(57)【要約】      （修正有）【課題】低温で硬化可能で、感度、残膜率に優れ、残渣特性に優れた感光性樹脂組成物の提供。【解決手段】アクリル系共重合体１００重量部に対して、ラジカル光開始剤０．１〜２０重量部、イオン光開始剤０．１〜１０重量部、多官能アクリレートオリゴマー１〜５０重量部、エチレン性不飽和結合を有する多官能性モノマー１〜５０重量部、および溶媒を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクリル系共重合体１００重量部に対して、
ラジカル光開始剤０．１〜２０重量部、
イオン光開始剤０．１〜１０重量部、
多官能アクリレートオリゴマー１〜５０重量部、
エチレン性不飽和結合を有する多官能性モノマー１〜５０重量部、および、溶媒を含む、ことを特徴とする感光性樹脂組成物。
【請求項２】
前記感光性樹脂組成物は、９０℃以下の温度で硬化する、ことを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項３】
前記ラジカル光開始剤は、２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン、または２−（Ｏ−アセチルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオンである、ことを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項４】
前記イオン光開始剤は、フェニル（４−メトキシフェニル）ヨードニウム六フッ化リン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ベンジルトリフルオロメタンスルホン酸、４−メチルフェニル（４−（２−メチルプロピルフェニル））ヨードニウム六フッ化リン、およびフェニル（４−メトキシフェニル）ヨードニウム六フッ化ヒ素からなる群より選択される１つ以上である、ことを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項５】
前記ラジカル光開始剤と前記イオン光開始剤の含有量比は、２：１〜１：２である、ことを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項６】
前記感光性樹脂組成物の固形分含有量が１０重量％〜５０重量％である、ことを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項７】
メラミン架橋剤をさらに含み、前記メラミン架橋剤は、モノメチロール尿素、ジメチロール尿素、ヘキサメチロールメラミン、モノメチル尿素メチルエーテル、ジメチル尿素メチルエーテル、ヘキサメチロールメラミンヘキサメチルエーテル、及びヘキサメチロールメラミンヘキサブチルエーテルを含む群より選択される１種以上である、ことを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項８】
シランカップリング剤をさらに含み、前記シランカップリング剤は、（３−グリシドオキシプロピル）トリメトキシシラン、（３−グリシドオキシプロピル）トリエトキシシラン、（３−グリシドオキシプロピル）メチルジメトキシシラン、（３−グリシドオキシプロピル）メチルジエトキシシラン、（３−グリシドオキシプロピル）ジメチルエトキシシラン、３，４−エポキシブチルトリメトキシシラン、３，４−エポキシブチルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、アミノプロピルトリメトキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリ−Ｎ−（１，３ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−２（アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２（アミノエチル）３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２（アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、及び（３−イソシアネートプロピル）トリエトキシシランを含む群より選択される１種以上である、ことを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項９】
前記アクリル系共重合体は、不飽和カルボキシ化合物および不飽和オレフィン化合物を共重合させて形成される、ことを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１０】
前記溶媒は、沸点が１５０℃未満である、ことを特徴とする請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性樹脂組成物に係り、より詳しくは、低温で硬化可能で、感度、残膜率に優れ、残渣特性に優れた感光性樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、表示装置は、現在幅広く用いられており、液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｄｉｓｐｌａｙ；ＬＣＤ）と有機発光表示装置（Ｏｒｇａｎｉｃ  ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｓｐｌａｙ；ＯＬＥＤ）など様々な種類がある。また、最近、表示装置を曲げて曲面状に形成する表示装置が注目されており、これは使用者の没入感を向上させる。
【０００３】
このような表示装置を形成する過程で膜をパターニングするためにフォト工程を利用し、この時、フォトレジスト物質が使用される。あるいは、フォトレジスト物質を露光、現像をして直接膜を形成することもできる。
【０００４】
このようなフォトレジストを用いて絶縁膜、カラムスペーサ、オーバーコート層、カラーフィルタ層を形成するが、フォトレジストを形成するための感光性樹脂組成物の成分構成によって解像度、接着力、残膜率などに影響を及ぼす。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１８−１２７６２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的とするところは、低温で硬化可能で、感度、残膜率に優れ、残渣特性に優れた感光性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一実施例による感光性樹脂組成物は、アクリル系共重合体１００重量部に対して、ラジカル光開始剤０．１〜２０重量部、イオン光開始剤０．１〜１０重量部、多官能アクリレートオリゴマー１〜５０重量部、エチレン性不飽和結合を有する多官能性モノマー１〜５０重量部、および溶媒を含む。
