(57)【要約】【課題】基板の表面のパターン配置領域でのパターンの寸法差を低減する。【解決手段】基板２の表面２ｓに塗布されたレジスト３を現像して表面２ｓのパターン配置領域２ｒにレジスト３のパターン３ｐを形成する現像装置１Ａで、基板保持部４により、表面２ｓに塗布されたレジスト３が露光された基板２が保持され、回転駆動機構５により、基板２を保持した基板保持部４が回転させられ、基板２の表面２ｓと対向して配置された現像液ノズル６Ａにより、基板２の表面２ｓに現像液７が吐出され、現像液ノズル６Ａが基板２の表面２ｓに現像液７を吐出する連続した吐出領域６ｒの長手方向の長さの範囲６ｌは、基板２の表面２ｓのパターン配置領域２ｒの長手方向の長さの範囲２ｌの全てに重複するため、パターン配置領域２ｒの全域で同じ濃度及び温度の現像液が一様にレジスト３に最初に接触し、パターン配置領域２ｒでのパターン３ｐの寸法差を低減することができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の表面に塗布されたレジストを現像して前記基板の前記表面のパターン配置領域に前記レジストのパターンを形成する現像装置であって、
前記表面に塗布された前記レジストが露光された前記基板を保持する基板保持部と、
前記基板を保持した前記基板保持部を前記基板の前記表面に垂直な回転軸の周りに回転させる回転駆動機構と、
前記基板保持部に保持された前記基板の前記表面と対向して配置され、前記基板の前記表面に現像液を吐出する現像液ノズルと、
を備え、
前記現像液ノズルが前記基板の前記表面に現像液を吐出する連続した吐出領域の長手方向の長さの範囲は、前記基板の前記表面の前記パターン配置領域の長手方向の長さの範囲の全てに重複する、現像装置。
【請求項２】
前記現像液ノズルは、前記基板の表面に現像液を吐出する吐出口を有し、前記吐出口の前記基板の前記表面に投影した形状は矩形を含む、請求項１に記載の現像装置。
【請求項３】
前記現像液ノズルの前記吐出口の前記基板の前記表面に投影した形状は複数の前記矩形を含む、請求項２に記載の現像装置。
【請求項４】
前記現像液ノズルの前記吐出口の前記基板の前記表面に投影した形状に含まれる複数の前記矩形のそれぞれは、前記回転駆動機構の前記回転軸と前記基板の前記表面との交点の位置で互いに交差している、請求項３に記載の現像装置。
【請求項５】
前記現像液ノズルは、前記吐出口の前記基板の前記表面に投影した形状に含まれる前記矩形の短辺に相当する部位から前記基板の前記表面に向けて突出し、吐出される前記現像液が帯状になるように誘導する外部誘導部材を有する、請求項２〜４のいずれか１項に記載の現像装置。
【請求項６】
前記現像液ノズルは、その内部に吐出される前記現像液が帯状になるように誘導する内部誘導部材を有する、請求項２〜５のいずれか１項に記載の現像装置。
【請求項７】
前記現像液ノズルは、不活性ガスをその内部に導入する不活性ガス導入部を有する、請求項２〜６のいずれか１項に記載の現像装置。
【請求項８】
基板の表面に塗布されたレジストを現像して前記基板の前記表面のパターン配置領域に前記レジストのパターンを形成する現像方法であって、
現像装置の基板保持部により、前記表面に塗布された前記レジストが露光された前記基板を保持する基板保持工程と、
前記現像装置の回転駆動機構により、前記基板保持工程で前記基板を保持した前記基板保持部を前記基板の前記表面に垂直な回転軸の周りに回転させる回転駆動工程と、
前記回転駆動工程により回転させられている前記基板保持部に保持された前記基板の前記表面と対向して配置された前記現像装置の現像液ノズルにより、前記回転駆動工程により回転させられている前記基板保持部に保持された前記基板の前記表面に現像液を吐出する現像液吐出工程と、
を備え、
前記現像液ノズルが前記基板の前記表面に現像液を吐出する連続した吐出領域の長手方向の長さの範囲は、前記基板の前記表面の前記パターン配置領域の長手方向の長さの範囲の全てに重複する、現像方法。
【請求項９】
