(57)【要約】【課題】  表示領域の端部での光漏れが抑制された横電界モードの液晶表示パネルを提供する。【解決手段】  観察面側から背面側に向かって順に、第一の偏光板と、第一のλ／４位相差層と、第一の基板と、第二のλ／４位相差層と、液晶層と、第二の基板と、第二の偏光板と、を備える横電界モードの液晶表示パネルであって、表示領域において、上記第一の基板は、カラーフィルタ層を有し、上記第二のλ／４位相差層は、上記カラーフィルタ層を覆う単層状態であり、かつ、上記表示領域の端部に位置する第一の位相差部と、上記表示領域の中央部に位置する第二の位相差部と、を含み、上記第一の位相差部の厚みは、上記第二の位相差部の厚みよりも大きく、上記第一の位相差部の面内位相差と上記第二の位相差部の面内位相差との差は、１０ｎｍ以下である液晶表示パネル。【選択図】  図３
2019101086.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
観察面側から背面側に向かって順に、
第一の偏光板と、
第一のλ／４位相差層と、
第一の基板と、
第二のλ／４位相差層と、
液晶層と、
第二の基板と、
第二の偏光板と、を備える横電界モードの液晶表示パネルであって、
表示領域において、前記第一の基板は、カラーフィルタ層を有し、
前記第二のλ／４位相差層は、前記カラーフィルタ層を覆う単層状態であり、かつ、前記表示領域の端部に位置する第一の位相差部と、前記表示領域の中央部に位置する第二の位相差部と、を含み、
前記第一の位相差部の厚みは、前記第二の位相差部の厚みよりも大きく、
前記第一の位相差部の面内位相差と前記第二の位相差部の面内位相差との差は、１０ｎｍ以下であることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
前記第一の位相差部の面内位相差と前記第二の位相差部の面内位相差との差は、６ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項３】
前記第一の位相差部の厚みと前記第二の位相差部の厚みとの差は、０．０８μｍ以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示パネル。
【請求項４】
前記第一の基板は、前記カラーフィルタ層を直に覆うオーバーコート層を更に有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の液晶表示パネル。
【請求項５】
観察面側から背面側に向かって順に、第一の偏光板と、第一のλ／４位相差層と、第一の基板と、第二のλ／４位相差層と、液晶層と、第二の基板と、第二の偏光板と、を備える横電界モードの液晶表示パネルの製造方法であって、
表示領域において、前記第一の基板は、カラーフィルタ層を有し、
光重合性材料を含有する塗液を、前記第一の基板の前記カラーフィルタ層を覆うように塗布することによって、前記表示領域の端部に位置する第一の塗膜部と、前記表示領域の中央部に位置し、厚みが前記第一の塗膜部よりも小さい第二の塗膜部と、を含む単層状態の塗膜を形成する塗布工程と、
前記塗膜に対して光照射を少なくとも１回行うことによって、前記塗膜の硬化物を形成する露光工程と、
前記塗膜の硬化物を加熱することによって、前記第二のλ／４位相差層を形成する加熱工程と、を含み、
前記露光工程では、前記第一の塗膜部に対する光照射強度が、前記第二の塗膜部に対する光照射強度よりも小さくなるように、前記塗膜に対して光照射を行うことを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【請求項６】
前記露光工程では、前記塗膜に対してフォトマスクを介して光照射を１回行い、
前記フォトマスクは、前記第一の塗膜部の位置に対応する第一のマスク部分の光透過率が、前記第二の塗膜部の位置に対応する第二のマスク部分の光透過率よりも小さいことを特徴とする請求項５に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【請求項７】
前記露光工程では、前記塗膜に対して光照射を２回行い、
１回目の光照射は、前記第一の塗膜部の位置に対応する第一のマスク部分の光透過率が０％、前記第二の塗膜部の位置に対応する第二のマスク部分の光透過率が９０％以上であるフォトマスクを介して行われ、
２回目の光照射は、フォトマスクを介さずに行われ、
前記１回目の光照射における光源の光照射強度と、前記２回目の光照射における光源の光照射強度と、は互いに異なることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法に関する。より詳しくは、横電界モードの液晶表示パネル、及び、上記液晶表示パネルの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルは、テレビ、スマートフォン、タブレット、ＰＣ、カーナビゲーション等の用途で利用されている。これらの用途においては種々の性能が要求され、例えば、光学性能の改善を目的とした液晶表示パネルが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−２５６７５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来の液晶表示パネルでは、屋外等の明所における視認性が低かった。本発明者らがこの原因について種々検討したところ、液晶表示パネルの外光反射（表面反射及び内部反射）によって黒表示状態の輝度が増加し、その結果、コントラストが低下するためであることが分かった。
【０００５】
これに対して、本発明者らは、屋外等の明所における視認性を高める（外光反射を抑制する）ために、液晶層を挟持する一対の基板のうちの観察面側の基板に対して、液晶層とは反対側（観察面側）に円偏光板（直線偏光板とλ／４層との積層体）が配置された構成に着目した。しかしながら、液晶表示パネルとして、視野角特性を良くするために、ＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード等の横電界モードの液晶表示パネルを採用した場合、円偏光板を適用することが困難であった。なぜなら、横電界モードの液晶表示パネルの観察面側及び背面側に円偏光板が配置される場合、電圧無印加時及び電圧印加時のいずれにおいても、常に白（明）表示状態となり、黒（暗）表示状態を実現することができなかったためである。
【０００６】
これに対して、本発明者らは、液晶層を挟持する一対の基板のうちの観察面側の基板に対して、液晶層とは反対側（観察面側）に円偏光板が配置された上で、液晶層側（背面側）にλ／４位相差層（以下、「インセル位相差層」とも言う）が配置された構成を見出した。このような構成によれば、入射光に対して従来の横電界モードの液晶表示パネルと光学的に等価である構成が実現されることが分かった。しかしながら、このような構成では、観察面側の基板としてカラーフィルタ基板を用いると、黒表示状態において、表示領域の端部で光漏れが発生してしまうことがあった。
【０００７】
本発明者らはこの原因について種々検討したところ、以下のことが分かった。通常のカラーフィルタ基板において、表示領域にはブラックマトリクス及びカラーフィルタ層が積層されているのに対して、表示領域を囲む額縁領域（非表示領域）にはブラックマトリクスが配置されている。そのため、表示領域のカラーフィルタ層の表面が額縁領域のブラックマトリクスの表面よりも高い位置にあり、両領域間に段差が生じる。このような状態に対して、表示領域及び額縁領域にオーバーコート層の材料が塗布されると、両領域間の段差を平坦化しきれず、表示領域の端部（表示領域の周縁部）では、表示領域の中央部と比較して、オーバーコート層が薄くなってしまう。その後、インセル位相差層の材料がオーバーコート層の表面上に塗布されると、インセル位相差層の材料の平坦化効果により、表示領域の端部では、表示領域の中央部と比較して、オーバーコート層が薄い分だけインセル位相差層が厚く形成されてしまう。その結果、インセル位相差層について、表示領域の中央部（インセル位相差層の厚みが一定である領域）では面内位相差が最適値に設定されていても、表示領域の端部では、その厚みが大きい分、面内位相差が最適値から大きくずれてしまう。よって、インセル位相差層で付与される面内位相差が表示領域の中央部と端部とで大きく異なるため、上述した円偏光板を通して観察すると、黒表示状態において、表示領域の端部で光漏れが発生してしまう。
【０００８】
一方、インセル位相差層を有さない構成（通常の横電界モードの液晶表示パネル）では、表示領域の端部において、オーバーコート層が薄くなっていると、液晶層がその分だけ厚くなる。しかしながら、黒表示状態において、液晶層は、背面側から入射する光（例えば、直線偏光）に対して等方的な媒質として振る舞うため、液晶層の厚みが部分的に変化していても、光漏れは発生しない。したがって、上述した表示領域の端部での光漏れは、インセル位相差層を有する構成に特有の現象であった。
【０００９】
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、表示領域の端部での光漏れが抑制された横電界モードの液晶表示パネルと、上記液晶表示パネルの製造方法と、を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、表示領域の端部での光漏れが抑制された横電界モードの液晶表示パネルと、上記液晶表示パネルの製造方法と、について種々検討したところ、光照射強度を部分的に変化させる露光工程の後に加熱工程を経ることによって形成されたインセル位相差層を利用することに着目した。そして、このようなインセル位相差層を利用すれば、インセル位相差層の厚みが表示領域内で変化しても、面内位相差が変化しにくくなることを見出した。これにより、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。
【００１１】
