(57)【要約】【課題】  研磨傷の発生を抑制しつつ、研磨レートを向上させることができる研磨パッドを提供することを課題とする。【解決手段】  研磨対象物を研磨するための研磨面を有し、該研磨面には、周方向で並ぶように区画された複数の研磨領域が設定され、該複数の研磨領域には、互いに交差しないように直線状に延び且つ長手方向における一端が研磨パッドの外周端で開放する複数の研磨溝が形成される高研磨領域が含まれ、該高研磨領域に形成される複数の研磨溝のうちの少なくとも一つは、溝幅方向における一方の側面が該溝幅方向において内側に向けて傾斜し、且つ該溝幅方向における他方の側面が該溝幅方向における外側に向けて傾斜する傾斜溝となっている。【選択図】図４
2019018324.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨対象物を研磨するための研磨面を有し、
該研磨面には、周方向で並ぶように区画された複数の研磨領域が設定され、
該複数の研磨領域には、互いに交差しないように直線状に延び且つ長手方向における一端が研磨パッドの外周端で開放する複数の研磨溝が形成される高研磨領域が含まれ、
該高研磨領域に形成される前記複数の研磨溝のうちの少なくとも一つは、溝幅方向における一方の側面が該溝幅方向において内側に向けて傾斜し、且つ該溝幅方向における他方の側面が該溝幅方向における外側に向けて傾斜する傾斜溝となっている
研磨パッド。
【請求項２】
前記一方の側面及び前記他方の側面は、研磨パッドの回転方向における前方側に向けて傾斜している
請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項３】
前記一方の側面及び前記他方の側面は、研磨パッドの回転方向における後方側に向けて傾斜している
請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項４】
前記高研磨領域に形成されている前記複数の研磨溝のそれぞれは、互いに平行に延びるように形成されるとともに、該複数の研磨溝のそれぞれが前記傾斜溝として構成されている
請求項１乃至請求項３の何れか１項に記載の研磨パッド。
【請求項５】
前記複数の傾斜溝は、それぞれの前記一方の側面が傾斜する方向、及びそれぞれの前記他方の側面が傾斜する方向が同方向である
請求項４に記載の研磨パッド。
【請求項６】
前記研磨面には、前記研磨面の中心点から前記研磨面の径方向外方に向けて直線状に延びる複数の仮想境界線によって前記高研磨領域を含む複数の前記研磨領域が区画され、
該高研磨領域の各研磨溝は、前記中心点と該高研磨領域の外周端の中点とを通る仮想直線に対して平行となるように形成されている
請求項１乃至請求項５の何れか１項に記載の研磨パッド。
【請求項７】
前記複数の研磨領域には、複数の前記高研磨領域が含まれている
請求項１乃至請求項６の何れか１項に記載の研磨パッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハや、ガラス等の研磨対象物を研磨する研磨パッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、研磨パッドには種々のものが提供されており、例えば、特許文献１に開示されているように、研磨面上に滴下したスラリーの流れを制御することで研磨傷の発生を抑制する効果や研磨レートを高めるように構成された研磨パッドが提供されている。
【０００３】
かかる研磨パッドでは、研磨面に対して周方向で並ぶように区画された複数の領域が設定されており、該複数の領域には、スラリーを保持する機能が付与された保持領域と、スラリーを排出する機能が付与された排出領域とが含まれている。
【０００４】
保持領域の表面には、複数の溝が形成されており、該複数の溝のそれぞれは、研磨パッドの径方向に直交する方向に延び、且つ互いに平行となるように形成されている。
【０００５】
排出領域の表面には、前記径方向に沿って互いに平行となるように延びる複数の溝が形成されており、該複数の溝のそれぞれは、長手方向における一端が研磨パッドの外周端で開放している。
【０００６】
