(57)【要約】【課題】輝点等の表示不良の発生が抑制された液晶セル等の提供。【解決手段】本発明の液晶セルは、互いに向かい合い、かつ少なくとも一方の対向面に光配向膜を有する一対の基板と、前記基板間に介在される液晶層とを備える液晶セルであって、前記液晶層を構成する液晶材料は、下記化学式（１−１）及び化学式（１−２）で示される何れかの構造を有する液晶化合物を含み、前記光配向膜は、シクロブタン環構造を有するポリイミド系ポリマーを含む高分子膜が光配向処理されたものからなる。〔化学式（１−１）及び化学式（１−２）〕2019056880.tif 000056  化学式（１−１）及び化学式（１−２）において、Ａ１は、フェニル基、フェニレン基、ナフチル基、ナフチレン基、シクロヘキシル基、又はシクロヘキシレン基を表し、Ａ２は、フェニル基、フェニレン基、ナフチル基、又はナフチレン基を表し（ただし、Ａ１及びＡ２で表される各官能基の水素原子は、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、メチル基又はエチル基で置換されていてもよい）、Ｘ１は、酸素原子又は直接結合を表し、ｎは、１〜６の何れかの整数を表す。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに向かい合い、かつ少なくとも一方の対向面に光配向膜を有する一対の基板と、前記基板間に介在される液晶層とを備える液晶セルであって、
前記液晶層を構成する液晶材料は、下記化学式（１−１）及び化学式（１−２）で示される何れかの構造を有する液晶化合物を含み、
前記光配向膜は、シクロブタン環構造を有するポリイミド系ポリマーを含む高分子膜が光配向処理されたものからなる液晶セル。
【化１】
2019056880.tif 000047
（化学式（１−１）及び化学式（１−２）において、Ａ１は、フェニル基、フェニレン基、ナフチル基、ナフチレン基、シクロヘキシル基、又はシクロヘキシレン基を表し、Ａ２は、フェニル基、フェニレン基、ナフチル基、又はナフチレン基を表し（ただし、Ａ１及びＡ２で表される各官能基の水素原子は、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、メチル基又はエチル基で置換されていてもよい）、Ｘ１は、酸素原子又は直接結合を表し、ｎは、１〜６の何れかの整数を表す。）
【請求項２】
前記光配向膜に利用される前記ポリイミド系ポリマーが、下記化学式（２）で示されるポリマーからなる請求項１に記載の液晶セル。
【化２】
2019056880.tif 000048
（化学式（２）中、ｐは重合度を示し、１以上の整数であり、Ｘは、下記化学式（３−１）又は化学式（３−２）で表される構造を有し、Ｙは、化学式（４−１）〜化学式（４−１２）で表される何れかの構造を有する。）
【化３】
2019056880.tif 000049
【化４】
2019056880.tif 000050
（化学式（４−２）中のｈは、０〜３の何れかの整数を表し、化学式（４−４）中のｉは、０〜３の何れかの整数を表し、式（４−１１）中のｊは、０〜３の何れかの整数を表す。）
【請求項３】
前記化学式（２）中のＸが、前記化学式（３−１）で表される構造を有し、かつＹが、前記化学式（４−１）又は前記化学式（４−２）で表される何れかの構造を有する請求項２に記載の液晶セル。
【請求項４】
前記光配向膜は、更に、（メタ）アクリルアミド系ポリマーを含む請求項１から請求項３の何れか一項に記載の液晶セル。
【請求項５】
前記（メタ）アクリルアミド系ポリマーは、下記化学式（５−１）及び化学式（５−２）で示される何れかのポリマーからなる請求項４に記載の液晶セル。
【化５】
2019056880.tif 000051
（化学式（５−１）及び化学式（５−２）において、Ａ及びＢは、互いに独立し、Ｈ、−ＣｎＣ２ｎ＋１（ただし、ｎは１〜３の何れかの整数を表す）、−（ＣＨ２）ｍＮＸ２Ｙ２（ｍは１〜６の何れかの整数を表し、Ｘ２及びＹ２は、互いに独立し、Ｈ又は−ＣｚＨ２ｚ＋１を表す（ｚは１〜３の何れかの整数を表す））、又は−（ＣＨ２）ｍＯＨを表し、ｐは重合度を示し、１以上の整数である。）
【請求項６】
前記（メタ）アクリルアミド系ポリマーは、下記化学式（６−１）〜化学式（６−３）で示される何れかのポリマーからなる請求項４に記載の液晶セル。
【化６】
2019056880.tif 000052
（化学式（６−１）〜化学式（６−３）において、ｐは重合度を示し、１以上の整数である。）
【請求項７】
前記（メタ）アクリルアミド系ポリマーの配合割合（質量％）が、前記ポリイミド系ポリマーと前記（メタ）アクリルアミド系ポリマーの合計１００質量％に対して、０質量％を超え、かつ３０質量％未満である請求項４から請求項６の何れか一項に記載の液晶セル。
【請求項８】
前記液晶化合物は、下記化学式（７−１）〜化学式（７−３）で示される何れかの構造を有する請求項１から請求項７の何れか一項に記載の液晶セル。
【化７】
2019056880.tif 000053
（化学式（７−１）〜化学式（７−３）において、フェニル基又はシクロヘキシル基中の水素原子は、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、メチル基又はエチル基で置換されていてもよく、ｎは１〜６の何れかの整数を表す。）
【請求項９】
前記液晶化合物は、下記化学式（８）で示される化合物からなる請求項１から請求項８の何れか一項に記載の液晶セル。
【化８】
2019056880.tif 000054
（化学式（８）中、ｎは０〜１５の何れかの整数である。）
【請求項１０】
前記液晶層を構成する液晶材料のＴｎｉは８０℃以上１１０℃以下である請求項１から請求項９の何れか一項に記載の液晶セル。
【請求項１１】
前記液晶材料に利用される液晶化合物は、下記化学式（９）で示される構造を含まない請求項１から請求項１０の何れか一項に記載の液晶セル。
【化９】
2019056880.tif 000055
【請求項１２】
前記光配向膜は、前記液晶化合物を前記基板の基板面に対して、水平又は略水平に配向させる水平光配向膜からなる請求項１から請求項１１の何れか一項に記載の液晶セル。
【請求項１３】
前記液晶セルの表示モードは、ＴＮ、ＥＣＢ、ＩＰＳ又はＦＦＳの何れかである請求項１から請求項１２の何れか一項に記載の液晶セル。
【請求項１４】
前記液晶層の周りを取り囲む形で前記基板間に介在されるシール材を有し、
前記シール材は、エポキシモノマーの重合体、及び（メタ）アクリルモノマーの重合体を含む請求項１から請求項１３の何れか一項に記載の液晶セル。
【請求項１５】
請求項１から請求項１４の何れか一項に記載の液晶セルを備える液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶セル、及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、画像等の情報を表示する表示部として液晶パネルを備えている。液晶パネルは、主として、一対の基板間に液晶層が封止された液晶セルと、液晶セルの両面に貼り付けられる一対の偏光板とを備えている。そして、液晶層に印加する電界によって液晶層中の液晶化合物の配向が制御されることで、液晶層を透過する光の量が調整され、それに応じた画像等が表示される。
【０００３】
このような液晶セルの前記基板間には、液晶層の周りを取り囲むように枠状のシール材が介在されている。また、前記一対の基板は、液晶層と接触する側の面上に、それぞれ配向膜を備えている。配向膜としては、光分解型の光反応性官能基であるシクロブタン環を有するポリイミド系ポリマーを含む光配向膜が利用される（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開２０１５／０５０１３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
