(57)【要約】【課題】撮像素子のマイクロレンズ等エレクトロニクス部材に有用な、低温で硬化し屈折率が１．４０以下の低屈折率の硬化膜が得られる組成物を提供すること。【解決手段】屈折率が１．４０以下の低屈折率の硬化膜を形成するための活性エネルギー線硬化性組成物であって、（Ａ）側鎖に活性エネルギー線硬化性反応基を有するフルオロオレフィン重合体（Ｂ）中空シリカ粒子、及び（Ｃ）溶媒を必須成分として含む組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
屈折率が１．４０以下の低屈折率の硬化膜を形成するための活性エネルギー線硬化性組成物であって、
（Ａ）側鎖に活性エネルギー線硬化性反応基を有するフルオロオレフィン重合体
（Ｂ）中空シリカ粒子、及び
（Ｃ）溶媒
を必須成分として含む組成物。
【請求項２】
前記活性エネルギー線が紫外線であり、更に、（Ｄ）光重合開始剤を含む請求項１記載の組成物。
【請求項３】
前記活性エネルギー線硬化性反応基が（メタ）アクリロイル基である請求項１又は請求項２記載の組成物。
【請求項４】
前記活性エネルギー線硬化性組成物から（Ｂ）中空シリカ粒子と（Ｃ）溶媒を除く成分（１）の質量と、（Ｂ）中空シリカ粒子である成分（２）の質量との質量比（（１）／（２））が、３５／６５〜６５／３５の範囲である請求項１乃至請求項３の何れか１項に記載の組成物。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４の何れか１項に記載の組成物を硬化して形成した低屈折率の硬化膜を有するエレクトロニクス部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低屈折率層が必要とされる電子（光学）部材を使用するエレクトロニクス分野で応用され得る、低屈折率の硬化膜を与え且つ低温で硬化可能な組成物およびその硬化プロセスに関する。
【背景技術】
【０００２】
家電、コンピューターなどエレクトロニクス分野における部材である回路基板、各種素子等の製造工程においては、多層構造を形成する複雑多彩なプロセスが採用されている。その回路基板、各種素子等の多層構造において、たとえばマイクロレンズ機能を付与するために構成する層に低屈折率性が求められるものがある。そしてこの低屈折率層を形成するためにいくつかの硬化性組成物が提案されている。
【０００３】
特公平８−１９３１３号公報（特許文献１）及び特公平８−１１７７７号公報（特許文献２）は、低屈折率層を形成するための硬化性組成物として、パーフルオロアルキル基などのフッ素系官能基を有する化合物を含む硬化性組成物を提案している。
【０００４】
また、特許５０７８６２０号（特許文献３）は、低屈折率である中空粒子を利用する低屈折率の硬化膜の形成技術を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特公平８−１９３１３号公報
【特許文献２】特公平８−１１７７７号公報
【特許文献３】特許５０７８６２０号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１及び特許文献２に記載の硬化性組成物は、低屈折率の塗膜を形成することはできるものの、形成された硬化塗膜表面が有する撥水撥油性が強く、そのためその塗膜上にさらに異なる組成物を塗工せずに用いる用途であれば工程上の問題はないが、その塗膜上に後工程において異なる組成物を塗工する場合には、低屈折率膜上でのハジキのため塗膜形成が容易でない等の工程上の不具合があった。
【０００７】
また、特許文献３に記載の硬化膜は、中空粒子を硬化膜中に保持するために、中空粒子および塗膜形成をするマトリクス成分からなる組成物の構成となっており、そして反射防止膜等の用途には硬化後に中空粒子が一界面に局在する設計とするか、あるいは低屈折率レンズのような塗膜全体が低屈折率であることが必要な場合には、硬化性組成物における中空粒子の割合を多くし中空粒子が塗膜全体に分布する設計とするものである。
【０００８】
特許文献３で開示された内容において、中空粒子が一界面に局在する設計では中空粒子とマトリクス成分との質量比は１０／９０、また中空粒子が塗膜全体に分布する設計では中空粒子とマトリクス成分との質量比は８７／１３とし、それぞれの設計において塗膜表面の屈折率を１．３０としている。
ここで、中空粒子が塗膜全体に分布する設計において、マトリクス成分が中空粒子に対して前記のように大幅に少ない場合、粒子間に存在し得るマトリクス成分が少ないことに起因して塗膜表面の凹凸が激しくなっていることが予想され、そして、少量でも塗膜表面から脱離する中空粒子が存在する場合、精密部材の製造プロセスにおいては製造装置内の
汚染のリスクとなることが懸念される。
【０００９】
したがって中空粒子が塗膜全体に分布する設計では、膜形成後の中空粒子の隙間を埋め表面の凹凸が滑らかになる程度のマトリクス成分を処方し、中空粒子が塗膜表面から脱離しないようにすることが考えられるが、塗膜の硬化手段として活性エネルギー線硬化を採用し、マトリクス成分として汎用のUV硬化性化合物を使用した場合、そのマトリクス成分の屈折率が高いため硬化塗膜全体の低屈折率性を保つことが困難となる。また、ブロックイソシアネート等を硬化剤として用いる熱硬化型の反応性フッ素樹脂をマトリクス成分とすることは可能だが、精密部材の製造プロセスにおいては、多層構造の他の層の耐熱性の観点から実用上１００℃を超えず短時間で硬化する一液型の低温のプロセスが求められている背景がある。
【００１０】
本発明の課題は、実用的な低屈折率の中空粒子である屈折率が１．２５程度の中空シリカを低屈折率性に寄与する成分として用いることにより、組成物の硬化温度は１００℃以下、そして硬化塗膜の屈折率は１．４０以下であり、さらにはその上に異なる組成物が塗工可能な硬化塗膜を与える活性エネルギー線硬化性組成物を、この課題に適したマトリクス成分を選定し提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、上記の課題を解決するために、鋭意検討した結果、特定の構造のフッ素樹脂、中空シリカ粒子と、溶剤と、光重合開始剤とを配合した活性エネルギー線硬化性組成物により前記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１２】
