(57)【要約】【課題】液晶セルの電圧保持率（ＶＨＲ）の低下を抑制する技術の提供。【解決手段】本発明のネガ型液晶材料は、負の誘電率異方性を有する液晶化合物と、下記化学式（１）で示される減粘剤とを含む。〔化学式（１）〕2019056036.tif 000027（式（１）中、Ｘ及びＹは、Ｈ又はハロゲン基であり、かつＸ及びＹのうち少なくとも１つはハロゲン基であり、Ｒ及びＲ’は、炭素数が１〜５の何れかの直鎖状飽和アルキル基又は炭素数が１〜５の何れかの直鎖状飽和アルコキシ基である。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
負の誘電率異方性を有する液晶化合物と、下記化学式（１）で示される減粘剤とを含むネガ型液晶材料。
【化１】
2019056036.tif 000023
（式（１）中、Ｘ及びＹは、Ｈ又はハロゲン基であり、かつＸ及びＹのうち少なくとも１つはハロゲン基であり、Ｒ及びＲ’は、炭素数が１〜５の何れかの直鎖状飽和アルキル基又は炭素数が１〜５の何れかの直鎖状飽和アルコキシ基である。）
【請求項２】
前記液晶化合物は、下記化学式（２−１）及び化学式（２−２）で示される何れかの官能基を有する請求項１に記載のネガ型液晶材料。
【化２】
2019056036.tif 000024
（式（２−１）及び式（２−２）において、Ｘ１，Ｘ２及びＸ３は、互いに独立しかつＦ基又はＣｌ基からなり、ｍは１〜１８の何れかの整数を表し、「＊」は結合手を表す。）
【請求項３】
前記液晶化合物は、下記化学式（２−３）で示される官能基を有する請求項１に記載のネガ型液晶材料。
【化３】
2019056036.tif 000025
（式（２−３）において、Ｘ１及びＸ２は、互いに独立しかつＦ基又はＣｌ基からなり、ｍは１〜１８の何れかの整数を表し、「＊」は結合手を表す。）
【請求項４】
更に、下記化学式（３）で示されるモノマーを含む請求項１から請求項３の何れか一項に記載のネガ型液晶材料。
【化４】
2019056036.tif 000026
（式（３）中、Ｐ１及びＰ２は、互いに独立した重合性基であり、アクリレート基又はメタクリレート基からなり、Ｓｐ１及びＳｐ２は、互いに独立したスペーサー基であり、炭素数１〜２４の直鎖状、環状若しくは分岐状の飽和アルキル基又は不飽和アルキル基、又は直接結合を表し、Ｚ１及びＺ２は、互いに独立し、−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、又は直接結合を表し、Ａ１は、１，４−フェニレン基、４，４’−ビフェニレン基、２，６−ナフタレン基、２，６−アントラセン基、２，７−フェナントレン基、４，４’−カルコン基、４，４’−アゾベンゼン基の何れかを表し、ｎは、１〜３の何れかの整数を表す。）
【請求項５】
更に、垂直配向添加剤を含む請求項１から請求項４の何れか一項に記載のネガ型液晶材料。
【請求項６】
前記減粘剤の含有割合が、５質量％以上４０質量％以下である請求項１から請求項５の何れか一項に記載のネガ型液晶材料。
【請求項７】
前記減粘剤は、前記化学式（１）中のＸ及びＹが共にＦ基であり、かつＲ及びＲ’が共に炭素数が１〜５の何れかの直鎖状飽和アルキル基である請求項１から請求項６の何れか一項に記載のネガ型液晶材料。
【請求項８】
互いに向かい合う一対の基板と、請求項１から請求項７の何れか一項に記載のネガ型液晶材料からなり、前記基板間に介在される液晶層とを有する液晶セル。
【請求項９】
前記ネガ型液晶材料が、前記化学式（３）で示されるモノマーを含む請求項４に記載のネガ型液晶材料からなり、
前記一対の基板の各対向面上に形成され、前記モノマーの重合体からなるポリマー層を有する請求項８に記載の液晶セル。
【請求項１０】
前記一対の基板のうち、少なくとも一方の基板の対向面上に形成され、光照射により、前記ネガ型液晶材料に含まれる液晶化合物に対する配向規制力を発現する光配向膜を有する請求項８又は請求項９に記載の液晶セル。
【請求項１１】
前記光配向膜は、シンナメート基、アゾベンゼン基、及びカルコン基からなる群より選ばれる少なくとも一種の光反応性官能基を含む請求項１０に記載の液晶セル。
【請求項１２】
請求項８から請求項１１の何れか一項に記載の液晶セルを備える液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ネガ型液晶材料、液晶セル及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、画像等の情報を表示する表示部として液晶パネルを備えている。液晶パネルは、一対の基板間に液晶層が封止されてなる液晶セルと、液晶セルの両面に貼り付けられる一対の偏光板とを備えている。また、液晶セルを構成する基板の双方又は一方には、液晶層に電圧を印加するための一対の電極が設けられている。そして、そのような電極間に印加される電圧が制御されることで、液晶層を構成する液晶材料の配向が変化し、液晶層を通過する光の量が調整される。
【０００３】
液晶材料中には、通常、液晶パネルの応答速度の向上等を目的として、液晶材料の粘度を低下させる減粘剤が必須成分として添加されている。減粘剤としては、誘電率異方性が略ゼロであり、アルケニル基を有するアルケニル化合物が使用されている（例えば、特許文献１）。
【０００４】
ところで、液晶材料として、負の誘電率異方性を有するネガ型液晶化合物が使用される場合がある。ネガ型液晶化合物は、長軸方向の誘電率が小さく、かつ長軸方向に垂直な方向（短軸方向）の誘電率が大きい細長い構造の有機分子からなり、例えば、垂直配向（ＶＡ：Vertical Alignment）モード等の液晶セルで利用される。
【０００５】
また、液晶材料中には、上記減粘剤の他に、モノマー等の重合性成分が添加される場合がある。例えば、重合性成分を予め混合した液晶材料を基板間に封入した後、その重合性成分を重合させてＰＳＡ（Polymer Sustained Alignment）層を、基板内面側に形成されている配向膜（例えば、ポリイミド配向膜）上に形成することで、液晶材料（液晶分子）にプレチルト角を付与するＰＳＡ技術が知られている（例えば、特許文献２参照）。その他に、ポリイミド配向膜等の従来型の配向膜を使用せずに、液晶層と基板との界面に選択的に形成したポリマー層の表面から配向発現性官能基を発生させ、そのポリマー層を利用して液晶材料（液晶分子）を配向させる液晶配向技術（従来型配向膜レス液晶配向技術）においても、液晶材料中にモノマー等の重合性成分が添加される（例えば、特許文献３参照）。
【０００６】
また、液晶セルの各基板に、シンナメート基等の光反応性官能基を有するポリアミック酸をベースとした配向膜（所謂、光配向膜）が形成される場合がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１０−２１７８５３号公報
【特許文献２】国際公開２０１２／１２１３１９号公報
【特許文献３】特開２００６−５８７５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
