(57)【要約】【課題】含水有機物が完全に乾燥することを防ぎ、含水有機物をより効率的に処理することができる処理装置及び処理プログラムを記憶した記憶媒体を提供する。【解決手段】含水有機物を処理する処理装置１０であって、含水有機物が投入される処理槽１２と、前記処理槽１２に投入された前記含水有機物を撹拌する撹拌部１４と、前記処理槽１２にイオンガスを供給する供給部１５と、前記処理槽１２内の気体を吸引し排出する排気部５９，６１と、前記含水有機物の乾燥状態を検知する検知部とを備える。【選択図】図１
2019018181.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
含水有機物を処理する処理装置であって、
前記含水有機物が投入される処理槽と、
前記処理槽に投入された前記含水有機物を撹拌する撹拌部と、
前記処理槽にイオンガスを供給する供給部と、
前記処理槽内の気体を吸引し排出する排気部と、
前記含水有機物の乾燥状態を検知する検知部と
を備える処理装置。
【請求項２】
前記検知部は、前記処理槽内の湿度を測定する湿度センサ、前記含水有機物の重量を測定する重量計、及び前記撹拌部の回転トルクを測定するトルクセンサのうち、少なくとも１つである請求項１記載の処理装置。
【請求項３】
コンピュータに対して、
処理槽に投入された含水有機物を撹拌する撹拌ステップと、
前記処理槽にイオンガスを供給する供給ステップと、
前記処理槽内の気体を吸引し排出する排気ステップと、
前記含水有機物の乾燥状態を検知する検知ステップと、
前記乾燥状態に対応した測定値が、予め定められた基準値を下回った場合、所定時間の間、前記イオンガスの供給を停止すると共に、前記排気ステップに代わって、前記処理槽内から吸引する気体を前記排気ステップより減少させる休止ステップと
を実行させる処理プログラムを記憶した記憶媒体。
【請求項４】
前記休止ステップ終了後、前記排気ステップを開始した後、所定時間経過後、前記供給ステップを開始する請求項３記載の記憶媒体。
【請求項５】
前記測定値が、前記処理槽内の湿度、前記含水有機物の重量、前記含水有機物を撹拌する回転トルクのうち、少なくとも１つである請求項３又は４記載の記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理装置及び処理プログラムを記憶した記憶媒体に関し、含水有機物としての例えば野菜くずなど生ごみを処理する装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、生ごみ等の含水有機物は、好気性菌を利用した分解処理による処理が行われてきた。一般的な生ごみ処理装置は、羽根と換気装置を設けた処理槽におがくず、もみがら等の培養基材を収容し、ここに破砕機を通して破砕した生ごみを攪拌する方式を採用している。
【０００３】
また、大気へ排出するバクテリアや悪臭の元になる分子をオゾンにより殺菌、分解し、無害な分子に変えて外気に放出することが提案されている（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平７−１３６６２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記特許文献１では、培養基材が不調の場合、含水有機物が処理されずに腐敗してしまう、という問題があった。また培養基材を入れる分、処理槽に投入する含水有機物の容量を減らさざるを得ず、結果として含水有機物を効率的に処理することが困難である、という問題があった。さらに含水有機物が完全に乾燥してしまうと、処理槽内で含水有機物が舞い上がり、フィルタ詰まりなどをおこしてしまうという懸念がある。
【０００６】
本発明は、含水有機物が完全に乾燥することを防ぎ、含水有機物をより効率的に処理することができる処理装置及び処理プログラムを記憶した記憶媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る処理装置は、含水有機物を処理する処理装置であって、前記含水有機物が投入される処理槽と、前記処理槽に投入された前記含水有機物を撹拌する撹拌部と、前記処理槽にイオンガスを供給する供給部と、前記処理槽内の気体を吸引し排出する排気部と、前記含水有機物の乾燥状態を検知する検知部とを備える。
