(57)【要約】【課題】シール状態を維持する。【解決手段】シャワープレート１０５の昇降温時に生じる熱変形に対応してスライド可能とされ、かつ、シャワープレートと電極フランジ１０４と絶縁シールド１０６とで囲まれる空間１０１ｂをシールしてスライド可能とされるとともに、シャワープレートの周縁部を前記電極フランジに接続するスライドシール部材１１０，２１０が設けられる。【選択図】図２
2019173128.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ処理をおこなう真空処理装置であって、
チャンバ内に、高周波電源に接続された電極フランジと、前記電極フランジと離間して対向し前記電極フランジとともにカソードとされるシャワープレートと、前記シャワープレートの周囲に設けられた絶縁シールドと、前記シャワープレートにおける前記電極フランジと反対側で被処理基板が配置される処理室と、
を有し、
前記シャワープレートの昇降温時に生じる熱変形に対応してスライド可能とされ、かつ、前記シャワープレートと前記電極フランジと前記絶縁シールドとで囲まれる空間をシールしてスライド可能とされるとともに、前記シャワープレートの周縁部を前記電極フランジに接続するスライドシール部材が設けられることを特徴とする真空処理装置。
【請求項２】
前記シャワープレートが略矩形輪郭を有し、
前記スライドシール部材が、前記シャワープレートに取り付けられるブラケットと、このブラケットに対応して前記電極フランジに取り付けられる支持部と、からなり、
前記ブラケットは、前記シャワープレートにおける前記電極フランジ側周縁部に取り付けられた基部と、この基部に接続されて前記シャワープレートから前記電極フランジに向かって立設される壁部と、前記壁部先端に、前記シャワープレートの主面と並行なすべりシール面を有するスライド部とを有し、
前記支持部は、前記すべりシール面に接するすべりシール面を有し前記スライド部よりも前記シャワープレート側に位置する支持スライド部と、前記支持スライド部を前記電極フランジに固定する固定部とを有することを特徴とする請求項１記載の真空処理装置。
【請求項３】
前記ブラケットのスライド部が、前記シャワープレートの輪郭から内側中心に向かう配置とされるか、
前記ブラケットのスライド部が、前記シャワープレートの輪郭から外側に向かう配置とされることを特徴とする請求項２記載の真空処理装置。
【請求項４】
前記ブラケットと前記支持部とが、矩形輪郭形状とされる前記シャワープレートの４辺に対応して配置されることを特徴とする請求項２または３記載の真空処理装置。
【請求項５】
矩形輪郭形状とされる前記シャワープレートの角部位置には、前記スライドシール部材端部どうしをスライド可能にシールするコーナー部材が設けられることを特徴とする請求項１から３のいずれか記載の真空処理装置。
【請求項６】
前記コーナー部材には、前記シャワープレートの主面と並行で前記ブラケットの前記スライド部とシール可能なすべりシール面と、前記シャワープレートの輪郭線と並行で前記ブラケットの前記壁部とシール可能なすべりシール面と、が設けられることを特徴とする請求項５記載の真空処理装置。
【請求項７】
前記コーナー部材の前記すべりシール面が、前記コーナー部材と前記ブラケットおよび前記支持部とが、矩形輪郭形状とされる前記シャワープレートの辺に並行な方向に伸縮してもシール可能に配置されることを特徴とする請求項６記載の真空処理装置。
【請求項８】
前記シャワープレートの周縁面と、前記絶縁シールドとの間には、前記シャワープレートが熱伸び可能とする隙間部が設けられることを特徴とする請求項１から７のいずれか記載の真空処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は真空処理装置に関し、特に、プラズマによる処理をおこなう際に用いて好適な技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、プラズマを用いた処理として成膜、特にプラズマＣＶＤ、あるいは、エッチングなど基板の表面処理をするプラズマ処理装置が知られている。このプラズマ処理装置においては、成膜空間（反応室）を有するように、チャンバおよび電極フランジによって挟まれた絶縁フランジによって処理室が構成されている。この処理室内には、電極フランジに接続され複数の噴出口を有するシャワープレートと、基板が配置されるヒータとが設けられている。
【０００３】
シャワープレートと電極フランジとの間に形成される空間は、原料ガスが導入されるガス導入空間である。即ち、シャワープレートは、処理室内を、基板に膜が形成される成膜空間と、ガス導入空間とに区画している。
電極フランジには高周波電源が接続されている。電極フランジおよびシャワープレートは、カソード電極として機能する。
【０００４】
このような構成において、プラズマ処理時においてその処理温度が高いため、シャワープレートは熱膨張し、処理終了時など温度を下降させた際には収縮することになる。
【０００５】
特許文献１には、ガス分配プレート（シャワープレート）２０が、細い可撓性シート金属からなる側壁又はサスペンション２４で吊り下げられたものが例示されている。
ここでは、ディフューザ２０の幅がチャンバの正常な動作中の温度変化に応じて膨張や収縮する場合、可撓性側壁又はサスペンション２４に力が加わりある量まで曲がってこの変形を吸収すること、また、側壁２４がガス分配プレート２０との間に良好なＲＦ電流の接触を得ること、２つの隣接した側壁２４部分は、ディフューザの４つの角のそれぞれの近傍で適合することが記載される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第４４３０２５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、特許文献１の技術では、側壁２４等が可撓性金属からなる構成とされているため、一辺１８００ｍｍ以上などとされるＦＰＤなどの大面積処理をおこなう際には、シャワープレートの熱収縮がおおきくなりすぎて、側壁２４の変形可能量では対応できなくなり、部品の対応処理回数が減少してしまう、ひどい場合には、一回ごとの使い捨てに近くなってしまうという問題があった。
【０００８】
さらに、特許文献１記載の技術では、例えば「可撓性側壁２４の上方リップ２６の間にはガスの漏れないシールを必要としない」とあるように、シャワープレートの周縁外側に漏れたガスが被処理基板側に到達してしまうことは気にしていない。特に、「ディフューザの４つの角」と記載される角部におけるシールが不完全であるため、これを解決したいという要求がある。
【０００９】
特許文献１には、「プラズマＣＶＤが動作する間のガス分配プレート２０の好ましい温度は、少なくとも２００℃、好ましくは２５０℃〜３２５℃、最も好ましくは、約３００℃である」との記載があるが、近年、４００℃をこえた処理温度が可能な装置が要求されている。
【００１０】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたもので、以下の目的を達成しようとするものである。
１．シャワープレートまわりから漏れるガスシールの向上を図ること。
２．大面積処理におけるシャワープレート熱伸縮に対応可能とすること。
３．４００℃越とされる処理温度の上昇に対応可能とすること。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の真空処理装置は、プラズマ処理をおこなう真空処理装置であって、
