(57)【要約】【課題】  エッチングムラの発生を抑制しつつ、ガラス基板の撓みを抑制することが可能な基板用カセットを提供する。【解決手段】  基板用カセット１１は、エッチング槽１０内においてエッチング処理されるべき複数の基板を支持するように構成される。この基板用カセット１１の内面には、複数のガラス基板１２の端部を支持するように構成された複数の溝部１８が設けられる。これらの溝部１８のそれぞれの開放側に、互いに対向するように形成された凸部１９が設けられる。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
エッチング装置内においてエッチング処理されるべき複数の基板を支持するように構成された基板用カセットであって、
前記基板用カセットの内面には、前記複数の基板の端部を支持するように構成された複数の溝部であって、それぞれの開放側の端部に互いに対向するように形成された一対の凸部を有する複数の溝部、を備えたことを特徴とする基板用カセット。
【請求項２】
前記凸部が、先細り形状を呈することを特徴とする請求項１に記載の基板用カセット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エッチング装置内においてエッチング処理されるべき複数の基板を支持するように構成された基板用カセットに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ガラス基板のケミカルエッチング方法の１つに、ディップ方法があり、このような基板用カセットは、ディップ方法のエッチング時に使用されることが多い。このディップ方法は、エッチング液を溜めたエッチング槽内に、複数のガラス基板を並列配置して収納した基板用カセットを浸漬し、基板用カセットの下方から基板用カセット内部に向けて、多数の気泡を連続的に放出してエッチング液の流れを作る。
【０００３】
しかしながら、ガラス基板は、板厚が薄くなるに従って可撓性が高まるので、エッチング液の液流に煽られてガラス基板が大きく撓みやすくなる。その結果、撓んだガラス基板にクラックが生じたり、隣接するガラス基板同士が接触してしまったりすることがあった。
【０００４】
撓み抑制の方法として、ガラス基板の側端部を支持するための溝部を基板用カセット内側の側面部に設けたり、ガラス基板の上端部および下端部を支持するための溝部を基板用カセット内側の上面部および下面部にそれぞれ設けたりすることがあった（例えば特許文献１および特許文献２）。このようにガラス基板の各端部を溝部によって支持することによって、一定の撓み抑制効果が得られてきた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−００６６２４号公報
【特許文献２】特開２０１３−１５５０５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、ガラス基板の薄型化が進むにつれて、上記支持方法では、ガラス基板の撓みを充分に抑制できないという問題が生じることがあった。ガラス基板の薄型化が進んだことにより、ガラス基板が従来よりもさらに撓みやすくなる。また、エッチング処理の進行に伴いガラス基板端部と溝部との間隙が大きくなり、溝部によってガラス基板端部の揺れを規制するのが難しくなる。さらに、溝部の形状がＶ字状等の開放側に向かって徐々に幅が拡がる形状の場合、ガラス基板が撓んだ状態のまま、その端面が溝部に引っ掛かりやすくなった。
【０００７】
この場合、ガラス基板が撓んだ状態で固定されてしまい、引っ掛かった部分から、ワレやクラックが生じたり、隣接する基板と接触または密着してしまい、エッチングムラが生じたりするとの問題が生じることがあった。ガラス基板の端面の溝部への引っ掛かりを抑制するために、ガラス基板の横端部を支持するための溝部の形状をコ字状とした場合、溝部の内側面にガラス基板が張り付きやすく、支持された部分がエッチングされずに、ムラが残りやすいとの問題があった。（図６参照）。
【０００８】
本発明の目的は、エッチングムラの発生を抑制しつつ、ガラス基板の撓みを抑制することが可能な基板用カセットを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る基板用カセットは、エッチング装置内においてエッチング処理されるべき複数の基板を支持するように構成された基板用カセットである。この基板用カセットの内面には、複数の基板の端部を支持するように構成された複数の溝部が設けられる。これらの溝部のそれぞれにおける開放側の端部に、互いに対向するように形成された一対の凸部が設けられる。
