(57)【要約】【課題】カルシウムイオン、リン酸イオンおよび硫酸イオンを高濃度で含む被処理水を連続的に逆浸透膜に透過させる場合に透過水量の低下を抑制できる水処理装置の提供。【解決手段】カルシウムイオンを１００〜１０００ｍｇ／Ｌ、リン酸イオンを５〜１００ｍｇ／Ｌ、硫酸イオンを１００〜１５００ｍｇ／Ｌ含む被処理水を逆浸透膜処理できる水処理装置であって、被処理水中にスケール防止剤を添加できるスケール防止剤添加手段と、スケール防止剤が添加された被処理水を透過できる逆浸透膜と、を備え、被処理水のｐＨが６．０〜８．０であり、スケール防止剤がホスホン酸系化合物を含む、水処理装置。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
カルシウムイオンを１００〜１０００ｍｇ／Ｌ、リン酸イオンを５〜１００ｍｇ／Ｌ、硫酸イオンを１００〜１５００ｍｇ／Ｌ含む被処理水を逆浸透膜処理できる水処理装置であって、
前記被処理水中にスケール防止剤を添加できるスケール防止剤添加手段と、
前記スケール防止剤が添加された前記被処理水を透過できる逆浸透膜と、
を備え、
前記被処理水のｐＨが６．０〜８．０であり、
前記スケール防止剤がホスホン酸系化合物を含む、水処理装置。
【請求項２】
前記被処理水が前記ホスホン酸系化合物を０．５〜５ｍｇ／Ｌ含むように、前記スケール防止剤添加手段が前記スケール防止剤を添加する、請求項１に記載の水処理装置。
【請求項３】
前記被処理水のｐＨを６．０〜８．０に調整するｐＨ調整手段を備える、請求項１または２に記載の水処理装置。
【請求項４】
前記ｐＨ調整手段が酸の添加手段である、請求項３に記載の水処理装置。
【請求項５】
前記スケール防止剤添加手段を備える反応槽を備える、請求項１〜４のいずれか一項に記載の水処理装置。
【請求項６】
前記スケール防止剤添加手段よりも上流に限外ろ過膜を備える、請求項１〜５のいずれか一項に記載の水処理装置。
【請求項７】
カルシウムイオンを１００〜１０００ｍｇ／Ｌ、リン酸イオンを５〜１００ｍｇ／Ｌ、硫酸イオンを１００〜１５００ｍｇ／Ｌ含む被処理水を逆浸透膜処理する水処理方法であって、
前記被処理水中にスケール防止剤を添加する工程と、
前記スケール防止剤が添加された前記被処理水を逆浸透膜に透過させる工程と、
を備え、
前記被処理水のｐＨが６．０〜８．０であり、
前記スケール防止剤がホスホン酸系化合物を含む、水処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、水処理装置および水処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
逆浸透膜（Ｒｅｖｅｒｓｅ  Ｏｓｍｏｓｉｓ  Ｍｅｍｂｒａｎｅ：ＲＯ膜）を用いて水の精製をする水処理は一般的に増加している。具体的には、海水の脱塩、飲料水の製造、冷却塔の補給水、プロセス水の製造、ボイラー給水の前処理等のために使用されている。被処理水を連続的に逆浸透膜に透過させる水処理装置では、逆浸透膜の膜面にスケール障害が発生しやすい。特に水の回収率を高くしようとする場合などに、被処理水に溶解している塩類が濃縮されて、難溶性の塩となってスケール化する。逆浸透膜処理において生成するスケールの種類としては、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、硫酸ストロンチウム、フッ化カルシウム、水酸化マグネシウム等がある。逆浸透膜の膜面におけるスケール障害に対し、スケールの生成を抑制する方法が知られている（特許文献１〜２参照）。
【０００３】
特許文献１には、下記の工程（ａ）〜（ｃ）を含む、逆浸透装置を通過する供給原料流から硫酸カルシウムスケールが生成して析出するのを防止するための方法が記載されている。
（ａ）供給原料流のｐＨを約６．０から約７．０までの範囲内に制御する工程
（ｂ）供給原料流の温度を約５０°Ｆ（１０℃）から約８０°Ｆ（２７℃）の範囲内に制御する工程
