(57)【要約】【課題】容器状部材に対して、内面の表面改質処理を効率的に行うことが可能なプラズマ洗浄方法及び装置を提供する。【解決手段】プラズマ照射管１は、プラズマ発生装置側に固定され、プラズマガスを照射する。保持部は、容器状のワークの内面とプラズマガスの照射方向とが交差するように、ワークを照射方向に対して傾斜した状態に保持する。回転機構部３０は、ワークを、回転中心軸回りに回転させる。移動機構部４０は、ワークを、プラズマ照射管に接近または離間する方向であるＺ軸方向及び、Ｚ軸方向と直交する平面上にあるＸ軸方向に移動可能である。制御部は、保持部に保持されたワークの回転時に、プラズマガスが内面に当たる接触点とプラズマ照射管との距離がＺ軸方向で一定となるように、かつ、回転中心軸から接触点までの距離の変化に対応してＸ軸方向で回転動作に追従するように、移動機構部を制御する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ発生装置側に固定され、プラズマガスを照射するプラズマガン（１）と、
容器状の洗浄対象物（１０）の内面（１３）と前記プラズマガスの照射方向とが交差するように、前記洗浄対象物を前記照射方向に対して傾斜した状態に保持する保持部（２１）と、
前記洗浄対象物を、回転中心軸（Ｃ）回りに回転させる回転機構部（３０）と、
前記洗浄対象物を、前記プラズマガンに接近または離間する方向である第１軸方向及び、前記第１軸方向と直交する平面上にある第２軸方向に移動可能な移動機構部（４０）と、
前記保持部に保持された前記洗浄対象物の回転時に、前記プラズマガスが前記内面に当たる接触点（Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３）と前記プラズマガンとの距離（Ｈ）が前記第１軸方向で一定となるように、かつ、前記回転中心軸から前記接触点までの距離（ｒ１，ｒ２，ｒ３）の変化に対応して前記第２軸方向で回転動作に追従するように、前記移動機構部を制御する制御部（５０）と、
を備えるプラズマ洗浄装置。
【請求項２】
前記保持部を傾斜させる傾斜機構部（４０）をさらに備える請求項１に記載のプラズマ洗浄装置。
【請求項３】
前記洗浄対象物は、矩形状をなす底部（１１）と、前記底部に連続する側壁部（１２）とを有し、
前記保持部は、前記側壁部の前記内面と前記プラズマガスの前記照射方向とが交差するように前記洗浄対象物を保持する請求項１または請求項２に記載のプラズマ洗浄装置。
【請求項４】
前記保持部は、前記底部の中心が前記回転中心軸と一致するように前記洗浄対象物を保持する請求項３に記載のプラズマ洗浄装置。
【請求項５】
前記プラズマガンは、重力上下方向の下方へ前記プラズマガスを照射するものであり、
前記第１軸方向は重力方向であり、前記第２軸方向は水平方向である請求項１〜請求項４のうちいずれか一項に記載のプラズマ洗浄装置。
【請求項６】
プラズマ発生装置側に固定されたプラズマガン（１）により、容器状の洗浄対象物（１０）の内面（１３）にプラズマガスを照射して洗浄するプラズマ洗浄方法であって、
前記洗浄対象物の前記内面と前記プラズマガスの照射方向とが交差するように、前記洗浄対象物を、前記照射方向に対して傾斜した状態で回転中心軸（Ｃ）回りに回転させ、
前記洗浄対象物の回転時に、前記プラズマガスが前記内面に当たる接触点（Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３）と前記プラズマガンとの距離（Ｈ）が前記プラズマガンに接近または離間する方向である第１軸方向で一定となるように、かつ、前記回転中心軸から前記接触点までの距離（ｒ１，ｒ２，ｒ３）の変化に対応して前記第１軸方向と直交する平面上にある第２軸方向で回転動作に追従するようにしたプラズマ洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄対象物をプラズマ洗浄するプラズマ洗浄装置及びプラズマ洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電子回路基板を有する樹脂製の容器状部材に対して、基板やケーブルの配線部分を保護するために、容器状部材内に封止用樹脂を充填した製品が知られている。こうした製品において、封止用樹脂が容器状内面に密着しないと、その隙間から水分等が侵入し、腐食や短絡等の障害を起こすことがある。そのため、上記のような製品の製造工程において、封止用樹脂との密着性を高めるために、プラズマ照射による容器状内面の表面改質（濡れ性向上）が必要とされる。