すなわち、本発明は、
［１］屈折率が１．４０以下の低屈折率の硬化膜を形成するための活性エネルギー線硬化性組成物であって、
（Ａ）側鎖に活性エネルギー線硬化性反応基を有するフルオロオレフィン重合体
（Ｂ）中空シリカ粒子、及び
（Ｃ）溶媒
を必須成分として含む組成物、
［２］前記活性エネルギー線が紫外線であり、更に、（Ｄ）光重合開始剤を含む前記［１］記載の組成物、
［３］前記活性エネルギー線硬化性反応基が（メタ）アクリロイル基である前記［１］又は［２］記載の組成物、
［４］前記活性エネルギー線硬化性組成物から（Ｂ）中空シリカ粒子と（Ｃ）溶媒を除く成分（１）の質量と、（Ｂ）中空シリカ粒子である成分（２）の質量との質量比（（１）／（２））が、３５／６５〜６５／３５の範囲である前記［１］乃至［３］の何れか１つに記載の組成物、
［５］前記［１］乃至［４］の何れか１つに記載の組成物を硬化して形成した低屈折率の硬化膜を有するエレクトロニクス部材
に関する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物により、屈折率が１．４０以下の低屈折率の硬化膜を容易に形成することができる。
また、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物を用いて形成された硬化膜は、優れた耐溶剤性、オーバーコート適正及び外観を有する。
また、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、家電、コンピューターなどのエレクトロニクス分野における部材である回路基板、各種素子等のエレクトロニクス部材における低屈折率の硬化膜を形成するために、有利に使用することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の、屈折率が１．４０以下の低屈折率の硬化膜を形成するための活性エネルギー線硬化性組成物は、
（Ａ）側鎖に活性エネルギー線硬化性反応基を有するフルオロオレフィン重合体
（Ｂ）中空シリカ粒子、及び
（Ｃ）溶媒
を必須成分として含む。
【００１５】
［（Ａ）側鎖に活性エネルギー線硬化性反応基を有するフルオロオレフィン重合体］
本発明で使用する成分（Ａ）は、側鎖に活性エネルギー線硬化性反応基を有するフルオロオレフィン重合体であり、活性エネルギー線の照射により硬化するため室温での硬化が可能である。
さらに分子内にフッ素原子を含有する低屈折率の重合体であるので、硬化膜中において中空シリカ粒子を保持するマトリクス成分として用いた場合、硬化膜の屈折率を低く保つことが可能である。
側鎖に活性エネルギー線硬化性反応基を有するフルオロオレフィン重合体は、側鎖に活性エネルギー線硬化性反応基を有するフルオロオレフィン共重合体とするのが好ましい。
この側鎖に活性エネルギー線硬化性反応基を有するフルオロオレフィン共重合体は、第一段目に、側鎖に水酸基、カルボキシル基等の反応基を有するフルオロオレフィン共重合体を調製し、第二段目に、フルオロオレフィン共重合体の側鎖の反応基に、該反応基と反応する相応の反応基および活性エネルギー線硬化性反応基とを分子内に併せ有する化合物を反応させることにより得ることができる。
【００１６】
まず第一段目の反応の目的物である、側鎖に水酸基、カルボキシル基等の反応基を有するフルオロオレフィン共重合体は、たとえば、特開平５−１１７５７７等に記載の公知の方法により得ることができる。
側鎖に反応基を有するフルオロオレフィン共重合体とは、フルオロオレフィンを必須の単量体成分として含み、かつ、一分子中に複数の側鎖の反応基を有するものである。
【００１７】
ここで言うフルオロオレフィンとして特に代表的なもののみを例示すると、ふっ化ビニル、ふっ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ブロモトリフルオロエチレン、ペンタフルオロプロピレンもしくは、ヘキサフルオロプロピレンの如き、ふっ素含有α−オレフィン類、あるいはトリフルオロメチルトリフルオロビニルエーテル、ペンタフルオロエチルトリフルオロビニルエーテルもしくは、ヘプタフルオロプロピルトリフルオロビニルエーテルの如き、パーフルオロアルキル・パーフルオロビニルエーテル類またはパーフルオロアルキルビニルエーテル類などの化合物があるが、とりわけ、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ふっ化ビニルまたはふっ化ビニリデン等の使用が望ましい。
上記した側鎖の反応基として特に代表的なものを例示すれば、水酸基、カルボキシル基、無水カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基またはイソシアネート基などであり、これらの反応基は、２種以上を併用しても、何ら差しつかえない。
【００１８】
当該フルオロオレフィン共重合体の分子中に、かかる反応基を導入する方法としては、該フルオロオレフィン共重合体を調製するに際し、前記したような反応基を有するビニル単量体を共重合するという方法がある。
当該フルオロオレフィン共重合体の分子中に、かかる反応基を導入するために用いられる反応基含有ビニル単量体としては、まず、水酸基含有ビニル単量体があるが、このような水酸基含有ビニル単量体として特に代表的なものを例示すれば、２−ヒドロキシエチル