（ｃ）この供給原料流に、供給原料流のｐｐｍ硬度（ＣａＣＯ３として）当たり約０．００２ｐｐｍから約０．００５ｐｐｍまでの量のスケール防止剤であって、水溶性有機ホスホネートと、特定のアミド構造を有するＮ−置換アクリルアミドポリマー、とを、約０．２：１から約６：１までの範囲内のポリマー対ホスホネート重量比で含むスケール防止剤を加える工程。
【０００４】
特許文献２には、フッ素、カルシウム、及び１０００ｍｇ／Ｌ以上の硫酸イオンを含む被処理水をｐＨ９．８以下に調整する工程と、被処理水中にホスホン酸及び／又はホスホン酸塩を添加する工程と、を備え、スケールの生成を抑制する、スケール防止方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平７−１５５５５８号公報
【特許文献２】特開２０１５−１７４０１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１の硫酸カルシウムスケールを抑制する方法を検討したところ、逆浸透膜の膜面を閉塞させるスケールは複数種が同時に生成するため、経過時間に応じて透過水量がかなり低下してしまい、一種類のスケールのみに対してではなく種々のスケール生成を同時に抑制する必要があることがわかった。
【０００７】
特許文献２のｐＨ７．１〜９．８の範囲で制御する方法を検討したところ、硫酸イオン、リン酸イオンおよびカルシウムイオンを高濃度で含む被処理水を用いる場合は、炭酸カルシウム、リン酸カルシウムおよび硫酸カルシウムスケールが生成するため、経過時間に応じて透過水量がかなり低下してしまい、連続運転することは不可能であることがわかった。
【０００８】
本発明が解決しようとする課題は、カルシウムイオン、リン酸イオンおよび硫酸イオンを高濃度で含む被処理水を連続的に逆浸透膜に透過させる場合に透過水量の低下を抑制できる水処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明では、炭酸カルシウム、リン酸カルシウムおよび硫酸カルシウムが同時に生成しやすい被処理水に対して、その被処理水をｐＨ６．０〜８．０に調整する手段と、その被処理水にホスホン酸系化合物を添加する手段を備える水処理装置によって、カルシウムイオン、リン酸イオンおよび硫酸イオンをある程度の高濃度で含む被処理水を連続的に逆浸透膜に透過させる場合に透過水量の低下を抑制できることを見出し、上記課題を解決した。
【００１０】
上記課題を解決するための具体的な手段である本発明の構成と、本発明の好ましい構成を以下に記載する。
［１］  カルシウムイオンを１００〜１０００ｍｇ／Ｌ、リン酸イオンを５〜１００ｍｇ／Ｌ、硫酸イオンを１００〜１５００ｍｇ／Ｌ含む被処理水を逆浸透膜処理できる水処理装置であって、
被処理水中にスケール防止剤を添加できるスケール防止剤添加手段と、
スケール防止剤が添加された被処理水を透過できる逆浸透膜と、
を備え、
被処理水のｐＨが６．０〜８．０であり、
スケール防止剤がホスホン酸系化合物を含む、水処理装置。
［２］  被処理水がホスホン酸系化合物を０．５〜５ｍｇ／Ｌ含むように、スケール防止剤添加手段がスケール防止剤を添加する［１］に記載の水処理装置。
［３］  被処理水のｐＨを６．０〜８．０に調整するｐＨ調整手段を備える［１］または［２］のいずれか一つに記載の水処理装置。
［４］  ｐＨ調整手段が酸の添加手段である［３］に記載の水処理装置。
［５］  スケール防止剤添加手段を備える反応槽とを備える［１］〜［４］のいずれか一つに記載の水処理装置。
［６］  スケール防止剤添加手段よりも上流に限外ろ過膜を備える［１］〜［５］のいずれか一つに記載の水処理装置。
［７］  カルシウムイオンを１００〜１０００ｍｇ／Ｌ、リン酸イオンを５〜１００ｍｇ／Ｌ、硫酸イオンを１００〜１５００ｍｇ／Ｌ含む被処理水を逆浸透膜処理する水処理方法であって、
被処理水中にスケール防止剤を添加する工程と、
スケール防止剤が添加された被処理水を逆浸透膜に透過させる工程と、
を備え、
被処理水のｐＨが６．０〜８．０であり、
