(57)【要約】【課題】操作者が半田付け位置を簡便に設定することを可能にする半田付け装置を提供することを目的とする。【解決手段】本出願は、ベース領域と、ベース領域内の半田付け位置の配置パターンと共通の配置パターンを含むようにベース領域とは異なる位置に存在する少なくとも１つの複製領域と、を有する複数の半田付け領域を含む電子基板の表面に半田付けをする半田ごてを移動させる駆動部と、ベース領域と少なくとも１つの複製領域との間の位置関係を表す位置関係データと、ベース領域内の少なくとも１つの半田付け位置の配置パターンを表すベースパターンデータの入力を受け付ける入力部と、半田付け作業において、ベースパターンデータと位置関係データとに基づき、駆動部を制御し、半田ごてを移動させる制御部と、を備える半田付け装置を開示する。【選択図】図１
2019068023.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの半田付け位置を有するベース領域と、前記ベース領域内の前記少なくとも１つの半田付け位置の配置パターンと共通の配置パターンを含み、且つ、前記ベース領域とは異なる位置に存在する少なくとも１つの複製領域と、を有する複数の半田付け領域を含む電子基板の表面に半田付けをする半田ごてと、
前記半田ごてを移動させる駆動部と、
前記ベース領域と前記少なくとも１つの複製領域との間の位置関係を表す位置関係データ、及び、前記ベース領域内の前記少なくとも１つの半田付け位置の前記配置パターンを表すベースパターンデータの入力を受け付ける入力部と、
半田付け作業において、前記ベースパターンデータと前記位置関係データとに基づき、前記駆動部を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、
（ｉ）前記ベースパターンデータに基づき、前記ベース領域内の前記少なくとも１つの半田付け位置へ前記半田ごてを移動させるための移動パターンを決定し、
（ｉｉ）前記半田ごてが前記ベース領域において前記決定された移動パターンで移動するように、前記駆動部を制御し、且つ、
（ｉｉｉ）前記位置関係データ及び前記決定された移動パターンに基づき、前記半田ごての移動が前記少なくとも１つの複製領域で行われるように、前記駆動部を制御する
半田付け装置。
【請求項２】
前記制御部は、
（ｉ）前記ベースパターンデータに基づき、前記ベース領域内での前記移動パターンを決定するパターン決定部と、
（ｉｉ）前記半田ごてが前記決定された移動パターンに従って前記ベース領域において移動するように前記駆動部を動作させるためのベース駆動信号と、前記位置関係データと前記決定された移動パターンとに基づき、前記半田ごてが前記少なくとも１つの複製領域に移動し、且つ、前記決定された移動パターンに従って前記少なくとも１つの複製領域において移動するように前記駆動部を動作させる複製駆動信号と、を生成する信号生成部と、を含み、
前記駆動部は、前記ベース駆動信号及び前記複製駆動信号に応じて前記半田ごてを移動させる
請求項１に記載の半田付け装置。
【請求項３】
前記位置関係データは、前記ベース領域と前記ベース領域から所定の軸に沿って整列する前記少なくとも１つの複製領域とを含む複数の領域の数を表す領域数データと、前記複数の領域の中で隣り合う２つの領域間のずれ量を表すオフセットデータと、を含み、
前記信号生成部は、前記領域数データと前記オフセットデータとを参照し、前記半田ごてが前記決定された移動パターンに従って前記複数の領域それぞれにおいて移動するように、前記ベース駆動信号と前記複製駆動信号とを生成する
請求項２に記載の半田付け装置。
【請求項４】
前記位置関係データは、前記ベース領域と前記ベース領域から所定の第１軸に沿って整列する前記少なくとも１つの複製領域とを含む複数の第１領域の数を表す第１領域数データと、前記複数の第１領域の中で隣り合う２つの領域間のずれ量を表す第１オフセットデータと、を含み、
前記信号生成部は、前記第１領域数データと前記第１オフセットデータとを参照し、前記半田ごてが前記決定された移動パターンに従って前記複数の第１領域それぞれにおいて移動するように、前記ベース駆動信号と前記複製駆動信号とを生成する
請求項２又は３に記載の半田付け装置。
【請求項５】
前記位置関係データは、前記ベース領域と前記ベース領域から前記第１軸に直交する第２軸に沿って整列する前記少なくとも１つの複製領域とを含む複数の第２領域の数を表す第２領域数データと、前記複数の第２領域の中で隣り合う２つの領域間のずれ量を表す第２オフセットデータと、を含み、
前記信号生成部は、前記第２領域数データと前記第２オフセットデータとを参照し、前記半田ごてが前記決定された移動パターンに従って前記複数の第２領域それぞれにおいて移動するように、前記ベース駆動信号と前記複製駆動信号とを生成する
請求項４に記載の半田付け装置。
【請求項６】
前記入力部は、前記ベース領域内の前記少なくとも１つの半田付け位置に半田付けした後の前記半田ごてが前記電子基板の前記表面から上方に移動するときにおける前記半田ごての移動量を表す移動量データの入力を受け付け、
前記パターン決定部は、前記移動量データを参照し、半田付けごとに前記半田ごてが上方へ移動する前記移動パターンを決定し、
前記信号生成部によって生成された前記複製駆動信号は、前記決定された移動パターンに従って前記少なくとも１つの複製領域において移動するように前記駆動部を動作させ、前記少なくとも１つの複製領域において前記半田ごてを半田付けごとに上方へ移動させる
請求項２乃至５のいずれか１項に記載の半田付け装置。
【請求項７】
前記ベースパターンデータが、前記少なくとも１つの半田付け位置を表す座標値として、第１半田付け位置及び前記第１半田付け位置とは異なる位置に存在する第２半田付け位置をそれぞれ表す複数の座標値を含むとき、前記入力部は、前記移動量データとして、前記第１半田付け位置と前記第２半田付け位置とに対して互いに異なる複数の値の入力を受け付ける
請求項６に記載の半田付け装置。
【請求項８】
前記ベースパターンデータが、前記少なくとも１つの半田付け位置を表す座標値として、第１半田付け位置及び前記第１半田付け位置とは異なる位置に存在する第２半田付け位置をそれぞれ表す複数の座標値を含むとき、前記入力部は、前記移動量データとして、前記第１半田付け位置と前記第２半田付け位置とに対して共通の値の入力を一括で受け付ける
請求項６に記載の半田付け装置。
【請求項９】
前記入力部は、前記複数の半田付け領域に対する半田付けの順番の指定を受け付け、
前記半田ごてが前記指定された順番に従って前記複数の半田付け領域で半田付けするように、前記駆動部は、前記制御部の制御下で前記半田ごてを移動させる
請求項１乃至８のいずれか１項に記載の半田付け装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、予め指定された半田付け位置に半田付けを自動的に行う半田付け装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
予め指定された半田付け位置に半田付けを自動的に行う様々な半田付け装置が開発されてきている（特許文献１を参照）。特許文献１によれば、操作者は、パーソナルコンピュータに半田付け位置の座標値を入力し、半田付け位置を設定することができる（いわゆる、ティーチング作業）。半田付け装置は、入力された半田付け位置で半田付けを行うことができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−７５９１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
半田付けされた大きな電子基板が、複数の小さな電子基板に切り分けられることがある。これらの小さな電子基板は、複数の電気機器に組み込まれる。この場合、複数の小さな電子基板に形成された複数の半田付け位置の配置パターンは共通している。電気機器に組み込まれる電子基板に設定された半田付け位置の数と大きな電子基板の分割数との積に相当する多数の半田付け位置が大きな電子基板に存在する。
【０００５】
操作者は、上述の半田付け位置の設定技術の下では、大きな電子基板上に多数の半田付け位置の全てを半田付け装置に憶えさせる必要がある。したがって、上述の半田付け位置の設定技術は、半田付け装置に半田付け位置を憶えさせるティーチング作業を行う操作者に多大な労力を要求する。
【０００６】
本発明は、操作者が半田付け位置を簡便に設定することを可能にする半田付け装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一局面に係る半田付け装置は、少なくとも１つの半田付け位置を有するベース領域と、前記ベース領域内の前記少なくとも１つの半田付け位置の配置パターンと共通の配置パターンを含み、且つ、前記ベース領域とは異なる位置に存在する少なくとも１つの複製領域と、を有する複数の半田付け領域を含む電子基板の表面に半田付けをする半田ごてと、前記半田ごてを移動させる駆動部と、前記ベース領域と前記少なくとも１つの複製領域との間の位置関係を表す位置関係データ、及び、前記ベース領域内の前記少なくとも１つの半田付け位置の前記配置パターンを表すベースパターンデータの入力を受け付ける入力部と、半田付け作業において、前記ベースパターンデータと前記位置関係データとに基づき、前記駆動部を制御する制御部と、を備える。前記制御部は、（ｉ）前記ベースパターンデータに基づき、前記ベース領域内の前記少なくとも１つの半田付け位置へ前記半田ごてを移動させるための移動パターンを決定し、（ｉｉ）前記半田ごてが前記ベース領域において前記決定された移動パターンで移動するように、前記駆動部を制御し、且つ、（ｉｉｉ）前記位置関係データ及び前記決定された移動パターンに基づき、前記半田ごての移動が前記少なくとも１つの複製領域で行われるように、前記駆動部を制御する。
【０００８】
上記の構成によれば、ベース領域は、少なくとも１つの半田付け位置を記憶させるための領域として用いられるので、操作者はベース領域内の少なくとも１つの半田付け位置の配置パターンを表すベースパターンデータを入力部に入力する。この結果、制御部は、ベース領域内での半田付け位置を把握することができる。したがって、制御部は、ベースパターンデータに基づき、半田ごてをベース領域内の少なくとも１つの半田付け位置に移動させるための移動パターンを決定することができる。制御部は、半田ごてが決定された移動パターンでベース領域において移動するように、駆動部を制御するので、半田ごては、半田付け作業において、決定された移動パターンで移動し、ベース領域内の少なくとも１つの半田付け位置で半田付けをすることができる。
