(57)【要約】【課題】優れた平滑性を有する光透過性フィルムを得ることが可能な保護フィルム付き光透過性フィルムおよび保護フィルムを提供する。【解決手段】  本発明の一の態様によれば、少なくとも樹脂基材２１を備える折り畳み可能な光透過性フィルム２０と、光透過性フィルム２０の表面２０Ａに剥離可能に貼り付けられた保護フィルム３０とを備える保護フィルム付き光透過性フィルム１０であって、保護フィルム３０の厚みが、３０μｍ以上であり、保護フィルム３０のヘイズ値が、１０％以下である、保護フィルム付き光透過性フィルム１０が提供される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも樹脂基材を備える折り畳み可能な光透過性フィルムと、前記光透過性フィルムの少なくとも片面に剥離可能に貼り付けられた保護フィルムとを備える保護フィルム付き光透過性フィルムであって、
前記保護フィルムの厚みが、３０μｍ以上であり、
前記保護フィルムのヘイズ値が、１０％以下である、保護フィルム付き光透過性フィルム。
【請求項２】
前記保護フィルムが、前記光透過性フィルムの両面に剥離可能に貼り付けられている、請求項１に記載の保護フィルム付き光透過性フィルム。
【請求項３】
前記樹脂基材の第１の表面が前記光透過性フィルムの第１の表面をなし、前記保護フィルムが、前記樹脂基材の前記第１の表面に剥離可能に貼り付けられている、請求項１に記載の保護フィルム付き光透過性フィルム。
【請求項４】
前記光透過性フィルムが、前記樹脂基材の少なくとも片面に設けられた樹脂層をさらに備える、請求項１に記載の保護フィルム付き光透過性フィルム。
【請求項５】
前記保護フィルムが、ポリエステル系樹脂からなる基材フィルムと、前記基材フィルムにおける前記光透過性フィルム側の面に設けられた粘着層とを備えている、請求項１に記載の保護フィルム付き光透過性フィルム。
【請求項６】
前記樹脂基材が、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、またはこれらの混合物からなる基材である、請求項１に記載の保護フィルム付き光透過性フィルム。
【請求項７】
前記保護フィルム付き光透過性フィルムが、ロール状に巻回されている、請求項１に記載の保護フィルム付き光透過性フィルム。
【請求項８】
少なくとも樹脂基材を備える折り畳み可能な光透過性フィルムに貼り付け可能な保護フィルムであって、
前記保護フィルムの厚みが、３０μｍ以上であり、
前記保護フィルムのヘイズ値が、１０％以下である、保護フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、保護フィルム付き光透過性フィルムおよび保護フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、スマートフォンやタブレット端末等の画像表示装置が知られているが、現在、折り畳み可能な画像表示装置の開発が行われている。通常、スマートフォンやタブレット端末等はカバーガラスで覆われているが、画像表示装置にカバーガラスを用いた場合、硬度は優れるものの、折り畳もうとすると割れてしまうおそれが高い。このため、折り畳み可能な画像表示装置には、カバーガラスの代わりに折り畳み可能な光学フィルムを用いることが検討されている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１６−１２５０６３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このような光学フィルムの形成には、樹脂基材のみから構成された折り畳み可能な光透過性フィルムまたは樹脂基材と樹脂基材の少なくとも片面に積層された樹脂層から構成された折り畳み可能な光透過性フィルムが用いられている。光透過性フィルムは、通常、ロール状に巻回されており、使用時に引き出されるが、光透過性フィルムをロール状に巻回すると、光透過性フィルム同士が貼り付いてしまうため、引き出しが困難になる。また、樹脂基材を備える光透過性フィルムは、傷が付きやすく、また高価である。このようなことから、光透過性フィルムの少なくとも片面に保護フィルムが貼り合わせられることが多い。保護フィルムは、光透過性フィルムに剥離可能に貼り合わせられており、光透過性フィルムの加工の際に剥離される。
【０００５】
光透過性フィルムにおいては、高い透明性を得ることおよび見た目の品位向上の目的から、優れた平滑性が求められているが、光透過性フィルムに保護フィルムを貼り付けた状態で巻き取られ、圧力が加わることで、保護フィルムの表面の凹凸形状が転写されてしまうので、光透過性フィルムから保護フィルムを剥離すると、樹脂基材の表面に凹凸が現れてしまうという問題がある。特に、光透過性フィルムの樹脂基材に保護フィルムが直接貼り付けられている場合には、樹脂基材の表面に凹凸が顕著に現れる。なお、光透過性フィルムを高温で処理すれば、光透過性フィルムの表面の凹凸を直すことはできるが、非効率であるので、光透過性フィルムの表面に凹凸が現れないことが重要である。
【０００６】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものである。すなわち、優れた平滑性を有する光透過性フィルムを得ることが可能な保護フィルム付き光透過性フィルムおよび保護フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一の態様によれば、少なくとも樹脂基材を備える折り畳み可能な光透過性フィルムと、前記光透過性フィルムの少なくとも片面に剥離可能に貼り付けられた保護フィルムとを備える保護フィルム付き光透過性フィルムであって、前記保護フィルムの厚みが、３０μｍ以上であり、前記保護フィルムのヘイズ値が、１０％以下である、保護フィルム付き光透過性フィルムが提供される。
【０００８】
上記保護フィルム付き光透過性フィルムにおいては、前記保護フィルムが、前記光透過性フィルムの両面に剥離可能に貼り付けられていてもよい。
【０００９】
上記保護フィルム付き光透過性フィルムにおいては、前記樹脂基材の第１の表面が前記光透過性フィルムの第１の表面をなし、前記保護フィルムが、前記樹脂基材の前記第１の表面に剥離可能に貼り付けられていてもよい。
【００１０】
上記保護フィルム付き光透過性フィルムにおいては、前記光透過性フィルムが、前記樹脂基材の少なくとも片面に設けられた樹脂層をさらに備えていてもよい。
【００１１】
上記保護フィルム付き光透過性フィルムにおいては、前記保護フィルムが、ポリエステル系樹脂からなる基材フィルムと、前記基材フィルムにおける前記光透過性フィルム側の面に設けられた粘着層とを備えていてもよい。
【００１２】
上記保護フィルム付き光透過性フィルムにおいては、前記樹脂基材が、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、またはこれらの混合物からなる基材であってもよい。
【００１３】
上記保護フィルム付き光透過性フィルムにおいては、前記保護フィルム付き光透過性フィルムが、ロール状に巻回されていてもよい。
【００１４】
本発明の他の態様によれば、少なくとも樹脂基材を備える折り畳み可能な光透過性フィルムに貼り付け可能な保護フィルムであって、前記保護フィルムの厚みが３０μｍ以上であり、前記保護フィルムのヘイズ値が、１０％以下である、保護フィルムが提供される。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の一の態様および他の態様によれば、優れた平滑性を有する光透過性フィルムを得ることが可能な保護フィルム付き光透過性フィルムおよび保護フィルムを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】実施形態に係る保護フィルム付き光透過性フィルムの概略構成図である。
【図２】連続折り畳み試験の様子を模式的に示した図である。
【図３】折り畳み静置試験の様子を模式的に示した図である。
【図４】実施形態に係る他の保護フィルム付き光透過性フィルムの概略構成図である。
【図５】実施形態に係る他の保護フィルム付き光透過性フィルムの概略構成図である。
【図６】実施形態に係る光学フィルムの概略構成図である。
【図７】実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施形態に係る保護フィルム付き光透過性フィルムおよび保護フィルムについて、図面を参照しながら説明する。本明細書において、「フィルム」、「シート」等の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。したがって、例えば、「フィルム」はシートとも呼ばれるような部材も含む意味で用いられる。図１は本実施形態に係る保護フィルム付き光透過性フィルムの概略構成図であり、図２は連続折り畳み試験の様子を模式的に示した図であり、図３は折り畳み静置試験の様子を模式的に示した図であり、図４および図５は本実施形態に係る他の保護フィルム付き光透過性フィルムの概略構成図である。
【００１８】
＜＜＜保護フィルム付き光透過性フィルム＞＞＞
図１に示される保護フィルム付き光透過性フィルム１０は、少なくとも樹脂基材２１を備える折り畳み可能な光透過性フィルム２０と、光透過性フィルム２０の第１の表面２０Ａ（以下、単に「表面２０Ａ」と称することもある。）に剥離可能に貼り付けられた第１の保護フィルム３０（以下、単に「保護フィルム３０」と称することもある。）と、光透過性フィルム２０の第１の表面２０Ａとは反対側の第２の表面２０Ｂ（以下、単に「表面２０Ｂ」と称することもある。）に剥離可能に貼り付けられた第２の保護フィルム４０（以下、単に「保護フィルム４０」と称することもある。）とを備えている。すなわち、図１に示される保護フィルム付き光透過性フィルム１０においては、光透過性フィルム２０の両面に保護フィルム３０、４０を備えている。保護フィルム３０、４０は、いずれも、後述するように厚みが３０μｍ以上であり、ヘイズ値が１０％以下であるので、本発明の要件を満たすものである。保護フィルム付き光透過性フィルムは、少なくとも光透過性フィルムの片面に本発明の要件を満たす保護フィルムを備えていれば、両面に本発明の要件を満たす保護フィルムを備えていなくともよい。例えば、図１の保護フィルム付き光透過性フィルム１０は、保護フィルム３０を備えていれば、保護フィルム４０を備えていなくともよい。また、保護フィルム付き光透過性フィルム１０は、ロール状に巻回されていてもよい。
【００１９】
光透過性フィルム２０の表面２０Ａは、樹脂基材２１の第１の表面２１Ａ（以下、単に「表面２１Ａ」と称することもある。）となっている。また、図１に示される光透過性フィルム２０は、後述するように、樹脂基材２１のみから構成されているので、光透過性フィルム２０の表面２０Ｂは、樹脂基材２１における第１の表面２１Ａとは反対側の第２の表面２１Ｂ（以下、単に「表面２１Ｂ」と称することもある。）となっている。したがって、保護フィルム付き光透過性フィルム１０においては、保護フィルム３０は、樹脂基材２１の表面２１Ａに剥離可能に貼り付けられており、また保護フィルム４０は、樹脂基材２１の表面２１Ｂに剥離可能に貼り付けられている。光透過性フィルムの両面に剥離可能に貼り付けられており、かつ保護フィルムが樹脂基材の表面に剥離可能に貼り付けられている場合には、少なくとも一方の保護フィルムが樹脂基材の片面に剥離可能に貼り付けられていればよく、必ずしも両方の保護フィルムが樹脂基材の両面に剥離可能に貼り付けられていなくてもよい。
【００２０】
＜＜光透過性フィルム＞＞
光透過性フィルム２０は、光透過性を有するフィルムである。本明細書における「光透過性フィルム」とは、光透過性を有するフィルムであれば、光学フィルムを製造する際に用いられる中間段階のフィルムおよび完成品である光学フィルムのいずれであってもよい。なお、図１に示される光透過性フィルム２０は、光学フィルム１００を製造する際に用いられる中間段階のフィルムである。また、「光透過性」とは、光を透過させる性質を意味し、例えば、全光線透過率が５０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％以上、特に好ましくは９０％以上であることを含む。光透過性とは、必ずしも透明である必要はなく、半透明であってもよい。
【００２１】
図１に示される光透過性フィルム２０は、樹脂基材２１のみから構成されている。光透過性フィルム２０は、樹脂基材２１のみから構成されているので、以下の光透過性フィルム２０の記載は、樹脂基材２１にも当てはまる。光透過性フィルム２０は、樹脂基材２１の単層構造となっているが、樹脂基材と、樹脂基材の少なくとも片面に設けられた樹脂層との積層構造となっていてもよい。
【００２２】
光透過性フィルム２０は、折り畳み可能となっているが、具体的には、光透過性フィルム２０に対し次に説明する折り畳み試験（連続折り畳み試験）を１０万回繰り返し行った場合であっても、光透過性フィルム２０に割れまたは破断が生じないことが好ましく、連続折り畳み試験を２０万回繰り返し行った場合であっても、光透過性フィルム２０に割れまたは破断が生じないことがより好ましく、１００万回繰り返し行った場合であっても、光透過性フィルム２０に割れまたは破断が生じないことがさらに好ましい。光透過性フィルム２０に対し連続折り畳み試験を１０万回繰り返し行った場合に、光透過性フィルム２０に割れ等が生じると、光透過性フィルム２０の折り畳み性が不充分となる。
【００２３】
連続折り畳み試験は、以下のようにして行われる。なお、光透過性フィルム２０の連続折り畳み試験は、保護フィルム３０、４０を剥離した状態で行うものとする。図２（Ａ）に示すように連続折り畳み試験においては、まず、光透過性フィルム２０の辺部２０Ｃと、辺部２０Ｃと対向する辺部２０Ｄとを、平行に配置された固定部５０でそれぞれ固定する。なお、光透過性フィルム２０は、任意の形状であってよいが、連続折り畳み試験における光透過性フィルム２０は、矩形（例えば、３０ｍｍ×１００ｍｍの矩形）であることが好ましい。また、図２（Ａ）に示すように、固定部５０は水平方向にスライド移動可能になっている。
【００２４】
次に、図２（Ｂ）に示すように、固定部５０を互いに近接するように移動させることで、光透過性フィルム２０を折り畳むように変形させ、更に、図２（Ｃ）に示すように、光透過性フィルム２０の固定部５０で固定された対向する２つの辺部の間隔が３０ｍｍとなる位置まで固定部５０を移動させた後、固定部５０を逆方向に移動させて光透過性フィルム２０の変形を解消させる。
【００２５】
図２（Ａ）〜（Ｃ）に示すように固定部５０を移動させることで、光透過性フィルム２０を１８０°折り畳むことができる。また、光透過性フィルム２０の屈曲部２０Ｅが固定部５０の下端からはみ出さないように連続折り畳み試験を行い、かつ固定部５０が最接近したときの間隔を３０ｍｍに制御することで、光透過性フィルム２０の対向する２つの辺部の間隔を３０ｍｍにできる。この場合、屈曲部２０Ｅの外径を３０ｍｍとみなす。なお、光透過性フィルム２０の厚みは、固定部５０の間隔（３０ｍｍ）と比較して充分に小さな値であるため、光透過性フィルム２０の連続折り畳み試験の結果は、光透過性フィルム２０の厚みの違いによる影響は受けないとみなすことができる。光透過性フィルム２０においては、光透過性フィルム２０の対向する辺部の間隔が３０ｍｍとなるように１８０°折り畳む試験を１０万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことが好ましいが、光透過性フィルム２０の対向する辺部の間隔が２０ｍｍ、１５ｍｍ、１０ｍｍ、６ｍｍ、３ｍｍ、または２ｍｍとなるように１８０°折り畳む連続折り畳み試験を１０万回繰り返し行った場合に割れまたは破断が生じないことがより好ましい（辺部の間隔が小さいほど好ましい）。
【００２６】
光透過性フィルム２０においては、図３（Ａ）に示されるように、光透過性フィルム２０の辺部２０Ｃと、辺部２０Ｃと対向する辺部２０Ｄとを、辺部２０Ｃと辺部２０Ｄの間隔が３０ｍｍとなるように平行に配置された固定部５５でそれぞれ固定して、光透過性フィルム２０を折り畳んだ状態で、７０℃で２４０時間静置する折り畳み静置試験を行い、図３（Ｂ）に示されるように、折り畳み静置試験後に辺部２０Ｄから固定部５５を外すことによって、折り畳み状態を開放して、室温で３０分後に光透過性フィルム２０において光透過性フィルム２０が自然に開く角度である開き角θを測定した場合に、光透過性フィルム２０の開き角θが１００°以上であることが好ましい。なお、開き角θは、大きいほど復元性が良好であることを意味し、最大で１８０°である。なお、光透過性フィルム２０の折り畳み静置試験は、保護フィルム３０、４０を剥離した状態で行うものとする。
【００２７】
光透過性フィルム２０のヘイズ値（全ヘイズ値）は３％以下となっていることが好ましい。光透過性フィルム２０のヘイズ値が３％以下であれば、樹脂基材２１の表面２１Ａおよび表面２１Ｂにおける凹凸が少ないので、より優れた平滑性を有している。上記光透過性フィルム２０のヘイズ値は、５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した保護フィルム付き光透過性フィルム１０から保護フィルム３０、４０を剥離し、光透過性フィルム２０単体の状態であって、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態で、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、株式会社村上色彩技術研究所製）を用いてＪＩＳ  Ｋ７１３６：２０００に準拠した方法により測定することができる。光透過性フィルムのヘイズ値は、光透過性フィルム１枚に対して３回測定して得られた値の算術平均値とする。本明細書における「３回測定する」とは、同じ場所を３回測定するのではなく、異なる３箇所を測定することを意味するものとする。なお、光透過性フィルムを上記大きさに切り出せない場合には、例えば、ＨＭ−１５０は測定する際の入口開口が２０ｍｍφであるので、直径２１ｍｍ以上となるようなサンプル大きさが必要になる。このため、２２ｍｍ×２２ｍｍ以上の大きさに光透過性フィルムを適宜切り出してもよい。光透過性フィルムの大きさが小さい場合は、光源スポットが外れない範囲で少しずつずらす、または角度を変えるなどして測定点を３箇所にする。光透過性フィルム２０のヘイズ値は、２％以下、１％以下の順にさらに好ましい（数値が小さいほど好ましい）。
【００２８】
光透過性フィルム２０の全光線透過率は、８５％以上であることが好ましい。光透過性フィルム２０の全光線透過率が８５％以上であれば、充分な光学的性能を得ることができる。全光線透過率は、５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した保護フィルム付き光透過性フィルム１０から保護フィルム３０、４０を剥離し、光透過性フィルム２０単体の状態であって、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態で、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１：１９９７に準拠して、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、株式会社村上色彩技術研究所製）を用いて、測定することができる。光透過性フィルムの全光線透過率は、光透過性フィルム１枚に対して３回測定して得られた値の算術平均値とする。なお、光透過性フィルムを上記大きさに切り出せない場合には、例えば、ＨＭ−１５０は測定する際の入口開口が２０ｍｍφであるので、直径２１ｍｍ以上となるようなサンプル大きさが必要になる。このため、２２ｍｍ×２２ｍｍ以上の大きさに光透過性フィルムを適宜切り出してもよい。光透過性フィルムの大きさが小さい場合は、光源スポットが外れない範囲で少しずつずらす、または角度を変えるなどして測定点を３箇所にする。光透過性フィルム２０の全光線透過率は、８８％以上、９０％以上の順にさらに好ましい（数値が大きいほど好ましい）。
【００２９】
光透過性フィルム２０は、イエローインデックス（ＹＩ）が１５以下であることが好ましい。光透過性フィルム２０のＹＩが１５以下であれば、光透過性フィルム２０の黄色味を抑制でき、透明性が求められる用途に適用できる。イエローインデックス（ＹＩ）は、分光光度計（製品名「ＵＶ−３１００ＰＣ」、株式会社島津製作所製、光源：タングステンランプおよび重水素ランプ）を用いて５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した保護フィルム付き光透過性フィルム１０から保護フィルム３０、４０を剥離し、光透過性フィルム２０単体の状態で測定された値からＪＩＳ  Ｚ８７２２：２００９に記載された演算式に従って色度三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを計算し、三刺激値Ｘ、Ｙ、ＺからＡＳＴＭ  Ｄ１９２５：１９６２に記載された演算式に従って算出された値である。光透過性フィルム２０のイエローインデックス（ＹＩ）の上限は、１０未満、１．５未満の順にさらに好ましい（数値が小さいほど好ましい）。
