(57)【要約】      （修正有）【課題】薄膜であっても、転写後の表面に十分な機械的強度を有する機能転写性プラスチックフィルムの提供。【解決手段】重合体からなり３次元屈折率に異方性を有する層Ａ２と、層Ｂ３及び補強層Ｃ４と、剥離可能な基材５とがこの順に積層された機能転写性プラスチックフィルム１であって、層Ａ２の膜厚は３μｍ以下であり、層Ｂ３の膜厚は１μｍ以下であり、層Ｃ４の膜厚は層Ｂ３の膜厚よりも大きく、各層の界面における剥離力は、式（１）及び（２）に示す関係である、機能転写性プラスチックフィルム１。Ｆ（Ａ−Ｂ）＞Ｆ（Ｃ−Ｄ）（１）、Ｆ（Ｂ−Ｃ）＞Ｆ（Ｃ−Ｄ）（２）［Ｆ（Ａ−Ｂ）は層Ａ２と層Ｂ３の界面における剥離力；Ｆ（Ｂ−Ｃ）は層Ｂ３と層Ｃ４の界面における剥離力；Ｆ（Ｃ−Ｄ）は層Ｃ４と基材５の界面における剥離力］【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
重合体からなり３次元屈折率に異方性を有する層Ａと、層Ｂ及び補強層Ｃと、剥離可能な基材とがこの順に積層された機能転写性プラスチックフィルムであって、
層Ａの膜厚は３μｍ以下であり、層Ｂの膜厚は１μｍ以下であり、層Ｃの膜厚は層Ｂの膜厚よりも大きく、各層の界面における剥離力は、下記式（１）及び（２）
Ｆ（Ａ−Ｂ）＞Ｆ（Ｃ−Ｄ）      （１）
Ｆ（Ｂ−Ｃ）＞Ｆ（Ｃ−Ｄ）      （２）
［式中、Ｆ（Ａ−Ｂ）は層Ａと層Ｂの界面における剥離力を表し、Ｆ（Ｂ−Ｃ）は層Ｂと層Ｃの界面における剥離力を表し、Ｆ（Ｃ−Ｄ）は層Ｃと基材の界面における剥離力を表す］
に示す関係である、機能転写性プラスチックフィルム。
【請求項２】
層Ｃの膜厚は１〜１０μｍである、請求項１に記載の機能転写性プラスチックフィルム。
【請求項３】
層Ｃは、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ウレタン樹脂、及びメラミン樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含んでなる、請求項１又は２に記載の機能転写性プラスチックフィルム。
【請求項４】
層Ｂは、構成元素にＳｉ元素、Ｃ元素及びＯ元素を含む化合物からなる層である、請求項１〜３のいずれかに記載の機能転写性プラスチックフィルム。
【請求項５】
層Ａは、配向状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体からなる、請求項１〜４のいずれかに記載の機能転写性プラスチックフィルム。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の機能転写性プラスチックフィルムの層Ａを、粘接着剤を介して被転写体と貼合し、さらに基材のみを剥離する工程を含む、光学積層体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置等に利用可能な機能転写性プラスチックフィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、フラットパネルディスプレイの進化に伴って、位相フィルムの薄膜化が求められている。薄膜化された位相差フィルムとして、重合性液晶化合物を配向させた状態で硬化させたものが知られており、特に、膜厚方向に異方性を有する位相差フィルムとして、垂直配向液晶硬化膜を含む位相差フィルムが知られている。垂直配向液晶硬化膜は、重合性液晶化合物を含む組成物をフィルム等の基材の平面に対して垂直に配向させたものであり、基材上にシラン剤又はポリイミドを含む配向膜を形成した後、その配向膜上に、重合性液晶化合物を含む塗工液を塗布する方法（例えば特許文献１及び２）により得られることが知られている。基材としては、配向膜の形成、重合性液晶化合物の塗布、これに続く垂直配向液晶硬化膜の形成その他の工程に耐えるため、通常は比較的厚いものが用いられる。そこで、このようにして形成された垂直配向液晶硬化膜を基材から剥離すれば、薄膜の状態で垂直配向液晶硬化膜を得ることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−１２１８５２号公報
【特許文献２】特開２０１５−０５７６４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、シラン剤を含む垂直配向膜上に垂直配向液晶硬化膜を形成する場合、シラン剤は一般に基材との密着性が高く、この高い密着性に起因して基材のみを剥離できない。このため、フィルムの薄膜化を実現しにくい。一方、ポリイミドを含む垂直配向膜上に形成する場合、基材のみを剥離することが可能なため、基材を剥離し、粘接着剤を介して、偏光板等に薄膜のフィルムを転写して利用することができる。しかしながら、基材から剥離した後の薄膜フィルムは、その機械的強度が不足していることが多く、基材を剥離した状態で搬送ロールにより薄膜の位相差フィルムを搬送した時に搬送ロールと接触して傷が発生し易い。このような傷は、位相差フィルムの欠陥等の不具合を生じさせる。
従って、本発明の目的は、薄膜であっても、転写後の表面に十分な機械的強度を有する機能転写性プラスチックフィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明には、以下のものが含まれる。
［１］重合体からなり３次元屈折率に異方性を有する層Ａと、層Ｂ及び補強層Ｃと、剥離可能な基材とがこの順に積層された機能転写性プラスチックフィルムであって、
層Ａの膜厚は３μｍ以下であり、層Ｂの膜厚は１μｍ以下であり、層Ｃの膜厚は層Ｂの膜厚よりも大きく、各層の界面における剥離力は、下記式（１）及び（２）
Ｆ（Ａ−Ｂ）＞Ｆ（Ｃ−Ｄ）      （１）
Ｆ（Ｂ−Ｃ）＞Ｆ（Ｃ−Ｄ）      （２）
［式中、Ｆ（Ａ−Ｂ）は層Ａと層Ｂの界面における剥離力を表し、Ｆ（Ｂ−Ｃ）は層Ｂと層Ｃの界面における剥離力を表し、Ｆ（Ｃ−Ｄ）は層Ｃと基材の界面における剥離力を表す］
に示す関係である、機能転写性プラスチックフィルム。
［２］層Ｃの膜厚は１〜１０μｍである、［１］に記載の機能転写性プラスチックフィルム。
［３］層Ｃは、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ウレタン樹脂、及びメラミン樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含んでなる、［１］又は［２］に記載の機能転写性プラスチックフィルム。
［４］層Ｂは、構成元素にＳｉ元素、Ｃ元素及びＯ元素を含む化合物からなる層である、［１］〜［３］のいずれかに記載の機能転写性プラスチックフィルム。
［５］層Ａは、配向状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体からなる、［１］〜［４］のいずれかに記載の機能転写性プラスチックフィルム。
［６］［１］〜［５］のいずれかに記載の機能転写性プラスチックフィルムの層Ａを、粘接着剤を介して被転写体と貼合し、さらに基材のみを剥離する工程を含む、光学積層体の製造方法。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の機能転写性プラスチックフィルムは、薄膜であっても、転写後に十分な機械的強度を有する。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明の機能転写性プラスチックフィルムの一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本発明の機能転写性プラスチックフィルム（以下、機能転写性フィルムともいう）は、重合体からなり３次元屈折率に異方性を有する層Ａと、層Ｂ及び補強層Ｃと、剥離可能な基材とがこの順に積層された機能転写性フィルムである。
【０００９】
〔層Ａ〕
層Ａは３次元屈折率に異方性を有する層である。層Ａは、高分子フィルムを延伸又は収縮させる方法により形成してもよいが、転写後の機能性プラスチックフィルムの薄膜化の観点から、配向状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物を重合させて形成することが好ましい。本明細書において、機能性プラスチックフィルム（機能性フィルム又は機能層ともいう）とは、基材以外の層、すなわち、層Ａ、層Ｂ、及び補強層Ｃからなる積層体を意味する。
【００１０】
層Ａは重合体からなる。層Ａの形成は、重合性液晶組成物を層Ｂ上に塗布し、加熱及び／又は光照射によって、配向状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物（重合性液晶ともいう）を重合させる方法で行うことが、層Ａの薄膜化及び波長分散特性を任意に設計できる点で好ましい。
【００１１】
層Ａが形成する３次元屈折率楕円体は２軸性を有していてもよいが、１軸性を有することが好ましい。層Ａは、層Ａの平面に対して水平方向に配向した状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体からなる水平配向液晶硬化層であってもよいし、層Ａの平面に対して垂直方向（層Ａの膜厚方向）に配向した状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体からなる垂直配向液晶硬化層であってもよいし、ハイブリッド配向層又は傾斜配向層であってもよい。
【００１２】
水平配向液晶硬化層は、重合性液晶の光軸が層Ａの平面に対して水平方向に配向しており、垂直配向液晶硬化層は、重合性液晶の光軸が層Ａの平面に対して垂直に配向している。層Ａを構成する重合性液晶は、棒状又は円板状の重合性液晶であってもよい。棒状の重合性液晶が層Ａの平面に対して水平配向又は垂直配向した場合は、重合性液晶の光軸は、該重合性液晶の長軸方向と一致する。円盤状の重合性液晶が配向した場合は、重合性液晶の光軸は、該重合性液晶の円盤面に対して直交する方向に存在する。
【００１３】
重合性液晶の配向により形成される屈折率楕円体における３方向の屈折率ｎｘ、ｎｙ及びｎｚは、ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ（ポジティブＡプレートという）、ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚ（ポジティブＣプレートという）、ｎｘ＜ｎｙ≒ｎｚ（ネガティブＡプレートという）又はｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ（ネガティブＣプレートという）の関係を有していてもよい。ｎｘは、層Ａが形成する屈折率楕円体において、層Ａの平面に対して平行な方向の主屈折率を表す。ｎｙは、層Ａが形成する屈折率楕円体において、層Ａの平面に対して平行であり、且つ、該ｎｘの方向に対して直交する方向の屈折率を表す。ｎｚは、層Ａが形成する屈折率楕円体において、層Ａの平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。
【００１４】
層Ａは、棒状の重合性液晶と円盤状の重合性液晶のどちらであっても使用可能であるが、棒状の重合性液晶であることが好ましい。棒状の重合性液晶が水平配向液晶硬化層を形成する場合、層ＡはポジティブＡプレートとなり、また垂直配向液晶硬化層を形成する場合、層ＡはポジティブＣプレートとなる。特に層Ａは垂直配向液晶硬化層、すなわち、ポジティブＣプレートであることが好ましい。
【００１５】
層Ａがフィルムの面内に光学異方性を有する場合、波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差値であるＲｅ１（５５０）が、下記式（３）に示される光学特性を満たすことが好ましい。また、層Ａは、波長４５０ｎｍの光に対する面内位相差値であるＲｅ１（４５０）、波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差値であるＲｅ１（５５０）及び波長６５０ｎｍの光に対する面内位相差値であるＲｅ１（６５０）が、式（４）及び式（５）で示される光学特性を満たすことも好ましい。層Ａは、下記式（３）、下記式（４）及び下記式（５）で示される光学特性を満たすことがより好ましい。
１２０ｎｍ≦Ｒｅ１（５５０）≦１７０ｎｍ    …（３）
［式中、Ｒｅ１（５５０）は層Ａの波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差値（面内リタデーション）を表す。］
Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）≦１．０    …（４）
１．００≦Ｒｅ１（６５０）／Ｒｅ１（５５０）  …（５）
［式中、Ｒｅ１（４５０）は層Ａの波長４５０ｎｍの光に対する面内位相差値を、Ｒｅ１（５５０）は層Ａの波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差値を、Ｒｅ１（６５０）は層Ａの波長６５０ｎｍの光に対する面内位相差値をそれぞれ表す。］
【００１６】
層Ａの面内位相差値Ｒｅ１（５５０）が式（３）の範囲を超えると、機能性フィルムを含むディスプレイ正面の色相が赤くなったり青くなったりする問題を生じうる。面内位相差値のさらに好ましい範囲としては、１３０ｎｍ≦Ｒｅ１（５５０）≦１６０ｎｍである。層Ａの「Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）」が１．０を超えると、当該層Ａを備える円偏光板での短波長側における楕円率が悪化する。短波長側で円偏光板の楕円率が悪化して１．０を外れて小さくなると、短波長側で正面から見た時の円偏光板としての機能が損なわれる傾向にある。この「Ｒｅ１（４５０）／Ｒｅ１（５５０）」は、好ましくは０．７５〜０．９２、より好ましくは０．７７〜０．８７、さらに好ましくは０．７９〜０．８５である。
【００１７】
層Ａの面内位相差値は、層Ａの厚さによって調整することができる。面内位相差値は下記式（Ａ）によって決定されることから、所望の面内位相差値（Ｒｅ１（λ）：波長λ（ｎｍ）における層Ａの面内位相差値）を得るには、３次元屈折率と膜厚ｄ１とを調整すればよい。なお、３次元屈折率は、後述する重合性液晶化合物の分子構造並びに配向状態に依存する。
Ｒｅ１（λ）＝（ｎｘ１（λ）−ｎｙ１（λ））×ｄ１          （Ａ）
［式中、層Ａが形成する屈折率楕円体においてｎｘ１（λ）＞ｎｙ１（λ）≒ｎｚ１（λ）の関係を有し、ｎｘ１（λ）は波長λ（ｎｍ）の光に対する層Ａ平面に対して平行な方向の主屈折率を表す。ｎｙ１（λ）は波長λ（ｎｍ）の光に対する、層Ａが形成する屈折率楕円体において、層Ａ平面に対して平行であり、且つ、該ｎｘ１（λ）の方向に対して直交する方向の屈折率を表す。ｄ１は層Ａの厚みを表す。］
【００１８】
層ＡがポジティブＣプレートである場合、層Ａは、波長λｎｍの光に対する厚み方向の位相差値であるＲｔｈ２（λ）が、下記式（６）に示される光学特性を満たすことが好ましい。また、下記式（７）及び式（８）に示される光学特性を満たすことも好ましい。層Ａは下記式（６）、下記式（７）及び下記式（８）で示される光学特性を満たすことがより好ましい。
−１００ｎｍ≦Ｒｔｈ２（５５０）≦−５０ｎｍ  …（６）
（式中、Ｒｔｈ２（５５０）は波長５５０ｎｍの光に対する厚み方向の位相差値を表す。）
Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）≦１．０    …（７）
１．００≦Ｒｔｈ２（６５０）／Ｒｔｈ２（５５０）  …（８）