すなわち、本発明の一態様は、観察面側から背面側に向かって順に、第一の偏光板と、第一のλ／４位相差層と、第一の基板と、第二のλ／４位相差層と、液晶層と、第二の基板と、第二の偏光板と、を備える横電界モードの液晶表示パネルであって、表示領域において、上記第一の基板は、カラーフィルタ層を有し、上記第二のλ／４位相差層は、上記カラーフィルタ層を覆う単層状態であり、かつ、上記表示領域の端部に位置する第一の位相差部と、上記表示領域の中央部に位置する第二の位相差部と、を含み、上記第一の位相差部の厚みは、上記第二の位相差部の厚みよりも大きく、上記第一の位相差部の面内位相差と上記第二の位相差部の面内位相差との差は、１０ｎｍ以下である液晶表示パネルであってもよい。
【００１２】
本発明の別の一態様は、観察面側から背面側に向かって順に、第一の偏光板と、第一のλ／４位相差層と、第一の基板と、第二のλ／４位相差層と、液晶層と、第二の基板と、第二の偏光板と、を備える横電界モードの液晶表示パネルの製造方法であって、表示領域において、上記第一の基板は、カラーフィルタ層を有し、光重合性材料を含有する塗液を、上記第一の基板の上記カラーフィルタ層を覆うように塗布することによって、上記表示領域の端部に位置する第一の塗膜部と、上記表示領域の中央部に位置し、厚みが上記第一の塗膜部よりも小さい第二の塗膜部と、を含む単層状態の塗膜を形成する塗布工程と、上記塗膜に対して光照射を少なくとも１回行うことによって、上記塗膜の硬化物を形成する露光工程と、上記塗膜の硬化物を加熱することによって、上記第二のλ／４位相差層を形成する加熱工程と、を含み、上記露光工程では、上記第一の塗膜部に対する光照射強度が、上記第二の塗膜部に対する光照射強度よりも小さくなるように、上記塗膜に対して光照射を行う液晶表示パネルの製造方法であってもよい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、表示領域の端部での光漏れが抑制された横電界モードの液晶表示パネルと、上記液晶表示パネルの製造方法と、を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】実施形態の液晶表示パネルを示す断面模式図である。
【図２】実施形態の液晶表示パネルの第二のλ／４位相差層及び第一の基板を液晶層側（背面側）から見た状態を示す平面模式図である。
【図３】図２中の線分Ａ−Ａ’に対応する部分を示す断面模式図である。
【図４】実施形態の液晶表示パネルの製造方法例１を説明するための断面模式図である。
【図５】実施形態の液晶表示パネルの製造方法例２を説明するための断面模式図である。
【図６】実施形態の液晶表示パネルの製造方法例３を説明するための断面模式図である。
【図７】比較例１の液晶表示パネルを示す断面模式図である。
【図８】比較例１の液晶表示パネルの第二のλ／４位相差層及び第一の基板を液晶層側（背面側）から見た状態を示す平面模式図である。
【図９】図８中の線分ａ−ａ’に対応する部分を示す断面模式図である。
【図１０】比較例１の液晶表示パネルの製造方法を説明するための断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下に実施形態を掲げ、本発明について図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこの実施形態のみに限定されるものではない。また、実施形態の各構成は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよいし、変更されてもよい。
【００１６】
本明細書中、「Ｘ〜Ｙ」は、「Ｘ以上、Ｙ以下」を意味する。
【００１７】
［実施形態］
実施形態の液晶表示パネル及びその製造方法について、以下に説明する。
【００１８】
（１）液晶表示パネル
実施形態の液晶表示パネルについて、図１を参照して以下に説明する。図１は、実施形態の液晶表示パネルを示す断面模式図である。
【００１９】
液晶表示パネル１は、観察面側から背面側に向かって順に、第一の偏光板２と、第一のλ／４位相差層（アウトセル位相差層）３と、第一の基板４と、第二のλ／４位相差層（インセル位相差層）５と、液晶層６と、第二の基板７と、第二の偏光板８と、を有している。本明細書中、「観察面側」は、液晶表示パネルの画面（表示面）に対してより近い側を意味し、例えば、図１中では液晶表示パネル１の上側（第一の偏光板２側）を指す。また、「背面側」は、液晶表示パネルの画面（表示面）に対してより遠い側を意味し、例えば、図１中では液晶表示パネル１の下側（第二の偏光板８側）を指す。
【００２０】
＜第一の偏光板及び第二の偏光板＞
第一の偏光板２及び第二の偏光板８としては、例えば、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素錯体（又は染料）等の異方性材料を染色及び吸着させてから延伸配向させたもの等が挙げられる。本明細書中、偏光板は直線偏光板（吸収型偏光板）を指し、円偏光板とは区別される。
【００２１】
第一の偏光板２の透過軸と、第二の偏光板８の透過軸と、は直交することが好ましい。これにより、第一の偏光板２及び第二の偏光板８がクロスニコルに配置されるため、液晶層６への電圧無印加時に黒表示が、液晶層６への電圧印加時に階調表示（中間調表示、白表示等）が効果的に実現される。本明細書中、２つの軸が直交するとは、両者のなす角度が８７〜９３°であることを意味し、好ましくは８９〜９１°、より好ましくは８９．５〜９０．５°、特に好ましくは９０°（完全に直交）であることを意味する。
【００２２】
＜第一のλ／４位相差層＞
第一のλ／４位相差層３は、波長λの入射光に対して１／４波長（λ／４）の面内位相差を付与する位相差層であり、好ましくは１００〜１７６ｎｍの面内位相差を付与する位相差層である。
【００２３】
本明細書中、位相差層の面内位相差Ｒｅは、Ｒｅ＝（ｎｓ−ｎｆ）×Ｄで表される。ここで、位相差層の面内方向の主屈折率をｎｘ及びｎｙとするとき、ｎｓはｎｘ及びｎｙのうちの大きい方を表し、ｎｆはｎｘ及びｎｙのうちの小さい方を表し、Ｄは位相差層の厚みを表す。例えば、位相差層の材料が液晶材料である場合、液晶材料の屈折率異方性をΔｎとすると、位相差層の面内位相差Ｒｅは、Ｒｅ＝Δｎ×Ｄで表される。
【００２４】
第一のλ／４位相差層３の材料としては、例えば、光重合性液晶材料等の光重合性材料が挙げられる。光重合性液晶材料の構造としては、例えば、液晶分子の骨格の末端に、アクリレート基、メタクリレート基等の光重合性基を有する構造が挙げられる。光重合性液晶材料は、露光工程及び加熱工程を順次経て硬化されることによって、第一のλ／４位相差層３として機能する。この場合、第一のλ／４位相差層３は、ポリエチレンテレフタレートフィルム等の基材に積層された状態で、第一の基板４の液晶層６とは反対側（観察面側）の表面に、接着剤等を介して貼り付けられていてもよい。
【００２５】
第一のλ／４位相差層３としては、上述したものの他に、延伸処理された高分子フィルムも使用可能である。高分子フィルムの材料としては、例えば、シクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリビニルアルコール、ノルボルネン、トリアセチルセルロース、ジアチルセルロース等が挙げられる。
【００２６】
第一のλ／４位相差層３の面内遅相軸と、第一の偏光板２の透過軸と、は４５°の角度をなすことが好ましい。これにより、第一の偏光板２と第一のλ／４位相差層３とが積層された円偏光板が、液晶表示パネル１の観察面側に配置される構成が実現される。よって、液晶表示パネル１の観察面側からの入射光（例えば、外光）は、円偏光板を透過する際に円偏光に変換されて第一の基板４に到達するため、円偏光板の反射防止効果によって、第一の基板４（オーバーコート層１２よりも液晶層６とは反対側（観察面側）に配置された層）からの反射が抑制され、明所における視認性が高まる。本明細書中、２つの軸が４５°の角度をなすとは、両者のなす角度が４２〜４８°であることを意味し、好ましくは４４〜４６°、より好ましくは４４．５〜４５．５°、特に好ましくは４５°であることを意味する。
【００２７】
＜第一の基板＞
第一の基板４は、第一の支持基材９と、第一の支持基材９の液晶層６側（背面側）の表面上に部分的に配置されるブラックマトリクス１０と、カラーフィルタ層１１Ｒ（赤色）、１１Ｇ（緑色）、１１Ｂ（青色）と、ブラックマトリクス１０及びカラーフィルタ層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂを直に覆うオーバーコート層１２と、を有している。
【００２８】
第一の支持基材９としては、例えば、ガラス基板、プラスチック基板等が挙げられる。
【００２９】
ブラックマトリクス１０の材料としては、例えば、遮光率が９９．９％以上（ＯＤ値が３．０以上）である黒色のレジスト等が挙げられる。
【００３０】
カラーフィルタ層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂの材料としては、例えば、顔料分散型のカラーレジスト等が挙げられる。カラーフィルタ層の色の組み合わせは特に限定されず、図１に示すような赤色、緑色、及び、青色の組み合わせの他に、例えば、赤色、緑色、青色、及び、黄色の組み合わせ等が挙げられる。
【００３１】
オーバーコート層１２の材料としては、例えば、透明樹脂等が挙げられ、中でも、耐熱性及び耐薬品性の高いものが好ましい。
【００３２】
＜第二のλ／４位相差層＞
第二のλ／４位相差層５は、波長λの入射光に対して１／４波長（λ／４）の面内位相差を付与する位相差層であり、好ましくは１００〜１７６ｎｍの面内位相差を付与する位相差層である。
【００３３】
第二のλ／４位相差層５の材料としては、例えば、第一のλ／４位相差層３の材料と同様な光重合性液晶材料等の光重合性材料が挙げられる。光重合性液晶材料は、露光工程及び加熱工程を順次経て硬化されることによって、第二のλ／４位相差層５として機能する。また、光重合性液晶材料で構成される第二のλ／４位相差層５は、第一の基板４の平坦化層としても機能するため、第二のλ／４位相差層５（第一の基板４）と第二の基板７との間隔（液晶層６の厚み：セルギャップ）が均一になる。
【００３４】
第二のλ／４位相差層５と第一の基板４との関係について、以下に説明する。
