(57)【要約】【課題】  不活性ガスによって現像液と空気との接触を遮断することでレジスト現像液と空気中の二酸化炭素との反応による炭酸塩の生成を防止する現像液のレジスト管理装置及び管理方法を提供することを目的とする。【解決手段】  現像工程設備に供給すべき新液であるレジスト現像液を貯留する新液貯留タンクと、新液貯留タンクへ高濃度のレジスト現像液を送液するための原液タンクと、新液貯留タンクと、原液タンクと、現像工程設備に不活性ガスを供給するための不活性ガス供給手段と、現像工程設備から前記レジスト現像液を回収する回収手段と、を有し、新液貯留タンク及び現像工程設備には、タンク内及び設備内の空気を排気する排気手段を備えており、不活性ガス供給手段は、新液貯留タンク及び現像工程設備に不活性ガスを供給すると同時に、排気手段によってタンク内及び設備内の空気を排気することを特徴とする。【選択図】  図１
2019101310.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリ性のレジスト現像液を現像工程設備に供給するためのレジスト現像液の管理装置であって、
該現像工程設備に供給すべき新液であるレジスト現像液を貯留する新液貯留タンクと、
該新液貯留タンクへ高濃度のレジスト現像液を送液するための原液タンクと、
前記新液貯留タンクと、該原液タンクと、前記現像工程設備に不活性ガスを供給するための不活性ガス供給手段と、
前記現像工程設備から前記レジスト現像液を回収する回収手段と、を有し、
前記新液貯留タンク及び前記現像工程設備には、タンク内及び設備内の空気を排気する排気手段を備えており、
前記不活性ガス供給手段は、前記新液貯留タンク及び前記現像工程設備に不活性ガスを供給すると同時に、前記排気手段によってタンク内及び設備内の空気を排気することを特徴とするレジスト現像液の管理装置。
【請求項２】
前記新液貯留タンクには、前記現像工程設備へ新液を供給するための供給手段を有することを特徴とする請求項１記載のレジスト現像液の管理装置。
【請求項３】
前記供給手段は、前記レジスト現像液の温度を一定にするための冷熱手段と、新液の導電率を計測するための導電率計測手段と、新液中の不純物を除去するための除去手段とを有することを特徴とする請求項２記載のレジスト現像液の管理装置。
【請求項４】
前記供給手段は、前記新液貯留タンクと前記回収手段によって前記レジスト現像液を循環させながら、前記導電率計測手段によって前記レジスト現像液の導電率を計測し、導電率が規定値に満たない場合、前記原液タンクから高濃度のレジスト現像液を前記新液貯留タンクへ送液することを特徴とする請求項３記載のレジスト現像液の管理装置。
【請求項５】
前記新液貯留タンクは、前記原液タンクから高濃度のレジスト現像液が送液される場合に、タンク内に貯留されている前記レジスト現像液の一定量を廃液することを特徴とする請求項４記載のレジスト現像液の管理装置。
【請求項６】
前記新液貯留タンクには、タンク内の酸素濃度を計測するための第１の計測手段を有し、該計測手段によってタンク内の酸素濃度を計測しながら、前記不活性ガス供給手段によって、タンク内に不活性ガスを供給するとともに、前記排気手段によってタンク内の空気を排気することを特徴とする請求項１記載のレジスト現像液の管理装置。
【請求項７】
前記現像工程設備には、設備内の酸素濃度を計測するための第２の計測手段を有し、該第２の計測手段によって設備内の酸素濃度を計測しながら、前記不活性ガス供給手段によって、設備内に不活性ガスを供給するとともに、前記排気手段によってタンク内の空気を排気することを特徴とする請求項１記載のレジスト現像液の管理装置。
【請求項８】
アルカリ性のレジスト現像液を現像工程設備に供給するためのレジスト現像液の管理方法であって、
前記現像工程設備へ新液であるレジスト現像液を貯留する新液貯留タンク内の酸素濃度を計測し、
酸素濃度が規定値以下になるまで、前記新液貯留タンク内へ不活性ガスを供給し、
同時に、前記新液貯留タンク内の空気を排気することを特徴とするレジスト現像液の管理方法。
【請求項９】
アルカリ性の現像液の現像工程設備に供給するためのレジスト現像液の管理方法であって、
該現像工程設備内の酸素濃度を計測し、
酸素濃度が規定値以下になるまで、前記現像工程設備内に不活性ガスを供給し、