【０００９】
入力部に入力された位置関係データは、ベース領域とベース領域とは異なる位置に存在する少なくとも１つの複製領域との間の位置関係を表すので、位置関係データを参照した制御部は、ベース領域に対する少なくとも１つの複製領域の相対的な位置を把握することができる。したがって、制御部は、ベース領域と少なくとも１つの複製領域との間の位置関係を表す位置関係データに基づき、ベース領域に対して決定された移動パターンに従う半田ごての移動が少なくとも１つの複製領域で行われるように、駆動部を制御することができる。この結果、半田ごては、ティーチング作業の後の半田付け作業において、ベース領域に対して決定された移動パターンで移動し、少なくとも１つの複製領域に半田付けをすることができる。複製領域は、ベース領域内の少なくとも１つの半田付け位置の配置パターンと共通の配置パターンを含むので、ベース領域に対して決定された移動パターンに従って移動する半田ごては、複製領域内の半田付け位置のパターンに対応して半田付けをすることができる。
【００１０】
上述の如く、少なくとも１つの複製領域に対応する半田付け位置が入力部に入力されなくても、半田付け装置は、少なくとも１つの複製領域内の半田付け位置で半田付けを行うことができる。したがって、半田付け装置は、半田付け位置を入力する操作者の労力を効果的に軽減することができる。
【００１１】
上記の構成に関して、前記制御部は、（ｉ）前記ベースパターンデータに基づき、前記ベース領域内での前記移動パターンを決定するパターン決定部と、（ｉｉ）前記半田ごてが前記決定された移動パターンに従って前記ベース領域において移動するように前記駆動部を動作させるためのベース駆動信号と、前記位置関係データと前記決定された移動パターンとに基づき、前記半田ごてが前記少なくとも１つの複製領域に移動し、且つ、前記決定された移動パターンに従って前記少なくとも１つの複製領域において移動するように前記駆動部を動作させる複製駆動信号と、を生成する信号生成部と、を含んでもよい。前記駆動部は、前記ベース駆動信号及び前記複製駆動信号に応じて前記半田ごてを移動させてもよい。
【００１２】
上記の構成によれば、上述の如く、操作者は、ベースパターンデータを入力部に入力するので、制御部のパターン決定部は、ベース領域内での半田付け位置を把握することができる。したがって、パターン決定部は、ベースパターンデータに基づき、半田ごてをベース領域内の少なくとも１つの半田付け位置へ移動させるための移動パターンを決定することができる。信号生成部は、半田ごてが決定された移動パターンに従って移動するようにベース駆動信号を生成するので、駆動部は、ベース駆動信号に応じて半田ごてを移動させることができる。この結果、半田ごては、ベース領域内の少なくとも１つの半田付け位置において半田付けをすることができる。
【００１３】
入力部に入力された位置関係データは、ベース領域とベース領域とは異なる位置において仮想的に複製された少なくとも１つの複製領域との間の位置関係を表すので、位置関係データを参照した制御部の信号生成部は、ベース領域に対する少なくとも１つの複製領域の相対的な位置を把握することができる。したがって、信号生成部は、半田ごてが少なくとも１つの複製領域に移動するように複製駆動信号を生成し、駆動部を制御することができる。半田ごてが、少なくとも１つの複製領域においても、ベース領域に対して決定された移動パターンで動作するように、信号生成部は複製駆動信号を生成するので、複製駆動信号に応じて動作する駆動部は、少なくとも１つの複製領域に対しても、半田ごてにベース領域における移動動作と同様の移動動作をさせることができる。したがって、ベース領域においてなされた半田付け動作と同様の半田付け動作が、少なくとも１つの複製領域に対しても実行されることができる。
【００１４】
上記の構成に関して、前記位置関係データは、前記ベース領域と前記ベース領域から所定の軸に沿って整列する前記少なくとも１つの複製領域とを含む複数の領域の数を表す領域数データと、前記複数の領域の中で隣り合う２つの領域間のずれ量を表すオフセットデータと、を含んでもよい。前記信号生成部は、前記領域数データと前記オフセットデータとを参照し、前記半田ごてが前記決定された移動パターンに従って前記複数の領域それぞれにおいて移動するように、前記ベース駆動信号と前記複製駆動信号とを生成してもよい。
【００１５】
上記の構成によれば、位置関係データの領域数データは、ベース領域とベース領域から所定の軸に沿って整列する少なくとも１つの複製領域とを含む複数の第１領域の数を表すので、位置関係データを参照した信号生成部は、複製駆動信号を何回生成すればよいかを把握することができる。オフセットデータは、複数の領域の中で隣り合う２つの領域間のずれ量を表すので、位置関係データを参照した信号生成部は、所定の軸に沿って整列する複数の領域それぞれの位置を把握することができる。したがって、信号生成部は、領域数データとオフセットデータとを参照し、ベース領域に対して決定された移動パターンが複数の領域それぞれに適用されるように複製駆動信号を生成することができる。この結果、ベース領域において実行された半田付け動作と同様の半田付け動作が、ベース領域に対して所定の軸に沿って整列した少なくとも１つの複製領域においても実行されることができる。所定の軸に沿って整列した複数の領域全てについてティーチング作業が行われなくても、共通の半田付け動作が所定の軸に沿って整列する複数の領域に対して実行されるので、上述の半田付け装置は、ティーチング作業を行う操作者の労力を効果的に軽減することができる。
【００１６】
上記の構成に関して、前記位置関係データは、前記ベース領域と前記ベース領域から所定の第１軸に沿って整列する前記少なくとも１つの複製領域とを含む複数の第１領域の数を表す第１領域数データと、前記複数の第１領域の中で隣り合う２つの領域間のずれ量を表す第１オフセットデータと、を含んでもよい。前記信号生成部は、前記第１領域数データと前記第１オフセットデータとを参照し、前記半田ごてが前記決定された移動パターンに従って前記複数の第１領域それぞれにおいて移動するように、前記ベース駆動信号と前記複製駆動信号とを生成してもよい。
【００１７】
上記の構成によれば、位置関係データの第１領域数データは、ベース領域とベース領域から所定の第１軸に沿って整列する少なくとも１つの複製領域とを含む複数の第１領域の数を表すので、位置関係データを参照した信号生成部は、複製駆動信号を何回生成すればよいかを把握することができる。第１オフセットデータは、複数の第１領域の中で隣り合う２つの領域間のずれ量を表すので、位置関係データを参照した信号生成部は、第１軸に沿って整列する複数の第１領域それぞれの位置を把握することができる。したがって、信号生成部は、第１領域数データと第１オフセットデータとを参照し、ベース領域に対して決定された移動パターンが複数の第１領域それぞれに適用されるように複製駆動信号を生成することができる。この結果、ベース領域において実行された半田付け動作と同様の半田付け動作が、ベース領域に対して第１軸に沿って整列した少なくとも１つの複製領域においても実行されることができる。第１軸に沿って整列した複数の第１領域全てについてティーチング作業が行われなくても、共通の半田付け動作が第１軸に沿って整列する複数の第１領域に対して実行されるので、上述の半田付け装置は、ティーチング作業を行う操作者の労力を効果的に軽減することができる。
【００１８】
上記の構成に関して、前記位置関係データは、前記ベース領域と前記ベース領域から前記第１軸に直交する第２軸に沿って整列する前記少なくとも１つの複製領域とを含む複数の第２領域の数を表す第２領域数データと、前記複数の第２領域の中で隣り合う２つの領域間のずれ量を表す第２オフセットデータと、を含んでもよい。前記信号生成部は、前記第２領域数データと前記第２オフセットデータとを参照し、前記半田ごてが前記決定された移動パターンに従って前記複数の第２領域それぞれにおいて移動するように、前記ベース駆動信号と前記複製駆動信号とを生成してもよい。
【００１９】
上記の構成によれば、位置関係データの第２領域数データは、ベース領域とベース領域から第１軸に直交する第２軸に沿って整列する少なくとも１つの複製領域とを含む複数の第２領域の数を表すので、位置関係データを参照した信号生成部は、複製駆動信号を何回生成すればよいかを把握することができる。第２オフセットデータは、複数の第２領域の中で隣り合う２つの領域間のずれ量を表すので、位置関係データを参照した信号生成部は、第２軸に沿って整列する複数の第２領域それぞれの位置を把握することができる。したがって、信号生成部は、第２領域数データと第２オフセットデータとを参照し、ベース領域に対して決定された移動パターンが複数の第２領域それぞれに適用されるように複製駆動信号を生成することができる。この結果、ベース領域において実行された半田付け動作と同様の半田付け動作が、ベース領域に対して第２軸に沿って整列した少なくとも１つの複製領域においても実行されることができる。第２軸に沿って整列する複数の第２領域全てについてティーチング作業が行われなくても、共通の半田付け動作が第２軸に沿って整列する複数の第２領域に対して実行されるので、上述の半田付け装置は、ティーチング作業を行う操作者の労力を効果的に軽減することができる。
【００２０】
上記の構成に関して、前記入力部は、前記ベース領域内の前記少なくとも１つの半田付け位置に半田付けした後の前記半田ごてが前記電子基板の前記表面から上方に移動するときにおける前記半田ごての移動量を表す移動量データの入力を受け付けてもよい。前記パターン決定部は、前記移動量データを参照し、半田付けごとに前記半田ごてが上方へ移動する前記移動パターンを決定してもよい。前記信号生成部によって生成された前記複製駆動信号は、前記決定された移動パターンに従って前記少なくとも１つの複製領域において移動するように前記駆動部を動作させ、前記少なくとも１つの複製領域において前記半田ごてを半田付けごとに上方へ移動させてもよい。
【００２１】
上記の構成によれば、移動量データは、半田付け後の半田ごてが電子基板の表面から上方に移動するときの移動量を表すので、移動量データを参照したパターン決定部は、半田付けの後の半田ごてが電子基板の表面から上方へ離れるように駆動部の駆動パターンを決定することができる。半田ごては、ベース領域内の半田付け位置に向けて上下動し、点状の半田を電子基板の表面上に付着させることができる。
【００２２】
信号生成部によって生成された複製駆動信号は、決定された移動パターンに従って少なくとも１つの複製領域において移動するように駆動部を動作させるので、半田ごては、少なくとも１つの複製領域においても半田付けごとに上方へ移動することができる。半田ごては、複製領域内の半田付け位置に向けて上下動し、点状の半田を電子基板の表面上に付着させることができる。
