(57)【要約】【課題】高透磁率化と優れた耐電圧性能を確保できる複合磁性材料及びこの複合磁性材料を含むコイル部品を提供する。【解決手段】複合磁性材料は、樹脂と、前記樹脂内に設けられた第１の磁性体粒子を含み、第１の磁性体粒子は、金属磁性材料からなる第１のコアと、第１のコアを被覆する絶縁膜とを有し、第１のコアは、短軸と長軸とを有する扁平形状であり、絶縁膜における第１のコアの長軸方向の厚み（ＴＬ）は、前記絶縁膜における第１のコアの短軸方向の厚み（ＴＳ）よりも小さい。更に、コイル部品は、複合磁性材料を素体に含む。【選択図】図４
2019057693.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂と、前記樹脂内に設けられた第１の磁性体粒子を含み、
前記第１の磁性体粒子は、金属磁性材料からなる第１のコアと、前記第１のコアを被覆する絶縁膜とを有し、
前記第１のコアは、短軸と長軸とを有する扁平形状であり、
前記絶縁膜における第１のコアの長軸方向の厚み（ＴＬ）は、前記絶縁膜における第１のコアの短軸方向の厚み（ＴＳ）よりも小さい、複合磁性材料。
【請求項２】
前記絶縁膜における第１のコアの長軸方向の厚み（ＴＬ）は、０ｎｍ以上５０ｎｍ以下である、請求項１に記載の複合磁性材料。
【請求項３】
更に、第２の磁性体粒子を含み、
前記第２の磁性体粒子は、第２のコアを有し、
前記第２のコアは、短軸と長軸とを有する扁平形状であり、
前記第２のコアにおける長軸方向の長さは、前記第１のコアにおける長軸方向の長さよりも短く、及び
前記第２のコアにおける短軸方向の長さは、前記第１のコアにおける短軸方向の長さよりも短い、請求項１又は２に記載の複合磁性材料。
【請求項４】
前記第１のコアのアスペクト比に対する、前記第２のコアのアスペクト比が、１／４以上１／２以下である、請求項３に記載の複合磁性材料。
【請求項５】
更に、第３の磁性体粒子を含み、
前記第３の磁性体粒子は、第３のコアを有し、球形であり、
前記第３のコアにおける平均粒径は、前記第１のコアにおける短軸方向の長さよりも短い、請求項１から４のいずれか一つに記載の複合磁性材料。
【請求項６】
前記第３のコアにおける平均粒径は、前記第１のコアの短軸方向の長さの０．２倍以上０．８倍以下である、請求項５に記載の複合磁性材料。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか１項に記載の複合磁性材料を含む素体と、
前記素体内に設けられらせん状に巻回されたコイルと、
前記素体に設けられ、前記コイルと電気的に接続された外部電極と
を備えた、コイル部品。
【請求項８】
前記素体は、前記コイルの軸方向の一方側に配置された、第１の磁性体部と
前記コイルの軸方向の他方側に配置された、第２の磁性体部とを有し、
前記第１の磁性体部及び前記第２の磁性体部の少なくとも一方の磁性体部が、前記複合磁性材料を含み、
前記複合磁性材料に含まれる第１のコアの長軸が、前記コイルの軸方向と交差するように第１の磁性体粒子が配列された、請求項7に記載のコイル部品。
【請求項９】
前記外部電極の少なくとも一部は
前記複合磁性材料を含む磁性体部におけるコイル軸方向の端面に位置する、請求項８に記載のコイル部品。
【請求項１０】
複合磁性材料を含む磁性体部は、コイル軸方向に積層された複数の層を有し、
前記複数の層のうち、最もコイル側に位置する層に、
前記第１の磁性体粒子が含まれている、請求項７から９のいずれか１つに記載のコイル部品。
【請求項１１】
前記素体は、コイルの内側に配置された第３の磁性体部を有し、
前記第３の磁性体部が、前記複合磁性材料を含み、
前記複合磁性材料に含まれる前記第１の磁性体粒子における第１のコアの短軸が、前記コイルの軸方向と交差するように前記第１の磁性体粒子が配列された、請求項７に記載のコイル部品。
【請求項１２】
前記コイルが、α巻コイル又はエッジワイズ巻コイルである、請求項７から９のいずれか１項に記載のコイル部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複合磁性材料及びコイル部品に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のコイル部品は、特開２０１３−２０１３７５号公報（特許文献１）において、基板と、基板上に設けられた平面コイル用の導体パターンとを有するコイル部と、コイル部を囲うように塗布形成される金属磁性粉含有樹脂と、金属磁性粉含有樹脂に含まれる扁平状又は針状の第１の金属磁性粉と、金属磁性粉含有樹脂に含まれ、第１の金属磁性粉の平均粒径よりも小さい平均粒径を有する第２の金属磁性粉とを備えるコイル素子が開示されている。これにより、透磁率を高めることが検討されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１３−２０１３７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、従来のコイル部品においては、小型化の進展に伴い、より高い耐電圧性能が求められている。小型化の対策として、絶縁膜を有する扁平状軟磁性金属粉においては、絶縁膜厚を厚くすることで、より高い耐電圧性能を満たすことがなされていた。しかし、絶縁膜厚を厚くすると、高い透磁性が得られないことがわかった。一方、前記従来のコイル素子において、高い透磁性を満たし、小型化を行うと、耐電圧性が不良となるおそれがある。
【０００５】
そこで、本発明の課題は、高い透磁性を有し、かつ、優れた耐電圧性能を確保できる複合磁性材料及びこの複合磁性材料を含むコイル部品を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決するため、本発明の複合磁性材料は、
樹脂と、前記樹脂内に設けられた第１の磁性体粒子を含み、
前記第１の磁性体粒子は、金属磁性材料からなる第１のコアと、前記第１のコアを被覆する絶縁膜とを有し、
前記第１のコアは、短軸と長軸とを有する扁平形状であり、
前記絶縁膜における第１のコアの長軸方向の厚み（ＴＬ）は、前記絶縁膜における第１のコアの短軸方向の厚み（ＴＳ）よりも小さい。
【０００７】
本発明に係る第１の磁性体粒子において、第１のコアは、短軸と長軸とを有する扁平形状である。第１のコアは絶縁膜で被覆されている。絶縁膜における第１のコアの長軸方向の厚み（ＴＬ）は、絶縁膜における第１のコアの短軸方向の厚み（ＴＳ）よりも小さい。これにより、特に、第１の磁性体粒子における、第１のコアの長軸方向において高い透磁率を得ることができる。
さらに、絶縁膜における第１のコアの短軸方向の厚み（ＴＳ）を厚くすることができるので、特に、第１の磁性体粒子における第１のコアの短軸方向において優れた耐電圧性能を確保できる。
このため、本発明に係る第１の磁性体粒子を含む、複合磁性材料であれば、高い透磁率と、優れた耐電圧性能の確保とを両立できる。
【０００８】
