(57)【要約】      （修正有）【課題】多重基板上に配置し、かつ互いに取り付けた多重フィルタを使用する光学フィルタは、機械的耐久性に劣る。【解決手段】光学フィルタはモノリシック基板を有することができる。光学フィルタはモノリシック基板における第１領域上に堆積した第１成分フィルタ１３０−１を有することができる。第１成分フィルタ近赤外線（ＮＩＲ）帯域通過フィルタとすることができる。光学フィルタはモノリシック基板上の第２領域に堆積した第２成分フィルタ１３０−２を有することができる。第２成分フィルタは赤-緑-青帯域通過フィルタとすることができる。第１成分フィルタと第２成分フィルタとの間の離隔は、約５０マイクロメートル（μｍ）未満とすることができる。【選択図】図１−１
2019133137.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学フィルタにおいて、
モノリシック基板と、
前記モノリシック基板の第１領域上に配置した第１成分フィルタであって、近赤外（ＮＩＲ）帯域通過フィルタをなす、該第１成分フィルタと、及び
前記モノリシック基板の第２領域上に配置した第２成分フィルタであって、赤-緑-青（ＲＧＢ）帯域通過フィルタをなし、前記第１成分フィルタと前記第２成分フィルタとの間における離隔は約５０マイクロメートル（μｍ）未満である、該第２成分フィルタと、
を備えている、光学フィルタ。
【請求項２】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、さらに、
前記光学フィルタの遷移ゾーンに配置した吸収体であって、前記遷移ゾーンは前記第１成分フィルタ及び前記第２成分フィルタの端縁に位置する、該吸収体を備えている、光学フィルタ。
【請求項３】
請求項２記載の光学フィルタにおいて、前記第１成分フィルタ及び前記第２成分フィルタは、前記吸収体と前記モノリシック基板との間に配置されている、光学フィルタ。
【請求項４】
請求項２記載の光学フィルタにおいて、前記吸収体は、前記第１成分フィルタと前記第２成分フィルタとの間に配置されている、光学フィルタ。
【請求項５】
請求項２記載の光学フィルタにおいて、前記吸収体は、前記第１成分フィルタと前記モノリシック基板との間、及び前記第２成分フィルタと前記モノリシック基板との間に配置されている、光学フィルタ。
【請求項６】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、さらに、
前記モノリシック基板の表面上に配置された反射防止コーティングであって、この配置は、前記モノリシック基板が、前記反射防止コーティングと前記第１成分フィルタとの間、及び前記反射防止コーティングと前記第２成分フィルタとの間に配置されるよう行われるものである、該反射防止コーティングを備える、光学フィルタ。
【請求項７】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記モノリシック基板は、ガラス基板又はシリカ基板である、光学フィルタ。
【請求項８】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記第１成分フィルタ及び前記第２成分フィルタは、スパッタ堆積手順を用いて前記モノリシック基板上に配置される、光学フィルタ。
【請求項９】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記第１成分フィルタ及び前記第２成分フィルタは、フォトリソグラフィ手順を用いて前記モノリシック基板上に配置される、光学フィルタ。
【請求項１０】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記第１成分フィルタは第１スペクトルレンジに関連付けられ、また前記第２成分フィルタは第２の異なるスペクトルレンジに関連付けられる、光学フィルタ。
【請求項１１】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記第１成分フィルタは、約７００ｎｍ〜約１１００ｎｍのスペクトルレンジに関連付けられる、光学フィルタ。
【請求項１２】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記第２成分フィルタは、約４００ｎｍ〜約７００ｎｍのスペクトルレンジに関連付けられる、光学フィルタ。
【請求項１３】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記第２成分フィルタは、約４２０ｎｍ〜約６３０ｎｍのスペクトルレンジに関連付けられる、光学フィルタ。
【請求項１４】
請求項１記載の光学フィルタにおいて、前記第１成分フィルタと前記第２成分フィルタとの間における離隔は約３０μｍ未満である、光学フィルタ。
【請求項１５】
光学系において、
入力光信号をフィルタ処理してフィルタ処理済み入力光信号を供給するよう構成された複数の成分フィルタを含む光学フィルタであって、
前記複数の成分フィルタは、２つ又はそれ以上のスペクトルレンジに関連付けられ、
前記複数の成分フィルタは、フォトリソグラフィ手順を用いて単一基板上に配置されている
該光学フィルタと、及び
前記フィルタ処理済み入力光信号を受光し、また出力電気信号を供給する光センサと、
を備える、光学系。
【請求項１６】
請求項１５記載の光学系において、前記フィルタ処理済み入力光信号は、２つ又はそれ以上のスペクトルレンジに対応する２つ又はそれ以上の成分フィルタ処理済み入力光信号を含む、光学系。
【請求項１７】
請求項１５記載の光学系において、前記出力電気信号は、
虹彩検出機能性、
虹彩認識機能性、又は
低光量セキュリティ写真機能性
のうち少なくとも１つを実施することに関連するものである、光学系。
【請求項１８】
帯域通過フィルタにおいて、
パターン形成した第１成分フィルタであって、
第１屈折率に関連付けられ、またスパッタ堆積技術を用いて堆積された１組のフィルタ層の第１セット、
前記第１屈折率よりも小さい第２屈折率に関連付けられ、またスパッタ堆積技術を用いて堆積された１組のフィルタ層の第２セット
を有する、該第１成分フィルタと、
パターン形成した第２成分フィルタであって、
第３屈折率に関連付けられ、またスパッタ堆積技術を用いて堆積された１組のフィルタ層の第３セット、
前記第４屈折率に関連付けられ、またスパッタ堆積技術を用いて堆積された１組のフィルタ層の第４セット
を有する、該第２成分フィルタと、
を備え、
前記第１成分フィルタは、約３０マイクロメートル（μｍ）未満の距離だけ前記第２成分フィルタから離隔し、及び
前記第１成分フィルタは第１帯域通過に関連付けられ、また前記第２成分フィルタは前記第１帯域通過とは異なる第２帯域通過に関連付けられている、
帯域通過フィルタ。
【請求項１９】