【００３０】
光透過性フィルム２０のイエローインデックス（ＹＩ）を調整するために、例えば、樹脂基材２１に、黄色の補色となる青色の色素を含有させてもよく、また樹脂基材の少なくとも片面に設けられた層（例えば後述する樹脂層７１、９１、９２）に青色の色素を含有させてもよい。樹脂基材２１として、ポリイミド基材を用いたことで、黄色味が問題となるような場合であったとしても、樹脂基材２１に青色の色素を含ませることで、光透過性フィルムのイエローインデックス（ＹＩ）を低下させることができる。
【００３１】
上記青色の色素としては、顔料または染料のいずれであってもよいが、例えば、光透過性フィルム２０が有機発光ダイオード表示装置に用いられる場合、耐光性や耐熱性を兼ね備えたものが好ましい。上記青色の色素として、多環系有機顔料や金属錯体有機顔料等は、染料の分子分散に比べて紫外線による分子裂断の度合いが少なく耐光性が格段に優れるため、耐光性等が求められる用途に好ましく、より具体的には、フタロシアニン系の有機顔料等が好適に挙げられる。ただし、顔料は溶剤に対して粒子分散するため、粒子散乱による透明性阻害は存在するため、顔料分散体の粒度をレイリー散乱域に入れることが好ましい。一方、光透過性フィルムの透明性が重要視される場合には、上記青色の色素としては、溶剤に対して分子分散する染料を用いることが好ましい。
【００３２】
光透過性フィルム２０の用途は、特に限定されないが、光透過性フィルム２０の用途としては、例えば、スマートフォン、タブレット端末、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）、ウェアラブル端末、デジタルサイネージ、テレビジョン、カーナビゲーション等の画像表示装置が挙げられる。
【００３３】
光透過性フィルム２０は、所望の大きさにカットされていてもよいが、ロール状であってもよい。光透過性フィルム２０が所望の大きさにカットされている場合、光透過性フィルムの大きさは、特に制限されず、画像表示装置の表示面の大きさに応じて適宜決定される。具体的には、光透過性フィルム２０の大きさは、例えば、２．８インチ以上５００インチ以下となっていてもよい。本明細書における「インチ」とは、光学フィルムが四角形状である場合には対角線の長さを意味し、円形状である場合には直径を意味し、楕円形状である場合には、短径と長径の和の平均値を意味するものとする。ここで、光学フィルムが四角形状である場合、上記インチを求める際の光学フィルムの縦横比は、画像表示装置の表示画面として問題がなければ特に限定されない。例えば、縦：横＝１：１、４：３、１６：１０、１６：９、２：１等が挙げられる。ただし、特に、デザイン性に富む車載用途やデジタルサイネージにおいては、このような縦横比に限定されない。また、光透過性フィルム２０の大きさが大きい場合には、任意の位置からＡ５サイズ（１４８ｍｍ×２１０ｍｍ）に切り出した後、各測定項目の大きさに切り出すものとする。
【００３４】
＜樹脂基材＞
樹脂基材２１は、樹脂からなる基材である。樹脂基材２１の厚みは、１０μｍ以上１００μｍ以下となっていることが好ましい。樹脂基材２１の厚みが１０μｍ以上であれば、カールを抑制でき、また充分な硬度を得ることができ、更に、光透過性フィルムをＲｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌで製造する場合であっても、皺が発生しにくくなり、外観の悪化を招くおそれがない。一方、樹脂基材２１の厚みが１００μｍ以下であれば、光透過性フィルムの折り畳み性能が良好であり、連続折り畳み試験の要件を満足させることができ、また、光透過性フィルムの軽量化の面で好ましい。樹脂基材２１の厚みは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、樹脂基材２１の断面を撮影し、その断面の画像において樹脂基材２１の厚みを１０箇所測定し、その１０箇所の厚みの算術平均値とする。樹脂基材２１の下限は２０μｍ以上であることがより好ましく、樹脂基材２１の上限は８０μｍ以下であることがより好ましい。
【００３５】
樹脂基材２１を構成する樹脂としては、例えば、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、またはこれらの樹脂を２以上混合した混合物等が挙げられる。これらの中でも、連続折り畳み試験において割れ又は破断が発生しにくいだけでなく、優れた硬度及び透明性をも有し、また、耐熱性にも優れ、焼成することにより、更に優れた硬度及び透明性を付与することもできる観点から、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、またはこれらの混合物が好ましい。
【００３６】
ポリイミド系樹脂は、テトラカルボン酸成分とジアミン成分とを反応させて得られるものである。テトラカルボン酸成分とジアミン成分の重合によってポリアミド酸を得てイミド化することが好ましい。イミド化は、熱イミド化で行っても、化学イミド化で行ってもよい。また、熱イミド化と化学イミド化とを併用した方法で製造することもできる。ポリイミド系樹脂は、脂肪族のポリイミド系樹脂であってもよいが、芳香族環を含むポリイミド系樹脂であることが好ましい。芳香族環を含むポリイミド系樹脂は、テトラカルボン酸成分およびジアミン成分の少なくとも一方に芳香族環を含むものである。
【００３７】
テトラカルボン酸成分の具体例としては、テトラカルボン酸二無水物が好適に用いられ、シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキサン−３，４，３’，４’−テトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン二無水物、１，１−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン二無水物、１，３−ビス〔（３，４−ジカルボキシ）ベンゾイル〕ベンゼン二無水物、１，４−ビス〔（３，４−ジカルボキシ）ベンゾイル〕ベンゼン二無水物、２，２−ビス｛４−〔４−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ〕フェニル｝プロパン二無水物、２，２−ビス｛４−〔３−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ〕フェニル｝プロパン二無水物、ビス｛４−〔４−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ〕フェニル｝ケトン二無水物、ビス｛４−〔３−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ〕フェニル｝ケトン二無水物、４，４’−ビス〔４−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ〕ビフェニル二無水物、４，４’−ビス〔３−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ〕ビフェニル二無水物、ビス｛４−〔４−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ〕フェニル｝ケトン二無水物、ビス｛４−〔３−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ〕フェニル｝ケトン二無水物、ビス｛４−〔４−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ〕フェニル｝スルホン二無水物、ビス｛４−〔３−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ〕フェニル｝スルホン二無水物、ビス｛４−〔４−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ〕フェニル｝スルフィド二無水物、ビス｛４−〔３−（１，２−ジカルボキシ）フェノキシ〕フェニル｝スルフィド二無水物、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸無水物、３，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸無水物、３，３’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−アントラセンテトラカルボン酸二無水物、１，２，７，８−フェナントレンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。これらは単独でも、２種以上を混合して用いることもできる。
【００３８】
ジアミン成分の具体例としては、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、ｏ−フェニレンジアミン、３，３’−ジアミノジフェニルエーテル、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノジフェニルスルフィド、３，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン、３，４’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，３’−ジアミノベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、３，４’−ジアミノベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンズアニリド、３，３’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２−ジ（３−アミノフェニル）プロパン、２，２−ジ（４−アミノフェニル）プロパン、２−（３−アミノフェニル）−２−（４−アミノフェニル）プロパン、２，２−ジ（３−アミノフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、２，２−ジ（４−アミノフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、２−（３−アミノフェニル）−２−（４−アミノフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、１，１−ジ（３−アミノフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ジ（４−アミノフェニル）−１−フェニルエタン、１−（３−アミノフェニル）−１−（４−アミノフェニル）−１−フェニルエタン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノベンゾイル）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノベンゾイル）ベンゼン、１，４−ビス（３−アミノベンゾイル）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノベンゾイル）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノ−α，α−ジメチルベンジル）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノ−α，α−ジメチルベンジル）ベンゼン、１，４−ビス（３−アミノ−α，α−ジメチルベンジル）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノ−α，α−ジメチルベンジル）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノ−α，α−ジトリフルオロメチルベンジル）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノ−α，α−ジトリフルオロメチルベンジル）ベンゼン、１，４−ビス（３−アミノ−α，α−ジトリフルオロメチルベンジル）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノ−α，α−ジトリフルオロメチルベンジル）ベンゼン、２，６−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゾニトリル、２，６−ビス（３−アミノフェノキシ）ピリジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−アミノフェニル）テレフタルアミド、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、２，２’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジトリフルオロメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジクロロ−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジメトキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ビス（３−アミノフェノキシ）ビフェニル、４，４’−ビス（４−ア���ノフェノキシ）ビフェニル、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］ケトン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ケトン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルフィド、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルフィド、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］エーテル、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］エーテル、２，２−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［３−（３−アミノフェノキシ）フェニル］−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、１，３−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）ベンゾイル］ベンゼン、１，３−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）ベンゾイル］ベンゼン、１，４−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）ベンゾイル］ベンゼン、１，４−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）ベンゾイル］ベンゼン、１，３−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）−α，α−ジメチルベンジル］ベンゼン、１，３−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）−α，α−ジメチルベンジル］ベンゼン、１，４−ビス［４−（３−アミノフェノキシ）−α，α−ジメチルベンジル］ベンゼン、１，４−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）−α，α−ジメチルベンジル］ベンゼン、４，４’−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）ベンゾイル］ジフェニルエーテル、４，４’−ビス［４−（４−アミノ−α，α−ジメチルベンジル）フェノキシ］ベンゾフェノン、４，４’−ビス［４−（４−アミノ−α，α−ジメチルベンジル）フェノキシ］ジフェニルスルホン、４，４’−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェノキシ］ジフェニルスルホン、３，３’−ジアミノ−４，４’−ジフェノキシベンゾフェノン、３，３’−ジアミノ−４，４’−ジビフェノキシベンゾフェノン、３，３’−ジアミノ−４−フェノキシベンゾフェノン、３，３’−ジアミノ−４−ビフェノキシベンゾフェノン、６，６’−ビス（３−アミノフェノキシ）−３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインダン、６，６’−ビス（４−アミノフェノキシ）−３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインダン、１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサン、１，３−ビス（４−アミノブチル）テトラメチルジシロキサン、α，ω−ビス（３−アミノプロピル）ポリジメチルシロキサン、α，ω−ビス（３−アミノブチル）ポリジメチルシロキサン、ビス（アミノメチル）エーテル、ビス（２−アミノエチル）エーテル、ビス（３−アミノプロピル）エーテル、ビス（２−アミノメトキシ）エチル］エーテル、ビス［２−（２−アミノエトキシ）エチル］エーテル、ビス［２−（３−アミノプロピル）エチル］エーテル、ｔｒａｎｓ−シクロヘキサンジアミン、ｔｒａｎｓ−１，４−ビスメチレンシクロヘキサンジアミン、２，６−ビス（アミノメチル）ビシクロ［２，２，１］ヘ��タン、２，５−ビス（アミノメチル）ビシクロ［２，２，１］ヘプタン、また、上記ジアミンの芳香族環上水素原子の一部もしくは全てをフルオロ基、メチル基、メトキシ基、トリフルオロメチル基、またはトリフルオロメトキシ基から選ばれた置換基で置換したジアミンも使用することができる。これらは単独でも、２種以上を混合して用いることもできる。
【００３９】
光透過性を向上し、かつ、剛性を向上する点から、ポリイミド系樹脂としては、芳香族環を含み、かつ、（ｉ）フッ素原子、（ｉｉ）脂肪族環、及び（ｉｉｉ）芳香族環同士の電子共役を切断する連結基からなる群から選択される少なくとも１つを含むポリイミド系樹脂であることが好ましい。ポリイミド系樹脂に芳香族環を含むと配向性が高まり、剛性が向上するが、芳香族環の吸収波長によって透過率が低下する傾向がある。ポリイミド系樹脂が（ｉ）フッ素原子を含む場合には、ポリイミド骨格内の電子状態を電荷移動し難くすることができる点から光透過性が向上する。また、ポリイミド系樹脂が（ｉｉ）脂肪族環を含む場合には、ポリイミド骨格内のπ電子の共役を断ち切ることで骨格内の電荷の移動を阻害することができる点から光透過性が向上する。さらに、ポリイミド系樹脂が（ｉｉｉ）芳香族環同士の電子共役を切断する連結基を含む場合には、ポリイミド骨格内のπ電子の共役を断ち切ることで骨格内の電荷の移動を阻害することができる点からの点から光透過性が向上する。このような芳香族環同士の電子共役を切断する連結基としては、例えば、エーテル結合、チオエーテル結合、カルボニル結合、チオカルボニル結合、アミド結合、スルホニル結合、及び、スルフィニル結合、並びに、フッ素で置換されていても良いアルキレン基等の２価の連結基が挙げられる。
【００４０】
こられの中でも、芳香族環を含み、かつフッ素原子を含むポリイミド系樹脂であることが、光透過性を向上し、かつ剛性を向上する点から好ましく用いられる。フッ素原子を含むポリイミド系樹脂におけるフッ素原子の含有割合は、ポリイミド系樹脂の表面をＸ線光電子分光法により測定したフッ素原子数（Ｆ）と炭素原子数（Ｃ）の比率（Ｆ／Ｃ）が、０．０１以上であることが好ましく、更に０．０５以上であることが好ましい。一方でフッ素原子の含有割合が高すぎるとポリイミド系樹脂の本来の耐熱性などが低下する恐れがあることから、前記フッ素原子数（Ｆ）と炭素原子数（Ｃ）の比率（Ｆ／Ｃ）が１以下であることが好ましく、更に０．８以下であることが好ましい。ここで、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）の測定による上記比率は、Ｘ線光電子分光装置（例えば、Ｔｈｅｒｍｏ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社  Ｔｈｅｔａ  Ｐｒｏｂｅ）を用いて測定される各原子の原子％の値から求めることができる。
