(57)【要約】【課題】簡易な構成でありながら、耐摩耗性や耐久性に優れることで持続的な衝撃吸収能力を発揮でき、これによって足や体の疲労を軽減できると共に、足裏の怪我を効果的に防止でき、特にスポーツを行う際の競技パフォーマンスを効果的に向上させることができる中敷き用基台及び該中敷き用基台を用いてなる中敷きの提供を課題とする。【解決手段】靴底に鋲などの突起を備えるシューズに使用する中敷きの土台として用いる中敷き用基台１であって、平面視において足裏の形状と略同一な形状をなす合成樹脂製の板材で構成される。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
靴底に鋲などの突起を備えるシューズに使用する中敷きの土台として用いる中敷き用基台であって、平面視において足裏の形状と略同一な形状をなす合成樹脂製の板材で構成されることを特徴とする中敷き用基台。
【請求項２】
足の中足骨の中間部から爪先までを載置させる前方領域と、足の中足骨の中間部から踵までを載置させる後方領域とを備え、前記前方領域の硬度を、前記後方領域の硬度よりも低く形成してあると共に、前記前方領域の硬度を、足の中足趾節関節から爪先までの動きに追従して屈曲可能な硬度に構成してあることを特徴とする請求項１に記載の中敷き用基台。
【請求項３】
中敷き用基台のうら面に、中敷き用基台の剛性を調整するための凸状の剛性調整用凸部を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の中敷き用基台。
【請求項４】
中敷き用基台のうら面に、中敷き用基台における靴の中底との接触応力を調整するための凸状の接触応力調整用凸部を備えることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の中敷き用基台。
【請求項５】
請求項１〜４の何れか１項に記載の中敷き用基台と、前記中敷き用基台に積層されるクッション材と、前記クッション材に積層される表皮材とで構成されることを特徴とする中敷き。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、野球やサッカー、ラグビー、アメリカンフットボール、ゴルフ、自転車競技などのスポーツシューズや、釣り用、雪道用のブーツなど、靴底に鋲などの突起物を備えるシューズに使用する中敷きの土台として用いる中敷き用基台及び該中敷き用基台を用いてなる中敷きに関する。
【背景技術】
【０００２】
野球やサッカー、ゴルフ、ラグビー、自転車競技などのスポーツシューズや、釣り用、雪道用のブーツなどでは、地面や道具とのグリップ性を高めることにより、競技能力向上などを目的として、靴底に金属製や樹脂製の鋲などの突起がついたシューズ（いわゆるスパイクシューズ）を使用する。
このようなスパイクシューズにおいては、クッション性のあるＥＶＡ（Ｅｔｈｙｌｅｎｅ  Ｖｉｎｙｌ  Ａｃｅｔａｔｅ  Ｃｏｐｏｌｉｍｅｒ）樹脂やウレタン樹脂やなどで形成される中敷きが挿入されているものが一般的である。
しかしながらスパイクシューズにおいては、使用時に鋲などの突起部分に力が集中することから、中敷きの突起部分に相当する部分が摩耗し易く、厚みが薄くなり、衝撃吸収能が低下することで、足に痛みを感じ易く、足を痛め易いという問題があった。また痛みを我慢することで、競技パフォーマンスが低下するという問題があった。
このような問題に対して、従来、鋲などの突起部分に相当する位置に衝撃吸収機能を備える中敷きが各種開発されている。このような従来技術を示すものとして、下記特許文献１がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−３０１９８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記特許文献１は、スパイクシューズ及び中敷きに関する発明で、リベット端面４２Ｂとほぼ同じ位置にほぼ同じ大きさの窪み１０を設け、リベット端面４２Ｂと中敷き８Ｂの間に空間９Ｂを形成することで、スパイクによる突き上げがあって、リベットが持ち上げられても、その上昇力は空間９Ｂ内での上昇に費やされて、中敷きにまで衝撃力が伝わらない構成が開示されている。
