(57)【要約】【課題】ノズル待機ボックス部において、仮吐出時に処理液供給ノズルとノズル待機ボックスの挿入口の隙間からリークしたミストやパーティクルが、液処理装置内に流れ込むことを抑制すること。【解決手段】処理液供給ノズル６から吐出される処理液を被処理基板に供給して所定の液処理を行う液処理装置に備えられ、処理液供給ノズルを待機させる待機位置で処理液を仮吐出するためのノズル待機ボックスにおいて、処理液供給ノズルを挿入する挿入口１７と複数の通気孔１０ａを有する上面板１０と、上面板の下方に所定の間隔をおいて配置され、挿入口と重なる処理液の通過孔１８と通気孔とは異なる位置に設けられる複数の整流孔１１ａを有する整流板１１と、仮吐出された処理液を排出する排出管１６と接続された底板１３と、上面板と整流板とを囲い、かつ整流板より下方の一側が内部の雰囲気を排気するための排気管１５と接続された側板１２と、を設ける。【選択図】  図３
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
処理液供給ノズルから吐出される処理液を被処理基板に供給して所定の液処理を行う液処理装置に備えられ、前記処理液供給ノズルを待機させる待機位置で処理液を仮吐出するためのノズル待機ボックスであって、
前記処理液供給ノズルを挿入する挿入口と全面に亘って散点状に設けられた複数の通気孔を有する上面板と、
前記上面板の下方に所定の間隔をおいて配置され、前記挿入口と重なる処理液の通過孔と前記通気孔とは異なる位置の全面に亘って散点状に設けられた複数の整流孔を有する整流板と、
仮吐出された処理液を排出する排出管と接続された底板と、
前記上面板と前記整流板とを囲い、かつ前記整流板より下方の一側が内部の雰囲気を排気するための排気管と接続された側板と、
を備えたことを特徴とするノズル待機ボックス。
【請求項２】
前記側板における前記排気管の接続部と対向する部位に、前記処理液供給ノズルから吐出する処理液を前記排出管側に導く傾斜部を設けることを特徴とする請求項１記載のノズル待機ボックス。
【請求項３】
前記整流板は、前記整流孔を流れる空気の流れ角度を前記排出管側に調整可能な整流フィンを更に備えたことを特徴とする請求項１又は２記載のノズル待機ボックス。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、例えば半導体ウエハや液晶ディスプレイ用のガラスといった基板に処理液を供給して液処理を施す液処理装置において、処理液を吐出するノズルの不使用時に仮吐出を行うノズル待機ボックスに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種の液処理装置として、例えば半導体ウエハ等の被処理基板を回転可能なスピンチャック上に吸着保持し、スピンチャックの上部に、処理液供給ノズルを配設し、処理液供給ノズルのノズル孔から半導体ウエハ表面に処理液、例えば現像液を滴下供給すると共に、スピンチャックを回転させて現像液を半導体ウエハに膜状に被着する装置が知られている。
【０００３】
このように構成される液処理装置において、スピンチャックの側部には、待機時に処理液供給ノズルを待機するためのノズル待機ボックスが備えられている。このノズル待機ボックスは、一般に、上面が開口部を有してノズル孔を非接触に挿入できる箱状（ボックス）の容器にて形成されている。
【０００４】
このノズル待機ボックスにおいて、ノズルの不使用による待機が長時間に亘ると、ノズルの吐出孔先端部及び周縁部に残存する処理液が乾燥して劣化した結果、パーティクルに変化して液処理装置内及び被処理基板や搬送アームを汚染して、製品の歩留まりを低下する原因になっている。このパーティクルの発生を防止するために、ノズル待機ボックスのノズル挿入口をノズルが挿入されていない時にシャッターで塞いで、ノズル待機ボックス内に溶剤を貯留して溶剤雰囲気にすることによりノズルの乾燥を防いでいる（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