【００４１】
また、ポリイミド系樹脂に含まれる炭素原子に結合する水素原子の７０％以上が、芳香族環に直接結合する水素原子であるポリイミド系樹脂であることが、光透過性を向上し、かつ、剛性を向上する点から好ましく用いられる。ポリイミド系樹脂に含まれる炭素原子に結合する全水素原子（個数）中の、芳香族環に直接結合する水素原子（個数）の割合は、更に、８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましい。ポリイミドに含まれる炭素原子に結合する水素原子の７０％以上が、芳香族環に直接結合する水素原子であるポリイミドである場合には、大気中における加熱工程を経ても、例えば２００℃以上で延伸を行っても、光学特性、特に全光線透過率やイエローインデックス（ＹＩ）の変化が少ない点から好ましい。ポリイミド系樹脂に含まれる炭素原子に結合する水素原子の７０％以上が、芳香族環に直接結合する水素原子であるポリイミドである場合には、酸素との反応性が低いため、ポリイミド系樹脂の化学構造が変化し難いことが推定される。ポリイミド系樹脂からなる基材はその高い耐熱性を利用し、加熱を伴う加工工程が必要なデバイスなどに用いられる場合が多いが、ポリイミド系樹脂に含まれる炭素原子に結合する水素原子の７０％以上が、芳香族環に直接結合する水素原子であるポリイミド系樹脂である場合には、これら後工程を透明性維持のために不活性雰囲気下で実施する必要が生じないので、設備コストや雰囲気制御にかかる費用を抑制できるというメリットがある。ここで、ポリイミド系樹脂に含まれる炭素原子に結合する全水素原子（個数）中の、芳香族環に直接結合する水素原子（個数）の割合は、ポリイミドの分解物を高速液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフ質量分析計及びＮＭＲを用いて求めることができる。例えば、サンプルを、アルカリ水溶液、または、超臨界メタノールにより分解し、得られた分解物を、高速液体クロマトグラフィーで分離し、当該分離した各ピークの定性分析をガスクロマトグラフ質量分析計およびＮＭＲ等を用いて行い、高速液体クロマトグラフィーを用いて定量することでポリイミドに含まれる全水素原子（個数）中の、芳香族環に直接結合する水素原子（個数）の割合を求めることができる。
【００４２】
また、光透過性を向上し、かつ、剛性を向上する点から、ポリイミド系樹脂としては、中でも、下記一般式（１）および下記一般式（３）で表される構造からなる群から選ばれる少なくとも１種の構造を有することが好ましい。
【００４３】
【化１】
2019119084.tif 000003
上記一般式（１）において、Ｒ１はテトラカルボン酸残基である４価の基、Ｒ２は、ｔｒａｎｓ−シクロヘキサンジアミン残基、ｔｒａｎｓ−１，４−ビスメチレンシクロヘキサンジアミン残基、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン残基、３，４’−ジアミノジフェニルスルホン残基、および下記一般式（２）で表される２価の基からなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の基を表す。ｎは繰り返し単位数を表し、１以上である。本明細書において、「テトラカルボン酸残基」とは、テトラカルボン酸から、４つのカルボキシル基を除いた残基をいい、テトラカルボン酸二無水物から酸二無水物構造を除いた残基と同じ構造を表す。また、「ジアミン残基」とは、ジアミンから２つのアミノ基を除いた残基をいう。
【００４４】
【化２】
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上記一般式（２）において、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、またはパーフルオロアルキル基を表す。
【００４５】
【化３】
2019119084.tif 000005
上記一般式（３）において、Ｒ５はシクロヘキサンテトラカルボン酸残基、シクロペンタンテトラカルボン酸残基、ジシクロヘキサン−３，４，３’，４’−テトラカルボン酸残基、および４，４'−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸残基からなる群から選ばれる少なくとも１種の４価の基、Ｒ６は、ジアミン残基である２価の基を表す。ｎ’は繰り返し単位数を表し、１以上である。
【００４６】
上記一般式（１）における、Ｒ１はテトラカルボン酸残基であり、前記例示されたようなテトラカルボン酸二無水物から酸二無水物構造を除いた残基とすることができる。上記一般式（１）におけるＲ１としては、中でも、光透過性を向上し、かつ剛性を向上する点から、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸残基、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸残基、ピロメリット酸残基、２，３’，３，４’−ビフェニルテトラカルボン酸残基、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸残基、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸残基、４，４'-オキシジフタル酸残基、シクロヘキサンテトラカルボン酸残基、およびシクロペンタンテトラカルボン酸残基からなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましく、さらに、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸残基、４，４’−オキシジフタル酸残基、および３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸残基からなる群から選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。
【００４７】
Ｒ１において、これらの好適な残基を合計で、５０モル％以上含むことが好ましく、更に７０モル％以上含むことが好ましく、より更に９０モル％以上含むことが好ましい。
【００４８】
また、Ｒ１として、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸残基、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸残基、およびピロメリット酸残基からなる群から選択される少なくとも１種のような剛直性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群（グループＡ）と、４，４’−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸残基、２，３’，３，４’−ビフェニルテトラカルボン酸残基、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸残基、４，４'−オキシジフタル酸残基、シクロヘキサンテトラカルボン酸残基、およびシクロペンタンテトラカルボン酸残基からなる群から選択される少なくとも１種のような透明性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群（グループＢ）とを混合して用いることも好ましい。
【００４９】
この場合、前記剛直性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群（グループＡ）と、透明性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群（グループＢ）との含有比率は、透明性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群（グループＢ）１モルに対して、前記剛直性を向上するのに適したテトラカルボン酸残基群（グループＡ）が０．０５モル以上９モル以下であることが好ましく、更に０．１モル以上５モル以下であることが好ましく、より更に０．３モル以上４モル以下であることが好ましい。
【００５０】
上記一般式（１）におけるＲ２としては、中でも、光透過性を向上し、かつ剛性を向上する点から、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン残基、３，４’−ジアミノジフェニルスルホン残基、および上記一般式（２）で表される２価の基からなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の基であることが好ましく、更に、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン残基、３，４’−ジアミノジフェニルスルホン残基、ならびに、Ｒ３およびＲ４がパーフルオロアルキル基である上記一般式（２）で表される２価の基からなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の基であることが好ましい。
【００５１】
上記一般式（３）におけるＲ５としては、中でも、光透過性を向上し、かつ剛性を向上する点から、４，４'−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸残基、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸残基、及びオキシジフタル酸残基を含むことが好ましい。
【００５２】
Ｒ５において、これらの好適な残基を、５０モル％以上含むことが好ましく、更に７０モル％以上含むことが好ましく、より更に９０モル％以上含むことが好ましい。
【００５３】
上記一般式（３）におけるＲ６はジアミン残基であり、前記例示されたようなジアミンから２つのアミノ基を除いた残基とすることができる。上記一般式（３）におけるＲ６としては、中でも、光透過性を向上し、かつ剛性を向上する点から、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン残基、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン残基、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン残基、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン残基、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン残基、４，４’−ジアミノ−２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ジフェニルエーテル残基、１，４−ビス［４−アミノ−２−（トリフルオロメチル）フェノキシ］ベンゼン残基、２，２−ビス［４−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン残基、４，４’−ジアミノ−２−（トリフルオロメチル）ジフェニルエーテル残基、４，４’−ジアミノベンズアニリド残基、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−アミノフェニル）テレフタルアミド残基、及び９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン残基からなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の基を含むことが好ましく、更に、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン残基、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン残基、及び４，４’−ジアミノジフェニルスルホン残基からなる群から選ばれる少なくとも１種の２価の基を含むことが好ましい。
【００５４】
Ｒ６において、これらの好適な残基を合計で、５０モル％以上含むことが好ましく、更に７０モル％以上含むことが好ましく、より更に９０モル％以上含むことが好ましい。
【００５５】
また、Ｒ６として、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン残基、４，４’−ジアミノベンズアニリド残基、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−アミノフェニル）テレフタルアミド残基、パラフェニレンジアミン残基、メタフェニレンジアミン残基、および４，４’−ジアミノジフェニルメタン残基からなる群から選択される少なくとも１種のような剛直性を向上するのに適したジアミン残基群（グループＣ）と、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン残基、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン残基、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン残基、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン残基、４，４’−ジアミノ−２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ジフェニルエーテル残基、１，４−ビス［４−アミノ−２−（トリフルオロメチル）フェノキシ］ベンゼン残基、２，２−ビス［４−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン残基、４，４’−ジアミノ−２−（トリフルオロメチル）ジフェニルエーテル残基、及び９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン残基からなる群から選択される少なくとも１種のような透明性を向上するのに適したジアミン残基群（グループＤ）とを混合して用いることも好ましい。
【００５６】
この場合、前記剛直性を向上するのに適したジアミン残基群（グループＣ）と、透明性を向上するのに適したジアミン残基群（グループＤ）との含有比率は、透明性を向上するのに適したジアミン残基群（グループＤ）１モルに対して、前記剛直性を向上するのに適したジアミン残基群（グループＣ）が０．０５モル以上９モル以下であることが好ましく、更に０．１モル以上５モル以下であることが好ましく、０．３モル以上４モル以下であることがより好ましい。
【００５７】
上記一般式（１）および上記一般式（３）で表される構造において、ｎおよびｎ’はそれぞれ独立に、繰り返し単位数を表し、１以上である。ポリイミドにおける繰り返し単位数ｎは、後述する好ましいガラス転移温度を示すように、構造に応じて適宜選択されれば良く、特に限定されない。平均繰り返し単位数は、通常１０〜２０００であり、更に１５〜１０００であることが好ましい。
【００５８】
また、ポリイミド系樹脂は、その一部にポリアミド構造を含んでいても良い。含んでいても良いポリアミド構造としては、例えば、トリメリット酸無水物のようなトリカルボン酸残基を含むポリアミドイミド構造や、テレフタル酸のようなジカルボン酸残基を含むポリアミド構造が挙げられる。
【００５９】
ポリイミド系樹脂は、耐熱性の点から、ガラス転移温度が２５０℃以上であることが好ましく、更に、２７０℃以上であることが好ましい。一方、延伸の容易さやベーク温度低減の点から、ガラス転移温度が４００℃以下であることが好ましく、更に、３８０℃以下であることが好ましい。
【００６０】
具体的には、ポリイミド系樹脂としては、例えば、下記式で表される構造を有する化合物が挙げられる。下記式中、ｎは、繰り返し単位であり、２以上の整数を表す。
【化４】
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【００６１】
【化５】
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【００６２】
【化６】
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【００６３】
【化７】
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【００６４】
【化８】
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【００６５】
【化９】
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【００６６】
【化１０】
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【００６７】
【化１１】
2019119084.tif 000013
【００６８】
【化１２】
2019119084.tif 000014
【００６９】
【化１３】
2019119084.tif 000015
【００７０】
【化１４】
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【００７１】
【化１５】
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【００７２】
【化１６】
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【００７３】
【化１７】
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【００７４】
【化１８】
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【００７５】
【化１９】
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【００７６】
【化２０】
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【００７７】
ポリアミド系樹脂は、脂肪族ポリアミドのみならず、芳香族ポリアミド（アラミド）を含む概念である。ポリアミド系樹脂としては、例えば、下記式（２１）〜（２３）で表される骨格を有する化合物が挙げられる。なお、下記式中、ｎは、繰り返し単位であり、２以上の整数を表す。
【００７８】
【化２１】
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【００７９】
【化２２】
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【００８０】
【化２３】
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【００８１】
上記式（４）〜（２０）および（２３）で表されるポリイミド系樹脂またはポリアミド系樹脂からなる基材は、市販のものを用いても良い。上記ポリイミド系樹脂からなる基材の市販品としては、例えば、三菱ガス化学株式会社製のネオプリム等が挙げられ、上記ポリアミド系樹脂からなる基材の市販品としては、例えば、東レ株式会社製のミクトロン等が挙げられる。
【００８２】
また、上記式（４）〜（２０）および（２３）で表されるポリイミド系樹脂またはポリアミド系樹脂は、公知の方法により合成したものを用いても良い。例えば、上記式（４）で表されるポリイミド系樹脂の合成方法は、特開２００９−１３２０９１に記載されており、具体的には、下記式（２４）で表される４，４’−ヘキサフルオロプロピリデンビスフタル酸二無水物（ＦＰＡ）と２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル（ＴＦＤＢ）とを反応させることにより得ることができる。
【化２４】
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【００８３】
上記ポリイミド系樹脂またはポリアミド系樹脂の重量平均分子量は、３０００以上５０万以下の範囲であることが好ましく、５０００〜３０万の範囲であることがより好ましく、１万以上２０万以下の範囲であることが更に好ましい。重量平均分子量が３０００未満であると、充分な強度が得られないことがあり、５０万を超えると粘度が上昇し、溶解性が低下するため、表面が平滑で膜厚が均一な基材が得られないことがある。なお、本明細書において、「重量平均分子量」とは、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値である。
