(57)【要約】      （修正有）【課題】結晶化し難い色収差補正機能の高い特性を有する硬化物及び光学素子を得る光学用組成物を提供する。【解決手段】一般式（１）と、一般式（２）で表わされる化合物と、が重合する硬化物であって、一般式（２）で表わされる化合物が一般式（１）で表わされる化合物の合計量の０．１〜５０．０質量％含有する。2019101301.tif 0000722019101301.tif 000073【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも下記一般式（１）で表わされる化合物及び／又は一般式（３）で表される化合物と、下記一般式（２）で表わされる化合物と、が重合している硬化物であって、
一般式（２）で表わされる化合物が一般式（１）及び一般式（３）で表わされる化合物の合計量の０．１〜５０．０質量％含有することを特徴とする硬化物。
【化１】
2019101301.tif 000045
（一般式（１）中、Ｘ及びＹは、ＯまたはＳであり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｒ１及び、Ｒ２は、それぞれＸ、Ｙとの結合原子が炭素原子である分子量１５以上１７０未満の置換基であって、それぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｚ１及びＺ２は、水素、炭素、酸素、硫黄、窒素又はハロゲンをベンゼン環との結合原子とする分子量１以上２００未満の置換基であって、それぞれ同じであっても異なっていても良い。
Ｒ１、Ｒ２、Ｚ１及びＺ２の少なくとも一つは重合性の官能基を有し、ａ及びｂは１又は２であり、ａ及び／又はｂが２の場合はＺ１及びＺ２は同じであっても異なっていても良い。）
【化２】
2019101301.tif 000046
（一般式（２）中、Ｒ５及びＲ６は、ヘテロ環化合物であり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。ヘテロ環上の置換基は分子量１以上２００未満の置換基であって、それぞれ同じであっても異なっていても良い。前記ヘテロ環上の置換基が複数の場合、置換基は同じであっても異なっていても良く、置換基の分子量の合計が２以上２００未満の置換基である。）
【化３】
2019101301.tif 000047
（一般式（３）中、Ｑは、ＯまたはＳであり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｒ３及びＲ４は、それぞれＳ、Ｑとの結合原子が炭素原子である分子量１５以上１７０未満の置換基であって、それぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｚ３は、水素又は炭素、酸素、硫黄若しくは窒素を結合原子とする分子量１以上２００未満の置換基である。Ｒ３、Ｒ４及びＺ３の少なくとも一つは重合性の官能基を有し、ｃは１又は２である。）
【請求項２】
少なくとも下記一般式（１）で表わされる化合物と、下記一般式（２）で表わされる化合物とが重合している硬化物であって、一般式（２）で表わされる化合物が一般式（１）で表わされる化合物の０．１〜５０．０質量％含有することを特徴とする請求項１に記載の硬化物。
【化４】
2019101301.tif 000048
（一般式（１）中、Ｘ及びＹは、ＯまたはＳであり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｒ１及び、Ｒ２は、それぞれＸ、Ｙとの結合原子が炭素原子である分子量１５以上１７０未満の置換基であって、それぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｚ１及びＺ２は、水素、炭素、酸素、硫黄、窒素又はハロゲンをベンゼン環との結合原子とする分子量１以上２００未満の置換基であって、それぞれ同じであっても異なっていても良い。
Ｒ１、Ｒ２、Ｚ１及びＺ２の少なくとも一つは重合性の官能基を有し、ａ及びｂは１又は２であり、ａ及び／又はｂが２の場合はＺ１及びＺ２は同じであっても異なっていても良い。）
【化５】
2019101301.tif 000049
（一般式（２）中、Ｒ５及びＲ６は、ヘテロ環化合物であり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。ヘテロ環上の置換基は分子量１以上２００未満の置換基であって、それぞれ同じであっても異なっていても良い。前記ヘテロ環上の置換基が複数の場合、置換基は同じであっても異なっていても良く、置換基の分子量の合計が２以上２００未満の置換基である。）
【請求項３】
前記Ｒ１及びＲ２は、メチル基、エチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−メルカプトエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−メルカプトプロピル基、２−メルカプトプロピル基、（メタ）アクリロイル基、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル基、２−メチル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチル基、１−メチル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２−メチル−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２，２−ジメチル−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシブチル基、２−（メタ）アクリロイルオキシブチル基のいずれかであり、
前記Ｚ１及びＺ２は、水素原子、クロロ基、メチル基、メトキシ基、エトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基、４−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基、及び下記一般式（４）で表わされる置換基のいずれかであることを特徴とする請求項２に記載の硬化物。
【化６】
2019101301.tif 000050
（一般式（４）中、ｍは一般式（４）の置換基は分子量が２００を超えない範囲である。Ｗは水素又はメチル基である。Ｖは、一般式（４）の置換基の分子量が２００を超えない範囲である。）
【請求項４】
Ｒ１及びＲ２は、メチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−メルカプトエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−メルカプトプロピル基、２−メルカプトプロピル基、（メタ）アクリロイル基、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２−メチル−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２，２−ジメチル−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル基であり、
前記Ｚ１及びＺ２は、水素原子、メチル基、メトキシ基、メチルチオ基、ジメチルアミノ基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基、又は下記一般式（４）で表わされる置換基であることを特徴とする請求項２又は３に記載の硬化物。
【化７】
2019101301.tif 000051
（ｍは０であり、Ｖは下記に示す基より選ばれ、
＊−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣｎＨ２ｎ−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣｎＨ２ｎ−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣｎＨ２ｎ−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣｎＨ２ｎ−Ｓ−＊＊、
＊はアルキレン部位との結合手を表し、＊＊は（メタ）アクリロイル基との結合手を表し、ｎは２乃至５のいずれかの整数である。）
【請求項５】
前記Ｒ１及びＲ２は、メチル基、（メタ）アクリロイル基、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２−メチル−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２，２−ジメチル−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル基であり、
Ｚ１及びＺ２は、水素原子、メチル基、メトキシ基、メチルチオ基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基、又は下記一般式（４）で表わされる置換基であり、それぞれ同じであっても異なっていても良いことを特徴とする請求項２乃至４のいずれか一項に記載の硬化物。
【化８】
2019101301.tif 000052
（ｍは０であり、Ｖは下記に示す基より選ばれ、
＊−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−Ｓ−＊＊
＊はアルキレン部位との結合手を表し、＊＊は（メタ）アクリロイル基との結合手を表している。）
【請求項６】
少なくとも下記一般式（３）で表わされる化合物と、下記一般式（２）で表わされる化合物と、が重合している硬化物であって、
一般式（２）で表わされる化合物が一般式（１）で表わされる化合物の０．１〜５０．０質量％含有することを特徴とする請求項１に記載の硬化物。
【化９】
2019101301.tif 000053
（一般式（３）中、Ｑは、ＯまたはＳであり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｒ３及びＲ４は、それぞれＳ、Ｑとの結合原子が炭素原子である分子量１５以上１７０未満の置換基であって、それぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｚ３は、水素、炭素、酸素、硫黄、窒素又はハロゲンをベンゼン環との結合原子とする分子量１以上２００未満の置換基である。Ｒ３、Ｒ４及びＺ３の少なくとも一つは重合性の官能基を有し、ｃは１又は２である。）
【化１０】
2019101301.tif 000054
（一般式（２）中、Ｒ５及びＲ６は、ヘテロ環化合物であり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。ヘテロ環上の置換基は分子量１以上２００未満の置換基であって、それぞれ同じであっても異なっていても良い。前記ヘテロ環上の置換基が複数の場合、置換基は同じであっても異なっていても良く、置換基の分子量の合計が２以上２００未満の置換基である。）
【請求項７】
前記Ｑは、Ｏであり、
前記Ｒ３及びＲ４は、メチル基、（メタ）アクリロイル基、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル基、２−メチル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチル基、１−メチル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２−メチル−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２，２−ジメチル−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基のいずれかであり、それぞれ同じであっても異なっていても良く、