（式中、Ｒｔｈ２（４５０）は波長４５０ｎｍの光に対する厚み方向の位相差値を、Ｒｔｈ２（５５０）は波長５５０ｎｍの光に対する厚み方向の位相差値を、Ｒｔｈ２（６５０）は波長６５０ｎｍの光に対する厚み方向の位相差値をそれぞれ表す。）
【００１９】
層Ａの厚み方向の位相差値Ｒｔｈ２（５５０）が式（６）の範囲を超えると、機能性フィルムを含むディスプレイの斜方の色相が赤くなったり青くなったりする問題を生じうる。厚み方向の位相差値のより好ましい範囲としては、−９５ｎｍ≦Ｒｔｈ２（５５０）≦−５５ｎｍ、さらに好ましい範囲としては−９０ｎｍ≦Ｒｔｈ２（５５０）≦−６０ｎｍである。層Ａの「Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）」が１．０を超えると、当該層Ａを備える楕円偏光板での短波長側での斜方から見た場合の楕円率が悪化する。短波長側で円偏光板の楕円率が悪化して１．０を外れて小さくなると、短波長側で円偏光板としての機能が損なわれる傾向にある。「Ｒｔｈ２（４５０）／Ｒｔｈ２（５５０）」は、好ましくは０．７５〜０．９２、より好ましくは０．７７〜０．８７、さらに好ましくは０．７９〜０．８５である。
【００２０】
層Ａの厚み方向の位相差値は、層Ａの厚さによって調整することができる。厚み方向の位相差値は下記式（Ｂ）によって決定されることから、所望の厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ２（λ）：波長λ（ｎｍ）における層Ａの厚み方向の位相差値）を得るには、３次元屈折率と膜厚ｄ２とを調整すればよい。なお、３次元屈折率は、後述する重合性液晶化合物の分子構造並びに配向性に依存する。
Ｒｔｈ２（λ）＝［（ｎｘ２（λ）＋ｎｙ２（λ））／２−ｎｚ２（λ）］×ｄ２      （Ｂ）
（式中、層Ａが形成する屈折率楕円体においてｎｚ２（λ）＞ｎｘ２（λ）≒ｎｙ２（λ）の関係を有し、式中、ｎｚ２（λ）は層Ａが形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対する層Ａ平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。ｎｘ２（λ）は層Ａが形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対する層Ａ平面に対して平行な方向の最大屈折率を表す。ｎｙ２（λ）は層Ａが形成する屈折率楕円体において、層Ａ平面に対して平行であり、且つ、前記ｎｘ２の方向に対して直交する方向の波長λ（ｎｍ）の光に対する屈折率を表す。ただし、ｎｘ２（λ）＝ｎｙ２（λ）となる場合には、ｎｘ２（λ）は層Ａ平面に対して平行な任意の方向の屈折率を表す。ここで、ｄ２は層Ａの厚みを表す。）
【００２１】
層Ａは、上述のように配向状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体であることが好ましい。層Ａを形成する重合性液晶化合物は、重合性官能基、特に光重合性官能基を有する液晶化合物である。光重合性官能基とは、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。光重合性官能基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよく、相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。
【００２２】
本発明において、重合性液晶化合物は、逆波長分散性を発現させる、好ましくは、前記式（４）及び（５）若しくは（６）及び（７）の関係を充足させる観点から、下記式（Ｉ）
【化１】
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で表される化合物が好ましい。
【００２３】
式（Ｉ）中、Ａｒは置換基を有していてもよい二価の芳香族基を表す。ここで言う芳香族基とは、平面性を有する環状構造の基であり、該環構造が有するπ電子数がヒュッケル則に従い［４ｎ＋２］個であるものをいう。ここで、ｎは整数を表す。−Ｎ＝や−Ｓ−等のヘテロ原子を含んで環構造を形成している場合、これらヘテロ原子上の非共有結合電子対を含めてヒュッケル則を満たし、芳香族性を有する場合も含む。該二価の芳香族基中には窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも１つ以上が含まれることが好ましい。
【００２４】
Ｇ１及びＧ２はそれぞれ独立に、二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を表す。ここで、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のフルオロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよく、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子に置換されていてもよい。
【００２５】
Ｌ１、Ｌ２、Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基である。
【００２６】
ｋ、ｌは、それぞれ独立に０〜３の整数を表し、１≦ｋ＋ｌの関係を満たす。ここで、２≦ｋ＋ｌである場合、Ｂ１及びＢ２、Ｇ１及びＧ２は、それぞれ互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００２７】
Ｅ１及びＥ２はそれぞれ独立に、炭素数１〜１７のアルカンジイル基を表し、ここで、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓｉ−で置換されていてもよい。Ｐ１及びＰ２は互いに独立に、重合性基又は水素原子を表し、少なくとも１つは重合性基である。
【００２８】
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子及び炭素数１〜４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４−フェニレンジイル基、ハロゲン原子及び炭素数１〜４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４−シクロヘキサンジイル基であり、より好ましくはメチル基で置換された１，４−フェニレンジイル基、無置換の１，４−フェニレンジイル基、又は無置換の１，４−ｔｒａｎｓ−シクロヘキサンジイル基であり、特に好ましくは無置換の１，４−フェニレンジイル基、又は無置換の１，４−ｔｒａｎｓ−シクロへキサンジイル基である。また、複数存在するＧ１及びＧ２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、また、Ｌ１又はＬ２に結合するＧ１及びＧ２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることがより好ましい。
【００２９】
Ｌ１及びＬ２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１〜４のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｒａ１ＯＲａ２−、−Ｒａ３ＣＯＯＲａ４−、−Ｒａ５ＯＣＯＲａ６−、Ｒａ７ＯＣ＝ＯＯＲａ８−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲｃ＝ＣＲｄ−、又はＣ≡Ｃ−である。ここで、Ｒａ１〜Ｒａ８はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数１〜４のアルキレン基を表し、Ｒｃ及びＲｄは炭素数１〜４のアルキル基又は水素原子を表す。Ｌ１及びＬ２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、−ＯＲａ２−１−、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯＲａ４−１−、又はＯＣＯＲａ６−１−である。ここで、Ｒａ２−１、Ｒａ４−１、Ｒａ６−１はそれぞれ独立に単結合、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−のいずれかを表す。Ｌ１及びＬ２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２−、又はＯＣＯ−である。
【００３０】
Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１〜４のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｒａ９ＯＲａ１０−、−Ｒａ１１ＣＯＯＲａ１２−、−Ｒａ１３ＯＣＯＲａ１４−、又はＲａ１５ＯＣ＝ＯＯＲａ１６−である。ここで、Ｒａ９〜Ｒａ１６はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数１〜４のアルキレン基を表す。Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、−ＯＲａ１０−１−、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯＲａ１２−１−、又はＯＣＯＲａ１４−１−である。ここで、Ｒａ１０−１、Ｒａ１２−１、Ｒａ１４−１はそれぞれ独立に単結合、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−のいずれかを表す。Ｂ１及びＢ２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−、又はＯＣＯＣＨ２ＣＨ２−、である。
【００３１】
ｋ及びｌは、逆波長分散性発現の観点から２≦ｋ＋ｌ≦６の範囲が好ましく、ｋ＋ｌ＝４であることが好ましく、ｋ＝２かつｌ＝２であることがより好ましい。ｋ＝２かつｌ＝２であると対称構造となるためさらに好ましい。
【００３２】
Ｅ１及びＥ２はそれぞれ独立に、炭素数１〜１７のアルカンジイル基が好ましく、炭素数４〜１２のアルカンジイル基がより好ましい。
【００３３】
Ｐ１又はＰ２で表される重合性基としては、例えばエポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、及びオキセタニル基等が挙げられる。これらの中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。
【００３４】
Ａｒは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、及び電子吸引性基から選ばれる少なくとも一つを有することが好ましい。当該芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられ、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。当該芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアゾール環、トリアジン環、ピロリン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チエノチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、及びフェナンスロリン環等が挙げられる。これらの中でも、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、又はベンゾフラン環を有することが好ましく、ベンゾチアゾール基を有することがさらに好ましい。また、Ａｒに窒素原子が含まれる場合、当該窒素原子はπ電子を有することが好ましい。
【００３５】
式（Ｉ）中、Ａｒで表される２価の芳香族基に含まれるπ電子の合計数Ｎπは８以上が好ましく、より好ましくは１０以上であり、さらに好ましくは１４以上であり、特に好ましくは１６以上である。また、好ましくは３０以下であり、より好ましくは２６以下であり、さらに好ましくは２４以下である。
【００３６】
Ａｒで表される芳香族基としては、例えば以下の基が挙げられる。
【００３７】
【化２】
2019018392.tif 000004
【００３８】
式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−２２）中、＊印は連結部を表し、Ｚ０、Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜１２のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基、炭素数１〜１２のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のＮ−アルキルスルファモイル基又は炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。
【００３９】
Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立に、−ＣＲ２’Ｒ３’−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ２’−、−ＣＯ−又はＯ−を表し、Ｒ２’及びＲ３’は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
【００４０】
Ｊ１、及びＪ２は、それぞれ独立に、炭素原子、又は窒素原子を表す。
【００４１】
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。
【００４２】
Ｗ１及びＷ２は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基又はハロゲン原子を表し、ｍは０〜６の整数を表す。
【００４３】
Ｙ１、Ｙ２及びＹ３における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも１つ含む炭素数４〜２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。
【００４４】
Ｙ１及びＹ２は、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、又は芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、又は芳香環集合に由来する基をいう。
【００４５】
Ｚ０、Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基であることが好ましく、Ｚ０は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基がさらに好ましく、Ｚ１及びＺ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、シアノ基がさらに好ましい。
【００４６】
Ｑ１及びＱ２は、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＮＲ２’−、−Ｏ−が好ましく、Ｒ２’は水素原子が好ましい。中でも−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＨ−が特に好ましい。
