(57)【要約】【課題】Ｘ線検出画像の歪みを抑制することができるＸ線検査装置を提供すること。【解決手段】  Ｘ線検査装置は、Ｘ線を射出するＸ線発生装置と、前記Ｘ線発生装置に対して前記Ｘ線が射出する方向に設けられた試料設置部と、前記試料設置部に対して前記Ｘ線発生装置とは反対側において、回動軸を中心に回動可能に設けられた、湾曲したＸ線検出器と、を有する。前記Ｘ線発生装置は、射出軸を中心として放射状に前記Ｘ線を射出してもよい。前記射出軸は、前記回動軸であってもよい。【選択図】図１
2019191025.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線を射出するＸ線発生装置と、
前記Ｘ線発生装置に対して前記Ｘ線が射出する方向に設けられた試料設置部と、
前記試料設置部に対して前記Ｘ線発生装置とは反対側において、回動軸を中心に回動可能に設けられた、湾曲したＸ線検出器と、を有するＸ線検査装置。
【請求項２】
前記Ｘ線発生装置は、射出軸を中心として放射状に前記Ｘ線を射出し、
前記射出軸は、前記回動軸である、請求項１に記載のＸ線検査装置。
【請求項３】
前記試料設置部は、試料を配置する主面を有し、
前記Ｘ線検出器は、前記主面に平行な方向において前記Ｘ線発生装置から離れるにしたがって、前記主面に近づくように湾曲している、請求項１又は２に記載のＸ線検査装置。
【請求項４】
前記Ｘ線発生装置は、前記Ｘ線を出射する射出口を有し、
前記Ｘ線検出器の形状は、前記射出口を中心とする球状又は回転楕円体の外殻の一部を含む形状である、請求項１乃至３のいずれか一に記載のＸ線検査装置。
【請求項５】
前記Ｘ線検出器は、前記試料設置部に対向する湾曲面を有し、
前記湾曲面には、複数の検出素子が位置する、請求項１乃至４のいずれか一に記載のＸ線検査装置。
【請求項６】
前記Ｘ線発生装置と前記複数の検出素子の各々との距離が等しい、請求項５に記載のＸ線検査装置。
【請求項７】
Ｘ線を射出するＸ線発生装置と、
前記Ｘ線発生装置に対して前記Ｘ線が射出する方向に設けられた試料設置部と、
前記試料設置部に対して前記Ｘ線発生装置とは反対側に設けられ、前記試料設置部から遠ざかる方向へ凸に湾曲した複数のＸ線検出器と、を有するＸ線検査装置。
【請求項８】
前記Ｘ線発生装置は、射出軸を中心として放射状に前記Ｘ線を射出し、
前記複数のＸ線検出器は、前記射出軸の周りに位置する、請求項７に記載のＸ線検査装置。
【請求項９】
前記試料設置部は、試料を配置する主面を有し、
前記複数のＸ線検出器の各々は、前記主面に平行な方向において前記Ｘ線発生装置から離れるにしたがって、前記主面に近づくように湾曲している、請求項７又は８に記載のＸ線検査装置。
【請求項１０】
前記複数のＸ線検出器の各々は、前記試料設置部に対向する湾曲面を有し、
前記湾曲面の各々は、球状又は回転楕円体の外殻の一部である、請求項７乃至９のいずれか一に記載のＸ線検査装置。
【請求項１１】
前記複数のＸ線検出器の各々は、前記試料設置部に対向する湾曲面を有し、
前記湾曲面の各々には、複数の検出素子が位置する、請求項７乃至１０のいずれか一に記載のＸ線検査装置。
【請求項１２】
前記Ｘ線発生装置と前記複数の検出素子の各々との距離が等しい、請求項１１に記載のＸ線検査装置。
【請求項１３】
前記複数のＸ線検出器の各々は、互いに離間して位置している、請求項７乃至１２のいずれか一に記載のＸ線検査装置。
【請求項１４】
前記複数のＸ線検出器は、第１Ｘ線検出器と、前記第１Ｘ線検出器に隣接する第２Ｘ線検出器と、前記第２Ｘ線検出器とは反対の側で前記第１Ｘ線検出器に隣接する第３Ｘ線検出器と、を含み、かつ回動可能であり、
前記第１Ｘ線検出器の回動範囲は、前記２Ｘ線検出器及び前記３Ｘ線検出器と接する位置までの範囲である、請求項１３に記載のＸ線検査装置。
【請求項１５】
前記試料設置部は、試料を配置する主面を有し、かつ前記主面を移動可能であり、
前記試料を任意の向きで前記複数のＸ線検出器のいずれかへ対向させる、請求項１３に記載のＸ線検査装置。
【請求項１６】
前記複数のＸ線検出器は、互いに接して位置している請求項７乃至１２のいずれか一に記載のＸ線検査装置。
【請求項１７】
前記複数のＸ線検出器の各々は、前記試料設置部に対向する湾曲面を有し、
複数の前記湾曲面は、ドーム状に位置する、請求項１６に記載のＸ線検査装置。
【請求項１８】
Ｘ線を射出する射出口を備えるＸ線発生装置と、
前記Ｘ線発生装置に対して前記Ｘ線が射出する方向に設けられた試料設置部と、
前記試料設置部に対して前記Ｘ線発生装置とは反対側に設けられた、湾曲した前記Ｘ線検出器と、を有し、
前記Ｘ線検出器は、前記試料設置部に対向し、複数の検出素子が位置する湾曲面を有し、
前記湾曲面は、前記試料設置部から遠ざかる方向へ凸に湾曲し、かつ環状又はドーム状である、Ｘ線検査装置。
【請求項１９】
前記湾曲面は前記射出口を覆う、請求項１８に記載のＸ線検査装置。
【請求項２０】
前記試料設置部に設置された試料への一回の前記Ｘ線の照射で、
前記試料の３次元情報を検出可能である、請求項１８又は１９のいずれか一に記載のＸ線検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の一実施形態はＸ線検査装置に関する。特に、本発明の一実施形態は可撓性を有するＸ線検出器が用いられたＸ線検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、非破壊検査装置として、Ｘ線を被検体に照射し、被検体を透過したＸ線を検出することで、被検体の内部構造（断面構造）を検査する検査装置の開発が進められている。このようにＸ線を用いた検査装置はＸ線断層撮影装置（Ｘ線ＣＴ装置）と呼ばれている。Ｘ線断層撮影装置では、被検体を透過したＸ線をＸ線検出器で検出することによって、被検体の投影データ（Ｘ線検出画像）が得られる。
