(57)【要約】【課題】表示装置が表示する色が観察者によって別の色として知覚されるのを抑える。【解決手段】表示装置は、発光領域を含む画素と、前記画素を封止する封止層と、前記封止層の上に設けられ、前記発光領域の一部の領域に重畳する遮光層と、を有する。表示装置は、前記発光領域を規定する隔壁を有し、前記遮光層は、前記隔壁、及び前記発光領域の一部の領域に重畳する。前記画素は、画素毎に設けられる第１電極と、第２電極と、前記第１電極と前記第２電極とにより挟まれる発光層と、を含み、前記隔壁は、前記第１電極の端部を覆い、前記遮光層は、前記端部に重畳する。【選択図】図１
2019133868.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光領域を含む画素と、
前記画素を封止する封止層と、
前記封止層の上に設けられ、前記発光領域の一部の領域に重畳する遮光層と、
を有する表示装置。
【請求項２】
前記発光領域を規定する隔壁を有し、
前記遮光層は、前記隔壁、及び前記発光領域の一部の領域に重畳する
請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記画素は、画素毎に設けられる第１電極と、第２電極と、前記第１電極と前記第２電極とにより挟まれる発光層と、を含み、
前記隔壁は、前記第１電極の端部を覆い、
前記遮光層は、前記端部に重畳する
請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記遮光層は、前記第１電極のうちの前記端部と前記端部に隣接する領域に重畳する
請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記隔壁は、前記第１電極のうちの第１端部と前記第１端部に対向する第２端部を覆い、
前記遮光層は、前記第１電極のうちの前記第１端部、前記第１端部に隣接する第１領域、前記第２端部、及び前記第２端部に隣接する第２領域を覆う
請求項４に記載の表示装置。
【請求項６】
前記遮光層は、前記画素が配置された表示領域に垂直な方向から見て、前記発光領域に囲まれる部分を含む
請求項１に記載の表示装置。
【請求項７】
前記遮光層は、金属層を含む
請求項１に記載の表示装置。
【請求項８】
前記金属層は、センサ電極を含む
請求項７に記載の表示装置。
【請求項９】
前記金属層の上に設けられた偏光板を有する
請求項７に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記遮光層は、遮光性を有する塗布材料が用いられる
請求項１に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記画素、前記封止層、及び前記遮光層は、可撓性を有する基板の上に形成されている
請求項１に記載の表示装置。
【請求項１２】
画素毎に設けられる第１電極と、複数の画素で共通の第２電極と、前記第１電極と前記第２電極とにより挟まれる発光層と、を含む画素と、
前記画素の発光領域を規定する隔壁と、
を有し、
前記第２電極は、第１厚さの部分を前記発光領域内に有し、前記第１厚さよりも大きい第２厚さの部分を前記発光領域内及び前記隔壁に重畳する領域にそれぞれ有する
表示装置。
【請求項１３】
前記第２厚さの部分は、前記画素が配置された表示領域に垂直な方向から見て、前記発光領域に囲まれる部分を含む
請求項１２に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の一実施形態は、表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）で例示される表示装置では、発光効率を向上させるため、マイクロキャビティ構造が採用されることがある。すなわち、表示装置が表示する色（例えば、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青））のピーク波長と、陽極（アノード）と陰極（カソード）との間の光路長とが一致するように、有機層の厚さが調整される。特許文献１は、表示面における外光の照り返しを抑制しつつ、発光効率を向上させる技術を開示している。この技術において、遮光層は、画素電極層におけるコンタクト領域内の一部領域とは重ならないように配置される。コンタクト領域は、画素電極層とバンクとが重なる領域である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１７−５４６０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、表示領域が斜め方向から観察された場合、正面から観察された場合よりも、当該表示領域から射出する光の光路長が長くなる。このため、表示領域を観察する方向によって、表示装置が表示する色が観察者によって別の色として知覚される場合がある。
