(57)【要約】【課題】ノズルへのヒュームの付着を抑制できる溶接装置を提供する。【解決手段】実施形態に係る溶接装置は、処理室と、ホルダと、照射部と、ノズルと、第１排気口と、制御部と、を備える。ホルダは、処理室内に設けられ、溶接対象を保持する。照射部は、溶接対象に向けてレーザ光を照射する。ノズルは、レーザ光に対して傾斜した角度から、溶接対象に向けて不活性ガスを噴射する。第１排気口は、処理室の第１側面に設けられ、処理室内の気体を排出する。制御部は、溶接対象の第１溶接部分へノズルから不活性ガスを噴射させつつ、第１溶接部分へ照射部からレーザ光を照射する第１動作を行う。制御部は、第１動作において、ノズルを第１溶接部分の第１排気口側とは反対側に位置させる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理室と、
前記処理室内に設けられ、溶接対象を保持するホルダと、
前記溶接対象に向けてレーザ光を照射する照射部と、
前記レーザ光に対して傾斜した角度から、前記溶接対象に向けて不活性ガスを噴射するノズルと、
前記処理室の第１側面に設けられ、前記処理室内の気体を排出する第１排気口と、
前記溶接対象の第１溶接部分へ前記ノズルから前記不活性ガスを噴射させつつ、前記第１溶接部分へ前記照射部から前記レーザ光を照射する第１動作を行う制御部と、
を備え、
前記制御部は、前記第１動作において、前記ノズルを前記第１溶接部分の前記第１排気口側とは反対側に位置させる溶接装置。
【請求項２】
前記処理室の第２側面に設けられ、前記処理室内の前記気体を排出する第２排気口をさらに備え、
前記制御部は、前記第１動作の後に、前記溶接対象の第２溶接部分へ前記ノズルから前記不活性ガスを噴射させつつ、前記第２溶接部分へ前記照射部から前記レーザ光を照射する第２動作を行い、
前記制御部は、前記第２動作において、前記ノズルを前記第２溶接部分の前記第２排気口側とは反対側に位置させる請求項１記載の溶接装置。
【請求項３】
前記第１動作の少なくとも一部において、前記ノズルと前記第１側面との間の距離は、前記ノズルと前記第２側面との間の距離よりも短く、
前記第２動作の少なくとも一部において、前記ノズルと前記第２側面との間の距離は、前記ノズルと前記第１側面との間の距離よりも短い請求項２記載の溶接装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記第１動作中に、前記第１排気口内の圧力を、前記第２排気口内の圧力よりも低下させ、前記第２動作中に、前記第２排気口内の圧力を、前記第１排気口内の圧力よりも低下させる請求項２又は３に記載の溶接装置。
【請求項５】
前記照射部及び前記ノズルを保持するヘッドをさらに備え、
前記ヘッドは、前記レーザ光が透過する領域の周りに設けられた環状の流路を有し、
前記流路には、前記不活性ガスが供給され、
前記ノズルは、前記流路の一部に設けられた第１穴を通して前記流路と連通する請求項１〜４のいずれか１つに記載の溶接装置。
【請求項６】
前記ヘッドに接続され、前記不活性ガスが流れる配管をさらに備え、
前記ヘッドは、
前記ノズルが固定され、前記第１穴が設けられた第１部材と、
前記第１部材の上に重ね合わされ、前記配管が接続された第２部材と、
を有し、
前記流路は、前記第１部材と前記第２部材との隙間により構成され、
前記流路には、前記第２部材に設けられた第２穴を通して前記配管から前記不活性ガスが供給され、
前記第１部材は、前記第２部材に対して回転可能である請求項５記載の溶接装置。
【請求項７】
前記第１動作において、前記ノズルの先端は、前記第１排気口の一部と同じ高さに位置する請求項１〜６のいずれか１つに記載の溶接装置。
【請求項８】
前記ホルダの上面は、前記第１排気口の一部と同じ高さに位置する請求項１〜７のいずれか１つに記載の溶接装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、溶接装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
