(57)【要約】【課題】測定室内に供給されるガスの消費量を低減できる蛍光Ｘ線分析装置を提供する。【解決手段】  蛍光Ｘ線分析装置１は、筐体２と、ガス移動機構４と、ガス供給部５とを備えている。ガス移動機構４は、その内部空間が退避空間１０として区画されるガス収容部４１と、ガス収容部４１内に配置される隔壁４２とを備えている。測定室８内がガス供給部５からのガスで満たされ、かつ、隔壁４２が供給位置に配置される状態から、隔壁４２が退避位置に移動すると、測定室８内に収容されていたガスが、その比重により、退避空間１０内に退避する。また、測定室８内は空気で置換される。分析動作を再度行う場合には、隔壁４２が供給位置に移動する。そして、隔壁４２により退避空間１０内のガスが、接続管１１を介して下方側に押し出されて、測定室８内に再度移動する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料が設置されることにより閉塞される開口部を有する測定室と、
前記測定室内を介して試料に励起Ｘ線を照射するＸ線源と、
励起Ｘ線が照射された試料から生じる蛍光Ｘ線を前記測定室内を介して検出する検出器と、
前記測定室内に空気よりも軽いガスを供給するためのガス供給部と、
前記測定室内のガスを退避させるための退避空間を有し、前記退避空間内に退避させたガスを前記測定室内に再度移動させるガス移動機構とを備えることを特徴とする蛍光Ｘ線分析装置。
【請求項２】
前記測定室の上部には、前記退避空間に連通する第１通気口が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の蛍光Ｘ線分析装置。
【請求項３】
前記測定室の下部には、前記測定室内のガスを前記退避空間に退避させるときに前記測定室内に空気を導入させるとともに、前記退避空間内に退避させたガスを前記測定室内に再度移動させるときに前記測定室内の空気を排出させる第２通気口が形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の蛍光Ｘ線分析装置。
【請求項４】
前記ガス供給部は前記退避空間にガスを供給し、前記ガス移動機構により前記退避空間内のガスが前記測定室内に移動されることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の蛍光Ｘ線分析装置。
【請求項５】
前記開口部は前記測定室の上部に形成されており、当該開口部を塞ぐように試料が設置されることを特徴とする請求項２に記載の蛍光Ｘ線分析装置。
【請求項６】
試料の周囲を覆うように前記測定室の上方に設けられる蓋部材をさらに備え、
前記退避空間は、前記蓋部材の内部空間を介して前記第１通気口に連通していることを特徴とする請求項５に記載の蛍光Ｘ線分析装置。
【請求項７】
前記ガス供給部からガスを自動的に補充させるガス供給制御部をさらに備えることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の蛍光Ｘ線分析装置。
【請求項８】
前記ガス供給制御部は、前記ガス供給部から一定量のガスを自動的に補充させることを特徴とする請求項７に記載の蛍光Ｘ線分析装置。
【請求項９】
前記測定室内又は前記退避空間内の酸素濃度を検知する酸素センサをさらに備え、
前記ガス供給制御部は、前記酸素センサによる検知結果に応じた量のガスを前記ガス供給部から自動的に補充させることを特徴とする請求項７に記載の蛍光Ｘ線分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、試料に対して励起Ｘ線を照射し、試料から生じる蛍光Ｘ線を検出することにより試料の分析を行う蛍光Ｘ線分析装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
蛍光Ｘ線分析装置は、試料に対して励起Ｘ線を照射するＸ線源と、励起Ｘ線が照射された試料から生じる蛍光Ｘ線を検出する検出器とを備えている。蛍光Ｘ線分析装置で用いる励起Ｘ線及び蛍光Ｘ線は、空気により減衰することがある。そのため、励起Ｘ線及び蛍光Ｘ線が通過する領域を真空状態に保った状態で分析動作を行う蛍光Ｘ線分析装置が利用されている。
【０００３】
ここで、液体試料や微粉末状態の試料などは、真空雰囲気内に配置することに適していない。そこで、このような試料を分析する場合には、蛍光Ｘ線分析装置においては、Ｘ線（励起Ｘ線及び蛍光Ｘ線）が通過する領域がＸ線の吸収の少ないガスで満たされ、この状態で分析動作が開始される（例えば、下記特許文献１参照）。
【０００４】
特許文献１に記載の蛍光Ｘ線分析装置では、分析動作を開始する際には、まず、Ｘ線が通過する領域である測定室がＨｅガスで満たされる。そして、測定室がＨｅガスで満たされた状態で、試料に対して励起Ｘ線が照射される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２−２２９９７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記した従来の蛍光Ｘ線分析装置では、試料は、測定室に隣接かつ連通する試料室に配置される。分析動作中には、試料室は、開閉可能な蓋体により閉じられる。また、測定室内に充填されるＨｅガスが試料室内に流れ込むため、試料室は、測定室と同様に、Ｈｅガスで満たされる。そして、分析動作が一旦終了すると、蓋体が開状態となって試料室が開けられて、試料が取り出される。