同時に、前記現像工程設備内から空気を排気することを特徴とするレジスト現像液の管理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体集積回路、プリント配線基板、液晶パネルなどのなどの製造工程におけるフォトレジストの現像処理に使用する現像液の管理装置及び管理方法に関し、特に、現像液と空気との接触を遮断することにより現像液の劣化を防ぐレジスト現像液の管理装置及び管理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、電子デバイスの製造においてフォトリソグラフィー法が多く利用されている。このフォトリソグラフィー法では、フォトレジストに所定の光パターンを露光して潜像を形成した後、このフォトレジストを現像してパターニングする工程が行われている。通常のこのような現像には、水酸化テトラメチルアンモニウム（以下、ＴＭＡＨ）を含むレジスト現像液が用いられる。
【０００３】
レジスト現像液の中のＴＭＡＨはレジストの現像に伴って使用時間の経過と共にレジスト現像液の現像性能の劣化が起こる。近年では、レジスト現像液の導電率が一定になるようにＴＭＡＨの濃度を一定にし、レジスト現像液の現像性能を維持しつつレジスト現像液を長寿命化することが行われている。従ってレジスト現像液は空気等の雰囲気ガスと長時間接触する傾向がある。
【０００４】
レジスト現像液が長時間空気等の雰囲気ガスと接触すると、このレジスト現像液に雰囲気中の二酸化炭素が溶け込み、レジスト現像液中に種々の炭酸塩、例えば、ＴＭＡ（テトラメチルアンモニウム）の炭酸塩等が蓄積するといった問題がある。
【０００５】
レジスト現像液中にこのような炭酸塩が蓄積してくると、レジストの現像性能に悪影響を及ぼす可能性がある。また、ＴＭＡの炭酸塩はレジスト現像液中で一部解離するため、ＴＭＡの炭酸塩はレジスト現像液の導電率を増加させる。
【０００６】
従って、レジスト現像液の導電率を一定に維持するようにレジスト現像液にＴＭＡＨを補充したとしても、レジスト現像液のＴＭＡＨの濃度を精度よく制御することが困難である。
【０００７】
そこで、特許文献１に記載の発明は、レジスト現像液中の炭酸塩を除去するためにＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウム）及び炭酸塩を含むレジスト現像液をナノろ過膜で除去する方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００６−１８９６４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献１に記載の発明は、レジスト現像液が空気に接触した状態であって、炭酸塩の生成を防ぐことができないほか、ナノろ過膜を頻繁に交換する必要性があるためコスト低減を図ることは困難である。
【００１０】
本発明は係る問題に鑑みてなされたものであり、不活性ガスによって現像液と空気との接触を遮断することで現像液と空気中の二酸化炭素との反応による炭酸塩の生成を防止するレジスト現像液の管理装置及び管理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、上記課題を解決するために、アルカリ性のレジスト現像液を現像工程設備に供給するためのレジスト現像液の管理装置であって、該現像工程設備に供給すべき新液であるレジスト現像液を貯留する新液貯留タンクと、該新液貯留タンクへ高濃度のレジスト現像液を送液するための原液タンクと、前記新液貯留タンクと、該原液タンクと、前記現像工程設備に不活性ガスを供給するための不活性ガス供給手段と、前記現像工程設備から前記レジスト現像液を回収する回収手段と、を有し、前記新液貯留タンク及び前記現像工程設備には、タンク内及び設備内の空気を排気する排気手段を備えており、前記不活性ガス供給手段は、前記新液貯留タンク及び前記現像工程設備に不活性ガスを供給すると同時に、前記排気手段によってタンク内及び設備内の空気を排気することを特徴とする。
【００１２】
また、前記新液貯留タンクには、前記現像工程設備へ新液を供給するための供給手段を有することを特徴とする。
【００１３】
また、前記供給手段は、前記レジスト現像液の温度を一定にするための冷熱手段と、新液の導電率を計測するための導電率計測手段と、新液中の不純物を除去するための除去手段とを有することを特徴とする。
【００１４】
また、前記供給手段は、前記新液貯留タンクと前記回収手段によって前記レジスト現像液を循環させながら、前記導電率計測手段によって前記レジスト現像液の導電率を計測し、導電率が規定値に満たない場合、前記原液タンクから高濃度のレジスト現像液を前記新液貯留タンクへ送液することを特徴とする。
【００１５】
また、前記新液貯留タンクは、前記原液タンクから高濃度のレジスト現像液が送液される場合に、タンク内に貯留されている前記レジスト現像液の一定量を廃液することを特徴とする。