【０００８】
前記感光性樹脂組成物は、９０℃以下の温度で硬化できる。
【０００９】
前記ラジカル光開始剤は、２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン、または２−（Ｏ−アセチルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオンであってもよい。
【００１０】
前記イオン光開始剤は、フェニル（４−メトキシフェニル）ヨードニウム六フッ化リン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ベンジルトリフルオロメタンスルホン酸、４−メチルフェニル（４−（２−メチルプロピルフェニル））ヨードニウム六フッ化リン、およびフェニル（４−メトキシフェニル）ヨードニウム六フッ化ヒ素からなる群より選択される１つ以上であってもよい。
【００１１】
前記ラジカル光開始剤と前記イオン光開始剤の含有量比は、２：１〜１：２であってもよい。
【００１２】
前記感光性樹脂組成物の固形分含有量が１０重量％〜５０重量％であってもよい。
【００１３】
前記感光性樹脂組成物は、メラミン架橋剤をさらに含んでもよい。
【００１４】
前記感光性樹脂組成物は、シランカップリング剤をさらに含んでもよい。
【００１５】
前記アクリル系共重合体は、不飽和カルボキシ化合物および不飽和オレフィン化合物を共重合させて形成される。
【００１６】
前記溶媒は、沸点が１５０℃未満であってもよい。
【００１７】
本発明の一実施例によるパターン形成方法は、基板上に感光性樹脂組成物をコーティングする段階と、前記コーティングされた感光性樹脂組成物を７５℃〜８５℃の温度に１次加熱する段階と、前記コーティングされた感光性樹脂組成物を露光および現像する段階と、前記現像された感光性樹脂組成物を８０℃〜９０℃の温度に２次加熱する段階とを含み、前記感光性樹脂組成物は、アクリル系共重合体１００重量部に対して、ラジカル光開始剤０．１〜２０重量部、イオン光開始剤０．１〜１０重量部、多官能アクリレートオリゴマー１〜５０重量部、エチレン性不飽和結合を有する多官能性モノマー１〜５０重量部、および溶媒を含む。
【００１８】
前記１次加熱により感光性樹脂組成物内のガスが除去され、前記２次加熱により感光性樹脂組成物が硬化できる。
【００１９】
前記１次加熱は、１分〜５分間行われる。
【００２０】
前記２次加熱は、３０分〜２４０分間行われる。
【００２１】
前記ラジカル光開始剤は、２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン、または２−（Ｏ−アセチルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオンであってもよい。
【００２２】
前記イオン光開始剤は、フェニル（４−メトキシフェニル）ヨードニウム六フッ化リン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ベンジルトリフルオロメタンスルホン酸、４−メチルフェニル（４−（２−メチルプロピルフェニル））ヨードニウム六フッ化リン、およびフェニル（４−メトキシフェニル）ヨードニウム六フッ化ヒ素からなる群より選択される１つ以上であってもよい。
【００２３】
前記ラジカル光開始剤と前記イオン光開始剤の含有量比は、２：１〜１：２であってもよい。
【００２４】
前記感光性樹脂組成物の固形分含有量が１０重量％〜５０重量％であってもよい。
【００２５】
前記感光性樹脂組成物は、メラミン架橋剤をさらに含んでもよい。
【００２６】
前記感光性樹脂組成物は、シランカップリング剤をさらに含んでもよい。
【発明の効果】
【００２７】
本実施例による感光性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法は、感度、残膜率に優れ、残渣特性が改善され、低温工程で接着力および耐薬品性に優れている。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の一実施例によるパターン形成方法を示す工程フローチャートである。
【図２】本発明の一実施例によるパターン形成方法を示す工程フローチャートである。
【図３】本発明の一実施例によるパターン形成方法を示す工程フローチャートである。
【図４】本発明の一実施例によるパターン形成方法を示す工程フローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、添付した図面を参照して、本発明の様々な実施例について、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳しく説明する。本発明は、種々の異なる形態で実現可能であり、ここで説明する実施例に限定されない。
【００３０】
本発明を明確に説明するために説明上不必要な部分は省略し、明細書全体にわたって同一または類似の構成要素については同一の参照符号を付す。
【００３１】
また、図面に示した各構成の大きさおよび厚さは説明の便宜のために任意に示したので、本発明は必ずしも図示に限定されない。図面において、様々な層および領域を明確に表現するために厚さを拡大して示した。そして、図面において、説明の便宜のために、一部の層および領域の厚さを誇張して示した。
【００３２】
また、層、膜、領域、板などの部分が他の部分の「上に」あるとする時、これは、他の部分の「直上に」ある場合のみならず、その中間にさらに他の部分がある場合も含む。逆に、ある部分が他の部分の「直上に」あるとする時には、中間に他の部分がないことを意味する。さらに、基準となる部分の「上に」あるということは、基準となる部分の上または下に位置するものであり、必ずしも重力の反対方向に「上に」位置することを意味するものではない。
【００３３】
また、明細書全体において、ある部分がある構成要素を「含む」とする時、これは、特に反対の記載がない限り、他の構成要素を除くのではなく、他の構成要素をさらに包含できることを意味する。
【００３４】
まず、本発明の一実施例による感光性樹脂組成物について説明する。本発明の一実施例による感光性樹脂組成物は、アクリル系共重合体１００重量部に対して、ラジカル光開始剤０．１〜２０重量部、イオン光開始剤０．１〜１０重量部、多官能アクリレートオリゴマー１〜５０重量部、エチレン性不飽和結合を有する多官能性モノマー１〜５０重量部、および溶媒を含む。