スケール防止剤がホスホン酸系化合物を含む、水処理方法。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、カルシウムイオン、リン酸イオンおよび硫酸イオンを高濃度で含む被処理水を連続的に逆浸透膜に透過させる場合に透過水量の低下を抑制できる水処理装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、本発明の水処理装置の一例の概略図である。
【図２】図２は、本発明の水処理装置の他の一例の概略図である。
【図３】図３は、試験例１〜３における経過時間に対する透過水量比の関係を示したグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下において、本発明について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、代表的な実施形態や具体例に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は「〜」前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００１４】
［水処理装置］
本発明の水処理装置は、カルシウムイオンを１００〜１０００ｍｇ／Ｌ、リン酸イオンを５〜１００ｍｇ／Ｌ、硫酸イオンを１００〜１５００ｍｇ／Ｌ含む被処理水を逆浸透膜処理できる水処理装置であって、
被処理水中にスケール防止剤を添加できるスケール防止剤添加手段と、
スケール防止剤が添加された被処理水を透過できる逆浸透膜と、
を備え、
被処理水のｐＨが６．０〜８．０であり、
スケール防止剤がホスホン酸系化合物を含む。
【００１５】
従来のスケール防止方法では、生成するスケールの種類に応じて、適当な種類のスケール防止剤を選択するのが一般的であった。また、生成するスケールの種類が複数である場合、各スケールに応じて適当なスケール防止剤を複数選択し、複数のスケール防止剤を添加するというのが一般的な考え方であった。
【００１６】
これに対して、本発明によれば、カルシウムイオン（Ｃａ２＋）、リン酸イオン（ＰＯ４３−）および硫酸イオン（ＳＯ４２−）を高濃度で含む被処理水を連続的に逆浸透膜に透過させる場合に透過水量の低下を抑制できる水処理装置を提供できる。透過水量の低下を抑制することにより、水処理装置を安定運転可能となる。いかなる理論に拘泥するものでもないが、ホスホン酸系化合物を用い、かつ、被処理水のｐＨを６．０〜８．０とすることで、カルシウムイオン、リン酸イオンおよび硫酸イオンのスケールが同時に生成する場合に、これらのスケールの生成を同時に抑制でき、かつ、カルシウムイオンを十分に溶解できる。詳細な機構は明らかでないが、ホスホン酸が炭酸カルシウム（ＣａＣＯ３）、硫酸カルシウム（ＣａＳＯ４）およびリン酸カルシウム（Ｃａ３（ＰＯ４）２）に作用し、これらのスケールの生成を効果的に抑制していると推測される。また、被処理水のｐＨを８．０以下、好ましくは７．０以下とすることで、炭酸カルシウムのスケール生成を抑制しやすくしていると推測される。
以下、本発明の水処理装置の好ましい態様について説明する。
【００１７】
＜水処理装置の全体的な構成＞
本発明の水処理装置の全体的な構成の好ましい態様を、図面を用いて説明する。図１は、本発明の水処理装置の一例を示した概略図である。
図１に示した水処理装置は、被処理水１を逆浸透膜処理できる水処理装置であり、被処理水１中にスケール防止剤を添加できるスケール防止剤添加手段１１と、スケール防止剤が添加された被処理水を透過できる逆浸透膜２１と、を備える。
水処理装置は、図１に示すようにスケール防止剤添加手段１１を備える反応槽３１を備えることが好ましい。さらに水処理装置は、反応槽３１から逆浸透膜２１に被処理水を供給させるためのポンプ４１を備えることが好ましい。
図１に示した水処理装置を用いて水処理を行う場合、ｐＨが６．０〜８．０にあらかじめ制御された被処理水１は、反応槽３１でスケール防止剤を添加され、その後、逆浸透膜２１に供給される。逆浸透膜２１を含む逆浸透ユニット（不図示）からは、逆浸透膜２１を透過した透過水２が得られ、一方で逆浸透膜２１を透過しなかった被処理水１は、回収率に応じて任意に開度や流路を制御できるバルブ４３を介して濃縮水３および返送水４に分離される。返送水４は再度、反応槽３１に返送され、被処理水１として用いられる。濃縮水３は高濃度の塩分を含むため、下水などに放流される。
