(57)【要約】      （修正有）【課題】露光プラットホームの特定エリアに対して露光作業を行い、相対して熱現象が発生しにくく、更に設備体積及びコストを下げる露光装置を提供する。      【解決手段】露光装置は、主に露光プラットホームの二個の相対する側に、それぞれ第一リニアガイドを設置し、第二リニアガイド４２を二個の第一リニアガイド４１の間に架設する。該第二リニアガイド上には光源ユニット５０を設置して露光プラットホームに向けて照射する露光光源を発し、更に第一駆動ユニット６１を設置して第二リニアガイドを第一リニアガイドに沿って位置移動させ、第二駆動ユニット６２を設置して光源ユニット５０を第二リニアガイド４２に沿って位置移動させ、露光光源を露光プラットホームの預定エリアに当て、露光プラットホーム上の被加工物に対して露光現像を行う。【選択図】図３
0003154492.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
露光装置において、
被加工物及びオリジナルを載せる露光プラットホームと、
平行状態で、それぞれを該露光プラットホームの二個の相対側面に配置する二個の第一リニアガイドと、
該二個の第一リニアガイドの間を横に架設する少なくとも一第二リニアガイドと、
該少なくとも一第二リニアガイド上に設置して，該露光プラットホームに向けて露光光源を照射する少なくとも一光源ユニットと、
該第二リニアガイドを該第一リニアガイドに沿って位置移動させる少なくとも一第一駆動ユニットと、
各光源ユニットを、それに対応する第二リニアガイドに沿って位置移動する少なくとも一第二駆動ユニットを含み、
使用する制御回路によって該少なくとも一第二リニアガイドと該少なくとも一光源ユニットの移動行程と移動速度を設定することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記露光装置は、該二個の第一リニアガイドの間に複数組の第二リニアガイド及び光源ユニットを架設し、及び複数組の個別に各第二リニアガイド及び各光源ユニットを位置移動させる第一、第二駆動ユニットを設置することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記露光装置は、少なくとも、そのうち一個の第一リニアガイド両端，及び各第二リニアガイド両端に停電スイッチを設置することを特徴とする請求項１または２記載の露光装置。
【請求項４】
前記露光装置は、複数の光源ユニットを設置し、該制御回路は各第二リニアガイド上の各光源ユニット間の隙間距離を制御することを特徴とする請求項１または２記載の露光装置。
【請求項５】
前記第二リニアガイドには、第三リニアガイドを設置し、該少なくとも一光源ユニットは該第三リニアガイド上に設置し、該少なくとも一光源ユニットは該第一リニアガイドでＸ方向に動き、第二リニアガイドでＹ方向に動き、また第三リニアガイドでＺ方向に動くことを特徴とする請求項１または２記載の露光装置。
【請求項６】
前記露光プラットホームは、複数の支持部及び透空部を設置し、該支持部は被加工物を設置するのに用いる第一リニアガイドの近くに設置し、該透光部は二個の第一リニアガイドの間に設置し、各支持部及び透空部は上下に配列し、上下の各支持部によってそれぞれ多数個の被加工物を設置することを特徴とする請求項５記載の露光装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、露光装置に関するもので、特に露光プラットホームの特定エリアに対して露光作業を行い、相対して熱現象が発生しにくく、更に設備体積及びコストを下げる露光装置構造に係る。
【背景技術】
【０００２】
一般のプリント基板もしくは半導体ウエハーが露光現像プロセスを行う時、先ず被加工物表面に一層のフォトレジストを塗布し、次に光源を照射してオリジナル上の回路レイアウト図を被加工物表面のフォトレジスト層上に映写し、フォトレジスト層の化学的性質が光源の照射によって変化する。その後フォトレジスト除去剤で光源照射されたフォトレジストもしくは露光されていないフォトレジストを被加工物表面から除去し、オリジナルの回路レイアウトに対応させる。
【０００３】