【０００８】
本発明に係る処理プログラムを記憶した記憶媒体は、コンピュータに対して、処理槽に投入された含水有機物を撹拌する撹拌ステップと、前記処理槽にイオンガスを供給する供給ステップと、前記処理槽内の気体を吸引し排出する排気ステップと、前記含水有機物の乾燥状態を検知する検知ステップと、前記乾燥状態に対応した測定値が、予め定められた基準値を下回った場合、所定時間の間、前記イオンガスの供給を停止すると共に、前記排気ステップに代わって、前記処理槽内から吸引する気体を前記排気ステップより減少させる休止ステップとを実行させる処理プログラムを記憶している。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、イオンガスを用いて処理するので、従来の培養基材を用いる場合に比べ、培養基材の分だけ処理槽の容量を有効活用でき、より効率的に処理することができる。また含水有機物の乾燥状態を検知することにより、含水有機物が完全に乾燥することを防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本実施形態に係る含水有機物処理装置の概略図である。
【図２】本実施形態に係る含水有機物処理装置の横から見た断面図である。
【図３】本実施形態に係る供給部の構成を示すブロック図である。
【図４】本実施形態に係る含水有機物処理装置の回路構成を示すブロック図である。
【図５】本実施形態に係る排気部及び発生部の出力の関係を示す、タイミングチャート（１）である。
【図６】本実施形態に係る排気部及び発生部の出力の関係を示す、タイミングチャート（２）である。
【図７】本実施形態に係る供給部の変形例の構成を示すブロック図である。
【図８】本実施形態に係る配管の変形例を示す正面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について詳細に説明する。
【００１２】
（全体構成）
図１に示す処理装置１０は、処理槽１２と、撹拌部１４と、供給部１５とを備え、処理槽１２内に収容された含水有機物としての生ごみなどを処理する。本実施形態の場合、供給部１５は、第１供給部１６及び第２供給部１８からなる。
【００１３】
処理槽１２は、底部２０、長手方向の一対の側部２２、短手方向の一対の側部２４、及び上部２５を有する密閉容器である。処理槽１２は、特に限定されないが、例えば繊維強化プラスチック（FRP：Fiber-Reinforced Plastics）で形成することができる。処理槽１２の底部２０には、ロードセル２８を介して基台２６が設けられている。
【００１４】
撹拌部１４は、側部２２間に配置された回転軸３０と、当該回転軸３０に設けられた羽根３２とを有する。回転軸３０は、側部２２にそれぞれ設けられたベアリング３４により、処理槽１２に対し回転可能に支持されている。回転軸３０の一端は、駆動部３６に連結されている。
【００１５】
第１供給部１６は、回転軸３０より上方から処理槽１２内にイオンを出す。第１供給部１６は、発生部としての第１発生部３８Ａと、ノズルとしての上側ノズル４４とを有する。第１発生部３８Ａは、イオンガスを発生する。イオンガスは、プラスイオン及び／又はマイナスイオンを含む。イオンガスは、含水有機物の水分の蒸発を促進し得る程度のイオンを含む。イオンガス中のイオン濃度は、多い方が望ましく、例えば、6000万個以上であるのが好ましい。またイオンガスは、80℃以上に加熱されているのが好ましい。
【００１６】
本図の場合、上側ノズル４４は、開口が円形であり、回転軸３０より上方に配置された供給管としての上側供給管４０Ａに形成されている。上側供給管４０Ａは、回転軸３０に平行に配置されている。第１発生部３８Ａと上側供給管４０Ａは、流路４２によって接続されている。
【００１７】
第２供給部１８は、回転軸３０より下方から処理槽１２内にイオンを出す。第２供給部１８は、発生部としての第２発生部４６Ａと、ノズルとしての下側ノズル５４とを有する。第２発生部４６Ａは、第１発生部３８Ａと同様のイオンガスを発生する。本図の場合、下側ノズル５４は、開口が円形であり、回転軸３０より下方に配置された供給管としての下側供給管４８に設けられている。下側供給管４８は、回転軸３０に平行に配置されている。第２発生部４６Ａと下側供給管４８は、流路５２によって接続されている。本明細書では、第１発生部３８Ａと第２発生部４６Ａを特に区別しない場合、発生部と総称する。