【０００７】
このとき、蓋体が開状態になることで、試料室内のＨｅガスは、装置外部に放出される。また、試料室内を介して、測定室内のＨｅガスも装置外部に放出される。そのため、その後に、分析動作を開始する際には、測定室内及び試料室内を再度Ｈｅガスで満たす必要がある。その結果、分析動作を繰り返すたびに、測定室内及び試料室内にＨｅガスを供給することとなり、Ｈｅガスの消費量が増大してしまうという不具合が生じていた。
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、測定室内に供給されるガスの消費量を低減できる蛍光Ｘ線分析装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
（１）本発明に係る蛍光Ｘ線分析装置は、筐体と、Ｘ線源と、検出器と、ガス供給部と、ガス移動機構とを備える。前記筐体は、内部に測定室を有し、前記測定室には試料が設置されることにより閉塞される開口部が形成されている。前記Ｘ線源は、前記測定室内を介して試料に励起Ｘ線を照射する。前記検出器は、励起Ｘ線が照射された試料から生じる蛍光Ｘ線を前記測定室内を介して検出する。前記ガス供給部は、前記測定室内に空気よりも軽いガスを供給する。前記ガス移動機構は、前記測定室内のガスを退避させるための退避空間を有し、前記退避空間内に退避させたガスを前記測定室内に再度移動させる。
【０００９】
このような構成によれば、ガス供給部は、測定室内に空気よりも軽いガスを供給し、ガス移動機構は、ガス供給部により測定室内に供給されたガスを退避空間に退避させ、退避空間内に退避させたガスを測定室内に再度移動させる。
【００１０】
そのため、測定室内に供給したガスが、装置外部に放出されることを抑制できる。例えば、最初に分析動作を開始するときは、ガス供給部により測定室内にガスを供給し、分析動作が完了した後は、ガス移動機構により測定室内のガスを退避空間に退避させておき、分析動作を再度開始するときは、ガス移動機構により退避空間内に退避させたガスを測定室内に再度移動させれば、分析動作を繰り返し行う場合であっても、一度供給されたガスを有効に用いることができる。そして、ガスの放出を抑制できる。
その結果、測定室内に供給されるガスの消費量を低減できる。
【００１１】
（２）また、前記測定室の上部には、前記退避空間に連通する第１通気口が形成されていてもよい。
【００１２】
このような構成によれば、測定室内には、ガス供給部により空気よりも軽いガスが供給される。そして、測定室内のガスは、その比重により、第１通気口を介して退避空間内に流入する。
そのため、測定室内のガスを第１通気口を介して退避空間内に容易にガスを移動させることができる。
【００１３】
（３）また、前記測定室の下部には、前記測定室内のガスを前記退避空間に退避させるときに前記測定室内に空気を導入させるとともに、前記退避空間内に退避させたガスを前記測定室内に再度移動させるときに前記測定室内の空気を排出させる第２通気口が形成されていてもよい。
【００１４】
このような構成によれば、退避空間内にガスを退避させるときには、第２通気口を介して測定室内に空気が導入されて、測定室内が空気で満たされる。そして、退避空間内のガスを測定室内に再度移動させるときには、ガスに押し出されるようにして、第２通気口を介して、測定室内の空気が外部に排出される。
そのため、測定室内の空気を容易に外部に排出できる。
【００１５】
（４）また、前記蛍光Ｘ線分析装置では、前記ガス供給部は前記退避空間にガスを供給し、前記ガス移動機構により前記退避空間内のガスが前記測定室内に移動されてもよい。
例えば、ガスを測定室内に直接供給すると、測定室内でガスが拡散するため、測定室内がガスで満たされるまでに長時間を要することがある。
【００１６】
上記した構成によれば、ガス供給部によりガスが供給されると、まず、退避空間内がガスで満たされる。そして、ガス移動機構により退避空間内のガスが測定室内に移動される。
そのため、必要となる量のガスを退避空間内に溜めておき、そのガスを測定室内に移動させることで、測定室内をガスで満たすことができる。
その結果、ガスが拡散しにくい状態で、測定室内にガスを導入できる。
よって、測定室内をガスで満たす際に要する時間を短縮できる。
【００１７】
（５）また、前記蛍光Ｘ線分析装置では、前記開口部は前記測定室の上部に形成されており、当該開口部を塞ぐように試料が設置されてもよい。
【００１８】
このような構成によれば、試料が設置されているときには、試料により開口部が塞がれ、試料を取り出すときには、開口部が開放される。そのため、測定室内に、空気よりも軽いガスが充填されている状態で、試料を取り出すと、測定室内のガスが外部に放出されてしまう。
