(57)【要約】上下移動可能なパッド（４４）と、エアー排気による負圧により伸縮してパッドを上下移動させる弾性部材（４３）とを有する各矯正用パッド（３３〜３５）を全面吸着部（６）の最外周縁部に沿って設けた。
2003071599.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の平面度を保って吸着保持する全面吸着部と、
前記全面吸着部の中央部に形成された孔部内に昇降可能に設けられ、前記基板を吸着保持して前記孔部内で昇降することにより前記基板を前記全面吸着部に対して受け渡しする基板受渡し部と、
前記全面吸着部上における前記基板の外周縁部に対応する位置に複数設けられ、前記全面吸着部の吸着面に対して出没するように弾性部材で支持されたパッドを有し、前記パッドが前記基板に対して吸着すると負圧により前記弾性部材を下方に移動して前記基板を平面に矯正する矯正用パッド部と、
を具備したことを特徴とする基板吸着装置。
【請求項２】
前記全面吸着部は、環状に形成され、最内周縁部と最外周縁部とに各凸状部を形成すると共に、前記最内周縁部と前記最外周縁部との間の表面上に前記基板の平面度を保つ複数の支持突起部を形成することを特徴とする請求項１記載の基板吸着装置。
【請求項３】
前記全面吸着部は、前記吸着面を含む表面部分を多孔質材料により形成することを特徴とする請求項１記載の基板吸着装置。
【請求項４】
前記矯正用パッド部は、前記全面吸着部に形成されたパッド収納穴と、
前記パッド収納穴内に上下移動可能に設けられ、パッド筒体の上面に吸盤部を形成し、かつ前記吸盤部に排気孔を形成したパッドと、
前記パッド収納穴の底部と前記吸盤部との間に気密に設けられ、内部に排気孔を有する円筒部に形成し、前記パッド収納穴内を圧力変化に応じて伸縮して前記パッドを上下移動させる弾性部材と、
前記パッド収納穴に接続され、前記パッドの前記排気孔から前記弾性部材の前記排気孔を通してエアーを排気する排気路と、
を有することを特徴とする請求項１記載の基板吸着装置。
【請求項５】
前記弾性部材は、円筒状に形成され、外周面上にくびれ部を形成したことを特徴とする請求項４記載の基板吸着装置。
【請求項６】
前記基板受渡し部の吸着動作により前記基板受渡し部上に前記基板を吸着保持させ、
前記基板受渡し部を下降させると共に、前記矯正用パッドの吸引動作により前記全面吸着部の前記吸着面よりも押し上げられている前記パッドを前記基板の外周縁部に吸着させ、
前記基板受渡し部を前記全面吸着部の吸着面と同一高さに下降させると共に前記全面吸着部の吸着動作により前記基板を前記全面吸着部の表面上に吸着保持させ、前記パッドの前記基板に対する吸着による負圧により前記弾性部材を下方に移動して前記基板を平面に矯正する吸着制御手段、
を有することを特徴とする請求項１記載の基板吸着装置。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、例えば半導体ウエハや液晶ディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）のガラス基板を吸着保持する基板吸着装置に関する。
背景技術
図１２は基板吸着装置の上面構成図であり、図１３は同装置の側面構成図である。吸着面１上に複数の溝２が形成され、排気通路３を通して排気口４に連通している。排気口４には、真空ポンプなどの図示しない排気手段が接続され、排気手段のエアー吸引動作により吸着面１上に基板５が真空吸着される。
しかしながら、基板（半導体ウエハ）５が大型化、薄型化すると、吸着面１は基板５よりも小さいために、基板５は、図１４に示すように自重により外周部に行く程下方に撓む。