一方、ノズル中に残留している処理液も長時間吐出をしないと乾燥してゲル化したり、固形化して処理液を塗布した時の均一性に影響したり、パーティクル化して液処理装置内及び被処理基板や搬送アームを汚染することがある。この残留している処理液を廃棄するために、被処理基板に滴下する直前、若しくはレシピによる仮吐出間隔の設定時間を越える不使用期間になると、ノズル待機ボックス内において仮吐出液を緩衝材によって和らげて散乱を防いだり、排気孔を備えて処理液の流れを導いたりする対策が行われている（例えば、特許文献２参照）。この仮吐出はレジスト液ノズル、現像液ノズル、リンスノズルの全ての種類で行われている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−３３３１７（図３）
【特許文献２】特開２００１−６８４０２（図２）
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に記載の技術においては、ノズルが挿入口に無い場合に待機ボックス内の処理液が挿入口から蒸発して液処理装置内や被処理基板及び搬送アームを汚染して製品の歩留まりを低下する原因を指摘されている。特に、処理液の温度が液処理装置内の空気の温度より高い場合に、温度差により蒸気が発生し易く、その結果ミストが発生して、待機ボックスの微小な隙間でも通り抜けて被処理基板や搬送アームにパーティクルやウォーターマーク（水滴跡）が付着し易い状況になっている。また、この方式は構造が複雑になり頻繁なクリーニングも必要になるため稼働率を下げることにもなる。
【０００８】
また、特許文献２に記載の技術においては、ノズルから吐出された仮吐出を液受け止める位置に緩衝材を配設して、緩衝材によって吐出液を和らげて散乱を防ぐ構造であるため、構造が複雑になる懸念がある。また、特許文献２に記載のものにおいては、吐出液の流速（液量）が大きい場合にミストが発生して待機ボックス外へ流出する懸念がある。
【０００９】
また現状では、微細化に伴い対パーティクルやウォーターマーク低減の要求度が増して来たこと、フォトマスクに代表される一部不良でも被処理基板の全体が使用できなくなる製品など多様な要求に応えて歩留まりを高める対策が必要になっている。
【００１０】
本考案は、上記事情に鑑みてなされたもので、ノズル待機ボックス部における、仮吐出時に処理液供給ノズルとノズル待機ボックスのノズル挿入口の隙間からリークしたミストやパーティクルが、液処理装置内に流れ込むことを抑制するノズル待機ボックスを提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を達成するために、本考案は、処理液供給ノズルから吐出される処理液を被処理基板に供給して所定の液処理を行う液処理装置に備えられ、前記処理液供給ノズルを待機させる待機位置で処理液を仮吐出するためのノズル待機ボックスであって、  前記処理液供給ノズルを挿入する挿入口と全面に亘って散点状に設けられた複数の通気孔を有する上面板と、  前記上面板の下方に所定の間隔をおいて配置され、前記挿入口と重なる処理液の通過孔と前記通気孔とは異なる位置の全面に亘って散点状に設けられた複数の整流孔を有する整流板と、  仮吐出された処理液を排出する排出管と接続された底板と、  前記上面板と前記整流板とを囲い、かつ前記整流板より下方の一側が内部の雰囲気を排気するための排気管と接続された側板と、を備えたことを特徴とする。
【００１２】
このように構成することにより、液処理装置の上方の空気が、待機ボックスの上面板に設けられた複数の通気孔を通過し、上面板より所定の距離をおいた整流板を通過して、待機ボックス内を澱み無く通過して側板に接続された排気管から排出される。
【００１３】
前記のように空気が流れることによって、処理液供給ノズルからの吐出液は空気の流れに沿って処理液排出管に澱み無く導かれる。また、ノズル待機ボックスの上面板に複数の通気孔を備え、上面板の下方に所定の間隔をおいて配置された整流板に通気孔と異なる位置に複数の整流孔を備え、整流板より下方側に排気部（排気管）を備えることにより、待機ボックスの周辺部を含めた領域と液処理装置内に新たな空気の流れを形成する。
【００１４】
また、前記のように構成することにより、ノズルとノズル挿入口の隙間からのミストや、待機ボックスの底部面で発生した飛沫が上昇して上部面に上がろうとしても前記空気の流れにより再び底部面に戻されて排液管より排出される。
