(57)【要約】【課題】仮置きされたウエハ搬送容器内からのガス流出等による局所的な酸素濃度低下などの問題を防止する。【解決手段】  半導体工場内でウエハ搬送容器を移送するＯＨＴの走行レールに併設される前記ウエハ搬送容器の仮置きストッカであって、前記ウエハ搬送容器を載置する載置棚と、前記載置棚に載置された前記ウエハ搬送容器の内部に接続し、清浄化ガスを流入させるガス供給部と、前記載置棚に載置された前記ウエハ搬送容器の周辺空間のガスを回収するコレクタと、を有する仮置きストッカ。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体工場内でウエハ搬送容器を移送するＯＨＴの走行レールに併設される前記ウエハ搬送容器の仮置きストッカであって、
前記ウエハ搬送容器を載置する載置棚と、
前記載置棚に載置された前記ウエハ搬送容器の内部に接続し、清浄化ガスを流入させるガス供給部と、
前記載置棚に載置された前記ウエハ搬送容器の周辺空間のガスを回収するコレクタと、
を有する仮置きストッカ。
【請求項２】
前記コレクタは、前記周辺空間のガスが流入する流入開口部を有し、
前記流入開口部は、前記載置棚に載置されており蓋で閉止された前記ウエハ搬送容器の主開口に隣接して設けられる請求項１に記載の仮置きストッカ。
【請求項３】
前記コレクタは、前記周辺空間のガスが流入する流入開口部を有し、
前記コレクタは、前記載置棚に載置された前記ウエハ搬送容器の下方に設けられる請求項１または請求項２に記載の仮置きストッカ。
【請求項４】
前記コレクタは、前記周辺空間のガスが流入する流入開口部を有し、
前記流入開口部は上向きに開口していることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかに記載の仮置きストッカ。
【請求項５】
前記コレクタは、前記周辺空間のガスが流入する流入開口部を有し、
前記流入開口部は前記ウエハ搬送容器の蓋を向くように開口していることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれかに記載の仮置きストッカ。
【請求項６】
前記載置棚は、複数の前記ウエハ搬送容器を載置可能であり、
前記コレクタは、前記載置棚に載置される前記複数の前記ウエハ搬送容器の前記周辺空間のガスを回収する請求項１から請求項５までのいずれかに記載の仮置きストッカ。
【請求項７】
前記コレクタによる前記周辺空間のガスの回収を開始及び停止させる制御部を有する請求項１から請求項６までのいずれかに記載の仮置きストッカ。
【請求項８】
前記載置棚に載置された前記ウエハ搬送容器の内部に接続し、前記ウエハ搬送容器内からガスを流出させるガス排出部を有する請求項１から請求項７までのいずれかに記載の仮置きストッカ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＯＨＴの走行レールに併設される、ウエハ搬送容器の仮置きストッカに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体工場では、各処理装置に対して、処理対象となるウエハを自動搬送するための搬送システムが用いられており、その一つとして、ＯＨＴ（Overhead Hoist Transfer、天井走行式無人搬送車）を用いるシステムが挙げられる。ＯＨＴを用いる搬送システムでは、半導体工場の天井に設けられる走行レールを、多数のＯＨＴが走行することにより、ウエハを収容したウエハ搬送容器を、ストッカから処理装置へ、処理装置から処理装置へ、処理装置からストッカへ、あるいはストッカからストッカへ移動させることができる。
【０００３】
ＯＨＴを用いる搬送システムでは、特定のウエハ搬送容器を迅速に処理装置やストッカへ移動させるために、ＯＨＴの走行レールに併設される仮置きストッカを有するものが提案されている。このような仮置きストッカは、所定のウエハ搬送容器を、他のウエハ搬送容器の移動を妨げないように一時的に走行レールから外すことができるため、ウエハ搬送容器の搬送効率を上昇させることができる。また、仮置きストッカにウエハ搬送容器を一時的に配置することにより、所定の処理装置で処理の終わったウエハ搬送容器を、集積位置であるストッカまで移動させることなく、次の処理装置へ搬送させることができる。
【０００４】