前記現像液吐出工程では、前記基板の表面に現像液を吐出する吐出口を有し、前記吐出口の前記基板の前記表面に投影した形状が矩形を含む前記現像液ノズルにより、前記基板の前記表面に前記現像液を吐出する、請求項８に記載の現像方法。
【請求項１０】
前記現像液吐出工程では、前記吐出口の前記基板の前記表面に投影した形状が複数の前記矩形を含む前記現像液ノズルにより、前記基板の前記表面に前記現像液を吐出する、請求項９に記載の現像方法。
【請求項１１】
前記現像液吐出工程では、前記現像液ノズルの前記吐出口の前記基板の前記表面に投影した形状に含まれる複数の前記矩形のそれぞれが前記回転駆動機構の前記回転軸と前記基板の前記表面との交点の位置で互いに交差している前記現像液ノズルにより、前記基板の前記表面に前記現像液を吐出する、請求項１０に記載の現像方法。
【請求項１２】
前記現像液吐出工程では、前記現像液ノズルの前記吐出口の前記基板の前記表面に投影した形状に含まれる前記矩形の短辺に相当する部位から前記基板の前記表面に向けて突出した外部誘導部材により、吐出される前記現像液が帯状になるように誘導しつつ前記基板の前記表面に前記現像液を吐出する、請求項９〜１１のいずれか１項に記載の現像方法。
【請求項１３】
前記現像液吐出工程では、前記現像液ノズルの内部の内部誘導部材により、吐出される前記現像液が帯状になるように誘導しつつ前記基板の前記表面に前記現像液を吐出する、請求項９〜１２のいずれか１項に記載の現像方法。
【請求項１４】
前記現像液吐出工程では、前記現像液ノズルの不活性ガス導入部により、前記現像液ノズルの内部に不活性ガスを導入しつつ前記基板の前記表面に前記現像液を吐出する、請求項９〜１３のいずれか１項に記載の現像方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、現像装置及び現像方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィにおけるレジストの現像では、半導体ウェハ等からなる基板の表面にレジストが膜状に塗布され、レジストが露光された後に、現像液ノズルから現像液が基板の中央部へと吐出される。この場合、基板はスピンチャックによって吸着され、且つ回転させられている。基板の回転によって、基板においてレジストの上へ供給された現像液は基板の中央部から周縁部へと拡げられる。
【０００３】
基板の回転が停止され、現像液の表面張力によりレジストの上へ現像液を保持させた状態のまま基板が一定時間静止させられる。静止時間中に現像液によるレジストの現像反応が進行する。スピンチャックによって基板が回転させられ、純水ノズルから純水が基板へと吐出される。吐出された純水が現像液を洗い流すことによって、基板が洗浄される。基板が回転させられ、純水を振り切ることによって、基板の表面を乾燥させる。
【０００４】
しかし、このような現像方法によれば、最初に現像液は基板の中央部に供給され、基板の中央部のレジストと反応した現像液が基板の周縁部へと拡げられるため、基板の中央部と周辺部とで現像液の濃度、現像液の温度及び現像液とレジストとの反応生成物の濃度等にバラツキが生じ、基板の周縁部においてレジストのパターンの幅が細くなる問題がある。そこで、例えば、特許文献１では、回転させられている基板の中央部に現像液が吐出され、現像液が基板の周縁部へと拡がった後に、スピンチャックの回転と停止とを繰り返し、レジスト上の現像液を攪拌することにより、パターンの寸法差を低減しようとする現像方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平１１−２３８６７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、上記のような技術においても、新しい現像液は常に基板の中央部に供給されてしまい、基板の周縁部には基板の中央部のレジストと反応した現像液が供給されてしまうため、基板の中央部は基板の周縁部よりも現像速度が速くなり、現像液が基板の表面の全域に広がるまでに、基板の中央部と基板の周縁部とのパターンの寸法に差異が生じてしまう。このパターンの寸法差は、その後にレジスト上の現像液を撹拌しても改善することはできないという問題がある。
