(57)【要約】【課題】本発明の課題は、赤色、緑色及び青色に発光する有機エレクトロルミネッセンス素子のそれぞれの発光面積を光遮蔽部によって制御することで色調及び階調を再現し、簡易な構造で静止画像を形成することができる安価な有機エレクトロルミネッセンスデバイス、その製造方法及び表示装置を提供することである。【解決手段】本発明の有機エレクトロルミネッセンスデバイスは、発光色の異なる２個以上の有機エレクトロルミネッセンス素子を具備する有機エレクトロルミネッセンスデバイスであって、前記発光色の異なる有機エレクトロルミネッセンス素子が、それぞれ同一平面内に配置されており、かつ、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の光取り出し側の面に、可視光領域の光透過率が段階的に変化する又は一律である光遮蔽部を有することを特徴とする。【選択図】図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光色の異なる２個以上の有機エレクトロルミネッセンス素子を具備する有機エレクトロルミネッセンスデバイスであって、
前記発光色の異なる有機エレクトロルミネッセンス素子が、それぞれ同一平面内に配置されており、かつ、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子の光取り出し側の面に、可視光領域の光透過率が段階的に変化する又は一律である光遮蔽部を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
【請求項２】
前記光遮蔽部が、光吸収材料又は光反射材料を含有することを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
【請求項３】
前記光遮蔽部が、光透過率が段階的に変化する階調性を有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
【請求項４】
前記光遮蔽部の可視光領域の光透過率が、一律に５％以下であり階調性を有しないことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
【請求項５】
前記光遮蔽部の形状が、周辺部から中央部にかけて凹形状であることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
【請求項６】
前記光遮蔽部が、カーボンブラック、銀ナノ粒子又は酸化チタン粒子を含有することを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
【請求項７】
前記光遮蔽部が、赤色、緑色又は青色の色材を含有することを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
【請求項８】
前記発光色の異なる２個以上の有機エレクトロルミネッセンス素子が、赤色、緑色又は青色に発光する３個の画素を一組とする画素ユニットを構成しており、
前記画素ユニットに含まれる画素のうち、光遮蔽する画素に対して前記光遮蔽部を備え、光透過させる画素からの発光光と同色の赤色、緑色又は青色の色材を当該光遮蔽部に含有することを特徴とする請求項７に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
【請求項９】
前記画素ユニットに含まれる３個の画素に対し、前記光遮蔽部が、照明環境下でそれぞれの発光色と前記光遮蔽部の反射光色とが混色されて、前記発光色に対して補色の関係の色に視認される色材を含有することを特徴とする請求項７に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
【請求項１０】
前記発光色の異なる有機エレクトロルミネッセンス素子が、同一平面内に発光色の異なる２以上のライン状に並列して配置されていることを特徴とする請求項１から請求項９までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
【請求項１１】
前記同一平面内に発光色の異なる２以上のライン状に並列して配置されている有機エレクトロルミネッセンス素子が、それぞれ異なる抵抗値を有する導電部材によって電源に接続されていることを特徴とする請求項１０に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
【請求項１２】
一画素中に前記発光色の異なる２個以上の有機エレクトロルミネッセンス素子が配置され、一方の発光色を発光する前記有機エレクトロルミネッセンス素子の陽極が、隣接する他方の発光色を発光する前記有機エレクトロルミネッセンス素子の陰極と、電気的に直列に接続されていることを特徴とする請求項１から請求項１１までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
【請求項１３】
請求項１から請求項１２までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイスを製造する有機エレクトロルミネッセンスデバイスの製造方法であって、
前記光遮蔽部を、光吸収材料又は光反射材料を含有するインク液を用いて、インクジェットプリント法により形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスデバイスの製造方法。
【請求項１４】
請求項１から請求項１２までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイスを製造する有機エレクトロルミネッセンスデバイスの製造方法であって、
前記光遮蔽部として、光吸収材料又は光反射材料を含有するシートを前記有機エレクトロルミネッセンス素子の光取出し面上に貼合することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスデバイスの製造方法。
【請求項１５】
請求項１から請求項１２までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイスを具備することを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンスデバイス、その製造方法、及び表示装置に関し、より詳しくは、赤色、緑色及び青色に発光する有機エレクトロルミネッセンス素子のそれぞれの発光面積を光遮蔽部によって制御することで、色調及び階調を再現し、簡易な構造で静止画像を形成することができる安価な有機エレクトロルミネッセンスデバイス等に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機材料のエレクトロルミネッセンス（ＥｌｅｃｔｒｏＬｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）を利用した有機エレクトロルミネッセンス素子が急速に普及しており、この有機エレクトロルミネッセンス素子は、数Ｖ〜数十Ｖ程度の低電圧で発光が可能な薄膜型の完全固体素子であり、高輝度、高発光効率、薄型、軽量といった多くの優れた特徴を有する。このため、表示装置、ディスプレイ、照明光源等の面発光体として、その適用分野の検討が精力的になされている。
【０００３】
さらに表示装置として、動画表示ではなく、ポスター等を意図した静止画像による表示装置の要望が高まってきている。
【０００４】
有機エレクトロルミネッセンスデバイスにおいて、表示する画像を多色で表現する場合、各画素の発光開始電圧の差により、定電圧を印加した場合には、赤色が最も発光しやすく、次いで、緑色発光、青色発光の順となり、例えば、均一な白色発光を得ようとする場合には、それぞれの有機エレクトロルミネッセンス素子に印加する電圧を制御する必要がある。そのため、ディスプレイ用途の場合は、薄膜トランジスタ：ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）で各画素の電圧を調整し、任意の輝度で発光させる方法が採用されている。
【０００５】
しかしながら、ポスターのような静止画像用途のデバイスの場合は、フォトリソ工程が必要なＴＦＴ化は、利用者の要求に応じて簡易にデバイスを作製する、いわゆるオンデマンド性にはそぐわない。また、ＴＦＴ化は駆動のためにドライバが必要となり、有機エレクトロルミネッセンスデバイス装置の構成として複雑になり、デバイスとして高価なものになってしまうという問題がある。
【０００６】
さらに、看板全面照射によるサイネージ等を前記ＴＦＴ化された有機エレクトロルミネッセンスデバイスで作製すると、夜間に膨大な電力消費が必要であり、配電設備コストも高いものになる。
【０００７】
一方、デバイスをＴＦＴ化せず、赤色、緑色及び青色に発光する有機エレクトロルミネッセンス素子を、それぞれ電圧調整して発光させて白色光とし、赤色、緑色及び青色のカラーフィルターを適宜組み合わせることによって、表示画像を多色で表現する方法が知られている（例えば、特許文献１〜３参照。）。しかしながら、この方法では、画素毎にカラーフィルターを介して色調及び階調を制御する必要があることから、カラーフィルターの作製や配置する工程が煩雑であることからオンデマンド性に欠け、また、カラーフィルターを介するため輝度や色純度が低くなりやすいという問題があり、早急な対応が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００６−７３２１９号公報
【特許文献２】特開２０１１−１８１５９０号公報
【特許文献３】特開２０１３−２１１１４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、赤色、緑色及び青色に発光する有機エレクトロルミネッセンス素子のそれぞれの発光面積を光遮蔽部によって制御することで、色調及び階調を再現し、簡易な構造で静止画像を形成することができる安価な有機エレクトロルミネッセンスデバイス、その製造方法及びそれを具備した表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、発光色の異なる２個以上の有機エレクトロルミネッセンス素子が、それぞれ同一平面内に配置されており、かつ、当該有機エレクトロルミネッセンス素子の光取り出し側の面に、可視光領域の光透過率が段階的に変化する又は一律である光遮蔽部を有する有機エレクトロルミネッセンスデバイスにより、赤色、緑色及び青色に発光する有機エレクトロルミネッセンス素子のそれぞれの発光面積を制御することで色調及び階調を再現し、簡易な構造で静止画像を形成することができる安価な有機エレクトロルミネッセンスデバイスが得られることを見出し本発明に至った。
【００１１】
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
【００１２】
１．発光色の異なる２個以上の有機エレクトロルミネッセンス素子を具備する有機エレクトロルミネッセンスデバイスであって、
前記発光色の異なる有機エレクトロルミネッセンス素子が、それぞれ同一平面内に配置されており、かつ、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子の光取り出し側の面に、可視光領域の光透過率が段階的に変化する又は一律である光遮蔽部を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
【００１３】
２．前記光遮蔽部が、光吸収材料又は光反射材料を含有することを特徴とする第１項に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
【００１４】
３．前記光遮蔽部が、光の透過率が段階的に変化する階調性を有することを特徴とする第１項又は第２項に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
【００１５】
４．前記光遮蔽部の可視光領域の光透過率が、一律に５％以下であり階調性を有しないことを特徴とする第１項又は第２項に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
【００１６】
５．前記光遮蔽部の形状が、周辺部から中央部にかけて凹形状であることを特徴とする第１項から第４項までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
【００１７】
６．前記光遮蔽部が、カーボンブラック、銀ナノ粒子又は酸化チタン粒子を含有することを特徴とする第１項から第５項までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
【００１８】
７．前記光遮蔽部が、赤色、緑色又は青色の色材を含有することを特徴とする第１項から第５項のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
【００１９】
８．前記発光色の異なる２個以上の有機エレクトロルミネッセンス素子が、赤色、緑色又は青色に発光する３個の画素を一組とする画素ユニットを構成しており、
前記画素ユニットに含まれる画素のうち、光遮蔽する画素に対して前記光遮蔽部を備え、光透過させる画素からの発光光と同色の赤色、緑色又は青色の色材を当該光遮蔽部に含有することを特徴とする請求項７に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
【００２０】
９．前記画素ユニットに含まれる３個の画素に対し、前記光遮蔽部が、照明環境下でそれぞれの発光色と前記光遮蔽部の反射光色とが混色されて、前記発光色に対して補色の関係の色に視認される色材を含有することを特徴とする第７項に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
【００２１】
１０．前記発光色の異なる有機エレクトロルミネッセンス素子が、同一平面内に発光色の異なる２以上のライン状に並列して配置されていることを特徴とする第１項から第９項までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
【００２２】
１１．前記同一平面内に発光色の異なる２以上のライン状に並列して配置されている有機エレクトロルミネッセンス素子が、それぞれ異なる抵抗値を有する導電部材によって電源に接続されていることを特徴とする第１０項に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
【００２３】
１２．一画素中に前記発光色の異なる２個以上の有機エレクトロルミネッセンス素子が配置され、一方の発光色を発光する前記有機エレクトロルミネッセンス素子の陽極が、隣接する他方の発光色を発光する前記有機エレクトロルミネッセンス素子の陰極と、電気的に直列に接続されていることを特徴とする第１項から第１１項までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイス。
【００２４】
１３．第１項から第１２項までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイスを製造する有機エレクトロルミネッセンスデバイスの製造方法であって、
前記光遮蔽部を、光吸収材料又は光反射材料を含有するインク液を用いて、インクジェットプリント法により形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスデバイスの製造方法。
【００２５】
１４．第１項から第１２項までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイスを製造する有機エレクトロルミネッセンスデバイスの製造方法であって、
前記光遮蔽部として、光吸収材料又は光反射材料を含有するシートを前記有機エレクトロルミネッセンス素子の光取出し面上に貼合することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスデバイスの製造方法。
【００２６】
１５．第１項から第１２項までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンスデバイスを具備することを特徴とする表示装置。
【発明の効果】
【００２７】
本発明の上記手段により、赤色、緑色及び青色に発光する有機エレクトロルミネッセンス素子のそれぞれの発光面積を制御することで色調及び階調を再現し、簡易な構造で静止画像を形成することができる有機エレクトロルミネッセンスデバイス、その製造方法及び表示装置を提供することができる。
【００２８】
本発明の効果の発現機構又は作用機構については、以下のように推察している。
【００２９】
本発明の有機エレクトロルミネッセンスデバイスの構成は、発光色の異なる２個以上の有機エレクトロルミネッセンス素子を、それぞれ同一平面内に配置し、かつ、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の光取り出し側の面に、可視光領域の光透過率が段階的に変化する又は一律である光遮蔽部を有する。当該構成によって、赤色、緑色及び青色に発光する前記有機エレクトロルミネッセンス素子のそれぞれの発光面積を制御することで色調及び階調を再現し、簡易な構造で静止画像を形成することができる、新規な有機エレクトロルミネッセンスデバイスである。
【００３０】
図１Ａ及び図１Ｂは、本発明の有機エレクトロルミネッセンスデバイスの光制御の機構を示す模式図である。
【００３１】
図１Ａは、本発明の有機エレクトロルミネッセンスデバイスの平面図である。赤色発光（ＥＬR）、緑色発光（ＥＬG）及び青色発光（ＥＬB）する有機エレクトロルミネッセンス素子が、同一平面内にライン状に配置されて有機エレクトロルミネッセンスデバイス（ＯＬＥＤ）を形成しており、当該有機エレクトロルミネッセンス素子の一部について光遮蔽部９によって発光光Ｌが遮蔽され、その他の素子はそのまま発光光Ｌが取り出される実施形態である。
【００３２】
図１Ｂは図１ＡのＡ−Ａ′断面図である。複数の赤色発光（ＥＬR）、緑色発光（ＥＬG）及び青色発光（ＥＬB）する有機エレクトロルミネッセンス素子からの発光光Ｌが、有機エレクトロルミネッセンス素子の光取出し側の面において、一部は光遮蔽部９によって遮蔽され、その他はそのまま発光光Ｌが取り出されていることを示す模式図である。前記光遮蔽部９によって発光光Ｌが遮蔽されることで、絵柄等の模様示す色調や階調を任意に再現でき、表示装置として複数の赤色発光（ＥＬR）、緑色発光（ＥＬG）及び青色発光（ＥＬB）する有機エレクトロルミネッセンス素子によってフルカラーの静止画像を形成することが可能である。
