(57)【要約】      （修正有）【課題】マスクと基板の間の間隔が小さいウエハ支持システムを提供する。【解決手段】システム１０において、ウエハ支持装置１６はダイシングフレーム１４、下部プレート２６および上部プレート２８を有する。上部プレート２８は、ウエハ１２を支持するための支持面３４を備える。下部プレート２６がダイシングフレーム１４用の収容場所３２を備えられるように、下部プレート２６は、上部プレート２８の最大径ｄｔより大きな最大径ｄｂを有する。ダイシングフレーム１４は、中心孔２０を形成している板のような形状を有し、ウエハ１２の上面および／またはサポート面３４より下に沈むように、中心孔２０の最小径ｄｈは、上部プレート２８の最大径ｄｔより大きい。【選択図】図１
2019062201.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウエハ支持装置（１６）およびダイシングフレーム（１４）を備える、ウエハ（１２）を支持するためのウエハ支持システムであって、
前記ウエハ支持装置（１６）は、互いに同軸上に配置されている下部プレート（２６）および上部プレート（２８）を有し、
前記上部プレート（２８）は、前記下部プレート（２６）から見て外側に向いている前記上部プレート（２８）の面である、前記ウエハ（１２）を支持するための支持面（３４）を備え、
前記下部プレート（２６）は、前記下部プレート（２６）が前記上部プレート（２８）の周りに前記ダイシングフレーム（１４）用の収容場所（３２）を形成する肩部（３０）を備えるように、前記上部プレート（２８）の最大径（ｄｔ）より大きな最大径（ｄｂ）を有し、
前記ダイシングフレーム（１４）は、中心孔（２０）を形成する板のような形状を有し、
前記中心孔（２０）の最小径（ｄｈ）は、前記上部プレート（２８）の前記最大径（ｄｔ）より大きく、
前記上部プレート（２８）は、前記ダイシングフレーム（１４）が前記収容場所（３２）に位置するように前記ダイシングフレーム（１４）の前記中心孔（２０）を通じて広がり得るような形状をしており、前記ウエハ（１２）が前記ダイシングフレーム（１４）に取り付けられ、前記ウエハ支持装置（１６）の上部に配置されたとき、前記ダイシングフレーム（１４）の最高位置は、垂直方向で前記ウエハ（１２）の前記上面および／または前記支持面（３４）の下方に位置する、
ウエハ支持システム。
【請求項２】
互いに同軸上に配置されている下部プレート（２６）および上部プレート（２８）を備えるダイシングフレーム（１４）に取り付けられたウエハ（１２）を支持するためのウエハ支持装置であって、
前記上部プレート（２８）は、前記下部プレート（２６）から見て外側に向いている前記上部プレート（２８）の面である、前記ウエハ（１２）を支持するための支持面（３４）を備え、
前記下部プレート（２６）は、前記ダイシングフレーム（１４）が収容場所（３２）に位置するように前記下部プレート（２６）が前記上部プレート（２８）の周りに前記ダイシングフレーム（１４）用の前記収容場所（３２）を形成する肩部（３０）を備えるように、前記上部プレート（２８）の最大径（ｄｔ）より大きな最大径（ｄｂ）を有し、前記ウエハ（１２）が前記ダイシングフレーム（１４）に取り付けられ、前記ウエハ支持装置（１６）の上部に配置されたとき、前記ダイシングフレーム（１４）の最高位置は、垂直方向で前記ウエハ（１２）の前記上面および／または前記支持面（３４）の下方に位置する、
ウエハ支持装置。
【請求項３】
ウエハ（１２）、および互いに同軸上に配置されている下部プレート（２６）および上部プレート（２８）を有するウエハ支持装置（１６）を備えるシステムであって、
前記上部プレート（２８）は、前記下部プレート（２６）から見て外側に向いている前記上部プレート（２８）の面である、前記ウエハ（１２）を支持するための支持面（３４）を備え、
前記下部プレート（２６）は、前記ウエハ（１２）がダイシングフレーム（１４）に取り付けられ、前記ウエハ支持装置（１６）の上部に配置されたとき、前記ダイシングフレーム（１４）が垂直方向で前記ウエハ（１２）の前記上面および／または前記支持面（３４）の下方に位置するように、前記下部プレート（２６）が前記上部プレート（２８）の周りに前記ダイシングフレーム（１４）用の収容場所（３２）を形成する肩部（３０）を備えるように、前記上部プレート（２８）の最大径（ｄｔ）より大きな最大径（ｄｂ）を有する、
システム。
【請求項４】
前記支持面（３４）は、前記ウエハ（１２）と同一の大きさを有する、請求項１に記載のウエハ支持システム、請求項２に記載のウエハ支持装置、または請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記下部プレート（２６）の前記最大径（ｄｂ）は、前記上部プレート（２８）の前記最大径（ｄｔ）の少なくとも１．３倍であることを特徴とする、請求項１若しくは請求項４に記載のウエハ支持システム、請求項２若しくは請求項４に記載のウエハ支持装置、または請求項３若しくは請求項４に記載のシステム。
【請求項６】
前記支持面（３４）は、少なくとも一つの外側真空領域（３８）および少なくとも一つの内側真空領域（３６）を設けられ、前記少なくとも一つの外側真空領域（３８）および前記少なくとも一つの内側真空領域（３６）は、互いに流体的に分離されており、前記少なくとも一つの外側真空領域（３８）は、前記支持面（３４）の外側の縁に配置されることを特徴とする、請求項１、請求項４若しくは請求項５に記載のウエハ支持システム、請求項２、請求項４若しくは請求項５に記載のウエハ支持装置、または請求項３から請求項５のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項７】
