(57)【要約】【課題】コストを低くしつつ、純水の製造効率を向上させることが可能な純水製造装置を提供する。【解決手段】ＲＯ装置４は、被処理水に対して逆浸透膜処理を行い、被処理水を透過水と濃縮水に分離する。ＥＤＩ８は、透過水に対して脱イオン処理を行う。加圧ポンプ２は、被処理水をＲＯ装置４に送水する。温度計７は、被処理水の温度を検知する。制御盤１０は、原水の温度が第１の所定温度を下回った場合、透過水のＥＤＩ８への供給を停止し、透過水および濃縮水の少なくとも一部を加圧ポンプ２の前段に還流させる第１の循環運転を実行する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理水に対して逆浸透膜処理を行い、前記被処理水を透過水と濃縮水に分離する逆浸透膜装置と、
前記透過水に対して脱イオン処理を行う電気式脱イオン水製造装置と、
前記被処理水を前記逆浸透膜装置に送水するポンプと、
前記被処理水の温度を検知する第１の温度検知部と、
前記温度が第１の所定温度を下回った場合、前記透過水の前記電気式脱イオン水製造装置への供給を停止し、前記透過水および前記濃縮水の少なくとも一部を前記ポンプの前段に還流させる第１の循環運転を実行する制御部と、を有する純水製造装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記第１の循環運転中に前記温度が前記第１の所定温度以上の第２の所定温度を超えた場合、前記ポンプを停止する、請求項１に記載の純水製造装置。
【請求項３】
前記電気式脱イオン水製造装置にて脱イオン処理が行われた透過水である前記処理水に対して紫外線殺菌処理を行う紫外線殺菌装置をさらに有し、
前記制御部は、所定の期間、前記第１の循環運転を中断して、前記透過水を前記電気式脱イオン水製造装置に供給すると共に、前記紫外線殺菌装置にて前記紫外線殺菌処理が行われた処理水の少なくとも一部を前記ポンプの前段に還流させる第２の循環運転を行う、請求項１または２に記載の純水製造装置。
【請求項４】
前記制御部は、所定時間ごとに前記第２の循環運転を開始する、請求項３に記載の純水製造装置。
【請求項５】
前記処理水の温度を検知する第２の温度検知部をさらに有し、
前記制御部は、前記処理水の温度が前記第１の所定温度よりも高い第３の所定温度に到達すると、前記第２の循環運転を開始する、請求項３に記載の純水製造装置。
【請求項６】
前記処理水の温度を検知する第２の温度検知部をさらに有し、
前記制御部は、前記処理水の温度が前記第１の所定温度よりも高い第４の所定温度を下回ると、前記第２の循環運転を停止し、前記第１の循環運転を再開する、請求項３ないし５のいずれか１項に記載の純水製造装置。
【請求項７】
前記制御部は、前記第２の循環運転を開始してから予め定められた運転時間が経過すると、前記第２の循環運転を停止し、前記第１の循環運転を再開する、請求項３ないし５のいずれか１項に記載の純水製造装置。
【請求項８】
前記被処理水を加熱する加熱部をさらに有し、
前記制御部は、前記加熱部が停止状態であり、かつ、前記温度が前記第１の所定温度を下回った場合、前記第１の循環運転を実行する、請求項１ないし７のいずれか１項に記載の純水製造装置。
【請求項９】
前記加熱部は、ボイラーからの熱を前記被処理水に伝える熱交換器である、請求項８に記載の純水製造装置。
【請求項１０】
被処理水に対して逆浸透膜処理を行い、前記被処理水を透過水と濃縮水に分離する逆浸透膜装置と、前記透過水に対して脱イオン処理を行う電気式脱イオン水製造装置と、前記被処理水を前記逆浸透膜装置に送水するポンプとを有する純水製造装置による純水製造方法であって、
前記被処理水の温度を検知するステップと、