液晶層中に、アルケニル化合物からなる減粘剤が含まれていると、液晶セルの電圧保持率（ＶＨＲ：Voltage Holding Ratio）が低下することがあった。電圧保持率が低下すると、液晶材料（液晶分子）の正規の配向制御を行えず、液晶パネルの表示画像にシミ、ムラ等の表示不良（所謂、液晶パネルの焼き付き）が発生する。
【０００９】
例えば、液晶材料としてネガ型液晶化合物を使用した場合、液晶パネルにバックライトからの光を照射し続けると、ネガ型液晶化合物の一部が励起してラジカルが発生するものと推測される。そして、そのラジカルが減粘剤であるアルケニル化合物のアルケニル基に転移し、その転移したラジカルが、液晶層中に残存すると推測される（図１参照）。その結果、液晶層中に、イオン性の化合物（導電物質）が生成され、電圧保持率が低下するものと推測される。
【００１０】
また、上記ＰＳＡ技術等において、液晶材料中に重合性モノマーが添加される場合、それと共に添加される重合開始剤（重合性モノマー自身が重合開始剤として機能する場合を含む）から発生したラジカルが、アルケニル化合物のアルケニル基に転移すると推測される。アルケニル基に転移したラジカルは、液晶層中で安定的に存在するために、又は転位したラジカルによりアルケニル化合物の重合が進行し、結果的にラジカル末端を有するアルケニル化合物の重合体が液晶層中に残存するために、電圧保持率が低下するものと推測される。
【００１１】
また、光配向膜を使用した液晶パネルの場合、液晶パネルにバックライトからの光を照射し続けると、光配向膜中に含まれる光反応性官能基（例えば、シンナメート基、カルコン基、アゾベンゼン基）からラジカルが発生するものと推測される（図２参照）。発生したラジカルは、アルケニル化合物のアルケニル基に転移し、その転移したラジカルが、液晶層中に残存することで、電圧保持率が低下するものと推測される。
【００１２】
本発明の目的は、液晶セルの電圧保持率（ＶＨＲ）の低下を抑制する技術を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明に係るネガ型液晶材料は、負の誘電率異方性を有する液晶化合物と、下記化学式（１）で示される減粘剤とを含む。
【００１４】
【化１】
2019056036.tif 000002
（式（１）中、Ｘ及びＹは、Ｈ又はハロゲン基であり、かつＸ及びＹのうち少なくとも１つはハロゲン基であり、Ｒ及びＲ’は、炭素数が１〜５の何れかの直鎖状飽和アルキル基又は炭素数が１〜５の何れかの直鎖状飽和アルコキシ基である。）
【００１５】
前記ネガ型液晶材料において、前記液晶化合物は、下記化学式（２−１）及び化学式（２−２）で示される何れかの官能基を有することが好ましい。
【００１６】
【化２】
2019056036.tif 000003
（式（２−１）及び式（２−２）において、Ｘ１，Ｘ２及びＸ３は、互いに独立しかつＦ基又はＣｌ基からなり、ｍは１〜１８の何れかの整数を表し、「＊」は結合手を表す。）
【００１７】
前記ネガ型液晶材料において、前記液晶化合物は、下記化学式（２−３）で示される官能基を有することが好ましい。
【００１８】
【化３】
2019056036.tif 000004
【００１９】
（式（２−３）において、Ｘ１及びＸ２は、互いに独立しかつＦ基又はＣｌ基からなり、ｍは１〜１８の何れかの整数を表し、「＊」は結合手を表す。）
【００２０】
前記ネガ型液晶材料において、更に、下記化学式（３）で示されるモノマーを含んでもよい。
【００２１】
【化４】
2019056036.tif 000005
【００２２】
（式（３）中、Ｐ１及びＰ２は、互いに独立した重合性基であり、アクリレート基又はメタクリレート基からなり、Ｓｐ１及びＳｐ２は、互いに独立したスペーサー基であり、炭素数１〜２４の直鎖状、環状若しくは分岐状の飽和アルキル基又は不飽和アルキル基、又は直接結合を表し、Ｚ１及びＺ２は、互いに独立し、−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、又は直接結合の何れかを表し、Ａ１は、１，４−フェニレン基、４，４’−ビフェニレン基、２，６−ナフタレン基、２，６−アントラセン基、２，７−フェナントレン基、４，４’−カルコン基、４，４’−アゾベンゼン基の何れかを表し、ｎは、１〜３の何れかの整数を表す。）
【００２３】
前記ネガ型液晶材料において、更に、垂直配向添加剤を含んでもよい。
【００２４】
前記ネガ型液晶材料において、前記減粘剤の含有割合が、５質量％以上４０質量％以下であることが好ましい。
【００２５】
前記ネガ型液晶材料において、前記減粘剤は、前記化学式（１）中のＸ及びＹが共にＦ基であり、かつＲ及びＲ’が共に炭素数が１〜５の何れかの直鎖状飽和アルキル基であることが好ましい。
【００２６】
また、本発明に係る液晶セルは、互いに向かい合う一対の基板と、前記何れかに記載のネガ型液晶材料からなり、前記基板間に介在される液晶層とを有する。
【００２７】
前記液晶セルにおいて、前記ネガ型液晶材料が、前記化学式（３）で示されるモノマーを含む前記ネガ型液晶材料からなり、前記一対の基板の各対向面上に形成され、前記モノマーの重合体からなるポリマー層を有してもよい。
【００２８】
前記液晶セルにおいて、前記一対の基板のうち、少なくとも一方の基板の対向面上に形成され、光照射により、前記ネガ型液晶材料に含まれる液晶化合物に対する配向規制力を発現する光配向膜を有してもよい。
【００２９】
前記液晶セルにおいて、前記光配向膜は、シンナメート基、アゾベンゼン基、及びカルコン基からなる群より選ばれる少なくとも一種の光反応性官能基を含むことが好ましい。
【００３０】
また、本発明に係る液晶表示装置は、前記何れかに記載の液晶セルを備える。
【発明の効果】
【００３１】
本発明によれば、液晶セルの電圧保持率（ＶＨＲ）の低下を抑制する技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】光を受けてネガ型液晶化合物から発生したラジカルがアルケニル化合物に転移した結果、ラジカルカチオン化されたネガ型液晶化合物と、ラジカルアニオン化されたアルケニル化合物が生成することを示す説明図
【図２】光を受けた光配向膜中のシンナメート基、カルコン基及びアゾベンゼン基の各光反応性官能基から発生したラジカルが、それぞれアルケニル化合物に転移した結果、ラジカルカチオン化された各光反応性官能基と、ラジカルアニオン化されたアルケニル化合物が生成することを示す説明図
【図３】実施形態１に係る液晶表示装置の構成を模式的に表した説明図
【図４】実施形態１の液晶セルの構成を模式的に表した説明図
【図５】実施形態２の液晶セルの構成を模式的に表した説明図
【図６】実施形態３の液晶セルの構成を模式的に表した説明図
【発明を実施するための形態】
【００３３】
〔実施形態１〕
（液晶表示装置）
以下、本発明の実施形態１を、図３及び図４を参照しつつ説明する。図３は、実施形態１に係る液晶表示装置１０の構成を模式的に表した説明図である。液晶表示装置１０は、主として、液晶パネル１１と、液晶パネル１１に光を供給するバックライト１２とを備えている。液晶パネル１１及びバックライト１２は、所定の筐体１３内に収容されている。液晶パネル１１は、主として、液晶セル１４と、液晶セル１４の両面にそれぞれ貼り付けられる一対の偏光板１５，１６とを備えている。