請求項１８記載の帯域通過フィルタにおいて、前記第１セットのフィルタ層、前記第２セットのフィルタ層、前記第３セットのフィルタ層、前記第４セットのフィルタ層、のうち少なくとも１つのフィルタ層は、
シリコンをベースとする材料、
水素化シリコンをベースとする材料、
ゲルマニウムをベースとする材料、
水素化ゲルマニウムをベースとする材料、
二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）材料、
酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）材料、
二酸化チタン（ＴｉＯ２）材料、
五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）材料、
五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）材料、又は
フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）材料、
のうちの１つである、帯域通過フィルタ。
【請求項２０】
請求項１８記載の帯域通過フィルタにおいて、前記第１セットのフィルタ層、前記第２セットのフィルタ層、前記第３セットのフィルタ層、前記第４セットのフィルタ層、のうち少なくとも１つのフィルタ層は、焼きなまし処理したものである、帯域通過フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光学フィルタに関する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００２】
光センサデバイスは情報を取得するのに利用することができる。例えば、光センサデバイスは１組の電磁周波数セットに関する情報を取得することができる。光センサデバイスは、１組のセンサ素子（例えば、光センサ、スペクトルセンサ、及び／又は画像センサ）のセットを備えることができる。例えば、センサ素子のアレイを用いて、多重周波数に関する情報を捕捉することができる。一実施例において、センサ素子のアレイを利用して、特定スペクトルレンジ、例えば、約４００ナノメートル（ｎｍ）〜約７００ｎｍのスペクトルレンジ、約７００ナノメートル（ｎｍ）〜約１１００ｎｍのスペクトルレンジ、それらの下位レンジ、等のスペクトルレンジに関する情報を取得することができる。センサ素子アレイにおけるセンサ素子はフィルタに関連付けることができる。フィルタは、センサ素子へと通過する光の第１スペクトルレンジに関連付けられる通過帯域を有することができる。フィルタは、センサ素子への通過をブロックする光の第２スペクトルレンジに関連付けることができる。
【課題を解決するための手段】
【０００３】
幾つかのあり得る実施形態によれば、本発明光学フィルタは、モノリシック基板を備えることができる。本発明光学フィルタは、前記モノリシック基板の第１領域上に配置した第１成分フィルタを備えることができる。前記第１成分フィルタは、近赤外（ＮＩＲ）帯域通過フィルタとすることができる。本発明光学フィルタは、前記モノリシック基板の第２領域上に配置した第２成分フィルタを備えることができる。前記第２成分フィルタは赤-緑-青（ＲＧＢ）帯域通過フィルタを含むことができる。前記第１成分フィルタと前記第２成分フィルタとの間における離隔は、約５０マイクロメートル（μｍ）未満とすることができる。
【０００４】
幾つかのあり得る実施形態によれば、本発明光学系は、入力光信号をフィルタ処理してフィルタ処理済み入力光信号を供給するよう構成された複数の成分フィルタを含む光学フィルタを備えることができる。前記複数の成分フィルタは、２つ又はそれ以上のスペクトルレンジに関連付けることができる。前記複数の成分フィルタは、フォトリソグラフィ手順を用いて単一基板上に配置することができる。光センサは、前記フィルタ処理済み入力光信号を受光し、また出力電気信号を供給することができる。
【０００５】
幾つかのあり得る実施形態によれば、本発明帯域通過フィルタは、パターン形成した第１成分フィルタを備えることができる。前記パターン形成した第１成分フィルタは、第１屈折率に関連付けられ、またスパッタ堆積技術を用いて堆積された１組のフィルタ層の第１セットを有することができる。前記パターン形成した第１成分フィルタは、前記第１屈折率よりも小さい第２屈折率に関連付けられ、またスパッタ堆積技術を用いて堆積された１組のフィルタ層の第２セットを有することができる。本発明帯域通過フィルタは、パターン形成した第２成分フィルタを備えることができる。前記パターン形成した第２成分フィルタは、第３屈折率に関連付けられ、またスパッタ堆積技術を用いて堆積された１組のフィルタ層の第３セットを有することができる。前記パターン形成した第２成分フィルタは、前記第４屈折率に関連付けられ、またスパッタ堆積技術を用いて堆積された１組のフィルタ層の第４セットを有することができる。前記第１成分フィルタは、約３０マイクロメートル（μｍ）未満の距離だけ前記第２成分フィルタから離隔することができる。前記第１成分フィルタは第１帯域通過に関連付けることができ、また前記第２成分フィルタは、前記第１帯域通過とは異なる第２帯域通過に関連付けられている。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】図１Ａは、本明細書に記載する例示的実施形態の概略図である。図１Ｂは、本明細書に記載する例示的実施形態の概略図である。図１Ｃは、本明細書に記載する例示的実施形態の概略図である。図１Ｄは、本明細書に記載する例示的実施形態の概略図である。図１Ｅは、本明細書に記載する例示的実施形態の概略図である。図１Ｆは、本明細書に記載する例示的実施形態の概略図である。図１Ｇは、本明細書に記載する例示的実施形態の概略図である。図１Ｈは、本明細書に記載する例示的実施形態の概略図である。図１Ｉは、本明細書に記載する例示的実施形態の概略図である。
【図２】本明細書に記載する光学フィルタにおける例示的実施形態の概略図である。
【図３】本明細書記載の光学フィルタを製造するシステムの概略図である。
【図４】本明細書記載の光学フィルタに関する特徴の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下の例示的実施形態の詳細は添付図面につき説明する。異なる図面における同一参照符号は同一又は類似の素子を特定することができる。
【０００８】
光センサデバイスは、光源、例えば、光伝送器、電球、外光線、等々から発生する光を受光するセンサ素子のセンサ素子アレイを有することができる。光センサデバイスは、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）技術、電荷結合素子（ＣＣＤ）技術、及び／又は同様の技術のような１つ又はそれ以上のセンサ技術を利用することができる。光センサデバイスのセンサ素子（例えば、光センサ）は、１組の電磁周波数セットに関する情報（例えば、スペクトルデータ）を取得することができる。センサ素子は、インジウム・ガリウム・ヒ素（ＩｎＧａＡｓ）をベースとした、シリコン・ゲルマニウムをベースとした、等々のセンサ素子とすることができる。
