(57)【要約】【課題】  容器の内面の親水性等を均一に向上させる改質処理を行うことができる容器の内面処理装置を提供する。【解決手段】  容器の内面処理装置Ａは、シャーレＳの底部外面の中央部分を担持した状態でシャーレＳが載置される容器載置台部２と、容器載置台部２に載置されるシャーレＳの開口を塞いでシャーレＳ内の気体を吸気口から吸引して真空にする容器載置台部２の上方に配置された吸引マニホールド部Ｃと、シャーレＳを挟んで配置され、プラズマを発生させるための電圧が印加される上部電極板４２と下部電極板９と、を有し、容器載置台部２は、シャーレＳの底部外面の中央部分と面接触により密着接触してシャーレＳを担持する密着担持部１１を有する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口が広口で浅底の容器を被処理容器とし、前記被処理容器内を真空環境下においてプラズマ照射により内面処理を行う容器の内面処理装置であって、
前記被処理容器の底部外面の中央部分を担持した状態で当該被処理容器が載置される容器載置台部と、
前記容器載置台部に載置される前記被処理容器の開口を塞いで当該被処理容器内の気体を吸気口から吸引して真空にする前記容器載置台部の上方に配置された吸引マニホールド部と、
前記被処理容器を挟んで配置され、プラズマを発生させるための電圧が印加される一対の電極板と、
を有し、
前記容器載置台部は、前記被処理容器の底部外面の中央部分と面接触により密着接触して前記被処理容器を担持する密着担持部を有することを特徴とする容器の内面処理装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記容器載置台部と前記吸引マニホールド部とを上下方向に相対的に移動させる昇降駆動手段を有することを特徴とする容器の内面処理装置。
【請求項３】
請求項１及び２のいずれか１項において、
前記密着担持部は、上部が上方に向けて突出する球面形状に形成されていて、前記上部の表層が柔らかな弾性体で形成され、担持する前記被処理容器から下向きに作用する力で弾性変形して面接触状態に密着接触することを特徴とする容器の内面処理装置。
【請求項４】
請求項３において、
前記密着担持部は、上部が球面形状に形成された本体部と、前記本体部の上部に倣うように密接状態で設けられた柔らかな弾性体で形成された表層をなすパッドとを有することを特徴とする容器の内面処理装置。
【請求項５】
請求項２乃至４のいずれか１項において、
前記密着担持部は、前記本体部の下部に配置され、高さ調整用の高さ調整板を有することを特徴とする容器の内面処理装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１項において、
前記容器載置台部は、前記被処理容器を前記被処理容器の側面が上下方向、前後方向及び左右方向において非拘束の状態で載置することを特徴とする容器の内面処理装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか１項において、
前記容器載置台部に複数の密着担持部が設けられ、前記吸引マニホールドに前記各密着担持部に対応して前記吸気口を設けたことを特徴とする容器の内面処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シャーレ等のように開口が広口で浅底容器の開口を塞いで内部のみを真空状態にして、容器内面をプラズマ照射により改質する装置に係り、特に、容器の内面の親水性等を均一に向上させる改質処理を行うことができる容器の内面処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