前記少なくとも一つの外側真空領域（３８）は、外縁の少なくとも４分の３に沿って、特に前記上部プレート（２８）の全外縁に沿って広がることを特徴とする、請求項６に記載のウエハ支持システム、ウエハ支持装置、またはシステム。
【請求項８】
前記ウエハ支持装置（１６）は、それぞれ前記少なくとも一つの外側真空領域（３８）と前記少なくとも一つの内側真空領域（３６）とに流体的に接続され、それぞれ第１の真空ポート（４６）と第２の真空ポート（４８）とに至る、第１の供給ダクト（４２）と第２の供給ダクト（４４）とを備え、
前記第１の供給ダクト（４２）および前記第２の供給ダクト（４４）は、前記下部プレート（２６）を通じて伸びることを特徴とする、
請求項６若しくは請求項７に記載のウエハ支持システム、ウエハ支持装置、またはシステム。
【請求項９】
前記上部プレート（２８）は、透明な材料で作られ、前記下部プレート（２６）は、不透明な材料で作られ、前記下部プレート（２６）は、前記上部プレート（２８）で覆われた領域に少なくとも一つの切り欠き（５２）を有することを特徴とする、請求項１、請求項４から請求項８のいずれかに１項に記載のウエハ支持システム、請求項２、請求項４から請求項８のいずれかに１項に記載のウエハ支持装置、または請求項３から請求項８のいずれかに１項に記載のシステム。
【請求項１０】
前記上部プレート（２８）は、ガラスで作られ、および／または前記下部プレート（２６）は、プラスチック若しくは金属、特に鉄若しくはアルミニウムで作られる、請求項９に記載のウエハ支持システム、ウエハ支持装置、またはシステム。
【請求項１１】
前記ウエハ支持装置（１６）は、前記ダイシングフレーム（１４）を整列し、および／または支持するための、前記下部プレート（２６）の前記肩部（３０）から前記上部プレート（２８）と同じ側に伸びる少なくとも一つの突起部（５４）を備えることを特徴とする、請求項１、請求項４から請求項１０のいずれかに１項に記載のウエハ支持システム、請求項２、請求項４から請求項１０のいずれかに１項に記載のウエハ支持装置、または請求項３から請求項１０のいずれかに１項に記載のシステム。
【請求項１２】
マスクホルダ（６０）および請求項１、請求項４から請求項１１のいずれかに１項に記載のウエハ支持システム（１８）または請求項３から請求項１１のいずれかに１項に記載のシステム（１０）を備える、マスク（６２）およびウエハ（１２）を整列するためのマスクアライナ。
【請求項１３】
少なくとも一つの近接スペーサ（６６）およびアクチュエータ（６８）は、マスクホルダ（６０）に設けられ、
前記アクチュエータ（６８）は、動作位置と非動作位置との間で前記近接スペーサ（６６）を動かすように構成され、
前記近接スペーサ（６６）は、前記非動作位置で前記ダイシングフレーム（１４）の領域の径方向外側に配置されることを特徴とする、
請求項１２に記載のマスクアライナ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウエハ支持システム、ウエハ支持装置、ウエハおよびウエハ支持装置を備えるシステム、並びにマスクホルダおよびウエハ支持システムを備えるマスクアライナに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子またはこれに類するもののマイクロ加工およびナノ加工の間、ウエハのような非常に薄い基板が使用される。薄い基板を取り扱い、ダイシングする（個片化する）ために、ダイシングフレームおよびダイシングテープを用いることが知られている。
【０００３】
ダイシングフレームは、強固な、中心孔を有する板のような構造物である。基板またはウエハは、中心孔の少なくとも一部をわたって（好ましくは、中心孔全体をわたって）架かるダイシングテープの層を用いて中心孔内に固定される。
【０００４】
通常、ダイシングフレーム自体の厚みは、基板の厚みよりも少なくとも１桁は大きい。例えば、ウエハは２５μｍから１００μｍの厚みを有し、フレームは１ｍｍから２ｍｍの厚みを有する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
厚みにおけるこの差は、基板の処理の間、特にマスクアライナにおいて、問題の原因となり、マスクアライナでは、マスクと基板との間には、ごく小さな間隙又は間隙無しが、例えばシャドウイメージングにおいて、適している。基板またはウエハにマスクを近づけているとき（基板またはウエハは通常チャックによって支持されている）、マスクは、間隙を十分小さくする前に、すなわち間隙が望ましい大きさになる前に、ダイシングフレームと接触する。
【０００６】
