(57)【要約】【課題】本発明は、薄板表面を効率良く確実に清掃できる清掃システムを提供することを課題とする。【解決手段】  本発明は、薄板表面に付着した異物を除去する清掃システムであって、前記薄板を搬送する搬送装置、及び前記搬送装置によって搬送される前記薄板表面と対向して配置される清掃部を有する清掃装置を具備し、前記清掃装置が、清掃のために前記清掃部を前記薄板表面に直接的又は間接的に接触させた状態で前記清掃部を前記薄板表面に対する相対的な静止動作と移動動作とを繰り返し行わせる相対移動機構を備える。前記搬送装置が、前記清掃装置による清掃状態の前記薄板表面を一方向に搬送し、前記相対移動機構が、前記一方向の移動動作及び前記逆方向の移動動作を交互に繰り返し、前記移動動作において、前記相対移動機構による前記清掃部の最大移動速度が、前記搬送装置による前記薄板表面の移動速度よりも早いことが好ましい。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
薄板表面に付着した異物を除去する清掃システムであって、
前記薄板を搬送する搬送装置、及び
前記搬送装置によって搬送される前記薄板表面と対向して配置される清掃部を有する清掃装置を具備し、
前記清掃装置が、清掃のために前記清掃部を前記薄板表面に直接的又は間接的に接触させた状態で前記清掃部を前記薄板表面に対する相対的な静止動作と移動動作とを繰り返し行わせる相対移動機構を備える清掃システム。
【請求項２】
前記搬送装置が、前記清掃装置による清掃状態の前記薄板表面を一方向に搬送する請求項１に記載の清掃システム。
【請求項３】
前記相対移動機構が、前記移動動作の際に前記薄板表面に対して前記一方向、或いは前記一方向及び前記一方向の逆方向に、前記清掃部を移動させる請求項２に記載の清掃システム。
【請求項４】
前記相対移動機構が、前記一方向の移動動作及び前記逆方向の移動動作を交互に繰り返し、
前記移動動作において、前記相対移動機構による前記清掃部の最大移動速度が、前記搬送装置による前記薄板表面の移動速度よりも早い請求項３に記載の清掃システム。
【請求項５】
前記清掃装置が、前記清掃部を、前記薄板表面に直接的又は間接的に接触させた状態と離間させた状態とを切り替える切替機構をさらに備える請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の清掃システム。
【請求項６】
前記清掃部が前記薄板表面にクロス部材を介して間接的に接触する請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の清掃システム。
【請求項７】
前記清掃装置がクロス部材を前記清掃部に供給する供給機構をさらに備える請求項６に記載の清掃システム。
【請求項８】
前記清掃装置が、
先端面に前記清掃部を有する柱状部材、及び
クロス部材を前記柱状部材に押圧して、前記供給機構から前記清掃部に供給される長尺状のクロス部材が前記清掃部に対してずれるのを防止する押圧部材
をさらに備える請求項７に記載の清掃システム。
【請求項９】
前記柱状部材が前記先端面と前記側壁面との間にエッジを有する請求項８に記載の清掃システム。
【請求項１０】
前記搬送装置が、前記清掃部に向けて洗浄液を供給する供給ノズルをさらに有する請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の清掃システム。
【請求項１１】
前記搬送装置が、前記薄板を保持する保持部と、この保持部を前記一方向に走行させるレールとをさらに有する請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の清掃システム。
【請求項１２】
前記薄板を薄板表面のうち一方の面から保持する第１の前記搬送装置、
第１の前記搬送装置によって搬送される前記薄板の他方の面を清掃する第１の前記清掃装置、
第１の前記清掃装置によって一方の面が清掃された前記薄板を他方の面から保持する第２の前記搬送装置、
第２の前記搬送装置によって搬送される前記薄板の一方の面を清掃する第２の前記清掃装置
を具備する請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載の清掃システム。
【請求項１３】
透明基板の表面を清掃する透明基板の清掃方法であって、
前記透明基板の表面を請求項１から請求項１２に記載の清掃システムによって清掃する透明基板の清掃方法。
【請求項１４】
透明基板を含む電子機器を製造する電子機器の製造方法であって、
