(57)【要約】      （修正有）【課題】利便性の高い露光装置を得ること。【解決手段】露光装置は、ウェハ上の複数の区画４１のそれぞれに露光によって回路パターンを転写する。露光装置は、測定装置と、制御装置とを備える。測定装置は、ウェハの表面情報を測定する。制御装置は、複数の区画４１のうちの互いに隣接する第１の区画と第２の区画とに対し、それぞれの区画の基準位置からオフセットした位置にそれぞれの測定点を設定し、それぞれの測定点における表面情報を測定装置に測定させる。制御装置は、測定された表面情報に基づいて露光時のフォーカスレベリング制御を実行する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハ上の複数の区画のそれぞれに露光によって回路パターンを転写する露光装置であって、
前記ウェハの表面情報を測定する測定装置と、
前記複数の区画のうちの互いに隣接する第１の区画と第２の区画とに対し、それぞれの区画の基準位置からオフセットした位置にそれぞれの測定点を設定し、前記それぞれの測定点における表面情報を前記測定装置に測定させ、前記測定された表面情報に基づいて露光時のフォーカスレベリング制御を実行する制御装置と、
を備える露光装置。
【請求項２】
前記制御装置は、前記第１の区画に設定される第１の測定点の前記第１の区画の基準位置からの相対位置と、前記第２の区画に設定される第２の測定点の前記第２の区画の基準位置からの相対位置と、を異ならせる、
請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記制御装置は、前記第１の区画の露光時に、前記第１の測定点において測定された表面情報と、前記第２の測定点において測定された表面情報と、に基づいてフォーカスレベリング制御を実行する、
請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記制御装置は、前記第１の区画の露光時に、前記第２の測定点において測定された表面情報を、前記第２の測定点の前記第２の区画の基準位置からの相対位置だけ前記第１の区画の基準位置からオフセットした位置で測定された表面情報として用いて、前記フォーカスレベリング制御を実行する、
請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記第１の区画は欠損部分を有する区画であり、
前記第２の区画は欠損部分を有しない矩形の区画である、
請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記第１の測定点は、第１の方向に第１値の間隔で配列された複数の第３の測定点を含み、
前記第２の測定点は、前記第１の方向に前記第１値の間隔で配列された複数の第４の測定点を含み、
前記第１の測定点の前記第１の区画の基準位置からのオフセット量と、前記第２の測定点の前記第２の区画の基準位置からのオフセット量と、の差分は、前記第１値よりも小さい、
請求項４に記載の露光装置。
【請求項７】
前記それぞれの測定点は、第１の方向に第１値の間隔で配列された複数の第１の測定点を含み、
前記複数の第１の測定点のそれぞれは、第２値の幅を有し、
前記第１の測定点の基準位置からのオフセット量は、前記第２値を２で除算して得られる第３値以上であり、かつ、前記第１値から前記第３値を減算して得られる第４値以下の値である、
請求項１に記載の露光装置。
【請求項８】
ウェハの複数の区画のうちの互いに隣接する第１の区画と第２の区画とに対し、それぞれの区画の基準位置からオフセットした位置にそれぞれの測定点を設定し、前記それぞれの測定点における表面情報を測定する測定ステップと、
前記測定された表面情報に基づいてフォーカスレベリング制御を実行しながら、前記第１の区画と前記第２の区画とに露光によって回路パターンを転写する露光ステップと、
