(57)【要約】【課題】  本発明は、無機化合物を含有する機能層への密着性に優れ、屈曲による機能層に割れが生じることを抑制し得る有機層の形成を目的とする。また、本発明は、有機層の上に第２の機能層を形成する場合に、より平坦な第２の機能層の形成を可能とする有機層の形成を目的とする。【解決手段】  無機化合物を含有する機能層を保護する有機層用の光硬化性組成物であって、前記光硬化性組成物が、光重合モノマーと光重合開始剤とを含み、前記光重合モノマーが、環状エーテルモノマーおよび環状エーテル形成性モノマーからなる群より選ばれる環状エーテル系（メタ）アクリレートモノマー、多官能（メタ）アクリレート化合物を含む光硬化性組成物。【選択図】  図３
2019143057.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機化合物を含有する機能層を保護する有機層用の光硬化性組成物であって、
前記光硬化性組成物が、光重合性モノマーと光重合開始剤とを含み、
前記光重合モノマーが、環状エーテルモノマーおよび環状エーテル形成性モノマーからなる群より選ばれる環状エーテル系（メタ）アクリレートモノマー、および多官能（メタ）アクリレートモノマーを含む光硬化性組成物。
【請求項２】
アミドモノマーをさらに含む、請求項１記載の光硬化性組成物。
【請求項３】
アミドモノマーが、環状アミドモノマーを含む、請求項２記載の光硬化性組成物。
【請求項４】
レベリング剤をさらに含む請求項１〜３いずれか１項に記載の光硬化性組成物。
【請求項５】
レベリング剤が炭素−炭素二重結合を有する請求項４記載の光硬化性組成物。
【請求項６】
光重合性モノマー１００質量％中、環状エーテル系（メタ）アクリレートモノマーを１０〜９５質量％、多官能（メタ）アクリレートモノマーを５〜９０質量％、およびアミドモノマーを０〜８５質量％含む、請求項１〜５いずれか１項に記載の光硬化性組成物。
【請求項７】
光重合性モノマー１００質量％中、環状エーテル系（メタ）アクリレートモノマーを１０〜９０質量％、多官能（メタ）アクリレートモノマーを５〜８５質量％、およびアミドモノマーを５〜８５質量％含む、請求項２〜５いずれか１項に記載の光硬化性組成物。
【請求項８】
基材、無機化合物を含有する機能層、および前記機能層を保護する有機層を備えるディスプレイであって、
前記有機層が、請求項１〜７いずれか１項に記載の光硬化性組成物の硬化物である、
ディスプレイ。
【請求項９】
一対の電極と該電極間に位置する有機発光層とを有する有機ＥＬ素子、
前記一対の電極の少なくとも一方の面を覆う第１のバリア層
および前記第１のバリア層を覆う第１の有機層を具備する、ディスプレイであって、
前記第１のバリア層が、無機化合物を含有し、
前記第１の有機層が、請求項１〜７いずれか１項に記載の光硬化性組成物の硬化物である、
ディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子部品等の保護に使用できる光硬化性組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、スマートフォンやタブレット端末等の携帯端末に代表される電子機器は、更なる薄型化が求められている。携帯端末等の電子機器は、内部にプリント配線板やディスプレイ部材を備えたタッチパネル、更にタッチパネルを構成する液晶ディスプレイ（以下、「ＬＣＤ」という）や有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（以下、「ＯＬＥＤ」ともいう）が搭載されている。当該ディスプレイ等の電子素子積層体は、様々な方法で薄型化、高密度化を進めている。
例えば、スマートフォンは、多機能を実現するために多くの部材（部品）が限られた空間に使用されている。部品の中でもタッチパネルは、基材上に様々な機能を有する無機層等の機能層と、前記機能層を保護する有機層が積層されている。前記有機層は機能層上に積層するため密着性等の適性が必要になる。
例えば、ＯＬＥＤで使用される発光素子は、自己発光型素子であり、軽量化及び薄型化が可能であるためディスプレイに限らず照明装置等に用いられている。このＯＬＥＤは、プラスチックフィルム等の柔軟性を有する基材を使用することでフレキシブルディスプレイを製造することができる。１枚ずつ生産するガラス基材と異なり、プラスチックフィルム基材を使用すると、ロール・トゥ・ロール（Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ）方式でＯＬＥＤを製造することができるためコストダウンが見込める。
【０００３】
ＯＬＥＤの発光素子は、水蒸気で劣化し易いため、基材上に無機化合物を蒸着したバリア層（無機層）を形成して発光素子を保護している。しかし、前記バリア層は、可撓性が無く割れやすいため、バリア層を保護する有機層が必要であった（例えば特許文献１〜６）。
【０００４】
そこで特許文献１には、有機層の形成に使用する、カルボキシル基またはホスホン酸基を有する、ポリウレア、ポリウレタン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアクリレートおよびポリメタクリレートからなる群より選択される樹脂を含む樹脂組成物が開示されている。
【０００５】
特許文献２には、特定のポリチオールモノマー及び特定のポリエンモノマーを含有する重合性化合物と、光重合開始剤と、特定の単官能（メタ）アクリルモノマーを含有する表示素子用封止剤が開示されている。
【０００６】
特許文献３には、無機バリア層と、特定の重合性化合物を含む重合性組成物から形成された有機層とを有するバリア性積層体が開示されている。
【０００７】
特許文献４には、無機層上に、特定の酸性化合物、重合性化合物、及び、シランカップリング剤を含む第１の有機組成物からなる第１の有機層を形成する工程と、当該第１の有機層上に重合性化合物、及び、シランカップリング剤を含む第２の有機層を形成する、特定の製造方法が開示されている。
【０００８】
特許文献５には、無機層と、多官能（メタ）アクリレートと、特定の化合物を含む重合性組成物を重合させてなるポリマーを含む有機層とを有するバリア性積層体が開示されている。
【０００９】
また特許文献６には、アルコキシアルキル（メタ）アクリルアミド基を有するウレタンオリゴマーを含有する電子デバイス用光硬化性樹脂組成物が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００７−３０３８７号公報
【特許文献２】特開２０１６−１１０７８８号公報
【特許文献３】特開２０１４−１５９１２４号公報
【特許文献４】特開２０１１−２０１０６４号公報
【特許文献５】特開２０１３−０４３３８４号公報
【特許文献６】特開２０１６−１８１３７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
従来の組成物は、硬化被膜の可撓性が低く、有機層を形成後、曲げ等の応力を加えると機能層に割れ（クラック）が発生する。従って、例えば、機能層である透明電極を有機層で保護する場合、屈曲後に抵抗値が上昇する問題があった。また機能層であるバリア層を有機層で保護する場合も、割れが生じて水蒸気が透過しやすくなる問題があった。さらに機能層に対する密着性が低い問題もあった。また有機層が平坦でないと、有機層上にさらに第２の機能層を積層する場合、第２の機能層を平坦化しにくく、第２の機能層本来の機能を十分に発現できないといった問題もあった。
【００１２】
本発明は、無機化合物を含有する機能層への密着性に優れ、屈曲による機能層に割れが生じることを抑制し得る有機層の形成を目的とする。また、本発明は、有機層の上に第２の機能層を形成する場合に、より平坦な第２の機能層の形成を可能とする有機層の形成を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、無機化合物を含有する機能層を保護する有機層用の光硬化性組成物であって、
前記光硬化性組成物が、光重合モノマーと光重合開始剤とを含み、
前記光重合モノマーが、環状エーテルモノマーおよび環状エーテル形成性モノマーからなる群より選ばれる環状エーテル系（メタ）アクリレートモノマー、多官能（メタ）アクリレート化合物を含む光硬化性組成物。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の光硬化性組成物により、無機化合物を含有する機能層への密着性に優れる有機層であって、屈曲による機能層に割れが生じることを抑制し得る有機層を形成できる。また、本発明の光硬化性組成物は、平坦化し易いので、有機層の上に第２の機能層を形成する場合に、より平坦な第２の機能層の形成を可能とする。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】タッチパネルの構成の一例を示す模式的な断面図である。
【図２】ＯＬＥＤの構成の一例を示す模式的な断面図である。
【図３】ＯＬＥＤの他の態様の一例を示す模式的な断面図である。
【図４】ＯＬＥＤの他の態様の一例を示す模式的な断面図である。
【図５】ＯＬＥＤの他の態様の一例を示す模式的な断面図である。
【図６】ＯＬＥＤの他の態様の一例を示す模式的な断面図である。
【図７】ＯＬＥＤの他の態様の一例を示す模式的な断面図である。
