(57)【要約】【課題】化学増幅型レジストを備えたフォトマスク又はフォトマスクブランクスを収容するケースであって、収容されたフォトマスク又はフォトマスクブランクスに対して、窒素含有化合物による汚染等の悪影響を与えることのないケースを提供する。【解決手段】本発明のケース１１は、その内壁を構成するパーツの表面１７の一部または全部が高分子系材料からなり、フォトマスク又はフォトマスクブランクス２０が収容される前記ケースの内部空間Ｅに露呈するように、特定の有機化合物からなる部材１８が配置されている。前記部材が、エチレングリコール誘導体又はプロピレングリコール誘導体であることを特徴とする。【選択図】図２
2019008216.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学増幅型レジストを備えたフォトマスク又はフォトマスクブランクスを収容するケースであって、
前記ケースの内壁を構成するパーツの表面の一部または全部が高分子系材料からなり、
前記ケースの内部空間に露呈するように、特定の有機化合物からなる部材が配置され、
前記部材が、エチレングリコール誘導体又はプロピレングリコール誘導体であることを特徴とするケース。
【請求項２】
前記部材が、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、ポリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、から選択される１種又は２種以上を含むことを特徴とする請求項１に記載のケース。
【請求項３】
前記部材が、前記ケースと別体をなしていることを特徴とする請求項１又は２に記載のケース。
【請求項４】
前記部材が、交換可能とされていることを特徴とする請求項３に記載のケース。
【請求項５】
前記部材が、前記ケースと一体をなしていることを特徴とする請求項１又は２に記載のケース。
【請求項６】
前記部材が、前記高分子系材料と混在されていることを特徴とする請求項５に記載のケース。
【請求項７】
化学増幅型レジストを備えたフォトマスクまたはフォトマスクブランクスをケースに収容して保管あるいは搬送する際のケースの運用方法であって、
前記ケースとして請求項１乃至６のいずれか一項に記載のケースを用いることを特徴とするケースの運用方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光リソグラフィーで用いられる化学増幅型レジストを備えたフォトマスク又はその原料となる化学増幅型レジストを備えたフォトマスクブランクスを収容する、ケース及びその運用方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイス製造等におけるフォトリソグラフィ工程で用いられるフォトマスクを形成するため、フォトマスクブランクスが利用されている。フォトマスクブランクスは、ガラス基板の一方の主面に、被処理体をなす薄膜とレジスト膜とを順に重ねて配置したものからなる。フォトマスクブランクスに形成されるレジストとして、化学増幅型レジスト(Chemical-amplified Resist、CAR)が知られている。
【０００３】
化学増幅型レジストからなるレジスト膜（以下、化学増幅型レジスト膜とも呼ぶ）は、一般的に、極性変換基を導入した高分子化合物と、光酸発生剤の混合物を用いる。たとえば、露光部分がアルカリ水性現像液に溶解するように変化するポジ型レジストにおいては、アルカリ水溶性の高分子化合物の末端にある水酸基に酸分解性基を化学結合させ、光酸発生剤と混合してレジスト膜を形成する。
【０００４】
このような化学増幅型レジスト膜を露光させることにより酸を発生させ、加熱することにより酸が拡散、反応し、導入した酸分解性基を分裂させて元の水酸基に変換する。その後、アルカリ水性現像液を用いて現像することにより、ポジ型のレジストパターンを得る。レジスト中に発生した酸は、加熱することによって拡散し、多くの領域を可溶性に変質させる。このように、光に反応して自ら酸を発生させ、薬品への可溶性を増幅することにより、高感度なフォトリソグラフィを実現している。
【０００５】
