(57)【要約】【課題】被洗浄物の形状が複雑でポケットが多く、洗浄時に洗浄水がポケットの深部に浸入する被洗浄物の場合であっても、短時間で効率よく乾燥を行うことができる、被洗浄物の洗浄・乾燥システムを提供すること。【解決手段】被洗浄物の洗浄・乾燥システム１は、被洗浄物を洗浄する洗浄ユニット３と、該洗浄ユニットで洗浄された被洗浄物を乾燥させる乾燥ユニット５を備えている。洗浄ユニットは、被洗浄物を薬液で洗浄する薬液洗浄手段１０と、薬液洗浄手段で洗浄された被洗浄物を純水で洗浄する純水洗浄手段４０を具備している。乾燥ユニットは、純水洗浄手段で洗浄された被洗浄物を乾燥させる、スピン／ブロー乾燥手段７０と、真空乾燥手段１００を備えている。【選択図】図１
0003210923.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
洗浄された被洗浄物を乾燥させる乾燥ユニットを含んで構成され、
該乾燥ユニットは、スピン／ブロー乾燥手段と、真空乾燥手段を具備し、
該スピン／ブロー乾燥手段は、スピン乾燥メンバーとブロー乾燥メンバーを備え、
該スピン乾燥メンバーは、被洗浄物を保持し水平方向に回転し被洗浄物に付着した純水の除去を行う水平回転テーブルと、被洗浄物を保持し垂直方向に回転し被洗浄物に付着した純水の除去を行う垂直回転テーブルを含んで構成され、
前記スピン乾燥メンバーにおいて被洗浄物を保持した状態でクリーンな温風をチャンバ内に供給し被洗浄物に付着した純水を乾燥させ、
前記真空乾燥手段は、真空チャンバー内で大気圧から一気に高真空付近まで減圧可能な乾燥手段として構成し、被洗浄物を完全乾燥させることを特徴とする被洗浄物の洗浄・乾燥システム。
【請求項２】
前記ブロー乾燥メンバーは、ブロー供給部と、クリーンエアー供給部と、フィルタと、ヒーターを含んで構成され、前記スピン乾燥メンバーにおいて被洗浄物を保持した状態でクリーンな温風をチャンバ内に供給することを特徴とする請求項１記載の被洗浄物の洗浄・乾燥システム。
【請求項３】
前記スピン乾燥メンバーとブロー乾燥メンバーは同時に作動することを特徴とする請求項１または２に記載の被洗浄物の洗浄・乾燥システム。
【請求項４】
さらに、被洗浄物を洗浄する洗浄ユニットを備え、
該洗浄ユニットで洗浄された被洗浄物を前記乾燥ユニットで乾燥し、
該洗浄ユニットは、被洗浄物を薬液で洗浄する薬液洗浄手段と、該薬液洗浄手段で洗浄された被洗浄物を純水で洗浄する純水洗浄手段を備え、
前記薬液洗浄手段は、被洗浄物を保持し水平方向に回転する水平回転テーブルと、被洗浄物を保持し垂直方向に回転する垂直回転テーブルと、前記水平回転テーブルに保持される被洗浄物に薬液をシャワー状態で供給する第１の薬液供給部と、前記垂直回転テーブルに保持される被洗浄物に薬液をシャワー状態で供給する第２の薬液供給部を有するように構成し、
前記洗浄ユニットで洗浄された被洗浄物を前記乾燥ユニットで乾燥することを特徴とする請求項１乃至３いずれか一項に記載の被洗浄物の洗浄・乾燥システム。
【請求項５】
前記純水洗浄手段は、被洗浄物を保持し水平方向に回転する水平回転テーブルと、被洗浄物を保持し垂直方向に回転する垂直回転テーブルと、前記水平回転テーブルに保持される被洗浄物に純水をシャワー状態で供給する第１の純水供給部と、前記垂直回転テーブルに保持される被洗浄物に純水をシャワー状態で供給する第２の純水供給部と、被洗浄物を収容するチャンバ内を洗浄する純水をシャワー状態で供給する第３の純水供給部を有することを特徴とする請求項４に記載の被洗浄物の洗浄・乾燥システム。