請求項１３に記載の透明基板の清掃方法による清掃工程を有する電子機器の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、清掃システム、透明基板の清掃方法及び電子部品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話やスマートフォン等の電子機器には、ガラス基板が用いられている。電子機器の製造ラインにおいて、ガラス基板の表面を清掃する清掃システムとしては、例えば特開２００６−２７２２２３号公報所載のものが公知である。この公報所載のシステムは、ブレードにクロスを被せ、ガラス基板にクロスをブレードで押し当てながらガラス基板を移動させることでガラス基板の表面を清掃するものである。この公報所載のシステムにあっては、ガラス基板の一端から他端に向かってブレードを相対移動させる動作を３度繰り返している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−２７２２２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、ガラス基板の表面に、接着剤等のように粘着性の高い異物が付着している場合や、油等がガラス基板の中央に付着している場合には、上記公報所載のシステムのように３度の拭き取りだけでは拭き取ることができない場合がある。
【０００５】
また、上記公報所載のシステムにあっては、ガラス基板の一端から他端に向ってブレードを相対移動した後、次の拭き取り動作のために再度ガラス基板の一端にブレードを戻したうえで拭き取り動作が行われるため、作業効率が悪く、大量のガラス基板に対する拭き取り作業を行うためには非常に長い時間が必要となる。
【０００６】
そこで、本発明は、薄板表面を効率良く確実に清掃できる清掃システム、及び清掃方法、並びに電子機器の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するためになされた発明は、
薄板表面に付着した異物を除去する清掃システムであって、
前記薄板を搬送する搬送装置、及び
前記搬送装置によって搬送される前記薄板表面と対向して配置される清掃部を有する清掃装置を具備し、
前記清掃装置が、清掃のために前記清掃部を前記薄板表面に直接的又は間接的に接触させた状態で前記清掃部を前記薄板表面に対する相対的な静止動作と移動動作とを繰り返し行わせる相対移動機構を備える清掃システムである。
【０００８】
当該清掃システムにあっては、前記相対移動機構によって、前記清掃部が前記薄板表面に直接的又は間接的に接触した状態で前記清掃部が前記薄板表面に対する相対的な静止動作と移動動作とを繰り返し行うので、清掃部によって効率良くかつ確実に薄板表面の異物を除去することができる。つまり、当該清掃システムにあっては、薄板表面に対し、清掃部が相対的な移動動作のみならず静止動作を行うので、動摩擦による異物の除去のみならず静止摩擦による異物の除去を行うことができ、確実に薄板表面の異物を除去できる。ここで、直接的とは接触面が薄板に直接接触して拭き取りを行うことを意味しており、清掃部が薄板を拭き取るのに適した構成の場合には、清掃部が薄板に直接的に接触して拭き取りを行う。間接的とは接触面と薄板の間にクロス部材等、１又は複数の別の部材が配置されるような場合を意味し、接触面が薄板を拭き取るに適した構成ではない場合等に間接的に清掃部が薄板に接触して拭き取る。
【０００９】
前記搬送装置が、前記清掃装置による清掃状態の前記薄板表面を一方向に搬送するとよい。これにより、薄板を、搬送装置によって一方向に搬送させつつ、清掃装置によって薄板の表面を清掃することができる。
【００１０】
この場合、前記相対移動機構が、前記相対移動機構が、前記移動動作の際に前記薄板表面に対して前記一方向、或いは前記一方向及び前記一方向の逆方向に、前記清掃部を移動させるとよい。清掃部を前記一方向に薄板と同速度で移動させることで、前記清掃部の静止動作を得ることができ、静止摩擦による異物の除去を行い得る。また、清掃部を前記一方向の逆方向に移動させることで、清掃部と薄板との相対速度が早くなり、薄板表面の異物を効率的かつ確実に除去することができる。
【００１１】
この場合、前記相対移動機構が、前記一方向の移動動作及び前記逆方向の移動動作を交互に繰り返し、前記移動動作において、前記相対移動機構による前記清掃部の最大移動速度が、前記搬送装置による前記薄板表面の移動速度よりも早いと良い。これにより、相対移動機構によって前記一方向及び前記逆方向に清掃部を振動させることができ、薄板表面の同一箇所を複数回清掃することきができる。
【００１２】
前記清掃装置が、前記清掃部を、前記薄板表面に直接的又は間接的に接触させた状態と離間させた状態とを切り替える切替機構をさらに備えるとよい。これにより、切替機構によって、清掃部を薄板表面に直接的又は間接的に接触させた状態で清掃作業を行うことができ、清掃作業を行っていない場合には清掃部を離間位置に移動させることができる。