しかし、化学増幅型レジスト膜は酸を触媒としてレジスト膜の溶解性を変化させるため、微量の塩基性物質の吸着によってパターン形状が大きく変化してしまう。また、酸性物質の混入によっても感度変化が生じる場合がある。このため、化学増幅型レジスト膜を備えたフォトマスクブランクスを保管あるいは輸送するために、樹脂製のケースにフォトマスクブランクスを収容すると、ケースを構成する樹脂から発生する無機酸性ガスや有機ガスによって、化学増幅型レジスト膜が化学的に変質してしまう虞があった。
【０００６】
特許文献１には、化学増幅型レジスト膜を備えたフォトマスクブランクスを保管あるいは輸送するための基板収納容器（容器とも呼ぶ。ケースに相当する。）から発生したガスのうち、窒素含有化合物に着目し、基板収納容器から放出される窒素含有化合物の影響を避けることができる基板収納容器が開示されている。
【０００７】
特許文献１の基板収納容器は、以下の（１）、（２）を満たすものと規定されている。
（１）容器が、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリアセタールから選ばれるいずれか１種を主成分とする分子中に窒素原子を含まないモノマーを重合して得られる高分子系材料からなること。
（２）該高分子系材料として、窒素含有物質を使用せずに製造し、かつ窒素含有物質を使用せずに成型することにより、１２０℃、１５分の条件で加熱したときに放出されるアウトガス成分中、パージ＆ トラップ法で吸着捕捉され、ＧＣ−ＭＳにて検出される窒素含有化合物の総量が、トルエン換算で１ｐｐｍ以下である、窒素含有化合物の放出量が低減された高分子系材料を用いたこと。
【０００８】
しかしながら、上記（１）、（２）を満たす材料を選定し、この材料を容器（ケース）に加工することは極めて困難であり、製造コストが嵩むという問題があった。そのため、フォトマスクブランクスを安価な方法で保管あるいは輸送することが可能な、ケースの開発が期待されていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特許第３９４４６９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、化学増幅型レジストを備えたフォトマスクブランクスまたはフォトマスクを収納して保管又は運搬する際に、収納されたフォトマスクブランクスまたはフォトマスクに対して、ケースを構成する樹脂から発生するガスによる汚染等の悪影響を防ぐことが可能な、ケース及びその運用方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は、上記問題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、化学増幅型レジストを備えたフォトマスクブランクス又はフォトマスクを収容して保管又は運搬するケースが、その内部空間に露呈するように、特定の有機化合物からなる部材を配置するだけで、化学増幅型レジストを備えたフォトマスクブランクス又はフォトマスクのレジスト特性を変化させないことを見出し、本発明をなすに至った。
【００１２】
すなわち、本発明は、下記のケース及びその運用方法を提供する。
本発明の請求項１に記載のケースは、化学増幅型レジストを備えたフォトマスク又はフォトマスクブランクスを収容するケースであって、前記ケースの内壁を構成するパーツの表面の一部または全部が高分子系材料からなり、前記ケースの内部空間に露呈するように、特定の有機化合物からなる部材が配置され、前記部材が、エチレングリコール誘導体又はプロピレングリコール誘導体であることを特徴とする。
本発明の請求項２に記載のケースは、請求項１において、前記部材が、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールブチルメチルエーテル、ポリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、から選択される１種又は２種以上を含むことを特徴とする。
本発明の請求項３に記載のケースは、請求項１又は２において、前記部材が、前記ケースと別体をなしていることを特徴とする。
本発明の請求項４に記載のケースは、請求項２において、前記部材が、交換可能とされていることを特徴とする。
本発明の請求項５に記載のケースは、請求項１又は２において、前記部材が、前記ケースと一体をなしていることを特徴とする。
本発明の請求項６に記載のケースは、請求項５において、前記部材が、前記高分子系材料と混在されていることを特徴とする。