複合磁性材料の一実施形態では、絶縁膜における第１のコアの長軸方向の厚み（ＴＬ）は、０ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。
【０００９】
前記実施形態であれば、特に、絶縁膜における第１のコアの短軸方向において、優れた耐電圧性能を確保でき、その上、第１のコアの長軸方向において、高い透磁率を得ることができる。
【００１０】
複合磁性材料の一実施形態では、複合磁性材料は、
更に、第２の磁性体粒子を含み、
第２の磁性体粒子は、第２のコアを有し、
第２のコアは、短軸と長軸とを有する扁平形状であり、
第２のコアにおける長軸方向の長さは、第１のコアにおける長軸方向の長さよりも短く、及び
第２のコアにおける短軸方向の長さは、第１のコアにおける短軸方向の長さよりも短い。
【００１１】
前記実施形態によれば、コイル部品における磁性材料の充填率をより高くできるので、より良好に高透磁率化と優れた耐電圧性能を確保できる。これにより、コイル部品の更なる小型化を可能にし、高い透磁率と優れた耐電圧性能を備えることができる。
【００１２】
複合磁性材料の一実施形態では、第１のコアのアスペクト比に対する、第２のコアのアスペクト比が、１／４以上１／２以下である。
【００１３】
前記実施形態によれば、異なるアスペクト比を有する磁性体粒子を用いることで、磁性体粒子の充填率を高めることができる。その上、扁平形状の磁性材料を同一方向に配向させることができ、透磁率を更に高くすることができる。
【００１４】
複合磁性材料の一実施形態では、複合磁性材料は、更に、第３の磁性体粒子を含み、
第３の磁性体粒子は、第３のコアを有し、球形であり、
第３のコアにおける平均粒径は、前記第１のコアにおける短軸方向の長さよりも短い。
【００１５】
前記実施形態によれば、更に透磁率を高くすることができる。また、コイル部品における磁性材料の充填率をより高くできるので、より良好に高透磁率化と優れた耐電圧性能を確保できる。これにより、例えば、コイル部品の更なる小型化を可能にする。
【００１６】
複合磁性材料の一実施形態では、第３のコアにおける平均粒径は、第１の磁性体粒子における第１のコアの短軸方向の長さの０．２倍以上０．８倍以下である。
【００１７】
前記実施形態によれば、扁平形状の磁性体粒子と球状の磁性体粒子との分散性を高めることができる。これにより、例えば、コイル部品における磁性材料の充填率をより高くでき、より良好に高透磁率化と優れた耐電圧性能を確保できる。また、コイル部品の更なる小型化を可能にする。
【００１８】
本発明の一実施形態では、コイル部品が提供され、
コイル部品は、上記の複合磁性材料を含む素体と、
前記素体内に設けられらせん状に巻回されたコイルと、
前記素体に設けられ、前記コイルと電気的に接続された外部電極と
を備える。
【００１９】
前記実施形態によれば、上記複合磁性材料で形成された素体は、高透磁率化と、優れた耐電圧性能の確保を両立できる。また、本発明に係る素体であれば、高透磁率化と、優れた耐電圧性能の確保を両立しながら、コイル部品の更なる小型化が可能となる。
【００２０】
本発明の一実施形態では、前記素体は、前記コイルの軸方向の一方側に配置された、第１の磁性体部と
前記コイルの軸方向の他方側に配置された、第２の磁性体部とを有し、
前記第１の磁性体部及び前記第２の磁性体部の少なくとも一方の磁性体部が、前記複合磁性材料を含み、
前記複合磁性材料に含まれる第１のコアの長軸が、前記コイルの軸方向と交差するように第１の磁性体粒子が配列される。
【００２１】
前記実施形態によれば、外部電極と、コイルとの間に第１の磁性体粒子の絶縁膜の厚い部分が並ぶことになり、絶縁抵抗を更に高め、耐電圧性能を高めることができる。また、コイルの磁束が通る方向に第１の磁性体粒子の絶縁膜の薄い部分が並ぶことになり、優れた高透磁率化を得ることができる。このため、コイル部品は、高透磁率化と優れた耐電圧性能を確保できる。さらに、このような特性を両立しながら、コイル部品の更なる小型化が可能である。
【００２２】
本発明の一実施形態では、前記外部電極の少なくとも一部は
前記複合磁性材料を含む磁性体部におけるコイル軸方向の端面に位置する。
【００２３】
前記実施形態によれば、外部電極と、コイルとの絶縁抵抗を更に高めることができる。また、耐電圧性能を高めることができる。
【００２４】
本発明の一実施形態では、複合磁性材料を含む磁性体部は、コイル軸方向に積層された複数の層を有し、前記複数の層のうち、最もコイル側に位置する層に、前記第１の磁性体粒子が含まれている。
【００２５】
前記実施形態によれば、外部電極と、コイルとの絶縁抵抗を更に高めることができる。また、耐電圧性能を高めることができる。更に、優れた高透磁率化を得ることができる。このため、コイル部品は、高透磁率化と優れた耐電圧性能を確保できる。さらに、このような特性を両立しながら、コイル部品の更なる小型化が可能である。
【００２６】
本発明の一実施形態では、前記素体は、コイルの内側に配置された第３の磁性体部を有し、前記第３の磁性体部が、前記複合磁性材料を含み、前記複合磁性材料に含まれる前記第１の磁性体粒子における第１のコアの短軸が、前記コイルの軸方向と交差するように前記第１の磁性体粒子が配列される。
【００２７】
前記実施形態によれば、コイルの内側を通る磁束に沿って第１の磁性体粒子の長軸が並ぶことになり、優れた高透磁率化を得ることができる。このため、コイル部品は、高透磁率化できる。
【００２８】
コイル部品の一実施形態では、コイルは、α巻コイル又はエッジワイズ巻コイルである。
【００２９】
前記実施形態によれば、コイル部品は、第１の磁性体粒子による優れた高透磁率化を、より効果的に得ることができる。
【発明の効果】
【００３０】
本発明の複合磁性材料によれば、高い透磁率を得ることができ、その上、優れた耐電圧性能を確保できる。また、本発明のコイル部品であれば、高い透磁率と優れた耐電圧性能の確保を両立でき、コイル部品の更なる小型化が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明のコイル部品における第１実施形態を示す斜視図である。
【図２】コイル部品の概略透視斜視図である。
【図３】コイル部品の概略断面図である。
【図４】第１の磁性体粒子の断面概略図である。
【図５】図３の拡大概略図である。
【図６】第２実施形態におけるコイル部品の一部を拡大した拡大概略図である。
【図７】第３実施形態におけるコイル部品の一部を拡大した拡大概略図である。
【図８】第４実施形態におけるコイル部品の一部を拡大した拡大概略図である。
【図９】第５実施形態におけるコイル部品の一部を拡大した拡大概略図である。
【図１０】第６実施形態におけるコイル部品の一部を拡大した拡大概略図である。
【図１１】第７実施形態におけるコイル部品の概略断面図である。
【図１２Ａ】第１の磁性体粒子の短軸方向の絶縁膜厚のＳＥＭ観察図である。
【図１２Ｂ】第１の磁性体粒子の長軸方向の絶縁膜厚のＳＥＭ観察図である。
【図１３】複合磁性材料に含まれる第１の磁性体粒子の配向性を示すＳＥＭ観察図である。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