【００４７】
式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−２２）の中でも、式（Ａｒ−６）及び式（Ａｒ−７）が分子の安定性の観点から好ましい。
【００４８】
式（Ａｒ−１６）〜（Ａｒ−２２）において、Ｙ１は、これが結合する窒素原子及びＺ０と共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。芳香族複素環基としては、Ａｒが有していてもよい芳香族複素環として前記したものが挙げられるが、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Ｙ１は、これが結合する窒素原子及びＺ０と共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等が挙げられる。なお、前記式（Ｉ）で表される化合物は、例えば、特開２０１０−３１２２３号公報に記載の方法に準じて製造することができる。
【００４９】
重合性液晶化合物は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。二種以上併用する場合、前記式（Ｉ）で表される化合物の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、好ましくは５０質量部以上、より好ましくは７０質量部以上、さらに好ましくは８０質量部以上である。
【００５０】
重合性液晶組成物は、溶媒、光重合開始剤、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤、密着性向上剤、二色性色素等をさらに含むことができる。これらの添加剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００５１】
重合性液晶化合物の含有量は、重合性液晶組成物の固形分１００質量部に対して、例えば７０〜９９．５質量部であり、好ましくは８０〜９９質量部であり、より好ましくは９０〜９８質量部である。含有量が上記範囲内であれば、層Ａの配向性が高くなる傾向がある。ここで、固形分とは、組成物から溶媒を除いた成分の合計量のことをいう。
【００５２】
溶媒としては、重合性液晶化合物を溶解し得る溶媒が好ましく、また、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶媒であることが好ましい。溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−ブトキシエタノール及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート及び乳酸エチル等のエステル溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン及びメチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；ペンタン、ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素溶媒；トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素溶媒；アセトニトリル等のニトリル溶媒；テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル溶媒；クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶媒；ジメチルアセトアミド、ジメチルホルミアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等のアミド系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの中でも、アルコール溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒、塩素含有溶媒、アミド系溶媒及び芳香族炭化水素溶媒が好ましい。
【００５３】
溶媒の含有量は、重合性液晶組成物１００質量部に対して、好ましくは５０〜９８質量部、より好ましくは７０〜９５重量部である。従って、組成物１００質量部に占める固形分は、２〜５０質量部が好ましい。組成物の固形分が５０質量部以下であると、組成物の粘度が低くなることから、層Ａの厚みが略均一になり、層Ａにムラが生じ難くなる傾向がある。上記固形分は、製造しようとする層Ａの厚みを考慮して適宜定めることができる。
【００５４】
重合開始剤は、熱又は光の寄与によって反応活性種を生成し、重合性液晶等の重合反応を開始し得る化合物である。反応活性種としては、ラジカル、カチオン、又はアニオン等の活性種が挙げられる。中でも反応制御が容易であるという観点から、光照射によって反応が進行する光重合開始剤が好ましい。
【００５５】
光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤等が挙げられる。光ラジカル重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンジルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、トリアジン化合物等が挙げられ、光カチオン重合開始剤としては、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩や芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩、鉄−アレーン錯体等が挙げられる。具体的には、イルガキュア（Irgacure、登録商標）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９、イルガキュア３７９、イルガキュア１２７、イルガキュア２９５９、イルガキュア７５４、イルガキュア３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、精工化学株式会社製）、カヤキュアー（kayacure）ＢＰ１００（日本化薬株式会社製）、カヤキュアーＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５２、アデカオプトマーＳＰ−１７０、アデカオプトマーＮ−１７１７、アデカオプトマーＮ−１９１９、アデカアークルズＮＣＩ−８３１、アデカアークルズＮＣＩ−９３０（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）、ＴＡＺ−Ａ、ＴＡＺ−ＰＰ（以上、日本シイベルヘグナー社製）及びＴＡＺ−１０４（三和ケミカル社製）、カヤラッド（登録商標）シリーズ（日本化薬株式会社製）、サイラキュア  ＵＶＩシリーズ（ダウケミカル社製）、ＣＰＩシリーズ（サンアプロ株式会社製）、ＴＡＺ、ＢＢＩ及びＤＴＳ（以上、みどり化学株式会社製）、ＲＨＯＤＯＲＳＩＬ（登録商標）（ローディア株式会社製）等が挙げられる。光重合開始剤は単独又は二種以上組合わせて使用できる。これらの中でも反応制御が容易であるという観点から、光照射によってラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤が好ましい。
【００５６】
光重合開始剤は、光源から発せられるエネルギーを十分に活用でき、生産性に優れるため、極大吸収波長が３００ｎｍ〜４００ｎｍであると好ましく、３００ｎｍ〜３８０ｎｍであるとより好ましく、中でも、α−アセトフェノン系重合開始剤、オキシム系光重合開始剤が好ましい。
【００５７】
α−アセトフェノン系重合開始剤としては、例えば、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オン及び２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−（４−メチルフェニルメチル）ブタン−１−オン等が挙げられ、より好ましくは２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン及び２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オンが挙げられる。α−アセトフェノン化合物の市販品としては、イルガキュア３６９、３７９ＥＧ、９０７（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）及びセイクオールＢＥＥ（精工化学社製）等が挙げられる。
【００５８】
オキシム系光重合開始剤は、光が照射されることによってラジカルを生成させる。このラジカルにより層Ａの深部における重合性液晶化合物の重合が好適に進行する。また、層Ａの深部での重合反応をより効率的に進行させるという観点から、波長３５０ｎｍ以上の紫外線を効率的に利用可能な光重合開始剤を使用することが好ましい。波長３５０ｎｍ以上の紫外線を効率的に利用可能な光重合開始剤としては、トリアジン化合物やオキシムエステル型カルバゾール化合物が好ましく、感度の観点からはオキシムエステル型カルバゾール化合物がより好ましい。オキシムエステル型カルバゾール化合物としては、例えば１，２−オクタンジオン、１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等が挙げられる。オキシムエステル型カルバゾール化合物の市販品としては、イルガキュアＯＸＥ−０１、イルガキュアＯＸＥ−０２、イルガキュアＯＸＥ−０３（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、アデカオプトマーＮ−１９１９、アデカアークルズＮＣＩ−８３１（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。
【００５９】
光重合開始剤の添加量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常、０．１〜３０質量部であり、好ましくは１〜２０質量部であり、より好ましくは１〜１５質量部である。上記範囲内であれば、重合性基の反応が十分に進行し、かつ、重合性液晶化合物の配向を乱し難い。
【００６０】
重合禁止剤を配合することにより、重合性液晶化合物の重合反応をコントロールすることができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン及びアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類；ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類；ピロガロール類、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補捉剤；チオフェノール類；β−ナフチルアミン類及びβ−ナフトール類が挙げられる。重合性液晶化合物の配向を乱すことなく、重合性液晶化合物を重合するためには、重合禁止剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部であり、好ましくは０．１〜５質量部であり、さらに好ましくは０．１〜３質量部である。重合禁止剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００６１】
さらに、光増感剤を用いることにより、光重合開始剤を高感度化することができる。光増感剤としては、例えば、キサントン、チオキサントン等のキサントン類；アントラセン及びアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類；フェノチアジン；ルブレンが挙げられる。光増感剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。光増感剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部であり、好ましくは０．０５〜５質量部であり、さらに好ましくは０．１〜３質量部である。
【００６２】
レベリング剤とは、重合性液晶組成物の流動性を調整し、組成物を塗布して得られる層をより平坦にする機能を有する添加剤であり、例えば、シランカップリング剤等のシリコーン系及びポリアクリレート系及びパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。具体的には、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１、ＫＢＭ−１００３、ＫＢＥ−１００３、ＫＢＭ−３０３、ＫＢＭ−４０２、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＥ−４０２、ＫＢＥ−４０３、ＫＢＭ−１４０３、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＥ−５０２、ＫＢＥ−５０３、ＫＢＭ−５１０３、ＫＢＭ−６０２、ＫＢＭ−６０３、ＫＢＭ−９０３、ＫＢＥ−９０３、ＫＢＥ−９１０３、ＫＢＭ−５７３、ＫＢＭ−５７５、ＫＢＥ−５８５、ＫＢＭ−８０２、ＫＢＭ−８０２、ＫＢＭ−８０３、ＫＢＥ−８４６、ＫＢＥ−９００７（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ  パフォーマンス  マテリアルズ  ジャパン合同会社製）、フロリナート（ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ）（登録商標）ＦＣ−７２、同ＦＣ−４０、同ＦＣ−４３、同ＦＣ−３２８３（以上、全て住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−９０、同Ｆ−４１０、同Ｆ−４１１、同Ｆ−４４３、同Ｆ−４４５、同Ｆ−４７０、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４７９、同Ｆ−４８２、同Ｆ−４８３（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８１、同Ｓ−３８２、同Ｓ−３８３、同Ｓ−３９３、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０５、ＫＨ−４０、ＳＡ−１００（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５３及びＢＹＫ−３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ  Ｃｈｅｍｉｅ社製）等が挙げられる。レベリング剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００６３】
レベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．０１〜５質量部が好ましく、０．０５〜３質量部がさらに好ましい。レベリング剤の含有量が、上記範囲内であると、得られる層Ａがより平滑となる傾向があるため好ましい。
【００６４】