【００２３】
上記の構成に関して、前記ベースパターンデータが、前記少なくとも１つの半田付け位置を表す座標値として、第１半田付け位置及び前記第１半田付け位置とは異なる位置に存在する第２半田付け位置をそれぞれ表す複数の座標値を含むとき、前記入力部は、前記移動量データとして、前記第１半田付け位置と前記第２半田付け位置とに対して互いに異なる複数の値の入力を受け付けてもよい。
【００２４】
上記の構成によれば、入力部は、移動量データとして、第１半田付け位置と第２半田付け位置との間で互いに異なる複数の値の入力を受け付けるので、操作者は、第１半田付け位置において必要とされる移動量と第２半田付け位置において必要とされる移動量とを個別に入力することができる。半田ごては不必要に大きく上方に移動しないので、半田ごての移動のための期間は短縮化され、半田付け作業は効率化される。
【００２５】
上記の構成に関して、前記ベースパターンデータが、前記少なくとも１つの半田付け位置を表す座標値として、第１半田付け位置及び前記第１半田付け位置とは異なる位置に存在する第２半田付け位置をそれぞれ表す複数の座標値を含むとき、前記入力部は、前記移動量データとして、前記第１半田付け位置と前記第２半田付け位置とに対して共通の値の入力を一括で受け付けてもよい。
【００２６】
上記の構成によれば、入力部は、移動量データとして、第１半田付け位置と第２半田付け位置とに共通した値の入力を一括で受け付けるので、操作者は、半田ごての移動量を、第１半田付け位置と第２半田付け位置とに個別に設定しなくてもよい。したがって、操作者は、半田ごての移動量を短時間で設定することができる。
【００２７】
上記の構成に関して、前記入力部は、前記複数の半田付け領域に対する半田付けの順番の指定を受け付けてもよい。前記半田ごてが前記指定された順番に従って前記複数の半田付け領域で半田付けするように、前記駆動部は、前記制御部の制御下で前記半田ごてを移動させてもよい。
【００２８】
上記の構成によれば、入力部は、複数の半田付け領域に対する順番の指定を受け付けるので、操作者は、操作者の作業手順にとって都合のよい半田付け順序を設定することができる。半田付けが入力部を通じて指定された順番に従って複数の半田付け領域に順次実行されるように、制御部は駆動部を制御し、半田ごてを移動させるので、半田付け作業は、操作者の作業手順にとって都合のよい順序で実行されることができる。
【発明の効果】
【００２９】
上述の半田付け装置は、操作者が半田付け位置を簡便に設定することを可能にする。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】例示的な半田付け装置の概略的なブロック図である。
【図２】図１に示される半田付け装置のパターン決定部が決定する例示的な移動パターンのフロー図である。
【図３Ａ】図１に示される半田付け装置のパターン解析部がオフセット量を用いて変更した移動パターンを示すフロー図である。
【図３Ｂ】図１に示される半田付け装置のパターン解析部がオフセット量を用いて変更した移動パターンを示すフロー図である。
【図３Ｃ】図１に示される半田付け装置のパターン解析部がオフセット量を用いて変更した移動パターンを示すフロー図である。
【図４】図１に示される半田付け装置の制御部の例示的な動作を表す概略的なフローチャートである。
【図５】例示的な電子基板の概略的な平面図である。
【図６】図１に示される半田付け装置の入力インターフェースが表示する例示的な画像である。
【図７】図１に示される半田付け装置の概略的な斜視図である。
【図８】例示的な電子基板の概略的な平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
＜本発明者等が開発した半田付け装置＞
図７は、本発明者等が開発した半田付け装置１００の概略的な斜視図である。図７を参照して、半田付け装置１００の概略的な構造が説明される。
【００３２】
図７は、ｘ軸、ｙ軸及びｚ軸によって定義された直交座標を示す。以下の説明に関して、ｘ軸の正の方向は、「右」として定義される。ｘ軸の負の方向は、「左」として定義される。ｙ軸の正の方向は、「前」として定義される。ｙ軸の負の方向は、「後」として定義される。ｚ軸の正の方向は、「上」として定義される。ｚ軸の負の方向は、「下」として定義される。「時計回り」及び「反時計回り」との用語は、ｚ軸に平行な回転軸周りの回転を表す。方向を表すこれらの用語は、説明の明瞭化のみを目的として用いられる。したがって、本実施形態の原理は、方向を表すこれらの用語に何ら限定されない。
【００３３】
半田付け装置１００は、半田付け機構１１０と、支持体１２０と、操作ユニット１３０と、加熱制御部１４０と、入力インターフェース１５０と、駆動部（図示せず）と、を備える。半田付け機構１１０は、電子基板（図示せず）に半田付けを行う。加熱制御部１４０は、半田付け機構１１０に対する温度制御に用いられる。支持体１２０は、半田付け機構１１０、操作ユニット１３０及び駆動部を支持する。駆動部として用いられる複数のモータは、支持体１２０及び半田付け機構１１０に取り付けられている。操作部１３０は、半田付け装置１００に電子基板上の半田付け位置の座標値を記憶させるためのティーチング作業に好適に利用されることができる。ティーチング作業を行う操作者が、操作ユニット１３０を操作すると、駆動部は、半田付け機構１１０を、操作ユニット１３０に対する操作によって定められる方向に移動又は回転させる。入力インターフェース１５０は、半田付け装置１００の様々な動作パラメータの入力のために用いられる。
【００３４】
支持体１２０は、基台１２１と、２つの支柱１２２，１２３と、支持橋１２４と、設置台１２５と、を含む。基台１２１は、略矩形状の板状部位である。支柱１２２は、基台１２１の左縁から上方に立設される。支柱１２３は、基台１２１の右縁から上方に立設される。支柱１２２，１２３は、ｘ軸方向に整列される。支持橋１２４は、左側の支柱１２２から右側の支柱１２３へ架け渡される。したがって、支持橋１２４は、ｘ軸方向に延びる。半田付け機構１１０は、支持橋１２４に取り付けられる。操作者が、操作ユニット１３０を操作すると、駆動部として用いられる複数のモータのうち１つは、半田付け機構１１０を支持橋１２４に沿って移動させることができる。
【００３５】
設置台１２５は、基台１２１の上面に据え付けられる略矩形状の板状部位である。操作者は、電子基板を設置台１２５上に固定することができる。操作者は、操作ユニット１３０を操作し、半田付け機構１１０を設置台１２５上で、ｘ軸方向及びｚ軸方向に移動させたり、ｚ軸に平行な回転軸周りに回転移動させたりすることができる。図７に示されるように、ｙ軸方向に延びるスロット１２６が、基台１２１の上面に形成されている。操作者が、操作ユニット１３０を操作すると、駆動部として用いられる複数のモータのうち１つは、設置台１２５をスロット１２６に沿って移動させることができる。設置台１２５上の電子基板と半田付け機構１１０との間の相対的な位置関係は、ｘ軸方向及びｚ軸方向において、半田付け機構１１０の移動によって調整される。設置台１２５上の電子基板と半田付け機構１１０との間の相対的な位置関係は、設置台１２５のｙ軸方向の移動によって調整される。
【００３６】
半田付け機構１１０は、水平可動柱１１１と、鉛直可動柱１１２と、糸半田１１３と、半田送出部１１４と、半田ごて１１５と、保持部１１６と、を含む。水平可動柱１１１は、鉛直可動柱１１２、糸半田１１３、半田送出部１１４、半田ごて１１５及び保持部１１６を保持し、駆動部の作動下でｘ軸方向に移動する。鉛直可動柱１１２は、糸半田１１３、半田送出部１１４、半田ごて１１５及び保持部１１６を保持し、駆動部の作動下でｚ軸方向に移動する。保持部１１６は、半田送出部１１４及び半田ごて１１５を保持し、鉛直可動柱１１２の鉛直中心軸に略一致する回転軸周りにこれらを周回移動させる。半田送出部１１４は、糸半田１１３を、半田ごて１１５の先端を形成するこて先に送出する。半田ごて１１５は、加熱制御部１４０の温度制御下で、半田送出部１１４から送り出された糸半田１１３を溶融する。
【００３７】
水平可動柱１１１は、ｚ軸方向に長い柱状の部材である。駆動部を形成する複数のモータのうち１つが作動すると、水平可動柱１１１が支持橋１２４に沿って略水平に移動するように、水平可動柱１１１、支持橋１２４及び駆動部は設計される。既知の半田付け装置の構造は、水平可動柱１１１、支持橋１２４及び駆動部の設計に適用されてもよい。したがって、本実施形態の原理は、水平可動柱１１１、支持橋１２４及び駆動部の間の特定の連結構造に限定されない。
【００３８】
水平可動柱１１１と同様に、鉛直可動柱１１２は、ｚ軸方向に長い柱状の部材である。駆動部を形成する複数のモータのうち１つが作動すると、鉛直可動柱１１２が水平可動柱１１１に沿って略鉛直に移動するように、鉛直可動柱１１２、水平可動柱１１１及び駆動部は設計される。既知の半田付け装置の構造は、鉛直可動柱１１２、水平可動柱１１１及び駆動部の設計に適用されてもよい。したがって、本実施形態の原理は、鉛直可動柱１１２、水平可動柱１１１及び駆動部の間の特定の連結構造に限定されない。
【００３９】
保持部１１６は、半田送出部１１４及び半田ごて１１５を保持するために用いられる。保持部１１６は、鉛直可動柱１１２の下端に連結される。したがって、保持部１１６、半田送出部１１４及び半田ごて１１５は、鉛直可動柱１１２とともに、上方、下方、左方及び右方に移動することができる。駆動部を形成する複数のモータのうち１つが作動すると、保持部１１６が、鉛直可動柱１１２の鉛直中心軸に略一致する回転軸周りに回転するように、保持部１１６、鉛直可動柱１１２及び駆動部は設計される。操作者は、操作ユニット１３０を操作し、保持部１１６を回転させることにより、半田ごて１１５が電子基板上の電子部品に接触することを回避することができる。半田送出部１１４及び半田ごて１１５はともに、保持部１１６に取り付けられているので、これらの間の相対的な位置関係は、保持部１１６の回転の間変化しない。既知の半田付け装置の構造は、保持部１１６、鉛直可動柱１１２及び駆動部の設計に適用されてもよい。したがって、本実施形態の原理は、保持部１１６、鉛直可動柱１１２及び駆動部の間の特定の連結構造に限定されない。
【００４０】
保持部１１６は、半田ごて１１５が取り付けられる弧状板１１７を含む。弧状のスロット１１８が、弧状板１１７に形成される。操作者は、半田ごて１１５の取付位置をスロット１１８に沿って変更し、設置台１２５上の電子基板の上面に対する半田ごて１１５の傾斜角度を調整することができる。目盛（図示せず）が、スロット１１８に沿って付されてもよい。この場合、操作者は、半田ごて１１５の傾斜角度を数値的に把握することができる。