【０００３】
例えば、特許文献１には、洗浄対象物としての基板を平面上に設置し、照射ノズルからプラズマを発生させ、基板の洗浄すべき部分に照射して、表面改質を行うプラズマ洗浄方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−１１７２１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、洗浄対象物が、上記特許文献１に記載されるような薄板形状の基板単体ではなく、底部を有する有底筒状体をなす上記容器状部材である場合、プラズマガンから照射されるプラズマ気流は、容器状部材の底部内面に対して直交する。底部内面に向けて照射されたガスは、底部内面において広い面積に当たるため、この部位での洗浄は容易であった。しかし、容器状部材の縁内面に対しては、プラズマ気流と洗浄面とが平行であり、プラズマガスが当たる面積が相対的に小さいため、洗浄効率が悪いという問題が生じていた。
【０００６】
本発明は、このような点に鑑みて創作されたものであり、その目的は、容器状部材に対して、内面の表面改質処理を効率的に行うことが可能なプラズマ洗浄方法及び装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明のプラズマ洗浄装置は、プラズマガン（１）と、保持部（２１）と、回転機構部（３０）と、移動機構部（４０）と、制御部（５０）と、を備える。プラズマガンは、プラズマ発生装置側に固定され、プラズマガスを照射する。保持部は、容器状の洗浄対象物（１０）の内面（１３）とプラズマガスの照射方向とが交差するように、洗浄対象物を照射方向に対して傾斜した状態に保持する。回転機構部は、洗浄対象物を、回転中心軸（Ｃ）回りに回転させる。
【０００８】
移動機構部は、洗浄対象物を、プラズマガンに接近または離間する方向である第１軸方向及び、第１軸方向と直交する平面上にある第２軸方向に移動可能である。制御部は、保持部に保持された洗浄対象物の回転時に、プラズマガスが内面に当たる接触点（Ｐ１，Ｐ２，Ｐ３）とプラズマガンとの距離（Ｈ）が第１軸方向で一定となるように、かつ、回転中心軸から接触点までの距離（ｒ１，ｒ２，ｒ３）の変化に対応して第２軸方向で回転動作に追従するように、移動機構部を制御する。
【０００９】
本発明の構成によれば、内面と照射方向とが交差するするため、プラズマガスが内面に当たる面積を大きくできる。さらに、洗浄対象物を回転させつつ、２軸方向で追従させるように洗浄対称物を移動させながら洗浄する。このため、洗浄対象面である内面とプラズマガンとの距離的対応が回転時に保たれ、均一かつ効率的な洗浄が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の第１実施形態によるプラズマ洗浄装置を示す概略斜視図である。
【図２】プラズマ洗浄装置を示す概略側面図であり、特に傾斜用アッセンブリを示す図である。
【図３】プラズマ洗浄装置を示す概略側面図であり、洗浄時に傾斜した状態を示す図である。
【図４】プラズマ洗浄装置のシステム構成を示すブロック図である。
【図５】ワークを示す斜視図である。
【図６】ワークを示す平面図である。
【図７】プラズマ洗浄工程を説明するフローチャートである。
【図８】洗浄時のワークと照射管の位置関係を模式的に示す断面図である。
【図９】回転角度ごとの、Ｘ軸方向およびＺ軸方向移動量の変化をグラフに示す図である。
【図１０】効果を説明するためのマップである。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の複数の実施形態を図面に基づいて説明する。
〈第１実施形態〉
［構成］
本発明の第１実施形態の構成について、図１〜図４を参照しつつ説明する。図１〜図３において、Ｚ軸方向は重力方向と一致しており、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸は、それぞれ互いに直交する。Ｘ−Ｙ平面はＺ軸方向と直交する水平面である。以下の説明において、Ｚ軸方向の一方側を「上側」とし、Ｚ軸方向の他方側を「下側」として説明する。なお、図１では、後述する保持部２１およびワーク１０は省略して示している。また、図２では、見える線の一部を省略し簡略化して示している。Ｚ軸方向は、「プラズマガンに接近または離間する第１軸方向」に相当し、Ｘ軸方向は、「第１軸方向と直交する平面上にある第２軸方向」に相当する。