【００１９】
そこで、ガス移動機構により測定室内に供給されたガスを退避空間に退避させ、その後に、試料を取り出せば、測定室内のガスを外部に放出させることなく装置内に保持しておくことができる。
【００２０】
このように、上記した構成の場合には、ガス移動機構により測定室内のガスを退避空間に退避させ、退避空間内に退避させたガスを測定室内に再度移動させることが、一層効果的である。
【００２１】
（６）また、前記蛍光Ｘ線分析装置は、蓋部材をさらに備えてもよい。前記蓋部材は、試料の周囲を覆うように前記測定室の上方に設けられる。前記退避空間は、前記蓋部材の内部空間を介して前記第１通気口に連通していてもよい。
【００２２】
このような構成によれば、蓋部材の内部空間を利用して、退避空間と測定室との間でガスを移動させることができる。
そのため、蛍光Ｘ線分析装置が蓋部材を備える構成である場合にも、退避空間と測定室との間でガスを円滑に移動させることができる。
【００２３】
（７）また、前記蛍光Ｘ線分析装置は、ガス供給制御部をさらに備えてもよい。前記ガス供給制御部は、前記ガス供給部からガスを自動的に補充させる。
【００２４】
このような構成によれば、分析動作を繰り返すことで装置内で保持しているガスの量が少なくなった場合でも、ガスを補充することにより、必要な量のガスを確保しておくことができる。
【００２５】
（８）また、前記ガス供給制御部は、前記ガス供給部から一定量のガスを自動的に補充させてもよい。
【００２６】
このような構成によれば、簡易な制御で、ガス供給部からガスを補充させることができる。
【００２７】
（９）また、前記蛍光Ｘ線分析装置は、酸素センサをさらに備えてもよい。前記酸素センサは、前記測定室内又は前記退避空間内の酸素濃度を検知する。前記ガス供給制御部は、前記酸素センサによる検知結果に応じた量のガスを前記ガス供給部から自動的に補充させてもよい。
【００２８】
このような構成によれば、装置内において少なくなったガスの量だけ、ガス供給部からガスを補充させることができる。
そのため、適切な量のガスを補充できる。
【発明の効果】
【００２９】
本発明によれば、ガス供給部は、測定室内に空気よりも軽いガスを供給し、ガス移動機構は、ガス供給部により測定室内に供給されたガスを退避空間に退避させ、退避空間内に退避させたガスを測定室内に再度移動させる。そのため、測定室内に供給したガスが、装置外部に放出されることを抑制できる。その結果、測定室内に供給されるガスの消費量を低減できる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の第１実施形態に係る蛍光Ｘ線分析装置の構成例を示す概略図である。
【図２】制御部及びその周辺の部材の電気的構成を示したブロック図である。
【図３Ａ】図１に示す蛍光Ｘ線分析装置の隔壁の移動動作を示した概略図であって、隔壁が上方側に移動した状態を示している。
【図３Ｂ】図１に示す蛍光Ｘ線分析装置の隔壁の移動動作を示した概略図であって、隔壁が下方側に移動した状態を示している。
【図４】制御部の制御動作の一例を示したフローチャートである。
【図５】本発明の第３実施形態に係る蛍光Ｘ線分析装置の構成例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
１．蛍光Ｘ線分析装置の全体構成
図１は、本発明の第１実施形態に係る蛍光Ｘ線分析装置１の構成例を示す概略図である。
蛍光Ｘ線分析装置１は、筐体２と、蓋部材３と、ガス移動機構４と、ガス供給部５とを備えている。
【００３２】
筐体２は、中空状であって、下方に向かうにつれて先細るテーパー状に形成されている。筐体２は、水平板２１と、第１傾斜板２２と、第２傾斜板２３とを備えている。
【００３３】
水平板２１は、平面視矩形状であって、水平方向に沿っている。水平板２１には、開口部２ａと、第１通気口２ｂとが形成されている。開口部２ａは、水平板２１の中央部を上下方向に貫通している。第１通気口２ｂは、水平板２１の中央部からやや離れた部分を上下方向に貫通している。第１通気口２ｂの直径は、開口部２ａの直径よりも小さい。
【００３４】
第１傾斜板２２は、水平板２１の一端部の下面から下方側に延びており、かつ、水平板２１に対して傾斜している。水平方向において、第１傾斜板２２の先端部は、水平板２１の中央部の下方に位置している。第１傾斜板２２には、第１開口２ｃが形成されている。第１傾斜板２２には、第１開口２ｃを覆うようにして、Ｘ線源６が取り付けられている。
【００３５】
第２傾斜板２３は、水平板２１の他端部の下面から下方側に延びており、かつ、水平板２１に対して傾斜している。水平方向において、第２傾斜板２３の先端部は、水平板２１の中央部の下方に位置している。第２傾斜板２３の先端部は、第１傾斜板２２の先端部と連続している。第１傾斜板２２と第２傾斜板２３との合流部分（第１傾斜板２２の先端部、及び、第２傾斜板２３の先端部）には、第２通気口２ｄが形成されている。第２通気口２ｄは、水平板２１に形成された開口部２ａの下方に位置している。また、第２傾斜板２３には、第２開口２ｅが形成されている。第２傾斜板２３には、第２開口２ｅを覆うようにして、検出器７が取り付けられている。