【００４１】
加熱制御部１４０は、半田ごて１１５のこて先の温度を制御するために用いられる。既知の半田付け装置に用いられるフィードバック制御技術は、加熱制御部１４０と半田ごて１１５との間で実行される温度制御に適用されることができる。したがって、本実施形態の原理は、加熱制御部１４０と半田ごて１１５との間で行われる特定の温度制御技術に限定されない。
【００４２】
糸半田１１３が巻き付けられた半田ボビン１１９は、鉛直可動柱１１２の上端に取り付けられる。糸半田１１３は、半田ボビン１１９から半田送出部１１４へ延びる。半田付けが行われるとき、半田送出部１１４は、操作者によって設定された量だけ、半田を半田ごて１１５のこて先（又はこて先の近傍）に供給する。この結果、半田は、半田ごて１１５のこて先（又はこて先の近傍）で溶融される。既知の半田付け装置が有する半田送出機構の構造が、半田送出部１１４に適用されることができる。したがって、本実施形態の原理は、半田送出部１１４の特定の構造に限定されない。
【００４３】
操作ユニット１３０は、筐体１３１と、左レバー１３２と、右レバー１３３と、座標入力部１３４と、を含む。操作者は、筐体１３１の上面から突出した左レバー１３２及び右レバー１３３を傾け、半田ごて１１５及び設置台１２５を移動させることができる。座標入力部１３４は、半田ごて１１５のこて先の座標を半田付け装置１００に記憶させるために用いられる。半田ごて１１５のこて先が、設置台１２５上で固定された電子基板上の所定の半田付け位置に到達すると、操作者は、座標入力部１３４を操作し、半田付け装置１００が実行する演算処理用に設定された座標空間内でのこて先の位置の座標値を半田付け位置として半田付け装置１００に記憶させることができる。左レバー１３２及び右レバー１３３の傾斜量や座標入力部１３４に対する操作がなされたことを表す電気信号を生成する様々な電子部品は、筐体１３１内に配置されている。
【００４４】
操作者は、筐体１３１の上面から突出した左レバー１３２及び右レバー１３３を傾斜し、設置台１２５上の電子基板と半田ごて１１５のこて先との間の相対位置の変更方向の指定することができる。左レバー１３２は、ｚ軸方向における半田ごて１１５のこて先の移動（すなわち、上方及び下方へのこて先の移動）及び保持部１１６の回転（すなわち、保持部１１６の回転軸周りの半田ごて１１５のこて先の周回移動）に用いられる。右レバー１３３は、ｘ軸方向における半田ごて１１５のこて先の移動（すなわち、左方及び右方へのこて先の移動）及びｙ軸方向における設置台１２５の移動（すなわち、設置台１２５上の電子基板に対する前方及び後方へのこて先の相対的移動）に用いられる。以下の表は、左レバー１３２及び右レバー１３３の操作に対する半田付け装置１００の動作の例示的な対応関係を示す。
【００４５】
【表１】
2019068023.tif 000003
【００４６】
こて先が、ティーチング作業の間、設置台１２５上の電子基板上で定められた半田付け位置に到達すると、操作者は、ｘ軸方向に整列した左レバー１３２及び右レバー１３３の間に配置された座標入力部１３４を操作し、半田付け装置１００が実行する演算処理用に設定された座標空間内でのこて先の座標位置を入力することができる。この結果、半田付け装置１００は、入力された座標位置を半田付け位置として憶えることができる。その後の半田付け作業の間、半田付け装置１００は、記憶された半田付け位置の座標位置を参照し、自動的に半田付けを行うことができる。本実施形態に関して、座標入力部１３４は、一般的な押圧ボタンとして設計されている。したがって、操作者は、押圧ボタンから受ける反力を指先で知覚し、押圧ボタンが操作されたか否かを判断することができる。
【００４７】
入力インターフェース１５０は、半田付け装置１００の動作に関する他の動作パラメータ（たとえば、上述の糸半田１１３の供給量）の入力に用いられる。タッチパネルが、入力インターフェース１５０として用いられてもよい。この場合、入力インターフェース１５０は、上述のティーチング作業の間に入力された座標値（すなわち、半田付け位置）を表示することができる。したがって、操作者は、ティーチング作業の結果を数値的に把握することができる。
【００４８】
半田付け位置に関する共通の配置パターン（以下、「共通パターン」と称される）が１つの電子基板の異なる位置に形成されている結果、電子基板が、多数の半田付け位置を有することもある。本発明者等は、複数の共通パターンを有する電子基板に対するティーチング作業の負荷の低減に取り組んだ。
【００４９】
図８は、例示的な電子基板９００の概略的な平面図である。図７及び図８を参照し、複数の共通パターンを有する電子基板９００に対するティーチング作業の多大な負荷が説明される。
【００５０】
図８に示される点線ＤＬｘは、ｘ軸に平行に延びる仮想線である。図８に示される点線ＤＬｙは、ｙ軸に平行に延びる仮想線である。電子基板９００は、点線ＤＬｘ、ＤＬｙによって４つの領域に等分される。電子基板９００は、半田付け作業の後、点線ＤＬｘ、ＤＬｙに沿って切断され、４つの小基板が形成される。
【００５１】
１６個の半田付け位置Ｐ０１〜Ｐ１６が電子基板９００上に存在している。４つの半田付け位置Ｐ０１〜Ｐ０４の組、４個の半田付け位置Ｐ０５〜Ｐ０８の組、４個の半田付け位置Ｐ０９〜Ｐ１２の組及び４個の半田付け位置Ｐ１３〜Ｐ１６の組は、４個の領域にそれぞれ対応している。４個の半田付け位置Ｐ０１〜Ｐ０４の組、４個の半田付け位置Ｐ０５〜Ｐ０８の組、４個の半田付け位置Ｐ０９〜Ｐ１２の組及び４個の半田付け位置Ｐ１３〜Ｐ１６の組は、共通の配置パターンを有している（すなわち、これらの組は、共通パターンである）。したがって、点線ＤＬｘ、ＤＬｙによって仮想的に分割された４つの領域それぞれは、半田ごて１１５を用いた半田付け作業が行われる半田付け領域となる。
【００５２】
本発明者等は、４個の領域のうち１つに対してティーチング作業を行い、残りの３つの領域に対するティーチング作業を不要にするパレタイジング機能を半田付け装置１００に組み込んだ。パレタイジング機能は、１つの領域に対して行われたティーチング作業の結果得られた半田ごて１１５の動作パターンを他の領域にも適用し、他の領域に対してもティーチング作業が行われた領域と同一の半田付けを行うことを可能にする。パレタイジング機能の結果、電子基板９００に対するティーチング作業は、４個の領域のうち１つに対してのみ行われることになる。他の領域上の半田付け位置に対する半田付けは、これらの領域に対するティーチング作業なくして、４個の領域のうち１つに対して行われたティーチング作業の結果に基づき実行される。一方、パレタイジング機能がないならば、操作者は、電子基板９００上の１６個の半田付け位置全てに対してティーチング作業を行う必要がある。したがって、パレタイジング機能は、ティーチング作業の大幅な効率化に寄与することができる。
【００５３】
＜パレタイジング機能を有する半田付け装置＞
図１は、半田付け装置１００の概略的なブロック図である。図１、図７及び図８を参照して、半田付け装置１００が説明される。
【００５４】
図１は、図７を参照して説明された操作ユニット１３０及び入力インターフェース１５０を入力部１９０として示す。入力部１９０は、パレタイジング機能に必要とされるデータの入力に用いられる。
【００５５】
半田付け装置１００は、記憶部１６０と制御部１７０とを備える。これらは、パレタイジング機能のために半田付け装置１００に組み込まれている。記憶部１６０は、入力部１９０からの入力データを記憶する。制御部１７０は、入力部１９０内に格納されたデータを参照し、駆動部１８０を制御する。
【００５６】
操作者は、図８を参照して説明された４つの領域のうち１つを、半田付け装置１００に半田付け位置Ｐ０１〜Ｐ０４を記憶させるためのティーチング作業が行われるベース領域９１１として設定することができる。本実施形態に関して、操作者は、左前の領域を、ベース領域９１１として設定している。ベース領域９１１の選択は、操作者に専ら依存する。したがって、本実施形態の原理は、どの領域がベース領域９１１として設定されるかによっては何ら限定されない。
【００５７】
図８を参照して説明された４つの領域のうち残りの領域は、３つの複製領域９１２，９１３，９１４として設定される。ティーチング作業は、これらの複製領域９１２，９１３，９１４に対しては実行されなくてもよい。代わりに、これらの複製領域９１２，９１３，９１４内の半田付け位置Ｐ０５〜Ｐ１６に対する半田付けは、パレタイジング機能によって実行される。複製領域９１２は、ベース領域９１１の右に位置する。複製領域９１３は、ベース領域９１１の後に位置する。複製領域９１４は、ベース領域９１１に対して矩形状の電子基板９００の対角線上に整列する。これらの複製領域９１２，９１３，９１４は、制御部１７０のパレタイジング処理において、ベース領域９１１の複製として取り扱われる。すなわち、ベース領域９１１に対して設定された半田ごて１１５の移動軌跡は、パレタイジング機能によって、複製領域９１２，９１３，９１４に複製され、半田付け作業の間、複製領域９１２，９１３，９１４上で半田付けを行う半田ごては、複製された移動軌跡に沿って移動することになる。
【００５８】
ティーチング作業を行う操作者は、操作ユニット１３０を操作し、ベース領域９１１内の半田付け位置の座標値を入力する。本実施形態に関して、電子基板９００の左前の角隅部が、座標原点として設定されている。座標値は、座標原点を基準に設定されている。以下の表は、ベース領域９１１内の半田付け位置Ｐ０１〜Ｐ０４の座標値を表す。入力された座標値は、ベース領域９１１内の半田付け位置Ｐ０１〜Ｐ０４の配置パターンを表すベースパターンデータとして記憶部１６０に記憶される。本実施形態に関して、第１半田付け位置は、半田付け位置Ｐ０１〜Ｐ０４のうち１つである。第２半田付け位置は、半田付け位置Ｐ０１〜Ｐ０４のうち他のもう１つである。
【００５９】
【表２】
2019068023.tif 000004
【００６０】
図８に示されるように、複製領域９１２上の半田付け位置Ｐ０５〜Ｐ０８は、ベース領域９１１上の半田付け位置Ｐ０１〜Ｐ０４からｘ軸において正の方向に「ｘａ」だけずれた位置に存在している。複製領域９１３上の半田付け位置Ｐ０９〜Ｐ１２は、ベース領域９１１上の半田付け位置Ｐ０１〜Ｐ０４からｙ軸において負の方向に「ｙａ」だけずれた位置に存在している。複製領域９１４上の半田付け位置Ｐ１３〜Ｐ１６は、ベース領域９１１上の半田付け位置Ｐ０１〜Ｐ０４から、ｘ軸において正の方向に「ｘａ」且つｙ軸において負の方向に「ｙａ」だけずれた位置に存在している。したがって、複製領域９１２，９１３，９１４上の半田付け位置Ｐ０５〜Ｐ１６は、以下の表に表される座標値を有することができる。