以下、本発明を図示する実施形態に基づき、より詳細に説明する。
【００３３】
（第１実施形態）
図１は、本発明のコイル部品における第１実施形態を示す斜視図である。図２は、コイル部品の概略透視斜視図である。図３は、第１実施形態におけるコイル部品の概略断面図である。
【００３４】
図１、図２及び図３に示すように、コイル部品１は、樹脂２５と、前記樹脂２５内に設けられた第１の磁性体粒子１０とを含む複合磁性材料を含む素体２０と、素体２０内に設けられ、らせん状に巻回されたコイル２と、素体２０に設けられ、前記コイル２と電気的に接続された外部電極３ａ,３ｂとを備える。
第１実施形態において、コイル２の上側と外部電極３ａ，３ｂとの間に、第１の磁性体部２１が配置され、コイル２の下側と外部電極３ａ，３ｂにおけるコイル側との間に、第２の磁性体部２２が配置される。
また、コイル部品１は、コイル２の内側に配置された第３の磁性体部２３を有し、コイル２の外側には、第４の磁性体部２４，２５が配置される。第３の磁性体部２３、第４の磁性体部２４，２５は、樹脂２５および粒状粉（図示せず）を含む。磁性体粒子を含まない場合、第３の磁性体部、第４の磁性体部は、非磁性部とも称される。
なお、図中における第１の磁性体粒子１０は、説明のために模式化したものである。また、要求される透磁率、耐電圧性能、及びコイル部品の大きさなどに応じて、その数、寸法は適宜選択される。
また、コイル２の軸（Ｌ）は、コイル２のらせん中心線を意味し、第１の磁性体部２１と、第３の磁性体部２３と第２の磁性体部２２の端面に交差するように存在する。
【００３５】
外部電極３ａは、素体２０の左面の全体を覆うと共に、素体２０の上面、下面、前面及び後面の一部を覆っている。外部電極３ｂは、素体２０の右面の全体を覆うと共に、素体２０の上面、下面、前面及び後面の一部を覆っている。
外部電極の少なくとも一部は前記複合磁性材料を含む磁性体部におけるコイル軸方向の端面に位置する。複合磁性材料が、外部電極とコイルとの間に配置されることにより、絶縁抵抗を高め、耐電圧性能を高めることができる。
図３においては、外部電極３ａは、第１の磁性体部２１と、第２の磁性体部２２におけるコイル軸方向の端面に位置している。
なお、図３においては、外部電極３ａ,３ｂはコの字型の形態を開示しているが、外部電極の少なくとも１方はＬ字型等の形状であってもよい。
【００３６】
第１の実施形態において、素体２０は、前記コイルの軸方向の一方側に配置された、第１の磁性体部と前記コイルの軸方向の他方側に配置された、第２の磁性体部とを有する。
前記第１の磁性体部及び前記第２の磁性体部の少なくとも一方の磁性体部は、複合磁性材料を含み、前記複合磁性材料は、樹脂２５及び前記樹脂２５内に設けられた第１の磁性体粒子１０とを含む。
また、複合磁性材料に含まれる第１の磁性体粒子１０は、第１のコア１１と、前記第１のコア１１を被覆する第１の絶縁膜１２とを有する。
本実施形態では、図３に示されるように、第１のコアの長軸が、前記コイルの軸（Ｌ）方向と交差するように第１の磁性体粒子１０が配列される。これにより、第１の磁性体粒子１０同士が絶縁膜の薄い部分で隣り合うことになり、透磁率を高めることが出来る。また、外部電極がコイルの軸方向の端面に形成されている場合に、磁性体粒子１０の絶縁膜の厚い部分が外部電極とコイルとの間で並ぶことになり、コイル部品の耐圧性を高めることが出来る。
【００３７】
好ましくは、複合磁性材料を含む磁性体部は、コイル軸（Ｌ）方向に積層された複数の層を有し、前記複数の層のうち、最もコイル２側に位置する層に、前記第１の磁性体粒子１０が含まれている。好ましくは、第１のコアの長軸が、前記コイルの軸（Ｌ）方向と交差するように第１の磁性体粒子１０が配列される。
外部電極３ａ,３ｂと、コイルとの絶縁抵抗を更に高めることができる。また、耐電圧性能を高めることができる。更に、優れた高透磁率化を得ることができる。このため、コイル部品は、高透磁率化と優れた耐電圧性能を確保できる。さらに、このような特性を両立しながら、コイル部品の更なる小型化が可能である。
【００３８】
好ましくは、複合磁性材料を含む磁性体部、ずなわち、図３における第１の磁性体部２１及び第１の磁性体部２２の少なくとも一方は、コイル軸（Ｌ）方向に積層された複数の層を有してもよい。
記複数の層のうち、最もコイル２側に位置する層に、第１の磁性体粒子１０が含まれてもよい。これにより、外部電極と、コイル２との絶縁抵抗を更に高めることができる。また、耐電圧性能を高めることができる。
【００３９】
第１実施形態において、第１の磁性体粒子１０は、第１の磁性体部２１及び第２の磁性体部２２に配置される。
ここで、図４は、前記第１の磁性体粒子１０の断面概略図である。第１の磁性体粒子１０は、金属磁性材料からなる第１のコア１１と、前記第１のコア１１を被覆する第１の絶縁膜１２とを有する。第１のコア１１は、短軸（Ａ１）と長軸（Ａ２）とを有する扁平形状である。
また、第１の絶縁膜１２における第１のコア１１の長軸（Ａ２）方向の厚み（ＴＬ）は、前記第１の絶縁膜１２における第１のコア１１の短軸（Ａ１）方向の厚み（ＴＳ）よりも小さい。
第１の絶縁膜１２における第１のコア１１の長軸（Ａ２）方向の厚みと短軸（Ａ１）方向の厚みとがこのような関係を有することにより、コイルと外部電極との間に、コイルの軸方向に複合磁性材料を配置すれば、及びコイル部品における耐電圧性能、すなわち、コイル２と外部電極３ａ，３ｂとの間における耐電圧性能を確保できる。さらに、コイル部品１の表面上でのめっき異常延びを抑制できる。加えて、コイル２の間でのショートを抑制できる。
【００４０】
図５は、第１の実施形態における図３の拡大概略図である。第１の磁性体粒子１０における第１のコア１１の長軸（Ａ２）は、コイル２の軸（Ｌ）方向と交差するように、第１の磁性体粒子１０が配列される。
好ましくは、第１の磁性体粒子１０における第１のコア１１の長軸（Ａ２）とコイル２の軸（Ｌ）方向とがなす角度は、９０°±１０°であり、例えば、９０°±５°である。このような関係で第１の磁性体粒子１０を配置することにより、インダクタンス値が向上する。
【００４１】
この態様において、外部電極３ａとコイル２との間に第１の磁性体部２１が配置され、第１の磁性体部２１は、コイル２側から外部電極３ａに向かって、第１の磁性体層２１ａと、第２の磁性体層２１ｂと、第３の磁性体層２１ｃとを有する。
好ましくは、第１の磁性体層２１ａ及び第２の磁性体層２１ｂおよび第３の磁性体層２１ｃの少なくとも１層に、第１の磁性体粒子１０が含まれる。
例えば、第１の磁性体層２１ａは第１の磁性体粒子１０を含む。また、第１の実施形態においては、第２の磁性体層２１ｂおよび第３の磁性体層２１ｃにおいても第１の磁性体粒子１０を含む。
この実施形態により、外部電極３ａと、コイル２との絶縁抵抗を更に高めることができ、耐電圧性能を高めることができる。更に、優れた高透磁率化を得ることができる。このため、コイル部品は、高透磁率化と優れた耐電圧性能の確保を両立でき、その上、コイル部品の更なる小型化が可能である。