を含む方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本実施形態は、露光装置および方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ウェハ上に塗布されたレジスト膜にレチクルに描画された回路パターンの投影像を露光する際、デフォーカスを防止するために、投影像が結像される位置のトポグラフィ（段差）が測定される。露光装置は、測定されたトポグラフィに基づいてフォーカスレベリング制御を行う。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１１−０５４４１０号公報
【特許文献２】特開平１０−０３２１６３号公報
【特許文献３】特開平６−０２９２８６号公報
【特許文献４】特許第３２７５３６８号号公報
【特許文献５】特開２００８−２７７４６８号公報
【特許文献６】特開２００７−３３５６１１号公報
【特許文献７】特開平４−１６８７１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
一つの実施形態は、利便性の高い露光装置および方法を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
一つの実施形態によれば、露光装置は、ウェハ上の複数の区画のそれぞれに露光によって回路パターンを転写する。露光装置は、測定装置と、制御装置とを備える。測定装置は、ウェハの表面情報を測定する。制御装置は、複数の区画のうちの互いに隣接する第１の区画と第２の区画とに対し、それぞれの区画の基準位置からオフセットした位置にそれぞれの測定点を設定し、それぞれの測定点における表面情報を測定装置に測定させる。制御装置は、測定された表面情報に基づいて露光時のフォーカスレベリング制御を実行する。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】図１は、実施形態の露光装置の構成例を示す模式図である。
【図２】図２は、実施形態のグレーチングの一例を示す図である。
【図３】図３は、露光時のレチクルステージおよびウェハチャックの実施形態の移動方法を説明するための模式図である。
【図４】図４は、実施形態のグレーチングの別の一例を示す図である。
【図５】図５は、実施形態のプロジェクション系によってウェハの表面に照射される光束のスポットの一例を示す図である。
【図６】図６は、トポグラフィの測定時の測定領域の実施形態の移動方法を説明するための図である。
【図７】図７は、図５の一部を拡大した拡大図である。
【図８】図８は、実施形態の補間の処理を説明するための図である。
【図９】図９は、実施形態の補間の処理を説明するための図である。
【図１０】図１０は、実施形態の補間の処理を説明するための図である。
【図１１】図１１は、実施形態の制御装置のハードウェア構成例を示す図である。
【図１２】図１２は、実施形態の露光装置の動作を説明するフローチャートである。
【図１３】図１３は、実施形態のオフセット量（オフセットされる距離Ｄ）の設定方法の一例を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下に添付図面を参照して、実施形態にかかる露光装置および方法を詳細に説明する。なお、この実施形態により本発明が限定されるものではない。
【０００８】
（第１の実施形態）
近年、２次元構造のNAND型フラッシュメモリの製造技術の分野では、微細化が限界に直面している。よって、微細化ではなく積層による集積によって不揮発性メモリ装置を大容量化しようとするコンセプトがある。ここで、NANDストリングを垂直に配置した垂直型のNAND構造をもつ不揮発性メモリ装置に関しては、積層による集積を行うため、２次元型のNAND構造と比べて絶縁膜および配線層を形成する工程が大幅に増加する。この工程数の増加に伴い、ウェハ表面の段差が大きくなる頻度が増加する。このウェハ表面の段差はリソグラフィ工程においてデフォーカスを引き起こすことがある。よって、露光時には、ウェハ表面の段差、即ちトポグラフィを高精度で測定することが重要である。第１の実施形態では、トポグラフィを簡単にかつ高精度に測定できる露光装置を説明する。
【０００９】
