(57)【要約】カラーフィルタ基板１０は、基板本体１１上に、少なくとも表示領域５１に形成された着色部１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂからなるカラーフィルタ１２と遮光層１２Ｘとを備えており、遮光層１２Ｘが、表示領域５１の他に、カラーフィルタの非形成領域の略全面に形成されている。また、着色部１２Ｒ〜１２Ｂがインクジェット方式により形成されたものであり、カラーフィルタ基板１０が、各着色部１２Ｒ〜１２Ｂを形成する画素を区画するための樹脂材１２Ｙをさらに具備すると共に、樹脂材１２Ｙが、各着色部１２Ｒ〜１２Ｂの周囲の他に、カラーフィルタの非形成領域の略全面に形成されている。
2003030131.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する基板内面に電極を有する一対の基板に電気光学材料が挟持されてなり、前記一対の基板は該基板内面上に形成されたシールによって接着され、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板は、前記シールが形成されるシール部によって囲まれる領域内に複数のカラーフィルタが形成されてなるカラーフィルタ基板である電気光学装置において、
前記シール部形成領域を含むと共に、前記カラーフィルタの全周を囲む領域の前記基板上に樹脂膜が形成されてなることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記カラーフィルタ基板は、前記樹脂膜によって形成されたアライメントマークを有するものであることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記樹脂膜は、膜厚が０．５μｍ以上、５μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記樹脂膜は、前記カラーフィルタをインクジェット方式により形成する際に各カラーフィルタ部を形成する部分を区画するために設けられることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記樹脂膜は、前記カラーフィルタを形成する液体材料に対して、撥液性を有する材料によって形成されることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記樹脂膜は、遮光性を有する材料によって形成されることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項７】
前記樹脂膜は、電気絶縁性を有する材料によって形成されることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項８】
前記シールは、前記一対の基板間のギャップを一定に保持する粒子と、前記一対の基板を張り合わせる接着剤と、を含む材料で形成されている請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項９】
請求項１から請求項８までのいずれか１項に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【請求項１０】
電極の間に発光層を有するエレクトロルミネッセンス素子が基板上に形成されてなる電気光学装置において、
複数の前記発光層によって構成される発光領域に、それぞれの前記発光層の周囲を囲うように樹脂膜が形成されてなり、前記発光領域を除く領域には前記樹脂膜が前記基板の上に形成されてなることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１１】
前記発光領域を除く領域には前記樹脂膜材料にてアライメントマークが形成されてなることを特徴とする請求項１０に記載の電気光学装置。
【請求項１２】
前記樹脂膜は、電気絶縁性を有する材料によって形成されることを特徴とする請求項１０に記載の電気光学装置。
【請求項１３】
前記エレクトロルミネッセンス素子は、有機材料によって形成されることを特徴とする請求項１０に記載の電気光学装置。
【請求項１４】
請求項１０から請求項１２までのいずれか１項に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
［発明の属する技術分野］
本発明は、基板本体上にカラーフィルタを備えたカラーフィルタ基板、基板本体上にエレクトロルミネッセンス素子を備えたエレクトロルミネッセンス基板、該カラーフィルタ基板または該エレクトロルミネッセンス基板を備えた電気光学装置、並びに該電気光学装置を備えた電子機器に関するものである。
［背景技術］
携帯電話等の電子機器に搭載される直視型表示装置等として用いられる液晶装置は、液晶層を挟持して対向配置され、液晶層に電圧を印加するための電極を具備する一対の基板を主体として構成されている。また、一方の基板にカラーフィルタを配置し、フルカラー表示を可能にした液晶装置が広く用いられている。
図１０に基づいて、パッシブマトリクス型の透過型液晶装置を取り上げて、カラーフィルタを備えた従来の液晶装置の一例について説明する。図１０は、従来の液晶装置の構造を示す部分断面図である。
図１０に示す従来の透過型液晶装置は、一対の基板であるカラーフィルタ基板２００と対向基板３００とが液晶層４００を挟持して対向配置されて概略構成されており、カラーフィルタ基板２００と対向基板３００とは、各々の基板の周縁部においてシール材５００を介して貼着されている。
カラーフィルタ基板２００は、基板本体２１０の液晶層４００側表面に、カラーフィルタ２２０、オーバーコート層２３０、透明電極２４０、配向膜２５０が順次積層形成されて概略構成されており、対向基板３００は、基板本体３１０の液晶層４００側表面に、透明電極３２０、配向膜３３０が順次積層形成されて概略構成されている。
カラーフィルタ基板２００、対向基板３００において、ストライプ状に複数の透明電極２４０、３２０が設けられており、各透明電極２４０と各透明電極３２０とは、互いに交差する方向に延在している。そして、各透明電極２４０と各透明電極３２０とが交差する領域が個々の画素となっており、各画素に対応して、カラーフィルタ２２０には、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の着色部２２０Ｒ、２２０Ｇ、２２０Ｂが所定のパターンで形成されている。また、カラーフィルタ基板２００において、隣接する画素間には、遮光層２２０Ｘが形成されている。
カラーフィルタ２２０は、少なくとも、シール材５００の内端面よりも内側に位置する表示領域６１０に形成されるが、表示領域６１０にのみ形成される場合と、表示領域６１０の外側に数画素分多く形成される場合がある。図１０には、カラーフィルタ２２０が表示領域６１０の外側に数画素分多く形成された場合について図示している。また、カラーフィルタの形成領域を符号６００で示している。なお、図面上は、着色部２２０Ｒ〜２２０Ｂの幅を大きく図示しているが、実際には、着色部２２０Ｒ〜２２０Ｂの幅は０．１５〜０．３ｍｍ程度と微細であるのに対して、シール材５００の内端面と、表示領域６１０あるいはカラーフィルタの形成領域６００との間の間隔は０．２〜３ｍｍ程度と、着色部２２０Ｒ〜２２０Ｂの幅に比較して大きいものとなっている。
したがって、従来の透過型液晶装置では、カラーフィルタ２２０を表示領域６１０にのみ形成する場合には勿論のこと、表示領域６１０の外側に数画素分多く形成する場合においても、カラーフィルタの形成領域６００は、シール材５００の内端面より内側に位置し、液晶層４００が封入されたシール材５００より内側の領域の周縁部には、カラーフィルタ２２０が形成されていない領域が必ず存在する。そのため、図示するように、カラーフィルタ基板２００の表面において、カラーフィルタの形成領域６００と非形成領域（形成領域６００の外側）の境界には、カラーフィルタ２２０の高さ（０．７〜３μｍ）分の段差が生じている。