【００１５】
また、前述のように、待機ボックスの上部の上面板の複数の通気孔と下方に所定の間隔をおいて配置された整流板の複数の整流孔とは異なる位置に設けられているので、仮吐出液の跳ね返りは整流板若しくは上面板で停止して再び底部面に戻されて排液管より排出される。
【００１６】
また、本考案において、前記側板における前記排気管の接続部と対向する部位に、前記処理液供給ノズルから吐出する処理液を前記排出管側に導く傾斜部を設ける方が好ましい。
【００１７】
このように構成することにより、仮吐出した処理液の跳ね返りや流れを一方向に安定して導くことができる。
【００１８】
加えて、本考案において、前記整流板は、前記整流孔を流れる空気の流れ角度を前記排出管側に調整可能な整流フィンを更に備えた構成としてもよい。この場合、整流フィンは個々に若しくは整流フィンの複数個をまとめたブロック毎に調整できるようにしてもよい。
【００１９】
このように構成することによって、より細かい空気の流れを調整することができ、処理液の流れも導くことができる。
【考案の効果】
【００２０】
本考案によれば、上記のように構成されているので、以下のような効果が得られる。
【００２１】
（１）請求項１記載の考案によれば、ノズル待機ボックスを含めた待機ボックス域全体に新たなダウンフローの流れが形成されて、ノズル待機ボックスからのミストが液処理装置内の他の部所へ流れ出ること無く、ノズル待機ボックスに接続された排出管に導くことができる。また、吐出液の跳ね返りは整流板や上面板で阻止されて同様に排出管に導くことができる。したがって、ノズル待機ボックス部における、仮吐出時に処理液供給ノズルとノズル待機ボックスのノズル挿入口の隙間からリークしたミストやパーティクルが、液処理装置内に流れ込むことを抑制することができ、歩留まりの向上が図れる。
【００２２】
（２）請求項２に記載の考案によれば、処理液供給ノズルから吐出する処理液が排出管側に導く傾斜部に当たることにより処理液が上部面方向に跳ね返る量が格段に減少し、処理液が排出管に導かれることにより、ノズル待機ボックス外へのパーティクルやミストの発生を抑制し、更に歩留まりの向上が図れる。
【００２３】
（３）請求項３に記載の考案によれば、整流板の空気の流れ角度を調整可能な整流フィンを備えたことにより処理液の粘度や、空気の流れ及び排気の流量圧の違いよる、処理液の流れを調整可能となり、工場による用力差や多様なレシピや装置仕様に応じてパーティクルやミストの発生を抑制し、上記（１），（２）に加えて、更に歩留まりの向上が図れる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本考案に係るノズル待機ボックスを備えた液処理装置の概略断面図である。
【図２】本考案に係るノズル待機ボックスを備えた液処理装置の概略平面図である。
【図３】本考案に係るノズル待機ボックスの一例を示す概略断面図（ａ）及び（ａ）の要部平面図（ｂ）である。
【図４】本考案における整流フィンを備えたノズル待機ボックスの概略断面図である。
【図５】本考案におけるノズルにアシストガスノズルを備えたノズル待機ボックスの概略断面図である。
【図６】本考案におけるノズルにフランジを備え、ノズル待機ボックスの上部面に弾性圧接機構を備えた状態を示す概略断面図である。
【考案を実施するための形態】
【００２５】
以下に、本考案の実施の形態を図に基づいて詳細に説明する。本考案のノズル待機ボックスは液処理装置に備えられている。液処理装置は半導体ウエハ，液晶ディスプレイ用ガラス基板や露光装置用のフォトマスク用基板を製造するフォトリソグラフィー工程で使用される。そのリソグラフィー工程においては、レジストを塗布するレジスト塗布装置、現像液を塗布する現像装置、基板の洗浄を行うスクラバ洗浄装置に該当する。
【００２６】
代表例として半導体ウエハ（以下にウエハという）の製造工程におけるフォトリソグラフィー工程で説明する。大きく分けると第１段階のレジスト処理装置によりウエハ表面にレジスト膜を形成するレジスト塗布処理，第２段階の露光装置によるウエハにフォトマスクのパターンを照射して露光する露光処理，第３段階の加熱処理装置による現像処理前にウエハを加熱するポストエクスポージャーベーク(ＰＥＢ)処理，第４段階の現像装置によるウエハに対して現像を行う現像処理等が順次行われる。
