(57)【要約】【課題】少なくとも一部が光ファイバで構成される干渉計において、測定光路又は参照光路から分岐した分岐光路上の光ファイバ内で生じた後方散乱光が光干渉に影響することを抑止できる干渉計を提供すること。【解決手段】光源からの出射光を測定光と参照光とに分岐する第１の分岐部と、前記測定光を被検査物に照射し、該被検査物から反射した前記測定光と前記参照光とを合波して干渉光を生成する合波部を備える干渉計であって、前記測定光或いは前記参照光を分岐する第２の分岐部と、該第２の分岐部によって分岐された測定光或いは参照光とは異なる分岐光が通る少なくとも一部が光ファイバで構成された分岐光路と、該分岐光路において前記分岐光が後方散乱することにより発生する後方散乱光が前記合波部に至るまでの散乱光路と、前記分岐光路に設けられた前記後方散乱光を除去する後方散乱光除去部を備えた。【選択図】図１
2019211406.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの出射光を測定光と参照光とに分岐する第１の分岐部と、前記測定光を被検査物に照射し、該被検査物から反射した前記測定光と前記参照光とを合波して干渉光を生成する合波部を備える干渉計であって、
前記測定光或いは前記参照光を分岐する第２の分岐部と、該第２の分岐部によって分岐された測定光或いは参照光とは異なる分岐光が通る少なくとも一部が光ファイバで構成された分岐光路と、該分岐光路において前記分岐光が後方散乱することにより発生する後方散乱光が前記合波部に至るまでの散乱光路と、前記分岐光路に設けられた前記後方散乱光を除去する後方散乱光除去部を備えることを特徴とする干渉計。
【請求項２】
前記後方散乱光除去部はフリースペースであり、
前記分岐光路上の点Ｐが「前記第１の分岐部から前記点Ｐまでの光路長と、前記点Ｐから前記合波部に至る光路長の和が、前記参照光が前記第１の分岐部から前記合波部に至るまでの光路長と等しい」という条件を満たすとき、
前記点Ｐを中心とする所定の範囲の少なくとも一部が前記フリースペースであることを特徴とする請求項１に記載の干渉計。
【請求項３】
前記所定の範囲は、前記光源からの光のコヒーレント長であることを特徴とする請求項２に記載の干渉計。
【請求項４】
前記後方散乱光除去部は光を減衰又は遮蔽する素子であり、
前記第１の分岐部から前記素子までの光路長と、前記素子から前記合波部に至る光路長の和が、前記参照光が前記第１の分岐部から前記合波部に至るまでの光路長未満であることを特徴とする請求項１に記載の干渉計。
【請求項５】
前記素子は光減衰器、光アイソレータ或いは光サーキュレータであることを特徴とする請求項４に記載の干渉計。
【請求項６】
前記測定光を被検査物に照射し、該被検査物から反射した前記測定光を前記第１の分岐部を経由して前記合波部に導くことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の干渉計。
【請求項７】
前記参照光を反射体又は散乱体に照射し、該反射体又は該散乱体から反射した前記参照光を前記第１の分岐部を経由して前記合波部に導くことを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の干渉計。
【請求項８】
前記第１の分岐部と前記合波部は同一の光学素子により兼用されていることを特徴とする請求項１から７のいずれか１項に記載の干渉計。
【請求項９】
前記測定光及び前記参照光を前記第１の分岐部を経由することなく前記合波部に導くことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の干渉計。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、主に光干渉を用いて被検査物を測定する光干渉測定機器に用いられる干渉計に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、光干渉を用いて被検査物を測定する光干渉測定機器が提供されている。光学部品の配置の自由度が高いことや長い光路長でもコンパクトに構成できることから、光干渉測定機器では干渉光を発生させる干渉計の構成に光ファイバを採用する場合が多い。
