(57)【要約】【課題】曲線を持つ図形が含まれている設計データから、データ量、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置内での計算量を抑制可能な描画データを生成する。【解決手段】本実施形態は、マルチ荷電粒子ビーム描画装置で用いられる描画データを生成する方法に関する。この方法では、設計データに含まれている図形の曲線部を表現する曲線であって、それぞれ複数の制御点で定義される一対の曲線を算出し、前記複数の制御点における第１制御点と前記曲線の進行方向において隣接する第２制御点の位置を、前記第１制御点からの前記曲線の進行方向の変位、及び該進行方向と直交する方向の変位で表現して、前記描画データを生成する。【選択図】図１
2019057562.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マルチ荷電粒子ビーム描画装置で用いられる描画データを生成する描画データ生成方法であって、
設計データに含まれている図形の曲線部を表現する曲線であって、それぞれ複数の制御点で定義される一対の曲線を算出し、
前記複数の制御点における第１制御点と前記曲線の進行方向において隣接する第２制御点の位置を、前記第１制御点からの前記曲線の進行方向の変位、及び該進行方向と直交する方向の変位で表現して、前記描画データを生成することを特徴とする描画データ生成方法。
【請求項２】
前記複数の制御点は、前記進行方向において一定間隔で位置することを特徴とする請求項１に記載の描画データ生成方法。
【請求項３】
前記複数の制御点のうち、前記進行方向において両端に位置する制御点は、前記図形の曲線部の端点と一致しないことを特徴とする請求項１に記載の描画データ生成方法。
【請求項４】
マルチ荷電粒子ビーム描画装置で用いられる描画データをコンピュータに生成させるプログラムであって、
設計データに含まれている図形の曲線部を表現する曲線であって、それぞれ複数の制御点で定義される一対の曲線を算出するステップと、
前記複数の制御点における第１制御点と前記曲線の進行方向において隣接する第２制御点の位置を、前記第１制御点からの前記曲線の進行方向の変位、及び該進行方向と直交する方向の変位で表現して、前記描画データを生成するステップと、
を前記コンピュータに実行させることを特徴とするプログラム。
【請求項５】
複数の荷電粒子ビームからなるマルチビームを形成し、前記マルチビームのうち、それぞれ対応するビームに対して個別にビームのオン／オフを行い、対象物上に荷電粒子ビームを照射してパターンを描画する描画部と、
設計データに含まれている図形の曲線部を表現する曲線であって、それぞれ複数の制御点で定義される一対の曲線を算出し、前記複数の制御点における第１制御点と前記曲線の進行方向において隣接する第２制御点の位置を、前記第１制御点からの前記曲線の進行方向の変位、及び該進行方向と直交する方向の変位で表現して、前記描画データを生成し、該描画データに基づいて前記描画部を制御する制御部と、
を備えるマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項６】
設計データに含まれている図形の曲線部を表現する曲線であって、それぞれ複数の制御点で定義される一対の曲線を算出し、前記複数の制御点における第１制御点と前記曲線の進行方向において隣接する第２制御点の位置を、前記第１制御点からの前記曲線の進行方向の変位、及び該進行方向と直交する方向の変位で表現して第１描画データを生成する変換部と、
前記第１描画データと、対象物上に荷電粒子ビームが照射されて描画されたパターンに基づいて作成された第２描画データとを比較し、該パターンの検査を行う検査部と、