開口が広口で浅底の容器であるシャーレの内面にプラズマを照射して親水性を向上させる処理装置が提案されている（特許文献１、図８）。特許文献１記載の処理装置は、シャーレの開口を塞いでシャーレ内の空気を吸引して内部を真空状態とする（以下、この明細書中では個別真空プラズマ処理法と称す）。シャーレの容器内圧力が大気圧よりも低い真空状態になると、シャーレの底部はシャーレの容器内に向けて曲げ応力を受けて破壊されることがある。そこで、シャーレの底部の中央部分に外側から負圧を加えて吸引し、底部の内側への曲げ変形を小さくして破壊を防止している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第５７８５６５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１記載の処理装置では、シャーレ底部の外側中央部分に形成される真空部がプラズマ濃度に影響し、シャーレの内底面における親水性にバラツキが生じるおそれがある。
【０００５】
そこで、本発明は、このような従来の技術の有する未解決の課題に着目してなされたものであって、容器の内面の親水性等を均一に向上させる改質処理を行うことができる容器の内面処理装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
〔発明１〕  上記目的を達成するために、発明１の容器の内面処理装置は、開口が広口で浅底の容器を被処理容器とし、前記被処理容器内を真空環境下においてプラズマ照射により内面処理を行う容器の内面処理装置であって、前記被処理容器の底部外面の中央部分を担持した状態で当該被処理容器が載置される容器載置台部と、前記容器載置台部に載置される前記被処理容器の開口を塞いで当該被処理容器内の気体を吸気口から吸引して真空にする前記容器載置台部の上方に配置された吸引マニホールド部と、前記被処理容器を挟んで配置され、プラズマを発生させるための電圧が印加される一対の電極板と、を有し、前記容器載置台部は、前記被処理容器の底部外面の中央部分と面接触により密着接触して前記被処理容器を担持する密着担持部を有する。
【０００７】
ここで、真空とは、大気圧より低い圧力の気体で満たされた空間内の状態をいう。以下、本願明細書において同じである。
【０００８】
〔発明２〕  さらに、発明２の容器の内面処理装置は、発明１の容器の内面処理装置において、前記容器載置台部と前記吸引マニホールド部とを上下方向に相対的に移動させる昇降駆動手段を有する。
【０００９】
〔発明３〕  さらに、発明３の容器の内面処理装置は、発明１及び２のいずれか１の容器の内面処理装置において、前記密着担持部は、上部が上方に向けて突出する球面形状に形成されていて、前記上部の表層が柔らかな弾性体で形成され、担持する前記被処理容器から下向きに作用する力で弾性変形して面接触状態に密着接触する。
【００１０】
〔発明４〕  さらに、発明４の容器の内面処理装置は、発明３の容器の内面処理装置において、前記密着担持部は、上部が球面形状に形成された本体部と、前記本体部の上部に倣うように密接状態で設けられた柔らかな弾性体で形成された表層をなすパッドとを有する。
【００１１】
〔発明５〕  さらに、発明５の容器の内面処理装置は、発明２乃至４のいずれか１の容器の内面処理装置において、前記密着担持部は、前記本体部の下部に配置され、高さ調整用の高さ調整板を有する。
【００１２】
〔発明６〕  さらに、発明６の容器の内面処理装置は、発明１乃至５のいずれか１の容器の内面処理装置において、前記容器載置台部は、前記被処理容器を前記被処理容器の側面が上下方向、前後方向及び左右方向において非拘束の状態で載置する。
【００１３】
〔発明７〕  さらに、発明７の容器の内面処理装置は、発明１乃至６のいずれか１の容器の内面処理装置において、前記容器載置台部に複数の密着担持部が設けられ、前記吸引マニホールドに前記各密着担持部に対応して前記吸気口を設けた。
【発明の効果】
【００１４】
以上説明したように、発明１の容器の内面処理装置によれば、被処理容器の底部を破壊することなく底部内面に対し均一に親水性向上等の改質処理を行うことができる。
【００１５】
さらに、発明２の容器の内面処理装置によれば、被処理容器を吸引マニホールド部に対して容易に吸着させることができる。
【００１６】
さらに、発明３の容器の内面処理装置によれば、密着担持部の表層が簡単かつ確実に被処理容器の底部の外面中央部分に対して面接触状態に密着接触可能となる。
