(57)【要約】【課題】マークを観測可能な構成としつつ、光漏れを抑制する。【解決手段】画像が表示される表示領域Ａ１と、画像が表示されない非表示領域Ａ２と、非表示領域Ａ２に配される第１マーク５１と、非表示領域Ａ２において第１マーク５１が配された層とは異なる層に配され、平面視において第１マーク５１と隣接する第２マーク５２と、非表示領域Ａ２において、第１マーク５１と平面視において重なる形で配される開口５３と、非表示領域Ａ２において、第１マーク５１及び第２マーク５２に対して開口５３と反対側に配されると共に、平面視において開口と重なる遮光部５８と、を備えることに特徴を有する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像が表示される表示領域と、
画像が表示されない非表示領域と、
前記非表示領域に配される第１マークと、
前記非表示領域において、前記第１マークが配された層とは異なる層に配され、平面視において前記第１マークと隣接又は重畳する第２マークと、
前記非表示領域において、少なくとも前記第１マークと平面視において重なる形で配される透光部と、
前記非表示領域において、前記第１マーク及び前記第２マークに対して前記透光部と反対側に配されると共に、平面視において前記透光部と重なる遮光部と、を備える表示パネル。
【請求項２】
対向状に配される一対の基板を備え、
前記第１マークは、前記一対の基板のうち一方の基板に設けられ、
前記第２マークは、前記一対の基板のうち他方の基板に設けられている請求項１に記載の表示パネル。
【請求項３】
前記非表示領域において、前記第１マークに対して前記遮光部と反対側に配される反対側遮光部を備え、
前記第１マークは複数の目盛を有し、
前記第２マークは、前記複数の目盛と並び方向が平行である複数の目盛を有し、
前記第２マークが有する前記複数の目盛は、前記反対側遮光部に形成された櫛型の開口の縁部によって構成されており、
前記透光部が前記開口である請求項１又は請求項２に記載の表示パネル。
【請求項４】
前記非表示領域において、前記第１マークに対して前記遮光部と反対側に配される反対側遮光部を備え、
前記透光部は、前記反対側遮光部に形成された開口であり、
前記第２マークは、前記開口である請求項２に記載の表示パネル。
【請求項５】
前記表示領域に配される着色部を備え、
前記第２マークは、前記着色部と同じ層に配されると共に、前記着色部と同じ材質で構成されている請求項２に記載の表示パネル。
【請求項６】
グランドに接続されるグランド配線を備え、
前記遮光部は、前記グランド配線の一部であり、
前記第１マークは、導電部材によって構成され、前記遮光部に対して電気的に接続されている請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の表示パネル。
【請求項７】
前記表示領域に配される配線を備え、
前記第１マークは、前記配線と同じ層に配されると共に、前記配線と同じ材質で構成されている請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、表示パネルとして、非表示領域にマークが設けられたものが知られている。下記特許文献１では、マークとしてアライメントマークが記載されており、アライメントマークをカメラで観察することで液晶表示パネルとバックライトとを高精度で位置合わせすることが可能となっている。また、非表示領域に設けられるマークとしては、一対のマークを備え、一方のマークに対して他方のマークの位置ずれ量を測定することで、一方のマークを基準として他方のマークが設けられた部材の位置精度を確認することが可能なものも知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１５−１５５９８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記構成においては、マークを観測するために、表示パネルの一部に開口などの透光部を設ける必要がある。しかしながら、透光部を設けると透光部を通じて光が漏れる事態が懸念される。
【０００５】
本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、マークを観測可能な構成としつつ、光漏れを抑制することが可能な表示パネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明の表示パネルは、画像が表示される表示領域と、画像が表示されない非表示領域と、前記非表示領域に配される第１マークと、前記非表示領域において前記第１マークが配された層とは異なる層に配され、平面視において前記第１マークと隣接又は重畳する第２マークと、前記非表示領域において、前記第１マークと平面視において重なる形で配される透光部と、前記非表示領域において、前記第１マーク及び前記第２マークに対して前記透光部と反対側に配されると共に、平面視において前記透光部と重なる遮光部と、を備えることに特徴を有する。