本発明の請求項７に記載のケースの運用方法は、化学増幅型レジストを備えたフォトマスクまたはフォトマスクブランクスをケースに収容して保管あるいは搬送する際のケースの運用方法であって、前記ケースとして請求項１乃至６のいずれか一項に記載のケースを用いることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明に係るケースを用いることにより、すなわち、特定の有機化合物からなる部材がケースの内部空間に露呈するように配置されてなるケースを用いることにより、化学増幅型レジストを備えたフォトマスクブランクス又はフォトマスクの保管の際に、ケースを構成する樹脂から発生するガスによる汚染等の悪影響を防ぐことが可能となる。
特定の有機化合物からなる部材としては、エチレングリコール誘導体又はプロピレングリコール誘導体が好適である。このような有機化合物は、沸点が高い（１５０℃）ので、常温における反応は安定しており、取扱が容易である。また、このような有機化合物は、市販され安価であることも、運用コストの抑制に寄与する。
このため、本発明に係るケースによれば、特許文献１に記載されているような、特殊な条件を満たす材料（分子中に窒素原子を含まないモノマーを重合して得られる高分子系材料）を選定し、かつ、特殊な製法（窒素含有物質を使用せずに製造し、かつ窒素含有物質を使用せずに成型する方法）を用いて、この材料を容器（ケース）に加工するために製造コストが嵩むという問題が解消されるとともに、レジストパターンへの影響を避けることができる。
【００１４】
本発明に係るケースの運用方法は、化学増幅型レジストを備えたフォトマスクまたはフォトマスクブランクスをケースに収容して保管あるいは搬送する際のケースの運用方法であって、前記ケースとして上述したケースを用いる。これにより、ケースの内部空間に露呈するように配置された、特定の有機化合物からなる部材を備えるだけで、化学増幅型レジストを備えたフォトマスクブランクス又はフォトマスクに対する、ケースを構成する樹脂から発生するガスによる汚染等の悪影響を防ぐことが可能となる。
フォトマスクまたはフォトマスクブランクスをケースに収容して保管あるいは搬送する際には、特定の有機化合物からなる部材を導入または交換することにより、様々な保管条件あるいは搬送条件に柔軟に対応可能な、ケースの運用方法が構築できる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明に係るケースの一例を示す分解斜視図。
【図２】図１に示すケースの断面図。
【図３】試料Ａのケースにおけるクロマト分析結果を示すグラフ。
【図４】試料Ａのケースにおけるクロマト分析結果を示す表。
【図５】試料Ｂのケースにおけるクロマト分析結果を示すグラフ。
【図６】試料Ｂのケースにおけるクロマト分析結果を示す表。
【図７】試料Ａ及び試料Ｂのケースに保管したレジストの断面形状を示すＳＥＭ写真。
【図８】試料Ｂのケースに、特定の有機化合物からなる部材を同梱して保管したレジストの断面形状を示すＳＥＭ写真。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明を適用した一実施形態であるケース及びその運用方法について、図面を参照して説明する。なお、以下に示す実施形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。また、以下の説明で用いる図面は、本発明の特徴をわかりやすくするために、便宜上、要部となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。
【００１７】
図１は、本発明のケースの一例を示す分解斜視図である。また、図２は、図１に示すケースの断面図である。
ケース１０は、本体部（本体）１１と、下フタ１２（押さえ）と、上フタ（蓋）１３と、ブランクス支持体（中子）１４と、を含むパーツを備えている。本体部１１は、例えば矩形の筒状体であり、一方の開放端側に下フタ１２が係合され、また、他方の開放端側に上フタ１３が係合される。本体部１１に下フタ１２と上フタ１３とを係合させることで、ケース１０の内側に気密な内部空間Ｅが形成される。
【００１８】
図１では、本体部（本体）１１と下フタ１２（押さえ）が別体を成す構成例を示しているが、本体部（本体）１１と下フタ１２（押さえ）とは分離されず、一体を成す構成としてもよい。
