(57)【要約】長期間の使用中において発生する反りを抑制することができる光学記録媒体およびその製造方法であって、基板１３と、基板１３に形成された光学記録層１４と、光学記録層１４の上層に形成された光透過性の保護膜１７とを有し、保護膜１７は、熱収縮率が０．０２％以下のポリマーフイルム１６と該ポリマーフイルム１６を光学記録層１４に接着する接着層１５とを含んでいる構成とする。ポリマーフイルム１６は、溶融キャスト法により作製され、予めアニール処理が施され、あるいはフイルム中の残留溶媒が０．３重量％以下であるものを好ましく用いることができる。
2003030159.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
上記基板に形成された光学記録層と、
上記光学記録層の上層に形成された光透過性の保護膜と
を有し、
上記保護膜は、熱収縮率が０．０２％以下のポリマーフイルムと該ポリマーフイルムを上記光学記録層に接着する接着層とを含んでいる
光学記録媒体。
【請求項２】
上記ポリマーフイルムは、溶融キャスト法により作製されたポリマーフイルムである
請求項１に記載の光学記録媒体。
【請求項３】
上記ポリマーフイルムは、フイルムとして作製された後、上記光学記録層に接着される前に、予めアニール処理が施されたポリマーフイルムである
請求項１に記載の光学記録媒体。
【請求項４】
上記ポリマーフイルム中の残留溶媒が０．３重量％以下である
請求項１に記載の光学記録媒体。
【請求項５】
基板に光学記録層を形成する工程と、
上記光学記録層の上層に光透過性の保護膜を形成する工程と
を有し、
上記保護膜を形成する工程は、熱収縮率が０．０２％以下のポリマーフイルムを、接着層により上記光学記録層に接着する工程を含んでいる
光学記録媒体の製造方法。
【請求項６】
上記ポリマーフイルムとして、溶融キャスト法により作製されたポリマーフイルムを用いる
請求項５に記載の光学記録媒体の製造方法。
【請求項７】
上記ポリマーフイルムをフイルムとして作製する工程の後、上記光学記録層に接着する工程の前に、該ポリマーフイルムに予めアニール処理を施しておく
請求項５に記載の光学記録媒体の製造方法。
【請求項８】
上記ポリマーフイルムとして、ポリマーフイルム中の残留溶媒が０．３重量％以下であるポリマーフイルムを用いる
請求項５に記載の光学記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、情報を光学的に記録する光学記録層を有する光学記録媒体およびその製造方法に関する。
背景の技術
近年、情報記録の分野においては、光学情報記録方式に関する研究が各所で進められている。この光学情報記録方式は、非接触で記録・再生が行えること、再生専用型、追記型、書換可能型のそれぞれのメモリ形態に対応できるなどの数々の利点を有し、安価な大容量ファイルの実現を可能とする方式として産業用から民生用まで幅広い用途が考えられている。
上記の各種光学情報記録方式用の光学記録媒体（以下、光ディスクともいう）の大容量化は、主に、光学情報記録方式に用いる光源となるレーザ光の短波長化と、高開口数の対物レンズを採用することにより、焦点面でのスポットサイズを小さくすることで達成してきた。
例えば、ＣＤ（コンパクトディスク）では、レーザ光波長が７８０ｎｍ、対物レンズの開口数（ＮＡ）が０．４５であり、６５０ＭＢの容量であったが、ＤＶＤ−ＲＯＭ（デジタル多用途ディスク−再生専用メモリ）では、レーザ光波長が６５０ｎｍ、ＮＡが０．６であり、４．７ＧＢの容量となっている。
さらに、次世代の光ディスクシステムにおいては、光学記録層上に例えば１００μｍ程度の薄い光透過性の保護膜（カバー層）が形成された光ディスクを用いて、レーザ光波長を４５０ｎｍ以下、ＮＡを０．７８以上とすることで２２ＧＢ以上の大容量化が可能である。
図１Ａは、上記の次世代の光ディスクシステム用の光ディスクの模式斜視図である。
光ディスクＤは、中心部にセンターホールＣＨが開口された略円盤形状をしており、ドライブ方向ＤＲに回転駆動される。
情報を記録または再生するときには、光ディスクＤＣ中の光学記録層に対して、例えば開口数が０．８以上の対物レンズＯＬにより、青〜青紫色の領域のレーザ光などの光ＬＴが照射されて用いられる。