前記シール材としては、例えば、光ラジカル重合開始剤を使用した光重合により（メタ）アクリルモノマーを重合させたアクリル樹脂と、アミン系等の硬化剤とエポキシモノマーを熱重合させたエポキシ樹脂との混合樹脂が利用される。この種のシール材は、所謂、無溶剤タイプであるため、シール材中に未反応成分や重合度の低い化合物が残存し易い。そのため、液晶セルの外部に存在する水分が、残存した未反応成分（特に、両親媒性のエポキシモノマー）と一緒にシール材中を移動して、液晶層中に浸入することがあった。特に、狭額縁化のためにシール材の線幅を細くした場合（例えば、線幅を１．０ｍｍ以下に設定した場合）、前記未反応成分と共に液晶層中に浸入する水分量が多くなる。
【０００６】
このように、液晶層中に水分が浸入すると、液晶層中の液晶化合物が−ＣＨ２−Ｏ−基を有する場合、その浸入した水分により液晶化合物が加水分解されて、−ＣＨ２−ＯＨ基（メチロール基）を有する化合物が生成されると推測される。
【０００７】
一方、上記光配向膜では、シクロブタン環の光開裂に伴い、マレイミド基を有するイミド化合物が形成される。このイミド化合物は、比較的、低分子量のため、液晶層中に溶出し易い。図１に示されるように、液晶層中に溶出したイミド化合物（ａ−１）は、−ＣＨ２−ＯＨ基を有する前記化合物（ａ−２）との間で水素結合を形成し、液晶層中で安定した状態の化合物（ａ−３）となると推測される。その結果、液晶層中の液晶化合物の配向が乱れ、液晶パネル（液晶セル）の表示部に輝点や、焼き付き、シミ、ムラ等の表示不良が発生することがあり、問題となっていた。
【０００８】
また、液晶層の相転移温度が７０〜８０℃未満と低い場合、液晶セルの使用温度が高い（例えば、６０℃）と、液晶層の粘度が低下してしまう。このように液晶層の粘度が低下すると、外部からの水分及びシール材中の未反応成分（特に、上記エポキシモノマー）が液晶層中に溶け込み易くなり、また、シクロブタン環が分解した後に形成される前記イミド化合物も液晶層中に溶出及び拡散し易くなる。そのため、更に、輝点や、焼き付き、シミ、ムラ等の表示不良が発生し易くなる。
【０００９】
本発明の目的は、輝点等の表示不良の発生が抑制された液晶セル等を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係る液晶セルは、互いに向かい合い、かつ少なくとも一方の対向面に光配向膜を有する一対の基板と、前記基板間に介在される液晶層とを備える液晶セルであって、前記液晶層を構成する液晶材料は、下記化学式（１−１）及び化学式（１−２）で示される何れかの構造を有する液晶化合物を含み、前記光配向膜は、シクロブタン環構造を有するポリイミド系ポリマーを含む高分子膜が光配向処理されたものからなる。
【００１１】
【化１】
2019056880.tif 000002
【００１２】
（化学式（１−１）及び化学式（１−２）において、Ａ１は、フェニル基、フェニレン基、ナフチル基、ナフチレン基、シクロヘキシル基、又はシクロヘキシレン基を表し、Ａ２は、フェニル基、フェニレン基、ナフチル基、又はナフチレン基を表し（ただし、Ａ１及びＡ２で表される各官能基の水素原子は、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、メチル基又はエチル基で置換されていてもよい）、Ｘ１は、酸素原子又は直接結合を表し、ｎは、１〜６の何れかの整数を表す。）
【００１３】
前記液晶セルにおいて、前記光配向膜に利用される前記ポリイミド系ポリマーが、下記化学式（２）で示されるポリマーからなってもよい。
【００１４】
【化２】
2019056880.tif 000003
【００１５】
（化学式（２）中、ｐは重合度を示し、１以上の整数であり、Ｘは、下記化学式（３−１）又は化学式（３−２）で表される構造を有し、Ｙは、化学式（４−１）〜化学式（４−１２）で表される何れかの構造を有する。）
【００１６】
【化３】
2019056880.tif 000004
【００１７】
【化４】
2019056880.tif 000005
【００１８】
（化学式（４−２）中のｈは、０〜３の何れかの整数を表し、化学式（４−４）中のｉは、０〜３の何れかの整数を表し、化学式（４−１１）中のｊは、０〜３の何れかの整数を表す。）
【００１９】
前記液晶セルにおいて、前記式（２）中のＸが、前記化学式（３−１）で表される構造を有し、かつＹが、前記化学式（４−１）又は前記化学式（４−２）で表される何れかの構造を有するものであってもよい。
【００２０】
前記液晶セルにおいて、前記光配向膜は、更に、（メタ）アクリルアミド系ポリマーを含むものであってもよい。
【００２１】
前記液晶セルにおいて、前記（メタ）アクリルアミド系ポリマーは、下記化学式（５−１）及び化学式（５−２）で示される何れかのポリマーからなるものであってもよい。
【００２２】
【化５】
2019056880.tif 000006
【００２３】
（化学式（５−１）及び化学式（５−２）において、Ａ及びＢは、互いに独立し、Ｈ、−ＣｎＣ２ｎ＋１（ただし、ｎは１〜３の何れかの整数を表す）、−（ＣＨ２）ｍＮＸ２Ｙ２（ｍは１〜６の何れかの整数を表し、Ｘ２及びＹ２は、互いに独立し、Ｈ又は−ＣｚＨ２ｚ＋１を表す（ｚは１〜３の何れかの整数を表す））、又は−（ＣＨ２）ｍＯＨを表し、ｐは重合度を示し、１以上の整数である。）
【００２４】
前記液晶セルにおいて、前記（メタ）アクリルアミド系ポリマーは、下記化学式（６−１）〜化学式（６−３）で示される何れかのポリマーからなるものであってもよい。
【００２５】
【化６】
2019056880.tif 000007
【００２６】
（化学式（６−１）〜化学式（６−３）において、ｐは重合度を示し、１以上の整数である。）
【００２７】
前記液晶セルにおいて、前記（メタ）アクリルアミド系ポリマーの配合割合（質量％）が、前記ポリイミド系ポリマーと前記（メタ）アクリルアミド系ポリマーの合計１００質量％に対して、０質量％を超え、かつ３０質量％未満であってもよい。
【００２８】
前記液晶セルにおいて、前記液晶化合物は、下記化学式（７−１）〜化学式（７−３）で示される何れかの構造を有するものであってもよい。
【００２９】
【化７】
2019056880.tif 000008
【００３０】
（式（７−１）〜式（７−３）において、フェニル基又はシクロヘキシル基中の水素原子は、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、メチル基又はエチル基で置換されていてもよく、ｎは１〜６の何れかの整数を表す。）
【００３１】
前記液晶セルにおいて、前記液晶化合物は、下記化学式（８）で示される化合物からなるものであってもよい。
【００３２】
【化８】
2019056880.tif 000009
【００３３】
（化学式（８）中、ｎは０〜１５の何れかの整数である。）
【００３４】
前記液晶セルにおいて、前記液晶層を構成する液晶材料のＴｎｉは８０℃以上１１０℃以下であってもよい。
【００３５】
前記液晶セルにおいて、前記液晶材料に利用される液晶化合物は、下記化学式（９）で示される構造を含まないことが好ましい。
【００３６】
【化９】
2019056880.tif 000010
【００３７】
前記液晶セルにおいて、前記光配向膜は、前記液晶化合物を前記基板の基板面に対して、水平又は略水平に配向させる水平光配向膜からなってもよい。
【００３８】
