(57)【要約】      （修正有）【課題】エミッタを互いに十分に近接されることができる光フェーズドアレイを提供する。【解決手段】光フェーズドアレイ用のエミッタ構成レイアウト１００は、ペリメータの周囲に配置された複数のエミッタ１１０と複数の導波路１２０とを含み、導波路のそれぞれは、エミッタのうちの１つにそれぞれ結合される。複数のエミッタは、単一の遠視野ピークを生成するように動作する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光フェーズドアレイ用のエミッタ構成レイアウトであって、
ペリメータの周囲に配置された複数のエミッタと、
複数の導波路であって、前記導波路のそれぞれは前記エミッタのうちの１つにそれぞれ結合されている、複数の導波路と、を含み、
前記複数のエミッタは、単一の遠視野ピークを生成するように動作する、エミッタ構成レイアウト。
【請求項２】
前記複数のエミッタが、第１の半径を有する円形パターンで配置されたエミッタの外側リングと、前記第１の半径より小さい第２の半径を有する円形パターンで配置されたエミッタの少なくとも１つの内側リングと、を含む、少なくとも２つの同心リング内に配置されており、
前記エミッタの外側リングはそれぞれ、前記エミッタの内側リングからオフセットされるように位置付けられ、その結果、前記エミッタの内側リングに結合された前記導波路は、１対の隣接する外側リングエミッタの間にそれぞれ延在している、請求項１に記載のエミッタ構成レイアウト。
【請求項３】
光フェーズドアレイであって、
ペリメータの周囲に配置された複数のエミッタであって、前記複数のエミッタは、
第１の偏光を有する第１のエミッタのセットと、前記第１の偏光とは異なる第２の偏光を有する第２のエミッタのセットと、又は、
第１の位相勾配を有する第１のエミッタのセットと、前記第１の位相勾配とは異なる第２の位相勾配を有する第２のエミッタのセットと、を含み、前記第１のエミッタのセットは、前記ペリメータの周囲で前記第２のエミッタのセットと交互に配置されている、複数のエミッタと、
複数の導波路であって、前記導波路のそれぞれは、前記エミッタのうちの１つにそれぞれ結合されている、複数の導波路と、を含む、光フェーズドアレイ。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
いずれの可動部も使用することなく、光のビームの発光方向を操縦することが望ましい、多くの用途が存在する。この目的のために、集積型フォトニクス部品に基づいてチップスケールの光フェーズドアレイを設計する努力がなされてきた。ブレイクスルーは、一次元ビームステアリング及び比較的規模は小さいが二次元ビームステアリングでなされてきたが、これらの技術の改善が依然として必要とされている。
【０００２】
例えば、二次元ビームステアリングが現在直面している主な制限は、理想的には半波長（ラムダ／２）であるべきである、アレイ（Ｎ×Ｎ）の個々のエミッタを互いに十分に近接させることができないことである。これは、エミッタ間を伝搬するための光学的に単離された導波路の要件から得られる。この制限は、限られたステアリング範囲、並びに対象ビームにおける放出ビームの数の増加及び電力レベルの低減につながる。
【発明の概要】
【０００３】
光フェーズドアレイ用のエミッタ構成レイアウトは、ペリメータの周囲に配置された複数のエミッタと複数の導波路とを含み、導波路のそれぞれは、エミッタのうちの１つにそれぞれ結合される。複数のエミッタは、単一の遠視野ピークを生成するように動作する。
【図面の簡単な説明】
【０００４】
本発明の特徴は、図面を参照する以下の説明から当業者には明らかとなるであろう。図面は典型的な実施形態のみを示し、したがって範囲を限定するものと見なされるべきではないことを理解した上で、本発明を添付の図面を使用して更なる具体性及び詳細と共に説明する。
【図１】一実施形態による、光フェーズドアレイ用の円形エミッタ構成レイアウトの概略図である。
【図２Ａ】図１のエミッタ構成レイアウトに対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。
【図２Ｂ】図１のエミッタ構成レイアウトに対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。
【図２Ｃ】図１のエミッタ構成レイアウトに対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。
【図３】別の実施形態による、光フェーズドアレイ用の円形エミッタ構成レイアウトの概略図である。
