(57)【要約】  【課題】高硬度かつ高反射、好ましくは高電波透過性を有するバックカバーガラスの提供。  【解決手段】ガラス基板の一方の主面に遮光層、該ガラス基板の他方の主面に反射色調整層が形成されたバックカバーガラスであって、前記反射色調整層が、高屈折率材料からなる膜および低屈折率材料からなる膜を交互に複数回積層させてなり、前記高屈折率材料からなる膜と、前記低屈折率材料からなる膜との波長５５０ｎｍにおける屈折率の差が０．１以上の範囲となるように形成されていることを特徴とするバックカバーガラス。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材をなすガラス基板の一方の主面に遮光層、該ガラス基板の他方の主面に反射色調整層が形成されたバックカバーガラスであって、前記反射色調整層が、高屈折率材料からなる膜および低屈折率材料からなる膜を交互に複数回積層させてなり、前記高屈折率材料からなる膜と、前記低屈折率材料からなる膜との波長５５０ｎｍにおける屈折率の差が０．１以上となるように形成されていることを特徴とするバックカバーガラス。
【請求項２】
前記高屈折率材料からなる膜は、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．８以上である、請求項１に記載のバックカバーガラス。
【請求項３】
前記低屈折率材料からなる膜は、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．５以下である、請求項１または２に記載のバックカバーガラス。
【請求項４】
前記反射色調整層における前記高屈折率材料からなる膜、および、前記低屈折率材料からなる膜は、Ｓｉ、Ａｌ、Ｚｒ、およびＴｉからなる群より選択される１種以上の元素を含有する酸化膜、窒化膜、ならびに酸窒化膜よりなる、請求項１〜３のいずれかに記載のバックカバーガラス。
【請求項５】
前記遮光層が、前記遮光層が無機系着色材インク、有機系着色剤インク、および有機系の樹脂に無機フィラーを含有したインクからなる群から選択されるいずれかよりなり、前記遮光層側からの前記バックカバーガラスの波長４００ｎｍから波長７５０ｎｍの平均透過率が５％以下である、請求項１〜４のいずれかに記載のバックカバーガラス。
【請求項６】
前記ガラス基板が表面に圧縮応力層を有する化学強化ガラスであり、前記化学強化ガラスの圧縮応力層を有する側の表面に前記反射色調整層が形成されている、請求項１〜５のいずれかに記載のバックカバーガラス。
【請求項７】
前記反射色調整層側から測定したマルテンス硬度が、下記（１），（２）のうち、少なくとも一方を満たす、請求項１〜６のいずれかに記載のバックカバーガラス。
（１）ビッカース圧子の押し込み深さ５０ｎｍにおけるマルテンス硬度が６０００Ｎ／ｍｍ2以上。
（２）ビッカース圧子の押し込み深さ１００ｎｍにおけるマルテンス硬度が６０００Ｎ／ｍｍ2以上。
【請求項８】
前記反射色調整層は、スパッタリングにより形成される、請求項１〜７のいずれかに記載のバックカバーガラス。
【請求項９】
本発明のバックカバーガラスにおいて、前記反射色調整層は、バックカバーガラスの使用時において、前記ガラス基板に対し外側に位置する、請求項１〜８のいずれかに記載のバックカバーガラス。
【請求項１０】
前記反射色調整層上に防汚膜が設けられている、請求項１〜９のいずれかに記載のバックカバーガラス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、携帯電話、タブレット型端末といったモバイル機器に使用される画像表示装置のバックカバーガラスに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話、タブレット型端末といった画像表示装置を備えたモバイル機器の普及に伴い、画像表示装置の表示面のみでなく、該表示面に対し裏面を衝撃等から保護するバックカバーガラスの研究開発が進められている（特許文献１）。
【０００３】
画像表示装置の表示面側に配置されるカバーガラスの場合、機械的強度以外の要求特性として、光透過性が高いことが求められるが、画像表示装置の裏面側に配置されるバックカバーガラスの場合、機械的強度以外の要求特性として、美感に優れることが求められる。そのため、バックカバーガラスとして用いられるガラス板は、使用時に露出面となる側の主面に加飾処理が施される。
【０００４】
上記の目的で実施される加飾処理としては、画像表示装置からの光を遮光し、色を調整するための遮光層と、該遮光層からの反射光の色調を調整するための反射色調整層の形成が一般的である（特許文献２、３）。
遮光層としては、アルミニウム、銅、銀等の金属材料やインジウム、スズ、亜鉛等 の酸化物を構成材料とする金属層や、ニオブ、チタン、ジルコニウム、タンタル、ハフニウム、アルミニウム、ケイ素、銅、鉄、およびクロムなどの酸化物,窒化物、低級酸化物、低級窒化物を含有する暗色のインクを塗布した層が一般的であるが、無機系着色材、有機系着色剤を用いたインクを塗布して形成しても良い。
反射色調整層としては、高屈折率材料からなる膜と低屈折率材料からなる膜を交互に複数回積層させた積層膜が一般的である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】再公表特許２０１６−０９８１８１号公報