チャンバ内に、高周波電源に接続された電極フランジと、前記電極フランジと離間して対向し前記電極フランジとともにカソードとされるシャワープレートと、前記シャワープレートの周囲に設けられた絶縁シールドと、前記シャワープレートにおける前記電極フランジと反対側で被処理基板が配置される処理室と、
を有し、
前記シャワープレートの昇降温時に生じる熱変形に対応してスライド可能とされ、かつ、前記シャワープレートと前記電極フランジと前記絶縁シールドとで囲まれる空間をシールしてスライド可能とされるとともに、前記シャワープレートの周縁部を前記電極フランジに接続するスライドシール部材が設けられることにより上記課題を解決した。
本発明において、前記シャワープレートが略矩形輪郭を有し、
前記スライドシール部材が、前記シャワープレートに取り付けられるブラケットと、このブラケットに対応して前記電極フランジに取り付けられる支持部と、からなり、
前記ブラケットは、前記シャワープレートにおける前記電極フランジ側周縁部に取り付けられた基部と、この基部に接続されて前記シャワープレートから前記電極フランジに向かって立設される壁部と、前記壁部先端に、前記シャワープレートの主面と並行なすべりシール面を有するスライド部とを有し、
前記支持部は、前記すべりシール面に接するすべりシール面を有し前記スライド部よりも前記シャワープレート側に位置する支持スライド部と、前記支持スライド部を前記電極フランジに固定する固定部とを有することがより好ましい。
本発明は、前記ブラケットのスライド部が、前記シャワープレートの輪郭から内側中心に向かう配置とされるか、
前記ブラケットのスライド部が、前記シャワープレートの輪郭から外側に向かう配置とされることが可能である。
また、本発明において、前記ブラケットと前記支持部とが、矩形輪郭形状とされる前記シャワープレートの４辺に対応して配置される手段を採用することもできる。
また、矩形輪郭形状とされる前記シャワープレートの角部位置には、前記スライドシール部材端部どうしをスライド可能にシールするコーナー部材が設けられることができる。
また、前記コーナー部材には、前記シャワープレートの主面と並行で前記ブラケットの前記スライド部とシール可能なすべりシール面と、前記シャワープレートの輪郭線と並行で前記ブラケットの前記壁部とシール可能なすべりシール面と、が設けられることが好ましい。
本発明においては、前記コーナー部材の前記すべりシール面が、前記コーナー部材と前記ブラケットおよび前記支持部とが、矩形輪郭形状とされる前記シャワープレートの辺に並行な方向に伸縮してもシール可能に配置されることができる。
また、前記シャワープレートの周縁面と、前記絶縁シールドとの間には、前記シャワープレートが熱伸び可能とする隙間部が設けられることができる。
【００１２】
本発明の真空処理装置は、プラズマ処理をおこなう真空処理装置であって、
チャンバ内に、高周波電源に接続された電極フランジと、前記電極フランジと離間して対向し前記電極フランジとともにカソードとされるシャワープレートと、前記シャワープレートの周囲に設けられた絶縁シールドと、前記シャワープレートにおける前記電極フランジと反対側で被処理基板が配置される処理室と、
を有し、
前記シャワープレートの昇降温時に生じる熱変形に対応してスライド可能とされ、かつ、前記シャワープレートと前記電極フランジと前記絶縁シールドとで囲まれる空間をシールしてスライド可能とされるとともに、前記シャワープレートの周縁部を前記電極フランジに接続するスライドシール部材が設けられることにより、シャワープレートの昇温時に熱変形、特に、熱伸びが生じた際にスライドシール部材がスライドして、シャワープレートの寸法が伸長する変形を電極フランジと絶縁シールドとに影響を与えずに吸収する。同時に、スライドシール部材がスライドすることで、シャワープレートと電極フランジと絶縁シールドとで囲まれる空間におけるシール状態を維持することができる。
また、降温時に熱伸びしていたシャワープレートに縮みが生じた際にスライドシール部材がスライドして、シャワープレートの寸法が収縮する変形を電極フランジと絶縁シールドとに影響を与えずに吸収する。同時に、スライドシール部材がスライドすることで、シャワープレートと電極フランジと絶縁シールドとで囲まれる空間におけるシール状態を維持することができる。
ここで、シャワープレートと電極フランジと絶縁シールドとで囲まれる空間におけるシール状態とは、この空間に供給される原料ガスが、シャワープレートに多数形成された貫通孔を通って被処理基板側に移動する経路以外の経路を辿ってガスが漏れることを意味している。
【００１３】
本発明において、前記シャワープレートが略矩形輪郭を有し、
前記スライドシール部材が、前記シャワープレートに取り付けられるブラケットと、このブラケットに対応して前記電極フランジに取り付けられる支持部と、からなり、
前記ブラケットは、前記シャワープレートにおける前記電極フランジ側周縁部に取り付けられた基部と、この基部に接続されて前記シャワープレートから前記電極フランジに向かって立設される壁部と、前記壁部先端に、前記シャワープレートの主面と並行なすべりシール面を有するスライド部とを有し、
前記支持部は、前記すべりシール面に接するすべりシール面を有し前記スライド部よりも前記シャワープレート側に位置する支持スライド部と、前記支持スライド部を前記電極フランジに固定する固定部とを有することにより、シャワープレート輪郭各辺に延在するように、かつ、シャワープレートとの間をシール状態としてブラケットが取り付けられて、また、ブラケットに対応する位置に電極フランジとの間をシール状態として支持部が取り付けられていることで、これらブラケットと支持部とがすべりシール面で、互いにスライドすることで、シール状態を維持したまま、電極フランジとシャワープレート輪郭との相対位置変更に対応することができる。
ここで、ブラケットの基部により、シャワープレートとブラケットとの間をシール状態としてブラケットを取り付けることができる。また、壁部により、離間した電極フランジとシャワープレートとの間をシールしつつこれら電極フランジとシャワープレートとを電気的に接続することができる。さらに、スライド部により、支持部とすべりシール面で互いにスライドして、シール状態を維持したまま、電極フランジとシャワープレート輪郭との相対位置変更に対応することができる。
【００１４】
本発明は、前記ブラケットのスライド部が、前記シャワープレートの輪郭から内側中心に向かう配置とされるか、
前記ブラケットのスライド部が、前記シャワープレートの輪郭から外側に向かう配置とされることにより、スライド部が内側に向かう場合には、平面視した場合に、シャワープレートの輪郭とスライドシール部材の外形輪郭とが一致するように形成することができるため、絶縁シールド側に、スライドシール部材が延出してしまうことがない。また、スライド部が外側に向かう場合には、シャワープレートが熱伸びした際に、スライド部が前記外側に向けて移動するため、支持部と接するすべりシール面が増大し、よりシール状態wを確実にすることができる。
【００１５】