【０００３】
特許文献１では、光ファイバで構成された干渉計を有する光干渉断層撮影装置において、波長掃引光源から発せられた光を、第１の光カプラに導いて測定光と参照光とに分割（分岐）し、測定光を被検査物に照射し、被検査物から反射された測定光と参照光とを第２の光カプラで干渉させることによって被検査物の光干渉断層画像を取得する光干渉断層撮影装置が開示されている。また、該光干渉断層撮影装置は、分割した測定光を第３の光カプラに導いて測定光と光量測定用の光とにさらに分割し、光量測定用の光を測定することによって得られた光量に基づいて光源から発せられた光の光量を調整する調整手段を有する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１７−０４７０６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
光ファイバを用いた干渉計では、光ファイバ内を光が伝播する際に光の一部が散乱して散乱光が発生する。例えば、特許文献１に開示された眼科装置では、光量測定用の光が第３の光カプラによって分割された後に通過する光ファイバ内で生じた後方散乱光が第３の光カプラを経由して第２の光カプラで参照光と干渉することにより、光干渉断層画像に影響し、精度の高い光干渉断層画像を取得できなくなる恐れがある。
【０００６】
特に、光量測定用の光の光路において、第１の光カプラから光量測定用の光が後方散乱する位置までの光路長をＡ、光量測定用の光が後方散乱して第２の光カプラに到る光路長をＢ、参照光路において、第１の光カプラから第２の光カプラまでの光路長をＣとした時、
Ａ＋Ｂ＝Ｃ
となる位置で生じる後方散乱光と参照光とが強く干渉するため、該位置からの後方散乱光を抑止する必要がある。
【０００７】
このように、測定光路から分岐した光ファイバ内で光が後方散乱することによって、光干渉に影響が生じる恐れがある。また、特許文献１では測定光路が光カプラによって分岐されているが、同様の現象は参照光路が光カプラによって分岐されることによっても発生する。
【０００８】
本発明は上記課題を解消するためになされたものであり、少なくとも一部が光ファイバで構成される干渉計において、測定光路又は参照光路から分岐した分岐光路上の光ファイバ内で生じた後方散乱光が光干渉に影響することを抑止できる干渉計を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１に係る干渉計は、
光源からの出射光を測定光と参照光とに分岐する第１の分岐部と、前記測定光を被検査物に照射し、該被検査物から反射した前記測定光と前記参照光とを合波して干渉光を生成する合波部を備える干渉計であって、
前記測定光或いは前記参照光を分岐する第２の分岐部と、該第２の分岐部によって分岐された測定光或いは参照光とは異なる分岐光が通る少なくとも一部が光ファイバで構成された分岐光路と、該分岐光路において前記分岐光が後方散乱することにより発生する後方散乱光が前記合波部に至るまでの散乱光路と、前記分岐光路に設けられた前記後方散乱光を除去する後方散乱光除去部を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、少なくとも一部が光ファイバで構成される干渉計において、測定光路又は参照光路から分岐した分岐光路上の光ファイバ内で生じた後方散乱光が光干渉に影響することを抑止できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明に係る第１の実施形態の干渉計を用いた眼科装置の概略構成図である。
【図２】本発明に係る第１の実施形態の干渉計を採用した眼科装置の制御系のブロック図である。
【図３】第１の実施形態に係る眼科装置の処理手順の一例を示すフローチャートである。
【図４】光学系で検出した干渉信号をフーリエ変換して被検眼の対象部位を特定する手順を示した図である。
