(57)【要約】      （修正有）【課題】互いに平行に配置された複数の管を用いてプラズマビームから大径粒子を除去することで、アークイオン蒸発器又は陰極アーク光源から出力されるプラズマビームの品質を向上するフィルタ装置を提供する。【解決手段】アークイオン蒸発器の陰極から出力されるプラズマビームに含まれるプラズマと大径粒子を含む中性粒子とのうち、中性粒子を除去するフィルタ装置であり、複数の管を備え、複数の管は、最も内側の管１０５と、隣接する管１０６と、次に隣接する管１０７と、最も外側の管１０３と、を備え、最も内側の管、隣接する管及び次に隣接する管は、互いに平行に配置され、かつ最も外側の管内に同心円状に収容されている。【選択図】図１０
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
アークイオン蒸発器からのプラズマを濾過する装置であって、複数の平行な管を用いて、プラズマビームから大径粒子を含む中性粒子を濾過するものであり、
前記複数の平行な管は、最も内側の管１０５と、隣接する管１０６と、次に隣接する管１０７とが互いに平行に配置されており、これらは最も外側の管１０３内に収容されており、
隣接する管の数（又は量）は設計によって無制限に設定することができ、
例えば、最も外側の管の内側に一つの管のみを配置してもよいし、最も内側の管と、最も外側の管との間に数百の隣接する管を配置してもよく、
より良好にプラズマを運ぶことが必要な場合には、最も外側の管１０３を取り囲むように電磁コイル１０４が設けられ、
発生した磁界（又はソレノイド磁界）によってプラズマをより効率的にフィルタ装置の外へと導くことができる装置。
【請求項２】
請求項１に記載の前記装置は、アークイオン蒸発器又は陰極アーク光源を備える。
【請求項３】
互いに平行に配置された複数の管を用いて前記アークイオン蒸着器からのプラズマビームを濾過する請求項１に記載の装置は、電磁コイルを備えていない。
【請求項４】
請求項３に記載の前記装置は、アークイオン蒸発器又は陰極アーク光源を備える。
【請求項５】
互いに平行に配置された複数の管を用いて前記アークイオン蒸着器からのプラズマビームを濾過する請求項１に記載の装置は、永久磁石又は電磁回路を様々な方法で使用して、前記フィルタ装置からプラズマを運ぶ。
【請求項６】
請求項５に記載の前記装置は、アークイオン蒸発器又は陰極アーク光源を備える。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の前記フィルタ装置を備える機械装置は、表面コーティング、薄膜堆積、マイクロメートル領域で特定の構造を有する材料の合成、ナノメートル領域で特定の構造を有する材料の合成、ナノセラミック粉末等の各種ナノ材料の合成、ダイアモンドライクカーボン（DLC）の合成、又はこの技術を用いることができる他の関連材料の合成を目的としている。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
互いに平行に配置された複数の管を用いてプラズマビームから大径粒子を除去することで、アークイオン蒸発器又は陰極アーク光源から出力されるプラズマビームの品質を向上する装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
陰極アークプラズマ蒸着や陰極イオンプレーティングは、切削器具、モールド、金型や各種自動車部品のコーティングに現在最も利用が盛んな技術である。この技術は、ソビエト連邦によるアークイオン蒸発器や陰極アークプラズマ光源の開発が起源となっており、様々な要求に応じて薄膜を蒸着する産業で非常に有効な技術であるため、徐々に開発されてきた。
【０００３】
この陰極アークプラズマ蒸着の開発の中で最も重要なものの一つは、プラズマを閉じ込め、プラズマの挙動を制限し、プラズマビーム及び薄膜の品質を低下させる分子や大径粒子等のようなマクロパーティクル（陰極物質）の量を減少させることである。
【０００４】
プラズマを制御して大径粒子を除去する様々なフィルタ装置が開発されている。これらのフィルタ装置は、要求される成果を得るために機械及び／又は磁界を使用するが、これらは様々な長所及び短所を有している。
【０００５】
