(57)【要約】本発明は貴金属触媒を用いた含イオウ化合物の水素化還元方法を提供する。また、本発明は２−アルケニル−３−チオフェン誘導体を貴金属触媒を使用して水素化還元して２−アルキル−３−アミノチオフェン誘導体を製造する経済性の高い方法工業的方法を提供する。２−アルキル−３−アミノチオフェン誘導体は医薬農業分野における有用なかごうぶつであり、特に農園芸用殺菌剤、もしくはその中間体として有用である。例えば、２−アルケニル−３−チオフェン誘導体を貴金属触媒を使用して水素化還元することにより２−アルキル−３−アミノチオフェン誘導体を製造するに際して、反応温度を１５０℃〜３００℃とすることで使用済みの貴金属触媒を回収し再使用する事が可能となる。このように、本発明は含イオウ化合物を貴金属触媒を使用して１５０℃〜３００℃の反応温度で水素化還元して、貴金属触媒を回収再使用できるので工業的水素化還元法として有効である。【特許請求の範囲】
【請求項１】
含イオウ化合物を水素化還元する際に貴金属触媒を用いて、反応温度１５０℃〜３００℃で行い、その使用した貴金属触媒を回収再使用する事を特徴とする含イオウ化合物の水素化還元方法。
【請求項２】
使用する貴金属触媒がパラジウムである事を特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
含イオウ化合物を水素化還元する際に反応溶媒として炭素数１から８のアルコールを使用する事を特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】
含イオウ化合物がチオフェン化合物である請求項１〜３の何れか一項に記載の方法。
【請求項５】
チオフェン化合物がチオフェンアミドである請求項４記載の方法。
【請求項６】
チオフェンアミドが一般式（１）
2004009581.tif 000010
（式中、Ｒは、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよい芳香族または非芳香族の炭化水素環、置換されていてもよい芳香族または非芳香族の複素環を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜１２の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示し、Ｒ１とＲ２、Ｒ３とＲ４、Ｒ１とＲ３、Ｒ１とＲ４、Ｒ２とＲ３もしくはＲ２とＲ４は一緒になってシクロアルキル基を形成してもよい。）で表される化合物であり、そのアルケニル基を水素化還元して一般式（２）
2004009581.tif 000011
（式中、Ｒ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は前記と同様）で示される２−アルキル−３−アミノチオフェン誘導体を製造することを特徴とする請求項５記載の方法。
【請求項７】
一般式（１）で示される化合物及び一般式（２）で示される化合物のＲが水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよいフェニル基である請求項６に記載の方法。
【請求項８】
一般式（１）で示される化合物及び一般式（２）で示される化合物のＲが以下の（Ａ１）から（Ａ１２）
2004009581.tif 000012
（式中、Ｒ５はトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、エチル基、水素原子またはハロゲン原子であり、Ｒ６は水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、メトキシ基またはアミノ基であり、Ｒ７は水素原子、ハロゲン原子、メチル基またはメトキシ基であり、Ｒ８は、水素原子、メチル基、エチル基またはハロゲン原子であり、ｎは０〜２の整数を意味する。但し、（Ａ９）、（Ａ１０）、（Ａ１１）の場合、Ｒ５はハロゲン原子ではない。）で示される基である請求項６に記載の方法。
【請求項９】
一般式（１）で示される化合物及び一般式（２）で示される化合物のＲが一般式（Ａ１）で示される化合物であり、Ｒ５はトリフルオロメチル基であり、Ｒ７は水素原子である請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
一般式（２）で示される化合物のＲ１、Ｒ２、Ｒ３がそれぞれ水素原子、Ｒ４がイソプロピル基である請求項６に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】  本発明は、貴金属触媒を用いる含イオウ化合物の水素化還元方法に関し、また本発明は農園芸用殺菌剤、もしくはその中間体として有用な２−アルキル−３−アミノチオフェン誘導体の製造法に関する。
【背景技術】  特公平８−３２７０２号公報には、一般的に硫黄および特にチオフェンがかなりの程度まで全ての水素化触媒を不活化する事が記載されている。
特に、モジンゴ［「ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエティー」（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）６７巻、２０９２頁（１９４５年）］には７０％の収率でチオフェンをチオランに変換する事が出来たが、基質に対して２００％のパラジウム触媒を使用した記載がある。この方法を工業的規模で使用する事は経済的に不利である。