図１は、第１の実施形態の露光装置の構成例を示す模式図である。なお、紙面の垂線上を手前側に向かう方向をＸ軸方向、紙面右側に向かう方向をＹ軸方向、紙面上側に向かう方向をＺ軸方向と表記する。紙面上側に向かう方向は、露光装置１の高さ方向の上向きに対応する。Ｘ軸、Ｙ軸、およびＺ軸は互いに直交する。ここで説明する露光装置１は、ステップアンドスキャン方式が採用された装置であるが、本実施形態は、他の方式が採用された露光装置にも適用可能である。
【００１０】
露光装置１は、照明系２、レチクルステージ３、第１干渉計４、第１駆動装置５、投影ユニット６、フォーカスセンサ７、ウェハステージ８、第２干渉計９、および制御装置１０を備える。
【００１１】
レチクルステージ３は、回路パターンが設けられたレチクル３０を支持する。第１駆動装置５は、例えばモータを備える。第１駆動装置５は、レチクルステージ３を少なくともＸＹ平面上で移動させることができる。レチクルステージ３が移動せしめられることによって、レチクル３０が移動せしめられる。レチクルステージ３の位置は、第１干渉計４によって測定され、測定結果は第１駆動装置５に入力される。第１駆動装置５は、第１干渉計４による測定結果に基づいてレチクルステージ３の位置制御を実行する。
【００１２】
ウェハステージ８は、ウェハ４０を移動可能に支持する。具体的には、ウェハステージ８は、ウェハ４０が載置されるウェハチャック１１と、ウェハチャック１１を移動させる第２駆動装置１２を備える。第２駆動装置１２は、例えばモータを備える。第２駆動装置１２は、ウェハチャック１１を、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、およびＺ軸方向に移動させることができる。また、第２駆動装置１２は、ウェハチャック１１の傾きを制御することができる。傾きとは、例えば、Ｙ軸を回転軸としたＸ方向の傾き（Ｒｙ）とＸ軸を回転軸としたＹ方向の傾き（Ｒｘ）である。ウェハチャック１１の位置は、第２干渉計９によって測定され、測定結果は第２駆動装置１２に入力される。第２駆動装置１２は、第２干渉計９による測定結果を用いてウェハチャック１１の位置制御を実行する。ウェハチャック１１が移動せしめられることによって、ウェハチャック１１に載置されたウェハ４０が移動せしめられる。
【００１３】
照明系２は、レチクル３０上の領域２０の範囲を露光光で照射する。投影ユニット６は、レチクル３０を透過した露光光をウェハ４０の表面の領域２１の範囲に投影する。これにより、レチクル３０に描画された回路パターンがウェハ４０に転写される。投影ユニット６は、投影光学系とも称され得る。領域２１は、露光スリットとも称され得る。
【００１４】
なお、ウェハ４０の表面には、レジスト膜が形成されている。よって、露光光は、正確には、レジスト膜に照射される。回路パターンの投影像は、レジスト膜の表面に結像される。以降、ウェハ４０の表面とは、特に断りがない限り、ウェハ４０に形成されたレジスト膜の表面のことを指す。
【００１５】
フォーカスセンサ７は、ウェハ４０の表面のトポグラフィを測定する測定装置である。フォーカスセンサ７は、プロジェクション系７ａおよびディテクション系７ｂを備える。プロジェクション系７ａは、光束をウェハ４０に向けて照射する。光束の波長および光束の照射角度は、ウェハ４０の表面で光束が反射されるように、それぞれ設定されている。ディテクション系７ｂは、反射された光束を検出し、光束の検出の結果に基づき、ウェハ４０の表面のトポグラフィを取得する。
【００１６】
プロジェクション系７ａの内部およびディテクション系７ｂの内部には、グレーチング７１が設けられている。図２は、グレーチング７１の一例を示す図である。本図の例によれば、グレーチング７１は、５つの開口部７２が設けられている。５つの開口部７２は、一方向に等間隔に配列されている。各開口部７２の形状は、ここでは一例として矩形である。プロジェクション系７ａのグレーチング７１のそれぞれ異なる開口部７２から照射された光束は、ウェハ４０の表面のそれぞれ異なる位置に照射され、反射される。ディテクション系７ｂは、各位置で反射された光束をそれぞれ異なる開口部７２を介して受光して、開口部７２毎に個別にトポグラフィの測定データを取得する。即ち、フォーカスセンサ７は、１回の処理で５つの測定点からトポグラフィの測定データを取得することができる。