を備えるパターン検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、描画データ生成方法、プログラム、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、及びパターン検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩの高集積化に伴い、半導体デバイスに要求される回路線幅は年々微細化されてきている。半導体デバイスへ所望の回路パターンを形成するためには、縮小投影型露光装置を用いて、石英上に形成された高精度の原画パターン（マスク、或いは特にステッパやスキャナで用いられるものはレチクルともいう。）をウェーハ上に縮小転写する手法が採用されている。高精度の原画パターンは、電子ビーム描画装置によって描画され、所謂、電子ビームリソグラフィ技術が用いられている。
【０００３】
電子ビーム描画装置として、例えば、マルチビームを用いて一度に多くのビームを照射し、スループットを向上させたマルチビーム描画装置が知られている。このマルチビーム描画装置では、例えば、電子銃から放出された電子ビームが、複数の穴を有するアパーチャ部材を通過することでマルチビームが形成され、各ビームがブランキングプレートにおいてブランキング制御される。遮蔽されなかったビームが、光学系で縮小され、描画対象のマスク上の所望の位置に照射される。
【０００４】
マルチビーム描画装置を用いて電子ビーム描画を行う場合、まず、半導体集積回路のレイアウトが設計され、レイアウトデータとして設計データが生成される。そして、この設計データに含まれる多角形図形を、複数の台形に分割することで、マルチビーム描画装置に入力される描画データが生成される。この描画データは、各台形について、１つの頂点を配置原点とし、この配置原点の座標データと、配置原点から他の３つの頂点までの変位を示すデータとを有する。
【０００５】
設計データに楕円形図形のような曲線を持った図形が含まれる場合、この図形を多角形に近似して描画データが作成される。近似を高精度に行うと、頂点数や図形数が増加し、描画データのデータ量が多大なものになるという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−１８８０００号公報
【特許文献２】特開平６−２１５１５２号公報
【特許文献３】特開平５−１７５１０７号公報
【特許文献４】特開平５−２６７１３２号公報
【特許文献５】特開平４−１８４３９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、曲線を持つ図形が含まれている設計データから、データ量及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置内での計算量を抑制できる描画データを生成する描画データ生成方法、プログラム、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置を提供することを課題とする。また、本発明は、データ量を抑制した描画データを生成し、処理効率を向上させることができるパターン検査装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様による描画データ生成方法は、マルチ荷電粒子ビーム描画装置で用いられる描画データを生成する描画データ生成方法であって、設計データに含まれている図形の曲線部を表現する曲線であって、それぞれ複数の制御点で定義される一対の曲線を算出し、前記複数の制御点における第１制御点と前記曲線の進行方向において隣接する第２制御点の位置を、前記第１制御点からの前記曲線の進行方向の変位、及び該進行方向と直交する方向の変位で表現して、前記描画データを生成するものである。
【０００９】
本発明の一態様による描画データ生成方法において、前記複数の制御点は、前記進行方向において一定間隔で位置する。
【００１０】
本発明の一態様による描画データ生成方法において、前記複数の制御点のうち、前記進行方向において両端に位置する制御点は、前記図形の曲線部の端点と一致しない。
【００１１】