一方、近年では、表示装置としてエレクトロルミネッセンス素子を利用したエレクトロルミネッセンス装置の技術開発が行われている。有機物を発光材料として用いた有機エレクトロルミネッセンス（本明細書を通じてＥＬと記す）素子としては、Ａｐｐｌ．Ｐｈｉｓ．Ｌｅｔｔ．５１（１２），２１  Ｓｅｐｔｅｍｂｅｒ  １９８７の９１３ページから示されているように低分子の有機ＥＬ材料（発光材料）を蒸着法で成膜する方法と、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．７１（１），７  Ｊｕｌｙ  １９９７の３４ページから示されているように高分子の有機ＥＬ材料を塗布する方法が主に報告されている。
カラー化の手段としては低分子系材料の場合、マスク越しに異なる発光材料を所望の画素上に蒸着し形成する方法が行われている。一方、高分子系材料については、インクジェット法を用いた微細パターニングによるカラー化が注目されている。インクジェット法による有機ＥＬ素子の形成としては以下の公知例が知られている。特開平７−２３５３７８、特開平１０−１２３７７、特開平１０−１５３９６７、特開平１１−４０３５８、特開平１１−５４２７０、特開平３−３９９５７、ＵＳＰ６０８７１９６である。
［発明の開示］
ところで、一般に、液晶装置または有機ＥＬ装置等の表示装置を携帯電話等の電子機器に搭載する場合、表示装置の表示領域と、電子機器のケースの窓から露出する表示画面とが多少ずれたとしても、支障無く表示を行うことができるように、電子機器の表示画面は表示装置の表示領域よりも０．５〜３ｍｍ程度広く設定されている。
したがって、表示装置を携帯電話等の電子機器に搭載する場合、表示装置の非表示領域であって表示領域の近傍に位置する領域が、表示画面の周縁部に位置することになる。そこで、表示装置を搭載する電子機器には、表示装置の非表示領域が観察者に視認されないように、非表示領域を遮光する見切り材が取り付けられている。このように、従来は、見切り材を、表示装置を構成する他の要素と独立して設けているため、見切り材を取り付ける工程が別途必要になり、電子機器の製造工程の工程数が増すという問題があった。
また、見切り材は、樹脂成形体に黒色顔料を塗布するなどして製造されているが、樹脂成形体に黒色顔料を塗布する際のコストが高いため、電子機器の製造コストが高くなるという問題もあった。
さらに、見切り材を電子機器に取り付ける際の取り付け精度には限界があったため、見切り材の内端部と表示装置の表示領域の外端部とが多少ずれたとしても、支障なく表示を行うことができるように、±０．１〜２ｍｍ程度のマージンを持たせる必要があり、その分、電子機器（表示装置）の表示領域の面積が減少するという問題もあった。
また、上述したように、図１０に示した従来の液晶装置を構成するカラーフィルタ基板の表面には、カラーフィルタの形成領域と非形成領域の境界に、カラーフィルタの高さ分の段差が生じている。したがって、液晶層が封入されたシール材より内側の領域において、カラーフィルタの非形成領域のセルギャップが、表示領域を含むカラーフィルタの形成領域のセルギャップよりこの段差分だけ大きくなっている。表示領域のセルギャップは数〜１０μｍ程度であるのに対し、カラーフィルタの厚みは０．７〜３μｍ程度であるため、カラーフィルタの形成領域と非形成領域との間のセルギャップの差は無視できないものとなっている。よって、シールの高さは、カラーフィルタの厚みに左右されてしまうという問題もあった。
ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型液晶を用いた液晶装置においては、Δｎ・ｄ値（但し、Δｎは液晶の複屈折率、ｄはセルギャップ）の変化により光透過率が変化するため、カラーフィルタの形成領域と非形成領域との間にセルギャップの差が生じると、これらの領域において異なる光透過率を示すことになる。カラーフィルタの非形成領域は非表示領域に属しているが、カラーフィルタの非形成領域の光透過率が、表示領域の周縁部、すなわち、表示領域であって非表示領域の近傍に位置する領域の光透過率に対して僅かながらも影響を及ぼす恐れがある。そして、カラーフィルタの非形成領域の光透過率が、表示領域の周縁部の光透過率に影響を及ぼした場合には、表示領域の周縁部の明るさが変化するため、コントラストが低下し、表示品質が低下する恐れがある。
なお、以上の問題は、特に、光透過率に対するセルギャップの影響が大きいパッシブマトリクス型液晶装置において顕著な問題であるが、いかなる液晶装置においても生じる問題である。
また、図１０に示した従来の液晶装置を構成するカラーフィルタ基板では、カラーフィルタ上に透明電極が形成されているが、透明電極の厚みは０．１〜０．２μｍ程度と薄いため、カラーフィルタ基板の表面において、カラーフィルタの形成領域と非形成領域との間に段差が形成されていると、透明電極（あるいは透明電極の一端に接続される引き廻し配線）がこの段差を境に断線する恐れもある。
なお、図１０に示したように、パッシブマトリクス型液晶装置では、カラーフィルタ上に電極が形成されるが、スイッチング素子として、ＴＦＴ素子やＴＦＤ素子を用いたアクティブマトリクス型液晶装置では、カラーフィルタ上に、電極の代わりにデータ線や走査線等の配線が形成される場合がある。この場合にも、データ線や走査線等の配線（あるいはデータ線や走査線等の配線の一端に接続される引き廻し配線）がカラーフィルタの形成領域と非形成領域との間に形成された段差を境に断線する恐れがある。
カラーフィルタの形成領域と非形成領域との間に形成された段差に起因する以上の問題は、カラーフィルタの厚みを薄くすることにより緩和することができる。しかしながら、カラーフィルタの厚みを薄くする場合には、着色部に含有される着色材料の濃度を高くする必要があるが、高濃度のレジストを薄く均一に塗布することは技術的に難しいため、カラーフィルタの厚みを薄くすることは困難である。
また、インクジェット法にてカラーフィルタまたは有機ＥＬ素子を作成する際に使用するアライメントマークは、画素間の仕切部材とは別に作成する必要があり、工程数が増えてしまう問題があった。
そこで、本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、見切り材と、表示装置を構成する他の要素とを同一工程で形成することを可能にし、電子機器の製造コストの削減を図ることができると共に、電子機器の表示領域の面積の拡大化を図ることができる手段を提供することを第１の目的とする。また、カラーフィルタ基板の表面を従来より平坦化し、セルギャップの均一化を図ることができると共に、カラーフィルタ上に形成される電極や配線等が断線することを防止することができる手段を提供することを第２の目的とする。また、仕切部材のパターニングと同時にアライメントマークを作成することによって、工程数を減らすことができる手段を提供することを第３の目的とする。
［発明を実施するための最良の形態］
上記課題を解決するために、対向する基板内面に電極を有する一対の基板に電気光学材料が挟持されてなり、前記一対の基板は該基板内面上に形成されたシールによって接着され、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板は、前記シールが形成されるシール部によって囲まれる領域内に複数のカラーフィルタが形成されてなるカラーフィルタ基板である電気光学装置において、
前記シール部形成領域を含むと共に、前記カラーフィルタの全周を囲む領域の前記基板上に樹脂膜が形成されてなることを特徴とする。
更に、
▲１▼前記カラーフィルタ基板は、前記樹脂膜によって形成されたアライメントマークを有するものである。
▲２▼前記樹脂膜は、膜厚が０．５μｍ以上、５μｍ以下である。
▲３▼前記樹脂膜は、前記カラーフィルタをインクジェット方式により形成する際に各カラーフィルタ部を形成する部分を区画するために設けられる。
▲４▼前記樹脂膜は、前記カラーフィルタを形成する液体材料に対して、撥液性を有する材料によって形成される。
▲５▼前記樹脂膜は、遮光性を有する材料によって形成される。
▲６▼前記樹脂膜は、電気絶縁性を有する材料によって形成される。
▲７▼前記シールは、前記一対の基板間のギャップを一定に保持する粒子と、前記一対の基板を張り合わせる接着剤と、を含む材料で形成されている。
▲８▼これらの電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
また、電極の間に発光層を有するエレクトロルミネッセンス素子が基板上に形成されてなる電気光学装置において、
複数の前記発光層によって構成される発光領域に、それぞれの前記発光層の周囲を囲うように樹脂膜が形成されてなり、前記発光領域を除く領域には前記樹脂膜が前記基板の上に形成されてなることを特徴とする。
