(57)【要約】【課題】電流効率、発光寿命に優れる有機エレクトロルミネッセンス素子を塗布法により作製することができる化合物とその製造方法、および３、５、９−置換型カルバゾールの合成に有用な中間体を提供する。【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物。2019123677.tif 000057【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される、化合物。
【化１】
2019123677.tif 000052
（上記一般式（１）中、Ｅ及びＲ１は、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、フッ素原子、シアノ基、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、
Ｅ及びＲ１のうち少なくとも一つは、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、
Ｇは、水素原子、重水素原子、フッ素原子、シアノ基、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、
Ｒ２は、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、
Ａ１〜Ａ４は、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、
Ａ１、Ａ２のいずれか１つ、および／または、Ａ３、Ａ４のいずれか１つが置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、
Ｌは、単結合、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、
ｎは、０または１の整数であり、
ｎが０のとき、Ｅは水素原子または重水素原子である。）
【請求項２】
Ｅが水素原子または重水素原子であり、
Ｒ１が置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基である、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
Ｇが置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基である、請求項１または２に記載の化合物。
【請求項４】
Ａ１、Ａ２のいずれか１つが置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、且つ、Ａ３、Ａ４のいずれか１つが置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項５】
前記一般式（１）において、Ｌが、単結合である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項６】
前記一般式（１）において、Ｌが、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の化合物。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか１項に記載の化合物を含む、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料。
【請求項８】
請求項１乃至６のいずれか１項に記載の化合物と、溶媒とを含む、有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物。
【請求項９】
一対の電極と、
前記一対の電極間に配置される１層以上の有機層と、を備え、
前記有機層のうち少なくとも１層は、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の化合物を含む、有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項１０】
前記化合物を含む有機層は、発光材料をさらに含む、請求項９に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項１１】
前記化合物を含む有機層は、塗布法により形成される、請求項９または１０に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項１２】
請求項１乃至６のいずれか１項に記載の化合物の製造方法であって、
下記一般式（２）で表される化合物と、下記一般式（３）で表される化合物とを反応させることを含む、化合物の製造方法。
【化２】
2019123677.tif 000053
（上記一般式（２）中、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、ハロゲン原子である。）
【化３】
2019123677.tif 000054
（上記一般式（３）中、Ｘ３が、ハロゲン原子である。）
【請求項１３】
下記一般式（２）で表される化合物は、下記一般式（２−１）または（２−２）で表される化合物である、請求項１２に記載の化合物の製造方法。
【化４】
2019123677.tif 000055
【請求項１４】
下記一般式（２）で表される、化合物。
【化５】
2019123677.tif 000056
（上記一般式（２）中、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、ハロゲン原子である。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、化合物、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料、有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物、有機エレクトロルミネッセンス素子、及び化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、自発光型の発光素子である有機エレクトロルミネッセンス素子（Ｏｒｇａｎｉｃ  ＥｌｅｃｔｒｏＬｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ  Ｄｅｖｉｃｅ）を用いた表示装置および照明機器の開発が活発に行われている。有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機電界発光素子または有機ＥＬ素子という場合がある）は、発光材料を含む有機層を有している。有機ＥＬ素子の有機層内では、電子と正孔とが再結合することにより発光材料が励起され、発光材料が基底状態に戻る際に発光が生じる。
【０００３】
このような有機ＥＬ素子では、電流効率、発光寿命等の素子特性を向上させる目的で、有機層を構成するための各種材料が開発されている。例えば、特許文献１〜３には、ビカルバゾール化合物（Ｂｉｃａｒｂａｚｏｌｅ）を用いた有機エレクトロルミネッセンス素子が開示されている。
【０００４】
また、有機ＥＬ素子の製造においては、有機ＥＬ素子を構成する有機膜を、蒸着法等の乾式成膜法により成膜するのが一般的である。一方、蒸着法等の乾式成膜法による成膜は、時間とコストがかかることから、このような乾式成膜法に替えて、時間とコストを抑制できる溶液塗布法（以下、塗布法という場合がある）等の湿式成膜法を用いることが検討されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−１３５４９８号
【特許文献２】特開２０１６−１１１３４６号
【特許文献３】米国公開公報第２０１７／００９２８７３号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、溶液塗布法等の湿式成膜法により有機ＥＬ素子の成膜を行う場合、蒸着で用いられる有機ＥＬ材料が塗布溶媒に対して溶解し難い場合が多く、また、溶解に問題が無かったとしても湿式法で作製された薄膜では蒸着法で作製された薄膜に比べて有機分子の凝集が起こり易い。複数の有機分子が凝集することで分子軌道が単分子状態よりも拡大されるなどして、単分子状態の時とは異なるＨＯＭＯ、ＬＵＭＯ、Ｓ１、Ｔ１等のエネルギー準位を形成する可能性がある。そしてそれらはキャリアのトラップや発光励起子の失活などの悪影響をもたらす可能性が高い。そのため、塗布法により形成された有機ＥＬ素子では、十分な電流効率、発光寿命が得られていない。
【０００７】
本発明の目的は、電流効率、発光寿命に優れる有機エレクトロルミネッセンス素子を塗布法により作製することができる化合物とその製造方法、および３、５、９−置換型カルバゾールの合成に有用な中間体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明の一態様は、下記一般式（１）で表される化合物を提供する。
【０００９】
【化１】
2019123677.tif 000002
（上記一般式（１）中、Ｅ及びＲ１は、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、フッ素原子、シアノ基、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、
Ｅ及びＲ１のうち少なくとも一つは、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、
Ｇは、水素原子、重水素原子、フッ素原子、シアノ基、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、
Ｒ２は、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、
Ａ１〜Ａ４は、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、
Ａ１、Ａ２のいずれか１つ、および／または、Ａ３、Ａ４のいずれか１つが置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、
Ｌは、単結合、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、
ｎは、０または１の整数であり、
ｎが０のとき、Ｅは水素原子または重水素原子である。）
【発明の効果】
【００１０】
本発明の一態様によれば、電流効率、発光寿命に優れる有機エレクトロルミネッセンス素子を塗布法により作製することができる化合物とその製造方法、および３、５、９−置換型カルバゾールの合成に有用な中間体を提供する。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態について、詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態のみには限定されない。
【００１３】
＜化合物＞
本実施形態に係る化合物は、下記一般式（１）で表される化合物である。
【００１４】
【化２】
2019123677.tif 000003
（上記一般式（１）中、Ｅ及びＲ１は、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、フッ素原子、シアノ基、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、
Ｅ及びＲ１のうち少なくとも一つは、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、
Ｇは、水素原子、重水素原子、フッ素原子、シアノ基、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、
Ｒ２は、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、
Ａ１〜Ａ４は、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、
Ａ１、Ａ２のいずれか１つ、および／または、Ａ３、Ａ４のいずれか１つが置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、
Ｌは、単結合、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、
ｎは、０または１の整数であり、
ｎが０のとき、Ｅは水素原子または重水素原子である。）
本実施形態に係る化合物は、上記一般式（１）で表されるように、二つのカルバゾール環（カルバゾール骨格ともという）がｎ個のＬを介して結合されて構成されている。
【００１５】