【０００３】
上記のようなＸ線検査装置において、被検体を透過したＸ線を検出するＸ線検出器として、イメージインテンシファイアとＣＣＤカメラとを組み合わせたＸ線検出器や、フラットパネルＸ線検出器が用いられたＸ線検査装置の開発が進められている（例えば、特許文献１）。特許文献１に開示されたＸ線検査装置では、上記のＸ線検出器をＸ線発生装置に対して回動（又は傾動）させることで、被検体を透過したＸ線を検出している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−１０１４４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１に示すＸ線検査装置では、Ｘ線検出器が平板状であるため、Ｘ線検出器に備えられた検出素子が配置された場所によって、Ｘ線発生装置から当該検出素子までの距離が異なってしまう。特に、Ｘ線検出器を回動させながら被検体を透過したＸ線を検出する場合、被検体の同じ箇所を透過したＸ線であっても、Ｘ線検出器の回動位置によってその距離が異なってしまう。その結果、その距離の差によってＸ線検出画像に歪みが生じてしまうという問題があった。
【０００６】
本発明に係る一実施形態は、上記実情に鑑み、Ｘ線検出画像の歪みを抑制することができるＸ線検査装置を提供することを目的の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一実施形態によるＸ線検査装置は、Ｘ線を射出するＸ線発生装置と、前記Ｘ線発生装置に対して前記Ｘ線が射出する方向に設けられた試料設置部と、前記試料設置部に対して前記Ｘ線発生装置とは反対側において、回動軸を中心に回動可能に設けられた、湾曲したＸ線検出器と、を有する。
【０００８】
本発明の一実施形態によるＸ線検査装置は、Ｘ線を射出するＸ線発生装置と、前記Ｘ線発生装置に対して前記Ｘ線が射出する方向に設けられた試料設置部と、前記試料設置部に対して前記Ｘ線発生装置とは反対側に設けられ、前記試料設置部から遠ざかる方向へ凸に湾曲した複数のＸ線検出器と、を有する。
【０００９】
本発明の一実施形態によるＸ線検査装置は、Ｘ線を射出する射出口を備えるＸ線発生装置と、前記Ｘ線発生装置に対して前記Ｘ線が射出する方向に設けられた試料設置部と、前記試料設置部に対して前記Ｘ線発生装置とは反対側に設けられた、湾曲した前記Ｘ線検出器と、を有し、前記Ｘ線検出器は、前記試料設置部に対向し、複数の検出素子が位置する湾曲面を有し、前記湾曲面は、前記試料設置部から遠ざかる方向へ凸に湾曲し、かつ環状又はドーム状である、Ｘ線検査装置。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の一実施形態に係るＸ線検査装置の概要を示す斜視図である。
【図２】本発明の一実施形態に係るＸ線検査装置の概要を示す側面図である。
【図３】本発明の一実施形態に係るＸ線検査装置の概要を示す上面図である。
【図４】本発明の一実施形態に係るＸ線検査装置の機能を示す機能構成図である。
【図５】本発明の一実施形態に係るＸ線検出器の回路構成を示す概略図である。
【図６】本発明の一実施形態に係るＸ線検出素子を示す断面図及びＸ線検出方法を示す図である。
【図７】本発明の一実施形態に係るＸ線検出素子を示す断面図及びＸ線検出方法を示す図である。
【図８】本発明の一実施形態に係るＸ線検査装置の概要を示す斜視図である。
【図９】本発明の一実施形態に係るＸ線検査装置の概要を示す上面図である。
【図１０】本発明の一実施形態に係るＸ線検出器における画素レイアウトを示す図である。
【図１１】本発明の一実施形態に係るＸ線検査装置の概要を示す斜視図である。
【図１２】本発明の一実施形態に係るＸ線検査装置の概要を示す上面図である。
【図１３】図１２のＡ−Ａ’断面図である。
【図１４】本発明の一実施形態に係るＸ線検査装置の概要を示す上面図である。
【図１５】本発明の一実施形態の変形例に係るＸ線検査装置の概要を示す上面図である。
【図１６】本発明の一実施形態の変形例に係るＸ線検出器における画素レイアウトを示す図である。
【図１７】本発明の一実施形態の変形例に係るＸ線検査装置の概要を示す上面図である。
【図１８】図１７のＢ−Ｂ’断面図である。
【図１９】本発明の一実施形態に係るＸ線検査装置の概要を示す上面図である。
【図２０】図１９のＣ−Ｃ’断面図である。
【図２１】本発明の一実施形態の変形例に係るＸ線検査装置のＣ−Ｃ’断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下に、本発明の各実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者が、発明の主旨を保ちつつ適宜変更することで容易に想到し得る構成は、当然に本発明の範囲に含有される。図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合がある。ただし、これらはあくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号の後にアルファベットを付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
【００１２】