図１Ｂは図１Ａに示す光ディスクの模式断面図であり、図１Ｃは図１Ｂの模式断面図の要部を拡大した断面図である。
厚さが約１．１ｍｍのポリカーボネート樹脂などからなるディスク基板１３の一方の表面に、トラック領域を区分する溝１３ａが設けられており、この面上に、例えば反射膜、誘電体膜、記録膜、誘電体膜などがこの順番で積層された光学記録層１４が形成されている。光学記録層１４の層構成および層数は記録材料の種類や設計によって異なる。
上記の記録膜は、例えば相変化型の記録膜、光磁気記録膜、あるいは有機色素を含む記録膜である。
さらに、光学記録層１４の上層に、接着剤あるいは感圧性粘着剤フイルムなどからなる接着層３５とポリマーフイルム３６とからなる０．１ｍｍの膜厚の光透過性の保護膜３７が形成されている。
上記の光ディスクを記録あるいは再生する場合には、対物レンズＯＬにより、レーザ光などの光ＬＴを保護膜３７側から光学記録層１４に対して照射する。
光ディスクの再生時においては、光学記録層１４で反射された戻り光が受光素子で受光され、信号処理回路により所定の信号を生成して、再生信号が取り出される。
上記のような光ディスクにおいて、ディスク基板１３の一方の表面に設けられた溝１３ａに応じて光学記録層１４も凹凸形状を有しており、この溝１３ａによりトラック領域が区分されている。
例えば、ディスク基板１３から見て保護膜３７側に凸に突出している領域はランドＬ、凹部領域はグルーブＧと呼ばれる。
例えばランドとグルーブの両者に情報を記録するランド・グルーブ記録方式を適用することが可能であり、また、ランドとグルーブの一方のみ記録領域とすることも可能である。
上記の光ディスクは、保護膜３７を通して光学記録層１４にレーザ光を照射し、反射光を読み取るタイプの光ディスクであり、このようなタイプとすることで高開口数化に対応することができる。
上記の図１Ａ〜１Ｃに示す光ディスクの製造方法について説明する。
まず、例えば射出成形などにより、膜厚１．１ｍｍ程度のポリカーボネート樹脂などからなり、表面に光学記録層用の凹凸パターンが形成されたディスク基板１３を形成し、その凹凸パターン上に、例えばスパッタリング法により反射膜、誘電体膜、記録膜、誘電体膜の積層体を有する光学記録層１４をこの成膜順序で成膜し、上記凹凸パターンに対応するパターンを有する光学記録層１４を形成する。
次に、光学記録層１４上に、紫外線硬化樹脂系接着剤あるいは感圧性粘着剤フイルムなどの接着剤３５によりポリマーフイルム３６を貼り合わせ、接着層３５とポリマーフイルム３６とからなる保護膜３７とする。
以上で図１に示す構造の光ディスクを得ることができる。
しかしながら、上記の構成の光ディスクにおいては、長期間の使用中にポリマーフイルムが収縮してしまうので、光ディスクに反りが発生するという問題があった。
上記のディスクの反り（タンジェンシャルあるいはラジアルスキュー）が生じたときに発生するコマ収差の量はＮＡ３／λに比例するので、大容量化のためにレーザ光の短波長化と高開口数化を進める場合には、コマ収差を抑制するために光ディスクに対して要求される特性が厳しくなり、ディスクの反りを抑制することが必要となる。
上記のディスクの反りは、ラジアル方向とタンジェンシャル方向とがあるが、ポリマーフイルムの収縮によると、主にラジアル方向の反りを大きく変動させることになる。
発明の開示
本発明は、上記の状況に鑑みてなされたものであり、従って本発明の目的は、長期間の使用中において発生する反りを抑制することができる光学記録媒体およびその製造方法を提供することである。
上記の目的を達成するために、本発明の光学記録媒体は、基板と、上記基板に形成された光学記録層と、上記光学記録層の上層に形成された光透過性の保護膜とを有し、上記保護膜は、熱収縮率が０．０２％以下のポリマーフイルムと該ポリマーフイルムを上記光学記録層に接着する接着層とを含んでいる。
上記の本発明の光学記録媒体は、好適には、上記ポリマーフイルムは、溶融キャスト法により作製されたポリマーフイルムである。
上記の本発明の光学記録媒体は、好適には、上記ポリマーフイルムは、フイルムとして作製された後、上記光学記録層に接着される前に、予めアニール処理が施されたポリマーフイルムである。