【００１７】
図３は、プロジェクション系７ａによってウェハ４０の表面に照射される光束のスポットの一例を示す図である。プロジェクション系７ａから射出された光束は、ウェハ４０の表面に５つのスポット５１を形成する。５つのスポット５１がＸ軸方向に並ぶように、プロジェクション系７ａの位置および姿勢が設定されている。各スポット５１のＸ軸方向の幅をＷ、スポット５１のピッチをＰと表記する。また、５つのスポット５１の、フォーカスセンサ７の中心に対応するスポット５１を、スポット５１ｃと表記することがある。また、５つのスポット５１を、測定領域５０と総称することがある。
【００１８】
なお、各グレーチング７１は、１〜４個または６個以上の開口部７２を有することで、フォーカスセンサ７は、１回の処理で５以外の数の測定点から表面情報を取得できるように構成されてもよい。また、開口部７２の形状は必ずしも矩形でなくてもよい。例えば、図４に例示されるように、各開口部７２は複数（ここでは４つ）のセグメント７３に分割されていてもよい。
【００１９】
制御装置１０は、照明系２、フォーカスセンサ７、第１駆動装置５、および第２駆動装置１２を制御する。
【００２０】
例えば、制御装置１０は、露光の際には、第１駆動装置５および第２駆動装置１２を制御して、レチクルステージ３とウェハチャック１１とを移動させる。
【００２１】
図５は、露光時のレチクルステージ３およびウェハチャック１１の移動方法の例を説明するための模式図である。図５には、ハッチングが施された区画４１ａに対する露光の直前の様子が示されている。本図に示されるように、ウェハ４０は、複数の区画４１に分割されている。各区画４１は、レチクル３０に形成された回路パターンが１回の露光で転写される。各区画４１は、ショット領域と称され得る。制御装置１０は、レチクルステージ３とウェハチャック１１とを同期的に駆動することによって、領域２０に対してレチクル３０を矢印２２によって示される方向（Ｙ軸の正方向）に相対移動させるとともに領域２１に対してウェハ４０を矢印２３によって示される方向（Ｙ軸の負方向）に相対移動させる。これにより、領域２１が走査された区画４１にレチクル３０に描画された回路パターン３１が転写される。制御装置１０は、区画４１毎の露光を繰り返し実行し、複数の区画４１のそれぞれに回路パターン３１を転写する。
【００２２】
制御装置１０は、露光を実行する前に、フォーカスセンサ７を用いてトポグラフィの測定を実行する。露光装置１は、ウェハチャック１１を移動させることによって、ウェハ４０上の測定領域をウェハ４０に対して相対移動させる。
【００２３】
図６は、トポグラフィの測定時の測定領域の移動方法の一例を説明するための図であり、図７は、図６の一部を拡大した拡大図である。これらの図において、点線は、各区画４１の境界を示しており、一点鎖線は、各区画４１のＸ軸方向の中心線を示している。
【００２４】
なお、ウェハ４０の内縁に位置する区画４１（例えば区画４１ｂ）は、矩形の形状を有している。これに対し、ウェハ４０の外周端を含む区画４１（例えば区画４１ｃ）は、一部が欠損した形状を有している。ウェハ４０の外周端を含む区画４１に関しては、その区画４１が矩形の形状を有すると仮定した場合の中心線が描画されている。ウェハ４０の内縁に位置し、矩形の形状を有する区画４１を、完全区画４１と表記することがある。ウェハ４０の外周端を含み、一部が欠損した形状を有する区画４１を、欠け区画４１と表記することがある。なお、ウェハ４０の外縁に一定幅の禁止帯が設定される場合がある。ある区画４１に禁止帯が含まれている場合、その区画４１内の禁止帯の領域は欠損部分として扱われる。
【００２５】