【００３４】
（液晶セル）
図４は、実施形態１の液晶セル１４の構成を模式的に表した説明図である。液晶セル１４は、互いに向かい合い、かつ各々の対向面に配向膜１７ａ，１８ａを有する一対の基板１７，１８と、それらの基板１７，１８間に介在される液晶層１９と、液晶層１９の周りを取り囲む形で基板１７，１８間に介在されるシール材２０とを備えている。一対の基板１７，１８のうち、一方の基板１７は、アレイ基板１７であり、他方の基板１８は、対向基板１８である。
【００３５】
（基板）
アレイ基板１７は、透明な支持基板（例えば、ガラス基板）上に、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）等が形成されたものからなり、他方の対向基板１８と対向する面（対向面）上に、配向膜１７ａが形成されている。対向基板１８は、透明な支持基板（例えば、ガラス基板）上に、カラーフィルタ（ＣＦ：Color Filter）等が形成されたものからなり、他方のアレイ基板１７と対向する面（対向面）上に、配向膜１８ａが形成されている。
【００３６】
なお、液晶セル１４が水平配向モード（例えば、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）モード）の場合、アレイ基板１７上には、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電膜からなる画素電極と共に、透明導電膜からなる対向電極が形成される。その場合、対向基板１８上には、透明導電膜からなる電極は形成されない。これに対し、液晶セル１４が垂直配向モードの場合、アレイ基板１７上には画素電極が形成され、対向基板１８上には対向電極が形成される。なお、透明導電膜からなる各電極には、必要に応じてスリット等の配向規制用構造物が設けられてもよい。
【００３７】
（配向膜）
配向膜１７ａ,１８ａは、ポリイミド、ポリアミド、ポリシロキサン等の高分子を含む所謂、従来型の配向膜からなる。また、配向膜１７ａ,１８ａとしては、光照射により配向規制力を発現する所謂、光配向膜であってもよい。光配向膜は、所定の光（例えば、偏光紫外線等）を受けると反応（例えば、光異性化反応）して構造が変化する光反応性官能基を有する高分子（例えば、ポリイミド、ポリアミド、ポリシロキサン等）を含む。光反応性官能基としては、シンナメート基、アゾベンゼン基、及びカルコン基からなる群より選ばれる少なくとも一種を含むことが好ましい。
【００３８】
配向膜１７ａ,１８ａとしては、目的に応じて、垂直配向膜、水平配向膜等が適宜、選択される。また、配向膜１８は、一対の基板のうち、何れか一方の基板のみに形成されてもよい。配向膜１７ａ,１８ａには、必要に応じて、光配向処理、ラビング処理等の配向処理が施されてもよい。
【００３９】
（液晶層）
液晶層１９は、負の誘電率異方性を有する液晶化合物と、下記化学式（１）で示される減粘剤とを含むネガ型液晶材料から構成される。
【００４０】
【化５】
2019056036.tif 000006
【００４１】
式（１）中、Ｘ及びＹは、Ｈ又はハロゲン基であり、かつＸ及びＹのうち少なくとも１つはハロゲン基であり、Ｒ及びＲ’は、炭素数が１〜５の何れかの直鎖状飽和アルキル基又は炭素数が１〜５の何れかの直鎖状飽和アルコキシ基である。
【００４２】
上記化学式（１）で示される減粘剤は、ラジカルを受容し易いアルケニル基等の構造を含んでおらず、化学的に安定である。
【００４３】
また、好ましい減粘剤としては、上記化学式（１）中のＸ及びＹが共にＦ基であり、かつＲ及びＲ’が共に炭素数が１〜５の何れかの直鎖状飽和アルキル基である化合物が挙げられる。また、より具体的な減粘剤としては、例えば、下記化学式（５−１）及び化学式（５−２）で示される化合物が挙げられる。
【００４４】
【化６】
2019056036.tif 000007
【００４５】
式（５−１）及び式（５−２）において、Ｒ及びＲ’は、炭素数が１〜５の何れかの直鎖状飽和アルキル基又は炭素数が１〜５の何れかの直鎖状飽和アルコキシ基である。
【００４６】
また、更に具体的な減粘剤としては、例えば、下記化学式（６−１）、化学式（６−２）及び化学式（６−３）で示される化合物が挙げられる。
【００４７】
【化７】
2019056036.tif 000008
【００４８】
減粘剤は、本発明の目的を損なわない限り、単独で又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、液晶層１９（ネガ型液晶材料）中における減粘剤の含有割合は、５質量％以上４０質量％以下が好ましい。
【００４９】
負の誘電率異方性を有する液晶化合物（ネガ型液晶化合物）としては、例えば、下記化学式（２−１）及び化学式（２−２）で示される何れかの官能基を有する化合物が挙げられる。
【００５０】
【化８】
2019056036.tif 000009
【００５１】
式（２−１）及び式（２−２）において、Ｘ１，Ｘ２及びＸ３は、互いに独立しかつＦ基又はＣｌ基からなり、ｍは１〜１８の何れかの整数を表し、「＊」は結合手を表す。
【００５２】
また、負の誘電率異方性を有する他の液晶化合物（ネガ型液晶化合物）としては、例えば、下記化学式（２−３）で示される官能基を有する化合物が挙げられる。
【００５３】
【化９】
2019056036.tif 000010
【００５４】
（式（２−３）において、Ｘ１及びＸ２は、互いに独立しかつＦ基又はＣｌ基からなり、ｍは１〜１８の何れかの整数を表し、「＊」は結合手を表す。）
【００５５】
ネガ型液晶材料は、液晶配向モード等に応じて、所望の負の誘電率異方性を有するように、前記液晶化合物等が適宜、選択される。また、本発明の目的を損なわない限り、ネガ型液晶材料は、上記式（２−１）〜式（２−３）で示される液晶化合物以外の液晶化合物や、その他の成分等を含んでもよい。
【００５６】
（シール材）
シール材は、光硬化性、熱硬化性、又は光硬化性及び熱硬化性の双方を備えたシール材組成物の硬化物からなる。このようなシール材は、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂等を含む公知のものから適宜、選択される。
【００５７】
液晶セル１４がバックライト１２からの光を受け続けると、液晶層１９中のネガ型液晶化合物の一部からラジカルが発生すると推測される。また、配向膜１７ａ,１８ａが、光配向膜からなる場合、バックライト１２からの光の影響により、光配向膜中からのラジカルが発生すると推測される。しかしながら、本実施形態の液晶セル１４では、液晶層１９中や液晶層１９と接触する配向膜１７ａ，１８ａからラジカルが発生しても、液晶層１９中に含まれる減粘剤は、ラジカルに対して化学的に安定であり、液晶層１９中で安定した状態のラジカルが生成することが抑制され、ひいては、電圧保持率の低下が抑制される。
