(57)【要約】      （修正有）【課題】試料ステージの動作精度の低下を事前に防ぐことができ、さらには試料ステージのメンテナンス時期を予測することが可能な方法を提供する。【解決手段】試料ステージ８を目標位置に移動させ、目標位置と試料ステージ８の位置との第１誤差を算出し、第１誤差をなくす方向に試料ステージ８を移動させるリトライ動作を実行し、目標位置と試料ステージ８の位置との第２誤差を算出し、第１誤差と第２誤差から誤差指標値を算出し、誤差指標値が管理範囲内にあるかどうかを決定し、第１誤差の数値を第２誤差の数値で置き換えて第１誤差を更新し、リトライ動作、第２誤差の算出、誤差指標値の算出、誤差指標値が管理範囲内にあるかどうかの決定、および第１誤差の更新を少なくとも１回繰り返し、誤差指標値が管理範囲外であった回数がしきい値に達した場合に、警報を発する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
走査型電子顕微鏡の試料ステージの動作を検査する方法であって、
前記試料ステージを目標位置に移動させ、
前記目標位置と前記試料ステージの位置との第１誤差を算出し、
前記第１誤差をなくす方向に前記試料ステージを移動させるリトライ動作を実行し、
前記目標位置と前記試料ステージの位置との第２誤差を算出し、
前記第１誤差と前記第２誤差から誤差指標値を算出し、
前記誤差指標値が管理範囲内にあるかどうかを決定し、
前記第１誤差の数値を前記第２誤差の数値で置き換えて前記第１誤差を更新し、
前記リトライ動作、前記第２誤差の算出、前記誤差指標値の算出、前記誤差指標値が管理範囲内にあるかどうかの決定、および前記第１誤差の更新を少なくとも１回繰り返し、
前記誤差指標値が管理範囲外であった回数がしきい値に達した場合に、警報を発することを特徴とする方法。
【請求項２】
前記リトライ動作が繰り返された回数が設定値を超えた場合に、警報を発することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記しきい値は前記設定値よりも小さいことを特徴とする請求項２に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、サブミクロン領域の微細パターンの検査をなすパターン検査装置に適用できる走査型電子顕微鏡に使用される試料ステージの動作を検査する方法に関し、特に試料ステージのメンテナンス時期を検出するための方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの微細化が進み、走査型電子顕微鏡は半導体検査に常用されるようになった。近年パターンサイズはますます微細化され、それと共に、パターン検査装置に対する検査精度の要求も年々厳しくなって来ている。パターン検査装置では電子光学鏡筒より一次電子線をウェーハへ照射し、得られた二次電子信号を画像化している。パターン検査装置は、そのウェーハの画像と基準画像データやＣＡＤデータとの寸法比較、形状比較等でパターンが正しく形成されたことを評価している。
【０００３】
ナノメータオーダーで微細に形成されたパターンを検査するために、ウェーハ及び電子光学鏡筒下部に設けられた電極に高電圧を印加することで、高分解能な画像を得るように構成されている。
【０００４】
走査型電子顕微鏡に用いられる試料ステージは、高真空の条件下でウェーハを検査位置へ移動させるために使用される。一般に試料ステージは、ボールねじ機構とリニアガイドから構成される。ボールねじ機構の駆動源にはモーターが使用される。
【０００５】
試料ステージは、例えば１ｍｍ２の面積を検査するために１００μｍ程度の短距離移動を繰り返し行う。検査ショットが特定されているため、ボールねじ機構とリニアガイドのある特定部分が摩耗しやすい。また、距離移動が非常に短いため潤滑剤を摺動部に均一になじませることが難しい。結果として、試料ステージの動作精度の低下が懸念される。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