【図４Ａ】図３のエミッタ構成レイアウトに対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。
【図４Ｂ】図３のエミッタ構成レイアウトに対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。
【図４Ｃ】図３のエミッタ構成レイアウトに対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。
【図５】更なる実施形態による、光フェーズドアレイ用の円形エミッタ構成レイアウトの概略図である。
【図６Ａ】図５のエミッタ構成レイアウトに対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。
【図６Ｂ】図５のエミッタ構成レイアウトに対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。
【図６Ｃ】図５のエミッタ構成レイアウトに対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。
【図７】別の実施形態による、光フェーズドアレイ用の円形エミッタ構成レイアウトの概略図である。
【図８Ａ】図７のエミッタ構成レイアウトに対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。
【図８Ｂ】図７のエミッタ構成レイアウトに対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。
【図８Ｃ】図７のエミッタ構成レイアウトに対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。
【図９】代替の実施形態による、光フェーズドアレイ用のエミッタ構成レイアウトの概略図である。
【図１０Ａ】図９のエミッタ構成レイアウトに対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。
【図１０Ｂ】図９のエミッタ構成レイアウトに対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。
【図１０Ｃ】図９のエミッタ構成レイアウトに対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。
【図１１】別の代替の実施形態による、光フェーズドアレイ用のエミッタ構成レイアウトの概略図である。
【図１２Ａ】図１１のエミッタ構成レイアウトに対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。
【図１２Ｂ】図１１のエミッタ構成レイアウトに対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。
【図１２Ｃ】図１１のエミッタ構成レイアウトに対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。
【図１３】更なる代替の実施形態による、光フェーズドアレイ用のエミッタ構成レイアウトの概略図である。
【図１４Ａ】図１３のエミッタ構成レイアウトに対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。
【図１４Ｂ】図１３のエミッタ構成レイアウトに対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。
【発明を実施するための形態】
【０００５】
以下の詳細な説明において、実施形態は、当業者が本発明を実施することを可能にするために十分詳細に説明される。本発明の範囲から逸脱することなく、他の実施形態を利用し得ることを理解されたい。したがって、以下の詳細な説明は、限定的な意味で解釈されるべきではない。
【０００６】
光フェーズドアレイ用の様々なエミッタ構成が本明細書に開示される。エミッタ構成は、ペリメータの周囲に配置された複数のエミッタと、それぞれがエミッタのうちの１つにそれぞれ結合されている複数の導波路と、を含む。いくつかの実施形態では、エミッタは、導波路のいずれもがエミッタのいずれの間にも配置されないようにペリメータの周囲に配置され得る。エミッタ構成は、単一の遠視野ピークを生成するように動作する。
【０００７】
エミッタは、ペリメータの周囲の様々な幾何学的パターン又は形状で配置され得る。原則として、ペリメータは、様々な異なる形状を包含し得る。いくつかの実施形態では、より高いレベルの放射相称を有するペリメータ形状に対する性能が増強される。例えば、エミッタは、ペリメータの周囲の円形パターン、ペリメータの周囲の楕円形パターン、ペリメータの周囲の半円形パターンなどを形成し得る。