【０００７】
そこで本発明は、基板の表面のパターン配置領域でのパターンの寸法差を低減することができる現像装置及び現像方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、基板の表面に塗布されたレジストを現像して基板の表面のパターン配置領域にレジストのパターンを形成する現像装置であって、表面に塗布されたレジストが露光された基板を保持する基板保持部と、基板を保持した基板保持部を基板の表面に垂直な回転軸の周りに回転させる回転駆動機構と、基板保持部に保持された基板の表面と対向して配置され、基板の表面に現像液を吐出する現像液ノズルとを備え、現像液ノズルが基板の表面に現像液を吐出する連続した吐出領域の長手方向の長さの範囲は、基板の表面のパターン配置領域の長手方向の長さの範囲の全てに重複する現像装置である。
【０００９】
この構成によれば、基板の表面に塗布されたレジストを現像して基板の表面のパターン配置領域にレジストのパターンを形成する現像装置において、基板保持部により、表面に塗布されたレジストが露光された基板が保持され、回転駆動機構により、基板を保持した基板保持部が基板の表面に垂直な回転軸の周りに回転させられ、基板保持部に保持された基板の表面と対向して配置された現像液ノズルにより、基板の表面に現像液が吐出され、現像液ノズルが基板の表面に現像液を吐出する連続した吐出領域の長手方向の長さの範囲は、基板の表面のパターン配置領域の長手方向の長さの範囲の全てに重複するため、基板の表面のパターン配置領域の全域において同じ濃度及び温度の現像液が一様にレジストに最初に接触することになり、基板の表面のパターン配置領域でのパターンの寸法差を低減することができる。
【００１０】
この場合、現像液ノズルは、基板の表面に現像液を吐出する吐出口を有し、吐出口の基板の表面に投影した形状は矩形を含むことが好適である。
【００１１】
この構成によれば、現像液ノズルは、基板の表面に現像液を吐出する吐出口を有し、吐出口の基板の表面に投影した形状は矩形を含むため、単純な構成の現像液ノズルにより、基板の表面のパターン配置領域でのパターンの寸法差を低減することができる。
【００１２】
この場合、現像液ノズルの吐出口の基板の表面に投影した形状は複数の矩形を含むことが好適である。
【００１３】
この構成によれば、現像液ノズルの吐出口の基板の表面に投影した形状は複数の矩形を含むため、単純な構成の現像液ノズルにより、吐出領域を拡大することによって現像の時間を短縮しつつ基板の表面のパターン配置領域でのパターンの寸法差を低減することができる。
【００１４】
この場合、現像液ノズルの吐出口の基板の表面に投影した形状に含まれる複数の矩形のそれぞれは、回転駆動機構の回転軸と基板の表面との交点の位置で互いに交差していることが好適である。
【００１５】
この構成によれば、現像液ノズルの吐出口の基板の表面に投影した形状に含まれる複数の矩形のそれぞれは、回転駆動機構の回転軸と基板の表面との交点の位置で互いに交差しているため、単純な構成の現像液ノズルにより、吐出領域を拡大することによって現像の時間を短縮しつつ基板の表面のパターン配置領域でのパターンの寸法差をより低減することができる。
【００１６】
また、現像液ノズルは、吐出口の基板の表面に投影した形状に含まれる矩形の短辺に相当する部位から基板の表面に向けて突出し、吐出される現像液が帯状になるように誘導する外部誘導部材を有することが好適である。
【００１７】
この構成によれば、現像液ノズルは、吐出口の基板の表面に投影した形状に含まれる矩形の短辺に相当する部位から基板の表面に向けて突出し、吐出される現像液が帯状になるように誘導する外部誘導部材を有するため、現像液ノズルから帯状の現像液が吐出され易くなり、基板の表面のパターン配置領域でのパターンの寸法差をより低減することができる。
【００１８】
また、現像液ノズルは、その内部に吐出される現像液が帯状になるように誘導する内部誘導部材を有することが好適である。
【００１９】