上記構成によれば、透光部を通じて第１マーク及び第２マークを観測することができ、第１マークを基準とした第２マークの位置ずれ量を計測することができる。これにより、例えば、第２マークと特定の位置関係を有する部材（例えば、第２マークが設けられた基板など）の位置精度を確認することができる。しかしながら、非表示領域に透光部を設けた場合には、例えば、透光部を通過して表示パネルの外部に光が漏れる事態が懸念される。透光部と重なる遮光部を備えることで、このような光漏れを抑制できる。そして、遮光部は、第１マーク及び第２マークに対して透光部と反対側に配されることから、透光部を通じて第１マーク及び第２マークを観測する際に観測の妨げになることがない。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、マークを観測可能な構成としつつ、光漏れを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】液晶表示装置の概略構成を示す断面図
【図２】液晶パネルの断面図
【図３】液晶パネルを概略的に示す平面図
【図４】ゲート配線及びソース配線を示す断面図
【図５】第１マーク及び第２マークを示す断面図
【図６】第１マーク及び第２マークを示す平面図（位置ずれがない状態）
【図７】第１マーク及び第２マークを示す平面図（位置ずれがある状態）
【図８】実施形態２に係る第１マーク及び第２マークを示す平面図
【図９】実施形態３に係る第１マーク及び第２マークを示す平面図
【図１０】実施形態４に係る第１マーク及び第２マークを示す断面図
【図１１】実施形態４に係る第１マーク及び第２マークを示す平面図
【図１２】実施形態５に係る第１マーク及び第２マークを示す断面図
【図１３】実施形態５に係る第１マーク及び第２マークを示す平面図
【図１４】実施形態６に係る第１マーク及び第２マークを示す断面図
【図１５】実施形態７に係る第１マーク及び第２マークを示す断面図
【図１６】実施形態７に係る第１マーク及び第２マークを示す平面図
【図１７】実施形態８に係る第１マーク及び第２マークを示す断面図
【発明を実施するための形態】
【０００９】
＜実施形態１＞
本発明の実施形態１を図１から図７によって説明する。液晶表示装置１０は、図１に示すように、液晶パネル１１（表示パネル）と、液晶パネル１１が備えるドライバ１７に対して各種入力信号を供給する制御回路基板１２と、液晶パネル１１と制御回路基板１２とを電気的に接続するフレキシブル基板１３と、液晶パネル１１に光を供給するバックライト装置１４（照明装置）と、を備える。バックライト装置１４は、図１に示すように、表側（液晶パネル１１側）に向けて開口した略箱形をなすシャーシ１８と、シャーシ１８内に配された図示しない光源（例えば冷陰極管、ＬＥＤ、有機ＥＬなど）と、シャーシ１８の開口部を覆う形で配される図示しない光学部材と、を備える。光学部材は、光源から発せられる光を面状に変換する等の機能を有するものである。
【００１０】
また、液晶表示装置１０は、図１に示すように、相互に組み付けられた液晶パネル１１及びバックライト装置１４を収容するための表裏一対の外装部材１５，１６を備えており、表側の外装部材１５には、液晶パネル１１の表示領域Ａ１に表示された画像を外部から視認させるための開口部１９が形成されている。本実施形態に係る液晶表示装置１０は、例えば、携帯電話（スマートフォンなどを含む）、ノートパソコン（タブレット型ノートパソコンなどを含む）、ウェアラブル端末（スマートウォッチなどを含む）、携帯型情報端末（電子ブックやＰＤＡなどを含む）、携帯型ゲーム機、デジタルフォトフレームなどの各種電子機器（図示せず）に用いられるものである。
【００１１】
液晶パネル１１は、図１に示すように、対向状に配される一対の基板２１，３０と、一対の基板２１，３０間に配され、電界印加に伴って光学特性が変化する物質である液晶分子を含む液晶層２３（媒質層）と、一対の基板２１，３０の間に配されると共に液晶層２３を囲むことで液晶層２３を封止するシール部材２４と、を備える。一対の基板２１，３０のうち表側（正面側、図１の上側）の基板がＣＦ基板２１（対向基板）とされ、裏側（背面側）の基板がアレイ基板３０（アクティブマトリクス基板、素子側基板）とされる。液晶パネル１１は画像が表示される表示領域Ａ１と、画像が表示されない非表示領域Ａ２を有する。非表示領域Ａ２は、図３の平面視において表示領域Ａ１を取り囲む枠状をなす。また、両基板２１，３０の外面側には、偏光板（図示しない）がそれぞれ貼り付けられており、両基板２１，３０のうち液晶層２３に接する内面には、液晶層２３に含まれる液晶分子を配向させるための配向膜（図示しない）がそれぞれ設けられている。
【００１２】