レーザ光を照射し、部品同士を溶接する溶接装置がある。この溶接装置では、溶接部分の酸化を抑制するために、ノズルから溶接部分へ不活性ガスが吹き付けられる。
レーザ光を照射し、部品が溶融すると、その材料の一部が気化する。気化した材料が冷えると、その材料が凝固し、細かい粒子（ヒューム）となる。ヒュームがノズルの先端に付着すると、不活性ガスの流量が低下し、溶接部分が酸化する可能性がある。また、ノズルに付着したヒュームが溶接部分に落下すると、部品同士が十分に溶接されない可能性がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１１−２８５８８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明が解決しようとする課題は、ノズルへのヒュームの付着を抑制できる溶接装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
実施形態に係る溶接装置は、処理室と、ホルダと、照射部と、ノズルと、第１排気口と、制御部と、を備える。前記ホルダは、前記処理室内に設けられ、溶接対象を保持する。前記照射部は、前記溶接対象に向けてレーザ光を照射する。前記ノズルは、前記レーザ光に対して傾斜した角度から、前記溶接対象に向けて不活性ガスを噴射する。前記第１排気口は、前記処理室の第１側面に設けられ、前記処理室内の気体を排出する。前記制御部は、前記溶接対象の第１溶接部分へ前記ノズルから前記不活性ガスを噴射させつつ、前記第１溶接部分へ前記照射部から前記レーザ光を照射する第１動作を行う。前記制御部は、前記第１動作において、前記ノズルを前記第１溶接部分の前記第１排気口側とは反対側に位置させる。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】第１実施形態に係る溶接装置を模式的に表す斜視図である。
【図２】第１実施形態に係る溶接装置の動作を表す模式図である。
【図３】第１実施形態に係る溶接装置の一部を表す斜視図である。
【図４】第１実施形態に係る溶接装置の動作を表すフローチャートである。
【図５】第１実施形態の変形例に係る溶接装置の動作を例示する模式図である。
【図６】第２実施形態に係る溶接装置の動作を表す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下に、本発明の各実施形態について図面を参照しつつ説明する。
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
また、本願明細書と各図において、既に説明したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
【０００８】
図１は、第１実施形態に係る溶接装置を模式的に表す斜視図である。
図２は、第１実施形態に係る溶接装置の動作を表す模式図である。
図３は、第１実施形態に係る溶接装置の一部を表す斜視図である。
【０００９】
図１に表したように、第１実施形態に係る溶接装置１００は、処理室１、ホルダ３、照射部５、ノズル７、第１排気口１１、ヘッド２０、及び制御部３０を備える。
【００１０】
処理室１は、部材の溶接処理を行うための処理空間を形成している。ホルダ３、照射部５、及びノズル７は、処理室１内に設けられている。ホルダ３は、溶接対象である部材４０を保持する。ホルダ３は、例えば、機械式チャック、真空チャック、又は静電チャックなどにより部材４０を固定する。
【００１１】
照射部５は、部材４０に向けてレーザ光Ｌを照射する。例えば、不図示の発振器によりレーザ光が発生され、光ファイバー又はミラーなどを用いて照射部５にレーザ光が導かれる。照射部５は、そのレーザ光を部材４０の溶接部分に集光させるための光学系を有する。
【００１２】