【００３５】
図２は、実施形態の液晶表示パネルの第二のλ／４位相差層及び第一の基板を液晶層側（背面側）から見た状態を示す平面模式図である。図２に示すように、画像、文字等を表示する表示領域ＡＲにおいて、第一の基板４は、カラーフィルタ層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂを有している。ここで、表示領域ＡＲの端部に位置するカラーフィルタ層を「エッジカラーフィルタ層」と言い、図２においては、表示領域ＡＲの左端部にエッジカラーフィルタ層１７Ｂ（青色：カラーフィルタ層１１Ｂ）が位置しており、表示領域ＡＲの右端部にエッジカラーフィルタ層１７Ｒ（赤色：カラーフィルタ層１１Ｒ）が位置している。ブラックマトリクス１０は、表示領域ＡＲ内ではカラーフィルタ層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂを区画するように格子状に配置され、表示領域ＡＲを囲む額縁領域（非表示領域）ＦＲ内では全面に配置されている。
【００３６】
図２において、オーバーコート層１２及び第二のλ／４位相差層５は透明であるために図示されていないが、実際は、表示領域ＡＲ及び額縁領域ＦＲの全面に配置されている。
【００３７】
図３は、図２中の線分Ａ−Ａ’に対応する部分を示す断面模式図である。図３においては、下側が観察面側（液晶層６とは反対側）に相当し、上側が背面側（液晶層６側）に相当する。図３に示すように、第一の基板４において、オーバーコート層１２は、表示領域ＡＲではブラックマトリクス１０及びカラーフィルタ層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂ（１７Ｂ）を直に覆っており、額縁領域ＦＲではブラックマトリクス１０を直に覆っている。
【００３８】
第二のλ／４位相差層５は、単層状態（継ぎ目が無い状態）であり、かつ、表示領域ＡＲの端部に位置する第一の位相差部１８と、表示領域ＡＲの中央部に位置する第二の位相差部１９と、を含んでいる。第二のλ／４位相差層５は、表示領域ＡＲ及び額縁領域ＦＲにおいて、オーバーコート層１２を直に覆っている。すなわち、第二のλ／４位相差層５は、オーバーコート層１２を介して、表示領域ＡＲではカラーフィルタ層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂ（１７Ｂ）を覆っており、額縁領域ＦＲではブラックマトリクス１０を覆っている。
【００３９】
表示領域ＡＲのエッジカラーフィルタ層１７Ｂの表面は、額縁領域ＦＲのブラックマトリクス１０の表面よりも高い位置にあり、両者間に段差Ｄ１が生じている。これにより、オーバーコート層１２の厚みは、表示領域ＡＲの端部から幅Ｄ２の領域において、表示領域ＡＲの中央部に対して最大でＤ３小さくなっている。ここで、オーバーコート層１２の厚みは、カラーフィルタ層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂのうちで厚みが最も大きいカラーフィルタ層（図３では、カラーフィルタ層１１Ｂ）の表面からオーバーコート層１２の表面までの距離を指す。以上の結果、第二のλ／４位相差層５の厚みは、表示領域ＡＲの端部から幅Ｄ２の領域において、表示領域ＡＲの中央部に対して最大でＤ３大きくなっている。つまり、第二のλ／４位相差層５において、第一の位相差部１８の厚みは、第二の位相差部１９の厚みよりもＤ３だけ大きくなっている。
【００４０】
第二のλ／４位相差層５において、第一の位相差部１８の面内位相差と第二の位相差部１９の面内位相差との差は、１０ｎｍ以下であり、好ましくは６ｎｍ以下、より好ましくは５ｎｍ以下、特に好ましくは０ｎｍ（完全に一致）である。これにより、第一の位相差部１８の厚みが第二の位相差部１９の厚みよりも大きくても、黒表示状態において、表示領域ＡＲの端部での光漏れが抑制される。
【００４１】
第二のλ／４位相差層５において、第一の位相差部１８の厚みと第二の位相差部１９の厚みとの差（第二のλ／４位相差層５の厚みの変化分）Ｄ３は、０．０８μｍ以上であってもよい。これにより、第一の位相差部１８の厚みが第二の位相差部１９の厚みよりも非常に大きくても、黒表示状態において、表示領域ＡＲの端部での光漏れが抑制される。
【００４２】
以上では、第二のλ／４位相差層５と第一の基板４との関係について、液晶表示パネル１の左端部に着目して説明したが、エッジカラーフィルタ層の種類（色、厚み等）が位置によって異なること以外、液晶表示パネル１の右端部、上端部、及び、下端部についても同様である。
【００４３】
第二のλ／４位相差層５の面内遅相軸と、第一のλ／４位相差層３の面内遅相軸と、は直交することが好ましい。これにより、液晶表示パネル１の背面側からの入射光（例えば、バックライトからの入射光）に対して、第一のλ／４位相差層３及び第二のλ／４位相差層５が互いの面内位相差をキャンセルするため、光学的には、両者が実質的に存在しない状態が実現される。すなわち、液晶表示パネル１の背面側からの入射光に対して、従来の横電界モードの液晶表示パネルと光学的に等価である構成が実現される。よって、円偏光板を用いた横電界モードによる表示を実現することができる。ここで、第一のλ／４位相差層３及び第二のλ／４位相差層５は、互いに同じ材料から構成されることが好ましい。これにより、第一のλ／４位相差層３及び第二のλ／４位相差層５は、波長分散も含めて互いの面内位相差をキャンセルすることができる。
【００４４】
第一の基板４と第二のλ／４位相差層５との間には、第二のλ／４位相差層５用の配向膜が配置されていてもよい。これにより、第二のλ／４位相差層５が光重合性液晶材料で構成される場合、光重合性液晶材料の硬化物が配向膜によって配向し、第二のλ／４位相差層５として効果的に機能することができる。配向膜の材料としては、例えば、ポリイミド等の有機材料、光異性化型の光配向材料等が挙げられる。配向膜の表面には、光配向処理、ラビング処理等の配向処理が施されていてもよい。
【００４５】
第二のλ／４位相差層５と液晶層６との間には、液晶層６用の水平配向膜が配置されていてもよい。水平配向膜は、近傍に存在する液晶分子を表面に対して平行に配向させる機能を有する。ここで、液晶分子が水平配向膜の表面に対して平行に配向するとは、液晶分子のプレチルト角（電圧無印加時における傾斜角）が、水平配向膜の表面に対して０〜５°であることを意味する。水平配向膜の材料としては、例えば、ポリイミド等の有機材料、光異性化型の光配向材料等が挙げられる。水平配向膜の表面には、光配向処理、ラビング処理等の配向処理が施されていてもよい。
【００４６】
第二のλ／４位相差層５の液晶層６側（背面側）の表面上には、フォトスペーサーが配置されていてもよい。フォトスペーサーによれば、第二のλ／４位相差層５（第一の基板４）と第二の基板７との間隔（液晶層６の厚み：セルギャップ）が効果的に保持される。フォトスペーサーは、ブラックマトリクス１０と重畳することが好ましい。これにより、液晶表示パネル１を観察面側から見るときに、フォトスペーサーがブラックマトリクス１０で隠されるため、フォトスペーサーが視認されない。
【００４７】
＜第二の基板＞
第二の基板７は、第二の支持基材１６と、第二の支持基材１６の液晶層６側（観察面側）の表面上に配置される共通電極１５と、共通電極１５を覆う絶縁膜１４と、絶縁膜１４の液晶層６側（観察面側）の表面上に配置される画素電極１３と、を有している。このような構成によれば、画素電極１３と共通電極１５との間に電圧が印加されることによって（電圧印加時）、液晶層６に横電界（フリンジ電界）が発生し、液晶層６中の液晶分子の配向が制御される。つまり、液晶表示パネル１は、横電界モードの液晶表示パネルである。
【００４８】
第二の支持基材１６としては、例えば、ガラス基板、プラスチック基板等が挙げられる。
【００４９】
共通電極１５は、面状の電極である。これにより、液晶表示パネル１の各画素に共通の電圧が供給される。
【００５０】
共通電極１５の材料としては、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）等の透明材料（無機材料）が挙げられる。
【００５１】
絶縁膜１４の材料としては、有機絶縁材料及び無機絶縁材料のいずれも使用可能である。有機絶縁材料としては、例えば、ポリイミド等が挙げられる。無機絶縁材料としては、例えば、窒化物等が挙げられる。
【００５２】
画素電極１３は、スリットが設けられた電極である。これにより、電圧印加時に、共通電極１５との間で横電界（フリンジ電界）が効率的に形成される。
【００５３】
画素電極１３の材料としては、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）等の透明材料（無機材料）が挙げられる。
【００５４】
図１では、液晶表示パネル１がＦＦＳモードの液晶表示パネルである場合（第二の基板７がＦＦＳモードの薄膜トランジスタアレイ基板である場合）が例示されているが、液晶表示パネル１は、同じ横電界モードであるＩＰＳモードの液晶表示パネルであってもよい。ＩＰＳモードの液晶表示パネルによれば、第二の基板７に配置される一対の櫛歯電極間に電圧が印加されることによって（電圧印加時）、液晶層６に横電界が発生し、液晶層６中の液晶分子の配向が制御される。
【００５５】
第二の基板７と液晶層６との間には、液晶層６用の水平配向膜が配置されていてもよい。
【００５６】
＜液晶層＞
液晶層６中の液晶分子は、液晶層６への電圧無印加時にホモジニアス配向する。ここで、液晶分子がホモジニアス配向するとは、液晶分子のプレチルト角（電圧無印加時における傾斜角）が、第二の基板７の表面に対して０〜５°であることを意味する。
【００５７】
より詳しくは、液晶分子は、液晶層６への電圧無印加時に、第一の偏光板２の透過軸又は第二の偏光板８の透過軸と平行な方向に配向する。ここで、液晶分子が第一の偏光板２の透過軸又は第二の偏光板８の透過軸と平行な方向に配向するとは、液晶分子の長軸（光軸）を第一の偏光板２又は第二の偏光板８の表面に投影したものと、第一の偏光板２の透過軸又は第二の偏光板８の透過軸と、のなす角度が０〜３°であることを意味し、好ましくは０〜１°、より好ましくは０〜０．５°、特に好ましくは０°（完全に平行）であることを意味する。