【００１７】
さらに、発明４の容器の内面処理装置によれば、パッドを別部材として本体部に設けているので、被処理容器の底部の外面中央に密着状態を維持して面接触できるという表層の弾性変形の管理を容易に行なうことができる。
【００１８】
さらに、発明５の容器の内面処理装置によれば、被処理容器の高さに合わせて高さ調整板の高さを調整することで、容器載置台部と吸引マニホールド部との相対移動距離を一定とすることができる。
【００１９】
さらに、発明６の容器の内面処理装置によれば、被処理容器の開口端縁の全周が吸引マニホールド部に対してスムーズに当接して吸着される。
【００２０】
さらに、発明７の容器の内面処理装置によれば、一度に複数の被処理容器の内面処理が行える。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】容器の内面処理装置Ａの正面図で、被処理容器のシャーレが吸引待機位置に待機した状態を示す図である。
【図２】容器の内面処理装置Ａの右側面図である。
【図３】容器の内面処理装置Ａの上面図である。
【図４】図３のＪ−Ｊ線に沿った断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の実施の形態を説明する。図１乃至図４は、本実施の形態を示す図である。
【００２３】
図１は、容器の内面処理装置Ａの正面図で、被処理容器のシャーレが吸引待機位置に待機した状態を示す図である。図２は、容器の内面処理装置Ａの右側面図である。図３は、容器の内面処理装置Ａの上面図である。図４は、図３のＪ−Ｊ線に沿った断面図である。
【００２４】
まず、容器の内面処理装置Ａの構成を説明する。
容器の内面処理装置Ａは、容器昇降部Ｂと、吸引マニホールド部Ｃと、昇降駆動部Ｄと、固定台Ｅと、電源部Ｆと、真空ポンプ部Ｇとを有する。本実施形態において、容器の内面処理装置Ａは、被処理容器として広口で浅底容器のシャーレＳを容器昇降部Ｂに２個載置し、２個のシャーレＳの内面を同時にプラズマ処理して例えば親水性を向上させる。
【００２５】
固定台Ｅは例えば、容器の内面処理装置Ａを収容するケースＩの底面に配置される。固定台Ｅ上に容器昇降部Ｂの４本の支柱１が固定される。吸引マニホールド部Ｃは、容器昇降部Ｂの上方に配置され、不図示の支持部材により固定台Ｅに対して固定されている。容器昇降部Ｂは、４本の支柱１にガイドされた容器載置台部２を昇降可能としている。シャーレＳは、図１に示す吸引待機位置で容器載置台部２の上端に載置される。昇降駆動部Ｄの上昇動作で容器載置台部２が上昇し、シャーレＳが吸引マニホールド部Ｃに当接してシャーレＳ内が真空引きされる。
【００２６】
次に、容器昇降部Ｂの構成を説明する。
容器昇降部Ｂは、４本の支柱１と、容器載置台部２とを有する。容器載置台部２は、左右一対に配置された円筒形状に形成された所定高さの第１支持筒３と第２支持筒４の下端に平面矩形形状の基台５を固定し、上端に平面矩形形状の下部電極台６を固定している。基台５の下面側の４隅に、所定深さのガイド穴７が上下方向に沿って形成される。４つのガイド穴７は、それぞれ支柱１の先端部に形成れた差込部８に上下方向に沿って移動可能に装入されている。下部電極台６の平坦面の上面に、平面矩形形状の第２電極である下部電極板９が全面に渡って配置されている。下部電極板９の後側辺には、図２に示すように、幅方向中央部に下部電極端子１０が後方に向けて支出されている。
【００２７】
下部電極板９の上面に、第１支持筒３と第２支持筒４にそれぞれ対応して上部が球面形状の第１密着担持部１１と第２密着担持部１２が左右方向に間隔を有して配置されている。第１密着担持部１１と第２密着担持部１２は、ホルダー１３により下部電極板９の上面に保持されている。ホルダー１３は、第１密着担持部１１と第２密着担持部１２に対応して円形の第１孔１４と第２孔１５が形成されている。第１孔１４と第２孔１５は、シャーレＳの外径よりも大径に形成されている。第１密着担持部１１の上部１１ａと第２密着担持部１２の上部１２ａは、第１孔１４と第２孔１５から上方に突出し、シャーレＳの底部の外面中央部分に密着状態に当接して担持する。