【００１８】
上部２５には、厚さ方向に貫通した排気口として、第１排気口５６及び第２排気口５７が設けられている。第１排気口５６には、流路５８を介して排気部としての第１排気部５９が接続されている。第２排気口５７には、流路６０を介して排気部としての第２排気部６１が接続されている。第１排気部５９及び第２排気部６１は、図示しないが、処理槽１２内の気体を外部へ放出する前に通過させるフィルタと、気体を吸引する気流を処理槽１２内に生じさせる排気用気流発生器とを有する。排気用気流発生器としてはファンやブロワを用いることができる。本明細書では、第１排気部５９と第２排気部６１を特に区別しない場合、排気部と総称する。
【００１９】
図２に示すように、第１排気口５６及び第２排気口５７は、処理槽１２の短手方向の中央に設けられている。上側ノズル４４は、第１排気口５６及び第２排気口５７を挟んで一側に配置された第１上側ノズル４５と、他側に配置された第２上側ノズル４７とを有する。本図の場合、上側供給管４０Ａは、第１排気口５６及び第２排気口５７を挟んで両側に配置された第１配管６４と、第２配管６６とを有する。第１上側ノズル４５は第１配管６４に、第２上側ノズル４７は第２配管６６にそれぞれ形成されている。第１配管６４は一方の側部２４（本図中左側の側部）に沿うように、第２配管６６は他方の側部２４（本図中右側の側部）に沿うように配置されている。第１上側ノズル４５及び第２上側ノズル４７は、水平方向の処理槽１２の中央向きから鉛直方向の下向きの範囲に開口しているのが好ましい。第１配管６４と第１上側ノズル４５を結ぶ直線と水平面、及び、第２配管６６と第２上側ノズル４７を結ぶ直線と水平面とがなす角度のうち小さい方の角度θ１は、それぞれ10°〜90°であるのが好ましく、30°〜60°であるのがより好ましい。
【００２０】
上部２５には、厚さ方向に開口した投入口６８が形成されており、当該投入口６８を開閉する蓋７０が設けられている。当該蓋７０は、一端においてヒンジ７１を介して上部２５に回転可能に固定されていることにより、投入口６８を開閉する。
【００２１】
側部２４には、処理槽用加熱器７２がそれぞれ設けられている。処理槽用加熱器７２は、熱線ヒータ、ＰＴＣヒータ等を用いることができる。
【００２２】
撹拌部１４は、処理槽１２の短手方向の一側に配置された第１撹拌部７４と、他側に配置された第２撹拌部７６とを有する。本実施形態の場合、第１撹拌部７４は反時計回り、第２撹拌部７６は時計回りに回転する。
【００２３】
底部２０は、第１撹拌部７４及び第２撹拌部７６に沿った円弧上の曲面７８，８０を有する。曲面７８，８０は、それぞれ、回転軸３０に沿って配置された二つの平行な円弧上の各点を結んだ直線からなる。下側ノズル５４は、曲面７８，８０における羽根３２の回転軌道が下向きになる位置に設けられている。本図の場合、下側ノズル５４は、曲面７８において二つの回転軸３０より外側に設けられた第１下側ノズル５３と、曲面８０において二つの回転軸３０より外側に設けられた第２下側ノズル５５とを有する。回転軸３０から下側ノズル５４の中央を結ぶ直線と、水平面とがなす角度のうち小さい方の角度θ２は、0°〜60°であるのが好ましく、40°〜60°であるのがより好ましい。下側ノズル５４は、回転軸３０に向かって、水平より下側へ１°〜５°程度傾斜しているのが好ましい。下側ノズル５４は、下側へ傾斜していることにより、下側供給管４８へ液体が流入するのを防止することができる。
【００２４】
図３を参照して、第１発生部３８Ａ及び第２発生部４６Ａについて説明する。なお第１発生部３８Ａ及び第２発生部４６Ａは、同様の構成であるので、第１発生部３８Ａについて説明する。第１発生部３８Ａは、イオン発生器８２、吸気用気流発生器としてのブロワ８４、加熱器８６を有する。イオン発生器８２は、特に限定されず、例えば、コロナ放電や熱電離により、イオンを発生する方式を用いることができる。加熱器８６は、熱線ヒータ、ＰＴＣヒータ等を用いることができる。吸気用気流発生器としてファンを用いてもよい。
