(57)【要約】【課題】基材を回転させることなく基材上に形成された凹溝が狭ピッチであっても精度よく塗布することができるインクジェット塗布装置及びインクジェット塗布方法を提供する。【解決手段】基材を載置するステージと、ステージを跨いで設けられ、ステージと一方向の主走査方向に移動可能なガントリ部と、ガントリ部に設けられ、基材上に液滴を吐出する複数のノズルを有するインクジェットヘッド部と、を備え、ガントリ部が主走査方向に移動しつつインクジェットヘッド部から液滴を吐出することにより基板上に塗布膜を形成するインクジェット塗布装置であって、インクジェットヘッド部は、主走査方向と直交する副走査方向に移動可能に設けられ、塗布膜形成時、ガントリ部が主走査方向に移動すると同時に、インクジェットヘッド部が副走査方向に移動しつつ液滴を吐出することにより、基板上に塗布膜を形成するように構成する。【選択図】図２
2019188349.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材を載置するステージと、
前記ステージを跨いで設けられ、前記ステージに対して一方向の主走査方向に相対的に移動可能なガントリ部と、
前記ガントリ部に設けられ、基材上に液滴を吐出する複数のノズルを有するインクジェットヘッド部と、
を備え、前記ガントリ部と前記ステージとが相対的に主走査方向に移動しつつインクジェットヘッド部から液滴を吐出することにより基板上に塗布膜を形成するインクジェット塗布装置であって、
前記インクジェットヘッド部は、主走査方向と直交する副走査方向に移動可能に設けられ、塗布膜形成時、前記ガントリ部が主走査方向に移動すると同時に、前記インクジェットヘッド部が副走査方向に移動しつつ液滴を吐出することにより、基板上に塗布膜を形成することを特徴とするインクジェット塗布装置。
【請求項２】
前記インクジェットヘッド部のノズルは、副走査方向に配列されており、ノズルの副走査方向における配列寸法は、少なくともステージ上の基材における副走査方向寸法よりも大きいことを特徴とする請求項１に記載のインクジェット塗布装置。
【請求項３】
ステージ上に載置された基材上に、インクジェットヘッド部を移動させつつ液滴を吐出させることにより基材上に塗布膜を形成する塗布膜形成工程を有するインクジェット塗布方法であって、
前記塗布膜形成工程では、インクジェットヘッド部が、基材に形成された複数の凹状の溝が延びる方向と交差する方向に移動しつつ液滴を吐出することにより基材上に塗布膜を形成することを特徴とするインクジェット塗布方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基材上に液滴を吐出して所定パターンの塗布膜を形成するインクジェット塗布装置及びインクジェット塗布方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
インクジェット塗布技術は、カラーフィルタ等のように基板上に格子状に形成された各画素（膜形成領域）にインク（液滴）を吐出してＲ，Ｇ，Ｂの塗布膜を形成するものに適用されている。近年では、有機ＥＬ、配向膜、回路配線パターンの製造にも適用されており、吐出位置の高精度化が求められている。
【０００３】
例えば、液晶表示パネルに用いられる基材は、そのアクティブエリアに一方向に延びる電極が配列されていることにより、一方向に延びる凹溝１０４（図７参照）が形成されている。そして、凹溝１０４に配向膜の材料をインクジェット塗布装置により塗布することによりアクティブエリアに平坦な塗布膜が形成される。
【０００４】
インクジェット塗布装置は、図６に示すように、基材Ｗを載置するステージ１００と、ステージ１００を跨ぐように配置された一方向（主走査方向）に走行するガントリ部１０１と、このガントリ部１０１に設けられたインクジェットヘッド部１０２とを有しており、ガントリ部１０１を主走査方向に移動させつつインクジェットヘッド部１０２に設けられた多数のノズル１０３（図７参照）から液滴Ｐを吐出して基材Ｗ上に塗布膜が形成される。すなわち、インクジェットヘッド部１０２のノズル位置が基材Ｗの凹溝１０４の位置に位置した状態でガントリ部１０１が主走査方向に走行しつつノズル１０３から液滴Ｐを吐出する。そして、凹溝１０４だけでなく稜線（凸部１０５（図７参照））上にも塗布液が塗布されることにより、アクティブエリア全体に一様な塗布膜が形成される。