しかしながら、このような上記特許文献１においては、中敷きの形成が複雑となると共に、地面との良好な接地力を得ることができないという問題があった。
【０００５】
そこで本発明は上記従来における問題点を解決し、簡易な構成でありながら、耐摩耗性や耐久性に優れることで持続的な衝撃吸収能力を発揮でき、これによって足や体の疲労を軽減できると共に、足裏の怪我を効果的に防止でき、特にスポーツを行う際の競技パフォーマンスを効果的に向上させることができる中敷き用基台及び該中敷き用基台を用いてなる中敷きの提供を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を達成するため、本発明の中敷き用基台は、靴底に鋲などの突起を備えるシューズに使用する中敷きの土台として用いる中敷き用基台であって、平面視において足裏の形状と略同一な形状をなす合成樹脂製の板材で構成されることを第１の特徴としている。
また本発明の中敷き用基台は、上記第１の特徴に加えて、足の中足骨の中間部から爪先までを載置させる前方領域と、足の中足骨の中間部から踵までを載置させる後方領域とを備え、前記前方領域の硬度を、前記後方領域の硬度よりも低く形成してあると共に、前記前方領域の硬度を、足の中足趾節関節から爪先までの動きに追従して屈曲可能な硬度に構成してあることを第２の特徴としている。
また本発明の中敷き用基台は、上記第１又は第２の特徴に加えて、中敷き用基台のうら面に、中敷き用基台の剛性を調整するための凸状の剛性調整用凸部を備えることを第３の特徴としている。
また本発明の中敷き用基台は、上記第１〜第３の何れか１つの特徴に加えて、中敷き用基台のうら面に、中敷き用基台における靴の中底との接触応力を調整するための凸状の接触応力調整用凸部を備えることを第４の特徴としている。
また本発明の中敷きは、請求項１〜４の何れか１項に記載の中敷き用基台と、前記中敷き用基台に積層されるクッション材と、前記クッション材に積層される表皮材とで構成されることを第５の特徴としている。
【発明の効果】
【０００７】
上記第１の特徴による中敷き用基台によれば、靴底に鋲などの突起を備えるシューズに使用する中敷きの土台として用いる中敷き用基台であって、平面視において足裏の形状と略同一な形状をなす合成樹脂製の板材で構成されることから、
中敷きを形成した際に、足裏の全面に渡って合成樹脂製の板材を配置することができる。よって簡易な構成でありながら耐摩耗性や耐久性に優れることで持続的な衝撃吸収能力を発揮でき、これによって足や体の疲労を効果的に軽減させることができる。また靴底に備える鋲などの突起の部分の突き上げ感を効果的に低減させることができる。よって足裏の怪我を効果的に防止できると共に、特にスポーツを行う際の競技パフォーマンスを効果的に向上させることができる。
また上記第２の特徴による中敷き用基台によれば、上記第１の特徴による作用効果に加えて、足の中足骨の中間部から爪先までを載置させる前方領域と、足の中足骨の中間部から踵までを載置させる後方領域とを備え、前記前方領域の硬度を、前記後方領域の硬度よりも低く形成してあると共に、前記前方領域の硬度を、足の中足趾節関節から爪先までの動きに追従して屈曲可能な硬度に構成してあることから、
足裏の、いわゆる３つのアーチ（内側縦アーチ、外側縦アーチ、横アーチ）を支える部分については、硬さを備えることでしっかりと足裏を支えることができる。一方、動きのある足の中足骨の中間部から爪先までを支える部分については、足の動きに追従する屈強性を備えることで足の動きを制限することのない中敷き用基台とすることができる。
【０００８】
また上記第３の特徴による中敷き用基台によれば、上記第１又は第２の特徴による作用効果に加えて、中敷き用基台のうら面に、中敷き用基台の剛性を調整するための凸状の剛性調整用凸部を備えることから、
中敷き用基台の剛性を効果的に調整することができる。
また上記第４の特徴による中敷き用基台によれば、上記第１〜第３の何れか１つの特徴に加えて、中敷き用基台のうら面に、中敷き用基台における靴の中底との接触応力を調整するための凸状の接触応力調整用凸部を備えることから、