【０００９】
センサ素子は、センサ素子が電磁周波数に関する情報を取得できるようセンサ素子への光をフィルタ処理するフィルタに関連付けることができる。例えば、センサ素子は、約４００ナノメートル（ｎｍ）〜約７００ｎｍのスペクトルレンジ、約７００ナノメートル（ｎｍ）〜約１１００ｎｍのスペクトルレンジ、それらの下位レンジ、等のスペクトルレンジの通過帯域を有するフィルタに整列させて、センサ素子に指向する光の一部分をフィルタ処理することができるようにする。フィルタは光の一部分をフィルタ処理する誘電体層の複数セットを有することができる。例えば、フィルタは、高屈折率層及び低屈折率層による交互の誘電体フィルタのスタックを有することができ、例えば、高屈折率材料として水素化シリコン（Ｓｉ:Ｈ若しくはＳｉＨ）又はゲルマニウムの層、及び低屈折率材料として二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の層による交互の層を含むことができる。
【００１０】
幾つかのセンサ素子アレイは、光の多重波長を受光するよう構成することができる。例えば、虹彩認識を行うようセンサ素子を使用するためには、センサ素子アレイは、近赤外（ＮＩＲ）スペクトルにおける光の第１部分及び可視光スペクトル（例えば、赤-緑-青（ＲＧＢ）スペクトル）における光の第２部分を受光するよう構成することができる。この場合、多重フィルタ（例えば、ＮＩＲ帯域通過フィルタ及びＲＧＢ帯域通過フィルタ）をセンサ素子アレイと被検体との間に配置することができる。例えば、第１フィルタは第１基板上に配置してＮＩＲ光が第１フィルタを通過できるようにし、また第２フィルタは第２基板上に配置してＲＧＢ光が第２フィルタを通過できるようにする。この場合、第１基板は、不透明接着剤を用いて突き合わせ接合を形成するよう第２基板に取り付け、またセンサ素子アレイに整列させ、ＮＩＲ光及びＲＧＢ光がセンサ素子アレイに向って指向されるようにすることができる。
【００１１】
しかし、多重基板上に配置し、かつ互いに取り付けた多重フィルタを使用することは、機械的耐久性に劣る結果となるおそれがある。例えば、第１基板を第２基板に取り付ける接着剤を利用することは、第１基板及び第２基板の部分-部分平面性と結合ラインにおける接着剤量の変動との結果として比較的機械的強度不足になるおそれがある。さらに、第１フィルタ及び第２フィルタを接合するために接着剤を利用することは、第１フィルタと第２フィルタとの間における間隔を５０マイクロメートル（μｍ）より大きい、１００μｍより大きい、等々にする結果となるおそれがあり、これによりセンサ素子アレイ及びフィルタの総パッケージサイズを増大させることになる。
【００１２】
本明細書記載の幾つかの実施形態において、共通基板の異なる区域にパターン形成したコーティングを塗布することによって共通基板上に統合多重成分フィルタを提供する。例えば、フォトリソグラフィ手順、スパッタリング堆積手順、パターン形成手順、エッチング手順、それらの組合せ、及び／又はそれらに類する手順を利用して単一モノリシック基板上に多重成分フィルタを統合し、単一光学フィルタの複数領域に多重通過帯域を有する単一光学フィルタを形成することができる。このようにして、光学フィルタは、虹彩認識のためのＮＩＲスペクトル及び可視光スペクトルの複合感知、低光量セキュリティ写真、等々のような光学的感知を可能にすることができる。本明細書記載の幾つかの実施形態において、光学フィルタは、成分フィルタとしては、ＮＩＲ帯域通過フィルタ及び赤外線（ＩＲ）カットフィルタ、ＮＩＲ帯域通過フィルタ及びＲＧＢ帯域通過フィルタ、並びにＲＧＢ帯域通過フィルタ及び紫外線（ＵＶ）帯域通過フィルタ、等々があり得る。
【００１３】
このようにして、単一モノリシック基板上に多重成分フィルタを統合することにより、接着剤ベースの突き合わせ接合よりも向上した機械的耐久性を得ることができる。さらに、フォトリソグラフィ手順、スパッタリング堆積手順、パターン形成手順、等々を利用して単一基板上に多重成分フィルタを統合することは、成分フィルタ間の間隔を、５０μｍ未満、３０μｍ未満、２０μｍ未満、１０μｍ未満、等々まで減少することができる。このようにして、多重成分フィルタを有する光学フィルタを含むセンサ素子アレイのパッケージサイズを減少し、これにより虹彩認識、低光量セキュリティ写真、等々のための光センサの小型化を改善することができるようになる。
【００１４】
図１Ａ〜１Ｉは本明細書記載の例示的実施形態１００〜１０８の概略図である。図１Ａに示すように、例示的実施形態１００は、センサシステム１１０を備える。センサシステム１１０は、光学系の一部であり、またセンサ測定に対応する電気出力を供給することができる。センサシステム１１０は、光学フィルタ構体１２０であって、成分フィルタ１３０-１、成分フィルタ１３０-２、及び吸収体１３０-３（例えば、閾値反射率未満の反射率を有する）を含んでいる、該光学フィルタ構体１２０と、並びに光センサ１４０と、を有する。集合的に、成分フィルタ１３０-１、成分フィルタ１３０-２、及び吸収体１３０-３は、光学フィルタと称することができる。例えば、光学フィルタ構体１２０は、成分フィルタ１３０-１に関連する第１通過帯域のための第１通過帯域フィルタ処理機能を果たし、また成分フィルタ１３０-２に関連する第２通過帯域のための第１通過帯域フィルタ処理機能を果たす光学フィルタ１３０を有することができる。
【００１５】
本明細書記載の幾つかの実施形態は、センサシステムにおける光学フィルタの観点で説明するが、本明細書記載の実施形態は、他タイプのシステムに使用する、センサシステムの外部に使用する、等々を行うことができる。
【００１６】
図１Ａに参照符号１５０によってさらに示すように、入力光信号を光学フィルタ構体１２０に向けて指向させる。この入力光信号は、以下に限定しないが、約４００ナノメートル（ｎｍ）〜約７００ｎｍのスペクトルレンジ、約４２０ｎｍ〜約６３０ｎｍのスペクトルレンジ、約７００ｎｍ〜約１１００ｎｍのスペクトルレンジ、約７５０ｎｍ〜約９５０ｎｍのスペクトルレンジ、約４００ｎｍ〜約１１００ｎｍのスペクトルレンジ、それらより下位のレンジ、等々のような特定スペクトルレンジに関連する光を含むことができる。例えば、可視光及びＮＩＲ光は、検体の虹彩から反射して光センサ１４０に向かうことができ、また光学フィルタ１３０によってフィルタ処理され、可視光を光センサ１４０の第１部分に向かわせ、またＮＩＲ光を光センサ１４０の第２部分に向かわせることができる。他の実施形態において、検査機能性、感知機能性、通信機能性、及び／又はそれらに類する機能性のような他の機能性を行うため、光伝送器が光のスペクトルレンジを光学フィルタ１４０に指向させることができる。