【０００５】
近年では、ディスプレイの高精度化、高解像度化に伴って凹溝１０４のピッチが狭くなっており、インクジェット塗布装置のノズル１０３ピッチよりも狭くなっている。すなわち、図７（ａ）に示すように、ノズル１０３のピッチが凹溝１０４のピッチと合わないため、凹溝１０４に入る液滴Ｐがある一方で、凸部１０５に弾かれて意図した凹溝１０４以外の凹溝１０４に流れる液滴Ｐが存在し、その結果、図７（ｂ）に示すように、局所的に塗布液が十分に供給されない１０４ａが存在してしまう場合（いわゆる塗布抜け）が発生する。そのため、従来では、ステージ１００を回転させてインクジェットヘッド部１０２のノズル配列方向に対して凹溝１０４の延びる方向を所定角度傾けることにより、基材Ｗに対する見かけ上のノズル１０３のピッチを狭くして液滴Ｐが吐出される。これにより、凹溝１０４のピッチが狭い場合でも、新たな狭ピッチのノズル１０３を有するインクジェットヘッド部１０２を形成することなく、従来のインクジェットヘッド部１０２をそのまま用いてアクティブエリア全体に一様な塗布膜を形成することができる（例えば下記特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−１１１９９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、上述のようにステージ１００を回転させる構成では、ステージ１００を回転させるスペースが必要になりインクジェット塗布装置が大型化するという問題がある。また、ガントリ部１０１がステージ１００を跨ぐ距離が長くなることから、インクジェットヘッド部１０２の真直性に影響し、ノズル１０３から吐出された液滴Ｐの着弾位置精度に影響を与える虞があるという問題があった。
【０００８】
本発明は、上記の問題点を鑑みてなされたものであり、基材を回転させることなく基材上に形成された凹溝が狭ピッチであっても精度よく塗布することができるインクジェット塗布装置及びインクジェット塗布方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために本発明のインクジェット塗布装置は、基材を載置するステージと、前記ステージを跨いで設けられ、前記ステージに対して一方向の主走査方向に相対的に移動可能なガントリ部と、前記ガントリ部に設けられ、基材上に液滴を吐出する複数のノズルを有するインクジェットヘッド部と、を備え、前記ガントリ部と前記ステージとが相対的に主走査方向に移動しつつインクジェットヘッド部から液滴を吐出することにより基板上に塗布膜を形成するインクジェット塗布装置であって、前記インクジェットヘッド部は、主走査方向と直交する副走査方向に移動可能に設けられ、塗布膜形成時、前記ガントリ部が主走査方向に移動すると同時に、前記インクジェットヘッド部が副走査方向に移動しつつ液滴を吐出することにより、基板上に塗布膜を形成することを特徴としている。
【００１０】
上記インクジェット塗布装置によれば、インクジェットヘッド部から液滴が吐出される塗布膜形成時において、ガントリ部とステージとが相対的に主走査方向に移動すると同時にインクジェットヘッド部が副走査方向に移動しながら液滴が吐出される。すなわち、インクジェットヘッド部が最初に配置された状態では、ノズルの位置が基材の凹溝に対してピッチが合わない場合でもインクジェットヘッド部が副走査方向に移動することによりノズルが凹溝位置に位置したタイミングで液滴を吐出することができる。したがって、主走査方向のみに移動しつつ液滴を吐出する従来のインクジェット塗布装置に比べて、凹溝のピッチが狭い基材に対しても凹溝に確実に液滴を吐出することができるため、狭ピッチ基材のアクティブエリア全体に一様な塗布膜を精度よく形成することができる。
【００１１】
また、前記インクジェットヘッド部のノズルは、副走査方向に配列されており、ノズルの副走査方向における配列寸法は、少なくともステージ上の基材における副走査方向寸法よりも大きい構成としてもよい。