【図５】本発明に係る第２の実施形態の干渉計を採用した眼科装置の概略構成図である。
【図６】本発明に係る第３の実施形態の干渉計を採用した眼科装置の概略構成図である。
【図７】本発明に係る第４の実施形態の干渉計を採用した眼科装置の概略構成図である。
【図８】本発明に係る第５の実施形態の干渉計を採用した眼科装置の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
[第１の実施形態]
以下、本発明の第１の実施形態に係る干渉計１１を用いた眼科装置１について図面を参照しながら説明する。なお、本実施形態では、光干渉を用いて被検眼内部の測定対象部位（例えば、水晶体、網膜など）の位置を特定する眼科装置について詳述するが、本発明にかかる干渉計は、眼科装置１のような眼科装置に限定するものではなく、光干渉を用いて被検査物を測定する光干渉測定機器であれば、採用することが可能である。
【００１３】
図１は眼科装置１の概略構成を説明する図である。図１に示すように、眼科装置１は、被検眼Ｅから反射される測定光と参照光とを干渉させる干渉計１１と、被検眼Ｅの前眼部を観察する観察光学系２０（図２に図示）と、被検眼Ｅに対して干渉計１１を所定の位置関係にアライメントするためのＸＹＺアライメント光学系３０（図２に図示）と、被検眼Ｅを固視させる固視光学系（図示しない）などから構成される。観察光学系２０、ＸＹＺアライメント光学系３０および固視光学系は、公知の眼科装置に用いられているものを用いることができるため、その詳細な説明は省略する。
【００１４】
干渉計１１は、光源１０１と、光源１０１からの光をビームスプリッタ３００により分岐した一方の光を測定光として、ビームスプリッタ３０２を経由して被検眼Ｅの内部に照射すると共にその反射光（測定光）をビームスプリッタ３０２、ビームスプリッタ３００を経由してビームスプリッタ３０１に導く測定光学系と、光源１０１からの光をビームスプリッタ３００により分岐した他方の光を参照光としてビームスプリッタ３０１に導く参照光学系と、ビームスプリッタ３０１に導かれた測定光と参照光とを合波して発生した干渉光を受光するバランス検出器１０２と、ビームスプリッタ３００により分岐された測定光をさらにビームスプリッタ３０２によって分岐した一方の光を光量モニタ１０３に導く光量モニタ光学系と、によって構成されている。
【００１５】
光源１０１は、波長掃引光源であり、出射される光の波長が所定の周期で変化する。光源１０１から出射される光の波長が変化すると、出射される光の波長に対応して、被検眼Ｅの各部位から反射される光と参照光との干渉光の強弱が変化する。強弱の変化の周波数は、反射光の反射位置の深さの方向の位置に依存している。このため、出射される光の波長を変化させながら干渉光を測定することで、被検眼Ｅの内部の各部位（図４に図示する角膜Ｅ０、水晶体Ｅ１や網膜Ｅ２）の位置を特定することが可能となる。
【００１６】
測定光学系は、ビームスプリッタ３００と、光ファイバ２０５と、ビームスプリッタ３０２と、光ファイバ２０６と、コリメータレンズ４００と、対物レンズ４０１と、光ファイバ２０１と、ビームスプリッタ３０１とによって構成されている。光源１０１から出射された光は、光ファイバ２００を経由してビームスプリッタ３００で分岐され、分岐された一方の光が測定光として、光ファイバ２０５、ビームスプリッタ３０２、光ファイバ２０６、コリメータレンズ４００、対物レンズ４０１を介して被検眼Ｅに照射される。被検眼Ｅから反射された測定光は、対物レンズ４０１、コリメータレンズ４００、光ファイバ２０６、ビームスプリッタ３０２、光ファイバ２０５、ビームスプリッタ３００、光ファイバ２０１を経由して、ビームスプリッタ３０１に導かれる。
【００１７】
参照光学系は、ビームスプリッタ３００と、光ファイバ２０２と、ビームスプリッタ３０１とによって構成されている。光源１０１から出射された光は、光ファイバ２００を経由してビームスプリッタ３００で分岐され、分岐された他方の光が参照光として、光ファイバ２０２を経由してビームスプリッタ３０１に導かれる。
