(57)【要約】【課題】電気特性を維持しつつ導電性基体と下引層との接着性を向上させた電子写真感光体を提供すること。【解決手段】厚みが０．２ｍｍ以上０．６ｍｍ以下の導電性基体１と、導電性基体１上に設けられ、体積抵抗率が１０９Ωｍ以下であり、かつ、樹脂を７０質量％以上含む中間層２と、中間層２上に設けられ、金属酸化物粒子と樹脂とを含む下引層３と、下引層３上に設けられた感光層と、を有する電子写真感光体７Ａ。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
厚みが０．２ｍｍ以上０．６ｍｍ以下の導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられ、体積抵抗率が１０９Ωｍ以下であり、かつ、樹脂を７０質量％以上含む中間層と、
前記中間層上に設けられ、金属酸化物粒子と樹脂とを含む下引層と、
前記下引層上に設けられた感光層と、
を有する電子写真感光体。
【請求項２】
前記下引層全体に対する前記金属酸化物粒子の含有量が５０質量％以上である請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
前記下引層全体に対する前記金属酸化物粒子の含有量が７０質量％以上である請求項２に記載の電子写真感光体。
【請求項４】
前記金属酸化物粒子の平均一次粒径が１５０ｎｍ以下である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項５】
前記金属酸化物粒子の平均一次粒径が１００ｎｍ以下である請求項４に記載の電子写真感光体。
【請求項６】
前記中間層はカーボンブラックを含む請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項７】
前記中間層全体に対する前記カーボンブラックの含有量が０．５質量％以上３０質量％以下である請求項６に記載の電子写真感光体。
【請求項８】
前記中間層に含まれる樹脂が架橋樹脂である請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項９】
前記架橋樹脂は、フェノール樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、及びウレタン樹脂からなる群より選択される少なくとも１種を含む請求項８に記載の電子写真感光体。
【請求項１０】
請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【請求項１１】
請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、「導電性支持体層と、顔料を含む感光層と、前記導電性支持体層と前記感光層との間に配置される中間層と、を有しており、前記中間層が、酸化亜鉛粒子と、バインダー樹脂とを含んでおり、前記中間層中に含まれる前記酸化亜鉛粒子は、その一次粒子径の最大値が３００ｎｍ未満であり、かつ、平均粒子径が２０〜２００ｎｍであること、を特徴とする電子写真感光体。」が開示されている。
【０００３】
特許文献２には、「導電性支持体層と、顔料を含む感光層と、前記導電性支持体層と前記感光層との間に配置される中間層と、を有しており、前記中間層が、カップリング剤を用いて被覆処理された金属酸化物粒子と、バインダー樹脂とを含んでおり、前記中間層の層厚が２０μｍよりも大きく５０μｍ以下であり、前記バインダー樹脂が熱硬化性樹脂であること、を特徴とする電子写真感光体」が開示されている。
【０００４】
特許文献３には、「アルミニウムを含み、Ｘ線回折における結晶吸収の半値幅が５ｍｍ以上３０ｍｍ以下である電子写真感光体用導電性支持体と、前記電子写真感光体用導電性支持体上に配置された感光層と、を有する電子写真感光体。」が開示されている。
【０００５】
特許文献４には、「可撓性を有する薄肉円筒状の基材と、この基材の表面に形成された像保持層とを有する像保持体の製造方法であって、ビレットにパンチで衝撃を与えることによりビレットを薄肉円筒状に展伸形成するインパクト加工により筒状体を得る工程と、この工程により得られた筒状体の両端部を切り落として前記基材を得る工程と、この工程により得られた基材の、前記インパクト加工時におけるビレットが配置された側とは反対側の端部を把持して基材を像保持層形成用塗料中に浸漬して基材の表面に像保持層を形成する工程とを有することを特徴とする像保持体の製造方法」が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−８４４７２号公報
【特許文献２】特開２００３−０９１０８６号公報
【特許文献３】特開２０１６−００４１２４号公報
【特許文献４】特開２０００−０１０３０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
厚みが０．２ｍｍ以上０．６ｍｍ以下の導電性基体上に、金属酸化物粒子を含む下引層を直接設けると、導電性基体が衝撃によって変形しやすい一方で下引層の柔軟性が低いため、導電性基体の変形に下引層が追従できず、導電性基体と下引層との接着性が低下することがある。
【０００８】
そこで、本発明の課題は、厚みが０．２ｍｍ以上０．６ｍｍ以下の導電性基体上に金属酸化物粒子と樹脂とを含む下引層を直接設けた場合に比べ、電気特性を維持しつつ導電性基体と下引層との接着性を向上させた電子写真感光体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題は、以下の手段により解決される。
【００１０】
請求項１に係る発明は、
厚みが０．２ｍｍ以上０．６ｍｍ以下の導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられ、体積抵抗率が１０９Ωｍ以下であり、かつ、樹脂を７０質量％以上含む中間層と、
前記中間層上に設けられ、金属酸化物粒子と樹脂とを含む下引層と、
前記下引層上に設けられた感光層と、
を有する電子写真感光体。
【００１１】
請求項２に係る発明は、
前記下引層全体に対する前記金属酸化物粒子の含有量が５０質量％以上である請求項１に記載の電子写真感光体。
請求項３に係る発明は、
前記下引層全体に対する前記金属酸化物粒子の含有量が７０質量％以上である請求項２に記載の電子写真感光体。
請求項４に係る発明は、
前記金属酸化物粒子の平均一次粒径が１５０ｎｍ以下である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
請求項５に係る発明は、
前記金属酸化物粒子の平均一次粒径が１００ｎｍ以下である請求項４に記載の電子写真感光体。
【００１２】
請求項６に係る発明は、
前記中間層はカーボンブラックを含む請求項１に記載の電子写真感光体。
請求項７に係る発明は、
前記中間層全体に対する前記カーボンブラックの含有量が０．５質量％以上３０質量％以下である請求項６に記載の電子写真感光体。
【００１３】
請求項８に係る発明は、
前記中間層に含まれる樹脂が架橋樹脂である請求項１に記載の電子写真感光体。
請求項９に係る発明は、
前記架橋樹脂は、フェノール樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、及びウレタン樹脂からなる群より選択される少なくとも１種を含む請求項８に記載の電子写真感光体。
【００１４】
請求項１０に係る発明は、
請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
請求項１１に係る発明は、
請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の効果】
【００１５】
請求項１、８、又は９に係る発明によれば、厚みが０．２ｍｍ以上０．６ｍｍ以下の導電性基体上に金属酸化物粒子と樹脂とを含む下引層を直接設けた場合に比べ、電気特性を維持しつつ導電性基体と下引層との接着性を向上させた電子写真感光体が提供される。
【００１６】
請求項２に係る発明によれば、前記金属酸化物粒子の含有量が５０質量％以上であっても、厚みが０．２ｍｍ以上０．６ｍｍ以下の導電性基体上に金属酸化物粒子と樹脂とを含む下引層を直接設けた場合に比べ、電気特性を維持しつつ導電性基体と下引層との接着性を向上させた電子写真感光体が提供される。
請求項３に係る発明によれば、前記金属酸化物粒子の含有量が７０質量％以上であっても、厚みが０．２ｍｍ以上０．６ｍｍ以下の導電性基体上に金属酸化物粒子と樹脂とを含む下引層を直接設けた場合に比べ、電気特性を維持しつつ導電性基体と下引層との接着性を向上させた電子写真感光体が提供される。
請求項４に係る発明によれば、前記金属酸化物粒子の平均一次粒径が１５０ｎｍ以下であっても、厚みが０．２ｍｍ以上０．６ｍｍ以下の導電性基体上に金属酸化物粒子と樹脂とを含む下引層を直接設けた場合に比べ、電気特性を維持しつつ導電性基体と下引層との接着性を向上させた電子写真感光体が提供される。
請求項５に係る発明によれば、前記金属酸化物粒子の平均一次粒径が１００ｎｍ以下であっても、厚みが０．２ｍｍ以上０．６ｍｍ以下の導電性基体上に金属酸化物粒子と樹脂とを含む下引層を直接設けた場合に比べ、電気特性を維持しつつ導電性基体と下引層との接着性を向上させた電子写真感光体が提供される。
【００１７】
請求項６に係る発明によれば、中間層が樹脂のみからなる場合に比べ、電気特性を維持しつつ導電性基体と下引層との接着性を向上させた電子写真感光体が提供される。
請求項７に係る発明によれば、中間層全体に対するカーボンブラックの含有量が０．５質量％未満又は３０質量％を超える場合に比べ、電気特性を維持しつつ導電性基体と下引層との接着性を向上させた電子写真感光体が提供される。
【００１８】
請求項１０又は１１に係る発明によれば、厚みが０．２ｍｍ以上０．６ｍｍ以下の導電性基体上に金属酸化物粒子と樹脂とを含む下引層を直接設けた電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジ又は画像形成装置に比べ、電気特性を維持しつつ導電性基体と下引層との接着性を向上させた電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジ又は画像形成装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の一例を模式的に示す概略部分断面図である。