そのうち，露光現像加工プロセスを実施する露光装置基本構造は、図１に示すとおりで、主に筐体１１から構成される露光室１２、及び露光室１２へ送る露光プラットホーム１３、更に該露光室１２内部で露光プラットホーム１３の上方もしくは下方位置に相対して設置する少なくとも一光源ユニット１４を備える。更に図２に示すとおり、該露光プラットホーム１３は被加工物２０とオリジナル(図略)を置く透明のプラットホームで、露光プラットホーム１３全体は、一組のリニアガイド１５によって露光室１２へ進む。
【０００４】
該露光プラットホーム１３は、被加工物及びオリジナルを伴って露光室１２の定位置へ進んだ後、一般に露光室１２内部で一定時間(約３〜５秒の一様でない)留まり、被加工物に光源ユニット１４の露光光源照射を受けさせ、露光完成を待って次に露光プラットホーム１３から被加工物を送り出す。
【０００５】
一般公知の露光装置の多くは露光プラットホーム１３が露光室１２内部に留まる方式の露光作業を採用している。このため、その光源ユニット１４に列配置方式の電球１４１を大量に設置し、露光プラットホーム１３全体の平行光源を覆い、大量電球１４１を同時に使用することにより、筐体１１内部部に非常に強い熱現象を発生させる。そのため、他に冷却システムの放熱を設置しなければならないので、コストが高くなる。
【０００６】
他に一種公知の露光装置は、複眼装置で電球の光線を必要な平行光及び面積の大きさを修正する。その動作方式は光源電球を楕円鏡で光線を通し、一組の第一反射鏡で複眼装置に向けてその光線を均一化し、続けて一組の第二反射鏡で光線を前進方向へ変更させ、最後に一組の凸レンズで光線を必要な平行光及び面積の大きさに修正し、更に必要な露光光源を投射して電球の数を減らす。
【０００７】
このような設計は、露光装置全体の構造が複雑なだけでなく、且つ露光装置全体の体積が相対して大きくなってしまう。更に同様に露光プラットホーム全体に露光光源を被加工物に対して覆って露光現像を行う方法を採用している。
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００８】
解決しようとする問題点は、実際の露光現像プロセスにおいて、全ての被加工物の露光エリアはすべての露光プラットホームに相当しないため、露光プラットホーム全体の一部のエリアに露光光源を照射する必要がない。そのため、過度に不必要な加工コストをかけることになる点である。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本考案は、主に露光プラットホームの二個の相対する側に、それぞれ第一リニアガイドを設置し、別に少なくとも一第二リニアガイドは二個の第一リニアガイドの間に架設する。該少なくとも一第二リニアガイド上には光源ユニットを設置して露光プラットホームに向けて照射する露光光源を発し、更に第一駆動ユニットを設置して第二リニアガイドを第一リニアガイドに沿って位置移動させ、第二駆動ユニットを設置して光源ユニットを第二リニアガイドに沿って位置移動させ、露光光源を露光プラットホームの預定エリアに当て、露光プラットホーム上の被加工物に対して露光現像を行うことを最も主要な特徴とする。
【考案の効果】
【００１０】
本考案の露光装置は、下述の利点がある。
１.露光効果を発する光源は、ひとつの光源でよく、露光プラットホーム全体の大面積をカバーしないので、光源ユニットの電球数を大幅に減らし、相対して露光装置全体の体積を縮小し、及び設備コストを下げる。
２.使用する制御回路は、露光光源が預定行程に達した時、光源ユニットの効率を上げるため、相対して露光装置全体の熱現象を下げる。
３.露光装置全体は、被加工物の規格変動に合わせ、光源ユニット全体の行程設定を適時調整し、露光装置の適用性及び実用性を大幅に向上させる。
４.光源ユニットは、露光プラットホームの露光光源照射が必要なエリアだけを通過するため、不必要な加工コストを浪費することがない。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】公知の露光装置の構造断面図である。
【図２】公知の露光装置の露光プラットホーム外観立体図である。
