(57)【要約】【課題】データ量及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置内での計算量を抑制できる描画データを生成する。【解決手段】設計データに含まれている多角形図形を、該多角形図形の頂点を基準に、それぞれ１組の対辺が第１方向に沿って平行であり、該第１方向と平行な辺を共通辺として該第１方向と直交する第２方向に沿って連結する複数の台形図形、を含む複数の図形に分割する。そして、第１台形と該第１台形に隣接する第２台形との共通の頂点の位置から、該第２台形と該第２台形に隣接する第３台形との共通の頂点の位置を前記第１方向及び前記第２方向の変位で表現して、描画データを生成する。【選択図】図２
2019117961.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マルチ荷電粒子ビーム描画装置で用いられる描画データをコンピュータに生成させるプログラムであって、
設計データに含まれている多角形図形を、該多角形図形の頂点を基準に、それぞれ１組の対辺が第１方向に沿って平行であり、該第１方向と平行な辺を共通辺として該第１方向と直交する第２方向に沿って連結する複数の台形図形、を含む複数の図形に分割するステップと、
第１台形と該第１台形に隣接する第２台形との共通の第１頂点の位置から、該第２台形と該第２台形に隣接する第３台形との共通の第２頂点の位置を前記第１方向及び前記第２方向の変位で表現し、前記描画データを生成するステップと、
を前記コンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
【請求項２】
前記描画データは、各台形に対応する属性情報を含むことを特徴とする請求項１に記載のプログラム。
【請求項３】
マルチ荷電粒子ビーム描画装置で用いられる描画データを生成する描画データ生成方法であって、
設計データに含まれている多角形図形を、該多角形図形の頂点を基準に、それぞれ１組の対辺が第１方向に沿って平行であり、該第１方向と平行な辺を共通辺として該第１方向と直交する第２方向に沿って連結する複数の台形図形、を含む複数の図形に分割し、
第１台形と該第１台形に隣接する第２台形との共通の頂点の位置から、該第２台形と該第２台形に隣接する第３台形との共通の頂点の位置を前記第１方向及び前記第２方向の変位で表現して、前記描画データを生成することを特徴とする描画データ生成方法。
【請求項４】
複数の荷電粒子ビームからなるマルチビームを形成し、前記マルチビームのうち、それぞれ対応するビームに対して個別にビームのオン／オフを行い、対象物上に荷電粒子ビームを照射してパターンを描画する描画部と、
設計データに含まれている多角形図形を、該多角形図形の頂点を基準に、それぞれ１組の対辺が第１方向に沿って平行であり、該第１方向と平行な辺を共通辺として該第１方向と直交する第２方向に沿って連結する複数の台形図形、を含む複数の図形に分割し、第１台形と該第１台形に隣接する第２台形との共通の頂点の位置から、該第２台形と該第２台形に隣接する第３台形との共通の頂点の位置を前記第１方向及び前記第２方向の変位で表現して描画データを生成し、該描画データに基づいて前記描画部を制御する制御部と、
を備えるマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項５】
設計データに含まれている多角形図形を、該多角形図形の頂点を基準に、それぞれ１組の対辺が第１方向に沿って平行であり、該第１方向と平行な辺を共通辺として該第１方向と直交する第２方向に沿って連結する複数の台形図形、を含む複数の図形に分割し、第１台形と該第１台形に隣接する第２台形との共通の頂点の位置から、該第２台形と該第２台形に隣接する第３台形との共通の頂点の位置を前記第１方向及び前記第２方向の変位で表現して第１描画データを生成する変換部と、
前記第１描画データと、対象物上に荷電粒子ビームが照射されて描画されたパターンに基づいて作成された第２描画データとを比較し、該パターンの検査を行う検査部と、