本発明の各実施の形態において、Ｘ線発生装置からＸ線検出器に向かう方向を上又は上方という。逆に、Ｘ線検出器からＸ線発生装置に向かう方向を下又は下方という。このように、説明の便宜上、上方又は下方という語句を用いて説明するが、例えば、Ｘ線発生装置とＸ線検出器との上下関係が図示と逆になるように配置されてもよい。また、以下の説明で、例えば第１部材上の第２部材という表現は、単に第１部材と第２部材との上下関係を説明しているに過ぎず、第１部材と第２部材との間に他の部材が配置されていてもよい。
【００１３】
本明細書において「αはＡ、Ｂ又はＣを含む」、「αはＡ，Ｂ及びＣのいずれかを含む」、「αはＡ，Ｂ及びＣからなる群から選択される一つを含む」、といった表現は、特に明示が無い限り、αがＡ〜Ｃの複数の組み合わせを含む場合を排除しない。さらに、これらの表現は、αが他の要素を含む場合も排除しない。
【００１４】
なお、以下の各実施形態は、技術的な矛盾を生じない限り、互いに組み合わせることができる。
【００１５】
〈第１実施形態〉
［Ｘ線検査装置の全体構成］
図１〜図７を用いて、本発明の第１実施形態に係るＸ線検査装置１０の概要について説明する。図１は、本発明の一実施形態に係るＸ線検査装置の概要を示す斜視図である。図２は、本発明の一実施形態に係るＸ線検査装置の概要を示す側面図である。図１及び図２に示すように、Ｘ線検査装置１０は、Ｘ線発生装置２０、試料設置部３０、及びＸ線検出器４０を有する。Ｘ線検出器４０は可撓性を有している。説明の便宜上、図１では省略されているが、図２に示すように、Ｘ線検査装置１０は、さらに支持部材５０及び回動機構６０を有する。
【００１６】
Ｘ線発生装置２０は、射出軸２１を中心として放射状にＸ線を射出する。Ｘ線はＸ線発生装置２０の射出口２３から放射状に射出される。Ｘ線発生装置２０は、例えば偏向コイルなどを用いて、電子銃から射出されたＸ線の進行方向を曲げることで、放射状にＸ線を射出する。ここで、射出軸２１は、放射状に射出されるＸ線のうち放射状の中心に射出されるＸ線、電子銃から射出されたＸ線のうち偏向されていないＸ線、又は試料設置部３０が平板状の場合に試料設置部３０の平面に対して垂直に入射するＸ線を指す。
【００１７】
試料設置部３０は、Ｘ線発生装置２０に対してＸ線が射出される方向に設けられている。試料設置部３０の上には、被検体３１（試料）が配置される。試料設置部３０は、被検体３１を配置する主面３３（図２参照）を有する。本実施形態では、被検体３１の形状が平板状であるため、試料設置部３０の形状も平板状である。ただし、試料設置部３０の形状は平板状に限定されず、被検体３１の形状に合わせて適宜調整することができる。試料設置部３０として、Ｘ線を透過しやすい部材が用いられる。なお、試料設置部３０にＸ線が通過する開口部を設け、被検体３１の内、検査する分を当該開口部に配置してもよい。
【００１８】
Ｘ線検出器４０は、試料設置部３０に対して、Ｘ線発生装置２０とは反対側に配置されている。図１に示すように、Ｘ線検出器４０は、射出軸２１を中心に回動可能に設けられている。換言すると、Ｘ線検出器４０は、詳しくはＸ線検出器４０の試料設置部３０に近い側の端部は、射出軸２１に対して直交する平面上を移動する。このＸ線検出器４０の移動は、図２に示す回動機構６０によって実現される。Ｘ線検出器４０は、放射状に射出されるＸ線の射出範囲に応じて回動する。図２に示すように、Ｘ線検出器４０は、試料設置部３０から遠ざかる方向へ凸に湾曲している。具体的には、Ｘ線検出器４０は、ｘ方向（試料設置部３０の主面３３に平行な方向）において射出軸２１から離れるにしたがって、即ち平面視でＸ線発生装置２０から離れるにしたがって、試料設置部３０に、詳しくは試料設置部３０の主面３３に、近づくように湾曲している。換言すると、Ｘ線検出器４０は、ｚ方向において試料設置部３０から遠い位置ほどｚ方向を基準としたときの湾曲の程度が大きくなっている。さらに換言すると、Ｘ線検出器４０は円筒形状の一部を含むように湾曲している。
【００１９】
図２に示すように、Ｘ線検出器４０の湾曲形状の内面に、検出面４１（試料設置部３０に対向する湾曲面）が設けられている。詳細は後述するが、検出面４１には、Ｘ線を検出することが可能な複数の検出素子が設けられている。図１及び図２の例では、Ｘ線検出器４０の湾曲形状は、Ｘ線発生装置２０の射出口２３を中心とする円弧の一部を含む。つまり、射出口２３を中心とする円周方向（Ｒ１方向）において、射出口２３と検出面４１に設けられた複数の検出素子の各々との間の距離は概略等しい。ただし、Ｘ線検出器４０の湾曲形状は、射出口２３を中心とする円弧に限定されない。Ｘ線検出器４０の湾曲形状が円弧とは異なる湾曲形状であってもよい。
【００２０】
図２に示すように、支持部材５０は、Ｘ線検出器４０に対して、Ｘ線発生装置２０とは反対側に配置されている。つまり、支持部材５０は、Ｘ線検出器４０の検出面４１とは反対側の面を支持している。支持部材５０はＸ線検出器４０を支持する支持面５１を有する。支持面５１の形状は、Ｘ線検出器４０の湾曲形状に沿って湾曲している。図２では、支持部材５０の全体が湾曲形状をしているが、この構成に限定されない。少なくとも、支持面５１の形状がＸ線検出器４０の湾曲形状に沿って湾曲していればよい。
【００２１】
回動機構６０は、支持部材５０に固定されている。回動機構６０は射出軸２１を中心として回動する。回動機構６０の回動によって、支持部材５０及びＸ線検出器４０がともに回動することで、Ｘ線検出器４０が射出軸２１を中心に回動する。
【００２２】
