(57)【要約】【課題】  撮影前にユーザーが放射線撮影装置の状態を把握できるようにする。【解決手段】  情報処理装置１０３は、光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号に含まれる画素値を監視し、その結果を示す情報を表示する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線が遮蔽される複数の光遮蔽画素を有する撮影手段と、
前記複数の光遮蔽画素からの出力信号の値を監視する監視手段と、
前記監視手段による監視の結果を示す情報を表示装置に表示させる表示制御手段とを有することを特徴とする放射線撮影装置。
【請求項２】
前記光遮蔽画素は、有効画素領域に照射される放射線が遮蔽される画素であることを特徴とする請求項１に記載の放射線撮影装置。
【請求項３】
前記表示制御手段により、前記監視手段による監視の結果を示す情報が表示装置に表示された後に、被写体の放射線画像の撮影を指示する撮影制御手段を更に有することを特徴とする請求項１または２に記載の放射線撮影装置。
【請求項４】
前記監視手段は、相互に異なる複数のタイミングで得られた前記光遮蔽画素からの出力信号の値を監視することを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項５】
前記相互に異なる複数のタイミングで得られた前記光遮蔽画素からの出力信号は、前記相互に異なる複数のタイミングのそれぞれにおいて、前記放射線が照射されない状態で得られた前記光遮蔽画素からの出力信号を含むことを特徴とする請求項４に記載の放射線撮影装置。
【請求項６】
前記相互に異なる複数のタイミングで得られた前記光遮蔽画素からの出力信号は、前記放射線が照射された状態で得られた前記光遮蔽画素からの出力信号を含むことを特徴とする請求項４または５に記載の放射線撮影装置。
【請求項７】
前記監視手段は、前記相互に異なる複数のタイミングで得られた前記光遮蔽画素からの出力信号の値の差、または、前記相互に異なる複数のタイミングで得られた前記光遮蔽画素からの出力信号の代表値の差と閾値とを比較することを特徴とする請求項４〜６の何れか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項８】
前記監視手段は、前記相互に異なる複数のタイミングで得られた前記光遮蔽画素からの出力信号の値の分布を比較することを特徴とする請求項４〜６の何れか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項９】
前記監視手段は、同じタイミングで得られた複数の前記光遮蔽画素からの出力信号の値を監視することを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項１０】
前記監視手段は、同じタイミングで得られた複数の前記光遮蔽画素からの出力信号の値の代表値と基準値とを比較することを特徴とする請求項９に記載の放射線撮影装置。
【請求項１１】
前記監視手段は、複数の前記光遮蔽画素のうちの少なくとも１つの光遮蔽画素からの出力信号の値と閾値とを比較することを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項１２】
前記監視手段は、有効画素領域にシェーディングが発生しているか否かを監視することを特徴とする請求項１〜１１の何れか１項に記載の放射線撮影装置。
【請求項１３】
放射線が遮蔽される複数の光遮蔽画素を有する撮影手段と、
前記複数の光遮蔽画素からの出力信号の値を監視する監視手段と、
前記監視手段による監視の結果を示す情報を表示する表示手段と、を有することを特徴とする放射線撮影システム。
【請求項１４】
放射線が遮蔽される複数の光遮蔽画素を有する撮影手段を用いて行う放射線撮影方法であって、
前記光遮蔽画素からの出力信号の値を監視する監視工程と、
前記監視工程による監視の結果を示す情報を表示装置に表示させる表示制御工程と、を有することを特徴とする放射線撮影方法。
【請求項１５】
請求項１〜１２の何れか１項に記載の放射線撮影装置の各手段としてコンピュータを機能させることを特徴とするプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放射線撮影装置、放射線撮影システム、放射線撮影方法、およびプログラムに関し、特に、放射線を用いて被写体の撮影を行うために用いて好適なものである。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線等の放射線による医療画像診断や非破壊検査に用いる放射線撮影装置として、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）等のスイッチと光電変換素子等の変換素子とを組み合わせた画素アレイを有するマトリクス基板を用いた放射線撮影装置が実用化されている。
