(57)【要約】線幅が小さく開口率の高い導電性パターンを有した電磁波シールド性光透過窓材を製造するために、メッキ親和性の低い透明フィルム１上にメッキ親和性の高い樹脂を用いて樹脂パターン２を印刷する。次いで、このフィルム１の樹脂パターン２上に導電材料層を無電解メッキし、導電性パターン３を形成する。その後、黒色化処理して電磁波シールド性光透過窓材とする。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明フィルムの表面に導電材料よりなる導電性パターンがメッキにより形成された電磁波シールド性光透過窓材を製造する方法であって、
該メッキに対する親和性が比較的低い透明フィルム表面に該メッキに対する親和性が比較的高い樹脂により前記導電性パターンと同一パターンの樹脂パターンを形成する工程と、
その後、該透明フィルムをメッキ液によりメッキ処理し、該樹脂パターン上にのみ導電材料を付着させて前記導電性パターンを形成する工程とを有する電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、該樹脂パターンを格子状に形成することを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２において、該樹脂パターンを印刷により形成することを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項において、前記導電性パターンを形成した後、該導電性パターンを黒色化処理することを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項において、該透明フィルムがＰＣ、シクロオレフィンポリマー、ポリアリレート及びアクリルポリマーよりなる群から選ばれる１種又は２種以上よりなることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項において、該樹脂がＡＢＳ、トリアセリルセルロース、ポリアセタール及び変性ＰＰＯよりなる群から選ばれる１種又は２種以上よりなることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか１項において、前記導電材料が銅、ニッケル、クロム、亜鉛、スズ、銀及び金の少なくとも１種を含むことを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材の製造方法。
【請求項８】
メッキに対する親和性が比較的低い透明フィルムと、該透明フィルムの表面に形成されたメッキに対する親和性が比較的高い樹脂パターンと、該樹脂パターン上に形成された導電材料のメッキ層よりなる導電性パターンとを備えてなる電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項９】
請求項８において、該導電性パターンの線幅が２００μｍ以下であり、開口率が７５％以上であることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
【請求項１０】
請求項８又は９において、請求項１ないし７のいずれか１項の方法により製造されたものであることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
【発明の詳細な説明】
発明の分野
本発明はＰＤＰ（プラズマディスプレーパネル）の前面フィルタや、病院などの電磁波シールドを必要とする建築物の窓材料（例えば貼着用フィルム）等として有用な電磁波シールド性光透過窓材とその製造方法に係り、特に、フィルム上に導電性パターンを形成してなる電磁波シールド性光透過窓材とその製造方法に関する。
発明の背景
ＯＡ機器や通信機器等の機器から発生する電磁波をシールドするために、機器の前面フィルタとして、電磁波シールド性を有し、かつ光透過性の窓材が開発されている。この窓材は、携帯電話等の電磁波から精密機器を保護するために、病院や研究室等の精密機器設置場所の窓材としても利用されている。
従来の電磁波シールド性光透過窓材は、１対のアクリル板等の透明基板と、これらの透明基板同士の間に介在された金網のような導電性メッシュ又は透明導電性フィルムとを有し、これらが一体化されている。
従来の電磁波シールド性光透過窓材に用いられている導電性メッシュは、一般に線径１０〜５００μｍで５〜５００メッシュ程度のものであり、開口率は７５％未満である。開口率はメッシュの線幅と１インチ幅に存在する線の数から計算で求められる。この導電性メッシュを用いた従来の電磁波シールド性光透過窓材では、光透過率は高々７０％程度である。
従来の導電性メッシュでは、電磁波シールド性光透過窓材を取り付ける発光パネルの画素ピッチとの関係で、モアレ（干渉縞）が発生し易い。
メッシュの代りに透明導電性フィルムを用いることにより光透過性と電磁波シールド性とを両立させることが考えられるが、透明導電性フィルムは、筐体との導通をとることが容易ではない。
導電性メッシュの周縁部を透明基板周縁部からはみ出させ、この周縁部を折り曲げ、この周縁部が筐体と導通される。透明導電性フィルムの周縁部を透明基板周縁部からはみ出させて折り曲げると、この折り目部分でフィルムが裂けてしまう。
発明の概要
本発明は、線幅が十分に小さく、開口率も著しく高い導電性パターンを有した電磁波シールド性光透過窓材と、その製造方法を提供することを目的とする。
本発明の電磁波シールド性光透過窓材の製造方法は、透明フィルムの表面に導電材料よりなる導電性パターンがメッキにより形成された電磁波シールド性光透過窓材を製造する。この方法は、該メッキに対する親和性が比較的低い透明フィルム表面に該メッキに対する親和性が比較的高い樹脂により前記導電性パターンと同一パターンの樹脂パターンを形成する工程と、その後、該透明フィルムをメッキ液によりメッキ処理し、該樹脂パターン上にのみ導電材料を付着させて前記導電性パターンを形成する工程とを有する。