前記液晶セルにおいて、前記液晶セルの表示モードは、ＴＮ、ＥＣＢ、ＩＰＳ又はＦＦＳの何れかであってもよい。
【００３９】
前記液晶セルにおいて、前記液晶層の周りを取り囲む形で前記基板間に介在されるシール材を有し、前記シール材は、エポキシモノマーの重合体、及び（メタ）アクリルモノマーの重合体を含むものであってもよい。
【００４０】
また、本発明に係る液晶表示装置は、前記何れかに記載の液晶セルを備える。
【発明の効果】
【００４１】
本発明によれば、輝点等の表示不良の発生が抑制された液晶セル等を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】光配向膜から液晶層中に溶出したイミド化合物が、液晶化合物の分解物と水素結合を形成して安定化される状態を示す説明図
【図２】実施形態１に係る液晶表示装置の構成を模式的に表した説明図
【図３】実施形態１の液晶セルの構成を模式的に表した説明図
【図４】光配向膜の分解物からなるイミド化合物が、光配向膜中の（メタ）アクリルアミド系ポリマーによって、液晶層に溶出しない重合体となる仕組みを示す説明図
【発明を実施するための形態】
【００４３】
（液晶表示装置）
以下、本発明の実施形態を、図面を参照しつつ説明する。図２は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置１０の構成を模式的に表した説明図である。液晶表示装置１０は、主として、液晶パネル１１と、液晶パネル１１に光を供給するバックライト１２とを備えている。液晶パネル１１及びバックライト１２は、所定の筐体１３内に収容されている。
【００４４】
液晶パネル１１は、主として、液晶セル１４と、液晶セル１４の両面にそれぞれ貼り付けられる一対の偏光板１５，１６を備えている。
【００４５】
（液晶セル）
図３は、液晶セル１４の構成を模式的に表した説明図である。液晶セル１４は、互いに向かい合い、かつ各々の対向面に光配向膜１７ａ，１８ａを有する一対の基板１７，１８と、それらの基板１７，１８間に介在される液晶層１９と、液晶層１９の周りを囲む形で基板１７，１８間に介在されるシール材２０とを備えている。一対の基板１７，１８のうち、一方の基板１７は、アレイ基板１７であり、他方の基板１８は、対向基板１８である。
【００４６】
（基板）
アレイ基板１７は、透明な支持基板（例えば、ガラス基板）上に、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）等が形成されたものからなり、他方の対向基板１８と対向する面（対向面）上に、光配向膜１７ａが形成されている。対向基板１８は、透明な支持基板（例えば、ガラス基板）上に、カラーフィルタ（ＣＦ：Color Filter）等が形成されたものからなり、他方のアレイ基板１７と対向する面（対向面）上に、光配向膜１８ａが形成されている。光配向膜１７ａ，１８ａは、液晶層１９に接触する形で、各基板１７，１８に設けられている。
【００４７】
光配向膜１７ａ，１８ａは、偏光紫外線等所定の光が照射（光配向処理）されると、液晶化合物の向きを所定方向に揃えるように、液晶化合物に作用する配向規制力を発現する高分子膜からなる。特に、本実施形態の光配向膜１７ａ，１８ａは、液晶化合物（液晶分子）を各基板１７，１８の基板面に対して、水平又は略水平に配向させる水平光配向膜からなる。なお、光配向膜１７ａ，１８ａの詳細は、後述する。
【００４８】
液晶セル１４の表示モードは、水平光配向膜を利用可能であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜、選択される。液晶セル１４の表示モードとしては、例えば、ＩＰＳ（In-Plane Switching）モード、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）モード、ＴＮ（Twisted Nematic)モード、ＥＣＢ（electrically controlled birefringence）モード等が挙げられる。
【００４９】
なお、液晶セル１４がＩＰＳモード、ＦＦＳモード等の場合、アレイ基板１７上には、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電膜からなる画素電極と共に、透明導電膜からなる対向電極が形成される。この場合、対向基板１８には、電極は形成されない。これに対し、液晶セル１４がＴＮモード、ＥＣＢモード等の場合、アレイ基板１７上には画素電極が形成され、対向基板１８上には、対向電極が形成される。
【００５０】
（光配向膜）
光配向膜は、シクロブタン環構造を有するポリイミド系ポリマーを含む高分子膜が光配向処理されたものからなる。光配向処理は、前記高分子膜に所定の光（例えば、偏光紫外線等）を照射して、液晶化合物の向きを所定方向に揃える配向規制力を前記高分子膜に、発現させる工程である。光配向処理において、前記高分子膜に、所定の光が照射されると、前記高分子膜中のシクロブタン環構造が分解して、前記配向規制力が発現するように前記ポリイミド系ポリマーの構造が変化する。前記ポリイミド系ポリマーは、例えば、下記化学式（２）で示されるポリマーからなる。
【００５１】
【化１０】
2019056880.tif 000011
【００５２】
化学式（２）中、ｐは重合度を示し、１以上の整数であり、Ｘは、下記化学式（３−１）又は化学式（３−２）で表される構造を有し、Ｙは、化学式（４−１）〜化学式（４−１２）で表される何れかの構造を有する。
【００５３】
【化１１】
2019056880.tif 000012
【００５４】
【化１２】
2019056880.tif 000013
【００５５】
化学式（４−２）中のｈは、０〜３の何れかの整数を表し、化学式（４−４）中のｉは、０〜３の何れかの整数を表し、化学式（４−１１）中のｊは、０〜３の何れかの整数を表す。
【００５６】
前記ポリイミド系ポリマーは、シクロブタン環構造を有するポリアミック酸を適宜、イミド化したものからなる。前記ポリイミド系ポリマーのイミド化率は、本発明の目的を損なわない限り、特に制限はなく、例えば、４５％以上に設定される。
【００５７】
なお、前記ポリイミド系ポリマーとしては、例えば、前記式（２）中のＸが、前記化学式（３−１）で表される構造を有し、かつＹが、前記化学式（４−１）又は前記化学式（４−２）で表される何れかの構造を有するものが好ましい。
【００５８】
光配向膜は、更に、（メタ）アクリルアミド系ポリマーを含むことが好ましい。（メタ）アクリルアミド系ポリマーは、光配向膜内において、光配向処理後に前記ポリイミド系ポリマーから生成する分解物（イミド化合物）に対して、水素引き抜き反応を起こす機能を備えている。図４に示されるように、（メタ）アクリルアミド系ポリマーは、図４に示されるように、光配向膜１７ａ，１８ａ中において、イミド化合物（ａ−１）のマレイミド基から水素原子を引き抜く、所謂水素引き抜き反応を起こし、ラジカルを有するイミド化合物（ａ−４）を生成する。そして、ラジカルを有するイミド化合物（ａ−４）同士は、互いに架橋するように結合して、重合体（ａ−５）を形成する。このようにイミド化合物（ａ−１）が、ある程度、分子量の大きな重合体（ａ−５）となることで、ポリイミド系ポリマーの光分解物であるイミド化合物（ａ−１）が、光配向膜１７ａ，１８ａ中から液晶層１９へ溶出することが抑制される。
【００５９】
前記（メタ）アクリルアミド系ポリマーは、柔軟性が高く、光配向膜内において、立体的にポリイミド系モノマーのシクロブタン環付近に分布することが可能である。なお、低分子化合物の場合、それ自体が液晶層中に溶出する可能性が高くなるため、好ましくない。また、水素引き抜き反応を起こすことが可能な官能基としては、アミノ基（アミド基）が好ましい。