更に、前記発光領域を除く領域には前記樹脂膜材料にてアライメントマークが形成されてなる。前記樹脂膜は、電気絶縁性を有する材料によって形成される。前記エレクトロルミネッセンス素子は、有機材料によって形成される。また、これら電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
以下、本発明の実施の形態を図面を参照しながら説明する。
〔発明の実施の形態〕
次に、本発明に係る実施形態について詳細に説明する。なお、各実施形態においては、図面を参照しながら説明するが、各図において、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。
［第１実施形態］
本発明に係る第１実施形態の電子光学装置の構造について説明する。
本実施形態では、電気光学装置としてのパッシブマトリクス型の透過型液晶装置への本発明の適用例を示す。本実施形態の液晶装置は、本発明のカラーフィルタ基板を備えたものであり、特にカラーフィルタの構造が特徴的なものとなっている。なお、本実施形態では、カラーフィルタ基板を観察者側に配置した場合を例として説明する。
以下、図１〜図５に基づいて、本実施形態の液晶装置の構造について説明する。図１は、本実施形態の液晶装置を後述する対向基板側から見た時の平面図である。図２は、本実施形態の液晶装置を構成するカラーフィルタ基板を液晶層側から見た時の平面図である。図３は、本実施形態の液晶装置を構成する対向基板を液晶層側から見た時の平面図である。図４は、本実施形態の液晶装置に備えられたカラーフィルタを液晶層側から見た時の部分平面図であり、カラーフィルタの図２の符号５７で示す領域を拡大して示す図である。図５は、本実施形態の液晶装置の構造を示す断面図であって、本実施形態の液晶装置を、図２、図３に示すＡ−Ａ’線に沿って切断した時の部分断面図である。
（液晶装置の概略構造）
図１に示すように、本実施形態の液晶装置１においては、一対の基板であるカラーフィルタ基板１０と対向基板２０とがシール材４０を介して所定間隔で貼着され、シール材４０の内側に液晶層３０が封入されている。液晶装置１において、表示領域５１はシール材４０の内端面よりも内側に位置し、表示領域５１よりも外側が非表示領域になっている。
シール材４０は、カラーフィルタ基板１０、対向基板２０の周縁部間に略環状に形成されており、その一部には液晶を注入するための液晶注入孔４１が形成されている。この液晶注入孔４１は、液晶注入孔４１からカラーフィルタ基板１０、対向基板２０間（液晶セル内）に液晶を注入した後、封止材４２により封止されている。
また、対向基板２０のカラーフィルタ基板１０と反対側には、バックライト（光照射手段、図示略）が備えられており、カラーフィルタ基板１０及び対向基板２０の液晶層３０と反対側には、各々特定の偏光のみを透過する偏光子（図示略）が取り付けられている。そして、バックライトから出射された光は、対向基板２０側の偏光子、対向基板２０、液晶層３０、カラーフィルタ基板１０、カラーフィルタ基板１０側の偏光子を順次透過して観察者側に出射されるようになっている。
また、カラーフィルタ基板１０の図示下端部が、対向基板２０より外側に位置しており、対向基板２０より外側に位置している部分に後述する外部接続用端子部（図示略）が設けられている。
（液晶装置の内部構造）
次に、本実施形態の液晶装置１の内部構造について詳述する。
図５に示すように、カラーフィルタ基板１０は、基板本体１１の液晶層３０側表面に、所定のパターンの着色部１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂからなるカラーフィルタ１２と、カラーフィルタ１２を保護すると共に、カラーフィルタ１２が形成された基板本体１１表面を平坦化するためのオーバーコート層１３と、液晶層３０に電圧を印加するための透明電極１４と、液晶層３０内の液晶分子の配向を規制するための配向膜１５とが順次積層形成されて概略構成されている。また、カラーフィルタ基板１０において、少なくとも隣接する着色部１２Ｒ〜１２Ｂ間には、遮光層１２Ｘと樹脂材１２Ｙ（バンク）とが形成されている。
これに対して、対向基板２０は、基板本体２１の液晶層３０側表面に、液晶層３０に電圧を印加するための透明電極２２と、液晶層３０内の液晶分子の配向を規制するための配向膜２３とが順次積層形成されて概略構成されている。
ここで、基板本体１１、２１はガラス、透明樹脂等の透光性基板、オーバーコート層１３は有機膜等、透明電極１４、２２はインジウム錫酸化物等の透明導電性材料により、各々構成されている。また、配向膜１５、２３は、表面にラビング処理が施されたポリイミド膜等により構成されている。
また、カラーフィルタ基板１０と対向基板２０との間（液晶層３０内）には、セルギャップを均一化するために、二酸化珪素、樹脂等からなる球状のスペーサ３１が多数配置されている。
（透明電極、引き廻し配線等の構造）
次に、図２、図３に基づいて、透明電極１４、２２の平面構造、及び透明電極１４、２２に接続される引き廻し配線等の構造について説明する。なお、図２、図３において、表示領域５１の外側であって、カラーフィルタ基板１０、対向基板２０の周縁部には、シール材４０が形成されているが図示を省略している。
図２、図３に示すように、カラーフィルタ基板１０、対向基板２０において、ストライプ状に複数の透明電極１４、２２が設けられており、各透明電極１４と各透明電極２２とは、互いに交差する方向に延在している。本実施形態では、透明電極１４が図示上下方向、透明電極２２が図示左右方向に延在している場合について説明する。
表示領域５１に形成された透明電極１４、２２の一端には、各々引き廻し配線１４ａ、２２ａが接続されている。これら引き廻し配線１４ａ、２２ａは、カラーフィルタ基板１０、対向基板２０の表面において、表示領域５１の外側（すなわち非表示領域）に配設されている。
図２に示すように、カラーフィルタ基板１０において、引き廻し配線１４ａは透明電極１４の図示下端部に接続され、表示領域５１の図示下側の領域に配設されている。以下、引き廻し配線１４ａが配設された領域を引き廻し配線領域（引き廻し配線の形成領域）５２と称す。これに対して、図３に示すように、対向基板２０において、引き廻し配線２２ａは透明電極２２の図示左端部若しくは図示右端部に接続され、表示領域５１の図示左側と図示右側の２つの領域に配設されている。以下、引き廻し配線２２ａが配設された領域を引き廻し配線領域５３ａ、５３ｂと称す。
透明電極１４、２２は、各々引き廻し配線１４ａ、２２ａを介して外部接続用端子部に接続されているが、上述したように、本実施形態では、外部接続用端子部はカラーフィルタ基板１０側にのみ設けられている。具体的には、図２に示すように、カラーフィルタ基板１０の端部中央に、下側電極（１４）用外部接続用端子部５４、その両側に上側電極（２１）用外部接続用端子部５５が設けられている。上側電極用外部接続用端子部５５は引き廻し配線領域５３ａ、５３ｂに対応して２箇所に分けて設けられている。
引き廻し配線１４ａは、下側電極用外部接続用端子部５４に電気的に接続されており、透明電極１４は、引き廻し配線１４ａを介して外部接続用端子部５４に電気的に接続されている。これに対して、引き廻し配線２２ａは、シール材４０の一部に、導通粒子を封入することにより形成された上下導通部５６に接続されている。上下導通部５６は、引き廻し配線領域５３ａ、５３ｂに対応して２箇所に設けられており、各上下導通部５６は、カラーフィルタ基板１０に設けられた上側電極用外部接続用端子部５５に電気的に接続されている。したがって、透明電極２２は、引き廻し配線２２ａ、上下導通部５６を介して外部接続用端子部５５に電気的に接続されている。
そして、外部接続用端子部５４、５５に、透明電極１４、２２に信号を供給する駆動用ＩＣ（Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔ）を直接実装するか、あるいは外部接続用端子部５４、５５に、透明電極１４、２２に信号を供給する駆動用ＩＣが搭載されたフレキシブルプリント配線基板（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  Ｐｒｉｎｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔ）を電気的に接合することにより、透明電極１４、２２を駆動することができる構成になっている。