【００１３】
前記清掃部が前記薄板表面にクロス部材を介して間接的に接触するとよい。これにより、クロス部材が薄板表面に直接的に接触し、清掃作業によって薄板表面の異物をクロス部材に移行させることができる。
【００１４】
前記清掃装置がクロス部材を前記清掃部に供給する供給機構をさらに備えるとよい。これにより、クロス部材に薄板表面の異物が移行した際に、供給機構によって新たなクロス部材（の部分）を清掃部に供給し、新たなクロス部材（の部分）によって清掃作業を行うことができる。
【００１５】
前記清掃装置が、先端面に前記清掃部を有する柱状部材、及びクロス部材を前記柱状部材に押圧して、前記供給機構から前記清掃部に供給される長尺状のクロス部材が前記清掃部に対してずれるのを防止する押圧部材をさらに備えるとよい。これにより、上記押圧部材によって長尺状のクロス部材が柱状部材の側壁面側に押圧され、清掃作業時に清掃部に対するクロス部材のズレ（清掃部上のクロス部材の滑り）が生じにくく、的確な清掃作業を行うことができる。
【００１６】
この場合、前記柱状部材が前記先端面と前記側壁面との間にエッジを有するとよい。これにより、エッジに位置するクロス部材によって的確に薄板表面の異物を除去することができる。なお、「エッジを有する」とは、先端面及び側壁面と交差する方向の断面形状において、先端面及び側壁面とが不連続点を介して連続している場合のみならず、先端面及び側端面が曲率半径３ｍｍ以下の角を介して連続している場合を含む。なお、上記曲率半径は２ｍｍ以下が好ましく、１ｍｍ以下がより好ましい。
【００１７】
前記搬送装置が、前記清掃部に向けて洗浄液を供給する供給ノズルをさらに有するとよい。これにより、供給ノズルによって清掃部に向けて洗浄液を供給することで、洗浄液を利用した清掃を行うことができる。
【００１８】
前記搬送装置が、前記薄板を保持する保持部と、この保持部を前記一方向に走行させるレールとをさらに有するとよい。これにより、レールに沿って走行する保持部によって薄板を保持した状態で、清掃装置によって薄板表面を清掃することができる。
【００１９】
当該清掃システムにあっては、前記薄板を薄板表面のうち一方の面から保持する第１の前記搬送装置、第１の前記搬送装置によって搬送される前記薄板の他方の面を清掃する第１の前記清掃装置、第１の前記清掃装置によって一方の面が清掃された前記薄板を他方の面から保持する第２の前記搬送装置、第２の前記搬送装置によって搬送される前記薄板の一方の面を清掃する第２の前記清掃装置を具備するとよい。これによって、第１の清掃装置によって薄板の他方の面を清掃でき、第２の清掃装置によって薄板の一方の面を清掃でき、当該清掃システムによって薄板の両面を清掃することができる。
【００２０】
上記課題を解決するためになされた別の発明は、透明基板の表面を清掃する透明基板の清掃方法であって、前記透明基板の表面を上記構成からなる当該清掃システムによって清掃するものである。これにより、透明基板の表面を当該清掃システムによって容易かつ確実に清掃することができる。
【００２１】
また、上記課題を解決するためになされた別の発明は、透明基板を含む電子機器を製造する電子機器の製造方法であって、当該透明基板の清掃方法による清掃工程を有する。これにより、清掃された透明基板を用いた電子機器を容易かつ確実に製造できる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の一実施形態の清掃システムを示す模式的正面図である。
【図２】清掃システムの第１の清掃装置の模式的正面図である。
【図３】清掃システムの第２の清掃装置の模式的正面図である。
【図４Ａ】清掃装置の要部を拡大した模式的斜視図である。
【図４Ｂ】清掃装置の柱状部材の要部を拡大した模式的正面図である。
【図５】清掃装置の要部を拡大した模式的斜視図である。
【図６】清掃装置の動作を説明するための説明図であり、（Ａ）はクロス部材の供給状態、（Ｂ）は押圧部材によってクロス部材が押圧された状態、（Ｃ）は洗浄液を供給している状態、（Ｄ）は清掃状態を示す。
【図７】清掃作業を行っている際の薄板の移動速度及び清掃面の移動速度と、時間との関係を説明するための概略説明図である。
【図８】清掃装置による清掃状態を説明するための説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
［第１実施形態］
以下、本発明の一実施形態に係る清掃システムについて、適宜図面を参照しつつ詳説する。
【００２４】
＜清掃システム＞
