(57)【要約】【課題】単層型の感光層を備える電子写真感光体において、感光層に含まれる電荷発生材料が、粒径１００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の粒子が、全体の８０個数％未満である場合に比べて、高感度な電子写真感光体を提供する。【解決手段】導電性基体と、前記導電性基体上に、結着樹脂、電荷発生材料、正孔輸送材料及び電子輸送材料を含有する単層型の感光層とを有し、前記電荷発生材料における粒径１００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の粒子が、全体の８０個数％以上である電子写真感光体。【選択図】図１
2019105739.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体と、
前記導電性基体上に、結着樹脂、電荷発生材料、正孔輸送材料及び電子輸送材料を含有する単層型の感光層とを有し、
前記電荷発生材料における粒径１００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の粒子が、全体の８０個数％以上である
電子写真感光体。
【請求項２】
前記電荷発生材料における粒径１００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の粒子が、全体の８５個数％以上である請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
前記電荷発生材料における粒径１．０μｍ以上の粒子が、全体の１０個数％以下である請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体。
【請求項４】
前記電荷発生材料における粒径１．０μｍ以上の粒子が、全体の８個数％以下である請求項３に記載の電子写真感光体。
【請求項５】
前記電荷発生材料が、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料、及びクロロガリウムフタロシアニン顔料よりなる群から選択される少なくとも１種の電荷発生材料である請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項６】
前記電荷発生材料が、Ｖ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料である請求項５に記載の電子写真感光体。
【請求項７】
前記正孔輸送材料が、下記一般式（１）で表される化合物である請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【化１】
2019105739.tif 000024
一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、フェニル基又はフェノキシ基を表し、ｍ及びｎはそれぞれ独立に、０又は１を表す。
【請求項８】
前記一般式（１）において、ｍ及びｎが共に０又は共に１である請求項７に記載の電子写真感光体。
【請求項９】
前記電子輸送材料が、下記一般式（２）で表される化合物である請求項１乃至請求項８のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【化２】
2019105739.tif 000025
一般式（２）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６及びＲ１７はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基又はアラルキル基を表し、Ｒ１８は、アルキル基、アリール基、アラルキル基又は−Ｌ１９−Ｏ−Ｒ２０を表し、Ｌ１９はアルキレン基を表し、Ｒ２０はアルキル基を表す。
【請求項１０】
前記一般式（２）において、Ｒ１８が、炭素数４以上１０以下のアルキル基である請求項９に記載の電子写真感光体。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【請求項１２】
請求項１乃至請求項１０のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、基体上に、少なくとも電荷発生剤、正孔輸送剤、電子輸送剤、及び結着樹脂を含む単層構造の感光層を備えた電子写真感光体であって、前記感光層が、粒子状のキナクリドン顔料を含むとともに、前記電荷発生剤として、オキソチタニルフタロシアニン結晶を含み、かつ、前記キナクリドン顔料における平均粒径を３０〜１５０ｎｍの範囲内の値とすることを特徴とする電子写真感光体が開示されている。
【０００３】
特許文献２には、少なくとも感光体と、この感光体の表面を一様に帯電する接触方式の帯電装置と、一様帯電後に像露光を行い静電潜像を形成する像露光装置と、前記静電潜像を現像する現像装置と、現像像を転写する装置とを有する電子写真装置において、前記感光体が少なくとも導電性支持体上に感光層を有し、該感光層中に少なくとも電荷発生材料と下記一般式１で表される電子輸送材料を含むことを特徴とする電子写真装置が開示されている。
【０００４】
【化１】
2019105739.tif 000003
【０００５】
｛但し、上記一般式中、Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ独立に水素原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のシクロアルキル基、置換又は無置換のアラルキル基からなる群より選ばれる基を表し、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、水酸基、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のシクロアルキル基、置換又は無置換のアラルキル基からなる群より選ばれる基を表す。｝
【０００６】
特許文献３には、導電性支持体上に、感光層を形成してなる電子写真感光体において、該感光層が、電荷発生物質として粒径分布が０．１μｍ以上、０．５μｍ未満のものが全体の６０ｖｏｌ％以上の分布を占めるフタロシアニン化合物、下記一般式（Ｉ）、又は一般式（IV）で表される有機アクセプター性化合物のうちの少なくとも１種、及び結着樹脂を含有する単層からなることを特徴とする電子写真感光体が開示されている。
【０００７】
【化２】
2019105739.tif 000004
【０００８】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、及びＲ4は水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルキル基、シアノ基、ニトロ基よりなる群から選ばれた基を表し、互いに同一又は異なっていてもよい。Ｘは＝０、下記一般式（II）及び（III）で表される基よりなる群から選ばれた基を表す。
＝Ｃ（Ａ）（Ｂ）（II）
＝Ｎ−Ｒ9（III）
前記一般式（II）において、Ａ、Ｂは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換若しくは無置換の芳香族基、及び−ＣＯＯＲ10よりなる群から選ばれた基を表し、互いに同一又は異なっていてもよい。但しＲ10はアルキル基を表す。前記一般式（III）において、Ｒ9は置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換の芳香族基よりなる群から選ばれた基を表す。）
【０００９】
【化３】
2019105739.tif 000005
【００１０】
（式中、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8はアルキル基、又はアリール基を表し、互いに同一又は異なっていてもよい。）
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００７−３３４０９９号公報
【特許文献２】特開２００７−１０８６３２号公報
【特許文献３】特開平９−１３８５１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明が解決しようとする課題は、単層型の感光層を備える電子写真感光体において、感光層に含まれる電荷発生材料が、粒径１００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の粒子が、全体の８０個数％未満である場合に比べて、高感度な電子写真感光体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
前記課題を解決するための具体的手段には、下記の態様が含まれる。
請求項１に係る発明は、
導電性基体と、前記導電性基体上に、結着樹脂、電荷発生材料、正孔輸送材料及び電子輸送材料を含有する単層型の感光層とを有し、前記電荷発生材料における粒径１００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の粒子が、全体の８０個数％以上である電子写真感光体。
【００１４】
請求項２に係る発明は、
前記電荷発生材料における粒径１００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の粒子が、全体の８５個数％以上である請求項１に記載の電子写真感光体である。
【００１５】
請求項３に係る発明は、
前記電荷発生材料における粒径１．０μｍ以上の粒子が、全体の１０個数％以下である請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体である。
【００１６】
請求項４に係る発明は、
前記電荷発生材料における粒径１．０μｍ以上の粒子が、全体の８個数％以下である請求項３に記載の電子写真感光体である。
【００１７】