前記温度が第１の所定温度を下回った場合、前記透過水の前記電気式脱イオン水製造装置への供給を停止し、前記透過水および前記濃縮水の少なくとも一部を前記ポンプの前段に還流させる第１の循環運転を実行するステップと、を含む純水製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、逆浸透膜処理を行う純水製造装置および純水製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＲＯ（Reverse Osmosis Membrane：逆浸透膜）装置を用いて純水を製造する純水製造装置には、純水のイオン濃度の更なる低減化のために、ＲＯ装置の後段にＥＤＩ（Electro Deionization：電気式脱イオン水製造装置）を備えているものがある（特許文献１参照）。
【０００３】
上記の純水製造装置では、ＲＯ装置で処理される原水の温度が変動すると、ＲＯ装置を透過する透過水の水量である透過水量が変化する。例えば、原水の温度が低くなるほど、透過水量は低下する。
【０００４】
ＲＯ装置の後段にあるＥＤＩは、透過水量が低下すると、正常に動作できなくなる恐れがある。例えば、ＥＤＩでは、ＲＯ装置の透過水に電気を流しているため、透過水が発熱するが、透過水量が低下すると、その発熱の影響で透過水やＥＤＩの温度が上昇し、故障の原因となる恐れがある。また、ＥＤＩでは、電極に気泡が発生するため、透過水量が低下すると、気泡が流れず、流路内に気体が充満して透過水が流れなくなるなどの問題も生じる。
【０００５】
このため、ＥＤＩを備える純水製造装置では、通常、ＲＯ装置の前段に原水を加熱する加熱手段を配置し、その加熱手段を制御することでＲＯ装置に流入する原水の温度を一定に維持している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−２５５６５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
加熱手段を用いて原水の温度を一定に維持する純水製造装置では、純水の製造を停止する際に、加熱手段を停止させると、原水の温度が、ＥＤＩが正常に動作する温度よりも低くなってしまうことがある。この場合、純水の製造を再開するために加熱手段を再起動したとしても、直ぐにはＥＤＩを正常に動作させることができず、純水の製造効率が低下する。
【０００８】
純水の製造効率を高くするためには、純水を製造していないときでも加熱手段を駆動し続けなければならず、コストがかかる。特に、加熱手段として多様な用途で使用されるボイラーからの熱を原水に伝える熱交換器が使用される場合、休日や夜間のようなボイラーが他の用途で使用されない時でも、ボイラーを駆動させておかなければならず、無駄が多い。
【０００９】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、コストを低くしつつ、純水の製造効率を向上させることが可能な純水製造装置および純水製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明による純水製造装置は、被処理水に対して逆浸透膜処理を行い、前記被処理水を透過水と濃縮水に分離する逆浸透膜装置と、前記透過水に対して脱イオン処理を行う電気式脱イオン水製造装置と、前記被処理水を前記逆浸透膜装置に送水するポンプと、前記被処理水の温度を検知する第１の温度検知部と、前記温度が第１の所定温度を下回った場合、前記透過水の前記電気式脱イオン水製造装置への供給を停止し、前記透過水および前記濃縮水の少なくとも一部を前記ポンプの前段に還流させる第１の循環運転を実行する制御部と、を有する。
【００１１】