【００２８】
図１及び図４に示すように、ホルダー１３の上面には、第１孔１４と第２孔１５の周囲に平面Ｕ字形状の段部１６が形成されていて、段部１６の開口端をホルダー１３の前側辺に形成している。シャーレＳを例えば第１密着担持部１１の上部１１ａに載置するとシャーレＳに揺れが生じて姿勢が不安定になる。その際、シャーレＳの外周面が段部１６の内周壁面１６ａに当接して一応シャーレＳの揺れは止められているが、シャーレＳの側面に対して上下方向、前後方向及び左右方向に対する拘束は無く、これら方向における移動の自由が確保されている。
【００２９】
第１密着担持部１１と第２密着担持部１２は同じ構造に構成されているため、第１密着担持部１１について説明し、第２密着担持部１２については同じ部材に同じ符号を付してその説明を省略する。
【００３０】
第１密着担持部１１は、円盤形状に形成された高さ調整板１７と、高さ調整板１７上に載置され、上部１８ａが上方に向けて凸の球面形状に形成された凸レンズ形状の本体部１８と、本体部１８の上部１８ａ上に上部１８ａの球面に倣うように密接状態で設けた表層をなすパッド１９とにより構成している。高さ調整板１７は金属により形成され、本体部１８は電気的絶縁性を備えたアクリル樹脂により形成されている。パッド１９は、例えば厚さが１ｍｍの電気的絶縁性を備えたシリコン樹脂により球面形状に形成されている。高さ調整板１７と本体部１８は固いのに対し、シリコン樹脂製のパッド１９は柔らかな弾性を有しているので、第１密着担持部１１の上部１１ａにシャーレＳの底部の外面中央部分が当接すると、パッド１９はシャーレＳの自重で密着状態を維持して弾性変形し、密着面積が点接触状態から面接触状態に拡がる。その際、高さ調整板１７と本体部１８は厚み方向（上下方向）に変形せず、パッド１９のみが変形する。
【００３１】
シャーレＳは、図１に示す吸引待機位置で容器載置台部２の上端で第１密着担持部１１と第２密着担持部１２の球面形状をなす上部１１ａ、１２ａに担持されて載置する。本実施形態において、シャーレＳの上端と吸引マニホールド部Ｃのパッキン４５の下端との間の高さである容器載置台部２の昇降距離Ｌを一定としている。このため、シャーレＳの高さに応じて、第１密着担持部１１と第２密着担持部１２の高さを変更可能としている。シャーレＳの高さが高い場合には高さ調整板１７の高さを低くし、シャーレＳの高さが低い場合には高さ調整板１７の高さを高くする。勿論、高さが１種類のシャーレＳを処理対象とする場合には、本体部１８の高さを所定の高さに設定すれば高さ調整板１７は不要である。
【００３２】
パッド１９の厚み方向の変形量を多くすると、変形量に応じてパッド１９の弾性復元力が強くなり、シャーレＳの底部が破壊されるおそれがある。このため、シリコン樹脂製のパッド１９の厚みを１ｍｍ程度とし、少ない変形量で密着面積を大きくできるようにしている。第１密着担持部１１と第２密着担持部１２は、所定高さを有し、球面形状の先端部にシリコン樹脂等で例えば１ｍｍ程度の軟らかい弾性体の表層を設けた一体構造としても良い。
【００３３】
次に、吸引マニホールド部Ｃの構成を説明する。
吸引マニホールド部Ｃは、マニホールド筐体２０の下面側に、第１密着担持部１１と第２密着担持部１２をカバーする範囲に平面矩形形状の天井２１ａの高さが低い凹部２１が形成されている。凹部２１に臨むように、第１密着担持部１１と第２密着担持部１２の各中心に対向して第１吸気口２２と第２吸気口２３が形成されている。凹部２１の天井２１ａには、第１吸気口２２の回りに円環形状の第１シール溝２４が形成され、第２吸気口２３の回りに円環形状の第２シール溝２５が形成される。第１シール溝２４と第２シール溝２５には、それぞれ第１Ｏリング２６と第２Ｏリング２７が取り付けられている。
【００３４】
マニホールド筐体２０内に、左右方向に沿って主吸気路２８が形成され、第１吸気分岐路２９を介して第１吸気口２２が主吸気路２８に接続され、同様に第２吸気分岐路３０を介して第２吸気口２３が主吸気路２８に接続される。主吸気路２８は、排気路３１を介して排気ポート３２に接続される。排気ポート３２は、真空ポンプ部Ｇに接続される。なお、主吸気路２８の両端開口部は不図示の閉塞プラグにより閉塞される。