この構成によれば、現像液ノズルは、その内部に吐出される現像液が帯状になるように誘導する内部誘導部材を有するため、現像液ノズルから帯状の現像液が吐出され易くなり、基板の表面のパターン配置領域でのパターンの寸法差をより低減することができる。
【００２０】
また、現像液ノズルは、不活性ガスをその内部に導入する不活性ガス導入部を有することが好適である。
【００２１】
この構成によれば、現像液ノズルは、不活性ガスをその内部に導入する不活性ガス導入部を有するため、不活性ガス導入部により現像液ノズルの内部の現像液が拡散され、現像液ノズルから帯状の現像液が吐出され易くなり、基板の表面のパターン配置領域でのパターンの寸法差をより低減することができる。
【００２２】
一方、基板の表面に塗布されたレジストを現像して基板の表面のパターン配置領域にレジストのパターンを形成する現像方法であって、現像装置の基板保持部により、表面に塗布されたレジストが露光された基板を保持する基板保持工程と、現像装置の回転駆動機構により、基板保持工程で基板を保持した基板保持部を基板の表面に垂直な回転軸の周りに回転させる回転駆動工程と、回転駆動工程により回転させられている基板保持部に保持された基板の表面と対向して配置された現像装置の現像液ノズルにより、回転駆動工程により回転させられている基板保持部に保持された基板の表面に現像液を吐出する現像液吐出工程とを備え、現像液ノズルが基板の表面に現像液を吐出する連続した吐出領域の長手方向の長さの範囲は、基板の表面のパターン配置領域の長手方向の長さの範囲の全てに重複する現像方法である。
【００２３】
この場合、現像液吐出工程では、基板の表面に現像液を吐出する吐出口を有し、吐出口の基板の表面に投影した形状が矩形を含む現像液ノズルにより、基板の表面に現像液を吐出することが好適である。
【００２４】
この場合、現像液吐出工程では、吐出口の基板の表面に投影した形状が複数の矩形を含む現像液ノズルにより、基板の表面に現像液を吐出することが好適である。
【００２５】
この場合、現像液吐出工程では、現像液ノズルの吐出口の基板の表面に投影した形状に含まれる複数の矩形のそれぞれが回転駆動機構の回転軸と基板の表面との交点の位置で互いに交差している現像液ノズルにより、基板の表面に現像液を吐出することが好適である。
【００２６】
また、現像液吐出工程では、現像液ノズルの吐出口の基板の表面に投影した形状に含まれる矩形の短辺に相当する部位から基板の表面に向けて突出した外部誘導部材により、吐出される現像液が帯状になるように誘導しつつ基板の表面に現像液を吐出することが好適である。
【００２７】
また、現像液吐出工程では、現像液ノズルの内部の内部誘導部材により、吐出される現像液が帯状になるように誘導しつつ基板の表面に現像液を吐出することが好適である。
【００２８】
また、現像液吐出工程では、現像液ノズルの不活性ガス導入部により、現像液ノズルの内部に不活性ガスを導入しつつ基板の表面に現像液を吐出することが好適である。
【発明の効果】
【００２９】
本発明の現像装置及び現像方法によれば、基板の表面のパターン配置領域でのパターンの寸法差を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】（Ａ）は第１実施形態に係る現像装置を示す縦断面図であり、（Ｂ）は第１実施形態に係る現像装置の現像液ノズルの吐出口における横断面図である。
【図２】（Ａ）は第２実施形態に係る現像装置を示す縦断面図であり、（Ｂ）は第１実施形態に係る現像装置の現像液ノズルの吐出口における横断面図である。
【図３】第３実施形態に係る現像装置を示す縦断面図である。
【図４】第４実施形態に係る現像装置を示す縦断面図である。
【図５】第５実施形態に係る現像装置を示す縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下、本発明の実施形態について図面を用いて詳細に説明する。図１（Ａ）及び図１（Ｂ）に示すように、本発明の第１実施形態の現像装置１Ａは、基板２の表面２ｓに塗布されたレジスト３を現像して基板２の表面２ｓのパターン配置領域２ｒにレジスト３のパターン３ｐを形成する。現像装置１Ａは、基板保持部４と、回転駆動機構５と、現像液ノズル６Ａとを備える。