【００１２】
本実施形態のプラズマ洗浄装置１０１は、洗浄対象物としてのワーク１０に、プラズマガスを照射して洗浄する装置である。図１に示すように、プラズマ洗浄装置１０１は、プラズマ照射管１、傾斜用アッセンブリ２０、回転機構部３０、移動機構部４０、及び制御部５０（図４参照）等を備えている。
【００１３】
プラズマガンとしてのプラズマ照射管１は、図示しないプラズマガス発生装置に固定され、その先端からプラズマガスを吹き出す。本実施形態では、プラズマ照射管１の下端から、下方のワーク１０へ向けてプラズマガスが照射される。
【００１４】
図２に示すように、傾斜用アッセンブリ２０は、保持部２１、保持部取付台２２、フレーム部材２３を有し、これらがワーク側（上側）から順に配されている。さらに、傾斜用アッセンブリ２０は、傾斜軸部２４、エアシリンダ２５、ピストン２６、ストッパ２７、第１プーリー２８、第２プーリー２９、タイミングベルト３１、θ軸部３２、θ軸用モータ３３、及び軸受部３４等を備えている。傾斜用アッセンブリ２０は、保持部２１に保持されたワーク１０を、プラズマ照射管１によるプラズマ照射方向に対して傾斜した状態とするための機構であり、「傾斜機構部」に相当する。
【００１５】
さらに、本実施形態では、第１プーリー２８、第２プーリー２９、タイミングベルト３１、θ軸部３２、θ軸用モータ３３、及び軸受部３４により、回転機構部３０が構成されている。回転機構部３０は、ワーク１０を回転中心軸Ｃ回りに回転させる。
【００１６】
保持部２１は、保持部取付台２２にねじにより取り付けられている。保持部２１の、保持部取付台２２と反対側である上側には、ワーク１０を収容する枠部３５が形成されている。洗浄時、ワーク１０は、この枠部３５に置かれ、例えば図示しない保持用ばねを介して枠部３５の内壁面に押し付けられるようにして固定される。
【００１７】
フレーム部材２３は、上底部３６、第１アーム部３７、及び第２アーム部３８を有する。以下、構成を説明するにあたり、図２に示す傾斜していない状態を基準として説明する。上底部３６は、Ｘ−Ｙ平面に延びて形成されている。上底部３６において、Ｘ軸方向の略中央には、Ｙ軸方向に延びる傾斜軸部２４が設けられている。
【００１８】
第１アーム部３７は、上底部３６のＸ軸方向の一方側（図２では右側）端部から、Ｘ軸方向の一方かつ下方に向けてなだらかに湾曲して延びて形成されている。第２アーム部３８は、上底部３６のＸ軸方向の他方側（図２では左側）端部から、Ｘ軸方向の他方かつ下方に向けてなだらかに湾曲して延びて形成されている。上底部３６と各アーム部３７，３８とで囲まれた領域に、収容部３９が形成される。
【００１９】
θ軸用モータ３３は、第１アーム部３７の下側に配置されている。θ軸部３２は、フレーム部材２３のＸ方向の略中央を貫通して保持部２１まで挿入されている。θ軸部３２の周囲には軸受部３４が設けられている。軸受部３４は、収容部３９内に位置する。θ軸用モータ３３の回転は、第１プーリー２８、タイミングベルト３１、及び第２プーリー２９を介してθ軸部３２に伝達される。すなわち、θ軸用モータ３３を回転駆動することで、ワーク１０を保持した保持部２１が回転するようになっている。本実施形態では、ワーク１０の中心が回転中心軸Ｃと一致する。
【００２０】
エアシリンダ２５は、傾斜用アッセンブリ２０を傾斜させるためのアクチュエータであり、第２アーム部３８の下方に位置する。エアシリンダ２５は、内部にピストン２６を有し、このピストン２６の上端部と、第２アーム部３８の下端部とが連結部材６１にて連結されている。エアシリンダ２５の下部は、若干の回動が許容された状態で支持部材６２に支持されている。
【００２１】
図３に示すように、エアシリンダ２５が支持部材６２に対して反時計回りに回動し、エアシリンダ２５内のピストン２６が延びると、フレーム部材２３は、傾斜軸部２４を中心に図３において時計回りに回転し所定角度に傾斜する。図３では時計回りに約１５度傾斜した状態を示している。ストッパ２７は、棒状の部材であり、連結部材６１の上方に設けられている。傾斜用アッセンブリ２０が傾斜する際、連結部材６１がストッパ２７に当接することで、所定角度以上の過度に傾斜することが防止される。
【００２２】