【図８】実施例の抵抗値変化率試験に使用する屈曲性試験シートの概略を示す平面図（ａ）および側面図（ｂ）である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本明細書での用語を説明する。モノマーは、エチレン性不飽和基含有単量体である。機能層とは、無機化合物を含むことで、例えば、バリア性、導電性等の電子素子にとって必要な何らかの機能を有する層をいう。電子素子とは、例えば、電子素子積層体として機能を発揮するための主要な部材であり、例えば、ＯＬＥＤでの発光素子、ＬＣＤでの偏光板、タッチパネルでの透明電極、プリント配線板での回路配線およびグランド配線等を意味する。光硬化性化合物は、例えば、環状エーテルモノマーおよび環状エーテル形成性モノマーからなる群より選ばれる環状エーテル系（メタ）アクリレートモノマー、多官能（メタ）アクリレート化合物等の光重合開始剤により硬化する化合物であり、例えば、（メタ）アクリロイル基やビニル基を有する化合物である。
本発明において（メタ）アクリレートとは、アクリレート及びメタクリレートの各々を表し、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基およびメタクリロイル基の各々を表す。
また、本発明において放射線とは、電離放射線、及び、紫外線や可視光線を含む非電離放射線を含むものである。
【００１７】
本発明の光硬化性組成物は、無機化合物を含有する機能層、および前記機能層を保護する有機層を備えた電子素子積層体の有機層を形成する光硬化性組成物であって、
環状エーテルモノマーおよび環状エーテル形成性モノマーからなる群より選ばれる環状エーテル系（メタ）アクリレートモノマー、多官能（メタ）アクリレート化合物、光重合開始剤を含む。
本発明の光硬化性組成物は、例えばディスプレイを構成する様々な部材に使用され無機層を保護する保護膜として使用することが好ましい。かかる保護膜は、低温超短時間で硬化するため生産性が高く、無機層を有する基材との密着性に優れている。
【００１８】
＜環状エーテル系（メタ）アクリレートモノマー＞
環状エーテル系（メタ）アクリレートモノマーは、環状エーテルモノマーおよび環状エーテル形成性モノマーからなる群より選ばれるものである。環状エーテルモノマーは、環状エーテルユニットを有する。
一方、環状エーテル形成性モノマーは、硬化前の状態では環状エーテルユニットを有しないが、光を照射することによって、ポリマーを形成する反応と環状エーテルユニットを形成する反応とが生じるものであり、光照射の結果、硬化物は環状エーテルユニットを有することとなる。例えば、環状エーテル形成性モノマーの１つであるα−アリルオキシメチルアクリレート（以下、ＦＸ−ＡＯ−ＭＡ（（株）日本触媒製）は、以下に示すように、光の照射によって、環状エーテルユニットを形成しつつ重合する。
【００１９】
【化１】
2019143057.tif 000003
【００２０】
環状エーテルユニットは無機層との密着性向上に寄与する。さらに低粘度であることからレベリング性が高く平坦性の高い硬化膜を得ることができる。
環状エーテル系（メタ）アクリレートモノマーは、単独または２種類以上を使用できる。
【００２１】
環状エーテルモノマーとしては、例えば、テトラヒドロフルフリルアクリレート（２５℃における粘度：２．８ｍＰａ・ｓ）テトラヒドロフルフリルメタクリレート（２５℃における粘度：２．８ｍＰａ・ｓ）等が挙げられる。
環状エーテル形成性モノマーとしては、例えば、α−アリルオキシメチルアクリレート（２５℃における粘度：１．５７ｍＰａ・ｓ）等が挙げられる。
【００２２】
＜多官能（メタ）アクリレートモノマー＞
多官能（メタ）アクリレートモノマーは、（メタ）アクリロイル基を２個以上有する化合物である。多官能（メタ）アクリレートモノマーは、（メタ）アクリロイル基を２〜６個有することが好ましく、（メタ）アクリロイル基を２〜３個有することがより好ましい。
【００２３】
２官能（メタ）アクリレートモノマー（（メタ）アクリロイル基を２個有する化合物）は、例えばエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレートポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化1，6−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、エトキシ化トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチル−ルプロパンジアクリレート、ステアリン酸変性ペンタエリスリトールジアクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノールＦジアクリレート、シクロヘキサンジメタノール(メタ)アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジアクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレートが挙げられる。
３官能（メタ）アクリレート化合物は、（（メタ）アクリロイル基を２個有する化合物）は、例えばトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、テトラメチロールプロパントリアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、トリ(２−ヒドロキシエチルイソシアヌレート)トリアクリレートが挙げられる。
４官能以上の（メタ）アクリレートモノマーは、例えばジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートが挙げられる。これら多官能（メタ）アクリレートは１種または必要に応じて２種以上用いても良い。
【００２４】
多官能（メタ）アクリレートモノマーは、単独または２種類以上を使用できる。
【００２５】
＜アミドモノマー＞
アミドモノマーは、アミドユニット（アミド基またはアミド結合ともいう）を含有する。アミドユニットは、無機層との密着性向上に寄与する。アミドモノマーは、環状と鎖状に分類できる。
【００２６】
環状アミドモノマーは、例えば、カルボキシル基含有化合物とアミノ基が脱水縮合し、環を成したモノマーが好ましい。環状アミドモノマーは、例えばアクリロイルモルフォリン、Ｎービニルピロリドン、Ｎ−ビニル−ε―カプロラクタム等が挙げられる。
これらの中でも、硬化速度および密着性の面からＮ−ビニル−ε―カプロラクタム、アクリロイルモルフォリンがより好ましい。さらに、環状アミド構造の中に電子吸引性基、電子吸引性原子を有すると密着性がより向上する。電子吸引基は、アミドユニット以外の基であり、例えば、カルボニル基、シアノ基、ニトロ基、エステル基等が挙げられる。電子吸引性原子は、例えば、ハロゲン、酸素等が挙げられる。
【００２７】
鎖状アミドモノマーは、炭素原子が一列に並んだ鎖状の炭化水素基とアミドユニットとを有するモノマーである。
鎖状アミドモノマーは、例えばアクリルアミド、メタクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、イソプロピルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド塩化メチル四級塩、ヒドロキシエチルアクリルアミド等が挙げられる。
【００２８】
アミドモノマーは、単独または２種類上を使用できる。
【００２９】
＜その他光硬化性モノマー＞
本発明の光硬化性組成物は、環状エーテル系（メタ）アクリレートモノマー、多官能（メタ）アクリレートモノマー、アミドモノマーの他に、これら以外の光重合性モノマーを含むことができる。
その他の光重合性モノマーとしては、アルキル（メタ）アクリレート、イミド基含有（メタ）アクリレート、カルボキシル基含有（メタ）アクリレート、水酸基含有（メタ）アクリレート、含フッ素（メタ）アクリレート、ウレタンアクリレートオリゴマー等が挙げられる。
アルキル（メタ）アクリレートとしては、例えばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
イミド基含有（メタ）アクリレートとしては、（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド等が挙げられる。
カルボキシル基含有（メタ）アクリレートとしては、例えば（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアクリルアミド、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、３,４−エポキシブチル（メタ）ア
クリレート、２−メチル−３,４−エポキシ−シクロヘキシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
水酸基含有（メタ）アクリレートとしては、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
含フッ素（メタ）アクリレートとしては、例えば２,２,２−トリフルオロエチルメタクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチルメタクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチルメタクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチルメタクリレート等が挙げられる。
【００３０】