【００１２】
この構成によれば、塗布膜の形成に必要な基材に対するインクジェットヘッド部の走査回数を減らすことができる。
【００１３】
また、上記課題を解決するために本発明のインクジェット塗布方法は、ステージ上に載置された基材上に、インクジェットヘッド部を移動させつつ液滴を吐出させることにより基材上に塗布膜を形成する塗布膜形成工程を有するインクジェット塗布方法であって、前記塗布膜形成工程では、インクジェットヘッド部が、基材に形成された複数の凹状の溝が延びる方向と交差する方向に移動しつつ液滴を吐出することにより基材上に塗布膜を形成することを特徴としている。
【００１４】
上記インクジェット塗布方法によれば、塗布膜形成工程では、基材の凹溝の延びる方向に対して交差する方向に移動しつつ液滴を吐出するため、ノズルの位置が基材の凹溝に対して適切でない場合でも、インクジェットヘッド部が凹溝の延びる方向に対して交差する方向に移動することにより、凹溝に対して適切な位置に移動したタイミングで液滴を吐出することができる。したがって、主走査方向のみに移動しつつ液滴を吐出する従来のインクジェット塗布方法に比べて、凹溝のピッチが狭い基材に対しても確実に凹溝に液滴を吐出することができるため、狭ピッチ基材のアクティブエリア全体に一様な塗布膜を精度よく形成することができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、基材を回転させることなく基材上に形成された凹溝が狭ピッチであっても精度よく塗布することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明のインクジェット塗布装置を概略的に示す側面図である。
【図２】上記インクジェット塗布装置の上面図である。
【図３】インクジェットヘッド部のノズルの配置を示す図である。
【図４】基材とインクジェットヘッド部の位置関係をＸ軸方向から見た図であり、（ａ）は、ある瞬間における状態を示す図であり、（ｂ）は（ａ）の状態から僅かにインクジェットヘッド部２１が移動した状態を示す図である。
【図５】インクジェット塗布装置の制御系を示すブロック図である。
【図６】従来のインクジェット塗布装置を概略的に示す図である。
【図７】基材とインクジェットヘッド部の位置関係をＸ軸方向から見た図であり、（ａ）は、ある瞬間における状態を示す図であり、（ｂ）は、（ａ）の破線部分の拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明のインクジェット塗布装置に係る実施の形態を図面を用いて説明する。
【００１８】
図１は、インクジェット塗布装置の一実施形態を示す側面図であり、図２は、インクジェット塗布装置の上面図である。
【００１９】
インクジェット塗布装置は、図１、図２に示すように、基材Ｗを載置するステージ１０と、基材Ｗに液滴Ｐ（塗布材料）を塗布する液滴ユニット２とを有しており、液滴ユニット２がステージ１０に載置された基材Ｗ上を移動しつつ、液滴Ｐを所定の着弾位置に吐出することにより、基材Ｗ上に塗布膜が形成される。
【００２０】
なお、以下の説明では、この液滴ユニット２が移動する方向をＸ軸方向（主走査方向）、これと水平面上で直交する方向をＹ軸方向（副走査方向）、Ｘ軸およびＹ軸方向の双方に直交する方向をＺ軸方向として説明を進めることとする。
【００２１】
インクジェット塗布装置は、基台１を有しており、この基台１上にステージ１０、液滴ユニット２が設けられている。具体的には、基台１上にステージ１０が設けられており、このステージ１０をＹ軸方向に跨ぐように液滴ユニット２が設けられている。
【００２２】
ステージ１０は、基材Ｗを載置するものであり、載置された基材Ｗが水平な姿勢を維持した状態で載置できるようになっている。具体的には、ステージ１０の表面は、平坦に形成されており、その表面には、吸引孔が複数形成されている。この吸引孔には真空ポンプが接続されており、ステージ１０の表面に基材Ｗを載置した状態で真空ポンプを作動させることにより、吸引孔に吸引力が発生し、基材Ｗが水平な姿勢でステージ１０の表面に吸着保持できるようになっている。そして、ステージ１０上に基材Ｗが保持された状態では、基材Ｗに形成された凹状の溝（単に凹溝Ｓ（図４参照）ともいう）の延びる方向がＸ軸方向に向くように配置される。