【００１７】
図１Ａに参照符号１６０によってさらに示すように、光信号の第１スペクトルレンジを有する第１部分は光学フィルタ１３０及び光学フィルタ構体１２０を通過しない。例えば、光学フィルタ１３０における高屈折率材料層及び低屈折率材料層を含むことができる誘電体薄膜層による誘電体フィルタスタックが、光の第１部分を、第１方向に反射させる、吸収する、及び／又はそれらに類するようなことをさせることができる。この場合、光の第１部分は光学フィルタ１３０への入射光の閾値部分であるものとすることができ、成分フィルタ１３０-１及び／又は１３０-２の帯域通過に含まれず、光の９５％より多くの部分が特定スペクトルレンジ内にないものである。
【００１８】
幾つかの実施形態において、光信号の第１部分は、成分フィルタ１３０-１によって反射される第１成分と、成分フィルタ１３０-２によって反射される第２成分と、及び吸収体１３０-３（ときに「ミラー」、「ダークミラー」及び／又はそれら類する呼び名で用語付けすることがあり得る）によって吸収及び／又は反射する第３成分を含むことができる。例えば、成分フィルタ１３０-１は、可視光を透過させ、また入力光信号のＮＩＲ光及び他の光を反射することができる。これとは対比的に、成分フィルタ１３０-２は、ＮＩＲ光を透過させ、また入力光信号の可視光及び他の光を反射することができる。さらに、吸収体１３０-３は、光のすべてのスペクトルレンジを吸収し、また反射を抑制し、これにより成分フィルタ１３０-１を通過する光と、成分フィルタ１３０-２を通過する光との間におけるクロストークを減少することができる。幾つかの実施形態において、吸収体１３０-３のような吸収体は、約５０％より大きい、約8０％より大きい、約９５０％より大きい、約９５％より大きい、約９９％より大きい、及び／又はそれらに類する％より大きい割合のような光の閾値パーセンテージを吸収することに関連付けることができる。光信号における第２部分及び第３部分は、フィルタ処理済み入力光信号として通過することができる。
【００１９】
参照符号１７０-１で示すように、光信号の第２部分は成分フィルタ１３０-１及び光学フィルタ構体１２０を通過する。例えば、成分フィルタ１３０-１は、第２スペクトルレンジを有する光の第２部分を光センサ１４０に向けて第２方向に通過させることができる。この場合、光の第２部分は、成分フィルタ１３０-１の帯域通過範囲内である成分フィルタ１３０-１に入射する光の閾値部分であり、例えば、可視光のスペクトルレンジにおける入射光の５０％より多い。
【００２０】
参照符号１７０-２で示すように、光信号の第３部分は成分フィルタ１３０-２及び光学フィルタ構体１２０を通過する。例えば、成分フィルタ１３０-２は、第３スペクトルレンジを有する光の第３部分を光センサ１４０に向けて第３方向に通過させることができる。この場合、光の第３部分は、成分フィルタ１３０-２の帯域通過範囲内である成分フィルタ１３０-２に入射する光の閾値部分であり、例えば、ＮＩＲ光のスペクトルレンジにおける入射光の５０％より多い。このようにして、単一光学フィルタ構体１２０上に（例えば、フォトリソグラフィ技術を用いて）堆積した多重成分フィルタ１３０を有する単一光学フィルタ構体１２０は、多重の異なる光のスペクトルレンジを光センサ１４０に通過させることができ、これにより複数スペクトル感知を可能にし、例えば、ＮＩＲ光及びＲＧＢ光をベースとする虹彩認識、低光量セキュリティ写真、及び／又はこれらに類する行為を実施することができる。
【００２１】
図１Ａにさらに示すように、光センサ１４０に通過する光信号の第２部分及び第３部分に基づいて、光センサ１４０は、センサシステム１１０に対して出力電気信号１８０を供給し、例えば、画像化、虹彩認識、低光量光感知、物体存在検出、測定実施、通信円滑化、及び／又はそれらの類に使用することができる。幾つかの実施形態において、成分フィルタ１３０及び光センサ１４０の他の構成を利用することができる。例えば、光信号の第２部分及び第３部分を入力光信号と共線的に通過させるのではなく、光学フィルタ１３０は、異なる場所に配置した光センサ１４０に向かうよう光信号の第２部分及び第３部分を他の方向に指向させることができる。
【００２２】
図１Ｂに示すように、他の例示的実施形態１０１は、光センサ１４０を形成し、また光学フィルタ構体１２０の基板に統合化したセンサ素子アレイにおける１組のセンサ素子のセットを備える。この場合、成分フィルタ１３０は、基板上に直接配置する（例えば、フォトリソグラフィ手順、スパッタリング堆積手順、パターン形成手順、エッチング手順、それらの組合せ、及び／又はそれらに類する手順を用いて）。入力光信号１５０-１及び１５０-２は複数の異なる角度で受光され、また入力光信号の第１部分１６０-１及び１６０-２は複数の異なる角度で反射される。この場合、入力光信号１５０-１及び１５０-２の第２部分は、多重スペクトルレンジを有するフィルタ処理済み入力光信号として成分フィルタ１３０経由で光センサ１４０を形成するセンサ素子アレイに通過し、この光センサ１４０は出力電気信号１８０を供給する。例えば、入力光信号１５０-１及び１５０-２の第２部分は、成分フィルタ１３０-１によって通過する第１スペクトルレンジを有する光（例えば、可視光）と、成分フィルタ１３０-２によって通過する第２スペクトルレンジを有する光（例えば、ＮＩＲ光）とを含むことができる。
【００２３】
図１Ｃに示すように、他の例示的実施形態１０２は、光センサ１４０を形成し、また光学フィルタ構体１２０から（例えば、光学系における自由空間光学タイプにおける自由空間によって）分離したセンサ素子アレイにおける１組のセンサ素子のセットを備える。この場合、成分フィルタ１３０は、ガラス基板、シリカ基板、及び／又はこれらに類する基板とすることができる、光学フィルタ構体１２０上に配置する。入力光信号１５０-１及び１５０-２は光学フィルタ１３０に複数の異なる角度で受光される。入力光信号１５０-１及び１５０-２の第１部分１６０-１及び１６０-２は複数の異なる角度で反射され、また入力光信号１５０-１及び１５０-２の第２部分１７０-１及び１７０-２は、成分フィルタ１３０及び光学フィルタ構体１２０によって通過する。第２部分１７０-１及び１７０-２を受光することに基づいて、センサ素子アレイは出力電気信号１８０を供給する。
【００２４】
