(57)【要約】【課題】高い光取出し効率を有する有機ＥＬ素子並びに当該有機ＥＬ素子を含む照明装置、光源及び表示装置を提供すること。【解決手段】本発明は、透明基板、前記透明基板上に設けられた透光性凹凸層、透光性の陽極、有機ＥＬ層及び陰極をこの順に含む有機ＥＬ素子に関する。当該素子は、前記透光性凹凸層は、前記有機ＥＬ層側の面の一部又は全体に凹凸を有し、前記凹凸を透明基板の光射出面に対して垂直な断面で見た場合に、前記凹凸は、その断面形状に沿った凹凸の外縁曲線上に少なくとも１つの変曲点を有し、前記変曲点のそれぞれにおける接線と、透明基板の平面とのなす角度が５°以上、２５°未満であり、透光性凹凸層の凹凸形状が陰極の少なくとも有機ＥＬ層側の表面上に転写される。本発明は、この有機ＥＬ素子を含む照明装置、光源又は表示装置を包含する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板、前記透明基板上に設けられた透光性凹凸層、透光性の陽極、有機ＥＬ層及び陰極を、この順に含み、
前記透光性凹凸層は、前記有機ＥＬ層側の面の一部又は全体に凹凸を有し、
透明基板の前記透光性凹凸層が設けられる面に対して垂直な断面から前記凹凸を見た場合に、前記凹凸は、凹凸の断面の形状に沿った凹凸の外縁曲線上に少なくとも１つの変曲点を有し、前記変曲点のそれぞれにおける接線と、透明基板の前記透光性凹凸層が設けられる面とのなす角度が５°以上、２５°未満であり、
透光性凹凸層の凹凸形状が陰極の少なくとも有機ＥＬ層側の表面上に転写されることを特徴とする有機ＥＬ素子。
【請求項２】
前記透光性凹凸層は、無機フィラーを含むことを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項３】
前記凹凸は、規則的に配列されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項４】
前記凹凸は、不規則に配列されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項５】
請求項１から４の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子を含む有機ＥＬ照明装置。
【請求項６】
請求項１から４の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子を含む有機ＥＬ光源。
【請求項７】
請求項１から４の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子を含む有機ＥＬ表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ（Electro Luminescence：電界発光）素子、並びに当該有機ＥＬ素子を用いた有機ＥＬ照明装置、有機ＥＬ光源、及び有機ＥＬ表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子は、広視野角であること、高速な応答が可能なこと、薄型で軽量であることなどの利点から、携帯電話、デジタルカメラのディスプレイ、或いは、照明機器に応用されている。
【０００３】
一般に、有機ＥＬ素子は、正孔注入層、正孔輸送層、インターレイヤー層、発光層、電子輸送層及び電子注入層を順に積層した積層体を陽極と陰極とで挟んだ電極積層体が、陽極が透光性基板に対向するようにして透光性基板上に設けられた構造を有している。有機ＥＬ素子は、上述した陽極と陰極に直流電圧を印加し、発光層に電子及び正孔を注入して再結合させることにより励起子を生成し、この励起子の失活する際の光の放出を利用して発光に至る。
【０００４】
従来、有機ＥＬ素子において、発光層からの光が有機ＥＬ素子の発光面側である透光性基板から射出される際、光の一部が、透光性基板と空気との界面、陽極と透光性基板との界面などにおいて全反射してしまい、外部に取り出す光量が損失するという問題があった。また、発光層からの光が、金属電極側に入射し、金属電極の自由電子と結合して表面プラズモンポラリトンとして金属電極に補足され、最終的に吸収されるプラズモン損失と呼ばれる損失も存在する。プラズモン損失による光の損失率は約５０％とも言われており、この場合の外部に取り出す光の取り出し効率は、一般的には２０％程度と言われている。このため、高輝度である表示又は照明の必要性が高まれば、投入電力を大きくする必要が生じる。このような大電流を有機ＥＬ素子に流すことは、有機ＥＬ素子の負荷を増大し、輝度の低下又は低寿命化に繋がり、有機ＥＬ素子自体の信頼性を低下させる。
【０００５】
このような問題を受けて、有機ＥＬ素子の光取出し効率の向上が試みられている。例えば、特許文献１、２及び５〜８には、レンズ形状の突起を有するフィルムを透光性基板の外部に貼付することにより、透光性基板と空気との界面での全反射を抑制し、これによって光の取り出し効率を向上することが開示されている。
【０００６】
特許文献１、３及び８には、陽極であるＩＴＯ（インジウムスズ酸化物：Indium Tin Oxide）等の透明電極と透光性基板との間に光散乱層を挿入することにより、陽極と透光性基板の間の全反射を抑制し、これによって光の取り出し効率を向上することが開示されている。陽極と透光性基板の間の全反射による光取出し効率の低減を抑制するための他の方法も試みられている。例えば、特許文献９には、陽極と透光性基板の間に、急峻な傾斜を有する構造を挿入する手法も検討されている。これらにより、有機ＥＬ素子全体として、光取出し効率を向上させることが試みられている。
【０００７】
また、透明基板側での全反射による発光損失よりも、金属電極側でのプラズモン損失の割合の方が大きいため、近年では、プラズモン損失を回避する方法も研究されている。例えば、特許文献４、５及び１３には、ＩＴＯ等の透明電極、有機層及び金属電極の各層に凹凸構造を設けて金属電極表面での光吸収を抑制することにより、金属表面での光（電磁波）と自由電子の結合を回避する方法が提案されている。また、特許文献１０、１１及び１２には、発光層から金属電極までの距離を広げる（電子輸送層／注入層の厚膜化）ことにより、金属表面での光（電磁波）と自由電子の結合を回避する方法が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１１−２４８１０４号公報
【特許文献２】特開２０１０−１８２４４９号公報
【特許文献３】国際公開第２００９／１１６５３１号
【特許文献４】特開２０１４−１２３５３３号公報
【特許文献５】国際公開第２０１３／１８７１４９号
【特許文献６】特開２００９−５４４２０号公報
【特許文献７】特開２０１０−０４０２１１号公報
【特許文献８】特開２０１３−０７７４１０号公報
【特許文献９】国際公開第２０１３／１８７１４９号
【特許文献１０】国際公開第２０１３／１０８６１８号
【特許文献１１】国際公開第２０１３／０７２２５０号
【特許文献１２】特開２０１４−２２０３６９号公報
【特許文献１３】米国特許第６９６７４３７号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、透光性基板と空気の界面における全反射、陽極と透光性基板の界面における全反射に起因する光の取り出し効率の低下は、有機ＥＬ素子の全発光量に対する割合が小さい。このため、このような全反射に起因する取り出し効率の低下に対する対策を完全に施しても、外部に放出される光の量が十分になるとは言い難い。また、金属電極表面でのプラズモン損失を回避することができれば、外部に放出される光の量が劇的に増加すると推測されるが、上記特許文献に開示されている方法では、その効果が十分とはいえなかった。例えば、透明電極、有機層及び金属電極の各層に凹凸構造を設け方法では、各層の凹凸が電流のリークに繋がり、発光時の電子とホールの結合が悪化して発光量が減少する。更に、リーク電流の発生を回避するためには、凹凸の高低差を緩やかにする層（バッファー層）を挿入すること、電子輸送層若しくは電子注入層を厚膜化することなどが必要になる。このような層の追加又は既存層の厚膜化は、発光層からの光がこれらの層により吸収される割合を増加する。また、凹凸形状が単純であると特定波長の光だけが選択的に増強され、白色光を取り出しにくくなるという問題もある。
【００１０】
本発明は、上述の問題点を鑑みてなされたものであり、電流のリークを回避し、幅広い周波数に対応した高い光取出し効率を有する有機ＥＬ素子を提供することを目的とする。更に、本発明の目的は、上記有機ＥＬ素子を含む有機ＥＬ照明装置及び有機ＥＬ表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の第１の側面は、透明基板、前記透明基板上に設けられた透光性凹凸層、透光性の陽極、有機ＥＬ層及び陰極をこの順に含む有機ＥＬ素子である。
【００１２】
本発明の有機ＥＬ素子は、前記透光性凹凸層が、前記有機ＥＬ層側の面の一部又は全体に凹凸を有し、
