(57)【要約】【課題】本発明の課題は、安価な試薬を用い簡便にジフルオロメチル置換化合物を製造する方法を提供することである。【解決手段】ジフルオロヨードメタンと触媒を用いたジフルオロメチル置換化合物の製造方法であって、（Ｉ）触媒が、ニッケル化合物および含窒素二座配位子であり、原料がＡｒ−Ｚ〔式中、Ａｒは、置換若しくは無置換のＣ６〜１４アリール基または置換若しくは無置換の５〜１０員のヘテロアリール基を示し、Ｚは、Ｂ（ＯＲ）２  で表される基またはＭｇＸで表される基を示す。〕で表される化合物であり、ジフルオロメチル置換化合物が、Ａｒ−ＣＦ２Ｈで表される化合物である製造方法、または（ＩＩ）触媒が、パラジウム化合物およびジホスフィン配位子であり、原料がＱ−Ｂ（ＯＲ１）２〔式中、Ｑは、置換若しくは無置換のＣ６〜１０アリール基、置換若しくは無置換の５〜１０員のヘテロアリール基、またはＡｒ１−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基を示す。Ｒ１は、水素原子またはＣ１〜６アルキル基を示す。〕で表される化合物、またはＱ−Ｚｎ−Ｑで表される化合物であり、ジフルオロメチル置換化合物が、Ｑ−ＣＦ２Ｈで表される化合物である製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ジフルオロヨードメタンと触媒を用いたジフルオロメチル置換化合物の製造方法であって、
（Ｉ）触媒が、ニッケル化合物および含窒素二座配位子であり、原料が式（１）
Ａｒ−Ｚ  （１）
〔式中、Ａｒは、置換若しくは無置換のＣ６〜１４アリール基または置換若しくは無置換の５〜１０員のヘテロアリール基を示し、
Ｚは、式（Ａ）
Ｂ（ＯＲ）２  （Ａ）
（式中、Ｒは、水素原子またはＣ１〜６アルキル基を示す。）で表される基、または式（Ｂ）
ＭｇＸ  （Ｂ）
（式中、Ｘはハロゲノ基を示す。）で表される基を示す。〕で表される化合物であり、
ジフルオロメチル置換化合物が式（２）
Ａｒ−ＣＦ２Ｈ  （２）
（式中、Ａｒは、前記と同じ意味を示す。）で表される化合物である製造方法、または
（ＩＩ）触媒が、パラジウム化合物およびジホスフィン配位子であり、原料が式（３）
Ｑ−Ｂ（ＯＲ１）２  （３）
〔式中、Ｑは、置換若しくは無置換のＣ６〜１０アリール基、置換若しくは無置換の５〜１０員のヘテロアリール基、または式（Ｃ）
Ａｒ１−ＣＨ＝ＣＨ−  （Ｃ）
（式中、Ａｒ１は、置換若しくは無置換のＣ６〜１０アリール基または置換若しくは無置換の５〜１０員のヘテロアリール基を示す。）で表される基を示す。
Ｒ１は、水素原子またはＣ１〜６アルキル基を示す。〕で表される化合物、または式（４）
Ｑ−Ｚｎ−Ｑ  （４）
（式中、Ｑは前記と同様の意味を示す。）で表される化合物であり、
ジフルオロメチル置換化合物が式（５）
Ｑ−ＣＦ２Ｈ  （５）
（式中、Ｑは、前記と同じ意味を示す。）で表される化合物である製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ジフルオロヨードメタンを用いたジフルオロメチル置換化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ジフルオロメチル置換化合物は、医農薬、電子材料などの合成中間体として注目されている。ジフルオロメチル置換化合物は、例えば、対応する有機化合物をジフルオロメチル化させることを含む製法によって得ることができる。
【０００３】
ジフルオロメチル化に用いられる化合物として、（ブロモジフルオロメチル）トリメチルシラン、クロロジフルオロ酢酸ナトリウム、クロロジフルオロ酢酸メチル、(ブロモジフルオロメチル)ホスホン酸ジエチル、ジフルオロ(フルオロスルホニル)酢酸トリメチルシリル、（ジフルオロメチル）トリメチルシラン、ジフルオロメチルフェニルスルホン、ジフルオロメチル２−ピリジルスルホンなどが市販されている（東京化成工業株式会社ウェブサイト  http://www.tcichemicals.com/eshop/ja/jp/category_index/12677/  参照）。
【０００４】
特許文献１は、ジフルオロメチル亜鉛・テトラアルキルエチレンジアミン錯体化合物を開示している。特許文献１には、ジフルオロメチル亜鉛・テトラアルキルエチレンジアミン錯体化合物が、効率的かつ安定に製造でき、工業的に利用可能となると、記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１６−１７９９４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、安価な試薬を用い簡便にジフルオロメチル置換化合物を製造する方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の目的を達成するために検討した結果、以下の形態を包含する本発明を完成するに至った。
【０００８】
〔１〕ジフルオロヨードメタンと触媒を用いたジフルオロメチル置換化合物の製造方法であって、
（Ｉ）触媒が、ニッケル化合物および含窒素二座配位子であり、原料が式（１）
Ａｒ−Ｚ  （１）
〔式中、Ａｒは、置換若しくは無置換のＣ６〜１４アリール基または置換若しくは無置換の５〜１０員のヘテロアリール基を示し、
Ｚは、式（Ａ）
Ｂ（ＯＲ）２  （Ａ）
（式中、Ｒは、水素原子またはＣ１〜６アルキル基を示す。）で表される基、または式（Ｂ）
ＭｇＸ  （Ｂ）
（式中、Ｘはハロゲノ基を示す。）で表される基を示す。〕で表される化合物であり、
ジフルオロメチル置換化合物が式（２）
Ａｒ−ＣＦ２Ｈ  （２）