【００２５】
第１発生部３８Ａは、ブロワ８４によって吸い込んだ外気をイオン発生器８２に送り込む。イオン発生器８２は、外気に含まれる酸素や窒素などの気体分子から電子を離脱させることにより、気体分子をイオン化する。イオン化された気体分子を含む気体は、加熱器８６によって所定の温度に加熱され、流路４２を通じて上側供給管４０Ａへ送り出される。このようにして、第１発生部３８Ａは、イオン化された気体分子を含み、所定の温度に加熱されたイオンガスを、流路４２を通じて上側供給管４０Ａへ送り出す。同様に第２発生部４６Ａは、イオン化された気体分子を含み、所定の温度に加熱されたイオンガスを、流路５２を通じて下側供給管４８へ送り出す。
【００２６】
図４を参照して、処理装置１０の回路構成について説明する。処理装置１０は、制御部９２、入力部９４、記憶部９６、表示部９８、検知部１００、タイマー１０２、排気部、発生部、及び撹拌部１４を備え、それらがバス１０４を介して接続されている。制御部９２は、予め格納されている基本プログラムや演算処理プログラム等のアプリケーションプログラムを読み出して、これら各種プログラムに従って、処理装置１０全体を制御する。制御部９２は、複数のプログラム（アプリケーションプログラム等）を並列に実行できる。
【００２７】
入力部９４は、データの入力が可能であればどのようなデバイスでもよく、例えば、タッチパネル、キーボード等である。作業者は、入力部９４を用いて、文字、数字、記号等を入力することができる。入力部９４は、作業者により操作されると、その操作に対応する信号を生成する。生成された信号は、作業者の指示として、制御部９２に出力される。例えば、作業者は、後述する基準値を、入力部９４を用いて入力する。入力部９４は、基準値に対応した基準値信号を生成し、制御部９２へ出力する。制御部９２は、基準値信号を記憶部９６へ記憶させる。
【００２８】
記憶部９６は、例えば、半導体記憶装置、磁気テープ装置、磁気ディスク装置、又は光ディスク装置のうちの少なくとも一つを備える。記憶部９６は、制御部９２での処理に用いられるオペレーティングシステムプログラム、ドライバプログラム、アプリケーションプログラム、データ等を記憶する。記憶部９６は、アプリケーションプログラムとして、例えば、生ごみの乾燥処理を制御部９２に実行させるための乾燥処理プログラム等を記憶する。乾燥処理プログラムは、例えばＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＯＭ等のコンピュータ読み取り可能な可搬型記録媒体から、公知のセットアッププログラム等を用いて記憶部９６にインストールされてもよい。
【００２９】
上述したように記憶部９６は、乾燥処理で使用される種々のデータ例えば、処理槽１２内の湿度、含水有機物の重量、含水有機物を撹拌する回転トルクなどの基準値を記憶する。さらに、記憶部９６は、所定の処理に係る一時的なデータを一時的に記憶してもよい。
【００３０】
表示部９８は、映像や画像等の表示が可能であればどのようなデバイスでもよく、例えば、液晶ディスプレイ又は有機ＥＬ（Electro−Luminescence）ディスプレイ等を用いてもよい。表示部９８は、制御部９２から供給された映像データに応じた映像や、画像データに応じた画像等を表示する。また、出力部は、紙等の表示媒体に、映像、画像又は文字等を印刷する出力装置であってもよい。
【００３１】
検知部１００は、湿度センサ、重量計、トルクセンサ、開閉センサのうちの少なくとも一つを備え、含水有機物の乾燥状態を検知する。湿度センサは、処理槽１２内の湿度に応じた湿度信号を生成する。重量計は、上記ロードセル２８であり、処理槽１２内の含水有機物の重さに応じた重量信号を生成する。トルクセンサは、回転軸３０の回転トルクに応じたトルク信号を生成する。開閉センサは、蓋７０の開閉状態を検知する。開閉センサは、非接触スイッチを用いることができる。開閉センサは、開閉信号、すなわち蓋７０が開いている状態の時に開信号、蓋７０が閉まっている状態の時に閉信号を生成する。検知部１００は、検知信号としての、湿度信号、重量信号、トルク信号、及び開閉信号を、制御部９２へ出力する。
【００３２】