透明基板の前記透光性凹凸層が設けられる面に対して垂直な断面から前記凹凸を見た場合に、前記凹凸は、凹凸の断面の形状に沿った凹凸の外縁曲線上に少なくとも１つの変曲点を有し、前記変曲点のそれぞれにおける接線と、透明基板の前記透光性凹凸層が設けられる面とのなす角度が５°以上、２５°未満であり、
透光性凹凸層の凹凸形状が陰極の少なくとも有機ＥＬ層側の表面上に転写される。
【００１３】
本発明では、前記透光性凹凸層は、無機フィラーを含むことが好ましい。
【００１４】
本発明の一実施形態では、前記凹凸は、規則的に配列されていることが好ましい。本発明の別の実施形態では、前記凹凸は、不規則に配列されていることが好ましい。
【００１５】
本発明の第２の態様は、上記有機ＥＬ素子を含む有機ＥＬ照明装置に関する。
【００１６】
本発明の第３の態様は、上記有機ＥＬ素子を含む有機ＥＬ光源に関する。
【００１７】
本発明の第４の態様は、上記有機ＥＬ素子を含む有機ＥＬ表示装置に関する。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、従来よりも光の取出し効率が高い有機ＥＬ素子並びに有機ＥＬ素子を用いた有機ＥＬ照明装置及び光源、有機ＥＬ表示装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ素子の一例を示す断面図である。
【図２】本発明の第２の実施形態に係る有機ＥＬ素子の一例を示す断面図である。
【図３】本発明の第３の実施形態に係る有機ＥＬ素子の一例を示す断面図である。
【図４】（ａ）は、本発明に係る有機ＥＬ素子の透光性凹凸層の一例を示す平面図であり、（ｂ）は、（ａ）のＩＶｂ−ＩＶｂ断面図であり、（ｃ）は、本発明に係る有機ＥＬ素子の透光性凹凸層の別の例を示す平面図である。
【図５】本発明に係る有機ＥＬ素子の透光性凹凸層の傾斜角度を説明するための模式図である。
【図６】本発明に係る有機ＥＬ素子を封止した状態の一例を示す断面図である。
【図７】本発明の有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬ照明装置の一例を示す断面図である。
【図８】本発明の有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬ表示装置の一例を示す断面図である。
【図９】実施例１の透光性凹凸層を有する透明基板の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）の測定結果と、電解放出形走査電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）の観察結果であり、（ａ）は、透光性凹凸層の格子構造のＡＦＭ画像（斜視画像）であり、（ｂ）は、透光性凹凸層の格子構造のＡＦＭ画像（上面画像）であり、（ｃ）は、（ｂ）の画像をＸｃ−Ｘｃ切断線で切断した場合のＡＦＭ画像（断面画像）であり、（ｄ）は、透光性凹凸層の格子構造のＦＥ−ＳＥＭ画像（上面画像、１５ｋ倍）であり、（ｅ）は、（ｄ）の拡大画像（５０ｋ倍）である。
【図１０】実施例及び比較例の分光反射率を測定した結果を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明を、図面を参照して説明する。本発明は、有機ＥＬ素子、並びにこの有機ＥＬ素子を含む照明装置、光源及び表示装置を包含する。なお、本発明は、以下に記載する各側面に限定されない。本発明に対して、当業者の知識に基づいて種々の変更又は修正を加えることが可能である。そして、そのような変更又は修正が加えられた側面も本発明の範囲に含まれる。
【００２１】
本明細書で参照する図面は概略図であり、図面中の部位の縮尺、形状等は実際の構造と必ずしも一致しないことに留意されたい。また、各図において、同一の構成要素には同一の参照符号を付した。
【００２２】
１．有機ＥＬ素子
本発明の第１の側面の有機ＥＬ素子は、少なくとも、透明基板、前記透明基板上に設けられた透光性凹凸層、透光性の陽極、有機ＥＬ層及び陰極をこの順に含む。この有機ＥＬ素子の第１の実施形態を図１に示す。有機ＥＬ素子１０は、透明基板１１、透光性凹凸層１２、透光性の陽極１３、白色発光層を含む有機ＥＬ層１４、及び陰極１５を有する。有機ＥＬ素子の各層は、上で記述した順で透明基板上に積層した構造を有する。本発明の有機ＥＬ素子１０は、透明基板１１の側から光を取り出す、ボトムエミッション構造を有する。
【００２３】
本発明の有機ＥＬ素子では、透光性凹凸層１２は、陰極側の面に凹凸１２ａを有する。この凹凸の形状は、少なくとも陰極の有機ＥＬ層側の面に転写される。
【００２４】
本発明の有機ＥＬ素子１０の第２の実施形態を図２に示す。第２の実施形態は、上記第一の実施形態と同様の層構成を有するが、第２の実施形態では、透光性凹凸層１２が、無機フィラー１６を含む。無機フィラーは、透光性凹凸層の光散乱性能を向上させ、外部への光取出し効率を高めることができる。
【００２５】
本発明の有機ＥＬ素子１０の第３の実施形態を図３に示す。第３の実施形態では、第２の実施形態の有機ＥＬ素子の構成要素に加えて、透明基板１１の、透光性凹凸層とは反対側の表面に光取出しレンズ１７を設ける。光取出しレンズは、任意要素であるが、光取出し効率を改善するためには、これを設けることが好ましい。
【００２６】
本明細書において、「透明」、「透光性」又は「光透過性」とは、光に対して透明である性質を意味する。本発明で用いる「透明」、「透光性」又は「光透過性」の材料は、好ましくは紫外領域から赤外領域の光を透過する。このような光の波長領域は、３５０ｎｍから８００ｎｍである。本発明では、「透明」、「透光性」又は「光透過性」の材料は、上記波長領域を有する光において、光の平均透過率が５０％以上であることが好ましく、平均透過率が８０％以上であることがさらに好ましい。
【００２７】
本発明の有機ＥＬ素子１０は、バリア層（図示せず）を更に含んでもよい。バリア層は、陽極１３、有機ＥＬ層１４及び陰極１５にとって有害な水分などの侵入を防止するための層である。この機能をより効果的に発現するために、透明基板１１と陽極１２との間にバリア層を設けることが望ましい。
【００２８】
次に、有機ＥＬ素子１０の各部について詳細に説明する。
【００２９】
１．１  透明基板
透明基板１１は、所定の光（好ましくは可視領域の光）を透過する板状部材である。その材料は、ガラス、プラスチックなどの従来から有機ＥＬ素子に利用されているものであれば特に限定されない。透明基板１１は、ガラス板、又は高分子材料からなる板若しくはフィルムなどであることが好ましい。
【００３０】
透明基板１１は、バリア性を考慮するとガラス基板を用いることが好ましいが、有機ＥＬ素子に可撓性を付与する場合は、高分子材料を選択することができる。
【００３１】
ガラスの例は、例えば、ソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英ガラスなどを含む。
【００３２】
高分子材料の例は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン；セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート、セルロースニトレートなどのセルロースエステル類又はそれらの誘導体；ポリ塩化ビニリデン；ポリビニルアルコール；ポリエチレンビニルアルコール；シンジオタクティックポリスチレン；ポリカーボネート；ポリエーテルケトン；ポリイミド；ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）；ポリフェニレンスルフィド；ポリスルホン類；ポリエーテルイミド；ポリエーテルケトンイミド；ポリアリレート；ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などのアクリル樹脂；ノルボルネン樹脂などのシクロオレフィン系樹脂などを含む。透明基板１１の材料は、耐熱性、耐寒性及び機械的強度に優れ、透明度が高く、かつ耐薬品性に優れたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が好ましい。なお、透明基板１１の材料は、上記の例に限定されず、任意に選択可能である。
【００３３】
１．２  バリア層
バリア層（図示せず）は、有機ＥＬ素子１０の耐久性を向上させるために、透明基板１１側からの水分の浸入を抑制する目的で設けられる層である。バリア層は、任意選択的に設けられる層であるが、上記耐久性の向上のためには、この層を設けることが好ましい。バリア層は、表面が略平坦であることが好ましい。
【００３４】
バリア層は、無機材料の被膜であることが好ましい。例えば、バリア層は、無機材料からなる単層であってもよく、異なる無機材料からなる複数層が積層された被膜であってもよい。或いは、バリア層は無機材料の被膜及び有機材料の被膜の両者を積層したハイブリッド被膜であってよい。
【００３５】
