(57)【要約】【課題】本発明は、基板への密着性と高い解像性を両立しながら、１２０℃以下の硬化温度であっても薬品耐性が良好で、脱ガスが少なく、硬度の高い硬化膜を形成する感光性組成物を提供することができる。【解決手段】上記課題は、樹脂（Ａ）、シランカップリング剤（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）及び溶剤（Ｅ）を含む感光性樹脂組成物であって、樹脂（Ａ）が、下記（ａ）と（ｂ）との共重合体に、（ｃ）次いで（ｄ）を反応させた樹脂を含み、シランカップリング剤（Ｂ）の含有量が、感光性樹脂組成物の全固形分中、５〜２０質量％である感光性樹脂組成物によって解決される。（ａ）：炭素数２〜４の環状エーテル骨格及びエチレン性不飽和結合を有する単量体（ｂ）：（ａ）と共重合可能な不飽和結合を有し、(ａ)とは異なる単量体（ｃ）：不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種（ｄ）：無水コハク酸【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂（Ａ）、シランカップリング剤（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）及び溶剤（Ｅ）を含む感光性樹脂組成物であって、
樹脂（Ａ）が、下記（ａ）と（ｂ）との共重合体に、（ｃ）次いで（ｄ）を反応させた樹脂を含み、
シランカップリング剤（Ｂ）の含有量が、感光性樹脂組成物の全固形分中、５〜２０質量％である感光性樹脂組成物。
（ａ）：炭素数２〜４の環状エーテル骨格及びエチレン性不飽和結合を有する単量体
（ｂ）：（ａ）と共重合可能な不飽和結合を有し、(ａ)とは異なる単量体
（ｃ）：不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種
（ｄ）：無水コハク酸
【請求項２】
シランカップリング剤（Ｂ）が、（メタ）アクリロキシ基、エポキシ基及びメルカプト基からなる群から選ばれる少なくともひとつの有機基を含有する請求項１に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項３】
さらに、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、インジウム、スズ、アンチモン及びセリウムからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素を含む無機微粒子（Ｆ）を含有する請求項１又は２に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項４】
前記無機微粒子（Ｆ）がケイ素を含む無機微粒子である請求項３に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項５】
光重合開始剤（Ｄ）の含有量が、感光性樹脂組成物の全固形分中、０．５〜７．０質量％である請求項１〜４いずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項６】
シランカップリング剤（Ｂ）の含有量が、感光性樹脂組成物の全固形分中、７〜１５質量％である請求項１〜５いずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項７】
さらに、紫外線吸収剤（Ｇ）を含有する請求項１〜６いずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項８】
重合性化合物（Ｃ）がウレタン（メタ）アクリレートを含む請求項１〜７いずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項９】
溶剤（Ｅ）が沸点１３０℃以下の溶剤を含有する請求項１〜８いずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項１０】
請求項１〜９いずれか１項に記載の感光性樹脂組成物から形成されてなる硬化膜。
【請求項１１】
層間絶縁膜、又はオーバーコート膜である請求項１０に記載の硬化膜。
【請求項１２】
請求項１〜９いずれか１項に記載の感光性樹脂組成物を基材上に塗布後、マスクを介して露光し、現像してパターンを形成後、加熱焼成する工程を有する硬化膜の製造方法。
【請求項１３】
加熱焼成の温度が１２０℃以下である請求項１２に記載の硬化膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は感光性樹脂組成物、ならびにそれを用いた硬化膜に関する。該硬化膜は、タッチパネル、液晶表示装置、有機ＥＬ装置等に用いられる、層間絶縁膜やオーバーコート膜に好適に用いることができる。
【背景技術】
【０００２】
現在主流となっている静電容量方式タッチパネルでは、カバーガラスに２枚のＩＴＯフィルムを貼り合わせるＧＦＦ方式を始めとして、軽量化・加工性などに有利な透明導電性フィルムを用いた構成が多く採用されている。しかし耐熱性の低いフィルムを使用するため低温焼成の必要がある。
【０００３】
液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等のフラットパネルディスプレイに関しても、製造工程における基板や回路へのダメージ低減、省エネルギー化等の観点から各部材に対する低温焼成の要求が高まっている。
【０００４】
層間絶縁膜としては他にも、高精細化のトレンドのためフォトリソグラフィで微細パターン形成を可能とする高解像性、絶縁膜上に配したＩＴＯを部分的にエッチングして電極形成する製造プロセスを経る場合にはエッチング工程で使用される薬剤に対する薬品耐性（耐アルカリ性、耐酸性）、上部層形成工程に影響を与えないため低脱ガス量であること、タッチパネルに用いられる場合には高硬度、といった特性を備える必要がある。
【０００５】
低温焼成可能な樹脂組成物として、例えば特許文献１記載のアルカリ可溶性共重合体、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、光ラジカル発生剤、１分子中にオキセタニル基を２個以上有する化合物及び酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物や、特許文献２記載のカルボキシル基含有ポリシロキサン、溶剤、二重結合及び／又は三重結合を有する化合物及び光重合開始剤を含有する樹脂組成物が提案されている。しかしこれらの組成物は、本発明者らの検討によると、ガラスや窒化ケイ素基板との密着性は向上するものの、ＩＴＯやモリブデン等のＳｉ原子を有しない基板においては密着性が不十分なため、薬品耐性についても不十分であった。
また、特許文献３、４についても密着性に優れた組成物が開示されているが、薬品耐性、フォトリソグラフィでの解像性、脱ガスの観点で不十分であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−００３３６６号公報
【特許文献２】特開２００８−２０８３４２号公報
【特許文献３】特開２０１５−０３０７３２号公報
【特許文献４】特開２０１１−０２２３７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の課題は、解像性が良好であり、１２０℃以下の硬化温度であっても良好な薬品耐性、低脱ガス量、高硬度の硬化膜を形成可能な感光性樹脂組成物を提供することである。また、該感光性組成物を用いることにより、解像性、硬度及び薬品耐性に優れ、さらに脱ガス量の少ない、高品質な硬化膜、層間絶縁膜、オーバーコート膜及びその製造方法を提供することができる。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、鋭意検討を行った結果、特定の樹脂（Ａ）、シランカップリング剤（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）及び溶剤（Ｅ）を含む感光性樹脂組成物を使用することで、１２０℃以下の硬化温度であっても、良好な薬品耐性、低脱ガス量であって、高硬度な硬化膜を形成できることを見出した。  
＜１＞すなわち本発明は、樹脂（Ａ）、シランカップリング剤（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）及び溶剤（Ｅ）を含む感光性樹脂組成物であって、樹脂（Ａ）が、下記（ａ）と（ｂ）との共重合体に、（ｃ）次いで（ｄ）を反応させた樹脂を含み、シランカップリング剤（Ｂ）の含有量が、感光性樹脂組成物の全固形分中、５〜２０質量％である感光性樹脂組成物に関する。
（ａ）：炭素数２〜４の環状エーテル骨格及びエチレン性不飽和結合を有する単量体
（ｂ）：（ａ）と共重合可能な不飽和結合を有し、(ａ)とは異なる単量体
（ｃ）：不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種
（ｄ）：無水コハク酸
【０００９】
＜２＞また本発明は、シランカップリング剤（Ｂ）が、（メタ）アクリロキシ基、エポキシ基及びメルカプト基からなる群から選ばれる少なくともひとつの有機基を含有する前記感光性樹脂組成物に関する。
【００１０】
＜３＞また本発明は、さらに、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、インジウム、スズ、アンチモン及びセリウムからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素を含む無機微粒子（Ｆ）を含有する前記感光性樹脂組成物に関する。
【００１１】
＜４＞また本発明は、前記無機微粒子（Ｆ）がケイ素を含む無機微粒子である前記感光性樹脂組成物に関する。
【００１２】
＜５＞また本発明は、光重合開始剤（Ｄ）の含有量が、感光性樹脂組成物の全固形分中、０．５〜７．０質量％である前記感光性樹脂組成物に関する。
【００１３】
＜６＞また本発明は、シランカップリング剤（Ｂ）の含有量が、感光性樹脂組成物の全固形分中、７〜１５質量％である前記感光性樹脂組成物に関する。
【００１４】
＜７＞また本発明は、さらに、紫外線吸収剤（Ｇ）を含有する前記感光性樹脂組成物に関する。
【００１５】
＜８＞また本発明は、重合性化合物（Ｃ）がウレタン（メタ）アクリレートを含む前記感光性樹脂組成物に関する。
【００１６】
＜９＞また本発明は、溶剤（Ｅ）が沸点１３０℃以下の溶剤を含有する前記感光性樹脂組成物に関する。
【００１７】
＜１０＞また本発明は、前記感光性樹脂組成物から形成されてなる硬化膜に関する。
【００１８】
＜１１＞また本発明は、層間絶縁膜、又はオーバーコート膜である前記硬化膜に関する。
【００１９】
＜１２＞また本発明は、前記感光性樹脂組成物を基材上に塗布後、マスクを介して露光し、現像してパターンを形成後、加熱焼成する工程を有する硬化膜の製造方法に関する。
【００２０】
＜１３＞さらに本発明は、加熱焼成の温度が１２０℃以下である前記硬化膜の製造方法に関するに関する。
【発明の効果】
【００２１】
本発明により、解像性が良好であり、１２０℃以下の硬化温度であっても薬品耐性、硬度が良好で脱ガス量の少ない硬化膜を形成可能な感光性組成物を提供することができる。また、該感光性組成物を用いることにより、解像性、硬度及び薬品耐性に優れ、さらに脱ガス量の少ない、高品質な硬化膜、層間絶縁膜、オーバーコート膜及びその製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
まず、本発明の感光性樹脂組成物について説明する。
なお、本願では、「（メタ）アクリロイル」、「（メタ）アクリル」、「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリレート」、又は「（メタ）アクリルアミド」と表記した場合には、特に説明がない限り、それぞれ、「アクリロイル及び／又はメタクリロイル」、「アクリル及び／又はメタクリル」、「アクリル酸及び／又はメタクリル酸」、「アクリレート及び／又はメタクリレート」、又は「アクリルアミド及び／又はメタクリルアミド」を表すものとする。
【００２３】
＜感光性樹脂組成物＞
本発明の感光性樹脂組成物は、樹脂（Ａ）、シランカップリング剤（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）及び溶剤（Ｅ）を含む感光性樹脂組成物であって、樹脂（Ａ）が、下記（ａ）と（ｂ）との共重合体に、（ｃ）次いで（ｄ）無水コハク酸を反応させた特定樹脂を含み、さらに、シランカップリング剤（Ｂ）の含有量が、感光性樹脂組成物の全固形分中、５〜２０質量％である。
（ａ）：炭素数２〜４の環状エーテル骨格及びエチレン性不飽和結合を有する単量体
（ｂ）：（ａ）と共重合可能な不飽和結合を有し、(ａ)とは異なる単量体
（ｃ）：不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種
（ｄ）：無水コハク酸
以下、本発明の感光性樹脂組成物の各種構成成分について説明する。
【００２４】
＜樹脂（Ａ）＞
本発明による感光性樹脂組成物は、下記（ａ）と（ｂ）との共重合体に、（ｃ）次いで（ｄ）を反応させた特定樹脂を含む。
（ａ）：炭素数２〜４の環状エーテル骨格及びエチレン性不飽和結合を有する単量体
（ｂ）：（ａ）と共重合可能な不飽和結合を有し、(ａ)とは異なる単量体
（ｃ）：不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種
（ｄ）：無水コハク酸
無水コハク酸で変性した特定樹脂を含むことで密着性、解像性、低脱ガス性に優れ、かつ良好な薬品耐性を有する硬化膜を形成する事ができる。
【００２５】
本発明の樹脂（Ａ）は、炭素数２〜４の環状エーテル骨格及びエチレン性不飽和結合を有する単量体（ａ）と、（ａ）と共重合可能な不飽和結合を有し、(ａ)とは異なる単量体（ｂ）との共重合体に、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種（ｃ）
次いで無水コハク酸（ｄ）を反応させて得られる複雑な構造を有するものであり、一般式（構造）で表すことは不可能であるか、およそ現実的ではないため、製造方法により記載する。
【００２６】
＜（ａ）と（ｂ）との共重合体に、（ｃ）次いで（ｄ）を反応させた特定樹脂＞
以下、（ａ）と（ｂ）との共重合体に、（ｃ）次いで（ｄ）を反応させた特定樹脂について詳細に説明する。
【００２７】
［（ａ）：炭素数２〜４の環状エーテル骨格及びエチレン性不飽和結合を有する単量体］
（ａ）としては、例えば、オキシラニル基及びエチレン性不飽和結合を有する単量体（ａ−Ｘ）、オキセタニル基及びエチレン性不飽和結合を有する単量体（ａ−Ｙ）、テトラヒドロフリル基及びエチレン性不飽和結合を有する単量体（ａ−Ｚ）等が挙げられる。
【００２８】
（オキシラニル基及びエチレン性不飽和結合を有する単量体（ａ−Ｘ））
（ａ−Ｘ）としては、例えば、鎖式オレフィンをエポキシ化した構造とエチレン性不飽和結合とを有する単量体（ａ−１）、シクロアルケンをエポキシ化した構造とエチレン性不飽和結合とを有する単量体（ａ−２）が挙げられる。
