(57)【要約】【課題】得られる光制御シートの厚さを薄くでき、しかも光透過性及び透過光の鮮明性が高い光制御シートを容易に製造できる光制御シートの製造方法を提供する。【解決手段】本発明の光制御シート１００の製造方法は、凹凸が形成された成形型を用いて透明成形材を成形することにより、光透過部（光透過帯１２）を複数有し且つ前記光透過部の間に溝部１１が複数形成された光透過層１０を作製する工程と、溝部１１に遮光材を充填することにより遮光帯２０を形成して光制御層１を作製する工程とを有し、前記成形型が、前記光透過部を形成するための凹部が複数形成された平板であり、隣接する前記凹部の間には、前記溝部を形成するための隔壁部を有し、前記隔壁部の各側面が前記成形型の底面に対して垂直に配置され、前記透明成形材が、透明エラストマー又は透明エラストマーを形成する硬化性化合物である。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹凸が形成された成形型を用いて透明成形材を成形し、前記透明成形材に前記成形型の凹凸を転写すると共にシート状に成形して、前記透明成形材からなる光透過部を複数有し且つ前記光透過部の間に溝部が複数形成された光透過層を作製する工程（ａ）と、
前記光透過層に形成された溝部に遮光材を充填することにより遮光帯を形成して、光制御層を作製する工程（ｂ）と、を有し、
前記工程（ａ）において使用する前記成形型が、前記光透過部を形成するための凹部が複数形成された平板であり、隣接する前記凹部の間には、前記溝部を形成するための隔壁部を有し、前記隔壁部の各側面が前記成形型の底面に対して垂直に配置され、
前記工程（ａ）において使用する透明成形材が、透明エラストマー又は前記透明エラストマーを形成する硬化性化合物である、光制御シートの製造方法。
【請求項２】
前記成形型の複数の凹部が、各々、平面視において一方向に沿って形成されている、請求項１に記載の光制御シートの製造方法。
【請求項３】
前記工程（ｂ）の後に、前記光制御層の前記遮光帯が露出する側の面に透明封止層を形成する工程（ｃ）をさらに有する、請求項１又は２に記載の光制御シートの製造方法。
【請求項４】
前記工程（ｂ）では、光制御層を作製した後に、前記光制御層の前記遮光帯が露出する側の面を洗浄する処理を施す、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光制御シートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光制御シートの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
画像表示装置又は発光体においては、例えば、視野角制御、輝度向上、防眩等を目的として、光の出射の角度を制御する光制御シートが取り付けられることがある。
光制御シートとしては、光透過帯と遮光帯とが交互に複数設けられたシートが知られている（特許文献１）。特許文献１に記載の光制御シートは、下記の製造方法により製造される。
まず、透明なシリコーンゴム層と着色されたシリコーンゴム層とを交互に複数積層し、加熱してブロック体とする。前記ブロック体を、前記シリコーンゴム層の表面に対して垂直方向に薄く裁断する。これにより、光透過帯と遮光帯とが交互に複数設けられたシートを得る。
しかし、特許文献１に記載の光制御シートの製造方法においては、シリコーンゴム層を薄くすることに限界があるため、ブロック体を裁断することにより得られる遮光帯が幅広になる傾向にあった。そのため、光制御シートに充分な光透過性を確保するためには、隣接する遮光帯同士の間隔を広げる必要があった。しかし、隣接する遮光帯同士の間隔を広くした場合、光の方向を制御する機能を発揮させるためには、光制御シートを厚くする必要がある。また、ブロック体を薄く裁断することに限界がある点でも、光制御シートが厚くなる傾向にあった。
【０００３】
特許文献２には、直線状の凹部が複数形成された成形型を用いて、光透過帯と遮光帯とが交互に複数設けられた光制御シートを製造する方法が記載されている。前記成形型を用いる光制御シートの製造方法では、例えば、成形型の凹部に透明樹脂を充填し、透明樹脂に凹部を転写して光透過帯を形成する。このとき、隣接する光透過帯の間に溝部が形成され、その溝部にカーボンブラック等の遮光材を充填して遮光帯を形成する。成形型を用いる光制御シートの製造方法によれば、隣接する遮光帯同士の間隔を狭くできるため、薄い光制御シートを容易に製造できる。
特許文献２に記載の光制御シートにおいては、成形型を作製する際の制限から、光透過帯及び遮光帯の両方に対して垂直に切断した際の断面において、遮光帯が、光出射側に向って幅が漸次広くなる台形状になっている。
しかし、遮光帯が前記台形状であると、光制御シートに入射した光が遮光帯の側面に当たって拡散し、その一部は光入射側に逆戻りする。また、遮光帯が台形状であると、光透過帯の光出射側の面積が小さくなる傾向にある。そのため、台形状の遮光帯を有する光制御シートは、光透過性が低くなることがあった。
そこで、特許文献２に記載の光制御シートでは、遮光帯の側面にて反射して拡散する拡散光の一部が光透過帯を透過するように遮光帯の側面の角度を調整して光透過性を向上させている。ところが、拡散光を含む透過光は鮮明性が低下する傾向にある。そのため、特許文献２に記載の光制御シートを通して画像を見た際には、画像がぼやけることがあった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平６−８２６２２号公報