【００２３】
また、液滴ユニット２は、基材Ｗ上に塗布材料である液滴Ｐを着弾させて塗布するものであり、塗布材料を吐出するインクジェットヘッド部２１と、このインクジェットヘッド部２１を支持するガントリ部２２とを有している。
【００２４】
このガントリ部２２は、ステージ１０のＹ軸方向両外側に配置される脚部２２ａと、これらの脚部２２ａを連結しＹ軸方向に延びるビーム部材２２ｂとを有する略門型形状に形成されている。そして、このビーム部材２２ｂにインクジェットヘッド部２１が取付けられており、ガントリ部２２は、ステージ１０をＹ軸方向に跨いだ状態でＸ軸方向に移動可能に取り付けられている。本実施形態では、基台１のＹ軸方向両端部分にはそれぞれＸ軸方向に延びるレール（不図示）が設置されており、脚部２２ａがこのレールにスライド自在に取り付けられている。そして、脚部２２ａにはリニアモータ８１（図５参照）が取り付けられており、このリニアモータ８１を駆動制御することにより、ガントリ部２２がＸ軸方向に移動し、任意の位置で停止できるようになっている。
【００２５】
また、脚部２２ａには、エンコーダ８２（図５参照）が設けられており、エンコーダ８２からの位置情報により、インクジェットヘッド部２１のＸ軸方向の位置を把握することができる。すなわち、エンコーダ８２と後述の制御装置とが接続されており、エンコーダ８２からの出力信号を受信した制御装置により、インクジェットヘッド部２１のＸ軸上の位置が検出されるようになっている。
【００２６】
また、ビーム部材２２ｂは、両脚部２２ａを連結する柱状部材である。このビーム部材２２ｂには、インクジェットヘッド部２１が取付けられている。具体的には、ビーム部材２２ｂのＸ軸方向一方側の側面に、インクジェットヘッド部２１が取り付けられており、このインクジェットヘッド部２１に設けられたノズル３１ａ，４１ａ（図３参照）がステージ１０の表面に向く姿勢で取付けられている。したがって、ガントリ部２２がＸ軸方向に移動又は停止するにしたがって、インクジェットヘッド部２１もそれに付随してＸ軸方向に移動又は停止を行うことができ、ガントリ部２２の移動量を調節することにより、ステージ１０の表面に載置された基材Ｗ上にインクジェットヘッド部２１を位置させて基材Ｗ上に塗布材料である液滴Ｐを吐出できるようになっている。
【００２７】
また、インクジェットヘッド部２１は、複数のノズル３１ａ，４１ａを一体化させたものである。本実施形態では、インクジェットヘッド部２１は、複数のノズル３１ａを有する第１ノズルユニット３０と、複数のノズル４１ａを有する第２ノズルユニット４０とを有しており、第１ノズルユニット３０と第２ノズルユニット４０とがＸ軸方向に互いに隣接して配置された状態で固定されている。本実施形態では、ノズル３１ａとノズル４１ａは同じノズルが用いられており、同じ大きさの粒径の液滴Ｐを吐出できるようになっている。なお、ノズル３１ａとノズル４１ａとで異形ノズルを用いて粒径の異なる液滴Ｐを吐出できる構成にしてもよい。
【００２８】
このインクジェットヘッド部２１は、ビーム部材２２ｂに沿ってＹ軸方向に第１ノズルユニット３０と第２ノズルユニット４０とが一体となって移動できるように形成されている。具体的には、ビーム部２２ｂにはＹ軸方向に延びるレール（不図示）が設けられており、このレールにインクジェットヘッド部２１がスライド自在に取り付けられている。そして、リニアモータ８１を駆動制御することにより任意の位置に移動、及び、停止できるようになっている。そして、インクジェットヘッド部２１は、Ｙ軸方向に微少移動できようになっており、基材Ｗに対してＹ軸方向の所定位置に塗布材料である液滴Ｐを精度よく着弾させることができる。すなわち、ビーム部材２２ｂには、エンコーダ８２が設けられており、このエンコーダ８２からの位置情報により、インクジェットヘッド部２１のＹ軸方向の位置を把握することができるようになっている。そして、エンコーダ８２と後述の制御装置とが接続されており、エンコーダ８２からの出力信号を受信した制御装置により、インクジェットヘッド部２１のＹ軸上の位置が検出されるようになっている。したがって、インクジェットヘッド部２１がＹ軸方向に移動することにより、インクジェットヘッド部２１とステージ１０とが相対的に移動し、ステージ１０上の基材Ｗの所定位置に精度よく液滴Ｐを着弾させることができるようになっている。