上記一般式（１）において、Ｅ及びＲ１は、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、フッ素原子、シアノ基、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、好ましくは置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、より好ましくは置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基である。
【００１６】
本明細書及び特許請求の範囲において、「Ｘ及びＹは、それぞれ独立して」とは、Ｘ及びＹが同一であってもよいし、異なっていてもよいことを意味する。
【００１７】
本明細書及び特許請求の範囲において、「置換されたもしくは無置換の」とは、水素原子および重水素原子を除き、他の置換基を有してもよいことを意味する。また、これらの置換基は互いに結合して環を形成してもよい。
【００１８】
また、本明細書及び特許請求の範囲において、「水素原子」は、「重水素原子」についての特段の併記がない場合であっても、「重水素原子」を含む概念である。なお、各基に存在する水素原子は、任意に重水素原子で置換されていてもよい。
【００１９】
また、本明細書及び特許請求の範囲において、「Ａ〜Ｂ」というときは、ＡとＢを含むＡからＢまでの範囲を意味する。
【００２０】
Ｅは、一般式（１）中の二つのカルバゾール環のうち一方のカルバゾール環に結合している。
【００２１】
Ｅを構成し得る炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基は、炭素数６〜３０の一つ以上の芳香族環を含む炭素環を有する炭化水素環（芳香族炭化水素環）由来の基である。また、芳香族炭化水素環基が２以上の環を含む場合、２以上の環は互いに縮合していてもよい。また、これら芳香族炭化水素環基に存在する１以上の水素原子が置換基で置換されていてもよい。
【００２２】
芳香族炭化水素環基を構成する芳香族炭化水素環としては、特に限定されないが、具体的には、ベンゼン、ペンタレン、インデン、ナフタレン、アントラセン、アズレン、ヘプタレン、アセナフタレン、フェナレン、フルオレン、フェナントレン、ビフェニル、トリフェニレン、ピレン、クリセン、ピセン、ペリレン、ペンタフェン、ペンタセン、テトラフェン、ヘキサフェン、ヘキサセン、ルビセン、トリナフチレン、ヘプタフェン、ピラントレン等が挙げられる。
【００２３】
Ｅを構成し得る環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基は、１個以上のヘテロ原子（例えば、窒素原子（Ｎ）、酸素原子（Ｏ）、リン原子（Ｐ）、硫黄原子（Ｓ））を有し、残りの環原子が炭素原子（Ｃ）である１以上の芳香族環を含む環形成原子数３〜３０の環（芳香族複素環）由来の基である。また、芳香族複素環基が２以上の環を含む場合、２以上の環は互いに縮合していてもよい。また、これら芳香族複素環基に存在する１以上の水素原子が置換基で置換されていてもよい。
【００２４】
ここで、環形成原子数とは、原子が環状に結合した構造（例えば単環、縮合環、環集合）を有する化合物において、環自体を構成する原子の数を表す。環を構成しない原子（例えば環を構成する原子の結合手を終端する水素原子）や、環が置換基によって置換される場合、該置換基に含まれる原子は環形成原子数には含まない。例えば、カルバゾリル基は、環形成原子数が１３である。
【００２５】
芳香族複素環基を構成する芳香族複素環としては、特に限定されないが、具体的には、
ピリジン、ピラジン、ピリダジン、ピリミジン、トリアジン、キノリン、イソキノリン、
キノキサリン、キナゾリン、ナフチリジン、アクリジン、フェナジン、ベンゾキノリン、ベンゾイソキノリン、フェナンスリジン、フェナントロリン、ベンゾキノン、クマリン、アントラキノン、フルオレノン、フラン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、ピロール、インドール、カルバゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、ピラゾール、インダゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾイソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾイソチアゾール、イミダゾリノン、ベンズイミダゾリノン、イミダゾピリジン、イミダゾピリミジン、イミダゾフェナンスリジン、ベンズイミダゾフェナンスリジン、アザジベンゾフラン、アザカルバゾール、アザジベンゾチオフェン、ジアザジベンゾフラン、ジアザカルバゾール、ジアザジベンゾチオフェン
キサントン、チオキサントン等が挙げられる。
【００２６】
また、Ｅにおける他の置換基としては、特に限定されないが、例えば、重水素原子、置換されたもしくは無置換の炭素数１〜３０のアルキル基、置換されたもしくは無置換の炭素数１〜３０のアルコキシ基、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０のアリールオキシ基、置換されたもしくは無置換の炭素数１〜３０のアミノ基、シアノ基、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基が挙げられる。
【００２７】
Ｅにおいて、他の置換基を構成し得る炭素数１〜３０のアルキル基としては、特に限定されないが、例えば、炭素数１〜３０の直鎖又は分岐状のアルキル基である。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ネオペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、１，３−ジメチルブチル基、１−イソプロピルプロピル基、１，２−ジメチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、１，４−ジメチルペンチル基、３−エチルペンチル基、２−メチル−１−イソプロピルプロピル基、１−エチル−３−メチルブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、３−メチル−１−イソプロピルブチル基、２−メチル−１−イソプロピル基、１−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルプロピル基、ｎ−ノニル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、ｎ−デシル基、イソデシル基、ｎ−ウンデシル基、１−メチルデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−エイコシル基、ｎ−ヘンエイコシル基、ｎ−ドコシル基、ｎ−トリコシル基、ｎ−テトラコシル基などが挙げられる。これらのうち、炭素数１〜８の直鎖若しくは分岐状のアルキル基が好ましい。
【００２８】
Ｅにおいて、他の置換基を構成し得る炭素数１〜３０のアルコキシ基としては、特に限定されないが、例えば炭素数１〜３０の直鎖または分岐状のアルコキシ基である。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、３−エチルペンチルオキシ基などが挙げられる。これらのうち、炭素数１〜８の直鎖もしくは分岐状のアルコキシ基が好ましい。
【００２９】
Ｅにおいて、他の置換基を構成し得る炭素数６〜３０のアリールオキシ基としては、特に限定されないが、例えば、ヘテロ原子を含んでよい炭素数６〜３０の単環または縮合多環アリールオキシ基である。具体的には、フェノキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基、２−アズレニルオキシ基、２−フラニルオキシ基、２−チエニルオキシ基、２−インドリルオキシ基、３−インドリルオキシ基、２−ベンゾフリルオキシ基、２−ベンゾチエニルオキシ基等が挙げられる。
【００３０】
Ｅにおいて、他の置換基を構成し得る炭素数１〜３０のアミノ基としては、特に限定されないが、例えば炭素数１〜３０の直鎖または分岐状のアルキルアミノ基である。具体的には、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ−イソブチルアミノ基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、Ｎ−ペンチルアミノ基、Ｎ−ヘキシルアミノ基等のＮ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノ基等のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基が挙げられる。
【００３１】
Ｅにおいて、他の置換基を構成し得る炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基および環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基は、Ｅを構成し得る芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基と同様の定義であるため、説明を省略する。
【００３２】
また、Ｒ１は、一方のカルバゾール環（上記一般式（１）の左側に位置するカルバゾール環）の窒素原子に結合するフェニル基において、一方のカルバゾール環に対してオルト位に結合している。なお、Ｒ１を構成し得る芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基は、上述のＥを構成し得る芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基と同様の定義であるため、説明を省略する。
【００３３】
Ｇは、水素原子、重水素原子、フッ素原子、シアノ基、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、好ましくは置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であり、より好ましくは置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基である。
【００３４】
Ｇは、一般式（１）中の二つのカルバゾール環のうち一方のカルバゾール環に、Ｅに対してオルト位に結合している。なお、Ｇを構成し得る置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基は、上述のＥを構成し得る芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基と同様の定義であるため、説明を省略する。
【００３５】
また、上記一般式（１）において、Ｒ２は、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基である。Ｒ２は、他方のカルバゾール環（上記一般式（１）の右側に位置するカルバゾール環）に結合している。なお、Ｒ２を構成し得る芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基は、上述のＥを構成し得る芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基と同様の定義であるため、説明を省略する。
【００３６】
また、上記一般式（１）において、Ａ１〜Ａ４は、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基である。
【００３７】
Ａ１〜Ａ４のうち、Ａ１、Ａ２は、一方のカルバゾール環の窒素原子に結合するフェニル基に結合し、Ａ３、Ａ４は、他方のカルバゾール環の窒素原子に結合するフェニル基に結合している。なお、Ａ１〜Ａ４を構成し得る水素原子、重水素原子、芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基は、上述のＥを構成し得る水素原子、重水素原子、芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基と同様の定義であるため、説明を省略する。
【００３８】
また、上記一般式（１）において、Ｌは、単結合、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基である。なお、Ｌを構成し得る芳香族炭化水素環基および芳香族複素環基は、上述のＥを構成し得る芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基と同様の定義であるため、説明を省略する。
