【事件の表示】
　特願２００７−５２６４１５「２つのスペクトロメータ配置を用いることにより検知器の能力利用を改良したエシェルスペクトロメータ」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年１２月２２日国際公開、ＷＯ２００５／１２１７２３、平成２０年　１月２４日国内公表、特表２００８−５０１９６６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　
　本願は，平成１７年６月２日（パリ条約による優先権主張日　平成１６年６月９日，独国）を国際出願日とする出願であって，平成２３年３月８日付けで拒絶査定がなされ，これに対し，同年７月１４日に拒絶査定に対する不服の審判請求がなされるとともに，同日付けで手続補正（以下「本件補正」という）がなされたものである。さらに，同年１０月２５日付けで審尋がなされ，回答書が平成２４年２月２２日付けで請求人より提出されたものである。
　　
第２　本件補正についての補正却下の決定
　
［補正却下の決定の結論］
　
　　本件補正を却下する。
　
［理由］
　
１　補正後の請求項１に係る発明
　
　本件補正により，補正前の特許請求の範囲の請求項１は，次のとおりに補正された。（下線は補正箇所を示す）
　　
「【請求項１】
　放射線を出射する光源を備え，前記放射線は第１と第２の波長帯域のスペクトルを有し，
　
第１と第２の
　前記
第１の
　横方向の分散方向に，前記放射線をスペクトル的に分散することにより前記オーダーを分離する第１の分散体とをさらに備え，前記横方向の分散方向は，前記エシェル格子の主分散方向に対して角度をなし，互いに分離される複数の前記オーダーの二次元スペクトルを生成し，
　前記二次元スペクトルを結像面に結像する第１の結像光学システムと，
　前記結像面に複数の検知素子の二次元配置を有する検知器アレイとをさらに備え，
　前記エシェル格子と，前記第１の分散体と，前記第１の結像光学システムとが，前記検知器上で前記光源の前記第１の波長帯域のスペクトルを生成するための第１のスペクトロメータを形成し，
　第２のスペクトロメータが，前記検知器上で，前記第１の波長帯域と異なる前記第２の波長帯域のスペクトルを生成するために，第２の分散体と，第２の結像光学システムを有
し
　
前記第１と第２の波長帯域のスペクトルが，前記検知器上で，空間的に，少なくとも部分的に重なり合い，
前記検知器は，時間間隔をあけて照射され，前記第１と第２の波長帯域が交互に前記検知器上に結像されるように前記時間間隔を制御する手段が設けられる
　　
　上記補正は，「入射スリット」を「第１と第２の入射スリット」に限定するとともに，「第１と第２の波長帯域のスペクトルが，前記検知器上で，空間的に，少なくとも部分的に重なり合」うこと，および，「検知器は，時間間隔をあけて照射され，前記第１と第２の波長帯域が交互に前記検知器上に結像されるように前記時間間隔を制御する手段が設けられる」ことを限定するものであるといえる。
　　
　そうすると，前記補正は，平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前（以下「平成１８年法改正前」という）の特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　　
　そこで，補正後の請求項１に係る発明（以下「補正発明」という）が特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　　
２　引用刊行物およびその記載事項
　　
（１）本願優先日前に頒布され，原査定の拒絶の理由に引用された刊行物である特開平１１−２３０８２８号公報（以下「刊行物１」という）には，「エシェル分光器」に関して，図面とともに，次の事項が記載されている。なお，以下において，下線は当審にて付与したものである。
　　
（１−ア）
「【特許請求の範囲】
【請求項１】  エシェル回折格子および単一のイメージ検出器を含むとともに，前記エシェル回折格子で分散されたスペクトル光を異なる次数のスペクトル光に分離する次数分離用素子と，この次数分離用素子で分離されたスペクトル光を前記イメージ検出器に結像させる結像手段とを備えたエシェル分光器において，