【００４２】
ここで、各磁性体層２１ａ,２１ｂ,２１ｃの界面を破線で示しているが、各磁性体層に含まれる樹脂を適宜選択することにより、磁性体層２１ａ, ２１ｂ,２１ｃ間に界面が実質的に生じることなく第１の磁性体部２１を形成できる。
好ましくは、各磁性体層２１ａ,２１ｂ,２１ｃは、同一の樹脂組成物から形成される。
【００４３】
第１の磁性体層２１ａが第１の磁性体粒子１０を含む場合、第１の磁性体層２１ａにおけるコイル２の軸（Ｌ）方向の厚みは、コイル２と外部電極３ａとの間の間隔の１／３以上の厚さ、すなわち第１の磁性体部２１の厚みの１／３以上であることが好ましい。
例えば、第１の磁性体層２１ａにおけるコイル２の軸（Ｌ）方向の厚みは、コイル２と外部電極３ａとの間に配置された第１の磁性体部２１の厚みの１／３以上４／５以下の厚さである。
これにより、外部電極３ａと、コイル２との絶縁抵抗を更に高めることができ、耐電圧性能を高めることができる。更に、優れた高透磁率化を得ることができる。
なお、本明細書においては、図において示される磁性体粒子等の数及び配置などは、発明を説明するために簡略化しており、磁性体粒子の数及び配置等の形態は、これらの図に記載されているものに限定されない。
【００４４】
以下に、コイル部品１に含まれる構成要素について、詳細に説明する。
【００４５】
素体２０は本発明に係る複合磁性材料を含み、複合磁性材料は、樹脂を含む。前記樹脂は、特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂及びポリオレフィン樹脂等が挙げられる。
第１の磁性体部２１及び第２の磁性体部２２は、同種の樹脂から構成されてもよく、異なる種類の樹脂から構成されてもよい。好ましくは同種の樹脂である。
また、第３の磁性体部２３及び第４の磁性体部２４に含まれる樹脂は、第１の磁性体部２１及び第２の磁性体部２２の少なくとも１方に含まれる樹脂と同種の樹脂であってもよく、それぞれ異なる種類の樹脂であってもよい。好ましくは同種の樹脂である。
【００４６】
以下に第１のコアの詳細を記載する。
【００４７】
第１のコア１１を形成する金属磁性材料は、軟磁性の金属材料であることが好ましい。軟磁性の金属材料として、例えば、Ｆe、Ｆｅ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ合金、Ｆｅ−Ｓｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｃｒ合金、Ｆｅ−Ｃｒ−Ａｌ合金、Ｆｅ−Ｃｒ−Ｓｉ合金、各種Ｆｅ基アモルファス合金、各種Ｆｅ基ナノ結晶合金等が挙げられる。
【００４８】
第１のコア１１は、短軸（Ａ１）と長軸（Ａ２）とを有する扁平形状であり、第１のコア１１の長軸長さは３０μｍ以上１００μｍ以下が好ましく、例えば、４０μｍ以上９０μｍ以下である。長軸の長さがこのような範囲であることにより、より高い透磁率を得ることができる。さらに、複合磁性材料としてのハンドリング性、例えば、流動性、強度等を向上することができる。
【００４９】
一方、第１のコア１１の短軸（Ａ１）の長さは、０．１２μｍ以上７μｍ以下が好ましく、より好ましくは０．１２μｍ以上５μｍ以下である。第１のコア１１の短軸（Ａ１）の長さがこのような範囲であることにより、コイル部品における磁性材料の充填率をより高くできるので、より良好に高透磁率化と優れた耐電圧性能を確保できる。これにより、例えば、コイル部品などのパワーインダクタの更なる小型化を可能にする。
第１のコア１１は、アスペクト比（長軸/短軸）を有する。このアスペクト比は、１５以上２５０以下であり、例えば２０以上２４０以下である。
【００５０】
第１のコア１１における短軸（Ａ１）方向の長さと長軸（Ａ２）方向の長さの測定は、公知の方法により行える。例えば、第１のコア１１を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、１０００倍以上５００００倍以下の倍率で観察することにより行える。
次いで、その観察像を、画像解析ソフトを使用して画像解析することにより、これらの平均長さを求めることができる。例えば、旭化成エンジニアリング株式会社製のＩＰ−１０００ＰＣの統合アプリケーションであるＡ像くん（登録商標）で取り込み、画像解析することによって、第１のコア１１における短軸（Ａ１）方向の長さと長軸（Ａ２）方向の長さの測定できる。なお、この測定を複数回繰り返し、その平均値（それぞれＮ＝２０）を、第１のコア１１における短軸（Ａ１）方向の長さと長軸（Ａ２）方向の長さとする。
【００５１】
第１の絶縁膜１２における第１のコア１１の短軸（Ａ１）方向の厚み（ＴＳ）は、例えば５０ｎｍ以上８０ｎｍ以下が好ましく、例えば、５０ｎｍ以上７０ｎｍ以下である。
第１のコア１１の短軸（Ａ１）方向の厚み（ＴＳ）がこのような範囲内であることにより、第１の磁性体粒子１０における第１のコアの短軸（Ａ１）方向において、優れた耐電圧性能を確保できる。
【００５２】
第１の絶縁膜１２における第１のコア１１の長軸（Ａ２）方向の厚み（ＴＬ）は、例えば０ｎｍ以上５０ｎｍ以下が好ましく、例えば、０．０５ｎｍ以上４０ｎｍ以下である。
第１の絶縁膜１２における厚み（ＴＬ）がこのような範囲内であることにより、第１のコア１１の長軸方向において、透磁率μ’を向上できる。
【００５３】
本発明においては、第１の絶縁膜１２における第１のコア１１の長軸（Ａ２）方向の厚み（ＴＬ）は、前記第１の絶縁膜１２における第１のコア１１の短軸（Ａ１）方向の厚み（ＴＳ）よりも小さい。すなわち、第１の絶縁膜１２において、長軸（Ａ２）方向の絶縁膜厚と短軸（Ａ１）方向の絶縁膜厚の比（長軸（Ａ２）方向の絶縁膜厚／短軸（Ａ１）方向の絶縁膜厚）は、１未満である。第１の絶縁膜１２の絶縁膜厚の比は、より好ましくは、２／３以下である。このような関係によって、より高い透磁率と優れた耐電圧性能の確保を両立できる。
【００５４】
ここで、第１の絶縁膜１２の膜厚の測定は、例えば、第１の磁性体粒子を樹脂包埋し、イオンミリングで加工した断面を、ＳＥＭ観察することにより行える。第１の絶縁膜１２における第１のコア１１の短軸（Ａ１）方向の厚み（ＴＳ）については、最も厚い部位を測定する。第１のコア１１の長軸（Ａ２）方向の厚み（ＴＬ）については、最端部位の膜厚を測定する。
このような測定を、１０個の、第１の磁性体粒子についてそれぞれ２箇所で行い、その平均値を算出することにより、第１の絶縁膜１２における第１のコア１１の短軸（Ａ１）方向の厚み（ＴＳ）と、第１のコア１１の長軸（Ａ２）方向の厚み（ＴＬ）とを求めることができる。
【００５５】
次に、第１のコア１１に第１の絶縁膜１２を形成する方法について説明する。
第１のコア１１に第１の絶縁膜１２を形成する方法は、適宜選択できる。例えば、化成処理、ゾル-ゲル法、メカノケミカル法などが挙げられる。
以下においては、化成処理により、第１のコア１１の表面に第１の絶縁膜１２を形成し、第１の磁性体粒子１０を製造する方法を例示する。