したがって、基板がダイシングフレーム内に取り付けられたとしても、マスクと基板との間の間隙が小さいまたは無い、ウエハ支持システム、ウエハ支持装置、ウエハおよびウエハ支持装置を備えるシステム、並びにマスクアライナを提供することが、本発明の目的である。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この目的のため、ウエハ支持装置およびダイシングフレームを備える、ウエハを支持するためのウエハ支持システムが提供され、ウエハ支持装置は、互いに同軸に配置された下部プレートおよび上部プレートを有し、上部プレートは、下部プレートから見て外側に向いている上部プレートの面である、ウエハを支持するための支持面を備える。下部プレートは、下部プレートが上部プレートの周りにダイシングフレーム用の収容場所を形成する肩部を備えられるように、上部プレートの最大径より大きな最大径を有する。ダイシングフレームは、中心孔を形成している板のような形状を有し、中心孔の最小径は、上部プレートの最大径より大きく、上部プレートは、ダイシングフレームが収容場所に位置するようにダイシングフレームの中心孔を通って広がることができるような形状である。ウエハが、ダイシングフレーム内に取り付けられ、ウエハ支持装置の上部に配置されたとき、ダイシングフレームの最高位置は、垂直方向でウエハの上面および／または支持面より下に位置する。したがって、システムの最高位置は、ウエハ表面である。したがって、マスクをウエハ上面に接近させる又は接触させる種々の工程（特に露光工程）の処理が可能となる。
【０００８】
特に、ダイシングフレームの最高位置は、ウエハの上面の平面より下に位置する。
【０００９】
ダイシングフレームの最大径は、下部プレートの最大径より大きくてもよい。
【００１０】
ウエハは、ダイシングフレームが上部プレートに接触せず、下部プレートに向かって落ち得るように、上部プレートと同軸に上部プレートに配置される。
【００１１】
本目的はさらに、互いに同軸に配置された下部プレートおよび上部プレートを備える、ダイシングフレーム内に取り付けられたウエハを支持するためのウエハ支持装置によって達成され、上部プレートは、下部プレートから見て外側に向いている上部プレートの面である、ウエハを支持するための支持面を有する。下部プレートは、ダイシングフレームが収容場所に位置するように下部プレートが上部プレートの周りにダイシングフレーム用の収容場所を形成する肩部を備えられるように、上部プレートの最大径より大きな最大径を有する。ウエハが、ダイシングフレーム内に取り付けられ、ウエハ支持装置の上部に配置されたとき、ダイシングフレームの最高位置は、垂直方向でウエハの上面および／又は支持面より下に位置する。ウエハ支持装置は、チャックであってもよい。ダイシングフレーム用の肩部および収容場所を設けることで、ダイシングフレームは、ウエハより下に、より正確にはウエハの上面より下に、垂直方向で完全に沈んでもよい。
【００１２】
本発明はさらに、ウエハ、並びに互いに同軸に配置された下部プレートおよび上部プレートを有するウエハ支持装置を備えるシステムに関しており、上部プレートは、下部プレートから見て外側に向いている上部プレートの面である、ウエハを支持するための支持面を備え、支持面は、ウエハと同一の大きさを有する。ダイシングフレームが収容場所に位置するように下部プレートが上部プレートの周りにダイシングフレーム用の収容場所を形成する肩部を備えられるように、下部プレートは、上部プレートの最大径より大きな最大径を有する。ウエハが、ダイシングフレーム内に取り付けられ、ウエハ支持装置の上部に配置されたとき、ダイシングフレームの最高位置は、垂直方向でウエハの上面および／又は支持面より下に位置する。
【００１３】
好ましくは、支持面は、ウエハと同一の大きさを有する。例えば、２００ｍｍのチャックに対して、上部プレートの径も２００ｍｍである。
【００１４】
さらに、本発明は、ダイシングフレーム、ダイシングフレームに取り付けられたウエハおよびウエハ支持装置を備えるシステムに関し、ウエハ支持装置は、互いに同軸に配置された下部プレートおよび上部プレートを有する。上部プレートは、下部プレートから見て外側に向いている上部プレートの面である、ウエハを支持するための支持面を備え、支持面は、ウエハと同一の大きさを有する。下部プレートが上部プレートの周りにダイシングフレーム用の収容場所を形成する肩部を備えられるように、下部プレートは、上部プレートの最大径より大きな最大径を有する。ダイシングフレームは、中心孔を形成している板のような形状を有し、ダイシングフレームは、支持面の上に配置され、中心孔の最小径は、上部プレートの最大径より大きい。ウエハは、支持面に配置され、ダイシングテープを用いてダイシングフレーム内に取り付けられ、上部プレートは、ダイシングフレームが収容場所に位置するようにダイシングフレームの中心孔を通じて広がる。ウエハが、ダイシングフレーム内に取り付けられ、ウエハ支持装置の上部に配置されたとき、ダイシングフレームの最高位置は、垂直方向でウエハの上面および／又は支持面の下に位置する。
【００１５】
特に、下部プレートおよび上部プレートは、互いに取り付けられてもよい。したがって、下部プレートおよび上部プレートは、もう一方に取り付けられている別々の要素であってもよい。
【００１６】
下部プレートおよび／又は下部プレートは、平坦であってもよい。
【００１７】
例えば、下部プレートの最大径は、安定し、かつ十分な大きさの収容場所を設けるために、上部プレートの最大径の少なくとも１．３倍である。
【００１８】
本発明の実施形態において、支持面は、少なくとも一つの外側真空領域および少なくとも一つの内側真空領域を設けられ、少なくとも一つの外側真空領域および少なくとも一つの内側真空領域は、互いに流体的に切り離されており、少なくとも一つの外側真空領域は、支持面の外側の縁に配置されている。真空領域は、溝、孔のある表面またはその他吸引手段を備えてもよい。外側および内側真空領域を設けることで、最中に基板を曲げることを防ぎつつ、ウエハの基板への確実な固定が可能となる。これは、取り付けの間、両方の真空領域を作動すること、およびウエハが支持面に確実に固定されると内側真空領域を停止することで達成され得る。
【００１９】