【００６０】
前記（メタ）アクリルアミド系ポリマーは、例えば、下記化学式（５−１）及び化学式（５−２）で示される何れかのポリマーからなる。
【００６１】
【化１３】
2019056880.tif 000014
【００６２】
化学式（５−１）及び化学式（５−２）において、Ａ及びＢは、互いに独立し、Ｈ、−ＣｎＣ２ｎ＋１（ただし、ｎは１〜３の何れかの整数を表す）、−（ＣＨ２）ｍＮＸ２Ｙ２（ｍは１〜６の何れかの整数を表し、Ｘ２及びＹ２は、互いに独立し、Ｈ又は−ＣｚＨ２ｚ＋１を表す（ｚは１〜３の何れかの整数を表す））、又は−（ＣＨ２）ｍＯＨを表し、ｐは重合度を示し、１以上の整数である。
【００６３】
前記（メタ）アクリルアミド系ポリマーは、より具体的には、下記化学式（６−１）〜化学式（６−３）で示される何れかのポリマーからなることが好ましい。
【００６４】
【化１４】
2019056880.tif 000015
【００６５】
化学式（６−１）〜化学式（６−３）において、ｐは重合度を示し、１以上の整数である。
【００６６】
光配向膜中において、前記（メタ）アクリルアミド系ポリマーの配合割合（質量％）は、本発明の目的を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜設定されるが、例えば、前記ポリイミド系ポリマーと前記（メタ）アクリルアミド系ポリマーの合計１００質量％に対して、０質量％を超え、かつ３０質量％未満であることが好ましい。
【００６７】
図２に示されるように、本実施形態では、一対の基板１７，１８のうち、双方の表面（対向面）上に、光配向膜１７ａ，１８ａが形成される構成となっている。なお、他の実施形態においては、一対の基板のうち、少なくとも一方の基板の対向面のみに、光配向膜が形成されてもよい。なお、光配向膜が形成されない方の基板の対向面には、本実施形態の光配向膜ではない他の配向膜が形成されてもよい。
【００６８】
光配向膜を形成する工程としては、先ず、前記ポリイミド系ポリマー等を含む未硬化状態の流動性を備えた配向剤が、各基板１７，１８の面（対向面）上に、塗工機を用いて塗布される。その塗布物（高分子膜）は、仮焼成（例えば、８０℃で２分間の加熱処理）され、その後、所定の光が照射される光配向処理が行われる。光配向処理の際に、前記塗布物が、本焼成（例えば、２００℃で２０分間の加熱処理）されると、所定の方向に液晶化合物を配向させる配向規制力を備えた光配向膜となる。なお、仮焼成の後、続けて、本焼成を行い、その後、光配向処理を行ってもよい。また、本焼成を複数回（２回以上）に分けて行ってもよい。上記配向剤の塗布物が、仮焼成、又は本焼成された際、ポリアミック酸が適宜、イミド化される。
【００６９】
（シール材）
シール材は、基板１７，１８間に介在し、液晶層の周りを取り囲むように配置し、液晶層を封止する。また、シール材は、基板１７，１８同士を接着する機能も備えている。シール材は、液晶セルを平面視した際、液晶層の周りを囲むような枠状をなしている。
【００７０】
シール材は、硬化性樹脂を含有する硬化性樹脂組成物の硬化物からなる。硬化性樹脂としては、紫外線反応性官能基及び熱反応性官能基を有するものであれば特に限定されないが、上記硬化性樹脂組成物を液晶滴下工法用シール剤として用いる際に、速やかに硬化反応が進行し、接着性が良好である事から（メタ）アクリロイル基及び／又はエポキシ基を有するものが好適に用いられる。このような硬化性樹脂としては、例えば、（メタ）アクリレート、エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は単独で用いても良く、２種以上を併用しても良い。なお、本明細書において（メタ）アクリルとは、アクリル又はメタクリルのことをいう。
【００７１】
上記（メタ）アクリレートとしては特に限定されず、例えば、ウレタン結合を有するウレタン（メタ）アクリレート、グリシジル基を有する化合物と（メタ）アクリル酸とから誘導されるエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００７２】
上記ウレタン（メタ）アクリレートとしては特に限定されず、例えば、イソホロンジイソシアネート等のジイソシアネートと、アクリル酸、ヒドロキシエチルアクリレート等のイソシアネートと付加反応する反応性化合物との誘導体等が挙げられる。これらの誘導体はカプロラクトンやポリオール等で鎖延長させてもよい。市販品としては、例えば、Ｕ−１２２Ｐ、Ｕ−３４０Ｐ、Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−１０８４Ａ（以上、新中村化学工業社製）；ＫＲＭ７５９５、ＫＲＭ７６１０、ＫＲＭ７６１９（以上、ダイセルＵＣＢ社製）等が挙げられる。
【００７３】
上記エポキシ（メタ）アクリレートとしては特に限定されず、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂やプロピレングリコールジグリシジルエーテル等のエポキシ樹脂と、（メタ）アクリル酸とから誘導されたエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。また、市販品としては、例えば、ＥＡ−１０２０、ＥＡ−６３２０、ＥＡ−５５２０（以上、新中村化学工業社製）；エポキシエステル７０ＰＡ、エポキシエステル３００２Ａ（以上、共栄社化学社製）等が挙げられる。
【００７４】
その他の（メタ）アクリレートとしては、例えば、メチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、（ポリ）エチレングリコールジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリストールトリアクリレート、グリセリンジメタクリレート等が挙げられる。
【００７５】
上記エポキシ樹脂としては、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、トリスフェノールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、レゾルシノール型エポキシ樹脂、グリシジルアミン類等が挙げられる。
【００７６】
上記エポキシ樹脂のうち市販されているものとしては、例えば、フェニルノボラック型エポキシ樹脂としては、ＮＣ−３０００Ｓ（日本化薬社製）、トリスフェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、ＥＰＰＮ−５０１Ｈ、ＥＰＰＮ−５０１Ｈ（以上、日本化薬社製）、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ樹脂としては、ＮＣ−７０００Ｌ（日本化薬社製）、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としては、エピクロン８４０Ｓ、エピクロン８５０ＣＲＰ（以上、大日本インキ化学工業社製）、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としては、エピコート８０７（ジャパンエポキシレジン社製）、エピクロン８３０（大日本インキ化学工業社製）、２，２’−ジアリルビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としては、ＲＥ３１０ＮＭ（日本化薬社製）、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂としては、エピクロン７０１５（大日本インキ化学工業社製）、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としては、エポキシエステル３００２Ａ（共栄社化学社製）、ビフェニル型エポキシ樹脂としては、エピコートＹＸ−４０００Ｈ、ＹＬ−６１２１Ｈ（以上、ジャパンエポキシレジン社製）、ナフタレン型エポキシ樹脂としては、エピクロンＨＰ−４０３２（大日本インキ化学工業社製）、レゾルシノール型エポキシ樹脂としては、デナコールＥＸ−２０１（ナガセケムテックス社製）、グリシジルアミン類としては、エピクロン４３０（大日本インキ化学工業社製）、エピコート６３０（ジャパンエポキシレジン社製）等が挙げられる。