【００１８】
ビームスプリッタ３０１に導かれた測定光と参照光とが合波し、発生した干渉光は、光ファイバ２０３および光ファイバ２０４を経由してバランス検出器１０２に導かれる。バランス検出器１０２に導かれた干渉光は、バランス検出器１０２内で差動増幅されて演算装置６に入力される。本実施形態では、干渉光の検出にバランス検出器１０２を用いているが、干渉光の検出はこれに限定するものではなく、例えば、フォトダイオードを用いることができる。
【００１９】
光量モニタ光学系は、ビームスプリッタ３０２と、光ファイバ２０７と、光量モニタ１０３とによって構成されている。ビームスプリッタ３００で分岐された測定光は、光ファイバ２０５を経由してビームスプリッタ３０２に導かれ、再度分岐される。その内の一方の光が、光ファイバ２０７を経由して光ファイバ端からフリースペース（空気中等の自由空間）へ放射され、放射された光は光量モニタ１０３で検出される。なお、このように、測定光又は参照光が通る光路から分岐した光路を分岐光路と呼ぶ。
【００２０】
次に、本実施形態の眼科装置１の制御系の構成を説明する。図２に示すように、眼科装置１は演算装置６によって制御される。演算装置６は、（図示しない）ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ等からなるマイクロコンピュータ（マイクロプロセッサ）によって構成されている。演算装置６には、バランス検出器１０２と、光量モニタ１０３と、観察光学系２０と、ＸＹＺアライメント光学系３０と、固視光学系（図示しない）と、モニタ７と、メモリ８と、ジョイスティック９とが接続されている。演算装置６は、干渉計１１、観察光学系２０、ＸＹＺアライメント光学系３０や固視光学系（図示しない）の各光学系の光源（光源１０１など）のオン／オフの制御を行う。また、観察光学系２０を制御して観察光学系２０で撮像される被検眼Ｅの前眼部の画像をモニタ７に表示する。さらに、演算装置６には、バランス検出器１０２で検出される干渉光の強度に応じた干渉信号および光量モニタ１０３で検出される光量に応じた信号が入力される。演算装置６は、バランス検出器１０２から入力される干渉信号をフーリエ変換することによって、被検眼Ｅの各部位（角膜Ｅ０の前後面、水晶体Ｅ１の前後面、網膜Ｅ２の表面）の位置を特定し、被検眼Ｅの眼軸長を算出する。また、演算装置６は、光量モニタ１０３から入力される信号に基づいて、被検眼Ｅへ照射している光の光量を検知し、その値が一定となるように光源１０１から出射される光の光量を制御する。
【００２１】
次に、本実施形態の眼科装置１を用いて、被検眼Ｅの各部位の位置を特定して眼寸法を測定する手順を、図３を参照して説明する。図３は、本実施形態の眼科装置１の処理手順の一例を示すフローチャートである。
【００２２】
まず、ステップＳ１０で、被検眼Ｅに対して干渉計１１を所定の位置関係にアライメントするＸＹＺアライメントを実施する。ＸＹＺアライメントは、ＸＹＺアライメント光学系３０を用いて実施する。まず、ジョイスティック９を操作して被検眼Ｅに対して干渉計１１を粗アライメントし、その後、ＸＹＺアライメント光学系３０から出力される検出信号に基づいて、図示しないＸ軸駆動装置、Ｙ軸駆動装置、Ｚ軸駆動装置により、被検眼Ｅに対して干渉計１１をＸＹＺ方向にオートアライメントする。
【００２３】
次に、ステップＳ１１で、被検眼Ｅの干渉信号を取得する。被検眼Ｅの干渉信号は、上述にように、バランス検出器１０２で検出し、演算装置６に入力される。
【００２４】
ステップＳ１２で、演算装置６に入力された干渉信号をフーリエ変換する。そして、ステップＳ１３で、フーリエ変換されたデータ（「Ａスキャン像」と呼ぶ）から、被検眼Ｅの対象部位（例えば、角膜Ｅ０、水晶体Ｅ１、網膜Ｅ２など）を特定し、各眼寸法値を算出し、ステップＳ１４で、ステップＳ１３で算出した各眼寸法値をモニタ７の表示画面に表示する。なお、図４は、バランス検出器１０２で検出した干渉信号をフーリエ変換して被検眼Ｅの対象部位（例えば、角膜Ｅ０、水晶体Ｅ１、網膜Ｅ２など）を特定する手順を示した図である。