【図２】本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の一例を模式的に示す概略部分断面図である。
【図３】導電性基体を成形するインパクトプレス加工の一例を示す概略図である。
【図４】導電性基体を成形するしごき加工の一例を示す概略図である。
【図５】本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
【図６】本実施形態に係る画像形成装置の他の例を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の一例である実施形態について説明する。
【００２１】
＜電子写真感光体＞
本実施形態に係る電子写真感光体（以下、「感光体」と称することがある）は、導電性基体と、導電性基体上に設けられた中間層と、中間層上に設けられた下引層と、下引層上に設けられた感光層と、を有する。
導電性基体は、厚みが０．２ｍｍ以上０．６ｍｍ以下である。
中間層は、体積抵抗率が１０９Ωｍ以下であり、かつ、樹脂を７０質量％以上含む。
下引層は、金属酸化物粒子と樹脂とを含む。
【００２２】
本実施形態に係る感光体は、電気特性を維持しつつ導電性基体と下引層との接着性を向上させる。その理由は、以下のように推測される。
【００２３】
厚みが０．２ｍｍ以上０．６ｍｍ以下である薄肉の導電性基体は、厚みが０．６ｍｍを超える導電性基体に比べて、外部からの衝撃により変形しやすい。
そして、金属酸化物粒子を含む下引層を上記薄肉の導電性基体上に直接設けた感光体では、導電性基体が変形した場合、下引層が導電性基体の変形に追従しにくい。そのため、下引層にひび（クラック）が入ったり、下引層と導電性基体との界面に剥がれが生じたりして、導電性基体と下引層との接着性が維持されにくいことがある。
【００２４】
これに対して、本実施形態の感光体は、薄肉の導電性基体に、体積抵抗率が１０９Ωｍ以下である樹脂を７０質量％以上含む中間層を介して、金属酸化物粒子と樹脂とを含む下引層が設けられている。
上記中間層は、樹脂を７０質量％以上含むため、可撓性を有し、導電性基体の変形に追従しやすい。そのため、外部からの衝撃によって導電性基体の変形が生じても、その応力が中間層に吸収され、下引層のひびや剥がれが抑制される。つまり、導電性基体が薄肉であっても、導電性基体と下引層との接着性が良好となる。そして、上記ひびや剥がれ等に起因する感光体の電気特性の低下（例えば繰り返し画像形成による露光後電位の変動）及び画質の低下（例えば繰り返し画像形成後の画像における白点の発生）が抑制される。
加えて、上記中間層は、体積抵抗率が１０９Ωｍ以下である。そのため、例えば体積抵抗率が上記範囲を超える接着層を介して下引層を設けた場合とは異なり、上記中間層を設けても、感光体全体の電気特性に影響しにくい。
以上のように、本実施形態の感光体は、導電性基体の厚みが０．２ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であっても、電気特性を維持しつつ導電性基体と下引層との接着性が向上するものと推測される。
【００２５】
以下、図面を参照しつつ、本実施形態に係る電子写真感光体を詳細に説明する。
図１及び図２は、本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の一例を模式的に示す概略部分断面図である。
【００２６】
図１に示す感光体７Ａは、例えば、導電性基体１上に、中間層２、下引層３、電荷発生層４、及び電荷輸送層５がこの順で設けられている。感光体７Ａは、必要に応じてその他の層を設けてもよい。その他の層としては、例えば、電荷輸送層５の外周面に設けられる保護層等が挙げられる。
図２に示す感光体７Ｂは、例えば、導電性基体１上に、中間層２、下引層３、及び単層型感光層６がこの順で設けられている。感光体７Ｂは、必要に応じてその他の層を設けてもよい。その他の層としては、例えば、単層型感光層６の外周面に設けられる保護層等が挙げられる。
【００２７】
なお、感光体７Ａ及び感光体７Ｂにおいて、導電性基体１の厚みは０．２ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、中間層２は樹脂を７０質量％以上含み体積抵抗率が１０９Ωｍ以下であり、下引層３は金属酸化物粒子と樹脂とを含む。
【００２８】
以下、本実施形態に係る電子写真感光体の一例として、図１に示す感光体７Ａの各層について詳細に説明する。なお、符号は省略して説明する。
【００２９】
（導電性基体）
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
【００３０】
導電性基体の厚みは、０．２ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、感光体の軽量化及び導電性基体の強度確保の観点から、０．３ｍｍ以上０．５ｍｍ以下が好ましく、０．３５ｍｍ以上０．４５ｍｍ以下がより好ましい。
ここで、導電性基体の厚みは、次のように測定される。
測定対象が導電性基体単体の場合はそのまま測定し、測定対象が感光体の場合は導電性基体の外周面上に形成された層（感光層等）をカッター等により除去又は溶剤等により溶解することで除去して測定する。
測定方法は、マイクロメータによって、導電性基体の厚みを測定する。そして、例えば導電性基体が円筒状の中空部材である場合、軸方向１０点×周方向８点の測定を行い、それらの平均値を求めることができる。また、より精密に測定する場合は、オリンパス社製の超音波精密・腐食厚さ計（製品名：３８ＤＬ  ＰＬＵＳ）を用いて測定する。
【００３１】
導電性基体は、例えば円筒状の中空部材であり、金属で構成されていることが好ましい。
導電性基体を構成する金属としては、例えば、アルミニウム、鉄、銅等の純金属；ステンレス鋼、アルミニウム合金等の合金；が挙げられる。導電性基体を構成する金属としては、軽いこと及び加工性に優れる観点から、アルミニウムを含む金属が好ましく、純アルミニウム又はアルミニウム合金がより好ましい。アルミニウム合金としては、アルミニウムが主成分である合金であれば特に制限されず、アルミニウムのほかに、例えば、Ｓｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｔｉ等を含むアルミニウム合金が挙げられる。ここで「主成分」とは、合金に含まれる元素の中で最も含有割合（質量基準）が高い元素をいう。導電性基体を構成する金属としては、加工性の観点から、アルミニウム含有率（質量割合）が９０．０％以上の金属が好ましく、アルミニウム含有率は９５．０％以上がより好ましく、９９．０％以上が更に好ましい。
【００３２】
導電性基体は、例えば、抽伸加工、絞り加工、インパクトプレス加工、しごき加工、切削加工などの公知の成形加工によって製造される。導電性基体は、薄肉化及び高硬度化の観点から、インパクトプレス加工によって製造されることが好ましく、インパクトプレス加工及びその後のしごき加工によって製造されることがより好ましい。即ち、導電性基体は、インパクトプレス加工品、又は、しごき加工を施したインパクトプレス加工品であることが好ましい。
【００３３】
インパクトプレス加工は、金属塊を円形の雌型に配置し、円柱状の雄型で叩いて雄型に沿った中空円筒体に成形する加工法である。インパクトプレス加工によって中空円筒体を成形した後、１回又は複数回のしごき加工によって、内径、外径、円筒度及び真円度を調整して導電性基体を得る。しごき加工後に、円筒管の両端を切り落とし、さらに端面処理を施してもよい。以下に、インパクトプレス加工としごき加工の実施形態例を説明する。
【００３４】
−インパクトプレス加工−
図３は、金属塊にインパクトプレス加工を施して中空円筒体を成形する工程の一例を示している。図３（Ａ）に示すように、ダイ（雌型）２０に設けられている円形孔２４に、潤滑剤を表面に付与した円盤状の金属塊３０を置く。次いで、図３（Ｂ）に示すように、金属塊３０を円柱状のパンチ（雄型）２１でプレスして中空円筒体４Ａに成形する。次いで、図３（Ｃ）に示すように、ストリッパー２２の中央孔２３を通してパンチ２１を引き上げることにより、パンチ２１を中空円筒体４Ａから引き抜く。
【００３５】
インパクトプレス加工においては、パンチ２１でプレスされた金属塊３０がパンチ２１の周囲を覆うように円筒状に伸びて中空円筒体４Ａを形成するので、金属塊３０の表面（特に、円形孔２４に置いた際の底面）が中空円筒体４Ａの外周面となる。そのため、金属塊３０の表面の凹凸が、中空円筒体４Ａの外周面の凹凸に反映する。
【００３６】
金属塊３０の表面には、潤滑剤を付与することが好ましい。潤滑剤によって、パンチ２１と金属塊３０の間の摩擦が軽減され、金属塊３０がパンチ２１の周囲を覆うように伸びる際により均一性高く伸び、中空円筒体４Ａの外周面の凹凸が低減すると推測される。
金属塊３０の表面に付与する潤滑剤としては、脂肪酸金属塩（例えば、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸マグネシウム、ラウリン酸亜鉛、ラウリン酸カリウム）；長鎖脂肪酸と多価アルコールのエステル（例えば、炭素数５乃至２２の脂肪酸と、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多価アルコールのエステル）；液状炭化水素系ポリマー（例えば、ポリブテン、ポリイソブチレン、イソブテンとノルマルブテンの共重合ポリマー、イソブテンとイソプロピレンの共重合ポリマー、イソブテンとブタジエンの共重合ポリマー、ノルマルブテンとスチレンの共重合ポリマー、ノルマルブテンとイソプロピレンの共重合ポリマー）；などが挙げられる。金属塊３０の表面に付与する潤滑剤としては、中空円筒体４Ａの外周面の凹凸を軽減する観点からは、脂肪酸金属塩が好ましい。
【００３７】
金属塊３０の素材、形状、大きさ等は、製造する導電性基体の素材、形状、大きさ等に応じて選択すればよい。金属塊３０は、加工性に優れる観点から、純アルミニウム又はアルミニウム合金が好ましい。金属塊３０のアルミニウム含有率（質量割合）は、加工性の観点から、９０．０％以上が好ましく、９５．０％以上がより好ましく、９９．０％以上が更に好ましい。
【００３８】
金属塊３０には、表面付近の結晶粒径を制御する目的で、表面改質処理を施してもよい。表面改質処理としては、焼入れ、窒化処理、バニシング加工などが挙げられる。
【００３９】
中空円筒体４Ａの厚さは、製造する導電性基体の内径、外径及び肉厚と、後に施すしごき加工の回数などに応じて選択する。
【００４０】