【００３３】
したがって、従来のデバイスのように、赤色発光（ＥＬR）、緑色発光（ＥＬG）及び青色発光（ＥＬB）を混色として白色光とし、当該白色光とカラーフィルターとの組み合わせで色調や階調を再現する方式ではないことから、当該カラーフィルターを介することによる輝度や色純度の低下がなく、優れた画質を有する静止画像を形成することができる。
【００３４】
また、本発明の有機エレクトロルミネッセンスデバイスは、赤色発光（ＥＬR）、緑色発光（ＥＬG）及び青色発光（ＥＬB）するそれぞれの有機エレクトロルミネッセンス素子にＴＦＴを組み込んで、個別に色調や階調の再現を制御する複雑で高価な機構を有しないことから、簡易で安価な構造を有する、オンデマンド性にも優れるデバイスといえる。
【００３５】
また、本発明の有機エレクトロルミネッセンスデバイスは、前記光遮蔽部が、赤色、緑色又は青色の色材を含有することも好ましく、前記発光色の異なる２個以上の有機エレクトロルミネッセンス素子が、赤色、緑色又は青色に発光する３個の画素を一組とする画素ユニットを構成しており、前記画素ユニットに含まれる画素のうち、光遮蔽する画素に対して前記光遮蔽部を備え、光透過させる画素からの発光光と同色の赤色、緑色又は青色の色材を当該光遮蔽部に含有することも好ましい。
【００３６】
さらに、前記画素ユニットに含まれる３個の画素に対し、前記光遮蔽部が、照明環境下でそれぞれの発光色と前記光遮蔽部の反射光色とが混色されて、前記発光色に対して補色の関係の色に視認される色材を含有することも好ましい。
【００３７】
このような実施形態の場合、例えばカーボンブラックやＡｇナノインク等による黒色の光遮蔽部によって一律に光遮蔽する効果以外の効果も期待できる。
【００３８】
すなわち、赤色、緑色又は青色に発光する画素を一画素ユニットとしたとき、例えば緑色の光を取出したい画素ユニットについては、赤色及び青色発光する画素に対して赤色及び青色の光透過率の低い緑色の色材を含有する光遮蔽部で遮蔽することによって、有機エレクトロルミネッセンスデバイスが発光していないときと、発光したときの見た目を一致させると共に、昼間は減色法による静止画像（照明光の反射により視認される画像）、夜間は加色法による静止画像（発光による画像）の切り替えが可能となる。また、明るい環境においては、反射光による画像に発光による画像を加えることもでき、より視認性の高い静止画像を得ることが可能になる。
【００３９】
また、前記赤色、緑色又は青色に発光する画素に対して、前記光遮蔽部が、照明環境下でそれぞれの発光色と前記光遮蔽部の反射光色とが混色されて、前記発光色に対して補色の関係の色に視認される色材を含有することによって、照明環境下では、減色法を色再現に利用する静止画像を得ることができる。さらに、発光によって加色法による色再現を利用する静止画像の同じ画面の中に、減色法による色再現を利用する静止画像を加えることも可能となり、より広範な表現が可能な静止画像を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１Ａ】本発明の有機エレクトロルミネッセンスデバイスの光制御の機構を示す平面図
【図１Ｂ】本発明の有機エレクトロルミネッセンスデバイスの光制御の機構を示す断面図
【図２Ａ】本発明に適用可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の基本的な構成を示す断面図
【図２Ｂ】本発明に適用可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の基本的な構成を示す別の断面図
【図３Ａ】階調性を有しない光遮蔽部の模式図
【図３Ｂ】階調性を有する光遮蔽部の模式図
【図４Ａ】本発明に係る光遮蔽部と画素との大きさに係る関係を示す概略図
【図４Ｂ】光遮蔽部をインクジェットプリント法によって形成するときの模式図
【図５】インクジェットプリント法を用いて光遮蔽部を塗布する方法の一例を示す模式図
【図６】インクジェットヘッドの一例を示す概略斜視図
【図７】本発明の有機ＥＬデバイスの回路図の概略を示す一例
【図８】本発明の有機ＥＬデバイスの別の回路図の概略を示す一例
【図９】発光色の異なる２個以上の有機ＥＬ素子を具備した本発明の有機ＥＬデバイスの構成の一例を示す概略図（実施形態１）
【図１０】有機ＥＬデバイスの構成の画素部の拡大概略図（実施形態１）
【図１１】画素ユニットの切断面Ａ−Ａ´で表される構成を示す概略断面図
【図１２】画素ユニットの切断面Ｂ−Ｂ´で表される構成を示す概略断面図
【図１３】実施形態１のインクジェットプリント法を用いた製造方法の模式図
【図１４】実施形態１のインクジェットプリント法を用いた製造方法の後半の模式図
【図１５】発光色の異なる２個以上の有機ＥＬ素子を具備した本発明の有機ＥＬデバイスの構成の別の一例を示す概略図（実施形態２）
【図１６】陽極と陰極を電気的に直列に結合したときの有機ＥＬ素子ユニットの断面図
【図１７】陽極と陰極を電気的に直列に結合したときの有機ＥＬ素子ユニットの製造例を示す模式図
【図１８Ａ】青色光の発光スペクトルを示す模式図
【図１８Ｂ】緑色光の発光スペクトルを示す模式図
【図１８Ｃ】赤色光の発光スペクトルを示す模式図
【図１９】青色、緑色又は赤色の色材を含有する光遮蔽部による光制御の機構を示す模式図
【図２０Ａ】視認されるイエロー（Ｙ）の反射スペクトルを示す模式図
【図２０Ｂ】視認されるマゼンタ（Ｍ）の反射スペクトルを示す模式図
【図２０Ｃ】視認されるシアン（Ｃ）の反射スペクトルを示す模式図
【発明を実施するための形態】
【００４１】
本発明の有機エレクトロルミネッセンスデバイスは、発光色の異なる２個以上の有機エレクトロルミネッセンス素子を具備する有機エレクトロルミネッセンスデバイスであって、前記発光色の異なる有機エレクトロルミネッセンス素子が、それぞれ同一平面内に配置されており、かつ、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の光取り出し側の面に、可視光領域の光透過率が段階的に変化する又は一律である光遮蔽部を有することを特徴とする。この特徴は、下記各実施形態に共通する技術的特徴である。
【００４２】
本発明の実施形態としては、本発明の目的とする効果をより発現できる観点から．前記光遮蔽部が、光吸収材料又は光反射材料を含有することが、簡易に光遮蔽部としての機能を発現する観点から、好ましい形態である。
【００４３】
前記光遮蔽部は、光の透過率が段階的に変化する階調性を有することが好ましく、階調を有することによって、より色調や階調を細かく制御することができ、高品位な静止画像を形成することができる。
【００４４】
また、前記光遮蔽部の可視光領域の光透過率が、一律に５％以下であり階調性を有しないことも、光遮蔽して色調や階調を再現する効果を簡易に発現できる観点から、好ましい形態である。
【００４５】
前記光遮蔽部の形状が、周辺部から中央部にかけて凹形状であることが好ましく、周辺部の膜厚が中央部に比べて厚いことで、画素としての有機エレクトロルミネッセンス素子からの散乱光を効果的に遮蔽することができ、いわゆるエッジの効いた静止画像を提供することができる。
【００４６】
本発明の実施形態として、前記光遮蔽部が、カーボンブラック、銀ナノ粒子又は酸化チタン粒子を含有することが、前記光透過率の制御を効果的に実現し、本発明の優れた効果を得る観点で好ましい態様である。
【００４７】
また、本発明の実施形態として、前記光遮蔽部が、赤色、緑色又は青色の色材を含有することも好ましい。このような色材を含有する光遮蔽部を用いることで、以下の効果を得ることが期待できる。
【００４８】
すなわち、前記発光色の異なる２個以上の有機エレクトロルミネッセンス素子が、赤色、緑色又は青色に発光する３個の画素を一組とする画素ユニットを構成しており、前記画素ユニットに含まれる画素のうち、光遮蔽する画素に対して前記光遮蔽部を備え、光透過させる画素からの発光光と同色の赤色、緑色又は青色の色材を当該光遮蔽部に含有すると、有機エレクトロルミネッセンスデバイスが発光していないときと発光しているときの見た目を一致させると共に、昼間は減色法による静止画像（照明光の反射により視認される画像）、夜間は加色法による静止画像（発光による画像）の切り替えが可能となる。また、明るい環境においては、反射光による画像に発光による画像を加えることもでき、より視認性の高い静止画像を得ることが可能になる。
【００４９】
さらに、前記画素ユニットに含まれる３個の画素に対し、前記光遮蔽部が、照明環境下でそれぞれの発光色と前記光遮蔽部の反射光色とが混色されて、前記発光色に対して補色の関係の色に視認される色材を含有することも好ましく、例えば、減色法による静止画像を得ることや、減色法、加色法とが混合した静止画像を得ることが可能になる。
【００５０】
また、前記発光色の異なる有機エレクトロルミネッセンス素子が、同一平面内に発光色の異なる２以上のライン状に並列して配置されていることが、光を透過する画素と透過しない画素とを効率的に形成でき、効率よく広い面積を分割することによって、安定した発光特性を得る観点から、好ましい形態である。ここで「ライン状」とは、前記有機エレクトロルミネッセンス素子がストライプ（縞模様）で表されるように、直線的及び並列に配置されていることをいう。
【００５１】
前記同一平面内に発光色の異なる２以上のライン状に並列して配置されている有機エレクトロルミネッセンス素子が、それぞれ異なる抵抗値を有する導電部材によって印加電源部に接続されていることが好ましく、これによって、一画素ユニットとして白色光を発光する上で、赤色発光、緑色発光及び青色発光する有機エレクトロルミネッセンス素子の発光制御をバランスよく行える利点がある。
【００５２】
また、一画素中に前記発光色の異なる２個以上の有機エレクトロルミネッセンス素子が配置され、一方の発光色を発光する前記有機エレクトロルミネッセンス素子の陽極が、隣接する他方の発光色を発光する前記有機エレクトロルミネッセンス素子の陰極と、電気的に直列に接続されていることが、大面積の有機エレクトロルミネッセンスデバイスの場合の電圧降下を小さくでき、均一な発光を得る観点から好ましい。
【００５３】
本発明の有機エレクトロルミネッセンスデバイスを製造する有機エレクトロルミネッセンスデバイスの製造方法は、前記光遮蔽部を、光吸収材料又は光反射材料を含有するインク液を用いて、インクジェットプリント法により形成することを特徴とする。前記インクジェットプリント法を採用することで、製造手段として大型設備も不要であり、任意の箇所に任意の大きさで光遮蔽部を配置することができ、オンデマンド性がより向上する。
【００５４】
また本発明の有機エレクトロルミネッセンスデバイスを製造する有機エレクトロルミネッセンスデバイスの製造方法は、前記光遮蔽部として、光吸収材料又は光反射材料を含有するシートを前記有機エレクトロルミネッセンス素子の光取出し面上に貼合する態様であることも好ましく、簡易、低コストであって、オンデマンド性がより向上する。
【００５５】
本発明の有機エレクトロルミネッセンスデバイスは、屋外広告（デジタルサイネージ）やポスター等の静止画像用の表示装置に好ましく適用することができる。
【００５６】
以下、本発明の構成要素、及び本発明を実施するための形態について、図を交えて詳細な説明をする。なお、本願において、数値範囲を表す「〜」はその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用している。なお、各図の説明において、構成要素の末尾に括弧内で記した数字は、各図における符号を表す。
【００５７】
〔１〕本発明の有機エレクトロルミネッセンスデバイスの概要
本発明の有機エレクトロルミネッセンスデバイスは、発光色の異なる２個以上の有機エレクトロルミネッセンス素子を具備する有機エレクトロルミネッセンスデバイスであって、前記発光色の異なる有機エレクトロルミネッセンス素子が、それぞれ同一平面内に配置されており、かつ、前記有機エレクトロルミネッセンス素子の光取り出し側の面に、可視光領域の光透過率が段階的に変化する又は一律である光遮蔽部を有することを特徴とする。
【００５８】
ここで本願では、有機エレクトロルミネッセンスデバイスは、以下「有機ＥＬデバイス」と呼称し、有機エレクトロルミネッセンス素子は、以下「有機ＥＬ素子」と呼称する。  本発明の「有機ＥＬデバイス」とは、複数に分割した発光エリアを構成する複数の有機ＥＬ素子を画素として同一平面状に配置し、大面積の発光体を構成しているものをいう。図面においては、「ＯＬＥＤ」との符号を記した。
【００５９】
また、前記複数に分割した発光エリアを構成する複数の有機ＥＬ素子を同一平面状に配置した形態を、「画素ユニット」という場合があり「ＥＬＵ」と略記する。
【００６０】
本発明でいう「有機ＥＬ素子」とは、分割した発光エリアを構成する発光素子で、基材上に、対向する一対の少なくとも一方は光透過性を有する電極（陽極及び陰極）と、当該電極間に、主に電子又は正孔の輸送を制御する有機機能層と発光層により構成される有機機能層ユニット（以下、単に「Ｕ」という場合がある。）を有し、更にその上部に封止部材を設けた構成をいう。ただし、説明の都合で、封止部材の記載や説明を省略する場合がある。また、本発明においては、有機ＥＬ素子の発光を制御する制御回路やそれに伴う配線の記載は省略する場合がある。
【００６１】
本発明でいう「有機機能層ユニット」とは、後述の図２で説明するが、一例としては、基材上に、有機機能層群１（例えば、正孔注入層、正孔輸送層等）と、リン光性化合物等を含有する発光層と、有機機能層群２（例えば、正孔阻止層、電子輸送層、電子注入層等）が積層配置されている構成をいう。
【００６２】
本発明でいう「発光エリア」とは、層厚方向で、陽極、有機機能層ユニット及び陰極の全てが存在している領域をいう。
【００６３】
本発明でいう「陽極」とは、電圧として（＋）を印加する電極であり、「アノード」又は「第１の電極若しくは第１電極」という場合がある。また、「陰極」とは、電圧として（−）を印加する電極であり、「カソード」又は「第２の電極若しくは第２電極」という場合がある。
【００６４】
また、本発明でいう「光透過性」とは、波長５５０ｎｍにおける光透過率が５０％以上であることをいい、好ましくは６０％以上であり、さらに好ましくは７０％以上である。
【００６５】
以下、本発明の構成要素、及び本発明を実施するための形態について、図を交えて詳細な説明をする。なお、本願において、数値範囲を表す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用している。なお、各図の説明において、構成要素の末尾に括弧内で記載した英数字は、各図における符号を表す。
【００６６】
〔２〕有機ＥＬ素子の基本構成
構成の詳細については後述するが、最初に本発明に適用可能な有機ＥＬ素子の構成について説明する。ただし、説明は一例であってこれに限定されるものではない。
【００６７】
図２Ａは、本発明に適用可能な有機ＥＬ素子の有機機能層ユニットを含む基本的な構成を示す概略断面図である。
【００６８】
図２Ａで示す本発明に係る有機ＥＬ素子は、光透過性を有する基材（１）、例えば、ガラス基材又はフレキシブル性樹脂基材上に、発光層を含む有機機能層ユニットを積層した構造を示してある。
【００６９】
図２Ａにおいて、光透過性を有する基材（１）上に、第１電極として光透過性の陽極（２）を形成し、その上に、例えば、正孔注入層、正孔輸送層等から構成される有機機能層群１（３）、発光層（４）及び、例えば、電子輸送層、電子注入層等から構成される有機機能層群２（５）を積層して、有機機能層ユニット（Ｕ）を構成している。更に、有機能層ユニット（Ｕ）の上部に、光反射電極として作用する第２電極として、陰極（６）が設けられている。そして、上記積層体全体を被覆する構造で、封止用接着層（７）及び封止部材（８）が設けられて、更に、本発明に係る光遮蔽部（９）が基材（１）の有機機能層ユニットのある面とは反対側の面に配置され、本発明に係る有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）を構成している。この場合、発光層（４）からの発光光（Ｌ）は基材（１）側から取り出され、光遮蔽部（９）によって遮蔽される。
【００７０】
図２Ｂは、本発明に係る有機ＥＬ素子の別の構成を示す概略断面図である。
【００７１】
この構成は、第１電極である陽極（２）が光反射電極であり、第２電極である陰極（６）が光透過性電極であり、かつ、封止用接着層（７）及び封止部材（８）が光透過性である場合であり、発光層（４）からの発光光（Ｌ）は封止部材（８）側から取り出される。この場合、本発明に係る光遮蔽部（９）は封止部材（８）の有機機能層ユニット（Ｕ）のある面とは反対側の面に配置され、発光層（４）からの発光光（Ｌ）は光遮蔽部（９）によって遮蔽される。
【００７２】
〔３〕光遮蔽部
本発明の有機ＥＬデバイスは、本発明に係る光遮蔽部を具備することにより、当該光遮蔽部によって有機ＥＬ素子からの発光光を適宜遮蔽することで、デバイス全体として色調や階調を再現し、静止画像を形成するものである。
【００７３】
すなわち、本発明に係る光遮蔽部は、有機ＥＬ素子の光取り出し側の面に配置され、可視光領域の光透過率が段階的に変化する又は一律に遮蔽するように光制御（光遮蔽）を行う機能を有する。
【００７４】
本発明に係る光遮蔽部は、一つの実施形態としては、可視光領域の波長の光を一律に遮蔽するものであり、カラーフィルターのように特定の波長の光を吸収する光制御フィルターとは異なる。ここで「可視光領域」とは、光波長３８０〜７８０ｎｍの領域をいう。「一律に遮蔽」とは、カラーフィルターのように特定の波長の光の透過率を制御するのではなく、前記可視光領域の透過光全体を一律に遮蔽することをいう。すなわち、例えば、カーボンブラック等の黒色を有する光吸収材料を用いることによって、当該可視光領域の光を一律に遮蔽するものが一例として挙げられる。
【００７５】
光遮蔽部には、光吸収材料又は光反射材料のどちらを含有してもよく、一般的には光吸収材料を含有することが、有機ＥＬ素子内の散乱光を低減する観点から好ましい。
【００７６】
すなわち、光吸収材料を用いることによって、有機ＥＬ素子からの発光光を遮蔽することはもとより、有機ＥＬ素子内部の散乱光や反射光の光吸収を行い、コントラストを高めることができる。
