(57)【要約】  【課題】  強アンカリング能を有するパターン体形成性が優れ、且つ強アンカリング能を有するパターン体非形成部の弱アンカリング性が優れる硬化膜を提供すること。  【解決手段】  多官能カルボキシル化合物（Ａ）、多官能エポキシ化合物（Ｂ）、及び界面活性剤（Ｃ）を含む硬化性組成物。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
多官能カルボキシル化合物（Ａ）、多官能エポキシ化合物（Ｂ）及び界面活性剤（Ｃ）を含む硬化性組成物であって；
前記多官能カルボキシル化合物（Ａ）が、１分子当り３個以上のカルボキシル基を有する化合物であり；
前記多官能エポキシ化合物（Ｂ）が、１分子当り３個以上のエポキシ基を有する化合物であり；
前記界面活性剤（Ｃ）の含有量が、前記多官能カルボキシル化合物（Ａ）及び多官能エポキシ化合物（Ｂ）の総量１００重量部に対して３〜１００重量部である硬化性組成物。
【請求項２】
前記界面活性剤（Ｃ）の含有量が、前記多官能カルボキシル化合物（Ａ）及び多官能エポキシ化合物（Ｂ）の総量１００重量部に対して５〜５０重量部である、請求項１に記載の硬化性組成物。
【請求項３】
前記界面活性剤（Ｃ）が重合性界面活性剤である、請求項１又は２に記載の硬化性組成物。
【請求項４】
前記重合性界面活性剤が反応性含フッ素オリゴマーである、請求項３に記載の硬化性組成物。
【請求項５】
前記多官能カルボキシル化合物（Ａ）が、ポリエステルアミド酸（Ａ１）及びカルボキシル基含有重合体（Ａ２）から選択される１つ以上である、請求項１に記載の硬化性組成物。
【請求項６】
前記多官能エポキシ化合物（Ｂ）が、グリシジルエーテル型エポキシ化合物（Ｂ１）及びエポキシ基含有重合体（Ｂ２）から選択される１つ以上である、請求項１に記載の硬化性組成物。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の硬化性組成物からなる硬化膜。
【請求項８】
請求項７に記載の硬化膜を備えた液晶表示素子であって；
前記硬化膜が液晶層と接しており；
前記硬化膜近傍でも電界の影響で液晶分子の向きが変化可能な液晶表示素子。
【請求項９】
請求項７に記載の硬化膜及び液晶分子の配向方向を規制するパターン体を備えた配向基板。
【請求項１０】
請求項９に記載の配向基板を備えた液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示素子における弱アンカリング能を有する領域及び強アンカリング能を有する領域の両方の領域を有する両アンカリング層を形成可能な硬化膜を与える硬化性組成物、それによる硬化膜、両アンカリング層、及びその両アンカリング層を備えた液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子は、薄型、軽量、低消費電力などの特性を有していることから、携帯電話、コンピュータ及びテレビの表示素子等の幅広い領域に用途が拡大している。液晶表示素子の表示原理として、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）等様々な表示モードが提案されているが、そのほとんどは、配向基板によって液晶分子の配向方向を予め規制する必要がある。
【０００３】
液晶分子の配向方向を強制する方法として、基板上にポリイミド又はポリイミド前駆体を含む溶液を用いて形成される配向膜を形成した後に、レーヨンや綿などの布を巻いたローラーを、回転数並びにローラー及び基板の距離を一定に保った状態で回転させ、配向膜の表面を一方向に擦る手法（ラビング法）や、直線偏光紫外線を照射してポリイミドの分子配向に異方性を発生させる手法（光配向法）等が採用されている。これらの配向処理により、液晶分子は配向膜付き基板表面に強く束縛され、一定方向に配向するようになる。以下、この液晶分子が配向膜付き基板表面に束縛され、配向する方向を、「配向容易軸」と表記することとする。
【０００４】
近年、液晶表示素子の低駆動電圧性を高めるための改善策として、基板の一方に強アンカリング膜を有し、他方に弱アンカリング膜を有する液晶表示素子（例えば、特許文献１参照）が提案されている。尚、本明細書では、上述の配向膜のような液晶分子の配向方向を規制する膜を「強アンカリング膜」と表記し、規制する能力を「強アンカリング能」と表記する。同様に、基板表面の配向規制力（アンカリング）が弱く、膜近傍でも電界等によって液晶分子の向きを変化させることができる膜を「弱アンカリング膜」と表記し、膜近傍でも電界等によって液晶分子の向きを変化させることができる能力を「弱アンカリング能」と表記する。即ち、「強アンカリング膜」とは「強アンカリング能を有する膜」である。「弱アンカリング膜」とは「弱アンカリング能を有する膜」である。又、強アンカリング能を有する膜を形成可能な材料を「強アンカリング膜形成用材料」と表記し、弱アンカリング能を有する膜を形成可能な材料を「弱アンカリング膜形成用材料」表記する。強アンカリング能及び弱アンカリング能の評価方法の具体例は、後述の実施例に記載されている。
【０００５】
又、弱アンカリング能を有する領域及び強アンカリング能を有する領域の両方の領域を有する層のことを「両アンカリング層」と表記する。尚、通常、液晶表示素子用「配向膜」とは上述の強アンカリング膜を表すが、本明細書では両アンカリング層も「配向膜」の一つの形態であるとする。
【０００６】
特許文献１の実施例では、一方に基板表面にポリマーブラシを形成した弱アンカリング膜、及び他方にラビング処理を施したポリイミド膜である強アンカリング膜を備えた液晶表示素子が記載されている。弱アンカリング膜は、液晶分子の配向規制力が弱いため、一方に弱アンカリング膜、他方に強アンカリング膜を備えた液晶表示素子は、両方に強アンカリング膜を備えた液晶表示素子と比較して、低駆動電圧性が高いというメリットがあるが、同時に電圧ＯＦＦ時の表示応答性が低いというデメリットがある。
【０００７】
情報端末に用いられる液晶表示素子では、動画を再生する等の電圧ＯＦＦ時の表示応答性を重視する領域、及び時刻を表示する等の電圧ＯＦＦ時の表示応答性はさほど重要ではないが、使用時間が長く省電力性を重視する領域が存在する。
【０００８】
電圧ＯＦＦ時の表示応答性が高いことに対しては両方に強アンカリング膜を備えた液晶表示素子が有効であり、省電力性に優れることに対しては一方に強アンカリング膜、他方に弱アンカリング膜を備えた液晶表示素子が有効である。
【０００９】
通常、単一の液晶表示素子中において、電圧ＯＦＦ時の表示応答性及び省電力性をそれぞれ重視する２種類の領域が存在する場合には、電圧ＯＦＦ時の表示応答性を優先し、両方に強アンカリング膜を備えた液晶表示素子が用いられている。そのため、弱アンカリング膜を備えていることによる液晶表示素子の低駆動電圧性向上のメリットは知られていたが、電圧ＯＦＦ時の表示応答性低下が障壁となり、その特性を重視する領域の存在する液晶表示素子には弱アンカリング膜を使用できない状況であった。
【００１０】
単一の液晶表示素子中において、低駆動電圧性が高い領域及び電圧ＯＦＦ時の表示応答性が高い領域の両方の領域を備えた液晶表示素子の構成例は、対向する第１の配向基板及び第２の配向基板に挟まれた液晶層を有する構成であり、第１の配向基板が単一基板上に弱アンカリング能を有する領域及び強アンカリング能を有する領域の両方の領域を有する配向基板であり、第２の配向基板が強アンカリング膜を備えた配向基板である構成である。
【００１１】
この構成例に用いられる第１の配向基板の例は、弱アンカリング能を有する領域がメインである画素、及び強アンカリング能を有する領域がメインである画素の、両方の画素を備えた配向基板、並びに弱アンカリング能を有する領域がメインであり、且つ電極領域の近傍に強アンカリング能を有する領域が存在する画素を備えた配向基板である。
【００１２】
単一基板上に弱アンカリング能を有する領域及び強アンカリング能を有する領域の両方の領域を有する配向基板の作製方法として特許文献２で提唱されている作製方法は、強アンカリング膜上に、フォトリソグラフィ法を用いて、弱アンカリング能を有するパターン体であるポリマーブラシのパターン体を形成する方法；強アンカリング膜上にインクジェット法を用いて弱アンカリング能を有するパターン体であるポリマーブラシのパターン体を形成する方法；フォトリソグラフィ法を用いて弱アンカリング能を有するパターン体であるポリマーブラシのパターン体を形成し、その上にはじくように強アンカリング能を有するパターン体であるポリイミドのパターン体を形成する方法である。
【００１３】
これらの方法では、フォトリソグラフィ法、又はインクジェット法を使用している。フォトリソグラフィ法を用いる作製方法では、現像後のリンスが不十分な場合において、現像液由来の成分残存による表示不良のリスクがある。一方インクジェット法を用いた作製方法では、静電気の影響によってインク着滴位置が変化し、パターン形状変化のリスクがある。
【００１４】
上記のリスクを低減させるための具体的な作製方法は、基板上に弱アンカリング能を有する膜を形成する弱アンカリング膜形成工程、弱アンカリング膜上の一部に紫外線を照射する第１の紫外線照射工程、強アンカリング能を有する膜を形成可能な材料を塗布する強アンカリング膜形成用材料塗布工程、及び直線偏光紫外線を照射する第２の紫外線照射工程の４つの工程を含む作製方法である。この作製方法では、弱アンカリング膜上に第１の紫外線照射を行うことで、弱アンカリング膜付き基板の強アンカリング膜形成用材料に対するリコート性の制御が可能である。そのために、現像工程を行わずとも、パターン形状変化のリスクが低い作製が可能となる。
【００１５】
上述の作製方法で用いられる弱アンカリング膜形成用材料に必要なことは、形成された膜が弱アンカリング能を有していること；形成された膜の強アンカリング膜形成用材料に対するリコート性が不良であること；形成された膜の強アンカリング膜形成用材料に対するリコート性が紫外線照射により向上すること；並びに、前記第１の紫外線照射工程、前記強アンカリング膜形成用材料塗布工程、及び
前記第２の紫外線照射工程の３つの工程後においても、強アンカリング能を有するパターン体が形成されていない領域において弱アンカリング能を有していること、である。
【００１６】
本明細書中の「リコート性」とは、膜上への塗液の塗布に対する膜の特性であり、膜が塗液をはじくことで、塗膜が形成できない膜の状態を「リコート性が不良である」と表し、膜上の塗液の塗れ広がり性が高く、塗膜が形成できる膜の状態を「リコート性が良好である」と表す。
【００１７】
上述の、形成された膜の強アンカリング能を有する膜形成用材料に対するリコート性が不良であること、及び形成された膜の強アンカリング能を有する膜形成用材料に対するリコート性が紫外線照射により向上することに加えて、強アンカリング膜形成用材料によって形成されたパターン体の強アンカリング能を阻害しないことの諸特性を総合して、「強アンカリング能を有するパターン体形成性」と表記する。又、上述の、形成された膜が弱アンカリング能を有していること、並びに前記第１の紫外線照射工程、前記強アンカリング膜形成用材料塗布工程、及び前記第２の紫外線照射工程後においても、強アンカリング能を有するパターン体が形成されていない領域において弱アンカリング能を有していることの諸特性を総合して、「強アンカリング能を有するパターン体非形成部の弱アンカリング性」と表記する。
【００１８】
強アンカリング能を有するパターン体形成性が優れ、且つ強アンカリング能を有するパターン体非形成部の弱アンカリング性が優れる材料は、これまで示されてこなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１９】