【特許文献２】特開２０１４−２２７３０９号公報
【特許文献３】特開２０１４−１９７３２４号公報
【特許文献４】特表２０１６−５２４５８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
図２は、従来のバックカバーガラスの構成を模式的に示した断面図である。図２に示すバックカバーガラス１００では、ガラス基板１１０に対し、該バックカバーガラス１００の内側方向に向けて反射色調整層１３０および遮光層１２０の順に形成されており、該バックカバーガラス１００の外側方向に向けて防汚層１４０が形成される。
【０００７】
従来、画像表示装置の裏面を衝撃等から保護するバックカバーガラスは、衝撃、擦れ、高温、高湿度などの環境にさらされたときに、反射色調整層１３０に剥離、変色、クラック、キズなどによる劣化が起こらないように、図２に示すように、ガラス基板１１０に対し、バックカバーガラス１００の内側方向に向けて、反射色調整層１３０を構成する高屈折率材料からなる膜および低屈折率材料からなる膜を積層して形成されていた。
【０００８】
しかしながら、ガラス基板１１０に対し、バックカバーガラス１００の内側方向に反射色調整層１３０を形成した場合、反射色調整層１３０が形成されていないガラス基板１１０の外側表面に衝撃が加わると、反射色調整層１３０との界面をなすガラス基板１１０の内側表面に割れが生じ、これを起点として反射色調整層１３０に割れが生じる問題がある。
また遮光層１２０に金属等の抵抗値の低い材料を使用すると電波遮蔽を起こすことから、無線給電や通信に不向きな構造となる。 
【０００９】
また、特許文献４には、高透過性のカバーガラス物品が開示されているが、バックカバーガラスは、高反射性であることが以下の理由から好ましい。
バックカバーガラスを外側から見た場合に視認される色は、遮光層１２０の持つ色が反射色調整層を透過した色と、外側から入射する光が反射色調整層に反射された色が重なり、所望の色を作ることができる。つまり反射層が一定量の反射率をもつことにより、所望の色の特性を得ることができる。
【００１０】
本発明は、高硬度かつ高反射、好ましくは高電波透過性を有するバックカバーガラスを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の目的を達成するため、本発明は、ガラス基板の一方の主面に遮光層、該ガラス基板の他方の主面に反射色調整層が形成されたバックカバーガラスであって、前記反射色調整層が、高屈折率材料からなる膜および低屈折率材料からなる膜を交互に複数回積層させてなり、前記高屈折率材料からなる膜と、前記低屈折率材料からなる膜との波長５５０ｎｍにおける屈折率の差が０．１以上となるように形成されていることを特徴とするバックカバーガラスを提供する。
【００１２】
本発明のバックカバーガラスにおいて、前記高屈折率材料からなる膜は、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．８以上であることが好ましい。
【００１３】
本発明のバックカバーガラスにおいて、前記低屈折率材料からなる膜は、波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．５以下であることが好ましい。
【００１４】
本発明のバックカバーガラスにおいて、前記反射色調整層における前記高屈折率材料からなる膜、および、前記低屈折率材料からなる膜は、Ｓｉ、Ａｌ、Ｚｒ、およびＴｉからなる群より選択される１種以上の元素を含有する酸化膜、窒化膜、ならびに酸窒化膜よりなることが好ましい。
【００１５】
本発明のバックカバーガラスにおいて、前記遮光層が無機系着色材インク、有機系着色剤インク、および有機系の樹脂に無機フィラーを含有したインクからなる群から選択されるいずれかよりなり、前記遮光層側からの前記バックカバーガラスの波長４００ｎｍから波長７５０ｎｍの平均透過率が５％以下であることが好ましい。
【００１６】
本発明のバックカバーガラスにおいて、前記ガラス基板が表面に圧縮応力層を有する化学強化ガラスであり、前記化学強化ガラスの圧縮応力層を有する側の表面に前記反射色調整層が形成されていることが好ましい。
【００１７】
本発明のバックカバーガラスは、前記反射色調整層側から測定したマルテンス硬度が、下記（１），（２）のうち、少なくとも一方を満たすことが好ましい。
（１）ビッカース圧子の押し込み深さ５０ｎｍにおけるマルテンス硬度が６０００Ｎ／ｍｍ2以上。
（２）ビッカース圧子の押し込み深さ１００ｎｍにおけるマルテンス硬度が６０００Ｎ／ｍｍ2以上。
【００１８】
本発明のバックカバーガラスにおいて、前記反射色調整層は、スパッタリングにより形成されることが好ましい。
【００１９】
本発明のバックカバーガラスにおいて、前記反射色調整層は、バックカバーガラスの使用時において、前記ガラス基板に対し外側に位置することが好ましい。
【００２０】
本発明のバックカバーガラスにおいて、前記反射色調整層上に防汚膜が設けられていることが好ましい。
【発明の効果】
【００２１】
本発明のバックカバーガラスによれば、高硬度かつ高反射を達成することができる。