無機材料は、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム等の金属酸化物、フッ化アルミニウム、フッ化マグネシウム等の金属フッ化物、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化炭素等の金属窒化物、酸窒化ケイ素等の金属酸窒化物、炭化ケイ素等の金属炭化物、又はこれらの混合物を含む。また、有機材料は、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂、又はこれらの混合物などの高分子材料を含む。また、有機材料には、シリカゲル等の吸湿剤を混合してもよい。
【００３６】
無機材料からなる複数の層を積層した被膜の数及び積層の順序、並びに、無機材料のハイブリッド被膜中の無機材料の被膜と有機材料の被膜の数及び積層順序は特に制限されない。より好ましくは、バイブリッド被膜は、無機物の被膜と有機物の被膜とが交互に積層された構造を有する。
【００３７】
バリア層は、１．０×１０-2ｇ／（ｍ2・２４ｈ）以下の、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２９−１９９２に準拠した方法で測定される水蒸気透過度（２５±０．５℃、９０±２％ＲＨ）を有することが好ましい。より好ましくは、バリア層は、１．０×１０-5ｇ／（ｍ2・２４ｈ）以下の水蒸気透過度を有する。さらに、バリア層は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６−１９８７に準拠した方法で測定される、１．０×１０-3ｃｍ3／（ｍ2・２４ｈ・ａｔｍ）以下の酸素透過度を有することが好ましい。最も好ましくは、バリア層は、１．０×１０-3ｃｍ3／（ｍ2・２４ｈ・ａｔｍ）以下の酸素透過度、及び１．０×１０-6ｇ／（ｍ2・２４ｈ）以下の水蒸気透過度の両方を有する。
【００３８】
本発明の有機ＥＬ素子において、透明基板１１として高分子材料からなる板又はフィルムを用いる場合、この板又はフィルムの表面は、バリアコーティングを有していてもよい。このバリアコーティングは、バリア層として機能しうる。
【００３９】
バリア層は、当技術分野において慣用的に利用されている任意の手段を用いて形成することができる。例えば、これらの手段には、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、蒸着法等が含まれる。
【００４０】
バリア層は、特に、バリア性、被覆性及び成膜速度の観点から、ＣＶＤ法により形成された酸化ケイ素、酸窒化ケイ素又は窒化ケイ素の無機被膜であることが好ましい。
【００４１】
１．３  透光性凹凸層
本発明有機ＥＬ素子は、透光性凹凸層１２を含む。本発明では、透光性凹凸層１２は、凹凸１２ａを有する（例えば、図１及び図２参照）。この凹凸１２ａは、透光性凹凸層１２の上に積層される陽極１３、有機ＥＬ層１４及び陰極１５へ、その形状が転写され、維持される。本発明では、透光性凹凸層１２は、０．２μｍ〜２μｍの膜厚（凸部頂点から、透光性凹凸層の透明基板１１側の面までの膜厚）を有することが好ましい。
【００４２】
透光性凹凸層１２の面内における凹凸１２ａのパターンは特に限定されないが、透光性凹凸層上の凹凸１２ａは、有機ＥＬ素子の発光、プラズモン損失の抑制による、再輻射される光に求められる条件によって、凹凸を規則的又は不規則的に配列することができる。例えば、透光性凹凸層の凹凸は、図４に示すような配列を有することができる。図４（ａ）及び図４（ｂ）は、規則的な配列を有する例として、格子状に凹凸１２ａが配列されたものである。なお、図４（ｂ）は、図４（ａ）の凹凸をＩＶｂ−ＩＶｂ切断線により切断した場合の断面図を示す。図４（ｃ）は、凹凸１２ａが不規則に配列されたランダム配列の例を示す。また、凹凸１２ａは、透光性凹凸層１２の、陽極、有機ＥＬ層及び陰極が設けられる側の表面の全体に設けられてもよく、当該表面の一部に設けられてもよい。
【００４３】
透光性凹凸層１２の凹凸１２ａの形状には、透光性凹凸層１２をその厚み方向（即ち、透明基板１１の透光性凹凸層１２が設けられる面に対して垂直な方向）に切断した場合、透光性凹凸層１２の当該断面において、凹凸が以下に説明する条件を満たすことが求められる。
【００４４】
本発明では、図５に示すように、凹凸１２ａは、凹凸１２ａの断面の形状に沿った凹凸の外縁曲線５０（本発明では、この凹凸の外縁曲線５０を、単に外縁曲線とも称する。）を有する。凹凸１２ａは、この外縁曲線５０上に、１つ以上の変曲点（５１、５１’、５２”）を有する。この変曲点（５１、５１’）の接線（５３、５３’）と透明基板１１の平面５４（この平面は、透光性凹凸層、陽極、有機ＥＬ層、陰極が設けられる面である。）との間の角度θ（５２、５２’）（本明細書でこの角度θを「傾斜角度」とも称する）を求める。この傾斜角度θは、小さいことが好ましく、５°以上、２５°未満の範囲にあることがより好ましい。なお、本発明において、透光性凹凸層１２をその厚み方向に切断する場合の切断面は、傾斜角度θが最も大きい接線を有する変曲点を通り、且つ、凹凸１２ａの凸部の最も高い頂点を通るように採る。凹凸１２ａが複数の変曲点を有する場合、凹凸の最も高い頂点を通り、且つ、最も数の多い変曲点を有する外縁曲線となるように切断面を採る。なお、凹凸１２ａが複数の変曲点を有する場合、前記の「傾斜角度θが最も大きい変曲点」は、最も数の多い変曲点を有する外縁曲線上の変曲点を意味する。例えば、図５を参照すれば、図５の外縁曲線５０は、変曲点５１、５１’及び５１”を有するが、このうち、変曲点５１及び５１’を採用する。加えて、凹凸の最も高い頂点は、３６ｍｍ〜６０ｍｍの曲率を有することが好ましい。また、透光性凹凸層の隣り合う凹部と凸部の最大高低差（例えば、図１の「ｈ」で示した高さ）は、５０ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましい。
【００４５】
凹凸の形状は上記条件を満たす限り、特に限定されない。凹凸形状は、上面からの投影図として見た場合、楕円形、矩形、多角形、円形、これらが組み合わされた形状などであってよい。なお、凹凸の形状は、透光性凹凸層上において複数の領域を設けて、領域毎に異なる形状を採用してもよい（この場合、各領域内の凹凸は、上述の条件を満たすことが望ましい。）。或いは、凹凸の形状は透光性凹凸層上で全て同一であってもよい。
【００４６】
本発明では、上記傾斜角度θは、複数の凹凸１２ａについて測定し、その平均を取ることが好ましい。好ましくは、１０箇所以上の凹凸１２ａをランダムに選択し、それぞれの凹凸の傾斜角度θを測定し、その平均を取ることが好ましい。
【００４７】
透光性凹凸層１２は、有機物と無機物との混合材料から形成される層であることが好ましい。例えば、透明な樹脂材料に無機フィラーが混合された、無機フィラーを含む樹脂が例として挙げられる。無機フィラーとしては、例えば、金属、金属化合物又はこれらの混合物などを挙げることができる。金属としては、光の反射率が高い銀、アルミニウム等を挙げることができ、これらの金属粒子がより好ましい。金属化合物としては、例えば、金属酸化物又は金属窒化物を挙げることができる。具体例として、金属化合物には、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、窒化ケイ素、スズ添加酸化インジウム等を挙げることができる。透明な樹脂材料としては、例えば、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂等を挙げることができる。なお、無機フィラー及び樹脂材料のそれぞれは、単独で用いられてもよく、２種類以上を混合して用いてもよい。好ましい透光性凹凸層１２の材料としては、例えば、無機フィラーとして酸化チタン（ＴｉＯ2）を含むアクリル樹脂（紫外線硬化型）を挙げることができる。
【００４８】
本発明では、無機フィラーは、１０ｎｍ〜３０ｎｍの平均粒径を有することが好ましい。平均粒径は、例えばＪＩＳ  Ｚ８８２７−１静止画像解析法の手段により測定することができる。
【００４９】
透光性凹凸層１２の凹凸形状は以下の手順で形成することができる。まず、無機フィラーを含有する透明な樹脂を透明基板１１上に塗布する。次いで、無機フィラーを含む樹脂が未硬化であるか、又は当該樹脂を硬化した後に、無機フィラーを含む樹脂上に、所望の凹凸を付与できる鋳型を押し当てる。これにより、鋳型の形状を、無機フィラーを含む樹脂に転写し、凹凸形状を透光性凹凸層に形成することができる。例えば、転写の手段は、ロール表面に凹凸１２ａに対応する凹凸が形成されたロールを、無機フィラーを含む樹脂上に押圧すればよい。このようにして、無機フィラーを含む樹脂上に凹凸１２ａを形成することができる。
【００５０】
１．４  光取出しレンズ
本発明では、任意選択的に、透明基板１１の透光性凹凸層１２を設ける面とは反対側の面に、光散乱又は集光機能を有する光取出しレンズ１７を設けてもよい。
【００５１】