中敷き用基台における靴の中底との接触応力を効果的に調整することができる。
【０００９】
また上記第５の特徴による中敷きによれば、請求項１〜４の何れか１項に記載の中敷き用基台と、前記中敷き用基台に積層されるクッション材と、前記クッション材に積層される表皮材とで構成されることから、
足や体の疲労を効果的に軽減させることが可能な中敷きとすることができる。また靴底に備える鋲などの突起の部分の突き上げ感を効果的に低減させることができ、足裏の怪我を効果的に防止できると共に、特にスポーツを行う際の競技パフォーマンスを効果的に向上させることが可能な中敷きとすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の実施形態に係る中敷き用基台を示す図で、（ａ）はおもて面の構成を示す平面図、（ｂ）はうら面の構成を示す平面図である。
【図２】本発明の実施形態に係る中敷き用基台を示す図で、（ａ）は図１（ａ）に示す中敷き用基台を小指側から見た側面図、（ｂ）は図１（ａ）に示す中敷き用基台を親指側から見た側面図である。
【図３】本発明の実施形態に係る中敷き用基台を示す図で、（ａ）は図１（ａ）に示す中敷き用基台を爪先側から見た図、（ｂ）は図１（ａ）に示す中敷き用基台を踵側から見た図である。
【図４】本発明の実施形態に係る中敷き用基台を用いてなる中敷きを示す図で、（ａ）は側面図、（ｂ）は（ａ）のＤ−Ｄ線方向から見た断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、各図面を参照して、本発明の実施形態に係る中敷き用基台及び該中敷き用基台を用いてなる中敷きを説明し、本発明の理解に供する。しかし、以下の説明は特許請求の範囲に記載の本発明を限定するものではない。
【００１２】
まず図１〜図３を参照して、本発明の実施形態に係る中敷き用基台１を説明する。
なお図２においては、中敷き用基台１の厚みに関して、説明の便宜上、実際の厚みと異なる厚みで図示するものとする。
【００１３】
図１を参照して、本発明の実施形態に係る中敷き用基台１は、野球やサッカー、ラグビー、アメリカンフットボール、ゴルフ、自転車競技などのスポーツシューズや、釣り用、雪道用のブーツなど、靴底に鋲などの突起物を備えるシューズに使用する中敷きの土台を構成するものである。
【００１４】
本実施形態においては、この中敷き用基台１は図１〜図３に示すように、平面視において足裏の形状と略同一な形状をなす合成樹脂製の板材で構成されている。
合成樹脂としては、例えばナイロンやポリプロピレンなどを用いることができる。勿論、ナイロンやポリプロピレンに限るものではなく、他の合成樹脂を用いる構成としてもよい。また１種類の合成樹脂だけではなく、複数種類の合成樹脂を混合させたものを用いる構成としてもよい。
なお本実施形態においては、ナイロンを用いて中敷き用基台１を形成してある。
【００１５】
図２、図３に示すように、おもて面１０において、土踏まずを載置させる部分には、おもて面１０を上方に反り上げて形成される内側反りあがり部Ｉを備えている。また、おもて面１０において、内側反りあがり部Ｉと中敷き用基台１の短手方向（幅方向）に対向する部分には、おもて面１０を上方に反り上げて形成される外側反りあがり部Ｏを備えている。
更に本実施形態においては、図３（ａ）に示すように、内側反りあがり部Ｉの高さを、外側反りあがり部Ｏの高さよりも高くする構成としてある。
なお、「内側、外側」とは、図１（ａ）における中敷き用基台１を中敷き４に使用した場合において、足の親指から踵に対応する側を内側、足の小指から踵に対応する側を外側とするものである。
また内側反りあがり部Ｉと外側反りあがり部Ｏの高さは、靴の用途や使用者によって、適宜変更可能である。
【００１６】
また本実施形態においては、図２、図３（ｂ）に示すように、おもて面１０において、踵を載置させる部分には、踵を包み込むように、おもて面１０を上方に湾曲させて形成される踵収納用凹部１１を備えている。
【００１７】
