(57)【要約】【課題】照射器具からの静電気の放電を抑制できるプラズマ式治療装置を提供する。【解決手段】本発明のプラズマ式治療装置は、プラズマ発生部と、前記プラズマ発生部にて発生したプラズマ及び前記プラズマによって生じる活性ガスの少なくとも一方を吐出するノズル１を有する照射器具１０と、前記照射器具１０を接触させた際に照射器具１０を除電する除電部５０ａとを備える。除電部５０ａは、アース線５３と、アース線５３に導通する導電部５２とを有し、導電部５２に照射器具１０を接触させるものであってもよい。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ発生部と、前記プラズマ発生部にて発生したプラズマ及び前記プラズマによって生じる活性ガスの少なくとも一方を吐出するノズルを有する照射器具と、
前記プラズマ発生部に電気を供給する給電部と、
前記照射器具を接触させた際に前記照射器具を除電する除電部と、
を備えるプラズマ式治療装置。
【請求項２】
前記ノズルが金属製である、請求項１に記載のプラズマ式治療装置。
【請求項３】
前記ノズルが、前記給電部から電気的に孤立している、請求項１又は２に記載のプラズマ式治療装置。
【請求項４】
前記除電部が、アース線と、前記アース線に導通する導電部とを有し、前記導電部に前記照射器具を接触させて前記照射器具を除電する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のプラズマ式治療装置。
【請求項５】
前記除電部が前記照射器具を置くためのホルダを有し、前記ホルダが前記導電部を備える、請求項４に記載のプラズマ式治療装置。
【請求項６】
前記ホルダに前記照射器具を置いた際に、前記導電部は前記ノズルと接触する、請求項５に記載のプラズマ式治療装置。
【請求項７】
前記給電部はアース線を備え、
前記給電部のアース線は、前記除電部のアース線を兼ねる、請求項４〜６のいずれか一項に記載のプラズマ式治療装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマ式治療装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、歯科治療等の医療用途において、創傷等の患部にプラズマ又はプラズマによって生じた活性ガスを照射して患部の治癒を図るプラズマ式治療装置がある。
例えば、特許文献１は、歯科治療を行う照射器具にプラズマジェット照射手段を備えたプラズマジェット照射装置を開示している。このプラズマジェット照射装置は、プラズマを発生し、発生したプラズマと、プラズマ中又は周辺の気体と反応して生成した活性種とを被照射物に照射する。
特許文献２は、照射器具内部で発生させたプラズマによって活性酸素又は活性窒素等の活性ガス（活性種）を発生させ、その活性ガスをノズルから吐出し、患部に照射するプラズマ式治療装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第５４４１０６６号公報
【特許文献２】特開２０１７−５０２６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
プラズマ式治療装置においては、活性種を照射している間に照射器具に静電気が生じて帯電することがある。プラズマ式治療装置の使用者が照射器具を掴む際、照射器具が帯電していると、静電気の放電が生じて使用者に対して電撃が起こることがあった。また、プラズマ式治療装置の使用者が照射器具を患者の患部に近づける際、照射器具が帯電していると、患者に対して電撃が起こることがあった。
本発明は、照射器具からの静電気の放電を抑制できるプラズマ式治療装置を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、以下の態様を有する。
［１］プラズマ発生部と、前記プラズマ発生部にて発生したプラズマ及び前記プラズマによって生じる活性ガスの少なくとも一方を吐出するノズルを有する照射器具と、前記プラズマ発生部に電気を供給する給電部と、前記照射器具を接触させた際に前記照射器具を除電する除電部と、を備えるプラズマ式治療装置。
［２］前記ノズルが金属製である、［１］に記載のプラズマ式治療装置。
［３］前記ノズルが、前記給電部から電気的に孤立している、［１］又は［２］に記載のプラズマ式治療装置。
［４］前記除電部が、アース線と、前記アース線に導通する導電部とを有し、前記導電部に前記照射器具を接触させて前記照射器具を除電する、［１］〜［３］のいずれかに記載のプラズマ式治療装置。
［５］前記除電部が前記照射器具を置くためのホルダを有し、前記ホルダが前記導電部を備える、［４］に記載のプラズマ式治療装置。