再び図１を参照する。移動機構部４０は、上記傾斜用アッセンブリ２０を、ＸＹＺ各軸方向へ移動可能とする機構である。図１に示すように、移動機構部４０は、Ｘ軸部４１、Ｙ軸部４２、Ｚ軸部４３、Ｘ軸用モータ４４、Ｙ軸用モータ４５、及びＺ軸用モータ４６を有している。Ｘ軸部４１は、傾斜用アッセンブリ２０の下方に位置し、Ｘ軸方向に延びて形成されるレール部材である。Ｙ軸部４２は、Ｘ軸部４１の下方に位置し、Ｙ軸方向に延びて形成されるレール部材である。Ｚ軸部４３は、傾斜用アッセンブリ２０のＸ軸方向の他方側に位置し、Ｚ軸方向に延びて形成されるレール部材である。
【００２３】
すなわち、本実施形態のプラズマ洗浄装置１０１では、ワーク１０が保持された保持部２１を、傾斜した状態に維持しつつθ軸部３２を中心に回転させながら、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸の各方向へ、各軸部４１，４２，４３に沿って移動させることが可能である。
【００２４】
制御部５０は、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、フラッシュメモリ等を中心とするマイクロコンピュータで構成されている。図４に示すように、制御部５０は、各モータ３３，４４，４５，４６、エアシリンダ２５、及びプラズマ照射管１と電気的に接続しており、各モータ３３，４４，４５，４６及びエアシリンダ２５の駆動、さらにプラズマ照射管１によるプラズマ照射を制御する。なお、各モータ３３，４４，４５，４６はサーボモータで構成されている。
【００２５】
次に、ワーク１０について説明する。図５、図６に示すように、洗浄対象物としてのワーク１０は、樹脂製の容器状部材であり有底筒状の回転体である。なお、ワーク１０は簡略化して示しているが、実際には、図示しないコネクタ部などを有している。ワーク１０は、矩形状の底部１１と、底部に連続する側壁部１２とを有し、底部１１の反対側が開口した容器状の部材である。側壁部１２は、底部１１と９０度の角度をなしている。長辺Ｌの長さは短辺Ｓの長さの概ね２倍程度であり、深さＤは、短辺Ｓより小さく概ね２分の１程度である。このワーク１０の形状は一例である。
【００２６】
ワーク１０は、例えば車両に搭載され、製品として完成した際には複数の温度センサを一括処理する回路基板を有する。回路基板が組み付けられたワーク１０内には、基板やケーブルの配線部分を保護するために、封止用樹脂が開口縁から充填される。この樹脂との密着性を高めるため、樹脂封止工程の前に、ワーク１０の内面に対して上記洗浄装置により洗浄を行う。洗浄対象となる面は、底部１１及び側壁部１２の内面の両方であるが、本実施形態では、ワーク１０を傾斜させて側壁部１２の内面１３を洗浄する形態について説明する。
【００２７】
［作用］
次に、本実施形態のプラズマ洗浄装置１０１による洗浄処理について、図７〜図９を参照して説明する。図７に示すように、まず、ステップ１（以下、ステップをＳと省略する）で、ワーク１０が保持部２１に取り付けられ、Ｓ２で設備が起動される。次に、Ｓ３で、傾斜用アッセンブリ２０のエアシリンダ２５が駆動されて、ワーク１０が所定角度の傾斜状態とされる。
【００２８】
図８に示すように、プラズマガスが重力方向下向きに照射される場合、「照射方向に対して傾斜した状態」とは、本実施形態の場合には、ワーク１０の回転中心軸Ｃが重力方向から傾いており、底部１１も水平状態から傾いている状態である。照射方向に延びる直線を照射軸Ｉとすると、照射軸Ｉと回転中心軸Ｃとは交差しており、そのなす角度が傾斜角φである。
【００２９】
次に、Ｓ４で、ワーク１０の側壁部１２の内面１３がプラズマ照射管１の先端に対向する位置、すなわち洗浄位置へ保持部２１（傾斜用アッセンブリ２０）が移動される。次に、Ｓ５で、洗浄が開始され、プラズマ照射管１からワーク１０へプラズマが照射される。このとき、ワーク１０は、傾斜用アッセンブリ２０により、θ軸部３２回りに回転されるとともに、回転角度に応じて適宜Ｘ軸方向とＺ軸方向へ移動される。また、プラズマ気流と側壁部１２の内面１３とは交差する。
【００３０】
このプラズマ照射時に、制御部５０が実行する制御について詳述する。図６に示すように、プラズマガスが側壁部１２の内面１３に当たる接触点を、回転角度ごとに適宜接触点Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３とする。ワーク１０を回転させるとき、側壁部１２において、回転中心軸Ｃから接触点Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３までの距離ｒ１、ｒ２、ｒ３は回転角度ごとに異なる。図６においてワーク１０は時計回りに回転する。接触点Ｐ１を回転開始時、すなわち回転角度０度とする。接触点Ｐ２のとき、回転角度は約５５度であり、接触点Ｐ３のとき、回転角度は９０度である。距離ｒ１が最も小さく、距離ｒ２が最も大きく、距離ｒ３が距離ｒ１と距離ｒ２の間である（ｒ１＜ｒ３＜ｒ２）。