前記エシェル回折格子は，カバーすべき波長範囲に応じた複数個で構成されるとともに，各波長範囲を選択するためのシャッタを備え，このシャッタで選択されるいずれの波長範囲のスペクトル光も前記イメージ検出器に結像するように，前記エシェル回折格子，次数分離用素子，および結像手段が光学的に配置されていることを特徴とするエシェル分光器。」
　
（１−イ）
「【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は，発光分光分析，光吸収分析等の各種の分光分析装置に使用される分光器，特に，エシェル回折格子を用いたエシェル分光器に関する。」
　　
（１−ウ）
「【０００３】一方，
回折格子で分光されたスペクトル光を検出する光検出器として，ＣＣＤやフォトダイオードアレー等で構成されるイメージ検出器を用いる場合は，画素単位で各波長のスペクトル光を検出する
　
（１−エ）
「【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで，図６に示した構成において，
上記のイメージ検出器１０は，半導体素子としての製造上の制約から，素子を大きくして受光面を長くするのが難しく，このため，広い波長範囲を測定したい場合には，高い波長分解能が得られないという問題がある。あえて受光面の長い素子を製作しようとすると，素子が極めて高価となり，また収差も大きくなるため実用に適さない。
　
（１−オ）
「【００１７】いま，エシェル回折格子から次数分離用素子を経てイメージ検出器に至るまでの光路を波長範囲に応じて複数に分離し，各々の光路のスペクトル光が全て単一の同じイメージ検出器に結像するようにエシェル回折格子等の各光学素子の配置関係を設定する。
【００１８】
この場合，そのままだと光路ごとに分離された各波長範囲ごとのスペクトル光がイメージ検出器の全面に広がって重複した結像となる
　
（１−カ）
「【００２５】図１において，１は光源，２は入口スリット，３はコリメート用ミラー，９は結像手段としての単一の結像用ミラー，１０は単一のイメージ検出器である。
【００２６】この実施形態１の特徴は，エシェル回折格子４a，４bおよび次数分離用素子７a，７bがカバーすべき波長範囲に応じてそれぞれ複数個(ここでは２個ずつ)設けられるとともに，各波長範囲を選択するためのシャッタ５を備えている。
【００２７】ここで，上記の２つのエシェル回折格子４a，４bの内，一方のエシェル回折格子４aは，図２の分光特性を示すエシェログラムにおいて，符号Ｌa(一点鎖線の領域)で示す短波長側の波長範囲において，また，他方のエシェル回折格子４bは，符号Ｌl(一点鎖線の領域)で示す長波長側の波長範囲において，それぞれ所定の線分散と分解能とが得られるように刻線数Ｎやブレーズ角θが設定されている。」
　　
（１−キ）
「【００３１】そして，一方のエシェル回折格子４aからこれに対応する次数分離用素子７aを通り結像用ミラー９で反射される短波長側の波長範囲Ｌsのスペクトル光と，他方のエシェル回折格子４bからこれに対応する次数分離用素子７bを通り結像用ミラー９で反射される長波長側の波長範囲Ｌlのスペクトル光のいずれも単一のイメージ検出器１０に共に結像するように，各エシェル回折格子４a，４b，次数分離用素子７a，７b，および結像用ミラー９の傾きや距離などの光学的な配置関係が設定されている。
【００３２】また，上述のシャッタ５は，これを設けない場合には，長短の各波長範囲ごとのスペクトル光がイメージ検出器１０の全面に広がって重複した結像となるので，本例では，エシェル回折格子４a，４bと次数分離用素子７a，７bとの間の光路上に配置されており，短波長の測定時には一方のエシェル回折格子４aで分散されたスペクトル光のみが，また，長波長の測定時には他方のエシェル回折格子４bで分散されたスペクトル光のみが，それぞれ光透過用の窓５aを通過するように，つまり，図２のＬs，Ｌlの各波長範囲を選択できるように，モータやギヤ等を組み合わせてなる駆動源６によって移動されるようになっている。
【００３３】上記構成において，光源１からの光は入口スリット２を通り，コリメート用ミラーで平行光に調整された後，各エシェル回折格子４a，４bに入射される。
【００３４】エシェル回折格子４a，４bで分散された光は，各次数分離用素子７a，７bに向かう。
【００３５】その場合，短波長側の波長範囲Ｌsのスペクトル光を測定する場合には，駆動源６によってシャッタ５を移動させて，短波長側のスペクトル光のみが窓５aを通過させるようにする。また，長波長側の波長範囲Ｌlのスペクトル光を測定する場合には，駆動源６によってシャッタ５を移動させて，長波長側のスペクトル光のみが窓５aを通過させるようにする。