【００３９】
ここで、Ｌが単結合である場合は、一般式（１）中の二つのカルバゾール骨格が直接結合することを示す。また、Ｌが上述の芳香族炭化水素環基または芳香族複素環基の場合は、一般式（１）中の二つのカルバゾール骨格が、上述の芳香族炭化水素環基または芳香族複素環基を介して結合することを示す。
【００４０】
上記一般式（１）において、ｎは、０または１の整数である。なお、ｎが０の場合は、Ｌが単結合である（一般式（１）中の二つのカルバゾール骨格が直接結合する）ことを示す。ｎが１の場合は、Ｌが上述の芳香族炭化水素環基または芳香族複素環基であることを示す。
【００４１】
また、ｎが０のとき、上述のＥは水素原子または重水素原子である。すなわち、ｎが０の場合、Ｅは置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基ではない。
【００４２】
上記一般式（１）で示される化合物では、二つのカルバゾール骨格の下記一般式（１）の点線で示す部分（以下ビカルバゾール平面という）にＨＯＭＯ（Ｈｉｇｈｅｓｔ  Ｏｃｃｕｐｉｅｄ  Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｏｒｂｉｔａｌ、最高被占軌道）の大部分が分布する。その上で、上記一般式（１）で示される化合物では、ビカルバゾール平面の周囲に、Ｅ、Ｒ１、Ｒ２が配置されている。これにより、上記一般式（１）で示される化合物では、ＨＯＭＯが分布するビカルバゾール平面に対して、周囲に存在する同種分子または異種分子との相互作用を抑制することができる。
【００４３】
【化３】
2019123677.tif 000004
【００４４】
そのため、本実施形態に係る化合物は、溶媒に対して溶解性（溶解度）が高い。また、本実施形態に係る化合物は、湿式成膜法により有機ＥＬ素子の成膜を行う場合に、有機分子の凝集による膜質の低下を抑制することができる。具体的には、複数の有機分子が凝集することで分子軌道が単分子状態よりも拡大されるなどして、単分子状態の時とは異なるＨＯＭＯ、ＬＵＭＯ、Ｓ１、Ｔ１等のエネルギー準位を形成する可能性がある。そして、それらのエネルギー準位は、キャリアのトラップや励起子の失活などの悪影響をもたらす可能性が高い。したがって、本実施形態に係る化合物は、溶液塗布法（以下、塗布法という）により有機エレクトロルミネッセンス素子を作製した場合でも、凝集を抑制し、有機エレクトロルミネッセンス素子の性能（例えば、正孔輸送性）を維持することができる。
【００４５】
また、本実施形態に係る化合物は、上記一般式（１）において、Ａ１、Ａ２のいずれか１つ、および／または、Ａ３、Ａ４のいずれか１つが置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基である。すなわち、Ａ１、Ａ２のいずれか、または、Ａ３、Ａ４のいずれかから選択される一つ以上の置換基が、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基である。
【００４６】
このように、Ａ１、Ａ２のいずれか１つ、および／または、Ａ３、Ａ４のいずれか１つが、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であると、化合物の励起子安定性（光化学的安定性）を高めることができ、発光寿命に優れる有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することができる。
【００４７】
さらに、Ａ１、Ａ２のいずれか１つが、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基であり、なおかつ、Ａ３、Ａ４のいずれか１つが、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基であることが化合物の励起子安定性（光化学的安定性）をより高めることができる点で、好ましい。
【００４８】
また、本実施形態に係る化合物は、上記一般式（１）において、ｎ＝０の場合には、Ｅは置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基ではない。このような態様となることで高い溶解度を維持することができる。
【００４９】
なお、ｎ＝０の場合にＥが置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基であると、溶解度が低下する理由は、分子内でＧとＲ２が相互作用しているためであると考えられる。一方、ｎ＝１の場合には、溶解度の低下がみられないことから、ｎ＝０の場合に限り、溶解度の観点から、Ｅの選択を制限する必要があると考えられる。
【００５０】
このようにＲ１、Ｒ２が、上述の芳香族炭化水素環基または芳香族複素環基であれば、ＨＯＭＯが分布するビカルバゾール平面に対する同種分子または異種分子の相互作用をさらに抑制することができる。これにより、塗布法により作製した有機エレクトロルミネッセンス素子の性能（例えば、正孔輸送性）を向上させることができる。その結果、電流効率、発光寿命により優れる有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することができる。
【００５１】
また、このようにＧが上述の芳香族炭化水素環基または芳香族複素環基であれば、最低励起三重項エネルギー（Ｔ１エネルギーともいう）の低下を抑制しつつ、π共役効果によりＨＯＭＯが拡張される。そのため、上記一般式（１）で表される化合物の正孔に対する安定性を高めることができ、あるいは、光化学的安定性を高めることができ、その結果、発光効率と発光寿命により優れる有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することができる。
【００５２】
また、本実施形態に係る化合物は、上記一般式（１）において、Ｌが、単結合であることが好ましい。すなわち、一般式（１）中の二つのカルバゾール環が直接結合する（上記一般式（１）においてｎが０である）のが好ましい。この場合、本実施形態に係る化合物では、一般式（１）中の二つのカルバゾール環が３，３'−ビカルバゾール（３，３'−Ｂｉｃａｒｂａｚｏｌｅ）骨格を構成することができる。
【００５３】
ビカルバゾール平面をこのような３，３'−ビカルバゾール（３，３'−Ｂｉｃａｒｂａｚｏｌｅ）骨格で構成することにより、上記一般式（１）の化合物中に安定なＨＯＭＯを構成することができる。そのため、塗布法により作製した有機エレクトロルミネッセンス素子の性能（例えば、正孔輸送性）をさらに向上させることができる。その結果、電流効率、発光寿命に優れる有機エレクトロルミネッセンス素子を確実に提供することができる。
【００５４】
また、本実施形態に係る化合物は、上記一般式（１）において、Ｌが、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基であることが好ましい。この場合、本実施形態に係る化合物では、一般式（１）中の二つのカルバゾール環が、上記芳香族炭化水素環基を介してパラ位に結合している。
【００５５】
本実施形態に係る化合物では、このような二つのカルバゾール環が上記芳香族炭化水素環基を介してパラ位に結合する構造にすることで、π共役長が伸び、ＨＯＭＯが分布するビカルバゾール平面を広くすることができる。これにより、上記一般式（１）の化合物中のＨＯＭＯ領域が広くなる。そのため、塗布法により作製した有機エレクトロルミネッセンス素子の性能（例えば、正孔輸送性）をさらに向上させることができる。その結果、電流効率、発光寿命に優れる有機エレクトロルミネッセンス素子を確実に提供することができる。
【００５６】
本実施形態に係る化合物としては、具体的に、以下の化合物１〜１５４が挙げられる。
【００５７】
【化４】
2019123677.tif 000005
【００５８】
【化５】
2019123677.tif 000006
【００５９】
【化６】
2019123677.tif 000007
【００６０】
【化７】
2019123677.tif 000008
【００６１】
【化８】
2019123677.tif 000009
【００６２】
【化９】
2019123677.tif 000010
【００６３】
【化１０】
2019123677.tif 000011
【００６４】
【化１１】
2019123677.tif 000012
【００６５】
【化１２】
2019123677.tif 000013
【００６６】
【化１３】
2019123677.tif 000014
【００６７】
【化１４】
2019123677.tif 000015
【００６８】
【化１５】
2019123677.tif 000016
【００６９】
【化１６】
2019123677.tif 000017
【００７０】
【化１７】
2019123677.tif 000018
【００７１】
【化１８】
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【００７２】
【化１９】
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【００７３】
【化２０】
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【００７４】
【化２１】
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【００７５】
【化２２】
2019123677.tif 000023
【００７６】
上記一般式（１−１）〜（１−１３６）に例示される本実施形態の化合物によれば、有機エレクトロルミネッセンス素子を塗布法により作製した場合でも、正孔輸送性を高めて、電流効率および発光寿命を向上させることができる。
【００７７】
＜化合物の製造方法＞
上記一般式（１）で表される化合物の製造方法は、特に限定されず、公知の合成方法を含む種々の製造方法を用いることができる。ただし、一般式（１）の化合物を確実に得る観点から、本実施形態に係る化合物の製造方法は、下記一般式（２）で表される化合物と、下記一般式（３）で表される化合物とを反応させることを含む。
【００７８】
【化２３】
2019123677.tif 000024
（上記一般式（２）中、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、ハロゲン原子である。）
【００７９】
【化２４】
2019123677.tif 000025
（上記一般式（３）中、Ｘ３が、ハロゲン原子である。）
【００８０】
上記一般式（２）において、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、ハロゲン原子を示すが、互いに異なるハロゲン原子であることが好ましい。Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立して、好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子から選ばれ、より好ましくは塩素原子、臭素原子から選ばれる。
【００８１】
また、上記一般式（３）において、Ｘ３は、ハロゲン原子である。ここで、ハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子またはアスタチン原子を示す。
【００８２】
上記一般式（２）で表される化合物を中間体として用いる好ましい反応形態としては、例えば、フッ素化ビフェニルを用いた芳香族求核置換反応（ＳＮＡｒ反応やイプソ攻撃反応（ｉｐｓｏ  ａｔｔａｃｋ  ｒｅａｃｔｉｏｎ）ともいう）や、ヨウ化ビフェニルを用いたウルマン反応等を利用して、一般式（２）のカルバゾールの窒素が有する水素原子を芳香族環または芳香族複素環に置換する反応を挙げることができる。
【００８３】
従来、カルバゾールの３位、５位、９位にそれぞれ異なる置換基を導入する場合には、カルバゾール環部分の構築を伴う必要があり、合成段階が４段階以上と長かった。したがって、カルバゾールの３位、５位、９位にそれぞれ異なる置換基を有する化合物を合成しようとする場合に、１番目の置換基を導入してから３番目の置換基が導入されるまでの段階数が４段階以上と長かった。これは、例えば、研究等の目的で３つの置換基をそれぞれ変化させた化合物を多種類合成しようとする場合に合成の労力の面で不利である。
【００８４】