以下では、符号２０がフォトマスクブランクスとして説明するが、フォトマスクブランクスに代えてフォトマスクとしてもよい。
【００１９】
ブランクス支持体１４は、ケース１０の内部空間Ｅ内に収容される。ブランクス支持体１４は、例えば矩形の筒状体であり、一対の内面に、それぞれ複数の挿入溝１５，１５…が形成されている。この挿入溝１５は、上フタ１３から下フタ１２に向けて延び、上フタ１３側では断面方向が開いており、下フタ１２側では断面方向が閉じられている。
【００２０】
このように向かい合う一対の挿入溝１５，１５の間に、フォトマスクブランクス２０の外縁部を挿入することにより、フォトマスクブランクス２０を収容することができる。すなわち、ケース１０の内部空間Ｅ内に収容されるブランクス支持体１４は、複数枚のフォトマスクブランクス２０を支持することができる。
【００２１】
フォトマスクブランクス２０は、ガラス基板２１の一面に化学増幅型レジスト層２２を形成したものからなる。こうしたフォトマスクブランクス２０を運搬する際には、ブランクス支持体１４の向かい合う一対の挿入溝１５，１５の間に１枚づつ挿入し、更にブランクス支持体１４をケース１０の内部空間Ｅ内に収容して、ケース１０ごと運搬する。
なお、ケース１０を構成するパーツとして、更に、本体部１１、下フタ１２、および上フタ１３を互いに係着して一体化させる係止具などを備えていてもよい。
【００２２】
図２に示すように、ケース１０の内壁を構成するパーツの表面の一部または全部が高分子系材料からなる。ここで、高分子系材料としては、低ガス揮発性部材が好ましく、たとえば、アクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）を主成分とする樹脂や、ポリプロピレン（ＰＰ）を主成分とする樹脂、等が挙げられる。
【００２３】
ここで、低ガス揮発性部材１８としては、キャリアガスとして窒素を用いたガスクロマトグラフィー質量分析法により観測される揮発成分のうち、酢酸、蟻酸、塩素および二酸化窒素からなるガス成分の総量が１６００μｇ／ｇ以上である比較部材に対して、ガス成分の総量が１３．９％以下とされた部材が好適である。
【００２４】
これら酢酸、蟻酸、塩素および二酸化窒素からなるガス成分は、ブランクス支持体１４に収容したフォトマスクブランクス２０の化学増幅型レジスト層２２に作用して、化学増幅型レジスト層２２の感度を低下させるものである。よって、これらのガス成分の発生の少ない低ガス揮発性部材（部材）１８を、フォトマスクブランクス２０に対して露出する、本体部１１、下フタ１２、上フタ１３のうち内部空間Ｅに臨む内壁１６、および内部空間Ｅに収容されるブランクス支持体１４の少なくとも表面１７に形成することで、フォトマスクブランクス２０に形成された化学増幅型レジスト層２２の感度低下を抑制できる。
【００２５】
上述したＡＢＳ、ＰＰ等の樹脂を、ケース１０の内壁を構成するパーツである、本体部１１、下フタ１２、上フタ１３のうち内部空間Ｅに露呈する内壁１６、および内部空間に収容されるブランクス支持体１４の少なくとも表面１７に形成することにより、化学増幅型レジスト２２の感度低下が抑制される。
【００２６】
なお、ケース１０を構成するパーツ、すなわち、本体部１１、下フタ１２、上フタ１３、ブランクス支持体１４のそれぞれの肉厚方向の全域、つまり、これらパーツ全体を高分子系材料によって形成することもできる。
【００２７】
また、ケース１０を構成するパーツ、すなわち、本体部１１、下フタ１２、上フタ１３、ブランクス支持体１４のうち、任意のパーツだけを選択的に、高分子系材料で形成してもよい。
【００２８】
本発明においては、ケース１０の内部空間Ｅに露呈するように、特定の有機化合物からなる部材１８が配置されている。図２の場合は、ケース１０を構成する本体部１１、下フタ１２、上フタ１３のうち、内部空間Ｅに露呈する内壁１６、および、内部空間Ｅに収容されるブランクス支持体１４の少なくとも表面１７に、特定の有機化合物からなる部材１８が配置された構成例である。個々のブランクス支持体１４から見て、特定の有機化合物からなる部材１８によって囲まれているように配置する構成が最も好ましいが、本発明はこの構成に限定されるものではない。たとえば、下フタ１２や上フタ１３のうち、内部空間Ｅに露呈する内壁１６にのみ、特定の有機化合物からなる部材１８を配置しても、本発明は有効である。