ソビエト連邦のリャチコフ（A.I.Ryabchikov）が開発した機械装置の一つに、大型のベネチアンブラインド式のフィルタ（Venetian-blind fliter）がある。
【０００６】
リチャコフのベネチアンブラインド式のフィルタは、大型の枠体を使用し、その枠体の中に複数のプレートを配置している。各プレートは、ベネチアンブラインド方式の角度でアークイオン蒸発器と加工対象物の基板との間に配置される。このようにベネチアンブラインドフィルタを配置することによって、アークイオン蒸発器と加工対象物との間の見通し線が遮断される。
【０００７】
中性粒子又は大径粒子がこのベネチアンブラインドフィルタに衝突すると、それらはプレート中に埋没するか別の方向へ反射する。一方で、非常に高いエネルギーレベルを有するプラズマは、ベネチアンブラインドフィルタの各プレート間の空間を通過することができる。
【０００８】
より多くのプラズマをベネチアンブラインドフィルタから通過させるために、特定パターンの電気バイアスを印加して、フィルタの各プレートの周囲に磁界を発生させる。そして、フィルタのプレートの周囲に発生した磁界によって、プラズマがベネチアンブラインドから出るときの加速が促進される。
【０００９】
図１（従来技術）に、リチャコフのベネチアンブラインド式のフィルタの原理を示す。
アークイオン蒸発器１０１は、陽イオン１０９、電子１１３及び中性粒子１１１からなるプラズマビームを生成する。陽イオン及び電子はプラズマ成分であるのに対して、中性粒子は原子サイズから数マイクロメートルよりも大きい様々なサイズで現れる可能性がある。
【００１０】
また、濾過に使用するベネチアンブラインド１１４は、互いに平行に配置された複数の大型の長方形状のプレートで構成される。濾過の要求レベルが高い場合、これらのプレートは、アークイオン蒸発器１０１と加工対象物との間の見通し線が遮断される角度に調整される。プラズマをよく通過させなければならない場合は、図１の矢印１１５の特定の向きに電流がバイアスされる。
【００１１】
ベネチアンブラインドフィルタの原理をより理解しやすくするため、図２（従来技術）に真空チャンバ内に設置された本システムの概略図を示す。アークイオン蒸発器１０１は、ベネチアンブラインドフィルタ１１４に向けてプラズマビームを照射する。フィルタのプレート（または羽根、薄板、鉄板等）のセットは、アークイオン蒸発器１０１から加工対象物の基板１１６までの見通し線を遮る角度に調整される。そして図２から、プラズマをより効率的に運ぶためには、ベネチアンフィルタをバイアスするために複雑な電気システムが必要となることがわかる。このような複雑さにより、このシステムの主な用途は、マイクロ粒子汚染度が非常に低い超平滑フィルムを要する研究開発課題に限定されることとなる。
【００１２】
図３（従来技術）に、ベネチアンブラインドフィルタのプラズマの移動の原理を示す。図１、図２に示すようにベネチアンブラインドフィルタ装置が電気バイアスされることによって、フィルタの各プレート又は薄板１１４の周囲に磁界１１０が発生する。アークイオン蒸発器１０１からのプラズマ（陽イオン１０９及び電子１１３）及び中性粒子１１１からなるプラズマビームが、薄板（又はプレート）の柱状部に流入すると、プラズマのみがプレート間の空間を通って移動し、中性粒子１１１はプレート間に取り残され移動することができない。
【００１３】
図４（従来技術）に、ウェーバー、フランク（Frank Weber）とハリス、サミュエル（Samuel Harris）が登録した米国特許第８３８２９６４号から、見通し線モード（line of sight mode）で動作するベネチアンブラインドフィルタに関する彼らの研究結果を示す。多くの中性粒子の軌跡は、アークイオン蒸発器のターゲット表面１０２に対して垂直でないため、アークイオン蒸発器と加工対象物の表面との間の見通し線が遮断されるように各プレート１１４の角度を調整して配置せずとも、各プレート１１４間の深さと間隔とを利用して大径粒子の一部を減らすことができることを、彼らは見出した。このような方法によって得られるコーティングは、マクロ粒子による汚染は免れないかもしれないが、切削工具及び自動車部品のコーティングには十分である。
【００１４】