ビニルエーテル、３−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、２−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、３−ヒドロキシブチルビニルエーテル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピルビニルエーテル、５−ヒドロキシペンチルビニルエーテルもしくは６−ヒドロキシヘキシルビニルエーテルの如き各種の水酸基含有ビニルエーテル類、または前記した各種のビニルエーテルとε−カプロラクトンとの付加反応生成物などをはじめ、さらには、２−ヒドロキシエチル（メタ）アリルエーテル、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アリルエーテル、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アリルエーテル、４−ヒドロキシブチル（メタ）アリルエーテル、３−ヒドロキシブチル（メタ）アリルエーテル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピル（メタ）アリルエーテル、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アリルエーテルもしくは６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アリルエーテルの如き、各種の水酸基含有アリルエーテル、そしてさらには前記した各種のアリルエーテルとε−カプロラクトンとの付加反応生成物などである。
【００１９】
次に、カルボキシル基を導入するために使用されるカルボキシル基含有ビニル単量体類として特に代表的なものを例示すれば、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸もしくはフマル酸の如き、各種のカルボキシル基含有単量体類またはイタコン酸、マレイン酸もしくはフマル酸の如き、各種の多価カルボキシル基含有単量体と低級炭素数のモノアルキルアルコールとのモノエステル類などである。
また、無水カルボキシル基を導入するために使用される無水カルボキシル基含有ビニル単量体類として、特に代表的なもののみを例示すれば、無水イタコン酸または無水マレイン酸などである。
【００２０】
さらにまた、エポキシ基を導入するために使用されるエポキシ基含有ビニル単量体類として特に代表的なものを例示すれば、アリルグリシジルエーテルもしくは３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアリルエーテルの如き、各種のエポキシ基含有アリルエーテル類、そしてグリシジルビニルエーテルもしくは３，４−エポキシシクロヘキシルメチルビニルエーテルの如き、各種のエポキシ基含有ビニルエーテル類、さらにビニル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートの如き、各種のエポキシ基含有カルボン酸ビニル類などである。
そして、この第一段目の共重合反応において、生成する共重合体の屈折率を調整するためにフルオロオレフィンの仕込み量を、また本発明の目的の側鎖に活性エネルギー線硬化性反応基を有するフルオロオレフィン共重合体の活性エネルギー線硬化性を調節するために、各々の反応基を有するビニル単量体の仕込み量を調節することができる。
【００２１】
これら反応基を有するフルオロオレフィン共重合体を調製するには、ラジカル重合開始剤を用いて、乳化重合、懸濁重合、塊状重合または溶液重合などの、公知慣用の方法により重合反応を行えばよく、そのようなラジカル重合開始剤としては、アセチルパーオキサイドもしくはベンゾイルパーオキサイドの如き、各種のジアシルパーオキサイド類、そしてメチルエチルケトンパーオキサイドもしくはシクロヘキサノンパーオキサイドの如き、各種のケトンパーオキサイド類、また過酸化水素、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイドもしくはクメンハイドロパーオキサイドの如き、各種のハイドロパーオキサイド類、またジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイドもしくはジクミルパーオキサイドの如き、各種のジアルキルパーオキサイド類、またｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテートもしくはｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレートの如きアルキルパーオキシエステル類、またアゾビスイソブチロニトリルもしくはアゾビスイソバレロニトリルの如き、各種のアゾ系化合物類、またあるいは過硫酸カリウムもしくは過硫酸アンモニウムの如き、各種の過硫酸塩類などである。
【００２２】
側鎖に活性エネルギー線硬化性反応基を有するフルオロオレフィン共重合体を得るための第一段目の反応としての、該共重合反応方法には、前述した公知慣用の各種の方法があ
るが、それらのうちで塊状重合や溶液重合によるのが望ましい。さらには、得られる共重合体をそのままの形態で、後述の第二段目の活性エネルギー線硬化性反応基を側鎖に導入する反応に使用できるという点からすれば、溶液重合方法によることが特に望ましい。
【００２３】
次に、側鎖に活性エネルギー線硬化性反応基を有するフルオロオレフィン共重合体を得るための第二段目の反応について説明する。
側鎖に水酸基を有するフルオロオレフィン共重合体を用いる場合は、該共重合体に、活性エネルギー線硬化性反応基である（メタ）アクリロイル基を導入するために、一分子中に（メタ）アクリロイル基とイソシアネート基とを併せ有する化合物を反応させるものである。
【００２４】