（式中、Ａｒは、前記と同じ意味を示す。）で表される化合物である製造方法、または
（ＩＩ）触媒が、パラジウム化合物およびジホスフィン配位子であり、原料が式（３）
Ｑ−Ｂ（ＯＲ１）２  （３）
〔式中、Ｑは、置換若しくは無置換のＣ６〜１０アリール基、置換若しくは無置換の５〜１０員のヘテロアリール基、または式（Ｃ）
Ａｒ１−ＣＨ＝ＣＨ−  （Ｃ）
（式中、Ａｒ１は、置換若しくは無置換のＣ６〜１０アリール基または置換若しくは無置換の５〜１０員のヘテロアリール基を示す。）で表される基を示す。
Ｒ１は、水素原子またはＣ１〜６アルキル基を示す。〕で表される化合物、または式（４）
Ｑ−Ｚｎ−Ｑ  （４）
（式中、Ｑは前記と同様の意味を示す。）で表される化合物であり、
ジフルオロメチル置換化合物が式（５）
Ｑ−ＣＦ２Ｈ  （５）
（式中、Ｑは、前記と同じ意味を示す。）で表される化合物である製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
特許文献１に記載のジフルオロメチル亜鉛・テトラアルキルエチレンジアミン錯体化合物は、室温下で安定に取り扱えるものであるが、保存安定性に乏しい。また、事前に錯体を調製する必要がある。
これに対して、本発明は、安価なジフルオロヨードメタンと、触媒量のニッケル化合物および含窒素二座配位子または触媒量のパラジウム化合物およびジホスフィン配位子を用いることで、所望のジフルオロメチル置換化合物を製造することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
１．原料化合物
〔式（１）で表される化合物〕
本発明の原料となる化合物は、下記の式（１）で表される化合物である。
Ａｒ−Ｚ  （１）
【００１１】
（Ａｒ）
Ａｒは、置換若しくは無置換のＣ６〜１４アリール基または置換若しくは無置換の５〜１０員のヘテロアリール基を示す。
【００１２】
「Ｃ６〜１４アリール基」としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナンスレニル基などを挙げることができる。
「５〜１０員のヘテロアリール基」とは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を環の構成原子として含むものである。
５〜１０員のヘテロアリール基としては、
ピロリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基などの５員のヘテロアリール基；
ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダニジル基、トリアジニル基などの６員のヘテロアリール基； 
インドリル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチオフェニル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基などの９員のヘテロアリール基；
キノリル基、イソキノリル基、キノキサリル基などの１０員のヘテロアリール基を挙げることができる。
【００１３】
「Ｃ６〜１４アリール基」または「５〜１０員のヘテロアリール基」上の「置換基」は、化学的に許容され、本発明の効果を有する限りにおいて特に制限されない。以下に「置換基」となり得る基を例示する。
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基などのＣ１〜６アルキル基；
ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基（アリル基）、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基などのＣ２〜６アルケニル基；
エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−メチル−２−プロピニル基などのＣ２〜６アルキニル基；
【００１４】
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、キュバニル基などのＣ３〜８シクロアルキル基；
フェニル基、ナフチル基などのＣ６〜１０アリール基；
ベンジル基、フェネチル基などのＣ６〜１０アリールＣ１〜６アルキル基；
３〜６員のヘテロシクリル基；
３〜６員のへテロシクリルＣ１〜６アルキル基；
【００１５】
メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などのＣ１〜６アルコキシ基；
フェノキシ基、ナフトキシ基などのＣ６〜１０アリールオキシ基；
ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基などのＣ６〜１０アリールＣ１〜６アルコキシ基；
チアゾリルオキシ基、ピリジルオキシ基などの５〜６員のヘテロアリールオキシ基；
チアゾリルメチルオキシ基、ピリジルメチルオキシ基などの５〜６員のヘテロアリールＣ１〜６アルキルオキシ基；
【００１６】
ホルミルオキシ基；
アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基などのＣ１〜６アルキルカルボニルオキシ基；  
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基などのＣ１〜６アルコキシカルボニル基；
メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｎ−プロポキシカルボニルオキシ基、ｉ−プロポキシカルボニルオキシ基、ｎ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基などのＣ１〜６アルコキシカルボニルオキシ基；
【００１７】
フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基；
クロロメチル基、クロロエチル基、トリフルオロメチル基、１，２−ジクロロ−ｎ−プロピル基、１−フルオロ−ｎ−ブチル基、パーフルオロ−ｎ−ペンチル基などのＣ１〜６ハロアルキル基；
トリフルオロメトキシ基、２−クロロ−ｎ−プロポキシ基、２，３−ジクロロブトキシ基などのＣ１〜６ハロアルコキシ基；
【００１８】
ホルミルアミノ基；
アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ブチリルアミノ基、ｉ−プロピルカルボニルアミノ基などのＣ１〜６アルキルカルボニルアミノ基；
メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニルアミノ基などのＣ１〜６アルコキシカルボニルアミノ基；
アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチルアミノカルボニル基などの無置換もしくは置換基を有するアミノカルボニル基；
【００１９】
メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｉ−ブチルチオ基、ｓ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基などのＣ１〜６アルキルチオ基；
トリフルオロメチルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチオ基などのＣ１〜６ハロアルキルチオ基；
メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｔ−ブチルスルホニル基などのＣ１〜６アルキルスルホニル基；
トリフルオロメチルスルホニル基、２，２，２−トリフルオロエチルスルホニル基などのＣ１〜６ハロアルキルスルホニル基；
【００２０】
トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基などのトリＣ１〜６アルキル置換シリル基；
トリフェニルシリル基などのトリＣ６〜１０アリール置換シリル基；
シアノ基；ニトロ基；
【００２１】
また、これらの「置換基」は、当該置換基中のいずれかの水素原子が、異なる構造の基で置換されていてもよい。その場合の置換基としては、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、ハロゲノ基、シアノ基、ニトロ基などを挙げることができる。
【００２２】
また、上記の「３〜６員のヘテロシクリル基」とは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を環の構成原子として含むものである。ヘテロシクリル基は、単環および多環のいずれであってもよい。多環ヘテロシクリル基は、少なくとも一つの環がヘテロ環であれば、残りの環が飽和脂環、不飽和脂環または芳香環のいずれであってもよい。「３〜６員のヘテロシクリル基」としては、３〜６員の飽和ヘテロシクリル基、５〜６員のヘテロアリール基、５〜６員の部分不飽和ヘテロシクリル基などを挙げることができる。
３〜６員の飽和ヘテロシクリル基としては、アジリジニル基、エポキシ基、ピロリジニル基、テトラヒドロフラニル基、チアゾリジニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基などを挙げることができる。
５員のヘテロアリール基としては、ピロリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基などを挙げることができる。
６員のヘテロアリール基としては、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基などを挙げることができる。
【００２３】
（Ｚ）
Ｚは、式（Ａ）
Ｂ（ＯＲ）２  （Ａ）
（式中、Ｒは、水素原子またはＣ１〜６アルキル基を示す。）で表される基、または式（Ｂ）
ＭｇＸ  （Ｂ）
（式中、Ｘはハロゲノ基を示す。）で表される基を示す。
【００２４】
Ｒにおける「Ｃ１〜６アルキル基」としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基などを挙げることができる。
Ｘにおける「ハロゲノ基」としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などを挙げることができる。
【００２５】
〔式（３）で表される化合物〕
本発明の原料となる化合物のひとつは、下記の式（３）で表される化合物である。
Ｑ−Ｂ（ＯＲ１）２  （３）
【００２６】
（Ｑ）
Ｑは、置換若しくは無置換のＣ６〜１０アリール基、置換若しくは無置換の５〜１０員のヘテロアリール基、または式（Ｃ）
Ａｒ１−ＣＨ＝ＣＨ−  （Ｃ）
（式中、Ａｒ１は、置換若しくは無置換のＣ６〜１０アリール基または置換若しくは無置換の５〜１０員のヘテロアリール基を示す。）で表される基を示す。
【００２７】
「Ｃ６〜１０アリール基」としては、フェニル基、ナフチル基などを挙げることができる。
「５〜１０員のヘテロアリール基」とは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を環の構成原子として含むものである。
