(57)【要約】【課題】蒸着材の濃度の均一性の高い共蒸着膜を得ることができる蒸着装置、及びこのような蒸着装置を用いた蒸着方法を提供する。【解決手段】本発明は、平面上に配置された複数の噴射ノズル、及び上記複数の噴射ノズルと平行に基板を保持する基板保持部を備え、上記複数の噴射ノズル及び上記基板の少なくとも一方が、上記基板の平行状態を維持しながら一方向に移動可能に構成された蒸着装置であって、上記複数の噴射ノズルが、上記移動方向に垂直な方向に直線状に配置され、第１の蒸着材を噴射する複数の第１噴射ノズルと、上記複数の第１噴射ノズルの上記移動方向に沿った前後に、それぞれ直線状かつ平行に配置され、第２の蒸着材を噴射する複数の第２噴射ノズルとを有することを特徴とする蒸着装置である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
平面上に配置された複数の噴射ノズル、及び
上記複数の噴射ノズルと平行に基板を保持する基板保持部
を備え、
上記複数の噴射ノズル及び上記基板の少なくとも一方が、上記基板の平行状態を維持しながら一方向に移動可能に構成された蒸着装置であって、
上記複数の噴射ノズルが、
上記移動方向に垂直な方向に直線状に配置され、第１の蒸着材を噴射する複数の第１噴射ノズルと、
上記複数の第１噴射ノズルの上記移動方向に沿った前後に、それぞれ直線状かつ平行に配置され、第２の蒸着材を噴射する複数の第２噴射ノズルと
を有することを特徴とする蒸着装置。
【請求項２】
前側の上記複数の第２噴射ノズルと上記複数の第１噴射ノズルとの距離と、後側の上記複数の第２噴射ノズルと上記複数の第１噴射ノズルとの距離とが等しい請求項１に記載の蒸着装置。
【請求項３】
上記基板保持部が上記基板を保持したときの上記複数の噴射ノズルと上記基板との距離（ｍｍ）をＬ１、上記複数の第１噴射ノズルと上記複数の第２噴射ノズルとの距離（ｍｍ）をＬ２としたとき、下記式（１）及び式（２）を満たす請求項２に記載の蒸着装置。
Ｌ１／Ｌ２＝ｔａｎθ  ・・・（１）
７０°≦θ≦８０°    ・・・（２）
【請求項４】
請求項１、請求項２又は請求項３に記載の蒸着装置を用いて共蒸着を行う工程を備える蒸着方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着装置及び蒸着方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイパネルや太陽電池等の金属電極配線、有機ＥＬ層、半導体層、その他の有機材料薄膜や無機材料薄膜等は、真空蒸着法等の蒸着によって形成されることがある。蒸着は、通常、坩堝内の蒸着材を加熱することにより、蒸着材を気化させ、気化した蒸着材を基板表面に向けて噴射し、この基板表面に蒸着材を堆積させることにより行われる。基板表面に堆積された蒸着材が、薄膜を形成する。また、蒸着の際には、所定形状を有するマスクにより基材表面を被覆しておくことで、パターニングされた蒸着膜を形成することができる。このような蒸着を行う蒸着装置は、通常、蒸着材を収容する坩堝等が内部に配置され、気化した蒸着材を噴射する噴射ノズルを有する蒸着源と、基板を保持する基板保持部とを備える。
【０００３】
蒸着装置の一つとして、噴射ノズル（蒸着源）に対して基板を相対的に移動させながら蒸着を行うことができる蒸着装置が採用されている（特許文献１参照）。図３に示すように、このような蒸着装置１００は、複数の噴射ノズル１０２（蒸着源１０１）及び基板Ｘの少なくとも一方が、基板Ｘの噴射ノズル１０２に対する平行状態を維持しながら一方向に移動可能に構成されている。具体的に図３においては、基板Ｘが、右方向に移動可能に構成されている。また、蒸着装置１００においては、複数の噴射ノズル１０２が、蒸着源１０１に、基板Ｘの相対的移動方向に垂直な方向に直線状に配置されている。このような蒸着装置１００によれば、大型の基板Ｘに対して連続的に蒸着を行うことができる。
【０００４】