【００３５】
つまり、本発明の一実施例による感光性樹脂組成物は、ラジカル光開始剤とイオン光開始剤を同時に含む。したがって、９０℃以下の低温でも硬化可能であり、９０℃以下の温度で硬化した場合にも、優れた接着力および耐薬品性を示す。本実施例による感光性樹脂組成物は、露光した部分が硬化して残り、露光しない部分が除去されるネガティブ感光性樹脂組成物である。
【００３６】
通常、感光性樹脂組成物の硬化には２００℃以上の温度が要求される。しかし、感光性樹脂組成物を表示装置と一体化したタッチパネルの絶縁膜などに適用する場合、感光性樹脂組成物の硬化のために必要な２００℃以上の高温で、表示装置に含まれている発光層の特性が変化する。したがって、２００℃以上の高温で硬化する感光性樹脂組成物は、発光層と連続的な工程で形成される絶縁膜には適用できず、別途の工程で絶縁膜を製造した後、これを積層する工程が要求される。
【００３７】
しかし、本実施例による感光性樹脂組成物は、ラジカル光開始剤とイオン光開始剤を同時に含むことによって、９０℃以下の低温でも硬化し、したがって、発光層と連続的な工程で製造される絶縁膜として使用可能である。したがって、製造工程でマスク数を低減できる。
【００３８】
また、本実施例の感光性組成物で製造される絶縁膜などは有機膜であるので、既存の無機物質を含む絶縁膜などに比べてフレキシブル表示装置に適用するのに適する。さらに、既存の無機物質を含む絶縁膜の製造工程で要求される化学気相蒸着（ＣＶＤ）、ドライエッチング、ストリップ工程などを省くことができる。
【００３９】
本発明の感光性樹脂組成物が９０℃以下の温度で硬化可能な理由は、ラジカル光開始剤とイオン光開始剤を同時に含むからである。つまり、硬化反応が起こるためにはベンゼン環の結合が崩れながらベンゼン環構造がオープンされなければならないが、ラジカル光開始剤およびイオン光開始剤ともベンゼン環を崩す役割を果たすので、反応サイトを増加させ、より低い温度でも反応が活発に行われるようにするからである。
【００４０】
この時、ラジカル光開始剤とイオン光開始剤の含有量比は、約２：１〜１：２であってもよい。これは、低温硬化時、硬化した感光性樹脂組成物の接着力および耐薬品性を最大化できる数値範囲である。
【００４１】
本発明の一実施例による感光性樹脂組成物において、前記アクリル系共重合体は、現像時に残渣が発生しないようにして、パターンが容易に形成できるようにする。
【００４２】
前記アクリル系共重合体は、不飽和カルボキシ化合物および不飽和オレフィン化合物を共重合させて形成される。具体的には、前記アクリル系共重合体は、
ｉ）不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物、またはこれらの混合物、
ｉｉ）オレフィン系不飽和化合物を単量体にして溶媒および重合開始剤の存在下でラジカル反応して合成後、沈殿およびろ過、真空乾燥（Ｖａｃｕｕｍ  Ｄｒｙｉｎｇ）工程により未反応単量体を除去して得ることができる。
【００４３】
本発明に使用される前記不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物、またはこれらの混合物は、アクリル酸、メタクリル酸などの不飽和モノカルボン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メタコン酸、イタコン酸などの不飽和ジカルボン酸、またはこれらの不飽和ジカルボン酸の無水物などを単独または２種以上混合して使用する。特に、アクリル酸、メタクリル酸、またはマレイン酸は、共重合反応性と現像液のアルカリ水溶液に対する溶解性に優れているので、好ましい。
【００４４】
前記不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物、またはこれらの混合物は、全体の総単量体１００重量部に対して、５〜４０重量部含まれることが好ましい。含有量が５重量部未満の場合には、アルカリ水溶液に溶解しにくい問題点があり、４０重量部を超える場合には、アルカリ水溶液に対する溶解性が過度に大きくなる問題点がある。
【００４５】
本発明に使用する前記オレフィン系不飽和化合物は、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、メチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−メチルシクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルメタクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、１−アダマンチルアクリレート、１−アダマンチルメタクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチルメタクリレート、イソボロニルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−メチルシクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチルアクリレート、イソボロニルアクリレート、フェニルメタクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、スチレン、σ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メトキシスチレン、１，３−ブタジエン、イソプレン、または２，３−ジメチル１，３−ブタジエン、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−β−メチルグリシジル、メタクリル酸−β−メチルグリシジル、アクリル酸−β−エチルグリシジル、メタクリル酸−β−エチルグリシジル、アクリル酸−３，４−エポキシブチル、メタクリル酸−３，４−エポキシブチル、アクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、メタクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、およびｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、メタクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシルからなる群より選択される１つ以上を使用し、前記化合物を単独または２種以上混合して使用する。
【００４６】