図１に示す清掃システム１００は、製造ラインにおいて、スマートフォン、携帯電話等の電子機器に用いられるカバーガラス等のガラス板（薄板Ｗ）の表面に付着する異物を清掃するためのシステムである。なお、清掃対象である薄板Ｗは、カバーガラスに限定されるものではなく、その他、種々の基板を対象とすることができ、当該清掃システム１００は平面視方形状の透明な薄板Ｗの清掃に好適に用いられる。
【００２５】
清掃システム１００は、薄板Ｗを搬送する搬送装置１Ａ，１Ｂ、及び搬送装置１Ａ，１Ｂによって搬送される薄板Ｗの表面と対向して配置される清掃部である清掃面１３ａ（図２参照）を有する清掃装置３Ａ，３Ｂを具備している。清掃システム１００は、搬送装置１Ａ，１Ｂ及び清掃装置３Ａ，３Ｂを各々二つ具備している。具体的には、清掃システム１００は、薄板Ｗの表面のうち一方の面を吸着保持して搬送する第１の搬送装置１Ａ、第１の搬送装置１Ａによって搬送される薄板Ｗの他方の面を清掃する第１の清掃装置３Ａ、第１の清掃装置３Ａによって一方の面が清掃された薄板Ｗの他方の面を吸着保持して搬送する第２の搬送装置１Ｂおよび第２の搬送装置１Ｂによって搬送される薄板Ｗの一方の面を清掃する第２の清掃装置３Ｂを具備している。なお、必要な場合には、清掃装置３Ａ，３Ｂによって清掃された薄板Ｗの面における清掃による埃等を除去する除去装置や、清掃装置３Ａ，３Ｂによって清掃された薄板Ｗの面に保護フィルム等を貼るラミネート装置等を設けることも可能である。また、当該清掃システム１００は、搬送装置１Ａ，１Ｂ及び清掃装置３Ａ，３Ｂ等の各種装置の動作を制御する制御装置（図示省略）をさらに備えている。
【００２６】
第１の搬送装置１Ａは、搬入装置（図示せず）から薄板Ｗを受け取る位置Ｐ１から、薄板Ｗを第２の搬送装置１Ｂに受け渡す位置Ｐ２まで薄板Ｗを搬送する。薄板Ｗを受け取る位置Ｐ１と受け渡す位置Ｐ２との間に第１の清掃装置３Ａが配設されている。第１の清掃装置３Ａは第１の搬送装置１Ａによって搬送される薄板Ｗの一方の面（下面）を清掃する。第１の搬送装置１Ａは、第１の清掃装置３Ａによる清掃状態の薄板Ｗの表面を一方向（薄板Ｗを受け取る位置Ｐ１から受け渡す位置Ｐ２に向けた方向（Ｘ方向））に搬送する。ここで、清掃状態とは、薄板Ｗの表面を清掃装置３Ａ、３Ｂにより清掃されている最中の状態を意味している。なお、第１の搬送装置１Ａは、一定の速度で一方向（以下、搬送方向ということがある）に薄板Ｗを搬送している。
【００２７】
第２の搬送装置１Ｂは、第１の搬送装置１Ａから薄板Ｗを受け渡される位置Ｐ２から、搬出装置（図示せず）に薄板Ｗを受け渡す位置Ｐ３まで、薄板Ｗを搬送する。薄板Ｗを受け渡される位置Ｐ２と受け渡す位置Ｐ３との間に第２の清掃装置３Ｂが配設されている。第２の清掃装置３Ｂは第２の搬送装置１Ｂによって搬送される薄板Ｗの他方の面（上面）を清掃する。第２の搬送装置１Ｂは、第２の清掃装置３Ｂによる清掃状態の薄板Ｗの表面を一方向（薄板Ｗを受け取る位置Ｐ２から受け渡す位置Ｐ３に向けた方向（Ｘ方向））に搬送する。なお、第２の搬送装置１Ｂは、一定の速度で一方向に薄板Ｗを搬送している。
【００２８】
（第１の清掃装置）
図２を参照して、第１の清掃装置３Ａは、清掃のために清掃面１３ａを薄板Ｗの表面に直接的又は間接的に接触させた状態で清掃面１３ａを薄板Ｗの表面に対する相対的な静止動作と移動動作とを繰り返し行わせる相対移動機構１９を備える。清掃面１３ａは、薄板Ｗの表面に長尺状のクロス部材Ｃを介して間接的に接触している。クロス部材Ｃは、薄板Ｗの種類、薄板Ｗとの摩擦力、洗浄液の吸収程度等に応じて選択される。
【００２９】
第１の清掃装置３Ａは、図２に示すようにクロス部材Ｃを清掃面１３ａに供給する供給機構５をさらに備えている。供給機構５は、クロス部材Ｃが架け渡される主動ローラ７及び従動ローラ９を有し、主動ローラ７の回転によって薄板Ｗの清掃後にクロス部材Ｃを主動ローラ７側に巻き取り、これに伴い従動ローラ９から未使用のクロス部材Ｃが繰り出される。なお、供給機構５は、長尺状のクロス部材Ｃをテンションを調整しつつ供給する複数種類のローラをさらに有している。
【００３０】
供給機構５は、後述するように二つの柱状部材１３の清掃面１３ａに長尺状のクロス部材Ｃを供給するものである。長尺状のクロス部材Ｃは、後に薄板Ｗに接触する清掃面１３ａにまず供給され、その後に最初に薄板Ｗに接触する清掃面１３ａに供給される。言い換えると、長尺状クロス部材Ｃは、図２の矢印Ｔの方向に搬送される。つまり、主動ローラ７が、従動ローラ９よりも薄板Ｗの搬送方向の逆方向（−Ｘ方向）に設けられている。
【００３１】
第１の清掃装置３Ａは、図２及び図４〜６に示すように、それぞれ清掃面１３ａを有する一対の清掃部材１１を備えている。具体的には、搬送方向の上流側（−Ｘ方向側）の清掃部材１１によって薄板Ｗを後述する供給ノズル２９によって供給される洗浄液を用いて清掃し、搬送方向の下流側（Ｘ方向側）の清掃部材１１によって薄板Ｗの表面に付着する拭き跡や拭き残しを拭き取る。