上記一般式（２）において、Ｘ１＝Ｂｒ、Ｘ２＝Ｃｌである中間体を用いれば、カルバゾールの３位、５位、９位にそれぞれ異なる置換基を段階的に位置選択的に導入する場合に、副反応を抑制して高純度または高収率で合成することが可能であり、また、合成段階を短縮することができる。これにより３位、５位、９位にそれぞれ異なる置換基を有するカルバゾール化合物の合成容易性、高収率化、高純度化、低コスト化が可能となる。
【００８５】
一般式（２）で表される化合物は、一つのカルバゾール環を有し、該カルバゾール環の３位の炭素原子にＸ１が結合し、同５位の炭素原子にＸ２が結合している。なお、上記一般式（２）において、Ｘ１及びＸ２が結合していないカルバゾール環の炭素原子に結合する水素原子は、他の置換基で置換されていてもよい。
【００８６】
上記一般式（２）で表される化合物における他の置換基としては、特に限定されないが、例えば、重水素原子、置換されたもしくは無置換の炭素数１〜３０のアルキル基、置換されたもしくは無置換の炭素数１〜３０のアルコキシ基、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０のアリールオキシ基、置換されたもしくは無置換の炭素数１〜３０のアミノ基、シアノ基、置換されたもしくは無置換の炭素数６〜３０の芳香族炭化水素環基、または置換されたもしくは無置換の環形成原子数３〜３０の芳香族複素環基が挙げられる。なお、上記一般式（２）の化合物において他の置換基を構成し得る重水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、シアノ基、芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基は、Ｒ１を構成し得る重水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、シアノ基、芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基と同様の定義であるため、ここでは説明を省略する。
【００８７】
また、上記一般式（３）で表される化合物は、ハロゲン化ビフェニルである。一般式（３）で表される化合物のＸ３が結合するベンゼン環において、Ｘ３の結合位置は、特に限定されない。ただし、上記一般式（１）で表される化合物を確実に得る観点から、Ｘ３の結合位置は、Ｘ３が結合していないフェニル基に対して、メタ位またはパラ位であることが好ましい。
【００８８】
なお、上記一般式（３）において、Ｘ３が結合していないハロゲン化ビフェニルの炭素原子に結合する水素原子は、他の置換基で置換されていてもよい。ここで、上記一般式（３）で表される化合物における他の置換基は、上記一般式（２）で表される化合物における他の置換基と同様の定義であるため、説明を省略する。
【００８９】
本実施形態に係る化合物の製造方法は、上記一般式（２）で表される化合物と上記一般式（３）で表される化合物とを反応させることを含むことで、上記一般式（１）で表される化合物を確実に得ることができる。そのため、本実施形態に係る化合物の製造方法によれば、有機エレクトロルミネッセンス素子を湿式塗布法により作製した場合でも、電流効率および発光寿命を維持または向上させることができる化合物を得ることができる。
【００９０】
また、本実施形態に係る化合物の製造方法では、一般式（１）で表される化合物をより確実に得る観点から、下記一般式（２）で表される化合物は、下記一般式（２−１）または（２−２）で表される化合物であることが好ましい。
【００９１】
【化２５】
2019123677.tif 000026
【００９２】
上記一般式（２−１）または（２−２）で表される化合物では、Ｘ１及びＸ２を構成するハロゲン原子が、それぞれ独立に、塩素原子または臭素原子である。具体的には、一般式（２−１）で表される化合物は、カルバゾール環の３位の炭素原子に結合するＸ１が臭素原子で構成され、同５位の炭素原子に結合するＸ２が塩素原子で構成されている。また、一般式（２−２）で表される化合物は、カルバゾール環の３位の炭素原子に結合するＸ１が塩素原子で構成され、同５位の炭素原子に結合するＸ２が臭素原子で構成されている。
【００９３】
また、見方を変えると、上記一般式（２）で表される化合物は、上記一般式（１）で表される化合物を得るための中間体（または前駆体）となり得る。したがって、上記一般式（２）で表される化合物は、有機エレクトロルミネッセンス素子を湿式塗布法により作製した場合でも、電流効率および発光寿命を維持または向上させることができる化合物を確実に得ることができる観点からも、有用である。
【００９４】
＜有機エレクトロルミネッセンス素子用材料＞
本実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子用材料（以下、有機ＥＬ素子用材料という）は、上記一般式（１）で表される化合物を含んでいる。上記一般式（１）で表される化合物は、上述のように溶媒への高い溶解性（溶解度）を示すとともに、分子の凝集が抑制されることで、湿式塗布法においても良質の薄膜を作製することができる。また、上記一般式（１）で表される化合物は、高い正孔輸送性を有している。したがって、上記一般式（１）で表される化合物を含む有機ＥＬ素子用材料は、例えば、正孔注入層、正孔輸送層および発光層の材料として使用可能である。
【００９５】
これにより、上記一般式（１）で表される化合物を用いた有機エレクトロルミネッセンス素子は、湿式塗布法により作製した場合でも、電流効率および発光寿命を向上させることができる。そのため、上記一般式（１）で表される化合物は、有機ＥＬ素子用材料として使用することができる。
【００９６】
すなわち、本実施形態は、上記一般式（１）で表される化合物を含む有機ＥＬ素子用材料を提供することができる。したがって、上記一般式（１）で表される化合物を含む有機ＥＬ素子用材料によっても、電流効率、発光寿命に優れる有機エレクトロルミネッセンス素子を塗布法により作製することができる。
【００９７】
＜有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物＞
本実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物（以下、有機ＥＬ素子用組成物という）は、例えば、有機ＥＬ素子の各層を溶液塗布法により形成するために用いられる。
【００９８】
本実施形態に係る有機ＥＬ素子用組成物は、上記一般式（１）で表される化合物と、溶媒とを含む。このような有機ＥＬ素子用組成物は、本実施形態に係る有機ＥＬ素子用材料と溶媒とを含んで構成することができる。
【００９９】
溶媒としては、特に限定されないが、上述した有機ＥＬ素子用材料を溶解可能であることが好ましい。すなわち、有機ＥＬ素子用組成物は、溶液組成物であることが好ましい。なお、本実施形態の有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物は、本発明に係るエレクトロルミネッセンス素子用組成物の一例である。
【０１００】
有機ＥＬ素子用組成物に含まれる溶媒は、特に限定されないが、例えば、トルエン（ｔｏｌｕｅｎｅ）、キシレン（ｘｙｌｅｎｅ）、エチルベンゼン（ｅｔｈｙｌｂｅｎｚｅｎｅ）、ジエチルベンゼン（ｄｉｅｔｈｙｌｂｅｎｚｅｎｅ）、メチシレン（ｍｅｓｉｔｙｌｅｎｅ）、プロピルベンゼン（ｐｒｏｐｙｌｂｅｎｚｅｎｅ）、シクロヘキシルベンゼン（ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌｂｅｎｚｅｎｅ）、ジメトキシベンゼン（ｄｉｍｅｔｈｏｘｙｂｅｎｚｅｎｅ）、アニソール（ａｎｉｓｏｌｅ）、エトキシトルエン（ｅｔｈｏｘｙ  ｔｏｌｕｅｎｅ）、フェノキシトルエン（ｐｈｅｎｏｘｙｔｏｌｕｅｎｅ）、イソプロピルビフェニル（ｉｓｏｐｒｏｐｙｌｂｉｐｈｅｎｙｌ）、ジメチルアニソール（ｄｉｍｅｔｈｙｌａｎｉｓｏｌｅ）、酢酸フェニル（ｐｈｅｎｙｌ  ａｃｅｔａｔｅ）、プロピオン酸フェニル（ｐｈｅｎｙｌ  ｐｒｏｐｉｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）、安息香酸メチル（ｍｅｔｈｙｌ  ｂｅｎｚｏａｔｅ）、安息香酸エチル（ｅｔｈｙｌ  ｂｅｎｚｏａｔｅ）等が挙げられる。
【０１０１】
有機ＥＬ素子用組成物中における有機ＥＬ素子用材料の濃度は、特に限定されず、用途に応じて適宜調整可能である。ただし、塗布容易性等の観点から、有機ＥＬ素子用組成物中における一般式（１）で表される化合物の濃度は、好ましくは０．１質量％以上１０質量％以下であり、より好ましくは０．５質量％〜５質量％である。
【０１０２】
＜有機エレクトロルミネッセンス素子＞
以下、図１を参照して、本実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子について、詳細に説明する。図１は、本実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子を示す模式図である。なお、本明細書において、「有機エレクトロルミネッセンス素子」は「有機ＥＬ素子」と省略する場合がある。
【０１０３】
図１に示すように、本実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）１００は、基板１１０と、基板１１０上に配置された第１電極１２０と、第１電極１２０上に配置された正孔注入層１３０と、正孔注入層１３０上に配置された正孔輸送層１４０と、正孔輸送層１４０上に配置された発光層１５０と、発光層１５０上に配置された電子輸送層１６０と、電子輸送層１６０上に配置された電子注入層１７０と、電子注入層１７０上に配置された第２電極１８０とを備える。
【０１０４】
ここで、本実施形態の一般式（１）で表される化合物は、例えば、第１電極１２０と第２電極１８０との間に配置されたいずれかの有機層中に含まれる。具体的には、一般式（１）で表される化合物は、正孔輸送性に優れる観点から、正孔注入材料として正孔注入層１３０、正孔輸送材料として正孔輸送層１４０、発光層材料（ホスト）として発光層１５０に含まれることが好ましく、より好ましくは、正孔輸送層または発光層１５０に含まれ、さらに好ましくは、発光層１５０に含まれる。
【０１０５】
また、本実施形態の一般式（１）で表される化合物を含む有機層は、塗布法によって形成される。具体的には、一般式（１）で表される化合物を含む有機層は、スピンコート（ｓｐｉｎ  ｃｏａｔ）法、キャスティング（ｃａｓｔｉｎｇ）法、マイクログラビアコート（ｍｉｃｒｏ  ｇｒａｖｕｒｅ  ｃｏａｔ）法、グラビアコート（ｇｒａｖｕｒｅ  ｃｏａｔ）法、バーコート（ｂａｒ  ｃｏａｔ）法、ロールコート（ｒｏｌｌ  ｃｏａｔ）法、ワイアーバーコート（ｗｉｒｅ  ｂａｒ  ｃｏａｔ）法、ディップコート（ｄｉｐ  ｃｏａｔ）法、スプレーコート（ｓｐｒｙ  ｃｏａｔ）法、スクリーン（ｓｃｒｅｅｎ）印刷法、フレキソ（ｆｌｅｘｏｇｒａｐｈｉｃ）印刷法、オフセット（ｏｆｆｓｅｔ）印刷法、インクジェット（ｉｎｋ  ｊｅｔ）印刷法等の溶液塗布法を用いて成膜することができる。
【０１０６】
溶液塗布法に使用する溶媒は、一般式（１）で表される化合物を溶解することができるものであれば、どのような溶媒でも使用することができる。このような溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、メチシレン、プロピルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、ジメトキシベンゼン、アニソール、エトキシトルエン、フェノキシトルエン、イソプロピルビフェニル、ジメチルアニソール、酢酸フェニル、プロピオン酸フェニル、安息香酸メチル、安息香酸エチル等が挙げられる。また、溶媒の使用量は、特に制限されないが、塗布容易性等の観点から、一般式（１）で表される化合物の濃度が、好ましくは０．１質量％〜１０質量％、より好ましくは０．５質量％〜５質量％である。
【０１０７】
なお、一般式（１）で表される化合物を含む有機層以外の層の成膜方法については、特に限定されない。このような有機層以外の層は、例えば、真空蒸着法にて成膜されてもよく、溶液塗布法にて成膜されてもよい。
【０１０８】
基板１１０は、一般的な有機ＥＬ素子で使用される基板を使用することができる。例えば、基板１１０は、ガラス（ｇｌａｓｓ）基板、シリコン（ｓｉｌｉｃｏｎ）基板などの半導体基板、プラスチック（ｐｌａｓｔｉｃ）基板等であってもよい。
【０１０９】