本発明のバックカバーガラスの好適態様によれば、さらに高電波透過性を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】図１は、本発明のバックカバーガラスの一構成例を模式的に示した断面図である。
【図２】図２は、従来のバックカバーガラスの一構成例を模式的に示した断面図である。
【図３】図３は、ラジカルアシストスパッタ装置の一例を示したものである。
【図４】図４は、ボールオンリング試験の方法を説明するための概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、図面を参照して、本発明の実施形態について詳しく説明する。
【００２４】
図１は本発明のバックカバーガラスの一構成例を模式的に示した断面図である。
図１に示すバックカバーガラス１０は、透明基材をなすガラス基板１１を有している。該ガラス基板１１は２つの主面（図中、上側の主面および下側の主面）を有している。
図１に示すバックカバーガラス１０において、ガラス基板１１の一方の主面（図中、上側の主面）に遮光層１２が形成されており、該ガラス基板１１の他方の主面（図中、下側の主面）に反射色調整層１３および防汚膜１４がこの順に形成されている。
但し、本発明のバックカバーガラスにおいて、ガラス基板１１、遮光層１２および反射色調整層が必須の構成であり、防汚膜１４は任意の構成である。
【００２５】
図１に示すバックカバーガラス１０では、遮光層１２と、反射色調整層１３および防汚膜１４とが、透明基材をなすガラス基板１１の異なる主面に形成されている。ここで、遮光層１２は、ガラス基板１１に対し、バックカバーガラス１０の内側方向に向けて形成されており、反射色調整層１３および防汚膜１４は、ガラス基板１１に対し、バックカバーガラス１０の外側方向に向けて形成されている。
【００２６】
図１に示すバックカバーガラス１０は、ガラス基板１１に対し、バックカバーガラス１０の外側方向に向けて反射色調整層１３が形成されているため、図２に示した従来のバックカバーガラス１００における面強度低下の問題が解消される。
但し、図１に示すバックカバーガラス１０では、ガラス基板１１に対し、バックカバーガラス１０の外側方向に向けて形成された反射色調整層１３に衝撃が加わるため、反射色調整層１３が十分な硬度を有することが求められる。
この点に関して、本願明細書では、反射色調整層側から測定したマルテンス硬度（以下、本明細書において、マルテンス硬度と記載する。）を指標とする。
図１に示すバックカバーガラス１０は、下記（１），（２）のうち、少なくとも一方を満たすことが好ましい。
（１）ビッカース圧子の押し込み深さ５０ｎｍにおけるマルテンス硬度が６０００Ｎ／ｍｍ2以上。
（２）ビッカース圧子の押し込み深さ１００ｎｍにおけるマルテンス硬度が６０００Ｎ／ｍｍ2以上。
なお、図１に示すバックカバーガラス１０は、反射色調整層１３が十分な硬度を有することにより、該バックカバーガラスの外側表面に割れが生じる問題も解消されている。
【００２７】
また、図１に示すバックカバーガラス１０における反射色調整層１３は、高屈折率材料からなる膜（以下、高屈折率膜と記載する。）と、低屈折率材料からなる膜（以下、低屈折率膜と記載する。）とを、交互に複数回積層させることにより、バックカバーガラス１０を外側方向から見た場合の「色」を光学設計する層である。本明細書において、「色」とは、「色相」、「彩度」及び「明度」のことを意味する。図１に示すバックカバーガラス１０は、反射色調整層１３を有することにより、所望の「色」を表現することができる意匠性に優れたバックカバーガラスである。
【００２８】
本明細書において、この機能を達成するため、反射色調整層１３は、高屈折率膜と、低屈折率膜との波長５５０ｎｍにおける屈折率の差が０．１以上となるように形成されている。両者の屈折率差が０．１未満だと広い波長範囲で値が一定の反射特性を得ることが難しくなる。その結果、バックカバーの角度を変えた時のバックカバーの色の変化が大きくなり見る角度によって色が変化し、安定した色彩を得ることできなくなる。
【００２９】
反射色調整層１３に用いる高屈折率膜、低屈折率膜は、両者の屈折率差が上記範囲を満たす限り特に限定されないが、反射色調整層１３に用いる高屈折率膜、低屈折率膜の好適例は以下に示す通り。
【００３０】
（高屈折率膜）
高屈折率膜は、波長５５０）ｎｍにおける屈折率が１．８以上であることが好ましく、１．９以上が光学調整の点からより好ましい。
【００３１】
（低屈折率膜）
低屈折率膜は、波長５５０）ｎｍにおける屈折率が、高屈折率膜よりも小さければよいことから１．８０未満となるが、該屈折率は１．５以下が光学特性調整の点から好ましく、１．４８以下がより好ましい。 
【００３２】
反射色調整層１３に用いる高屈折率膜および低屈折率膜の構成材料としては、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｎｂ及びＺｒからなる群より選ばれる１種以上の元素を含有する酸化物、窒化物、ならびに酸窒化物を用いることができる。
上記の元素を含有する酸化物としては、例えば、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2、Ｔａ2Ｏ5、Ｎｂ2Ｏ5、ＺｒＯ2が挙げられる。
上記の元素を含有する窒化物としては、例えば、Ｓｉ3Ｎ4、ＡｌＮ、ＴｉＮが挙げられる。