そこで、本発明は、試料ステージの動作を検査することで、試料ステージの動作精度の低下を事前に防ぐことができ、さらには試料ステージのメンテナンス時期を予測することが可能な方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様は、走査型電子顕微鏡の試料ステージの動作を検査する方法であって、前記試料ステージを目標位置に移動させ、前記目標位置と前記試料ステージの位置との第１誤差を算出し、前記第１誤差をなくす方向に前記試料ステージを移動させるリトライ動作を実行し、前記目標位置と前記試料ステージの位置との第２誤差を算出し、前記第１誤差と前記第２誤差から誤差指標値を算出し、前記誤差指標値が管理範囲内にあるかどうかを決定し、前記第１誤差の数値を前記第２誤差の数値で置き換えて前記第１誤差を更新し、前記リトライ動作、前記第２誤差の算出、前記誤差指標値の算出、前記誤差指標値が管理範囲内にあるかどうかの決定、および前記第１誤差の更新を少なくとも１回繰り返し、前記誤差指標値が管理範囲外であった回数がしきい値に達した場合に、警報を発することを特徴とする。
【０００８】
前記リトライ動作が繰り返された回数が設定値を超えた場合に、警報を発することを特徴とする。
前記しきい値は前記設定値よりも小さいことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
上述した本発明に係る方法は、試料ステージの動作精度の低下を検出し、試料の画像生成に支障が出てしまうことを未然に防ぐことができると共に、試料ステージのメンテナンスの時期を事前に検出することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】画像生成装置の一実施形態を示す模式図である。
【図２】試料ステージを備えたステージシステムを模式的に示す平面図である。
【図３】試料ステージの動作を検査する方法の一実施形態を示すフローチャートである。
【図４】ステージシステムのメンテナンス直後のリトライ動作回数の分布を示すグラフである。
【図５】ステージシステムのメンテナンスが実施されてから数年が経過したときのリトライ動作回数の分布を示すグラフである。
【図６】ステージシステムのメンテナンスが実施されてから数年が経過したときの、目標位置と試料ステージの位置との誤差の一例を示すグラフである。
【図７】コンピュータの構成を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
図１は、画像生成装置１００の一実施形態を示す模式図である。図１に示すように、画像生成装置１００は、電子光学鏡筒１及び試料チャンバー２を備えている。電子光学鏡筒１は、１次電子からなる荷電粒子線を発する電子銃３と、電子銃３から放出された荷電粒子線を集束する集束レンズ４と、荷電粒子線をＸ方向，Ｙ方向に偏向する偏向器７と、荷電粒子線を試料であるウェーハ６上にフォーカスさせる対物レンズ５を有する。
【００１２】
電子銃３、集束レンズ４、二次電子検出器９、偏向器７、対物レンズ５は、この順に配列している。電子光学鏡筒１の下端は、試料チャンバー２に台座１０を介して連結されている。試料チャンバー２は対物レンズ５の下方に配置されている。試料チャンバー２内には試料ステージ８が配置されている。この試料ステージ８は、水平面内で互いに垂直な第１方向と第２方向に移動可能である。
【００１３】
ウェーハ６は、ウェーハ搬送装置２０によって試料チャンバー２に搬出入されるようになっている。試料ステージ８は、静電チャック１３を備えており、ウェーハ６は静電チャック１３により試料ステージ８に固定される。
【００１４】
電子銃３から放出された荷電粒子線は集束レンズ４で集束された後に、偏向器７で偏向されつつ対物レンズ５により集束されてウェーハ６の表面に照射される。ウェーハ６に荷電粒子の一次電子が照射されると、ウェーハ６からは二次電子が放出される。二次電子は二次電子検出器９により検出される。
【００１５】