例えば、部材４０は、部品４０ａ及び部品４０ｂから構成される。部材４０にレーザ光Ｌが照射されることで、部品４０ａの一部及び部品４０ｂの一部が溶融する。溶融した部分同士が混ざり合い、凝固することで、部品４０ａと４０ｂが接合され、部材４０が作製される。
【００１３】
ノズル７は、レーザ光Ｌに対して傾斜した角度から、部材４０の溶接部分に向けて不活性ガスを噴射する。当該角度は、３０度以上６０度以下が好ましい。当該角度は、例えば４５度に設定される。不活性ガスとしては、窒素、ヘリウム、又はアルゴンなどを用いることができる。
【００１４】
図２に表したように、処理室１は、第１側面Ｓ１〜第４側面Ｓ４を有する。第１側面Ｓ１は、第３側面Ｓ３と対向している。第２側面Ｓ２は、第４側面Ｓ４と対向している。第１排気口１１は、第１側面Ｓ１に設けられている。
【００１５】
図１及び図２に表した例では、第２側面Ｓ２〜第４側面Ｓ４にそれぞれ第２排気口１２〜第４排気口１４がさらに設けられている。第１排気口１１〜第４排気口１４は、処理室１内の気体を排出する。
【００１６】
例えば、第１排気口１１〜第４排気口１４は、それぞれ、バルブ１１ｖ〜１４ｖを介して排気部１５に接続されている。排気部１５は、例えば、ブロア又はファンである。バルブ１１ｖ〜１４ｖを開いた状態で排気部１５が動作することで、第１排気口１１〜第４排気口１４を通して処理室１内を排気できる。
【００１７】
制御部３０は、溶接装置１００の各構成要素の動作を制御する。例えば、制御部３０は、照射部５及びノズル７の位置を制御し、部材４０の溶接される箇所を調整する。また、制御部３０は、バルブ１１ｖ〜１４ｖ及び排気部１５を制御する。例えば、バルブ１１ｖ〜１４ｖの１つのみを開いて排気部１５を動作させることで、第１排気口１１〜第４排気口１４の１つのみを通して排気できる。
【００１８】
例えば、ヘッド２０は、照射部５及びノズル７を有し、制御部３０は、ヘッド２０のＸ方向における位置、Ｙ方向における位置、及び回転角度θを制御する。これにより、照射部５及びノズル７の位置が調整される。なお、ここでは、ホルダ３の表面に平行であり、相互に直交する２方向をＸ方向及びＹ方向としている。Ｘ方向及びＹ方向に垂直なＺ方向を回転軸としてヘッド２０を回転させた場合の回転角度をθとしている。
【００１９】
一例として、溶接装置１００は、図２に表したように、部材４０の第１溶接部分４１〜第４溶接部分４４を溶接する。この例では、第１溶接部分４１及び第３溶接部分４３は、Ｙ方向に延びる線状である。第２溶接部分４２及び第４溶接部分４４は、Ｘ方向に延びる線状である。
【００２０】
制御部３０は、まず、第１動作ＯＰ１を行う。第１動作ＯＰ１では、第１溶接部分４１へノズル７から不活性ガス７ａを噴射させつつ、第１溶接部分４１へ照射部５からレーザ光Ｌを照射する。このとき、制御部３０は、図２及び図３に表したように、ノズル７を、第１溶接部分４１の第１排気口１１側とは反対側に位置させる。換言すると、第１動作において、第１溶接部分４１（レーザ光Ｌが照射された部分）のＸ方向における位置は、ノズル７先端のＸ方向における位置と、第１排気口１１のＸ方向における位置と、の間にある。制御部３０は、この位置関係を保ったまま、矢印Ａ１の方向に沿ってヘッド２０を移動させ、第１溶接部分４１の全体を溶接していく。
【００２１】
続いて、制御部３０は、第２動作ＯＰ２を行う。第２動作ＯＰ２では、第２溶接部分４２へノズル７から不活性ガス７ａを噴射させつつ、第２溶接部分４２へ照射部５からレーザ光Ｌを照射する。第２動作ＯＰ２において、制御部３０は、ノズル７を、第２溶接部分４２の第２排気口１２側とは反対側に位置させる。換言すると、第２動作において、第２溶接部分４２（レーザ光Ｌが照射された部分）のＹ方向における位置は、ノズル７先端のＹ方向における位置と、第２排気口１２のＹ方向における位置と、の間にある。制御部３０は、この位置関係を保ったまま、矢印Ａ２の方向に沿ってヘッド２０を移動させ、第２溶接部分４２の全体を溶接していく。