図４（従来技術）の数式ｔａｎθｃｕｉｔ．＝Ｄ／Ｓは、アークイオン蒸発器のターゲット１０２の表面からフィルタのプレート１１４に対して放出される中性粒子の臨界角の算出に使用される。フィルタのプレート１１４の深さＤがこの数式で算出される臨界角よりも大きい値に設定されているか、間隔Ｓがこの数式で算出される臨界角よりも小さい値に設定されていれば、中性粒子はフィルタシステム内に閉じ込められる。
【００１５】
「Ｄ」はフィルタの深さである。「Ｓ」は各要素（プレート）間の間隔（距離）である。「θ」はターゲットから放出する（放射する）中性粒子の角度である。「θｃｕｉｔ．」、又は臨界角は、中性粒子がフィルタに少なくとも一度衝突する最大角度である。「１０２」は、アークイオン蒸発器のターゲット素材である。「１１４」は、フィルタのプレート（又は素子）である。「１１１」は、フィルタに衝突してそこに閉じ込められる中性粒子である。「１１１ａ」は、臨界角で通過できる中性粒子である。
【００１６】
なお臨界角は、ターゲット及びアークイオン蒸発器の構造、並びに図４（従来技術）に示す数式に基づくことに留意すべきである。システムの設計者は、どの程度の大きさの粒子を濾過する必要があるかを決定することができる。
【００１７】
より多くのプラズマを移動させるために、米国特許第８３８２９６４号においても、プラズマの磁場移動のためのリチャコフの設計による電気バイアスを使用している。
【００１８】
図５（従来技術）に、ドイツ、ドレスデンのフラウンホーファー研究所（Fraunhofer Research Institute）によって製造されたベネチアンブラインドフィルタシステムを示す。これは、リチャコフの設計に基づき構築された大型システムであり、多数のアークイオン蒸発器をフィルタの片側に配置することができる。
【００１９】
ベネチアンブラインドフィルタは、大径粒子の濾過に非常に有効であり、ユーザの要求に応じて設計を適合できる高い柔軟性を有しているが、産業システムとしてあまり人気がない固有の問題がいくつかある。それら問題の例としては、構造が大型であるため、コストダウンを図る目的で真空チャンバ内のスペースを有効利用するのにも広いスペースが必要となることがある。またこのフィルタシステムは、磁界を生成するために複雑な電気バイアスを必要とするため、フィルタシステムの構築及びメンテナンスに係る費用も高くなる。更に、蒸着チャンバの内においては真空装置の様々な箇所にコーティング材料が堆積するため、これらの堆積物を定期的に除去することが必要となる。加えて、大規模で複雑なシステムであることは、メンテナンスのために解体の問題が生じることを意味し、フィルタシステムから堆積物を除去するための更に大型のシステムが必要となる。
【００２０】
ソビエト連邦時代に、アクシノフ等（Aksenov et al.）は、陰極アーク蒸着装置からの中性粒子及び大径粒子の角度分布を研究し、中性粒子及び大径粒子の多くがターゲットの表面に対して２５〜３０度の角度となるようにアークイオン蒸発器から放出される傾向があることを見出した。
【００２１】
この知見は、ソビエト連邦の多くの研究機関におけるアークイオン蒸発器の設計に反映されている。アークイオン蒸発器のターゲットをそれ自身のポートの内側に配置し、ソレノイド磁場を利用してプラズマを出力させ、中性粒子及び大径粒子をポートの表面に衝突させると、イオン／ニュートラル比が高くなり、従って良好なコーティングを得ることができる。
【００２２】
図６（従来技術）に、このような設計コンセプトを使用するシステムを示す。ターゲットが真空チャンバに面する円形面を有している場合にポート１０３あるいは管内の奥深くに配置されたアークイオン蒸発器のターゲット１０２は、プラズマを出力するための磁界（またはソレノイド磁場）を発生するソレノイド１０４を備える。ソレノイドによる磁場によって送り出されるプラズマは、真空チャンバ内において加工対象物１１６の表面に向かって流れ、加工対象物の表面を蒸着コーティングする。
【００２３】
図７（従来技術）にソレノイドコイル１０４によって生成されるソレノイド磁場１１０を示す。プラズマは磁力線に沿って移動するため、このソレノイド磁場１１０によってアークイオン蒸発器のターゲット１０２から加工対象物の表面１１６へとプラズマを導くことができる。
【００２４】