【００８４】
上記ポリイミド系樹脂およびポリアミド系樹脂のなかでも、優れた透明性を有することから、分子内又は分子間の電荷移動が起こりにくい構造を有するポリイミド系樹脂またはポリアミド系樹脂が好ましく、具体的には、上記式（４）〜（１１）等のフッ素化ポリイミド系樹脂、上記式（１３）〜（１６）等の脂環構造を有するポリイミド系樹脂、上記式（２３）等のハロゲン基を有するポリアミド系樹脂が挙げられる。
【００８５】
また、上記式（４）〜（１１）等のフッ素化ポリイミド系樹脂では、フッ素化された構造を有するため、高い耐熱性を有しており、ポリイミド系樹脂からなる基材の製造時の熱によって着色されることもないので、優れた透明性を有する。
【００８６】
樹脂基材２１は、硬度を向上させることが可能な観点から、上記式（４）〜（１１）等で表されるフッ素化ポリイミド系樹脂または上記式（２３）等のハロゲン基を有するアラミド樹脂からなる基材を用いることが好ましい。なかでも、硬度をより向上させることができる観点から、上記式（４）で表されるポリイミド系樹脂からなる基材を用いることがより好ましい。
【００８７】
＜＜第１の保護フィルム＞＞
保護フィルム３０は、樹脂基材２１の表面２１Ａに貼り付けされている。保護フィルム３０の厚みは、３０μｍ以上となっている。保護フィルム３０の厚みが３０μｍ以上であれば、カールを抑制することができる。保護フィルム３０の厚みは、樹脂基材２１の厚みと同様の方法によって測定することができる。保護フィルム付き光透過性フィルム１０の状態で出荷する場合には、保護フィルム付き光透過性フィルム１０のカール抑制のため、保護フィルム３０の厚みは、５０μｍ以上であることが好ましい。保護フィルム３０の厚みの上限は、剥離時のハンドリング性や断裁のしやすさから、２５０μｍ以下であることが好ましい。
【００８８】
保護フィルム３０のヘイズ値（全ヘイズ値）は１０％以下となっている。保護フィルム３０のヘイズ値が１０％以下であれば、光透過性フィルム２０の表面２０Ａにおける凹凸が少なくなり、優れた平滑性を有する光透過性フィルム２０を得ることができる。保護フィルム３０のヘイズ値は、５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した保護フィルム付き光透過性フィルム１０から保護フィルム３０を剥離し、保護フィルム３０単体の状態であって、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態で、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、株式会社村上色彩技術研究所製）を用いてＪＩＳ  Ｋ７１３６：２０００に準拠した方法によって保護フィルム３０の基材フィルム３１側から測定することができる。保護フィルム３０のヘイズ値は、保護フィルム３０に対し３回測定して得られた値の算術平均値とする。なお、保護フィルムを上記大きさに切り出せない場合には、例えば、ＨＭ−１５０は測定する際の入口開口が２０ｍｍφであるので、直径２１ｍｍ以上となるようなサンプル大きさが必要になる。このため、２２ｍｍ×２２ｍｍ以上の大きさに保護フィルムを適宜切り出してもよい。保護フィルムの大きさが小さい場合は、光源スポットが外れない範囲で少しずつずらす、または角度を変えるなどして測定点を３箇所にする。保護フィルム３０のヘイズ値は、５％以下、３％以下の順にさらに好ましい（数値が小さいほど好ましい）。本明細書において、単なる「ヘイズ値」とは、全ヘイズ値を意味するものであり、後述する外部ヘイズ値とは異なるものである。
【００８９】
保護フィルム３０の全ヘイズ値は１０％以下となっているので、保護フィルム３０における樹脂基材２１の表面２１Ａと接していた表面における外部ヘイズも、１０％以下となっている。外部ヘイズ値は、全ヘイズ値から内部ヘイズを差し引くことによって求められる値である。外部ヘイズ値は、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、株式会社村上色彩技術研究所製）を用いて、求めることができる。具体的には、まず、上記全ヘイズ値の測定法方法に従って、保護フィルム３０のヘイズ値（全ヘイズ値）を求める。その後、保護フィルム３０における樹脂基材２１の表面２１Ａと接していた表面に、膜厚が２５μｍの透明光学粘着層（製品名「パナクリーンＰＤ−Ｓ１」、パナック株式会社製）を介して厚みが６０μｍのトリアセチルセルロース基材（製品名「ＴＤ６０ＵＬ」、富士フイルム株式会社製）を貼り付ける。これによって、保護フィルム３０の表面の凹凸形状が潰れ、保護フィルム３０の表面が平坦化される。そして、この状態で、上記全ヘイズ値の測定方法と同様の方法によって、ヘイズ値を測定することで内部ヘイズ値を求め、全ヘイズ値から内部ヘイズを差し引くことによって外部ヘイズ値を求める。保護フィルム３０の外部ヘイズ値は、５％以下、３％以下の順にさらに好ましい（数値が小さいほど好ましい）。
【００９０】
保護フィルム３０は、基材フィルム３１と、基材フィルム３１における樹脂基材２１側の面に設けられた粘着層３２とを備えている。図１に示される保護フィルム３０は、粘着層３２を備えているが、保護フィルムによっては、粘着層を備えていなくともよい。
【００９１】
＜基材フィルム＞
基材フィルム３１は、表面２１Ａの凹凸を低減するために、ポリエステル系樹脂から構成されていることが好ましい。ポリエステル系樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等の少なくとも１種の樹脂が挙げられる。これらの中でも、透明性と価格の点から、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。
【００９２】
基材フィルム３１の厚みは、保護フィルム３０の厚みと同様の理由から、３０μｍ以上となっていることが好ましい。基材フィルム３１の厚みは、樹脂基材２１の厚みと同様の方法によって測定することができる。保護フィルム付き光透過性フィルム１０の状態で搬送や出荷する場合には、保護フィルム付き光透過性フィルム１０のカール抑制のため、基材フィルム３１の厚みは、５０μｍ以上であることが好ましい。基材フィルム３１の厚みの上限は、剥離時のハンドリング性および断裁のしやすさから、２５０μｍ以下であることが好ましい。
【００９３】
＜粘着層＞
粘着層３２を構成する粘着剤としては、所望の粘着性を有するものであれば特に限定されるものではなく、保護フィルムに用いられる一般的な粘着剤を用いることができる。このような粘着剤は、例えば、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤、またはこれらの混合物が挙げられる。これらの中でも適度な密着性を調整しやすい点から、アクリル系粘着剤が好ましい。
【００９４】
粘着層３２の膜厚は、１μｍ以上５０μｍ以下となっていることが好ましい。粘着層３２の膜厚が１μｍ以上であれば、保護フィルム３０を樹脂基材２１に確実に貼り付けることができ、また粘着層３２の膜厚が５０μｍ以下であれば、粘着層３２の表面を平滑することができ、剥離時に粘着層３２が引き裂かれる、いわゆる泣き別れ現象を抑制することができる。粘着層３２の膜厚は、樹脂基材２１の厚みと同様の方法によって測定することができる。粘着層３２の膜厚の下限は、５μｍ以上であることがより好ましく、上限は、３０μｍ以下であることがより好ましい。
【００９５】
＜＜第２の保護フィルム＞＞
保護フィルム４０は、樹脂基材２１の表面２１Ｂに貼り付けられている。保護フィルム４０の厚みは、３０μｍ以上となっている。保護フィルム４０の厚みが３０μｍ以上であれば、カールを抑制できる。保護フィルム４０の厚みは、樹脂基材２１の厚みと同様の方法によって測定することができる。保護フィルム付き光透過性フィルム１０の状態で搬送や出荷する場合には、保護フィルム付き光透過性フィルム１０のカール抑制のため、保護フィルム４０の厚みは、５０μｍ以上であることが好ましい。保護フィルム４０の厚みの上限は、剥離時のハンドリング性および断裁のしやすさから、２５０μｍ以下であることが好ましい。
【００９６】
保護フィルム４０の厚みは、保護フィルム３０の厚みと異なっていてもよい。保護フィルム３０と保護フィルム４０の厚みが異なることによって、カールを調整することができる。
【００９７】
保護フィルム４０のヘイズ値（全ヘイズ値）は１０％以下となっている。保護フィルム４０のヘイズ値が１０％以下であれば、光透過性フィルム２０の表面２０Ｂにおける凹凸が少なくなり、より優れた平滑性を有する光透過性フィルム２０を得ることができる。保護フィルム４０のヘイズ値は、５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出した保護フィルム付き光透過性フィルム１０から保護フィルム４０を剥離し、保護フィルム４０単体の状態で、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、株式会社村上色彩技術研究所製）を用いてＪＩＳ  Ｋ７１３６：２０００に準拠した方法によって測定することができる。保護フィルム４０のヘイズ値は、保護フィルム４０に対し３回測定して得られた値の算術平均値とする。なお、保護フィルムを上記大きさに切り出せない場合には、例えば、ＨＭ−１５０は測定する際の入口開口が２０ｍｍφであるので、直径２１ｍｍ以上となるようなサンプル大きさが必要になる。このため、２２ｍｍ×２２ｍｍ以上の大きさに保護フィルムを適宜切り出してもよい。保護フィルムの大きさが小さい場合は、光源スポットが外れない範囲で少しずつずらす、または角度を変えるなどして測定点を３箇所にする。保護フィルム４０のヘイズ値は、５％以下、３％以下の順にさらに好ましい（数値が小さいほど好ましい）。
【００９８】
保護フィルム４０の全ヘイズ値は１０％以下となっているので、保護フィルム４０における光透過性フィルム２０の表面２０Ｂと接していた表面における外部ヘイズも、１０％以下となっている。保護フィルム４０の外部ヘイズ値は、保護フィルム３０の外部ヘイズ値と同様の方法によって求めることができる。保護フィルム４０の外部ヘイズ値は、５％以下、３％以下の順にさらに好ましい（数値が小さいほど好ましい）。
【００９９】
保護フィルム４０は、基材フィルム４１と、基材フィルム４１における樹脂基材２１側の面に設けられた粘着層４２とを備えている。
【０１００】
＜基材フィルムおよび粘着層＞
基材フィルム４１は、基材フィルム３１と同様であり、粘着層４２は、粘着層３２と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０１０１】
＜＜＜他の保護フィルム付き光透過性フィルム＞＞＞
図１に示される保護フィルム付き光透過性フィルム１０においては、樹脂基材２１の表面２１Ａに貼り付けられた保護フィルム３０と、表面２１Ｂに貼り付けられた保護フィルム４０とを備えているが、図４に示されるように保護フィルムは光透過性フィルムの片面のみに備えられていてもよい。
【０１０２】
図４に示される保護フィルム付き光透過性フィルム６０は、樹脂基材２１と樹脂層７１とを備える折り畳み可能な光透過性フィルム７０と、光透過性フィルム７０の第１の表面７０Ａ（以下、単に「表面７０Ａ」と称することもある。）に剥離可能に貼り付けられた保護フィルム３０とを備えている。図４においては、光透過性フィルム７０の第２の表面７０Ｂ側には、保護フィルムは設けられていないが、光透過性フィルム７０の第１の表面７０Ａに剥離可能に貼り付けられた保護フィルム３０の他、光透過性フィルム７０の第２の表面７０Ｂにも保護フィルム４０と同様の保護フィルムが剥離可能に貼り付けられていてもよい。なお、図４において、図１と同じ符号が付されている部材は、図１に示されている部材と同じものであるので、下記以外は、説明を省略するものとする。
【０１０３】
光透過性フィルム７０の表面７０Ａは、樹脂基材２１の第１の表面２１Ａとなっている。したがって、保護フィルム付き光透過性フィルム６０においては、保護フィルム３０は、樹脂基材２１の表面２１Ａに剥離可能に貼り付けられている。また、図４に示される光透過性フィルム７０は、樹脂基材２１の他に樹脂層７１を備えているので、光透過性フィルム７０の第２の表面７０Ｂ（以下、単に「表面７０Ｂ」と称することもある。）は、樹脂層７１における樹脂基材２１側の表面とは反対側の表面７１Ａとなっている。
【０１０４】
また、図１に示される保護フィルム付き光透過性フィルム１０においては、保護フィルム３０は樹脂基材２１の表面２１Ａに剥離可能に貼り付けられているが、図５に示されるように保護フィルムは樹脂層の表面に剥離可能に貼り付けられていてもよい。
【０１０５】
図５に示される保護フィルム付き光透過性フィルム８０は、樹脂基材２１と樹脂基材２１の両面側に設けられた樹脂層９１、９２とを備える折り畳み可能な光透過性フィルム９０と、光透過性フィルム９０の第１の表面９０Ａ（以下、単に「表面９０Ａ」と称することもある。）に剥離可能に貼り付けられた保護フィルム３０を備えている。図５においては、光透過性フィルム９０の第２の表面９０Ｂ側には、保護フィルムは設けられていないが、光透過性フィルム９０の第１の表面９０Ａに剥離可能に貼り付けられた保護フィルム３０の他、光透過性フィルム９０の第２の表面９０Ｂにも保護フィルム４０と同様の保護フィルムが剥離可能に貼り付けられていてもよい。なお、図５において、図１と同じ符号が付されている部材は、図１に示されている部材と同じものであるので、下記以外は、説明を省略するものとする。
【０１０６】
光透過性フィルム９０の表面９０Ａは樹脂層９１の表面９１Ａとなっている。したがって、保護フィルム付き光透過性フィルム９０においては、保護フィルム３０は、樹脂層９１の表面９１Ａに剥離可能に貼り付けられている。また、光透過性フィルム９０の表面９０Ｂは樹脂層９２の表面９２Ａとなっている。
【０１０７】
＜＜光透過性フィルム＞＞
光透過性フィルム７０、９０は、折り畳み可能となっている。具体的には、光透過性フィルム７０、９０に対し上記で説明した折り畳み試験（連続折り畳み試験）を１０万回繰り返し行った場合であっても、光透過性フィルム７０、９０に割れまたは破断が生じないことが好ましく、連続折り畳み試験を３０万回繰り返し行った場合であっても、光透過性フィルム７０、９０に割れまたは破断が生じないことがより好ましく、１００万回繰り返し行った場合であっても、光透過性フィルム７０、９０に割れまたは破断が生じないことがさらに好ましい。連続折り畳み試験は、樹脂層７１、９２が内側となるように光透過性フィルム７０、９０を折り畳むように行われてもよく、また樹脂層７１、９２が外側となるように光透過性フィルム７０、９０を折り畳むように行われてもよいが、いずれの場合であっても、光透過性フィルム７０、９０に割れまたは破断が生じないことが好ましい。連続折り畳み試験の条件は、光透過性フィルム２０の欄で説明した連続折り畳み試験の条件と同様であるので、説明を省略するものとする。
【０１０８】
光透過性フィルム７０、９０においても、上記において説明した折り畳み静置試験を行い、その後、折り畳み状態を開放して、開き角を測定した場合に、光透過性フィルム７０、９０の開き角θが１００°以上であることが好ましい。折り畳み静置試験の条件は、光透過性フィルム２０の欄で説明した折り畳み静置試験の条件と同様であり、また開き角の測定条件も光透過性フィルム２０の欄で説明した開き角の測定条件と同様であるので、説明を省略するものとする。
【０１０９】
光透過性フィルム７０、９０のヘイズ値（全ヘイズ値）は３％以下となっていることが好ましい。光透過性フィルム２０の上記ヘイズ値が３％以下であれば、光透過性フィルム７０、９０の表面７０Ａ、９０Ａの凹凸が少なく、優れた平滑性を有している。ヘイズ値の測定条件は、光透過性フィルム２０の欄で説明したヘイズ値の測定条件と同様であるので、ここでは説明を省略する。光透過性フィルム７０、９０のヘイズ値は、２％以下、１％以下の順にさらに好ましい（数値が小さいほど好ましい）。
【０１１０】
光透過性フィルム７０、９０の全光線透過率は、８５％以上であることが好ましい。光透過性フィルム７０、９０の全光線透過率が８５％以上であれば、充分な光学的性能を得ることができる。全光線透過率の測定条件は、光透過性フィルム２０の欄で説明した全光線透過率の測定条件と同様であるので、ここでは説明を省略する。光透過性フィルム７０の全光線透過率は、８８％以上、９０％以上の順にさらに好ましい（数値が大きいほど好ましい）。
【０１１１】
光透過性フィルム７０、９０は、イエローインデックス（ＹＩ）が１５以下であることが好ましい。光透過性フィルム７０、９０のＹＩが１５以下であれば、光透過性フィルム７０の黄色味を抑制でき、透明性が求められる用途に適用できる。イエローインデックスの測定条件は、光透過性フィルム２０の欄で説明したイエローインデックスの測定条件と同様であるので、ここでは説明を省略する。光透過性フィルム７０のイエローインデックス（ＹＩ）の上限は、１０未満、１．５未満の順にさらに好ましい（数値が小さいほど好ましい）。
【０１１２】
＜＜樹脂層＞＞
樹脂層７１、９１、９２は、樹脂から構成されている層である。樹脂層７１、９２は、樹脂基材２１の表面２１Ｂに積層されており、樹脂層９１は樹脂基材２１の表面２１Ａに積層されている。樹脂層９１のように樹脂層の表面に保護フィルムが貼り付けられている場合、樹脂層の膜厚が薄いほど保護フィルムの影響により樹脂層の表面に凹凸が現れやすい。このため、樹脂層の表面に本発明の保護フィルムを貼り付ける場合には、樹脂層の膜厚が、例えば、１μｍ以下、５００ｎｍ以下、２００ｎｍ以下の場合に、特に有効である（値が小さいほど特に有効である）。
【０１１３】
樹脂層７１、９１、９２は、樹脂の他、粒子や添加剤等を含んでいてもよい。樹脂層７１、９２としては、例えば、ハードコート層や衝撃吸収層等が挙げられる。樹脂層９１としては、例えば、下地層等が挙げられる。樹脂層７１、９１、９２は、単層であってもよいが、多層構造であってもよい。
【０１１４】
＜ハードコート層＞
ハードコート層とは、光透過性を有し、かつマルテンス硬度が、樹脂基材のマルテンス硬度よりも高い層を意味するものとする。本明細書において、「マルテンス硬度」とは、ナノインデンテーション法による硬度測定により、圧子を５００ｎｍ押込んだときの硬度である。上記ナノインデンテーション法によるマルテンス硬度の測定は、ＨＹＳＩＴＲＯＮ（ハイジトロン）社製の「ＴＩ９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒ」を用いて行うものとする。具体的には、まず、１ｍｍ×１０ｍｍに切り出した保護フィルム付き光透過性フィルムから全ての保護フィルムを剥離して、光透過性フィルム単体を得る。そして、この光透過性フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、このブロックから一般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の切片を切り出す。切片の作製には、「ウルトラミクロトーム  ＥＭ ＵＣ７」（ライカ マイクロシステムズ株式会社）等を用いることができる。そして、この穴等がない均一な切片が切り出された残りのブロックを測定サンプルとする。次いで、このような測定サンプルにおける上記切片が切り出されることによって得られた断面において、以下の測定条件で、上記圧子としてＢｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子（三角錐）をハードコート層の断面中央に、５００ｎｍ押し込み、一定時間保持して残留応力の緩和を行った後、除荷させて、緩和後の最大荷重を計測し、該最大荷重Ｐｍａｘ（μＮ）と深さ５００ｎｍのくぼみ面積Ａ（ｎｍ２）とを用い、Ｐｍａｘ／Ａにより、マルテンス硬度を算出する。マルテンス硬度は、１０箇所測定して得られた値の算術平均値とする。樹脂基材２１のマルテンス硬度も上記と同様の方法によって測定するものとする。
（測定条件）
・荷重速度：１０ｎｍ／秒
・保持時間：５秒
・荷重除荷速度：１０ｎｍ／秒
・測定温度：２５℃
【０１１５】
ハードコート層の膜厚は、１μｍ以上２０μｍ以下となっていることが好ましい。ハードコート層の膜厚が、１μｍ未満であると、ハードコート層の硬度が低下するおそれがあり、また２０μｍを超えると、厚みが厚すぎることに起因して加工性が悪化するおそれがある。本明細書における「ハードコート層の膜厚」とは、ハードコート層が多層構造となっている場合には、各ハードコート層の膜厚を合計した膜厚（総厚）を意味するものとする。ハードコート層の上限は１５μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以下であることがさらに好ましい。