【０００５】
本発明は、上記問題に鑑み、表示装置が表示する色が観察者によって別の色として知覚されるのを抑えることを目的の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様は、発光領域を含む画素と、前記画素を封止する封止層と、前記封止層の上に設けられ、前記発光領域の一部の領域に重畳する遮光層と、を有する表示装置である。
【０００７】
本発明の一態様は、画素毎に設けられる第１電極と、複数の画素で共通の第２電極と、前記第１電極と前記第２電極とにより挟まれる発光層と、を含む画素と、前記画素の発光領域を規定する隔壁と、を有し、前記第２電極は、前記発光領域内に第１厚さの部分を有し、前記発光領域内及び前記隔壁に重畳する領域に前記第１厚さよりも大きい第２厚さの部分を有する表示装置である。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の第１実施形態に係る表示装置の構成を示す上面図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る表示装置の画素が設けられた領域の断面図である。
【図３】本発明の第１実施形態に係る表示装置の発光領域の周辺の構成を示す断面図である。
【図４】本発明の第１実施形態に係る表示装置の遮光層を表示領域に垂直な方向に見た図である。
【図５】本発明の第１実施形態に係る遮光層の機能を説明する図である。
【図６】本発明の第１実施形態に係る遮光層の機能を説明する図である。
【図７】本発明の第１実施形態に係る遮光層の機能を説明する図である。
【図８】本発明の第２実施形態に係る表示装置の構成を示す上面図である。
【図９】本発明の第２実施形態に係る表示装置の画素が設けられた領域の断面図である。
【図１０】本発明の第４実施形態に係る表示装置の画素が設けられた領域の断面図である。
【図１１】本発明の第１〜第４実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図１２】本発明の第１〜第４実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図１３】本発明の第５実施形態に係る表示装置の画素が設けられた領域の断面図である。
【図１４】本発明の第５実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図１５】本発明の第５実施形態に係る表示装置の製造方法を説明する図である。
【図１６】本発明の一変形例に係る表示装置の画素が設けられた領域の断面図である。
【図１７】本発明の一変形例に係る表示装置の遮光層を表示領域に垂直な方向に見た図である。
【図１８】本発明の一変形例に係る表示装置の遮光層を表示領域に垂直な方向に見た図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下に、本発明の各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。
【００１０】
また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。さらに各要素に対する「第１」、「第２」と付記された文字は、各要素を区別するために用いられる便宜的な標識であり、特段の説明がない限りそれ以上の意味を有さない。
【００１１】
また、本明細書において、ある部材又は領域が他の部材又は領域の「上に（又は下に）」あるとすることができる。場合、特段の限定がない限りこれは他の部材又は領域の直上（又は直下）にある場合のみでなく他の部材又は領域の上方（又は下方）にある場合を含み、すなわち、他の部材又は領域の上方（又は下方）において間に別の構成要素が含まれている場合も含む。なお、以下の説明では、特に断りのない限り、断面視においては、基板に対して表示素子が配置される側を「上」又は「上面」といい、その逆を「下」又は「下面」として説明する。
【００１２】
また、本明細書において「αはＡ、Ｂ又はＣを含む」、「αはＡ，Ｂ及びＣのいずれかを含む」、「αはＡ，Ｂ及びＣからなる群から選択される一つを含む」、といった表現は、特に明示が無い限り、αはＡ〜Ｃの複数の組み合わせを含む場合を排除しない。さらに、これらの表現は、αが他の要素を含む場合も排除しない。
【００１３】
［第１実施形態］