このように基板５が撓んでいる状態で、顕微鏡により基板５の表面を観察する場合には、基板５の撓み部分で顕微鏡の焦点がずれてしまう。又、基板５が撓んでいる状態で、基板５に対して各種加工、例えばフォトリソグラフィ製造工程における回路パターンを基板５に露光する場合には、基板５の撓み部分で回路パターンの像がボケてしまう。
このような基板５の撓みによる問題を解決するために、基板５を全面吸着して基板５の平面度を保つ技術が例えば特開平６−１３２３８７号公報及び特開２０００−３１１９３３号公報に記載されている。
図１５は基板吸着装置の上面構成図であり、図１６は同装置の一部拡大図である。全面吸着部６の最外周縁部に凸状の土手７が形成されている。土手７は、基板５としてノッチ付半導体ウエハを載置したときに基板５と全面吸着部６との間の気密性を保ち、基板５を全面吸着する吸着パッドとして作用する。
複数の排気孔１０が全面吸着部６の上面に形成され、それぞれ各排気路１１−１〜１１−４に連通している。各排気路１１−１〜１１−４は、それぞれ全面吸着部６の外周部に設けられた各継ぎ手１２−１〜１２−４を介して図示しない排気装置に接続されている。
基板５が全面吸着部６の吸着面９上に載置されると、排気装置によるエアー排気により基板５は、全面吸着部６上に平面度を保たれて吸着保持される。
しかしながら、基板５が図１７に示すように例えば上方に反っている場合には、基板５の外周部と吸着パッドとして作用する土手７との間に隙間１５を生じる。この隙間１５が生じた状態で、各排気孔１０を介して吸引を開始すると、隙間１５から外の空気が流入して、基板５は吸着面９に吸着できない。
図１８は特開平８−２２９８６６号公報に記載されている吸着パッドの構成図である。台座部材１６が基台１７の取付凹部１８内に取り付けられている。吸着部材１９は、台座部材１６上に嵌合し、コイルスプリング２０によって上方へ付勢されている。台座部材１６と吸着部材１９とは、中心孔２１と、環状溝２２と、支持軸部２３と、スリーブ部材２４との嵌合部によってラビリンス構造を形成する。この吸着パッドは、基台１７上に複数個並列して設けられる。
吸着部材１９は、支持軸部２３を中心にして、若干傾斜させることが可能で、コイルスプリング２０を介して出没自在に取り付けられている。このように吸着部材１９が出没自在に構成されることにより、基板５に反りが生じても、吸着面が突出することで基板５を吸着することができる。
しかしながら、吸着パッドは、基台１７上に複数個並列に設けられ、各吸着パッドの吸着部材１９により基板５を吸着保持するもので、基板全面を吸着保持することができないことから基板５の平面度を出すことができない。
本発明は、基板を全面吸着保持し基板の平面度を高くし、かつ基板に反り等が生じても基板を確実に吸着保持できる基板吸着装置を提供することを目的とする。
発明の開示
本発明の主要な観点によれば、基板の平面度を保って吸着保持する全面吸着部と、全面吸着部の中央部に形成された孔部内に昇降可能に設けられ、基板を吸着保持して孔部内で昇降することにより基板を全面吸着部に対して受け渡しする基板受渡し部と、全面吸着部上における基板の外周縁部に対応する位置に複数設けられ、全面吸着部の吸着面に対して出没するように弾性部材で支持されたパッドを有し、パッドが基板に対して吸着すると負圧により弾性部材を下方に移動して基板を平面に矯正する矯正用パッド部とを具備した基板吸着装置が提供される。
発明を実施するための最良の形態
以下、本発明の第１の実施の形態について図面を参照して説明する。なお、図１５と同一部分には同一符号を付してある。
図１は基板吸着装置の上面構成図であり、図２は同装置のＸ−Ｘ断面図である。第１の実施の形態は、例えば円盤状に形成された基板５として半導体ウエハを全面吸着保持する基板吸着装置としてウエハ保持ステージに適用した例を示す。