図２に示すように、ＣＦ基板２１は、ガラス基板２２を備え、ガラス基板２２の内面側（後述するガラス基板３１側）に、ブラックマトリクス２５、カラーフィルタ２６、オーバーコート膜２７が積層されることで構成されている。カラーフィルタ２６は、マトリクス状に配列されるＲ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）の三色の着色部２６Ｒ，２６Ｇ，２６Ｂ（着色層）を備える。また、ＣＦ基板２１は、セルギャップを保持するためのスペーサ２８を備える。ガラス基板２２の表面には、透明電極膜２９が設けられており、この透明電極膜２９は、導電ペースト２９Ａを介してアレイ基板３０に設けられたグランドパッド（図示せず）に接続されている。これにより透明電極膜２９によって外部からのノイズを遮蔽することができる。
【００１３】
アレイ基板３０は、ガラス基板２２と対向状に配されるガラス基板３１を備える。ガラス基板３１の内面側には、図２に示すように、画素回路部３２、周辺回路部３３、平坦化膜３４、タッチパネル配線３５、共通電極３６、絶縁膜３７、画素電極３８が設けられている。画素回路部３２は、表示領域Ａ１に配され、走査信号を伝送するゲート配線３９（図３参照）と、画像信号を伝送するソース配線４０（図３参照）と、ゲート配線３９及びソース配線４０に接続されるスイッチング素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor、図示せず）と、を少なくとも備える。ゲート配線３９は、金属膜からなり、図３に示すように、Ｘ軸方向に沿って延在し、Ｙ軸方向に沿って多数本が間隔を空けて並んで配される。ソース配線４０は、金属膜からなり、Ｙ軸方向に沿って延在し、Ｘ軸方向に沿って多数本が間隔を空けて並んで配される。図４に示すように、ゲート配線３９とソース配線４０の間には絶縁膜４２が介在されている。ＴＦＴは、半導体膜からなるチャネル部などを有する既知の構成であり、画素電極３８に接続されている。ＴＦＴは、ゲート配線３９に伝送される走査信号に基づいて駆動され、ソース配線４０に伝送される画像信号をチャネル部を介して画素電極３８に供給することで、画素電極３８を所定の電位に充電する。ＴＦＴ及び画素電極３８は、ゲート配線３９及びソース配線４０により囲まれた領域に配されており、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に沿って多数個ずつマトリクス状に並んで配されている。
【００１４】
画素電極３８及び共通電極３６は、透明電極膜からなる。共通電極３６は、全体として表示領域Ａ１と同等の大きさを有しているものの格子状に分割されており、その分割されたセグメント（タッチ電極４１）が複数の画素電極３８と重畳するとともにタッチパネル配線３５を介してドライバ１７と接続されている。共通電極３６は、少なくとも表示期間においてはほぼ一定の基準電位が供給されるものであり、画素電極３８との間には、画素電極３８に充電された電位に基づく電位差が生じ得るものとされる。共通電極３６と画素電極３８との間の電位差に基づいて発生する電界には、アレイ基板３０の板面に沿う成分に加えて、アレイ基板３０の板面に対する法線方向の成分を含むフリンジ電界（斜め電界）が含まれる。従って、この液晶パネル１１は、フリンジ電界を利用して液晶層２３に含まれる液晶分子の配向状態を制御する、いわゆるＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードとされている。なお、液晶の駆動方式はＦＦＳモードに限定されない。また、共通電極３６は、非表示期間には位置入力に伴う静電容量の変化を検出するタッチ電極の役割を果たし、ドライバ１７により静電容量の変化を演算することで、表示領域Ａ１における入力位置を特定するインセルタッチパネル機能を有する。周辺回路部３３としては、ゲートドライバ回路を例示することができ、非表示領域Ａ２において、ガラス基板３１上にモノリシックに形成されている。ゲートドライバ回路は各ゲート配線３９に接続されることで、各ゲート配線３９を順次に走査して各ＴＦＴを駆動することが可能とされる。
【００１５】
上述した各配線（タッチパネル配線３５、ゲート配線３９、ソース配線４０）は、例えば、銅、チタン、アルミニウム、モリブデン、タングステン等の導電膜からなる。上述した絶縁膜３７，４２は、例えば、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）等の無機材料からなる。上述した平坦化膜３４は、例えば、アクリル樹脂（例えばPMMA等）等の有機材料からなる。上述した各透明電極膜（透明電極膜２９、共通電極３６、画素電極３８）は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）等の透明電極材料からなる。なお、各配線、各絶縁膜、平坦化膜、各透明電極膜の材料はここで例示したものに限定されず適宜変更可能である。
【００１６】