集束レンズ４及び対物レンズ５はレンズ制御装置２２に接続され、このレンズ制御装置２２はコンピュータ２３に接続されている。二次電子検出器９は画像化装置１９に接続されている。画像化装置１９は二次電子検出器９の出力信号を画像に変換するように構成される。この画像化装置１９も同様にコンピュータ２３に接続されている。偏向器７は、偏向制御装置１６に接続されており、偏向器７の偏向動作は偏向制御装置１６によって制御される。この偏向制御装置１６も同様にコンピュータ２３に接続されている。
【００１６】
試料ステージ８の位置は試料ステージ制御装置１５によって制御される。この試料ステージ制御装置１５はコンピュータ２３に接続されている。ウェーハ搬送装置２０も同様にコンピュータ２３に接続されている。レンズ制御装置２２、画像化装置１９、偏向制御装置１６、試料ステージ制御装置１５、ウェーハ搬送装置２０の動作はコンピュータ２３によって制御される。
【００１７】
レーザ干渉計１２は、試料ステージ８の変位を測定するための変位測定器である。レーザ干渉計１２は、試料チャンバー２内に配置されている。レーザ干渉計１２は、レーザ光線を発するレーザ１２ａと、対物レンズ５に近接して配置されたリファレンスミラー１２ｂと、試料ステージ８に固定された計測ミラー１２ｃを有している。
【００１８】
本実施形態では、リファレンスミラー１２ｂは、電子光学鏡筒１の下端に固定された、剛体からなる台座１０に設置されている。台座１０は、試料チャンバー２内に位置する露出面を有しており、リファレンスミラー１２ｂは、この台座１０の露出面に固定されている。計測ミラー１２ｃは試料であるウェーハ６および試料ステージ８と一体に移動し、レーザ１２ａから発せられたレーザ光線をウェーハ表面と同じ高さで受けることができる位置に取り付けられている。レーザ干渉計１２は、ステージ位置計測装置１４に接続されている。ステージ位置計測装置１４は、コンピュータ２３及び偏向制御装置１６に接続されている。
【００１９】
ピクセルサイズ、スキャンサイズ、及びスキャン速度などの偏向設定値は、コンピュータ２３から偏向制御装置１６に送られる。偏向制御装置１６は、偏向器７への偏向動作信号を生成するように構成されている。偏向器７は、偏向動作信号に従って動作し、荷電粒子線を偏向させる。
【００２０】
図２は試料ステージ８を備えたステージシステムを模式的に示す平面図である。図２に示すように、ステージシステムは、静電チャック１３を備えた試料ステージ８と、試料ステージ８を第１方向に移動させる第１ステージ移動装置３１と、試料ステージ８を第２方向に移動させる第２ステージ移動装置３２と、試料ステージ８の移動を上記第１方向にガイドする第１リニアガイド３５と、試料ステージ８の移動を上記第２方向にガイドする第２リニアガイド３６と、試料ステージ８の上記第１方向への変位を測定するための第１変位測定器としての上述したレーザ干渉計１２と、試料ステージ８の上記第２方向への変位を測定するための第２変位測定器としてのレーザ干渉計２４とを備えている。
【００２１】
試料ステージ８、第１リニアガイド３５、第２リニアガイド３６、レーザ干渉計１２、およびレーザ干渉計２４は、試料チャンバー２内に配置されている。第１リニアガイド３５は第１方向に延び、第２リニアガイド３６は第２方向に延びている。本明細書では、第１方向および第２方向は、水平面内で互いに垂直な方向と定義される。第１方向および第２方向は、図２に示す実施形態には限定されない。例えば、図２示す第１方向および第２方向を互いに置き換えてもよい。
【００２２】
レーザ干渉計１２のリファレンスミラー１２ｂは、図１に示す台座１０に固定されており、レーザ干渉計１２の計測ミラー１２ｃは試料ステージ８に固定されている。レーザ干渉計２４は、レーザ干渉計１２と同じ構成を有している。すなわち、レーザ干渉計２４は、レーザ光線を発するレーザ２４ａと、図１に示す対物レンズ５に近接して配置されたリファレンスミラー２４ｂと、試料ステージ８に固定された計測ミラー２４ｃを有している。リファレンスミラー２４ｂは、台座１０（図１参照）に設置されている。台座１０は、試料チャンバー２内に位置する露出面を有しており、リファレンスミラー２４ｂは、この台座１０の露出面に固定されている。計測ミラー２４ｃは試料であるウェーハ６および試料ステージ８と一体に移動し、レーザ２４ａから発せられたレーザ光線をウェーハ表面と同じ高さで受けることができる位置に取り付けられている。