全面吸着部６は、例えばセラミックスなどの硬度の高い材料により円盤状に形成されている。全面吸着部６の最内周縁部と最外周縁部とにそれぞれ凸状の各土手７ａ、７ｂが形成されている。各土手７ａ、７ｂは、基板としてノッチ付半導体ウエハを載置したときに基板５と全面吸着部６との間の気密性を保ち、基板５を全面吸着する吸着パッドとして作用する。
全面吸着部６の上面には、図１６の一部拡大図に示すように微細な円柱状の複数の突起８が全面に亘って形成されている。各土手７ａ、７ｂと各突起との高さは同一平面の高さに形成され、これにより、基板５を平面度高く吸着保持する吸着面９が形成される。
全面吸着部６は、基板５を吸着するため上面に形成された吸着孔１０と連結する４つの排気路１１−１〜１１−４が形成されている。各排気路１１−１〜１１−４は、それぞれ全面吸着部６の外周部に設けられた各継ぎ手１２−１〜１２−４を介して真空ポンプなどの排気装置に接続されている。
全面吸着部６の中央部に形成された土手７ａの内側には、孔部１３が形成されている。孔部１３内には、基板受渡し部１４が設けられている。基板受渡し部１４の吸着面１上には、基板５を吸着するための複数の溝２が形成されている。各溝２は、排気通路３を通して排気路４に連通している。又、基板受渡し部１４の吸着面１は、全面吸着部６の吸着面９に対して上下動する。
全面吸着部６の外周近傍には、複数例えば３つのパッド用孔３０〜３２が最外周縁部の土手７ｂに沿って等間隔に設けられている。各パッド用孔３０〜３２は、四辺形状に形成されている。各パッド用孔３０〜３２内には、それぞれ各矯正用パッド部（出没自在パッドとも称する）３３〜３５が設けられている。
図３は各矯正用パッド３３〜３５の拡大構成図である。土台４０は、金属材料により形成され、上部に大径のパッド収納穴４１を形成する。パッド収納穴４１の下部に小径の排気路４２が設けられている。
パッド収納穴４１内には、排気路を構成する筒状の弾性部材４３及び上部を吸盤状に形成したパッド４４が収納されている。パッド４４は、有底円筒形状をなし、有底部に相当するパッド底部４８の中央部に小径の排気孔５０が形成されている。弾性部材４３がパッド底部４８とパッド収納穴４１との間に挟まれている。
弾性部材４３は、例えばシリコンゴムなどの材料からなる。弾性部材４３は、円筒状で、外周面上にくびれ部４５を形成する。くびれ部４５の形成により弾性部材４３は、上下方向への伸縮動作がスムーズになる。弾性部材４３の内部には、排気路４２と排気孔５０とを連通する排気孔４６が形成されている。
パッド４４は、弾性部材である例えばシリコンゴムにより形成される。パッド４４は、筒体４７とパッド底部４８とを一体的に形成する。パッド底部４８は、筒体４７の内側でパッド上面４９よりも僅かに下方に設けられている。これにより、パッド４４は、吸盤部を形成する。
筒体４７の外径は、パッド格納穴４１の内径よりも若干小さく形成されている。これにより、パッド４４は、パッド収納穴４１内で上下移動可能でかつ首振り可能に収納されている。パッド格納穴４１とパッド４４との嵌合スペースを大きくすれば、首振り角度を大きくできる。
筒体４７の外側面に鍔５１が形成されている。鍔５１の外面は、パッド格納穴４１の内壁に対して面接触し、図面上の上下方向にスライド移動可能である。
蓋５２は、ねじ５３によって土台４０上に固定されている。蓋５２には、パット収納穴４１の開口部の縁からわずかに内側に突出するように円形開口部が形成されている。この円形開口部は、パッド収納穴４１の内径より小さく、パッド４４の筒体４７の外径よりも大きい内径を有する。蓋５２は、パッド４４の鍔５１と当接してパッド４４をパット収納穴４１内から外れるのを防止する。
排気路４２は、継ぎ手５４を介して排気装置に接続されている。これにより、排気装置が動作すると、継ぎ手５４から排気路４２、各排気孔４６、５０を通してパッド４４からエアー排気が行なわれる。