【０１１６】
ハードコート層の膜厚は、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）、または透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて、ハードコート層の断面を撮影し、その断面の画像においてハードコート層の膜厚を１０箇所測定し、その１０箇所の膜厚の算術平均値とする。具体的な断面写真の撮影方法を以下に記載する。まず、１ｍｍ×１０ｍｍに切り出した保護フィルム付き光透過性フィルムから全ての保護フィルムを剥離して、光透過性フィルム単体を得る。そして、この光透過性フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、このブロックから一般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の切片を切り出す。切片の作製には、「ウルトラミクロトーム  ＥＭ ＵＣ７」（ライカ マイクロシステムズ株式会社）等を用いることができる。そして、この穴等がない均一な切片を測定サンプルとする。その後、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）（製品名「Ｓ−４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、測定サンプルの断面写真を撮影する。この断面写真の撮影の際には、検出器を「ＴＥ」、加速電圧を３０ｋＶ、エミッションを「１０μＡ」にして断面観察を行う。倍率については、フォーカスを調節しコントラストおよび明るさを各層が見分けられるか観察しながら５０００倍〜２０万倍で適宜調節する。好ましい倍率は、１万倍〜１０万倍、更に好ましい倍率は１万倍〜５万倍であり、最も好ましい倍率２．５万倍〜５万倍である。なお、断面写真の撮影の際には、さらに、アパーチャーをビームモニタ絞り３にし、対物レンズ絞りを３にし、またＷ．Ｄ．を８ｍｍにしてもよい。ハードコート層の膜厚を測定する際には、断面観察した折に、ハードコート層と他の層（例えば、樹脂基材）との界面コントラストが可能な限り明確に観察できることが重要となる。仮に、コントラスト不足でこの界面が見え難い場合には、四酸化オスミウム、四酸化ルテニウム、リンタングステン酸など染色処理を施すと、有機層間の界面が見やすくなるので、染色処理を行ってもよい。また、界面のコントラストは高倍率である方が分かりにくい場合がある。その場合には、低倍率も同時に観察する。例えば、２．５万倍と５万倍や、５万倍と１０万倍など、高低の２つの倍率で観察し、両倍率で上記した算術平均値を求め、さらにその平均値をハードコート層の膜厚の値とする。
【０１１７】
ハードコート層は単層構造であってもよいが、折り畳み性能を向上させる観点から２層以上の多層構造であることが好ましい。ハードコート層は、第１のハードコート層と、第１のハードコート層上に積層された第２のハードコート層とから構成されていることが好ましい。第１のハードコート層は、第２のハードコート層よりも樹脂基材側に位置している。
【０１１８】
（第１のハードコート層）
第１のハードコート層は、主に光透過性フィルムに硬度を付与するための層である。第１のハードコート層は、第１のハードコート層の断面中央におけるマルテンス硬度が５００ＭＰａ以上２０００ＭＰａ以下であることが好ましい。５００ＭＰａ未満であると、ハードコート層の硬度が不充分となることがあり、２０００ＭＰａを超えると、光透過性フィルムの折り畳み性能が不充分となることがある。第１のハードコート層の断面中央におけるマルテンス硬度の下限は６００ＭＰａ以上であることが好ましく、上限は１５００ＭＰａ以下であることが好ましい。
【０１１９】
第１のハードコート層のマルテンス硬度は、第２のハードコート層のマルテンス硬度よりも大きいことが好ましい。このようなマルテンス硬度の関係を有することで、光透過性フィルムは、鉛筆硬度が特に良好となる。これは、鉛筆硬度試験は鉛筆に荷重を加えながら行われるが鉛筆が光透過性フィルムに押し込まれたときであっても、光透過性フィルムの変形が抑制されて、傷や凹み変形が少なくなるためである。第１のハードコート層のマルテンス硬度が第２のハードコート層のマルテンス硬度よりも大きくする方法としては、例えば、後述する無機粒子の含有量を第１のハードコート層側により多く含有するよう制御する方法等が挙げられる。なお、ハードコート層が単層構造の場合には、ハードコート層に無機粒子が基材フィルム側に偏在するように、すなわち、上記ハードコート層における無機粒子の存在割合が、樹脂基材側でより大きく、樹脂基材の表面側に向かう従って小さくなるよう傾斜していることが好ましい。
【０１２０】
第１のハードコート層は、樹脂を含んでいる。第１のハードコート層は、樹脂中に分散された無機粒子をさらに含有することが好ましい。
【０１２１】
樹脂は、重合性化合物（硬化性化合物）の重合体（硬化物）を含む。重合性化合物は、分子内に重合性官能基を少なくとも１つ有するものである。重合性官能基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和基が挙げられる。なお、「（メタ）アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の両方を含む意味である。
【０１２２】
重合性化合物としては、多官能（メタ）アクリレートが好ましい。上記多官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートや、これらをＰＯ、ＥＯ、カプロラクトン等で変性したものが挙げられる。
【０１２３】
これらの中でも上述したマルテンス硬度を好適に満たし得ることから、３〜６官能のものが好ましく、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート等が好ましい。なお、本明細書において、（メタ）アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートを意味する。
【０１２４】
なお、硬度や組成物の粘度調整、密着性の改善等のために、更に単官能（メタ）アクリレートモノマーを含んでいてもよい。上記単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、例えば、ヒドロキシエチルアクリレート（ＨＥＡ）、グリシジルメタクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、２−アクリロイルオキシエチルサクシネート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、及び、アダマンチルアクリレート等が挙げられる。
【０１２５】
上記モノマーの重量平均分子量は、樹脂層の硬度を向上させる観点から、１０００未満が好ましく、２００以上８００以下がより好ましい。また、上記重合性オリゴマーの重量平均分子量は、１０００以上２万以下であることが好ましく、１０００以上１万以下であることがより好ましく、２０００以上７０００以下であることが更に好ましい。
【０１２６】
無機粒子としては、硬度を向上させることができれば、特に限定されないが、優れた硬度を得る観点から、シリカ粒子が好ましい。シリカ粒子の中でも、反応性シリカ粒子が好ましい。上記反応性シリカ粒子は、上記多官能（メタ）アクリレートとの間で架橋構造を構成することが可能なシリカ粒子であり、この反応性シリカ粒子を含有することで、第１のハードコート層の硬度を充分に高めることができる。
【０１２７】
上記反応性シリカ粒子は、その表面に反応性官能基を有することが好ましく、該反応性官能基とてしては、例えば、上記の重合性官能基が好適に用いられる。
【０１２８】
上記反応性シリカ粒子としては特に限定されず、従来公知のものを用いることができ、例えば、特開２００８−１６５０４０号公報記載の反応性シリカ粒子等が挙げられる。また、上記反応性シリカ粒子の市販品としては、例えば、日産化学工業株式会社製のＭＩＢＫ−ＳＤ、ＭＩＢＫ−ＳＤＭＳ、ＭＩＢＫ−ＳＤＬ、ＭＩＢＫ−ＳＤＺＬ、日揮触媒化成株式会社製のＶ８８０２、Ｖ８８０３等が挙げられる。
【０１２９】
また、上記シリカ粒子は、球形シリカ粒子であってもよいが、異形シリカ粒子であることが好ましい。球形シリカ粒子と異形シリカ粒子とを混合させてもよい。なお、本明細書における「球形シリカ粒子」とは、例えば、真球状、楕円球状等のシリカ粒子を意味し、また、「異形シリカ粒子」とは、ジャガイモ状（断面観察時のアスペクト比が１．２以上４０以下）のランダムな凹凸を表面に有する形状のシリカ粒子を意味する。上記異形シリカ粒子は、その表面積が球形シリカ粒子と比較して大きいため、このような異形シリカ粒子を含有することで、上記多官能（メタ）アクリレート等との接触面積が大きくなり、上記ハードコート層の硬度を向上させることができる。ハードコート層に含まれているシリカ粒子が異形シリカ粒子であるか否かは、ハードコート層の断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）で観察することによって確認することができる。
【０１３０】
上記シリカ粒子の平均粒子径は、５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。５ｎｍ未満であると、粒子自身の製造が困難になり、粒子同士が凝集したりすることがあり、また、異形にするのが極めて困難になることがあり、更に、上記塗工前のインキの段階で異形シリカ粒子の分散性が悪く凝集したりすることがある。一方、上記異形シリカ粒子の平均粒子径が２００ｎｍを超えると、ハードコート層に大きな凹凸が形成されたり、ヘイズの上昇といった不具合が生じたりすることがある。シリカ粒子が球形シリカ粒子の場合には、シリカ粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した粒子の断面の画像から２０個の粒子の粒子径を測定し、２０個の粒子の粒子径の算術平均値とする。また、シリカ粒子が異形シリカ粒子である場合には、シリカ粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影したハードコート層の断面の画像から粒子の外周の２点間距離の最大値（長径）と最小値（短径）とを測定し、平均して粒子径を求め、２０個の粒子の粒子径の算術平均値とする。
【０１３１】
上記無機粒子の大きさ及び配合量を制御することで第１のハードコート層の硬度（マルテンス硬度）を制御できる。例えば、第１のハードコート層を形成する場合、上記シリカ粒子は直径が５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、上記重合性化合物１００質量部に対して、２５〜６０質量部であることが好ましい。
【０１３２】
（第２のハードコート層）
第２のハードコート層は、上述した連続折り畳み試験を充足させるための層である。第２のハードコート層は、第２のハードコート層の断面中央におけるマルテンス硬度が３７５ＭＰａ以上１５００ＭＰａ以下であることが好ましい。３７５ＭＰａ未満であると、ハードコート層の耐擦傷性が不充分となることがあり、１５００ＭＰａを超えると、樹脂基材の耐折り畳み性能が不充分となって上述した連続折り畳み試験を充足できないことがある。第２のハードコート層の断面中央におけるマルテンス硬度の下限は４５０ＭＰａ以上であることがより好ましく、上限は５７５ＭＰａ以下であることがより好ましい。
【０１３３】
第２のハードコート層は、樹脂を含んでいる。第２のハードコート層は、樹脂中に分散された無機粒子をさらに含んでいてもよい。
【０１３４】
樹脂は、重合性化合物（硬化性化合物）の重合体（硬化物）を含む。重合性化合物としては、多官能（メタ）アクリレートが好ましい。上記多官能（メタ）アクリレートとしては、第１のハードコート層の欄の多官能（メタ）アクリレートと同様のものが挙げられる。また、第２のハードコート層は、上記多官能（メタ）アクリレートに加えて、多官能ウレタン（メタ）アクリレート及び／又は多官能エポキシ（メタ）アクリレート等が含まれてもよい。
【０１３５】
無機粒子としては、第１のハードコート層の欄の無機粒子と同様のものが挙げられる。第２のハードコート層における無機粒子の含有量としては、特に限定されないが、例えば、第２のハードコート層に対し０〜５０質量％であることが好ましい。
【０１３６】
第１のハードコート層および第２のハードコート層の少なくともいずれかは、上述したマルテンス硬度を充足する範囲で、上述した材料以外の材料を含んでいてもよく、例えば、樹脂成分の材料として、電離放射線の照射により硬化物を形成する重合性モノマーや重合性オリゴマー等を含んでいてもよい。上記重合性モノマー又は重合性オリゴマーとしては、例えば、分子中にラジカル重合性不飽和基を有する（メタ）アクリレートモノマー、又は、分子中にラジカル重合性不飽和基を有する（メタ）アクリレートオリゴマーが挙げられる。上記分子中にラジカル重合性不飽和基を有する（メタ）アクリレートモノマー、又は、分子中にラジカル重合性不飽和基を有する（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、ポリフルオロアルキル（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレート等のモノマー又はオリゴマーが挙げられる。これら重合性モノマー又は重合性オリゴマーは、１種又は２種以上を組み合わせて使用してもよい。なかでも、多官能（６官能以上）で重量平均分子量が１０００〜１万のウレタン（メタ）アクリレートが好ましい。
【０１３７】
ハードコート層（第１のハードコート層および第２のハードコート層の少なくともいずれか）は、紫外線吸収剤、分光透過率調整剤、および／または防汚剤をさらに含んでいてもよい。
【０１３８】
（紫外線吸収剤）
樹脂基材は、折り畳み可能なスマートフォンやタブレット端末のようなモバイル端末に特に好適に用いられるが、このようなモバイル端末は屋外で使用されることが多く、そのため、樹脂基材より表示素子側に配置された偏光子が紫外線に晒されて劣化しやすいという問題がある。しかしながら、樹脂層は、偏光子の表示画面側に配置されるため、樹脂層に紫外線吸収剤が含有されていると、偏光子が紫外線に晒されることによる劣化を好適に防止することができる。なお、上記紫外線吸収剤（ＵＶＡ）は、樹脂基材２１に含有されていてもよい。この場合、紫外線吸収剤（ＵＶＡ）は、ハードコート層に含有されていなくてもよい。
【０１３９】
紫外線吸収剤としては、例えば、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、及び、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤等が挙げられる。
【０１４０】
上記トリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス［２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル］−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、および２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−（２’−エチル）ヘキシル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。市販されているトリアジン系紫外線吸収剤としては、例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ４６０、ＴＩＮＵＶＩＮ４７７（いずれも、ＢＡＳＦ社製）、ＬＡ−４６（ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。
【０１４１】
上記ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸及びその三水塩、ヒドロキシメトキシベンゾフェノンスルホン酸ナトリウム等が挙げられる。市販されているベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、ＣＨＭＡＳＳＯＲＢ８１／ＦＬ（ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。
【０１４２】
上記ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネート、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−〔５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル〕−４−メチル−６−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェノール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−（３’’，４’’，５’’，６’’−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、及び、２−（２’−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール等が挙げられる。市販されているベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、ＫＥＭＩＳＯＲＢ７１Ｄ、ＫＥＭＩＳＯＲＢ７９（いずれも、ケミプロ化成株式会社製）、ＪＦ−８０、ＪＡＳＴ−５００（いずれも、城北化学工業株式会社製）、ＵＬＳ−１９３３Ｄ（一方社油脂工業株式会社製）、ＲＵＶＡ−９３（大塚化学株式会社製）等が挙げられる。
【０１４３】
紫外線吸収剤は、なかでも、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が好適に用いられる。紫外線吸収剤は、ハードコート層を構成する樹脂成分との溶解性が高いほうが好ましく、また、上述した連続折り畳み試験後のブリードアウトが少ないほうが好ましい。紫外線吸収剤は、ポリマー化又はオリゴマー化されていることが好ましい。紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール、トリアジン、ベンゾフェノン骨格を有するポリマー又はオリゴマーが好ましく、具体的には、ベンゾトリアゾールやベンゾフェノン骨格を有する（メタ）アクリレートと、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）とを任意の比率で熱共重合したものであることが好ましい。なお、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）表示装置に樹脂基材を適用する場合、紫外線吸収剤は、ＯＬＥＤを紫外線から保護する役割も果たすことができる。
【０１４４】
紫外線吸収剤の含有量としては特に限定されないが、ハードコート層用組成物の固形分１００質量部に対して１質量部以上６質量部以下であることが好ましい。１質量部未満であると、上述した紫外線吸収剤をハードコート層に含有させる効果を充分に得ることができないことがあり、６質量部を超えると、ハードコート層に著しい着色や強度低下が生じることがある。上記紫外線吸収剤の含有量のより好ましい下限は２質量部以上、より好ましい上限は５質量部以下である。
【０１４５】
（分光透過率調整剤）
分光透過率調整剤は、光透過性フィルムの分光透過率を調整するものである。ハードコート層に、例えば、下記一般式（２５）で表されるセサモール型ベンゾトリアゾール系単量体を含ませた場合には、所望の分光透過率を満たすことができる。
【化２５】
2019119084.tif 000027
式中、Ｒ７は水素原子又はメチル基を表す。Ｒ８は炭素数１〜６の直鎖状又は枝分かれ鎖状のアルキレン基又は炭素数１〜６の直鎖状または分岐鎖状のオキシアルキレン基を表す。
【０１４６】