【００６１】
【表３】
2019068023.tif 000005
【００６２】
「表３」に示されるように、複製領域９１２，９１３，９１４の半田付け位置は、ベース領域９１１の半田付け位置の座標値を用いて表現されることができる。ベース領域９１１と複製領域９１２，９１３，９１４との間の位置関係（すなわち、ベース領域９１１からの複製領域９１２，９１３，９１４それぞれのずれ量）は、オフセット量「ｘａ」，「ｙａ」によって表されることができる。操作者は、オフセット量「ｘａ」，「ｙａ」を、入力インターフェース１５０を入力することができる。入力されたオフセット量「ｘａ」，「ｙａ」は、ベース領域９１１と複製領域９１２，９１３，９１４との間の位置関係を表す位置関係データとして記憶部１６０に記憶される。
【００６３】
操作者は、ベース領域９１１内での半田ごて１１５のこて先の上下動時の移動量を表す移動量データを入力インターフェース１５０に入力することができる。移動量データは、半田ごて１１５のこて先が電子基板９００に搭載された電子部品と接触することを防止するため或いは電子基板９００の上面に点状の半田を付着させる点半田動作が行われるこて先の上方及び／又は下方への移動量を決定するために設定される。半田付けが行われる直前において、半田ごて１１５のこて先は、半田付け位置の上方で、電子基板９００の上面から、移動量データの値だけ離れた位置に配置される。その後、半田ごて１１５のこて先は、移動量データの値だけ下降され、半田付け位置において半田付けを行う。半田付けの後、半田ごて１１５のこて先は、移動量データの値だけ上昇される。半田ごて１１５のこて先は、電子基板９００の上面から移動量データの値だけ上方に離れているので、半田ごて１１５のこて先がその後水平に移動しても、電子基板９００に搭載された電子部品に接触しない。半田ごて１１５のこて先の移動量は、半田付け位置それぞれについて個別に設定されてもよい。この場合、半田ごて１１５のこて先がｚ軸方向に不必要な距離を移動しないように、操作者は移動量を設定することができる。たとえば、半田ごて１１５のこて先の移動軌跡に重なる位置において、背の低い電子部品が存在しているならば、操作者は、小さな値を移動量として設定することができる。一方、背の高い電子部品が存在しているならば、操作者は、大きな値を移動量として設定することができる。半田ごて１１５は、ｚ軸方向に不必要に長い距離を移動しないので、電子基板９００に対する半田付けは短時間で完了されることができる。代替的に、半田ごて１１５のこて先の移動量は、半田付け位置全てについて共通の値であってもよい。たとえば、操作者は、電子基板９００上の電子部品の中で最も背の高い電子部品にこて先が当たらないように、電子部品の高さよりも大きな値を移動量として設定することができる。この場合、移動量の入力作業は、簡素化される。本実施形態に関して、ｘ軸及びｙ軸のうち一方は、第１軸として用いられている。ｘ軸及びｙ軸のうち他方は、第２軸として用いられている。
【００６４】
制御部１７０は、パターン決定部１７１と、信号生成部１７２と、を含む。パターン決定部１７１は、ベースパターンデータ及び移動量データを参照し、ベース領域９１１内で半田ごて１１５のこて先をどのように移動させるか（すなわち、駆動部１８０をどのように駆動させるか）を決定する。駆動部１８０が、ベース領域９１１内で半田ごて１１５のこて先を移動させるときに、信号生成部１７２は、半田ごて１１５を決定された移動パターンに従って移動させるためのベース駆動信号を生成する。駆動部１８０が、複製領域９１２，９１３，９１４内で半田ごて１１５のこて先を移動させるときに、信号生成部１７２は、記憶部１６０内の位置関係データを参照する。信号生成部１７２は、位置関係データとベース領域９１１に対して決定された移動パターンとに基づいて、ベース領域９１１上でのこて先の移動パターンが複製領域９１２，９１３，９１４へ複製されるように複製駆動信号を生成する。ベース駆動信号及び複製駆動信号は、信号生成部１７２から駆動部１８０へ出力される。駆動部１８０は、ベース駆動信号及び複製駆動信号に応じて、半田ごて１１５及び設置台１２５を移動させ、ベース領域９１１及び複製領域９１２，９１３，９１４上の半田付け位置Ｐ０１〜Ｐ１６に半田ごて１１５のこて先を到達させる。
【００６５】
図２は、パターン決定部１７１が決定する例示的な移動パターンのフロー図である。図１、図２、図７及び図８を参照して、パターン決定部１７１が説明される。
【００６６】
図２に示される一連の動作は、ティーチング作業の後の半田付け作業における半田ごて１１５の移動パターンを表す。半田ごて１１５は、ベース領域９１１上で図２に示される一連の動作に従って移動される。パターン決定部１７１は、ティーチング作業の結果得られた半田付け位置の座標値が与えられると、座標値に半田ごて１１５のこて先を移動させるように設計された所定のアルゴリズムを用いて、図２に示される一連の動作を決定することができる。
【００６７】
図７を参照して説明された半田付け装置１００に関して、ｘ軸方向及びｚ軸方向の半田ごて１１５の移動及び保持部１１６の回転軸周りの半田ごて１１５の周回の間、半田ごて１１５は実際に移動する。一方、半田ごて１１５は、ｙ軸方向には実際には移動せず、代わりに、設置台１２５が、ｙ軸方向に移動する。設置台１２５が、ｙ軸方向に移動している間、半田ごて１１５は、電子基板９００に対してｙ軸方向に相対的に変位することができる。以下の説明において、「移動パターン」との用語は、半田ごて１１５の実際の移動だけでなく、電子基板９００の表面に対する半田ごて１１５の相対的な移動をも意味する。
【００６８】
図２に示される「動作１」乃至「動作４」は、半田付け位置Ｐ０１用の移動パターンを表す。「動作５」乃至「動作８」は、半田付け位置Ｐ０２用の移動パターンを表す。「動作９」乃至「動作１２」は、半田付け位置Ｐ０３用の移動パターンを表す。「動作１３」乃至「動作１６」は、半田付け位置Ｐ０４用の移動パターンを表す。「動作１」乃至「動作１６」は、駆動部１８０によって順次実行される。図２に示される座標値（ｘ０１，ｙ０１，ｚ０１，θ０１）乃至座標値（ｘ０４，ｙ０４，ｚ０４，θ０４）は、操作ユニット１３０を用いたティーチング作業の結果得られている。
【００６９】
「動作１」、「動作５」、「動作９」及び「動作１３」に関して、パターン決定部１７１は、半田ごて１１５のこて先を半田付け位置Ｐ０１〜Ｐ０４の上方に位置させる駆動部１８０の動作を指定する。「動作２」、「動作６」、「動作１０」及び「動作１４」に関して、パターン決定部１７１は、半田ごて１１５のこて先を半田付け位置Ｐ０１〜Ｐ０４に下降させる駆動部１８０の動作を指定する。「動作３」、「動作７」、「動作１１」及び「動作１５」に関して、パターン決定部１７１は、半田付け位置Ｐ０１〜Ｐ０４での半田付けが完了するまで駆動部１８０が停止する動作を指定する。「動作４」、「動作８」、「動作１２」及び「動作１６」に関して、パターン決定部１７１は、半田ごて１１５のこて先を半田付け位置Ｐ０１〜Ｐ０４の上方に位置させる駆動部１８０の動作を指定する。
【００７０】
図１に示されるように、信号生成部１７２は、第１生成部２７１と、第２生成部２７２と、第３生成部２７３と、第４生成部２７４と、パターン解析部２７５と、オフセット指令部２７６と、を含む。第１生成部２７１は、半田ごて１１５のこて先を反時計回り又は時計回りに周回移動させるための駆動信号を生成する。第２生成部２７２は、半田ごて１１５のこて先を下降又は上昇させるための駆動信号を生成する。第３生成部２７３は、半田ごて１１５のこて先を左方又は右方へ移動させるための駆動信号を生成する。第４生成部２７４は、設置台１２５を前方又は後方へ移動させるための駆動信号を生成する。パターン解析部２７５は、図２に示される移動パターンを解析し、第１生成部２７１乃至第４生成部２７４のいずれに駆動信号の生成指示を与えるかを決定する。パターン解析部２７５は、選択された生成部（すなわち、第１生成部２７１乃至第４生成部２７４のうちいずれか）に駆動信号の生成指示及び駆動信号の生成に必要とされる情報（たとえば、目標位置の座標値）を与える。第１生成部２７１乃至第４生成部２７４は、生成指示に応じて、上述の駆動信号を生成する。オフセット指令部２７６は、記憶部１６０内に格納された位置関係データを参照し、複製領域９１２，９１３，９１４の位置をパターン解析部２７５に通知する。パターン解析部２７５は、図２に示される移動パターン（すなわち、ベース領域９１１用の移動パターン）を、オフセット指令部２７６から受け取った位置関係情報（すなわち、オフセット量「ｘａ」，「ｙａ」）を用いて変更する。パターン解析部２７５は、変更された移動パターン（すなわち、複製領域９１２，９１３，９１４用の移動パターン）に基づいて、駆動信号の生成指示の対象（すなわち、第１生成部２７１乃至第４生成部２７４のうちいずれか）を決定する。
【００７１】
図２に示される「動作１」、「動作５」、「動作９」及び「動作１３」に関して、パターン解析部２７５は、第３生成部２７３及び／又は第４生成部２７４を生成指令の出力先として定める。このとき、保持部１１６の回転軸周りの半田ごて１１５のこて先の角度の変更が必要とされるならば、パターン解析部２７５は、第１生成部２７１も生成指令の出力先に含める。「動作２」、「動作４」、「動作６」、「動作８」、「動作１０」、「動作１２」、「動作１４」及び「動作１６」に関して、パターン解析部２７５は、第２生成部２７２を生成指令の出力先に定める。
【００７２】
図２に示される移動パターンに関して、ベース領域９１１内での半田付けは、半田付け位置Ｐ０１，Ｐ０２，Ｐ０３，Ｐ０４の順に行われる。しかしながら、半田付けの順序は、操作者によって決定されてもよい。たとえば、半田付けの順序は、ティーチング作業の順序にしたがって決定されてもよい。代替的に、操作者が、ティーチング作業の後に、ティーチング作業から得られた座標値に順位付けをしてもよい。したがって、本実施形態の原理は、ベース領域９１１内での半田付けの特定の順序に限定されない。
【００７３】
図３Ａ乃至図３Ｃは、パターン解析部２７５がオフセット量「ｘａ」，「ｙａ」を用いて変更した移動パターンを示すフロー図である。図１乃至図３Ｃ、図７及び図８を参照して、移動パターンの変更処理が説明される。
【００７４】