本発明による純水製造方法は、被処理水に対して逆浸透膜処理を行い、前記被処理水を透過水と濃縮水に分離する逆浸透膜装置と、前記透過水に対して脱イオン処理を行う電気式脱イオン水製造装置と、前記被処理水を前記逆浸透膜装置に送水するポンプとを有する純水製造装置による純水製造方法であって、前記被処理水の温度を検知するステップと、前記温度が第１の所定温度を下回った場合、前記透過水の前記電気式脱イオン水製造装置への供給を停止し、前記透過水および前記濃縮水の少なくとも一部を前記ポンプの前段に還流させる第１の循環運転を実行するステップと、を含む。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、コストを低くしつつ、純水の製造効率を向上させることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の第１の実施形態の純水製造装置の構成を示す構成図である。
【図２】本発明の第２の実施形態の純水製造装置の構成を示す構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、各図面において同じ機能を有するものには同じ符号を付け、その説明を省略する場合がある。
【００１５】
（第１の実施形態）
図１は、本発明の第１の実施形態の純水製造装置の構成を示す構成図である。図１に示す純水製造装置１００は、原水タンク１と、加圧ポンプ２と、熱交換器３と、ＲＯ（逆浸透膜）装置４と、三方弁５および６と、温度計７と、ＥＤＩ（電気式脱イオン水製造装置）８と、処理水タンク９と、制御盤１０とを有する。
【００１６】
原水タンク１は、純水製造装置１００の外部から供給される原水（被処理水）を収容する容器である。加圧ポンプ２は、原水タンク１に収容されている原水をＲＯ装置４に送水するポンプである。
【００１７】
熱交換器３は、原水タンク１とＲＯ装置４との間に設けられ、ＲＯ装置４に送水される原水を加熱して、原水の温度を調整する加熱部である。具体的には、熱交換器３は、ボイラー２００からの熱を原水に伝えることで原水を加熱する。なお、ボイラー２００は、汎用のボイラーでよく、純水製造装置１００だけでなく、図示していない他の装置と共用されてもよい。なお、加熱部（熱交換器３）は、原水タンク１の前段に設けられてもよい。また、加熱部は、本実施形態のような熱交換器が望ましいが、電気ヒータのような別の装置でもよい。
【００１８】
ＲＯ装置４は、加圧ポンプ２にて送水された原水に対して逆浸透膜処理を行い、原水中の不純物を除去することで、原水を、不純物を除去した透過水と、不純物が濃縮された濃縮水とに分離する。ＲＯ装置４の透過水の水量は、原水の温度などに応じて変動する。具体的には、原水の温度が低いほど、透過水の水量が低減する。ＲＯ装置４にて分離された透過水は、三方弁５に送水される。ＲＯ装置４にて分離された濃縮水の一部は、節水のために原水タンク１に還流され、残りは三方弁６に送水される。
【００１９】
三方弁５は、ＲＯ装置４からの透過水の送水先を原水タンク１およびＥＤＩ８のいずれかに切り替える切替部である。三方弁６は、ＲＯ装置４からの濃縮水の送水先を原水タンク１および純水製造装置１００の外部のいずれかに切り替える切替部である。なお、各切替部としては、透過水や濃縮水の送水先を切り替えることができるものであれば、三方弁に限らない。
【００２０】
温度計７は、原水の温度を検知する第１の温度検知部である。本実施形態では、温度計７は、ＲＯ装置４と三方弁５との間に設けられ、透過水の温度を原水の温度として検知しているが、加圧ポンプ２とＲＯ装置４との間に設けられ、ＲＯ装置４に送水される原水の温度を直接検知してもよい。温度計７は、ＲＯ装置４にできるだけ近い位置に設けられることが望ましい。
【００２１】
ＥＤＩ８は、ＲＯ装置４の透過水に対して脱イオン処理を行い、透過水中のイオンを除去した処理水と、イオンが濃縮されたイオン濃縮水とを分離する。ＥＤＩ８にて分離された処理水は処理水タンク９に送水される。ＥＤＩ８が正常に動作するためには、透過水にある程度の水量が必要となる。イオン濃縮水の一部は、節水のため原水タンク１に還流され、残りは純水製造装置１００の外部に排水される。
【００２２】