【００２３】
レーザ干渉計１２は、リファレンスミラー１２ｂに対する計測ミラー１２ｃの変位を測定することにより、試料ステージ８の第１方向への変位を測定するように構成される。同様に、レーザ干渉計２４は、リファレンスミラー２４ｂに対する計測ミラー２４ｃの変位を測定することにより、試料ステージ８の第２方向への変位を測定するように構成される。
【００２４】
レーザ干渉計１２は、ステージ位置計測装置１４に接続されている。ステージ位置計測装置１４は、レーザ干渉計１２から出力された変位信号に基づいて試料ステージ８の第１方向における位置を特定するように構成されている。同様に、レーザ干渉２４は、ステージ位置計測装置１４に接続されている。ステージ位置計測装置１４は、レーザ干渉２４から出力された変位信号に基づいて試料ステージ８の第２方向における位置を特定するように構成されている。ステージ位置計測装置１４は、コンピュータ２３に接続されている。ステージ位置計測装置１４によって特定された試料ステージ８の第１方向および第２方向における位置を示すステージ位置信号は、コンピュータ２３に送られる。
【００２５】
第１ステージ移動装置３１は、第１サーボモータ（例えばステッピングモータ）３１Ａと、第１ボールねじ機構３１Ｂとを備えている。第１サーボモータ３１Ａは第１ボールねじ機構３１Ｂのねじに連結されている。第１サーボモータ３１Ａが第１ボールねじ機構３１Ｂのねじを回転させると、試料ステージ８は第１方向に移動する。第１サーボモータ３１Ａは試料チャンバー２の外側に配置され、第１ボールねじ機構３１Ｂは試料チャンバー２の側壁を貫通して延びている。第１ボールねじ機構３１Ｂと試料チャンバー２の側壁との間の隙間は、図示しないシールで封止されている。
【００２６】
同様に、第２ステージ移動装置３２は、第２サーボモータ（例えばステッピングモータ）３２Ａと、第２ボールねじ機構３２Ｂとを備えている。第２サーボモータ３２Ａは第２ボールねじ機構３２Ｂのねじに連結されている。第２サーボモータ３２Ａが第２ボールねじ機構３２Ｂのねじを回転させると、試料ステージ８は第２方向に移動する。第２サーボモータ３２Ａは試料チャンバー２の外側に配置され、第２ボールねじ機構３２Ｂは試料チャンバー２の側壁を貫通して延びている。第２ボールねじ機構３２Ｂと試料チャンバー２の側壁との間の隙間は、図示しないシールで封止されている。
【００２７】
第１ステージ移動装置３１の第１サーボモータ３１Ａ、および第２ステージ移動装置３２の第２サーボモータ３２Ａは、試料ステージ制御装置１５に接続されている。試料ステージ制御装置１５は、第１サーボモータ３１Ａおよび第２サーボモータ３２Ａにそれぞれステージ移動信号（例えば、パルス信号）を送り、第１サーボモータ３１Ａおよび第２サーボモータ３２Ａはステージ移動信号に従って動作する。
【００２８】
試料ステージ制御装置１５およびステージ位置計測装置１４はコンピュータ２３に接続されている。コンピュータ２３は、試料ステージ８を目標位置に移動させるための第１方向用の距離指令値および第２方向用の距離指令値を試料ステージ制御装置１５に送る。試料ステージ制御装置１５は、これらの距離指令値に基づいて第１方向用のステージ移動信号（例えばパルス信号）および第２方向用のステージ移動信号（例えばパルス信号）を生成し、これらのステージ移動信号を第１ステージ移動装置３１の第１サーボモータ３１Ａおよび第２ステージ移動装置３２の第２サーボモータ３２Ａにそれぞれ送る。第１サーボモータ３１Ａおよび第２サーボモータ３２Ａはステージ移動信号に従って動作し、試料ステージ８を第１方向および第２方向に上記距離指令値に相当する距離だけ移動させる。
【００２９】