なお、引き廻し配線１４ａ、２２ａの配線構造、及び引き廻し配線１４ａ、２２ａと外部接続用端子部５４、５５との接続構造については図示するものに限定されるものではなく、適宜、設計することが可能である。また、本実施形態では、一方の基板にのみ外部接続用端子部を設ける、いわゆる上下導通タイプのものについて説明したが、各々の基板に外部接続用端子部を設け、各基板に形成された透明電極を、引き廻し配線を介して同じ基板に形成された外部接続用端子部に電気的に接続することも可能である。
（カラーフィルタ、遮光層、樹脂材の構造）
次に、本実施形態の液晶装置１に備えられたカラーフィルタ１２、遮光層１２Ｘ、樹脂材１２Ｙの構造について詳述する。
上述したように、カラーフィルタ基板１０側の各透明電極１４と、対向基板２０側の各透明電極２２とは、互いに交差する方向に延在している。そして、本実施形態の液晶装置１において、各透明電極１４と各透明電極２２とが交差する領域が個々の画素となっており、各画素に対応して、カラーフィルタ１２には、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の着色部１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂが所定のパターンで形成されている。
カラーフィルタ１２（着色部１２Ｒ〜１２Ｂ）は、少なくとも、シール材４０の内端面よりも内側に位置する表示領域５１に形成されるが、表示領域５１にのみ形成される場合と、表示領域５１の外側に数画素分多く形成される場合がある。本実施形態では、図５に示すように、カラーフィルタ１２が表示領域５１の外側に数画素分多く形成された場合について説明する。また、以下、カラーフィルタ１２（着色部１２Ｒ〜１２Ｂ）が形成された領域を、カラーフィルタの形成領域５０と称す。
なお、図面上は、着色部１２Ｒ〜１２Ｂの幅を大きく図示しているが、実際には、着色部１２Ｒ〜１２Ｂの幅は０．１５〜０．３ｍｍ程度と微細であるのに対して、シール材４０の内端面と、表示領域５１あるいはカラーフィルタの形成領域５０との間の間隔は０．２〜３ｍｍ程度と、着色部１２Ｒ〜１２Ｂの幅に比較して大きいものとなっている。したがって、カラーフィルタの形成領域５０も、表示領域５１と同様、シール材４０の内端面より内側に位置している。
また、カラーフィルタ基板１０において、カラーフィルタの形成領域５０の隣接する画素間（隣接する着色部１２Ｒ〜１２Ｂ間）には、遮光層（ブラックマトリクス）１２Ｘが形成されている。また、本実施形態において、着色部１２Ｒ〜１２Ｂはインクジェット方式を用いて形成されたものであり、カラーフィルタの形成領域５０において、遮光層１２Ｘ上には、着色部１２Ｒ〜１２Ｂを形成する際に各着色部１２Ｒ〜１２Ｂを形成する画素を区画するための樹脂材１２Ｙが形成されている。
なお、遮光層１２Ｘの膜厚は０．１〜１．５μｍ程度であるのに対し、樹脂材１２Ｙの高さは１〜３μｍ程度であり、遮光層１２Ｘと樹脂材１２Ｙとを合わせた高さは１．１〜４．５μｍ程度であり、セルギャップ（数〜１０μｍ）に対して無視できない高さになり得る。
また、インクジェット方式により着色部１２Ｒ〜１２Ｂを形成する場合、インクジェットノズルから、赤、緑、青に着色された着色インクを吐出することにより、着色部１２Ｒ〜１２Ｂを形成するが、インクジェットノズルからノズルを閉塞することなくインクの液滴を連続的に吐出することを可能とするために、用いるインクの粘度を低く設定する必要がある。したがって、用いるインクには粘度を下げるために所定量の溶剤を配合する必要がある。そのため、樹脂材１２Ｙで囲われた各画素内に、樹脂材１２Ｙの最高部よりも高くなるように、インクを吐出したとしても、吐出したインクを乾燥し、溶剤を除去する工程で体積が減少するため、形成される着色部１２Ｒ〜１２Ｂの高さは、遮光層１２Ｘの膜厚と樹脂材１２Ｙの高さとを合わせた高さよりも０．１〜４μｍ程度低くなる。
したがって、カラーフィルタの形成領域５０において、カラーフィルタ１２、遮光層１２Ｘ、樹脂材１２Ｙが形成された層の最大高さは、隣接する着色部１２Ｒ〜１２Ｂ間、すなわち、遮光層１２Ｘと樹脂材１２Ｙとが重なって形成される部分の高さに相当する。
ここで、カラーフィルタ１２を構成する各要素の構成材料について簡単に説明する。上述したように、着色部１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂは、各々赤、緑、青に着色された着色インクを用いて形成されたものである。これに対して、遮光層１２Ｘは、カーボン粒子等の黒色粒子を含有する黒色樹脂、クロム等の金属や金属化合物等の遮光性材料（透光性の低い材料）により構成されている。また、樹脂材１２Ｙは、導電性を有しない樹脂等に構成されている。なお、樹脂材１２Ｙを黒色樹脂等の遮光性材料により構成する場合には、遮光層１２Ｘを省略することも可能である。
次に、カラーフィルタ１２、遮光層１２Ｘ、樹脂材１２Ｙが形成された領域について説明する。上述したように、カラーフィルタ１２（着色部１２Ｒ〜１２Ｂ）は、シール材４０の内端面より内側に形成されており、表示領域５１を含むカラーフィルタの形成領域５０に形成されている。これに対して、図５に示すように、遮光層１２Ｘ及び樹脂材１２Ｙは、カラーフィルタの形成領域５０において、隣接する画素間（隣接する着色部１２Ｒ〜１２Ｂ間）に形成されている他、カラーフィルタの非形成領域（カラーフィルタの形成領域５０の外側の領域）の略全面にも形成されている。
すなわち、本実施形態に備えられたカラーフィルタ１２、遮光層１２Ｘ、樹脂材１２Ｙの平面構造は、図４に示すものとなっている。表示領域５１を含むカラーフィルタの形成領域５０においては、マトリクス状に配置された各画素に対応して、カラーフィルタ１２を構成する着色部１２Ｒ〜１２Ｂがマトリクス状に配置され、隣接する画素間（隣接する着色部１２Ｒ〜１２Ｂ間）に、遮光層１２Ｘ及び樹脂材１２Ｙが形成されている。したがって、表示領域５１を含むカラーフィルタの形成領域５０においては、遮光層１２Ｘ及び樹脂材１２Ｙは平面視格子状に形成されている。さらに、遮光層１２Ｘ及び樹脂材１２Ｙは、カラーフィルタの形成領域５０の外側に位置する、カラーフィルタの非形成領域の略全面に形成されている。なお、図４に示す着色部１２Ｒ〜１２Ｂのパターンは一例であって、本発明はこのパターンに限定されるものではない。
ここで、「カラーフィルタの非形成領域の略全面」とは、具体的には、「シール材４０の形成領域や、上述の引き廻し配線領域５２、５３ａ、５３ｂ等を含む領域であって、透光性が必要な領域を除いた部分」のことを意味している。
また、「透光性が必要な部分」とは、例えば、光学的に識別可能なアライメントマークを形成する部分、あるいは光学的に識別可能なアライメントマークを形成する部分の近傍部分等を意味する。アライメントマークは、液晶装置１の製造時において、カラーフィルタ基板１０と対向基板２０とを貼着する際の目印として、シール材４０の形成領域よりも外側に設けられるものである。そして、本実施形態では、遮光層１２Ｘをパターニングする際に、シール材４０の形成領域よりも外側に遮光層１２Ｘを形成しない部分を部分的に残すことにより、遮光層１２Ｘとアライメントマークを一括形成することができるという効果も得られる。
例えば、図７（ａ）に示すように、カラーフィルタ基板１０のコーナー部を拡大して示すように、コーナー部に遮光層１２Ｘを形成しない十字状の部分６２を残すように、遮光層１２Ｘをパターニングすることにより、この十字状の部分６２を光学的に読みとることができるので、十字状の部分６２をアライメントマークとして機能させることができる。
また、図７（ｂ）に示すように、カラーフィルタ基板１０のコーナー部に、遮光層１２Ｘを形成しない矩形状の部分６３を設けると共に、その内部に遮光層１２Ｘを形成する十字状の部分６４を設けるように、遮光層１２Ｘをパターニングすることにより、十字状の部分６４を光学的に読みとることができるので、十字状の部分６４をアライメントマークとして機能させることができる。