また、仮置きストッカを備える搬送システムでは、仮置きストッカに配置されたウエハ搬送容器内のウエハの酸化等を防止する目的から、仮置き中のウエハ搬送容器内に清浄化ガスを供給する技術が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第２０１６／０４７２６０号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、仮置きストッカのウエハ搬送容器内に清浄化ガスを供給する場合、供給する清浄化ガスやストッカ内のガスが、ウエハ搬送容器の周辺に漏洩する場合があり、工場内における局所的な酸素濃度低下を引き起こす恐れがある。また、従来の装置は、清浄化ガスの漏洩を抑制するために清浄化ガスの流入速度を抑制する必要が生じるため、仮置きストッカにおけるウエハ搬送容器の迅速な清浄化に支障があった。
【０００７】
本発明は、このような実情に鑑みてなされ、その目的は、仮置きされたウエハ搬送容器内からのガス流出等による局所的な酸素濃度低下などの問題を防止できる仮置きストッカを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明に係る仮置きストッカは、
半導体工場内でウエハ搬送容器を移送するＯＨＴの走行レールに併設される前記ウエハ搬送容器の仮置きストッカであって、
前記ウエハ搬送容器を載置する載置棚と、
前記載置棚に載置された前記ウエハ搬送容器の内部に接続し、清浄化ガスを流入させるガス供給部と、
前記載置棚に載置された前記ウエハ搬送容器の周辺空間のガスを回収するコレクタと、を有する。
【０００９】
本発明に係る仮置きストッカは、載置棚に載置されたウエハ搬送容器の周辺空間のガスを回収するコレクタを有するため、仮置きされたウエハ搬送容器内やガス供給部の接続部分からのガス漏出による局所的な酸素濃度低下を防止できる。また、たとえ仮置きストッカからガスが流出してもコレクタにより回収することが可能であるため、ガス供給部によるウエハ搬送容器内への清浄化ガスの流入速度を上昇させ、効率的な清浄化を行うことが可能である。
【００１０】
また、例えば、前記コレクタは、前記周辺空間のガスが流入する流入開口部を有し、
前記流入開口部は、前記載置棚に載置されており蓋で閉止された前記ウエハ搬送容器の主開口に隣接して設けられていてもよい。
【００１１】
コレクタの流入開口部を、ウエハ搬送容器の主開口に隣接して設けることにより、蓋で閉止した主開口から漏出したガスを、コレクタによって効率的に回収することができる。
【００１２】
また、例えば、前記コレクタは、前記周辺空間のガスが流入する流入開口部を有し、
前記コレクタは、前記載置棚に載置された前記ウエハ搬送容器の下方に設けられていてもよい。
【００１３】
また、例えば、前記コレクタは、前記周辺空間のガスが流入する流入開口部を有し、
前記流入開口部は上向きに開口していてもよい。
【００１４】
このようなコレクタは、天井近くの仮置きストッカから、半導体工場内で人が通過する可能性のある床の近くへ、窒素などの清浄化ガスや、ウエハ搬送容器から漏出したガスが流れることを効果的に防止できる。
【００１５】
また、例えば、前記コレクタは、前記周辺空間のガスが流入する流入開口部を有し、
前記流入開口部は前記ウエハ搬送容器の蓋を向くように開口してもよい。
【００１６】
コレクタの流入開口部を、ウエハ搬送容器の蓋を向くように開口させることにより、蓋で閉止した主開口から漏出したガスを、コレクタによって効率的に回収することができる。
【００１７】
また、例えば、前記載置棚は、複数の前記ウエハ搬送容器を載置可能であり、
前記コレクタは、前記載置棚に載置される前記複数の前記ウエハ搬送容器の前記周辺空間のガスを回収してもよい。
【００１８】
載置棚に複数のウエハ搬送容器が仮置きされると、ガスの漏出量が大きくなる傾向があるが、上述のようなコレクタを有する仮置きストッカは、仮置きされたウエハ搬送容器内やガス供給部の接続部分からのガス漏出による局所的な酸素濃度低下を防止できる。
【００１９】
また、例えば、本発明に係る仮置きストッカは、前記コレクタによる前記周辺空間のガスの回収を開始及び停止させる制御部を有してもよい。
【００２０】
このような制御部を有する仮置きストッカは、例えば載置棚にウエハ搬送容器が載置されてない場合や、ガス供給部からの清浄化ガスの供給が行われていない場合などに、コレクタによる周辺空間のガスの回収を停止させることができる。
