【事件の表示】
　特願２０１０−１４３４０９「近視野光発生素子の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成２２年９月１６日出願公開、特開２０１０−２０４１２７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件は、平成１２年３月７日にされた特許出願（２０００年特許願第６２４０７号）の一部を、特許法第４４条第１項の規定により平成２２年６月２４日に新たな特許出願（２０１０年特許願第１４３４０９号。以下「本件出願」という。）として出願したものであって、平成２３年８月１８日付けで拒絶査定（発送日：同月２３日）がなされたところ、これに対し、同年１１月１５日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに、同日付けで手続補正がなされたものである。
　
第２　平成２３年１１月１５日付けの手続補正についての補正却下の決定
　１　補正却下の決定の結論
　平成２３年１１月１５日付けの手続補正を却下する。
　　
　２　補正却下の決定の理由
　（１）平成２３年１１月１５日付けの手続補正書による手続補正（以下「本件補正」という。）の内容
　　本件補正は、本件出願明細書の特許請求の範囲の請求項１を以下のとおり補正することを含むものである。
　
　　ア　本件補正前（平成２３年６月９日付け手続補正書）の特許請求の範囲の請求項１
「【請求項１】
　光伝搬体と、
　前記光伝搬体の一部が凸形状化した凸形状部と、
　前記凸形状部の頂点に形成され、近視野光を発生する微小開口と、
　前記微小開口に光を導入あるいは、前記微小開口からの散乱光を受光素子に導くために用いられるものであり、前記光伝搬体に備えられ、前記凸形状部に向けて前記近視野光の発生に用いる光束を導入する導光構造とを備え、
　前記光伝搬体は前記導光構造から射出された前記光束が照射される光照射部分を備える近視野光発生素子の製造方法であって、
　前記導光構造を作製する導光構造作製工程と、
　前記光照射部分に前記導光構造から射出された前記光束を照射することで、前記光照射部分にマスクを作製する凸形状マスク作製工程と、
　前記導光構造が備えられている側とは逆側から前記ことにより、前記凸形状部を作製する凸形状作製工程とを含むことを特徴とする近視野光発生素子の製造方法。」
　　　　　　　　　　　
　　イ　本件補正後の特許請求の範囲の請求項１
「【請求項１】
　光伝搬体と、
　前記光伝搬体の一部が凸形状化した凸形状部と、
　前記凸形状部の頂点に形成され、近視野光を発生する微小開口と、
　前記微小開口に光を導入あるいは、前記微小開口からの散乱光を受光素子に導くために用いられるものであり、前記光伝搬体に備えられ、前記凸形状部に向けて前記近視野光の発生に用いる光束を導入する導光構造とを備え、
　前記光伝搬体は前記導光構造から射出された前記光束が照射される光照射部分を備える近視野光発生素子の製造方法であって、
　前記導光構造を作製する導光構造作製工程と、
　前記光照射部分に前記導光構造から射出された前記光束を照射することで、前記光照射部分に
、前記凸形状部を形成するために用いられる
　前記導光構造が備えられている側とは逆側から
前記マスクを用いて
　（なお、下線部は、補正された箇所である。）
　　
　（２）　本件補正の適否について
　本件補正において、本件補正前の請求項１に係る発明について、「光照射部分にマスクを作製する凸形状マスク作製工程」を「光照射部分に、前記凸形状部を形成するために用いられるマスクを作製する凸形状マスク作製工程」と補正することは、「凸形状マスク作製工程」の構成を限定し特定する補正であり、さらに、「光伝搬体をエッチングする」構成を「マスクを用いて前記光伝搬体をエッチングする」と補正することは、「光伝搬体をエッチングする」構成を限定し特定する補正であるから、本件補正は、本件補正前の「近視野光発生素子の製造方法」の構成を特定し、減縮するものである。
　そうすると、本件補正は、特許請求の範囲を減縮する補正であり、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例とされる同法による改正前（以下「平成１８年改正前」という。）の特許法第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮に該当する。
　　
　　（３）　独立特許要件について
　そこで、本件補正は、特許請求の範囲を減縮する補正であるから、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下、「本願補正発明」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　　
　（ア）引用刊行物記載の発明
（３Ａ）原査定の拒絶の理由に引用され、本件出願の優先権主張の日前に頒布された特開平６−３３１８０５号公報（以下、引用刊行物Ａ」という。）には、図面とともに次の事項が記載されている。（下線は当審で付与したものである。以下、同様である。）
　
（３Ａ−１）「【特許請求の範囲】
・・・
【請求項１０】
　透光性材料からなるほぼ円錐形の突起と、突起の先端部分を除いて突起の円錐面に形成された反射膜からなる光プローブが、透光性材料からなる平面基板の片面に形成されている光プローブ素子の製造方法であって、
　平面基板の片面の、光プローブを形成しようとする所にフォトレジストからなるマスクを形成する工程と、マスクを形成した側の平面基板を等方性エッチング
することにより、マスクを除去すると共にほぼ円錐形の突起を形成する工程と、突起の円錐面に反射膜を形成する工程と、突起の先端部分の反射膜を除去する工程からなり、上記の工程を順次行うことを特徴とする
光プローブ素子の製造方法
　
（３Ａ−２）「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光を回折限界以下に絞り込む光プローブ素子、この光プローブ素子を用いた記録再生装置、およびこの光プローブ素子の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、物質の表面状態を原子スケールで直接観察できる走査型トンネル顕微鏡（ＳＴＭ）が開発されている。また、ＳＴＭの原理を応用して、走査型原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）や走査型磁気力顕微鏡（ＭＦＭ）が開発されている。これらの顕微鏡は、先端を鋭く尖らせたプローブと物質の表面とを近接して配置し、両者の間に流れるトンネル電流、または、両者の間に働く原子間力、磁気力を検出している。