上記の元素を含有する酸窒化物としては、例えば、ＳｉＯＮ、ＡｌＯＮ、ＴｉＯＮが挙げられる。
【００３３】
反射色調整層１３では、両者の屈折率差が上述した条件を満たすように、これらの材料から高屈折率膜および低屈折率膜の構成材料を適宜選択すればよい。
【００３４】
高屈折率膜の構成材料としては、硬度が高く、得られるバックカバーガラスの耐擦傷性が向上することからＳｉ3Ｎ4、ＡｌＯＮ、ＴｉＺｒＯがより好ましく、ＡｌＯＮが特に好ましい。なお、Ｓｉ3Ｎ4の波長５５０ｎｍにおける屈折率は１．９５である。なお、ＡｌＯＮは酸素と窒素の含有割合を変えることで、屈折率を変えることができる。ここで選択されたＡｌＯＮは波長５５０ｎｍでの屈折率が１．８５以上になるように酸素と窒素の割合が選択される。たとえば、波長５５０ｎｍでの屈折率が１．９５である。なお、本発明における屈折率はエリプソメトリー法により測定することができる。
【００３５】
低屈折率膜の構成材料としては、Ａｌ2Ｏ3、ＡｌＯＮ、およびＳｉＯ2が、高屈折率の構成材料より屈折率が低く、干渉による反射率の調整がしやすいことからより好ましい。なお、ＳｉＯ2の５５０ｎｍにおける屈折率は１．４７である。ＡｌＯＮは酸素と窒素の含有割合を変えることで、屈折率を変えることができる。ここで選択されたＡｌＯＮは波長５５０ｎｍでの屈折率が１．６８以下になるように酸素と窒素の割合が選択される。波長５５０ｎｍでの屈折率が１．６５である。
【００３６】
反射色調整膜１３は、ガラス基板１１の一方の主面上に、該反射色調整膜１３を構成する高屈折率膜と低屈折率膜とを交互に成膜することにより形成できる。成膜は、気相成膜法により行うことができる。気相成膜法として、化学蒸着法（ＣＶＤ）、物理蒸着法（ＰＶＤ）が挙げられる。化学蒸着法（ＣＶＤ）として、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、レーザーＣＶＤ、原子層堆積法（ＡＬＤ）等が挙げられる。物理蒸着法（ＰＶＤ）として、真空蒸着、イオンアシスト蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等が挙げられる。
これらの中でも、スパッタリングが成膜温度の低い条件で、硬度の高い膜が得られる点で好ましい。なお、成膜中から成膜後にかけてのガラス基板１１の温度が２００℃を超えると、ガラス基板として、化学強化ガラスを使用する場合はガラス基板１１の強度が低下するほか、防汚膜１４が付着しにくくなるためガラス基板１１を冷却する必要がある。
【００３７】
成膜装置としては、例えば、ラジカルアシストスパッタ装置が好適に使用される。ラジカルアシストスパッタ装置は、単一の真空容器内に成膜領域と反応領域とが分離して設けられ、成膜処理と反応処理とを独立して行うことができる。以下、ラジカルアシストスパッタ装置について具体的に説明する。
【００３８】
図３は、ラジカルアシストスパッタ装置の一例を示したものである。
図３に示すラジカルアシストスパッタ装置２００は、装置本体２１０と、この内部に設けられたドラム２２０とを有する。ドラム２２０は、ガラス基板を保持するものであり、ガラス基板を保持した状態で回転する。ドラム２２０の周囲の空間は、壁部２３０によって複数の領域に分割されている。
【００３９】
第１の領域（図中、右側）は、成膜領域となるものであり、ターゲット２４０が配置される。ターゲット２４０には、電源２５０が接続される。また、第１の領域には、アルゴンガスを供給するアルゴンガス供給部２６０が接続される。
【００４０】
第２の領域（図中、下側）は、反応領域となるものであり、ラジカル源２７０が配置される。ラジカル源２７０には、整合機およびＲＦ源２８０が接続される。また、第２の領域には、アルゴンガスを供給するアルゴンガス供給部３１０、窒素ガスを供給する窒素ガス供給部３２０、および酸素ガスを供給する酸素ガス供給部３３０が接続される。
【００４１】
このようなラジカルアシストスパッタ装置２００においては、まず、ドラム２２０にガラス基板が保持される。その後、ドラム２２０が回転することにより、第１の領域（図中、右側）にガラス基板が搬送される。第１の領域には、アルゴンガス供給部２６０からアルゴンガスが供給される。そして、ターゲット２４０がスパッタリングされることにより、ガラス基板の表面にターゲット２４０の構成材料からなる膜が成膜される。このような膜として、例えば、酸化や窒化が行われていない金属膜が挙げられる。酸化や窒化を行わないことにより、成膜速度が向上するとともに、成膜が安定して行われることから膜質が向上する。
【００４２】
その後、ガラス基板を保持したドラム２２０が回転することにより、第２の領域（図中、下側）にガラス基板が搬送される。第２の領域には、アルゴンガス供給部３１０、窒素ガス供給部３２０、酸素ガス供給部３３０から、必要に応じて、窒素ガス、アルゴンガス、酸素ガスが供給される。そして、ガラス基板に設けられた膜にプラズマが接触することにより酸化や窒化が行われる。プラズマを使用することにより、酸化や窒化を均一に行うことができるとともに、緻密な膜を得ることができる。
【００４３】
上述したように、反射色調整層１３は、高屈折率膜と低屈折率膜とを交互に複数回積層させてなる。これにより、積層された界面で傷の進行が止まりやすく耐擦傷性が向上する。