【００２１】
また、例えば、本発明に係る仮置きストッカは、前記載置棚に載置された前記ウエハ搬送容器の内部に接続し、前記ウエハ搬送容器内からガスを流出させるガス排出部を有してもよい。
【００２２】
ガス排出部を有することにより、ウエハ搬送容器からのガスの漏出量を抑制するとともに、ガス供給部からウエハ搬送容器内へ、効率的に清浄化ガスを導入することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係る仮置きストッカを備える半導体工場の概念図である。
【図２】図２は、本発明の一実施形態に係る仮置きストッカを上方から見た概念図である。
【図３】図３は、図１に示す仮置きストッカへのウエハ搬送容器の載置動作に関する一状態を表す概念図である。
【図４】図４は、図１に示す仮置きストッカへのウエハ搬送容器の載置動作に関する他の一状態を表す概念図である。
【図５】図５は、図１に示す仮置きストッカが有するコレクタの拡大斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
図１は、本発明の一実施形態に係る仮置きストッカ２０を備える半導体工場１００の概念図である。図１に示すように、半導体工場１００において、処理対象であるウエハは、処理装置９６等の内部を除き、フープ（ＦＯＵＰ）８０などのウエハ搬送容器に収容された状態で搬送される。半導体工場１００内には、フープ８０を保管するストッカ９４や、ウエハに対して処理を行う処理装置９６が備えられている。
【００２５】
図１では、１つのストッカ９４と一つの処理装置９６のみが表示されているが、半導体工場１００内には、通常、より多くの処理装置９６及びストッカ９４が備えられており、フープ８０は、ウエハを自動搬送するための搬送システム９０によって、これらの処理装置９６及びストッカ９４の間で搬送される。
【００２６】
図１に示すように、搬送システム９０は、走行レール９２と、走行レール９２上を移動するＯＨＴ９３とを有している。走行レール９２は、半導体工場１００の天井付近に設けられており、ＯＨＴ９３は、走行レール９２に沿って半導体工場１００内を移動する。たとえば、ＯＨＴ９３は、ストッカ９４に保管されており、処理前のウエハが収容されるフープ８０を、ストッカ９４から処理装置９６に備えられるロードポート装置９８まで搬送する。さらに、ＯＨＴ９３は、処理済みのウエハが収容されたフープ８０を、処理装置９６のロードポート装置９８から、ストッカ９４まで搬送する。
【００２７】
ＯＨＴ９３は、走行レール９２に沿って移動することに加え、フープ８０を昇降移動させる図示しない昇降装置や、フープ８０を走行レール９２の側方（走行方向に直交する方向）に移動させる横送り装置（図２、３参照）を有している。ＯＨＴ９３は、走行レール９２に沿って移動しながら、昇降装置や横送り装置を用いることにより、ウエハ８４（図４参照）を収容したフープ８０を、半導体工場１００内の所定の位置から他の所定の位置まで移動させることができる。図１では、１つのＯＨＴ９３のみが表示されているが、半導体工場１００内では、通常複数のＯＨＴ９３が用いられる。
【００２８】
図１に示すように、半導体工場１００には、仮置きストッカ２０が備えられている。仮置きストッカ２０は、半導体工場１００内でフープ８０を移送するＯＨＴ９３の走行レール９２に併設される。仮置きストッカ２０は、処理装置９６の周辺における走行レール９２に併設されており、仮置きストッカ２０の載置棚２２は、半導体工場１００の天井１００ａ付近に設けられる。
【００２９】
仮置きストッカ２０の載置棚２２は、処理装置９６（もしくはこれに併設されるＥＦＥＭ）にアクセスするロードポート装置９８の載置台より走行レール９２に近く、ロードポート装置９８の載置台より高い位置であって、処理装置９６へのフープ８０の移送を妨げない位置に設けられることが好ましい。載置棚２２は、半導体工場１００の天井１００ａ（図３参照）から吊り下げられる形で設置することが好ましいが、仮置きストッカ２０を支えることができる態様であれば、載置棚２２の設置態様は特に限定されない。
【００３０】