【００２２】
その後、第３動作ＯＰ３及び第４動作ＯＰ４を順次行う。制御部３０は、第３動作ＯＰ３及び第４動作ＯＰ４において、それぞれ、第１動作ＯＰ１及び第２動作ＯＰ２と実質的に同じ動作を行う。
【００２３】
すなわち、第３動作ＯＰ３において、制御部３０は、ヘッド２０を矢印Ａ３の方向へ移動させながら、第３溶接部分４３へ、不活性ガス７ａの噴射及びレーザ光Ｌの照射を行う。第３動作ＯＰ３において、制御部３０は、ノズル７を、第３溶接部分４３の第３排気口１３側とは反対側に位置させる。
第４動作ＯＰ４において、制御部３０は、ヘッド２０を矢印Ａ４の方向へ移動させながら、第４溶接部分４４へ、不活性ガス７ａの噴射及びレーザ光Ｌの照射を行う。制御部３０は、ノズル７を、第４溶接部分４４の第４排気口１４側とは反対側に位置させる。
【００２４】
以上の動作により、部材４０の第１溶接部分４１〜第４溶接部分４４が順次溶接される。なお、ここでは、部材４０の４つの部分を溶接する場合を例示したが、溶接装置１００において、溶接される部分の数及び溶接される部分の形状は任意である。
【００２５】
例えば、溶接装置１００により、部材４０の第１溶接部分４１のみが溶接されても良い。この場合、制御部３０は、第１動作のみを行う。この場合、溶接装置１００に、第２排気口１２〜第４排気口１４が設けられていなくても良い。
溶接装置１００により、部材４０の第１溶接部分４１及び第２溶接部分４２のみが溶接されても良い。この場合、制御部３０は、第１動作及び第２動作のみを行う。この場合、溶接装置１００に、第３排気口１３及び第４排気口１４が設けられていなくても良い。
【００２６】
第１実施形態の効果を説明する。
第１実施形態に係る溶接装置１００では、部材４０の第１溶接部分４１が溶接される際、制御部３０は、ノズル７を、第１溶接部分４１の第１排気口１１側とは反対側に位置させる。この位置関係によれば、ノズル７から噴射された不活性ガス７ａは、第１溶接部分４１へ当たった後、第１排気口１１に向けて流れる。部材４０が蒸発して生じた気体及びヒュームは、不活性ガスの流れによって第１排気口１１へ流れていく。このため、第１実施形態に係る溶接装置１００によれば、ノズル７へのヒュームの付着を抑制できる。
【００２７】
特に、溶接装置１００では、処理室１の側面に設けられた排気口により、処理室１内の気体を排出する。このため、排気口がホルダ３やヘッド２０などに設けられている場合に比べて、排気口の開口面積を大きくできる。この結果、ヒュームがより第１排気口１１に向けて流れ易くなり、ノズル７へのヒュームの付着を効果的に抑制できる。
【００２８】
また、溶接装置１００では、第１排気口１１に加えて、第２側面Ｓ２に第２排気口１２が設けられている。第２溶接部分４２と第２側面Ｓ２との間の距離は、第１溶接部分４１の少なくとも一部と第２側面Ｓ２との間の距離よりも短い。第２溶接部分４２を溶接する際、制御部３０は、ノズル７を、第２溶接部分４２の第２排気口１２側とは反対側に位置させる。これにより、第２溶接部分４２にレーザ光Ｌを照射した際に発生するヒュームを、より効率的に処理室１内から排出できる。
【００２９】
すなわち、第１動作ＯＰ１の少なくとも一部において、ノズル７と第１側面Ｓ１との間のＸ方向における距離は、ノズル７と第２側面Ｓ２との間のＹ方向における距離よりも短い。第２動作ＯＰ２の少なくとも一部において、ノズル７と第２側面Ｓ２との間のＹ方向における距離は、ノズル７と第１側面Ｓ１との間のＸ方向における距離よりも短い。これにより、発生したヒュームをより効率的に処理室１内から排出できる。
より望ましくは、第１動作ＯＰ１の全体において、ノズル７と第１側面Ｓ１との間のＸ方向における距離は、ノズル７と第２側面Ｓ２との間のＹ方向における距離よりも短い。第２動作ＯＰ２の全体において、ノズル７と第２側面Ｓ２との間のＹ方向における距離は、ノズル７と第１側面Ｓ１との間のＸ方向における距離よりも短い。
【００３０】