【図３】本考案の第一実施例の露光装置外観立体図である。
【図４】本考案の第一実施例の露光装置側面構造図である。
【図５】本考案の第一実施例の露光装置動作指示図である。
【図６】本考案の第二実施例の露光装置動作指示図である。
【図７】本考案の第二実施例の露光装置構造指示図である。
【図８】本考案の光源ユニットの構造指示図である。
【図９】本考案の第三実施例の露光装置外観立体図である。
【図１０】本考案の第四実施例の露光装置外観立体図である。
【図１１】本考案の第四実施例の露光装置動作指示図である。
【考案を実施するための形態】
【００１２】
露光プラットホームの特定エリアに対して露光作業を行い、相対して熱現象を起こさず、及び設備体積及びコストを下げる露光装置構造を提供することを本考案の主な目的とする。
【００１３】
上述の目的を達成するため、本考案の露光装置は、主に露光プラットホームの二個の相対する側に、それぞれ第一リニアガイドを設置し、別に少なくとも一第二リニアガイドは二個の第一リニアガイドの間に架設し、該少なくとも一第二リニアガイド上には光源ユニットが設置されて光源ユニットで露光プラットホームに向けて照射される露光光源を発するのに用いる。
【００１４】
更に、第一駆動ユニットを設置して第二リニアガイドを第一リニアガイドに沿って位置移動させ、第二駆動ユニットを設置して光源ユニットを属する第二リニアガイドに沿って位置移動させる。光源ユニットが属する第二リニアガイドに沿って位置移動し、及び第二リニアガイドが第一リニアガイドに沿って位置移動する方式によって、露光光源は露光プラットホームの預定エリアに達し、露光プラットホーム上の被加工物に対して露光現像を行う。
【実施例１】
【００１５】
図３及び図４に示すとおり、本考案の露光装置は、露光プラットホーム３０、二個の第一リニアガイド４１、少なくとも一個の第二リニアガイド４２、少なくとも一個の光源ユニット５０、少なくとも一個の第一駆動ユニット６１，及び少なくとも一個の第二駆動ユニット６２を含む。そのうち、
【００１６】
該露光プラットホーム３０は、被加工物及びオリジナルを載せる。該二個の第一リニアガイド４１は平行状態で、それぞれ該露光プラットホーム３０の二相対応側に設置する。該少なくとも一第二リニアガイド４２は、該二個の第一リニアガイド４１の間に横向きに架設する。該少なくとも一光源ユニット５０は、該少なくとも一第二リニアガイド４２上に設置し、各光源ユニット５０は単一の光源５１(電球もしくは発光ダイオードがよい)を備えて該露光プラットホーム３０に向けて照射する露光光源として用いる。該光源ユニット５０は少なくとも一光源５１でもよく、図８に示すとおり、複数の光源５１で照射効果を形成しても良い。
【００１７】
該少なくとも一第一駆動ユニット６１は、該第二リニアガイド４２を該第一リニアガイド４１に沿って移動させるのに用いる。該少なくとも一第二駆動ユニット６２は、各光源ユニット５０を属する第二リニアガイド４２に沿って移動させるのに用いる。図５に示すとおり、露光装置全体は、使用する制御回路に従って該少なくとも一第二リニアガイド４２と該少なくとも一光源ユニット５０の移動行程と移動速度を設定する。仮に露光装置全体に複数の光源ユニット５０を設置する場合には図７に示すとおり、該制御回路もまた各第二リニアガイド４２上の各光源ユニット５０間の隙間距離ａ，及び各光源ユニット５０上光源５１の角度を制御して露光装置全体が特定サイズの工作プラットホームに制限されない。
【００１８】
本考案の露光装置を使用する時、被加工物２０及びオリジナルを該露光プラットホーム３０上(もしくはその他輸送装置で被加工物及びオリジナルを該露光プラットホームの定点箇所に運ぶ)に固定する。次に光源ユニット５０を、それに係る第二リニアガイド４２へ位置移動させ、第二リニアガイド４２が第一リニアガイド４１に沿って位置移動する方式により、光源ユニット５０が発する露光光源を確かに露光プラットホーム３０の預定エリアへ当て、更に該露光プラットホーム３０上の被加工物２０に対して露光現像を実施する。
【実施例２】
【００１９】