図３は、本発明の一実施形態に係るＸ線検査装置の概要を示す上面図である。図３に示すように、Ｘ線検出器４０は、Ｘ線発生装置２０（又は射出軸２１）を中心に回動する。なお、図３では、Ｘ線発生装置２０の射出口２３と被検体３１とが重畳する領域の上方にＸ線検出器４０が配置されていない構成が例示されているが、この構成に限定されない。Ｘ線検出器４０は、射出口２３及び被検体３１と重畳する領域に設けられていてもよい。また、図３では、Ｘ線検出器４０がＸ線発生装置２０を中心に回動する構成を例示したが、この構成に限定されない。Ｘ線検出器４０は、被検体３１の周囲を回るように移動すればよく、Ｘ線発生装置２０以外の点を中心として回動してもよい。また、上方から見た場合のＸ線検出器４０の移動は、円運動に限定されない。Ｘ線検出器４０の移動は楕円運動であってもよく、被検体３１の形状に合わせた蛇行運動であってもよい。例えば、図３のように、被検体３１の上面図の形状が矩形の場合、Ｘ線検出器４０が被検体３１の周囲、側面に沿って移動してもよい。
【００２３】
［Ｘ線検査装置の機能構成］
図４を用いて、Ｘ線検査装置１０の機能について説明する。図４は、本発明の一実施形態に係るＸ線検査装置の機能を示す機能構成図である。図４に示すように、Ｘ線検査装置１０は、画像処理ボード１０１、ステージコントローラ１０３、Ｘ線コントローラ１０５、及びＸ線検出器コントローラ１０７を有する。これらの機能は、Ｘ線検査装置１０に備えられた中央演算処理装置（ＣＰＵ）及び記憶装置（メモリ）によって実現される。メモリは、上記の各機能部を動作させるプログラムを格納している。ＣＰＵは、メモリに格納されたプログラムを読み出して実行する。このようにして上記の各機能部が動作する。
【００２４】
画像処理ボード１０１は、ステージコントローラ１０３、Ｘ線コントローラ１０５、及びＸ線検出器コントローラ１０７に接続されており、これらのコントローラから各種情報を受信する。また、画像処理ボード１０１は、Ｘ線検出器４０に接続されており、Ｘ線検出器４０からＸ線の強度分布に関する情報を受信する。例えば、画像処理ボード１０１は、Ｘ線検出器コントローラ１０７から受信したＸ線検出器４０の回動方向における位置情報、及びＸ線検出器４０から受信したＸ線の強度分布に関する情報に基づいて、被検体３１の構造を可視化して、Ｘ線検出画像を出力する。射出口２３とＸ線検出器４０に設けられた複数の検出素子の各々との距離が一定ではない場合、画像処理ボード１０１は、その距離の差によって生じるＸ線検出画像の歪みを補正する機能を有していてもよい。
【００２５】
ステージコントローラ１０３は、Ｘ線コントローラ１０５及びＸ線検出器コントローラ１０７に接続されている。また、ステージコントローラ１０３は、試料設置部３０に接続されている。ステージコントローラ１０３は、試料設置部３０のｘｙｚ方向の位置を制御し、試料設置部３０の位置情報を出力する。ステージコントローラ１０３が試料設置部３０をｘｙｚ方向に移動可能であることで、被検体３１の形状が立体的であっても、被検体３１のｚ方向における厚みが大きい形状であっても、Ｘ線検出器４０の位置を調整することなく被検体３１の検査を行うことができる。この場合、画像処理ボード１０１は、上記のＸ線検出器４０の位置情報及びＸ線の強度分布に関する情報に加え、試料設置部３０の位置情報に基づいて、被検体３１の構造を可視化する。なお、ステージコントローラ１０３は射出軸２１を中心に回動してもよい。
【００２６】
Ｘ線コントローラ１０５は、ステージコントローラ１０３及びＸ線検出器コントローラ１０７に接続されている。また、Ｘ線コントローラ１０５は、Ｘ線発生装置２０に接続されている。Ｘ線コントローラ１０５は、Ｘ線発生装置２０から射出されるＸ線の進行方向を制御する。例えば、Ｘ線コントローラ１０５は、Ｘ線発生装置２０に設けられた偏向コイルに供給される電流量を調整することで、Ｘ線の進行方向を制御する。Ｘ線コントローラ１０５がＸ線の進行方向を図１のｘｙ方向に制御することで、当該Ｘ線は射出軸２１を中心として放射状に射出される。Ｘ線コントローラ１０５は、ｘ方向及びｙ方向にそれぞれ所定の範囲でＸ線の進行方向を制御する。本実施形態では、ｘ方向におけるＸ線の進行方向の制御範囲、及びｙ方向におけるＸ線の進行方向の制御範囲において、Ｘ線コントローラ１０５がそれぞれの中央値でＸ線発生装置２０を制御する場合に、Ｘ線発生装置２０は射出軸２１の方向にＸ線を射出する。Ｘ線コントローラ１０５は、ステージコントローラ１０３から試料設置部３０の位置情報を受信し、試料設置部３０の位置に応じてＸ線の進行方向を制御してもよい。
【００２７】
Ｘ線検出器コントローラ１０７は、ステージコントローラ１０３及びＸ線コントローラ１０５に接続されている。また、Ｘ線検出器コントローラ１０７は、回動機構６０に接続されている。Ｘ線検出器コントローラ１０７は、回動機構６０を制御することで、射出軸２１を中心にＸ線検出器４０を回動させる。Ｘ線検出器コントローラ１０７はＸ線検出器４０の位置情報を出力する。Ｘ線検出器コントローラ１０７は、ステージコントローラ１０３から試料設置部３０の位置情報を受信し、試料設置部３０の位置に応じてＸ線検出器４０の位置を制御する。本実施形態では、Ｘ線検出器コントローラ１０７は、図２に示す回動機構６０を回動させることで、Ｘ線検出器４０の回動を実現する。ただし、この構成に限定されず、その他の手段を用いてＸ線検出器４０の回動を実現してもよい。
【００２８】
［Ｘ線検出器の回路構成］
図５を用いて、Ｘ線検出器４０の詳細な構成について説明する。図５は、本発明の一実施形態に係るＸ線検出器の回路構成を示す概略図である。図５に示すように、Ｘ線検出器４０は、Ｘ線検出回路４００、走査線駆動回路４１０、及び信号線読み出し回路４２０を有する。Ｘ線検出器４０の検出面４１にＸ線検出回路４００が位置する。
【００２９】