【００１８】
図２は、本発明の水処理装置の他の一例として、より好ましい態様の一例を示した概略図である。水処理装置は、図２に示すように限外ろ過膜２３と、限外ろ過膜処理水５を貯留できる貯留槽３２と、貯留槽３２から反応槽３１へ被処理水を供給できるポンプ４２と、反応槽３１の下流に位置するストレーナ２２を備えることが好ましい。水処理装置は、限外ろ過膜処理水５のｐＨを６．０〜８．０に調整して被処理水１とするためのｐＨ調整手段１２を備えることが好ましい。
以下、本発明の水処理装置を構成する各部分の好ましい態様を説明する。
【００１９】
＜限外ろ過膜＞
本発明の水処理装置は、限外ろ過膜（ＵＦ膜）を備えることが、排水に前処理をして、逆浸透膜処理に適する被処理水を調製しやすい観点から好ましい。
限外ろ過膜を用いる膜処理は特に制限はない。例えば、温度３０℃程度の排水に対して、ポリ塩化アルミニウム（ＰＡＣ）や鉄等の無機凝集剤を添加し、調製された排水を限外ろ過膜に透過させる方法を挙げられる。
限外ろ過膜の開口径は特に制限はなく、０．０１〜０．０５μｍであることが好ましく、０．０１〜０．０２μｍであることがより好ましい。
【００２０】
＜ｐＨ制御手段＞
本発明の水処理装置は、被処理水のｐＨを６．０〜８．０に調整するｐＨ制御手段を備えることが、排水に前処理をして、本発明に適する被処理水を調製しやすい観点から好ましい。ただし、ｐＨ制御手段とスケール防止剤添加手段の設置順序は特に限定されず、いずれが先であってもよく、実質的に同時にｐＨ制御とスケール防止剤添加をしてもよい。本発明の水処理装置では、スケール防止剤添加手段よりも上流にｐＨ制御手段を備えることがより好ましい。
ｐＨ調整手段が酸またはアルカリの添加手段であることが好ましく、酸の添加手段であることがより好ましい。酸としては、硫酸、塩酸、及びクエン酸等を挙げることができ、塩酸が好ましい。
ｐＨ調整手段は、被処理水のｐＨ測定手段と、ｐＨ測定手段から得られた値に応じて酸の添加量を制御する手段を備えることが好ましい。
ｐＨは、ＪＩＳ  Ｚ８８０２によるガラス電極法に準拠して測定することができる。
【００２１】
＜貯留槽＞
本発明の水処理装置は、貯留槽を備えることが好ましい。貯留槽は、被処理水を貯留することが好ましく、限外ろ過膜処理水を被処理水として貯留することがより好ましい。
水処理装置は、被処理水を貯留槽から処理槽に流入させるためのポンプを備えることが好ましく、貯留槽はポンプを備える配管に連結されることが好ましい。
【００２２】
＜被処理水＞
水処理装置に用いられる被処理水は、カルシウムイオンを１００〜１０００ｍｇ／Ｌ、リン酸イオンを５〜１００ｍｇ／Ｌ、硫酸イオンを１００〜１５００ｍｇ／Ｌ含む。
その他は特に制限はなく、例えば下水や工業排水等の様々な種類の排水を、被処理水として用いることができる。特にカルシウムイオン、リン酸イオンおよび硫酸イオンを高濃度で含む製紙工場からの抄紙系排水を、被処理水として用いることができる。カルシウムイオン、リン酸イオンおよび硫酸イオンの濃度が高い排水を再利用するために逆浸透膜を用いて回収する場合、炭酸カルシウム、硫酸カルシウムおよびリン酸カルシウムが同時に生成しやすい。
排水に対して、必要に応じて適当な前処理をした水を被処理水として用いることが好ましい。前処理としては、限外ろ過膜処理、ｐＨ調整処理を挙げることができる。
【００２３】
被処理水は、カルシウムイオンを１００〜１０００ｍｇ／Ｌ含み、７５０ｍｇ／Ｌ未満であることが好ましく、５００ｍｇ／Ｌ未満であることがより好ましい。
被処理水は、リン酸イオンを５〜１００ｍｇ／Ｌ含み、５０ｍｇ／Ｌ未満であることが好ましく、３０ｍｇ／Ｌ未満であることがより好ましい。排水に含まれるリン酸イオンは一般的に生物由来であるため、有機排水の水処理に本発明は好適である。被処理水のリン酸イオン濃度が高く、リン酸カルシウムのスケールが多量に発生することは稀であり、適切なスケール防止方法は知られていなかった。本発明の水処理装置は、このようなリン酸イオン濃度が高い被処理水に好適に用いられる。