【００３２】
各清掃部材１１は、先端（図２における柱状部材１３の上面）に清掃面１３ａを有する柱状部材１３、及び供給機構５から清掃面１３ａに供給される長尺状のクロス部材Ｃを柱状部材１３の側壁面１３ｂ側に押圧する押圧部材１５を有している（図４〜図６参照）。各清掃部材１１において、一の柱状部材１３を両側から一対の押圧部材１５によってクロス部材Ｃを挟持している。
【００３３】
柱状部材１３の先端面（清掃面１３ａ）に対して一対の側壁面１３ｂが図４Ｂに示すように略垂直に設けられ、柱状部材１３は、先端面（清掃面１３ａ）と側壁面１３ｂとの間にエッジＲを有している。具体的には、先端面及び側壁面１３ｂと交差する方向の断面形状において、先端面（清掃面１３ａ）及び側壁面１３ｂが曲率半径１ｍｍ以下の角を介して連続している。
【００３４】
柱状部材１３は、図４及び図５に示すように、薄板Ｗの搬送方向（Ｘ方向）及び薄板Ｗの厚み方向（Ｚ方向）の双方に直交する方向（Ｙ方向）に延びており、この直交する方向の長さは薄板Ｗの幅（搬送方向に直交する方向の長さ）と略同じ長さに設けられている。柱状部材１３の素材は特に限定されるものではないが、硬質の樹脂製のブレードを用いることができる。また、柱状部材１３の先端面（清掃面１３ａ）の形状は、薄板Ｗの搬送方向（Ｘ方向）及び薄板Ｗの厚み方向（Ｚ方向）の双方に直交する方向（Ｙ方向）において、薄板Ｗと対応する形状とされている。具体的には、薄板Ｗの表面形状が平面である場合（薄板Ｗの表面形状がＹ方向の直線がＸ方向に連続する形状である場合）、柱状部材１３の先端面は平面に設けられ、また、薄板Ｗの表面形状の一部がＹ方向につれてＺ方向に湾曲する形状である場合（薄板Ｗの表面形状がＹ方向の湾曲線がＸ方向に連続する形状である場合）、柱状部材１３の先端面はＹ方向の湾曲線が連続する形状（例えば、蒲鉾形状）に設けられる。
【００３５】
第１の清掃装置３Ａは、図２に示すように、各清掃部材１１を、薄板Ｗの表面にクロス部材Ｃを介して間接的に接触させた状態と離間させた状態とを切り替える切替機構１７をさらに備えている。具体的には、切替機構１７は、各清掃部材１１（柱状部材１３及び一対の押圧部材１５）に連結され清掃部材１１及び相対移動機構１９を上下動するシリンダから構成され、清掃部材１１が切替機構１７によって上昇されることで、搬送される薄板Ｗの表面にクロス部材Ｃを介して清掃面１３ａが間接的に接触する。
【００３６】
また、切替機構１７は、清掃面１３ａが後述する第１の搬送装置１Ａの保持部２５の表面にクロス部材Ｃを介して間接的に接触させることができるよう設けられている。つまり、清掃システム１００にあっては、薄板Ｗを保持していない保持部２５（図１参照）を、清掃部材１１によって清掃することができる。
【００３７】
相対移動機構１９は、搬送方向（Ｘ方向）に沿って清掃部材１１を往復動させる機構である。ここで、図７は、清掃部材１１の速度と時間との関係を示している。図７中の直線Ｋは薄板Ｗの搬送速度を示している。したがって、Ｓ１の箇所では、薄板Ｗと清掃部材１１が同じ速度で移動している。相対移動機構１９は、清掃面１３ａを搬送方向（Ｘ方向）及びその逆方向（−Ｘ方向）の移動動作を交互に繰り返し、移動動作において、相対移動機構１９による清掃面１３ａの移動速度は、第１の搬送装置１Ａによる薄板Ｗの表面の移動速度よりも早い（図７参照）。換言すると、相対移動機構１９は、清掃面１３ａを薄板Ｗの表面に間接的に接触させた状態で清掃面１３ａを薄板Ｗの表面に対する相対的な静止動作（図７のＳ１）と移動動作とを繰り返し行わせる。このため、相対移動機構１９では、薄板Ｗの表面に対してクロス部材Ｃとの静止摩擦力及び動摩擦力が交互に作用する。なお、相対移動機構１９による清掃部材１１の往復動の振幅幅は薄板Ｗの１０分の１から４０分の１の長さであり、相対移動機構１９は１分間に１０００往復から２５００往復の間の所定数往復するように清掃部材１１を駆動させる。
【００３８】
相対移動機構１９は、具体的には、モータ（図示省略）と、モータの回転力によって回転するカム２１と、清掃部材１１（柱状部材１３及び一対の押圧部材１５）を往復動させる駆動力にこのカム２１の回転力を変換して清掃部材１１に伝達する伝達部材２３とを有している。このため、モータの回転力によって清掃部材１１の往復動がなされる。この相対移動機構１９としては、具体的には例えばてこ−クランク機構を用いることができる。
【００３９】
（第１の搬送装置）
第１の搬送装置１Ａは、図１に示すように、薄板Ｗを吸着することで保持する保持部２５と、搬送方向（Ｘ方向）に沿って設けられ保持部２５が走行するレール２７と、保持部２５を走行させる駆動部（図示省略）とを有している。そして、保持部２５がレール２７に沿って搬送方向（Ｘ方向）に走行しながら、薄板Ｗは、搬送されつつ第１の清掃装置３Ａによって表面（下面）が清掃される。