二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素をいう。二色性色素としては、可視光を吸収する特性を有することが好ましく、３８０〜６８０ｎｍの範囲に吸収極大波長（λＭＡＸ）を有するものがより好ましい。このような二色性色素としては、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素およびアントラキノン色素などが挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素としては、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素およびスチルベンアゾ色素などが挙げられ、好ましくはビスアゾ色素およびトリスアゾ色素である。二色性色素は単独でも、組み合わせてもよいが、可視光全域で吸収を得るためには、３種類以上の二色性色素を組み合わせるのが好ましく、３種類以上のアゾ色素を組み合わせるのがより好ましい。
【００６５】
アゾ色素としては、例えば、下記式（II）で表される化合物（以下、「化合物（II）」ということもある）が挙げられる。
Ｔ１-Ａ１（−Ｎ＝Ｎ−Ａ２）ｐ−Ｎ＝Ｎ−Ａ３-Ｔ２（II）
［式（II）中、
Ａ１、Ａ２およびＡ３は、互いに独立に、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基、ナフタレン−１，４−ジイル基または置換基を有していてもよい２価の複素環基を表し、Ｔ１およびＴ２は電子吸引基あるいは電子放出基であり、アゾ結合面内に対して実質的に１８０°の位置に有する。ｐは０〜４の整数を表す。ｐが２以上である場合、各々のＡ２は互いに同一でも異なっていてもよい。可視域に吸収を示す範囲で−Ｎ＝Ｎ−結合が−Ｃ＝Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＮＨＣＯ−または−Ｎ＝ＣＨ−結合に置き換わっていてもよい。］
【００６６】
Ａ１、Ａ２およびＡ３における１，４−フェニレン基、ナフタレン−１，４−ジイル基および２価の複素環基が任意に有する置換基としては、メチル基、エチル基およびブチル基などの炭素数１〜４のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基およびブトキシ基などの炭素数１〜４のアルコキシ基；トリフルオロメチル基などの炭素数１〜４のフッ化アルキル基；シアノ基；ニトロ基；塩素原子、フッ素原子などのハロゲン原子；アミノ基、ジエチルアミノ基およびピロリジノ基などの置換または無置換アミノ基（置換アミノ基とは、炭素数１〜６のアルキル基を１つまたは２つ有するアミノ基、あるいは２つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数２〜８のアルカンジイル基を形成しているアミノ基を意味する。無置換アミノ基は、−ＮＨ２である。）が挙げられる。なお、炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基およびヘキシル基などが挙げられる。炭素数２〜８のアルカンジイル基としては、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基などが挙げられる。スメクチック液晶のような高秩序液晶構造中に包摂するためには、Ａ１、Ａ２およびＡ３は無置換または水素がメチル基またはメトキシ基で置換された１，４−フェニレン基、または２価の複素環基が好ましく、ｐは０または１である事が好ましい。中でもｐが１であり、かつ、Ａ１、Ａ２およびＡ３の３つの構造のうち少なくとも２つが１，４−フェニレン基である事が分子合成の簡便さと高い性能の両方を有するという点でより好ましい。
【００６７】
２価の複素環基としては、キノリン、チアゾール、ベンゾチアゾール、チエノチアゾール、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、オキサゾールおよびベンゾオキサゾールから２個の水素原子を除いた基が挙げられる。Ａ２が２価の複素環基の場合には、分子結合角度が実質的に１８０°となる構造が好ましく、具体的には、二つの５員環が縮合したベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾオキサゾール構造がより好ましい。
【００６８】
Ｔ１およびＴ２は電子吸引基あるいは電子放出基であり、異なる構造である事が好ましく、Ｔ１が電子吸引基およびＴ２が電子放出基、あるいは、Ｔ１が電子放出基およびＴ２が電子吸引基の関係である事がさらに好ましい。具体的には、Ｔ１およびＴ２は互いに独立に炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキル基を１つまたは２つ有するアミノ基、あるいは２つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数２〜８のアルカンジイル基を形成しているアミノ基、またはトリフルオロメチル基が好ましく、中でもスメクチック液晶のような高秩序液晶構造中に包摂するためには、分子の排除体積がより小さい構造体である必要があるため、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基を１つまたは２つ有するアミノ基、あるいは２つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数２〜８のアルカンジイル基を形成しているアミノ基が好ましい。
【００６９】
このようなアゾ色素としては、例えば、以下のようなものが挙げられる。
【００７０】
【化３】
2019018392.tif 000005
【００７１】
【化４】
2019018392.tif 000006
【００７２】
式（２−１）〜（２−６）中、
Ｂ１〜Ｂ２０は、互いに独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、置換または無置換のアミノ基（置換アミノ基および無置換アミノ基の定義は前記のとおり）、塩素原子またはトリフルオロメチル基を表す。また、高い偏光性能が得られる観点から、Ｂ２、Ｂ６、Ｂ９、Ｂ１４、Ｂ１８、Ｂ１９は水素原子又はメチル基が好ましく、水素原子がさらに好ましい。
ｎ１〜ｎ４は、それぞれ独立に０〜３の整数を表す。
ｎ１が２以上である場合、複数のＢ２はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよく、
ｎ２が２以上である場合、複数のＢ６はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよく、
ｎ３が２以上である場合、複数のＢ９はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよく、
ｎ４が２以上である場合、複数のＢ１４はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【００７３】
前記アントラキノン色素としては、式（２−７）で表される化合物が好ましい。
【００７４】
【化５】
2019018392.tif 000007
【００７５】
［式（２−７）中、
Ｒ１〜Ｒ８は、互いに独立に、水素原子、−Ｒｘ、−ＮＨ２、−ＮＨＲｘ、−ＮＲｘ２、−ＳＲｘまたはハロゲン原子を表す。
Ｒｘは、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数６〜１２のアリール基を表す。］
【００７６】
前記オキサジン色素としては、式（２−８）で表される化合物が好ましい。
【００７７】
【化６】
2019018392.tif 000008
【００７８】
［式（２−８）中、
Ｒ９〜Ｒ１５は、互いに独立に、水素原子、−Ｒｘ、−ＮＨ２、−ＮＨＲｘ、−ＮＲｘ２、−ＳＲｘまたはハロゲン原子を表す。
Ｒｘは、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数６〜１２のアリール基を表す。］
【００７９】
前記アクリジン色素としては、式（２−９）で表される化合物が好ましい。
【００８０】
【化７】
2019018392.tif 000009
【００８１】
［式（２−９）中、
Ｒ１６〜Ｒ２３は、互いに独立に、水素原子、−Ｒｘ、−ＮＨ２、−ＮＨＲｘ、−ＮＲｘ２、−ＳＲｘまたはハロゲン原子を表す。
Ｒｘは、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数６〜１２のアリール基を表す。］
【００８２】
式（２−７）、式（２−８）および式（２−９）における、Ｒｘで表される炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基およびヘキシル基等が挙げられ、炭素数６〜１２のアリール基としては、フェニル基、トルイル基、キシリル基およびナフチル基等が挙げられる。
【００８３】
前記シアニン色素としては、式（２−１０）で表される化合物および式（２−１１）で表される化合物が好ましい。
【００８４】
【化８】
2019018392.tif 000010
【００８５】
［式（２−１０）中、
Ｄ１およびＤ２は、互いに独立に、式（２−１０ａ）〜式（２−１０ｄ）のいずれかで表される基を表す。
【化９】
2019018392.tif 000011
ｎ５は１〜３の整数を表す。］
【００８６】
【化１０】
2019018392.tif 000012
【００８７】
［式（２−１１）中、
Ｄ３およびＤ４は、互いに独立に、式（２−１１ａ）〜式（２−１１ｈ）のいずれかで表される基を表す。
【化１１】
2019018392.tif 000013
ｎ６は１〜３の整数を表す。］
【００８８】
二色性色素の含有量（複数種含む場合にはその合計量）は、良好な光吸収特性を得る観点から、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは１〜２０質量部であり、より好ましくは３〜１５質量部である。二色性色素の含有量がこの範囲より少ないと光吸収が不十分となり、十分な偏光性能が得られず、この範囲よりも多いと液晶分子の配向を阻害する場合がある。
【００８９】
重合性液晶組成物は、重合性液晶化合物と、添加剤等の重合性液晶化合物以外の成分とを所定温度で撹拌等することにより得ることができる。
【００９０】
層Ａは、前記重合性液晶組成物を層Ｂ上に塗布し、次いで溶媒を除去し、配向状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物を加熱及び／又は活性エネルギー線によって硬化させて得ることができる。
【００９１】
重合性液晶組成物を層Ｂ上に塗布する方法（以下、塗布方法Ａという場合がある）としては、例えば押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、スリットコーティング法、マイクログラビア法、ダイコーティング法、インクジェット法等が挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法等も挙げられる。中でも、Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ形式で連続的に塗布する場合には、マイクログラビア法、インクジェット法、スリットコーティング法、ダイコーティング法による塗布方法が好ましい。
【００９２】
溶媒を除去する方法（以下、溶媒除去方法Ａという場合がある）としては、例えば、自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥及びこれらを組み合わせた方法が挙げられる。中でも、自然乾燥又は加熱乾燥が好ましい。乾燥温度は、０〜２００℃の範囲が好ましく、２０〜１５０℃の範囲がより好ましく、５０〜１３０℃の範囲がさらに好ましい。乾燥時間は、１０秒間〜２０分間が好ましく、より好ましくは３０秒間〜１０分間である。
【００９３】
照射する活性エネルギー線としては、重合性液晶化合物の種類（特に、重合性液晶化合物が有する光重合性官能基の種類）、光重合開始剤を含む場合には光重合開始剤の種類、及びそれらの量に応じて適宜選択される。具体的には、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線、及びγ線からなる群より選択される一種以上の光が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点、及び光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって光重合可能なように、重合性液晶化合物の種類を選択することが好ましい。
【００９４】
前記活性エネルギー線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０〜４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。
【００９５】
紫外線照射強度は、通常、１０〜３，０００ｍＷ／ｃｍ２である。紫外線照射強度は、好ましくは光カチオン重合開始剤又は光ラジカル重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。光を照射する時間は、通常０．１秒〜１０分であり、好ましくは０．１秒〜５分、より好ましくは０．１秒〜３分、さらに好ましくは０．１秒〜１分である。このような紫外線照射強度で１回又は複数回照射すると、その積算光量は、１０〜３，０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは５０〜２，０００ｍＪ／ｃｍ２、より好ましくは１００〜１，０００ｍＪ／ｃｍ２である。積算光量が上記の下限以下である場合には、重合性液晶化合物の硬化が不十分となり、良好な転写性が得られない場合がある。逆に、積算光量が上記の上限以上である場合には、層Ａを含む機能性フィルムが着色する場合がある。
【００９６】
層Ａの膜厚は、機能性フィルムの薄膜化の観点から、好ましくは５μｍ以下であり、より好ましくは３μｍ以下、さらに好ましくは２．５μｍ以下である。また、層Ａの膜厚の下限は、好ましくは０．１μｍ以上、より好ましくは０．５μｍ以上、さらに好ましくは１．０μｍ以上である。層Ａの膜厚は、エリプソメータ又は接触式膜厚計を用いて測定することができる。
【００９７】
〔層Ｂ〕
層Ｂは１μｍ以下の膜厚の層であれば、特に限定されないが、層Ａの重合性液晶化合物を所定方向に配向させる配向規制力を有する配向層であることが好ましい。このような配向層は重合性液晶化合物の配向を容易にする。また、配向層の種類やラビング条件や光照射条件によって、垂直配向、水平配向、ハイブリッド配向、及び傾斜配向等の様々な配向の制御が可能である。このため、層Ｂに所定の配向層を用いることで、層Ａを所定の配向性を有する配向液晶層、例えば垂直配向液晶層、水平配向液晶層、ハイブリッド配向液晶層、及び傾斜配向液晶層に形成することができる。
【００９８】
配向層としては、重合性液晶組成物の塗布等により溶解しない溶媒耐性を有し、また、溶媒の除去や重合性液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。
【００９９】
層Ａを水平方向に配向させる配向規制力を示す水平配向層としては、ラビング配向層、光配向層及び、表面に凹凸パターンや複数の溝を有するグルブ配向層等が挙げられる。例えば長尺のロール状フィルムに適用する場合には、配向方向を容易に制御できる点で、光配向層が好ましい。
【０１００】
ラビング配向層は、通常、配向性ポリマーと溶媒とを含む組成物（以下、ラビング配向層形成用組成物ともいう）を補強層Ｃに塗布し、溶媒を除去して塗布膜を形成し、該塗布膜をラビングすることで配向規制力を付与することができる。
【０１０１】