光電変換素子を複数配した光電変換装置においては、光電変換装置が置かれた温度等の環境の違いによって、それぞれの画素毎に、放射線の照射を全く行わない（照射ゼロの）時の出力（即ちオフセット出力）の値に多少のばらつきが生じることがある。きれいな画質を得るために、このような画素の出力のばらつきを補正するオフセット補正を行うことが好ましい。
【０００３】
オフセット補正を行う第１の方法として、放射線を照射する本撮影と、放射線を照射しない撮影とを本撮影毎に行い、それらの撮影で得られた画像の相互に対応する画素の出力の差分を算出することでオフセット補正を行う方法がある。また、オフセット補正を行う第２の方法として、以下の方法がある。まず、予め本撮影前に放射線を照射しない画像を複数枚撮影し、それらの撮影で得られた画像の相互に対応する画素の出力の平均値をオフセット信号とする。このオフセット信号と本撮影で得られた画像との相互に対応する画素の出力の差分を算出することでオフセット補正を行う。動画像の撮影等の高速撮影においては、フレームレートを稼ぐため、オフセット補正を行うための画像を逐一撮影することが不要な第２の方法が望ましい。また、第１の方法に比べて第２の方法の方が、何枚もの画像でオフセット画像を作成するため、ノイズが減少する利点もある。
【０００４】
第２の方法のオフセット補正に関し、特許文献１に記載の技術がある。特許文献１には、放射線信号を取得するための光電変換素子以外に、有効画素領域にオフセット信号を取得するための遮光された光電変換素子を持つことが開示されている。特許文献１では、遮光された光電変換素子の出力をオフセット信号とし、放射線信号からオフセット信号を減算する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−１９８２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１では、例えば、有効画素領域に極端な温度分布等があるために、補正可能な限界を超えたアーチファクトが発生すると、オフセット補正を行っても、ユーザーが求める基準を超えるアーチファクトが放射線画像に発生する虞がある。例えば、診察者が放射線画像の被写体（人物）を誤診したり、放射線画像の違和感をユーザーに与えたりする虞がある。
本発明の目的は、撮影前にユーザーが放射線撮影装置の状態を把握することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の放射線撮影装置は、放射線が遮蔽される複数の光遮蔽画素を有する撮影手段と、前記光遮蔽画素からの出力信号の値を監視する監視手段と、前記監視手段による監視の結果を示す情報を表示装置に表示させる表示制御手段とを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、撮影前にユーザーが放射線撮影装置の状態を把握することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】放射線撮影システムの構成を示す図である。
【図２】有効画素領域を示す図である。
【図３】情報処理装置の構成を示す図である。
【図４】放射線撮影システムの処理の第１の例を示すフローチャートである。
【図５】画素値の分布の一例を示す図である。
【図６】画素値の分布の一例を示す図である。
【図７】放射線撮影システムの処理の第２の例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、図面を参照しながら実施形態を詳細に説明する。尚、以下の各実施形態では、放射線撮影装置として、放射線の一種であるＸ線を用いて被写体のＸ線画像データの撮影を行うフラットパネルディスプレイ（フラットパネルディテクターとも称される）を使用したＸ線撮影装置を例に挙げて説明する。また、放射線撮影装置は、Ｘ線撮影装置に限らず、例えば、他の放射線（例えば、α線、β線、γ線等）を用いる放射線撮影装置も、以下の各実施形態に適用することが可能である。
【００１１】
（第１の実施形態）
先ず、第１の実施形態について説明する。
図１は、本実施形態に係わる放射線撮影システムの全体構成の一例を示す図である。本実施形態の放射線撮影装置は、例えば、人体撮影用として使用される。
【００１２】