【０００３】さらに、先端を鋭く尖らせた光プローブを用いるフォトンＳＴＭも開発されている。フォトンＳＴＭでは、試料の表面より光を入射させ、試料の表面に染み出すエバネッセント光を検出している。
【０００４】ＳＴＭの原理を利用して、原子スケールの領域に対して情報の記録再生を行う装置が種々提案されている。また、フォトンＳＴＭの原理を利用して、光を回折限界以下に絞り込み、この絞り込んだ光を用いて情報の記録再生を行う試みもなされている（例えば、Appl. Phys. Lett. 61(2), 13 July 1992 P.142 ）。
【０００５】図２７に、光プローブを用いた記録再生装置を示す。
【０００６】光プローブ８０３は、光ファイバー８００の先端に形成されている。光ファイバー８００は、移動可能な支持部８２２に取り付けられている。支持部８２２を移動させる駆動部８２１は、ベース８２０の上に固定されている。記録媒体８１０も、ベース８２０の上に固定されている。駆動部８２１で支持部８２２を移動させることにより、光プローブ８０３を記録媒体８１０上の所望の位置に移動させることができる。
【０００７】記録媒体８１０は、透明基板８１１と、透明基板８１１の上に形成された記録層８１２から構成されている。光プローブ８０３は、その先端が記録層８１２に近接するように配置されている。
【０００８】情報を記録する場合、情報に応じて強度変調した光を光ファイバー８００に導入し、光プローブ８０３で回折限界以下に絞り込む。これにより、記録層８１２に情報を高密度記録できる。」
・・・
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従来の構成では、光プローブ８０３の先端径を一定にすることが困難であり、したがって、規格の揃った光プローブ８０３を量産できないという問題点を有している。
【００１２】さらに、複数の光プローブ８０３…を束ねて用いて、複数の情報を同時に記録再生する場合、上記従来の構成では、各光プローブ８０３と記録媒体８１０との間の距離を同一距離に保つことは困難であるという問題点を有している。」
　
（３Ａ−３）「【００４７】
【実施例】本発明の第１実施例について図１ないし図１６に基づいて説明すれば、以下の通りである。
【００４８】本実施例の記録再生装置は、図１に示すように、光源４０２と、光源４０２からの光を平行ビーム５にするコリメーターレンズ４０１と、光プローブ３を有する光プローブ素子２０と、光プローブ３に平行ビーム５を収斂させる集光レンズ４と、集光レンズ４および光プローブ素子２０を取り付けた支持部２０２を備えている。
【００４９】記録再生装置は、さらに、支持部２０２を移動させる駆動部２０１と、駆動部２０１および記録媒体３００を固定するベース２００と、コリメーターレンズ４０１と集光レンズ４との間の光路上に配置され、コリメーターレンズ４０１からの平行ビーム５を透過し、記録媒体３００からの戻り光を反射するビームスプリッター４００と、ビームスプリッター４００で反射された戻り光を検出する光検出器４０３を備えている。
【００５０】記録媒体３００は、透明基板３０１と、透明基板３０１の上に形成された記録層３０２から構成されており、記録層３０２を上にして、ベース２００上に固定されている。光プローブ３は、その先端が記録層３０２に近接するように配置されている。
【００５１】上記の光プローブ素子２０は、図２に示すように、
透光性の平面基板１
　
（３Ａ−４）「【００５２】上記の構成において、記録媒体３００に情報を記録する場合、光源４０２からの光を情報に応じて強度変調する。変調光はコリメーターレンズ４０１で平行ビーム５に変換され、ビームスプリッター４００を透過し、集光レンズ４で光プローブ３に収斂される。
【００５３】収斂光は、光プローブ素子２０の平面基板１を透過して光プローブ３に入射し、回折限界以下の径に絞り込まれる。つまり、光プローブ３の先端の反射膜２が形成されていない開口部の大きさ程度（ｎｍオーダー）にまで絞り込まれる。
【００５４】光プローブ３で得られた微小光６は、記録媒体３００の記録層３０２に照射される。照射された部分は、微小光６の強度に応じ温度上昇する。
【００５５】記録層３０２が相変化型の材料で作られておれば、情報に応じて構造が変化する。記録層３０２が、磁性材料で作られておれば、情報に応じて磁化状態が変化する。このようにして、記録層３０２に情報が記録される。
【００５６】記録媒体３００から情報を再生する場合、情報を記録する場合よりも強度が弱く、かつ、一定の光を光源４０２から出射させる。上記と同様にして、光プローブ３で得られた微小光６は、記録媒体３００の記録層３０２に照射される。
【００５７】記録層３０２からの戻り光は、光プローブ３で取り込まれて発散光になり、集光レンズ４で集光される。集光された光は、ビームスプリッター４００で反射され、光検出器４０３に導かれる。光検出器４０３は、記録層３０２からの戻り光の強度あるいは偏光面の回転を検出し、電気信号に変換する。この電気信号に基づいて情報が再生される。
・・・
【００６１】記録再生装置（Ａ３ ）は、図４に示すように、光源４０２からの光の代わりに、
光ファイバー４０４からの光を集光レンズ４に直接導く構成になっている
　
（３Ａ−５）「【００６５】次に、上記の
光プローブ素子２０の製造方法
【００６６】製造方法（Ｐ１１）では、図９に示すように、まず、平面基板１上の光プローブ３を形成したい位置に、フォトレジストからなるマスク１０を形成する（同図（ａ））。マスク１０の径は、後述するように、４〜２０μｍである。次に、平面基板１を等方性エッチングする（同図（ｂ）および（ｃ））。マスク１０の下の平面基板１がアンダーエッチングされ、マスク１０が離脱する。これにより、
先端が鋭く尖ったほぼ円錐形の突起２１が平面基板１に形成される
【００６７】次に、平面基板１の、突起２１が形成された面に反射膜２を形成する（同図（ｄ））。それから、突起２１の先端部分の反射膜２を除去する（同図（ｅ））。
【００６８】これにより、平面基板１に光プローブ３が形成される。
【００６９】突起２１の先端部分の反射膜２の除去は、次の３つの方法のいずれか、あるいは、これらの組み合わせにより行うことができる。
【００７０】除去方法（Ｅ１ ）では、強い光を平面基板１側から突起２１に照射する。これにより、突起２１の先端部分の反射膜２を蒸発させる。