配向性ポリマーとしては、例えば、アミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、イミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸及びポリアクリル酸エステル類が挙げられる。これらの配向性ポリマーは単独又は二種以上組み合わせて使用できる。
【０１０２】
ラビング配向層形成用組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマーが溶媒に完溶する範囲であればよい。配向性ポリマーの含有量は、該組成物１００質量部に対して、好ましくは０．１〜２０質量部であり、より好ましくは０．１〜１０質量部である。
【０１０３】
ラビング配向層形成用組成物は、市場から入手できる。市販品としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）等が挙げられる。
【０１０４】
溶媒は、例えば層Ａの項で例示した溶媒を使用することができる。ラビング配向層形成用組成物を補強層Ｃに塗布する方法としては、前記塗布方法Ａが挙げられ、溶媒を除去する方法としては、前記溶媒除去方法Ａが挙げられる。
【０１０５】
ラビング処理の方法としては、例えば、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、前記塗布膜を接触させる方法が挙げられる。ラビング処理を行う時に、マスキングを行えば、配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を配向膜に形成することもできる。
【０１０６】
光配向層は、通常、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶媒とを含む組成物（光配向層形成用組成物ともいう）を補強層Ｃ上に塗布し、溶媒を除去後に偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することで得られる。光配向層は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御することができる。
【０１０７】
光反応性基とは、光照射することにより配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起反応、異性化反応、光二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素−窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素−窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）及び炭素−酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。
【０１０８】
Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾール基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、及び、アゾキシベンゼン構造を有する基が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、例えば、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。
【０１０９】
光二量化反応又は光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ熱安定性や経時安定性に優れる光配向層が得られやすいという点で、シンナモイル基及びカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造又は桂皮酸エステル構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。
【０１１０】
光反応性基を有するポリマー又はモノマーの含有量は、ポリマー又はモノマーの種類や目的とする光配向層の厚さによって調節でき、光配向層形成用組成物１００質量部に対して、少なくとも０．２質量部以上とすることが好ましく、０．３〜１０質量部の範囲がより好ましい。
【０１１１】
溶媒は、例えば層Ａの項で例示した溶媒を使用することができる。光配向層形成用組成物を補強層Ｃに塗布する方法としては、前記塗布方法Ａが挙げられ、溶媒を除去する方法としては、前記溶媒除去方法Ａが挙げられる。
【０１１２】
偏光を照射するには、例えば、補強層Ｃ上に塗布された光配向層形成用組成物から、溶媒を除去したものに直接、偏光を照射する形式であってよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であると好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長域のものがよい。具体的には、波長２５０〜４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外線）が特に好ましい。当該偏光を照射する光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦ等の紫外光レーザー等が挙げられる。中でも、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ及びメタルハライドランプが、波長３１３ｎｍの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光素子を通過して照射することにより、偏光ＵＶを照射することができる。偏光素子としては、偏光フィルター、グラントムソン、及びグランテーラー等の偏光プリズム、ならびにワイヤーグリッドが挙げられる。中でも大面積化と熱による耐性の観点からワイヤーグリッドタイプの偏光素子が好ましい。
【０１１３】
なお、ラビング又は偏光照射を行うときに、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を形成することもできる。
【０１１４】
グルブ（ｇｒｏｏｖｅ）配向層は、膜表面に凹凸パターン又は複数のグルブ（溝）を有する膜である。等間隔に並んだ複数の直線状のグルブを有する膜に重合性液晶化合物を塗布した場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向する。
【０１１５】
グルブ配向層を得る方法としては、感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光後、現像及びリンス処理を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、硬化前のＵＶ硬化樹脂の層を形成し、形成された樹脂層を補強層Ｃへ移してから硬化する方法、及び、補強層Ｃ上に形成した硬化前のＵＶ硬化樹脂の膜に、複数の溝を有するロール状の原盤を押し当てて凹凸を形成し、その後硬化する方法等が挙げられる。
【０１１６】
層Ａを垂直方向に配向させる配向規制力を示す垂直配向層としては、補強層Ｃ表面の表面張力を下げるような材料を適用することが好ましい。このような材料としては、上述した配向性ポリマー、例えばポリイミド、ポリアミド、その加水分解物であるポリアミック酸、パーフルオロアルキル等のフッ素系ポリマー、及びシラン化合物並びにそれらの縮合反応により得られるポリシロキサン化合物が挙げられる。垂直配向層は、このような材料と溶媒、例えば層Ａの項で例示した溶媒とを含む組成物（以下、垂直配向層形成用組成物ともいう）を補強層Ｃに塗布し、溶媒除去後、塗布膜に加熱等施すことで得ることができる。
【０１１７】
垂直配向層にシラン化合物を使用する場合には、表面張力を低下させやすく、層Ｂに隣接する層Ａ及び層Ｃとの密着性を高めやすい観点から、層Ｂは構成元素にＳｉ元素とＣ元素とを含む化合物からなる層が好ましく、シラン化合物を好適に使用することができる。通常、基材上にシラン化合物を含んでなる層を形成すると、その高い密着性に起因して基材との剥離が困難又は剥離不能となるが、本発明では層Ｂと基材との間に補強層Ｃが設けられているため、基材のみを容易に剥離することができる。さらに、層Ｂと、層Ｂに隣接する層Ａ及び層Ｃとの高い密着性が発現され、機能性フィルムにおいて、各層間の界面における剥がれを有効に抑制又は防止することができる。
【０１１８】
シラン化合物としては、上述したシランカップリング剤等のシリコーン系が好適に適用可能であるが、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルジメトキシメチルシラン、３−グリシドキシプロピルエトキシジメチルシランなどが挙げられる。
【０１１９】
シラン化合物は、シリコーンモノマータイプのものであってもよく、タイプシリコーンオリゴマー（ポリマー）タイプのものであってもよい。シリコーンオリゴマーを（単量体）−（単量体）コポリマーの形式で示すと、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、及び３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーの如き、メルカプトプロピル基含有のコポリマー；メルカプトメチルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、メルカプトメチルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、メルカプトメチルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、及びメルカプトメチルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーの如き、メルカプトメチル基含有のコポリマー；３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、及び３−メタクリロキシイルオプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーの如き、メタクリロイルオキシプロピル基含有のコポリマー；３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、及び３−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーの如き、アクリロイルオキシプロピル基含有のコポリマー；ビニルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、ビニルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、ビニルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、ビニルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、ビニルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、ビニルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、ビニルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、及びビニルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーの如き、ビニル基含有のコポリマー；３−アミノプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、及び３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーの如き、アミノ基含有のコポリマー等が挙げられる。シラン化合物は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。また、レベリング剤としても使用される場合もある、シランカップリング剤等も使用する事が出来る。
【０１２０】
これらの中でも分子末端にアルキル基を有するシラン化合物が好ましく、炭素数３〜３０のアルキル基を有するシラン化合物がより好ましい。
【０１２１】
層Ｂに隣接する層Ａ及び層Ｃとの密着性をより向上しやすい観点、及び層Ａ形成用組成物の塗布性の観点から、層Ｂは、構成元素にＳｉ元素、Ｃ元素及びＯ元素を含む化合物からなる層であることが好ましく、上記シラン化合物のうち、このような層Ｂを形成可能なシラン化合物を好適に使用することができる。また、層Ｂを形成するシラン化合物のＳｉ原子に結合するＣ原子を含む置換基、好ましくはアルキル基又はアルコキシ基の炭素原子数は、好ましくは１〜３０、より好ましくは２〜２５、さらに好ましくは３〜２０である。すなわち、Ｓｉ元素とＣ元素との比率（Ｓｉ／Ｃ、モル比）は、好ましくは０．０３〜１．００、より好ましくは０．０４〜０．５０、さらに好ましくは０．０５〜０．３３である。Ｓｉ／Ｃ比が上記の下限以上であると、層Ａ形成用組成物の塗布性が向上し、Ｓｉ／Ｃ比が上記の上限以下であると隣接する層との密着性を向上できる。
【０１２２】
溶媒は、例えば層Ａの項で例示した溶媒を使用することができる。垂直配向層形成用組成物を補強層Ｃに塗布する方法としては、前記塗布方法Ａが挙げられ、溶媒を除去する方法としては、前記溶媒除去方法Ａが挙げられる。
【０１２３】
層Ｂ形成用組成物、すなわち、前記ラビング配向層形成用組成物、前記光配向層形成用組成物等の水平配向層形成用組成物、及び前記垂直配向層形成用組成物は溶媒の他、層Ａの項に例示の添加剤等を含むことができる。
【０１２４】
層Ｂの膜厚は、機能性フィルムの薄膜化の観点から、好ましくは１μｍ以下、より好ましくは０．５μｍ以下、さらに好ましくは０．３μｍ以下である。また、層Ｂの膜厚は、好ましくは１ｎｍ以上、より好ましくは５ｎｍ以上、さらに好ましくは１０ｎｍ以上、特に好ましくは３０ｎｍ以上である。層Ｂの膜厚は、エリプソメータ又は接触式膜厚計を用いて測定することができる。
【０１２５】
〔補強層Ｃ〕
補強層Ｃは、前記層Ａ及び層Ｂを補強する機能を有する層である。機能転写性フィルムに補強層Ｃを設けることにより、層Ａ及び層Ｂが薄膜であっても、機能性フィルムの機械的強度を向上することができる。さらに、補強層Ｃは基材と層Ｂとの間に配置されているため、基材との密着性が高い材料、例えば前記シラン化合物を用いて層Ｂを形成した場合であっても、基材のみを容易に剥離することができる。
【０１２６】
補強層Ｃは、層Ａ及び層Ｂを補強する機能を有していればよい。補強層は、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ウレタン樹脂、及びメラミン樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含んでなる。これらの中でも、硬化性が高く、補強性の高い補強層Ｃを形成しやすい観点から、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ウレタン樹脂、及びメラミン樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含んでなることが好ましく、アクリル樹脂及びウレタン樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含んでなることがより好ましい。