を備えるパターン検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、描画データ生成方法、プログラム、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、及びパターン検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩの高集積化に伴い、半導体デバイスに要求される回路線幅は年々微細化されてきている。半導体デバイスへ所望の回路パターンを形成するためには、縮小投影型露光装置を用いて、石英上に形成された高精度の原画パターン（マスク、或いは特にステッパやスキャナで用いられるものはレチクルともいう。）をウェーハ上に縮小転写する手法が採用されている。高精度の原画パターンは、電子ビーム描画装置によって描画され、所謂、電子ビームリソグラフィ技術が用いられている。
【０００３】
電子ビーム描画装置として、例えば、マルチビームを用いて一度に多くのビームを照射し、スループットを向上させたマルチビーム描画装置が知られている。このマルチビーム描画装置では、例えば、電子銃から放出された電子ビームが、複数の穴を有するアパーチャ部材を通過することでマルチビームが形成され、各ビームがブランキングプレートにおいてブランキング制御される。遮蔽されなかったビームが、光学系で縮小され、描画対象のマスク上の所望の位置に照射される。
【０００４】
マルチビーム描画装置を用いて電子ビーム描画を行う場合、まず、半導体集積回路のレイアウトが設計され、レイアウトデータとして設計データが生成される。そして、この設計データに含まれる多角形図形を、複数の台形に分割することで、マルチビーム描画装置に入力される描画データが生成される。この描画データは、各台形について、１つの頂点を配置原点とし、この配置原点の座標データと、配置原点から他の３つの頂点までの変位を示すデータとを有する。
【０００５】
設計データが、楕円形図形のような多数の辺を有する多角形図形によって近似的に表現される図形を含む場合、この多角形図形は多数の台形に分割される。多数の台形の各々について、配置原点の座標データ及び配置原点から他の３頂点までの変位を示すデータを有する描画データは、そのデータ量が多大なものになるという問題があった。
【０００６】
多角形図形をポリゴンで表現することで描画データのデータ量を小さくすることができるが、このような描画データをマルチビーム描画装置に入力した場合、装置内でのラスタライズ処理等のデータ処理に必要な計算量が増大するという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特許第４０６８０８１号公報
【特許文献２】特開２００９−１０９５８０号公報
【特許文献３】特開２０１２−１２９４７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記従来の実状に鑑みてなされたものであり、データ量及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置内での計算量を抑制できる描画データを生成する描画データ生成方法、プログラム、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置を提供することを課題とする。また、本発明は、データ量を抑制した描画データを生成し、処理効率を向上させることができるパターン検査装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一態様によるプログラムは、マルチ荷電粒子ビーム描画装置で用いられる描画データをコンピュータに生成させるプログラムであって、設計データに含まれている多角形図形を、該多角形図形の頂点を基準に、それぞれ１組の対辺が第１方向に沿って平行であり、該第１方向と平行な辺を共通辺として該第１方向と直交する第２方向に沿って連結する複数の台形図形、を含む複数の図形に分割するステップと、第１台形と該第１台形に隣接する第２台形との共通の第１頂点の位置から、該第２台形と該第２台形に隣接する第３台形との共通の第２頂点の位置を前記第１方向及び前記第２方向の変位で表現し、前記描画データを生成するステップと、を前記コンピュータに実行させることを特徴とするものである。
【００１０】
本発明の一態様によるプログラムにおいて、前記描画データは、各台形に対応する属性情報を含んでもよい。
【００１１】
本発明の一態様によるプログラムにおいて、前記第１台形と前記第２台形との共通の２つの頂点の位置を、該第２台形と前記第３台形との共通の２つの頂点の一方の位置からの前記第１方向及び前記第２方向の変位で表現してもよい。