【００２５】
ここで、本実施形態に係る干渉計１１では、上述のように、光量モニタ光学系に光ファイバ２０７が用いられているため、光ファイバ内を光が伝播する際にその一部が散乱して散乱光が発生する。光ファイバ内で生じた散乱光の内、後方へ散乱する後方散乱光がビームスプリッタ３０２、光ファイバ２０５、ビームスプリッタ３００、光ファイバ２０１を経由してビームスプリッタ３０１に入り込み、その結果、ビームスプリッタ３０１で生成した干渉光に影響し、被検眼Ｅの内部の各部位の位置を正確に特定することができなくなる恐れがある。なお、このように、分岐光路において発生する後方散乱光が、測定光と参照光が合波する合波部に至るまでの光路（本実施形態においては、後方散乱光がビームスプリッタ３０２等を経由してビームスプリッタ３０１に至るまでの光路）を散乱光路と呼ぶ。
【００２６】
図１に示すように、ビームスプリッタ３００から光ファイバ２０５、ビームスプリッタ３０２、光ファイバ２０７を経由して点Ｐ１へ至る光路長をＡ、点Ｐ１から光ファイバ２０７、ビームスプリッタ３０２、光ファイバ２０５、ビームスプリッタ３００、光ファイバ２０１を経由してビームスプリッタ３０１へ至る光路長をＢ、ビームスプリッタ３００から光ファイバ２０２を経由してビームスプリッタ３０１へ至る光路長をＣとした場合、Ａ＋Ｂ＝Ｃの条件を満たす点Ｐ１で生じる後方散乱光がビームスプリッタ３０１に入り込むと、ビームスプリッタ３０１で生成した干渉光に大きく影響する。なぜならば、光干渉は合波する二つの光の位相が略一致している場合に強く発生するものであり、Ａ＋Ｂ＝Ｃの条件を満たす点Ｐ１で発生する後方散乱光の位相は参照光の位相と一致するためである。なお、点Ｐ１のように、ある場所で反射又は散乱した光と、参照光とが同位相で合波する時、その場所を０点と呼ぶ。本実施形態では、図１に示すように、光ファイバ２０７の長さを制限し、点Ｐ１をフリースペースで構成することにより、点Ｐ１において後方散乱光が発生することを抑止できる。これにより、ビームスプリッタ３０１で生成した干渉光において後方散乱光の影響を抑止することができるため、被検眼Ｅの内部の各部位の位置を正確に特定することができるようになる。
【００２７】
或いは、Ａ＋Ｂ＝Ｃの条件を満たす点Ｐ１よりも光ファイバ２０７のファイバ端に近い側に光量モニタ１０３を配置した場合では、光量モニタ１０３が光を遮蔽する遮蔽物の役割を果たし、点Ｐ１において後方散乱光が発生することを抑止できる。
【００２８】
[第２の実施形態]
次に、本発明の第２の実施形態に係る干渉計１２を用いた眼科装置２について図面を参照しながら説明する。
【００２９】
図５は、眼科装置２の概略構成を説明する図である。図５に示すように、干渉計１２では、参照光がビームスプリッタ３００からビームスプリッタ３０１へ至る光路の中間に、ビームスプリッタ３０３が配置されている。参照光をビームスプリッタ３０３によって分岐した一方の光は、光ファイバ２１０、光アイソレータ５００、光ファイバ２１１を経由して光量モニタ１０３に導かれる。光アイソレータ５００は、一方の方向に進む光は透過し、逆方向に進む光を遮蔽する特性を持つ光学素子である。本実施形態では、ビームスプリッタ３０３から光量モニタ１０３へ進む光は透過し、逆方向へ進む光は遮蔽するように光アイソレータ５００が配置されている。
【００３０】
図５に示すように、ビームスプリッタ３００から光ファイバ２０８、ビームスプリッタ３０３、光ファイバ２１０、光アイソレータ５００、光ファイバ２１１を経由して点Ｐ２へ至る光路長をＡ、点Ｐ２から光ファイバ２１１、光アイソレータ５００、光ファイバ２１０、ビームスプリッタ３０３、光ファイバ２０８、ビームスプリッタ３００、光ファイバ２０１を経由してビームスプリッタ３０１へ至る光路長をＢ、ビームスプリッタ３００から光ファイバ２０８、ビームスプリッタ３０３、光ファイバ２０９を経由してビームスプリッタ３０１へ至る光路長をＣとした場合、Ａ＋Ｂ＝Ｃの条件を満たす点Ｐ２よりもビームスプリッタ３０３に近い側に光アイソレータ５００が配置されている。これにより、点Ｐ２及びその周辺を含む光ファイバ２１１内で発生する後方散乱光を遮蔽できる。