【特許文献１】特開２０１７−０１００３０
【特許文献２】特開２０１７−２１１５６６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２０】
本発明の課題は、強アンカリング能を有するパターン体形成性が優れ、且つ強アンカリング能を有するパターン体非形成部の弱アンカリング性が優れる硬化膜を形成可能な硬化性組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
本発明者は、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、多官能カルボキシル化合物（Ａ）、多官能エポキシ化合物（Ｂ）及び界面活性剤（Ｃ）を含む硬化性組成物により、上記目的を達することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００２２】
本発明は以下の構成を含む。
［１］  多官能カルボキシル化合物（Ａ）、多官能エポキシ化合物（Ｂ）及び界面活性剤（Ｃ）を含む硬化性組成物であって；
前記多官能カルボキシル化合物（Ａ）が、１分子当り３個以上のカルボキシル基を有する化合物であり；
前記多官能エポキシ化合物（Ｂ）が、１分子当り３個以上のエポキシ基を有する化合物であり；
前記界面活性剤（Ｃ）の含有量が、前記多官能カルボキシル化合物（Ａ）及び多官能エポキシ化合物（Ｂ）の総量１００重量部に対して３〜１００重量部である硬化性組成物。
【００２３】
［２］  前記界面活性剤（Ｃ）の含有量が、前記多官能カルボキシル化合物（Ａ）及び多官能エポキシ化合物（Ｂ）の総量１００重量部に対して５〜５０重量部である、［１］項に記載の硬化性組成物。
【００２４】
［３］  前記界面活性剤（Ｃ）が重合性界面活性剤である、［１］項又は［２］項に記載の硬化性組成物。
【００２５】
［４］  前記重合性界面活性剤が反応性含フッ素オリゴマーである、［３］項に記載の硬化性組成物。
【００２６】
［５］  前記多官能カルボキシル化合物（Ａ）が、ポリエステルアミド酸（Ａ１）及びカルボキシル基含有重合体（Ａ２）から選択される１つ以上である、［１］項に記載の硬化性組成物。
【００２７】
［６］  前記多官能エポキシ化合物（Ｂ）が、グリシジルエーテル型エポキシ化合物（Ｂ１）及びエポキシ基含有重合体（Ｂ２）から選択される１つ以上である、［１］項に記載の硬化性組成物。
【００２８】
［７］  ［１］〜［６］のいずれか１項に記載の硬化性組成物からなる硬化膜。
【００２９】
［８］  ［７］項に記載の硬化膜を備えた液晶表示素子であって；
前記硬化膜が液晶層と接しており；
前記硬化膜近傍でも電界の影響で液晶分子の向きが変化可能な液晶表示素子。
【００３０】
［９］  ［７］項に記載の硬化膜及び液晶分子の配向方向を規制するパターン体を備えた配向基板。
【００３１】
［１０］  ［９］項に記載の配向基板を備えた液晶表示素子。
【発明の効果】
【００３２】
本発明の好ましい態様に係る硬化性組成物は、強アンカリング能を有するパターン体形成性が優れ、且つ強アンカリング能を有するパターン体非形成部の弱アンカリング性が優れる硬化膜を与える硬化性組成物である。該硬化膜を用いることで、現像液由来の成分残存による表示不良のリスクがなく、インクジェット法を用いた場合におけるパターン形状の変化のリスクを低減させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】両アンカリング層形成工程の概略を示す断面図である。
【図２】本発明の液晶表示素子１０の第１実施形態、並びに表示のためのバックライトユニット１１、偏光板１２Ａ、及び偏光板１２Ｂの概略構成を示す断面図である。尚、両アンカリング層１３が、弱アンカリング能を有する領域１３Ａである場合及び強アンカリング能を有する領域１３Ｂである場合の、いずれの場合も図２のように表される。
【図３】前記第１実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Ｌｐを用い、電界Ｅを印加した状態における、且つ両アンカリング層１３が弱アンカリング能を有する領域１３Ａである場合における、液晶分子の配向方向の分布を示す断面図である。
【図４】前記第１実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Ｌｐを用い、電界Ｅを印加した状態における、且つ両アンカリング層１３が強アンカリング能を有する領域１３Ｂである場合における、液晶分子の配向方向の分布を示す断面図である。
【図５】前記第１実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Ｌｐを用い、電界を印加しない状態における、電極線の配線方向及び弱アンカリング膜近傍の液晶分子の配向方向の関係を示す平面図である。尚、両アンカリング層１３が、弱アンカリング能を有する領域１３Ａである場合及び強アンカリング能を有する領域１３Ｂである場合の、いずれの場合も図５のように表される。
【図６】前記第１実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Ｌｐを用い、電界Ｅを印加した状態における、且つ両アンカリング層１３が弱アンカリング能を有する領域１３Ａである場合における、電極線の配線方向及び液晶分子の配向の関係を示す平面図である。
【図７】前記第１実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Ｌｐを用い、電界Ｅを印加した状態における、且つ両アンカリング層１３が強アンカリング能を有する領域１３Ｂである場合における、電極線の配線方向及び液晶分子の配向の関係を示す平面図である。
【図８】本発明の液晶表示素子１０の第２実施形態、並びに表示のためのバックライトユニット１１、偏光板１２Ａ、及び偏光板１２Ｂの概略構成を示す断面図である。
【図９】実施例のＩＰＳセル用Ｃｒ櫛歯電極の配置及び二区画パターンの両アンカリング層の配置の関係二区画パターン形状を示す平面図である。１つの配向基板上に画素１８が２つ形成されている。櫛歯電極は基板に平行な面内に、方向Ｘに沿って一定間隔で並んでいる。
【図１０】実施例の電圧無印加時の配向有無を判断する方法において、第１の条件における電極線１５Ａの配線方向及び偏光板１２Ａの偏光方向の関係を示す平面図である。
【図１１】実施例の電圧無印加時の配向有無を判断する方法において、第２の条件における電極線１５Ａの配線方向及び偏光板１２Ａの偏光方向の関係を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
本明細書中、「アクリル」及び「メタクリル」の一方又は両方を示すために、「（メタ）アクリル」のように表記することがある。同様に、「アクリレート」及び「メタクリレート」の一方又は両方を示すために、「（メタ）アクリレート」のように表記することがあり、「アクリロキシ」及び「メタクリロキシ」の一方又は両方を示すために、「（メタ）アクリロキシ」のように表記することがある。
【００３５】
＜１．本発明の硬化性組成物＞
本発明の硬化性組成物は、多官能カルボキシル化合物（Ａ）、多官能エポキシ化合物（Ｂ）及び界面活性剤（Ｃ）を含む硬化性組成物である。
【００３６】
本発明の硬化性組成物の界面活性剤（Ｃ）の含有量は、多官能カルボキシル化合物（Ａ）及び多官能エポキシ化合物（Ｂ）の総量１００重両部に対して、３〜１００重両部である。この範囲である場合、本発明の硬化性組成物からなる硬化膜は、紫外線未照射部のリコート性が不良であり、紫外線照射によりリコート性を向上させることが可能である。本発明の硬化性組成物の界面活性剤（Ｃ）の含有量が、多官能カルボキシル化合物（Ａ）及び多官能エポキシ化合物（Ｂ）の総量１００重両部に対して、５〜５０重両部の場合、少ない露光量で、紫外線照射によるリコート性の変化を大きくできるので更に好ましい。
【００３７】
本発明の硬化性組成物の多官能エポキシ化合物（Ｂ）の含有量は、多官能カルボキシル化合物（Ａ）及び多官能エポキシ化合物（Ｂ）の総量中、２０〜８０重両％であることが好ましい。この範囲である場合、本発明の硬化性組成物からなる硬化膜の、強アンカリング膜形成用材料に含まれる溶剤に対する耐性が良好となる。そのため、強アンカリング膜形成用材料を塗布する際に、硬化膜の紫外線を照射されていない領域への浸み込みを防ぐことができる。
【００３８】
＜１−１．多官能カルボキシル化合物（Ａ）＞
本発明に用いられる多官能カルボキシル化合物（Ａ）は、１分子当り３個以上のカルボキシル基を有する化合物である。
【００３９】
多官能カルボキシル化合物（Ａ）は、単独で用いてもよく、２つ以上を混合して用いてもよい。
【００４０】
多官能カルボキシル化合物（Ａ）の例は、ポリエステルアミド酸（Ａ１）及びカルボキシル基含有重合体（Ａ２）である。これらの多官能カルボキシル化合物（Ａ）は原料の入手及び化合物の製造が容易であり、且つ該多官能カルボキシル化合物（Ａ）を含有する硬化性組成物は、多官能エポキシ化合物（Ｂ）及び界面活性剤（Ｃ）に対する相溶性が良好である。更に、ポリエステルアミド酸（Ａ１）は紫外線吸収性が高いため、本発明の硬化膜形成後の紫外線照射工程における、下地への紫外線ダメージを低減させる効果があるため、ポリエステルアミド酸（Ａ１）が特に好ましい。
【００４１】
＜１−１−１．ポリエステルアミド酸（Ａ１）＞
本発明に用いられるポリエステルアミド酸（Ａ１）は、テトラカルボン酸二無水物（ａ１１）、ジアミン（ａ１２）、及び多価ヒドロキシ化合物（ａ１３）を必須原料として反応させることにより得られる反応生成物である。更に、これらに加えて、１価アルコール（ａ１４）及びスチレン−無水マレイン酸共重合体（ａ１５）から選択される１つ以上を原料に加えてもよい。
【００４２】
ポリエステルアミド酸（Ａ１）を本発明の硬化性組成物へ加える方法は、重合反応後の溶液をそのまま加えてもよく、同溶液を濃縮して固形分を取り出し、固形分のみを加えてもよい。
【００４３】
＜１−１−１−１．テトラカルボン酸二無水物（ａ１１）＞
本発明で用いられるテトラカルボン酸二無水物（ａ１１）の例は、芳香族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸二無水物、及び脂肪族テトラカルボン酸二無水物である。
【００４４】
芳香族テトラカルボン酸二無水物の具体例は、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２−［ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）］ヘキサフルオロプロパン二無水物、及びエチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）であり；脂環式テトラカルボン酸二無水物の具体例は、シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、メチルシクロブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、及びシクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物であり；脂肪族テトラカルボン酸二無水物の具体例は、エタンテトラカルボン酸二無水物、及びブタンテトラカルボン酸二無水物である。
【００４５】