同様に、第３溶接部分４３及び第４溶接部分４４を溶接する際、それぞれ、ノズル７から第３排気口１３及び第４排気口１４に向けて不活性ガスが噴射されることで、ヒュームを効率的に処理室１内から排出できる。
【００３１】
ヒュームをより効率的に排出するために、制御部３０は、第１排気口１１〜第４排気口１４のそれぞれの圧力を調整しても良い。例えば、制御部３０は、第１動作ＯＰ１において、バルブ１１ｖを開き、バルブ１２ｖ〜１４ｖをバルブ１１ｖよりも閉じた状態で排気部１５を動作させる。望ましくは、制御部３０は、バルブ１２ｖ〜１４ｖを完全に閉じる。これにより、第１排気口１１における圧力を、第２排気口における圧力よりも低下させることができる。この結果、第１溶接部分４１へ向けて噴射された不活性ガス７ａが、より第１排気口１１に向けて流れ易くなる。
【００３２】
同様に、制御部３０は、第２動作ＯＰ２において、バルブ１２ｖを開き、バルブ１１ｖ、１３ｖ、及び１４ｖをバルブ１２ｖよりも閉じた状態で排気部１５を動作させる。これにより、第２溶接部分４２へ向けて噴射された不活性ガス７ａが、より第２排気口１２に向けて流れ易くなる。第３動作ＯＰ３及び第４動作ＯＰ４においても同様である。
【００３３】
なお、第１排気口１１〜第４排気口１４の一部における圧力を選択的に低下させることができれば、溶接装置１００における排気系の構成は適宜変更可能である。例えば、バルブ１１ｖ〜１４ｖに代えて、流路切替弁が設けられていても良い。制御部３０は、流路切替弁を制御し、排気部１５と接続される排気口を切り替えることで、第１排気口１１〜第４排気口１４の一部における圧力を選択的に低下させる。
【００３４】
また、第１側面Ｓ１〜第４側面Ｓ４のそれぞれに設けられる排気口の数も適宜変更可能である。例えば、第１側面Ｓ１に、第１排気口１１と、別の排気口と、が設けられていても良い。制御部３０は、第１排気口１１と、別の排気口と、の一方における圧力を、他方の圧力よりも低下させても良い。１つの側面に複数の排気口が設けられ、その一部の圧力を選択的に低下させることで、排気部１５の排気性能が低い場合でも、排気口における圧力をより低減できる。
【００３５】
図３に表したように、例えば、ヘッド２０は、レーザ光Ｌが透過する領域２０ａを有する。ヘッド２０は、領域２０ａの周りに設けられた環状の流路２１を有する。具体的には、ヘッド２０は、部材２５（第１部材）及び部材２６（第２部材）を有する。部材２５には、不活性ガスが流れる配管２８が接続されている。部材２６は、部材２５の上に重ね合わされている。流路２１は、部材２５と部材２６の隙間により構成されている。流路２１には、配管２８及び穴２９（第２穴）を通して不図示の供給源より不活性ガスが供給される。
【００３６】
また、図３に表したように、第１排気口１１の開口部には、例えばメッシュ１１ａが設けられる。メッシュ１１ａが設けられることで、第１排気口１１の開口全体からより均一に処理室１内の気体を排出できる。同様に、第２排気口１２の開口部には不図示のメッシュが設けられることが望ましい。第３排気口１３の開口部及び第４排気口１４の開口部には、それぞれ、メッシュ１３ａ及びメッシュ１４ａが設けられることが望ましい。
【００３７】
流路２１の一部には穴２２（第１穴）が設けられている。穴２２は、部材２５に設けられている。ノズル７は、穴２２を通して流路２１と連通している。流路２１に供給された不活性ガスは、穴２２を通してノズル７へ流れ、ノズル７の先端から噴射される。部材２５と部材２６との間には、Ｏリング２７が設けられ、穴２２及び穴２９以外において、流路２１は外部空間と分離されている。
【００３８】
例えば、部材２５は、部材２６に対して回転可能である。部材２５は、Ｚ方向を軸として回転する。部材２５が回転することで、ノズル７も、レーザ光Ｌの周りを回転する。一方で、配管２８の位置は、部材２６が回転しても変化しない。従って、この構成によれば、不活性ガスが噴射される位置や方向を変化させるためにノズル７を回転させても、配管２８が他の部材と干渉することは無い。配管２８の位置や構成に拘わらず、ノズル７を自由に回転させることができる。