【００７１】除去方法（Ｅ２ ）では、突起２１を導体に近接して配置する。それから、突起２１と導体との間のトンネル電流を検出することにより突起２１と導体との間の距離を制御しながら、一時的に電界放出が発生する程度の大電流を繰り返し流す。これにより、突起２１の先端部分の反射膜２を蒸発させる。
【００７２】除去方法（Ｅ３ ）では、電界エッチングを行う。突起２１の先端部分に電界が集中するので、ここでのみエッチングが行われる。
【００７３】上記の製造方法（Ｐ１１）において、光プローブ３が光をより効率的に絞り込むようにするため、マスク１０の形状は円形であることが好ましい。また、光プローブ３が集光レンズ４により絞り込まれた光を全て受け入れるようにするため、マスク１０の径は４〜２０μｍであることが好ましい。
【００７４】平面基板１に石英ガラス、アルミノ珪酸ガラス等のガラスを用いた場合、フッ酸とフッ化アンモニウムを混合した緩衝フッ酸を用いたウエットエッチングによ、等方性エッチングを行うことが好ましい。」
　
（３Ａ−６）「【００７６】次に、上記の製造方法（Ｐ１１）の具体例を示す。
【００７７】アルミノ珪酸ガラスからなる
平面基板１の片面に
フォトレジストからなるマスク１０を形成し
ウエットエッチングにより
突起２１を形成した
それから、Ｗの反射膜２を形成し
突起２１の先端部分の反射膜２を除去した
突起２１の先端に直径が１０ｎｍ程度の開口部を有する光プローブ３を形成できた
【００７８】この光プローブ素子２０を記録再生装置（図１）にセットして、記録再生テストを行った。
【００７９】記録媒体３００の記録層３０２には、膜厚が４０ｎｍの非晶質のＩｎＳｂＴｅを用いた。光プローブ３を駆動部２０１で移動させながら、半導体レーザーからなる光源４０２から、５ｍＷのレーザー光のパルスを光プローブ３に導き、記録媒体３００に照射した。これにより、記録層３０２には、結晶化した領域が飛び飛びに形成された。結晶化した各領域の大きさは１０ｎｍ程度であった。つまり、各領域の大きさは光プローブ３の開口部の大きさにほぼ等しかった。この結果から、光プローブ３により情報を高密度記録できることが分かった。
【００８０】次に、１ｍＷの一定のレーザー光を光プローブ３に導き、前記結晶化した領域に沿って走査した。これにより、光検出器４０３からパルス状の信号が得られた。つまり、非晶質領域と結晶領域とでは、反射率が異なるため、パルス状の信号が得られた。この結果から、光プローブ３により高密度記録された情報を再生できることが分かった。」
　
（３Ａ−７）「【０１２５】本実施例の記録再生装置は、図１７に示すように、マイクロレンズ１００を有する光プローブ素子２０を備えている点で、前記実施例とは異なっている。比較のために、マイクロレンズ１００がない光プローブ素子２０に代えた記録再生装置を図１８に示す。
【０１２６】本実施例の記録再生装置では、
マイクロレンズ１００が集光レンズ４の役割を果たす
【０１２７】光プローブ素子２０は、図１９に示すように、透光性の平面基板１と、平面基板１の片面に突出するように形成された透光性のほぼ円錐形の光プローブ３と、平面基板１の、光プローブ３が設けられている面に、光プローブ３の先端を除いて形成された反射膜２と、
平面基板１の、光プローブ３が設けられている面とは反対側の面の、光プローブ３に対向する位置に形成されたマイクロレンズ１００
【０１２８】図２０に示す記録再生装置は、上記の記録再生装置のバリエーションであり、複数の光プローブ３…および、これに対応する複数のマイクロレンズ１００…を有する光プローブ素子２０を備えている。この光プローブ素子２０には、図２１に示すように、光プローブ３…およびマイクロレンズ１００…が２次元配置されている。これによれば、簡素な構成で高速の記録再生を行うことができる。
【０１２９】上記の光プローブ素子２０を製造する場合、図２２に示すように、まず、
平面基板１の片面にマイクロレンズ１００を形成する
　
（３Ａ−８）図２２（ａ）には、透光性の平面基板１にマイクロレンズ１００が設けられることが描かれており、また図２２（ｂ）には、透光性の平面基板１のマイクロレンズ１００が設けられた面とは反対側の面には、マイクロレンズ１００の中心に対応した位置にフォトレジストからなるマスク１０を設けることが描かれている。
　
（３Ａ−９）また、上記引用刊行物Ａの摘記事項（３Ａ−４）に、
「【００６１】記録再生装置（Ａ３ ）は、図４に示すように、光源４０２からの光の代わりに、
光ファイバー４０４からの光を集光レンズ４に直接導く構成になっている
　と記載され、また、摘記事項（３Ａ−７）に、
「【０１２６】本実施例の記録再生装置では、
マイクロレンズ１００が集光レンズ４の役割を果たす
　　
　上記引用刊行物Ａの摘記事項（３Ａ−１）〜（３Ａ−９）の記載を参照すると、上記引用刊行物Ａには、
「透光性の平面基板１と、
　平面基板１に形成され、先端が鋭く尖ったほぼ円錐形の突起２１及び反射膜が形成された突起２１の先端に形成された開口部からなる光プローブ３と、
　平面基板１の、光プローブ３が設けられている面とは反対側の面に形成され、光ファイバー４０４からの光が直接導かれるマイクロレンズ１００とを備えた光プローブ素子２０の製造方法であって、
　平面基板１の片面に、光ファイバー４０４からの光が直接導かれるマイクロレンズ１００が形成され、
　平面基板１の片面に、円形のフォトレジストからなるマスク１０が形成し、
　片面にマスク１０が形成された平面基板１をウエットエッチングすることにより突起２１を形成する光プローブ素子の製造方法。」
　の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されているものと認める。
　　　
（３Ｂ）原査定の拒絶の理由に引用され、本件出願の優先権主張の日前に頒布された特開平１０−２１３７９５号公報（以下、引用刊行物Ｂ」という。）には、図面とともに次の事項が記載されている。
　
（３Ｂ−１）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光並列演算や表示装置などに使用される２次元画像を処理するための光記録装置に関し、特に空間光変調子へ２次元画像の書き込みを行う光記録装置及びその製造方法に関する。」
　