前記Ｚ３は、水素原子、クロロ基、メチル基、メトキシ基、メチルチオ基、ジメチルアミノ基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基、４−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基、及び下記一般式（４）で表わされる置換基のいずれかであることを特徴とする請求項６に記載の硬化物。
【化１１】
2019101301.tif 000055
（ｍは０であり、Ｖは下記に示す基より選ばれ、
＊−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、＊−Ｓ−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−Ｓ−＊＊
＊はアルキレン部位との結合手を表し、＊＊は（メタ）アクリロイル基との結合手を表している。）
【請求項８】
前記Ｒ３及び前記Ｒ４は、それぞれ同じであっても異なっていても良く、（メタ）アクリロイル基、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル基、２−メチル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチル基、１−メチル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２−メチル−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２，２−ジメチル−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基のいずれかであり、
前記Ｚ３は、水素原子、クロロ基、メチル基、メトキシ基、メチルチオ基、ジメチルアミノ基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基、４−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基であることを特徴とする請求項７に記載の硬化物。
【請求項９】
前記一般式（２）中、Ｒ５及びＲ６は下記一般式（５）〜（２０）から選ばれるいずれか一つであり、Ｒ５及びＲ６は同じであっても異なっていても良く、
ヘテロ環上の置換基は分子量１以上２００未満の置換基であって、それぞれ同じであっても異なっていても良く、前記ヘテロ環上のＺ４が複数の場合、Ｚ４は同じであっても異なっていても良く、置換基の分子量の合計が２以上２００未満の置換基であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一項に記載の硬化物。
【化１２】
2019101301.tif 000056
【化１３】
2019101301.tif 000057
【化１４】
2019101301.tif 000058
【化１５】
2019101301.tif 000059
【化１６】
2019101301.tif 000060
【化１７】
2019101301.tif 000061
【化１８】
2019101301.tif 000062
【化１９】
2019101301.tif 000063
【化２０】
2019101301.tif 000064
【化２１】
2019101301.tif 000065
【化２２】
2019101301.tif 000066
【化２３】
2019101301.tif 000067
【化２４】
2019101301.tif 000068
【化２５】
2019101301.tif 000069
【化２６】
2019101301.tif 000070
【化２７】
2019101301.tif 000071
（一般式（５）〜（２０）中、Ｚ４は、分子量１以上２００未満の置換基であり、ｄは１乃至５のいずれかの整数であり、ｄが２乃至５の整数の場合、置換基は同じであっても異なっていても良く、前記Ｚ４の分子量の合計が２以上２００未満である。）
【請求項１０】
前記Ｚ４が水素原子、メチル基、メトキシ基、エトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基、（メタ）アクリロイルオキシメチル基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシメチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシメチル基、４−（メタ）アクリロイルオキシブトキシメチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−メチルプロポキシメチル基、（メタ）アクリロイルオキシ−１−エチル基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ−１−エチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ−１−エチル基、４−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ−１−エチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−メチルプロポキシ−１−エチル基のいずれかであることを特徴とする請求項９に記載の硬化物。
【請求項１１】
前記Ｚ４が水素原子、メチル基、メトキシ基、メチルチオ基、ジメチルアミノ基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基、（メタ）アクリロイルオキシメチル基、（メタ）アクリロイルオキシ−１−エチル基であることを特徴とする請求項１０に記載の硬化物。
【請求項１２】
基材と、前記基材上に樹脂が設けられた光学素子であって、
前記樹脂は、請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の硬化物であることを特徴とする光学素子。
【請求項１３】
２つの基材の間に樹脂が設けられた光学素子であって、
前記樹脂は、請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の硬化物であることを特徴とする光学素子。
【請求項１４】
前記光学素子がレンズであることを特徴とする請求項１２又は１３に記載の光学素子。
【請求項１５】
請求項１２乃至１４のいずれか一項の光学素子を有することを特徴とする光学機器。
【請求項１６】
基材上又は基材の間に、請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の硬化物を設ける工程と、
前記硬化物を成形する工程と、を有することを特徴とすることを特徴とする光学素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、硬化物、光学素子及び光学機器に関し、２次分散特性が高い硬化物、光学素子、光学機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、硝材（ガラス材料）や有機樹脂等からなる光学材料は、短波長側になるにつれ徐々にその屈折率が高くなる。この屈折率の波長分散性を表す指標として、アッベ数（分散特性）（νｄ）や２次分散特性（θｇ，Ｆ）等が挙げられる。このアッベ数やθｇ，Ｆ値は、それぞれの光学材料特有の値であるが、多くの場合、ある一定の範囲内に収まっている。図２は、従来の光学材料（硝材及び有機材料）の２次分散特性とアッベ数との関係を示す図である。
【０００３】
屈折光学系においては、分散特性の異なる硝材を適宜組み合わせることによって色収差を減らすことが可能である。例えば、望遠鏡等の対物レンズでは分散の小さい硝材を正レンズ、分散の大きい硝材を負レンズとして、これらを組み合わせて用いることで光軸上に現れる色収差を補正している。ただし、レンズの構成、枚数が制限される場合や使用される硝材が限られている場合等では、色収差を十分に補正することが非常に困難となる場合がある。このような課題を解決する方法の一つとして、異常分散特性を有するガラス材料を活用する方法があり、この方法を利用した光学素子類の設計が行われている。
【０００４】
また、色収差補正機能に優れ、その形状が非球面形状等である光学素子を製造する場合、硝材のみを材料として用いるより、球面ガラス等の硝材の上に樹脂を成形する等の方法が用いられる。この方法は、量産性、成形性、形状の自由度性に優れている。しかし、従来の有機材料の光学特性は、図２に示すように限られた一定の範囲内（２次分散特性［θｇ，Ｆ］が０．７００以下）に収まっており、特異な分散特性を示す有機材料は非常に少ない。
【０００５】
さらに、特異な分散特性を示す有機材料の多くは、二重結合やベンゼン環等で共役系が形成され、剛直性や配向性が高く結晶化しやすい化合物である。このような特異な分散特性を示す有機材料を用いてレンズ等の光学素子を作製した場合、有機材料の結晶化により不均一部分が生じることがある。
【０００６】
特許文献１は、汎用の有機材料よりも高い２次分散特性（高θｇ，Ｆ特性）を有するスルホン（メタ）アクリレートを重合した成形体を有する光学素子を提案している。
【０００７】
また、特許文献２は、複屈折率を低減するために、特許文献１と同様の分子骨格に分岐状の鎖状置換基を導入した化合物を重合した成形体を有する光学素子を提案している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１２−１６７０１９号公報
【特許文献２】特開２０１４−４３５６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献１に示された有機材料は、θｇ，Ｆ値は高いものの、その分子構造上配向しやすく結晶になりやすい。また、特許文献２に示された材料も、θｇ，Ｆ値は高いものの、特許文献１に示された有機材料と同様の分子骨格のため、側鎖に分岐構造を有しているが、結晶になりやすい。
【００１０】
本発明は、以上に述べた背景技術に鑑みてなされたものであり、屈折率の分散特性（アッベ数（νｄ））及び２次分散特性（θｇ，Ｆ）が高く、結晶化し難い硬化物及び該硬化物を用いた光学素子を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の硬化物は、少なくとも下記一般式（１）で表わされる化合物及び／又は一般式（３）で表される化合物と、下記一般式（２）で表わされる化合物と、が重合している硬化物であって、一般式（２）で表わされる化合物が一般式（１）及び一般式（３）で表わされる化合物の合計量の０．１〜５０．０質量％含有することを特徴とする。
【００１２】
【化１】
2019101301.tif 000002
【００１３】
（一般式（１）中、Ｘ及びＹは、ＯまたはＳであり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｒ１及び、Ｒ２は、それぞれＸ、Ｙとの結合原子が炭素原子である分子量１５以上１７０未満の置換基であって、それぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｚ１及びＺ２は、水素、炭素、酸素、硫黄、窒素又はハロゲンをベンゼン環との結合原子とする分子量１以上２００未満の置換基であって、それぞれ同じであっても異なっていても良い。