【００３５】
本実施形態において、第１Ｏリング２６と第２Ｏリング２７の内側にそれぞれ２個の第１ガス供給口３３と第２ガス供給口３４を形成している。第１ガス供給口３３と第２ガス供給口３４は主ガス供給路３５とそれぞれ第１供給分岐路３６と第２供給分岐路３７を介して接続される。主ガス供給路３５は、第１ガス供給路３８と第２ガス供給路３９に接続され、第１ガス供給路３８と第２ガス供給路３９は第１ガス供給ポート４０と第２ガス供給ポート４１に接続される。第１ガス供給ポート４０と第２ガス供給ポート４１は、不図示のガス供給源に接続され、アルゴンガス等が第１ガス供給口３３と第２ガス供給口３４に供給可能としている。なお、アルゴンガス等の雰囲気化での処理を不要とする場合には、主ガス供給路３５の左右方向両端部は不図示の閉塞プラグにより閉塞し、第１ガス供給ポート４０と第２ガス供給ポート４１も閉塞する。
【００３６】
マニホールド筐体２０の凹部２１には、第１電極板である上部電極板４２が第１Ｏリング２６と第２Ｏリング２７に加圧接触して嵌め込まれる。したがって、第１Ｏリング２６及び第２Ｏリング２７の内外は気密性が保持される。上部電極板４２には、第１Ｏリング２６の内側、例えば第１Ｏリング２６、第２Ｏリング２７の中心位置に対応して第１吸気孔４３、第２吸気孔４４が形成されている。
【００３７】
上部電極板４２の下面にパッキン４５が配置されている。パッキン４５は、パッキン押え板４６により、上部電極板４２に密着状態に保持される。パッキン４５には、シャーレＳの外径よりも小径の第１シャーレ孔４７と第２シャーレ孔４８が形成されている。パッキン押え板４６には、第１シャーレ孔４７の周囲にシャーレＳの外径よりも大径の第１シャーレ通し孔４９が形成され、第２シャーレ孔４８の周囲にシャーレＳの外径よりも大径の第２シャーレ通し孔５０が形成されている。なお、上部電極板４２には、第１ガス供給口３３と第２ガス供給口３４に対応して不図示のガス供給孔が形成されている。
【００３８】
昇降駆動部Ｄの上昇動作で容器載置台部２が上昇し、第１密着担持部１１及び第２密着担持部１２の上部で担持するシャーレＳの上端が吸引マニホールド部Ｃの第１シャーレ通し孔４９、第２シャーレ通し孔５０を通してパッキン４５の下面に当接する吸引位置に達すると、シャーレＳの容器内はパッキン４５により気密性が保持される。吸引位置において、左右のシャーレＳの容器内は、上部電極板４２の第１吸気孔４３と第２吸気孔４４にそれぞれ連通する。したがって、真空ポンプ部Ｇを駆動すると、シャーレＳの容器内の空気が吸引されて真空状態に維持される。
【００３９】
左右のシャーレＳは上部電極板４２と下部電極板９との間に挟まれる。上部電極４２の後側辺には、図２及び図３に示すように、幅方向中央部に上部電極端子５１が後方に向けて支出されている。上部電極端子５１と下部電極端子１０には、電源部Ｆが給電線（不図示）を介して接続され、直流又は交流のパルス電圧が上部電極板４２と下部電極板９に印加される。真空環境下にあるシャーレＳの容器の内面はプラズマ照射されて表面が改質され、例えば親水性が向上する。
【００４０】
次に、昇降駆動部Ｄの構成を説明する。
昇降駆動部Ｄは、基台５の下面に固定した左右の軸支台５２、５３と、左右の軸支台５２、５３に左右方向に沿って固定されたカムフォロワー軸５４と、左右の軸支台５２、５３間でカムフォロワー軸５４に回転自在に外装され円筒形状のカムフォロワー５５と、モータ５６のモータ軸５７に固定した円弧カム板５８とを有する。
【００４１】
図２に示すように、円弧カム板５８において、始端５９から終端６０に至るカム面６１は、モータ軸５７の軸中心からの半径が漸増するカム軌跡に形成されている。カム面６１はカムフォロワー５５の外周面に接触している。カム面６１の始端５９がカムフォロワー５５に接触する位置が前記待機位置に対応し、終端６０が固定台Ｅの上面に接触する位置が前記吸引待機位置に対応する。
【００４２】