【特許文献２】特開２００６−１８４６０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、得られる光制御シートの厚さを薄くでき、しかも光透過性及び透過光の鮮明性が高い光制御シートを容易に製造できる光制御シートの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、以下の態様を包含する。
［１］凹凸が形成された成形型を用いて透明成形材を成形し、前記透明成形材に前記成形型の凹凸を転写すると共にシート状に成形して、前記透明成形材からなる光透過部を複数有し且つ前記光透過部の間に溝部が複数形成された光透過層を作製する工程（ａ）と、
前記光透過層に形成された溝部に遮光材を充填することにより遮光帯を形成して、光制御層を作製する工程（ｂ）と、を有し、
前記工程（ａ）において使用する前記成形型が、前記光透過部を形成するための凹部が複数形成された平板であり、隣接する前記凹部の間には、前記溝部を形成するための隔壁部を有し、前記隔壁部の各側面が前記成形型の底面に対して垂直に配置され、
前記工程（ａ）において使用する透明成形材が、透明エラストマー又は透明エラストマーを形成する硬化性化合物である、光制御シートの製造方法。
［２］前記成形型の複数の凹部が、各々、平面視において一方向に沿って形成されている、［１］に記載の光制御シートの製造方法。
［３］前記工程（ｂ）の後に、前記光制御層の前記遮光帯が露出する側の面に透明封止層を形成する工程（ｃ）をさらに有する、［１］又は［２］に記載の光制御シートの製造方法。
［４］前記工程（ｂ）では、光制御層を作製した後に、前記光制御層の前記遮光帯が露出する側の面を洗浄する処理を施す、［１］〜［３］のいずれか一に記載の光制御シートの製造方法。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の光制御シートの製造方法によれば、得られる光制御シートの厚さを薄くでき、しかも光透過性及び透過光の鮮明性が高い光制御シートを容易に製造できる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の一実施形態に係る光制御シートを示す斜視図である。
【図２】図１のＡ−Ａ断面図である。
【図３】本発明の一実施形態に係る光制御シートの製造方法の一工程について説明する断面図である。
【図４】実施形態の光制御シートの製造方法において使用する成形型を示す斜視図である。
【図５】本発明の一実施形態に係る光制御シートの製造方法の一工程について説明する断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の光制御シートの製造方法の一実施形態について説明する。
＜光制御シート＞
本実施形態の光制御シートの製造方法は、図１及び図２に示す光制御シート１００を製造する方法である。本実施形態の光制御シート１００は、長方形のシート状であり、光制御層１と透明封止層２を備える。
本実施形態では、長方形の光制御シート１００の長手方向をＸ方向（図２においては紙面の左右方向）、光制御シート１００の短手方向（図２においては紙面の垂直方向）をＹ方向、光制御シート１００の表面の垂直方向（すなわち光制御シート１００の厚さ方向）をＺ方向とする。
なお、本実施形態における長方形は、外形の概略形状が長方形になっていればよい。例えば、長方形の直角の角の少なくとも１つが隅切り加工されてもよい。また、長方形の周縁のいずれかの部分に切り欠きが形成されてもよいし、長方形の辺から部分的に突出する突出部が形成されてもよい。また、長方形の辺が部分的に非直線状（例えば、曲線状、ジグザグ状等）になっていてもよい。
【００１０】
［光制御層］
光制御層１は、透明な光透過層１０及び不透明な遮光帯２０を有する。ここで、「透明」とは、光線透過率が７０％以上のことであり、「不透明」とは、光線透過率が７０％未満のことである。
本発明における「光線透過率」の値は、光源としてＪＩＳ  Ｚ  ８７２０に規定されるＤ６５を用い、光源から出射された検査光の強度を受光センサで測定する装置において、前記検査光の光路上に被測定物が無い状態での受光センサの出力値をＡ、検査光の光路上に被測定物をセットし、被測定物を透過した透過光が受光センサで受光される状態での出力値をＢとするとき、光線透過率＝（Ｂ／Ａ）×１００（単位；％）で求められる値とする。
【００１１】
光制御層１の厚さは、５０μｍ以上１０００μｍ以下が好ましく、８０μｍ以上５００μｍ以下がより好ましく、１００μｍ以上３００μｍ以下がさらに好ましい。光制御層１の厚さは、光制御シート１００又は光制御層１の単体の断面写真にて計測することで求めることができ、１０か所以上計測して得た値の平均値である。
光制御層１の厚さが前記下限値以上であれば、光制御性がより高くなる。光制御層１の厚さが前記上限値以下であれば、可撓性が高くなり、また、容易に作製できる。
【００１２】
（光透過層）