前記オレフィン系不飽和化合物は、全体の総単量体１００重量部に対して、６０〜９５重量部含まれることが好ましい。含有量が６０重量部未満の場合には、解像度、耐熱性が低下する問題点があり、９５重量部を超える場合には、アクリル系共重合体が現像液のアルカリ水溶液に溶解しにくい問題点がある。
【００４７】
前記オレフィン系不飽和化合物としてエポキシグループを含む単量体を使用する。これらの単量体は、低温硬化工程でイオン光開始剤によって架橋反応を進行させて緻密な構造を形成することによって、耐熱性と耐薬品性および物理的特性をさらに高める。
【００４８】
このような単量体を溶液重合するために使用される溶媒には、メタノール、テトラヒドロキシフラン、トルエン、ジオキサンなどがある。
【００４９】
このような単量体を溶液重合するために使用される重合開始剤には、ラジカル重合開始剤を使用し、具体的には、２，２−アゾビスイソブチロニトリル、２，２−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２−アゾビス（４−メトキシ２，４−ジメチルバレロニトリル）、１，１−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、またはジメチル２，２’−アゾビスイソブチレートなどを使用する。
【００５０】
このような単量体を溶媒と重合開始剤の存在下でラジカル反応させ、沈殿およびろ過、真空乾燥工程により未反応単量体を除去してアクリル系共重合体が製造される。このようなアクリル系共重合体は、ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）が３，０００〜３０，０００であってもよい。前記ポリスチレン換算重量平均分子量が３，０００未満の場合、現像性、残膜率などが低下したり、パターン現像、耐熱性が低下することがあり、３０，０００を超える場合には、パターン現像が劣ることがある。
【００５１】
本発明の感光性樹脂組成物に使用される光開始剤は、ラジカル光開始剤とイオン光開始剤をそれぞれ１種以上ずつ含む。
【００５２】
前記ラジカル光開始剤としては、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノンなどのアセトフェノン系化合物、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系化合物、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系化合物、２，４，６−トリクロロ−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペロニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−スチリル−ｓ−トリアジン、２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−（ピペロニル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル（４’−メトキシスチリル）−６−トリアジンなどのトリアジン系化合物、２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン、１−（Ｏ−アセチルオキシム）−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−エタノン、Ｏ−エトキシカルボニル−α−オキシアミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、１，２−オクタンジオン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチルベンジル）−１−（４−モルホリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン、１−（４−フェニルスルファニルフェニル）−ブタン−１，２−ジオン−２−オキシム−Ｏ−ベンゾエート、１−（４−フェニルスルファニルフェニル）−オクタン−１，２−ジオン−２−オキシム−Ｏ−ベンゾエート、１−（４−フェニルスルファニルフェニル）−オクタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート、１−（４−フェニルスルファニルフェニル）−ブタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセテート、���−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）ｐ−メチルフェニル］−１，２−オクタンジオン、２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−フェニルジオン、２−（Ｏ−アセチルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン、２−（Ｏ−アセチルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−フェニルジオン、２−（Ｏ−アセチルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−メチルジオン、Ｏ−（アセチル）−Ｎ−（１−フェニル−２−オキソ−２−（４’−メトキシ−ナフチル）エチリデン）ヒドロキシルアミンなどのオキシムエステル系化合物、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキシドなどのホスフィン系化合物、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４’，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−メトキシフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−メトキシフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｐ−メチルフェニル）ビイミダゾールなどのイミダゾール系化合物、９，１０−フェナントレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノンなどのキノン系化合物、ボレート系化合物、カルバゾール系化合物、チタノセン系化合物などを使用し、これらを単独または２種以上を混合して使用する。
【００５３】