本発明の一態様によるプログラムは、マルチ荷電粒子ビーム描画装置で用いられる描画データをコンピュータに生成させるプログラムであって、設計データに含まれている図形の曲線部を表現する曲線であって、それぞれ複数の制御点で定義される一対の曲線を算出するステップと、前記複数の制御点における第１制御点と前記曲線の進行方向において隣接する第２制御点の位置を、前記第１制御点からの前記曲線の進行方向の変位、及び該進行方向と直交する方向の変位で表現して、前記描画データを生成するステップと、を前記コンピュータに実行させるものである。
【００１２】
本発明の一態様によるマルチ荷電粒子ビーム描画装置は、複数の荷電粒子ビームからなるマルチビームを形成し、前記マルチビームのうち、それぞれ対応するビームに対して個別にビームのオン／オフを行い、対象物上に荷電粒子ビームを照射してパターンを描画する描画部と、設計データに含まれている図形の曲線部を表現する曲線であって、それぞれ複数の制御点で定義される一対の曲線を算出し、前記複数の制御点における第１制御点と前記曲線の進行方向において隣接する第２制御点の位置を、前記第１制御点からの前記曲線の進行方向の変位、及び該進行方向と直交する方向の変位で表現して、前記描画データを生成し、該描画データに基づいて前記描画部を制御する制御部と、を備えるものである。
【００１３】
本発明の一態様によるパターン検査装置は、設計データに含まれている図形の曲線部を表現する曲線であって、それぞれ複数の制御点で定義される一対の曲線を算出し、前記複数の制御点における第１制御点と前記曲線の進行方向において隣接する第２制御点の位置を、前記第１制御点からの前記曲線の進行方向の変位、及び該進行方向と直交する方向の変位で表現して第１描画データを生成する変換部と、前記第１描画データと、対象物上に荷電粒子ビームが照射されて描画されたパターンに基づいて作成された第２描画データとを比較し、該パターンの検査を行う検査部と、を備えるものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、曲線を持つ図形が含まれている設計データから、データ量、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置内での計算量を抑制可能な描画データを生成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施形態に係るマルチ荷電粒子ビーム描画装置の概略図である。
【図２】曲線表現の一例を示す図である。
【図３】描画データのデータ構造の例を示す図である。
【図４】比較例による図形分割処理を示す図である。
【図５】別の実施形態による曲線表現の一例を示す図である。
【図６】別の実施形態による曲線表現の一例を示す図である。
【図７】描画データのデータ構造の例を示す図である。
【図８】（ａ）はフラグの意味を示す表であり、（ｂ）（ｃ）は直角タイプの例を示す図である。
【図９】フラグの意味を示す表である。
【図１０】別の実施形態による曲線表現の一例を示す図である。
【図１１】パターン検査装置の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００１７】
図１は、本実施形態による描画データを用いて描画を行うマルチ荷電粒子ビーム描画装置の概略図である。本実施形態では、荷電粒子ビームの一例として、電子ビームを用いた構成について説明する。但し、荷電粒子ビームは、電子ビームに限るものではなく、イオンビーム等の他の荷電粒子ビームでもよい。
【００１８】
図１に示す描画装置１は、マスクやウェーハ等の対象物に電子ビームを照射して所望のパターンを描画する描画部１０と、描画部１０による描画動作を制御する制御部５０とを備える。描画部１０は、電子ビーム鏡筒１２及び描画室３０を有している。
【００１９】