次に、本実施形態の動作を説明する。
図２において、モータ５６のモータ軸５７を時計回り方向に回転すると、モータ軸５７に固定の円弧カム板５８が時計回り方向（昇）に回転し、カムフォロワー５５に対する円弧カム板５８のカム面６１の接触部が始端５９から終端６０に向けて移動しながら容器載置台部２を待機位置から吸引位置に向けて上昇させる。カム面６１の終端６０がカムフォロワー５５に達すると、モータ５６の駆動を停止し、円弧カム板５８の回転を停止する。その際、シャーレＳの上端縁がパッキン４５の下面に当接する。真空ポンプ部Ｇの駆動で左右のシャーレＳの容器内の真空度が増すと、シャーレＳがパッキン４５に吸引されるようにして吸い付くので、シャーレＳ内が所定の真空度に維持される。その際、第１密着担持部１１と第２密着担持部１２のパッド１９はシャーレＳからの下向きの力で弾性変形してシャーレＳの底部の外面中央部に面接触状態で密着する。
【００４３】
左右のシャーレＳは第１密着担持部１１及び第２密着担持部１２の凸の球面形状に形成された各パッド１９の上部に接触した状態で担持されているため、前述のように上方向、左右方向及び前後方向に対する拘束は無く、これら方向における移動の自由度が確保された状態で載置されている。このため、左右のシャーレＳは、パッキン４５に対して確実に吸引されるようにして吸い付くことができる。
【００４４】
真空ポンプ部Ｇを駆動してシャーレＳの容器内を所定の負圧状態に維持した状態で、電源部Ｆを駆動して上部電極板４２と下部電極板９に所定電圧を所定時間印加する。
【００４５】
ここで、第１密着担持部１１及び第２密着担持部１２のパッド１９の作用を説明する。図１に示すように、シャーレＳの底部に対し第１密着担持部１１の上端が非接触状態の場合、シャーレＳの底部の外面には全面にわたって大気圧が作用するため、シャーレＳの底部の中心が最も大きく上方に向けて変位し、曲げ応力が大きくなる。これに対し、第１密着担持部１１の上端部がシャーレＳの底部の外面に面接触状態で密着し、第１密着担持部１１の底面は下部電極台６に載置する下部電極板９上に載置されているので、第１密着担持部１１の底面に大気圧が上向きに作用する余地が無い。したがって、第１密着担持部１１のパッド１９がシャーレＳの底部の外面に面接触する部分には大気圧が作用しないので、シャーレＳの底部が上方に向けて曲げ変形する変位量が小さくなり、シャーレＳの底部の破壊を防止することができる。
【００４６】
上部電極板４２と下部電極板９への電圧印加が終了すると、真空ポンプ部Ｇの駆動を停止し、シャーレＳの容器内を大気圧に戻してパッキン４５への吸い付きを解除する。そして、モータ５６を反時計回り方向に回転させて円弧カム板５８を反時計回り（降）方向に回転させて容器載置台部２を待機位置まで降下させ、表面処理済みのシャーレＳをホルダー１３から若干上方に持ち上げて手前側に引き出すことで取り出す。次に処理するシャーレＳを空になったホルダー１３の手前側から第１密着担持部１１及び第２密着担持部１２の上部に載置し、容器載置台部２を上昇させる。
【００４７】
上記した実施形態において、昇降駆動部Ｄは、円弧カム板５８を用いて容器載置台部２の昇降駆動を行うようにしているが、容器載置台部２を昇降駆動できればどのような装置であっても良く、例えばエアシリンダー装置、油圧シリンダー装置等を例示することができる。
【００４８】
また、容器の内面処理装置Ａは、一度に２個のシャーレＳの内面処理を行えるようにしているが、シャーレＳを１個のみ処理できる構成であっても良く、また一度に３個以上のシャーレＳを処理できる構成であっても良い。
【００４９】
さらに、固定台Ｅに対して吸引マニホールド部Ｃを所定の高さを有して固定し、容器載置台部２を吸引マニホールド部Ｃに対して昇降可能としているが、容器載置台部２に対して吸引マニホールド部Ｃを昇降可能としても良く、双方を互いに向かい合う方向と離れる方向に移動するようにしても良い。
【００５０】
次に、本実施形態の効果を説明する。