光制御層１を構成する光透過層１０は、シート状であり、シートの一方の面に、Ｙ方向に沿った直線状の溝部１１が一定間隔で複数形成されている。溝部１１は光透過層１０を厚さ方向には貫通しない。光透過層１０において、隣接する溝部１１，１１同士の間の部分は、Ｙ方向に沿って形成された光透過帯（光透過部）１２となる。なお、後述するように溝部１１の内部には遮光帯２０が形成される。そのため、光透過帯１２と、溝部１１内に形成された遮光帯２０とは、Ｘ方向に見て交互に配置される。
光透過層１０の各溝部１１の側面１１ａ，１１ｂはいずれも、光透過層１０の平面状の底面１０ａに対して垂直に形成されている。但し、本発明において垂直とは、９０°±１°で交わることである。
【００１３】
光透過帯１２の幅（Ｘ方向の長さ）は、１０μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましく、１５μｍ以上３００μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以上２００μｍ以下であることがさらに好ましい。光透過帯１２の幅が前記下限値以上であれば、光制御層１の光透過性をより向上させることができる。光透過帯１２の幅が前記上限値以下であれば、光制御シート１００の光の制御性をより向上させることができる。
また、光透過帯１２の幅は、光制御シート１００の光透過性がより高くなることから、遮光帯２０の幅（Ｘ方向の長さ）の５倍以上であることが好ましく、８倍以上であることがより好ましく、１０倍以上であることがさらに好ましい。
光透過帯１２の高さ（Ｚ方向の長さ）は、５１μｍ以上１００１μｍ以下であることが好ましく、８３μｍ以上５０３μｍ以下であることがより好ましく、１０５μｍ以上３０５μｍ以下であることがさらに好ましい。光透過帯１２の高さが前記下限値以上であれば、光制御シート１００の光の制御性がより高くなる。光透過帯１２の高さが前記上限値以下であれば、光透過帯１２を容易に形成できる。
【００１４】
光透過層１０の材質としては、透明エラストマーが使用される。本発明におけるエラストマーとは、ＪＩＳ Ｋ６２５３に従い、デュロメーターを用いて測定したショア硬度Ａが９０以下のポリマーのことである。透明エラストマーの具体例としては、例えば、シリコーン、ポリウレタン等が挙げられる。透明エラストマーは１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。透明性及び耐熱性に優れる点では、光透過層１０に使用される透明エラストマーは、シリコーンゴムが好ましい。
【００１５】
（遮光帯）
遮光帯２０は、光透過層１０の溝部１１の内部に形成されている。したがって、遮光帯２０は、Ｙ方向に沿って形成されている。また、遮光帯２０は、互いに平行に一定間隔で複数形成されている。
遮光帯２０の側面２０ａ，２０ｂはいずれも、光透過層１０の底面１０ａに対して垂直に形成されている。したがって、光制御層１をＸ方向且つＺ方向に沿って切断した際の断面（図２）における遮光帯２０の形状は矩形状になっている。
【００１６】
遮光帯２０の幅（Ｘ方向の長さ）は、５μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、８μｍ以上７０μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以上５０μｍ以下であることがさらに好ましい。遮光帯２０の幅が前記下限値以上であれば、遮光帯２０を容易に形成できる。遮光帯２０の幅が前記上限値以下であれば、光制御シート１００の光透過性低下を防止できる。
遮光帯２０の高さ（Ｚ方向の長さ）は、５０μｍ以上１０００μｍ以下であることが好ましく、８０μｍ以上５００μｍ以下であることがより好ましく、１００μｍ以上３００μｍ以下であることがさらに好ましい。遮光帯２０の高さが前記下限値以上であれば、光の制御性がより高くなる。遮光帯２０の高さが前記上限値以下であれば、遮光帯２０を容易に形成できる。
遮光帯２０の高さと光透過帯１２の幅との比（遮光帯２０の高さ／光透過帯１２の幅）は、６以上３０以下であることが好ましく、８以上２４以下であることがより好ましく、１０以上２０以下であることがさらに好ましい。遮光帯２０の高さと光透過帯１２の幅との比が前記下限値以上であれば、光制御シート１００の光の制御性をより向上させることができる。遮光帯２０の高さと光透過帯１２の幅との比が前記上限値以下であれば、光制御シート１００の光透過性をより向上させることができる。
【００１７】
遮光帯２０は、遮光材から構成される。遮光材としては、光吸収性材料及び光反射性材料の少なくとも一方が使用される。
光吸収性材料は光吸収剤を含有する。光吸収剤としては、カーボン、染料、顔料等が挙げられる。光吸収剤のなかでも、光吸収性に優れることから、カーボンが好ましい。カーボンとしては、例えば、カーボンブラック、黒鉛、炭素繊維等が挙げられ、光吸収剤として汎用的であることから、カーボンブラックが好ましい。
光吸収剤の体積平均粒子径は、光透過層１０の溝部１１の幅に対して２０％以下の大きさであることが好ましい。光吸収剤の体積平均粒子径が、光透過層１０の溝部１１の幅に対して２０％以下であれば、光吸収剤は溝部１１の内部に容易に充填される。光吸収剤の体積平均粒子径は、実用上の点から、５０ｎｍ以上であることが好ましく、１００ｎｍ以上であることがより好ましい。光吸収剤の体積平均粒子径は、レーザ回折散乱法により測定した値である。
