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【手続補正書】
【提出日】平成14年2月27日(2002.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体層とこの半導体層上に形成されたエミッタ層を含み、この場合半導体層とエミッタ層（５）との間には、局部的に薄い酸化物層および／または窒化物層が形成されている、Ｓｉを基礎とするバイポーラトランジスタのための層状構造体において、エミッタ層（５）が半導体層に隣接して単結晶部分を有し、この単結晶部分によって半導体層とは別に多結晶部分または無定形部分を有することを特徴とする、バイポーラトランジスタのための層状構造体。
【請求項２】
半導体層がＳｉｘＧｅｙＣ１−ｘ−ｙ被覆層（４）とＳｉ干渉層（２）上と０≦ｘ、ｙ≦１の範囲内のパラメーターｘ、ｙを有するシリコン基板を含む、請求項１記載の層状構造体。
【請求項３】
少なくとも一部分がＳｉｘＧｅｙＣ１−ｘ−ｙ被覆層（４）中に形成されている電気的に活性の帯域を含む、請求項２記載の層状構造体。
【請求項４】
エミッタ層（５）と半導体層との間の境界面（６）に１×１０１５ｃｍ−２未満の酸素用量を有する酸素汚染が存在している、請求項１記載の層状構造体。
【請求項５】
請求項１から４までのいずれか１項に記載のＳｉを基礎とするバイポーラトランジスタのための層状構造体の製造法において、
−  弗化水素含有の溶剤を用いてのシリコン基板（１）の表面の前処理後および１時間未満でのＣＶＤ反応器中への侵入前に試料の堆積を制限し、
−  試料を６５０℃〜１１００℃の温度範囲内で水素含有ガス中で５秒ないし１２０分の範囲内の熱処理時間で予め熱処理し、
−  ドーピングガスを既に層成長温度への冷却中に供給し、
−  層成長温度への冷却後に部分的に単結晶のエミッタ層（５）をシランおよびドーピングガスの添加下に４５０〜７００℃の範囲内の温度で施こし、この部分的に単結晶のエミッタ層（５）を最初に単結晶で成長させ、次に多結晶層および／または無定形層に変えることを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１項に記載のＳｉを基礎とするバイポーラトランジスタのための層状構造体の製造法。
【請求項６】
部分的に単結晶のエミッタ層（５）を化学的気相析出により低圧でマルチプレート型反応器中でもたらす、請求項５記載の方法。
【請求項７】
部分的に単結晶のエミッタ層（５）を０≦ｘ、ｙ≦１の範囲内のパラメーターｘ、ｙを有するドーピングされたＳｉｘＧｅｙＣ１−ｘ−ｙ被覆層（３）によって形成させる、請求項５または６記載の方法。
【請求項８】
試料をＣＶＤ装置の通気なしに水素含有ガス中での前温度処理前に冷時のＣＶＤ反応器で少なくとも１５分間、強力に窒素洗浄する、請求項５から７までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
層状構造体にＳｉ被覆層（４）の形成後および部分的に単結晶のエミッタ層（５）の析出前に他の技術的な部分工程、例えば酸化、移植、腐食、マスキング部分工程を受けさせる、請求項５から８までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
部分的に単結晶のＳｉエミッタ層（５）の単結晶の成長を層の析出が終結するまで維持し、したがって多結晶／無定形の成長への変化を生じさせない、請求項５から９までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
部分的に単結晶のエミッタ層（５）のためのドーピング元素がＡｓおよび／またはＰである、請求項５から１０までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
少なくとも１つのエミッタドタンドをＣＶＤ析出過程の間にエミッタ層（５）の成長のために導入する、請求項５から１１までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
エミッタドタンドを既に冷却処理の際およびシラン添加の前に部分的に単結晶のＳｉエミッタ層（５）の成長のために導入する、請求項５から１２までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
選択的に均一にドーピングされた部分的に単結晶のエミッタ層（５）または成長率の向上のために部分的に単結晶のエミッタ層（５）のドーピングされた部分およびドーピングされていない部分を交互に析出する、請求項５から１３までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
部分的に単結晶のエミッタ層（５）をＳｉ基板ウェーハ上にもたらす、請求項５から１４までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