【００１６】
また、前記新液貯留タンクには、タンク内の酸素濃度を計測するための第１の計測手段を有し、該計測手段によってタンク内の酸素濃度を計測しながら、前記不活性ガス供給手段によって、タンク内に不活性ガスを供給するとともに、前記排気手段によってタンク内の空気を排気することを特徴とする。
【００１７】
また、前記現像工程設備には、設備内の酸素濃度を計測するための第２の計測手段を有し、該第２の計測手段によって設備内の酸素濃度を計測しながら、前記不活性ガス供給手段によって、設備内に不活性ガスを供給するとともに、前記排気手段によってタンク内の空気を排気することを特徴とする。
【００１８】
また、本発明は、アルカリ性のレジスト現像液を現像工程設備に供給するためのレジスト現像液の管理方法であって、前記現像工程設備へ新液であるレジスト現像液を貯留する新液貯留タンク内の酸素濃度を計測し、酸素濃度が規定値以下になるまで、前記新液貯留タンク内へ不活性ガスを供給し、同時に、前記新液貯留タンク内の空気を排気することを特徴とする。
【００１９】
さらに、アルカリ性の現像液の現像工程設備に供給するためのレジスト現像液の管理方法であって、該現像工程設備内の酸素濃度を計測し、酸素濃度が規定値以下になるまで、前記現像工程設備内に不活性ガスを供給し、同時に、前記現像工程設備内から空気を排気することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、現像液を貯留するタンク又は現像プロセスを行う設備内において現像液と空気との接触を遮断することにより、現像液と空気中の二酸化炭素との反応による炭酸塩の生成を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】第１の実施形態に係る現像液の管理装置の構成を示した図である。
【図２】第１の実施形態に係る現像液の管理方法の流れを示したフローチャートである。
【図３】第２の実施形態に係る現像液の管理装置の構成を示した図である。
【図４】第２の実施形態に係る現像液の管理方法を示したフローチャートである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
次に、図面を参照して、本実施形態に係るレジスト現像液の管理装置及び管理方法について説明する。
【００２３】
＜第１の実施形態＞
図１は、第１の実施形態に係る現像液の管理装置の構成を示した図である。
図示するように、レジスト現像液の管理装置１００は、新液貯留タンク２と、原液タンク３と、ポンプ４と、フィルタ５と、レベルセンサ６と、レギュレータ６と、制御弁１０〜２３と、新液供給管路３０、回収管路３１と、排気管路３２，３９と、窒素ガス供給管路３３，３５と、原液補給管路３４と、廃液管路３６，３７と、現像工程設備４０とから構成されている。
【００２４】
新液貯留タンク２には、現像工程設備４０へレジスト現像液の新液を供給するための新液供給管路３０と、現像工程設備４０からレジスト現像液を回収するための回収管路３１と、タンク内の空気を排気するための排気管路３２と、窒素ガスをタンク内に供給するための窒素ガス供給管路３３と、原液タンク３からレジスト現像液の原液を補給するための原液補給管路３４と、廃液を捨てるための廃液管路３６と、タンク内の酸素濃度を計測するための計測器２ａとが接続されている。
【００２５】
新液貯留タンク２は、現像工程設備４０で使用するアルカリ現像液が貯留されており、例えば、ＴＭＡＨ（トリメチルアンモニウムヒドロキシド）の２．３８質量％水溶液である。このアルカリ現像液は、高濃度の現像液が貯留されている原液タンク３から原液補給管路３４を介して補給され、濃度調整及び導電率の調整等を行った後、新液として現像工程設備４０へ供給する。
【００２６】
新液貯留タンク２に接続している現像工程設備４０へ新液を供給するための新液供給管路３０には、管路の途中に電子冷熱装置２ｂと、フィルタ５と、導電率計２ｃとが接続されている。電子冷熱装置２ｂは、新液貯留タンク２から新液を現像工程設備４０へ供給する際に、新液の温度を一定にするためのものであり、フィルタ５は、新液に含まれる不純物を取り除くためのものである。そして、導電率計２ｃは、新液の導電率を計測するためのものである。
【００２７】
新液貯留タンク２では、導電率を計測しながら適正な導電率になるように、すでに貯留されているレジスト現像液と原液タンク３から送液される原液とを混合し、適正な導電率を有する新液を生成して、現像工程設備４０へ供給する。
【００２８】