上記のセサモール型ベンゾトリアゾール系単量体としては特に制限されないが、具体的な物質名としては、２−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］エチルメタクリレート、２−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］エチルアクリレート、３−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］プロピルメタクリレート、３−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］プロピルアクリレート、４−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］ブチルメタクリレート、４−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル］ブチルアクリレート、２−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルメタクリレート、２−［２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イルオキシ］エチルアクリレート、２−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］エチルメタクリレート、２−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］エチルアクリレート、４−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］ブチルメタクリレート、４−［３−{ ２ −（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］ブチルアクリレート、２−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］エチルメタクリレート、２−［３−{２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−イル}プロパノイルオキシ］エチルアクリレート、２−（メタクリロイルオキシ）エチル２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５カルボキシレート、２−（アクリロイルオキシ）エチル２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレート、４−（メタクリロイルオキシ）ブチル２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレート、４−（アクリロイルオキシ）ブチル２−（６−ヒドロキシベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−５−カルボキシレート等を挙げることができる。また、これらセサモール型ベンゾトリアゾール系単量体は１種類で用いてもよいし、また２種類以上用いてもよい。
【０１４７】
上記セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体は、樹脂層が２以上の多層構造である場合には、２層以上の樹脂層に含有されて、所望の分光透過率を満たしてもよい。例えば、樹脂層の一つに波長３８０ｎｍにおける分光透過率のみを達成できるように上記セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体を含有し、他の樹脂層に波長４１０ｎｍ及び波長４４０ｎｍにおける分光透過率の条件を達成できるように上記セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体を含有している構成等が挙げられる。更に、樹脂層が３層以上からなり、各樹脂層にて所望の分光透過率を満たすよう上記セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体を含有していてもよい。
【０１４８】
上記セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体がハードコート層に含有されている場合、例えば、上記セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体は、ハードコート層中に１５〜３０質量％で含有されていることが好ましい。このような範囲でセサモール型ベンゾトリアゾール系単量体が含有されていることで、所望の分光透過率を満たすことができる。なお、上記セサモール型ベンゾトリアゾール系単量体は、ハードコート層において、ハードコート層を構成する樹脂成分と反応して一体的に含有されていてもよく、ハードコート層を構成する樹脂成分と反応することなく単独で含有されていてもよい。
【０１４９】
（防汚剤）
防汚剤は、ハードコート層に均一に防汚剤が分散されていてもよいが、少ない添加量で充分な防汚性を得るとともにハードコート層の強度低下を抑制する観点から、ハードコート層の表面側に偏在して含まれていることが好ましい。ハードコート層が単層構造の場合において、防汚剤をハードコート層の表面側に偏在させる方法としては、例えば、ハードコート層を形成時において、ハードコート層用組成物を用いて形成した塗膜を乾燥させ、硬化させる前に、塗膜を加熱して、塗膜に含まれる樹脂成分の粘度を下げることにより流動性を上げて、防汚剤をハードコート層の表面側に偏在させる方法や、表面張力の低い防汚剤を選定して用い、塗膜の乾燥時に熱をかけずに塗膜の表面に防汚剤を浮かせ、その後塗膜を硬化させることで、上記防汚剤をハードコート層の最表面側に偏在させる方法等が挙げられる。また、ハードコート層が多層構造の場合には、表面側のハードコート層に防汚剤を含有させることによってハードコート層の表面側に防汚剤を偏在させることができる。
【０１５０】
防汚剤としては特に限定されず、例えば、シリコーン系防汚剤、フッ素系防汚剤、シリコーン系かつフッ素系防汚剤が挙げられ、それぞれ単独で使用してもよく、混合して使用してもよい。また、防汚剤としては、アクリル系防汚剤であってもよい。
【０１５１】
防汚剤の含有量としては、上述した樹脂成分１００質量部に対して、０．０１〜３．０質量部であることが好ましい。０．０１質量部未満であると、樹脂層に充分な防汚性能を付与できないことがあり、また、３．０質量部を超えると、ハードコート層の硬度が低下するおそれがある。
【０１５２】
防汚剤は、重量平均分子量が５０００以下であることが好ましく、防汚性能の耐久性を改善するために、反応性官能基を好ましくは１以上、より好ましくは２以上有する化合物である。なかでも、２以上の反応性官能基を有する防汚剤を用いることにより、優れた耐擦傷性を付与することができる。
【０１５３】
防汚剤が反応性官能基を有さない場合、樹脂基材がロール状の場合でも、シート状の場合でも、重ねたときに樹脂基材の裏面に防汚剤が転移してしまい、樹脂基材の裏面に他の層を貼り付けまたは塗布しようとすると、他の層の剥がれが発生することがあり、更に、複数回の連続折り畳み試験を行うことで容易に剥がれる場合がある。
【０１５４】
更に、上記反応性官能基を有する防汚剤は、防汚性能の性能持続性（耐久性）が良好となり、なかでも、上述したフッ素系防汚剤を含むハードコート層は、指紋が付きにくく（目立ちにくく）、拭き取り性も良好である。更に、ハードコート層用組成物の塗工時の表面張力を下げることができるので、レベリング性がよく、形成するハードコート層の外観が良好なものとなる。
【０１５５】
シリコーン系防汚剤を含むハードコート層は、滑り性がよく、耐スチールウール性が良好である。ハードコート層にこのようなシリコーン系防汚剤を含む樹脂基材を搭載したタッチセンサは、指やペンなどで接触したときの滑りがよくなるため、触感がよくなる。また、ハードコート層に指紋も付きにくく（目立ちにくく）、拭き取り性も良好となる。更に、ハードコート層用組成物の塗工時の表面張力を下げることができるので、レベリング性がよく、形成するハードコート層の外観が良好なものとなる。
【０１５６】
シリコーン系防汚剤の市販品としては、例えば、ＳＵＡ１９００Ｌ１０（新中村化学工業株式会社製）、ＳＵＡ１９００Ｌ６（新中村化学工業株式会社製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ１３６０（ダイセルサイテック株式会社製）、ＵＴ３９７１（日本合成化学工業株式会社製）、ＢＹＫＵＶ３５００（ビックケミー社製）、ＢＹＫＵＶ３５１０（ビックケミー社製）、ＢＹＫＵＶ３５７０（ビックケミー社製）、Ｘ２２−１６４Ｅ、Ｘ２２−１７４ＢＸ、Ｘ２２−２４２６、ＫＢＭ５０３、ＫＢＭ５１０３（信越化学工業株式会社製）、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２２５０、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２３００、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２２００Ｎ、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２０１０、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２５００、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２６００、ＴＥＧＯ−ＲＡＤ２７００（エボニックジャパン株式会社製）、メガファックＲＳ８５４（ＤＩＣ株式会社製）等が挙げられる。
【０１５７】
フッ素系防汚剤の市販品としては、例えば、オプツールＤＡＣ、オプツールＤＳＸ（ダイキン工業株式会社製）、メガファックＲＳ７１、メガファックＲＳ７４（ＤＩＣ株式会社製）、ＬＩＮＣ１５２ＥＰＡ、ＬＩＮＣ１５１ＥＰＡ、ＬＩＮＣ１８２ＵＡ（共栄社化学株式会社製）、フタージェント６５０Ａ、フタージェント６０１ＡＤ、フタージェント６０２等が挙げられる。
【０１５８】
フッ素系かつシリコーン系で反応性官能基を有する防汚剤の市販品としては、例えば、メガファックＲＳ８５１、メガファックＲＳ８５２、メガファックＲＳ８５３、メガファックＲＳ８５４（ＤＩＣ株式会社製）、オプスターＴＵ２２２５、オプスターＴＵ２２２４（ＪＳＲ株式会社製）、Ｘ７１−１２０３Ｍ（信越化学工業株式会社製）等が挙げられる。
【０１５９】
＜衝撃吸収層＞
衝撃吸収層は、衝撃吸収性を有する層である。衝撃吸収層は、２層以上の多層構造となっていてもよい。
【０１６０】
衝撃吸収層の膜厚は、１０μｍ以上５００μｍ以下となっていることが好ましい。衝撃吸収層の膜厚が、１０μｍ以上であれば、衝撃吸収層の硬度低下を抑制でき、また５００μｍ以下であれば、膜厚が厚すぎることもないので、薄型化に適し、また加工性の悪化を抑制できる。衝撃吸収層の膜厚は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて、衝撃吸収層の断面を撮影し、その断面の画像において衝撃吸収層の膜厚を２０箇所測定し、その２０箇所の膜厚の算術平均値とする。衝撃吸収層の下限は５０μｍ以上であることがより好ましく、衝撃吸収層の上限は１５０μｍ以下であることがより好ましく、１００μｍ以下であることがさらに好ましい。
【０１６１】
衝撃吸収層においては、２５℃、５００Ｈｚ以上１０００Ｈｚ以下の周波数域での剪断貯蔵弾性率Ｇ´が、１ＭＰａ以上１５００ＭＰａ以下となっていることが好ましい。衝撃吸収層の剪断貯蔵弾性率Ｇ´が１ＭＰ以上であれば、樹脂基材の表面に衝撃が加わった際に、樹脂基材自体の変形のみならず、樹脂基材よりも画像表示装置の内部に粘着層が配置されている場合であっても粘着層の塑性変形をより抑制することができる。また、衝撃吸収層の剪断貯蔵弾性率Ｇ´が１５００ＭＰａ以下であれば、折り畳みの際の樹脂基材の割れをより抑制できる。衝撃吸収層の剪断貯蔵弾性率Ｇ´の下限は、１００ＭＰａ以上となっていることがより好ましく、衝撃吸収層の剪断貯蔵弾性率Ｇ´の上限は、１２００ＭＰａ以下となっていることがより好ましい。このような上限とすることで、折り畳んで静置し、再び開いた際に、良好な復元性を得ることができる。
【０１６２】
衝撃吸収層においては、２５℃、５００Ｈｚ以上１０００Ｈｚ以下の周波数域での剪断損失弾性率Ｇ´´が、０．１ＭＰａ以上２００ＭＰａ以下となっていることが好ましい。衝撃吸収層の剪断損失弾性率Ｇ´´が０．１ＭＰａ以上であれば、衝撃吸収性能をより得ることができる。また、衝撃吸収層の剪断損失弾性率Ｇ´´が２００ＭＰａ以下であれば、衝撃吸収層の硬度が低下するおそれもない。衝撃吸収層の剪断損失弾性率Ｇ´´の下限は、１ＭＰａ以上となっていることが好ましく、また衝撃吸収層の剪断損失弾性率Ｇ´´の上限は、衝撃吸収層の薄型化の観点から、１５０ＭＰａ以下となっていることがより好ましい。
【０１６３】
衝撃吸収層の剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´は、動的粘弾性測定装置（ＤＭＡ）によって測定することができる。動的粘弾性測定装置（ＤＭＡ）によって、衝撃吸収層の剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´を測定する際には、まず、保護フィルム付き光透過性フィルムから全ての保護フィルムを剥離して、衝撃吸収層を含む光透過性フィルム単体を得る。次いで、この光透過性フィルムを、１０ｍｍ×５ｍｍの長方形状に打ち抜いて、サンプルを得る。そして、このサンプルを２枚準備し、動的粘弾性測定装置（製品名「Rheogel-E4000」、株式会社ユービーエム社製）のオプションである固体剪断用治具に取り付ける。具体的には、固体剪断用治具は、厚さ１ｍｍの１枚の金属製の固体剪断板と、この固体剪断板の両側に配置された２つのＬ型金具を備えており、固体剪断板と一方のＬ型金具との間で一方のサンプルを挟み、かつ固体剪断板と他方のＬ型金具で他方のサンプルを挟む。この場合、衝撃吸収層が固体剪断板側となり、樹脂基材がＬ型金具側となるようにサンプルを挟む。そして、ビスでＬ型金具間を締めて、サンプルを固定する。次いで、動的粘弾性測定装置（製品名「Rheogel-E4000」、株式会社ユービーエム社製）に上部チャックおよび下部チャックからなる引張り試験用チャックを取り付けた後、上部チャックと下部チャックの間に固体剪断用治具をチャック間距離２０ｍｍで取り付ける。チャック間距離は、上部チャックと下部チャックの間の距離である。そして、設定温度を２５℃とし２℃／ｍｉｎで昇温させる。この状態で、固体剪断板を固定しながら２つのＬ型金具に歪み量１％かつ周波数５００Ｈｚ以上１０００Ｈｚ以下の範囲の縦振動を与えながら、２５℃での固体の動的粘弾性測定を行い、衝撃吸収層の剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´を測定する。ここで、サンプルは、衝撃吸収層以外にも樹脂基材を含むものであるが、樹脂基材は衝撃吸収層よりも硬いので、樹脂基材の影響は無視することができる。このため、サンプルが、衝撃吸収層以外に、樹脂基材を含んでいたとしても、サンプルから測定された剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´は、衝撃吸収層の剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´とみなすことができる。衝撃吸収層における５００Ｈｚ以上１０００Ｈｚ以下の周波数域での剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´は、外板に周波数５００Ｈｚ、７５０Ｈｚ、９５０Ｈｚの縦振動をそれぞれ与えて、それぞれの周波数において衝撃吸収層の剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´を測定し、これらの剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´の算術平均値を求め、さらに、この測定を３回繰り返し、それぞれ得られた３つの算術平均値をさらに算術平均した値とする。なお、上記において、５００Ｈｚ以上１０００Ｈｚ以下の周波数域としたのは、この周波数域の周波数が、数ｃｍの高さから物体を自由落下させたときに、光透過性フィルムの表面が数ミクロンから数十ミクロン変形する周波数であり、かつ光透過性フィルムより画像表示装置の内部に存在する表示パネル等に損傷を与える周波数であるからである。
【０１６４】
衝撃吸収層を構成する樹脂は、衝撃吸収層における２５℃、５００ＨｚＨｚ以上１０００Ｈｚ以下の周波数域の剪断貯蔵弾性率Ｇ´および剪断損失弾性率Ｇ´´が上記範囲内となるような樹脂であれば、特に限定されない。このような樹脂としては、アクリル系ゲル、ウレタン系ゲル、シリコーン系ゲル、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられる。これらの中でも、アクリル系ゲルが好ましい。「ゲル」とは、一般に、高粘度で流動性を失った分散系をいう。なお、衝撃吸収層は、アクリル系ゲルやウレタン系樹脂等の他、ゴムや熱可塑性エラストマーを含有していてもよい。また、上記アクリル系ゲルは粘着性があるので、衝撃吸収層が上記アクリル系ゲルからなる場合には、衝撃吸収層と樹脂基材との間に粘着層を設けなくとも、衝撃吸収層と樹脂基材を直接貼り付けることができる。
【０１６５】
（アクリル系ゲル）
アクリル系ゲルとしては、粘着剤などに用いられている、アクリル酸エステルを含むモノマーを重合してなるポリマーであれば種々のものを使用することができる。具体的には、アクリル系ゲルとしては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−アミル（メタ）アクリレート、ｉ−アミル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ｉ−オクチル（メタ）アクリレート、ｉ−ミリスチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、ｉ−ノニル（メタ）アクリレート、ｉ−デシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ｉ−ステアリル（メタ）アクリレート等のアクリル系モノマーを重合または共重合したものを用いることができる。本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレート」および「メタクリレート」の両方を含む意味である。なお、上記（共）重合する際に使用するアクリル酸エステルは、単独で用いる他、２種類以上併用してもよい。
【０１６６】
（ウレタン系樹脂）
ウレタン系樹脂は、ウレタン結合を有する樹脂である。ウレタン系樹脂としては、電離放射線硬化性ウレタン系樹脂組成物の硬化物や熱硬化性ウレタン系樹脂組成物の硬化物等が挙げられる。これらの中でも、高硬度が得られ、硬化速度も早く量産性に優れる観点から、電離放射線硬化性ウレタン系樹脂組成物の硬化物であることが好ましい。
【０１６７】
電離放射線硬化性ウレタン系樹脂組成物は、ウレタン（メタ）アクリレートを含んでおり、熱硬化性ウレタン系樹脂は、ポリオール化合物と、イソシアネート化合物とを含んでいる。ウレタン（メタ）アクリレート、ポリオール化合物、およびイソシアネート化合物は、モノマー、オリゴマー、およびプレポリマーのいずれであってもよい。
【０１６８】
ウレタン（メタ）アクリレート中の（メタ）アクリロイル基の数（官能基数）は、２以上４以下であることが好ましい。ウレタン（メタ）アクリレート中の（メタ）アクリロイル基の数が、２未満であると、鉛筆硬度が低くなるおそれがあり、また４を超えると、硬化収縮が大きくなり、樹脂基材がカールしてしまい、また折り曲げ時に樹脂層にクラックが入るおそれがある。ウレタン（メタ）アクリレート中の（メタ）アクリロイル基の数の上限は、３以下であることがより好ましい。
【０１６９】
ウレタン（メタ）アクリレートの重量平均分子量は、１５００以上２００００以下であることが好ましい。ウレタン（メタ）アクリレートの重量平均分子量が、１５００未満であると、耐衝撃性が低下するおそれがあり、また２００００を超えると、電離放射線硬化性ウレタン系樹脂組成物の粘度が上昇し、塗工性が悪化するおそれがある。ウレタン（メタ）アクリレートの重量平均分子量の下限は２０００以上であることがより好ましく、上限は１５０００以下であることがより好ましい。
【０１７０】
また、ウレタン（メタ）アクリレート由来の構造を有する繰り返し単位としては、例えば、下記一般式（２６）、（２７）、（２８）または（２９）で表される構造等が挙げられる。
【化２６】
2019119084.tif 000028
