(57)【要約】【課題】送り機構部としては精密かつ微細な動きに適合したものとし、その上でワーク加工時には大きな加圧力を許容可能とするアライメントステージを提供する。【解決手段】アライメントステージ１Ａは、ベース１１と、ベース１１の上方に配置されるテーブル１２と、テーブル１２に支持され、ワークＷが載置されるワークプレート１３と、ベース１１とテーブル１２との間に設けられ、ベース１１に対してテーブル１２をＸ軸方向、Ｙ軸方向、θ回転方向の３自由度で移動可能に支持する送り機構部３とを備えている。このアライメントステージ１Ａでは、テーブル１２には、中央にワークプレート１３を臨む開口部１２１が設けられ、ワークプレート１３とベース１１との間には、テーブル１２の開口部１２１に挿通させてワークプレート１３の下方移動を制限する移動規制体２Ａが配設されている。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベースと、ベースの上方に配置されるテーブルと、テーブルに支持され、ワークが載置されるワークプレートと、ベースとテーブルとの間に設けられ、ベースに対してテーブルをＸ軸方向、Ｙ軸方向、θ回転方向の３自由度で移動可能に支持する送り機構部とを備え、
テーブルには、中央にワークプレートを臨む開口部が設けられ、
ワークプレートとベースとの間には、テーブルの開口部に挿通させてワークプレートの下方移動を制限する移動規制体が配設されているアライメントステージ。
【請求項２】
請求項１に記載のアライメントステージにおいて、
移動規制体は、ベース上面からワークプレート下面までの高さ相当の長さを有するブロック部材からなり、
ブロック部材の上面がワークプレート下面に固定され、ブロック部材の下面とベース上面との間には送り機構部によるテーブルの移動が阻害されないように僅かなすき間が設けられているアライメントステージ。
【請求項３】
請求項１に記載のアライメントステージにおいて、
移動規制体は、ベース上面からワークプレート下面までの高さ相当の長さを有するブロック部材からなり、
ブロック部材の下面がベース上面に固定され、ブロック部材の上面とワークプレート下面との間には送り機構部によるテーブルの移動が阻害されないように僅かなすき間が設けられているアライメントステージ。
【請求項４】
ベースと、ベースの上方に配置されるテーブルと、テーブルに支持され、ワークが載置されるワークプレートと、ベースとテーブルとの間に設けられ、ベースに対してテーブルをＸ軸方向、Ｙ軸方向、θ回転方向の３自由度で移動可能に支持する送り機構部とを備えるアライメントユニットと、
ベースの下方に設置する基台と、
ベースと基台との間に設けられ、基台に対してアライメントユニットを搬送させる搬送機構とを備え、
テーブル及びベースには、中央にワークプレートを臨む開口部が設けられ、
ワークプレートと基台との間には、テーブル及びベースの開口部に挿通させてワークプレートの下方移動を制限する移動規制体が配設されているアライメントステージ。
【請求項５】
請求項４に記載のアライメントステージにおいて、
移動規制体は、基台の上面からワークプレート下面までの高さ相当の長さを有するブロック部材からなり、
ブロック部材の上面がワークプレート下面に固定され、ブロック部材の下面と基台上面との間には送り機構部によるテーブルの移動が阻害されないように僅かなすき間が設けられているアライメントステージ。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載のアライメントステージにおいて、
移動規制体には、球面軸受が設けられているアライメントステージ。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載のアライメントステージにおいて、
ワークプレートは、テーブルにおいて下方移動可能とするガイド機構により支持されているアライメントステージ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワークの位置調整を行うアライメントステージに関する。
【背景技術】
【０００２】