基板１１０上には、第１電極１２０が形成される。第１電極１２０は、具体的には、陽極であり、金属、合金、または導電性化合物等のうち仕事関数（物質内にある電子を一個外へ取り出すのに必要な最小エネルギー）が大きいものによって形成される。例えば、第１電極１２０は、透明性および導電性に優れる酸化インジウムスズ（Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２：ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（Ｉｎ２Ｏ３−ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等によって透過型電極として形成されてもよい。また、第１電極１２０は、上記透明導電膜に対して、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウム（Ａｌ）などを積層することによって反射型電極として形成されてもよい。
【０１１０】
第１電極１２０上には、正孔注入層１３０が形成される。正孔注入層１３０は、第１電極１２０からの正孔の注入を容易にする層であり、具体的には、約１０ｎｍ〜約１０００ｎｍ、より具体的には、約１０ｎｍ〜約１００ｎｍの厚さで形成されてもよい。
【０１１１】
正孔注入層１３０は、公知の正孔注入材料で形成することができる。正孔注入層１３０を形成する公知の正孔注入材料としては、例えば、トリフェニルアミン含有ポリエーテルケトン（ｐｏｌｙ（ｅｔｈｅｒ  ｋｅｔｏｎｅ）−ｃｏｎｔａｉｎｇ  ｔｒｉｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｅ：ＴＰＡＰＥＫ）、４−イソプロピル−４'−メチルジフェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラート（４−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ−４'−ｍｅｔｈｙｌｄｉｐｈｅｎｙｌｉｏｄｏｎｉｕｍ  ｔｅｔｒａｋｉｓ（ｐｅｎｔａｆｌｕｏｒｏｐｈｅｎｙｌ）ｂｏｒａｔｅ：ＰＰＢＩ）、Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−Ｎ，Ｎ'−ビス−［４−（フェニル−ｍ−トリル−アミノ）−フェニル］−ビフェニル−４，４'−ジアミン（Ｎ，Ｎ'−ｄｉｐｈｅｎｙｌ−Ｎ，Ｎ'−ｂｉｓ−［４−（ｐｈｅｎｙｌ−ｍ−ｔｏｌｙｌ−ａｍｉｎｏ）−ｐｈｅｎｙｌ］−ｂｉｐｈｅｎｙｌ−４，４'−ｄｉａｍｉｎｅ：ＤＮＴＰＤ）、銅フタロシアニン（ｃｏｐｐｅｒ  ｐｈｔｈａｌｏｃｙａｎｉｎｅ）、４，４'，４"−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（４，４'，４"−ｔｒｉｓ（３−ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｏ）ｔｒｉｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｅ：ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）、Ｎ，Ｎ'−ジ（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ'−ジフェニルベンジジン（Ｎ，Ｎ'−ｄｉ（１−ｎａｐｈｔｈｙｌ）−Ｎ，Ｎ'−ｄｉｐｈｅｎｙｌｂｅｎｚｉｄｉｎｅ：ＮＰＢ）、４，４'，４"−トリス（ジフェニルアミノ）トリフェニルアミン（４，４'，４"−ｔｒｉｓ（ｄｉｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｏ）ｔｒｉｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｅ：ＴＤＡＴＡ）、４，４'，４"−トリス（Ｎ，Ｎ−２−ナフチルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（４，４'，４"−ｔｒｉｓ（Ｎ，Ｎ−２−ｎａｐｈｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｏ）ｔｒｉｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｅ：２−ＴＮＡＴＡ）、ポリアニリン／ドデシルベンゼンスルホン酸（ｐｏｌｙａｎｉｌｉｎｅ／ｄｏｄｅｃｙｌｂｅｎｚｅｎｅｓｕｌｐｈｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）／ポリ（４−スチレンスルホネート）（ｐｏｌｙ（３，４−ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ）／ｐｏｌｙ（４−ｓｔｙｒｅｎｅｓｕｌｆｏｎａｔｅ）：ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、およびポリアニリン／１０−カンファースルホン酸（ｐｏｌｙａｎｉｌｉｎｅ／１０−ｃａｍｐｈｏｒｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）等を挙げることができる。
【０１１２】
正孔注入層１３０上には、正孔輸送層１４０が形成される。正孔輸送層１４０は、正孔を輸送する機能を備えた層であり、例えば、約１０ｎｍ〜１５０ｎｍの厚さで形成されてもよい。正孔輸送層１４０は、本実施形態の化合物を用いて溶液塗布法により成膜されることが好ましい。この方法によれば、有機ＥＬ素子１００の電流効率および駆動寿命を向上させることが可能な化合物を効率的に大面積にて成膜することができる。
【０１１３】
ただし、有機ＥＬ素子１００のいずれかの他の有機層が本実施形態の化合物を含む場合、正孔輸送層１４０は、公知の正孔輸送材料で形成されてもよい。公知の正孔輸送材料としては、例えば、１，１−ビス［（ジ−４−トリルアミノ）フェニル］シクロヘキサン（１，１−ｂｉｓ［（ｄｉ−４−ｔｏｌｙｌａｍｉｎｏ）ｐｈｅｎｙｌ］ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅ：ＴＡＰＣ）、Ｎ−フェニルカルバゾール（Ｎ−ｐｈｅｎｙｌｃａｒｂａｚｏｌｅ）およびポリビニルカルバゾール（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｃａｒｂａｚｏｌｅ）などのカルバゾール（ｃａｒｂａｚｏｌｅ）誘導体、Ｎ，Ｎ'−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−［１，１−ビフェニル］−４，４'−ジアミン（Ｎ，Ｎ'−ｂｉｓ（３−ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ）−Ｎ，Ｎ'−ｄｉｐｈｅｎｙｌ−［１，１−ｂｉｐｈｅｎｙｌ］−４，４'−ｄｉａｍｉｎｅ：ＴＰＤ）、４，４'，４"−トリス（Ｎ−カルバゾリル）トリフェニルアミン（４，４'，４"−ｔｒｉｓ（Ｎ−ｃａｒｂａｚｏｌｙｌ）ｔｒｉｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｅ：ＴＣＴＡ）、ならびにＮ，Ｎ'−ジ（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ'−ジフェニルベンジジン（Ｎ，Ｎ'−ｄｉ（１−ｎａｐｈｔｈｙｌ）−Ｎ，Ｎ'−ｄｉｐｈｅｎｙｌｂｅｎｚｉｄｉｎｅ：ＮＰＢ）等を挙げることができる。
【０１１４】
正孔輸送層１４０上には、発光層１５０が形成される。発光層１５０は、蛍光、りん光等によって光を発する層である。発光層１５０は、例えば、約１０ｎｍ〜約６０ｎｍの厚さで形成されてもよい。発光層１５０の発光材料としては、公知の発光材料を用いることができる。ただし、発光層１５０に含まれる発光材料は、三重項励起子からの発光（すなわち、りん光発光）が可能な発光材料であることが好ましい。このような場合、有機ＥＬ素子１００の電流効率および発光寿命をさらに向上させることができる。
【０１１５】
また、発光層１５０は、本実施形態に係る有機ＥＬ素子用材料を用いて溶液塗布法によって成膜することができる。また、本実施形態では、このような溶液塗布法により、有機ＥＬ素子１００の電流効率および発光寿命を向上させることが可能な一般式（１）で表される化合物を含む発光層１５０を効率的に大面積にて成膜することができる。
【０１１６】
ただし、有機ＥＬ素子１００のいずれかの他の有機層が本実施形態に係る一般式（１）で表される化合物を含む場合、発光層１５０は、公知の材料によって構成されてもよい。
【０１１７】
発光層１５０を構成する公知の材料のうち、ホスト材料として、例えば、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（ｔｒｉｓ（８−ｑｕｉｎｏｌｉｎａｔｏ）ａｌｕｍｉｎｉｕｍ：Ａｌｑ３）、４，４'−ビス（カルバゾール−９−イル）ビフェニル（４，４'−ｂｉｓ（ｃａｒｂａｚｏｌ−９−ｙｌ）ｂｉｐｈｅｎｙｌ：ＣＢＰ）、ポリ（ｎ−ビニルカルバゾール）（ｐｏｌｙ（ｎ−ｖｉｎｙｌｃａｒｂａｚｏｌｅ）：ＰＶＫ）、９，１０−ジ（ナフタレン−２−イル）アントラセン（９，１０−ｄｉ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）ａｎｔｈｒａｃｅｎｅ：ＡＤＮ）、４，４'，４"−トリス（Ｎ−カルバゾリル）トリフェニルアミン（４，４'，４"−ｔｒｉｓ（Ｎ−ｃａｒｂａｚｏｌｙｌ）ｔｒｉｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｅ：ＴＣＴＡ）、１，３，５−トリス（Ｎ−フェニルベンズイミダゾール−２−イル）ベンゼン（１，３，５−ｔｒｉｓ（Ｎ−ｐｈｅｎｙｌ−ｂｅｎｚｉｍｉｄａｚｏｌ−２−ｙｌ）ｂｅｎｚｅｎｅ：ＴＰＢＩ）、３−ｔｅｒｔ−ブチル−９，１０−ジ（ナフト−２−イル）アントラセン（３−ｔｅｒｔ−ｂｕｔｙｌ−９，１０−ｄｉ（ｎａｐｈｔｈ−２−ｙｌ）ａｎｔｈｒａｃｅｎｅ：ＴＢＡＤＮ）、ジスチリルアリーレン（ｄｉｓｔｙｒｙｌａｒｙｌｅｎｅ：ＤＳＡ）、４，４'−ビス（９−カルバゾール）−２，２'−ジメチル−ビフェニル（４，４'−ｂｉｓ（９−ｃａｒｂａｚｏｌｅ）２，２'−ｄｉｍｅｔｈｙｌ−ｂｉｐｈｅｎｙ：ｄｍＣＢＰ）などを含んでもよい。
【０１１８】
また、発光層１５０は、ドーパント材料として、例えば、ペリレン（ｐｅｒｙｌｅｎｅ）およびその誘導体、ルブレン（ｒｕｂｒｅｎｅ）およびその誘導体、クマリン（ｃｏｕｍａｒｉｎ）およびその誘導体、４−ジシアノメチレン−２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−６−メチル−４Ｈ−ピラン（４−ｄｉｃｙａｎｏｍｅｔｈｙｌｅｎｅ−２−（ｐｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｓｔｙｒｙｌ）−６−ｍｅｔｈｙｌ−４Ｈ−ｐｙｒａｎ：ＤＣＭ）およびその誘導体、ビス［２−（４，６−ジフルオロフェニル）ピリジネート］ピコリネートイリジウム（ＩＩＩ）（ｂｉｓ［２−（４，６−ｄｉｆｌｕｏｒｏｐｈｅｎｙｌ）ｐｙｒｉｄｉｎａｔｅ］ｐｉｃｏｌｉｎａｔｅ  ｉｒｉｄｉｕｍ（ＩＩＩ）：ＦＩｒｐｉｃ）、ビス（１−フェニルイソキノリン）（アセチルアセトネート）イリジウム（ＩＩＩ）（ｂｉｓ（１−ｐｈｅｎｙｌｉｓｏｑｕｉｎｏｌｉｎｅ）（ａｃｅｔｙｌａｃｅｔｏｎａｔｅ）ｉｒｉｄｉｕｍ（ＩＩＩ）：Ｉｒ（ｐｉｑ）２（ａｃａｃ））、トリス（２−フェニルピリジン）イリジウム（ＩＩＩ）（ｔｒｉｓ（２−ｐｈｅｎｙｌｐｙｒｉｄｉｎｅ）ｉｒｉｄｉｕｍ（ＩＩＩ）：Ｉｒ（ｐｐｙ）３）、トリス（２−（３−ｐ−キシイル）フェニル）ピリジン  イリジウム（ＩＩＩ）などイリジウム（Ｉｒ）錯体、オスミウム（Ｏｓ）錯体、白金錯体などを含んでもよい。
【０１１９】
また、発光層１５０は、発光材料として量子ドットなどのナノ粒子を含んでよい。量子ドットは、Ｉ−ＶＩ族系列の半導体、ＩＩＩ−Ｖ族系列の半導体またはＩＶ−ＩＶ族系列の半導体で構成されるナノ粒子である。上記半導体の例として、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＺｎＳｅ、ＺｎＳ、ＰｂＳ、ＰｂＳｅ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ、ＨｇＴｅ、ＣｄＨｇＴｅ、ＣｄＳｅＸＴｅ１−Ｘ、ＧａＡｓ、ＩｎＡｓおよびＩｎＰなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１２０】
また、ナノ粒子の直径は、特に限定されないが、例えば、１〜２０ｎｍであることができる。また、量子ドット等のナノ粒子は、単一コア構造を有していてもよいし、コアの表面上にシェルが被覆された、いわゆるコア／シェル構造を有していてもよい。
【０１２１】
発光層１５０上には、電子輸送層１６０が形成される。電子輸送層１６０は、電子を輸送する機能を備えた層である。電子輸送層１６０は、例えば、約１５ｎｍ〜約５０ｎｍの厚さで形成されてもよい。