一方、蒸着法の一種として、共蒸着法が知られている。共蒸着法は、異なる種類の蒸着材を用い、複数種の蒸着材が混合された蒸着膜を形成する方法である（特許文献２参照）。例えば、ホスト材料としての半導体材料と、ドーパント材料とを適当な比率で混合した共蒸着を行うことで、ｐ型又はｎ型の半導体薄膜を形成することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第２０１４／２０３６３２号
【特許文献２】特開２０１７−８２２７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ここで、上述のような連続蒸着可能な蒸着装置において２種の蒸着材を用いる共蒸着方法に対応させようとした場合、図４に示す蒸着装置２００のように、蒸着源２０１に第１の蒸着材を噴射する第１噴射ノズル２０２と第２の蒸着材を噴射する第２噴射ノズル２０３とを直線状に交互に配置した構成とすることが考えられる。しかし、このような蒸着装置２００においては、２種の噴射ノズル２０２、２０３の配置などの蒸着源２０１の構造が複雑になる。
【０００７】
そこで、図５に示す蒸着装置３００のように、第１の蒸着材を噴射する複数の第１噴射ノズル３０２と、第２の蒸着材を噴射する複数の第２噴射ノズル３０３とを平行に配置することが考えられる。しかしこの場合、図６に示すように、基板Ｘ表面に形成される第１噴射ノズル３０２による第１の蒸着材の分布曲線Ｚ１と、第２噴射ノズル３０３による第２の蒸着材の分布曲線Ｚ２とにずれが生じる。従って、位置（膜の表面からの距離）によって濃度（成分比）が異なる共蒸着膜が形成されることになり好ましくない。
【０００８】
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであり、蒸着材の濃度の均一性の高い共蒸着膜を得ることができる蒸着装置、及びこのような蒸着装置を用いた蒸着方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するためになされた本発明は、平面上に配置された複数の噴射ノズル、及び上記複数の噴射ノズルと平行に基板を保持する基板保持部を備え、上記複数の噴射ノズル及び上記基板の少なくとも一方が、上記基板の平行状態を維持しながら一方向に移動可能に構成された蒸着装置であって、上記複数の噴射ノズルが、上記移動方向に垂直な方向に直線状に配置され、第１の蒸着材を噴射する複数の第１噴射ノズルと、上記複数の第１噴射ノズルの上記移動方向に沿った前後に、それぞれ直線状かつ平行に配置され、第２の蒸着材を噴射する複数の第２噴射ノズルとを有することを特徴とする蒸着装置である。
【００１０】
前側の上記複数の第２噴射ノズルと上記複数の第１噴射ノズルとの距離と、後側の上記複数の第２噴射ノズルと上記複数の第１噴射ノズルとの距離とが等しいことが好ましい。
【００１１】
上記基板保持部が上記基板を保持したときの上記複数の噴射ノズルと上記基板との距離（ｍｍ）をＬ１、上記複数の第１噴射ノズルと上記複数の第２噴射ノズルとの距離（ｍｍ）をＬ２としたとき、下記式（１）及び式（２）を満たすことが好ましい。
Ｌ１／Ｌ２＝ｔａｎθ  ・・・（１）
７０°≦θ≦８０°    ・・・（２）
【００１２】
上記課題を解決するためになされた別の本発明は、当該蒸着装置を用いて共蒸着を行う工程を備える蒸着方法である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、蒸着材の濃度の均一性の高い共蒸着膜を得ることができる蒸着装置、及びこのような蒸着装置を用いた蒸着方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係る蒸着装置を示す模式図である。
【図２】図２は、図１の蒸着装置及びこの蒸着装置を用いた場合の蒸着材の分布曲線等を示す説明図である。
【図３】図３は、従来の蒸着装置の一例を示す模式図である。
【図４】図４は、従来の蒸着装置を変形した蒸着装置を示す模式図である。
【図５】図５は、従来の蒸着装置を変形した、図４とは異なる蒸着装置を示す模式図である。