【００３６】
水平板２１、第１傾斜板２２及び第２傾斜板２３により囲まれる空間が、測定室８である。開口部２ａ、第１通気口２ｂ、第１開口２ｃ、第２通気口２ｄ及び第２開口２ｅは、測定室８に連通している。筐体２において、測定室８の上部には、開口部２ａ及び第１通気口２ｂが位置しており、測定室８の下部には、第２通気口２ｄが位置している。
【００３７】
蓋部材３は、筐体２の上方に配置されている。蓋部材３は、下端が開放された中空状のボックス状に形成されている。蓋部材３は、開放部分が筐体２（水平板２１）の上面に当接する閉状態（図１の状態）と、開放部分の一部又は全部が筐体２（水平板２１）の上面から離間する開状態との間で移動可能である。蓋部材３と筐体２（水平板２１）とで区画される空間が試料室９である。試料室９は、蓋部材３が閉状態となることで閉じられ、蓋部材３が開状態となることで開けられる。
ガス移動機構４は、蓋部材３の上方に配置されている。ガス移動機構４は、ガス収容部４１と、隔壁４２とを備えている。
【００３８】
ガス収容部４１は、上端及び下端が閉塞された筒状に形成されており、上下方向に延びている。換言すれば、ガス収容部４１は、中空状のボックス形状に形成されており、上下方向に延びている。ガス収容部４１の内部空間が、退避空間１０である。ガス収容部４１の上板４１１には、第３通気口４１ａが形成されている。ガス収容部４１の下板４１２には、接続管１１が接続されている。
【００３９】
隔壁４２は、ガス収容部４１内に配置されている。隔壁４２は、平板状に形成されており、水平方向に沿っている。隔壁４２の外径は、ガス収容部４１の内径とほぼ同一である。隔壁４２の外周面は、ガス収容部４１の内周面に当接している。隔壁４２は、上下方向に移動可能に構成されている。詳しくは後述するが、隔壁４２は、駆動力が付与されることにより、ガス収容部４１の内周面に当接した状態で、上下方向に沿って移動する。
【００４０】
接続管１１は、上下方向に延びる管状に形成されている。接続管１１の上端部は、ガス収容部４１の下板４１２に接続されており、接続管１１の下端部は、蓋部材３に接続されている。接続管１１の内部空間は、試料室９及び退避空間１０のそれぞれに連通している。すなわち、退避空間１０は、蓋部材３の内部空間である試料室９を介して第１通気口２ｂに連通している。
【００４１】
ガス供給部５は、例えば、ガスボンベであって、内部にガスが貯留されている。ガス供給部５に貯留されるガスは、空気よりも軽いガスである。具体的には、ガス供給部５に貯留されるガスは、例えば、Ｈｅガスである。ガス収容部４１の下板４１２には、配管取付部４１３が設けられている。ガス供給部５には、配管１２が接続されている。配管１２は、その一端部がガス供給部５に接続されており、その他端部が配管取付部４１３に接続されている。
【００４２】
蛍光Ｘ線分析装置１を用いる場合には、まず、蓋部材３が開状態にされて、試料室９が開けられる。この状態で、ユーザは、分析対象である試料Ｓを水平板２１の中央部に載置する。このとき、開口部２ａは、試料Ｓにより閉塞される。そして、蓋部材３が閉状態にされて、試料室９が閉じられ、試料Ｓの周囲が蓋部材３によって覆われる。
【００４３】
この状態で、Ｘ線源６から試料Ｓに向けて励起Ｘ線が出射される。励起Ｘ線が、測定室８を介して開口部２ａを通過して試料Ｓに照射されると、励起Ｘ線により励起された試料Ｓから蛍光Ｘ線が生じる。そして、試料Ｓからの蛍光Ｘ線が、開口部２ａを通過し、測定室８を介して検出器７で検出される。
【００４４】
蛍光Ｘ線分析装置１では、検出器７からの検出信号に基づいて、スペクトルの強度分布データが作成される。そして、このスペクトルのデータに基づいて、試料Ｓの分析が行われる。
【００４５】
このような分析動作において、測定室８及び試料室９には、ガス供給部５から供給されるガスが導入される。そして、測定室８及び試料室９がガスで満たされた状態で、試料Ｓに対して、Ｘ線源６から試料Ｓに向けて励起Ｘ線が出射される。このように、分析動作の際には、測定室８及び試料室９が、Ｘ線の吸収の少ないガス（例えば、Ｈｅガス）で満たされる。
【００４６】
２．制御部及びその周辺の電気的構成
図２は、制御部５３及びその周辺の部材の電気的構成を示したブロック図である。
蛍光Ｘ線分析装置１は、電気的構成として、駆動部４３、操作部５１、バルブ５２、及び制御部５３などを備えている。
【００４７】
駆動部４３は、隔壁４２（図１参照）に駆動力を付与するように構成されている。隔壁４２は、駆動部４３から駆動力が付与されることにより、ガス収容部４１内を移動する。駆動部４３は、ガス移動機構４に含まれる。
操作部５１は、例えば、キーボード及びマウスを含む構成である。ユーザは、操作部５１を操作して入力作業を行うことができる。