中空円筒体４Ａには、しごき加工を施す前に、焼き鈍しを施してもよい。
【００４１】
−しごき加工−
図４は、中空円筒体にしごき加工を施す工程の一例を示している。図４は、図４（Ａ）に示す絞り加工を施した後、図４（Ｂ）に示すしごき加工を行う例を示している。
【００４２】
図４（Ａ）に示すように、円柱状のパンチ３１を中空円筒体４Ａの内部に挿入し、中空円筒体４Ａごとパンチ３１を、中空円筒体４Ａよりも径の小さいダイス３２に押し込むことによって、中空円筒体４Ａの径を小さくする。次いで、図４（Ｂ）に示すように、ダイス３２よりも径の小さいダイス３３に、中空円筒体４Ａごとパンチ３１を押し込んで、中空円筒体４Ａよりも肉厚の薄い中空円筒体４Ｂを得る。なお、絞り加工を経ずにしごき加工を施してもよいし、しごき加工を複数段階に分けて行ってもよい。中空円筒体４Ａにしごき加工を施すことにより、中空円筒体４Ａの外周面に存在していた凸部が平坦化する。
【００４３】
導電性基体の表面には、公知の表面処理、例えば、陽極酸化、酸洗、ベーマイト処理などを施してもよい。
【００４４】
なお、導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞の抑制やや密着性を高める目的でで、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。
【００４５】
粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。
【００４６】
陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。
【００４７】
陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１０μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。
【００４８】
導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１０μｍ以下が好ましい。
【００４９】
ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００５０】
（中間層）
中間層は、前述の導電性基体と後述する下引層との間に設けられ、体積抵抗率が１０９Ωｍ以下であり、かつ、樹脂を７０質量％以上含む層である。
【００５１】
中間層に含まれる樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等の公知の高分子化合物が挙げられる。また、中間層に含まれる樹脂として、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、ポリアニリン等の導電性樹脂等を用いてもよい。
なお、中間層に含まれる樹脂は、１種のみ用いてもよく、２種以上組み合わせて用いてもよい。２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
【００５２】
これらの中でも、上層の塗布溶剤（例えば、下引層形成用塗布液に用いる溶剤）に溶解しにくいという観点から、架橋樹脂（すなわち、架橋構造を有する樹脂）が好ましい。
また、上層の塗布溶剤に溶解しにくいという観点で好ましい樹脂として、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の硬化樹脂（すなわち、熱硬化性樹脂）が挙げられ、その中でも、フェノール樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、及びウレタン樹脂がより好ましい。
【００５３】
中間層全体に対する樹脂の含有量は、７０質量％以上９９．５質量％以下が好ましく、８０質量％以上９７．５質量％以下がより好ましく、８５質量％以上９５質量％以下がさらに好ましい。樹脂の含有量が上記範囲であることにより、上記範囲よりも低い場合に比べて導電性基体と下引層との接着性が得られやすくなり、上記範囲よりも高い場合に比べて感光体の電気特性が維持されやすくなる。
【００５４】
中間層の体積抵抗率は、１×１０２Ωｍ以上１×１０９Ωｍ以下が好ましく、１×１０２Ωｍ以上１×１０７Ωｍ以下がより好ましく、１×１０２Ωｍ以上５×１０５Ωｍ以下がさらに好ましい。中間層の体積抵抗率が上記範囲であることにより、上記範囲よりも低い場合に比べて感光体のリーク耐性が得られやすくなり、上記範囲よりも高い場合に比べて残留電位の上昇が抑制されやすくなる。
なお、中間層の体積抵抗率は、東洋テクニカ製強誘電体評価システム（ＩＶ＆ＱＶ変換器モデル６２５２Ｃ型）を用いて測定した。
【００５５】
体積抵抗率が上記範囲の中間層としては、例えば、カーボンブラックを含む中間層が挙げられる。
カーボンブラックとしては特に限定されないが、例えば、三菱ケミカル株式会社製の＃２３００（ｐＨ８．０、揮発分２．０％）、同＃９８０（ｐＨ７．５、揮発分１．５％）、同＃８５０（ｐＨ８．０、揮発分１．５％）、＃５２（ｐＨ８．０、揮発分０．８％）、＃４５（ｐＨ８．０、揮発分１．１％）、＃３０（ｐＨ８．０、揮発分０．６％）、＃９５（ｐＨ８．０、揮発分０．７％）；キャボットコーポレーション製のＶＵＬＣＡＮ  ＸＣ７２（ｐＨ８．５、揮発分１．５％）、ＲＥＧＡＬ３３０Ｒ（ｐＨ８．５、揮発分１．０％）等が挙げられる。
【００５６】
また、カーボンブラックの酸化処理によりその表面に酸素含有官能基（カルボキシル基、キノン基、ラクトン基、水酸基等）が形成された酸化処理カーボンブラックを用いてもよい。酸化処理カーボンブラックは、カーボンブラックを高温雰囲気下で空気と接触、反応させる空気酸化法、常温下で窒素酸化物やオゾン等と反応させる方法、高温下での空気酸化後、低温下でオゾン酸化する方法等により得られる。
【００５７】
酸化処理カーボンブラックの例としては、例えば、三菱ケミカル株式会社製のＭＡ１００（ｐＨ３．５、揮発分１．５％）、同，ＭＡ１００Ｒ（ｐＨ３．５、揮発分１．５％）、同ＭＡ１００Ｓ（ｐＨ３．５、揮発分１．５％）、同＃９７０（ｐＨ３．５、揮発分３．０％）、同ＭＡ１１（ｐＨ３．５、揮発分２．０％）、同＃１０００（ｐＨ３．５、揮発分３．０％）、同＃２２００（ｐＨ３．５，揮発分３．５％）、同ＭＡ２３０（ｐＨ３．０、揮発分１．５％）、同ＭＡ２２０（ｐＨ３．０、揮発分１．０％）、同＃２６５０（ｐＨ３．０、揮発分８．０％）、同ＭＡ７（ｐＨ３．０、揮発分３．０％）、同ＭＡ８（ｐＨ３．０、揮発分３．０％）、同ＯＩＬ７Ｂ（ｐＨ３．０、揮発分６．０％）、同ＭＡ７７（ｐＨ２．５、揮発分３．０％）、同＃２３５０（ｐＨ２．５、揮発分７．５％）、同＃２７００（ｐＨ２．５、揮発分１０．０％）、同＃２４００（ｐＨ２．５、揮発分９．０％）；デグサ社製のプリンテックス１５０Ｔ（ｐＨ４．５、揮発分１０．０％）、同スペシャルブラック３５０（ｐＨ３．５、揮発分２．２％）、同スペシャルブラック１００（ｐＨ３．３、揮発分２．２％）、同スペシャルブラック２５０（ｐＨ３．１、揮発分２．０％）、同スペシャルブラック５（ｐＨ３．０、揮発分１５．０％）、同スペシャルブラック４（ｐＨ３．０、揮発分１４．０％）、同スペシャルブラック４Ａ（ｐＨ３．０、揮発分１４．０％）、同スペシャルブラック５５０（ｐＨ２．８、揮発分２．５％）、同スペシャルブラック６（ｐＨ２．５、揮発分１８．０％）、同カラーブラックＦＷ２００（ｐＨ２．５、揮発分２０．０％）、同カラーブラックＦＷ２（ｐＨ２．５、揮発分１６．５％）、同カラーブラックＦＷ２Ｖ（ｐＨ２．５、揮発分１６．５％）；キャボット社製ＭＯＮＡＲＣＨ１０００（ｐＨ２．５、揮発分９．５％）、同ＭＯＮＡＲＣＨ１３００（ｐＨ２．５、揮発分９．５％）、同ＭＯＮＡＲＣＨ１４００（ｐＨ２．５、揮発分９．０％）、同ＭＯＧＵＬ−Ｌ（ｐＨ２．５、揮発分５．０％）、同ＲＥＧＡＬ４００Ｒ（ｐＨ４．０、揮発分３．５％）；オリオンエンジニアドカーボンズのスペシャルブラック４（ｐＨ３．０、揮発分１４％）、同スペシャルブラック５５０（ｐＨ２．５、揮発分２．８％）、同スペシャルブラック１００（ｐＨ３．１、揮発分２．２％）等が挙げられる。
【００５８】
カーボンブラックのＤＢＰ吸油量としては、例えば３０ｍｌ／１００ｇ以上４００ｍｌ／１００ｇ以下が挙げられ、５０ｍｌ／１００ｇ以上２００ｍｌ／１００ｇ以下が好ましい。
ＤＢＰ吸油量は、カーボンブラック１００ｇに吸収されるジブチルフタレート（ＤＢＰ）の量を示すものであり、ＡＳＴＭ（アメリカ標準試験法）Ｄ２４１４−６ＴＴに定義される値である。
なお、２種以上のカーボンブラックを併用した場合、カーボンブラックのＤＢＰ吸油量は含有量についての加重平均値とする。
【００５９】
カーボンブラックのｐＨとしては、特に限定しないが、例えば２以上１０以下が挙げられ、５以上９以下が好ましい。
上記ｐＨは、２０℃の水１０００ｍｌにカーボンブラック５０ｇを加えた水溶液のｐＨであり、ＪＩＳ  Ｚ８８０２（２０１１）規定のｐＨ測定方法によって測定される値である。
なお、２種以上のカーボンブラックを併用した場合、カーボンブラックのｐＨは含有量についての加重平均値とする。
【００６０】
カーボンブラックの平均一次粒径としては、分散性の観点から、例えば１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下が挙げられ、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下が好ましい。
カーボンブラックの平均一次粒径は、次の方法により測定される。
感光体の中間層から、ミクロトームにより切断して、２００ｎｍの厚さの測定サンプルを採取し、本測定サンプルをＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）により観察する。そして、カーボンブラックの一次粒子５０個の径を測定して、その平均値を平均一次粒径とする。
【００６１】
カーボンブラックは、１種のみ用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
なお、カーボンブラックは、ＤＢＰ吸油量、窒素吸着を利用したＢＥＴ法による比表面積等の物性の相違により導電性が異なるが、導電性の異なるカーボンブラックを２種以上組み合わせて用いてもよい。このように物性の異なる２種類以上のカーボンブラックを添加する場合、例えば高い導電性を発現するカーボンブラックを優先的に添加した後、導電率の低いカーボンブラックを添加して体積抵抗率を調整してもよい。