【００７７】
また、上記硬化性樹脂組成物が、硬化性樹脂として、１分子内に（メタ）アクリル基とエポキシ基とをそれぞれ少なくとも１つ以上有するエポキシ／（メタ）アクリル樹脂も好適に用いることができる。上記エポキシ／（メタ）アクリル樹脂としては、例えば、上記エポキシ樹脂のエポキシ基の一部分を常法に従って、塩基性触媒の存在下（メタ）アクリル酸と反応させることにより得られる化合物、２官能以上のイソシアネート１モルに水酸基を有する（メタ）アクリルモノマーを１／２モル、続いてグリシドールを１／２モル反応させて得られる化合物、イソシアネート基を有する（メタ）アクリレートにグリシドールを反応させて得られる化合物等が挙げられる。上記エポキシ／（メタ）アクリル樹脂の市販品としては、例えば、ＵＶＡＣ１５６１（ダイセルＵＣＢ社製）等が挙げられる。
【００７８】
また、上記硬化性樹脂組成物は、光重合開始剤を含有する。上記光重合開始剤としては、紫外線照射により上記硬化性樹脂を重合させるものであれば特に限定されない。光重合開始剤としては、例えば、下記化学式（１５−１）及び化学式（１５−２）で表される化合物が挙げられる。
【００７９】
【化１５】
2019056880.tif 000016
【００８０】
式（１５−２）中、Ｒ１は水素又は炭素数４以下の脂肪族炭化水素残基を表し、Ｘ１は炭素数１３以下の２官能イソシアネート誘導体の残基を表し、Ｙ１は炭素数４以下の脂肪族炭化水素残基又は残基を構成する炭素と酸素の原子数比が３以下の残基を表す。Ｘ１が炭素数１３を超える２官能イソシアネート誘導体の残基であると、液晶に溶解しやすくなることがあり、Ｙ１が炭素数４を超える脂肪族炭化水素基又は炭素と酸素の原子数比が３を超える残基であると、液晶に溶解しやすくなることがある。
【００８１】
また、上市されている光重合開始剤としては、例えば、「イルガキュア６５１」、「イルガキュア１８９」、「イルガキュア−ＯＸＥ０１」（何れもビーエーエスエフジャパン株式会社製）等が挙げられる。
【００８２】
また、上記硬化性樹脂組成物は、熱硬化剤を含有する。上記熱硬化剤は、加熱により上記硬化性樹脂中の熱反応官能基を反応させ、架橋させるためのものであり、硬化後の硬化性樹脂組成物の接着性、耐湿性を向上させる役割を有する。上記熱硬化剤としては特に限定されないが、本発明の硬化性樹脂組成物を滴下工法用シール剤として用いた際に、１００〜１２０℃の硬化温度にて硬化させるため、低温反応性に優れるアミン及び／又はチオール基を含有することが好ましい。このような熱硬化剤としては特に限定されないが、例えば１，３−ビス［ヒドラジノカルボノエチル−５−イソプロピルヒダントイン］、アジピン酸ジヒドラジド等のヒドラジド化合物；ジシアンジアミド、グアニジン誘導体、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、Ｎ−［２−（２−メチル−１−イミダゾリル）エチル］尿素、２，４−ジアミノ−６−［２’−メチルイミダゾリル−（１’）］−エチル−ｓ−トリアジン、Ｎ,Ｎ’−ビス（２−メチル−１−イミダゾリルエチル）尿素、Ｎ,Ｎ’−（２−メチル−１−イミダゾリルエチル）−アジポアミド、２−フェニル−４−メチルー５−ヒドロキシメチルイミダゾール、２−イミダゾリン−２−チオール、２−２’−チオジエタンチオール、各種アミンとエポキシ樹脂との付加生成物等が挙げられる。これらは単独で用いても、２種類以上が用いられていても良い。
【００８３】
シール材の線幅は、特に制限されないが、例えば、シール材の一部に、線幅が１．０ｍｍ以下の部分が含まれてもよい。
【００８４】
（液晶層）
液晶層１９は、液晶化合物（液晶分子）を含む組成物である液晶材料から構成される。液晶材料は、下記化学式（１−１）及び化学式（１−２）で示される何れかの構造を有する極性を有する液晶化合物（極性液晶化合物）を含む。
【００８５】
【化１６】
2019056880.tif 000017
【００８６】
化学式（１−１）及び化学式（１−２）において、Ａ１は、フェニル基、フェニレン基、ナフチル基、ナフチレン基、シクロヘキシル基、又はシクロヘキシレン基を表し、Ａ２は、フェニル基、フェニレン基、ナフチル基、又はナフチレン基を表し（ただし、Ａ１及びＡ２で表される各官能基の水素原子は、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、メチル基又はエチル基で置換されていてもよい）、Ｘ１は、酸素原子又は直接結合を表し、ｎは、１〜６の何れかの整数を表す。
【００８７】
前記液晶化合物は、下記化学式（７−１）〜化学式（７−３）で示される何れかの構造を有することが好ましい。
【００８８】
【化１７】
2019056880.tif 000018
【００８９】
化学式（７−１）〜化学式（７−３）において、フェニル基又はシクロヘキシル基中の水素原子は、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、メチル基又はエチル基で置換されていてもよく、ｎは１〜６の何れかの整数を表す。
【００９０】
前記液晶化合物の具体例としては、例えば、下記化学式（１８−１）〜化学式（１８−１２）、及び下記化学式（１９−１）〜化学式（１９−１３）で示される化合物が挙げられる。
【００９１】
【化１８】
2019056880.tif 000019
【００９２】
化学式（１８−１）〜化学式（１８−１２）において、ｎは０〜１５の何れかの整数である。
【００９３】
【化１９】
2019056880.tif 000020
【００９４】
化学式（１９−１）〜化学式（１９−１３）において、ｎは０〜１５の何れかの整数である。
【００９５】
上記化学式（１８−１）〜化学式（１８−１２）及び化学式（１９−１）〜化学式（１９−１３）で示される液晶化合物のうち、好ましい液晶化合物としては、例えば、化学式（１８−９）で示される液晶化合物が挙げられる。
【００９６】
液晶材料中において、前記液晶化合物（極性液晶化合物）中の配合割合は、本発明の目的を損なわない限り、特に制限はないが、例えば、３〜２０質量％が好ましい。
【００９７】
液晶材料を構成する液晶材料のネマティック−等方相転移温度（Ｔｎｉ）は、９０℃以上１１０℃以下であることが好ましい。液晶材料のＴｎｉは、例えば、示差走査熱量計（ＤＳＣ）を利用して、液晶材料の熱的挙動を解析することで求められる。
【００９８】
また、上記極性液晶化合物以外に、液晶材料に使用される液晶化合物としては、例えば、下記化学式（２０−１）〜化学式（２０−４）で示されるものが挙げられる。
【００９９】
【化２０】
2019056880.tif 000021
【０１００】
化学式（２０−１）〜化学式（２０−４）において、ｍ、ｎは、同一の又は異なる整数であり、好ましくは１〜６の何れかである。
【０１０１】
上記化学式（２０−１）で示される具体的な液晶化合物としては、例えば、下記化学式（２１）で示される化合物が挙げられる。
【０１０２】
【化２１】
2019056880.tif 000022
【０１０３】