アライメントステージは、例えば、半導体ウエハや液晶パネル等のワークに対してナノインプリント等のような微細加工を行う製造工程において、ワークの位置調整をミクロン以下の精度で行う超精密装置として用いられている。従来、アライメントステージは、ベースと、ワークが配置されるテーブルと、ベースとテーブルとの間に配設され、テーブルをベースに対してＸ軸方向、Ｙ軸方向、θ回転方向の３自由度で移動可能に支持する送り機構部とを備え、例えば、カメラ等によりテーブル上のワーク位置を確認しながら送り機構部によりテーブルを移動させてワークの位置調整が行われる。送り機構部には、転動体が介在されており、テーブルの微細な動きを円滑に行わせるようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１３−１９７５５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、アライメントステージによりワークの位置調整が行われた後、アライメントステージ上のワークに対して加工機により加圧して加工が行われる。このワーク加工時の加圧力は、アライメントステージにも加わる。近年、ワークの大型化や製造工程の統合や更なる加工精度の高精度化等により、ワーク加工時にアライメントステージ上のワークに対して大きな加圧力を作用させる要望が高まってきた。この要望に応えるにはアライメントステージの送り機構部は、大きな加圧力に耐える構造とする必要がある。ところが、アライメントステージにおいてワークの位置調整の際に精密かつ微細な動きを行わせるために送り機構部の転動体等は小さいものが使用されているが、このような送り機構部では、大きな負荷（加圧力）を許容することができず、大きな加圧力が加わると破損や変形等するおそれがある。送り機構部を大きな加圧力に耐える構造とするには転動体等を大きいものとする必要があるが、そうするとワーク位置調整に際して精密かつ微細な動きに適合できないという問題が生じる。
【０００５】
本発明は、以上の事情に鑑みてなされたものであり、送り機構部としては精密かつ微細な動きに適合したものとし、その上でワーク加工時には大きな加圧力を許容可能とするアライメントステージを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明１のアライメントステージは、
ベースと、ベースの上方に配置されるテーブルと、テーブルに支持され、ワークが載置されるワークプレートと、ベースとテーブルとの間に設けられ、ベースに対してテーブルをＸ軸方向、Ｙ軸方向、θ回転方向の３自由度で移動可能に支持する送り機構部とを備え、
テーブルには、中央にワークプレートを臨む開口部が設けられ、
ワークプレートとベースとの間には、テーブルの開口部に挿通させてワークプレートの下方移動を制限する移動規制体が配設されているものである。
【０００７】
この発明１によれば、ワークに対して加工時の加圧力が上から加わった際、ワークを載置するワークプレートは、移動規制体により下方移動が制限される。すなわち、ワークプレートに加わるワーク加工時の加圧力は、移動規制体を通じてベースで受け止められる。従って、ワークプレートを支持するテーブルには、ワーク加工時の加圧力がほとんど作用しない。よって、テーブルとベースとの間に配設されてテーブルを支持する送り機構部にも、ワーク加工時の加圧力はほとんど作用しない。その結果、ワーク加工の際、送り機構部には大きな加圧力が加わることなく、ワークに対して大きな加圧力を加えることができる。
【０００８】
また、送り機構部には、ワーク加工時の加圧力がほとんど加わらないから、送り機構部における転動体等は、負荷の許容が小さい小型のものを使用することができる。従って、送り機構部は、ワーク位置調整を微細かつ精密な動きに適合した構成とすることができる。
【０００９】
本発明２のアライメントステージは、
上記発明１のアライメントステージにおいて、
移動規制体は、ベース上面からワークプレート下面までの高さ相当の長さを有するブロック部材からなり、
ブロック部材の上面がワークプレート下面に固定され、ブロック部材の下面とベース上面との間には送り機構部によるテーブルの移動が阻害されないように僅かなすき間が設けられているものである。
【００１０】
この発明２によれば、ワーク加工時の加圧力が上からワークプレートに加わると、ワークプレートを支持するテーブルの下方移動は、ブロック部材の下面がベース上面に当接するまでの距離、すなわち上記僅かなすき間の範囲に制限される。従って、テーブルを支持する送り機構には、上記僅かなすき間の移動分だけワーク加工時の加圧力が作用するが、それ以上に大きな加圧力が作用することはない。よって、ワーク加工の際、送り機構部には大きな加圧力を作用させずに、ワークに対して大きな加圧力を加えることができる。
【００１１】
本発明３のアライメントステージは、
上記発明１のアライメントステージにおいて、