【００５８】
〔実施形態２〕
次いで、本発明の実施形態２に係る液晶セル１４Ａについて、図５を参照しつつ説明する。図５は、実施形態２の液晶セル１４Ａの構成を模式的に表した説明図である。本実施形態の液晶セル１４Ａは、ＰＳＡ技術を利用したものであり、互いに向かい合い、かつ各々の対向面にＰＳＡ層（ポリマー層）２１，２２を有する一対の基板１７Ａ，１８Ａと、それらの基板１７Ａ，１８Ａ間に介在される液晶層１９Ａと、液晶層１９Ａの周りを取り囲む形で基板１７Ａ，１８Ａ間に介在されるシール材２０Ａとを備えている。一対の基板１７Ａ，１８Ａのうち、一方の基板１７Ａは、アレイ基板１７Ａであり、他方の基板１８Ａは、対向基板１８Ａである。
【００５９】
アレイ基板１７Ａ及び対向基板１８Ａの基本的な構成は、上記実施形態１の液晶セルと同様である。ただし、本実施形態のアレイ基板１７Ａの配向膜１７Ａａ上にＰＳＡ層２１が形成され、また、対向基板１８Ａの配向膜１８Ａａ上にもＰＳＡ層２２が形成されている。シール材２０Ａは、実施形態１と同様のものが利用される。
【００６０】
液晶層１９Ａは、負の誘電率異方性を有する液晶化合物と、上記化学式（１）で示される減粘剤と、下記化学式（３）で示される重合性のモノマーとを含むネガ型液晶材料を利用して形成される。負の誘電率異方性を有する液晶化合物、及び減粘剤は、上記実施形態１で例示したものが利用される。
【００６１】
【化１０】
2019056036.tif 000011
【００６２】
式（３）中、Ｐ１及びＰ２は、互いに独立した重合性基であり、アクリレート基又はメタクリレート基からなり、Ｓｐ１及びＳｐ２は、互いに独立したスペーサー基であり、炭素数１〜２４の直鎖状、環状若しくは分岐状の飽和アルキル基又は不飽和アルキル基、又は直接結合を表し、Ｚ１及びＺ２は、互いに独立し、−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、又は直接結合を表し、Ａ１は、１，４−フェニレン基、４，４’−ビフェニレン基、２，６−ナフタレン基、２，６−アントラセン基、２，７−フェナントレン基、４，４’−カルコン基、４，４’−アゾベンゼン基の何れかを表し、ｎは、１〜３の何れかの整数を表す。
【００６３】
ＰＳＡ層２１，２２は、上記ネガ型液晶材料中に含まれる重合性のモノマーが、液晶層１９Ａ中で、ラジカル重合して得られるポリマーが、配向膜１７Ａａ，１８Ａａ上に層状に形成されたものである。ネガ型液晶材料中の前記モノマーの含有割合は、本発明の目的を損なわない限り特に制限はないが、例えば、０．０１質量％〜５質量％が好ましく、０．０５質量％〜１質量％がより好ましい。
【００６４】
前記モノマーとしては、後述するような、ブラックライト等からの光を受けて、ラジカルを生成する機能を備えた、開始剤機能付き重合性モノマーが好ましい。このような開始剤機能付き重合性モノマーは、例えば、光フリース転位反応により、ラジカルを生成する。なお、前記化学式（３）で示されるモノマーが、ラジカルを生成しない場合、ネガ型液晶材料中には、適宜、ラジカル重合開始剤が添加される。
【００６５】
液晶セル１４Ａは、配向膜１７Ａａ，１８Ａａを備えるとともに、液晶層１９Ａに接触するＰＳＡ層２１，２２が形成されることで、液晶層１９Ａ中の液晶化合物に対してプレチルト角が付与される。
【００６６】
このような液晶セル１４Ａでは、実施形態１と同様、ネガ型液晶化合物や光配向膜からラジカルが発生する場合があり、また、ＰＳＡ層２１，２２の形成時に、液晶層１９Ａ中モノマー等からラジカルが発生する。ただし、本実施形態の液晶セル１４Ａでは、液晶層１９Ａ中に含まれる減粘剤が、ラジカルに対して化学的に安定であるため、液晶層１９Ａ中で安定した状態のラジカルが生成することが抑制され、ひいては、電圧保持率の低下が抑制される。
【００６７】
〔実施形態３〕
次いで、本発明の実施形態３に係る液晶セル１４Ｂについて、図６を参照しつつ説明する。図６は、実施形態３の液晶セル１４Ｂの構成を模式的に表した説明図である。本実施形態の液晶セル１４Ｂは、従来型配向膜レス液晶配向技術を利用したものであり、各々の対向面にポリマー層２３，２４を有する一対の基板１７Ｂ，１８Ｂと、それらの基板１７Ｂ，１８Ｂ間に介在される液晶層１９Ｂと、液晶層１９Ｂの周りを取り囲む形で基板１７Ｂ，１８Ｂ間に介在されるシール材２０Ｂとを備えている。一対の基板１７Ｂ，１８Ｂのうち、一方の基板１７Ｂは、アレイ基板１７Ｂであり、他方の基板１８Ｂは、対向基板１８Ｂである。アレイ基板１７Ｂ及び対向基板１８Ｂには、何れもポリイミド等からなる従来型の配向膜は形成されておらず、ポリマー層２３，２４は、電極（画素電極、対向電極）等を覆う形で形成されている。電圧無印加の状態における液晶層１９Ｂ中の液晶配向モードは、ポリマー層（ＰＳＡ層）２３，２４や図示されない配向規制用構造物（電極等に設けられた凹凸形状等）によって規定される。
【００６８】
アレイ基板１７Ｂ及び対向基板１８Ｂの基本的な構成は、ポリマー層２３，２４が形成されていること、及び従来型の配向膜が形成されていないこと以外は、上記実施形態１の液晶セルと同様である。また、ポリマー層２３，２４は、上記実施形態２で例示した、ＰＳＡ層（ポリマー層）２１，２２と同様、上記化学式（３）で示される重合性のモノマーが、液晶層１９Ｂ中で、ラジカル重合して得られるポリマーの層からなる。シール材２０Ｂは、実施形態１と同様のものが利用される。
【００６９】
液晶層１９Ｂは、負の誘電率異方性を有する液晶化合物と、上記化学式（１）で示される減粘剤と、上記化学式（３）で示される重合性のモノマーとを含むネガ型液晶材料を利用して形成される。負の誘電率異方性を有する液晶化合物、及び減粘剤は、上記実施形態１で例示したものが利用される。
【００７０】
なお、本実施形態の場合、液晶層１９Ｂに利用されるネガ型液晶材料は、更に、液晶層１９Ｂ中の液晶化合物に対して、垂直配向性を付与する垂直配向添加剤が添加されてもよい。垂直配向添加剤は、ポリマー層２３，２４の表面に付着可能な極性官能基を有すると共に、液晶化合物を配向させるために作用する疎水性官能基を備える化合物からなる。具体的な、垂直配向添加剤としては、例えば、下記化学式（９−１）、化学式（９−２）及び化学式（９−３）が挙げられる。
【００７１】
【化１１】
2019056036.tif 000012
【００７２】
垂直配向添加剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。ネガ型液晶材料中の前記垂直配向添加剤の含有割合は、本発明の目的を損なわない限り特に制限はないが、例えば、０．０１質量％〜１０質量％が好ましく、０．１質量％〜５質量％がより好ましい。
【００７３】
このような液晶セル１４Ｂでは、実施形態１等と同様、ネガ型液晶化合物からラジカルが発生する場合があり、また、実施形態２と同様、ポリマー層（ＰＳＡ層）２３，２４の形成時に、液晶層１９Ｂ中モノマー等からラジカルが発生する。ただし、本実施形態の液晶セル１４Ｂでは、液晶層１９Ｂ中に含まれる減粘剤が、ラジカルに対して化学的に安定であるため、液晶層１９Ｂ中で安定した状態のラジカルが生成することが抑制され、ひいては、電圧保持率の低下が抑制される。