一分子中に（メタ）アクリロイル基とイソシアネート基とを併せ有する化合物として、特に代表的なものを例示すれば、メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、アクリロイルオキシエチルイソシアネート、１，１-（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネートなどである。そのほか、たとえば、イソホロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチルアクリレートとの等モルの反応の反応物主成分であるイソホロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチルアクリレートの１：１付加物の如く、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等のジイソシネート類と、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類との、等モルの反応の反応物主成分である１：１付加物が挙げられる。
【００２５】
側鎖の水酸基とイソシアネートとの反応は、各種の酢酸エステル類、ケトン類、エーテル類等の、イソシアネートと反応する活性水素を含有しない溶媒中で、塩化第二鉄、オクチル酸スズ、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジラウレート、チタンテトラー２−エチルヘキソキシド、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート等の公知の触媒、ならびに、メトキシフェノール、ハイドロキノン、ジブチルヒドロキシトルエン等の重合防止剤の存在下、４０〜８０℃で進行させる。
【００２６】
溶媒として、メタノール、エタノール、２−プロパノール等のアルコール類、ならびに、エチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノアセテート、ジプロピレングリコールモノアセテート等のモノエステル類、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類等がイソシアネート反応する水酸基を有するので使用できないものの、イソシアネートと反応する水酸基を有さない溶媒であれば特に制限なく、適宜選択できる。
【００２７】
さらにまた、側鎖に水酸基を有するフルオロオレフィン共重合体を用いる場合、活性エネルギー線硬化性反応基である（メタ）アクリロイル基を導入するためには、該共重合体に、（メタ）アクリル酸クロライドを反応させることもできる。溶媒は前述のイソシアネートとの反応同様、酸クロライドと反応する活性水素を有さない溶媒中、トリエチルアミン等の塩化水素を捕捉する塩基の存在下、４０〜６０℃で、（メタ）アクリル酸クロライドを滴下して反応させるものである。
【００２８】
次に、側鎖にカルボキシル基を有するフルオロオレフィン共重合体に、活性エネルギー線硬化性反応基である（メタ）アクリロイル基を導入するために、該共重合体に、グリシジル（メタ）アクリレート、β−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、もしくは３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレートの如き、各種のエポキシ基含有（メタ）アクリレート類を反応させることができる。一方、側鎖にエポキシ基を有するフルオロオレフィン共重合体に、活性エネルギー線硬化性反応基である（メタ）アクリロイ
ル基を導入するためには、該共重合体に、（メタ）アクリル酸と反応させることができる。
【００２９】
また、側鎖の活性エネルギー線硬化性反応基として、カチオン重合性反応基を導入する観点から眺めると、前記の側鎖にエポキシ基を有するフルオロオレフィン共重合体がそのまま適用し得る。さらにまた、活性エネルギー線硬化性反応基として、フルオロオレフィン共重合体の側鎖に、カチオン重合性のオキセタン基やビニルエーテル基を導入するためには、前記の、側鎖に無水カルボキシル基を有するフルオロオレフィン共重合体に、水酸基を有する単量体である3 ―エチル― 3 ―ヒドロキシメチルオキセタンや水酸基含有ビニルエーテル類の、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、３−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、２−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、３−ヒドロキシブチルビニルエーテル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピルビニルエーテル、５−ヒドロキシペンチルビニルエーテルもしくは６−ヒドロキシヘキシルビニルエーテル等を反応させればよい。
【００３０】
前記の、側鎖に水酸基、カルボキシル基等の反応基を有するフルオロオレフィン共重合体に相当する製品として、例えば、ダイキン工業（株）製「ゼッフルＧＫシリーズ」、ＤＩＣ（株）製「フルオネート」、旭硝子（株）製「ルミフロン」が市販されており、本発明において適用可能である。
【００３１】
［（Ｂ）中空シリカ粒子］
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物に供される中空シリカ粒子は、市販されているものを用いても、合成したものを用いてもよい。中空シリカ粒子は、例えば以下に説明するような方法で合成することができる。たとえば、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛等の溶解性無機粒子をテンプレートとした中空粒子合成である。
また、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物に用いられる中空シリカ粒子は、低屈折率を得るために、粒径が大きく且つ粒子壁の厚さが薄いものが好ましいが、一方で、そのような粒子は、強度の確保が困難となる。