移動規制体は、ベース上面からワークプレート下面までの高さ相当の長さを有するブロック部材からなり、
ブロック部材の下面がベース上面に固定され、ブロック部材の上面とワークプレート下面との間には送り機構部によるテーブルの移動が阻害されないように僅かなすき間が設けられているものである。
【００１２】
この発明３では、ワーク加工時の加圧力が上からワークプレートに加わると、ワークプレートを支持するテーブルの下方移動は、ワークプレート下面がブロック部材の上面に当接するまでの距離、すなわち上記僅かなすき間の範囲に制限されることとなり、上記発明２と同様の作用効果が発揮される。
【００１３】
また、この発明３では、ブロック部材は、ワークプレートではなくベースに固定されているから、ワークプレートを支持するテーブルにはブロック部材の重量負荷が加わらない。従って、テーブルを支持する送り機構もブロック部材の重量負荷を受けないから、送り機構部は、ワーク位置調整時にテーブルをスムーズに動かすことができる。
【００１４】
本発明４のアライメントステージは、
ベースと、ベースの上方に配置されるテーブルと、テーブルに支持され、ワークが載置されるワークプレートと、ベースとテーブルとの間に設けられ、ベースに対してテーブルをＸ軸方向、Ｙ軸方向、θ回転方向の３自由度で移動可能に支持する送り機構部とを備えるアライメントユニットと、
ベースの下方に設置する基台と、
ベースと基台との間に設けられ、基台に対してアライメントユニットを搬送させる搬送機構とを備え、
テーブル及びベースには、中央にワークプレートを臨む開口部が設けられ、
ワークプレートと基台との間には、テーブル及びベースの開口部に挿通させてワークプレートの下方移動を制限する移動規制体が配設されているものである。
【００１５】
この発明４によれば、ワークに対して加工時の加圧力が上から加わった際、ワークを載置するワークプレートは、移動規制体により下方移動が制限されるから、ワークプレートに加わるワーク加工時の加圧力は、移動規制体を通じて基台で受け止められることとなり、上記発明１と同様の作用効果が発揮される。
【００１６】
本発明５のアライメントステージは、
上記発明４のアライメントステージにおいて、
移動規制体は、基台の上面からワークプレート下面までの高さ相当の長さを有するブロック部材からなり、
ブロック部材の上面がワークプレート下面に固定され、ブロック部材の下面と基台上面との間には送り機構部によるテーブルの移動が阻害されないように僅かなすき間が設けられているものである。
【００１７】
この発明５によれば、ワーク加工時の加圧力が上からワークプレートに加わると、ワークプレートを支持するテーブルの下方移動は、ブロック部材の下面が基台上面に当接するまでの距離、すなわち上記僅かなすき間の範囲に制限されることとなり、上記発明２と同様の作用効果が発揮される。
【００１８】
本発明６のアライメントステージは、
上記発明１〜５のいずれか１つのアライメントステージにおいて、
移動規制体には、球面軸受が設けられているものである。
【００１９】
この発明６によれば、ワーク加工時に、加工機からの加圧によるワークプレートの傾きが上記球面軸受により自動修正される。従って、大面積のワークでもワーク加工時の加圧力を均等に作用させることができる。
【００２０】
本発明７のアライメントステージは、
上記発明１〜６のいずれか１つのアライメントステージにおいて、
ワークプレートは、テーブルにおいて下方移動可能とするガイド機構により支持されているものである。
【００２１】
この発明７によれば、ワークプレートは、テーブルとは独立して下方移動可能となっているので、ワーク加工時にワークプレートに上から加わる加圧力は、テーブルに作用させずに、移動規制体を通じてベース又は基台によって受け止められる。従って、テーブルとベースとの間に配設されてテーブルを支持する送り機構には、より確実に、ワーク加工時の加圧力を作用させないようにすることができる。
【発明の効果】
【００２２】
以上のように、本発明に係るアライメントステージによれば、ワーク加工時に送り機構部には大きな加圧力が加わることなくワークに対して大きな加圧力を加えることができる。
また、送り機構部には、ワーク加工時の加圧力がほとんど加わらないから、送り機構部としては精密かつ微細な動きに適合した構成とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】実施形態１のアライメントステージを示す図であり、同図（ａ）は上面図、同図（ｂ）は一部断面図である。