図１において、Ｘ線照射部１０１は被写体ＰにＸ線を照射する。Ｘ線照射部１０１は、Ｘ線を発生するＸ線発生部（管球）と、Ｘ線発生部において発生したＸ線のビーム広がり角を規定するコリメータとを有する。放射線検出センサ１０２は、ＦＰＤ（Flat Panel. Detector）である。放射線検出センサ１０２は、絶縁基板と、複数の光電変換素子とを有する。複数の光電変換素子はマトリックス状に絶縁基板上に配置される。
【００１３】
図２は、放射線検出センサ１０２における有効画素領域の一例を示す図である。図２を参照しながら、光遮蔽（ＯＢ（Optical Black））画素の配置およびオフセット出力の変化の説明を行う。
図２において、有効画素領域２００内にマトリックス状に複数の光電変換素子が配置される。また、複数の光電変換素子の一部の光電変換素子に対して光を遮蔽する遮蔽部材が配置される。図２では、この遮蔽部材が配置された光電変換素子に対応する画素を光遮蔽（ＯＢ）画素２０１として示す。尚、表記の都合上、図２では、１つの光遮蔽（ＯＢ）画素に対して符号を付しているが、有効画素領域２００内に点在している各点のそれぞれが光遮蔽（ＯＢ）画素である。また、図２において、光遮蔽（ＯＢ）画素以外の画素（遮蔽部材が配置されていない光電変換素子に対応する画素）は、グレーで示す領域２０２に配置されているものとする。本実施形態では、例えば、放射線検出センサ１０２を用いることにより、有効画素領域に配置される画素として光遮蔽画素を有する撮影手段の一例が実現される。また、本実施形態では、例えば、光遮蔽（ＯＢ）画素により、有効画素領域に照射される放射線が遮蔽される画素（光遮蔽画素）の一例が実現される。
【００１４】
図２では、有効画素領域２００が図２の左図（白抜きの矢印線の基端側）の状態から右図（白抜きの矢印線の先端側）の状態に変化し、有効画素領域２００内の領域２０３にオフセット出力の変化が生じた場合を例示する。光遮蔽（ＯＢ）画素２０１はＸ線による残像の影響を受けない。このことに着目し、本発明者らは、後述するようにして光遮蔽（ＯＢ）画素２０１から出力される信号を監視することを見出した。このようにすることにより、Ｘ線による残像の影響を受けないで、放射線検出センサ１０２の温度変化や撮影モードの変化によって発生するオフセット出力の変化を評価することが可能になる。
【００１５】
尚、図２では、光遮蔽（ＯＢ）画素２０１が、有効画素領域２００内に均一に配置される場合を例に挙げて示す。しかしながら、光遮蔽（ＯＢ）画素２０１の配置は、図２に示すものに限定されない。例えば、光遮蔽（ＯＢ）画素２０１は、直線状に配置されていてもよいし、オフセット出力の変化が見込まれる領域に集中して配置されていてもよい。光遮蔽（ＯＢ）画素２０１以外の画素の数は、光遮蔽（ＯＢ）画素２０１の数よりも多くするのが好ましい。
【００１６】
図１の説明に戻り、放射線検出センサ１０２は、光電変換素子に到達したＸ線の二次元分布を検出し、Ｘ線画像データを生成する。放射線検出センサ１０２は、生成したＸ線画像データを情報処理装置１０３（演算部１０３ｃ）に送信する。
【００１７】
撮影条件設定部１０３ａは、撮影条件を示す撮影条件情報をユーザー（操作者）が入力するユーザインタフェースを有する。撮影条件情報には、例えば、被写体Ｐに照射されるＸ線の目標線量、管電圧、管電流、および放射線検出センサ１０２の撮影モード等のパラメータが含まれる。撮影条件設定部１０３ａは、ユーザーが入力した撮影条件情報を制御部１０３ｂに送信する。制御部１０３ｂは、撮影条件設定部１０３ａから送信された撮影条件情報を基に、Ｘ線照射部１０１および放射線検出センサ１０２を制御する。
【００１８】
演算部１０３ｃは、放射線検出センサ１０２から送信されたＸ線画像データを基に、オフセット補正等の補正処理を行うことにより、診断に適したＸ線画像データを生成する。演算部１０３ｃは、補正処理されたＸ線画像データを表示部１０３ｄに送信する。表示部１０３ｄは、演算部１０３ｃから受信したＸ線画像データに基づく表示用のＸ線画像データを、モニタ等に出力する。本実施形態では、例えば、Ｘ線照射部１０１、放射線検出センサ１０２、および情報処理装置１０３を用いて放射線撮影装置が構成される。また、例えば、Ｘ線照射部１０１、放射線検出センサ１０２、情報処理装置１０３、およびモニタを用いて放射線撮影システムが構成される。
【００１９】
図３は、情報処理装置１０３のハードウェアの構成の一例を示す図である。情報処理装置１０３は、ＣＰＵ３０１と、ＲＯＭ３０２と、ＲＡＭ３０３と、ＨＤＤ３０４と、表示Ｉ／Ｆ部３０５と、入力Ｉ／Ｆ部３０６と、ネットワークＩ／Ｆ部３０７とを有する。
ＣＰＵ３０１は、ＲＯＭ３０２に記憶された制御プログラムを読み出して各種処理を実行する。ＲＡＭ３０３は、ＣＰＵ３０１の主メモリ、ワークエリア等の一時記憶領域として用いられる。ＨＤＤ３０４は、各種データや各種プログラム等を記憶する。表示Ｉ／Ｆ部３０５は、各種情報の表示用のデータをモニタ等に出力する。入力Ｉ／Ｆ部３０６は、キーボードやマウスを有し、ユーザーによる各種操作を受け付ける。