Ｒ１、Ｒ２、Ｚ１及びＺ２の少なくとも一つは重合性の官能基を有し、ａ及びｂは１又は２であり、ａ及び／又はｂが２の場合はＺ１及びＺ２は同じであっても異なっていても良い。）
【００１４】
【化２】
2019101301.tif 000003
【００１５】
（一般式（２）中、Ｒ５及びＲ６は、ヘテロ環化合物であり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。ヘテロ環上の置換基は分子量１以上２００未満の置換基であって、それぞれ同じであっても異なっていても良い。前記ヘテロ環上の置換基が複数の場合、置換基は同じであっても異なっていても良く、置換基の分子量の合計が２以上２００未満の置換基である。）
【００１６】
【化３】
2019101301.tif 000004
【００１７】
（一般式（３）中、Ｑは、ＯまたはＳであり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｒ３及びＲ４は、それぞれＳ、Ｑとの結合原子が炭素原子である分子量１５以上１７０未満の置換基であって、それぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｚ３は、水素、炭素、酸素、硫黄、窒素又はハロゲンをベンゼン環との結合原子とする分子量１以上２００未満の置換基である。Ｒ３、Ｒ４及びＺ３の少なくとも一つは重合性の官能基を有し、ｃは１又は２である。）
【００１８】
本発明の光学素子は、基材と、前記基材上に樹脂が設けられた光学素子であって、前記樹脂は、上記の硬化物であることを特徴とする。
【００１９】
本発明の光学素子は、２つの基材の間に樹脂が設けられた光学素子であって、前記樹脂は、上記の硬化物であることを特徴とする。
【００２０】
本発明の光学機器は、上記の光学素子を有することを特徴とする。
【００２１】
本発明の光学素子の製造方法は、基材上又は基板間に、上記の硬化物を設ける工程と、前記硬化物を成形する工程と、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、屈折率の分散特性（アッベ数（νｄ））及び２次分散特性（θｇ，Ｆ）が高く、かつ有機材料の結晶化を従来技術よりも抑制できる硬化物を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の光学素子の例を示す概略図である。
【図２】従来の光学材料の２次分散特性とアッベ数との関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００２５】
（光学用組成物）
まず本実施形態の光学用組成物について説明する。本明細書において、光学用組成物とは、樹脂の硬化物を硬化させる前における原材料である。
【００２６】
本実施形態に係る光学用組成物は、少なくとも下記一般式（１）で表わされる化合物及び／又は一般式（３）で表される化合物と、下記一般式（２）で表わされる化合物と、を有する。本実施形態に係る光学用組成物は、一般式（２）で表わされる化合物が、一般式（１）及び一般式（３）で表わされる化合物の合計量の０．１〜５０．０質量％含有することを特徴とする。
【００２７】
【化４】
2019101301.tif 000005
【００２８】
（一般式（１）中、Ｘ及びＹは、ＯまたはＳであり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｒ１及び、Ｒ２は、それぞれＸ、Ｙとの結合原子が炭素原子である分子量１５以上１７０未満の置換基であって、それぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｚ１及びＺ２は、水素、炭素、酸素、硫黄、窒素又はハロゲンをベンゼン環との結合原子とする分子量１以上２００未満の置換基であって、それぞれ同じであっても異なっていても良い。
Ｒ１、Ｒ２、Ｚ１及びＺ２の少なくとも一つは重合性の官能基を有し、ａ及びｂは１又は２であり、ａ及び／又はｂが２の場合はＺ１及びＺ２は同じであっても異なっていても良い。）
【００２９】
【化５】
2019101301.tif 000006
【００３０】
（一般式（２）中、Ｒ５及びＲ６は、ヘテロ環化合物であり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。ヘテロ環上の置換基は分子量１以上２００未満の置換基であって、それぞれ同じであっても異なっていても良い。前記ヘテロ環上の置換基が複数の場合、置換基は同じであっても異なっていても良く、置換基の分子量の合計が２以上２００未満の置換基である。）
【００３１】
【化６】
2019101301.tif 000007
【００３２】
（一般式（３）中、Ｑは、ＯまたはＳであり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｒ３及びＲ４は、それぞれＳ、Ｑとの結合原子が炭素原子である分子量１５以上１７０未満の置換基であって、それぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｚ３は、水素、炭素、酸素、硫黄、窒素又はハロゲンをベンゼン環との結合原子とする分子量１以上２００未満の置換基である。Ｒ３、Ｒ４及びＺ３の少なくとも一つは重合性の官能基を有し、ｃは１又は２である。）
【００３３】
以下に、本実施形態の光学用組成物で、少なくとも一般式（１）で表わされる化合物と一般式（２）で表わされる化合物とを含む場合について説明する。
【００３４】
一般式（１）で表わされる化合物において、Ｘ、Ｙは電子供与性の元素であれば分散特性及び２次分散特性は光学設計上効果のある範囲内の特性となるため特に限定はされない。しかし、化合物の耐環境性能や合成し易さ等を考慮すると、Ｘ、Ｙは、Ｏ（酸素原子）またはＳ（硫黄原子）であり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。ただし、Ｘ、Ｙは、化合物の合成上の容易さを考慮すると、それぞれ同じであることが好ましい。より好ましくは、Ｘ、ＹはそれぞれＯである。
【００３５】
Ｒ１及びＲ２は、硬化物の光学特性を低下させなければ特に制限はなく、好ましくはＸ、Ｙとの結合原子が炭素原子である置換基である。Ｒ１及びＲ２は、分子量が大きくなると光学性能が低下し、製造時の精製工程で結晶化できなくなり、光学用材料としての純度まで向上させることが難しくなる。したがって、Ｒ１及びＲ２は、分子量１５以上１７０未満の置換基であり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。具体的には、Ｒ１及びＲ２は、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−メルカプトエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−メルカプトプロピル基、２−メルカプトプロピル基、４−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、４−メルカプトブチル基、３−メルカプトブチル基、２−メルカプトブチル基、アリル基、グリシジル基、イソシアナートメチル基、２−イソシアナートエチル基、３−イソシアナートプロピル基、４−イソシアナートブチル基、（メタ）アクリロイル基、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル基、２−メチル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチル基、１−メチル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２−メチル−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２，２−ジメチル−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシブチル基、２−（メタ）アクリロイルオキシブチル基等である。
【００３６】
Ｒ１及びＲ２として分子量１５以上１７０未満の置換基で分子量が大きい置換基を選択する場合、硬化物の光学性能を維持するためには、一般式（１）の純度や残留溶剤を高度に制御することが好ましい。また、Ｒ１及びＲ２は、製造上の難易性を考慮するとメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−メルカプトエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−メルカプトプロピル基、２−メルカプトプロピル基、４−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、４−メルカプトブチル基、３−メルカプトブチル基、２−メルカプトブチル基、（メタ）アクリロイル基、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル基、２−メチル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチル基、１−メチル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２−メチル−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２，２−ジメチル−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシブチル基、２−（メタ）アクリロイルオキシブチル基である。
【００３７】
Ｚ１及びＺ２は、硬化物の光学特性を低下させなければ特に制限はなく、好ましくは水素、炭素、酸素、硫黄、窒素又はハロゲンをベンゼン環との結合原子とする置換基であり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｚ１及びＺ２は、分子量が大きくなると光学性能が低下し、また、製造時の精製工程で結晶化できなくなり、光学用材料としての純度まで向上させることが難しくなる。したがって、Ｚ１及びＺ２は、分子量１以上２００未満の置換基である。分子量１以上２００未満の置換基で分子量が大きい置換基を選択する場合、硬化物の光学性能を維持するためには、一般式（１）の純度や残留溶剤を高度に制御することが好ましい。Ｚ１及びＺ２は、製造上の難易性を考慮すると、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、クロロメチルオキシ基、ジクロロメチルオキシ基、トリクロロメチルオキシ基、フルオロメチルオキシ基、ジフルオロメチルオキシ基、トリフルオロメチルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基、４−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基、及び一般式（４）で表わされる構造等が好ましい。
【００３８】
【化７】
2019101301.tif 000008
【００３９】
一般式（４）中、ｍは一般式（４）の置換基の分子量が２００を超えない範囲であれば特に制限はないが、製造上の容易さを考慮するとｍは０が好ましい。
【００４０】
Ｗは、水素又はメチル基であり、Ｖは一般式（４）の置換基の分子量が２００を超えない範囲であれば特に制限はない。しかし、合成上の容易さ、純度を上げる際の容易さを考慮するとＶは下記に示す基より選ばれる。