【００１２】
本発明の一態様による描画データ生成方法は、マルチ荷電粒子ビーム描画装置で用いられる描画データを生成する描画データ生成方法であって、設計データに含まれている多角形図形を、該多角形図形の頂点を基準に、それぞれ１組の対辺が第１方向に沿って平行であり、該第１方向と平行な辺を共通辺として該第１方向と直交する第２方向に沿って連結する複数の台形図形、を含む複数の図形に分割し、第１台形と該第１台形に隣接する第２台形との共通の頂点の位置から、該第２台形と該第２台形に隣接する第３台形との共通の頂点の位置を前記第１方向及び前記第２方向の変位で表現して、前記描画データを生成するものである。
【００１３】
本発明の一態様によるマルチ荷電粒子ビーム描画装置は、複数の荷電粒子ビームからなるマルチビームを形成し、前記マルチビームのうち、それぞれ対応するビームに対して個別にビームのオン／オフを行い、対象物上に荷電粒子ビームを照射してパターンを描画する描画部と、設計データに含まれている多角形図形を、該多角形図形の頂点を基準に、それぞれ１組の対辺が第１方向に沿って平行であり、該第１方向と平行な辺を共通辺として該第１方向と直交する第２方向に沿って連結する複数の台形図形、を含む複数の図形に分割し、第１台形と該第１台形に隣接する第２台形との共通の頂点の位置から、該第２台形と該第２台形に隣接する第３台形との共通の頂点の位置を前記第１方向及び前記第２方向の変位で表現して描画データを生成し、該描画データに基づいて前記描画部を制御する制御部と、を備えるものである。
【００１４】
本発明の一態様によるパターン検査装置は、設計データに含まれている多角形図形を、該多角形図形の頂点を基準に、それぞれ１組の対辺が第１方向に沿って平行であり、該第１方向と平行な辺を共通辺として該第１方向と直交する第２方向に沿って連結する複数の台形図形、を含む複数の図形に分割し、第１台形と該第１台形に隣接する第２台形との共通の頂点の位置から、該第２台形と該第２台形に隣接する第３台形との共通の頂点の位置を前記第１方向及び前記第２方向の変位で表現して第１描画データを生成する変換部と、前記第１描画データと、対象物上に荷電粒子ビームが照射されて描画されたパターンに基づいて作成された第２描画データとを比較し、該パターンの検査を行う検査部と、を備えるものである。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、データ量、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置内での計算量を抑制可能な描画データを生成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施形態に係るマルチ荷電粒子ビーム描画装置の概略図である。
【図２】多角形図形の分割処理の例を示す図である。
【図３】多角形図形の分割処理の例を示す図である。
【図４】多角形図形の分割処理の例を示す図である。
【図５】多角形図形の分割処理の例を示す図である。
【図６】多角形図形の分割処理の例を示す図である。
【図７】描画データのデータ構造の例を示す図である。
【図８】描画データのデータ構造の例を示す図である。
【図９】多角形図形の分割処理の例を示す図である。
【図１０】多角形図形の分割処理の例を示す図である。
【図１１】多角形図形の分割処理の例を示す図である。
【図１２】描画データのデータ構造の例を示す図である。
【図１３】多角形図形の分割処理の例を示す図である。
【図１４】パターン検査装置の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００１８】
図１は、本実施形態による描画データを用いて描画を行うマルチ荷電粒子ビーム描画装置の概略図である。本実施形態では、荷電粒子ビームの一例として、電子ビームを用いた構成について説明する。但し、荷電粒子ビームは、電子ビームに限るものではなく、イオンビーム等の他の荷電粒子ビームでもよい。
【００１９】
図１に示す描画装置１は、マスクやウェーハ等の対象物に電子ビームを照射して所望のパターンを描画する描画部１０と、描画部１０による描画動作を制御する制御部５０とを備える。描画部１０は、電子ビーム鏡筒１２及び描画室３０を有している。
【００２０】