【図６】図６は、図５の蒸着装置を用いた場合の蒸着材の分布曲線等を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、適宜図面を参照にしつつ、本発明の一実施形態に係る蒸着装置及び蒸着方法について詳説する。
【００１６】
＜蒸着装置＞
図１の蒸着装置１０は、複数の蒸着源１１及び基板保持部１２を備える。なお、蒸着装置１０は、適切な真空度が維持される真空チャンバ（図示しない）内に配置される。真空チャンバには、真空チャンバ内の気体を排出させて、真空チャンバ内の圧力を低下させる真空ポンプ、真空チャンバ内に一定の気体を注入して、真空チャンバ内の圧力を上昇させるベンティング手段などが備えられていてよい。
【００１７】
複数の蒸着源１１は、それぞれ、上側先端に設けられた開口面から気化した蒸着材を噴射する複数の噴射ノズル１３（第１噴射ノズル１３ａ、第２噴射ノズル１３ｂ、１３ｃ）を有する。複数の噴射ノズル１３は、一の平面上に配置されている。各蒸着源１１は、固体状の蒸着材を収容し、加熱により蒸着材を気化させ、気化した蒸着材を複数の噴射ノズル１３から噴射するように構成されている。
【００１８】
各蒸着源１１は、具体的には、例えば蒸着材収容室と拡散室とが連設された構成とすることができる。拡散室の上面に、複数の噴射ノズル１３が配置される。蒸着材収容室内には、坩堝が配置され、この坩堝内に固体状の蒸着材が収納される。気化した坩堝内の蒸着材は、蒸着材収容室から拡散室に移動する。坩堝には、気化効率を考慮し、蒸着材と共に、熱的及び化学的に安定しており、かつ蒸着材よりも熱伝導率の高い粒状の伝熱媒体が収納されていてもよい。あるいは、粒状の伝熱媒体と、この伝熱媒体を被覆する蒸着材とで構成される複合材を坩堝に収納してもよい。また、坩堝の周囲には、加熱手段としてのヒータ等が配置される。加熱手段により坩堝中の蒸着材が加熱され、蒸着材が気化する。
【００１９】
なお、後に詳述するように、複数の噴射ノズル１３は、複数の第１噴射ノズル１３ａと、複数の第２噴射ノズル１３ｂ、１３ｃとから構成されている。１の蒸着源１１に複数の第１噴射ノズル１３ａが、他の１の蒸着源１１に複数の第２噴射ノズル１３ｂが、残りの１の蒸着源１１に複数の第２噴射ノズル１３ｃがそれぞれ設けられている。複数の第１噴射ノズル１３ａは第１の蒸着材を噴射し、複数の第２噴射ノズル１３ｂ、１３ｃは第２の蒸着材を噴射するようにそれぞれ構成されている。また、蒸着源１１においては、加熱手段や、図示しない蒸着材の流路に設けられたバルブ等により、蒸着材の放出量を制御可能に構成されている。
【００２０】
基板保持部１２は、複数の噴射ノズル１３と平行な向きに基板Ｘを保持する。換言すれば、基板保持部１２は、複数の噴射ノズル１３と対向するように基板Ｘを保持する。基板保持部１２は、基板Ｘを着脱可能に保持する。基板保持部１２は、従来公知の蒸着装置に備わる基板保持部と同様のものとすることができる。なお、基板Ｘにおいて、複数の噴射ノズル１３と対向する側の面（図１における下面）には、所定形状のパターンを有する蒸着用のマスク（図示しない）が設けられていてよい。
【００２１】
基板Ｘと複数の噴射ノズル１３とが平行とは、例えば、基板Ｘと、複数の噴射ノズル１３における各開口面の中心を通る平面とが、平行な状態である。あるいは、基板Ｘと、複数の噴射ノズル１３が配置された面とが平行な状態であってよい。
【００２２】
蒸着装置１０においては、複数の噴射ノズル１３（又は蒸着源１１全体）及び基板Ｘの少なくとも一方が、基板Ｘの複数の噴射ノズル１３との平行状態を維持しながら一方向に移動可能に構成されている。すなわち、複数の噴射ノズル１３と基板Ｘとは、互いに相対的に移動しながら蒸着を行うことができる。図１においては、複数の噴射ノズル１３（すなわち、蒸着源１１全体）は固定され、基板Ｘが左側から右側へ移動するよう構成されている。このとき、基板保持部１２は、基板Ｘとともに移動するよう構成されていてもよいし、基板保持部１２の位置は固定され、基板Ｘのみが移動するよう構成されていてもよい。一方、他の形態として、基板Ｘは固定され、複数の噴射ノズル１３（又は蒸着源１１全体）が移動するように構成されていてもよい。