【００２９】
第１ノズルユニット３０は、図３に示すように、ノズル３１ａを有する複数のヘッドモジュール３１を備えている。本実施形態では、複数のヘッドモジュール３１がＹ軸方向（副走査方向）に沿って配列されており、塗布方向に対して直交する方向に配置されている。ヘッドモジュール３１は、複数のノズル３１ａを有しており、ノズル３１ａが一方向に所定の配列ピッチで整列した状態で設けられている。本実施形態では、ノズル３１ａの副走査方向における配列方向寸法が、基材Ｗの副走査方向寸法よりも大きい寸法になるように構成されている。これにより、図２に示すように、ガントリ部２２がＸ軸方向に移動しつつ、インクジェットヘッド部２１がＹ軸方向に移動して、いわゆる、インクジェットヘッド部２１が斜行走行を行った場合に、１回の走査で基材Ｗ上の塗布エリア（アクティブエリア）すべてを液滴Ｐの着弾エリアにすることができる。
【００３０】
また、このノズル３１ａは、汎用性のあるノズルが使用されており、ヘッドモジュール３１に駆動電圧が印加されると、各ノズル３１ａに共通の駆動電圧が印加され、各ノズル３１ａから所定の液量の液滴Ｐが吐出されるようになっている。
【００３１】
また、ヘッドモジュール３１は、それぞれが互いに重複する部分を有するようにずらして配置されている。図３の例では、隣接するヘッドモジュール３１がＸ軸方向に交互にずらして配置されている。すなわち、これらのヘッドモジュール３１は、ノズル３１ａの配置間隔とヘッドモジュール３１の両端部分とでは寸法が異なっているため、この両端部分の寸法分を相殺できるようにＸ軸方向にずらしつつＹ軸方向に配列される。すなわち、第１ノズルユニット３０は、Ｘ軸方向に見て通常ノズル３１ａがＹ軸方向に等間隔で配置されており、第１ノズルユニット３０全体としてＸ軸方向に見て、すべての通常ノズル３１ａがＹ軸方向に沿って一定の配列ピッチで配列され、Ｘ軸方向から見てＹ軸方向に亘って等間隔で配置されている。
【００３２】
なお、第２ノズルユニット４０は、第１ノズルユニット３０と同じ構成であるため、説明を省略する。
【００３３】
次に、上記インクジェット塗布装置の制御系の構成について図５に示すブロック図を用いて説明する。
【００３４】
図５は、この実装装置に設けられた制御装置９０の制御系を示すブロック図である。図５に示すように、この塗布装置は、上述した各種ユニットの駆動を制御する制御装置９０が設けられている。この制御装置９０は、主制御部９１、記憶部９１ａ、駆動制御部９２、位置検出部９３、吐出制御部９４、入出力装置制御部９５とを有している。
【００３５】
主制御部９１は、予め記憶されたプログラムに従って一連の塗布動作を実行すべく、駆動制御部９２を介して各ユニットのリニアモータ８１等の駆動装置を駆動制御するとともに、塗布動作に必要な各種演算を行うものである。具体的には、吐出位置の演算、ヘッドモジュール３１、４１に液滴Ｐを吐出させるための駆動電圧の作成及び修正を行うことができる。本実施形態では、基材Ｗ上に液滴Ｐを着弾させるべき着弾位置と、着弾位置に対する吐出すべきノズル３１ａ、４１ａの選択が行われる。すなわち、吐出した液滴Ｐが基材Ｗの一部の凹溝Ｓに偏らないように着弾位置が決定される一方で、後述の記憶部９１ａで記憶された各ノズル３１ａ、４１ａの液滴量から、基材Ｗ上に一様な塗布膜が形成できるように、各着弾位置に対するノズル３１ａ、４１ａが選択される。この着弾位置に対するノズル３１ａ、４１ａの選択は、マッピングデータとして記憶部９１ａで記憶され、実際の塗布動作が開始されると、このマッピングデータを基にして各駆動装置、ノズル３１ａ、４１ａの動作制御が行われる。
【００３６】
また、主制御部は、記憶部９１ａを有しており、後述の入出力装置制御部９５で入力されたデータや、主制御部で演算された演算結果、例えば、演算されたマッピングデータが一時的に記憶される。