そのため、前記研磨パッドは、回転状態でスラリーが滴下されると、保持領域においてはスラリーが各溝に保持され易くなり、排出領域においてはスラリーとともに研磨屑等の異物が各溝を通じて外部に排出され易くなるため、研磨レートを高めることができ、また、異物による研磨傷の発生を抑制できるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１５−１６０２５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、従来の研磨パッドでは、上述のように、研磨面に形成した溝のパターンによってスラリーの流れを制御することで、研磨傷の発生を抑制する効果や、研磨レートを高めていたが、研磨時間の短縮を迫られる環境では、研磨傷の発生を抑制しつつも研磨レートをさらに高めることが望まれる場合がある。
【０００９】
そこで、本発明は、かかる実情に鑑み、研磨傷の発生を抑制しつつ、研磨レートを向上させることができる研磨パッドを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の研磨パッドは、
研磨対象物を研磨するための研磨面を有し、
該研磨面には、周方向で並ぶように区画された複数の研磨領域が設定され、
該複数の研磨領域には、互いに交差しないように直線状に延び且つ長手方向における一端が研磨パッドの外周端で開放する複数の研磨溝が形成される高研磨領域が含まれ、
該高研磨領域に形成される複数の研磨溝のうちの少なくとも一つは、溝幅方向における一方の側面が該溝幅方向において内側に向けて傾斜し、且つ該溝幅方向における他方の側面が該溝幅方向における外側に向けて傾斜する傾斜溝となっている。
【００１１】
上記構成の研磨パッドによれば、高研磨領域に形成されている複数の研磨溝は、互いに交差しないように直線状に延び且つ長手方向における一端が研磨パッドの外周端で開放しているため、高研磨領域では、研磨溝内でのスラリーの流れが良くなる。
【００１２】
そのため、高研磨領域内においては、研磨屑がスラリーの流れに乗って外部に排出され易くなるため、研磨傷の原因となる研磨屑が研磨面上から排除され易くなる。
【００１３】
また、高研磨領域の傾斜溝では、前記一方の側面が溝幅方向における内側に向けて傾斜しているため、研磨面と前記一方の側面とで先鋭な角部が形成される。そのため、かかる角部に対して前方側（頂点側）から研磨対象物が摺接する場合は、研磨対象物の研磨レートが高まる。
【００１４】
一方、高研磨領域の傾斜溝では、前記他方の側面が溝幅方向における外側に向けて傾斜しているため、研磨面と前記他方の側面とで形成される角部は鈍角となる。そのため、かかる角部に対して前方側（頂点側）から研磨対象物が摺接する場合は、研磨対象物に研磨傷が付き難くなる。
【００１５】
本発明の研磨パッドにおいて、
前記一方の側面及び前記他方の側面は、研磨パッドの回転方向における前方側に向けて傾斜していてもよい。
【００１６】
かかる構成によれば、研磨面と前記一方の側面とで形成される先鋭な角部に対して前方側（頂点側）から研磨対象物が摺接する機会が増える分、研磨対象物の研磨レートが高まる。
【００１７】
本発明の研磨パッドにおいて、
前記一方の側面及び前記他方の側面は、研磨パッドの回転方向における後方側に向けて傾斜していてもよい。
【００１８】
かかる構成によれば、研磨対象物が研磨面と前記他方の側面とによって形成される角部に対して前方側（頂点側）から研磨対象物が摺接する機会が増える分、研磨対象物に研磨傷が付き難くなる。
【００１９】
本発明において、
前記高研磨領域に形成されている前記複数の研磨溝のそれぞれは、互いに平行に延びるように形成されるとともに、該複数の研磨溝のそれぞれが前記傾斜溝として構成されていてもよい。
【００２０】
かかる構成によれば、高研磨領域では、各研磨溝が互いに平行に延びているため、該研磨溝内で研磨屑が詰まることを防止することができる。また、高研磨領域では、各研磨溝が傾斜溝として構成されるため、研磨レートの向上効果、及び研磨傷の抑制効果が高まる。
【００２１】