上記一般式（２６）中、Ｒ９は分岐鎖状アルキル基を示し、Ｒ１０は分岐鎖状アルキル基又は飽和環状脂肪族基を示し、Ｒ１１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ１２は、水素原子、メチル基又はエチル基を示し、ｍは０以上の整数を示し、ｘは０〜３の整数を示す。
【０１７１】
【化２７】
2019119084.tif 000029
上記一般式（２７）中、Ｒ９は分岐鎖状アルキル基を示し、Ｒ１０は分岐鎖状アルキル基又は飽和環状脂肪族基を示し、Ｒ１１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ１２は、水素原子、メチル基又はエチル基を示し、ｎは１以上の整数を示し、ｘは０〜３の整数を示す。
【０１７２】
【化２８】
2019119084.tif 000030
上記一般式（２８）中、Ｒ９は分岐鎖状アルキル基を示し、Ｒ１０は分岐鎖状アルキル基又は飽和環状脂肪族基を示し、Ｒ１１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ１２は、水素原子、メチル基又はエチル基を示し、ｍは０以上の整数を示し、ｘは０〜３の整数を示す。
【０１７３】
【化２９】
2019119084.tif 000031
上記一般式（２９）中、Ｒ９は分岐鎖状アルキル基を示し、Ｒ１０は分岐鎖状アルキル基又は飽和環状脂肪族基を示し、Ｒ１１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ１２は、水素原子、メチル基又はエチル基を示し、ｎは１以上の整数を示し、ｘは０〜３の整数を示す。
【０１７４】
なお、衝撃吸収層を構成する樹脂が、どのような構造の高分子鎖（繰り返し単位）によって形成されているかは、例えば、熱分解ＧＣ−ＭＳ及びＦＴ−ＩＲによって衝撃吸収層を分析することによって判断可能である。特に、熱分解ＧＣ−ＭＳは、衝撃吸収層に含まれる単量体単位をモノマー成分として検知できるため有用である。
【０１７５】
衝撃吸収層は、紫外線吸収剤、分光透過率調整剤、防汚剤、無機粒子および／または有機粒子等を含んでいてもよい。紫外線吸収剤等は、ハードコート層の欄で説明した紫外線吸収剤等と同様のものが使用できるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０１７６】
＜下地層＞
下地層は、樹脂基材と樹脂基材上に設けられる他の機能層（例えば、ハードコート層や衝撃吸収層）との間の密着性を向上させるための層である。樹脂基材の表面に下地層を設けることにより、樹脂基材の表面と他の機能層が直接接している場合よりも、密着性を向上させることができる。
【０１７７】
下地層の膜厚は、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下となっていることが好ましい。下地層の膜厚が、３０ｎｍ以上であれば、樹脂基材と他の機能層の充分な密着性を確保でき、また２００ｎｍ以下であれば、干渉縞の発生を抑制できる。下地層の膜厚は、ハードコート層の膜厚と同様の方法によって求めるものとする。下地層の膜厚の下限は５０ｎｍ以上であることがより好ましく、上限は１５０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【０１７８】
下地層は、樹脂を含んでいる。下地層の樹脂は、（メタ）アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ナイロン、ポリスチレン、およびＡＢＳ樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の樹脂であることが好ましい。
【０１７９】
＜＜保護フィルム付き光透過性フィルムの製造方法＞＞
保護フィルム付き光透過性フィルム１０は、以下のようにして得ることができる。まず、光透過性フィルム２０の表面２０Ａ（樹脂基材２１の表面２１Ａ）に粘着層３２側が表面２０Ａ側となるように保護フィルム３０を貼り付ける。そして、光透過性フィルム２０の表面２０Ｂ（樹脂基材２１の表面２１Ｂ）に粘着層４２側が表面２０Ｂ側となるように保護フィルム４０を貼り付ける。これにより、保護フィルム付き光透過性フィルム１０が得られる。
【０１８０】
また、保護フィルム付き光透過性フィルム６０は、以下のようにして得ることができる。まず、樹脂基材２１の表面２１Ａに粘着層３２側が表面２１Ａ側となるように保護フィルム３０を貼り付ける。そして、樹脂基材２１の表面２１Ｂに、樹脂層７１（例えば、ハードコート層や衝撃吸収層）を形成し、樹脂基材２１と樹脂層７１からなる光透過性フィルム７０を形成する。これにより、保護フィルム付き光透過性フィルム６０が得られる。なお、樹脂層７１等を形成する際の加工プロセスが、保護フィルム３０の軟化点以上の温度になる場合には、樹脂基材２１から保護フィルム３０を一度剥がした後に、加工プロセスを行い、その後再度光透過性フィルム２０の表面２０Ａに保護フィルム３０を貼り付けてもよい。
【０１８１】
樹脂層７１として、第１のハードコート層と、第１のハードコート層上に積層された第２のハードコート層とからなるハードコート層を形成する場合には、樹脂基材２１の表面２１Ｂに、まず、第１のハードコート層を形成するための第１のハードコート層用組成物を塗布し、第１のハードコート層用組成物の塗膜を形成する。
【０１８２】
＜第１のハードコート層用組成物＞
第１のハードコート層用組成物は、第１のハードコート層を形成するための重合性化合物を含んでいる。第１のハードコート層用組成物は、その他、必要に応じて、紫外線吸収剤、分光透過率調整剤、防汚剤、無機粒子、レベリング剤、溶剤、重合開始剤を含んでいてもよい。
【０１８３】
（溶媒）
上記溶媒としては、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ、エチレングリコール、ジアセトンアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン、ジアセトンアルコール）、エステル（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、蟻酸メチル、ＰＧＭＥＡ）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）、カーボネート（炭酸ジメチル、炭酸ジエチル、炭酸エチルメチル）、等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いられてもよく、２種類以上が併用されてもよい。なかでも、上記溶媒としては、ウレタン（メタ）アクリレート等の成分、並びに、他の添加剤を溶解或いは分散させ、第１のハードコート層用組成物を好適に塗工できる点で、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンが好ましい。
【０１８４】
（重合開始剤）
重合開始剤は、電離放射線照射より分解されて、ラジカルを発生して重合性化合物の重合（架橋）を開始または進行させる成分である。
【０１８５】
重合開始剤は、電離放射線照射によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば特に限定されない。重合開始剤としては、特に限定されず、公知のものを用いることができ、具体例には、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。
【０１８６】
第１のハードコート層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を、例えば３０℃以上１２０℃以下の温度で１０秒間〜１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶剤を蒸発させる。
【０１８７】
塗膜を乾燥させた後、塗膜に紫外線等の電離放射線を照射して、塗膜を半硬化（ハーフキュア）させる。本明細書における「半硬化」とは、電離放射線をさらに照射すると硬化が実質的に進行することを意味する。ただし、この段階で、塗膜を完全硬化（フルキュア）させてもよい。本明細書における「完全硬化」とは、これ以上電離放射線を照射しても硬化が実質的に進行しないことを意味する。
【０１８８】
塗膜を半硬化させた後、塗膜上に、バーコーター等の塗布装置によって、第２のハードコート層を形成するための第２のハードコート層用組成物を塗布して、第２のハードコート層用組成物の塗膜を形成する。
【０１８９】
＜第２のハードコート層用組成物＞
第２のハードコート層用組成物は、第２のハードコート層を形成するための重合性化合物を含んでいる。第２のハードコート層用組成物は、その他、必要に応じて、紫外線吸収剤、溶剤、重合開始剤を含んでいてもよい。第２のハードコート層用組成物は、第１のハードコート層用組成物と同様に、総固形分が２５〜５５％であることが好ましい。溶剤および重合開始剤は、第１のハードコート層用組成物で説明した溶剤および重合開始剤と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０１９０】
第２のハードコート層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を例えば３０℃以上１２０℃以下の温度で１０秒間〜１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶剤を蒸発させる。
【０１９１】
塗膜を乾燥させた後、第２のハードコート層用組成物の塗膜に紫外線等の電離放射線を照射して、第１のハードコート層用組成物の塗膜および第２のハードコート層用組成物の塗膜を完全硬化（フルキュア）させて、第１のハードコート層および第２のハードコート層からなるハードコート層を得る。
【０１９２】
また、樹脂層７１として、衝撃吸収層を形成する場合には、樹脂基材２１の表面２１Ｂに、衝撃吸収層を形成するための衝撃吸収層用組成物を塗布して、衝撃吸収層用組成物の塗膜を形成する。衝撃吸収層用組成物の塗膜を形成した後、各種の公知の方法で塗膜を例えば３０℃以上１２０℃以下の温度で１０秒間〜１２０秒間加熱することにより乾燥させ、溶剤を蒸発させる。塗膜を乾燥させた後、樹脂層用組成物の塗膜に紫外線等の電離放射線を照射して、衝撃吸収層の塗膜を硬化させて、衝撃吸収層を形成する。
【０１９３】
また、保護フィルム付き光透過性フィルム８０は、以下のようにして得ることができる。まず、樹脂基材２１の表面２１Ａに樹脂層９１（例えば、下地層）を形成し、樹脂層９１の表面９１Ａに粘着層３２側が樹脂層９１側となるように保護フィルム３０を貼り付ける。そして、樹脂基材２１の表面２１Ｂに樹脂層９２（例えば、ハードコート層や衝撃吸収層）を形成する。これにより、保護フィルム付き光透過性フィルム８０が得られる。なお、樹脂層９１、９２等を形成する際の加工プロセスが、保護フィルム３０の軟化点以上の温度になる場合には、樹脂層９１から保護フィルム３０を一度剥がした後に、加工プロセスを行い、その後再度樹脂層９１の表面９０Ａに保護フィルム３０を貼り付けてもよい。
【０１９４】
光透過性フィルムから保護フィルムを剥離すると、光透過性フィルムの表面に凹凸が現れるのは、光透過性フィルムの表面に保護フィルムの表面の凹凸が転写されてしまうからであると考えられる。特に、この現象が、ロール状に巻回した状態の光透過性フィルムで発生しやすいのは、光透過性フィルムをロール状に巻回することによって保護フィルムから光透過性フィルムに圧力が加わるからであると考えられる。一方で、ＪＩＳ  Ｋ７１３６：２０００には、ヘイズは、試験片を通過する透過光のうち、前方散乱によって、入射光から０．０４４ｒａｄ（２．５°）以上それた透過光の百分率であることが規定されている。すなわち、ヘイズの定義においては入射光に対し２．５°以上それた透過光はヘイズとして測定されるが、入射光に対し２．５°未満の透過光であればヘイズとして測定されない。ここで、保護フィルムの表面に凹凸が存在すると、この凹凸によって保護フィルムを透過する光が拡散するので、ヘイズ値は大きくなる。したがって、保護フィルムのヘイズ値が小さいことは、保護フィルムの表面に存在する凹凸が少なく、平滑性に優れることを意味する。本実施形態においては、ヘイズ値が１０％以下の保護フィルム３０、４０を用いているので、保護フィルム３０、４０の表面に存在する凹凸が少ない。このため、凹凸が少ない光透過性フィルム２０の表面２０Ａ、２０Ｂを得ることができる。これにより、優れた平滑性を有する光透過性フィルム２０を得ることができる。また、同様の理由から、優れた平滑性を有する光透過性フィルム７０、９０を得ることができる。
【０１９５】
＜＜＜光学フィルム＞＞＞
光透過性フィルム２０、７０、９０は、折り畳み可能な光学フィルムの形成に用いることができる。図６は、本実施形態に係る光学フィルムの概略構成図である。
【０１９６】
図６に示される光学フィルム１００は、樹脂基材２１からなる光透過性フィルム２０と、樹脂基材２１の表面２１Ａに設けられた樹脂層１０１と、樹脂基材２１の表面２１Ｂに設けられた樹脂層１０２とを備えている。
【０１９７】
＜＜樹脂層＞＞
樹脂層１０１、１０２としては、特に限定されないが、ハードコート層や衝撃吸収層が挙げられる。例えば、樹脂層１０１が、ハードコート層である場合には、樹脂層１０２は、衝撃吸収層とすることが可能である。ハードコート層は、樹脂層７１の欄で説明したハードコート層と同様であり、衝撃吸収層は、樹脂層７１の欄で説明した衝撃吸収層と同様であるので、ここでは説明を省略するものとする。
【０１９８】
光学フィルム１００を形成する場合には、まず、保護フィルム付き光透過性フィルム１０において、光透過性フィルム２０から保護フィルム３０を剥離した状態で、樹脂層７１の形成と同様にして、樹脂基材２１の表面２１Ａに樹脂層１０１を形成する。次いで、光透過性フィルム２０から保護フィルム４０を剥離した状態で、樹脂層７１の形成と同様にして、樹脂基材２１の表面２１Ｂに樹脂層１０２を形成する。
【０１９９】
＜＜＜画像表示装置＞＞＞
光学フィルム１００は、折り畳み可能な画像表示装置に組み込んで使用することが可能である。図７は、本実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。図７に示されるように、画像表示装置１１０は、観察者側に向けて、主に、電池等が収納された筐体１１１、保護フィルム１１２、表示パネル１１３、円偏光板１１４、タッチセンサ１１５、および光学フィルム１００がこの順で積層されている。表示パネル１１３と円偏光板１１４との間、円偏光板１１４とタッチセンサ１１５との間、タッチセンサ１１５と光学フィルム１００との間には、光透過性を有する粘着層１１６が配置されており、これらの部材は粘着層１１６によって互いに固定されている。粘着層１１６は、表示パネル１１３と円偏光板１１４との間、円偏光板１１４とタッチセンサ１１５との間、タッチセンサ１１５と光学フィルム１００との間に配置されているが、粘着層１１６の配置箇所は、光学フィルム１００と表示パネル１１３との間であれば、特に限定されない。
【０２００】
光学フィルム１００において、樹脂層１０１がハードコート層であり、樹脂層１０２が衝撃吸収層である場合、光学フィルム１００は、樹脂層１０１が樹脂層１０２よりも観察者側となるように配置されている。画像表示装置１１０においては、光学フィルム１００の樹脂層１０１の表面が、画像表示装置１１０の表面を構成している。
【０２０１】
画像表示装置１１０においては、表示パネル１１３は、有機発光ダイオード等を含む有機発光ダイオードパネルとなっている。タッチセンサ１１５は、円偏光板１１５よりも観察者側に配置されているが、表示パネル１１３と円偏光板１１４との間に配置されていてもよい。また、タッチセンサ１１５は、オンセル方式やインセル方式であってもよい。
【０２０２】
粘着層１１６としては、例えば、ＯＣＡ(Optical Clear Adhesive)を用いることができるが、耐衝撃性を向上させて、表示パネル１１３の損傷を防ぐ観点から、上記アクリル系ゲルからなる粘着層を用いることが好ましい。なお、粘着層１１６に上記アクリル系ゲルからなる粘着層を用いる場合、表示パネル１１３と円偏光板１１４との間、円偏光板１１４とタッチセンサ１１５との間、タッチセンサ１１５と光学フィルム１００との間の少なくともいずれかに上記アクリル系ゲルからなる粘着層を配置すればよい。
【０２０３】
なお、上記実施形態においては、光学フィルム１００は、画像表示装置１１０の表面を構成するカバーフィルムとして用いられているが、光学フィルム１００は、画像表示装置の内部に存在するフィルムとして用いられてもよい。
【実施例】
【０２０４】
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの記載に限定されない。なお、下記の「固形分１００％換算値」とは、溶剤希釈品中の固形分を１００％としたときの値である。
【０２０５】
＜ハードコート層用組成物の調製＞
まず、下記に示す組成となるように各成分を配合して、ハードコート層用組成物を得た。
【０２０６】
（ハードコート層用組成物１）
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（製品名「Ｍ４０３」、東亜合成株式会社製）：２５質量部
・ジペンタエリスリトールＥＯ変性ヘキサアクリレート（製品名「Ａ−ＤＰＨ−６Ｅ」、新中村化学工業株式会社製）：２５質量部
・異形シリカ粒子（平均粒子径２５ｎｍ、日揮触媒化成株式会社製）：５０質量部（固形分１００％換算値）
・光重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・フッ素系レベリング剤（製品名「Ｆ５６８」、ＤＩＣ株式会社製）：０．２質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１５０質量部
【０２０７】
（ハードコート層用組成物２）
・ウレタンアクリレート（製品名「ＵＸ５０００」、日本化薬株式会社製）：２５質量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（製品名「Ｍ４０３」、東亜合成株式会社製）：５０質量部
・多官能アクリレートポリマー（製品名「アクリット８ＫＸ−０１２Ｃ」、大成ファインケミカル株式会社製）：２５質量部（固形分１００％換算値）
・防汚剤（製品名「ＢＹＫＵＶ３５００」、ビックケミー社製）：１．５質量部（固形分１００％換算値）
・光重合開始剤（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、製品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１５０質量部
【０２０８】
＜下地層用組成物の調製＞
下記に示す組成となるように各成分を配合して、下地層用組成物を得た。
（下地層用組成物）
・ウレタン変性ポリエステル系樹脂（製品名「ＵＲ−３２００」、東洋紡株式会社製）：５質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１７０質量部
【０２０９】
＜実施例１＞
樹脂基材として、厚さ５０μｍのポリイミド基材（製品名「ネオプリム」、三菱ガス化学株式会社製）の一方の表面である第１の表面に、基材フィルムとしての厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）およびＰＥＴフィルムの一方の面に設けられた粘着層からなる総厚６３μｍの第１の保護フィルム（製品名「ＳＡＴ−４２Ｊ」、サンエー化研株式会社製）を、粘着層がポリイミド基材側となるように貼り付け、またポリイミド基材の第１の表面とは反対側の第２の表面に、基材フィルムとしての厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）およびＰＥＴフィルムの一方の面に設けられた粘着層からなる総厚６３μｍの第２の保護フィルム（製品名「ＳＡＴ−４２Ｊ」、サンエー化研株式会社製）を貼り付けて、第１の保護フィルムと、ポリイミド基材からなる光透過性フィルムと、第２の保護フィルムとを備える保護フィルム付き光透過性フィルムを得た。
【０２１０】
＜実施例２＞
実施例２においては、第１の保護フィルムおよび第２の保護フィルム（製品名「ＳＡＴ−４２Ｊ」、サンエー化研株式会社製）の代わりに、基材フィルムとしての厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）およびＰＥＴフィルムの一方の面に設けられた粘着層からなる総厚６０μｍの第１の保護フィルムおよび第２の保護フィルム（製品名「ＴＰ２００」、日東電工株式会社製）を用いたこと以外、実施例１と同様に保護フィルム付き光透過性フィルムを得た。