なお、上述したように、本実施形態では、樹脂材１２Ｙがシール材４０の形成領域にも形成されるが、液晶装置１を製造するに際しては、表面にカラーフィルタ１２、透明電極１４等の必要な要素を形成したカラーフィルタ基板１０と、透明電極２２等の必要な要素を形成した対向基板２０とを未硬化のシール材を介して貼着した後、カラーフィルタ基板１０と対向基板２０の外部から圧力をかけながら、未硬化のシール材を硬化させ、液晶セルを形成するので、カラーフィルタ基板１０と対向基板２０の外部から圧力をかける際に、シール材４０の直下に位置する樹脂材１２Ｙが変形しない程度の耐圧性を有する材料により、樹脂材１２Ｙを構成する必要がある。
（カラーフィルタの形成方法）
次に、図６に基づいて、本実施形態の液晶装置１に備えられたカラーフィルタ１２、遮光層１２Ｘ、樹脂材１２Ｙの形成方法の一例について説明する。なお、図６（ａ）〜（ｅ）は、各形成工程を示す部分断面図である。
はじめに、基板本体１１を用意し、この基板本体１１の全面に、図４、図５に示したパターンの遮光層１２Ｘを形成する。
黒色樹脂からなる所定のパターンの遮光層１２Ｘは、例えば、以下のようにして形成することができる。基板本体１１の全面に、スピンコート法等により、カーボン粒子等を含有する黒色顔料、アクリル系などの樹脂のモノマー、重合開始剤を主成分としたネガ型のレジストを塗布した後、レジストを仮焼成する。次いで、遮光層１２Ｘのパターンが形成されたフォトマスクを用いて所定の位置のレジストを露光する。露光されたレジストは、モノマーの光重合反応が進行して、溶剤に不溶な樹脂となる。最後に、レジストの現像を行うことにより、露光されて溶剤に不溶となった部分のみが残存し、図４、図５に示した所定のパターンの遮光層１２Ｘを形成することができる。
なお、露光することにより溶剤に不溶となるネガ型のレジストを用いる代わりに、露光することにより溶剤に可溶となるポジ型のレジストを用い、遮光層１２Ｘが形成されない部分を露光しても、同様に、所定のパターンの遮光層１２Ｘを形成することができる。
また、クロム等の金属や金属化合物からなる所定のパターンの遮光層１２Ｘは、例えば、以下のようにして形成することができる。基板本体１１Ａの全面に、クロム等の金属や金属化合物をスパッタリング法等により成膜した後、フォトリソグラフィー法により所定のパターンに形成することにより、図４、図５に示した所定のパターンの遮光層１２Ｘを形成することができる。
以上のようにして、所定のパターンの遮光層１２Ｘを形成した後、図６（ｂ）に示すように、遮光層１２Ｘを形成した基板本体１１の全面に、スピンコート法等により、感光性を有する樹脂材１２Ｙ用のレジストを塗布し、黒色樹脂からなる遮光層１２Ｘを形成する場合と同様に、露光、現像することにより、図４、図５に示したパターンの樹脂材１２Ｙを形成する。
次に、インクジェット方式を用いてカラーフィルタ１２（着色部１２Ｒ〜１２Ｂ）を形成する。
すなわち、図６（ｃ）に示すように、インクジェットノズル６０に、赤色顔料、アクリル系などの樹脂等を溶剤に溶解して調製した赤色インク６２Ｒを充填し、インクジェット６０の吐出ノズル６１を基板本体１１に対向させた状態で、インクジェット６０と基板本体１１とを相対移動させ、着色部１２Ｒを形成する画素にのみ、吐出ノズル６１から赤色インク６２Ｒを吐出する。この時、図示するように、各着色部１２Ｒ〜１２Ｂを形成する画素の周囲に沿って、隔壁として機能する樹脂材１２Ｙが形成されているが、中央部が樹脂材１２Ｙの最高部より高くなるように、かつ、隣接する画素にはインクが漏出しないように、赤色インク６２Ｒの吐出を行う。
次に、図６（ｄ）に示すように、赤色インク６２Ｒを吐出した後の基板本体１１全体を４０〜１８０℃程度に加熱するなどして、赤色インク６２Ｒを仮焼成し、溶剤を除去することにより、赤の着色部１２Ｒを形成することができる。この工程において、赤色インク６２Ｒから溶剤が抜けて体積が減少するので、形成される着色部１２Ｒの高さは樹脂材１２Ｙの最高部よりも低くなる。
図６（ｃ）、（ｄ）に示す工程を、緑の着色部１２Ｇ、青の着色部１２Ｂについても同様に繰り返すことにより、所定のパターンの着色部１２Ｒ〜１２Ｂを形成する。最後に、着色部１２Ｒ〜１２Ｂを形成した基板本体１１全体を１５０〜２７０℃程度に加熱するなどして、着色部１２Ｒ〜１２Ｂを本焼成（本硬化）することにより、所定のパターンの着色部１２Ｒ〜１２Ｂからなるカラーフィルタ１２、所定のパターンの遮光層１２Ｘ及び樹脂材１２Ｙを形成することができる。
なお、着色部１２Ｒ〜１２Ｂを本焼成することにより、着色部１２Ｒ〜１２Ｂの基板本体１１への密着性を高くすることができ、後のオーバーコート層１３の形成工程において、着色部１２Ｒ〜１２Ｂが基板本体１１から剥離することを防止することができる。また、本実施形態では、着色部１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂの順に、カラーフィルタ１２を形成する場合についてのみ説明したが、着色部１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂの形成順序は問わない。
本実施形態の液晶装置１に備えられたカラーフィルタ基板１０では、遮光層１２Ｘを、表示領域５１を含むカラーフィルタの形成領域５０の他に、カラーフィルタの非形成領域の略全面に形成する構成を採用した。表示領域５１の外側に形成される着色部１２Ｒ〜１２Ｂの形成面積は数画素分と非常に微小であるので、カラーフィルタの非形成領域の略全面に遮光層１２Ｘを形成することにより、非表示領域の略全面を遮光層１２Ｘにより遮光することができる。
したがって、遮光層１２Ｘを、本実施形態の液晶装置１の非表示領域を遮光する見切り材として機能させることができる。よって、本実施形態の液晶装置１に備えられたカラーフィルタ基板１０、及び本実施形態の液晶装置１によれば、見切り材と遮光層１２Ｘとを同一工程で形成することができるので、本実施形態の液晶装置１を搭載することにより、電子機器の製造プロセスの簡略化を図ることができる。
また、見切り材を別途設ける必要がなくなるので、本実施形態の液晶装置１を搭載することにより、電子機器の製造コストの削減を図ることができる。さらに、見切り材を別途設ける必要がなくなるので、本実施形態の液晶装置１を搭載することにより、見切り材を電子機器に取り付ける際の取り付け精度に起因したマージンをなくすことができ、電子機器の表示領域の面積の拡大化を図ることができるという効果も得られる。
また、本実施形態の液晶装置１に備えられたカラーフィルタ基板１０では、さらに、着色部１２Ｒ〜１２Ｂをインクジェット方式により形成すると共に、着色部１２Ｒ〜１２Ｂを形成する際に各着色部１２Ｒ〜１２Ｂを形成する画素を区画するために、各着色部１２Ｒ〜１２Ｂの周囲に沿って基板本体１１上に形成される樹脂材１２Ｙを、表示領域５１を含むカラーフィルタの形成領域５０の他に、カラーフィルタの非形成領域の略全面に形成する構成を採用した。
上述したように、カラーフィルタの形成領域５０において、カラーフィルタ１２、遮光層１２Ｘ、樹脂材１２Ｙが形成された層の最大高さは、隣接する着色部１２Ｒ〜１２Ｂ間、すなわち、遮光層１２Ｘと樹脂材１２Ｙとが重なって形成される部分の高さに相当するが、本実施形態の液晶装置１に備えられたカラーフィルタ基板１０においては、カラーフィルタの非形成領域の略全面に遮光層１２Ｘと樹脂材１２Ｙとを形成する構成としたので、図５に示すように、カラーフィルタ１２、遮光層１２Ｘ、樹脂材１２Ｙが形成された層において、カラーフィルタの形成領域５０と非形成領域における最大高さを等しくすることができる。その結果、カラーフィルタ１２の表面において、カラーフィルタの形成領域５０と非形成領域との間の段差をなくすことができ、カラーフィルタ１２全面をほぼ平坦化することができる。
したがって、本実施形態の液晶装置１に備えられたカラーフィルタ基板１０、及び本実施形態の液晶装置１によれば、カラーフィルタ基板１０の表面を従来よりも平坦化することができ、セルギャップの均一化を図ることができるので、表示品質に優れた液晶装置を提供することができるという効果も得られる。
さらに、カラーフィルタ基板１０の表面を従来よりも平坦化することができるので、カラーフィルタ１２上に形成される透明電極１４（あるいは引き廻し配線１４ａ）の断線を防止することができ、良品率の向上を図ることができるという効果も得られる。