【００５８】
一方、液晶分子は、液晶層６への電圧印加時に、液晶層６に発生した横電界に応じて配向する。
【００５９】
液晶層６の材料としては、例えば、負の誘電率異方性（Δε＜０）を有するネガ型液晶材料等が挙げられる。
【００６０】
液晶表示パネル１（第二の偏光板８）の背面側には、バックライトが配置されていてもよい。これにより、透過型の液晶表示装置が実現される。バックライトとしては、従来公知のものが使用可能である。バックライトの方式としては、特に限定されず、例えば、エッジライト方式、直下型方式等が挙げられる。バックライトの光源としては、特に限定されず、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）、冷陰極管（ＣＣＦＬ）等が挙げられる。
【００６１】
（２）液晶表示パネルの製造方法
実施形態の液晶表示パネルの製造方法について、以下に例示する。
【００６２】
（製造方法例１）
製造方法例１について、図１〜３に加えて図４も参照して以下に説明する。図４は、実施形態の液晶表示パネルの製造方法例１を説明するための断面模式図である。
【００６３】
＜第二のλ／４位相差層用の配向膜の形成＞
まず、配向材料（例えば、ポリイミド等の有機材料、光異性化型の光配向材料等）を第一の基板４の表面上に塗布し、配向材料の膜を形成する。そして、この配向材料の膜に対して仮焼成及び本焼成を行うことによって、第二のλ／４位相差層５用の配向膜（図示せず）を形成する。第二のλ／４位相差層５用の配向膜の表面には、光配向処理、ラビング処理等の配向処理を施してもよい。
【００６４】
＜第二のλ／４位相差層の形成：塗布工程＞
光重合性材料（例えば、光重合性液晶材料）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の有機溶媒に適宜溶かすことによって、塗液を調製する。そして、光重合性材料を含有する塗液を、第一の基板４のカラーフィルタ層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂ（厳密には、第二のλ／４位相差層５用の配向膜）を覆うように塗布することによって、図４に示すような単層状態の塗膜２０を形成する。塗膜２０は、表示領域ＡＲの端部に位置する第一の塗膜部２１と、表示領域ＡＲの中央部に位置し、厚みが第一の塗膜部２１よりも小さい第二の塗膜部２２と、を含んでいる。塗膜２０に対しては、後述する露光工程前に、有機溶媒を乾燥させるための仮焼成を行ってもよい。
【００６５】
＜第二のλ／４位相差層の形成：露光工程＞
図４に示すように、塗膜２０に対してフォトマスク２３を介して光照射（例えば、紫外線照射）を１回行うことによって、塗膜２０の硬化物を形成する。この際、第一の塗膜部２１及び第二の塗膜部２２のうち、厚みが大きい方の第一の塗膜部２１に対する光照射強度が、厚みが小さい方の第二の塗膜部２２に対する光照射強度よりも小さくなるように、塗膜２０に対して光照射を行う。このような状態を実現するために、本製造方法例では、フォトマスク２３として以下のようなハーフトーンマスクを用いている。
【００６６】
フォトマスク２３は、額縁領域ＦＲと表示領域ＡＲの端部から幅Ｄ２の領域とに対応する第一のマスク部分２４と、表示領域ＡＲの中央部を含むその他の領域に対応する第二のマスク部分２５と、を有している。すなわち、フォトマスク２３において、第一のマスク部分２４は第一の塗膜部２１の位置に対応し、第二のマスク部分２５は第二の塗膜部２２の位置に対応している。また、第一のマスク部分２４の光透過率は、第二のマスク部分２５の光透過率よりも小さくなっている。
【００６７】
よって、本製造方法例の露光工程によれば、第一の塗膜部２１に対する光照射強度が第二の塗膜部２２に対する光照射強度よりも小さくなるように、塗膜２０に対して光照射を行うことができる。具体的には、（Ａ）第一のマスク部分２４の光透過率がＴ１（％）であり、（Ｂ）第二のマスク部分２５の光透過率がＴ２（％）である（Ｔ１＜Ｔ２）フォトマスク２３を介して、光照射強度がＭ（ｍＷ／ｃｍ２）である光源による光照射を塗膜２０に対して行うと、第一の塗膜部２１に対する光照射強度Ｍ×Ｔ１（ｍＷ／ｃｍ２）が、第二の塗膜部２２に対する光照射強度Ｍ×Ｔ２（ｍＷ／ｃｍ２）よりも小さくなる。
【００６８】
＜第二のλ／４位相差層の形成：加熱工程＞
塗膜２０の硬化物を加熱（本焼成）することによって、図３に示すような第二のλ／４位相差層５を形成する。
【００６９】
＜フォトスペーサーの形成＞
フォトレジストを、第二のλ／４位相差層５の第一の基板４とは反対側の表面上に塗布する。その後、塗布されたフォトレジストに対して、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングを行い、焼成（加熱）することによって、フォトスペーサー（図示せず）を形成する。
【００７０】
＜液晶層用の配向膜の形成＞
配向材料（例えば、ポリイミド等の有機材料、光異性化型の光配向材料等）を、第二のλ／４位相差層５（フォトスペーサー付き）の第一の基板４とは反対側の表面上に塗布し、配向材料の膜を形成する。そして、この配向材料の膜に対して仮焼成及び本焼成を行うことによって、液晶層６用の配向膜（図示せず）を形成する。液晶層６用の配向膜の表面には、光配向処理、ラビング処理等の配向処理を施してもよい。
【００７１】
＜液晶表示パネルの完成＞
最後に、第二のλ／４位相差層５等が積層された第一の基板４と第二の基板７とを、液晶層６を挟持するように貼り合わせた後、第一の偏光板２、第一のλ／４位相差層３、及び、第二の偏光板８を配置することによって、図１に示すような液晶表示パネル１が完成する。
【００７２】
本製造方法例では、第二のλ／４位相差層５の形成時及び形成後に、塗膜２０の硬化物の本焼成、フォトスペーサーの形成（焼成）、液晶層６用の配向膜の形成（仮焼成及び本焼成）等の、高温を伴う加熱工程を経るため、第二のλ／４位相差層５の面内位相差がこれらの加熱工程とともに低下することがあった。これに対して、本製造方法例では、第二のλ／４位相差層５を形成する際の露光工程において、第一の塗膜部２１に対する光照射強度が第二の塗膜部２２に対する光照射強度よりも小さくなるように、塗膜２０に対して光照射を行っている。これにより、塗膜２０の硬化物（第二のλ／４位相差層５）において、単層状態でありながら、第一の塗膜部２１の硬化物（第一の位相差部１８）の耐熱性が、第二の塗膜部２２の硬化物（第二の位相差部１９）の耐熱性よりも低くなる状態、すなわち、上述した加熱工程を経ることによって、第一の塗膜部２１の硬化物（第一の位相差部１８）の面内位相差が、第二の塗膜部２２の硬化物（第二の位相差部１９）の面内位相差よりも低下しやすくなる状態を実現することができる。
【００７３】
よって、本製造方法例によれば、第二のλ／４位相差層５を形成する際の露光工程直後において、第一の塗膜部２１の硬化物（第一の位相差部１８）の厚みが第二の塗膜部２２の硬化物（第二の位相差部１９）の厚みよりも大きい、すなわち、第一の塗膜部２１の硬化物（第一の位相差部１８）の面内位相差が第二の塗膜部２２の硬化物（第二の位相差部１９）の面内位相差よりも大きい状態であっても、上述した加熱工程を少なくとも１つ経た後では、両者の耐熱性の違いによって、両者の面内位相差の差が１０ｎｍ以下となるようにすることができる。その結果、黒表示状態において、表示領域ＡＲの端部での光漏れが抑制される。
【００７４】
（製造方法例２）
製造方法例２について、図１〜３に加えて図５も参照して以下に説明する。図５は、実施形態の液晶表示パネルの製造方法例２を説明するための断面模式図である。製造方法例２は、第二のλ／４位相差層を形成する際の露光工程以外、製造方法例１と同様であるため、重複する点については説明を省略する。
【００７５】
＜第二のλ／４位相差層の形成：露光工程＞
図５に示すように、塗膜２０に対してフォトマスク２３を介して光照射（例えば、紫外線照射）を１回行うことによって、塗膜２０の硬化物を形成する。この際、第一の塗膜部２１及び第二の塗膜部２２のうち、厚みが大きい方の第一の塗膜部２１に対する光照射強度が、厚みが小さい方の第二の塗膜部２２に対する光照射強度よりも小さくなるように、塗膜２０に対して光照射を行う。このような状態を実現するために、本製造方法例では、フォトマスク２３として以下のようなグラデーションマスクを用いている。
【００７６】
フォトマスク２３は、額縁領域ＦＲに対応する第三のマスク部分２６と、表示領域ＡＲの端部から幅Ｄ２の領域に対応する第一のマスク部分２４と、表示領域ＡＲの中央部を含むその他の領域に対応する第二のマスク部分２５と、を有している。すなわち、フォトマスク２３において、第一のマスク部分２４は第一の塗膜部２１の位置に対応し、第二のマスク部分２５は第二の塗膜部２２の位置に対応している。また、第三のマスク部分２６の光透過率は、第二のマスク部分２５の光透過率よりも小さくなっており、第一のマスク部分２４の光透過率は、第三のマスク部分２６の光透過率と第二のマスク部分２５の光透過率との間で、第三のマスク部分２６側から第二のマスク部分２５側に向かって線形に上昇している。表示領域ＡＲの端部から幅Ｄ２の領域において、塗膜２０の厚みは連続的に変化しているため、本製造方法例のように、その連続性に合わせて、フォトマスク２３の第一のマスク部分２４の光透過率も連続的に変化させる方が、光漏れを抑制する点で、製造方法例１よりも効果的である。
【００７７】
よって、本製造方法例の露光工程によれば、第一の塗膜部２１に対する光照射強度が第二の塗膜部２２に対する光照射強度よりも小さくなるように、塗膜２０に対して光照射を行うことができる。具体的には、（Ａ）第三のマスク部分２６の光透過率がＴ１（％）であり、（Ｂ）第一のマスク部分２４の光透過率が第三のマスク部分２６側から第二のマスク部分２５側に向かってＴ１（％）からＴ２（％）へ線形に上昇し（図５中では、「Ｔ１→Ｔ２（％）」と表記）、（Ｃ）第二のマスク部分２５の光透過率がＴ２（％）である（Ｔ１＜Ｔ２）フォトマスク２３を介して、光照射強度がＭ（ｍＷ／ｃｍ２）である光源による光照射を塗膜２０に対して行うと、第一の塗膜部２１に対する光照射強度Ｍ×Ｔ１（ｍＷ／ｃｍ２）が、第二の塗膜部２２に対する光照射強度Ｍ×Ｔ２（ｍＷ／ｃｍ２）よりも小さくなる。