光吸収性材料は、光吸収剤に加えてバインダ樹脂を含有してもよい。バインダ樹脂としては、例えば、シリコーン、ポリウレタン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル等が挙げられる。バインダ樹脂は１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
光透過層１０との密着性が高くなる点では、光吸収性材料に含まれるバインダ樹脂は、光透過層１０を形成する透明エラストマーと同様であることが好ましい。例えば、光透過層１０を形成する透明エラストマーとして、シリコーンゴムを使用する場合には、光吸収性材料に含まれるバインダ樹脂として、シリコーンゴムを使用することが好ましい。
光吸収性材料に含まれるバインダ樹脂として、光透過層１０を形成する透明エラストマーと異なるポリマーを用いる場合には、光透過層１０の溝部１１の表面に、シランカップリング剤を含むアンカー層を形成することが好ましい。シランカップリング剤によって、光透過層１０に対する遮光帯２０の密着性を高くできる。
光反射性材料としては、金属が挙げられる。金属としては、アルミニウム、銀、金、クロム、ニッケル等が挙げられる。
【００１８】
図示例では、光透過層１０の溝部１１の全体に遮光材が充填されて遮光帯２０が形成されているが、少なくとも、光透過層１０の溝部１１の側面及び底面が遮光材で被覆されていれば、遮光帯としての機能を発揮する。
【００１９】
［透明封止層］
透明封止層２は、光制御層１の、遮光帯２０のＺ方向の端部が露出する側の面に形成されて、光制御層１を封止する層である。透明封止層２によって光制御層１を封止することによって、遮光帯２０を保護することができる。また、透明封止層２を備えることにより、光制御層１の遮光帯２０が露出する側の面に凹凸が形成されている場合でも、その凹凸を吸収して、光制御シート１００の表面を平滑化できる。
透明封止層２の光制御層１とは反対側の面の算術平均粗さ（Ｒａ）は、０μｍ以上１μｍ以下であることが好ましく、０μｍ以上０．２μｍ以下であることがより好ましい。ここで、算術平均粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１:２０１３（ＩＳＯ４２８７:１９９７）に従って求めた値である。
【００２０】
透明封止層２は、透明なエラストマー又は樹脂から構成される。透明封止層２を構成する透明材料としては、例えば、シリコーン、ポリウレタン、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、シクロオレフィン、液晶ポリマー等が挙げられる。光制御層１との密着性が高くなる点では、透明封止層２を構成する材料は、光透過層１０を形成するエラストマーと同様であることが好ましい。例えば、光透過層１０を形成する透明エラストマーとして、シリコーンゴムを使用する場合には、透明封止層２をシリコーンゴムの層にすることが好ましい。
また、透明封止層２は、光制御層１の凹凸を吸収できる厚さを有していれば、透明粘着剤層であってもよい。透明粘着剤層を形成する粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤等が挙げられる。
透明封止層２を構成する透明材料は１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２１】
透明封止層２の厚さは、１μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以上５０μｍ以下であることがより好ましく、５μｍ以上３０μｍ以下であることがさらに好ましい。透明封止層２の厚さが前記下限値以上であれば、光制御層１を充分に保護でき、また、光制御層１の表面の凹凸を充分に吸収できる。透明封止層２の厚さが前記上限値以下であれば、充分な光透過性を確保できる。
【００２２】
＜光制御シートの製造方法＞
本実施形態における光制御シート１００を製造する方法は、下記の工程（ａ）〜（ｃ）を有する。
工程（ａ）：光透過層１０を作製する光透過層作製工程。
工程（ｂ）：遮光帯２０を形成して光制御層１を作製する光制御層作製工程。
工程（ｃ）：透明封止層２を形成する透明封止層形成工程。
以下、各工程について説明する。
【００２３】
［工程（ａ）］
工程（ａ）では、凹凸が形成された成形型を用いて透明成形材を成形し、前記透明成形材に前記成形型の凹凸を転写すると共にシート状に成形する。これにより、図３に示すような、光透過帯１２を複数有し且つ光透過帯１２，１２の間に溝部１１が複数形成された光透過層１０を作製する。
工程（ａ）において使用する透明成形材は、透明エラストマー又は前記透明エラストマーを形成する硬化性化合物である。
【００２４】
工程（ａ）において使用する成形型２００は、図４に示すように、凹部２１０が複数形成された平板である。隣接する凹部２１０，２１０の間には、凹部２１０の底面２１１から突出した隔壁部２２０を有する。隔壁部２２０は、隣接する凹部２１０，２１０を仕切っている。
成形型２００の凹部２１０は、工程（ａ）において光透過層１０の光透過帯１２を形成するための空間である。成形型２００の隔壁部２２０は、工程（ａ）において光透過層１０の溝部１１を形成するための凸部である。
成形型２００においては、隔壁部２２０の各側面２２１が成形型２００の底面２０１に対して垂直に配置されている。