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】本考案は、被洗浄物、たとえば、半導体工場で使われるウェーハ搬送・保管用のプラスチック製基板収納容器（たとえば、ＦＯＳＢ、ＦＯＵＰ、以下「ＦＯＳＢ等」という。）を洗浄・乾燥するのに好適な、被洗浄物の洗浄・乾燥システムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】従来、基板収納容器の一例として、たとえば、特許文献１には、複数枚の半導体ウェーハＷを収納する容器本体２０１と、この容器本体の開口した正面２０２を閉鎖する着脱自在の容器蓋体２１０を備えたプラスチック製基板収納容器２００が提案されている（本願の図６参照）。【０００３】半導体ウェーハＷは、たとえばφ３００ｍｍあるいは４５０ｍｍの大きさを有する大口径の薄いシリコンウェーハからなり、容器本体２０１内の上下方向に２５枚又は２６枚が並べられて整列収納される。半導体ウェーハＷは、半導体加工装置（図示せず）により加工されるが、この半導体加工装置には蓋体開閉装置（図示せず）が併設されている。【０００４】図６において、容器本体２０１は、所定の成形材料を使用して透明、不透明、又は半透明のフロントオープンボックスとして形成され、両側壁が後方に向かうに従って段階的に接近するよう傾斜形成されており、この両側壁の傾斜により、背面壁の面積が横長に開口した正面２０２の面積よりも小さく設定される。この容器本体２０１の内部両側、すなわち、両側壁の内面には、半導体ウェーハＷを略水平に支持する左右一対のティース２０３が対設され、この一対のティース２０３が上下方向に所定のピッチで配列されている。【０００５】容器本体２０１の天井中央部には、搬送に供される平面略矩形のロボティツクフランジ２０５が装着され、このロボティツクフランジ２０５がＯＨＴ（オーバーヘッドトランスファー）と呼ばれる自動搬送機に把持されることにより、基板収納容器２００が工程内を自動的に搬送される。また、容器本体２０１の正面２０２の周縁部には、外方向には屈曲して張り出す蓋体嵌合用のリム２０６が周設され、このリム２０６内周面の上部両側と下部両側とに、容器蓋体２１０を構成する施錠機構２３０用の施錠穴２０７がそれぞれ矩形に穿孔されている。【０００６】容器本体２０１の両側壁外面の中央部には、作業員に把持される搬送ハンドル２０８がそれぞれ着脱自在に装着され、また、両側壁外面の下部には、前後方向に伸びる搬送用のサイドレール２０９がそれそれ選択的に装着される。【０００７】容器蓋体２１０は、容器本体２０１のリム２０６内に圧入して嵌合される断面略トレー形の蓋本体２１１と、さらに、この蓋本体２１１の開口した表面に螺子具を介して覆着されるカバープレート２２６とを備えて形成され、蓋体開閉装置に真空吸着された状態で容器本体２０１に着脱される。蓋本体２１１とカバープレート２２６との間に、蓋体開閉装置により外部から操作される施錠機構２３０、及び施錠機構２３０を構成する回転操作リール２３１の回転位置を制御する位置制御手段２５０を内蔵している。【０００８】施錠機構２３０は、蓋体２１０のカバープレート２２６の外部からの操作で回転する左右一対の回転操作リール２３１と、各回転操作リール２３１の回転に連動して直線的に上下方向に進退する複数の進退動バー２３７と、各進退動バー２３７の進退動により搖動して蓋本体２１１の出没孔２２５から出没する複数の施錠爪２４１を備え、容器蓋体２１０の一対の設置空間に設置されており、複数の施錠爪２４１が容器本体２０１の施錠穴２０７に接離する。【０００９】このように、基板���納容器を構成する容器本体と容器蓋体の形状は複雑で、特に、容器蓋体にはポケットが多く形成されるため、洗浄時の洗浄水がポケットに浸入することを生起する。