ２と抗付着性官能基を有する第二部分Ｒ２を含んでおり、好ましい例として、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ペルフルオロオクタンチオール（ＳＨ−（ＣＨ２）２−（ＣＦ２）５−ＣＦ３）があることがあることが記載され、同（１ｅ）によれば、上記好ましい第一試薬及び第二試薬による処理の結果として、
　
が得られること、また、前記第一試薬として、第一官能基がホスフェート基
である、メルカルトプロピルリン酸を使用した場合には、
　
の抗付着層を金属層の表面に形成し得ることが記載されている。
　また、これらとは別の実施態様として、スタンプ表面と結合しうる基および少なくとも１個のフッ素含有基を含んでなる分子鎖をスタンプ表面上に直接結合させて、単一の工程で抗付着層を形成する方法も含まれるものであり、例えば、
　
が記載されている。
　
　したがって、これらをまとめると、引用刊行物１には、
「物体上に構造化されたナノスケールパターンを形成するために使用するスタンプであって、表面上に構造化されたパターンを有するスタンプブランクと、前記表面に設けられた金属層と、前記金属層が酸化して形成された酸化物被膜と、さらに前記物体に対して抗付着性のある層、すなわち、抗付着層を有するスタンプであって、前記抗付着層は、前記酸化物被膜の表面に直接結合し、また、前記抗付着層が分子鎖を含んでなり、前記分子鎖が、化学結合により、前記酸化物被膜と結合し得る少なくとも１個のホスフェート基等の結合基と、少なくとも１個のフッ素含有基を有する、スタンプ。」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　
［５］対比・判断
　本願発明と引用発明とを対比すると、本願発明における「ナノーインプリント」とは、スタンプを重合体中に押しつけ、重合体を変形させることにより、ナノー構造化されたスタンプパターンの反転コピーを形成することを意味し（本願明細書【００２１】）、また、「ベース金属製成形型」とは、酸化された形態でよく、ベース型金属の上に、一つ以上の追加金属層をさらに含んでなることができるものであり（本願明細書【００３１】）、「接着防止」とは、「成形型に重合体が付着しないように」すること（本願明細書【０００２】）であるから、引用発明における「物体上に構造化されたナノスケールパターンを形成するために使用するスタンプであって、表面上に構造化されたパターンを有するスタンプブランクと、前記表面に設けられた金属層と、前記金属層が酸化して形成された酸化物被膜と、さらに前記物体に対して抗付着性のある層、すなわち、抗付着層を有するスタンプ」は、本願発明における「構造化されたインプリント表面を有するベース金属製成形型と、そのインプリント表面に形成された接着防止層と、を含んでなるナノ−インプリント成形型」に相当する。
　また、本願発明における「接着防止層」は、分子鎖を含んでなり、前記分子鎖が、化学結合により、前記酸化物被膜と結合し得る少なくとも１個のホスフェート基等の結合基と、少なくとも１個のフッ素含有基を有する点において、引用発明における「抗付着層」と共通する。
　
　よって、両者は、 
「構造化されたインプリント表面を有するベース金属製成形型と、
そのインプリント表面に形成された接着防止層と、を含んでなるナノ−インプリント成形型であって、
　前記接着防止層が、前記ベース金属成形型のインプリント表面に直接結合し、また、前記接着防止層が分子鎖を含んでなり、前記分子鎖が、化学結合により、前記酸化物被膜と結合し得る１個のホスフェート基と、少なくとも１個のフッ素含有基を有する分子鎖を含んでいる、ナノ−インプリント成形型。」である点で一致し、以下の点で相違する。
　
（相違点）
　接着防止剤が、本願発明では、「リン原子とアルキル基を含む置換基（Ｒ）とを含有する、フッ素下されたアルキルリン酸誘導体またはフッ素化されたアルキルポリ−リン酸誘導体を含んでなり、
　かつ前記置換基（Ｒ）が、その置換基（Ｒ）の炭素原子に直接結合したリン原子とともに、水素、炭素およひフッ素からなる群から選択される原子を含有する」のに対し、引用発明では、そのような特定がない点。
　