【００４８】
バルブ５２は、配管１２（図１参照）に介在されている。バルブ５２の開閉が調整されることで、ガス供給部５から配管１２を通過して退避空間１０に供給されるガスの量が調整される。
【００４９】
制御部５３は、例えば、ＣＰＵ（Central Processing Unit）を含む構成である。制御部５３には、駆動部４３、操作部５１及びバルブ５２などが電気的に接続されている。制御部５３は、ＣＰＵがプログラムを実行することにより、入力受付部５３１、移動制御部５３２及びガス供給制御部５３３などとして機能する。
入力受付部５３１は、ユーザによる操作部５１の操作に基づいて、各種情報の入力を受け付ける。
移動制御部５３２は、入力受付部５３１が受け付けた入力に基づいて、駆動部４３の駆動動作を制御する。
ガス供給制御部５３３は、移動制御部５３２による駆動部４３の制御に基づいて、バルブ５２の開閉動作を制御する。
【００５０】
３．制御部の制御動作
図３Ａは、蛍光Ｘ線分析装置１の隔壁４２の移動動作を示した概略図であって、隔壁４２が上方側に移動した状態を示している。図３Ｂは、蛍光Ｘ線分析装置１の隔壁４２の移動動作を示した概略図であって、隔壁４２が下方側に移動した状態を示している。図３Ａでは、分析動作開始前における蛍光Ｘ線分析装置１の状態を示している。
【００５１】
蛍光Ｘ線分析装置１では、電源スイッチがオンされた際など、分析動作が開始される前に、まず、隔壁４２がガス収容部４１内において上方側に配置される。具体的には、移動制御部５３２により、駆動部４３の駆動動作が制御されて、隔壁４２に駆動力が付与される。そして、隔壁４２は、ガス収容部４１内において上方側に移動される。このとき、図３Ａに示すように、隔壁４２は、ガス収容部４１内において、上板４１１の近傍に配置される。このときの隔壁４２の位置（図３Ａで示す隔壁４２の位置）が、退避位置である。
【００５２】
そして、ガス供給制御部５３３は、バルブ５２を開くように動作させる。これにより、ガス供給部５から配管１２を介して退避空間１０にガスが供給される。上記したように、ガス供給部５から供給されるガスは、空気よりも軽い。そのため、ガスは、退避空間１０において、上方側から溜まっていく。このとき、ガス供給制御部５３３は、例えば、一定時間だけバルブ５２を開くことにより、退避空間１０内に一定量のガスを供給する。
【００５３】
このようにして、退避空間１０内がガス供給部５から供給されるガスで満たされる。退避空間１０内において、ガスは、隔壁４２の下方側に位置している。また、ガスは、その比重により退避空間１０内にとどまり（退避空間１０内から下方に移動せず）、接続管１１内、試料室９及び測定室８には、空気が満たされる。そして、この状態から、分析動作が開始される。
【００５４】
図４は、制御部５３の制御動作の一例を示したフローチャートである。
蛍光Ｘ線分析装置１で試料Ｓの分析動作を開始する際には、ユーザは、操作部５１を操作して、分析動作の開始を入力する。ユーザにより分析動作の開始が入力されると（ステップＳ１０１でＹＥＳ）、入力受付部５３１は、その入力を受け付ける。移動制御部５３２は、入力受付部５３１が入力を受け付けたことに応じて、駆動部４３の駆動動作を制御して、隔壁４２に駆動力を付与する。そして、隔壁４２は、図３Ｂに示すように、ガス収容部４１内における下方側の位置である供給位置に移動される（ステップＳ１０２）。隔壁４２は、供給位置に位置する状態では、下板４１２の近傍に配置される。
【００５５】
これにより、隔壁４２により退避空間１０内のガスが接続管１１を介して下方側に押し出される。具体的には、退避空間１０内に収容されていたガスは、隔壁４２に押し出されるようにして、下方側に移動され、接続管１１を介して試料室９内に流入する。試料室９内に流入したガスは、その比重により、試料室９内において上方側から溜まっていく。このとき、試料室９内にガスが流入すると、そのガスに押し出されるようにして、試料室９内の空気が第１通気口２ｂを介して測定室８内に流入する。このようにして、試料室９内がガスで満たされる。
【００５６】
試料室９内にさらにガスが流入すると、第１通気口２ｂを介して、ガスが測定室８内に流入する。測定室８内に流入したガスは、その比重により、測定室８内において上方側から溜まっていく。このとき、測定室８内にガスが流入すると、そのガスに押し出されるようにして、測定室８内の空気が第２通気口２ｄを介して測定室８外に排出される。
【００５７】
このように、隔壁４２が図３Ｂに示す供給位置に移動することにより、退避空間１０内に収容されていたガスが、測定室８、試料室９及び接続管１１内に移動する。そして、この状態（測定室８内がガスで満たされる状態）で、上記したように試料Ｓの分析動作が開始される。
【００５８】