【００１０】また、被洗浄物を洗浄・乾燥するシステムの一例として、たとえば、特許文献２には、電子光学部品を搬送する際に使用されるプラスチック製のトレイ等の、汚染物質であるパーティクルや水分の付着を極力抑えることが望まれる物を洗浄・乾燥するシステムが提案されている。【００１１】このシステムは、被洗浄物を薬液で洗浄する薬液洗浄槽と、水切りされた被洗浄物を収容する真空チャンバー内の真空度の上下動を繰り返す真空度制御手段を備えている。薬液洗浄槽では超音波洗浄を行い、また、真空度制御手段では真空チャンバー内の真空度を、少なくとも、−９５〜−８０ｋＰａの範囲内と、−２０〜−５ｋＰａの範囲内との間で繰り返し上下動させる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開２０１３−３８２１７号公報
【特許文献２】特開２００６−２１２５６３公報
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【００１３】この種の被洗浄物の洗浄・乾燥システムとしては、少なくとも、次の条件を満たすことが求められる。
（１）被洗浄物を乾燥する時間が短く、単位時間当たり相当数の被洗浄物を乾燥処理する処理能力があること、また、比較的大きな被洗浄物を小スペースで乾燥処理できること
（２）被洗浄物が容器本体と蓋体のように分離できる場合、容器本体と蓋体に分離した状態で乾燥させることが可能であること；
（３）被洗浄物の形状が複雑でポケットが多く洗浄時に洗浄水がポケットの深部に浸入する被洗浄物であっても、短時間で効率よく乾燥を行うことができること；
（４）洗浄した被洗浄物を乾燥処理する際に被洗浄物が変形・劣化しないこと；【００１４】しかしながら、上記の従来の被洗浄物の洗浄・乾燥システムにあっては、例えば、次のような問題点があった。
（１）被洗浄物がＦＯＳＢ等の場合、例えば、ＦＯＳＢは、シリコンウェーハの出荷容器のため、非常に高清浄度が要求されるが、浸漬超音波薬液洗浄では、（ｉ）繰り返される薬液洗浄による液汚れの増加に伴うＦＯＳＢの汚染が惹起される、（ｉｉ）ＦＯＳＢの構造は大きな袋形状を形成するため浸漬させることがそもそも困難である、（ｉｉｉ）ＦＯＳＢは樹脂部材なので、浸漬超音波による樹脂部材へのダメージが生じることが懸念され、また超音波のキャビテーション振動により微小パーティクル（汚染物質）が発生しやすい、（ｉｖ）使用される薬液量を多く必要とし環境負荷が大きい；
（２）被洗浄物の形状が複雑で洗浄水が被洗浄物の深部に浸入するような場合には、短時間のうちに洗浄水を乾燥除去することが必すしも容易でない；
（３）容器本体と蓋体とから構成され複雑な形状を採る被洗浄物（たとえば、ＦＯＳＢ等）を完全乾燥するためには、通常、除湿、乾燥エアーの供給、温風乾燥等を必要とするので乾燥時間がかかり、また乾燥手段を設置するため広いスペースが必要となる；
（４）真空チャンバー内の真空度の上下動を繰り返し行う必要上、真空チャンバー内では複数回の圧力変動を行うため、バルブ類からの発麈が生じやすい；【００１５】したがって、本考案は上記事情に鑑みてなされたものであり、本考案の目的は、樹脂部材である被洗浄物への洗浄時のダメージがなく、洗浄時に微小パーティクルの発生も抑えられる、被洗浄物の洗浄・乾燥システムを提供することにある。【００１６】本考案の他の目的は、被洗浄物を洗浄する際に使用される薬液の液量が少なくてすみ、環境負荷を最小限に抑えることができ、また、洗浄作業者への騒音被害も無い、被洗浄物の洗浄・乾燥システムを提供することにある。【００１７】本考案のもう一つ他の目的は、被洗浄物を乾燥する時間が短く、単位時間当たり相当数の被洗浄物を乾燥処理する処理能力があり、比較的大きな被洗浄物を小スペースで乾燥処理できる、被洗浄物の洗浄・乾燥システムを提供することにある。