［６］前記ホルダに前記照射器具を置いた際に、前記導電部は前記ノズルと接触する、［５］に記載のプラズマ式治療装置。
［７］前記給電部はアース線を備え、前記給電部のアース線は、前記除電部のアース線を兼ねる、［４］〜［６］のいずれか一項に記載のプラズマ式治療装置。
【発明の効果】
【０００６】
本発明のプラズマ式治療装置によれば、照射器具からの静電気の放電を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明の一実施形態に係るプラズマ式治療装置を示す模式図である。
【図２】本発明の一実施形態に係るプラズマ式治療装置を構成する照射器具の部分断面図である。
【図３】図２の照射器具のｘ−ｘ断面図である。
【図４】本実施形態の一実施形態に係るプラズマ式治療装置を構成する除電部の第一の例を示す概略斜視図である。
【図５】本実施形態の一実施形態に係るプラズマ式治療装置を構成する除電部の第二の例を示す概略断面図である。
【図６】本実施形態の一実施形態に係るプラズマ式治療装置を構成する除電部の第三の例を示す概略断面図である。
【図７】本実施形態の一実施形態に係るプラズマ式治療装置を構成する除電部の第四の例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本発明のプラズマ式治療装置は、プラズマジェット照射装置又は活性ガス照射装置である。
プラズマジェット照射装置は、プラズマを発生し、発生したプラズマとプラズマ中もしくは周辺の気体と反応して生成した活性種とを被照射物に直接照射する。活性種としては、ヒドロキシルラジカル、一重項酸素、オゾン、過酸化水素、スーパーオキシドアニオンラジカル等の活性酸素種、一酸化窒素、二酸化窒素、ペルオキシナイトライト、過酸化亜硝酸、三酸化二窒素等の活性窒素種を例示できる。
活性ガス照射装置は、プラズマを発生し、発生したプラズマ中もしくは周辺の気体と反応して生成した活性種を含む活性ガスを被照射物に照射する。
【０００９】
以下、本発明のプラズマ式治療装置の一実施形態について説明する。
本実施形態のプラズマ式治療装置は、活性ガス照射装置である。
図１に示すように、本実施形態の活性ガス照射装置１００は、照射器具１０と、給電ユニット２０と、ガス管路３０と、電気配線４０と、除電部５０を備える。本実施形態において、給電ユニット２０は、給電部である。
除電部５０は、給電ユニット２０と接続している。
ガス管路３０は、照射器具１０と給電ユニット２０とを接続している。電気配線４０は、照射器具１０と給電ユニット２０とを接続している。
本実施形態において、ガス管路３０と電気配線４０とは、各々独立しているが、ガス管路３０と電気配線４０とは一体でもよい。
給電ユニット２０は、プラズマ発生用ガスの供給源（不図示）と接続している。
給電ユニット２０は、例えば、１００Ｖの電源等の電源（不図示）と接続している。
【００１０】
図２は、照射器具１０における軸線に沿う面の断面（縦断面）図である。
図２に示すように、照射器具１０は、長尺状のカウリング２と、カウリング２の先端から突出するノズル１と、カウリング２内に位置するプラズマ発生部１２とを備える。
カウリング２は、円筒形の胴体部２ｂと、胴体部２ｂの先端を塞ぐヘッド部２ａとを備える。なお、胴体部２ｂは、円筒形に限らず、四角筒、六角筒、八角筒等の多角筒形でもよい。
【００１１】
ヘッド部２ａは、先端に向かい漸次窄んでいる。即ち、本実施形態におけるヘッド部２ａは、円錐形である。なお、ヘッド部２ａは、円錐形に限らず、四角錘、六角錘、八角錘等の多角錘形でもよい。
ヘッド部２ａは、先端に嵌合孔２ｃを有している。嵌合孔２ｃは、ノズル１を受け入れる孔である。ノズル１は、ヘッド部２ａに着脱可能になっている。符号Ｏ１は、胴体部２ｂの管軸である。ヘッド部２ａは、管軸Ｏ１方向に延びる第一の活性ガス流路７を内部に有している。
胴体部２ｂは、外周面にスイッチ９を備えている。
【００１２】
図２及び図３に示すように、プラズマ発生部１２は、管状誘電体３と、内部電極４と、外部電極５とを備える。
管状誘電体３は、管軸Ｏ１方向に延びる円筒状の部材である。管状誘電体３は、管軸Ｏ１方向に延びるガス流路６を内部に有している。第一の活性ガス流路７とガス流路６とは連通している。なお、管軸Ｏ１は、管状誘電体３の管軸と同じである。
管状誘電体３は、内部に内部電極４を備えている。内部電極４は、管軸Ｏ１方向に延びる略円柱状の部材である。内部電極４は、管状誘電体３の内面と離間している。
管状誘電体３の外周面の一部には、内部電極４に沿う外部電極５を備えている。外部電極５は、管状誘電体３の外周面に沿って周回する環状の電極である。