【００３１】
[第３の実施形態]
本発明の第３の実施形態に係る干渉計１３を用いた眼科装置３について図面を参照しながら説明する。
【００３２】
図６は、眼科装置３の概略構成を説明する図である。図６に示すように、干渉計１３は、光源１０１と、光源１０１からの光をビームスプリッタ３００により分岐した一方の光を測定光として、ビームスプリッタ３０２を経由して被検眼Ｅの内部に照射すると共にその反射光（測定光）をビームスプリッタ３０２を経由してビームスプリッタ３００に導く測定光学系と、光源１０１からの光をビームスプリッタ３００により分岐した他方の光を参照光としてミラー６００へ導くと共にその反射光を再びビームスプリッタ３００に導く参照光学系と、ビームスプリッタ３００に導かれた測定光と参照光とを合波して発生した干渉光を受光する検出器１０４と、ビームスプリッタ３００により分岐された測定光をさらにビームスプリッタ３０２によって分岐した一方の光を光量モニタ１０３に導く光量モニタ光学系と、によって構成されている。
【００３３】
測定光学系及び光量モニタ光学系は、第１の実施形態で示した干渉計１１と略同様の構成であるため、その詳細な説明は省略する。
【００３４】
参照光学系は、ビームスプリッタ３００と、光ファイバ２１４と、ミラー６００とによって構成されている。光源１０１から出射された光は、光ファイバ２００を経由してビームスプリッタ３００で分岐され、分岐した他方の光が参照光として、光ファイバ２１４を経由してミラー６００に導かれる。ミラー６００で反射した参照光は、光ファイバ２１４を経由して、ビームスプリッタ３００に導かれる。
【００３５】
ビームスプリッタ３００に導かれた測定光と参照光とが合波し、発生した干渉光は、光ファイバ２１３を経由して検出器１０４に導かれる。検出器１０４に導かれた干渉光の干渉信号は演算装置６に入力される。
【００３６】
図６に示すように、ビームスプリッタ３００から光ファイバ２０５、ビームスプリッタ３０２、光ファイバ２０７を経由して点Ｐ３へ至る光路長をＡ、点Ｐ３から光ファイバ２０７、ビームスプリッタ３０２、光ファイバ２０５を経由してビームスプリッタ３００へ至る光路長をＢ、ビームスプリッタ３００から光ファイバ２１４を経由してミラー６００で反射され、再び光ファイバ２１４を経由してビームスプリッタ３００へ至る光路長をＣとした場合、Ａ＋Ｂ＝Ｃの条件を満たす点Ｐ３をフリースペースで構成することにより、点Ｐ３において後方散乱光が発生することを抑止できる。なお、第３の実施形態においては、Ａ＝Ｂの関係が成り立つ。
【００３７】
或いは、Ａ＋Ｂ＝Ｃの条件を満たす点Ｐ３よりも光ファイバ２０７のファイバ端に近い側に光量モニタ１０３を配置した場合では、光量モニタ１０３が光を遮蔽する遮蔽物の役割を果たし、点Ｐ３において後方散乱光が発生することを抑止できる。
【００３８】
[第４の実施形態]
本発明の第４の実施形態に係る干渉計１４を用いた眼科装置４について図面を参照しながら説明する。
【００３９】
図７は、眼科装置４の概略構成を説明する図である。図７に示すように、干渉計１４は、光源１０１と、光源１０１からの光をビームスプリッタ３００により分岐した一方の光を測定光として被検眼Ｅの内部に照射すると共にその反射光（測定光）を再びビームスプリッタ３００に導く測定光学系と、光源１０１からの光をビームスプリッタ３００により分岐した他方の光を参照光としてビームスプリッタ３０３を経由してミラー６００へ導くと共にその反射光をビームスプリッタ３０３を経由してビームスプリッタ３００に導く参照光学系と、ビームスプリッタ３００に導かれた測定光と参照光とを合波して発生した干渉光を受光する検出器１０４と、ビームスプリッタ３００により分岐された参照光をさらにビームスプリッタ３０３によって分岐した一方の光を光量モニタ１０３に導く光量モニタ光学系と、によって構成されている。
【００４０】