この場合、前記複数の傾斜溝は、それぞれの前記一方の側面が傾斜する方向、及びそれぞれの前記他方の側面が傾斜する方向が同方向であってもよい。
【００２２】
このようにすれば、前記少なくとも一つの研磨領域内において、研磨特性のばらつきを抑えることができる。
【００２３】
また、本発明において、
前記研磨面には、前記研磨面の中心点から前記研磨面の径方向外方に向けて直線状に延びる複数の仮想境界線によって前記高研磨領域を含む複数の前記研磨領域が区画され、
該高研磨領域の各研磨溝は、前記中心点と該高研磨領域の外周端の中点とを通る仮想直線に対して平行となるように形成されていてもよい。
【００２４】
前記研磨パッドでは、高研磨領域の各研磨溝が、前記中心点と該高研磨領域の外周端の中点とを通る仮想直線に対して平行となるように形成されているため、各研磨溝内に入り込んだ研磨屑が、研磨溝の一端（すなわち、高研磨領域の外周端）まで滞りなく流れる。従って、前記研磨パッドでは、研磨屑の排出性能が高まる。
【００２５】
また、本発明において、前記複数の研磨領域には、複数の前記高研磨領域が含まれていてもよい。
【００２６】
かかる構成によれば、研磨面に区画された複数の研磨領域の構造を揃えることで、研磨特性のばらつきを抑えることができる。
【発明の効果】
【００２７】
以上のように、本発明の研磨パッドによれば、研磨傷の発生を抑制しつつ、研磨レートを向上させることができるという優れた効果を奏し得る。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係る研磨パッドの平面図である。
【図２】図２は、同実施形態に係る研磨パッドの研磨領域（高研磨領域）の拡大図である。
【図３】図３は、図２のＩＶ−ＩＶ線における断面の拡大図である。
【図４】図４において、（ａ）は研磨対象物が研磨面に対して摺動する方向が研磨パッドの回転方向とは逆方向である状態の説明図であり、（ｂ）は研磨対象物が研磨面に対して摺動する方向が研磨パッドの回転方向と同方向である状態の説明図である。
【図５】図５は、本発明の他実施形態に係る研磨パッドの説明図であり、（ａ）は研磨対象物が研磨面に対して摺動する方向が研磨パッドの回転方向とは逆方向である状態の説明図であり、（ｂ）は研磨対象物が研磨面に対して摺動する方向が研磨パッドの回転方向と同方向である状態の説明図である。
【図６】図６は、本発明の別の実施形態に係る研磨パッドの説明図であって、全ての研磨領域のうちの３つを高研磨領域とした研磨パッドの説明図である。
【図７】図７は、本発明のさらに別の実施形態に係る研磨パッドの説明図であって、（ａ）、（ｂ）は全ての研磨領域のうちの２つを高研磨領域とした研磨パッドの説明図であり、（ｃ）は１つの研磨領域のみを高研磨領域とした研磨パッドの説明図である。
【図８】図８において（ａ）、（ｂ）は、本発明のさらなる別の実施形態に係る研磨パッドの説明図であって、研磨溝同士を交差させている研磨パッドの説明図である。
【図９】図９において（ａ）〜（ｃ）は、本発明のさらなる別の実施形態に係る研磨パッドの説明図であって、高研磨溝領域の研磨溝を仮想境界線に対して平行となるように形成した研磨パッドの説明図である。
【図１０】図１０は、本発明のさらなる別の実施形態に係る研磨パッドの説明図であって、（ａ）は高研磨領域の研磨溝の他端が隣接する研磨領域の研磨溝と非連続である研磨パッドの説明図であり、（ｂ）は高研磨領域の研磨溝の他端が仮想境界線を超えて隣接する研磨領域の研磨溝と交差している研磨パッドの説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、本発明の一実施形態にかかる研磨パッドについて、添付図面を参照しつつ説明する。
【００３０】
本実施形態に係る研磨パッドは、表面に高い平坦性が求められる研磨対象物（例えば、半導体ウエハや、ガラス等）を研磨するためのものである。
【００３１】
研磨パッド１は、図１に示すように、円板状となっており、一方の板面（表面）が研磨対象物を研磨するための研磨面２となっている。
【００３２】