部分的に単結晶のエミッタ層（５）を市販のＳｉ基板ウェーハ上または市販の”絶縁体上のシリコン”（ＳＯＩ）ウェーハ上ならびにホモエポタキシャル層および公知技術水準に相応して形成されたＳｉベース構造およびＳｉコレクタ構造を有するＳｉウェーハ上にもたらす、請求項５から１５までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
部分的に単結晶のエミッタ層（５）をヘテロ構造体Ｓｉ−エミッタ／Ｓｉ／ＳｉｙＣ１−ｙ／Ｓｉ基板中で使用する、請求項５から１６までのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
部分的に単結晶のエミッタ層（５）をＳｉ基板上の０≦ｘ、ｙ≦１の範囲内のパラメーターｘ、ｙを有するＳｉ−エミッタ／Ｓｉ／ＳｉｘＧｅｙＣ１−ｘ−ｙ，ＳｉｘＧｅｙＯ１−ｘ−ｙの種類の３成分の材料系中で使用する、請求項５から１６までのいずれか１項に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成16年3月19日(2004.3.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】特許請求の範囲
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
2000507551.tif 000001
2000507551.tif 000002
2000507551.tif 000003
2000507551.tif 000004
2000507551.tif 000005
2000507551.tif 000006
2000507551.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】平成12年5月22日(2000.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
ＡＴＡ  ＣＴＡ  ＣＧＡ  ＣＧＧ  ＴＡＡ  ＡＴＧ  ＧＴ及び／又は
ＡＴＧ  ＣＴＡ  ＣＣＧ  ＡＴＡ  ＣＴＧ  ＡＴＧ  ＴＡ
のヌクレオチド配列を有するＤＮＡ配列。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
ＣＣＡ  ＣＧＧ  ＴＴＡ  ＧＧＴ  ＧＴＧ  ＧＴＡ  ＣＡＧ及び／又は
ＴＧＧ  ＴＡＴ  ＴＧＣ  ＣＡＡ  ＣＧＣ  ＣＧＡ  ＣＧ
のヌクレオチド配列を有するＤＮＡ配列。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
ＡＡＣ  ＴＧＴ  ＧＡＡ  ＧＣＧ  ＡＴＧ  ＡＡＣ  ＣＣ
及び／又は
ＧＡＴ  ＡＧＣ  ＴＣＴ  ＣＴＧ  ＡＡＣ  ＡＧＴ  ＣＣ
のヌクレオチド配列を有するＤＮＡ配列。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
ＧＣＧ  ＡＧＧ  ＴＡＡ  ＣＣＴ  ＣＧＡ  ＡＣＡ  ＴＧ
及び／又は
ＣＧＴ  ＧＡＡ  ＴＴＡ  ＴＣＧ  ＡＴＡ  ＣＧＣ  ＣＧ
及び／又は
ＧＴＧ  ＡＧＡ  ＴＧＡ  ＴＧＧ  ＣＣＡ  ＣＧＡ  ＴＴ
及び／又は
ＣＡＴ  ＣＣＧ  ＧＴＴ  ＡＴＣ  ＧＣＴ  ＴＧＧ
のヌクレオチド配列を有するＤＮＡ配列。
【手続補正書】
【提出日】平成14年2月25日(2002.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
情報処理手段およびデータ記憶手段を備えたオンボードシステム（２−２０）と協働するモバイル機器を含む、モバイル電話ネットワーク上におけるデジタルデータの伝送および処理の方法であって、前記オンボードシステム（２−２０）の前記データ記憶手段内に記憶された、レポータと呼ばれるタイプの少なくとも１つの第１の特定ソフトウェア（２１）を使用して、前記モバイル機器から受信された少なくとも１つのイベントに応答して、前記オンボードシステム内で行われる処理の実行を、少なくとも１つの遠隔サーバ（３）のデータ記憶手段内に記憶された少なくとも１つの関連ソフトウェア（３０Ｍ）に委託することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記オンボードシステムの情報処理手段およびデータ記憶手段が、少なくともソフトウェアを記憶することを目的とするものであり、前記ソフトウェアは、少なくとも１つの所定のアプリケーションと関連する機能性を実現するため、決ったコマンドの送信によって前記モバイル機器を制御し、かつ該機器から来るイベントに、前記イベントと関連する命令を実行することによって応答することができるタイプのものである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記レポータタイプのソフトウェア（２１）が、前記関連ソフトウェア（３０Ｍ）に、前記モバイル機器（１−１０）から受信した前記イベントの特性データを再転送すること、ならびに該関連ソフトウェア（３０Ｍ）が、前記特性データを受信すると、前記遠隔サーバ（３）の前記情報処理手段を介して、前記所定のアプリケーションのうち１つに関連する前記命令のすべてまたは