図６に示す本考案を具体的に実施する時、該二個の第一リニアガイド４１の間に複数組の第二リニアガイド４２及び光源ユニット５０，及び複数組の個別に各第二リニアガイド４２及び各光源ユニット５０を位置移動させる第一、第二駆動ユニット６１、６２を設置する。複数組の第二リニアガイド４２及び光源ユニット５０の分工作業によって、被加工物２０の露光現像の時間を短縮したり、もしくは同時に複数個の被加工物に対して露光現像を実施したりする。
【００２０】
更に露光装置全体は、少なくとも、そのうち一個の第一リニアガイド４１両端，及び各第二リニアガイド４２両端に停電スイッチ７０を設置し、各第二リニアガイド４２及び各光源ユニット５０が安全範囲を超過するのに制限を加え、関連部品が第二リニアガイド４２もしくは光源ユニット５０に当たって壊れるのを防止する。
【実施例３】
【００２１】
図９に示すのは、本考案の別の一実施例で、同様に露光プラットホーム３０、二個の第一リニアガイド４１、少なくとも一第二リニアガイド４２、少なくとも一光源ユニット５０、少なくとも一第一駆動ユニット６１，及び少なくとも一第二駆動ユニット６２を設置する。そして該第二リニアガイド４２上に第三リニアガイド４３を設置し、該少なくとも一光源ユニット５０は該第三リニアガイド４３上に設置し、該少なくとも一光源ユニット５０を該第一リニアガイド４１によって第一方向(Ｘ方向)に動かし、第二リニアガイド４２によって第二方向(Ｙ方向)へ動かし、第三リニアガイド４３によって第三方向(Ｚ方向)へ動かす。更に、そのうち該露光プラットホーム３０は図に示すとおり、単一平面の形式である。また図１０に示すとおり、該露光プラットホーム３０は、複数の支持部３１及び透空部３２を設置し、該支持部３１は第一リニアガイド４１の近くに設置して被加工物２０を設置するのに用いる。
【実施例４】
【００２２】
また、該透光部３２は、二個の第一リニアガイド４１の間に設置し、各支持部３１及び透空部３２は上下に排列し、上下の各支持部３１によってそれぞれ多数の個の被加工物２０を設置し、且つそのうちの一被加工物２０が加工を完了して出力された時、図１１に示す実施例に於いて、該上方の被加工物２０が出されると、該光源ユニット５０は第三リニアガイド４３によって下向きに下層の被加工物２０箇所へ移動して加工を行い、加工効率を大幅に向上させる。
【００２３】
具体的に説明すると、本考案は、露光効果を発生させる光源はひとつの光源でよく、露光プラットホーム全体の大面積に光源を広げないので、光源ユニットの電球数を大幅に減らし、相対して露光装置全体の体積を小さくし、且つ相対して設備コストを下げる。更に使用する制御回路は、露光光源が予定の場所に達する時、光源ユニットの効率を高めるので、相対して露光装置全体の熱現象を下げる。
【００２４】
特に、露光装置全体は、被加工物の規格によって変化させ、適時光源ユニットの行程設定を調整し、露光装置の適用性及び実用性を大幅に向上させる。加えて光源ユニットは露光プラットホームの露光光源を照射する必要のあるエリアだけを通るので、不必要な加工コストを浪費する必要がない。
【００２５】
上述のとおり、本考案は実行可能な露光装置を提供し、実用新案を請求する。本考案の技術内容及び技術特徴は、上述のとおりであるが、本領域に習熟した者が本考案の提示に基づき、各種の本考案の創作精神からから乖離しない入替え及び修飾を行うかもしれない。そのため、本考案の保護範囲は、應不限於実施例に示すものに制限されず、各種本考案から乖離しない入替え及び修飾を含み、以下の請求範囲を含むものとする
【符号の説明】
【００２６】
１１        筐体
１２        露光室
１３        露光プラットホーム
１４        光源ユニット
１４１      電球
１５        リニアガイド
２０        被加工物
３０        露光プラットホーム
３１        支持部
３２        透空部
４１        第一リニアガイド
４２        第二リニアガイド
４３        第三リニアガイド
５０        光源ユニット
５１        電球
６１        第一駆動ユニット
６２        第二駆動ユニット
７０        停電スイッチ
【図１】
0003154492.tif 000003
【図２】
0003154492.tif 000004