【００７８】
本製造方法例においても、製造方法例１と同様な効果が得られるのは明らかである。
【００７９】
（製造方法例３）
製造方法例３について、図１〜３に加えて図６も参照して以下に説明する。図６は、実施形態の液晶表示パネルの製造方法例３を説明するための断面模式図である。製造方法例３は、第二のλ／４位相差層を形成する際の露光工程以外、製造方法例１と同様であるため、重複する点については説明を省略する。
【００８０】
＜第二のλ／４位相差層の形成：露光工程＞
図６に示すように、塗膜２０に対して光照射（例えば、紫外線照射）を２回行うことによって、塗膜２０の硬化物を形成する。この際、第一の塗膜部２１及び第二の塗膜部２２のうち、厚みが大きい方の第一の塗膜部２１に対する光照射強度が、厚みが小さい方の第二の塗膜部２２に対する光照射強度よりも小さくなるように、塗膜２０に対して光照射を行う。このような状態を実現するために、本製造方法例では、塗膜２０に対する光照射を以下のように２回に分けて行っている。ここで、本製造方法例のように塗膜２０に対して光照射を複数回行う場合、第一の塗膜部２１に対する光照射強度及び第二の塗膜部２２に対する光照射強度は、各々、複数回の光照射を総合したときの光照射強度（各回の光照射強度の合計）を意味する。
【００８１】
まず、図６（ａ）に示すように、塗膜２０に対する１回目の光照射を、フォトマスク２３を介して行う。フォトマスク２３は、額縁領域ＦＲと表示領域ＡＲの端部から幅Ｄ２の領域とに対応する第一のマスク部分２４と、表示領域ＡＲの中央部を含むその他の領域に対応する第二のマスク部分２５と、を有している。すなわち、フォトマスク２３において、第一のマスク部分２４は第一の塗膜部２１の位置に対応し、第二のマスク部分２５は第二の塗膜部２２の位置に対応している。また、第一のマスク部分２４の光透過率は０％であり、第二のマスク部分２５の光透過率は９０％以上である。
【００８２】
次に、図６（ｂ）に示すように、塗膜２０に対する２回目の光照射を、フォトマスクを介さずに行う。ここで、２回目の光照射における光源の光照射強度は、１回目の光照射における光源の光照射強度と異なっている。
【００８３】
よって、本製造方法例の露光工程によれば、第一の塗膜部２１に対する光照射強度が第二の塗膜部２２に対する光照射強度よりも小さくなるように、塗膜２０に対して光照射を行うことができる。具体的には、まず、塗膜２０に対する１回目の光照射を、（Ａ）第一のマスク部分２４の光透過率が０％であり、（Ｂ）第二のマスク部分２５の光透過率がＴ２（％）である（Ｔ２≧９０）フォトマスク２３を介して、光照射強度がＭ１（ｍＷ／ｃｍ２）である光源によって行う。次に、塗膜２０に対する２回目の光照射を、フォトマスクを介さずに、光照射強度がＭ２（ｍＷ／ｃｍ２）である（Ｍ１≠Ｍ２）光源によって行う。以上の結果、第一の塗膜部２１に対する光照射強度Ｍ２（ｍＷ／ｃｍ２）が、第二の塗膜部２２に対する光照射強度Ｍ１×Ｔ２＋Ｍ２（ｍＷ／ｃｍ２）よりも小さくなる。
【００８４】
本製造方法例においても、製造方法例１と同様な効果が得られるのは明らかである。また、本製造方法例では、２回目の光照射はフォトマスクを介さずに行われるため、表示領域ＡＲの端部から幅Ｄ２の領域における光照射量を、表示領域ＡＲのその他の領域と同様に大きくすることができる。その結果、得られる第二のλ／４位相差層５において、未硬化状態の光重合性材料（例えば、光重合性液晶材料）が減少し、液晶表示パネル１の信頼性が向上する。
【００８５】
［実施例及び比較例］
以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
【００８６】
実施例及び比較例において、第一のλ／４位相差層及び第二のλ／４位相差層の面内位相差は、波長５５０ｎｍの光に対する値を示す。ちなみに、波長５５０ｎｍの光は、人間の視感度が最も高い波長の光である。また、第一の偏光板の透過軸の方位、第一のλ／４位相差層の面内遅相軸の方位、第二のλ／４位相差層の面内遅相軸の方位、液晶分子の配向方向、及び、第二の偏光板の透過軸の方位は、液晶表示パネルの長手方向を基準（０°）に反時計回りを正（＋）とした角度で定義される。
【００８７】
（実施例１）
実施例１の液晶表示パネルとして、実施形態の液晶表示パネルを製造方法例１によって製造した。
【００８８】
＜第二のλ／４位相差層用の配向膜の形成＞
まず、光異性化型の光配向材料を第一の基板４の表面上に塗布し、光配向材料の膜を形成した。そして、この光配向材料の膜に対して、仮焼成を６０℃で８０秒間行い、偏光紫外線（波長３６５ｎｍにおける照射量：１００ｍＪ／ｃｍ２）を照射した後、本焼成を２３０℃で３０分間行った。その結果、第二のλ／４位相差層５用の配向膜が形成された。
【００８９】
＜第二のλ／４位相差層の形成：塗布工程＞
光重合性液晶材料（液晶分子の骨格の末端にアクリレート基を有する液晶材料、屈折率異方性Δｎ：０．１６５７）を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（有機溶媒）に溶かし、塗液を調製した。そして、この塗液を、第一の基板４のカラーフィルタ層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂ（厳密には、第二のλ／４位相差層５用の配向膜）を覆うようにスリットコート法で塗布することによって、単層状態の塗膜２０を形成した。その後、塗膜２０に対して、仮焼成を９０℃で８０秒間行った。
【００９０】
＜第二のλ／４位相差層の形成：露光工程＞
塗膜２０に対してフォトマスク２３を介して紫外線照射を１回行うことによって、塗膜２０の硬化物を形成した。
【００９１】
光源の紫外線照射強度は、波長３６５ｎｍにおいてＭ：３３ｍＷ／ｃｍ２であった。フォトマスク２３において、第一のマスク部分２４の紫外線透過率はＴ１：１０％であり、第二のマスク部分２５の紫外線透過率はＴ２：９０％であった。以上の結果、第一の塗膜部２１に対する紫外線照射強度Ｍ×Ｔ１：３．３ｍＷ／ｃｍ２は、第二の塗膜部２２に対する紫外線照射強度Ｍ×Ｔ２：２９．７ｍＷ／ｃｍ２よりも小さくなった。また、第二の塗膜部２２に対する紫外線照射量を２００ｍＪ／ｃｍ２となるように紫外線照射を行ったため、第一の塗膜部２１に対する紫外線照射量は２２．２ｍＪ／ｃｍ２となった。
【００９２】
表示領域ＡＲのエッジカラーフィルタ層１７Ｂの表面は、額縁領域ＦＲのブラックマトリクス１０の表面よりも高い位置にあり、両者間に段差Ｄ１：１．６μｍが生じていた。これにより、オーバーコート層１２の厚みは、表示領域ＡＲの端部から幅Ｄ２：０．１ｍｍの領域において、表示領域ＡＲの中央部に対して最大でＤ３：０．１μｍ小さくなっていた。以上の結果、塗膜２０の硬化物の厚みは、表示領域ＡＲの端部から幅Ｄ２：０．１μｍの領域において、表示領域ＡＲの中央部に対して最大でＤ３：０．１μｍ大きくなっていた。つまり、塗膜２０の硬化物において、表示領域ＡＲの端部に位置する第一の塗膜部２１の硬化物の厚みは、表示領域ＡＲの中央部に位置する第二の塗膜部２２の硬化物の厚み１．０５μｍよりもＤ３：０．１μｍだけ大きくなっており、１．１５μｍであった。
【００９３】
＜第二のλ／４位相差層の形成：加熱工程＞
塗膜２０の硬化物に対して、本焼成を２３０℃で３０分間行うことによって、第二のλ／４位相差層５を形成した。第二のλ／４位相差層５の面内遅相軸の方位は、４５°であった。
【００９４】
第二のλ／４位相差層５の厚みは、表示領域ＡＲの端部から幅Ｄ２：０．１μｍの領域において、表示領域ＡＲの中央部に対して最大でＤ３：０．１μｍ大きくなっていた。つまり、第二のλ／４位相差層５において、表示領域ＡＲの端部に位置する第一の位相差部１８の厚みは、表示領域ＡＲの中央部に位置する第二の位相差部１９の厚み１．０５μｍよりもＤ３：０．１μｍだけ大きくなっており、１．１５μｍであった。
【００９５】
＜フォトスペーサーの形成＞
フォトレジストを、第二のλ／４位相差層５の第一の基板４とは反対側の表面上に塗布した。その後、塗布されたフォトレジストに対して、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングを行い、焼成を２３０℃で３０分間行うことによって、フォトスペーサーを形成した。
【００９６】
＜液晶層用の配向膜の形成＞
光異性化型の光配向材料を、第二のλ／４位相差層５（フォトスペーサー付き）の第一の基板４とは反対側の表面上に塗布し、光配向材料の膜を形成した。そして、この光配向材料の膜に対して、仮焼成を９０℃で８０秒間行い、偏光紫外線（波長３６５ｎｍにおける照射量：５Ｊ／ｃｍ２）を照射した後、本焼成を２２０℃で３５分間行った。その結果、液晶層６用の配向膜が形成された。
【００９７】
＜液晶表示パネルの完成＞
最後に、第二のλ／４位相差層５等が積層された第一の基板４と第二の基板７とを、液晶層６を挟持するように貼り合わせた後、第一の偏光板２、第一のλ／４位相差層３、及び、第二の偏光板８を配置することによって、実施例１の液晶表示パネルが完成した。
【００９８】
実施例１の液晶表示パネルにおいて、第二のλ／４位相差層５以外の構成部材は、以下の通りであった。
【００９９】
＜第一の偏光板＞
第一の偏光板２として、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素錯体（又は染料）を染色及び吸着させてから延伸配向させたもの（吸収型偏光板）を用いた。第一の偏光板２の透過軸の方位は、０°であった。
【０１００】
＜第一のλ／４位相差層＞