ネットワークＩ／Ｆ部３０７は、ネットワークを介して、Ｘ線照射部１０１および放射線検出センサ１０２等の外部装置との通信処理を行う。また、ネットワークＩ／Ｆ部３０７は、無線により外部装置との通信を行ってもよい。
【００２０】
尚、後述する情報処理装置１０３の機能や処理は、ＣＰＵ３０１がＲＯＭ３０２またはＨＤＤ３０４に格納されているプログラムを読み出し、このプログラムを実行することにより実現されるものである。また、他の例としては、ＣＰＵ３０１は、ＲＯＭ３０２等に替えて、ＳＤカード等の記録媒体に格納されているプログラムを読み出してもよい。
【００２１】
また、本実施形態では、情報処理装置１０３は、１つのプロセッサ（ＣＰＵ３０１）が１つのメモリ（ＲＯＭ３０２）を用いて後述するフローチャートに示す各処理を実行するものとするが、他の様態であっても構わない。例えば複数のプロセッサーや複数のＲＡＭ、ＲＯＭおよびストレージを協働させて後述するフローチャートに示す各処理を実行することもできる。また、ハードウェア回路を用いて一部の処理を実行するようにしても良い。また、ＣＰＵ以外のプロセッサーを用いて後述する情報処理装置１０３の機能や処理を実現することとしてもよい。例えば、ＣＰＵに替えてＧＰＵ（Graphics Processing Unit）を用いることとしてもよい。
【００２２】
以下、図４のフローチャートを参照しながら、被写体Ｐの撮影準備開始から撮影までの処理の一例を説明する。本実施形態では、ユーザーが誤診する虞や診断画像に対する違和感を覚える虞がある撮影がなされる状態を予め検知する方法の一例について説明する。
ステップＳ４１００では、撮影条件設定部１０３ａは、ユーザーによるユーザインタフェースに対する操作の内容に基づいて、撮影条件情報を入力する。撮影条件情報には、例えば、被写体Ｐに照射されるＸ線の目標線量、管電圧、管電流、および放射線検出センサ１０２の撮影モード等のパラメータが含まれる。撮影条件設定部１０３ａは、撮影条件情報を制御部１０３ｂに送信する。このようにして撮影条件が設定される。
【００２３】
次に、ステップＳ４１０１では、放射線検出センサ１０２は、固定ダーク画像を取得する。固定ダーク画像は、ステップＳ４１００で設定されたパラメータのうちＸ線の照射に関するパラメータを除くパラメータに基づいてＸ線を照射しない状態で放射線検出センサ１０２により撮影された画像である。ここでは、被写体Ｐが存在する状態であっても、被写体Ｐが存在しない状態であってもよい。固定ダーク画像は、固定ダーク用（オフセット補正）に用いられる画像である。放射線検出センサ１０２は、固定ダーク画像の画素からの出力信号のうち、光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号を取得して演算部１０３ｃへ送信する。
【００２４】
ここでは、光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号を、固定ダーク画像より取得する場合を例に挙げて説明した。しかし、光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号は、Ｘ線を照射しない状態で放射線検出センサ１０２により撮影された画像から取得していれば必ずしもこのようにして取得する必要はない。例えば、放射線検出センサ１０２は、固定ダーク画像と時間的に前後した近傍のタイミングで撮影されたダーク画像より、光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号を取得してもよい。
【００２５】
次に、ステップＳ４１０２では、演算部１０３ｃは、光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号を受信すると、当該光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号の情報を記録する。
次に、ステップＳ４１０３では、放射線検出センサ１０２は、ダーク画像を取得し、ダーク画像の画素からの出力信号のうち、光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号を取得して演算部１０３ｃへ送信する。ここでも、ステップＳ４１０１と同様に、被写体Ｐが存在する状態であっても、被写体Ｐが存在しない状態であってもよい。ステップＳ４１０３の処理は、ステップＳ４１０１と同様の処理を行うことにより実現される。即ち、放射線検出センサ１０２は、ステップＳ４１０１とステップＳ４１０３のそれぞれにおいて（相互に異なるタイミングにおいて）、光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号を取得する。