５〜１０員のヘテロアリール基としては、
ピロリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基などの５員のヘテロアリール基；
ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダニジル基、トリアジニル基などの６員のヘテロアリール基； 
インドリル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチオフェニル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基などの９員のヘテロアリール基；
キノリル基、イソキノリル基、キノキサリル基などの１０員のヘテロアリール基を挙げることができる。
【００２８】
「Ｃ６〜１０アリール基」または「５〜１０員のヘテロアリール基」上の「置換基」は、化学的に許容され、本発明の効果を有する限りにおいて特に制限されない。以下に「置換基」となり得る基を例示する。
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基などのＣ１〜６アルキル基；
ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基（アリル基）、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基などのＣ２〜６アルケニル基；
エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−メチル−２−プロピニル基などのＣ２〜６アルキニル基；
【００２９】
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、キュバニル基などのＣ３〜８シクロアルキル基；
フェニル基、ナフチル基などのＣ６〜１０アリール基；
ベンジル基、フェネチル基などのＣ６〜１０アリールＣ１〜６アルキル基；
３〜６員のヘテロシクリル基；
３〜６員のへテロシクリルＣ１〜６アルキル基；
【００３０】
メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などのＣ１〜６アルコキシ基；
フェノキシ基、ナフトキシ基などのＣ６〜１０アリールオキシ基；
ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基などのＣ６〜１０アリールＣ１〜６アルコキシ基；
チアゾリルオキシ基、ピリジルオキシ基などの５〜６員のヘテロアリールオキシ基；
チアゾリルメチルオキシ基、ピリジルメチルオキシ基などの５〜６員のヘテロアリールＣ１〜６アルキルオキシ基；
【００３１】
ホルミルオキシ基；
アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基などのＣ１〜６アルキルカルボニルオキシ基；  
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基などのＣ１〜６アルコキシカルボニル基；
メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｎ−プロポキシカルボニルオキシ基、ｉ−プロポキシカルボニルオキシ基、ｎ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基などのＣ１〜６アルコキシカルボニルオキシ基；
【００３２】
フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基；
クロロメチル基、クロロエチル基、トリフルオロメチル基、１，２−ジクロロ−ｎ−プロピル基、１−フルオロ−ｎ−ブチル基、パーフルオロ−ｎ−ペンチル基などのＣ１〜６ハロアルキル基；
トリフルオロメトキシ基、２−クロロ−ｎ−プロポキシ基、２，３−ジクロロブトキシ基などのＣ１〜６ハロアルコキシ基；
【００３３】
ホルミルアミノ基；
アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ブチリルアミノ基、ｉ−プロピルカルボニルアミノ基などのＣ１〜６アルキルカルボニルアミノ基；
メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニルアミノ基などのＣ１〜６アルコキシカルボニルアミノ基；
アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチルアミノカルボニル基などの無置換もしくは置換基を有するアミノカルボニル基；
【００３４】
メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｉ−ブチルチオ基、ｓ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基などのＣ１〜６アルキルチオ基；
トリフルオロメチルチオ基、２，２，２−トリフルオロエチルチオ基などのＣ１〜６ハロアルキルチオ基；
メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｔ−ブチルスルホニル基などのＣ１〜６アルキルスルホニル基；
トリフルオロメチルスルホニル基、２，２，２−トリフルオロエチルスルホニル基などのＣ１〜６ハロアルキルスルホニル基；
【００３５】
トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基などのトリＣ１〜６アルキル置換シリル基；