制御部９２は、検知部１００から出力された検知信号に基づき、必要に応じ、乾燥モード、蓋開時モード、待機モードのいずれかの処理を行う。含水有機物を処理している間、撹拌部１４及び処理槽用加熱器７２は、常に動作しているものとする。
【００３３】
（乾燥処理モード）
図５を参照して乾燥モード及び蓋開時モードについて説明する。図５は、排気部及び発生部の出力の関係を示す、タイミングチャートである。排気部及び発生部の出力とは、排気用気流発生器及び吸気用気流発生器の駆動モータに印加する出力電圧である。
制御部９２は、図示しない電源がオンされると、乾燥処理を開始する。乾燥処理において、制御部９２は、まず、排気部を起動し（本図中Ｓ）、処理槽１２内の気体を排出する。排気部が起動を開始してから、所定時間（例えば２秒〜４秒）経過したタイミングＴ１において、制御部９２は、発生部を起動し、イオンガスを処理槽１２内に供給する。制御部９２は、イオンガスを処理槽１２内に供給する前に、処理槽１２内の気体を予め排出しておくことにより、処理槽１２内を大気圧より低い圧力に保持する。
【００３４】
制御部９２は、検知信号として、湿度信号、トルク信号、重量信号を受信すると、当該信号に基づき、測定値を算出し、記憶部９６から読み出した基準値と対比する。乾燥処理を開始後、含水有機物から水分が蒸発していくので、処理槽内の湿度は低下し、含水有機物の重量は水分が蒸発した分だけ軽くなり、含水有機物の重量が軽くなった分だけ回転トルクは小さくなる。したがって含水有機物の乾燥が進むに従い、測定値は減少していく。制御部９２は、測定値が基準値を下回るまで、すなわち処理槽１２内に投入した含水有機物が一定程度乾燥するまで、乾燥処理を続ける。待機モードに移行するときの含水有機物は、水分を20〜30体積％含むのが好ましい。基準値は、上記水分量に対応した値に設定される。制御部９２は、乾燥処理中において、測定値が基準値を下回ったと判定すると待機モードへ移行する。制御部９２は、乾燥処理中において、開信号を受信すると蓋開時モードに移行する。
【００３５】
（蓋開時モード）
次に蓋開時モードについて説明する。乾燥処理中において、制御部９２は、開信号を受信すると、蓋開時モードへ移行する。制御部９２は、開信号を受信したタイミングＥ１において、発生部を停止するとともに、排気部の出力を乾燥処理に比べ小さくする休止処理を行う。すなわち制御部９２は、上記乾燥処理に比べ前記処理槽１２内から単位時間当たりに吸引する気体量を少なくする。
【００３６】
上記蓋開時モード中に蓋７０が閉められた場合、すなわち閉信号を受信したタイミングＥ２において、制御部９２は、排気部を停止する。さらに図示しない動作開始ボタンがオンされたタイミングＥ３において、制御部９２は、上記乾燥処理を開始する。
【００３７】
（待機モード）
次に待機モードについて図６を参照して説明する。図６は、待機モードにおける排気部及び発生部の出力の関係を示す、タイミングチャートである。制御部９２は、乾燥処理中において、含水有機物が一定程度乾燥したと判定した場合、待機モードに移行する。
【００３８】
乾燥処理を開始後、測定値が基準値を下回ったと判定したタイミングＴ３から所定時間経過したタイミングＴ４まで、制御部９２は、発生部を停止するとともに、排気部の出力を乾燥処理に比べ小さくする休止処理を行う。すなわち制御部９２は、上記乾燥処理に比べ前記処理槽１２内から単位時間当たりに吸引する気体量を少なくする。
【００３９】
タイミングＴ４において、制御部９２は、乾燥処理を再び開始する。すなわち制御部９２は、再び排気部の出力を上げ、処理槽１２内から吸引する気体を乾燥処理と同じレベルにする。次いでタイミングＴ４から所定時間（例えば２秒〜４秒）経過したタイミングＴ５において、制御部９２は、発生部を起動し、処理槽１２内へイオンガスを供給する。
タイミングＴ４から所定時間（例えば5分〜15分）が経過したタイミングＴ６において、制御部９２は休止処理をする。すなわち制御部９２は、発生部を停止するとともに、排気部の出力を乾燥処理に比べ小さくする休止処理をする。待機モードにおいて制御部９２は、乾燥処理と休止処理とを繰り返す。
【００４０】
上記のように、制御部９２は、含水有機物が一定程度乾燥したと判定した場合に、待機モードに移行することで、含水有機物から水分が蒸発する速さを抑制して、含水有機物が完全に乾燥してしまうのを防ぐ。