次に、試料ステージ８の動作を検査する方法について、図３に示すフローチャートを参照して説明する。コンピュータ２３は、図３に示すフローチャートに従って試料ステージ８の第１方向への動作を検査する。コンピュータ２３は、図３に示すフローチャートと同様のフローチャートに従って試料ステージ８の第２方向への動作も同時に検査する。試料ステージ８の第２方向への動作を検査するためのフローチャートは、図３に示すフローチャートと実質的に同じであるので、その重複する説明を省略する。
【００３０】
図３に示すように、ステップ１では、コンピュータ２３は、試料ステージ８の移動のリトライ動作回数Ｎを０に設定し、異常移動回数Ｔを０に設定する。リトライ動作とは、目標位置と試料ステージ８の位置との誤差を解消するために試料ステージ８を移動させる動作をいう。異常移動回数Ｔは、後述する誤差指標値が所定の管理範囲外にある回数をいう。ステップ２では、コンピュータ２３は、試料ステージ８を目標位置に移動させるための第１方向用の距離指令値を試料ステージ制御装置１５に送る。試料ステージ制御装置１５は距離指令値に基づいて生成したステージ移動信号を第１ステージ移動装置３１に送る。第１ステージ移動装置３１は試料ステージ８を上記距離指令値に相当する距離だけ第１方向に移動させる。
【００３１】
ステップ３では、コンピュータ２３は、第１方向における目標位置と試料ステージ８の位置との誤差（第１誤差）Ｅ１を算出する。試料ステージ８の第１方向における位置は、レーザ干渉計１２およびステージ位置計測装置１４によって特定される。ステップ４では、コンピュータ２３は、誤差Ｅ１が許容範囲内にあるかを判定する。許容範囲は予め設定された範囲であり、例えば−１μｍ〜１μｍである。誤差Ｅ１が許容範囲内にあれば、試料ステージ８の第１方向への動作の検査は終了する。
【００３２】
誤差Ｅ１が許容範囲外にある場合は、ステップ５において、コンピュータ２３は、誤差Ｅ１を０とするための距離指令値を生成し、この距離指令値を試料ステージ制御装置１５に送る。この距離指令値は誤差Ｅ１に相当する。試料ステージ制御装置１５は距離指令値に基づいてステージ移動信号を生成し、このステージ移動信号を第１ステージ移動装置３１に送る。第１ステージ移動装置３１は、試料ステージ８を誤差Ｅ１をなくす方向に、誤差Ｅ１に相当する距離だけ移動させるリトライ動作を実行する。
【００３３】
リトライ動作後、ステップ６では、コンピュータ２３は、第１方向における目標位置と試料ステージ８の位置との誤差（第２誤差）Ｅ２を算出する。ステップ７では、コンピュータ２３は、誤差Ｅ２が上記許容範囲内にあるかを判定する。誤差Ｅ２が許容範囲外であれば、ステップ８において、コンピュータ２３は、リトライ動作回数Ｎに１を加えて、リトライ動作回数Ｎを更新する。リトライ動作回数Ｎは、リトライ動作が繰り返された回数である。ステップ９では、更新されたリトライ動作回数Ｎが設定値よりも小さいかを判定する。設定値は予め選択された自然数であり、例えば、４である。
【００３４】
更新されたリトライ動作回数Ｎが設定値に達した場合は、ステップ１０において、コンピュータ２３は試料ステージ８の異常移動を示す警報を発する。更新されたリトライ動作回数Ｎが設定値よりも小さい場合は、ステップ１１において、コンピュータ２３は、誤差Ｅ１と誤差Ｅ２から誤差指標値Ｃを算出する。本実施形態では、誤差指標値Ｃは、誤差Ｅ１と誤差Ｅ２との差の絶対値を、誤差Ｅ１の絶対値で割り算して得られた値である。すなわち、誤差指標値Ｃは次の式で与えられる。
Ｃ＝｜Ｅ１−Ｅ２｜／｜Ｅ１｜        （１）
【００３５】
ステップ１２では、コンピュータ２３は、誤差指標値Ｃが予め定められた管理範囲内にあるかを判定する。一例では、管理範囲は、０．３〜１．５である。誤差指標値Ｃが管理範囲外である場合、ステップ１３において、コンピュータ２３は、異常移動回数Ｔに１を加えて、異常移動回数Ｔを更新する。ステップ１４では、コンピュータ２３は、誤差Ｅ１の数値を誤差Ｅ２の数値で置き換え、誤差Ｅ１を更新する。その後、処理フローはステップ５に戻る。上記ステップ１２において誤差指標値Ｃが管理範囲内にある場合、コンピュータ２３は、ステップ１３を実行せずに、上記ステップ１４を実行する。その後、処理フローはステップ５に戻る。