前記ラジカル光開始剤の含有量は、前記アクリル系共重合体１００重量部に対して、ラジカル光開始剤０．１〜２０重量部含まれることが好ましい。ラジカル光開始剤の含有量が０．１重量部未満の場合には、低い感度によって残膜率が悪くなり、２０重量部を超える場合には、現像性に劣り、解像度が低下する問題点がある。
【００５４】
前記イオン光開始剤は、陽イオン光開始剤と陰イオン光開始剤を含む。陽イオン光開始剤には、オニウム塩系として、スルホニウム塩系、ヨードニウム塩系、ホスホニウム塩系、ジアゾニウム塩系、ピリジニウム塩系、ベンゾチアゾリウム塩系、スルホキソニウム塩系、フェロセン系化合物があり、その他、ニトロベンジルスルホネート類、アルキルまたはアリル−Ｎ−スルホニルオキシイミド類、ハロゲン化アルキルスルホン酸エステル類、オキシムスルホネート類などがあるが、これらに限定されるものではない。
【００５５】
一例として、陽イオン光開始剤は、テトラブチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラブチルアンモニウムヘキサフルオロホスフェート、テトラブチルアンモニウムハイドロジェンスルフェート、テトラエチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラエチルアンモニウム、ｐ−トルエンスルホネート、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ベンジルアニリニウム六フッ化アンチモン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ベンジルアニリニウム四フッ化ホウ素、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ベンジルピリジニウム六フッ化アンチモン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ベンジルトリフルオロメタンスルホン酸、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−（４−メトキシベンジル）ピリジニウム六フッ化アンチモン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−（４−メトキシベンジル）トルイジニウム六フッ化アンチモン、エチルトリフェニルホスホニウム六フッ化アンチモン、テトラブチルホスホニウム六フッ化アンチモン、トリフェニルスルホニウム四フッ化ホウ素、トリフェニルスルホニウム六フッ化アンチモン、トリフェニルスルホニウム六フッ化ヒ素、トリ（４−メトキシフェニル）スルホニウム六フッ化ヒ素、ジフェニル（４−フェニルチオフェニル）スルホニウム六フッ化ヒ素、ジフェニルヨードニウム六フッ化ヒ素、ジ−４−クロロフェニルヨードニウム六フッ化ヒ素、ジ−４−ブロムフェニルヨードニウム六フッ化ヒ素、フェニル（４−メトキシフェニル）ヨードニウム六フッ化ヒ素、ジフェニルヨードニウム六フッ化リン、ジ−４−クロロフェニルヨードニウム六フッ化リン、ジ−４−ブロムフェニルヨードニウム六フッ化リン、フェニル（４−メトキシフェニル）ヨードニウム六フッ化リン、４−メチルフェニル（４−（２−メチルプロピルフェニル））ヨードニウム六フッ化リン、ジ−４−テトラフェニルヨードニウム六フッ化リン、ジフェニルヨードニウム六フッ化リン、ジ−４−テトラフェニルヨードニウム六フッ化アンチモン、ジフェニルヨードニウム六フッ化アンチモン、４−メチルフェニル（４−（２−メチルプロピルフェニル））ヨードニウム四フッ化ヒ素からなる群より選択される１つ以上であってもよいが、これに制限されるわけではない。
【００５６】
陰イオン光開始剤は、ベンゾインカルバメート、ジメチルベンジルオキシカルバモイルアミン、ｏ−アシルオキシム、ｏ−ニトロベンゾインカルバメート、ホルムアニリド誘導体、およびα−アンモニウムアセトフェノンからなる群より選択される１つ以上であってもよいが、これに制限されるわけではない。
【００５７】
前記イオン光開始剤の含有量は、アクリル系共重合体１００重量部に対して、０．１〜１０重量部であってもよい。イオン光開始剤の含有量が０．１重量部未満の場合には、低い硬化度によって耐薬品性が悪くなり、１０重量部を超える場合には、過度の硬化度によって残渣が発生し、解像度が低下することがある。
【００５８】
本実施例による感光性樹脂組成物に含まれる多官能アクリレートオリゴマーは、２〜２０個の官能基を有する。一例として、アリファティックウレタンアクリレートオリゴマー、アロマティックウレタンアクリレートオリゴマー、エポキシアクリレートオリゴマー、エポキシメタクリレートオリゴマー、ポリエステルアクリレートオリゴマー、シリコンアクリレートオリゴマー、メラミンアクリレートオリゴマー、テンドリティックアクリレートオリゴマーなどを使用し、これらを単独または２種以上を混合して使用する。
【００５９】
前記多官能アクリレートオリゴマーの含有量は、前記アクリル系共重合体１００重量部に対して、１〜５０重量部含むのが良い。多官能アクリレートオリゴマーの含有量が１重量部未満の場合には、低い感度によって残膜率が悪くなる問題点があり、５０重量部を超える場合には、現像性に劣り、解像度が低下することがある。
【００６０】
また、本発明の一実施例による感光性樹脂組成物に含まれるエチレン性不飽和結合を有する多官能性モノマーは、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサジアクリレート、ジペンタエリスリトールトリジアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート誘導体、ジペンタエリスリトールポリアクリレート、およびこれらのメタクリレートなどを使用し、これらを単独または２種以上混合して使用する。
【００６１】
前記エチレン性不飽和結合を有する多官能性モノマーの含有量は、前記アクリル系共重合体１００重量部に対して、１〜５０重量部であってもよい。その含有量が１重量部未満の場合には、低い感度によって残膜率が悪くなり、５０重量部を超える場合には、現像性に劣り、解像度が低下することがある。
【００６２】
本発明の一実施例による感光性樹脂組成物に使用される溶媒は制限されないが、一例として、沸点が１５０℃未満であってもよい。このように沸点が１５０℃未満の溶媒を使用する場合、低温工程での残留溶媒を最小化でき、耐薬品性を確保できる。
【００６３】