例えば、少なくとも一つの外側真空領域は、外縁の少なくとも４分の３に沿って広がり、特に上部プレートの全外縁に沿って広がる。このように、たとえ外側真空領域のみが作動していたとしても、ウエハの確実な固定は、確保され得る。
【００２０】
径方向において、たわみを最小限に減らすためにただ一つの外側真空領域が設けられてもよい。
【００２１】
好ましくは、ウエハ支持装置は、それぞれ少なくとも一つの外側真空領域と少なくとも一つの内側真空領域とに流体的に接続され、それぞれ第１の真空ポートと第２の真空ポートとに至る、第１の供給ダクトと第２の供給ダクトとを備える。第１の供給ダクトおよび第２の供給ダクトは、上部プレートおよび下部プレートを通って伸びる。したがって、真空は、単純かつ信頼性のある手段で真空領域に作用され得る。
【００２２】
供給ダクトは、下部プレート内を径方向に外側に、特に反対方向へ、向かって、そして下部プレートの外縁に向かって伸びてもよい。
【００２３】
例えば、第１の真空ポートおよび第２の真空ポートは、下部プレートの外縁に設けられ、第１の供給ダクトと第２の供給ダクトは、それぞれ第１の真空ポートと第２の真空ポートとに至る。
【００２４】
複数の内側真空領域が、ウエハをウエハ支持に確実に固定するために、スパインを径方向に伸ばすことで相互接続された同心円を形成して設けられてもよい。
【００２５】
別の実施形態において、上部プレートは、透明な材料で作られ、下部プレートは、不透明な材料で作られ、下部プレートは、上部プレートで覆われた領域に少なくとも一つの切り欠きを有する。好ましくは、下部プレートは、裏側のアライメントのための二つの反対側にある切り欠きを有する。切り欠きおよび透明な材料の使用は、ウエハの光学的アライメント用に使用され得るウエハの下面でのアライメントマークを使用させる。
【００２６】
長い耐用年数および負荷サイクルを達成するため、上部プレートはガラスで作られ、及び／又は下部プレートはプラスチック若しくは金属、特にスチール若しくはアルミニウム、で作られる。
【００２７】
二つの切り欠きが提供されてもよく、ウエハの異なるアライメント位置を考慮するために、上部プレートに関して、直径方向に互いに反対に配置される。
【００２８】
ダイシングフレームの振動または好ましくない移動を防ぐために、ウエハ支持装置は、上部プレートと同じ側に、ダイシングフレームを整列し、及び／又は支持するための、下部プレートの肩部から伸びている少なくとも一つの突起部を備える。
【００２９】
突起部は、ダイシングフレームを肩部に固定するための磁気素子であってもよい。
【００３０】
基板の台への事前調整は、ダイシングフレームの外側外縁に設けられ得るノッチを通じて実施され得る。
【００３１】
本発明はさらに、本発明によるマスクホルダ及びウエハ支持システムを備える、マスク及びウエハを整列するためのマスクアライナを提供する。上述したように、マスクアライナは、マスクとウエハの間に小さな間隙がある、または間隙無しに、基板またはその上のコーティングを露光するためにダイシングフレーム内に取り付けられたウエハを処理するために使用され得る。
【００３２】
本発明の実施形態において、近接スペーサ及びアクチュエータが、マスクホルダに設けられる。アクチュエータは、動作位置と非動作位置との間で近接スペーサを動かすように構成され、近接スペーサは、非動作位置では、ダイシングフレームの領域の径方向に外側に配置される。したがって、マスクアライナは、たとえ近接スペーサがこの特定の目的のために必要ないとしても使用され得る。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
本発明のさらなる特徴と利点が、実施形態の下記説明および符号が付与された添付図面から明らかになる。
【００３４】
【図１】図１は、本発明によるウエハ支持システムおよび本発明によるウエハ支持装置を備える、本発明によるシステムの、軸Ｉ−Ｉに沿った概略的な断面図を示す。
【図２】図２は、図１に記載のシステムの上面図を示す。
【図３】図３は、図２の上面図の拡大図の一部を示す。
【図４】図４は、図１のシステムの、図２での軸ＩＶ−ＩＶに沿った断面図を示す。
【図５】図５は、ウエハ支持システムの第２の実施形態およびウエハ支持装置の第２の実施形態を備える、本発明によるシステムの概略的な第２の実施形態を示す。
【図６】図６は、図５に記載のウエハ支持システムを備える本発明による概略的なマスクアライナを示す。
【図７】図７は、異なる位置での近接スペーサを備える、図６のマスクアライナを示す。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
図１および図２は、ウエハ１２を支持するためのシステム１０を示す。図２において、ウエハ１２及びダイシングテープは、簡略化のために記載されていない。
【００３６】
ウエハ１２は、シリコンで作られている薄いウエハであってもよい。しかし、記載されている発明という意味では、用語「ウエハ」はまた、ガラス、ＩＩＩ−Ｖ族材料、サファイア又はこれらに類するもののような、その他の基板を含んでもよい。
【００３７】
ウエハ１２は、１２５ｍｍ、１５０ｍｍ、２００ｍｍ又は３００ｍｍの径ｄｗという標準サイズを有してもよい。
【００３８】
システム１０は、ウエハ１２、ダイシングフレーム１４及びウエハ支持装置１６を備える。ダイシングフレーム１４及びウエハ支持装置１６は、ウエハ支持システム１８と考えられてもよい。
【００３９】
明瞭性のため、ウエハ支持装置１６は、ウエハ１２及びダイシングフレーム１４から離して記載されている。