【００３６】いま，短波長側の波長範囲Ｌsのスペクトル光がシャッタ５の窓５aを通過したとすれば，このスペクトル光は，その次数分離用素子７aによってエシェル回折格子４aの分散方向と直角方向に分散されて，それぞれ異なる次数のスペクトル光に分離される。そして，そのスペクトル光が結像用ミラー９で反射されてイメージ検出器１０上に結像される。
【００３７】また，長波長側の波長範囲Ｌlのスペクトル光がシャッタ５の窓５aを通過したとすれば，このスペクトル光は，その次数分離用素子７bによってエシェル回折格子４bの分散方向と直角方向に分散されて，それぞれ異なる次数のスペクトル光に分離される。そして，そのスペクトル光が結像用ミラー９で反射されて同じくイメージ検出器１０上に結像される。
【００３８】このように，イメージ検出器９で受光するスペクトル光の波長範囲Ｌs，Ｌlをシャッタ５で選択するようにしているため，イメージ検出器９で一度に所望の波長範囲のスペクトル光を検出できないが，シャッタ５の切り換えに応じてイメージ検出器９の検出出力が短波長側の範囲Ｌsものか，長波長側の範囲Ｌlのものかを識別することが可能であるから，これにより，単一のイメージ検出器１０を用いても，全ての波長範囲Ｌs，Ｌlをカバーした測定結果を得ることができる。」
　
（１−ク）
表１には，短波長側の波長範囲Ｌｓは１７０〜４００ｎｍ，長波長側の波長範囲Ｌｓは４００〜８００ｎｍであることが記載されている。
　
　上記記載事項（１−ア）〜（１−ク）ならびに図１および２を総合すると，刊行物１には次の発明（以下「引用発明」という）が記載されていると認められる。
「光源，単一の入り口スリット，上記入り口スリットを通じて入射する光源からの光を分散させるエシェル回折格子および単一のイメージ検出器を含むとともに，前記エシェル回折格子で分散されたスペクトル光を異なる次数のスペクトル光に分離する次数分離用素子と，この次数分離用素子で分離されたスペクトル光を前記イメージ検出器に結像させる結像手段とを備えたエシェル分光器において，
前記エシェル回折格子は，短波長側の波長範囲Ｌsに対応するエシェル回折格子，および，長波長側の波長範囲Ｌlに対応するエシェル回折格子からなるとともに，前記各エシェル回折格子からのスペクトル光を，エシェル回折格子の分散方向と直角方向にそれぞれ分離する複数の次数分離用素子と，前記いずれかの波長範囲を選択するためのシャッタを備え，このシャッタで選択されるいずれの波長範囲のスペクトル光も前記イメージ検出器に結像するように，前記エシェル回折格子，次数分離用素子，および結像手段が光学的に配置されているエシェル分光器。」
　
（２）本願優先日前に頒布され，原査定の拒絶の理由に引用された刊行物である特開平３−２０２７５４号公報（以下「刊行物２」という）には，「多元素同時分析原子吸光分光光度計」に関して，図面とともに，次の事項が記載されている。
　　
（２−ア）
「【特許請求の範囲】
１，試料原子化部と，該試料原子化部を通る複数の光軸と，それぞれの光軸に配置された光源と，上記試料原子化部を通過した光を入射スリットを介して取り込む分光器と，該分光器で選択された光を受光する検知器とを備え，上記試料原子化部で試料の原子蒸気により選択吸収された通過光を検知して，当該試料に含まれる多元素を同時に分析するものにおいて，上記入射スリットを複数設け，上記試料原子化部通過後の複数の光軸を上記複数の入射スリットのうちのいずれかを通して上記分光器に取り込むように構成したことを特徴とする多元素同時分析原子吸光分光光度計。
２，請求項第１項において，前記入射スリットは，前記試料原子化部通過後の各光軸毎に設けたことを特徴とする多元素同時分析原子吸光分光光度計。」
　
（２−イ）
「【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は原子吸光分光光度計に係り，特に複数の元素を同時に分析可能とする多元素同時分析原子吸光光度計及びその分析方法，更には当該分光光度計を適用した浄水場の管理システムに関する。」（公報３頁左下欄１０〜１５行）
　
（２−ウ）
「〔発明が解決しようとする課題〕
しかし，前記提案の従来装置には，以下のような問題があった。
（１）
従来のそれぞれの光学系に配置された分光器の入射スリット及び出射スリットの幅は固定であり，かつ単一のスリットであるため，