請求項５に係る発明は、
前記電荷発生材料が、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料、及びクロロガリウムフタロシアニン顔料よりなる群から選択される少なくとも１種の電荷発生材料である請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の電子写真感光体である。
【００１８】
請求項６に係る発明は、
前記電荷発生材料が、Ｖ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料である請求項５に記載の電子写真感光体である。
【００１９】
請求項７に係る発明は、
前記正孔輸送材料が、下記一般式（１）で表される化合物である請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載の電子写真感光体である。
【００２０】
【化４】
2019105739.tif 000006
【００２１】
一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、フェニル基又はフェノキシ基を表し、ｍ及びｎはそれぞれ独立に、０又は１を表す。
【００２２】
請求項８に係る発明は、
前記一般式（１）において、ｍ及びｎが共に０又は共に１である請求項７に記載の電子写真感光体である。
【００２３】
請求項９に係る発明は、
前記電子輸送材料が、下記一般式（２）で表される化合物である請求項１乃至請求項８のいずれか１項に記載の電子写真感光体である。
【００２４】
【化５】
2019105739.tif 000007
【００２５】
一般式（２）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６及びＲ１７はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基又はアラルキル基を表し、Ｒ１８は、アルキル基、アリール基、アラルキル基又は−Ｌ１９−Ｏ−Ｒ２０を表し、Ｌ１９はアルキレン基を表し、Ｒ２０はアルキル基を表す。
【００２６】
請求項１０に係る発明は、
前記一般式（２）において、Ｒ１８が、炭素数４以上１０以下のアルキル基である請求項９に記載の電子写真感光体である。
【００２７】
請求項１１に係る発明は、
請求項１乃至請求項１０のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジである。
【００２８】
請求項１２に係る発明は、
請求項１乃至請求項１０のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える画像形成装置である。
【発明の効果】
【００２９】
請求項１、５、６、７、８、９及び１０に係る発明によれば、単層型の感光層を備える電子写真感光体において、感光層に含まれる電荷発生材料が、粒径１００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の粒子が、全体の８０個数％未満である場合に比べて、高感度な電子写真感光体が提供される。
請求項２に係る発明によれば、前記電荷発生材料における粒径１００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の粒子が、全体の８５個数％未満である場合と比べて、色点を抑制した電子写真感光体が提供される。
請求項３に係る発明によれば、前記電荷発生材料における粒径１．０μｍ以上の粒子が、全体の１０個数％を超える場合に比べて、より高感度な電子写真感光体が提供される。
請求項４に係る発明によれば、前記電荷発生材料における粒径１．０μｍ以上の粒子が、全体の８個数％を超える場合に比べて、より高感度な電子写真感光体が提供される。
【００３０】
請求項１１又は１２に係る発明によれば、単層型の感光層を備える電子写真感光体において、感光層に含まれる電荷発生材料が、粒径１００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の粒子が、全体の８０個数％未満である場合に比べて、高感度な電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジ又は画像形成装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本実施形態に係る電子写真感光体の一例を示す概略部分断面図である。
【図２】本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
【図３】本実施形態に係る画像形成装置の別の一例を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
以下に、発明の実施形態を説明する。これらの説明及び実施例は実施形態を例示するものであり、発明の範囲を制限するものではない。
【００３３】
本明細書において組成物中の各成分の量について言及する場合、組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合には、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計量を意味する。
【００３４】
本明細書において、単層型の感光層を「単層型感光層」といい、電子写真感光体を「感光体」ということがある。単層型感光層とは、電荷発生能と共に、正孔輸送能及び電子輸送能を有する感光層である。
【００３５】
＜電子写真感光体＞
本実施形態に係る感光体は、導電性基体と、前記導電性基体上に、結着樹脂、電荷発生材料、正孔輸送材料及び電子輸送材料を含有する単層型の感光層とを有し、前記電荷発生材料における粒径１００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の粒子が、全体の８０個数％以上である。
【００３６】
感光体が備える感光層においては、電荷発生材料は結晶構造を有することでその機能を発現するが、それ故に感光層中に分子分散され難く、感光層において分布の均一性が低い傾向がある。電荷発生材料の分布の均一性が低い場合、特に電荷発生材料が凝集体を形成している場合、感光層の光に対する感度が低下する。
【００３７】
これに対し、本実施形態に係る感光体は、上記構成により、高感度を示す。この理由は、次のように推測される。
【００３８】
感光層中に含有される電荷発生材料が、粒径１００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の粒子が、全体の８０個数％以上である場合、感光層に含有している電荷発生材料による光の散乱が少なくなり、光が透過しやすくなっている。これは、感光層中の電荷発生材料が、粒径が小さく、比表面積が増大しており、分散状態が高まっているためである。そして、感光層中の電荷発生材料の分散性が高まっていることにより、光感度が高まりやすく、電荷発生効率が向上する。その結果、上記構成を有する感光体では、高感度であると考えられる。
【００３９】
以下、図面を参照しつつ、本実施形態に係る感光体を説明する。
図１は、本実施形態に係る感光体７の一部の断面を概略的に示している。図１に示した感光体７は、導電性基体１を備え、導電性基体１上に単層型感光層２が配置されている。感光体７は、必要に応じてその他の層を備えていてもよく、例えば、導電性基体１と単層型感光層２との間に下引層が配置されていてもよい。
【００４０】
以下、本実施形態に係る感光体の各層について詳細に説明する。
【００４１】
［導電性基体］
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１×１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
【００４２】
導電性基体の表面は、感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが好ましい。非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。
【００４３】
粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて導電性基体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。
【００４４】
粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。
【００４５】
陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。
【００４６】
陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。
【００４７】
導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
【００４８】
ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００４９】
［単層型感光層］
本実施形態において単層型感光層は、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、電子輸送材料とを含有する。
【００５０】
−結着樹脂−
結着樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの結着樹脂は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００５１】
結着樹脂としては、感光層の機械的強度の観点から、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂が好ましい。結着樹脂としては、感光層の成膜性の観点から、粘度平均分子量３０，０００以上８０，０００以下のポリカーボネート樹脂、粘度平均分子量３０，０００以上８０，０００以下のポリアリレート樹脂が好ましい。