そして、試料Ｓの分析が完了すると（ステップＳ１０３）、移動制御部５３２は、駆動部４３の駆動を制御して、隔壁４２に駆動力を付与する。そして、隔壁４２は、図３Ａに示すように、退避位置に移動される（ステップＳ１０４）。このように、ステップＳ１０４では、ステップＳ１０２のときと逆方向の駆動力が隔壁４２に付与される。そして、ステップＳ１０４では、隔壁４２は、ステップＳ１０２のときと逆方向である上方側に向かって移動する。なお、ユーザにより操作部５１が操作されて分析動作の完了が入力されたことに基づいて、分析が完了してもよい。
【００５９】
これにより、測定室８、試料室９及び接続管１１内に収容されていたガスが、その比重により、退避空間１０内に移動する（退避する）。また、第２通気口２ｄを介して測定室８内に空気が導入される。そして、測定室８、試料室９及び接続管１１内が空気で満たされる。
【００６０】
また、ガス供給制御部５３３は、バルブ５２を開くように動作させて、ガス供給部５から退避空間１０内に一定量のガスを補充させる。このとき、ガス供給制御部５３３は、例えば、一定時間だけバルブ５２を開くことにより、ガス供給部５から退避空間１０内に一定量のガスを補充させる。このように、ガスが退避空間１０に退避した際には、ガス供給制御部５３３の制御により、自動的に退避空間１０内にガスが補充される。
これにより、ガスが第２通気口２ｄからわずかに排出されている場合であっても、退避空間１０内に常に一定量のガスを収容しておくことができる。
【００６１】
この状態から、異なる試料について再度分析を行う場合などには、蓋部材３が開状態にされて、試料Ｓが取り出される。このとき、ガスは、退避空間１０内に移動（退避）しており、測定室８、試料室９及び接続管１１内は空気で満たされているため、ガスは、外部に放出されずに、蛍光Ｘ線分析装置１内で保持される。
【００６２】
そして、ユーザは、次の試料を水平板２１に設置し、蓋部材３を閉状態にして試料室９を閉じる。ユーザにより操作部５１が操作されて分析動作の開始が入力されると、制御部５３により、上記したステップＳ１０１からＳ１０５までの制御が再度行われる。
このとき、ガスは、退避空間１０内から測定室８内へ再移動し、その後、退避空間１０内に再度退避する。
【００６３】
４．作用効果
（１）本実施形態によれば、図１に示すように、蛍光Ｘ線分析装置１は、筐体２と、ガス移動機構４と、ガス供給部５と、Ｘ線源６と、検出器７とを備えている。ガス移動機構４は、その内部空間が退避空間１０として区画されるガス収容部４１と、ガス収容部４１内に配置される隔壁４２とを備えている。
【００６４】
ガス供給部５からのガスは、筐体２の内部空間である測定室８内に供給される。測定室８内がガスで満たされ、かつ、隔壁４２が供給位置に配置される状態から、移動制御部５３２の制御により隔壁４２が退避位置（ガス収容部４１内の上方側）に移動すると、測定室８内に収容されていたガスが、その比重により、退避空間１０内に移動する（退避する）。また、測定室８内は空気で満たされる（置換される）。そして、この状態で、試料Ｓの取り出しなどの作業が行われる。
【００６５】
分析動作を再度行う場合には、移動制御部５３２の制御により隔壁４２が供給位置（ガス収容部４１内の下方側）に移動する。そして、隔壁４２により退避空間１０内のガスが接続管１１を介して下方側に押し出されて、測定室８内に流入する（再度移動する）。このようにして、測定室８内がガスで満たされる。
【００６６】
そのため、分析動作を繰り返し行う場合であっても、一度測定室８内に供給されたガスを有効に用いることができる。そして、ガスが、装置外部に放出されることを抑制できる。
その結果、測定室８内に供給されるガスの消費量を低減できる。
【００６７】
（２）また、本実施形態によれば、図１に示すように、蛍光Ｘ線分析装置１において、測定室８の上部には、退避空間１０に連通する第１通気口２ｂが形成されている。また、測定室８内には、ガス供給部５から空気よりも軽いガスが供給される。
【００６８】
そのため、隔壁４２が退避位置に移動すると、測定室８内のガスは、その比重により、第１通気口２ｂを介して退避空間１０内に流入する。
その結果、測定室８内のガスを第１通気口２ｂを介して退避空間１０内に容易にガスを移動させることができる。
【００６９】
（３）また、本実施形態によれば、図１に示すように、蛍光Ｘ線分析装置１において、測定室８の下部には、第２通気口２ｄが形成されている。測定室８内のガスを退避空間１０内に退避させるときには、第２通気口２ｄを介して測定室８内に空気が導入されて、測定室８内が空気で満たされる。そして、退避空間１０内のガスを測定室８内に再度移動させるときには、ガスに押し出されるようにして、第２通気口２ｄを介して、測定室８内の空気が外部に排出される。
【００７０】
そのため、測定室８内の空気を容易に外部に排出できる。
【００７１】
（４）また、本実施形態によれば、図３Ａに示すように、蛍光Ｘ線分析装置１では、分析動作が開始される前に、まず、隔壁４２が退避位置（ガス収容部４１内の上方側）に配置される。そして、この状態で、ガス供給制御部５３３の制御によりバルブ５２が開かれて退避空間１０内にガスが供給される。次いで、移動制御部５３２の制御により隔壁４２が供給位置（ガス収容部４１内の下方側）に移動する。そして、隔壁４２により退避空間１０内のガスが接続管１１を介して下方側に押し出されて、測定室８内に流入し、測定室８内がガスで満たされる。