これらの中でも、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、２，２−［ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）］ヘキサフルオロプロパン二無水物、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、及びブタンテトラカルボン酸二無水物が好ましく、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、及びブタンテトラカルボン酸二無水物が特に好ましい。これらから選択される１つ以上を原料として含むポリエステルアミド酸（Ａ１）を含有する硬化性組成物を用いて形成された硬化膜は、光透過性が高い。
【００４６】
テトラカルボン酸二無水物（ａ１１）は、上記の化合物を単独で用いてもよく、２つ以上を混合して用いてもよい。
【００４７】
＜１−１−１−２．ジアミン（ａ１２）＞
本発明で用いられるジアミン（ａ１２）の例は、ベンゼン環を２つ有するジアミン及びベンゼン環を４つ有するジアミンである。
【００４８】
ベンゼン環を２つ有するジアミンの具体例は、３，３’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、及び３，４’−ジアミノジフェニルスルホンであり；ベンゼン環を２つ有するジアミンの具体例は、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［３−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］［３−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］［３−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、及び２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパンである。
【００４９】
これらの中でも、３，３’−ジアミノジフェニルスルホンが好ましい。これを原料として含むポリエステルアミド酸（Ａ１）は、溶剤への溶解性が良好である。
【００５０】
ジアミン（ａ１２）は、上記の化合物を単独で用いてもよく、２つ以上を混合して用いてもよい。
【００５１】
＜１−１−１−３．多価ヒドロキシ化合物（ａ１３）＞
本発明で用いられる多価ヒドロキシ化合物（ａ１３）の具体例は、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、重量平均分子量１，０００以下のポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール、重量平均分子量１，０００以下のポリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，２−ペンタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，４−ペンタンジオール、１，２，５−ペンタントリオール、１，２−ヘキサンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，５−ヘキサンジオール、１，２，６−ヘキサントリオール、１，２−ヘプタンジオール、１，７−ヘプタンジオール、１，２，７−ヘプタントリオール、１，２−オクタンジオール、１，８−オクタンジオール、３，６−オクタンジオール、１，２，８−オクタントリオール、１，２−ノナンジオール、１，９−ノナンジオール、１，２，９−ノナントリオール、１，２−デカンジオール、１，１０−デカンジオール、１，２，１０−デカントリオール、１，２−ドデカンジオール、１，１２−ドデカンジオール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ、ビスフェノールＦ、ジエタノールアミン、及びトリエタノールアミンである。
【００５２】
これらの中でも、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，７−ヘプタンジオール、及び１，８−オクタンジオールが好ましく、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、及び１，６−ヘキサンジオールが特に好ましい。これらから選択される１つ以上を原料として含むポリエステルアミド酸（Ａ１）は、溶剤への溶解性が良好である。
【００５３】
多価ヒドロキシ化合物（ａ１３）は、上記の化合物を単独で用いてもよく、２つ以上を混合して用いてもよい。
【００５４】
＜１−１−１−４．１価アルコール（ａ１４）＞
ポリエステルアミド酸（Ａ１）の合成には、テトラカルボン酸二無水物（ａ１１）、ジアミン（ａ１２）、及び多価ヒドロキシ化合物（ａ１３）に加え、更に１価アルコール（ａ１４）を反応させてもよい。
【００５５】
１価アルコール（ａ１４）の具体例は、メタノール、エタノール、１−プロパノール、イソプロピルアルコール、アリルアルコール、ベンジルアルコール、ヒドロキシエチルメタクリレート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、フェノール、ボルネオール、マルトール、リナロール、テルピネオール、ジメチルベンジルカルビノール、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタンである。
【００５６】
これらの中でも、イソプロピルアルコール、アリルアルコール、ベンジルアルコール、ヒドロキシエチルメタクリレート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、及び３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタンが好ましく、ベンジルアルコールが特に好ましい。これらから選択される１つ以上を原料として含むポリエステルアミド酸（Ａ１）は、多官能エポキシ化合物（Ｂ）に対する相溶性が良好である。
【００５７】
１価アルコール（ａ１４）は、上記の化合物を単独で用いてもよく、２つ以上を混合して用いてもよい。
【００５８】
＜１−１−１−５．スチレン−無水マレイン酸共重合体（ａ１５）＞
ポリエステルアミド酸（Ａ１）の合成には、テトラカルボン酸二無水物（ａ１１）、ジアミン（ａ１２）、及び多価ヒドロキシ化合物（ａ１３）に加え、更に酸無水物基を３個以上有する化合物を反応させてもよい。
【００５９】
酸無水物基を３個以上有する化合物の具体例は、スチレン−無水マレイン酸共重合体（ａ１５）である。スチレン−無水マレイン酸共重合体（ａ１５）を加えることで、ポリエステルアミド酸（Ａ１）の多官能エポキシ化合物（Ｂ）に対する相溶性を向上させることができる。スチレン／無水マレイン酸のモル比が０．５〜４、好ましくは１〜３であり、具体的には、約１、約２又は約３がより好ましく、約１又は約２が更に好ましく、約１が特に好ましい。
【００６０】
スチレン−無水マレイン酸共重合体（ａ１５）の市販品の例は、ＳＭＡ１０００、ＳＭＡ２０００、及びＳＭＡ３０００（いずれも商品名、川原油化株式会社）である。これらの中でも溶剤への溶解性が良好なＳＭＡ１０００が特に好ましい。
【００６１】
スチレン−無水マレイン酸共重合体（ａ１５）は、上記の化合物を単独で用いてもよく、２つ以上を混合して用いてもよい。
【００６２】
＜１−１−１−６．ポリエステルアミド酸（Ａ１）の製造方法＞
本発明に用いられるポリエステルアミド酸（Ａ１）は、既知の製造方法で製造される（例えば、特開２０１５−１６３６８５に記載されている）。好ましい製造方法は重合反応に用いる溶剤（以下「重合溶剤」と表記する）を用いた溶液重合である。
【００６３】
＜１−１−２．カルボキシル基含有重合体（Ａ２）＞
本発明に用いられるカルボキシル基含有重合体（Ａ２）は、カルボキシル基を有するラジカル重合性化合物（ａ２１）、並びにカルボキシル基及びエポキシ基を有さない他のラジカル重合性化合物（ａ２２）の共重合体である。
【００６４】
＜１−１−２−１．カルボキシル基を有するラジカル重合性化合物（ａ２１）＞
上記カルボキシル基を有するラジカル重合性モノマー（ａ２１）は、１分子中に、少なくとも１個のカルボキシル基を有し、且つ少なくとも１個のラジカル重合性基を有する化合物である。
【００６５】
本発明で用いられるカルボキシル基を有するラジカル重合性モノマー（ａ２１）の具体例は、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、シトラコン酸、フマル酸、及びマレイン酸である。
【００６６】
これらの中でも、（メタ）アクリル酸、及びイタコン酸が好ましく、（メタ）アクリル酸が特に好ましい。これらから選択される１つ以上を含む混合物を重合して得られるカルボキシル基含有重合体（Ａ２）を含有する硬化性組成物は硬化性が良好である。
【００６７】
＜１−１−２−２．他のラジカル重合性化合物（ａ２２）＞
本発明で用いられる他のラジカル重合性モノマー（ａ２２）は、カルボキシル基及びエポキシ基を有さず、且つ１分子中に少なくとも１個のラジカル重合性基を有する化合物である。
【００６８】
このようなラジカル重合性モノマーの例は、脂肪族基を有する（メタ）アクリレート化合物、芳香族基を有する（メタ）アクリレート化合物、下記式（Ｂ−１１）で表される構造を有する（メタ）アクリレート化合物、他の（メタ）アクリレート化合物、Ｎ−置換マレイミド化合物、マクロモノマー、スチレン、メチルスチレン、ビニルトルエン、クロルメチルスチレン、インデン、（メタ）アクリルアミド、及びＮ−アクリロイルモルホリンである。
【化１】
2019119807.tif 000002
【００６９】
脂肪族基を有する（メタ）アクリレート化合物の具体例は、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレートであり；芳香族基を有する（メタ）アクリレート化合物の具体例は、フェニル（メタ）アクリレート、及びベンジル（メタ）アクリレートであり；式（Ｂ−１１）で表される構造を有する（メタ）アクリレート化合物の具体例は、３−［トリス（トリメチルシリルオキシ）シリル］プロピル（メタ）アクリレート、及びモノ（メタ）アクリロキシプロピル変性ポリジメチルシロキサンであり；他の（メタ）アクリレート化合物の具体例は、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、及びグリセロールモノ（メタ）アクリレートである。Ｎ−置換マレイミド化合物の具体例は、Ｎ−フェニルマレイミド及びＮ−シクロヘキシルマレイミドである。マクロモノマーの具体例は、ポリスチレンマクロモノマー及びポリメチルメタクリレートマクロモノマーである。
【００７０】
これらの中でも、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、及びジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、及びＮ−シクロヘキシルマレイミドが好ましく、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、及びＮ−シクロヘキシルマレイミドが更に好ましい。これらから選択される１つ以上を含む混合物を重合して得られるカルボキシル基含有重合体（Ａ２）を含む硬化性組成物は、耐薬品性が良好である。
【００７１】
本発明で用いられる他のラジカル重合性モノマー（ａ２２）は、上記の化合物を単独で用いてもよく、２つ以上を混合して用いてもよい。
【００７２】