研磨面２には、中心点を基点とする周方向で並ぶようにして区画された複数の研磨領域２０が設定されている。本実施形態では、研磨面２の中心点から径方向外方（研磨面２の径方向における外方）に向かって直線状に延びる複数（本実施形態では４本）の仮想境界線Ｌ１によって、研磨面２に複数の研磨領域２０が区画されている。
【００３３】
そのため、研磨領域２０は、円弧状の外周端２００と、該外周端２００の両端（周方向における両端）か延び且つ先端が互いに交わる一対の仮想境界線Ｌ１とに囲まれた領域となっている。そのため、研磨領域２０は、平面視においては、扇形状の領域となっている。
【００３４】
なお、本実施形態に係る研磨パッド１は、各仮想境界線Ｌ１に対応する位置で分割可能であってもよいし、各研磨領域２０が連続するように構成されていてもよい。
【００３５】
研磨領域２０には、図２に示すように、研磨面２上で開口する研磨溝２１が複数形成されている。
【００３６】
複数の研磨領域２０には、互いに交差しないように直線状に延び且つ長手方向における一端が研磨パッド１の外周端で開放する複数の研磨溝２１が形成されている高研磨領域２０Ｈが含まれている。
【００３７】
高研磨領域２０Ｈに形成されている複数の研磨溝２１は、直線状であり且つ互いに平行となるように形成されている。また、高研磨領域２０Ｈの各研磨溝２１は、研磨領域２０の角（一対の仮想境界線Ｌ１の交点）と外周端２００の中点とを通過する仮想直線Ｌ２に対して平行となるように形成されている。
【００３８】
そのため、高研磨領域２０Ｈにおいては、各研磨溝２１が他の研磨溝２１とは交差しないように形成されている。
【００３９】
高研磨領域２０Ｈの研磨溝２１は、長手方向における一端が研磨領域２０の外周端２００で開放（研磨面２の面方向で開放）し、長手方向における他端が一対の仮想境界線Ｌ１のうちの何れかの仮想境界線Ｌ１に対して傾斜するように交わっており、該研磨溝２１の他端は、仮想境界線Ｌ１上において、隣接する研磨領域２０の研磨溝２１（研磨溝２１の前記他端）と連続している。
【００４０】
高研磨領域２０Ｈの複数の研磨溝２１には、図３に示すように、側面２１０が、底面２１１との交点（研磨溝２１の角）を基点として溝の幅方向（以下、溝幅方向と称する）で傾斜している傾斜溝２１が含まれている。
【００４１】
傾斜溝２１では、前記溝幅方向における一方の側面２１０が溝幅方向における内側に向けて傾斜し、前記溝幅方向における他方の側面２１０が溝幅方向における外側に向けて傾斜している。
【００４２】
また、本実施形態に係る傾斜面では、各側面２１０が傾斜している方向が、研磨パッド１を回転させる方向、すなわち、研磨溝２１の進行方向における前方側と一致している。なお、図１乃至図５においては、研磨パッド１を回転させる方向を「Ｒ」で示している。
【００４３】
傾斜溝２１の溝幅方向において内側に傾斜する側面２１０を内傾斜面２１０ｉと称し、溝幅方向において外側に傾斜する側面２１０を外傾斜面２１０ｏと称して以下の説明を行うこととする。
【００４４】
内傾斜面２１０ｉは、上記のように溝幅方向において内側に傾斜しているため、内傾斜面２１０ｉの先端部と研磨面２とが交わる角度は、鋭角となっている。そのため、研磨溝２１の一方の開口縁は、内傾斜面２１０ｉの先端部と研磨面２とによって、溝幅方向において内側に突出する先鋭な鋭角部２１２となっている。
【００４５】
一方、溝幅方向において外側に傾斜する外傾斜面２１０ｏの先端部と研磨面２とが交わる角度は鈍角となっている。本実施形態では、外傾斜面２１０ｏの先端部と研磨面２とによって構成される研磨溝２１の他方の開口縁を鈍角部２１３と称する。
【００４６】
内傾斜面２１０ｉ、及び外傾斜面２１０ｏの傾斜角度は、研磨面２に対する面直交方向を基準として１０°〜３０°の間で設定されていることが好ましい。
【００４７】
なお、複数の研磨領域２０には、少なくとも一つの高研磨領域２０Ｈが含まれていればよいが、本実施形態では、全ての研磨領域２０が高研磨領域２０Ｈとなっている。また、高研磨領域２０Ｈにおいては、複数の研磨溝２１のうちの少なくとも何れか一つの研磨溝２１が傾斜溝２１として構成されていればよいが、本実施形態では、高研磨領域２０Ｈ内の全ての研磨溝２１が傾斜溝２１となっている。
【００４８】