【００３２】
基板保持部４は、表面２ｓに塗布されたレジスト３が露光された基板２を保持する。基板保持部４は、例えば、基板２を保持する爪や真空吸着機能を有し、基板２の表面２ｓが水平方向と平行になるように保持する。回転駆動機構５は、基板２を保持した基板保持部４を基板２の表面２ｓに垂直な回転軸５ｘの周りに回転させる。つまり、回転駆動機構５は、基板保持部４を鉛直軸周りに回転させる。回転駆動機構５は、少なくとも、例えば、ステッピングモータ、ＤＣ（DirectCurrent）モータ、ブラシレスＤＣモータなど回転運動を発生させるモータと、モータを制御する回転制御部と有する。
【００３３】
現像液ノズル６Ａは、基板保持部４に保持された基板２の表面２ｓと対向して配置され、基板２の表面２ｓに現像液７を吐出する。現像液ノズル６Ａは、基板２の表面２ｓに現像液７を吐出する吐出口６ｄを有し、吐出口６ｄの基板２の表面２ｓに投影した形状は矩形を含む。矩形は、長手方向の長さの範囲６ｌと、短手方向の長さの範囲６ｓとを含む。現像液ノズル６Ａが基板２の表面２ｓに現像液７を吐出する連続した吐出領域６ｒの長手方向の長さの範囲６ｌは、基板２の表面２ｓのパターン配置領域２ｒの長手方向の長さの範囲２ｌの全てに重複する。
【００３４】
本実施形態では、吐出口６ｄの基板２の表面２ｓに投影した形状である吐出領域６ｒの長手方向の長さの範囲６ｌは、少なくともレジスト３が塗布された基板２の表面２ｓの直径と同じであるか、基板２の表面２ｓの直径以上である。現像液ノズル６Ａの吐出口６ｄは、少なくとも現像液７の吐出時にレジスト３が塗布された基板２の表面２ｓと対向し、基板２の回転軸５ｘと矩形の吐出口６ｄの吐出領域６ｒの中心とを一致させた基板２の上方の位置に配置される。現像液ノズル６Ａは、不図示の昇降機構により回転駆動機構５の回転軸５ｘに平行な方向に昇降させられる。また、現像装置１Ａは、不図示のリンス液ノズルを備える。
【００３５】
以下、本実施形態の現像方法について説明する。現像装置１Ａの基板保持部４により、表面２ｓに塗布されたレジスト３が露光された基板２を保持する基板保持工程が行われる。基板保持工程では、レジスト３が塗布された基板２の表面２ｓが上面にされ、かつ基板保持部４の回転軸５ｘと基板２の中心とがほぼ一致させられて、基板保持部４に基板２が保持される。昇降機構により現像液ノズル６Ａが下降させられ、吐出口６ｄと基板２の表面２ｓとの間隔が５ｍｍ程度になるように設定する。吐出口２ｄの中心と基板２の中心とが一致した位置に現像液ノズル６Ａが配置される。この現像液ノズル６Ａの位置が現像液７の吐出位置とされる。
【００３６】
現像装置１Ａの回転駆動機構５により、基板保持工程で基板２を保持した基板保持部４を基板２の表面２ｓに垂直な回転軸５ｘの周りに回転させる回転駆動工程が行われる。基板２の回転速度は３００ｒｐｍ以下が望ましい。回転駆動工程により回転させられている基板保持部４に保持された基板２の表面２ｓと対向して配置された現像装置１Ａの現像液ノズル６Ａにより、回転駆動工程により回転させられている基板保持部４に保持された基板２の表面２ｓに現像液７を吐出する現像液吐出工程が行われる。
【００３７】
上述したように、現像液吐出工程では、基板２の表面２ｓに現像液７を吐出する吐出口６ｄを有し、吐出口６ｄの基板２の表面２ｓに投影した形状が矩形を含む現像液ノズル６Ａにより、基板２の表面２ｓに現像液７が吐出される。現像液ノズル６Ａが基板２の表面２ｓに現像液７を吐出する連続した吐出領域６ｒの長手方向の長さの範囲６ｌは、基板２の表面２ｓのパターン配置領域２ｒの長手方向の長さの範囲２ｌの全てに重複する。このため、回転駆動工程により基板保持部４を回転させることにより基板２を回転させつつ、現像液吐出工程により現像液７が帯状に吐出することにより基板２の表面２ｓの全面に均一に液盛がなされる。
【００３８】