【００４０】
また、第１の搬送装置１Ａは、清掃面１３ａに向けて洗浄液を供給する供給ノズル２９をさらに有している。この供給ノズル２９は、清掃面１３ａによる薄板Ｗの表面の清掃前に清掃面１３ａに向けて洗浄液を供給する。具体的には、供給ノズル２９は、保持部２５に設けられており、保持部２５と共に搬送方向（Ｘ方向）に移動する。この供給ノズル２９は、薄板Ｗの搬送に際して清掃作業開始前の搬送方向の上流側（−Ｘ方向側）の清掃面１３ａに洗浄液を供給する。また、供給ノズル２９は、搬送方向の下流側（Ｘ方向側）の清掃面１３ａにも微量の洗浄液を供給しても良く、また供給しなくともよい。供給ノズル２９は、保持部２５の搬送方向側（Ｘ方向側）に設けられている。また、供給ノズル２９は、Ｙ方向に延びており、この直交する方向の長さは清掃面１３ａの長さ（Ｙ方向の長さ）と略同じ長さに設けられている。
【００４１】
第１の搬送装置１Ａは、薄板Ｗを受け渡す位置Ｐ２において薄板Ｗを受け渡すために保持部２５を下降させる上下動機構（図示省略）を有している。
【００４２】
（第２の清掃装置）
第２の清掃装置３Ｂは、第１の清掃装置３Ａと略同様の構成を具備し、薄板Ｗの清掃済みの面の反対面（上面）を清掃する。なお、第２の清掃装置３Ｂは、図３に示すように、第１の清掃装置３Ａと上下逆に配置等された構成を具備するものであり、第１の清掃装置３Ａと同一構成又は機能を有する部材について図３において同一符号を用い、詳細な説明は省略する。
【００４３】
（第２の搬送装置）
第２の搬送装置１Ｂは、第１の搬送装置１Ａと略同様の構成を具備し、第２の清掃装置３Ｂによって清掃される薄板Ｗを搬送する装置である。なお、第２の搬送装置１Ｂにおいて、第１の搬送装置１Ａと同一構成又は機能を有する部材について同一符号を用い、詳細な説明は省略する。
【００４４】
第２の搬送装置１Ｂは、第１の搬送装置１Ａから受け取った薄板Ｗが載置される保持部２５を有している。この保持部２５は、薄板Ｗの下面から支持しており、吸着孔を有しており、薄板Ｗを吸着することで保持している。
【００４５】
なお、第２の搬送装置１Ｂが、薄板Ｗを受け取る位置Ｐ２において薄板Ｗを受け取るために保持部２５を上昇させる上下動機構（図示省略）を有していてもよい。
【００４６】
＜動作＞
次に、清掃システム１００による動作について説明する。
【００４７】
まず、搬入装置から第１の搬送装置１Ａの保持部２５に薄板Ｗが受け渡される（図１の位置Ｐ１）。そして、第１の搬送装置１Ａの保持部２５が搬送方向（Ｘ方向）に移動しつつ、供給ノズル２９が清掃面１３ａに位置した際に供給ノズル２９から第１の清掃装置３Ａの清掃面１３ａ（に接触するクロス部材Ｃの一部）に向けて洗浄液が供給される。
【００４８】
清掃に際して、清掃面１３ａにはクロス部材Ｃの新たな部分が供給される。具体的には、図６（Ａ）に示すように、一対の押圧部材１５が離間した状態（押圧部材１５によるクロス部材Ｃの柱状部材１３の側壁面１３ｂ側への押圧を解除している状態）において、供給機構５の主動ローラ７が回転することで、従動ローラ９から未使用のクロス部材Ｃが繰り出され、清掃面１３ａにクロス部材Ｃの新たな部分が供給される。この後、図６（Ｂ）に示すように、一対の押圧部材１５が柱状部材１３に向かって移動することで、一対の押圧部材１５によってクロス部材Ｃが柱状部材１３の側壁面１３ｂ側へ押圧される。この状態では、クロス部材Ｃが柱状部材１３と一体として移動する。言い換えるとクロス部材Ｃが柱状部材１３に対してずれることが無い。次いで、上述のように、供給ノズル２９が清掃面１３ａに清掃面１３ａに向けて洗浄液を供給する（図６（Ｃ）参照）。そして、図６（Ｄ）のように清掃部材１１（柱状部材１３及び一対の押圧部材１５）が搬送される薄板Ｗ側に向けて切替機構１７によって移動する（上昇する）。
【００４９】
このとき図８（Ａ）のように、薄板Ｗの搬送方向端部に清掃面１３ａは位置している。この状態から−Ｘ方向に清掃部材１１が移動する。図８（Ｂ）のように所定の距離だけ−Ｘ方向に清掃部材１１が移動すると、Ｘ方向に清掃部材１１は移動する（図８（Ｃ））。その後、清掃部材１１は、Ｘ方向に所定距離移動した後、再度−Ｘ方向に移動する。この動作の間常に薄板Ｗは所定速度でＸ方向に搬送されている。この動作において、薄板Ｗと清掃部材１１が同じ方向及び速度で移動するタイミングにおいては、清掃部材１１により薄板Ｗ及び薄板Ｗ上の異物に静止摩擦力が作用する。一方で、静止摩擦力が作用するタイミング以外では、薄板及び薄板Ｗ上の異物に動摩擦力が作用する。これにより清掃部材１１の相対的な移動動作及び静止動作による清掃がなされ、動摩擦による異物の除去（拭き取り動作）のみならず静止摩擦による異物の除去（拭き取り動作）が行われ、薄板Ｗの下面が清掃される。