また、本実施形態の液晶装置１では、カラーフィルタの非形成領域の略全面に、遮光層１２Ｘと樹脂材１２Ｙの双方を形成する構成としたので、遮光層１２Ｘと樹脂材１２Ｙの上にシール材４０が形成され、シール材４０の厚みを変化させないで、遮光層１２Ｘや樹脂材１２Ｙの厚みを変化させたとしても、セルギャップは何ら影響を受けない。したがって、本実施形態によれば、セルギャップを安定化することができるという効果も得られる。
なお、本実施形態では、カラーフィルタの非形成領域の略全面に、遮光層１２Ｘと樹脂材１２Ｙの双方を形成する構成としたが、本発明はこれに限定されるものではなく、カラーフィルタの非形成領域の略全面に樹脂材１２Ｙのみを形成する構成としても良い。
カラーフィルタ１２、遮光層１２Ｘ、樹脂材１２Ｙが形成された層において、カラーフィルタの形成領域５０の最大高さは、隣接する着色部１２Ｒ〜１２Ｂ間、すなわち、遮光層１２Ｘと樹脂材１２Ｙとが重なって形成される部分の高さに相当するので、カラーフィルタの非形成領域の略全面に樹脂材１２Ｙを形成することにより、カラーフィルタ１２、遮光層１２Ｘ、樹脂材１２Ｙが形成された層において、カラーフィルタの形成領域５０と非形成領域における最大高さの差を小さくすることができる。その結果、本実施形態と同様に、カラーフィルタ基板１０の表面において、カラーフィルタの形成領域５０と非形成領域との間の段差を小さくすることができ、カラーフィルタ基板１０の表面を従来よりも平坦化することができるという効果を得ることができる。
但し、かかる構成とする場合には、カラーフィルタの非形成領域の略全面に遮光層１２Ｘが形成されないので、樹脂材１２Ｙを遮光性材料により構成し、見切り材として機能させることが好ましい。
［第２実施形態］
上記第１実施形態においては、パッシブマトリクス型の透過型液晶装置への本発明の適用例について説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。次に、本発明に係る第２実施形態の電子光学装置の構造について説明する。本実施形態では、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ−Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）素子をスイッチング素子として用いたアクティブマトリクス型の透過型液晶装置への本発明の適用例を示す（図８参照）。図８は本実施形態の液晶装置の全体構成を示す分解斜視図である。本実施形態の液晶装置は、第１実施形態の液晶装置に備えられたカラーフィルタを備えたものである。したがって、第１実施形態と同じ構成要素については同じ参照符号を付し、説明は省略する。また、本実施形態においても、第１実施形態と同様、カラーフィルタ基板を観察者側に配置した場合を例として説明する。
本実施形態の液晶装置２は、液晶層（図示略）を挟持して対向配置されたカラーフィルタ基板８０と素子基板９０とから概略構成されている。
素子基板９０は、基本本体９１の液晶層側表面に、ＴＦＴ素子９４、画素電極９５等が形成され、これらの液晶層側に配向膜（図示略）が形成されて概略構成されている。また、カラーフィルタ基板８０は、基板本体８１の液晶層側表面に、カラーフィルタ１２と、オーバーコート層（図示略）と、共通電極８２と、配向膜（図示略）とが順次積層形成されて概略構成されている。
本実施形態では、素子基板９０の一端部がカラーフィルタ基板８０より外側に位置し、カラーフィルタ基板８０より外側に位置する部分に外部接続用端子部が設けられているが、図面上は簡略化のため、カラーフィルタ基板８０と素子基板９０とを同一面積として図示すると共に、外部接続用端子部の図示を省略している。また、カラーフィルタ基板８０と素子基板９０とは、各々の基板の周縁部においてシール材（図示略）を介して貼着されている。
より詳細には、素子基板９０において、基板本体９１表面に、多数のデータ線９２及び多数の走査線９３が互いに交差するように格子状に設けられている。各データ線９２と各走査線９３の交差点の近傍にはＴＦＴ素子９４が形成されており、各ＴＦＴ素子９４を介して、画素電極９５が接続されている。素子基板９０の液晶層側表面全体を見れば、多数の画素電極９５がマトリクス状に配列されており、液晶装置２において、各画素電極９５が形成された領域が個々の画素となっている。また、各データ線９２及び各走査線９３は、各々一端に接続された引き廻し配線９２ａ、９３ａを介して、素子基板９０に設けられた外部接続用端子（図示略）に電気的に接続されている。
また、カラーフィルタ基板８０に備えられたカラーフィルタ１２、オーバーコート層の構造は、第１実施形態の液晶装置に備えられたカラーフィルタ、オーバーコート層と同一構造を有するものである。すなわち、本実施形態に備えられたカラーフィルタ１２は、表示領域を含むカラーフィルタの形成領域５０の各画素に対応して形成された、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の着色部１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂにより構成されている。
また、カラーフィルタ基板８０の表面において、カラーフィルタの形成領域５０の隣接する画素間（隣接する着色部１２Ｒ〜１２Ｂ間）、及びシール材の形成領域、引き廻し配線領域を含む、カラーフィルタの非形成領域の略全面には、遮光層１２Ｘと樹脂材１２Ｙとが形成されている。
また、カラーフィルタ基板８０において、カラーフィルタ１２の液晶層側には、カラーフィルタ基板８０の略全面に共通電極８２が形成されており、この共通電極８２はシール材の一部に形成された上下導通部（図示略）等を介して、素子基板９０に設けられた外部接続用端子部（図示略）に電気的に接続されている。
このように、本発明は、ＴＦＴ素子を用いたアクティブマトリクス型の液晶装置にも適用することができ、本実施形態の液晶装置２に備えられたカラーフィルタ基板８０は、第１実施形態の液晶装置に備えられたカラーフィルタ１２、遮光層１２Ｘ、樹脂材１２Ｙを備えたものであるので、第１実施形態と同様の効果を得ることができる。
すなわち、本実施形態の液晶装置２に備えられたカラーフィルタ基板８０、及び本実施形態の液晶装置２によれば、見切り材と遮光層１２Ｘとを同一工程で形成することができるので、本実施形態の液晶装置２を搭載することにより、電子機器の製造プロセスの簡略化を図ることができ、電子機器の製造コストの削減を図ることができると共に、電子機器の表示領域の面積の拡大化を図ることができる。
また、本実施形態の液晶装置２に備えられたカラーフィルタ基板８０、及び本実施形態の液晶装置２によれば、カラーフィルタ基板８０の表面を従来よりも平坦化することができ、セルギャップの均一化を図ることができるので、表示品質に優れた液晶装置を提供することができるという効果も得られる。また、カラーフィルタ基板８０の表面を従来よりも平坦化することができるので、カラーフィルタ１２上に形成される共通電極８２（あるいは共通電極に接続される引き廻し配線）の断線を防止することができ、良品率の向上を図ることができる。
また、本実施形態の液晶装置２では、カラーフィルタの非形成領域の略全面に、遮光層１２Ｘと樹脂材１２Ｙの双方を形成する構成としたので、遮光層１２Ｘと樹脂材１２Ｙの上にシール材が形成され、シール材の厚みを変化させないで、遮光層１２Ｘや樹脂材１２Ｙの厚みを変化させたとしても、セルギャップは何ら影響を受けない。したがって、本実施形態によれば、セルギャップを安定化することができるという効果も得られる。
［第３実施形態］
次に、本発明に係る第３実施形態の電子光学装置の構造について説明する。
本実施形態では、ＴＦＤ（Ｔｈｉｎ−Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ）素子をスイッチング素子として用いたアクティブマトリクス型の透過型液晶装置への本発明の適用例を示す。図８は本実施形態の液晶装置の全体構成を示す分解斜視図である。本実施形態の液晶装置は、第１実施形態の液晶装置に備えられたカラーフィルタを備えたものである。したがって、第１実施形態と同じ構成要素については同じ参照符号を付し、説明は省略する。また、本実施形態においても、第１実施形態と同様、カラーフィルタ基板を観察者側に配置した場合を例として説明する。
本実施形態の液晶装置３は、液晶層（図示略）を挟持して対向配置されたカラーフィルタ基板１００と素子基板１１０とから概略構成されている。