【００５６】
第１のコア１１としての軟磁性金属粉を、リン酸塩処理液中に浸漬させ、所定の温度、例えば５０℃以上６０℃以下に保持しながら、６０分以上撹拌を行い、必要とする厚みの第１の絶縁膜１２を形成する。
ここで、上記所定の温度を保持すると、リン酸塩処理液が時間と共に減少する。その後、撹拌の回転数を上げることで、第１の磁性体粒子同士が擦れ合い、長軸方向（第１の磁性体粒子のエッジ端部）に付いた絶縁膜を効果的に削り落すことができ、第１の絶縁膜１２における、第１のコア１１の長軸（Ａ２）方向の厚み（ＴＬ）を薄く制御できる。変化させる回転数は要求される膜厚差に応じて、変更できるが、２０ｒｐｍ以上上げることが好ましい。
所望の厚さの第１の絶縁膜１２を有する第１の磁性体粒子を取り出し、乾燥させることにより、第１の磁性体粒子１０を製造できる。
なお、第１の絶縁膜１２は、リン酸系の溶液から形成する方法に限らず、シリカ系の溶液などを用いてもよい。
【００５７】
次に、複合磁性材料の調製方法について説明する。
複合磁性材料の調製は、適宜選択でき、第１の磁性体粒子１０と樹脂と溶剤とを攪拌混合し、スラリーを作製することにより行ってもよい。得られたスラリーを板状に成型してもよい。また、コンマコーターなどを用いて、シート状に成型してもよい。
複合磁性材料に含まれる第１の磁性体粒子１０の配向は、磁場中で成型することで配向させてもよく、成型後に所定の圧力で加圧することにより配向させてもよい。
【００５８】
次に、コイル部品１の製造方法について説明する。
コイル部品１は、例えば、上記のようにして得られた複合磁性材料を用いて、特開２０１５−１２６２００号公報又は特開２０１７−５９５９２号公報に記載された製造方法により製造できる。なお、図３に示される第１の磁性体部２１及び第２の磁性体部２２は、同種の樹脂と、前記樹脂内に設けられた第１の磁性体粒子１０を含む。その目的に応じて、樹脂、第１の磁性体粒子１０における第１のコア１１の材質、第１の絶縁膜１２の厚さ等を変化させてもよい。
【００５９】
その他の構成については、コイル部品に求められる電気的特性、例えば、インダクタンス値、直流抵抗値、直流重畳特性等を満たすように適宜設計を行える。
【００６０】
コイル２は、例えば、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕなどの低抵抗な金属によって構成される。好ましくは、セミアディティブ工法によって形成されるＣｕめっきを用いることで、低抵抗でかつ狭ピッチなコイルを形成できる。
前記コイル２は、コイルパターン状にペーストが印刷されて形成されたコイルであってもよく、α巻コイル又はエッジワイズ巻コイルなど、金属線が巻かれて形成されたコイルであってもよく、めっき膜をフォトリソ工法でコイル状にパターニングすることにより形成されたコイルであってもよい。
前記コイル２は、α巻コイル又はエッジワイズ巻コイルであることが好ましい。コイル２がこのようなコイルであることにより、コイル部品１は、第１の磁性体粒子１０による優れた高透磁率化をより効果的に享受できる。
【００６１】
外部電極３ａ，３ｂは、例えば、Ａｇを主成分とする導電性ペーストにより下地電極を作製した後に、下地電極上にＮｉめっき及びＳｎめっきをこの順に施すことにより作製される。ただし、外部電極３ａ，３ｂの形状及び材料はこれに限らない。
【００６２】
このようなコイル部品１は、コモンモードチョークコイルである。コイル部品１は、例えば、パソコン、ＤＶＤプレーヤー、デジカメ、ＴＶ、携帯電話、カーエレクトロニクスなどの電子機器に搭載される。
【００６３】
（第２実施形態）
図６は、第２実施形態におけるコイル部品の一部を拡大し、磁性体粒子の配置を説明する拡大概略図である。
第２実施形態は、素体２０に含まれる第１の磁性体部２１Ａが、樹脂と、樹脂内に設けられた第１の磁性体粒子１０及び第２の磁性体粒子１３ａを含む実施形態である。同じく第２の磁性体部２２（図６においていは図示せず）についても、同様の構成を取り得る。
第２実施形態において、第２の磁性体粒子１３ａは、第２のコアを有し、絶縁膜を有さない。この場合、第２の磁性体粒子１３ａは第２のコアに相当する。第２の磁性体粒子１３ａにおける第２のコアは、短軸（Ｂ１）及び長軸（Ｂ２）を有し、扁平形状である。
第２の磁性体粒子１３ａが絶縁膜を有さないことで、コイル部品における磁性材料の充填率をより高くできる。これにより、良好に高透磁率化と優れた耐電圧性能を確保できる。さらに、良好に高透磁率化と優れた耐電圧性能を確保しながら、例えば、コイル部品などのパワーインダクタの更なる小型化を可能にする。
以下においては、第１実施形態との相違を中心に説明する。その他の構成は、第１実施形態と同じ構成であり、第１実施形態と同一の符号を付してその説明を省略する。
【００６４】
第２実施形態において、第１の磁性体部２１Ａは、樹脂と、前記樹脂内に設けられた第１の磁性体粒子１０と、第２の磁性体粒子１３ａを含む複合磁性材料から形成される。この実施形態により、外部電極３ａと、コイル２との絶縁抵抗を更に高めることができ、耐電圧性能を高めることができる。更に、優れた高透磁率化を得ることができる。このため、コイル部品は、高透磁率化と優れた耐電圧性能の確保を両立でき、その上、コイル部品の更なる小型化が可能である。
【００６５】
第２実施形態においては、第１の磁性体層２１ａと第３の磁性体層２１ｃは、第１の磁性体粒子１０を含む層である。第１の磁性体粒子１０の詳細は、上述の通りである。
【００６６】
第２の磁性体粒子１３ａは、第１の磁性体粒子１０の第１のコア１１が有するアスペクト比と同程度のアスペクト比を有することが好ましい。
要求される電気的特性などに応じて、第１の磁性体部２１は、第１の磁性体粒子１０および第２の磁性体粒子１３ａに加えて、球状の軟磁性金属粉を含んでもよい。
なお、第２の磁性体粒子１３ａは、絶縁膜を有してもよい。この実施形態においても、透磁率を高くすることができる。
【００６７】
（第３実施形態）
図７は、第３実施形態におけるコイル部品の一部を拡大し、磁性体粒子の配置を説明する拡大概略図である。第３実施形態においては、素体２０に含まれる第１の磁性体部２１Ｂが、樹脂と、樹脂内に設けられた第１の磁性体粒子１０及び第３の磁性体粒子１４ａを含む実施形態である。同じく第２の磁性体部２２（図７においていは図示せず）についても、同様の構成を取り得る。
すなわち、上記第２実施形態における第２の磁性体層２１ｂに含まれる、扁平状の第２の磁性体粒子１３ａを、球状の第３の磁性体粒子１４ａに換えた実施形態である。
以下においては、第１実施形態及び第２実施形態との相違を中心に説明する。
その他の構成は、第１実施形態及び第２実施形態と同じ構成であり、第１実施形態及び第２実施形態と同一の符号を付してその説明を省略する。
【００６８】
第３実施形態において、第３の磁性体粒子１４ａは、球状である。第３の磁性体粒子１４ａは、軟磁性金属粉であることが好ましい。また、所望により、第３の磁性体粒子１４ａは、絶縁膜を有してもよい。