【００５２】
感光層全体に占める結着樹脂の質量割合は、３５質量％以上６０質量％以下が好ましく、４０質量％以上５５質量％以下がより好ましい。
【００５３】
−電荷発生材料−
本実施形態における感光層に含有される電荷発生材料は、粒径１００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の粒子が、全体の８０個数％以上である。
また、感光層の色点抑制の観点から、粒径１００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の粒子が、電荷発生材料全体の、８５個数％以上であることが好ましい。
【００５４】
本実施形態における感光層に含有される電荷発生材料は、感光層の高感度化の観点から、粒径１．０μｍ以上の粒子が、電荷発生材料全体の１０個数％以下であることが好ましく、電荷発生材料全体の８個数％以下であることがより好ましく、電荷発生材料全体の５個数％以下であることが特に好ましい。上記範囲とすることにより、感光層中での電荷発生材料の分散状態を良化し、電荷発生材料による光の散乱が少なくなるため、感光層は光が透過しやすくなり、より高感度である感光層が得られる。
また、感光層の高感度化の観点から、粒径５５０ｎｍを超え１．０μｍ未満の粒子が、電荷発生材料全体の、１０個数％以下であることが好ましく、７個数％以下であることがより好ましい。
なお、上記粒径１．０μｍ以上の粒子、及び、粒径５５０ｎｍを超え１．０μｍ未満の粒子の量の下限値は、０個数％である。
【００５５】
感光層中の電荷発生材料における粒径１００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の粒子、粒径５５０ｎｍを超え１．０μｍ未満の粒子、又は、粒径１．０μｍ以上の粒子の割合は、導電性基材から感光層を剥離しエポキシ樹脂に包埋及び固化させ、ミクロトーム及びダイヤモンドナイフにより切片を調製して、測定用試料とする。そして、電界放射型走査型電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ、ＪＳＭ−６７００Ｆ、日本電子（株）製）により感光層断面を観察し、上記断面における１０μｍ×１０μｍ内の粒子毎の最大径と粒子数とをカウントし算出する。
【００５６】
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料；ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；ペリレン顔料；ピロロピロール顔料；フタロシアニン顔料；酸化亜鉛；三方晶系セレン等が挙げられる。
【００５７】
電荷発生材料としては、感光層の高感度化の観点から、フタロシアニン顔料が好ましい。フタロシアニン顔料としては、具体的には、例えば、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン；特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン；特開平５−１４０４７２号公報、特開平５−１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン；特開平４−１８９８７３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンが挙げられる。
【００５８】
電荷発生材料としては、電荷発生効率の観点から、ヒドロキシガリウムフタロシアニン及びクロロガリウムフタロシアニンの少なくともいずれかが好ましく、ヒドロキシガリウムフタロシアニンがより好ましく、Ｖ型ヒドロキシガリウムフタロシアニンが更に好ましい。
【００５９】
ヒドロキシガリウムフタロシアニンとしては、６００ｎｍから９００ｎｍの波長域での分光吸収スペクトルにおいて８１０ｎｍから８３９ｎｍの範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニンが、電荷発生効率の観点から好ましい。
【００６０】
８１０ｎｍから８３９ｎｍの範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニンは、平均粒径が特定の範囲であり、且つ、ＢＥＴ比表面積が特定の範囲であることが好ましい。具体的には、平均粒径が０．２０μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以上０．１５μｍ以下であることがより好ましく、ＢＥＴ比表面積が４５ｍ２／ｇ以上であることが好ましく、５０ｍ２／ｇ以上であることがより好ましく、５５ｍ２／ｇ以上１２０ｍ２／ｇ以下であることが更に好ましい。平均粒径は、体積平均粒径であり、レーザ回折散乱式粒度分布測定装置（（株）堀場製作所製ＬＡ−７００）にて測定した値である。ＢＥＴ比表面積は、流動式比表面積自動測定装置（（株）島津製作所製フローソープＩＩ２３００）を用い窒素置換法にて測定した値である。
【００６１】
ヒドロキシガリウムフタロシアニンの最大粒径（一次粒径の最大値）は、１．２μｍ以下が好ましく、１．０μｍ以下がより好ましく、０．３μｍ以下が更に好ましい。
【００６２】
ヒドロキシガリウムフタロシアニンは、平均粒径が０．２μｍ以下であり、且つ、最大粒径が１．２μｍ以下であり、且つ、ＢＥＴ比表面積が４５ｍ２／ｇ以上であることが好ましい。
【００６３】
ヒドロキシガリウムフタロシアニンは、ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３°、１６．０°、２４．９°、２８．０°に回折ピークを有するＶ型であることが好ましい。
【００６４】
クロロガリウムフタロシアニンとしては、感光層の高感度化の観点から、ブラッグ角度（２θ±０．２°）７．４°、１６．６°、２５．５°、２８．３°に回折ピークを有する化合物が好ましい。クロロガリウムフタロシアニンの最大ピーク波長、平均粒径、最大粒径、及びＢＥＴ比表面積の好ましい範囲は、ヒドロキシガリウムフタロシアニンと同様である。
【００６５】
電荷発生材料は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６６】
単層型感光層に含まれる電荷発生材料の量は、感光層の全質量に対し、０．１質量％以上１０質量％以下が好ましく、０．５質量部以上５質量部以下がより好ましく、１質量部以上３質量部以下が特に好ましい。
【００６７】
−正孔輸送材料−
正孔輸送材料としては、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等が挙げられる。正孔輸送材料は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６８】
正孔輸送材料としては、一般式（Ｂ−１）で表される化合物、一般式（Ｂ−２）で表される化合物、一般式（Ｂ−３）で表される化合物、一般式（１）で表される化合物が挙げられる。これらの中でも、感光層の高感度化の観点から、一般式（１）で表される化合物が好ましい。
【００６９】
【化６】
2019105739.tif 000008
【００７０】
一般式（Ｂ−１）中、ＲＢ１はメチル基を表し、ｎ１１は０以上２以下の整数を表す。ＡｒＢ１及びＡｒＢ２は各々独立に、置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（ＲＢ３）＝Ｃ（ＲＢ４）（ＲＢ５）、又は−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ６）（ＲＢ７）を表し、ＲＢ３乃至ＲＢ７は各々独立に、水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基が挙げられる。
【００７１】
【化７】
2019105739.tif 000009
【００７２】
一般式（Ｂ−２）中、ＲＢ８及びＲＢ８’は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基を表す。ＲＢ９、ＲＢ９’、ＲＢ１０及びＲＢ１０’は各々独立に、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ（ＲＢ１１）＝Ｃ（ＲＢ１２）（ＲＢ１３）又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ１４）（ＲＢ１５）を表し、ＲＢ１１乃至ＲＢ１５は各々独立に、水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。ｍ１２、ｍ１３、ｎ１２及びｎ１３は各々独立に、０以上２以下の整数を表す。上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基が挙げられる。
【００７３】
【化８】
2019105739.tif 000010
【００７４】
一般式（Ｂ−３）中、ＲＢ１６及びＲＢ１６’は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基を表す。ＲＢ１７、ＲＢ１７’、ＲＢ１８及びＲＢ１８’は各々独立に、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ（ＲＢ１９）＝Ｃ（ＲＢ２０）（ＲＢ２１）又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ２２）（ＲＢ２３）を表し、ＲＢ１９乃至ＲＢ２３は各々独立に、水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。ｍ１４、ｍ１５、ｎ１４及びｎ１５は各々独立に、０以上２以下の整数を表す。上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基が挙げられる。