【０１２２】
電子輸送層１６０は、公知の電子輸送材料にて形成されてもよい。公知の電子輸送材料としては、例えば、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（ｔｒｉｓ（８−ｑｕｉｎｏｌｉｎａｔｏ）ａｌｕｍｉｎｉｕｍ：Ａｌｑ３）、および含窒素芳香環を有する化合物等を挙げることができる。含窒素芳香環を有する化合物の具体例としては、例えば、１，３，５−トリ［（３−ピリジル）−フェン−３−イル］ベンゼン（１，３，５−ｔｒｉ［（３−ｐｙｒｉｄｙｌ）−ｐｈｅｎ−３−ｙｌ］ｂｅｎｚｅｎｅ）のようなピリジン（ｐｙｒｉｄｉｎｅ）環を含む化合物、２，４，６−トリス（３'−（ピリジン−３−イル）ビフェニル−３−イル）−１，３，５−トリアジン（２，４，６−ｔｒｉｓ（３'−（ｐｙｒｉｄｉｎ−３−ｙｌ）ｂｉｐｈｅｎｙｌ−３−ｙｌ）−１，３，５−ｔｒｉａｚｉｎｅ）のようなトリアジン（ｔｒｉａｚｉｎｅ）環を含む化合物、２−（４−（Ｎ−フェニルベンゾイミダゾリル−１−イル−フェニル）−９，１０−ジナフチルアントラセン（２−（４−（Ｎ−ｐｈｅｎｙｌｂｅｎｚｏｉｍｉｄａｚｏｌｙｌ−１−ｙｌ−ｐｈｅｎｙｌ）−９，１０−ｄｉｎａｐｈｔｈｙｌａｎｔｈｒａｃｅｎｅ）のようなイミダゾール（ｉｍｉｄａｚｏｌｅ）環を含む化合物等を挙げることができる。
【０１２３】
電子輸送層１６０上には、電子注入層１７０が形成される。電子注入層１７０は、第２電極１８０からの電子の注入を容易にする機能を備えた層である。電子注入層１７０は、約０．３ｎｍ〜約２０ｎｍの厚さで形成されてもよい。電子注入層１７０は、特に限定されず、電子注入層１７０を形成する材料として公知の材料を使用することができる。例えば、電子注入層１７０は、（８−キノリノラト）リチウム（（８−ｑｕｉｎｏｌｉｎａｔｏ）ｌｉｔｈｉｕｍ：Ｌｉｑ）およびフッ化リチウム（ＬｉＦ）等のリチウム（ｌｉｔｈｉｕｍ）化合物、塩化ナトリウム（ＮａＣｌ）、フッ化セシウム（ＣｓＦ）、酸化リチウム（Ｌｉ２Ｏ）、または酸化バリウム（ＢａＯ）等で形成されてもよい。
【０１２４】
電子注入層１７０上には、第２電極１８０が形成される。第２電極１８０は、具体的には、陰極であり、金属、合金、または導電性化合物等のうち仕事関数が小さいものによって形成される。例えば、第２電極１８０は、リチウム（Ｌｉ）、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、カルシウム（Ｃａ）等の金属、またはアルミニウム−リチウム（Ａｌ−Ｌｉ）、マグネシウム−インジウム（Ｍｇ−Ｉｎ）、マグネシウム−銀（Ｍｇ−Ａｇ）等の合金で反射型電極として形成されてもよい。また、第２電極１８０は、上記金属材料の２０ｎｍ以下の薄膜、酸化インジウムスズ（Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２）および酸化インジウム亜鉛（Ｉｎ２Ｏ３−ＺｎＯ）などの透明導電膜によって透過型電極として形成されてもよい。
【０１２５】
本実施形態に係る有機ＥＬ素子１００は、一般式（１）で表される化合物を含む有機層を有することにより、電流効率、発光寿命に優れる有機エレクトロルミネッセンス素子を塗布法により作製することができる。また、一般式（１）で表される化合物は、正孔輸送性に優れる観点から、発光材料を含む有機層（発光層）に用いることができる。なお、本実施形態に係る有機ＥＬ素子１００は、本発明に係るエレクトロルミネッセンス素子の一例である。
【０１２６】
なお、本実施形態に係る有機ＥＬ素子１００の積層構造は、上記の例示に限定されない。本実施形態に係る有機ＥＬ素子１００は、他の公知の積層構造にて形成されてもよい。例えば、有機ＥＬ素子１００は、正孔注入層１３０、正孔輸送層１４０、電子輸送層１６０および電子注入層１７０のうちの１層以上が省略されてもよく、また、追加で他の層を備えていてもよい。また、有機ＥＬ素子１００の各層は、それぞれ単層で形成されてもよく、複数層で形成されてもよい。
【０１２７】
例えば、有機ＥＬ素子１００は、励起子または正孔が電子輸送層１６０に拡散することを防止するために、発光層１５０と電子輸送層１６０との間に正孔阻止層をさらに備えていてもよい。なお、正孔阻止層は、例えば、オキサジアゾール（ｏｘａｄｉａｚｏｌｅ）誘導体、トリアゾール（ｔｒｉａｚｏｌｅ）誘導体、または、フェナントロリン（ｐｈｅｎａｎｔｈｒｏｌｉｎｅ）誘導体等によって形成することができる。
【実施例】
【０１２８】
以下、本発明について、さらに詳細な実施例に基づいて説明する。なお、本発明は、これら実施例に限定されない。以下において、「％」は、特に断りのない限り、重量基準である。また、試験および評価は、下記に従った。
【０１２９】
＜溶解度の測定＞
サンプル固体試料５０ｍｇを無色透明のサンプル瓶に入れ、溶媒を５００ｍｇ入れて室温にて超音波照射を５分間行い、目視にてサンプル固体の残存有無を確認した。この時点でサンプル固体の残存が無く溶解していれば溶解度は１０ｗｔ％以上となる。サンプル固体の残存が有れば、少量づつ溶媒追加と超音波照射を繰り返し、完全に溶解した時点での溶媒量から溶解度を算出した。結果を表１に示す。
【０１３０】
＜光化学的安定性の評価＞
光化学的安定性（Ｐｈｏｔｏ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｔａｂｉｌｉｔｙ）は、以下の条件で評価した。
【０１３１】
［測定用サンプルの作成］
水分濃度１ｐｐｍ以下、酸素濃度１ｐｐｍ以下の窒素雰囲気グローブボックス中で、石英基板上に塗布法により、固形分比率として評価ホスト材料：緑色燐光発光材料ＴＥＧ＝１００重量％：５重量％、固形分インク濃度４重量％の安息香酸メチル（Ｍｅｔｈｙｌ  ｂｅｎｚｏａｔｅ）溶液から、膜厚５０ｎｍの薄膜層を形成し、真空度１×１０−３Ｐａにて１２０℃で１５分間処理した。真空蒸着機に搬送し、この膜上に直径２ｍｍの円形の、膜厚１００ｎｍのアルミニウム薄膜を、メタルマスクを用いて真空蒸着により形成した。これを乾燥剤付きのガラス製の封止管と紫外線硬化型樹脂を用いて封止して測定用サンプルとした。
【０１３２】
［測定系］
測定系は、主に以下の２つから構成される。
【０１３３】
１．フォトルミネッセンス（ＰＬ）強度測定系
２．ＵＶ照射劣化系
【０１３４】
１．フォトルミネッセンス（ＰＬ）強度測定系
高出力ＵＶ−Ｖｉｓファイバ光源ユニット（浜松ホトニクス社製  Ｌ１０２９０）と紫外透過可視吸収フィルタ（駿河精機製、Ｓ７６−Ｕ３４０）を用いて、波長が２５０ｎｍ以下の光と４００ｎｍ以上の光を除去した光を励起光源として用いた。受光器は、小型ファイバ光学分光器（オーシャンフォトニクス社製、ＵＳＢ２０００＋ＵＶ−ＶＩＳ）を用いた。測定時、サンプル基板は石英基板側の正面から２０℃以上傾いた角度から上述のアルミニウムで被覆されたサンプル膜測定部位に正確に励起光が入射されるように設置した。励起光によってサンプル膜測定部位は、石英基板正面の半球方向に対して発光を放射し、受光器は、この発光を捕捉できる距離内で、且つ、石英基板による励起光の正反射を避ける位置に設置した。測定の都度、サンプルに照射される励起光強度を一定にするために、励起光源強度および光学系の幾何配置関係は一定に保たれるようにした。
【０１３５】
２．ＵＶ照射劣化系
極大発光波長３６５ｎｍのＵＶ−ＬＥＤ（ＣＣＳ社製）を光源に用い、直径２ｍｍ、長さ７５ｍｍの合成石英製ライトパイプ（Ｅｄｍｕｎｄ  Ｏｐｔｉｃｓ社製、＃６５−８２９）を通じて照射口面内強度を均一化した光を劣化用励起光として用いた。励起光の全光束強度はデジタル電源（ＣＣＳ社製、ＰＤ３−１００２４−８−ＰＩ）と光パワーメータ（ＡＤＣＭＴ社製、８２３０Ｅ）を用いて制御した。励起光照射口とサンプル膜の石英基板側は位置合せした上で密着させた。石英基板側からサンプル膜に励起光を一定時間照射することで、サンプル膜が光学的に負荷を受けて劣化する。
【０１３６】
［励起光全光束強度１０ｍＷにおける光化学的劣化試験］
１段階目に上記１．のフォトルミネッセンス（ＰＬ）強度測定系を用いて、劣化前のサンプル薄膜のフォトルミネッセンス（ＰＬ）強度を測定した。２段階目に上記２．のＵＶ照射劣化系を用いて、励起光の全光束強度を１０ｍＷにおいて、５分間の劣化用励起光照射を行い、その後に上記１．のフォトルミネッセンス（ＰＬ）強度測定系を用いて、５分間負荷を与えたサンプル薄膜のフォトルミネッセンス（ＰＬ）強度を測定した。以降、２段階目と同じ操作を繰り返すことにより、励起光負荷を与えた時間に対するサンプル薄膜のフォトルミネッセンス（ＰＬ）強度を測定した。
【０１３７】
［励起光全光束強度２０ｍＷにおける光化学的劣化試験］
励起光全光束強度を２０ｍＷに変更した以外は、上記励起光全光束強度１０ｍＷにおける光化学的劣化試験と同様に測定を行った。
【０１３８】
［励起光全光束強度５０ｍＷにおける光化学的劣化試験］
励起光全光束強度を５０ｍＷに変更した以外は、上記励起光全光束強度１０ｍＷにおける劣化試験と同様に測定を行った。
【０１３９】
［光化学的劣化試験の解析］
まず、上記の励起光全光束強度を各種変化させた光化学的劣化試験から得られた発光強度の減衰データをもとに、以下の対応関係を適用して、加速度係数ａを調整することによって、励起光全光束強度に依存しない減衰曲線を求めた。
【０１４０】
縦軸：ＲＩ（ｔ）＝Ｉ（ｔ）／Ｉ０
横軸：Ｘｃ＝Ｅａ×ｔ
ＲＩ（ｔ）：励起光照射時間ｔにおける初期輝度に対するサンプル膜のフォトルミネッセンス強度比率
ｔ：励起光照射時間
Ｉ（ｔ）：励起光照射時間ｔにおけるサンプル膜のフォトルミネッセンス強度
Ｉ０：励起光照射前のサンプル膜のフォトルミネッセンス強度
Ｘｃ：補正励起光積算強度
Ｅ：励起光全光束強度
ａ：加速度係数
【０１４１】
この解析によって得られた「励起光全光束強度に依存しない減衰曲線」から、ＲＩ（ｔ）が０．９（発光強度が１０％低下する）に達するのに要する補正励起光積算強度Ｘｃ９０を、光化学的安定性の指標とした。なお、Ｘｃ９０の数値が大きいほど、発光強度の劣化に大きなエネルギーが必要であり、劣化しにくいことを表す。表２に、Ｘｃ９０の結果を相対値で示す。
【０１４２】
＜成膜性の評価＞
実施例および比較例に係る有機ＥＬ素子の成膜性を、以下の方法で評価した。酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）が膜厚１５０ｎｍにて成膜されたＩＴＯ付きガラス基板上に、市販ＴＢＦ層を形成し、さらに得られた化合物の２質量％安息香酸メチル溶液より、膜厚が３０ｎｍになるようにスピンコート法にて塗布し、積層膜を形成した。得られた積層膜を１２５℃に加熱し、光学顕微鏡にて積層膜表面を観察し、膜の状態を評価した。なお、膜の状態は、以下に示す基準により評価した。
【０１４３】
○：均一で欠陥のない状態
△：不均一な点または領域が少数見えるが、素子を作製することが可能な状態
×：膜の連続性が確保できず、素子を作製することが不能な状態
【０１４４】
＜有機ＥＬ素子評価方法＞
［電流効率および耐久性（発光寿命）の評価］
実施例および比較例について、電流効率および耐久性（発光寿命）を以下の条件で評価した。まず、有機ＥＬ素子に印加する電圧・電流を直流定電圧電源（ＫＥＹＥＮＣＥ製、ソースメータ（ｓｏｕｒｃｅ  ｍｅｔｅｒ））を用いて測定し、有機ＥＬ素子の発光輝度を輝度測定装置（Ｔｏｐｃｏｎ製、ＳＲ−３）を用いて測定した。
【０１４５】
有機ＥＬ素子の面積と電流値から単位面積あたりの電流値（電流密度）を計算し、輝度（ｃｄ／ｍ２）を電流密度（Ａ／ｍ２）にて除算することで、電流効率（ｃｄ／Ａ）を算出した。なお、電流効率は、電流を発光エネルギーへ変換する効率（変換効率）を示し、電流効率が高いほど有機ＥＬ素子の性能が高いことを示す。
【０１４６】
耐久性（発光寿命）は、各有機ＥＬ素子において初期輝度が６０００ｃｄ／ｍ２となる電流値において連続駆動し、時間経過とともに減衰する発光輝度が初期輝度の８０％になるまでの時間（時間）を「ＬＴ８０（ｈ）」とした。
【０１４７】
＜化合物の合成＞
［合成例１］
下記反応スキーム（４）により、まず化合物１４−１を合成した。
【０１４８】
【化２６】
2019123677.tif 000027
【０１４９】