仮置きストッカ２０は、処理装置９６における処理前後のウエハ８４を収容するフープ８０を、ストッカ９４に近い位置で一時的に保管することにより、半導体工場１００内でのフープ８０の移送を効率的に行わせることができる。また、後述するように、仮置きストッカ２０は、フープ８０の内部に清浄化ガスを流入させるガス供給部２４を有しているため、処理装置９６における処理前後のウエハ８４を収容するフープ８０内を清浄化することができる。仮置きストッカ２０においてフープ８０内の清浄化を行うことにより、フープ８０内に収容されたウエハ８４が、仮置きストッカ２０に載置されている間に酸化する問題を防止できるとともに、ロードポート装置９８などで行うフープ８０の清浄化処理を、仮置きストッカ２０が代替することにより、ロードポート装置９８による処理時間を短縮することができる。
【００３１】
仮置きストッカ２０の載置棚２２には、１つのフープ８０のみが載置可能であってもよいが、図１に示すように、複数のウエハ搬送容器としてフープ８０が載置可能であってもよい。仮置きストッカ２０は、載置棚２２に載置されるフープ８０を覆う筐体（カバー）を有していない。したがって、仮置きストッカ２０の載置棚２２に載置されたフープ８０は、ストッカ９４に保管されるフープ８０とは異なり、半導体工場１００内の環境に露出している。ただし、仮置きストッカ２０は、載置されるフープ８０を覆うカバーを有していてもよい。
【００３２】
図２は、図１に示す仮置きストッカ２０を上方（天井側）から見た概念図である。図２に示す例では、ＯＨＴ９３の走行レール９２の左側に、２つの仮置きストッカ２０が連続して併設されている。仮置きストッカ２０は、図１に示すように、走行レール９２を挟んで両側に設けられていてもよく、図２に示すように、走行レール９２の片側に、複数の仮置きストッカ２０が、並んで配置されていてもよい。
【００３３】
図２に示すように、仮置きストッカ２０は、フープ８０を載置する載置棚２２と、載置棚２２に載置されたフープ８０の周辺空間のガスを回収するコレクタ３０とを有する。また、仮置きストッカ２０は、載置棚２２に載置されたフープ８０の内部に接続し、フープ８０の内部に清浄化ガスを流入させるガス供給部２４と、載置棚２２に載置されたフープ８０の内部に接続し、フープ８０内からガスを流出させるガス排出部２６とを有する。
【００３４】
図２に示すように、載置棚２２は、それぞれ１つのフープ８０を載置できる第１載置部２２ａ、第２載置部２２ｂ、第３載置部２２ｃを有しており、１つの仮置きストッカ２０の載置棚２２には、最大３つのフープ８０を載置することができる。図２下方の第２載置部２２ｂに示すように、ＯＨＴ９３で移送されるフープ８０は、ＯＨＴ９３の横送り装置９３ａにより、走行レール９２の直下から、走行レール９２に併設される載置棚２２に受け渡される。
【００３５】
載置棚２２の第１載置部２２ａ〜第３載置部２２ｃには、それぞれ、ガス供給部２４の一部であるガス供給ノズルと、ガス排出部２６の一部である排出ノズルとが、２つずつ設けられている。ガス供給部２４のガス供給ノズルは、載置棚２２に載置されたフープ８０の底部に形成された導入孔（不図示）に接続する。ガス供給ノズルには窒素などの清浄化ガスが供給されるため、載置棚２２に載置されたフープ８０の内部には、フープ８０の導入孔を介して清浄化ガスを導入することができる。
【００３６】
これに対して、ガス排出部２６のガス排出ノズルは、載置棚２２に載置されたフープ８０の底部に形成された排出孔（不図示）に接続する。排出ノズルはフープ８０内より圧力の低い排出流路に接続されており、ガス排出部２６は、載置棚２２に載置されたフープ８０内からガスを流出させることができる。また、仮置きストッカは、載置棚２２に載置されたフープ８０に対して、ガス供給部２４からフープ８０内に清浄化ガスを導入するとともに、ガス排出部２６からフープ８０内のガスを排出することにより、効率的にフープ８０内を清浄化することができる。
【００３７】
図２に示すように、仮置きストッカ２０が有するコレクタ３０は、周辺空間のガスが流入する流入開口部３２を有している。仮置きストッカ２０のコレクタ３０は、３つの流入開口部３２を有しており、それぞれの流入開口部３２は、載置棚２２の各第１〜第３載置部２２ａ〜２２ｃに対応して設けられている。コレクタ３０は、載置棚２２に載置される複数のフープ８０の周辺空間のガスを回収する。
【００３８】