非表示領域Ａ２には、図３に示すように、一対の基板２１，３０の貼り合わせの位置精度を測定するためのバーニア４３が配されている。バーニア４３は、図５及び図６に示すように、アレイ基板３０のガラス基板３１（一方の基板）に設けられた第１マーク５１と、ＣＦ基板２１のガラス基板２２（他方の基板）に設けられた第２マーク５２と、を備える。第１マーク５１は、図６に示すように、Ｙ軸方向（又はＸ軸方向）に沿って並ぶ複数の目盛を有するバーニアパターンである。第１マーク５１は、ソース配線４０（配線）と同じ層に配されると共に、ソース配線４０と同じ材質の導電膜（導電部材）によって構成されている。
【００１７】
第２マーク５２は、第１マーク５１が配された層とは異なる層に配され、液晶パネル１１の平面視（液晶パネル１１を表側又は裏側から視た状態、図６に示す状態）において第１マーク５１と隣接する形で配されている。第２マーク５２は、複数の目盛を有するバーニアパターンである。第２マーク５２が有する複数の目盛は、第１マーク５１が有する複数の目盛と並び方向が平行となっている。図６では、第１マーク５１及び第２マーク５２を構成する各目盛がアレイ基板３０の長辺方向（Ｙ軸方向）に沿って並ぶものを例示している。第１マーク５１及び第２マーク５２は、一対の基板２１，３０の貼り合わせの位置精度を測定するためのもので、目盛の並び方向（図６ではＹ軸方向）について一対の基板２１，３０がどれだけ位置ずれしているかを測定するためのものである。
【００１８】
第２マーク５２は、ブラックマトリクス２５に形成された櫛型の開口５３の縁部によって構成されている。この開口５３（透光部）は、非表示領域Ａ２において、第１マーク５１と平面視において重なる形で配されている。図６は、第１マーク５１と第２マーク５２とがＹ軸方向において位置ずれしていない状態を示している。この状態では、第１マーク５１の目盛のうち、中央に配される目盛５４（基準となる目盛）と、第２マーク５２の目盛のうち、中央に配される目盛５５（基準となる目盛）とがＹ軸方向について一致する形で配されている。また、第１マーク５１を構成する目盛の線幅は、第２マーク５２を構成する目盛の線幅と等しいものとされ、第１マーク５１を構成する各目盛のピッチＰ１は、第２マーク５２を構成する各目盛のピッチＰ２よりもわずかに大きい値で設定されている。
【００１９】
ピッチＰ１とピッチＰ２の差をＤＰとし、平面視（図６参照）において、目盛５４，５５を基準（０番）としたＮ番目の目盛同士の位置ずれ量（目盛の並び方向における位置ずれ量）をＤＶとした場合、ＤＶ＝Ｎ＊ＤＰとなる。このため、第１マーク５１を構成する各目盛と第２マーク５２を構成する各目盛のうち、何番目の目盛同士が目盛の並び方向において一致しているかをカメラ等を用いて確認することで、第１マーク５１に対する第２マーク５２の位置ずれ量を計測することができる。図７を用いて具体的に説明すると、図７では、目盛５４，５５を基準として、図７の上側（Ｙ軸方向の一方側）に配された４番目の目盛５６，５７同士が一致している（目盛５６，５７の端部同士が完全に重なっている）。このため、図７に示す例では、第１マーク５１に対して第２マーク５２が図７の上側にずれており、その位置ずれ量ＤＶは４＊ＤＰであることが確認できる。
【００２０】
なお、本実施形態では、図３に示すように、Ｘ軸方向に延びるバーニア４３及びＹ軸方向に延びるバーニア４３が液晶パネル１１の４隅にそれぞれ配されている。Ｘ軸方向に延びるバーニア４３は、一対の基板２１，３０のＸ軸方向における位置ずれ量を測定するためのもので、Ｙ軸方向に延びるバーニア４３は、一対の基板２１，３０のＹ軸方向における位置ずれ量を測定するためのものである。
【００２１】
本実施形態では、ブラックマトリクス２５に開口５３を形成することで、開口５３を通じて第１マーク５１を表側から観測することができ、第１マーク５１と第２マーク５２との位置関係を観測することができる。しかしながら、開口５３を設けることで、バックライト装置１４（図１参照）からの光が開口５３を通じて表側に漏れる事態が懸念される。そこで本実施形態では、図６に示すように、非表示領域Ａ２において、第１マーク５１及び第２マーク５２に対して開口５３と反対側に配される遮光部５８を備える。言い換えると、ブラックマトリクス２５は、第１マーク５１に対して遮光部５８と反対側に配される反対側遮光部である。
【００２２】
遮光部５８は平面視において開口５３と重なる形で配されている。図３に示すように、非表示領域Ａ２には、グランド配線５９が配されている。グランド配線５９は、ガラス基板３１上に配され、ガラス基板３１の外周端部に沿って延びる形で配されている。グランド配線５９の端部６０，６０は、フレキシブル基板１３を介してグランドに接続されている。グランド配線５９は、例えば外部からの電気ノイズの侵入を防止する機能を有している。各バーニア４３は、グランド配線５９の経路上に配されており、上述した遮光部５８は、グランド配線５９の一部によって構成されている。グランド配線５９は、ゲート配線３９と同じ層に配されると共に、ゲート配線３９と同じ材質で構成されている。これにより、ゲート配線３９を形成する工程でグランド配線５９を形成することができる。遮光部５８は、平面視において、開口５３よりも一回り大きい方形状をなしており、遮光部５８の外周端面は、開口５３の外側に配されている。