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　特願２００９−　８９７６９「弾性表面波フィルタの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２１年　８月２０日出願公開、特開２００９−１８９０３６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯　
　本願は、平成１２年５月３０日に出願した特願２０００−１５９６６１号の一部を新たな出願としたものであって、平成２３年６月２０日付けの拒絶理由に対して、平成２３年８月１日付けで手続補正がなされたが、平成２３年８月２５日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、平成２３年１１月２２日に拒絶査定不服審判が請求されたものである。
　
第２　本願発明
　本願発明は、平成２３年８月１日付けで手続補正された特許請求の範囲の請求項１〜２に記載された事項により特定されるものと認められるところ、その請求項１に記載された発明（以下、「本願発明」という。）は、以下のとおりのものである。
「【請求項１】
　圧電性タンタル酸リチウムウェーハを用いて該圧電性タンタル酸リチウムウェーハの表面に電極を形成し、前記電極幅が１μｍ以下である弾性表面波フィルタを製造する方法であって、前記圧電性タンタル酸リチウムウェーハの表面に付着している１μｍ以上の大きさのパーティクル数が８５個／ｍｍ２以下となるように予め試験を行って洗浄条件を設定し、該設定条件の洗浄を行って得られる表面に付着している１μｍ以上の大きさのパーティクル数が８５個／ｍｍ２以下である圧電性タンタル酸リチウムウェーハを用いて弾性表面波フィルタを製造することを特徴とする弾性表面波フィルタの製造方法。」
　
第３　引用刊行物
１．引用刊行物１
　原審が拒絶の理由に引用した特開平１０−１９０３９０号公報(以下、「引用例１」という。）には、図面と共に次の各記載がある。なお、下線は当審が付した。
　
（１）「【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の製造方法では、最初に形成した電極４１ａ´間にレジスト４６´を形成し、かつ電極４１ａ´上に正確に電極４１ａ″を積層形成しなければならなかった。他方、
弾性表面波素子の電極幅は１μｍ程度と非常に細い。
【００１１】本発明は、上記欠点を解消し、同一基板上に厚みの異なる電極を用いて構成された複数の電子部品素子を構成するにあたり、より粗い精度でも正確に各電極を形成することができ、従って、所望通りの特性を発揮し得る電子部品の製造方法の提供を目的とする。」
　
（２）「【００１８】（第１の実施例）図１は、本発明の第１の実施例に係る弾性表面波装置の製造方法を説明するための断面図である。
【００１９】本実施例においては、図１（ｅ）に示すように、同一の圧電基板３において、電極膜厚の異なる第１の弾性表面波フィルタ素子１と第２の弾性表面波フィルタ素子２とを形成する。弾性表面波フィルタ素子１の電極１ａは、弾性表面波フィルタ素子２の電極２ａに比べて膜厚が相対的に厚くされている。
【００２０】
先ず、図１（ａ）に示すように、圧電基板３上に、全面に第１の弾性表面波フィルタ素子１の電極１ａと等しい膜厚の導電膜４を形成する。圧電基板３は、ＬｉＴａＯ
3
 、ＬｉＮｂＯ
3
 または水晶などの圧電単結晶、あるいはチタン酸ジルコン酸鉛系圧電セラミックスのような圧電セラミックスにより構成され得る。また、圧電基板３として、アルミナなどの絶縁性材料からなる絶縁基板上にＺｎＯなどの圧電薄膜を形成したものを用いてもよい。
【００２１】
導電膜４は、Ａｌなどの導電性材料を蒸着、スパッタリング、メッキ等の適宜の方法で付与することにより形成される。次に、導電膜４上に全面にポジ型のレジストを付与する。このレジスト上に、第１の弾性表面波フィルタ素子１の電極１ａの部分が遮蔽部とされたマスクを用いて露光し、しかる後、露光されたレジスト部分を除去することにより、パターニングされたレジスト５を得る。
【００２２】
次に、レジスト５を侵さないが、導電膜４を除去し得るエッチャントを用いてエッチングを行い、図１（ｂ）に示すように、電極１ａを形成する。