【実施例】
【００７４】
以下、実施例に基づいて本発明を更に説明する。なお、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。
【００７５】
〔実施例１〕
（ネガ型液晶材料Ｅ１の調製）
化学式（１０−１）〜化学式（１０−９）で示される各液晶化合物を、表１に示される割合（質量％）で含むネガ型液晶材料（負の誘電率異方性を有する液晶材料）Ｅ０に、上記化学式（６−１）で示される減粘剤を２０質量％の割合で混合したものを、実施例１のネガ型液晶材料Ｅ１とした。なお、化学式（１０−１）〜（１０−９）におけるＲ１及びＲ２は、互いに独立であり、それぞれ炭素数が１〜５の飽和アルキル基を示す。また、ネガ型液晶材料Ｅ０のネマティック−等方相転移温度（Ｔｎｉ）は８０℃であり、誘電率異方性（Δε）は−２．９であり、屈折率異方性（Δｎ）は０．０９であった。
【００７６】
【化１２】
2019056036.tif 000013
【００７７】
【表１】
2019056036.tif 000014
【００７８】
（液晶セルの作製）
上記ネガ型液晶材料Ｅ１を使用しつつ、上記実施形態１の液晶セルに相当する実施例１の液晶セルを、以下の手順で作製した。先ず、スリットを有するＩＴＯ電極が各々に設けられた一対のアレイ基板及び対向基板を用意した。なお、アレイ基板の配向膜及び対向基板の配向膜は、共に、ポリイミド系垂直配向膜からなる。
【００７９】
配向膜を形成する際、先ず、ポリアミック酸を有機溶剤に溶解させてなる配向剤を、各基板上にそれぞれ付与して、配向剤からなる塗膜を各基板上に形成した。その後、各基板上の各塗膜を、それぞれ９０℃の温度条件で５分間加熱（仮焼成）し、続いて、各塗膜を２００℃の温度条件で４０分間加熱（本焼成）した。このようにして、各基板上にポリイミド系樹脂からなる垂直配向膜を形成した。
【００８０】
次いで、アレイ基板の表面（配向膜側）上に、光硬化性及び熱硬化性を備えたシール材組成物を、シールディスペンサを使用して枠状に描画した。続いて、枠状のシール材組成物に光（波長：２８０ｎｍ〜４００ｎｍ）を照射して前記シール材組成物を仮硬化させた。仮硬化後のシール組成物からなる枠内に、減粘剤を含むネガ型液晶材料Ｅ１をＯＤＦ法によって滴下し、その後、前記シール材組成物及びネガ型液晶材料Ｅ１を挟む形で、アレイ基板と対向基板とを貼り合わせ、その状態で１３０℃の温度条件で４０分間加熱して前記シール材組成物を本硬化させた。最後に、アレイ基板及び対向基板を貼り合わせたものを、１２０℃で加熱して急冷することで、ネガ型液晶材料Ｅ１の再配向処理を行うことにより、実施例１の垂直配向型の液晶セルを得た。
【００８１】
〔比較例１〕
下記化学式（１１）で示されるアルケニル化合物からなる減粘剤を、ネガ型液晶材料Ｅ０に５質量％の割合で混合したものを、比較例１のネガ型液晶材料Ｃ１とした。
【００８２】
【化１３】
2019056036.tif 000015
【００８３】
実施例１のネガ型液晶材料Ｅ１に代えて、ネガ型液晶材料Ｃ１を使用したこと以外は、実施例１と同様にして、比較例１の液晶セルを作製した。
【００８４】
〔比較例２〕
実施例１のネガ型液晶材料Ｅ１に代えて、減粘剤を含まない上記ネガ型液晶材料Ｅ０を使用したこと以外は、実施例１と同様にして、比較例２の液晶セルを作製した。
【００８５】
〔電圧保持率（ＶＨＲ）の評価〕
実施例１、及び比較例１，２の各液晶セルについて、東陽テクニカ社製６２５４型ＶＨＲ測定システムを用いつつ、１Ｖ、７０℃の条件で、バックライトの露光前、及びバックライトで５００時間露光した後における電圧保持率（ＶＨＲ）（％）を測定した。結果は、表２に示した。
【００８６】
〔応答特性の評価〕
実施例１、及び比較例１，２の各液晶セルについて、バックライトの露光前に、応答特性を評価した。具体的には、「Ｐｈｏｔａｌ５２００」（大塚電子社製）を用い、液晶セルへの印加電圧を０．５Ｖから７Ｖまで上昇させたときに、透過率が１０％から９０％に変化するのに要した時間として、立ち上がり応答時間τｒ（ｍｓ）を測定した。また、液晶セルへの印加電圧を７Ｖから０．５Ｖまで低下させたときに、透過率が９０％から１０％に変化するのに要した時間として、立ち下がり応答時間τｄ（ｍｓ）を測定した。結果は、表２に示した。
【００８７】
【表２】
2019056036.tif 000016
【００８８】
実施例１は、化学式（６−１）で示される減粘剤を２０質量％の割合で含むネガ型液晶材料Ｅ１を使用した場合である。実施例１の液晶セルでは、５００時間露光後のＶＨＲが、露光前のＶＨＲと比べて、殆ど低下しなかった。比較例１は、化学式（１１）で示されるアルケニル化合物からなる減粘剤を５質量％の割合で含むネガ型液晶材料Ｃ１を使用した場合である。比較例１の液晶セルでは、減粘剤の含有量が少ないにもかかわらず、５００時間露光後のＶＨＲが、露光前のＶＨＲと比べて大幅に低下した。なお、減粘剤を含まないネガ型液晶材料Ｅ０を使用した比較例１では、５００時間露光後のＶＨＲの低下は見られなかった。また、応答特性については、実施例１及び比較例１は、同等レベルであり、かつ減粘剤を含まない比較例２と比べて、高速応答であった。
【００８９】
〔実施例２：ＰＳＡ層を有する液晶セル〕
上記ネガ型液晶材料Ｅ０に、上記化学式（６−１）で示される減粘剤を５質量％、及び下記化学式（１２）に示される重合性のモノマー（開始剤機能付き重合性モノマー）を０．３質量％の割合で混合し、その混合物を２５℃の温度条件下で２４時間放置して、完全にモノマーを溶解させたものを、実施例２のネガ型液晶材料Ｅ２とした。
【００９０】
【化１４】
2019056036.tif 000017
【００９１】
上記ネガ型液晶材料Ｅ２を使用しつつ、上記実施形態２の液晶セルに相当する実施例２の液晶セルを、以下の手順で作製した。先ず、ＩＴＯ電極が各々に設けられた一対のアレイ基板及び対向基板を用意した。なお、アレイ基板の配向膜及び対向基板の配向膜は、共に、実施例１と同様のポリイミド系垂直配向膜からなる。
【００９２】
配向膜を形成する際、先ず、実施例１と同様、ポリアミック酸を有機溶剤に溶解させてなる配向剤を、各基板上にそれぞれ付与して、配向剤からなる塗膜を各基板上に形成した。その後、各基板上の各塗膜を、それぞれ９０℃の温度条件で５分間加熱（仮焼成）し、続いて、各塗膜を２００℃の温度条件で４０分間加熱（本焼成）した。このようにして、各基板上にポリイミド系樹脂からなる垂直配向膜を形成した。
【００９３】
次いで、アレイ基板の表面（配向膜側）上に、実施例１と同様、光硬化性及び熱硬化性を備えたシール材組成物を、シールディスペンサを使用して枠状に描画した。続いて、枠状のシール材組成物に光（波長：２８０ｎｍ〜４００ｎｍ）を照射して前記シール材組成物を仮硬化させた。仮硬化後のシール組成物からなる枠内に、減粘剤及びモノマーを含むネガ型液晶材料Ｅ２をＯＤＦ法によって滴下し、その後、前記シール材組成物及びネガ型液晶材料Ｅ２を挟む形で、アレイ基板と対向基板とを貼り合わせ、その状態で１３０℃の温度条件で４０分間加熱して前記シール材組成物を本硬化させた。このようにしてアレイ基板と対向基板が完全に貼り合わされた未完成液晶セルを得た。