また本実施形態においては、中敷き用基台１のうら面２０に、中敷き用基台１の剛性を調整するための凸状の剛性調整用凸部２１を備える構成としてある。この剛性調整用凸部２１は、中敷き用基台１において、剛性を補強したい部分に配置するものである。本実施形態においては、細長い棒状の凸状体で剛性調整用凸部２１を形成する構成としてある。
【００１８】
具体的には、図１（ｂ）に示すように、うら面２０の最内側の後方に、踵側から爪先側に向かって、第１の剛性調整用凸部２１ａ、第２の剛性調整用凸部２１ｂ、第３の剛性調整用凸部２１ｃを配置してある。また前記３つの剛性調整用凸部２１よりも中敷き用基台１の短手方向（幅方向）の中央寄りに、前記３つの剛性調整用凸部２１よりも長さが長い第４の剛性調整用凸部２１ｄを配置してある。なお、この第４の剛性調整用凸部２１ｄは、踵から親指のつけ根付近までの長さを備える構成としてある。つまり第４の剛性調整用凸部２１ｄは、足裏のいわゆる内側縦アーチに沿うように設けられている。また前記第４の剛性調整用凸部２１ｄよりも中敷き用基台１の短手方向（幅方向）の中央寄りで、且つ中敷き用基台１の短手方向（幅方向）の略中央位置に、第５の剛性調整用凸部２１ｅを配置してある。また、うら面２０の最外側の後方に、踵側から爪先側に向かって、第６の剛性調整用凸部２１ｆ、第７の剛性調整用凸部２１ｇを配置してある。また前記２つの剛性調整用凸部２１よりも中敷き用基台１の短手方向（幅方向）の中央寄りに、前記２つの剛性調整用凸部２１よりも長さが長い第８の剛性調整用凸部２１ｈを配置してある。なお、この第８の剛性調整用凸部２１ｈは、踵から小指のつけ根付近までの長さを備える構成としてある。つまり第８の剛性調整用凸部２１ｈは、足裏のいわゆる外側縦アーチに沿うように設けられている。
なお本実施形態においては、この剛性調整用凸部２１は、成形金型を用いて、うら面２０と一体成形する構成としてある。
剛性調整用凸部２１の高さは、０．５ｍｍ〜１ｍｍ程度とすることが望ましい。
なお、前記「後方」とは、中敷き用基台１の長手方向において、踵を載置させる側を後方とし、その反対側となる爪先を載置させる側を前方とするものである。
【００１９】
また本実施形態においては、図１〜図３に示すように、中敷き用基台１のうら面２０の後方（踵を載置させる側）に、中敷き用基台１における靴の中底との接触応力を調整するための凸状の接触応力調整用凸部２２を備える構成としてある。この接触応力調整用凸部２２は、中敷き用基台１において、靴の中底との接触応力を調整したい部分に配置するものである。本実施形態においては、いわゆるハート型の形状からなる凸状体で接触応力調整用凸部２２を形成する構成としてある。
具体的には、図１（ｂ）に示すように、第５の剛性調整用凸部２１ｅの後方側に第１の接触応力調整用凸部２２ａを設け、第５の剛性調整用凸部２１ｅの前方側に第２の接触応力調整用凸部２２ｂを設けてあると共に、第１の接触応力調整用凸部２２ａと第２の接触応力調整用凸部２２ｂとを、第５の剛性調整用凸部２１ｅを挟んで対称な向きに配置してある。
なお本実施形態においては、この接触応力調整用凸部２２は、成形金型を用いて、うら面２０と一体成形する構成としてある。
接触応力調整用凸部２２の高さは、０．５ｍｍ〜２ｍｍ程度とすることが望ましい。更に接触応力調整用凸部２２の高さは、剛性調整用凸部２１の高さと同じである構成や、剛性調整用凸部２１の高さよりも高い構成や、剛性調整用凸部２１の高さよりも低い構成の何れの構成を採用してもよい。
しかしながら、好適には、剛性調整用凸部２１の高さと同じか、剛性調整用凸部２１の高さよりも高い構成とすることが望ましい。
【００２０】
また本実施形態においては、図１に示すように、中敷き用基台１において、足の中足骨の中間部（長手方向中間部）から爪先までを載置させる領域を前方領域Ｆとし、足の中足骨の中間部から踵までを載置させる領域を後方領域Ｂとしてある。また前方領域Ｆの硬度を、後方領域Ｂの硬度よりも低く形成してある。つまり、前方領域Ｆを後方領域Ｂの硬度よりも硬度が低い軟質領域Ｎとすると共に、後方領域Ｂを前方領域Ｆの硬度よりも硬度が高い硬質領域Ｋとする構成としてある。加えて、前方領域Ｆ（軟質領域Ｎ）の硬度を、足の中足骨の中間部から爪先までの動きに追従して屈曲可能な硬度に構成してある。
【００２１】