ウレタンアクリレートオリゴマーとしては、（メタ）アクリロイル基を２個以上有する重量平均分子量８００〜２００００の化合物が挙げられる。
【００３１】
ウレタンアクリレートオリゴマーの市販品は、例えば、ダイセルＵＣＢ社製「Ｅｂｅｃｒｙｌ」シリーズ、サートマー社製「ＣＮシリーズ」、ＢＡＳＦ社製「Laromerシリーズ」、コグニス社製「フォトマーシリーズ」、根上工業社製「アートレジンシリーズ」、日本合成社製「紫光シリーズ」、日本化薬社製「カヤラッドシリーズ」等が挙げられる。
【００３２】
その他光硬化性モノマーは、単独または２種類以上を併用できる。
【００３３】
本発明の光硬化性組成物は、光重合性モノマー１００質量％中、環状エーテルモノマー系（メタ）アクリレートモノマーを１０〜９５質量％、多官能（メタ）アクリレートモノマーを５〜９０質量％、アミドモノマーを０〜８５質量％、およびその他のモノマーを０〜８５質量％含むことが好ましい。
アミドモノマーを含まない場合は、環状エーテルモノマー系（メタ）アクリレートモノマーを１０〜９５質量％、多官能（メタ）アクリレートモノマーを５〜９０質量％、その他のモノマーを０〜８５質量％含むことが好ましく、環状エーテルモノマー系（メタ）アクリレートモノマーを３０〜９０質量％、多官能（メタ）アクリレートモノマーを１０〜４０質量％、その他のモノマーを０〜６０質量％含むことがより好ましく、環状エーテルモノマー系（メタ）アクリレートモノマーを５０〜９０質量％、多官能（メタ）アクリレートモノマーを１０〜４０質量％、その他のモノマーを０〜４０質量％含むことがさらに好ましい。
アミドモノマーを含む場合は、環状エーテルモノマー系（メタ）アクリレートモノマーを１０〜９０質量％、多官能（メタ）アクリレートモノマーを５〜８５質量％、アミドモノマーを５〜８５質量％、その他のモノマーを０〜８０質量％含むことが好ましく、環状エーテルモノマー系（メタ）アクリレートモノマーを３０〜８５質量％、多官能（メタ）アクリレートモノマーを１０〜４０質量％、アミドモノマーを５〜６０質量％、その他のモノマーを０〜５５質量％含むことがより好ましく、環状エーテルモノマー系（メタ）アクリレートモノマーを５０〜８５質量％、多官能（メタ）アクリレートモノマーを１０〜４０質量％、アミドモノマーを５〜４０質量％、その他のモノマーを０〜３５質量％含むことがさらに好ましい。
【００３４】
＜光重合開始剤＞
本発明において放射線による硬化には光重合開始剤を使用する。光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤が好ましい。
光ラジカル重合開始剤は、分子内開裂型または水素引き抜き型が好ましい。
分子内開裂型の光ラジカル重合開始剤は、活性エネルギー線を照射することにより当該化合物が開裂してラジカルを発生するタイプのラジカル開始剤である。分子内開裂型の光ラジカル重合開始剤は、例えば、ベンジルケタール系光ラジカル重合開始剤、α−ヒドロキシアセトフェノン系光ラジカル重合開始剤、ベンゾイン系光ラジカル重合開始剤、アミノアセトフェノン系光開始剤、オキシムケトン系光ラジカル重合開始剤、アシルホスフィンオキシド系光ラジカル重合開始剤、チタノセン系光ラジカル重合開始剤等が好ましい。
【００３５】
ベンジルケタール系光ラジカル重合開始剤は、例えば２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（ベンジルジメチルケタ−ル／２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン）等が挙げられる。
α−ヒドロキシアセトフェノン系光ラジカル重合開始剤は、例えば２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、１−（４−ドデシルベンゾイル）−１−ヒドロキシ−１−メチルエタン、１−（４−イソプロピルベンゾイル）−１−ヒドロキシ−１−メチルエタン、１−ベンゾイル−１−ヒドロキシ−１−メチルエタン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−ベンゾイル］−１−ヒドロキシ−１−メチルエタン、１−［４−（アクリロイルオキシエトキシ）−ベンゾイル］−１−ヒドロキシ−１−メチルエタン、フェニル−１−ヒドロキシ−シクロヘキシルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノールオリゴマー等が挙げられる。
ベンゾイン系光ラジカル重合開始剤は、例えばベンゾイン、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテル等が挙げられる。
アミノアセトフェノン系光ラジカル重合開始剤は、例えば２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１等が挙げられる。
オキシムケトン系光ラジカル重合開始剤は、例えば１．２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（０−アセチルオキシム）等が挙げられる。
アシルホスフィンオキシド系光ラジカル重合開始剤は、例えばビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。
チタノセン系光ラジカル重合開始剤は、例えばビス（シクロペンタジエニル）−ジ−フェニル−チタニウム、ビス（シクロペンタジエニル）−ジ−クロロ−チタニウム、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，３，４，５，６ペンタフルオロフェニル）チタニウム、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（ピロール−１−イル）フェニル）チタニウム等が挙げられる。
【００３６】
水素引き抜き型の光ラジカル重合開始剤としては、ベンゾフェノン系光ラジカル開始剤、チオキサントン系光ラジカル重合開始剤、アントラキノン系光開始剤等が好ましい。
ベンゾフェノン系光ラジカル開始剤は、例えばベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、３−ベンゾイルビフェニル、４−（４−メチルフェニルチオ）ベンゾフェノン、メチル２−ベンゾイルベンゾエート、４−フェニルベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメトキシ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ベンゾイル安息香酸メチルエステル、２−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、１−［４−（４−ベンゾイルフェニルスルファニル）フェニル］−２−メチル−２−（４−メチルフェニルスルホニル）−プロパン−１−オン等が挙げられる。
チオキサントン系光ラジカル重合開始剤は、例えばチオキサントン、キサントン、２−クロロチオキサントン、４−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサンテン−９−オン等のチオキサントン誘導体等が挙げられる。
アントラキノン系光開始剤は、例えばアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ヒドロキシアントラキノン、２−アミノアントラキノン等が挙げられる。
【００３７】
光重合開始剤は、これらの中でも、アシルホスフィン系化合物を用いることが好ましい。アシルホスフィン系化合物としては、例えば、アシルホスフィンオキシド系光ラジカル重合開始剤が挙げられ、中でも、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス(２，４，６−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイドがより好ましい。アシルホスフィン系化合物は市販品を用いてもよく、例えば、ルシリンＴＰＯ（ＢＡＳＦジャパン社製）などを好適に用いることができる。
【００３８】
光重合開始剤は、単独または２種類以上を併用できる。
【００３９】
光重合開始剤は、光硬化性モノマー１００質量部に対して、１〜２０質量部を含むことが好ましい。
【００４０】
＜増感剤＞
本発明では、光重合開始剤に増感剤を併用できる。増感剤は、アミンが好ましい。
アミンは、例えばトリメチルアミン、メチルジメタノールアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジエチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。
【００４１】
増感剤は、単独または２種類以上を併用できる。
【００４２】
増感剤は、光硬化性モノマー１００質量部に対して、０．１〜５質量部を含むことが好ましい。
【００４３】
＜樹脂＞
本発明の光硬化性組成物は、樹脂を含むことができる。光硬化性組成物は、樹脂を含むことで有機層の硬さ、柔軟性等を適宜調整できる。
樹脂は、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、（変性）スチレン無水マレイン酸共重合体、（変性）塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、（変性）塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、ケトンアルデヒド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリ乳酸樹脂、セルロースアセテート樹脂、セルロースアセテートブチレート樹脂、エステル化セルロース樹脂、ブチラール樹脂等が挙げられる。