（３Ｂ−２）「【００１４】図１において、１は光源、２は光源からの光を平行光に変換するためのコリメート変換レンズ、３は２次元状に配列された多数の画素で構成されている表示素子、４はマイクロレンズアレイ、５は圧電素子からなるアクチュエータ、６は結像レンズ、７は結像レンズ６の物体面、８は空間光変調素子である。マイクロレンズアレイ４は、表示素子３から結像レンズ６に至る光路上に配置され、表示素子３の４画素に対応して１つの凸レンズが形成されている。アクチュエータ５は、マイクロレンズアレイ４を垂直方向（紙面上下方向）に振動させるアクチュエータ５ａ１、５ａ２と水平方向（紙面法線方向）に振動させるアクチュエータ５ｂ１、５ｂ２（図示せず）から構成されており、マイクロレンズアレイ４を表示素子３に供給するフィールド信号に同期させてマイクロレンズアレイ４に入射する光の光軸に直交する水平／垂直方向に移動あるいは振動できるように形成されている。」
　
（３Ｂ−３）「【００１７】マイクロレンズアレイ４は、図２および図３に示すように片側に集光光学素子であるマイクロレンズ４１を設け、反対側に光透過領域を有する遮光部を設けた板状のものである。
【００１８】マイクロレンズ４１の形成には、例えばイオン交換法を用いる。まず、Ｎａ＋等のアルカリイオンを含むガラス基板に、イオン交換プロセスのマスク材とし金属薄膜をスパッタリングにより堆積する。次にこの金属薄膜に表示素子３の画素ピッチｐの２倍の間隔（１００μｍピッチ）でフォトリソグラフィーによりイオン交換用の窓を開ける。これを別の種類の金属イオンを含む溶融塩に一定時間浸しておく。この時、ガラス基板中のアルカリイオンと溶融塩中の別の種類の金属イオンとが相互拡散により交換され、ガラス基板中に半球状の屈折率の異なる領域が形成され、これをレンズ効果として利用する。上記過程により作製された凸レンズからなるマイクロレンズ４１は、４つの画素から出射した光束をできるだけ多く集光するように設計されている。最後に金属マスクの除去を行う。」
　
（３Ｂ−４）「【００５１】本実施の形態における光学素子の形成は、先に形成したマイクロレンズ４１の集光効果を利用して光透過領域４３と遮光部４２を形成することに特徴を有している。まず、マイクロレンズ４１が形成された透明基板（図１１（ａ））のマイクロレンズ４１の反対側に、ネガ型レジスト４４を１μｍ程度塗布する（図１１（ｂ））。次に、先に形成したマイクロレンズ４１側からレジスト膜を裏面露光し（図１１（ｃ））、露光されなかったレジスト膜を除去する（図１１（ｄ））。次に、クロム（Ｃｒ）などの金属膜４５を蒸着法あるいはスパッタリング法により０．１〜１μｍ程度着膜する（図１１（ｅ））。その後、剥離液にマイクロレンズアレイ４を浸漬し、金属膜の一部をリフトオフ法により除去する（図１１（ｆ））ことにより遮光部４２が形成され、所望のマイクロレンズアレイ４が得られる。」
　
　（イ）本願補正発明と引用発明との対比・判断　
　（イ−１）本願補正発明と引用発明とを対比する。
（i）上記引用刊行物Ａの摘記事項（３Ａ−４）に、
「【００５２】上記の構成において、記録媒体３００に情報を記録する場合、光源４０２からの光を情報に応じて強度変調する。変調光はコリメーターレンズ４０１で平行ビーム５に変換され、ビームスプリッター４００を透過し、集光レンズ４で光プローブ３に収斂される。
【００５３】
収斂光は、光プローブ素子２０の平面基板１を透過して光プローブ３に入射し
　と記載されていることから、引用発明の「透光性の平面基板１」が本願補正発明の「光伝搬体」に相当する。
　
（ii）引用発明の「平面基板１に形成され、先端が鋭く尖ったほぼ円錐形の突起２１」が、その構成・機能からみて、本願補正発明の「前記光伝搬体の一部が凸形状化した凸形状部」に相当する。　
　
（iii）本件出願明細書に、
「【０００３】
　光を用いた情報記録再生装置は、大容量化・小型化の方向へと進化しており、そのため記録ビットの高密度化が要求されている。その対策として、青紫色半導体レーザやＳＩＬ（Solid Immersion  Lens）を用いた研究がおこなわれているが、これらの技術では光の回折限界の問題により、現在の記録密度の数倍程度の向上しか望めない。これに対し、
光の回折限界を超えた微小領域の光学情報を扱う技術として近視野光を利用した情報記録再生方法が期待されてい
　【０００４】
　この技術では、
微小領域と近視野光発生素子に形成した光の波長以下サイズの光学的開口との相互作用により発生する近視野光を利用する
　と記載され、また、上記引用刊行物Ａの摘記事項の（３Ａ−４）に、
「【００５２】上記の構成において、記録媒体３００に情報を記録する場合、光源４０２からの光を情報に応じて強度変調する。変調光はコリメーターレンズ４０１で平行ビーム５に変換され、ビームスプリッター４００を透過し、集光レンズ４で光プローブ３に収斂される。
【００５３】収
斂光は、光プローブ素子２０の平面基板１を透過して光プローブ３に入射し、回折限界以下の径に絞り込まれる
光プローブ３の先端の反射膜２が形成されていない開口部の大きさ程度（ｎｍオーダー）にまで絞り込まれる
　と記載されていることから、光プローブ３の突起２１の先端に形成された開口部から発生する光が近視野光であることは明らかである。
　そうすると、引用発明の「反射膜が形成された突起２１の先端に形成された開口部」が本願補正発明の「前記凸形状部の頂点に形成され、近視野光を発生する微小開口」に相当する。
　
（iv）上記引用刊行物Ａの摘記事項（３Ａ−４）に、
「【００５２】上記の構成において、記録媒体３００に情報を記録する場合、光源４０２からの光を情報に応じて強度変調する。変調光はコリメーターレンズ４０１で平行ビーム５に変換され、ビームスプリッター４００を透過し、
集光レンズ４で光プローブ３に収斂される
【００５３】収斂光は、光プローブ素子２０の平面基板１を透過して光プローブ３に入射し、回折限界以下の径に絞り込まれる。つまり、
光プローブ３の先端の反射膜２が形成されていない開口部の大きさ程度（ｎｍオーダー）にまで絞り込まれる
・・・
【００５６】記録媒体３００から情報を再生する場合、情報を記録する場合よりも強度が弱く、かつ、一定の光を光源４０２から出射させる。上記と同様にして、光プローブ３で得られた微小光６は、記録媒体３００の記録層３０２に照射される。
【００５７】
記録層３０２からの戻り光は、光プローブ３で取り込まれて発散光になり、集光レンズ４で集光される。集光された光は、ビームスプリッター４００で反射され、光検出器４０３に導かれる
　と記載され、さらに、同摘記事項（３Ａ−７）に、
「【０１２６】本実施例の記録再生装置では、
マイクロレンズ１００が集光レンズ４の役割を果たす