このような成形型２００を用いることにより、得られる光透過層１０（図３参照）における溝部１１の側面１１ａ，１１ｂを、光透過層１０の底面１０ａに対して垂直に形成できる。
成形型２００の凹部２１０の好ましい幅（Ｘ方向の長さ）は、光透過帯１２の好ましい幅と同様であり、凹部２１０の好ましい深さは、光透過帯１２の好ましい高さと同様である。成形型２００の隔壁部２２０の好ましい幅（Ｘ方向の長さ）は、遮光帯２０の好ましい幅と同様であり、隔壁部２２０の好ましい高さは、遮光帯２０の好ましい高さと同様である。
【００２５】
成形型２００の作製方法としては特に制限はなく、例えば、平板状の基材の一方の面をドライエッチングして凹部２１０を形成する方法（以下、「ドライエッチング法」という。）、平板状の基材の一方の面を切削して凹部２１０を形成する方法（以下、「切削法」という。）等が挙げられる。平板状の基材としては、例えば、シリコンウェハ、石英基板等を使用できる。
前記の成形型２００の作製方法のなかでも、ドライエッチング法が好ましい。ドライエッチング法によれば、隔壁部２２０の各側面２２１が成形型２００の底面２０１に対して垂直に配置された成形型２００を容易に作製できる。
ドライエッチング法としては、プラズマエッチング、レーザエッチング、イオンエッチング等が挙げられる。これらドライエッチング法のなかでも、簡便で生産性に優れることから、プラズマエッチングが好ましい。プラズマエッチングする場合には、基材の表面に、凹部を形成する箇所に開口部が形成されたマスクを配置し、プラズマを照射する。プラズマ照射により、基材の、マスクで覆われていない部分のみをエッチングして凹部２１０を形成する。基材の、エッチングされていない部分は、隔壁部２２０となる。
また、成形型２００は、前記のドライエッチング法又は切削法により作製した成形型を、電鋳等により複製したレプリカ成形型でもよい。
【００２６】
成形型を用いて透明成形材を成形する方法としては、例えば、下記の（ａ−１）〜（ａ−３）の方法が挙げられる。
（ａ−１）：透明エラストマーを形成する液状の硬化性化合物を、表面が平面になっている支持フィルムの上に塗布して硬化性化合物の膜を形成し、その硬化性化合物の膜に成形型２００の凹凸面を押し当て、硬化性化合物を硬化させる方法。
（ａ−２）：透明エラストマーを形成する液状の硬化性化合物を、成形型２００の凹凸面に流下し、凹凸面上の硬化性化合物を、へら等を用いて凹部２１０に掻き入れた後、硬化性化合物を硬化させる方法。
（ａ−３）：透明エラストマーを形成する硬化性化合物を成形型２００の凹凸面に塗布し、塗布した硬化性化合物を押し型で押圧し、前記硬化性化合物を硬化させる方法。
（ａ−４）：予め作製した透明エラストマーのシートを加熱しながら成形型２００の凹凸面に押圧する方法。
（ａ−５）：成形型２００を射出成形機に取り付け、透明エラストマーを射出成形する方法。
【００２７】
（ａ−１）の方法において、透明エラストマーを形成する硬化性化合物としては、例えば、硬化性シリコーン、イソシアネート及びポリオール等が挙げられる。硬化性化合物には、重合触媒を添加してもよい。硬化性化合物が熱硬化性である場合には、熱重合触媒を添加し、硬化性化合物が光重合性である場合には、光重合触媒を使用する。
硬化性化合物を塗布する支持フィルムとしては、得られた光透過層を容易に剥離できるフィルムが好ましい。好ましい支持フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム等が挙げられる。
硬化性化合物を支持フィルムに塗布する方法としては、コーターを用いる方法が挙げられる。コーターとしては、例えば、スリットコーター、スプレーコーター、グラビアコーター、ロールコーター、カーテンフローコーター、スピンコーター、バーコーター、リバースコーター、キスコーター、ファウンテンコーター、ロッドコーター、エアドクターコーター、ナイフコーター、ブレードコーター、キャストコーター、スクリーンコーター等が挙げられる。
支持フィルム上に塗布する硬化性化合物の量は、目的とする光透過層１０が作製される量に調整する。
硬化性化合物の膜に成形型２００の凹凸面を押し当てることにより、凹部２１０に硬化性化合物を充填させて、凹部２１０及び隔壁部２２０の形状を硬化性化合物に転写する。
硬化性化合物を熱硬化させる場合に、成形型２００の凹凸を転写させた硬化性化合物を加熱する方法としては、例えば、硬化性化合物に押し当てる成形型２００を加熱する方法、成形型２００とは別に設けた外部ヒータを用いて加熱する方法が挙げられる。
硬化性化合物を光硬化させる場合、硬化性化合物に照射する光としては、例えば、紫外線、電子線等が挙げられる。
硬化性化合物を硬化させることにより、透明エラストマーからなる光透過層１０を形成できる。
【００２８】
（ａ−２）の方法において、成形型２００の凹凸面上に流下する硬化性化合物の量は、目的とする光透過層が得られる量に調整する。
成形型２００の凹凸面上に液状の硬化性化合物を流下した後には、硬化性化合物の表面をへら等で均すことにより、液状の硬化性化合物を凹部２１０に充填させる。その後、硬化性化合物を硬化させることにより、透明エラストマーからなる光透過層１０を形成する。硬化性化合物が熱硬化性である場合には加熱して硬化性化合物を硬化させ、硬化性化合物が光硬化性である場合には光照射して硬化性化合物を硬化させる。