【図２】実施形態１のアライメントステージにおける送り機構部を示す図であり、同図（ａ）は水平一方向から見た側面図、同図（ｂ）は水平他方向から見た側面図、同図（ｃ）は上面図である。
【図３】実施形態１のアライメントステージにおける搬送機構、及び加工機をＸ軸方向から見た一部断面図である。
【図４】実施形態１のアライメントステージにおけるブロック体の作用を説明するための図であり、同図（ａ）はアライメントユニットがワーク配置場所にあるときの一部断面図、同図（ｂ）はアライメントユニットがワーク加工場所にあるときの一部断面図である。
【図５】実施形態２のアライメントステージにおけるブロック体の作用を説明するための図であり、同図（ａ）はアライメントユニットがワーク配置場所にあるときの一部断面、同図（ｂ）はアライメントユニットがワーク加工場所にあるときの一部断面図である。
【図６】実施形態３のアライメントステージにおけるブロック体の作用を説明するための図であり、同図（ａ）はアライメントユニットがワーク配置場所にあるときの一部断面図、同図（ｂ）はアライメントユニットがワーク加工場所にあるときの一部断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下に、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
本発明に係るアライメントステージは、例えば、半導体ウエハ上にレジストを塗布してガラスマスク等の型により加圧プレスしてナノオーダーの精密パターンを転写するナノインプリントの製造工程において、半導体ウエハ等のワークの加工前にワークの位置調整を行うものであり、このワーク位置調整後にアライメントステージ上のワークに対して加工機により加圧して加工が行われる。なお、本発明は、上記ナノインプリントに限らず、切削加工、プレス加工等のようにワークに加圧力を加える様々な製造工程において使用することができ、また、ワークは、半導体ウエハに限らず、液晶パネル、テープ、フィルム、プリント基板等の様々なワークを対象とすることができる。
【００２５】
（実施形態１）
図１に示すように、実施形態１によるアライメントステージ１Ａは、アライメントユニット１０においてワークプレート１３の下方移動を制限する移動規制体としてのブロック部材２Ａを設けたものである。このブロック部材２Ａについては後述する。
【００２６】
アライメントユニット１０は、ワークＷの位置調整を行う構成部分であり、主な構成として、四角形状のベース１１と、ベース１１の上方に配置される四角形状のテーブル１２と、テーブル１２に支持され、ワークＷが載置される四角形状のワークプレート１３と、ベース１１とテーブル１２との間に設けられ、ベース１１に対してテーブル１２をＸ軸方向、Ｙ軸方向、θ回転方向の３自由度で移動可能に支持する送り機構部３とを有する。ワークプレート１３は、四角形状のテーブル１２の四隅に立設する脚部１４によってテーブル１２上に支持されている。
【００２７】
送り機構部３は、テーブル１２をＸ軸方向とＹ軸方向とに移動可能とするとともにＸＹ平面上にθ回転可能とするガイド部３０と、ガイド部３０を一軸方向へ移動させるボールネジ部４０とを備えている。
【００２８】
図２に示すように、ガイド部３０は、下段ガイドブロック３１、中段ガイドブロック３２、上段ガイドブロック３３及びベアリング３４が組み付けられたものであり、下段ガイドブロック３１がベース１１の上面に取り付けられ、ベアリング３４がテーブル１２の下面に取り付けられている。図２（ａ）を参照して、下段ガイドブロック３１の上面には、水平一方向に延びる凸状の第１レール部３５ａが形成され、中段ガイドブロック３２の下面には、下段ガイドブロック３１の第１レール部３５ａに嵌め合わされる凹状の第１レール溝部３６ａが形成されている。第１レール部３５ａと第１レール溝部３６ａの間には、転動体３８を保持する第１保持器３７ａが配設されている。これにより、中段ガイドブロック３２が上段ガイドブロック３３の第１レール部３５ａに沿って水平一方向（例えば、Ｘ軸方向）にスライド可能となる。また、図２（ｂ）を参照して、中段ガイドブロック３２の上面には、下面の第１レール溝部３６ａと直交する水平他方向に延びる凸状の第２レール部３５ｂが形成され、上段ガイドブロック３３の下面には、中段ガイドブロック３２の第２レール部３５ｂに嵌め合わされる凹状の第２レール溝部３６ｂが形成されている。この第２レール部３５ｂと第２レール溝部３６ｂの間にも、転動体３８を保持する第２保持器３７ｂが配設されている。これにより、上段ガイドブロック３３が中段ガイドブロック３２の第２レール部３５ｂに沿って水平他方向（例えば、Ｙ軸方向）にスライド可能となる。また、図２（ｃ）を参照して、ベアリング３４は、円状に転動体３９が配設されている。このベアリング３４によって、テーブル１２を水平面上（ＸＹ平面上）でθ回転可能とする。以上のように、ガイド部３０は、テーブル１２をＸ軸方向、Ｙ軸方向、θ回転方向の３自由度での移動を可能とするように構成されている。