本明細書記載の幾つかの実施形態は、ＮＩＲ光通過帯域フィルタ及び可視光（例えば、ＲＧＢ光）通過帯域フィルタの観点で記載したが、フィルタの多重スペクトルレンジの他の組合せ、例えば、第１ＮＩＲ光通過帯域フィルタと第２ＮＩＲ光通過帯域フィルタとの組合せ、可視光通過帯域フィルタとＩＲブロッカーフィルタとの組合せ、可視光通過帯域フィルタと紫外（ＵＶ）光通過帯域フィルタとの組合せ、及び／又はそれらに類する組合せが可能である。同様に、幾つかの実施形態は単一基板上に配置した２個のフィルタの観点で記載したが、他の個数のフィルタ、例えば、３フィルタ、４フィルタ、１０フィルタ、１００フィルタ、及び／又はこれらに類する個数のフィルタも可能である。
【００２５】
図１Ｄに示すように、他の例示的実施形態１０３は光学フィルタ用の他の構成を含む。例えば、例示的実施形態１０３において、反射防止コーティング１８２を光学フィルタ構体１２０の表面に配置する。付加的又は代案的に、吸収体１３０-３を位置決めし、この位置決めは、成分フィルタ１３０-１及び１３０-２が吸収体１３０-３の少なくとも一部分をカバーするように行う。換言すれば、吸収体１３０-３は、成分フィルタ１３０-１及び１３０-２の一部分と光学フィルタ構体１２０との間に位置決めされる。この場合、入力光信号１５０は、光学フィルタ構体１２０における成分フィルタ１３０が配置されている側面に向って指向する。図１Ｅに示すように、他の例示的実施形態１０４においては、入力光信号１５０は、光学フィルタ構体１２０における反射防止コーティング１８２が配置されている他の側面に向って指向することができる。図１Ｆに示すように、他の例示的実施形態１０５においては、吸収体１３０-３は、成分フィルタ１３０-１及び１３０-２の表面に配置することができる。換言すれば、吸収体１３０-３は成分フィルタ１３０-１及び１３０-２の一部分をカバーすることができる。この場合、入力光信号１５０は、光学フィルタ構体１２０における反射防止コーティング１８２側の側面に向って指向することができる。他の例示的実施形態１０５においては、光学フィルタ構体１２０における成分フィルタ１３０側の側面に向って指向することができる。ここに記載したのは自由空間光学系の観点で説明したが、本明細書記載の例示的実施形態は、自由空間光学系、非自由空間光学系、自由空間光学系と非自由空間光学系との組合せ、及び／又はそれらに類する光学系で使用することができる。
【００２６】
図１Ｇに示すように、他の例示的実施形態１０６は、光学フィルタ構体１２０を形成することができ、また１組のセンサ素子のセットを有することができる光センサ１４０上に直接配置した成分フィルタ１３０を備えることができる。この場合、吸収体１３０-３は成分フィルタ１３０-１及び１３０-２の下側に配置することができる。換言すれば、成分フィルタ１３０-１及び１３０-２は吸収体１３０-３を少なくとも部分的にカバーすることができ、この吸収体１３０-３は成分フィルタ１３０-１及び１３０-２と光センサ１４０との間に配置されることができる。この場合、入力光信号は光センサ１４０の成分フィルタ１３０側の側面に向って指向する。図１Ｈに示すように、他の実施形態１０７において、入力光信号１５０は光センサ１４０の他の側面に指向することができる。他の実施形態において、反射防止コーティングを、光センサ１４０における光センサ１４０と成分フィルタ１３０との間にお他方の側面に、成分フィルタ１３０の表面に、及び／又はそれらに類する面に配置することができる。幾つかの実施形態において、吸収体１３０-３は、光センサ１４０のセンサ素子のセットにおける１つ又はそれ以上のセンサ素子に整列させる、１つ又はそれ以上のセンサ素子にオフセットして整列させる、及び／又はそれらに類する整列を行うことができる。図１Ｉに示すように、他の実施例において、１組のマイクロレンズ１８４のセットを光センサ１４０のセンサ素子のセットにおける１つ又はそれ以上のセンサ素子に整列させることができる。この場合、成分フィルタ１３０は、自由空間によって光センサ１４０及びセンサ素子のセットから離隔した光学フィルタ構体１２０上に配置する。幾つかの実施形態において、マイクロレンズ１８４のセットは、光センサ１４０の表面上に配置することができる。幾つかの実施形態において、マイクロレンズ１８４のセットは、例えば、光学フィルタ構体１２０、成分フィルタ１３０、及び／又はそれらに類するものの表面上に配置することができ、光をセンサ素子のセットに指向させる、センサ素子のセットに対して光を合焦させる、及び／又はそれらに類することを行うようにできる。
【００２７】
上述したように、図１Ａ〜１Ｉは単に例として提示されるものである。他の実施例も可能であり、これらは図１Ａ〜１Ｉにつき説明したのとは異なることがあり得る。
【００２８】
図２は例示的光学フィルタ２００の概略図である。光学フィルタ２００は、基板２２０上に配置され、また１組の層２３０のセット及び１組の層２４０のセットを含む第１成分フィルタ２１０を有する。光学フィルタ２００は、基板２２０上に配置され、また１組の層２６０のセット及び１組の層２７０のセットを含む第２成分フィルタ２５０を有する。幾つかの実施形態において、光学フィルタ２００は、吸収体２８０及び／又はフィルタ層２９０（例えば、反射防止コーティング）を有する。
【００２９】
成分フィルタ２１０は1組の光学フィルタ層のセットを含む。例えば、成分フィルタ２１０は、層２３０-１〜２３０-Ｎ（Ｎ≧１）（例えば、高屈折率層（Ｈ層））の第１セット、及び層２４０-１〜２４０-（Ｎ+１）（例えば、低屈折率層（Ｌ層））の第２セットを含む。幾つかの実施形態において、層２３０及び２４０は、特定の順序、例えば、（Ｈ-Ｌ）ｍ（ｍ≧１）順序、（Ｈ-Ｌ）ｍ-Ｈ順序、Ｌ-（Ｈ-Ｌ）ｍ順序及び／又はそれらに類する順序で配列することができる。例えば、図示のように、層２３０及び２４０は、Ｈ層が光学フィルタ２００の表面に配置され、かつＨ層が基板２２０の表面に隣接して配置される（Ｈ-Ｌ）ｎ-Ｈ順序で位置決めされる。他の実施形態において、１つ又はそれ以上の保護層、１つ又はそれ以上の他のフィルタ機能性を付与する１つ又はそれ以上の層（例えば、ブロッカー、反射防止コーティング、等）、及び／又はそれらに類する層のような、１つ又はそれ以上の他の層を光学フィルタ２００に含ませることができる。
【００３０】
層２３０は、１組のＨ層のセットを有することができ、このＨ層は、例えば、Ｌ層の屈折率よりも大きい屈折率であり、特定スペクトルレンジ（例えば、約４００ｎｍ〜７００ｎｍのスペクトルレンジ、約４２０ｎｍ〜６３０ｎｍのスペクトルレンジ、及び／又はこれらに類するスペクトルレンジ）にわたり、２.０より大きい屈折率、３.０より大きい屈折率、４.０より大きい屈折率、４.５より大きい屈折率、４.６より大きい屈折率及び／又はこれらに類する値より大きい屈折率、を有する材料とすることができる。幾つかの実施形態において、層２３０としては、水素化ゲルマニウム層、水素化シリコン層、焼きなまし（アニーリング）水素化ゲルマニウム層及び／又はこれらに類する層があり得る。
【００３１】