【００７２】
そのため、必要となる量のガスを退避空間１０内に溜めておき、そのガスを測定室８内に移動させることで、測定室８内をガスで満たすことができる。
その結果、ガスが拡散しにくい状態で、測定室８内にガスを導入できる。
よって、測定室８内をガスで満たす際に要する時間を短縮できる。
【００７３】
（５）また、本実施形態によれば、図１に示すように、蛍光Ｘ線分析装置１では、測定室８の上部に開口部２ａが形成されている。また、試料Ｓは、開口部２ａを塞ぐように水平板２１に設置される。
【００７４】
そのため、測定室８内に空気よりも軽いガスが充填されている状態で、試料Ｓを取り出すために蓋部材３を開状態にすると、測定室８内のガスが外部に放出されてしまう。
【００７５】
そこで、隔壁４２を退避位置に移動させて測定室８内に供給されたガスを退避空間１０に退避させ、その後に、試料Ｓを取り出すことで、測定室８内のガスを外部に放出させることなく装置内に保持しておくことができる。
【００７６】
このように、本実施形態の構成の場合には、ガス移動機構４（隔壁４２）により測定室８内のガスを退避空間１０に退避させ、退避空間１０内に退避させたガスを測定室８内に再度移動させることが、一層効果的である。
【００７７】
（６）また、本実施形態によれば、図１に示すように、蛍光Ｘ線分析装置１は、蓋部材３を備えている。退避空間１０は、蓋部材３の内部空間である試料室９を介して第１通気口２ｂに連通している。
【００７８】
そのため、蓋部材３の内部空間である試料室９を利用して、退避空間１０と測定室８との間でガスを移動させることができる。
このように、蛍光Ｘ線分析装置１が蓋部材３を備える構成である場合にも、退避空間１０と測定室８との間でガスを円滑に移動させることができる。
【００７９】
（７）また、本実施形態によれば、図２に示すように、蛍光Ｘ線分析装置１は、制御部５３を備えている。制御部５３には、ガス供給制御部５３３が含まれる。ガスが退避空間１０に退避した際には、ガス供給制御部５３３の制御により、自動的に退避空間１０内にガスが補充される。
【００８０】
そのため、蛍光Ｘ線分析装置１において、分析動作を繰り返すことで装置内で保持しているガスの量が少なくなった場合でも、ガスを補充することにより、必要な量のガスを確保しておくことができる。
【００８１】
（８）また、本実施形態によれば、ガスが退避空間１０に退避した際には、ガス供給制御部５３３は、ガス供給部５から退避空間１０内に一定量のガスを補充させる。
【００８２】
そのため、簡易な制御で、ガス供給部５からガスを補充させることができる。
【００８３】
５．第２実施形態
以下では、本発明の他の実施形態について説明する。なお、第１実施形態と同様の構成については、上記と同様の符号を用いることにより説明を省略する。
上記した第１実施形態では、ガス供給制御部５３３の制御により、ガス供給部５から一定量のガスが供給される。
対して、第２実施形態では、ガス供給制御部５３３は、センサの検知結果に基づいて、ガス供給部５からガスを供給させる。
【００８４】
具体的には、第２実施形態では、図１において破線で示すように、退避空間１０内には、酸素センサ１３が設けられている。酸素センサ１３は、退避空間１０内の下方側に位置している。酸素センサ１３は、退避空間１０内の酸素濃度を検知する。具体的には、酸素センサ１３は、退避空間１０内の下方側における酸素濃度を検知する。
【００８５】
そして、分析動作が開始される前には、まず、隔壁４２が退避位置（ガス収容部４１内の上方側）に配置される。そして、この状態で、ガス供給制御部５３３の制御によりバルブ５２が開かれて退避空間１０内にガスが供給される。このとき、ガス供給制御部５３３は、酸素センサ１３の検知結果に基づいて、バルブ５２の開閉動作を制御する。
【００８６】
具体的には、ガス供給制御部５３３は、酸素センサ１３が検知する酸素濃度が一定の値（閾値）未満となるまでバルブ５２を開いておき、酸素センサ１３が検知する酸素濃度が一定の値（閾値）未満となると、バルブ５２を閉じる。これにより、退避空間１０内にガスが満たされる。
【００８７】
また、測定室８内のガスが退避空間１０に移動（退避）した際には、ガス供給制御部５３３は、酸素センサ１３の検知結果に応じた量のガスをガス供給部５から退避空間１０内に補充させる。
【００８８】
具体的には、ガス供給制御部５３３は、酸素センサ１３が検知する酸素濃度が一定の値（閾値）未満となるまでバルブ５２を開いておき、酸素センサ１３が検知する酸素濃度が一定の値（閾値）未満となると、バルブ５２を閉じる。これにより、退避空間１０内に適切な量のガスが補充される。そして、退避空間１０内のガスが適切な量に保たれる。
【００８９】