【００７５】
正孔輸送材料としては、感光層の高感度化の観点から、一般式（１）で表される化合物が好ましい。
【００７６】
【化９】
2019105739.tif 000011
【００７７】
一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、フェニル基又はフェノキシ基を表し、ｍ及びｎは各々独立に０又は１を表す。
【００７８】
一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ６が表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子、塩素原子が好ましく、塩素原子がより好ましい。
【００７９】
一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ６が表すアルキル基としては、炭素数１以上２０以下（好ましくは１以上６以下、より好ましくは１以上４以下、更に好ましくは１以上３以下）の直鎖状又は分岐状のアルキル基が挙げられる。直鎖状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−イコシル基等が挙げられる。分岐状のアルキル基としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ−ノニル基、ｔｅｒｔ−ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基、イソウンデシル基、ｓｅｃ−ウンデシル基、ｔｅｒｔ−ウンデシル基、ネオウンデシル基、イソドデシル基、ｓｅｃ−ドデシル基、ｔｅｒｔ−ドデシル基、ネオドデシル基、イソトリデシル基、ｓｅｃ−トリデシル基、ｔｅｒｔ−トリデシル基、ネオトリデシル基、イソテトラデシル基、ｓｅｃ−テトラデシル基、ｔｅｒｔ−テトラデシル基、ネオテトラデシル基、１−イソブチル−４−エチルオクチル基、イソペンタデシル基、ｓｅｃ−ペンタデシル基、ｔｅｒｔ−ペンタデシル基、ネオペンタデシル基、イソヘキサデシル基、ｓｅｃ−ヘキサデシル基、ｔｅｒｔ−ヘキサデシル基、ネオヘキサデシル基、１−メチルペンタデシル基、イソヘプタデシル基、ｓｅｃ−ヘプタデシル基、ｔｅｒｔ−ヘプタデシル基、ネオヘプタデシル基、イソオクタデシル基、ｓｅｃ−オクタデシル基、ｔｅｒｔ−オクタデシル基、ネオオクタデシル基、イソノナデシル基、ｓｅｃ−ノナデシル基、ｔｅｒｔ−ノナデシル基、ネオノナデシル基、１−メチルオクチル基、イソイコシル基、ｓｅｃ−イコシル基、ｔｅｒｔ−イコシル基、ネオイコシル基等が挙げられる。これらの中でも、アルキル基としては、メチル基、エチル基が好ましい。
【００８０】
一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ６が表すアルコキシ基としては、炭素数１以上２０以下（好ましくは１以上６以下、より好ましくは１以上４以下、更に好ましくは１以上３以下）の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基が挙げられる。直鎖状のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、ｎ−トリデシルオキシ基、ｎ−テトラデシルオキシ基、ｎ−ペンタデシルオキシ基、ｎ−ヘキサデシルオキシ基、ｎ−ヘプタデシルオキシ基、ｎ−オクタデシルオキシ基、ｎ−ノナデシルオキシ基、ｎ−イコシルオキシ基等が挙げられる。分岐状のアルコキシ基としては、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、ｓｅｃ−ヘキシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘキシルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ｓｅｃ−ヘプチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘプチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｓｅｃ−オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ−オクチルオキシ基、イソノニルオキシ基、ｓｅｃ−ノニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ノニルオキシ基、イソデシルオキシ基、ｓｅｃ−デシルオキシ基、ｔｅｒｔ−デシルオキシ基、イソウンデシルオキシ基、ｓｅｃ−ウンデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ウンデシルオキシ基、ネオウンデシルオキシ基、イソドデシルオキシ基、ｓｅｃ−ドデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ドデシルオキシ基、ネオドデシルオキシ基、イソトリデシルオキシ基、ｓｅｃ−トリデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−トリデシルオキシ基、ネオトリデシルオキシ基、イソテトラデシルオキシ基、ｓｅｃ−テトラデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−テトラデシルオキシ基、ネオテトラデシルオキシ基、１−イソブチル−４−エチルオクチルオキシ基、イソペンタデシルオキシ基、ｓｅｃ−ペンタデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンタデシルオキシ基、ネオペンタデシルオキシ基、イソヘキサデシルオキシ基、ｓｅｃ−ヘキサデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘキサデシルオキシ基、ネオヘキサデシルオキシ基、１−メチルペンタデシルオキシ基、イソヘプタデシルオキシ基、ｓｅｃ−ヘプタデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘプタデシルオキシ基、ネオヘプタデシルオキシ基、イソオクタデシルオキシ基、ｓｅｃ−オクタデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−オクタデシルオキシ基、ネオオクタデシルオキシ基、イソノナデシルオキシ基、ｓｅｃ−ノナデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ノナデシルオキシ基、ネオノナデシルオキシ基、１−メチルオクチルオキシ基、イソイコシルオキシ基、ｓｅｃ−イコシルオキシ基、ｔｅｒｔ−イコシルオキシ基、ネオイコシルオキシ基等が挙げられる。これらの中でも、アルコキシ基としては、メトキシ基が好ましい。
【００８１】
一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ６が表すフェニル基は、１個乃至５個（好ましくは１個又は２個）の置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、炭素数１以上４以下の直鎖状又は分岐状のアルキル基（メチル基、エチル基等）；炭素数１以上４以下の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基等）；ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子等）；が挙げられる。
【００８２】
一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ６が表すフェノキシ基は、ベンゼン環に１個乃至５個（好ましくは１個又は２個）の置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、炭素数１以上４以下の直鎖状又は分岐状のアルキル基（メチル基、エチル基等）；炭素数１以上４以下の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基等）；ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子等）；が挙げられる。
【００８３】
一般式（１）中、ｍ及びｎは各々独立に０又は１であり、感光層の高感度化の観点から、ｍ及びｎが共に０又１であることが好ましく、ｍ及びｎが共に１であることがより好ましい。
【００８４】
一般式（１）で表される化合物としては、感光層の高感度化の観点から、Ｒ１〜Ｒ６が各々独立に、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、又は炭素数１以上４以下のアルコキシ基を表し、ｍ及びｎが共に０又１を表す化合物が好ましい。
【００８５】
以下に、一般式（１）で表される化合物の例示化合物を示す。一般式（１）で表される化合物は、これに限定されるわけではない。置換基の前に付す番号は、ベンゼン環に対する置換位置を示す。
【００８６】
【表１】
2019105739.tif 000012
【００８７】
【表２】
2019105739.tif 000013
【００８８】
【表３】
2019105739.tif 000014
【００８９】
【表４】
2019105739.tif 000015
【００９０】
一般式（１）で表される化合物は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合せて用いてもよい。一般式（１）で表される化合物を用いる場合、一般式（１）で表される化合物以外の他の正孔輸送材料と併用してもよい。一般式（１）で表される化合物とそれ以外の他の正孔輸送材料を併用する場合、正孔輸送材料全量に対して、一般式（１）で表される化合物を７５質量％以上とすることが好ましい。