電子ビーム鏡筒１２内には、電子銃１４、照明レンズ１６、アパーチャ部材１８、ブランキングプレート２０、縮小レンズ２２、制限アパーチャ部材２４、対物レンズ２６、及び偏向器２８が配置されている。描画室３０内には、ＸＹステージ３２が配置される。ＸＹステージ３２上には、描画対象基板となるマスクブランク３４が載置されている。対象物として、例えば、ウェーハや、ウェーハにエキシマレーザを光源としたステッパやスキャナ等の縮小投影型露光装置や極端紫外線露光装置を用いてパターンを転写する露光用のマスクが含まれる。また、描画対象基板には、例えば、既にパターンが形成されているマスクも含まれる。例えば、レベンソン型マスクは２回の描画を必要とするため、１度描画されマスクに加工された物に２度目のパターンを描画することもある。ＸＹステージ３２上には、さらに、ＸＹステージ３２の位置測定用のミラー３６が配置される。
【００２０】
制御部５０は、制御計算機５２、偏向制御回路５４，５６、及びステージ位置検出器５８を有している。制御計算機５２、偏向制御回路５４，５６、及びステージ位置検出器５８は、バスを介して互いに接続されている。
【００２１】
電子銃１４から放出された電子ビーム４０は、照明レンズ１６によりほぼ垂直にアパーチャ部材１８全体を照明する。アパーチャ部材１８には、穴（開口部）が所定の配列ピッチでマトリクス状に形成されている。電子ビーム４０は、アパーチャ部材１８のすべての穴が含まれる領域を照明する。これらの複数の穴を電子ビーム４０の一部がそれぞれ通過することで、図１に示すようなマルチビーム４０ａ〜４０ｅが形成されることになる。
【００２２】
ブランキングプレート２０には、アパーチャ部材１８の各穴の配置位置に合わせて通過孔が形成され、各通過孔には、対となる２つの電極からなるブランカが、それぞれ配置される。各通過孔を通過する電子ビーム４０ａ〜４０ｅは、それぞれ独立に、ブランカが印加する電圧によって偏向される。かかる偏向によってブランキング制御される。このように、複数のブランカが、アパーチャ部材１８の複数の穴を通過したマルチビームのうち、それぞれ対応するビームのブランキング偏向を行う。
【００２３】
ブランキングプレート２０を通過したマルチビーム４０ａ〜４０ｅは、縮小レンズ２２によって縮小され、制限アパーチャ部材２４に形成された中心の穴に向かって進む。ここで、ブランキングプレート２０のブランカにより偏向された電子ビームは、制限アパーチャ部材２４の中心の穴から位置がはずれ、制限アパーチャ部材２４によって遮蔽される。一方、ブランキングプレート２０のブランカによって偏向されなかった電子ビームは、制限アパーチャ部材２４の中心の穴を通過する。
【００２４】
このように、制限アパーチャ部材２４は、ブランキングプレート２０のブランカによってビームＯＦＦの状態になるように偏向された各ビームを遮蔽する。そして、ビームＯＮになってからビームＯＦＦになるまでに制限アパーチャ部材２４を通過したビームが、１回分のショットのビームとなる。制限アパーチャ部材２４を通過したマルチビーム４０ａ〜４０ｅは、対物レンズ２６により焦点が合わされ、所望の縮小率のパターン像となる。制限アパーチャ部材２４を通過した各ビーム（マルチビーム全体）は、偏向器２８によって同方向にまとめて偏向され、各ビームのマスクブランク３４上のそれぞれの照射位置に照射される。
【００２５】
ＸＹステージ３２が連続移動している時、ビームの照射位置がＸＹステージ３２の移動に追従するように偏向器２８によって制御される。ＸＹステージ３２の移動は図示しないステージ制御部により行われ、ＸＹステージ３２の位置はステージ位置検出器５８により検出される。
【００２６】
一度に照射されるマルチビームは、理想的にはアパーチャ部材１８の複数の穴の配列ピッチに上述した所望の縮小率を乗じたピッチで並ぶことになる。この描画装置は、ショットビームを連続して順に照射していくラスタースキャン方式で描画動作を行い、所望のパターンを描画する際、パターンに応じて必要なビームがブランキング制御によりビームＯＮに制御される。ＸＹステージ３２が連続移動している時、ビームの照射位置がＸＹステージ３２の移動に追従するように偏向器２８によって制御される。
【００２７】