【００６２】
中間層全体に対するカーボンブラックの含有量は、用いるカーボンブラックの物性によっても異なるが、例えば０．５質量％以上３０質量％以下が挙げられ、０．５質量％以上２０質量％以下が好ましく、より好ましくは２質量％以上１０質量％である。カーボンブラックの含有量が上記範囲であることにより、上記範囲よりも少ない場合に比べて中間層の抵抗が高すぎず感光体の電気特性が維持されやすい。また、カーボンブラックの含有量が上記範囲であることにより、上記範囲よりも多い場合に比べてリーク耐性が得られやすく、カーボンブラックの凝集に伴う塗膜欠陥も抑制される。
【００６３】
中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【００６４】
中間層形成用塗布液に用いる溶剤としては、公知の有機溶剤が挙げられ、例えば、アルコール系溶剤、芳香族系溶剤、ハロゲン化炭化水素系溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
溶剤の具体例としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の公知の有機溶剤が挙げられる。
上記溶剤は１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤として前記樹脂を溶かし得る溶剤であれば、いかなるものでも使用される。
【００６５】
前記溶剤にカーボンブラックを分散させる方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの公知の方法が挙げられる。
また、中間層形成用塗布液を導電性基体に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【００６６】
中間層の厚みは特に限定されないが、導電性基体の外周面における凹凸の高さ以上であることが好ましく、具体的には、例えば１μｍ以上が挙げられ、１μｍ以上５０μｍ以下が好ましく、より好ましくは３μｍ以上５０μｍ以下である。
中間層の厚みが上記範囲であることにより、上記範囲よりも薄い場合に比べて導電性基体と下引層との接着性及び導電性基材における欠陥の隠蔽性が得られやすく、上記範囲よりも厚い場合に比べて長期使用による残留電位の上昇に伴う画像濃度異常が抑制される。
【００６７】
（下引層）
下引層は、前記中間層上に設けられ、金属酸化物粒子と樹脂とを含む層である。
【００６８】
金属酸化物粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ωｃｍ以上１０１１Ωｃｍ以下の金属酸化物粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する金属酸化物粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
【００６９】
金属酸化物粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ２／ｇ以上がよい。金属酸化物粒子の比表面積が上記範囲であることにより、上記範囲より小さい場合に比べて感光体の帯電性低下が抑制される。
金属酸化物粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。
【００７０】
また、金属酸化物粒子の平均一次粒径は、５００ｎｍ以下がよく、具体的には、２０ｎｍ以上２００ｎｍ以下が好ましく、３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下がより好ましく、３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下が更に好ましい。
金属酸化物粒子の平均一次粒径が小さいほど、金属酸化物粒子が凝集しやすく、下引層が硬くなりやすいため、導電性基体と下引層との接着性が低下しやすい。しかし、本実施形態では導電性基体と下引層との間に中間層を設けているため、例えば金属酸化物粒子の平均一次粒径が１５０ｎｍ以下であっても（さらに１００ｎｍ以下であっても）、上記接着性が良好となる。
なお、金属酸化物粒子の平均一次粒径は以下のようにして求める。具体的には、金属酸化物粒子の一次粒子１００個をＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）装置により観察する。観察したＳＥＭ画像における一次粒子の画像解析によって粒子ごとの最長径、最短径を測定し、この中間値から球相当径を測定する。得られた球相当径の個数基準の累積頻度における５０％径（Ｄ５０ｐ）を、金属酸化物粒子の平均一次粒径とする。
【００７１】
金属酸化物粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
【００７２】
また、下引層全体に対する金属酸化物粒子の含有量は、電気特性の繰り返し安定性と、残留する電位を低くする必要性から、５０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましい。
本実施形態では、導電性基体と下引層との間に中間層が設けられているため、下引層全体に対する金属酸化物粒子の含有量が７０質量％以上であっても、導電性基体と下引層との接着性が良好となる。
【００７３】
金属酸化物粒子は、表面処理が施されていてもよい。金属酸化物粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。
【００７４】
表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。
【００７５】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００７６】
シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００７７】
表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。
【００７８】
表面処理剤の処理量は、例えば、金属酸化物粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。
【００７９】
ここで、下引層は、金属酸化物粒子と共に電子受容性化合物（アクセプター化合物）を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。
【００８０】
電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物；２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物；等の電子輸送性物質等が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
【００８１】
電子受容性化合物は、下引層中に金属酸化物粒子と共に分散して含まれていてもよいし、金属酸化物粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。
【００８２】
電子受容性化合物を金属酸化物粒子の表面に付着させる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。
【００８３】
乾式法は、例えば、金属酸化物粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を金属酸化物粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。
【００８４】
湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、金属酸化物粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を金属酸化物粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に金属酸化物粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。
【００８５】
なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を金属酸化物粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。
【００８６】
電子受容性化合物の含有量は、例えば、金属酸化物粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下がよく、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下である。
【００８７】
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。
【００８８】
これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
【００８９】
下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように金属酸化物粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
【００９０】
添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００９１】
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００９２】
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００９３】
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００９４】
これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００９５】
下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／（４ｎ）（ｎは上層の屈折率）から１／２までに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
【００９６】