更に本実施形態においては、前記前方領域Ｆ（軟質領域Ｎ）の構成として、中足趾節関節（いわゆるＭＰ関節）よりも後方に位置する領域を第１の前方領域Ｆ１（第１の軟質領域Ｎ１）とすると共に、中足趾節関節よりも前方に位置する領域を第２の前方領域Ｆ２（第２の軟質領域Ｎ２）とし、第１の前方領域Ｆ１（第１の軟質領域Ｎ１）の硬度を第２の前方領域Ｆ２（第２の軟質領域Ｎ２）の硬度よりも高くする構成としてある。
【００２２】
なお本実施形態においては、同じ合成樹脂を用いて前方領域Ｆと後方領域Ｂとを形成すると共に、前方領域Ｆの厚みを後方領域Ｂの厚みよりも薄くすることで、前方領域Ｆと後方領域Ｂとで硬度の違いを設ける構成としてある。更に第２の前方領域Ｆ２（第２の軟質領域Ｎ２）の厚みを第１の前方領域Ｆ１（第１の軟質領域Ｎ１）の厚みよりも薄くすることで、第２の前方領域Ｆ２（第２の軟質領域Ｎ２）と第１の前方領域Ｆ１（第１の軟質領域Ｎ１）とで硬度の違いを設ける構成としてある。
具体的には、前方領域Ｆの厚みは１ｍｍ〜２ｍｍ程度、後方領域Ｂの厚みは２ｍｍ〜２．５ｍｍ程度とすることが望ましい。また第１の前方領域Ｆ１（第１の軟質領域Ｎ１）の厚みは１．５ｍｍ〜２ｍｍ程度、第２の前方領域Ｆ２（第２の軟質領域Ｎ２）の厚みは１．５ｍｍ〜１ｍｍ程度とすることが望ましい。なお、ここで中敷き用基台１の各領域の厚みは、既述した厚みに限定されるものではない。つまり、中敷き用基台１の各領域の厚みは、中敷き用基台１を形成する材質や、中敷き用基台１の使用者や、中敷き用基台１を使用する靴の種類などに合わせて、適宜変更可能である。
但し、中敷き用基台１の各領域の厚みは、中敷き用基台１の硬度が、中敷き用基台１を使用する靴自体の硬度よりも低くなる厚みであることが必要である。なぜなら、中敷き用基台１の硬度が、中敷き用基台１を使用する靴自体の硬度よりも高い場合には、靴の屈曲性が奪われ、靴としての機能が阻害されるからである。加えて、中敷き用基台１の各領域の厚みは、中敷き用基台１を用いて中敷き４を形成した場合において、靴の中敷きとしての使用感を損なわない程度の厚みであることが必要である。
なお、前方領域Ｆと後方領域Ｂとで硬度の違いを設ける構成や、第１の前方領域Ｆ１（第１の軟質領域Ｎ１）と第２の前方領域Ｆ２（第２の軟質領域Ｎ２）とで硬度の違いを設ける構成は、既述した構成に限るものではない。例えば各領域を形成する合成樹脂の種類を変えることで、各領域の硬度に違いを設ける構成としてもよい。
【００２３】
このような構成からなる中敷き用基台１の製造方法を説明する。
まず、中敷き用基台１の外形、厚み、剛性調整用凸部２１、接触調整用凸部２２の形を備える成形金型を準備する。そして成形金型内に、加熱、溶融させた合成樹脂を射出注入し、冷却、固化させる。
以上により、本発明の実施形態に係る中敷き用基台１が製造される。
【００２４】
次に図４を参照して、本実施形態に係る中敷き用基台１を用いて構成される中敷き４とその製造方法を説明する。
なお既述したように、中敷き用基台１は、各領域で厚みが異なるものであるが、図４においては、説明の便宜上、各領域の厚みが実際の厚みと異なるものとして図示するものとする。
【００２５】
本実施形態に係る中敷き４は、中敷き用基台１と、クッション材２と、表皮材３とで形成される。
【００２６】
前記クッション材２は、中敷き４の緩衝層を構成するものである。
本実施形態においては、詳しくは図示していないが、中敷き用基台１と略同一形状のクッション材２を用いる構成としてある。
なおクッション材としては、例えばウレタンやスポンジなど、中敷きのクッション材として通常用いられるものであれば、如何なるものを用いる構成としてもよい。
また、その厚みも中敷き４を用いる靴の用途に合わせて適宜変更可能である。
【００２７】
前記表皮材３は、中敷き４の表面層を形成し、中敷き４において足との接触面を構成するものである。
本実施形態においては、詳しくは図示していないが、中敷き用基台１と略同一形状の表皮材３を用いる構成としてある。
なお表皮材としては、例えばポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリプロピレンなど、中敷きの表皮材として通常用いられるものであれば、如何なるものを用いる構成としてもよい。