この場合、新液供給管路３０に設けられている制御弁１０は開け、制御弁１１を閉め、回収管路３１に設けられている制御弁１２を開けることにより、新液供給管路３０と新液貯留タンク２と、回収管路３１とで新液を循環させ、この間に新液の温度を一定にしたり、導電率を調整したりすることができる。そして、現像工程設備４０へ供給が必要なときに制御弁１１を開けて新液を供給する。
なお、不要になった新液は、新液貯留タンク２に接続されている廃液管路２６から廃棄することができる。
【００２９】
原液タンク３には、新液貯留タンク２へ原液を補給するための原液補給管路３４と、原液タンク３内へ窒素ガスを供給するための窒素ガス供給管路３５とが接続されている。なお、窒素ガス供給管路３５には、原液タンク３内の圧力を調整するためのレギュレータ７が設けられている。
なお、原液補給管路３４に設けられているレベルセンサ６は、原液タンク３内の原液の残量を監視するものである。
また、本実施形態では、新液貯留タンク２及び原液タンク３へ供給するガスは窒素ガスに限定されず、不活性ガスであればよい。
【００３０】
また、原液タンク３から新液貯留タンク２へ原液を補給する際、新液貯留タンク２内の所定量の新液を廃棄してから行う。
【００３１】
制御弁１０〜２３は、制御部（図示せず）によって弁の開閉が制御されている。また、制御部によって新液の温度や導電率、新液貯留タンク２内の酸素濃度が監視されており、状況に応じて制御弁１０〜２３の開閉制御を行い、原液や窒素ガスの供給、排気などを行うことができる。
【００３２】
現像工程設備４０は、第１の実施形態においてスピン方式を採用しており、現像工程設備４０内には、ウェハＷを保持するための基板保持部４１が設置されている。新液供給管路３０から供給される新液は、ウェハＷの上部から散布されウェハＷに塗布される。
【００３３】
また、ウェハＷの周囲に飛散した新液は、現像工程設備４０に接続されている回収管路３１によって回収される、または、同様に接続されている廃液管路３７から廃液として処理される。
【００３４】
次に、図２を参照して、第１の実施形態に係るレジスト現像液の管理方法について説明する。
図２は、第１の実施形態に係るレジスト現像液の管理方法の流を示したフローチャートである。
まず、新液貯留タンク２に設置されている計測器２ａによってタンク内の酸素濃度を計測する（ステップＳ１）。新液貯留タンク２内の酸素濃度が予め設定した規定値以下もしくはゼロの場合（ステップＳ２／ＮＯ）、再度、酸素濃度を計測する。
【００３５】
また、新液貯留タンク２内の酸素濃度が予め設定した規定値以上の場合（ステップＳ２／ＹＥＳ）、制御部によって排気管路３２に設けられている制御弁１４を開けるとともに、窒素ガス供給管路３３に設けられている制御弁１５，１６を開ける（ステップＳ３）。
【００３６】
制御弁１５，１６を開けることで新液貯留タンク２内に窒素ガスが供給される（ステップＳ４）。一方で、新液貯留タンク２内の空気は排気管路３２から排気される。そして、再度、新液貯留タンク２内の酸素濃度を計測し、新液貯留タンク２内の酸素濃度が規定値以下またはゼロの場合（ステップＳ５／ＹＥＳ）、制御弁１５，１６を閉めて窒素ガスの供給を止めるとともに、排気管路３２の制御弁１４を閉める（ステップＳ６）。これにより、新液貯留タンク２内に窒素ガスが充満した状態となる。
【００３７】
また、新液貯留タンク２内の酸素濃度が規定値以下ではない場合（ステップＳ５／ＮＯ）、酸素濃度が規定値以下になるまで窒素ガスを供給するとともに、新液貯留タンク２内の空気を排気し続ける。
【００３８】
第１の実施形態に係るレジスト現像液の管理装置及び管理方法によれば、新液貯留タンク２内に窒素ガスを充満させて空気を排気させることで、新液貯留タンク２内で空気中の炭酸ガスとレジスト現像液との接触を防止し、炭酸塩の生成を防ぐことができる。
【００３９】
これにより、長期間にわたってレジスト現像装置に新液の供給をしない場合であっても、新液貯留タンク２内が窒素ガスで充満しており、空気中の炭酸ガスとの接触がないため炭酸塩が生成されず、新液を廃棄することなく再度使用することが可能である。
【００４０】
＜第２の実施形態＞
次に、第２の実施形態に係るレジスト現像液の管理装置及び管理方法について説明する。
図３は、第２の実施形態に係るレジスト現像液の管理装置の構成を示した図である。
なお、第１の実施形態と同一の構成要素については説明を省略する。
図示するように、レジスト現像液の管理装置２００は、上記した第１の実施形態の構成に加えて、現像工程設備４０に窒素ガスを供給する窒素ガス供給管路３８と現像工程設備４０内の空気を排気するための排気管路３９と、レジスト現像液を回収するための回収管路３１と、現像工程設備４０内の酸素濃度を計測するための計測器４３が接続されている。