測定光学系は第２の実施形態で示した干渉計１２と、光量モニタ光学系は第１の実施形態で示した干渉計１１と略同様の構成であるため、その詳細な説明は省略する。
【００４１】
参照光学系は、ビームスプリッタ３００と、光ファイバ２０８と、ビームスプリッタ３０３と、光ファイバ２１５と、ミラー６００とによって構成されている。光源１０１から出射された光は、光ファイバ２００を経由してビームスプリッタ３００で分岐され、分岐した他方の光が参照光として、光ファイバ２０８、ビームスプリッタ３０３、光ファイバ２１５を経由してミラー６００に導かれる。ミラー６００で反射した参照光は、光ファイバ２１５、ビームスプリッタ３０３、光ファイバ２０８を経由して、ビームスプリッタ３００に導かれる。
【００４２】
ビームスプリッタ３００に導かれた測定光と参照光とが合波し、発生した干渉光は、光ファイバ２１３を経由して検出器１０４に導かれる。検出器１０４に導かれた干渉光の干渉信号は演算装置６に入力される。
【００４３】
図７に示すように、ビームスプリッタ３００から光ファイバ２０８、ビームスプリッタ３０３、光ファイバ２１６を経由して点Ｐ４へ至る光路長をＡ、点Ｐ４から光ファイバ２１６、ビームスプリッタ３０３、光ファイバ２０８を経由してビームスプリッタ３００へ至る光路長をＢ、ビームスプリッタ３００から光ファイバ２０８、ビームスプリッタ３０３、光ファイバ２１５を経由してミラー６００で反射され、再び光ファイバ２１５、ビームスプリッタ３０３、光ファイバ２０８を経由してビームスプリッタ３００へ至る光路長をＣとした場合、Ａ＋Ｂ＝Ｃの条件を満たす点Ｐ４をフリースペースで構成することにより、点Ｐ４において後方散乱光が発生することを抑止できる。なお、第４の実施形態においては、Ａ＝Ｂの関係が成り立つ。
【００４４】
或いは、Ａ＋Ｂ＝Ｃの条件を満たす点Ｐ４よりも光ファイバ２１６のファイバ端に近い側に光量モニタ１０３を配置した場合では、光量モニタ１０３が光を遮蔽する遮蔽物の役割を果たし、点Ｐ４において後方散乱光が発生することを抑止できる。
【００４５】
[第５の実施形態]
本発明の第５の実施形態に係る干渉計１５を用いた眼科装置５について図面を参照しながら説明する。
【００４６】
図８は、眼科装置５の概略構成を説明する図である。図８に示すように、干渉計１５は、光源１０１と、光源１０１からの光をビームスプリッタ３００により分岐した一方の光を測定光として、ビームスプリッタ３０２を経由して被検眼Ｅの内部に照射すると共にその反射光（測定光）をビームスプリッタ３０２を経由してビームスプリッタ３０１に導く測定光学系と、光源１０１からの光をビームスプリッタ３００により分岐した他方の光を参照光としてビームスプリッタ３０１に導く参照光学系と、ビームスプリッタ３０１に導かれた測定光と参照光とを合波して発生した干渉光を受光するバランス検出器１０２と、ビームスプリッタ３００により分岐された測定光をさらにビームスプリッタ３０２によって分岐した一方の光を光量モニタ１０３に導く光量モニタ光学系と、によって構成されている。
【００４７】
参照光学系及び光量モニタ光学系は、第１の実施形態で示した干渉計１１と略同様の構成であるため、その詳細な説明は省略する。
【００４８】
測定光学系は、ビームスプリッタ３００と、光ファイバ２０５と、ビームスプリッタ３０２と、光ファイバ２０６と、コリメータリンズ４００と、対物レンズ４０１と、光ファイバ２１８と、ビームスプリッタ３０１とによって構成されている。光源１０１から出射された光は、光ファイバ２００を経由してビームスプリッタ３００で分岐され、分岐された一方の光が測定光として、光ファイバ２０５、ビームスプリッタ３０２、光ファイバ２０６、コリメータレンズ４００、対物レンズ４０１を介して被検眼Ｅに照射される。被検眼Ｅから反射された測定光は、対物レンズ４０１、コリメータレンズ４００、光ファイバ２０６、ビームスプリッタ３０２、光ファイバ２１８を経由して、ビームスプリッタ３０１に導かれる。
【００４９】
ビームスプリッタ３０１に導かれた測定光と参照光とが合波し、発生した干渉光は、光ファイバ２０３および光ファイバ２０４を経由してバランス検出器１０２に導かれる。バランス検出器１０２に導かれた干渉光は、バランス検出器１０２内で差動増幅されて演算装置６に入力される。