　と記載されていることから、引用発明の「平面基板１の、光プローブ３が設けられている面とは反対側の面に形成され、光ファイバー４０４からの光が直接導かれるマイクロレンズ１００」と、本願補正発明の「前記微小開口に光を導入あるいは、前記微小開口からの散乱光を受光素子に導くために用いられるものであり、前記光伝搬体に備えられ、前記凸形状部に向けて前記近視野光の発生に用いる光束を導入する導光構造」とは、「前記微小開口に光を導入あるいは、前記微小開口からの散乱光を受光素子に導くために用いられるものであり、前記光伝搬体に備えられ、前記凸形状部に向けて前記近視野光の発生に用いる光束を導入する光学部品構造」である点で共通する。
　
（v）引用発明の「光プローブ素子２０の製造方法」と本願補正発明の「前記光伝搬体は前記導光構造から射出された前記光束が照射される光照射部分を備える近視野光発生素子の製造方法」とは、「近視野光発生素子の製造方法」である点で共通する。
　
（vi）引用発明の「平面基板１の片面に、光ファイバー４０４からの光が直接導かれるマイクロレンズ１００が形成され」ることと、本願補正発明の「前記導光構造を作製する導光構造作製工程」とは、「前記光学部品構造を作製する光学部品作製工程」である点で共通する。
　
（vii）上記引用刊行物Ａの摘記事項（３Ａ−５）に
「【００６５】次に、上記の光プローブ素子２０の製造方法について説明する。なお、製造方法にはバリエーションがあり、これらを添字付きの英文字で区別する。
【００６６】製造方法（Ｐ11）では、図９に示すように、まず、
平面基板１上の光プローブ３を形成したい位置に、フォトレジストからなるマスク１０を形成する
次に、平面基板１を等方性エッチングする
マスク１０の下の平面基板１がアンダーエッチングされ、マスク１０が離脱する
先端が鋭く尖ったほぼ円錐形の突起２１が平面基板１に形成される
　と記載されていることから、引用発明の「平面基板１の片面に、円形のフォトレジストからなるマスク１０を形成」することと、本願補正発明の「前記光照射部分に前記導光構造から射出された前記光束を照射することで、前記光照射部分に、前記凸形状部を形成するために用いられるマスクを作製する凸形状マスク作製工程」とは、「前記凸形状部を形成するために用いられるマスクを作製する凸形状マスク作製工程」である点で共通する。
　
（viii）引用発明の光プローブ３の突起２１は、平板基板１のマイクロレンズ１００が設けられている面とは反対側の面に形成されていることから、引用発明「片面にマスク１０が形成された平面基板１をウエットエッチングすることにより突起２１を形成する」ことと、本願補正発明の「前記導光構造が備えられている側とは逆側から前記マスクを用いて前記光伝搬体をエッチングすることにより、前記凸形状部を作製する凸形状作製工程」とは、「前記光学部品構造が備えられている側とは逆側から前記マスクを用いて前記光伝搬体をエッチングすることにより、前記凸形状部を作製する凸形状作製工程」である点で共通する。
　
（ix）引用発明の「光プローブ素子の製造方法」が、本願補正発明の「近視野光発生素子の製造方法」に相当する。
　
　そうすると、本願補正発明と引用発明とは、
「光伝搬体と、
　前記光伝搬体の一部が凸形状化した凸形状部と、
　前記凸形状部の頂点に形成され、近視野光を発生する微小開口と、
　前記微小開口に光を導入あるいは、前記微小開口からの散乱光を受光素子に導くために用いられるものであり、前記光伝搬体に備えられ、前記凸形状部に向けて前記近視野光の発生に用いる光束を導入する光学部品構造とを備える近視野光発生素子の製造方法であって、
　前記光学分品構造を作製する光学部品構造作製工程と、
　前記凸形状部を形成するために用いられるマスクを作製する凸形状マスク作製工程と、
　前記光学部品構造が備えられている側とは逆側から前記マスクを用いて前記光伝搬体をエッチングすることにより、前記凸形状部を作製する凸形状作製工程とを含むことを特徴とする近視野光発生素子の製造方法。」
　である点で一致し、次の相違点（あ）〜相違点（う）において相違する。
　
・相違点（あ）
　本願補正発明では、光学部品構造が「導光構造」であり、光学部品構造を作製する光学部品構造作製工程が、「導光構造を作製する導光構造作製工程」であるのに対して、引用発明では、光学部品構造が、光ファイバー４０４からの光が直接導かれるマイクロレンズ１００であり、光学分品構造を作製する光学部品構造作製工程が、平面基板１の片面に、平面基板１の片面にマイクロレンズ１００を形成されることである点。
　　
・相違点（い）
　本願補正発明では、「前記光伝搬体は前記導光構造から射出された前記光束が照射される光照射部分を備え」、「前記光照射部分に前記導光構造から射出された前記光束を照射することで、前記光照射部分に、前記凸形状部を形成するために用いられるマスクを作製する」のに対して、引用発明では、平面基板１の片面に、円形のフォトレジストからなるマスク１０を形成する際に、どのようにしてマスク１０を形成するか不明である点。
　
・相違点（う）
　前記光学部品構造が備えられている側とは逆側から前記マスクを用いて前記光伝搬体をエッチングする際に、本願補正発明では、光学部品構造が「導光構造」であるのに対して、引用発明は、光学部品構造が光ファイバー４０４からの光が直接導かれるマイクロレンズ１００である点。
　　　　
　（イ−２）当審の判断
　そこで、上記相違点（あ）〜相違点（う）について判断する。
　まず、最初に相違点（あ）及び相違点（う）について判断する。
　
・相違点（あ）及び相違点（う）について
（１）レンズからなる光学部品が導光部品に含まれることは、光学分野において、技術常識である。
　例えば、特開平８−２５４５００号公報に、
「【００３０】この照明装置５は、発光光源と、この発光光源からの光束を所定の方向にそろえる導光手段からなり、本実施例では発光光源としてフレーム１１に固定された複数のＬＥＤ１２を用いており、また
導光手段として集光レンズ１３
　と記載され、又、特開平１１−８６６６３号公報に、
「【０００２】
【従来の技術】図３はスイッチとして、例えばボリュームスイッチをハウジングに取り付けた従来の取り付け状態を示す一部の概略正面図、図４は図３のＡ−Ａ線に沿う横断面図である。図３、図４において、底面開放型のハウジング１０１内には、
導光手段としての照明レンズ１０２
　と記載され、さらに、特開平６−２００７９号公報に、
「【００５０】導光部15は、上述の如く望ましくは剛性の高い管状体にて構成される。その中間部にはレンズ16が設けられる。
レンズ16は
導光手段である
　と記載されている。