【００９１】
正孔輸送材料の含有量は、感光層の全質量に対し、２０質量部以上４０質量部以下が好ましく、２５質量部以上３０質量部以下がより好ましい。
【００９２】
−電子輸送材料−
電子輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物；キサントン系化合物；ベンゾフェノン系化合物；シアノビニル系化合物；エチレン系化合物；などが挙げられる。電子輸送材料は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００９３】
電子輸送材料としては、感光層の高感度化の観点から、フルオレノン化合物が好ましく、フルオレノン化合物の中でも、一般式（２）で表される化合物が好ましい。
【００９４】
【化１０】
2019105739.tif 000016
【００９５】
一般式（２）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６及びＲ１７は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基又はアラルキル基を表し、Ｒ１８は、アルキル基、アリール基、アラルキル基又は−Ｌ１９−Ｏ−Ｒ２０（但し、Ｌ１９はアルキレン基を表し、Ｒ２０はアルキル基を表す。）を表す。
【００９６】
一般式（２）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子、塩素原子が好ましく、塩素原子がより好ましい。
【００９７】
一般式（２）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が表すアルキル基としては、炭素数１以上２０以下（好ましくは１以上６以下、より好ましくは１以上４以下、更に好ましくは１以上３以下）の直鎖状又は分岐状のアルキル基が挙げられる。直鎖状のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−イコシル基等が挙げられる。分岐状のアルキル基としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ−ノニル基、ｔｅｒｔ−ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基、イソウンデシル基、ｓｅｃ−ウンデシル基、ｔｅｒｔ−ウンデシル基、ネオウンデシル基、イソドデシル基、ｓｅｃ−ドデシル基、ｔｅｒｔ−ドデシル基、ネオドデシル基、イソトリデシル基、ｓｅｃ−トリデシル基、ｔｅｒｔ−トリデシル基、ネオトリデシル基、イソテトラデシル基、ｓｅｃ−テトラデシル基、ｔｅｒｔ−テトラデシル基、ネオテトラデシル基、１−イソブチル−４−エチルオクチル基、イソペンタデシル基、ｓｅｃ−ペンタデシル基、ｔｅｒｔ−ペンタデシル基、ネオペンタデシル基、イソヘキサデシル基、ｓｅｃ−ヘキサデシル基、ｔｅｒｔ−ヘキサデシル基、ネオヘキサデシル基、１−メチルペンタデシル基、イソヘプタデシル基、ｓｅｃ−ヘプタデシル基、ｔｅｒｔ−ヘプタデシル基、ネオヘプタデシル基、イソオクタデシル基、ｓｅｃ−オクタデシル基、ｔｅｒｔ−オクタデシル基、ネオオクタデシル基、イソノナデシル基、ｓｅｃ−ノナデシル基、ｔｅｒｔ−ノナデシル基、ネオノナデシル基、１−メチルオクチル基、イソイコシル基、ｓｅｃ−イコシル基、ｔｅｒｔ−イコシル基、ネオイコシル基等が挙げられる。これらの中でも、アルキル基としては、メチル基、エチル基が好ましい。
【００９８】
一般式（２）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が表すアルコキシ基としては、炭素数１以上２０以下（好ましくは１以上６以下、より好ましくは１以上４以下、更に好ましくは１以上３以下）の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基が挙げられる。直鎖状のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、ｎ−トリデシルオキシ基、ｎ−テトラデシルオキシ基、ｎ−ペンタデシルオキシ基、ｎ−ヘキサデシルオキシ基、ｎ−ヘプタデシルオキシ基、ｎ−オクタデシルオキシ基、ｎ−ノナデシルオキシ基、ｎ−イコシルオキシ基等が挙げられる。分岐状のアルコキシ基としては、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンチルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、ｓｅｃ−ヘキシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘキシルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ｓｅｃ−ヘプチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘプチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ｓｅｃ−オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ−オクチルオキシ基、イソノニルオキシ基、ｓｅｃ−ノニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ノニルオキシ基、イソデシルオキシ基、ｓｅｃ−デシルオキシ基、ｔｅｒｔ−デシルオキシ基、イソウンデシルオキシ基、ｓｅｃ−ウンデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ウンデシルオキシ基、ネオウンデシルオキシ基、イソドデシルオキシ基、ｓｅｃ−ドデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ドデシルオキシ基、ネオドデシルオキシ基、イソトリデシルオキシ基、ｓｅｃ−トリデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−トリデシルオキシ基、ネオトリデシルオキシ基、イソテトラデシルオキシ基、ｓｅｃ−テトラデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−テトラデシルオキシ基、ネオテトラデシルオキシ基、１−イソブチル−４−エチルオクチルオキシ基、イソペンタデシルオキシ基、ｓｅｃ−ペンタデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ペンタデシルオキシ基、ネオペンタデシルオキシ基、イソヘキサデシルオキシ基、ｓｅｃ−ヘキサデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘキサデシルオキシ基、ネオヘキサデシルオキシ基、１−メチルペンタデシルオキシ基、イソヘプタデシルオキシ基、ｓｅｃ−ヘプタデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ヘプタデシルオキシ基、ネオヘプタデシルオキシ基、イソオクタデシルオキシ基、ｓｅｃ−オクタデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−オクタデシルオキシ基、ネオオクタデシルオキシ基、イソノナデシルオキシ基、ｓｅｃ−ノナデシルオキシ基、ｔｅｒｔ−ノナデシルオキシ基、ネオノナデシルオキシ基、１−メチルオクチルオキシ基、イソイコシルオキシ基、ｓｅｃ−イコシルオキシ基、ｔｅｒｔ−イコシルオキシ基、ネオイコシルオキシ基等が挙げられる。これらの中でも、アルコキシ基としては、メトキシ基が好ましい。
【００９９】
一般式（２）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が表すアリール基としては、炭素数６以上３０以下（好ましくは６以上２０以下、より好ましくは６以上１６以下）のアリール基が挙げられる。具体的には、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリル基等が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましい。これらアリール基は、１個乃至５個（好ましくは１個又は２個）の置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、炭素数１以上４以下の直鎖状又は分岐状のアルキル基（メチル基、エチル基等）；炭素数１以上４以下の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基等）；ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子等）；が挙げられる。
【０１００】
一般式（２）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が表すアラルキル基としては、炭素数１以上６以下の直鎖状又は分岐状のアルキレン基（メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基等）にフェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基等が結合した基が挙げられ、ベンジル基、フェネチル基が好ましい。これらアラルキル基のベンゼン環は、１個乃至５個（好ましくは１個又は２個）の置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、炭素数１以上４以下の直鎖状又は分岐状のアルキル基（メチル基、エチル基等）；炭素数１以上４以下の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基等）；ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子等）；が挙げられる。