なお、遮光部５８は、開口５３を確実に覆う大きさにすることが好ましい。具体的には、遮光部５８の外周端面と開口５３の内面との距離が、遮光部５８の全周に亘って、例えば１０μｍ以上となることが好ましい。そして、第１マーク５１は、図５に示すように、絶縁膜４２に形成されたコンタクトホール６１を介して遮光部５８に対して電気的に接続されている。なお、遮光部５８としてゲート配線３９の他に、トランジスタのライトシールド層を使用することが出来る。ライトシールド層とは、トランジスタのチャネル部に光が当たることを防ぐための遮光膜のことである。トランジスタのチャネル部にバックライトの強い光が当たると、ＳＤリークが発生するため、表示品位が低下する。この対策のため、ライトシールド層は画素容量の小さい高精細パネルで必要となる。このライトシールド層もコンタクトホールを介してグランドに接続することが可能である。
【００２３】
次に本実施形態の効果について説明する。本実施形態では、開口５３を通じて第１マーク５１及び第２マーク５２を観測することができ、第１マーク５１を基準とした第２マーク５２の位置ずれ量を計測することができる。これにより、第１マーク５１が設けられたアレイ基板３０と、第２マーク５２が設けられたＣＦ基板２１との貼り合わせに係る精度を確認することができる。この結果、例えば、ＣＦ基板２１とアレイ基板３０とを貼り合わせた後に、貼り合わせに係る精度を容易に確認して管理することができる。例えば、製造工程において、ＣＦ基板２１とアレイ基板３０の貼り合わせに係る精度が低下した場合には、これを早急に発見することができ、対策を講じることができる。
【００２４】
しかしながら、非表示領域Ａ２に開口５３を設けた場合には、例えば、バックライト装置１４から一対の基板２１，３０に向けて出射された光が開口５３を通過して外部に漏れる事態が懸念される。開口５３と重なる遮光部５８を備えることで、バックライト装置１４側から開口５３に向かう光を遮ることができ、開口５３に起因した光漏れを抑制できる。そして、遮光部５８は、第１マーク５１及び第２マーク５２に対して開口５３と反対側に配されることから、開口５３を通じて第１マーク５１及び第２マーク５２を観測する際に観測の妨げになることがない。
【００２５】
また、非表示領域Ａ２において、第１マーク５１に対して遮光部５８と反対側に配されるブラックマトリクス２５を備え、第１マーク５１は複数の目盛であり、第２マーク５２は、第１マーク５１の複数の目盛と平行に並ぶ複数の目盛であり、ブラックマトリクス２５に形成された櫛型の開口５３の縁部によって構成されている。ブラックマトリクス２５を備えることで、光漏れをより確実に抑制できる。また、ブラックマトリクス２５に開口５３を形成することで、第１マーク５１を観測するための透光部と第２マーク５２とを同時に形成することができるため、工数を減らすことができる。
【００２６】
また、遮光部５８は、グランドに接続されるグランド配線５９の一部であり、第１マーク５１は、導電部材によって構成され、遮光部５８に対して電気的に接続されている。遮光部５８とグランド配線５９を兼用させることで、より簡易な構成とすることができる。また、第１マーク５１とグランド配線５９を電気的に接続することで、配線抵抗をより低くすることができ、好適である。また、表示領域Ａ１に配されるソース配線４０を備え、第１マーク５１は、ソース配線４０と同じ層に配されると共に、ソース配線４０と同じ材質で構成されている。このような構成とすれば、ソース配線４０を形成する工程で第１マーク５１を形成することが可能となる。
【００２７】
＜実施形態２＞
次に、本発明の実施形態２を図８によって説明する。上記実施形態と同一部分には、同一符号を付して重複する説明を省略する。本実施形態では、第１マーク及び第２マークの構成が上記実施形態と異なる。本実施形態では、図８に示すように、第１マーク２５１が十字状をなしており、ブラックマトリクス２５には、第１マーク２５１よりも一回り大きい十字状の開口２５３が形成されている。第１マーク２５１と開口２５３は、平面視において、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の双方において中心軸が同一となっている。本実施形態では、第２マーク及び透光部が開口２５３によって構成されている。Ｘ軸方向及びＹ軸方向の双方において第１マーク２５１に対する開口２５３の位置ずれ量を計測することで、一対の基板２１，３０の貼り合わせに係る精度を確認することができる。また、ブラックマトリクス２５に開口２５３を形成することで、第１マーク５１を観測するための透光部と第２マークを同時に形成することができるため、工数を減らすことができる。なお、第１マーク２５１及び開口２５３の形状は十字状に限定されず、適宜変更可能である。第１マーク２５１及び開口２５３は、方形状、多角形状、円形状、Ｌ字状等であってもよい。
【００２８】
＜実施形態３＞