本発明では、光取出しレンズ１７を設けることで、透明基板１１と空気の界面での光の全反射を低減することができる。加えて、光の射出方向を任意に制御することが可能であり、射出光全体を、明るさとして有効に活用することができる。
【００５２】
光取出しレンズ１７は、透明基板１１と外部の空気との界面における全反射を低減させる機能を有する。図３に示されるように、光取出しレンズ１７は、凹凸１７ａを有する。ここで、凹凸１７ａは、有機ＥＬ素子の所望の性能に合わせて、規則的に配置するか、不規則に配置するかを選択することができる。
【００５３】
例えば、凹凸１７ａは、前述の透光性凹凸層１２の凹凸１２ａが不規則的に配列されている場合には規則的に配列させることができる。或いは、透光性凹凸層１２の凹凸１２ａが規則的に配列されている場合には、凹凸１７ａは不規則に配列されてもよい。
【００５４】
光取出しレンズ１７は、無機フィラーなどの無機物を含む有機物層であることが好ましい。具体的には、無機フィラーを含む透明な樹脂材料により光取出しレンズ１７を形成することが好ましい。
【００５５】
光取出しレンズ１７に用いる透明な樹脂材料としては、透明基板１１との密着性が良好であれば、特に限定されない。例えば、透明な樹脂材料には、紫外線硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などの材料を挙げることができる。加工時のエネルギー使用量、及び鋳型による凹凸形状の転写の簡便さを考慮すると、透明な樹脂材料としては、紫外線硬化型樹脂が好ましい。
【００５６】
無機フィラーを含む透明な樹脂材料に使用できる無機フィラーとしては、例えば、金属、金属化合物などの無機フィラーを挙げることができる。金属化合物としては、例えば、金属酸化物、金属窒化物などを挙げることができる。具体的に、金属としては、反射率が高い銀、アルミニウム等の金属粒子等を挙げることができる。金属化合物としては、酸化チタン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、窒化ケイ素、スズ添加酸化インジウム等を挙げることができる。無機フィラーを含む透明な樹脂材料に使用できる樹脂材料としては、例えば、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂等を挙げることができる。光取出しレンズ１７の樹脂材料は、透明基板１１で使用する樹脂材料と屈折率が異なる樹脂材料であってよい。本発明において、無機材料及び樹脂材料は、光散乱性、屈折率、光透過率等の光学特性を考慮して、単独であっても、又は２種類以上を混合してもよい。
【００５７】
光取出しレンズ１７が無機フィラーを含む樹脂材料からなる場合、光取出しレンズの凹凸を、鋳型によりその表面に設けるのではなく、前記無機フィラーにより光取出しレンズ１７の上面に凹凸のパターンができたものであってもよい。
【００５８】
光取出しレンズ１７の形成方法は、特に限定されない。例えば、光透過性の基板上に凹凸１７ａが形成されたものを粘着材又は接着剤を用いて、透明基板上に貼り付けることによって形成することができる。或いは、透明基板１１上に直接形成することもできる。透明基板１１上に直接凹凸を形成する手段は、例えば、透明基板１１に光硬化性樹脂を塗布し、これに所望の凹凸形状を有する鋳型を押し当て、凹凸形状を光硬化性樹脂に転写し、その後硬化する方法を挙げることができる。なお、光取出しレンズ１７の構成要素が増加するほど、光が各構成要素を通過する際に光の吸収が起こるり、外部へ出射される光の量が減少する可能性がある。このため、光取出しレンズ１７は、透明基板１１上に直接形成することが好ましい。
【００５９】
１．５  陽極
陽極１３は、透光性凹凸層１２上に設けられ、陰極１５との間に直流電圧を印加して有機ＥＬ層１４の白色発光層を発光させるための層である。陽極１３は、有機ＥＬ層１４の白色発光層で生じた光を取り出す側の電極であるため、透明電極である。従って、陽極の材料には、光透過性を有する材料を適宜選択し、用途に合った光透過率が得られるように膜厚を調整することが好ましい。
【００６０】
陽極１３は、仕事関数の大きな導電性材料により形成される。陽極１３に用いられる導電性材料としては、金属、合金、金属酸化物、導電性化合物、及びこれらの混合物を含む。例えば、ニッケル、銀、金、白金、パラジウム、セレン、ロジウム、ルテニウム、イリジウム、レニウム、タングステン、モリブデン、クロム、タンタル、ニオブ、これらの合金、あるいは酸化スズ（ＳｎＯ2）、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）、酸化亜鉛、酸化チタン等が挙げられる。陽極１３は、上記材料からなる層の積層体であってもよい。本発明では、導電性金属酸化物を用いて陽極１３を形成すること好ましい。生産性、高導電性、透明性などの点から、ＩＴＯを用いて陽極１３を形成することが特に好ましい。
【００６１】
発光した光を陽極１３側から取り出す場合には、陽極１３は、５０％より大きい光透過率を有することが望ましい。また、陽極１３は、数十Ω／□以下のシート抵抗を有することが好ましい。さらに、使用する材料にもよるが、陽極１３は、通常１０ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下の範囲内、好ましくは１０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下の範囲内の膜厚を有する。
【００６２】
陽極１３は、ＣＶＤ法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、蒸着法等により形成することができる。陽極１３の断面形状は、透光性凹凸層１２の断面形状を反映した形状となる。
【００６３】
１．６  陰極
陰極１５は、有機ＥＬ層１４上に設けられ、図示しない電源を介して陽極１３と接続された金属電極である。また、陰極は、陽極１３との間に直流電圧を印加して有機ＥＬ層１４の白色発光層を発光させるための層である。陰極１５は、有機ＥＬ層１４の白色発光層で生じた発光光を有機ＥＬ素子１０の発光面（透明基板１１）側に反射させるために、反射率の良好な材料を適宜選択する。
【００６４】
陰極１５は、仕事関数が小さな導電性材料から形成される。陰極１５に用いられる導電性材料としては、例えば、銀、アルミニウム、インジウム等の金属、これらの金属とリチウム、マグネシウム、カルシウム等の活性な金属との合金、又はこれらの金属若しくは合金を積層した金属積層体を挙げることができる。また、陰極１５と有機ＥＬ層１４との間に、例えば、リチウム、マグネシウム、カルシウム等の活性な金属と、ハロゲン、酸素等との化合物からなる簿層を設けてもよい。ハロゲンとしては、フッ素、臭素等を挙げることができる。
【００６５】
陰極１５は、数十Ω／□以下のシート抵抗を有することが好ましい。陰極１５は、通常１０ｎｍ以上、５μｍ以下の範囲内、好ましくは４０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下の範囲内の膜厚を有する。
【００６６】
陰極１５は、ＣＶＤ法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、蒸着法等により形成できる。
【００６７】
陰極１５は、少なくとも有機ＥＬ層１４との界面において、透光性凹凸層１２の凹凸１２ａが転写された凹凸形状を有する。この凹凸形状は、有機ＥＬ層１４と反対側の面にまで及んでいてもよい。或いは、陰極１５の有機ＥＬ層１４と反対側の面は、略平坦となっていてもよい。
【００６８】
１．７  有機ＥＬ層
有機ＥＬ層１４は、陽極１３と陰極１５との間に設けられる。有機ＥＬ層１４は、少なくとも白色の発を発光できる層（本明細書において、白色発光層と称する）を含む。有機ＥＬ層１４は、白色発光層とともに、正孔注入層、電子注入層などの電荷注入層、並びに、白色発光層に正孔を輸送する正孔輸送層、白色発光層に電子を輸送する電子輸送層などの電荷輸送層を含んでいてもよい。有機ＥＬ層１４は、透光性凹凸層１２上の凹凸形状が反映された凹凸構造を有する。
【００６９】
１．７．１  白色発光層
白色発光層は、電極から注入される電子と正孔（ホール）とが再結合して発光する層である。発光する部分は、白色発光層の層内であってもよく、白色発光層と白色発光層に隣接する層との界面であってもよい。本発明では、白色発光層は、白色の光（白色光）が得られればよく、公知の白色発光層であればよい。白色発光層は、単一層であってもよいし、複数層の積層体であってもよい。
【００７０】
白色光は、少なくとも赤色領域（６００ｎｍ〜７８０ｎｍ）、緑色領域（４７５ｎｍ〜６００ｎｍ）及び青色領域（３８０ｎｍ〜４７５ｎｍ）の波長を含むピークがあればよい。発光ピークは、必ずしも上記の波長領域を含む３つ以上のピークを必要としない。例えば、２つの発光ピークに上記の各色領域の波長が含まれていればよい。なお、広範囲の色再現性を実現するには、３つ以上の発光ピークがある白色発光層を用いることが好ましい。上記３つの色領域のひとつ以上に発光ピークがあることがより好ましい。更に、上記３つの色領域のそれぞれに発光ピークがあることが特に好ましい。