また、本発明において、前記ブラケットと前記支持部とが、矩形輪郭形状とされる前記シャワープレートの４辺に対応して配置されることにより、シャワープレート輪郭各辺に延在するように、かつ、シャワープレートとの間をシール状態としてブラケットが取り付けられて、また、ブラケットに対応する位置に電極フランジとの間をシール状態として支持部が取り付けられることができ、これらブラケットと支持部とがすべりシール面で、互いにスライドすることで、シール状態を維持したまま、電極フランジとシャワープレート輪郭との相対位置変更に対応することができる。
【００１６】
また、矩形輪郭形状とされる前記シャワープレートの角部位置には、前記スライドシール部材端部どうしをスライド可能にシールするコーナー部材が設けられることにより、温度変化に起因してシャワープレートの輪郭が変形した際に、このシャワープレートの輪郭辺方向におけるブラケット端部が位置変化するが、この変化を吸収し、シール状態を維持するようにスライドさせることができる。
【００１７】
また、前記コーナー部材には、前記シャワープレートの主面と並行で前記ブラケットの前記スライド部とシール可能なすべりシール面と、前記シャワープレートの輪郭線と並行で前記ブラケットの前記壁部とシール可能なすべりシール面と、が設けられることにより、各すべりシール面がスライドする方向がシャワープレートの熱変形によって伸縮する方向に設定されることで、コーナー部材とブラケット、または、コーナー部材と支持部とがスライドしても、シール状態を維持することができる。また、熱伸びによるこれらのスライドに対して、降温による熱収縮の際に、コーナー部材とブラケット、または、コーナー部材と支持部とがスライドして位置変化してシール状態を維持することができる。
【００１８】
本発明においては、前記コーナー部材の前記すべりシール面が、前記コーナー部材と前記ブラケットおよび前記支持部とが、矩形輪郭形状とされる前記シャワープレートの辺に並行な方向に伸縮してもシール可能に配置されることにより、熱伸びまたは熱縮みが発生した際に、シャワープレートの変形方向は、対角方向に最も大きくなり、同時に、ブラケットが外形輪郭の辺外側方向となるためこれに対応して、その位置変化を吸収して各部材における余計な応力が発生することなくシール状態を維持することができる。
【００１９】
また、前記シャワープレートの周縁面と、前記絶縁シールドとの間には、前記シャワープレートが熱伸び可能とする隙間部が設けられることにより、熱伸びした際に隙間部でその膨張変形を吸収して、各部材における余計な応力が発生することなくシール状態を維持することができる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、シャワープレートまわりから漏れるガスシールの向上を図り、大面積処理におけるシャワープレート熱伸縮に対応可能とし、４００℃越とされる処理温度の上昇に対応可能とすることができるという効果を奏することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明に係る真空処理装置の第１実施形態を示す模式断面図である。
【図２】本発明に係る真空処理装置の第１実施形態におけるシャワープレートを示す平面図である。
【図３】本発明に係る真空処理装置の第１実施形態におけるスライドシール部材およびシャワープレート周縁部を示す断面図である。
【図４】本発明に係る真空処理装置の第１実施形態におけるスライドシール部材およびシャワープレート周縁部の熱伸び状態を示す断面図である。
【図５】本発明に係る真空処理装置の第１実施形態におけるスライドシール部材およびコーナー部材を示す平面図である。
【図６】本発明に係る真空処理装置の第１実施形態におけるスライドシール部材およびコーナー部材を示す断面矢視図である。
【図７】本発明に係る真空処理装置の第１実施形態におけるスライドシール部材およびコーナー部材を示す断面矢視図である。
【図８】本発明に係る真空処理装置の第１実施形態におけるスライドシール部材およびコーナー部材を示す断面矢視図である。
【図９】本発明に係る真空処理装置の第１実施形態におけるスライドシール部材およびコーナー部材を示す断面矢視図である。
【図１０】本発明に係る真空処理装置の第１実施形態におけるスライドシール部材およびコーナー部材を示す断面矢視図である。
【図１１】本発明に係る真空処理装置の第２実施形態におけるスライドシール部材およびシャワープレート周縁部を示す断面図である。
【図１２】本発明に係る真空処理装置の第２実施形態におけるスライドシール部材およびシャワープレート周縁部の熱伸び状態を示す断面図である。
【図１３】本発明に係る真空処理装置の第２実施形態におけるスライドシール部材およびコーナー部材を示す平面図である。
【図１４】本発明に係る真空処理装置の第２実施形態におけるスライドシール部材およびコーナー部材を示す断面矢視図である。
【図１５】本発明に係る真空処理装置の第２実施形態におけるスライドシール部材およびコーナー部材を示す断面矢視図である。
【図１６】本発明に係る真空処理装置の第２実施形態におけるスライドシール部材およびコーナー部材を示す断面矢視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明に係る真空処理装置の第１実施形態を、図面に基づいて説明する。
図１は、本実施形態における真空処理装置を示す模式断面図であり、図において、符号１００は、真空処理装置である。
【００２３】
また、本実施形態においては、プラズマＣＶＤ法を用いた成膜装置を説明する。
本実施形態に係る真空処理装置１００は、プラズマＣＶＤ法による成膜をおこなうものとされ、図１に示すように、反応室である成膜空間１０１ａを有する処理室１０１を有する。処理室１０１は、真空チャンバ１０２（チャンバ）と、電極フランジ１０４と、真空チャンバ１０２および電極フランジ１０４に挟持された絶縁フランジ１０３とから構成されている。
【００２４】
真空チャンバ１０２の底部１０２ａ（内底面）には、開口部が形成されている。この開口部には支柱１４５が挿通され、支柱２５は真空チャンバ２の下部に配置されている。支柱１４５の先端（真空チャンバ１０２内）には、板状の支持部１４１が接続されている。また、真空チャンバ１０２には、排気管を介して真空ポンプ（排気手段）１４８が設けられている。真空ポンプ１４８は、真空チャンバ１０２内が真空状態となるように減圧する。
また、支柱１４５は、真空チャンバ２の外部に設けられた昇降機構（不図示）に接続されており、基板Ｓの鉛直方向において上下に移動可能である。
【００２５】
電極フランジ１０４は、上壁１０４ａと周壁１０４ｂとを有する。電極フランジ１０４は、電極フランジ１０４の開口部が基板Ｓの鉛直方向において下方に位置するように配置されている。また、電極フランジ１０４の開口部には、シャワープレート１０５が取り付けられている。これにより、電極フランジ１０４とシャワープレート１０５との間に空間１０１ｂが形成されている。また、電極フランジ１０４の上壁１０４ａは、シャワープレート１０５に対向している。上壁１０４ａには、ガス導入口を介してガス供給手段１４２が接続されている。
空間１０１ｂは、プロセスガスが導入されるガス導入空間として機能している。
【００２６】
電極フランジ１０４とシャワープレート１０５は、それぞれ導電材で構成されている。具体的には、アルミニウムとすることができる。