（ａ−Ｘ）としては、オキシラニル基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体が好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する（ａ−２）がさらに好ましい。
【００２９】
（ａ−１）としては、具体的には、グリシジル（メタ）アクリレート、β−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、β−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、α−メチル−ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、２，３−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，４−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，５−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，６−ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，４−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，５−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，６−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、３，４，５−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，４，６−トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、特開平７−２４８６２５号公報に記載される化合物等が挙げられる。
【００３０】
（ａ−２）としては、ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン（例えば、セロキサイド２０００；ダイセル化学工業（株）製）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート（例えば、サイクロマーＡ４００；ダイセル化学工業（株）製）、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート（例えば、サイクロマーＭ１００；ダイセル化学工業（株）製）、式（Ｉ）で表される化合物、式（ＩＩ）で表される化合物等が挙げられる。
【００３１】
【化１】
2019053266.tif 000002
【００３２】
［式（Ｉ）及び式（ＩＩ）において、Ｒ１及びＲ２は、互いに独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子はヒドロキシ基で置換されていてもよい。Ｘ１及びＸ２は、互いに独立に、単結合、−Ｒ３−、＊−Ｒ３−Ｏ−、＊−Ｒ３−Ｓ−、又は、＊−Ｒ３−ＮＨ−を表す。Ｒ３は、炭素数１〜６のアルカンジイル基を表す。＊は、Ｏとの結合手を表す。］
【００３３】
炭素数１〜４のアルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられる。ヒドロキシ基で置換されたアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１−ヒドロキシ−１−メチルエチル基、２−ヒドロキシ−１−メチルエチル基、１−ヒドロキシブチル基、２−ヒドロキシブチル基、３−ヒドロキシブチル基、４−ヒドロキシブチル基等が挙げられる。
【００３４】
Ｒ１及びＲ２としては、好ましくは水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基が挙げられ、より好ましくは水素原子、メチル基が挙げられる。
【００３５】
アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，２−ジイル基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基等が挙げられる。
【００３６】
Ｘ１及びＸ２としては、好ましくは単結合、メチレン基、エチレン基、＊−ＣＨ２−Ｏ−（＊はＯとの結合手を表す）基、＊−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−基が挙げられ、より好ましくは単結合、＊−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−基が挙げられる。
【００３７】
式（Ｉ）で表される化合物として、式（Ｉ−１）〜式（Ｉ−１５）で表される化合物等が挙げられる。好ましくは式（Ｉ−１）、式（Ｉ−３）、式（Ｉ−５）、式（Ｉ−７）、式（Ｉ−９）、式（Ｉ−１１）〜式（Ｉ−１５）のいずれかで表される化合物が挙げられる。より好ましくは式（Ｉ−１）、式（Ｉ−７）、式（Ｉ−９）、式（Ｉ−１５）のいずれかで表される化合物が挙げられる。
【００３８】
【化２】
2019053266.tif 000003
【００３９】
式（ＩＩ）で表される化合物としては、式（ＩＩ−１）〜式（ＩＩ−１５）で表される化合物等が挙げられる。好ましくは式（ＩＩ−１）、式（ＩＩ−３）、式（ＩＩ−５）、式（ＩＩ−７）、式（ＩＩ−９）、式（ＩＩ−１１）〜式（ＩＩ−１５）のいずれかで表される化合物が挙げられる。より好ましくは式（ＩＩ−１）、式（ＩＩ−７）、式（ＩＩ−９）、式（ＩＩ−１５）のいずれかで表される化合物が挙げられる。
【００４０】
【化３】
2019053266.tif 000004
【００４１】
式（Ｉ）で表される化合物及び式（ＩＩ）で表される化合物は、それぞれ単独で用いることができる。また、それらは、任意の比率で混合することができる。混合する場合、その混合比率はモル比で、好ましくは式（Ｉ）：式（ＩＩ）で、５：９５〜９５：５、より好ましくは１０：９０〜９０：１０、とりわけ好ましくは２０：８０〜８０：２０である。
【００４２】
（オキセタニル基及びエチレン性不飽和結合を有する単量体（ａ−Ｙ））
（ａ−Ｙ）としては、オキセタニル基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体であることが好ましい。（ａ−Ｙ）としては、例えば、３−メチル−３−（メタ）アクリロイルオキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロイルオキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロイルオキシエチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロイルオキシエチルオキセタン等が挙げられる。
【００４３】
（テトラヒドロフリル基及びエチレン性不飽和結合を有する単量体（ａ−Ｚ））
（ａ−Ｚ）としては、テトラヒドロフリル基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体がより好ましい。（ａ−Ｚ）としては、具体的には、テトラヒドロフルフリルアクリレート（例えば、ビスコートＶ＃１５０、大阪有機化学工業（株）製）、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等が挙げられる。
【００４４】
［（ｂ）：（ａ）と共重合可能な不飽和結合を有し、（ａ）とは異なる単量体］
（ｂ）としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸アルキルエステル類；
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸環状アルキルエステル類；
【００４５】
フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸アリール又はアラルキルエステル類；マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等のジカルボン酸ジエステル；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキルエステル類；
【００４６】
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ヒドロキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジメトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジエトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチル−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−フェノキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ビス（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ビス（シクロヘキシルオキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン等のビシクロ不飽和化合物類；
【００４７】
Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジニル）マレイミド等のジカルボニルイミド誘導体類；
【００４８】
スチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メトキシスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル、１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン等が挙げられる。
【００４９】
中でも、（ｂ）としては、一般式（１）若しくは一般式（２）に示す芳香族環基を有する化合物（ｂ１）、又は、化学式（３）若しくは化学式（４）に示す脂肪族環基を有する化合物（ｂ２）のうち少なくともどちらか一方を含む場合、薬品耐性が良好となり、かつ高硬度な塗膜となる。
【００５０】
一般式（１）
【化４】
2019053266.tif 000005
【００５１】
一般式（２）
【化５】
2019053266.tif 000006
［一般式（１）及び（２）中、Ｒ１は、水素原子又はベンゼン環を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基である。］
【００５２】
化学式（３）
【化６】
2019053266.tif 000007
【００５３】
化学式（４）
【化７】
2019053266.tif 000008
【００５４】
（（ｂ１）一般式（１）若しくは一般式（２）に示す芳香族環基を有する化合物）
一般式（１）及び（２）の構造をもつ単量体（ｂ１）としては、具体的にはスチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、インデン、アセチルナフテン、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、メチロール化メラミンの（メタ）アクリル酸エステル等のモノマー・オリゴマー、又は一般式（５）に示すエチレン性不飽和単量体等が挙げられる。
【００５５】
一般式（５）
【化８】
2019053266.tif 000009
［一般式（５）中、Ｒ６は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ７は、炭素数２又は３のアルキレン基であり、Ｒ８は、ベンゼン環を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基であり、ｎは、１〜１５の整数である。］
【００５６】
一般式（５）に示されるエチレン性不飽和単量体としては、例えば、
第一工業製薬社製ニューフロンティア  ＣＥＡ〔ＥＯ変性クレゾールアクリレート、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：メチル基、ｎ＝１又は２、〕、ＮＰ−２〔ｎ−ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：ｎ−ノニル基、ｎ＝２〕、Ｎ−１７７Ｅ〔ｎ−ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：ｎ−ノニル基、ｎ＝１６〜１７〕、若しくはＰＨＥ〔フェノキシエチルアクリレート、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：水素原子、ｎ＝１〕、
ダイセル社製、ＩＲＲ１６９〔エトキシ化フェニルアクリレート（ＥＯ  １ｍｏｌ）、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：水素原子、ｎ＝１〕、又はＥｂｅｃｒｙｌ１１０〔エトキシ化フェニルアクリレート（ＥＯ  ２ｍｏｌ）、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：水素原子、ｎ＝２〕、
東亞合成社製アロニックス  Ｍ−１０１Ａ〔フェノールＥＯ変性（ｎ≒２）アクリレート、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：水素原子、ｎ≒２〕、Ｍ−１０２〔フェノールＥＯ変性（ｎ≒４）アクリレート、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：水素原子、ｎ≒４〕、Ｍ−１１０〔パラクミルフェノールＥＯ変性（ｎ≒１）アクリレート、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：パラクミル、ｎ≒１〕、Ｍ−１１１〔ｎ−ノニルフェノールＥＯ変性（ｎ≒１）アクリレート、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：ｎ−ノニル基、ｎ≒１〕、Ｍ−１１３〔ｎ−ノニルフェノールＥＯ変性（ｎ≒４）アクリレート、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：ｎ−ノニル基、ｎ≒４〕、若しくはＭ−１１７〔ｎ−ノニルフェノールＰＯ変性（ｎ≒２．５）アクリレート、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：プロピレン基、Ｒ８：ｎ−ノニル基、ｎ≒２．５〕、
共栄社製ライトアクリレート  ＰＯ−Ａ〔フェノキシエチルアクリレート、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：水素原子、ｎ＝１〕、Ｐ−２００Ａ〔フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：水素原子、ｎ≒２〕、ＮＰ−４ＥＡ〔ノニルフェノールＥＯ付加物アクリレート、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：ｎ−ノニル基、ｎ≒４〕、若しくはＮＰ−８ＥＡ〔〔ノニルフェノールＥＯ付加物アクリレート、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：ｎ−ノニル基、ｎ≒８〕、又はライトエステル  ＰＯ〔フェノキシエチルメタクリレート、Ｒ６：メチル基、Ｒ７：プロピレン基、Ｒ８：水素原子、ｎ＝１〕、