処理水タンク９は、ＥＤＩ８からの処理水を収容する容器である。処理水タンク９には、処理水タンク９に収容された処理水の水位を測定する水位計９ａが設けられている。処理水タンク９に収容された処理水は、必要に応じてユースポイントに送水される。
【００２３】
制御盤１０は、温度計７にて検知された原水の温度、熱交換器３の状態、および、水位計９ａにて検知された処理水タンク９内の水位などに基づいて、純水製造装置１００を制御する制御部である。
【００２４】
例えば、熱交換器３が駆動状態の場合、制御盤１０は、通常運転を行う。通常運転では、制御盤１０は、加圧ポンプ２を駆動し、三方弁５による透過水の送水先をＥＤＩ８とし、三方弁６による濃縮水の送水先を外部とする。これにより、ＲＯ装置４の透過水が三方弁５を介してＥＤＩ８に送水される。また、ＲＯ装置４の濃縮水の一部が三方弁６を介して外部に排出され、残りが原水タンク１に還流される。
【００２５】
そして、制御盤１０は、温度計７にて検知された原水の温度が所定の設定温度範囲に収まるように、熱交換器３を制御する。設定温度範囲としては、ＲＯ装置４を透過する透過水の水量が、ＥＤＩ８が正常に動作する水量となるような温度範囲である。本実施形態では、設定温度範囲は、２２℃〜２８℃である。
【００２６】
通常運転時に、水位計９ａにて検知される処理水タンク９内の水位が第１の所定水位を超えた場合、制御盤１０は、加圧ポンプ２を停止して、通常運転を停止する。その後、処理水タンク９内の処理水が使用され、すなわちユースポイントに送水され、処理水タンク９内の水位が第１の所定水位よりも低い第２の所定水位を下回った場合、制御盤１０は、加圧ポンプ２を駆動して、通常運転を再開する。
【００２７】
また、熱交換器３が停止状態になると、制御盤１０は、加圧ポンプ２を停止する。そして、温度計７にて検知された原水の温度が第１の所定温度を下回った場合、制御盤１０は、循環運転（第１の循環運転）を行う。第１の所定温度は、設定温度範囲の下限値以下が好ましく、設定温度範囲の下限値がより好ましい。本実施形態では、第１の所定温度は、設定温度範囲の下限値（２２℃）である。
【００２８】
循環運転では、制御盤１０は、三方弁５による透過水の送水先および三方弁６による濃縮水の送水先をそれぞれ原水タンク１にし、加圧ポンプ２を駆動する。これにより、制御盤１０は、ＲＯ装置４の透過水および濃縮水を、加圧ポンプ２の前段にある原水タンク１に還流することとなる。このため、原水タンク１から送水された原水が原水タンク１に還流されることとなり、純水製造装置１００内に循環流が生じる。なお、本実施形態のように透過水および濃縮水の全てが原水タンク１に還流されることが望ましいが、透過水および濃縮水の少なくとも一部が原水タンク１に還流されればよい。
【００２９】
純水製造装置１００内の循環流は、加圧ポンプ２の稼働熱によって加熱されるため、循環流の温度が上昇し、その結果、温度計７にて検知される原水の温度も上昇する。そして、原水の温度が第２の所定温度を超えると、制御盤１０は、加圧ポンプ２を停止する。第２の所定温度は、第１の所定温度以上であり、好ましくは、設定温度範囲の上限値である。本実施形態では、第２の所定温度は、設定温度範囲の上限値（２８℃）である。
【００３０】
なお、熱交換器３の状態は、ボイラー２００からの蒸気の温度などを測定することで自動的に検知されてもよいし、純水製造装置１００の管理者から入力されてもよい。
【００３１】
次に動作を説明する。
【００３２】
熱交換器３が駆動状態の場合、制御盤１０は、三方弁５による透過水の送水先をＥＤＩ８とし、三方弁６による濃縮水の送水先を外部とする。制御盤１０は、水位計９ａにて検知された水位が第１の所定水位を超えているか否かを判断する。
【００３３】
水位が第１の所定水位を超えていない場合、制御盤１０は、通常運転を行う。つまり、制御盤１０は、加圧ポンプ２を駆動するとともに、温度計７にて検知された原水の温度が設定温度範囲に収まるように、熱交換器３を制御する。
【００３４】