本発明の電磁波シールド性光透過窓材は、メッキに対する親和性が比較的低い透明フィルムと、該透明フィルムの表面に形成されたメッキに対する親和性が比較的高い樹脂パターンと、該樹脂パターン上に形成された導電材料のメッキ層よりなる導電性パターンとを備えてなるものである。
かかる電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法にあっては、樹脂パターン形成用の樹脂は低粘性であり、微細で精緻なパターンが形成される。この樹脂パターン上に形成される導電性パターンは、著しく小さい線幅を有し、それ故に大きな開口率を有する。
本発明によれば、例えば線幅が２００μｍ以下で開口率７５％以上の導電性パターンを有した電磁波シールド性光透過窓材を製造することができる。
詳細な説明
図１，２に示される本発明の一例において、メッキに対する親和性が比較的低い透明フィルム１上に導電材料のメッキに対する親和性が比較的高い樹脂材料を用いて格子状に樹脂パターン２が印刷される。次いで、この透明フィルム１がメッキ処理され、図３の通り、この樹脂パターン２上にのみ導電材料のメッキ層よりなる導電性パターン３が形成される。
この導電性パターン３は、格子状の樹脂パターン２上に形成されたものであることから、該樹脂パターン２と同じ格子状となる。この樹脂パターン２の線幅を狭くしておくことにより、線幅の小さい格子状の導電性パターン３が形成される。この格子状の樹脂パターン２の線幅を小さくし、樹脂パターン２の目開き開口の面積を広くすることにより、開口率の大きな格子状の導電性パターン３が形成される。
次に、上記の各材料の好適例について説明する。
透明フィルム１の材料としては、導電材料のメッキに対する親和性が低い透明合成樹脂が用いられる。この合成樹脂としては、ＰＣ（ポリカーボネート）、シクロオレフィンポリマー、ポリアリレート、アクリルポリマー等が挙げられる。
この透明フィルムは、それ自体の材料の化学的特性としてメッキに対する親和性が低いものであることが好ましく、さらに、メッキ液と接触しても表面がエッチングされず、メッキに対する親和性が高くならないものが好ましい。
この透明フィルムの厚さは、電磁波シールド性光透過窓材の用途等によっても異なるが、通常の場合１μｍ〜５ｍｍ程度とされる。
フィルム１上に形成する樹脂パターン２は印刷により形成されることが好ましい。印刷材料としては、フォトレジストとして市販されているものが好適であり、中でもＡＢＳ、トリアセチルセルロース、ポリアセタール、変性ＰＰＯ（ポリフェニレンオキサイド）等を溶液化したものが好適である。フォトレジストにてパターンを印刷した場合は、紫外線等のエネルギー線を照射して硬化させた後、メッキ処理を行う。
樹脂パターン２は、好適には、格子状となるように印刷される。好ましくは、この線幅が２００μｍ以下特に好ましくは１００μｍ以下とりわけ３０μｍ以下となるように印刷される。印刷手法としてはグラビア印刷、スクリーン印刷、インクジェット印刷、静電印刷が好適であるが、細線化のためにはグラビア印刷が好適である。
樹脂パターンの印刷厚みは、特に限定されるものではないが、通常は０．１〜１０μｍ程度とされる。
導電性パターン３を構成する導電材料としては、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、亜鉛等の金属又は合金が好適であるが、これらの中でも銅、ニッケル、クロム、亜鉛、スズ、銀又は金の純金属又は合金が好ましい。
この導電性パターン３の厚さは、約０．１〜１０μｍが好ましい。パターン３が０．１μｍよりも薄いと、電磁波シールド性能が不足する。パターン３が１０μｍよりも厚いと、電磁波シールド性光透過窓材の視野角を狭くしてしまい、また、メッキが幅方向にも広がるため線幅が太くなり、開口率が低下する。
メッキ層よりなる導電性パターン３を形成するためのメッキ法としては、無電解メッキが好適である。
無電解メッキ処理する前に、樹脂パターン２を酸によって前処理してもよい。これにより、樹脂パターン２のメッキに対する親和性が高められる。この酸としては、クロム酸、硫酸、両者の混酸などが例示される。
この導電性パターン３の形成後、防眩性を付与するために黒色化処理してもよい。黒色化の手法としては、金属膜の酸化処理、クロム合金などの黒色メッキ処理などを採用することができる。
このようにして製造された電磁波シールド性光透過窓材は、１枚物のフィルムよりなるものであってもよく、ロールから巻き出された連続ウェブ状のフィルムであってもよい。
実施例
以下に実施例を説明するが、この実施例は本発明の一例であり、本発明はこれに限定されない。
実施例１
厚さ１００μｍのポリカーボネートフィルムの上に、ＡＢＳ樹脂（三菱レイヨン製  ３００１Ｍ）をメチルエチルケトンに溶解した２０％溶液を格子状に印刷した。格子は正方格子状に規則配列しており、格子の線幅は２０μｍ、格子の１辺は２５０μｍ、開口率は８０％であった。印刷厚さは、乾燥後で約２μｍである。
この格子状のＡＢＳ樹脂パターン上に、平均膜厚２μｍとなるように銅を無電解メッキし、最後に酸化処理による黒色化処理を施して電磁波シールド性光透過窓材とした。なお、ポリカーボネートフィルム上には銅は全く付着しなかった。
このフィルム表面の導電性パターンは、正方格子状に規則配列しており、ＡＢＳ樹脂パターンと同様に、線幅は２０μｍ、格子の１辺は２５０μｍであり、開口率は８０％であった。
以上の通り、線幅が小さく開口率の高い導電性パターンを有した電磁波シールド性光透過窓材が製造される。
【図面の簡単な説明】
図１，２及び３は本発明方法の一例を示す断面図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【国際調査報告】
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