次に、本発明の実施形態３を図９によって説明する。上記実施形態と同一部分には、同一符号を付して重複する説明を省略する。本実施形態では、第１マーク及び第２マークの構成が上記実施形態と異なる。本実施形態では、図９に示すように、ブラックマトリクス２５には、Ｌ字状の開口３５３が４つ形成されている。これによりブラックマトリクス２５において、４つの開口３５３に囲まれた部分は、十字状をなす第２マーク３５２となっている。第１マーク２５１と第２マーク３５２は、平面視において、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の双方において中心軸が同一となっている。本実施形態では、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の双方において第１マーク２５１に対する第２マーク３５２の位置ずれ量を計測することで、一対の基板２１，３０の貼り合わせに係る精度を確認することができる。
【００２９】
＜実施形態４＞
次に、本発明の実施形態４を図１０から図１１によって説明する。上記実施形態と同一部分には、同一符号を付して重複する説明を省略する。本実施形態では、第１マーク及び第２マークの構成が上記実施形態と異なる。本実施形態の液晶パネル４１１では、図１０に示すように、バーニア４４３を構成する第１マーク４５１及び第２マーク４５２を備える。第２マーク４５２は、着色部２６Ｒ，２６Ｇ，２６Ｂ（図２参照）と同じ層に配されると共に、着色部と同じ材質で構成されている。図１０では、第２マーク４５２が青色の着色部２６Ｂと同じ材質で構成されているものを例示している。第１マーク４５１及び第２マーク４５２は、図１１に示すように、ピッチの異なる複数の目盛をそれぞれ有しており、実施形態１のバーニア４３と同様の方法で、第１マーク４５１と第２マーク４５２との位置ずれ量を計測することが可能となっている。なお、図１１は、第１マーク４５１及び第２マーク４５２を液晶パネル４１１の裏側から視た図である。
【００３０】
本実施形態では、図１０に示すように、第１マーク４５１及び第２マーク４５２は、表側からブラックマトリクス２５によって完全に覆われており、第１マーク４５１及び第２マーク４５２を観測する際には、液晶パネル４１１の裏側から透光性を有するガラス基板３１越しに観測を行う。つまり、本実施形態では、ガラス基板３１の一部が、第１マーク４５１及び第２マークと平面視において重なる形で配される透光部３１Ａであり、この透光部３１Ａを通じて第１マーク４５１及び第２マーク４５２を観測することが可能となっている。また、ブラックマトリクス２５の一部が平面視において透光部３１Ａと重なる遮光部２５Ａである。遮光部２５Ａは、第１マーク４５１及び第２マーク４５２に対して透光部３１Ａと反対側に配されている。本実施形態によれば、着色部（例えば着色部２６Ｂ）を形成する工程で第２マーク４５２を形成することができる。また、ブラックマトリクス２５に開口が形成されていないため、光漏れをより確実に抑制することができる。
【００３１】
＜実施形態５＞
次に、本発明の実施形態５を図１２から図１３によって説明する。上記実施形態と同一部分には、同一符号を付して重複する説明を省略する。本実施形態では、第１マーク及び第２マークの構成が上記実施形態と異なる。本実施形態の液晶パネル５１１では、図１２に示すように、隣接する２つの第１マーク５５１Ａ，５５１Ｂがアレイ基板３０側に設けられている。また、ＣＦ基板２１側には、第２マーク５５２Ｒ，５５２Ｇ，５５２Ｂが設けられている。第２マーク５５２Ｒ，５５２Ｇ，５５２Ｂは、着色部２６Ｒ，２６Ｇ，２６Ｂ（図２参照）と同じ層に配される。第２マーク５５２Ｒは、着色部２６Ｒと同じ材質で構成され、着色部２６Ｒを形成する工程で着色部２６Ｒを形成するためのマスクを用いて形成される。第２マーク５５２Ｇは、着色部２６Ｇと同じ材質で構成され、着色部２６Ｇを形成する工程で着色部２６Ｇを形成するためのマスクを用いて形成される。第２マーク５５２Ｂは、着色部２６Ｂと同じ材質で構成され、着色部２６Ｂを形成する工程で着色部２６Ｂを形成するためのマスクを用いて形成される。つまり、第２マークは着色部と共通のマスクを用いて形成されている。このため、第２マークの形成精度（第１マークに対する位置ずれ量）を確認することで、着色部の形成精度を確認することができる。本実施形態では、図１２に示すように、ガラス基板３１の一部が、第１マーク５５１Ａ，５５１Ｂ及び第２マーク５５２Ｒ，５５２Ｇ，５５２Ｂと平面視において重なる形で配される透光部５３１Ａであり、この透光部５３１Ａを通じて第１マーク５５１Ａ，５５１Ｂ及び第２マーク５５２Ｒ，５５２Ｇ，５５２Ｂを観測することが可能となっている。また、ブラックマトリクス２５の一部が平面視において透光部５３１Ａと重なる遮光部５２５Ａである。
【００３２】