【００２９】
（ａ−３）の方法における硬化性化合物の塗布方法としては、例えば、成形型２００の凹凸面の任意の位置に、液状の硬化性化合物を付着させ、前記硬化性化合物に押し型を押圧して液状の硬化性化合物を押し延ばす方法が挙げられる。押し型を用いて液状の硬化性化合物を押し延ばした際には、硬化性化合物を凹部２１０に充填できる。
また、硬化性化合物の塗布方法としては、コーターを用いる塗布方法を適用することもできる。コーターとしては、（ａ−１）の方法において用いるコーターと同様のものを使用できる。
（ａ−３）の方法においても、硬化性化合物が熱硬化性である場合には加熱して硬化性化合物を硬化させ、硬化性化合物が光硬化性である場合には光照射して硬化性化合物を硬化させる。加熱して硬化性化合物を硬化させる場合には、押し型を加熱することにより、硬化性化合物を加熱して硬化させてもよい。
【００３０】
（ａ−４）の方法は、公知のプレス成形機を用いたプレス成形法である。プレス成形機に成形型２００を取り付けて、透明エラストマーをプレス成形することにより、光透過層１０を形成できる。
（ａ−５）の方法は、公知の射出成形機を用いた射出成形法である。射出成形機に成形型２００を取り付けて、透明エラストマーを成形することにより、光透過層１０を形成できる。
【００３１】
工程（ａ−１）〜（ａ−５）の方法において、成形型２００を用いて光透過層１０を作製した後には、成形型２００から光透過層１０を取り外す。透明エラストマーは軟質で柔軟性を有し、容易に弾性変形するため、凹部２１０の幅が狭い場合でも成形型２００から取り外しやすい。そのため、成形型２００の隔壁部２２０の破損を防止できる。
【００３２】
［工程（ｂ）］
工程（ｂ）では、図５に示すように、光透過層１０に形成された溝部１１に遮光材を充填することにより、遮光帯２０を形成する。
溝部１１に遮光材を充填する方法としては、例えば、下記の（ｂ−１）〜（ｂ−４）の方法が挙げられる。
（ｂ−１）：光透過層１０の溝部１１が形成された側の面に、遮光材を含む塗料を流下し、光透過層１０上の塗料を、へら等を用いて溝部１１に掻き入れて充填する方法。
（ｂ−２）：光透過層１０の溝部１１が形成された側の面の任意の位置に、遮光材を含む塗料を付着させ、前記塗料に押し型を押圧して前記塗料を溝部に押し込んで充填する方法。
（ｂ−３）：気相成膜装置を用い、遮光材及び分散媒を含む塗料をキャリアガスと同伴させることにより気相化し、気相化した塗料を光透過層１０の溝部１１の内部に進入させた後に、乾燥して充填する方法。
（ｂ−４）：遮光材が光反射性材料である場合には、物理蒸着又は化学蒸着を適用できる。簡便である点では、真空蒸着が好ましい。
【００３３】
（ｂ−１）又は（ｂ−２）の方法において使用する塗料は、遮光材に加えて、硬化後にバインダ樹脂となる熱硬化性のバインダ化合物を含むことが好ましい。バインダ化合物としては、例えば、熱硬化性シリコーン、ポリウレタンを形成するイソシアネート及びポリオール、アクリル化合物、エポキシ化合物、不飽和ポリエステル等が挙げられる。
前記塗料がバインダ化合物を含有する場合、溝部１１に塗料を充填した後に加熱して、バインダ化合物を硬化させることが好ましい。溝部１１に充填したバインダ化合物を硬化させることにより、遮光帯２０を形成できる。
硬化性のバインダ化合物を加熱する方法としては、例えば、（ｂ−１）では、ヒータを用いて加熱する方法を適用でき、（ｂ−２）では、押し型を加熱する方法を適用できる。
【００３４】
（ｂ−３）の方法において使用する分散媒としては、水、有機溶剤、水と有機溶剤との混合液が挙げられる。有機溶剤としては、例えば、アルコール系溶剤、炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、エーテル系溶剤等が挙げられる。有機溶剤は１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
アルコール系溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、２−メチル−２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、２−メチル−１−プロパノール、アリルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。
炭化水素系溶剤としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、イソプロピルベンゼン等が挙げられる。
ケトン系溶剤としては、例えば、ジエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、ジイソプロピルケトン、メチルエチルケトン、アセトン、ジアセトンアルコール等が挙げられる。
エーテル系溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、ジメチルエーテル、エチレングリコール、プロピレングリコール、プロピレングリコールジアルキルエーテル等が挙げられる。
エステル系溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等が挙げられる。
遮光材及び分散媒を含む塗料を気相化するために用いられるキャリアガスとしては、例えば、窒素、空気、アルゴン等が挙げられる。