これにより、加圧ポンプ２によって原水が原水タンク１から熱交換器３を介してＲＯ装置４に送水される。原水は、ＲＯ装置４によって透過水と濃縮水とに分離される。濃縮水の一部は原水タンク１に還流され、残りは三方弁６を介して外部に排水される。透過水は三方弁５を介してＥＤＩ８に送水される。ＥＤＩ８に送水される透過水は、原水が熱交換器３を通過する際に設定温度範囲に収まるように加熱されているため、ＥＤＩ８は、正常に動作し、その透過水を処理水とイオン濃縮水とに分離する。イオン濃縮水の一部は原水タンク１に還流され、残りは外部に排水される。処理水は処理水タンク９に送水され、処理水タンク９に収容される。
【００３５】
一方、水位が第１の所定水位を超えている場合、制御盤１０は、加圧ポンプ２を停止する。そして、処理水タンク９内の処理水が使用され、水位が第２の所定水位を下回った場合、制御盤１０は、通常運転を行う。
【００３６】
熱交換器３が停止状態になった場合、制御盤１０は、加圧ポンプ２を停止する。そして、原水の温度が第１の所定温度を下回った場合、制御盤１０は、循環運転を行う。つまり、制御盤１０は、三方弁５による透過水の送水先および三方弁６による濃縮水の送水先を原水タンク１とし、加圧ポンプ２を駆動する。
【００３７】
これにより、加圧ポンプ２によって原水が原水タンク１から熱交換器３を介してＲＯ装置４に送水される。原水は、ＲＯ装置４によって透過水と濃縮水とに分離される。濃縮水の一部は原水タンク１に直接還流され、残りは三方弁６を介して原水タンク１に還流される。また、透過水も三方弁５を介して原水タンク１に還流される。したがって、原水タンク１から送水された原水が原水タンク１に還流されることとなり、純水製造装置１００内に循環流が生じる。このとき、加圧ポンプ２の稼働熱により、循環流が加熱され、原水の温度が上昇する。
【００３８】
その後、制御盤１０は、原水の温度が第２の所定温度を超えると、加圧ポンプ２を停止する。これにより、循環流が止まり、加圧ポンプ２から稼働熱が発生しなくなるため、原水の温度が低下していく。その後、原水の温度が第１の所定温度を下回った場合、制御盤１０は、循環運転を行う。
【００３９】
以上説明したよう本実施形態によれば、制御盤１０は、原水の温度が第１の所定温度を下回った場合、透過水のＥＤＩ８への供給を停止し、透過水および濃縮水の少なくとも一部を加圧ポンプ２の前段に還流させる第１の循環運転を実行する。これにより、純水製造装置１００内に循環流が生じ、その循環流が加圧ポンプ２の稼働熱によって加熱されるため、原水の温度が上昇する。したがって、ＲＯ装置４の前段に加熱部がなくても、また、加熱部が停止状態でも、原水の温度を一定の範囲に維持することが可能になるため、コストを低くしつつ、純水の製造効率を向上させることが可能になる。
【００４０】
また、本実施形態では、制御盤１０は、第１の循環運転中に原水の温度が第１の所定温度以上の第２の所定温度を超えた場合、ポンプを停止する。このため、原水の温度が高くなりすぎることを抑制することが可能になるため、純水の製造効率をさらに向上させることが可能になる。
【００４１】
（第２の実施形態）
図２は、本発明の第２の実施形態の純水製造装置の構成を示す構成図である。図２に示す純水製造装置１００ａは、図１に示した第１の実施形態の純水製造装置１００ａの構成に加えて、紫外線殺菌装置１１および三方弁１２をさらに有する。
【００４２】
紫外線殺菌装置１１は、ＥＤＩ８と処理水タンク９との間に設けられ、ＥＤＩ８からの処理水に対して紫外線殺菌処理を行う。紫外線殺菌処理は、紫外線殺菌装置１１に備わった紫外線ランプ（図示せず）により処理水に紫外線を照射して、処理水を殺菌する処理である。
【００４３】
紫外線殺菌装置１１は、温度計１１ａを有する。温度計１１ａは、紫外線殺菌処理中の処理水の温度を検知する第２の温度検知部である。なお、温度計１１ａは、紫外線殺菌処理前後の処理水の温度を検知してもよい。
【００４４】