感度の低下を招く
　　
（２−エ）
「〔作用〕
本発明による多元素同時分析原子吸光分光光度計の光学系は，複数の光学系が原子化部において共通部を通るのみで，光源，分光器，光検知器に至る各光学系の光軸は夫々独立の入射スリット又は出射スリット等を介して形成される。したがって，同時測定する各元素に対応して，各光学系の特性，測定条件等を設定することができ，同時測定する個々の元素に対応して夫々
高感度の分析が可能となる
　　
（２−オ）
「〔実施例〕
以下本発明の一実施例を図を用いて説明する。
第１図は４元同時分析原子吸光分光光度計の光学系を示したものである。（ａ）（ｂ）（ｃ）及び（ｄ）及び（作図上（ｂ）と（ｃ）は重なっている）の４本の光軸から構成され，それぞれの光軸上に配置されたホローカソードランプ１，２，３及び４の光を球面鏡５及び６により原子化炉である筒形のグラファイトキュベット７内に集光されたあと，球面鏡８と軸外し角を小さくして収差を少なくするため付加された平面鏡９により分光器１０に導かれる。
分光器に導かれたそれぞれの光は入射スリットｌ１ａ〜ｌ１ｄより入射し
それぞれに回折格子１４ａ〜１４ｄで分散させられカメラ鏡１５ａ〜１５ｄ及び折返し鏡１６ａ，１６ｂにより出射スリット１７ａ〜１７ｄを経て
　　
（２−カ）
「第２図は入射スリット部，第３図は出射スリット部の詳細を示す。入射スリットＷ１〜Ｗ４及び出射スリットＷ５〜Ｗ８は，それぞれモータ３１ａ〜３１ｄ及び３１ｅ〜３１ｈにより回転可能な円板１１ａ〜ｌｌｄ，１７ａ〜１７ｄに幅の異なる複数個で構成されており，それぞれの元素に応じて光軸（ａ）〜（ｄ）上に適したスリット幅を配置する。それぞれの円板１１ａ〜１１ｄ，１７ａ〜１７ｄの初期位置はフォトカップラなどを利用し，初期位置から目的とするスリット幅まで所定の角度円板を回転させる。」（公報６頁左上欄４〜１４行）
　
３　対比・判断
　
（１）対比　
　
　補正発明と引用発明とを対比する。
　
ア　補正発明は「放射線を出射する光源」を備えているが，ここでいう「放射線」とは，発明の詳細な説明の【００２５】「…短波長帯域，たとえば１９０ｎｍから３００ｎｍの間の放射線…長波長帯域，たとえば３００ｎｍから８５２ｎｍの間の放射線…」とあることからみても，紫外線，可視光線，赤外線といった非電離放射線を指すものであることは明らかである。他方，引用発明における「光源」については，光源自体の波長範囲について記載はないものの，上記記載事項（１−ク）のとおり，エシェル回折格子の短波長側の波長範囲Ｌｓが１７０〜４００ｎｍ，長波長側の波長範囲Ｌｓが４００〜８００ｎｍであることからすると，引用発明における「光源」も，紫外線，可視光線，赤外線を想定しているものといえる。したがって，引用発明の「光源」，および「光」は，それぞれ，補正発明の「放射線を出射する光源」，および「放射線」に相当する。
　
イ　引用発明における「短波長側の波長範囲」および「長波長側の波長範囲」は，補正発明における「第１の波長帯域」および「第２の波長帯域」に相当することは明らかである。
　　
ウ　引用発明は「単一の入り口スリット」を有しているから，引用発明と補正発明とは「入射スリット」を有する点で共通する。
　
エ　引用発明における「エシェル回折格子」は，光源からの光を分散させて「スペクトル光」を生成するものであるから，引用発明と補正発明とは，「光源」からの「放射線」を「スペクトル的に分散するエシェル格子」を有する点で共通する。
　
オ　引用発明における「次数分離用素子」は，エシェル回折格子からのスペクトル光を，「エシェル回折格子の分散方向と直角方向に」，「異なる次数のスペクトル光に分離する」ものであるから，引用発明における「次数分離用素子」は二次元スペクトルを生成するといえる。そして，引用発明における「エシェル回折格子の分散方向と直角方向」が，「前記エシェル格子の主分散方向に対して角度をな」すものであることは明らかであるから，引用発明における「次数分離用素子」と，補正発明における「分散体」とは，「前記エシェル格子の主分散方向に対して角度をな」す方向である「横方向の分散方向に，前記放射線をスペクトル的に分散」し，「二次元スペクトルを生成」する点で共通する。また，引用発明では，「短波長側の波長範囲Ｌsに対応するエシェル回折格子，および，長波長側の波長範囲Ｌlに対応するエシェル回折格子」からのスペクトル光をそれぞれ分離するために「複数の次数分離用素子」を備えているから，引用発明と補正発明とは，複数の「分散体」を備える点で共通する。