図１は、本発明の第１実施形態に係る表示装置１０の構成を示す上面図である。表示装置１０は、有機ＥＬ表示装置である。表示装置１０は、全体として薄型に形成されたフレキシブルな表示装置である。表示装置１０は、基板１１０と、表示部１２０と、駆動回路１５０と、フレキシブルプリント回路１７０とを有する。
【００１４】
表示部１２０、駆動回路１５０及びフレキシブルプリント回路１７０は、基板１１０の上に設けられている。表示部１２０は、表示領域１００に画像（静止画又は動画）を表示する。駆動回路１５０は、表示領域１００の周辺領域に設けられている。
【００１５】
表示部１２０は、表示領域１００において、第１方向に延在する複数本の走査線１２２と、第１方向に交差する第２方向に延在する複数のデータ信号線１２４とを含む。表示部１２０は、一対の走査線駆動回路１２６を含む。一対の走査線駆動回路１２６は、表示領域１００を挟んで対向する。一対の走査線駆動回路１２６は、複数の走査線１２２を所定の順番で選択し、制御信号を供給する。
【００１６】
駆動回路１５０は、表示部１２０を駆動して、複数の画素１２０Ａの各々の発光を制御する。画素１２０Ａは、例えば、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、及び青（Ｂ）のうちのいずれか一の色で発光する。ただし、画素１２０Ａは、これら以外の色で発光してもよい。駆動回路１５０は、複数本のデータ信号線１２４に、所定の順番でデータ電圧を供給する。駆動回路１５０は、走査線駆動回路１２６を制御してもよい。駆動回路１５０は、例えば、ＡＳＩＣ（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ  Ｓｐｅｃｉｆｉｃ  Ｉｎｔｅｇｌａｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔ）で例示される集積回路を含む。
【００１７】
画素１２０Ａは、複数本の走査線１２２と、複数のデータ信号線１２４との各交差に対応して設けられる。複数の画素１２０Ａは、例えばアレイ状に配置される。画素１２０Ａは、制御信号及びデータ電圧に基づいて発光を制御するための画素回路と、当該画素回路によって発光が制御される発光素子（ＯＬＥＤ）とを含む。画素回路は、例えば、薄膜トランジスタ及びコンデンサを含む。画素回路は、制御信号及びデータ電圧によって薄膜トランジスタを駆動して、発光素子の発光を制御する。薄膜トランジスタは、駆動回路１５０又はフレキシブルプリント回路１７０からの信号からの信号に基づいて、発光素子の発光を制御する。なお、図１には、複数本の走査線１２２、複数本のデータ信号線１２４、及び複数の画素１２０Ａのそれぞれの一部のみが示されている。
【００１８】
フレキシブルプリント回路１７０は、外部回路（図示略）から入力された信号を、表示部１２０（例えば、走査線駆動回路１２６）又は駆動回路１５０に出力する。フレキシブルプリント回路１７０は、可撓性を有する基板に複数の配線を配置した構成である。
【００１９】
図２は、表示装置１０の画素１２０Ａが設けられた領域の断面図を示す。基板１１０は、可塑性を有する。基板１１０は、基材、ベースフィルム、又はシート基材と呼ばれることがある。基板１１０は、例えば有機樹脂基板である。この場合、基板１１０を構成する有機樹脂材料は、例えば、ポリイミド、アクリル、エポキシ、ポリエチレンテレフタレートである。基板１１０の厚みは、例えば、１０μｍから数百μｍの間である。
【００２０】
トランジスタ１４０が、下地膜１０１を介した基板１１０の上に設けられている。トランジスタ１４０は、半導体膜１４２、ゲート絶縁膜１４４、ゲート電極１４６、及びソース／ドレイン電極１４８を含む。ゲート電極１４６は、ゲート絶縁膜１４４を介して半導体膜１４２と重なる。半導体膜１４２のチャネル領域１４２ａは、ゲート電極１４６と重なる領域である。半導体膜１４２は、チャネル領域１４２ａを挟むソース／ドレイン領域１４２ｂを有する。層間膜１０２がゲート電極１４６の上に設けられている。ソース／ドレイン電極１４８は、層間膜１０２及びゲート絶縁膜１４４に設けられた開口において、ソース／ドレイン領域１４２ｂと接続されている。
【００２１】
トランジスタ１４０は、ここではトップゲート型のトランジスタであるが、これ以外のトランジスタであってもよい。トランジスタ１４０は、例えば、ボトムゲート型トランジスタ、ゲート電極１４６を複数有するマルチゲート型トランジスタ、又は半導体膜１４２の上下を二つのゲート電極１４６で挟持する構造を有するデュアルゲート型トランジスタであってもよい。
【００２２】
平坦化膜１１４が、層間膜１０２、及びトランジスタ１４０の上に設けられている。平坦化膜１１４の上面は平坦である。
【００２３】