【００２３】
複数の噴射ノズル１３は、平面上（平面状）に配置されている。すなわち、複数の噴射ノズル１３の各開口面の中心は、一の平面上に配置されている。なお、この平面とは、複数の噴射ノズル１３の配置状態を示すための仮想の面であり、例えば実際に一つの蒸着源上の一つの面に対して全ての噴射ノズル１３が配置されていることを意味するものではない。各噴射ノズル１３は、その中心軸が基板Ｘに対して垂直となる姿勢で設けられている。各噴射ノズル１３の開口面は、基板Ｘと平行である。複数の噴射ノズル１３は、複数の第１噴射ノズル１３ａと、複数の第２噴射ノズル１３ｂ、１３ｃとを有する。
【００２４】
複数の第１噴射ノズル１３ａは、複数の噴射ノズル１３及び基板Ｘの少なくとも一方の移動方向（図１における左右方向、基板Ｘの相対的移動方向）に垂直な方向に直線状に配置されている。なお、図１においては、直線状に配置された４つの第１噴射ノズル１３ａを図示している。複数の第１噴射ノズル１３ａは、それぞれ第１の蒸着材を噴射する。
【００２５】
複数の第２噴射ノズル１３ｂ、１３ｃは、複数の第１噴射ノズル１３ａの前後にそれぞれ直線状かつ平行に配置されている。なお、複数の第１噴射ノズル１３ａの前後とは、基板Ｘと複数の噴射ノズル１３との相対的な移動方向（図１における左右方向）を基準とした前及び後をいう。具体的には、複数の第２噴射ノズル１３ｂ、１３ｃは、複数の第１噴射ノズル１３ａの前側（図１、図２における左側）に配置された前側の複数の第２噴射ノズル１３ｂと、複数の第１噴射ノズル１３ａの後側（図１、図２における右側）に配置された後側の複数の第２噴射ノズル１３ｃとからなる。なお、図１においては、４つの前側の第２噴射ノズル１３ｂ、及び４つの後側の第２噴射ノズル１３ｃを図示している。複数の第２噴射ノズル１３ｂ、１３ｃは、それぞれ第２の蒸着材を噴射する。
【００２６】
図１の蒸着装置１０においては、直線状に配置された４つの前側の第２噴射ノズル１３ｂ、直線状に配置された４つの第１噴射ノズル１３ａ、及び直線状に配置された４つの後側の第２噴射ノズル１３ｃが、この順に互いに平行に配置されている。また、４つの第１噴射ノズル１３ａ、４つの前側の第２噴射ノズル１３ｂ、及び４つの後側の第２噴射ノズル１３ｃの各噴射ノズルは、それぞれ等間隔かつ線対称に配置されている。基板Ｘの相対的移動方向視において、４つの第１噴射ノズル１３ａ、４つの前側の第２噴射ノズル１３ｂ、及び４つの後側の第２噴射ノズル１３ｃは、重なり合うように配置されている。
【００２７】
図２に示されるように、前側の複数の第２噴射ノズル１３ｂと複数の第１噴射ノズル１３ａとの距離（Ｌ２）と、後側の複数の第２噴射ノズル１３ｃと複数の第１噴射ノズル１３ａとの距離（Ｌ２）とは等しいことが好ましい。なお、図２は、基板Ｘの相対的移動方向に垂直な方向視における各噴射ノズル１３ａ、１３ｂ、１３ｃ等を図示している。また、前側の複数の第２噴射ノズル１３ｂと複数の第１噴射ノズル１３ａとの距離とは、前側の複数の第２噴射ノズル１３ｂの開口面の中心を通る直線と、複数の第１噴射ノズル１３ａの開口面の中心を通る直線との距離をいう。後側の複数の第２噴射ノズル１３ｃと複数の第１噴射ノズル１３ａとの距離についても同様である。
【００２８】
当該蒸着装置１０においては、複数の第１噴射ノズル１３ａによって、第１の蒸着材が基板Ｘに対して噴射される。基板Ｘの相対的移動方向に沿った断面における、この第１噴射ノズル１３ａによる第１の蒸着材の分布は、図２の分布曲線Ｙ１に示されるように正規分布的な分布となる。
【００２９】
一方、複数の第１噴射ノズル１３ａの前後に配置された、複数の第２噴射ノズル１３ｂ、１３ｃによって、第２の蒸着材が基板Ｘに対して噴射される。なお、前側の各第２噴射ノズル１３ｂからの第２の蒸着材の噴射量と、後側の各第２噴射ノズル１３ｃからの第２の蒸着材の噴射量とは同量であることが好ましい。基板Ｘの相対的移動方向に沿った断面における第２の蒸着材の分布曲線Ｙ２は、前側の第２噴射ノズル１３ｂからの第２の蒸着材と、後側の第２噴射ノズル１３ｃからの第２の蒸着材との重ね合わせになる。具体的には、図２に示されるように、第１噴射ノズル１３ａによる分布曲線Ｙ１と同じ位置をピークとした分布曲線Ｙ２となる。このように第２の蒸着材の分布曲線Ｙ２は、第１の蒸着材の分布曲線Ｙ１よりも裾野部分が多少多くなる傾向にあるものの、分布曲線Ｙ１の形状に近似した、正規分布的な分布となる。