一部を実行して、前記実行の結果を前記モバイル機器（１−１０）および／または前記オンボードマイクロチップシステム（２−２０）に再転送することを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記オンボードシステム（２−２０）が、決ったオペレーティングシステムの制御下にあり、前記遠隔サーバ（３）のうち１つの上に実装された前記関連ソフトウェア（３０Ｍ）が、前記実行結果を前記オペレーティングシステムに直接に送信されるコマンドの形態で伝送して、決った動作を実現すること、および該動作の結果が前記関連ソフトウェア（３０Ｍ）に再転送されることを特徴とする、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記遠隔サーバ（３）上に実装された前記関連ソフトウェア（３０Ｍ）が、マスタと呼ばれるタイプのソフトウェアであり、前記オンボードシステム（２−２０）の前記記憶手段内に記憶された、スレーブと呼ばれるタイプの少なくとも１つの第２の特定ソフトウェア（２２）の実装を含むこと、前記スレーブタイプのソフトウェア（２２）のそれぞれが、関連する前記マスタタイプのソフトウェア（３０Ｍ）からコマンドを受信し、前記オンボードシステム（２−２０）の前記情報処理手段を介して前記コマンドを実行すること、ならびに前記スレーブタイプのソフトウェア（２２）が、前記コマンド実行の結果を前記関連するマスタタイプのソフトウェア（３０Ｍ）に再転送することを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記レポータタイプのソフトウェア（２１）および／またはスレーブタイプのソフトウェア（２２）が、自律タイプと呼ばれるタイプのさらなる機能に関連し、該ソフトウェア（２１、２２）が、前記オンボードマイクロチップシステム（２−２０）上で前記所定のアプリケーションの所定の一部を直接実行できるようにしていることを特徴とする、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記モバイル電話ネットワークが「ＧＳＭ」規格と呼ばれる規格に準拠し、かつ前記ソフトウェアが「ＧＳＭ  １１．１４」規格に準拠することを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記電話ネットワークが、音声データチャネルと呼ばれるチャネルおよびメッセージチャネルと呼ばれるチャネルの少なくとも２つの別個の伝送チャネルを含み、伝送される前記デジタルデータが、前記メッセージチャネルを介して伝送される、１４０個の８ビットバイトまたは１６０個の７ビットバイトを含む、ショートメッセージタイプと呼ばれるタイプのメッセージによって構成されることを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
モバイル機器と協働することを目的とする情報処理手段およびデータ記憶手段を含むオンボードシステムであって、オンボードシステム（２−２０）の前記データ記憶手段内に記憶された、レポータと呼ばれるタイプの少なくとも１つの第１の特定ソフトウェア（２１）を含み、前記ソフトウェアは、前記モバイル機器から受信された少なくとも１つのイベントに応答して、前記オンボードシステム内で行われる処理の実行を、少なくとも１つの遠隔サーバ（３）のデータ記憶手段内に記憶された少なくとも１つの関連ソフトウェア（３０Ｍ）に委託することを目的とするソフトウェアであることを特徴とするシステム。
【請求項１０】
前記遠隔サーバ（３）上に実装された前記関連ソフトウェア（３０Ｍ）が、マスタと呼ばれるタイプのソフトウェアであり、オンボードシステムが、自らの前記データ記憶手段内に、スレーブと呼ばれるタイプの少なくとも１つの第２の特定ソフトウェア（２２）を記憶し、前記ソフトウェアは、自らに関連する前記マスタタイプのソフトウェア（３０Ｍ）のうち１つからのコマンドを受信し、オンボードシステム（２−２０）の前記情報処理手段を介して前記コマンドを実行し、前記コマンド実行の結果を、前記関連するマスタタイプのソフトウェア（３０Ｍ）に再転送することを目的とするソフトウェアであることを特徴とする、請求項９に記載のオンボードシステム。
【請求項１１】
前記レポータタイプのソフトウェア（２１）および／またはスレーブタイプのソフトウェア（２２）が、自律タイプと呼ばれるタイプのさらなる機能性に関連し、該ソフトウェアが、前記オンボードシステム（２−２０）上で、前記所定のアプリケーションの所定の一部を直接実行できるようにしていることを特徴とする、請求項９または１０に記載のオンボードシステム。
【請求項１２】
「ＳＩＭ」タイプと呼ばれるスマートカード（２）によって構成されることを特徴とする、請求項９から１１のいずれか一項に記載のオンボードシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成14年4月1日(2002.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