そのため、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物に用いられる中空シリカ粒子の平均粒径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測される平均粒径として、５〜２００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜１００ｎｍの範囲となり、中空シリカ粒子の粒子壁の厚さは、１〜３０ｎｍの範囲、好ましくは２〜２０ｎｍの範囲となる。
また、中空粒子の粒径は変動係数が１〜４０％の単分散であることが好ましい。
【００３２】
以下に本発明の活性エネルギー線硬化性組成物に用いられる中空シリカ粒子の製造方法を説明する。
まず、無機粒子の存在下に、ケイ酸塩水溶液中のケイ酸ナトリウムのようなケイ酸塩を反応させて無機粒子とシリカとからなるコア粒子をつくり、コア粒子の分散液中で、加水分解性基を有するケイ素化合物であるメチルシリケートやエチルシリケートを縮合させて、縮合したシリカにより被覆されたコア粒子をつくる。
【００３３】
次にシリカにより被覆されたコア粒子を酸により処理し、コア粒子中の溶解性無機粒子成分を溶解除去することにより、空洞を内部に有する中空シリカ粒子が得る。このような表面にシリカ被覆層を有する中空シリカ粒子を、さらに前述の加水分解性基を有するケイ素化合物により処理することで、多層のシリカ被覆層を表面に有する中空シリカ粒子を合成することも可能である。
【００３４】
低屈折率の硬化膜を与える組成物の成分として、低屈折率粒子にはシリカ等の中空粒子、フッ化マグネシウム等の中実粒子が挙げられる。これらの中でも、シリカを主成分とする中空シリカ粒子が好ましい。中空シリカ粒子はその内部に空洞を有し、空洞の大きさやシリカの厚みを制御できるため、中実粒子と比べてより低屈折率化できるなど設計の自由
度が大きい。本発明で適用される中空シリカ粒子の屈折率は、１．３０以下、好ましくは１．２５以下である。屈折率を１．３０以下とした理由は、屈折率が１．３０を超える粒子を使用した場合、マトリクス成分を含めた硬化膜全体の屈折率を１．４０以下にすることが困難となるからである。また、低屈折率性を付与するためには、屈折率は低いほど好ましいが、中空粒子の強度低下により硬化膜が脆弱になることは避けなくてはならない。当該の、中空シリカ粒子に相当する製品として、例えば、日揮触媒化成工業（株）製「スルーリア（分散液）」、日鉄鉱業（株）製「シリナックス（登録商標）（粉体）」が市販されており、本発明において使用できる。
【００３５】
［（Ｃ）溶媒］
本発明における当該組成物の調製には溶媒を使用するが、溶媒としては、特に制限はなくエステル類、アルコール類、エーテル類、ケトン類等の種々の溶剤を用いることができ、単独で、又は混合して用いることが可能である。各種塗布装置の特性によって、適宜溶媒は選択される。
【００３６】
溶媒種としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸イソブチル、エチレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノアセテート、ジプロピレングリコールモノアセテート等のエステル類、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル類のジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル等のジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコーツモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類等が挙げられる。溶媒の含有量は、特に制限はなく、塗布膜厚、硬化性組成物の粘度等を考慮して適宜決定するものである。
【００３７】
［（Ｄ）重合開始剤］
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は、必要に応じ、重合開始剤を含有してもよい。
たとえば、（メタ）アクリルエステル化合物および／またはビニル化合物を含有する場合には、放射線（光）照射により活性ラジカル種を発生させる光重合開始剤および熱により活性ラジカル種を発生させる熱重合開始剤を挙げることができる。これらの中でも、光重合開始剤が好ましい。
【００３８】
例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１，４−（２−ヒ
ドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、オリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン）等が挙げられる。
【００３９】
光重合開始剤の市販品としては、例えば、BASF社製イルガキュア（現ＩＧＭ社製オムニラッド）の１８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、１１１６、１１７３、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１８５０、ＣＧ２４−６１等が挙げられる。
【００４０】
熱ラジカル重合開始剤としては、加熱により分解してラジカルを発生して重合を開始するものであれば特に制限はないが、比較的低温でラジカル発生が容易に起こる過酸化物、例えば、日本油脂（株）製パークミルＮＤ、パーロイルＴＣＰ等が好ましい。
【００４１】
また、側鎖の反応基が、エポキシ基、オキセタン基、ビニルエーテル基等のカチオン重合性反応基の場合は、光照射により酸を発生させる光酸発生剤が必要であり、光酸発生剤としては、トリアリールスルホニウム塩類、ジアリールヨードニウム塩類等の化合物を使用することができる。光酸発生剤の市販品としては、BASF社製イルガキュア（現ＩＧＭ社製オムニキャット）の２５０、２７０、２９０等が挙げられる。