図２を参照して説明された移動パターンは、ベース領域９１１に対して適用されるのに対し、図３Ａ乃至図３Ｃに示される半田ごて１１５の移動パターンは、複製領域９１２，９１３，９１４にそれぞれ適用される。すなわち、半田ごて１１５は、ティーチング作業の後の半田付け作業において、複製領域９１２，９１３，９１４上で図３Ａ乃至図３Ｃに示される一連の動作に従って移動される。
【００７５】
図３Ａに示される「動作１７」乃至「動作３２」は、図２を参照して説明された「動作１」乃至「動作１６」に対応する。「動作１７」乃至「動作３２」の座標値のうちｘ座標値のみが、「動作１」乃至「動作１６」の座標値から変更されている。すなわち、「動作１７」乃至「動作３２」の座標値のうちｘ座標値は、「動作１」乃至「動作１６」の座標値からｘ軸の正の方向にオフセット量「ｘａ」だけずらされている。複製領域９１２は、ベース領域９１１からｘ軸の正の方向にオフセット量「ｘａ」だけずらされているので、駆動部１８０が、図３Ａに示される移動パターンに従って動作すると、こて先は、ベース領域９１１上でこて先が描いた移動軌跡と同一のパターンの移動軌跡を辿って複製領域９１２上で移動することができる。
【００７６】
図３Ｂに示される「動作３３」乃至「動作４８」は、図２を参照して説明された「動作１」乃至「動作１６」に対応する。「動作３３」乃至「動作４８」の座標値のうちｙ座標値のみが、「動作１」乃至「動作１６」の座標値から変更されている。すなわち、「動作３３」乃至「動作４８」の座標値のうちｙ座標値は、「動作１」乃至「動作１６」の座標値からｙ軸の負の方向にオフセット量「ｙａ」だけずらされている。複製領域９１３は、ベース領域９１１からｙ軸の負の方向にオフセット量「ｙａ」だけずらされているので、駆動部１８０が、図３Ｂに示される移動パターンに従って動作すると、こて先は、ベース領域９１１上でこて先が描いた移動軌跡と同一のパターンの移動軌跡を辿って複製領域９１３上で移動することができる。
【００７７】
図３Ｃに示される「動作４９」乃至「動作６４」は、図２を参照して説明された「動作１」乃至「動作１６」に対応する。「動作４９」乃至「動作６４」の座標値のうちｘ座標値及びｙ座標値のみが、「動作１」乃至「動作１６」の座標値から変更されている。すなわち、「動作４９」乃至「動作６４」の座標値のうちｘ座標値及びｙ座標値は、「動作１」乃至「動作１６」の座標値からｘ軸の正の方向にオフセット量「ｘａ」だけずらされ、且つ、ｙ軸の負の方向にオフセット量「ｙａ」だけずらされている。複製領域９１４は、ベース領域９１１からｘ軸の正の方向にオフセット量「ｘａ」及びｙ軸の負の方向にオフセット量「ｙａ」だけずらされているので、駆動部１８０が、図３Ｃに示される移動パターンに従って動作すると、こて先は、ベース領域９１１上でこて先が描いた移動軌跡と同一のパターンの移動軌跡を辿って複製領域９１４上で移動することができる。
【００７８】
駆動部１８０は、第１モータ１８１と、第２モータ１８２と、第３モータ１８３と、第４モータ１８４と、第１エンコーダ１８５と、第２エンコーダ１８６と、第３エンコーダ１８７と、第４エンコーダ１８８と、を含む。第１モータ１８１乃至第４モータ１８４は、駆動信号を、第１生成部２７１乃至第４生成部２７４からそれぞれ受け取る。第１モータ１８１は、第１生成部２７１からの駆動信号に応じて、半田ごて１１５のこて先が反時計回り又は時計回りに周回移動するように、保持部１１６を回転させる。第２モータ１８２は、第２生成部２７２からの駆動信号に応じて、鉛直可動柱１１２を下降又は上昇させる。この結果、鉛直可動柱１１２に保持部１１６を介して取り付けられた半田ごて１１５のこて先も下降又は上昇する。第３モータ１８３は、第３生成部２７３からの駆動信号に応じて、水平可動柱１１１を左方又は右方に移動させる。半田ごて１１５は、保持部１１６及び鉛直可動柱１１２を介して水平可動柱１１１に取り付けられているので、半田ごて１１５のこて先も、水平可動柱１１１とともに左方又は右方に移動することができる。第４モータ１８４は、第４生成部２７４からの駆動信号に応じて、設置台１２５を前方又は後方に移動させる。この結果、設置台１２５上の電子基板９００に対する半田ごて１１５のこて先の相対的な位置は、前方又は後方に変化する。
【００７９】
第１エンコーダ１８５乃至第４エンコーダ１８８は、第１モータ１８１乃至第４モータ１８４に取り付けられ、これらの回転量をそれぞれ検出する。検出された回転量を表す電気信号は、第１エンコーダ１８５乃至第４エンコーダ１８８から第１生成部２７１乃至第４生成部２７４へ出力される。第１生成部２７１乃至第４生成部２７４は、第１エンコーダ１８５乃至第４エンコーダ１８８からの電気信号を参照し、第１モータ１８１乃至第４モータ１８４に対するフィードバック制御を行う。
【００８０】
上述の実施形態に関して、半田ごて１１５のこて先は、移動量データにしたがってｚ軸に沿って移動している。しかしながら、移動量データは、電子基板９００の表面に点状の半田を付着させるための点半田動作の始点及び終点を表してもよい。すなわち、電子基板９００の表面上の半田付け位置（すなわち、終点）に対応して、当該半田付け位置の上方の始点を表す座標が移動量データにおいて指定されるならば、半田ごては、指定された始点から終点、その後、終点から始点へ往復移動することができる。
【００８１】
図４は、制御部１７０の例示的な動作を表す概略的なフローチャートである。図１乃至図４、図７及び図８を参照して、制御部１７０の動作が説明される。
【００８２】
（ステップＳ１０５）
ステップＳ１０５は、ベース領域９１１に対するティーチング作業の終了の後に行われる。したがって、ベースパターンデータ、移動量データ及び位置関係データは、記憶部１６０に記憶されている。半田付け作業が開始されると、パターン決定部１７１は、ベースパターンデータ及び移動量データを記憶部１６０から読み出す。その後、ステップＳ１１０が実行される。
【００８３】
（ステップＳ１１０）
パターン決定部１７１は、ベースパターンデータ及び移動量データを参照し、ベース領域９１１用の移動パターン（図２を参照）を決定する。決定された移動パターンは、パターン決定部１７１からパターン解析部２７５へ出力される。その後、ステップＳ１１５が実行される。
【００８４】
（ステップＳ１１５）
パターン解析部２７５は、決定された移動パターンを解析し、生成指令の出力先を決定する。図２に示される移動パターンの「動作１」に関して、半田ごて１１５のこて先の角度位置の変更が必要とされるならば、パターン解析部２７５は、第１生成部２７１を生成指令の出力先に決定する。半田ごて１１５のこて先の移動量（すなわち、電子基板９００の上面とこて先との間の距離）の調整が必要とされるならば、パターン解析部２７５は、第２生成部２７２を生成指令の出力先に決定する。半田ごて１１５のこて先がｘ軸方向に移動される必要があるならば、パターン解析部２７５は、第３生成部２７３を生成指令の出力先に決定する。設置台１２５がｙ軸方向に移動される必要があるならば、パターン解析部２７５は、第４生成部２７４を生成指令の出力先に決定する。生成指令は、目標の座標値とともに、パターン解析部２７５から決定された出力先（第１生成部２７１乃至第４生成部２７４のうち少なくとも１つ）へ出力される。その後、ステップＳ１２０が実行される。
【００８５】
（ステップＳ１２０）
第１生成部２７１が、生成指令を受け取っているならば、半田ごて１１５のこて先が角度位置の目標値（図２の「動作１」に関して、角度座標値「θ０１」）に対応する角度位置に到達するように、ベース駆動信号を生成する。第２生成部２７２が、生成指令を受け取っているならば、半田ごて１１５のこて先がｚ座標の目標値（図２の「動作１」に関して、角度座標値「ｚ０１＋ｚａ」）に対応する位置に到達するように、ベース駆動信号を生成する。第３生成部２７３が、生成指令を受け取っているならば、半田ごて１１５のこて先がｘ座標の目標値（図２の「動作１」に関して、角度座標値「ｘ０１」）に対応する位置に到達するように、ベース駆動信号を生成する。第４生成部２７４が、生成指令を受け取っているならば、半田ごて１１５のこて先がｙ座標の目標値（図２の「動作１」に関して、角度座標値「ｙ０１」）に対応する位置に到達するように、ベース駆動信号を生成する。これらのベース駆動信号は、第１モータ１８１乃至第４モータ１８４へそれぞれ出力される。第１モータ１８１乃至第４モータ１８４は、これらのベース駆動信号に応じて動作する。図２の「動作１」に関して、半田ごて１１５のこて先は、ベース駆動信号に応じた第１モータ１８１乃至第４モータ１８４の動作の結果、目標の座標値（ｘ０１，ｙ０１，ｚ０１＋ｚａ，θ０１）に対応する位置に到達する。パターン解析部２７５は、第１生成部２７１乃至第４生成部２７４の信号生成処理をモニタし、第１生成部２７１乃至第４生成部２７４が半田ごて１１５のこて先を目標の座標値に対応する位置に到達させるための動作を完了したか否かを判定することができる。半田ごて１１５のこて先が目標の座標値に到達したとパターン解析部２７５が判断すると、ステップＳ１２５が実行される。
【００８６】
（ステップＳ１２５）
パターン解析部２７５は、対象の半田付け位置に対して定められた一連の動作（図８に示される半田付け位置Ｐ０１に関して、「動作１」乃至「動作４」）が完了したか否かを判定する。対象の半田付け位置に対して定められた一連の動作が完了しているならば、ステップＳ１３０が実行される。他の場合には、ステップＳ１１５が実行される。
【００８７】
図８に示される半田付け位置Ｐ０１に関して、ステップＳ１１５乃至ステップＳ１２５からなる処理ループは、「動作４」が完了するまで繰り返される。すなわち、上述の「動作１」に対する処理（上述のステップＳ１１５及びステップＳ１２０を参照）の後、「動作２」、「動作３」及び「動作４」に対する処理が順次実行される。
【００８８】
「動作２」に関して、パターン解析部２７５は、第２生成部２７２を生成指令の出力先に決定し、半田ごて１１５のこて先をｚ座標値「ｚ０１＋ｚａ」に対応する位置からｚ座標値「ｚ０１」に対応する位置へ下降させることを指示する生成指令を作り出す。生成指令は、パターン解析部２７５から第２生成部２７２へ出力される。第２生成部２７２は、パターン解析部２７５からの生成指令に応じて、ｚ座標値「ｚ０１＋ｚａ」に対応する位置からｚ座標値「ｚ０１」に対応する位置へこて先を下降させるベース駆動信号を生成する。第２モータ１８２は、第２生成部２７２からのベース駆動信号に応じて、半田ごて１１５のこて先をｚ座標値「ｚ０１」に対応する位置へ下降させる。
【００８９】
「動作３」に関して、パターン解析部２７５は、生成指令の出力を所定期間停止し、半田付け位置Ｐ０１での半田付けの完了を待つ。パターン解析部２７５は、半田送出部１１４からの信号を参照し、半田付けの完了を判断してもよいし、タイマー素子からの信号に基づいて、生成指令の出力を所定期間停止してもよい。