【００２３】次に、第２の電極２ａに等しい膜厚の導電膜を付与する。このようにして、図１（ｄ）に示すように、第２の電極２ａが形成される。しかる後、レジスト６，６´上に付与されている導電膜７をレジスト６，６´と共にリフトオフし、図１（ｅ）に示す弾性表面波装置８を得る。」
　
（３）引用例１に記載されたものは、段落【００１０】に記載されているように、弾性表面波素子において、同一基板上に厚みの異なる電極を正確に形成することを目的とするものではあるが、その前提として、基板上に幅が１μｍ以下という非常に狭い電極をフォトリソグラフィによって形成するものであって、上記（１）〜（２）の記載を総合すると、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　
　「LiTaO3圧電基板を用いて該LiTaO3圧電基板の表面に電極を形成し、前記電極幅が１μｍ以下である弾性表面波フィルタ素子を製造する方法。」
　
２．引用刊行物２
　原審が拒絶の理由に引用した特開平３−３６８０９号公報（以下、「引用例２」という。）には、以下の記載がなされている。なお、下線は当審が付した。
　
（１）「３．発明の詳細な説明
（イ）産業上の利用分野
　本発明は弾性表面波素子用のウェハの洗浄方法に関するものである。
（ロ）従来の技術
　弾性表面波素子の製造工程を簡単に説明する。
　LiTaO3, LiNbO3等の圧電性単結晶ウェハの表面を鏡面に研摩すると共に裏面を粗面化する。次に、ウェハを洗浄した後、ウェハ表面に所定厚のAl膜を蒸着等により形成する。このAl膜上にレジストを塗布し、所定パターンのフォトマスクにより転写パターンを紫外線露光する。
その後、現像を行い、所定電極パターン上を除きレジストを除去する。そして、エツチングにより所定パターンの電極が形成され、レジスト剥離を行う。このようにしてウェハ上に多数の弾性表面波素子が形成される。
　
以上の製造工程において、ウェハの洗浄は歩留りに及ぼす影響が大きい。すなわち、ウェハの洗浄が十分でなければ電極間の短絡、容量不良、電極の部分的欠陥等の電極パターン不良が生じ、歩留りが低下する。
　
ウェハ加工工程において、ウェハ主面には研摩剤およびワックスが付着している。このような油脂成分を除去するため、界面活性剤を含むアルカリ性溶液にて超音波洗浄を行う。
　一方、
LiTaO
3
, LiNbO
3
等の圧電性単結晶ウェハは焦電性を有するので、電気的引力により、ゴミ、ウェハのカケラ等がウェハ主面に吸着し、汚れの原因となる。
　
しかしながら、界面活性剤を含むアルカリ性溶液を用いて超音波洗浄を行ったが、油脂成分の除去については効果はあるが、焦電気の除去には十分な効果は得られなかった。
　また、界面活性剤を含むアルカリ性溶液による洗浄の後、ウェハに吸着したアルカリ剤の除去のため、多量の水洗を必要とする。
（ハ）発明が解決しようとする課題
　本発明は上述の問題に鑑み、
ウェハ表面の油脂成分等の汚れを除去すると共に焦電気を除去し、それによるゴミ、ウェハのカケラ等のウェハ表面への付着が防がれ、かつ洗浄後の水洗が少量で済み、歩留りよく弾性表面波素子が得られる弾性表面波素子用ウェハの洗浄方法を提供することを目的とする
（ニ）課題を解決するための手段
　本発明は弾性表面波素子用ウェハの洗浄方法であり、弾性表面波素子用ウェハを界面活性剤を含むアルカリ性溶液にて洗浄した後、酸性溶液にて洗浄することを特徴とするものである。
（ホ）作用
　界面活性剤を含むアルカリ性溶液による洗浄により、油脂成分が除去される。その後、酸性溶液による洗浄により、焦電気が除去されると共に、ウェハ表面に付着したアルカリ剤が中和される。
（へ）実施例
　本発明の一実施例を以下に説明する。
　まず、表面を鏡面研摩すると共に裏面を粗面化したLiTaO3, LiNbO3等の圧電性単結晶ウェハを界面活性剤を含むアルカリ性溶液を用いて超音波洗浄を行う。次に、リン酸、酢酸、硝酸をこの順に、体質比率で１６：３：１の割合で混合した混合液を、純水で１〜１０％に希釈し、５０℃に加温した酸性溶液に侵し、５秒間に１回の割合での揺動による洗浄を行う。このときの洗浄時間は５〜１５分間である。その後、水洗を行う。
　
以上のように洗浄した後、顕微鏡にてウェハ表面を観察し、付着しているゴミの個数を計測した。その結果を図面に示す（図中●）。同図において、横軸は酸性溶液の濃度、縦軸はゴミの付着個数である。