【０００８】
本手法は、ペリメータの周囲にエミッタを再配置することによって、従来のエミッタアレイの問題を解決する。例えば、Ｎ×Ｎアレイ構成にエミッタを位置付ける代わりに、本発明のエミッタは、所与の半径を有する円形配置など、ペリメータに沿って等距離に離間配置され得る。このような実施形態では、導波路がエミッタ間を通過する必要はなく、そのため、エミッタは、従来の光フェーズドアレイよりもはるかに近接して配置され得る。
【０００９】
本発明のエミッタ構成に基づく光フェーズドアレイは、標準的な製造プロセスを介して、集積型光導波路を使用して製造され得る。例えば、導波路設計は、１×Ｎスプリッタ、Ｎ位相変調器（多数のエフェクトのうちの１つに基づいて動作し得る）、及びグレーティング支援型エミッタの構成を含み得る。製造には、移相器の電極を駆動することが含まれ得る。
【００１０】
本エミッタ構成を有する光フェーズドアレイデバイスを操作するために、レーザー光線が入力導波路ファセット内に入射される。Ｎ個の導波路アームの位相は、発光されたビームの発光方向を制御するように制御される。
【００１１】
シミュレーションにより、様々な円形エミッタ構成が、発光されたビームの改善されたステアリング範囲、並びに対象となる単一ビームへのより良好な光出力の伝達をもたらすことが検証されてきた。
【００１２】
本エミッタ構成は、様々な集積型フォトニクスアプリケーション、ライダー（ＬｉＤＡＲ）システム、自由空間光学通信システムなどに実装することができる。
【００１３】
以下、図面を参照して、様々な実施形態の更なる詳細を説明する。
【００１４】
図１は、一実施形態による、光フェーズドアレイ用のエミッタ構成レイアウト１００を示している。エミッタ構成レイアウト１００は、ペリメータの周囲に所与の半径（Ｒ）を有する円形パターンで配置された、それぞれ所与のエミッタスポットサイズを有する複数のエミッタ１１０を含む。エミッタ１１０はそれぞれ、対応の導波路１２０に結合される。この実施形態では、低減されたピッチを提供するエミッタ１１０のそれぞれの間に導波路は存在しない。
【００１５】
図２Ａ〜図２Ｃは、エミッタ構成レイアウト１００に対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。図２Ａは、１３．５μｍの半径（Ｒ）を有する円形構成の３６個のエミッタの近視野発光プロファイル２００である。図２Ｂは、中央ローブのステアリングなしで３６個のエミッタによって生成された光の遠視野発光プロファイル２１０であり、図２Ｃは、中央ローブのステアリングを用いて３６個のエミッタによって生成された光の遠視野発光プロファイル２２０である。図２Ｂ及び図２Ｃに示すように、単一のピーク（中央ローブ）は、円形構成によって遠視野で生成される。
【００１６】
図３は、別の実施形態による、光フェーズドアレイ用のエミッタ構成レイアウト３００を示している。エミッタ構成レイアウト３００は、ペリメータの周囲に所与の半径（Ｒ）を有する円形パターンで配置された複数のエミッタ３１０を含む。エミッタ構成レイアウト３００は、図１の実施形態と比較して、低減された数のエミッタを有する。エミッタ３１０はそれぞれ、対応の導波路３２０に結合される。図３に示すように、エミッタ３１０のそれぞれの間に導波路は存在しない。
【００１７】
図４Ａ〜図４Ｃは、エミッタ構成レイアウト３００に対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。図４Ａは、１３．５μｍの半径を有する円形構成の２５個のエミッタの近視野発光プロファイル４００である。図４Ｂは、中央ローブのステアリングなしで２５個のエミッタによって生成された光の遠視野発光プロファイル４１０であり、図４Ｃは、中央ローブのステアリングを用いて２５個のエミッタによって生成された光の遠視野発光プロファイル４２０である。この低減された数のエミッタでは、中央ローブと十分に異なる発光角度での遠視野発光の品質は低下することに留意されたい。
【００１８】
図５は、更なる実施形態による、光フェーズドアレイ用のエミッタ構成レイアウト５００を示している。エミッタ構成レイアウト５００は、ペリメータの周囲に所与の半径（Ｒ）を有する円形パターンで配置された複数のエミッタ５１０を含む。エミッタ構成レイアウト５００は、図１の実施形態のエミッタスポットサイズと比較して、低減されたエミッタスポットサイズを有する。エミッタ５１０はそれぞれ、対応の導波路５２０に結合される。図５に示すように、エミッタ５１０のそれぞれの間に導波路は存在しない。エミッタスポットサイズを低減することにより、より広いステアリング範囲が得られる。