三方弁１２は、紫外線殺菌装置１１からの紫外線殺菌処理が行われた処理水（以下、殺菌済みの処理水と称することもある）の送水先を、原水タンク１および処理水タンク９のいずれかに切り替える切替部である。この切替部は、殺菌済みの処理水の送水先を切り替えることができるものであれば、三方弁に限らない。
【００４５】
本実施形態では、熱交換器３が駆動状態の場合、制御盤１０は、第１の実施形態と同様に通常運転を行う。具体的には、制御盤１０は、加圧ポンプ２を駆動し、三方弁５による透過水の送水先をＥＤＩ８とし、三方弁６による濃縮水の送水先を外部とし、三方弁１２による処理水の送水先を処理水タンク９とする。
【００４６】
また、熱交換器３が停止状態になると、制御盤１０は、加圧ポンプ２を停止する。そして、原水の温度が第１の所定温度を下回った場合、制御盤１０は、第１の実施形態と同様に第１の循環運転を行う。具体的には、制御盤１０は、三方弁５による透過水の送水先および三方弁６による濃縮水の送水先を原水タンク１とし、加圧ポンプ２を駆動する。このとき、三方弁１２に流入する被処理水はないため、三方弁１２による被処理水の送水先はどこでもよいが、ここでは、原水タンク１とする。
【００４７】
第１の循環運転では、紫外線殺菌装置１１に対する処理水の入出流がなく、紫外線殺菌装置１１内に処理水が留まっている。紫外線殺菌装置１１に備わっている紫外線ランプのオンオフを切り替えると、寿命が短くなるため、通常、紫外線殺菌装置１１は純水を製造していない場合でも、駆動し続ける。この場合、第１の循環運転では、紫外線殺菌装置１１内に処理水が留まっているため、紫外線殺菌装置１１内の処理水の温度が上昇し、それに伴い、紫外線殺菌装置１１の温度が上昇し、故障の原因になる恐れがある。このため、制御盤１０は、所定の期間、第１の循環運転を中断して、紫外線殺菌装置１１にも送水を行う第２の循環運転を行う。
【００４８】
第２の循環運転では、制御盤１０は、三方弁５による透過水の送水先をＥＤＩ８に変更する。つまり、制御盤１０は、三方弁５による透過水の送水先をＥＤＩ８とし、三方弁６による濃縮水の送水先を原水タンク１とし、三方弁１２による被処理水の送水先を原水タンク１とする。
【００４９】
これにより、制御盤１０は、ＲＯ装置４の透過水をＥＤＩ８に供給すると共に、紫外線殺菌装置１１にて紫外線殺菌処理が行われた殺菌済みの処理水を加圧ポンプ２の前段にある原水タンク１に還流させることとなる。このため、原水タンク１から送水された原水が原水タンク１に還流されるため、純水製造装置１００ａ内に循環流が生じ、その循環流が紫外線殺菌装置１１を経由する。したがって、紫外線殺菌装置１１に対して処理水が入出流するため、紫外線殺菌装置１１内の温度を低くすることができる。なお、本実施形態のように処理水の全てが原水タンク１に還流されることが望ましいが、処理水の一部が原水タンク１に還流されればよい。
【００５０】
本実施形態では、制御盤１０は、温度計１１ａにて検知された処理水の温度が第２の所定温度より高い第３の所定温度に到達した場合、第１の循環運転を中断して、第２の循環運転を開始する。そして、温度計１１ａにて検知された温度が第３の所定温度よりも低い第４の所定温度を下回った場合、第２の循環運転を停止し、第１の循環運転を再開する。したがって、第２の循環運転を行う所定の期間は、処理水の温度が第３の所定温度に到達してから第４の所定温度を下回るまでの期間である。なお、第３の所定温度は、例えば、３５℃であり、第４の所定温度は、例えば、設定温度範囲内の温度（２２℃〜２８℃）である。
【００５１】
次に動作を説明する。通常運転および第１の循環運転に係る動作は、第１の実施形態と同様である。ただし、通常運転の場合、ＥＤＩ８からの処理水は、第１の実施形態では、処理水タンク９に直接送水されていたが、本実施形態では、紫外線殺菌装置１１にて紫外線殺菌処理が行われ、紫外線殺菌処理が行われた殺菌済みの処理水が三方弁１２を介して処理水タンク９に送水される。