また、最もコイル側に位置する層に、前記第１の磁性体粒子１０が含まれることが好ましい。
【００６９】
第３の磁性体粒子１４ａの平均粒径は、第１の磁性体粒子１０の第１のコア１１の短軸（Ａ１）の長さの０．５倍以上１倍以下であることが好ましい。第３の磁性体粒子１４ａの平均粒径がこの範囲であると、第１の磁性体粒子１０と第３の磁性体粒子１４ａの密着性を向上することができる。これにより、耐電圧性能を高め、更に、優れた高透磁率化を得ることができる。また、コイル部品における磁性材料の充填率をより高くできるので、より良好に高透磁率化と優れた耐電圧性能を確保できる。さらに、良好に高透磁率化と優れた耐電圧性能を確保しながら、例えば、コイル部品などのパワーインダクタの更なる小型化を可能にする。
【００７０】
第３の磁性体粒子１４ａは、少なくとも２種類の平均粒径を有する磁性体粒子の混合物であってもよい。この形態において、第３の磁性体粒子１４ａに含まれる複数の磁性体粒子におけるコアの平均粒径は、第１の磁性体粒子１０の第１のコア１１の長軸（Ａ２）の長さの０．２倍以上１．２倍以下の長さの範囲内から、適宜選択される。
第３の磁性体粒子１４ａに含まれる少なくとも２種類の磁性体粒子におけるコアの平均粒径がこのような範囲内であることにより、第１の磁性体粒子１０と第３の磁性体粒子１４ａが密着でき、第１の磁性体部２１Ｂにおける第１の磁性体粒子１０と、第３の磁性体粒子１４ａとの分散性を高めることができる。これにより、例えば、コイル部品における磁性材料の充填率をより高くでき、より良好に高透磁率化と優れた耐電圧性能の確保を両立できる。高透磁率化と優れた耐電圧性能の確保を両立しながら、コイル部品などのパワーインダクタの更なる小型化を可能にする。
【００７１】
（第４実施形態）
図８は、第４実施形態におけるコイル部品の一部を拡大し、磁性体粒子の配置を説明する拡大概略図である。第４実施形態においては、第１の磁性体部２１Ｃが、樹脂と、樹脂内に設けられた第１の磁性体粒子１０、第２の磁性体粒子１３ａ及び第３の磁性体粒子１４ａとを含む実施形態である。同じく第２の磁性体部２２（図８においていは図示せず）についても、同様の構成を取り得る。
以下においては、第１実施形態から第３実施形態との相違を中心に説明する。その他の構成は、第１実施形態から第３実施形態と同じ構成であり、第１実施形態から第３実施形態と同一の符号を付してその説明を省略する。
【００７２】
第４実施形態において、第１の磁性体部２１Ｃは、樹脂と、前記樹脂内に設けられた第１の磁性体粒子１０と、第２の磁性体粒子１３ａと第３の磁性体粒子１４ｂとを含む。この実施形態により、外部電極３ａと、コイル２との絶縁抵抗を更に高めることができ、耐電圧性能を高めることができる。更に、磁性材料の充填率をより高くできるので、優れた高透磁率化を得ることができる。このため、コイル部品は、高透磁率化と優れた耐電圧性能の確保を両立でき、その上、コイル部品の更なる小型化が可能である。
【００７３】
好ましくは、第１の磁性体層２１ａは第１の磁性体粒子１０を含み、第２の磁性体層２１ｂは第２の磁性体粒子１３ａを含み、第３の磁性体層２１ｃは、第３の磁性体粒子１４ａを含む。また、第２の磁性体粒子１３ａと第３の磁性体粒子１４ａの配置は、それぞれ入れ替えてもよく、この場合においても、最もコイル側に位置する層に、前記第１の磁性体粒子１０が含まれることが好ましい。
この実施形態により、コイル部品における磁性材料の充填率をより高くでき、より良好に高透磁率化と優れた耐電圧性能の確保を両立できる。更に、高透磁率化と優れた耐電圧性能の確保を両立しながら、コイル部品などのパワーインダクタの更なる小型化を可能にする。
【００７４】
上記第１の磁性体粒子１０、第２の磁性体粒子１３ａ及び第３の磁性体粒子１４ａの形状、素材、大きさなどの詳細は、上述の通りである。第２の磁性体粒子１３ａ及び第３の磁性体粒子１４ａの少なくとも１方は、絶縁膜を有してもよい。
【００７５】
（第５実施形態）
図９は、第５実施形態におけるコイル部品の一部を拡大し、磁性体粒子の配置を説明する拡大概略図である。第５実施形態においては、第１の磁性体部２１Ｄが、第１の磁性体粒子１０と、第２の磁性体粒子１３ｂとを含む実施形態である。同じく第２の磁性体部２２（図９においていは図示せず）についても、同様の構成を取り得る。
第５実施形態においては、第２の磁性体粒子１３ｂは、第２のコアを有する。なお、第２の磁性体粒子１３ｂは、絶縁膜を有さない場合、第２の磁性体粒子１３ｂは、第２のコアを意味する。第２の磁性体粒子１３ｂにおける第２のコアは、短軸（Ｂ１）及び長軸（Ｂ２）を有し、扁平形状である。第２の磁性体粒子１３ｂは、絶縁膜を有してもよい。
この実施形態によれば、更に透磁率を高くすることができる。
また、前記第２のコアの短軸（Ｂ１）方向の長さは前記第１のコア１１における短軸（Ａ１）方向の長さよりも短く、および／または前記第２のコアにおける長軸（Ｂ２）方向の長さは、前記第１のコア１１における短軸（Ａ１）方向の長さよりも短い。
好ましくは、前記第２のコアにおける短軸（Ｂ１）方向の長さは、前記第１のコア１１における短軸（Ａ１）方向の長さよりも短く、かつ、前記第２のコアにおける長軸（Ｂ２）方向の長さは、前記第１のコア１１における長軸（Ａ２）方向の長さよりも短い。この実施形態によれば、更に透磁率を高くすることができる。
また、コイル部品における磁性材料の充填率をより高くでき、より良好に高透磁率化と優れた耐電圧性能の確保を両立できる。更に、高透磁率化と優れた耐電圧性能の確保を両立しながら、コイル部品などのパワーインダクタの更なる小型化を可能にする。
以下においては、第１実施形態から第４実施形態との相違を中心に説明する。その他の構成は、第１実施形態から第４実施形態と同じ構成であり、第１実施形態から第４実施形態と同一の符号を付してその説明を省略する。
【００７６】
第１の磁性体粒子１０の形状、素材、大きさなどの詳細は、上述の通りである。
【００７７】
第１の磁性体粒子１０は、第１の磁性体粒子１０の第１のコア１１の長軸（Ａ２）が、前記コイルの軸（Ｌ）方向と交差するように配列される。また、第２の磁性体粒子１３ｂは、第２のコアの長軸（Ｂ２）が、前記コイルの軸（Ｌ）方向と交差するように配列される。このような配列を有することにより、絶縁膜が厚い部分をコイルと外部電極との間に並ばせることができ、耐電圧性を高くできる。また、透磁率をより高くすることができる。
好ましくは、第１の磁性体粒子１０の第１のコア１１の長軸（Ａ２）と、第２の磁性体粒子１３ｂの第２のコアの長軸（Ｂ２）とは、略平行である。
第１の磁性体粒子１０と第２の磁性体粒子１３ｂとが、コイルの軸（Ｌ）に対して上述のような関係を有することにより、より良好に高透磁率化をもたらすことができる。
【００７８】
例えば、第２の磁性体粒子１３ｂは、短絡防止のため、絶縁膜を有してもよく、この形態においては、第２の磁性体粒子１３ｂのコアの大きさが上記の条件を満たす。所望により、第２の磁性体粒子１３ｂに加えて、球状の軟磁性金属粉を、第１の磁性体部２１Ｄは含み得る。