【００９４】
得られた未完成液晶セルに対して、ＡＣ電圧１０Ｖの印加状態で、法線方向からブラックライト（「ＦＨＦ−３２ＢＬＢ」、東芝ライフテック社製）を、室温環境下で１２０分間照射することで、各基板の垂直配向膜上に、それぞれポリマー層（ＰＳＡ層）を形成した。その後、ポリマー層が形成された未完成液晶セルを、１２０℃で加熱して急冷することで、ネガ型液晶材料Ｅ２の再配向処理を行うことにより、実施例２の液晶セルを得た。
【００９５】
〔実施例３〜５及び比較例３，４〕
上記化学式（６−１）で示される減粘剤の配合割合を、それぞれ表３に示される値（質量％）に変更したこと以外は、実施例２と同様にして、実施例３〜５及び比較例３，４の各ネガ型液晶材料Ｅ３，Ｅ４，Ｅ５，Ｃ３，Ｃ４を作製した。
【００９６】
また、実施例２のネガ型液晶材料Ｅ２に代えて、それぞれ、実施例３〜５及び比較例３，４の各ネガ型液晶材料Ｅ３，Ｅ４，Ｅ５，Ｃ３，Ｃ４を使用したこと以外は、実施例２と同様にして、実施例３〜５及び比較例３，４の各液晶セルを作製した。
【００９７】
〔比較例５〕
上記化学式（６−１）で示される減粘剤に代えて、上記化学式（１１）で示されるアルケニル化合物からなる減粘剤を５質量％の割合で混合したこと以外は、実施例２と同様にして、比較例５のネガ型液晶材料Ｃ５を作製した。
【００９８】
〔電圧保持率（ＶＨＲ）の評価〕
上記ブラックライトの照射前における実施例２〜５及び比較例３〜５の各未完成液晶セルについて、実施例１の場合と同様にして、電圧保持率（ＶＨＲ）（％）を測定した。また、上記ブラックライトの照射後における実施例２〜５及び比較例３〜５の各液晶セルについても、同様にして、電圧保持率（ＶＨＲ）（％）を測定した。結果は、表３に示した。
【００９９】
〔応答特性の評価〕
実施例２〜５及び比較例３，４の各液晶セルについて、実施例１の場合と同様にして、立ち上がり応答時間τｒ（ｍｓ）及び立ち下がり応答時間τｄ（ｍｓ）を測定した。結果は、表３に示した。
【０１００】
〔透過率評価〕
実施例２〜５及び比較例３，４の各液晶セルについて、バックライトの照射前に、透過率（％）を評価した。具体的には、「Ｐｈｏｔａｌ５２００」（大塚電子社製）を用い、液晶セルへの印加電圧を０〜７Ｖの範囲でＶ−Ｔ特性（電圧透過率特性）を評価し、印加電圧７Ｖの透過率を測定した。なお、液晶セルの無い場合の透過率を１００％とした。結果は、表３に示した。
【０１０１】
【表３】
2019056036.tif 000018
【０１０２】
実施例２〜５は、液晶層（液晶材料）中に、化学式（６−１）で示される減粘剤を５〜４０質量％の範囲で含む場合であり、また、比較例３は、前記減粘剤を含まない場合である。このような実施例２〜５は、表３に示されるように、比較例３と比べて、応答速度（特に立ち上がり応答時間）が速く、またブラックライト照射後（ポリマー層形成後）のＶＨＲも９８．０％以上という高い値を維持した。また、比較例４は、前記減粘剤を液晶層中に５０質量％の割合で含む場合である。このような比較例４でも、応答速度が速く、またブラックライト照射後（ポリマー層形成後）のＶＨＲも高い値を示したが、極性の無い減粘剤の増加に伴い、透過率が実施例２〜５及び比較例３と比べて、低下した。これは、減粘剤の増加により、極性成分比率が低下したため、液晶材料の電界応答について高電圧印加が必要になったためと推測される。
【０１０３】
比較例５は、減粘剤として化学式（１１）に示されるアルケニル化合物を、液晶層中に５質量％の割合で含有させた場合である。このような比較例５では、応答速度は速くなったものの、僅か５質量％のアルケニル化合物により、ブラックライト照射後のＶＨＲが９３．６％まで低下した。アルケニル化合物は、ブラックライト照射で形成されたラジカル（化学式（１２）で示されるモノマーが、光フリース転位反応によりラジカルを生成したものと推測される）がアルケニル基に転移して、安定なラジカルになったため、若しくはアルケニル化合物の重合が進行し、結果としてラジカル末端を有するアルケニル化合物の重合体が液晶層中に残存したため、ＶＨＲが低下したものと推測される。
【０１０４】
このようにＰＳＡ方式の液晶セルにおいて、応答特性を高めるためには、液晶材料の減粘剤として、化学式（６−１）に示される化合物を用いることが有効である。
【０１０５】
〔実施例６：光配向膜及びＰＳＡ層を有する液晶セル〕
上記ネガ型液晶材料Ｅ０に、上記化学式（６−１）で示される減粘剤を５質量％、及び化学式（１３）に示される重合性のモノマー（開始剤機能付き重合性モノマー）を０．６質量％の割合で混合し、その混合物を２５℃の温度条件下で２４時間放置して、完全にモノマーを溶解させたものを、実施例６のネガ型液晶材料Ｅ６とした。
【０１０６】
【化１５】
2019056036.tif 000019
【０１０７】
上記ネガ型液晶材料Ｅ６を使用しつつ、上記実施形態２の液晶セルに相当する実施例６の液晶セルを、以下の手順で作製した。先ず、ＩＴＯ電極が各々に設けられた一対のアレイ基板及び対向基板を用意した。なお、アレイ基板の配向膜及び対向基板の配向膜は、光照射により配向規制力を発現する光配向膜であり、具体的には、ポリイミド系垂直光配向膜（ＵＶ２Ａモード用光配向膜であり、光反応性官能基としてシンナメート基を有する）からなる。
【０１０８】
光配向膜を形成する際、先ず、光反応性官能基としてシンナメート基を有するポリアミック酸を有機溶剤に溶解させてなる光配向剤を、各基板上にそれぞれ付与して、光配向剤からなる塗膜を各基板上に形成した。その後、各基板上の各塗膜を、それぞれ９０℃の温度条件で５分間加熱（仮焼成）し、続いて、各塗膜を２００℃の温度条件で４０分間加熱（本焼成）した。その後、各塗膜に対して、偏光紫外線を２５ｍＪ／ｃｍ２の条件（３２０ｎｍ〜３４０ｎｍの波長での照射量）で照射して、光配向処理を行った。このようにして、各基板上にポリイミド系樹脂からなる垂直光配向膜を形成した。
【０１０９】
次いで、アレイ基板の表面（光配向膜側）上に、光硬化性及び熱硬化性を備えたシール材組成物を、シールディスペンサを使用して枠状に描画した。続いて、枠状のシール材組成物に光（波長：２８０ｎｍ〜４００ｎｍ）を照射して前記シール材組成物を仮硬化させた。仮硬化後のシール組成物からなる枠内に、減粘剤及びモノマーを含むネガ型液晶材料Ｅ６をＯＤＦ法によって滴下し、その後、前記シール材組成物及びネガ型液晶材料Ｅ６を挟む形で、アレイ基板と対向基板とを貼り合わせ、その状態で１３０℃の温度条件で４０分間加熱して前記シール材組成物を本硬化させた。このようにしてアレイ基板と対向基板が完全に貼り合わされた未完成液晶セルを得た。
【０１１０】
得られた未完成液晶セルに対して、ＡＣ電圧を無印加の状態で、法線方向からブラックライト（「ＦＨＦ−３２ＢＬＢ」、東芝ライフテック社製）を、室温環境下で６０分間照射することで、各基板の垂直光配向膜上に、それぞれポリマー層（ＰＳＡ層）を形成した。その後、ポリマー層が形成された未完成液晶セルを、１２０℃で加熱して急冷することで、ネガ型液晶材料Ｅ６の再配向処理を行うことにより、実施例６の液晶セルを得た。