Ｘ線検出回路４００は、複数の検出素子４０１を有する。複数の検出素子４０１は行列方向にマトリクス状に設けられている。各検出素子４０１に対応して選択トランジスタ４０３が設けられている。検出素子４０１及び選択トランジスタ４０３を併せて画素４０５という場合がある。詳細は後述するが、検出素子４０１は、検出素子４０１が設けられた領域に照射されたＸ線の強度に応じた電力を生成する。検出素子４０１によって生成された電力が選択トランジスタ４０３を介して信号線読み出し回路４２０に読み出されることで、Ｘ線検出回路４００に照射されたＸ線の強度分布を得ることができる。なお、画素４０５の配置は図５のようなマトリクス状に限定されず、多様な配置を採用することができる。また、１つの画素４０５に複数のトランジスタが設けられる構造にしてもよい。
【００３０】
走査線駆動回路４１０は、Ｘ線検出回路４００の行方向に隣接する位置に設けられている。走査線駆動回路４１０には複数の走査線４１１が接続されている。各々の走査線４１１は、行方向に配列された複数の選択トランジスタ４０３のゲート端子に接続されている。走査線駆動回路４１０は、複数の走査線４１１の各々を順次駆動することで、各行の選択トランジスタ４０３を駆動する。
【００３１】
信号線読み出し回路４２０は、Ｘ線検出回路４００の列方向に隣接する位置に設けられている。信号線読み出し回路４２０には複数の信号線４２１が接続されている。各々の信号線４２１は、列方向に配列された複数の選択トランジスタ４０３のドレイン端子に接続されている。信号線読み出し回路４２０は、走査線駆動回路４１０によって選択された行に配置された検出素子４０１によって生成された電力を、選択トランジスタ４０３を介して読み出す。
【００３２】
［Ｘ線検出素子の断面構造及びＸ線検出方法］
図６及び図７を用いて、Ｘ線の検出素子４０１の詳細な構造及びＸ線の検出方法について説明する。図６及び図７は、本発明の一実施形態に係るＸ線検出素子を示す断面図及びＸ線検出方法を示す図である。図６に示す検出素子４０１Ａは、Ｘ線を直接電気エネルギーに変換する直接変換方式の検出素子である。図７に示す検出素子４０１Ｂは、Ｘ線を光エネルギーに変換し、当該光エネルギーを電気エネルギーに変換する間接変換方式の検出素子である。
【００３３】
図６に示すように、直接変換方式の検出素子４０１Ａは、基板４０１１Ａ、画素電極４０１２Ａ、コモン電極４０１３Ａ、及びＸ線変換層４０１４Ａを有する。これらの部材はそれぞれ可撓性を有している。その結果、検出素子４０１Ａは可撓性を有し、図１及び図２に示すようにＸ線検出器４０を湾曲させることができる。画素電極４０１２Ａは、基板４０１１Ａの上において、各画素４０５に対応して設けられている。コモン電極４０１３Ａは画素電極４０１２Ａに対向している。コモン電極４０１３Ａは複数の画素４０５に共通して設けられている。なお、本実施形態では、コモン電極４０１３ＡはＸ線検出回路４００に設けられた全ての画素４０５に共通して設けられている。画素電極４０１２Ａとコモン電極４０１３Ａとの間にＸ線変換層４０１４Ａが設けられている。
【００３４】
Ｘ線変換層４０１４Ａは、Ｘ線４０１０Ａの照射によって電子４０１５Ａ及びホール４０１６Ａの対を生成する。例えば、画素電極４０１２Ａを陽極、コモン電極４０１３Ａを陰極とする場合、電子４０１５Ａが画素電極４０１２Ａに引き寄せられ、画素電極４０１２Ａに電荷が蓄積される。このようにして、照射されたＸ線４０１０Ａが電気エネルギーに変換される。Ｘ線変換層４０１４Ａは固体の層であってもよく、電界が形成された空間に気体が存在する空間であってもよい。
【００３５】
図７に示すように、間接変換方式の検出素子４０１Ｂは、基板４０１１Ｂ、光電変換層４０１７Ｂ、及びシンチレータ４０１８Ｂを有する。これらの部材はそれぞれ可撓性を有している。その結果、検出素子４０１Ｂは可撓性を有し、図１及び図２に示すようにＸ線検出器４０を湾曲させることができる。光電変換層４０１７Ｂは、基板４０１１Ｂの上において、各画素４０５に対応して設けられている。シンチレータ４０１８Ｂは、光電変換層４０１７Ｂの上において、複数の画素４０５に共通して設けられている。なお、本実施形態では、シンチレータ４０１８ＢはＸ線検出回路４００に設けられた全ての画素４０５に共通して設けられている。
【００３６】
シンチレータ４０１８Ｂは、照射されたＸ線４０１０Ｂを光エネルギー（シンチレーション光４０１９Ｂ）に変換する。シンチレーション光４０１９Ｂが光電変換層４０１７Ｂに到達すると、光電変換層４０１７Ｂにおいて光エネルギーが電気エネルギーに変換される。図７では、光電変換層４０１７Ｂとシンチレータ４０１８Ｂとが離隔されて設けられているが、両者が接していてもよい。
【００３７】
なお、図６、図７に示す基板４０１１Ａ、基板４０１１Ｂとして、ポリイミドを用いることができる。この場合、ガラス基板などの支持基板上に溶剤と混合した溶液状のポリイミド材料を塗布し、焼成、非流動化した後、そのポリイミド膜上に検出素子４０１Ａ、検出素子４０１Ｂ、選択トランジスタ４０３、上述の各種配線や回路などを形成する。その後、レーザーリフトオフ法等により支持基板からポリイミド膜を剥離する。
【００３８】
また、図６、図７に示す基板４０１１Ａ、基板４０１１Ｂとして、高分子フィルムを用いることもできる。高分子フィルムは、例えば、アクリル系、ポリカーボネート系、ノルボルネン系の材料からなる。特に、高分子フィルムとしてＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムを用いれば、低コストで、可撓性を有しつつも機械強度が高い基板を実現できる。この場合、ガラス基板などの支持基板上に、検出素子４０１Ａ、検出素子４０１Ｂ、選択トランジスタ４０３、上述の各種配線や回路などを形成し、それらを支持基板から剥離し、高分子フィルムへ転写して形成してもよい。
【００３９】