上記の本発明の光学記録媒体は、好適には、上記ポリマーフイルム中の残留溶媒が０．３重量％以下である。
上記の本発明の光学記録媒体は、光学記録層の上層の光透過性の保護膜として、熱収縮率が０．０２％以下のポリマーフイルムと該ポリマーフイルムを光学記録層に接着する接着層とを含んでいる。
ここで、熱収縮率とは、大気中９０℃にて２時間のアニール処理など、所定条件のアニール処理の前後における熱収縮の比率である。
温度湿度によるポリマーフイルムの収縮は、ある定温定湿条件下では長時間経過させた後にも光ディスクに反りをもたらすことはないが、ポリマーフイルム内に残存する残留溶媒の揮発や内部歪みの緩和による収縮は不可逆的に発生し、これにより上記所定条件下でも光ディスクに反りが発生する。
本発明の光学記録媒体では、ポリマーフイルムの熱収縮率が０．０２％以下となっており、これにより、長期間の使用中においてポリマーフイルム収縮が抑えられ、光学記録媒体に反りが発生するのを抑制することができる。
上記のポリマーフイルムとしては、熱収縮率が０．０２％より大きくても、光学記録層に接着する前に、予めアニール処理を施すことで０．０２％以下の範囲内とすることができ、上記の効果を享受できる。
アニール処理としては、循環式乾燥炉、ホットプレート、あるいは赤外線加熱炉などを用いて、例えば大気中９０℃にて２時間の処理とすることができ、ポリーマーフイルムの熱収縮率に応じてアニール処理条件を調節してもよい。
また、上記の目的を達成するために、本発明の光学記録媒体の製造方法は、基板に光学記録層を形成する工程と、上記光学記録層の上層に光透過性の保護膜を形成する工程とを有し、上記保護膜を形成する工程は、熱収縮率が０．０２％以下のポリマーフイルムを、接着層により上記光学記録層に接着する工程を含んでいる。
上記の本発明の光学記録媒体の製造方法は、好適には、上記ポリマーフイルムとして、溶融キャスト法により作製されたポリマーフイルムを用いる。
上記の本発明の光学記録媒体の製造方法は、好適には、上記ポリマーフイルムをフイルムとして作製する工程の後、上記光学記録層に接着する工程の前に、該ポリマーフイルムに予めアニール処理を施しておく。
上記の本発明の光学記録媒体の製造方法は、好適には、上記ポリマーフイルムとして、ポリマーフイルム中の残留溶媒が０．３重量％以下であるポリマーフイルムを用いる。
上記の本発明の光学記録媒体の製造方法は、基板に光学記録層を形成し、次に、光学記録層の上層に光透過性の保護膜を形成する。ここで、保護膜を形成する工程は、熱収縮率が０．０２％以下のポリマーフイルムを、接着層により上記光学記録層に接着する工程を含んでいる。
上記の本発明の光学記録媒体の製造方法によれば、光透過性の保護膜として、熱収縮率が０．０２％以下のポリマーフイルムを接着層により光学記録層に接着しており、長期間の使用中においてポリマーフイルム収縮が抑えられ、反りの発生を抑制した光学記録媒体を製造することができる。
発明を実施するための最良の形態
以下、発明を実施するための最良の形態について図面を用いて詳しく説明する。
第１実施形態
図２Ａは、本実施形態に係る光学記録媒体（以下光ディスクともいう）の斜視図である。
光ディスクＤＣは、中心部にセンターホールＣＨが開口された略円盤形状をしており、ドライブ方向ＤＲに回転駆動される。
情報を記録または再生するときには、光ディスクＤＣ中の光学記録層に対して、例えば開口数が０．８以上の対物レンズＯＬにより、青〜青紫色の領域のレーザ光などの光ＬＴが照射されて用いられる。
図２Ｂは図２Ａに示す光ディスクの断面図であり、図２Ｃは図２Ｂの断面図の要部を拡大した断面図である。
例えばポリカーボネート樹脂などからなり、膜厚が０．３ｍｍ以上、例えば１．１ｍｍ程度のディスク基板１３の一方の表面に、ランドＬやグルーブＧなどのトラック領域を区分する溝１３ａが設けられており、その上層に光学記録層１４が形成されている。
光学記録層１４は、例えば反射膜、誘電体膜、記録膜、誘電体膜などがこの順番で積層された構成である。光学記録層１４の層構成および層数は記録材料の種類や設計によって異なる。