【００４２】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物において、必要に応じて用いられる光重合開始剤の含有量は、溶剤を除く成分の合計を１００質量部としたときに、好ましくは０．０１〜２０質量部、より好ましくは０．１〜１０質量部の範囲内である。０．０１質量部未満であると、硬化膜の硬度が不十分となるおそれがあり、２０質量部を超えると、塗膜が脆弱になる、あるいは屈折率が上昇し低屈折率性を損なうおそれがある。なお、光重合開始剤は複数を併用することができる。
【００４３】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物の１態様において、前記活性エネルギー線は紫外線であり、そして、前記成分（Ａ）ないし（Ｃ）に加えて、（Ｄ）光重合開始剤を更に含む。
【００４４】
［（Ｅ）添加剤］
更に、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物には、その他の添加剤としてこの種の分野で慣用されている重合禁止剤、レベリング剤、消泡剤、酸化防止剤、着色顔料、着色染料などを活性エネルギー線による硬化を阻害しない且つ屈折率上昇など要求される硬化膜物性に不具合が生じない範囲で添加することができる。
【００４５】
［（Ｆ）重合性モノマーの添加］
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物には重合性多官能化合物を添加でき、これらは、主に硬度等の硬化膜の諸物性を制御する目的で用いるものである。しかしながら、添加量が増すと硬化膜の屈折率を上昇させてしまい、目的の低屈折率性硬化膜を損なうおそれがある。そのような重合性化合物としては、例えば、ラジカル重合による硬化に際しての、多官能の（メタ）アクリルエステル化合物、そしてカチオン重合による硬化に際しての、多官能のビニル化合物、多官能のエポキシあるいはオキセタン化合物を挙げることができる。ここで、単官能の重合性化合物の添加は、硬化膜の硬度等を低下させるため硬化膜物性を勘案して添加することが望ましい。
【００４６】
実用的な重合性多官能化合物の例を挙げると、多官能の（メタ）アクリルエステル化合物としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール
テトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート等が挙げられ、さらにこれらの化合物のなかでエトキレート付加変性物、たとえばエトキレートトリメチロールプロパントリアクリレートなども市販品として入手可能である。
【００４７】
多官能のビニル化合物類としては、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル等が挙げられる。多官能のエポキシ化合物としては、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、3',4'-エポキシシクロヘキシルメチル 3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ε-カプロラクトン変性 3',4'-エポキシシクロヘキシルメチル 3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、等が挙げられる。  同様に多官能のオキセタン化合物としては、キシリレンビスオキセタン、3―エチル―3｛［（3 ―エチルオキセタン― 3 ―イル）メトキシ］メチル｝オキセタン等が挙げられる。
【００４８】
また、フッ素系多官能アクリロイル化合物を添加した場合は、前記のフッ素を含有しない重合性多官能化合物に比べ、屈折率が上昇し低屈折率性を損なうおそれが小さくなるので好適である。そのような化合物に、ＤＩＣ（株）製メガファックＲＳ−６１、ＲＳ−７２Ｋ、ＲＳ−７５、ＲＳ−７６Ｅ、ＲＳ−７８、ＲＳ−９０等が挙げられる。
【００４９】
［配合液（組成物）の調製］
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物において、該活性エネルギー線硬化性組成物から（Ｂ）中空シリカ粒子と（Ｃ）溶媒を除く成分（１）の質量と、（Ｂ）中空シリカ粒子である成分（２）の質量との質量比（（１）／（２））が、３５／６５〜６５／３５の範囲とするのが好ましい。
【００５０】
中空シリカ粒子の配合量が６５質量部を越えると、粒子間に存在するマトリクス成分が少なく塗膜表面の凹凸が激しくなり、塗膜表面から脱離する中空シリカ粒子が、撮像素子等精密部材の製造プロセスにおいて製造装置まわりの汚染源になり得る、という問題が生じる。一方、３５質量部未満になると、硬化塗膜全体の低屈折率性を保つことが困難となる。
【００５１】
一般に球体の充填状態を鑑みると、細密充填の場合は容積率６３％であり、ランダム充填の場合は容積率が５０％強である。したがって、硬化塗膜の容積のうち５０％程度のマトリクス成分があれば、中空シリカ粒子が塗膜表面から飛び出るような凹凸が少なくなると計算される。中空シリカ粒子及びその他の塗膜構成成分の比重を１前後でほぼ等しいとすると、容積の５０％は質量の５０％に相当する。実際には中空シリカ粒子とマトリクス成分との比重が異なるので、前記の成分（１）／成分（２）＝３５／６５〜６５／３５（質量比）の数値が実用的な範囲となる。
【００５２】
本発明はまた、上記の活性エネルギー線硬化性組成物を硬化して形成した低屈折率の硬化膜を有するエレクトロニクス部材にも関する。
上記エレクトロニクス部材としては、家電、コンピューターなどエレクトロニクス分野における部材である回路基板、各種素子等が挙げられる。
【実施例】
【００５３】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
中空シリカ粒子には、日揮触媒化成工業（株）製の中空シリカ分散液であるスルーリア４３２０（平均粒子径６０ｎｍ、粒子屈折率１．２５、メチルイソブチルケトン分散液（固形分２０．５質量％）、以上代表値）を用いた。
光重合開始剤として、BASF社製（現ＩＧＭ社製オムニラッド）のイルガキュア３６９を用いた。