図３に示すように、管状誘電体３と内部電極４と外部電極５とは、管軸Ｏ１を中心として同心円状に位置している。
本実施形態において、内部電極４の外周面と外部電極５の内周面とは、管状誘電体３を挟んで互いに対向している。
【００１３】
ノズル１は、嵌合孔２ｃに嵌合する台座部１ｂと、台座部１ｂから突出する照射管１ｃとを備える。台座部１ｂと照射管１ｃとは一体になっている。ノズル１は、その内部に、第二の活性ガス流路８を有している。ノズル１は、先端に照射口１ａを有している。第二の活性ガス流路８と第一の活性ガス流路７とは、連通している。
【００１４】
胴体部２ｂの材料は、特に制限はないが、絶縁性を有する材料が好ましい。絶縁性の材料としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂（ＡＢＳ樹脂）等の熱可塑性樹脂；フェノール樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコン樹脂等の熱硬化性樹脂等を例示できる。
胴体部２ｂの大きさは、特に制限はなく、手指で把持しやすい大きさとすることができる。
【００１５】
ヘッド部２ａの材料は、特に制限はなく、絶縁性を有してもよいし、絶縁性を有しなくてもよい。ヘッド部２ａの材料は、耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料が好ましい。耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料としては、ステンレス等の金属を例示できる。ヘッド部２ａと胴体部２ｂとの材料は、同じでもよく、異なってもよい。
ヘッド部２ａの大きさは、活性ガス照射装置１００の用途等を勘案して決定できる。例えば、活性ガス照射装置１００が口腔内用治療器具である場合、ヘッド部２ａの大きさは、口腔内に挿入できる大きさが好ましい。
【００１６】
管状誘電体３の材料としては、公知のプラズマ装置に使用する誘電体材料を適用できる。管状誘電体３の材料としては、例えば、ガラス、セラミックス、合成樹脂等を例示できる。管状誘電体３の誘電率は低いほど好ましい。
【００１７】
管状誘電体３の内径Ｒは、内部電極４の外径ｄを勘案して適宜決定できる。内径Ｒは、後述する距離ｓを所望の範囲とするように決定する。
【００１８】
内部電極４は、管軸Ｏ１方向に延びる軸部と、軸部の外周面のねじ山とを備える。軸部は、中実でもよいし、中空でもよい。中でも、軸部は中実が好ましい。軸部が中実であれば、加工が容易であり、かつ機械的な耐久性を高められる。内部電極４のねじ山は、軸部の周方向に周回する螺旋状のねじ山である。内部電極４の形態は、雄ねじと同様の形態である。
内部電極４は、外周面にねじ山を有することで、ねじ山先端部の電界が局所的に強くなり、放電開始電圧が低くなる。このため、低電力でプラズマを生成し、維持できる。
【００１９】
内部電極４の外径ｄは、活性ガス照射装置１００の用途（即ち、照射器具１０の大きさ）等を勘案して、適宜決定できる。活性ガス照射装置１００が口腔内用治療器具である場合、外径ｄは、０．５〜２０ｍｍが好ましく、１〜１０ｍｍがより好ましい。外径ｄが上記下限値以上であれば、内部電極を容易に製造できる。加えて、外径ｄが上記下限値以上であれば、表面積が大きくなり、プラズマをより効率的に発生して、治癒等をより促進できる。外径ｄが上記上限値以下であれば、照射器具１０を過度に大きくすることなく、プラズマをより効率的に発生し、治癒等をより促進できる。
【００２０】
内部電極４のねじ山の高さｈは、内部電極４の外径ｄを勘案して適宜決定できる。
内部電極４のねじ山のピッチｐは、内部電極４の長さや外径ｄ等を勘案して適宜決定できる。
【００２１】
内部電極４の材料は、導電材であれば特に制限はなく、公知のプラズマ装置の電極に使用できる金属を適用できる。内部電極４の材料としては、ステンレス、銅、タングステン等の金属、カーボン等を例示できる。
【００２２】
内部電極４としては、ＪＩＳ  Ｂ  ０２０５：２００１のメートルねじの規格品（Ｍ２、Ｍ２．２、Ｍ２．５、Ｍ３、Ｍ３．５等）、ＪＩＳ  Ｂ  ２０１６：１９８７のメートル台形ねじの規格品（Ｔｒ８×１．５、Ｔｒ９×２、Ｔｒ９×１．５等）、ＪＩＳ  Ｂ  ０２０６：１９７３のユニファイ並目ねじの規格品（Ｎｏ．１−６４ＵＮＣ、Ｎｏ．２−５６ＵＮＣ、Ｎｏ．３−４８ＵＮＣ等）等と同等の仕様が好ましい。これらの規格品と同等の仕様であれば、コスト面で優位である。
【００２３】
内部電極４の外面と管状誘電体３の内面との距離ｓは、０．０５〜５ｍｍが好ましく、０．１〜１ｍｍがより好ましい。距離ｓが上記下限値以上であれば、所望量のプラズマ発生用ガスを容易に通流できる。距離ｓが上記上限値以下であれば、プラズマをさらに効率的に発生し、活性ガスの温度を低くできる。