液晶材料に使用される液晶化合物は、下記化学式（９）で示される構造（エーテル構造）を含まないことが好ましい。下記化学式（９）で示される構造を含まない液晶化合物は、液晶層内に浸入した水により、分解（加水分解）されることが防止される。
【０１０４】
【化２２】
2019056880.tif 000023
【実施例】
【０１０５】
以下、実施例に基づいて本発明を更に説明する。なお、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。
【０１０６】
〔実施例１〕
ガラス基板上にＴＦＴ、画素電極等が形成されたＦＦＳモード用のアレイ基板と、ガラス基板上に、ＣＦ等が形成されたＦＦＳモード用の対向基板（電極なし）とを用意した。アレイ基板及び対向基板の各基板面上に、上記化学式（２）で示される、シクロブタン環を有するポリイミド系ポリマー（イミド化率：５０％）を含有する配向剤を、スピンコート法で塗布した。その塗布物を８０℃で２分間加熱する仮焼成処理を行い、続いて、２００℃で２０分間加熱する１回目の本焼成処理を行った。その後、前記塗布物に対し、所定方向から、直線偏光（波長２４０ｎｍ〜２７０ｎｍの深紫外光を含む）を５００ｍＪ／ｃｍ２の条件で照射して前記塗布物に光配向処理を施した。その後、前記塗布物を、２００℃で２０分間加熱する２回目の本焼成処理を行った。このようにして、アレイ基板及び対向基板の各基板面上に、それぞれ光配向膜（水平光配向膜）を形成した。
【０１０７】
なお、上記化学式（２）中のＰは、任意の自然数である。また、上記化学式（２）中のＸは、下記化学式（３−１）で示されるシクロブタン環を有する構造からなり、上記化学式（２）中のＹは、下記化学式（４−１）で示される構造を有する。
【０１０８】
【化２３】
2019056880.tif 000024
【０１０９】
【化２４】
2019056880.tif 000025
【０１１０】
続いて、アレイ基板の光配向膜上に、未硬化状態のＯＤＦ（One Drop Fill）用の用のシール材（商品名「フォトレック」、積水化学工業株式会社製）を、ディスペンサを利用して枠状に描画した。未硬化状態の前記シール材は、紫外線硬化性及び熱硬化性を備えており、光重合（ラジカル重合）に利用される光重合開始剤及び（メタ）アクリルモノマーと、熱重合に利用される下記化学式（２５）で示されるエポキシモノマー及びアミン硬化剤とを含む混合組成物からなる。
【０１１１】
【化２５】
2019056880.tif 000026
【０１１２】
次いで、対向基板の光配向膜上の所定箇所に、ネマティック−等方相転移温度（Ｔｎｉ）が９０℃である液晶材料を滴下した。液晶材料中には、化学式（２６）で示される構造を有する極性液晶化合物（具体的には、化学式（２７）で示される化合物）が、３質量％の割合で含まれている。化学式（２７）中のｎは、１〜６の何れかの整数である。なお、液晶材料中には、化学式（２７）で示される化合物以外に、例えば、上記化学式（２１）で示される化合物が含まれている。
【０１１３】
【化２６】
2019056880.tif 000027
【０１１４】
【化２７】
2019056880.tif 000028
【０１１５】
続いて、真空下で、アレイ基板と対向基板とを貼り合わせて積層体とし、その積層体のシール材に紫外光（３００ｎｍ〜４００ｎｍの紫外光を含む）を照射して、シール材を光硬化させた。そして更に積層体を１３０℃で４０分間加熱することで、シール材を熱硬化させて液晶材料を封止すると共に、液晶材料を等方相にする再配向処理を行った。その後、積層体を室温まで冷却して、実施例１のＦＦＳモードの液晶セルを得た。なお、シール材の最も細い箇所の幅は、１．０ｍｍ以下であった。
【０１１６】
〔実施例２，３及び比較例１〕
化学式（２７）で示される化合物の含有割合を、表１に示される値に変更したこと以外は、実施例１と同様にして、実施例２，３及び比較例１の各液晶材料を作製した。また、実施例１の液晶材料に代えて、実施例２，３及び比較例１の各液晶材料を使用したこと以外は、実施例１と同様にして、実施例２，３及び比較例１のＦＦＳモードの液晶セルを作製した。
【０１１７】
〔比較例２〕
化学式（２７）で示される化合物に代えて、下記化学式（２８）で示される構造を有する化合物（具体的には、下記化学式（２９）で示される化合物）を、１０質量％の割合で含む比較例２の液晶材料を作製した。また、実施例１の液晶材料に代えて、比較例２の液晶材料を使用したこと以外は、実施例１と同様にして、比較例２のＦＦＳモードの液晶セルを作製した。
【０１１８】
【化２８】
2019056880.tif 000029
【０１１９】
【化２９】
2019056880.tif 000030
【０１２０】
（電界応答）
実施例１等の液晶セルについて、電極間に７Ｖの電圧を印加して、液晶材料が応答するか否かを目視で確認した。結果は、表１に示した。
【０１２１】
（高温高湿試験）
実施例１等の液晶セルについて、以下に示される高温高湿試験を行った。温度６０℃、湿度９５％ＲＨの恒温恒湿槽内において、液晶セルを、点灯させたバックライト上に設置した状態で１０００時間放置し、放置前後（試験開始時、及び試験開始後１０００時間）における液晶セルの電圧保持率（ＶＨＲ：Voltage Holding Ratio）を測定した。なお、電圧保持率は、６２５４型ＶＨＲシステム（株式会社東陽テクニカ製）を使用し、１Ｖ、７０℃の条件で測定した。結果は、表１に示した。
【０１２２】
（輝点発生の確認）
実施例１等の液晶セルを、一対のクロスニコル偏光板の間で挟み込み、液晶セルの表示部に微小な輝点が発生しているか否かを、目視で確認した。結果は、表１に示した。
【０１２３】
【表１】
2019056880.tif 000031
【０１２４】
実施例１〜３の液晶セルは、化学式（２７）で示される極性液晶化合物が液晶材料中に３〜１０質量％の割合で配合されることにより、電界応答を示し、また、１０００時間後のＶＨＲの低下が小さく、微小輝点の発生もなかった。なお、１０００時間後のＶＨＲの低下は、外部の水分が液晶層内に浸入したことによる影響と推測される。
【０１２５】
これに対し、比較例１の液晶セルは、液晶材料中に化学式（２７）で示される極性液晶化合物が配合されていないため、電界応答を示さなかった。
【０１２６】
比較例２の液晶セルは、液晶材料中に化学式（２９）で示される液晶化合物が１０質量％の割合で配合されたものであり、電界応答を示したものの、１０００時間後のＶＨＲの低下が大きく、また、微小輝点の発生も確認された。これらの原因は、以下のように推測される。シール材の最も細い箇所の幅は１．０ｍｍ以下であるため、液晶セルの外部の水分が、シール材中を移動して液晶層内に浸入し、その水分の影響で、化学式（２９）で示される液晶層内の液晶化合物が、水酸基（メチロール基）を含む化合物に分解される。なお、上記のような水分による分解には、液晶層に接する光配向膜中に存在するポリアミック酸等の影響も考えられる。その一方で、光配向処理後に生成した光配向膜の分解物（イミド成分等）は、液晶層中に溶出しており、その溶出した分解物が、水酸基（メチロール基）を含む前記化合物（液晶化合物の分解物）との間で水素結合を形成する。その結果、光配向膜の分解物は、液晶層中で安定した状態で存在し、液晶セルの表示部に発生する微小な輝点の原因となっていると推測される。
【０１２７】
〔実施例４〕