【００４４】
樹脂は、単独または２種類以上を併用できる。
【００４５】
樹脂は、光硬化性組成物の不揮発分１００質量％中に１〜２０質量％を含むことが好ましく、５〜１５質量％がより好ましい。
【００４６】
＜溶剤＞
本発明の光硬化性組成物は、溶剤を配合できる。溶剤を配合することで、光硬化性組成物を印刷（塗工）に適した粘度に調整し易い。溶剤は、使用する樹脂の溶解性や印刷ないし塗工方法等に応じて、適宜選択することができる。
【００４７】
溶剤は、例えば、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、脂肪族炭化水素系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、水等が挙げられる。
【００４８】
溶剤は、単独または２種類以上を併用できる。
【００４９】
溶剤は、光硬化性組成物１００質量％中に１〜５０質量％を含むことが好ましい。
【００５０】
＜レベリング剤＞
本発明の光硬化性組成物は、レベリング剤を含むことができる。光硬化性組成物がレベリング剤を含むと有機層の表面平滑性がより向上し、他の層を積層した際の光学特性がより向上する。
また、本発明におけるレベリング剤とは、環状エーテルモノマーの１つであるテトラヒドロフルフリルアクリレート：１００部に対して、１部添加した場合に２５℃における表面張力を３ｍＮ/ｍ以上下げることのできる化合物を指す。
レベリング剤は、例えば、シリコーン系化合物、フッ素系化合物、（メタ）アクリレート系化合物が挙げられる。
シリコーン系化合物は、例えば、ビックケミー社のＢＹＫ−３００、ＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３１０、ＢＹＫ−３１５、ＢＹＫ−３２０、ＢＹＫ−３２２、ＢＹＫ−３２３、ＢＹＫ−３２５、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３３１、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３３７、ＢＹＫ−３４４、ＢＹＫ−３４５、ＢＹＫ−３４７、ＢＹＫ−３４８、ＢＹＫ−３４９、ＢＹＫ−３７０、ＢＹＫ−３７５、ＢＹＫ−３７７、ＢＹＫ−３５００、ＢＹＫ−３５１０、ＢＹＫ−３５１０、ＢＹＫ−３５３０、ＢＹＫ−３４５５、ＢＹＫ−ＵＶ３５７０、エボニックデグサ社のＴＥＧＯ（登録商標）ＧＬＩＤＥ４５０、４４０、４３５、４３２、４１０、４０６、１３０、１１０、１００、ＴＥＧＯ−Ｒａｄ２１００、ＴＥＧＯ−Ｒａｄ２２００Ｎ、ＴＥＧＯ−Ｒａｄ２２５０、ＴＥＧＯ−Ｒａｄ２３００、ＴＥＧＯ−Ｒａｄ２５００、ＴＥＧＯ−Ｒａｄ２６００、ＴＥＧＯ−Ｒａｄ２７００、日信化学工業社のシルフェイスＳＡＧ００１、シルフェイスＳＡＧ００３、シルフェイスＳＡＧ００５、東レダウコーニング社のＬ−７００１、Ｌ−７００２、５７  ＡＤＤＩＴＩＶＥ、ＦＺ−２１０５、ＡＦＣＯＮＡ社のＡＦＣＯＮＡ−３２３１、３２３６、３２３８、３２５０、３２８０、共栄社化学株式会社のグラノール１００、グラノール１１５、グラノール４００、グラノール４１０、グラノール４３５、グラノール４４０、グラノール４５０、Ｂ−１４８４、ポリフローＡＴＦ−２、ＫＬ−６００、ＵＣＲ−Ｌ７２、ＵＣＲ−Ｌ９３、信越化学社のＫＦ−３５３などが挙げられる。これらの中でもビックケミー社のＢＹＫ−３５００、ＢＹＫ−３５１０、ＢＹＫ−３５３０、ＢＹＫ−３５３０、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３７７が好ましい。
【００５１】
フッ素系化合物は、例えば、富士化成工業株式会社のＺＸ−０２２Ｈ、ＺＸ−００７Ｃ、ＺＸ−０４９、ＺＸ−０４７−Ｄが挙げられる。
【００５２】
（メタ）アクリレート系化合物は、例えば、共栄社化学株式会社のポリフローＮｏ．３６、ポリフローＮｏ．５６、ポリフローＮｏ.７５、ポリフローＮｏ．８５ＨＦ、ポリフローＮｏ．９９Ｃ、エボニックインダストリーズＡＧ社のＴＥＧＯ  Ｒａｄ  ２０１０、２０１１、２１００、２２００Ｎ、２２５０、２３００、２５００、２６００、２７００、ビックケミー社のＢＹＫ−３５０、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５４、ＢＹＫ−３５５、ＢＹＫ−３５６、ＢＹＫ−３５８Ｎ、ＢＹＫ−３６１Ｎ、ＢＹＫ−３９２、ＢＹＫ−３９４、ＢＹＫ−３５５０、ＢＹＫ−ＵＶ３５７０、３５７５、３５７６などが挙げられる。これらの中でも共栄社化学株式会社のポリフローＮｏ.７５が好ましい。
【００５３】
レベリング剤は、光硬化性組成物１００質量部中、０．００１〜１０質量％を含むことが好ましい。
【００５４】
レベリング剤は、単独または２種類以上を併用できる。
【００５５】
＜その他添加剤＞
本発明の光硬化性組成物は、必要に応じてその他添加剤を含むことができる。その他添加剤は、例えば、可塑剤、紫外線防止剤、光安定化剤、酸化防止剤、重合禁止剤が挙げられる。
【００５６】
本発明の光硬化性組成物は、保存安定性を向上する点から、重合禁止剤を用いてもよい。重合禁止剤は、公知のものの中から適宜選択して用いることができる。重合禁止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール類、ヒンダードアミン類、キノン類、ニトロソアミン類、フェノチアジン類、ピペリジン−１−オキシル類などが挙げられ、中でもピペリジピペリジン−１−オキシル類が好ましく、中でも、４−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルがより好ましい。４−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルとして、例えば、伯東株式会社製ポリストップＰ７３００を用いることができる。
重合禁止剤を用いる場合、その含有割合は、保存安定性と光硬化性を両立する点から、光硬化性組成物１００質量％中に、０．００１質量％以上０．２質量％以下であることが好ましく、０．０１質量％以上０．１質量％以下であることがより好ましい。
【００５７】
また、光硬化性組成物は、有機層形成のために使用するところ、課題を解決できる範囲内であれば、無機化合物を含むことができる。
【００５８】
本発明の光硬化性組成物は、環状エーテルモノマーおよび環状エーテル形成性モノマーからなる群より選ばれる環状エーテル系（メタ）アクリレートモノマー、多官能（メタ）アクリレート化合物、光重合開始剤を配合して攪拌機で混合することで製造できる。攪拌機は、ディスパー等の公知の撹拌装置を使用できる。
【００５９】
本発明の光硬化性組成物は、無機化合物を含有する機能層への密着性に優れ、かつ放射線により迅速に硬化する有機層を形成できるため、無機化合物を含有する機能層を保護するための有機層用の組成物として好適に用いることができる。
当該有機層は、例えば、タッチパネルディスプレイ内の透明電極層の保護層、および有機ＥＬデバイスの無機バリア層の保護層など、電子素子積層体の有機層として好適に用いることができる
【００６０】
以下、光硬化性組成物を使用する用途の一つとして、電子素子積層体を説明する。
【００６１】
＜電子素子積層体＞
電子素子積層体は、無機化合物を含有する機能層、および前記機能層を保護する有機層を備えている。前記機能層は、電子素子を構成する層、または電子素子に対し何らかの機能を有する層である。電子素子は、例えば、透明導電層、液晶素子、ＯＬＥＤの発光素子が挙げられる。このように電子素子は、ディスプレイ関連に限定されないことはいうまでもない。
【００６２】
電子素子積層体は、例えばリジッドプリント配線板、フレキシブルプリント配線板、半導体素子、タッチパネル、スマートフォン、タブレット端末、ノート型パーソナルコンピュータ、ＬＣＤ、ＯＬＥＤ、スマートウォッチ、ゲーム端末等が挙げられる。
【００６３】
＜機能層＞
機能層は、無機化合物を含有し、何らかの機能を有する層である。
前記機能層は、例えば、透明電極層、無機バリア層、カーボン分散導電層、銀ナノワイヤー層等が挙げられる。
機能層に含まれる無機化合物として、透明電極層は、例えば、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）を含有する。また、無機バリア層は、例えば窒化珪素、酸化珪素、酸化アルミニウムを含有する。カーボン分散導電層は、例えば、カーボンブラック、グラファイト、カーボンナノチューブを含有する。銀ナノワイヤー層は、例えば、銀化合物を含有する。
【００６４】
前記機能層は、基材の全面に形成される必要はなく、部分的に形成されていても良い。なお、前記無機層は、全てが無機化合物である必要はなく、無機化合物および有機化合物を含むことができる。前記機能層は、透明電極層、無機バリア層が好ましい。
【００６５】
＜タッチパネル＞
図１を参照して、本発明の実施態様の一例である、タッチパネルディスプレイ等に搭載されるタッチパネルについて説明する。図１は、タッチパネルの構成の一例を示す模式的な断面図である。なお、透明電極層を含む態様が図１に限定されないことはいうまでもない。