なお、土台４０は、全面吸着部６に固定されている。
図４は配管系統の構成図である。各継ぎ手１２−１〜１２−４は、排気路６０に共通接続され、排気路６０を介して電磁弁６１に接続されている。各矯正用パッド部３３〜３５に接続された各継ぎ手５４は、排気路６２に共通接続され、排気路６２を介して電磁弁６１に接続されている。基板受渡し部１４の排気口４は、排気路６３を介して電磁弁６１に接続されている。排気路６３の途中には、上下部ケーブルベア６４が設けられている。
電磁弁６１は、一つのマニホルドに３つの内部電磁弁を備える。３つの内部電磁弁は、それぞれ排気路６０、６２、６３に接続されている。例えば電磁弁６１のマニホルドのＡ１ポート６５に排気路６０が接続され、Ａ２ポート６６に排気路６２が接続され、Ａ３ポート６７に排気路６０が接続されている。
電磁弁６１のマニホルドのＰポート６８には、真空ポンプなどの排気装置６９が接続されている。
電磁弁６１は、３つの各内部電磁弁の動作により、Ｐポート６８に接続された排気装置６９に対してＡ１ポート６５に接続された排気路６０と、Ａ２ポート６６に接続された排気路６２と、Ａ３ポート６７に接続された排気路６０とをそれぞれ独立に切り替える。
３系統の排気路６０、６２、６３には、それぞれ３つの真空センサ７０〜７２が設けられている。各真空センサ７０〜７２は、それぞれ各排気路６０、６２、６３内の圧力を検出し、例えば各排気路６０、６２、６３の圧力が予め設定された圧力値を下回ると、各排気路６０、６２、６３内が真空状態になったことを示す電気信号を出力する。
吸着制御部７３は、電磁弁６１の各内部電磁弁を動作制御し、Ｐポート６８に接続された排気装置６９に対して各排気路６０、６２、６０を切り替え制御する。又、吸着制御部７３は、基板受渡し部１０を昇降制御する。
次に、上記の如く構成された装置の作用について図５〜図８に示す基板吸着動作の過程図を参照して説明する。なお、図１に示す全面吸着部６の一断面方向には、１つの矯正用パッド３４しか設けていないが、本装置の基板吸着動作を分かり易くするために図５〜図８は２つの矯正用パッド部３３、３６を示す。
先ず、基板受渡し部１４は、吸着制御部７３の制御により図５に示すように吸着面９よりも高い位置に上昇する。この状態に、基板５は、ロボットハンドなどの図示しない搬送手段によって基板受渡し部１４の吸着面１上に載置される。
吸着制御部７３は、電磁弁６１の内部電磁弁を切り換え制御し、排気装置６９に対して排気路６３を接続する。これにより、排気装置６９が排気動作することにより、基板受渡し部１４の吸着面１上に図５に示すように基板５の中心部が吸着保持される。
真空センサ７２は、排気路６３内が真空になったか否かを検出し、真空になったことを検出すると、真空を示す電気信号を出力する。吸着制御部７３は、排気装置６９による排気動作の開始時から一定の時間内に真空センサ７２から電気信号を入力すると、基板渡し部１４において基板５の吸着が成功したと判定する。
このとき、弾性部材４３の内圧が大気圧と同じになるため、弾性部材４３の弾性力によってパッド４４は、上方に押し上げられる。パッド４４のパッド上面４９は、全面吸着部６の吸着面９よりも高さｈだけ突出する。高さｈは、例えば、反りの生じた基板５を全面吸着部６上に載置したときにおける全面吸着部６の吸着面９と基板５との離れる距離よりも高く設定されている。
次に、吸着制御部７３は、図６に示すように基板受渡し部１４を下降し、基板受渡し部１４の吸着面１の高さを吸着面９と略同一となる所定の高さ位置に停止させる。
これと共に吸着制御部７３は、電磁弁６１の内部電磁弁を切り換え制御し、排気装置６９に対して排気路６２を接続する。これにより、排気装置６９が排気動作することにより、各矯正用パッド３３〜３５は、それぞれ図３に示すように排気路４２、各排気孔４６、５０を通してエアーを排気する。