図１３に示すように、第２マーク５５２Ｒ，５５２Ｇは第１マーク５５１Ａと平面視において隣接する形で配され、第２マーク５５２Ｇ，５５２Ｂは第１マーク５５１Ｂと平面視において隣接する形で配されている。第１マーク５５１Ａ，５５１Ｂ及び第２マーク５５２Ｒ，５５２Ｇ，５５２Ｂは、それぞれ目盛を有しており、実施形態１のバーニア４３と同様の方法によって、第１マークと第２マークとの位置ずれ量を計測することが可能となっている。本実施形態では、第１マーク５５１Ａに対する第２マーク５５２Ｒ（又は第２マーク５５２Ｇ）の位置ずれ量を計測することができ、第１マーク５５１Ｂに対する第２マーク５５２Ｇ（又は第２マーク５５２Ｂ）の位置ずれ量を計測することができる。つまり、第１マーク５５１Ａ又は第１マーク５５１Ｂを基準とした着色部２６Ｒ，２６Ｇ，２６Ｂの形成精度（例えば、着色部を形成するためのマスクの移動量の精度等）を確認することができる。
【００３３】
＜実施形態６＞
次に、本発明の実施形態６を図１４によって説明する。上記実施形態と同一部分には、同一符号を付して重複する説明を省略する。本実施形態では、表示パネルとして有機ＥＬパネル６１１を例示する。図１４は、有機ＥＬパネル６１１の非表示領域Ａ２を示す断面図である。図１４に示すように、有機ＥＬパネル６１１の非表示領域Ａ２においては、ガラス基板３１上に第１マーク６５１Ａ，６５１Ｂ、平坦化膜６３４、第２マーク６５２Ｒ，６５２Ｇ，６５２Ｂ、カバー膜６２７、遮光層６２５、ガラス基板２２が積層されている。また、有機ＥＬパネル６１１は、図示しない発光層や発光層に接続されて電流を制御するＴＦＴなどを備える。本実施形態では、Ｒ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）の三色の発光層を備える。第１マーク６５１Ａ，６５１Ｂ及び第２マーク６５２Ｒ，６５２Ｇ，６５２Ｂは、それぞれ目盛（図示せず）を有しており、実施形態１のバーニア４３と同様の方法によって、第１マークと第２マークとの位置ずれ量を計測することが可能となっている。本実施形態では、図１４に示すように、ガラス基板３１の一部が、第１マーク６５１Ａ，６５１Ｂ及び第２マーク６５２Ｒ，６５２Ｇ，６５２Ｂと平面視において重なる形で配される透光部６３１Ａであり、この透光部６３１Ａを通じて第１マーク６５１Ａ，６５１Ｂ及び第２マーク６５２Ｒ，６５２Ｇ，６５２Ｂを観測することが可能となっている。また、遮光層６２５の一部が平面視において透光部６３１Ａと重なる遮光部６２５Ａである。
【００３４】
本実施形態では、第２マーク６５２Ｒは、赤色の発光層と同じ材質で構成され、赤色の発光層を形成するためのマスクを用いて形成される。第２マーク６５２Ｇは、緑色の発光層と同じ材質で構成され、緑色の発光層を形成するためのマスクを用いて形成される。第２マーク６５２Ｂは、青色の発光層と同じ材質で構成され、青色の発光層を形成するためのマスクを用いて形成される。本実施形態によれば、各第１マークと各第２マークの位置ずれ量を計測することで、第１マーク６５１Ａ又は第１マーク６５１Ｂを基準とした各発光層の形成精度（例えば、各発光層を形成するためのマスクの移動量の精度等）を確認することができる。
【００３５】
＜実施形態７＞
次に、本発明の実施形態７を図１５から図１６によって説明する。上記実施形態と同一部分には、同一符号を付して重複する説明を省略する。本実施形態では、表示パネルとして液晶パネル７１１を例示する。液晶パネル７１１では、図１５に示すように、隣接する３つの第１マーク７５１Ｒ，７５１Ｇ，７５１Ｂがアレイ基板３０側に設けられている。また、ＣＦ基板２１側には、第２マーク７５２Ｒ，７５２Ｇ，７５２Ｂが設けられている。第２マーク７５２Ｒ，７５２Ｇ，７５２Ｂは、着色部２６Ｒ，２６Ｇ，２６Ｂ（図２参照）と同じ層に配される。第２マーク７５２Ｒは、着色部２６Ｒと同じ材質で構成され、着色部２６Ｒを形成する工程で着色部２６Ｒを形成するためのマスクを用いて形成される。第２マーク７５２Ｇは、着色部２６Ｇと同じ材質で構成され、着色部２６Ｇを形成する工程で着色部２６Ｇを形成するためのマスクを用いて形成される。第２マーク７５２Ｂは、着色部２６Ｂと同じ材質で構成され、着色部２６Ｂを形成する工程で着色部２６Ｂを形成するためのマスクを用いて形成される。本実施形態では、図１５に示すように、ガラス基板３１の一部が、第１マーク７５１Ｒ，７５１Ｇ，７５１Ｂ及び第２マーク７５２Ｒ，７５２Ｇ，７５２Ｂと平面視において重なる形で配される透光部７３１Ａであり、この透光部７３１Ａを通じて第１マーク７５１Ｒ，７５１Ｇ，７５１Ｂ及び第２マーク７５２Ｒ，７５２Ｇ，７５２Ｂを観測することが可能となっている。また、ブラックマトリクス２５の一部が平面視において透光部７３１Ａと重なる遮光部７２５Ａである。
【００３６】