図１の例では、基材１１、インデックスマッチング層（ＩＭ層）１２、透明電極層１３、保護膜１４、透明電極層１３、保護層１４、粘着層１５、基材１１を順次積層している。図１の例では、透明電極層１３が無機化合物を含有する機能層であり、保護層１４が、前記本発明に係る光硬化性組成物の硬化物である。
基材１１は、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、およびガラスが挙げられる。
【００６６】
ＩＭ層１２は、透明電極パターンの骨見え防止（不可視化）のための光学調整層である。公知のＩＭ層が使用できる。
ＩＭ層１２の厚さは、０．１〜１０μｍ程度である。
【００６７】
透明電極層１３は、可視光透過性と電気導電性を兼ね備えた薄膜層であり、液晶素子、有機ＥＬ素子、タッチパネル、太陽電池等の透明電極として広く用いられている。透明電極層１３の素材は、金、銀および銅等の導電性金属、ならびにこれらの合金、ならびに、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）、フラーレン、グラフェン等の導電性素材も好ましい。なお、ＣＮＴ等の炭素材料を使用する場合、透明導電層は、バインダー樹脂を含むことが好ましい。
【００６８】
透明電極層１３の厚みは、通常５ｎｍ〜１０００００ｎｍ程度である。例えばＩＴＯの場合、５〜５００ｎｍ程度である。透明電極層は、一般的に、蒸着またはスパッタリングで形成する。
【００６９】
保護層１４は、光硬化性組成物から形成した硬化被膜（有機層）である。保護層１４の厚みは、通常３〜３０μｍが好ましく、４〜１０μｍがより好ましい。保護層の厚みが３μｍ以上になると、透明電極層の保護機能が向上し屈曲性がより向上する。また保護層１４の厚みが３０μｍ以下になると、生産性の向上やコストダウンの他に透明性がより向上する。また前記保護層上に、さらに光硬化性組成物から形成される第二の保護層を備えることも好ましい。これにより屈曲性がさらに向上する。
【００７０】
透明電極層１３を有する基材上に保護層１４を形成する方法は、公知の印刷ないし塗工法を使用できる。印刷方法は、例えばスクリーン印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、グラビア印刷およびグラビアオフセット印刷、インクジェット印刷等が挙げられる。また塗工方法は、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法が挙げられる。また、印刷または塗布後、乾燥・硬化工程を行なうことが好ましい。乾燥・硬化工程は、ＵＶランプ（例えば高圧水銀ランプ）、熱風オーブン、赤外線オーブン、およびマイクロウエーブオーブン、ならびにこれらを複合した複合オーブン等公知の乾燥装置が挙げられる。熱風オーブンを使用した熱乾燥・硬化の条件は５０℃〜１３０℃で１分程度が好ましい。光照射量は、１０〜３０００ｍＪ／ｍ2程度である。
【００７１】
有機ＥＬデバイス用の無機バリア層上に保護層を形成する場合、インクジェット印刷法を適用することが好ましい。そして、その場合、本発明の光硬化性組成物は有機溶剤を含まない状態で低粘度であることが好ましい。即ち、２５℃における粘度が、２５ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、２０ｍＰａ・ｓ以下であることがより好ましく、１８ｍＰａ・ｓ以下であることがさらに好ましく、１５ｍＰａ・ｓ以下であることが特に好ましい。
【００７２】
本発明で光硬化組成物を硬化させるための放射線は、紫外線を発生する光源を利用することが好ましい。この光源は、例えば高圧水銀灯、定圧水銀灯、メタルハライドランプ、紫外線レーザー、ＬＥＤランプ等が挙げられる。これらの中で、有機ＥL層への影響が少ない中心波長が３６５ｎｍ以上のＬＥＤランプが好ましく、中心波長３８５ｎｍ以上のＬＥＤランプが好ましい。
【００７３】
粘着層１５は、例えばアクリル粘着剤、ウレタン粘着剤、ポリエステル粘着剤、シリコーン粘着剤、ゴム系粘着剤が挙げられる。粘着層１５の厚みは、１０〜３００μｍ程度である。
【００７４】
＜有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＯＬＥＤ）＞
図２〜図７を参照して、本発明の実施態様の１例である、ＯＬＥＤについて説明する。図２〜図７は各々、ＯＬＥＤの構成の一例を示す模式的な断面図である。
【００７５】
本発明のディスプレイの一実施形態は、図２の例に示されるように、一対の電極２２ａ及び２２ｂと該電極間に位置する有機発光層２３とを有する有機ＥＬ素子２４と、フィルム基材２６上に第１の無機バリア層２７と、有機層２８と、第２の無機バリア層２７とをこの順に積層したバリアフィルム２９とを接着層２５を介して貼り合わせた構造を有するＯＬＥＤである。図２における有機層２８が、前記本発明に係る光硬化性組成物の硬化物である。
【００７６】
図３の例に示されるＯＬＥＤは、一対の電極２２ａ及び２２ｂと該電極間に位置する有機発光層２３とを有する有機ＥＬ素子２４と、前記電極２２ｂを覆うバリア層２７と、当該バリア層２７を覆う有機層２８とを備えており、図３の例では、バリア層２７が無機化合物を含有し、有機層２８が前記本発明に係る光硬化性組成物の硬化物である。
また、図３の例に示される有機層２８上は、図４に示されるように更に第２のバリア層２７を有してもよい。図５の例に示されるように当該第２のバリア層２７上に更に第２の有機層を有してもよい。更に、図６の例に示されるように当該第２の有機層２８上に第３のバリア層２７を有してもよい。このように、バリア層２７と有機層２８は必要に応じて複数積層していてもよい。また、図７の例に示されるようにバリア層２５は基板２１及び電極２２ａの間に有してもよい。
【００７７】
有機ＥＬ素子２４を構成する各要素の詳細を次に説明する。
【００７８】
＜有機ＥＬ素子＞
基板２１は、有機ＥＬ素子に用いられる公知の基板が広く採用できる。基板２１は、樹脂フィルムであってもよいし、ガスバリアフィルム、またはガラスであってもよい。特開２００４−１３６４６６号公報、特開２００４−１４８５６６号公報、特開２００５−２４６７１６号公報、特開２００５−２６２５２９号公報等に記載のガスバリアフィルムも好ましく用いることができる。
【００７９】
基板２１の厚みは、通常５μｍ〜７００μｍ程度であり、１０μｍ〜２００μｍが好ましく、１５μｍ〜１５０μｍがより好ましい。基板２１は、ヘイズ３％以下が好ましく、２％以下が好ましく、１％以下がより好ましい。また基板２１は、全光線透過率７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましく、９０％以上がさらに好ましい。ヘイズおよび全光線透過率を満たすとＯＬＥＤの視認性が向上する。
【００８０】
有機ＥＬ素子２４は、基板２１と、基板上に設けられた陰極及び陽極２２を構成する一対の電極２２ａ及び２２ｂを有し、両電極間には発光層を含む有機化合物層２３を有する。一例として、電極２２ａを陽極、電極２２ｂを陰極とすることができる。
発光素子の性質上、陽極および陰極のうち少なくとも一方の電極は透明である。
陽極は、通常、有機化合物層に正孔を供給する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。陽極は、通常透明陽極として設けられる。基板として耐熱性の低いプラスチック基材を用いる場合は、ＩＴＯまたはＩＺＯを使用し、１５０℃以下の低温で成膜した透明陽極が好ましい。
【００８１】
陰極は、通常、有機化合物層に電子を注入する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の
用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。
陰極を構成する材料は、例えば、金属、合金、ならびに金属酸化物、ならびに電気伝導性化合物、ならびにこれらの混合物などが挙げられる。前記材料は、例えば、２属金属（たとえばＭｇ、Ｃａ等）、金、銀、鉛、アルミニウム、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−銀合金、インジウム、イッテルビウム等の希土類金属が挙げられる。これらは、単独または２種類以上を使用できる。陰極を構成する材料として、アルミニウムを主体とする材料が好ましい。
アルミニウムを主体とする材料とは、アルミニウム単独、アルミニウムと０．０１〜１０質量％のアルカリ金属または２属金属との合金（例えば、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金など）をいう。なお、陰極の材料については、特開平２−１５５９５号公報、特開平５−１２１１７２号公報に詳述されている。また、陰極と前記有機化合物層との間に、アルカリ金属または２属金属のフッ化物、酸化物等による誘電体層を０．１〜５ｎｍの厚みで挿入してもよい。この誘電体層は、一種の電子注入層と見ることもできる。
【００８２】
陰極の厚みは、通常１０ｎｍ〜５μｍ程度であり、５０ｎｍ〜１μｍが好ましい。
また、陰極は、透明であってもよいし、不透明であってもよい。なお、透明な陰極は、陰極の材料を１〜１０ｎｍの厚さに薄く成膜し、さらにＩＴＯ（酸化インジウムスズ）やＩＺＯ（酸化亜鉛インジウム）等の透明な導電性材料を積層することにより形成することができる。
【００８３】