【００２４】
外部電極５の材料は、導電材であれば特に制限はなく、公知のプラズマ装置の電極に使用する金属を適用できる。外部電極５の材料としては、ステンレス、銅、タングステン等の金属、カーボン等を例示できる。
【００２５】
ノズル１の材料は、特に制限はなく、絶縁性を有してもよいし、導電性を有してもよい。ノズル１の材料としては、耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料が好ましい。耐摩耗性、耐腐食性に優れる材料としては、ステンレス等の金属を例示できる。
ノズル１が金属製である場合、活性ガス照射装置１００が除電部５０を備えることによる効果が特に有効になる。
ノズル１は、給電ユニット２０から電気的に孤立している（即ち、フローティング状態）ことが好ましい。本実施形態においては、ノズル１とヘッド部２ａとが金属製であり、胴体部２ｂが絶縁性の材料であれば、ノズル１とヘッド部２ａとはフローティング状態である。ノズル１は、ＪＩＳ  Ｔ０６０１−１：２０１２に規定の装着部の形別分類のうち、ＢＦ形装着部又はＣＦ形装着部であることが好ましい。ノズル１がフローティング状態にあれば、例えば、給電ユニット２０からプラズマ発生部１２に流れる電流がノズル１に伝わることを防止できる。したがって、ノズル１を患部に接触させた際に、給電ユニット２０から流れる電流が患部に伝わって電撃を起こすことを防止できる。
また、ノズル１がフローティング状態にある場合には、ノズル１の外に電気が流れる回路が存在しないため、帯電しやすい。そのため、除電部５０によって除電する効果が特に有効になる。
なお、ノズル１をフローティング状態にする構成としては、胴体部２ｂを絶縁性の材料とする構成を例示できる。
【００２６】
ノズル１における照射管１ｃ内の流路の長さ（即ち、距離Ｌ２）は、活性ガス照射装置１００の用途等を勘案して、適宜決定できる。
照射口１ａの開口径は、例えば、０．５〜５ｍｍが好ましい。開口径が上記下限値以上であれば、活性ガスの圧力損失を抑制できる。開口径が上記上限値以下であれば、照射する活性ガスの流速を高めて、患部の治癒等を促進できる。
照射管１ｃは、管軸Ｏ１に対して屈曲している。
照射管１ｃの管軸Ｏ２と管軸Ｏ１とのなす角度θは、活性ガス照射装置１００の用途等を勘案して決定できる。
【００２７】
内部電極４の先端Ｑ１からヘッド部２ａの先端Ｑ２までの距離Ｌ１と、先端Ｑ２から照射口１ａまでの距離Ｌ２との合計（即ち、内部電極４から照射口１ａまでの道のり）は、活性ガス照射装置１００に求める大きさや、照射した活性ガスが当たる面（被照射面）における温度等を勘案して適宜決定する。距離Ｌ１と距離Ｌ２の合計が長ければ、被照射面の温度を低くできる。距離Ｌ１と距離Ｌ２の合計が短ければ、活性ガスのラジカル密度をさらに高めて、被照射面における清浄化、賦活化、治癒等の効果をさらに高められる。なお、先端Ｑ２は、管軸Ｏ１と管軸Ｏ２との交点である。
【００２８】
給電ユニット２０は、照射器具１０に電気を供給する装置である。本実施形態の給電ユニット２０は、ガス管路３０を介して、照射器具１０にプラズマ発生用ガスを送るポンプを備える。給電ユニット２０は、外部電極５と内部電極４との間に印加する電圧及び周波数を調節できる。
なお、給電ユニット２０は、ポンプを備えなくてもよい。この場合、給電ユニット２０とは独立して、ポンプを備えてもよい。また、プラズマ発生用ガスの供給源における圧力によって、照射器具１０にプラズマ発生用ガスを供給してもよい。
【００２９】
ガス管路３０は、給電ユニット２０から照射器具１０にプラズマ発生用ガスを供給する経路である。ガス管路３０は、照射器具１０の管状誘電体３の後端部に接続している。ガス管路３０の材料は特に制限はなく、公知のガス管に用いる材料を適用できる。ガス管路３０の材料としては、例えば、樹脂製の配管、ゴム製のチューブ等を例示でき、可撓性を有する材料が好ましい。
【００３０】
電気配線４０は、給電ユニット２０から照射器具１０に電気を供給する配線である。電気配線４０は、照射器具１０の内部電極４、外部電極５及びスイッチ９に接続している。電気配線４０の材料は特に制限はなく、公知の電気配線に用いる材料を適用できる。電気配線４０の材料としては、絶縁材料で被覆した金属導線等を例示できる。
【００３１】
除電部５０は、照射器具１０を接触させた際に、帯電した照射器具１０を除電する器具である。本実施形態における除電部５０は、アース線と、アース線に導通する導電部とを有する。