【００４１】
第２の実施形態に係る現像工程設備４０は、カセットバッチ方式を採用しており、処理槽４２内に複数枚のウェハＷを収容して現像処理を行う設備である。また、この設備には、蓋４１が設けられており、蓋４１を閉めることで設備内を密閉させることができる。
なお、現像工程設備４０では、カセットバッチ方式のみではなく、ローラーコンベア方式を採用することも可能である。
【００４２】
現像工程設備４０において、まず、蓋４１を閉めて設備内を外気から遮断して密閉状態にし、排気管路３９に設けられている制御弁２３を開け、次に、窒素ガス供給管路３８に設けられている制御弁２２を開ける。そして、窒素ガス供給管路３８から現像工程設備４０内へ窒素ガスを供給するとともに、現像工程設備４０内の空気を排気管路３９から排気する。計測器４３によって現像工程設備４０内の酸素濃度を計測し、酸素濃度が規定値以下またはゼロになるまで窒素ガスを供給しつづける。
【００４３】
現像工程設備４０内が窒素ガスで充満された段階で各制御弁２２，２３を閉め、現像処理を行う。また、蓋４１を開けてウェハＷを収容したり、取り出したりする際には、再度現像工程設備内４０の空気を排気するとともに、窒素ガスを供給して設備内を窒素ガスで充満させる。
【００４４】
新液貯留タンク２には、回収管路３１が接続されており、現像工程設備４０内でオーバーフローしたレジスト現像液を回収する。
なお、現像工程設備４０へ新液を供給する工程や、新液貯留タンク２内や原液タンク３内へ窒素ガスを供給する工程については、第１の実施形態で記載した工程を同様であるため、説明は省略する。
【００４５】
次に、第２の実施形態に係る現像液の管理方法について説明する。
図４は、第２の実施形態に係る現像液の管理方法を示したフローチャートである。
図示するように、まず、現像工程設備４０で窒素ガス供給管路３８を介して窒素ガスを供給する（ステップＳ１０）。現像工程設備４０では、窒素ガスの供給とともに、排気管路３９にて設備内の空気を排気し、計測器４２による設備内の酸素濃度を計測しながら設備内に窒素ガスを充満させ、空気中の炭酸ガスとの接触を遮断する。
【００４６】
次に、現像工程設備４０へ新液貯留タンク２から新液となるレジスト現像液を供給し（ステップＳ１１）、現像プロセスを開始する（ステップＳ１２）。そして、現像プロセス中に処理槽４１からオーバーフローした現像液を回収する（ステップＳ１３）。
【００４７】
処理槽４２からオーバーフローした現像液は、回収管路３１によって回収され、新液貯留タンク２へ送液される。次に、新液貯留タンク２内に貯留されている新液の導電率を計測する（ステップＳ１４）。新液の導電率が規定値に達している場合には、電子冷熱装置２ｂにより新液を一定の温度にして、現像工程設備４０に新液を供給する（ステップＳ１７）。
【００４８】
一方、新液貯留タンク２内の新液の導電率が規定値に達していない場合（ステップＳ１５／ＮＯ）、新液を廃液管路３６から一定量廃液し、原液タンク３から高濃度のレジスト現像液を新液貯留タンク２へ供給する。新液貯留タンク２では、原液タンク３から高濃度のレジスト現像液が供給され、備え付けの撹拌器（図示せず）で撹拌し、また、純水などを添加して導電率を調整する（ステップＳ１６）。そして、導電率が調整された新液を現像工程設備に供給する（ステップＳ１７）。
【００４９】
第２の実施形態に係る現像液の管理装置及び管理方法によれば、現像工程設備４０内に窒素ガスを供給しつつ、設備内の空気を排気することで、レジスト現像液と空気（特に、炭酸ガス）との接触を遮断させることができる。これにより、設備内でレジスト現像液と炭酸ガスとの反応による炭酸塩の生成を防ぐことができる。
【符号の説明】
【００５０】
１００、２００    現像液の管理装置
２    新液貯留タンク
２ａ、    計測器
２ｂ    電子冷熱装置
２ｃ    導電率計
３    原液タンク
４    ポンプ
５    フィルタ
６    レベルセンサ
１０〜２３    制御弁
３０  新液供給管路
３２、３９    排気管路
３３、３５、３８    窒素ガス供給管路
３４    補給管路
３６    廃液管路
３１    回収管路
４０    現像工程設備
４１    処理槽
【図１】
2019101310.tif 000003
【図２】
2019101310.tif 000004
【図３】
2019101310.tif 000005
【図４】
2019101310.tif 000006