第一のλ／４位相差層３として、下記の方法で形成されたものを用いた。まず、光異性化型の光配向材料を、ポリエチレンテレフタレートフィルムの表面上にスリットコート法で塗布し、光配向材料の膜を形成した。その後、この光配向材料の膜に対して仮焼成を８０℃で１分間行うことによって、第一のλ／４位相差層３用の配向膜を形成した。次に、光重合性液晶材料（液晶分子の骨格の末端にアクリレート基を有する液晶材料、屈折率異方性Δｎ：０．１４）を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（有機溶媒）に溶かし、塗液を調製した。そして、この塗液を、第一のλ／４位相差層３用の配向膜の表面上にスリットコート法で塗布し、塗膜を形成した。その後、この塗膜に対して、仮焼成を９０℃で８０秒間行い、紫外線（波長３６５ｎｍにおける照射量：５００ｍＪ／ｃｍ２）を照射することによって、第一のλ／４位相差層３を形成した。以上の結果、第一のλ／４位相差層３、第一のλ／４位相差層３用の配向膜、及び、ポリエチレンテレフタレートフィルムが順に積層した積層体が形成された。そして、この積層体を、第一の基板４の液晶層６とは反対側（観察面側）の表面に、第一のλ／４位相差層３側から接着剤を介して貼り付けた後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離した。第一のλ／４位相差層３の仕様は、下記の通りであった。
厚み：１．０μｍ
面内位相差：１４０ｎｍ
面内遅相軸の方位：−４５°
【０１０１】
＜第一の基板＞
第一の基板４としてカラーフィルタ基板を用い、その構成部材を以下の通りとした。
【０１０２】
（第一の支持基材）
第一の支持基材９としてガラス基板を用い、その厚みは０．７ｍｍであった。
【０１０３】
（ブラックマトリクス）
ブラックマトリクス１０として黒色のレジスト（遮光率：９９．９％）で構成されたものを用い、その厚みは１．０μｍ、額縁領域ＦＲにおける幅は７００μｍであった。
【０１０４】
（カラーフィルタ層）
カラーフィルタ層１１Ｒ（エッジカラーフィルタ層１７Ｒ）として顔料分散型のカラーレジスト（赤色）で構成されたものを用い、その厚みは２．４μｍ、縦幅は７５μｍ、横幅は２５μｍであった。カラーフィルタ層１１Ｇとして顔料分散型のカラーレジスト（緑色）で構成されたものを用い、その厚みは２．５μｍ、縦幅は７５μｍ、横幅は２５μｍであった。カラーフィルタ層１１Ｂ（エッジカラーフィルタ層１７Ｂ）として顔料分散型のカラーレジスト（青色）で構成されたものを用い、その厚みは２．６μｍ、縦幅は７５μｍ、横幅は２５μｍであった。
【０１０５】
（オーバーコート層）
オーバーコート層１２として透明樹脂で構成されたものを用い、表示領域ＡＲの中央部における厚みは１．３μｍであった。
【０１０６】
＜液晶層＞
液晶層６の材料として、ネガ型液晶材料（誘電率異方性Δε：−３．６）を用いた。液晶層６中の液晶分子の配向方向（電圧無印加時）は、９０°であった。
【０１０７】
＜第二の基板＞
第二の基板７としてＦＦＳモードの薄膜トランジスタアレイ基板を用い、その構成部材を以下の通りとした。なお、第二の基板７の液晶層６側（観察面側）の表面上には、上述した液晶層６用の配向膜と同様な配向膜を配置した。
【０１０８】
（第二の支持基材）
第二の支持基材１６としてガラス基板を用い、その厚みは０．７ｍｍであった。
【０１０９】
（共通電極）
共通電極１５としてインジウム亜鉛酸化物で構成されたものを用いた。
【０１１０】
（絶縁膜）
絶縁膜１４として窒化シリコンで構成されたものを用い、その厚みは３００ｎｍであった。
【０１１１】
（画素電極）
画素電極１３としてインジウム亜鉛酸化物で構成されたものを用いた。
【０１１２】
＜第二の偏光板＞
第二の偏光板８として、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素錯体（又は染料）を染色及び吸着させてから延伸配向させたもの（吸収型偏光板）を用いた。第二の偏光板８の透過軸の方位は、９０°であった。
【０１１３】
（実施例２）
実施例２の液晶表示パネルとして、実施形態の液晶表示パネルを製造方法例２によって製造した。実施例２の液晶表示パネルは、第二のλ／４位相差層５を形成する際の露光工程以外、実施例１の液晶表示パネルと同様にして製造された。
【０１１４】
＜第二のλ／４位相差層の形成：露光工程＞
塗膜２０に対してフォトマスク２３を介して紫外線照射を１回行うことによって、塗膜２０の硬化物を形成した。
【０１１５】
光源の紫外線照射強度は、波長３６５ｎｍにおいてＭ：３３ｍＷ／ｃｍ２であった。フォトマスク２３において、第三のマスク部分２６の紫外線透過率はＴ１：１０％であり、第一のマスク部分２４の紫外線透過率は第三のマスク部分２６側から第二のマスク部分２５側に向かってＴ１：１０％からＴ２：９０％へ線形に上昇し、第二のマスク部分２５の紫外線透過率はＴ２：９０％であった。以上の結果、第一の塗膜部２１に対する紫外線照射強度Ｍ×Ｔ１：３．３ｍＷ／ｃｍ２は、第二の塗膜部２２に対する紫外線照射強度Ｍ×Ｔ２：２９．７ｍＷ／ｃｍ２よりも小さくなった。また、第二の塗膜部２２に対する紫外線照射量を２００ｍＪ／ｃｍ２となるように紫外線照射を行ったため、第一の塗膜部２１に対する紫外線照射量は２２．２ｍＪ／ｃｍ２となった。
【０１１６】
（実施例３）
実施例３の液晶表示パネルとして、実施形態の液晶表示パネルを製造方法例３によって製造した。実施例３の液晶表示パネルは、第二のλ／４位相差層５を形成する際の露光工程以外、実施例１の液晶表示パネルと同様にして製造された。
【０１１７】
＜第二のλ／４位相差層の形成：露光工程＞
塗膜２０に対して、以下のように紫外線照射を２回行うことによって、塗膜２０の硬化物を形成した。
【０１１８】
まず、塗膜２０に対する１回目の紫外線照射を、フォトマスク２３を介して行った。光源の紫外線照射強度は、波長３６５ｎｍにおいてＭ１：３０ｍＷ／ｃｍ２であった。フォトマスク２３において、第一のマスク部分２４の紫外線透過率は０％であり、第二のマスク部分２５の紫外線透過率はＴ２：９０％であった。以上の結果、１回目の紫外線照射において、第一の塗膜部２１に対する紫外線照射強度は０ｍＷ／ｃｍ２となり、第二の塗膜部２２に対する紫外線照射強度はＭ１×Ｔ２：２７ｍＷ／ｃｍ２となった。また、第二の塗膜部２２に対する紫外線照射量は、２００ｍＪ／ｃｍ２であった。
【０１１９】
次に、塗膜２０に対する２回目の紫外線照射を、フォトマスクを介さずに行った、光源の紫外線照射強度は、波長３６５ｎｍにおいてＭ２：３ｍＷ／ｃｍ２であった。その結果、２回目の紫外線照射において、第一の塗膜部２１に対する紫外線照射強度、及び、第二の塗膜部２２に対する紫外線照射強度は、ともにＭ２：３ｍＷ／ｃｍ２となった。また、第一の塗膜部２１に対する紫外線照射量、及び、第二の塗膜部２２に対する紫外線照射量は、ともに２００ｍＪ／ｃｍ２であった。
【０１２０】
以上のように紫外線照射を２回行った結果、第一の塗膜部２１に対する紫外線照射強度Ｍ２：３ｍＷ／ｃｍ２は、第二の塗膜部２２に対する紫外線照射強度Ｍ１×Ｔ２＋Ｍ２：３０ｍＷ／ｃｍ２よりも小さくなった。
【０１２１】
（比較例１）
比較例１の液晶表示パネルについて、図７を参照して以下に説明する。図７は、比較例１の液晶表示パネルを示す断面模式図である。
【０１２２】
液晶表示パネル１０１は、観察面側から背面側に向かって順に、第一の偏光板１０２と、第一のλ／４位相差層（アウトセル位相差層）１０３と、第一の基板１０４と、第二のλ／４位相差層（インセル位相差層）１０５と、液晶層１０６と、第二の基板１０７と、第二の偏光板１０８と、を有している。
【０１２３】
第一の基板１０４は、第一の支持基材１０９と、第一の支持基材１０９の液晶層１０６側（背面側）の表面上に部分的に配置されるブラックマトリクス１１０と、カラーフィルタ層１１１Ｒ（赤色）、１１１Ｇ（緑色）、１１１Ｂ（青色）と、ブラックマトリクス１１０及びカラーフィルタ層１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂを直に覆うオーバーコート層１１２と、を有している。
【０１２４】
第二の基板１０７は、第二の支持基材１１６と、第二の支持基材１１６の液晶層１０６側（観察面側）の表面上に配置される共通電極１１５と、共通電極１１５を覆う絶縁膜１１４と、絶縁膜１１４の液晶層１０６側（観察面側）の表面上に配置される画素電極１１３と、を有している。
【０１２５】
第二のλ／４位相差層１０５と第一の基板１０４との関係について、以下に説明する。
【０１２６】
図８は、比較例１の液晶表示パネルの第二のλ／４位相差層及び第一の基板を液晶層側（背面側）から見た状態を示す平面模式図である。図８に示すように、画像、文字等を表示する表示領域ａｒにおいて、第一の基板１０４は、カラーフィルタ層１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂを有している。これらのカラーフィルタ層のうち、表示領域ａｒの左端部にはエッジカラーフィルタ層１１７Ｂ（青色：カラーフィルタ層１１１Ｂ）が位置しており、表示領域ａｒの右端部にはエッジカラーフィルタ層１１７Ｒ（赤色：カラーフィルタ層１１１Ｒ）が位置している。ブラックマトリクス１１０は、表示領域ａｒ内ではカラーフィルタ層１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂを区画するように格子状に配置され、表示領域ａｒを囲む額縁領域（非表示領域）ｆｒ内では全面に配置されている。
【０１２７】
図９は、図８中の線分ａ−ａ’に対応する部分を示す断面模式図である。図９に示すように、第一の基板１０４において、オーバーコート層１１２は、表示領域ａｒではブラックマトリクス１１０及びカラーフィルタ層１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂ（１１７Ｂ）を直に覆っており、額縁領域ｆｒではブラックマトリクス１１０を直に覆っている。
【０１２８】
第二のλ／４位相差層１０５は、単層状態（継ぎ目が無い状態）であり、かつ、表示領域ａｒの端部に位置する第一の位相差部１１８と、表示領域ａｒの中央部に位置する第二の位相差部１１９と、を含んでいる。第二のλ／４位相差層１０５は、表示領域ａｒ及び額縁領域ｆｒにおいて、オーバーコート層１１２を直に覆っている。すなわち、第二のλ／４位相差層１０５は、オーバーコート層１１２を介して、表示領域ａｒではカラーフィルタ層１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂ（１１７Ｂ）を覆っており、額縁領域ｆｒではブラックマトリクス１１０を覆っている。