電子ビーム鏡筒１２内には、電子銃１４、照明レンズ１６、アパーチャ部材１８、ブランキングプレート２０、縮小レンズ２２、制限アパーチャ部材２４、対物レンズ２６、及び偏向器２８が配置されている。描画室３０内には、ＸＹステージ３２が配置される。ＸＹステージ３２上には、描画対象基板となるマスクブランク３４が載置されている。対象物として、例えば、ウェーハや、ウェーハにエキシマレーザを光源としたステッパやスキャナ等の縮小投影型露光装置や極端紫外線露光装置を用いてパターンを転写する露光用のマスクが含まれる。また、描画対象基板には、例えば、既にパターンが形成されているマスクも含まれる。例えば、レベンソン型マスクは２回の描画を必要とするため、１度描画されマスクに加工された物に２度目のパターンを描画することもある。ＸＹステージ３２上には、さらに、ＸＹステージ３２の位置測定用のミラー３６が配置される。
【００２１】
制御部５０は、制御計算機５２、偏向制御回路５４，５６、及びステージ位置検出器５８を有している。制御計算機５２、偏向制御回路５４，５６、及びステージ位置検出器５８は、バスを介して互いに接続されている。
【００２２】
電子銃１４から放出された電子ビーム４０は、照明レンズ１６によりほぼ垂直にアパーチャ部材１８全体を照明する。アパーチャ部材１８には、穴（開口部）が所定の配列ピッチでマトリクス状に形成されている。電子ビーム４０は、アパーチャ部材１８のすべての穴が含まれる領域を照明する。これらの複数の穴を電子ビーム４０の一部がそれぞれ通過することで、図１に示すようなマルチビーム４０ａ〜４０ｅが形成されることになる。
【００２３】
ブランキングプレート２０には、アパーチャ部材１８の各穴の配置位置に合わせて通過孔が形成され、各通過孔には、対となる２つの電極からなるブランカが、それぞれ配置される。各通過孔を通過する電子ビーム４０ａ〜４０ｅは、それぞれ独立に、ブランカが印加する電圧によって偏向される。かかる偏向によってブランキング制御される。このように、複数のブランカが、アパーチャ部材１８の複数の穴を通過したマルチビームのうち、それぞれ対応するビームのブランキング偏向を行う。
【００２４】
ブランキングプレート２０を通過したマルチビーム４０ａ〜４０ｅは、縮小レンズ２２によって、縮小され、制限アパーチャ部材２４に形成された中心の穴に向かって進む。ここで、ブランキングプレート２０のブランカにより偏向された電子ビームは、制限アパーチャ部材２４の中心の穴から位置がはずれ、制限アパーチャ部材２４によって遮蔽される。一方、ブランキングプレート２０のブランカによって偏向されなかった電子ビームは、制限アパーチャ部材２４の中心の穴を通過する。
【００２５】
このように、制限アパーチャ部材２４は、ブランキングプレート２０のブランカによってビームＯＦＦの状態になるように偏向された各ビームを遮蔽する。そして、ビームＯＮになってからビームＯＦＦになるまでに制限アパーチャ部材２４を通過したビームが、１回分のショットのビームとなる。制限アパーチャ部材２４を通過したマルチビーム４０ａ〜４０ｅは、対物レンズ２６により焦点が合わされ、所望の縮小率のパターン像となる。制限アパーチャ部材２４を通過した各ビーム（マルチビーム全体）は、偏向器２８によって同方向にまとめて偏向され、各ビームのマスクブランク３４上のそれぞれの照射位置に照射される。
【００２６】
ＸＹステージ３２が連続移動している時、ビームの照射位置がＸＹステージ３２の移動に追従するように偏向器２８によって制御される。ＸＹステージ３２の移動は図示しないステージ制御部により行われ、ＸＹステージ３２の位置はステージ位置検出器５８により検出される。
【００２７】
一度に照射されるマルチビームは、理想的にはアパーチャ部材１８の複数の穴の配列ピッチに上述した所望の縮小率を乗じたピッチで並ぶことになる。この描画装置は、ショットビームを連続して順に照射していくラスタースキャン方式で描画動作を行い、所望のパターンを描画する際、パターンに応じて必要なビームがブランキング制御によりビームＯＮに制御される。ＸＹステージ３２が連続移動している時、ビームの照射位置がＸＹステージ３２の移動に追従するように偏向器２８によって制御される。
【００２８】
制御計算機５２は、記憶装置６０から描画データＤ１を読み出し、複数段のデータ変換処理を行って装置固有のショットデータを生成する。ショットデータには、各ショットの照射量及び照射位置座標等が定義される。