【００３７】
駆動制御部９２は、制御本体部９１からの制御信号に基づいて、リニアモータ８１等を駆動制御するものである。具体的には、リニアモータ８１を制御することにより、ガントリ部２２のＸ軸方向への移動、インクジェットヘッド部２１のＹ軸方向への移動等が駆動制御される。本実施形態では、ガントリ部２２のＸ軸方向の移動中にインクジェットヘッド部２１がＹ軸方向に移動するように制御され、インクジェットヘッド部２１が基材Ｗの凹溝Ｓの延びる方向（本実施形態ではＸ軸方向）に対して交差する方向に移動（斜行走行）できるように制御される。
【００３８】
位置検出部９３は、エンコーダ８２からの信号に基づいて、ガントリ部２２の位置、インクジェットヘッド部２１の位置を検出する。そして、インクジェットヘッド部２１の位置を検出することにより、各ノズル３１ａ、４１ａ毎の位置が演算されて把握されるようになっている。
【００３９】
吐出制御部９４は、各ノズル３１ａ、４１ａから液滴Ｐが吐出されるタイミングを制御するものである。すなわち、上述のマッピングデータに基づいて、それぞれのノズル３１ａ、４１ａが所定の位置に位置したときに、駆動電圧を制御して当該ノズル３１ａ、４１ａから液滴Ｐを吐出させる。これにより、所定の位置に液滴Ｐを着弾させることができる。本実施形態では、マッピングデータに基づいて、位置検出部９３により検出されたガントリ部２２の位置、及び、インクジェットヘッド部２１の位置により、所定のノズル３１ａ、４１ａがマッピングデータにおける着弾位置になったときに、駆動電圧が印加され、液滴Ｐの吐出が行われる。
【００４０】
入出力装置制御部９５は、キーボード８３、タッチパネル８４等の各入出力装置を制御するものである。具体的には、基材Ｗの種類、各ノズル３１ａ、４１ａから吐出される液滴Ｐの初期吐出量が記憶されており、キーボード８３、タッチパネル８４から入出力装置制御部９５を通じて変更できるようになっている。
【００４１】
次に、本実施形態のインクジェット塗布装置の塗布動作について説明する。
【００４２】
まず、基材Ｗがステージ１０上に供給されると、基材Ｗは、基材Ｗの凹溝Ｓの延びる方向がＸ軸方向に沿う状態に位置決めされてステージ１０上に吸着固定される。そして、予め入力された基材Ｗデータに基づいて、制御装置の主制御部９１において当該基材Ｗのマッピングデータが演算され記憶部９１ａで記憶される。すなわち、基材Ｗ上に一様な塗布膜が形成できるように着弾位置と、着弾位置に対するノズル３１ａ、４１ａの選定が行われる。
【００４３】
次に、液滴Ｐを吐出して基材Ｗ上に塗布膜が形成される。具体的には、マッピングデータに基づいて、ガントリ部２２をＸ軸方向に移動させつつ、同時にインクジェットヘッド部２１をＹ軸方向に移動させてノズル３１ａ、４１ａから液滴Ｐを吐出させる。すなわち、基材Ｗの凹溝Ｓの延びる方向と交差する方向に移動させながら、各ノズル３１ａ、４１ａが所定の位置、すなわち各ノズル３１ａ、４１ａの着弾位置に位置した際に液滴Ｐを吐出する。
【００４４】
ここで、図４は、基材Ｗとインクジェットヘッド部２１の位置関係をＸ軸方向から見た図であり、図４（ａ）は、ある瞬間における状態、図４（ｂ）は図４（ａ）の状態から僅かにインクジェットヘッド部２１が移動した状態を示す図である。例えば、ノズル３１ａ、４１ａから液滴Ｐを吐出させると、直接凹溝Ｓに着弾された液滴Ｐは、そのまま凹溝Ｓに残るが、凹溝Ｓを形成する凸部Ｔに着弾すると、凸部Ｔの中央に着弾した液滴Ｐは、凸部Ｔの両側の凹溝Ｓに流れ、凸部Ｔの中央からずれた位置に着弾すると、ずれた側の凸部Ｔに流れるものと仮定する。また、凹溝Ｓのうち、特定の凹溝Ｓについては、凹溝Ｓ１〜Ｓ４と呼び、特定のノズル３１ａ、４１ａについても、ノズルＮ１〜Ｎ３と呼ぶことにする。
【００４５】