【００４０】
ダイシングフレーム１４は、図２で見られ得るような中心孔２０を囲っている、板のような形状を有する強固な構造物である。
【００４１】
ダイシングフレーム１４の厚みは、ウエハ１２の厚みより１桁は大きくてもよい。
【００４２】
示されている実施形態において、中心孔２０は、円形状、かつ、この場合において中心孔２０の最小径ｄｈでもある径を有する。
【００４３】
例えば、ダイシングフレーム１４の外側形状は、円形ではないが、最大径ｄＦ，ｍａｘおよび最小径ｄＦ，ｍｉｎを有する。
【００４４】
ダイシングフレーム１４はさらに、外側外縁に少なくとも一つのノッチ２２を備える。
【００４５】
ウエハ１２は、ダイシングフレーム１４の中心孔２０内にダイシングテープ２４を用いて取り付けられる。
【００４６】
ダイシングテープ２４は、シートのようなものであり、ダイシングフレーム１４の下側で固定される。テープは、中心孔２０の一部、又は全体をわたって架かる。ダイシングテープ２４は、柔軟性があり、弾力性すらあってもよい。
【００４７】
ウエハ１２は、その下側を中心孔２０内でダイシングテープ２４の上に配置される。このように、ウエハ１２は、ダイシングフレーム１４内に取り付けられる。
【００４８】
ウエハ支持装置１６は、互いに取り付けられる下部プレート２６および上部プレート２８を有する。
【００４９】
ウエハ支持装置１６は、例えば、下部プレート２６を介してウェッジエラー補償ヘッド（示されていない）の上に取り付けられ得るチャックであってもよい。
【００５０】
上部プレート２８は、下部プレート２６の上面に取り付けられる。
【００５１】
「上」、「下」のような方向の用語、又はこれに類するものは、ウエハ１２および全システム１０の指示された取り付け部に関して使用される。上向きの方向は、重力方向に対して反対方向である。
【００５２】
示されている実施形態において、上部プレート２８および下部プレート２６は、円形状を有し、互いに同軸である。下部プレート２６および上部プレート２８が、任意のその他形状を有することは、当然可能である。
【００５３】
上部プレート２８の形状は、ウエハ１２の形状に完全に対応しており、上部プレート２８の径ｄｔとウエハ１２の径ｄｗが、一致していることを意味する。
【００５４】
さらに、上部プレート２８の径ｄｔは、上部プレート２８が中心孔２０を通り抜け得るように中心孔２０の最小径ｄｈよりも小さい。
【００５５】
下部プレート２６と比べると、上部プレート２８の最大径ｄｔは、下部プレート２６の最大径ｄｂよりも小さい。下部プレート２６の最大径ｄｂは、例えば、上部プレート２８の最大径ｄｔの少なくとも１．３倍である。
【００５６】
つまり、下部プレート２６は、上部プレート２８より大きい。したがって、下部プレート２６は、上部プレート２８よりも径方向にさらに広がる。上部プレート２８よりさらに広がっている下部プレート２６の領域は、上部プレート２８の周りに肩部３０を形成する。肩部３０は、ダイシングフレーム１４用の収容場所３２である。
【００５７】
上部プレート２８は、下部プレート２６から見て外側に向いている上面を有する。この面は、ウエハ１２用の支持面３４である。支持面３４は、図３にて拡大されて示されている。
【００５８】
支持面３４は、吸引を通じてウエハ１２をウエハ支持装置１６に固定するために、ウエハ１２の下に低圧を作るための真空手段を備える。
【００５９】
この目的のために、支持面３４は、支持面３４の径方向に対して、内側真空領域３６および外側真空領域３８を有する。
【００６０】
図３において、内側真空領域３６および外側真空領域３８は、破線の円で区切られている。
【００６１】
真空領域３６、真空領域３８は、支持面３４内に真空溝４０を設けられてもよい。
【００６２】
真空領域３６、真空領域３８は、支持面３４の孔のある表面の領域、又はその他の吸引装置によって設けられることも可能である。
【００６３】
示されている実施形態において、外側真空領域３８は、内側真空領域３６を完全に囲っており、真空領域３６、真空領域３８は、互いに流体的に切り離されている。
【００６４】
外側真空領域３８は、支持面の外側の縁を含み、上部プレート２８の全外縁に沿って広がっている。
【００６５】
さらに、径方向において、外側真空領域３８内にただ一つの真空溝４０が設けられる。
【００６６】
内側真空領域３６は、径方向のスパインを形成するさらなる真空溝４０によって相互接続された同心円を形成する複数の内側真空溝４０を有する。
【００６７】
真空は、第１の供給ダクト４２および第２の供給ダクト４４を介して、真空領域３６、真空領域３８に供給される、すなわち空気が、真空領域３６、真空領域３８から吸引される。第１の供給ダクト４２と第２の供給ダクト４４は、それぞれ外側真空領域３８と内側真空領域３６とに流体的に接続されている。
【００６８】
示されている実施形態において、供給ダクト４２、供給ダクト４４は、上部プレート２８を通って下部プレート２６に至る。
【００６９】
下部プレート２６にて、供給ダクト４２、供給ダクト４４は、径方向外側に反対方向に、かつ下部プレート２６の外縁に向かって伸びる。
【００７０】
下部プレート２６の外縁にて、第１の真空ポート４６および第２の真空ポート４８が設けられ、第１の供給ダクト４２と第２の供給ダクト４４は、それぞれ第１の真空ポート４６と第２の真空ポート４８とに至る。
【００７１】
真空ポート４６、真空ポート４８は、下部プレート２６の外縁で互いに直径方向に反対に構成される。
【００７２】