分散器（２６）は送信シーケンスカウンタ（３２）を有し、該送信シーケンスカウンタ（３２）は、受信シーケンスカウンタ（３０）のタイミングシーケンスから遅れた所定のサイクル数に、分散器（２６）のタイミングシーケンスを維持する。非分散器（１４）は、バックプレッシャ信号を非同期的に（ａｓｙｎｃｈｒｏｎｏｕｓｌｙ）発生するのが好ましい。受信シーケンスカウンタ（３０）からのタイミングは、図６に示されるように、送信シーケンスカウンタ（３２）からのタイミングに対して１５０サイクル遅れるのが好ましい。


【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
非分散器（１４）の内部ＦＩＦＯ（１６）が満杯に近くなる場合に、非分散器（１４）は、バックプレッシャをセパレータに与える。各セパレータ（２２）は、これが繋がれている全てのポートカード（１２）から、独立した２４のバックプレッシャ信号が来ることを見込んでいる。バックプレッシャ信号は、全てのＡＳＩＣに対して非同期であると考えられる。全ての関係するセパレータは、正確に同じサイクルで非分散器（１４）の特定のチャンネルからバックプレッシャを受け取る。このことは、非分散器（１４）の受信シーケンスカウンタ（３０）が遷移する際に、非分散器（１４）がバックプレッシャ信号を表明する（ａｓｓｅｒｔ）ことによって行われる。非分散器の受信シーケンスカウンタ（３０）は、セパレータの送信シーケンスカウンタの遅延バージョンであると想定される。カウンタチックの長さ２５０サイクルであり、受信カウンタは、送信カウンタに対して１５０サイクル遅れているから、図６に示すように、非分散器（１４）からセパレータ（２２）へバックプレッシャを運ぶための１５０サイクルのマージンが存在する。セパレータ（２２）は、バックプレッシャ信号をサンプリングするのに、シーケンスカウンタの遷移の前に、約１０サイクルを必要とする。これによりセパレータ（２２）は充分な時間が与えられ、カウンタ遷移の前に、バックプレッシャを上流のＡＳＩＣに与える。これは、バックプレッシャ信号に最大の要求を出す。以下の要求が当てはまる：
バックプレッシャ伝播遅延 ＜ カウンタチック長さ − 受信同期パルス遅延 − セパレータのサンプルポイントのセットアップ時間
バックプレッシャ伝播遅延 ＜ ２５０ − １５０ − １０
バックプレッシャ伝播遅延 ＜ ９０サイクル＠１２５ＭＨｚ又は７２０ｎｓ
【手続補正書】
【提出日】平成14年2月18日(2002.2.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの真空ポンプ（１００）と、真空ポンプ（１００）の温度を制御する温度制御システム（２）とを備える真空発生装置であって、温度制御システム（２）は、真空ポンプ（１００）のポンプ本体（１）と熱的に連絡する少なくとも１つの第１の回路部分（８）を含む、熱搬送液体が循環する少なくとも１つの熱交換回路（６）と、熱搬送液体を熱交換回路（６）内に循環させる循環手段（１１）と、制御信号に応じて熱交換回路（６）の熱交換容量を制御する制御手段とを有し、
制御手段（２０）によって熱コンダクタンスを調節できる熱伝導手段（１２、１３、１５）が、ポンプ本体（１）と第１の回路部分（８）との間に熱的な連絡を提供することと、
制御手段（２０）が、熱伝導手段（１２、１３、１５）の熱コンダクタンスを変化させるよう構成され、ポンプ本体（１）の温度を事前に定めた基準温度の近傍に維持することと、
熱搬送液体を循環させる循環手段（１１）が、熱搬送液体を、真空ポンプ（１００）の最大運転条件下において十分な熱交換を提供するために必要な流量を下回らない流量で、熱交換回路（６）内を恒久的に循環させるように構成されたことを特徴とする、真空発生装置。
【請求項２】
熱交換回路（６）が、真空ポンプ（１００）を加熱するように構成されたことを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
熱交換回路（６）が、真空ポンプ（１００）を冷却するように構成されたことを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
熱コンダクタンスを調節できる熱伝導手段が、
第１の回路部分（８）とポンプ本体（１）との間に配置された少なくとも１つの調節室（１２）と、
調節室（１２）に接続され、調節室（１２）に調節可能な量の熱連絡液体（１５）を供給し、第１の回路部分（８）とポンプ本体（１）との間の熱連絡液体（１５）で占められている熱交換面積を調節するように構成された、熱連絡液体の供給源（１３）とを備えることを特徴とする、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
熱連絡液体の供給源（１３）が、熱連絡液体が通過するパイプ（１６）と、熱連絡液体の供給部（１７）と、熱連絡液体（１５）を調節室（１２）と熱連絡液体の供給部（１７）との間に通過させる液体調節手段（１８、１９）とを備えることを特徴とする、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