下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。
【００９７】
下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
【００９８】
下引層形成用塗布液を調製するときの金属酸化物粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。
【００９９】
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１００】
下引層の膜厚は、例えば、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは１５μｍ以上５０μｍ以下、さらに好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１０１】
下引層の膜厚が上記範囲であることにより、上記範囲より薄い場合に比べて耐リーク性能が得られやすく、上記範囲より厚い場合に比べて長期使用による残留電位上昇に伴う画像濃度異常が抑制される。
また、下引層の体積抵抗率は、例えば１×１０４Ωｍ以上１×１０９Ωｍ以下が挙げられ、耐リーク性能及び残留電位上昇抑制の観点から、1×１０５Ωｍ以上１×１０８Ωｍ以下が好ましい。
下引層の体積抵抗率は、中間層の体積抵抗率と同様の方法で求められる。
【０１０２】
（電荷発生層）
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含む層である。また、電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着層であってもよい。電荷発生材料の蒸着層は、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）イメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合に好適である。
【０１０３】
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料；ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；ペリレン顔料；ピロロピロール顔料；フタロシアニン顔料；酸化亜鉛；三方晶系セレン等が挙げられる。
【０１０４】
これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることが好ましい。具体的には、例えば、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン；特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン；特開平５−１４０４７２号公報、特開平５−１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン；特開平４−１８９８７３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより好ましい。
【０１０５】
一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；チオインジゴ系顔料；ポルフィラジン化合物；酸化亜鉛；三方晶系セレン；特開２００４−７８１４７号公報、特開２００５−１８１９９２号公報に開示されたビスアゾ顔料等が好ましい。
【０１０６】
すなわち、電荷発生材料としては、例えば３８０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の露光波長の光源を用いる場合には無機顔料を用いることがよく、７００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の露光波長の光源を用いる場合には、金属及び無金属フタロシアニン顔料を用いことがよい。
【０１０７】
中でも、電荷発生材料としては、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種を用いることが望ましい。これらの電荷発生材料としては、単独又は２種以上混合して用いてもよい。感光体の高感度化の点から、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がよい。
なお、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料を併用する場合には、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料とクロロガリウムフタロシアニン顔料との比率は、質量比で、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料：クロロガリウムフタロシアニン顔料＝９：１乃至３：７（好ましくは９：１乃至６：４）であることがよい。
【０１０８】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、特に制限はないが、Ｖ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がよい。
特に、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、例えば、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて、８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がより優れた分散性が得られる観点から望ましい。
【０１０９】
また、上記の８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が特定の範囲であり、且つ、ＢＥＴ比表面積が特定の範囲であることが好ましい。具体的には、平均粒径が０．２０μｍ以下であることが好ましく、０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下であることがより好ましい。一方、ＢＥＴ比表面積は４５ｍ２／ｇ以上であることが好ましく、５０ｍ２／ｇ以上であることがより好ましく、５５ｍ２／ｇ以上１２０ｍ２／ｇ以下であることがさらに好ましい。平均粒径は、体積平均粒径であり、レーザ回折散乱式粒度分布測定装置（堀場製作所ＬＡ−７００）にて測定した値である。ＢＥＴ比表面積は、流動式比表面積自動測定装置（島津製作所フローソープＩＩ２３００）を用い窒素置換法にて測定した値である。
【０１１０】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の最大粒径（一次粒径の最大値）は、１．２μｍ以下が好ましく、１．０μｍ以下がより好ましく、０．３μｍ以下が更に好ましい。
【０１１１】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が０．２μｍ以下であり、且つ、最大粒径が１．２μｍ以下であり、且つ、ＢＥＴ比表面積が４５ｍ２／ｇ以上であることが好ましい。
【０１１２】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜、１６．０゜、２４．９゜、２８．０゜に回折ピークを有するＶ型であることが好ましい。
【０１１３】
一方、クロロガリウムフタロシアニン顔料としては、感光層の感度の点から、ブラッグ角度（２θ±０．２°）７．４°、１６．６°、２５．５°、２８．３°に回折ピークを有する化合物が好ましい。クロロガリウムフタロシアニン顔料の最大ピーク波長、平均粒径、最大粒径、及びＢＥＴ比表面積の好ましい範囲は、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料と同様である。
【０１１４】
電荷発生材料は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１１５】
電荷発生層に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、結着樹脂としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ以上であることをいう。
これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。
【０１１６】
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、質量比で１０：１から１：１０までの範囲内であることが好ましい。
【０１１７】
電荷発生層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１１８】
電荷発生層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。なお、電荷発生層の形成は、電荷発生材料の蒸着により行ってもよい。電荷発生層の蒸着による形成は、特に、電荷発生材料として縮環芳香族顔料、ペリレン顔料を利用する場合に好適である。
【０１１９】
電荷発生層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等が挙げられる。これら溶剤は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いる。
【０１２０】
電荷発生層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式等が挙げられる。
なお、この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、更に好ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。
【０１２１】
電荷発生層形成用塗布液を下引層上（又は中間層上）に塗布する方法としては、例えばブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１２２】
電荷発生層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、より好ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１２３】
（電荷輸送層）