日油社製ブレンマー  ＡＮＥ−３００〔ノニルフェノキシポリエチレングリコールアクリレート、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：−ノニル基、ｎ≒５〕、ＡＮＰ−３００〔ノニルフェノキシポリプロピレングリコールアクリレート、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：プロピレン基、Ｒ８：ｎ−ノニル基、ｎ≒５〕、４３ＡＮＥＰ−５００〔ノニルフェノキシ−ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−アクリレート、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基及びプロピレン基、Ｒ８：−ノニル基、ｎ≒５＋５〕、７０ＡＮＥＰ−５５０〔ノニルフェノキシ−ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−アクリレート、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基及びプロピレン基、Ｒ８：ｎ−ノニル基、ｎ≒９＋３〕、７５ＡＮＥＰ−６００〔ノニルフェノキシ−ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−アクリレート、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基及びプロピレン基、Ｒ８：ｎ−ノニル基、ｎ≒５＋２〕、ＡＡＥ−５０〔フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：水素原子、ｎ＝１〕、ＡＡＥ−３００〔フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：水素原子、ｎ≒５．５〕、ＰＡＥ−５０〔フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、Ｒ６：メチル基、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：水素原子、ｎ＝１〕、ＰＡＥ−１００〔フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、Ｒ６：メチル基、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：水素原子、ｎ＝２〕、若しくは４３ＰＡＰＥ−６００Ｂ〔フェノキシ−ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−メタクリレート、Ｒ６：メチル基、Ｒ７：エチレン基及びプロピレン基、Ｒ８：水素原子、ｎ≒６＋６〕、
新中村化学社製ＮＫ  ＥＳＴＥＲ  ＡＭＰ−１０Ｇ〔フェノキシエチレングリコールアクリレート（ＥＯ１ｍｏｌ）、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：水素原子、ｎ＝１〕、ＡＭＰ−２０Ｇ〔フェノキシエチレングリコールアクリレート（ＥＯ２ｍｏｌ）、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：水素原子、ｎ≒２〕、ＡＭＰ−６０Ｇ〔フェノキシエチレングリコールアクリレート（ＥＯ６ｍｏｌ）、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：水素原子、ｎ≒６〕、ＰＨＥ−１Ｇ〔フェノキシエチレングリコールメタクリレート（ＥＯ１ｍｏｌ）、Ｒ６：メチル基、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：水素原子、ｎ＝１〕、
大阪有機化学社製ビスコート  ＃１９２〔フェノキシエチルアクリレート、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：水素原子、ｎ＝１〕、あるいは、
日本化薬製ＳＲ−３３９Ａ〔２−フェノキシエチレングリコールアクリレート、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：水素原子、ｎ＝１〕，若しくはＳＲ−５０４（エトキシ化ノニルフェノールアクリレート、Ｒ６：水素原子、Ｒ７：エチレン基、Ｒ８：ｎ−ノニル基〕等が挙げられるが、これらに限定することなく、２種類以上併用することもできる。
【００５７】
一般式（５）で示されるエチレン性不飽和単量体において、Ｒ８のアルキル基の炭素数は１〜２０であるが、より好ましくは１〜１０である。アルキル基は、直鎖状アルキル基だけでなく、分岐状アルキル基及び置換基としてベンゼン環を有するアルキル基も含まれる。Ｒ８のアルキル基の炭素数が１〜１０のときはアルキル基が障害となりＩＴＯエッチング液、Ｍｅｔａｌエッチング液などの浸透を抑制し薬品耐性が高まるが、炭素数が１０を超えると、アルキル基の立体障害効果が高くなり、基材との密着をも妨げる傾向を示す。この傾向は、Ｒ８のアルキル基の炭素鎖長が長くなるに従い顕著となり、炭素数が２０を超えると、基材との密着が極端に低下する。Ｒ８で表されるベンゼン環を有するアルキル基としては、ベンジル基、２−フェニル（イソ）プロピル基等を挙げることができる。側鎖ベンゼン環が一つ増えることによって、薬品耐性がより改善され、現像性も向上する。
【００５８】
一般式（５）で示されるエチレン性不飽和単量体において、ｎは、１〜１５の整数が好ましい。ｎが１５を越えると、親水性が増して溶媒和の効果が小さくなると共に、樹脂（Ａ）の粘度が高くなり、これを用いた感光性組成物の粘度も高くなり、流動性に影響を与える場合がある。溶媒和の観点から、ｎは、１〜４が特に好ましい。
【００５９】
一般式（１）及び（２）の構造をもつ単量体としては、他の単量体との共重合性の観点、及び薬品耐性の観点から、スチレン、α−メチルスチレン、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、又は一般式（５）で示されるエチレン性不飽和単量体が好ましい。これらは、樹脂（Ａ）の側鎖にベンゼン環を導入することよって、側鎖ベンゼン環のスタッキング効果により薬品の浸透を防ぎ薬品耐性が良好となるためである。
【００６０】
（（ｂ２）化学式（３）又は化学式（４）に示す脂肪族環基を有する化合物）
化学式（３）又は（４）の構造をもつ単量体（ｂ２）としては、具体的には一般式（６）に示すエチレン性不飽和単量体、又は一般式（７）に示すエチレン性不飽和単量体等が挙げられる。
【００６１】
一般式（６）
【化９】
2019053266.tif 000010
【００６２】
一般式（７）：
【化１０】
2019053266.tif 000011
［一般式（６）、一般式（７）中、Ｒ９は、水素原子又はメチル基であり、Ｒ１０は、炭素数２又は３のアルキレン基であり、ｍは、１〜１５の整数である。］
【００６３】
一般式（６）に示されるエチレン性不飽和単量体としては、例えば、
日立化成社製ファンクリル  ＦＡ−５１３Ａ〔ジシクロペンタニルアクリレート、Ｒ９：水素原子、Ｒ１０：なし、ｍ＝０〕、又はＦＡ−５１３Ｍ〔ジシクロペンタニルメタクリレート、Ｒ９：メチル、Ｒ１０：なし、ｍ＝０〕等が挙げられるが、これらに限定することなく、２種類以上併用することもできる。
【００６４】
一般式（７）に示される不飽和エチレン製単量体としては、例えば、
日立化成社製ファンクリル  ＦＡ−５１１Ａ〔ジシクロペンテニルアクリレート、Ｒ９：水素原子、Ｒ１０：なし、ｍ＝０〕、ＦＡ−５１２Ａ〔ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、Ｒ９：水素原子、Ｒ１０：エチレン基、ｍ＝１〕、ＦＡ−５１２Ｍ〔ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、Ｒ９：メチル基、Ｒ１０：エチレン基、ｍ＝１〕、又はＦＡ−５１２ＭＴ〔ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、Ｒ９：メチル基、Ｒ１０：エチレン基、ｍ＝１〕等が挙げられるが、これらに限定することなく、２種類以上併用することもできる。
【００６５】
（ｂ２）としては、中でもジシクロペンタニル（メタ）アクリレートが薬品耐性と硬度の観点から好ましい。
【００６６】
［（ｃ）：不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種］
（ｃ）としては、具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、ｏ−ビニル安息香酸、ｍ−ビニル安息香酸、ｐ−ビニル安息香酸等の不飽和モノカルボン酸類；
マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、３‐ビニルフタル酸、４−ビニルフタル酸、３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸、ジメチルテトラヒドロフタル酸、１、４−シクロヘキセンジカルボン酸等の不飽和ジカルボン酸類；
メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸、５−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン等のカルボキシ基を含有するビシクロ不飽和化合物類；
無水マレイン酸、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、３−ビニルフタル酸無水物、４−ビニルフタル酸無水物、３，４，５，６−テトラヒドロフタル酸無水物、１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン無水物（ハイミック酸無水物）等の不飽和ジカルボン酸類無水物；
【００６７】
こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕、フタル酸モノ〔２−（メタ）アクリロイルオキシエチル〕等の２価以上の多価カルボン酸の不飽和モノ〔（メタ）アクリロイルオキシアルキル〕エステル類；
α−（ヒドロキシメチル）アクリル酸のような、同一分子中にヒドロキシ基及びカルボキシ基を含有する不飽和アクリレート類等が挙げられる。
これらのうち、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸等が共重合反応性の点やアルカリ溶解性の点から好ましく用いられる。
【００６８】
（ｃ）の付加量は、仕込み値換算で、（ａ）、（ｂ）を共重合させて得られる共重合体に対して、１０〜６０質量％が好ましく、３０〜４０質量％がより好ましい。
【００６９】
［（ｄ）：無水コハク酸］
（ｄ）として無水コハク酸を使用することにより良好な密着性、高い解像性が両立され、１２０℃以下の低温で硬化させた場合でも良好な薬品耐性、高硬度、脱ガスの少ない塗膜を作製することができる。類似化合物としてはその他にも無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水クロレンド酸等の二塩基酸無水物；無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、ビフェニルテトラカルボン酸無水物等の多塩基酸無水物が挙げられるが、無水コハク酸の場合、分子サイズが小さいこと、開環反応により生成するカルボン酸と二重結合部位の自由度が他の類似化合物と比較して高いことが特徴となる。自由度の高い二重結合はより高い反応性を示すため密着性が向上し良好な薬品耐性を付与するとともに、硬度が高く脱ガスの少ない塗膜の作製が可能となる。一方で自由度の高いカルボン酸を有することで現像性が良化し、解像性の高い塗膜の作製が可能となる。
【００７０】
（ｄ）の付加反応は、常法によって行われる。（ｄ）の付加量は、感光基導入時に生成した水酸基の５〜１００％、好ましくは３０〜１００％である。（ｄ）の付加量が５％未満の場合は、希アルカリへの溶解性が低下する。
【００７１】
樹脂（Ａ）は重量平均分子量が３，０００以上３０，０００以下の範囲が好ましい。さらに、樹脂（Ａ）は重量平均分子量が４，０００以上１５，０００以下であることが最も好ましい。樹脂（Ａ）の重量平均分子量が４，０００以上１５，０００以下であることで、良好な薬品耐性と高い解像性の両立が可能となる。分子量が３，０００未満のときは、強い架橋構造を得ることができずに硬度が低下し、分子量が３０，０００を超えるときは、解像性が悪化する。
ここで重量平均分子量は、東ソー株式会社製ゲルパーミエイションクロマトグラフィー「ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ」において、分離カラムを４本直列に繋ぎ、充填剤には順に東ソー株式会社製「ＴＳＫ−ＧＥＬ ＳＵＰＥＲ Ｈ５０００」、「Ｈ４０００」、「Ｈ３０００」、及び「Ｈ２０００」を用い、移動相にテトラヒドロフランを用いて測定したポリスチレン換算分子量である。
【００７２】
＜その他の樹脂＞
その他の樹脂として、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、及び感光性樹脂等を更に追加して使用することができる。樹脂は、可視光領域の４００〜７００ｎｍの全波長領域において分光透過率が好ましくは８０％以上、より好ましくは９５％以上の樹脂であることが好ましい。また、アルカリ現像型レジスト材の形態で用いる場合には、酸性基含有エチレン性不飽和単量体を共重合したアルカリ可溶性ビニル系樹脂を用いることが好ましい。また、さらに光感度を向上と薬品耐性の改善を目的に、エチレン性不飽和二重結合を有する活性エネルギー線硬化性樹脂を用いることもできる。
【００７３】
（熱可塑性樹脂）
熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ブチラール樹脂、スチレンーマレイン酸共重合体、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリスチレン、ポリアミド樹脂、ゴム系樹脂、環化ゴム系樹脂、セルロース類、ポリエチレン、ポリブタジエン、ポリイミド樹脂等が挙げられる。中でもアクリル樹脂を用いることが好ましい。
これらの中でも、酸性基を有するアクリル樹脂、及びスチレン／スチレンスルホン酸共重合体から選ばれる少なくとも１種の樹脂、特に酸性基を有するアクリル樹脂は、耐熱性、透明性が高いため、好適に用いられる。
【００７４】
（熱硬化性樹脂）
熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ化合物、ベンゾグアナミン化合物、ロジン変性マレイン酸化合物、ロジン変性フマル酸化合物、メラミン化合物、尿素化合物、カルド化合物、及びフェノール化合物といった、低分子化合物でもよく、本発明はこれに限定されるものではない。このような熱硬化性樹脂を含むことで、フィルタセグメントの焼成時に樹脂が反応し、塗膜の架橋密度を高め、耐熱性が向上し、フィルタセグメント焼成時の顔料凝集が抑えられるという効果が得られる。
これらの中でも、エポキシ樹脂、カルド樹脂、又はメラミン樹脂が好ましい。
【００７５】
（感光性樹脂）
感光性樹脂としては、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等の反応性の置換基を有する線状高分子にイソシアネート基、アルデヒド基、エポキシ基等の反応性置換基を有する（メタ）アクリル化合物やケイヒ酸を反応させて、（メタ）アクリロイル基、スチリル基等の光架橋性基を該線状高分子に導入した樹脂が用いられる。また、スチレン−無水マレイン酸共重合物やα−オレフィン−無水マレイン酸共重合物等の酸無水物を含む線状高分子をヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリル化合物によりハーフエステル化したものも用いられる。
【００７６】
＜シランカップリング剤（Ｂ）＞
本発明の感光性樹脂組成物は、シランカップリング剤を特定範囲量含むことで基材への密着が良く、良好な薬品耐性を示す。特に本願の特定樹脂と組み合わせることで、解像性と薬品耐性が著しく向上する。
シランカップリング剤の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分中、５質量％以上である。５質量％より少ない場合、高精細な微細画素パターンを形成する場合に塗膜の一部が剥がれるといった問題が生じる。より好ましくは７質量％以上、特に好ましくは１０質量％以上である。７質量％以上になると微細画素パターン形成のみでなく、薬品耐性の観点からも良好になる。
また、シランカップリング剤の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分中、２０質量％以下である。２０質量％を超える場合、強い架橋構造が得られず薬品耐性が悪化する問題が生じる。より好ましくは１５質量％以下である。１５質量％以下になると解像性の観点から良好になる。
【００７７】
シランカップリング剤（Ｂ）としては公知のものが特に制限なく用いられるが、具体的にはビニル基、エポキシ基、スチリル基、（メタ）アクリロキシ基、アミノ基、ウレイド基、メルカプト基、スルフィド基、カルバメート基、又はイソシアネート基等を有するシランカップリング剤が挙げられる。
【００７８】
このようなシランカップリング剤（Ｂ）として具体的には、
ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、ビニルエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリクロルシラン、等のビニル基を有するシランカップリング剤、
β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、等のエポキシ基を有するシランカップリング剤、
p-スチリルトリメトキシシラン等のスチリル基を有するシランカップリング剤、
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の（メタ）アクリロキシ基を有するシランカップリング剤、
Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルメチルジエトキシシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−（ビニルベンジル）−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩、等のアミノ基を有するシランカップリング剤、
３-ウレイドプロピルトリエトキシシラン等のウレイド基を有するシランカップリング剤、
３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、等のメルカプト基を有するシランカップリング剤、
ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィト゛等のスルフィド基を有するシランカップリング剤、
３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のイソシアノ基を有するシランカップリング剤、
３−カルバメートエチル）プロピルトリメトキシシラン、（３−カルバメートエチル）プロピルトリプロパキシシラン、（３−カルバメートプロピル）プロピルトリエトキシシラン、（３−カルバメートプロピル）プロピルトリメトキシシラン、（３−カルバメートプロピル）プロピルトリプロパキシシラン、（３−カルバメートブチル）プロピルトリエトキシシラン、（３−カルバメートブチル)プロピルトリメトキシシラン、（３−カルバメートブチル)プロピルトリプロパキシシラン、（３−カルバメートブチル)ブチルトリプロパキシシラン、（３−カルバメートブチル）プロピルメチルジエトキシシラン、（３−カルバメートペンチル）プロピルトリエトキシシラン、（３−カルバメートヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、（３−カルバメートオクチル）ペンチルトリブトキシシラン、（３−カルバメートエチル）プロピルシリルトリクロライド、（３−カルバメートエチル）プロピルトリメチルシラン、（３−カルバメートエチル）プロピルジメチルシラン、（３−カルバメートエチル）プロピルトリブチルシラン、（３−カルバメートエチル）エチル-ｐ-キシレントリエトキシシラン、（３−カルバメートエチル）-ｐ-フェニレントリエトキシシラン等のカルバメート基を有するシランカップリング剤
などがあげられる。
これらのシランカップリング剤（Ｂ）は、１種を単独で、又は必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。
【００７９】
これらのなかでも、シランカップリング剤（Ｂ）が、（メタ）アクリロキシ基、エポキシ基及びメルカプト基からなる群から選ばれる少なくともひとつの有機基を含有することが好ましく、具体的には、（メタ）アクリロキシ基を有する３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、エポキシ基を有する３−グリシドキシプロピルメチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、メルカプト基を有する３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、等が、密着性が良好となるために好ましいものである。
【００８０】
またシランカップリング剤は、上記化合物の加水分解により生じたシラノール化合物であっても、それらが縮合したポリオルガノシロキサン化合物でも良い。
【００８１】
＜重合性化合物（Ｃ）＞
本発明の感光性樹脂組成物に添加しても良い重合性化合物（Ｃ）には、紫外線や熱などにより硬化して透明樹脂を生成するモノマーもしくはオリゴマーが含まれる。
【００８２】
紫外線や熱などにより硬化して透明樹脂を生成するモノマー、オリゴマーとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、β−カルボキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＰＯ変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、エステルアクリレート、メチロール化メラミンの（メタ）アクリル酸エステル、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタンアクリレート等の各種アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸、スチレン、酢酸ビニル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルホルムアミド、アクリロニトリル等が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。
【００８３】
また、重合性化合物は酸基を含有してもよい。例えば、多価アルコールと（メタ）アクリル酸との遊離水酸基含有ポリ（メタ）アクリレート類と、ジカルボン酸類とのエステル化物；多価カルボン酸と、モノヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類とのエステル化物等を挙げることができる。具体例としては、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート等のモノヒドロキシオリゴアクリレート又はモノヒドロキシオリゴメタクリレート類と、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、テレフタル酸等のジカルボン酸類との遊離カルボキシル基含有モノエステル化物；プロパン−１，２，３−トリカルボン酸（トリカルバリル酸）、ブタン−１，２，４−トリカルボン酸、ベンゼン−１，２，３−トリカルボン酸、ベンゼン−１，３，４−トリカルボン酸、ベンゼン−１，３，５−トリカルボン酸等のトリカルボン酸類と、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のモノヒドロキシモノアクリレート又はモノヒドロキシモノメタクリレート類との遊離カルボキシル基含有オリゴエステル化物等が挙げられるが、本発明の効果はこれらに限定されるものではない。
【００８４】
（ウレタン（メタ）アクリレート）
本発明における重合性化合物（Ｃ）は、ウレタン（メタ）アクリレートを含む重合性不飽和結合基を有する単量体を含有することができる。ウレタン（メタ）アクリレートを含むことで、現像時の基板に対する塗膜密着性や薬品耐性が良化するため好ましい。これは通常は光硬化により塗膜内にひずみが生じるが、ウレタン（メタ）アクリレートを含むことによりそのひずみが緩和された塗膜となり密着性や薬品耐性の良化につながる。
【００８５】
ウレタン（メタ）アクリレートの構造に制限はなく、水酸基を有する（メタ）アクリレートに多官能イソシアネートを反応させて得られる多官能ウレタンアクリレートや、アルコールに多官能イソシアネートを反応させ、さらに水酸基を有する（メタ）アクリレートを反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレート等を用いることができる。
【００８６】
水酸基を有する（メタ）アクリレートとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールエチレンオキサイド変性ペンタ（メタ）アクリレー、ジペンタエリスリトールプロピレンオキサイド変性ペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールカプロラクトン変性ペンタ（メタ）アクリレート、グリセロールアクリレートメタクリレート、グリセロールジメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイルプロピルメタクリレート、エポキシ基含有化合物とカルボキシ（メタ）アクリレートの反応物、水酸基含有ポリオールポリアクリレート等が挙げられる。
【００８７】
また、多官能イソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ポリイソシアネート等が挙げられる。
【００８８】
また、アルコールの構造に制限はないが、多価アルコールを使用した場合、硬化塗膜の架橋度が高くなり、塗膜耐性が上がるため好ましい。多価アルコールとしては、プロピレングリコール、エチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールなどが挙げられる。
【００８９】
市販の多官能ウレタン（メタ）アクリレートとしては、日本化薬社製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＵＸ−３２０４、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＵＸ−４１０１、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＵＸ−６１００、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＵＸ−６１０１、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＵＸ−７１０１、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＵＸ−８１０１、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＵＸ−０９３７、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＵＸＦ−４００２、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ−４０Ｈ、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＵＸ−５００５、及び東亜合成社製アロニックスＭ−１１００、アロニックスＭ−１２００及び新中村化学工業社製Ｕ−６ＬＰＡ、ＵＡ−１１００Ｈ、Ｕ−１５ＨＡ、ＵＡ−１６０ＴＭ、ＵＡ−１２２Ｐ、ＵＡ−７１００、ＵＡ−Ｗ２Ａ、及びケーエスエム社製ＫＵＡ−４Ｉ、ＫＵＡ−６Ｉ、ＫＵＡ−９Ｎ、ＫＵＡ−１０Ｈ等を好適に使用することができる。
【００９０】
本発明の感光性樹脂組成物に使用可な重合性化合物（Ｃ）には、上述したウレタン（メタ）アクリレートの他に、水酸基を有する（メタ）アクリレートに多官能イソシアネートを反応させる際や、アルコールに多官能イソシアネートを反応させ、さらに水酸基を有する（メタ）アクリレートを反応させる際に、多官能ウレタン（メタ）アクリレートとして得られなかった二重結合基を有する成分を他のモノマーとして含んでいてもよい。
【００９１】
これらの光重合性単量体は、１種を単独で、又は必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。
【００９２】
感光性樹脂組成物中の全固形分に対する重合性化合物（Ｃ）の含有量は１０〜４０質量％であることが好ましい。上記範囲とすることで、微細パターンを形成する場合の剥がれがなく、且つ、パターンのテーパー部が長く引き伸ばされることを抑制し、高精細な微細画素パターンを形成することが可能となる。さらに、重合性化合物（Ｃ）に含まれるウレタン（メタ）アクリレートの含有量は５０〜１００質量％が好ましい。上記範囲とすることで、現像時の基板に対する塗膜密着性や薬品耐性に優れるものとなる。
【００９３】
＜光重合開始剤（Ｄ）＞