また、その厚みも中敷き４を用いる靴の用途に合わせて適宜変更可能である。
【００２８】
次に、このような構成からなる中敷き４の製造方法を説明する。
まず中敷き用基台１を準備する。そして接着剤を介して、中敷き用基台１のおもて面１０にクッション材２を貼りつける。
その後、接着剤を介して、クッション材２のおもて面に更に表皮材３を貼りつける。
以上により、本発明の実施形態に係る中敷き４が製造される。
【００２９】
このような構成からなる中敷き用基台１及び中敷き用基台１を用いてなる中敷き４は、以下の効果を奏する。
【００３０】
中敷き用基台１を、平面視において足裏の形状と略同一な形状をなす合成樹脂製の板材で形成することで、中敷き４を形成した際に、足裏の全面に渡って合成樹脂製の板材を配置することができる。よって簡易な構成でありながら耐摩耗性、骨格保持性、耐久性に優れた中敷き用基台１とすることができる。つまり、強度に優れた中敷き用基台１とすることができる。従って持続的な衝撃吸収能力を発揮でき、これによって足や体の疲労を効果的に軽減させることができる。また中敷き４を形成した際に、鋲などの突起部分の突き上げ感を低減できることに加えて、突起部分に相当する部分が摩耗することを効果的に防止することができる。よって突起部分の突き上げ感や、中敷き４の突起部分に相当する部分の摩耗に伴って足に痛みが生じることを効果的に防止することができる。従って足裏の怪我を効果的に防止できる中敷き用基台１及び中敷き４とすることができる。また、特にスポーツを行う際の競技パフォーマンスを効果的に向上させることができる中敷き用基台１及び中敷き４とすることができる。
【００３１】
また合成樹脂製の板材で中敷き用基台１を形成する構成とすることで、使用者の足の状態に合わせて、中敷き用基台１を部分的に切り取ったり、薄く削ったりと、容易にカスタマイズ可能な中敷き用基台１とすること可能となる。
更に、採用する合成樹脂の種類を変えることで、全体的な強度の調整を容易に行うことが可能な中敷き用基台１及び中敷き４とすることができる。
【００３２】
また足の中足骨の中間部から爪先までを載置させる前方領域Ｆと、足の中足骨の中間部から踵までを載置させる後方領域Ｂとを備え、前方領域Ｆの硬度を、後方領域Ｂの硬度よりも低く形成してあると共に、足の中足骨の中間部から爪先までの動きに追従して屈曲可能な硬度に構成してあることで、足裏のいわゆる３つのアーチ（内側縦アーチ、外側縦アーチ、横アーチ）を支える部分については、硬さを備えることでしっかりと足裏（足骨格）を支えることができる。一方、動きのある足の中足骨の中間部から爪先までを支える部分については、足の動きに追従する屈強性を備えることで、足の動きを制限することのない中敷き用基台１及び中敷き４とすることができる。よって、特にスポーツを行う際の競技パフォーマンスを効果的に向上させることができる中敷き用基台１及び中敷き４とすることができる。
【００３３】
更に前方領域Ｆの構成として、いわゆるＭＰ関節よりも後方に位置する領域を第１の前方領域Ｆ１（第１の軟質領域Ｎ１）とすると共に、いわゆるＭＰ関節よりも前方に位置する領域を第２の前方領域Ｆ２（第２の軟質領域Ｎ２）とし、第１の前方領域Ｆ１の硬度を第２の前方領域Ｆ２の硬度よりも高くする構成とすることで、第２の前方領域Ｆ２を一段と屈曲性を備えた領域とすることができる。よって第２の前方領域Ｆ２（第２の軟質領域Ｎ２）には、足の中で特に活発に動く領域である、拇指球と小指球とを結ぶ線よりも前方の領域を載置させるところ、足の動きに一段と追従可能な中敷き用基台１及び中敷き４とすることができる。従って一段と足裏の怪我を効果的に防止できると共に、特にスポーツを行う際の競技パフォーマンスを一段と効果的に向上させることができる中敷き用基台１及び中敷き４とすることができる。
【００３４】
また中敷き用基台１のうら面２０に、中敷き用基台１の剛性を調整するための凸状の剛性調整用凸部２１を備える構成とすることで、中敷き用基台１の剛性を効果的に調整することができる。
具体的には、第１の剛性調整用凸部２１ａから第８の剛性調整用凸部２１ｈまでの８つの剛性調整用凸部２１を備える構成とすることで、剛性調整用凸部２１を備える部分においては、うら面２０の厚みを部分的に増すことができ、中敷き用基台１の剛性を部分的に補強することができる。