【００２９】
図２には、本体部１１、下フタ１２、上フタ１３のうち、内部空間Ｅに露呈する内壁１６、および、内部空間Ｅに収容されるブランクス支持体１４の表面１７を全域に亘って、特定の有機化合物からなる部材１８が覆う構成例を示しているが、この構成に限定されるものではない。特定の有機化合物からなる部材１８が、たとえば、ストライプ状やメッシュ状に覆うように構成されていてもよい。すなわち、特定の有機化合物からなる部材１８が覆わない領域が、本体部１１、下フタ１２、上フタ１３のうち、内部空間Ｅに露呈する内壁１６、および、内部空間Ｅに収容されるブランクス支持体１４の表面１７に存在する構成としてもよい。
【００３０】
特定の有機化合物からなる部材１８としては、エチレングリコール誘導体またはプロピレングリコール誘導体が挙げられる。中でも、水溶性であり、かつ、沸点が１５０℃以上であるものが好ましい。この条件を満たすものとしては、たとえば、表１に記載した１２種類、から選択される１種又は２種以上を含むものが好適である。
【００３１】
【表１】
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【００３２】
特定の有機化合物からなる部材１８が、上述したジエチレングリコールモノブチルエーテル等から選択される１種又は２種以上を含むものとすることにより、収納されたフォトマスクブランクスまたはフォトマスクに対して、ケースを構成する樹脂から発生するガスによる汚染等の悪影響を防ぐことができる。ここで、ケースを構成する樹脂から発生するガスによる汚染等の悪影響とは、フォトマスクブランクスまたはフォトマスク２０に形成された化学増幅型レジスト層２２の感度低下を意味する。
【００３３】
なお、特定の有機化合物からなる部材１８が、ケース１０を構成するパーツ、すなわち、本体部１１、下フタ１２、上フタ１３、ブランクス支持体１４と別体をなすように、設けることもできる。これにより、特定の有機化合物からなる部材１８は、個々のパーツに限定されず、パーツに沿わせたり、あるいはパーツとは独立して、ケース１０の内部空間Ｅに配置することが可能となり、配置の自由度が向上する。特に、特定の有機化合物からなる部材１８を従来のケースの内部空間Ｅに追加して配置するだけで、本発明の効果が実現できる。
【００３４】
また、特定の有機化合物からなる部材１８が、ケース１０を構成するパーツ、すなわち、本体部１１、下フタ１２、上フタ１３、ブランクス支持体１４と別体をなすように、設けることにより、前記部材は交換可能となる。つまり、このような構成のケースは、フォトマスクまたはフォトマスクブランクスをケースに収容して保管あるいは搬送する際に、特定の有機化合物からなる部材の全部あるいは一部を、新たに導入したり、または交換することにより、様々な保管条件あるいは搬送条件に柔軟に対応できる。
【００３５】
また、特定の有機化合物からなる部材１８が、ケース１０を構成するパーツ、すなわち、本体部１１、下フタ１２、上フタ１３、ブランクス支持体１４と一体をなすように、設けることもできる。ここで、「一体」とは、ケース１０を構成するパーツ、すなわち、本体部１１、下フタ１２、上フタ１３、ブランクス支持体１４において、ケース１０の内部空間Ｅに露呈する部位の全部あるいは一部に、特定の有機化合物からなる部材１８が、被服（コーティング）された構成や、接着剤等により付着（貼着）された形態を意味する。これにより、特定の有機化合物からなる部材１８を従来のケースの内部空間Ｅに追加して配置するだけで、本発明の効果が実現できる。
【００３６】
また、上記「一体」の他の構成として、特定の有機化合物からなる部材１８が、上述した高分子系材料に混在する（混ぜ合わせて含有されている）形態が挙げられる。これにより、特定の有機化合物からなる部材１８を設けるために、特定の設置スペースが不要となる。すなわち、従来のケースに代えて、本発明のケースを採用するだけで、本発明の作用・効果が得られる。つまり、ケースやこれを構成する個々のパーツについて一切の設計変更が不要となる。
【００３７】
本発明に係るケースの運用方法は、化学増幅型レジストを備えたフォトマスクまたはフォトマスクブランクスをケースに収容して保管あるいは搬送する際のケースの運用方法であって、前記ケースとして上述したケースを用いる。
【００３８】