【００７１】
このような白色発光層の材料は、例えば蛍光、燐光等の発光性を有するものであればよく、特に限定されない。また、発光材料は、正孔輸送性及び／又は電子輸送性を有していてもよい。発光材料には、色素材料、金属錯体材料、及び高分子材料を挙げることができる。
【００７２】
色素材料としては、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、又はピラゾリンダイマーを挙げることができる。
【００７３】
金属錯体材料としては、例えば、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾール亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、及びユーロピウム錯体；中心金属に、Ａｌ、Ｚｎ、Ｂｅ等の金属、又はＴｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属を有し、配位子に、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体を挙げることができる。
【００７４】
高分子材料としては、例えば、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、並びに上述した色素材料及び金属錯体材料を高分子化したものを挙げることができる。
【００７５】
本発明では、白色発光層の材料は、単独でも複数の材料の混合物であってもよい。
【００７６】
白色発光層の膜厚は、５ｎｍ以上、５μｍ以下であることが好ましい。
【００７７】
白色発光層は、真空蒸着法などの当該技術においてよく知られている技術を用いて形成することができる。
【００７８】
１．７．２  正孔注入層
有機ＥＬ素子１０では、白色発光層と陽極１３との間に正孔注入層を設けてもよい。正孔注入層は、白色発光層への正孔の注入を安定化し、発光効率を高めることができる。
【００７９】
正孔注入層の材料は、有機ＥＬ素子の正孔注入層に一般的に使用されている材料であれば特に限定されない。また、正孔注入層の材料は、正孔の注入又は電子の障壁のいずれかの機能を有するものであればよい。
【００８０】
正孔注入層の材料には、例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、ポリシラン系共重合体、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー等の導電性オリゴマー、又はこれらの混合物を挙げることができる。
【００８１】
また、正孔注入層の材料には、例えば、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物を挙げることができる。
【００８２】
正孔注入層の膜厚は、５ｎｍ以上、１μｍ以下程度であることが好ましい。
【００８３】
正孔注入層は、真空蒸着法などの当該技術においてよく知られている技術を用いて形成することができる。
【００８４】
１．７．３  電子注入層
有機ＥＬ素子１０では、白色発光層と陰極１５との間に電子注入層を設けてもよい。電子注入層は、白色発光層への電子の注入を安定化し、発光効率を高めることができる。
【００８５】
電子注入層の材料としては、例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド誘導体、フレオレニリデンメタン誘導体、アントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体のオキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有したキノキサリン誘導体、トリス（８−キノリノール）アルミニウム等の８−キノリノール誘導体の金属錯体、フタロシアニン、金属フタロシアニン、ジスチリルピラジン誘導体を挙げることができる。
【００８６】
電子注入層の膜厚は、０．５ｎｍ以上、５ｎｍ以下程度であることが好ましい。
【００８７】
電子注入層は、真空蒸着法などの当該技術においてよく知られている技術を用いて形成することができる。
【００８８】
１．７．４  正孔輸送層
有機ＥＬ素子１０では、正孔注入層と白色発光層との間に正孔輸送層を設けてもよい。正孔輸送層は、正孔注入層から白色発光層への正孔の輸送を安定化し、発光効率を高めることができる。
【００８９】
正孔輸送層の材料には、例えば、下記（ａ）〜（ｆ）の中から選択される材料が挙げられる。
【００９０】
（ａ）銅フタロシアニン、テトラ（ｔ−ブチル）銅フタロシアニン等の金属フタロシアニン類、金属を含まないフタロシアニン類、キナクリドン化合物等の低分子正孔輸送材料、又は、１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン等の芳香族アミン類。
【００９１】
（ｂ）ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリビニルカルバゾール、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルカルバゾールの誘導体、側鎖又は主鎖に芳香族アミンを有するポリアリーレン誘導体、アリールアミン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体等の、芳香族アミンを含む高分子材料。
【００９２】
（ｃ）ポリシラン等のシグマ共役型高分子材料等の高分子材料。
【００９３】
（ｄ）ポリチオフェンオリゴマー材料、ポリ（３−ヘキシルチオフェン）等。
【００９４】
（ｅ）Ｃｕ2Ｏ、Ｃｒ2Ｏ3、Ｍｎ2Ｏ3、ＦｅＯx（ｘ〜０．１）、ＮｉＯ、ＣｏＯ、Ｐｒ2Ｏ3、Ａｇ2Ｏ、ＭｏＯ2、Ｂｉ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、ＴｈＯ2、Ｖ2Ｏ5、Ｎｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5、ＭｏＯ3、ＷＯ3、ＭｎＯ2などの無機材料。
【００９５】
（ｆ）その他、シリコンやＣｕＳ等の半導体ナノ粒子を高分子中に分散した既存の正孔輸送材料。
【００９６】
正孔輸送層は、１種又は複数種の正孔輸送材料を含んでもよい。正孔輸送層は、単一層であってもよいし、複数の副層からなる積層構造を有してもよい。正孔輸送層は、真空蒸着法などの当該技術においてよく知られている技術を用いて形成することができる。
【００９７】
正孔輸送層の膜厚は、５０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下程度であることが好ましい。
【００９８】
１．７．５  電子輸送層
有機ＥＬ素子１０では、電子注入層と白色発光層との間に電子輸送層を設けてもよい。電子輸送層は、電子注入層から白色発光層への電子の輸送を安定化し、発光効率を高めることができる。
【００９９】
電子輸送層の材料には、例えば、２−（４−ビフィニルイル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、ビス（１０−ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリノラート）ベリリウム錯体、トリアゾール化合物が挙げられる。
【０１００】
また、電子輸送層の材料は、上記の電子輸送材料に、ナトリウム、バリウム、リチウム等の仕事関数が低いアルカリ金属若しくはアルカリ土類金属を少量ドープした材料（例えば、Ａｌキノリン錯体中に炭酸セシウムやＬｉＦをドープした材料）であってもよい。
【０１０１】
電子輸送層の膜厚は、５０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下程度であることが好ましい。
【０１０２】
電子輸送層は、１種又は複数種の電子輸送材料を含んでもよい。電子輸送層は、単一層であってもよいし、複数の副層からなる積層構造を有してもよい。電子輸送層は、真空蒸着法などの当該技術においてよく知られている技術を用いて形成することができる。
【０１０３】
１．８  封止部材
有機ＥＬ素子１０は、封止部材（図示せず）によって覆われることが好ましい。封止部材は保護層の機能を有する。封止部材は、有機ＥＬ素子１０の有機ＥＬ層を含む側を覆うことができる限りにおいて、凹板状でも平板状でもよい。封止部材は、有機ＥＬ素子の各層（特に有機ＥＬ層）に対して有害な水分、空気などが、有機ＥＬ素子へ侵入するのを防止する。封止部材は、水分及び／又は空気による有機ＥＬ素子１０の劣化を抑制するために、陰極１５の有機ＥＬ層とは反対の面、並びに少なくとも陽極１３、有機ＥＬ層１４及び陰極１５の側面を覆うように設けることが好ましい。
【０１０４】