【００２６】
次に、ステップＳ４１０４では、演算部１０３ｃは、ステップＳ４１０２で記録した光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号の情報と、ステップＳ４１０３で取得した光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号の情報とを比較する。演算部１０３ｃは、当該比較の結果に基づいて、診断の妨げや違和感に繋がるシェーディング（濃度のムラ）等が発生しているか否かを判定する。そして、演算部１０３ｃは、当該判定の結果を示す情報を、表示部１０３ｄへ送信する。表示部１０３ｄは、当該判定の結果を示す情報をモニタ等に表示させる。ユーザーは、この情報を見ることにより、Ｘ線撮影を行うかどうかを判断する。
【００２７】
本実施形態では、例えば、演算部１０３ｃを用いることにより、前記光遮蔽画素からの出力信号の値を監視する監視手段の一例が実現される。また、本実施形態では、例えば、演算部１０３ｃがステップＳ４１０４における比較を行うことにより、相互に異なる複数のタイミングで得られた前記光遮蔽画素からの出力信号の値を監視することの一例が実現される。また、ステップＳ４１０１、Ｓ４１０３で取得した光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号により、前記相互に異なる複数のタイミングのそれぞれにおいて、前記有効画素領域に放射線が照射されない状態で得られた前記光遮蔽画素からの出力信号の一例が実現される。また、本実施形態では、例えば、演算部１０３ｃを用いることにより、前記監視手段による監視の結果を示す情報を表示装置に表示させる表示制御手段の一例が実現される。
【００２８】
次に、ステップＳ４１０５では、撮影条件設定部１０３ａは、ユーザーによるユーザインタフェースに対する操作の内容に基づいて、Ｘ線撮影の指示の有無があったかどうかを示す操作情報を制御部１０３ｂに送信する。制御部１０３ｂは、当該操作情報に基づいて、被写体ＰのＸ線撮影を行うか否かを判定する。この判定の結果、Ｘ線撮影を行わない場合、処理は、ステップＳ４１０３に移行する。一方、Ｘ線撮影を行う場合、制御部１０３ｂは、Ｘ線照射部１０１に対して、ステップＳ４１００で設定された撮影条件に基づいて被写体ＰのＸ線撮影を行うことを指示する。これにより、放射線検出センサ１０２により被写体ＰのＸ線画像が撮影される。本実施形態では、例えば、制御部１０３ｂを用いることにより、前記表示制御手段により、前記監視手段による監視の結果を示す情報が表示装置に表示された後に、被写体の放射線画像の撮影を指示する撮影制御手段の一例が実現される。
【００２９】
以下に、図５および図６を参照しながら、ステップＳ４１０４における判定方法の一例を説明する。
前述したように演算部１０３ｃは、ステップＳ４１０２で記録された固定ダーク画像の取得時に同時に取得された光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号と、ステップＳ４１０３で取得された光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号を比較する。時間経過や撮影モードの変化等があるため、放射線検出センサ１０２内の発熱部材により放射線検出センサ１０２の温度が変化すると、オフセット出力が変化してシェーディングが発生する。演算部１０３ｃは、このシェーディングの発生の有無を把握するために、光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号を比較する。
【００３０】
図５は、ステップＳ４１０２で記録された光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号による画素値の分布と、ステップＳ４１０３で取得された光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号による画素値の分布の一例を示す図である。図５では、ステップＳ４１０２、Ｓ４１０３のタイミングの間で、放射線検出センサ１０２の温度変化によりオフセット出力の変化が発生した場合の画素値の分布を示す。
【００３１】