【０１０１】
一般式（２）中、Ｒ１８が表すアルキル基としては、Ｒ１１〜Ｒ１７が表すアルキル基と同様の基が挙げられる。Ｒ１８が表すアルキル基としては、炭素数１以上１２以下のアルキル基が好ましく、炭素数４以上１０以下のアルキル基がより好ましく、炭素数５以上１０以下の分岐状のアルキル基が更に好ましい。
【０１０２】
一般式（２）中、Ｒ１８が表すアリール基としては、Ｒ１１〜Ｒ１７が表すアリール基と同様の基が挙げられる。Ｒ１８が表すアリール基としては、有機溶剤への溶解性の観点からは、アルキル基で置換されたアルキル置換アリール基が好ましい。Ｒ１８が表すアリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、エチルフェニル基が好ましい。
【０１０３】
一般式（２）中、Ｒ１８が表すアラルキル基としては、Ｒ１１〜Ｒ１７が表すアラルキル基と同様の基が挙げられる。Ｒ１８が表すアラルキル基としては、有機溶剤への溶解性の観点からは、アルキル基で置換されたアルキル置換アラルキル基が好ましい。Ｒ１８が表すアラルキル基としては、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、フェネチル基が好ましい。
【０１０４】
一般式（２）中、Ｒ１８が表す−Ｌ１９−Ｏ−Ｒ２０（但し、Ｌ１９はアルキレン基を表し、Ｒ２０はアルキル基を表す。）において、Ｌ１９としては、炭素数１以上６以下の直鎖状又は分岐状のアルキレン基（メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基等）が挙げられ、Ｒ２０としては、Ｒ１１〜Ｒ１７が表すアルキル基と同様の基が挙げられる。
【０１０５】
一般式（２）で表される化合物としては、感光層の高感度化の観点から、Ｒ１１〜Ｒ１７が各々独立に、水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基であり、Ｒ１８が炭素数４以上１０以下のアルキル基である化合物が好ましい。
【０１０６】
以下に、一般式（２）で表される化合物の例示化合物を示す。一般式（２）で表される化合物は、これに限定されるわけではない。
【０１０７】
【表５】
2019105739.tif 000017
【０１０８】
一般式（２）で表される化合物は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合せて用いてもよい。一般式（２）で表される化合物を用いる場合、一般式（２）で表される化合物以外の他の電子輸送材料と併用してもよい。一般式（２）で表される化合物とそれ以外の他の電子輸送材料を併用する場合、電子輸送材料全量に対して、一般式（２）で表される化合物を９０質量％以上とすることが好ましい。
【０１０９】
電子輸送材料の含有量は、感光層の全質量に対し、５質量部以上２０質量部以下が好ましく、１０質量部以上２５質量部以下がより好ましく、１５質量部以上２０質量部以下が更に好ましい。
【０１１０】
−その他の成分−
単層型の感光層には、界面活性剤、酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の周知のその他添加剤が含まれていてもよい。また、単層型の感光層が表面層となる場合、単層型の感光層には、フッ素樹脂粒子、シリコーンポリマー等の離型剤が含まれていてもよい。
【０１１１】
［単層型感光層の形成方法］
単層型感光層は、結着樹脂と、電荷発生材料と、電子輸送材料と、正孔輸送材料とを含む感光層形成用塗布液を準備し、この感光層形成用塗布液を導電性基体上に塗布し、塗布膜を乾燥させて形成することが好ましい。
【０１１２】
感光層形成用塗布液は、例えば、結着樹脂と電荷発生材料と正孔輸送材料と電子輸送材料とを、溶剤に溶解又は分散させた液状組成物である。
【０１１３】
感光層形成用塗布液中の電荷発生材料は、粒径１００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の粒子が、全体の８０個数％以上であり、感光層の高感度化の観点から、全体の８５個数％以上であることが好ましい。
【０１１４】
感光層形成用塗布液中の電荷発生材料は、感光層の高感度化の観点から、粒径１．０μｍ以上の粒子が、電荷発生材料全体の、１０個数％以下であることが好ましく、全体の８個数％以下であることがより好ましく、５個数％以下であることが特に好ましい。上記範囲とすることにより、感光層形成用塗布液中での電荷発生材料の分散状態が良化し、電荷発生材料の粒径が小さくなり、顔料による光の散乱が少なくなる故、感光層形成用塗布液は光が透過しやすくなる。
【０１１５】
感光層形成用塗布液中の電荷発生材料における粒径１００ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の粒子、粒径５５０ｎｍを超え１．０μｍ未満の粒子、又は、粒径１．０μｍ以上の粒子の割合は、次のようにして求める。感光層形成用塗布液を波長８３０ｎｍにおける吸光度が、０．９５以上１．０５以下となるように希釈し、粒度分布計（例えば、マルバーン社製ゼータサイザーナノＺＳＰ）にて測定する。次いで、測定データより、各粒径範囲の頻度データを合算し、各粒径範囲の割合を求める。
【０１１６】
感光層形成用組成物を調製するための溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、２−ブタノン等のケトン類；塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類；テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状又は直鎖状のエーテル類；などの有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
【０１１７】
感光層形成用組成物中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式等が挙げられる。
【０１１８】
感光層形成用組成物を導電性基体上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。
【０１１９】
導電性基体上に塗布された感光層形成用組成物を乾燥することによって、導電性基体上に感光層が形成される。感光層形成用組成物の乾燥のために、加熱処理（例えば、１２０℃乃至１５０℃、１０分間乃至６０分間）を行ってもよい。
【０１２０】
単層型感光層の層厚は、５μｍ以上６０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以上５０μｍ以下がより好ましく、２０μｍ以上４０μｍ以下が更に好ましい。
【０１２１】
［下引層］
導電性基体と感光層との間には、下引層を設けてもよい。下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
【０１２２】
無機粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１×１０２Ωｃｍ以上１×１０１１Ωｃｍ以下の無機粒子が挙げられる。無機粒子の中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子が好ましく、酸化亜鉛粒子が特に好ましい。
【０１２３】
無機粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ２／ｇ以上が好ましい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２，０００ｎｍ以下が好ましく、６０ｎｍ以上１，０００ｎｍ以下がより好ましい。
【０１２４】
無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
【０１２５】
無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。
【０１２６】
表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。
【０１２７】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１２８】
シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１２９】
表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。
【０１３０】
表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。
【０１３１】
ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物（アクセプター化合物）を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。
【０１３２】
電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物；２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物；等の電子輸送性物質等が挙げられる。電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
【０１３３】
電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。
【０１３４】
電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着させる方法としては、例えば、乾式法又は湿式法が挙げられる。
【０１３５】
乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、さらに１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。
【０１３６】
湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤を除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤の除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤の除去後には、さらに１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として、溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。
【０１３７】
電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。
【０１３８】
電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して、０．０１質量％以上２０質量％以下が好ましく、０．０１質量％以上１０質量％以下がより好ましい。
【０１３９】
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。
【０１４０】
これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
【０１４１】
下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤としてさらに下引層に添加してもよい。
【０１４２】
添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【０１４３】
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【０１４４】
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【０１４５】
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【０１４６】
これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【０１４７】
下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／（４ｎ）（ｎは上層の屈折率）から１／２までに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
【０１４８】
下引層の形成は、特に制限はなく、公知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。
【０１４９】
下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
【０１５０】
下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。
【０１５１】
下引層形成用塗布液を導電性支持体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１５２】
下引層の膜厚は、例えば、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１５３】
［中間層］
下引層と感光層との間には、中間層を設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【０１５４】
これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。
【０１５５】
中間層の形成は、特に制限はなく、公知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【０１５６】
中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。中間層を下引層としてもよい。
【０１５７】
［保護層］
保護層は、必要に応じて感光層上に設けられる。保護層は、例えば、帯電時の感光層の化学的変化を防止したり、感光層の機械的強度をさらに改善する目的で設けられる。
そのため、保護層は、硬化膜（架橋膜）で構成された層を適用することがよい。これら層としては、例えば、下記１）又は２）に示す層が挙げられる。
【０１５８】
１）反応性基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に有する反応性基含有電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり当該反応性基含有電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含む層）
２）非反応性の電荷輸送材料と、電荷輸送性骨格を有さず、反応性基を有する反応性基含有非電荷輸送材料と、を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり、非反応性の電荷輸送材料と、当該反応性基含有非電荷輸送材料の重合体又は架橋体と、を含む層）
【０１５９】
反応性基含有電荷輸送材料の反応性基としては、連鎖重合性基、エポキシ基、−ＯＨ、−ＯＲ［但し、Ｒはアルキル基を表す。］、−ＮＨ２、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳｉＲＱ１３−Ｑｎ（ＯＲＱ２）Ｑｎ［但し、ＲＱ１は水素原子、アルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表し、ＲＱ２は水素原子、アルキル基、トリアルキルシリル基を表す。Ｑｎは１〜３の整数を表す。］等の公知の反応性基が挙げられる。
【０１６０】
連鎖重合性基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基である。具体的には、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、スチリル基（ビニルフェニル基）、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基等が挙げられる。なかでも、その反応性に優れることから、連鎖重合性基としては、ビニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基が好ましい。
【０１６１】
反応性基含有電荷輸送材料の電荷輸送性骨格としては、感光体の技術分野における公知の構造であれば特に限定されるものではなく、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が好ましい。
【０１６２】
これら反応性基及び電荷輸送性骨格を有する反応性基含有電荷輸送材料、非反応性の電荷輸送材料、反応性基含有非電荷輸送材料は、公知の材料から選択すればよい。
【０１６３】
保護層には、その他、公知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１６４】
保護層の形成は、特に制限はなく、公知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた保護層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱等の硬化処理することで行う。
【０１６５】
保護層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル等のセロソルブ系溶剤；イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。保護層形成用塗布液は、無溶剤の塗布液であってもよい。
【０１６６】
保護層形成用塗布液を感光層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１６７】
保護層の膜厚は、例えば、好ましくは１μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上１０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１６８】
＜画像形成装置、プロセスカートリッジ＞
本実施形態に係る画像形成装置は、感光体と、感光体の表面を帯電させる帯電手段と、帯電した感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、感光体として、本実施形態に係る感光体が適用される。
【０１６９】
本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置；感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー像の転写後、帯電前の感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置；トナー像の転写後、帯電前に感光体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置；感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための感光体加熱部材を備える装置等の公知の画像形成装置が適用される。
【０１７０】
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。
【０１７１】
本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式（液体現像剤を利用した現像方式）の画像形成装置のいずれであってもよい。