【００４１】
（動作及び効果）
次に上記の処理装置１０の動作及び効果を説明する。まず、蓋７０を開け、投入口６８から含水有機物としての例えば生ごみを処理槽１２内へ投入する。次いで、蓋７０を閉める。続いて図示しない電源スイッチをオンにする。そうすると処理槽用加熱器７２に電流が印加されて処理槽１２内が所定の温度まで加熱される。駆動部３６は、回転力を回転軸３０に与えることにより、第１撹拌部７４及び第２撹拌部７６を回転動作させる。図２中、第１撹拌部７４は反時計回り、第２撹拌部７６は時計回りに回転軸３０が回転する。羽根３２は、底面に沿って回転することにより、生ごみを撹拌する。生ごみは第１撹拌部７４及び第２撹拌部７６でかき混ぜられながら、全体が加熱される。生ごみに含まれる水分子は、加熱されることで、生ごみから分離しやすくなる。
【００４２】
第１排気部５９及び第２排気部６１は、処理槽１２内の気体を吸引し、フィルタを通過させて外部へ放出する。電源スイッチがオンされてから所定の時間が経過後、第１発生部３８Ａ及び第２発生部４６Ａは、発生したイオンガスを、流路４２，５２を通じて上側ノズル４４及び下側ノズル５４から、処理槽１２内へ供給する。
【００４３】
下側ノズル５４から供給されたイオンガスは、撹拌部１４によってかき混ぜられた生ごみ中に吹き付けられる。イオンガス中のイオンが生ごみ中に拡散していき、生ごみからの水分子の分離を促進する。生ごみから分離した水分子は処理槽１２内を上昇していく。
【００４４】
上記水分子の一部は、上昇する際に、水分子が複数（例えば、５〜６個）結びついたクラスター構造が壊れ、蒸発し、排気部によって外部へ放出される。一方、残りの水分子、すなわちクラスター構造を維持した水分子は、撹拌されている生ごみと、処理槽１２の回転軸３０より上方にある気体で満たされた空間の境界に滞留する。
【００４５】
上側ノズルから供給されたイオンガスは、上記境界に向かって吹き付けられる。イオンガス中のイオンが、水分子のクラスター構造を分解する。クラスター構造が分解された水分子は、処理槽用加熱器７２によって加えられた熱量によって容易に蒸発し、排気部によって外部へ放出される。
【００４６】
上記のように下側ノズル５４から供給されるイオンガスが生ごみに含まれる水分を生ごみから分離し、上側ノズルから供給されるイオンガスが水分子のクラスター構造を分解する。したがって、処理装置１０は、生ごみに含まれる水分を蒸発して容易に減量することができる。
【００４７】
本実施形態の処理装置１０は、イオンガスを用いて処理するので、従来の培養基材を用いる場合に比べ、培養基材の分だけ処理槽１２の容量を有効活用でき、より効率的に処理することができる。
【００４８】
イオンガスは、所定の温度に加熱されているので、処理槽１２内、及び投入された生ごみの温度を保持することができる。したがって処理装置１０は、温度を容易に管理し、安定的に保持できるので、より効率的に処理することができる。
【００４９】
下側ノズル５４は、羽根３２の回転軌道が下向きになる曲面に設けられていることにより、撹拌された生ごみが下側ノズル５４内に詰まることを防止することができる。
【００５０】
第１発生部３８Ａ及び第２発生部４６Ａは、イオン発生器８２と、上側ノズル４４、下側ノズル５４の間に、加熱器８６が配置されていることにより、イオン発生器８２が耐熱性を要しないので、イオン発生器８２の構造を簡略化することができる。
【００５１】
本実施形態の場合、制御部９２は、処理槽１２内を大気圧より低い圧力に保持した状態で、乾燥処理を行うので、処理槽１２内の気体が排気部以外から漏れ出すことを防止できる。乾燥処理中に蓋７０を開けた場合、制御部９２は、発生部を停止すると共に、排気部を起動したまま処理槽１２内の気体を吸引する。処理装置１０は、蓋７０が開かれた場合、処理槽１２内の気体を吸引し続けることにより、投入口６８から外部へ処理槽１２内の気体が漏れ出すことを防止することができる。
【００５２】
処理槽１２内の含水有機物は、完全に乾燥すると、粉体となる。当該粉体は、排気部のフィルタや配管に付着する。この状態で、処理槽１２内に新たな含水有機物が投入されると、排気された気体に含まれる水分によって、付着した粉体が粘土状になり、フィルタや配管が目詰まりを起こす。また処理槽１２内が粉体で満たされると、粉塵爆発を引き起こす危険性がある。