【００１９】
図６Ａ〜図６Ｃは、エミッタ構成レイアウト５００に対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。図６Ａは、１３．５μｍの半径を有する円形構成の３６個のエミッタの近視野発光プロファイル６００である。図６Ｂは、中央ローブのステアリングなしで３６個のエミッタによって生成された光の遠視野発光プロファイル６１０であり、図６Ｃは、中央ローブのステアリングを用いて３６個のエミッタによって生成された光の遠視野発光プロファイル６２０である。
【００２０】
図７は、別の実施形態による、光フェーズドアレイ用のエミッタ構成レイアウト７００を示す。エミッタ構成レイアウト７００は、ペリメータの周囲に、所与の半径（Ｒ）を有する円形パターンで配置された複数のエミッタ７１０を含む。エミッタ構成レイアウト７００は、図１の実施形態と比較して、増加された構成半径を有する。エミッタ７１０はそれぞれ、対応の導波路７２０に結合される。図７に示すように、エミッタ７１０のそれぞれの間に導波路は存在しない。
【００２１】
図８Ａ〜図８Ｃは、エミッタ構成レイアウト７００に対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。図８Ａは、２７μｍの半径を有する円形構成の６４個のエミッタの近視野発光プロファイル８００である。図８Ｂは、中央ローブのステアリングなしで６４個のエミッタによって生成された光の遠視野発光プロファイル８１０であり、図８Ｃは、中央ローブのステアリングを用いて６４個のエミッタによって生成された光の遠視野発光プロファイル８２０である。図８Ｂ及び図８Ｃに示すように、構成半径を増加させることにより、中央スポットサイズが減少し、遠視野における中央ローブの周囲の縞の間隔が縮小される。
【００２２】
図９は、更なる実施形態による、光フェーズドアレイ用のエミッタ構成レイアウト９００を示している。エミッタ構成レイアウト９００は、第１の半径（Ｒ１）を有する円形パターンで配置されたエミッタ９１０ａの外側リングと、第１の半径より小さい第２の半径（Ｒ２）を有する円形パターンで配置されたエミッタ９１０ｂの内側リングと、を含む、二重リング構成の複数のエミッタを含む。エミッタ９１０ａはそれぞれ、対応の導波路９２０ａに結合され、エミッタ９１０ｂはそれぞれ、対応の導波路９２０ｂに結合される。エミッタ９１０ａの外側リングはそれぞれ、エミッタ９１０ｂの内側リングからオフセットされるように位置付けられ、その結果、エミッタ９１０ｂの内側リングに結合された導波路９２０ｂは、隣接する１対の外側リングエミッタ９１０ａの間にそれぞれ延在する。
【００２３】
図１０Ａ〜図１０Ｃは、エミッタ構成レイアウト９００に対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。図１０Ａは、１０．８μｍの内径（Ｒ２）を有する、二重リング構成の７２個のエミッタの近視野発光プロファイル１０００である。図１０Ｂは、中央ローブのステアリングなしで７２個のエミッタによって生成された光の遠視野発光プロファイル１０１０であり、図１０Ｃは、中央ローブのステアリングを用いて７２個のエミッタによって生成された光の遠視野発光プロファイル１０２０である。図１０Ｂ及び図１０Ｃに示すように、二重リング構成は、遠視野における中央ローブの周囲の縞を抑制する。
【００２４】
図９の実施形態では、エミッタの２つの同心リングが示されているが、代替の実施形態では、エミッタの３つ以上の同心リングを使用して、更なる縞抑制を提供し得ることを理解されたい。
【００２５】
図１１は、代替の実施形態による、光フェーズドアレイ用のエミッタ構成レイアウト１１００を示している。エミッタ構成レイアウト１１００は、第１の偏光を有する第１のエミッタのセット１１１０ａと、第１の偏光とは異なる第２の偏光を有する第２のエミッタのセット１１１０ｂ、を含む、２つの独立した偏光を有するように配置された複数のエミッタを含む。一実施形態では、第１のエミッタのセット１１１０ａは、第１の半円形パターンに配置され、第２のエミッタのセット１１１０ｂは、第１の半円形パターンに面する第２の半円形パターンに配置される。エミッタ１１１０ａはそれぞれ、対応の導波路１１２０ａに結合され、エミッタ１１１０ｂはそれぞれ、対応の導波路１１２０ｂに結合される。
【００２６】