制御計算機５２は、記憶装置６０から描画データＤ１を読み出し、複数段のデータ変換処理を行って装置固有のショットデータを生成する。ショットデータには、各ショットの照射量及び照射位置座標等が定義される。例えば、制御計算機５２は、描画データ内に定義された図形パターンを対応する画素に割り当てる。そして、制御計算機５２は、画素毎に、配置される図形パターンの面積密度を算出する。
【００２８】
制御計算機５２は、画素毎に、１ショットあたりの電子ビームの照射量を算出する。例えば、画素の面積密度に比例した照射量を求め、近接効果、かぶり効果、ローディング効果等による寸法変動を考慮して照射量を補正する。
【００２９】
制御計算機５２は、ショットデータに基づき各ショットの照射量を偏向制御回路５４に出力する。偏向制御回路５４は、入力された照射量を電流密度で割って照射時間ｔを求める。そして、偏向制御回路５４は、対応するショットを行う際、照射時間ｔだけブランカがビームＯＮするように、ブランキングプレート２０の対応するブランカに偏向電圧を印加する。
【００３０】
また、制御計算機５２は、ショットデータが示す位置（座標）に各ビームが偏向されるように、偏向位置データを偏向制御回路５６に出力する。偏向制御回路５６は、偏向量を演算し、偏向器２８に偏向電圧を印加する。これにより、その回にショットされるマルチビームがまとめて偏向される。
【００３１】
次に、描画データＤ１の生成方法について説明する。まず、半導体集積回路のレイアウトが設計され、レイアウトデータとなる設計データ（ＣＡＤデータ）Ｄ０が生成される。そして、設計データＤ０が変換装置７０で変換され、描画装置１の制御計算機５２に入力される描画データＤ１が生成される。
【００３２】
設計データＤ０には曲線を持つ図形が含まれており、変換装置７０は、曲線を表現（パラメトリック曲線表現）するための複数の制御点の位置や曲線種類の情報を求め、これらの情報を含む描画データＤ１を生成する。
【００３３】
図２は、曲線を持つ図形の例を示す。この図形は、第１方向（Ｙ方向）に沿って平行な１組の直線状の端辺ＥＳ１，ＥＳ２と、第１方向と直交する第２方向（Ｘ方向）に延在する１組の曲線Ｃ１，Ｃ２とで囲まれている。
【００３４】
曲線Ｃ１が端辺ＥＳ１，ＥＳ２の下端に連結した下辺部となり、曲線Ｃ２が端辺ＥＳ１，ＥＳ２の上端に連結した上辺部となる。一対の曲線Ｃ１，Ｃ２は、それぞれ進行方向（図２では＋Ｘ方向）に対し９０°以上折れ曲がらない。また、曲線Ｃ１，Ｃ２は交差しない。
【００３５】
図２に示す例では、曲線Ｃ１は、６個の制御点Ｐ０１，Ｐ１１，Ｐ２１，Ｐ３１，Ｐ４１，Ｐ５１で定義されるＢスプライン曲線で表現（近似）される。曲線Ｃ２は、６個の制御点Ｐ０２，Ｐ１２，Ｐ２２，Ｐ３２，Ｐ４２，Ｐ５２によるＢスプライン曲線で表現（近似）される。制御点Ｐ１１と制御点Ｐ１２は、横方向の位置（Ｘ座標）が同じである。同様に、制御点Ｐ２１，Ｐ３１，Ｐ４１は、それぞれ制御点Ｐ２２，Ｐ３２，Ｐ４２と横方向の位置（Ｘ座標）が同じである。
【００３６】
変換装置７０は、図形の曲線部を表現する曲線の種類及び制御点を算出すると、制御点の位置を、隣接する制御点からの変位で表現して、描画データＤ１を生成する。例えば、図２に示す例では、端辺ＥＳ１の下端の頂点（制御点）Ｐ０１の座標（ｘ０、ｙ０）が、この図形の図形配置原点として定義される。
【００３７】
曲線Ｃ１の制御点のうち、制御点Ｐ０１に続く（制御点Ｐ０１の次の）制御点Ｐ１１の位置は、制御点Ｐ０１からみた曲線の進行方向（横方向）の変位Ｌ１と、縦方向の変位δ１１で定義される。
【００３８】
制御点Ｐ１１に続く制御点Ｐ２１の位置は、制御点Ｐ１１からみた横方向の変位Ｌ２と、縦方向の変位δ２１で定義される。
【００３９】
制御点Ｐ２１に続く制御点Ｐ３１の位置は、制御点Ｐ２１からみた横方向の変位Ｌ３と、縦方向の変位δ３１で定義される。以降、同様に、制御点Ｐ４１，Ｐ５１の位置は、１つ前の制御点からみた横方向の変位及び縦方向の変位で順に定義される。
【００４０】
端辺ＥＳ１の上端の頂点（制御点）Ｐ０２の位置は、図形配置位置原点Ｐ０１の座標と、そこから垂直に延びる端辺ＥＳ１の長さＬ０で定義される。
【００４１】