これにより、ケースの内部空間に露呈するように配置された、特定の有機化合物からなる部材を備えるだけで、化学増幅型レジストを備えたフォトマスクブランクス又はフォトマスクに対する、ケースを構成する樹脂から発生するガスによる汚染等の悪影響を防ぐことが可能となる。
【００３９】
フォトマスクまたはフォトマスクブランクスをケースに収容して保管あるいは搬送する際には、特定の有機化合物からなる部材を導入または交換することにより、様々な保管条件あるいは搬送条件に柔軟に対応できる、ケースの運用方法が構築できる。具体的な運用方法としては、たとえば、図２に示されるブランク支持体１４の高分子系材料に、特定の有機化合物を導入したものが例示される。
【００４０】
上述したように、本発明は特定の有機化合物からなる部材１８を採用することにより、フォトマスクまたはフォトマスクブランクス２０に形成された化学増幅型レジスト層２２の感度低下を抑制することができるので、レジストパターンへの影響を避けることが可能なケースをもたらす。
【００４１】
また、本発明のケース１０によれば、特定の有機化合物からなる部材１８を備えるだけで、すなわち、特許文献１に記載されているような、特殊な条件を満たす材料（分子中に窒素原子を含まないモノマーを重合して得られる高分子系材料）を選定し、かつ、特殊な製法（窒素含有物質を使用せずに製造し、かつ窒素含有物質を使用せずに成型する方法）を用いて、この材料を容器（ケース）に加工するために製造コストが嵩むという問題も解消される。
【００４２】
そして、本発明のケース１０をフォトマスクまたはフォトマスクブランクス２０の保管あるいは搬送に用いれば、ケース１０のパーツから生じるガス成分の発生が抑制されるので、保管中あるいは搬送中にフォトマスクまたはフォトマスクブランクス２０に形成された化学増幅型レジスト層２２の感度低下を防止できる。これにより、フォトマスクまたはフォトマスクブランクス２０を劣化させずに、保管あるいは搬送することが可能なケースの運用方法に、本発明は寄与する。
【００４３】
以上、本発明の実施形態を図面を参照して説明したが、これらの各実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら各実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、追加、ないし変更を行うことができる。これら実施形態やその変形例は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
【実施例】
【００４４】
以下の分析方法により、本発明の効果を検証した。
（試料Ａ、Ｂの相違点）
本発明のケースを構成する樹脂試料（試料Ａ）と、従来のケースを構成する樹脂試料（試料Ｂ）をそれぞれ用意した。試料Ａは「ジエチレングリコールモノブチルエーテル」を含む点のみ試料Ｂと異なり、その他の点（基本となる樹脂）においては試料Ａと試料Ｂは同一である。
【００４５】
（試料の前処理）
ケース上部に２箇所の穴を開け、ガス捕集バックに入れて密閉とした。５０℃のオーブン中で空気を通気しながら以下の条件で加熱し、ケース内部ガスを吸着剤に捕集した。試料Ａと試料Ｂについて、同様の処理〜捕集を行った。加熱条件を表２に示す。
【００４６】
【表２】
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【００４７】
（熱脱離ＧＣ／ＭＳ測定）
前処理により捕集した吸着管について熱脱離−ＧＭ／ＭＳ測定を行った。
熱脱離装置としてはMarker製のTD-100を、ガスクロマトグラフィー質量分析装置（GM/MS装置）としてはAgilent製の7890A+5975Cを、それぞれ用いた。試料Ａと試料Ｂから揮発するガスをそれぞれ採取し、ガスの組成を検出するとともに、各成分の濃度を測定した。キャリアガスはＨｅガスを用いた。分析条件を表３に示す。ここで、ＴＩＣとは「Total Ion Current」であり、ｍ／ｚは「イオンの質量／イオンの電荷数」である。
【００４８】
【表３】
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【００４９】
図３および図４は順に、試料Ａのケースにおけるクロマト分析結果を示すグラフと表である。同様に、図５および図６は順に、試料Ｂのケースにおけるクロマト分析結果を示すグラフと表である。図３〜６より、以下の点が明らかとなった。