【００７７】
光吸収材料を用いる場合の光遮蔽部の光透過率は、光波長３８０〜７８０ｎｍの領域で、入射する光の２０％以下であることが好ましく、より好ましく１０％以下であり、特に好ましくは５％以下である。光透過率は、市販の分光光度計で測定でき、例えば日立製日立分光光度計Ｕ−４１００や島津製作所製ＵＶ−３１０１分光光度計に積分球を装着して測定することができる。当該光透過率は、光吸収材料の付き量や光遮蔽部の厚さで制御することができる。
【００７８】
本発明に係る光遮蔽部に用いられる光吸収材料は、特に限定されるものではなく、カーボンブラック、カーボン粒子入り銀ペースト、銀ナノ粒子、アルミニウム−タングステン、及びアルミニウム−モリブデン等の黒色の材料を用いることが好ましく、中でもカーボンブラック又は銀ナノ粒子を用いることが好ましい。カーボンブラックとしては、例えばチャンネルブラック、ファーネスブラック、アセチレンブラック、サーマルブラック、及びランプブラックなどが挙げられる。
【００７９】
本発明に係る光遮蔽部の形成は、例えば、基材（１）の有機機能層ユニット（Ｕ）とは反対側の面上に、カーボンブラックを含有するフォトレジスト材料をスピンコート法やインクジェットプリント法等のコーティング法により所望の位置で所望の大きさで塗布し、ベーク処理することにより、カーボンブラックを含有する薄膜の光遮蔽部を形成することができる。コーティングの容易性という観点からはインクジェットプリント法を採用することが好ましい。すなわち、本発明に係る光遮蔽部は、光遮蔽材料である光吸収材料又は光反射材料を含有するインク液を用いて、後述するインクジェットプリント法により形成する製造方法を採用することが好ましい。
【００８０】
図３Ａは、本発明に係る光遮蔽部の一例を示す模式図である。
【００８１】
この光遮蔽部は階調性を有さず、いわゆる全面にわたり一律に前記可視光領域の光を遮蔽する部材である。ここでいう「一律に」とは、光遮蔽部の任意の５か所の部位の光透過率を測定したときに、前記可視光領域において、当該光透過率の変動が±２％の範囲内にあることをいう。
【００８２】
図３Ｂは、本発明に係る光遮蔽部の別の一例を示す模式図である。
【００８３】
この光遮蔽部は階調性を有し、例えば、光透過率が一つの部材の中で、好ましくは５〜５０％の範囲で変化する光遮蔽部である。変化は連続でも領域を区切って不連続に段階的に変化してもよい。本発明でいう「段階的に変化」とは、「階調性有して連続又は不連続に変化」することと同義である。このような階調性を有する光遮蔽部は、例えば、カーボンブラックの付き量の制御や、インクジェットプリント法を用いる場合にインクドットの粗密を制御することによって作製することができる。製造方法の簡易性という観点からは、インクジェットプリント法により前記インク付き量の制御やインクドットの粗密の制御を行うことが好ましい。
【００８４】
図４Ａは、本発明に係る光遮蔽部と画素（ここでは有機機能層ユニット）との面積に係る関係を示す概略図である。
【００８５】
図４Ａにおいて、画素：有機機能層ユニット（Ｕ）の幅をｘ、基材（１）の厚さをｙ、光遮蔽部９の幅をｚ、有機機能層ユニット（Ｕ）から発光光が配向角θで発光したときに、下記式（１）が成り立つ。
【００８６】
式（１）  光遮蔽部の幅ｚ＝２ｙ×ｔａｎθ＋ｘ
したがって、配光角が４５°の場合は、画素の幅＋基材の厚さ×２が光を遮断するために最低限必要な幅となる。光遮蔽部は面積を有するものであることから、画素の長辺、及び短辺の幅を基にそれぞれ上記計算により求めた光遮蔽部の幅ｚを長辺及び短辺に有する矩形の部材を作製すればよい。もちろん、上記光遮蔽部の大きさは、発光光を効率的に遮蔽するのに必要な大きさであるので、それよりも大きく又は小さくてもよい。例えば、隣り合う画素が近接している場合は、上記計算で求めた大きさの光遮蔽部を形成すると、遮蔽したくない画素からの発光光を当該光遮蔽部で遮る場合があるため、そのような場合は、光遮蔽部の大きさを適宜調整することが好ましい。
【００８７】
図４Ｂは、インクジェットプリント法により遮蔽部を製造する際の模式図である。基材（１）に対して、有機機能層ユニット（Ｕ）とは反対側の面に、インクジェットノズル３０より、例えばカーボンブラックと溶媒を含有するインク液をインク滴として、基材（１）上に噴射することで光遮蔽部（９）を形成する。形成後、５０〜２００℃の範囲でベーク処理することで光遮蔽部を固定化する。
【００８８】
光遮蔽部の厚さは任意に設定することができるが、好ましくは０．１〜１００μｍの範囲である。０．１μｍ以上であれば本発明の効果が得られる程度に光透過率を制御することができ、１００μｍ以下であれば、種々な印刷適性を満たすことができる。
【００８９】
より好ましくは１〜５０μｍの範囲であり、前記範囲の厚さはインクの付き量を調整することで制御可能である。
【００９０】
また、本発明に係る光遮蔽部の形状が、周辺部から中央部にかけて凹形状であることが好ましく、周辺部の膜厚が厚いことで、画素からの散乱光を効果的に遮蔽することができ、いわゆるエッジの効いた静止画像を提供することができる。
【００９１】
光遮蔽部を周辺部から中央部にかけて凹形状にするには、インクジェットプリント法を用いることが有効であり、インク中の溶媒が乾燥過程で揮発することによって、中央部に向けて凹形状になりやすいため、上記光遮蔽部の膜厚偏差を実現することが可能である。
【００９２】
光遮蔽部の厚形状の測定は、一例として、接触式膜厚計ＤｅｋＴａｋＸＴ（ ブルーカー製）を用いることができる。具体的には、基材に印刷したインクのドットを横断するように、触針を操作させ、基材との高低差から膜厚を求める。
【００９３】
一方、本発明に係る光遮蔽部に用いられる光反射材料は、光波長３８０〜７８０ｎｍの領域で入射する光の９５％以上を反射することが好ましく、より好ましく９９％以上であり、さらに好ましくは９９．９％以上である。
【００９４】
このような光反射率を有する材料としては、酸化チタン等の白色顔料、銀、アルミニウム等の金属を用いることが好ましく、中でも光波長依存性が小さく、均一な光反射が可能である酸化チタン等の白色顔料又は銀を用いて膜形成することが好ましく、特に銀を用いることが好ましい。
【００９５】
銀を用いて膜形成する場合には、フォトマスク等を用いて蒸着することによって所望の箇所に適宜形成することができる。また、銀ペーストや銀インクを用いてスクリーン印刷や前記インクジェットプリント法を用いて形成することができる。
【００９６】
また、本発明に係る光遮蔽部は、前記光吸収材料又は光反射材料を含有するシートを前記有機ＥＬ素子の光取出し面上に貼合することも好ましい。例えば、カーボンブラック、銀ナノ粒子又は酸化チタン粒子等を用いて基材上に塗布等によって作製した黒色シート又は光反射シートを用いることができる。また、市販のＮＤフィルター等を用いることもでき、富士フイルム（株）製のＮＤフィルター（例えば、ＮＤ＝４．０）などは好適である。前記シートやＮＤフィルターの一方の面に接着剤層を設け、基材に貼合して光遮蔽部として用いることができる。
【００９７】
また、本発明に係る光遮蔽部の別の実施形態として、当該光遮蔽部が赤色、緑色又は青色の色材を含有することも好ましく、前述のように、前記発光色の異なる２個以上の有機エレクトロルミネッセンス素子が、赤色、緑色又は青色に発光する３個の画素を一組とする画素ユニットを構成−しており、前記画素ユニットに含まれる画素のうち、光遮蔽する画素に対して前記光遮蔽部を備え、光透過させる画素からの発光光と同色の赤色、緑色又は青色の色材を当該光遮蔽部に含有することも好ましい。その場合、有機ＥＬデバイスが発光していないときと発光したときの見た目を一致させることができる。
【００９８】
さらに、前記画素ユニットに含まれる３個の画素に対し、前記光遮蔽部が、照明環境下でそれぞれの発光色と前記光遮蔽部の反射光色とが混色されて、前記発光色に対して補色の関係の色に視認される色材を含有することも好ましい。例えば、昼間又は室内において、前記画素を発光させることで、発光色と前記光遮蔽部の反射光色を同時に知覚できるため発光色の補色となる色光が得られ、減色法による静止画像を形成することが可能になる。
【００９９】
したがって、昼間は減色法による静止画像（照明光の反射により視認される画像）、夜間は加色法による静止画像（発光による画像）の切り替えが可能となり、また、明るい環境においては、反射光による画像に発光による画像を同時に知覚できるため、より視認性の高い静止画像を形成することが可能になる。
【０１００】
用いられる赤色、緑色及び青色の色材は、インクジェットプリント法に通常使用されている色素顔料又は色素染料を用いることができる。
【０１０１】
赤色の色材としては、光波長として６００〜７００ｎｍの範囲に吸収極大値を有する色材である。同様に、緑色の色材としては、５００〜６００ｎｍの範囲であり、青色の色材としては、４００〜５００ｎｍの範囲に吸収極大値を有する色材である。当該色材の吸収極大波長は、赤色、緑色及び青色に発光する有機ＥＬ素子の発光極大波長に合わせて、後述する色材から選択するインクを用いることが好ましい。
【０１０２】
前記インクは色材を含有し、当該色材は、顔料又は染料でありうるが、インクの構成成分に対して良好な分散性を有し、かつ耐候性に優れることから、顔料が好ましい。顔料は、特に限定されないが、例えばカラーインデックスに記載される下記番号の有機顔料を単独又は混合して用いることができる。
【０１０３】
有機顔料としては、例えばトルイジンレッド、トルイジンマルーン、ハンザイエロー、ベンジジンイエロー、ピラゾロンレッドなどの不溶性アゾ顔料、リトールレッド、ヘリオボルドー、ピグメントスカーレット、パーマネントレッド２Ｂ等の溶性アゾ顔料；アリザリン、インダントロン、チオインジゴマルーン等の建染染料からの誘導体；フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン等のフタロシアニン系有機顔料；キナクリドンレッド、キナクリドンマゼンタ等のキナクリドン系有機顔料；ペリレンレッド、ペリレンスカーレット等のペリレン系有機顔料；イソインドリノンイエロー、イソインドリノンオレンジ等のイソインドリノン系有機顔料；ピランスロンレッド、ピランスロンオレンジ等のピランスロン系有機顔料；チオインジゴ系有機顔料、縮合アゾ系有機顔料、ベンズイミダゾロン系有機顔料、キノフタロンイエロー等のキノフタロン系有機顔料；イソインドリンイエローなどのイソインドリン系有機顔料；その他の顔料として、フラバンスロンイエロー、アシルアミドイエロー、ニッケルアゾイエロー、銅アゾメチンイエロー、ペリノンオレンジ、アンスロンオレンジ、ジアンスラキノニルレッド、ジオキサジンバイオレット等が挙げられる。
【０１０４】
有機顔料をカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）番号で以下に例示する。
【０１０５】
Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２、１３、１４、１７、２０、２４、７４、８３、８６、９３、１０９、１１０、１１７、１２０、１２５、１２８、１２９、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５１、１５３、１５４、１５５、１６６、１６８、１８０、１８５、
Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１６、３６、４３、５１、５５、５９、６１、
Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、４８、４９、５２、５３、５７、９７、１２２、１２３、１４９、１６８、１７７、１８０、１９２、２０２、２０６、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２３８、２４０、
Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、２３、２９、３０、３７、４０、５０、
Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、１５：１、１５：３、１５：４、１５：６、２２、６０、６４、
Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６、
Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２３、２５、２６、
上記顔料の中でも、キナクリドン系、フタロシアニン系、ベンズイミダゾロン系、イソインドリノン系、縮合アゾ系、キノフタロン系、イソインドリン系有機顔料等は耐光性が優れているため好ましい。
【０１０６】
有機顔料は、レーザー散乱による測定値でインク中の平均粒径が１０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であることが好ましい。顔料の平均粒径が１０ｎｍ未満の場合は、粒径が小さくなることによる耐光性の低下が生じることがある。１５０ｎｍを超える場合はサテライトと言われる微小のミストが発生しやすく、ミストが付着することによって液だまりが生じ、該液だまりによる吐出不良が生じやすい。
【０１０７】
またインクジェットインク中の顔料の最大粒径は、３．０μｍを越えないよう、十分に分散あるいは、ろ過により粗大粒子を除くことが好ましい。
【０１０８】
色材を含有する本発明に係る光遮蔽部は、光遮蔽する画素部分に、光透過する画素部分に対応する色材を含有する光遮蔽部を、塗布膜厚を厚くして塗布することで、光遮蔽することができる。
【０１０９】
また、本発明の光遮蔽部が、照明環境下でそれぞれの発光色と前記光遮蔽部の反射光色とが混色されて、前記発光色に対して補色の関係の色に視認される色材を含有する場合は、当該光遮蔽部の塗布膜厚を薄くして塗布することで、照明環境下では前記発光色に対して補色として視認される色光を得ることができる。
【０１１０】
前記塗布膜厚の調整は、後述するインクジェットプリント法を用いて行うことが好ましい。
【０１１１】
〔４〕インクジェットプリント法
本発明の有機ＥＬデバイス、本発明に係る有機ＥＬ素子及び本発明に係る光遮蔽部の形成は、インクジェットプリント法を用いることが好ましい。
【０１１２】
〔４．１〕インクジェットプリント法
インクジェットプリント法について以下説明するが、本発明においては公知のインクジェットプリント法、インクジェット装置を適宜適用することができる。
【０１１３】
図５は、インクジェットヘッドを用いた塗布装置を使用して、基材（１）の表面に光遮蔽部を塗布する方法の一例を示す概略模式図である。本発明に係るインクジェットプリント法は、後述する有機ＥＬ素子（例えば、陽極、有機機能層ユニット、陰極、封止剤用接着剤、封止部材、その他機能層など）、バスライン、絶縁層等をある面積で区切って塗布することにも好適に利用することができる。
【０１１４】
図５に示すように、基材は連続的に走行されており、インクジェットヘッド（３０）により有機ＥＬデバイス（ＯＬＥＤ）が形成された基材の有機機能層ユニットが形成された面とは反対側の面に光遮蔽部を形成する。
【０１１５】
インクジェットヘッド（３０）としては特に限定はなく、例えばインク圧力室に圧電素子を備えた振動板を有しており、この振動板によるインク圧力室の圧力変化で射出液体を吐出させる剪断モード型（ピエゾ型）のヘッドでもよいし、発熱素子を有しており、この発熱素子からの熱エネルギーによりインク液の膜沸騰による急激な体積変化によりノズルから射出液体を吐出させるサーマルタイプのヘッドであってもよい。
【０１１６】
インクジェットヘッド（３０）には射出液体を供給する機構などが接続されている。射出液体の供給はタンク（３８Ａ）により行われる。インクジェットヘッド（３０）内の射出液体圧力を常に一定に保つようにこの例ではタンク液面を一定にする。そのためにタンク（３８Ａ）からオーバーフローさせてタンク（３８Ｂ）に射出液体を自然流下で戻している。タンク（３８Ｂ）からタンク（３８Ａ）への射出液体の供給はポンプ（３１）により行われており、射出条件に合わせて安定的にタンク（３８Ａ）の液面が一定となるように運転条件が設定されている。
【０１１７】
なお、ポンプ（３１）からタンク（３８Ａ）へ射出液体を戻す際にはフィルター（３２）を通してから行われている。このように、射出液体はインクジェットヘッド（３０）へ供給される前に絶対濾過精度又は準絶対濾過精度が０．０５〜５０μｍの濾材を少なくとも１回は通過させることが好ましい。
【０１１８】
また、インクジェットヘッド（３０）の洗浄作業や液体充填作業などを実施するためにタンク（３６）より射出液体が、タンク（３７）より洗浄溶媒がポンプ（３９）によりインクジェットヘッド（３０）へ強制的に供給可能となっている。インクジェットヘッド（３０）に対してこうしたタンクポンプ類は複数に分けても良いし、配管の分岐を使用しても良い、またそれらの組み合わせでもかまわない。図５では配管分岐（３３）を使用している。さらにインクジェットヘッド（３０）内のエアーを十分に除去するためにタンク（３６）よりポンプ（３９）にてインクジェット（３０）へ射出液体を強制的に送液しながら下記に記すエアー抜き配管から射出液体を抜き出して廃液タンク（３４）に送ることもある。
【０１１９】
さらに、インクジェットヘッド（３０）内の射出液体温度を一定に保持するためにタンク（３８Ａ）とインクジェットヘッド（３０）の間に熱交換器を設けてもよいし、インクジェットヘッド（３０）内に熱交換器のような射出液体温度一定機構を設けてもかまわない。
【０１２０】