具体的には、窒素雰囲気下、５−ｂｒｏｍｏ−２−ｎｉｔｒｏａｎｉｌｉｎｅ（１２２ｇ、５６２ｍｍｏｌ）、Ｈ２ＳＯ４（１２２ｍｌ）、純水（３．１Ｌ）を混合して０℃に冷却し、ＮａＮＯ２（４２．７ｇ、６１９ｍｍｏｌ、１．１ｅｑ．）の水溶液（６２０ｍｌ）を１時間かけて滴下し、室温で３時間撹拌した。反応液を０℃に冷却し、ＫＩ（１１７ｇ、７０５ｍｍｏｌ、１．２５ｅｑ．）水溶液（６２０ｍｌ）を１時間かけて滴下した後にＣｕ  ｐｏｗｄｅｒ（１．０７ｇ、１６．８ｍｍｏｌ、０．０３ｅｑ．）を加えて７０℃で３時間撹拌した。反応液を室温に冷却した後、ＣＨ２Ｃｌ２で抽出した。有機層を１０％Ｎａ２Ｓ２Ｏ３水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過した後、濃縮した。これをシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒  ヘキサン：ＣＨ２Ｃｌ２＝５：１）で精製し、黄色固体の化合物１４−１を得た。化合物１４−１の収量は１１６．１ｇ、収率は６３％であった。
【０１５０】
次いで、下記反応スキーム（５）により、化合物１４−２を合成した。
【０１５１】
【化２７】
2019123677.tif 000028
【０１５２】
具体的には、窒素雰囲気下、上記反応スキーム（４）で得られた化合物１４−１（４−ｂｒｏｍｏ−２−ｉｏｄｏ−１−ｎｉｔｒｏｂｅｎｚｅｎｅ）（２３１ｇ、７０４ｍｍｏｌ）、１，４−ｄｉｏｘａｎｅ（２．３Ｌ）、２−ｃｈｌｏｒｏｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ  ａｃｉｄ（１３２ｇ、８４４ｍｍｏｌ）、２ＭのＫ３ＰＯ４水溶液（７０４ｍｌ）、Ｐｄ（ＰＰｈ３）４（２４．４ｇ、２１．１ｍｍｏｌ）を混合し、８０℃で８時間撹拌した。反応液を室温に冷却し、Ｈ２Ｏを加え、酢酸エチルで抽出し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、濾過した後、濃縮した。これをシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒  ヘキサン：ＣＨ２Ｃｌ２＝１０：１）で精製し、黄色固体の化合物１４−２を得た。化合物１４−２の収量は２１０ｇ、収率は９５％であった。
【０１５３】
次いで、下記反応スキーム（６）により、化合物１４−３を合成した。
【０１５４】
【化２８】
2019123677.tif 000029
【０１５５】
具体的には、窒素雰囲気下、上記反応スキーム（５）で得られた化合物１４−２（５−ｂｒｏｍｏ−２'−ｃｈｌｏｒｏ−２−ｎｉｔｒｏ−１，１'−ｂｉｐｈｅｎｙｌ）（２２５ｇ、７２０ｍｍｏｌ）、ｏ−ジクロロベンゼン（２．３Ｌ）、ＰＰｈ３（４７２ｇ、１．８ｍｏｌ）を混合し、１８０℃で６時間撹拌した。室温に冷却した後、反応液を濃縮した。これをヘキサン：ＣＨ２Ｃｌ２＝２：１混合溶媒に溶解させ、１５ｃｍほどの長さのシリカゲルパッドを用いて３回濾過を繰り返して原点不純物を除去し、濃縮した。これをヘキサン：ＣＨ２Ｃｌ２＝２：１の混合溶媒５００ｍｌに分散させ、超音波処理を３０分行った後、濾過して、化合物１４−３を得た。化合物１４−３の収量は６７．１ｇ、収率は３３％であった。
【０１５６】
次いで、下記反応スキーム（７）により、化合物１４−４を合成した。
【０１５７】
【化２９】
2019123677.tif 000030
【０１５８】
具体的には、窒素雰囲気下、上記反応スキーム（６）で得られた化合物１４−３（３−ｂｒｏｍｏ−５−ｃｈｌｏｒｏ−９Ｈ−ｃａｒｂａｚｏｌｅ）（２８．０６ｇ、１００ｍｍｏｌ）、１，４−ｄｉｏｘａｎｅ（１００ｍｌ）、４−ｉｏｄｏｂｉｐｈｅｎｙｌ（３０．８１ｇ、１１０ｍｍｏｌ）、Ｋ３ＰＯ４（３１．８４ｇ、１５０ｍｍｏｌ）、ＣｕＩ（０．９５ｇ、５ｍｍｏｌ）、ｔｒａｎｓ−１，２−ｄｉａｍｉｎｏｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅ（１．７１ｇ、１５ｍｍｏｌ）を混合し、１００℃で２４時間撹拌した。反応液を室温に冷却し、トルエン３００ｍｌを加え、セライトを用いて濾過した。さらにシリカゲルパッドを用いて濾過し、濃縮した。これをシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒  ヘキサン：ＣＨ２Ｃｌ２＝９：１）で精製し、さらにヘキサンから再結晶を行い化合物１４−４を得た。化合物１４−４の収量は３９．８ｇ、収率は９２％であった。
【０１５９】
次いで、下記反応スキーム（８）により、化合物１４−５を合成した。
【０１６０】
【化３０】
2019123677.tif 000031
【０１６１】
具体的には、窒素雰囲気下、カルバゾール（２００．７ｇ、１２００ｍｍｏｌ）、１，４−ｄｉｂｒｏｍｏ−２−ｆｌｕｏｒｏｂｅｎｚｅｎｅ（３３５．２ｇ、１３２０ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ｄｉｍｅｔｈｙｌｆｏｒｍａｍｉｄｅ  ４８０ｍｌを三口フラスコに入れ混合し、アイスバスで冷却しながらＮａＨ（パラフィン中６２ｗｔ％分散）（ＮａＨ分２８．８ｇ、１２００ｍｍｏｌ）を水素ガスの発生量に注意して段階的に加え、１５０℃で１２時間撹拌した。トルエン１Ｌで希釈し、少量のメタノールで失活した後にセライトを用いて濾過した。これを分液ロートを用いて純水で３回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、シリカゲルパッドを用いて濾過後、濃縮した。これをシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒  ヘキサン：ＣＨＣｌ３＝８：２）で精製し、さらにヘキサンから再結晶を行い化合物１４−５を得た。化合物１４−５の収量は３４１．７４ｇ、収率は７１％であった。
【０１６２】
次いで、下記反応スキーム（９）により、化合物１４−６を合成した。
【０１６３】
【化３１】
2019123677.tif 000032
【０１６４】
具体的には、窒素雰囲気下、上記反応スキーム（８）で得られた化合物１４−５（９−（２，５−ｄｉｂｒｏｍｏｐｈｅｎｙｌ）−９Ｈ−ｃａｒｂａｚｏｌｅ）（２０．０５ｇ、５０ｍｍｏｌ）、フェニルボロン酸（１３．４１ｇ、１１０ｍｍｏｌ）、トルエン２００ｍｌ、エタノール５０ｍｌ、炭酸カリウムの２Ｍ水溶液（１００ｍｌ）を三口フラスコに入れ混合し、Ｐｄ（ＰＰｈ３）４（２．３１ｇ、２ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で１２時間撹拌した。トルエン（５００ｍｌ）を加えて希釈し、室温まで冷却した後に分液ロートを用いて純水で３回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、シリカゲルパッドを用いて濾過後、濃縮した。これをシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒  ヘキサン：ＣＨＣｌ３＝８：２）で精製し、さらにヘキサンから再結晶を行い化合物１４−６を得た。化合物１４−６の収量は１２．７ｇ、収率は６４％であった。
【０１６５】
次いで、下記反応スキーム（１０）により、化合物１４−７を合成した。
【０１６６】
【化３２】
2019123677.tif 000033
【０１６７】
具体的には、窒素雰囲気下、上記反応スキーム（９）で得られた化合物１−６（９−（［１，１'，４'，１''−ｔｅｒｐｈｅｎｙｌ］−２'−ｙｌ）−９Ｈ−ｃａｒｂａｚｏｌｅ）（１２．６ｇ、３２ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ｄｉｍｅｔｈｙｌｆｏｒｍａｍｉｄｅ１６０ｍｌ、ＣＨＣｌ３（１６０ｍｌ）を三口フラスコに入れて溶解させ、アイスバスで０℃に冷却しながらＮ，Ｎ−ｄｉｍｅｔｈｙｌｆｏｒｍａｍｉｄｅ３２ｍｌに溶解させたＮ−Ｂｒｏｍｏｓｕｃｃｉｎｅｉｍｉｄｅ（５．７０ｇ、３２ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下し、その後、室温で１２時間撹拌した。トルエン（５００ｍｌを加えて希釈し、分液ロートを用いて純水で３回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、シリカゲルパッドを用いて濾過後、濃縮した。これをシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒  ヘキサン：ＣＨＣｌ３＝８：２）で精製し、さらにヘキサンから再結晶を行い化合物１４−７を得た。化合物１４−７の収量は１３．４ｇ、収率は８８％であった。
【０１６８】
次いで、下記反応スキーム（１１）により、化合物１４−８を合成した。
【０１６９】
【化３３】
2019123677.tif 000034
【０１７０】
具体的には、窒素雰囲気下、上記反応スキーム（１０）で得られた化合物１４−７（９−（［１，１'，４'，１''−ｔｅｒｐｈｅｎｙｌ］−２'−ｙｌ）−３−ｂｒｏｍｏ−９Ｈ−ｃａｒｂａｚｏｌｅ）（１３．３ｇ、２８ｍｍｏｌ）、Ｂｉｓ（ｐｉｎａｃｏｌａｔｏ）ｄｉｂｏｒｏｎ（７．８２ｇ、３０．８ｍｍｏｌ）、酢酸カリウム（５．５０ｇ、５６ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ｄｉｍｅｔｈｙｌｆｏｒｍａｍｉｄｅ（１４０ｍｌ）、を三口フラスコに入れ混合し、Ｐｄ（ｄｐｐｆ）Ｃｌ２（２．０５ｇ、２．８ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で１２時間撹拌した。トルエン３００ｍｌを加えて希釈して室温まで冷却した後にセライトを用い濾過し、分液ロートを用いて純水で３回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、シリカゲルパッドを用いて濾過後、濃縮した。これをシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒  ヘキサン：ＣＨ２Ｃｌ２＝６：４）で精製し、さらにヘキサンから再結晶を行い化合物１４−８を得た。化合物１４−８の収量は１１．５ｇ、収率は７９％であった。
【０１７１】
次いで、下記反応スキーム（１２）により、化合物１４−９を合成した。
【０１７２】
【化３４】
2019123677.tif 000035
【０１７３】
具体的には、窒素雰囲気下、上記反応スキーム（１１）で得られた化合物１４−４（９−（［１，１'−ｂｉｐｈｅｎｙｌ］−４−ｙｌ）−３−ｂｒｏｍｏ−５−ｃｈｌｏｒｏ−９Ｈ−ｃａｒｂａｚｏｌｅ）（４．３３ｇ、１０ｍｍｏｌ）、化合物１４−８（９−（［１，１'：４'，１''−ｔｅｒｐｈｅｎｙｌ］−２'−ｙｌ）−３−（４，４，５，５−ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１，３，２−ｄｉｏｘａｂｏｒｏｌａｎ−２−ｙｌ）−９Ｈ−ｃａｒｂａｚｏｌｅ（５．７４ｇ、１１ｍｍｏｌ）、トルエン１００ｍｌ、エタノール２０ｍｌ、炭酸カリウム２Ｍ水溶液（１０ｍｌ）を三口フラスコに入れ混合し、Ｐｄ（ＰＰｈ３）４（０．５８ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で８時間撹拌した。純水１００ｍｌとメタノール２００ｍｌを加え、室温まで冷却した後に、析出固体をろ過で回収した。真空乾燥（５０℃、６時間）を行った後に、トルエン（５００ｍｌ）に加熱して試料を溶解させ、シリカゲルパッドを用いて濾過後、濃縮した。これをヘキサン：酢酸エチル＝１：１の混合溶媒から２回再結晶して化合物１４−９を得た。化合物１４−９の収量は４．９ｇ、収率は６５％であった。
【０１７４】
次いで、下記反応スキーム（１３）により、化合物１４を合成した。
【０１７５】
【化３５】
2019123677.tif 000036
【０１７６】
具体的には、窒素雰囲気下、上記反応スキーム（１２）で得られた化合物１４−９（９−（［１，１'−ｂｉｐｈｅｎｙｌ］−４−ｙｌ）−９'−（［１，１'，４'，１''−ｔｅｒｐｈｅｎｙｌ］−２'−ｙｌ）−５−ｃｈｌｏｒｏ−９Ｈ，９'Ｈ−３，３'−ｂｉｃａｒｂａｚｏｌｅ）（４．９ｇ、６．５ｍｍｏｌ）、３−Ｂｉｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ  ａｃｉｄ（１．５４ｇ、７．８ｍｍｏｌ）、トルエン６５ｍｌ、エタノール（１３ｍｌ）、炭酸カリウムの２Ｍ水溶液（６．５ｍｌ）を三口フラスコに入れ混合し、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（７３ｍｇ、０．３２５ｍｍｏｌ）、Ｓ−Ｐｈｏｓ（２１３ｍｇ、０．５２ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で１２時間撹拌した。トルエン３００ｍｌを加えて希釈し、室温まで冷却した後に分液ロートを用いて純水で３回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、シリカゲルパッドを用いて濾過後、濃縮した。これをシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒  ヘキサン：トルエン＝７：３）で精製し、さらにヘキサン：酢酸エチル＝１：１の混合溶媒から３回再結晶して化合物１４を得た。化合物１４の収量は３．７１ｇ、収率は６６％であった。