除電部５０は、照射器具１０を置くためのホルダを有し、そのホルダが導電部を備えることが好ましい。通常、被照射物に活性ガスを照射していないときには、照射器具１０をホルダに置くことが多い。そのため、ホルダが導電部を備えていれば、照射器具１０をホルダに置くだけで照射器具１０を除電できる。
また、ホルダに照射器具１０を置いた際に、少なくともノズル１が導電部に接触することが好ましい。活性ガスの照射の際には、ノズル１が最も帯電しやすい。このため、ホルダに照射器具１０を置いた際にノズルが導電部に接触すれば、帯電したノズル１を確実に除電できる。
【００３２】
ホルダの材質としては特に制限はなく、例えば、樹脂、金属、木質材料、セラミックス等を例示できる。
ホルダの形状としては、照射器具を置くことができる形状であれば特に制限はなく、照射器具を受け入れる穴を有するホルダ、照射器具を置く溝を有するホルダ等を例示できる。
導電部は導電性物質を含有する部材である。導電部は導電性物質のみからなってもよい。導電性物質としては、例えば、金属、カーボン、導電性金属酸化物、導電性高分子等を例示できる。導電部は、導電性物質と共にゴム又は樹脂を含有してもよい。ゴム又は樹脂を含有させて導電部を軟質化させると、照射器具１０の傷付きを防止できる。
導電部の形状としては、例えば、コイル、板状、棒状、ブラシ状、溝状、環状、その他の任意の立体形状であってもよい。導電部として、市販の静電気除去シート等を使用することもできる。
また、ホルダを他の部材に固定するための金属ねじを導電部として利用してもよい。例えば、金属ねじによって、ホルダを給電ユニット２０の筐体に取り付け、金属ねじの頭部を導電部としてもよい。この場合、金属ねじを除電部５０のアース線に接続してもよいし、給電ユニット２０のアース線に接続してもよい。
【００３３】
アース線は導電性材料を含有する導線である。アース線は導電性物質のみからなってもよい。
導電部は給電ユニット２０のアース線に導通してもよいし、除電部５０のアース線と導通してもよい。即ち、給電ユニット２０のアース線が除電部５０のアース線を兼ねていてもよいし、給電ユニット２０のアース線と除電部５０のアース線とが互いに独立していてもよい。
【００３４】
以下、除電部５０の具体例を示す。ただし、本発明における除電部は、以下の具体例に限定されるものではない。
【００３５】
図４に第一の例の除電部５０ａを示す。除電部５０ａは、ホルダ５１と、導電部５２と、アース線５３とを備える。導電部５２とアース線５３とは導通している。
ホルダ５１は、一方を長手とする平面視長方形である。ホルダ５１は、ホルダ本体部５１ｂと支持部５１ｃとを備える。
ホルダ本体部５１ｂは、長手方向に延びる溝部５１ａを有する。溝部５１ａは、照射器具１０を保持可能な形状である。支持部５１ｃは溝部５１ａの一端を塞いでいる。
【００３６】
導電部５２は、コイル状である。導電部５２は、溝部５１ａの一端に位置する。支持部５１ｃは、導電部５２を支持する。
導電部５２は、支持部５１ｃに向うに従い窄む螺旋状である。導電部５２は、ノズル１に接触する形状である。
導電部５２は、溝部５１ａに照射器具１０を置いた際、ダンパの役割を果たす。導電部５２がダンパの役割を果たすことで、ノズル１の先端が支持部５１ｃに接触することを防いでいる。
【００３７】
除電部５０ａは、溝部５１ａを鉛直方向上方に臨ませている。溝部５１ａは支持部５１ｃ側が下方になるように傾斜させてもよい。
除電部５０ａでは、照射器具１０をホルダ５１の溝部５１ａに置き、ノズル１をコイル状の導電部５２に接触させることにより、帯電したノズル１を除電できる。
【００３８】
図５に第二の例の除電部５０ｂを示す。除電部５０ｂは、挿入穴５４ａを有する直方体状のホルダ５４と、挿入穴５４ａの底部近傍に位置するコイル状の導電部５５と、アース線５３とを備える。
コイル状の導電部５５としては、第一の例の除電部５０ａが備える導電部５２と同様の部材を例示できる。コイル状の導電部５５は、アース線５３と導通している。
導電部５５は、挿入穴５４ａに照射器具１０を挿入した際、ダンパの役割を果たす。このため、ノズル１の先端が挿入穴５４ａの底部に接触するのを防止できる。
除電部５０ｂでは、照射器具１０をホルダ５４の挿入穴５４ａに差し込み、ノズル１を導電部５５に接触させることにより、帯電したノズル１を除電できる。
【００３９】
図６に第三の例の除電部５０ｃを示す。除電部５０ｃは、挿入穴５６ａを有する直方体状のホルダ５６と、挿入穴５６ａの底部に位置する円板状の導電部５７と、アース線５３とを備える。
挿入穴５６ａは、照射器具１０のカウリング２を収容するカウリング挿入部５６ｂと、ノズル１を収容するノズル挿入部５６ｃとを有する。ノズル挿入部５６ｃの口径はカウリング挿入部５６ｂの口径より小さくなっている。導電部５７は、ノズル挿入部５６ｃの底面に位置する。導電部５７は、アース線５３と導通している。