図５において、画素値分布５０１は、ステップＳ４１０２で記録された光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号に含まれる画素値の分布を示す。画素値分布５０２は、ステップＳ４１０３で取得された光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号に含まれる画素値の分布を示す。ステップＳ４１０４において、演算部１０３ｃは、画素値分布５０１、５０２の最頻値の差の絶対値が閾値を超えるか否かを判定してもよい。また、演算部１０３ｃは、画素値分布５０１、５０２の標準偏差の差の絶対値が閾値を超えるか否かを判定してもよい。演算部１０３ｃは、例えば、画素値分布５０１、５０２の最頻値・標準偏差の差の絶対値が閾値を超える場合、シェーディングが発生すると判定し、そうでない場合、シェーディングが発生しないと判定する。そして、演算部１０３ｃは、当該判定の結果を示す情報を、表示部１０３ｄへ送信する。本実施形態では、例えば、画素値分布５０１、５０２の最頻値の差の絶対値が閾値を超えるか否かを判定することにより、前記相互に異なる複数のタイミングで得られた前記光遮蔽画素からの出力信号の値の分布を比較することの一例が実現される。
【００３２】
図６は、ステップＳ４１０２で記録された光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号に含まれる画素値と、ステップＳ４１０３で取得された光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号に含まれる画素値との、同一座標（画素）毎の差分の分布の一例を示す図である。図６でも、図５と同様に、ステップＳ４１０２、Ｓ４１０３のタイミングの間で、放射線検出センサ１０２の温度変化によりオフセット出力の変化が発生した場合の画素値の分布を示す。
【００３３】
図６で示す通り、演算部１０３ｃは、１つ以上の同一座標ごとの画素値の差分の絶対値が閾値を超えるか否かを判定してもよい（図６の破線で示す円を参照）。演算部１０３ｃは、例えば、１つ以上の同一座標ごとの画素値の差分の絶対値が閾値を超える場合、シェーディングが発生すると判定し、そうでない場合、シェーディングが発生しないと判定し、当該判定の結果を示す情報を、表示部１０３ｄへ送信する。本実施形態では、例えば、このような判定により、前記相互に異なる複数のタイミングで得られた前記光遮蔽画素からの出力信号の値の差と閾値とを比較することの一例が実現される。
【００３４】
また、ステップＳ４１０２で記録された光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号に含まれる画素値の代表値と、ステップＳ４１０３で取得された光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号に含まれる画素値の代表値との差の絶対値が閾値を超えるか否かを判定してもよい。代表値としては、例えば、平均値、中央値、または最頻値を採用することができる。本実施形態では、例えば、このような判定により、前記相互に異なる複数のタイミングで得られた前記光遮蔽画素からの出力信号の代表値の差と閾値とを比較することの一例が実現される。
【００３５】
また、図５、図６では、ステップＳ４１０２で記録された光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号に含まれる画素値と、ステップＳ４１０３で取得された光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号に含まれる画素値とを比較する場合を例に挙げて説明した。しかしながら、必ずしも異なる複数のタイミングで得られた光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号に含まれる画素値の比較を行う必要はない。同じタイミングで得られた光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号の値を監視することもできる。例えば、演算部１０３ｃは、画素値分布５０１、５０２の少なくとも何れか一方の標準偏差が閾値を超えているか否かを判定してもよい。本実施形態では、例えば、このような判定により、同じタイミングで得られた複数の前記光遮蔽画素からの出力信号の値の代表値と基準値とを比較することの一例が実現される。また、ステップＳ４１０２で記録された光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号に含まれる画素値と、ステップＳ４１０３で取得された光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号に含まれる画素値との少なくとも１つが閾値を超えるか否かを判定してもよい。本実施形態では、例えば、このような判定により、複数の前記光遮蔽画素のうちの少なくとも１つの光遮蔽画素からの出力信号の値と閾値とを比較することの一例が実現される。また、前述した複数の判定方法を組み合わせて、シェーディングの発生の有無を判定してもよい。