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月27日(2018.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリ性のレジスト現像液を現像工程設備に供給するためのレジスト現像液の管理装置であって、
不活性ガスを充満できる前記現像工程設備と、
該現像工程設備に供給すべき新液であるレジスト現像液を貯留して不活性ガスを充満できる新液貯留タンクと、
該新液貯留タンクへ高濃度のレジスト現像液を送液するための原液タンクと、
前記新液貯留タンクと、該原液タンクと、前記現像工程設備に不活性ガスを供給するための不活性ガス供給手段と、
前記現像工程設備から前記レジスト現像液を回収する回収手段と、
前記新液貯留タンク及び前記現像工程設備からタンク内及び設備内の空気を排気する排気手段と、を備えており、
前記不活性ガス供給手段は、新液貯留タンクと前記現像工程設備とのそれぞれに直接接続されて前記不活性ガスを供給するガス供給管路を有し、
前記排気手段は、前記新液貯留タンクと前記現像工程設備とのそれぞれに直接接続されて空気を排気する排気管路を有し、
前記不活性ガス供給手段によって前記新液貯留タンク及び前記現像工程設備に不活性ガスを供給すると同時に、前記排気手段によってタンク内及び設備内の空気を排気することを特徴とするレジスト現像液の管理装置。
【請求項２】
前記新液貯留タンクと前記現像工程設備とのそれぞれに接続された前記ガス供給管路及び前記排気管路にはそれぞれ開閉可能な弁が設けられていることを特徴とする請求項１記載のレジスト現像液の管理装置。
【請求項３】
前記新液貯留タンクには、前記現像工程設備へ新液を供給するための供給手段を有し、
前記供給手段は、前記レジスト現像液の温度を一定にするための冷熱手段と、新液の導電率を計測するための導電率計測手段と、新液中の不純物を除去するための除去手段とを有することを特徴とする請求項１又は２記載のレジスト現像液の管理装置。
【請求項４】
前記供給手段は、前記新液貯留タンクと前記回収手段によって前記レジスト現像液を循環させながら、前記導電率計測手段によって前記レジスト現像液の導電率を計測し、導電率が規定値に満たない場合、前記原液タンクから高濃度のレジスト現像液を前記新液貯留タンクへ送液することを特徴とする請求項３記載のレジスト現像液の管理装置。
【請求項５】
前記新液貯留タンクは、前記原液タンクから高濃度のレジスト現像液が送液される場合に、タンク内に貯留されている前記レジスト現像液の一定量を廃液することを特徴とする請求項４記載のレジスト現像液の管理装置。
【請求項６】
前記新液貯留タンクには、タンク内の酸素濃度を計測するための第１の計測手段を有し、該計測手段によってタンク内の酸素濃度を計測しながら、前記不活性ガス供給手段によって、タンク内に不活性ガスを供給するとともに、前記排気手段によってタンク内の空気を排気することを特徴とする請求項１記載のレジスト現像液の管理装置。
【請求項７】
前記現像工程設備には、設備内の酸素濃度を計測するための第２の計測手段を有し、該第２の計測手段によって設備内の酸素濃度を計測しながら、前記不活性ガス供給手段によって、設備内に不活性ガスを供給するとともに、前記排気手段によってタンク内の空気を排気することを特徴とする請求項１記載のレジスト現像液の管理装置。
【請求項８】
アルカリ性のレジスト現像液を現像工程設備に供給するためのレジスト現像液の管理方法であって、
前記現像工程設備へ新液であるレジスト現像液を貯留する新液貯留タンク内の酸素濃度を計測し、
酸素濃度が規定値以下になるまで、前記新液貯留タンク内へ不活性ガスを供給し、同時に、前記新液貯留タンク内の空気を排気することで、前記現像工程設備に前記新液の供給をしない期間に、前記レジスト現像液と炭酸ガスとの接触を防ぐように前記新液貯留タンク内を前記不活性ガスが充満した状態にすることを特徴とするレジスト現像液の管理方法。
【請求項９】
アルカリ性の現像液の現像工程設備に供給するためのレジスト現像液の管理方法であって、
該現像工程設備内の酸素濃度を計測し、