【図３】
0003154492.tif 000005
【図４】
0003154492.tif 000006
【図５】
0003154492.tif 000007
【図６】
0003154492.tif 000008
【図７】
0003154492.tif 000009
【図８】
0003154492.tif 000010
【図９】
0003154492.tif 000011
【図１０】
0003154492.tif 000012
【図１１】
0003154492.tif 000013
【手続補正書】
【提出日】平成21年8月7日(2009.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】実用新案登録請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
露光装置において、
被加工物及びオリジナルを載せる露光プラットホームと、
平行状態で、それぞれを該露光プラットホームの二個の相対側面に配置する二個の第一リニアガイドと、
該二個の第一リニアガイドの間を横に架設する少なくとも一個の第二リニアガイドと、
該少なくとも一個の第二リニアガイド上に設置して，該露光プラットホームに向けて露光光源を照射する少なくとも一個の光源ユニットと、
該第二リニアガイドを該第一リニアガイドに沿って位置移動させる少なくとも一個の第一駆動ユニットと、
各光源ユニットを、それに対応する第二リニアガイドに沿って位置移動する少なくとも一個の第二駆動ユニットを含み、
使用する制御回路によって該少なくとも一個の第二リニアガイドと該少なくとも一個の光源ユニットの移動行程と移動速度を設定することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記露光装置は、該二個の第一リニアガイドの間に複数組の第二リニアガイド及び光源ユニットを架設し、及び複数組の個別に各第二リニアガイド及び各光源ユニットを位置移動させる第一、第二駆動ユニットを設置することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記露光装置は、少なくとも一個の第一リニアガイド両端，及び各第二リニアガイド両端に停電スイッチを設置することを特徴とする請求項１または２記載の露光装置。
【請求項４】
前記露光装置は、複数の光源ユニットを設置し、該制御回路は各第二リニアガイド上の各光源ユニット間の隙間距離を制御することを特徴とする請求項１または２記載の露光装置。
【請求項５】
前記第二リニアガイドには、第三リニアガイドを設置し、該少なくとも一個の光源ユニットは該第三リニアガイド上に設置し、該少なくとも一個の光源ユニットは該第一リニアガイドでＸ方向に動き、第二リニアガイドでＹ方向に動き、また第三リニアガイドでＺ方向に動くことを特徴とする請求項１または２記載の露光装置。
【請求項６】
前記露光プラットホームは、複数の支持部及び透空部を設置し、該支持部は被加工物を設置するのに用いる第一リニアガイドの近くに設置し、該透光部は二個の第一リニアガイドの間に設置し、各支持部及び透空部は上下に配列し、上下の各支持部によってそれぞれ多数個の被加工物を設置することを特徴とする請求項５記載の露光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
そのうち，露光現像加工プロセスを実施する露光装置基本構造は、図１に示すとおりで、主に筐体１１から構成される露光室１２、及び露光室１２へ送る露光プラットホーム１３、更に該露光室１２内部で露光プラットホーム１３の上方もしくは下方位置に相対して設置する少なくとも一個の光源ユニット１４を備える。更に図２に示すとおり、該露光プラットホーム１３は被加工物２０とオリジナル(図略)を置く透明のプラットホームで、露光プラットホーム１３全体は、一組のリニアガイド１５によって露光室１２へ進む。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本考案は、主に露光プラットホームの二個の相対する側に、それぞれ第一リニアガイドを設置し、別に少なくとも一個の第二リニアガイドは二個の第一リニアガイドの間に架設する。