上記の記録膜は、例えば相変化型の記録膜、光磁気記録膜、あるいは有機色素を含む記録膜である。
また、ＲＯＭ型の光ディスクの場合には、光学記録層１４はアルミニウムなどの反射膜からなる。
光学記録層１４の上層に、接着層１５を介して、例えば溶融キャスト法などにより作製されたポリマーフイルム１６が積層、接着されており、接着層１５およびポリマーフイルム１６から、膜厚が２層合わせて約１００μｍ程度の光透過性の保護膜１７が構成されている。
上記の光ディスクは、保護膜１７を通して光学記録層１４にレーザ光を照射し、反射光を読み取るタイプの光ディスクであり、このようなタイプとすることで、光ディスクシステムにおける対物レンズの高開口数化に対応することができる。
例えば、１００μｍ程度の薄い光透過性の保護膜（カバー層）が形成された光ディスクを用いて、レーザ光波長を４５０ｎｍ以下、ＮＡを０．７８以上とした光ディスクシステムにおいては、２２ＧＢ以上の大容量化が可能である。
本実施形態の光ディスクは、例えば溶融キャスト法などにより作製されたポリマーフイルムのように、ポリマーフイルム１６の熱収縮率が０．０２％以下となっていることを特徴としている。
ここで、熱収縮率とは、大気中９０℃にて２時間のアニール処理など、所定条件のアニール処理の前後における熱収縮の比率である。
上記のポリマーフイルム１６は、熱収縮率が０．０２％以下となるように、フイルムとして作製された後、光学記録層に接着される前に、予めアニール処理が施されているものを好ましく用いることができる。
また、ポリマーフイルム中の残留溶媒は０．３重量％以下であることが好ましく、これにより熱収縮率を抑制することができる。
本実施形態の光ディスクでは、光透過性の保護膜が、熱収縮率が０．０２％以下のポリマーフイルムと該ポリマーフイルムを光学記録層に接着する接着層とを含んでおり、長期間の使用中においてポリマーフイルム収縮が抑えられ、光学記録媒体に反りが発生するのを抑制することができる。
上記のポリマーフイルム１６としては、光学的に透明であり、低複屈折であり、膜厚が均一であることが望ましく、これらの条件を満たす材料として、例えば、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン、鎖状ポリオレフィン、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などの樹脂、および、変性アクリル樹脂などを用いることができる。
ポリマーフイルム１６を光学記録層１４に接着する接着層１５は、例えば、紫外線硬化樹脂系接着剤、熱硬化樹脂系接着剤、エポキシ樹脂系接着剤、および、感圧性粘着剤などから選択して用いることができる。また、これらから２種以上を混合、あるいは積層させて用いることも可能である。
接着層１５による接着強度は、温度変化、湿度変化、外部からの衝撃などに耐えて剥離が生じない程度とする。
接着力は、光学記録層１４の材料や膜厚、ディスク基板１３およびポリマーフイルム１６の材料や膜厚などにより依存する。
腐食など、光学記録層１４の記録再生特性を変化させる反応や、拡散などを防止するために、接着層１５内のポリマー、ポリマー分解物、未反応モノマー、反応開始剤、平衡吸水率などを調整する必要がある。
次に、本実施形態の光ディスクの製造方法について、各製造工程を示す断面図、模式図あるいは斜視図を参照して説明する。
まず、図３Ａの断面図に示すようなガラス原盤１０上にレジスト膜１１が成膜されたレジスト原盤ＲＤを準備する。
上記のガラス原盤１０は、例えば直径が２００ｍｍ程度で、表面が精密に研磨されたものを用いる。
また、レジスト膜１１は、例えば紫外線や電子線などにより露光されるタイプのレジストを用いることができ、数１０〜１００ｎｍの膜厚でスピンコート法などにより成膜する。
次に、図３Ｂの断面図に示すように、紫外線露光装置あるいは電子線露光装置などを用いて、ディスク基板の溝となる領域またはピットとなる領域を感光させるパターンでレジスト膜１１の電子線露光を行い、専用の現像液により現像処理を施して、ディスク基板の溝となる領域またはピットとなる領域を開口するパターンのレジスト膜１１ａとする。