塗布開始時点では、インクジェットヘッド部２１と凹溝Ｓとが図４（ａ）に示す位置関係であったと仮定すると、ノズルＮ１から吐出された液滴Ｐは、液滴Ｐすべてが凹溝Ｓ１に着弾するため液滴量は１となる。ノズルＮ２についても同様に凹溝Ｓ２の液滴量は１である。また、ノズルＮ３から吐出された液滴Ｐは、凸部Ｔの右寄りに着弾するため、この液滴Ｐは凹溝Ｓ４に流れ、凹溝Ｓ４の液滴量は１となる。一方、凹溝Ｓ３については、液滴Ｐの供給がないため、液滴量はゼロである。ところが、インクジェットヘッド部２１がＹ軸方向にも移動するため、ノズルＮ２が凹溝Ｓ３上に位置したときに吐出させることにより、凹溝Ｓ３にも液滴Ｐが供給される。すなわち、従来では、Ｘ軸方向のみに走査させて塗布させるため、この凹溝Ｓ３で液抜けの現象が発生する可能性が高くなるが、本発明では、時間差があるものの、凹溝Ｓ３についても、凹溝Ｓ１、Ｓ２と同じ液滴量を供給することができる。このように、基材Ｗの凹溝Ｓすべてに順次液滴Ｐを供給し、基材Ｗ上に一様な塗布膜を形成する。
【００４６】
基材Ｗ上に塗布膜が形成されると、基材Ｗの吸着が解除され、ロボットハンド等の搬送装置により後工程に搬送される。
【００４７】
このように、上記実施形態のインクジェット塗布装置によれば、インクジェットヘッド部２１から液滴Ｐが吐出される塗布膜形成時において、ガントリ部２２の主走査方向への移動と同時にインクジェットヘッド部２１が副走査方向に移動しながら液滴Ｐが吐出される。すなわち、インクジェットヘッド部が最初に配置された状態では、ノズル３１ａ、４１ａの位置が基材Ｗの凹溝Ｓに対してピッチが合わない場合でもインクジェットヘッド部が副走査方向に移動することによりノズル３１ａ、４１ａが凹溝Ｓの位置に位置したタイミングで液滴Ｐを吐出することができる。したがって、主走査方向のみに移動しつつ液滴Ｐを吐出する従来のインクジェット塗布装置に比べて、凹溝Ｓのピッチが狭い基材Ｗに対しても凹溝Ｓに確実に液滴Ｐを吐出することができるため、狭ピッチ基材Ｗのアクティブエリア全体に一様な塗布膜を精度よく形成することができる。
【００４８】
また、上記実施形態では、ガントリ部２２の１度の走行動作で基材Ｗ上に一様な塗布膜を形成する例について説明したが、ガントリ部２２を複数回走行させて基材Ｗ上に塗布膜を形成するものであってもよい。すなわち、基材Ｗ上にインクジェットヘッド部２１を複数回斜行走行させることにより塗布膜を形成する。このように複数回走行させる構成にすることにより、インクジェット部２１を小型化することができ、ノズル３１ａ、４１ａの副走査方向の配列寸法を基材Ｗの副走査方向寸法よりも小さくすることができる。なお、この場合、同方向に複数回走行させてもよいし、一方向に斜行走行させ、次はこれと交差する方向に斜行方向させ、というように、交互に交差する方向に複数回走行させるものであってもよい。
【００４９】
また、上記実施形態では、ガントリ部２２のＸ軸方向位置及び、インクジェットヘッド部２１のＹ軸方向位置の情報からノズル３１ａ、４１ａの位置を検出して位置制御する例について説明したが、インクジェットヘッド部２１のＹ軸方向の移動速度を一定にしてＸ軸方向の位置情報のみで位置制御するものであってもよい。
【００５０】
また、上記実施形態では、液滴ユニット２がステージ１０に対して主走査方向（Ｘ軸方向）に移動する例について説明したが、液滴ユニット２が固定され、ステージ１０が主走査方向に移動し、液滴ユニット２のインクジェットヘッド部２１が副走査方向（Ｙ軸方向）に移動するものであってもよい。例えば、いわゆるロールトゥロールによる長尺の基板をＸ軸方向に搬送する場合、また浮上搬送装置（ステージ１０）により基板ＷがＸ軸方向に搬送される場合に、Ｘ軸方向に搬送される基板Ｗに対してインクジェットヘッド部２１がＹ軸方向に移動しつつ、液滴Ｐを着弾させることにより、インクジェットヘッド部２１が基板Ｗに対して相対的に斜行走行し、塗布膜を形成することができる。
【符号の説明】
【００５１】
２  液滴ユニット
１０  ステージ
２１  インクジェットヘッド部
２２  ガントリ部
Ｓ  凹溝
Ｗ  基材
【図１】
2019188349.tif 000003
【図２】
2019188349.tif 000004
【図３】
2019188349.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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