【００９０】
「動作４」に関して、パターン解析部２７５は、第２生成部２７２を生成指令の出力先に決定し、半田ごて１１５のこて先をｚ座標値「ｚ０１」に対応する位置からｚ座標値「ｚ０１＋ｚａ」に対応する位置へ上昇させることを指示する生成指令を作り出す。生成指令は、パターン解析部２７５から第２生成部２７２へ出力される。第２生成部２７２は、パターン解析部２７５からの生成指令に応じて、ｚ座標値「ｚ０１」に対応する位置からｚ座標値「ｚ０１＋ｚａ」に対応する位置へこて先を上昇させるベース駆動信号を生成する。第２モータ１８２は、第２生成部２７２からのベース駆動信号に応じて、半田ごて１１５のこて先をｚ座標値「ｚ０１＋ｚａ」に対応する位置へ上昇させる。
【００９１】
（ステップＳ１３０）
パターン解析部２７５は、ベース領域の全ての半田付け位置（図８に示されるベース領域９１１上の半田付け位置Ｐ０１〜Ｐ０４）に対する半田付けが完了しているか否かを判定する。ステップＳ１１０において決定されている移動パターンの実行が完了しているならば、ステップＳ１３５が実行される。他の場合には、ステップＳ１１５が実行される。
【００９２】
図８に示されるベース領域９１１に関して、ステップＳ１１５乃至ステップＳ１３０からなる処理ループは、半田付け位置Ｐ０４に対する半田付けが完了するまで繰り返される。半田付けが、半田付け位置Ｐ０１から半田付け位置Ｐ０２へ変更されるとき（すなわち、「動作４」から「動作５」への遷移時）、パターン解析部２７５は、「動作４」に対して設定されたｚ座標値「ｚ０１＋ｚａ」及び角度座標値「θ０１」が、「動作５」に対して設定されたｚ座標値「ｚ０２＋ｚｂ」及び角度座標値「θ０２」にそれぞれ等しいか否かを確認する。これらのｚ座標値が一致しないならば、パターン解析部２７５は、生成指令の出力先を第２生成部２７２に決定する。その後、第２モータ１８２は、第２生成部２７２が生成したベース駆動信号に応じて、半田ごて１１５のこて先をｚ軸方向に変位させる。角度座標値「θ０１」が角度座標値「θ０２」に等しくないならば、パターン解析部２７５は、生成指令の出力先を第１生成部２７１に決定する。第１モータ１８１は、第１生成部２７１が生成したベース駆動信号に応じて、半田ごて１１５のこて先を保持部１１６の回転軸周りに周回させる。
【００９３】
「動作４」に対して設定されたｚ座標値「ｚ０１＋ｚａ」及び角度座標値「θ０１」が、「動作５」に対して設定されたｚ座標値「ｚ０２＋ｚｂ」及び角度座標値「θ０２」にそれぞれ等しいならば、半田ごて１１５のこて先のｚ軸に沿う変位及び保持部１１６の回転軸周りの周回移動を生じさせることなく、半田ごて１１５のこて先を水平移動させる処理が行われる。このとき、パターン解析部２７５は、第３生成部２７３及び第４生成部２７４を生成指令の出力先に指定する。第３生成部２７３は、生成指令に応じて、ｘ軸において正の方向に半田ごて１１５のこて先を移動させるベース駆動信号を生成及び出力する。この結果、第３モータ１８３は、半田ごて１１５のこて先を右方に移動させ、こて先はｘ座標値「ｘ０２」に対応する位置に到達する。第４生成部２７４は、設置台１２５をｙ軸の正の方向に設置台１２５を移動させるベース駆動信号を生成及び出力する。第４モータ１８４は、第４生成部２７４が生成したベース駆動信号に応じて、設置台１２５を前方に移動させるので、半田ごて１１５のこて先は、設置台１２５上の電子基板９００に対して相対的に後方（すなわち、ｙ軸の負の方向）に移動する。この結果、こて先は、ｙ座標値「ｙ０２」に対応する位置に到達する。
【００９４】
同様の処理は、半田付けが、半田付け位置Ｐ０２から半田付け位置Ｐ０３へ変更されるとき（すなわち、「動作８」から「動作９」への遷移時）、及び、半田付けが、半田付け位置Ｐ０３から半田付け位置Ｐ０４へ変更されるとき（すなわち、「動作１２」から「動作１３」への遷移時）にも行われる。これらの半田付け位置の変更処理の後、ステップＳ１１５乃至ステップＳ１２５からなる処理ループに関連して説明された「こて先の下降」、「こて先の一時停止」及び「こて先の上昇」のための処理が実行される。
【００９５】
（ステップＳ１３５）
パターン解析部２７５は、オフセット指令部２７６にベース領域９１１に対する半田付けが完了したことを通知する。オフセット指令部２７６及びパターン解析部２７５は、パターン解析部２７５からの通知に応じて、処理された複製領域（図８に示される複製領域９１２，９１３，９１４）をカウントするための処理に用いられるカウント値「ｎ」を「１」に設定する。その後、ステップＳ１４０が実行される。
【００９６】
（ステップＳ１４０）
オフセット指令部２７６は、位置データを記憶部１６０から読み出す。その後、ステップＳ１４５が実行される。
【００９７】
（ステップＳ１４５）
オフセット指令部２７６は、ｎ番目の複製領域用のオフセット量を演算する。図８を参照して説明された電子基板９００に関して、半田付けは、複製領域９１２，９１３，９１４の順に行われる。したがって、カウント値「ｎ」が「１」であるとき、半田付けは、複製領域９１２に対して行われる。カウント値「ｎ」が「２」であるとき、半田付けは、複製領域９１３に対して行われる。カウント値「ｎ」が「３」であるとき、半田付けは、複製領域９１４に対して行われる。
【００９８】
図８に示されるように、ベース領域９１１からの複製領域９１２のずれは、ｘ軸方向において、「ｘａ」であるのに対し、ｙ軸方向において、「０」である。したがって、カウント値「ｎ」が「１」であるとき（すなわち、半田付けが複製領域９１２において実行されるとき）、オフセット指令部２７６は、ｘ軸方向のオフセット量が「ｘａ」であり、且つ、ｙ軸方向のオフセット量が「０」であることを通知する。ベース領域９１１からの複製領域９１３のずれは、ｘ軸方向において、「０」であるのに対し、ｙ軸方向において、「ｙａ」である。したがって、カウント値「ｎ」が「２」であるとき（すなわち、半田付けが複製領域９１３において実行されるとき）、オフセット指令部２７６は、ｘ軸方向のオフセット量が「０」であり、且つ、ｙ軸方向のオフセット量が「ｙａ」であることを通知する。ベース領域９１１からの複製領域９１４のずれは、ｘ軸方向及びｙ軸方向において、「ｘａ」及び「ｙａ」である。したがって、カウント値「ｎ」が「３」であるとき（すなわち、半田付けが複製領域９１３において実行されるとき）、オフセット指令部２７６は、ｘ軸方向及びｙ軸方向のオフセット量が「ｘａ」及び「ｙａ」であることを通知する。処理対象の複製領域（すなわち、ｎ番目の複製領域）に対するオフセット量が、オフセット指令部２７６からパターン解析部２７５へ出力されると、ステップＳ１５０が実行される。
【００９９】
（ステップＳ１５０）
パターン解析部２７５は、ステップＳ１１０において決定された移動パターンを、オフセット指令部２７６から通知されたオフセット量に基づき変更する。この結果、カウント値「ｎ」が「１」であるとき、図３Ａを参照して説明された移動パターンが得られる。カウント値「ｎ」が「２」であるとき、図３Ｂを参照して説明された移動パターンが得られる。カウント値「ｎ」が「３」であるとき、図３Ｃを参照して説明された移動パターンが得られる。移動パターンの変更の後、ステップＳ１５５乃至ステップＳ１７０からなる処理ループが実行される。
【０１００】
（ステップＳ１５５乃至ステップＳ１７０からなる処理ループ）
ステップＳ１５５乃至ステップＳ１７０からなる処理ループは、ステップＳ１１５乃至ステップＳ１３０に対する処理ループと同様である。したがって、半田ごて１１５のこて先は、ステップＳ１４５において得られたオフセット量だけずれた位置において、ベース領域９１１において半田ごて１１５のこて先が描いた移動軌跡と同一のパターンの移動軌跡を辿って移動することができる。ベース領域９１１に対して行われたティーチング作業から得られた座標データ（すなわち、ベースパターンデータ）が、複製領域９１２，９１３，９１４に対する半田ごて１１５のこて先の移動軌跡の設定に対して用いられるので、複製領域９１２，９１３，９１４に対するティーチング作業は必要とされない。したがって、半田付け装置１００は、全ての半田付け位置に対してティーチング作業を必要とする従来の半田付け装置よりもティーチング作業の負荷を大幅に軽減することができる。ステップＳ１５５乃至ステップＳ１７０からなる処理ループの終了後（すなわち、ｎ番目の複製領域の全ての半田付け位置において半田付けが完了した後）、ステップＳ１７５が実行される。
【０１０１】
（ステップＳ１７５）
パターン解析部２７５は、カウント値「ｎ」が、複製領域の総数「Ｎ」（図２に示される電子基板９００に関して、Ｎ＝３）に等しいか否かを確認する。カウント値「ｎ」が、総数「Ｎ」に等しいならば、半田付け処理は完了する（すなわち、電子基板９００上の全ての半田付け位置において半田付けが実行されている）。他の場合には、ステップＳ１８０が実行される。
【０１０２】
（ステップＳ１８０）
パターン解析部２７５及びオフセット指令部２７６は、カウント値「ｎ」を「１」だけ増分する。その後、ステップＳ１４５が実行される。この結果、次の複製領域に対する半田付けが開始されることになる。
【０１０３】
＜他の特徴＞
設計者は、上述の半田付け装置１００に様々な特徴を与えることができる。以下に説明される特徴は、半田付け装置１００の設計原理を何ら限定しない。
【０１０４】
（電子基板の様々な分割パターン）
図８を参照して説明された電子基板９００は、２行２列の分割領域に分割されている。しかしながら、上述の実施形態の原理は、電子基板９００の様々な分割パターンに適用可能である。
【０１０５】
図５は、電子基板９００の概略的な平面図である。図１、図４、図５、図７及び図８を参照して、電子基板９００に対する他の分割パターンが説明される。
【０１０６】
図５に示される電子基板９００は、Ｎｙ行Ｎｘ列の分割パターンによって分割されている。すなわち、電子基板９００は、（Ｎｘ×Ｎｙ）個の分割領域を含んでいる。これらの分割領域のうち１つは、ベース領域として設定されている。図８と同様に、図５に示されるベース領域は、電子基板９００の左前の角隅部を形成する矩形領域である。操作者は、半田付け作業の前に位置関係データとして以下の表に示される項目を入力することができる。
【０１０７】
【表４】
2019068023.tif 000006
【０１０８】
オフセット指令部２７６は、「表４」に示される「列の総数」及び「行の総数」を表すデータに基づいて、ベース領域に対する複数の複製領域それぞれのオフセット量を算出するための係数行列を決定する。以下の数式は、係数行列を示す。
【０１０９】
【数１】
2019068023.tif 000007
【０１１０】