酸素濃度が規定値以下になるまで、前記現像工程設備内に不活性ガスを供給し、同時に、前記現像工程設備内から空気を排気することで、前記現像工程設備に前記新液の供給をしない期間に、前記レジスト現像液と炭酸ガスとの接触を防ぐように前記新液貯留タンク内を前記不活性ガスが充満した状態にすることを特徴とするレジスト現像液の管理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は、上記課題を解決するために、アルカリ性のレジスト現像液を現像工程設備に供給するためのレジスト現像液の管理装置であって、不活性ガスを充満できる前記現像工程設備と、該現像工程設備に供給すべき新液であるレジスト現像液を貯留して不活性ガスを充満できる新液貯留タンクと、該新液貯留タンクへ高濃度のレジスト現像液を送液するための原液タンクと、前記新液貯留タンクと、該原液タンクと、前記現像工程設備に不活性ガスを供給するための不活性ガス供給手段と、前記現像工程設備から前記レジスト現像液を回収する回収手段と、前記新液貯留タンク及び前記現像工程設備からタンク内及び設備内の空気を排気する排気手段と、を備えており、前記不活性ガス供給手段は、新液貯留タンクと前記現像工程設備とのそれぞれに直接接続されて前記不活性ガスを供給するガス供給管路を有し、前記排気手段は、前記新液貯留タンクと前記現像工程設備とのそれぞれに直接接続されて空気を排気する排気管路を有し、前記不活性ガス供給手段によって前記新液貯留タンク及び前記現像工程設備に不活性ガスを供給すると同時に、前記排気手段によってタンク内及び設備内の空気を排気することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、前記新液貯留タンクには前記新液貯留タンクと前記現像工程設備とのそれぞれに接続された前記ガス供給管路及び前記排気管路にはそれぞれ開閉可能な弁が設けられていることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、前記新液貯留タンクには前記現像工程設備へ新液を供給するための供給手段を有し、前記供給手段は、前記レジスト現像液の温度を一定にするための冷熱手段と、新液の導電率を計測するための導電率計測手段と、新液中の不純物を除去するための除去手段とを有することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
また、本発明は、アルカリ性のレジスト現像液を現像工程設備に供給するためのレジスト現像液の管理方法であって、前記現像工程設備へ新液であるレジスト現像液を貯留する新液貯留タンク内の酸素濃度を計測し、酸素濃度が規定値以下になるまで、前記新液貯留タンク内へ不活性ガスを供給し、同時に、前記新液貯留タンク内の空気を排気することで、前記現像工程設備に前記新液の供給をしない期間に、前記レジスト現像液と炭酸ガスとの接触を防ぐように前記新液貯留タンク内を前記不活性ガスが充満した状態にすることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
さらに、アルカリ性の現像液の現像工程設備に供給するためのレジスト現像液の管理方法であって、該現像工程設備内の酸素濃度を計測し、酸素濃度が規定値以下になるまで、前記現像工程設備内に不活性ガスを供給し、同時に、前記現像工程設備内から空気を排気することで、前記現像工程設備に前記新液の供給をしない期間に、前記レジスト現像液と炭酸ガスとの接触を防ぐように前記新液貯留タンク内を前記不活性ガスが充満した状態にすることを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
第２の実施形態に係る現像工程設備４０は、カセットバッチ方式を採用しており、処理槽４２内に複数枚のウェハＷを収容して現像処理を行う設備である。また、この設備には、蓋４１が設けられており、蓋４１を閉めることで設備内を密閉させることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月23日(2019.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリ性のレジスト現像液を現像工程設備に供給するためのレジスト現像液の管理装置であって、
不活性ガスを充満できる前記現像工程設備と、
該現像工程設備に供給すべき新液であるレジスト現像液を貯留して不活性ガスを充満できる新液貯留タンクと、
該新液貯留タンクへ高濃度のレジスト現像液を送液するための原液タンクと、
前記新液貯留タンクと、該原液タンクと、前記現像工程設備に不活性ガスを供給するための不活性ガス供給手段と、
前記新液貯留タンク及び前記現像工程設備からタンク内及び設備内の空気を排気する排気手段と、
前記新液貯留タンクから前記現像工程設備へ新液を供給するための供給手段と、
前記現像工程設備から前記レジスト現像液を回収する回収手段と、を備えており、