本例では、挿入穴５６ａに照射器具１０を挿入した際に、カウリング挿入部５６ｂの底部にヘッド部２ａが当接する。ノズル挿入部５６ｃの深さは、カウリング挿入部５６ｂの底部にヘッド部２ａが当接した際に、ノズル１の先端が導電部５７に接する深さである。
除電部５０ｃでは、照射器具１０をホルダ５６の挿入穴５６ａに差し込み、ノズル挿入部５６ｃにノズル１を挿入して導電部５７に接触させることで、帯電したノズル１を除電できる。
【００４０】
上述した除電部５０ｂ，５０ｃは、通常、挿入穴５４ａ，５６ａが鉛直方向上方に開口している。ただし、挿入穴５４ａ，５６ａの深さ方向が鉛直方向に沿っている必要はない。挿入穴５４ａ，５６ａの深さ方向が鉛直方向に対して傾斜していれば、使用者は、照射器具１０を挿入穴５４ａ，５６ａに挿入しやすい。
第二の例及び第三の例においては、ホルダの外形が直方体でなくてもよく、円筒体、角柱体、円錐体、角錐体でもよい。また、ホルダにおける挿入穴を有する面が傾斜面となっていてもよい。
【００４１】
図７に第四の例の除電部５０ｄを示す。除電部５０ｄは、導電性の容器５８と、容器５８に接続したアース線５３とを備える。容器５８は、底面と底面の周縁から立ち上がる側面とを有し、内部に収容部５８ａを有する。容器５８は、ホルダと導電部とを兼ねる。
収容部５８ａの底面には、導電性のゴムシートを備えることが好ましい。ゴムシートを備えることで、ノズル１が傷付くのを防止できる。
除電部５０ｄでは、照射器具１０を収容部５８ａに入れ、ノズル１を容器５８に接触させることにより、帯電したノズル１を除電できる。
【００４２】
上述の例では、いずれも、除電部がホルダを有しているが、導電部とアース線のみでもよい。活性ガス照射装置１００の使用者が、任意の間隔で、導電部に照射器具のノズルを接触させれば、帯電した照射器具１０を除電できる。
【００４３】
次に、活性ガス照射装置１００の使用方法を説明する。
まず、給電ユニット２０を介して、プラズマ発生用ガスの供給源から照射器具１０にプラズマ発生用ガスを供給する。
照射器具１０に供給したプラズマ発生用ガスは、管状誘電体３の後端部から管状誘電体３の内空部に流入する。
次に、給電ユニット２０から照射器具１０に電気を供給し、内部電極４と外部電極５との間に電圧を印加する。管状誘電体３の内空部に導入したプラズマ発生用ガスは、内部電極４と外部電極５とが対向する位置において電離し、プラズマになる。
【００４４】
本実施形態においては、内部電極４と外部電極５とが、プラズマ発生用ガスの流れる方向と直交する向きに対向している。内部電極４の外周面と外部電極５の内周面とが対向する位置で発生したプラズマは、ガス流路６と、第一の活性ガス流路７と、第二の活性ガス流路８とをこの順に通流する。この間、プラズマは、ガス組成を変化しつつ通流し、ラジカル等の活性種を含む活性ガスとなる。
【００４５】
生じた活性ガスを照射口１ａから吐出する。吐出された活性ガスは、照射口１ａ近傍の気体の一部をさらに活性化して活性種を生成する。これらの活性種を含む活性ガスを被照射物に照射する。
活性ガスを第二の活性ガス流路８及び照射口１ａに通流させると、ノズル１が次第に帯電する。活性ガス照射装置１００の使用者は、任意の間隔で除電部５０の導電部に照射器具１０を接触させる。この際、ノズル１を導電部に接触させることが好ましい。これにより、帯電した照射器具１０を除電する。
【００４６】
被照射物としては、例えば、細胞、生体組織、生物個体等を例示できる。
生体組織としては、内蔵等の各器官、体表や体腔の内面を覆う上皮組織、歯肉、歯槽骨、歯根膜及びセメント質等の歯周組織、歯、骨等を例示できる。
生物個体としては、ヒト、犬、猫、豚等の哺乳類；鳥類；魚類等のいずれでもよい。
【００４７】
プラズマ発生用ガスとしては、例えば、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン等の希ガス；窒素；等を例示できる。これらのガスは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
プラズマ発生用ガスは、窒素を主成分とすることが好ましい。ここで、窒素を主成分とするとは、プラズマ発生用ガスにおける窒素の含有量が５０体積％超であることをいう。即ち、プラズマ発生用ガスにおける窒素の含有量は、５０体積％超が好ましく、７０体積％以上がさらに好ましく、９０〜１００質量％が特に好ましい。プラズマ発生用ガス中、窒素以外のガス成分は、特に制限はなく、例えば、酸素、希ガス等を例示できる。
【００４８】
活性ガス照射装置１００が口腔内用治療器具である場合、管状誘電体３に導入するプラズマ発生用ガスの酸素濃度は、１体積％以下が好ましい。酸素濃度が上限値以下であれば、オゾンの発生を低減できる。