【００２７】
また、ウエハの表裏両面、特に半導体デバイスが形成されるウエハの表面は清浄度を高く維持する必要があり、このため、前記の製造プロセスの前後でウエハの表面の洗浄が行われている。特に、フォトリソグラフィー工程においては、ウエハの表面の洗浄は不可欠であり、回転するウエハの表面に洗浄液を供給しながら、回転するブラシをウエハの表面に当接したり、超音波を加えながらジェット水流をウエハの中心部と周縁部との間で往復移動させることで、ウエハの表面に付着したパーティクル等の汚染物質を除去するスクラブ洗浄が行われている。
【００２８】
これらの処理は，一つの塗布現像処理装置に配置された各処理装置と装置に隣接する露光装置において連続して行われている。一度に複数のウエハを連続処理ができるように構成されており、各処理装置間のウエハの搬送は、搬送装置によって行われている。
【００２９】
本考案の代表例として現像装置で説明をする。図１は本考案に係るノズル待機ボックスＮを備えた液処理装置を横方向から見た概略断面図である。図２は上方から見た平面図になっている。液処理装置内でのパーティクルやミストの抑制は重要課題であるため、現像装置は筐体１の仕切板によって他の処理装置や搬送装置と隔離されており、現像装置の上部からは空気の流れを一定にしてパーティクルの巻上げを防ぐダウンフローＡが流れている。
【００３０】
被処理基板であるウエハＷは、水平回転するスピンチャック２０上に吸着保持され、その上方に配設された処理液供給ノズル６（以下にノズル６という）から処理液Ｌ、例えばスプレー状の現像液の供給を受ける。しかし、ウエハＷに処理液を塗布する際、回転するウエハＷから振切られて飛散した処理液がカップ内壁ではね返ってウエハ表面に付着したり、カップ外に飛散することがあった。それを防ぐために、スピンチャック２０の周囲は、環状のカップによって囲まれている。
【００３１】
この場合、カップは外側のカップ２と内側のカップ３の二重構造になっており、スピンチャック２０を囲んでいる。カップの上部はウエハＷの出し入れを行うための開口部２ａがあり、外側のカップ２と内側のカップ３の間の底部には負圧の排気口４、及び排液を排出する排液口５が設けられている。現像装置の上部から吹き付けられたダウンフローＡをカップの底部の排気口４より排気（例えば、約マイナス１００パスカル）を行うことにより、空気の流れを作り、ウエハ表面に沿って外方へ流れる気流を発生させて、飛散した処理液を排液口５に導いている。排気口４と排液口５の間には筒状の仕切７が設けられており、処理液が排気口４まで達しないようになっている。
【００３２】
液処理装置は搬送アーム３０の動作する搬送アーム域３１より数パスカル高い圧力に保ち搬送アーム域からのパーティクルの侵入を防いでいる。また、筐体１には、搬送アーム３０が液処理装置に出し入れする時のみに開かれるゲート１Ａが備えられてパーティクルの侵入を防いでいる。
【００３３】
液処理装置内ではパーティクルやミストの散乱を防ぐために、図１に示すようにダウンフローＡを下部に流している。流れは装置全体の流れのＡ１と、カップ内に流れるＡ２がある。本考案では、それにノズル待機ボックスＮの区域をＡ３の流れとして区分した。Ａ３の流れはノズル待機ボックスＮの排気口１５ａに接続する排気管１５を通じて排気され、ノズル待機ボックス域に発生するミストやパーティクルを排気する。この場合、排気管１５は排気機構（図示せず）と接続しており、排気圧は例えば約マイナス１００パスカルで排気している。排気圧の調整は可能な機構になっており、ダウンフロー流量や圧力、使用する処理液の粘度等の使用条件により調整することができる。
【００３４】
ノズル待機ボックスＮは、図１及び図２に示すように、吐出ノズル６を使用しない場合の待機場所に配設されている。
【００３５】