【００３９】
また、図３に表したように、ノズル７の先端の高さ（Ｚ方向における位置）は、第１排気口１１の一部の高さと同じであることが望ましい。ホルダ３の上面の高さは、第１排気口１１の一部の高さと同じであることが望ましい。この構成によれば、部材４０に向けて噴射された不活性ガス７ａが、より第１排気口１１へ流れやすくなる。この結果、ノズル７へのヒュームの付着をさらに抑制できる。
【００４０】
図４は、第１実施形態に係る溶接装置の動作を表すフローチャートである。
図４は、部材４０の第１溶接部分４１及び第２溶接部分４２のみを溶接する場合の溶接装置１００の動作を例示している。溶接装置１００により、第３溶接部分４３及び第４溶接部分４４が溶接される場合は、以下のステップＳｔ１〜Ｓｔ６と実質的に同じ動作が、第３溶接部分４３及び第４溶接部分４４に対して行われる。
【００４１】
制御部３０は、ノズル７を、第１溶接部分４１の第１排気口１１側とは反対側に位置させる（ステップＳｔ１）。制御部３０は、ノズル７から第１溶接部分４１へ不活性ガス７ａを噴射する（ステップＳｔ２）。制御部３０は、照射部５から第１溶接部分４１へレーザ光Ｌを照射する（ステップＳｔ３）。ステップＳｔ１〜Ｓｔ３の順序は適宜変更可能であるが、第１溶接部分４１の酸化を防ぐためには、ステップＳｔ３の前にステップＳｔ２を行うことが望ましい。また、ノズル７へのヒュームの付着を効果的に抑制するためには、ステップＳｔ３の前にステップＳｔ１を行うことが望ましい。
【００４２】
次に、制御部３０は、ノズル７を、第２溶接部分４２の第２排気口１２側とは反対側に位置させる（ステップＳｔ４）。制御部３０は、ノズル７から第２溶接部分４２へ不活性ガス７ａを噴射する（ステップＳｔ５）。制御部３０は、照射部５から第２溶接部分４２へレーザ光Ｌを照射する（ステップＳｔ６）。ステップＳｔ４〜Ｓｔ６の順序は適宜変更可能であるが、上述した通り、ステップＳｔ４及びＳ５は、ステップＳｔ６の前に行われることが望ましい。
【００４３】
（変形例）
図５は、第１実施形態の変形例に係る溶接装置の動作を例示する模式図である。
変形例に係る溶接装置１１０は、第１排気口１１を備え、第２排気口１２〜第４排気口１４を備えていない。溶接装置１１０において、不図示の制御部は、例えば図５に表したように、第１溶接部分４１〜第４溶接部分４４をそれぞれ溶接する第１動作ＯＰ１〜第４動作ＯＰ４を行う。
【００４４】
溶接装置１１０における第１動作ＯＰ１は、溶接装置１００における第１動作ＯＰ１と同じである。溶接装置１１０における第２動作ＯＰ２において、制御部は、ノズル７を、レーザ光Ｌが照射された部分の第１排気口１１側とは反対側に位置させる。換言すると、第２動作ＯＰ２において、レーザ光Ｌが照射された部分のＸ方向における位置は、ノズル７先端のＸ方向における位置と、第１排気口１１のＸ方向における位置と、の間にある。
【００４５】
第３動作ＯＰ３において、制御部は、ノズル７を、レーザ光Ｌが照射された部分の第１排気口１１側とは反対側に位置させる。第４動作ＯＰ４において、制御部は、ノズル７を、レーザ光Ｌが照射された部分の第１排気口１１側とは反対側に位置させる。制御部は、第１動作ＯＰ１〜第４動作ＯＰ４において、照射部５及びノズル７を、それぞれ矢印Ａ１〜Ａ４の方向に沿って移動させる。これにより、第１溶接部分４１〜第４溶接部分４４の全体が溶接される。
【００４６】
この溶接装置１１０によれば、溶接装置１００と同様に、ヒュームが第１排気口１１に向けて流れ易くなり、ノズル７へのヒュームの付着を効果的に抑制できる。また、処理室１に第２排気口１２〜第４排気口１４を設ける必要が無いため、装置を小型化できる。
【００４７】
一方で、サイズが大きい部材４０に対しては、図１〜図３に表した溶接装置１００を用いることが望ましい。これは、以下の理由による。