【００５０】
薄板Ｗが清掃部材１１に対してＸ方向に移動していき、薄板Ｗの−Ｘ方向側端部に清掃部材１１が位置した（図８（Ｄ））後、今までと同様に所定距離だけＸ方向に清掃部材１１が移動する（図８（Ｅ））。そして、その後清掃部は−Ｘ方向に所定距離移動する。何度か薄板Ｗの−Ｘ方向端部を清掃部材１１が拭き取った後に、清掃部材１１は薄板Ｗから離間する（図８（Ｆ）及び図８（Ｇ））。なお、図８（Ａ）から図８（Ｇ）は、構成及び動作の理解のために実際の縮尺とは異なる縮尺で表現している。
【００５１】
第１の清掃装置３Ａによる上面の清掃がなされた薄板Ｗは、第１の搬送装置１Ａから第２の搬送装置１Ｂに受け渡される（図１の位置Ｐ２）。具体的には、第１の搬送装置１Ａの保持部２５がシリンダにより下方に移動し（図１のＷ１）、保持部２５によって保持される薄板Ｗが第２の搬送装置１Ｂの保持部２５に接触した時点で、第１の搬送装置１Ａの保持部２５による吸着保持が終了すると同時に、第２の搬送装置１Ｂの保持部２５による吸着保持を開始する。
【００５２】
このようにして、第１の搬送装置１Ａから第２の搬送装置１Ｂに薄板Ｗが受け渡された後、第２の搬送装置１Ｂ及び第２の清掃装置３Ｂによっても、第１の搬送装置１Ａ及び第１の清掃装置３Ａと同様の動作がなされ、薄板Ｗの下面の清掃がなされる。そして、第２の清掃装置３Ｂによる下面の清掃がなされた薄板Ｗは、搬出装置に受け渡される（図１の位置Ｐ３）。
【００５３】
一方、薄板Ｗを第２の搬送装置１Ｂに受け渡した第１の搬送装置１Ａの保持部２５は、図１の位置Ｐ１に戻る。同様に、薄板Ｗを搬出装置に受け渡した第２の搬送装置１Ｂの保持部２５は、図１の位置Ｐ２に戻る。保持部２５が各位置に戻る際に保持部２５を清掃部材１１によって清掃することも可能である。
【００５４】
＜電子機器の製造方法＞
次に、上述した清掃システム１００を用いた電子機器の製造方法について説明する。この電子機器の製造方法は、清掃システム１００を用いて薄板Ｗとして透明基板を清掃する工程を有している。この清掃工程において、清掃システム１００を用い、透明基板の両面が清掃される。
【００５５】
＜利点＞
清掃システム１００による清掃にあっては、上述のように薄板Ｗの表面に対して清掃面１３ａが相対的な移動動作のみならず静止動作を行うので、動摩擦による異物の除去のみならず静止摩擦による異物の除去を行うことができ、確実に薄板Ｗ表面の異物を除去できる。つまり、静止摩擦の方が動摩擦よりも強い力が異物に作用するので、より効果的に異物を除去できる。
【００５６】
また、清掃面１３ａが薄板Ｗの表面に対して搬送方向に沿って往復動し、清掃面１３ａが搬送方向及びその逆方向の双方に移動するため、一方向にのみ力を作用させる場合に比べて、異なる複数の方向への力が異物に作用し、効果的に異物を除去できる。
【００５７】
粘着力の強い異物が薄板Ｗに付着している場合であっても、柱状部材１３のエッジＲにより複数回異物に衝撃力を加えることができるため、粘着力の強い異物を除去しやすい。
【００５８】
さらに、搬送方向に沿った方向で薄板Ｗの表面に対して清掃面１３ａが移動するものであるので、薄板Ｗの形状に合わせた清掃面１３ａを採用することで、種々の薄板Ｗの清掃に用いることができる。具体的には、例えば、液晶パネルのようにガラスの周囲に端子が設けられた清掃対象物（薄板Ｗ）や、ガラス基板が枠に嵌め込まれた清掃対象物（薄板Ｗ）や、湾曲した曲面を有する３Ｄガラス（薄板Ｗ）等のように、単なる平坦な平面のみからなる清掃対象物でなくとも、その形状に沿った清掃面１３ａを設けることで、的確な清掃を行うことができる。特に、清掃装置３Ａ，３Ｂが切替機構１７を備えるため、清掃面１３ａを薄板Ｗに清掃対象の部分のみで接触させ、その後に離間させることで、特殊形状を有する薄板Ｗであっても清掃対象の部分を的確に清掃することができる。
【００５９】
［その他の実施形態］
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記実施形態の構成や数値に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更（構成の置換、付加及び削除）が含まれることが意図される。
【００６０】
つまり、上記実施形態においては、洗浄液を供給する供給ノズルが搬送装置に設けられたものについて説明したが、本発明はこれに限定されない。例えば、供給ノズルが清掃装置に設けられているものであってもよく、具体的には、供給ノズルを一対の清掃部の間のクロス部材に洗浄液を供給するよう設けることも可能である。また、供給ノズルを搬送装置の保持部に設ける場合にあっても、供給ノズルを保持部の搬送方向側に設けるものに限定されず、搬送方向の逆方向側（−Ｘ方向側）に設けけることも可能である。