液体調節手段が、熱連絡液体の供給部（１７）内に配置されたピストン（１８）を備え、該ピストン（１８）は、温度指令信号およびポンプ本体（１）に結合された温度センサ（２１）から送信されるポンプ温度測定信号に応じて、制御部（２０）によって制御されるアクチュエータ（１９）によって駆動されることを特徴とする、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
調節室（１２）が、ポンプ本体（１）内に形成された空洞であって、空洞を貫通する熱交換パイプ（１４）を具備し、前記パイプは前記第１の回路部分（８）を形成し、空洞は、大気に対して漏れないように閉鎖手段（２６、２７）によって閉鎖され、熱交換パイプ（１４）は、２つの異なる末端レベル（２４、２５）の間に起立する少なくとも１つの部分（２３）を有し、該末端レベルが、熱連絡液体（１５）の調節可能な末端深さを規定していることを特徴とする、請求項４に記載の装置。
【請求項８】
調節室（１２）が、２つの対向する端部（２４、２５）を有し、該端部を貫通する熱交換パイプ（１４）を具備することを特徴とする、請求項７に記載の装置。
【請求項９】
調節室（１２）が、端部（２４、２５）で、漏れのない１つまたは複数のプラグ（２６、２７）で閉鎖されていることを特徴とする、請求項７に記載の装置。
【請求項１０】
調製室（１１２）が、熱交換パイプ（１１４）の周りでかしめ（１２６、１２７）によって閉鎖されていることを特徴とする、請求項７に記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成14年3月13日(2002.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
仕上げローラスタンドを離れた後の棒状圧延素材内／上の材料の傷をマーキングするための方法において、
超音波検査及び／または誘導性検査により圧延プロセス中に傷の箇所を検出し、
この情報を計算機に伝送し、該計算機によって、種類と圧延製品における位置とに応じて識別及び記憶し、
前記計算機は、このデータに基づいて、棒状の完成材料が各々の傷の種類に応じて前記計算機により求められた位置でマーキングされるように、マーキング装置を制御する、ことを特徴とする材料の傷をマーキングするための方法。
【請求項２】
材料検査の開始から、ローラ端部の速度に依存する所定の時間が経過した後で、傷の評価または傷検出、及びマーキング命令を行う、請求項１記載の方法。
【請求項３】
所定の時間の間に検出された個々の傷を合計し、所定の傷重要度レベルに達して初めてマーキング命令を発する、請求項２記載の方法。
【請求項４】
冷却床の長さに切断する前に、熱い圧延材料に対して直接マーキングを行う、請求項１から３のいずれか１項記載の方法。
【請求項５】
冷却床の長さに切断した後で、注文された長さに裁断する前／後にマーキングを行う、請求項１から３のいずれか１項記載の方法。
【請求項６】
前記マーキングは、計算機プログラムだけによって実行される、記憶された仮想マーキングである、請求項１から５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
マーキングに基づいて、電子的または光学的マーキング検出による自動選別を実行する、請求項１から６のいずれか１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成14年3月19日(2002.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポンプステータ（１）を備えるデュアルロータ真空ポンプユニット（１００）であって、該ポンプステータは、平行な２つのポンプロータ（１４）を受ける少なくとも１つの軸方向内部空洞（１３）を有し、該平行な２つのポンプロータは、対応するベアリング（１５、１６）で回転するように取り付けられ、かつオイルを含むギアケーシング（１８）内に封入されたギア（１７）のセットによって第１の端部でともに結合され、１つのポンプロータ（１４）の第１の端部が、真空ポンプ（１００）を駆動するモータユニット（２００）のロータ（３）に係合された駆動軸（２）によって軸方向に延長され、モータユニット（２００）が、ステータコイル（１１）を有し、かつギアケーシング（１８）を延長するモータケーシング（５）内に封入され、
モータケーシング（５）およびギアケーシング（１８）が、真空ポンプ（１００）のポンプステータ（１）の第１の端部に結合された、一体の共通のケーシングを形成し、
一体の共通のケーシング内部では、モータユニット（２００）のステータコイル（１１）が、オイルおよびガスが外部に流出することを防ぐシーリングを提供する、リークプルーフ樹脂（１９）に埋め込まれていることを特徴とする、デュアルロータ真空ポンプユニット。
【請求項２】
一体の共通のケーシング（５、１８）が、モータ（３、４）を含む第１の区画室（２４）とギア（１７）のセットを含む第２の区画室（２５）との間に中間壁（２３）を含み、該中間壁が、第１の区画室（２４）と第２の区画室（２５）との間の駆動軸（２）周囲にシーリングを提供するための動的シール（６）を有する、駆動軸（２）のための経路を含むことを特徴とする、請求項１に記載のポンプユニット。