電荷輸送層は、例えば、電荷輸送材料と結着樹脂とを含む層である。電荷輸送層は、高分子電荷輸送材料を含む層であってもよい。
【０１２４】
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物；キサントン系化合物；ベンゾフェノン系化合物；シアノビニル系化合物；エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。電荷輸送材料としては、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物も挙げられる。これらの電荷輸送材料は１種を単独で又は２種以上で用いられるが、これらに限定されるものではない。
【０１２５】
電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体が好ましい。
【０１２６】
【化１】
2019056870.tif 000003
【０１２７】
構造式（ａ−１）中、ＡｒＴ１、ＡｒＴ２、及びＡｒＴ３は、各々独立に置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（ＲＴ４）＝Ｃ（ＲＴ５）（ＲＴ６）、又は−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）を示す。ＲＴ４、ＲＴ５、ＲＴ６、ＲＴ７、及びＲＴ８は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
【０１２８】
【化２】
2019056870.tif 000004
【０１２９】
構造式（ａ−２）中、ＲＴ９１及びＲＴ９２は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、又は炭素数１以上５以下のアルコキシ基を示す。ＲＴ１０１、ＲＴ１０２、ＲＴ１１１及びＲＴ１１２は各々独立に、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ（ＲＴ１２）＝Ｃ（ＲＴ１３）（ＲＴ１４）、又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）を示し、ＲＴ１２、ＲＴ１３、ＲＴ１４、ＲＴ１５及びＲＴ１６は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。Ｔｍ１、Ｔｍ２、Ｔｎ１及びＴｎ２は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
【０１３０】
ここで、構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び前記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度の観点で好ましい。
【０１３１】
高分子電荷輸送材料としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報等に開示されているポリエステル系の高分子電荷輸送材は特に好ましい。なお、高分子電荷輸送材料は、単独で使用してよいが、結着樹脂と併用してもよい。
【０１３２】
電荷輸送層に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの中でも、結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂が好適である。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上で用いる。
なお、電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は、質量比で１０：１から１：５までが好ましい。
【０１３３】
これら結着樹脂の中でも、電荷輸送層の機械的強度等の観点から、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂が好ましい。
また、感光層の成膜性の観点から、粘度平均分子量３００００以上８００００以下（好ましくは５００００以上８００００以下）のポリカーボネート樹脂、及び粘度平均分子量３００００以上８００００以下（好ましくは５００００以上８００００以下）のポリアリレート樹脂の少なくとも１種を用いることがよい。
なお、粘度平均分子量は、下記の方法により測定される値である。樹脂１ｇをメチレンクロライド１００ｃｍ３に溶解し、２５℃の測定環境下でウベローデ粘度計により、比粘度ηｓｐを測定する。そして、ηｓｐ／ｃ＝〔η〕＋０．４５〔η〕２ｃの関係式（但しｃは濃度（ｇ／ｃｍ３））から極限粘度〔η〕（ｃｍ３／ｇ）を求め、Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌによって与えられている関係式〔η〕＝１．２３×１０−４Ｍｖ０．８３から粘度平均分子量Ｍｖを求める。
【０１３４】
電荷輸送層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１３５】
電荷輸送層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
【０１３６】
電荷輸送層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、２−ブタノン等のケトン類；塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類；テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状又は直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
【０１３７】
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１３８】
電荷輸送層の膜厚は、例えば、好ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１３９】
（保護層）
図示は省略するが、必要に応じて感光層上にさらに保護層を設けてもよい。
保護層は、例えば、帯電時の感光層の化学的変化を防止したり、感光層の機械的強度をさらに改善したりする目的で設けられる。
そのため、保護層は、硬化膜（架橋膜）で構成された層を適用することがよい。これら層としては、例えば、下記１）又は２）に示す層が挙げられる。
【０１４０】
１）反応性基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に有する反応性基含有電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり当該反応性基含有電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含む層）
２）非反応性の電荷輸送材料と、電荷輸送性骨格を有さず、反応性基を有する反応性基含有非電荷輸送材料と、を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり、非反応性の電荷輸送材料と、当該反応性基含有非電荷輸送材料の重合体又は架橋体と、を含む層）
【０１４１】
反応性基含有電荷輸送材料の反応性基としては、連鎖重合性基、エポキシ基、−ＯＨ、−ＯＲ［但し、Ｒはアルキル基を示す］、−ＮＨ２、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳｉＲＱ１３−Ｑｎ（ＯＲＱ２）Ｑｎ［但し、ＲＱ１は水素原子、アルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表し、ＲＱ２は水素原子、アルキル基、トリアルキルシリル基を表す。Ｑｎは１〜３の整数を表す］等の周知の反応性基が挙げられる。
【０１４２】
連鎖重合性基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基である。具体的には、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、ビニルフェニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基等が挙げられる。なかでも、その反応性に優れることから、連鎖重合性基としては、ビニル基、ビニルフェニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基であることが好ましい。
【０１４３】
反応性基含有電荷輸送材料の電荷輸送性骨格としては、電子写真感光体における公知の構造であれば特に限定されるものではなく、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が好ましい。
【０１４４】
これら反応性基及び電荷輸送性骨格を有する反応性基含有電荷輸送材料、非反応性の電荷輸送材料、反応性基含有非電荷輸送材料は、周知の材料から選択すればよい。
【０１４５】
保護層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１４６】
保護層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた保護層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱等の硬化処理することで行う。
【０１４７】
保護層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル等のセロソルブ系溶剤；イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
なお、保護層形成用塗布液は、無溶剤の塗布液であってもよい。
【０１４８】
保護層形成用塗布液を感光層（例えば電荷輸送層）上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１４９】
保護層の膜厚は、例えば、好ましくは１μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上１０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１５０】
以上、図１に示す感光体７Ａの各層について説明したが、図２に示す感光体７Ｂについても、導電性基体、中間層、及び下引層、並びに必要に応じて設けられる不図示の保護層については同様である。