【０１２７】
補強層は、熱や光で硬化する硬化性材料を含む硬化性組成物の硬化物であることが好ましい。アクリル樹脂を含んでなる補強層の硬化性材料としては、例えば単官能（メタ）アクリレート、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート；多官能（メタ）アクリレート、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート；エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、トリス（メタクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。（メタ）アクリレートは単独又は二種以上組合わせて使用でき、硬化時や硬化後の加熱により発生するカールを抑制する観点、屈曲性を向上させる観点、補強層Ｃの十分な補強性を確保する観点から、適宜多官能（メタ）アクリレートを選択可能である。また、同様の観点からエポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂等と混合することも可能である。なお、本明細書においては、アクリレート、メタクリレートを総称して（メタ）アクリレートと称することがあり、アクリル酸とメタクリル酸とを総称して（メタ）アクリル酸と称することがある。
【０１２８】
ウレタン樹脂を含んでなる補強層の硬化性材料としては、例えば（メタ）アクリル酸及び／又は（メタ）アクリル酸エステル、ポリオール、及びジイソシアネートの反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレート等が挙げられる。具体的には、ウレタン（メタ）アクリレートは（メタ）アクリル酸及び／又は（メタ）アクリル酸エステルとポリオールから、分子内に水酸基を少なくとも１個有するヒドロキシ（メタ）アクリレートを調製し、これをジイソシアネートと反応させることにより製造することができる。ウレタン（メタ）アクリレートは単独又は二種以上組合わせて使用できる。
【０１２９】
前記（メタ）アクリル酸エステルは、（メタ）アクリル酸の鎖状又は環状アルキルエステルであることができる。その具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート、及び、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等のシクロアルキル（メタ）アクリレートが挙げられる。前記ポリオールは、分子内に水酸基を少なくとも２個有する化合物である。例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ヒドロキシピバリン酸のネオペンチルグリコールエステル、シクロヘキサンジメチロール、１，４−シクロヘキサンジオール、スピログリコール、トリシクロデカンジメチロール、水添ビスフェノールＡ、エチレンオキサイド付加ビスフェノールＡ、プロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グルコース類などを挙げることができる。
【０１３０】
ジイソシアネートは、分子内に２個のイソシアナト基（−ＮＣＯ）を有する化合物であり、芳香族、脂肪族又は脂環式の各種ジイソシアネートを用いることができる。具体例としては、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、３，３’−ジメチル−４，４’−ジフェニルジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、及びこれらのうち芳香環を有するジイソシアネートの核水添物などを挙げることができる。
【０１３１】
硬化時や硬化後の加熱により発生するカールを抑制する観点、屈曲性を向上させる観点、補強層Ｃの十分な補強性を確保する観点から、適宜ウレタン（メタ）アクリレートを選択可能である。また、同様の観点から、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、メラミン樹脂等と混合することも可能である。
【０１３２】
エポキシ樹脂を含んでなる補強層Ｃの硬化性材料としては、例えば脂環式エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、水素化エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物等が挙げられる。
【０１３３】
脂環式エポキシ化合物は、脂環式環に直接結合したエポキシ基を分子内に少なくとも１個有する化合物である。例えば、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル  ３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル  ３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、ジエチレングリコールビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチルエーテル）、エチレングリコールビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテルなどが挙げられる。これらの脂環式エポキシ化合物は単独又は二種以上組合わせて使用できる。
【０１３４】
芳香族エポキシ化合物は、分子内に芳香族環とエポキシ基を有する化合物である。その具体例として、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル、ビスフェールＦのジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳのジグリシジルエーテル等のビスフェノール型エポキシ化合物又はそのオリゴマー；フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、ヒドロキシベンズアルデヒドフェノールノボラックエポキシ樹脂等のノボラック型のエポキシ樹脂；２，２’，４，４’−テトラヒドロキシジフェニルメタンのグリシジルエーテル、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのグリシジルエーテル等の多官能型のエポキシ化合物；エポキシ化ポリビニルフェノール等の多官能型のエポキシ樹脂などが挙げられる。これらの芳香族エポキシ化合物は単独又は二種以上組合わせて使用できる。
【０１３５】
水素化エポキシ化合物は、上記の芳香族エポキシ化合物の核水添物が水素化エポキシ化合物となる。これらは、対応する芳香族エポキシ化合物の原料である芳香族ポリヒドロキシ化合物、典型的にはビスフェノール類に対し、触媒の存在下及び加圧下で選択的に水素化反応を行うことにより得られる多価アルコール、典型的には水添ビスフェノール類を原料とし、これにエピクロロヒドリンを反応させてクロロヒドリンエーテルとし、さらにそれをアルカリで分子内閉環させる方法によって製造できる。これらの水素化エポキシ化合物は単独又は二種以上組合わせて使用できる。
【０１３６】
脂肪族エポキシ化合物には、脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテルがある。その具体例として、ネオペンチルグリコールのジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールのジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメロールプロパンのトリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテル、エチレングリコールやプロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに１種又は２種以上のアルキレンオキサイド（エチレンオキサイドやプロピレンオキサイド）を付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテルなどが挙げられる。これらの脂肪族エポキシ化合物は単独又は二種以上組合わせて使用できる。
【０１３７】
硬化時や硬化後の加熱により発生するカールを抑制する観点、屈曲性を向上させる観点、補強層Ｃの十分な補強性を確保する観点、基材や層Ｂとの密着性を調整する観点から、適宜エポキシ樹脂を選択可能である。また、同様の観点から、アクリル樹脂、ウレタン樹脂
、オキセタン樹脂、メラミン樹脂等と混合することも可能である。
【０１３８】
オキセタン樹脂を含んでなる補強層Ｃの硬化性材料としては、分子内に少なくとも１個以上のオキセタニル基を含有する化合物等が挙げられる。その具体例として、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン（オキセタンアルコールとも呼ばれる）、２−エチルヘキシルオキセタン、１，４−ビス〔｛（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ｝メチル〕ベンゼン（キシリレンビスオキセタンとも呼ばれる）、３−エチル−３〔｛（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ｝メチル〕オキセタン、３−エチル−３−（フェノキシメチル）オキセタン、３−（シクロヘキシルオキシ）メチル−３−エチルオキセタンなどを挙げることができる。オキセタン化合物は、単独又は二種以上組合わせて使用できる。
【０１３９】
メラミン樹脂を含んでなる補強層Ｃの硬化性材料としては、ヘキサメトキシメチルメラミン、ヘキサエトキシメチルメラミン、ヘキサプロポキシメチルメラミン、ヘキサブトキシメチルメラミン等のメラミン化合物が挙げられる。メラミン化合物は、単独又は二種以上組合わせて使用できる。
【０１４０】
補強層Ｃを形成するための硬化性組成物は、光重合開始剤、熱重合開始剤、溶媒、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、光安定剤、粘着付与剤、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤、色素、帯電防止剤、及び紫外線吸収剤等の添加剤をさらに含むことができる。
【０１４１】
光重合開始剤は、ラジカル重合で硬化する硬化性組成物、例えば（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレートを硬化性材料として使用する場合に光ラジカル重合開始剤を使用することができ、カチオン重合で硬化する硬化性組成物、例えばエポキシ化合物、オキセタン化合物を硬化性組成物として使用する場合に光カチオン重合開始剤を使用することができ、熱により硬化する硬化性組成物、例えばメラミン化合物を硬化性組成物として使用する場合に熱重合開始剤を使用することができる。
【０１４２】
光ラジカル重合開始剤及び光カチオン重合開始剤は、層Ａの項に例示した光ラジカル重合開始剤及び光カチオン重合開始剤をそれぞれ用いることができる。また、熱重合開始剤としては、例えば２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチル−４−メトキシバレロニトリル）、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、２，２’−アゾビス（２−ヒドロキシメチルプロピオニトリル）等のアゾ系化合物；ラウリルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、過酸化ベンゾイル、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジプロピルパーオキシジカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート、（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）パーオキサイド等の有機過酸化物；過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素等の無機過酸化物などが挙げられる。これらの熱重合開始剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。
【０１４３】
重合開始剤の添加量は、硬化性組成物１００質量部に対して、通常、０．１〜２０質量部であり、好ましくは０．５〜１０質量部であり、より好ましくは１〜５質量部である。上記範囲内であれば、硬化反応が十分に進行しやすい。
【０１４４】
硬化性材料は通常、溶媒に溶解した状態で基材に塗布されるため、溶媒を含むことが好ましい。溶媒として、層Ａの項に例示の溶媒を使用することができる。溶媒の含有量は、硬化性組成物１００質量部に対して、好ましくは５０〜９８質量部、より好ましくは６０〜９５重量部である。従って、組成物１００質量部に占める固形分は、２〜５０質量部であることが好ましい。この範囲であると、硬化性組成物の粘度が低くなることから、補強層Ｃの厚みが略均一になり、補強層Ｃにムラが生じ難くなる傾向がある。
【０１４５】
硬化性組成物は、補強層Ｃを平滑にする観点から、レベリング剤を含有することができる。レベリング剤は層Ａの項に例示のレベリング剤を使用することができる。レベリング剤の含有量は、硬化性材料１００質量部に対して、０．０１〜５質量部が好ましく、０．０５〜３質量部がさらに好ましい。レベリング剤の含有量が、上記範囲内であると、得られる補強層がより平滑となる傾向にあるため好ましい。
【０１４６】
硬化性組成物は、硬化性材料と、添加剤等の硬化性材料以外の成分とを所定温度で撹拌等することにより得ることができる。
【０１４７】
補強層Ｃは、硬化性組成物を基材上に塗布し、次いで溶媒を除去し、加熱及び／又は活性エネルギー線によって硬化させて得ることができる。
【０１４８】
硬化性組成物を基材上に塗布する方法としては、上記塗布方法Ａが挙げられ、溶媒を除去する方法としては、上記溶媒除去方法Ａが挙げられる。
【０１４９】
照射する活性エネルギー線としては、硬化性材料の種類、光重合開始剤を含む場合には光重合開始剤の種類、及びそれらの量に応じて適宜選択される。活性エネルギー線、その光源としては上記に例示のものを使用することができる。また、硬化性組成物に照射する紫外線照射強度、照射時間、及び積算光量は上記に例示の範囲で使用することができる。積算光量が上記に記載の範囲以下である場合には、硬化性材料の硬化が不十分となり、補強性Ｃが十分でない場合がある。逆に、積算光量が上記に記載の範囲以上である場合には、楕円偏光板が着色する場合がある。
【０１５０】
熱により硬化性組成物を硬化する場合、加熱温度は、硬化性材料の種類、熱重合開始剤を含む場合には熱重合開始剤の種類、及びそれらの量に応じて適宜選択されるが、例えば５０℃〜２００℃、好ましくは５０℃〜１３０℃であってもよい。加熱時間は、例えば１０秒〜１０分間、好ましくは１０秒〜５分間であってもよい。なお、加熱乾燥する場合には乾燥と硬化とを同時に行うこともできる。
【０１５１】