【００４９】
管状誘電体３に導入するプラズマ発生用ガスの流量は、１〜１０Ｌ／ｍｉｎが好ましい。
管状誘電体３に導入するプラズマ発生用ガスの流量が前記下限値以上であると、被照射物における被照射面の温度の上昇を抑制しやすい。プラズマ発生用ガスの流量が前記上限値以下であると、被照射物の清浄化、賦活化又は治癒をさらに促進できる。
【００５０】
内部電極４と外部電極５との間に印加する交流電圧は、５ｋＶｐｐ以上２０ｋＶｐｐ以下が好ましい。ここで、交流電圧を表す単位「Ｖｐｐ（Ｖｏｌｔ  ｐｅａｋ  ｔｏ  ｐｅａｋ）」は、交流電圧波形の最高値と最低値との電位差である。
印加する交流電圧が前記上限値以下であれば、発生するプラズマの温度を低く抑えられる。印加する交流電圧が前記下限値以上であれば、さらに効率的にプラズマを発生できる。
【００５１】
内部電極４と外部電極５との間に印加する交流の周波数は、０．５ｋＨｚ以上２０ｋＨｚ未満が好ましく、１ｋＨｚ以上１５ｋＨｚ未満がより好ましく、２ｋＨｚ以上１０ｋＨｚ未満がさらに好ましく、３ｋＨｚ以上９ｋＨｚ未満が特に好ましく、４ｋＨｚ以上８ｋＨｚ未満が最も好ましい。
交流の周波数が前記上限値未満であれば、発生するプラズマの温度を低く抑えられる。交流の周波数が前記下限値以上であれば、さらに効率的にプラズマを発生できる。
【００５２】
ノズル１の照射口１ａから照射する活性ガスの温度は、５０℃以下が好ましく、４５℃以下がより好ましく、４０℃以下がさらに好ましい。
ノズル１の照射口１ａから照射する活性ガスの温度が前記上限値以下であると、被照射面の温度を４０℃以下にしやすい。被照射面の温度を４０℃以下にすることで、被照射部分が患部である場合にも、患部への刺激を低減できる。
ノズル１の照射口１ａから照射する活性ガスの温度の下限値は、特に制限はなく、例えば、１０℃以上である。
活性ガスの温度は、照射口１ａにおける活性ガスの温度を熱電対で測定した値である。
【００５３】
照射口１ａから被照射面までの距離（照射距離）は、例えば、０．０１〜１０ｍｍが好ましい。照射距離が上記下限値以上であれば、被照射面の温度を低くし、被照射面への刺激をさらに緩和できる。照射距離が上記上限値以下であれば、治癒等の効果をさらに高められる。
【００５４】
照射口１ａから１ｍｍ以上１０ｍｍ以下の距離で離れた位置の被照射面の温度は、４０℃以下が好ましい。被照射面の温度が４０℃以下であれば、被照射面への刺激を低減できる。被照射面の温度の下限値は特に制限はないが、例えば１０℃以上である。
被照射面の温度は、内部電極４と外部電極５との間に印加する交流電圧、照射する活性ガスの吐出量、内部電極４の先端Ｑ１から照射口１ａまでの道のり等の組み合わせで調節できる。
被照射面の温度は、熱電対を用いて測定できる。
【００５５】
活性ガスに含まれる活性種（ラジカル等）としては、ヒドロキシルラジカル、一重項酸素、オゾン、過酸化水素、スーパーオキシドアニオンラジカル、一酸化窒素、二酸化窒素、ペルオキシナイトライト、過酸化亜硝酸、三酸化二窒素等を例示できる。活性ガスに含まれる活性種の種類は、例えば、プラズマ発生用ガスの種類等にさらに調節できる。
【００５６】
活性ガス中におけるヒドロキシラジカルの密度（ラジカル密度）は、０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌが好ましい。ラジカル密度が前記下限値以上であると、細胞、生体組織及び生物個体から選ばれる被照射物の清浄化、賦活化又は異常の治癒を促進しやすい。ラジカル密度が前記上限値以下であると、被照射面への刺激を低減できる。
【００５７】
ラジカル密度は、例えば、以下の方法で測定できる。
ＤＭＰＯ（５，５−ジメチル−１−ピロリン−Ｎ−オキシド）０．２ｍｏｌ／Ｌ溶液０．２ｍＬに対して、活性ガスを３０秒間照射する。この際、照射口から液面までの距離を５．０ｍｍとする。活性ガスを照射した前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法を利用してヒドロキシルラジカル濃度を測定し、これをラジカル密度とする。
【００５８】
活性ガス中における一重項酸素の密度（一重項酸素密度）は、０．１〜３００μｍｏｌ／Ｌが好ましい。一重項酸素密度が前記下限値以上であると、細胞、生体組織及び生物個体等の被照射物の清浄化、賦活化又は異常の治癒を促進しやすい。前記上限値以下であると、被照射面への刺激を低減できる。
【００５９】
一重項酸素密度は、例えば、以下の方法で測定できる。