次に、図４Ａの断面図に示すように、例えばニッケルメッキ処理などを行い、上記ガラス原盤１０およびレジスト膜１１ａ上にスタンパ１２を形成する。
スタンパ１２の表面には、レジスト膜１１ａにより形成された溝１１ｂと逆パターンの凹凸が転写され、凸部１２ａが形成されている。
次に、図４Ｂの断面図に示すように、ガラス原盤１０およびレジスト膜１１ａからスタンパ１２を離型する。
次に、図５Ａの模式図に示すように、上記で得られたスタンパ１２を金型（ＭＤ１，ＭＤ２）からなるキャビティ内に固定し、射出成形用金型を構成する。
このとき、スタンパ１２の凸部形成面１２’がキャビティ内側を臨むように設置する。
上記の射出成形用金型のキャビティ内に、金型の注入口ＩＭから、例えば溶融状態のポリカーボネート樹脂などを射出することで、図５Ｂの断面図に示すように、スタンパ１２の凹凸パターン上にディスク基板１３を形成する。
ここで、ディスク基板１３には、スタンパ１２の表面の凹凸と逆パターンの凹凸である、グルーブパターンあるいはピットパターンとなる溝１３ａが転写される。
上記の射出成形金型から離型することで、図６Ａの断面図に示すような表面にグルーブパターンあるいはピットパターンとなる溝１３ａが形成されたディスク基板１３が得られる。
次に、図６Ｂの断面図に示すように、ディスク基板１３の表面に空気や窒素ガスなどのガスを吹き付けてダストを除去した後、例えばスパッタリング法などにより、反射膜、誘電体膜、記録膜、誘電体膜の積層体を有する光学記録層１４をこの成膜順序で成膜する。
上記の記録膜は、例えば、相変化型の記録膜、光磁気記録膜あるいは有機色素を含む記録膜を用いることができる。
あるいは、ＲＯＭ型光ディスクの場合には、光学記録層をアルミニウム膜などの反射膜により形成する。
次に、溶融キャスト法によるポリマーフイルムの作製方法を、図７の模式図を参照して説明する。
溶解タンク２１にてポリマー材料を溶媒に溶かし、高温に加熱して、得られたポリマー溶液２２を塗布タンク２３に移液し、塗布タンク２３底の塗出部から上記ポリマー溶液２２を平滑な基板またはベルト２４上に塗布して、ポリマー溶液塗布膜２５を得る。
上記ポリマー溶液塗布膜２５を静置あるいは搬送ベルト２６上で搬送する間に乾燥、即ち、溶媒を蒸発させ、得られたフイルムをプロテクトフイルム２７と共に巻き取り、ポリマーフイルムロール２８を得る。
溶融キャスト法によると、例えば、１００μｍの膜厚のポリマーフイルムを作製する場合、溶媒で５倍に希釈したポリマー溶液を調製し、５００μｍの膜厚で塗布する。まず、塗布時にレベリングされて、膜厚の均一化が図られる。このときの膜厚むらは、例えば±５μｍ程度であるが、塗布膜が乾燥して１００μｍの膜厚となると、膜厚のむらは平均値に対して例えば±１μｍ程度に狭められ、膜厚むらが小さいフイルムを得ることができる。
上記のポリマーフイルムとして、ポリカーボネート樹脂からなるフイルムを用いる場合には、溶融キャスト法で用いた溶媒であるジクロロメタン（ＣＨ２Ｃｌ２）がフイルム中に残留する場合がある。この残留溶媒は、光ディスクを構成するために基板の光学記録層上に接着された後にも揮発するため、ポリマーフイルムの体積収縮を発生させ、光ディスクの反りを発生させる。
従って、ポリカーボネート樹脂からなるポリマーフイルム中の残留溶媒は少ないほど好ましく、例えば０．３重量％以下であることが好ましい。
ここで、上記のポリマーフイルムとしては、熱収縮率が０．０２％以下となっているものを用いる。
ここで、熱収縮率とは、大気中９０℃にて２時間のアニール処理など、所定条件のアニール処理の前後における熱収縮の比率である。
ポリマーフイルムの熱収縮率が０．０２％より大きい場合には、循環式乾燥炉、ホットプレート、あるいは赤外線加熱炉などを用いて、例えば大気中９０℃にて２時間のアニール処理を施すことにより、ポリマーフイルム中の残留溶媒を揮発、あるいは内部歪みを緩和させ、熱収縮率を０．０２％以下の範囲内として用いることができる。
アニール条件は、ポリマーフイルムの熱収縮率に応じてアニール処理条件を調節してもよい。
上記のようにして作製されたシート状のポリマーフイルム１６ｓは、例えば図８の斜視図に示すように、打ち抜き機Ｍにより光ディスクサイズに打ち抜いて用いることができる。