＊−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣｎＨ２ｎ−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣｎＨ２ｎ−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣｎＨ２ｎ−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣｎＨ２ｎ−Ｓ−＊＊、
【００４１】
＊はアルキレン部位との結合手を表し、＊＊は（メタ）アクリロイル基との結合手を表し、ｎは２乃至５より選ばれる整数の一つである。尚、前記Ｖ中のＣｎＨ２ｎで表される構造においてＺの分子量が２００を超えない範囲であれば、炭素原子上にハロゲン原子、アルキル基、芳香族基、反応性官能基等の置換基があっても良い。前記Ｖとしては、合成上の容易さ及び硬化物の分散特性及び２次分散特性を考慮すると下記で示す構造が好ましい。
＊−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓ−＊＊、
＊−Ｏ−Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２−Ｓ−＊＊、
【００４２】
Ｖとしては、合成上の容易さを考慮すると下記で示す構造が、より好ましい。
＊−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓ−＊＊、
【００４３】
一般式（１）で表わされる化合物の合成上の容易さ特に精製時の容易さを考慮すると、Ｖは下記で示す構造が好ましい。
＊−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓ−＊＊、
【００４４】
製造コストや試薬の臭気、化合物の保存安定性等を考慮すると、Ｖは下記で示す構造が、より好ましい。
＊−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｏ−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−Ｏ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
＊−Ｓ−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−Ｓ−＊＊、
【００４５】
Ｚ１及びＺ２は、製造上の難易度を考慮すると好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基、４−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基、及び一般式（４）で表される置換基のいずれか一つである。
【００４６】
Ｚ１及びＺ２は、製造上の難易度を考慮するとより好ましくは、水素原子、メチル基、メトキシ基、メチルチオ基、ジメチルアミノ基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基、４−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基、一般式（４）で表される置換基のいずれか一つである。
【００４７】
次に、本実施形態に係る光学用組成物の中で、少なくとも一般式（１）で表わされる化合物と一般式（３）で表わされる化合物とを含む光学用組成物について説明する。
【００４８】
【化８】
2019101301.tif 000009
【００４９】
一般式（３）で表わされる化合物において、Ｑは、ＯまたはＳであり、Ｒ３及びＲ４は、Ｓ、Ｑとの結合原子が炭素原子である分子量１５以上１７０未満の置換基であって、それぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｚ３は、水素、炭素、酸素、硫黄、窒素又はハロゲンをベンゼン環との結合原子とする分子量１以上２００未満の置換基であり、Ｒ３、Ｒ４及びＺ３の少なくとも一つは重合性の官能基を有し、ｃは１又は２である。
【００５０】
Ｒ３及びＲ４は、硬化物の光学特性を低下させなければ特に制限はなく、好ましくはＱ或いはＳとの結合原子が炭素原子である置換基である。Ｒ３及びＲ４は、分子量が大きくなると光学性能が低下し、また、製造時の精製工程で結晶化できなくなり、光学用材料としての純度まで向上させることが難しくなる。したがって、Ｒ３及びＲ４は、分子量１５以上１７０未満の置換基であり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−メルカプトエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−メルカプトプロピル基、２−メルカプトプロピル基、４−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、４−メルカプトブチル基、３−メルカプトブチル基、２−メルカプトブチル基、アリル基、グリシジル基、イソシアナートメチル基、２−イソシアナートエチル基、３−イソシアナートプロピル基、４−イソシアナートブチル基、（メタ）アクリロイル基、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル基、２−メチル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチル基、１−メチル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２−メチル−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２，２−ジメチル−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシブチル基、２−（メタ）アクリロイルオキシブチル基であることが好ましい。
【００５１】
Ｒ３及びＲ４は、分子量１５以上１７０未満の置換基で分子量が大きい置換基を選択する場合、硬化物の光学性能を維持するためには、一般式（３）の純度や残留溶剤を高度に制御することが好ましい。Ｒ３及びＲ４は、製造上の難易性を考慮すると、メチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−メルカプトエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−メルカプトプロピル基、２−メルカプトプロピル基、４−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、４−メルカプトブチル基、３−メルカプトブチル基、２−メルカプトブチル基、（メタ）アクリロイル基、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル基、２−メチル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチル基、１−メチル−２−（メタ）アクリロイルオキシエチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２−メチル−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２，２−ジメチル−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピル基、４−（メタ）アクリロイルオキシブチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシブチル基、２−（メタ）アクリロイルオキシブチル基であることがより好ましい。
【００５２】
Ｚ３は、硬化物の光学特性を低下させなければ特に制限はなく、水素、炭素、酸素、硫黄、窒素又はハロゲンをベンゼン環との結合原子とする分子量１以上２００未満の置換基であり、それぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｚ３は、分子量が大きくなると光学性能が低下し、また、製造時の精製工程で結晶化できなくなり、光学用材料としての純度まで向上させることが難しくなるため、分子量１以上２００未満の置換基である。分子量１以上２００未満の置換基で分子量が大きい置換基を選択する場合、硬化物の光学性能を維持するためには、一般式（１）の純度や残留溶剤を高度に制御することが望ましく、製造上の難易性を考慮するとＺ３は、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、クロロメチルオキシ基、ジクロロメチルオキシ基、トリクロロメチルオキシ基、フルオロメチルオキシ基、ジフルオロメチルオキシ基、トリフルオロメチルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基、４−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基、及び一般式（４）で表わされる官能基を用いることが好ましい。
【００５３】
Ｚ３は、製造上の難易度を考慮すると、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基、４−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基、又は一般式（４）で表わされる置換基を用いることがより好ましい。
【００５４】
Ｚ３は、製造上の難易度を考慮すると、水素原子、メチル基、メトキシ基、メチルチオ基、ジメチルアミノ基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基、４−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基、又は上記一般式（４）で表される置換基を用いることが更に好ましい。
【００５５】
一般式（２）で表される化合物において、Ｒ５、Ｒ６は下記式（５）乃至（２０）から選ばれる一つであることが好ましく、Ｒ５、Ｒ６は同じであっても異なっていても良い。
【００５６】
【化１０】
2019101301.tif 000010
【００５７】
【化１１】
2019101301.tif 000011
【００５８】
【化１２】
2019101301.tif 000012
【００５９】
【化１３】
2019101301.tif 000013
【００６０】
【化１４】
2019101301.tif 000014
【００６１】
【化１５】
2019101301.tif 000015
【００６２】
【化１６】
2019101301.tif 000016
【００６３】
【化１７】
2019101301.tif 000017
【００６４】
【化１８】
2019101301.tif 000018
【００６５】
【化１９】
2019101301.tif 000019
【００６６】
【化２０】
2019101301.tif 000020
【００６７】
【化２１】
2019101301.tif 000021
【００６８】
【化２２】
2019101301.tif 000022
【００６９】
【化２３】
2019101301.tif 000023
【００７０】
【化２４】
2019101301.tif 000024
【００７１】
【化２５】
2019101301.tif 000025
【００７２】