また８つの剛性調整用凸部２１において、長さ（本実施形態においては全長）に変化を持たせることで、剛性を調整できることに加えて、屈曲性を部分的に調整することが可能な中敷き用基台１とすることができる。具体的には、本実施形態においては、第４の剛性調整用凸部２１ｄを、足裏のいわゆる内側縦アーチに沿うように全長を長く設けると共に、第８の剛性調整用凸部２１ｈを、足裏のいわゆる外側縦アーチに沿うように全長を長く設ける構成としてある。一方、うら面２０の最内側や最外側、中敷き用基台１の短手方向（幅方向）の中央位置に配置する第１の剛性調整用凸部２１ａ、第２の剛性調整用凸部２１ｂ、第３の剛性調整用凸部２１ｃ、第５の剛性調整用凸部２１ｅ、第６の剛性調整用凸部２１ｆ、第７の剛性調整用凸部２１ｇについては、全長を短く設ける構成としてある。このような構成とすることで、第４の剛性調整用凸部２１ｄと第８の剛性調整用凸部２１ｈとを配置する部分については、剛性を増すと共に、屈曲性を抑えることが可能となる。一方、第１の剛性調整用凸部２１ａ、第２の剛性調整用凸部２１ｂ、第３の剛性調整用凸部２１ｃ、第５の剛性調整用凸部２１ｅ、第６の剛性調整用凸部２１ｆ、第７の剛性調整用凸部２１ｇを配置する部分については、剛性を増すと共に、屈曲性を許容することが可能となる。
なお、剛性調整用凸部２１の形、数、配置位置は、本実施形態のものに限るものではなく、適宜変更可能である。つまり、剛性調整用凸部２１の形、数、配置位置を適宜変更するだけで、種々のスポーツ競技に合わせて、また使用者の個人差に合わせて、最適な中敷き用基台１及び中敷き４を形成することができる。
【００３５】
また中敷き用基台１のうら面２０の後方（踵を載置させる側）に、中敷き用基台１における靴の中底との接触応力を調整するための凸状の接触応力調整用凸部２２を備える構成とすることで、中敷き用基台１における靴の中底との接触応力を効果的に整えて、調整することができる。よって耐摩耗性、骨格保持性、耐久性に優れた中敷き用基台１及び中敷き４とすることができる。
より具体的には、接触応力調整用凸部２２をハート型の形状とすると共に、第１の接触応力調整用凸部２２ａと第２の接触応力調整用凸部２２ｂとを、第５の剛性調整用凸部２１ｅを挟んで対称な向きに配置する構成することで、歩行時や走行時に地面と最初に接触することになる踵側に負荷される圧力を効果的に分散可能な中敷き用基台１及び中敷き４とすることができる。よって足や体の疲労を一段と効果的に軽減させることができると共に、スポーツを行う際の競技パフォーマンスを一段と効果的に向上させることができる。
更に接触応力調整用凸部２２の構成として、剛性調整用凸部２１の高さよりも高い構成とすれば、靴裏が踵から地面に着地した場合に、中敷き用基台１においては、まず最初に接触応力調整用凸部２２を地面に着地させることができる。よって、中敷き用基台１における靴の中底との接触応力を一段と効果的に整えて、調整することができる。
加えて、接触応力調整用凸部２２の高さを適宜調整することで、中敷き用基台１における踵部分のたわみ量を効果的に調整することができる。具体的には、接触応力調整用凸部２２の高さを高くした場合においては、接触応力調整用凸部２２の部分が周囲よりも凸となる割合が大きくなることで、中敷き用基台１における踵部分のたわみ量を多くすることができる。一方、接触応力調整用凸部２２の高さを低くした場合においては、接触応力調整用凸部２２部分が周囲よりも凸となる割合が小さくなることで、踵部分のたわみ量を少なくすることができる。従って、接触応力調整用凸部２２を、中敷き用基台１における踵部分のたわみ量調節部としても利用することができる。よって使用者や中敷き用基台１を使用する靴の用途に合わせて、たわみ量を容易に調整可能な中敷き用基台１とすることができる。
【００３６】