封止部材の例は、ガラス板、ポリマーの板及びフィルム、並びに、金属の板及びフィルムなどを含む。封止部材の材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等の可撓性を有する透明又は不透明な高分子材料、ステンレス、アルミニウムなどの金属材料、ソーダ石灰ガラス、バリウム−ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英ガラスなどのガラス材料を挙げることができる。
【０１０５】
本発明の有機ＥＬ素子１０は、有機ＥＬ層１４からの光が透明基板１１を介して出射されるボトムエミッション型である。このため、封止部材が、陰極１５の有機ＥＬ層とは反対の面に設けられる場合、透光性は必要とされない。従って、封止部材の材料は、金属材料、不透明な高分子材料などであってよい。加えて、封止部材には電気絶縁性も要求されない。
【０１０６】
封止部材は、バリア層と同様に、低い水蒸気透過度及び低い酸素透過度を有することが好ましい。封止部材は、１．０×１０-2ｇ／（ｍ2・２４ｈ）以下の、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２９−１９９２に準拠した方法で測定される水蒸気透過度（２５±０．５℃、９０±２％ＲＨ）、及び／又は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６−１９８７に準拠した方法で測定される、１．０×１０-3ｃｍ3／（ｍ2・２４ｈ・ａｔｍ）以下の酸素透過度を有することが望ましい。
【０１０７】
このような封止部材は、陰極１５の表面、並びに少なくとも陽極１３、有機ＥＬ層１４及び陰極１５の側面を覆うように樹脂材料を塗布して固化させる方法により設けることができる。また、このような封止部材は、ＣＶＤ法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、蒸着法などにより形成されうる。封止部材を形成する方法は、陰極１５の表面、並びに少なくとも陽極１３、有機ＥＬ層１４及び陰極１５の側面を覆うように封止部材を形成できる方法であれば、特に制限されない。
【０１０８】
２．  有機ＥＬ素子の製造方法
本発明は、上記有機ＥＬ素子の製造方法を包含する。この製造方法は、
（Ａ）透明基板を準備する工程と、
（Ｂ）前記透明基板上に透光性凹凸層を形成する工程と、
（Ｃ）前記透光性凹凸層上に陽極極を形成する工程と、
（Ｄ）前記陽極上に有機ＥＬ層を形成する工程と、
（Ｅ）前記有機ＥＬ層上に陰極を形成する工程と
（Ｆ）前記透明基板の、透光性凹凸層とは反対の面に光取出しレンズを形成する工程と
を含むことができる。
【０１０９】
２．１  工程（Ａ）：透明基板を準備する工程
工程（Ａ）は、適切な材料で形成された透明基板１１を選択し、必要に応じて、透明基板１１に対して洗浄及び／又は必要な前処理を施す工程である。洗浄及び／又は必要な前処理は、有機ＥＬ素子の基板で通常行われるものであり、特に制限はない。
２．２  工程（Ｂ）：透光性凹凸層を形成する工程
工程（Ｂ）は、透光性凹凸層１２を形成する工程である。透明基板１１上に、透明な樹脂材料、又は、無機フィラーを含む透明な樹脂材料を塗布する。これらの材料は上記透光性凹凸層の欄で説明したとおりである。続いて、所望の凹凸１２ａの形状に対する反転形状を有する形状転写基板を準備する。この形状反転基板を塗布した樹脂材料上に押下し、所望の凹凸形状を樹脂材料に転写する。続いて、凹凸１２ａが転写された樹脂を硬化させて透光性凹凸層１２を形成する。
【０１１０】
具体的には、例えば、透明基板１１上に直接透明樹脂若しくは無機フィラーを含む透明な樹脂を塗布した後、Ｓｈｅｅｔ−ｔｏ−Ｓｈｅｅｔ法により透明樹脂若しくは無機フィラーを含む透明な樹脂に凹凸形状を転写する。次いで、凹凸形状が転写された樹脂を硬化させて、所望の凹凸１２ａを有する透光性凹凸層１２を形成することができる。透明樹脂若しくは無機フィラーを含む透明な樹脂の硬化は、透明基板１１上に塗布された樹脂材料に適した方法（例えば光照射、熱処理など）により行われる。例えば、樹脂材料が紫外線硬化型樹脂である場合には、紫外線の照射により凹凸１２ａを転写した透明樹脂若しくは無機フィラーを含む透明な樹脂を硬化すればよい。
【０１１１】
２．３  工程（Ｃ）：陽極を形成する工程
工程（Ｃ）は、陽極１３を形成する工程である。工程（Ｃ）は、透光性凹凸層１２の凹凸形状を陽極１３の有機ＥＬ層側に反映させることを条件として、当技術分野において知られている任意の方法を用いることができる。例えば、陽極１３の材料との適性を考慮して、工程（Ｃ）を、（１）真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法などの物理的方式、（２）ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ法などの化学的方式などの公知の方法から選択される方法によって実施することができる。例えば、ＩＴＯを用いて陽極１３を形成する場合には、工程（Ｃ）は、直流スパッタ法、高周波スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などによって実施することができる。
【０１１２】
２．４  工程（Ｄ）：有機ＥＬ層を形成する工程
工程（Ｄ）は、白色発光層を含む有機ＥＬ層１４を形成する工程である。有機ＥＬ層１４は、例えば、陽極１３側から、バッファー層／正孔輸送層／白色発光層／電子輸送層／バッファー層の順に形成すればよい。なお、本明細書において、層構成の記述における記号「／」は、２つの層が隣接して積層されていることを示す。
【０１１３】
工程（Ｃ）は、陽極１３の形状（即ち、透光性凹凸層１２の凹凸形状）を有機ＥＬ層１４の陰極側の面に反映させることを条件として、当技術分野において知られている任意の方法を用いることができる。
【０１１４】
白色発光層には、例えば、蒸着法、印刷法、インクジェット法、スピンコート法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法、自己組織化法（交互吸着法、自己組織化単分子膜法）等を用いることができる。特に、蒸着法、スピンコート法、又はインクジェット法を用いることが好ましい。
【０１１５】
正孔輸送層には、正孔輸送層に用いる材料に応じて、例えば、スピンコート法、バーコート法、ワイヤーコート法、スリットコート法、ダイコート法、スプレーコート法、カーテンコート法、フローコート法、凸版印刷法、凸版反転オフセット印刷法、インクジェット法、ノズルプリント法等の湿式法、又は抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等の蒸着法を用いることができる。
【０１１６】
電子輸送層には、使用する材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等の真空蒸着法を用いることができる。
【０１１７】
２．５  工程（Ｅ）：陰極を形成する工程
工程（Ｅ）は、陰極１５を形成する工程である。陰極は、上記陰極の欄で説明した材料を用いて形成される。陰極１５は、ＣＶＤ法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、蒸着法等の当技術分野において知られている任意の方法を用いて形成することができる。本工程で形成された陰極１５の少なくとも下面（即ち、有機ＥＬ層１４と陰極１５との界面）には、透光性凹凸層１２ａの凹凸形状が反映される。このような形状を有することによって、有機ＥＬ層１４が発した光を高効率で反射し、透明基板１１側から放出することができる。
【０１１８】
２．６  工程（Ｆ）：光取出しレンズを形成する工程
工程（Ｆ）は、光取出しレンズ１７を形成する工程である。本工程は、有機ＥＬ素子に光取出しレンズを設ける場合に任意選択的に実施される工程である。
【０１１９】
本工程は、当技術分野で公知の方法を用いることができる。例えば、両面が略平坦であり、可撓性を有する、曲げ剛性が０．０２Ｎ・ｍ2以下の透明基板１１の、透光性凹凸層と反対の面に、無機フィラーを含む透明な樹脂材料を塗布する。無機フィラー及び樹脂材料は上記透光性凹凸層の欄で説明したとおりである。続いて、所望の凹凸形状を樹脂材料に転写する。続いて、凹凸１７ａが転写された樹脂を硬化させて光取出しレンズ１７を形成する。より具体的には、例えば、透明基板１１の、透光性凹凸層とは反対側の面に直接無機フィラーを含む透明な樹脂を塗布した後、Ｒｏｌｌ−ｔｏ−Ｒｏｌｌ法を用いて無機フィラーを含む透明な樹脂上に凹凸形状を転写する。これにより、凹凸１７ａを有する光取出しレンズ１７が形成される。無機フィラーを含む透明な樹脂材料の硬化は、選択した樹脂材料に適した方法により実施される。例えば、樹脂材料が紫外線硬化型樹脂である場合には、紫外線の照射により無機フィラーを含む透明な樹脂材料を硬化させればよい。
【０１２０】