該少なくとも一個の第二リニアガイド上には光源ユニットを設置して露光プラットホームに向けて照射する露光光源を発し、更に第一駆動ユニットを設置して第二リニアガイドを第一リニアガイドに沿って位置移動させ、第二駆動ユニットを設置して光源ユニットを第二リニアガイドに沿って位置移動させ、露光光源を露光プラットホームの預定エリアに当て、露光プラットホーム上の被加工物に対して露光現像を行うことを最も主要な特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上述の目的を達成するため、本考案の露光装置は、主に露光プラットホームの二個の相対する側に、それぞれ第一リニアガイドを設置し、別に少なくとも一個の第二リニアガイドは二個の第一リニアガイドの間に架設し、該少なくとも一個の第二リニアガイド上には光源ユニットが設置されて光源ユニットで露光プラットホームに向けて照射される露光光源を発するのに用いる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
該露光プラットホーム３０は、被加工物及びオリジナルを載せる。該二個の第一リニアガイド４１は平行状態で、それぞれ該露光プラットホーム３０の二相対応側に設置する。該少なくとも一個の第二リニアガイド４２は、該二個の第一リニアガイド４１の間に横向きに架設する。該少なくとも一個の光源ユニット５０は、該少なくとも一個の第二リニアガイド４２上に設置し、各光源ユニット５０は単一の光源５１(電球もしくは発光ダイオードがよい)を備えて該露光プラットホーム３０に向けて照射する露光光源として用いる。該光源ユニット５０は少なくとも一個の光源５１でもよく、図８に示すとおり、複数の光源５１で照射効果を形成しても良い。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
該少なくとも一個の第一駆動ユニット６１は、該第二リニアガイド４２を該第一リニアガイド４１に沿って移動させるのに用いる。該少なくとも一個の第二駆動ユニット６２は、各光源ユニット５０を属する第二リニアガイド４２に沿って移動させるのに用いる。図５に示すとおり、露光装置全体は、使用する制御回路に従って該少なくとも一個の第二リニアガイド４２と該少なくとも一個の光源ユニット５０の移動行程と移動速度を設定する。仮に露光装置全体に複数の光源ユニット５０を設置する場合には図７に示すとおり、該制御回路もまた各第二リニアガイド４２上の各光源ユニット５０間の隙間距離ａ，及び各光源ユニット５０上光源５１の角度を制御して露光装置全体が特定サイズの工作プラットホームに制限されない。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
更に露光装置全体は、少なくとも一個の第一リニアガイド４１両端，及び各第二リニアガイド４２両端に停電スイッチ７０を設置し、各第二リニアガイド４２及び各光源ユニット５０が安全範囲を超過するのに制限を加え、関連部品が第二リニアガイド４２もしくは光源ユニット５０に当たって壊れるのを防止する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
図９に示すのは、本考案の別の一実施例で、同様に露光プラットホーム３０、二個の第一リニアガイド４１、少なくとも一個の第二リニアガイド４２、少なくとも一個の光源ユニット５０、少なくとも一個の第一駆動ユニット６１，及び少なくとも一個の第二駆動ユニット６２を設置する。そして該第二リニアガイド４２上に第三リニアガイド４３を設置し、該少なくとも一個の光源ユニット５０は該第三リニアガイド４３上に設置し、該少なくとも一個の光源ユニット５０を該第一リニアガイド４１によって第一方向(Ｘ方向)に動かし、第二リニアガイド４２によって第二方向(Ｙ方向)へ動かし、第三リニアガイド４３によって第三方向(Ｚ方向)へ動かす。更に、そのうち該露光プラットホーム３０は図に示すとおり、単一平面の形式である。また図１０に示すとおり、該露光プラットホーム３０は、複数の支持部３１及び透空部３２を設置し、該支持部３１は第一リニアガイド４１の近くに設置して被加工物２０を設置するのに用いる。