　そうすると、引用発明の「光ファイバー４０４からの光が直接導かれるマイクロレンズ１００」は、レンズの１種であり、導光手段に含まれることから、引用発明の「光ファイバー４０４からの光が直接導かれるマイクロレンズ１００」と、本願補正発明の「導光構造」とは、実質的に差異がないものである。
　そして、引用発明の「平面基板１の片面に、光ファイバー４０４からの光が直接導かれるマイクロレンズ１００が形成され」ることが、「導光構造を作製する導光構造作製工程」となることは明らかである。
　
（２）さらに、引用発明では、平面基板１の、突起２１を有する光プローブ３が設けられている面とは反対側の面に、マイクロレンズ１００が形成されていることから、引用発明の「片面にマスク１０が形成された平面基板１をウエットエッチングすることにより突起２１を形成する」ことにより、マイクロレンズ１００の導光構造が備えられている側とは逆側からマスク１０を用いて平面基板１をウエットエッチングすることにより突起２１を形成しており、本願補正発明の「前記導光構造が備えられている側とは逆側から前記マスクを用いて前記光伝搬体をエッチングすることにより、前記凸形状部を作製する凸形状作製工程」の構成と実質的に差異はないものである。（相違点（う））
　
（３）また、上記（１）及び（２）において検討したように、引用発明の「光ファイバー４０４からの光が直接導かれるマイクロレンズ１００」と、本願補正発明の「導光構造」とは、実質的に差異がないものであるが、本件出願明細書に、
「【００３８】
　本実施の形態１による近視野光発生素子の製造方法は、図１における導光構造作製工程１０１、集光構造作製工程１０２と凸形状マスク作製工程１０３と凸形状作製工程１０４と微小開口作製工程１０５とからなる。
　【００３９】
　導光構造作製工程１０１により図３の
光導波路を有する光導波路基板３０１を作製する
光導波路から出射された光速を平板マイクロレンズ３０３で微小開口近傍に集光する
・・・
【００４４】
　このようにして光導波路基板３０１に
光導波路４０５が作製されるが、段部の底部に光導波路の代わりに光ファイバーを挿入してもよい
　と記載されていることから、仮に、本願補正発明の導光構造が、マイクロレンズに導光する光導波路、又は、光ファイバーを意味する場合についても検討する。
　引用発明では、光ファイバー４０４からの光をマイクロレンズ１００に直接導く構成になっており、さらに、光を導光する光ファイバーや光導波路からの光を直接マイクロレンズに導光する際に、光ファイバーや光導波路をマイクロレンズと結合させて作製することは周知である。
　例えば、特開平２−２０００７４号公報に、
「本実施例のＩＩ付固体撮像装置（１０）に用いられるＩＩ（１）の
導光部（１１）は
平板光導波路（１２）と、
平板マイクロレンズアレイ（１３）で構成されている
・・・このような
平板光導波路０２１は、例えばガラス製の平板基板にイオン交換等により形成した屈折率分布型のものであり
・・・
　また、上記
平板マイクロレンズアレイ（１３）は、上記平板光導波路（１２）と同一の平板基板に上記各光導波路と同一の製法で
形成される
この平板マイクロレンズアレイ（１３）は、光の屈折率が増大した屈折率分布領域を有し、上記平板基板の屈折率分布領域と他の領域との界面で上記平板光導波路（１２）の各光導波路にて導かれる光を屈折させて、所要の焦点距離で集光するようになっている
　と記載され、また、特開平８−４６２９２号公報に、
「【００１８】基板１０の主面側には、更に、活性層１２よりも下方に底面２０を有する溝がエッチングによって形成されている。溝の一方の側壁２２は主面と垂直に形成されてレーザの一方の共振器面を構成し、また、溝の他方の側壁は主面と略４５度の角度を成す傾斜側壁２４として形成される。レーザの他方の共振器面はへき開面２６により構成されている。
【００１９】溝の底面２０及び側壁２２、２４上、並びに、ｎ−ＩｎＰ層１４上及びへき開面２６上には、例えば反射率が９０％の高反射膜２８が成膜されている。ｎ電極１６は、高反射膜２８の窓内に形成されている。
溝内には
コア層３０を有する光導波路が形成されている
光導波路の上下クラッド層３２、３４の光屈折率ｎ
３
及びｎ
１
は、夫々１．５５であり、また、コア層３０の光屈折率ｎ
２
は１．５５５である
・・・
【００３３】図５は、本発明の第五の実施例のレーザ素子の断面図である。この実施例は、図１の実施例の構成に加えて、傾
斜鏡面上部の光導波路の上側クラッド層３２の表面に集光レンズ５０を形成した例である
光ファイバとの結合効率
　と記載され、さらに、特開平９−３１２３８５号公報に、
「【００２２】
光ファイババンドル４２に入射した光はコア４３を伝搬し、充填材４１を通ってマイクロレンズ１１に入射する
【００２３】また、固体撮像素子の表面に形成された酸化膜と屈折率がほば同じである平坦化層１０を設けているために、図１４の固体撮像装置で生じたような光電変換部上部の凹部の充填材が凸レンズの効果を持ち、感度が低下したり、スミアやクロストークが発生することはない。
【００２４】次に本発明の第２の実施の形態について述べる。本発明の第２の実施の形態に係る固体撮像装置では、図１の固体撮像装置において透明な充填材４１の屈折率に工夫が施されている。すなわち、上に凸な形状を持つマイクロレンズにおいて、充填材４１の屈折率をマイクロレンズ１１の屈折率よりも小さくすることによってマイクロレンズ１１の凸レンズ効果が得られるようになる。屈折率の差が０．１以上あるとことが好ましい。」
　と記載されている。
　そして、引用発明の光ファイバー４０４も上記周知の光導波路又は光ファイバーもともにマイクロレンズに導光する導光部材である点で共通することから、引用発明において、光ファイバー４０４からの光をマイクロレンズ１００に直接導く構成として、上記周知の光ファイバーや光導波路をマイクロレンズと結合させて作製する構成を採用することにより、本願補正発明のごとく、光学部品構造が（光ファイバーや光導波路からなる）「導光構造」であり、光学部品構造を作製する光学部品構造作製工程が、（光ファイバーや光導波路からなる）「導光構造を作製する導光構造作製工程」とすることは当業者が容易になし得るものである。
　さらに、引用発明において、光ファイバー４０４からの光をマイクロレンズ１００に直接導く構成として、上記周知の光ファイバーや光導波路をマイクロレンズと結合させるように作製する構成を採用すれば、平面基板１の、突起２１を有する光プローブ３が設けられている面とは反対側の面に、光ファイバー４０４やマイクロレンズ１００が形成されていることから、本願補正発明のごとく、「前記導光構造が備えられている側とは逆側から前記マスクを用いて前記光伝搬体をエッチングすることにより、前記凸形状部を作製する凸形状作製工程」となることは明らかである。