層２４０は、１組のＬ層のセット、例えば、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層のセット、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）層のセット、二酸化チタン（ＴｉＯ２）層のセット、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）層のセット、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）層のセット、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）層のセット、及び／又はこれらに類する層のセットを有することができる。この場合、層２４０は、例えば、特定スペクトルレンジ（例えば、約４００ｎｍ〜７００ｎｍのスペクトルレンジ、約４２０ｎｍ〜６３０ｎｍのスペクトルレンジ、及び／又はこれらに類するスペクトルレンジ）にわたり、層２３０の屈折率より低い屈折率を有するよう選択することができる。例えば、層２４０は、特定スペクトルレンジにわたり３未満の屈折率に関連付けるよう選択することができる。
【００３２】
他の実施例において、層２４０は、特定スペクトルレンジ（例えば、約４００ｎｍ〜７００ｎｍのスペクトルレンジ、約４２０ｎｍ〜６３０ｎｍのスペクトルレンジ、及び／又はこれらに類するスペクトルレンジ）にわたり、２.５未満の屈折率に関連付けるよう選択することができる。他の実施例において、層２４０は、特定スペクトルレンジ（例えば、約４００ｎｍ〜７００ｎｍのスペクトルレンジ、約４２０ｎｍ〜６３０ｎｍのスペクトルレンジ、及び／又はこれらに類するスペクトルレンジ）にわたり、２未満の屈折率に関連付けるよう選択することができる。他の実施例において、層２４０は、特定スペクトルレンジ（例えば、約４００ｎｍ〜７００ｎｍのスペクトルレンジ、約４２０ｎｍ〜６３０ｎｍのスペクトルレンジ、及び／又はこれらに類するスペクトルレンジ）にわたり、１.５未満の屈折率に関連付けるよう選択することができる。幾つかの実施形態において、特定材料は、層２４０用に帯域外ブロッキングスペクトルレンジの所望幅、入射角の変化に関連する所望中心波長シフト、及び／又はそれらの類に基づいて選択することができる。
【００３３】
幾つかの実施形態において、成分フィルタ２１０は、特別な層数ｍに関連付けることができる。例えば、成分フィルタ２１０は、約２０層の交互Ｈ層及びＬ層を含むことができる。他の実施例において、成分フィルタ２１０は、他の層数、２層〜１００層の範囲、４層〜５０層の範囲、及び／又はこれらに類する範囲に関連付けることができる。幾つかの実施形態において、成分フィルタ２１０の各層は特定厚さに関連付けることができる。例えば、層２３０及び２４０各々は、約５ｎｍ〜約２０００ｎｍ間の厚さに関連付けることができ、この結果、成分フィルタ２１０は、約０.２μｍ〜１００μｍの間、約０.５μｍ〜２０μｍの間、約４μｍ〜７μｍの間、及び／又はこれらに類する値間の厚さに関連付けられる結果となる。
【００３４】
幾つかの実施形態において、層２３０及び２４０は複数の厚さに関連付けることができ、例えば、層２３０に対して第１厚さ及び層２４０に対して第２厚さ、層２３０の第１部分集合に対して第１厚さ及び層２３０の第２部分集合に対して第２厚さ、層２４０の第１部分集合に対して第１厚さ及び層２４０の第２部分集合に対して第２厚さ、及び／又はこれらに類する厚さに関連付けることができる。この場合、層の厚さ及び／又は層数は、光学的特性、例えば、意図した通過帯域、意図した透過性、及び／又はこれらに類する特性における意図したセットに基づいて選択することができる。例えば、層の厚さ及び／又は層数は、約１５５０ｎｍの中心波長で約１１００ｎｍ〜２０００ｎｍのスペクトルレンジ、及び／又はこれに類するスペクトルレンジに対して光学フィルタ２００を利用できるよう選択することができる。
【００３５】
成分フィルタ２５０は1組の光学フィルタ層のセットを含む。例えば、成分フィルタ２５０は、層２６０-１〜２６０-Ｋ（Ｋ≧１）（例えば、Ｈ層）の第１セット、及び層２７０-１〜２４０-Ｋ（例えば、Ｌ層）の第２セットを含む。幾つかの実施形態において、層２６０及び２７０は、特定の順序、例えば、（Ｈ-Ｌ）ｍ（ｋ≧１）順序で配列することができる。層２６０は、１組のＨ層のセットを有することができ、このＨ層は、特定スペクトルレンジ（例えば、約４００ｎｍ〜７００ｎｍのスペクトルレンジ、約４２０ｎｍ〜６３０ｎｍのスペクトルレンジ、及び／又はこれらに類するスペクトルレンジ）にわたり、２.０より大きい屈折率、３.０より大きい屈折率、４.０より大きい屈折率、４.５より大きい屈折率、４.６より大きい屈折率及び／又はこれらに類する値より大きい屈折率、を有する材料とすることができる。幾つかの実施形態において、層２６０としては、水素化ゲルマニウム層、水素化シリコン層、焼きなまし水素化ゲルマニウム層及び／又はこれらに類する層があり得る。
【００３６】
層２７０は、１組のＬ層のセット、例えば、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）層のセット、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）層のセット、二酸化チタン（ＴｉＯ２）層のセット、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）層のセット、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）層のセット、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）層のセット、及び／又はこれらに類する層のセットを有することができる。この場合、層２７０は、例えば、特定スペクトルレンジ（例えば、約４００ｎｍ〜７００ｎｍのスペクトルレンジ、約４２０ｎｍ〜６３０ｎｍのスペクトルレンジ、及び／又はこれらに類するスペクトルレンジ）にわたり、層２６０の屈折率より低い屈折率を有するよう選択することができる。例えば、層２７０は、特定スペクトルレンジにわたり３未満の屈折率に関連付けるよう選択することができる。幾つかの実施形態において、層２６０及び／又は層２７０の層数は、層２３０及び／又は層２４０の層数とは異なるものとする、層２３０及び／又は層２４０の層数と同一のものとする、及び／又はこれに類するものとすることができる。幾つかの実施形態において、層２６０及び／又は層２７０の厚さは、層２３０及び／又は層２４０の厚さとは異なるものとする、層２３０及び／又は層２４０の厚さと同一のものとする、及び／又はこれに類するものとすることができる。
【００３７】