【００２９】
ボールネジ部４０は、ガイド部３０の横に平行に配設されており、下段ガイドブロック３１の凸状の第１レール部３５ａの長さ方向と平行に延びるネジ部４１と、ネジ部４１に螺合され、中段ガイドブロック３２と連結されたナット部４２と、ネジ部４１の基端部側に配置された軸受部４３と、軸受部４３から突出されるネジ部４１の基端部と継手４４によってモータ軸が接続されたモータ４５とを有している。モータ４５及び軸受部４３は、ベース１１に設置固定されている。また、軸受部４３には、図示していないが、転動体が保持されている。これにより、ボールネジ部４０のモータ４５を駆動してネジ部４１を回転させることによりナット部４２がネジ部４１の長さ方向に沿って移動され、このナット部４２の移動によりガイド部３０の中段ガイドブロック３２を下段ガイドブロック３１の第１レール部３５ａに沿ってスライド移動させる。
【００３０】
以上のガイド部３０及びボールネジ部４０により構成される送り機構部３は、四角形状のテーブル１２の４隅のうちの３隅にそれぞれ配設されている（図１（ａ）参照）。ボールネジ部４０は、テーブル１２の一辺においてネジ部４１がテーブル１２の一方の角側に向き、モータ４５が他方の角側に向く姿勢で配設される。そして、対応する二辺の対角上に配設する２つの送り機構部３がテーブル１２をＸ軸方向に移動させるＸ方向直動ガイド（３Ｘ）を構成し、他の対向する二辺の一辺側の角に配設する１つの送り機構部３がテーブル１２をＹ軸方向に移動させるＹ方向直動ガイド（３Ｙ）を構成し、Ｘ方向直動ガイド（３Ｘ）及びＹ方向直動ガイド（３Ｙ）におけるベアリング３４がテーブル１２をＸＹ平面上でθ方向へ回転可能とするθ回転ガイド（３４θ）を構成する。
【００３１】
送り機構部３により、テーブル１２をＸ軸方向に移動させるには、２つのＸ方向直動ガイド（３Ｘ）の各モータ４５を回転させて各ナット部４２をＸ軸方向の同じ方向に移動させることにより、各ガイド部３０がＸ軸方向の同じ方向に移動してテーブル１２がＸ軸方向に移動される。テーブル１２をＹ軸方向に移動させるには、１つのＹ方向直動ガイド（３Ｙ）のモータ４５を回転させてナット部４２をＹ軸方向に移動させることにより、各ガ
イド部３０がＹ軸方向の同じ方向に移動してテーブル１２がＹ軸方向に移動される。テーブル１２をθ回転させるには、２つのＸ方向直動ガイド（３Ｘ）の各モータ４５を回転させて各ナット部４２をＸ軸方向の相反する方向に移動させるとともに、１つのＹ方向直動ガイド（３Ｙ）のモータ４５を回転させてナット部４２をＹ軸方向に移動させることにより、θ回転ガイド（３４θ）を構成する３つのベアリング３４がθ回転を許容してテーブル１２がＸＹ平面上でθ方向に回転される。
【００３２】
図３、図４を参照して、アライメントステージ１Ａには、アライメントユニット１０をワーク配置場所Ｐ１からワーク加工場所Ｐ２へと移動させる搬送機構５が設けられている。搬送機構５は、ベース１１の下方に設置する基台Ｆに設置固定されている。搬送機構５は、水平一方向（例えば、Ｘ軸方向）に延びる一対のガイドレール５１ａ，５１ｂと、各ガイドレール５１ａ，５１ｂに２つずつ走行可能に取り付けられ、四角形状のベース１１の下面の四隅に設けられた４つのスライダー５２と、一方のガイドレール５１ａに設けた２つのスライダー５２を移動させるボールネジ機構部５３とを有している。ボールネジ機構部５３は、スライダー５２を螺合させたネジ軸５４と、ネジ軸５４を回転させるモータ５５とを備えている。これにより、ネジ軸５４を回転させてスライダー５２を移動させることにより、アライメントユニット１０をガイドレール５１ａ，５１ｂに沿って移動させることができる。この搬送機構５により、アライメントユニット１０をワーク配置場所Ｐ１とワーク加工場所Ｐ２との間を往復移動させる。
【００３３】