また、チオフェンの接触水素化についてはチオフェンそのものが触媒毒になる事が公知となっている［斯波忠夫  他共著２名、「触媒化学概論、新版、１２１頁、１９５６年」］。
上記理由の為、パラジウム等の貴金属をそのまま或いは活性炭等の担体に担持させたパラジウム触媒をチオフェン誘導体の水素化還元に用いた反応例に付いては記載が殆ど無い。
特開２０００−３２７６７８公報には５％パラジウムカーボンを用いた一般式（１）
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（式中、Ｒは、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されていてもよい芳香族または非芳香族の炭化水素環、置換されていてもよい芳香族または非芳香族の複素環を示す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜１２の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示し、Ｒ１とＲ２、Ｒ３とＲ４、Ｒ１とＲ３、Ｒ１とＲ４、Ｒ２とＲ３もしくはＲ２とＲ４は一緒になってシクロアルキル基を形成してもよい。）で示される２−アルケニル−３−アミノチオフェン誘導体の水素化反応が実施されているが、その際には触媒を化合物に対して約１０％使用しておりその回収再使用については記載されていない。しかし、工業規模で行う場合には１０％もの触媒を反応毎に使用する事は経済的に成り立ち得ないものと考えられる。
【発明の開示】
本発明の目的は、２−アルケニル−３−チオフェン誘導体等の含イオウ化合物の水素化還元反応に貴金属触媒を使用し、更にそれらの使用済み貴金属触媒を回収し再使用する事で、農園芸用殺菌剤、もしくはその中間体として有用な２−アルキル−３−アミノチオフェン誘導体等の含イオウ化合物を工業的規模で製造するに際し経済性の高い方法を提供することである。
本発明は、上記の課題を解決するために鋭意検討の結果、本来水素化が困難なチオフェン誘導体の水素化還元反応において、比較的高い反応温度で反応を行うと予想に反して使用した貴金属触媒の不活性化が防止され、結果、使用した貴金属触媒の回収再使用が可能となることを見出し本発明を完成した。
本発明においては、含イオウ化合物を貴金属触媒を用いて接触水素化後、使用された貴金属触媒を回収し、回収された回収触媒を同じ反応に再使用することが出来る。本発明は含イオウ化合物を貴金属触媒を用いて接触水素化後貴金属触媒を回収し同じ水素化反応に再使用すること、及び含イオウ化合物を貴金属触媒を用いて接触水素化するに際して、使用する貴金属触媒の一部又は全部として当該接触水素化反応と同じ反応から回収された貴金属触媒を用いることを包含している。
すなわち、本発明は以下のとおりである。
［１］  含イオウ化合物を水素化還元する際に貴金属触媒を用いて、反応温度１５０℃〜３００℃で行い、その使用した貴金属触媒を回収再使用する事を特徴とする含イオウ化合物の水素化還元方法。
［２］  使用する貴金属触媒がパラジウムである事を特徴とする［１］記載の２−アルキル−３−アミノチオフェン誘導体の製造法。
［３］含イオウ化合物を水素化還元する際に反応溶媒として炭素数１から８のアルコールを使用する事を特徴とする［１］記載の２−アルキル−３−アミノチオフェン誘導体の製造法。
［４］  含イオウ化合物がチオフェン化合物である［１］〜［３］の何れか一項に記載の方法。
［５］  チオフェン化合物がチオフェンアミドである［４］記載の方法。
［６］  チオフェンアミドが一般式（１）
2004009581.tif 000003
（式中、Ｒは、水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよい芳香族または非芳香族の炭化水素環、置換されていてもよい芳香族または非芳香族の複素環を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜１２の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示し、Ｒ１とＲ２、Ｒ３とＲ４、Ｒ１とＲ３、Ｒ１とＲ４、Ｒ２とＲ３もしくはＲ２とＲ４は一緒になってシクロアルキル基を形成してもよい。）で表される化合物であり、そのアルケニル基を水素化還元して一般式（２）
2004009581.tif 000004
（式中、Ｒ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同様）で示される２−アルキル−３−アミノチオフェン誘導体を製造することを特徴とする請求項５記載の方法。
［７］  一般式（１）で示される化合物及び一般式（２）で示される化合物のＲが水素原子、置換されていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルコキシ基、置換されていてもよいフェニル基である［６］に記載の方法。
［８］  一般式（１）で示される化合物及び一般式（２）で示される化合物のＲが以下の（Ａ１）から（Ａ１２）
2004009581.tif 000005
（式中、Ｒ５はトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、エチル基、水素原子またはハロゲン原子であり、Ｒ６は水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、メトキシ基またはアミノ基であり、Ｒ７は水素原子、ハロゲン原子、メチル基またはメトキシ基であり、Ｒ８は、水素原子、メチル基、エチル基またはハロゲン原子であり、ｎは０〜２の整数を意味する。但し、（Ａ９）、（Ａ１０）、（Ａ１１）の場合、Ｒ５はハロゲン原子ではない。）で示される基である［６］に記載の方法。