トリフェニルシリル基などのトリＣ６〜１０アリール置換シリル基；
シアノ基；ニトロ基；
【００３６】
また、これらの「置換基」は、当該置換基中のいずれかの水素原子が、異なる構造の基で置換されていてもよい。その場合の置換基としては、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、ハロゲノ基、シアノ基、ニトロ基などを挙げることができる。
【００３７】
また、上記の「３〜６員のヘテロシクリル基」とは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を環の構成原子として含むものである。ヘテロシクリル基は、単環および多環のいずれであってもよい。多環ヘテロシクリル基は、少なくとも一つの環がヘテロ環であれば、残りの環が飽和脂環、不飽和脂環または芳香環のいずれであってもよい。「３〜６員のヘテロシクリル基」としては、３〜６員の飽和ヘテロシクリル基、５〜６員のヘテロアリール基、５〜６員の部分不飽和ヘテロシクリル基などを挙げることができる。
３〜６員の飽和ヘテロシクリル基としては、アジリジニル基、エポキシ基、ピロリジニル基、テトラヒドロフラニル基、チアゾリジニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基などを挙げることができる。
５員のヘテロアリール基としては、ピロリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基などを挙げることができる。
６員のヘテロアリール基としては、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基などを挙げることができる。
【００３８】
（Ｒ１）
Ｒ１は、水素原子またはＣ１〜６アルキル基を示す。
Ｒ１における「Ｃ１〜６アルキル基」としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基などを挙げることができる。
【００３９】
〔式（４）で表される化合物〕
本発明の原料となる化合物のひとつは、下記の式（４）で表される化合物である。
Ｑ−Ｚｎ−Ｑ  （４）
【００４０】
式中、Ｑは前記と同様の意味を示す。
【００４１】
２．触媒
〔ニッケル触媒〕
本発明の製造方法では、触媒にニッケル化合物および含窒素二座配位子を用いる。
用いる「ニッケル化合物」は、０価のニッケル化合物であっても２価のニッケル化合物であっても、これらの混合物であってもよい。
０価のニッケル化合物としては、０価のニッケル錯体が好ましく、テトラキス（トリフェニルホスフィン）ニッケル、テトラキス（トリフェニルホスファイト）ニッケル、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル、ニッケルテトラカルボニルなどを挙げることができる。
２価のニッケル化合物としては、ハロゲン化ニッケル（例えば、フッ化ニッケル、塩化ニッケル、臭化ニッケル、ヨウ化ニッケルなど）、酢酸ニッケル、トリフルオロメタンスルホン酸ニッケル、硫酸ニッケル、炭酸ニッケル、硝酸ニッケル、ニッケルアセチルアセテート、ニッケロセンなどを挙げることができる。
【００４２】
用いる「含窒素二座配位子」は、ニッケル化合物に二座配位する含窒素化合物であれば制限はない。具体的には、２，２’−ビピリジル、４，４’−ｔ−ブチル−２，２’−ビピリジル、１，１０−フェナントロリン、メチレンビスオキサゾリン、Ｎ，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミンなどが挙げられる。
【００４３】
〔パラジウム触媒〕
本発明の製造方法では、触媒にパラジウム化合物およびジホスフィン配位子を用いる。
用いる「パラジウム化合物」は、０価のパラジウム化合物が好ましい。
０価のパラジウム化合物としては、０価のパラジウム錯体が好ましく、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（０）、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム（０）、ビス（シクロオクタ−１，５−ジエン）パラジウム（０）、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（トリｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）などを挙げることができる。
【００４４】
用いる「ジホスフィン配位子」は、パラジウム化合物に二座配位する化合物である。具体的には、ビス〔２-（ジフェニルホスフィノ）フェニル〕エーテル（略称：ＤＰＥｐｈｏｓ）、キサントホス（Xantphos）、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１,１’−ビナフチル（略称：ＢＩＮＡＰ）などが挙げられる。
【００４５】
３．ジフルオロメチル置換化合物
〔式（２）で表される化合物〕
下記の式（２）で表される化合物は、本発明の製造方法によって得られるジフルオロメチル置換化合物に該当する。
Ａｒ−ＣＦ２Ｈ  （２）
【００４６】
式中、Ａｒは前記と同じ意味を示す。
【００４７】
〔式（５）で表される化合物〕
下記の式（５）で表される化合物は、本発明の製造方法によって得られるジフルオロメチル置換化合物に該当する。
Ｑ−ＣＦ２Ｈ  （５）
【００４８】
式中、Ｑは前記と同じ意味を示す。
【００４９】