本発明の感光性樹脂組成物は、該組成物を紫外線照射により硬化させ、フォトリソグラフ法によりフィルタセグメントを形成する場合、重合開始剤等を加えて溶剤現像型あるいはアルカリ現像型レジスト材の形態で調製することができる。光重合開始剤（Ｄ）を使用する際の配合量は、感光性樹脂組成物の全固形分中、好ましくは０．２〜１０.０質量％
であり、より好ましくは０．５〜７．０質量％である。光重合性化合物の含有量の範囲が前記にあると、脱ガスと微細パターンの解像性が良好な塗膜が得られる。
【００９４】
重合開始剤（Ｄ）としては、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−（ジメチルアミノ）−２−[（４−メチルフェニル）メチル]−１−[４−（４−モルフォリニル）フェニル]−１−ブタノン、又は２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン等のアセトフェノン系化合物；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、又はベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系化合物；ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、又は３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物；チオキサントン、２−クロルチオキサントン、２−メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、又は２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系化合物；２，４，６−トリクロロ−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペロニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−スチリル−ｓ−トリアジン、２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−（ピペロニル）−６−トリアジン、又は２，４−トリクロロメチル−（４’−メトキシスチリル）−６−トリアジン等のトリアジン系化合物；１，２−オクタンジオン，１−〔４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）〕、又はＯ−（アセチル）−Ｎ−（１−フェニル−２−オキソ−２−（４’−メトキシ−ナフチル）エチリデン）ヒドロキシルアミン等のオキシムエステル系化合物；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、又は２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等のホスフィン系化合物；９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアントラキノン等のキノン系化合物；  ボレート系化合物；  カルバゾール系化合物；イミダゾール系化合物；あるいは、チタノセン系化合物等が用いられる。
【００９５】
これらの光重合開始剤（Ｄ）は１種又は必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。
【００９６】
＜増感剤＞
さらに、本発明の樹脂組成物には、増感剤を含有させることができる。増感剤としては、カルコン誘導体、ジベンザルアセトン等に代表される不飽和ケトン類、ベンジルやカンファーキノン等に代表される１，２−ジケトン誘導体、ベンゾイン誘導体、フルオレン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、キサンテン誘導体、チオキサンテン誘導体、キサントン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、ケトクマリン誘導体、シアニン誘導体、メロシアニン誘導体、オキソノ−ル誘導体等のポリメチン色素、アクリジン誘導体、アジン誘導体、チアジン誘導体、オキサジン誘導体、インドリン誘導体、アズレン誘導体、アズレニウム誘導体、スクアリリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、テトラフェニルポルフィリン誘導体、トリアリールメタン誘導体、テトラベンゾポルフィリン誘導体、テトラピラジノポルフィラジン誘導体、フタロシアニン誘導体、テトラアザポルフィラジン誘導体、テトラキノキサリロポルフィラジン誘導体、ナフタロシアニン誘導体、サブフタロシアニン誘導体、ピリリウム誘導体、チオピリリウム誘導体、テトラフィリン誘導体、アヌレン誘導体、スピロピラン誘導体、スピロオキサジン誘導体、チオスピロピラン誘導体、金属アレーン錯体、有機ルテニウム錯体、又はミヒラーケトン誘導体、α−アシロキシエステル、アシルフォスフィンオキサイド、メチルフェニルグリオキシレート、ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、エチルアンスラキノン、４，４’−ジエチルイソフタロフェノン、３，３’又は４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン等が挙げられる。
【００９７】
さらに具体的には、大河原信ら編、「色素ハンドブック」（１９８６年、講談社）、大河原信ら編、「機能性色素の化学」（１９８１年、シーエムシー）、池森忠三朗ら編、及び「特殊機能材料」（１９８６年、シーエムシー）に記載の増感剤が挙げられるがこれらに限定されるものではない。また、その他、紫外から近赤外域にかけての光に対して吸収を示す増感剤を含有させることもできる。
【００９８】
増感剤は、必要に応じて任意の比率で２種以上用いても構わない。増感剤を使用する際の配合量は、樹脂組成物中に含まれる光重合開始剤（Ｄ）の全重量を基準（１００質量％）として、３〜６０質量％であることが好ましく、光硬化性、現像性の観点から５〜５０質量％であることがより好ましい。
【００９９】
＜溶剤（Ｅ）＞
溶剤（Ｅ）としては、例えば乳酸エチル、ベンジルアルコール、１，２，３−トリクロロプロパン、１，３−ブタンジオール、１，３−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコールジアセテート、１，４−ジオキサン、２−ヘプタノン、２−メチル−１，３−プロパンジオール、３，５，５−トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オン、３，３，５−トリメチルシクロヘキサノン、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メチル−１，３−ブタンジオール、３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノール、３−メトキシ−３−メチルブチルアセテート、３−メトキシブタノール、３−メトキシブチルアセテート、４−ヘプタノン、ｍ−キシレン、ｍ−ジエチルベンゼン、ｍ−ジクロロベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−ブチルベンゼン、ｎ−プロピルアセテート、ｏ−キシレン、ｏ−クロロトルエン、ｏ−ジエチルベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ｐ−クロロトルエン、ｐ−ジエチルベンゼン、ｓｅｃ−ブチルベンゼン、ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン、γ−ブチロラクトン、イソブチルアルコール、イソホロン、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノターシャリーブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジイソブチルケトン、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノール、シクロヘキサノールアセテート、シクロヘキサノン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ダイアセトンアルコール、トリアセチン、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールフェニルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、ベンジルアルコール、メチルイソブチルケトン、メチルシクロヘキサノール、酢酸ｎ−アミル���酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、酢酸プロピル、二塩基酸エステル等が挙げられる。
【０１００】
（沸点が１３０℃以下の溶剤）
中でも、低温硬化での製造プロセスにおいても塗膜硬度や薬品耐性が十分発揮されるためには沸点が１３０℃以下の溶剤を全溶剤中１０〜８０％含有することが好ましい。
沸点が１３０℃以下の溶剤としては、例えばプロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、２−メチルー１，３−プロパンジオール、イソブチルアルコール、酢酸イソブチル、イソブチルアセテート、ｎ−プロピルアセテート、酢酸プロピル、酢酸ｎ−ブチル、ｎ−ブチルアルコール、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。特に感光性樹脂組成物に使用される他の化合物との相溶性の観点からプロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルが好ましい。
【０１０１】
溶剤（Ｅ）は、感光性樹脂組成物中の固形分合計１００質量部に対して、２００〜４０００質量部の量で用いることができる。
【０１０２】
＜無機微粒子（Ｆ）＞
本発明の感光性樹脂組成物は、無機微粒子（Ｆ）を含むことで、より高硬度で、薬品耐性に優れる塗膜を得ることができる。好ましくは、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、インジウム、スズ、アンチモン及びセリウムからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素の無機微粒子であり、より好ましくは、屈折率、透明性に優れる点で、ジルコニウム、ケイ素の無機微粒子である。
【０１０３】
無機微粒子としては、例えば、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３、ＦｅＯ、Ｆｅ３Ｏ４）、酸化銅（ＣｕＯ、Ｃｕ２Ｏ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化モリブデン（ＭｏＯ３）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化タングステン（ＷＯ３、Ｗ２Ｏ５）、酸化鉛（ＰｂＯ、ＰｂＯ２）、酸化ビスマス（Ｂｉ２Ｏ３）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、Ｃｅ２Ｏ３）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ５）、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯ２、ＧｅＯ）等の金属酸化物微粒子、窒化珪素、窒化ホウ素などの窒化物等がある。また、チタン酸バリウムなどのチタン酸塩、チタン／ケイ素複合酸化物、イットリウム安定化ジルコニアなど、２種以上の金属元素から構成される複合酸化物なども使用することが出来る。
【０１０４】
なかでも屈折率、透明性の観点から酸化ケイ素であることが好ましい。
【０１０５】
無機微粒子としては、金属酸化物に異種の元素がドープされた化合物も使用することが出来る。このような化合物としては、タンタルドープ酸化チタンや、ニオブドープ酸化チタン等が挙げられる。これらの化合物は、単独で使用しても良いし、２種以上を混合して使用することも出来る。このような複合酸化物は、多成分の元素からなる化合物や固溶体だけではなく、核となる金属酸化物微粒子の周囲を他の金属元素で構成される金属酸化物で被覆したコアシェル構造を有するもの、１個の金属酸化物微粒子の中に他の複数の金属酸化物微粒子が分散しているような多成分分散型の構造を有するものを包含する。
上記、無機微粒子は、単独で使用しても良いし、２種以上を混合して使用することも出来る。
【０１０６】
本発明においては、上記無機微粒子は、表面処理されているものであっても良い。表面処理とは、微粒子表面に存在する水酸基と反応し得る化合物を結合させる処理を言う。このような表面処理は、無機微粒子を溶媒に分散させ、加熱や酸性条件下で表面処理剤を混合し、作用させることにより行うことが出来る。
表面を疎水化する表面処理剤としては、特に限定されないが、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸などの脂肪族系、脂肪族石鹸などの界面活性剤系、前述したシランカップリング剤、シリコーン化合物又はフッ素化合物等を用いるものがある。
シリコーン化合物としては、ジメチコン、メチコン、アルキル変性シリコーン、シリコーンレジンなどが挙げられる。
フッ素化合物としては、フッ素変性アルキル化合物及びフッ素変性シリコーン化合物が挙げられ、例えばパーフルオロアルキルリン酸エステルとその塩、パーフルオロアルキルシラン、パーフルオロアルキルカルボン酸などがを含む。またフッ素化合物とともにアクリル酸アルキルや（アクリル酸アルキル／ジメチコン）コポリマーなどと併用した疎水化処理を施してもよい。
【０１０７】
一般に、無機微粒子の製造方法としては、大きく分けると固相法、液相法、気相法の３種類が知られている。ナノサイズの微粒子を得る方法としては、液相法あるいは気相法が一般的に使用される。液相法は、溶液中で化学反応を生じさせ、結晶を成長させ微粒子を得るゾルゲル法や水などの液体を媒体として液体媒体中にて結晶を機械的に粉砕する機械粉砕法があげられる。気相法は、レーザー熱分解法、燃焼法、プラズマ蒸化法、噴霧燃焼法、ガス化燃焼法、瞬間気相生成法などがあげられ、気相中で反応を生じさせ、無機微粒子を合成する方法を言う。
【０１０８】
無機微粒子の平均一次粒子径は、１ｎｍ〜２００ｎｍが好ましく、３ｎｍ〜１００ｎｍがさらに好ましく、５ｎｍ〜３０ｎｍが特に好ましい。平均一次粒子径が１０００ｎｍを超えると、硬化物としたときの透明性が低下したり、被膜としたときの表面状態が悪化する傾向がある。また、粒子の分散性を改良するために各種の界面活性剤やアミン類を添加してもよい。
【０１０９】
無機微粒子の平均一次粒子径は、透過型（ＴＥＭ）電子顕微鏡を使用して、電子顕微鏡写真から一次粒子の大きさを直接計測する方法で測定する。具体的には、個々の顔料の一次粒子の短軸径と長軸径を計測し、平均をその無機微粒子の一次粒子の粒径とする。次に、１００個以上の顔料粒子について、それぞれの粒子の体積（重量）を、求めた粒径の立方体と近似して求め、体積平均粒径を平均一次粒子径とする。
【０１１０】