軌跡６０は、測定領域５０がスポット５１の並び方向（Ｘ軸方向）とは異なる方向（Ｙ軸の正方向または負方向）に各区画４１を横切るように、設定されている。制御装置１０は、スポット５１ｃが軌跡６０に沿って移動するように測定領域５０を走査させながら、所定の時間毎にまたは所定量だけ走査する毎に測定を実行する。これにより、制御装置１０は、一回の測定タイミングでＸ軸方向のそれぞれ異なる５つの位置に測定点を設定してトポグラフィを測定するとともに、それぞれ異なるタイミングでスポット５１毎にＹ軸方向のそれぞれ異なる複数の位置に測定点を設定してトポグラフィを測定することができる。
【００２６】
ここで、実施形態では、軌跡６０は、各区画４１の中心線からＸ軸の正方向または負方向に距離Ｄだけオフセットした位置を通過するように設定されている。互いにＸ軸方向に隣接する２つの区画４１では、中心線を基準位置としてそれぞれ異なる向きに軌跡６０がオフセットされる。例えば、Ｙ軸方向に並ぶ区画４１の列のうち、区画４１ｂを含む列に対しては、Ｘ軸の負方向に距離Ｄだけオフセットした位置に軌跡６０が設定され、区画４１ｃを含む列に対しては、Ｘ軸の正方向に距離Ｄだけオフセットした位置に軌跡６０が設定されている。
【００２７】
さらに、実施形態では、制御装置１０は、１つの区画４１のトポグラフィを表すデータとして、当該区画４１に設定された各測定点での測定データだけでなく、当該区画４１に隣接する区画４１に設定された各測定点での測定データを使用する。より詳しくは、制御装置１０は、１つの区画４１における測定データを、その区画４１に隣接する他の区画４１における測定データで補間する。
【００２８】
図８〜図１０を参照して、実施形態の補間の処理の一例を説明する。図８〜図１０では、区画４１ｃに設定された各測定点での測定データを、区画４１ｂに設定された各測定点での測定データで補間する例について説明する。
【００２９】
トポグラフィの測定によって、図８に示されるように、区画４１ｂでは、測定点６１ａ〜６１ｌにおける測定データが得られる。また、区画４１ｃでは、測定点６１ｍ〜６１ｕにおける測定データが得られる。
【００３０】
測定点６１ａ〜６１ｌのうちの測定点６１ｄ〜６１ｆは、スポット５１ｃが通過する。よって、測定点６１ａ〜６１ｌのグループは、区画４１ｂの中心線を基準位置としてＸ軸の負方向に距離Ｄだけオフセットされている。また、測定点６１ｍ〜６１ｕのうちの測定点６１ｓ〜６１ｕは、スポット５１ｃが通過する。よって、測定点６１ｍ〜６１ｕのグループは、区画４１ｃの中心線を基準位置としてＸ軸の正方向に距離Ｄだけオフセットされている。
【００３１】
これらの測定点６１において得られた測定データのうち、制御装置１０は、使用に適しない測定データを除外する。例えば、制御装置１０は、区画４１の境界に位置する測定点６１での測定データを使用しない。また、制御装置１０は、欠け区画４１の欠損部分に一部が含まれる測定点６１での測定データを使用しない。図９は、除外される測定データが得られる測定点６１を省略して示している。
【００３２】
図１０において、区画４１ｃの中心線を基準とした位置６２ｄ〜６２ｉの相対位置は、区画４１ｂの中心線を基準とした測定点６１ｄ〜６１ｉの相対位置に対応する。制御装置１０は、軌跡６０のオフセットの方向を区画４１ｂの列と区画４１ｃの列とで異ならせることで、位置６２ｄ〜６２ｉのそれぞれが区画４１ｃ内の測定点６１と重ならないようにしている。制御装置１０は、区画４１ｂ内の測定点６１ｄ〜６１ｉにおける測定データを、位置６２ｄ〜６２ｉにおいて測定されたデータとして使用する。換言すると、制御装置１０は、測定点６１ｐ〜６１ｒ、６１ｕにおける測定データを、区画４１ｂ内の測定点６１ｄ〜６１ｉにおける測定データによって補間する。
【００３３】
制御装置１０は、補間後のトポグラフィに基づいて、露光の際のフォーカスレベリング制御を実行する。フォーカスレベリング制御は、例えば、ウェハチャック１１をＺ軸方向に移動させたり、ウェハチャック１１の傾きを制御したりすることによって、露光位置にできるだけ正確に焦点を合わせることである。第１の実施形態では、各区画４１のトポグラフィを表す実効的な測定データの量が補間によって増加せしめられているので、例えば区画４１ｃのように設定される測定点の数が少ない欠け区画４１を露光する場合であっても、測定データの不足に起因するフォーカスエラー（デフォーカス）を抑制することが可能である。また、完全区画４１に関しても、測定データのデータ量が増加せしめられているので、補間を行わない場合に比べ、高精度なフォーカスレベリング制御を実行することが可能である。