【００５０】
図８に示すように、ビームスプリッタ３００から光ファイバ２０５、ビームスプリッタ３０２、光ファイバ２０７を経由して点Ｐ５へ至る光路長をＡ、点Ｐ５から光ファイバ２０７、ビームスプリッタ３０２、光ファイバ２１８を経由してビームスプリッタ３０１へ至る光路長をＢ、ビームスプリッタ３００から光ファイバ２１７を経由してビームスプリッタ３０１へ至る光路長をＣとした場合、Ａ＋Ｂ＝Ｃの条件を満たす点Ｐ５をフリースペースで構成することにより、点Ｐ５において後方散乱光が発生することを抑止できる。
【００５１】
或いは、Ａ＋Ｂ＝Ｃの条件を満たす点Ｐ５よりも光ファイバ２０７のファイバ端に近い側に光量モニタ１０３を配置した場合では、光量モニタ１０３が光を遮蔽する遮蔽物の役割を果たし、点Ｐ５において後方散乱光が発生することを抑止できる。
【００５２】
ここで、干渉計１１、１２、１３、１４および１５は干渉計の一例であり、光源１０１は光源の一例であり、光アイソレータ５００は光学素子の一例であり、光量モニタ１０３は遮蔽物の一例ある。
【００５３】
以上、本発明の実施形態について詳述してきたが、これらはあくまでも例示であって、本発明はかかる実施形態における具体的な記載によって、何等、限定的に解釈されるものでなく、当業者の知識に基づいて種々なる変更、修正、改良等を加えた態様において実施され得るものであり、また、そのような実施態様が、本発明の趣旨を逸脱しない限り、何れも、本発明の範囲内に含まれるものであることが、理解されるべきである。
【００５４】
例えば、干渉計１１、１２、１３、１４および１５は、フーリエドメイン型の光干渉断層計（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｈｅｒｅｎｃｅ  Ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ、以下「ＯＣＴ」と表記する。）の１つである、光源１０１に波長掃引光源を用いたＳＳ−ＯＣＴを採用したものである。しかしながら、本発明に係る干渉計はＳＳ−ＯＣＴに限定するものではなく、他のフーリエドメイン型のＯＣＴであるスペクトルドメインＯＣＴ（ＳＤ−ＯＣＴ）であってもいいし、タイムドメイン型のＯＣＴであってもよい。
【００５５】
また、第２の実施形態に係る干渉計１２において、光アイソレータ５００を採用したが、光ファイバ内で発生する後方散乱光を遮蔽又は減衰する光学素子は光アイソレータに限定するものではなく、光減衰器や光サーキュレータなどを採用してもよい。
【００５６】
また、光干渉は０点（前記点Ｐ１、点Ｐ２、点Ｐ３、点Ｐ４、点Ｐ５に相当する位置）からコヒーレント長（光源の波長の二乗÷光源の線幅）の距離の範囲で発生することから、点Ｐ１、点Ｐ３、点Ｐ４又は点Ｐ５から光源１０１のコヒーレント長の範囲内にフリースペースを設けることで、後方散乱光の影響をより効果的に抑止することができる。なお、コヒーレンス長はフリースペースを設ける範囲を決定する一例として挙げたものであり、抑止したい後方散乱光に応じて適宜、位置や範囲を設定してもよい。
【００５７】
また、ビームスプリッタには光カプラ、誘電体多層膜ミラーなどの光を分岐する機能を有する光学素子を採用してもよい。
【符号の説明】
【００５８】
１、２、３、４、５・・眼科装置
６・・演算装置
７・・モニタ
１１、１２、１３、１４、１５・・干渉計
２０・・観察光学系
３０・・ＸＹＺアライメント光学系
１０１・・光源
１０２・・バランス検出器
１０３・・光量モニタ
１０４・・検出器
３００、３０１、３０２、３０３・・ビームスプリッタ
４００・・コリメータレンズ
４０１・・対物レンズ
５００・・光アイソレータ
６００・・ミラー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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