　
・相違点（い）について
　上記引用刊行物Ａの摘記事項（３Ａ−７）に、
「【０１２７】光プローブ素子２０は、図１９に示すように、透光性の平面基板１と、平面基板１の片面に突出するように形成された透光性のほぼ円錐形の光プローブ３と、平面基板１の、光プローブ３が設けられている面に、光プローブ３の先端を除いて形成された反射膜２と、
平面基板１の、光プローブ３が設けられている面とは反対側の面の、光プローブ３に対向する位置に形成されたマイクロレンズ１００
マイクロレンズ１００は、光プローブ３からの光を効率良く集光できるように、その焦点に光プローブ３が位置するように形成されている
　ことが記載され、さらに、摘記事項（３Ａ−８）に、
「図２２（ａ）には、透光性の平面基板１にマイクロレンズ１００が設けられている」
　こと、及び
「図２２（ｂ）には、透光性の平面基板１のマイクロレンズ１００が設けられた面とは反対側の面には、
マイクロレンズ１００の中心に対応した位置にフォトレジストからなるマスク１０を設ける
　ことが記載されていることから、フォトレジストからなるマスク１０は、光プローブ３の突起２１を形成するために、透光性の平面基板１のマイクロレンズ１００からの光が照射される位置に少なくとも設けられていることは明らかである。
　ところで、マイクロレンズを有する透光性の基板において、マイクロレンズの配置された透光性基板面と反対側の面にレジスト膜を形成し、マイクロレンズからの集光した光で露光し、露光されたレジスト膜のみを残すことは、周知である。
　例えば、上記引用刊行物Ｂの摘記事項（３Ｂ−４）に、
「【００５１】本実施の形態における光学素子の形成は、先に形成したマイクロレンズ４１の集光効果を利用して光透過領域４３と遮光部４２を形成することに特徴を有している。まず、
マイクロレンズ４１が形成された透明基板（図１１（ａ））のマイクロレンズ４１の反対側に、ネガ型レジスト４４を１μｍ程度塗布する
次に、先に形成したマイクロレンズ４１側からレジスト膜を裏面露光し（図１１（ｃ））、露光されなかったレジスト膜を除去する
と記載され、また、特開平１０−２３９５０３号公報に、
「【００３０】次に、マイクロレンズアレイ３０の作製方法について説明する。先ず、
図４（ａ）に示すように、透明基板３０Ａの一面側に複数のマイクロレンズ３０Ｂを配列して備えたマイクロレンズアレイ３６を用意する
【００３１】次に、
同図（ｂ）に示すように、透明基板３０Ａの他面側（裏面側）に
ネガ型フォトレジストなどの感光性樹脂３８
を塗布する
マイクロレンズ３０Ｂの光軸と平行するように紫外線など
をマイクロレンズ３０Ｂ側から照射し、このマイクロレンズ３０Ｂにより結像される光像により感光性樹脂３８を露光する
【００３２】次に、
同図（ｃ）に示すように、現像液にて露光された領域３８Ａを残して感光性樹脂３８を選択的に除去する
　と記載され、さらに、特開平１１−３４４６０２号公報に、
「【００３８】このような知見に基づけば、例えば、
マイクロレンズを有する基板の表面にネガ型レジスト層を形成し、次いで、マイクロレンズを光学系として用いて、かかるネガ型レジスト層を露光することにより、前記ネガ型レジスト層にレジストパターンを形成
　と記載されている。
　そうすると、引用発明の光プローブ３の突起２１を形成するためのフォトレジストからなるマスク１０と、上記周知の露光されたレジストとは、ともにマイクロレンズの配置された透光性基板面と反対側の面の、マイクロレンズからの光が照射される位置に設けられている点で共通するとともに、引用発明の導光構造であるマイクロレンズ１００から光が照射されるか、又は、光導波路や光ファイバーの導光構造を介してマイクロレンズ１００から光が照射されることは、上記「・相違点（あ）及び相違点（う）について」において検討したとおりであるから、引用発明において、平面基板１の片面に、円形のフォトレジストからなるマスク１０を、透光性の平面基板１のマイクロレンズ１００からの光が照射される位置に設けるために、上記周知例のごとく、マイクロレンズ配置された透光性基板面と反対側の面にレジスト膜を配置し、マイクロレンズからの集光した光で露光し、露光されたレジスト膜のみを残す構成を採用し、マイクロレンズ１００の配置された透光性の平面基板１と反対側の面にフォトレジストを形成し、マイクロレンズ１００からの集光した光で露光し、露光されたフォトレジストからなるマスク１０を形成することにより、本願補正発明のごとく、「前記光伝搬体は前記導光構造から射出された前記光束が照射される光照射部分を備え」、「前記光照射部分に前記導光構造から射出された前記光束を照射することで、前記光照射部分に、前記凸形状部を形成するために用いられるマスクを作製する」ことは当業者であれば容易になし得るものである。
　
　そして、本願補正発明によってもたらされる効果は、引用発明及び周知の技術事項から予測される範囲内のものであって、格別のものではない。
　
　なお、請求人は、当審から通知した審尋に対する回答書において、
「（１）引用文献１には、集光レンズや集光レンズが取り付けられる支持部の記載はありますが、導光構造の記載はありません。引用文献２も同様に集光レンズの記載はありますが、導光構造の記載はありません。本発明の導光構造は、かかる構造により光を閉じ込めることにより、光の利用効率を確保可能とするものです。光の利用効率を所望の近接場光を発生可能な効率まで引き上げることを可能とするものです。引用文献のようなレンズにおいては、光が自由伝搬してしまい、光の利用効率を確保することが困難となります。
　また、（２）引用文献２のマスクにより遮光膜の除去部分を作成する方法は、近接場光の照射位置を決めるためのものではありません。よって、近接場光素子に係る引用文献１と組み合わせることは難しく、また、同じく近接場光素子に係る本発明を想到することも困難となります。」
　旨の主張をしているが、（１）上記「・相違点（あ）及び相違点（う）について」において検討したように、レンズからなる光学部品が導光部品に含まれることは、光学分野において、技術常識であるから、引用発明の「マイクロレンズ１００」と、本願補正発明の「導光構造」とは、実質的に差異がないものである。