インクジェットプリントに用いる前記光吸収材料や光反射材料は、所望の量を溶媒に溶解又は分散しインク液として用いることが好ましい。例えば、インクジェット用インク液に用いられる溶媒としては、上記材料を所望の量を分散させることができ、インクジェットノズルから液滴の吐出ができるものであれば特に限定されるものではないが、材料の種類等により適宜選択されることが好ましい。具体的には、水、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール、デカノール、シクロヘキサノール、テルピネオールなどのアルコール類、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、デカン、ドデカン、テトラデカン、トルエン、キシレン、シメン、デュレン、インデン、ジペンテン、テトラヒドロナフタレン、デカヒドロナフタレン、シクロヘキシルベンゼンなどの炭化水素系化合物、またエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ビス（２−メトキシエチル）エーテル、ｐ−ジオキサンなどのエーテル系化合物、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテートのようなグリコールエーテルエステル化合物、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートのようなグリコールオリゴマーエーテルエステル、酢酸エチル、安息香酸プロピルのような脂肪族又は芳香族エステル、炭酸ジエチルのようなジカルボン酸ジエステル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチルのようなアルコキシカルボン酸エステル、アセト酢酸エチルのようなケトカルボン酸エステル、さらにプロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、シクロヘキサノンなどの極性化合物を例示できる。
【０１２１】
本発明の有機ＥＬデバイスの製造方法においては、絶縁層、有機ＥＬ素子、第１電極用の引出電極、バスラインの結合部及びバスラインの形成に用いる各インク液では、上記の各構成材料をそのままインク液として使用する方法の他、インクジェット印刷方式に適性を有するインク液とするため、構成材料をインク溶媒等に溶解してインク液を調製する、及び各種機能性添加剤を含有させることができる。
【０１２２】
例えば、吐出安定性、プリントヘッド適合性、保存安定性、画像保存性、その他の諸性能向上の目的に応じて、公知の各種添加剤、例えば、溶媒、粘度調整剤、表面張力調整剤、比抵抗調整剤、皮膜形成剤、分散剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、退色防止剤、防黴剤、防錆剤等を適宜選択して用いることができる。
【０１２３】
塗布手順については以下に示す。
【０１２４】
まず、インクジェットヘッド（３０）に射出液体を充填する際の手順であるが、インクジェットヘッド（３０）の待機位置にてポンプ（３９）によりタンク（３６）から強制的に射出液体をインクジェットヘッド（３０）へ通液する。この際に排出された射出液体は図示しないキャッチパンなどにより受けられる。この操作により、インクジェットヘッド（３０）に射出液体を充填し、ヘッド内部の空気抜きを実施した後にノズル表面（射出面）の清掃を実施する。
【０１２５】
次に、あらかじめ決められた流量にてタンク（３８Ａ）へタンク（３８Ｂ）から射出液体を送り込みオーバーフローにより循環を開始する。ポンプ（３９）とインクジェットヘッド（３０）の間のバルブは閉めておきポンプ（３８）とインクジェットヘッド（３０）間のバルブを開けることでインクジェットヘッド（３０）から射出させることが可能になる。基材（１）を所定の速度で搬送させ、射出準備の完了したインクジェットヘッド（３０）を基材（１）の所定の距離まで近づけ所定の射出条件で射出液体の射出を開始する。オーバーフローさせてタンク（３８Ａ）の液面を一定に保持しているため射出量は安定となる。
【０１２６】
また、インクジェットヘッド（３０）の種類は任意であるが本発明では一滴の液滴量が数１０ｐＬで、射出周波数は数百〜数万Ｈｚで安定に射出できる条件を選ぶと良い。また、速度は任意で早ければ生産性向上につながる。速度に対して目的のウェット膜厚になるように周波数を調整して射出する。
【０１２７】
〔４．２〕インクジェットヘッド
インクジェットヘッド（３０）の一例を図６に示す。
【０１２８】
図６の（ａ）は、本発明に適用可能なインクジェットヘッド（１００）を示す概略斜視図であり、図６の（ｂ）は、インクジェットヘッド（１００）の底面図である。
【０１２９】
本発明に適用可能なインクジェットヘッド（１００）は、インクジェットプリンタ（図示略）に搭載されるものであり、インクをノズルから吐出させるヘッドチップと、このヘッドチップが配設された配線基板と、この配線基板とフレキシブル基板を介して接続された駆動回路基板と、ヘッドチップのチャネルにフィルターを介してインクを導入するマニホールドと、内側にマニホールドが収納された筐体（５６）と、この筐体（５６）の底面開口を塞ぐように取り付けられたキャップ受板（５７）と、マニホールドの第１インクポート及び第２インクポートに取り付けられた第１及び第２ジョイント（８１ａ、８１ｂ）と、マニホールドの第３インクポートに取り付けられた第３ジョイント（８２）と、筐体（５６）に取り付けられたカバー部材（５９）とを備えている。また、筐体（５６）をプリンタ本体側に取り付けるための取付用孔（６８）がそれぞれ形成されている。
【０１３０】
また、図６の（ｂ）で示すキャップ受板（５７）は、キャップ受板取付部（６２）の形状に対応して、外形が左右方向に長尺な略矩形板状として形成され、その略中央部に複数のノズルが配置されているノズルプレート（６１）を露出させるため、左右方向に長尺なノズル用開口部（７１）が設けられている。また、図６の（ａ）で示すインクジェットヘッド内部の具体的な構造に関しては、例えば、特開２０１２−１４００１７号公報に記載されている図２等を参照することができる。
【０１３１】
図６にはインクジェットヘッドの代表例を示したが、そのほかにも、例えば、特開２０１２−１４００１７号公報、特開２０１３−０１０２２７号公報、特開２０１４−０５８１７１号公報、特開２０１４−０９７６４４号公報、特開２０１５−１４２９７９号公報、特開２０１５−１４２９８０号公報、特開２０１６−００２６７５号公報、特開２０１６−００２６８２号公報、特開２０１６−１０７４０１号公報、特開２０１７−１０９４７６号公報、特開２０１７−１７７６２６号公報等に記載されている構成からなるインクジェットヘッドを適宜選択して適用することができる。
【０１３２】
インクジェットプリント法によって所定のパターン印刷後、加熱することが好ましい。これにより、例えば電極等に用いる金属微粒子同士の融着が進み、電極が高導電化するため、特に好ましい。
【０１３３】
加熱温度は、１００℃以上５００℃以下であることが好ましい。時間は温度や使用する材料にもよるが、１０秒以上３０分以下であることが好ましく、生産性の観点から、１０秒以上１５分以下であることが好ましく、１０秒以上５分以下であることがより好ましい。
【０１３４】
基材に樹脂基板や樹脂フィルムを用いる場合は、１００℃以上２５０℃以下の温度範囲で、基材にダメージのない温度で加熱することが好ましい。
【０１３５】
加熱処理方法は特に制限はなく、公知の処理方法を用いることができる。
【０１３６】
例えば、加熱処理態様として、ヒータやＩＲヒータを用いた加熱、減圧乾燥などを挙げることができるが、これに限定されない。
【０１３７】
〔５〕有機ＥＬ素子の構成要素
本発明の有機ＥＬデバイスを構成する有機ＥＬ素子の主要構成要素の詳細について説明する。
【０１３８】
本発明に係る有機ＥＬ素子においては、図２Ａにおいて説明したように、光透過性を有する基材（１）上に、第１電極（陽極（２））、次いで、例えば、正孔注入層、正孔輸送層等から構成される有機機能層群１（３）、発光層（４）、例えば、電子輸送層、電子注入層等から構成される有機機能層群２（５）が積層されて、発光領域を構成している。そして、さらに上部に、第２電極である第２電極（陰極（６））、封止用接着層（７）及び封止部材（８）が設けられている。その他の層としては、下地層、光散乱層、平坦化層、ガスバリアー層、保護層等を適宜設けることができる。例えば、基材（１）及び封止部材（８）がガスバリアー層（１１）を有することが好ましい。
【０１３９】
以下に、有機ＥＬ素子の構成の代表例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１４０】
（ｉ）第１電極（２、陽極）／発光層（４）／第２電極（６、陰極）
（ii）第１電極（２、陽極）／有機機能層ユニット（Ｕ）〔有機機能層群１（３：正孔注入輸送層）／発光層（４）／有機機能層群２（５：電子注入輸送層）〕／第２電極（６、陰極）
（iii）第１電極（２、陽極）／有機機能層ユニット（Ｕ）〔有機機能層群１（３：正孔注入層／正孔輸送層）／発光層（４）／有機機能層群２（５：電子注入層／電子輸送層）〕／第２電極（６、陰極）
（iv）第１電極（２、陽極）／有機機能層ユニット（Ｕ）〔有機機能層群１（３：正孔注入層／正孔輸送層／電子阻止層）／発光層（４）／有機機能層群２（５：正孔阻止層／電子注入層／電子輸送層）〕／第２電極（６、陰極）
本発明に適用可能な有機ＥＬ素子の概要については、例えば、特開２０１３−１５７６３４号公報、特開２０１３−１６８５５２号公報、特開２０１３−１７７３６１号公報、特開２０１３−１８７２１１号公報、特開２０１３−１９１６４４号公報、特開２０１３−１９１８０４号公報、特開２０１３−２２５６７８号公報、特開２０１３−２３５９９４号公報、特開２０１３−２４３２３４号公報、特開２０１３−２４３２３６号公報、特開２０１３−２４２３６６号公報、特開２０１３−２４３３７１号公報、特開２０１３−２４５１７９号公報、特開２０１４−００３２４９号公報、特開２０１４−００３２９９号公報、特開２０１４−０１３９１０号公報、特開２０１４−０１７４９３号公報、特開２０１４−０１７４９４号公報等に記載されている構成を挙げることができる。
【０１４１】
また、タンデム型の有機ＥＬ素子とすることもでき、タンデム型の具体例としては、例えば、米国特許第６３３７４９２号、米国特許第７４２０２０３号、米国特許第７４７３９２３号、米国特許第６８７２４７２号、米国特許第６１０７７３４号、米国特許第６３３７４９２号、国際公開第２００５／００９０８７号、特開２００６−２２８７１２号公報、特開２００６−２４７９１号公報、特開２００６−４９３９３号公報、特開２００６−４９３９４号公報、特開２００６−４９３９６号公報、特開２０１１−９６６７９号公報、特開２００５−３４０１８７号公報、特許第４７１１４２４号公報、特許第３４９６６８１号公報、特許第３８８４５６４号公報、特許第４２１３１６９号公報、特開２０１０−１９２７１９号公報、特開２００９−０７６９２９号公報、特開２００８−０７８４１４号公報、特開２００７−０５９８４８号公報、特開２００３−２７２８６０号公報、特開２００３−０４５６７６号公報、国際公開第２００５／０９４１３０号等に記載の素子構成や構成材料等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
【０１４２】
本発明の有機ＥＬ素子の作製方法としては、基材上に陽極、有機能層群１、発光層、有機機能層群２及び陰極を積層して積層体を形成するが、各層は真空蒸着法、スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、分子線エピタキシー法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法等のドライプロセスや、塗布法、インクジェットプリント法を含む印刷法等の湿式プロセスによって形成する。これらのうち塗布法等の湿式プロセスは、ドライプロセスに比較して真空プロセスが不要であり、かつ大面積化が容易であるため、製造プロセス上大きな利点を有している。中でも、前述のインクジェットプリント法によって作製することが、オンデマンド性の観点からも好ましい作製方法である。
【０１４３】
更に、有機ＥＬ素子を構成する各層について説明する。
【０１４４】
〔基材〕
本発明に係る有機ＥＬ素子に適用可能な基材（１）としては、好ましくは光透過性を有する基材であり、用いられる材料として特に制限はなく、例えば、ガラス、プラスチック等の種類を挙げることができる。
【０１４５】
本発明に適用可能な光透過性を有する基材（１）としては、ガラス、石英、樹脂基材を挙げることができる。更に好ましくは、有機ＥＬ素子にフレキシブル性を付与することができる観点からフレキシブル性樹脂基材である。
【０１４６】
本発明に適用可能な樹脂基材を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（略称：ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（略称：ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート（略称：ＴＡＣ）、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（略称：ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類及びそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート（略称：ＰＣ）、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（略称：ＰＥＳ）、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル及びポリアリレート類、アートン（商品名、ＪＳＲ社製）及びアペル（商品名、三井化学社製）等のシクロオレフィン系樹脂等を挙げることができる。
【０１４７】
これら樹脂基材のうち、コストや入手の容易性の点では、ポリエチレンテレフタレート（略称：ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（略称：ＰＥＮ）、ポリカーボネート（略称：ＰＣ）等のフィルムがフレキシブル性を有する樹脂基材として好ましく用いられる。
【０１４８】
また、上記の樹脂基材は、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルムでもよい。
【０１４９】
本発明に適用可能な樹脂基材は、従来公知の一般的な製膜方法により製造することが可能である。例えば、材料となる樹脂を押出機により溶融し、環状ダイやＴダイにより押し出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸の樹脂基材を製造することができる。また、未延伸の樹脂基材を一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸等の公知の方法により、樹脂基材の搬送方向（縦軸方向、ＭＤ方向）、又は樹脂基材の搬送方向と直角の方向（横軸方向、ＴＤ方向）に延伸することにより、延伸樹脂基材を製造することができる。この場合の延伸倍率は、樹脂基材の原料となる樹脂に合わせて適宜選択することできるが、縦軸方向及び横軸方向にそれぞれ２〜１０倍の範囲内であることが好ましい。
【０１５０】
樹脂基材の厚さとしては、３〜２００μｍの範囲内にある薄膜の樹脂基材であることが好ましいが、より好ましくは１０〜１００μｍの範囲内であり、更に好ましくは、２０〜８０μｍの範囲内であり、特に好ましくは２０〜５０μｍの範囲内であり、薄膜にすることで光遮蔽部を大きくすることなく、効果的に光遮蔽できる。後述する実施形態では、厚さ５０μｍのＰＥＴフィルムを基材（１）として用いた。
【０１５１】
また、本発明に用いられる光透過性を有する基材として適用可能なガラス基材としては、ソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。
【０１５２】
〔第１電極：陽極〕
有機ＥＬ素子を構成する陽極としては、光反射性又は光透過性を有する電極であり、光透過性を有することが一般的である。用いられる材料としては、酸化物半導体又は薄膜の金属又は合金で構成されていることが好ましい形態であり、例えば、Ａｇ、Ａｕ等の金属又は金属を主成分とする合金、ＣｕＩ、又はインジウム・スズの複合酸化物（ＩＴＯ）、ＳｎＯ2及びＺｎＯ等の酸化物半導体を挙げることができる。
【０１５３】
光透過性を有する陽極の場合、銀を主成分として構成することが好ましく、銀の純度としては、９９％以上であることが好ましい。また、銀の安定性を確保するためにパラジウム（Ｐｄ）、銅（Ｃｕ）及び金（Ａｕ）等が添加されていてもよい。
【０１５４】
光透過性を有する陽極が銀を主成分として構成されている層の場合は、具体的には、銀単独で形成しても、又は銀（Ａｇ）を含有する合金から構成されていてもよい。そのような合金としては、例えば、銀・マグネシウム（Ａｇ・Ｍｇ）、銀・銅（Ａｇ・Ｃｕ）、銀・パラジウム（Ａｇ・Ｐｄ）、銀・パラジウム・銅（Ａｇ・Ｐｄ・Ｃｕ）、銀・インジウム（Ａｇ・Ｉｎ）などが挙げられる。
【０１５５】
上記陽極を構成する各構成材料の中でも、本発明に係る有機ＥＬ素子を構成する陽極としては、銀を主成分として構成し、厚さが２〜２０ｎｍの範囲内にある光透過性を有する陽極であることが好ましいが、更に好ましくは厚さが４〜１２ｎｍの範囲内である。厚さが２０ｎｍ以下であれば、光透過性を有する陽極の吸収成分及び反射成分が低く抑えられ、高い光透過率が維持されるため好ましい。
【０１５６】
本発明でいう銀を主成分として構成されている層とは、光透過性を有する陽極中の銀の含有量が６０質量％以上であることをいい、好ましくは銀の含有量が８０質量％以上であり、より好ましくは銀の含有量が９０質量％以上であり、特に好ましくは銀の含有量が９８質量％以上である。また、前記「光透過性」とは、波長５５０ｎｍでの光透過率が５０％以上であることをいう。
【０１５７】
光透過性を有する陽極においては、銀を主成分として構成されている層が、必要に応じて複数の層に分けて積層された構成であっても良い。
【０１５８】
また、本発明において、陽極が、銀を主成分として構成する光透過性を有する陽極である場合には、形成する光透過性を有する陽極の銀膜の均一性を高める観点から、その下部に、下地層を設けることが好ましい。下地層としては、特に制限はないが、窒素原子又は硫黄原子を有する有機化合物を含有する層であることが好ましく、当該下地層上に、光透過性を有する陽極を形成する方法が好ましい態様である。なお、本発明に適用可能な下地層の詳細については後述する。
【０１５９】
また、本発明の有機ＥＬデバイスは、一画素中に発光色の異なる２個以上の有機ＥＬ素子が配置され、一方の発光色を発光する前記有機ＥＬ素子の陽極が、隣接する他方の発光色を発光する前記有機ＥＬ素子の陰極と、電気的に直列に接続されていることが、大面積の有機ＥＬデバイスの場合の電圧降下を小さくでき、均一な発光を得る観点から好ましい。詳細については、後述する実施形態２にて説明する。
【０１６０】