【請求項３】
一体の共通のケーシング（５、１８）が、閉鎖ハッチ（２１）によってリークプルーフの方法で閉じられている、軸方向端部開口（２０）を有していることを特徴とする、請求項１に記載のポンプユニット。
【請求項４】
一体の共通のケーシング（５、１８）が、ベアリング支持部（２６）を介してポンプステータ（１）の第１の端部に接続され、該ベアリング支持部が、駆動軸（２）をガイドする第１のベアリング（１５）を有し、かつモータユニット（２００）にできるだけ近い位置に設けられることを特徴とする、請求項１に記載のポンプユニット。
【請求項５】
駆動軸（２）は、第１のガイドベアリング（１５）から一端が飛び出ていることを特徴とする、請求項４に記載のポンプユニット。
【請求項６】
モータ（３、４）が、二倍の周波数（２Ｆ）で給電される四極モータであることを特徴とする、請求項１に記載のポンプユニット。
【手続補正書】
【提出日】平成14年3月28日(2002.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロプロセッサ（１１）、データ入力（１２、１３）、および画面（１３）を備える透析治療をセットアップするための装置（６）を備える透析機械（１）において透析治療をセットアップする方法であって、
時間（ｔ）と、関数群の各関数（Ｕ（ｔ，Ｐ）；Ｃ（ｔ，Ｐ））の中間値（Ｕｉ，Ｃｉ）に相関される可変パラメータ（Ｐ）との関数として透析治療を特徴付ける量（Ｕ；Ｃ）の前記関数群（Ｕ（ｔ，Ｐ）；Ｃ（ｔ，Ｐ））を供給するステップと、
特定の療法を特徴付ける境界条件（Ｕ０、ＴＷＬ、ＤＴ；Ｃ０、Ｃｆ、ＤＴ；Ｃ０、ＣＳ、ＤＴ）を課す関数（Ｕ（ｔ，Ｐ）；Ｃ（ｔ，Ｐ））の群のサブセットを選択するステップと、
パラメータ（Ｐ）に値を割り当て、サブセットの関数（Ｕ（ｔ，Ｐ）；Ｃ（ｔ，Ｐ））と、パラメータ（Ｐ）に割り当てられた当該の値とに対応する曲線を表示するステップと、
曲線の画像に基づいてサブセットの関数（Ｕ（ｔ，Ｐ）；Ｃ（ｔ，Ｐ））の１つを選択するステップとを含む方法。
【請求項２】
パラメータ（Ｐ）に値を割り当てるステップと、
パラメータ（Ｐ）に割り当てられた値によって弁別されるサブセットの関数（Ｕ（ｔ，Ｐ）；Ｃ（ｔ，Ｐ））に対応する曲線を表示するステップと、
曲線の画像が、規定された要件に合致する場合に、（Ｐ）の値を確定するステップと、
曲線の画像が、規定された要件に合致しない場合に、パラメータ（Ｐ）にさらなる値を割り当て、パラメータ（Ｐ）に割り当てられたさらなる値によって弁別されるサブセットのさらなる関数（Ｕ（ｔ，Ｐ）；Ｃ（ｔ，Ｐ））に対応するさらなる曲線を表示するステップと
をさらに含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
パラメータ（Ｐ）が、関数の群の当該の関数（Ｕ（ｔ，Ｐ）；Ｃ（ｔ，Ｐ））の曲線の曲率と相関される請求項１に記載の方法。
【請求項４】
各曲線が、画面（１３）上の直交座標系（２０；２７；３４）に関係して表示され、パラメータ（Ｐ）が、曲線が直線であるか、一方向で曲率を有するか、または反対方向で曲率を有するかを弁別し、曲率の範囲を求める請求項３に記載の方法。
【請求項５】
境界条件が、
透析治療を特徴付ける量（Ｕ；Ｃ）に相関される少なくとも第１および第２の値（Ｕ０、ＴＷＬ；Ｃ０、Ｃｆ；Ｃ０、ＣＳ）と、
透析治療の持続時間を示す第３の値（ＤＴ）の入力と
を含む請求項１に記載の方法。
【請求項６】
機械が、血液を循環させるための血液回路（４）と、ある比率の血液を抽出し、患者の体重減少（ＴＷＬ）を行うための限外濾過ポンプ（９）とを備え、限外濾過ポンプ（９）が可変送達量（Ｑ（ｔ））を有し、透析治療を特徴付ける量が、単位時間当たりの体重減少（Ｕ）であり、第１の値（Ｕ０）が、透析治療の開始時の単位時間当たりの体重減少であり、第２の値が、抽出された血液、すなわち体重減少の総量（ＴＷＬ）であり、透析の持続期間に関する関数（Ｕ（ｔ））の積分に等しい請求項５に記載の方法。
【請求項７】
機械（１）が、規定された塩の濃度を有する透析液を搬送するための透析液回路（３）と、透析治療中に塩の濃度を変えるための装置（２）とを備え、前記量が、塩の濃度に相関された透析液の導電率（Ｃ）である請求項５に記載の方法。
【請求項８】
第１の値が透析治療開始時の導電率（Ｃ０）の値であり、第２の値が透析治療終了時の導電率（Ｃｆ）の値であり、第２の値が第１の値よりも小さい請求項５および請求項７に記載の方法。
【請求項９】
第１の値が透析治療開始時の導電率（Ｃ０）の値であり、第２の値が、患者に移送しなければならない塩の総量の値（ＣＳ）である請求項５および請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
塩の量が、透析液の濃度（Ｃ（ｔ））の曲線と、透析液と血液の間の塩の移送を特徴付ける吸収関数（ＦＦ（ｔ））の関数との積分に等しい請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