【００３６】
上述したステップ７において、誤差Ｅ２が許容範囲内にあれば、ステップ１５において、コンピュータ２３は、異常移動回数Ｔがしきい値以下であるかを判定する。しきい値は予め選択された自然数である。しきい値は、上記ステップ９の設定値よりも小さい自然数であり、例えば、１または２である。異常移動回数Ｔがしきい値以下であれば、試料ステージ８の第１方向への動作の検査は終了する。異常移動回数Ｔがしきい値よりも大きい場合は、ステップ１６において、コンピュータ２３は試料ステージ８の異常移動を示す警報を発する。
【００３７】
試料ステージ８の異常移動の原因としては、ボールねじ機構３１Ｂ，３２Ｂおよび／またはリニアガイド３５，３６の潤滑剤不足が挙げられる。異常移動回数Ｔは、誤差指標値Ｃが管理範囲外となっている状態で試料ステージ８が移動した回数を示す。上述した本実施形態によれば、異常移動回数Ｔがしきい値を超えたときに、コンピュータ２３は警報を発する。ユーザーはこの警報を認識することで、ステージシステムのメンテナンスの適切な時期を知ることができる。従って、本実施形態に係る方法は、試料ステージ８の動作精度の低下を検出し、試料の画像生成に支障が出てしまうことを未然に防ぐことができる。
【００３８】
警報が発せられることなく、第１方向および第２方向の両方の誤差が上記許容範囲内にあることを条件として、画像生成装置１００は試料ステージ８上のウェーハの画像を生成することが許容される。
【００３９】
図４は、ステージシステムのメンテナンス直後のリトライ動作回数Ｎの分布を示すグラフであり、図５はステージシステムのメンテナンスが実施されてから数年が経過したときのリトライ動作回数Ｎの分布を示すグラフである。図４のグラフと図５のグラフとの比較から、リトライ動作回数Ｎのピークが、１回から３回に変化していることが分かる。３回のリトライの割合が５０％を超えたときに、ステージシステムのメンテナンスを実施することが望ましい。
【００４０】
図６はステージシステムのメンテナンスが実施されてから数年が経過したときの、目標位置と試料ステージ８の位置との誤差の一例を示すグラフである。図６において縦軸は誤差を表し、横軸はリトライ動作回数を表している。リトライ動作回数が０のとき（すなわち試料ステージ８が１回だけ移動したとき）の第１方向の誤差は−２０００ｎｍであり、リトライ動作回数が１のときの移動では第１方向の誤差は１５００ｎｍであった。従って、上記式（１）によれば、リトライ動作回数が１のときの誤差指標値Ｃは１．７５である。管理範囲を０．３〜１．５としたとき、１．７５の誤差指標値Ｃは管理範囲外である。
【００４１】
リトライ動作回数が２のときの第１方向の誤差は１４５０ｎｍであった。従って、上記式（１）によれば、リトライ動作回数が２のときの誤差指標値Ｃは０．０３である。管理範囲を０．３〜１．５としたとき、０．０３の誤差指標値Ｃは管理範囲外である。従って、リトライ動作回数が２のときの異常移動回数Ｔは２となる。上述したしきい値を２に設定した場合、異常移動回数Ｔはしきい値に達するので、コンピュータ２３は警報を発する。
【００４２】
このように、本実施形態によれば、コンピュータ２３は誤差指標値Ｃを管理範囲と比較することにより、試料ステージ８の異常移動を検出することが可能となる。ユーザーはコンピュータ２３からの警報を認識することで、ステージシステムのメンテナンスの適切な時期を知ることができる。
【００４３】
図７は、コンピュータ２３の構成を示す模式図である。コンピュータ２３は、プログラムやデータなどが格納される記憶装置１１０と、記憶装置１１０に格納されているプログラムに従って演算を行うＣＰＵ（中央処理装置）などの処理装置１２０と、データ、プログラム、および各種情報を記憶装置１１０に入力するための入力装置１３０と、処理結果や処理されたデータを出力するための出力装置１４０と、インターネットなどのネットワークに接続するための通信装置１５０を備えている。