【００１０】
このような凸部を有することにより、溝部へのガラス基板端面の引っ掛かりが抑制される。ガラス基板の端面が溝部に引っ掛かると、その後にこのガラス基板に加えられる力によっては撓みが増大していくリスクがあった。これに対して、ガラス基板の端面の引っ掛かりを防止し、ガラス基板の端面に拘束力が発生しない状態（いわゆる自由端の状態）を保つことにより、ガラス基板に瞬間的に撓みが発生してもすぐに消滅し、これによりガラス基板の撓みが増大することがなくなる。さらには、凸部を有することにより、支持部への張り付きを抑制し、これにより支持された部分のガラス基板のエッチングムラ発生が抑制される。
【００１１】
このエッチングムラの発生を効果的に抑制するためには、凸部が、先細り形状を呈することが好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
この発明によれば、エッチングムラの発生を抑制しつつ、ガラス基板の撓みを抑制することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板用カセットの使用態様の説明図
【図２】本発明の一実施形態に係る基板用カセットの構成図
【図３】基板用カセットの前板と後板とに備えられた溝部の形状の一実施形態の説明図
【図４】図３に示す溝部の実施形態の拡大斜視図
【図５】図３に示す溝部におけるガラス基板の支持状態の一例の拡大図
【図６】従来の溝部におけるガラス基板の支持状態の参考図
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施の形態について図１ないし図５を参照しながら説明する。ただし同じ構成要素には同じ符号を付して、重複する説明を省略する場合もある。また、図面は理解しやすくするために、それぞれの構成要素を主体に模式的に示しており、図示された各構成要素の厚み，長さ，個数等は図面作成の都合上実際と異なる。また、便宜的に図面上での方向によって部材等の方向を上下左右と指称することがあるが、これらは本発明の実施あるいは使用の際の部材等の方向を限定するものではない。
【００１５】
図１は、エッチング槽１０内に基板用カセット１１を設置した、使用態様を示す一例である。エッチング液は記載から省略している。エッチング槽１０内下部にはバブリングユニット２３が設置され、下方から上方に向けた液流を形成している。
【００１６】
基板用カセット１１は、前板１３、後板１４、一対の側板１５、上面部１６、及び底面部１７から構成される（図２参照）。上面部１６と底面部１７とは、下方から上方に向けた液流を形成することができるような開口を有する。
【００１７】
上面部１６と底面部１７とは、ガラス基板１２の厚み方向に配置された複数の桟状の部材の組み合わせから構成されることが、基板の支持及び、液流の形成の効率を考える上で好ましいが、これに限定されるものではない。
【００１８】
また、前板１３と後板１４との内面には、ガラス基板１２の横端部を支持するために、図３（Ａ）および図３（Ｂ）に示すような、対向配置された鉛直方向に直線状の溝部１８を備える。また、上面部１６と底面部１７との内面には、ガラス基板１２の上端部と下端部とをそれぞれ支持するために、対向配置された水平方向に直線状の溝部１８を備える。
【００１９】
前板１３と後板１４とに備えた鉛直方向に直線状の溝部１８の開放側の角部に、互いに対向する一対の凸部１９（図４及び図５参照）を有することにより、溝内壁へのガラス基板１２端面の引っ掛かりを抑制し、これによりガラス基板１２の撓み発生を抑制する。さらに、凸部１９を有することにより、支持部への張り付きを抑制し、これにより支持された部分のガラス基板１２のエッチングムラ発生を抑制する。
【００２０】
図２は、本発明の一実施形態に係る基板用カセット１１の構成図である。基板用カセット１１にガラス基板１２を収納した状態を示す。ガラス基板１２との位置関係を示すため、ガラス基板１２収納後、上面部１６を取り付ける前の状態を示す。
【００２１】