ガラス基板上にＴＦＴ、画素電極等が形成されたＩＰＳモード用のアレイ基板と、ガラス基板上に、ＣＦ等が形成されたＩＰＳモード用の対向基板（電極なし）とを用意した。アレイ基板及び対向基板の各基板面上に、実施例１と同様の配向剤を、スピンコート法で塗布した。その塗布物を８０℃で２分間加熱する仮焼成処理を行い、続いて、前記塗布物に対して、所定方向から直線偏光（波長２４０ｎｍ〜２７０ｎｍの深紫外光を含む）を５００ｍＪ／ｃｍ２の条件で照射して前記塗布物に光配向処理を施した。その後、光配向処理後の前記塗布物を、２２０℃で４０分間加熱する本焼成処理を行った。このようにして、アレイ基板及び対向基板の各基板面上に、再配向処理が施された（ポリマーのコンフォメーションが調整された）光配向膜（水平光配向膜）を形成した。
【０１２８】
続いて、アレイ基板の光配向膜上に、実施例１と同様、未硬化状態のＯＤＦ用のシール材を、ディスペンサを利用して枠状に描画した。
【０１２９】
次いで、対向基板の光配向膜上の所定箇所に、ネマティック−等方相転移温度（Ｔｎｉ）が１００℃である液晶材料を滴下した。液晶材料中には、化学式（３０）で示される構造を有する極性液晶化合物（具体的には、化学式（３１）で示される化合物）が、３質量％の割合で含まれている。なお、液晶材料中には、化学式（３１）で示される化合物以外に、実施例１と同様、上記化学式（２１）で示される化合物が含まれている。
【０１３０】
【化３０】
2019056880.tif 000032
【０１３１】
【化３１】
2019056880.tif 000033
【０１３２】
続いて、真空下で、アレイ基板と対向基板とを貼り合わせて積層体とし、その積層体のシール材に紫外光（３００ｎｍ〜４００ｎｍの紫外光を含む）を照射して、シール材を光硬化させた。そして更に積層体を１３０℃で４０分間加熱することで、シール材を熱硬化させて液晶材料を封止すると共に、液晶材料を等方相にする再配向処理を行った。その後、積層体を室温まで冷却して、実施例４のＩＰＳモードの液晶セルを得た。なお、シール材の最も細い箇所の幅は、１．０ｍｍ以下であった。
【０１３３】
〔実施例５，６及び比較例３〕
化学式（３１）で示される化合物の含有割合を、表２に示される値に変更したこと以外は、実施例４と同様にして、実施例５，６及び比較例３の各液晶材料を作製した。また、実施例４の液晶材料に代えて、実施例５，６及び比較例３の各液晶材料を使用したこと以外は、実施例４と同様にして、実施例５，６及び比較例３のＩＰＳモードの液晶セルを作製した。
【０１３４】
〔比較例４〕
化学式（３１）で示される化合物に代えて、上記化学式（２８）で示される構造を有する化合物（具体的には、上記化学式（２９）で示される化合物）を、１０質量％の割合で含む比較例４の液晶材料（Ｔｎｉ＝１００℃）を作製した。また、実施例４の液晶材料に代えて、比較例４の液晶材料を使用したこと以外は、実施例４と同様にして、比較例４のＩＰＳモードの液晶セルを作製した。
【０１３５】
（電界応答、高温高湿試験、輝点発生の確認）
実施例４等の液晶セルについて、上記実施例１等と同様、電界応答、高温高湿試験、輝点発生の確認を行った。結果は、表２に示した。
【０１３６】
【表２】
2019056880.tif 000034
【０１３７】
実施例４〜６の液晶セルは、化学式（３１）で示される極性を有する液晶化合物が液晶材料中に３〜１０質量％の割合で配合されることにより、電界応答を示し、また、１０００時間後のＶＨＲの低下が小さく、微小輝点の発生もなかった。なお、１０００時間後のＶＨＲの低下は、外部の水分が液晶層内に浸入したことによる影響と推測される。
【０１３８】
これに対し、比較例３の液晶セルは、液晶材料中に化学式（３１）で示される液晶化合物が配合されていないため、電界応答を示さなかった。
【０１３９】
比較例４の液晶セルは、液晶材料中に化学式（２９）で示される液晶化合物が１０質量％の割合で配合されたものであり、電界応答を示したものの、１０００時間後のＶＨＲの低下が大きく、また、微小輝点の発生も確認された。これらの原因は、上記比較例２の場合と同様と推測される。
【０１４０】
なお、実施例４等は、上述した実施例１等と異なり、液晶セルの製造過程において、光配向処理を、本焼成処理の前に行った場合である。このような場合でも、上述した実施例１等（つまり、本焼成処理後に光配向処理を行った場合）と同様の傾向の試験結果が得られた。
【０１４１】
〔実施例７〕
実施例１と同様の上記化学式（２）で示される、シクロブタン環を有するポリイミド系ポリマー（イミド化率：５０％）を含む溶液中に、下記化学式（６−１）で示されるアクリルアミド系ポリマー（（メタ）アクリルアミド系ポリマーの一例）を、前記ポリイミド系ポリマーとアクリルアミド系ポリマーの合計１００質量％に対して５質量％の割合で添加し、その溶液を室温条件下、暗所で一晩放置して、完全に前記アクリルアミド系ポリマーを溶解させたものを、実施例７の配向剤とした。
【０１４２】
【化３２】
2019056880.tif 000035
【０１４３】
上記実施例１と同様のＦＦＳモード用のアレイ基板及び対向基板を用意した。アレイ基板及び対向基板の各基板面上に、実施例７の配向剤を、スピンコート法で塗布した。その塗布物を８０℃で２分間加熱する仮焼成処理を行い、続いて、前記塗布物に対して、所定方向から直線偏光（波長２４０ｎｍ〜２７０ｎｍの深紫外光を含む）を５００ｍＪ／ｃｍ２の条件で照射して前記塗布物に光配向処理を施した。その後、光配向処理後の前記塗布物を、２２０℃で４０分間加熱する本焼成処理を行った。このようにして、アレイ基板及び対向基板の各基板面上に、光配向膜（水平光配向膜）を形成した。
【０１４４】
続いて、アレイ基板の光配向膜上に、実施例１と同様の未硬化状態のＯＤＦ用のシール材を、ディスペンサを利用して枠状に描画した。次いで、対向基板の光配向膜上の所定箇所に、ネマティック−等方相転移温度（Ｔｎｉ）が１００℃である液晶材料を滴下した。液晶材料中には、上記化学式（２６）で示される構造を有する極性液晶化合物（具体的には、化学式（２７）で示される化合物）が、３質量％の割合で含まれている。なお、液晶材料中には、化学式（２７）で示される化合物以外に、実施例１と同様、化学式（２１）で示される化合物が含まれている。
【０１４５】
続いて、真空下で、アレイ基板と対向基板とを貼り合わせて積層体とし、その積層体のシール材に紫外光（３００ｎｍ〜４００ｎｍの紫外光を含む）を照射して、シール材を光硬化させた。そして更に積層体を１３０℃で４０分間加熱することで、シール材を熱硬化させて液晶材料を封止すると共に、液晶材料を等方相にする再配向処理を行った。その後、積層体を室温まで冷却して、実施例７のＦＦＳモードの液晶セルを得た。なお、シール材の最も細い箇所の幅は、１．０ｍｍ以下であった。
【０１４６】
〔実施例８〜１０及び比較例５〕
化学式（６−１）で示されるアクリルアミド系ポリマーの配合割合を、表３に示される値に変更したこと以外は、実施例７と同様にして、実施例８〜１０及び比較例５の配向剤を作製した。また、実施例７の配向剤に代えて、実施例８〜１０及び比較例の各配向剤を使用したこと以外は、実施例７と同様にして、実施例８〜１０及び比較例のＦＦＳモードの液晶セルを作製した。
【０１４７】
〔実施例１１〜１３及び比較例６〕
化学式（６−１）で示されるアクリルアミド系ポリマーに代えて、下記化学式（６−２）で示されるアクリルアミド系ポリマーを、表３に示される配合割合で使用したこと以外は、実施例７と同様にして、実施例１１〜１３及び比較例６の配向剤を作製した。また、実施例７の配向剤に代えて、実施例１１〜１３及び比較例６の各配向剤を使用したこと以外は、実施例７と同様にして、実施例１１〜１３及び比較例６のＦＦＳモードの液晶セルを作製した。
【０１４８】
【化３３】
2019056880.tif 000036
【０１４９】
（電界応答、高温高湿試験、輝点発生の確認）
実施例８等の液晶セルについて、上記実施例１等と同様、電界応答、高温高湿試験、輝点発生の確認を行った。結果は、表３に示した。
【０１５０】
【表３】