また、本発明に係る第１電極の引出電極（２３）は、上記第１電極の構成材料を同様の材料で、第１電極より延長して形成する。
【０１６１】
〔発光層〕
本発明に係る有機ＥＬ素子を構成する発光層（４）は、発光材料としてリン光発光性化合物、又は蛍光発光性化合物を用いることができるが、本発明においては、特に、発光材料としてリン光発光化合物が含有されている構成が好ましい。
【０１６２】
この発光層は、電極又は電子輸送層から注入された電子と、正孔輸送層から注入された正孔とが再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層の層内であっても発光層と隣接する層との界面であってもよい。
【０１６３】
このような発光層としては、含まれる発光材料が発光要件を満たしていれば、その構成には特に制限はない。また、同一の発光スペクトルや発光極大波長を有する層が複数層あってもよい。この場合、各発光層間には非発光性の中間層を有していることが好ましい。
【０１６４】
発光層の厚さの総和は、１〜１００ｎｍの範囲内にあることが好ましく、より低い発光開始電圧を得ることができることから１〜３０ｎｍの範囲内がさらに好ましい。なお、発光層の厚さの総和とは、発光層間に非発光性の中間層が存在する場合には、当該中間層も含む厚さである。
【０１６５】
以上のような発光層は、後述する発光材料やホスト化合物を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法（ラングミュア・ブロジェット、Ｌａｎｇｍｕｉｒ  Ｂｌｏｄｇｅｔｔ法）及びインクジェットプリント法等の公知の方法により形成することができる、本発明においては、スピンコート法、キャスト法、クラビアコート法、インクジェットプリント法等による湿式塗布方式で形成することが好ましく、中でもインクジェットプリント法によって形成することが好ましい。
【０１６６】
また発光層は、複数の発光材料を混合してもよく、リン光発光材料と蛍光発光材料（蛍光ドーパント、蛍光性化合物ともいう）とを同一発光層中に混合して用いてもよい。発光層の構成としては、ホスト化合物（発光ホスト等ともいう）及び発光材料（発光ドーパント化合物ともいう。）を含有し、発光材料より発光させることが好ましい。
【０１６７】
〈ホスト化合物〉
発光層に含有されるホスト化合物としては、室温（２５℃）におけるリン光発光のリン光量子収率が０．１未満の化合物が好ましい。さらにリン光量子収率が０．０１未満であることが好ましい。また、発光層に含有される化合物の中で、その層中での体積比が５０％以上であることが好ましい。
【０１６８】
ホスト化合物としては、公知のホスト化合物を単独で用いてもよく、又は、複数種のホスト化合物を用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機電界発光素子を高効率化することができる。また、後述する発光材料を複数種用いることで、異なる発光を混ぜることが可能となり、これにより任意の発光色を得ることができる。
【０１６９】
発光層に用いられるホスト化合物としては、従来公知の低分子化合物でも、繰り返し単位をもつ高分子化合物でもよく、ビニル基やエポキシ基のような重合性基を有する低分子化合物（蒸着重合性発光ホスト）でもよい。
【０１７０】
本発明に適用可能なホスト化合物としては、例えば、特開２００１−２５７０７６号公報、同２００１−３５７９７７号公報、同２００２−８８６０号公報、同２００２−４３０５６号公報、同２００２−１０５４４５号公報、同２００２−３５２９５７号公報、同２００２−２３１４５３号公報、同２００２−２３４８８８号公報、同２００２−２６０８６１号公報、同２００２−３０５０８３号公報、米国特許出願公開第２００５／０１１２４０７号明細書、米国特許出願公開第２００９／００３０２０２号明細書、国際公開第２００１／０３９２３４号、国際公開第２００８／０５６７４６号、国際公開第２００５／０８９０２５号、国際公開第２００７／０６３７５４号、国際公開第２００５／０３０９００号、国際公開第２００９／０８６０２８号、国際公開第２０１２／０２３９４７号、特開２００７−２５４２９７号公報、欧州特許第２０３４５３８号明細書等に記載されている化合物を挙げることができる。
【０１７１】
〈発光材料〉
本発明で用いることのできる発光材料としては、リン光発光性化合物（リン光性化合物、リン光発光材料又はリン光発光ドーパントともいう。）及び蛍光発光性化合物（蛍光性化合物又は蛍光発光材料ともいう。）が挙げられるが、特に、リン光発光性化合物を用いることが、高い発光効率を得ることができる観点から好ましい。
【０１７２】
〈リン光発光性化合物〉
リン光発光性化合物とは、励起三重項からの発光が観測される化合物であり、具体的には室温（２５℃）にてリン光発光する化合物であり、リン光量子収率が２５℃において０．０１以上の化合物であると定義されるが、好ましいリン光量子収率は０．１以上である。
【０１７３】
上記リン光量子収率は、第４版実験化学講座７の分光IIの３９８頁（１９９２年版、丸善）に記載の方法により測定できる。溶液中でのリン光量子収率は、種々の溶媒を用いて測定できるが、本発明においてリン光発光性化合物を用いる場合、任意の溶媒のいずれかにおいて、上記リン光量子収率として０．０１以上が達成されればよい。
【０１７４】
リン光発光性化合物は、一般的な有機ＥＬ素子の発光層に使用される公知のものの中から適宜選択して用いることができるが、好ましくは元素の周期表で８〜１０族の金属を含有する錯体系化合物であり、さらに好ましくはイリジウム化合物、オスミウム化合物、白金化合物（白金錯体系化合物）又は希土類錯体であり、中でも最も好ましいのはイリジウム化合物である。
【０１７５】
本発明においては、少なくとも一つの発光層が、２種以上のリン光発光性化合物が含有されていてもよく、発光層におけるリン光発光性化合物の濃度比が発光層の厚さ方向で変化している態様であってもよい。
【０１７６】
本発明に使用できる公知のリン光発光性化合物の具体例としては、以下の文献に記載されている化合物等が挙げられる。
【０１７７】
Ｎａｔｕｒｅ  ３９５，１５１（１９９８）、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．７８，  １６２２（２００１）、Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．１９，７３９（２００７）、Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．１７，３５３２（２００５）、Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．１７，１０５９（２００５）、国際公開第２００９／１００９９１号、国際公開第２００８／１０１８４２号、国際公開第２００３／０４０２５７号、米国特許出願公開第２００６／８３５４６９号明細書、米国特許出願公開第２００６／０２０２１９４号明細書、米国特許出願公開第２００７／００８７３２１号明細書、米国特許出願公開第２００５／０２４４６７３号明細書等に記載の化合物を挙げることができる。
【０１７８】
また、Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４０，１７０４（２００１）、Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．１６，２４８０（２００４）、Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．１６，２００３（２００４）、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．ｌｎｔ．Ｅｄ．２００６，４５，７８００、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．８６，１５３５０５（２００５）、Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．３４，５９２（２００５）、Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．２９０６（２００５）、Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４２，１２４８（２００３）、国際公開第２００９／０５０２９０号、国際公開第２００９／０００６７３号、米国特許第７３３２２３２号明細書、米国特許出願公開第２００９／００３９７７６号、米国特許第６６８７２６６号明細書、米国特許出願公開第２００６／０００８６７０号明細書、米国特許出願公開第２００８／００１５３５５号明細書、米国特許第７３９６５９８号明細書、米国特許出願公開第２００３／０１３８６５７号明細書、米国特許第７０９０９２８号明細書等に記載の化合物を挙げることができる。
【０１７９】
また、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．ｌｎｔ．Ｅｄ．４７，１（２００８）、Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．１８，５１１９（２００６）、Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４６，４３０８（２００７）、Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ  ２３，３７４５（２００４）、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．７４，１３６１（１９９９）、国際公開第２００６／０５６４１８号、国際公開第２００５／１２３８７３号、国際公開第２００６／０８２７４２号、米国特許出願公開第２００５／０２６０４４１号明細書、米国特許第７５３４５０５号明細書、米国特許出願公開第２００７／０１９０３５９号明細書、米国特許第７３３８７２２号明細書、米国特許第７２７９７０４号明細書、米国特許出願公開第２００６／１０３８７４号明細書等に記載の化合物も挙げることができる。
【０１８０】
さらには、国際公開第２００５／０７６３８０号、国際公開第２００８／１４０１１５号、国際公開第２０１１／１３４０１３号、国際公開第２０１０／０８６０８９号、国際公開第２０１２／０２０３２７号、国際公開第２０１１／０５１４０４号、国際公開第２０１１／０７３１４９号、特開２００９−１１４０８６号公報、特開２００３−８１９８８号公報、特開２００２−３６３５５２号公報等に記載の化合物も挙げることができる。
【０１８１】
本発明においては、好ましいリン光発光性化合物としてはＩｒを中心金属に有する有機金属錯体が挙げられる。さらに好ましくは、金属−炭素結合、金属−窒素結合、金属−酸素結合、金属−硫黄結合の少なくとも一つの配位様式を含む錯体が好ましい。
【０１８２】
上記説明したリン光発光性化合物（リン光発光性金属錯体ともいう）は、例えば、Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｅｔｔｅｒ誌、ｖｏｌ３、Ｎｏ．１６、２５７９〜２５８１頁（２００１）、Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第３０巻、第８号、１６８５〜１６８７頁（１９９１年）、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１２３巻、４３０４頁（２００１年）、Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第４０巻、第７号、１７０４〜１７１１頁（２００１年）、Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第４１巻、第１２号、３０５５〜３０６６頁（２００２年）、Ｎｅｗ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ．，第２６巻、１１７１頁（２００２年）、Ｅｕｒｏｐｅａｎ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第４巻、６９５〜７０９頁（２００４年）、さらにこれらの文献中に記載されている参考文献等に開示されている方法を適用することにより合成することができる。
【０１８３】
〈蛍光発光性化合物〉
蛍光発光性化合物としては、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素又は希土類錯体系蛍光体等が挙げられる。
【０１８４】
〔有機機能層群〕
次いで、前記有機能層群１及び有機機能層群２を構成する各層の代表例として、電荷注入層、正孔輸送層、電子輸送層及び阻止層の順に説明する。
【０１８５】
（電荷注入層）
電荷注入層は、発光開始電圧低下や発光輝度向上のために、電極と発光層の間に設けられる層のことで、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３〜１６６頁）にその詳細が記載されており、正孔注入層と電子注入層とがある。
【０１８６】
電荷注入層としては、一般には、正孔注入層であれば、陽極と発光層又は正孔輸送層との間、電子注入層であれば陰極と発光層又は電子輸送層との間に存在させることができるが、本発明においては、光透過性を有する電極に隣接して電荷注入層を配置させることを特徴とする。また、中間電極で用いられる場合は、隣接する電子注入層及び正孔注入層の少なくとも一方が、本発明の要件を満たしていれば良い。
【０１８７】
正孔注入層は、発光開始電圧低下や発光輝度向上のために、光透過性を有する電極である陽極に隣接して配置される層であり、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３〜１６６頁）に詳細に記載されている。
【０１８８】
正孔注入層は、特開平９−４５４７９号公報、同９−２６００６２号公報、同８−２８８０６９号公報等にもその詳細が記載されており、正孔注入層に用いられる材料としては、例えば、ポルフィリン誘導体、フタロシアニン誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、トリアリールアミン誘導体、カルバゾール誘導体、インドロカルバゾール誘導体、イソインドール誘導体、アントラセンやナフタレン等のアセン系誘導体、フルオレン誘導体、フルオレノン誘導体、及びポリビニルカルバゾール、芳香族アミンを主鎖又は側鎖に導入した高分子材料又はオリゴマー、ポリシラン、導電性ポリマー又はオリゴマー（例えば、ＰＥＤＯＴ（ポリエチレンジオキシチオフェン）：ＰＳＳ（ポリスチレンスルホン酸）、アニリン系共重合体、ポリアニリン、ポリチオフェン等）等が挙げられる。
【０１８９】
トリアリールアミン誘導体としては、α−ＮＰＤ（４，４′−ビス〔Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ〕ビフェニル）に代表されるベンジジン型や、ＭＴＤＡＴＡ（４，４′，４″−トリス〔Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン）に代表されるスターバースト型、トリアリールアミン連結コア部にフルオレンやアントラセンを有する化合物等が挙げられる。
【０１９０】
また、特表２００３−５１９４３２号公報や特開２００６−１３５１４５号公報等に記載されているようなヘキサアザトリフェニレン誘導体も同様に正孔輸送材料として用いることができる。
【０１９１】
電子注入層は、発光開始電圧低下や発光輝度向上のために、陰極と発光層との間に設けられる層のことであり、陰極が本発明に係る光透過性を有する電極で構成されている場合には、当該光透過性を有する電極に隣接して設けられ、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３〜１６６頁）に詳細に記載されている。
【０１９２】
電子注入層は、特開平６−３２５８７１号公報、同９−１７５７４号公報、同１０−７４５８６号公報等にもその詳細が記載されており、電子注入層に好ましく用いられる材料の具体例としては、ストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム等に代表されるアルカリ金属化合物、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム等に代表されるアルカリ金属ハライド層、フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類金属化合物層、酸化モリブデン、酸化アルミニウム等に代表される金属酸化物、リチウム８−ヒドロキシキノレート（Ｌｉｑ）等に代表される金属錯体等が挙げられる。また、本発明における光透過性を有する電極が陰極の場合は、金属錯体等の有機材料が特に好適に用いられる。電子注入層はごく薄い膜であることが望ましく、構成材料にもよるが、その層厚は１ｎｍ〜１０μｍの範囲が好ましい。
【０１９３】
（正孔輸送層）
正孔輸送層とは正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層及び電子阻止層も正孔輸送層の機能を有する。正孔輸送層は単層又は複数層設けることができる。
【０１９４】
正孔輸送材料としては、正孔の注入又は輸送、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物、無機物のいずれであってもよい。例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、導電性高分子オリゴマー及びチオフェンオリゴマー等が挙げられる。
【０１９５】
正孔輸送材料としては、上記のものを使用することができるが、ポルフィリン化合物、芳香族第３級アミン化合物及びスチリルアミン化合物を用いることができ、特に芳香族第３級アミン化合物を用いることが好ましい。
【０１９６】