図１６に示すように、第１マーク７５１Ｒ，７５１Ｇ，７５１Ｂは、方形状をなしている。第２マーク７５２Ｒは、平面視において、第１マーク７５１Ｒよりも一回り大きい方形枠状をなしている。第２マーク７５２Ｇは、平面視において、第１マーク７５１Ｇよりも一回り大きい方形枠状をなしている。第２マーク７５２Ｂは、平面視において、第１マーク７５１Ｂよりも一回り大きい方形枠状をなしている。第１マーク及び第２マークの位置ずれがない場合（図１６の状態）には、第１マークは、対応する第２マークに対して平面視において嵌合するようになっている。本実施形態では、各第１マーク７５１Ｒ，７５１Ｇ，７５１Ｂと各第２マーク７５２Ｒ，７５２Ｇ，７５２Ｂの位置ずれ量をそれぞれ計測することで、各第１マーク７５１Ｒ，７５１Ｇ，７５１Ｂを基準とした各着色部２６Ｒ，２６Ｇ，２６Ｂの形成精度を確認することができる。
【００３７】
＜実施形態８＞
次に、本発明の実施形態８を図１７によって説明する。上記実施形態と同一部分には、同一符号を付して重複する説明を省略する。本実施形態では、表示パネルとして有機ＥＬパネル８１１を例示する。図１７に示すように、有機ＥＬパネル８１１の非表示領域Ａ２においては、ガラス基板６３１上に第１マーク８５１Ｒ，８５１Ｇ，８５１Ｂ、平坦化膜６３４、第２マーク８５２Ｒ，８５２Ｇ，８５２Ｂ、カバー膜６２７、遮光層６２５、ガラス基板６２２が積層されている。第２マーク８５２Ｒは、赤色の発光層と同じ材質で構成され、赤色の発光層を形成するためのマスクを用いて形成される。第２マーク８５２Ｇは、緑色の発光層と同じ材質で構成され、緑色の発光層を形成するためのマスクを用いて形成される。第２マーク８５２Ｂは、青色の発光層と同じ材質で構成され、青色の発光層を形成するためのマスクを用いて形成される。本実施形態では、図１７に示すように、ガラス基板３１の一部が、第１マーク８５１Ｒ，８５１Ｇ，８５１Ｂ及び第２マーク８５２Ｒ，８５２Ｇ，８５２Ｂと平面視において重なる形で配される透光部８３１Ａであり、この透光部８３１Ａを通じて第１マーク８５１Ｒ，８５１Ｇ，８５１Ｂ及び第２マーク８５２Ｒ，８５２Ｇ，８５２Ｂを観測することが可能となっている。また、遮光層６２５の一部が平面視において透光部８３１Ａと重なる遮光部８２５Ａである。
【００３８】
各第１マーク８５１Ｒ，８５１Ｇ，８５１Ｂは、方形状をなしており、各第２マーク８５２Ｒ，８５２Ｇ，８５２Ｂは、対応する第１マークよりも一回り大きい方形枠状をなしている。上記実施形態７と同様、第１マーク及び第２マークの位置ずれがない場合には、第１マークは、対応する第２マークに対して平面視において嵌合するようになっている。本実施形態によれば、各第１マーク８５１Ｒ，８５１Ｇ，８５１Ｂと各第２マーク８５２Ｒ，８５２Ｇ，８５２Ｂの位置ずれ量を計測することで、各第１マーク８５１Ｒ，８５１Ｇ，８５１Ｂを基準とした各発光層の形成精度（例えば、各発光層を形成するためのマスクの移動量の精度等）を確認することができる。
【００３９】
＜他の実施形態＞
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
（１）上記実施形態では、表示パネルとして液晶パネル及び有機ＥＬパネルを例示したが、これに限定されない。表示パネルとして、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）表示パネル等を例示することができる。
（２）上記実施形態では、第１マーク及び第２マークとして、部材を形成した後の位置精度を確認するためのものを例示したが、これに限定されない。例えば、実施形態２，３，７の第１マーク及び第２マークは、アライメントマークとして用いてもよい。
（３）上記実施形態では、第１マークが、ソース配線と同じ層に配され、ソース配線を形成する工程で同時に形成される場合を例示したが、これに限定されない。第１マークがソース配線以外の配線と同じ層に配され、その配線と同時に形成されてもよい。
（４）上記実施形態では、第１マーク及び第２マークが一対のガラス基板２２，３１の間に配される構成を例示したが、これに限定されない。
【符号の説明】
【００４０】
１１，４１１，５１１，７１１…液晶パネル（表示パネル）、２２…ガラス基板（一対の基板のうち他方の基板）、２５…ブラックマトリクス（反対側遮光部）、２５Ａ，５２５Ａ，６２５Ａ，７２５Ａ，８２５Ａ…遮光部、２６Ｒ，２６Ｂ，２６Ｇ…着色部、３１…ガラス基板（一対の基板のうち一方の基板）、３１Ａ，５３１Ａ，６３１Ａ，７３１Ａ，８３１Ａ…透光部、４０…ソース配線（表示領域に配される配線）、５１，２５１，４５１，５５１Ａ，５５１Ｂ，６５１Ａ，６５１Ｂ，７５１Ｒ，７５１Ｇ，７５１Ｂ，８５１Ｒ，８５１Ｇ，８５１Ｂ…第１マーク、５２，３５２，４５２，５５２Ｒ，５５２Ｇ，５５２Ｂ，６５２Ｒ，６５２Ｇ，６５２Ｂ，７５２Ｒ，７５２Ｇ，７５２Ｂ，８５２Ｒ，８５２Ｇ，８５２Ｂ…第２マーク、５３…開口（透光部）、５８…遮光部、５９…グランド配線、２５３…開口（第２マーク及び透光部）、３５３…開口（透光部）、６１１，８１１…有機ＥＬパネル（表示パネル）、６２５…遮光層、Ａ１…表示領域、Ａ２…非表示領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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