補強層Ｃの膜厚は、補強性の観点から層Ｂの膜厚よりも大きく、好ましくは１〜１０μｍである。補強層Ｃの膜厚が上記の下限値以上であると、層Ａ及び層Ｂを十分に補強できる。補強層Ｃの膜厚が上記の上限値以下であると、機能性フィルムの薄膜化の観点から好ましい。補強層Ｃの膜厚は、薄膜化の観点からは、好ましくは１〜５μｍ、より好ましくは１〜３μｍであってもよく、機械的強度の観点からは、好ましくは５〜１０μｍ、より好ましくは７〜１０μｍであってもよい。補強層Ｃの膜厚は、エリプソメータ又は接触式膜厚計を用いて測定できる。
【０１５２】
〔基材〕
基材は、被転写体への転写の際、機能転写性フィルムから剥離されるものである。このような基材としては、ガラス基材及びフィルム基材が挙げられ、加工性の観点からフィルム基材が好ましく、連続的に製造できる点で長尺のロール状フィルムがより好ましい。フィルム基材を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド及びポリフェニレンオキシド等のプラスチックが挙げられる。この基材の粘着剤層との接合面に、シリコーン処理のような離型処理が施されたものであることができる。市販のセルロースエステル基材としては、“フジタックフィルム”（富士写真フイルム株式会社製）；“ＫＣ８ＵＸ２Ｍ”、“ＫＣ８ＵＹ”及び“ＫＣ４ＵＹ”（以上、コニカミノルタオプト株式会社製）等が挙げられる。このような樹脂を、溶媒キャスト法、溶融押出法等の公知の手段により製膜して、基材とすることができる。
【０１５３】
市販の環状オレフィン系樹脂としては、“Ｔｏｐａｓ”（登録商標）（Ｔｉｃｏｎａ社（独）製）、“アートン”（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）、“ゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ）”（登録商標）、“ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）”（登録商標）（以上、日本ゼオン株式会社製）及び“アペル”（登録商標）（三井化学株式会社製）が挙げられる。市販されている環状オレフィン系樹脂基材を用いることもできる。市販の環状オレフィン系樹脂基材としては、“エスシーナ”（登録商標）、“ＳＣＡ４０”（登録商標）（以上、積水化学工業株式会社製）、“ゼオノアフィルム”（登録商標）（オプテス株式会社製）及び“アートンフィルム”（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）が挙げられる。
【０１５４】
基材は、層Ａ〜層Ｃを積層しやすく、かつ剥離が容易な厚みであることが好ましい。このような基材の厚みは、通常５〜３００μｍであり、好ましくは２０〜２００μｍである。
【０１５５】
〔機能転写性プラスチックフィルム〕
図１は本発明の機能転写性プラスチックフィルムの一例を示す概略断面図である。図１における機能転写性プラスチックフィルム１は層Ａ（２）、層Ｂ（３）、補強層Ｃ（４）、基材５がこの順に積層されている。
【０１５６】
本発明の機能転写性プラスチックフィルムは、膜厚が薄いにもかかわらず、所定の補強層Ｃを有するため、転写後の表面に十分な機械的強度を有する。このため、基材を剥離した状態で薄膜フィルムを搬送した時に搬送ロールと接触しても傷が発生しにくい。また、層Ｂが基材との密着性の高いシラン化合物等により形成されていても、層Ｂと基材との間に補強層Ｃが存在するため、基材を容易に剥離することができる。
【０１５７】
本発明の機能転写性プラスチックフィルムにおいて、各層の界面における剥離力は、下記式（１）及び（２）
Ｆ（Ａ−Ｂ）＞Ｆ（Ｃ−Ｄ）      （１）
Ｆ（Ｂ−Ｃ）＞Ｆ（Ｃ−Ｄ）      （２）
［式中、Ｆ（Ａ−Ｂ）は層Ａと層Ｂの界面における剥離力を表し、Ｆ（Ｂ−Ｃ）は層Ｂと層Ｃの界面における剥離力を表し、Ｆ（Ｃ−Ｄ）は層Ｃと基材の界面における剥離力を表す］
に示す関係である。このように、本発明の機能転写性プラスチックフィルムは、補強層Ｃと基材との剥離力が、層Ａと層Ｂとの界面における剥離力及び層Ｂと層Ｃとの界面における剥離力よりも小さいため、基材のみを容易に剥離することができる。なお、剥離力は実施例に記載の方法に従って確認できる。特に層Ｂがシラン化合物で形成されている場合、層Ａ及び層Ｃとの高い密着性を発現できるため、前記式（１）及び（２）の関係を満たしやすくなる。
【０１５８】
本発明の機能転写性プラスチックフィルムにおいて、３次元屈折率の異方性を有する層Ａの他、層Ｂ及び層Ｃも異方性を有していてもよいが、通常、層Ｂ及び層Ｃは等方性を有する層である。このため、機能層は、波長４００〜７００ｎｍの範囲で、３次元屈折率の異方性を有する。
【０１５９】
本発明の機能転写性フィルムは、層Ａ、層Ｂ、補強層Ｃ、及び基材以外の層を含むことができ、その具体例としては、他の配向液晶硬化層、他の配向層、保護層等が挙げられる。他の配向液晶硬化層としては、上記に例示の垂直配向液晶硬化層、水平配向液晶硬化層等が挙げられ、他の配向層としては、上記に例示の配向層等が挙げられる。なお、他の配向液晶硬化層とは層Ａ以外の配向液晶硬化層を意味し、他の配向層としては、層Ｂ以外の配向層を意味する。
【０１６０】
保護層は、通常、多官能アクリレート（メタクリレート）、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート等からなるアクリル系オリゴマーあるいはポリマー、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリビニルピロリドン、デンプン類、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム等の水溶性ポリマーと溶媒とを含有する保護層形成用組成物から形成されることが好ましい。
【０１６１】
保護層形成用組成物に含有される溶媒は、上記に例示の溶媒と同様のものが挙げられ、中でも、水、アルコール溶媒およびエーテル溶媒からなる群より選ばれる少なくとも一つの溶媒が、保護層を形成する層を溶解させることがない点で、好ましい。アルコール溶媒としては、メタノール、エタノール、ブタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテルおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルが挙げられる。エーテル溶媒としては、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテートおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。中でも、エタノール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテルおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが好ましい。
【０１６２】
保護層の膜厚は、０．１μｍ〜１０μｍ、より好ましくは０．１μｍ〜３μｍである。
【０１６３】
本発明の機能転写性フィルムの製造方法は、層Ａ、層Ｂ、補強層Ｃ、及び基材を、この順に積層可能な方法であれば、特に限定されないが、基材上に補強層Ｃを積層し、次いで補強層Ｃ上に層Ｂを積層し、さらに層Ｂ上に層Ａを積層する方法が好ましい。層Ａ、層Ｂ、及び層Ｃの積層方法は、上述した各層の形成方法を使用することができる。
【０１６４】
〔光学積層体〕
本発明の機能転写性プラスチックフィルムは、被転写体に転写されることで、層Ａ及び層Ｂの有する機能、すなわち、その光学特性を被転写体に転写することができ、転写により、層Ａ及び層Ｂの光学特性が転写された光学積層体を製造できる。具体的には、機能転写性プラスチックフィルムの層Ａを、粘接着剤を介して被転写体と貼合し、さらに基材のみを剥離する工程を含む方法により、光学積層体を製造できる。
【０１６５】
（被転写体）
被転写体としては、単層構造の光学フィルム、例えば偏光フィルム、位相差フィルム、輝度向上フィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム、拡散フィルム、集光フィルム等、多層構造の光学フィルム、例えば偏光板、位相差板、円偏光板が挙げられ、これらの中でも位相差フィルム、偏光フィルム、位相差板、偏光板、楕円偏光板を好適に使用できる。本発明における光学積層体は、画像表示装置、例えば、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、タッチパネル表示装置、電子放出表示装置（電場放出表示装置（ＦＥＤ等）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ））、電子ペーパー（電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置）、プラズマ表示装置、投射型表示装置（グレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する表示装置等）及び圧電セラミックディスプレイ等に利用でき、特に有機ＥＬ表示装置及びタッチパネル表示装置等に好適に利用できる。
【０１６６】
（粘接着剤）
粘接着剤としては、感圧式粘着剤、乾燥固化型接着剤及び化学反応型接着剤が挙げられる。化学反応型接着剤としては、例えば、活性エネルギー線硬化型接着剤が挙げられる。
【０１６７】
感圧式粘着剤は、通常、ポリマーを含み、溶媒を含んでいてもよい。ポリマーとしては、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、又はポリエーテル等が挙げられる。中でも、アクリル系ポリマーを含むアクリル系の粘着剤は、光学的な透明性に優れ、適度の濡れ性や凝集力を有し、接着性に優れ、さらには耐候性や耐熱性等が高く、加熱や加湿の条件下で浮きや剥がれ等が生じ難いため好ましい。
【０１６８】
アクリル系ポリマーとしては、エステル部分のアルキル基がメチル基、エチル基又はブチル基等の炭素数１〜２０のアルキル基である（メタ）アクリレートと、（メタ）アクリル酸やヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の官能基を有する（メタ）アクリル系モノマーとの共重合体が好ましい。
【０１６９】
このような共重合体を含む感圧式粘着剤は、粘着性に優れており、被転写体に貼合した後に取り除くときも、被転写体に糊残り等を生じさせることなく、比較的容易に取り除くことが可能であるので好ましい。アクリル系ポリマーのガラス転移温度は、２５℃以下が好ましく、０℃以下がより好ましい。このようなアクリル系ポリマーの質量平均分子量は、１０万以上であることが好ましい。
【０１７０】
溶媒としては、上記溶媒として挙げられた溶媒等が挙げられる。感圧式粘着剤は、光拡散剤を含有していてもよい。光拡散剤は、粘着剤に光拡散性を付与する添加剤であり、粘着剤が含むポリマーの屈折率と異なる屈折率を有する微粒子であればよい。光拡散剤としては、無機化合物からなる微粒子、及び有機化合物（ポリマー）からなる微粒子が挙げられる。アクリル系ポリマーを含めて、粘着剤が有効成分として含むポリマーの多くは１．４〜１．６程度の屈折率を有するため、その屈折率が１．２〜１．８である光拡散剤から適宜選択することが好ましい。粘着剤が有効成分として含むポリマーと光拡散剤との屈折率差は、通常、０．０１以上であり、表示装置の明るさと表示性の観点からは、０．０１〜０．２が好ましい。光拡散剤として用いる微粒子は、球形の微粒子、それも単分散に近い微粒子が好ましく、平均粒径が２〜６μｍである微粒子がより好ましい。屈折率は、一般的な最小偏角法又はアッベ屈折計によって測定される。
【０１７１】
無機化合物からなる微粒子としては、酸化アルミニウム（屈折率１．７６）及び酸化ケイ素（屈折率１．４５）等が挙げられる。有機化合物（ポリマー）からなる微粒子としては、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、ポリメタクリル酸メチルビーズ（屈折率１．４９）、メタクリル酸メチル／スチレン共重合体樹脂ビーズ（屈折率１．５０〜１．５９）、ポリカーボネートビーズ（屈折率１．５５）、ポリエチレンビーズ（屈折率１．５３）、ポリスチレンビーズ（屈折率１．６）、ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率１．４６）、及びシリコーン樹脂ビーズ（屈折率１．４６）等が挙げられる。光拡散剤の含有量は、通常、ポリマー１００質量部に対して、３〜３０質量部である。
【０１７２】
感圧式粘着剤の厚みは、その密着力等に応じて決定されるため、特に制限されないが、通常、１μｍ〜４０μｍである。加工性や耐久性等の点から、当該厚さは３μｍ〜２５μｍが好ましく、５μｍ〜２０μｍがより好ましい。粘着剤から形成される粘接着剤層の厚さを５μｍ〜２０μｍとすることにより、表示装置を正面から見た場合や斜めから見た場合の明るさを保ち、表示像のにじみやボケを生じ難くすることができる。
【０１７３】
乾燥固化型接着剤は、溶媒を含んでいてもよい。乾燥固化型接着剤としては、水酸基、カルボキシル基又はアミノ基等のプロトン性官能基とエチレン性不飽和基とを有するモノマーの重合体、又は、ウレタンポリマーを主成分として含有し、さらに、多価アルデヒド、エポキシ化合物、エポキシ樹脂、メラミン化合物、ジルコニア化合物、及び亜鉛化合物等の架橋剤又は硬化性化合物を含有する組成物等が挙げられる。水酸基、カルボキシル基又はアミノ基等のプロトン性官能基とエチレン性不飽和基とを有するモノマーの重合体としては、エチレン−マレイン酸共重合体、イタコン酸共重合体、アクリル酸共重合体、アクリルアミド共重合体、ポリ酢酸ビニルのケン化物、及び、ポリビニルアルコール系樹脂等が挙げられる。
【０１７４】
ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリビニルアルコール、部分ケン化ポリビニルアルコール、完全ケン化ポリビニルアルコール、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、メチロール基変性ポリビニルアルコール、及び、アミノ基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。水系の粘接着剤におけるポリビニルアルコール系樹脂の含有量は、水１００質量部に対して、通常、１〜１０質量部であり、好ましくは１〜５質量部である。
【０１７５】
ウレタン樹脂としては、ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂等が挙げられる。ここでいうポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂とは、ポリエステル骨格を有するウレタン樹脂であって、その中に少量のイオン性成分（親水成分）が導入された樹脂である。係るアイオノマー型ウレタン樹脂は、乳化剤を使用せずに、水中で乳化してエマルジョンとなるため、水系の粘接着剤とすることができる。ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂を用いる場合は、架橋剤として水溶性のエポキシ化合物を配合することが有効である。
【０１７６】
エポキシ樹脂としては、ジエチレントリアミン又はトリエチレンテトラミン等のポリアルキレンポリアミンとアジピン酸等のジカルボン酸との反応で得られるポリアミドポリアミンに、エピクロロヒドリンを反応させて得られるポリアミドエポキシ樹脂等が挙げられる。係るポリアミドエポキシ樹脂の市販品としては、“スミレーズレジン（登録商標）６５０”及び“スミレーズレジン６７５”（以上、住化ケムテックス株式会社製）、“ＷＳ−５２５”（日本ＰＭＣ株式会社製）等が挙げられる。エポキシ樹脂を配合する場合、その添加量は、ポリビニルアルコール系樹脂１００質量部に対して、通常、１〜１００質量部であり、好ましくは１〜５０質量部である。