【００２９】
制御計算機５２は、ショットデータに基づき各ショットの照射量を偏向制御回路５４に出力する。偏向制御回路５４は、入力された照射量を電流密度で割って照射時間ｔを求める。そして、偏向制御回路５４は、対応するショットを行う際、照射時間ｔだけブランカがビームＯＮするように、ブランキングプレート２０の対応するブランカに偏向電圧を印加する。
【００３０】
また、制御計算機５２は、ショットデータが示す位置（座標）に各ビームが偏向されるように、偏向位置データを偏向制御回路５６に出力する。偏向制御回路５６は、偏向量を演算し、偏向器２８に偏向電圧を印加する。これにより、その回にショットされるマルチビームがまとめて偏向される。
【００３１】
次に、描画データＤ１の生成方法について説明する。まず、半導体集積回路のレイアウトが設計され、レイアウトデータとなる設計データ（ＣＡＤデータ）Ｄ０が生成される。そして、設計データＤ０が変換装置７０で変換され、描画装置１の制御計算機５２に入力される描画データＤ１が生成される。
【００３２】
設計データＤ０には多角形図形が含まれており、変換装置７０は多角形図形を複数の台形に分割する分割処理を行う。この分割処理で生成される複数の台形は、それぞれ、第１方向（例えば縦方向）に沿って平行な１組の対辺を有している。複数の台形は、第１方向と直交する第２方向（例えば横方向）に沿って連結している。連結した互いに隣接する台形は、第１方向に平行な辺を共通辺として共有する。
【００３３】
例えば、図２に示すように、多角形図形１００は、分割処理により複数の台形Ｔ１〜Ｔｎに分割される。ここでｎは２以上の整数である。台形Ｔ１〜Ｔｎはそれぞれ、縦方向（ｙ方向）に沿って平行な１組の対辺を有し、横方向（ｘ方向）に連結している。例えば、台形Ｔ２は、１組の平行な辺Ｓ１及びＳ２を有し、辺Ｓ１は台形Ｔ１との共通辺となり、辺Ｓ２は台形Ｔ３との共通辺となる。なお、連結方向両端部の台形Ｔ１、Ｔｎの辺Ｓ０、Ｓｎは共通辺にはならない。
【００３４】
多角形図形の形状に応じて、図３（ａ）、（ｂ）、図４（ａ）〜（ｄ）、図５（ａ）、（ｂ）、図６（ａ）、（ｂ）に示すような様々な分割処理が行われる。
【００３５】
図３（ａ）では、図２と同様に、各台形が縦方向に沿って平行な１組の対辺を有し、横方向に連結するような分割処理が行われる。図３（ｂ）では、各台形が横方向に沿って平行な１組の対辺を有し、縦方向に連結するような分割処理が行われる。
【００３６】
図４（ａ）では、多角形図形が縦方向に平行な辺Ｓ０、Ｓ４と、辺Ｓ０、Ｓ４の下端同士を結ぶ横方向に平行な辺Ｓｘ１を有する。分割処理により生成された複数の台形は、それぞれ縦方向に沿って平行な１組の対辺を有し、横方向に連結するとともに、下側の辺が横方向に直線状に連なる。
【００３７】
図４（ｂ）では、多角形図形が縦方向に平行な辺Ｓ０、Ｓ４と、辺Ｓ０、Ｓ４の上端同士を結ぶ横方向に平行な辺Ｓｘ２を有する。分割処理により生成された複数の台形は、それぞれ縦方向に沿って平行な１組の対辺を有し、横方向に連結するとともに、上側の辺が横方向に直線状に連なる。
【００３８】
図４（ｃ）では、多角形図形が横方向に平行な辺Ｓ０、Ｓ４と、辺Ｓ０、Ｓ４の右端同士を結ぶ縦方向に平行な辺Ｓｙ１を有する。分割処理により生成された複数の台形は、それぞれ横方向に沿って平行な１組の対辺を有し、縦方向に連結するとともに、右側の辺が縦方向に直線状に連なる。
【００３９】
図４（ｄ）では、多角形図形が横方向に平行な辺Ｓ０、Ｓ４と、辺Ｓ０、Ｓ４の左端同士を結ぶ縦方向に平行な辺Ｓｙ２を有する。分割処理により生成された複数の台形は、それぞれ横方向に沿って平行な１組の対辺を有し、縦方向に連結するとともに、左側の辺が縦方向に直線状に連なる。
【００４０】
図５（ａ）（ｂ）は、多角形図形が縦方向又は横方向に平行な辺のみで構成される場合の分割処理を示す。この場合、多角形図形は複数の長方形（矩形）に分割される。図５（ａ）は分割した長方形が横方向に連結する例を示し、図５（ｂ）は縦方向に連結する例を示す。
【００４１】
図６（ａ）（ｂ）は、多角形図形が縦方向又は横方向に平行な辺、及び縦方向（横方向）に対して４５°をなす辺のみで構成される場合の分割処理を示す。図６（ａ）は分割した台形が横方向に連結する例を示し、図６（ｂ）は縦方向に連結する例を示す。
【００４２】