４．ニッケル触媒を用いたジフルオロメチル置換化合物の製造方法
本発明の製造方法は、芳香族金属種とジフルオロヨードメタンを、ニッケル触媒の存在下クロスカップリング反応を行い、カップリング生成物としてジフルオロメチル置換化合物を得るものである。すなわち、本発明のひとつの構成は以下の通りである。
式（１）
Ａｒ−Ｚ  （１）
〔式中、Ａｒは、置換若しくは無置換のＣ６〜１４アリール基または置換若しくは無置換の５〜１０員のヘテロアリール基を示し、
Ｚは、式（Ａ）
Ｂ（ＯＲ）２  （Ａ）
（式中、Ｒは、水素原子またはＣ１〜６アルキル基を示す。）で表される基、または式（Ｂ）
ＭｇＸ  （Ｂ）
（式中、Ｘはハロゲノ基を示す。）で表される基を示す。〕で表される基と、
ジフルオロヨードメタンを、触媒にニッケル化合物および含窒素二座配位子を用いて、反応を行い、
式（２）
Ａｒ−ＣＦ２Ｈ  （２）
（式中、Ａｒは、前記と同じ意味を示す。）で表される化合物を製造する。
【００５０】
ここで、式（１）で表される化合物が、クロスカップリング反応における芳香族金属種に該当する。
用いる化合物の使用量は、以下のとおりである。
ジフルオロヨードメタンの使用量は、式（１）で表される化合物１モルに対して、例えば、０．５〜２．０モルの範囲が挙げられ、好ましくは、０．６〜１．２モルの範囲である。
ニッケル化合物の使用量は、ジフルオロヨードメタン１モルに対して、例えば、０．００５〜０．２モルの範囲が挙げられ、好ましくは、０．０１〜０．１モルの範囲である。
含窒素二座配位子の使用量は、ニッケル化合物１モルに対して、例えば、１．０〜２．０モルの範囲が挙げられ、好ましくは、１．０〜１．５モルの範囲である。
【００５１】
反応は、有機溶媒中で行うことが好ましい。該有機溶媒は、原料である式（１）の化合物に対して不活性なものであれば特に限定はされない。例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル（製品名：ジグライム）、テトラヒドロフラン（略名：ＴＨＦ）などのエーテル類；  ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；  ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化水素類；  トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；  Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（略名：ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ’−ジメチルプロピレンウレア（略名：ＤＭＰＵ）、ヘキサメチルリン酸トリアミド（略名：ＨＭＰＡ）などの非プロトン極性溶媒を挙げることができる。
用いられる有機溶媒の量は、式（１）で表される化合物１重量部に対して１０〜５００重量部である。
【００５２】
反応系は、不活性ガス雰囲気下とすることが好ましい。
式（１）で表される化合物として、Ｚが式（Ｂ）で表される基である化合物を原料に用いる場合、塩基をさらに添加することが好ましい。用いる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウムなどが挙げられる。塩基の使用量は、ジフルオロヨードメタン１モルに対して、例えば、１．０〜５．０モルの範囲が挙げられ、好ましくは、１．５〜２．５モルの範囲である。
また、反応系内で発生するジフルオロメチル−ニッケル化合物は、加水分解を受けやすいので、加水分解の抑制を目的に、モレキュラーシーブ３Ａ、４Ａ、５Ａなどを適量用いることが好ましい。
【００５３】
反応は、ジフルオロヨードメタンとニッケル化合物および含窒素二座配位子との混合溶液を調製し、これに０℃〜室温にて式（１）で表される化合物の溶液を添加し、その後、適宜加熱するなどして、１時間〜１２時間かけて行うことができる。
また、反応は、式（１）で表される化合物とニッケル化合物および含窒素二座配位子との混合溶液を調製し、これに０℃〜室温にてジフルオロヨードメタンの溶液を添加し、その後、適宜加熱するなどして、１時間〜１２時間かけて行うことができる。
ここで、ジフルオロヨードメタンの溶液の添加に代えて、ジフルオロヨードメタンのガスまたはその混成ガスを吹き込むことも可能である。
反応終了後、定法に従って精製することによって、所望純度のジフルオロメチル置換化合物を得ることができる。
【００５４】
５．パラジウム触媒を用いたジフルオロメチル置換化合物の製造方法
本発明の製造方法は、芳香族金属種とジフルオロヨードメタンを、パラジウム触媒の存在下クロスカップリング反応を行い、カップリング生成物としてジフルオロメチル置換化合物を得るものである。すなわち、本発明のひとつの構成は以下の通りである。
式（３）
Ｑ−Ｂ（ＯＲ１）２  （３）
〔式中、Ｑは、置換若しくは無置換のＣ６〜１０アリール基、置換若しくは無置換の５〜１０員のヘテロアリール基、または式（Ｃ）
Ａｒ１−ＣＨ＝ＣＨ−  （Ｃ）
（式中、Ａｒ１は、置換若しくは無置換のＣ６〜１０アリール基または置換若しくは無置換の５〜１０員のヘテロアリール基を示す。）で表される基を示す。
Ｒ１は、水素原子またはＣ１〜６アルキル基を示す。〕で表される化合物、または式（４）
Ｑ−Ｚｎ−Ｑ  （４）
（式中、Ｑは前記と同様の意味を示す。）で表される化合物と、
ジフルオロヨードメタンを、触媒にパラジウム化合物およびジホスフィン配位子を用いて、反応を行い、
式（５）
Ｑ−ＣＦ２Ｈ  （５）