【０２１１】
＜実施例３＞
実施例３においては、ポリイミド基材（製品名「ネオプリム」、三菱ガス化学株式会社製）の代わりに、ポリアミド基材（製品名「ミクトロン」、東レ株式会社製）を用いたこと以外、実施例１と同様に保護フィルム付き光透過性フィルムを得た。
【０２１２】
＜実施例４＞
実施例４においては、第１の保護フィルムおよび第２の保護フィルム（製品名「ＳＡＴ−４２Ｊ」、サンエー化研株式会社製）の代わりに、基材フィルムとしての厚さ１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）およびＰＥＴフィルムの一方の面に設けられた粘着層からなる総厚１３５μｍの第１の保護フィルムおよび第２の保護フィルム（製品名「ＳＡＴ  ＴＭ３０１２５」、サンエー化研社製）を用いたこと以外、実施例１と同様に保護フィルム付き光透過性フィルムを得た。
【０２１３】
＜実施例５＞
樹脂基材として、厚さ５０μｍのポリイミド基材（製品名「ネオプリム」、三菱ガス化学株式会社製）の一方の表面である第１の表面に、基材フィルムとしての厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）およびＰＥＴフィルムの一方の面に設けられた粘着層からなる総厚６３μｍの第１の保護フィルム（製品名「ＳＡＴ−４２Ｊ」、サンエー化研株式会社製）を、粘着層がポリイミド基材側となるように貼り付けた。その後、ポリイミド基材における第１の表面とは反対側の第２の表面に、バーコーターでハードコート層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン株式会社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を半硬化（ハーフキュア）させた。次いで、半硬化させたハードコート層用組成物１の塗膜の表面に、バーコーターでハードコート層用組成物２を塗布し、塗膜を形成した。形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン株式会社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を酸素濃度が２００ｐｐｍ以下の条件下にて積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を完全硬化（フルキュア）させて、膜厚が１０μｍの第１のハードコート層と、第１のハードコート層上に積層された膜厚が５μｍの第２のハードコート層とからなるハードコート層を形成した。これにより、ポリイミド基材およびハードコート層からなる光透過性フィルムと、ポリイミド基材の第１の表面に剥離可能に貼り付けられた第１の保護フィルムとを備える保護フィルム付き光透過性フィルムを得た。
【０２１４】
上記ハードコート層の膜厚は、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）（製品名「Ｓ−４８００」、株式会社日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、ハードコート層の断面を撮影し、その断面の画像においてハードコート層の膜厚を１０箇所測定し、その１０箇所の膜厚の算術平均値とした。ハードコート層の断面写真は、以下のようにして撮影した。まず、１ｍｍ×１０ｍｍに切り出した光学フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、このブロックから一般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の切片を切り出した。切片の作製には、「ウルトラミクロトーム  ＥＭ ＵＣ７」（ライカ マイクロシステムズ株式会社）等を用いた。そして、この穴等がない均一な切片を測定サンプルとした。その後、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて、測定サンプルの断面写真を撮影した。この断面写真の撮影の際には、検出器を「ＴＥ」、加速電圧を３０ｋＶ、エミッションを「１０μＡ」にしてＳＴＥＭ観察を行った。倍率については、フォーカスを調節しコントラストおよび明るさを各層が見分けられるか観察しながら５０００倍〜２０万倍で適宜調節した。なお、断面写真の撮影の際には、さらに、アパーチャーをビームモニタ絞り３にし、対物レンズ絞りを３にし、またＷ．Ｄ．を８ｍｍにした。
【０２１５】
＜実施例６＞
樹脂基材として、厚さ５０μｍのポリイミド基材（製品名「ネオプリム」、三菱ガス化学株式会社製）の一方の表面である第１の表面に下地層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、９０℃で１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させて、膜厚１００ｎｍの下地層を形成した。次いで、下地層の表面に、基材フィルムとしての厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）およびＰＥＴフィルムの一方の面に設けられた粘着層からなる総厚６３μｍの第１の保護フィルム（製品名「ＳＡＴ−４２Ｊ」、サンエー化研株式会社製）を、粘着層が下地層側となるように貼り付けた。その後、ポリイミド基材における第１の表面とは反対側の第２の表面に、バーコーターでハードコート層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。その後、形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン株式会社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を空気中にて積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を半硬化（ハーフキュア）させた。次いで、半硬化させたハードコート層用組成物１の塗膜の表面に、バーコーターでハードコート層用組成物２を塗布し、塗膜を形成した。形成した塗膜に対して、７０℃、１分間加熱させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン株式会社製、光源Ｈバルブ）を用いて、紫外線を酸素濃度が２００ｐｐｍ以下の条件下にて積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を完全硬化（フルキュア）させて、膜厚が１０μｍの第１のハードコート層と、第１のハードコート層上に積層された膜厚が５μｍの第２のハードコート層とからなるハードコート層を形成した。これにより、下地層、ポリイミド基材およびハードコート層からなる光透過性フィルムと、下地層の表面に剥離可能に貼り付けられた第１の保護フィルムとを備える保護フィルム付き光透過性フィルムを得た。上記下地層およびハードコート層の膜厚は、実施例５の欄に記載したハードコート層の膜厚の測定方法と同様の方法によって測定した。
【０２１６】
＜比較例１＞
比較例１においては、第１の保護フィルムおよび第２の保護フィルム（製品名「ＳＡＴ−４２Ｊ」、サンエー化研株式会社製）の代わりに、ポリエチレンからなる厚さ６０μｍの自己粘着型の第１の保護フィルムおよび第２の保護フィルム（製品名「ＰＡＣ３−５０ＴＨＫ」、サンエー化研株式会社製）を用いたこと以外、実施例１と同様に保護フィルム付き光透過性フィルムを得た。
【０２１７】
＜比較例２＞
比較例２においては、第１の保護フィルムおよび第２の保護フィルム（製品名「ＳＡＴ−４２Ｊ」、サンエー化研株式会社製）の代わりに、ポリエチレンからなる厚さ６０μｍの自己粘着型の第１の保護フィルムおよび第２の保護フィルム（製品名「ＰＡＣ４Ｋ−６０」、サンエー化研株式会社製）を用いたこと以外、実施例１と同様に保護フィルム付き光透過性フィルムを得た。
【０２１８】
＜比較例３＞
比較例３においては、第１の保護フィルムおよび第２の保護フィルム（製品名「ＳＡＴ−４２Ｊ」、サンエー化研株式会社製）の代わりに、基材フィルムとしてのポリプロピレンフィルム（ＰＰフィルム）およびＰＰフィルムの一方の面に設けられた粘着層からなる総厚３０μｍの第１の保護フィルムおよび第２の保護フィルム（製品名「ＫＤ２３」、サンエー化研株式会社製）を用いたこと以外、実施例１と同様に保護フィルム付き光透過性フィルムを得た。
【０２１９】
＜比較例４＞
比較例４においては、第１の保護フィルム（製品名「ＳＡＴ−４２Ｊ」、サンエー化研株式会社製）の代わりに、ポリエチレンからなる厚さ６０μｍの自己粘着型の第１の保護フィルムおよび第２の保護フィルム（製品名「ＰＡＣ３−５０ＴＨＫ」、サンエー化研株式会社製）を用いたこと以外、実施例５と同様に保護フィルム付き光透過性フィルムを得た。
【０２２０】
＜比較例５＞
比較例５においては、第１の保護フィルム（製品名「ＳＡＴ−４２Ｊ」、サンエー化研株式会社製）の代わりに、ポリエチレンからなる厚さ６０μｍの自己粘着型の第１の保護フィルム（製品名「ＰＡＣ４Ｋ−６０」、サンエー化研株式会社製）を用いたこと以外、実施例５と同様に保護フィルム付き光透過性フィルムを得た。
【０２２１】
＜比較例６＞
比較例６においては、第１の保護フィルム（製品名「ＳＡＴ−４２Ｊ」、サンエー化研株式会社製）の代わりに、ポリエチレンからなる厚さ６０μｍの自己粘着型の第１の保護フィルム（製品名「ＰＡＣ４Ｋ−６０」、サンエー化研株式会社製）を用いたこと以外、実施例６と同様に保護フィルム付き光透過性フィルムを得た。
【０２２２】
＜連続折り畳み試験＞
実施例および比較例に係る保護フィルム付き光透過性フィルムにおいて、光透過性フィルムから全ての保護フィルムを剥離した状態で、光透過性フィルムの折り畳み性を評価した。具体的には、各保護フィルム付き光透過性フィルムを３０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出して、この切り出した保護フィルム付き光透過性フィルムにおいて、光透過性フィルムから全ての保護フィルムを剥離して、光透過性フィルムを得た。そして、得られた光透過性フィルムを、耐久試験機（製品名「ＤＬＤＭＬＨ−ＦＳ」、ユアサシステム機器株式会社製）に、光透過性フィルムの短辺（３０ｍｍ）側を固定部でそれぞれ固定し、図２（Ｃ）に示したように対向する２つの辺部の最小の間隔が３０ｍｍとなるようにして取り付け、光透過性フィルムを１８０°折り畳む連続折り畳み試験を１０万回行い、屈曲部に割れ又は破断が生じていないか調べた。なお、実施例５、６および比較例４〜６に係る保護フィルム付き光透過性フィルムから得た光透過性フィルムにおいては、ハードコート層側の面が内側に１８０°折り畳まれるように光透過性フィルムを耐久試験機に取り付けた。連続折り畳み試験の結果を、以下の基準で評価した。
○：連続折り畳み試験において、屈曲部に割れ又は破断が生じていなかった。
×：連続折り畳み試験において、屈曲部に割れ又は破断が生じていた。
【０２２３】
＜ヘイズ測定＞
実施例および比較例に係る保護フィルム付き光透過性フィルムで用いた保護フィルムのヘイズ値（全ヘイズ値）を測定した。まず、各保護フィルム付き光透過性フィルムを５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出して、この切り出した保護フィルム付き光透過性フィルムにおいて、光透過性フィルムから全ての保護フィルムを剥離した。具体的には、実施例１〜４および比較例１〜３においては、光透過性フィルムから第１の保護フィルムおよび第２の保護フィルムを剥離し、また実施例５、６および比較例４〜６においては、光透過性フィルムから第１の保護フィルムを剥離した。そして、剥離した第１の保護フィルムおよび第２の保護フィルムのヘイズ値を、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態で、ヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、株式会社村上色彩技術研究所製）を用いてＪＩＳ  Ｋ７１３６：２０００に準拠した方法により測定した。なお、第１の保護フィルムおよび第２の保護フィルムのヘイズ値は、各保護フィルム１枚に対して３回測定して得られた値の算術平均値とした。
【０２２４】
＜全光線透過率＞
実施例および比較例に係る保護フィルム付き光透過性フィルムにおいて、光透過性フィルムから全ての保護フィルムを剥離した状態で、以下のようにして、光透過性フィルムの全光線透過率を測定した。まず、各保護フィルム付き光透過性フィルムを５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出して、この切り出した保護フィルム付き光透過性フィルムにおいて、光透過性フィルムから全ての保護フィルムを剥離して、光透過性フィルムを得た。そして、光透過性フィルムの全光線透過率を、カールや皺がなく、かつ指紋や埃等がない状態でヘイズメーター（製品名「ＨＭ−１５０」、株式会社村上色彩技術研究所製）を用いてＪＩＳ  Ｋ７３６１−１：１９９７に準拠した方法により測定した。なお、全光線透過率は、光透過性フィルム１枚に対し３回測定して得られた値の算術平均値とした。
【０２２５】
＜イエローインデックス（ＹＩ）＞
実施例および比較例に係る保護フィルム付き光透過性フィルムにおいて、ポリイミド基材等の樹脂基材から全ての保護フィルムを剥離した状態で、以下のようにして、光透過性フィルムのイエローインデックスを測定し、評価した。まず、各保護フィルム付き光透過性フィルムを５０ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出して、この切り出した保護フィルム付き光透過性フィルムにおいて、光透過性フィルムから全ての保護フィルムを剥離して、光透過性フィルムを得た。そして、分光光度計（製品名「ＵＶ−３１００ＰＣ」、株式会社島津製作所製、光源：タングステンランプおよび重水素ランプ）を用いて、光透過性フィルムの裏面側から波長２００ｎｍ〜７８０ｎｍの光を照射し、光透過性フィルムを透過する波長２００ｎｍ〜７８０ｎｍの光からイエローインデックスを測定した。イエローインデックスは、測定された値からＪＩＳ  Ｚ８７２２：２００９に記載された演算式に従って色度三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを計算し、三刺激値Ｘ、Ｙ、ＺからＡＳＴＭ  Ｄ１９２５：１９６２に記載された演算式に従って算出し、また３回測定して得られた値の算術平均値とした。評価基準は、以下の通りとした。
◎：ＹＩが１．５未満であった。
○：ＹＩが１．５以上１０．０未満であった。
△：ＹＩが１０．０以上１５．０以下であった。
×：ＹＩが１５．０を越えていた。
【０２２６】
＜外観評価＞
実施例および比較例に係る保護フィルム付き光透過性フィルムにおいて、光透過性フィルムから全ての保護フィルムを剥離した状態で、光透過性フィルムの第１の表面および第２の表面に凹凸が形成されているか目視により評価した。具体的には、各保護フィルム付き光透過性フィルムを１００ｍｍ×１００ｍｍの大きさに切り出して、この切り出した保護フィルム付き光透過性フィルムにおいて、光透過性フィルムから全ての保護フィルムを剥離して、光透過性フィルムを得た。そして、光透過性フィルムの第１の表面（実施例１〜５および比較例１〜５においては樹脂基材の第１の表面、実施例６および比較例６においては下地層の表面）に凹凸が形成されているか否か、また光透過性フィルムの第２の表面（実施例１〜４および比較例１、２における樹脂基材の第２の表面）に凹凸が形成されているか否か、３波長蛍光ランプ下で目視により評価した。
（実施例１〜４および比較例１〜３）
○：光透過性フィルムの第１の表面および第２の表面のいずれにも凹凸が確認されなかった、または凹凸が若干確認されたが実用上問題のないレベルであった。
×：光透過性フィルムの第１の表面および第２の表面のいずれも凹凸が明確に確認された。
（実施例５、６および比較例４〜６）
○：光透過性フィルムの第１の表面に凹凸が確認されなかった、または凹凸が若干確認されたが実用上問題のないレベルであった。
×：光透過性フィルムの第１の表面に凹凸が明確に確認された。
【０２２７】
以下、結果を表１に示す。
【表１】
2019119084.tif 000032
【０２２８】
以下、結果について述べる。比較例１〜３に係る保護フィルム付き光透過性フィルムにおいては、第１の保護フィルムのヘイズ値および第２の保護フィルムのヘイズ値がそれぞれ１０％を超えていたので、保護フィルム付き光透過性フィルムから第１の保護フィルムおよび第２の保護フィルムを剥離して得られた光透過性フィルムの第１の表面および第２の表面のいずれも凹凸が明確に確認された。これに対し、実施例１〜４に係る保護フィルム付き光透過性フィルムにおいては、第１の保護フィルムのヘイズ値および第２の保護フィルムのヘイズ値がそれぞれ１０％以下であったので、光透過性フィルムの第１の表面および第２の表面のいずれにも凹凸が確認されなかった、または凹凸が若干確認されたが実用上問題のないレベルであった。
【０２２９】
また、比較例４〜６に係る保護フィルム付き光透過性フィルムにおいては、第１の保護フィルムのヘイズ値が１０％を超えていたので、保護フィルム付き光透過性フィルムから第１の保護フィルムを剥離して得られた光透過性フィルムの第１の表面に凹凸が明確に確認された。これに対し、実施例５、６に係る保護フィルム付き光透過性フィルムにおいては、第１の保護フィルムのヘイズ値が１０％以下であったので、保護フィルム付き光透過性フィルムから第１の保護フィルムを剥離して得られた光透過性フィルムの第１の表面に凹凸が確認されなかった、または凹凸が若干確認されたが実用上問題のないレベルであった。
【０２３０】
また、実施例５、６に係る光透過性フィルムにおいて、樹脂基材、第１のハードコート層および第２のハードコート層のマルテンス硬度をそれぞれ測定したところ、ポリイミド基材のマルテンス硬度は３００ＭＰａであり、第１のハードコート層のマルテンス硬度は８３０ＭＰａであり、第２のハードコート層のマルテンス硬度は５００ＭＰａであった。マルテンス硬度は、ＨＹＳＩＴＲＯＮ（ハイジトロン）社製の「ＴＩ９５０ ＴｒｉｂｏＩｎｄｅｎｔｅｒ」を用いて測定した。具体的には、まず１ｍｍ×１０ｍｍに切り出した保護フィルム付き光透過性フィルムから全ての保護フィルムを剥離して、光透過性フィルム単体を得た。そして、この光透過性フィルムを包埋樹脂によって包埋したブロックを作製し、このブロックから一般的な切片作製方法によって穴等がない均一な、厚さ７０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の切片を切り出した。切片の作製には、「ウルトラミクロトーム  ＥＭ ＵＣ７」（ライカ マイクロシステムズ株式会社）を用いた。そして、この穴等がない均一な切片が切り出された残りのブロックを測定サンプルとした。次いで、このような測定サンプルにおける上記切片が切り出されることによって得られた断面において、圧子としてＢｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子（三角錐）を用いて、以下の測定条件で、各ハードコート層の断面中央においてそれぞれＢｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子（三角錐）を５００ｎｍ押し込み、一定時間保持して残留応力の緩和を行った後、除荷させて、緩和後の最大荷重を計測し、該最大荷重Ｐｍａｘ（μＮ）と深さ５００ｎｍのくぼみ面積Ａ（ｎｍ２）とを用い、Ｐｍａｘ／Ａにより算出した。マルテンス硬度は、１０箇所測定して得られた値の算術平均値とした。また、樹脂基材のマルテンス硬度もポリイミド基材のマルテンス硬度と同様に測定した。
（測定条件）
・荷重速度：１０ｎｍ／秒
・保持時間：５秒
・荷重除荷速度：１０ｎｍ／秒
・測定温度：２５℃
【符号の説明】
【０２３１】
１０、６０、８０…保護フィルム付き光透過性フィルム
２０、７０、９０…光透過性フィルム
２０Ａ、７０Ａ、９０Ａ…第１の表面
２０Ｂ、７０Ｂ、９０Ｂ…第２の表面
２１…樹脂基材
２１Ａ…第１の表面
２１Ｂ…第２の表面
３０…第１の保護フィルム
４０…第２の保護フィルム
【図１】
2019119084.tif 000033
【図２】
2019119084.tif 000034
【図３】
2019119084.tif 000035
【図４】
2019119084.tif 000036
【図５】
2019119084.tif 000037
【図６】
2019119084.tif 000038
【図７】
2019119084.tif 000039