ワーク配置場所Ｐ１において、アライメントステージ１Ａは、ワークプレート１３上にワークＷが載置され、このワークＷを上方に設置したカメラ（図示せず）でワークＷに付された所定のアライメントマークを確認しながら送り機構部３によりテーブル１２をＸＹθ方向に移動させてワークＷの位置調整が行われる。ワーク位置調整が行われた後、搬送機構５によりアライメントユニット１０をワーク配置場所Ｐ１からワーク加工場所Ｐ２へと搬送させる。ワーク加工場所Ｐ２には、ナノインプリント装置等の加工機Ｍが配設されている。加工機Ｍは、加工ツール８を下面に取り付けた移動プレート８１と、移動プレート８１を上下動可能に支持するポスト８２とを有し、ワーク加工時には、上方位置にある移動プレート８１を下方移動させる。ワーク加工場所Ｐ２において、ワークプレート１３上のワークＷは、加工機Ｍの加工ツール８により加圧されて加工が行われる。
【００３４】
このように、ワークＷの加工は、アライメントステージ１Ａ上で行われる。この際、ワークプレート１３上のワークＷに対して加工機Ｍにより加圧力が加わると、アライメントステージ１Ａにもワーク加工時の加圧力が加わる。アライメントステージ１Ａは、ワークＷの位置調整を精密かつ微細に行わせるために送り機構部３の転動体３８，３９等は小さいものが使用されているが、このような送り機構部３では、大きな負荷（加圧力）を許容することができず、大きな加圧力が加わると破損や変形等するおそれがある。送り機構部３を大きな加圧力に耐える構造とするには転動体３８，３９等を大きいものとする必要があるが、そうするとワーク位置調整に際して精密かつ微細な動きに適合できないという問題が生じる。そこで、本実施形態１のアライメントステージ１Ａでは、ワークプレート１３上に載置されたワークＷに加工時の加圧力が上から加わる際にワークプレート１３の下方移動を制限するブロック部材（移動規制体）２Ａが設けられている。
【００３５】
図１、図３を参照して、アライメントステージ１Ａのテーブル１２には、中央にワークプレート１３を臨む四角形状の開口部１２１が設けられている。なお、開口部１２１の形状は、四角形に限らず、他の多角形形状や、円形、楕円形等のように、任意の形状とすることができる。ブロック部材２Ａは、テーブル１２の開口部１２１に挿通させてワークプレート１３とベース１１との間に配設されている。ブロック部材２Ａは、ベース１１上面からワークプレート１３下面までの高さと略同じ高さを有する四角柱状の部材からなり、例えば、金属、プラスチック等の素材から形成されている。なお、ブロック部材２Ａの上面形状は、開口部１２１と同様、四角形に限らず、他の多角形形状や、円形、楕円形等のように、任意の形状とすることができる。
【００３６】
そして、ブロック部材２Ａは、上面がワークプレート１３の下面に固定され、ブロック部材２Ａの下面とベース１１上面との間には僅かなすき間ｄが設けられている。ワークプレート１３に上から加圧力が加えられていない状態では、ブロック部材２Ａの下面はベース１１の上面とは非接触となっている。従って、このすき間ｄを設けることにより、ワーク配置場所Ｐ１においてワーク加工前のワーク位置調整の際に送り機構部３によりワークプレート１３を支持するテーブル１２を移動させる動作をブロック部材２Ａによって阻害されることもない。また、ブロック部材２Ａの下面とベース１１の上面との間のすき間ｄを僅かなすき間ｄ、例えば、５〜２０μｍ程度とすることにより、このすき間ｄにホコリ等が入り込んで送り機構部３によるテーブル１２の移動を阻害することもない。
なお、すき間ｄにグリス等の潤滑剤を充填するようにしてもよい。
【００３７】
図４に示すように、アライメントユニット１０が搬送機構５によりワーク配置場所Ｐ１（図４（ａ））からワーク加工場所Ｐ２（図４（ｂ））に搬送され、ワーク加工場所Ｐ２において加工機Ｍの型等の加工ツール８がワークプレート１３上のワークＷに上から押し当てられてワークＷの加工が行われる。このワーク加工時の上からの加圧力により、ワークプレート１３及びワークプレート１３を支持するテーブル１２が沈み込む。しかしながら、テーブル１２の下方移動は、ブロック部材２Ａの下面がベース１１の上面に当接するまでの距離、すなわち、上記僅かなすき間ｄの範囲に制限される。ブロック部材２Ａの下面がベース１１の上面に当接すると、ワーク加工時の加圧力は、ブロック部材２Ａを通じてベース１１で受け止められるから、ワークプレート１３を支持するテーブル１２には、ワーク加工時の加圧力がほとんど作用しない。すなわち、テーブル１２を支持する送り機構３には、上記僅かなすき間ｄの移動分だけワーク加工時の加圧力が作用するが、それ以上に大きな加圧力が作用することはない。従って、加工機Ｍは、ワーク加工の際、送り機構部３には大きな加圧力が加わることなく、ワークＷに対して大きな加圧力を加えることができる。また、送り機構部３にはワーク加工時の負荷（加圧力）がかからないから、送り機構部３における転動体３８，３９等は、負荷の許容が小さい小型のものを使用することができる。よって、送り機構部３は、ワーク位置調整を微細かつ精密な動きに適合した構成とすることができる。