図５は、図２に示す流入開口部３２を拡大して表示したものである。コレクタ３０の流入開口部３２は、上面が開口面３２ａとなっている中空の略直方形状を有しており、流入開口部３２は上向きに開口している。流入開口部３２の下面には、半導体工場１００内より圧力の低い排出ダクト（不図示）に繋がる排出経路３６が接続しており、コレクタ３０は、流入開口部３２を介して半導体工場１００の空気を吸い込むことができる。
【００３９】
図３は、図２に示す仮置きストッカ２０を走行レール９２に沿う方向から観察した概念図である。図３は、ＯＨＴ９３が、ＯＨＴ９３によって保持されるフープ８０を、仮置きストッカ２０に受け渡すために、仮置きストッカ２０の側方に停止した状態を表している（図２の上方に示されるＯＨＴ９３を参照）。図３に示すように、仮置きストッカ２０の載置棚２２は、高さ方向に関して、載置棚２２の上面が、走行レール９２を走行中のＯＨＴ９３に保持されるフープ８０の底面と略同じ高さになるように配置される。
【００４０】
図４は、図３と同様に、仮置きストッカ２０を走行レール９２に沿う方向から観察した概念図である。図４は、仮置きストッカ２０の側方に停止したＯＨＴ９３が、保持するフープ８０を、仮置きストッカ２０に受け渡している状態を表している（図２の下方に示されるＯＨＴ９３を参照）。図４に示すように、ＯＨＴ９３は、横送り装置９３ａを用いて、保持するフープ８０を走行レールの延びる方向とは直交する方向に移動させ、走行レール９２に併設される仮置きストッカの棚に、フープ８０を載置する。
【００４１】
図４に示すように、ＯＨＴ９３は、蓋８２で閉止されたフープ８０の主開口８０ａが、走行レール９２とは反対側を向くように、載置棚２２に対してフープ８０を載置する。また、載置棚２２に載置されるフープ８０は、主開口８０ａ側の端部が載置棚２２に対して水平方向にはみ出すように載置される。
【００４２】
図４に示すように、コレクタ３０の流入開口部３２は、載置棚２２に載置されており蓋８２で閉止されたフープ８０の主開口８０ａに隣接して設けられる。また、コレクタ３０の流入開口部３２は、その開口面３２ａが載置棚２２の上面と略同じ高さになるように配置されており、載置棚２２からはみ出したフープ８０の一部が、開口面３２ａの直上に位置するようになっている。
【００４３】
図４に示すように、コレクタ３０の流入開口部３２は、排出経路３６を介して排気ダクトに接続されており、排出経路３６には、制御部６０によって開閉を切替可能な弁３４が備えられる。排気経路３６の構造は、直管を接手で連結したものであってもよく、蛇腹の配管であってもよく、半導体工場１００の天井１００ａに設置可能な構造であれば、特に限定されない。
【００４４】
制御部６０は、排出経路３６の弁３４の開閉を切り替えることにより、コレクタ３０によるフープ８０の周辺空間のガスの回収を、開始及び停止させることができる。排出経路３６及び弁３４は、コレクタ３０の流入開口部３２毎に設けられており、制御部６０は、流入開口部３２毎に、ガス回収の開始及び停止を制御できる。
【００４５】
制御部６０は、半導体工場１００が稼働中は常に、コレクタ３０によるガスの回収を続けてもよいが、仮置きストッカ２０や排気ダクトの状態に応じて、コレクタ３０によるガス回収の開始及び停止を制御してもよい。たとえば、制御部６０は、図２の上方に示す仮置きストッカ２０の第３載置部２２ｃ（図４参照）のように、フープ８０が載置されている載置部２２ｃに対応する流入開口部３２からは周辺空間のガス回収を行い、フープ８０が載置されていない載置部については、ガスの回収を停止することができる。
【００４６】
また、制御部６０は、図４に示すガス供給部２４によるフープ８０内への清浄化ガスの導入に同期して、コレクタ３０によるガス回収の開始及び停止を制御してもよい。たとえば、制御部６０は、ガス供給部２４からフープ８０内に清浄化ガスを導入している間はコレクタ３０による周辺空間のガス回収を行い、ガス供給部２４からフープ８０内に清浄化ガスが導入されていない場合は、コレクタ３０によるガスの回収を停止することができる。フープ８０に清浄化ガスを供給している間は、フープ８０内の内圧が高まる傾向にあり、フープ８０からのガスの漏洩が多くなる傾向があるためである。
【００４７】