無機微粒子は、有機溶媒分散物として用いるのが好ましい。有機溶媒分散物として用いる場合、他の成分との相溶性、分散性の観点から、分散媒は、有機溶剤が好ましい。このような有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；  アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；  酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；  エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類；  ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；  ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。中でも、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、キシレンが好ましい。
【０１１１】
（ケイ素）
本発明に用いられるケイ素の酸化物微粒子分散液として市販されている商品としては、日産化学工業（株）製ＰＭＡ−ＳＴ、ＭＡ−ＳＴ−ＭＳ、ＩＰＡ−ＳＴ、ＩＰＡ−ＳＴ−ＭＳ、ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ、ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ、ＩＰＡ−ＳＴ−ＵＰ、ＥＧ−ＳＴ、ＮＰＣ−ＳＴ−３０、ＭＥＫ−ＳＴ、ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ、ＭＩＢＫ−ＳＴ、ＮＢＡ−ＳＴ、ＸＢＡ−ＳＴ、ＤＭＡＣ−ＳＴ、ＳＴ−ＵＰ、ＳＴ−ＯＵＰ、ＳＴ−２０、ＳＴ−４０、ＳＴ−Ｃ、ＳＴ−Ｎ、ＳＴ−Ｏ、ＳＴ−５０、ＳＴ−ＯＬ等、触媒化成工業（株）製中空シリカＣＳ６０−ＩＰＡ等を挙げることができる。また粉体シリカとしては、日本アエロジル（株）製アエロジル１３０、アエロジル３００、アエロジル３８０、アエロジルＴＴ６００、アエロジルＯＸ５０、旭硝子（株）製シルデックスＨ３１、Ｈ３２、Ｈ５１、Ｈ５２、Ｈ１２１、Ｈ１２２、日本シリカ工業（株）製Ｅ２２０Ａ、Ｅ２２０、富士シリシア（株）製ＳＹＬＹＳＩＡ４７０、日本板硝子（株）製ＳＧフレ−ク等を挙げることができる。
本発明には現像性の良化を目的に表面処理を施した微粒子分散液を用いることもできる。市販品としては、ＭＥＫ−ＡＣ−２１４０Ｚ、ＭＥＫ−ＡＣ−４１３０Ｙ、ＭＥＫ−ＡＣ−５１４０Ｚ、ＰＧＭ−ＡＣ−２１４０Ｙ、ＰＧＭ−ＡＣ−４１３０Ｙ、ＭＩＢＫ−ＡＣ−２１４０Ｚ、ＭＩＢＫ−ＳＤ−Ｌ、ＭＥＫ−ＥＣ−２１３０Ｙ、ＭＥＫ−ＥＣ−６１５０Ｐ、ＭＥＫ−ＥＣ−７１５０Ｐ等を挙げることができる。
【０１１２】
（アルミニウム）
本発明に用いられるアルミニウムの酸化物微粒子分散液として市販されている商品としては、日産化学工業（株）製ＡＳ−２００、ＡＳ−５２０−Ａ等を挙げることができる。
【０１１３】
（ジルコニア）
本発明に好ましく用いられるジルコニアの酸化物微粒子分散液として市販されている商品としては、日産化学工業（株）製ＺＲ−４０ＢＬ、ＺＲ−３０ＢＳ、ＺＲ−３０ＡＬ、ＺＲ−３０ＡＨ等を挙げることができる。その他、ジルコニアの酸化物微粒子分散液は特許４６９２６３０号記載の方法で得ることができる。
【０１１４】
（チタン）
本発明に特に好ましく用いられるチタンの酸化物微粒子として市販されている商品としては、ＳＡ−ＴＴＯ−Ｓ−４（１０％）ＭｉＢｒｉｄ Ｐｏｗｄｅｒ（ジメチコンで疎水
化処理した微粒子（３０ｎｍ）酸化チタン）（三好化成株式会社製）、ＭＴ−０２（メチコンで疎水化処理した微粒子（２０ｎｍ）酸化チタン）（テイカ株式会社製）、ＭＴ−０１（酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム及びステアリン酸で疎水化処理した微粒子（１０ｎｍ）酸化チタン）（テイカ株式会社製）、ＭＴ−１０ＥＸ（酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム及びイソステアリン酸で疎水化処理した微粒子（１０ｎｍ）酸化チタン）（テイカ株式会社製）、ＭＴ−１００ＴＶ（酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム及びステアリン酸で疎水化処理した微粒子（１５ｎｍ）酸化チタン）（テイカ株式会社製）、ＭＴ−１００Ｚ（酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム及びステアリン酸で疎水化処理した微粒子（１５ｎｍ）酸化チタン）（テイカ株式会社製）、ＭＴ−１５０ＥＸ（酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム及びイソステアリン酸で疎水化処理した微粒子（１５ｎｍ）酸化チタン）（テイカ株式会社製）、ＭＴＹ−０２（酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、酸化珪素、水酸化珪素及びシリコーンオイルで疎水化処理した微粒子（１０ｎｍ）酸化チタン）（テイカ株式会社製）、ＭＴＹ−１１０Ｍ３Ｓ（酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、酸化珪素、水酸化珪素及びシリコーンオイルで疎水化処理した微粒子（１０ｎｍ）酸化チタン）（テイカ株式会社製）、ＭＴ−５００ＳＡＳ（酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、酸化珪素、水酸化珪素及びシリコーンオイルで疎水化処理した微粒子（３０ｎｍ）酸化チタン）（テイカ株式会社製）、ＭＴＹ−７００ＢＳ（シリコーンオイルで疎水化処理した微粒子（８０ｎｍ）酸化チタン）（テイカ株式会社製）、ＳＴＲ−６０Ｃ−ＬＰ（ａｌｕｍｉｎａ及びｏｒｇａｎｏｐｏｌｙｓｉｌｏｘａｎｅで疎水化処理した微粒子（３０×９０ｎｍ）酸化チタン）（堺化学工業株式会社製）、ＳＴＲ−１００Ｃ−ＬＰ（ａｌｕｍｉｎａ及びｏｒｇａｎｏｐｏｌｙｓｉｌｏｘａｎｅで疎水化処理した微粒子（２０×１００ｎｍ）酸化チタン）（堺化学工業株式会社製）、ＳＴＲ−１００Ａ−ＬＰ（Ｄ．ｓｉｌｉｃａ、ａｌｕｍｉｎａ及びｏｒｇａｎｏｐｏｌｙｓｉｌｏｘａｎｅで疎水化処理した微粒子（２０×１００ｎｍ）酸化チタン）（堺化学工業株式会社製）、Ｄ−９６２（堺化学工業株式会社製）、ナノテック（シーアイ化成株式会社製）、等が挙げられる。その他、チタニウムの酸化物微粒子分散液は特許４６９２６３０号記載の方法で得ることができる。
【０１１５】
（亜鉛）
本発明に用いられる亜鉛の酸化物微粒子分散液として市販されている商品としては、ＭＺ−５０５Ｓ（（ジメチコン／メチコン）コポリマーで疎水化処理した微粒子（３０ｎｍ）酸化亜鉛）（テイカ株式会社製）、ＦＩＮＥＸ−Ｋ２−ＬＰ２（（ジメチコン／メチコン）コポリマーで疎水化処理した微粒子（３０ｎｍ）酸化亜鉛）（堺化学工業株式会社製）、Ｚ−ＣＯＴＥ ＨＰ１（ジメチコンで疎水化処理した微粒子（２５ｎｍ）酸化亜鉛）（ＢＡＳＦ・ジャパン社製）、ＳＡＭＴＵＦＺＯ−４５０（１３％）（ジメチコン及びミリスチン酸で疎水化処理した微粒子（４０ｎｍ）酸化亜鉛）（三好化成株式会社製）、ＳＡＳ−ＵＦＺＯ−４５０（１３％）（ジメチコン及びメチコンで疎水化処理した微粒子（４０ｎｍ）酸化亜鉛）（三好化成株式会社製）、ＭＺＹ−３０３Ｓ（シリコーンオイルで疎水化処理した微粒子（３５ｎｍ）酸化亜鉛）（テイカ株式会社製）、ＭＺ−３０６Ｘ（シリコーンオイルで疎水化処理した微粒子（３５ｎｍ）酸化亜鉛）（テイカ株式会社製）、ＭＺＹ−５０５Ｓ（シリコーンオイルで疎水化処理した微粒子（２５ｎｍ）酸化亜鉛）（テイカ株式会社製）、ＭＺＹ−５１０Ｍ３Ｓ（シリコーンオイルで疎水化処理した微粒子（２５ｎｍ）酸化亜鉛）（テイカ株式会社製）、ＭＺ−５０６Ｘ（シリコーンオイルで疎水化処理した微粒子（２５ｎｍ）酸化亜鉛）（テイカ株式会社製）、ＭＺ−５１０ＨＰＳＸ（酸化珪素、水酸化珪素及びシリコーンオイルで疎水化処理した微粒子（２５ｎｍ）酸化亜鉛）（テイカ株式会社製）、ＦＩＮＥＸ−３０Ｓ−ＬＰ２（ｏｒｇａｎｏｐｏｌｙｓｉｌｏｘａｎｅで疎水化処理した微粒子（３５ｎｍ）酸化亜鉛）（堺化学工業株式会社製）、ＦＩＮＥＸ−３０Ｗ−ＬＰ２（Ｄ．ｓｉｌｉｃａ及びｏｒｇａｎｏｐｏｌｙｓｉｌｏｘａｎｅで疎水化処理した微粒子（３５ｎｍ）酸化亜鉛）（堺化学工業株式会社製）、ＦＩＮＥＸ−５０Ｓ−ＬＰ２（ｏｒｇａｎｏｐｏｌｙｓｉｌｏｘａｎｅで疎水化処理した微粒子（２０ｎｍ）酸化亜鉛）（堺化学工業株式会社製）、ＦＩＮＥＸ−５０Ｗ−ＬＰ２（Ｄ．ｓｉｌｉｃａ及びｏｒｇａｎｏｐｏｌｙｓｉｌｏｘａｎｅで疎水化処理した微粒子（２０ｎｍ）酸化亜鉛）（堺化学工業株式会社製）、ナノテック（シーアイ化成株式会社）等が挙げられる。
【０１１６】
（アンチモン）
本発明に特に好ましく用いられるアンチモンの酸化物微粒子として市販されている商品としては、日本精鉱（株）製ＰＡＴＯＸ−Ｕ等（３０ｎｍ；三酸化二アンチモン）が挙げられる。本発明に好ましく用いられるアンチモンの酸化物微粒子分散液として市販されている商品としては、日産化学工業（株）製セルナックスＣＸ−Ｚ３３０Ｈを挙げることができる。
【０１１７】
（セリウム）
本発明に特に好ましく用いられるセリウムの酸化物微粒子として市販されている商品としては、エア・ブラウン（株）製ＴＥＣＮＡＰＯＷ−ＣＥＯ２等（１０ｎｍ；二酸化セリウム）が挙げられる。本発明に好ましく用いられるセリウムの酸化物微粒子分散液として市販されている商品としては、ＳＩ０１−５ セリガードＳＣ６８３２（メチコンで疎水
化処理した微粒子（３５ｎｍ）酸化セリウム）（大東化成工業株式会社製）等が挙げられる。
【０１１８】
無機微粒子（Ｆ）の添加量は感光性樹脂組成物における固形分中、５〜８０質量％が好ましく、１０〜６０質量％がさらに好ましく、１５〜５０質量％が特に好ましい。添加量が５質量％未満である場合は硬度、エッチャント耐性の向上などの効果が得られにくく、一方で８０質量％を超える場合は、現像性、密着性が低下するなどの問題が起こることがある。
【０１１９】
＜紫外線吸収剤（Ｇ）＞
本発明の感光性樹脂組成物には、露光時にマスクの回折光による感光を防ぐために紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤を使用することにより塗膜内の光硬化が均一となり、薬品に浸漬した場合の塗膜の膨潤が抑えられる効果も併せて得る事ができる。紫外線吸収剤とは、光重合開始剤以外の紫外線吸収機能を有する有機化合物である。感光性樹脂組成物中の全固形分に対する紫外線吸収剤の含有量は０．０５〜３.０質量％であることが好ましい。紫外線吸収剤の含有量が、上記より少ない場合、紫外線吸収剤の効果が小さく、感光性樹脂組成物パターンのテーパー部が長く引き伸ばされ、高精細な微細画素パターンを形成することが困難になるとともに残渣が多くなることがある。また、上記より多い場合には、不溶解分の発生や、密着性、硬度が低くなるといった不具合が発生することがある。
【０１２０】
（吸光度）
紫外線吸収剤の波長３６５ｎｍにおける吸光度は０．４以上であることが好ましい。吸光度は紫外線吸収剤をクロロホルムなどの波長３６５ｎｍに吸収のない溶媒に溶解させ、１０ｍｇ／Ｌまで希釈した時の測定値であり以下に測定方法について説明する。
この方法はＬａｍｂｅｒｔ−Ｂｅｅｒの法則として知られた溶液濃度と光吸収との関係を利用したものである。つまり、ある濃度の溶液を一定の厚みを持つ透明な容器に封入しその片面から強度Ｉ0の光を照射し、反対側の面から出てくる強度Ｉの光を観測すると入射した光は容器内部の溶液に吸収されその強度が弱まる。そして、その強度の弱まり方は、溶液の濃度に比例することが知られている。この法則を表す関係式はＡを吸光度とすると、
Ａ＝−Ｌｏｇ（Ｉ0／Ｉ）＝ａｂｃ
と表わされる。ここで、ａは比例定数、ｂは溶液の厚さ、ｃは溶液濃度である。
【０１２１】
さらに紫外線吸収剤はベンゾトリアゾール系有機化合物又はベンゾフェノン系有機化合物又はトリアジン系有機化合物であることが好ましく、波長３６５ｎｍにおける吸光度が０．４以上であるベンゾトリアゾール系有機化合物としては、２−（５メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、2,2'-メチレンビス[6-(ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-tert-オクチルフェノール]等が挙げられる。ベンゾフェノン系有機化合物としては、２，２−ジヒドロキシ−４，４−ジメトキシベンゾフェノン等が挙げられる。トリアジン系有機化合物としては2,4,6-トリス(2-ヒドロキシ-4-ヘキシルオキシ-3-メチルフェニル)-1,3,5-トリアジン等が挙げられる。
具体的にはＢＡＳＦ社製「ＴＩＮＵＶＩＮ Ｐ」（吸光度０．４０）、「ＴＩＮＵＶＩＮ ３２６」（吸光度０．４８）、「ＴＩＮＵＶＩＮ ３６０」（吸光度０．４０）、シプロ化成社製「シーソーブ １０７」（吸光度０．６０）ＡＤＥＫＡ社製「アデカスタブ LA-F70」（吸光度０．９０）等が挙げられる。
【０１２２】
＜重合禁止剤＞
本発明の感光性樹脂組成物には、露光時にマスクの回折光による感光を防ぐために、重合禁止剤を含有させることもできる。
重合禁止剤としては、カテコール、レゾルシノール、１，４−ヒドロキノン、２−メチルカテコール、３−メチルカテコール、４−メチルカテコール、２−エチルカテコール、３−エチルカテコール、４−エチルカテコール、２−プロピルカテコール、３−プロピルカテコール、４−プロピルカテコール、２−ｎ−ブチルカテコール、３−ｎ−ブチルカテコール、４−ｎ−ブチルカテコール、２−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、３−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、４−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルカテコール等のアルキルカテコール系化合物、２−メチルレゾルシノール、４−メチルレゾルシノール、２−エチルレゾルシノール、４−エチルレゾルシノール、２−プロピルレゾルシノール、４−プロピルレゾルシノール、２−ｎ−ブチルレゾルシノール、４−ｎ−ブチルレゾルシノール、２−ｔｅｒｔ−ブチルレゾルシノール、４−ｔｅｒｔ−ブチルレゾルシノール等のアルキルレゾルシノール系化合物、メチルヒドロキノン、エチルヒドロキノン、プロピルヒドロキノン、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン等のアルキルヒドロキノン系化合物、トリブチルホスフィン、トリオクチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリベンジルホスフィンなどのホスフィン化合物、トリオクチルホスフィンオキサイド、トリフェニルホスフィンオキサイドなどのホスフィンオキサイド化合物、トリフェニルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイトなどのホスファイト化合物、ピロガロール、フロログルシンなどが挙げられる。重合禁止剤の含有量は、感光性樹脂組成物の全固形分１００質量部に対して、０．０１〜０．４質量部が好ましい。含有量が、上記より少ない場合、重合禁止剤の効果が小さく、感光性樹脂組成物パターンのテーパー部が長く引き伸ばされ、高精細な微細画素パターンを形成することが困難になるとともに残渣が多くなることがある。また上記より多い場合には、密着性が低くなるといった不具合が発生することがある。