素子基板１１０は、基本本体１１１の液晶層側表面に、ＴＦＤ素子１１４、画素電極１１３等が形成され、これらの液晶層側に配向膜（図示略）が概略形成されて構成されている。また、カラーフィルタ基板１００は、基板本体１０１の液晶層側表面に、カラーフィルタ１２と、オーバーコート層（図示略）と、走査線（対向電極）１０２と、配向膜（図示略）とが順次積層形成されて概略構成されている。
なお、第１実施形態と同様に、カラーフィルタ基板１００、素子基板１１０うち、少なくとも一方の基板には外部接続用端子部が設けられており、外部接続用端子部が設けられた部分が対向する基板よりも外側に位置しているが、図面上は簡略化のため、カラーフィルタ基板１００と素子基板１１０とを同一面積として図示すると共に、外部接続用端子部の図示を省略している。また、カラーフィルタ基板１００と素子基板１１０とは、各々の基板の周縁部においてシール材（図示略）を介して貼着されている。
より詳細には、素子基板１１０において、基板本体１１１表面に、多数のデータ線１１２がストライプ状に設けられており、各データ線１１２に対して多数の画素電極１１３がＴＦＤ素子１１４を介して接続されている。素子基板１１０の液晶層側表面全体を見れば、多数の画素電極１１３がマトリクス状に配列されており、液晶装置３において、各画素電極１１３が形成された領域が個々の画素となっている。また、各データ線１１２は、一端に接続された引き廻し配線１１２ａを介して少なくとも一方の基板に設けられた外部接続用端子部（図示略）に電気的に接続されている。
また、カラーフィルタ基板１００に備えられたカラーフィルタ１２、オーバーコート層の構造は、第１実施形態の液晶装置に備えられたカラーフィルタ、オーバーコート層と同一構造を有するものであり、カラーフィルタ１２は、表示領域を含むカラーフィルタの形成領域５０の各画素に対応して形成された、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の着色部１２Ｒ、１２Ｇ、１２Ｂにより構成されている。
また、カラーフィルタ基板８０の表面において、カラーフィルタの形成領域５０の隣接する画素間（隣接する着色部１２Ｒ〜１２Ｂ間）、及びシール材の形成領域、引き廻し配線領域を含む、カラーフィルタの非形成領域の略全面には、遮光層１２Ｘと樹脂材１２Ｙとが形成されている。
また、カラーフィルタ基板１００において、カラーフィルタ１２の液晶層側には、素子基板１１０のデータ線１１２の延在方向に対して交差する方向に短冊状の走査線（対向電極）１０２が形成されており、この走査線１０２も、一端に接続された引き廻し配線（図示略）を介して、少なくとも一方の基板に設けられた外部接続用端子部（図示略）に電気的に接続されている。
このように、本発明は、ＴＦＤ素子を用いたアクティブマトリクス型の液晶装置にも適用することができ、本実施形態の液晶装置３に備えられたカラーフィルタ基板１００は、第１実施形態の液晶装置に備えられたカラーフィルタ１２、遮光層１２Ｘ、樹脂材１２Ｙを備えたものであるので、第１実施形態と同様の効果を得ることができる。
すなわち、本実施形態の液晶装置３に備えられたカラーフィルタ基板１００、及び本実施形態の液晶装置３によれば、見切り材と遮光層１２Ｘとを同一工程で形成することができるので、本実施形態の液晶装置３を搭載することにより、電子機器の製造プロセスの簡略化を図ることができ、電子機器の製造コストの削減を図ることができると共に、電子機器の表示領域の面積の拡大化を図ることができる。
また、本実施形態の液晶装置３に備えられたカラーフィルタ基板１００、及び本実施形態の液晶装置３によれば、カラーフィルタ基板１００の表面を従来よりも平坦化することができ、セルギャップの均一化を図ることができるので、表示品質に優れた液晶装置を提供することができるという効果も得られる。また、カラーフィルタ基板１００の表面を従来よりも平坦化することができるので、カラーフィルタ１２上に形成される走査線１０２（あるいは走査線１０２に接続される引き廻し配線）の断線を防止することができ、良品率の向上を図ることができるという効果も得られる。
また、本実施形態の液晶装置３では、カラーフィルタの非形成領域の略全面に、遮光層１２Ｘと樹脂材１２Ｙの双方を形成する構成としたので、遮光層１２Ｘと樹脂材１２Ｙの上にシール材が形成され、シール材の厚みを変化させないで、遮光層１２Ｘや樹脂材１２Ｙの厚みを変化させたとしても、セルギャップは何ら影響を受けない。したがって、本実施形態よれば、セルギャップを安定化することができるという効果も得られる。
なお、以上の第１〜第３実施形態においては、カラーフィルタ基板側が観察者側である場合についてのみ説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、カラーフィルタ基板側を光入射側としても良く、この場合にも上記第１〜第３実施形態と同様の効果を得ることができる。また、第１〜第３実施形態においては、透過型液晶装置についてのみ説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、本発明は、反射型液晶装置や反射半透過型液晶装置にも適用可能であり、いかなる構造の液晶装置にも適用することができる。
［第４実施形態］
次に、本発明に係る第４実施形態の電子光学装置の構造について説明する。
本実施形態では、エレクトロルミネッセンス素子を画素として用いたアクティブマトリクス型の有機ＥＬ装置（電気光学装置）への本発明の適用例を示す。
インクジェット方式による有機ＥＬ装置の製造方法とは、正孔注入層形成材料を含む第１組成物、または発光層形成材料を含む第２組成物をインクジェット法により形成するというものである。すなわち、正孔注入層材料を溶媒に溶解または分散させた第１組成物、発光材料を溶媒に溶解または分散させた第２組成物を、インクジェットヘッドから吐出させてＩＴＯ（透明電極）からなる電極上に形成する。なお、吐出されたインク滴（液滴）を精度よく所定の画素領域にパターニング塗布する為に、ＩＴＯが形成された画素領域をしきる隔壁（以下バンク）を設ける。
図１１はインクジェット方式による有機ＥＬ装置の基板構造の一例の断面図を示したものである。ガラス基板１０１０上に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１０１１を有する回路素子部１０１１‘が形成され、この回路素子部１０１１’上にＩＴＯからなる透明電極１０１２がパターニングされている。更に、透明電極１０１２を区画する領域にＳｉＯ２からなる第１バンク１０１３と撥インク性あるいは撥インク化された有機物からなる有機物バンク（第２バンク）１０１４とが積層されている。バンクの開口部（すなわち、画素領域の形状）は、円形、楕円、四角、いずれの形状でも構わないが、インク組成物には表面張力があるため、四角形の角部は丸みを帯びている方が好ましい。有機物バンク１０１４の材料は、耐熱性、撥液性、インク溶剤耐性、下地基板との密着性にすぐれたものであれば、特に限定されるものではない。有機物バンク１０１４は、元来撥液性を備えた材料、例えば、フッ素系樹脂でなくても、通常用いられる、アクリル樹脂やポリイミド樹脂等の有機樹脂をパターン形成し、ＣＦ４プラズマ処理等により表面を撥液化してもよい。バンクは、上述したような無機物と有機物とが積層されてなるものに限らないが、例えば透明電極１０１４がＩＴＯからなる場合は、透明電極１０１４との密着性を上げるために、ＳｉＯ２バンク１０１３がある方が好ましい。有機物バンク１０１４の高さは、１〜２μｍ程度あることが好ましい。
次に、図１２を参照して、インクジェット方式による有機ＥＬ装置（電気光学装置）の製造方法の一例を各工程の断面構造に沿って説明する。
図１２（Ａ）において、バンク構造を有する基板にインクジェット方式により正孔注入層形成材料を含む溶液（第１組成物）を液滴として塗布する。次に、有機ＥＬ材料（発光層形成材料）を含む溶液（インク組成物）を液滴として塗布する。そして、有機ＥＬ薄膜を形成する。正孔注入層形成材料を含む第１組成物、そして有機ＥＬ材料を含む第２組成物１０１５をインクジェットヘッド１０１６から吐出し、同図（Ｂ）に示すように着弾させ、パターン塗布する。塗布後、真空およびまたは熱処理あるいは窒素ガスなどのフローにより溶媒を除去し、有機ＥＬ薄膜層１０１７を形成する。（同図（Ｃ））。この有機ＥＬ薄膜層１０１７は、例えば正孔注入層及び発光層からなる積層膜である。