【０１７７】
乾燥固化型接着剤から形成される粘接着剤層の厚さは、通常、０．００１〜５μｍであり、好ましくは０．０１〜２μｍであり、さらに好ましくは０．０１〜０．５μｍである。乾燥固化型接着剤から形成される粘接着剤層が厚すぎると、外観不良となり易い。
【０１７８】
活性エネルギー線硬化型接着剤は、溶媒を含んでいてもよい。活性エネルギー線硬化型接着剤とは、活性エネルギー線の照射を受けて硬化する接着剤である。活性エネルギー線硬化型接着剤としては、エポキシ化合物とカチオン重合開始剤とを含有するカチオン重合性の接着剤、アクリル系硬化成分とラジカル重合開始剤とを含有するラジカル重合性の接着剤、エポキシ化合物等のカチオン重合性の硬化成分及びアクリル系化合物等のラジカル重合性の硬化成分の両者を含有し、さらにカチオン重合開始剤及びラジカル重合開始剤を含有する接着剤、及び、これら重合開始剤を含まずに電子ビームを照射することで硬化される接着剤等が挙げられる。
【０１７９】
中でも、アクリル系硬化成分と光ラジカル重合開始剤とを含有するラジカル重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤、エポキシ化合物と光カチオン重合開始剤とを含有するカチオン重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤が好ましい。アクリル系硬化成分としては、メチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート及び（メタ）アクリル酸等が挙げられる。エポキシ化合物を含有する活性エネルギー線硬化型接着剤は、エポキシ化合物以外の化合物をさらに含有していてもよい。エポキシ化合物以外の化合物としては、オキセタン化合物やアクリル化合物等が挙げられる。
【０１８０】
光ラジカル重合開始剤及び光カチオン重合開始剤としては、上述の光ラジカル重合開始剤及び光カチオン重合開始剤が挙げられる。ラジカル重合開始剤並びにカチオン重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化型接着剤１００質量部に対して、通常、０．５〜２０質量部であり、好ましくは１〜１５質量部である。
【０１８１】
活性エネルギー線硬化型接着剤には、さらに、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤及び消泡剤等が含有されていてもよい。
【０１８２】
本明細書において活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることのできるエネルギー線と定義される。このような活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線及び電子線等が挙げられ、紫外線及び電子線が好ましい。好ましい紫外線の照射条件は前述した重合性液晶化合物の重合と同様である。
【実施例】
【０１８３】
以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。尚、例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部を意味する。また、以下の実施例において、厚み方向の位相差値Ｒｔｈ（λ）、及び膜厚は日本分光株式会社製のエリプソメータ Ｍ−２２０、又は接触式膜厚計（Nikon社製のMH-15M、カウンタTC101、MS-5C）を用いて測定した。また、Ｓｉ／Ｃの比率は、層Ｂの元素分析、Ｘ線光電分光法を使用した表面構成元素の測定から算出するか、層Ｂの形成に使用した化合物の構造式が全て分かっている場合には構造式から算出できる。また、コロナ処理装置には、春日電機株式会社製のＡＧＦ−Ｂ１０を用いた。コロナ処理は、基材への組成物を塗布する場合に適宜実施する事が出来る。上記コロナ処理装置を用いて、出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回行った。
【０１８４】
［実施例１］
〔層Ａ形成用組成物の調製〕
以下に示す構造の重合性液晶化合物Ａ、及び重合性液晶化合物Ｂを９０：１０の質量比で混合した混合物１００質量部に対して、レベリング剤（「Ｆ−５５６」、ＤＩＣ社製）を０．１質量部、及び光重合開始剤である２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（「イルガキュア３６９（Ｉｒｇ３６９）」；ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を６質量部添加した。
更に、固形分濃度が１３質量％となるようにＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）を添加し、８０℃で１時間攪拌することにより、層Ａ形成用組成物を得た。
【０１８５】
重合性液晶化合物Ａは特開２０１０−３１２２３号公報に記載の方法に準じて製造した。また、重合性液晶化合物Ｂは、特開２００９−１７３８９３号公報に記載の方法に準じて製造した。以下にそれぞれの分子構造を示す。
【０１８６】
（重合性液晶化合物Ａ）
【化１２】
2019018392.tif 000014
【０１８７】
（重合性液晶化合物Ｂ）
【化１３】
2019018392.tif 000015
【０１８８】
〔層Ｂ形成用組成物の調製〕
シランカップリング剤（「ＫＢＥ−９１０３」、信越化学工業株式会社製）を、エタノールと水を９：１（質量比）の割合で混合した混合溶媒に溶解させ、固形分０．５％の層Ｂ形成用組成物を得た。層Ｂ形成用組成物は、垂直配向層形成用組成物である。
【０１８９】
〔アクリル樹脂を含んでなる補強層Ｃ形成用組成物の調製〕
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アロニックスM−４０３  東亞合成株式会社製多官能アクリレート）５０部、アクリレート樹脂（エベクリル４８５８  ダイセルユーシービー株式会社製）５０部、２−メチル−１[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モリフォリノプロパン−１−オン（イルガキュア９０７；チバ  スペシャルティケミカルズ社製）３部をイソプロパノール２５０部に溶解した溶液を調製し、アクリル樹脂を含んでなる補強層Ｃ形成用組成物を得た。
【０１９０】
〔機能転写性プラスチックフィルムの製造〕
離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルム（リンテック（株）製、ＳＰ−ＰＬＲ３８２０５０、以下、「セパレーター」と略記する。）上に、アクリル樹脂を含んでなる補強層Ｃ形成用組成物をバーコーターで塗布し、５０℃で１分間乾燥後、高圧水銀ランプ（「ユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａ」、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：４００ｍＪ／ｃｍ２）することにより、アクリル樹脂を含んでなる補強層Ｃを形成した。得られた補強層Ｃの膜厚を接触式膜厚計で測定したところ、１０μｍであった。続いて、補強層Ｃ上に層Ｂ形成用組成物をバーコーターで塗布し、８０℃で１分間乾燥して層Ｂを得た。得られた層Ｂの膜厚をエリプソメータで測定したところ、５０ｎｍであった。また、層Ｂの構成元素比は、Ｓｉ／Ｃ＝０．３３であった。
さらに、層Ｂ上に、層Ａ形成用組成物をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（「ユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａ」、ウシオ電機株式会社製）を用いて紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：５００ｍＪ／ｃｍ２）することにより、層Ａを形成した。得られた層Ａの膜厚をエリプソメータで測定したところ、１．２μｍであった。以上の手順により、層Ａ、層Ｂ、補強層Ｃ、及び剥離可能な基材がこの順に積層された機能転写性プラスチックフィルムを得た。
【０１９１】
〔剥離力の確認〕
上記方法にて作製した層Ａ、層Ｂ、補強層Ｃ、及び剥離可能な基材がこの順に積層された機能転写性プラスチックフィルムを、粘着剤（リンテック社製感圧式粘着剤  １５μｍ）を介してガラスと貼合し、機能転写性プラスチックフィルムを剥離した時に、剥離界面がどの層間になるかを確認することで剥離力を確認した。剥離した後のガラス側の最表層、及び基材側の最表層の組成をＩＲ測定により確認した結果、ガラス面側の最表層は補強層Ｃ、基材面側の最表層は基材として使用したセパレーターであることがわかった。このことから、Ｆ（Ａ−Ｂ）＞Ｆ（Ｃ−Ｄ）かつＦ（Ｂ−Ｃ）＞Ｆ（Ｃ−Ｄ）の関係を有していることが確認された。
【０１９２】
〔層ＡのＲｔｈ測定〕
上記方法にて製造した層Ａの厚み方向位相差値（Ｒｔｈ（λ））は、上記方法にて作製した層Ａ、層Ｂ、補強層Ｃ、及び剥離可能な基材がこの順に積層された機能転写性プラスチックフィルムを、粘着剤（リンテック社製感圧式粘着剤  １５μｍ）を介してガラスと貼合し、基材であるセパレータを剥離して測定用サンプルを作製した後、層Ｂ、及び補強層Ｃに位相差がないことを確認した上で、エリプソメータによりサンプルへの光の入射角を変えて測定した。また、４５０ｎｍ及び５５０ｎｍの波長λにおける平均屈折率は屈折率計（「多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ４」、株式会社アタゴ製）を用いて測定した。得られた膜厚、平均屈折率、及びエリプソメータの測定結果から算出されるＲｔｈはそれぞれ、Ｒｔｈ（４５０）＝−６０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝−７０ｎｍであり、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）＝０．８５であった。このことから、層Ａは３次元屈折率に異方性を有することが分かった。
【０１９３】
〔転写後表面のひっかき試験〕
５ｃｍ×５ｃｍ×厚み０．７ｍｍのガラスに粘着剤（リンテック社製感圧式粘着剤５μｍ）を貼合した後、上述の方法にて作製した機能転写性プラスチックフィルムを貼合し、基材のセパレーターのみを剥離した。その後、鉛筆引っかき硬度試験機（株式会社安田精機製作所  No.553-M-1）に硬度６Ｂの鉛筆と３５ｇの重りをセットし、転写後の機能転写性プラスチックフィルムの表面のひっかき試験を実施した。ひっかき試験を実施した後、サンプルを蛍光灯にかざして透過目視検査を実施して傷の有無を目視で確認した。結果を表１に示す。
【０１９４】
［実施例２、３］
補強層Ｃの膜厚を変更したこと以外は、実施例１と同様に機能転写性プラスチックフィルムを作製し、剥離力の確認及びひっかき試験を行った。結果を表１に示す。
【０１９５】
［実施例４］
以下に示す通り、補強層Ｃ形成用組成物、及び補強層Ｃの製造方法を変更した以外は、実施例１に記載と同様の方法にて機能転写性プラスチックフィルムを作製し、剥離力の確認及びひっかき試験を行った。結果を表１に示す。
〔エポキシ樹脂を含んでなる補強層Ｃ形成用組成物の調製〕
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル ３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート ８０部、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル ２０部、サンアプロ社製  ＣＰＩ−１００Ｐ ２．２５部、プロピレンカーボネート ２．２５部を混合してエポキシ樹脂を含んでなる補強層Ｃ形成用組成物を調製した。
〔機能転写性プラスチックフィルムの製造（補強層Ｃの製造部のみ）〕
離型処理が施されたセパレーター上に、エポキシ樹脂を含んでなる補強層Ｃ形成用組成物をバーコーターで塗布し、５０℃で１分間乾燥後、高圧水銀ランプ（「ユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａ」、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：４００ｍＪ／ｃｍ２）することにより、エポキシ樹脂を含んでなる補強層Ｃを形成した。得られた補強層Ｃの膜厚を接触式膜厚計で測定したところ、５μｍであった。
【０１９６】
［実施例５］
以下に示す通り、補強層Ｃ形成用組成物、及び補強層Ｃの製造方法を変更した以外は、実施例１に記載と同様の方法にて機能転写性プラスチックフィルムを作製し、剥離力の確認及びひっかき試験を行った。結果を表１に示す。
〔ウレタン樹脂を含んでなる補強層Ｃ形成用組成物の調製〕
アクリレート樹脂（エベクリル４８５８  ダイセルユーシービー株式会社製）１００部、２−メチル−１[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モリフォリノプロパン−１−オン（イルガキュア９０７；チバ  スペシャルティケミカルズ社製）３部をイソプロパノール２５０部に溶解した溶液を調製し、ウレタン樹脂を含んでなる補強層Ｃ形成用組成物を得た。
〔機能転写性プラスチックフィルムの製造（補強層Ｃの製造部のみ）〕
離型処理が施されたセパレーター上に、ウレタン樹脂を含んでなる補強層Ｃ形成用組成物をバーコーターで塗布し、５０℃で１分間乾燥後、高圧水銀ランプ（「ユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａ」、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：４００ｍＪ／ｃｍ２）することにより、ウレタン樹脂を含んでなる補強層Ｃを形成した。得られた補強層Ｃの膜厚を接触式膜厚計で測定したところ、５μｍであった。
【０１９７】
［比較例１］
補強層Ｃの形成工程を省略したこと以外は、実施例１と同様に剥離力の確認及びひっかき試験を行った。
【０１９８】
［比較例２］
０．５質量％のポリイミド（「サンエバーＳＥ−６１０」、日産化学工業株式会社製）、７２．３質量％のＮ−メチル−２−ピロリドン、１８．１質量％の２−ブトキシエタノール、及びエチルシクロヘキサン９．１質量％を混合して、層Ｂ形成用組成物を得た。この層Ｂ形成用組成物を使用して層Ｂを作製したこと、及び補強層Ｃの形成工程を省略したこと以外は、実施例１と同様に剥離力の確認及びひっかき試験を行った。
なお、表１には、実施例及び比較例における層Ｂ及び層Ｃの膜厚をそれぞれ記載した。
【０１９９】
【表１】
2019018392.tif 000016
※ひっかき試験の結果については、透過目視検査にて傷がついていない事が確認できた場合を○、傷が確認された場合を×表記する。
【０２００】
実施例１〜５で得られた機能転写性プラスチックフィルムは、ひっかき試験後にも傷が発生しておらず、補強層Ｃの存在によってフィルム搬送時の傷発生を抑制する効果がある事が確認された。
【符号の説明】
【０２０１】
１…機能転写性プラスチックフィルム、２…層Ａ、３…層Ｂ、４…補強層Ｃ、５…基材
【図１】
2019018392.tif 000017