Ｚ４は、分子量１以上２００未満の置換基であって、それぞれ同じであっても異なっていても良い。ｄは、構造式上取り得る範囲の１乃至５のいずれかの整数であり、ｄが２乃至５の整数の場合、置換基は同じであっても異なっていても良く、Ｚ４の分子量の合計が２以上２００未満である。具体的には、Ｚ４は、硬化物の光学特性を低下させなければ特に制限はなく、好ましくは水素、炭素、酸素、硫黄、窒素又はハロゲンをベンゼン環との結合原子とする置換基であって、それぞれ同じであっても異なっていても良い。Ｚ４は、製造上の難易性を考慮すると、水素原子、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、メチル基、エチル基、イソプロピル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、クロロメチルオキシ基、ジクロロメチルオキシ基、トリクロロメチルオキシ基、フルオロメチルオキシ基、ジフルオロメチルオキシ基、トリフルオロメチルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ基、４−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ基、（メタ）アクリロイルオキシメチル基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシメチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシメチル基、４−（メタ）アクリロイルオキシブトキシメチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−メチルプロポキシメチル基、（メタ）アクリロイルオキシ−１−エチル基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ−１−エチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ−１−エチル基、４−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ−１−エチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−メチルプロポキシ−１−エチル基であることが好ましい。
【００７３】
Ｚ４は、製造上の難易度を考慮すると水素原子、メチル基、メトキシ基、エトキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基、（メタ）アクリロイルオキシメチル基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシメチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシメチル基、４−（メタ）アクリロイルオキシブトキシメチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−メチルプロポキシメチル基、（メタ）アクリロイルオキシ−１−エチル基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ−１−エチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシプロポキシ−１−エチル基、４−（メタ）アクリロイルオキシブトキシ−１−エチル基、３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−メチルプロポキシ−１−エチル基であることがより好ましい。
【００７４】
Ｚ４は、製造上の難易度を考慮すると、水素原子、メチル基、メトキシ基、メチルチオ基、ジメチルアミノ基、２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ基、（メタ）アクリロイルオキシメチル基、（メタ）アクリロイルオキシ−１−エチル基であることが更に好ましい。
【００７５】
Ｒ７は、それぞれ同じであっても異なっていても良く、メチル基、エチル基、プロピル基、アセチル基等であることが好ましい。
【００７６】
次に、本実施形態の発明の光学用組成物において一般式（１）及び／又は一般式（３）で表わされる化合物に、一般式（２）で表わされる化合物を含有させる効果について説明する。一般に保存瓶中で保存されている光学用組成物には、重合性の材料の重合抑制のために重合禁止剤が添加されている。しかし、重合性の材料が結晶化した場合、結晶状態の重合性の材料の分子の近傍には、重合禁止剤が存在できなくなり、重合性の材料はより重合しやすくなる。その一方で、結晶状態での重合は、液状での重合とは異なり結晶単位毎の重合となるため、保存瓶全体が重合するリスクは低い。重合性の材料が結晶状態で重合した場合の重合物は、光学用組成物への溶解度が低く、光学用組成物を重合した硬化物において散乱を生じる。また、異物として識別されるため、光学用組成物の外観の品質を下げる要因の一つとなる。
【００７７】
また、各種添加剤を添加した混合物の状態の光学用組成物中で、材料の結晶化が進行した場合、光学用組成物中に重合禁止剤や添加剤が集まった不均一部が発生することになり、光学用組成物の外観の品質を下げる要因の一つになる。さらに、不均一部が発生すると、再撹拌等の追加の工程が必要になるため工程管理上も問題となる。
【００７８】
重合性の材料の結晶化を抑制する代表的な方法としては、溶解力の高い材料を添加する方法、結晶化を抑制したい重合性の材料の分子に分子構造が類似した結晶化し難い分子を添加し、結晶化時に進行する重合性の材料の分子の配向を阻害する方法等がある。前者ではその効果を得るために多量の溶解力の高い材料を添加する必要がある。この方法では、重合性の材料の結晶化は抑制できるものの、光学用組成物を硬化して得られる硬化物の光学特性の変化が問題となりうる。後者では、特開２０１４−１９８８１４号公報に示されるように、結晶化を抑制したい重合性の材料の分子に対し、分子構造が類似した、より結晶化し難い分子を添加する方法が一般的である。分子構造が類似した、より結晶化し難い分子として、具体的には、ベースとなる重合性の材料の分子の骨格に対し炭素鎖の長い柔軟性のある置換基の追加または結晶化を抑制させたい分子よりも長い炭素鎖を有する置換基への変更等が挙げられる。
【００７９】
しかし、柔軟性のある置換基の追加や長い炭素鎖を有する置換基への変更を行った重合性の材料に類似の構造を有する化合物を含む光学用組成物は、分散特性や２次分散特性の低下が懸念される。そのため、本実施形態では一般式（１）及び／又は一般式（３）で表わされる化合物に対し、一般式（２）で表わされる化合物を含有させている。一般式（２）で表わされる化合物を含有させる量としては、含有量が少なすぎると結晶化抑制の効果が少なく、また含有量が多すぎると光学用組成物の硬化物が脆くなってしまう。このため、一般式（２）で表わされる化合物を、一般式（１）及び一般式（３）で表わされる化合物の合計量の０．１〜５０．０質量％含有することが好ましい。より好ましくは、本実施形態の光学用組成物の硬化物の脆さを考慮すると、一般式（２）で表わされる化合物を、一般式（１）及び一般式（３）で表わされる化合物の合計量の０．１〜２０．０質量％である。さらに好ましくは、本実施形態の光学用組成物を硬化して成形してなる光学素子の性能や成形物の脆さを考慮すると、一般式（１）及び一般式（３）で表わされる化合物の合計量の５．０〜２０．０質量％である。
【００８０】
一般式（２）で示される化合物は、一般式（１）又は一般式（３）と同じジフェニルスルホン骨格を有しているだけでなくヘテロ環を含有している。このため、一般式（２）で示される化合物は、ヘテロ原子の非共有電子対の効果により一般式（１）の配向による結晶化を効果的に阻害することが可能である。また、一般式（２）の分子量は、一般式（１）又は一般式（３）と同程度のため、光学用組成物の粘度を極端に上昇させることなく結晶化を抑制できる。さらに、ヘテロ環の効果により光学性能も向上するため、添加することで粘度上昇等の悪影響なく結晶化抑制でき、さらに光学性能の向上も期待できる。
【００８１】
一般式（１）又は一般式（３）で表わされる化合物の製造方法は、特開２０１２−１６７０１９を参考にして製造したが、その製造方法については特に限定されず、どの様な製造方法でも採用することが可能である。
【００８２】
一般式（２）で表される化合物の製造方法は、一般式（１）と同様に特開２０１２−１６７０１９を参考にした鈴木カップリングで製造したが、その製造方法については特に限定されず、どの様な製造方法でも採用することが可能である。
【００８３】
（硬化物）
本実施形態の硬化物について説明する。
【００８４】
本実施形態の硬化物は、本実施形態の光学用組成物の重合性の官能基が重合した硬化物である。本実施形態の硬化物は、
少なくとも下記一般式（１）で表わされる化合物及び／又は一般式（３）で表される化合物と、下記一般式（２）で表わされる化合物と、が重合している硬化物である。ｎ一般式（２）で表わされる化合物が一般式（１）及び一般式（３）で表わされる化合物の合計量の０．１〜５０．０質量％含有することを特徴とする。
【００８５】
【化２６】
2019101301.tif 000026
【００８６】
【化２７】
2019101301.tif 000027
【００８７】
本実施形態の硬化物は、下記（Ａ）〜（Ｄ）の態様に大別される。
【００８８】
（Ａ）一般式（１）及び／又は一般式（３）で表わされる化合物と、一般式（２）で表わされる化合物と、を重合させてなる硬化物。
【００８９】
（Ｂ）一般式（１）及び／又は一般式（３）で表わされる化合物と、一般式（２）で表わされる化合物と、他の共重合可能な重合性材料と、を共重合させてなる硬化物。
【００９０】
（Ｃ）一般式（１）及び／又は一般式（３）で表わされる化合物と、一般式（２）で表わされる化合物とを他の共重合可能重合性材料に分散させ、これらを共重合させてなる硬化物。
【００９１】
（Ｄ）一般式（１）及び／又は一般式（３）で表わされる化合物と、一般式（２）で表わされる化合物と、を他のマトリックスポリマーに分散させてなる硬化物。
【００９２】
（硬化物の製造方法）
本実施形態の硬化物の製造方法は、少なくとも一般式（１）で表される化合物又は一般式（３）で表わされる化合物と、一般式（２）で表わされる化合物と、を含む光学用組成物を用意する工程を有する。光学用樹脂組成物は、一般式（２）で表わされる化合物が一般式（１）又は一般式（３）で表わされる化合物の０．１〜５０．０質量％含有する。次に、用意した前記光学用組成物を重合して硬化させる工程を経て、硬化物が製造される。
【００９３】
本実施形態の硬化物が、（Ａ）の態様の硬化物である場合、硬化物は、一般式（１）及び／又は一般式（３）で表わされる化合物と、一般式（２）で表わされる化合物と、重合開始剤と、を含有する光学用組成物を重合することで製造される。尚、この光学用組成物には、必要に応じて重合禁止剤、光増感剤、耐光安定剤、耐熱安定剤、酸化防止剤、離型剤、防カビ剤等をさらに含有させてもよい。
【００９４】
重合開始剤には、光照射によりラジカル種やカチオン種などの活性種を発生するもの、熱によりラジカル種などの活性種を発生するものが挙げられるがこれらに限定されない。
【００９５】
光照射によりラジカル種を発生する重合開始剤としては、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、４−フェニルベンゾフェノン、４−フェノキシベンゾフェノン、４，４’−ジフェニルベンゾフェノン、４，４’−ジフェノキシベンゾフェノン等が挙げられるがこれらに限定されない。
【００９６】
また、光照射によりカチオン種を発生する重合開始剤としては、ヨードニウム（４−メチルフェニル）［４−（２−メチルプロピル）フェニル］−ヘキサフルオロホスフェートが好適な重合開始剤として挙げられるがこれに限定されない。
【００９７】