【０１２３】
＜レベリング剤＞
本発明の感光性樹脂組成物には、基板上での組成物のレベリング性をよくするため、レベリング剤を添加することが好ましい。レベリング剤としては、ポリエーテル構造又はポリエステル構造を有するジメチルシロキサンが好ましい。主鎖にポリエーテル構造を有するジメチルシロキサンの具体例としては、東レ・ダウコーニング社製ＦＺ−２１２２、ビックケミー社製ＢＹＫ−３３３などが挙げられる。ポリエステル構造を有するジメチルシロキサンの具体例としては、ビックケミー社製ＢＹＫ−３１０などが挙げられる。ポリエーテル構造を有するジメチルシロキサンと、ポリエステル構造を有するジメチルシロキサンとは、併用することもできる。レベリング剤の含有量は通常、感光性樹脂組成物の全重量を基準（１００質量％）として、０．００３〜０．５質量％用いることが好ましい。
【０１２４】
レベリング剤として特に好ましいものとしては、分子内に疎水基と親水基を有するいわゆる界面活性剤の一種で、親水基を有しながらも水に対する溶解性が小さく、樹脂組成物に添加した場合、その表面張力低下能が低いという特徴を有し、さらに表面張力低下能が低いにも拘らずガラス板への濡れ性が良好なものが有用であり、泡立ちによる塗膜の欠陥が出現しない添加量において十分に帯電性を抑止できるものが好ましく使用できる。このような好ましい特性を有するレベリング剤として、ポリアルキレンオキサイド単位を有するジメチルポリシロキサンが好ましく使用できる。ポリアルキレンオキサイド単位としては、ポリエチレンオキサイド単位、ポリプロピレンオキサイド単位があり、ジメチルポリシロキサンは、ポリエチレンオキサイド単位とポリプロピレンオキサイド単位とを共に有していてもよい。
【０１２５】
また、ポリアルキレンオキサイド単位のジメチルポリシロキサンとの結合形態は、ポリアルキレンオキサイド単位がジメチルポリシロキサンの繰り返し単位中に結合したペンダント型、ジメチルポリシロキサンの末端に結合した末端変性型、ジメチルポリシロキサンと交互に繰り返し結合した直鎖状のブロックコポリマー型のいずれであってもよい。ポリアルキレンオキサイド単位を有するジメチルポリシロキサンは、東レ・ダウコーニング株式会社から市販されており、例えば、ＦＺ−２１１０、ＦＺ−２１２２、ＦＺ−２１３０、ＦＺ−２１６６、ＦＺ−２１９１、ＦＺ−２２０３、ＦＺ−２２０７が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１２６】
レベリング剤には、アニオン性、カチオン性、ノニオン性、又は両性の界面活性剤を補助的に加えることも可能である。界面活性剤は、２種以上混合して使用しても構わない。
レベリング剤に補助的に加えるアニオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、スチレン−アクリル酸共重合体のアルカリ塩、アルキルナフタリンスルホン酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸モノエタノールアミン、ラウリル硫酸トリエタノールアミン、ラウリル硫酸アンモニウム、ステアリン酸モノエタノールアミン、ステアリン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、スチレン−アクリル酸共重合体のモノエタノールアミン、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステルなどが挙げられる。
【０１２７】
レベリング剤に補助的に加えるカオチン性界面活性剤としては、アルキル４級アンモニウム塩やそれらのエチレンオキサイド付加物が挙げられる。レベリング剤に補助的に加えるノニオン性界面活性剤としては、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリエチレングリコールモノラウレートなどの；アルキルジメチルアミノ酢酸ベタインなどのアルキルベタイン、アルキルイミダゾリンなどの両性界面活性剤、また、フッ素系やシリコーン系の界面活性剤が挙げられる。
【０１２８】
（酸化防止剤）
本発明の感光性樹脂組成物は、酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤は、加熱工程を経ることによる黄変等による透過率の低下を抑制することができる。そのため、酸化防止剤を含むことで、加熱工程時の黄変を防止し、透過率の高い塗膜を得る事ができる。
【０１２９】
本発明における「酸化防止剤」とは、紫外線吸収機能、ラジカル補足機能、又は、過酸化物分解機能を有する化合物であればよく、具体的には、酸化防止剤としてヒンダードフェノール系、ヒンダードアミン系、リン系、イオウ系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ヒドロキシルアミン系、サルチル酸エステル系、及びトリアジン系の化合物があげられ、公知の紫外線吸収剤、酸化防止剤等が使用できる。本発明の酸化防止剤は、塗膜の透過率と感度の両立の観点から、とくにフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤及びイオウ系酸化防止剤が好ましい。フェノール系のなかでも特に、立体障害性の高いヒンダードフェノール系酸化防止剤がより好ましい。
【０１３０】
［フェノール系酸化防止剤］
例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、トリエチレングリコール−ビス｛３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝、１，６−ヘキサンジオール−ビス｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝、ペンタエリスリチル−テトラキス｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ベンゼンなどが挙げられ、単独又は２種以上を使用してもよい。
【０１３１】
なかでも、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、及びトリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレートからなる群から選ばれるヒンダードフェノール系酸化防止剤は、光硬化性の面から好ましい。
【０１３２】
［リン系酸化防止剤］
リン系酸化防止剤としては、市販されているものを使用できるが、トリス［２，４−ジ−（ｔｅｒｔ）−ブチルフェニル］ホスフィントリス［２−［［２，４，８，１０−テトラキス（１，１−ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−６−イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２−［（４，６，９，１１−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−２−イル）オキシ］エチル］アミン、亜りん酸エチルビス（２，４−ジｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）が挙げられ、これらからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、これらは１種又は２種以上を使用することができる。
【０１３３】
［イオウ系酸化防止剤］
イオウ系酸化防止剤は分子中にイオウを含む酸化防止剤である。このような含イオウ系酸化防止剤としては市販されているものを使用できるが、３，３’−チオジプロパン酸ジオクタデシル、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジパルミチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、４，４’−チオビス−３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、チオジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］が挙げられ、これらからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましく、これらは１種又は２種以上を使用することができる。
【０１３４】
これらの酸化防止剤は、１種を単独で、又は必要に応じて任意の比率で２種以上混合して用いることができる。
【０１３５】
酸化防止剤の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分合計１００質量％中、０．１質量％以上４質量％以下であることが好ましい。０．１質量％より少ない場合は、酸化防止剤が不足するため黄変防止効果が得られにくく、４質量％より多い場合には紫外線露光時に発生するラジカルを補足してしまうため、感光性樹脂組成物の硬化が不十分となることがある。
【０１３６】
（貯蔵安定剤）
本発明の感光性樹脂組成物には貯蔵安定剤を含有することができる。貯蔵安定剤としては、例えばベンジルトリメチルクロライド、ジエチルヒドロキシアミンなどの４級アンモニウムクロライド、乳酸、シュウ酸などの有機酸及びそのメチルエーテル、ｔ−ブチルピロカテコール、トリエチルホスフィン、トリフェニルフォスフィンなどの有機ホスフィン、亜リン酸塩等が挙げられる。貯蔵安定剤は、感光性樹脂組成物の合計１００質量％中、０．１〜５質量％の量で用いることができる。
【０１３７】
＜感光性樹脂組成物の製法＞
本発明の感光性樹脂組成物は、樹脂（Ａ）と、シランカップリング剤（Ｂ）と、重合性化合物（Ｃ）と、光重合開始剤（Ｄ）と、溶剤（Ｅ）と、必要に応じて添加する無機微粒子（Ｆ）等を攪拌・混合して得ることが出来る。本発明の感光性樹脂組成物は、遠心分離、焼結フィルタ、メンブレンフィルタ等の手段にて、５μｍ以上の粗大粒子、好ましくは１μｍ以上の粗大粒子、さらに好ましくは０．５μｍ以上の粗大粒子及び混入した塵、異物の除去を行うことが好ましい。
【０１３８】
＜塗膜＞
本発明の感光性樹脂組成物は、硬度、密着性、エッチャント耐性、耐湿熱性に優れる塗膜を形成することができるため、タッチパネル、液晶表示装置、有機ＥＬ装置等に適している。
【０１３９】
本発明による感光性樹脂組成物をガラス基材、ＩＴＯ上、モリブデン上、その他の金属膜上、有機膜上などにスピンコートなどの回転塗布、ダイコートなどの流延塗布、ロールコートによる塗布、ロール転写法による塗布などにより塗膜を形成することができ、印刷法又はフォトリソグラフィー法により、製造することができる。なかでもフォトリソグラフィー法により製造することが好ましい。
【０１４０】
フォトリソグラフィー法により塗膜を形成する場合は、溶剤現像型あるいはアルカリ現像型として調製した感光性樹脂組成物を、透明基板上に、スプレーコートやスピンコート、スリットコート、ダイコート、ロールコート等の塗布方法により塗布する。必要により乾燥された塗膜には、この塗膜と接触あるいは非接触状態で設けられた所定のパターンを有するマスクを通して紫外線露光を行う。その後、溶剤又はアルカリ現像液に浸漬するかもしくはスプレーなどにより現像液を噴霧して未硬化部を除去し、硬化塗膜とすることができる。さらに、感光性樹脂組成物の重合を促進するため、必要に応じて加熱を施すこともできる。
【０１４１】
現像に際しては、アルカリ現像液として炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水溶液が使用され、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）、ジメチルベンジルアミン、トリエタノールアミン等の有機アルカリを用いることもできる。また、現像液には、消泡剤や界面活性剤を添加することもできる。
なお、紫外線露光感度を上げるために、上記感光性樹脂組成物を塗布乾燥後、水溶性あるいはアルカリ水溶性樹脂、例えばポリビニルアルコールや水溶性アクリル樹脂等を塗布乾燥し酸素による重合阻害を防止する塗膜を形成した後、紫外線露光を行うこともできる。
【０１４２】
また、本実施形態の感光性樹脂組成物は、保護膜用途、平坦膜用途、絶縁膜用途、反射防止膜用途、のいずれで使用されても良く、また塗膜形成もタッチパネル、液晶表示装置、有機ＥＬ装置いずれで形成されても良く、高硬度、高密着でかつ良好な透明性を有するため、保護膜、平坦膜、絶縁膜、又は反射防止膜の用途を兼ね備えて使用することが出来る。
【実施例】
【０１４３】
以下に、実施例により本発明を説明する。なお、実施例中の「部」及び「％」とは、それぞれ「質量部」及び「質量％」を表す。また、「ＰＧＭＥＡ」とはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを意味する。
【０１４４】
実施例に先立ち、樹脂の重量平均分子量の測定方法について説明する。
【０１４５】
（樹脂の重量平均分子量）
樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＴＳＫｇｅｌカラム（東ソー社製）を用い、ＲＩ検出器を装備したＧＰＣ（東ソー社製、ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ）で、展開溶媒にＴＨＦを用いて測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）である。
【０１４６】
続いて、実施例及び比較例で用いた樹脂溶液、重合性化合物の製造方法について説明する。
【０１４７】
＜樹脂溶液の製造方法＞
（樹脂溶液（Ａ−１））
セパラブル４口フラスコに温度計、冷却管、窒素ガス導入管、撹拌装置を取り付けた反応容器にＰＧＭＥＡ１００部を入れ、容器に窒素ガスを注入しながら１２０℃に加熱して、同温度で滴下管よりスチレン５．２部、グリシジルメタクリレート３５．５部、ジシクロペンタニルメタクリレート４１．０部、アゾビスイソブチロニトリル２．５部の混合物を２．５時間かけて滴下し重合反応を行った。
次にフラスコ内を空気置換し、アクリル酸１７．０部にトリスジメチルアミノメチルフェノール０．３部、及びハイドロキノン０．３部を投入し、１２０℃で５時間反応を続け固形分酸価＝０．８となったところで反応を終了し、重量平均分子量が約５，０００の樹脂溶液を得た。
さらに無水コハク酸２０．０部、トリエチルアミン０．５部を加え１２０℃で４時間反応させ、不揮発分が４０％になるようにＰＧＭＥＡを添加して樹脂溶液（Ａ−１）を調製した。
【０１４８】
（樹脂溶液（Ａ−２〜３））
表１に示す組成、及び配合量（質量部）に変更した以外は、樹脂溶液（Ａ−１）と同様にして、樹脂溶液（Ａ−２〜３）を合成した。
【０１４９】
【表１】