＜１−１−２−３．カルボキシル基含有重合体（Ａ２）の製造方法＞
本発明に用いられるカルボキシル基含有重合体（Ａ２）は、既知の製造方法で製造される。好ましい製造方法は溶剤を用いた溶液中でのラジカル重合方法である。重合温度は使用する重合開始剤からラジカルが十分発生する温度であれば特に限定されないが、通常５０〜１５０℃の範囲である。重合時間も特に限定されないが、通常１〜２４時間の範囲である。又、当該重合は、加圧、減圧又は大気圧のいずれの圧力下でも行うことができる。製造方法は重合溶剤を用いた溶液重合である。
【００７３】
＜１−２．多官能エポキシ化合物（Ｂ）＞
本発明に用いられる多官能エポキシ化合物（Ｂ）は、１分子当り３個以上のエポキシ基を有する化合物である。
【００７４】
多官能エポキシ化合物（Ｂ）は、単独で用いてもよく、２つ以上を混合して用いてもよい。
【００７５】
多官能エポキシ化合物（Ｂ）の例は、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、グリシジルエーテル型エポキシ化合物（Ｂ１）、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ化合物、脂肪族ポリグリシジルエーテル、脂環式脂肪族エポキシ化合物、及びエポキシ基含有重合体（Ｂ２）である。
【００７６】
これらの中でも、グリシジルエーテル型エポキシ化合物（Ｂ１）、及びエポキシ基含有重合体（Ｂ２）が好ましい。これらの多官能エポキシ化合物（Ｂ）を含有する硬化性組成物は、多官能カルボキシル化合物（Ａ）及び界面活性剤（Ｃ）に対する組成物中の相溶性が良好である。更に、本発明の硬化膜形成後の強アンカリング膜形成時の加熱による、熱分解耐性の高いグリシジルエーテル型エポキシ化合物（Ｂ１）が特に好ましい。
【００７７】
＜１−２−１．グリシジルエーテル型エポキシ化合物（Ｂ１）＞
グリシジルエーテル型エポキシ化合物（Ｂ１）の好ましい具体例は、１，３−ビス［４−［１−［４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル］−１−［４−［１−［４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチル］フェノキシ］−２−プロパノール、及び２−［４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル］−２−［４−［１，１−ビス［４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル］エチル］フェニル］プロパンである。
【００７８】
これらのグリシジルエーテル型エポキシ化合物（Ｂ１）の市販品の例は、テクモアＶＧ３１０１Ｌ（商品名、株式会社プリンテック）、ＥＰＰＮ−５０１Ｈ、５０２Ｈ（いずれも商品名、日本化薬株式会社）及びｊＥＲ  １０３２Ｈ６０（商品名、三菱ケミカル株式会社）である。尚、テクモアＶＧ３１０１Ｌは、２−［４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル］−２−［４−［１，１−ビス［４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル］エチル］フェニル］プロパン及び１，３−ビス［４−［１−［４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル］−１−［４−［１−［４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチル］フェノキシ］−２−プロパノールの混合物である。
【００７９】
＜１−２−２．エポキシ基含有重合体（Ｂ２）＞
本発明に用いられるエポキシ基含有重合体（Ｂ２）は、エポキシ基を有するラジカル重合性化合物（ｂ２１）を原料に含む重合体である。
【００８０】
上記エポキシ基を有するラジカル重合性化合物（ｂ２１）を原料に含む重合体の中でも、エポキシ基を有するラジカル重合性化合物（ｂ２１）、並びにカルボキシル基及びエポキシ基を有さない他のラジカル重合性化合物（ｂ２２）の共重合体が、多官能カルボキシル化合物（Ａ）及び界面活性剤（Ｃ）に対する相溶性が高いため好ましい。
【００８１】
＜１−２−２−１．エポキシ基を有するラジカル重合性化合物（ｂ２１）＞
上記エポキシ基を有するラジカル重合性モノマー（ｂ２１）は、１分子中に、少なくとも１個のエポキシ基を有し、且つ少なくとも１個のラジカル重合性基を有する化合物である。
【００８２】
本発明で用いられるカルボキシル基を有するラジカル重合性モノマー（ａ２１）の具体例は、グリシジル（メタ）アクリレート、及びメチルグリシジル（メタ）アクリレートである。
【００８３】
これらの中でも、グリシジル（メタ）アクリレートが好ましく、グリシジルメタクリレートが特に好ましい。これらから選択される１つ以上を含む混合物を重合して得られるエポキシ基含有重合体（Ｂ２）を含有する硬化性組成物は硬化性が良好である。
【００８４】
＜１−２−２−２．他のラジカル重合性化合物（ｂ２２）＞
他のラジカル重合性化合物（ｂ２２）は、カルボキシル基及びエポキシ基を有さず、且つ１分子当たり１つ以上のラジカル重合性基を有する化合物である。
【００８５】
他のラジカル重合性化合物（ｂ２２）の具体例は、上述の他のラジカル重合性化合物（ａ２２）の具体例に記載の化合物である。
【００８６】
これらの中でも、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、及びジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、及びＮ−シクロヘキシルマレイミドが好ましく、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、及びＮ−シクロヘキシルマレイミドが更に好ましい。これらから選択される１つ以上を含む混合物を重合して得られるカルボキシル基含有重合体（Ｂ２）を含む硬化性組成物は、耐薬品性が良好である。
【００８７】
＜１−２−２−３．エポキシ基含有重合体（Ｂ２）の製造方法＞
本発明に用いられるエポキシ基含有重合体（Ｂ２）は、既知の製造方法で製造される。好ましい製造方法は溶剤を用いた溶液中でのラジカル重合方法である。重合温度は使用する重合開始剤からラジカルが十分発生する温度であれば特に限定されないが、通常５０〜１５０℃の範囲である。重合時間も特に限定されないが、通常１〜２４時間の範囲である。又、当該重合は、加圧、減圧又は大気圧のいずれの圧力下でも行うことができる。製造方法は重合溶剤を用いた溶液重合である。
【００８８】
＜１−３．界面活性剤（Ｃ）＞
本発明に用いられる界面活性剤（Ｃ）の例は、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及びフッ素系等の界面活性剤である。
【００８９】
本発明の硬化性組成物からなる硬化膜を備えた配向基板は、本発明の硬化膜形成後に強アンカリング膜形成用材料塗布工程を経て作製される。そのために本発明の硬化性組成物に用いられる界面活性剤（Ｃ）は、強アンカリング膜形成用材料に含まれる溶剤に対する耐性が良好な硬化膜を与える、重合性界面活性剤が好ましい。重合性界面活性剤は、加熱及び紫外線照射等によって重合するために、このような特性が得られる。
【００９０】
重合性界面活性剤の例は、反応性含フッ素オリゴマー、含フッ素プレポリマー、シリコンポリエーテルアクリレートである。
【００９１】
反応性含フッ素オリゴマーを含む溶液の市販品の例は、メガファックＲＳ−７２−Ｋ（商品名、ＤＩＣ株式会社）であり、含フッ素プレポリマーを含む溶液の市販品の例は、フタージェント６０１ＡＤ（商品名、株式会社ネオス）であり、シリコンポリエーテルアクリレートの市販品の例は、ＴＥＧＯ  Ｒａｄ２２００Ｎ（商品名、エボニック・ジャパン株式会社）である。
【００９２】
これらの重合性界面活性剤の内、硬化性組成物塗布時の段差起因のスジムラを抑制可能な硬化性組成物を与える反応性含フッ素オリゴマー、及び硬化膜のスリップ性に優れ傷が付きにくい硬化性組成物を与えるシリコンポリエーテルアクリレートが、液晶表示素子量産時に表示不良領域を低減できるため特に好ましい。
【００９３】
＜１−４．添加剤（Ｄ）＞
本発明の硬化性組成物には、密着性、耐熱性、硬化性、紫外線劣化耐性、硬化性、耐傷性、及び低温硬化性を向上させるために各種の添加剤（Ｄ）を添加することができる。添加剤（Ｄ）の例は、シランカップリング剤等のカップリング剤、ヒンダードフェノール系、ヒンダードアミン系、リン系、イオウ系化合物等の酸化防止剤、エポキシ硬化剤、紫外線吸収剤、熱架橋剤、多官能エポキシ化合物（Ｂ）以外のエポキシ化合物、多官能（メタ）アクリレート化合物、及び光重合開始剤である。
【００９４】
＜１−４−１．カップリング剤＞
本発明の硬化性組成物は、形成される硬化膜及び基板の密着性を更に向上させる観点から、カップリング剤を更に含有してもよい。
【００９５】
このようなカップリング剤の具体例は、３−グリシジルオキシプロピルジメチルエトキシシラン、３−グリシジルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン（例えば、商品名；サイラエースＳ５１０、ＪＮＣ株式会社）、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン（例えば、商品名；サイラエースＳ５３０、ＪＮＣ株式会社）、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン（例えば、商品名；サイラエースＳ８１０、ＪＮＣ株式会社）、及び３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシランの重合体（例えば、商品名；ＣＯＡＴＯＳＩＬ  ＭＰ２００、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ合同会社）等のシラン系カップリング剤；アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート等のアルミニウム系カップリング剤；並びにテトライソプロピルビス（ジオクチルホスファイト）チタネート等のチタネート系カップリング剤である。
【００９６】
これらの中でも、３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシランの重合体が、密着性を向上させる効果が大きいため好ましい。
【００９７】
カップリング剤の含有量は、多官能カルボキシル化合物（Ａ）、多官能エポキシ化合物（Ｂ）及び界面活性剤（Ｃ）の総量１００重量部に対して、０．０１重量部以上、且つ１０重量部以下であることが、他の特性を保ちながら形成される硬化膜及び基板の密着性が向上するので好ましい。
【００９８】
＜１−４−２．酸化防止剤＞
本発明の硬化性組成物は、耐熱性の向上の観点から、酸化防止剤を更に含有してよい。
【００９９】