以降の工程において、上記のポリマーフイルムを、接着層により図６Ｂに示すディスク基板１３に形成された光学記録層１４に貼り合わせる。
まず、図９Ａの斜視図に示すように、ディスク基板１３を回転させながら、ディスペンサＤにより光学記録層１４上に液状の紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、エポキシ樹脂などの接着剤Ｒを供給する。
次に、図９Ｂの斜視図に示すように、接着剤Ｒを供給した光学記録層１４上に、溶融キャスト法で作製し、ディスク形状に打ち抜いたポリカーボネート樹脂などからなるポリマーフイルム１６を重ね合わせる。ポリマーフイルム１６には、必要に応じて予めアニール処理を施しておく。
次に、図１０Ａの斜視図に示すように、ディスク基板１３を高速回転させることにより、遠心力により、光学記録層１４とポリマーフイルム１６の間に接着剤Ｒを均一にいきわたらせ、余分な接着剤を振り切る。
次に、図１０Ｂの斜視図に示すように、接着剤Ｒが紫外線硬化樹脂である場合には紫外線ランプＵＶＬによる紫外線照射処理、あるいは、熱硬化樹脂である場合には熱処理などの硬化処理を行い、硬化した接着層１５とする。
以上の工程で、図２に示す構成の光ディスクを製造することができる。
上記の本実施形態の光ディスクの製造方法によれば、光透過性の保護膜として、熱収縮率が０．０２％以下のポリマーフイルムを接着層により光学記録層に接着しており、長期間の使用中においてポリマーフイルム収縮が抑えられ、反りの発生を抑制した光学記録媒体を製造することができる。
第２実施形態
本実施形態に係る光ディスクの構成は、第１実施形態に係る光ディスクと同様である。但し、ポリマーフイルム１６を光学記録層１４に接着する接着層１５として、感圧性粘着剤フイルムなどの粘着剤フイルムが用いられていることが異なる。
例えば、保護膜の膜厚を１００μｍとする場合、粘着剤からなる接着層の膜厚を２５μｍ、ポリマーフイルムの膜厚を７５μｍとする。
上記の本実施形態の光ディスクの製造方法について、図面を参照して説明する。
まず、図１１Ａの斜視図に示すように、粘着剤フイルムＴＡを２枚のＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）ライナー（ＰＬ１，ＰＬ２）で挟んだ積層粘着剤フイルムＳＴを準備する。
次に、図１１Ｂの斜視図に示すように、上記積層粘着剤フイルムＳＴを打ち抜き機Ｍにより光ディスクサイズに打ち抜く。
次に、図１２Ａの斜視図に示すように、上記の光ディスクサイズに打ち抜かれた積層粘着剤フイルムＳＴの一方の側のＰＥＴライナーＰＬ１を剥離する。
次に、図１２Ｂ斜視図に示すように、中央に位置合わせ用突起を有する基台Ｓ上に、上記で形成した一方の面にＰＥＴライナーＰＬ２を有する粘着剤フイルムＴＡをセットし、その上面に、第１実施形態と同様にして別工程で光学記録層１４を形成したポリカーボネート樹脂などからなるディスク基板１３を、光学記録層１４側を粘着剤フイルムＴＡ側に向けて、位置合わせしてセットする。
次に、図１３Ａの斜視図に示すように、パッドＰあるいはローラーなどでディスク基板１３上方から押圧し、ディスク基板１３に形成された光学記録層１４と粘着剤フイルムＴＡを十分に接着させる。
次に、図１３Ｂの斜視図に示すように、上記粘着剤フイルムＴＡの他方の面に残されていたＰＥＴライナーＰＬ２を剥離する。
次に、図１４Ａの斜視図に示すように、中央に位置合わせ用突起を有する基台Ｓ上に、別工程で予め形成しておいたポリマーフイルム１６をセットし、その上面に、上記の粘着剤フイルムＴＡが接着されたディスク基板１３を、粘着剤フイルムＴＡ側をポリマーフイルム１６側に向けて、位置合わせしてセットする。
次に、図１４Ｂの斜視図に示すように、パッドＰあるいはローラーなどでディスク基板１３上方から押圧し、ポリマーフイルム１６と粘着剤フイルムＴＡを十分に接着させる。
以上の工程で、図２に示す構成において接着層１５が粘着剤フイルムＴＡからなる光ディスクを製造することができる。
上記の本実施形態の光ディスクの製造方法によれば、光透過性の保護膜として、熱収縮率が０．０２％以下のポリマーフイルムを接着層により光学記録層に接着しており、長期間の使用中においてポリマーフイルム収縮が抑えられ、反りの発生を抑制した光学記録媒体を製造することができる。