被処理水は硫酸イオンを１００〜１５００ｍｇ／Ｌ含み、１０００ｍｇ／Ｌ以下であることが好ましく、７５０ｍｇ／Ｌ未満であることがより好ましく、５００ｍｇ／Ｌ未満であることが特に好ましい。
被処理水のＭアルカリ度（酸消費量（ｐＨ４．８））は、ＣａＣＯ３として、１０〜１０００ｍｇ−ＣａＣＯ３／Ｌが好ましく、１００〜５００ｍｇ−ＣａＣＯ３／Ｌがより好ましく、２００〜３００ｍｇ−ＣａＣＯ３／Ｌがさらに好ましい。
なお、被処理水のカルシウムイオン、リン酸イオン、硫酸イオン、およびＭアルカリ度（酸消費量（ｐＨ４．８））は、ＪＩＳ  Ｋ０１０１の規定に準拠して測定することができる。
【００２４】
＜処理槽＞
本発明の水処理装置は、処理槽を備えることが、スケール防止剤を被処理水に混合しやすくなる観点から好ましい。
【００２５】
＜スケール防止剤添加手段＞
本発明の水処理装置は、被処理水中にスケール防止剤を添加できるスケール防止剤添加手段を備える。
被処理水がホスホン酸系化合物を０．１〜１０ｍｇ／Ｌ（より好ましくは０．５〜５ｍｇ／Ｌ、特に好ましくは２〜５ｍｇ／Ｌ）含むように、スケール防止剤添加手段がスケール防止剤を添加することが好ましい。
【００２６】
本発明では、スケール防止剤がホスホン酸系化合物を含む。ホスホン酸系化合物は、カルシウムイオンのスケール防止剤として好ましい。ホスホン酸は、リン酸基（−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）２）を有する化合物であれば特に限定されない。ホスホン酸系化合物としては、アミノメチルホスホン酸、ヒドロキシエチリデンジホスホン酸およびホスホノブタントリカルボン酸およびこれらの塩や誘導体等を挙げることができる。ホスホン酸の塩としては、ナトリウム塩およびカリウム塩等のアルカリ金属塩、ならびにアンモニウム塩等が好ましい。
本発明では、ホスホン酸系化合物以外の公知の逆浸透膜処理に用いられるスケール防止剤を併用してもよい。逆浸透膜処理に用いられるスケール防止剤としては、ヘキサメタリン酸ナトリウムおよびトリポリリン酸ナトリウム等の無機ポリリン酸系化合物などのリンを含むスケール防止剤を挙げられる。
また、特開２０１５−１７４０１８号公報の［００３０］〜［００３５］および特開平７−１５５５５８号公報の［０００９］〜［００２１］、［００２６］〜［００３１］に記載のスケール防止剤を用いてもよい。
【００２７】
＜ストレーナ＞
本発明の水処理装置は、ストレーナを備えることが好ましい。ストレーナの配置位置は特に制限はないが、スケール防止剤添加手段と逆浸透膜との間にストレーナを備えることが、ポンプ保護の観点から好ましい。反応槽と逆浸透膜の間にストレーナを備えることがより好ましい。
ストレーナとしては特に制限はなく、公知のＹ型ストレーナなどを用いることができる。
【００２８】
＜逆浸透膜＞
本発明の水処理装置は、スケール防止剤が添加された被処理水を透過できる逆浸透膜を備える。
逆浸透膜の開口径は特に制限はなく、０．００１〜０．００５μｍであることが好ましく、０．００１〜０．００２μｍであることがより好ましい。
操作圧は０．１〜２．０ＭＰａであることが好ましく、０．３〜１．５ＭＰａであることがより好ましく、０．５〜１．０ＭＰａであることが特に好ましい。
逆浸透膜の材料としては特に制限はなく、例えばポリアミド膜などを用いることができる。
【００２９】
＜透過水＞
本発明の水処理装置によって、被処理水を逆浸透膜処理し、透過水（回収水とも言われる）として回収して、再利用することができる。例えば、製紙工場からの抄紙系排水を工業用水並みの水質の透過水として回収し、用水（工業用水）として再利用することができる。また、透過水は、無菌水として再利用することができる。
回収率は６０％以上であることが好ましく、６０〜９０％であることがより好ましく、６０〜８０％であることが特に好ましい。