芳香族第３級アミン化合物及びスチリルアミン化合物の代表例としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−〔１，１′−ビフェニル〕−４，４′−ジアミン（略称：ＴＰＤ）、２，２−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラ−ｐ−トリル−４，４′−ジアミノビフェニル、１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）−４−フェニルシクロヘキサン、ビス（４−ジメチルアミノ−２−メチルフェニル）フェニルメタン、ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）フェニルメタン、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ジ（４−メトキシフェニル）−４，４′−ジアミノビフェニル、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノジフェニルエーテル、４，４′−ビス（ジフェニルアミノ）クオードリフェニル、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ（ｐ−トリル）アミン、４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−〔４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル〕スチルベン、４−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ−（２−ジフェニルビニル）ベンゼン、３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン及びＮ−フェニルカルバゾール等が挙げられる。
【０１９７】
正孔輸送層は、上記正孔輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェットプリント法を含む印刷法及びＬＢ法（ラングミュア・ブロジェット、Ｌａｎｇｍｕｉｒ  Ｂｌｏｄｇｅｔｔ法）等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。正孔輸送層の層厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍ程度、好ましくは５〜２００ｎｍの範囲である。この正孔輸送層は、上記材料の１種又は２種以上からなる一層構造であってもよい。
【０１９８】
また、正孔輸送層の材料に不純物をドープすることにより、ｐ性を高くすることもできる。その例としては、特開平４−２９７０７６号公報、特開２０００−１９６１４０号公報、同２００１−１０２１７５号公報及びＪ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，９５，５７７３（２００４）等に記載されたものが挙げられる。
【０１９９】
このように、正孔輸送層のｐ性を高くすると、より低消費電力の素子を作製することができるため好ましい。
【０２００】
（電子輸送層）
電子輸送層は、電子を輸送する機能を有する材料から構成され、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。電子輸送層は、単層構造又は複数層の積層構造として設けることができる。
【０２０１】
単層構造の電子輸送層及び積層構造の電子輸送層において、発光層に隣接する層部分を構成する電子輸送材料（正孔阻止材料を兼ねる）としては、カソードより注入された電子を発光層に伝達する機能を有していれば良い。このような材料としては、従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン、アントロン誘導体及びオキサジアゾール誘導体等が挙げられる。さらに、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送層の材料として用いることができる。さらにこれらの材料を高分子鎖に導入した高分子材料又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。
【０２０２】
また、８−キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス（８−キノリノール）アルミニウム（略称：Ａｌｑ3）、トリス（５，７−ジクロロ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５，７−ジブロモ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（２−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）亜鉛（略称：Ｚｎｑ）等及びこれらの金属錯体の中心金属がＩｎ、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｃａ、Ｓｎ、Ｇａ又はＰｂに置き替わった金属錯体も、電子輸送層の材料として用いることができる。
【０２０３】
電子輸送層は、上記材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェットプリント法を含む印刷法及びＬＢ法等の公知の方法により、薄膜化することで形成することができる。電子輸送層の層厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍ程度、好ましくは５〜２００ｎｍの範囲内である。電子輸送層は上記材料の１種又は２種以上からなる単一構造であってもよい。
【０２０４】
（阻止層）
阻止層としては、正孔阻止層及び電子阻止層が挙げられ、上記説明した有機機能層ユニットの各構成層の他に、必要に応じて設けられる層である。例えば、特開平１１−２０４２５８号公報、同１１−２０４３５９号公報、及び「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の２３７頁等に記載されている正孔阻止（ホールブロック）層等を挙げることができる。
【０２０５】
正孔阻止層とは、広い意味では、電子輸送層の機能を有する。正孔阻止層は、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい正孔阻止材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、電子輸送層の構成を必要に応じて、正孔阻止層として用いることができる。正孔阻止層は、発光層に隣接して設けられていることが好ましい。
【０２０６】
一方、電子阻止層とは、広い意味では、正孔輸送層の機能を有する。電子阻止層は、正孔を輸送する機能を有しつつ、電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、正孔輸送層の構成を必要に応じて電子阻止層として用いることができる。本発明に適用する正孔阻止層の層厚としては、好ましくは３〜１００ｎｍの範囲であり、さらに好ましくは５〜３０ｎｍの範囲である。
【０２０７】
〔第２電極：陰極〕
本発明に係る陰極は、有機機能層群や発光層に正孔を供給するために機能する電極であり、光反射性又は光透過性を有する電極である。用いられる材料としては、金属、合金、有機又は無機の導電性化合物又はこれらの混合物として、例えば、金、アルミニウム、銀、マグネシウム、リチウム、マグネシウム／銅混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、インジウム、リチウム／アルミニウム混合物、希土類金属、ＩＴＯ、ＺｎＯ、ＴｉＯ2及びＳｎＯ2等の酸化物半導体などが挙げられるが、その中でも、少なくとも薄膜の金属又は合金で構成されていることが好ましい構成である。
【０２０８】
光透過性を有する陰極として好適な銀又は銀を主成分とした合金は、上記陽極の説明で記載したのと同様の材料を挙げることができ、具体的には、銀単独で形成しても、又は銀（Ａｇ）を含有する合金から構成されていてもよい。そのような合金としては、例えば、銀・マグネシウム（Ａｇ・Ｍｇ）、銀・銅（Ａｇ・Ｃｕ）、銀・パラジウム（Ａｇ・Ｐｄ）、銀・パラジウム・銅（Ａｇ・Ｐｄ・Ｃｕ）、銀・インジウム（Ａｇ・Ｉｎ）などが挙げられる。
【０２０９】
陰極は、これらの導電性材料を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させて作製することができるが、インクジェットプリント法によって作製することが好ましい。また、第２電極としてのシート抵抗は、数百Ω／ｓｑ．以下が好ましく、膜厚は通常５ｎｍ〜５μｍ、好ましくは５〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。
【０２１０】
なお、有機ＥＬ素子が、陰極側から発光光Ｌを取り出す場合には、光透過性の良好な陰極を選択して構成すればよい。
【０２１１】
〔封止部材〕
封止部材としては、有機ＥＬ素子の表示領域（発光領域）を覆うように配置されていればよく、凹板状でも、平板状でもよい。また透明性及び電気絶縁性は特に限定されない。
【０２１２】
具体的には、フレキシブル性を備えたガラス基板、樹脂基板、フィルム、金属フィルム（金属箔）等が挙げられる。ガラス基板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。また、樹脂基板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリサルフォン等を挙げることができる。
【０２１３】
封止用接着剤としては、ポリウレタン系、ポリエステル系、エポキシ系、アクリル系等の接着剤を用いることができる。必要に応じて硬化剤を併用してもよい。ホットメルトラミネーション法やエクストルージョンラミネート法及び共押出しラミネーション法も使用できるがドライラミネート方式が好ましい。
【０２１４】
本発明においては、封止部材としては、有機ＥＬ素子を薄膜化することできる観点から、樹脂基板及びガラス基板を好ましく使用することができる。さらに、樹脂基板は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２９−１９９２に準拠した方法で測定された温度２５±０．５℃、相対湿度９０±２％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１×１０-3ｇ／ｍ2・２４ｈ以下であることが好ましく、さらには、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６−１９８７に準拠した方法で測定された酸素透過度が、１×１０-3ｍＬ／ｍ2・２４ｈ・ａｔｍ（１ａｔｍは、１．０１３２５×１０5Ｐａである）以下であって、温度２５±０．５℃、相対湿度９０±２％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１×１０-3ｇ／ｍ2・２４ｈ以下であることが好ましい。この条件を満たすため、後述するガスバリアー層を設けることが好ましい形態である。
【０２１５】
封止部材と有機ＥＬ素子の表示領域（発光領域）との間隙には、気相及び液相では窒素、アルゴン等の不活性気体やフッ化炭化水素、シリコーンオイルのような不活性液体を注入することもできる。また、封止部材と有機ＥＬ素子の表示領域との間隙を真空とすることや、間隙に吸湿性化合物を封入することもできる。
【０２１６】
また、有機ＥＬ素子における有機機能層ユニットを完全に覆い、かつ有機ＥＬ素子における第１電極である陽極（２）と、第２電極である陰極（６）の端子部分を露出させる状態で、光透過性を有する基板上に封止膜を設けることもできる。
【０２１７】
〔ガスバリアー層〕
基材（１）の片面又は両面、少なくとも陽極（第１電極）が形成される側の全面には、光透過性のあるガスバリアー層を形成することにより、水分や酸素など、有機ＥＬ素子の構成材料に対し劣化をもたらすものの浸入を抑制することができる。また、前記封止部材に樹脂基板を用いる場合も同様である。
【０２１８】
ガスバリアー層は、無機材料被膜だけでなく、有機材料との複合材料からなる被膜又はこれらの被膜を積層したハイブリッド被膜であってもよい。ガスバリアー層の性能としては、ＪＩＳ（日本工業規格）−Ｋ７１２９（２００８年）に準拠した水蒸気透過度（環境条件：２５±０．５℃、相対湿度（９０±２）％）が約０．０１ｇ／ｍ2・２４ｈ以下、ＪＩＳ−Ｋ７１２６（２００６年）に準拠した酸素透過度が約０．０１ｍＬ／ｍ2・２４ｈ・ａｔｍ］以下、抵抗率が１×１０12Ω・ｃｍ以上、光線透過率は可視光領域で約８０％以上であるような、ガスバリアー性を有する光透過性を有する絶縁膜であることが好ましい。
【０２１９】
ガスバリアー層の形成材料としては、有機ＥＬ素子の劣化を招く、例えば水や酸素等のガスの有機ＥＬ素子への浸入を抑制できる材料であれば、任意の材料を用いることができる。
【０２２０】
例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸炭化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ、酸化モリブデン等の無機材料からなる被膜で構成することができ、好ましくは、窒化ケイ素や酸化ケイ素等のケイ素化合物を主原料とする構成である。
【０２２１】
ガスバリアー層の形成方法としては、従来公知の成膜方法を適宜選択して用いることができ、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、分子線エピタキシー法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法（特開２００４−６８１４３号公報参照）、プラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、ＡＬＤ（原子層堆積）法、また、ポリシラザン等を用いた湿式塗布法を適用することもできる。
【０２２２】
〔下地層〕
前述の下地層を構成する材料としては、特に限定されるものではなく、その上に形成する陽極又は陰極の構成材料である銀の凝集を抑制できるものであり、窒素原子を含んだ化合物等が挙げられる。
【０２２３】
下地層を構成するのに用いることができる窒素原子含有化合物としては、分子内に窒素原子を含んでいる化合物であれば、特に限定はないが、窒素原子をヘテロ原子とした複素環を有する化合物が好ましい。窒素原子をヘテロ原子とした複素環としては、アジリジン、アジリン、アゼチジン、アゼト、アゾリジン、アゾール、アジナン、ピリジン、アゼパン、アゼピン、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、チアゾール、イミダゾリン、ピラジン、モルホリン、チアジン、インドール、イソインドール、ベンゾイミダゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、カルバゾール、ベンゾ−Ｃ−シンノリン、ポルフィリン、クロリン及びコリン等が挙げられる。
【０２２４】
さらには、下地層が含有する窒素原子含有化合物は、芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する芳香族複素環化合物であることが好ましい。
【０２２５】
これらの窒素原子含有化合物の具体例としては、特開２０１５−０４６３６４号公報の段落（００９７）〜同（０２２１）に記載の例示化合物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．１３４を挙げることができる。
【０２２６】
〔保護層〕
本発明に係る光遮蔽部を保護するために保護層を設けることが好ましい。保護層としては、ガラス板、アクリル板等の光透過性の板状部材や公知の活性線硬化型のハードコート層等を用いることができる。
【０２２７】
〔６〕有機ＥＬデバイスの基本構成
次いで、本発明の有機ＥＬデバイスの基本構成の詳細について説明する。
【０２２８】
本発明の有機ＥＬデバイスは、発光色の異なる２個以上の有機ＥＬ素子を具備する有機ＥＬデバイスであって、前記発光色の異なる有機ＥＬ素子が、それぞれ同一平面内に配置されており、かつ、前記有機ＥＬ素子の光取り出し側の面に、可視光領域の光透過率が段階的に変化する又は一律である光遮蔽部を有することを特徴とする。
【０２２９】
以下、発光色の異なる２個以上の有機ＥＬ素子が、それぞれ同一平面内に配置されている本発明の有機ＥＬデバイスの基本的な構成について説明する。
【０２３０】
〔６．１〕有機ＥＬデバイスの概略回路図
図７は、本発明の有機ＥＬデバイスの回路図の概略を示す一例であり、図８は、本発明の有機ＥＬデバイスの別の回路図の概略を示す一例である。
【０２３１】
図７では、基材（１）上に、複数の赤色発光（ＥＬR）、緑色発光（ＥＬG）及び青色発光（ＥＬB）の発光色の異なる有機ＥＬ素子が、それぞれ同一平面内に配置されており、かつ、前記発光色の異なる有機ＥＬ素子は、同一平面内に発光色の異なる２以上のライン状に並列して配置されている。そして、複数の赤色発光（ＥＬR）、緑色発光（ＥＬG）及び青色発光（ＥＬB）の発光色の異なる有機ＥＬ素子の一部は、黒で示されている光遮蔽部（９）によって透過光が遮蔽されている。
【０２３２】
図７に示すように、同一平面上に有機ＥＬ素子をストライプ状に配置する場合、その素子の一ライン状の配置数としては、基材の大きさや、素子の大きさにより、一概に規定することはできないが、本願発明の効果を得る観点からは、好ましくは２〜２０個の範囲内であることが好ましく、さらに好ましくは２〜１０個の範囲内である。したがって、一例としては、基材の幅が１０ｃｍ×１０ｃｍの有機ＥＬデバイスにおいては、有機ＥＬ素子による発光エリアのサイズとしては、幅０．５ｃｍ×長さ１０ｃｍ〜幅５ｃｍ×長さ１０ｃｍ、好ましくは幅１．０ｃｍ×長さ１０ｃｍ〜幅５ｃｍ×長さ１０ｃｍの範囲内であるが、これらの発光エリア面積は、基材のサイズ及び有機ＥＬ素子の配置数により、適宜選択することができる。
【０２３３】
それぞれの有機ＥＬ素子の陽極は、印加電源部（２０）からのバスライン（２１）によって電気的に接続されている。ただし、図７及び図８では印加電源部（２０）から有機ＥＬ素子の陰極に接続されるバスラインは省略してある。この図で示される形態では、印加電源部（２０）は三つ用意されており、それぞれ電圧を変えることによって赤色発光（ＥＬR）、緑色発光（ＥＬG）及び青色発光（ＥＬB）の発光量を制御している。
【０２３４】
一方、図８で示す形態では、前記同一平面内に発光色の異なる２以上のライン状に並列して配置されている有機ＥＬ素子が、それぞれ異なる抵抗値を有する導電部材（２２）によって印加電源部（２０）に接続されている。
【０２３５】