真空ポート４６、真空ポート４８は、管５０又はこれに類するものを介して、適切な真空源（示されていない）に接続されてもよい。
【００７３】
別の実施形態において、真空ポート４６、真空ポート４８は、下部プレート２６の底に構成され得る。この場合、下部プレートは、真空ポート４６、真空ポート２８に、例えばＯ（オー）リングを介して、接続するための互換ポートを有する、より大きな台に取り付けられ得る。
【００７４】
上部プレート２８は、ガラスのような、透明な材料で作られてもよく、下部プレート２６は、プラスチック又は金属（特にスチール若しくはアルミニウム）のような、不透明な材料で作られてもよい。
【００７５】
この実施形態において、下部プレート２６は、下部プレート２６の全厚みを貫通して伸びる、上部プレート２８の下の二つの切り欠きを有しており、図４にて見られ得るようなものである。
【００７６】
切り欠き５２は、下部プレート２６の中心に関して互いに直径方向に反対に位置される。
【００７７】
さらに、切り欠き５２は、上部プレート２８の下の、上部プレート２８の縁に近い領域に対応する下部プレート２６の領域内に位置されてもよい。
【００７８】
より詳細には、この領域は、上部プレート２８の縁から径方向内側に向かって、４分の１程度、特に上部プレート２８の径ｄｔの６分の１程度、広がっていてもよい。
【００７９】
さらに、下部プレート２６は、肩部３０の上側、すなわち上部プレート２８の同じ側に、位置されている突起部５４を備えてもよい。突起部５４は、肩部３０から上向きに伸びる。
【００８０】
図１にて示されている実施形態において、突起部５４は、ダイシングフレーム１４及びウエハ１２がウエハ支持システム１８に取り付けられるとき、ダイシングフレーム１４のノッチ２２とかみ合うように設計されているアライメントピン５６である。
【００８１】
ウエハ１２をウエハ支持システム１８に取り付けるために、ウエハ１２を有するダイシングフレーム１４は、ウエハ１２および上部プレート２８が互いに同軸であるように、ウエハ支持装置１６の上に配置される。そして、ウエハ１２は、ウエハ支持装置１６に向かって下げられる。
【００８２】
ダイシングフレーム１４が下がっている間、ウエハ１２−より詳細にはダイシングテープ２４−は、上部プレート２８の支持面３４に接触する。
【００８３】
真空領域３６および真空領域３８の両方にて真空を作用することは、この処理を補助し、ウエハ１２及びダイシングテープ２４を上部プレート２８に固定する。
【００８４】
ウエハ１２が、支持面３４に固定されると、内側真空領域３６は、ウエハ１２のたわみを防ぐために停止されてもよい。
【００８５】
そしてダイシングフレーム１４は、下部プレート２６の肩部３０の上にある。
【００８６】
示されている実施形態において、ダイシングフレーム１４の最大径ｄＦ，ｍａｘは、ダイシングフレーム１４が、肩部３０の径方向の境界内に、および収容場所３２内に完全に位置するように下部プレート２６の径ｄｂより小さい。収容場所３２内にあるためにダイシングフレーム１４を物理的に肩部３０に接触させる必要は無い。
【００８７】
ダイシングフレーム１４が、取り付けのために使用されたエンドエフェクタから解放されたとき、ダイシングフレーム１４は、ダイシングテープ２４のみによって保持される。しかし、ダイシングテープ２４は、ダイシングフレーム１４の重量を支持できないほどの柔軟性がある。そのため、ダイシングフレーム１４は、重力にしたがって、下部プレート２６に向かって下がる。
【００８８】
ダイシングフレーム１４は、その最高位置がウエハ１２の上面の平面Ｐ（図５）より下に位置するほど低く沈む。したがって、システム１０の最高位置は、ウエハ１２の表面である。したがって、マスクをウエハ１２の上面に接近させる又は接触させる種々の工程（特に露光工程）の処理が可能となる。
【００８９】
図５は、システム１０の第２の実施形態を示す。システム１０の第２の実施形態は、図１から図４に示されている第１の実施形態に大部分は対応する。したがって、差異のみが下記で説明され、同一または機能上同一の部品は、同じ符号を付与されている。
【００９０】
図５に示されているシステム１０の第２の実施形態において、ウエハ支持装置１６は、一部品構造で作られている。上部プレート２８および下部プレート２６は、同じ材料で、示されている場合では不透明な材料で作られている。
【００９１】
当然、ウエハ支持装置１６全体に透明な材料が使用されることも可能である。
【００９２】
さらに、ダイシングフレームの最大径ｄＦ，ｍａｘは、下部プレート２６の最大径ｄｂよりも大きい。それでも、ダイシングフレーム１４は、下部プレート２６の肩部３０の上の収容場所３２内に少なくとも一部が置かれている。
【００９３】
さらに、突起部５４は、磁力によってダイシングフレーム１４を肩部３０に固定する磁気素子である。このように、ダイシングフレーム１４の好ましくない振動が除外され得る。
【００９４】
固定は、ダイシングフレーム１４と突起部５４との間の直接の接触によって、または接触せずに磁力を通じてのみで為されてもよい。
【００９５】
図６及び図７は、マスクアライナ５８の概略図を示す。
【００９６】
マスクアライナ５８は、ウエハ１２、ダイシングフレーム１４及びウエハ支持装置１６を備えるシステム１０に加えて、マスクホルダ６０並びにマスク６２を備える。
【００９７】
マスクホルダ６０は、マスク６２によって覆われる露光開口６４を備える強固な構造物である。マスク６２はマスクホルダ６０の下面に、例えば真空によって、固定され、露光開口６４を部分的に、又は全体的に閉じる。