【００１８】本考案のもう一つ他の目的は、被洗浄物の形状が複雑でポケットが多く、洗浄時に洗浄水がポケットの深部に浸入する被洗浄物の場合であっても、短時間で効率よく乾燥を行うことができる、被洗浄物の洗浄・乾燥システムを提供することにある。【００１９】本考案のもう一つ他の目的は、洗浄した被洗浄物を乾燥処理する際に被洗浄物が変形・劣化しない、被洗浄物の洗浄・乾燥システムを提供することにある。【００２０】本考案のさらにもう一つ他の目的は、真空乾燥時に被洗浄物からのアウトガスを積極的に除去できる可能性のある、被洗浄物の洗浄・乾燥システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２１】本考案に係る被洗浄物の洗浄・乾燥システムは、
洗浄された被洗浄物を乾燥させる乾燥ユニットを含んで構成され、
該乾燥ユニットは、スピン／ブロー乾燥手段と、真空乾燥手段を具備し、
該スピン／ブロー乾燥手段は、スピン乾燥メンバーとブロー乾燥メンバーを備え、
該スピン乾燥メンバーは、被洗浄物を保持し水平方向に回転し被洗浄物に付着した純水の除去を行う水平回転テーブルと、被洗浄物を保持し垂直方向に回転し被洗浄物に付着した純水の除去を行う垂直回転テーブルを含んで構成され、
前記スピン乾燥メンバーにおいて被洗浄物を保持した状態でクリーンな温風をチャンバ内に供給し被洗浄物に付着した純水を乾燥させ、
前記真空乾燥手段は、真空チャンバー内で大気圧から一気に高真空付近まで減圧可能な乾燥手段として構成し、被洗浄物を完全乾燥させることを特徴としている。【００２２】前記ブロー乾燥メンバーは、ブロー供給部と、クリーンエアー供給部と、フィルタと、ヒーターを含んで構成され、前記スピン乾燥メンバーにおいて被洗浄物を保持した状態でクリーンな温風をチャンバ内に供給するようにすることができる。【００２３】前記スピン乾燥メンバーとブロー乾燥メンバーを同時に作動させ、被洗浄物の付着水を除去することが適当である。【００２４】さらに、被洗浄物を洗浄する洗浄ユニットを備え、
該洗浄ユニットは、被洗浄物を薬液で洗浄する薬液洗浄手段と、該薬液洗浄手段で洗浄された被洗浄物を純水で洗浄する純水洗浄手段を備え、
前記薬液洗浄手段は、被洗浄物を保持し水平方向に回転する水平回転テーブルと、被洗浄物を保持し垂直方向に回転する垂直回転テーブルと、前記水平回転テーブルに保持される被洗浄物に薬液をシャワー状態で供給する第１の薬液供給部と、前記垂直回転テーブルに保持される被洗浄物に薬液をシャワー状態で供給する第２の薬液供給部を有するように構成し、
前記洗浄ユニットで洗浄された被洗浄物を前記乾燥ユニットで乾燥するようにすることもできる。【００２５】前記純水洗浄手段は、被洗浄物を保持し水平方向に回転する水平回転テーブルと、被洗浄物を保持し垂直方向に回転する垂直回転テーブルと、前記水平回転テーブルに保持される被洗浄物に純水をシャワー状態で供給する第１の純水供給部と、前記垂直回転テーブルに保持される被洗浄物に純水をシャワー状態で供給する第２の純水供給部と、被洗浄物を収容するチャンバ内を洗浄する純水をシャワー状態で供給する第３の純水供給部を有するように構成することができる。
【考案の効果】
【００２６】本考案は以上のごとく構成され、次に記載される効果を奏する。
（１）被洗浄物への洗浄時のダメージがなく、洗浄時に微小パーティクルの発生も抑えられる、被洗浄物の洗浄・乾燥システムが得られる。
（２）被洗浄物を洗浄する際に使用される薬液の液量も少なくてすみ、環境負荷を最小限に抑えることができ、また、洗浄作業者への騒音被害も無い、被洗浄物の洗浄・乾燥システムが得られる。