従来のＶ字状の溝部１８でのガラス基板１２の支持においては、ガラス基板１２が撓み、隣接するガラス基板１２と接触して連鎖的にエッチング不良や破損を起こしてしまう恐れがあったので、これを避けるために、各ガラス基板１２の間にダミーの基板を配置して、ガラス基板１２が互いに接触しないようにしていた（図６（Ａ）参照）。
【００２２】
本発明の基板用カセット１１の溝部１８の形状によれば、ガラス基板１２の撓みを抑制できるので、各ガラス基板１２の間にダミーの基板を配置する必要が無い。これにより、基板用カセット１１へのガラス基板１２の収納可能枚数を増やすことも可能である。
【００２３】
図３（Ａ）は、基板用カセット１１の前板１３または後板１４を内側から見た構成図の一例である。図３（Ｂ）は、基板用カセット１１の前板１３または後板１４を上から見た構成図の一例である。
【００２４】
前板１３または後板１４の左右端には、ガラス基板１２間隔を均等にするための、ダミーの基板を配置するための溝２６を備えた例である。しかしながら、ダミーの基板を配置するための溝２６の個数、配置はこれに限定されるものではない。
【００２５】
図４（Ａ）及び図４（Ｂ）は、図３に示す溝部１８の拡大斜視図である。図４（Ａ）は、凸部１９が、各溝部１８の長さ方向の全域に配している場合を示し、図４（Ｂ）は、長さ方向において適度な間隔を設けて、凸部１９を配している場合を示す。一列の凸部１９を間隔を設けて配することにより、エッチング液の液流の確保について有効である。
【００２６】
基板用カセットを構成する、溝部１８を備える板部材や、凸部１９は、それぞれ切り出しによって製造可能である。その他、金型を用いたプレス加工等の方法によっても製造可能である。製造された板のそれぞれの溝部１８に凸部１９を接着等により固定することで、凸部１９を有する溝部１８を備える板部材を製造できる。この製造方法は一例であって、これに限定されるものではない。
【００２７】
図５は、図３に示す溝部１８におけるガラス基板１２の支持状態の拡大図である。
【００２８】
図６には、従来の形状の溝部１８におけるガラス基板１２の支持状態の参考図を示す。図６（Ａ）に示すように、従来のＶ字状の溝部１８の場合、傾斜部分にガラス基板１２端面が引っ掛かりやすく、ガラス基板１２が撓みやすいとの問題があった。
【００２９】
また、図６（Ｂ）に示すように、従来のコ字状の溝部１８の場合、溝１８の内側面にガラス基板１２が張り付きやすく、張り付いた部分がエッチングされず、ムラが残りやすいとの問題があった。
【００３０】
図５のように、ガラス基板１２端面が引っ掛からない程度に側面から内側の位置であって、コ字状の内側に、凸部１９を設けることにより、溝内側への端面引っ掛かりと、溝内側へのガラス基板１２の張り付きとの、両方を同時に抑制することが可能である。
【００３１】
凸部１９が接触する基板部分には、エッチングムラが僅かに残るものの、凸部１９先端の、基板との接触しうる面積を小さくすることにより、エッチングムラへの影響を抑制することが可能である。
【００３２】
基板用カセット１１の溝１８の寸法，形状について、対向する凸部１９間の距離２４は、ガラス基板１２のエッチング前板１３厚に対して＋２．５ｍｍ〜＋３．５ｍｍが好ましい。また、凸部１９先端から内壁までの距離２５は１ｍｍ以上が好ましい。
【００３３】
対向する凸部１９間の距離２４が狭すぎると、溝内部のエッチング液の液流が滞留し、エッチングムラ，スラッジ詰まりの原因となりうるからである。一方で、基板の支持性能を考えると、５ｍｍ以下であることが好ましい。
【００３４】
また凸部１９先端から内壁までの距離２５が狭すぎる場合も、凸部先端から溝の内壁間のエッチング液の液流が滞留し、エッチングムラ、スラッジ詰まりの原因となりうるからである。
【００３５】
基板用カセット１１の溝構造は、板厚０．２ｍｍ以下のガラス基板１２において特に有効であるが、実施対象は、これに限定されるものではない。
【符号の説明】
【００３６】
１０−エッチング槽
１１−基板用カセット
１２−ガラス基板
１３−前板
１４−後板
１５−側板
１６−上面部
１７−底面部
１８−溝部
１９−凸部
２０−エッチング液供給配管
２１−気泡供給配管
２２−供給方向
２３−バブリングユニット
２４−距離
２５−距離
２６−ダミーの基板を配置するための溝
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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