上記の各工程に加えて、有機ＥＬ素子に追加の層を設ける場合には、上記の各工程の間、又は、各工程中の適切な位置で、追加の層を形成する工程を実施すればよい。例えば、バリア層を設ける場合には、工程（Ａ）と工程（Ｂ）の間にバリア層を形成する工程を実施すればよい。バリア層を形成する材料及び手段は、上記のバリア層の欄で説明したとおりである。また、有機ＥＬ素子に隔壁を設ける場合には、工程（Ｂ）と工程（Ｃ）の間に、隔壁を形成する工程を設ければよい。隔壁の材料は、当技術分野で公知のものを用いればよい。また、隔壁の形成手段は、例えば、フォトリソグラフィ等の当技術分野で公知の方法を用いればよい。
【０１２１】
３．  照明装置及び光源
本発明の第２の態様及び第３の態様について説明する。これらの態様は、上述した有機ＥＬ素子を用いた、有機ＥＬ照明装置（第２の態様）及び光源（第３の態様）である。
【０１２２】
本発明の有機ＥＬ照明装置は、上述した本発明の有機ＥＬ素子を含む。例えば、本発明の有機ＥＬ照明装置６０の一例を図６に示す。図６に示されるように、有機ＥＬ照明装置６０は、透明基板１１、透光性凹凸層１２、陽極１３、有機ＥＬ層１４、陰極１５を備える。更に、有機ＥＬ照明装置６０は、有機ＥＬ層１５を封止する封止部材２２を備える。また、陽極１３と陰極１５には、各電極に電圧を印可するための端子（図示せず）がそれぞれ設けられている。ここで、図６では、透明基板１１と、光取出しレンズ１７と、透光性凹凸層１２と、陽極１３とを含む基板を、光取出し基板２４として表記した。
【０１２３】
本発明の有機ＥＬ照明装置では、上記端子を介して陽極１３及び陰極１５に電圧が印可され、光取出しレンズ１７側から光が取り出される。
【０１２４】
なお、封止部材２２は、図６に示すように、例えば、陽極１３と陰極１５に接着層２０を用いて固定されていてもよい。また、封止部材２２の内壁に、乾燥剤２１を取り付けてもよい。乾燥剤は、有機ＥＬ素子又は有機ＥＬ光源等に通常用いることができるもの（例えば、シリカゲル、合成ゼオライト、酸化バリウムや酸化カルシウム粉末、アルカリ金属やアルカリ土類金属を含むゲッター材料等）であればよい。
【０１２５】
本発明の有機ＥＬ光源（例えば、面状光源）も、上記有機ＥＬ照明装置と同様の構成とすることができる。本発明の照明装置および光源の製造は、前述の有機ＥＬ素子の製造方法に、公知の適切な工程を付加して実施することができる。
【０１２６】
４．  有機ＥＬ表示装置
本発明の第４の態様について説明する。本発明の第４の態様は、上述した有機ＥＬ素子を用いた、有機ＥＬ表示装置である。
【０１２７】
本発明の表示装置は、上述した本発明の有機ＥＬ素子を含む。例えば、本発明の有機ＥＬ表示装置７０の一例を図７に示す。
【０１２８】
図７は、封止部材２２によって封止された有機ＥＬ素子１０を基にした有機ＥＬ表示装置を示す。図７に示すように、本発明の有機ＥＬ表示装置７０は、透明基板１１、光取出しレンズ１７、透光性凹凸層１２、陽極１３、有機ＥＬ層１４、陰極１５、及び有機ＥＬ素子１０全体を封止する封止部材２２を備える。本発明の有機ＥＬ素子１０は、画素を形成するための隔壁２３を複数備える。
【０１２９】
図８に、本発明の別の実施形態の有機ＥＬ表示装置を示す。この有機ＥＬ表示装置７０は、図８に示すように、透明基板１１の、透光性凹凸層１２とは反対側の面にＴＦＴ２５、ガラス基板２６及び偏光板基板２７をそれぞれ含む。
【０１３０】
本発明の表示装置は、上記の構成要素に加えて、装置の表示側に、カラーフィルターガラス基板（ガラス基板及びカラーフィルター層（例えば、ＲＧＢカラーフィルター層など）を含む）（図示せず）を含むことができる。
【０１３１】
本発明の表示装置の製造は、前述の有機ＥＬ素子の製造方法に適切な工程を付加して実施することができる。例えば、透明基板１１を準備し［工程（Ａ）］、次いで、カラーフィルター層、バリア層などを形成し、さらに上記工程（Ｂ）から工程（Ｆ）を適した順序で実施すればよい。カラーフィルター層は、スピンコート法、蒸着法などの当該技術おいて知られている任意の方法を用いて形成することができる。
【０１３２】
なお、封止部材２２は、図７及び図８に示すように、例えば、有機ＥＬ素子１０全体を覆うように接着層２０を用いて固定されていてもよい。また、封止部材２２の内壁に、乾燥剤２１を取り付けてもよい。
【０１３３】
上記の本発明の有機ＥＬ表示装置は、画素ごとに光取出しレンズ１７側から光を取り出すことができる。
【０１３４】
６．  効果
本発明の有機ＥＬ素子１０は、以下の効果を実現することができる。
【０１３５】
（１）  本発明の有機ＥＬ素子が、上述の特定の凹凸形状を有する透光性凹凸層を有することで、１つの凹凸において、複数種類の凹凸形状を付与するのと同様の機能を付与することができる。また、本発明の有機ＥＬ素子は、透光性凹凸層の凹凸形状が、陰極に転写されるため、該凹凸形状に略追従した凹凸を有する陰極表面で、幅広い周波数でのプラズモン損失を低減することができる。加えて、光射出面に向かう光を増大させること、及び／又は、射出される光の周波数の偏りを抑制することが可能となる。また、透光性凹凸層、陽極、有機ＥＬ層及び陰極の各層の界面における光の散乱を抑制できる。更に、屈折率が高い層から低い層に光が進入する際の全反射を低減することができる。これらの効果により、有機ＥＬ層から発した光の外部への取出し効率が増大する。
【０１３６】
（２）本発明において、透光性凹凸層の凹凸の変曲点の接線と、透明基板の平面とのなす角が５°以上、２５°未満とすることで、透光性凹凸層の上に積層される陽極、有機ＥＬ層及び陰極の各層の厚みが均一に保たれ、電流のリークが回避される。従って、上記各層が凹凸を有しない（即ち各層が略平坦である）場合と同様の発光性能が実現できる。また上記角度が２５°未満であることにより、陰極の有機ＥＬ層側の表面での光の反射が、本発明のような変曲点を持たない場合に匹敵するものとなる。これにより、光射出面に向かう光が増大し、有機ＥＬ素子の光取出し効率が向上する。ここで透光性凹凸層の凹凸の変曲点の接線と、透明基板の表面とのなす角が２５°以上になると、陽極、有機ＥＬ層及び陰極の各層の厚みにムラが発生する。このような各層のムラは、電流密度に粗密を生じさせ、素子の本来の発光性能を低下させる。更に、このような各層のムラは、陰極における反射率を低下させ、光の取り出し効率を低下させる。また、上記のような各層のムラは、有機ＥＬ素子の寿命を低下させる原因ともなる。
【０１３７】
（３）本発明では、陽極と透光性基板の間に、急峻な傾斜を有する構造を挿入する手法（例えば、特許文献９に開示されているもの）のような、急峻な傾斜を有する層を設ける必要がない。従って、膜厚の変化による光取出し効率の低下に加え、光がこのような急峻な傾斜を有する層に吸収されることによる光取出し効率の低下を抑制することができる。加えて、有機ＥＬ素子などを製造する際の材料を減らし、及び／又は製造工程を短縮することができる。これはコスト削減にも繋がる。
【０１３８】
（４）透光性凹凸層が、無機フィラーを含む透明な樹脂材料で形成される場合、光散乱性能が向上し、外部への光取出し効率が更に向上する。
【実施例】
【０１３９】
本発明の有機ＥＬ素子について、具体的な実施例及び比較例を挙げて説明する。なお、以下の実施例及び比較例は例示であり、本発明を制限するものではない。
【０１４０】
＜実施例１＞
透明基板として厚さ０．７ｍｍのガラス板を用いた。この基板の、一方の面に酸化チタン（ＴｉＯ2）粒子を含有するアクリル系紫外線硬化型樹脂（東京応化工業（株）社製、ＨＡＬ−Ｎ４１８０  Ｔ−４）をスピンコートした。この樹脂表面に１つの変曲点を持ち、傾斜角度θが２０°であり、高さが８０ｎｍである、格子構造を有する型（１５ｍｍ四方サイズ）を押し付け、紫外線を照射することで樹脂を硬化させて、透光性凹凸層を有する透明基板を得た。透光性凹凸層を有する透明基板の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）の測定結果と、電解放出形走査電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）の観察結果を図９に示した。図９（ａ）は、透光性凹凸層の格子構造のＡＦＭ画像（斜視画像）であり、図９（ｂ）は、透光性凹凸層の格子構造のＡＦＭ画像（上面画像）であり、図９（ｃ）は、図９（ｂ）の画像をＸｃ−Ｘｃ切断線で切断した場合のＡＦＭ画像（断面画像）である。また、図９（ｄ）は、透光性凹凸層の格子構造のＦＥ−ＳＥＭ画像（上面画像、１５ｋ倍）であり、図９（ｅ）は、図９（ｄ）の拡大画像（５０ｋ倍）である。これらの観察結果から、本発明の透光性凹凸層が得られていることが確認できた。
【０１４１】
この透光性凹凸層のガラス基板と反対の表面に、ＩＴＯをターゲットとした反応性スパッタリング法により、ＩＴＯを堆積させ、ＩＴＯ膜である陽極を形成した。
【０１４２】