図８で示される形態では、印加電源部（２０）は一つ用意されており、それぞれ異なる抵抗値を有する導電部材（２２）によって電圧を変え、赤色発光（ＥＬR）、緑色発光（ＥＬG）及び青色発光（ＥＬB）の発光量を制御している。
【０２３６】
本願発明の簡易な有機ＥＬデバイスを作製する上では、上記有機ＥＬ素子が、それぞれ異なる抵抗値を有する導電部材によって一つの印加電源部に接続されている図８で示す形態であることが好ましい。前記導電部材を接続する位置は、印加電源部−導電部材−バスライン-有機ＥＬ素子の順であっても、印加電源部−バスライン−導電部材−有機ＥＬ素子の順のどちらでもよい。
【０２３７】
以下、図８で示す形態であって、接続回路として印加電源部−バスライン−導電部材−有機ＥＬ素子の順である構成を、本発明の有機ＥＬデバイスの代表的な構成として、実施形態１として詳細に説明する。
【０２３８】
〔６．２〕実施形態１
最初に実施形態１で用いる部材を説明する。
【０２３９】
〔バスライン（２１）〕
本発明でいうバスラインとは、一般には、電子デバイスの機能を接続するための配線であり、本発明の有機ＥＬデバイスにおいては、印加電源より、各有機ＥＬ素子に電力を供給するための配線である。用いられる材料としては、高い導電性を有する金属材料であり、基材への密着性や腐食防止の観点から、モリブデンクラッドアルミニウム（略称：ＭＡＭ、モリブデン（Ｍｏ）／アルミニウム（Ａｌ）／モリブデン（Ｍｏ））やモリブデンクラッド銅（略称：ＭＣＭ、モリブデン（Ｍｏ）／銅（Ｃｕ）／モリブデン（Ｍｏ））等を挙げることができる。
【０２４０】
〔引出電極（２３）：面電極〕
有機ＥＬ素子用の第１電極で用いる材料と同じ材料を用いることが好ましい。特にＡｇナノインクを用いることが、好ましい。
【０２４１】
〔導電部材（２２）：抵抗材料〕
本発明に係る導電部材は、抵抗値を調整することが可能な導電性材料で構成され、特に制限はなく、公知の導電性物質を適用できる。
【０２４２】
導電性材料として、無機系材料としては、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、又はコバルトなどの金属、又はインジウム−スズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ（ＩＴＯ））、インジウム−亜鉛酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ（ＩＺＯ））、酸化亜鉛（Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ（ＺｎＯ））、又は亜鉛−スズ酸化物（Ｚｉｎｃ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ（ＺＴＯ））、又はアンチモン−スズ酸化物（ＡＴＯ）などの金属酸化物が例示でき、これらの金属、又は金属酸化物を粒子状態で含む、金属ナノインク（銀ナノインク等）を用いることが、湿式塗布適性を付与することができる点で好ましい。銀ナノインクは、市販品としても入手することができ、バンドー化学社製のＳＲ６０００、ＳＷ１０２０、（株）Ｃ−ｉｎｋ社製のコロイダルインクＪＢ０４２０Ｂ、三菱製紙社製の銀ナノインクであるＮＢＳＩＪ−ＭＵ０１、ＮＢＳＩＪ−ＦＤ０２、ＮＢＳＩＪ−ＫＣ０１等を挙げることができる。
【０２４３】
また、有機系材料としては、導電性カーボンナノチューブやグラフェンなどの導電性炭素材料、ポリチオフェン又はポリアニリンなどの導電性高分子などが例示できるが、その中でも、屈曲性に優れるという特徴と、透明性と導電性にも優れるという特徴を有する点で有機導電性高分子のポリチオフェンの一種であるＰＥＤＯＴ／ＰＳＳが好適に用いることができる。ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳとは、ＰＥＤＯＴ（３，４−エチレンジオキシチオフェンのポリマー）とＰＳＳ（スチレンスルホン酸のポリマー）を共存させたポリマーコンプレックスである。
【０２４４】
導電部材の厚さは、適用する導電部材の導電性や透明性等、及び導電部材として必要とされる抵抗値を達成するのに必要とされる厚さで形成する。
【０２４５】
〔絶縁層（２４）〕
本発明に係る絶縁層の形成材料としては、種々の絶縁材料を用いることができるが、特に、比誘電率の高い無機酸化物皮膜が好ましい。無機酸化物としては、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化チタン、酸化スズ、酸化バナジウム、チタン酸バリウムストロンチウム、ジルコニウム酸チタン酸バリウム、ジルコニウム酸チタン酸鉛、チタン酸鉛ランタン、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム、フッ化バリウムマグネシウム、チタン酸ビスマス、チタン酸ストロンチウムビスマス、タンタル酸ストロンチウムビスマス、タンタル酸ニオブ酸ビスマス、トリオキサイドイットリウムなどが挙げられる。それらのうち好ましいのは、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化チタンである。窒化ケイ素、窒化アルミニウムなどの無機窒化物も好適に用いることができる。
【０２４６】
無機酸化皮膜の形成方法としては、真空蒸着法、分子線エピタキシャル成長法、イオンクラスタービーム法、低エネルギーイオンビーム法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、スパッタリング法、大気圧プラズマ法などの乾式形成法や、スプレーコート法、スピンコート法、ブレードコート法、デイップコート法、キャスト法、ロールコート法、バーコート法、ダイコート法などの塗布による方法、インクジェットプリント法を含む印刷法などのパターニングによる方法などの湿式形成法が挙げられ、材料に応じて使用できる。これらのうち好ましいのは、インクジェットプリント法である。
【０２４７】
また、有機化合物としては、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、ポリアクリレート、光ラジカル重合系、光カチオン重合系の光硬化性樹脂、又はアクリロニトリル成分を含有する共重合体、ポリビニルフェノール、ポリビニルアルコール、ノボラック樹脂、及びシアノエチルプルラン、ポリマー体、エラストマー体を含むホスファゼン化合物、等を用いることもできる。また、市販品としては、ダイセル社製のセルビーナス等を挙げることができる。
【０２４８】
〔６．２．１〕実施形態１の構成
図９及び図１０で示すように、本発明の実施形態１で表される有機ＥＬデバイスは、基材（不図示）上に、縦方向に配置されているバスラインＶ（２１Ｖ）と、横方向に配置されているバスラインＨ（２１Ｈ）とが格子状に交差して形成される領域に、有機ＥＬ素子を配置し画素ユニットを形成することが好ましい。
【０２４９】
画層ユニットは、少なくとも発光色が異なる複数の有機ＥＬ素子であり、図９及び図１０では、赤色発光の有機ＥＬ素子（ＥＬR）、緑色発光の有機ＥＬ素子（ＥＬG）及び青色発光の有機ＥＬ素子（ＥＬB）が、同一平面上に配置されている。
【０２５０】
各有機ＥＬ素子（ＥＬR、ＥＬG、ＥＬB）を構成する第１電極（２）から第１電極の引出電極（２３）が形成されており、一方の端部が抵抗値を有する導電部材（２２）に接続されている。
【０２５１】
印加電源（２０）に接続されて一定の電圧が印加されている単一のバスラインＶ（２１Ｖ）より、バスラインＨ（２１Ｈ）を経由してそれぞれ最適の発光を得るための電圧が異なる各有機ＥＬ素子（ＥＬR、ＥＬG、ＥＬB）に最適の電圧を印加する機能を有しており、それぞれ導電部材（２２）は印加する電圧を調整するため個別の抵抗値を有している。各導電部材の抵抗値は、有機ＥＬ素子の特性や発光面積により異なるが、おおむね１〜５００Ωの範囲内であり、好ましくは２〜３００Ωの範囲内であり、更に好ましくは５〜１５０Ωの範囲内である。
【０２５２】
一方、横方向に配置されているバスラインＨ（２１Ｈ）と、抵抗値の異なる各導電部材（２２）とは、各バスライン連結部（２６）を介して接続されている。縦方向にバスラインＶ（２１Ｖ）の端部には、印加電源部（２０）が配置されている。
【０２５３】
基材（不図示）上に形成されている層状の絶縁層（２４）には、各発光ユニット単位で、二つの開放部（２５−１）及び（２５−２）が形成されている。
【０２５４】
一つは、有機ＥＬ素子を配置する領域であり、各有機ＥＬ素子（ＥＬR、ＥＬG、ＥＬB）及び第１電極の引出電極（２３）が配置されている有機ＥＬ素子形成用の開口部（２５−１）である。
【０２５５】
開口部はもう一つあり、導電部材（２２）を配置する領域で、導電部材と、バスライン連結部（２６）と、第１電極の引出電極（２３）の端部が配置されている導電部材形成用の開口部（２５−２）である。
【０２５６】
形成方法の詳細は後述するが、基材（１）上に、バスライン（２１）、バスライン連結部（２６）、第１電極（２）、その引出電極（２３）等を形成した後、図１０に示すような、有機ＥＬ素子形成用の開口部（２５−１）と、導電部材形成用の開口部（２５−２）を有する絶縁層（２４）を形成する。
【０２５７】
この各開口部（２５−１）及び（２５−２）を用いて、有機ＥＬ素子の第１電極を除く各構成層や、導電部材（２２）を、例えば、湿式塗布法等を用いて形成する。
【０２５８】
この方法では、各構成部を、マスク等を介しての形成が不要となり、所定の位置に高い精度で、かつ簡便な装置により形成することができる。
【０２５９】
また、図９及び図１０で示す異なる発光色を有する有機ＥＬ素子（ＥＬR、ＥＬG、ＥＬB）を形成する場合には、それぞれの形成面積を、各有機ＥＬ素子の発光特性に応じて、調整することもできる。これは、有機ＥＬデバイスを長期間にわたり使用する際の各有機ＥＬ素子の輝度低下率のバランスを揃え、例えば、長期間にわたり白色発光させた際の色ずれ（色調変化）を防止するための有効な方法である。これに伴って、各有機ＥＬ素子形成用の開口部（２５）の面積は、そこに設置する各有機ＥＬ素子（ＥＬR、ＥＬG、ＥＬB）のサイズ（発光面積）に応じて変化することができ、具体的には、（小）ＥＬG＜ＥＬR＜ＥＬB（大）の面積サイズに調整することが、長期にわたり白色発光を維持できる観点から好ましい。
【０２６０】
以上説明したように、本発明の有機ＥＬデバイスの実施形態１の特徴は、格子状のバスラインで囲まれた複数の領域内にそれぞれ画素ユニットを配置し、抵抗値を有する導電部材を、バスラインの結合部と有機ＥＬ素子の第１電極の引出電極部との間に配置する。そして、共通のバスラインより電圧を印加し、次いで、各有機ＥＬ素子に印加する電圧を調整するそれぞれ異なる抵抗値を有する導電部材により各有機ＥＬ素子の発光条件を制御することにより、ＴＦＴ等の複雑な発光制御を必要とせずに、簡易な方法で、発光を制御することができる。本発明の有機ＥＬデバイスでは、各画素ユニットでの発光は、動画等の表示するための可変発光方式ではなく、ポスター等で代表される静止画像を表示することを主なターゲットしているため、簡便な制御方法で、かつ大型設備を必要としない湿式塗布方法で作製することができるため、低コストで製造することが可能となった。
【０２６１】
次いで、実施形態１で表される有機ＥＬデバイスについて、更にその具体的な構成について説明する。
【０２６２】
図１１は、図１０で示す画素ユニットの切断面Ａ−Ａ′で表される構成を示す概略断面図で、基材（１）上に、一つの画素ユニットを形成している実施形態１の構成例を示してある。
【０２６３】
詳細な製造フローは後述するが、形成するフローとしては、図１１で示すように、基材（１）上には、横方向に配置されている２本のバスラインＨ（２１Ｈ）と、一方のバスラインＨに対しバスライン連結部（２６）が形成されている。一方、有機ＥＬ素子形成領域には、有機ＥＬ素子用の第１電極（２）と、その引出電極（２３）が形成されている。
【０２６４】
次いで、図１１で示すように、基材（１）上に有機ＥＬ素子形成用の開口部（２５−１）と、導電部材形成用の開口部（２５−２）を除く領域に、絶縁層（２４）が形成されている。
【０２６５】
有機ＥＬ素子形成用の開口部（２５−１）には、有機ＥＬ素子用の第１電極（２）上に、発光層を含む有機機能層ユニットが形成されている。一方、導電部材形成用の開口部（２５−２）には、第１電極引出電極（２３）の端部と、バスライン連結部（２６）の端部とを接続する形態で、所望の抵抗値を有する導電部材（２２）が配置されている。
【０２６６】
この導電部材形成用の開口部（２５−２）の上部は、その後に形成する第２電極（６、陰極）と導電部材（２２）との短絡を防止するための絶縁層（２４）が設けられている。
【０２６７】
有機ＥＬ素子形成用の開口部（２５−１）と、導電部材形成用の開口部（２５−２）の上部には、第２電極（６、陰極）が形成され、全域を被覆する構成で、封止用接着層（７）と、最表部に封止基板（８）が設けられて、有機ＥＬデバイス（ＯＬＥＤ）を構成している。
【０２６８】
図１２は、図１０で示す画素ユニットの切断面Ｂ−Ｂ´で表される構成を示す概略断面図で、基材（１）上に、三つの有機ＥＬ素子が同一平面上に配置されている実施形態１の構成例を示してある。
【０２６９】
図１２では、基材（１）上に、絶縁層（２４）で被覆されている一対の縦のバスラインＶ（２１Ｖ）と、三つの有機ＥＬ素子形成用の開口部（２５−１）には、それぞれ赤色発光有機ＥＬ素子（ＥＬR）、緑色発光有機ＥＬ素子（ＥＬG）、青色発光有機ＥＬ素子（ＥＬB）が形成され、各有機ＥＬ素子間には絶縁層（２４）が設けられ、各有機ＥＬ素子の形成領域を分離している。
【０２７０】
これらの有機ＥＬ素子形成用の開口部（２５−１）上には、共通の第２電極（６、陰極）が形成され、更にその上部に、全域を被覆する構成で、封止用接着層（７）と、最表部に封止基板（８）が設けられて、有機ＥＬデバイス（ＯＬＥＤ）を構成している。
【０２７１】
〔６．２．２〕製造方法
一般に、有機ＥＬ素子は、例えば、化学蒸着法や真空蒸着法等を用いた乾式形成方法や、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法（ラングミュア・ブロジェット、Ｌａｎｇｍｕｉｒ  Ｂｌｏｄｇｅｔｔ法）及びインクジェットプリント法等の湿式塗布方法等、公知の薄膜形成方法を適用することにより形成することができるが、その中でも、本発明の有機ＥＬデバイスの製造方法としては、少なくとも有機ＥＬ素子のそれぞれに印加する電圧を調整する抵抗値を有する導電部材を、湿式塗布方式により形成することが好ましい。更に好ましくは、少なくとも、絶縁層、有機ＥＬ素子、第１電極用の引出電極部、バスラインの結合部及びバスラインを、湿式塗布方式により形成することである。
【０２７２】
湿式塗布方式としては、特に、インクジェットプリント法を適用することが好ましい。
【０２７３】
図１３及び図１４において、インクジェットプリント法を用いた本発明の有機ＥＬデバイスの製造方法を説明する。
【０２７４】
図１３及び図１４は、図１０で示す構成の有機ＥＬデバイスで、図１１で説明したＡ−Ａ´切断面における画素ユニットの製造工程を示してある。
【０２７５】
図１３は、バスラインの形成から導電部材を形成するまでの前半の製造工程を示す図である。
【０２７６】
〈ステップ１：バスライン及びバスライン連結部の形成〉
図１３の（ａ）で示すように、初めに、基材（１）上に、図１０及び図１１で示すような所定の位置に、バスラインＨ（２１Ｈ）及びバスライン連結部（２６）を、形成用インク、例えば、導電性を有するＭＡＭ（モリブデン／アルミニウム／モリブデン）を含むインクを、インクジェットヘッドより、所定の位置に吐出して形成する。
【０２７７】
〈ステップ２：第１電極（陽極）及びその引出電極の形成〉
次いで、図１３の（ｂ）で示すように、図１０及び図１１で記載した位置に、第１電極（２）及び引出電極（２３）を、インクジェットヘッド（３０）より、銀ナノインク（ＳＷ１０２０、（株）Ｃ−ｉｎｋ社製のコロイダルインクＪＢ０４２０Ｂ）を吐出して形成する。
【０２７８】
〈ステップ３：絶縁部材の付与と各開口部の形成〉
次いで、図１３の（ｃ）で示すように、上記形成したバスラインＨ（２１Ｈ）、バスライン連結部（２６）の一部（導電部材形成用開口部で露出させる以外の領域）、引出電極（２３）の一部（有機ＥＬ素子形成用開口部及び導電部材形成用開口部で露出させる以外の領域）に、インクジェットヘッド（３０）より、絶縁性材料、例えば、透明封止剤である脂環式エポキシ化合物を含むインク等を吐出して、図１３で示すような有機ＥＬ素子形成用の開口部（２５）及び導電部材形成用の開口部（２５）を形成する。本実施形態１では、ダイセル社製のセルビーナスを用いた。
【０２７９】
〈ステップ４：有機機能層ユニットの形成〉
次いで、図１３の（ｄ）で示すように、有機ＥＬ素子形成用の開口部（２５−１）内に形成されている第１電極（２）上に、インクジェットヘッド（３０）より、各有機機能層形成用材料を含むインクを順次吐出して、有機機能層ユニット（Ｕ）を形成する。
【０２８０】
〈ステップ５：導電部材の形成〉
次いで、図１３の（ｅ）で示すように、導電部材形成用の開口部（２５−２）に露出しているバスライン連結部（２６）の端部と、引出電極（２３）の端部とを接続する位置に、インクジェットヘッド（３０）より、抵抗調整用の導電部材として、例えば、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合物（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）又は銀ナノインクを吐出して、導電部材（２２）を形成する。
【０２８１】
この時、抵抗値の異なる導電部材（２２）は、インクの吐出量を変化させ、適宜層厚を調整することにより、所望の抵抗値を有する導電部材を形成することができる。
【０２８２】
図１４は、導電部材を封止する絶縁層の形成から封止基板を付与するまでの後半の製造工程を示す図である。
【０２８３】
〈ステップ６：導電部材を封止する絶縁層の形成〉
次いで、前記ステップ５で形成した導電部材（２２）と、次のステップ７で形成する第２電極（６、陰極）との短絡を防止するため、導電部材形成用の開口部（２５−１）の上部を封止するため、前述の絶縁部材を用いて絶縁層（２４）を形成する。
【０２８４】
〈ステップ７：第２電極（陰極）の形成〉
次いで、絶縁層（２４）、有機機能層ユニット（Ｕ）上に、インクジェットヘッド（３０）より、第２電極（６．陰極）を画素ユニットの全面に形成する。第２電極は、反射電極であるため、マグネシウム／アルミニウム混合物を用いた。