【００３６】
また、ノイズ成分が影響して、光遮蔽（ＯＢ）画素から所望の出力信号が取得できないことが想定される。そこで、ノイズ成分影響を除外するために、演算部１０３ｃは、以下のようにしてもよい。まず、演算部１０３ｃは、対象の光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号と、当該対象光遮蔽（ＯＢ）画素に隣接する１つ以上の光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号とを比較する。そして、演算部１０３ｃは、両者の出力信号に含まれる画素値の差の絶対値が閾値を超える場合、当該対象の光遮蔽（ＯＢ）画素を、前述した判定に使用する光遮蔽（ＯＢ）画素から除外する。
【００３７】
次に、ステップＳ４１０４における判定結果の表示の一例に関して説明する。
表示部１０３ｄは、放射線検出センサ１０２がＸ線撮影に適さない状態になっているか否かを示す情報を、モニタ等に表示させる。この表示に基づいてユーザーは、Ｘ線撮影を行うか否かを判断する。また、放射線検出センサ１０２がＸ線撮影に適さない状態になっていることを演算部１０３ｃから受信した制御部１０３ｂがＸ線撮影をすることができないように制限をかけてもよい。このとき、Ｘ線撮影に適さない状態であることを表示部１０３ｄにより表示させてもよいが表示させなくてもよい。例えば、ユーザーは、Ｘ線撮影の指示を行ってもＸ線撮影が実行されないことにより、Ｘ線撮影に適さない状態であることを表示しなくても、放射線検出センサ１０２がＸ線撮影に適さない状態になっていることを把握することができる。また、制御部１０３ｂは、前述した判定の結果に基づいて、放射線検出センサ１０２がＸ線撮影に適さない状態から復帰するのを待ち、制限を解除してもよい。また、Ｘ線撮影に適さない状態でない場合は、Ｘ線撮影に適さない状態でないことを表示部１０３ｄにより表示させなくてもよい。
【００３８】
以上のように本実施形態では、情報処理装置１０３は、光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号に含まれる画素値を監視し、その結果を示す情報を表示する。従って、撮影前に放射線撮影装置の状態をユーザーに把握させることが可能となる。また、Ｘ線画像の被写体（人物）の誤診に繋がるようなＸ線画像が撮影されたり、違和感のあるＸ線画像が撮影されたりすることを、Ｘ線画像の撮影の前に予めユーザーに把握させることが可能となる。
【００３９】
（第２の実施形態）
次に、第２の実施形態を説明する。第１の実施形態では、Ｘ線撮影を行わない状態で、放射線検出センサ１０２がＸ線撮影に適する状態であるか否かを判定する場合を例に挙げて説明した。これに対し、本実施形態では、Ｘ線撮影を行った上で、放射線検出センサ１０２がＸ線撮影に適する状態であるか否かを判定する場合について説明する。このように本実施形態は、第１の実施形態に対し、Ｘ線撮影に適する状態であるか否かの判定に際してＸ線撮影を行うための処理が追加されたものとなる。従って、本実施形態の説明において、第１の実施形態と同一の部分については、図１〜図６に付した符号と同一の符号を付す等して詳細な説明を省略する。
【００４０】
本実施形態の放射線撮影システムの構成は、図１および図３に示したものと同じもので実現することができる。放射線撮影システムにおける処理（図４のフローチャート）の一部が第１の実施形態と異なる。以下、図７のフローチャートを参照しながら、被写体Ｐの撮影準備開始から撮影までの処理の一例を説明する。
ステップＳ７１００からステップＳ７１０２までの処理は、第１の実施形態で説明したステップＳ４１００からステップＳ４１０２までの処理と同じである。ステップＳ７１０３の前に、第１の実施形態で説明したステップＳ４１０３からステップＳ４１０５の処理を行ってもよい。
【００４１】
ステップＳ７１０３では、制御部１０３ｂは、Ｘ線照射部１０１に対して、ステップＳ７１００で設定された撮影条件に基づいてＸ線撮影を行うことを指示する。これにより、放射線撮影装置１０２によりＸ線画像が撮影される。
次に、ステップＳ７１０４では、放射線検出センサ１０２は、Ｘ線画像の各画素からの出力信号を取得して演算部１０３ｃへ送信する。また、放射線検出センサ１０２は、Ｘ線画像の画素からの出力信号のうち、光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号を取得して演算部１０３ｃへ送信する。本実施形態では、例えば、ステップＳ７１０４で取得される光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号により、前記有効画素領域に放射線が照射された状態で得られた前記光遮蔽画素からの出力信号の一例が実現される。