発光素子１６０が、平坦化膜１１４の上に設けられている。発光素子１６０は、リフレクタ１６１、第１電極（画素電極）１６２、有機層１６４、及び第２電極（対向電極）１６６を含む。有機層１６４は、発光層１６４４を含む積層体である。第１電極１６２は、画素１２０Ａ毎に設けられる。第１電極１６２は、平坦化膜１１４の図示せぬコンタクトホールを介して、ソース／ドレイン電極１４８と電気的に接続される。第２電極１６６は、複数の画素１２０Ａで共通に設けられている。第１電極１６２及び第２電極１６６は光を透過させる電極で、例えばインジウム・スズ酸化物（ＩＴＯ）や、インジウム、スズ・亜鉛酸化物（ＩＺＯ）などの透明導電膜である。第１電極１６２と平坦化膜１１４との間には、リフレクタ１６１が設けられている。リフレクタ１６１は、発光層１６４４からの光を観察側へ反射する。リフレクタ１６１は、例えばアルミニウム系の金属又は銀が用いられるが、これら以外の材料が用いられてもよい。
【００２４】
隔壁（バンク）１６８は、画素１２０Ａの発光領域を規定する。隔壁１６８は、第１電極１６２の端部を覆う。本実施形態において、発光領域とは、第１電極１６２と発光層１６４４と第２電極１６６とが重畳する領域であって、隔壁１６８によって囲まれた領域をいう。また、隔壁１６８によって、発光層１６４４及び第２電極１６６の断線が防止される。隔壁１６８は、例えばポリイミドが用いられるが、これら以外の材料が用いられてもよい。
【００２５】
発光層１６４４は、第１電極１６２、及び隔壁１６８に重畳する。発光層１６４４は、ここでは、低分子系又は高分子系の有機ＥＬ材料を用いて作製される。発光層１６４４は、例えば、Ｒ、Ｇ、又はＢの塗り分け方式が採用される。発光層１６４４は、第１電極１６２と第２電極１６６とにより挟まれている。発光層１６４４は、第１電極１６２と第２電極１６６とに供給される電圧に応じて発光する。具体的には、第１電極１６２及び第２電極１６６から、発光層１６４４へキャリアが注入される。発光層１６４４内で、キャリアが再結合する。発光層１６４４は、発光性分子が励起状態となり、当該励起状態が基底状態へ緩和するプロセスを経ることにより、発光する。すなわち、発光素子１６０は、有機ＥＬ素子である。
【００２６】
封止層１８０が、発光素子１６０の上に設けられている。封止層１８０の上面は平坦である。封止層１８０は、外部から発光素子１６０及びトランジスタ１４０に不純物（水、酸素など）が侵入することを防ぐ。封止層１８０は、無機化合物を含む層である。封止層１８０は、例えば、窒化シリコン膜、酸化アルミニウム膜で例示される無機絶縁材料を含む。封止層１８０は、有機膜を含んでもよい。有機膜は、例えば、第１無機膜と第２無機膜との間に設けられ、例えば、アクリル樹脂やポリシロキサン、ポリイミド、ポリエステルなどを含む有機樹脂を含む。
【００２７】
遮光層１９０が、封止層１８０の上に設けられている。遮光層１９０は、画素１２０Ａの発光領域の一部の領域に重畳する。遮光層１９０は、さらに隔壁１６８に重畳する。なお、遮光層１９０は、少なくとも封止層１８０の側（すなわち、観察側とは反対側）から入射した光の全部又は一部の光を遮る。遮光層１９０は、吸光性の部材で形成されてもよいし、反射性の部材で形成されてもよい。遮光層１９０は、例えば、黒色に着色された樹脂材料や、クロム（Ｃｒ）などの遮光性の金属材料によって形成されている。遮光層１９０が入射した光の一部の光を遮る場合、例えば、透過率は〇〇以下（又は、吸収率は△△以上）であることが望ましい。
【００２８】
図３は、画素１２０Ａの発光領域１６０Ａの周辺の詳細な構成を示す断面図である。図３において、発光素子１６０から見て一方の側に位置する隔壁１６８を「隔壁１６８Ａ」、他方の側に位置する隔壁１６８を「隔壁１６８Ｂ」と称する。図４は、遮光層１９０を表示領域１００に垂直な方向に見た図を示す。
【００２９】
有機層１６４は、ホール注入層１６４０、ホール輸送１６４２、発光層１６４４、電子輸送層１６４６、及び電子注入層１６４８の積層体である。発光素子１６０の発光領域１６０Ａは、第１電極１６２と発光層１６４４と第２電極１６６とが重畳する領域であって、隔壁１６８Ａと隔壁１６８Ｂとによって囲まれた領域である。隔壁１６８Ａによって覆われた第１電極１６２の第１端部１６２２に重畳する領域、及び隔壁１６８Ｂによって覆われた第１電極１６２の第２端部１６２６に重畳する領域は、発光領域１６０Ａには含まれない。
【００３０】