一方、基板受渡し部４が図６に示すように下降すると、基板５の裏面が各矯正用パッド３３〜３５の各パッド４４のパッド上面４９に接近又は接触するようになる。
このとき、各パッド４４は、エアーの吸引作用によって基板５の裏面に吸着する。この吸引力により弾性部材４３が変形して各パッド４４がそれぞれ首を振りながら基板５の反りに自ずと倣うように密着度高く吸着する。
各パッド４４は、排気装置６９の吸引作用により弾性部材４３の内部が負圧になる。この負圧により弾性部材４３のくびれ部４５で大きく潰れることにより、各パッド４４が図７に示すように土台４０に没する。
基板５の周縁部は、パッド４４の下方への移動により全面吸着部６側に引き込まれて土手７ｂに当接する。
このとき、吸着制御部７３は、排気動作の開始時から一定の時間内に真空センサ７１からの電気信号を入力することによって、各矯正用パッド３３〜３５において基板５の吸着がそれぞれ成功したと判定する。
このように各パッド４４が基板５の裏面に吸着すると、パッド上面４９は基板５によって塞がれる。これにより、パッド４４の排気孔５０、弾性部材４３の排気孔４６及び排気路４２は、密閉状態になる。
これと共に基板受渡し部４は、吸着制御部７３の制御によって図７に示すように吸着面１の高さ位置を全面吸着部６の吸着面９の高さ位置と同一高さまで下降する。
次に、吸着制御部７３は、電磁弁６１の内部電磁弁を切り換え制御し、排気装置６９に対して排気路６０を接続する。この排気動作により、全面吸着部６と基板５により形成された空隙部内のエアーが各吸着孔１０を介して排気され、基板５の裏面が全面吸着部６上に吸着保持される。
このとき、吸着制御部７３は、排気動作の開始時から一定の時間内に真空センサ６５からの電気信号を入力して全面吸着部６における基板５の吸着の成功を判定すると、電磁弁６１の内部電磁弁を切り替え、排気装置６９と排気路６３との接続を切り離す。これにより、基板受渡し部４は、基板５に対する吸着動作を停止する。
次に、吸着制御部７３は、真空センサ６５から出力される電気信号の入力の無くなることを検出することにより、基板受渡し部１０の吸着の停止を確認する。
次に、基板受渡し部４は、吸着制御部７３の制御によって図８に示すように全面吸着部６の吸着面９よりも下方に下降する。
基板受渡し部４の下降は、全面吸着部６の吸着面９と基板受渡し部４の吸着面１との各高さが機械的な誤差によって僅かに食い違い、基板５に対して不要な応力を加えことを避けるためである。
なお、吸着制御部７３は、排気動作の開始時から一定の時間内に各真空センサ７０〜７２から各電気信号が出力されなければ、各矯正用パッド部３３〜３５、基板渡し部４又は／及び全面吸着部６において基板５の吸着が成功しなかったと判定する。吸着制御部７３は、例えば基板吸着の判定結果に基づいて吸着不良であれば、検査不能の指示を出力したり、基板５の欠陥であるとして基板５を排気処理する指示を出力する。
このように上記第１の実施の形態においては、上下移動可能でかつ首振り可能なパッド４４と、エアー排気による負圧により伸縮してパッド４４を上下移動させる弾性部材４３とを有する各矯正用パッド３３〜３５を全面吸着部６の最外周縁部の土手７ｂに沿って設けた。
これにより、基板５に上向き又は下向きの反りが生じて全面吸着部６の吸着面９から基板５の一部が浮いていても、各矯正用パッド３３〜３５により浮き上がった基板５の周縁部を強制的に全面吸着部６の土手７ｂに押し当てて全面吸着部６の吸引効果を高めることができ、全面吸着部６による吸着ミスを防止できる。
基板５が全面吸着部６に全面吸着されると、全面吸着部６の全面に亘って同一の高さに形成された多数の突起８と土手７ａ、７ｂによって基板５を吸着保持できる。