図１２Ａ〜図１２Ｃは、エミッタ構成レイアウト１１００に対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。図１２Ａは、１３．５μｍの半径を有する３６エミッタ構成の半分の近視野発光プロファイル１２１０であり、エミッタは第１の偏光を有する。図１２Ｂは、３６エミッタ構成のもう半分の近視野発光プロファイル１２２０であり、エミッタは、第１の偏光とは異なる第２の偏光を有する。図１２Ｃは、第１の偏光を有するエミッタ（図１２Ａ）によって生成された第１のローブ１２４０と、第２の偏光を有するエミッタ（図１２Ｂ）によって生成された第２のローブ１２５０と、を含む、３６エミッタ構成によって生成された光の遠視野発光放プロファイル１２３０である。
【００２７】
第１のローブ１２４０及び第２のローブ１２５０に対応する２つのビームは、直交した偏光状態を有する別個のビームであるが、これらの２つのビームは、ビームが遠視野で重なるように、互いを追跡するように作製され得る。直交した偏光状態は、２つのビーム間の干渉を防止する。これにより、２つのビームは、データストリーム間のクロストークを最小限に抑えながら、偏光多重化データなどの別個のデータストリームを含有し、送信することが可能になる。
【００２８】
図１３は、更なる代替の実施形態による、光フェーズドアレイ用のエミッタ構成レイアウト１３００を示している。エミッタ構成レイアウト１３００は、円形パターンで２つの独立した位相勾配を有するように配置された複数のエミッタを含む。第１のエミッタのセット１３１０ａは、第１の位相勾配を有し、第１の位相勾配とは異なる第２の位相勾配を有する第２のエミッタのセット１３１０ｂと交互に配置される。エミッタ１３１０ａはそれぞれ、対応の導波路１３２０ａに結合され、エミッタ１３１０ｂはそれぞれ、対応の導波路１３２０ｂに結合される。
【００２９】
図１４Ａ〜図１４Ｂは、エミッタ構成レイアウト１３００に対応する数値的に生成されたシミュレーションからの発光プロファイルである。図１４Ａは、１３．５μｍの半径を有する３６エミッタ構成の近視野発光プロファイル１４１０であり、エミッタは、交互に独立した位相勾配を有する。図１４Ｂは、第１のローブ１４３０及び第２のローブ１４４０を含む、３６エミッタ構成によって生成された光の遠視野発光プロファイル１４２０である。この実装では、第１のローブ１４３０及び第２のローブ１４４０に対応するビームは、独立して操縦及び制御され得る２つの別個のビームである。
【００３０】
実施形態の例
実施例１は、ペリメータの周囲に配置された複数のエミッタと、複数の導波路であって、導波路のそれぞれはエミッタのうちの１つにそれぞれ結合されている複数の導波路と、を含む、光フェーズドアレイ用のエミッタ構成レイアウトを含み、複数のエミッタは、単一の遠視野ピークを生成するように動作する。
【００３１】
実施例２は、複数のエミッタがペリメータの周囲に円形パターンで配置されている、実施例１のエミッタ構成レイアウトを含む。
【００３２】
実施例３は、複数のエミッタがペリメータの周囲に楕円形パターンで配置されている、実施例１のエミッタ構成レイアウトを含む。
【００３３】
実施例４は、複数のエミッタがペリメータの周囲に半円形パターンで配置されている、実施例１のエミッタ構成レイアウトを含む。
【００３４】
実施例５は、複数のエミッタが、導波路のいずれもがエミッタのいずれの間にも配置されないようにペリメータの周囲に配置されている、実施例１〜４のいずれかのエミッタ構成レイアウトを含む。
【００３５】
実施例６は、複数のエミッタが、第１の半径を有する円形パターンで配置されたエミッタの外側リングと、第１の半径より小さい第２の半径を有する円形パターンで配置されたエミッタの少なくとも１つの内側リングと、を含む、少なくとも２つの同心リング内に配置されている、実施例１〜２のいずれかのエミッタ構成レイアウトを含む。
【００３６】
実施例７は、エミッタの外側リングがそれぞれ、エミッタの内側リングからオフセットされるように位置付けられ、その結果、エミッタの内側リングに結合された導波路は、隣接する１対の外側リングエミッタの間にそれぞれに延在する、実施例６のエミッタ構成レイアウトを含む。
【００３７】
実施例８は、少なくとも２つの同心リング内に配置された複数のエミッタが、遠視野における中央ローブの周囲の縞を抑制する、実施例６〜７のいずれかのエミッタ構成レイアウトを含む。
【００３８】
実施例９は、複数のエミッタが、集積型フォトニクスアプリケーション、ライダー（ＬｉＤＡＲ）システム又は自由空間光学通信システムに実装されている、実施例１〜８のいずれかのエミッタ構成レイアウトを含む。
【００３９】