回転駆動工程により、回転状態の基板２の上に載置可能な最大液量にほぼ相当するような現像液７が供給された後に、現像液ノズル６Ａから現像液７の吐出が停止される。その回転速度のまま、１５秒間〜２０秒間の現像が行われる。この現像の際、現像液ノズル６Ａが現像液７の吐出位置よりも上方の待機位置に一旦退避させられてもよいが、現像液７の供給時の吐出位置において吐出口６ｄと基板２の表面２ｓとの間隔を保っていてもよい。現像液ノズル６Ａを退避させる場合は、現像液ノズル６Ａを基板２の表面２ｓに対し鉛直方向に上昇させるように退避させることが必要である。以上の工程により現像が終了する。
【００３９】
次に、不図示のリンス液ノズルを回転軸５ｘの中心に配置するとともに、基板２の回転速度を上昇させてリンス液（純水）を供給し、２秒間のリンスを行う。これにより現像を完全に停止させるとともに、表面２ｓのレジスト溶解物を除去する。リンス液供給時の基板２の回転速度は８００ｒｐｍ程度が望ましい。最後に基板２の回転速度を４５００ｒｐｍ程度に上昇させ、１５秒間の乾燥を行い基板２の表面２ｓのリンス液を遠心力により振り切る。これにより現像の全行程が終了する。
【００４０】
上述したように、基板の中央部に現像液が吐出された後にレジスト上の現像液を攪拌する技術では、新しい現像液は常に基板の中央部に供給されてしまい、基板の周縁部には基板の中央部のレジストと反応した現像液が供給されてしまうため、基板の中央部と基板の周縁部とのパターンの寸法に差異が生じてしまう欠点がある。
【００４１】
また、基板の中央部と周縁部とパターンの寸法の差異を改善する目的で、基板の直径と同じ直径又は基板の直径以上の直径の平坦な底面に多数のノズル孔が設けられた現像ノズルのノズル孔より一斉に現像液を吐出されることにより、基板の中央部と周縁部とに同時に現像液を供給する方法も考えられる。しかし、このような方法では、各ノズル孔から吐出された現像液は、各々独立して基板の上に形成されたレジストに供給されるため、厳密にはノズル孔から現像液が直接滴下されるエリアと直接滴下されないエリアとが生じてしまう。ノズル孔から現像液が直接滴下されるエリアの方が現像液が直接滴下されないエリアよりも現像速度が速くなり、現像液が直接滴下されるエリアと直接滴下されないエリアとでパターン寸法に僅かな差異が生じてしまう。
【００４２】
一方、本実施形態では、基板２の表面２ｓに塗布されたレジスト３を現像して基板２の表面２ｓのパターン配置領域２ｒにレジスト３のパターン３ｐを形成する現像装置１Ａにおいて、基板保持部４により、表面２ｓに塗布されたレジスト３が露光された基板２が保持され、回転駆動機構５により、基板２を保持した基板保持部４が基板２の表面２ｓに垂直な回転軸５ｘの周りに回転させられ、基板保持部４に保持された基板２の表面２ｓと対向して配置された現像液ノズル６Ａにより、基板２の表面２ｓに現像液７が吐出され、現像液ノズル６Ａが基板２の表面２ｓに現像液７を吐出する連続した吐出領域６ｒの長手方向の長さの範囲６ｌは、基板２の表面２ｓのパターン配置領域２ｒの長手方向の長さの範囲２ｌの全てに重複するため、基板２の表面２ｓのパターン配置領域２ｒの全域において同じ濃度及び温度の現像液が一様にレジスト３に最初に接触することになり、基板２の表面２ｓのパターン配置領域２ｒでのパターン３ｐの寸法差を低減することができる。
【００４３】
また、本実施形態では、現像液ノズル６Ａは、基板２の表面２ｓに現像液７を吐出する吐出口６ｄを有し、吐出口６ｄの基板２の表面２ｓに投影した形状は矩形を含むため、単純な構成の現像液ノズル６Ａにより、基板２の表面２ｓのパターン配置領域２ｒでのパターン３ｐの寸法差を低減することができる。つまり、本実施形態では、現像液７を帯状とし、基板２を回転させ、基板２の中心部から周縁部まで現像液７が均一に供給されるため、現像液７がレジスト３に接触している時間は基板２の中心部と周縁部とで均一である。よって、基板２の中心部から周縁部まで均一に現像することが可能となる。
【００４４】