又、各矯正用パッド３３〜３５の各パッド４４は、上下移動可能でかつ首振り可能に設けられているので、基板５に反りが生じていても、基板５の反りに倣うように各パッド４４が基板５の裏面に対してほぼ垂直に向きを変え基板５の裏面を確実に吸着できる。
各矯正用パッド３３〜３５の各弾性部材４３は、外周面上にくびれ部４５を形成しているので、上下方向への伸縮動作と横方向への首振り動作とがスムーズにでき、かつ上下方向の伸縮量を大きくとることができるので、基板５の反りを矯正する際に基板５に対して無理な力が加わることはない。
全面吸着部６は、セラミックスなどの硬度の高い材料を用い、加工により平坦度の高い吸着面９を形成しているので、基板５を良好な平面度で吸着保持できる。これにより、基板５の表面を上方から顕微鏡観察する場合、基板５の全面に対して焦点が合い、良好な観察ができる。
全面吸着部６の吸着面９に形成した複数の突起８により基板５を支持するので、基板５の裏面にマイクロダストが付着する確率が極めて低くなる。
次に、本発明の第２の実施の形態について図面を参照して説明する。なお、図１及び図２と同一部分には同一符号を付してその詳しい説明は省略する。
図９は基板吸着装置の上面構成図であり、図１０は断面構成図、図１１は全面吸着部６の一部拡大図である。第２の実施の形態は、第１の実施の形態で説明した全面吸着部６の全面に亘って形成された複数の突起８に変えて全面吸着部６の上面にエアーの通過可能な多孔質材料、例えば多孔質テフロンからなる全面吸着板８１を配置した構成である。
全面吸着部６は、円盤状に形成された土台部分８０と、土台部分８０上に設けられた全面吸着板８１とからなる。土台部分８０は、所定の強度を持つ例えばアルミニウムなどの金属材料からなる。全面吸着板８１の表面８３は、高い平面度が得られている。全面吸着板８１の表面８３は、各土手７ａ及び７ｂと同一高さに形成されている。なお、全面吸着板８１は、排気効率を高めるために吸着孔を多数設けたり、同心円状に多数の環状排気溝を設けてもよい。
全面吸着板８１の最内縁周部と土手７ａとの間、及び吸着部８１の最外縁周部と土手７ｂとの間には、全面吸着板８１の側面からのエアー漏れを防止する目的としてそれぞれ各気密部８２ａ、８２ｂが形成されている。各気密部８２ａ、８２ｂは、例えばシリコン系などのシールト部材又は接着剤などの流動性の樹脂を全面吸着板８１の側面に含侵させて多孔質材料の微細孔を封止したものである。
このような構成であれば、上記第１の実施の形態と同様の効果が得られる。
上記第２の実施の形態においては、全面吸着部６の全面吸着板８１に多孔質の材料を用いた。これにより、基板５を基板吸着部６の全面吸着板８１の全面に密着して吸着保持することができ、歪みを全く生ぜずに基板吸着部６上に平面度高く保持できる。
全面吸着板８１は、多孔質の材料として例えば多孔質テフロンを用いる。テフロンはシリコンウエハからなる基板５よりも硬度が低い。これにより、基板５を傷付ける可能性が全くない。
本発明は、上記第１及び第２の実施の形態に限定されるものでなく、次のように変形してもよい。
例えば、矯正用パッドは、少なくとも２つ設ければよい。又、矯正用パッドを３つ以上多数設ければ、全面吸着開始時に反った基板５を確実に平面に矯正でき、全面吸着ミスを防止できる。
上記各実施の形態における全面吸着部６は、例えば直径３００ｍｍの基板を吸着保持するものであるが、例えば直径２００ｍｍの基板を吸着保持する兼用にしてもよい。この場合、全面吸着部６上における各土手７ａと７ｂとの間に直径２００ｍｍの基板用の円形の土手を形成する。そして、この土手に沿った土手７ａ側に少なくとも２つの矯正用パッドを設ける。
各矯正用パッド３３〜３５においてパッド４４を上下移動可能及び首振り可能にする構造は、上記各実施の形態の構造に限らず、例えば特開平１０−８６０８６号公報に示されているダイヤフラム、ベローズ管などを用いてもよい。