【００６１】
また、上記実施形態においては柱状部材として樹脂製のブレードを用いたものを説明したが、樹脂ではなく金属等を用いて先端面に樹脂やゴム等で被膜したような部材を用いたり、柱状部材としてパッド等を採用することも可能である。
【００６２】
さらに、柱状部材の先端面（清掃面）に溝を形成して、先端面が平面の場合より摩擦力等が作用しやすい構成としても良い。
【００６３】
上記実施形態においては清掃面が往復動するものについて説明したが、清掃面が断続的に一方向に移動、つまり一方向に移動及び停止を繰り返す構成を作用することも可能である。さらに、清掃面の移動方向は薄板Ｗの搬送方向（Ｘ方向）やその逆方向に限られず、その他の方向に移動させる、言い換えると３方向以上の方向に移動させる構成であってもよい。この場合には、異なる方向の力が異物に作用するため、異物をさらに除去しやすい。
【００６４】
上記実施形態においては薄板Ｗが一定速度で搬送されながら、清掃面が往復動して薄板Ｗの表面を拭き取る構成について説明したが、清掃状態においては、薄板Ｗが搬送されず、柱状部材１３が移動する構成であってもよい。
【００６５】
上記実施形態においては、２つの清掃部材１１の両方をＸ方向及び−Ｘ方向へ移動（往復運動）させたが、本発明はこれに限られない。薄板Ｗの搬送方向における後方側の清掃部材１１を往復運動させない構成であってもよい。往復運動させる場合には、静止摩擦が作用する箇所において拭き跡等が残る可能性があるが、この構成では拭き跡が残留するのを防止できる。
【００６６】
上記実施形態においては、相対移動機構１９による清掃部材１１の往復動の振幅幅は薄板Ｗの１０分の１から４０分の１の長さであり、相対移動機構１９は１分間に１０００往復から２５００往復の間の所定数往復するように清掃部材１１を駆動させる構成について説明したが、本発明はこれに限られない。振幅幅が薄板Ｗの５分の１程度や５０分の１程度であっても良く、１分間における往復回数も５００程度や３０００程度であってもよい。速く移動させる方が異物に作用する力が大きくなるため有効であるが、静止摩擦力が作用する回数が多い方が異物を除去しやすい。薄板の材質や清掃環境等により最適な条件を決定するのが好ましい。
【００６７】
また、上記実施形態においては、薄板の両面を清掃するものについて説明したが、薄板の一方の面のみを清掃するものであってもよい。この場合、第１の清掃装置及び第１の搬送装置、又は第２の清掃装置及び第２の搬送装置を採用するとよい。
【００６８】
上記実施形態においては、搬送装置は薄板Ｗを吸着保持しながら搬送したが、本発明はこれに限らず、他の手段で保持・搬送してもよく、例えば機械的、物理的に薄板Ｗを保持する構成を採用することもできる。
【００６９】
上記実施形態においては、清掃面によって薄板を清掃する構成を採用したが、本発明はこれに限られず、線状又は点状に薄板に接触して清掃する構成を採用することもできる。
【００７０】
上記実施形態においては、平板状の薄板を清掃する場合について説明したが、本発明はこれに限らず、清掃対象である箇所の周辺に清掃不要な部材が配置されている対象物を清掃する場合や、平板ではなく突出部分が設けられた薄板であっても適用可能である。
【００７１】
さらに、上記実施形態においては、柱状部材が薄板の幅と略同一の長さを有するものについて説明したが、本発明はこれに限定されない。例えば、柱状部材が薄板の幅よりも大きい長さを有するものとすることもでき、この場合、種々の幅の薄板に対して清掃することができる。さらに、幅方向両端が突出している形状の薄板を清掃する際には、薄板の幅よりも短い長さの柱状部材を採用することで、突出部分を避けて、又は突出部分を拭き取りながら、清掃面を清掃することができる。
【産業上の利用可能性】
【００７２】
本発明の清掃システムは、本発明の透明板清掃システムは、携帯機器の表示装置に用いられるガラス基板等の透明板の清掃に好適に利用できる。
【符号の説明】
【００７３】
Ｗ  薄板
Ｃ  クロス部材
１Ａ  第１の搬送装置
１Ｂ  第２の搬送装置
３Ａ  第１の清掃装置
３Ｂ  第２の清掃装置
５  供給機構
１３  柱状部材
１３ａ  清掃面（清掃部）
１５  押圧部材
１７  切替機構
１９  相対移動機構
２５  保持部
２７  レール
１００  清掃システム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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