【００３０】
＜その他の装置＞
水処理装置は、その他の機能を有する部分を備えていてもよい。
水処理装置には、限外ろ過膜の上流に凝集沈殿槽を設けてもよい。ただし、本発明の水処理装置は凝集沈殿槽がなくても連続稼働できるため、凝集沈殿槽を設けないことがコストを低減する観点から好ましい。
【００３１】
［水処理方法］
本発明の水処理方法は、カルシウムイオンを１００〜１０００ｍｇ／Ｌ、リン酸イオンを５〜１００ｍｇ／Ｌ、硫酸イオンを１００〜１５００ｍｇ／Ｌ含む被処理水を逆浸透膜処理する水処理方法であって、
被処理水中にスケール防止剤を添加する工程と、
スケール防止剤が添加された被処理水を逆浸透膜に透過させる工程と、
を備え、
被処理水のｐＨが６．０〜８．０であり、
スケール防止剤がホスホン酸系化合物を含む。
本発明の水処理方法の好ましい態様は、本発明の水処理装置の好ましい態様と同様である。
さらに、本発明の水処理方法は、スケール抑制方法または無菌水の製造方法として用いることができる。
【実施例】
【００３２】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【００３３】
図２に記載の水処理装置を準備し、各実施例および比較例で用いた。各実施例および比較例で用いた被処理水の水質条件を下記表１に示す。
【００３４】
［実施例１、比較例１および２（試験例１〜３）］
限外ろ過膜（開口径０．０２μｍ）を通過したＵＦ処理水に対して、配管に設けたｐＨ調整手段から酸（塩酸）を添加して被処理水を調整し、得られた被処理水を貯留槽に貯留した。
試験例１（比較例１）ではブランクとして、被処理水にスケール防止剤を添加せず、４ｉｎｃｈポリアミド逆浸透膜（ダウ・ケミカル製  ＢＷ３０ＸＦＲ−４０４０）に、操作圧を０．８ＭＰａ、回収率を６０％として通水し、透過水量を所定時間測定した。
【００３５】
試験例２（実施例１）では、被処理水に対して、反応槽に設けたスケール防止剤添加手段からホスホン酸塩であるスケール防止剤５ｍｇ／Ｌを添加した以外は試験例１と同様にして、透過水量を所定時間測定した。
【００３６】
試験例３（比較例２）では、ＵＦ処理水に対して酸を添加せずに被処理水のｐＨを９に調整した以外は試験例２と同様にして、透過水量を所定時間測定した。
【００３７】
【表１】
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【００３８】
［評価］
試験例１〜３における経過時間に対する透過水量比の関係を図３に示した。なお、図３における縦軸の透過水量比とは、各試験例における経過時間０時間における透過水量を１．０とした場合の相対値である。
【００３９】
上記表１および図３より、本発明によれば、カルシウムイオン、リン酸イオンおよび硫酸イオンを高濃度で含む被処理水を連続的に逆浸透膜に透過させる場合に透過水量の低下を抑制できることが分かった。
ホスホン酸系化合物を添加しなかった比較例１（試験例１）では、実施例１（試験例２）よりも透過水量が低下した。
被処理水のｐＨが８．０を超える比較例２（試験例３）では、実施例１（試験例２）よりも透過水量が低下した。本発明で規定する数値範囲よりもｐＨが高いと、カルシウムスケールが生じ易くなり、スケール防止剤が不足するためと考えられる。
【符号の説明】
【００４０】
１      被処理水
２      透過水
３      濃縮水
４      返送水
５      限外ろ過膜処理水
１１    スケール防止剤添加手段
１２    ｐＨ調整手段
２１    逆浸透膜
２２    ストレーナ
２３    限外ろ過膜
３１    反応槽
３２    貯留槽
４１    ポンプ
４２    ポンプ
４３    バルブ
【図１】
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【図２】
2019202246.tif 000005
【図３】
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