ＴＰＣ（２，２，５，５−テトラメチル−３−ピロリン−３−カルボキサミド）０．１ｍｏｌ／Ｌ溶液０．４ｍＬに対して、活性ガスを３０秒間照射する。この際、照射口から液面までの距離を５．０ｍｍとする。活性ガスを照射した前記溶液について、電子スピン共鳴（ＥＳＲ）法を利用して一重項酸素濃度を測定し、これを一重項酸素密度とする。
【００６０】
照射口１ａから照射する活性ガスの流量は、１〜１０Ｌ／ｍｉｎが好ましい。
照射口１ａから照射する活性ガスの流量が前記下限値以上であると、活性ガスが被照射面に作用する効果を充分に高められる。照射口１ａから照射する活性ガスの流量が前記上限値未満であると、活性ガスの被照射面の温度が過度に高まることを防止できる。加えて、被照射面が濡れている場合には、被照射面の急速な乾燥を防止できる。さらに、被照射面が患部である場合には、患者への刺激を抑制できる。
なお、活性ガス照射装置１００において、照射口１ａから照射する活性ガスの流量は、管状誘電体３へのプラズマ発生用ガスの供給量で調節できる。
【００６１】
活性ガス照射装置１００によって生じる活性ガスは、外傷や異常の治癒を促進する効果を有する。活性ガスを細胞、生体組織又は生物個体に照射することによって、その被照射部分の清浄化、賦活化、又はその被照射部分の治癒を促進できる。
【００６２】
外傷や異常の治癒を促進する目的で活性ガスを照射する場合、その照射頻度、照射回数及び照射期間は特に制限はない。例えば、１〜５．０Ｌ／ｍｉｎの照射量で活性ガスを患部に照射する場合、１日１〜５回、毎回１０秒〜１０分、１〜３０日間、等の照射条件が、治癒を促進する観点から好ましい。
【００６３】
本実施形態の活性ガス照射装置１００は、特に口腔内用治療器具、歯科用治療器具として有用である。また、本実施形態の活性ガス照射装置１００は、動物治療用器具としても好適である。
【００６４】
上記実施形態の活性ガス照射装置１００においては、を備えることにより、照射器具１０の帯電を除電できる。そのため、照射器具１０からの静電気の放電を抑制できる。したがって、活性ガス照射装置１００の使用者が照射器具１０を掴む際に、使用者に対して電撃が起こることを防止できる。また、照射器具１０を患部に接触させる際に、患者に対して電撃が起こることを防止できる。
【００６５】
＜他の実施形態＞
なお、本発明は、上記の実施形態に限定するものではない。
上述の実施形態では、活性ガス照射装置について説明した。しかしながら、本発明のプラズマ式治療装置は、プラズマジェット照射装置でもよい。プラズマジェット照射装置においても、プラズマジェットを照射している間に、照射器具、特にプラズマジェットを吐出するノズルが帯電することがある。したがって、プラズマジェット照射装置は、除電部を備えることにより、照射器具の静電気を除電できる。
【００６６】
上述の実施形態の除電部は、アース線を備えるが、本発明はこれに限定されない。例えば、除電部が静電気を空中に放電できる部材であれば、除電部は、アース線を備えなくてもよい。
また、例えば、除電部が、イオナイザー、軟Ｘ線装置等の除電装置を備えていれば、除電部は、アース線を備えなくてもよい。
【００６７】
上述の実施形態の除電部は、給電ユニットに接続している。しかしながら、除電部は、給電ユニットに接続していてもよいし、独立していてもよい。
【００６８】
上述の本実施形態の内部電極４の形状は、ねじ状である。しかしながら、内部電極は、外部電極との間にプラズマを発生できれば、内部電極の形状は限定されない。
内部電極は、表面に凹凸を有してもよいし、表面に凹凸を有しなくてもよい。内部電極としては、外周面に凹凸を有する形状が好ましい。
例えば、内部電極の形状は、コイル状でもよいし、外周面に突起、穴、貫通孔が複数形成された棒形状又は筒形状でもよい。内部電極の断面形状は、特に限定されず、例えば、真円形、楕円形等の円形、四角形、六角形等の多角形を例示できる。
【００６９】
上述の実施形態における供給ユニットでは、プラズマ発生用ガスを照射器具１０に送るポンプと電源ユニットとを同じ筐体内に収容していたが、ポンプと電源ユニットは別々に設置してもよい。また、供給ユニットがポンプを備えず、プラズマ発生用ガスの供給源における圧力によって、照射器具１０にプラズマ発生用ガスを供給してもよい。
【符号の説明】
【００７０】
１  ノズル
１０  照射器具
１２  プラズマ発生部
５０，５０ａ，５０ｂ，５０ｃ，５０ｄ  除電部
５１，５４，５６  ホルダ
５２，５５，５７  導電部
５３  アース線
１００  活性ガス照射装置（プラズマ式治療装置）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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