本発明の硬化性組成物には、ヒンダードフェノール系、ヒンダードアミン系、リン系、イオウ系化合物などの酸化防止剤を添加してもよい。これらの中でもヒンダードフェノール系が耐候性の観点から好ましい。酸化防止剤の具体例は、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０ＦＦ、Ｉｒｇａｎｏｘ１０３５、Ｉｒｇａｎｏｘ１０３５ＦＦ、Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６、Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６ＦＤ、Ｉｒｇａｎｏｘ１０９８、Ｉｒｇａｎｏｘ１１３５、Ｉｒｇａｎｏｘ１３３０、Ｉｒｇａｎｏｘ１７２６、Ｉｒｇａｎｏｘ１４２５  ＷＬ、Ｉｒｇａｎｏｘ１５２０Ｌ、Ｉｒｇａｎｏｘ２４５、Ｉｒｇａｎｏｘ２４５ＦＦ、Ｉｒｇａｎｏｘ２５９、Ｉｒｇａｎｏｘ３１１４、Ｉｒｇａｎｏｘ５６５、（いずれも商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社）、ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＡＯ−２０、ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＡＯ−３０、ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＡＯ−５０、ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＡＯ−６０、ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＡＯ−８０（いずれも商品名、株式会社ＡＤＥＫＡ）である。これらの中でもＩｒｇａｎｏｘ１０１０、ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＡＯ−６０がより好ましい。
【０１００】
酸化防止剤は、多官能カルボキシル化合物（Ａ）、多官能エポキシ化合物（Ｂ）及び界面活性剤（Ｃ）の総量１００重量部に対して、０．１〜１０重量部添加して用いられる。
【０１０１】
＜１−４−３．エポキシ硬化剤＞
本発明の硬化性組成物は、硬化性を更に向上させる観点から、エポキシ硬化剤を更に含有してもよい。
【０１０２】
エポキシ硬化剤の例は、酸無水物系硬化剤、アミン系硬化剤、フェノール系硬化剤、イミダゾール系硬化剤、触媒型硬化剤、及びスルホニウム塩、ベンゾチアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩等の感熱性酸発生剤であり、多官能カルボキシル化合物（Ａ）、多官能エポキシ化合物（Ｂ）及び界面活性剤（Ｃ）に対する相溶性の高い、酸無水物系硬化剤又はイミダゾール系硬化剤が好ましい。
【０１０３】
酸無水物系硬化剤の具体例は、無水マレイン酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルヘキサヒドロフタル酸、及びヘキサヒドロトリメリット酸無水物等の脂肪族ジカルボン酸無水物；並びに無水フタル酸及びトリメリット酸無水物等の芳香族多価カルボン酸無水物である。これらの中でも、他の特性を保ちながら硬化性を向上させることができる、トリメリット酸無水物及びヘキサヒドロトリメリット酸無水物が特に好ましい。
【０１０４】
イミダゾール系硬化剤の具体例は、２−ウンデシルイミダゾール、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、２，３−ジヒドロ−１Ｈ−ピロロ［１，２−ａ］ベンズイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイトである。これらの中でも、多官能カルボキシル化合物（Ａ）に対する相溶性が良好な２−ウンデシルイミダゾールが特に好ましい。
【０１０５】
多官能エポキシ化合物（Ｂ）に対するエポキシ硬化剤の好ましい割合は、多官能エポキシ化合物（Ｂ）１００重量部に対し、エポキシ硬化剤０．１〜６０重量部である。
【０１０６】
＜１−４−４．紫外線吸収剤＞
本発明の硬化性組成物は、形成した硬化膜の紫外線劣化耐性を更に向上させる観点から、紫外線吸収剤を更に含有してもよい。
【０１０７】
紫外線吸収剤の具体例は、ＴＩＮＵＶＩＮ  Ｐ、ＴＩＮＵＶＩＮ  １２０、ＴＩＮＵＶＩＮ  １４４、ＴＩＮＵＶＩＮ  ２１３、ＴＩＮＵＶＩＮ  ２３４、ＴＩＮＵＶＩＮ  ３２６、ＴＩＮＵＶＩＮ  ５７１、ＴＩＮＵＶＩＮ  ７６５（いずれも商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社）である。
【０１０８】
紫外線吸収剤は多官能カルボキシル化合物（Ａ）、多官能エポキシ化合物（Ｂ）及び界面活性剤（Ｃ）の総量１００重量部に対して、０．０１〜１０重量部添加して用いられる。
【０１０９】
＜１−４−５．熱架橋剤＞
本発明の硬化性組成物は、硬化性及び耐熱性を更に向上させる観点から、熱架橋剤を更に含有してもよい。
【０１１０】
熱架橋剤の市販品の具体例は、ニカラックＭＷ−３０ＨＭ、ニカラックＭＷ−１００ＬＭ、ニカラックＭＸ−２７０、ニカラックＭＸ−２８０、ニカラックＭＸ−２９０、ニカラックＭＷ−３９０、ニカラックＭＷ−７５０ＬＭ、（いずれも商品名、株式会社三和ケミカル）である。
【０１１１】
熱架橋剤は多官能カルボキシル化合物（Ａ）、多官能エポキシ化合物（Ｂ）及び界面活性剤（Ｃ）の総量１００重量部に対して、０．１〜１０重量部添加して用いられる。
【０１１２】
＜１−４−６．多官能エポキシ化合物（Ｂ）以外のエポキシ化合物＞
本発明の硬化性組成物は、硬化性を向上させる観点から、多官能エポキシ化合物（Ｂ）以外のエポキシ化合物を更に含有してもよい。
【０１１３】
多官能エポキシ化合物（Ｂ）以外のエポキシ化合物は、多官能カルボキシル化合物（Ａ）及び多官能エポキシ化合物（Ｂ）の総量１００重量部に対し、５０重量部以下添加することが好ましい。
【０１１４】
多官能エポキシ化合物（Ｂ）以外のエポキシ化合物の例は、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物及びビスフェノールＦ型エポキシ化合物である。
【０１１５】
ビスフェノールＡ型エポキシ化合物の市販品の具体例は、ｊＥＲ  ８２８、１００４、１００９（いずれも商品名、三菱ケミカル株式会社）であり；ビスフェノールＦ型エポキシ化合物の市販品の具体例は、ｊＥＲ  ８０６、４００５Ｐ（いずれも商品名、三菱ケミカル株式会社）である。
【０１１６】
＜１−４−７．多官能（メタ）アクリレート化合物＞
本発明の硬化性組成物は、耐傷性を向上させる観点から、多官能アクリレート化合物を更に含有してもよい。
【０１１７】
多官能（メタ）アクリレート化合物は、多官能カルボキシル化合物（Ａ）及び多官能エポキシ化合物（Ｂ）の総量１００重量部に対し、２０〜２００重量部以下添加することが好ましい。
【０１１８】
多官能（メタ）アクリレート化合物の具体例は、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンＰＯ変性トリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート、グリセロールＰＯ変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、及びε−カプロラクトン変性トリス−（２−（メタ）アクリロキシエチル）イソシアヌレート等の３官能の（メタ）アクリレート化合物；
ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールアルコキシテトラ（メタ）アクリレート、及びジグリセリンＥＯ変性テトラアクリレート等の４官能の（メタ）アクリレート化合物；
ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等の５官能の（メタ）アクリレート化合物；
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の６官能の（メタ）アクリレート化合物；
並びにカルボキシル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物である。これらの内１種以上を用いることができる。
【０１１９】
これらの具体例の中でも、耐傷性向上効果の高い、４官能の（メタ）アクリレート化合物、５官能の（メタ）アクリレート化合物、６官能の（メタ）アクリレート化合物、及びカルボキシル基を有する多官能（メタ）アクリレート化合物が好ましく、５官能の（メタ）アクリレート化合物、６官能の（メタ）アクリレート化合物が更に好ましい。
＜１−４−８．光重合開始剤＞
本発明の硬化性組成物は、低温硬化性を向上させる観点から、光重合開始剤を更に含有してもよい。光重合開始剤を添加する場合には、多官能（メタ）アクリレート化合物と併用し、紫外線照射工程を行うことで焼成温度を低減可能である。
【０１２０】
光重合開始剤の具体例は、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−エチルアントラキノン、アセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−４’−イソプロピルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、カンファーキノン、ベンズアントロン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン（例えば、商品名；ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ９０７、ＢＡＳＦジャパン株式会社）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１（例えば、商品名；ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ３６９、ＢＡＳＦジャパン株式会社）、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４，４’−トリ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）（例えば、商品名；ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ０１、ＢＡＳＦジャパン株式会社）、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）（例えば、商品名；ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ０２、ＢＡＳＦジャパン株式会社）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ０３（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社）、１，２−プロパンジオン，１−［４−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニルチオ］フェニル］−２−（Ｏ−アセチルオキシム）（例えば、商品名；アデカアークルズ  ＮＣＩ−９３０、株式会社ＡＤＥＫＡ）、アデカアークルズ  ＮＣＩ−８３１（商品名、株式会社ＡＤＥＫＡ）、アデカオプトマー  Ｎ−１９１９（商品名、株式会社ＡＤＥＫＡ）、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、２−（４’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４’−ペンチルオキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−［ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）］−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（４’−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズチアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、３，３’−カルボニル��ス（７−ジエチルアミノクマリン）、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、３−（２−メチル−２−ジメチルアミノプロピオニル）カルバゾール、３，６−ビス（２−メチル−２−モルホリノプロピオニル）−９−ｎ−ドデシルカルバゾール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、及びビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウムである。これらの内１種以上を用いることができる。