実施例１０は、ペリメータの周囲に配置された複数のエミッタであって、複数のエミッタは、第１の偏光を有する第１のエミッタのセットと、第１の偏光とは異なる第２の偏光を有する第２のエミッタのセットと、を含む、複数のエミッタと、複数の導波路であって、導波路のそれぞれはエミッタのうちの１つにそれぞれ結合されている、複数の導波路と、を含む、光フェーズドアレイを含む。
【００４０】
実施例１１は、複数のエミッタがペリメータの周囲に円形パターンで配置されている、実施例１０の光フェーズドアレイを含む。
【００４１】
実施例１２は、第１のエミッタのセットが第１の半円形パターンに配置され、第２のエミッタのセットが、第１の半円形パターンに面する第２の半円形パターンに配置されている、実施例１１の光フェーズドアレイを含む。
【００４２】
実施例１３は、複数のエミッタによって生成された光の遠視野発光プロファイルが、第１の偏光を有する第１のエミッタのセットによって生成される第１のローブと、第２の偏光を有する第２のエミッタのセットによって生成される第２のローブと、を含む、実施例１０〜１２のいずれかの光フェーズドアレイを含む。
【００４３】
実施例１４は、第１のローブ及び第２のローブに対応するそれぞれのビームが、直行した偏光状態を有する別個のビームであり、それぞれのビームは、ビームが遠視野で重なるように、他方のビームを追跡するように構成可能である、実施例１３の光フェーズドアレイを含む。
【００４４】
実施例１５は、直交した偏光状態がビーム間の干渉を防止する、実施例１４の光学フェーズドアレイを含む。
【００４５】
実施例１６は、ペリメータの周囲に配置された複数のエミッタであって、複数のエミッタは、第１の位相勾配を有する第１のエミッタのセットと、第１の位相勾配とは異なる第２の位相勾配を有する第２のエミッタのセットと、を含み、第１のエミッタのセットはペリメータの周囲で第２のエミッタのセットと交互に配置されている、複数のエミッタと、複数の導波路であって、導波路のそれぞれはエミッタのうちの１つにそれぞれ結合されている、複数の導波路と、を含む、光フェーズドアレイを含む。
【００４６】
実施例１７は、複数のエミッタがペリメータの周囲に円形パターンで配置されている、実施例１６の光フェーズドアレイを含む。
【００４７】
実施例１８は、複数のエミッタによって生成された光の遠視野発光プロファイルが、第１の位相勾配を有する第１のエミッタのセットによって生成される第１のローブと、第２の位相勾配を有する第２のエミッタのセットによって生成される第２のローブと、を含む、実施例１６〜１７のいずれかの光フェーズドアレイを含む。
【００４８】
実施例１９は、第１のローブ及び第２のローブに対応するそれぞれのビームが、独立して操縦可能かつ制御可能な別個のビームである、実施例１８の光学フェーズドアレイを含む。
【００４９】
本発明は、その本質的な特徴から逸脱することなく、他の特定の形態で具現化されてもよい。記載された実施形態は、全ての点において、例示的なものに過ぎず、限定的ではないと見なされるべきである。したがって、本発明の範囲は、前述の説明ではなく、添付の特許請求の範囲によって示される。特許請求の範囲の意味及び等価範囲内にある全ての変更は、それらの範囲内に包含されるものとする。
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図７】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図８Ｃ】
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【図９】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１０Ｃ】
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【図１１】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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【図１２Ｃ】
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【図１３】
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【図１４Ａ】
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【図１４Ｂ】
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【外国語明細書】
2019191582000001.pdf