前記供給手段は、前記レジスト現像液の温度を一定にするための電子冷熱装置と、前記電子冷熱装置より下流に配設されて新液中の不純物を除去するための除去手段と、前記除去手段より下流に配設されて新液の導電率を計測するための導電率計測手段と、を有し、前記新液貯留タンクと前記回収手段とによって前記レジスト現像液を循環させながら、前記導電率計測手段によって前記レジスト現像液の導電率を計測し、所定の導電率を有する前記新液を前記現像工程設備へ供給するように構成され、
前記不活性ガス供給手段は、新液貯留タンクと前記現像工程設備とのそれぞれに直接接続されて前記不活性ガスを供給するガス供給管路を有し、前記排気手段は、前記新液貯留タンクと前記現像工程設備とのそれぞれに直接接続されて空気を排気する排気管路を有し、前記不活性ガス供給手段によって前記新液貯留タンク及び前記現像工程設備に不活性ガスを供給すると同時に、前記排気手段によってタンク内及び設備内の空気を排気するように構成されている、ことを特徴とするレジスト現像液の管理装置。
【請求項２】
前記新液貯留タンクと前記現像工程設備とのそれぞれに接続された前記ガス供給管路及び前記排気管路にはそれぞれ開閉可能な弁が設けられていることを特徴とする請求項１記載のレジスト現像液の管理装置。
【請求項３】
前記供給手段は、前記導電率計測手段によって前記レジスト現像液の導電率を計測し、導電率が規定値に満たない場合、前記原液タンクから高濃度のレジスト現像液を前記新液貯留タンクへ送液することを特徴とする請求項１又は２に記載のレジスト現像液の管理装置。
【請求項４】
前記新液貯留タンクは、前記原液タンクから高濃度のレジスト現像液が送液される場合に、タンク内に貯留されている前記レジスト現像液の一定量を廃液することを特徴とする請求項３に記載のレジスト現像液の管理装置。
【請求項５】
前記新液貯留タンクには、タンク内の酸素濃度を計測するための第１の計測手段を有し、該計測手段によってタンク内の酸素濃度を計測しながら、前記不活性ガス供給手段によって、タンク内に不活性ガスを供給するとともに、前記排気手段によってタンク内の空気を排気することを特徴とする請求項１記載のレジスト現像液の管理装置。
【請求項６】
前記現像工程設備には、設備内の酸素濃度を計測するための第２の計測手段を有し、該第２の計測手段によって設備内の酸素濃度を計測しながら、前記不活性ガス供給手段によって、設備内に不活性ガスを供給するとともに、前記排気手段によってタンク内の空気を排気することを特徴とする請求項１記載のレジスト現像液の管理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は、上記課題を解決するために、アルカリ性のレジスト現像液を現像工程設備に供給するためのレジスト現像液の管理装置であって、不活性ガスを充満できる前記現像工程設備と、該現像工程設備に供給すべき新液であるレジスト現像液を貯留して不活性ガスを充満できる新液貯留タンクと、該新液貯留タンクへ高濃度のレジスト現像液を送液するための原液タンクと、前記新液貯留タンクと、該原液タンクと、前記現像工程設備に不活性ガスを供給するための不活性ガス供給手段と、前記新液貯留タンク及び前記現像工程設備からタンク内及び設備内の空気を排気する排気手段と、前記新液貯留タンクから前記現像工程設備へ新液を供給するための供給手段と、前記現像工程設備から前記レジスト現像液を回収する回収手段と、を備えており、前記供給手段は、前記レジスト現像液の温度を一定にするための電子冷熱装置と、前記電子冷熱装置より下流に配設されて新液中の不純物を除去するための除去手段と、前記除去手段より下流に配設されて新液の導電率を計測するための導電率計測手段と、を有し、前記新液貯留タンクと前記回収手段とによって前記レジスト現像液を循環させながら、前記導電率計測手段によって前記レジスト現像液の導電率を計測し、所定の導電率を有する前記新液を前記現像工程設備へ供給するように構成され、前記不活性ガス供給手段は、新液貯留タンクと前記現像工程設備とのそれぞれに直接接続されて前記不活性ガスを供給するガス供給管路を有し、前記排気手段は、前記新液貯留タンクと前記現像工程設備とのそれぞれに直接接続されて空気を排気する排気管路を有し、前記不活性ガス供給手段によって前記新液貯留タンク及び前記現像工程設備に不活性ガスを供給すると同時に、前記排気手段によってタンク内及び設備内の空気を排気することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、前記供給手段は、前記導電率計測手段によって前記レジスト現像液の導電率を計測し、導電率が規定値に満たない場合、前記原液タンクから高濃度のレジスト現像液を前記新液貯留タンクへ送液することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】