【０１２１】
これらの光重合開始剤の具体例の中でも、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）及び１，２−プロパンジオン，１−［４−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニルチオ］フェニル］−２−（Ｏ−アセチルオキシム）から選択される１種以上を用いると、硬化性組成物の低温硬化性の向上効果が、より少ない露光量で発現される。この効果を発現させるのに適した光重合開始剤の添加量は、多官能カルボキシル化合物（Ａ）、多官能エポキシ化合物（Ｂ）及び界面活性剤（Ｃ）の総量１００重量部に対して、１〜２０重量部である。
【０１２２】
＜１−５．硬化性組成物に任意に添加される溶剤＞
本発明の硬化性組成物には、前記重合溶剤以外に、溶剤が添加されてもよい。本発明の硬化性組成物に任意に添加される溶剤（以下「希釈用溶剤（Ｅ）」と記載、今後重合溶剤及び希釈用溶剤（Ｅ）を総称して「組成物用溶剤」と表記する）は、多官能カルボキシル化合物（Ａ）、多官能エポキシ化合物（Ｂ）及び界面活性剤（Ｃ）を溶解できる溶剤が好ましい。硬化性組成物が上述の添加剤（Ｄ）を含有する場合には、希釈用溶剤（Ｅ）は更に添加剤（Ｄ）を溶解できる溶剤が好ましい。
【０１２３】
当該希釈用溶剤（Ｅ）は沸点が１００〜２００℃である化合物の少なくとも１つ、又はこの化合物を２０重量％以上含有する混合溶剤であることが好ましい。沸点が１００〜２００℃である化合物の具体例は、１−ブタノール、１−ペンタノール、１−ヘキサノール、１−ヘプタノール、１−オクタノール、酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下「ＰＧＭＥＡ」と略記）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、トルエン、キシレン、γ−ブチロラクトン、及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドである。
【０１２４】
これらの中でも、硬化性組成物塗布時の塗れ広がり性が良好であり、汎用性の高いＰＧＭＥＡが好ましい。
【０１２５】
＜１−６．硬化性組成物の保存＞
本発明の硬化性組成物は、−３０℃〜２５℃の範囲で遮光して保存すると、組成物の経時安定性が良好となり好ましい。−１０℃〜２０℃で保存することがより好ましい。
【０１２６】
＜２．硬化性組成物から得られる硬化膜＞
本発明の硬化性組成物は、多官能カルボキシル化合物（Ａ）、多官能エポキシ化合物（Ｂ）、及び界面活性剤（Ｃ）を混合し、目的とする特性によっては、更に添加剤（Ｄ）及び希釈用溶剤（Ｅ）を必要により選択して添加し、それらを均一に混合溶解することにより得ることができる。
【０１２７】
上記のようにして得られた硬化性組成物を、基板表面に塗布することで、硬化性組成物が組成物用溶剤を含む場合には更に加熱工程及び減圧工程等の工程により組成物用溶剤を除去することで、塗膜を形成することができる。基板表面への硬化性組成物の塗布の方法の具体例は、スピンコート法、ロールコート法、ディッピング法、及びスリットコート法である。次いでこの塗膜はホットプレート及びオーブン等でプリベークされる。プリベーク条件は各成分の種類及び配合割合によって異なるが、通常７０〜１５０℃で、ホットプレートなら１〜５分間、オーブンなら５〜１５分間である。
【０１２８】
最後に塗膜を完全に硬化させるために１００〜２５０℃、好ましくは１２０〜２３０℃で、ホットプレートなら５〜６０分間、オーブンなら２０〜９０分間、加熱処理することによって硬化膜を得ることができる。
【０１２９】
このようにして得られた硬化膜は、界面活性剤（Ｃ）の表面自由エネルギー低下能により、弱アンカリング性が優れ、且つ硬化膜上に対する強アンカリング膜形成用材料のリコート性が不良である。更に、紫外線を照射することで、硬化膜上に対する強アンカリング膜形成用材料のリコート性を向上させることが可能である。以下、紫外線を照射された該硬化膜の領域を「露光部」と表記し、照射されていない該硬化膜の領域を「未露光部」と表記する。
【０１３０】
又、このようにして得られた硬化膜は、多官能カルボキシル化合物（Ａ）及び多官能エポキシ化合物（Ｂ）の硬化による分子間架橋により耐薬品性が高い。従って、硬化膜上に強アンカリング膜形成用材料を塗布する際に、強アンカリング膜形成用材料に含まれる溶剤（例えばＮ−メチルピロリドン）が硬化膜に触れることによる弱アンカリング性低下を抑えることが可能である。更に、カルボキシル基及びエポキシ基が反応で生じるアルコール性水酸基により、硬化膜上に対する強アンカリング膜形成用材料のリコート性を向上させる。従って、露光部のリコート性は良好になる。
【０１３１】
以上のように、上記硬化膜の未露光部は弱アンカリング性が高く、リコート性が不良である。露光部はリコート性が良好である。未露光部と露光部のいずれも耐溶剤性が高い。従って、上記硬化膜の未露光部上及び露光部上に対するリコート性の差が大きくすることが可能であり、該硬化膜は強アンカリング能を有するパターン体形成性が優れると共に、強アンカリング能を有するパターン体非形成部は、強アンカリング膜形成用材料の溶剤に耐えるため弱アンカリング性が優れる。
【０１３２】
＜３．両アンカリング層付き基板＞
前記硬化膜を形成した基板（以下「硬化膜付き基板」と表記）に以下の工程（Ｐ１）〜（Ｐ３）を含む強アンカリング能を有するパターン体形成工程を行うことで、単一の基板上に弱アンカリング能を有する領域及び強アンカリング能を有する領域の両方の領域を有する基板（以下「両アンカリング層付き基板」と表記）を得られる。
（Ｐ１）前記硬化膜（１０１）の一部に紫外線（２０１）を照射する第１の紫外線照射工程、
（Ｐ２）硬化膜（１０１）上に強アンカリング膜形成用材料を塗布する工程、
（Ｐ３）直線偏光紫外線（２０２）を照射する第２の紫外線照射工程。
【０１３３】
前記工程（Ｐ１）〜（Ｐ３）の順番は、途中に他の工程を含んでもよいが、（Ｐ１）、（Ｐ２）、（Ｐ３）の順に行われる。
【０１３４】
工程（Ｐ１）〜（Ｐ３）の概略図を図１に示す。
【０１３５】
工程（Ｐ１）は弱アンカリング膜上の一部に紫外線を照射する第１の紫外線照射工程であり、紫外線（２０１）の露光部（１０１Ａ）及び未露光部（１０１Ｂ）を形成する。弱アンカリング膜上の一部に紫外線を照射する方法の例は、フォトマスクを使用する方法である。
【０１３６】
工程（Ｐ２）は、強アンカリング膜形成用材料を膜（１０１）上に塗布する工程である。強アンカリング膜は、液晶配向膜の既知の形成方法で形成可能である。即ち、液晶配向剤は上述の強アンカリング膜形成用材料である。
【０１３７】
液晶配向膜の形成方法の例は、上述のラビング法及び光配向法である。これらの２つの方法の内、配向処理工程（Ｐ４）時に本発明の配向基板の弱アンカリング能を有する領域の弱アンカリング能の低下を抑えることのできる光配向法が好ましい。第２の紫外線照射工程（Ｐ３）は光配向法の配向処理工程である。
【０１３８】
光配向法の例は、光異性化型の材料を使用する方法（例えば、特開２００５−２７５３６４）、光二量化型の材料を使用する方法（例えば、特開平１０−２５１６４６）、及び光分解型の材料を使用する方法（例えば、特開平９−２９７３１３）である。弱アンカリング能を有する領域の弱アンカリング能を保つためには、これらの光配向法の内、露光波長３００ｎｍ以上で感度の高い光異性型の材料を使用する方法及び光二量化型の材料を使用する方法が好ましく、露光波長３５０ｎｍ以上で感度の高い光異性化型の材料を使用する方法が特に好ましい。尚、後述の実施例では光異性化型の材料を使用する方法を用いている。
【０１３９】
工程（Ｐ２）における塗布方法は、既知の塗布方法が使用できる。既知の塗布方法の例は、スピンコート法、スリットコート法、グラビアオフセット印刷法、フレキソ印刷法、及びインクジェット法である。
【０１４０】
上述の工程（Ｐ１）によって未露光部（１０１Ｂ）及び露光部（１０１Ａ）上のリコート性の差が生じているため、露光部（１０１Ａ）上に塗膜が形成されやすい状態となっているが、未露光部（１０１Ｂ）上に塗布された液を遠心力で排除可能なスピンコート法、及び露光部（１０１Ａ）上に選択的に塗布可能なグラビアオフセット印刷法、フレキソ印刷法、及びインクジェット法が好ましい。
【０１４１】
工程（Ｐ３）における直線偏光紫外線（２０２）は波長２５０ｎｍ以上、４５０ｎｍ以下の光が好ましく、波長３００ｎｍ以上、４００ｎｍ以下の光が更に好ましい。その理由は、照射される直線偏光紫外線（２０２）によって未露光部（１０１Ｂ）の弱アンカリング能の低下を抑えるため、及び可視光下での露光を防止するためである。
【０１４２】
上記の工程（Ｐ１）〜（Ｐ３）の他に、工程（Ｐ２）及び（Ｐ３）の間、又は工程（Ｐ３）の後に、強アンカリング膜形成用材料を塗布することで形成される塗膜（１０２）を加熱焼成する工程（Ｐ４）を含むことが望ましい。工程（Ｐ４）を実施することで、強アンカリング能を有するパターン体（１０３）の耐傷性が向上する。通常、光配向法が光二量化型の材料を使用する方法又は光分解型の材料を使用する方法である場合は、工程（Ｐ２）及び（Ｐ３）の間に工程（Ｐ４）を実施する。又、光配向法が光異性化型の材料を使用する方法である場合は、工程（Ｐ３）の後に工程（Ｐ４）を実施する。尚、後述の実施例では工程（Ｐ３）の後に工程（Ｐ４）を実施している。
【０１４３】
＜３．両アンカリング層付き基板を備えた液晶表示素子＞
液晶化合物には誘電率異方性が正であるポジ型、及び誘電率異方性が負であるネガ型が存在する。ポジ型の液晶化合物は、誘電的性質が液晶分子の長軸方向に大きく、長軸方向に直交する方向に小さい。ネガ型の液晶化合物は、誘電的性質が液晶分子の長軸方向に小さく、長軸方向に直交する方向に大きい。以下の液晶表示素子の説明では、ポジ型の液晶化合物を用いた事例について説明する。
【０１４４】
液晶表示素子には液晶分子の配向方向を制御するための配向膜として、上述の強アンカリング膜、上述の弱アンカリング膜、及び上述の両アンカリング層が存在する。本発明の液晶表示素子は、互いに対向する２つの配向膜の一方が強アンカリング膜であり、他方が両アンカリング層である。
【０１４５】
本発明の硬化性組成物を用いて形成される硬化膜は、弱アンカリング膜として使用することができる。
【０１４６】
＜３−１．第１実施形態＞