【００３４】
図１１は、制御装置１０のハードウェア構成例を示す図である。本図に示されるように、制御装置１０は、演算装置１０１、記憶装置１０２、ＩＯ装置１０３、およびバス１０４を備える。演算装置１０１、記憶装置１０２、およびＩＯ装置１０３は、バス１０４に電気的に接続されており、バス１０４を介して情報の授受が可能である。
【００３５】
演算装置１０１は、例えばＣＰＵ（Central  Processing  Unit）である。演算装置１０１は、記憶装置１０２に予め格納されたプログラム１０５に基づいて、制御装置１０としての機能を実現する。
【００３６】
ＩＯ装置１０３は、他の装置（照明系２、フォーカスセンサ７、第１駆動装置５、および第２駆動装置１２）と通信を行うためのインタフェース装置である。演算装置１０１は、他の装置にＩＯ装置１０３を介して制御信号を送信したり、他の装置からのデータ（例えばフォーカスセンサ７からの測定データ）を受信したりすることができる。
【００３７】
記憶装置１０２は、各種情報を保持することができるメモリである。記憶装置１０２を構成するメモリの種類は、特定の種類に限定されない。例えば、記憶装置１０２は、不揮発性メモリと揮発性メモリとの組み合わせによって構成される。不揮発性メモリとしては、例えば、ＲＯＭ（Read  Only  Memory）、ＨＤＤ（Hard  Disk  Drive）、フラッシュメモリ、光磁気ディスク、またはこれらの組み合わせが採用可能である。揮発性メモリとしては、各種のＲＡＭ（Random  Access  Memory）が採用可能である。
【００３８】
プログラム１０５は、例えば、不揮発性メモリに予め格納されており、制御装置１０の起動時に不揮発性メモリから揮発性メモリにロードされる。演算装置１０１は、揮発性メモリにロードされたプログラム１０５を実行する。揮発性メモリは、プログラム１０５の実行の際の中間データなどが格納され得る。
【００３９】
なお、プログラム１０５は、不揮発性メモリに予め格納されて配布され得る。また、プログラム１０５は、インターネット等のネットワークに接続されたコンピュータ上の記録媒体に格納し、ネットワーク経由でダウンロードさせることにより提供または配布され得る。
【００４０】
図１２は、第１の実施形態の露光装置１の動作を説明するフローチャートである。まず、演算装置１０１は、フォーカスセンサ７と第２駆動装置１２を制御することによって、ウェハ４０の表面のトポグラフィの測定を実行する（Ｓ１０１）。即ち、演算装置１０１は、ウェハ４０に対して測定領域５０を軌跡６０に沿って走査（相対移動）させながら、所定の時間毎または所定の距離を走査する毎にフォーカスセンサ７によってトポグラフィの測定データを取得する。演算装置１０１は、得られた各測定点での測定データを、例えば記憶装置１０２に一時的に格納する。
【００４１】
続いて、演算装置１０１は、得られた測定点毎の測定データに基づき、区画４１毎に測定データの補間を実行する（Ｓ１０２）。例えば図８〜図１０を用いて説明したように、演算装置１０１は、区画４１ｃの測定データを、区画４１ｂの測定データで補間する。
【００４２】
なお、演算装置１０１は、例えば、区画４１ｂの測定データを、区画４１ｂに区画４１ｃとは逆側に隣接する区画４１の測定データで補間してもよい。測定データが補間される区画４１と補間に用いられる測定データが取得される区画４１とが隣接している限り、補間に用いられる測定データが取得される区画４１の選択方法は任意に設定可能である。
【００４３】
測定データの補間が完了した後、演算装置１０１は、照明系２、第１駆動装置５、および第２駆動装置１２を制御して、区画４１毎の露光を実行する（Ｓ１０３）。Ｓ１０３では、演算装置１０１は、各区画４１に露光することによって、各区画４１に回路パターンを転写する。その際に、演算装置１０１は、区画４１毎の補間後の測定データに基づき、フォーカスレベリング制御を実行する。