［９］  一般式（１）で示される化合物及び一般式（２）で示される化合物のＲが一般式（Ａ１）で示される化合物であり、Ｒ５はトリフルオロメチル基であり、Ｒ７は水素原子である［８］に記載の方法。
［１０］  一般式（２）で示される化合物のＲ１、Ｒ２、Ｒ３がそれぞれ水素原子、Ｒ４がイソプロピル基である［６］に記載の方法。
【発明を実施するための最良の形態】  以下本発明を詳細に説明する。
本発明において、含イオウ化合物とは、同一分子内に硫黄原子とアルケニル鎖を有する物質であり、本発明に係る含イオウ化合物としてはチオフェン化合物を例示することが出来る。本発明において、チオフェン化合物とは同一分子内にチオフェン環とアルケニル鎖を有する物質であり、好ましくは水素化還元される部位としてチオフェン環と共役した炭素二重結合を有する化合物である。チオフェン化合物としてはチオフェンアミドが例示される。本発明にいて、チオフェンアミドとは２−アルケニル−３−アミノチオフェンとカルボン酸化合物がとが縮合反応して生成した化合物であり、代表的なチオフェンアミドとしては一般式（１）で表される化合物が例示できる。
本発明において、一般式（１）および（２）のＲは水素原子でもよいが、Ｒで示される置換されていてもよいアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基、デシル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、フェニルメチル基等のアルキル基等が挙げられる。
Ｒで示される置換されていてもよいアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、シクロプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ベンジルオキシ基等のアルコキシ基が挙げられる。
Ｒで示される置換されていてもよい芳香族の炭化水素環としては、例えば、フェニル基、置換フェニル基が挙げられ、置換フェニル基の置換基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基等のアルコキシ基、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等が挙げられる。
Ｒで示される置換されていてもよい非芳香族の炭化水素環としては、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基等の非芳香族の炭化水素環が挙げられ、この非芳香属の炭化水素環が置換される場合の置換基としては上記の置換フェニル基の置換基と同様である。
Ｒで示される置換されていてもよい芳香族の複素環としては、ピラゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピラジニル基、オキサゾリル基、ピロリル基、置換ピラゾリル基、置換チアゾリル基、置換イソチアゾリル基、置換フリル基、置換チエニル基、置換ピリジル基、置換ピラジニル基、置換オキサゾリル基、置換ピロリル基等が挙げられ、置換ピラゾリル基、置換チアゾリル基、置換イソチアゾリル基、置換フリル基、置換チエニル基、置換ピリジル基、置換ピラジニル基、置換オキサゾリル基、置換ピロリル基の置換基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等のアルキル基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基等のハロアルキル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、アミノ基、シアノ基等が挙げられる。
Ｒで示される置換されていてもよい非芳香族の複素環としては、ジヒドロピラニル基、ジヒドロフリル基、テトラヒドロフリル基、２，３−ジヒドロ−１，４−オキサチイン−５−イル基、置換ジヒドロピラニル基、置換ジヒドロフリル基、置換テトラヒドロフリル基、置換２，３−ジヒドロ−１，４−オキサチイン−５−イル基等が挙げられ、置換ジヒドロピラニル基、置換ジヒドロフリル基、置換テトラヒドロフリル基、置換２，３−ジヒドロ−１，４−オキサチイン−５−イル基の置換基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等のアルキル基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基等のハロアルキル基、フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子、アミノ基、シアノ基等が挙げられる。
Ｒが（Ａ１）の場合、３位のＲ５がトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、エチル基またはハロゲン原子であり、５位のＲ７が水素原子、ハロゲン原子、メチル基またはメトキシ基であり、１位にメチルが置換した４−ピラゾイル基、例えば１、３−ジメチル−４−ピラゾリル基、５−クロロ−１，３−ジメチル−４−ピラゾリル基、５−クロロ−１−メチル−３−トリフルオロメチル−４−ピラゾリル基、１−メチル−３−トリフルオロメチル−４−ピラゾリル基、１−メチル−３−ジフルオロメチル−４−ピラゾリル基、１−メチル−３−エチル−４−ピラゾリル基、１−メチル−３−クロロ−４−ピラゾリル基、１−メチル−３−トリフルオロメチル−５−メトキシ−４−ピラゾリル基等が挙げられる。