曲線Ｃ２の制御点のうち、制御点Ｐ０２に続く（制御点Ｐ０２の次の）制御点Ｐ１２の位置は、制御点Ｐ０２からみた曲線の進行方向（横方向）の変位Ｌ１と、縦方向の変位δ１２で定義される。
【００４２】
制御点Ｐ１２に続く制御点Ｐ２２の位置は、制御点Ｐ１２からみた横方向の変位Ｌ２と、縦方向の変位δ２２で定義される。以降、同様に、制御点Ｐ３２，Ｐ４２，Ｐ５２の位置は、１つ前の制御点からみた横方向の変位及び縦方向の変位で順に定義される。
【００４３】
このように、曲線を持つ図形は、図形配置位置原点Ｐ０１の座標（ｘ０、ｙ０）、端辺ＥＳ１の長さＬ０、隣り合う制御点の曲線の進行方向（横方向）の変位Ｌ１〜Ｌ５、隣り合う制御点からみた曲線の進行方向と直交する方向（縦方向）の変位δ１１，δ１２〜δ５１，δ５２により、その形状を定義することができる。なお、変位δ１１，δ１２〜δ５１，δ５２は符号付きの値である。
【００４４】
図３に、曲線を持つ図形を定義する描画データＤ１のデータ構造の一例を示す。描画データＤ１は、ヘッダ部、及び形状情報を含むボディ部を有する。ヘッダ部は図形コード（Ｃｏｄｅ）、要素数（Ｎ）、及び曲線情報が定義されている。
【００４５】
図形コードは、どのような図形を定義しているかを示す情報である。曲線を持つ図形の場合は、図形コードに“曲線”を示す情報が記載される。
【００４６】
要素数は、１つ前の制御点からの変位によって位置が定義されている制御点の数を示す。図２に示す例では、要素数は５となる。
【００４７】
曲線情報は、曲線タイプや、次数、ｋｎｏｔベクトル情報、端点情報などのパラメトリック曲線を決めるためのパラメータが設定される。曲線タイプは、例えばＢスプライン曲線、ベジェ曲線等である。図２に示す例では、曲線タイプ：Ｂスプライン曲線、次数：３次、ｋｎｏｔベクトル情報：均一、端点情報：クランプが設定される。
【００４８】
ボディ部の形状情報には、まず、図形配置位置原点の座標（ｘ０、ｙ０）及び端辺ＥＳ１の長さＬ０が記載される。この情報により、端辺ＥＳ１の上下の頂点（制御点）の位置が定まる。続いて、曲線Ｃ１，Ｃ２の２番目の制御点Ｐ１１，Ｐ１２の位置を定めるための変位Ｌ１，δ１１，δ１２が記載される。以降、曲線Ｃ１，Ｃ２の制御点の位置を定めるための横方向の変位及び縦方向の変位が順に記載される。
【００４９】
［比較例］
曲線を持つ図形を多角形図形に近似し、この多角形図形を複数の台形に分割して描画データを作成することができる。例えば、図２に示す曲線を持つ図形は、図４に示すように、横方向に連結された複数の細長い台形Ｔ１〜Ｔ１１で近似できる。描画データでは、各頂点の位置が、隣接する頂点からみた縦方向の変位及び横方向の変位で定義される。
【００５０】
図４に示すように、曲線を持つ図形は、曲線を近似するために１１個の台形Ｔ１〜Ｔ１１で分割される。隣接する頂点からみた縦方向の変位及び横方向の変位で位置が定義される頂点は、上側及び下側にそれぞれ１１個ある。
【００５１】
一方、本実施形態では、複数の制御点を用いたパラメトリック曲線で図形の曲線部分を表現する。制御点の数は、比較例のような台形分割による頂点数よりも少ない。
【００５２】
例えば、図２に示す例では、隣接する制御点からみた縦方向の変位及び横方向の変位で位置が定義される制御点は、曲線Ｃ１及びＣ２（上側及び下側）にそれぞれ５個である。
【００５３】
このように、複数の制御点を用いたパラメトリック曲線表現により図形の曲線部分を表現することで、描画データＤ１のデータ量を低減することができる。
【００５４】
制御計算機５２は、描画データＤ１を読み出し、図形を再構成する。例えば、制御計算機５２は、描画データＤ１の座標（ｘ０、ｙ０）から図形配置位置原点となる制御点Ｐ０１の位置を算出する。続いて、長さＬ０を用いて、端辺ＥＳ１の上端の制御点Ｐ０２の位置を算出する。
【００５５】
算出された制御点Ｐ０１，Ｐ０２の位置と、描画データＤ１に定義された変位Ｌ１，δ１１，δ１２を用いて制御点Ｐ１１，Ｐ１２の位置を算出する。以降、隣接する制御点の位置を順に算出する。要素数Ｎに基づき全ての制御点の位置を算出したら、曲線情報を参照し、曲線Ｃ１，Ｃ２を算出する。これにより、曲線を有する図形が再構成される。