一例として、溶媒は、メチル−２−ヒドロキシイソブチレート、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、２−メトキシ−１−メチルエチルエステル、プロピレンアセテート、エチルプロピオネート、エチルピルベートのようなエステル類、１−メトキシ−２−プロパノール、ジブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールのようなアルコール類からなる群より、溶解性、各成分との反応性、塗布膜形成の容易性を考慮して１種以上選択して使用することが好ましい。
【００６４】
前記溶媒は、全体の感光性樹脂組成物において、固形分含有量が１０〜５０重量％となるように含まれることが好ましい。前記範囲の固形分を有する組成物は、０．１〜０．２μｍのミリポアフィルタなどでろ過後に使用する。また、一例として、感光性樹脂組成物における溶媒の含有量は、固形分含有量が１５〜４０重量％となるようにする範囲であってもよい。
【００６５】
前記感光性樹脂組成物の固形分含有量が１０重量％未満の場合には、コーティング厚さが薄くなり、コーティング平板性が低下する問題点があり、５０重量％を超える場合には、コーティング厚さが厚くなり、コーティング時にコーティング装備に無理を与えることがあり、残留溶媒が増加することがある。
【００６６】
また、本実施例による感光性組成物は、メラミン架橋剤をさらに含んでもよい。メラミン架橋剤は、感光性組成物の耐熱性、耐薬品性および接着力を向上させる。
【００６７】
前記メラミン架橋剤としては、尿素とホルムアルデヒドの縮合生成物、メラミンとホルムアルデヒドの縮合生成物、またはアルコールから得られたメチロール尿素アルキルエーテル類やメチロールメラミンアルキルエーテル類などを使用する。
【００６８】
具体的には、前記尿素とホルムアルデヒドの縮合生成物としては、モノメチロール尿素、ジメチロール尿素などを使用する。前記メラミンとホルムアルデヒドの縮合生成物としては、ヘキサメチロールメラミンを使用し、その他、メラミンとホルムアルデヒドの部分的な縮合生成物も使用可能である。
【００６９】
また、前記メチロール尿素アルキルエーテル類としては、尿素とホルムアルデヒドの縮合生成物にメチロール基の部分または全部にアルコール類を反応させて得られるもので、その具体例としては、モノメチル尿素メチルエーテル、ジメチル尿素メチルエーテルなどを使用する。前記メチロールメラミンアルキルエーテル類としては、メラミンとホルムアルデヒドの縮合生成物にメチロール基の部分または全部にアルコール類を反応させて得られるもので、その具体例としては、ヘキサメチロールメラミンヘキサメチルエーテル、ヘキサメチロールメラミンヘキサブチルエーテルなどを使用する。さらに、メラミンのアミノ基の水素原子がヒドロキシメチル基およびメトキシメチル基で置換された構造の化合物、メラミンのアミノ基の水素原子がブトキシメチル基およびメトキシメチル基で置換された構造の化合物なども使用可能であり、特に、メチロールメラミンアルキルエーテル類を使用することが好ましい。
【００７０】
前記メラミン架橋剤の含有量は、アクリル系共重合体１００重量部に対して、０．１〜２０重量部であってもよい。
【００７１】
また、本実施例による感光性組成物は、シランカップリング剤をさらに含んでもよい。シランカップリング剤は、感光性組成物の下部基板との接着力を向上させる。前記シランカップリング剤は、（３−グリシドオキシプロピル）トリメトキシシラン、（３−グリシドオキシプロピル）トリエトキシシラン、（３−グリシドオキシプロピル）メチルジメトキシシラン、（３−グリシドオキシプロピル）メチルジエトキシシラン、（３−グリシドオキシプロピル）ジメチルエトキシシラン、３，４−エポキシブチルトリメトキシシラン、３，４−エポキシブチルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、アミノプロピルトリメトキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリ−Ｎ−（１，３ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−２（アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２（アミノエチル）３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２（アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、または（３−イソシアネートプロピル）トリエトキシシランなどを単独または２種以上混合して使用する。
【００７２】
前記シランカップリング剤は、アクリル系共重合体１００重量部に対して、０．１〜２０重量部含まれる。
【００７３】
また、本発明の一実施例による感光性樹脂組成物は、界面活性剤をさらに含んでもよい。このような界面活性剤は、感光性樹脂組成物の塗布性および現像性を向上させる。このような界面活性剤としては、シリコン系とフッ素系などがある。前記界面活性剤は、感光性樹脂組成物内の固形分１００重量部に対して、０．０００１〜２重量部含まれる。
【００７４】
以下、本発明の一実施例による感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法について説明する。本発明の一実施例による感光性樹脂組成物は、基板上に感光性樹脂組成物をコーティングする段階と、前記感光性樹脂組成物を７５℃〜８５℃の温度に１次加熱する段階と、前記感光性樹脂組成物を露光および現像する段階と、前記現像された感光性樹脂組成物を８０℃〜９０℃の温度に２次加熱する段階とを含む。この時使用される感光性樹脂組成物は、先に説明した感光性樹脂組成物と同一である。同一の構成要素に関する重複した説明は省略する。
【００７５】
図１〜４は、本発明の一実施例によるパターン形成方法を示す工程フローチャートである。
【００７６】
図１を参照すれば、まず、基板１１０上に感光性樹脂組成物４００をコーティングして感光性樹脂組成物４００のコーティング層を形成する。この時、コーティングは、スプレー法、ロールコーター法、回転塗布法などで行われる。
【００７７】
この時、感光性樹脂組成物は、アクリル系共重合体１００重量部に対して、ラジカル光開始剤０．１〜２０重量部、イオン光開始剤０．１〜１０重量部、多官能アクリレートオリゴマー１〜５０重量部、エチレン性不飽和結合を有する多官能性モノマー１〜５０重量部、および溶媒を含む。このような感光性樹脂組成物は、ラジカル光開始剤とイオン光開始剤を同時に含むので、９０℃以下の低温でも硬化可能で、９０℃以下の低温で硬化した場合にも、優れた接着力および耐薬品性を示す。このような感光性樹脂組成物は、露光した部分が硬化して残存するネガティブ感光性樹脂組成物である。
【００７８】