反射色調整層１３において、高屈折率膜、および低屈折率膜を積層させる順序は特に限定されないが、ガラス基板１１の主面上に低屈折率膜を形成し、この上に高屈折率膜を積層させることが、膜の密着性が良好となることから好ましい。
一方、反射色調整層の最表層は反射率を上げるために、高屈折率膜であることがより透過率の高いバックカバーガラスを得られるため好ましい。しかし、防汚膜１４を設ける場合は屈折率にこだわる必要はない。
図１に示すカバーガラス１０のように、反射色調整層１３上に、防汚膜１４を形成する場合は、防汚膜１４との密着性の観点からも、反射色調整層１３の最表層は低屈折率膜であることが好ましい。
すなわち、ガラス基板１１の主面上に低屈折率膜を形成し、その上に高屈折率膜を積層し、かつ、反射色調整層１３の最表層は低屈折率膜とすることがより好ましい。この場合、反射色調整層１３における低屈折率膜および高屈折率膜の合計積層数は奇数となる。
【００４４】
反射色調整層１３を構成する高屈折率膜、および低屈折率膜の単膜での膜厚は特に限定されないが、単膜での膜厚が２５０ｎｍ以下であることが好ましい。単膜の膜厚が２５０ｎｍ超であると、単膜当たりの圧縮応力又は引張応力が大きくなり、バックカバーガラス１０に反りが生じやすくなるためである。単膜の膜厚を２５０ｎｍ以下とすると、単膜当たりの圧縮応力又は引張応力は小さくなり、それら単膜が複数回積層されても、バックカバーガラス１０に反りが生じにくい。
【００４５】
反射色調整層１３を構成する高屈折率膜、および低屈折率膜の積層数は特に限定されないが、これらの膜を６層以上積層することが好ましく、合計膜厚が８５０〜６０００ｎｍであることが好ましい。かかる膜数と膜厚にすることにより、優れた耐擦傷性を得ることができる。
これらの膜の合計積層数は、界面による傷進展抑制効果の点から２０層以上が好ましく、４０層以上がより好ましい。また上限は通常１００層以下である。
【００４６】
反射色調整層１３の合計膜厚は８５０ｎｍ以上であればよいが、１０００ｎｍ以上が強度確保の点から好ましく、１５００ｎｍ以上がより好ましい。また上限は６０００ｎｍ以下が光学特性の点から好ましく、３０００ｎｍ以下がより好ましく、２５００ｎｍ以下がさらに好ましい。例えば、合計膜厚としては、８５０〜３０００ｎｍがより好ましい。なお、反射色調整層１３の合計膜厚とは、高屈折率膜と低屈折率膜の単膜の厚みの総和である。
【００４７】
高屈折率膜と低屈折率膜の単膜の膜厚はそれぞれ５〜２５０ｎｍであればよいが、高屈折率膜の単膜の合計の厚みは低屈折率膜の単膜の合計の厚みよりも厚いことが好ましい。
例えば、反射色調整層１３の合計膜厚が２０００ｎｍである場合、高屈折率膜の合計の厚みは１２００ｎｍ以上が好ましく、１５００ｎｍ以上がより好ましい。また、反射色調整層１３の合計膜厚が３０００ｎｍである場合、高屈折率膜の合計の厚みは１８００ｎｍ以上が好ましく、２０００ｎｍ以上がより好ましい。
【００４８】
高屈折率膜及び低屈折率膜において、各単膜の厚みはそれぞれ同じ厚みでも異なる厚みであってもよい。また、各単膜を構成する高屈折率材料や低屈折率材料は、それぞれ同じでも異なっていてもよい。
【００４９】
低屈折率膜は、単膜での厚みが５〜２５０ｎｍの膜が３層以上積層されることが好ましい。低屈折率膜は高屈折率膜の単膜の厚みよりも薄いことが、反りをより低減できることから好ましい。低屈折率膜の単膜の厚みは、単膜だけであれば、接触式膜厚計や断面ＳＥＭ観察、積層の場合は、エリプソメトリー法による測定等により測定することができる。
【００５０】
図１に示すバックカバーガラス１０の個々の構成についてさらに記載する。
【００５１】
（ガラス基板１１）
図１に示すバックカバーガラス１０におけるガラス基板１１は、厚みが１ｍｍ以下であることが好ましく、０．８ｍｍ以下がより好ましい。
厚みの下限は０．２ｍｍ以上が好ましく、０．３ｍｍ以上がより好ましい。
【００５２】
ガラス基板１１は、可視光および近赤外光に対して透明性を有するものであればよく、その組成が特に限定されず、無機ガラス、有機ガラスのいずれでもよい。
ガラス基板１１は、例えば、ソーダライムガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、サファイアガラス、アルミノシリケートガラス、リチウム含有アルミノシリケートガラスで構成され、物理強化または化学強化が行われた強化ガラスが好ましく、イオン交換によって作成される化学強化ガラスがより好ましい。
【００５３】
ガラス基板１１の好適組成の一例を以下に示す。
ＳｉＯ2：４０〜８０質量％、Ａｌ2Ｏ3：０〜３５質量％、Ｂ2Ｏ3：０〜１５質量％、ＭｇＯ：０〜２０質量％、ＣａＯ：０〜２０質量％、ＳｒＯ：０〜２０質量％、ＢａＯ：０〜２０質量％、Ｌｉ2Ｏ：０〜２０質量％、Ｎａ2Ｏ：０〜２５質量％、Ｋ２Ｏ：０〜２０質量％、ＴｉＯ2：０〜１０質量％、かつ、ＺｒＯ2：０〜１０質量％。但し上記組成がガラス全体の９５質量％以上を占める。
【００５４】
ガラス基板１１のさらに好適な組成の一例を以下に示す。
ＳｉＯ2：５５〜７５質量％、Ａｌ2Ｏ3：０〜２５質量％、Ｂ2Ｏ3：０〜１２質量％、ＭｇＯ：０〜２０質量％、ＣａＯ：０〜２０質量％、ＳｒＯ：０〜２０質量％、ＢａＯ：０〜２０質量％、Ｌｉ2Ｏ：０〜２０質量％、Ｎａ2Ｏ：０〜２５質量％、Ｋ2Ｏ：０〜１５質量％、ＴｉＯ2：０〜５質量％、かつ、ＺｒＯ2：０〜５質量％。但し上記組成がガラス全体の９５質量％以上を占める。