吸収関数（ＦＦ（ｔ））が、透析液の濃度と、血液の特徴の濃度との差の関数である請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
関数（Ｕ（ｔ，Ｐ））の第１の群の中から、透析治療を特徴付ける第１の量（Ｕ）の第１の関数（Ｕ（ｔ））を求め、関数（Ｃ（ｔ，Ｐ））の第２の群の中から、透析治療を特徴付ける第２の量（Ｃ）の第２の関数（Ｃ（ｔ））を求めるステップを含む請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
第１および第２の関数（Ｕ（ｔ）；Ｃ（ｔ））がそれぞれ独立して求められる請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
第１の群の各第１の関数（Ｕ（ｔ））が、１次導関数の当該の第１の連続曲線に対応し、各関数（Ｃ（ｔ））が、１次導関数の当該の第２の連続曲線に対応し、前記方法が、第２の曲線が第１の曲線と同じ形状を有するように規定する第２の関数（Ｃ（ｔ））を選択することを想定している請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
第２の関数（Ｃ（ｔ））の値が、実験から求められた定数（Ｍ、Ｎ）によって第１の関数（Ｕ（ｔ））の値に関連されている請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
第２の関数（Ｃ（ｔ））が、第２の群の関数（Ｃ（ｔ，Ｐ））の中から選択され、第１の群の関数（Ｃ（ｔ））の中から第１の関数（Ｕ（ｔ））を選択するために採用されるパラメータ（Ｐ）と同じ値を規定する請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
マイクロプロセッサ（１１）、データ入力（１２、１３）、および画面（１３）を備える透析治療をセットアップするための装置であって、請求項１から１４のいずれか１項に記載の方法を実行できる装置。
【請求項１８】
透析液を調整するための装置（２）と、
透析液回路（３）と、
血液回路（４）と、前記透析液調整装置（２）と血液回路（４）に接続されたフィルタ（５）とを有した機械であって、該機械が請求項１７に記載の透析治療をセットアップするための装置をさらに有している機械。
【手続補正書】
【提出日】平成14年3月29日(2002.3.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透析機械（１）において透析治療を始動する方法であって、
特定の患者に適合する透析治療の条件（Ｕ０、ＴＷＬ、ＤＴ）を求め、
時間（ｔ）の関数として透析治療を特徴付ける第１の量（Ｕ）の第１の関数（Ｕ（ｔ））を求め、透析治療の条件（Ｕ０、ＴＷＬ、ＤＴ）を満たし、規定された形状を有する曲線に対応する前記第１の関数（Ｕ（ｔ））を求め、
透析治療を特徴付ける第２の量（Ｃ）の第２の関数（Ｃ（ｔ））を求め、実験により求められた定数（Ｍ、Ｎ）によって、第１の関数（Ｕ（ｔ））と、第１の曲線の形状と同じ形状を有する曲線に対応する第２の関数（Ｕ（ｔ））とに相関される前記第２の関数（Ｃ（ｔ））を求める
段階を含む方法。
【請求項２】
前記透析機械（１）が、
半透過性膜（７）によって分離された第１および第２の区画を有する透析器（５）の第１の区画内で血液を循環させるための体外血液回路（４）と、
透析器（５）の第２の区画内で透析液を搬送するための透析液回路であって、前記透析液が、透析液の導電率（Ｃ）に相関する規定された濃度の塩を有する透析液回路（３）と、
透析治療中に透析液中の塩の濃度を変えるための装置（２）と、
体外血液回路（４）内で循環される血液からプラズマ水を抽出し、透析治療中に体重減少（ＴＷＬ）をもたらすための、可変送達量（Ｑ）を有する限外濾過ポンプ（９）と、を包含し、
前記第１の量が、限外濾過ポンプ（９）の送達量（Ｑ）に相関された単位時間当たりの体重減少（Ｕ）であり、前記第２の量が透析液の導電率（Ｃ）である請求項１に記載された方法。
【請求項３】
前記定数（Ｍ、Ｎ）が、透析治療の初期瞬時の単位時間当たりの体重減少（Ｕ）の第１の値（Ｕ０）を透析治療の初期瞬時の透析液の導電率（Ｃ）の値（Ｃ０）に関係させる第１の定数（Ｍ）と、第１の値（Ｕ０）と透析治療の最終瞬時の単位時間当たりの体重減少（Ｕ）の第３の値（Ｕｆ）との差を、第２の値（Ｃ０）と透析治療の最終瞬時の透析液の導電率（Ｃ）の第４の値（Ｃｆ）との差に関係させる第２の定数（Ｎ）とを備え、前記第１および第３の値（Ｕ０、Ｕｆ）が第１の関数から既知である請求項２に記載された方法。
【請求項４】
前記透析機械（１）が、マイクロプロセッサ（１１）、データ入力（１２、１３）、および画面（１３）を備える透析治療をセットアップするためのデバイス（６）を備え、前記方法は、
時間（ｔ）と、第１の群の各関数（Ｕ（ｔ，Ｐ））の中間値（Ｕｉ）に相関される可変パラメータ（Ｐ）との関数として単位時間当たりの体重減少（Ｕ）を特徴付ける関数（Ｕ（ｔ，Ｐ））の第１の群を供給し、