  前記相違点について検討する。
　上記のとおり、引用発明においては、上記抗付着層の形成方法として、第一試薬を金属層と結合させ（第一反応）、第二試薬を第一試薬に結合させる（第二反応）方法の他に、スタンプ表面と結合しうる基および少なくとも１個のフッ素含有基を含んでなる分子鎖をスタンプ表面上に直接結合させて、単一の工程で抗付着層を形成する方法も含まれるものである。
　そして、上記記載事項（２ａ）−（２ｄ）によれば、引用刊行物２には、金型剥離剤として、あるいは接着剤剥離のために、 式：
　（ここで、Ｒ１は炭素原子３〜２１の直鎖アルキレン基、炭素原子２〜２０の酸素置換直鎖アルキレン基または炭素原子２〜２０の硫黄置換直鎖アルキレン基であり、
　Ｒ２は炭素原子４〜１０のパーフルオロアルキル基であり、
　Ｒ３は水素、アルカリ金属カチオンまたは炭素原子１〜６のアルキル基であり、
　Ｍは水素またはアルカリ金属カチオンであり、
ただし、Ｒ１が置換されていない直鎖アルキレン基であるとき、Ｒ１とＲ２の炭素原子の合計が少なくとも１０である。）で表されるフッ素化ホスホン酸化合物からなるものが記載されており、これは、様々な種類の金属基質の自然な表面酸化層に適用できるものである。
　とすると、引用発明における抗付着剤として、上記フッ素化ホスホン酸化合物からなるものを適用し、上記相違点に係る本願発明の構成とすることは、当業者が容易になしえたことといえる。
　
　また、本願発明は、引用刊行物１、２に記載された発明からは予想し得ない格別の効果を奏するものとも認められない。
　よって、本願発明は、引用刊行物１、２に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
　なお、審判請求人は、平成２４年５月１日付け審判請求書の手続補正書（方式）において、「引用文献１には、シラノール基（−Ｓｉ−ＯＲ）、フッ化メチル基（−ＣＦ３）、ホスフェート基（Ｈ２ＰＯ４）等の官能基を有する試薬によって、金属成形型表面に抗付着性層を形成うることが開示されております。しかしながら、この抗付着性層は、上記の官能基とメルカプト基（Ｒ−ＳＨ）とを有する試薬を用いるものです…。そして、このようなメルカプト基を有する化合物は、メルカプト基が、直接、金属（ＮｉやＣｒ）と反応し、金属酸化物ではなく硫化物を形成することが知られております。即ち、引用文献１の抗付着性層は、本願発明のようなＮｉ−Ｏ−Ｐ結合は形成されません。よって、引用文献１の抗付着性層は、金属成形型との結合形態が、本願発明とは全く相違しております。
　また、引用文献２には、フッ素化スルホン酸化合物（審決注；「フッ素化ホスホン酸化合物」の誤記）が金属剥離剤として、好適に使用できることが開示されております。しかしながら、引用文献２には、リン原子とアルキル鎖との間にＯブリッジを有さないフッ素化アルキルリン酸誘導体を使用することにより、エージング後であっても安定した接着防止層を実現することができることについては何ら教示しておりません。」（第４頁第１行−第１５行）と主張している。
　しかしながら、上記のとおり、引用刊行物１（引用文献１）における抗付着性層としては、シラノール基（−Ｓｉ−ＯＲ）、フッ化メチル基（−ＣＦ３）、ホスフェート基（Ｈ２ＰＯ４）等の官能基とメルカプト基（Ｒ−ＳＨ）とを有する試薬により形成されるものの他に、少なくとも１個のホスフェート基等の結合基と、少なくとも１個のフッ素含有基を有する分子鎖を単一工程で結合させるものも含み、この場合、試薬にはメルカプト基は含有されない。
　また、引用刊行物２（引用文献２）に記載されるフッ素化ホスホン酸化合物は、リン原子とアルキル鎖との間にＯブリッジを有さないものであり、金型剥離剤として、様々な種類の金属基質の自然な表面酸化層に適用できるものであることから、「エージング後であっても安定した接着防止層を実現」できるものといえるから、上記主張は採用できない。
　
［６］むすび
　以上のとおりであるから、本願請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。
　したがって、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。