【００５５】
化学強化は、ガラス転移点以下の温度でイオン交換によりガラスの表面のイオン半径が小さなアルカリ金属イオン（典型的にはＬｉイオン、Ｎａイオン）をイオン半径のより大きなアルカリイオン（典型的にはＫイオン）に交換する。このようなイオン交換により、ガラスの表面に圧縮応力層が形成されて強度が向上する。化学強化は、通常、アルカリ金属を含む溶融塩中にガラスを浸漬させることにより行われる。
なお、化学強化ガラスを用いる場合、圧縮応力層を有する側の表面に反射色調整層を形成することが好ましい。
【００５６】
（遮光層１２）
遮光層１２は、バックカバーガラス１０の内側方向から透過する透過光を遮光することで、干渉膜の反射色をバックカバーガラス１０の内側に配置された物体に依存せずに一定に保ち、所望の反射色特性を得る。そのため、遮光層１２の特性として、遮光率が高いことが求められる。遮光層１２側からのバックカバーガラス１０の波長４００ｎｍから波長７５０ｎｍの平均透過率は５％以下が好ましく、１％以下がより好ましい。
【００５７】
遮光層１２はバックカバーガラス１０の内面側の表面にコートされた膜として定義され、無機系着色材インク、有機系着色剤インク、および有機系の樹脂に無機フィラーを含有したインクよりなることが好ましく、１層であって良く、色を調整するために２層以上の異なる材料で構成されていてもよい。複数の層で構成される場合は層中に透明な層が含まれてもよいが、バックカバーガラス１０を含む遮光膜１２の透過率は５％以下であることが好ましく、１％以下であることが好ましい。また遮光層１２が２層以上で構成される場合は光を散乱する散乱層を含んでもよい。また、バックカバーガラス１０と遮光層１２との界面に所望の凹凸形状を形成し、光を散乱してもよい。
無機系着色材インクに使用される無機材料や、有機系の樹脂に含有させた無機フィラーの材料は特に限定されないが、酸化鉄、酸化銅、クロム、銅、鉄等の導電性の高い材料を使う場合は、同時に酸化ケイ素、酸化チタンなどの導電性の低い顔料をまぜて、全体の導電性を低くすることが好ましい。遮光層１２のシート抵抗は１００Ω以上が好ましく、１０００Ω以上がより好ましい。
【００５８】
遮光層１２の膜厚は、５０ｎｍ以上が好ましく、３００ｎｍ以上がより好ましい。
【００５９】
遮光層１２の成膜法としては、特に制限されないが、物理蒸着法（ＰＶＤ）を用いることが好ましい。物理蒸着法（ＰＶＤ）の具体例としては、イオンアシスト蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等が挙げられる。但し、ダイコーティング法で遮光膜１２を形成してもよい。
【００６０】
なお、さらなる絶縁性が必要な場合、遮光層１２の上にＳｉＯ2などの高絶縁性材料からなる層を別途設けてもよい。
【００６１】
（防汚膜１４）
上述したように、防汚膜１４は、図１に示すバックカバーガラス１０において、任意の構成である。但し、防汚膜をバックカバーガラスの最表面に形成することによって、例えば指紋跡や汗、埃など様々な汚れの付着を抑える、汚れを拭き取りやすくする、汚れを目立ちにくくする等の機能を有し、表示面をきれいに保つことができる。
防汚膜１４は、防汚性、撥水性、撥油性及び親油性からなる群より選ばれる少なくともいずれか一の特性を持つ膜であればよく、例えば、フッ素含有有機化合物が挙げられる。より具体的には、含フッ素有機ケイ素化合物や、加水分解性を有する含フッ素有機化合物等が挙げられる。
防汚膜の膜厚は、特に制限されないが、２〜２０ｎｍであることが好ましく、２〜１５ｎｍであることがより好ましく、３〜１０ｎｍであることがさらに好ましい。
膜厚を２ｎｍ以上とすることにより、防汚膜によってバックカバーガラスの最表面が密着性よく均一に覆われた状態となり、耐擦傷性の高い実用により耐えるものとなることから好ましい。また、膜厚が２０ｎｍ以下とすることにより、防汚膜が積層された状態での光学特性が非常に良好となる。
【実施例】
【００６２】
以下に具体的な実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、以下に示す例１〜６のうち、例１〜３は比較例、例４〜６は実施例である。なお、例１〜６では、ガラス基板として、以下に示す手順で作製した化学強化ガラスを使用した。
ガラス基板
硝酸カリウム９７００ｇ、炭酸カリウム８９０ｇ、硝酸ナトリウム４００ｇをステンレススチール（ＳＵＳ）製のカップに入れ、マントルヒーターで４５０℃まで加熱して、炭酸カリウム濃度が６ｍｏｌ％、ナトリウム濃度が１００００重量ｐｐｍの溶融塩を調製した。
【００６３】
１００ｍｍ×１００ｍｍ×０．５６ｍｍのアルミノシリケートガラス（比重２．４８）を２００〜４００℃に予熱した後、上記溶融塩に２時間浸漬してイオン交換処理を行った。その後、室温付近まで冷却し、水洗いを行った。
【００６４】
なお、上記アルミノシリケートガラスは、ＳｉＯ2 ６４．４ｍｏｌ％、Ａｌ2Ｏ3 ８．０ｍｏｌ％、Ｎａ2Ｏ １２．５ｍｏｌ％、Ｋ2Ｏ ４．０ｍｏｌ％、ＭｇＯ １０．５ｍｏｌ％、ＣａＯ ０．１ｍｏｌ％、ＳｒＯ ０．１ｍｏｌ％、ＢａＯ ０．１ｍｏｌ％、ＺｒＯ2 ０．５ｍｏｌ％の組成を有する。
【００６５】