【００３５】
上記のように溝部１１に遮光材を充填することにより遮光帯２０を形成して、光制御層１を作製できる。
本実施形態における工程（ｂ）では、遮光帯２０を形成した後、光制御層１の遮光帯２０が露出する側の面を洗浄することが好ましい。この洗浄により、光制御層１の遮光帯２０が露出する側の面に残留する遮光材又は光制御層１の遮光帯２０が露出する側の面を覆う余分な遮光材、特に光透過帯１２の上を覆う遮光材を除去でき、光透過帯１２を露出させることができる。
洗浄方法としては、接触式洗浄又は非接触式洗浄を適用できる。接触式洗浄としては、例えば、光制御層１の表面を研削又は研磨する方法が挙げられる。非接触式洗浄としては、例えば、光制御層１の表面にレーザ又はプラズマを照射する方法が挙げられる。
前記洗浄によって除去した不要物が光制御層１の表面に再付着することを防止するために、前記の接触式洗浄又は非接触式洗浄の最中又は後に、光制御層１の洗浄面を水洗してもよいし、洗浄液で洗浄してもよい。
【００３６】
［工程（ｃ）］
工程（ｃ）では、光制御層１の遮光帯２０が露出する側の面に透明封止層２（図２参照）を形成する。
工程（ｃ）において、光制御層１の遮光帯２０が露出する側の面に透明封止層２を形成する方法としては、例えば、下記の（ｃ−１）〜（ｃ−３）の方法が挙げられる。
（ｃ−１）：光制御層１の遮光帯２０が露出する側の面に、熱硬化性化合物を含む塗料を塗布し、加熱して、前記熱硬化性化合物を硬化させる方法。
（ｃ−２）：光制御層１の遮光帯２０が露出する側の面に、光硬化性化合物を含む塗料を塗布し、光を照射して、前記光硬化性化合物を硬化させる方法。
（ｃ−３）：光制御層１の遮光帯２０が露出する側の面に、予め作製された透明樹脂フィルムを積層する方法。
【００３７】
前記（ｃ−１）の方法における熱硬化性化合物としては、例えば、アクリル化合物、エポキシ化合物、熱硬化性シリコーン、ポリウレタンを形成するイソシアネート及びポリオール等が挙げられる。
熱硬化性化合物を含む塗料には、熱重合開始剤が含まれてもよい。熱重合開始剤としては、有機過酸化物、アゾ化合物等が挙げられる。
熱硬化性化合物を含む塗料には、有機溶剤が含まれてもよい。有機溶剤としては、工程（ｂ）において使用してもよい有機溶剤と同様のものが挙げられる。
【００３８】
熱硬化性化合物を含む塗料の塗布方法としては、光制御層１の遮光帯２０が露出する側の面の任意の位置に、前記塗料を付着させた後、前記塗料に押し型を押圧して前記塗料を押し広げる方法が挙げられる。前記押し型を加熱すれば、熱硬化性化合物を硬化させることができる。
また、熱硬化性化合物を含む塗料の塗布方法としては、コーターを用いる塗布方法でもよい。コーターとしては、工程（ａ）において硬化性化合物の塗布に使用するコーターと同様のものを使用できる。
【００３９】
前記（ｃ−２）の方法における光硬化性化合物としては、例えば、アクリル化合物等が挙げられる。
光硬化性化合物を含む塗料には、光重合開始剤が含まれてもよい。光硬化性化合物を含む塗料には、有機溶剤が含まれてもよい。有機溶剤としては、（ｂ−３）の方法において使用してもよい有機溶剤と同様のものが挙げられる。
光硬化性化合物を含む塗料の塗布方法としては、（ｃ−１）における塗料の塗布方法と同様の方法を適用できる。
光硬化性化合物を硬化する際に照射する光は、活性エネルギー線である。活性エネルギー線としては、紫外線、電子線等が挙げられる。
【００４０】
前記（ｃ−３）の方法における透明樹脂フィルムの積層方法としては、光制御層１の遮光帯２０が露出する側の面に接着剤を用いて透明樹脂フィルムを貼り合せる方法、光制御層１の遮光帯２０が露出する側の面に透明樹脂フィルムを熱圧着する方法等が挙げられる。
光制御層１に積層する透明樹脂フィルムを、光透過層１０と同種の透明エラストマーのフィルムとした場合には、接着剤を用いずに、光制御層１の遮光帯２０が露出する側の面にフィルムを容易に圧着できる。
【００４１】
［作用効果］
成形型２００を用いて光透過層１０を形成する本実施形態の光制御シート１００の製造方法では、光透過層１０に幅の狭い溝部１１を容易に形成でき、隣接する溝部１１，１１同士の間隔を容易に狭くできる。本実施形態の製造方法では、成形型２００を用いて形成した溝部１１に遮光材を充填して遮光帯２０を形成するため、隣接する遮光帯２０，２０同士の間隔を容易に狭くできる。したがって、本実施形態の光制御シート１００の製造方法によれば、薄くても透過する光の方向を制御できる光制御シート１００を容易に作製できる。
また、溝部１１を形成するための成形型２００の隔壁部２２０は、各側面２０ａ，２０ｂが成形型２００の底面２０１に対して垂直に配置されているため、得られる光透過帯１２及び遮光帯２０は光透過層１０の底面１０ａに対して垂直に形成される。そのため、本実施形態の製造方法により得られる光制御シート１００においては、入射した光が遮光帯２０の側面２０ａ，２０ｂに当たっても光入射側に逆戻りしにくい。また、光透過帯１２の光出射側の面積を充分に確保できる。したがって、本実施形態の製造方法によれば、光透過性に優れる光制御シート１００を容易に製造できる。
また、遮光帯２０が光透過層１０の底面１０ａに対して垂直になる本実施形態では、光透過帯１２を透過する光が、遮光帯２０の側面に当たらない直進光が主体になる。そのため、遮光帯２０の側面２０ａ，２０ｂにて拡散する拡散光が少ないため、光制御シート１００における透過光の鮮明性が高い。