さらに、熱によりラジカル種を発生する重合開始剤としては、アゾビスイソブチルニトリル（ＡＩＢＮ）等のアゾ化合物、ベンゾイルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシネオヘキサノエート、ｔｅｒｔ−ヘキシルパーオキシネオヘキサノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、クミルパーオキシネオヘキサノエート、クミルパーオキシネオデカノエート等の過酸化物が挙げられるがこれらに限定されない。
【００９８】
光学用組成物に含有される重合開始剤の添加量は、一般式（１）及び／又は一般式（３）で表わされる化合物と、一般式（２）で表わされる化合物との総質量に対して、０．０１質量％以上１０．００質量％以下の範囲が好ましい。尚、重合開始剤は１種類のみで使用することもできるし、２種類以上を併用して使用することもできる。尚、一般式（１）及び／又は一般式（３）で表わされる化合物と、一般式（２）で表わされる化合物と、の合計量に対する重合開始剤の添加比率は、光照射量、さらには、付加的な加熱温度に応じて適宜選択してもよい。また、得られる重合体の目標とする平均分子量に応じて、調整してもよい。
【００９９】
重合禁止剤には、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ヒドロキノンモノエチルエーテル、ヒドロキノンモノプロピルエーテル、ヒドロキノンモノブチルエーテル、ヒドロキノンモノペンチルエーテル、ヒドロキノンモノヘキシルエーテル、ヒドロキノンモノオクチルエーテル、ヒドロキノンモノへプチルエーテル等のヒドロキノン系の重合禁止剤、３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート等の置換基を有するフェノール系の重合禁止剤が挙げられる。但し、ヒドロキノン等のヒドロキノン系の重合禁止剤、ベンゾキノン等のベンゾキノン系の重合禁止剤は、ＵＶ照射で黄変することがあるため好適ではない。
【０１００】
重合禁止剤には、反応時や保存時の重合抑制剤として上述したものが挙げられるがそれらに限定されない。添加量は、前記光学用組成物に対して、０．０１質量％以上１．００質量％以下の範囲が好ましい。また、一つの重合禁止剤のみを使用しても良いし２種類以上の重合禁止剤を組み合わせて使用しても良い。着色の少なさを考慮すると具体的にはヒドロキノン系重合禁止剤を組み合わせて利用することが好ましい。
【０１０１】
光増感剤にはベンゾフェノン、４，４−ジエチルアミノベンゾフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、アシルホスフィンオキサイド等が挙げられる。添加量は、光学用組成物に対して、０．０１質量％以上１０．００質量％以下の範囲が好ましい。
【０１０２】
耐光安定剤には硬化物の光学特性に大きな影響を及ぼさないものであれば特に制限は無く、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ｐ−クレゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−［５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチル−６−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２，２’−メチルレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）］−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ドデシル−４−メチルフェノール等のベンゾトリアゾール系の化合物、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸エチル、２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリル酸  ２−エチルヘキシル等のシアノアクリレート系の化合物、トリアジン系の化合物、オクタベンゾン、２，２’−４，４’−テトラヒドロベンゾフェノン等のベンゾフェノン系の化合物等が挙げられる。上記耐光安定剤が光増感剤の役割を果たす場合もあり、その場合には光増感剤は添加しなくても良い。添加量は、前記光学用組成物に対して、０．０１質量％以上１０．００質量％以下の範囲が好ましい。
【０１０３】
耐熱安定剤には硬化物の光学特性に大きな影響を及ぼさないものであれば特に制限は無く、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）］プロピオネート、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシベンゼンプロパン酸の側鎖を有する炭素数７〜９のアルキルエステル、４，６−ビス（オクチルチオメチル）−ｏ−クレゾール、４，６−ビス（ドデシルチオメチル）−ｏ−クレゾール、エチレンビス（オキシエチレン）ビス［３−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ｍ−トリル）］プロピオネート、ヘキサメチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）］プロピオネート等のヒンダードフェノール系の化合物、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト等のリン系の化合物、ジオクタデシル−３，３’−チオジプロピオネート等の硫黄系の化合物等が挙げられる。添加量は、前記光学用組成物に対して、０．０１質量％以上１０．００質量％以下の範囲が好ましい。
【０１０４】
酸化防止剤には硬化物の光学特性に大きな影響を及ぼさないものであれば特に制限は無く、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドリキシフェニル］メチル］ブチルマロネート等のヒンダードアミン系の化合物等が挙げられる。添加量は、前記光学用組成物に対して、０．０１質量％以上１０．００質量％以下の範囲が好ましい。
【０１０５】
本実施形態の硬化物が、（Ｂ）の態様の硬化物である場合、硬化物は、一般式（１）及び／又は一般式（３）で表わされる化合物と一般式（２）で表わされる化合物とが共重合可能な重合性材料とからなる光学用組成物を重合することで製造される。該光学用組成物中の一般式（１）或いは一般式（３）で表わされる化合物及び一般式（２）で表わされる化合物の含有量は、１．０重量％以上９９重量％以下が望ましい。硬化物の分散特性及び２次分散特性が光学設計上有用な範囲とするためには、一般式（１）或いは一般式（３）で表わされる化合物及び一般式（２）で表わされる化合物の含有量は５０重量％以上９９重量％以下が好ましい。尚、この光学用組成物には、必要に応じて重合禁止剤、光増感剤、耐光安定剤、耐熱安定剤、酸化防止剤、離型剤、防カビ剤等をさらに含有させてもよい。
【０１０６】
共重合可能な重合性材料としては、例えば（メタ）アクリル系モノマーが挙げられるが、特に制限はない。例えば、１，３−アダマンタンジオールジメタクリレート、１，３−アダマンタンジメタノールジメタクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリアクリレート、２−（２−エトキシエトキシ）エチルアクリレート、ステアリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、イソデシルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソボニルメタクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−メタクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−メタクリロイルオキシ）フェニル］フルオレン、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシメチルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシメチルメタクリレート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、エチレングリコールビスグリシジルアクリレート、エチレングリコールビスグリシジルメタクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノールＡジメタクリレート、２，２−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−メタクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アクリロキシジエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−メタクリロキシジエトキシフェニル）プロパン、ビスフェノールＦジアクリレート、ビスフェノールＦジメタクリレート、１，１−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−メタクリロキシエトキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−アクリロキシジエトキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−メタクリロキシジエトキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（４−メタクリロキシエトキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（４−アクリロキシジエトキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（４−メタクリロキシジエトキシフェニル）スルホン、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、グリセロールジアクリレート、グリセロールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、メチルチオアクリレート、メチルチオメタクリレート、フェニルチオアクリレート、ベンジルチオメタクリレート、キシリレンジチオールジアクリレート、キシリレンジチオールジメタクリレート、メルカプトエチルスルフィドジアクリレート、メルカプトエチルスルフィドジメタクリレート等の（メタ）アクリレート化合物、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、ジアリルテレフタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルカーボネート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等のアリル化合物、スチレン、クロロスチレン、メチルスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ジビニルベンゼン、３，９−ジビニルスピロビ（ｍ−ジオキサン）等のビニル化合物、ジイソプロペニルベンゼン等が挙げられるが、これらに限定されない。
【０１０７】
共重合可能な重合性材料の添加量は、光学用組成物の質量に対して、０．１０質量％以上８０．００質量％以下の範囲が好ましい。硬化物の分散特性及び２次分散特性が光学設計上有用な範囲になることを考慮すると好ましくは０．１０質量％以上３０．００質量％以下である。
【０１０８】