Ｒが（Ａ２）の場合、４位のＲ５がトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、エチル基またはハロゲン原子であり、２位のＲ６が水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、メトキシ基またはアミノ基である５−チアゾリル基、例えば、２−メチル−４−トリフルオロメチル−５−チアゾリル基、２−メチル−４−ジフルオロメチル−５−チアゾリル基、４−トリフルオロメチル−５−チアゾリル基、２、４−ジメチル−５−チアゾリル基、２−メチル−４−エチル−５−チアゾリル基、２−アミノ−４−メチル−５−チアゾリル基、２−メトキシ−４−メチル−５−チアゾリル基、２−クロロ−４−メチル−５−チアゾリル基等が挙げられる。
Ｒが（Ａ３）の場合、２位のＲ５がトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、エチル基またはハロゲン原子であり、５位のＲ８が水素原子、メチル基、エチル基またはハロゲン原子である３−フリル基、例えば、２−メチル−３−フリル基、２，５−ジメチル−３−フリル基、２−クロロ−３−フリル基、２−トリフルオロメチル−３−フリル基等が挙げられる。
Ｒが（Ａ４）の場合、３位のＲ５がトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、エチル基またはハロゲン原子であり、５位のＲ８が水素原子、メチル基またはハロゲン原子である２−チエニル基、例えば、３−メチル−２−チエニル基、３、５−ジメチル−２−チエニル基、３−クロロ−２−チエニル基、３−ヨード−２−チエニル基等が挙げられる。
Ｒが（Ａ５）の場合、２位のＲ５がトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、エチル基またはハロゲン原子であるフェニル基、例えば、２−トリフルオロメチルフェニル基、２−ジフルオロメチルフェニル基、２−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、２−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル基、２−ブロモフェニル基、２−ヨードフェニル基が挙げられる。
Ｒが（Ａ６）の場合、２位のＲ５がトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、エチル基またはハロゲン原子である３−ピリジル基、例えば、２−トリフルオロメチル−３−ピリジル基、２−ジフルオロメチル−３−ピリジル基、２−メチル−３−ピリジル基、２−エチル−３−ピリジル基、２−フルオロ−３−ピリジル基、２−クロロ−３−ピリジル基、２−ブロモ−３−ピリジル基、２−ヨード−３−ピリジル基が挙げられる。
Ｒが（Ａ７）の場合、２−クロロ−３−ピラジニル基が挙げられ、Ｒが（Ａ８）の場合、３位のＲ５がトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、エチル基またはハロゲン原子である４−チエニル基であり、例えば、３−トリフルオロメチル−４−チエニル基、３−ジフルオロメチル−４−チエニル基、３−メチル−４−チエニル基、３−エチル−４−チエニル基、３−フルオロ−４−チエニル基、３−クロロ−４−チエニル基、３−ブロモ−４−チエニル基、３−ヨード−４−チエニル基が挙げられる。
Ｒが（Ａ９）の場合、６位のＲ５がトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、エチル基である３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−５−イル基であり、例えば、６−トリフルオロメチル−３、４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−５−イル基、６−ジフルオロメチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−５−イル基、６−メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−５−イル基、２−エチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−５−イル基が挙げられる。
Ｒが（Ａ１０）場合、６位のＲ５がトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、エチル基である２，３−ジヒドロ−１，４−オキサチイン−５−イル基、２，３−ジヒドロ−１，４−オキサチイン−４−オキシド−５−イル基または２，３−ジヒドロ−１，４−オキサチイン−４、４−ジオキシド−５−イル基であり、例えば、６−メチル−２，３−ジヒドロ−１，４−オキサチイン−５−イル基、６−メチル−２，３−ジヒドロ−１，４−オキサチイン−４−オキシド−５−イル基、６−メチル−２，３−ジヒドロ−１，４−オキサチイン−４、４−ジオキシド−５−イル基等が挙げられる。