電極フランジ１０４の周囲には、電極フランジ１０４を覆うようにシールドカバーが設けられている。シールドカバーは、電極フランジ１０４と非接触であり、かつ、真空チャンバ１０２の周縁部に連設するように配置されている。また、電極フランジ１０４には、真空チャンバ１０２の外部に設けられたＲＦ電源（高周波電源）１４７がマッチングボックスを介して接続されている。マッチングボックスは、シールドカバーに取り付けられており、真空チャンバ１０２は、シールドカバーを介して接地されている。
【００２７】
電極フランジ１０４およびシャワープレート１０５はカソード電極として構成されている。シャワープレート１０５には、複数のガス噴出口１０５ａが形成されている。空間１０１ｂ内に導入されたプロセスガスは、ガス噴出口１０５ａから真空チャンバ１０２内の成膜空間１０１ａに噴出される。
【００２８】
同時に、ＲＦ電源１４７から電力供給された電極フランジ１０４およびシャワープレート１０５がカソード電極となり、成膜空間１０１ａにプラズマが発生して成膜等の処理がおこなわれる。
【００２９】
図２は、シャワープレート１０５を平面視した上面図である。
シャワープレート１０５は、棒状の固定シャフト１０９，変形シャフト１０８によって電極フランジ１０４から吊り下げられて支持されている。
固定シャフト１０９は、シャワープレート１０５を平面視した中央位置に固着して取り付けられる。変形シャフト１０８は、固定シャフト１０９を中心とした矩形の頂点および四辺の中点に配置される。
【００３０】
変形シャフト１０８は、固定シャフト１０９と異なり、シャワープレート１０５の熱伸びに対応して、その下端に設けられた球面ブシュによってシャワープレート１０５に接続されており、水平方向におけるシャワープレート１０５の変形に対応して支持可能とされている。
【００３１】
図３は、シャワープレート１０５縁部付近を拡大した断面図である。
シャワープレート１０５周縁部外側位置には、このシャワープレート１０５縁部と離間するように絶縁シールド１０６が周設されている。絶縁シールド１０６は、電極フランジ１０４ｂ（１０４）に取り付けられている。絶縁シールド１０６とシャワープレート１０５周縁部との外側位置は、熱伸び吸収空間（隙間部）１０６ａが形成されている。
【００３２】
シャワープレート１０５周縁部上側には、スライドシール部材１１０が周設されて、このスライドシール部材１１０によりシャワープレート１０５縁部が電極フランジ１０４に吊り下げられて支持されている。
【００３３】
スライドシール部材１１０は、図１〜図３に示すように、シャワープレート１０５の昇降温時に生じる熱変形に対応してスライド可能とされ、かつ、シャワープレート１０５と電極フランジ１０４と絶縁シールド１０６とで囲まれるガス導入空間１０１ｂをシールしてスライド可能とされるとともに、シャワープレート１０５周縁部を電極フランジ１０４に電気的に接続している。
【００３４】
スライドシール部材１１０は、図２に示すように、平面視してシャワープレート１０５周縁部とほぼ等しい外形輪郭である矩形輪郭を有するとともに、シャワープレート１０５の周囲で略等しい幅寸法を有する。スライドシール部材１１０は、例えば、アルミニウム等の金属製とされる。
【００３５】
スライドシール部材１１０は、図３に示すように、シャワープレート１０５に取り付けられるブラケット１１１と、このブラケット１１１に対応して電極フランジ１０４に取り付けられる支持部１１７とからなる。
【００３６】
ブラケット１１１は、図３に示すように、シャワープレート１０５における電極フランジ１０４側となる周縁部に固定して取り付けられた基部１１２と、この基部１１２に接続されてシャワープレート１０５の主面から略垂直に電極フランジ１０４に向かって立設される壁部１１３と、壁部１１３の電極フランジ１０４側先端に、シャワープレート１０５の主面と並行なすべりシール面１１４ａを有するスライド部１１４とを有する。
【００３７】
基部１１２の電極フランジ１０４側（上側）にはほぼ同じ幅寸法で延在する押さえ板１１２ｅが設けられてシャワープレート１０５に押さえつけられている。押さえ板１１２ｅは、固定ボルト１１２ｄ等によりシャワープレート１０５の上面に螺着されており、基部１１２とシャワープレート１０５との間がシール可能とされている。
【００３８】
ブラケット１１１は、図３に示すように、シャワープレート１０５の輪郭と直交する断面形状がコ字状となるように形成されている。
ブラケット１１１においては、図３に示すように、スライド部１１４が、シャワープレート１０５の外周輪郭から内側中心に向かう配置とされている。つまり、スライド部１１４が、壁部１１３先端からシャワープレート１０５の内側中心に向かう配置とされている。
【００３９】
支持部１１７は、図３に示すように、スライド部１１４のすべりシール面１１４ａに摺動可能に接するすべりシール面１１８ａを有しスライド部１１４よりもシャワープレート１０５側に位置する支持スライド部１１８と、支持スライド部１１８を電極フランジ１０４に固定する固定部１１９と、を有する。
【００４０】
固定部１１９は、支持スライド部１１８よりもシャワープレート１０５の内側中心に近接する配置とされている。固定部１１９は、固定ボルト１１９ｄ等により電極フランジ１０４の下面にシール可能として螺着されている。なお、固定部１１９も、押さえ板１１２ｅに対応する押さえ板を配して固定することもできる。
【００４１】
ブラケット１１１と支持部１１７とは、矩形輪郭形状とされるシャワープレート１０５の４辺に対応して配置されている。
また、熱伸び吸収空間（隙間部）１０６ａは、シャワープレート１０５およびブラケット１１１の高さ寸法に対応した高さ寸法を有し、シャワープレート１０５の熱伸び時に、一体としてシャワープレート１０５の外向きに移動するブラケット１１１が当接しないように設定されている。
【００４２】
ブラケット１１１におけるスライド部１１４のすべりシール面１１４ａと、支持部１１７における支持スライド部１１８のすべりシール面１１８ａとには、いずれも、アルマイト処理層１１６が設けられて、摺動可能およびシール可能とされている。
このように、スライド部１１４のすべりシール面１１４ａと、支持スライド部１１８のすべりシール面１１８ａとが、互いに接触していることにより、シャワープレート１０５周縁部の荷重がブラケット１１１および支持部１１７を介して電極フランジに支持されている。
【００４３】
図４は、熱伸び状態におけるシャワープレート１０５縁部付近を拡大した断面図である。
後述する装置使用時には、加温されるためシャワープレート１０５が熱伸び（熱変形）する。この熱伸び時には、図４に示すように、シャワープレート１０５が固定シャフト１０９を中心として面内方向外向きに膨張する。
【００４４】
熱伸びしたシャワープレート１０５の周縁部は、熱伸び吸収空間（隙間部）１０６ａに伸張することで、絶縁シールド１０６に当接しないため、シャワープレート１０５の膨張が電極フランジ１０４や絶縁シールド１０６等に応力を与えないように吸収される。
このとき、変形シャフト１０８は、下端の球面ブシュによって、変形したシャワープレート１０５を支持可能となっている。
【００４５】
さらに、熱伸びしたシャワープレート１０５の周縁部に固定されたブラケット１１１は、一体として、シャワープレート１０５の外周外側に向けて移動し、図４に示すように、熱伸び吸収空間（隙間部）１０６ａが狭まる。ブラケット１１１は、絶縁シールド１０６に当接しないため、ブラケット１１１の移動が電極フランジ１０４や絶縁シールド１０６等に応力を与えないように吸収される。
【００４６】