2019053266.tif 000012
【０１５０】
＜重合性化合物の製造＞
（重合性化合物（Ｃ−１））
内容量が１リットルの５つ口反応容器に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（アロニックスＭ−４００（東亞合成社製））６２３ｇ、ヘキサメチレンジイソシアネート４４ｇを仕込み、６０℃で８時間反応させ、多官能ウレタンアクリレート（１）を含む生成物を得た。生成物中、多官能ウレタンアクリレート（１）の占める割合は、４５質量％であり、残部を他の光重合性モノマーで占めている重合性化合物（Ｃ−１）を得た。
なお、ＩＲ分析により、反応生成物中にイソシアネート基が存在しないことを確認した。
【０１５１】
（重合性化合物（Ｃ−２））
内容量が１リットルの５つ口反応容器に、トリメチロールプロパンのヘキサメチレンジイソシアネート付加物（コロネートＨＬ（東ソー社製））６００ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート９５０ｇを仕込み、６０℃で８時間反応させ、多官能ウレタンアクリレート（２）を含む生成物を得た。生成物中、多官能ウレタンアクリレート（２）の占める割合は、８０質量％であり、残部を他の光重合性モノマーで占めている重合性化合物（Ｃ−２）を得た。
なお、ＩＲ分析により、反応生成物中にイソシアネート基が存在しないことを確認した。
【０１５２】
＜感光性樹脂組成物の製造＞
［実施例１］
(感光性樹脂組成物（Ｒ１）)
下記組成の混合物を均一になるように攪拌混合した後、１μｍのフィルタで濾過して、感光性樹脂組成物（Ｒ１）を得た。
樹脂溶液（Ａ−１）                                    ：３２．４５部
ＫＢＭ−４０３                                        ：  ２．００部
（３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越シリコーン社製））
重合性化合物（Ｃ−１）                                ：  ４．００部
Ｉｒｇ．９０７                                        : １．００部
（イルガキュア９０７（ＢＡＳＦ社製））
ＢＹＫ−３３０  ２％溶液             ：  １．００部
（ポリエーテル構造含有ジメチルシロキサンのＰＧＭＥＡ溶液（ビックケミー社製））
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート      ：３９．５５部
プロピレングリコールメチルエーテル                    ：２０．００部
【０１５３】
［実施例２〜３８、比較例１〜４］
（感光性樹脂組成物（Ｒ２〜４２）)
表２〜７に示した組成、及び配合量（質量部）に変えた以外は、感光性樹脂組成物（Ｒ１）と同様にして、混合物を均一になるように攪拌混合した後、１μｍのフィルタで濾過して、感光性樹脂組成物（Ｒ２〜４２）を得た。
【０１５４】
＜感光性樹脂組成物の評価＞
得られた感光性樹脂組成物（Ｒ１〜Ｒ４２）について、以下の方法で評価を行った。結果を表２〜７に示す。
【０１５５】
（脱ガス性）
感光性樹脂組成物を、１００ｍｍ×１００ｍｍ、０．７ｍｍのガラス基板（コーニング社製ガラス  イーグル２０００）にスピンコーターを用いて１００℃６０分加熱後の仕上がり膜厚が２．０μｍとなるように塗布した基板を得た。次に、８０℃に加熱したホットプレート上で２分間保持した後、超高圧水銀ランプを用いて、照度２０ｍＷ／ｃｍ２、露光量１００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線露光を行った。露光後の塗膜を有機アルカリ現像液ＮＭＤ−３（東京応化工業社製）で１分、パドル現像を行った。パドル現像後、２０秒スピンシャワーにて純水でリンスを行い、スピン乾燥により基板を乾燥させた後クリーンオーブン中１００℃で６０分間加熱した。
作製した塗膜を５ｍｇ剥がして採取し、ＴＧ／ＤＴＡ測定を行い、初期質量に対する質量減少率を測定し、下記基準で評価した。ＴＧ／ＤＴＡはセイコーインスツルメンツ社のＥＸＳＴＡＲ  ＴＧ／ＤＴＡ６２００を用い、窒素流量２００ｍＬ／ｍｉｎ、室温から５℃／ｍｉｎで１５０℃まで昇温し２０分保持するプログラムで測定した。
○：質量減少率が１．０％未満（良好なレベル）
△：質量減少率が１．０％以上、２．０％未満（実用可能なレベル）
×：質量減少率が２．０％以上（実用には適さないレベル）
【０１５６】
（薬品耐性）
≪ＩＴＯエッチャント耐性≫
感光性樹脂組成物を、１００ｍｍ×１００ｍｍ、０．７ｍｍ厚のＩＴＯ基板（ジオマテック社製）にスピンコーターを用いて１００℃６０分加熱後の仕上がり膜厚が２．０μｍとなるように塗布した基板を得た。次に、８０℃に加熱したホットプレート上で２分間保持した後、超高圧水銀ランプを用いて、照度２０ｍＷ／ｃｍ２、露光量１００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線露光を行った。塗布基板を１００℃で６０分加熱、放冷して評価用基板を作製した。その後、ＩＴＯエッチャント；硝酸／塩酸／水＝０．１／１／１に４０℃で５分間浸漬し、純水にて洗浄後、２４時間放置した。得られた基板をＪＩＳ  Ｋ５６００−５−６に準じた付着性（クロスカット法）試験により塗膜の基材密着性を評価し、碁盤目２５個中の剥離個数を数え、下記基準で評価した。
〇：碁盤目の剥離個数が０個（良好なレベル）
△：碁盤目の剥離個数が１個以上、３個未満（実用可能なレベル）
×：碁盤目の剥離個数が３個以上（実用には適さないレベル）  
【０１５７】
≪Ｍｏエッチャント耐性≫
ＩＴＯエッチャント耐性の評価と同じ方法で、Ｍｏ基板（東邦化研社製）上に塗膜を作製した後、Ｍｏエッチャント；リン酸／酢酸／硝酸／水＝８０／５／５／１０に４０℃で５分間浸漬し、純水にて洗浄後、２４時間放置した。得られた基板をＪＩＳ  Ｋ５６００−５−６に準じた付着性（クロスカット法）試験により塗膜の基材密着性を評価し、碁盤目２５個中の剥離個数を数え、下記基準で評価した。
〇：碁盤目の剥離個数が０個（良好なレベル）
△：碁盤目の剥離個数が１個以上、３個未満（実用可能なレベル）
×：碁盤目の剥離個数が３個以上（実用には適さないレベル）
【０１５８】
≪膨潤試験≫
感光性樹脂組成物を、１００ｍｍ×１００ｍｍ、０．７ｍｍ厚のガラス基板（コーニング社製ガラス  イーグル２０００）上に、スピンコーターを用いて１００℃６０分加熱後の仕上がり膜厚が２．０μｍとなるように塗布した基板を得た。次に、８０℃に加熱したホットプレート上で２分間保持した後、塗膜にフォトマスクを介して、超高圧水銀ランプを用いて１００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射した。露光後の塗膜を有機アルカリ現像液ＮＭＤ−３（東京応化工業社製）で１分、パドル現像を行った。パドル現像後、２０秒スピンシャワーにて純水でリンスを行い、スピン乾燥により基板を乾燥させた後クリーンオーブン中１００℃で６０分間加熱した。得られた画素パターンの膜厚を表面形状測定器ＤＥＫＴＡＫ１５０（アルバックイーエス社製）で測定した後、ＩＴＯエッチャント；硝酸／塩酸／水＝０．１／１／１に４０℃で５分間浸漬し、純水にて洗浄後膜厚を測定した。下記計算式により、膜厚膨潤率を求めた。
膜厚膨潤率（％）＝（溶剤浸漬後の膜厚／溶剤浸漬前の膜厚）×１００
膜厚膨潤率は９５−１０５％の範囲であることが好ましく、９７−１０３％の範囲であることがより好ましい。
【０１５９】
（解像性）
１００ｍｍ×１００ｍｍ、０．７ｍｍ厚のガラス基板（コーニング社製ガラス  イーグル２０００）上に、スピンコーターを用いて１００℃６０分加熱後の仕上がり膜厚が２．０μｍとなるように塗布した基板を得た。次に、８０℃に加熱したホットプレート上で２分間保持した後、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ−３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して、３６５ｎｍの波長で１０００Ｊ／ｍ2の露光を行った。露光は、５．０μ
ｍ四方の正方形の遮光部と透過部が市松模様に並んだフォトマスクを通して行った。露光後の塗膜を有機アルカリ現像液ＮＭＤ−３（東京応化工業社製）で１分、パドル現像を行った。パドル現像後、２０秒スピンシャワーにて純水でリンスを行い、スピン乾燥により基板を乾燥させた後クリーンオーブン中１００℃で６０分間加熱した。得られた画素パターンについて、遮光部により形成されたホール画素パターンを走査型電子顕微鏡（日立ハイテク社製「Ｓ−３０００Ｎ」）を用いて観察し、下記基準で評価した。
◎： ホール寸法が４．８μｍ以上、５．０μｍ未満（非常に良好なレベル）
○： ホール寸法が４．５μｍ以上、４．８μｍ未満（良好なレベル）
△： ホール寸法が４．０μｍ以上、４．５μｍ未満（実用可能なレベル）
×： ホール寸法が４．０μｍ未満（実用には適さないレベル）
【０１６０】
（鉛筆硬度）
感光性樹脂組成物を、１００ｍｍ×１００ｍｍ、０．７ｍｍ厚のガラス基板（コーニング社製ガラス  イーグル２０００）に、スピンコーターを用いて１００℃６０分加熱後の仕上がり膜厚が２．０μｍとなるように塗布した基板を得た。次に、８０℃に加熱したホットプレート上で２分間保持した後、超高圧水銀ランプを用いて、照度２０ｍＷ／ｃｍ２、露光量１００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線露光を行った。塗布基板を１００℃で６０分加熱、放冷した。この基板を、ＪＩＳ Ｋ−５４００−１９９０の８．４．１鉛筆引っかき試験
により保護膜の鉛筆表面硬度を測定し、下記基準で評価を行った。
○：鉛筆表面硬度が２Ｈ以上（良好なレベル）
△：鉛筆表面硬度がＨ（実用可能なレベル）
×：鉛筆表面硬度がＦ以下（実用には適さないレベル）
【０１６１】
【表２】
2019053266.tif 000013
【０１６２】
【表３】
2019053266.tif 000014
【０１６３】
【表４】
2019053266.tif 000015
【０１６４】
【表５】
2019053266.tif 000016
【０１６５】
【表６】
2019053266.tif 000017
【０１６６】
【表７】
2019053266.tif 000018
【０１６７】
表２〜７中の略語について以下に示す。
≪シランカップリング剤（Ｂ）≫
ＫＢＭ−４０３：３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越シリコーン社製）ＫＢＭ−５０３：３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越シリコーン社製）
ＫＢＭ−５１０３：３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越シリコーン社製）
ＫＢＭ−８０３：３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン（信越シリコーン社製）
ＫＢＭ−９６５９：トリス−（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート（信越シリコーン社製）
ＫＢＥ−９００７：３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン（信越シリコーン社製）
≪重合性化合物（Ｃ）≫
Ｃ−１：前記合成した重合性化合物。多官能ウレタンアクリレート４５質量％含有
Ｃ−２：前記合成した重合性化合物。多官能ウレタンアクリレート８０質量％含有
Ｃ−３（Ｍ４０２）：アロニックスＭ−４０２（東亞合成社製）
ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレートの混合物
≪光重合開始剤（Ｄ）≫
Ｉｒｇ．９０７：イルガキュア９０７（ＢＡＳＦ社製）
2-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)-2-モルフォリノプロパン-1-オン
Ｉｒｇ．ＯＸＥ−０１：イルガキュアＯＸＥ−０１（ＢＡＳＦ社製）  
1.2-オクタンジオン,1-[4-(フェニルチオ)-,2-(O-ベンゾイルオキシム)]
≪無機微粒子（Ｆ）≫
ＰＭＡ−ＳＴ：シリカ微粒子（日産化学社製、固形分３０質量％）
ＰＧＭ−ＡＣ−２１４０Ｙ：シリカ微粒子（日産化学社製、固形分４２質量％）
ＡＳ−５２０−Ａ：アルミナ微粒子（日産化学社製、固形分２０質量％）
ＺＲ−２０ＡＳ：ジルコニア微粒子（日産化学社製、固形分２０質量％）
≪紫外線吸収剤（Ｇ）≫
紫外線吸収剤（Ｇ−１）：（ベンゾトリアゾール系化合物）  ２−（３−ｔブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
（ＢＡＳＦ社製「ＴＩＮＵＶＩＮ ３２６」（吸光度０．４８））
紫外線吸収剤（Ｇ−２）：（ベンゾフェノン系有機化合物）  ２，２−ジヒドロキシ−４，４−ジメトキシベンゾフェノン
（シプロ化成社製「シーソーブ １０７」（吸光度０．６０））
紫外線吸収剤（Ｇ−３）：（トリアジン系有機化合物）  2,4,6-トリス(2-ヒドロキシ-4-ヘキシルオキシ-3-メチルフェニル)-1,3,5-トリアジン
（ＡＤＥＫＡ社製「アデカスタブ ＬＡ−Ｆ７０」（吸光度０．９０））
紫外線吸収剤（Ｇ−４）：（ベンゾフェノン系有機化合物）［２−ヒドロキシ−４−（オクヒロキシ）フェニル］（フェニル）メタノン
（ＡＤＥＫＡ社製「アデカスタブ １４１３」（吸光度０．１０））
≪重合禁止剤≫
ＭＨ：メチルヒドロキノン（精工化学社製「ＭＨ」）
≪レべリング剤≫
ＢＹＫ−３３０  ２％：ポリエーテル構造含有ジメチルシロキサンのＰＧＭＥＡ溶液（不揮発分２質量％に調整  （ビックケミー社製）
≪溶剤（Ｅ）≫
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
ＰＧＭＥ：プロピレングリコールモノメチルエーテル
【０１６８】
表２〜７に示すように、無水コハク酸を用いた特定樹脂（Ａ）と、シランカップリング剤（Ｂ）を組成物の全固形分に対して５〜２０質量％で含む本願の感光性樹脂組成物は、脱ガス、薬品耐性、解像性、硬度評価の全てにおいて実用可能なレベルを満足するものであった。一方で比較例１〜４に示すように、無水コハク酸ではなく、テトラヒドロ無水フタル酸を用いた樹脂（Ａ−３）を使用した比較例１は、脱ガス性及び薬品耐性が実用レベルに達していない。また、シランカップリング剤（Ｂ）が感光性樹脂組成物の全固形分に対して５質量％未満若しくは２０質量％を超えている比較例２〜４は、脱ガス性、薬品耐性、解像度のいずれかで実用レベルに達しなかった。
【０１６９】
以上の結果より、本願の感光性樹脂組成物により、基板への密着性と高い解像性を両立しながら、１２０℃以下の硬化温度であっても薬品耐性が良好で、脱ガス量の少なく、高い硬度の硬化膜を形成することが可能であった。すなわち、本発明の感光性樹脂組成物は、タッチパネル、液晶表示装置、有機ＥＬ装置等に用いられる、層間絶縁膜やオーバーコート膜に好適に用いることができるものである。