以下、本発明の第２実施形態について説明する。図２（Ａ）及び図２（Ｂ）に示すように、本実施形態の現像装置１Ｂでは、現像液ノズル６Ｂの吐出口６ｄの基板２の表面２ｓに投影した形状は複数の矩形を含む。また、現像液ノズル６Ｂの吐出口６ｄの基板２の表面２ｓに投影した形状に含まれる複数の矩形のそれぞれは、回転駆動機構５の回転軸５ｘと基板２の表面２ｓとの交点の位置で互いに交差している。
【００４５】
具体的には、本実施形態の現像装置１Ｂでは、現像液ノズル６Ｂの吐出口６ｄの基板２の表面２ｓに投影した形状は２つの矩形を含み、２つの矩形のそれぞれは回転駆動機構５の回転軸５ｘと基板２の表面２ｓとの交点の位置で互いに直交して十字をなすように交差している。現像液吐出工程では、上記の現像液ノズル６Ｂにより、基板２の表面２ｓに現像液が吐出される。
【００４６】
上記の構成以外は、本実施形態の現像装置１Ｂは上記第１実施形態の現像装置１Ａと同様である。なお、本実施形態において、現像液ノズル６Ｂの吐出口６ｄの基板２の表面２ｓに投影した形状は３つ以上の矩形を含み、３つ以上の矩形のそれぞれは回転駆動機構５の回転軸５ｘと基板２の表面２ｓとの交点の位置で交差していてもよい。
【００４７】
本実施形態によれば、現像液ノズル６Ｂの吐出口６ｄの基板２の表面２ｓに投影した形状は複数の矩形を含むため、単純な構成の現像液ノズル６Ｂにより、吐出領域６ｒを拡大することによって現像の時間を短縮しつつ基板２の表面２ｓのパターン配置領域２ｒでのパターン３ｐの寸法差を低減することができる。
【００４８】
また、本実施形態によれば、現像液ノズル６Ｂの吐出口６ｄの基板２の表面２ｓに投影した形状に含まれる複数の矩形のそれぞれは、回転駆動機構５の回転軸５ｘと基板２の表面２ｓとの交点の位置で互いに交差しているため、単純な構成の現像液ノズル６Ｂにより、吐出領域６ｒを拡大することによって現像の時間を短縮しつつ基板２の表面２ｓのパターン配置領域２ｒでのパターン３ｐの寸法差をより低減することができる。
【００４９】
以下、本発明の第３実施形態について説明する。図３に示すように、本実施形態の現像装置１Ｃでは、現像液ノズル６Ｃは、吐出口６ｄの基板２の表面２ｓに投影した形状に含まれる矩形の短辺に相当する部位の範囲６ｓのそれぞれから基板２の表面２ｓに向けて突出し、吐出される現像液７が帯状になるように誘導する一対の外部誘導部材６ｏを有する。外部誘導部材６ｏは、例えば、複数の毛、糸、繊維及び線材のいずれかを範囲６ｓに沿って刷毛状に配置することにより構成することができる。また、外部誘導部材６ｏは、板材の表面を範囲６ｓに沿って配置することにより構成することができる。外部誘導部材６ｏは、現像液７に対して表面張力が低く、濡れ易いことが好ましい。
【００５０】
現像液吐出工程では、現像液ノズル６Ｃの吐出口６ｄの基板２の表面２ｓに投影した形状に含まれる矩形の短辺に相当する部位から基板２の表面２ｓに向けて突出した外部誘導部材６ｏにより、吐出される現像液７が帯状になるように誘導されつつ基板２の表面２ｓに現像液７が吐出される。上記以外は、上記第１実施形態の現像装置１Ａと同様である。なお、上記の本実施形態の現像液ノズル６Ｃの構成が上記第２実施形態の現像装置１Ｂに適用されてもよい。
【００５１】
本実施形態によれば、現像液ノズル６Ｃは、吐出口６ｄの基板２の表面２ｓに投影した形状に含まれる矩形の短辺に相当する部位の範囲６ｓから基板２の表面２ｓに向けて突出し、吐出される現像液７が帯状になるように誘導する外部誘導部材６ｏを有するため、現像液ノズル６Ｃから帯状の現像液７が吐出され易くなり、基板２の表面２ｓのパターン配置領域２ｒでのパターン３ｐの寸法差をより低減することができる。特に本実施形態によれば、１２インチ（３０４．８ｍｍ）以上の大型の基板２の現像において、基板２の中央部と周縁部とのパターン３ｐの寸法差をより低減することができる。
【００５２】
以下、本発明の第４実施形態について説明する。図４に示すように、本実施形態の現像装置１Ｄでは、現像液ノズル６Ｄは、その内部に吐出される現像液７が帯状になるように誘導する複数の内部誘導部材６ｉを有する。内部誘導部材６ｉのそれぞれは、例えば、現像液ノズル６Ｄの内部で、吐出口６ｄの基板２の表面２ｓに投影した形状に含まれる矩形の短辺に相当する部位の範囲６ｓに亘ってその表面が延在する板材である。内部誘導部材６ｉの板材のそれぞれは、吐出口６ｄの基板２の表面２ｓに投影した形状に含まれる矩形の長辺に相当する部位の範囲６ｌに亘って現像液７が拡がるように現像液７を放射状に誘導する方向にその表面が延在する。内部誘導部材６ｉは、現像液７に対して表面張力が低く、濡れ易いことが好ましい。