【００７９】
ここで、第５実施形態において、第２の磁性体粒子１３ｂの前記第２のコアにおける短軸（Ｂ１）方向の長さは、前記第１のコア１１における短軸（Ａ１）方向の長さよりも短く、および／または前記第２のコアにおける長軸（Ｂ２）方向の長さは、前記第１のコア１１における長軸（Ｂ２）方向の長さよりも短い。
【００８０】
例えば、第２の磁性体粒子１３ｂにおける前記第２のコアの短軸（Ｂ１）方向の長さは、第１の磁性体粒子１０の第１のコア１１の短軸（Ａ１）方向の長さの１／３以上２／３以下であってよい。
第２の磁性体粒子１３ｂがこのような形状を有することにより、更に透磁率を高くすることができる。また、第１の磁性体粒子１０と第２の磁性体粒子１３ｂとの分散性を高めることができる。これにより、例えば、コイル部品における磁性材料の充填率をより高くでき、より良好に高透磁率化と優れた耐電圧性能の確保を両立できる。更に、コイル部品などのパワーインダクタの更なる小型化を可能にする。
【００８１】
また、例えば、第２の磁性体粒子１３ｂにおける前記第２のコアの長軸（Ｂ２）方向の長さは、第１の磁性体粒子１０の第１のコア１１の長軸（Ｂ２）方向の長さの１／３以上２／３以下であってよい。これにより、例えば、コイル部品における磁性材料の充填率をより高くでき、より良好に高透磁率化と優れた耐電圧性能の確保を両立できる。更に、コイル部品などのパワーインダクタの更なる小型化を可能にする。
【００８２】
第２の磁性体粒子１３ｂの前記第２のコアにおける短軸（Ｂ１）方向の長さは、前記第１のコア１１における短軸（Ａ１）方向の長さよりも短く、かつ、前記第２のコアにおける長軸（Ｂ２）方向の長さは、前記第１のコア１１における長軸（Ｂ２）方向の長さよりも短い場合、より効果的に上記技術効果を得ることができる。
【００８３】
また、第２の磁性体粒子１３ｂにおけるアスペクト比は、第１の磁性体粒子１０の第１のコア１１のアスペクト比と異なってもよい。異なるアスペクト比を有する磁性体粒子を用いることで、磁性体粒子の充填率を高めながら第１の磁性体粒子１０及び第２の磁性体粒子１３ｂを同一方向に配向させることができ、透磁率を向上できる。
【００８４】
第２の磁性体粒子１３ｂにおけるアスペクト比は、５以上１１０以下であってよい。また、前記第１の磁性体粒子１０における前記第１のコア１１のアスペクト比に対する、第２の磁性体粒子１３ｂにおける前記第２のコアのアスペクト比（前記第２のコアのアスペクト比／前記第１のコアのアスペクト比）は、１／４以上１／２以下であることが好ましい。
異なるアスペクト比を有する磁性体粒子を含むことで、磁性体粒子の充填率を高めながら扁平状の磁性体粒子を同一方向に配向させることができ、透磁率を向上できる。
【００８５】
ここで、第５実施形態において、第２の磁性体粒子１３ｂは、軟磁性金属粉であってよく、絶縁膜を有してもよい。第２の磁性体粒子１３ｂにおける絶縁膜は、記第１の磁性体粒子１０における第１の絶縁膜１２と同様の形態を取り得る。具体的には、第２の磁性体粒子１３ｂのコアは、短軸と長軸とを有する扁平形状であり、第２の磁性体粒子１３ｂの絶縁膜における、コアの長軸方向の厚み（ＴＬ２）は、前記絶縁膜における、コアの短軸方向の厚み（ＴＳ２）よりも小さい。
【００８６】
第２の磁性体粒子１３ｂの絶縁膜において、第２の磁性体粒子１３ｂのコアの短軸（Ｂ１）方向の厚み（ＴＳ２）は、例えば５０ｎｍ以上８０ｎｍ以下が好ましく、例えば、５０ｎｍ以上７０ｎｍ以下である。
第２の磁性体粒子１３ｂのコアの短軸（Ｂ１）方向の厚み（ＴＳ２）がこのような範囲内であることにより、第２の磁性体粒子１３ｂのコアの短軸（Ｂ１）方向において、優れた耐電圧性能を確保できる。
【００８７】
第２の磁性体粒子１３ｂの絶縁膜において、コアの長軸（Ｂ２）方向の厚み（ＴＬ２）は、例えば０ｎｍ以上５０ｎｍ以下が好ましく、例えば、０．０５ｎｍ以上４０ｎｍ以下である。絶縁膜において、コアの長軸（Ｂ２）方向の厚み（ＴＬ２）がこのような範囲内であることにより、第２のコアの第２の磁性体粒子１３ｂの長軸方向において、透磁率μ’を向上できる。
【００８８】
第２の磁性体粒子１３ｂの絶縁膜において、長軸（Ｂ２）方向の絶縁膜厚／短軸（Ｂ１）方向の絶縁膜厚の比は、１未満であり、より好ましくは２／３以下である。このような関係により、より高い透磁率と優れた耐電圧性能の確保を両立できる。ただし、第２の磁性体粒子１３ｂの絶縁膜における、コアの長軸（Ｂ２）方向の厚み（ＴＬ２）は、前記絶縁膜におけるコアの短軸（Ｂ１）方向の厚み（ＴＳ２）よりも小さい。
【００８９】
（第６実施形態）
図１０は、第６実施形態におけるコイル部品の一部を拡大し、磁性体粒子の配置を説明する拡大概略図である。第６実施形態においては、第１の磁性体部２１Ｅが、第１の磁性体粒子１０と、第３の磁性体粒子１４ｂとを含む実施形態である。同じく第２の磁性体部２２（図１０においていは図示せず）についても、同様の構成を取り得る。
第６実施形態においては、第３の磁性体粒子１４ｂは、第３のコアを有する。なお、第３の磁性体粒子１４ｃが絶縁膜を有さない形態においては第３の磁性体粒子１４ｂと第３のコアは同意義である。
この実施形態によれば、更に透磁率を高くすることができる。
以下においては、第１実施形態から第５実施形態との相違を中心に説明する。その他の構成は、第１実施形態から第５実施形態と同じ構成であり、第１実施形態から第５実施形態と同一の符号を付してその説明を省略する。
【００９０】
第６実施態様において、第１の磁性体粒子１０の形状、素材、大きさなどの詳細は、上述の通りである。
【００９１】
第３の磁性体粒子１４ｂは、球状であり、第３のコアを有し、第３のコアにおける平均粒径は、前記第１のコア１１における短軸（Ａ１）方向の長さよりも短い。
これにより、第１の磁性体粒子１０と球状の第３の磁性体粒子１４ｂとの分散性を高めることができる。また、例えば、コイル部品における磁性材料の充填率をより高くでき、より高い透磁率を導くことができる。その上、優れた耐電圧性能を確保できる。さらに、高い透磁率を有しその上、優れた耐電圧性能を確保しながら、コイル部品などのパワーインダクタの更なる小型化を可能にする。
【００９２】
第３の磁性体粒子１４ｂは、軟磁性金属粉であることが好ましい。また、第３の磁性体粒子１４ｃは、短絡防止のために、絶縁膜を有することが好ましい。
【００９３】
前記第３の磁性体粒子１４ｂにおける平均粒径は、前記第１の磁性体粒子における前記第１のコア１１の短軸（Ａ１）方向の長さの０．２倍以上０．８倍以下であることが好ましい。
これにより、第１の磁性体粒子１０と球状の第３の磁性体粒子１４ｂとの分散性を高めることができ、例えば、コイル部品における磁性材料の充填率をより高くできる。更に、より良好に高透磁率化と優れた耐電圧性能とを確保できる。また、高透磁率化と優れた耐電圧性能を確保しながら、コイル部品などのパワーインダクタの更なる小型化を可能にする。
【００９４】