また、ブラケット１１１の移動にともなって、ブラケット１１１におけるスライド部１１４も一体として、シャワープレート１０５の外周外側に向けて移動する。これに対し、支持部１１７における支持スライド部１１８は、固定部１１９によって電極フランジ１０４に固定されているため、電極フランジ１０４および絶縁シールド１０６に対する相対位置は変化しない。したがって、スライドシール部材１１０は変形することなく、スライド部１１４のすべりシール面１１４ａと、支持部１１７における支持スライド部１１８のすべりシール面１１８ａとが摺動して、シール状態を維持したままシャワープレート１０５が熱伸び状態となる。
【００４７】
このように、本実施形態においては、スライドシール部材１１０のブラケット１１１におけるスライド部１１４のすべりシール面１１４ａと、支持部１１７における支持スライド部１１８のすべりシール面１１８ａとが、シャワープレート１０５の熱伸び方向に摺動可能とされているため、熱伸び時にも、これらが変形することなく接触状態を維持することで、シール状態の維持、および、シャワープレート１０５の荷重支持状態を維持することができる。
【００４８】
図５は、シャワープレート１０５角部付近を拡大した図であり、スライドシール部材およびコーナー部材を示す平面図であり、図６は、図５におけるｖｉ−ｖｉ断面矢視図であり、図７は、図５におけるｖｉｉ−ｖｉｉ断面矢視図であり、図８は、図５におけるｖｉｉｉ−ｖｉｉｉ断面矢視図であり、図９は、図５におけるｉｘ−ｉｘ断面矢視図であり、図１０は、図５におけるｘ−ｘ断面矢視図である。
本実施形態において、矩形輪郭形状とされるシャワープレート１０５の角部位置には、スライドシール部材１１０の端部どうしをスライド可能にシールするコーナー部材１２０が設けられる。
【００４９】
コーナー部材１２０は、また、ブラケット１１１端部どうしおよび支持部１１７端部どうしをシャワープレート１０５の熱伸び時にスライド可能にシールするように設けられている。
コーナー部材１２０は、図５に示すように、四分の一円弧状の外側輪郭を有して、シャワープレート１０５の角部に立設されている。
【００５０】
コーナー部材１２０は、図５〜図７，図９に示すように、シャワープレート１０５における電極フランジ１０４側となる周縁角部に固定して取り付けられてすべりシール面１２２ａ，１２２ｂ，１２２ｃを有する下スライド部１２２と、この下スライド部１２２に接続されてシャワープレート１０５の主面から略垂直に電極フランジ１０４に向かって立設されてすべりシール面１２３ｂを有する壁スライド部１２３と、壁スライド部１２３の電極フランジ１０４側先端に、すべりシール面１２４ａ，１２４ｂ，１２４ｃを有する上スライド部１２４とを有する。
【００５１】
コーナー部材１２０において、上スライド部１２４には、図５〜図７，図９に示すように、ブラケット１１１のスライド部１１４端部が組み合わされてシールできるように、上面にスライド部１１４の厚さに対応した切欠（凹部）１２４Ａが形成されている。切欠１２４Ａにおけるシャワープレート１０５輪郭辺直線に沿った方向奥側がシャワープレート１０５輪郭辺直線と直交する直線状に形成されている。
【００５２】
この切欠１２４Ａの下側は、図５〜図７，図９に示すように、シャワープレート１０５輪郭内側位置が下側に貫通している。また、この切欠１２４Ａの下側におけるシャワープレート１０５輪郭外側底面位置には、すべりシール面１２４ａが上向きに形成されている。
【００５３】
切欠１２４Ａのシャワープレート１０５輪郭外側側面位置には、図５〜図７，図９に示すように、すべりシール面１２４ｂがシャワープレート１０５輪郭内側向きに形成されている。切欠１２４Ａのシャワープレート１０５輪郭外側側面位置におけるブラケット１１１端部側は、さらに、壁部１１３の厚さに対応する部分が切り欠かれている。
【００５４】
切欠１２４Ａのシャワープレート１０５輪郭内側側面位置には、図５〜図７，図９に示すように、すべりシール面１２４ｃがシャワープレート１０５輪郭外側向きに形成されている。
すべりシール面１２４ａは、シャワープレート１０５輪郭辺直線に沿った水平方向に形成されている。これら、すべりシール面１２４ｂ，１２４ｃは、いずれもシャワープレート１０５輪郭辺直線に沿った鉛直方向に形成されている。
切欠１２４Ａ外側のすべりシール面１２４ｂは、切欠１２４Ａ内側のすべりシール面１２４ｃ外側よりも短くなるように形成されている。
【００５５】
コーナー部材１２０において、壁スライド部１２３には、図５〜図７，図９に示すように、ブラケット１１１の壁部１１３端部が組み合わされてシールできるように、外側面に壁部１１３の厚さに対応した切欠（凹部）１２３Ａが形成されている。
切欠（凹部）１２３Ａには、シャワープレート１０５輪郭外側位置にすべりシール面１２３ｂが形成されている。切欠（凹部）１２３Ａは、壁スライド部１２３の高さ方向全長に配置されている。
【００５６】
コーナー部材１２０において、下スライド部１２２には、図５〜図７，図９に示すように、ブラケット１１１の基部１１２端部が組み合わされてシールできるように、下面に基部１１２の厚さに対応した切欠（凹部）１２２Ａが形成されている。切欠（凹部）１２２Ａは、平面視して切欠１２４Ａとほぼ同じ輪郭形状として形成されている。切欠１２２Ａにおけるシャワープレート１０５輪郭辺直線に沿った方向奥側がシャワープレート１０５輪郭辺直線と直交する直線状に形成されている。
【００５７】
この切欠１２２Ａの上側は切欠１２４Ａと異なり、その全面が上側に貫通しておらず、その全面にすべりシール面１２２ａが下向きに形成されている。
切欠１２２Ａのシャワープレート１０５輪郭外側側面位置には、図５〜図７，図９に示すように、すべりシール面１２２ｂがシャワープレート１０５輪郭内側向きに形成されている。切欠１２２Ａのシャワープレート１０５輪郭外側側面位置におけるブラケット１１１端部側は、さらに、壁部１１３の厚さに対応する部分が切り欠かれている。
【００５８】
切欠１２２Ａのシャワープレート１０５輪郭内側側面位置には、図５〜図７，図９に示すように、すべりシール面１２２ｃがシャワープレート１０５輪郭外側向きに形成されている。
すべりシール面１２２ａは、シャワープレート１０５輪郭辺直線に沿った水平方向に形成されている。また、すべりシール面１２２ｂ，１２２ｃは、いずれもシャワープレート１０５輪郭辺直線に沿った鉛直方向に形成されている。
【００５９】
すべりシール面１２４ａは、外側かつブラケット１１１側が、すべりシール面１２３ｂに連続するように形成されている。
【００６０】
ブラケット１１１端部には、図５，〜図８，図１０に示すように、コーナー部材１２０の各すべりシール面１２２ａ〜１２４ｃに対応するすべりシール面１１２ａ〜１１４ｃが形成されている。
【００６１】
ブラケット１１１において、スライド部１１４には、図５，〜図８，図１０に示すように、コーナー部材１２０の上スライド部１２４端部が組み合わされてシールできるように、切欠（凹部）１２４Ａに対応した凸部１１４Ａが形成されている。
凸部１１４Ａにおけるシャワープレート１０５輪郭辺直線に沿った方向先端側が切欠（凹部）１２４Ａに対応してシャワープレート１０５輪郭辺直線と直交する直線状に形成されている。
【００６２】
この凸部１１４Ａの厚さは、切欠（凹部）１２４Ａの深さ寸法に対応してほぼ等しく形成され、凸部１１４Ａの下側位置には、すべりシール面１２４ａに摺動可能なすべりシール面１１４ａが下向きに形成されている。
【００６３】