ノズル待機ボックスＮは、図３に示すように、ノズルを挿入するノズル挿入口１７（以下に挿入口１７という）と全面に亘って散点状に設けられる複数のパンチング孔からなる通気孔１０ａを有する上面板１０と、上面板１０の下方に所定の間隔をおいて、上面板１０と平行状態に配置され、挿入口１７と重なる処理液の通過孔１８と通気孔１０ａとは異なる位置に全面に亘って散点状に設けられる複数の整流孔１１ａを有する整流板１１と、ノズル６から仮吐出（ダミーディスペンス）された処理液を排出する排出管１６と接続された底板１３と、上面板１０と整流板１１とを囲い、かつ整流板１１より下方の一側が内部の雰囲気を排気するために側板１４に排気管１５を備えている。
【００３６】
この場合、側板１４における排気管１５の接続部と対向する側板１２に、ノズル６から吐出（ダミーディスペンス）する処理液を処理液排出部である排出管１６に導く傾斜部１２Ａが設けられている。なお、底板１３は、傾斜部１２Ａの下端と排気管１５の接続部を有する側板１４の下端とを連結する平坦状に形成されており、この底板１３に設けられた排出口１６ａに排出管１６が接続されている。排出管１６はノズル待機ボックスＮの下方に配設された処理液貯留部Ｔに接続されている。また、排気管１５は、傾斜部１２Ａと対向する側板１４における下部側つまり排出口１６ａ側に設けられた排気口１５ａに接続されている。排気管１５は、例えばエジェクター等の可変の排気機構（図示せず）に接続されている。
【００３７】
上記のように構成されたノズル待機ボックスＮにおいて、ノズル６はノズルの挿入口１７に挿入される。ノズル６はウエハＷに塗布する直前、若しくはレシピの設定時間を越えた場合（例えば３０分毎）は現像液や洗浄液やリンス液のダミーの吐出（ダミーディスペンス）をノズル待機ボックスＮ内で行う。吐出された液は整流板１１の処理液通過孔１８を通過してノズル待機ボックスＮの傾斜部１２Ａに到達する。
【００３８】
液処理装置内ではフィルターによりパーティクルを除去して、温度及び湿度制御装置を通したダウンフローＡが流速０．３メートル／秒で流れている。ダウンフローＡから分岐されたＡ３は流速７メートル／秒以上でノズル待機ボックスＮの上面板１０にある複数の通気孔１０ａを通過して、上面板１０より所定の距離をおいた整流板１１の複数の整流孔１１ａを通過する。整流孔１１ａを通過した空気は、次に側板１２の傾斜部１２Ａに導かれ、ノズル待機ボックス内を澱み無く通過して傾斜部１２Ａに対向する側部面に設けられた排気口１５ａを介して排気管１５から排出される。
【００３９】
前述のようにして空気が流れることによって、ノズル６からの吐出液は空気の流れに沿って処理液排出管１６（ドレイン）に澱み無く導かれる。このようにノズル待機ボックスＮの上部面全体すなわち上面板１０に散点状の複数の通気孔１０ａを備え、ノズル待機ボックス内部すなわち上面板１０より所定の距離をおいた整流板１１の通気孔１０ａとは異なる位置に複数の整流孔１１ａを備え、排気管１５を備えたことにより、ノズル待機ボックスＮの周辺部を含めた域が、液処理装置内に新たな空気の流れを形成することができる。これにより、ノズル待機ボックスＮの底板１３や底板１３の下に配設された処理液貯留部Ｔに溜まっている処理液が蒸発して上部面に上がろうとしてもダウンフローＡ３により再び底板１３に戻されて排出口１６ａを介して排出管１６より排出される。
【００４０】
また、側板１２における排気管１５の接続部と対向する部位に傾斜部１２Ａを備えたことにより、ノズル６からの吐出液Ｌの大部分は傾斜部１２Ａで減速され底板１３から排出口１６ａ（排出管１６）へ排出されるが乱反射等により、まれに整流板１１の高さまで到達する場合があるが、サイズの大きいミストは、上面板１０と整流板１１で跳ね返される。
【００４１】
前記のように上面板１０の通気孔１０ａと整流板１１の整流孔１１ａの位置は異なるために上面板１０の通気孔１０ａを通り抜けることは無い。仮に上部面を通り抜ける小さなミストがあっても前記のように流速７メートル／秒以上のダウンフローにより、カップやウエハＷに流れて行くことは無く、再びノズル待機ボックスＮに戻されて、排出口１６ａ（排出管１６）より排出さる。
【００４２】
図４は、本考案の別の実施形態を示す概略断面図である。図４に示すノズル待機ボックスＮは、整流板１１に、該整流板１１に設けられた複数の整流孔１１ａを流れる空気の流れ角度を排出口１６ａ（排出管１６）側に調整可能な整流フィン１９を更に備えた場合である。