１．シャーレＳの容器内の気体を吸引する際に、シャーレＳの底部の外面中央部が第１密着担持部１１の柔らかいパッド１９が面接触状態で密着し、密着する部分へは大気圧が作用しない。このため、シャーレＳの容器内の気体吸引に伴うシャーレＳの底部の割れを防止することができる。シャーレＳの底部の外面には、従来のように部分的に真空部分が存在しないので、シャーレＳの底部内面を均一に改質処理することができる。
【００５１】
すなわち、本実施形態によれば、シャーレＳの底部を破壊することなく底部内面に対し均一に親水性向上等の改質処理を行うことができる。
【００５２】
２．容器載置台部２と吸引マニホールド部Ｃを昇降駆動部Ｄにより上下方向に沿って相対的に昇降移動させることにより、シャーレＳを吸引マニホールド部Ｃに対して容易に吸着させることができる。
【００５３】
３．第１密着担持部１１と第２密着担持部１２は、担持するシャーレＳの自重等の下向きの力で球面形状の表層をなすパッド１９が弾性変形して点接触から面接触に変形し、面接触状態に密着接触する。このため、簡単かつ確実にシャーレＳの底部の外面中央部分に対して面接触状態に密着接触可能となる。
【００５４】
４．パッド１９を別部材として本体部１８に設けているので、シャーレＳの底部の外面中央に密着状態を維持して面接触できるという表層の弾性変形の管理を容易に行なうことができる。
【００５５】
５．シャーレＳの高さに合わせて高さ調整板１７を設けて第１密着担持部１１と第２密着担持部１２の高さを調整し、待機位置と吸引位置との間の昇降距離Ｌを一定とすることができる。
【００５６】
６．シャーレＳは前後方向及び左右方向に移動自在に担持されているので、シャーレＳの開口端縁の全周が吸引マニホールド部Ｃのパッキン４５に対してスムーズに当接して吸着される。
【００５７】
７．下部電極板９上に配置する密着担持部を第１密着担持部１１及び第２密着担持部１２だけでなく、それ以上配置し、吸引マニホールド部Ｃに密着担持部に対応して吸気口を増設することで、一度に２個又はそれ以上のシャーレＳの内面処理が行える。
【符号の説明】
【００５８】
Ａ…容器の内面処理装置、  Ｂ…容器昇降部、  Ｃ…吸引マニホールド部、  Ｄ…昇降駆動部、  Ｅ…固定台、  Ｆ…電源部、  Ｇ…真空ポンプ部、  Ｓ…シャーレ、  Ｉ…ケース、  Ｌ…昇降距離、  １…支柱、  ２…容器載置台部、  ３…第１支持筒、  ４…第２支持筒、  ５…基台、  ６…下部電極台、  ７…ガイド穴、  ８…差込部、  ９…下部電極板、  １０…下部電極端子、  １１…第１密着担持部、  １１ａ…上部、  １２…第２密着担持部、  １２ａ…上部、  １３…ホルダー、  １４…第１孔、  １５…第２孔、  １６…段部、  １６ａ…内周壁面、  １７…高さ調整板、  １８…本体部、  １８ａ…上部、  １９…パッド、  ２０…マニホールド筐体、  ２１ａ…天井、  ２１…凹部、  ２２…第１吸気口、  ２３…第２吸気口、  ２４…第１シール溝、  ２５…第２シール溝、  ２６…第１Ｏリング、  ２７…第２Ｏリング、  ２８…主吸気路、  ２９…第１吸気分岐路、  ３０…第２吸気分岐路、  ３１…排気路、  ３２…排気ポート、  ３３…第１ガス供給口、  ３４…第２ガス供給口、  ３５…主ガス供給路、  ３６…第１供給分岐路、  ３７…第２供給分岐路、  ３８…第１ガス供給路、  ３９…第２ガス供給路、  ４０…第１ガス供給ポート、  ４１…第２ガス供給ポート、  ４２…上部電極板、  ４３…第１吸気孔、  ４４…第２吸気孔、  ４５…パッキン、  ４６…パッキン押え板、  ４７…第１シャーレ孔、  ４８…第２シャーレ孔、  ４９…第１シャーレ通し孔、  ５０…第２シャーレ通し孔、  ５１…上部電極端子、  ５２、５３…軸支台、  ５４…カムフォロワー軸、  ５５…カムフォロワー、  ５６…モータ、  ５７…モータ軸、  ５８…円弧カム板、  ５９…始端、  ６０…終端、  ６１…カム面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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