なお、図２に示す感光体７Ｂでは、図１に示す感光体７Ａにおける電荷発生層及び電荷輸送層の代わりに、単層型感光層が設けられている。
【０１５１】
（単層型感光層）
単層型感光層（電荷発生／電荷輸送層）は、例えば、電荷発生材料と電荷輸送材料と、必要に応じて、結着樹脂、及びその他周知の添加剤と、を含む層である。なお、これら材料は、電荷発生層及び電荷輸送層で説明した材料と同様である。
そして、単層型感光層中、電荷発生材料の含有量は、全固形分に対して０．１質量％以上１０質量％以下が好ましく、より好ましくは０．５質量％以上５質量％以下である。また、単層型感光層中、電荷輸送材料の含有量は、全固形分に対して５質量％以上５０質量％以下がよい。
単層型感光層の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法と同様である。
単層型感光層の膜厚は、例えば、５μｍ以上５０μｍ以下がよく、好ましくは１０μｍ以上４０μｍ以下である。
【０１５２】
なお、単層型感光層は、電荷輸送材料として、前述の正孔輸送材料及び前述の電子輸送材料の両方を含有してもよい。
単層型感光層に含有される電子輸送材料としては、特に限定しないが、例えば下記の例示化合物が挙げられ、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１５３】
【化３】
2019056870.tif 000005
【０１５４】
単層型感光層が電荷輸送材料として正孔輸送材料及び電子輸送材料の両方を含む場合、正孔輸送材料と電子輸送材料との比率（正孔輸送材料の含有量に対する電子輸送材料の含有量）は、特に限定されるものではないが、１／９以上９／１以下が挙げられる。
【０１５５】
＜画像形成装置及びプロセスカートリッジ＞
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記本実施形態に係る電子写真感光体が適用される。
【０１５６】
本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー像の転写後、帯電前の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置；トナー像の転写後、帯電前に電子写真感光体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置；電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。
【０１５７】
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。
【０１５８】
本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式（液体現像剤を利用した現像方式）の画像形成装置のいずれであってもよい。
【０１５９】
なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して着脱されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。
【０１６０】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。
【０１６１】
図５は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図５に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。
【０１６２】
図５におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材の一例）１３１を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード１３１の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード１３１と併用してもよい。
【０１６３】
なお、図５には、画像形成装置として、潤滑材１４を電子写真感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、及び、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。
【０１６４】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。
【０１６５】
−帯電装置−
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
【０１６６】
−露光装置−
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
【０１６７】
−現像装置−
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
【０１６８】
現像装置１１に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。
【０１６９】
−クリーニング装置−
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
【０１７０】
−転写装置−
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０１７１】
−中間転写体−
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
【０１７２】
図６は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図６に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【実施例】
【０１７３】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、実施例において、特に限定のないかぎり「部」は「質量部」を意味し、「％」は「質量％」を意味する。
【０１７４】
［感光体の作製］
表１に示す厚みを有する導電性基体（アルミニウム基材）上に、表１に示す中間層、表１に示す下引層、後述する電荷発生層、及び後述する電荷輸送層を形成し、各実施例及び比較例の感光体を得た。各層の形成方法は以下の通りである。
なお、表１中「なし」とは、該当する層を形成しなかったことを意味する。
【０１７５】
＜中間層の形成＞
（中間層１）
カーボンブラック  ＶＸＣ７２（キャボットコーポレーション製、品名：ＶＵＬＣＡＮ  ＸＣ７２、ｐＨ８．５、揮発分１．５質量％、ＤＢＰ吸油量：１７４ｍｌ／１００ｇ、体積平均粒径：３０ｎｍ）１０質量部、ブロック化イソシアネート（品名：スミジュールＢＬ３１７５（固形分７５％）、住友バイエルンウレタン社製）４７質量部、ブチラール樹脂（品名：エスレックＢＭ−１、積水化学工業製）８１質量部、及びメチルエチルケトン９０質量部を混合して混合液を得た。得られた混合液３８質量部と、メチルエチルケトン３０質量部と、を混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて９０分間の分散を行い、分散液を得た。
得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート０．０５質量部を加え、中間層形成用塗布液１を得た。
【０１７６】
アルミニウム基材（導電性基体）上に、得られた中間層形成用塗布液１を浸漬塗布し、１６０℃、４５分の乾燥硬化を行い、厚さ１５μｍの中間層１を得た。この中間層１の体積抵抗率は２×１０３Ωｃｍであった。
なお、中間層１におけるカーボンブラックの含有量は７．９質量％、樹脂の含有量は９２．１質量％である。
【０１７７】
（中間層２）
「カーボンブラック  ＶＸＣ７２」の代わりに、「カーボンブラック  スペシャルブラック４（オリオンエンジニアドカーボンズ社製、品名：スペシャルブラック４、ｐＨ３．０、揮発分１４質量％、ＤＢＰ吸油量：２８０ｍｌ／１００ｇ、体積平均粒径：２５ｎｍ）」を用いた以外は、中間層１と同様の方法で厚さ１６μｍの中間層２を得た。この中間層の体積抵抗率は５×１０４Ωｃｍであった。
なお、中間層２におけるカーボンブラックの含有量は７．９質量％、樹脂の含有量は９２．1質量％である。
【０１７８】
（中間層３）
カーボンブラック  スペシャルブラック５５０（オリオンエンジニアドカーボンズ社製、品名：スペシャルブラック５５０、ｐＨ２．５、揮発分２．８質量％、ＤＢＰ吸油量：５３ｍｌ／１００ｇ、体積平均粒径：２５ｎｍ）１５質量部、レゾール型フェノール樹脂（品名：ＰＬ-２２４３（不揮発分６０％）  群栄化学製）１４０質量部、及びブタノール８０質量部を混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて６０分間の分散を行い、分散液を得た。得られた分散液を中間層形成用塗布液として用いた。この塗布液をアルミニウム基材上に浸漬塗布し、１６０℃、４５分の乾燥硬化を行い、厚さ１０μｍの中間層を得た。この膜の体積抵抗率は１×１０４Ωｃｍであった。
なお、中間層３におけるカーボンブラックの含有量は１５．２質量％、樹脂の含有量は８４．８質量％である。
【０１７９】
（中間層４）
「カーボンブラック  スペシャルブラック４」の添加量を１０質量部から７質量部に変更した以外は、中間層２と同様の方法で厚さ１６μｍの中間層４を得た。この中間層の体積抵抗率は２×１０６Ωｃｍであった。
なお、中間層４におけるカーボンブラックの含有量は５．７質量％、樹脂の含有量は９４．３質量％である。
【０１８０】
（中間層５）
「カーボンブラック  スペシャルブラック４」の添加量を１０質量部から４質量部に変更した以外は、中間層２と同様の方法で厚さ１６μｍの中間層５を得た。この中間層の体積抵抗率は６×１０８Ωｃｍであった。
なお、中間層５におけるカーボンブラックの含有量は３．３質量％、樹脂の含有量は９６．７質量％である。
【０１８１】
（中間層６）
「カーボンブラック  ＶＸＣ７２」の代わりに、「カーボンブラック  スペシャルブラック４（オリオンエンジニアドカーボンズ社製、品名：スペシャルブラック４、ｐＨ３．０、揮発分１４質量％）」を用い、カーボンブラックの添加量を１０質量部から２０質量部に変更した以外は、中間層１と同様の方法で厚さ１６μｍの中間層６を得た。この中間層の体積抵抗率は４×１０２Ωｃｍであった。