【０１１１】
〔実施例７〜９及び比較例６，７〕
上記化学式（６−１）で示される減粘剤の配合割合を、それぞれ表４に示される値（質量％）に変更したこと以外は、実施例６と同様にして、実施例７〜９及び比較例６，７の各ネガ型液晶材料Ｅ７，Ｅ８，Ｅ９，Ｃ６，Ｃ７を作製した。
【０１１２】
また、実施例６のネガ型液晶材料Ｅ６に代えて、それぞれ、実施例７〜９及び比較例６，７の各ネガ型液晶材料Ｅ７，Ｅ８，Ｅ９，Ｃ６，Ｃ７を使用したこと以外は、実施例６と同様にして、実施例７〜９及び比較例６，７の各液晶セルを作製した。
【０１１３】
〔比較例８〕
上記化学式（６−１）で示される減粘剤に代えて、上記化学式（１１）で示されるアルケニル化合物からなる減粘剤を５質量％の割合で混合したこと以外は、実施例６と同様にして、比較例８のネガ型液晶材料Ｃ８を作製した。
【０１１４】
〔電圧保持率（ＶＨＲ）の評価〕
上記ブラックライトの照射前における実施例６〜９及び比較例６〜８の各未完成液晶セルについて、実施例１の場合と同様にして、電圧保持率（ＶＨＲ）（％）を測定した。また、上記ブラックライトの照射後における実施例６〜９及び比較例６〜８の各液晶セルについても、同様にして、電圧保持率（ＶＨＲ）（％）を測定した。結果は、表４に示した。
【０１１５】
〔応答特性の評価〕
実施例６〜９及び比較例６〜８の各液晶セルについて、実施例１の場合と同様にして、立ち上がり応答時間τｒ（ｍｓ）及び立ち下がり応答時間τｄ（ｍｓ）を測定した。結果は、表４に示した。
【０１１６】
〔透過率評価〕
実施例６〜９及び比較例６〜８の各液晶セルについて、実施例２等の場合と同様にして、バックライトの照射前に、透過率（％）を評価した。結果は、表４に示した。
【０１１７】
【表４】
2019056036.tif 000020
【０１１８】
実施例６〜９は、液晶層（液晶材料）中に、化学式（６−１）で示される減粘剤を５〜４０質量％の範囲で含む場合であり、また、比較例６は、前記減粘剤を含まない場合である。このような実施例６〜９は、表４に示されるように、比較例６と比べて、応答速度（特に立ち上がり応答時間）が速く、またブラックライト照射後（ポリマー層形成後）のＶＨＲも９９．０％以上という高い値を維持した。また、比較例７は、前記減粘剤を液晶層中に５０質量％の割合で含む場合である。このような比較例７でも、応答速度が速く、またブラックライト照射後（ポリマー層形成後）のＶＨＲも高い値を示したが、極性の無い減粘剤の増加に伴い、透過率が実施例６〜９及び比較例６と比べて、低下した。これは、減粘剤の増加により、極性成分比率が低下したため、液晶材料の電界応答について高電圧印加が必要になったためと推測される。
【０１１９】
比較例８は、減粘剤として化学式（１１）に示されるアルケニル化合物を、液晶層中に５質量％の割合で含有させた場合である。このような比較例８では、応答速度は速くなったものの、僅か５質量％のアルケニル化合物により、ブラックライト照射後のＶＨＲが９６．０％まで低下した。アルケニル化合物は、ブラックライト照射で形成されたラジカル（化学式１３）で示されるモノマー、及び光配向膜から発生したラジカルと推定される）がアルケニル基に転移して、安定なラジカルになったため、若しくはアルケニル化合物の重合が進行し、結果としてラジカル末端を有するアルケニル化合物の重合体が液晶層中に残存したため、ＶＨＲが低下したものと推測される。
【０１２０】
このように、光反応性官能基としてシンナメート基を含む光配向膜を用いたＰＳＡ方式の液晶セルにおいて、応答特性を高めるためには、液晶材料の減粘剤として、化学式（６−１）に示される化合物を用いることが有効である。
【０１２１】
〔実施例１０：従来型の配向膜を備えない垂直配向液晶セル〕
上記ネガ型液晶材料Ｅ０に、上記化学式（６−２）で示される減粘剤を２０質量％、上記化学式（１２）で示される重合性のモノマー（開始剤機能付き重合性モノマー）を０．３質量％、及び上記化学式（９−１）で示される垂直配向添加剤を１．５質量％の割合で混合し、その混合物を２５℃の温度条件下で２４時間放置して、完全にモノマー及び垂直配向添加剤を溶解させたものを、実施例１０のネガ型液晶材料Ｅ１０とした。
【０１２２】
上記ネガ型液晶材料Ｅ１０を使用しつつ、上記実施形態３の液晶セルに相当する実施例１０の液晶セルを、以下の手順で作製した。先ず、ＩＴＯ電極が各々に設けられた一対のアレイ基板及び対向基板を用意した。なお、アレイ基板及び対向基板には、従来型の配向膜は備えていない。
【０１２３】
次いで、アレイ基板の表面上に、光硬化性及び熱硬化性を備えたシール材組成物を、シールディスペンサを使用して枠状に描画した。続いて、枠状のシール材組成物に光（波長：２８０ｎｍ〜４００ｎｍ）を照射して前記シール材組成物を仮硬化させた。仮硬化後のシール組成物からなる枠内に、減粘剤及びモノマーを含むネガ型液晶材料Ｅ１０をＯＤＦ法によって滴下し、その後、前記シール材組成物及びネガ型液晶材料Ｅ１０を挟む形で、アレイ基板と対向基板とを貼り合わせ、その状態で１３０℃の温度条件で４０分間加熱して前記シール材組成物を本硬化させた。このようにしてアレイ基板と対向基板が完全に貼り合わされた未完成液晶セルを得た。
【０１２４】
続いて、垂直配向を固定するため、得られた未完成液晶セルに対して、ＡＣ電圧１０Ｖの印加状態で、法線方向からブラックライト（「ＦＨＦ−３２ＢＬＢ」、東芝ライフテック社製）を、室温環境下で１００分間照射することで、各基板の表面上に、それぞれポリマー層を形成した。その後、ポリマー層が形成された未完成液晶セルを、１２０℃で加熱して急冷することで、ネガ型液晶材料Ｅ１０の再配向処理を行うことにより、実施例１０の液晶セルを得た。
【０１２５】
〔実施例１１〕
垂直配向添加剤として、上記化学式（９−２）で示される化合物を１．５質量％の配合割合で使用したこと以外は、実施例１０と同様にして、実施例１１のネガ型液晶材料Ｅ１１を作製した。
【０１２６】
また、ネガ型液晶材料Ｅ１１を使用したこと以外は、実施例１０と同様にして、実施例１１の液晶セルを作製した。
【０１２７】
〔実施例１２〕
垂直配向添加剤として、上記化学式（９−３）で示される化合物を１．５質量％の配合割合で使用したこと以外は、実施例１０と同様にして、実施例１２のネガ型液晶材料Ｅ１２を作製した。
【０１２８】
また、ネガ型液晶材料Ｅ１２を使用したこと以外は、実施例１０と同様にして、実施例１２の液晶セルを作製した。
【０１２９】
〔比較例９〕
減粘剤として、上記化学式（１１）で示されるアルケニル化合物を５質量％の配合割合で使用したこと以外は、実施例１０と同様にして、比較例９のネガ型液晶材料Ｃ９を作製した。また、ネガ型液晶材料Ｃ９を使用したこと以外は、実施例１０と同様にして、比較例９の液晶セルを作製した。
【０１３０】
〔比較例１０〕
減粘剤として、上記化学式（１１）で示されるアルケニル化合物を５質量％の配合割合で使用したこと以外は、実施例１１と同様にして、比較例１０のネガ型液晶材料Ｃ１０を作製した。また、ネガ型液晶材料Ｃ１０を使用したこと以外は、実施例１０と同様にして、比較例１０の液晶セルを作製した。