次いで、陽極の表面に、正孔輸送層、白色発光層及び電子輸送層をこの順に積層して白色発光層を形成した。なお、陽極と白色発光層との間、及び陰極と白色発光層との間には、それぞれバッファー層を設けた。即ち、陽極であるＩＴＯ膜上に、バッファー層／正孔輸送層／白色発光層／電子輸送層／バッファー層を順に積層した。陽極と正孔輸送層間に設けられるバッファー層は、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）を用いて形成した。正孔輸送層は、ジフェニルナフチルジアミン（α−ＮＰＤ）にルブレンを１％ドープした材料により形成した。白色発光層は、ジナフチルアントラセンにペリレンを１％ドープした材料により形成した。電子輸送層は、キノリノールアルミ錯体（Ａｌｑ３）を用いて形成した。電子輸送層上に設けられるバッファー層は、フッ化リチウム（ＬｉＦ）を用いて形成した。これにより、白色発光層を含む有機ＥＬ層を形成した。
【０１４３】
最後に、有機ＥＬ層上に、アルミニウム（Ａｌ）をターゲットとした反応性スパッタリング法によりＡｌを堆積させ、Ａｌ膜である陰極を形成した。上記手順により、実施例１の有機ＥＬ素子を作製した。
【０１４４】
＜実施例２＞
実施例１で用いた透光性凹凸層の紫外線硬化型樹脂にＴｉＯ2粒子を含有させないこと以外、実施例１と同様にして、実施例２の有機ＥＬ素子を作製した。
【０１４５】
＜実施例３＞
実施例１の透光性凹凸層の凹凸形状のパターンを、規則的な格子構造から、不規則な配置のランダムな配列に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例３の有機ＥＬ素子を作製した。
【０１４６】
＜実施例４＞
有機ＥＬ素子の透光性凹凸層を形成する際の型の形状を、２つの変曲点を持ち、傾斜角度θが２４°であり、高さが１００ｎｍである格子構造に変更した以外、実施例１と同様にして、実施例４の有機ＥＬ素子を作製した。
【０１４７】
＜実施例５＞
有機ＥＬ素子の透光性凹凸層を形成する際の型の形状を、２つの変曲点を持ち、傾斜角度θが２４°であり、高さ１００ｎｍであるランダムな配列に変更した以外、実施例３と同様にして、実施例５の有機ＥＬ素子を作製した。
【０１４８】
＜実施例６＞
有機ＥＬ素子の透光性凹凸層を形成する際の型の形状を、１つの変曲点を持ち、傾斜角度θが５°であり、高さが６０ｎｍである格子構造に変更した以外、実施例１と同様にして、実施例６の有機ＥＬ素子を作製した。
【０１４９】
＜比較例１＞
有機ＥＬ素子の透光性凹凸層を形成する際の型の形状を、変曲点が存在しない形状に変更した以外、実施例１と同様にして、比較例１の有機ＥＬ素子を作製した。
【０１５０】
＜比較例２＞
有機ＥＬ素子の透光性凹凸層を形成する際の型の形状を、１つの変曲点を持ち、傾斜角度θを３０°に変更した以外、実施例１と同様にして比較例２の有機ＥＬ素子を作製した。
【０１５１】
＜比較例３＞
有機ＥＬ素子の透光性凹凸層を形成する際の型の形状を、１つの変曲点を持ち、傾斜角度θを３０°に変更した以外、実施例３と同様にして、比較例３の有機ＥＬ素子を作製した。
【０１５２】
＜比較例４＞
有機ＥＬ素子の透光性凹凸層を形成する際の型の形状を、２つの変曲点を持ち、傾斜角度θを４０°に変更した以外、実施例４と同様にして、比較例４の有機ＥＬ素子を作製した。
【０１５３】
＜比較例５＞
有機ＥＬ素子の透光性凹凸層と陽極の間に、アクリル系紫外線硬化型樹脂（東京応化工業（株）社製、ＨＡＬ−Ｎ４０７６  ５．８ＣＰ）からなる透光性バッファー層を形成した以外、比較例４と同様にして、比較例５の有機ＥＬ素子を作製した。透光性バッファー層は、透光性凹凸層を形成した後、その上にスピンコート法により紫外線硬化型樹脂を塗布し、光硬化することにより形成した。
【０１５４】
＜比較例６＞
有機ＥＬ素子の透光性凹凸層を形成する際の型の形状を、１つの変曲点を持ち、傾斜角度θを４°に変更した以外、実施例６と同様にして、比較例６の有機ＥＬ素子を作製した。
【０１５５】
＜参考例＞
上記実施例及び比較例の有機ＥＬ素子の光特性を評価するための基準となる有機ＥＬ素子（参考例）を作製した。
【０１５６】
上記実施例１において、厚さ０．７ｍｍのガラス基板上の一方の面にＴｉＯ2粒子を含有するアクリル系紫外線硬化型樹脂をスピンコートした後、凹凸形状を付与することなく紫外線硬化型樹脂を硬化させて、膜厚１μｍの透光性層を形成した。次いで、この透光性層上にＩＴＯ成膜した。その後、実施例１と同様にして参考例の有機ＥＬ素子を作製した。
【０１５７】
上記実施例、比較例及び参考例の透光性層の条件を表１にまとめた。
【０１５８】
【表１】
2019102299.tif 000003
【０１５９】
＜有機ＥＬ素子の性能評価＞
各実施例、比較例の有機ＥＬ素子に対して光取出し効率及び寿命を評価した。評価基準は、以下のとおりである。
（ｉ）  膜厚均一性
断面ＳＥＭ観察により、断面の幅方向の決められた１０点で有機ＥＬ素子の各層の膜厚測定を行った。有機層の膜厚の標準偏差が、参考例の有機層の膜厚の標準偏差以下であれば「○」、参考例の有機層の膜厚の標準偏差を上回っていれば「×」とした。なお、実施例、比較例及び参考例の膜厚及び標準偏差を表２に示した。
【０１６０】
（ｉｉ）  光取出し効率
積分球を用いて測定した全光束量から、電力効率［ｌｍ／Ｗ］を算出した。電力効率が参考例の有機ＥＬ素子の電力効率の１．５倍以上であれば「◎」、電力効率が参考例の有機ＥＬ素子の電力効率の１．１倍以上であれば「○」、参考例の有機ＥＬ素子の電力効率以下であれば「×」とした。なお、実施例、比較例及び参考例の電力効率を表２に示した。
【０１６１】
（ｉｉｉ）  色ずれ
有機ＥＬ素子に対して角度測定を行った。角度変化に伴う色味の変化が参考例の有機ＥＬ素子以下であれば「○」、参考例の有機ＥＬ素子よりも大きければ「×」とした。色味の変化（色ずれ）は、点灯させたパネルを回転治具に取り付け、±８０°の範囲で回転させながら、（株）トプコンテクノハウス社製の輝度計ＳＲ−３により測定することで決定した。実施例、比較例及び参考例の色味の変化（ΔＥｕ’ｖ’）を表２に示した。
【０１６２】
（ｉｖ）  寿命
有機ＥＬ素子の輝度が半減するまでの期間を測定した。輝度の半減期間が参考例の有機ＥＬ素子の輝度半減期間よりも長ければ「○」、同等以下であれば「×」とした。なお、実施例、比較例及び参考例の輝度の半減期間を表２に示した。
【０１６３】
【表２】
2019102299.tif 000004
【０１６４】
表２に示すように、透明基板と陽極の間に透光性凹凸層を設け、且つ、該凹凸層の凹凸形状において、変曲点が少なくとも１つ存在し、この変曲点と透明基板の表面との角度が、何れも２５°未満であり、該凹凸形状が陽極、有機ＥＬ層及び陰極の各表面に転写されている有機ＥＬ素子では、光取出し効率、色ずれ及び寿命が、参考例のこれらの値以上の値を示すことが確認された。
【０１６５】
図１０に、上記実施例１、比較例１及び参考例の発光エリア中央の陰極表面の反射率を測定した結果を示した。実施例１は、測定した全波長領域において、ほぼ同じ反射率を示した。また、実施例１は、参考例の反射率を超える優れた反射率を示した。一方、比較例１は、波長による反射率の依存性が高く、参考例よりも反射率が劣る結果を示した。
【０１６６】
なお、図１０に示す、波長の変化に伴う反射率の測定は、以下のとおりに測定した。
（株）島津製作所製の分光光度計ＵＶ−２２００を用いて、発光エリアの中央に入射光が当たるようにサンプルを設置し、３５０〜８００ｎｍの範囲で分光反射率を測定した。
【０１６７】
以上、各実施形態により本発明を説明したが、本発明の範囲は、図示され記載された例示的な実施形態に限定されるものではなく、本発明が目的とするものと均等な効果をもたらす全ての実施形態をも含む。さらに、本発明の範囲は、添付の特許請求の範囲により規定される発明の特徴の組み合わせに限定されるものではなく、全ての開示されたそれぞれの特徴のうち特定の特徴のあらゆる所望の組み合わせを包含する。
【符号の説明】
【０１６８】
１０    有機ＥＬ素子
１１    透明基板
１２    透光性凹凸層
１２ａ    凹凸
１３    陽極
１４    有機ＥＬ層
１５    陰極
１６    無機フィラー
１７    光取出しレンズ
１７ａ    凹凸
２０    接着層
２１    乾燥剤
２２    封止部材
２３    隔壁
２５    ＴＦＴ
２６    ガラス基板
２７    偏光板基板
５０    凹凸の曲線
５１、５１’、５１”    変曲点
５２、５２’    傾斜角度
５３、５３’    変曲点の接線
５４    透明基板の平面
６０    有機ＥＬ照明装置
７０    有機ＥＬ表示装置
【図１】
2019102299.tif 000005
【図２】
2019102299.tif 000006
【図３】
2019102299.tif 000007
【図４】
2019102299.tif 000008
【図５】
2019102299.tif 000009
【図６】
2019102299.tif 000010
【図７】
2019102299.tif 000011
【図８】
2019102299.tif 000012
【図９】
2019102299.tif 000013
【図１０】
2019102299.tif 000014