凸部１１４Ａのシャワープレート１０５輪郭外側側面位置には、図５，図８，図１０に示すように、すべりシール面１２４ｂに摺動可能なすべりシール面１１４ｂがシャワープレート１０５輪郭外側向きに形成されている。凸部１１４Ａのシャワープレート１０５輪郭線内外方向位置は壁部１１３の内側面よりもさらに内側位置に設定されている。
【００６４】
凸部１１４Ａのシャワープレート１０５輪郭内側側面位置には、すべりシール面１２４ｃに摺動可能なすべりシール面１１４ｃがシャワープレート１０５輪郭内側向きに形成されている。
これら、すべりシール面１１４ａ，１１４ｂ，１１４ｃは、いずれもシャワープレート１０５輪郭辺直線に沿った方向に形成されている。
凸部１１４Ａ外側のすべりシール面１１４ｂは、凸部１１４Ａ内側のすべりシール面１１４ｃ外側よりも短くなるように形成されている。
【００６５】
ブラケット１１１において、壁部１１３には、図５，図８，図１０に示すように、コーナー部材１２０の壁スライド部１２３端部が組み合わされてシールできるように、シャワープレート１０５輪郭内向きの面にすべりシール面１２３ｂと摺動可能とされるすべりシール面１１３ｂが形成されている。
すべりシール面１１３ｂは、壁部１１３の高さ方向全長に形成されている。また、すべりシール面１１３ｂは、シャワープレート１０５輪郭辺直線に沿った鉛直方向に形成されている。
【００６６】
ブラケット１１１において、基部１１２には、図５，図８，図１０に示すように、コーナー部材１２０の下スライド部１２２端部が組み合わされてシールできるように、下面側に切欠（凹部）１２２Ａの高さ寸法に対応した凸部１１２Ａが形成されている。凸部１１２Ａは、平面視して切欠（凹部）１２２Ａおよび切欠１２４Ａとほぼ同じ輪郭形状として形成されている。
凸部１１２Ａにおけるシャワープレート１０５輪郭辺直線に沿った方向先端側が、切欠１２２Ａに対応してシャワープレート１０５輪郭辺直線と直交する直線状に形成されている。
【００６７】
凸部１１２Ａの上側は、図５，図８，図１０に示すように、切欠１２２Ａに対応して上側の全面にすべりシール面１２２ａと摺動可能なすべりシール面１１２ａが下向きに形成されている。
凸部１１２Ａのシャワープレート１０５輪郭外側側面位置には、すべりシール面１２２ｂと摺動可能なすべりシール面１１２ｂがシャワープレート１０５輪郭外側向きに形成されている。
【００６８】
凸部１１２Ａのシャワープレート１０５輪郭内側側面位置には、すべりシール面１２２ｃと摺動可能なすべりシール面１１２ｃがシャワープレート１０５輪郭内側向きに形成されている。
すべりシール面１１２ａは、シャワープレート１０５輪郭辺直線に沿った水平方向に形成されている。これら、すべりシール面１１２ｂ，１１２ｃは、いずれもシャワープレート１０５輪郭辺直線に沿った鉛直方向に形成されている。
【００６９】
コーナー部材１２０には、図５に示すように、シャワープレート１０５輪郭において、隣り合う辺直線に対応する直交するブラケット１１１端部に対して、それぞれ切欠１２４Ａ，１２３Ａ，１２２Ａが形成されている。
【００７０】
後述する装置使用時には、加温されるためシャワープレート１０５が熱伸び（熱変形）する。この熱伸び時には、シャワープレート１０５が固定シャフト１０９を中心として面内方向外向きに膨張する。
【００７１】
熱伸びしたシャワープレート１０５の周縁部においては、シャワープレート１０５の周縁部に固定されたブラケット１１１と、コーナー部材１２０とが、シャワープレート１０５輪郭辺直線に沿った方向に離間する。
このとき、すべりシール面１１２ａとすべりシール面１２２ａ、すべりシール面１１２ｂとすべりシール面１２２ｂ、すべりシール面１１２ｃとすべりシール面１２２ｃ、すべりシール面１１３ｂとすべりシール面１２３ｂ、すべりシール面１１４ａとすべりシール面１２４ａ、すべりシール面１１４ｂとすべりシール面１２４ｂ、すべりシール面１１４ｃとすべりシール面１２４ｃが、それぞれ、シャワープレート１０５輪郭辺直線に沿った方向に摺動することで、シール状態を維持したままブラケット１１１と、コーナー部材１２０とが離間することができる。
【００７２】
次に、真空処理装置１００を用いて基板Ｓの処理面に膜を形成する場合の作用について説明する。
まず、真空ポンプ１４８を用いて真空チャンバ１０２内を減圧する。真空チャンバ１０２内が真空に維持された状態で、真空チャンバ２の外部から成膜空間１０１ａに向けて基板Ｓが搬入される。基板Ｓは、支持部（ヒータ）１４１上に載置される。支柱１４５が上方へ押し上げられ、ヒータ１４１上に載置された基板Ｓも上方へ移動する。これによって、適切に成膜を行うために必要な間隔になるようにシャワープレート１０５と基板Ｓとの間隔が所望に決定され、この間隔が維持される。
【００７３】
その後、プロセスガス供給手段１４２からガス導入管およびガス導入口を介してガス導入空間１０１ｂにプロセスガスが導入される。そして、シャワープレート１０５のガス噴出口１０５ａから成膜空間１０１ａ内にプロセスガスが噴出される。
次に、ＲＦ電源１４７を起動して電極フランジ１０４に高周波電力を印加する。
【００７４】
すると、電極フランジ１０４の表面からシャワープレート１０５の表面を伝って高周波電流が流れ、シャワープレート１０５とヒータ１４１との間に放電が生じる。そして、シャワープレート１０５と基板Ｓの処理面との間にプラズマが発生する。
こうして発生したプラズマ内でプロセスガスが分解され、プラズマ状態のプロセスガスが得られ、基板Ｓの処理面で気相成長反応が生じ、薄膜が処理面上に成膜される。
【００７５】
真空処理装置１００の処理時には、シャワープレート１０５が熱伸び（熱変形）するが、スライドシール部材１１０と、コーナー部材１２０とによって、シール状態を維持し、ガス導入空間１０１ｂからガス噴出口１０５ａ以外を通って成膜空間１０１ａへ漏出してしまうことを低減することができる。また、シャワープレート１０５の熱伸びにより、無理矢理変形させる部品がないため、部品の寿命を延ばすことが可能となる。
【００７６】
以下、本発明に係る真空処理装置の第２実施形態を、図面に基づいて説明する。
図１１は、本実施形態におけるスライドシール部材およびシャワープレート周縁部を示す断面図であり、本実施形態において、上述した第１実施形態と異なるのは、ブラケットにおけるスライド部に関する点であり、これ以外の上述した第１実施形態と対応する構成には同一の符号を付してその説明を省略する。
【００７７】
本実施形態におけるスライドシール部材２１０は、ブラケット２１１におけるスライド部２１４が、壁部２１３上端位置からシャワープレート１０５輪郭外側向きに配置されている。なお、本実施形態において、スライドシール部材２１０における符号は、上述した第１実施形態におけるスライドシール部材１１０における符号を１００番台から２００番台に読み替えることで対応する。
【００７８】
スライドシール部材２１０は、ブラケット２１１における基部２１２が、シャワープレート１０５上面周縁部ではなく、シャワープレート１０５端部側面に固定接続されている。このため、基部２１２は、シャワープレート１０５端部側面よりもシャワープレート１０５輪郭中心側に位置して鉛直方向に延在し、固定ボルト２１２ｄ等によりシャワープレート１０５の上面に螺着されており、基部２１２とシャワープレート１０５との間がシール可能とされている。
【００７９】
ブラケット２１１における壁部２１３は、平面視してシャワープレート１０５輪郭線における４辺とほぼ一致する位置に配置され、略垂直方向に立設される。