2019056880.tif 000037
【０１５１】
実施例７〜９の液晶セルは、化学式（６−１）で示されるアクリルアミド系ポリマーが導入された光配向膜を備えている。また、実施例１１〜１３の液晶セルは、化学式（６−２）で示されるアクリルアミド系ポリマーが導入された光配向膜を備えている。このように、光配向膜中にアクリルアミド系ポリマーが導入されていると、実施例１０のように、アクリルアミド系ポリマーが導入されていない場合と比べて、１０００時間後のＶＨＲの低下が更に小さく、また、微小輝点の発生も無かった。このような結果が得られた原因は、以下のように推測される。光配向膜の形成時に行われた光配向処理において、ポリイミド系ポリマー中のシクロブタン環が分解されて形成された低分子分解物（イミド成分等）が、光配向膜中のポリイミド系ポリマーから水素原子を引き抜くと推測される。すると、前記低分子分解物にラジカルが生成し、そのラジカルを伴った低分子分解物同士が互いに架橋するように結合することで、分子量が増加した前記低分子分解物の重合体が得られると推測される。このように、低分子分解物が、互いに結合（重合）して、ある程度、分子量の大きな重合体となることで、光配向膜から液晶層中に溶出することが抑制されたものと推測される。そして、上記のように、１０００時間後のＶＨＲの低下が抑えられ、また、微小輝点の発生も抑制されたと推測される。
【０１５２】
なお、比較例５及び比較例６の液晶セルのように、化学式（６−１）又は化学式（６−２）で示されるアクリルアミド系ポリマーを、ポリイミド系ポリマーとアクリルアミド系ポリマーの合計１００質量％に対して３０質量％の割合で導入した場合、最終的に得られた光配向膜が白濁してしまい、電界応答を確認することができなかった。
【０１５３】
〔実施例１４〜１７及び比較例７，８〕
上記化学式（２７）で示される極性液晶化合物の配合割合を５質量％に変更しつつ、Ｔｎｉ（℃）が表４に示される値となるように調整したこと以外は、実施例１と同様にして、実施例１４〜１７及び比較例７，８の液晶材料を作製した。また、実施例１の液晶材料に代えて、実施例１４〜１７及び比較例７，８の各液晶材料を使用したこと以外は、実施例１と同様にして、実施例１４〜１７及び比較例７，８のＦＦＳモードの液晶セルを作製した。
【０１５４】
（電界応答、高温高湿試験、輝点発生の確認）
実施例１４等の液晶セルについて、上記実施例１等と同様、電界応答、高温高湿試験、輝点発生の確認を行った。結果は、表４に示した。
【０１５５】
【表４】
2019056880.tif 000038
【０１５６】
実施例１４〜１７及び比較例７，８の液晶セルは、何れも液晶材料中に、上記化学式（９）で示される構造（エーテル構造）を含む液晶化合物が存在しないため、１０００時間後でも微小輝点の発生は見られなかった。しかしながら、液晶材料のＴｎｉが低くなる程、１０００時間後のＶＨＲが低くなる結果となった。これは、液晶材料のＴｎｉが低い場合ほど、液晶層内に浸入した僅かな量の水分が、高温環境下（６０℃環境下）で、液晶層内でより拡散し易くなり、僅かなレベル差ではあるものの、液晶層内におけるイオン量が、Ｔｎｉが低い場合ほど多くなったためと推測される。
【０１５７】
〔実施例１８〕
配向剤として、上記化学式（２）で示される、シクロブタン環を有するポリイミド系ポリマー（イミド化率：７０％）を含有する配向剤を用いたこと以外は、実施例１と同様にして、実施例１８の配向剤を作製した。
【０１５８】
なお、上記化学式（２）中のＰは、任意の自然数である。また、上記化学式（２）中のＸは、下記化学式（３−２）で示されるシクロブタン環を有する構造からなり、上記化学式（２）中のＹは、下記化学式（４−２）で示される構造を有する。化学式（４−２）中のｈは、０〜３の何れかの整数を表す。
【０１５９】
【化３４】
2019056880.tif 000039
【０１６０】
【化３５】
2019056880.tif 000040
【０１６１】
上記化学式（２７）で示される極性化合物の配合割合を１０質量％に変更しつつ、Ｔｎｉが１００℃となるように調整したこと以外は、実施例１と同様にして、実施例１８の液晶材料を作製した。そして、実施例１８の配向剤及び液晶材料を使用したこと以外は、実施例１と同様にして、実施例１８のＦＦＳモードの液晶セルを作製した。
【０１６２】
〔実施例１９〕
上記化学式（２７）で示される化合物に代えて、下記化学式（３６）で示される極性液晶化合物を１０質量％の配合割合で使用し、かつＴｎｉが１００℃となるように調整したこと以外は、実施例１と同様にして、実施例１９の液晶材料を作製した。そして、実施例１８の配向剤、及び実施例１９の液晶材料を使用したこと以外は、実施例１と同様にして、実施例１９のＦＦＳモードの液晶セルを作製した。なお、化学式（３６）中、ｎは１〜６の何れかの整数である。
【０１６３】
【化３６】
2019056880.tif 000041
【０１６４】
〔比較例９〜１２〕
上記化学式（２７）で示される化合物に代えて、それぞれ下記化学式（３７）〜化学式（４０）で示される化合物を１０質量％の配合割合で使用し、かつそれぞれＴｎｉが１００℃となるように調整したこと以外は、実施例１と同様にして、比較例９〜１２の液晶材料を作製した。そして、実施例１８の配向剤と共に、比較例９〜１２の各液晶材料を使用したこと以外は、実施例１と同様にして、比較例９〜１２のＦＦＳモードの液晶セルを作製した。なお、下記化学式（３７）〜化学式（４０）において、ｎは１〜６の何れかの整数であり、化学式（４０）中のｍは、ｎと独立し、１〜６の何れかの整数である。
【０１６５】
【化３７】
2019056880.tif 000042
【０１６６】
【化３８】
2019056880.tif 000043
【０１６７】
【化３９】
2019056880.tif 000044
【０１６８】
【化４０】
2019056880.tif 000045
【０１６９】
（電界応答、高温高湿試験、輝点発生の確認）
実施例１８等の液晶セルについて、上記実施例１等と同様、電界応答、高温高湿試験、輝点発生の確認を行った。結果は、表５に示した。
【０１７０】
【表５】
2019056880.tif 000046
【０１７１】
比較例９〜１１では、液晶化合物が−ＣＦ２−Ｏ−Ｐｈ基を含む場合であっても、同一の液晶化合物中に、上記化学式（９）で示される構造（エーテル構造）を含む場合、僅かではあるものの、１０００時間後に、微小な輝点の発生が見られ、また、ＶＨＲの低下も確認された。これは、液晶化合物中の化学式（９）で示される構造部分が液晶層中に浸入した水分と反応して開裂し、その開裂後の成分が、液晶層中に溶出した光配向膜の分解物との間で水素結合を形成することで、光配向膜の前記分解物を安定化するために生じたものと推測される。
【０１７２】
また、比較例１２でも、液晶化合物は上記化学式（９）で示される構造を有するため、その構造部分が液晶層中に浸入した水分により開裂したため、比較例９等と同様、微小な輝点の発生、及びＶＨＲの低下が見られたものと推測される。
【０１７３】
なお、実施例１８，１９では、微小輝点の発生、及びＶＨＲの低下は見られなかった。
【符号の説明】
【０１７４】
１０…液晶表示装置、１１…液晶パネル、１２…バックライト、１３…筐体、１４…液晶セル、１５，１６…偏光板、１７…アレイ基板、１７ａ…光配向膜、１８…対向基板、１８ａ…光配向膜、１９…液晶層、２０…シール材
【図１】
2019056880.tif 000057
【図２】
2019056880.tif 000058
【図３】
2019056880.tif 000059
【図４】
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