レベリング剤として、ＤＩＣ（株）製のメガファックＦ−５５２、または同社のメガファックＲＳ−７２Ｋを用いた。
各化合物の略語は各々以下の通りである。
ＢＨＴ：  ブチルヒドロキシトルエン
ＭＩＢＫ：  メチルイソブチルケトン
Ｚｒ（ａｃａｃ）：  ジルコニウムテトラアセチルアセトネート
Ｉｒｇ３６９：  イルガキュア３６９  （２-ベンジル-２-ジメチルアミノ-１-（４-モルフォリノフェニル）-ブタノン-１）
【００５４】
＜合成例１〜５＞
側鎖に活性エネルギー線硬化性反応基を有するフルオロオレフィン共重合体の調製
＜合成例１＞
冷却管、撹拌機、温度計、塩化カルシウム乾燥管を備えた０．５リットル４ツ口フラスコに、ＭＩＢＫ１１０ｇ、旭硝子（株）製  ルミフロンＬＦ９０１０（キシレン・エチルベンゼン溶液、固形分６５ｗｔ％、水酸基価７４）１００ｇ、アクリロイルオキシエチルイソシアネート１８．６ｇ、Ｚｒ（ａｃａｃ）０．２５ｇ、ＢＨＴ０．０５ｇを仕込み、７０℃まで昇温しその後４時間反応させた。赤外線吸収スペクトルにより、２２５０ｃｍ−１付近のイソシアネート基に基づく吸収が消失していることを確認し反応を終了した。反応溶液をメタノール１０００ｇ中に滴下し生じる沈殿を４０℃で減圧乾燥し、目的の側鎖にアクリロイル基を有するフルオロオレフィン共重合体（共重合体１）５８ｇを得た。
【００５５】
＜合成例２＞
冷却管、撹拌機、温度計、塩化カルシウム乾燥管を備えた０．５リットル４ツ口フラスコに、ＭＩＢＫ１１０ｇ、旭硝子（株）製  ルミフロンＬＦ２００（キシレン・エチルベンゼン溶液、固形分６０ｗｔ％、水酸基価３０）１００ｇ、トリエチルアミン５．１ｇ、ＢＨＴ０．０５ｇを仕込み、室温で撹拌しながらアクリル酸クロライド４．８ｇを滴下、その後７０℃まで昇温しその後３時間反応させ、反応を終了した。生じたトリエチルアミン塩酸塩を水洗により除去したあと、MIBK溶液をメタノール１０００ｇ中に滴下し生じる沈殿を４０℃で減圧乾燥し、目的の側鎖にアクリロイル基を有するフルオロオレフィン共重合体（共重合体２）３９ｇを得た。
【００５６】
＜合成例３＞
冷却管、撹拌機、温度計、塩化カルシウム乾燥管を備えた０．５リットル４ツ口フラスコに、ＭＩＢＫ１１０ｇ、旭硝子（株）製  ルミフロンＬＦ９０１LM（キシレン・エチルベンゼン溶液、固形分６６ｗｔ％、水酸基価６８）１００ｇ、メタクリロイルオキシエチルイソシアネート９．４ｇ、アクリロイルオキシエチルイソシアネート８．５ｇ、Ｚｒ（ａｃａｃ）０．２５ｇ、ＢＨＴ０．０５ｇを仕込み、７０℃まで昇温しその後４時間反応させた。赤外線吸収スペクトルにより、２２５０ｃｍ−１付近のイソシアネート基に基づく吸収が消失していることを確認し反応を終了した。
反応溶液をメタノール１０００ｇ中に滴下し生じる沈殿を４０℃で減圧乾燥し、目的の側鎖にメタクリロイル基及びアクリロイル基を有するフルオロオレフィン共重合体（共重合体３）５６ｇを得た。
【００５７】
＜合成例４＞
冷却管、撹拌機、温度計、塩化カルシウム乾燥管を備えた０．５リットル４ツ口フラスコに、ＭＩＢＫ１１０ｇ、ダイキン工業（株）製  ＧＫ−５００（酢酸ブチル溶液、固形分６０ｗｔ％、水酸基価３９）１００ｇ、アクリロイルオキシエチルイソシアネート９．８ｇ、Ｚｒ（ａｃａｃ）０．２２ｇ、ＢＨＴ０．０５ｇを仕込み、７０℃まで昇温しその後４時間反応させた。赤外線吸収スペクトルにより、２２５０ｃｍ−１付近のイソシアネート基に基づく吸収が消失していることを確認し反応を終了した。
反応溶液をメタノール１０００ｇ中に滴下し生じる沈殿を４０℃で減圧乾燥し、目的の側鎖にアクリロイル基を有するフルオロオレフィン共重合体（共重合体４）５１ｇを得た。
【００５８】
＜合成例５＞
冷却管、撹拌機、温度計、塩化カルシウム乾燥管を備えた０．５リットル４ツ口フラスコに、ＭＩＢＫ１１０ｇ、ＤＩＣ（株）製  フルオネートＫ−７０４（キシレン溶液、固形分６０ｗｔ％、水酸基価２９）１００ｇ、アクリロイルオキシエチルイソシアネート７．３ｇ、Ｚｒ（ａｃａｃ）０．２ｇ、ＢＨＴ０．０５ｇを仕込み、７０℃まで昇温しその後４時間反応させた。赤外線吸収スペクトルにより、２２５０ｃｍ−１付近のイソシアネート基に基づく吸収が消失していることを確認し反応を終了した。
反応溶液をメタノール１０００ｇ中に滴下し生じる沈殿を４０℃で減圧乾燥し、目的の側鎖にアクリロイル基を有するフルオロオレフィン共重合体（共重合体５）４７ｇを得た。
【００５９】
＜実施例１〜５、比較例１〜３＞
＜実施例１＞
＜組成物の調製＞
合成例１の共重合体１の０．８ｇ、Ｉｒｇ３６９の０．０８ｇ、メガファックＦ−５５２の０．００３ｇ及びＭＩＢＫ３．６ｇをスクリュー栓付き２０ミリリットルサンプル管に計り取り、マグネチック撹拌子により撹拌溶解した。さらに撹拌しながらスルーリア４３２０の６ｇを滴下したのち、サンプル液を孔径 １．０μｍのフィルターより濾過を行ない組成物を調製した。得られた組成物は目視で透明性のある乳白色分散液であった。
【００６０】
＜組成物の塗布及び乾燥＞
上記にて調製した組成物を３インチシリコンウェハーにスピナー塗布装置を用いて膜厚が約２μｍになるように塗布した。塗布後、乾燥するため８０℃に温度調整されたホットプレート上にウェハーを２分間置いて溶媒を除去した。
＜ＵＶ露光・硬化＞
上記乾燥させたウェハーに１ｋｗ超高圧水銀灯を用いて５００ｍＪ／平方センチメートルの照射エネルギーのＵＶ露光を行った。さらにそのあと１００℃に温度調整されたホットプレート上にウェハーを５分間置き、硬化プロセスとした。
上記のようにしてウェハー上に得られた硬化膜につき実施した試験評価項目は以下の通りである。また、得られた評価結果は表１に示した。
【００６１】
＜各試験評価項目とその測定方法＞
＜屈折率＞
ウェハー上に得られた硬化膜に対し、ＳＥＮＴＥＣＨ製分光エリプソメーターＳＥ５００の波長６３３ｎｍのレーザー光を用いて、マルチアングル測定法により屈折率を求めた
。
＜耐溶剤性＞