【００３８】
また、ブロック部材２は、ワークＷの加工時にワークプレート１３を下から支えることとなり、ワークＷには加工時の加圧力をばらつくことなく適切に作用させることができ、加工機ＭによるワークＷの加工精度を高精度に行うことができる。この場合、ブロック部材２Ａの上面の広さがワークプレート１３上に載置されるワークＷの大きさと略同等又はそれ以上の大きさを有すれば、加工機Ｍの加工ツール８による加圧力をワークＷの全面に略均等に行き渡らせることができ、加工機ＭによるワークＷの高精度な加工を確実に行うことができる。
【００３９】
以上より、実施形態１のアライメントステージ１Ａによれば、ワーク加工時にワークＷに対して大きな加圧力を加えることができ、それでいて、送り機構部３としては精密かつ微細な動きに適合した構成とすることができる。
【００４０】
ワークＷの加工処理が終了し加工機Ｍの加工ツール８がワークＷ上から離反すると、ワークプレート１３及びテーブル１２は、各構成部材の弾性によって下方への沈み込み状態から元の高さ位置に復帰する。よって、ブロック部材２Ａも上方へ復帰移動して、ブロック部材２Ａの下面とベース１１上面との間に再び所定のすき間ｄが形成される。
【００４１】
なお、実施形態１では、ブロック部材２Ａは、上面がワークプレート１３下面に固定され、下面とベース１１上面との間に僅かなすき間ｄを設ける構成とするが、変形例として、ブロック部材２Ａの下面がベース１１上面に固定され、ブロック部材２Ａの上面とワークプレート１３下面との間に上記僅かなすき間ｄを設けるようにしてもよい。この変形例の場合、ワーク加工時の加圧力が上からワークプレート１３に加わると、ワークプレート１３を支持するテーブル１２の下方移動は、ワークプレート１３下面がブロック部材２Ａの上面に当接するまでの距離、すなわち上記僅かなすき間ｄの範囲に制限されることとなり、上記実施形態１と同様の作用効果が発揮される。また、この変形例の場合、ブロック部材２Ａは、ワークプレート１３ではなくベース１１に固定されているから、ワークプレート１３を支持するテーブル１２にはブロック部材２Ａの重量負荷が加わらない。従って、テーブル１２を支持する送り機構３もブロック部材２Ａの重量負荷を受けないから、送り機構部３は、ワーク位置調整時にテーブル１２をスムーズに動かすことができる。
【００４２】
（実施形態２）
図５に示すように、実施形態２のアライメントステージ１Ｂでは、テーブル１２だけでなくベース１１にも中央にワークプレート１３を臨む四角形形状の開口部１１１が設けられている。ワークプレート１３の下方移動を制限するブロック部材（移動規制体）２Ｂは、テーブル１２及びベース１１の開口部１２１，１１１を挿通させてワークプレート１３と基台Ｆとの間に配設されている。ブロック部材２Ｂは、基台Ｆの上面からワークプレート１３の下面までの高さと略同じ高さを有する四角柱状部材からなり、上面がワークプレート１３の下面に固定され、下面と基台Ｆ上面との間には僅かなすき間（例えば、５〜２０μｍ）ｄが設けられている。ワークプレート１３に上から加圧力が加えられていない状態では、ブロック部材２Ｂの下面は基台Ｆの上面とは非接触となっている。
【００４３】
この実施形態２のアライメントステージ１Ｂによれば、ワーク加工時の加圧力が上からワークプレート１３に加わると、ワークプレート１３及びテーブル１２の下方移動は、ブロック部材２Ｂの下面が基台Ｆ上面に当接するまでの距離、すなわち上記僅かなすき間ｄの範囲に制限される。ブロック部材２Ｂの下面が基台Ｆの上面に当接すると、ワーク加工時の加圧力は、ブロック部材２Ｂを通じて基台Ｆで受け止められるから、ワークプレート１３を支持するテーブル１２には、ワーク加工時の加圧力がほとんど作用しないこととなる。すなわち、この実施形態２でも、テーブル１２を支持する送り機構３には、上記僅かなすき間ｄの移動分だけワーク加工時の加圧力が作用するが、それ以上に大きな加圧力が作用しないこととなり、実施形態１と同様の作用効果が発揮される。なお、実施形態２におけるその他の構成及び作用効果は、実施形態１と同様である。
【００４４】
（実施形態３）