図２は、本発明の液晶表示素子１０の第１実施形態、並びに表示のためのバックライトユニット１１、偏光板１２Ａ、及び偏光板１２Ｂの概略構成を示す断面図である。図３は、前記第１実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Ｌｐを用い、電界Ｅを印加した状態における液晶分子の配向方向の分布を示す図である。図４は、前記第１実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Ｌｐを用い、電界を印加しない状態における電極線の配線方向、及び両アンカリング層近傍の液晶分子の配向方向の関係を示す図である。図５は、前記第１実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Ｌｐを用い、電界Ｅを印加した状態における電極線の配線方向、及び液晶分子の配向の関係を示す図である。
【０１４７】
図２に示すように、本発明の液晶表示素子は、両アンカリング層１３が形成された第１基板（ＬＣＰ−１）、前記両アンカリング層との間に間隔を空けて対向配置される強アンカリング膜１４が形成された第２基板（ＬＣＰ−２）、前記両アンカリング層及び前記強アンカリング膜の間に配置され、液晶分子が駆動されることによって前記光を透過又は遮断する液晶層（ＬＣＰ−３）、並びに前記液晶分子に前記第１基板（ＬＣＰ−１）及び第２基板（ＬＣＰ−２）に沿った方向の電界を印加する駆動電極層（ＬＣＰ−４）を備えている。
【０１４８】
第１基板（ＬＣＰ−１）及び第２基板（ＬＣＰ−２）は、それぞれガラス等の基板からなり、所定の間隔を空けて互いに平行に配置されている。
【０１４９】
偏光板１２Ａ及び１２Ｂは、クロスニコルに配置されている。例えば、偏光板１２Ａの偏光方向は方向Ｙであり、偏光板１２Ｂの偏光方向は方向Ｘである。
【０１５０】
駆動電極層（ＬＣＰ−４）は、前記第１基板（ＬＣＰ−１）及び第２基板（ＬＣＰ−２）のいずれか一方に設けられる。図２に示すように、第１実施形態において駆動電極層（ＬＣＰ−４）は、前記第１基板（ＬＣＰ−１）に設けられている。駆動電極層（ＬＣＰ−４）は、前記第１基板（ＬＣＰ−１）の表面に沿って、複数本の電極線１５Ａが並設されることで形成されている。図２において、各電極線１５Ａは、その配線方向が第１基板（ＬＣＰ−１）表面に平行な面内で方向Ｙに沿って延びるよう直線状に形成されている。駆動電極層（ＬＣＰ−４）は、このような電極線１５Ａが、第１基板（ＬＣＰ−１）の表面に平行な面内で方向Ｘに沿って一定間隔に並んでいる。
【０１５１】
＜３−２．第２実施形態＞
第２実施形態は、図８に示すように、駆動電極層（ＬＣＰ−４）が前記第２基板（ＬＣＰ−２）に設けられている。他の構成は第１実施形態と同様である。
【実施例】
【０１５２】
次に本発明を合成例、比較合成例、実施例、及び比較例によって具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら限定されるものではない。
【０１５３】
合成例、比較合成例、実施例、及び比較例に使用した化合物を成分毎に記しておく。
【０１５４】
テトラカルボン酸二無水物（ａ１１）：
ａ１１−１：ブタンテトラカルボン酸二無水物（商品名；リカシッド  ＢＴ−１００、新日本理化株式会社、以下「ＢＴ−１００」と略記）
ジアミン（ａ１２）：
ａ１２−１：３，３’−ジアミノジフェニルスルホン（以下「ＤＤＳ」と記載）
多価ヒドロキシ化合物（ａ１３）：
ａ１３−１：１，４−ブタンジオール  
１価アルコール（ａ１４）：
ａ１４−１：ベンジルアルコール  
スチレン−無水マレイン酸共重合体（ａ１５）：
ａ１５−１：ＳＭＡ１０００（川原油化株式会社製）
ポリエステルアミド酸（Ａ１）の反応に用いる重合溶剤：
ＰＧＭＥＡ
【０１５５】
カルボキシル基含有重合体（Ａ２）：
Ａ２−１：メタクリル酸及びブチルメタクリレートの共重合体（原料重量比メタクリル酸／ｎ−ブチルメタクリレート＝２０／８０、重量平均分子量１０，０００）の固形分濃度３０重量％ＰＧＭＥＡ溶液（以下「共重合体溶液（Ａ２−１）」と記載）
【０１５６】
３官能以上のグリシジルエーテル型エポキシ化合物（Ｂ１）：
Ｂ１−１：テクモアＶＧ３１０１Ｌ（商品名、株式会社プリンテック、以下「ＶＧ３１０１Ｌ」と略記）
【０１５７】
エポキシ基含有重合体（Ｂ２）：
Ｂ２−１：グリシジルメタクリレート及びブチルメタクリレートの共重合体（原料重量比グリシジルメタクリレート／ｎ−ブチルメタクリレート＝２０／８０、重量平均分子量１０，０００）の固形分濃度３０重量％ＰＧＭＥＡ溶液（以下「共重合体溶液（Ｂ２−１）」と記載）
【０１５８】
界面活性剤（Ｃ）：
Ｃ−１：反応性含フッ素オリゴマーを含む溶液である、メガファックＲＳ−７２−Ｋ（商品名、ＤＩＣ株式会社、以下「ＲＳ−７２−Ｋ」と略記、有効成分３０重量％、溶媒ＰＧＭＥＡ）
Ｃ−２：含フッ素プレポリマーを含む溶液である、フタージェント６０１ＡＤ（商品名、株式会社ネオス、以下「６０１ＡＤ」と略記、有効成分２５重量％、溶媒ＰＧＭＥＡ）
Ｃ−３：シリコンポリエーテルアクリレートである、ＴＥＧＯ  Ｒａｄ２２００Ｎ（商品名、エボニック・ジャパン株式会社、以下「Ｒａｄ２２００Ｎ」と略記）
【０１５９】
添加剤（Ｄ）：
Ｄ−１：３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシランの重合体である、ＣＯＡＴＯＳＩＬ  ＭＰ２００（商品名、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ合同会社）
Ｄ−２：  ５官能のアクリレートであるジペンタエリスリトールペンタアクリレート、及び６官能のアクリレートであるジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物である、アロニックス  Ｍ−４０２（商品名、東亞合成株式会社、以下「Ｍ−４０２」と略記）
Ｄ−３：１，２−プロパンジオン，１−［４−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニルチオ］フェニル］−２−（Ｏ−アセチルオキシム）であるアデカアークルズ  ＮＣＩ−９３０（商品名、株式会社ＡＤＥＫＡ、以下「ＮＣＩ−９３０」と略記）
【０１６０】
本明細書中の重量平均分子量は、ＧＰＣ法（カラム温度：３５℃、流速：１ｍＬ／ｍｉｎ）により求めたポリスチレン換算での値である。標準のポリスチレンには分子量が６４５〜１３２，９００のポリスチレン（例えば、アジレント・テクノロジー株式会社のポリスチレンキャリブレーションキットＰＬ２０１０−０１０２）、カラムにはＰＬｇｅｌ  ＭＩＸＥＤ−Ｄ（商品名、アジレント・テクノロジー株式会社）を用い、移動相としてテトラヒドロフランを使用して測定することができる。尚、本明細書中の市販品の重量平均分子量はカタログ掲載値である。
【０１６１】
［硬化性組成物の調製］
［合成例１］
ポリエステルアミド酸の固形分濃度３０重量％ＰＧＭＥＡ溶液（Ａ１−１）を以下のように合成した。
温度計、攪拌機、原料投入仕込み口及び窒素ガス導入口を備えた１，０００ｍＬの４つ口フラスコに、重合溶剤として脱水精製したＰＧＭＥＡを６０４．８０ｇ、テトラカルボン酸二無水物（ａ１１）としてＢＴ−１００を３４．４７ｇ、スチレン−無水マレイン酸共重合体（ａ１５）としてＳＭＡ１０００を１６４．１１ｇ、１価アルコール（ａ１４）としてベンジルアルコールを５０．１７ｇ、多価ヒドロキシ化合物（ａ１３）として１，４−ブタンジオールを１０．４５ｇ仕込み、乾燥窒素気流下１３０℃で３時間攪拌した。その後、反応後の溶液を２５℃まで冷却し、ジアミン（ａ１２）としてＤＤＳを１０．８０ｇ、ＰＧＭＥＡを２５．２０ｇ投入し、２０〜３０℃で２時間攪拌した後、１１５℃で１時間攪拌、３０℃以下に冷却することにより淡黄色透明なポリエステルアミド酸の固形分濃度３０重量％ＰＧＭＥＡ溶液（Ａ１−１）を得た。ＧＰＣで測定した固形分の重量平均分子量は１０，０００であった。
【０１６２】
［実施例１］
合成例１で得られたポリエステルアミド酸の固形分濃度３０重量％ＰＧＭＥＡ溶液（Ａ１−１）、ＶＧ３１０１Ｌ、ＲＳ−７２−Ｋ、及びＰＧＭＥＡを表１−１に記載の割合（単位：ｇ）で混合溶解し、メンブランフィルター（０．２μｍ）で濾過して硬化性組成物を得た。
【０１６３】
【表１】
2019119807.tif 000003
【０１６４】
【表２】
2019119807.tif 000004
【０１６５】
尚、この硬化性組成物に含まれる溶剤の総量は、ポリエステルアミド酸の固形分濃度３０重量％ＰＧＭＥＡ溶液（Ａ１−１）に含まれる重合溶剤、ＲＳ−７２−Ｋに含まれる溶剤、及び希釈用溶剤（Ｅ）のＰＧＭＥＡの総量であり、この工程で固形分濃度が凡そ２．５重量％となるよう調製した。実施例２以下及び比較例においても同様である。
【０１６６】
［硬化膜付き櫛歯電極基板の作製］
得られた硬化性組成物をＩＰＳセル用Ｃｒ櫛歯電極付きガラス基板（以下「櫛歯電極基板」を記載）上に２，０００ｒｐｍで１０秒間スピンコートし、１００℃のホットプレート上で２分間プリベークすることで、塗膜付き櫛歯電極基板を得た。次に、２３０℃のオーブン中で３０分間ポストベークし、膜厚略５０ｎｍである硬化膜付き櫛歯電極基板を得た。
【０１６７】
［強アンカリング膜形成用材料（Ｓ１）の調製］
温度計、攪拌機、原料投入仕込み口及び窒素ガス導入口を備えた２００ｍＬの４つ口フラスコに、４，４’−ジアミノアゾベンゼン１．４１８４ｇ、１，４−ビス（４−アミノフェニル）ブタン０．５７３６ｇ、１，４−ビス（４−アミノフェニル）ピペラジン０．１２８１ｇ、及び脱水Ｎ−メチルピロリドン（以下「ＮＭＰ」と表記）４４．０ｇを仕込み、乾燥窒素気流下攪拌溶解した。次いで、１，８−ビス（３，４−ジカルボン酸）オクタン二無水物３．８７９９ｇ及び脱水ＮＭＰ２０．０ｇを仕込み、室温で２４時間攪拌を続け、反応溶液を得た。この反応溶液にエチレングリコールモノブチルエーテル２０．０ｇを加えて、固形分濃度が６重量％のポリアミド酸溶液を得た。このポリアミド酸溶液を（ＰＡ１）とする。（ＰＡ１）に含まれるポリアミド酸の重量平均分子量は１０，０００であった。
【０１６８】
温度計、攪拌機、原料投入仕込み口及び窒素ガス導入口を備えた２００ｍＬの４つ口フラスコに、１，４−ビス（４−アミノフェニル）ピペラジン１．９１２３ｇ、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル０．８５６１ｇ、１，４−フェニレンジアミン０．３０８２ｇ、及び脱水ＮＭＰ４４．０ｇを入れ、乾燥窒素気流下攪拌溶解した。１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物１．８３５４ｇ、ピロメリット酸二無水物１．０８８０ｇ、更に脱水ＮＭＰ２０．０ｇを入れ、室温で２４時間攪拌を続けた。この反応溶液にエチレングリコールモノブチルエーテル３０．０ｇを加えて、ポリマー固形分濃度が６重量％のポリアミド酸溶液を得た。このポリアミド酸溶液を（ＰＡ２）とする。（ＰＡ２）に含まれるポリアミド酸の重量平均分子量は５０，０００であった。
【０１６９】
ポリアミド酸溶液（ＰＡ１）、ポリアミド酸溶液（ＰＡ２）、及びＮＭＰを下記の重量で仕込み、混合溶解することでポリマー固形分濃度４重量％の強アンカリング膜形成用材料（Ｓ１）を調製した。
固形分濃度が６重量％のポリアミド酸溶液（ＰＡ１）          ９．００ｇ
固形分濃度が６重量％のポリアミド酸溶液（ＰＡ２）        ２１．００ｇ
ＮＭＰ                                                  １５．００ｇ
【０１７０】
［未露光部上塗膜形成の有無の判断］