【００４２】
次に、ステップＳ７１０５では、演算部１０３ｃは、Ｘ線画像データに対し、補正処理を行い、補正処理を行ったＸ線画像データを表示部１０３ｄへ送信する。表示部１０３ｄは、演算部１０３ｃから送信されたＸ線画像のデータに基づいて、Ｘ線画像を表示する。
次に、ステップＳ７１０６では、演算部１０３ｃは、ステップＳ７１０２で記録した光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号の情報と、ステップＳ７１０４で取得した光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号の情報とを比較する。演算部１０３ｃは、当該比較の結果に基づいて、診断の妨げや違和感に繋がるシェーディング等が発生しているか否かを判定する。演算部１０３ｃは、当該判定の結果を示す情報を、表示部１０３ｄへ送信する。表示部１０３ｄは、当該判定の結果を示す情報をモニタ等に表示させる。
【００４３】
本実施形態では、例えば、演算部１０３ｃを用いることにより、前記光遮蔽画素からの出力信号の値を監視する監視手段の一例が実現される。また、本実施形態では、例えば、演算部１０３ｃがステップＳ７１０６における比較を行うことにより、相互に異なる複数のタイミングで得られた前記光遮蔽画素からの出力信号の値を監視することの一例が実現される。また、本実施形態では、例えば、演算部１０３ｃを用いることにより、前記監視手段による監視の結果を示す情報を表示装置に表示させる表示制御手段の一例が実現される。
【００４４】
次に、ステップＳ７１０７では、撮影条件設定部１０３ａは、ユーザーによるユーザインタフェースに対する操作の内容に基づいて、Ｘ線撮影の指示の有無があったかどうかを示す操作情報を制御部１０３ｂに送信する。制御部１０３ｂは、当該操作情報に基づいて、被写体ＰのＸ線撮影を行うか否かを判定する。この判定の結果、Ｘ線撮影を行わない場合、撮影を終了する。一方、Ｘ線撮影を行う場合、処理は、前述したステップＳ７１０３に戻る。ステップＳ７１０７において、Ｘ線撮影を行わないと判定された場合に、図４のステップＳ４１０１〜Ｓ４１０５の処理を行ってもよい。本実施形態では、例えば、制御部１０３ｂを用いることにより、前記表示制御手段により、前記監視手段による監視の結果を示す情報が表示装置に表示された後に、被写体の放射線画像の撮影を指示する撮影制御手段の一例が実現される。
【００４５】
ステップＳ７１０６における判定の方法および判定の結果の表示の内容は、第１の実施形態で説明したステップＳ４１０４におけるものと同じである。本実施形態においても、第１の実施形態で説明した種々の判定の方法および表示の方法を採用することができる。
以上のようにしても第１の実施形態と同一の効果が得られる。尚、第１の実施形態および第２の実施形態では、有効画素領域内の光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号に含まれる画素値を監視し、その結果を示す情報を表示する場合を例に挙げて説明した。しかしながら、必ずしもこのようにする必要はない。即ち、有効画素領域外の光遮蔽（ＯＢ）画素からの出力信号に含まれる画素値を監視し、その結果を示す情報を表示してもよい。
【００４６】
尚、前述した各実施形態は、何れも本発明を実施するにあたっての具体化の例を示したものに過ぎず、これらによって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されてはならないものである。すなわち、本発明はその技術思想、又はその主要な特徴から逸脱することなく、様々な形で実施することができる。
【００４７】
（その他の実施形態）
本発明は、前述の実施形態の１以上の機能を実現するプログラムを、ネットワーク又は記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける１つ以上のプロセッサーがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能である。また、１以上の機能を実現する回路（例えば、ＡＳＩＣ）によっても実現可能である。
【符号の説明】
【００４８】
１０１：Ｘ線照射部、１０２：放射線検出センサ、１０３：情報処理装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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