【００５６】
このように、パラメトリック曲線表現により図形の曲線部分を表現した描画データＤ１は、描画装置１の制御計算機５２内でのデータ処理が容易であり、計算量を抑制することができる。
【００５７】
上記実施形態において、描画データＤ１に、複数の制御点により生成される曲線と、設計データＤ０に含まれる曲線を持つ図形の曲線部との許容誤差情報を付与してもよい。
【００５８】
上記実施形態では、曲線の進行方向が横方向であったが、縦方向であっても同様に定義できる。曲線の進行方向が縦方向か、又は横方向であるかは、描画データＤ１のヘッダ部に定義できる。
【００５９】
上記実施形態では、曲線の進行方向（図２の例では横方向）における制御点の間隔（変位）が任意であったが、図５に示すように制御点の間隔を一定にしてもよい。これにより、描画データＤ１のデータ量をさらに削減することができる。
【００６０】
上記実施形態では、上下の制御点の横方向の位置が揃っていたが、図６に示すように揃っていなくてもよい。上辺部と下辺部とで制御点の数が異なっていてもよい。また、上辺部及び下辺部は、曲線だけでなく、直線や直角部を含んでいてもよい。この場合の描画データＤ１のデータ構造を図７に示す。
【００６１】
ヘッダ部の曲線情報に、「辺混在タイプ」及び「制御点非整列タイプ」であることが設定される。「辺混在タイプ」は、曲線、直線、直角など、複数のタイプの辺が含まれていることを示す。「制御点非整列タイプ」は、上下の制御点の横方向の位置が異なり、整列していないことを示す。
【００６２】
点情報（ＥＰ１〜ＥＰｎ）は、上辺部及び下辺部の少なくともいずれか一方に点（制御点又は頂点）がある場合に定義される。点情報は、ｆｌａｇ１、Ｌ、ｆｌａｇ２、Δｙａ、ｆｌａｇ３、Δｙｂを含む。Ｌは、１つ前の点情報からみた横方向の変位が定義される。
【００６３】
ｆｌａｇ２及びΔｙａは、下辺部に点がある場合に定義される。Δｙａは、１つ前の下辺部の点からみた縦方向の変位を示す。ｆｌａｇ２は１つ前の点との間の辺のタイプを示す２ビットの値であり、図８（ａ）に示すような意味を持つ。すなわち、ｆｌａｇ２の値が“００”の場合は図８（ｂ）に示すようなタイプIの直角となり、“０１”の場合は図８（ｃ）に示すようなタイプIIの直角となる。ｆｌａｇ２の値が“１０”の場合は直線となり、“１１”の場合は曲線となる。
【００６４】
ｆｌａｇ３及びΔｙｂは、上辺部に点がある場合に定義される。Δｙｂは、１つ前の上辺部の点からみた縦方向の変位を示す。ｆｌａｇ３は１つ前の点との間の辺のタイプを示す２ビットの値であり、図８（ａ）に示すような意味を持つ。
【００６５】
ｆｌａｇ１は、下辺部の点の情報を含むか否か、上辺部の点の情報を含むか否かを示す２ビットの値であり、図９に示すような意味を持つ。すなわち、ｆｌａｇ１の値が“０１”の場合、点情報は下辺部の点の情報（ｆｌａｇ２及びΔｙａ）を含み、上辺部の点の情報（ｆｌａｇ３及びΔｙｂ）は含まない。
【００６６】
ｆｌａｇ１の値が“１０”の場合、点情報は下辺部の点の情報（ｆｌａｇ２及びΔｙａ）は含まず、上辺部の点の情報（ｆｌａｇ３及びΔｙｂ）を含む。ｆｌａｇ１の値が“１１”の場合、点情報は下辺部の点の情報（ｆｌａｇ２及びΔｙａ）及び上辺部の点の情報（ｆｌａｇ３及びΔｙｂ）の両方を含む。
【００６７】
ｆｌａｇ１の値が“００”の場合、点情報は下辺部の点の情報（ｆｌａｇ２及びΔｙａ）及び上辺部の点の情報（ｆｌａｇ３及びΔｙｂ）のどちらも含まず、縦方向の変位のない平坦部であることを示す。
【００６８】
描画データＤ１をこのようなデータ構造とすることで、図形の形状を表現する自由度を向上させることができる。
【００６９】
上記実施形態では、端辺ＥＳ１と端辺ＥＳ２との間に複数の制御点を設定して図形の曲線部を近似していたが、図１０に示すように、端辺ＥＳ１，ＥＳ２よりも左右方向の外側に制御点ＴＰｓ、ＴＰｅを設定してもよい。この場合、曲線情報の曲線タイプにはCatmull-Romスプライン曲線、端点情報にはノンクランプが設定される。