（式中、Ｑは、前記と同じ意味を示す。）で表される化合物を製造する。
【００５５】
ここで、式（３）で表される化合物または式（４）で表される化合物が、クロスカップリング反応における芳香族金属種に該当する。
用いる化合物の使用量は、以下のとおりである。
ジフルオロヨードメタンの使用量は、式（３）で表される化合物または式（４）で表される化合物１モルに対して、例えば、１．０〜５．０モルの範囲が挙げられ、好ましくは、１．０〜２．０モルの範囲である。
パラジウム化合物の使用量は、式（３）で表される化合物または式（４）で表される化合物１モルに対して、例えば、０．００５〜０．５モルの範囲が挙げられ、好ましくは、０．０１〜０．２モルの範囲である。
ジホスフィン配位子の使用量は、式（３）で表される化合物または式（４）で表される化合物１モルに対して、例えば、０．００５〜０．５モルの範囲が挙げられ、好ましくは、０．０１〜０．２モルの範囲である。
【００５６】
反応は、有機溶媒中で行うことが好ましい。該有機溶媒は、原料である式（３）で表される化合物または式（４）で表される化合物に対して不活性なものであれば特に限定はされない。例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル（製品名：ジグライム）、テトラヒドロフラン（略名：ＴＨＦ）などのエーテル類；  ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類；  ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化水素類；  トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；  Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（略名：ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ’−ジメチルプロピレンウレア（略名：ＤＭＰＵ）、ヘキサメチルリン酸トリアミド（略名：ＨＭＰＡ）などの非プロトン極性溶媒を挙げることができる。
用いられる有機溶媒の量は、式（３）で表される化合物または式（４）で表される化合物１重量部に対して１０〜５００重量部である。
【００５７】
反応系は、不活性ガス雰囲気下とすることが好ましい。
式（３）で表される化合物を原料に用いる場合、塩基をさらに添加することが好ましい。用いる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウムなどが挙げられる。塩基の使用量は、式（３）で表される化合物または式（４）で表される化合物１モルに対して、例えば、１．０〜５．０モルの範囲が挙げられ、好ましくは、１．５〜２．５モルの範囲である。
【００５８】
反応は、ジフルオロヨードメタンとパラジウム化合物およびジホスフィン配位子との混合溶液を調製し、これに０℃〜室温にて式（３）で表される化合物または式（４）で表される化合物の溶液を添加し、その後、適宜加熱するなどして、１時間〜１２時間かけて行うことができる。
また、反応は、式（３）で表される化合物または式（４）で表される化合物とパラジウム化合物およびジホスフィン配位子との混合溶液を調製し、これに０℃〜室温にてジフルオロヨードメタンの溶液を添加し、その後、適宜加熱するなどして、１時間〜１２時間かけて行うことができる。
ここで、ジフルオロヨードメタンの溶液の添加に代えて、ジフルオロヨードメタンのガスまたはその混成ガスを吹き込むことも可能である。
反応終了後、定法に従って精製することによって、所望純度のジフルオロメチル置換化合物を得ることができる。
【００５９】
以下に実施例を示し、本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。まずは、ニッケル触媒を用いる方法について説明する。
【００６０】
実施例１  ｐ−（ジフルオロメチル）安息香酸エチルの製造
【化１】
2019156773.tif 000002
【００６１】
ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（１．４ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ、２．５ｍｏｌ％）、Ｎ，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン（０．６ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ、２．５ｍｏｌ％）をＴＨＦ（１ｍＬ）に加えて得られた混合物中にジフルオロヨードメタンのＴＨＦ溶液（１．０〜１．５Ｍ、０．２０ｍｍｏｌ）を室温下で添加した。その後冷却して０℃とし、４−（エトキシカルボニル）フェニルマグネシウムブロマイドのＴＨＦ溶液（０．５Ｍ、０．６ｍＬ）をゆっくり滴下した。その後室温にて１時間撹拌した。
反応停止後、エーテルで抽出し、エーテル層はブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後溶媒を減圧留去し、濾過後溶媒を減圧留去し、粗生成物を得た。トリフルオロメチルベンゼンを内部標準にＮＭＲで決定した粗収率は８２％であった。
得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）を用いて精製し、無色液状の目的物を得た（２８．４ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ、収率７１％）。