図示は省略するが、前記有機化合物層の積層の態様としては、陽極側から、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、陰極の順に積層されている態様が好ましい。さらに、正孔輸送層と発光層との間、または、発光層と電子輸送層との間には、電荷ブロック層等を有していてもよい。陽極と正孔輸送層との間に、正孔注入層を有してもよく、陰極と電子輸送層との間には、電子注入層を有してもよい。また、発光層としては一層だけでもよく、また、第一発光層、第二発光層、第三発光層等に発光層を分割してもよい。さらに、各層は複数の二次層に分かれていてもよい。
【００８４】
有機ＥＬ素子は、発光層を含む少なくとも一層の有機化合物層を有しており、有機発光層以外の他の有機化合物層としては、前述したごとく、正孔輸送層、電子輸送層、電荷ブロック層、正孔注入層、電子注入層等の各層が挙げられる。
【００８５】
有機発光層は、電界印加時に、陽極、正孔注入層、または正孔輸送層から正孔を受け取り、陰極、電子注入層、または電子輸送層から電子を受け取り、正孔と電子との再結合の場を提供して発光させる機能を有する層である。発光層は、発光材料のみで構成されていてもよく、ホスト材料と発光材料の混合層とした構成でもよい。発光材料は蛍光発光材料でも燐光発光材料であってもよく、ドーパントは１種であっても２種以上であってもよい。ホスト材料は電荷輸送材料であることが好ましい。ホスト材料は１種であっても２種以上であってもよく、例えば、電子輸送性のホスト材料とホール輸送性のホスト材料とを混合した構成が挙げられる。さらに、発光層中に電荷輸送性を有さず、発光しない材料を含んでいてもよい。また、発光層は１層であっても２層以上であってもよく、それぞれの層が異なる発光色で発光してもよい。
【００８６】
前記蛍光発光材料は、例えば、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、スチリルベンゼン誘導体、ポリフェニル誘導体、ジフェニルブタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ナフタルイミド誘導体、クマリン誘導体、縮合芳香族化合物、ペリノン誘導体、オキサジアゾール誘導体、オキサジン誘導体、アルダジン誘導体、ピラリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体、キナクリドン誘導体、ピロロピリジン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、スチリルアミン誘導体、ジケトピロロピロール誘導体、芳香族ジメチリディン化合物、８−キノリノール誘導体の金属錯体やピロメテン誘導体の金属錯体に代表される各種金属錯体等、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物、有機シラン誘導体などの化合物等が挙げられる。
【００８７】
前記燐光発光材料は、例えば、遷移金属原子またはランタノイド原子を含む錯体が挙げられる。
前記遷移金属原子は、例えば、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、および白金が挙げられる。これらの中でもレニウム、イリジウム、および白金が好ましい。
前記ランタノイド原子は、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテシウムが挙げられる。これらのランタノイド原子の中でも、ネオジム、ユーロピウム、およびガドリニウムが好ましい。
【００８８】
錯体の配位子としては、例えば、G.Wilkinson等著，Comprehensive Coordination Chemistry, Pergamon Press社１９８７年発行、H.Yersin著，「Photochemistry and Photophysics of Coordination Compounds」 Springer−Verlag社１９８７年発行に記載の配位子などが挙げられる。
【００８９】
また、発光層に含有されるホスト材料としては、例えば、カルバゾール骨格を有するもの、ジアリールアミン骨格を有するもの、ピリジン骨格を有するもの、ピラジン骨格を有するもの、トリアジン骨格を有するものおよびアリールシラン骨格を有するものや、後述の正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層の項で例示されている材料が挙げられる。
【００９０】
正孔注入層、正孔輸送層は、陽極または陽極側から正孔を受け取り陰極側に輸送する機能を有する層である。正孔注入層、正孔輸送層は、具体的には、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、有機シラン誘導体、カーボン、等を含有する層であることが好ましい。
【００９１】
電子注入層、電子輸送層は、陰極または陰極側から電子を受け取り陽極側に輸送する機能を有する層である。電子注入層、電子輸送層は、具体的には、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、８−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、有機シラン誘導体、等を含有する層であることが好ましい。
【００９２】
正孔ブロック層は、陽極側から発光層に輸送された正孔が、陰極側に通りぬけることを防止する機能を有する層である。本発明において、発光層と陰極側で隣接する有機化合物層として、正孔ブロック層を設けることができる。また、電子輸送層・電子注入層が正孔ブロック層の機能を兼ねていてもよい。
正孔ブロック層を構成する有機化合物の例としては、ＢＡｌｑ等のアルミニウム錯体、トリアゾール誘導体、ＢＣＰ等のフェナントロリン誘導体、等が挙げられる。
また、陰極側から発光層に輸送された電子が陽極側に通りぬけることを防止する機能を有する層を、発光層と陽極側で隣接する位置に設けることもできる。正孔輸送層・正孔注入層がこの機能を兼ねていてもよい。
【００９３】
バリアフィルムを構成する各要素の詳細を次に説明する。
＜バリアフィルム＞
バリアフィルム２９は、フィルム基材２６上に無機バリア層２７、有機層２８、無機バリア層２７を順次積層した構成である。
【００９４】
バリアフィルムに用いられるフィルム基材２６は、セルロールエステルでは、例えば、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース等；
ポリエステルでは、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート等；
ポリオレフィンでは、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリメチルペンテン、ポリテトラフルオロエチレン、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）等；
ビニル化合物では、例えば、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル等；
アクリル樹脂では、例えば、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリアクリル酸エステル等；
その他は、例えば、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド（ＰＩ）、ポリウレタン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリオキシエチレン、ノルボルネン樹脂、ＡＳ樹脂（ＳＡＮ）、塩化ビニリデン樹脂（ＰＶＤＣ）、エポキシ樹脂等；が挙げられる。
これらの中でもポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリイミド（ＰＩ）が好ましい。
フィルム基材の厚みは、通常１０〜２００μｍ程度である。
【００９５】
無機バリア層２７は、金属化合物からなる薄膜の層である。無機バリア層の形成方法として、例えば蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理的気相成長法（ＰＶＤ）、種々の化学的気相成長法（ＣＶＤ）、めっきやゾルゲル法等の液相成長法がある。特に、ＣＶＤ法、スパッタリング法は、緻密でバリア性能に優れた無機バリア層を形成できる点で好ましい。
無機バリア層の組成は、珪素および／またはアルミニウムを含む酸化物、窒化物、炭化物、またはこれらの混合物が好ましく、珪素を含む酸化物、窒化物、炭化物、またはこれらの混合物がより好ましい。さらに他の金属酸化物、金属窒化物、または金属炭化物を併用することが可能である。無機バリア層は上述した材料からなる単層構造、または同一組成または異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
【００９６】
無機バリア層の厚みは、特に限定されないが、１層につき１５〜１２００ｎｍが好ましく、２０〜１０００ｎｍがより好ましい。厚みが１５〜１２００ｎｍの範囲内になると層形成でピンホールが生じ難く、クラックも生じ難い。
【００９７】
有機層２８は、光硬化性組成物から形成した硬化被膜である。有機層の厚みは、通常１〜３０μｍが好ましく、４〜１０μｍがより好ましい。有機層の厚みが３μｍ以上になると、無機バリア層への保護機能が向上し屈曲性が向上する。また有機層の厚みが３０μｍ以下になると、生産性の向上やコストダウンの他に透明性が向上する。また前記有機層上に、他の樹脂（Ａ）を用いた樹脂組成物から形成される第二の保護膜を備えることも好ましい。これにより屈曲性や水蒸気バリア性がより向上する。