本実施形態に係る研磨パッド１の構成は、以上の通りである。続いて、研磨パッド１による研磨対象物の研磨処理について説明する。
【００４９】
研磨パッド１による研磨対象物の研磨処理を行う場合、研磨パッド１を下定盤に取り付け、研磨対象物を上定盤に取り付ける。そして、下定盤を回転させ（すなわち、研磨パッド１を中心点が回転中心となるように回転させ）、研磨面２上にスラリーを滴下しつつ、研磨対象物を研磨面２に押し付けることによって研磨対象物を研磨する。
【００５０】
また、研磨処理においては、上定盤も回転させており、さらに、該上定盤を適宜位置変更するようにして研磨面２に対して移動させている。そのため、研磨対象物自身も回転しており、研磨面２に押し付けられたまま動いている状態になる。
【００５１】
研磨処理においては、研磨対象物が研磨面２に対して摺動する方向が研磨パッド１の回転方向とは逆方向となる場合がある。この場合、鋭角部２１２は、図４（ａ）に示すように、頂点から順に研磨対象物Ｗに摺接（接触）するため、研磨対象物Ｗの表面を削り取りながら前記回転方向と同方向に進む。なお、図４（ａ）、図４（ｂ）においては、研磨面２に対する研磨対象物Ｗの相対移動方向を「Ｍ」出示している。
【００５２】
一方、研磨面２は、研磨対象物Ｗが研磨面２に対して摺動する方向が研磨パッド１の回転方向と同方向となる場合もある。この場合は、図４（ｂ）に示すように、研磨対象物Ｗが鈍角部２１３に対して頂点側から順に接触する。
【００５３】
なお、本実施形態では、内傾斜面２１０ｉ及び外傾斜面２１０ｏのそれぞれが研磨パッド１を回転させる方向に向けて傾斜しているため、研磨対象物Ｗが鈍角部２１３に対して頂点側から接触する機会よりも、研磨対象物Ｗが鋭角部２１２に対して頂点側から接触する機会の方が多くなる。
【００５４】
また、研磨領域２０に形成されている研磨溝２１は、長手方向における一端が研磨パッド１の外周端２００で開放しているため、研磨処理において研磨面２上に滴下されたスラリーや、研磨対象物Ｗの研磨に伴って発生した研磨屑は、研磨パッド１から受ける遠心力によって研磨溝２１内で径方向外方に向かって流れ、研磨パッド１の外周端２００（研磨溝２１の前記一端）から排出される。
【００５５】
なお、高研磨領域２０Ｈでは、複数の研磨溝２１が互いに交差しないように直線状に延び且つ長手方向における一端が研磨パッド１の外周端２００で開放するように形成されているため、研磨溝２１内のスラリーが滞り無く前記径外方向に向かって流れるようになっている。
【００５６】
以上のように、本実施形態に係る研磨パッド１によれば、研磨面２上に区画されている複数の研磨領域２０には、スラリーの流動性が高まる高研磨領域２０Ｈが含まれているため、高研磨領域２０Ｈの研磨溝２１内においては、研磨屑がスラリーの流れに乗って外部に排出され易くなる。これにより、研磨傷の原因となる研磨屑が研磨面２上から排除され易くなる。なお、本実施形態では、複数の研磨領域２０の全てが高研磨領域２０Ｈとなっているため、研磨面２全体において研磨屑の排出性が高まる。
【００５７】
また、高研磨領域２０Ｈでは、各研磨溝２１が直線状であり、互いに平行となるように形成されている（すなわち、他の研磨溝２１とは交差しないように形成されている）ため、研磨溝２１内で研磨屑が詰まることを防止することができる。
【００５８】
さらに、高研磨領域２０Ｈの各研磨溝２１は、研磨領域２０の角（一対の仮想境界線Ｌ１の交点）と外周端２００の中点とを通過する仮想直線Ｌ２に対して平行となるように形成されているため、スラリーや研磨屑の流れの勢いが内傾斜面２１０ｉや外傾斜面２１０ｏによって減衰してしまうことを抑えることができる。
【００５９】
従って、高研磨領域２０Ｈ内では、研磨屑を滞りなく研磨面２から外部に排出することができるようになっている。
【００６０】
そして、高研磨領域２０Ｈの研磨溝２１では、前記一方の側面２１０（内傾斜面２１０ｉ）が前記溝幅方向において内側に向けて傾斜しているため、研磨面２と前記一方の側面２１０とで先鋭な鋭角部２１２が形成される。そのため、かかる鋭角部２１２に対して前方側（頂点側）から研磨対象物Ｗが摺接する場合は、研磨対象物Ｗの研磨レートが高まる。
【００６１】