Ｒが（Ａ１１）の場合、５位のＲ５がトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、エチル基である２，３−ジヒドロ−４−フリル基であり、例えば、５−トリフルオロメチル−２，３−ジヒドロ−４−フリル基、５−ジフルオロメチル−２，３−ジヒドロ−４−フリル基、５−メチル−２，３−ジヒドロ−４−フリル基、５−エチル−２，３−ジヒドロ−４−フリル基が挙げられる。
Ｒが（Ａ１２）の場合、３位のＲ５がトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、エチル基またはハロゲン原子である４−イソチアゾリル基、例えば、３−トリフルオロメチル−４−イソチアゾリル基、３−ジフルオロメチル−４−イソチアゾリル基、３−メチル−４−イソチアゾリル基、３−エチル−４−イソチアゾリル基、３−フルオロ−４−イソチアゾイル基、３−クロロ−４−イソチアゾイル基、３−ブロモ−４−イソチアゾイル基、３−ヨード−４−イソチアゾイル基が挙げられる。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は水素原子でもよく、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４で示されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基、デシル基、ドデシル基等の炭素数１〜１２の直鎖または分岐のアルキル基が例示される。
本発明に於ける水素化反応は以下の一般式（１）で示される化合物を還元することで一般式（２）で示される２−アルキル−３−アミノチオフェン誘導体を製造する反応である。
2004009581.tif 000006
（式中、Ｒ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同様）
一般式（１）で示される化合物は以下の一般式（１ａ）から（１ｄ）
2004009581.tif 000007
（式中、Ｒ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は前記と同様）に示す４つの異性体からなり、それら２−アルケニル−３−アミノチオフェン誘導体の混合物として存在している。
本発明に於ける反応操作としては、一般的に知られている方法（例えば、新実験化学講座、１５巻、酸化と還元［ＩＩ］、丸善（１９７７））にある微加圧法やオートクレーブを用いた高圧水素添加法を適用できる。
本発明に用いられる触媒としては、一般に接触還元に用いられている貴金属触媒であり、例えばパラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、オスミウム等の白金属元素を使用することができる。これらの触媒は、金属の状態でも使用できるが、通常は、カーボン（活性炭）、硫酸バリウム、シリカゲル、アルミナ、セライトなどの担体表面に担持させて担持型の触媒として用いられる。水素化反応において使用される触媒の貴金属含量（担持％）は通常１〜２０％である。それらの触媒の使用量は特に限定されるものではないが、一般式（１）に代表される化合物からなる混合物に対し、担持された金属分として通常０．０５〜２．５重量％、好ましくは０．０２５〜０．５重量％を用いる。
本発明の方法において用いられる触媒は、新しい触媒であってもよく、また、前回の反応に用いられた回収触媒、あるいはそれらの混合物であってもよい。
本発明で必要により使用される溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、オクタノール等の炭素数１〜８のアルコール類、ヘキサン、石油エーテル等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、アニソール等の芳香族類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル類、酢酸、プロピオン酸等の脂肪族カルボン酸類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられ、これらの混合溶媒も使用される。
本発明における溶媒の使用量は、一般式（１）に代表される化合物からなる混合物１ｇに対して通常０．１〜２００ｍｌ、好ましくは２〜２０ｍｌの割合である。
本発明の反応温度は特に重要である。本発明の反応基質のように分子内に硫黄原子を含み且つ、他の水添反応される部位がある場合は、副反応を抑制するために通常１００℃以下で実施することが従来技術として知られている。また、硫黄による被毒により触媒を回収使用できないのが一般的であるため、従来技術に触媒を回収使用しているものは無い。しかしながら、本発明の温度条件１５０〜３００℃で反応を実施した場合、副反応による副生物の生成はなく、且つ回収触媒を繰り返し使用しても反応は完結する。そこで本発明における反応温度は通常１５０〜３００℃、好ましくは１６０〜２２０℃である。この温度は、新しい触媒を使用して行われる反応（この反応で回収された触媒を再使用する）においても、回収触媒を再使用して行われる反応においても同様である。
本発明の水素圧は、常圧でもよいが、加圧してもよく、加圧する場合は０．０９８〜３０ＭＰａ、好ましくは０．０９８〜３．０ＭＰａである。
本発明の反応時間は通常０．５〜１００時間、好ましくは１〜２０時間である。
尚、接触水素化反応における種々の条件、則ち、触媒の種類およびその使用量、溶媒の種類およびその使用量、反応温度ならびに反応圧力、反応時間等々の設定に際しては、各々の条件毎に示された通常の範囲の数値と好ましい範囲の数値から、適宜相互に選択し組み合わせることができる。