工程（Ｐ１）として、得られた硬化膜付き櫛歯電極基板に、波長１８５ｎｍの光及び波長２５４ｎｍの光を含む紫外線を照射する低圧水銀灯ＥＵＶ２００ＷＳ−６０（商品名、セン特殊光源株式会社）を備えた露光装置ＰＨＯＴＯ  ＳＵＲＦＡＣＥ  ＰＲＯＣＥＳＳＯＲ  ＰＬ２００３Ｎ−１２（商品名、セン特殊光源株式会社）及び二区画パターンのフォトマスクを使用してパターン露光し、露光部及び未露光部でリコート性が異なるパターン露光膜付き基板を得た。露光量は紫外線積算光量計ＵＩＴ−１５０（商品名、ウシオ電機株式会社）、受光器ＵＶＤ−Ｓ２５４（商品名、ウシオ電機株式会社）で測定し、波長２５４ｎｍの光換算で１０Ｊ／ｃｍ２とした。
【０１７１】
続いて工程（Ｐ２）として、得られた露光部及び未露光部でリコート性が異なるパターン露光膜付き櫛歯電極基板上に、前記強アンカリング膜形成用材料（Ｓ１）を３，０００ｒｐｍで１０秒間スピンコートし、７０℃のホットプレート上で８０秒間プリベークすることで、ポリアミド酸塗膜及びパターン露光膜付き櫛歯電極基板を得た。ポリアミド酸塗膜は黄色の着色が見られたため、未露光部上塗膜形成の有無を目視で確認した。未露光部上にポリアミド酸塗膜が形成されていない場合を、未露光部上塗膜形成「無」と判断し、未露光部と露光部関係なくポリアミド酸塗膜が形成されている場合を未露光部上塗膜形成「有」と判断した。判断結果を表１−１に示す。
【０１７２】
［液晶表示素子作製用基板１の作製］
工程（Ｐ３）として、超高圧水銀灯を備えたマルチライトＭＬ−５０１Ｃ／Ｂ（商品名、ウシオ電機株式会社）及び偏光板を用い、得られたポリアミド酸塗膜及びパターン露光膜付き櫛歯電極基板に対して鉛直方向から、直線偏光紫外線を照射した。露光量は紫外線積算光量計ＵＩＴ−１５０（商品名、ウシオ電機株式会社）、受光器ＵＶＤ−Ｓ３６５（商品名、ウシオ電機株式会社）で測定し、波長３６５ｎｍの光換算で２Ｊ／ｃｍ２とした。更に２３０℃のオーブン中で２０分間ポストベークすることで、強アンカリング能を有するパターン体及び硬化膜付き櫛歯電極基板を得た。以下、この基板を「液晶表示素子作製用基板１」と表記する。尚、直線偏光紫外線の偏光方向は、Ｃｒ櫛歯電極の配線方向に垂直とした。この方向にすることで、作製される液晶表示素子作製用電極付き配向基板１ａの両アンカリング層の内、強アンカリング能を有する領域の配向容易軸は、Ｃｒ櫛歯電極の配線方向に平行となる。
【０１７３】
［液晶表示素子作製用基板２の作製］
強アンカリング膜形成用材料（Ｓ１）をガラス基板上に２，０００ｒｐｍで１０秒間スピンコートし、７０℃のホットプレート上で８０秒間プリベークすることで、塗膜付きガラス基板を得た。次いで、超高圧水銀灯を備えたマルチライトＭＬ−５０１Ｃ／Ｂ（商品名、ウシオ電機株式会社）及び偏光板を用い、塗膜付きガラス基板に対して鉛直方向から、直線偏光紫外線を照射した。露光量は紫外線積算光量計ＵＩＴ−１５０（商品名、ウシオ電機株式会社）、受光器ＵＶＤ−Ｓ３６５（商品名、ウシオ電機株式会社）で測定し、波長３６５ｎｍの光換算で２Ｊ／ｃｍ２とした。更に２３０℃のオーブン中で２０分間ポストベークし、膜厚略１００ｎｍの強アンカリング膜付き基板を得た。以下、得られたこの強アンカリング膜付きガラス基板を、「液晶表示素子作製用基板２」と表記する。
【０１７４】
［ポジ型液晶組成物（ＬＣ−１）調製］
下記一般式（２−１）〜（２−９）の化合物を記載の重量比で混合溶解することで、ポジ型液晶組成物（ＬＣ−１）を調製した。
【化２】
2019119807.tif 000005
【０１７５】
［液晶表示素子の作製］
液晶表示素子作製用基板１及び液晶表示素子作製用基板２の２枚の基板を、それぞれ強アンカリング能を有するパターン体及び硬化膜側並びに強アンカリング膜側を向き合わせ、液晶表示素子作製用基板１のＣｒ櫛歯電極の配線方向及び液晶表示素子作製用基板２の強アンカリング膜の配向容易軸が平行になるように配置した。このように配置することで、液晶表示素子作製用基板１の両アンカリング層の内、強アンカリング能を有する領域の配向容易軸及び液晶表示素子作製用基板２の強アンカリング膜の配向容易軸が平行となる。更に両アンカリング層及び強アンカリング膜の間にポジ型液晶組成物（ＬＣ−１）を注入させるための空隙を形成して貼り合わせ、セル厚４μｍの空セルを作製した。作製した空セルにポジ型液晶組成物（ＬＣ−１）を真空注入して、液晶表示素子を作製した。尚、この液晶表示素子を図２に対応させると、電極線１５Ａの配線方向及び強アンカリング膜１４の配向容易軸が方向Ｙである。
【０１７６】
［配向有無の判断］
ライトビュアー７０００ＰＲＯ（商品名、ハクバ写真産業株式会社、以下「バックライト装置」と表記）上にクロスニコルに配置した２枚の偏光板の間に作製した液晶表示素子を狭持した。続いてバックライト装置を点灯させ、上述の２枚の偏光板及び作製した液晶表示素子を通った光を目視で２つの条件で観察した。第１の条件は、作製した液晶表示素子の櫛歯電極の配線方向、即ち液晶表示素子作製用基板２の強アンカリング膜の配向容易軸が、偏光子の偏光方向と平行である条件である。この条件を図２に対応させると、バックライト装置側の偏光板１２Ａの偏光方向が方向Ｙであり、他の１枚の偏光板１２Ｂの偏光方向が方向Ｘである。電極線１５Ａの配線方向及び偏光板１２Ａの偏光方向の関係を図１０に示す。第２の条件は、第１の条件の２枚の偏光板１２Ａ及び１２Ｂを、Ｘ−Ｙ平面内を反時計回りに４５°回転させた条件である。つまり、第２の条件では、櫛歯電極の配線方向、即ち液晶表示素子作製用基板２の強アンカリング膜の配向容易軸及びバックライト装置側の偏光板の偏光方向のなす角が４５°である。電極線１５Ａの配線方向及び偏光板１２Ａの偏光方向の関係を図１１に示す。
【０１７７】
強アンカリング能を有するパターン体形成部（図９のＴ１）及び強アンカリング能を有するパターン体非形成部（図９のＴ２）のそれぞれにおいて、第１の条件において光り抜けがなく、且つ、第２の条件において光透過が見られる場合を、配向「有」と判断し、第１の条件において光り抜けがある場合、及び第２の条件において光透過が見られない場合の１つ以上の場合を、配向「無」と判断した。判断結果を表１−１に示す。
【０１７８】
＜強アンカリング能を有するパターン体形成性の評価方法＞
上述の未露光部上塗膜形成の有無の判断において「無」と判断され、且つ上述の強アンカリング能を有するパターン体形成部の配向有無の判断において「有」と判断された場合、強アンカリング能を有するパターン体形成性「○」と評価し、他の場合を、強アンカリング能を有するパターン体形成性「×」と評価した。
【０１７９】
＜強アンカリング能を有するパターン体非形成部の弱アンカリング性の評価方法＞
該硬化膜に上述のラビング法及び光配向法等の手法により硬化膜表面に異方性を持たせるのではない場合、仮に硬化膜のアンカリングが強いとすると、硬化膜近傍の液晶分子がランダムに配向し、上述の強アンカリング能を有するパターン体非形成部の配向有無を判断する過程において、光り抜けが見られる。そのため、上述の強アンカリング能を有するパターン体非形成部の配向「有」と判断された場合を、強アンカリング能を有するパターン体非形成部の弱アンカリング性「○」、上述の強アンカリング能を有するパターン体非形成部の配向「無」と判断された場合を、強アンカリング能を有するパターン体非形成部の弱アンカリング性「×」と評価した。
【０１８０】
［実施例２〜１１及び比較例１〜３］
実施例１の方法に準じて、表１−１及び表１−２に記載の割合（単位：ｇ）で各成分を混合溶解し、硬化性組成物を得た。実施例１の方法に準じて、未露光部上塗膜形成の有無、強アンカリング能を有するパターン体形成部の配向の有無、及び強アンカリング能を有するパターン体非形成部の配向の有無を判断することで、強アンカリング能を有するパターン体形成性、及び強アンカリング能を有するパターン体非形成部の弱アンカリング性を評価し、結果を表１−１及び表１−２に示した。但し、未露光部上塗膜形成の有無「無」と判断した場合には、液晶表示素子の作製に関して液晶表示素子作製用基板１の代わりに、工程（Ｐ１）及び（Ｐ２）を省略して作製した硬化膜付き櫛歯電極基板を備えた液晶表示素子を作製し、実施例１の方法に準じて、弱アンカリング性の参考評価を行った。参考評価結果として、強アンカリング能を有するパターン体非形成部の弱アンカリング性「○」に対応する「（○）」、又は強アンカリング能を有するパターン体非形成部の弱アンカリング性「×」に対応する「（×）」と記載した。
【０１８１】
但し、実施例４においては、強アンカリング能を有するパターン体形成性評価用基板作製方法を、１００℃のホットプレート上で２分間プリベーク後に、露光する工程を追加し、オーブン温度を２３０℃から２００℃に変更する作製方法とした。露光する工程では、空気中にて、超高圧水銀灯を備えたプロキシミティー露光機ＴＭＥ−１５０ＰＲＣ（商品名、株式会社トプコン）を使用し、露光量は積算光量計ＵＩＴ−１０２（商品名、ウシオ電機株式会社）、受光器ＵＶＤ−３６５ＰＤ（商品名、ウシオ電機株式会社）で測定し、波長３６５ｎｍの光換算で１００ｍＪ／ｃｍ２とした。
【０１８２】
以上から明らかなように、実施例１〜１１はいずれも強アンカリング能を有するパターン体形成性、及び強アンカリング能を有するパターン体非形成部の弱アンカリング性が良好である。それらに対し、多官能エポキシ化合物（Ｂ）を含まない組成物を用いた比較例１、及び多官能カルボキシル化合物（Ａ）を含まない組成物を用いた比較例２は、強アンカリング能を有するパターン体非形成部の弱アンカリング性は良好であるが、強アンカリング能を有するパターン体形成性が不良である。又、界面活性剤（Ｃ）の含有量が少ない組成物を用いた比較例３は、強アンカリング能を有するパターン体形成性、及び強アンカリング能を有するパターン体非形成部の弱アンカリング性の両方が不良である。
【産業上の利用可能性】
【０１８３】
本発明の硬化性組成物を用いて形成される硬化膜は、強アンカリング能を有するパターン体形成性に優れ、且つ強アンカリング能を有するパターン体非形成部の弱アンカリング性に優れることから、単一の液晶表示素子中において、電圧ＯＦＦ時の表示応答性が高い領域及び低駆動電圧性が高い領域の両方の領域が存在する液晶表示素子を作製可能である。
【符号の説明】
【０１８４】
１０  液晶表示素子
１１  バックライトユニット
１２Ａ、１２Ｂ  偏光板
ＬＣＰ−１  第１基板
ＬＣＰ−２  第２基板
ＬＣＰ−３  液晶層
ＬＣＰ−４  駆動電極層
１３  両アンカリング層
１３Ａ  両アンカリング層の弱アンカリング能を有する領域
１３Ｂ  両アンカリング層の強アンカリング能を有する領域
１４  強アンカリング膜
１５Ａ  電極線
１６  画素電極
１７  共通電極
１８  画素
１９  電極領域
２０  非電極領域
Ｌｐ  液晶化合物
Ｘ、Ｙ  第１基板及び第２基板に平行な平面上に仮想する座標軸
１００  基板
１０１  弱アンカリング膜
１０１Ａ  露光部
１０１Ｂ  未露光部
１０２  強アンカリング膜形成用材料の塗膜
１０３  強アンカリング能を有するパターン体
２０１  紫外線
２０２  直線偏光紫外線
２０３  フォトマスク
【図１】
2019119807.tif 000006
【図２】
2019119807.tif 000007
【図３】
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【図４】
2019119807.tif 000009
【図５】
2019119807.tif 000010
【図６】
2019119807.tif 000011
【図７】
2019119807.tif 000012
【図８】
2019119807.tif 000013
【図９】
2019119807.tif 000014
【図１０】
2019119807.tif 000015
【図１１】
2019119807.tif 000016