次に、図２を参照すれば、コーティングされた感光性樹脂組成物４００を７５℃〜８５℃の温度に１次加熱する。これはプリベーク工程で、この工程によりコーティングされた感光性樹脂組成物４００の内部に含まれているガスを除去する。前記１次加熱は、約１分〜５分間行われる。この時、本発明の感光性樹脂組成物は、沸点が１５０℃未満と低い溶媒を使用するため、溶媒内に含まれているガスなどがより良く除去できる。
【００７９】
次に、図３を参照すれば、コーティングされた感光性樹脂組成物を露光および現像して感光性樹脂組成物層４１０を形成する。本発明の一実施例による感光性樹脂組成物は、ネガティブ感光性樹脂組成物であって、マスク７００の開口部と対応する部分、つまり、露光した部分が硬化して残っており、露光しない部分が除去される。この時、露光は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線などを利用する。現像は現像液を使用し、露光しない部分を除去する。
【００８０】
現像液は、アルカリ水溶液を使用するのが良く、具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウムなどの無機アルカリ類、ｎ−プロピルアミンなどの１級アミン類、ジエチルアミン、ｎ−プロピルアミンなどの２級アミン類、トリメチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエチルアミン、トリエチルアミンなどの３級アミン類、ジメチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアルコールアミン類、またはテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシドなどの４級アンモニウム塩の水溶液などを使用する。この時、現像液は、アルカリ性化合物を０．１〜１０重量％の濃度で溶解させて使用し、メタノール、エタノールなどのような水溶性有機溶媒および界面活性剤を適正量添加してもよい。
【００８１】
次に、図４を参照すれば、感光性樹脂組成物層４１０を約８０℃〜９０℃の温度に２次加熱する。前記２次加熱は、感光性樹脂組成物層４１０を硬化させる工程である。このような２次加熱は、約３０分〜２４０分間行われる。本発明の一実施例による感光性樹脂組成物４００は、９０℃以下の温度でも硬化するため、感光性樹脂組成物の下部に発光層などが位置する場合にも、発光層の損傷なく絶縁膜などを製造できる。
【００８２】
つまり、本発明の感光性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法は、ＴＦＴ−ＬＣＤ、ＴＳＰ（Ｔｏｕｃｈ  Ｓｃｒｅｅｎ  Ｐａｎｅｌ）、またはＯＬＥＤなどのディスプレイ素子の内部に含まれるパッシベーション絶縁膜、ゲート絶縁膜、平坦化膜、カラムスペーサ、オーバーコート、またはカラーレジストとして使用可能である。この時、感光性樹脂組成物が低温工程で硬化するため、発光層などを含む構造の上部に単一工程で製造可能で、工程を簡素化できる。
【００８３】
また、製造される表示装置の構造を単純化できる。一例として、本実施例による感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法により、有機発光素子上にタッチパネルが内蔵された構造の表示装置を製造できる。つまり、有機発光素子上の薄膜封止層上に直にタッチ感知電極を形成し、タッチ感知電極の間に位置する絶縁膜として本実施例による感光性樹脂組成物を使用できる。この構造の場合、絶縁膜を製造する過程で温度が１００℃を超えると、有機発光素子の発光層が損傷するので、好ましくない。しかし、本実施例による感光性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法は、感光性樹脂組成物が９０℃以下の温度で硬化するので、下部発光層の損傷なく絶縁膜などを製造できる。
【００８４】
以下、具体的な実験例を通じて、本発明の一実施例による感光性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法の効果について説明する。
合成例１：（アクリル系共重合体の製造）
冷却器と撹拌機が備えられたフラスコに、テトラヒドロフラン４００重量部、メタクリル酸３０重量部とスチレン３０重量部、およびグリシジルメタクリレート４０重量部の混合溶液を投入した。前記液状組成物を混合容器にて６００ｒｐｍで十分に混合した後、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１５重量部を添加した。前記重合混合溶液を５５℃までゆっくり上昇させて、この温度で２４時間維持後に常温に冷却し、重合禁止剤としてヒドロベンゾフェノンを５００ｐｐｍ添加して、固形分濃度が３０重量％の重合体溶液を得た。
【００８５】
重合体溶液の未反応単量体を除去するために、ｎ−ヘキサン１０００重量部に対して、重合体溶液１００重量部を沈殿させた。沈殿後、メッシュを用いたフィルタリング工程により未反応物が溶解した溶媒（Ｐｏｏｒ  ｓｏｌｖｅｎｔ）を除去した。その後、フィルタリング工程後にも残っている未反応単量体が含有された溶媒を除去するために、３０℃以下で真空乾燥により未反応単量体が含有された溶媒を完全に除去して、アクリル系共重合体を製造した。
【００８６】
前記アクリル系共重合体の重量平均分子量は６，０００であった。この時、重量平均分子量は、ＧＰＣを用いて測定したポリスチレン換算平均分子量である。
【００８７】
実施例１：ネガティブ感光性樹脂組成物の製造
前記合成例１で製造したアクリル系共重合体溶液１００重量部、ラジカル光開始剤として２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン１０重量部、イオン光開始剤としてフェニル（４−メトキシフェニル）ヨードニウム六フッ化リン１０重量部、１０官能ウレタンアクリレートオリゴマー１０重量部、エチレン性不飽和結合を有する多官能性モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２０重量部、メラミン架橋剤としてヘキサメチロールメラミンヘキサメチルエーテル３重量部、およびシランカップリング剤として（３−グリシドオキシプロピル）メチルジエトキシシラン２重量部を混合した。前記混合物に固形分濃度が２０重量％となるようにプロピレングリコールモノエチルアセテートを加えて溶解させた後、０．２μｍのミリポアフィルタでろ過して、ネガティブ感光性樹脂組成物コーティング溶液を製造した。
【００８８】
実施例２：ネガティブ感光性樹脂組成物の製造