変換装置７０は、多角形図形を複数の台形に分割すると、台形の頂点の位置を、隣接する台形の頂点の位置からの変位で表現して、描画データＤ１を生成する。例えば、図２に示す例では、辺Ｓ０の下端の頂点Ｐ０１の座標（ｘ０、ｙ０）がこの多角形図形の図形配置原点として定義される。
【００４３】
そして、辺Ｓ０の上端の頂点Ｐ０２の位置は、図形配置位置原点Ｐ０１と、そこから垂直に延びる辺Ｓ０の長さＬ０で定義される。
【００４４】
辺Ｓ０に平行かつ辺Ｓ０に隣接する辺Ｓ１の下端の頂点Ｐ１１の位置は、台形Ｔ１の高さ（辺Ｓ０と辺Ｓ１との間隔）Ｌ１と、隣接する頂点Ｐ０１からみた縦方向の変位δ１１で定義される。また、辺Ｓ１の上端の頂点Ｐ１２の位置は、台形Ｔ１の高さＬ１と、隣接する頂点Ｐ０２からみた縦方向の変位δ１２で定義される。
【００４５】
辺Ｓ１に平行かつ辺Ｓ１に隣接する辺Ｓ２の下端の頂点Ｐ２１の位置は、台形Ｔ２の高さＬ２と、隣接する頂点Ｐ１１からみた縦方向の変位δ２１で定義される。また、辺Ｓ２の上端の頂点Ｐ２２の位置は、台形Ｔ２の高さＬ２と、隣接する頂点Ｐ１２からみた縦方向の変位δ２２で定義される。
【００４６】
言い換えれば、台形Ｔ２と台形Ｔ３との共通の頂点Ｐ２１、Ｐ２２の位置を、台形Ｔ１と台形Ｔ２との共通の頂点Ｐ１１、Ｐ１２の位置からの縦方向の変位δ２１、δ２２と、横方向の変位Ｌ２で定義する。
【００４７】
以降同様に、辺Ｓｍー１に平行かつ辺Ｓｍ−１に隣接する辺Ｓｍの下端の頂点Ｐｍ１の位置は、台形Ｔｍの高さ（辺Ｓｍ−１と辺Ｓｍとの間隔）Ｌｍと、隣接する頂点Ｐ（ｍ−１）１からみた縦方向の変位δｍ１で定義される。また、辺Ｓｍの上端の頂点Ｐｍ２の位置は、台形Ｔｍの高さＬｍと、隣接する頂点Ｐ（ｍ−１）２からみた縦方向の変位δｍ２で定義される。ここでｍは２〜ｎの整数である。
【００４８】
このように、多角形図形に対応する連結台形群は、図形配置位置原点Ｐ０１の座標（ｘ０、ｙ０）、辺Ｓ０の長さＬ０、各台形Ｔ１〜Ｔｎの高さＬ１〜Ｌｎ、隣接する頂点からみた台形連結方向と直交する方向の変位δ１１、δ１２〜δｎ１、δｎ２によりその形状を定義することができる。なお、変位δ１１、δ１２〜δｎ１、δｎ２は符号付きの値である。各台形Ｔ１〜Ｔｎの高さＬ１〜Ｌｎは、隣接する頂点からみた台形連結方向の変位とみなすことができる。
【００４９】
図７（ａ）に、連結台形群を定義する描画データＤ１のデータ構造の一例を示す。描画データＤ１は、ヘッダＰＨ及び形状情報ＥＰを有する。ヘッダＰＨは図形コード（Ｃｏｄｅ）、フラグ（ｆｌａｇ）及び図形要素数（Ｎ）が定義されている。
【００５０】
図形コードは、連結台形群がどのような多角形図形を分割処理したかを示す情報であり、例えば、図３（ａ）、（ｂ）、図４（ａ）〜（ｄ）、図５（ａ）、（ｂ）、図６（ａ）、（ｂ）のうち、どの分割処理に対応するかを示す。
【００５１】
フラグには、図形表現の識別に必要な情報、例えば後述する形状情報ＥＰに含まれるデータのバイト長などが含まれる。図形要素数（Ｎ）は、図形コードが同じ連結台形群（多角形図形）の数を示す。形状情報ＥＰは、連結台形群毎に作成されるため、図形要素数（Ｎ）が２以上の場合、図７（ｂ）に示すように、複数の形状情報ＥＰ１〜ＥＰＮが作成される。
【００５２】
形状情報ＥＰには、連結台形群の形状を定義するための情報、例えば、図形配置位置原点の座標（ｘ０、ｙ０）、辺Ｓ０の長さＬ０、各台形Ｔ１〜Ｔｎの高さＬ１〜Ｌｎ、隣接する頂点からみた台形連結方向と直交する方向の変位δ１１、δ１２〜δｎ１、δｎ２が含まれる。また、形状情報ＥＰは、台形の連結数Ｎｃｏｎｎｅｃｔを含む。
【００５３】
例えば、図３（ａ）、（ｂ）に示す連結台形群を表現する描画データＤ１は図３（ｃ）のようなデータ構造になる。図形コードには、台形の連結方向や、どの頂点を図形配置位置原点としているか等が判別可能に定義される。連結数Ｎｃｏｎｎｅｃｔは４である。
【００５４】
図４（ａ）〜（ｄ）に示す連結台形群を表現する描画データＤ１は図４（ｅ）のようなデータ構造になる。図形コードには、台形の連結方向、複数の台形のどの辺が直線状に連なるか、どの頂点を図形配置位置原点としているか等が判別可能に定義される。連結数Ｎｃｏｎｎｅｃｔは４である。図４（ａ）〜（ｄ）では、連結する台形の一辺が直線状に連なり、この辺の頂点については、隣接する頂点との間で、台形連結方向と直交する方向の変位がない。従って、連結数Ｎｃｏｎｎｅｃｔが同じ場合、図３（ａ）、（ｂ）よりも形状情報ＥＰのデータ量は小さくなる。