　
カ　引用発明は「次数分離用素子で分離されたスペクトル光を前記イメージ検出器に結像させる結像手段」を備えているから，引用発明と補正発明とは，「二次元スペクトルを結像面に結像する」「結像光学システム」を備える点で共通する。
　
キ　上記記載事項（１−ウ）のとおり，引用発明における「イメージ検出器」は，「ＣＣＤやフォトダイオードアレー等で構成されるイメージ検出器」であって，「画素単位で各波長のスペクトル光を検出する」ものであり，また，上記記載事項（１−キ）のとおり「次数分離用素子」により生成されたスペクトルを検出するものであって，前記スペクトルは，上記「オ」で検討したとおり，二次元スペクトルであるから，引用発明における「イメージ検出器」が「複数の検知素子の二次元配置を有する」ものであることは明らかであるであるといえる。また，引用発明における「結像手段」が，「次数分離用素子で分離されたスペクトル光を前記イメージ検出器に結像させる」ことから，引用発明における「イメージ検出器」が，「結像手段」の結像面に配置されていることは自明である。したがって，引用発明における「イメージ検出器」は，補正発明における「結像面に複数の検知素子の二次元配置を有する検知器アレイ」に相当する。
　
ク　補正発明では，上記「ア」のとおり，短波長帯域と長波長帯域は波長３００ｎｍで重なり合っている。他方，引用発明でも，上記記載事項（１−キ）より，短波長側の波長範囲Ｌｓは１７０〜４００ｎｍ，長波長側の波長範囲Ｌｓは４００〜８００ｎｍであるから，短波長側の波長範囲と長波長側の波長範囲とは，波長４００ｎｍで重なり合っている。また，上記記載事項（１−オ）には，「【００１７】…各々の光路のスペクトル光が全て単一の同じイメージ検出器に結像するようにエシェル回折格子等の各光学素子の配置関係を設定する。【００１８】
この場合，そのままだと光路ごとに分離された各波長範囲ごとのスペクトル光がイメージ検出器の全面に広がって重複した結像となる
　
ケ　上記記載事項（１−キ）に「【００３２】また，上述のシャッタ５は，…，本例では，エシェル回折格子４a，４bと次数分離用素子７a，７bとの間の光路上に配置されており，短波長の測定時には一方のエシェル回折格子４aで分散されたスペクトル光のみが，また，長波長の測定時には他方のエシェル回折格子４bで分散されたスペクトル光のみが，それぞれ光透過用の窓５aを通過するように，つまり，図２のＬs，Ｌlの各波長範囲を選択できるように，モータやギヤ等を組み合わせてなる駆動源６によって移動されるようになっている。…【００３５】その場合，短波長側の波長範囲Ｌsのスペクトル光を測定する場合には，駆動源６によってシャッタ５を移動させて，短波長側のスペクトル光のみが窓５aを通過させるようにする。また，長波長側の波長範囲Ｌlのスペクトル光を測定する場合には，駆動源６によってシャッタ５を移動させて，長波長側のスペクトル光のみが窓５aを通過させるようにする。…【００３８】このように，イメージ検出器９で受光するスペクトル光の波長範囲Ｌs，Ｌlをシャッタ５で選択するようにしている…」とあるように，引用発明では，「短波長側のスペクトル光」と「長波長側のスペクトル光」とを，「シャッタ」を用いて異なる時刻に，すなわち互いに時間間隔をあけて「イメージ検出器」に受光させるものであるから，引用発明と補正発明とは，第１と第２の波長帯域が時間間隔をあけて検知器上に結像されるように検知器が照射される点で共通する。
　
コ　引用発明は複数の構成要素を備えた「分光器」であり，他方，「スペクトロメータ」は「分光計」，「アセンブリ」は「組立品」を意味するから，引用発明における「分光器」が，補正発明における「スペクトロメータアセンブリ」に相当することは明らかである。
　
　そうすると，両者は，　
　
（一致点）　
「放射線を出射する光源を備え，前記放射線は第１と第２の波長帯域のスペクトルを有し，
　入射スリットと，
　前記入射スリットを通して入射する前記放射線を，主分散方向にスペクトル的に分散するエシェル格子と，
　横方向の分散方向に，前記放射線をスペクトル的に分散する第１の分散体とをさらに備え，前記横方向の分散方向は，前記エシェル格子の主分散方向に対して角度をなし，前記第１の分散体は，二次元スペクトルを生成し，
　前記二次元スペクトルを結像面に結像する結像光学システムと，
　前記結像面に複数の検知素子の二次元配置を有する検知器アレイとをさらに備え，