幾つかの実施形態において、成分フィルタ２１０及び２５０は、スパッタリング手順及びフォトリソグラフィ手順を用いて作製することができる。例えば、成分フィルタ２１０は、パルス状マグネトロンスパッタリング手順を使用し、ガラス基板上に層２３０及び２４０を交互にスパッタリングして作製することができる。フォトリソグラフィ手順及びリフトオフ手順を使用して、成分フィルタ２５０、吸収体２８０、及び／又はこれらに類するもののために使用される基板２２０の一部分から層２３０及び２４０を除去することができる。同様に、成分フィルタ２５０は、パルス状マグネトロンスパッタリング手順を使用し、基板２２０上及び成分フィルタ２１０上に層２６０及び２７０を交互にスパッタリングして作製することができる。この場合、フォトリソグラフィ手順及びリフトオフ手順を使用して、成分フィルタ２１０から層２６０及び２７０を除去することができ、この結果、成分フィルタ２１０及び成分フィルタ２５０がほぼ隣接する（例えば、吸収体２８０、及び／又はこれに類するものによって離隔して隣接する）。同様に、吸収体２８０は、パルス状マグネトロンをベースとするスパッタリング手順を使用し、基板２２０上並びに成分フィルタ２１０及び２５０上に吸収体２８０の層をスパッタリングして作製することができる。この場合、フォトリソグラフィ手順及びリフトオフ手順を使用して、成分フィルタ２１０及び２５０から吸収体２８０の層を除去し、この結果、吸収体２８０が成分フィルタ２１０と成分フィルタ２５０との間における遷移ゾーンをカバーする状態で成分フィルタ２１０及び２５０が共通基板２２０上に配置されるようになる。
【００３８】
幾つかの実施形態において、スパッタ堆積及びリフトオフの特定順序付けを実施することができる。例えば、ＮＩＲ帯域通過フィルタ（例えば、成分フィルタ２１０）の堆積に続いてＲＧＢ帯域通過フィルタ（例えば、成分フィルタ２５０）の堆積及び吸収体（例えば、吸収体２８０）の堆積を行うことができる。同様に、吸収体の堆積に続いてＲＧＢ帯域通過フィルタ及びＮＩＲ帯域通過フィルタの堆積を行うことができる。フィルタの他の順序付け及び／又はその組合せも可能である。
【００３９】
幾つかの実施形態において、成分フィルタ２１０及び２５０は、空気媒体又はガラス媒体のような入射媒体に関連付けることができる。幾つかの実施形態において、光学フィルタ２００は、１組のプリズムのセット間に配置することができる。幾つかの実施形態において、成分フィルタ２１０及び２５０は１組のマイクロレンズのセットに整列させることができる。例えば、マイクロレンズアレイは、成分フィルタ２１０及び２５０とセンサ素子アレイとの間に整列させ、成分フィルタ２１０及び２５０を通過する光をセンサ素子アレイにおけるセンサ素子へと導くよう指向させる。幾つかの実施形態において、焼きなまし（アニーリング）手順を利用して、成分フィルタ２１０及び／又は２５０を作製することができる。例えば、基板上に対する層２３０及び２４０のスパッタ堆積後、基板上に対する層２３０及び２４０のスパッタ堆積後、及び／又はこれらに類する堆積後に、光学フィルタ２００をアニーリングして、光学フィルタ２００の１つ又はそれ以上の光学的特性を改善する、例えば、光学フィルタ２００の吸収係数を、アニーリング手順を実施しない他の光学フィルタよりも低減させることができる。
【００４０】
幾つかの実施形態において、成分フィルタ２１０及び２５０は、基板２２０のような基板に付着させる。例えば、成分フィルタ２１０及び２５０は、ガラス基板、シリカ基板、及び／又はこれらに類する基板に付着させることができ、この付着は、コーティング技術、エポキシ技術、及び／又はこれらに類する技術を用いて行うことができる。幾つかの実施形態において、吸収体２８０は、成分フィルタ２１０及び２５０の一部分上、成分フィルタ２１０及び２５０の部分間、成分フィルタ２１０及び２５０の一部分の下側、及び／又はこれらに類する部分に配置することができる。このようにして、成分フィルタ２１０と成分フィルタ２５０との間における遷移ゾーンは吸収体２８０によってブロックされ、これにより成分フィルタ２１０を通過する光と、成分フィルタ２５０を通過する光との間におけるクロストークを減少することができる。
【００４１】
さらに、共通基板２２０上に成分フィルタ２１０及び２５０を堆積するフォトリソグラフィ及びスパッタリングの使用に基づいて、成分フィルタ間の離隔は、５０μｍ未満、３０μｍ未満、２０μｍ未満、１０μｍ未満、等々まで減少することができる。幾つかの実施形態において、フィルタ層２９０を基板２２０上に配置することができる。例えば、反射防止（ＡＲ：anti-reflectance）コーティングを基板２２０の表面上に配置して、基板２２０と、光学フィルタ２００を付着する及び／又は整列させる光センサとの間における界面での光損失を減少することができる。
【００４２】
上述したように、図２は単に実施例として提示する。他の実施例も可能であり、また図２につき説明したのとは異なるものとすることができる。
【００４３】
図３は本明細書記載の光学フィルタを製造するスパッタ堆積システムの実施例３００の概略図である。
【００４４】
図３に示すように、実施例３００は、真空チャンバ３１０、基板３２０、カソード３３０、標的３３１、カソード電源３４０、アノード３５０、プラズマ活性化源（ＰＡＳ）３６０、及びＰＡＳ電源３７０を備える。標的３３１は、基板３２０上にスパッタ堆積させるべき材料として、例えば、ゲルマニウム材料、シリコン（ケイ素）材料、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、及び／又はこれらに類する材料があり得る。ＰＡＳ電源３７０は、ＰＡＳ３６０に給電するのに利用することができ、また高周波（ＲＦ）電源を有することができる。カソード電源３４０は、カソード３３０に給電するのに利用することができ、またパルス状直流電流（ＤＣ）電源を有することができる。
【００４５】
図３に関しては、標的３３１は、水素（Ｈ２）、並びにアルゴンのような不活性ガスの存在の下にスパッタリングされ、例えば、基板３２０上に層として水素化ゲルマニウム材料を堆積する。不活性ガスは、アノード３５０及び／又はＰＡＳ３６０を介してチャンバ内に供給することができる。水素は、水素を活性化するよう作用するＰＡＳ３６０経由で真空チャンバ３１０内に導入する。付加的、又は代替的に、カソード３３０により水素を活性化させることができる（例えば、この場合、水素は真空チャンバ３１０の他の部分から導入することができる）、又はアノード３５０により水素を活性化させることができる（例えば、この場合、水素はアノード３５０によって真空チャンバ３１０内に導入することができる）。幾つかの実施形態において、水素は、水素ガス、水素ガスと希ガス（例えば、アルゴンガス）との混合物、及び／又はこれらに類する形式をとることができる。ＰＡＳ３６０は、カソード３３０の近接閾値の範囲内に配置して、ＰＡＳ３６０からのプラズマとカソード３３０からのプラズマがオーバーラップできるようにする。ＰＡＳ３６０の使用により、スパッタ堆積層を比較的高い堆積速度で堆積することができる。幾つかの実施形態において、スパッタ堆積層は、約０.０５ｎｍ／ｓ〜約２.０ｎｍ／ｓの堆積速度で、約０.５ｎｍ／ｓ〜約１.２ｎｍ／ｓの堆積速度で、約０.８ｎｍ／ｓの堆積速度で、及び／又はこれらに類する堆積速度で、堆積される。