　
図面から明らかな如く、濃度が増すにつれてゴミの個数は減少している。濃度が１０％の場合、酸性溶液による洗浄を行わなかった場合と比べて約１/５の量まで減少している。
　
また、図面からわかるように酸性溶液は濃度が５〜１０％で良好な洗浄力（焦電気除去）を有する。
　また、酸性溶液により、アルカリ溶液による洗浄時にウェハに付着したアルカリ成分が中和されるので、酸性溶液による洗浄後の水洗に要する時間および水量は、酸性溶液による洗浄を行わない場合に比べて１/１０以下で済む。
（ト）発明の詳細
　以上説明したように、
本発明による洗浄方法によると、界面活性剤を含むアルカリ性溶液による洗浄により、油脂成分等が除去され、その後の酸性溶液による洗浄により焦電気が除去されると共にウェハ表面に付着したアルカリ剤が中和されるので、良好な洗浄が行えるため、歩留りが向上し、かつ水洗時間を大幅に削減できる。
４．図面の簡単な説明
　
図面は本発明による一実施例における酸性溶液の濃度に対するゴミの付着量を示す図である。
　
（２）図面には、横軸を「濃度（％）」とし、縦軸を「ゴミ個数」とした線グラフにおいて、濃度が増すにつれてゴミ個数が減少することが記載されている。
　
（３）上記（１）〜（２）には、次の事項（あ）〜（い）が記載されている。
（あ）ウェハ主面には研磨剤およびワックスが付着しているので超音波洗浄を行うこと、LiTaO3, LiNbO3等の圧電性単結晶ウェハは焦電性を有するので、電気的引力により、ゴミ、ウェハのカケラ等がウェハ主面に吸着し、汚れの原因となること、ウェハの洗浄が十分でなければ電極間の短絡、容量不良、電極の部分的欠陥等の電極パターン不良が生じ、歩留りが低下すること。
　
（い）洗浄溶液である酸性溶液の濃度が増すと、洗浄後のゴミの個数が減少すること。また、洗浄溶液である酸性溶液の「濃度が５〜１０％で良好な洗浄力（焦電気除去）を有する。」と記載されているように、濃度が５〜１０％よりも増せば良好な洗浄力が得られること、すなわち、洗浄溶液の濃度には、良好な洗浄力を有するといえる条件があり、そのような条件が認識されていることが理解できる。
　なお、引用例２に記載されたものは、ウェハ上のゴミなどを除去して製造上の歩留まりを向上させるために洗浄を行うものであるから、引用例２における「良好な洗浄力」とは、ウェハ上のゴミなどに起因する不良品発生（歩留まり悪化）が許容できる値であるような洗浄力であることは明らかである。
　
（う）上記（あ）〜（い）を総合すると、引用例２には、弾性表面波素子を製造する方法において、歩留まりを向上させるために、LiTaO3ウェーハを洗浄することにより、LiTaO3ウェーハの表面に付着しているゴミの数を減少させることが記載されている。
　また、洗浄溶液の濃度と洗浄後のゴミの個数には相関関係があって、洗浄溶液の濃度には、歩留まりを向上させるための良好な洗浄力を有するといえる条件があり、そのような条件が認識されていることが理解できる。
　
第４　対比
　本願発明と引用発明とを対比する。
　
（１）引用発明の「LiTaO3の圧電基板３」は、本願発明の「圧電性タンタル酸リチウムウェーハ」に相当する。
　
（２）引用発明の「LiTaO3の圧電基板３に形成される電極」は、本願発明の「圧電性タンタル酸リチウムウエーハの表面に形成される電極」に相当する。
　
（３）引用発明のLiTaO3の圧電基板３に形成される電極幅は１μm以下であり、そして本願発明の圧電性タンタル酸リチウムウエーハの表面に形成される電極幅も１μm以下であるから、この点で両発明は一致する。
　
（４）引用発明の「弾性表面波フィルタ素子の製造方法」は、本願発明の「弾性表面波フィルタの製造方法」に相当する。
　
　そうすると、本願発明と引用発明との間の一致点及び相違点は次のとおりである。
　
（一致点）
　「圧電性タンタル酸リチウムウェーハを用いて該圧電性タンタル酸リチウムウェーハの表面に電極を形成し、前記電極幅が１μｍ以下である弾性表面波フィルタを製造する方法。」
　
（相違点）
　本願発明の製造方法は、圧電性タンタル酸リチウムウェーハの表面に付着している１μｍ以上の大きさのパーティクル数が８５個／ｍｍ２以下となるように予め試験を行って洗浄条件を設定し、該設定条件の洗浄を行って得られる表面に付着している１μｍ以上の大きさのパーティクル数が８５個／ｍｍ２以下である圧電性タンタル酸リチウムウェーハを用いて弾性表面波フィルタを製造する方法であるのに対して、