（実施例１）
溶融キャスト法により、ポリカーボネート樹脂からなるポリマーフイルムを作成した。
即ち、溶媒としてジクロロメタンを用いて、ポリカーボネート樹脂とジクロロメタンの溶液を高温下でキャスト上に薄く塗布し、乾燥させて７５μｍの膜厚のポリマーフイルムを作成した。
このとき、乾燥条件およびフイルムを引き上げるときの張力を調節することで熱収縮率の異なるポリマーフイルムを得た。
次に、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍ、厚さ１．１ｍｍのポリカーボネート基板に光学記録層用の凹凸パターンを射出成形により形成し、その上層に、アルミニウムの光学記録層を形成し、その表面に、膜厚２５μｍの感圧性粘着剤フイルム（日東電光社製ＣＳ９６０３）を貼り合わせ、その上層に上記のポリカーボネートフイルムを接着し、サンプルを作製した。
ここで、ポリカーボネートフイルムは、熱収縮率が（０．０１％、０．０２％、０．０３％、０．０５％、０．０９％、０．１２％、０．１５％）と異なる７種類のフイルムを用いて４つの光ディスクサンプルとした。
上記の各光ディスクサンプルを、加速条件として、温度８０℃、湿度８５％の高温高湿雰囲気下で９６時間経過させ、その前後でのラジアルスキューの変化を測定した。
ここで、ラジアルスキューは、基準平面上にディスクの中央部分を保持した状態で、基準平面に垂直な光をディスク端部表面に照射し、得られる反射光の反射角を測定することで、ディスク端部での表面の傾きとして測定した。
ラジアルスキューの値はディスクの外周で最大となるため、本実施例においては半径５８ｍｍの位置で測定した。
結果を表１に示す。
2003030159.tif 000003
表１から、熱収縮率が小さくなるにつれてラジアルスキューの変動値が小さくなり、熱収縮率が大きくなるにつれてラジアルスキューの変動値が大きくなることがわかる。
ラジアルスキューの変動は±０．１度以内とすることが望ましく、この範囲内とするためには、ポリマーフイルムの熱収縮率を０．０２％以下とすることが必要であることがわかった。
（実施例２）
次に、熱収縮率が０．０２％を越えるポリマーフイルムである（０．０３％、０．０５％、０．０９％）の各ポリマーフイルムについて、接着する前に予めホットプレートにより大気中で９０℃２時間のアニール処理を施し、上記と同様のサンプルを作成し、上記と同様にラジアルスキューの変動値を測定した。
結果を表２に示す。
2003030159.tif 000004
表２から、熱収縮率が０．０２％を越えるポリマーフイルムについても、アニール処理を施すことにより、熱収縮率が０．０２％以下の範囲内に抑えることができ、このポリマーフイルムを用いた場合のラジアルスキューの変動は±０．１度以内の抑制されていることがわかった。
尚、上記の各実験では、熱処理によるディスク基板の変動分を取り除くために、ポリマーフイルムを貼り合わせていないディスク基板を基準として、そのラジアルスキューの変動分からの差として測定している。
本発明は、上記の実施の形態に限定されない。
例えば、光学記録媒体を構成する基板、光学記録層および層間の接着層などの材料および膜厚などは、上記の実施形態で説明したものに限定されず、適宜選択することが可能である。
また、ポリマーフイルムは、熱収縮率が０．０２％以下となっていればよく、溶融キャスト法以外の方法で作製されたものを用いることができ、材料および膜厚などは適宜選択することが可能である。
その他、本発明の要旨を変更しない範囲で種々の変更をすることができる。
本発明の光学記録媒体によれば、光透過性の保護膜を構成するポリマーフイルムの熱収縮率が０．０２％以下となっており、これにより、長期間の使用中においてポリマーフイルム収縮が抑えられ、光学記録媒体に反りが発生するのを抑制することができる。
また、本発明の光学記録媒体の製造方法によれば、光透過性の保護膜として、熱収縮率が０．０２％以下のポリマーフイルムを接着層により光学記録層に接着しており、長期間の使用中においてポリマーフイルム収縮が抑えられ、反りの発生を抑制した光学記録媒体を製造することができる。