さらに、制御部６０は、ガス供給部２４によるフープ８０内への清浄化ガス導入流量を変更可能であってもよく、この場合、制御部６０は、フープ８０内への清浄化ガス導入流量に応じて、コレクタ３０によるガス回収の開始及び停止を制御してもよい。たとえば、制御部６０は、ガス供給部２４によるフープ８０内へのガス流量が所定値以上である場合にはコレクタ３０による周辺空間のガス回収を行い、フープ８０内へのガス流量が所定値未満である場合にはコレクタ３０によるガス回収を停止する。フープ８０へ導入するガスの流量が多いと、フープ８０からのガスの漏洩が多くなる傾向があるためである。
【００４８】
また、制御部６０は、工場内のコレクタ３０によるガスの単位時間における回収量を、半導体工場１００内におけるダウンフローの形成に影響を与えないように、所定の範囲に制限してもよい。このような場合において、半導体工場１００内にある全ての仮置きストッカ２０の制御部６０は、半導体工場１００のＨＯＳＴコンピュータに対して、コレクタ３０によるガスの回収状態に関するデータを通信し、さらに、ＨＯＳＴコンピュータから受信した指令に基づき、コレクタ３０によるガス回収動作を制御することができる。
【００４９】
上述の実施形態で示したように、図１〜図５に示す仮置きストッカ２０は、載置棚２２に載置されたフープ８０の周辺空間のガスを回収するコレクタ３０を有するため、仮置きされたフープ８０やガス供給部２４の接続部分等からのガス漏出による、局所的な酸素濃度低下を防止できる。また、たとえ仮置きストッカ２０に載置されたフープ８０の内部等からガスが流出しても、コレクタ３０により漏出したガスを回収することが可能であるため、仮置きストッカ２０は、ガス供給部２４によるフープ８０内への清浄化ガスの流入速度を上昇させることが可能であり、フープ８０の清浄化を効率的に行うことが可能である。
【００５０】
コレクタ３０の流入開口部３２は、ガス供給部２４によるフープ８０内への清浄化ガスの導入時等において、フープ８０内のガスが漏出する可能性がある主開口８０ａの近くに設けることが、フープ８０から漏出したガスを効率的に回収する観点から好ましい。また、流入開口部３２の開口方向は、同様の理由から、フープ８０の主開口８０ａや蓋８２を向くように配置してもよい。さらに、流入開口部３２を載置棚２２の下方に配置し、流入開口部３２の開口方向を上向きとすることにより、半導体工場１００の床１００ｂ側へ、フープ８０から漏出したガスが流れる問題を、効果的に防止できる。
【００５１】
以上のように、実施形態を挙げて仮置きストッカ２０を説明したが、本発明に係る仮置きストッカは、上述した実施形態のみに限定されるものではなく、他の多くの変形例を含むことは言うまでもない。たとえば、図５に示す流入開口部３２の開口面３２ａの形状は四角形に限定されず、円形、楕円形、スリット状、多孔形状その他の形状であってもよい。
【００５２】
また、図３及び図４に示すように、流入開口部３２が上向きに開口する状態には、開口面３２ａが直上を向く態様だけでなく、開口面３２ａが斜め上方向を向く態様も含まれる。また、流入開口部３２は、水平方向に開口していてもよい。
【００５３】
また、図２に示すように、コレクタ３０は、各載置部２２ａ〜２２ｃに対応する流入開口部３２を有していてもよいが、変形例に係る仮置きストッカでは、流入開口部は連続していてもよく、コレクタは、仮置きストッカ２０に含まれる載置部２２ａ〜２２ｃに対して共通の流路開口部を有していてもよい。また、図２に示すように、コレクタ３０は、載置棚２２に載置される複数のフープ８０の漏出ガスを回収してもよいが、コレクタ自体が、各載置部２２ａ〜２２ｃ毎に、１つずつ設けられていてもよい。
【符号の説明】
【００５４】
２０…仮置きストッカ
２２…載置棚
２４…ガス供給部
２６…ガス排出部
３０…コレクタ
３２…流入開口部
３２ａ…開口面
３４…弁
３６…排気流路
６０…制御部
８０…フープ
８０ａ…主開口
８２…蓋
８４…ウエハ
９０…搬送システム
９２…走行レール
９３…ＯＨＴ
９３ａ…横送り装置
９４…ストッカ
９６…処理装置
９８…ロードポート装置
１００…半導体工場
１００ａ…天井
１００ｂ…床
【図１】
2019102617.tif 000003
【図２】
2019102617.tif 000004
【図３】
2019102617.tif 000005
【図４】
2019102617.tif 000006
【図５】
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