ソレノイドポートを用いたフィルタ装置は、かなりコンパクトに作ることができるため必要とされるスペースが少なく、アークイオン蒸発器に対して一対一で取り付けることができるといった利点がある。しかし、この種のシステムは、アークイオン蒸発器のターゲットの直径に比べて、使用されるポートが大きくなる傾向があるため、濾過効率は低くなると考えられ、大量の中性粒子がソレノイドポートの壁に反射して加工対象物の表面に容易に付着する。
【００２５】
そして費用対効果が高くないために、このフィルタシステムは、旧ソビエト連邦以外の産業界では普及していない。
【００２６】
そこで本願の考案者は、新規のフィルタシステムを開発するために、上記の各システムの長所と短所について検討を行った。新規のフィルタシステムは、上記の従来技術のフィルタ装置の長所を備えると共に短所を軽減している。本願の考案者は、ベネチアンブラインド構造に代えて、互いに平行に配置する複数の管を使用し、これらの複数の管をアークイオン蒸発器の前方に配置されたポートに設置することができる。このような構成によって、本考案は各アークイオン蒸発器に対して一対一で取り付けることができるため、真空チャンバ内の容積を保つことができる。そして、より良好にプラズマを運ぶことが必要な場合には、より多くのプラズマを出力するための磁界を発生させるソレノイドシステムを用いることができる。ソレノイド磁場の使用によって、ベネチアンブラインドフィルタに使用される電気バイアス磁界発生システムのような複雑な設計及び製造工程を避けることができる。
【００２７】
更に、ベネチアンブラインドシステムは特定の方向のみで、特に見通し線モードで効果的であり、各プレート（又は薄板）が角度付けされずに互いに水平に配置されると、水平線に沿って大きな空間が残されることになり、より多くの粒子が左右方向で出ていくことになる。角度付けされずに垂直方向に配置されると、垂直線に沿って大きな空間が残されることになり、より多くの粒子が上下方向で出ていくことになる。
【００２８】
しかし本考案では管構造を使用しているため、全方向からの大径粒子を遮断することができ、フィルタ装置を通過する大径粒子を減らすことができる。
【００２９】
従来技術で使用されている純粋なソレノイドポートフィルタと比較すると、複数の管を使用する本考案では、ソレノイドポートの壁面で跳ね返る大径粒子を効果的に遮断することができる。それ故に、本考案はより効果的に濾過を行うことができ、より高い費用対効果が得られる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００３０】
【特許文献１】米国特許第８３７８２９６３号明細書
【非特許文献】
【００３１】
【非特許文献１】A. I. Ryabchikov, Surface and Coatings Technology 96 (1997) 9-15
【非特許文献２】A. Anders, Surface and Coatings Technology 120 -121 (1999) 319-330
【非特許文献３】O. Zimmer, Surface and Coatings Technology 200 (2005) 440-443
【非特許文献４】1. 1. Aksenovet al., J. Tech. Phys. 54 (1984) 1530
【非特許文献５】M. S. Liu et al., Surface and Coatings Technology 148 (2001) 25-29
【考案の概要】
【００３２】
互いに平行に配置された複数の管を用いてプラズマビームに含まれる大径粒子の量及び／又は大きさを制御することができる。このフィルタ装置に磁場を与えることで、プラズマ輸送を強めることができる。本考案のフィルタは、プラズマビーム中の大径粒子の数を減らすことができる一方で、工業的な要求に適合する高い柔軟性を有するコンパクトな形状に設計することができる。
【００３３】
本考案は真空アーク蒸着技術の応用に関する。アークイオン蒸発器から出力されたフィルタ処理後のプラズマを蒸着コーティングに用いることによって、ナノ粉末材料の合成、表面改質のためのイオン注入やその他の利用が、この技術によって可能となる。
【００３４】
例えば、本考案から得られるフィルタ処理後のプラズマは、機械工学、器具及び工具の製造、電子機器の製造、セラミック材料のナノ粉末加工および他の産業分野で使用することができるが、これらに限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】非特許文献１による従来技術のベネチアンブラインドフィルタの概略図。