【０１２９】
比較例１の液晶表示パネルの製造方法について、図７〜９に加えて図１０も参照して以下に説明する。図１０は、比較例１の液晶表示パネルの製造方法を説明するための断面模式図である。
【０１３０】
＜第二のλ／４位相差層用の配向膜の形成＞
まず、光異性化型の光配向材料を第一の基板１０４の表面上に塗布し、光配向材料の膜を形成した。そして、この光配向材料の膜に対して、仮焼成を６０℃で８０秒間行い、偏光紫外線（波長３６５ｎｍにおける照射量：１００ｍＪ／ｃｍ２）を照射した後、本焼成を２３０℃で３０分間行った。その結果、第二のλ／４位相差層１０５用の配向膜が形成された。
【０１３１】
＜第二のλ／４位相差層の形成：塗布工程＞
光重合性液晶材料（液晶分子の骨格の末端にアクリレート基を有する液晶材料、屈折率異方性Δｎ：０．１６５７）を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（有機溶媒）に溶かし、塗液を調製した。そして、この塗液を、第一の基板１０４のカラーフィルタ層１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂ（厳密には、第二のλ／４位相差層１０５用の配向膜）を覆うようにスリットコート法で塗布することによって、単層状態の塗膜１２０を形成した。その後、塗膜１２０に対して、仮焼成を９０℃で８０秒間行った。塗膜１２０は、表示領域ａｒの端部に位置する第一の塗膜部１２１と、表示領域ａｒの中央部に位置し、厚みが第一の塗膜部１２１よりも小さい第二の塗膜部１２２と、を含んでいた。
【０１３２】
＜第二のλ／４位相差層の形成：露光工程＞
図１０に示すように、塗膜１２０に対してフォトマスクを介さずに紫外線照射を１回行うことによって、塗膜１２０の硬化物を形成した。
【０１３３】
光源の紫外線照射強度は、波長３６５ｎｍにおいてｍ：３０ｍＷ／ｃｍ２であった。その結果、第一の塗膜部１２１に対する紫外線照射強度、及び、第二の塗膜部１２２に対する紫外線照射強度は、ともにｍ：３０ｍＷ／ｃｍ２となった。また、第一の塗膜部１２１に対する紫外線照射量、及び、第二の塗膜部１２２に対する紫外線照射量は、ともに２００ｍＪ／ｃｍ２であった。
【０１３４】
表示領域ａｒのエッジカラーフィルタ層１１７Ｂの表面は、額縁領域ｆｒのブラックマトリクス１１０の表面よりも高い位置にあり、両者間に段差ｄ１：１．６μｍが生じていた。これにより、オーバーコート層１１２の厚みは、表示領域ａｒの端部から幅ｄ２：０．１ｍｍの領域において、表示領域ａｒの中央部に対して最大でｄ３：０．１μｍ小さくなっていた。以上の結果、塗膜１２０の硬化物の厚みは、表示領域ａｒの端部から幅ｄ２：０．１μｍの領域において、表示領域ａｒの中央部に対して最大でｄ３：０．１μｍ大きくなっていた。つまり、塗膜１２０の硬化物において、表示領域ａｒの端部に位置する第一の塗膜部１２１の硬化物の厚みは、表示領域ａｒの中央部に位置する第二の塗膜部１２２の硬化物の厚み１．０５μｍよりもｄ３：０．１μｍだけ大きくなっており、１．１５μｍであった。
【０１３５】
＜第二のλ／４位相差層の形成：加熱工程＞
塗膜１２０の硬化物に対して、本焼成を２３０℃で３０分間行うことによって、図９に示すような第二のλ／４位相差層１０５を形成した。第二のλ／４位相差層１０５の面内遅相軸の方位は、４５°であった。
【０１３６】
第二のλ／４位相差層１０５の厚みは、表示領域ａｒの端部から幅ｄ２：０．１μｍの領域において、表示領域ａｒの中央部に対して最大でｄ３：０．１μｍ大きくなっていた。つまり、第二のλ／４位相差層１０５において、表示領域ａｒの端部に位置する第一の位相差部１１８の厚みは、表示領域ａｒの中央部に位置する第二の位相差部１１９の厚み１．０５μｍよりもｄ３：０．１μｍだけ大きくなっており、１．１５μｍであった。
【０１３７】
＜フォトスペーサーの形成＞
フォトレジストを、第二のλ／４位相差層１０５の第一の基板１０４とは反対側の表面上に塗布した。その後、塗布されたフォトレジストに対して、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングを行い、焼成を２３０℃で３０分間行うことによって、フォトスペーサーを形成した。
【０１３８】
＜液晶層用の配向膜の形成＞
光異性化型の光配向材料を、第二のλ／４位相差層１０５（フォトスペーサー付き）の第一の基板１０４とは反対側の表面上に塗布し、光配向材料の膜を形成した。そして、この光配向材料の膜に対して、仮焼成を９０℃で８０秒間行い、偏光紫外線（波長３６５ｎｍにおける照射量：５Ｊ／ｃｍ２）を照射した後、本焼成を２２０℃で３５分間行った。その結果、液晶層１０６用の配向膜が形成された。
【０１３９】
＜液晶表示パネルの完成＞
最後に、第二のλ／４位相差層１０５等が積層された第一の基板１０４と第二の基板１０７とを、液晶層１０６を挟持するように貼り合わせた後、第一の偏光板１０２、第一のλ／４位相差層１０３、及び、第二の偏光板１０８を配置することによって、図７に示すような比較例１の液晶表示パネルが完成した。
【０１４０】
比較例１の液晶表示パネルにおいて、第二のλ／４位相差層１０５以外の構成部材は、以下の通りであった。
【０１４１】
＜第一の偏光板＞
第一の偏光板１０２として、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素錯体（又は染料）を染色及び吸着させてから延伸配向させたもの（吸収型偏光板）を用いた。第一の偏光板１０２の透過軸の方位は、０°であった。
【０１４２】
＜第一のλ／４位相差層＞
第一のλ／４位相差層１０３として、下記の方法で形成されたものを用いた。まず、光異性化型の光配向材料を、ポリエチレンテレフタレートフィルムの表面上にスリットコート法で塗布し、光配向材料の膜を形成した。その後、この光配向材料の膜に対して仮焼成を８０℃で１分間行うことによって、第一のλ／４位相差層１０３用の配向膜を形成した。次に、光重合性液晶材料（液晶分子の骨格の末端にアクリレート基を有する液晶材料、屈折率異方性Δｎ：０．１４）を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（有機溶媒）に溶かし、塗液を調製した。そして、この塗液を、第一のλ／４位相差層１０３用の配向膜の表面上にスリットコート法で塗布し、塗膜を形成した。その後、この塗膜に対して、仮焼成を９０℃で８０秒間行い、紫外線（波長３６５ｎｍにおける照射量：５００ｍＪ／ｃｍ２）を照射することによって、第一のλ／４位相差層１０３を形成した。以上の結果、第一のλ／４位相差層１０３、第一のλ／４位相差層１０３用の配向膜、及び、ポリエチレンテレフタレートフィルムが順に積層した積層体が形成された。そして、この積層体を、第一の基板１０４の液晶層１０６とは反対側（観察面側）の表面に、第一のλ／４位相差層１０３側から接着剤を介して貼り付けた後、ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離した。第一のλ／４位相差層１０３の仕様は、下記の通りであった。
厚み：１．０μｍ
面内位相差：１４０ｎｍ
面内遅相軸の方位：−４５°
【０１４３】
＜第一の基板＞
第一の基板１０４としてカラーフィルタ基板を用い、その構成部材を以下の通りとした。
【０１４４】
（第一の支持基材）
第一の支持基材１０９としてガラス基板を用い、その厚みは０．７ｍｍであった。
【０１４５】
（ブラックマトリクス）
ブラックマトリクス１１０として黒色のレジスト（遮光率：９９．９％）で構成されたものを用い、その厚みは１．０μｍ、額縁領域ｆｒにおける幅は７００μｍであった。
【０１４６】
（カラーフィルタ層）
カラーフィルタ層１１１Ｒ（エッジカラーフィルタ層１１７Ｒ）として顔料分散型のカラーレジスト（赤色）で構成されたものを用い、その厚みは２．４μｍ、縦幅は７５μｍ、横幅は２５μｍであった。カラーフィルタ層１１１Ｇとして顔料分散型のカラーレジスト（緑色）で構成されたものを用い、その厚みは２．５μｍ、縦幅は７５μｍ、横幅は２５μｍであった。カラーフィルタ層１１１Ｂ（エッジカラーフィルタ層１１７Ｂ）として顔料分散型のカラーレジスト（青色）で構成されたものを用い、その厚みは２．６μｍ、縦幅は７５μｍ、横幅は２５μｍであった。
【０１４７】
（オーバーコート層）
オーバーコート層１１２として透明樹脂で構成されたものを用い、表示領域ａｒの中央部における厚みは１．３μｍであった。
【０１４８】
＜液晶層＞
液晶層１０６の材料として、ネガ型液晶材料（誘電率異方性Δε：−３．６）を用いた。液晶層１０６中の液晶分子の配向方向（電圧無印加時）は、９０°であった。
【０１４９】
＜第二の基板＞
第二の基板１０７としてＦＦＳモードの薄膜トランジスタアレイ基板を用い、その構成部材を以下の通りとした。なお、第二の基板１０７の液晶層１０６側（観察面側）の表面上には、上述した液晶層１０６用の配向膜と同様な配向膜を配置した。
【０１５０】
（第二の支持基材）
第二の支持基材１１６としてガラス基板を用い、その厚みは０．７ｍｍであった。
【０１５１】
（共通電極）
共通電極１１５としてインジウム亜鉛酸化物で構成されたものを用いた。
【０１５２】
（絶縁膜）
絶縁膜１１４として窒化シリコンで構成されたものを用い、その厚みは３００ｎｍであった。
【０１５３】
（画素電極）
画素電極１１３としてインジウム亜鉛酸化物で構成されたものを用いた。
【０１５４】
＜第二の偏光板＞
第二の偏光板１０８として、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素錯体（又は染料）を染色及び吸着させてから延伸配向させたもの（吸収型偏光板）を用いた。第二の偏光板１０８の透過軸の方位は、９０°であった。
【０１５５】
［評価１］
実施例１及び比較例１の液晶表示パネルを製造する過程（第二のλ／４位相差層を形成する際の露光工程以降）で、第二のλ／４位相差層（塗膜の硬化物）における、第一の位相差部（第一の塗膜部の硬化物）の面内位相差と、第二の位相差部（第二の塗膜部の硬化物）の面内位相差と、がどのように変化するのかを評価した。結果を表１、２に示す。