本実施態様の硬化物を製造するための光学用組成物に含有される重合開始剤は、（Ａ）の態様において示した重合開始剤を用いることが出来る。その添加量は、重合可能な成分の総質量に対して０．０１質量％以上１０．００質量％以下の範囲が好ましい。尚、重合開始剤は１種類のみで使用することもできるし、２種類以上を併用して使用することもできる。尚、重合開始剤の添加比率は、光照射量、さらには、付加的な加熱温度に応じて適宜選択してもよい。また、得られる重合体の目標とする平均分子量に応じて、調整してもよい。
【０１０９】
本実施態様の硬化物を製造するための光学用組成物に含有される重合禁止剤としては、（Ａ）の態様において示した重合禁止剤を用いることが出来る。添加量は、光学用組成物に対して、０．０１質量％以上１０．００質量％以下の範囲が好ましい。
【０１１０】
紫外線等を照射して重合を開始させる場合には、公知の光増感剤等を使用することもできる。光増感剤としては、（Ａ）の態様において示した光増感剤を用いることが出来る。光増感剤の添加量は、光学用組成物に対して、０．０１質量％以上１０．００質量％以下の範囲が好ましい。
【０１１１】
本実施態様の硬化物を製造するための光学用組成物に含有される耐光安定剤としては、（Ａ）の態様において示した耐光安定剤を用いることが出来る。添加量は、前記光学用組成物に対して、０．０１質量％以上１０．００質量％以下の範囲が好ましい。
【０１１２】
本実施態様の硬化物を製造するための光学用組成物に含有される耐熱安定剤としては、（Ａ）の態様において示した耐熱安定剤が挙げられる。添加量は、前記光学用組成物の０．０１質量％以上１０．００質量％以下の範囲が好ましい。
【０１１３】
本実施態様の硬化物を製造するための光学用組成物に含有される酸化防止剤としては、（Ａ）の態様において示した酸化防止剤を用いることが出来る。添加量は、前記光学用組成物に対して、０．０１質量％以上１０．００質量％以下の範囲が好ましい。
【０１１４】
本実施態様の硬化物が、（Ｃ）の態様の硬化物である場合、硬化物は、一般式（１）或いは一般式（３）で表わされる化合物及び一般式（２）で表わされる化合物が共重合可能な重合性材料に分散されている光学用組成物を重合することで製造される。該光学用組成物に含有される共重合可能な重合性材料の含有量は、望ましくは１．０質量％以上９９．０質量％以下である。得られる硬化物の分散特性や２次分散特性、一般式（１）で表わされる化合物及び一般式（２）で表わされる化合物と重合性材料との相溶性を考慮する必要がある。したがって、一般式（１）及び一般式（３）で表わされる化合物と、一般式（２）で表わされる化合物との含有量は、１．０質量％以上５０．０質量％以下が好ましい。
【０１１５】
尚、この光学用組成物には、必要に応じて重合禁止剤、光増感剤、耐光安定剤、耐熱安定剤、酸化防止剤、離型剤、防カビ剤等をさらに含有させてもよい。
【０１１６】
重合性材料としては、硬化物の分散特性及び２次分散特性が光学設計上有用な範囲になるのであれば特に制限はない。具体的には、（Ｂ）の態様において示された（メタ）アクリル系モノマー、アリル化合物、ビニル化合物、ジイソプロペニルベンゼン化合物、エポキシ化合物、チイラン化合物等を本態様における重合性材料として用いることが出来るが、これらに限定されない。
【０１１７】
本実施態様の硬化物を製造するための光学用組成物に含有される重合開始剤は、（Ａ）の態様において示した重合開始剤を用いることが出来る。その添加量は、重合可能な成分に対して０．０１質量％以上１０．００質量％以下の範囲が好ましい。尚、重合開始剤は１種類のみで使用することもできるし、２種類以上を併用して使用することもできる。尚、重合開始剤の添加比率は、光照射量、さらには、付加的な加熱温度に応じて適宜選択してもよい。また、得られる重合体の目標とする平均分子量に応じて、調整してもよい。
【０１１８】
本実施態様の光学用組成物に含有される重合禁止剤としては、（Ａ）の態様において示した重合禁止剤を用いることが出来る。添加量は、前記光学用組成物に対して、０．０１質量％以上１０．００質量％以下の範囲が好ましい。
【０１１９】
紫外線等を照射して重合を開始させる場合には、公知の光増感剤等を使用することもできる。光増感剤の代表的なものとしては、（Ａ）の態様において示した光増感剤を用いることが出来る。本態様の硬化物を製造するための光学用組成物に含有される光増感剤の添加量は、前記光学用組成物に対して、０．０１質量％以上１０．００質量％以下の範囲が好ましい。
【０１２０】
本実施態様の硬化物を製造するための光学用組成物に含有される耐光安定剤としては、（Ａ）の態様において示した耐光安定剤を用いることが出来る。添加量は、前記光学用組成物に対して、０．０１質量％以上１０．００質量％以下の範囲が好ましい。
【０１２１】
本実施態様の硬化物を製造するための光学用組成物に含有される耐熱安定剤としては、（Ａ）の態様において示した耐熱安定剤を用いることが出来る。添加量は、前記光学用組成物に対して、０．０１質量％以上１０．００質量％以下の範囲が好ましい。
【０１２２】
本実施態様の硬化物を製造するための光学用組成物に含有される酸化防止剤としては、（Ａ）の態様において示した酸化防止剤を用いることが出来る。添加量は、前記光学用組成物に対して、０．０１質量％以上１０．００質量％以下の範囲が好ましい。
【０１２３】
（Ｄ）の態様の硬化物である場合、硬化物は、一般式（１）及び一般式（３）で表わされる化合物と、一般式（２）で表わされる化合物と、これらの化合物と共重合可能なマトリックスポリマーとからなる光学用組成物を重合することで製造される。該光学用組成物に含有されるマトリックスポリマー化合物の含有量は、望ましくは１．０質量％以上９９．０質量％以下である。得られる硬化物の分散特性及び２次分散特性、一般式（１）及び一般式（３）で表わされる化合物及び一般式（２）で表わされる化合物とマトリックスポリマーとの相溶性を考慮する必要がある。これらを考慮すると、マトリックスポリマーの含有量は、１．０質量％以上５０．０質量％以下が好ましい。尚、この光学用組成物には、必要に応じて重合禁止剤、光増感剤、耐光安定剤、耐熱安定剤、酸化防止剤、離型剤、防カビ剤等をさらに含有させてもよい。
【０１２４】
マトリックスポリマーとしては、（メタ）アクリル系ポリマー；アリル系ポリマー；エチレン単独重合体、エチレンとプロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン等の１種または２種以上のα−オレフィンとのランダムまたはブロック共重合体、エチレンと酢酸ビニル、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチルとの１種または２種以上のランダムまたはブロック共重合体、プロピレン単独重合体、プロピレンとプロピレン以外の１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン等の１種または２種以上のα−オレフィンとのランダムまたはブロック共重合体、１−ブテン単独重合体、アイオノマー樹脂、さらにこれら重合体の混合物等のポリオレフィン系樹脂；石油樹脂、テルペン樹脂等の炭化水素系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１１、ナイロン１２、ナイロン６１０、ナイロン６／６６、ナイロン６６／６１０、ナイロンＭＸＤ等ポリアミド系樹脂；ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂；ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリアクリロニトリル等のスチレン、アクリロニトリル系樹脂；ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体等のポリビニルアルコール系樹脂；ポリカーボネート樹脂；ポリケトン樹脂；ポリメチレンオキシド樹脂；ポリスルホン樹脂；ポリイミド樹脂；ポリアミドイミド樹脂等が挙げられるがこれらに限定されない。これらの樹脂は１種類を単独で使用してもよいし、２種類以上を混合して用いてもよい。またこれらマトリックスポリマーは、一般式（１）で表わされる化合物及び一般式（２）で表わされる化合物との相溶性や硬化物の分散特性及び２次分散特性を考慮した上で適宜選択される。
【０１２５】
本態様の硬化物を製造するための光学用組成物に含有される重合開始剤は、（Ａ）の態様において示した重合開始剤を用いることが出来る。その添加量は、重合可能な成分に対して０．０１質量％以上１０．００質量％以下の範囲が好ましい。尚、重合開始剤は１種類のみで使用することもできるし、２種類以上を併用して使用することもできる。尚、重合開始剤の添加比率は、光照射量、さらには、付加的な加熱温度に応じて適宜選択してもよい。また、得られる重合体の目標とする平均分子量に応じて、調整してもよい。
【０１２６】
本実施態様の硬化物を製造するための光学用組成物に含有される重合禁止剤としては、（Ａ）の態様において示した重合禁止剤を用いることが出来る。添加量は、前記光学用組成物に対して、０．０１質量％以上１０．００質量％以下の範囲が好ましい。
【０１２７】
紫外線等を照射して重合を開始させる場合には、公知の光増感剤等を使用することもできる。光増感剤の代表的なものとしては、（Ａ）の態様において示した光増感剤を用いることが出来る。本態様の硬化物を製造するための光学用組成物に含有される光増感剤の添加量は、前記光学用組成物に対して、０．０１質量％以上１０．００質量％以下の範囲が好ましい。
【０１２８】
本実施態様の硬化物を製造するための光学用組成物に含有される耐光安定剤としては、（Ａ）の態様において示した耐光安定剤を用いることが出来る。添加量は、前記光学用組成物に対して、０．０１質量％以上１０．００質量％以下の範囲が好ましい。
【０１２９】
本実施態様の硬化物を製造するための光学用組成物に含有される耐熱安定剤としては、（Ａ）の態様において示した耐熱安定剤を用いることが出来る。添加量は、前記光学用組成物に対して、０．０１質量％以上１０．００質量％以下の範囲が好ましい。
【０１３０】
本実施態様の硬化物を製造するための光学用組成物に含有される酸化防止剤としては、（Ａ）の態様において示した酸化防止剤を用いることが出来る。添加量は、前記光学用組成物に対して、０．０１質量％以上１０．００質量％以下の範囲が好ましい。
【０１３１】
各種添加剤や汎用モノマー及びマトリックスポリマーとの混合方法は、均一に混合できるのであれば特に制限はなく、溶剤等に全ての材料を混合後、溶剤を除去する方法、材料を加熱して溶融しそのまま混合する方法等である。前記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の態様の硬化物を得るための光学用組成物を調製する際には、溶剤中で混合する方法が均一になるので好ましい。一方前記（Ｄ）の態様の硬化物を得るための光学用組成物を調製する際には、マトリックスモノマーの溶剤への低い溶解度を考慮すると材料を加熱してそのまま混合する方法が好ましい。
【０１３２】
溶剤を除去する方法としては、光学用組成物中の残留溶剤量が少なくなるのであれば特に制限はなく、減圧留去法や蒸留法等である。減圧留去法では、減圧下で重合反応が促進される可能性もあるため、酸素を含んだ気体を流通させながら減圧留去することが好ましい。また、蒸留法では、加熱により重合反応が促進される可能性もあるため、重合禁止剤の追加や加熱温度を適宜調整することが好ましい。
【０１３３】