【００４４】
全区画４１に対する露光が完了すると、動作が完了する。
【００４５】
なお、以上の説明においては、制御装置１０は、フォーカスセンサ７を用いてウェハ４０の表面のトポグラフィを測定した。トポグラフィは、フォーカスレベリング制御で使用される表面情報の一例である。フォーカスレベリング制御に供することが可能な情報であれば、任意の情報が表面情報として採用され得る。例えば、制御装置１０は、表面情報として、フォーカスセンサ７にＺ軸方向（即ち光軸方向）の位置や傾きを測定してもよい。
【００４６】
また、制御装置１０は、図９に示されるように、複数の区画４１の境界に位置する測定点６１の測定データを除外した。各測定点６１での測定データの使用／不使用の判断の方法はこれに限定されない。
【００４７】
また、制御装置１０は、各区画４１の中心線を基準位置として測定点６１のグループをオフセットした。基準位置の設定方法はこれに限定されない。
【００４８】
また、制御装置１０は、測定点６１のグループをＸ軸方向にオフセットした。制御装置１０は、測定領域５０の走査中における測定タイミングを工夫することによって、各測定点６１の位置をＹ方向にオフセットするようにしてもよい。例えば区画４１ｂの列に対しては、測定点６１のグループをＹ軸の正方向にオフセットし、区画４１ｃの列に対しては、測定点６１のグループをＹ軸の負方向にオフセットしてもよい。
【００４９】
また、制御装置１０は、補間によって実効的な測定データを増加させた。制御装置１０は、必ずしも補間を実行しなくてもよい。
【００５０】
図１３は、オフセット量（オフセットされる距離Ｄ）の設定方法を説明するための図である。本図において、２つの点線４２は、１つの区画４１のＸ軸方向における境界を示している。また、各測定点６１には、ｘ印または丸印が表示されている。ｘ印は、その測定点６１から得られる測定データは除外されることを示している。丸印は、その測定点６１から得られる測定データは使用されることを示している。
【００５１】
図１３に示されるように、距離Ｄがゼロである場合、即ち測定点６１のグループのオフセットが行われない場合、測定領域５０に含まれる５つのスポット５１のうちの両端に位置するスポット５１は、区画４１の境界からはみ出る。よって、このスポット５１を用いて測定される測定データは、除外される。距離Ｄがゼロより大きくかつＷ／２よりも小さい場合も、使用可能な測定データの量は距離Ｄがゼロである場合と同様である。
【００５２】
距離ＤがＷ／２である場合、および、距離Ｄが（Ｐ−Ｗ／２）である場合、測定領域５０に含まれる５つのスポット５１のうちの右端に位置するスポット５１を用いて測定される測定データが除外される。
【００５３】
距離Ｄが（Ｐ−Ｗ／２）より大きい場合、測定領域５０に含まれる５つのスポット５１のうちの右端の２つのスポット５１を用いて測定される測定データが除外される。
【００５４】
このように、距離ＤをＷ／２以上でありかつ（Ｐ−Ｗ／２）以下の値に設定することにより、各区画４１におけるトポグラフィを示す測定データの量を増加させることができる。よって、制御装置１０は、測定点６１のグループのオフセットを実行し、補正を実行しなくてもよい。
【００５５】
以上述べたように、第１の実施形態によれば、制御装置１０は、互いに隣接する２つの区画４１に対し、それぞれの基準位置からオフセットした位置に測定点６１を設定して、フォーカスセンサ７に表面情報を測定させる。そして、制御装置１０は、それぞれの測定点６１において得られた表面情報に基づいて露光時のフォーカスレベリング制御を実行する。
【００５６】
この構成により、区画４１毎の実効的な測定データの量を増加されるので、測定データの不足に起因するデフォーカスを抑制することが可能である。即ち、露光装置１の利便性が向上する。
【００５７】
また、第１の実施形態によれば、制御装置１０は、互いに隣接する２つの区画４１のうちの、一方の区画４１に設定される測定点６１の基準位置からの相対位置と、他方の区画４１に設定される測定点６１の基準位置からの相対位置とを異ならせる。