水素化後に生成された一般式（２）の化合物、即ち２−アルキル−３−アミノチオフェン誘導体は反応液から触媒を濾過除去すればそのまま加水分解等の次操作に移行も可能であり、また、触媒除去液を濃縮等の操作を挿んで晶析単離も可能である。
再使用される貴金属触媒の量は、回収された量の１０〜１００重量％、好ましくは３０〜１００重量％、更に好ましくは５０〜１００重量％、一層好ましくは８０〜１００重量％、最も好ましくは１００重量％である。
本発明において，触媒の回収は反応後の反応液からろ過等により触媒を分離することにより達成され、その際必要により溶媒での触媒の洗浄を行ってもよい。触媒の回収操作は通常室温程度の温度で行ってよいが、反応液の粘性が室温では高い等の理由により、必要であれば、ろ過或いは洗浄の操作を室温以上の温度で行ってもよい。
本発明を更に具体的に説明するため、以下に実施例を示すが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
本実施例中に記載されている反応収率を求めるための分析に用いたＨＰＬＣ条件を後述する。移動相は５０ｖｏｌ．％のアセトニトリル水溶液、ポンプはＬＣ−１０（ＳＨＩＭＡＤＺＵ）を用い移動相の流速を１．０ｍｌ／ｍｉｎとした。分離カラムにＬ−Ｃｏｌｕｍｕｎ  ＯＤＳφ４．６×２５０ｍｍ（化学検査品協会）を使用、検出はＳＰＤ−１０Ａ（ＳＨＩＭＡＤＺＵ）：波長２５４ｎｍで行ない、各化合物を定量した。
【実施例１】  Ｎ−［２−（１，３−ジメチルブテニル）チオフェン−３−イル］安息香酸アミドを１０ｇ（３５．０ｍｍｏｌ）とオクタノール９０ｇを３００ｍｌ容のオートクレーブに装入。更にＰｄ／Ｃ（Ｄｅｇｕｓｓａ  Ｅ１０６  ＮＮ／Ｗ）を乾燥重量０．５ｇ（化合物に対して５％）分を装入した。密封後、窒素０．２ＭＰａで脱気・置換を５回繰り返した後常圧に戻した。水素で０．８ＭＰａに加圧後、攪拌下、２００℃まで加熱して水素添加反応を行った。２時間後に加熱を停止し、３０℃以下まで冷却して脱気後、窒素で加圧置換を５回実施した。オートクレーブを開封して反応液を濾過して触媒を濾別、更に触媒をメタノールで洗浄した。触媒を除いた反応液をＨＰＬＣで分析した。反応前原料のアルケニル部の二重結合が水素化された一般式（１Ａ５）で表される、Ｎ−［２−（１，３−ジメチルブチル）チオフェン−３−イル］安息香酸アミドが９７．４ｍｏｌ％（選択率９８．９％）の収率で得られた。
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【実施例２】  実施例１と同様の反応を再度繰り返した。しかし、その際の触媒は実施例１で濾別した回収触媒の８０％量０．６７ｇ（触媒乾燥重量として０．４ｇ）と新触媒乾燥重量０．１ｇ（化合物に対して１％）分を使用した。窒素置換後、水素で０．８ＭＰａに加圧し、攪拌下、２００℃まで加熱して水素添加反応を８時間行った。反応後の処理は実施例１と同様に行い収率を求めた。一般式（１Ａ５）で表される化合物が９５．５ｍｏｌ％（選択率９６．３％）の収率で得られた。
【実施例３】  実施例２と同様の反応を再度繰り返した。その際の触媒は実施例２で濾別した回収触媒の８０％量０．５６ｇ（触媒乾燥重量として０．４ｇ）と新触媒乾燥重量０．１ｇ（化合物に対して１％）分を使用した。窒素置換後、水素で０．８ＭＰａに加圧し、攪拌下、２００℃まで加熱して水素添加反応を８時間行った。反応後の処理は実施例１と同様に行い収率を求めた。一般式（１Ａ５）で表される化合物が９４．５ｍｏｌ％（選択率９５．１％）の収率で得られた。
【実施例４】  実施例３と同様の反応を再度繰り返した。しかし、その際の触媒は実施例３で濾別した回収触媒の全量０．６０ｇ（触媒乾燥重量として０．５ｇ）を使用し、新触媒の追加は行わなかった。窒素置換後、水素で０．８ＭＰａに加圧し、攪拌下、２００℃まで加熱して水素添加反応を８時間行った。反応後の処理は実施例１と同様に行い収率を求めた。一般式（１Ａ５）で表される化合物が９３．６ｍｏｌ％（選択率９４．８％）の収率で得られた。
【実施例５】  実施例３と同様の反応を再度繰り返した。その際の触媒は実施例４で濾別した回収触媒の８０％量０．５６ｇ（触媒乾燥重量として０．４ｇ）と新触媒乾燥重量０．１ｇ（化合物に対して１％）分を使用した。窒素置換後、水素で０．８ＭＰａに加圧し、攪拌下、２００℃まで加熱して水素添加反応を８時間行った。反応後の処理は実施例１と同様に行い収率を求めた。一般式（１Ａ５）で表される化合物が９４．３ｍｏｌ％（選択率９４．６％）の収率で得られた。
【実施例６】  Ｎ−［２−（１，３−ジメチルブテニル）チオフェン−３−イル］−３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾール−４−カルボン酸アミド１０ｇ（２８．０ｍｍｏｌ）とオクタノール９０ｇを３００ｍｌ容のオートクレーブに装入。更にＰｄ／Ｃ（Ｄｅｇｕｓｓａ  Ｅ１０６  ＮＮ／Ｗ）を乾燥重量０．５ｇ（化合物に対して５％）分を装入。密封後、窒素０．２ＭＰａで脱気・置換を５回繰り返した後常圧に戻した。水素で０．８ＭＰａに加圧後、攪拌下、２００℃まで加熱して水素添加２時間反応を行った。反応後の処理は実施例１と同様に行い収率を求めた。一般式（１Ａ１）で表される、Ｎ−［２−（１，３−ジメチルブチル）チオフェン−３−イル］−３−トリフルオロメチル−１−メチルピラゾール−４−カルボン酸アミドが９８．１ｍｏｌ％（選択率９８．６％）の収率で得られた。