（３）被洗浄物を乾燥する時間が短く、単位時間当たり相当数の被洗浄物を乾燥処理する処理能力があり、比較的大きな被洗浄物を小スペースで乾燥処理できる、被洗浄物の洗浄・乾燥システムが得られる。
（４）被洗浄物の形状が複雑でポケットが多く、洗浄時に洗浄水がポケットの深部に浸入する被洗浄物の場合であっても、短時間で効率よく乾燥を行うことができる、被洗浄物の洗浄・乾燥システムが得られる。
（５）洗浄した被洗浄物を乾燥処理する際に被洗浄物が変形・劣化しない、被洗浄物の洗浄・乾燥システムが得られる。
（６）真空乾燥時に被洗浄物からのアウトガスを積極的に除去できる可能性のある、被洗浄物の洗浄・乾燥システムが得られる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本考案に係る被洗浄物の洗浄・乾燥システムを示し、本システムが洗浄ユニットと乾燥ユニットから構成されていることを示す略図である。
【図２】被洗浄物の洗浄・乾燥システムを構成する洗浄ユニット中の薬液洗浄手段を示す略図である。
【図３】被洗浄物の洗浄・乾燥システムを構成する洗浄ユニット中の純粋洗浄手段を示す略図である。
【図４】被洗浄物の洗浄・乾燥システムを構成する乾燥ユニット中のスピン／ブロー乾燥手段を示す略図である。
【図５】被洗浄物の洗浄・乾燥システムを構成する乾燥ユニット中の真空乾燥手段を示す略図である。
【図６】従来の基板収納容器を構成する主要部品を分解して示す基板収納容器の分解斜視略図である。
【考案を実施するための形態】
【実施例】
【００２８】以下、本考案に係る被洗浄物の洗浄・乾燥システムについて、添付図面とともに説明する。実施例では、被洗浄物を基板収納容器とした例を用いて説明する。【００２９】被洗浄物の洗浄・乾燥システム１は、被洗浄物を洗浄する洗浄ユニット３と、該洗浄ユニットで洗浄された被洗浄物を乾燥させる乾燥ユニット５を備えて構成されている。【００３０】（前記洗浄ユニット３について）
前記洗浄ユニット３は、被洗浄物を薬液で洗浄する薬液洗浄手段１０と、該薬液洗浄手段で洗浄された被洗浄物を純水で洗浄する純水洗浄手段４０を具備している。【００３１】このうち、前記薬液洗浄手段１０は、第１チャンバ１１と、蓋１２と、容器本体２０１を保持し水平方向に回転する水平回転テーブル１３と、この回転テーブル１３に連結している回転軸１４と、駆動モータ１５と、内面シャワー供給部１６と、外面シャワー供給部１７と、排気ダクト１９と、液体と気体とを分離するセパレータ２０と、（蓋体２１０の施錠爪２４１が係止して）蓋体２１０を保持し垂直方向に回転する垂直回転テーブル２３と、回転軸２４と、駆動モータ２５と、内面シャワー供給部２６と、外面シャワー供給部２７と、薬液循環タンク３１と、薬液供給用ポンプ３２と、薬液循環用ポンプ３４と、フィルタ３５と、ヒーター３６と、薬液原液貯留タンク３７と、定量原液補充用ポンプ用３８を具備している。【００３２】前記薬液洗浄手段１０は、被洗浄物を保持し水平方向に回転する前記水平回転テーブル１３と、被洗浄物を保持し垂直方向に回転する前記垂直回転テーブル２３と、前記内面シャワー供給部１６と前記外面シャワー供給部１７とで形成され、前記水平回転テーブル１３に保持される被洗浄物２０１に対し薬液をシャワー状態で供給する第１の薬液供給部と、前記内面シャワー供給部２６と前記外面シャワー供給部２７とで形成され、前記垂直回転テーブル２３に保持される被洗浄物２１０に対し薬液をシャワー状態で供給する第２の薬液供給部を含んで構成されている。かくして、前記薬液洗浄手段１０は、薬液シャワーを供給（提供）するため、液汚れの増加にともなう被洗浄物の汚染を回避できるとともに、微小パーティクルの発生を抑えることができる。