【００４３】
この場合、整流フィン１９は、図４に示すように、整流板１１の下面における整流孔１１ａの近傍位置に設けられており、各々の整流フィン１９は排出口１６ａ（排出管１６）側に空気を案内すべく角度が調整されている。なお、整流板１１の上面における整流孔１１ａの近傍位置に更に上部整流フィン１９ａを立設してもよい（図４参照）。なお、整流フィン１９は個々に、若しくは複数個をまとめたブロック毎に調整できる。
【００４４】
前記のように整流板１１に空気の流れ角度を調整可能な整流フィン１９を備えたことにより、処理液の粘度や、工場間や装置間格差によるダウンフローＡ及び排気の流量圧の違い、レシピや装置仕様の違いなどに応じても調整が可能になり、パーティクルやミストの発生を抑制することができる。また、排気圧もエジェクター等の可変の排気機構（図示せず）を備えることにより微調整が可能で、より安定化した空気の流れによりミストの巻上げを防ぐことが可能となっている。
【００４５】
なお、図４において、その他の部分は図３に示したノズル待機ボックスＮと同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。
【００４６】
図５は、本考案の更に別の実施形態を示す概略断面図である。図５に示すノズル待機ボックスＮは、ノズル６の円周部にアシストガス（不活性ガス）を出すノズル２１を備えている。
【００４７】
このようにノズルを二重管構造とすることにより、ウエハＷにノズルより散布塗布する方式の場合には特に有効である。ノズル待機ボックス内でダミー吐出する際に、同時にノズル２１からアシストガスを吐出して液が散乱するのを防いで液吐出の直進性を高めることができる。これにより挿入口からのリーク防ぐことが可能となる。
【００４８】
なお、図５において、その他の部分は図３に示したノズル待機ボックスＮと同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。
【００４９】
図６は、ノズルにフランジを備え、ノズル待機ボックスの上部面に弾性圧接機構を備えた状態を示す概略断面図である。図６に示すノズル待機ボックスＮは、ノズル６にフランジ２２を備え、ノズル待機ボックスＮにノズル６と上面板１０とを圧接する弾性圧接機構を備えた場合である。この場合、ノズル６の円周部に外向きのフランジ２２を備えると共に、ノズル待機ボックスＮの側板１２の上部外周の少なくとも対向する２箇所にブラケット２４を突設し、このブラケット２４とノズル待機ボックスＮの固定部２５との間に弾性圧接機構である圧縮ばね２３を配設する。
【００５０】
このように構成することにより、圧縮ばね２３の弾発力によってノズル６と上面板１０の密着性を高めることができて、挿入口１７の隙間から液がリークするのを防ぐことができる。また、より密着性を高めるためにフランジの下部にシール部材２６（例えばＯリング）を備えることもできる。
【００５１】
なお、図６において、その他の部分は図３に示したノズル待機ボックスＮと同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。
【００５２】
なお、前記実施形態では、本考案に係るノズル待機ボックスＮが現像装置に適用される場合について説明したが、その他に本考案は、半導体ウエハや液晶表示装置用のガラス基板等に塗布膜を形成する工程で利用される。
【符号の説明】
【００５３】
６  処理液供給ノズル
１０  上面板
１０ａ  通気孔
１１  整流板
１１ａ  整流孔
１２，１４  側板
１２Ａ  傾斜部
１３  底板
１５  排気管
１５ａ  排気口
１６  排出管
１６ａ  排出口
１７  ノズル挿入口
１８  通過孔
１９  整流フィン
Ｗ  ウエハ（被処理基板）
Ｌ  吐出液
【図１】
0003155940.tif 000003
【図２】
0003155940.tif 000004
【図３】
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【図４】
0003155940.tif 000006
【図５】
0003155940.tif 000007
【図６】
0003155940.tif 000008