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【実施例７】  実施例６と同様の反応を再度繰り返した。しかし、その際の触媒は実施例６で濾別した回収触媒の８０％量０．６３ｇ（触媒乾燥重量として０．４ｇ）と新触媒乾燥重量０．１ｇ（化合物に対して１％）分を使用した。窒素置換後、水素で０．８ＭＰａに加圧し、攪拌下、２００℃まで加熱して水素添加反応を８時間行った。反応後の処理は実施例１と同様に行い収率を求めた。一般式（１Ａ１）で表される化合物が９６．６ｍｏｌ％（選択率９７．８％）の収率で得られた。
【実施例８】  実施例７と同様の反応を再度繰り返した。その際の触媒は実施例７で濾別した回収触媒の８０％０．５６ｇ（触媒乾燥重量として０．４ｇ）と新触媒乾燥重量０．１ｇ（化合物に対して１％）分を使用した。窒素置換後、水素で０．８ＭＰａに加圧し、攪拌下、２００℃まで加熱して水素添加反応を８時間行った。反応後の処理は実施例１と同様に行い収率を求めた。一般式（１Ａ１）で表される化合物が９５．２ｍｏｌ％の（選択率９６．０％）収率で得られた。
【実施例９】  実施例１と同様の反応を行った。但し触媒としてＰｄ／Ｃ（Ｄｅｇｕｓｓａ  Ｅ１０６  ＮＮ／Ｗ）を乾燥重量０．５ｇ（化合物に対して５％））を用い、その際の溶媒はオクタノールで反応温度は１８０℃で６時間反応を行った。反応後の処理は実施例１と同様に行い収率を求めた。一般式（１Ａ５）で表される化合物が９７．３ｍｏｌ％（選択率９９．１％）の収率で得られた。前述の反応系から回収した触媒を全量使用して１８０℃で１０時間反応を行い、収率を求めた。一般式（１Ａ５）で表される化合物（化９）が８８．７ｍｏｌ％（選択率９８．８％）の収率で得られた。更に、前述の反応系から回収した触媒を全量使用して触媒リサイクル２回目の反応を１８０℃で８時間反応を行い、収率を求めた。一般式（１Ａ５）で表される化合物が８４．８ｍｏｌ％（選択率９９．０％）の収率で得られた。回収触媒での反応は８時間で止めたが、反応自体は未だ続いており時間延長で収率アップは可能だった。
【実施例１０】  Ｎ−［２−（１，３−ジメチルブテニル）チオフェン−３−イル］安息香酸アミドを１０ｇ（３５．０ｍｍｏｌ）と２−プロパノール９０ｇを３００ｍｌ容のオートクレーブに装入。更にＰｄ／Ｃ（Ｄｅｇｕｓｓａ  Ｅ１０６  ＮＮ／Ｗ）を乾燥重量０．５ｇ（化合物に対して５％）分を装入した。密封後、窒素０．２ＭＰａで脱気・置換を５回繰り返した後常圧に戻した。水素で３ＭＰａに加圧後、攪拌下、２００℃まで加熱して水素添加反応を行った。６時間後に加熱を停止し、３０℃以下まで冷却して脱気後、窒素で加圧置換を５回実施した。オートクレーブを開封して反応液を濾過して触媒を濾別、更に触媒をメタノールで洗浄した。触媒を除いた反応液をＨＰＬＣで分析した。反応前原料のアルケニル部の二重結合が水素化された一般式（１Ａ５）で表される、Ｎ−［２−（１，３−ジメチルブチル）チオフェン−３−イル］安息香酸アミドが９４．３ｍｏｌ％（選択率９５．０％）の収率で得られた。
【実施例１１】  実施例１０と同様の反応を再度繰り返した。しかし、その際の触媒は実施例１０で濾別した回収触媒の８０％量０．６７ｇ（触媒乾燥重量として０．４ｇ）と新触媒乾燥重量０．１ｇ（化合物に対して１％）分を使用した。窒素置換後、水素で３ＭＰａに加圧し、攪拌下、２００℃まで加熱して水素添加反応を６時間行った。反応後の処理は実施例１と同様に行い収率を求めた。一般式（１Ａ５）で表される化合物が９２．５ｍｏｌ％（選択率９４．１）の収率で得られた。
【実施例１２】  実施例１０と同様の反応を再度繰り返した。その際の触媒は実施例１１で濾別した回収触媒の８０％量０．６６ｇ（触媒乾燥重量として０．４ｇ）と新触媒乾燥重量０．１ｇ（化合物に対して１％）分を使用した。窒素置換後、水素で３ＭＰａに加圧し、攪拌下、２００℃まで加熱して水素添加反応を６時間行った。反応後の処理は実施例１と同様に行い収率を求めた。一般式（１Ａ５）で表される化合物が９１．８ｍｏｌ％（選択率９４．１％）の収率で得られた。
【実施例１３】  Ｎ−［２−（１，３−ジメチルブテニル）チオフェン−３−イル］安息香酸アミドを１０ｇ（３５．０ｍｍｏｌ）と１−ブタノール９０ｇを３００ｍｌ容のオートクレーブに装入。更にＰｄ／Ｃ（Ｄｅｇｕｓｓａ  Ｅ１０６  ＮＮ／Ｗ）を乾燥重量０．５ｇ（化合物に対して５％）分を装入した。密封後、窒素０．２ＭＰａで脱気・置換を５回繰り返した後常圧に戻した。水素で３ＭＰａに加圧後、攪拌下、２００℃まで加熱して水素添加反応を行った。４時間後に加熱を停止し、３０℃以下まで冷却して脱気後、窒素で加圧置換を５回実施した。オートクレーブを開封して反応液を濾過して触媒を濾別、更に触媒をメタノールで洗浄した。触媒を除いた反応液をＨＰＬＣで分析した。反応前原料のアルケニル部の二重結合が水素化された一般式（１Ａ５）で表される、Ｎ−［２−（１，３−ジメチルブチル）チオフェン−３−イル］安息香酸アミドが９３．１ｍｏｌ％（選択率９７．９％）の収率で得られた。
【実施例１４】  実施例１３と同様の反応を再度繰り返した。しかし、その際の触媒は実施例１０で濾別した回収触媒の８０％量０．６５ｇ（触媒乾燥重量として０．４ｇ）と新触媒乾燥重量０．１ｇ（化合物に対して１％）分を使用した。窒素置換後、水素で３ＭＰａに加圧し、攪拌下、２００℃まで加熱して水素添加反応を６時間行った。反応後の処理は実施例１と同様に行い収率を求めた。一般式（１Ａ５）で表される化合物が９４．０ｍｏｌ％（選択率９８．９％）の収率で得られた。