特定の患者に適合される透析治療の条件（Ｕ０、ＴＷＬ、ＤＴ）を課す関数（Ｕ（ｔ，Ｐ））の群のサブセットを選択し、
パラメータ（Ｐ）に値を割り当て、サブセットの関数（Ｕ（ｔ，Ｐ））と、パラメータ（Ｐ）に割り当てられた当該の値とに対応する曲線を表示し、
曲線の画像に基いてサブセットの関数（Ｕ（ｔ，Ｐ））の１つを選択する、
段階を含む請求項３に記載された方法。
【請求項５】
前記透析治療の条件（Ｕ０、ＴＷＬ、ＤＴ）が、総体重減少（ＴＷＬ）と、透析時間（ＤＴ）と、透析治療の初期瞬時の単位時間当たりの体重減少に関係する第１の値（Ｕ０）とを含む請求項４に記載された方法。
【請求項６】
前記パラメータ（Ｐ）が、サブセットの当該の第１の関数（Ｕ（ｔ））と相関される各第１の曲線の曲率を特徴付け、前記第２の関数（Ｃ（ｔ））の割出しが、
関数（Ｃ（ｔ，Ｐ））の第２の群を供給し、
第１および第２の定数（Ｍ、Ｎ）によって第１の関数（Ｕ（ｔ））との相関を満たし、パラメータ（Ｐ）でパラメータ表示された第２の関数（Ｃ（ｔ，Ｐ））のサブセットを求め、
第１の関数（Ｕ（ｔ））と同じパラメータ（Ｐ）の値を有する第２の関数（Ｃ（ｔ））を供給する
段階を含む請求項４に記載された方法。
【請求項７】
各第１の曲線が、画面（１３）上の直交座標系（２０）に関係して表示され、前記パラメータ（Ｐ）は、曲線が直線であるか、一方向に向けられた曲率を有するか、または反対方向に向けられた曲率を有するかを弁別し、曲率の度合を求める請求項６に記載された方法。
【請求項８】
前記第２の関数（Ｃ（ｔ））に相関された第２の曲線の画像を画面（１３）上に供給するステップを含む請求項６に記載された方法。
【請求項９】
前記第２の曲線の形状および当該第２の関数（Ｃ（ｔ））を変化させるためのパラメータ（Ｐ）に割り当てられた値を変える段階を含む請求項８に記載された方法。
【請求項１０】
初期導電率（Ｃ０）の値を変えることによって前記第２の曲線を変化させる段階を含む請求項８または請求項９のいずれか一項に記載された方法。
【請求項１１】
最終導電率（Ｃｆ）の値を変えることによって前記第２の曲線を変化させる段階を含む請求項８から請求項１０までのいずれか一項に記載された方法。
【請求項１２】
マイクロプロセッサ（１１）、データ入力部（１２，１３）、および画面（１３）を含む透析治療を始動する装置であって、請求項１から請求項１１に記載された方法を行うことができる透析治療を始動する装置。
【請求項１３】
透析液を準備する装置（２）、
透析液回路（３）、
血液回路（４）、および
前記装置（２）および血液回路（４）に接続されたフィルター（５）、
を含む機械であって、該機械が請求項１２に記載された透析治療を始動する装置をさらに含む機械。
【手続補正書】
【提出日】平成14年2月25日(2002.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
請求項１、２、３、４、５、６または７に記載の、上記式Ｉで示される化合物の、炎症性または免疫細胞−媒介疾患または症状の治療または予防に必要な量を含有する、炎症性または免疫細胞−媒介疾患または症状の治療または予防のための医薬組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
該疾患または状態が、成人呼吸窮迫症候群、ショック、酸素毒性、敗血症に関する二次的傷害である多発性器官傷害症候群、外傷に関する二次的傷害である多発性器官傷害症候群、心臓穿刺バイパスによる組織の再灌流傷害、血栓溶解剤の使用に関わる心筋梗塞、急性糸球体腎炎、血管炎、反応性関節炎、急性炎症性成分を含む皮膚病、発作、熱傷、血液透析、白血球除去血輸血、潰瘍性大腸炎、壊死性全腸炎および顆粒球輸注関連症候群からなる群から選択される、請求項９記載の医薬組成物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
該疾患または状態が、乾癬、器官／組織移植に対する拒絶反応、移植片宿主反応、およびレイノー症候群を含む自己免疫性疾患、自己免疫性甲状腺炎、皮膚炎、多発性硬化症、リュウマチ性関節炎、インシュリン−依存性糖尿病、ブドウ膜炎、クローン病を含む炎症性腸疾患、および潰瘍性大腸炎；および全身性紅斑性狼瘡からなる群から選択される、請求項９記載の医薬組成物。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
該疾患または状態が喘息である請求項９記載の医薬組成物。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
該状態が、サイトカイン療法に関連する毒性である、請求項９記載の医薬組成物。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１４】
該疾患または状態が乾癬である請求項９記載の医薬組成物。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１５】
請求項１、２、３、４、５、６、７または８に記載の、上記式Ｉで示される化合物を含むことを特徴とする、薬理組成物。