【０１５６】
【表１】
2019101086.tif 000003
【０１５７】
【表２】
2019101086.tif 000004
【０１５８】
表１に示すように、実施例１では、第一の位相差部（第一の塗膜部の硬化物）の面内位相差と第二の位相差部（第二の塗膜部の硬化物）の面内位相差との差は、第二のλ／４位相差層を形成する際の露光工程直後において１０ｎｍよりも大きかったが、加熱工程を少なくとも１つ経た後では１０ｎｍ以下となり、最終的に液晶表示パネルが完成した状態では０ｎｍとなった。これは、第二のλ／４位相差層を形成する際の露光工程において、第一の塗膜部に対する紫外線照射強度が第二の塗膜部に対する紫外線照射強度よりも小さくなるように紫外線照射を行うことによって、第一の位相差部（第一の塗膜部の硬化物）の耐熱性が、第二の位相差部（第二の塗膜部の硬化物）の耐熱性よりも低くなる状態を実現したためである。すなわち、上述した加熱工程を経ることによって、第一の位相差部（第一の塗膜部の硬化物）の面内位相差が、第二の位相差部（第二の塗膜部の硬化物）の面内位相差よりも低下しやすくなる状態を実現したためである。以上の結果、実施例１の液晶表示パネルでは、黒表示状態にしたときの表示領域の端部を暗室（照度０．１ｌｘ以下の環境）で目視観察しても、光漏れが視認されなかった。
【０１５９】
一方、表２に示すように、比較例１では、第一の位相差部（第一の塗膜部の硬化物）の面内位相差と第二の位相差部（第二の塗膜部の硬化物）の面内位相差との差は、第二のλ／４位相差層を形成する際の露光工程直後において１０ｎｍよりも大きく、加熱工程を経た後でも１０ｎｍよりも大きいままであった。これは、第二のλ／４位相差層を形成する際の露光工程において、第一の塗膜部に対する紫外線照射強度と、第二の塗膜部に対する紫外線照射強度と、が同じになるように紫外線照射を行うことによって、第一の位相差部（第一の塗膜部の硬化物）の耐熱性と、第二の位相差部（第二の塗膜部の硬化物）の耐熱性と、が同じ状態になってしまったためである。以上の結果、比較例１の液晶表示パネルでは、黒表示状態にしたときの表示領域の端部を暗室（照度０．１ｌｘ以下の環境）で目視観察すると、光漏れが視認された。
【０１６０】
また、実施例２、３の液晶表示パネルについても同様に評価した結果、黒表示状態にしたときの表示領域の端部を暗室（照度０．１ｌｘ以下の環境）で目視観察しても、光漏れが視認されなかった。特に、実施例２の液晶表示パネルでは、偏光顕微鏡で観察しても光漏れが視認されず、表示品位がより優れていた。
【０１６１】
［評価２］
実施例１〜３で用いられた第二のλ／４位相差層形成用の塗膜に対して、フォトマスクを介さずに紫外線照射を行った。そして、この紫外線照射時の紫外線照射強度及び紫外線照射量を変化させたときに、得られる第二のλ／４位相差層（塗膜の硬化物）の面内位相差（表示領域の中央部）が評価１と同様な過程でどのように変化するのかを評価した。結果を表３、４に示す。なお、表３、４中の「規格化面内位相差」は、各工程後の面内位相差を、第二のλ／４位相差層を形成する際の露光工程後の面内位相差を基準（１００％）として規格化したものである。
【０１６２】
【表３】
2019101086.tif 000005
【０１６３】
【表４】
2019101086.tif 000006
【０１６４】
表３、４を比較すると、第二のλ／４位相差層を形成する際の露光工程において紫外線照射強度を大きくすると、その後の工程を経ることによる面内位相差の低下が抑制されることが分かった。また、面内位相差の低下具合は、紫外線照射強度には依存する一方、紫外線照射量にはほとんど依存しないことも分かった。よって、実施例１〜３のように、第二のλ／４位相差層を形成する際の露光工程において、第一の塗膜部に対する紫外線照射強度が第二の塗膜部に対する紫外線照射強度よりも小さくなるように紫外線照射を行うことによって、第一の位相差部（第一の塗膜部の硬化物）の耐熱性が、第二の位相差部（第二の塗膜部の硬化物）の耐熱性よりも低くなる状態が実現されることが分かった。
【０１６５】
［付記］
本発明の一態様は、観察面側から背面側に向かって順に、第一の偏光板と、第一のλ／４位相差層と、第一の基板と、第二のλ／４位相差層と、液晶層と、第二の基板と、第二の偏光板と、を備える横電界モードの液晶表示パネルであって、表示領域において、上記第一の基板は、カラーフィルタ層を有し、上記第二のλ／４位相差層は、上記カラーフィルタ層を覆う単層状態であり、かつ、上記表示領域の端部に位置する第一の位相差部と、上記表示領域の中央部に位置する第二の位相差部と、を含み、上記第一の位相差部の厚みは、上記第二の位相差部の厚みよりも大きく、上記第一の位相差部の面内位相差と上記第二の位相差部の面内位相差との差は、１０ｎｍ以下である液晶表示パネルであってもよい。本態様によれば、上記表示領域の端部での光漏れが抑制された横電界モードの液晶表示パネルが実現される。
【０１６６】
本発明の一態様において、上記第一の位相差部の面内位相差と上記第二の位相差部の面内位相差との差は、６ｎｍ以下であってもよい。これにより、上記表示領域の端部での光漏れが充分に抑制される。
【０１６７】
本発明の一態様において、上記第一の位相差部の厚みと上記第二の位相差部の厚みとの差は、０．０８μｍ以上であってもよい。これにより、上記第一の位相差部の厚みが上記第二の位相差部の厚みよりも非常に大きくても、上記表示領域の端部での光漏れが抑制される。
【０１６８】
本発明の一態様において、上記第一の基板は、上記カラーフィルタ層を直に覆うオーバーコート層を更に有していてもよい。これにより、上記オーバーコート層を、上記カラーフィルタ層の平坦化層として利用することができる。
【０１６９】
本発明の別の一態様は、観察面側から背面側に向かって順に、第一の偏光板と、第一のλ／４位相差層と、第一の基板と、第二のλ／４位相差層と、液晶層と、第二の基板と、第二の偏光板と、を備える横電界モードの液晶表示パネルの製造方法であって、表示領域において、上記第一の基板は、カラーフィルタ層を有し、光重合性材料を含有する塗液を、上記第一の基板の上記カラーフィルタ層を覆うように塗布することによって、上記表示領域の端部に位置する第一の塗膜部と、上記表示領域の中央部に位置し、厚みが上記第一の塗膜部よりも小さい第二の塗膜部と、を含む単層状態の塗膜を形成する塗布工程と、上記塗膜に対して光照射を少なくとも１回行うことによって、上記塗膜の硬化物を形成する露光工程と、上記塗膜の硬化物を加熱することによって、上記第二のλ／４位相差層を形成する加熱工程と、を含み、上記露光工程では、上記第一の塗膜部に対する光照射強度が、上記第二の塗膜部に対する光照射強度よりも小さくなるように、上記塗膜に対して光照射を行う液晶表示パネルの製造方法であってもよい。本態様によれば、上記表示領域の端部での光漏れが抑制された横電界モードの液晶表示パネルを製造することができる。
【０１７０】
本発明の別の一態様において、上記露光工程では、上記塗膜に対してフォトマスクを介して光照射を１回行い、上記フォトマスクは、上記第一の塗膜部の位置に対応する第一のマスク部分の光透過率が、上記第二の塗膜部の位置に対応する第二のマスク部分の光透過率よりも小さくてもよい。これにより、上記表示領域の端部での光漏れが抑制された横電界モードの液晶表示パネルを効率的に製造することができる。
【０１７１】
本発明の別の一態様において、上記露光工程では、上記塗膜に対して光照射を２回行い、１回目の光照射は、上記第一の塗膜部の位置に対応する第一のマスク部分の光透過率が０％、上記第二の塗膜部の位置に対応する第二のマスク部分の光透過率が９０％以上であるフォトマスクを介して行われ、２回目の光照射は、フォトマスクを介さずに行われ、上記１回目の光照射における光源の光照射強度と、上記２回目の光照射における光源の光照射強度と、は互いに異なっていてもよい。これにより、上記表示領域の端部での光漏れが抑制された横電界モードの液晶表示パネルを効率的に製造することができる。また、上記表示領域の端部における光照射量を上記表示領域の中央部と同様に大きくすることができるため、得られる上記第二のλ／４位相差層において、未硬化状態の上記光重合性材料が減少し、上記液晶表示パネルの信頼性が向上する。
【符号の説明】
【０１７２】
１、１０１：液晶表示パネル
２、１０２：第一の偏光板
３、１０３：第一のλ／４位相差層（アウトセル位相差層）
４、１０４：第一の基板
５、１０５：第二のλ／４位相差層（インセル位相差層）
６、１０６：液晶層
７、１０７：第二の基板
８、１０８：第二の偏光板
９、１０９：第一の支持基材
１０、１１０：ブラックマトリクス
１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂ、１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂ：カラーフィルタ層
１２、１１２：オーバーコート層
１３、１１３：画素電極
１４、１１４：絶縁膜
１５、１１５：共通電極
１６、１１６：第二の支持基材
１７Ｒ、１７Ｂ、１１７Ｒ、１１７Ｂ：エッジカラーフィルタ層
１８、１１８：第一の位相差部
１９、１１９：第二の位相差部
２０、１２０：塗膜
２１、１２１：第一の塗膜部（又はその硬化物）
２２、１２２：第二の塗膜部（又はその硬化物）
２３：フォトマスク
２４：第一のマスク部分
２５：第二のマスク部分
２６：第三のマスク部分
ＡＲ、ａｒ：表示領域
ＦＲ、ｆｒ：額縁領域（非表示領域）
Ｄ１、ｄ１：エッジカラーフィルタ層の表面とブラックマトリクスの表面との間の段差
Ｄ２、ｄ２：オーバーコート層及び第二のλ／４位相差層の厚みが変化する領域の幅
Ｄ３、ｄ３：オーバーコート層及び第二のλ／４位相差層の厚みの変化分
Ｍ、Ｍ１、Ｍ２：光源の光照射強度（紫外線照射強度）
Ｔ１、Ｔ２：フォトマスク（マスク部分）の光透過率（紫外線透過率）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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