実施例１における溶媒としてエチレングリコールメチルエーテルアセテートを用いたことを除けば、実施例１と同様の方法で感光性樹脂組成物コーティング溶液を製造した。
【００８９】
実施例３：ネガティブ感光性樹脂組成物の製造
実施例１におけるイオン光開始剤としてＮ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−ベンジルトリフルオロメタンスルホン酸を用いたことを除けば、実施例１と同様の方法で感光性樹脂組成物コーティング溶液を製造した。
【００９０】
実施例４：ネガティブ感光性樹脂組成物の製造
実施例１におけるイオン光開始剤として４−メチルフェニル（４−（２−メチルプロピルフェニル））ヨードニウム六フッ化リンを用いたことを除けば、実施例１と同様の方法で感光性樹脂組成物コーティング溶液を製造した。
【００９１】
実施例５：ネガティブ感光性樹脂組成物の製造
実施例１におけるイオン光開始剤としてフェニル（４−メトキシフェニル）ヨードニウム六フッ化ヒ素を用いたことを除けば、実施例１と同様の方法で感光性樹脂組成物コーティング溶液を製造した。
【００９２】
比較例１：ネガティブ感光性樹脂組成物の製造
実施例１におけるイオン光開始剤を０．０５重量部用いたことを除けば、実施例１と同様の方法で感光性樹脂組成物コーティング溶液を製造した。
【００９３】
比較例２：ネガティブ感光性樹脂組成物の製造
実施例１におけるイオン光開始剤を２５重量部用いたことを除けば、実施例１と同様の方法で感光性樹脂組成物コーティング溶液を製造した。
【００９４】
比較例３：ネガティブ感光性樹脂組成物の製造
実施例１におけるイオン光開始剤を完全に除去したことを除けば、実施例１と同様の方法で感光性樹脂組成物コーティング溶液を製造した。
【００９５】
比較例４：ネガティブ感光性樹脂組成物の製造
比較例３におけるラジカル光開始剤として２−（Ｏ−アセチルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオンを用いたことを除けば、比較例３と同様の方法で感光性樹脂組成物コーティング溶液を製造した。
【００９６】
比較例５：ネガティブ感光性樹脂組成物の製造
実施例１における溶媒としてエチルラクテートを用いたことを除けば、実施例１と同様の方法で感光性樹脂組成物コーティング溶液を製造した。
【００９７】
比較例６：ネガティブ感光性樹脂組成物の製造
実施例１における溶媒としてプロピレングリコールモノメチルプロピオネートを用いたことを除けば、実施例１と同様の方法で感光性樹脂組成物コーティング溶液を製造した。
【００９８】
実施例１〜５および比較例１〜６で製造されたネガティブ感光性樹脂組成物コーティング溶液を用いて下記の実験例１〜５のような方法で物性を評価した後、その結果を下記表１に示した。
【００９９】
実験例１：感度、残膜率の測定
ＳｉＮｘが蒸着されたガラス（ｇｌａｓｓ）基板上に、スピンコーターを用いて、実施例１〜５および比較例１〜６で製造されたネガティブ感光性組成物溶液を塗布した後、８０℃で２分間ホットプレート上でプリベークして、２．０μｍの膜を形成した。前記得られた膜に、所定のパターンマスク（ｐａｔｔｅｒｎ  ｍａｓｋ）を用いて、３６５ｎｍにおける強度が１０ｍＷ／ｃｍ２の紫外線をブロードバンド（ｂｒｏａｄｂａｎｄ）露光器を用いて、０．２秒間隔で１〜５秒間照射した。この後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド２．３８重量％の水溶液で２３℃、６０秒間現像した後、超純水で６０秒間洗浄した。
【０１００】
最終硬化のために、オーブン中にて８５℃、６０分間加熱してパターン膜を得た。ＳＥＭを用いて、２０μｍライン（Ｌｉｎｅ）＆スペース（Ｓｐａｃｅ）ＣＤ基準で残膜率が飽和（ｓａｔｕｒａｔｉｏｎ）する露光量を基準として感度を測定した。
【０１０１】
実験例２：残膜率
実験例１の感度測定時、残膜率が飽和（Ｓａｔｕｒａｔｉｏｎ）する感度の残膜率を確認した。この時の残膜率が８０％以上であれば○、８０％〜７５％であれば△、７５％以下であればＸと表した。
【０１０２】
実験例３：残渣
実験例１の感度測定時に形成されたパターン（Ｐａｔｔｅｒｎ）膜のコンタクトホール（Ｃｏｎｔａｃｔ  Ｈｏｌｅ）を基準として残渣（Ｓｃｕｍ）を検査した。この時、残渣がない場合を○、残渣が観察される場合をＸと表した。
【０１０３】
実験例４：接着力
実験例１の感度測定時に形成されたパターン膜の剥がれ（ｐｅｅｌ−ｏｆｆ）が発生しない場合を○、剥がれ（ｐｅｅｌ−ｏｆｆ）が発生した場合をＸと表した。
【０１０４】
実験例５：耐薬品性
実験例１の感度測定時に形成されたパターン（Ｐａｔｔｅｒｎ）膜をストリッパに入れて放置した後、厚さの変化を測定した。この時の厚さの変化が０．５μｍ以下の場合を○、０．５μｍ〜１．０μｍの場合を△、１．０μｍ以上の場合をＸと表した。
【表１】
2019086779.tif 000002
【０１０５】
表１から確認できるように、本発明の一実施例によりイオン光開始剤および低沸点溶媒を含む実施例１〜５は、比較例３〜６対比、感度、残膜率、残渣、接着力、耐薬品性に優れていることを確認できた。
【０１０６】
また、イオン光開始剤の含有量範囲が０．１〜１０重量部の間に含まれない比較例１および２を、実施例１と比較してみれば、イオン光開始剤の含有量範囲が０．１〜１０重量部内に含まれていてこそ、残膜率、残渣および接着力において均一な性能を示すことを確認できた。つまり、イオン光開始剤の含有量が０．０５重量部の比較例１は、残膜率および接着力が不良であり、イオン光開始剤の含有量が２５重量部の比較例２は、残渣が不良であった。
【０１０７】
つまり、このようにラジカル光開始剤とイオン光開始剤を同時に含む本発明の一実施例による感光性樹脂組成物は、感度、残膜率、残渣などに優れ、特に、９０℃以下の低温工程で接着力および耐薬品性に優れ、フレキシブルディスプレイへの使用に適することを確認できた。
【０１０８】
以上、本発明の実施例について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されるものではなく、特許請求の範囲で定義している本発明の基本概念を利用した当業者の様々な変形および改良形態も本発明の権利範囲に属する。
【符号の説明】
【０１０９】
１１０：基板
４００：感光性樹脂組成物
４１０：感光性樹脂組成物層
７００：マスク
【図１】
2019086779.tif 000003
【図２】
2019086779.tif 000004
【図３】
2019086779.tif 000005
【図４】
2019086779.tif 000006