【００８０】
ブラケット２１１においては、図１１に示すように、スライド部２１４が、シャワープレート１０５の外周輪郭から外側（内側中心と反対向き）に向かう配置とされている。つまり、スライド部２１４が、壁部２１３先端からシャワープレート１０５の外側に向かう配置とされている。スライド部２１４は、シャワープレート１０５の主面と並行なすべりシール面２１４ａを上側面に有する。
【００８１】
支持部２１７は、図１１に示すように、スライド部２１４のすべりシール面２１４ａに摺動可能に接するすべりシール面２１８ａを有しスライド部２１４よりもシャワープレート１０５側に位置する支持スライド部２１８と、支持スライド部２１８を電極フランジ１０４に固定する固定部２１９と、を有する。
【００８２】
固定部２１９は、支持スライド部２１８よりもシャワープレート１０５のさらに外側位置として配置されている。固定部２１９は、固定ボルト２１９ｄ等により電極フランジ１０４の下面にシール可能として螺着されている。なお、固定部２１９および支持スライド部２１８は、その下側に絶縁シールド１０６が位置している。
【００８３】
また、熱伸び吸収空間（隙間部）１０６ａは、シャワープレート１０５およびブラケット２１１の高さ寸法に対応した高さ寸法を有し、シャワープレート１０５の熱伸び時に、一体としてシャワープレート１０５の外向きに移動するブラケット２１１が当接しないように設定されている。
なお、支持スライド部２１８は、熱伸び吸収空間（隙間部）１０６ａおよび絶縁シールド１０６の上側（電極フランジ１０４側）に位置し、シャワープレート１０５の熱伸び時に、支持スライド部２１８は、絶縁シールド１０６および電極フランジ１０４の間に侵入していくことになる。
【００８４】
ブラケット２１１におけるスライド部２１４のすべりシール面２１４ａと、支持部２１７における支持スライド部２１８のすべりシール面２１８ａとには、いずれも、アルマイト処理層２１６が設けられて、摺動可能およびシール可能とされている。
このように、スライド部２１４のすべりシール面２１４ａと、支持スライド部２１８のすべりシール面２１８ａとが、互いに接触していることにより、シャワープレート１０５周縁部の荷重がブラケット２１１および支持部２１７を介して電極フランジに支持されている。
【００８５】
図１２は、本実施形態に係る熱伸び状態におけるシャワープレート１０５縁部付近を拡大した断面図である。
装置使用時には、加温されるためシャワープレート１０５が熱伸び（熱変形）する。この熱伸び時には、図１２に示すように、シャワープレート１０５が固定シャフト１０９を中心として面内方向外向きに膨張する。
【００８６】
さらに、熱伸びしたシャワープレート１０５の周縁部に固定されたブラケット２１１は、一体として、シャワープレート１０５の外周外側に向けて移動し、図１２に示すように、熱伸び吸収空間（隙間部）１０６ａが狭まる。ブラケット２１１は、絶縁シールド１０６に当接しないため、ブラケット２１１の移動が電極フランジ１０４や絶縁シールド１０６等に応力を与えないように吸収される。
【００８７】
また、ブラケット２１１の移動にともなって、ブラケット２１１におけるスライド部２１４も一体として、シャワープレート１０５の外周外側に向けて移動する。これに対し、支持部２１７における支持スライド部１１８は、固定部２１９によって電極フランジ１０４に固定されているため、電極フランジ１０４および絶縁シールド１０６に対する相対位置は変化しない。
【００８８】
したがって、スライド部２１４のすべりシール面２１４ａと、支持部２１７における支持スライド部２１８のすべりシール面２１８ａとが摺動して、シール状態を維持したままシャワープレート１０５が熱伸び状態となる。
【００８９】
このとき、スライド部２１４は、シャワープレート１０５の外周外側、つまり、支持部２１７の支持スライド部２１８に近接するように移動するため、常温時に比べて熱伸び時には、すべりシール面２１４ａとすべりシール面２１８ａとの接触面積は大きくなる。したがって、常温時に比べて熱伸び時のほうが、スライドシール部材２１０におけるシール状態がより確実になる。
【００９０】
このように、本実施形態においては、スライドシール部材２１０のブラケット２１１におけるスライド部２１４のすべりシール面２１４ａと、支持部２１７における支持スライド部２１８のすべりシール面２１８ａとが、シャワープレート１０５の熱伸び方向に摺動可能とされているため、熱伸び時にも、これらが接触状態を維持することで、より確実なシール状態の維持、および、シャワープレート１０５の荷重支持状態を維持することができる。
【００９１】
図１３は、シャワープレート１０５角部付近を拡大した図であり、スライドシール部材およびコーナー部材を示す平面図であり、図１４は、図１３におけるｘｉｖ−ｘｉｖ断面矢視図であり、図１５は、図１３におけるｘｖ−ｘｖ断面矢視図であり、図１６は、図１３におけるｘｖｉ−ｘｖｉ断面矢視図である。
本実施形態において、矩形輪郭形状とされるシャワープレート１０５の角部位置には、スライドシール部材２１０の端部どうしをスライド可能にシールするコーナー部材２２０が設けられる。
【００９２】
コーナー部材２２０は、また、ブラケット２１１端部どうしおよび支持部２１７端部どうしをシャワープレート１０５の熱伸び時にスライド可能にシールするように設けられている。
コーナー部材２２０は、図１３に示すように、シャワープレート１０５における電極フランジ１０４側となる周縁角部に固定して立設された壁スライド部２２３と、この壁スライド部２２３よりもシャワープレート１０５の輪郭外側位置で、電極フランジ１０４に取り付けられる上スライド部２２４と、を有している。
【００９３】
壁スライド部２２３は、筒状に形成され、その底面が下部２２２として閉塞され、下部２２２がボルト２２２ｂ等によりシャワープレート１０５に固定されている。
壁スライド部２２３は、すべりシール面２２３ａ，２２３ｂ，２２３ｃを有し、上スライド部２２４は、すべりシール面２２４ａを有しており、これらがブラケット２１１と摺動可能にシールしている。
【００９４】
コーナー部材１２０における上スライド部１２４のブラケット２１１端部位置でシャワープレート１０５中心側には、図１３〜図１５に示すように、ブラケット２１１のスライド部２１４端部が組み合わされてシールできるように、上面にスライド部２１４の厚さに対応した切欠（凹部）２２４Ａが形成されている。
【００９５】
切欠２２４Ａは、スライド部２１４の角部輪郭に対応して矩形の隣接する二辺が開放された平面形状として形成されている。この切欠２２４Ａの底面には、すべりシール面２２４ａが上向きに形成されている。すべりシール面２２４ａは、スライド部２１４の下面に設けられたすべりシール面２１４ａの一部が摺動可能とされている。
【００９６】
上スライド部１２４におけるシャワープレート１０５の角頂部位置には、シャワープレート１０５の面内方向中心向きに突出する支持突部２２４Ｂが形成されている。
支持突部２２４Ｂは、シャワープレート１０５の角頂部から中心向き、つまり、シャワープレート１０５の熱伸びが最も大きい方向に沿って設けられている。
【００９７】
支持突部２２４Ｂは、壁スライド部２２３のシャワープレート１０５輪郭外側位置に設けられた支持横穴２２３Ｂに挿入されて、これら支持突部２２４Ｂと支持横穴２２３Ｂとの挿入位置が可変となるように設定されている。