【００３０】
すなわち当該蒸着装置１０においては、基板Ｘに蒸着される第１の蒸着材の分布曲線Ｙ１と、第２の蒸着材の分布曲線Ｙ２とが近似した形となる。すなわち、基板Ｘの位置によらず、第１の蒸着材と第２の蒸着材とが、同様の比率で混合されることになる。従って、当該蒸着装置によれば、２種の蒸着材の濃度（成分比）の均一性が高い共蒸着膜を得ることができる。すなわち、当該蒸着装置１０から形成される共蒸着膜は、濃度のムラが小さい。
【００３１】
当該蒸着装置１０においては、基板保持部１２が基板Ｘを保持したときの複数の噴射ノズル１３と基板Ｘとの距離（ｍｍ）をＬ１、複数の第１噴射ノズル１３ａと複数の第２噴射ノズル１３ｂ、１３ｃとの距離（ｍｍ）をＬ２としたとき、下記式（１）及び式（２）を満たすことが好ましい。
Ｌ１／Ｌ２＝ｔａｎθ  ・・・（１）
７０°≦θ≦８０°    ・・・（２）
【００３２】
なお、複数の噴射ノズル１３と基板Ｘとの距離とは、複数の噴射ノズル１３の開口面の中心を通る平面と、基板Ｘの各噴射ノズル１３と対向する側の面との間の距離をいう。また、角度θは、図２において、線分ＡＢと線分ＣＢとがなす角の角度を意味することとなる。なお、点Ａは、第１噴射ノズル１３ａの開口面の中心である。点Ｂは、第２噴射ノズル１３ｂ、１３ｃの開口面の中心である。点Ｃは、点Ａを通る、基板Ｘに対する垂線と、基板Ｘの下面との交点である。このように角θを７０°以上とすることで、得られる共蒸着膜の濃度均一性をより高めることができる。一方、角θを８０°以下とすることで、複数の第１噴射ノズル１３ａと複数の第２噴射ノズル１３ｂ、１３ｃとの距離Ｌ２を適度に離すことができ、各噴射ノズル１３の配置を容易に行うことができる。
【００３３】
上記角θは、距離Ｌ１及び距離Ｌ２を調整することにより調整することができる。なお、複数の噴射ノズル１３と基板Ｘとの距離Ｌ１としては、例えば３００ｍｍ以上１０００ｍｍ以下とすることができる。また、複数の第１噴射ノズル１３ａと複数の第２噴射ノズル１３ｂ、１３ｃとの距離をＬ２の下限としては、５０ｍｍが好ましく、６０ｍｍがより好ましい。また、この距離Ｌ２の上限としては、２００ｍｍが好ましく、９０ｍｍであってもよい。
【００３４】
＜蒸着方法＞
本発明の一実施形態に係る蒸着方法は、当該蒸着装置１０を用いて共蒸着を行う工程を備える。
【００３５】
当該蒸着方法は、当該蒸着装置１０を用いること以外は従来公知の蒸着方法と同様に行うことができる。すなわち、基板Ｘを相対的に移動させながら、第１噴射ノズル１３ａから第１の蒸着材を噴射させ、第２噴射ノズル１３ｂ、１３ｃから第２の蒸着材を噴射させることにより、基板Ｘの表面（図１、２における下面）に、第１の蒸着材及び第２の蒸着材とを共蒸着させる。当該蒸着方法によれば、２種の蒸着材の濃度（成分比）の均一性が高い共蒸着膜を得ることができる。すなわち、当該蒸着方法により形成される共蒸着膜は、濃度のムラが小さい。
【００３６】
なお、図２の濃度分布においては、模式的に分布曲線Ｙ１のピークと分布曲線Ｙ２のピークとを同じ高さとして図示しているが、第１の蒸着材と第２の蒸着材とを同じ質量比率で共蒸着させることに限定されるものではない。例えば、第１の蒸着材をドーパント成分とし、第２の蒸着材をホスト成分とした場合、第２の蒸着材に対して、少量の第１の蒸着材を共蒸着させることができる。例えば、第１の蒸着材と第２の蒸着材との噴射量（蒸着量）の比を１：９とした場合、蒸着膜のどの領域においても１：９に近い濃度比で第１の蒸着材と第２の蒸着材とが存在する共蒸着膜を得ることができる。なお、当該蒸着装置１０の使用に際し、各第１噴射ノズル１３ａからの第１の蒸着材の噴射量は等しくなるように、かつ、各第２噴射ノズル１３ｂ、１３ｃからの第２の蒸着量の噴射量は等しくなるように蒸着を行うことが好ましい。