【００９８】
無機バリア層上に有機層を形成する方法は、上記透明電極層の形成と同様に公知の印刷ないし塗工法を使用できる。
【００９９】
また、図３〜図７の例に示されるように、バリア層２７及び有機層２８は、上記バリアフィルムの態様のみならず、電極２２ｂ上に形成してもよい。電極２２ｂ上にバリア層２７と有機層２８とを形成する方法は、前記フィルム基材２６上に形成する方法と同様とすることができる。
【実施例】
【０１００】
以下、実施例、比較例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は「質量部」、「％」は「質量％」を意味する。表中の配合量は、質量部である。
【０１０１】
＜実施例１＞
環状エーテルモノマーとしてテトラヒドロフルフリルアクリレート（以下、ＴＨＦ−Ａ、単官能モノマー）９０部、多官能（メタ）アクリレートモノマーとしてジメチロール-トリシクロデカンジアクリレート（以下、ＤＣＰ−Ａ、２官能モノマー）１０部、ルリシンＴＰＯ（光重合開始剤、ＢＡＳＦジャパン社製）５部、ポリフローＮｏ.７５（レベリング剤、共栄社化学社製）４部、ポリストップ７３００Ｐ（重合禁止剤、伯東社製）０．０５部を混合して光硬化性組成物を得た。
【０１０２】
＜実施例２＞
ＴＨＦ−Ａの代わりに環状エーテル形成性モノマーとして、αーアリルオキシメチルアクリレート（以下、ＦＸ−ＡＯ−ＭＡ、単官能モノマー、（株）日本触媒製）９０部を用いた以外は実施例１と同様にして光硬化性組成物を得た。
【０１０３】
＜実施例３＞
ＤＣＰ−Ａの代わりに多官能（メタ）アクリレートモノマーとしてジプロピレングリコールジアクリレート（以下、Ｍ２２２、２官能モノマー）１０部を用いた以外は実施例１と同様にして光硬化性組成物を得た。
【０１０４】
＜実施例４〜６＞
多官能（メタ）アクリレートモノマーとしてＭ２２２の代わりに、
実施例４では、ビスフェノールＦ  ＥＯ変性ジアクリレート（Ｍ−２０８、２官能モノマー、東亜合成社製）を、
実施例５では、２ーヒドロキシー３−アクリロイロキシプロピルメタクリレート（以下、Ｇ−２０１、２官能モノマー）を、
実施例６では、トリメチロールプロパントリアクリレート（以下、ＴＭＰＴＡ、３官能モノマー）を、
それぞれ１０部用いた以外は実施例３と同様にして光硬化性組成物を得た。
【０１０５】
＜実施例７＞
環状エーテルモノマーとしてＴＨＦ−Ａを６３部、多官能（メタ）アクリレートモノマーとしてＤＣＰ−Ａを１０部、アミドモノマーとしてジメチルアクリルアミド（以下、ＤＭＡＡ、単官能モノマー）２７部、ルリシンＴＰＯ（光重合開始剤、ＢＡＳＦジャパン社製）５部、ポリフローＮｏ.７５（表面調整剤、共栄社化学社製）４部、ポリストップ７３００Ｐ（重合禁止剤、伯東社製）０．０５部を混合して光硬化性組成物を得た。
【０１０６】
＜実施例８〜１２＞
アミドモノマーとしてＤＭＡＡの代わりに、
実施例８では、ジメチロール-トリシクロデカンジアクリレート（以下、ＤＣＰ−Ａ、２官能モノマー）を、
実施例９では、Ｎ−ビニルピロリドン（以下、Ｖ−Ｐｙｒｏｌ）を、
実施例１０では、アクリロイルモルフォリン（以下、ＡＣＭＯ）を、
実施例１１では、Ｎ−ビニル−ε−カプロラクタム（以下、Ｖ−ｃａｐ）を
実施例１２では、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド（以下、ＤＭＡＰＡＡ）を、
それぞれ２７部用いた以外は実施例７と同様にして光硬化性組成物を得た。
【０１０７】
＜実施例１３〜１８＞
環状エーテルモノマーとしてＴＨＦ−Ａの代わりに、ＦＸ−ＡＯ−ＭＡを６３部用いた以外は、実施例７〜１２と同様にして光硬化性組成物を得た。
【０１０８】
＜実施例１９＞
環状エーテルモノマーとしてＴＨＦ−Ａを５６部、多官能（メタ）アクリレートモノマーとしてＤＣＰ−Ａを１０部、アミドモノマーとしてＡＣＭＯを２４部、その他光硬化性モノマーとして２−（２−ビニロキシエトキシ ビニロキシエトキシ）エチル（以下、ＶＥＥＡ）を１０部用い、重合禁止剤であるボリストップ７３００Ｐを用いなかった以外は、実施例１と同様にして光硬化性組成物を得た。
【０１０９】
＜実施例２０〜２４＞
その他光硬化性モノマーとしてＶＥＥＡの代わりに、
実施例２０では、ラウリルアクリレート（以下、Ｌ−Ａ）を、
実施例２１では、メトキシジプロピレングルコールアクリレート（以下、ＤＰＭ−Ａ）を、
実施例２２では、イソボニルアクリレート（以下、Ｍ１１４０）を、
実施例２３では、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロへキシルアクリレート（以下、Ｍ１１５０）を、
実施例２４では、Ｎ−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド（以下、Ｍ−１４０）を、
それぞれ１０部用いた以外は、実施例１９と同様にして光硬化性組成物を得た。
【０１１０】
＜実施例２５〜３０＞
環状エーテルモノマーとしてとしてＴＨＦ−Ａの代わりに、ＦＸ−ＡＯ−ＭＡを５６部用いた以外は、実施１９〜２４と同様にして光硬化性組成物を得た。
【０１１１】
＜実施例３１＞
環状エーテルモノマーとしてＴＨＦ−Ａを５６部、多官能（メタ）アクリレートモノマーとしてＤＣＰ−Ａを１０部、アミドモノマーとしてＡＣＭＯを２４部、その他光硬化性モノマーとしてＭ−１４０を１０部、ルリシンＴＰＯを５部、レベリング剤としてＢＹＫ−３０７（ＢＹＫ社製）０．１部、重合禁止剤としてポリストップ７３００Ｐを０．０５部、混合して光硬化性組成物を得た。
なお、実施例３１の光硬化性組成物は、レベリング剤としてポリフローＮｏ.７５：４部の代わりに、ＢＹＫ−３０７：０．１を用いた以外は、実施例２４と同様にして得た光硬化性組成物である。
【０１１２】
＜実施例３２〜３５＞
レベリング剤としてポリフローＮｏ.７５の代わりに、
実施例３２では、ＢＹＫ−３７７（ＢＹＫ社製）を、
実施例３３では、ＢＹＫ−ＵＶ３５００（ＢＹＫ社製）を、
実施例３４では、ＢＹＫ−ＵＶ３５１０（ＢＹＫ社製）を、
実施例３５では、ＹＫ−ＵＶ３５３０（ＢＹＫ社製）を
それぞれ０．１部用いた以外は、実施例２４と同様にして得た光硬化性組成物である。
【０１１３】
＜実施例３６＞
環状エーテルモノマーとしてＴＨＦ−Ａを５６部、多官能（メタ）アクリレートモノマーとしてＤＣＰ−Ａを１０部、アミドモノマーとしてＡＣＭＯを２４部、その他光硬化性モノマーとしてＭ−１４０を１０部、ルリシンＴＰＯを５部、レベリング剤としてポリフローＮｏ.７５：４部、重合禁止剤としてボリストップ７３００Ｐ：０．０５部、樹脂としてＶＡＲＩＰＬＵＳＳＫ（ケトンアルデヒド樹脂、ＥＶＯＮＩＫ社）を１０部、混合して光硬化性組成物を得た。
【０１１４】
＜実施例３７〜３８＞
樹脂としてＶＡＲＩＰＬＵＳＳＫ（ケトンアルデヒド樹脂、ＥＶＯＮＩＫ社）の代わりに、
実施例３７では、Ｊｏｎｃｒｙｌ６１１（アクリル樹脂、ＢＡＳＦ社）を、
実施例３８では、ＣＡＢ−５５１−０．０１（セルロースアセテートブチレート樹脂、Ｅａｓｔｍａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ社）を、
それぞれ１０部した以外、実施例３６と同様にして光硬化性組成物を得た。
【０１１５】
＜実施例３９〜４４＞
表４に示す組成に従って、実施例１と同様にして光硬化性組成物を得た。
【０１１６】
＜比較例１＞
メトキシ-ポリエチレングリコールアクリレート（ライトアクリレート１３０Ａ、単官能モノマー、共栄社化学社製）９０部、ジプロピレングリコールジアクリレート（Ｍｉｒａｍｅｒ  Ｍ２２２、２官能モノマー、Ｍｉｗoｎ社製）１０部、ルリシンＴＰＯ（光重合開始剤、ＢＡＳＦジャパン社製）５部、ポリフローＮｏ.７５（表面調整剤、共栄社化学社製）４部、ポリストップ７３００Ｐ（重合禁止剤、伯東社製）０．０５部を混合して光硬化性組成物を得た。
【０１１７】
＜表面張力の測定＞
実施例および比較例で用いたレベリング剤は、環状エーテルモノマーの１つであるＴＨＦ−Ａ：１００部にそれぞれ１部添加し、動的濡れ性試験機(ＷＥＴ−６０００)（株式会社レスカ製）を用いて、プレート法にて表面張力を測定したところ、２５℃における表面張力がいずれも３ｍＮ/ｍ以上低下し、その傾向は各実施例および比較例の光硬化性組成物の場合においても確認された。
【０１１８】
＜粘度＞
各光硬化性組成物の粘度を、Ｅ型粘度計（東機産業社製）を用いて、温度２５℃、回転数２０ｒｐｍの条件下で測定し、以下の尺度で評価した。評価結果を表５に示す。
Ａ：１０ｍＰａ・ｓ未満（優れている）
Ｂ：１０以上〜１５ｍＰａ・ｓ未満（良好）
Ｃ：１５以上〜２０ｍＰａ・ｓ未満（実用上問題ない）
Ｄ：２０ｍＰａ・ｓ以上（実用不可）
【０１１９】
＜密着性の評価＞
下記基材Ａ〜Ｅ上に得られた光硬化性組成物を、バーコーターＮｏ．５で膜厚が７μｍとなるように塗工した。次いで、アルゴンで置換したグローブボックス内に塗工物を移し、波長３８５ｎｍのＬＥＤを光源とするＵＶ照射機で積算光量５００ｍＪ／ｃｍ2（ＵＶ−Ａの範囲で測定）照射し、有機層を有する、密着性評価用の試料を得た。
そして、ＪＩＳＫ５６００に準拠してテープ密着試験を実施した。
具体的には、有機層上からに基材に達する深さまでカッターナイフを入れ幅１ｍｍ間隔に碁盤目状に１０マス×１０マスの計１００マス目を形成するように切れ込みを入れた。次いで切れ込みの上に市販セロハンテープ（２５ｍｍ幅）を貼り付け、直後に市販セロハンテープを手で急速に剥離して、残ったマス目の数で密着性を評価した。密着性の評価は、１００／１００の場合、形成した全てのマスが剥離しなかったことを意味し、０／１００は、全てのマスが剥離したことを意味する。