【０１３１】
〔比較例１１〕
減粘剤として、上記化学式（１１）で示されるアルケニル化合物を５質量％の配合割合で使用したこと以外は、実施例１２と同様にして、比較例１１のネガ型液晶材料Ｃ１１を作製した。また、ネガ型液晶材料Ｃ１１を使用したこと以外は、実施例１０と同様にして、比較例１１の液晶セルを作製した。
【０１３２】
〔電圧保持率（ＶＨＲ）の評価〕
上記ブラックライトの照射前における実施例１０〜１２及び比較例９〜１１の各未完成液晶セルについて、実施例１の場合と同様にして、電圧保持率（ＶＨＲ）（％）を測定した。また、上記ブラックライトの照射後における実施例１０〜１２及び比較例９〜１１の各液晶セルについても、同様にして、電圧保持率（ＶＨＲ）（％）を測定した。結果は、表５に示した。
【０１３３】
〔応答特性の評価〕
実施例１０〜１２及び比較例９〜１１の各液晶セルについて、実施例１の場合と同様にして、立ち上がり応答時間τｒ（ｍｓ）及び立ち下がり応答時間τｄ（ｍｓ）を測定した。結果は、表５に示した。
【０１３４】
【表５】
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【０１３５】
実施例１０〜１２は、減粘剤として化学式（６−２）で示される化合物を使用した場合であり、また、比較例９〜１１は、減粘剤として化学式（１１）で示されるアルケニル化合物を使用した場合である。表５に示されるように、実施例１０〜１２では、前記減粘剤を液晶層中に２０質量％の割合で添加することで、比較例９〜１１と略同等の応答特性が得られた。また、実施例１０〜１２では、前記減粘剤を使用することにより、ブラックライトを用いて紫外光を照射して垂直配向を固定するためのポリマー層を形成させた後も、ＶＨＲの低下は小さく、９７．０％以上の値を示した。これに対し、比較例９〜１１では、９４％台乃至は９５％台まで、ＶＨＲが低下する結果となった。
【０１３６】
このように、従来型の配向膜を使用しない、従来型配向膜レス垂直配向ＰＳＡ方式において、応答特性に優れた液晶パネルを得るためには、減粘剤として、上記化学式（６−２）で示される化合物を用いることが有効である。
【０１３７】
〔実施例１３：光配向膜を有するＦＦＳモード用液晶セル〕
上記化学式（６−３）で示される減粘剤を、ネガ型液晶材料Ｅ０に２５質量％の割合で混合したものを、実施例１３のネガ型液晶材料Ｅ１３とした。
【０１３８】
上記ネガ型液晶材料Ｅ１３を使用しつつ、上記実施形態１の液晶セル（ＦＦＳモード用液晶セル）に相当する実施例１３の液晶セルを、以下の手順で作製した。先ず、２種類のＩＴＯ電極（画素電極、対向電極）を有するＦＦＳモード用のアレイ基板と、アレイ基板に対向する対向基板を用意した。なお、アレイ基板の配向膜及び対向基板の配向膜は、共に光配向膜であり、具体的には、ポリイミド系水平光配向膜（ＦＦＳモード用光配向膜であり、光反応性官能基としてアゾベンゼン基を有する）からなる。
【０１３９】
光配向膜を形成する際、先ず、光反応性官能基としてアゾベンゼン基を有するポリアミック酸を有機溶剤に溶解させてなる光配向剤を、各基板上にそれぞれ付与して、光配向剤からなる塗膜を各基板上に形成した。その後、各基板上の各塗膜を、それぞれ９０℃の温度条件で５分間加熱（仮焼成）し、続いて、各塗膜を１２０℃の温度条件で２０分間加熱（一次本焼成）した。その後、各塗膜に対して、偏光紫外線を２Ｊ／ｃｍ２の条件（３４０ｎｍ〜３８０ｎｍの波長での照射量）で照射して、光配向処理し、更に各塗膜を２３０℃の温度条件で４０分間加熱（二次本焼成）を行った。このようにして、各基板上にポリイミド系樹脂からなる水平光配向膜を形成した。
【０１４０】
次いで、アレイ基板の表面（光配向膜側）上に、光硬化性及び熱硬化性を備えたシール材組成物を、シールディスペンサを使用して枠状に描画した。続いて、枠状のシール材組成物に光（波長：２８０ｎｍ〜４００ｎｍ）を照射して前記シール材組成物を仮硬化させた。仮硬化後のシール組成物からなる枠内に、減粘剤を含むネガ型液晶材料Ｅ１３をＯＤＦ法によって滴下し、その後、前記シール材組成物及びネガ型液晶材料Ｅ１３を挟む形で、アレイ基板と対向基板とを貼り合わせ、その状態で１３０℃の温度条件で４０分間加熱して前記シール材組成物を本硬化させた。このようにしてアレイ基板と対向基板が完全に貼り合わされた状態において、１２０℃で加熱して急冷することで、ネガ型液晶材料Ｅ１３の再配向処理を行うことにより、実施例１３の液晶セルを得た。
【０１４１】
〔比較例１２〕
減粘剤として上記化学式（１１）で示されるアルケニル化合物を、ネガ型液晶材料Ｅ０に１０質量％の割合で混合したものを、比較例１２のネガ型液晶材料Ｃ１２とした。また、ネガ型液晶材料Ｃ１２を使用したこと以外は、実施例１３と同様にして、比較例１２の液晶セルを作製した。
【０１４２】
〔比較例１３〕
減粘剤を含まない上記ネガ型液晶材料Ｅ０を使用したこと以外は、実施例１３と同様にして、比較例１３の液晶セルを作製した。
【０１４３】
〔電圧保持率（ＶＨＲ）の評価〕
実施例１３及び比較例１２，１３の各液晶セルについて、実施例１の場合と同様にして、バックライトの露光前、及びバックライトで５００時間露光した後における電圧保持率（ＶＨＲ）（％）を測定した。結果は、表６に示した。
【０１４４】
〔応答特性の評価〕
実施例１３及び比較例１２，１３の各液晶セルについて、実施例１の場合と同様にして、立ち上がり応答時間τｒ（ｍｓ）及び立ち下がり応答時間τｄ（ｍｓ）を測定した。結果は、表６に示した。
【０１４５】
【表６】
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【０１４６】
実施例１３は、減粘剤として化学式（６−３）で示される化合物を使用した場合であり、また、比較例１２は、減粘剤として化学式（１１）で示されるアルケニル化合物を使用した場合である。表６に示されるように、実施例１３の液晶セルでは、５００時間露光後のＶＨＲが、露光前のＶＨＲと比べて、殆ど低下しなかった。比較例１２の液晶セルでは、減粘剤の含有量が１０質量％と少ないにもかかわらず、５００時間露光後のＶＨＲが、露光前のＶＨＲと比べて大幅に低下した。なお、減粘剤を含まないネガ型液晶材料Ｅ０を使用した比較例１３では、５００時間露光後のＶＨＲの低下は小さい結果となった。また、応答特性については、実施例１３及び比較例１２は、同等レベルであり、かつ減粘剤を含まない比較例１３と比べて、高速応答であった。
【符号の説明】
【０１４７】
１０…液晶表示装置、１１…液晶パネル、１２…バックライト、１３…筐体、１４…液晶セル、１５，１６…偏光板、１７…アレイ基板、１７ａ…配向膜、１８…対向基板、１８ａ…配向膜、１９…液晶層、２０…シール材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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