【００３７】
＜他の実施形態＞
本発明は上述した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲でその構成を変更することもできる。例えば、前側の複数の第２噴射ノズル１３ｂと複数の第１噴射ノズル１３ａとの距離と、後側の複数の第２噴射ノズル１３ｃと複数の第１噴射ノズル１３ａとの距離とは異なっていてもよい。この場合、例えば前側の複数の第２噴射ノズル１３ｂからの噴射量と、後側の複数の第２噴射ノズル１３ｃからの噴射量とを調整することにより、第２の蒸着材の分布を好適な状態に調整することができる。但し、図２のように、前側の複数の第２噴射ノズル１３ｂと複数の第１噴射ノズル１３ａとの距離と、後側の複数の第２噴射ノズル１３ｃと複数の第１噴射ノズル１３ａとの距離とが等しい場合は、各第２噴射ノズル１３ｂ、１３ｃからの噴射量を同等にしておくことにより、比較的容易に良好な分布を有する第２の蒸着材の蒸着を行うことができる。
【００３８】
また、複数の噴射ノズル１３の数も特に限定されるものではない。但し、良好な分布を形成する観点から、前側の第２噴射ノズル１３ｂの数と後側の第２噴射ノズル１３ｃの数とは同じであることが好ましい。例えば、第１噴射ノズル１３ａの数、前側の第２噴射ノズル１３ｂの数、及び後側の第２噴射ノズル１３ｃの数は、それぞれ例えば３以上２０以下とすることができる。
【実施例】
【００３９】
以下、実施例を挙げて、本発明の内容をより具体的に説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００４０】
＜実施例１＞
図１に記載した構造を有する蒸着装置により、基板に対して真空蒸着を行った。Ｌ１＝５００ｍｍ、Ｌ２＝９５ｍｍ（Ｌ１／Ｌ２＝ｔａｎθ≒５．２６、θ≒７９．２°）とした。なお、第１の蒸着材と第２の蒸着材とは、蒸着量が等しくなるように調整した。
【００４１】
保持された基板における第１噴射ノズルの対向位置からの前後方向の位置−２００ｍｍ、−１５０ｍｍ、−１００ｍｍ、−５０ｍｍ、０ｍｍ、５０ｍｍ、１００ｍｍ、１５０ｍｍ及び２００ｍｍのそれぞれの箇所における第１の蒸着材及び第２の蒸着材の蒸着速度を測定した。結果を表１に示す。あわせて、上記各箇所における第１の蒸着材の濃度（第１の蒸着材の蒸着量及び第２の蒸着材の蒸着量の合計に対する第１の蒸着材の蒸着量の割合）を求めた。この濃度もあわせて表１に示す。
【００４２】
【表１】
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【００４３】
表１に示されるように、実施例１の蒸着装置においては、−２００ｍｍから２００ｍｍの間の成膜領域において、第１の蒸着材の濃度差が２％以下であり、濃度の均一性の高い蒸着膜が得られた。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
本発明の蒸着装置及び蒸着方法は、ディスプレイパネルや太陽電池等の金属電極配線、半導体層、有機ＥＬ層、その他の有機材料薄膜や無機材料薄膜等の成膜に好適に用いることができる。
【符号の説明】
【００４５】
１０  蒸着装置
１１  蒸着源
１２  基板保持部
１３  噴射ノズル
１３ａ  第１噴射ノズル
１３ｂ、１３ｃ  第２噴射ノズル
Ｘ  基板
Ｙ１、Ｙ２  分布曲線
Ａ  第１噴射ノズルの開口面の中心
Ｂ  第２噴射ノズルの開口面の中心
Ｃ  点Ａを通る、基板に対する垂線と基板の下面との交点
Ｌ１  複数の噴射ノズルと基板との距離
Ｌ２  複数の第１噴射ノズルと複数の第２噴射ノズルとの距離
１００、２００、３００  蒸着装置
１０１、２０１  蒸着源
１０２、２０２、２０３、３０２、３０３  噴射ノズル
Ｚ１、Ｚ２  分布曲線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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