基材Ａ：ガラス板。
基材Ｂ：厚さ１００μｍのポリエチレンナフタレート（以下、ＰＥＮ）フィルム上に表面抵抗値：１５０Ω／□のＩＴＯ層を設けたＩＴＯ積層フィルム。
基材Ｃ：厚さ１００μｍのＰＥＮフィルム上に厚さ１００ｎｍの窒化珪素層を形成した窒化珪素積層フィルム。
基材Ｄ：厚さ１００μｍのＰＥＮフィルム上に厚さ１００ｎｍの酸化珪素層を形成した酸化珪素積層フィルム。
基材Ｅ：厚さ１００μｍのＰＥＮフィルム上に厚さ１００ｎｍの酸化アルミニウム層を形成した酸化アルミニウム積層フィルム。
【０１２０】
＜インクジェット印刷適性＞
ＩＪ印刷プリンターＤｉｍａｔｉｘ社製ＤＭＰ-２８３１ ＴｙｐｅII、ＩＪヘッドはＤｉｍａｔｉｘ社製ＤＭＣ−１１６１０を用いて、前記基材Ａ〜Ｅ上の４ｃｍ×４ｃｍの領域に、光硬化組成物を、液滴間Ｐｉｔｃｈ２５μｍ、ヘッド温度２５℃の条件で吐出し、連続性、および表面の粗さを評価した。
【０１２１】
＜連続性＞
◎：４ｃｍ×４ｃｍの領域の全面に隙間なく有機層が均一に形成されている。良好。
○：４ｃｍ×４ｃｍの領域の中央部は隙間なく有機層が形成されているが、周辺部では有機層の形成されていない隙間が散見される。実用域。
×：４ｃｍ×４ｃｍの領域の中央部にも有機層の形成されていない隙間があり、周辺部になるほど隙間の割合が多い。実用不可。
【０１２２】
＜表面の粗さ＞
上記連続性の評価にて○または△の結果だった場合について、４ｃｍ×４ｃｍの領域の任意の五カ所について、各基材を含めた全体の厚みをニコンデジタル膜厚計にて測定し、５点の測定値の最大値と最小値との差を求め、以下の基準で評価した。
◎：０．２μｍ未満（良好）
○：０．２以上〜１．０μｍ未満（実用域）
×：１．０μｍ以上（実用不可）
【０１２３】
＜ＩＴＯ積層フィルム上の抵抗値変化率試験用サンプルの作成＞
図８の（ａ）平面図、（ｂ）側面図を基に試料の作製方法を説明する。ＩＴＯ積層フィルム３１上に市販導電性ペースト（ＲＥＸＡＬＰＨＡ  ＲＡ  ＦＳ０７４、トーヨーケム社製）を乾燥後の膜厚が５μｍになるようにスクリーン印刷を行い１３５℃オーブンにて３０分乾燥を行い硬化させることで、縦１５ｍｍ×横３．５ｍｍの抵抗値測定用端子部３２−１および抵抗値測定用端子部３２−２を７５ｍｍの間隔を空けて作製した。
次いでＩＴＯ積層フィルム３１上に実施例、比較例で作成した光硬化性組成物をバーコーターＮｏ．５で膜厚が７μｍになるように塗工し、縦１５ｍｍ×横７０ｍｍの保護膜３３を形成した。次いで、アルゴンで置換したグローブボックス内に塗工物を移し、波長３８５ｎｍのＬＥＤを光源とするＵＶ照射機で積算光量５００ｍＪ／ｃｍ2（ＵＶ−Ａの範囲で測定）照射し、保護膜（有機層）を有する試料Ｇを得た。
なお、ＩＴＯ層に直接、テスターで端子を当てて抵抗値を測定すると、ＩＴＯ層が傷つき正確な抵抗値が測定できないため、銀ペーストでＩＴＯ上に抵抗値測定用端子部を形成して、そこにテスターを当てて抵抗値を測定した。
【０１２４】
＜抵抗値変化率の評価＞
得られた試料Ｇを用いて屈曲性試験を実施した。屈曲性試験は、耐屈曲性試験器（ユアサシステム機器社製面状体無負荷Ｕ字伸縮試験機）を用いて行い、保護膜が下側になるように装置にセットし、直径３ｍｍ幅、３０回／分の速度で５万回折り曲げを実施した。表面抵抗値の変化率は下記の計算式から算出した。なお、評価基準は下記の通りである。
変化率＝（５万回折り曲げ後の表面抵抗値試験前の表面抵抗値）／（試験前の表面抵抗値×１００）
・評価基準
◎：表面抵抗値の変化率が１０％未満（優れている）
○：表面抵抗値の変化率が１０％以上２０％未満（良好）
△：表面抵抗値の変化率が２０％以上３０％未満（実用上問題ない）
×：表面抵抗値の変化率が３０％以上（実用不可）
【０１２５】
＜水蒸気バリア試験用サンプルの作成＞
ポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴ）フィルムに膜厚１００ｎｍの窒化珪素層を形成した基材上に、ワイヤーバーを使って、硬化膜厚が７μｍとなるように実施例で作成した光重合性組成物を塗工した。塗工後フィルムを酸素濃度が２．５ｐｐｍ以下に保たれたグローブボックスに移して、中心波長３８５ｎｍのＬＥＤ光源で紫外線を積算光量５００ｍＪ／ｃｍ2照射して硬化膜を得た。
さらにその無機層−有機層積層体上にスパッタリング装置を用いて、膜厚１００ｎｍの窒化珪素層を積層して、ＰＥＴフィルム上に無機層−有機層−無機層の３層を作成した。
【０１２６】
＜屈曲性試験前後の水蒸気バリア性の評価＞
屈曲性試験は、耐屈曲性試験器（ユアサシステム機器社製面状体無負荷Ｕ字伸縮試験機）を用いて行い、ＰＥＴフィルムが上側になるように上記試験用サンプルを装置にセットし、直径３ｍｍ幅、３０回／分の速度で５万回折り曲げを実施した。
屈曲性試験前後の水蒸気透過率を、水蒸気透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ）を用いて測定した。条件は４０℃、１００％Ｒ．Ｈ．１６８時間試験を行った。検出限界は０．０１ｇ／ｍ２／ｄａｙである。全ての実施例の光重合性組成物は、屈曲性試験後においても検出限界以下であった。
なお比較例で示した光重合性組成物は無機層上で均一な平坦膜を形成していないため水蒸気バリア性は測定していない。
【０１２７】
【表１】
2019143057.tif 000004
【０１２８】
【表２】
2019143057.tif 000005
【０１２９】
【表３】
2019143057.tif 000006
【０１３０】
【表４】
2019143057.tif 000007
【０１３１】
【表５】
2019143057.tif 000008
【０１３２】
表１〜５の結果より実施例は密着性が良好で、更に屈曲前後でもバリア性の保護および抵抗値上昇を抑制しており、無機バリア層、ＩＴＯの保護層として適用可能である。
またインクジェット印刷において、連続した塗膜を形成でき、厚さのバラつきも小さいので、パターニングが可能な均一な平坦膜の作製に適している。
【０１３３】
＜発光試験用サンプルの作成＞
窒化珪素からなるバリア層が設けられたポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴ）フィルム上にインジウム−スズ酸化物（以下、ＩＴＯ）からなる正孔注入電極を形成し、バリア層およびＩＴＯ電極上に更に、Ｎ，Ｎ’−ジ−１−ナフチル−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＮＰＤ）からなる正孔輸送層（厚さ５０ｎｍ）を形成した。前記正孔輸送層上にホスト材料である９９．５モル％の４−フェニルベンゾフェノン（４ＰＢＰ）と、発光性のドーパントである０．５モル％のルブレン（５，６，１１，１２−テトラフェニルナフタセン）からなる発光層（厚さ５０ｎｍ）を形成した。更に、前記発光層上にＡｌｑ３（トリス（８−キノリノール）アルミニウム）からなる電子輸送層（厚さ１５ｎｍ）、電子注入電極を順次形成し、有機ＥＬ素子を作製した。電子注入電極は、ＬｉＦ層（厚さ０．５ｎｍ）とアルミニウム層（厚さ８０ｎｍ）とを順次積層し、有機ＥＬ素子を形成した。なお、前記有機ＥＬ素子を構成する各層は、抵抗加熱方式の真空蒸着法で蒸着時の圧力が１．３×１０-4Ｐａ（１×１０-6Ｔｏｒｒ）で行った。
次いで、前記有機ＥＬ素子における電子注入電極上に、スパッタリングによって窒化珪素からなる第１のバリア層を設け、該第１のバリア層上に各実施例の光硬化性組成物を塗工し、光硬化し、有機保護層を形成した。前記有機保護層上に、スパッタリングによって窒化珪素からなる第２のバリア層を設け、発光試験用のサンプルディスプレイを作成した。
【０１３４】
＜発光試験の評価＞
屈曲性試験は、耐屈曲性試験器（コーティングテスター社製、円筒型マンドレル法）を用いて直径６ｍｍの心棒を用いて行った。第２のバリア層が下側になるように試験サンプルを装置にセットし、１回／１秒の速度で１回折り曲げを行った。屈曲性試験前・後のサンプルについて、正孔注入電極にプラス、電子注入電極にマイナスの電圧を印可して、発光試験を行った。
実施例１〜４４では屈曲性試験後においても試験前と同様に発光が観察されたが、比較例１では屈曲性試験後でサンプルに大きなクラックが見られ、発光が観察されなかった。
【符号の説明】
【０１３５】
１０      タッチパネル
１１      基材
１２      ＩＭ層
１３      透明電極層
１４      保護層
１５      粘着層
２０      ＯＬＥＤ
２１      基板
２２ａ    電極
２２ｂ    電極
２３      有機化合物層
２４      有機ＥＬ素子
２５      接着層
２６      フィルム基材
２７      無機バリア層
２８      有機層
２９      バリアフィルム
３１      ＩＴＯ積層フィルム
３２−１  抵抗値測定用端子部
３２−２  抵抗値測定用端子部
３３      保護膜
【図１】
2019143057.tif 000009
【図２】
2019143057.tif 000010
【図３】
2019143057.tif 000011
【図４】
2019143057.tif 000012
【図５】
2019143057.tif 000013
【図６】
2019143057.tif 000014
【図７】
2019143057.tif 000015
【図８】
2019143057.tif 000016