以上のように、本実施形態に係るＸ線検査装置１０によると、Ｘ線発生装置２０からＸ線検出器４０に備えられた複数の検出素子４０１までの距離を、詳しくは射出口２３から複数の検出素子４０１の各々までの距離を、ほぼ等しくする、又はその距離の差を小さくすることができる。その結果、上記の距離の差に起因するＸ線検出画像の歪みを小さくすることができる。また、Ｘ線検査装置１０は、曲面形状のＸ線検出器４０を回動させる構造を備えることで、Ｘ線検出器４０のサイズを大きくすることを抑制する効果と、Ｘ線検出画像の歪みを小さくする効果とを両立させることが可能となる。
【００４０】
〈第２実施形態〉
［Ｘ線検査装置の全体構成］
図８〜図１０を用いて、本発明の第２実施形態に係るＸ線検査装置１０Ｃの概要について説明する。図８は、本発明の一実施形態に係るＸ線検査装置の概要を示す斜視図である。図９は、本発明の一実施形態に係るＸ線検査装置の概要を示す上面図である。図８及び図９に示すＸ線検査装置１０Ｃは、図１及び図３に示すＸ線検査装置１０と類似しているが、Ｘ線検出器４０Ｃの形状がＸ線検出器４０の形状と異なる点において、Ｘ線検査装置１０とは相違する。なお、図８及び図９では、図２に示した支持部材５０及び回動機構６０は省略されている。
【００４１】
図８に示すように、Ｘ線検出器４０Ｃは射出軸２１Ｃを中心に回動可能に設けられている。Ｘ線検出器４０Ｃは、図１のＸ線検出器４０と同様に、複数の検出素子を備えており、かつｘ方向において射出軸２１Ｃから離れるにしたがって試料設置部３０Ｃに近づくように湾曲している。図９に示すように、Ｘ線検出器４０Ｃは、射出口２３Ｃを中心とする円周方向に湾曲している。換言すると、Ｘ線検出器４０Ｃは、射出口２３Ｃを中心とする仮想球の表面、あるいは仮想の略球体形状の表面に沿って湾曲している。具体的には、上方から見た場合のＸ線検出器４０Ｃにおいて、射出軸２１Ｃ（又は射出口２３Ｃ）に近い側の第１端部４３Ｃ、及び射出軸２１Ｃから遠い側の第２端部４５Ｃのそれぞれの形状は、図９に示す上面図において、射出軸２１Ｃ（又は射出口２３Ｃ）を中心とする円弧の一部である。上記のように、Ｘ線検出器４０Ｃは真円球状の外殻の一部を含むように湾曲している。当該真円球状は、射出軸２１Ｃを中心にしてもよい。本実施形態では、Ｘ線検出器４０Ｃが射出口２３Ｃを中心とする真円球状の外殻の一部である構成を例示したが、この構成に限定されない。例えば、Ｘ線検出器４０Ｃが射出口２３Ｃ以外の点を中心とする真円球状の外殻の一部であってもよい。又は、Ｘ線検出器４０Ｃが射出口２３Ｃ又はそれ以外の点を中心とする回転楕円体（例えば長球又は扁球）の外殻の一部であってもよい。
【００４２】
図９において、射出口２３Ｃを中心とする所定の円を考えたとき、図９においてＸ線検出器４０Ｃと重なって位置する当該円の半径が、当該円の中心から延びる方向が、図８に示すＲ２方向に、詳しくは図８に示すＲ２方向を図９の上面図に投影した方向に、相当する。また、当該円の円周方向が、図８及び図９に示すＲ３方向に相当する。上記のように、Ｘ線検出器４０Ｃが球状の一部を含むように湾曲することで、Ｘ線発生装置２０ＣからＸ線検出器４０ＣのＲ２方向に備えられた複数の検出素子までの距離、及び、Ｘ線発生装置２０ＣからＸ線検出器４０ＣのＲ３方向に備えられた複数の検出素子までの距離を、換言すれば射出口２３Ｃから複数の検出素子の各々までの距離を、ほぼ等しくする、又はその距離の差を小さくすることができる。その結果、上記の距離の差に起因するＸ線検出画像の歪みを小さくすることができる。
【００４３】
図１０は、本発明の一実施形態に係るＸ線検出器における画素レイアウトを示す図である。図１０に示すＸ線検出器４０Ｃは、図８に示すＸ線検出器４０Ｃを平面上に展開した図である。Ｘ線検出器４０Ｃには、複数の画素４０５Ｃが配置されている。図１０に示すように、Ｒ２方向に画素４０５Ｃが複数行設けられており、各行においてＲ３方向に画素４０５Ｃが複数個設けられている。本実施形態では、画素４０５ＣはＲ３方向に間隔Ｔ１〜Ｔ４で配置されており、間隔Ｔ１〜Ｔ４は同じ間隔である。つまり、本実施形態では、行方向の解像度はＲ２方向の位置によらず略一定である。間隔Ｔ１〜Ｔ４が同じ値であるため、画素４０５Ｃの数は行によって異なっている。第１端部４３Ｃの長さは、第２端部４５Ｃの長さよりも短いため、配置される画素４０５Ｃの数は第１端部４３Ｃ側の方が第２端部４５Ｃ側よりも少ない。
【００４４】
以上のように、第２実施形態に係るＸ線検査装置１０Ｃによると、Ｘ線発生装置２０ＣからＸ線検出器４０ＣのＲ２方向及びＲ３方向に備えられた複数の検出素子までの距離を、換言すれば射出口２３Ｃから複数の検出素子の各々までの距離を、ほぼ等しくする、又はその距離の差を小さくすることができる。その結果、上記の距離の差に起因するＸ線検出画像の歪みを小さくすることができる。
【００４５】
〈第３実施形態〉
［Ｘ線検査装置の全体構成］
図１１〜図１３を用いて、本発明の第３実施形態に係るＸ線検査装置１０Ｄの概要について説明する。図１１は、本発明の一実施形態に係るＸ線検査装置の概要を示す斜視図である。図１１に示すＸ線検査装置１０Ｄは、図１に示すＸ線検査装置１０と類似しているが、Ｘ線検査装置１０Ｄが複数のＸ線検出器４０Ｄを有している点において、Ｘ線検査装置１０とは相違する。以下の説明において、図１に示すＸ線検査装置１０と同様の特徴については、その説明を省略する場合がある。
【００４６】