第３の磁性体粒子１４ｂは、少なくとも２つの平均粒径を有する磁性体粒子の混合物であってもよい。例えば、第１の磁性体粒子１０の第１のコアの短軸（Ａ１）方向の長さの０．２倍以上０．８倍以下の長さの範囲内から、少なくとも２つの平均粒径のピーク値を有する磁性体粒子が、第３の磁性体粒子１４ｂに含まれる。少なくとも２種類の磁性体粒子１４ｃの平均粒径がそれぞれこのような範囲内であることにより、第１の磁性体粒子１０と種々の平均粒径を有する第３の磁性体粒子１４ｂが密着でき、素体２０における第１の磁性体粒子１０と第３の磁性体粒子１４ｂとの分散性を高めることができる。これにより、例えば、コイル部品１における磁性材料の充填率をより高くでき、より良好に高透磁率化と優れた耐電圧性能の確保を両立できる。また、コイル部品１などのパワーインダクタの更なる小型化を可能にする。
【００９５】
（第７実施形態）
図１１は、第７実施形態におけるコイル部品の概略断面図である。
第７実施形態において、コイル部品において、素体２０は、コイルの内側に配列された第３の磁性体部２３Ｆを有し、前記第３の磁性体部２３Ｆが、前記複合磁性材料を含み、前記複合磁性材料に含まれる前記第１の磁性体粒子１０における第１のコア１１の短軸（Ａ１）が、前記コイルの軸（Ｌ）方向と交差するように前記第１の磁性体粒子１０が配列されたコイル部品１である。
以下においては、第１実施形態との相違を中心に説明する。その他の構成は、第１実施形態と同じ構成であり、第１実施形態と同一の符号を付してその説明を省略する。
【００９６】
第７実施形態において、図４に例示される形態を有する第１の磁性体粒子１０は、第３の磁性体部２３Ｆに配置される。
また、図１１に示すように、第４の磁性体部２４Ｆに第１の磁性体粒子１０を配置してもよく、この場合においても、第１の磁性体粒子１０における第１のコア１１の短軸（Ａ１）が、前記コイルの軸（Ｌ）方向と交差するように前記第１の磁性体粒子１０が配列され得る。
好ましくは、第１のコアの短軸（Ａ１）とコイル２の軸（Ｌ）方向とがなす角度は、９０°±１０°であり、例えば、９０°±５°である。
これにより、外部電極と、コイルとの絶縁抵抗を更に高めることができる。また、耐電圧性能を高めることができる。更に、優れた高透磁率化を得ることができる。このため、コイル部品は、高透磁率化と優れた耐電圧性能を確保できる。さらに、このような特性を両立しながら、コイル部品の更なる小型化が可能である。
【００９７】
更に、第３の磁性体部２３Ｆ及び第４の磁性体部２４Ｆの少なくとも１方は、上記した第２の磁性体粒子及び第３の磁性体粒子の少なくとも１種を含んでもよい。例えば、コイル部品における磁性材料の充填率をより高くできる。更に、より良好に高透磁率化と優れた耐電圧性能を確保できる。
【００９８】
第１の磁性体部２１Ｆと、第２の磁性体部２２Ｆは、少なくとも上記樹脂を含み、所望により粒状粉（図示せず）を含んでもよい。粒状粉は、本実施形態における技術効果を損なわない範囲で、既知の粒状粉を選択でき、コイル部品に求められる電気的特性（インダクタンス値、直流抵抗値、直流重畳特性等）を満たすように適宜選択できる。
【００９９】
（実施例）
次に、第１実施形態の実施例について説明する。
（第１の磁性体粒子の製造）
扁平状ＦｅＳｉＣｒ粉を、リン酸塩処理液に浸漬させ、５５℃にて６５分撹拌を行い、化成処理を行った。この処理により、扁平状軟磁性金属粉の表面に絶縁膜を形成した。
上記化成処理において、要求される膜厚に応じて、撹拌の回転数を上げることにより、扁平状軟磁性金属粉、すなわち、第１の磁性体粒子のコアに形成された絶縁膜のうち、コアの長軸方向（扁平状金属粉のエッジ端部）に形成された絶縁膜を削り落し、コアの長軸方向に形成された絶縁膜の厚みを調整した。
次に、得られた扁平状粒子を乾燥させ、第１の磁性体粒子を製造した。
【０１００】
得られた第１の磁性体粒子の膜厚を以下のようにして測定した。
第１の磁性体粒子を樹脂包埋し、イオンミリングで加工した断面を、日立ハイテク製ＳＵ−８０４０を用いてＳＥＭ観察した。
以下の部位について、倍率１００,０００倍でＳＥＭ像を取得し、その中で絶縁膜厚の最大値を、各部位の絶縁膜厚とした。図１２ａには、第１の磁性体粒子の短軸方向の絶縁膜厚のＳＥＭ観察図を示す。この測定によると、コアの短軸方向の絶縁膜厚は１２１ｎｍであった。
また、図１２ｂには、第１の磁性体粒子の長軸方向の絶縁膜厚のＳＥＭ観察図を示す。この測定によると、コアの長軸方向の絶縁膜厚は３７ｎｍであった。
【０１０１】
上記の方法で、第１の磁性体粒子について１０粒子×２箇所（ｎ＝２０）のデータを取得し、その平均値を、第１の磁性体粒子の膜厚とした。本実施例においては、コアの短軸方向の絶縁膜厚は６５ｎｍであった。コアの長軸方向の絶縁膜厚は４０ｎｍであった。
【０１０２】
（複合磁性材料の作成）
上記で作製した第１の磁性体粒子とエポキシ樹脂、溶剤を攪拌混合し、スラリーを作製する。そのスラリーを板状に成型する。板上に成型する際に、第１の磁性体粒子の配向を行った。図１３は、複合磁性材料に含まれる第１の磁性体粒子の配向性を示すＳＥＭ観察図である。図１３において、白抜きで示される扁平状の箇所が、第１の磁性体粒子である。
【０１０３】
（コイル部品の製造）
図３の概略断面図に示される態様のコイル部品を、特開２０１５−１２６２００号公報及び特開２０１７−５９５９２号公報の製造方法に従い、コイル部品を作成した。
上記にて得られた複合磁性材料は、図３における第１の磁性体部２１及び第２の磁性体部２２に含まれる。第１の磁性体部２１及び第２の磁性体部２２の透磁率μ’(１ＭＨｚ)＝４５であった。
【０１０４】
素体２０における素体芯部は、Ｄ５０粒径がそれぞれ３５μｍ、５μｍである、絶縁膜が形成された球形状のＦｅ基アモルファス合金粉を、重量比で７５：２５の混合割合で磁性材料を含む。素体芯部の透磁率μ’(１ＭＨｚ)＝３０であった。
【０１０５】
前記実施例によると、高い透磁率と、優れた耐電圧性能の確保とを両立できた。
【０１０６】
なお、本発明は上述の実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で設計変更可能である。例えば、前記第１から前記第７実施形態のそれぞれの特徴点を様々に組み合わせてもよい。
【符号の説明】
【０１０７】
１    コイル部品
２    コイル
３ａ，３ｂ  外部電極
１０  第１の磁性体粒子
１１  第１のコア
１２  第１の絶縁膜
１３ａ，１３ｂ  第２の磁性体粒子
１４ａ，１４ｂ  第３の磁性体粒子
２０  素体
２１  第１の磁性体部
２１ａ  第１の磁性体層
２１ｂ  第２の磁性体層
２１ｃ  第３の磁性体層
２２  第２の磁性体部
２３  第３の磁性体部
２４  第４の磁性体部
２５  樹脂
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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【図１３】
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