又、各矯正用パッド３３〜３５におけるエアー排気量は、例えば弾性部材４３の弾性力や基板５の厚みなどの条件に応じて調整してもよい。これにより、各条件であっても基板５を確実に吸着できる。
全面吸着部６上に平面度高く吸着保持するのに複数の突起８を形成するのに限らず、例えば全面吸着部６の半径方向に複数の凸状部を放射状に設けてもよい。又、全面吸着部６上に円弧状の凸状部を複数設けてもよい。
産業上の利用可能性
本発明は、例えば液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどのフラットパネルディスプレイに用いられるガラス基板の表面欠陥検査、ガラス基板上に形成される各画素の各表示電極の線幅検査やパターン検査などに用いられる。
【図面の簡単な説明】
図１は本発明に係わる基板吸着装置の第１の実施の形態を示す上面構成図。
図２は同装置のＸ−Ｘ断面構成図。
図３は同装置における矯正用パッド部の拡大構成図。
図４は同装置における配管系統の構成図。
図５は同装置における基板吸着動作の過程を示す図。
図６は同装置における基板吸着動作の過程を示す図。
図７は同装置における基板吸着動作の過程を示す図。
図８は同装置における基板吸着動作の過程を示す図。
図９は本発明に係わる基板吸着装置の第２の実施の形態を示す上面構成図。
図１０は同装置の側面構成図。
図１１は同装置における全面吸着部の一部拡大図。
図１２は従来の基板吸着装置の上面構成図。
図１３は同装置の側面構成図。
図１４は同装置で発生する基板外周部の垂れを示す図。
図１５は従来の基板吸着装置の上面構成図。
図１６は同装置の全面吸着部における吸着面の一部拡大図。
図１７は同装置での反りのある基板の吸着を示す図。
図１８は従来の基板吸着装置の構成図。
【図１】
2003071599.tif 000003
【図２】
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【図３】
2003071599.tif 000005
【図４】
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【図５】
2003071599.tif 000007
【図６】
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【図７】
2003071599.tif 000009
【図８】
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【図９】
2003071599.tif 000011
【図１０】
2003071599.tif 000012
【図１１】
2003071599.tif 000013
【図１２】
2003071599.tif 000014
【図１３】
2003071599.tif 000015
【図１４】
2003071599.tif 000016
【図１５】
2003071599.tif 000017
【図１６】
2003071599.tif 000018
【図１７】
2003071599.tif 000019
【図１８】
2003071599.tif 000020
【手続補正書】
【提出日】平成16年2月20日(2004.2.20)
【手続補正００１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】基板の平面度を保って吸着保持する吸着面を有し、かつ中央部に孔部を形成した全面吸着部と、
前記全面吸着部の前記孔部内に昇降可能に設けられ、前記基板を吸着保持して昇降することにより前記基板を前記全面吸着部に対して受け渡しする基板受渡し部と、