【００９８】
さらに、示された実施例のマスクホルダ６０は、少なくとも三つの近接スペーサ６６、及びそれぞれの近接スペーサ６６を動かすための少なくとも三つのアクチュエータ６８を備える。
【００９９】
近接スペーサ６６は、例えば２，０００μｍの径を有する、セラミック球である。
【０１００】
近接スペーサ６６は、露光開口６４と平行に伸びている支持アーム７０によって固定される。
【０１０１】
支持アーム７０は、マスクホルダ６０に回転自在に固定されたロッド７２に取り付けられる。
【０１０２】
ロッド７２は、動作位置と非動作位置との間で近接スペーサ６６を動かすために、ロッド７２の垂直軸に対してアクチュエータ６８によって回転され得る。
【０１０３】
図６は、ダイシングフレーム１４の領域の径方向外側に位置する非動作位置での近接スペーサ６６を示す。このように、マスク６２及びウエハ１２が露光のために互いに接触するとき、近接スペーサ６６は、ダイシングフレーム１４と接触しない。
【０１０４】
図７は、動作位置での近接スペーサ６６を示す。動作位置において、近接スペーサ６６は、上部プレート２８及びウエハ１２の領域の径方向内側に位置する。
【０１０５】
マスク６２及びマスクホルダ６０は、ウエハ１２とマスク６２の両方が反対側から近接スペーサ６６に接触するまで下げられる。このように、所定の間隙が、マスク６２とウエハ１２との間に獲得され得る。
【０１０６】
示された実施形態の機構は当然、典型的な実施形態にて示された組み合わせとは異なる組み合わせで使用されてもよい。例えば、第１の実施形態での突起部５４は、磁気素子であってもよい。
【図１】
2019062201.tif 000003
【図２】
2019062201.tif 000004
【図３】
2019062201.tif 000005
【図４】
2019062201.tif 000006
【図５】
2019062201.tif 000007
【図６】
2019062201.tif 000008
【図７】
2019062201.tif 000009
【手続補正書】
【提出日】平成30年11月13日(2018.11.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
下部プレートおよび／又は上部プレートは、平坦であってもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
別の実施形態において、真空ポート４６、真空ポート４８は、下部プレート２６の底に構成され得る。この場合、下部プレートは、真空ポート４６、真空ポート４８に、例えばＯ（オー）リングを介して、接続するための互換ポートを有する、より大きな台に取り付けられ得る。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウエハ支持装置（１６）およびダイシングフレーム（１４）を備える、ウエハ（１２）を支持するためのウエハ支持システムであって、
前記ウエハ支持装置（１６）は、互いに同軸上に配置されている下部プレート（２６）および上部プレート（２８）を有し、
前記上部プレート（２８）は、前記下部プレート（２６）から見て外側に向いている前記上部プレート（２８）の面である、前記ウエハ（１２）を支持するための支持面（３４）を備え、
前記下部プレート（２６）は、前記下部プレート（２６）が前記上部プレート（２８）の周りに前記ダイシングフレーム（１４）用の収容場所（３２）を形成する肩部（３０）を備えるように、前記上部プレート（２８）の最大径（ｄｔ）より大きな最大径（ｄｂ）を有し、
前記ダイシングフレーム（１４）は、中心孔（２０）を形成する板のような形状を有し、
前記中心孔（２０）の最小径（ｄｈ）は、前記上部プレート（２８）の前記最大径（ｄｔ）より大きく、
前記上部プレート（２８）は、前記ダイシングフレーム（１４）が前記収容場所（３２）に位置するように前記ダイシングフレーム（１４）の前記中心孔（２０）を通じて広がり得るような形状をしており、前記ウエハ（１２）が前記ダイシングフレーム（１４）に取り付けられ、前記ウエハ支持装置（１６）の上部に配置されたとき、前記ダイシングフレーム（１４）の最高位置は、垂直方向で前記ウエハ（１２）の前記上面および／または前記支持面（３４）の下方に位置する、
ウエハ支持システム。
【請求項２】
互いに同軸上に配置されている下部プレート（２６）および上部プレート（２８）を備えるダイシングフレーム（１４）に取り付けられたウエハ（１２）を支持するためのウエハ支持装置であって、
前記上部プレート（２８）は、前記下部プレート（２６）から見て外側に向いている前記上部プレート（２８）の面である、前記ウエハ（１２）を支持するための支持面（３４）を備え、
前記下部プレート（２６）は、前記ダイシングフレーム（１４）が収容場所（３２）に位置するように前記下部プレート（２６）が前記上部プレート（２８）の周りに前記ダイシングフレーム（１４）用の前記収容場所（３２）を形成する肩部（３０）を備えるように、前記上部プレート（２８）の最大径（ｄｔ）より大きな最大径（ｄｂ）を有し、前記ウエハ（１２）が前記ダイシングフレーム（１４）に取り付けられ、前記ウエハ支持装置（１６）の上部に配置されたとき、前記ダイシングフレーム（１４）の最高位置は、垂直方向で前記ウエハ（１２）の前記上面および／または前記支持面（３４）の下方に位置する、
ウエハ支持システム。
【請求項３】
互いに同軸上に配置されている下部プレート（２６）および上部プレート（２８）を有するウエハ支持装置（１６）を備えるシステムであって、