ウェハー上に得られた硬化膜をアセトンに５分間浸漬したのちアセトンを乾燥させるため、１００℃に温度調整されたホットプレート上にウェハーを１分間置いた。アセトン浸漬前後の膜厚を測定、比較することにより、耐溶剤性の尺度とした。浸漬前の膜厚に対する浸漬後の膜厚の割合によって、以下の評価区分とした。
○：  浸漬前の９０％以上の膜厚
△：  浸漬前の８０％以上〜９０％未満の膜厚
×：  浸漬前の８０％未満の膜厚
＜オーバーコート適性＞
ウェハー上に得られた硬化膜上に油性マーカー（ゼブラ製ハイマッキー）で描画したのち、目視により画線部のインキの状態を観察した結果によって、以下の評価区分とした。
○：  画線部にハジキなし
△：  描画できているが、一部インキにハジキあり
×：  描画できないくらいにハジキあり
耐溶剤性ならびにオーバーコート適性の評価により、本発明が提供可能な低屈折率層の上に別の塗工プロセスが施される場合に、該塗工のハジキがなく且つ低屈折率層が塗工液に浸食されないことを確認できるものである。
＜外観＞
ウェハー上に得られた硬化膜を目視およびＳＥＭにより観察する。これにより、中空シリカ粒子が塗膜表面から脱離しやすいかを評価するものである。
〇：  無色透明で、ほぼ平滑性のある表面
△：  無色透明で、表面に多数の中空シリカ粒子がとび出している表面
×：  透明性のない白濁した膜
【００６２】
＜実施例２＞
合成例２の共重合体２の１ｇ、Ｉｒｇ３６９の０．１ｇ、メガファックＦ−５５２の０．００３ｇ及びＭＩＢＫ４．４ｇをスクリュー栓付き２０ミリリットルサンプル管に計り取り、マグネチック撹拌子により撹拌溶解した。さらに撹拌しながらスルーリア４３２０の５ｇを滴下したのち、サンプル液を孔径 １．０μｍのフィルターより濾過を行ない組成物を調製した。得られた組成物は目視で透明性のある乳白色分散液であった。この組成物を使用して、実施例１と同様の方法により、シリコンウェハー上に硬化膜を得、さらに各試験評価項目を実施した。
【００６３】
＜実施例３＞
合成例３の共重合体３の０．９ｇ、ＤＩＣ（株）製メガファックＲＳ−９０（不揮発分１０ｗｔ％）の１ｇ、Ｉｒｇ３６９の０．１ｇ、メガファックＦ−５５２の０．００３ｇ及びＭＩＢＫ３．５ｇをスクリュー栓付き２０ミリリットルサンプル管に計り取り、マグネチック撹拌子により撹拌溶解した。さらに撹拌しながらスルーリア４３２０の５ｇを滴下したのち、サンプル液を孔径 １．０μｍのフィルターより濾過を行ない組成物を調製した。得られた組成物は目視で透明性のある乳白色分散液であった。この組成物を使用して、実施例１と同様の方法により、シリコンウェハー上に硬化膜を得、さらに各試験評価項目を実施した。
【００６４】
＜実施例４＞
合成例４の共重合体４の０．９ｇ、東亜合成（株）製アロニクスＭ−３５０（エトキシレート（３モル）トリメチロールプロパントリアクリレート）の０．１ｇ、Ｉｒｇ３６９の０．１ｇ、メガファックＦ−５５２の０．００３ｇ及びＭＩＢＫ４．４ｇをスクリュー栓付き２０ミリリットルサンプル管に計り取り、マグネチック撹拌子により撹拌溶解した。さらに撹拌しながらスルーリア４３２０の５ｇを滴下したのち、サンプル液を孔径 １
．０μｍのフィルターより濾過を行ない組成物を調製した。得られた組成物は目視で透明性のある乳白色分散液であった。この組成物を使用して、実施例１と同様の方法により、シリコンウェハー上に硬化膜を得、さらに各試験評価項目を実施した。
【００６５】
＜実施例５＞
合成例５の共重合体５の１．２ｇ、Ｉｒｇ３６９の０．１２ｇ、メガファックＲＳ−７２Ｋ（不揮発分３０ｗｔ％）の０．０３ｇ及びＭＩＢＫ５．２ｇをスクリュー栓付き２０ミリリットルサンプル管に計り取り、マグネチック撹拌子により撹拌溶解した。さらに撹拌しながらスルーリア４３２０の４ｇを滴下したのち、サンプル液を孔径 １．０μｍのフィルターより濾過を行ない組成物を調製した。得られた組成物は目視で透明性のある乳白色分散液であった。この組成物を使用して、実施例１と同様の方法により、シリコンウェハー上に硬化膜を得、さらに各試験評価項目を実施した。
【００６６】
＜比較例１＞
ダイセル（株）製サイクロマーＡＣＡ２３０ＡＡ（不揮発分５３ｗｔ％、フッ素原子を有さないアクリル樹脂で側鎖にアクリロイル基を有す）の１．５１ｇ、Ｉｒｇ３６９の０．０８ｇ、メガファックＦ−５５２の０．００３ｇ及びＭＩＢＫ３ｇをスクリュー栓付き２０ミリリットルサンプル管に計り取り、マグネチック撹拌子により撹拌溶解した。さらに撹拌しながらスルーリア４３２０の６ｇを滴下したのち、サンプル液を孔径 １．０μｍのフィルターより濾過を行ない組成物を調製した。得られた組成物は目視で透明性のある乳白色分散液であった。
【００６７】
＜比較例２＞
ＤＩＣ（株）製メガファックＲＳ−９０（不揮発分１０ｗｔ％）の１０ｇ、Ｉｒｇ３６９の０．１ｇ、メガファックＦ−５５２の０．００３ｇ及び少量のＭＩＢＫをスクリュー栓付き２０ミリリットルサンプル管に計り取り、マグネチック撹拌子により撹拌溶解した。さらに撹拌しながらスルーリア４３２０の５ｇを滴下したのち、サンプル液を孔径 １．０μｍのフィルターより濾過を行ない組成物を調製した。得られた組成物は目視で透明性のある乳白色分散液であった。
【００６８】
＜比較例３＞
東亜合成（株）製アロニクスＭ−３５０（エトキシレート（３モル）トリメチロールプロパントリアクリレート）の０．６ｇ、Ｉｒｇ３６９の０．０６ｇ、メガファックＦ−５５２の０．００２ｇ及びＭＩＢＫ２．９ｇをスクリュー栓付き２０ミリリットルサンプル管に計り取り、マグネチック撹拌子により撹拌溶解した。さらに撹拌しながらスルーリア４３２０の７ｇを滴下したのち、サンプル液を孔径 １．０μｍのフィルターより濾過を行ない組成物を調製した。得られた組成物は目視で透明性のある乳白色分散液であった。
【００６９】
以上、比較例の組成物についても、実施例と同様の方法により、シリコンウェハー上に硬化膜を得、さらに各試験評価項目を実施し、その結果を表１に示した。
【表１】
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