【００５５】
図５（ａ）、（ｂ）に示す連結台形群を表現する描画データＤ１は図５（ｃ）のようなデータ構造になる。図形コードには、複数の長方形に分割されること、長方形の連結方向、どの頂点を図形配置位置原点としているか等が判別可能に定義される。
【００５６】
図６（ａ）、（ｂ）に示す連結台形群を表現する描画データＤ１は図６（ｃ）のようなデータ構造になる。形状情報ＥＰには図６（ｄ）に示すような方向フラグ（ｆｌａｇ）が定義される。これは、多角形図形が縦方向又は横方向に平行な辺、及び縦方向（横方向）に対して４５°をなす辺のみで構成される場合、各辺を図６（ｄ）の方向フラグのいずれかで表すことができるためである。図形コードには、台形の連結方向、どの頂点を図形配置位置原点としているか等が判別可能に定義される。なお、図６（ｃ）は図６（ａ）の連結台形群を表す描画データＤ１である。
【００５７】
このように、本実施形態では、多角形図形を、複数の平行台形が一方向に連結した台形群とみなし、図形配置位置原点のみ座標で示し、その他の台形の頂点の位置は、隣接する頂点からの変位で表現して描画データＤ１を生成する。そのため、各台形を、配置位置原点の座標と、そこから他の３頂点までの変位で表現する場合よりも、描画データのデータ量を低減することができる。
【００５８】
例えば、１００個の頂点を有する多角形図形を連結台形群で表現し、各台形を配置位置原点の座標とそこから他の３頂点までの変位とで表現する描画データと比較して、本実施形態のように１つの台形の図形配置位置原点のみ座標で示し、この台形の他の頂点及び他の台形の頂点の位置を隣接する頂点からの変位で表現する描画データは、データ量を１／３程度に低減することができる。
【００５９】
また、多角形図形を連結台形群で表現した描画データＤ１は、ポリゴン形状図形からなる描画データよりも、描画装置１の制御計算機５２内でのデータ処理が容易であり、計算量を抑制することができる。
【００６０】
図８に示すように、描画データＤ１には、連結された台形の各々の照射量（ドーズ量）を定義できるようにしてもよい。台形Ｔ１〜Ｔｎのドーズ量ＡＩ１〜ＡＩｎはヘッダＰＨｄに含まれる。ヘッダＰＨｄのフラグｆｌａｇは、ドーズ量ＡＩ１〜ＡＩｎのデータのバイト長などを示す。また、ヘッダＰＨｄの要素数Ｎは、ドーズ量が定義された台形の数を示す。また、描画データＤ１には、照射量だけでなく、レイヤ情報等のその他の属性情報を定義してもよい。
【００６１】
図９に示すように、多角形図形の形状によっては、連結台形群の端部は三角形になってもよい。この場合、辺Ｓ０に相当する辺は無いため、描画データＤ１の形状情報ＥＰから長さＬ０の項目は省略される。
【００６２】
上記実施形態では、図２に示すように、辺Ｓｍ−１の下端の頂点からみた辺Ｓｍの下端の頂点の縦方向の変位δｍ１、辺Ｓｍ−１の上端の頂点からみた辺Ｓｍの上端の頂点の縦方向の変位δｍ２を定義していたが、図１０に示すように、変位δｍ２を辺Ｓｍの下端の頂点を基準としたものとしてもよい。このように、辺Ｓｍの一端の頂点の位置を、辺Ｓｍ−１の一端の頂点の位置からの変位で定義し、辺Ｓｍの他端の頂点の位置を辺Ｓｍの該一端の頂点の位置からの変位で定義しても、上記実施形態と同様の効果が得られる。また、隣接する２つの台形の共通辺の一端の頂点を基準に他端の頂点の変位を定義することで、検査工程において、隣接する台形の連結の確認が容易となる。
【００６３】
上記実施形態では、隣接する台形の共通辺の両端の頂点の位置を、隣接する頂点からの変位で表現していたが、この手法では、図１１（ａ）に示す共通辺Ｓ２の上側の頂点のように、隣接する台形の片側の辺が直線状に連なり、位置の定義が不要な箇所についても、隣接する頂点からの変位が定義されることになる。この場合、図１１（ｂ）に示すように、共通辺Ｓ２の上側の頂点の位置は定義せず、共通辺Ｓ３の上側の頂点の位置を共通辺Ｓ１の上側の頂点からの変位で表現することが好ましい。これにより、図１１（ａ）における変位δ２２の分だけ描画データＤ１のデータ量を削減することができる。
【００６４】
このような描画データＤ１は、図１２（ａ）に示すように、各台形Ｔ１〜Ｔｎの高さＬ１〜Ｌｎにフラグ（ｆｌａｇ１）を付加し、このフラグに図１２（ｂ）に示すような２ビットの値を与える。これにより、共通辺の両端の位置が定義されているか否かがわかる。
【００６５】