なお、中間層６におけるカーボンブラックの含有量は１４．７質量％、樹脂の含有量は８５．３質量％である。
【０１８２】
（比較中間層Ｃ１）
「カーボンブラック  スペシャルブラック４」の添加量を１０質量部から２質量部に変更した以外は、中間層２と同様の方法で厚さ１６μｍの比較中間層Ｃ１を得た。この中間層の体積抵抗率は２×１０１１Ωｃｍであった。
なお、比較中間層Ｃ１におけるカーボンブラックの含有量は１．７質量％、樹脂の含有量は９８．３質量％である。
【０１８３】
＜下引層の形成＞
（下引層１）
酸化亜鉛（テイカ社製、品名：ＭＺ１５０、平均一次粒径：７０ｎｍ、比表面積：１５ｍ２／ｇ）１００質量部をトルエン６００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ６０２：信越化学工業社製）１．２質量部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２５℃で２時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
【０１８４】
前記シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛９０質量部を５００質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、プルプリン０．８質量部を９０質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、４０℃にて３時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてプルプリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、さらに５０℃で減圧乾燥を行い、プルプリン付与酸化亜鉛を得た。
【０１８５】
このプルプリン付与酸化亜鉛６０質量部と硬化剤（ブロック化イソシアネート  スミジュールＢＬ３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１５質量部とブチラール樹脂（エスレックＢＬ−１、積水化学工業製）１５質量部とメチルエチルケトン９０質量部とを混合して混合液を得た。この混合液３５質量部とメチルエチルケトン３０質量部とを混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて６０分間の分散を行い、分散液を得た。
得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５質量部とシリコーン樹脂粒子（品名：トスパール１４５、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製）３０質量部とを添加し、下引層形成用塗布液１を得た。
【０１８６】
得られた下引層形成用塗布液１を浸漬塗布法にて中間層（又は中間層を形成しない場合は導電性基体）上に塗布し、１６０℃、６０分の乾燥硬化を行い、厚さ１８μｍの下引層１を得た。この下引層の体積抵抗率は４×１０６Ωｃｍであった。
【０１８７】
（下引層２）
酸化チタン（富士チタン製、品名：ＴＡＦ５００Ｊ、比表面積：１８ｍ２／ｇ）１００質量部をトルエン６００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ５０２：信越化学工業社製）２質量部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１４５℃で２時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化チタンを得た。
【０１８８】
得られたシランカップリング剤表面処理酸化チタン６０質量部と硬化剤（ブロック化イソシアネート、品名：スミジュールＢＬ３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１５質量部とブチラール樹脂（品名：エスレックＢＭ−１、積水化学工業製）１５質量部とメチルエチルケトン９０質量部とを混合して混合液を得た。この混合液３５質量部とメチルエチルケトン４０質量部とを混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて９０分間の分散を行い分散液を得た。
得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５質量部とシリコーン樹脂粒子（品名：トスパール１４５、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）３０質量部とを添加し、下引層形成用塗布液２を得た。
【０１８９】
得られた下引層形成用塗布液２を浸漬塗布法にて中間層（又は中間層を形成しない場合は導電性基体）上に塗布し、１６０℃、６０分の乾燥硬化を行い、厚さ２０μｍの下引層２を得た。この下引層の体積抵抗率は８×１０７Ωｃｍであった。
【０１９０】
＜電荷発生層の形成＞
電荷発生材料としてのＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜、１６．０゜、２４．９゜、２８．０゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１５質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、及びｎ−酢酸ブチル２００質量部からなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間攪拌して分散させ分散液を得た。
得られた分散液にｎ−酢酸ブチル１７５質量部及びメチルエチルケトン１８０質量部を添加し、攪拌して、電荷発生層形成用塗布液を得た。
この電荷発生層形成用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、１４０℃、１０分で乾燥して、膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０１９１】
＜電荷輸送層の形成＞
Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン４０質量部、４−（２，２−ジフェニルフェニル）−４‘，４“−ジメチル−トリフェニルアミン８質量部、及びビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：５万）５２質量部をクロロベンゼン８００質量部に加えて溶解し、電荷輸送層形成用塗布液を得た。
この電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層上に塗布し、１４０℃、４０分の乾燥を行って膜厚が２８μｍの電荷輸送層を形成した。
【０１９２】
［感光体の評価］
各実施例及び比較例で得られた感光体について、以下の評価を行った。結果を表１に示す。
【０１９３】
＜接着性の評価＞
下引層まで設けた感光体（すなわち、上記感光体の作製において、電荷発生層及び電荷輸送層を形成する前の状態）に、アルミ基材まで達するようにカッターで縦横２ｍｍ幅で６本の格子状の切り込みを入れた。次に、切り込みを入れた２５マス上にセロハンテープを貼り付けたのちテープを４５°の角度で剥がし、はがれの状態を目視で検査した。同様に位置を変えて計３箇所（合計７５マス）について行い、剥がれの評価をした。評価基準は以下の通りである。
−評価基準−
Ａ：すべて剥がれなし
Ｂ：７５マス中、剥がれが５マス以下で、画質上許容できるレベル
Ｃ：７５マス中、剥がれが６個以上発生し実使用上問題となるレベル。
【０１９４】
＜電気特性の評価＞
感光層まで設けた感光体（すなわち、上記感光体の作製において、電荷輸送層の形成まで行った後の状態）を、画像形成装置（富士ゼロックス社製、Ｄｏｃｕ  ＰｒｉｎｔＣ１１００）の現像装置の位置に電位計を取り付ける改造を施したものに搭載し、温度１０℃、湿度１５％で、帯電と露光を２００００回、繰り返し試験を実施した。初期の露光後電位と繰り返し試験終了時の露光後電位の差ΔＶを評価した。評価基準は以下の通りである。
−評価基準−
Ａ：ΔＶが５０Ｖ未満で、全く問題なし。
Ｂ：ΔＶが５０以上８０Ｖ未満で、許容範囲。
Ｃ：ΔＶが８０Ｖ以上で、画質上問題となるレベル
【０１９５】
＜画質の評価＞
感光層まで設けた感光体（すなわち、上記感光体の作製において、電荷輸送層の形成まで行った後の状態）を、画像形成装置（富士ゼロックス社製、Ｄｏｃｕ  ＰｒｉｎｔＣ１１００）に搭載して、温度２８℃、湿度８５％で５０％ハーフトーン画像を１００００枚印刷した後、１０００１枚目の画像として形成したトナー濃度１００％の全面ベタ画像における白点発生の有無を以下の基準で評価した。評価基準は以下の通りである。
−評価基準−
Ａ：白点発生なし
Ｂ：白点が確認されるが、画質上問題なし
Ｃ：白点が多く確認され、実用上問題となる。
【０１９６】
【表１】
2019056870.tif 000006
【０１９７】
上記結果から、本実施例の感光体は、比較例の感光体に比べ、電気特性を維持しつつ導電性基体と下引層との接着性が向上していることがわかる。
【符号の説明】
【０１９８】
１  導電性基体、２  中間層、３  下引層、４  電荷発生層、４Ａ  中空円筒体、４Ｂ  中空円筒体、５  電荷輸送層、６  単層型の感光層、７  電子写真感光体、７Ａ  電子写真感光体、７Ｂ  電子写真感光体、８  帯電装置、９  露光装置、１１  現像装置、１３  クリーニング装置、１４  潤滑材、２０  ダイ、２１  パンチ、２２  ストリッパー、２３  中央孔、２４  円形孔、３０  金属塊、３１  パンチ、３２  ダイス、３３  ダイス、４０  転写装置、５０  中間転写体、１００  画像形成装置、１２０  画像形成装置、１３１  クリーニングブレード、１３２  繊維状部材（ロール状）、１３３  繊維状部材（平ブラシ状）、３００  プロセスカートリッジ
【図１】
2019056870.tif 000007
【図２】
2019056870.tif 000008
【図３】
2019056870.tif 000009
【図４】
2019056870.tif 000010
【図５】
2019056870.tif 000011
【図６】
2019056870.tif 000012