【０１７２】
本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、感光体を備える部分が、画像形成装置に対して着脱されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る感光体を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。プロセスカートリッジは、感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。
【０１７３】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。以下、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。
【０１７４】
図２は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図２に示すように、感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば紙）に転写する二次転写装置も有している。中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。
【０１７５】
図２におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材の一例）１３１を有しており、クリーニングブレード１３１は、感光体７の表面に接触するように配置されている。クリーニング部材は、クリーニングブレード１３１の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード１３１と併用してもよい。
【０１７６】
図２には、画像形成装置として、潤滑剤１４を感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、及び、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。
【０１７７】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。
【０１７８】
［帯電装置］
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
【０１７９】
［露光装置］
露光装置９としては、例えば、感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
【０１８０】
［現像装置］
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
【０１８１】
現像装置１１に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、公知のものが適用される。
【０１８２】
［クリーニング装置］
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
【０１８３】
［転写装置］
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０１８４】
［中間転写体］
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
【０１８５】
図３は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図３に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの感光体が使用される構成となっている。画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【実施例】
【０１８６】
以下、実施例及び比較例に基づき本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。
【０１８７】
＜感光体の製造＞
［実施例１］
電荷発生材料１．０質量部と、テトラヒドロフラン１５質量部との混合物を超音波ホモジナイザーにて０．５時間分散し、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量５万）５５質量部と、正孔輸送材料２８質量部と、電子輸送材料１６質量部と、テトラヒドロフラン３８５質量部と混合して高圧ホモジナイザーにて６回分散し、感光層形成用塗布液を得た。電荷発生材料などの化合物種は、表６に記載のとおりである。
【０１８８】
導電性基体として、直径３０ｍｍ、長さ２４４．５ｍｍ、肉厚１ｍｍのアルミニウム基材を用意した。感光層形成用塗布液を浸漬塗布法にてアルミニウム基材上に塗布し、温度１３５℃において３５分間の乾燥硬化を行い、厚さ３０μｍの単層型感光層をアルミニウム基材上に形成した。こうして、実施例１の感光体を得た。
【０１８９】
［実施例１〜１３、及び、比較例１〜３］
表６に記載の組成となるように、電荷発生材料の種類、正孔輸送材料の種類、電子輸送材料の種類、超音波ホモジナイザーの照射時間、及び、高圧ホモジナイザーによる分散回数を変更した以外は、実施例１と同様にして、各例の感光体を作製した。
【０１９０】
表６中の略称は以下の化学物質を意味する。
【０１９１】
−電荷発生材料−
・ＣＧＭ１：下記構造のアゾ顔料。
【０１９２】
【化１１】
2019105739.tif 000018
【０１９３】
・ＣＧＭ２：チタニルフタロシアニン。
・ＣＧＭ３：クロロガリウムフタロシアニン。ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．４°、１６．６°、２５．５°、２８．３°の位置に回折ピークを有する。６００ｎｍから９００ｎｍの波長域での分光吸収スペクトルにおける最大ピーク波長７８０ｎｍ、平均粒径０．１５μｍ、最大粒径０．２μｍ、ＢＥＴ比表面積５６ｍ２／ｇ。
・ＣＧＭ４：Ｖ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン。ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３°、１６．０°、２４．９°、２８．０°の位置に回折ピークを有する。６００ｎｍから９００ｎｍの波長域での分光吸収スペクトルにおける最大ピーク波長８２０ｎｍ、平均粒径０．１２μｍ、最大粒径０．２μｍ、ＢＥＴ比表面積６０ｍ２／ｇ。
【０１９４】
−正孔輸送材料−
・ＨＴＭ１：下記構造の化合物、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン。
【０１９５】
【化１２】
2019105739.tif 000019
【０１９６】
・ＨＴＭ２：下記構造の化合物。
【０１９７】
【化１３】
2019105739.tif 000020
【０１９８】
・ＨＴＭ３：一般式（１）で表される化合物の例示化合物（１−４１）。
・ＨＴＭ４：一般式（１）で表される化合物の例示化合物（１−２１）。
・ＨＴＭ５：一般式（１）で表される化合物の例示化合物（１−１）。
【０１９９】
−電子輸送材料−
・ＥＴＭ１：下記構造の化合物、３，３’，５，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−４，４’−ジフェノキノン。
【０２００】
【化１４】
2019105739.tif 000021
【０２０１】
・ＥＴＭ２：下記構造の化合物。
【０２０２】
【化１５】
2019105739.tif 000022
【０２０３】
・ＥＴＭ３：一般式（２）で表される化合物の例示化合物（２−３）。
・ＥＴＭ４：一般式（２）で表される化合物の例示化合物（２−２）。
【０２０４】
＜評価＞
［感光体の感度］
感光体の感度の評価は、＋８００Ｖに帯電させたときの半減露光量として評価した。具体的には、静電複写紙試験装置（エレクトロスタティックアナライザーＥＰＡ−８１００、（株）川口電機製作所製）を用いて、温度２０℃／相対湿度４０％の環境下、＋８００Ｖに帯電させた後、タングステンランプの光をモノクロメーターを用いて８００ｎｍの単色光にし、感光体表面上で１μＷ／ｃｍ２になるように調整して照射した。帯電直後における感光体表面電位Ｖｏ（Ｖ）が、光照射により２分の１となる半減露光量（μＪ／ｃｍ２）を測定し、下記のとおり分類した。
Ｇ１：半減露光量が０．１０μＪ／ｃｍ２以下であった。
Ｇ２：半減露光量が０．１０μＪ／ｃｍ２を超え０．１５μＪ／ｃｍ２以下であった。
Ｇ３：半減露光量が０．１５μＪ／ｃｍ２を超え０．１８μＪ／ｃｍ２以下であった。
Ｇ４：半減露光量が０．１８μＪ／ｃｍ２を超えていた。
【０２０５】
［色点］
色点の評価は、感光体を搭載したブラザー工業（株）製ＨＬ２３６０ＤＮの改造機を用い、２８℃、８５ＲＨ％の高温高湿環境下、帯電電圧＋６００Ｖにてハーフトーン５０％を２，０００枚プリントし、一晩装置を停止、翌朝白紙を装置内搬送した際に用紙上に発生した色点の数をカウントし、以下の基準で評価した。
Ａ：色点未発生。
Ｂ：色点数が１個乃至５個。
Ｃ：色点数が６個以上。
【０２０６】
【表６】
2019105739.tif 000023
【符号の説明】
【０２０７】
１  導電性基体、２  単層型感光層、７  感光体、８  帯電装置、９  露光装置、１１  現像装置、１３  クリーニング装置、１４  潤滑剤、４０  転写装置、５０  中間転写体、１００  画像形成装置、１２０  画像形成装置、１３１  クリーニングブレード、１３２  繊維状部材、１３３  繊維状部材、３００  プロセスカートリッジ
【図１】
2019105739.tif 000026
【図２】
2019105739.tif 000027
【図３】
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