【図２】非特許文献２による従来技術のベネチアンブラインドフィルタの概略図。
【図３】非特許文献３による従来技術の磁力線に沿ったプラズマ輸送を示す図。
【図４】特許文献１による、従来技術の見通し線モードのベネチアンブラインドフィルタの臨界角を決定するために用いられる数式を示す図。
【図５】非特許文献３による従来技術のリチャコフ式のベネチアンブラインドフィルタの写真。
【図６】非特許文献５による従来技術のソレノイド磁場を用いたフィルタ装置の模式図。
【図７】非特許文献５による従来技術のソレノイドによって発生する磁場の概略図。
【図８】本考案の平行多管フィルタの概略側面図である。
【図９】本考案の平行多管フィルタの原理の説明図。
【図１０】本考案のアークイオン蒸発器用の円筒状の平行多管フィルタの概略正面図。
【図１１】本考案のアークイオン蒸発器用の矩形状の平行多管フィルタの概略正面図。
【図１２】本考案のソレノイド管内に配置された平行多管フィルタの例を示す図。
【考案を実施するための形態】
【００３６】
図８（本考案）に、本考案におけるアークイオン蒸発器に用いる多管フィルタシステムの原理を示す。アークイオン蒸発器１０１は、所望の材料を蒸発させる陰極として設置されたターゲット１０２を備える。ターゲットから放出されるプラズマ及び各粒子は、図示の矢印で示される方向で、プラズマビームから中性粒子及び大径粒子を取り除く複数の平行な管へと移動する。これら複数の平行な管は、最も内側の管１０５と、隣接する管１０６と、次に隣接する管１０７とが互いに平行に配置されており、最も外側の管１０３内に収容されている。隣接する管の数（又は量）は設計によって無制限に設定することができ、例えば、最も外側の管１０３内に一つの管１０５のみを配置してよいし、最も内側の管１０５と最も外側の管１０３との間に数百の隣接する管を配置してもよい。これらの各管の深さ及び間隔は、実験又は図４に示す数式に基づき決定することができる。
【００３７】
このような構成にすることで、エネルギーレベルが高くガスよりも揮発性の高いプラズマビームは、平行な複数の管の間の空間を通過することができる。一方で、中性粒子及び大径粒子は、平行な多管フィルタ装置に対して角度を成す軌道を持つ傾向があるが、フィルタに到達すると、それらはフィルタに埋没するか、そこに留まる。
【００３８】
より良好にプラズマを運ぶことが必要な場合は、最も外側の管１０３を取り囲むように電気的なソレノイドコイル１０４が設けられる。発生したソレノイド磁界（又は磁界）は、複数の平行な管に対して平行な磁力線を有しているため、プラズマ（及び／もしくはイオン）は、より効率的にフィルタシステムの外へと導かれる。
【００３９】
図８に示される平行な複数の管１０５，１０６，１０７（最も内側の管及び隣接する管を含む）の組み合わせについて、システムの設計者は、このような（しかしこれに限定されない）管システムをバイアスする技術として、アークイオン蒸発器の目標電位と比べて平行多管システムを電気的に浮遊状態に保つか、平行多管システムの電位を高くすることで、アークイオン蒸発器の状態が不安定である場合にその状態を安定化させることを補助する技術や、加工対象物よりも平行多管フィルタの電位を高電位とすることで、コーティング、イオン注入、加工対象物のイオンエッチング等をより良好に制御する技術を選択することができる。
【００４０】
このような管構造には、プラズマビームの熱及び／又は腐食特性に耐え得る周知の様々な材料を使用することができる。従って、装置の設計者が適切と考える耐熱金属、金属合金、セラミックス、複合材料等を用いることができるが、これらに限定されるものではない。
【００４１】
図９（本考案）に、本考案の平行多管フィルタシステムの内部で生じる濾過プロセスを示す。アークイオン蒸発器１０１から発生したプラズマビームが図示の矢印に沿ってフィルタ装置に向けて移動すると、磁場の影響を受けるプラズマ成分である陽イオン１０９（＋符号）は磁場線１１０に沿って誘導される。又は、陽イオン１０９は、ソレノイドコイル１０４から発生し、平行多管システム（最も外側の管１０３とその内側の管からなる多重管フィルタシステム）に対して平行なソレノイド磁場線に沿って誘導される。陽イオン１０９は平行多管システムを通過するよう容易に導かれるのに対して、中性粒子１１１は、磁場の影響を受けず、平行多管システムに対して角度を持つ軌道１１２に沿って移動する傾向があり、複数の管のうちの一つと衝突してその位置で停止するか、管との衝突で反射してから平行多管システム内で停止する。