　さらに、本願補正発明の導光構造が、マイクロレンズに導光する光導波路、光ファイバーを意味したとしても、光を導光する光ファイバーや光導波路からの光を直接マイクロレンズに導光する際に、光ファイバーや光導波路をマイクロレンズと結合させるように作製することは周知であり、引用発明において、光ファイバー４０４からの光をマイクロレンズ１００に直接導く構成として、上記周知の光ファイバーや光導波路をマイクロレンズと結合させるように作製する構成を採用することにより、本願補正発明のごとく、光学部品構造が（光ファイバーや光導波路からなる）「導光構造」であり、光学部品構造を作製する光学部品構造作製工程が、（光ファイバーや光導波路からなる）「導光構造を作製する導光構造作製工程」とすることは当業者が容易になし得るものである。
（２）また、上記「・相違点（い）について」において検討したように、マイクロレンズを有する透光性の基板において、マイクロレンズの配置された透光性基板面と反対側の面にレジスト膜を形成し、マイクロレンズからの集光した光で露光し、露光されたレジスト膜のみを残すことは、周知であり、引用発明の光プローブ３の突起２１を形成するためのフォトレジストからなるマスク１０と、上記周知の露光されたレジストとは、ともにマイクロレンズの配置された透光性基板面と反対側の面の、マイクロレンズからの光が照射される位置に設けられている点で共通することから、引用発明において、平面基板１の片面に、円形のフォトレジストからなるマスク１０を、透光性の平面基板１のマイクロレンズ１００からの光が照射される位置に設けるために、上記周知例の構成を採用し、本願補正発明のごとく、「前記光伝搬体は前記導光構造から射出された前記光束が照射される光照射部分を備え」、「前記光照射部分に前記導光構造から射出された前記光束を照射することで、前記光照射部分に、前記凸形状部を形成するために用いられるマスクを作製する」ことは当業者であれば容易になし得るものであるから、請求人の主張は採用できないものである。
　
　さらに、請求人は補正案を提示しているが、上記「（イ−１）」の（iii）において検討したように、上記引用刊行物Ａの摘記事項の（３Ａ−４）に、
「【００５２】上記の構成において、記録媒体３００に情報を記録する場合、光源４０２からの光を情報に応じて強度変調する。変調光はコリメーターレンズ４０１で平行ビーム５に変換され、ビームスプリッター４００を透過し、集光レンズ４で光プローブ３に収斂される。
【００５３】収
斂光は、光プローブ素子２０の平面基板１を透過して光プローブ３に入射し、回折限界以下の径に絞り込まれる
光プローブ３の先端の反射膜２が形成されていない開口部の大きさ程度（ｎｍオーダー）にまで絞り込まれる
　と記載されていることから、光プローブ３の突起２１の先端に形成された開口部から発生する光が近視野光であり、開口部が近視野光を発生する光の波長以下の幅を有する微小開口なるのは明らかであって、補正案を採用することはできない。
　
　したがって、本願補正発明は、引用発明及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　　
　（４）　補正却下の決定についてのむすび
　以上のとおりであるから、本件補正は、平成１８年改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下しなければならないものである。　
　　
第３　本願発明について
　１．本願発明
　平成２３年１１月１５日付けの手続補正は上記のとおり却下されることとなったので、本願の請求項１〜８に係る発明は、平成２３年６月９日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１〜８記載された事項により特定されるとおりのものであって、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、上記「第２　２　（１）」の「ア　本件補正前（平成２３年６月９日付け手続補正書）の特許請求の範囲の請求項１」に記載したように、以下のとおりのものである。　　
　　　　
「【請求項１】
　光伝搬体と、
　前記光伝搬体の一部が凸形状化した凸形状部と、
　前記凸形状部の頂点に形成され、近視野光を発生する微小開口と、
　前記微小開口に光を導入あるいは、前記微小開口からの散乱光を受光素子に導くために用いられるものであり、前記光伝搬体に備えられ、前記凸形状部に向けて前記近視野光の発生に用いる光束を導入する導光構造とを備え、
　前記光伝搬体は前記導光構造から射出された前記光束が照射される光照射部分を備える近視野光発生素子の製造方法であって、
　前記導光構造を作製する導光構造作製工程と、
　前記光照射部分に前記導光構造から射出された前記光束を照射することで、前記光照射部分にマスクを作製する凸形状マスク作製工程と、
　前記導光構造が備えられている側とは逆側から前記ことにより、前記凸形状部を作製する凸形状作製工程とを含むことを特徴とする近視野光発生素子の製造方法。」
　　　
　２．引用刊行物の記載事項　原査定の拒絶の理由に引用された引用刊行物の記載事項は上記「第２　２　（３）」の（ア）に記載したとおりである。
　　
　３．本願発明と引用発明との対比・判断
　上記「第２　２　（３）」の（イ）で検討した本願補正発明は、本件補正前の「光照射部分にマスクを作製する凸形状マスク作製工程」を「光照射部分に、前記凸形状部を形成するために用いられるマスクを作製する凸形状マスク作製工程」と補正するとともに、「光伝搬体をエッチングする」構成を「マスクを用いて前記光伝搬体をエッチングする」と補正することにより、補正前の「凸形状マスク作製工程」の構成、及び「光伝搬体をエッチングする」構成を特定し、減縮するものであり、言い換えれば本願発明の構成要件にさらなる構成要件を付加したものである。
　そうすると、本願発明の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が、上記「第２　２　（３）」の（イ）において検討したとおり、引用発明及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであることから、本願発明も同様の理由により、引用発明及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　　　　　　　　　
　４．むすび　以上のとおり、本願発明は特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるので、本件出願は、その余の請求項に係る発明について検討するまでもなく、拒絶をすべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。