（例１）
上記の手順で作製した化学強化ガラスの一方の主面に反射色調整層として、高屈折率膜として、膜厚１０ｎｍのＮｂ2Ｏ5膜、低屈折率膜として、膜厚３５ｎｍのＳｉＯ2膜、および高屈折率膜として、膜厚２９ｎｍのＮｂ2Ｏ5膜をスパッタリング法により形成した。
成膜条件を以下に示す。
Ｎｂ2Ｏ5膜成膜時
ターゲット：ＮｂＯ
ＤＣ電源出力（Ｗ）：３００
成膜圧力（Ｐａ）：０．３
処理ガス流量（ｓｃｃｍ）：Ａｒ／Ｏ2＝２８／２
ＳｉＯ2膜成膜時
ターゲット：Ｓｉ
ＤＣ電源出力（Ｗ）：３００
成膜圧力（Ｐａ）：０．３
処理ガス流量（ｓｃｃｍ）：Ａｒ／Ｏ2＝２２／８
【００６６】
次に、上記の手順で形成した反射色調整層の上に遮光層として、膜厚１０００ｎｍのニオブ低次酸化物（ＮｂＯa）膜をスパッタリング法により形成した。
成膜条件を以下に示す。
ターゲット：ＮｂＯ
ＤＣ電源出力（Ｗ）：３００
成膜圧力（Ｐａ）：０．３
処理ガス流量（ｓｃｃｍ）：Ａｒ／Ｏ2＝３０／０
【００６７】
次に、化学強化ガラスの他方の主面に防汚膜として、フッ素系有機膜を以下の手順で形成して、バックカバーガラスを作成した。シンクロン社製ＲＡＳ１１００ＢIIに付属された、加熱式蒸着装置により成膜した。フッ素系有機膜は信越化学工業株式会社ＫＹ１９５を蒸着ペレットに含浸し、チャンバー内圧力１×１０Ｅ-4以下の真空下で抵抗加熱により蒸着を行い、２ｎｍ以上の膜厚を反射層上に成膜した。
【００６８】
上記の手順で作製したバックカバーガラスについて、以下の評価を実施した。
（面強度）
バックカバーガラスの面強度は、バックカバーガラスを直径３０ｍｍ、接触部が曲率半径２．５ｍｍの丸みを持つステンレスからなるリング上に配置し、該バックカバーガラスに直径１０ｍｍの鋼からなる球体を接触させた状態で、該球体を静的荷重条件下で該リングの中心に荷重するボールオンリング（Ｂａｌｌ  ｏｎ  Ｒｉｎｇ；ＢＯＲ）試験により測定したＢＯＲ強度Ｆ（Ｎ）で評価した。［Ｆはボールオンリング試験により測定したＢＯＲ強度（Ｎ）であり、ｔはバックカバーガラスの板厚（ｍｍ）である。］。図４に、実施例で用いたボールオンリング試験を説明するための概略図を示す。ボールオンリング（Ｂａｌｌ  ｏｎ  Ｒｉｎｇ；ＢＯＲ）試験では、バックカバーガラス１を水平に載置した状態で、ＳＵＳ３０４製の加圧治具２（焼入れ鋼、直径１０ｍｍ、鏡面仕上げ）を用いてバックカバーガラス１を加圧し、バックカバーガラス１の面強度を測定する。
図４において、ＳＵＳ３０４製の受け治具３（直径３０ｍｍ、接触部の曲率Ｒ２．５ｍｍ、接触部は焼入れ鋼、鏡面仕上げ）の上に、サンプルとなるバックカバーガラス１が水平に設置されている。バックカバーガラス１の上方には、バックカバーガラス１を加圧するための、加圧治具２が設置されている。
バックカバーガラス１の上方から、その主面の中央領域を加圧する。なお、試験条件は下記の通りである。
加圧治具２の下降速度：１．０（ｍｍ／ｍｉｎ）
この時、ガラスが破壊された際の、破壊荷重（単位Ｎ）をＢＯＲ強度とし、１０回の測定の平均値をＢＯＲ平均強度とする。ただし、バックカバーガラスの破壊起点がボール押しつけ位置より２ｍｍ以上離れている場合は、平均値算出のためのデータより除外する。
板厚０．５５ｍｍの化学強化ガラスを用いて、面強度の値が３００Ｎ以上の場合を○、３００Ｎ未満を×とした。例えば未成膜の化学強化ガラスの面強度は５１５Ｎであった。
【００６９】
（外側表面硬度）
株式会社フィッシャー・インスツルメンツ製  ＰＩＣＯＤＥＮＴＯＲ  ＨＭ５００を用い表面硬度を測定した。測定圧子はビッカース圧子を用い、最大荷重到達時間を１０秒、クリープ時間を５秒、押し込み荷重を０．０５ｍＮから５００ｍＮの間で徐々に変更し、それぞれの条件で５回測定を実施し、その平均値を得られた測定値の測定結果とした。このとき、最大押し込み深さが５０ｎｍ〜１００ｎｍの間になるように荷重を調整し、最大押し込み深さが５０ｎｍ〜１００ｎｍのマルテンス硬度の最大値が６ＧＰａ以上の場合を○ま、６ＧＰａ未満を×とした。
【００７０】
（外側スクラッチ強度）
株式会社レスカ製薄膜スクラッチ試験機ＣＳＲ−２０００を用いて、スタイラス半径５μｍ、バネ定数１００ｇ／ｍｍ、スクラッチ速度１０μｍ、測定時間１２０秒、測定終了荷重  ２００ｍＮ、振動レベル  １００μｍ、サンプリング周波数  ３６００ヘルツの条件で、外側面の臨界荷重を測定した。得られた荷重が１５０ｍＮ以上の場合は○、１５０ｍＮ未満を×とした。
【００７１】
（電波透過性）
ＤＥＬＣＯＭ社製、非接触渦電流法抵抗値測定器７１７  Ｃｏｎｄｕｃｔａｎｃｅ  Ｍｏｎｉｔｏｒを用いて測定を行った。バックカバーガラスの内側面を測定面とし、バックカバーガラスの加色部の中央の抵抗値を測定し、１５００Ω以上を○、１５００Ω未満を×とした。
【００７２】
各項目の評価結果は以下の通り。
面強度            ：×
外側表面硬度      ：×
外側スクラッチ強度：×
電波透過性        ：○
【００７３】
（例２）
例１と同様の手順で、化学強化ガラスの一方の主面に反射色調整層として、高屈折率膜として、膜厚１２ｎｍのＡｌＯＮ膜、低屈折率膜として、膜厚３６ｎｍのＳｉＯ2膜、および高屈折率膜として、膜厚３２ｎｍのＡｌＯＮ膜をスパッタリング法により形成し、その後、反射率調整層の上に遮光層として、膜厚１０００ｎｍのニオブ低次酸化物（ＮｂＯa）膜を形成した。