【００４２】
図１０（本考案）に、本考案の平行多管フィルタシステムの正面図を示す。図８と同様に、管１０５，１０６，１０７はそれぞれ最も内側の管、隣接する管及び次に隣接する管であり、１０３は、ソレノイド１０４が外周表面に配置された最も外側の管である。電気バイアス装置１０８は、ソレノイドのバイアスに使用される。
【００４３】
図１０に示されるような円形の正面視構造を有する平行多管フィルタシステムは、円形の正面視領域を有するターゲットを備えたアークイオン蒸発器への取付けに適している。
【００４４】
図１１（本考案）に、本考案の平行多管フィルタシステムの正面図を示す。図８と同様に、管１０５，１０６，１０７はそれぞれ最も内側の管、隣接する管及び次に隣接する管であり、１０３は、ソレノイド１０４が外周表面に配置された最も外側の管である。電気バイアス装置１０８は、ソレノイドのバイアスに使用される。
【００４５】
図１１に示されるような矩形の正面視構造を有する平行多管フィルタは、矩形の正面視領域を有するターゲットを備えたアークイオン蒸発器への取付けに適している。
【００４６】
図１２（本考案）に、ソレノイド管の内側に設置された平行な複数の管の実験例の写真を示す。
【実施例】
【００４７】
図８で示される本考案の平行多管フィルタシステムは、所望の材料をプラズマとして蒸発させる陰極として設置されたターゲット１０２を有するアークイオン蒸発器１０１を備える。アークイオン蒸発器で生成されたプラズマ及び中性粒子は、図示の矢印で示される方向で、プラズマビームから中性粒子及び大径粒子を取り除く複数の平行な管へと移動する。これらの複数の平行な管は、最も内側の管１０５と、隣接する管１０６と、次に隣接する管１０７とが互いに平行に配置されており、最も外側の管１０３内に収容されている。隣接する管の数（又は量）は設計に基づき無制限に設定することができ、例えば、最も外側の管１０３内に一つの管１０５のみを配置してよいし、最も内側の管１０５と、最も外側の管１０３との間に数百の隣接する管を配置してもよい。そして良好にプラズマを運ぶために、最も外側の管１０３を取り囲むように電気的なソレノイドコイル１０４が設けられ、発生したソレノイド磁界（又は磁界）によってプラズマをより効率的にフィルタ装置の外へと導くことができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【手続補正書】
【提出日】平成29年4月24日(2017.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】実用新案登録請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
アークイオン蒸発器の陰極から出力されるプラズマビームに含まれるプラズマと大径粒子を含む中性粒子とのうち、前記中性粒子を除去する複数の管を備えており、
前記複数の管は、
最も内側の管（１０５）と、
隣接する管（１０６）と、
次に隣接する管（１０７）と、
最も外側の管（１０３）と、を備え、
前記最も内側の管、前記隣接する管及び前記次に隣接する管は、互いに平行に配置されており、かつ前記最も外側の管内に同心円状に収容されていることを特徴とする
陰極アークプラズマ蒸着システム内で使用するアークイオン蒸発器のフィルタ装置。
【請求項２】
前記最も外側の管を取り囲むように配置され、前記プラズマを誘導する磁場を生成する電磁コイル（１０４）を備えている
請求項１に記載の陰極アークプラズマ蒸着システム内で使用するアークイオン蒸発器のフィルタ装置。
【請求項３】
前記複数の管は、前記プラズマを誘導する前記磁場の磁場線に対して互いに平行となるように配置される
請求項２に記載の陰極アークプラズマ蒸着システム内で使用するアークイオン蒸発器のフィルタ装置。
【請求項４】
前記複数の管は、円形の正面視構造又は矩形の正面視構造を有している
請求項１〜３のいずれか１項に記載の陰極アークプラズマ蒸着システム内で使用するアークイオン蒸発器のフィルタ装置。