【０２８５】
〈ステップ８及び９：封止用接着層（７）及び封止部材（８）の形成〉
次いで、塗布又はインクジェットプリント法により、封止用接着層（７）及び封止部材（８）を形成し、光遮蔽部を設ける前の有機ＥＬデバイスを作製する。封止用接着層及び封止部材については、前述の材料の中から適宜選択した。
【０２８６】
〈ステップ１０：光遮蔽部の形成〉
最後に上記作製した有機ＥＬデバイスを反転し、基材（１）の有機機能層ユニット（Ｕ）とは反対側の面上に、図４Ｂで示すようにインクジェットプリント法によって光遮蔽部を形成し、本発明の有機ＥＬデバイスを作製した。本実施形態１では、光吸収材料としてカーボンブラック（リーガル３３０Ｒ：キャボット社製）を用いてそれぞれ適宜光遮蔽部を形成した。接触式膜厚計ＤｅｋＴａｋＸＴ（ ブルーカー製）を用いて、基材に印刷したインクのドットを横断するように、触針を操作させ、基材との高低差から膜厚を求めたところ、光遮蔽部の周辺部の膜厚が中央部に比べ厚く、周辺部から中央部にかけて凹形状であることが確認できた。また、当該光遮蔽部は、いずれも可視光領域の光透過率が５％以下であった。当該有機ＥＬデバイスを作製後通電し各有機ＥＬ素子（ＥＬR、ＥＬG、ＥＬB）を発光させた結果、本発明の有機ＥＬデバイスは、当該光遮蔽部によって発光光が制御され、色調及び階調を再現することができ、優れた静止画像として視認できる表示装置であることが確認された。
【０２８７】
〔６．３〕実施形態２
〔６．３．１〕実施形態２の構成
本発明の有機ＥＬデバイスの実施形態２を図１５及び図１６で説明する。
【０２８８】
図１５では、実施形態１で示した有機ＥＬデバイスと基本的な構成は近似しているが、破線で示される、赤色発光有機ＥＬ素子（ＥＬR）、緑色発光有機ＥＬ素子（ＥＬG）、及び青色発光有機ＥＬ素子（ＥＬB）が一組として画素ユニット（ＥＬＵ）を形成しており、そのユニット単位で、一方の発光色を発光する前記有機ＥＬ素子の陽極が、隣接する他方の発光色を発光する有機ＥＬ素子の陰極と、電気的に直列に接続されていることが特徴である。このような接続にすることで、大面積の有機ＥＬデバイスの場合の電圧降下を小さくでき、均一な発光光を得る観点から好ましい。
【０２８９】
すなわち、発光ユニットを複数に分割し（分割数をＮとする。）、一方の発光エリアを構成する陽極が、他方の発光エリアを構成する陰極と、電気的に直列に接続することにより、必要な電流をＩ／Ｎに低減することで、給電端からパネル中央部までの陽極又は陰極の電圧降下も、Ｉ／Ｎに低減でき、それにより、発光均一性に優れた大面積の有機ＥＬデバイスが得られる。
【０２９０】
図１６は、当該画素ユニット（ＥＬＵ）の断面図を示しており、一枚の広い面積を有する光透過性を有する基材（１）上に、複数の有機ＥＬ素子をそれぞれ離間した状態で配置して、独立した発光エリア及び非発光エリアを形成している。詳しくは、基材（１）上に、陽極（２）、有機機能層ユニット（Ｕ）及び陰極（６）等により構成されている有機ＥＬ素子を複数個配置し、分割されている一方の発光エリアを構成する陽極（２）が、円形の破線（Ａ）で示す領域で、隣接する他方の発光エリアを構成する陰極（６）と、電気的に直列に接続した構成を有している。このような構成とすることにより、複数個の有機ＥＬ素子を直列に接続することができる。図１６では、赤色発光有機ＥＬ素子（ＥＬR）、緑色発光有機ＥＬ素子（ＥＬG）、及び青色発光有機ＥＬ素子（ＥＬB）が一組として画素ユニット（ＥＬＵ）を形成している。
【０２９１】
〔６．３．２〕製造方法
図１７に実施形態２の製造方法の一例を模式図で示す。実施形態１と重複する部分については省略する。
【０２９２】
〈ステップ１：基材（１）の準備〉
本実施形態２では、基材（１）はガスバリアー層（１１）を具備している。ガスバリアー層は、ポリシラザン溶液を用いて湿式塗布法によって層形成し、紫外線処理によって改質を行う。
【０２９３】
〈ステップ２：第１電極（陽極）の形成〉
次いで、図１７の（ｂ）で示すように、図１０及び図１１で記載した有機ＥＬ素子形成用の開口部（２５−１）の位置に、第１電極（２）を、インクジェットヘッド（３０）より、例えば、銀ナノインク等を吐出して、それぞれ離間した状態で形成する。
【０２９４】
〈ステップ３：有機機能層ユニットの形成〉
次いで、図１３の（ｃ）で示すように、有機ＥＬ素子形成用の開口部（２５−１）内に形成されている第１電極（２）上に、インクジェットヘッド（３０）より、各有機機能層形成用材料を含むインクを順次吐出して、有機機能層ユニット（Ｕ）を形成する。
【０２９５】
〈ステップ４：第２電極（陰極）の形成〉
次いで、有機機能層ユニット（Ｕ）上に、インクジェットヘッド（３０）より、第２電極（６．陰極）を所定の大きさで形成する。その際、図１７に示すように、例えば、赤色発光有機ＥＬ素子（ＥＬR）の端部を、緑色発光有機ＥＬ素子（ＥＬG）の陽極の端部と接続し、緑色発光有機ＥＬ素子（ＥＬG）の陰極の端部と青色発光有機ＥＬ素子（ＥＬB）の陽極の端部を接続することで、各有機ＥＬ素子は電気的に直列に接続される。
【０２９６】
インクジェットプリント法を用いることで、陰極同士の絶縁のためのセパレーター（バンクともいう。）等の使用をしなくても、精密に塗り分けることが可能である。
【０２９７】
陰極（６）の左端部から陽極（２）の右端部までの領域が「発光エリア」となり、陽極（２）の右端部から隣接する他方の有機ＥＬ素子の陰極（６）の左端部までが「非発光エリア」となる。
【０２９８】
〈ステップ５：封止用接着層（７）及び封止部材（８）の形成〉
実施形態１と同様に、塗布又はインクジェットプリント法により、封止用接着層（７）を塗布し、あらかじめガスバリアー層（１１）を設けた封止部材（８）とを接着して封止し、光遮蔽部を設ける前の有機ＥＬデバイスを作製する。封止用接着層及び封止部材については、実施形態１と同様に前述の材料の中から適宜選択した。
【０２９９】
〈ステップ６：光遮蔽部の形成〉〉
最後に、上記作製した有機ＥＬデバイスを反転し、基材（１）上に図４Ｂで示すようにインクジェットプリント法によって光遮蔽部を形成し、本発明の有機ＥＬデバイス（ＯＬＥＤ）を作製した。実施形態２では、光吸収材料として銀ナノインク（ＴＥＣ−ＰＡ−０１０：Ｉｎｋｔｅｃ社製）を用いて適宜光遮蔽部を形成したところ、光遮蔽部としての可視光領域の光透過率は５％以下であった。当該有機ＥＬデバイスを作製後通電し各有機ＥＬ素子（ＥＬR、ＥＬG、ＥＬB）を発光させた結果、本発明の有機ＥＬデバイスは、当該光遮蔽部によって発光光が制御され、色調及び階調を再現することができ、優れた静止画像として視認できる表示装置であることが確認された。
【０３００】
さらに、光遮蔽部を、図３Ｂで示すような可視光領域の光透過率が５％、１５％、３０％、５０％の４段階の階調を有するように銀ナノインクのインクドットの粗密を制御して形成して適宜用いたところ、より階調豊かな静止画像を視認できる表示装置であることが確認された。
【０３０１】
〔６．４〕実施形態３
〔６．４．１〕実施形態３の構成
実施形態１において、光遮蔽部として、光吸収材料又は光反射材料を含有するシートを上記作製した有機ＥＬ素子の光取出し面上に貼合する構成とした。
【０３０２】
〔６．４．２〕製造方法
実施形態１で上記作製した有機ＥＬデバイスを反転し、基材（１）上にカーボンブラックを可視光の光透過率が５％以下になるように塗布したテープを切断し、光遮蔽部として有機ＥＬ素子（ＥＬR、ＥＬG、ＥＬB）に対応する箇所に適宜貼合したところ、本発明の有機ＥＬデバイスは当該光遮蔽部によって発光光が制御され、色調及び階調を再現することができ、優れた静止画像を視認できる表示装置であることが確認された。
【０３０３】
〔６．５〕実施形態４
〔６．５．１〕実施形態４の構成
本発明の有機ＥＬデバイスの実施形態４を、図１８、図１９及び図２０を用いて説明する。
【０３０４】
実施形態４に係る有機ＥＬデバイスは、本発明に係る光遮蔽部が、赤色、緑色又は青色の色材を含有する実施態様である。
【０３０５】
前記光遮蔽部によって、前記発光色の異なる２個以上の有機ＥＬ素子が、赤色、緑色又は青色に発光する３個の画素を一組とする画素ユニットを形成しており、前記画素ユニットに含まれる画素のうち、光遮蔽する画素に対して前記光遮蔽部を備え、光透過させる画素からの発光光と同色の赤色、緑色又は青色の色材を当該光遮蔽部に含有する有機ＥＬデバイスを当該実施形態として挙げることができる。
【０３０６】
さらに、前記画素ユニットに含まれる３個の画素に対し、前記光遮蔽部が、照明環境下でそれぞれの発光色と前記光遮蔽部の反射光色とが混色されて、前記発光色に対して補色の関係の色に視認される色材を含有する有機ＥＬデバイスを当該実施形態として挙げることができる。
【０３０７】
図１８は、青色光、緑色光及び赤色光の発光スペクトルを示す模式図である。
【０３０８】
光透過させる画素からの発光光と同色の赤色、緑色又は青色の色材を当該光遮蔽部に含有するために、青色光、緑色光及び赤色光の発光極大波長に対応して、それぞれ光反射極大値を有する色材を含有させる。例えば、赤色の色材としては、光波長として６００〜７００ｎｍの範囲に光反射極大値を有する色材を選択する（図１８Ｃに対応）。同様に、緑色の色材としては、５００〜６００ｎｍの範囲に光反射極大値を有する色材を選択し（図１８Ｂに対応）、青色の色材としては、４００〜５００ｎｍの範囲に反射極大値を有する色材を選択する（図１８Ａに対応）。色材は所望の光反射極大値を有するように、それぞれ前記説明した色材から、１種又は複数種選択されることが好ましい。
【０３０９】
図１９は、実施形態４に係る有機ＥＬデバイスの光制御の機構を示す模式図である。
【０３１０】
前記色材を含有するインクをそれぞれ調製して、赤色、緑色又は青色に発光する有機ＥＬ素子（画素）である前記画素ユニットに含まれる画素のうち、光遮蔽する画素に対して前記光遮蔽部を備え、光透過させる画素からの発光光と同色の赤色、緑色又は青色の色材を当該光遮蔽部に含有することを特徴とする。ここで「同色」とは、赤色、緑色又は青色の発光スペクトルの極大値を示す波長に対応して、色材の反射スペクトルの極大値を示す波長が同等（±１０ｎｍの範囲）であることをいう。さらに、当該色材の反射スペクトルの極大値を示す波長は±５ｎｍの範囲内であることが好ましい。
【０３１１】
図１９左側より、赤色、緑色及び青色に発光する画素を一つの画素ユニットとして、当該画素ユニットによって青色の静止画像を得る場合、赤色及び緑色に発光する画素に対して、赤色及び緑色の光透過率の低い青色の色材を含有する光遮蔽部の塗布膜厚を厚くすることで、透過光を遮蔽する。そうすると青色の発光光のみ透過するので、発光する場合は青色の静止画像になるが、発光させない場合は、隣の画素上の青色の色材が反射光として同色の青色として知覚されるため、当該画素ユニットは青色の静止画像として視認される。
【０３１２】
同様に、緑色の静止画像を得る場合、赤色及び青色に発光する画素に対して、赤色及び青色の光透過率の低い緑色の色材を含有する光遮蔽部の塗布膜厚を厚くすることで、透過光を遮蔽する。そうすると発光する場合は、緑色の発光光のみ透過するので緑色の静止画像になるが、発光させない場合は、両隣の画素上の緑色の色材が反射光として緑色に知覚され、当該画素ユニットは緑色の静止画像として視認される。
【０３１３】
また、赤色の静止画像を得る場合、緑色及び青色に発光する画素に対して、緑色及び青色光透過率の低い赤色の色材を含有する光遮蔽部の塗布膜厚を厚くすることで、透過光を遮蔽する。そうすると発光する場合は、赤色の発光光のみ透過するので赤色の静止画像になるが、発光させない場合は、隣の画素上の赤色の色材が反射光として知覚され、当該画素ユニットは赤色の静止画像として視認される。
【０３１４】
さらに、図１９の一番右側の画素ユニットでは、赤色、緑色及び青色に発光する画素に対して、照明環境下で発光色と反射光色とが混合されて、補色の関係にある色に視認される色材を含有する光遮蔽部を形成したときの模式図である。
【０３１５】
この場合は、前記光遮蔽部は塗布膜厚を比較的薄く調整するため、一部光透過が生じ、赤色に発光する画素に対して、緑色の色材を含有する光遮蔽部を設けることで、赤色発光と緑色反射光との混色となり、照明環境下ではイエロー（Ｙ）に視認されることになる。同様に、緑色に発光する画素に対して、青色の色材を含有する光遮蔽部を設けることで、緑色発光と青色反射光の混色となり、照明環境下ではシアン（Ｃ）に視認される。同様に、青色に発光する画素に対して、赤色の色材を含有する光遮蔽部を設けることで、青色発光と赤色反射光の混色となり、照明環境下ではマゼンタ（Ｍ）に視認される。
【０３１６】
したがって、当該３種類の補色光によって、昼間は減色法による絵（照明光の反射により視認される画像）、夜間は、加色法による絵（発光による画像）の切り替えが可能となる。さらに、加色法による色再現を利用する静止画像の同じ画面の中に、減色法による色再現を加えて利用することもできる。また、画素の上に乗せるインクの膜厚を調整することで、加色と減色の色合いが様々に混じりあった画像を作ることができ、より広範な表現が可能な静止画像を得ることができる。それぞれの色材は、前記説明した色材から、１種又は複数種選択されることが好ましい。
【０３１７】
図２０は、視認されるイエロー、マゼンタ及びシアンの反射スペクトルを示す模式図である。
【０３１８】
〔６．５．２〕製造方法
具体的には、赤色の色材としては、一例として、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、緑色の色材としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、青色の色材としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、をそれぞれ用いることができるが、これに限定されるものではない。
【０３１９】
各色の顔料を有機溶媒に溶解したインクを用いて、インクジェットプリント法によって、色材違いのインクを光遮蔽部材として、赤色、緑色又は青色に発光する有機ＥＬ素子（画素）の、光遮蔽する画素に、光透過する画素に対応する色材を含有する前記光遮蔽部を形成した。塗布膜厚は、光透過率の値をモニターしながら、適宜決定した。
【０３２０】
作製した有機ＥＬデバイスを発光させたところ、画素ユニット毎に所望の発光色が得られ、発光しない場合は、当該画素ユニット毎に所望の反射光色が視認された。したがって、昼間は反射光色、夜間は透過光色によって、静止画像が視認することができた。また、明るい環境においては、反射光による画像に発光による画像を加えることもでき、より視認性の高い静止画像を得ることが可能になった。
【０３２１】
一方、赤色、緑色又は青色に発光する有機ＥＬ素子（画素）に対して、照明環境下で発光色と反射光色とが混合されて、前記発光色に対して補色の関係にある色に視認される色材を含有する光遮蔽部を形成した。この場合は、塗布膜厚は、前記画素からの発光が光遮蔽部に対して光透過する程度に薄くする必要があり、光透過率の値をモニターしながら、適宜決定した。
【０３２２】
作製した有機ＥＬデバイスを発光させたところ、照明環境下では、画素ユニット毎に赤色、緑色及び青色の補色であるイエロー（Ｙ）、シアン（Ｃ）及びマゼンタ（Ｍ）に視認される画像が得られ、減色法による静止画像の色再現が可能となった。
【０３２３】
さらに図１９で示すように、照明環境下では、発光によって加色法による色再現を利用する静止画像の同じ画面の中に、減色法による色再現を利用する静止画像を加えることが可能となり、より広範な表現が可能な静止画像を得ることができた。
【０３２４】
その場合画素の上に乗せるインクの膜厚を調整することで、加色法と減色法の色合いが様々に混ざり合った画像を作成することができた。
【産業上の利用可能性】
【０３２５】
本発明の有機エレクトロルミネッセンスデバイスは、赤色、緑色及び青色に発光する有機エレクトロルミネッセンス素子のそれぞれの発光面積を光遮蔽部によって制御することで、色調及び階調を再現し、簡易な構造で静止画像を形成することができる安価な有機エレクトロルミネッセンスデバイスであり、デジタルサイネージ（屋外広告）やポスター等の静止画像を表示する表示装置に好適に利用できる。
【符号の説明】
【０３２６】
１  基材
２  第１電極（陽極）
３  有機機能層群１
４  発光層
５  有機機能層群２
６  第２電極（陰極）
７  封止用接着層
８  封止部材
９  光遮蔽部
１１  ガスバリアー層
２０  印加電源部
２１  バスライン
２２  導電部材
２３  引出電極
２４  絶縁層
２５−１、２５−２  開口部
２６  接続電極
３０、１００  インクジェットヘッド
３１  ポンプ
３２  フィルター
３３  配管分岐
３４  廃液タンク
３５  制御部
３６  タンク
３７  タンク
３８Ａ  タンク
３８Ｂ  タンク
３９  ポンプ
３０ｂ  圧電性基板
３０ｃ  天板
３０ｄ  ノズル板
３０ｅ  インク液供給管
３０ｆ  配管
５６  筐体
５７  キャップ受板
５９  カバー部材
６１  ノズルプレート
６２  キャップ受板取付部
６８  取付用孔
７１  ノズル用開口部
８１ａ  第１ジョイト
８１ｂ  第２ジョイント
８２  第３ジョイント
ＯＬＥＤ  有機ＥＬデバイス
Ｕ  有機機能層ユニット
Ｌ  発光光
ＥＬＵ  画素ユニット
ＥＬR、ＥＬG、ＥＬB  有機ＥＬ素子
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８Ａ】
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【図１８Ｂ】
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【図１８Ｃ】
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【図１９】
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【図２０Ａ】
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【図２０Ｂ】
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【図２０Ｃ】
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