【０１７７】
［合成例２］
下記反応スキーム（１４）に変更し、対応する試薬を変更した以外は、合成例１と同様に、化合物１５−１を得た。
【０１７８】
【化３６】
2019123677.tif 000037
【０１７９】
上記反応スキーム（１４）で得られた化合物１４−４を用い、下記反応スキーム（１５）に変更し、対応する試薬を変更した以外は、合成例１と同様に、化合物１５を得た。
【０１８０】
【化３７】
2019123677.tif 000038
［合成例３］
【０１８１】
下記反応スキーム（１６）により、化合物１４５−１を合成した。
【０１８２】
【化３８】
2019123677.tif 000039
具体的には、窒素雰囲気下、前述の反応スキーム（１５）で得られた化合物１５−５（９−（［１，１'−ｂｉｐｈｅｎｙｌ］−３−ｙｌ）−３−ｂｒｏｍｏ−５−ｃｈｌｏｒｏ−９Ｈ−ｃａｒｂａｚｏｌｅ）（９．５２ｇ、２２ｍｍｏｌ）、１，４−ｂｉｓ（４，４，５，５−ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌ−１，３，２−ｄｉｏｘａｂｏｒｏｌａｎ−２−ｙｌ）ｂｅｎｚｅｎｅ（３．３０ｇ、１０ｍｍｏｌ）、トルエン２００ｍｌ、エタノール２０ｍｌ、炭酸カリウム２Ｍ水溶液（２０ｍｌ）を三口フラスコに入れ混合し、Ｐｄ（ＰＰｈ３）４（０．５８ｇ、０．５ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で８時間撹拌した。純水１００ｍｌとメタノール２００ｍｌを加え、室温まで冷却した後に、析出固体をろ過で回収した。真空乾燥（５０℃、６時間）を行った後に、トルエン（１Ｌ）に加熱して試料を溶解させ、シリカゲルパッドを用いて濾過後、濃縮した。これを酢酸エチルで２回、分散洗浄して化合物１４５−１を得た。化合物１４５−１の収量は４．５３ｇ、収率は５８％であった。
【０１８３】
次いで、下記反応スキーム（１７）により、化合物１４５を合成した。
【０１８４】
【化３９】
2019123677.tif 000040
具体的には、窒素雰囲気下、上記反応スキーム（１６）で得られた化合物１４５−１（１，４−ｂｉｓ（９−（［１，１'−ｂｉｐｈｅｎｙｌ］−３−ｙｌ）−５−ｃｈｌｏｒｏ−９Ｈ−ｃａｒｂａｚｏｌ−３−ｙｌ）ｂｅｎｚｅｎｅ）（４．４７ｇ、５．７２ｍｍｏｌ）、３−Ｂｉｐｈｅｎｙｌｂｏｒｏｎｉｃ  ａｃｉｄ（４．５３ｇ、２２．８８ｍｍｏｌ）、トルエン２２９ｍｌ、エタノール（２９ｍｌ）、炭酸カリウムの２Ｍ水溶液（２３ｍｌ）を三口フラスコに入れ混合し、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（６４ｍｇ、０．２９ｍｍｏｌ）、Ｓ−Ｐｈｏｓ（１８８ｍｇ、０．４６ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で１２時間撹拌した。トルエン３００ｍｌを加えて希釈し、室温まで冷却した後に分液ロートを用いて純水で２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、シリカゲルパッドを用いて濾過後、濃縮した。これをシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒  ヘキサン：トルエン＝６：４）で精製し、さらに酢酸エチルで分散洗浄して化合物１４５を得た。化合物１４５の収量は４．２５ｇ、収率は７３％であった。
【０１８５】
［合成例４］
化合物１４−７（（９−（［１，１'，４'，１''−ｔｅｒｐｈｅｎｙｌ］−２'−ｙｌ）−３−ｂｒｏｍｏ−９Ｈ−ｃａｒｂａｚｏｌｅ）から化合物１５−５（（９−（［１，１'−ｂｉｐｈｅｎｙｌ］−３−ｙｌ）−３−ｂｒｏｍｏ−５−ｃｈｌｏｒｏ−９Ｈ−ｃａｒｂａｚｏｌｅ）に変更した以外は、化合物１４−８と同様にして、比較例化合物１−１を合成した。
【０１８６】
【化４０】
2019123677.tif 000041
【０１８７】
上記反応スキーム（１８）で得られた比較例化合物１−１を用い、下記反応スキーム（１９）に変更し、対応する試薬を変更した以外は、合成例１と同様に、比較例化合物１−２を得た。
【０１８８】
【化４１】
2019123677.tif 000042
【０１８９】
上記反応スキーム（１９）で得られた比較例化合物１−２を用い、下記反応スキーム（２０）に変更し、対応する試薬を変更した以外は、合成例１と同様に、比較例化合物１を得た。
【０１９０】
【化４２】
2019123677.tif 000043
【０１９１】
［合成例５］
下記反応スキーム（２１）に変更し、対応する試薬を変更した以外は、合成例１と同様に、比較例化合物２を得た。
【０１９２】
【化４３】
2019123677.tif 000044
【０１９３】
＜実施例および比較例＞
［実施例１］
まず、第１電極（陽極）として、ストライプ（ｓｔｒｉｐｅ）状の酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）が膜厚１５０ｎｍにて成膜されたＩＴＯ付きガラス基板を用意する。このガラス基板上に、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）／ポリ（４−スチレンスルホネート）（ｐｏｌｙ（３，４−ｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ）／ｐｏｌｙ（４−ｓｔｙｒｅｎｅ  ｓｕｌｆｏｎａｔｅ）：ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）（Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ製）を、乾燥膜厚が３０ｎｍになるようにスピンコート法にて塗布し、正孔注入層を形成した。
【０１９４】
次に、市販のＴＦＢをキシレン（ｘｙｌｅｎｅ）に１質量％にて溶解し、正孔輸送層塗布液を調製した。正孔注入層上に、正孔輸送層塗布液を乾燥膜厚が３０ｎｍになるようにスピンコート法にて塗布し、２３０℃にて１時間加熱して、正孔輸送層を形成した。
【０１９５】
次いで、正孔輸送性ホスト材料として、上記合成例１で合成した化合物１４と、電子輸送性ホスト材料として化合物ＥＴＨ−１、発光ドーパント材料として、トリス（２−（３−ｐ−キシイル）フェニル）ピリジン  イリジウム（ＴＥＧ）とを用い、安息香酸メチル溶液を調整した。これをスピンコート法で正孔輸送層上に塗布し、膜厚３０ｎｍの発光層を形成した。なお、発光層における正孔輸送性ホスト材料、電子輸送性ホスト材料、発光ドーパント材料の質量比率は、発光層の総質量に対して、それぞれ９０質量％、１０質量％、５質量％とした。
【０１９６】
前記発光層上に１１−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−１２−フェニル−１１，１２−ジヒドロインドロ［２，３−ａ］カルバゾール（ＨＢ−１）を真空蒸着装置にて蒸着し、膜厚１０ｎｍの正孔阻止層を形成した。前記正孔阻止層上に（８−キノリノラト）リチウム（Ｌｉｑ）およびＫＬＥＴ−０３（ケミプロ化成製）を真空蒸着装置にて共蒸着し、膜厚３０ｎｍの電子輸送層を形成した。前記電子輸送層上に、アルミニウム（Ａｌ）を真空蒸着装置にて蒸着し、膜厚１００ｎｍの陰極を形成した。この素子を、水分および酸素濃度がそれぞれ１ｐｐｍ以下のグローブボックス中において乾燥剤付ガラス封止管と紫外線硬化型樹脂を用いて封止して後述する有機ＥＬ素子評価に用いた。このような方法で、有機ＥＬ素子を製造した。結果を表４に示す。なお、表４には、比較例化合物３を１００としたときの各化合物の電流効率およびＬＴ８０（ｈ）の相対値を示す。
【０１９７】
なお、ＥＴＨ−１、ＴＥＧ、ＨＢ−１、Ｌｉｑの化学式を以下に示す。
【０１９８】
【化４４】
2019123677.tif 000045
【０１９９】
［実施例２］
正孔輸送性ホスト材料として、化合物１４に代えて、上記合成例２で合成した化合物１５を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、有機ＥＬ素子を製造した。結果を表４に示す。
【０２００】
［実施例３］
正孔輸送性ホスト材料として、化合物１４に代えて、上記合成例３で合成した化合物１４５を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、有機ＥＬ素子を製造した。結果を表４に示す。
【０２０１】
［比較例１］
正孔輸送性ホスト材料として、化合物１４に代えて、上記合成例４で合成した比較例化合物１を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、有機ＥＬ素子を製造した。結果を表４に示す。
【０２０２】
［比較例２］
正孔輸送性ホスト材料として、化合物１４に代えて、上記合成例３で合成した比較例化合物２を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、有機ＥＬ素子を製造した。結果を表４に示す。
【０２０３】
［比較例３］
正孔輸送性ホスト材料として、化合物１４に代えて、下記化学式で示される比較例化合物３を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、有機ＥＬ素子を製造した。結果を表４に示す。
【０２０４】
【化４５】
2019123677.tif 000046
【０２０５】
［比較例４］
正孔輸送性ホスト材料として、化合物１４に代えて、下記化学式で示される比較例化合物４を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、有機ＥＬ素子を製造した。結果を表４に示す。
【０２０６】
【化４６】
2019123677.tif 000047
【０２０７】
【表１】
2019123677.tif 000048
【０２０８】
表１より、化合物１４、１５、１４５は、ｎ＝０であり、且つ、Ｅがフェニル基またはｍ−ビフェニル基である比較例化合物１、２、４に対して、有機溶媒（安息香酸メチル）に対する溶解度（質量％）が高いことがわかる。したがって、本実施形態に係る化合物は、塗布法による有機ＥＬ素子の作製に好適であることが分かる。
【０２０９】
【表２】
2019123677.tif 000049
【０２１０】
さらに、表２より、化合物１４、１５、１４５は、比較例化合物１〜４に対して、Ｘｃ９０が大きくなり、光化学的安定性が高いことがわかる。したがって、本実施形態に係る化合物は、有機エレクトロルミネッセンス素子（特に、発光層）に適用した場合に長寿命化が期待できる。
【０２１１】
【表３】
2019123677.tif 000050
【０２１２】
表３より、化合物１４、１５、１４５は、比較例化合物１〜４に対して、１２５℃で加熱した後も膜が均一で欠陥のない状態であり、良好な成膜性を示すことがわかる。したがって、本実施形態に係る化合物が、塗布法のための有機ＥＬ素子用材料として有用であることが分かった。
【０２１３】
【表４】
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【０２１４】
表４より、化合物１４、１５、１４５を、正孔輸送性ホスト材料として用いた実施例１〜３の有機ＥＬ素子は、比較例１〜４の有機ＥＬ素子に対して、同等以上の電流効率を示し、かつ発光寿命が大幅に向上していることが分かった。
【０２１５】
また、実施例１〜３で用いた化合物１４、１５、１４５は、塗布法により有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層を形成できるため、大量生産の観点から好ましい。
【０２１６】
以上、本発明について実施形態および実施例を挙げて説明したが、本発明は特定の実施形態、実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内において、種々の変形、変更が可能である。
【符号の説明】
【０２１７】
１００    有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）
１１０    基板
１２０    第１電極
１３０    正孔注入層
１４０    正孔輸送層
１５０    発光層
１６０    電子輸送層
１７０    電子注入層
１８０    第２電極
【図１】
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