以上のことから、本実施形態の光制御シート１００の製造方法によれば、得られる光制御シート１００の厚さを薄くでき、しかも光透過性及び透過光の鮮明性が高い光制御シート１００を容易に製造できる。
【００４２】
本実施形態における光制御シート１００は、例えば、視野角制御、輝度向上、防眩等を目的として、液晶表示装置等の画像表示装置に取り付けられる。また、光制御シート１００は、輝度向上を目的として、発光ダイオード又は有機エレクトロルミネッセンス素子等の発光体に取り付けられてもよい。また、光制御シート１００は、光センサ等の受光体に取り付けられてもよい。
【００４３】
＜他の実施形態＞
なお、本発明は、上記実施形態に限定されない。
例えば、遮光帯は、Ｙ方向に沿って形成されている形態以外の他の形態でもよい。遮光帯の他の形態としては、Ｘ方向に沿って形成されている形態が挙げられる。また、遮光帯の他の形態としては、格子状の形態、すなわち、Ｙ方向に沿って形成されている第１遮光帯と、Ｘ方向に沿って形成されている第２遮光帯とを備え、第１遮光帯及び第２遮光帯の各々が互いに平行に一定間隔で設けられている形態であってもよい。遮光帯が前記格子状の形態である場合、光制御層の光透過部は平面視で四角形になる。
また、隣接する遮光帯同士の間隔は一定でなくてもよい。例えば、Ｙ方向に沿って遮光帯を形成する場合、隣接する遮光帯同士の間隔は、Ｘ方向の端部における間隔を広くし、Ｘ方向の中央部における間隔を狭くしてもよい。Ｘ方向の中央から端部に向って、隣接する遮光帯同士の間隔を漸次広くしてもよい。Ｘ方向に沿って遮光帯を形成する場合、隣接する遮光帯同士の間隔は、Ｙ方向の端部における間隔を広くし、Ｙ方向の中央部における間隔を狭くしてもよい。Ｙ方向の中央から端部に向って、隣接する遮光帯同士の間隔を漸次広くしてもよい。
上記の他の形態の遮光帯を形成するためには、前記工程（ａ）において、前記他の形態の遮光帯に対応する隔壁部が設けられた成形型を使用すればよい。
本発明の製造方法により製造される光制御シートは、平面視の形状が長方形でなくてもよく、その形状は光制御シートの用途に応じて適宜決められる。光制御シートの平面視の形状としては、例えば、正方形、平行四辺形、四角形以外の多角形、円形、楕円形等が挙げられる。
【００４４】
上記実施形態の光制御シートの製造方法において、工程（ｃ）を省略してもよい。工程（ｃ）を省略した場合には、光制御シートは光制御層のみから構成される。
【実施例】
【００４５】
以下、実施例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されない。
【００４６】
（実施例１）
光透過層を作製するための成形型として、Ｙ方向に沿って幅１００μｍ且つ深さ１８０μｍの凹部が、１５μｍ間隔で複数形成されたシリコン製成形型を用意した。
ポリエチレンテレフタレートフィルムの表面に、液状の熱硬化性シリコーン（信越化学工業株式会社製、ＫＥ−１９３５）を塗布して、熱硬化性シリコーンの膜を形成した。
次いで、その熱硬化性シリコーンの膜に前記成形型の凹凸面を押し当て、１３０℃で５分間加熱し、熱硬化性シリコーンを硬化させた。これにより、Ｙ方向に沿った光透過帯と溝部とが、Ｘ方向に見て交互に形成された厚さ２３０μｍの光透過層を作製した。
次いで、液状の熱硬化性シリコーン（信越化学工業株式会社製、ＫＥ−１９３５）と、カーボンブラックを含むシリコーン系着色剤（カーボンブラック濃度２０質量％）とを混合して遮光帯形成用塗料を得た。前記遮光帯形成用塗料を、前記光透過層の溝部が形成された側の面の複数の箇所に盛り付けた。その盛り付けた塗料を、１３０℃に加熱した押し型を用いて押し込んで溝部の内部に充填させた。押し型を押し込んだ状態を５分間維持して熱硬化性シリコーンを硬化させ、遮光帯を形成した。これにより、厚さ２３０μｍの光制御層を作製した。
次いで、光制御層の遮光帯が露出する側の面の全面にＹＡＧレーザを照射して、残留する余分な塗料を除去し、得られた光制御層を洗浄処理した。
前記洗浄処理後、光制御層の遮光帯が露出する側の面の複数の箇所に、液状の熱硬化性シリコーン（信越化学工業株式会社製、ＫＥ−１９３５）を盛り付けた。その盛り付けた熱硬化性シリコーンを、１３０℃に加熱した押し型を用いて５分間押圧した。これにより、熱硬化性シリコーンを硬化させて、厚さ５０μｍの透明封止層を形成した。
以上の製造方法により、幅１００μｍの光透過帯及び幅１５μｍの遮光帯が形成された光制御層を備える厚さ２８０μｍの光制御シートを得た。
【符号の説明】
【００４７】
１  光制御層
２  透明封止層
１０  光透過層
１０ａ  底面
１１  溝部
１１ａ，１１ｂ  側面
１２  光透過帯（光透過部）
２０  遮光帯
２０ａ，２０ｂ  側面
１００  光制御シート
２００  成形型
２０１  底面
２１０  凹部
２１１  底面
２２０  隔壁部
２２１  側面
【図１】
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【図２】
2019197157.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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