一方、高研磨領域２０Ｈの研磨溝２１では、前記他方の側面２１０が該外側に向けて傾斜しているため、研磨面２と前記他方の側面２１０とで形成される角部は鈍角となる。そのため、かかる角部に対して前方側（頂点側）から研磨対象物Ｗが摺接する場合は、研磨対象物Ｗに研磨傷が付き難くなる。
【００６２】
なお、各高研磨領域２０Ｈにおいては、全ての研磨溝２１の側面２１０が前記溝幅方向で傾斜しているため、研磨面２全体において鋭角部２１２による研磨レートの向上効果、及び鈍角部２１３による研磨傷の抑制効果を得ることができる。
【００６３】
また、本実施形態では、内傾斜面２１０ｉ及び外傾斜面２１０ｏが研磨パッド１を回転させる方向、すなわち、研磨溝２１の進行方向に向かって傾斜しているため、研磨対象物Ｗが鋭角部２１２に対して頂点側から接触する機会が増える分、研磨対象物Ｗの研磨レートが高まるようになっている。
【００６４】
以上のように、本実施形態に係る研磨パッド１は、研磨屑の排出性を高めることで研磨傷の発生を抑制しつつ、研磨溝２１の側面２１０（前記一方の側面２１０）と研磨面２とで先鋭な角部を形成することにより研磨レートを向上させることができるようになっている。
【００６５】
なお、本発明の研磨パッドは、上記一実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々変更を行うことは勿論である。
【００６６】
上記実施形態においては、内傾斜面２１０ｉが傾斜している方向及び外傾斜面２１０ｏが傾斜している方向が、研磨パッド１の回転方向、すなわち、研磨溝２１の進行方向と一致していたが、この構成に限定されない。例えば、内傾斜面２１０ｉが傾斜している方向及び外傾斜面２１０ｏが傾斜している方向は、研磨溝２１の進行方向とは逆方向であってもよい。
【００６７】
この場合、研磨対象物Ｗが研磨面２に対して摺動する方向が研磨パッド１の回転方向とは逆方向となる場合においては、図５（ａ）に示すように、研磨対象物Ｗが鋭角部２１２に対して後方側から接触し、鈍角部２１３に対しては頂点側から順に接触する。なお、図５（ａ）、図５（ｂ）においても、研磨面２に対する研磨対象物Ｗの相対移動方向を「Ｍ」出示している。
【００６８】
そして、研磨対象物Ｗが研磨面２に対して摺動する方向が研磨パッド１の回転方向と同方向となる場合においては、図５（ｂ）に示すように、鋭角部２１２が頂点から順に研磨対象物Ｗに摺接する（すなわち、研磨対象物Ｗは、表面を鋭角部２１２に削り取られながら前記回転方向と同方向に進む）。
【００６９】
また、鋭角部２１２が進行方向とは逆方向側に向けて配置されることになるため、研磨対象物Ｗが鋭角部２１２に対して頂点側から接触する機会よりも、研磨対象物Ｗが鈍角部２１３に対して頂点側から接触する機会の方が多くなる分、研磨傷の抑制効果が高まる。
【００７０】
また、上記構成を採用した研磨パッド１では、外傾斜面２１０ｏが傾斜溝２１の進行方向における後方側に位置し且つ該後方側に向けて傾斜しているため、傾斜溝２１内に入り込んだ研磨屑が外傾斜面２１０ｏを乗り越えて傾斜溝２１の外部に排出され易くなる。従って、傾斜溝２１内に研磨屑が留まり難くなる。
【００７１】
上記実施形態において、高研磨領域２０Ｈ内の複数の研磨溝２１は、全てが傾斜溝２１として構成されていたが、この構成に限定されない、例えば、複数の研磨溝２１のうちの一部の研磨溝２１を傾斜溝２１として構成してもよい。この場合、傾斜溝２１以外の研磨溝２１は、例えば、研磨パッド１の厚み方向に沿って側面２１０が底面２１１から起立するように構成してもよい。
【００７２】
上記実施形態において、高研磨領域２０Ｈ内において、複数の傾斜溝２１は、内傾斜面２１０ｉ及び外傾斜面２１０ｏが傾斜している方向が同じ向きとなるように形成されていたが、この構成に限定されない。例えば、高研磨領域２０Ｈ内の複数の傾斜溝２１には、内傾斜面２１０ｉ及び外傾斜面２１０ｏの傾斜方向が異なる傾斜溝２１が混在していてもよい。
【００７３】
上記実施形態において、傾斜溝２１の内傾斜面２１０ｉと外傾斜面２１０ｏとは平行となっていたが、この構成に限定されない。例えば、傾斜溝２１の内傾斜面２１０ｉと外傾斜面２１０ｏとは、傾斜する方向が同じであれば、それぞれの傾き度合いが異なっていてもよい。