遮光層１９０は、第１部分１９２、第２部分１９４、及び第３部分１９６を含む。第１部分１９２は、隔壁１６８Ａの傾斜部１６８２Ａに重畳する。傾斜部１６８２Ａは、第１電極１６２の第１端部１６２２を覆い、その上面は発光領域１６０Ａに近づく方向に次第に低くなる。第１部分１９２は、さらに、第１端部１６２２に隣接する第１領域１６２４に重畳する。第１領域１６２４は、発光領域１６０Ａの一部の領域である。第２部分１９４は、隔壁１６８Ｂの傾斜部１６８２Ｂに重畳する。傾斜部１６８２Ｂは、第１電極１６２の第２端部１６２６を覆い、その上面は発光領域１６０Ａに近づく方向に次第に低くなる。第２部分１９４は、さらに、第２端部１６２６に隣接する第２領域１６２８に重畳する。第２領域１６２８は、発光領域１６０Ａの一部の領域である。
【００３１】
領域Ｔは、発光領域１６０Ａの一部であって、第１部分１９２及び第２部分１９４が設けられていない領域である。領域Ｔは、第１電極１６２のうちの第３領域１６２０に重畳する領域である。第３領域１６２０は、第１領域１６２４と第２領域１６２８との間の領域である。第３部分１９６は、領域Ｔの一部に設けられている。図４に示すように、第３部分１９６は、第１部分１９２及び第２部分１９４とは接続されておらず、表示領域１００に垂直な方向に見て発光領域１６０Ａ（領域Ｔ）により囲まれている。第３部分１９６は、例えば発光領域１６０Ａの中心に重畳するが、発光領域１６０Ａの中心に重畳していなくてもよい。
【００３２】
遮光層１９０の作用を説明する。図５には、図３に示す部分から遮光層１９０が取り除かれた構成が示されている。マイクロキャビティ構造により、発光層１６４４から観察者に直接届く光と、第２電極１６６及びリフレクタ１６１間で反射した光とが干渉して発光効率が向上する。通常、正面方向に進行する光Ｌ１Ａ，Ｌ２Ａの発光効率が最大となるように、有機層１６４の厚さが調整される。しかし、図５に示す場合、表示領域１００に対して斜め方向から観察されたときに、光Ｌ１Ａ，Ｌ２Ａよりも長い光路長の光Ｌ１Ｂ，Ｌ２Ｂが観察される。これにより、Ｒ、Ｇ及びＢの各色について、本来の色成分が減じられ、それよりも長波長側の色成分が強調されてしまう。その結果、表示装置１０が表示する色が観察者によって別の色として知覚されてしまう。
【００３３】
ここで、図６に示すように、複数の画素１２０Ａ−１，１２０Ａ−２，１２０−３の各々が同一のＢ（青）を表示し、かつ表示装置１０が折り曲げられている場合を考える。この場合、表示装置１０の正面に居る観察者は、中央の画素１２０Ａ−１についてはＢ（青）の発光を知覚する。しかし、画素１２０Ａ−１よりも端部寄りに位置する画素１２０Ａ−２については、光路長が大きいことによりＧ寄りの色として知覚される。画素１２０Ａ−２よりもさらに端部寄りに位置する画素１２０Ａ−３については、Ｒ寄りのとして観察される。
【００３４】
また、図５において、隔壁１６８の近傍、具体的には傾斜部１６８２Ａ，１６８２Ｂの上面に沿った部分では、その製造工程に起因して、有機層１６４が薄くなる場合がある。例えば、有機層１６４のうちの傾斜部１８６２Ａに重畳する部分を通過する斜め方向の光Ｌ３も、表示装置１０が表示する色が観察者によって別の色として知覚される原因となる。さらに、発光領域１６０Ａ内から発光領域１６０Ａ外に漏れ出た光Ｌ４が観察されることがある。なお、図５には示していないが、有機層１６４のうちの傾斜部１８６２Ｂに重畳する部分においても、光Ｌ３，Ｌ４と同様の光が伝搬する。
【００３５】
以上の問題を解決するため、表示装置１０は遮光層１９０を有する。図７の例では、遮光層１９０の第２部分１９４は、表示領域１００に対して斜め方向に進行する光Ｌ１Ｂ，Ｌ２Ｂを遮る。図示はしないが、第１部分１９２も、表示領域１００に対して斜め方向に進行する光を遮る。また、有機層１６４のうち傾斜部１８６２Ａに重畳する部分を通過する斜め方向の光Ｌ３が、第３部分１９６で遮断される。以上により、斜め方向に進行する光が観察されにくくなる。その結果、表示装置１０が表示する色が観察者によって別の色として知覚されるのを抑えることができる。さらに、光Ｌ４は第１部分１９２によって遮られ、光Ｌ４が観察されない。なお、有機層１６４のうち傾斜部１８６２Ｂに重畳する部分を通過する光Ｌ３，Ｌ４と同様の光についても、第３部分１９６、第２部分１９４によって遮られる。一方、光Ｌ１Ａ，Ｌ２Ａは、遮光層１９０が設けられていない領域から正面方向に射出する。観察者は、光Ｌ１Ａ，Ｌ１Ｂによって表示装置１０が表示する色を知覚することができる。
【００３６】
遮光層１９０は、封止層１８０の上に設けられている。封止層１８０は、通常、有機層１６４の各層や、基板１１０上の絶縁層と比べて厚い。よって、遮光層１９０と、隔壁１６８又は発光領域１６０Ａとの距離が十分に確保されている。よって、遮光層１９０は、封止層１８０よりも下層に配置された場合よりも、斜め方向の光をより効率的に遮ることができる。
【００３７】
［第２実施形態］