なお、酸素センサ１３は、測定室８内における下方側に設けられてもよい。この場合、隔壁４２が供給位置（ガス収容部４１内の下方側）に位置し、測定室８にガスが収容されれている状態で、ガスが補充される。具体的には、ガス供給制御部５３３の制御により、酸素センサ１３の検知結果に応じた量のガスが退避空間１０、接続管１１及び試料室９を介して測定室８内に補充される。そして、測定室８内のガスが適切な量に保たれる。
【００９０】
このように、第２実施形態によれば、蛍光Ｘ線分析装置１において、ガス供給制御部５３３は、酸素センサ１３の検知結果に応じた量のガスをガス供給部５から自動的に補充させる。
そのため、蛍光Ｘ線分析装置１内において少なくなったガスの量だけ、ガス供給部５からガスを補充させることができる。
その結果、蛍光Ｘ線分析装置１において、適切な量のガスを補充できる。
【００９１】
６．第３実施形態
図５は、本発明の第３実施形態に係る蛍光Ｘ線分析装置１の構成例を示す概略図である。
上記した第１実施形態では、測定室８の上部に開口部２ａが形成されており、試料Ｓは、開口部２ａを塞ぐように、水平板２１に載置される。
対して、第３実施形態では、測定室８の下部に開口部２ａが形成され、試料Ｓは、その開口部２ａを介して測定室８内に配置される。
【００９２】
具体的には、第３実施形態では、蛍光Ｘ線分析装置１において、蓋部材３は、設けられていない。筐体２は、上方に向かって先細るテーパー状に形成されており、その上端部に接続管１１が接続されている。水平板２１の中央部には、開口部２ａが形成されている。また、水平板２１の端部から上方に向かって延びる垂直板２４が設けられており、第１傾斜板２２及び第１傾斜板２２は、垂直板２４から上方側に延びている。筐体２の内部空間は、測定室８である。筐体２では、測定室８の下部に開口部２ａが位置している。
【００９３】
筐体２は、載置板２５を備えている。載置板２５は、水平板２１の下面の中央部に着脱可能に設けられている。載置板２５は、試料Ｓを載置するためのものである。ユーザは、載置板２５に試料Ｓを載置した状態で、その載置板２５を水平板２１の下面に取り付けることで、試料Ｓを開口部２ａを介して測定室８内に配置させる。
【００９４】
蛍光Ｘ線分析装置１において、退避空間１０内に収容されたガスは、隔壁４２が供給位置（ガス収容部４１内の下方側）に移動することで、接続管１１を介して測定室８内に移動する。また、この状態から、隔壁４２が退避位置（ガス収容部４１内の下方側）に移動することで、測定室８内のガスが、その比重により接続管１１を介して退避空間１０内に移動（退避）する。そして、測定室８内は、空気で満たされる（置換される）。
また、ユーザは、測定室８内が空気で満たされた状態で、試料Ｓの取り出し作業を行う。
【００９５】
このように、第３実施形態によれば、蛍光Ｘ線分析装置１において、蓋部材３は、設けられていない。また、蛍光Ｘ線分析装置１では、測定室８の下部に開口部２ａが形成され、試料Ｓは、その開口部２ａを介して測定室８内に配置される。
そのため、試料Ｓの設置及び取り出しの作業を容易に行うことができる。また、蛍光Ｘ線分析装置１内におけるガスの移動経路を簡易に構成することができる。
【００９６】
７．変形例
以上の実施形態では、ガス移動機構４は、ガス収容部４１及び隔壁４２を備えており、隔壁４２が移動することでガスの排出及び導入を行うとして説明した。しかし、ガス移動機構４は、例えば、風船のような伸縮可能な容器により構成されてもよい。
【００９７】
また、以上の実施形態では、配管１２は、ガス収容部４１（退避空間１０）に接続されるとして説明した。しかし、配管１２が、測定室８又は試料室９に接続され、ガス供給部５内のガスが、測定室８又は試料室９に供給される構成であってもよい。
【００９８】
また、以上の実施形態では、蓋部材３は、下端が開放された中空状のボックス状に形成されるとして説明した。しかし、蓋部材３は、下端が開放された中空状の円錐状に形成され、上方に向かって先細る形状であってもよい。このようにすれば、蓋部材３内（試料室９内）のガスを円滑に接続管１１を介して退避空間１０内に移動させることができる。
【００９９】
また、第１実施形態及び第２実施形態では、筐体２の上方に蓋部材３が設けられるとして説明した。しかし、第１実施形態及び第２実施形態において、蓋部材３がない構成としてもよい。
【符号の説明】
【０１００】
１        蛍光Ｘ線分析装置
２        筐体
２ａ      開口部
２ｂ      第１通気口
２ｄ      第２通気口
３        蓋部材
４        ガス移動機構
５        ガス供給部
６        Ｘ線源
７        検出器
８        測定室
９        試料室
１０      退避空間
１３      酸素センサ
４１      ガス収容部
４２      隔壁
５３      制御部
５３３    ガス供給制御部
【図１】
2019105596.tif 000003
【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４】
2019105596.tif 000007
【図５】
2019105596.tif 000008