本実施形態の光学用組成物を重合し、上記（Ａ）〜（Ｄ）の態様の硬化物を製造する場合、重合反応は光学用組成物中の重合開始剤により開始される。重合開始剤が光照射により活性種を発生する光重合開始剤である場合、光重合開始剤が活性種を発生する好適な波長の光を照射することで、本実施形態の硬化物の製造を行う。好適な波長の光としては、例えば、紫外光または可視光が挙げられる。また、重合開始剤が加熱により活性種を発生する熱重合開始剤である場合、前記熱重合開始剤が活性種を発生する好適な温度に加熱することで、本実施形態の硬化物の製造を行う。好適な温度としては、例えば８０℃以上１８０°以下である。
【０１３４】
（光学素子及び光学素子の製造方法）
次に、本実施形態の光学素子及びその製造方法について図を参照しながら説明する。
【０１３５】
本実施形態の光学素子は、上記（Ａ）〜（Ｄ）の態様の硬化物を成形してなることを特徴とする。図２は、本実施形態の光学素子の例としての光学レンズを示す概略図である。図２（ａ）の光学素子は、本実施形態の硬化物を成形加工してなる薄膜（光学部材１０）が基材であるレンズ基板２０の片方の面上に設けられている。
【０１３６】
図２（ａ）の光学素子を製造する方法としては、例えば、光透過性材料からなる基材上に、膜厚の薄い層構造の本実施形態の硬化物を形成する方法が挙げられる。具体的には、金属材料等からなる型をガラス基板から一定の距離を置いて設け、この型とガラス基板との間にある空隙に流動性の本実施形態の光学用組成物を充填する。その後、型を軽く抑えることで、型成形を行う。そして型を抑えつけたまま、光学用組成物の重合を行う。重合反応は光照射または加熱により行われる。
【０１３７】
光重合により光学用組成物の重合を行う場合、例えば、基板として利用する光透過性材料、具体的にはガラス基板を介して、成形されている光学用組成物のモノマー等の原料に対して、均一に光照射を実施する。照射される光量は、光重合開始剤を利用した反応機構に応じて、また、含有される光重合開始剤の含有比率に応じて、適宜選択される。
【０１３８】
前述のように、かかる光重合反応による光学用組成物の硬化物の製造においては、照射される光が型成形されているモノマー等の原料の全体に均一に照射されることがより好ましい。従って、利用される光照射は、基板に利用する光透過性材料、例えばガラス基板を介して、均一に行うことが可能な波長の光を選択することが一層好ましい。この際、光透過性材料の基板上に形成する光学用組成物の厚さを薄くすることは、本実施形態にはより好適である。
【０１３９】
また、熱重合により光学用組成物の重合を行う場合、前記型を加熱することにより光学用組成物の重合を行ってもよく、型成形された光学用組成物をオーブン等の加熱機器中で加熱することで光学用組成物の重合を行ってもよい。加熱温度は、熱重合開始剤を利用した反応機構に応じて、また、含有される光重合開始剤の含有比率に応じて、適宜選択される。
【０１４０】
光重合反応による光学用組成物の硬化物の製造と同様に、熱が型成形されている光学用組成物の原料の全体に均一に加えられることがより好ましい。従って、利用される加熱方法は、型成形された光学用組成物を加熱機器中で均一に加熱することが一層好ましい。また、型上に形成する硬化物の厚さを薄くすることで、型を加熱することにより光学用組成物の重合する製造方法でも、光学用組成物を均一に加熱することができる。
【０１４１】
一方、図２（ｂ）の光学素子は、本実施形態の硬化物を成形加工してなる薄膜（光学部材１０）が２つの基材の間、すなわちレンズ基板３０とレンズ基板４０との間に設けられている。図２（ｂ）の光学素子を製造する方法としては、例えば、レンズ基板３０とレンズ基板４０との間に、未硬化の光学用組成物等を流し込み、軽く抑えることで成形を行う。そしてこの状態に保ったまま未硬化の樹脂組成物の光重合を行うことで、硬化物とする。それにより本実施形態の硬化物がレンズ基板３０及びレンズ基板４０に挟まれた光学素子を得ることができる。
【０１４２】
また、熱重合法による硬化物の形成を行うこともできる。この場合、全体の温度をより均一とすることが望ましく、光透過性材料の基板上に形成する重合性組成物の硬化物の膜厚を薄くすることが、本実施形態の光学素子にはより好適なものとなる。
【０１４３】
また形成する硬化物を厚くする場合には、膜厚、樹脂成分の光吸収などを考慮した光の照射量、光の照射強度、光源など、及び加熱温度、加熱時間などを適宜選択することで、硬化物を厚くすることが可能である。
【０１４４】
一方、本実施形態の硬化物を上記（Ｃ）の態様で用いる場合、硬化物の成形方法として溶融成形法を用いることができる。溶融成形法を用いることで、低複屈折性、機械強度及び寸法精度等の特性に優れた成形物を得ることができる。溶融成形法としては、プレス成形、押し出し成形、射出成形等が挙げられるが、成形性及び生産性の観点から射出成形が好ましい。
【０１４５】
また、成形工程における成形条件は、使用目的または成形方法により適宜選択される。射出成形における硬化物の温度は、１５０℃から４００℃の範囲であることが好ましく、２００℃から３５０℃の範囲であることがより好ましく、２００℃から３３０℃の範囲であることが更に好ましい。この温度範囲で硬化物を成形することにより、成形時に適度な流動性を樹脂に付与して成形物である本実施形態の光学素子のヒケやひずみの発生を防止することができる。また、この温度範囲で硬化物を成形することにより、硬化物の熱分解によるシルバーストリークの発生を防止し、さらには、光学素子の黄変を効果的に防止することができる。
【０１４６】
本実施形態の光学素子は、例えばカメラレンズ等の光学レンズとして利用できる。また、本実施形態の光学素子を用いて、光学素子を有する光学機器、例えば望遠鏡、双眼鏡、顕微鏡、カメラ、内視鏡等に用いることができる。
【実施例】
【０１４７】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下に説明する実施例に限定されるものではない。
【０１４８】
（化合物の合成）
下記化合物Ａ乃至化合物Ｏは特開２０１４−４３５６５号公報及び特開２０１２−１６７０１９号公報に基づいて合成した。また、前記一般式（１）及び／又は（３）と前記一般式（２）を有する光学用組成物は、必要な材料全てを全てが溶解する溶剤中で混合し、溶剤を減圧留去して製造した。その際、光学用組成物の重合を抑制するため５％の酸素を含んだ気体を液中に通しながら行った。
【０１４９】
【化２８】
2019101301.tif 000028
【０１５０】
【化２９】
2019101301.tif 000029
【０１５１】
【化３０】
2019101301.tif 000030
【０１５２】
【化３１】
2019101301.tif 000031
【０１５３】
【化３２】
2019101301.tif 000032
【０１５４】
【化３３】
2019101301.tif 000033
【０１５５】
【化３４】
2019101301.tif 000034
【０１５６】
【化３５】
2019101301.tif 000035
【０１５７】
【化３６】
2019101301.tif 000036
【０１５８】
【化３７】
2019101301.tif 000037
【０１５９】
【化３８】
2019101301.tif 000038
【０１６０】
【化３９】
2019101301.tif 000039
【０１６１】
【化４０】
2019101301.tif 000040
【０１６２】
【化４１】
2019101301.tif 000041
【０１６３】
【化４２】
2019101301.tif 000042
【０１６４】
（評価サンプルの作製手順）
（１）光学用組成物の調製
一般式（１）又は一般式（３）で表わされる化合物と前記一般式（２）で表わされる化合物との含有量が、各実施例または各比較例に示される含有量となるように、それぞれの材料を秤量し混合した。その混合物に対し、０．２質量％の重合禁止剤としての４−メトキシフェノール、０．２質量％の重合開始剤としての１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４／ＢＡＳＦ社（旧チバ社）製）を秤量した。上記混合物と秤量した化合物とをアセトンに溶解させて混合した後、アセトンを留去することで光学用組成物を調製した。また追加の添加剤として前記光学用組成物の説明で挙げた添加剤を添加しても良い。例えば１０質量％のアクリルモノマー等である。
【０１６５】
（２）評価用サンプルの作製
（２ａ）屈折率測定用サンプル
直径３０ｍｍの円板型のガラス基板を２枚用意して、測定対象となる重合禁止剤、重合開始剤等を含む前記光学用組成物を、厚さが５００μｍで均一になるように、スペーサーを設置したガラス基板で挟んだ。サンプルに紫外光を照射することで２枚のガラス基板に挟まっている前記光学用組成物を硬化させ、屈折率測定用サンプルの光学素子を製造した。
【０１６６】
（２ｂ）結晶化確認用サンプル
測定対象となる各実施例および各比較例の光学用組成物を茶褐色瓶（１０ｍｌ）に５±１ｇ充填し、８０℃の恒温槽で１時間静置した。その後、２３℃の恒温槽に静置した。
【０１６７】
（作製サンプルの評価方法）
（２）測定及び評価
（２ａ）屈折率、分散特性（アッベ数）、２次分散特性（θｇ，Ｆ）
アッベ屈折計（カルニュー光学工業）を用いて測定し、表には波長５８７．６ｎｍでの屈折率並びに下記式より算出した分散特性及び２次分散特性を示す。
アッベ数（分散特性）  ：［νｄ］＝（ｎｄ−１）／（ｎＦ−ｎＣ）
２次分散特性        ：［θｇ，Ｆ］＝（ｎｇ−ｎＦ）／（ｎＦ−ｎＣ）
【０１６８】
（２ｂ）結晶化の確認
前記結晶化確認用サンプルは、２３℃の恒温槽で２４時間静置した後に恒温槽から取り出した。そして、林時計工業株式会社製ＳＰＡ−１０ＳＤのＬＥＤライトで茶褐色瓶の外側から結晶化確認用サンプルに光を照射し、結晶化確認用サンプル中の目視で確認できるサイズの結晶（最も長い辺が２ｍｍ以上の結晶）の発生の有無を確認した。以下の基準で評価した。
Ａ：結晶が発生していなかった。
Ｂ：最も長い辺が１ｍｍ未満の結晶が発生した。
Ｃ：最も長い辺が１ｍｍ以上２ｍｍ未満の結晶が発生した。
Ｄ：最も長い辺が２ｍｍ以上の結晶が発生した。
【０１６９】
（実施例１乃至２０）
実施例１〜２０は、表１に記載の添加割合でそれぞれの材料を秤量し、重合開始剤及び重合禁止剤を更に秤量し、これらの総体積の約１０倍量のアセトン中で溶解混合し、溶媒を留去することでそれぞれの光学用組成物を調製した。
【０１７０】
得られた光学用組成物を用いて、上記の方法で評価用サンプルの光学素子を作製して、評価した。評価結果は、表１のようになった。
【０１７１】
【表１】
2019101301.tif 000043
【０１７２】
（比較例１〜６）
比較例１〜６は、表２に記載の材料を用いる以外は実施例１と同様にして、評価用サンプルの光学素子を作製した。評価結果は、表２のようになった。
【０１７３】
【表２】
2019101301.tif 000044
【０１７４】
（評価）
実施例１〜２０の光学素子は、θｇ，Ｆが０．７０以上０．７６以下と高いとともに、結晶化がし難い光学素子が得られた。
【０１７５】
これに対して、比較例１〜６の光学素子は、θｇ，Ｆが０．７０未満か結晶化し易い光学素子しか得られなかった。
【産業上の利用可能性】
【０１７６】
本発明の硬化物及び前記硬化物を成形してなる本発明の光学素子は、屈折率の分散特性（アッベ数（νｄ））及び２次分散特性（θｇ，Ｆ）が高く（高θｇ，Ｆ特性）、色収差補正機能の高い特性を有する。さらに、硬化物を作製する工程でのムラの発生量も減るため光学素子内の屈折率分布の発生も抑制できる。このため、カメラレンズ等の複数枚のレンズを有する装置に利用することができる。
【符号の説明】
【０１７７】
１０  光学部材
２０、３０、４０  基板
【図１】
2019101301.tif 000074
【図２】
2019101301.tif 000075