【００７４】
上記実施形態では、研磨面２上に４つの研磨領域２０が区画されていたが、例えば、研磨面２上には、３つ又は５つ以上の研磨領域２０が区画されていてもよい。
【００７５】
上記実施形態では、前記周方向で隣り合う仮想境界線Ｌ１がなす角度は、直角となっていたが、かかる角度は、例えば、鋭角又は鈍角となっていてもよい。
【００７６】
上記実施形態では、複数の研磨領域２０の全てが高研磨領域２０Ｈとなっていたが、複数の研磨領域２０のうちの一部のみを高研磨領域２０Ｈとしてもよい。
【００７７】
例えば、図６に示すように、４つの研磨領域２０のうちの３つを高研磨領域２０Ｈとしてもよいし、図７（ａ)、図７（ｂ）に示すように、２つの研磨領域２０を高研磨領域２０Ｈとしてもよいし、図７（ｃ）に示すように、１つの研磨領域２０のみを高研磨領域２０Ｈとしてもよい。
【００７８】
また、図７（ａ)、図７（ｂ）、図７（ｃ）に示す研磨パッド１においては、高研磨領域２０Ｈとは別の研磨領域２０に形成されている研磨溝２１が互いに平行となるように延びているが、図８（ａ）、図８（ｂ）に示すように、複数の研磨溝２１は、互いに交差していてもよい。
【００７９】
なお、複数の研磨領域２０に高研磨領域２０Ｈと、高研磨領域２０Ｈとは別の研磨領域２０との両方を含める場合においては、該別の研磨領域２０に形成されている研磨溝２１の側面２１０を溝幅方向で傾斜させてもよい。
【００８０】
上記実施形態において、高研磨領域２０Ｈ内の複数の研磨溝２１のそれぞれは、仮想直線Ｌ２に対して平行となるように形成されていたが、この構成に限定されない。高研磨領域２０Ｈ内の複数の研磨溝２１のそれぞれは、他の研磨溝２１とは交差しないように形成されておらず、長手方向における一端が研磨領域２０の外周端２００で開放（研磨面２の面方向で開放）し、長手方向における他端が一対の仮想境界線Ｌ１のうちの何れかの仮想境界線Ｌ１に交わっていれば、例えば、研磨領域２０の角（一対の仮想境界線Ｌ１の交点）と外周端２００の中点とを通過する仮想直線（上記実施形態の仮想直線Ｌ２に対応する仮想直線）に対して交差する方向に延びていてもよいし、図９（ａ）、図９（ｂ）、図９（ｃ）に示すように、該仮想直線に対して平行に延びていてもよい。
【００８１】
上記実施形態において、高研磨領域２０Ｈの研磨溝２１の前記一端は、仮想境界線Ｌ１上において、隣接する研磨領域２０の研磨溝２１（研磨溝２１の前記他端）と連続していたが、この構成に限定されない。例えば、高研磨領域２０Ｈの研磨溝２１の前記他端は、図１０（ａ）に示すように、隣接する研磨領域２０の研磨溝２１（研磨溝２１の前記他端）と非連続であってもよいし、図１０（ｂ）に示すように、仮想境界線Ｌ１を超えて隣接する研磨領域２０の研磨溝２１と交差するようになっていてもよい。
【００８２】
上記実施形態では、内傾斜面２１０ｉが傾斜している方向及び外傾斜面２１０ｏが傾斜している方向に向けて研磨パッド１を回転させることを一例に挙げて研磨処理の説明を行ったが、内傾斜面２１０ｉが傾斜している方向及び外傾斜面２１０ｏが傾斜している方向とは逆方向に向けて研磨パッド１を回転させて研磨処理を行うことも可能である。
【００８３】
この場合、鋭角部２１２が進行方向とは逆方向側に向けて突出した状態になるため、研磨対象物Ｗが鋭角部２１２に対して頂点側から接触する機会よりも、研磨対象物Ｗが鈍角部２１３に対して頂点側から接触する機会の方が多くなる分、研磨傷の抑制効果が高まることになる。
【符号の説明】
【００８４】
１…研磨パッド、２…研磨面、２０…研磨領域、２０Ｈ…高研磨領域、２１…研磨溝（傾斜溝）、２００…外周端、２１０…側面、２１０ｉ…内傾斜面、２１０ｏ…外傾斜面、２１１…底面、２１２…鋭角部、２１３…鈍角部、Ｌ１…仮想境界線、Ｌ１…各仮想境界線、Ｌ２…仮想直線、Ｗ…研磨対象物
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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