【００４６】
フォトリソグラフィ手順はスパッタリング手順に関連して使用し、複数の成分フィルタ（例えば、ＮＩＲ帯域通過フィルタ及びＲＧＢ帯域通過フィルタ）を基板３２０上に堆積することができる。例えば、フォトレジスト材料及びフォトマスクを用いて、第１成分光学フィルタのための１つ又はそれ以上の層の堆積に対して基板３２０の第１部分を露出させることができ、また他のフォトレジスト材料及び他のフォトマスクを用いて、第２成分光学フィルタのための１つ又はそれ以上の層の堆積に対して基板３２０の第２部分を露出させることができる。同様に、フォトレジスト材料及びフォトマスクを用いて、第１成分光学フィルタ及び第２成分光学フィルタの端縁における遷移ゾーンに吸収体を付着させることができる。幾つかの実施形態において、第１成分フィルタの層グループはスパッタ堆積することができ、また第１成分フィルタはパターン形成された第１成分フィルタとすることができ（例えば、第１成分フィルタの層グループに対してフォトリソグラフィ技術又はエッチング技術を適用してパターン形成される）、及び第２成分フィルタの層グループはスパッタ堆積することができ、また第２成分フィルタはパターン形成された第２成分フィルタとすることができる。
【００４７】
本明細書において、スパッタリング手順は、特別なジオメトリ及び特別な実施形態の観点で説明したが、他のジオメトリ及び他の実施形態も可能である。例えば、水素は、他の方向から、カソード３３０に対する近接閾値内におけるガスマニホールドから、及び／又はこれらに類するものから注入することができる。本明細書において、成分の異なる形態の観点で説明したが、異なる材料、異なる製造プロセス、及び／又はこれらに類するものを使用して、スパッタリング材料の異なる相対濃度を達成することもできる。
【００４８】
上述したように、図３は単に例として提示したに過ぎない。他の実施例も可能であり、また図３につき説明したのとは異なるものとすることができる。
【００４９】
図４は、本明細書記載の光学フィルタにおける例示的実施形態４００を示す。図４に示すように、チャート４１０〜４４０は本明細書記載の光学フィルタにおける１組の断面図のセットを提示する。
【００５０】
図４及びチャート４１０〜４４０に示すように、多重成分フィルタは共通基板上に配置することができる。チャート４３０及び４４０に示すように、吸収体における１組の層のセットは、成分フィルタの端縁における遷移ゾーンに配置して、遷移ゾーンを光が通過するのをブロックする。このようにして、遷移ゾーンに近接する第１成分フィルタを通過する光、及び遷移ゾーンに近接する第２成分フィルタを通過する光からのクロストークを減少することができる。
【００５１】
上述したように、図４は単に例として提示したに過ぎない。他の実施例も可能であり、また図４につき説明したのとは異なるものとすることができる。
【００５２】
このようにして、多重成分フィルタは、多重スペクトル感知のための、例えば、虹彩認識機能性、虹彩検出機能性、低光量セキュリティ写真機能性、及び／又はこれらに類する機能性のための光学フィルタを形成するよう、単一基板上に統合することができる。単一基板上に多重成分フィルタを堆積するようスパッタ堆積手順及び／又はフォトリソグラフィ手順を利用することに基づいて、多重成分フィルタ間の離隔度は、接着剤の使用によって複数基板を付着させることに比較して、減少することができる。さらに、光学フィルタの機械的耐久性は、多重成分フィルタを単一基板上に堆積させることによって、複数基板を互いに付着させることに比較して向上させることができる。
【００５３】
上述した開示は図解及び説明目的で行ったものであり、排他的又は実施形態を記載した正確な形式に限定することを意図するものではない。変更及び改変は、上述した開示を踏まえて可能であり、実施形態の実施から習得できるものである。
【００５４】
幾つかの実施形態は本明細書において閾値に関連して説明している。本明細書で使用されるように閾値を満足することは、値が閾値より大きい、閾値より多い、閾値より高い、閾値以上、閾値未満、閾値より少ない、閾値より低い、閾値以下、閾値に等しい、等々に言及することができる。
【００５５】
特徴の特別な組合せは特許請求の範囲に記述され及び／又は本明細書に記載されるが、これら組合せは、あり得る実施形態の開示を制限することは意図しない。実際、これら特徴の多くは、特別に特許請求の範囲に記述されていない及び／又は本明細書に記載されていないやり方で組み合わせることができる。特許請求の範囲に列挙する各従属項は１つの請求項にのみ直接従属することができ、あり得る実施形態の開示は請求項におけるすべての他の請求項と組み合わせた各従属項を含む。
【００５６】
本明細書で使用される要素、行為、指示のいずれも、そうであると明示しない限り、厳格又は必須であるものと解すべきではない。本明細書で使用されるような、冠詞「a」及び「an」は１つ又はそれ以上の事項を含むことを意図し、また「１つ又はそれ以上の」と互換的に使用することができる。さらに、本明細書で使用されるような、用語「セット」は１つ又はそれ以上の事項（例えば、関連事項、非関連事項、関連事項及び非関連事項の組合せ、等）を含むことを意図し、また「１つ又はそれ以上の」と互換的に使用することができる。単に１つの事項を意図する場合には、用語「１つ」又は類似の表現を用いる。さらに、本明細書で使用されるような、用語「has」、「have」、「having」、等々は、制約がない事項を意図する。さらにまた、語句「〜に基づく（based on）」は、そうでないと明示しない限りにおいて、「少なくとも部分的に〜に基づく（based, at least, on）」を意味しようとするものである。
【図１−１】
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【図１−２】
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【図１−３】
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【図１−４】
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【図１−５】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【外国語明細書】
2019133137000001.pdf