【００６２】
実施例２  ｐ−（ジフルオロメチル）安息香酸エチルの製造
【化２】
2019156773.tif 000003
【００６３】
ヨウ化ニッケル（３．２ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％）、１，１０−フェナントロリン（１．８ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％）、４−（エトキシカルボニル）フェニルボロン酸（０．３ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（５５．２ｍｇ、０．４ｍｍｏｌ）、モレキュラーシーブ４Ａ（３００ｍｇ）をジオキサン（２ｍＬ）に加えて得られた混合物中にジフルオロヨードメタンのＴＨＦ溶液（１．０〜１．５Ｍ、０．２０ｍｍｏｌ）を室温下で添加した。添加終了後、反応液を９０℃に加熱し、同温にて２４時間撹拌した。
その後、水を加えて反応を停止させた。反応停止後、エーテルで抽出し、エーテル層はブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後溶媒を減圧留去し、粗生成物を得た。トリフルオロメチルベンゼンを内部標準にＮＭＲで決定した粗収率は９９％であった。
得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１）を用いて精製し、無色透明な液状の目的物を得た（３６．８ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ、収率９２％）。
【００６４】
実施例１と同様の方法で、以下の表１に示す実施例３〜２１を行った。
なお、低沸点の生成物については、クロマトグラフィーによる精製を省略したため、単離収率は記載していない。
【００６５】
【表１】
2019156773.tif 000004
【００６６】
実施例２と同様の方法で、以下の表２に示す実施例２２〜３１を行った。
なお、低沸点の生成物については、クロマトグラフィーによる精製を省略したため、単離収率は記載していない。
【００６７】
【表２】
2019156773.tif 000005
【００６８】
次に、パラジウム触媒を用いる方法について説明する。
実施例３２  ｐ−（ジフルオロメチル）安息香酸エチルの製造
【化３】
2019156773.tif 000006
【００６９】
テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（３４．７ｍｇ、０．０３ｍｍｏｌ、１０ｍｏｌ％）、ＤＰＥｐｈｏｓ（１６．２ｍｇ、０．０３ｍｍｏｌ、１０ｍｏｌ％）、４−（エトキシカルボニル）フェニルボロン酸（５８．２ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）、リン酸カリウム（１２７．５ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）をトルエン（３ｍＬ）に加えて得られた混合物中に、水（３００μＬ）とジフルオロヨードメタンのＴＨＦ溶液（１．０〜１．５Ｍ、０．４５ｍｍｏｌ）を、室温、アルゴン雰囲気下で添加した。添加終了後、反応液を６０℃に加熱し、同温にて２４時間撹拌した。
その後、室温まで冷却し、水を加えて反応を停止させた。反応停止後、エーテルで抽出し、エーテル層はブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後溶媒を減圧留去し、粗生成物を得た。得られた粗生成物を、シリカゲルクロマトグラフィーを用いて精製し目的物を得た（４２．０ｍｇ、収率７０％）。
【００７０】
実施例３３  ｐ−（ジフルオロメチル）安息香酸エチルの製造
トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（０）（１８．３ｍｇ、０．０２ｍｍｏｌ、５ｍｏｌ％）、Ｘａｎｔｐｈｏｓ（２５．５ｍｇ、０．０４４ｍｍｏｌ、１１ｍｏｌ％）をＴＨＦ（１．５ｍＬ）に加えて得られた混合物中にジフルオロヨードメタンのＴＨＦ溶液（１．０〜１．５Ｍ、０．６ｍｍｏｌ）を室温下で滴下した。その後室温にて３０分間撹拌し、ビス（４−カルボニルエチルフェニル）亜鉛のＴＨＦ溶液（０．３〜０．５Ｍ、０．４０ｍｍｏｌ）を加え、室温にて２０時間撹拌した。
その後、水を加えて反応を停止させた。反応停止後、エーテルで抽出し、エーテル層はブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過後溶媒を減圧留去し、粗生成物を得た。トリフルオロメチルベンゼンを内部標準にＮＭＲで決定した粗収率は６０％であった。得られた粗生成物を、シリカゲルクロマトグラフィー（２％のジクロロメタンを含有するペンタン）を用いて精製し目的物を得た（２９．３ｍｇ、収率４９％）。
【００７１】
実施例３２と同様の方法で、以下の表３に示す実施例３４〜５１を行った。
なお、低沸点の生成物については、クロマトグラフィーによる精製を省略したため、単離収率は記載していない。
【００７２】
【表３】
2019156773.tif 000007
【００７３】
実施例３３と同様の方法で、以下の表４に示す実施例５２〜６４を行った。
【００７４】
【表４】
2019156773.tif 000008
【００７５】
以上の結果は、本発明化合物を用いることによって、医農薬、電子材料などの合成中間体として注目されているジフルオロメチル置換化合物を、簡便に製造できることを示している。