ＡｌＯＮ膜の成膜条件を以下に示す
ターゲット：Ａｌ
ＤＣ電源出力（Ｗ）：３００
成膜圧力（Ｐａ）：０．３
処理ガス流量（ｓｃｃｍ）：Ａｒ／Ｏ2／Ｎ2  １９／１／１０
次に、例１と同様の手順で、化学強化ガラスの他方の主面に防汚膜としてフッ素系有機膜を形成してバックカバーガラスを作成し、各種評価を実施した。
各項目の評価結果は以下の通り。
面強度            ：×
外側表面硬度      ：×
外側スクラッチ強度：×
電波透過性        ：○
【００７４】
（例３）
例１と同様の手順で化学強化ガラスの一方の主面に反射色調整層として、高屈折率膜として、膜厚１０ｎｍのＮｂ2Ｏ5膜、低屈折率膜として、膜厚３５ｎｍのＳｉＯ2膜、および高屈折率膜として、膜厚２９ｎｍのＮｂ2Ｏ5膜をスパッタリング法により形成した後、反射率調整層の上に遮光層として、酸化銅製フィラーを含む樹脂系顔料インクをダイコーティング法により膜厚５μｍ形成した。反射率調整層を形成したときの成膜条件は例１と同一である。
次に、例１と同様の手順で、反射色調整層上に防汚膜として、フッ素系有機膜を形成してバックカバーガラスを作成し、各種評価を実施した。
各項目の評価結果は以下の通り。
面強度            ：×
外側表面硬度      ：×
外側スクラッチ強度：×
電波透過性        ：○
【００７５】
（例４）
例１の手順で作製した化学強化ガラスの一方の主面に遮光層として、膜厚３００ｎｍのクロム膜を形成した。
次に、化学強化ガラスの他方の主面に反射色調整層として、高屈折率膜として、ＡｌＯＮ膜、低屈折率膜としてＡｌ2Ｏ3膜を用い、総膜厚が１５００ｎｍの膜をスパッタリング法により形成した。
成膜条件は例２と同一である。
次に、例１と同様の手順で、反射色調整層上に防汚膜として、フッ素系有機膜を形成してバックカバーガラスを作成し、各種評価を実施した。
各項目の評価結果は以下の通り。
面強度            ：×
外側表面硬度      ：○
外側スクラッチ強度：○
電波透過性        ：×  
【００７６】
（例５）
化学強化ガラスの一方の主面に遮光層として、酸化銅製フィラーを含む樹脂系顔料インクをダイコーティング法により膜厚５μｍ形成した。
次に、化学強化ガラスの他方の主面に反射色調整層として、高屈折率膜として、Ｎｂ2Ｏ5膜、低屈折率膜としてＳｉＯ2膜を用い総膜厚３０００ｎｍの膜をスパッタリング法により形成した。
成膜条件は例２と同一である。
次に、例１と同様の手順で、反射色調整層上に防汚膜として、フッ素系有機膜を形成してバックカバーガラスを作成し、各種評価を実施した。
各項目の評価結果は以下の通り。
面強度            ：○
外側表面硬度      ：×
外側スクラッチ強度：×
電波透過性        ：○
【００７７】
（例６）
化学強化ガラスの一方の主面に遮光層として、酸化銅製フィラーを含む樹脂系顔料インクをダイコーティング法により膜厚５μｍを形成した。
次に、化学強化ガラスの他方の主面に反射色調整層として、高屈折率膜として、Ｓｉ3Ｎ4膜、低屈折率膜として、Ａｌ2Ｏ3膜、およびＳｉＯ2膜を用い総膜厚３０００ｎｍの膜をスパッタリング法により形成した。
成膜条件は例２と同一である。
次に、例１と同様の手順で、反射色調整層上に防汚膜として、フッ素系有機膜を形成してバックカバーガラスを作成し、各種評価を実施した。
各項目の評価結果は以下の通り。
面強度            ：○
外側表面硬度      ：○
外側スクラッチ強度：○
電波透過性        ：○
【００７８】
表１に、例１〜例６のサンプルの評価結果（面強度、外側表面硬度、外側スクラッチ強度、電波透過性）を示す。
【００７９】
【表１】
2019026508.tif 000003
【００８０】
表１の評価結果より、例４〜６に記載の通り、ガラス基板の一方の主面に遮光層、該ガラス基板の他方の主面に反射色調整層が形成されることで、ガラス強度、外側表面硬度、外側スクラッチ強度の少なくともいずれかの値が高く、ガラス基板１０の内側表面に発生する割れに対する耐性を有するバックカバーガラスを得ることができる。
【符号の説明】
【００８１】
１０，１００      バックカバーガラス
１１，１１０      ガラス基板
１２，１２０      遮光膜
１３，１３０      反射色調整層      
１４，１４０      防汚膜
２００            ラジカルアシストスパッタ装置
２１０            装置本体
２２０            ドラム
２３０            壁部
２４０            ターゲット
２５０            電源
２６０            アルゴンガス供給部
２７０            ラジカル源
２８０            整合機およびＲＦ源
３１０            アルゴンガス供給部
３２０            窒素ガス供給部
３３０            酸素ガス供給部
【図１】
2019026508.tif 000004
【図２】
2019026508.tif 000005
【図３】
2019026508.tif 000006
【図４】
2019026508.tif 000007