前記全面吸着部の最外周縁部に沿って少なくとも３箇所に設けられ、前記全面吸着部の前記吸着面に対して上下方向に移動可能で、かつ上部を吸盤状に形成された円筒形のパッドと、上昇時に前記パッドを首振り可能に支持する筒状の弾性部材とを有し、前記基板を吸着したときに生じる負圧により前記弾性部材が潰れ、このときに前記基板を前記全面吸着部に対して平行になるように矯正する矯正用パッド部と、
を具備したことを特徴とする基板吸着装置。
【請求項２】（削除）
【請求項３】前記矯正用パッド部は、前記パッドを内部に移動可能とするパッド収納穴を有し、
前記パッドは、前記パッド収納穴の内径に対して小さな外径に形成され、
前記円筒形のパッドの外側面には、前記パッド収納穴に接触して移動可能にする前記パッドの高さより小さな突起部が形成され、
前記突起部に当接して前記パッドの抜けを防止する前記パッド収納穴の内径よりも小さく、かつ前記パッドの外径よりも大きい開口部を有する蓋を前記全面吸着部の吸着面より下方の位置に設けたことを特徴とする請求項１記載の基板吸着装置。
【請求項４】基板の平面度を保って吸着保持する吸着面を有し、かつ中央部に孔部を形成した全面吸着部と、
前記全面吸着部の前記孔部内に昇降可能に設けられ、前記基板を吸着保持して昇降することにより、前記基板を前記全面吸着部に対して受け渡しする基板受渡し部と、
前記全面吸着部の前記吸着面に対して平行になるように矯正する矯正用パッド部と、
前記全面吸着部に接続された排気系統を通しての前記全面吸着部での吸着動作と、前記基板受渡し部に接続された排気系統を通しての前記基板受渡し部での吸着動作と、前記矯正用パッド部に接続された排気系統を通しての前記矯正用パッド部での吸着動作とを独立して切り替える吸着制御部とを備えたことを特徴とする基板吸着装置。
【請求項５】前記制御手段は、前記全面吸着部における前記基板の吸着が一定時間内に成功しないことを判定したときに、検査不能の指示を出力することを特徴とする請求項４記載の基板吸着装置。
【請求項６】前記制御手段は、前記全面吸着部における前記基板の吸着が一定時間内に成功しないことを判定したときに、前記基板の欠陥による吸着不良であるとして廃棄処理する指示を出力することを特徴とする請求項４記載の基板吸着装置。
【請求項７】前記制御手段は、前記基板の厚みに応じて前記第３の排気系統の排気量を調整することを特徴とする請求項４記載の基板吸着装置。
【請求項８】前記制御手段は、前記基板受渡し部に前記基板を受け渡した状態で前記第２の排気系統を通して前記基板受渡し部を吸着動作させ、前記基板受渡し部の吸着面に前記基板が吸着されたと判断したときに前記基板受渡し部の吸着面が前記全面吸着部の吸着面を略同一高さになるように前記基板受渡し部を下降させ、この後に前記第３の排気系統を排気動作させ、前記矯正用パッド部に前記基板が吸着されたと判断したときに前記第２の排気系統の排気動作を停止すると共に前記第１の排気系統を通しての前記全面吸着部での吸着動作させることを特徴とする請求項４記載の基板吸着装置。
【請求項９】前記制御手段は、前記矯正用パッド部に前記基板が吸着されたと判断したときに前記第２の排気系統の排気動作を停止させ、この後に前記基板受渡し部を前記全面吸着部の吸着面よりも下方に移動させる制御を行うことを特徴とする請求項４記載の基板吸着装置。
【請求項１０】前記吸着制御部は、前記矯正用パッド部の前記基板への吸着が成功したと判定を行った後、前記全面吸着部での吸着動作を開始することを特徴とする請求項４記載の基板吸着装置。
【請求項１１】前記吸着制御部は、前記矯正用パッド部の前記基板への吸着が成功したと判定を行った後、前記基板受渡し部での吸着動作を停止することを特徴とする請求項４記載の基板吸着装置。




【国際調査報告】
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