さらに、使用する薬液の液量も少なく済み、環境負荷も少なく、作業者への騒音被害も無くすることができる。【００３３】前記純水洗浄手段４０は、第２チャンバ４１と、蓋４２と、薬液洗浄後の容器本体２０１を保持し水平方向に回転する水平回転テーブル４３と、回転軸４４と、駆動モータ４５と、内面洗浄水供給部（ノズル）４６と、外面洗浄水供給部（ノズル）４７と、チャンバ内に純水をシャワー状態で供給する上面洗浄水供給部（ノズル）４８と、排気ダクト４９と、セパレータ５０と、薬液洗浄後の蓋体２１０を保持し垂直方向に回転する垂直回転テーブル５３と、回転軸５４と、駆動モータ５５と、内面洗浄水供給部（ノズル）５６と、外面洗浄水供給部（ノズル）５７と、蓋内側洗浄水供給部（ノズル）５８と、超純水供給部６１と、フィルタ６５と、ヒーター６６を具備している。【００３４】前記純水洗浄手段４０は、被洗浄物を保持し水平方向に回転する前記水平回転テーブル４３と、被洗浄物を保持し垂直方向に回転する前記垂直回転テーブル５３と、前記内面シャワー供給部４６と前記外面シャワー供給部４７とで形成され、前記水平回転テーブル４３に保持される被洗浄物２０１に対し純水をシャワー状態で供給する第１の純水供給部と、前記内面シャワー供給部５６と前記外面シャワー供給部５７とで形成され、前記垂直回転テーブル５３に保持される被洗浄物２１０に対し純水をシャワー状態で供給する第２の純水供給部と、被洗浄物を収容する前記第２チャンバ４１および前記蓋４２を洗浄する純水をシャワー状態で供給する第３の純水供給部４８．５８を含んで構成されている。【００３５】（前記乾燥ユニット５について）
前記乾燥ユニット５は、前記純水洗浄手段４０で洗浄された被洗浄物２０１．２１０を乾燥させる、スピン／ブロー乾燥手段７０と、真空乾燥手段１００を具備している。【００３６】前記スピン／ブロー乾燥手段７０は、スピン乾燥メンバー７０Ａとブロー乾燥メンバー７０Ｂより構成され、該スピン乾燥メンバー７０Ａとブロー乾燥メンバー７０Ｂは同時に作動し、被洗浄物に付着した純水を除去する。すなわち、加温と回転による水切り動作で洗浄水（水滴）の除去を図る。【００３７】前記スピン／ブロー乾燥手段７０は、第３チャンバ７１と、蓋７２と、容器本体２０１を保持し水平方向に回転する水平回転テーブル７３と、回転軸７４と、駆動モータ７５と、内面用ブロー供給部（ノズル）７６と、外面用ブロー供給部（ノズル）７７と、底面用ブロー供給部（ノズル）７８と、排気ダクト７９と、セパレータ８０と、蓋体２１０を保持し垂直方向に回転する垂直回転テーブル８３と、回転軸８４と、駆動モータ８５と、内面用ブロー供給部（ノズル）８６と、外面用ブロー供給部（ノズル）８７と、クリーンエアー供給部９１と、フィルタ９５と、ヒーター９６を具備している。【００３８】前記スピン乾燥メンバー７０Ａは、被洗浄物２０１を保持し水平方向に回転し被洗浄物に付着した純水の除去を行う前記水平回転テーブル７３と、被洗浄物２１０を保持し垂直方向に回転し被洗浄物に付着した純水の除去を行う前記垂直回転テーブル８３を含んで構成される。【００３９】前記ブロー乾燥メンバー７０Ｂは、前記ブロー供給部７６，７７，７８，８３，８６、８７と、前記クリーンエアー供給部９１と、前記フィルタ９５と、前記ヒーター９６を含んで構成され、前記スピン乾燥メンバー７０Ａが被洗浄物２０１，２１０を保持した状態でクリーンな温風を前記第３チャンバ７１内に供給し被洗浄物に付着した純水を乾燥させる。【００４０】本考案を構成する前記スピン乾燥メンバー７０Ａでは、蓋体２１０を高速回転させて蓋体に形成された複雑なポケットの内部に浸入した洗浄水の効果的な水切りを行うとともに、前記ブロー乾燥メンバーが供給するエアーブローを温風とすることで被乾燥物に熱量を与えて乾燥を促進させる。また回転数を高性能サーボモーターで制御し、高速→低速の繰り返しで低速時には水滴の残部を積極的にエアーブローし乾燥させる。【００４１】前記スピン／ブロー乾燥手段７０における処理条件の一例を以下に示す。（容器本体と蓋体を同時処理）：