　前記第１と第２の波長帯域のスペクトルが，前記検知器上で，空間的に，少なくとも部分的に重なり合い，
　前記第１と第２の波長帯域が時間間隔をあけて検知器上に結像されるように検知器が照射される，スペクトロメータアセンブリ。」
　
である点で一致し，次の点で相違する。
　
（相違点１）
　補正発明は，「第１と第２の入射スリットを有するハウジング」を有するとともに，第１及び第２の結像光学システムを有し，エシェル格子，第１の分散体，第１の結像光学システムとが，検知器上で光源の第１の波長帯域のスペクトルを生成するための第１のスペクトロメータを形成し，第２のスペクトロメータが，前記検知器上で，前記第１の波長帯域と異なる前記第２の波長帯域のスペクトルを生成するために，第２の分散体と，第２の結像光学システムを有するものであるのに対して，引用発明は，入射スリット及び結像光学システムが１つであり，ハウジングについては不明である点。
　
（相違点２）
　補正発明では，エシェル格子が放射線を「複数のオーダー」にスペクトル的に分散するものであるのに対し，引用発明では，エシェル格子が放射線を「複数のオーダー」にスペクトル的に分散するものであるかどうか不明である点。
　
（相違点３）
　補正発明では，第１と第２の波長帯域が
交互に
交互に
　　
（２）判断
　
　上記相違点について検討する。
　
（相違点１について）
　刊行物２には，上記記載事項（２−ア）〜（２−カ）からみて，光源からの複数の光それぞれに対応した入射スリットを，分光器１０の側壁に設け，前記複数の光それぞれに対応した回折格子及び結像光学システムであるカメラ鏡を備えた分光光度計が記載されている。また，刊行物２には，上記記載事項（２−ウ）のとおり，複数の異なる波長帯域の光線に対し単一の入射スリットを用いると感度の低下を招くことから，上記記載事項（２−エ）のとおり，高感度の分析を行うために各光学系の光軸をそれぞれ独立の入射スリットを介して形成することが記載されている。そして，分光分析の分野では，高感度の分析という課題は当業者が当然考慮する課題であるから，高感度の分析を行うために引用発明に刊行物２に記載された技術事項を適用し，複数の入射スリットを有するハウジングを設けるとともに，第１及び第２の結像光学システムを設け，エシェル格子，第１の分散体，第１の結像光学システムとが，検知器上で光源の第１の波長帯域のスペクトルを生成するための第１のスペクトロメータを形成し，第２のスペクトロメータが，前記検知器上で，前記第１の波長帯域と異なる前記第２の波長帯域のスペクトルを生成するために，第２の分散体と，第２の結像光学システムを有するよう形成することは，当業者が容易に想到し得るといえる。
　
（相違点２について）
　エシェル格子が放射線を複数のオーダーにスペクトル的に分散することは，技術常識である。例えば，本願優先日前に頒布された刊行物である特開平１０−１２３２９５号公報には，「【００１６】【課題を解決するための手段】本発明のエシェルスペクトロメータはスリット，
エシェル格子
分散パターン（すなわちスペクトル線）を形成する。
２次元の分散スペクトルを形成するための分散素子がエシェル格子と分散プリズムを含み
エシェル格子は回折によりビームを，分散プリズム４４により分散の行なわれる方向に対して垂直の方向へ，即ち図４の平面に実質的に垂直の平面に，スペクトル的に分散する。
えば図６に示されているような個々の元素の線を有するスペクトルが焦点面４８において形成される。
個々のスペクトル線は垂直の列１５０〜１５５の中にそれぞれ位置される。
　したがって，引用発明におけるエシェル格子も放射線を複数のオーダーにスペクトル的に分散させるものであることは，当業者にとって明らかであるから，相違点２は実質的な相違点であるとはいえない。
　
（相違点３について）
　引用発明のように２種類の信号を選択的に異なる時刻で読み出す場合，一般的に交互に行うのは常套手段であるから，引用発明に前記常套手段を適用し，第１と第２の波長帯域が交互に前記検知器上に結像されるようにすることは，当業者が容易に想到し得ることである。その際，第１と第２の波長帯域が結像される時間間隔を制御することで，第１と第２の波長帯域が交互に前記検知器上に結像されるようにすることは，当業者が必要に応じて適宜為し得る設計的事項に過ぎない。
　　