【００５２】
第１の循環運転において制御盤１０は、温度計１１ａにて検知された処理水の温度を監視し、処理水の温度が第３の所定温度に到達したか否かを判断する。制御盤１０は、温度計１１ａにて検知された処理水の温度が第３の所定温度に到達した場合、第１の循環運転を中断して、第２の循環運転を開始する。つまり、制御盤１０は、三方弁５による透過水の送水先をＥＤＩ８とし、三方弁６による濃縮水の送水先を原水タンク１とし、三方弁１２による被処理水の送水先を原水タンク１とする。
【００５３】
これにより、加圧ポンプ２によって原水が原水タンク１から熱交換器３を介してＲＯ装置４に送水される。原水は、ＲＯ装置４によって透過水と濃縮水とに分離される。濃縮水の一部は原水タンク１に直接還流され、残りは三方弁６を介して原水タンク１に還流される。また、透過水は、三方弁５を介してＥＤＩ８に送水され、ＥＤＩにて処理水とイオン濃縮水とに分離される。イオン濃縮水の一部は原水タンク１に還流され、残りは外部に排水される。処理水は、紫外線殺菌装置１１にて紫外線殺菌処理が行われ、さらに三方弁１２を介して原水タンク１に還流される。
【００５４】
このとき、純水製造装置１００ａ内の循環流が紫外線殺菌装置１１を経由するため、紫外線殺菌装置１１の温度が低下する。また、第１の循環運転により、透過水の温度が設定温度範囲に含まれているため、ＥＤＩ８は正常に動作する。なお、ＥＤＩ８からのイオン濃縮水の一部は外部に排出されるが、その量は少ないので循環流全体の流量に与える影響は小さく、無視できる。
【００５５】
その後、第２の循環運転においても制御盤１０は、温度計１１ａにて検知された処理水の温度を監視し、処理水の温度が第４の所定温度を下回ったか否かを判断する。処理水の温度が第４の所定温度を下回った場合、制御盤１０は、第２の循環運転を停止し、第１の循環運転を再開する。
【００５６】
以上説明した実施形態では、制御盤１０は、処理水の温度が第３の所定温度に到達すると、第２の循環運転を開始していたが、所定時間ごとに（例えば、２時間ごと）に第２の循環運転を開始してもよい。また、制御盤１０は、第２の循環運転を開始してから予め定められた運転時間が経過すると、第２の循環運転を停止し、第１の循環運転を再開してもよい。
【００５７】
本実施形態では、制御盤１０は、第１の循環運転では、ＲＯ装置４の透過水のＥＤＩ８への供給を停止し、所定の期間、第１の循環運転を中断して、透過水をＥＤＩ８に供給すると共に、紫外線殺菌装置１１にて紫外線殺菌処理が行われた処理水の少なくとも一部を加圧ポンプ２の前段に還流させる第２の循環運転を行う。これにより、紫外線ランプの寿命を長くするために紫外線殺菌装置１１を駆動し続けても、紫外線殺菌装置１１に生じる故障などの不具合を抑制することができるため、コストを低くすることができる。
【００５８】
以上説明した各実施形態において、図示した構成は単なる一例であって、本発明はその構成に限定されるものではない。
【００５９】
例えば、第１の循環運転および第２の循環運転における三方弁５、６および１２の送水先は、各実施形態では、原水タンク１であったが、加圧ポンプ２よりも前段であればよい。例えば、三方弁５、６および１２の送水先を、原水タンク１と加圧ポンプとの間の流路としてもよいし、原水タンク１の前段としてもよい。
【符号の説明】
【００６０】
１  原水タンク
２  加圧ポンプ
３  熱交換器
４  ＲＯ（逆浸透膜）装置
５、６、１２  三方弁
７、１１ａ  温度計
８  ＥＤＩ（電気式脱イオン水製造装置）
９  処理水タンク
９ａ  水位計
１０  制御盤
１１  紫外線殺菌装置
１００、１００ａ  純水製造装置
２００  ボイラー
【図１】
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【図２】
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