【００５３】
現像液吐出工程では、現像液ノズル６Ｄの内部の内部誘導部材６ｉにより、吐出される現像液７が帯状になるように誘導されつつ基板２の表面２ｓに現像液７が吐出される。上記以外は、上記第１実施形態の現像装置１Ａと同様である。なお、上記の本実施形態の現像液ノズル６Ｄの構成が上記第２実施形態の現像装置１Ｂ又は上記第３実施形態の現像装置１Ｃに適用されてもよい。
【００５４】
本実施形態によれば、現像液ノズル６Ｄは、その内部に吐出される現像液７が帯状になるように誘導する内部誘導部材６ｉを有するため、現像液ノズル６Ｄから帯状の現像液７が吐出され易くなり、基板２の表面２ｓのパターン配置領域２ｒでのパターン３ｐの寸法差をより低減することができる。
【００５５】
以下、本発明の第５実施形態について説明する。図５に示すように、本実施形態の現像装置１Ｅでは、現像液ノズル６Ｅは、Ａｒ、Ｎ２等の不活性ガス８をその内部に導入する不活性ガス導入部６ｇを有する。不活性ガス導入部６ｇは、現像液ノズル６Ｅの内部に対称に設けられていることが好ましい。
【００５６】
現像液吐出工程では、現像液ノズル６Ｅの不活性ガス導入部６ｇにより、現像液ノズル６Ｅの内部に不活性ガス８が導入されつつ基板２の表面２ｓに現像液７が吐出される。上記以外は、上記第１実施形態の現像装置１Ａと同様である。なお、上記の本実施形態の現像液ノズル６Ｅの構成が上記第２実施形態の現像装置１Ｂ、上記第３実施形態の現像装置１Ｃ又は上記第４実施形態の現像装置１Ｄに適用されてもよい。
【００５７】
本実施形態によれば、現像液ノズル６Ｅは、不活性ガス８をその内部に導入する不活性ガス導入部６ｇを有するため、不活性ガス導入部６ｇにより現像液ノズル６Ｅの内部の現像液７が拡散され、現像液ノズル６Ｅから帯状の現像液７が吐出され易くなり、基板２の表面２ｓのパターン配置領域２ｒでのパターン３ｐの寸法差をより低減することができる。
【００５８】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されることなく様々な形態で実施される。例えば、現像液ノズル６Ａ，６Ｂ，６Ｃ，６Ｄ，６Ｅにおいて、吐出口６ｄの形状は適宜変更し得る。
【００５９】
（実施例）
図１に示す現像装置１Ａにより、４インチ（１０１．６ｍｍ）のＳｉウェハの基板２に、設計寸法が１．５μｍのＬ／Ｓ（Ｌｉｎｅ／Ｓｐａｃｅ）からなるレジスト３のパターン３ｐを形成した。パターン３ｐの線幅のバラツキ（σ：標準偏差）は、３σ＝０．０４０２５μｍであった。一方、比較例として、現像装置１Ａの現像液ノズル６Ａを内径２ｍｍの現像液ノズルに交換後、同じ現像条件で４インチのＳｉウェハに設計寸法が１．５μｍのＬ／Ｓからなるレジスト３のパターン３ｐを形成した。パターン３ｐの線幅のバラツキ（σ：標準偏差）は、３σ＝０．１２０７５μｍであった。これより、本実施形態の現像装置１Ａにより、基板２の表面２ｓのパターン配置領域２ｒでのパターン３ｐの寸法差を低減することができることが判る。
【符号の説明】
【００６０】
１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄ，１Ｅ…現像装置、２…基板、２ｓ…表面、２ｒ…パターン配置領域、２ｌ…範囲、３…レジスト、３ｐ…パターン、４…基板保持部、５…回転駆動機構、５ｘ…回転軸、６Ａ，６Ｂ，６Ｃ，６Ｄ，６Ｅ…現像液ノズル、６ｒ…吐出領域、６ｌ，６ｓ…範囲、６ｄ…吐出口、６ｏ…外部誘導部材、６ｉ…内部誘導部材、７…現像液、８…不活性ガス。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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