本実施形態の表示装置１０Ａは、遮光層１９０に代えて、金属層を含む遮光層１９０Ａを有する。遮光層１９０Ａは、ここでは、いわゆるオンセル型のタッチセンサが形成される金属層である。オンセル方式は、表示装置の内部にタッチセンサを組み込む方式である。
【００３８】
図８は、表示装置１０Ａの構成を示す上面図である。図８に示すように、遮光層１９０Ａは、遮光層１９０Ｘ，１９０Ｙを含む。遮光層１９０Ｘ，１９０Ｙは、網目状のパターンを有する四角形の形状である。遮光層１９０Ｘ，１９０Ｙは、例えば、モリブデン（Ｍｏ）、ニオブ（Ｎｂ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、パラジウム（Ｐｄ）、タングステン（Ｗ）又はチタン（Ｔｉ）で例示される金属材料を用いて形成されている。
【００３９】
遮光層１９０Ａの発光領域１６０Ａの周辺の断面構成は、上述した第１実施形態の遮光層１９０の発光領域１６０Ａの周辺の断面構成と同じでよい。よって、その説明を省略する。
【００４０】
遮光層１９０Ｘ，１９０Ｙは、タッチセンサ２０におけるセンサ電極として用いられる。この場合、タッチセンサ２０は、相互容量方式のタッチセンサである。遮光層１９０Ｘ，１９０Ｙは、駆動回路１５０と電気的に接続される。また、表示領域１００の短辺方向である第１方向に配置された複数の遮光層１９０Ｘは、互いに電気的に接続されている。表示領域１００の長辺方向である第２方向に配置された複数の遮光層１９０Ｙは、互いに電気的に接続されている。遮光層１９０Ｘは、タッチセンサ２０における送信電極である。遮光層１９０Ｙはタッチセンサ２０における受信電極である。これに代えて、遮光層１９０Ｙがタッチセンサ２０における送信電極、遮光層１９０Ｘがタッチセンサ２０における受信電極であってもよい。
【００４１】
駆動回路１５０は、遮光層１９０Ｘに電圧を供給する。遮光層１９０Ｘと遮光層１９０Ｙとの間には、この供給した電圧に応じた電界が発生する。例えば、人間の指が表示装置１０Ａに触れたとき、遮光層１９０Ｘと遮光層１９０Ｙとの間の電界が変化する。これにより、駆動回路１５０は、遮光層１９０Ｙからの信号の入力を受け付ける。表示装置１０Ａは、この信号に基づいて、人間の指が触れた位置を検知する。
【００４２】
以上の遮光層１９０Ａは、タッチセンサ２０としても機能するとともに、表示装置１０Ａが表示する色が観察者によって別の色として知覚されるのを抑えることができる。これに代えて、遮光層１９０Ａは、タッチセンサ２０として用いられなくてもよい。この場合、遮光層１９０Ａは、駆動回路１５０と電気的に接続されなくてもよい。
【００４３】
図９に示すように、遮光層１９０Ａは、上述した第１実施形態よりも多くの部分に分けられてもよい。この例では、遮光層１９０Ａの隔壁１６８に重畳する部分が、第１部分１９８Ａ及び第２部分１９８Ｂに分けられている。これにより、表示装置１０外への光の透過量が減じられることなく、タッチセンサ２０の検出精度の向上の効果が期待できる。
【００４４】
［第３実施形態］
上述した第１実施形態において、遮光層１９０は、遮光性を有する塗布材料を用いて形成されてもよい。塗布材料は、例えば、可視領域における吸光性を有する。この場合、遮光層１９０は、インクジェット法により形成される。遮光性を有する塗布材料は、例えば多孔質シリコン・多孔質炭素、金属粉、顔料などの吸光材を分散させた塗布材料である。
【００４５】
［第４実施形態］
表示装置１０は、封止層１８０上に円偏光板２００を有してもよい。円偏光板２００は、遮光層１９０が外光を反射することに起因する照り返しを抑える。円偏光板２００は、遮光層１９０が反射性の部材、例えば金属で形成されている場合に、形成されることが望ましい。
【００４６】
図１０は、表示装置１０の画素１２０Ａが設けられた領域の断面図を示す。図１０に示すように、絶縁層１９５が、遮光層１９０の上に設けられている。絶縁層１９５は、ここではその上面が平坦である。絶縁層１９５は、例えば無機化合物を含む。円偏光板２００が、絶縁層１９５の上に設けられている。円偏光板２００は、例えばフィルム状の円偏光板である。
【００４７】
［表示装置の製造方法］
上述した第１〜第４実施形態の表示装置の製造方法を説明する。まず、図１１に示すように、基板１１０の上に複数の画素１２０Ａが形成される。次に、図１２に示すように、複数の画素１２０Ａを封止する封止層１８０が形成される。封止層１８０は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法などを用いて形成される。次に、遮光層１９０が封止層１８０の上に形成される。遮光層１９０は、上述した第１、第２、第４実施形態の場合、例えばスパッタリング法又はＣＶＤ法により形成される。遮光層１９０は、上述した第３実施形態の場合、インクジェット法により形成される。第４実施形態の表示装置の製造方法にあっては、さらに、封止層１８０の上に絶縁層１９５及び円偏光板２００が形成される。