部材４０のサイズが大きい場合、第２溶接部分４２の一部、第３溶接部分、及び第４溶接部分４４の一部を溶接する際に、これらの部分と第１排気口１１との距離が長くなり過ぎる。これにより、ノズル７から第１排気口１１に向かう不活性ガスの流量及び流速が低下し、ヒュームが十分に排出されない可能性がある。また、ヒュームが部材４０の別の場所に付着し、部材４０の品質が低下する可能性がある。
【００４８】
（第２実施形態）
図６は、第２実施形態に係る溶接装置の動作を表す模式図である。
図６に表したように、第２実施形態に係る溶接装置２００では、ノズル７の先端と第１排気口１１が対向して設けられる。不図示の制御部は、ホルダ３を制御する。制御部は、ホルダのＸ方向における位置、Ｙ方向における位置、及び回転角度θを制御することで、部材４０のレーザ光Ｌが照射される場所を調整する。
【００４９】
制御部は、例えば図６（ａ）〜図６（ｄ）に表した第１動作ＯＰ１〜第４動作ＯＰ４を行う。第１動作ＯＰ１〜第４動作ＯＰ４では、それぞれ、第１溶接部分４１〜第４溶接部分４４が溶接される。
【００５０】
第１動作ＯＰ１において、制御部は、ホルダ３を制御し、図６（ａ）に表したように、第１溶接部分４１の一部にレーザ光Ｌを照射させる。この状態から、矢印Ａ１の方向に沿ってホルダ３を移動させることで、第１溶接部分４１の全体を溶接する。
【００５１】
第２動作ＯＰ２において、制御部は、ホルダ３を回転させ、図６（ｂ）に表したように、第２溶接部分４２の一部にレーザ光Ｌを照射させる。この状態から、矢印Ａ２の方向に沿ってホルダ３を移動させることで、第２溶接部分４２の全体を溶接する。
【００５２】
第３動作ＯＰ３及び第４動作ＯＰ４も、それぞれ、図６（ｃ）及び図６（ｄ）に表したように行われる。すなわち、制御部がホルダ３を制御することで、第３溶接部分４３の一部又は第４溶接部分４４の一部にレーザ光Ｌを照射させ、矢印Ａ３又は矢印Ａ４の方向に沿ってホルダ３を移動させる。
【００５３】
ノズル７と第１排気口１１が対向して設けられることで、ノズル７から噴射された不活性ガス７ａが第１排気口１１に向けて流れ易くなる。このため、第２実施形態に係る溶接装置２００によれば、第１実施形態と同様、ノズル７へのヒュームの付着を抑制できる。
【００５４】
なお、第２実施形態に係る溶接装置２００では、ホルダ３を移動させる必要がある。ホルダ３を移動させる場合、処理室１を大型化する必要がある。このため、第２実施形態によれば、第１実施形態に比べて、溶接装置が大型化する可能性がある。溶接装置の小型化の観点からは、第２実施形態よりも第１実施形態の方が好ましい。
【００５５】
以上、本発明のいくつかの実施形態を例示したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更などを行うことができる。これら実施形態やその変形例は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。また、前述の各実施形態は、相互に組み合わせて実施することができる。
【符号の説明】
【００５６】
１ 処理室、  ３ ホルダ、  ５ 照射部、  ７ ノズル、  ７ａ 不活性ガス、  １１ 第１排気口、  １１ｖ〜１４ｖ バルブ、  １２ 第２排気口、  １５ 排気部、  ２０ ヘッド、  ２０ａ 領域、  ２１ 流路、  ２２ 穴、  ２５ 部材、  ２６ 部材、  ２７ Ｏリング、  ３０ 制御部、  ４０ 部材、  ４０ａ、４０ｂ 部品、  ４１ 第１溶接部分、  ４２ 第２溶接部分、  １００、１１０、２００ 溶接装置、  Ｌ レーザ光、  ＯＰ１ 第１動作、  ＯＰ２ 第２動作、  Ｓ１ 第１側面、  Ｓ２ 第２側面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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