【００３１】
制御部５０は、各接触点Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３とプラズマ照射管１とのＺ軸方向距離Ｈ（図８参照）が一定となるようにＺ軸用モータ４６を駆動制御し、ワーク１０のプラズマ照射管１に対するＺ軸方向位置が調整される。
【００３２】
図９に示すように、接触点Ｐ１から接触点Ｐ２まで回転するときには、接触点Ｐ２の方が接触点Ｐ１よりも相対的にＺ軸方向位置が高くなるため、これに併せてワーク１０のＺ軸移動量を徐々に大きくする。そして、接触点Ｐ２からＰ３まで回転するときには、接触点Ｐ３の方が接触点Ｐ２よりも相対的にＺ軸方向位置が低くなるため、これに併せてワーク１０のＺ軸移動量を徐々に小さくする。こうした制御により、Ｚ軸方向距離Ｈが一定に保たれる。
【００３３】
また、制御部５０は、回転中心軸Ｃから接触点Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３までの距離ｒ１，ｒ２，ｒ３の変化に対応して、Ｘ軸方向でワーク１０の回転動作に追従するようにＸ軸用モータ４４を駆動制御する。回転中心軸Ｃから接触点Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３までの距離ｒ１、ｒ２、ｒ３は回転角度ごとに異なる。仮に、ワーク１０のＸ軸方向位置が固定であると、ＸＺ平面内でプラズマ照射管１と接触点との対応が取れなくなる。
【００３４】
しかし、本実施形態では、予め設備側の要求により設定される適切な接触点位置にプラズマガスが当たるように、ワーク１０のＸ軸方向位置が調整される。適切な接触点位置の設定は、照射管の径や、装置側の要請による洗浄対象部位とプラズマガスとの離間距離等により異なる。本実施形態では、ワーク１０の回転動作に追従して、図９に示すように、Ｘ軸方向移動量が制御されることで、適切な位置にプラズマガスが照射される。なお、図９では、回転角度は１８０度までを図示しているが、ワーク１０は対称形であるため、１８０度〜３６０度の範囲でも同様である。
【００３５】
再び、図７を参照する。上記詳述したＳ５でのプラズマ照射が終了すると、次に、Ｓ６で、保持部（傾斜用アッセンブリ２０）が洗浄位置からワーク脱着位置へ戻される。次に、Ｓ７で設備が停止され、Ｓ８で、ワーク１０が保持部２１から取り外され、本処理は終了となる。
【００３６】
次のワークを洗浄する場合は、上記フローチャートに示す洗浄処理工程が繰り返される。なお、同様の形状のワークを続けて洗浄する場合には、傾斜用アッセンブリ２０が既に設定角度に傾斜している場合は、Ｓ３においてその傾斜角度を維持するようにする。また、Ｓ６とＳ７の間に、傾斜用アッセンブリ２０の角度を基準の０度に戻る処理を入れても良い。この場合、傾斜用アッセンブリ２０のエアシリンダ２５が駆動されて、ワーク１０（傾斜用アッセンブリ２０）が平坦な状態に戻される。
【００３７】
［効果］
ワーク１０は角型の容器であり、洗浄時にはワーク１０自体が照射方向に対して傾斜している。このため、ワーク１０を固定させたままθ軸部３２を中心に回転させると、固定されているプラズマ照射管１と接触点ＰとのＺ軸方向距離Ｈ、および回転中心軸Ｃから接触点Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３との距離ｒ１、ｒ２、ｒ３は回転角度に応じて変化する。回転させながら照射する過程で、Ｚ軸方向距離Ｈが変化したり、距離ｒが適切な位置にないと、洗浄対象面を十分に洗浄できなかったり、洗浄ムラが生じたりする虞がある。
【００３８】
その点、本実施形態では、ワーク１０を回転させつつ、Ｘ軸とＺ軸の２軸方向で追従させつつワーク１０を移動させながら洗浄する。このため、洗浄対象面である内面１３とプラズマ照射管１との距離的対応が回転時に保たれ、均一かつ効率的な洗浄が可能となる。
【００３９】