【００７０】
曲線の進行方向において両端に位置する制御点ＴＰｓ、ＴＰｅの位置は、それぞれ隣接する制御点からの変位（Δｘ、Δｙ）で表現し、ボディ部に設定される。これにより、端点が図形の曲線部の端点と一致しない曲線表現も選択可能となる。
【００７１】
上記実施形態による変換装置７０により生成された描画データＤ１は、パターン検査装置に入力されてもよい。例えば、図１１に示すように、パターン検査装置８０には、変換装置７０により生成された描画データＤ１（第１描画データ）と、図１に示す描画装置１が描画データＤ１に基づいて描画対象基板に実際に描画したパターンに基づいて作成された描画データＤ２（第２描画データ）とが入力される。描画データＤ２は、図示しない記憶装置から有線又は無線ネットワークを介してパターン検査装置８０に入力される。
【００７２】
パターン検査装置８０は、入力された描画データＤ１、Ｄ２に基づいて、描画装置１により描画対象基板に実際に描画されたパターンを検査する。この検査では、例えば、描画データＤ１と描画データＤ２とを比較するような検査が行われる。なお、検査には、描画条件などの各種情報がさらに用いられる。
【００７３】
変換装置７０により生成される描画データＤ１はデータ量が小さく、かつデータ処理が容易なものであるため、パターン検査装置８０の処理効率を向上させることができる。
【００７４】
変換装置７０は、パターン検査装置８０内に設けられていてもよい。その場合、パターン検査装置８０は、入力された設計データＤ０に基づいて描画データＤ１を生成する変換部と、描画データＤ１と描画データＤ２とを比較して描画対象基板に実際に描画されたパターンの検査を行う検査部とを備えたものとなる。
【００７５】
上記実施形態による描画データＤ１の生成は描画装置１の制御計算機５２内で行ってもよい。制御計算機５２は、設計データＤ０が入力されると、図形の曲線部を近似する曲線表現を選定し、複数の制御点を算出し、各制御点の位置を、隣接する制御点の位置からの変位で表して描画データＤ１を生成する。
【００７６】
上述した実施形態で説明した描画データＤ１を生成する変換装置７０の少なくとも一部は、ハードウェアで構成してもよいし、ソフトウェアで構成してもよい。ソフトウェアで構成する場合には、変換装置７０の少なくとも一部の機能を実現するプログラムをフレキシブルディスクやＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体に収納し、コンピュータに読み込ませて実行させてもよい。記録媒体は、磁気ディスクや光ディスク等の着脱可能なものに限定されず、ハードディスク装置やメモリなどの固定型の記録媒体でもよい。
【００７７】
また、変換装置７０の少なくとも一部の機能を実現するプログラムを、インターネット等の通信回線（無線通信も含む）を介して頒布してもよい。さらに、同プログラムを暗号化したり、変調をかけたり、圧縮した状態で、インターネット等の有線回線や無線回線を介して、あるいは記録媒体に収納して頒布してもよい。
【００７８】
なお、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【符号の説明】
【００７９】
１  描画装置
１０  描画部
１２  電子ビーム鏡筒
１４  電子銃
１６  照明レンズ
１８  アパーチャ部材
２０  ブランキングプレート
２２  縮小レンズ
２４  制限アパーチャ部材
２６  対物レンズ
２８  偏向器
３０  描画室
３２  ＸＹステージ
３４  マスクブランク
３６  ミラー
５０  制御部
５２  制御計算機
５４、５６  偏向制御回路
５８  ステージ位置検出器
７０  変換装置
８０  パターン検査装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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