【００４８】
［第５実施形態］
本実施形態の表示装置は、遮光層１９０を有さず、かつ第２電極１６６に代えて第２電極１６６Ａを有する点で、上述した第１実施形態と相違する。第２電極１６６Ａは、遮光層１９０に代わって、斜め方向に進行する光を遮る。
【００４９】
図１３は、発光領域１６０Ａの周辺の構成を示す断面図である。第２電極１６６Ａは、第１部分１６６２と、第２部分１６６４Ａと、第３部分１６６４Ｂと、第４部分１６６４Ｃとを含む。第１部分１６６２は、有機層１６４（電子注入層１６４８）の上面に設けられた厚さがｔ１（第１厚さ）の部分である。第１部分１６６２は、発光領域１６０Ａ内及び発光領域１６０Ａ外の領域に設けられている。第２部分１６６４Ａ、第３部分１６６４Ｂ、及び第４部分１６６４Ｃは、それぞれ第１部分１６６２の上面に設けられている。具体的には、第２部分１６６４Ａは、隔壁１６８Ａに重畳する。第２部分１６６４Ａは、さらに、第１電極１６２のうちの隔壁１６８Ａによって覆われた端部、および発光領域１６０Ａ内において第１電極１６２の当該端部に隣接する領域に重畳する。第３部分１６６４Ｂは、隔壁１６８Ｂに重畳する。第３部分１６６４Ｂは、さらに、第１電極１６２のうちの隔壁１６８Ｂによって覆われた端部、及び発光領域１６０Ａ内において第１電極１６２の当該端部に隣接する領域に重畳する。第４部分１６６４Ｃは、発光領域１６０Ａ内で、第１電極１６２に重畳する。図１３に示す第２部分１６６４Ａ、及び第３部分１６６４Ｂの発光領域１６０Ａ内の端部の位置は一例であり、例えば発光領域１６０Ａの端部により近い位置にあってもよい。第４部分１６６４Ｃは、第２部分１６６４Ａ、及び第３部分１６６４Ｂとは接続されておらず、表示領域１００に垂直な方向から見て発光領域１６０Ａにより囲まれている。なお、第１部分１６６２と、第２部分１６６４Ａと、第３部分１６６４Ｂと、第４部分１６６４Ｃとは、単一の部材で形成されてもよいし、少なくとも一部が別の部材で形成されてもよい。
【００５０】
第２電極１６６Ａのうち第２部分１６６４Ａ、第３部分１６６４Ｂ、及び第４部分１６６４Ｃが設けられた部分の厚さは、ｔ２（第２厚さ）である。すなわち、ｔ２＞ｔ１の関係を満たす。また、第２電極１６６Ａのうち、第２部分１６６４Ａ、第３部分１６６４Ｂ及び第４部分１６６４Ｃが設けられた部分は、それ以外の部分よりも遮光性が高い。よって、上述した第１実施形態と同様の作用により、表示装置１０が表示する色が観察者によって別の色として知覚されることを抑えることができる。さらに、第２電極１６６Ａは、第２電極１６６よりも厚い部分を有するので、第２電極１６６よりも電気的な抵抗を低くする上で有利である。
【００５１】
［表示装置の製造方法］
上述した第５実施形態の表示装置の製造方法を説明する。まず、図１４に示すように、平坦化膜１１４の上に、第１電極１６２、隔壁１６８Ａ，１６８Ｂ、有機層１６４、及び第１部分１６６２が順次形成される。第１電極１６２、及び第１部分１６６２は、例えばスパッタリング法を用いて形成される。隔壁１６８Ａ，１６８Ｂは、例えばスピンコーティング法により形成される。有機層１６４は、例えば真空蒸着法、印刷法、スピンコーティング法などにより形成される。
【００５２】
次に、第１部分１６６２の上面のうち、隔壁１６８Ａに重畳する領域に第２部分１６６４Ａが、隔壁１６８Ｂに重畳する領域に第３部分１６６４Ｂが、発光領域１６０Ａ内に第４部分１６６４Ｃが形成される。第２部分１６６４、第３部分１６６４Ｂ、及び第４部分１６６４Ｃは、第１電極１６２及び第１部分１６６２と同じ方法で形成されてよい。これにより、図１５に示す第２電極１６６Ａが完成する。次に、複数の画素１２０Ａを封止する封止層１８０が形成されると、図１３に示す表示装置が完成する。封止層１８０は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法により形成される。
【００５３】
［変形例］
上述した実施形態は、互いに組み合わせたり、置換したりして適用することが可能である。また、上述した実施形態では、以下の通り変形して実施することも可能である。
【００５４】
図１６に示すように、遮光層１９０は、発光領域１６０Ａにより囲まれた第３部分１９６を有しなくてもよい。この場合も、第１部分１９２及び第２部分１９４によって、表示装置１０が表示する色が観察者によって別の色として知覚される原因となる光が遮られる。上述した第２〜第４実施形態にも同様の構成を採用できる。同様の趣旨により、上述した第５実施形態の第２電極１６６Ａは、第４部分１６６４Ｃを有しなくてもよい。