前記上部プレート（２８）は、前記下部プレート（２６）から見て外側に向いている前記上部プレート（２８）の面である、ウエハ（１２）を支持するための支持面（３４）を備え、
前記下部プレート（２６）は、前記ウエハ（１２）がダイシングフレーム（１４）に取り付けられ、前記ウエハ支持装置（１６）の上部に配置されたとき、前記ダイシングフレーム（１４）が垂直方向で前記ウエハ（１２）の前記上面および／または前記支持面（３４）の下方に位置するように、前記下部プレート（２６）が前記上部プレート（２８）の周りに前記ダイシングフレーム（１４）用の収容場所（３２）を形成する肩部（３０）を備えるように、前記上部プレート（２８）の最大径（ｄｔ）より大きな最大径（ｄｂ）を有する、
ウエハ支持システム。
【請求項４】
前記支持面（３４）は、前記ウエハ（１２）と同一の大きさを有する、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のウエハ支持システム。
【請求項５】
前記下部プレート（２６）の前記最大径（ｄｂ）は、前記上部プレート（２８）の前記最大径（ｄｔ）の少なくとも１．３倍であることを特徴とする、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のウエハ支持システム。
【請求項６】
前記支持面（３４）は、少なくとも一つの外側真空領域（３８）および少なくとも一つの内側真空領域（３６）を設けられ、前記少なくとも一つの外側真空領域（３８）および前記少なくとも一つの内側真空領域（３６）は、互いに流体的に分離されており、前記少なくとも一つの外側真空領域（３８）は、前記支持面（３４）の外側の縁に配置されることを特徴とする、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のウエハ支持システム。
【請求項７】
前記少なくとも一つの外側真空領域（３８）は、外縁の少なくとも４分の３に沿って、特に前記上部プレート（２８）の全外縁に沿って広がることを特徴とする、請求項６に記載のウエハ支持システム。
【請求項８】
前記ウエハ支持装置（１６）は、それぞれ前記少なくとも一つの外側真空領域（３８）と前記少なくとも一つの内側真空領域（３６）とに流体的に接続され、それぞれ第１の真空ポート（４６）と第２の真空ポート（４８）とに至る、第１の供給ダクト（４２）と第２の供給ダクト（４４）とを備え、
前記第１の供給ダクト（４２）および前記第２の供給ダクト（４４）は、前記下部プレート（２６）を通じて伸びることを特徴とする、
請求項６又は請求項７に記載のウエハ支持システム。
【請求項９】
前記上部プレート（２８）は、透明な材料で作られ、前記下部プレート（２６）は、不透明な材料で作られ、前記下部プレート（２６）は、前記上部プレート（２８）で覆われた領域に少なくとも一つの切り欠き（５２）を有することを特徴とする、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のウエハ支持システム。
【請求項１０】
前記上部プレート（２８）は、ガラスで作られ、および／または前記下部プレート（２６）は、プラスチック若しくは金属、特に鉄若しくはアルミニウムで作られる、請求項９に記載のウエハ支持システム。
【請求項１１】
前記ウエハ支持装置（１６）は、前記ダイシングフレーム（１４）を整列し、および／または支持するための、前記下部プレート（２６）の前記肩部（３０）から前記上部プレート（２８）と同じ側に伸びる少なくとも一つの突起部（５４）を備えることを特徴とする、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載のウエハ支持システム。
【請求項１２】
マスクホルダ（６０）および請求項１から請求項１１のいずれか一項に記載のウエハ支持システム（１８）を備える、マスク（６２）およびウエハ（１２）を整列するためのマスクアライナ。
【請求項１３】
少なくとも一つの近接スペーサ（６６）およびアクチュエータ（６８）は、マスクホルダ（６０）に設けられ、
前記アクチュエータ（６８）は、動作位置と非動作位置との間で前記近接スペーサ（６６）を動かすように構成され、
前記近接スペーサ（６６）は、前記非動作位置で前記ダイシングフレーム（１４）の領域の径方向外側に配置されることを特徴とする、
請求項１２に記載のマスクアライナ。
【外国語明細書】
2019062201.tif 000010
2019062201.tif 000011
2019062201.tif 000012
2019062201.tif 000013
2019062201.tif 000014
2019062201.tif 000015
2019062201.tif 000016
2019062201.tif 000017
2019062201.tif 000018
2019062201.tif 000019
2019062201.tif 000020
2019062201.tif 000021
2019062201.tif 000022
2019062201.tif 000023
2019062201.tif 000024
2019062201.tif 000025
2019062201.tif 000026
2019062201.tif 000027
2019062201.tif 000028
2019062201.tif 000029
2019062201.tif 000030
2019062201.tif 000031