従来、容器状をなすワーク１０の側壁部１２の内面１３に対して洗浄する際、プラズマ気流と洗浄面とが平行であり、プラズマガスが当たる面積が相対的に小さいため、洗浄効率が悪いという問題が生じていた。しかし、その点、本実施形態では、プラズマ気流と側壁部１２の内面１３とは平行ではなく交差することで、平行である場合と比較するとプラズマガスが当たる面積は相対的に大きくなる。このため、より短時間で広い領域を確実に洗浄することができる。
【００４０】
本出願人は、平行気流で洗浄する従来の装置による比較形態と、上記詳述した洗浄装置１０１による本実施形態とで、ワーク１０の移動速度及び励起電力を変えて、ワーク１０と封止樹脂との密着性に関する良品試験を行った。移動速度とは、プラズマ照射管１に対するワーク１０の相対速度である。図１０において、比較形態における良品製造の条件範囲を破線で示し、本実施形態における良品製造の条件範囲を実線で示している。良品の条件範囲は、破壊試験によりワーク１０の内面と封止樹脂との密着が十分強固であると認定される範囲である。
【００４１】
図１０に示すように、比較形態に対して、本実施形態では、良品の条件範囲が、移動速度はより速く、かつ励起電力はより低い領域となっている。一般に、洗浄工程において、ワーク１０の移動速度は遅いほど、また、励起電力は高いほど、より高い洗浄効果が得られる。しかし、本実施形態では、相対的に励起電力が低く、かつ移動速度は遅くても良品が得られ、すなわち、低電力でのプラズマ効果を向上させており、洗浄効率化を図ることができる。
【００４２】
また、本実施形態では、固定されたプラズマ照射管１に対してワーク１０を動かすようにしている。プラズマ照射管１の上方には、プラズマガスを生成して照射するための大きな装置があり、ケーブルも多くある。本実施形態では、照射管１は固定であり、ワーク１０を回転させつつさらに２軸方向で追従制御する構成であるため、プラズマガス発生装置側のケーブルの断線等を防ぐことができ、装置の安全性を向上させることができる。
【００４３】
〈他の実施形態〉
上記実施形態では、プラズマ照射管１は重力方向下向きにプラズマガスを照射するものであり、重力上下方向がＺ軸方向と一致しているものとしたが、重力上下方向と完全に一致していなくても良い。
【００４４】
上記実施形態でのワーク１０の底部１１は、断面が長方形状としたが、その他の形状であっても良い。また、底部１１と側壁部１２とに明確に分かれておらず、底部と側壁部との境界がはっきりせず、底部と側壁部とが連続的に接続されているお椀型等の容器であっても良い。その他、ワーク１０は、容器状であれば良く、側壁部１２と底部１１との角度が９０度でなくても良いし、対称形状でなくても良い。なお、ワーク１０が対称形状でない場合には、洗浄の途中で傾斜用アッセンブリ２０の傾斜角φを変更して、回転動作に追従させるようにしても良い。
【００４５】
上記実施形態において、洗浄時、ワーク１０を何周か回転させるようにしても良い。また、ある部位では移動速度を低速にして洗浄時間を長くし、他の部位では移動速度を高速にして洗浄時間を短くするなど、ワーク１０の形状や洗浄時間の制約等に併せて適宜変更可能である。
【００４６】
上記実施形態における保持部２１の構成や、ワーク１０を回転させる機構は一例であり、その他の構成であっても良い。
【００４７】
上記実施形態において、プラズマ洗浄装置１０１は傾斜用アッセンブリ２０を有しているものとしたが、有していなくても良い。ワーク１０の内面１３と照射方向とが交差すれば良く、例えば、ワーク１０が傾斜状態となるように、保持部２１がもともと所定角度に傾斜している構成としても良い。
【００４８】
上記実施形態の傾斜用アッセンブリ２０は、エアシリンダ２５、ピストン２６等で構成したが、ワーク１０を傾斜させることができる機構であれば良く、その他の機械的構成としても良い。
【００４９】
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の形態で実施可能である。
【符号の説明】
【００５０】
１      ・・・プラズマ照射管（プラズマガン）
１０    ・・・ワーク（洗浄対象物）
１３    ・・・内面
２０    ・・・傾斜用アッセンブリ
２１    ・・・保持部
３０    ・・・回転機構部
４０    ・・・移動機構部
５０    ・・・制御部
【図１】
2019126748.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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