図１３に、本実施例に用いる基板の平面図を示す。図１３に示すように、この基板１２０１は、ガラス基板１２０２上に形成された図示略の回路素子部と、この回路素子部上に形成された複数の発光素子部１２０４・・・と、アライメントマーク１２０５とを主体として構成されている。図１３の基板１２０１には、１６個の発光素子部１２０４・・・が４列４行のマトリクス上に配置されている。ガラス基板１２０２上の各々の発光素子部１２０４・・・の間には、有機物バンク１０１４が形成されている。また、アライメントマーク１２０５は、有機物バンク１０１４のパターニングと同じに行うことが出来る。これにより、工程数の削減ができ、コストダウンも可能である。
また、インクジェットヘッドＨは、図１３の破線のように基板に対して相対的に移動することによって、有機ＥＬ材料インク組成物１０１５を基板にパターン塗布する。
この際、バンクは基板端部まで形成されている（図１１参照）。このように端部までバンクを形成することにより、バンク表面が平坦性の高い面を有することができる。したがって、有機ＥＬ素子を構成する一方の電極（例えば陰極）に断線、ピンホールが生じることがない。更に、基板全面に渡って平坦性が高いので、封止をする際、平坦性に優れた封止構造を得ることができる。つまり、缶構造により有機ＥＬ素子を封止する缶封止、有機ＥＬ素子上の全面に樹脂を塗布するベタ封止、そして薄膜を積層する薄膜封止において、有機ＥＬ素子上にほぼ平坦な層が形成することができる。したがって、例えば基板とは反対側に発光するタイプ（トップエミッションタイプ）の場合、有機ＥＬ素子上の面が基板全面に渡って平坦性を有することができるため、基板全面に渡って光学的な差がなく、均一な表示を得ることができる。仮に、有機ＥＬ素子と封止基基板との間の層の厚さが不均一であった場合、膜厚の差による光学的な差が生じ、表示に不均一が生じることとなる。本発明は、基板全面に渡って樹脂層を形成しているため、有機ＥＬ素子上に形成される接着用（封止用）の樹脂を平坦に形成することができる。したがって、封止用の樹脂において光学的な差が生じることがなく、表示特性にも不均一が生じることがない。
［電子機器］
次に、上記第１〜第４実施形態の電子光学装置１〜４のいずれかを備えた電子機器の具体例について説明する。
図１４（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図１４（ａ）において、符号７００は携帯電話本体を示し、符号７０１は前記の電子光学装置１〜４のいずれかを用いた表示部を示している。
図１４（ｂ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図１４（ｂ）において、符号８００は情報処理装置、符号８０１はキーボードなどの入力部、符号８０３は情報処理装置本体、符号８０２は前記の電子光学装置１〜４のいずれかを用いた表示部を示している。
図１４（ｃ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図１４（ｃ）において、符号９００は時計本体を示し、符号９０１は前記の電子光学装置１〜４のいずれかを用いた表示部を示している。
図１４（ａ）〜（ｃ）に示すそれぞれの電子機器は、前記の電子光学装置１〜４のいずれかを用いた表示部を備えたものであるので、製造プロセスの簡略化を図ることができ、製造コストの削減を図ることができると共に、表示領域の面積の拡大化を図ることができるもの、若しくは、表示品質に優れ、良品率の向上を図ることができるものとなる。
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本発明の第１のカラーフィルタ基板によれば、遮光性を有する樹脂層を、表示領域の他に、カラーフィルタの非形成領域の略全面に形成する構成とし、さらに樹脂材料でアライメントマークを構成したので、見切り材と遮光層とアライメントマークを同一工程で形成することができ、本発明の第１のカラーフィルタ基板を備えた液晶装置を搭載することにより、電子機器の製造プロセスの簡略化を図ることができ、電子機器の製造コストの削減を図ることができると共に、電子機器の表示領域の面積の拡大化を図ることができる。
また、本発明の第２のカラーフィルタ基板によれば、カラーフィルタを構成する着色部をインクジェット方式により形成すると共に、着色部を形成する際に各着色部を形成する部分を区画するための樹脂材を、各着色部の周囲の他に、カラーフィルタの非形成領域の略全面に形成する構成としたので、カラーフィルタ基板の表面を従来よりも平坦化することができ、本発明の第２のカラーフィルタ基板を用いて液晶装置を構成することにより、セルギャップの均一化を図ることができ、表示品質に優れた液晶装置を提供することができる。また、カラーフィルタ基板の表面を従来よりも平坦化することができるので、カラーフィルタ上に形成される電極や配線等の断線を防止することができ、良品率の向上を図ることができる。さらに樹脂材料でアライメントマークを構成したので、画素間の仕切り部材とアライメントマークを同一工程で形成することができ、本発明の第２のカラーフィルタ基板を備えた液晶装置を搭載することにより、電子機器の製造プロセスの簡略化を図ることができ、電子機器の製造コストの削減を図ることができると共に、電子機器の表示領域の面積の拡大化を図ることができる。
また、本発明のエレクトロルミネッセンス基板によれば、樹脂材料で有機物バンクとアライメントマークを構成したので、有機物バンクとアライメントマークを同一工程で形成することができ、本発明のエレクトロルミネッセンス基板を備えた液晶装置を搭載することにより、電子機器の製造プロセスの簡略化を図ることができ、電子機器の製造コストの削減を図ることができる。
また、本発明の第１又は第２のカラーフィルタ基板またはエレクトロルミネッセンス基板を備えることにより、本発明の電子光学装置を提供することができる。また、本発明の電子光学装置を備えることにより、本発明の電子機器を提供することができる。そして、本発明の電子光学装置及び電子機器によれば、本発明の第１又は第２のカラーフィルタ基板及びエレクトロルミネッセンスと同様の効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
図１は、本発明に係る第１実施形態の透過型液晶装置を対向基板側から見た時の平面図である。
図２は、本発明に係る第１実施形態の透過型液晶装置を構成するカラーフィルタ基板を液晶層側から見た時の平面図である。
図３は、本発明に係る第１実施形態の透過型液晶装置を構成する対向基板を液晶層側から見た時の平面図である。
図４は、本発明に係る第１実施形態の透過型液晶装置に備えられたカラーフィルタを液晶層側から見た時の部分平面図である。
図５は、本発明に係る第１実施形態の透過型液晶装置の構造を示す部分断面図である。
図６（ａ）〜（ｅ）は、本発明に係る第１実施形態の透過型液晶装置に備えられたカラーフィルタ、遮光層、樹脂材の形成方法を示す工程図である。
図７（ａ）、（ｂ）は、本発明に係る第１実施形態の透過型液晶装置に備えられたカラーフィルタ基板のコーナー部を拡大して示す平面図である。
図８は、本発明に係る第３実施形態の透過型液晶装置の構造を示す分解斜視図である。
図９は、本発明に係る第４実施形態の透過型液晶装置の構造を示す分解斜視図である。
図１０は、従来の透過型液晶装置の構造を示す断面図である。
図１１は、インクジェット方式による有機ＥＬ装置の製造方法の一例を示す断面図である。
図１２は、本発明に関わるインクジェット方式による有機ＥＬ装置の製造方法の一例を示す断面図である。
図１３は、実施例４の有機ＥＬ装置の製造方法を説明する図であって、インクジェットヘッドの軌跡と、基板のアライメントマークを示す模式図である。
図１４（ａ）は上記実施形態の透過型液晶装置を備えた携帯電話の一例を示す図、図１４（ｂ）は上記実施形態の透過型液晶装置を備えた携帯型情報処理装置の一例を示す図、図１４（ｃ）は上記実施形態の透過型液晶装置を備えた腕時計型電子機器の一例を示す図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【国際調査報告】
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