（容器本体）
回転数    ：５０ｒｐｍ（水平回転）
処理時間  ：４〜６分
内面ノズル：１０個程度、０．１５ＭＰａ−１５００Ｌ／ｍｉｎ
外面ノズル：８個程度、０．１５ＭＰａ−１２００Ｌ／ｍｉｎ
エアー温度：４０〜５５℃
（蓋体）
回転数    ：５０〜７００ｒｐｍ（垂直回転）
処理時間  ：４〜６分
内面ノズル：５個程度、０．１５ＭＰａ−７５０Ｌ／ｍｉｎ
外面ノズル：８個程度、０．１５ＭＰａ−１２００Ｌ／ｍｉｎ
エアー温度：４０〜５５℃【００４２】前記真空乾燥手段１００は、第４チャンバ１０１と、蓋１０２と、容器本体２０１を保持する水平テーブル１０３と、真空圧力センサ１０７と、窒素ガス供給部１１０と、蓋体２１０を保持する垂直テーブル１１３と、フィルタ１１５と、ヒーター１１６と、真空ポンプ１２１，１２２と、フィルタ１２５を具備している。【００４３】真空乾燥は、加温と高真空領域まで使用する。また、真空解放（大気解放）時は、清浄度の高い窒素を導入させて、結露やパーティクルの付着の無いようにする。【００４４】真空乾燥における真空度は、予め熱量を持った真空チャンバーで、大気圧から一気に高真空付近まで減圧して完全乾燥させる。またスピン／ブロー乾燥との組み合わせで水滴が無い状態からの真空乾燥として、１５分以内の高速乾燥が実現できる。本考案では、一回の減圧のみで完全乾燥するためパーティクルの発生を最少減にでき、バルブ類からの発麈はない。また、高真空付近まで減圧するため、ＦＯＳＢ等からのアウトガスを積極的に除去できる。なお、アウトガスは、樹脂材から出るものでシリコンウェーハにとっては曇りやパーティクル付着の問題を引き起こす１つの原因にもなるため、通常は洗浄乾燥後に数時間の放置が必要であるが、上記実施例によれば洗浄乾燥後の時間も短縮できる。被洗浄物のポケットに入り込んだ洗浄水を真空乾燥で完全に除去する。【００４５】真空チャンバの処理条件の一例を以下に示す。（容器本体と蓋体を同時処理）：
到達圧力：１０〜３０Ｐａ（ａｂｓ）
制御温度：５０〜６０℃
処理時間：５〜１５分
解放時間：５分
給    気：Ｎ２ガス加圧供給（大気解放時の吸気がドライであることを保証する）【００４６】真空解放時に供給するガスは、窒素ガスが好ましいが、窒素ガスとともにドライエアーを混ぜて供給してもよく、また窒素ガスに代えてドライエアーを供給するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００４７】      １    被洗浄物の洗浄・乾燥システム
３    洗浄ユニット
５    乾燥ユニット
１０    薬液洗浄手段
１３    水平回転テーブル
２３    垂直回転テーブル
４０    純水洗浄手段
４３    水平回転テーブル
５３    垂直回転テーブル
７０    スピン／ブロー乾燥手段
７０Ａ  スピン乾燥メンバー
７０Ｂ  ブロー乾燥メンバー
７３    水平回転テーブル
８３    垂直回転テーブル
１００    真空乾燥手段
【図１】
0003210923.tif 000003
【図２】
0003210923.tif 000004
【図３】
0003210923.tif 000005
【図４】
0003210923.tif 000006
【図５】
0003210923.tif 000007
【図６】
0003210923.tif 000008