　してみると，補正発明は，引用発明，刊行物２に記載された技術事項，前記技術常識及び常套手段に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるというべきである。
　
　また，本願明細書に記載された相違点により奏する作用・効果も，刊行物１に記載された事項から予測し得る範囲のものであり，格別顕著なものとはいえない。上記記載事項（１−エ）のとおり，引用発明においても，イメージ検出器は，半導体素子としての製造上の制約から，素子を大きくして受光面を長くするのが難しく，このため，広い波長範囲を測定したい場合には，高い波長分解能が得られないとの課題は認識されており，引用発明により解決されている。　
　
　ゆえに，補正発明は，引用発明，刊行物２に記載された技術事項，前記技術常識及び常套手段に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるというべきであり，特許法第２９条第２項の規定により，独立して特許を受けることができないものである。　 
　　
４　まとめ　 
　
　以上のとおりであるから，本件補正は，平成１８年法改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので，特許法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により，却下すべきものである。　
　　
第３　本願発明について　
　
１　本願発明
　
　本件補正は上記のとおり却下されることとなったので，本願の請求項１〜１３に係る発明は，平成２３年１月６日付け手続補正書に補正された特許請求の範囲の請求項１〜１３に記載された事項により特定されるものと認められ，その請求項１は次のとおりのものである。　
　　
「【請求項１】
　放射線を出射する光源を備え，前記放射線は第１と第２の波長帯域のスペクトルを有し，
　入射スリットを有するハウジングと，
　前記入射スリットを通して入射する前記放射線を，主分散方向に複数のオーダーにスペクトル的に分散するエシェル格子と，
　横方向の分散方向に，前記放射線をスペクトル的に分散することにより前記オーダーを分離する第１の分散体とをさらに備え，前記横方向の分散方向は，前記エシェル格子の主分散方向に対して角度をなし，互いに分離される複数の前記オーダーの二次元スペクトルを生成し，
　前記二次元スペクトルを前記結像面に結像する第１の結像光学システムと，
　前記結像面に複数の検知素子の二次元配置を有する検知器アレイとをさらに備え，
　前記エシェル格子と，前記第１の分散体と，前記第１の結像光学システムとが，前記検知器上で前記光源の前記第１の波長帯域のスペクトルを生成するための第１のスペクトロメータを形成し，
　第２のスペクトロメータが，前記検知器上で，前記第１の波長帯域と異なる前記第２の波長帯域のスペクトルを生成するために，第２の分散体と，第２の結像光学システムを有する，スペクトロメータアセンブリ。」（以下「本願発明」という）
　　
２　引用刊行物の記載事項　 
　
　原査定の拒絶の理由に引用した刊行物１およびその記載事項は，上記「第２　２（１）」に記載したとおりである。　
　　
３　判断　 
　
　本願発明は，補正発明において，「入射スリット」の数を限定せず，「前記第１と第２の波長帯域のスペクトルが，前記検知器上で，空間的に，少なくとも部分的に重なり合い，前記検知器は，時間間隔をあけて照射され，前記第１と第２の波長帯域が交互に前記検知器上に結像されるように前記時間間隔を制御する手段が設けられる」との限定事項を省くものである。
　
　そうすると，本願発明の構成要件をすべて含み，さらに他の構成要件を付加し限定したたものに相当する補正発明が，前記「第２　３（２）」にて述べたとおり，引用発明，刊行物２に記載された技術事項，前記技術常識及び常套手段に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから，本願発明も同様の理由により，引用発明，刊行物２に記載された技術事項，前記技術常識及び常套手段に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものである。
　　
４　むすび　 
　
　以上のとおり，本願発明は，特許法第２９条第２項の規定により，特許を受けることができないから，その余の請求項に係る発明について言及するまでもなく，本願は拒絶されるべきものである。　
　
　よって，結論のとおり審決する。