図６に示すように、実施形態３のアライメントステージ１Ｃでは、実施形態２のものにおいて、ブロック部材２Ｃの底面に球面軸受６を設けたものである。この球面軸受６は、内周面に環状凹面を有するレース部６１と、レース部６１の環状凹面に配置され外周面の一部が平面状にカットされた球状軸体６２とを有する。この球面軸受６は、球状軸体６２の平面部６３が外側向きとなるようにブロック部材２Ｃの底面に設けた保持穴２１に保持されている。球面軸受６の平面部６３は、基台Ｆ上面と対向して僅かなすき間（例えば、５〜２０μｍ）ｄが設けられている。ブロック部材２Ｃの底面と基台Ｆ上面との間は、球面軸受６の平面部６３と基台Ｆ上面との間の僅かなすき間ｄよりも大きいすき間（例えば、１〜３ｍｍ）ｄ１が設けられている。
【００４５】
このように、ブロック部材２Ｃに球面軸受６を設けることにより、ワーク加工時に、加工機Ｍからの加圧によるワークプレート１３の傾きが球面軸受６により自動修正され、加工機Ｍの加工ツール８の加工面とワークプレート１３上面とを平行に保つことができる。従って、大面積のワークＷであってもワーク加工時の加圧力を均等に作用させることができ、加工精度を高精度に行うことができる。
なお、球面軸受６は、ブロック部材２Ｃの上面に設け、ワークプレート１３とブロック部材２Ｃとの間に球面軸受６が介在する構成としてもよい。
【００４６】
また、この実施形態３では、ワークプレート１３は、テーブル１２の四隅に立設するガイド機構７によって下方移動可能にテーブル１２上に支持されている。ガイド機構７は、テーブル１２を上方へ付勢状態に支持して、この上方付勢の範囲で下方移動可能に構成されており、例えば、軸にスリーブを外嵌させてスリーブを下から上に向けてバネで付勢する直動機構や、シリンダ機構等のような様々な機構を採用することができる。
【００４７】
このガイド機構７により、ワークプレート１３は、テーブル１２とは独立して下方移動可能となる。これにより、ワーク加工時の加圧力がワークプレート１３に上から加わると、テーブル１２にはほとんど負荷が加わらずにワークプレート１３だけが下方移動する。従って、ワーク加工時の加圧力は、テーブル１２には作用させずに、ブロック部材２Ｃを通じて基台Ｆによって受け止められる。よって、テーブル１２とベース１１との間に配設された送り機構３には、より確実に、ワーク加工時の加圧力を作用させないようにすることができる。実施形態３におけるその他の構成及び作用効果は、実施形態１、２と同様である。
なお、球面軸受６及び／又はガイド機構７は、実施形態１のものにおいても適用することができる。
【００４８】
なお、本発明は、上記各実施形態には限定されず、特許請求の範囲の記載及び均等の範囲内で様々な変更を施すことが可能である。
搬送機構５は、ワーク配置場所Ｐ１からワークＷに加圧加工を行うワーク加工場所Ｐ２へと移動させるだけでなく、ワーク加工場所Ｐ２以外の場所、例えば、ワーク配置場所Ｐ１とワーク加工場所Ｐ２との間、ワーク加工場所Ｐ２から後工程の場所、ワーク配置場所Ｐ１より前の待機場所などへも移動及び停止させるように構成することができ、各移動場所において、ワークＷの脱着、ワークＷに対して液の塗布や加熱や検査などの様々な作業
などが行えるようにしてもよい。
本発明では、搬送機構５は任意の要件であり、搬送機構５を有しない製造工程においても本発明を適用可能である。
【符号の説明】
【００４９】
１Ａ，１Ｂ，１Ｃ  アライメントステージ
２Ａ，２Ｂ，２Ｃ  ブロック部材（移動規制体）
３  送り機構
５  搬送機構
６  球面軸受
７  ガイド機構
８  加工ツール
１０  アライメントユニット
１１  ベース
１２  テーブル
１３  ワークプレート
１４  支柱
２１  保持穴
３０  ガイド部
３１  下段ガイドブロック
３２  中段ガイドブロック
３３  上段ガイドブロック
３４  ベアリング
３５ａ  第１レール部
３５ｂ  第２レール部
３６ａ  第１レール溝部
３６ｂ  第２レール溝部
３７  保持器
３８，３９  転動体
４０  ボールネジ部
４１  ネジ部
４２  ナット部
４３  軸受部
４４  継手
４５  モータ
５１  ガイドレール
５２  スライダー
５３  ボールネジ機構部
５４  ネジ軸
５５  モータ
６１  レース部
６２  球状軸体
８１  移動プレート
８２  ポスト
１１１  開口部
１２１  開口部
ｄ  すき間
Ｆ  基台
Ｍ  加工機
Ｐ１  ワーク配置場所
Ｐ２  ワーク加工場所
Ｗ  ワーク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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