図１１に示すように、Ｘ線検出器４０Ｄ（４０Ｄ−１〜４）は、射出軸２１Ｄを中心とする円周方向に複数設けられている。複数のＸ線検出器４０Ｄはいずれも同じ形状である。換言すると、例えばＸ線検出器４０Ｄ−２〜４は、Ｘ線検出器４０Ｄ−１を、図１のＸ線検査装置１０のように、射出軸２１Ｄを中心に回動させたものと同義である。なお、図１１では省略されているが、複数のＸ線検出器４０Ｄは、後述する支持部材５０Ｄ（図１３参照）に固定されている。図１１に示すＸ線検出器４０Ｄは位置が固定されているが、図１のＸ線検出器４０と同様に射出軸２１Ｄを中心に回動してもよい。なお、図１１に示すＸ線検出器４０Ｄの構成は第１実施形態のＸ線検出器４０と同様であるので、詳細な説明は省略する。なお、Ｘ線検出器４０Ｄが回動する場合、上記円周方向に隣接するＸ線検出器までの範囲、又は隣接するＸ線検出器と接する位置までの範囲を、回動範囲としてもよい。例えば、本実施形態の場合、Ｘ線検出器４０Ｄの各々は時計回り又は反時計回りに９０度の範囲で回動してもよい。又は、Ｘ線検出器４０Ｄの各々が時計回り及び反時計回りにそれぞれ４５度の範囲で回動してもよい。
【００４７】
図１２は、本発明の一実施形態に係るＸ線検査装置の概要を示す上面図である。図１２に示すように、複数のＸ線検出器４０ＤはＸ線発生装置２０Ｄに対してｘ方向及びｙ方向に設けられている。なお、図１２では、Ｘ線発生装置２０Ｄの射出口２３Ｄと被検体３１Ｄとが重畳する領域の上方にＸ線検出器４０Ｄが配置されていない構成が例示されているが、この構成に限定されない。Ｘ線検出器４０Ｄは、射出口２３Ｄ及び被検体３１Ｄと重畳する領域に設けられていてもよい。
【００４８】
図１３は、図１２のＡ−Ａ’断面図である。図１３に示すように、Ｘ線検出器４０Ｄ−１、３は支持部材５０ＤのＸ線発生装置２０Ｄ側に設けられている。支持部材５０ＤはＸ線検出器４０Ｄ−１〜４を支持する支持面５１Ｄを有する。本実施形態において、１つの支持部材５０Ｄが４つのＸ線検出器４０Ｄ−１〜４を支持している。支持面５１Ｄの形状は、Ｘ線検出器４０Ｄ−１〜４の湾曲形状に沿って湾曲している。図１３では、支持部材５０Ｄの全体が湾曲形状をしているが、この構成に限定されない。少なくとも、支持面５１Ｄの形状がＸ線検出器４０Ｄ−１〜４の湾曲形状に沿って湾曲していればよい。
【００４９】
なお、本実施形態では、支持部材５０Ｄが４つのＸ線検出器４０Ｄ−１〜４に共通して設けられているが、この構成に限定されない。例えば、各々のＸ線検出器４０Ｄに対して、支持部材５０Ｄが個別に設けられていてもよい。また、射出軸２１Ｄを中心とした円周方向において、隣接するＸ線検出器４０Ｄの間に、追加のＸ線検出器が設けられてもよい。追加で設けられるＸ線検出器は、図１２に示すＸ線検出器４０Ｄとは異なるサイズであってもよく、Ｘ線検出器４０Ｄとは異なる高さに、上方から見た場合にＸ線検出器４０Ｄと一部が重畳するように設けられてもよい。
【００５０】
以上のように、第３実施形態に係るＸ線検査装置１０Ｄによると、Ｘ線検出器４０Ｄを回動させる機構を設けなくても第１実施形態に係るＸ線検査装置１０と同様の効果を得ることができる。Ｘ線検査装置１０Ｄでは、Ｘ線検出器４０Ｄを回動させる機械的な稼働部を省略することができるため、故障の発生率を低下させることができるだけでなく、メンテナンスを容易にすることができる、という効果を得ることもできる。また、検査を行う際にＸ線検出器４０Ｄを回動させる必要がないため、従来よりも少ないＸ線照射で検査を行うことができる。その結果、被検体への被曝量を低減することができる。また、隣接するＸ線検出器までの範囲を回動範囲としてＸ線検出器４０Ｄ−１〜４を回動させる場合では、回動する距離が短くなり、一つのＸ線検出器を回動させる構造に比べ、Ｘ線照射時間を短くすることができ、従来よりも少ないＸ線照射で検査を行うことができる。
【００５１】
〈第４実施形態〉
［Ｘ線検査装置の全体構成］
図１４〜図１８を用いて、本発明の第４実施形態及びその変形例に係るＸ線検査装置１０Ｅ、１０Ｆ、１０Ｇの概要について説明する。図１４は、本発明の一実施形態に係るＸ線検査装置の概要を示す上面図である。図１４に示すＸ線検査装置１０Ｅは、図１２に示すＸ線検査装置１０Ｄと類似しているが、Ｘ線検出器４０Ｅとして、図１２のＸ線検出器４０Ｄに代えて図８〜図１０（第２実施形態）のＸ線検出器４０Ｃが用いられている点において、Ｘ線検査装置１０Ｄとは相違する。その他の点については、Ｘ線検査装置１０Ｄと同様の特徴を有するので、詳細な説明は省略する。
【００５２】
図１５は、本発明の一実施形態の変形例に係るＸ線検査装置の概要を示す上面図である。図１４に示すＸ線検査装置１０Ｅでは、Ｘ線発生装置２０Ｅ（又は射出軸２１Ｅ）を中心とした円周方向において、隣接するＸ線検出器４０Ｅの間（例えば、４０Ｅ−１と４０Ｅ−２との間）にＸ線検出器が設けられていない空間が存在しているが、図１５に示すＸ線検査装置１０Ｆでは、その空間にもＸ線検出器（例えば、４０Ｅ−５）が設けられている。つまり、図１５のＸ線検出器４０Ｆ−１〜８は、Ｘ線発生装置２０Ｆ（又は射出軸２１Ｆ）を中心とする円周方向に連続して位置している。換言すれば、Ｘ線検出器４０Ｆ−１〜８の検出面（試料設置部３０Ｆに対向する湾曲面）は、環状、又は頂点部が除去されたドーム状である。
【００５３】
図１５では、隣接するＸ線検出器４０Ｆの境界が直線状である構成を例示したが、この構成に限定されない。上方から見た場合に、Ｘ線発生装置２０Ｆに近い領域とＸ線発生装置２０Ｆから遠い領域とでは、上記円周方向において、画素が配置される位置が異なる。したがって、図１６に示すように、隣接するＸ線検出器４０Ｆの形状が画素４０５Ｆの配置に応じて調整されてもよい。つまり、隣接するＸ線検出器４０Ｆの境界が直線状でなくてもよい。
【００５４】
図１７は、本発明の一実施形態の変形例に係るＸ線検査装置の概要を示す上面図である。図１８は、図１７のＢ−Ｂ’断面図である。図１５では、Ｘ線発生装置２０Ｆの射出口２３Ｆと被検体３１Ｆとが重畳する領域の上方にＸ線検出器４０Ｆが配置されていない構成が例示されているが、図１７に示すＸ線検査装置１０Ｇでは、Ｘ線検出器４０Ｇが射出口２３Ｇ及び被検体３１Ｇと重畳する領域にも設けられている。つまり、Ｘ線検出器４０Ｇはドーム状である。なお、図１６と同様に、隣接するＸ線検出器４０Ｇの形状が画素の配置に応じて調整されてもよい。