【００４４】
記憶装置１１０は、処理装置１２０がアクセス可能な主記憶装置１１１と、データおよびプログラムを格納する補助記憶装置１１２を備えている。主記憶装置１１１は、例えばランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）であり、補助記憶装置１１２は、ハードディスクドライブ（ＨＤＤ）またはソリッドステートドライブ（ＳＳＤ）などのストレージ装置である。
【００４５】
入力装置１３０は、キーボード、マウスを備えており、さらに、記録媒体からデータを読み込むための記録媒体読み込み装置１３２と、記録媒体が接続される記録媒体ポート１３４を備えている。記録媒体は、非一時的な有形物であるコンピュータ読み取り可能な記録媒体であり、例えば、光ディスク（例えば、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭ）や、半導体メモリー（例えば、ＵＳＢフラッシュドライブ、メモリーカード）である。記録媒体読み込み装置１３２の例としては、ＣＤドライブ、ＤＶＤドライブなどの光学ドライブや、カードリーダーが挙げられる。記録媒体ポート１３４の例としては、ＵＳＢ端子が挙げられる。記録媒体に電気的に格納されているプログラムおよび／またはデータは、入力装置１３０を介してコンピュータ２３に導入され、記憶装置１１０の補助記憶装置１１２に格納される。出力装置１４０は、ディスプレイ装置１４１、印刷装置１４２を備えている。
【００４６】
コンピュータ２３は、記憶装置１１０に電気的に格納されたプログラムに従って動作する。すなわち、コンピュータ２３は、図３に示すフローチャートに従って試料ステージ８の動作を検証する。フローチャートに記載の各ステップをコンピュータ２３に実行させるためのプログラムは、非一時的な有形物であるコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記録され、記録媒体を介してコンピュータ２３に提供される。または、プログラムは、インターネットなどの通信ネットワークを介してコンピュータ２３に提供されてもよい。
【００４７】
上述した実施形態は、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が本発明を実施できることを目的として記載されたものである。上記実施形態の種々の変形例は、当業者であれば当然になしうることであり、本発明の技術的思想は他の実施形態にも適用しうる。したがって、本発明は、記載された実施形態に限定されることはなく、特許請求の範囲によって定義される技術的思想に従った最も広い範囲に解釈されるものである。
【符号の説明】
【００４８】
１      電子光学鏡筒
２      試料チャンバー
３      電子銃
４      集束レンズ
５      対物レンズ
６      ウェーハ
７      偏向器
９      二次電子検出器
１０      台座
１２      レーザ干渉計
１３      静電チャック
１５      ステージ制御装置
１６      偏向制御装置
１９      画像化装置
２０      ウェーハ搬送装置
２２      レンズ制御装置
２３      コンピュータ
２４      レーザ干渉計
３１      第１ステージ移動装置
３２      第２ステージ移動装置
３５      第１リニアガイド
３６      第２リニアガイド
１００    画像生成装置
【図１】
2019008928.tif 000003
【図２】
2019008928.tif 000004
【図３】
2019008928.tif 000005
【図４】
2019008928.tif 000006
【図５】
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【図６】
2019008928.tif 000008
【図７】
2019008928.tif 000009