（Ａ１）試料Ａにおいては、Ｃ１２ピークとＣ１５ピークとの間に位置し、かつ、Ｃ１２ピーク及びＣ１５ピークより強い信号のピークが観測された。この強い信号のピークは、「２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール」に起因するものである。
（Ａ２）試料Ｂにおいては、Ｃ１２ピークとＣ１５ピークとの間に位置し、かつ、Ｃ１２ピーク及びＣ１５ピークより強い信号のピークが観測されない。
以上より、クロマト分析を行うことにより、本発明に係るケースは明確に特定できることが確認された。
【００５０】
（検証１）
化学増幅型レジスト（FUJI FILM社製FEP171）をクロムバイナリー膜に３０００Åの膜厚で塗布し、１４０℃、１５〜３０分相当のホットプレートベーキングを行った基板を、上述した試料Ａと試料Ｂのケースに入れた。化学増幅型レジスト塗布ブランクスの保管、出荷時と同等の梱包を行い、クリーンルーム内で３ヵ月間、常温保管した後、化学増幅型レジストの感度比較を行った。
また、電子ビーム露光機（エリオニクス社製ELS-S50）を用い、５０ｋVの加速電圧にて描画した後、現像液（TMAH、２．３８％）でパドル現像を行い、ＳＥＭで断面形状を観測した。図７は、レジストの断面形状を示すＳＥＭ写真であり、（ａ）は試料Ａのケースに保管した場合、（ｂ）は試料Ｂのケースに保管した場合、をそれぞれ示している。
【００５１】
化学増幅型レジストの感度比較、及び、レジストの断面形状を示すＳＥＭ写真より、以下の点が明らかとなった。
（Ｂ１）試料Ａのケースに保管した場合は、レジストの断面形状に変化は無く、凸部の側面は略垂直な形状が保持されていた［図７（ａ）］。
（Ｂ２）試料Ｂのケースに保管した場合は、レジストの断面形状が変化しており、凸部の側面は傾斜した形状となっていた［図７（ａ）］。
（Ｂ３）試料Ａのケースに保管したレジストには、感度の低下は観測されず、通常の現像条件にて現像することができた。
（Ｂ４）試料Ｂのケースに保管したレジストには、感度の低下が観測された。通常の現像条件にて現像することができなかった。
以上の結果から、試料Ａのケースは、化学増幅型レジスト層の感度を維持したまま、フォトマスクブランクス２０の収納、輸送が可能であることが確認された。
【００５２】
（検証２）
試料Ｂのケース内に、「ジエチレングリコールモノブチルエーテル」の原液を、純水で１０００倍に薄めた液を、クリーンルーム仕様の雑巾（ソリブ：クラレクラフレックス社製）に浸漬したものを同梱した。他の条件は上述した検証１と同様の工程を行い、化学増幅型レジスト（FUJI FILM社製FEP171）の感度評価を行った。すなわち、化学増幅型レジスト塗布ブランクスの保管、出荷時と同等の梱包を行い、クリーンルーム内で３ヵ月間、常温保管した後、化学増幅型レジストの感度比較を行った。
また、検証１と同様に、電子ビーム露光機（エリオニクス社製ELS-S50）を用い、５０ｋVの加速電圧にて描画した後、現像液（TMAH、２．３８％）でパドル現像を行い、ＳＥＭで断面形状を観測した。図８は、レジストの断面形状を示すＳＥＭ写真である。
【００５３】
化学増幅型レジストの感度、及び、レジストの断面形状を示すＳＥＭ写真より、以下の点が明らかとなった。
（Ｃ１）この場合、レジストの断面形状に変化は無く、凸部の側面は略垂直な形状が保持されていた［図８］。
（Ｃ２）この場合のレジストには、感度の低下は観測されず、通常の現像条件にて現像することができた。
以上の結果から、試料Ｂのケース内に、「ジエチレングリコールモノブチルエーテル」の原液を、純水で１０００倍に薄めた液をソリブに浸漬したものを同梱することにより、試料Ｂのケースであっても、化学増幅型レジスト層の感度を維持したまま、フォトマスクブランクス２０の収納、輸送が可能であることが確認された。
【符号の説明】
【００５４】
Ｅ  内部空間、１０  ケース、１１  本体部（本体）、１２  下フタ（押さえ）、１３  上フタ（蓋）、１４  ブランクス支持体（中子）、１７  表面、１８  特定の有機化合物からなる部材、２０  フォトマスクブランクス又はフォトマスク、２２  化学増幅型レジスト層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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