【００５５】
上述した実施形態では、第３部分１９６及び第４部分１６６４Ｃは、表示領域１００に垂直な方向から見て発光領域１６０Ａにより囲まれていたが、少なくとも一部の方向に発光領域１６０Ａが隣接していなくてもよい。
【００５６】
上述した第１〜第４実施形態において、発光領域１６０Ａと遮光層１９０または遮光層１９０Ａ（以下「遮光層１９０」と総称する。）との配置関係は、すべての画素１２０Ａで共通でなくてもよい。例えば、第１の画素１２０Ａと、第１の画素１２０Ａよりも表示領域１００の端部に近い第２の画素１２０Ａとでは、第２の画素１２０Ａは、第１の画素１２０Ａよりも、遮光層１９０のうちの発光領域１６０Ａに重畳する領域の面積が大きくてもよい。その理由は、表示領域１００の端部に近い画素１２０Ａほど、斜め方向に進行する光が観察されやすいからである。第２の画素１２０Ａは、第１の画素１２０Ａよりも、発光領域１６０Ａの端部により近い位置に遮光層１９０が設けられてもよい。上述した第５実施形態における発光領域１６０Ａと第２電極１６６Ａの厚さｔ２の部分との配置関係についても、同様に種々の変形が可能である。
【００５７】
発光領域１６０Ａのうちの遮光層１９０により覆われる端部は、上述した実施形態で説明した端部に限られない。例えば、図１７に示すように、発光領域１６０Ａのすべての端部が遮光層１９０により覆われてもよい。また、遮光層１９０は、発光領域１６０Ａにより囲まれる部分を１画素につき２つ以上有してもよい。例えば、図１８に示すように、遮光層１９０は、各々が発光領域１６０Ａにより囲まれる第３部分１９６Ａ，１９６Ｂ，１９６Ｃ，１９６Ｄを有してもよい。また、発光領域１６０Ａのすべての端部が、遮光層１９０により覆われていなくてもよい。
【００５８】
遮光層１９０は、封止層１８０の上面に設けられた第１層が反射性を有する材料で形成され、第１層の上の第２層が吸光性を有する部材で形成されてもよい。この場合、第１層は、封止層１８０の側から入射した光を、反射する。この反射した光の少なくとも一部は、リフレクタ１６１によって反射されて、観察側に進行する。よって、本構成により、発光素子１６０の発光効率を高めつつ、遮光層１９０による外光の反射に起因する照り返しが抑制される。
【００５９】
本発明の表示装置は、塗り分け方式の表示装置に限らない。本発明の表示装置は、例えば、白色光源及びカラーフィルタを用いて、Ｒ、Ｇ、Ｂの画素を構成する表示装置であってもよい。表示装置の具体的な構成は問わない。
【００６０】
上述した実施形態においては、開示例として有機ＥＬ表示装置の場合を例示したが、その他の適用例として、液晶表示装置、その他の自発光型の表示装置が挙げられる。
【００６１】
なお、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。例えば、前述の各実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除若しくは設計変更を行ったもの、又は、工程の追加、省略若しくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００６２】
１０，１０Ａ：表示装置、２０：タッチセンサ、９０：表示装置、１００：表示領域、１０１：下地膜、１０２：層間膜、１１０：基板、１１４：平坦化膜、１２０：表示部、１２０Ａ：画素、１２２：走査線、１２４：データ信号線、１２６：走査線駆動回路、１４０：トランジスタ、１４２：半導体膜、１４４：ゲート絶縁膜、１４６：ゲート電極、１４８：ドレイン電極、１５０：駆動回路、１６０：発光素子、１６０Ａ：発光領域、１６１：リフレクタ、１６２：第１電極、１６４：有機層、１６６：第２電極、１６６Ａ：第２電極、１６８，１６８Ａ，１６８Ｂ：隔壁、１７０：フレキシブルプリント回路、１８０：封止層、１９０，１９０Ａ，１９０Ｘ，１９０Ｙ：遮光層、１９２：第１部分、１９４：第２部分、１９５：絶縁層、１９６，１９６Ａ，１９６Ｂ，１９６Ｃ，１９６Ｄ：第３部分、２００：円偏光板、１６２０：第３領域、１６２２：第１端部、１６２４：第１領域、１６２６：第２端部、１６２８：第２領域、１６４０：ホール注入層、１６４２：ホール輸送、１６４４：発光層、１６４６：電子輸送層、１６４８：電子注入層、１６６２：第１部分、１６６４Ａ：第２部分、１６６４Ｂ：第３部分、１６６４Ｃ：第４部分、１６８２，１６８２Ａ，１６８２Ｂ：傾斜部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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