【実施例１５】  実施例１３と同様の反応を再度繰り返した。その際の触媒は実施例１１で濾別した回収触媒の８０％量０．５８ｇ（触媒乾燥重量として０．４ｇ）と新触媒乾燥重量０．１ｇ（化合物に対して１％）分を使用した。窒素置換後、水素で３ＭＰａに加圧し、攪拌下、２００℃まで加熱して水素添加反応を６時間行った。反応後の処理は実施例１と同様に行い収率を求めた。一般式（１Ａ５）で表される化合物が９３．４ｍｏｌ％（選択率９８．４％）の収率で得られた。
比較例１
実施例１と同様の反応を行った。但し触媒としてＰｄ／Ｃ（Ｄｅｇｕｓｓａ  Ｅ１０６  ＮＮ／Ｗ）を乾燥重量０．５ｇ（化合物に対して５％）を用い、その際の溶媒はメタノール、反応温度は３０℃で７時間反応を行った。反応後の処理は実施例１と同様に行い収率を求めた。一般式（１Ａ５）で表される化合物が９８．７ｍｏｌ％（選択率９９．２％）の収率で得られた。前述の反応系から回収した触媒を全量と更に新触媒を乾燥重量０．１ｇ（化合物に対して１％）分を装入。３０℃で９時間反応を行ったが７時間目以降は水素吸収が殆どなく反応を終えた。反応後の処理は実施例１と同様に行い収率を求めた。一般式（１Ａ５）で表される化合物の収率は８４．３ｍｏｌ％（選択率９８．８％）に止まった。
比較例２
実施例１と同様の反応を行った。但し触媒としてＰｄ／Ｃ（Ｄｅｇｕｓｓａ  Ｅ１０６  ＮＮ／Ｗ）を乾燥重量０．５ｇ（化合物に対して５％）を用い、その際の溶媒はメタノール、反応温度は１００℃で１時間反応を行った。反応後の処理は実施例１と同様に行い収率を求めた。一般式（１Ａ５）で表される化合物が８８．１ｍｏｌ％（選択率９８．９％）の収率で得られた。前述の反応系から回収した触媒を全量使用して同様に１００℃で反応したところ、１時間反応した時点で反応は恒状態に入っていた。反応後の処理は実施例１と同様に行い収率を求めた。一般式（１Ａ５）で表される化合物の収率は１２．７ｍｏｌ％（選択率９９．９％）に止まった。
比較例３
実施例１と同様の反応を行った。但し触媒としてＰｄ／Ｃ（Ｎ．Ｅ．Ｃｈｅｍｃａｔ  Ｓ−Ｔｙｐｅ）を乾燥重量１．０ｇ（化合物に対して１０％）を用い、その際溶媒はメタノール、反応温度は１００℃で１時間反応を行った。反応後の処理は実施例１と同様に行い収率を求めた。一般式（１Ａ５）で表される化合物が９９．１ｍｏｌ％（選択率９９．３％）の収率で得られた。前述の反応系から回収した触媒を全量使用して１００℃で同様に１時間反応を行い、収率を求めた。一般式（１Ａ５）で表される化合物が９１．９ｍｏｌ％（選択率９８．１％）の収率で得られた。更に、前述の反応系から回収した触媒を全量使用して触媒リサイクル２回目の反応を１００℃で１時間反応を行い、収率を求めた。一般式（１Ａ５）で表される化合物が４６．８ｍｏｌ％（選択率９７．７％）の収率で得られた。更に、前述の反応系から回収した触媒を全量使用して触媒リサイクル３回目の反応を１００℃で１時間反応、１時間反応した時点で水素吸収は止まっていた。反応を停止し後処理して収率を求めた。一般式（１Ａ５）で表される化合物の収率は３２．１ｍｏｌ％（選択率９８．８％）に止まった。
比較例４
実施例１と同様の反応を行った。但し触媒としてＲａｎｅｙ−Ｎｉ（日興リカＲ−２３９）を乾燥重量１．０ｇ（化合物に対して１０％）使用し、溶媒はキシレンを用いた。密封後、窒素置換を５回繰り返した後常圧に戻した。水素で２．０ＭＰａに加圧後、攪拌下、１６０℃まで加熱して１２時間水素添加反応を行った。触媒を除いた反応液をＨＰＬＣで分析した。一般式（１Ａ５）で表される化合物の収率は６１．０ｍｏｌ％（選択率７９．０％）に止まった。
比較例５
実施例１同様の反応を行った。但し触媒として銅触媒（日興リカＶＦ３００−１）を乾燥重量２．０ｇ（化合物に対して２０％）使用し、溶媒はオクタノールを用いた。密封後、窒素置換を５回繰り返した後常圧に戻した。水素で２．０ＭＰａに加圧後、攪拌下、２００℃まで加熱して１８時間水素添加反応を行った。触媒を除いた反応液をＨＰＬＣで分析した。一般式（１Ａ５）で表される化合物の収率は７６．３ｍｏｌ％（選択率８４．９％）に止まった。
参考例１
触媒の不活化として水素化反応前の化合物或いは生成物の触媒への付着等が考えられたので、触媒中のＳ（硫黄）分を測定した。実施例１：２００℃反応で回収した触媒（反応１回使用）中のＳ含率は１．２％だった。更に、実施例３で回収した触媒（反応３回使用）中のＳ含率は１．６％だった。
参考例２
比較例３：１００℃反応後に回収した反応１回使用品回収触媒中のＳ含率は１．６％だった。更に、反応３回使用後に回収した触媒中のＳ含率は３．１％であり、２００℃反応時（参考例１）に比べＳ含率の増加が顕著に見られた。
【産業上の利用可能性】  本発明によれば、一般式（１）の化合物等の含イオウ化合物を貴金属触媒の存在下で水素化還元し一般式（２）の２−アルキル３−アミノチオフェン誘導体等の化合物を工業規模に於いて製造するに際して、経済的に有効な貴金属触媒リサイクルが可能となり、結果的に一般式（２）の化合物の製造に於いてもより高い経済性が付与される。
本発明の製造法においては、比較的高温で水素化還元反応を行う事によって貴金属触媒の不活化が抑制されるため貴金属触媒の回収再使用が可能となり、工業規模に於いて一般式（２）の化合物等の化合物の製造法の経済性が得られる。
【国際調査報告】
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