産業上の利用可能性
本発明の光学記録媒体は、光学記録層に大容量の情報を光学的に記録する光学記録媒体に適用可能である。
本発明の光学記録媒体の製造方法は、上記の本発明に係る光学記録媒体を製造する方法に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
図１Ａは従来例に係る光ディスクの斜視図であり、図１Ｂは断面図であり、図１Ｃは拡大断面図である。
図２Ａは本発明の第１および第２実施形態に係る光ディスクの斜視図であり、図２Ｂは断面図であり、図２Ｃは拡大断面図である。
図３Ａおよび図３Ｂは本発明の第１実施形態に係る光ディスクの製造方法の製造工程を示す断面図である。
図４Ａは図３Ｂの続きの工程を示す断面図であり、図４Ｂは図４Ａの続きの工程を示す断面図である。
図５Ａは図４Ｂの続きの工程を示す射出成形工程の模式図であり、図５Ｂはその断面図である。
図６Ａは図５Ａおよび図５Ｂの続きの工程を示す断面図であり、図６Ｂは図６Ａの続きの工程を示す断面図である。
図７は溶融キャスト法によるポリマーフイルムの作製方法を説明する模式図である。
図８はポリマーフイルムの打ち抜き工程を説明する斜視図である。
図９Ａは図６Ｂの続きの工程を示す斜視図であり、図９Ｂは図９Ａの続きの工程を示す斜視図である。
図１０Ａは図９Ｂの続きの工程を示す斜視図であり、図１０Ｂは図１０Ａの続きの工程を示す斜視図である。
図１１Ａおよび図１１Ｂは本発明の第２実施形態に係る光ディスクの製造方法の製造工程を示す斜視図である。
図１２Ａは図１１Ｂの続きの工程を示す斜視図であり、図１２Ｂは図１２Ａの続きの工程を示す斜視図である。
図１３Ａは図１２Ｂの続きの工程を示す斜視図であり、図１３Ｂは図１３Ａの続きの工程を示す斜視図である。
図１４Ａは図１３Ｂの続きの工程を示す斜視図であり、図１４Ｂは図１４Ａの続きの工程を示す斜視図である。
符号の説明
１０…ガラス原盤
１１，１１ａ…レジスト膜
１１ｂ…溝
１２…スタンパ
１２ａ…凸部
１３…ディスク基板
１３’…溶接樹脂
１３ａ…溝
１４…光学記録層
１５…接着層
１６，１６ｓ…ポリマーフイルム
１７…保護膜
２１…溶解タンク
２２…ポリマー溶液
２３…塗布タンク
２４…ベルト
２５…ポリマー溶液塗布膜
２６…搬送ベルト
２７…プロテクトフイルム
２８…ポリマーフイルムロール
３５…接着層
３６…ポリマーフイルム
３７…保護膜
ＴＡ…粘着剤フイルム
Ｄ…ディスペンサ
Ｇ…グループ
Ｌ…ランド
Ｍ…打ち抜き機
Ｐ…パッド
ＰＬ１，ＰＬ２…ＰＥＴライナー
Ｒ…接着剤
Ｓ…基台
ＳＴ…積層粘着剤フイルム
ＵＶＬ…紫外線ランプ
ＣＨ…センタホール
ＤＣ…光ディスク
ＤＲ…ドライブ方向
ＩＭ…注入口
ＭＤ１，ＭＤ２…金型
ＯＬ…対物レンズ
ＲＤ…レジスト原盤
ＬＴ…光
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図１Ｃ】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７】
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【図８】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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【図１３Ａ】
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【図１３Ｂ】
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【図１４Ａ】
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【図１４Ｂ】
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【国際調査報告】
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