　引用発明は、そのような点が明確でない点。
　
第５　判断
　およそ微細な構造を有する電子素子の製造に際して、ゴミの付着を防止すること、及び、付着したゴミを除去して清浄な表面状態で製造を進めることはいうまでもないことである。
　引用発明において明示はないものの、微細な構造を有するものである弾性表面波フィルタの製造に際して、当然のこととして、ウェーハの表面に付着したゴミを洗浄して除去することを前提としているものと認められる。この点は、引用例２にも記されているとおりである。
　なお、引用例２の「ウェーハの表面に付着しているゴミの数」が意味する事項に、「ウェーハの表面に付着している単位面積当たりのゴミの数」が含まれることは明らかである。
　
　ところで、「ウェーハの表面に付着している単位面積当たりのゴミの数」が多ければ、これに伴い、製品の歩留まりが悪化することは、いうまでもないことであり、製造に際して、「ウェーハの表面に付着している単位面積当たりのゴミの数」をいくら以下にするかは、許容する製品の歩留まりをどのように設定するかによって変わるものである。
　この点に関して、本願の明細書及び図面を参照しても、「ウェーハの表面に付着している単位面積当たりのゴミの数」と製品の歩留まりとの関係に、何らかの臨界的な変化点があるものでなく、ゴミの数が増えれば、それに伴って徐々に歩留まりが低下することが理解できるだけである。
　それゆえ、許容する「ウェーハの表面に付着している単位面積当たりのゴミの数」の範囲をどのように設定するかは、単なる設計的事項にすぎないといわざるを得ない。
　
　また、対象とするゴミの大きさを「１μｍ以上」とすることに関して、本願の明細書には、例えば、０．８μｍや１．２μｍといった、１μｍ前後の数値に対する比較例は示されておらず、また、１μｍ未満のゴミを除外して１μｍ以上のゴミのみを識別するための手法が示されているものでもない。
　一方、電極幅が１μｍ以下であるのであるから、少なくとも電極幅程度以上である１μｍ以上のゴミが電極形成に対して悪影響を及ぼし、製品の歩留まり悪化につながるであろうことは、容易に想起し得たことである。
　これらのことを踏まえれば、対象とするゴミの大きさの範囲をどのように設定するかも、単なる設計的事項にすぎないといわざるを得ない。
　
　さらに、ウェハの洗浄をする際に、やみくもに洗浄することはもとよりあり得ず、予め洗浄試験をして、ウェハ表面に付着している単位面積当たりのゴミの数が所定数以下になるような洗浄条件を定めておくことは、当業者の行う通常の業務の範囲内であると認められる。上記第３　引用刊行物　２．引用刊行物２（３）に記したように、ウェハの洗浄条件と洗浄後のゴミの個数との間には相関関係があることが認識されており、ゴミの個数と歩留まりとの相関関係も認識されているのであるから、予め洗浄試験を行って、許容される歩留まりを得るための洗浄条件を定めておき、これにしたがって洗浄を行うようにすることは、何ら格別なことではない。
　
　結局のところ、引用発明において、引用例２に記載された事項と一般常識に基づいて、「圧電性タンタル酸リチウムウェーハの表面に付着している１μｍ以上の大きさのパーティクル数が８５個／ｍｍ２以下となるように予め試験を行って洗浄条件を設定し、該設定条件の洗浄を行って得られる表面に付着している１μｍ以上の大きさのパーティクル数が８５個／ｍｍ２以下である圧電性タンタル酸リチウムウェーハを用いて弾性表面波フィルタを製造すること」は、当業者が適宜なし得ることである。
　
　そして、本願発明の奏する効果は、引用発明及び引用例２に記載された事項の奏する効果から予測される範囲内のものにすぎず、格別顕著なものということはできない。
　したがって、本願発明は、引用発明及び引用例２に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
第６　むすび
　本願発明は、引用発明及び引用例２に記載された事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、他の請求項について検討するまでもなく、本願は特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。