電極フランジ１０４に吊り下げ固定された支持突部２２４Ｂ側に、支持横穴２２３Ｂの設けられた壁スライド部２２３の下部２２２が固定されたシャワープレート１０５周縁部の荷重がかかっており、熱伸び時にもこれを支持することができる。
【００９８】
コーナー部材２２０において、壁スライド部２２３には、図１３〜図１５に示すように、ブラケット２１１の壁部２１３端部が組み合わされてシールできるように、シャワープレート１０５中心側となる内側面に壁部２１３の厚さに対応した切欠（凹部）２２３Ａが形成されている。
【００９９】
切欠（凹部）２２３Ａは、壁スライド部２２３の高さ方向全長に形成されている。切欠（凹部）２２３Ａには、シャワープレート１０５輪郭内側位置に、鉛直なすべりシール面２２３ｂが外側に向けて形成されている。また、切欠（凹部）２２３Ａには、シャワープレート１０５輪郭内側位置に、鉛直なすべりシール面２２３ｃが内側に向けて形成されている。
【０１００】
すべりシール面２２３ｂとすべりシール面２２３ｃとは、壁部２１３の表裏面（内外面）に位置するすべりシール面２１３ｂとすべりシール面２１３ｃとに摺動可能とされている。すべりシール面２２３ｂとすべりシール面２２３ｃとは、平行状態に対向した位置に配置されている。
【０１０１】
切欠（凹部）２２３Ａにおいては、中心側位置のすべりシール面２２３ｂに比べて、外側位置のすべりシール面２２３ｃはその上端がスライド部２１４の厚さに対応して短く設定されており、すべりシール面２２３ｃの上端が、外側位置に延在するすべりシール面２２３ａに連続している。切欠（凹部）２２３Ａは、上端外側位置が、さらに切り欠かれた形状とされている。
【０１０２】
すべりシール面２２３ａは、スライド部２１４の下面に設けられたすべりシール面２１４ａのうち壁部２１３に隣接する部分が摺動可能とされている。
すべりシール面２２３ａは、シャワープレート１０５輪郭辺直線に沿った水平方向に形成されている。これら、すべりシール面２２３ｂ，２２３ｃは、いずれもシャワープレート１０５輪郭辺直線に沿った鉛直方向に形成されている。
【０１０３】
ブラケット２１１端部には、図１３，図１６に示すように、コーナー部材２２０の各すべりシール面２２３ａ〜２２４ａに対応するすべりシール面２１３ｂ〜２１４ａが形成されている。
ブラケット２１１端部は、シャワープレート１０５輪郭辺直線に直交する略直線状に形成されている。
【０１０４】
ブラケット２１１において、スライド部２１４下面には、図１３，図１６に示すように、コーナー部材２２０の上スライド部２２４および切欠２２３Ａが組み合わされてシールできるように、すべりシール面２２４ａおよびすべりシール面２２３ａに摺動可能なすべりシール面２１４ａが下向きに形成されている。
【０１０５】
なお、すべりシール面２２４ａとすべりシール面２２３ａとは離間しているが、すべりシール面２１４ａはこれら両方に摺動可能とされている。
すべりシール面２１４ａは、シャワープレート１０５輪郭辺直線に沿った水平方向に形成されている。
【０１０６】
ブラケット２１１において、壁部２１３端部には、図１３，図１６に示すように、コーナー部材２２０の壁スライド部２２３に形成された切欠２２３Ａに挿入された位置で組み合わされてシールできるように、シャワープレート１０５輪郭内向きの面にすべりシール面２２３ｂと摺動可能とされるすべりシール面２１３ｂが形成されている。また、壁部２１３端部には、シャワープレート１０５輪郭外向きの面にすべりシール面２２３ｃと摺動可能とされるすべりシール面２１３ｃが形成されている。
【０１０７】
すべりシール面２１３ｂおよびすべりシール面２１３ｃは、壁部２１３の高さ方向全長に形成されている。また、すべりシール面２１３ｂおよびすべりシール面２１３ｃは、シャワープレート１０５輪郭辺直線に沿った鉛直方向に形成されている。
【０１０８】
コーナー部材２２０には、図１３に示すように、シャワープレート１０５輪郭において、隣り合う辺直線に対応する直交するブラケット２１１端部に対して、それぞれ切欠２２４Ａ，２２３Ａが形成されている。
【０１０９】
装置使用時には、加温されるためシャワープレート１０５が熱伸び（熱変形）する。この熱伸び時には、シャワープレート１０５が固定シャフト１０９を中心として面内方向外向きに膨張する。
【０１１０】
熱伸びしたシャワープレート１０５の周縁部においては、シャワープレート１０５の周縁部に固定されたブラケット２１１と、コーナー部材２２０とが、シャワープレート１０５輪郭辺直線に沿った方向に離間する。
同時に、電極フランジ１０４に固定された上スライド部２２４と、ブラケット２１１およびコーナー部材２２０とが位置変化する。
【０１１１】
このとき、すべりシール面２１４ａとすべりシール面２２４ａおよびすべりシール面２２３ａ、すべりシール面２１３ｂとすべりシール面２１３ｂ、すべりシール面２１３ｃとすべりシール面２１３ｃが、それぞれ、シャワープレート１０５輪郭辺直線に沿った方向に摺動することで、シール状態を維持したままブラケット２１１と、コーナー部材２２０とが離間することができる。
【０１１２】
また、上スライド部２２４の支持突部２２４Ｂと支持横穴２２３Ｂとが、支持突部２２４Ｂの設けられた軸方向であるシャワープレート１０５の対角方向に摺動することで、荷重支持状態を、熱伸び時にも支持することができる。
【０１１３】
本実施形態においては、これらに加えて、上述した第１実施形態と同等の効果を奏することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１１４】
本発明の活用例として、プラズマを用いた処理として成膜、特にプラズマＣＶＤ、あるいは、エッチングなど基板の表面処理をするプラズマ処理装置を挙げることができる。
【符号の説明】
【０１１５】
１００…真空処理装置
１０１…処理室
１０１ａ…成膜空間
１０１ｂ…ガス導入空間
１０２…真空チャンバ
１０３…絶縁フランジ
１０４…電極フランジ
１０４ａ…上壁
１０４ｂ…周壁
１０５…シャワープレート
１０５ａ…ガス噴出口
１０６…絶縁シールド
１０６ａ…熱伸び吸収空間（隙間部）
１０８…変形シャフト
１０９…固定シャフト
１４１…支持部
１４２…ガス供給手段
１４５…支柱
１４７…ＲＦ電源（高周波電源）
１４８…真空ポンプ（排気手段）
１１０，２１０…スライドシール部材
１１１，２１１…ブラケット
１１２，２１２…基部
１１２ａ，１１２ｂ，１１２ｃ，１１３ｂ，１１４ａ，１１４ｂ，１１４ｃ，１１８ａ…すべりシール面
１１２Ａ，１１４Ａ…凸部
１１２ｄ，１１９ｄ，２１２ｄ，２１９ｄ…固定ボルト
１１２ｅ…押さえ板
１１３，２１３…壁部
１１４，２１４…スライド部
１１７，２１７…支持部
１１８，２１８…支持スライド部
１１９，２１９…固定部
１０６ａ…熱伸び吸収空間（隙間部）
１２０，２２０…コーナー部材
１２２…下スライド部
１２３，２２３…壁スライド部
１２４…上スライド部
１２２Ａ，１２３Ａ，１２４Ａ，２２３Ａ，２２４Ａ…切欠（凹部）
１２２ａ，１２２ｂ，１２２ｃ，１２３ｂ，１２４ａ，１２４ｂ，１２４ｃ…すべりシール面
２２４…スライド部
２２３Ｂ…支持横穴
２２４Ｂ…支持突部
２２２…下部
２２２ｄ…固定ボルト
２２３ａ，２２３ｂ，２２３ｃ，１２３ｂ，２２４ａ…すべりシール面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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