さらに、図１２（ａ）に示すように、変位δ１１、δ１２〜δｎ１、δｎ２にフラグ（ｆｌａｇ２、３）を付加し、このフラグに図１２（ｂ）に示すような２ビットの値を与えてもよい。ｆｌａｇ２、ｆｌａｇ３の値が“００”又は“１０”の場合、台形Ｔ１〜Ｔｎの高さＬ１〜Ｌｎから変位δ１１、δ１２〜δｎ１、δｎ２が定まるため、描画データＤ１における変位δ１１、δ１２〜δｎ１、δｎ２を省略することができ、描画データＤ１のデータ量をさらに削減することができる。
【００６６】
例えば、図１３（ａ）に示す連結台形群を表現する描画データＤ１は図１３（ｂ）のようなデータ構造になる。変位δ１２、δ２１、δ３２等を省略することができるので、描画データＤ１のデータ量をさらに低減することができる。
【００６７】
上記実施形態による変換装置７０により生成された描画データＤ１は、パターン検査装置に入力されてもよい。例えば、図１４に示すように、パターン検査装置８０には、変換装置７０により生成された描画データＤ１（第１描画データ）と、図１に示す描画装置１が描画データＤ１に基づいて描画対象基板に実際に描画したパターンに基づいて作成された描画データＤ２（第２描画データ）とが入力される。描画データＤ２は、図示しない記憶装置から有線又は無線ネットワークを介してパターン検査装置８０に入力される。
【００６８】
パターン検査装置８０は、入力された描画データＤ１、Ｄ２に基づいて、描画装置１により描画対象基板に実際に描画されたパターンを検査する。この検査では、例えば、描画データＤ１と描画データＤ２とを比較するような検査が行われる。なお、検査には、描画条件などの各種情報がさらに用いられる。
【００６９】
変換装置７０により生成される描画データＤ１はデータ量が小さく、かつデータ処理が容易なものであるため、パターン検査装置８０の処理効率を向上させることができる。
【００７０】
変換装置７０は、パターン検査装置８０内に設けられていてもよい。その場合、パターン検査装置８０は、入力された設計データＤ０に基づいて描画データＤ１を生成する変換部と、描画データＤ１と描画データＤ２とを比較して描画対象基板に実際に描画されたパターンの検査を行う検査部とを備えたものとなる。
【００７１】
上記実施形態による描画データＤ１の生成は描画装置１の制御計算機５２内で行ってもよい。制御計算機５２は、設計データＤ０が入力されると、多角形図形を平行台形に分割して連結台形群を作成し、各頂点の位置を、隣接する頂点の位置からの変位で表して描画データＤ１を生成する。
【００７２】
上述した実施形態で説明した描画データＤ１を生成する変換装置７０の少なくとも一部は、ハードウェアで構成してもよいし、ソフトウェアで構成してもよい。ソフトウェアで構成する場合には、変換装置７０の少なくとも一部の機能を実現するプログラムをフレキシブルディスクやＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体に収納し、コンピュータに読み込ませて実行させてもよい。記録媒体は、磁気ディスクや光ディスク等の着脱可能なものに限定されず、ハードディスク装置やメモリなどの固定型の記録媒体でもよい。
【００７３】
また、変換装置７０の少なくとも一部の機能を実現するプログラムを、インターネット等の通信回線（無線通信も含む）を介して頒布してもよい。さらに、同プログラムを暗号化したり、変調をかけたり、圧縮した状態で、インターネット等の有線回線や無線回線を介して、あるいは記録媒体に収納して頒布してもよい。
【００７４】
なお、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【符号の説明】
【００７５】
１  描画装置
１０  描画部
１２  電子ビーム鏡筒
１４  電子銃
１６  照明レンズ
１８  アパーチャ部材
２０  ブランキングプレート
２２  縮小レンズ
２４  制限アパーチャ部材
２６  対物レンズ
２８  偏向器
３０  描画室
３２  ＸＹステージ
３４  マスクブランク
３６  ミラー
５０  制御部
５２  制御計算機
５４、５６  偏向制御回路
５８  ステージ位置検出器
７０  変換装置
８０  パターン検査装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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