オフセット指令部２７６は、ｘ軸方向においてベース領域に最も近い列に属する複製領域の係数「Ｃｘ」を「１」に設定する（すなわち、ｎｘ＝１）。オフセット指令部２７６は、ｘ軸方向においてベース領域に２番目に近い列に属する複製領域の係数「Ｃｘ」を「２」に設定する（すなわち、ｎｘ＝２）。同様に、オフセット指令部２７６は、ｘ軸方向においてベース領域に（Ｎｘ−１）番目に近い列に属する複製領域の係数「Ｃｘ」を「Ｎｘ−１」に設定する（すなわち、ｎｘ＝Ｎｘ−１）。オフセット指令部２７６は、ｙ軸方向においてベース領域に最も近い列に属する複製領域の係数「Ｃｙ」を「１」に設定する（すなわち、ｎｙ＝１）。オフセット指令部２７６は、ｙ軸方向においてベース領域に２番目に近い列に属する複製領域の係数「Ｃｙ」を「２」に設定する（すなわち、ｎｙ＝２）。同様に、オフセット指令部２７６は、ｙ軸方向においてベース領域に（Ｎｙ−１）番目に近い列に属する複製領域の係数「Ｃｙ」を「Ｎｙ−１」に設定する（すなわち、ｎｙ＝Ｎｙ−１）。本実施形態に関して、第１領域数データは、「表４」の「列の総数」及び「行の総数」のうち一方である。第２領域数データは、「表４」の「列の総数」及び「行の総数」のうち他方である。第１オフセットデータは、「表４」のオフセット量「ｘａ」，「ｙａ」のうち一方である。第２オフセットデータは、「表４」のオフセット量「ｘａ」，「ｙａ」のうち他方である。
【０１１１】
オフセット指令部２７６は、オフセット量「ｘａ」，「ｙａ」と係数行列とを用いて、パターン解析部２７５へ出力されるオフセット量「ｘｂ」，「ｙｂ」を算出する。以下の行列は、ベース領域からのオフセット量「ｘｂ」，「ｙｂ」の算出式である。
【０１１２】
【数２】
2019068023.tif 000008
【０１１３】
「数２」の「ｎｘ」及び「ｎｙ」は行列状に分割された複数の複製領域の位置を特定するための自然数であるので、ベース領域からのオフセット量「ｘｂ」，「ｙｂ」の組は、複数の複製領域それぞれにおいて異なる。
【０１１４】
図４に示されるステップＳ１４０において、オフセット指令部２７６は、記憶部１６０から位置関係データ（「表４」を参照）を読み出す。オフセット指令部２７６は、位置関係データの「列の総数」及び「行の総数」から電子基板９００の分割パターン及び半田付け順序を把握することができる（図５を参照）。
【０１１５】
図４を参照して説明されたカウント値「ｎ」は、半田付けの順序に相当する。したがって、図４を参照して説明されたステップＳ１４５において、オフセット指令部２７６は、カウント値「ｎ」と位置関係データの「半田付け順序」を参照し、処理対象の複製領域を見出すことができる。すなわち、図５に示される分割領域に関して、カウント値「ｎ」が「１」であるならば、オフセット指令部２７６は、第０列及び第１行に属する複製領域を対象の複製領域として認識することができる。カウント値「ｎ」が「（Ｎｘ−３）×Ｎｙ」であるならば、第（Ｎｘ−３）列及び第（Ｎｙ−１）行に属する複製領域を対象の複製領域として認識することができる。オフセット指令部２７６は、処理対象の複製領域が属する列及び行に基づいて、（ｎｘ，ｎｙ）の組を決定することができる。処理対象の複製領域に対応する（ｎｘ，ｎｙ）の組の決定の後、オフセット指令部２７６は、「数２」の行列に基づいて、（ｘｂ，ｙｂ）の組を算出する。（ｘｂ，ｙｂ）の組は、オフセット指令部２７６からパターン解析部２７５へ出力される。
【０１１６】
図４に示されるステップＳ１５０において、パターン解析部２７５は、ベース領域において設定された半田ごて１１５のこて先の移動軌跡を、ｘ軸方向において「ｘｂ」だけ、且つ、ｙ軸方向において「ｙｂ」だけ平行移動することによって描かれる移動軌跡に沿うこて先の移動を実現する移動パターンを決定する。ステップＳ１５５乃至ステップＳ１７０からなる処理ループにおいて、決定された移動パターン用の複製駆動信号が生成される。駆動部１８０は、複製駆動信号に応じて、半田ごて１１５及び設置台１２５を移動させる。この結果、半田ごて１１５のこて先は、ベース領域上で設定された移動軌跡を平行移動させた移動軌跡に沿って移動することができる。図４に示されるステップＳ１４０乃至ステップＳ１８０からなる処理ループの実行の結果、電子基板９００上に設定された複数の複製領域に対する半田付けが操作者によって設定された半田付け順序に従って順次完了する。ステップＳ１７５において、カウント値「ｎ」が、「Ｎｘ×Ｎｙ−１」に等しくなると、電子基板９００上に設定された全ての複製領域に対する半田付けは完了し、制御部１７０の処理は完了する。
【０１１７】
図６は、「表４」に示される入力項目の入力のために入力インターフェース１５０が表示する例示的な画像である。図１、図５及び図６を参照して、入力インターフェース１５０が表示する入力画像が説明される。
【０１１８】
図６は、４つの入力ウィンドウ１５１，１５２，１５３，１５４と、１つの表示ウィンドウ１５５と、を示す。操作者は、「表４」に示される「列の総数」を入力ウィンドウ１５１に入力することができる。操作者は、「表４」に示される「行の総数」を入力ウィンドウ１５２に入力することができる。操作者は、「表４」に示されるオフセット量「ｘａ」の値を入力ウィンドウ１５３に入力することができる。操作者は、「表４」に示されるオフセット量「ｙａ」の値を入力ウィンドウ１５４に入力することができる。
【０１１９】
表示ウィンドウ１５５は、半田付けルートを表し、「表４」に示される半田付け順序に対応付けられる。図６に示される半田付けルートによれば、半田付けは、まず、第「０」行に整列する複数の分割領域（図５を参照）に対して行われる。その後、半田付けは、第「１」行に整列する複数の分割領域に対して行われる。半田付けは、行ごとに実行され、半田付け対象の行は後方に向けて変更される。最後に、半田付けは、第（Ｎｙ−１）行に整列する複数の分割領域に対して行われる。
【０１２０】
オフセット指令部２７６は、半田付けの順序を、半田付けルートに基づいて自動的に決定するので、操作者は、複数の分割領域に対して個別に半田付け順序を設定する必要はない。したがって、半田付けの順序設定は、過度に煩雑にならない。
【０１２１】
操作者は、入力インターフェース１５０を操作し、表示ウィンドウ１５５に表示される半田付けルートのパターンを変更することができる。すなわち、互いに異なる複数のパターンが、半田付けルートとして予め用意されている。操作者は、半田付け作業に最も適したパターンを半田付けルートとして選択することができるので、適切な半田付けがなされることとなる。たとえば、操作者は、電子部品の取付順序に適した半田付け順序が設定されることができるパターンを、半田付けルートとして選択することができる。
【０１２２】
上述の実施形態に関して、ベース領域９１１には、４つの半田付け位置Ｐ０１〜Ｐ０４が存在している。しかしながら、ベース領域９１１には、１つの半田付け位置が存在していてもよい。したがって、上述の実施形態の原理は、いくつの半田付け位置がベース領域９１１に存在しているかによっては何ら限定されない。
【０１２３】
上述の実施形態に関して、半田付け位置Ｐ０１〜Ｐ１６それぞれについて、電子基板９００上に点状の半田を付着させる点半田作業が行われる。しかしながら、上述のパレタイジング機能は、電子基板９００に線状の半田を付着させる線半田作業にも適用可能である。したがって、上述の実施形態の原理は、電子基板９００に対する特定の半田付け作業に限定されない。
【０１２４】
上述の実施形態に関して、半田付け装置１００は、操作ユニット１３０を備えている。操作者は、操作ユニット１３０から受け取る触覚に基づいて、操作ユニットをどのように操作しているかを把握することができるので、半田ごて１１５のこて先を見ながら、半田ごて１１５を移動させることができる。半田付け装置１００は、操作者がこて先の位置の確認と半田ごて１１５の操作とを同時に実行することを可能にするので、操作者は、ティーチング作業を効率的に行うことができる。しかしながら、上述のパレタイジング機能は、操作ユニット１３０を有さない一般的な半田付け装置に組み込まれることができる。したがって、上述の実施形態の原理は、半田付け装置１００の特定の構造に限定されない。
【０１２５】
上述の実施形態に関して、電子基板９００は、マトリクス状に分割されている。しかしながら、パレタイジング機能は、他の分割パターンの下でも利用可能である。すなわち、ティーチング作業の対象となる半田付け位置の配置パターン、及び、この配置パターンと同一の配置パターンが、電子基板９００上の異なる位置に存在しているならば、操作者は、上述のパレタイジング機能を用いて、従来のティーチング作業よりも少ない数の半田付け位置に対するティーチング作業を行うことができる。したがって、上述の実施形態の原理は、電子基板９００上で仮想的に設定される特定の分割パターンに限定されない。
【産業上の利用可能性】
【０１２６】
上述の実施形態の原理は、半田溶融作業が行われる様々な作業現場に好適に利用される。
【符号の説明】
【０１２７】
１００・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・半田付け装置
１１５・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・半田ごて
１７０・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・制御部
１７１・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・パターン決定部
１７２・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・信号生成部
１８０・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・駆動部
１９０・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・入力部
９００・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・電子基板
９１１・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ベース領域
９１２〜９１４・・・・・・・・・・・・・・・・・・複製領域
Ｐ０１〜Ｐ１６・・・・・・・・・・・・・・・・・・半田付け位置
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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