中敷き４を、中敷き用基台１と、中敷き用基台１に積層されるクッション材２と、クッション材２に積層される表皮材３とで構成することで、簡易な構成でありながら強度に優れた中敷き４とすることができる。従って持続的な衝撃吸収能力を発揮でき、これによって足や体の疲労を効果的に軽減させることができる。また鋲などの突起部分の突き上げ感を低減させることができることに加えて、突起部分に相当する部分が摩耗することを効果的に防止することができる。よって突起部分の突き上げ感や、中敷き４の突起部分に相当する部分の摩耗に伴って足に痛みが生じることを効果的に防止することができる。従って足裏の怪我を効果的に防止できる中敷き４とすることができる。また特にスポーツを行う際の競技パフォーマンスを効果的に向上させることができる中敷き４とすることができる。
【００３７】
また踵収納用凹部１１を備える構成とすることで、中敷き４に足裏を載置させた状態において、足の踵を包み込むことができ、足のバランスを容易に整えることが可能な中敷き４とすることができる。
【００３８】
また内側反りあがり部Ｉを備える構成とすることで、土踏まずの形状に沿った中敷き４とすることができ、足の形にフィットし、靴の中に隙間が生じ難い中敷き４とすることができる。よって足への負担を効果的に軽減することができる中敷き４とすることができる。
また中敷き用基台１の短手（幅）方向において、内側反りあがり部Ｉと対向する位置に、外側反りあがり部Ｏを備えると共に、内側反りあがり部Ｉの高さを、外側反りあがり部Ｏの高さよりも高くする構成とすることで、中敷き４に足裏を載置させた状態において、足の土踏まず周辺部分を下から持ち上げることが可能となる。よって足骨格をバランス良く支持することが可能であると共に、一段と足の形にフィットして靴の中に隙間が生じ難い中敷き４とすることができる。
【００３９】
なお、剛性調整用凸部２１と接触応力調整用凸部２２の形、大きさ、配置位置は、既述した本実施形態のものに限るものではなく、使用する靴の用途、使用者の足の形、性別、年齢などに合わせて適宜変更可能である。
【００４０】
また中敷き用基台１と中敷き４の製造方法も既述した本実施形態のものに限るものではなく、適宜変更可能である。
【００４１】
また中敷き４の構成も既述した本実施形態のものに限るものではなく、適宜変更可能である。例えば中敷き用基台１とクッション材２との間で、足の親指のつけ根相当部分と足の小指のつけ根相当部分の中間位置に、凸状の薄型パーツを配置する構成とすることができる。このような構成とすることで、足の骨格を好ましい位置に配置させることが可能な中敷きとすることができる。
【産業上の利用可能性】
【００４２】
本発明によれば、靴の中敷きの分野で有益な効果を奏することができることから、靴の中敷きの分野における産業上の利用性が高い。
【符号の説明】
【００４３】
１            中敷き用基台
２            クッション材
３            表皮材
４            中敷き
１０          おもて面
１１          踵収納用凹部
２０          うら面
２１          剛性調整用凸部
２１ａ        第１の剛性調整用凸部
２１ｂ        第２の剛性調整用凸部
２１ｃ        第３の剛性調整用凸部
２１ｄ        第４の剛性調整用凸部
２１ｅ        第５の剛性調整用凸部
２１ｆ        第６の剛性調整用凸部
２１ｇ        第７の剛性調整用凸部
２１ｈ        第８の剛性調整用凸部
２２          接触応力調整用凸部
２２ａ        第１の接触応力調整用凸部
２２ｂ        第２の接触応力調整用凸部
Ｂ            後方領域
Ｆ            前方領域
Ｆ１          第１の前方領域
Ｆ２          第２の前方領域
Ｉ            内側反りあがり部
Ｋ            硬質領域
Ｎ            軟質領域
Ｎ１          第１の軟質領域
Ｎ２          第２の軟質領域
Ｏ            外側反りあがり部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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