【００５８】
この構成により、一方の区画４１において得られた測定データで他方の区画４１の測定データを補間することが可能となる。
【００５９】
なお、上記の説明では、隣接する２つの区画４１において、各測定点６１を互いに逆方向に距離Ｄだけオフセットした。その場合、一方の区画４１に設定される測定点６１の基準位置からの相対位置と、他方の区画４１に設定される測定点６１の基準位置からの相対位置と、の差分は２＊Ｄとなる。例えば、２＊Ｄの値をＰより小さくすることで、一方の区画４１において得られた測定データで他方の区画４１の測定データを補間することが可能である。
【００６０】
また、隣接する２つの区画４１において各測定点６１をオフセットする方向は、上述した方向に限定されない。隣接する２つの区画４１において各測定点６１を同一方向にオフセットしてもよい。その場合には、一方の区画４１に設定される測定点６１の基準位置からの相対位置と、他方の区画４１に設定される測定点６１の基準位置からの相対位置と、の差分を０より大きくＰより小さくすることで、一方の区画４１において得られた測定データで他方の区画４１の測定データを補間することが可能である。
【００６１】
また、第１の実施形態によれば、制御装置１０は、互いに隣接する２つの区画４１のうちの一方の区画４１において得られた測定データと、他方の区画４１において得られた測定データと、を用いて一方の区画４１の露光時のフォーカスレベリング制御を実行する。より具体的には、制御装置１０は、他方の区画４１の基準位置から所定の相対位置に位置する他方の区画４１の測定点６１において得られた測定データを、一方の区画４１の基準位置から前記所定の相対位置に位置する測定点において得られた測定データと見なす。
【００６２】
この構成により、一方の区画４１における測定データの量が増加するので、測定データの不足に起因するデフォーカスを抑制することが可能となる。
【００６３】
なお、廉価な露光装置や型式の古い露光装置では、最新の露光装置に比べてスポット５１のピッチＰが粗い場合がある。スポット５１のピッチＰが粗い露光装置に上述の構成が適用されることによって、擬似的に測定点を増加させることができ、ひいてはフォーカスレベリング制御の精度を向上させることが可能である。
【００６４】
また、第１の実施形態によれば、制御装置１０は、区画４１ｃのような欠け区画４１の測定データを、区画４１ｂのような完全区画４１の測定データで補間することができる。よって、得られる測定データの量が完全区画４１よりも少ない欠け区画４１においても、高精度なフォーカスレベリング制御が可能となる。
【００６５】
また、制御装置１０は、図１３を用いて説明したように、距離ＤとしてＷ／２以上でありかつ（Ｐ−Ｗ／２）以下の値を使用することにより、各区画４１におけるトポグラフィを示す測定データの量を増加させることができる。
【００６６】
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００６７】
１  露光装置、２  照明系、３  レチクルステージ、４  第１干渉計、５  第１駆動装置、６  投影ユニット、７  フォーカスセンサ、７ａ  プロジェクション系、７ｂ  ディテクション系、８  ウェハステージ、９  第２干渉計、１０  制御装置、１１  ウェハチャック、１２  第２駆動装置、２０，２１  領域、２２，２３  矢印、３０  レチクル、３１  回路パターン、４０  ウェハ、４１，４１ａ，４１ｂ，４１ｃ  区画、４２  点線、５０  測定領域、５１，５１ｃ  スポット、６０  軌跡、６１  測定点、６２ｄ〜６２ｉ  位置、７１  グレーチング、７２  開口部、１０１  演算装置、１０２  記憶装置、１０３  ＩＯ装置、１０４  バス、１０５  プログラム。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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