【００５３】
本実施形態の場合、制御部９２は、処理槽１２内の含水有機物が一定程度乾燥したと判定した場合、待機モードに移行することで、上記含水有機物が完全に乾燥してしまうことを防止する。したがって処理装置１０は、フィルタや配管の目詰まりや粉塵爆発を防止できるので、長期間にわたり安定的に含水有機物を処理することができる。
【００５４】
（変形例）
本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨の範囲内で適宜変更することが可能である。
【００５５】
上記実施形態の場合、下側ノズル５４は、二つの回転軸３０より外側の曲面に設けられている場合について説明したが、本発明はこれに限らない。例えば、二つの回転軸３０の間の曲面に下側ノズル５４を設けることとしてもよい。当該曲面は、第１撹拌部７４は時計回り、第２撹拌部７６は反時計回りとすることにより、羽根３２の回転軌道が下向きになる曲面であるから、上記実施形態と同様の効果が得られる。
【００５６】
上記実施形態の場合、第１発生部３８Ａ及び第２発生部４６Ａは、イオン発生器８２と上側ノズル４４、下側ノズル５４の間に、加熱器８６が配置されている場合について説明したが、本発明はこれに限らない。第１発生部３８Ａ及び第２発生部４６Ａは、加熱器８６と、上側ノズル４４、下側ノズル５４の間にイオン発生器８２を配置し、加熱された気体をイオン発生器８２に送り込むこととしてもよい。この場合、加熱後の気体にはより多くの水分子を含めることができるので、イオン発生器８２は、より効率的にイオンを発生することができる。
【００５７】
図７に示すように、第１発生部３８Ｂ及び第２発生部４６Ｂは、イオン発生器８２に水を供給する水分補給機を有することとしてもよい。水分補給機は、イオン発生器８２の入り口側に水を供給する機構、例えば霧吹きやスポイトなどを用いることができる。イオン発生器８２は、水分補給機によって水が供給されることにより、より効率的にイオンを発生することができる。
【００５８】
図８に示すように、上側ノズル９０は、開口が、上側供給管４０Ｂの長手方向に長いスリット状でもよい。上側ノズル９０は、境界に対し、面的にイオンガスを供給することができる。したがって上側ノズル９０を適用した含水有機物処理装置は、水分子のクラスター構造をより効率的に分解することができる。
【００５９】
上記実施形態の場合、制御部９２は、測定値が基準値を下回った場合に、待機モードに移行する場合について説明したが、本発明はこれに限らない。例えば、制御部９２は、乾燥処理開始後、タイマー１０２で時間を計測し、予め設定された時間を経過した場合に、待機モードに移行してもよい。
【００６０】
上記実施形態の場合、乾燥モードは、排気部が起動してから所定時間経過後に発生部が起動する場合について説明したが、本発明はこれに限らない。例えば、検知部として処理槽１２内の圧力を測定する圧力センサを設け、排気部が起動後、処理槽１２内の圧力が所定値より低くなった場合に、発生部を起動してもよい。圧力センサは、排気部が目詰まりするなどして大気圧より高くなった場合の処理槽１２内の圧力を検知することもできる。この場合、処理装置１０は、発生部によるイオンガスの供給を停止することにより、処理槽１２内の気体が外部へ漏れ出すことを防止することができる。
【符号の説明】
【００６１】
１０    処理装置
１２    処理槽
１５    供給部
３８Ａ  第１発生部（発生部）
４０Ａ  上側供給管
４０Ｂ  上側供給管
４４    上側ノズル
４６Ａ  第２発生部（発生部）
４８    下側供給管
５４    下側ノズル
５６    第１排気口（排気口）
５７    第２排気口（排気口）
５９    第１排気部（排気部）
６１    第２排気部（排気部）
６８    投入口
７０    蓋
１００  検知部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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