【００５５】
以上のように、第４実施形態に係るＸ線検査装置１０Ｅ及びその変形例に係るＸ線検査装置１０Ｆ及び１０Ｇによると、第３実施形態に係るＸ線検査装置１０Ｄと同様に、Ｘ線検出器４０Ｅ、４０Ｆ、４０Ｇを回動させる機構を設けなくても第２実施形態に係るＸ線検査装置１０Ｃと同様の効果を得ることができる。さらに、図１５に示すようにＸ線検出器４０Ｆが、Ｘ線発生装置２０Ｆを中心とする円周方向に連続していることで、より詳細なＸ線検出画像を得ることができる。さらに、図１７及び図１８に示すようにＸ線検出器４０Ｇがドーム状であることで、一度のＸ線照射で被検体３１Ｇのより多くの情報を、例えば被検体３１Ｇの３次元情報を、得ることが可能となる。さらに、Ｘ線検出器４０Ｇが湾曲している、ドーム状の形状であることから、歪みが少なく高精度で検出画像を得ることができる。
【００５６】
〈第５実施形態〉
［Ｘ線検査装置の全体構成］
図１９〜図２１を用いて、本発明の第５実施形態及びその変形例に係るＸ線検査装置１０Ｈ、１０Ｊの概要について説明する。図１９は、本発明の一実施形態に係るＸ線検査装置の概要を示す上面図である。図２０は、図１９のＣ−Ｃ’断面図である。図１９に示すＸ線検査装置１０Ｈは、図１５に示すＸ線検査装置１０Ｆと類似しているが、Ｘ線検出器４０Ｈ（例えば４０Ｈ−９）がＸ線発生装置２０Ｈの射出口２３Ｈと被検体３１Ｈとが重畳する領域にも設けられている点において、Ｘ線検査装置１０Ｆとは相違する。その他の点については、Ｘ線検査装置１０Ｆと同様の特徴を有するので、詳細な説明は省略する。
【００５７】
図１９に示すように、射出口２３Ｈと被検体３１Ｈとが重畳する領域にＸ線検出器４０Ｈ−９が設けられている。Ｘ線検出器４０Ｈ−９は、その他のＸ線検出器４０Ｈ−１〜８の一部と重畳している。この構成によって、第４実施形態のＸ線検出器４０Ｇと同様に、射出口２３Ｈから射出軸２１Ｈの方向に射出されたＸ線を検出することができる。
【００５８】
図２０に示すように、Ｘ線検出器４０Ｈ−９は、Ｘ線検出器４０Ｈ−１、３の上方に設けられている。支持部材５０Ｈには凹部が設けられており、その凹部にＸ線検出器４０Ｈ−９が配置されている。図２０では、支持部材５０ＨのＸ線発生装置２０Ｈ側にＸ線検出器４０Ｈ−９が設けられた構成を示したが、この構成に限定されない。例えば、図２１に示すように、Ｘ線検出器４０Ｊ−９が支持部材５０Ｊの上方に設けられていてもよい。
【００５９】
なお、図２０及び図２１では、Ｘ線検出器４０Ｈ−９、４０Ｊ−９がそれぞれ射出口２３Ｈ、２３Ｊを中心とした円弧の一部を構成する湾曲形状である構成を例示したが、この構成に限定されない。例えば、これらのＸ線検出器が、射出口２３Ｈ、２３Ｊとは異なる点を中心とした円弧の一部を構成する湾曲形状であってもよく、円弧とは異なる湾曲形状であってもよく、平板状であってもよい。
【００６０】
〈第６実施形態〉
上述の第１実施形態、第２実施形態、第３実施形態において、Ｘ線検出器４０を回動させるＸ線検査装置１０の構成を説明した。しかし、Ｘ線検査装置１０は、Ｘ線検出器４０を回動させず、被検体３１を動かす構成、例えば回転させる構成にしてもよい。本実施形態では、被検体３１の検査中に、ステージコントローラ１０３が試料設置部３０を動かし、被検体３１をＸ線検出器４０へ任意の向きで対向させる。Ｘ線発生装置２０は、Ｘ線検出器４０が存在する方向のみにＸ線を出射する構成にしてもよい。
【００６１】
本実施形態においても、上述の第１実施形態、第２実施形態、第３実施形態と同様の効果を得ることができる。
【００６２】
本発明の実施形態として上述した各実施形態は、相互に矛盾しない限りにおいて、適宜組み合わせて実施することができる。また、各実施形態の表示装置を基にして、当業者が適宜構成要素の追加、削除もしくは設計変更を行ったもの、又は、工程の追加、省略もしくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。
【００６３】
上述した各実施形態の態様によりもたらされる作用効果とは異なる他の作用効果であっても、本明細書の記載から明らかなもの、又は、当業者において容易に予測し得るものについては、当然に本発明によりもたらされるものと解される。
【符号の説明】
【００６４】
１０：Ｘ線検査装置、  ２０：Ｘ線発生装置、  ２１：射出軸、  ２３：射出口、  ３０：試料設置部、  ３１：被検体、  ４０：Ｘ線検出器、  ４１：検出面、  ４３Ｃ：第１端部、  ４５Ｃ：第２端部、  ５０：支持部材、  ５１：支持面、  ６０：回動機構、  １０１：画像処理ボード、  １０３：ステージコントローラ、  １０５：Ｘ線コントローラ、  １０７：Ｘ線検出器コントローラ、  ４００：Ｘ線検出回路、  ４０１：検出素子、  ４０３：選択トランジスタ、  ４０５：画素、  ４１０：走査線駆動回路、  ４１１：走査線、  ４２０：信号線読み出し回路、  ４２１：信号線、  ４０１０Ａ：Ｘ線、  ４０１１Ａ：基板、  ４０１２Ａ：画素電極、  ４０１３Ａ：コモン電極、  ４０１４Ａ：Ｘ線変換層、  ４０１５Ａ：電子、  ４０１６Ａ：ホール、  ４０１７Ｂ：光電変換層、  ４０１８Ｂ：シンチレータ、  ４０１９Ｂ：シンチレーション光、  Ｔ１〜Ｔ４：間隔
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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