(57)【要約】【課題】ソフトパック電池の負極耳と正極耳の製造方法を提供する。【解決手段】本発明におけるソフトパック電池の負極耳の製造方法のステップについて次のように分けて説明する。銅箔基板に対して実行する清浄化と表面粗化、ニッケル膜のめっき、ニッケル膜に対して実行する清浄化と表面粗化、不動態化金属膜のめっき、や不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化などのステップを含む。かかるソフトパック電池の正極耳の製造方法のステップについて次のように分けて説明する。アルミ箔基板に対して実行する清浄化と表面粗化、不動態化金属膜のめっき、不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化、や接着剤付けなどのステップを含む。【選択図】図１
2019102436.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記のステップを含むソフトパック電池の負極耳の製造方法であって、
プラズマを利用して適当な気体分子をイオン、電子、遊離基などの高反応性の粒子に迄分解し、これらの高反応性の粒子で室温において銅箔基板１１の少なくとも１つの表面に対して清浄化処理を施すと同時に、前記銅箔基板１１の表面粗さを高める銅箔基板に対して実行する清浄化と表面粗化１０のステップと、
真空スパッタリング法により前記銅箔基板１１の粗面にニッケル膜２１をめっきして、前述した銅箔基板１１の表面粗化により前記ニッケル膜２１と前記銅箔基板１１との付着強度を高めるニッケル膜のめっき２０のステップと、
プラズマを利用して適当な気体分子をイオン、電子、遊離基などの高反応性の粒子に迄分解し、これらの高反応性の粒子で室温において前記ニッケル膜２１の表面に対して清浄化処理を施すと同時に、前記ニッケル膜２１の表面粗さを高めるニッケル膜に対して実行する清浄化と表面粗化３０のステップと、
本ステップは、主に前記ニッケル膜２１上に真空スパッタリング法によりさらに主に前記負極耳の電解液による侵食を防止して前記負極耳が溶解されないように保護するための不動態化金属膜４１をめっきして、前述したニッケル膜２１の表面粗化により前記不動態化金属膜４１と前記ニッケル膜２１との付着強度を高める不動態化金属膜のめっき４０のステップと、
プラズマを利用して適当な気体分子をイオン、電子、遊離基などの高反応性の粒子に迄分解し、これらの高反応性の粒子で室温において前記不動態化金属膜４１の表面に対して清浄化処理を施すと同時に、前記不動態化金属膜４１の表面粗さを高める不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化５０のステップとを含むことを特徴とする、ソフトパック電池の負極耳の製造方法。
【請求項２】
前記銅箔基板に対して実行する清浄化と表面粗化１０、前記ニッケル膜のめっき２０、前記ニッケル膜に対して実行する清浄化と表面粗化３０、前記不動態化金属膜のめっき４０、や前記不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化５０などのステップを、それぞれ順次に前記銅箔基板１１の異なる両面に同時に実行することを特徴とする、請求項１に記載のソフトパック電池の負極耳の製造方法。
【請求項３】
前記負極耳の構造上に接着剤層６１を部分環状に設置して、前記接着剤層６１の異なる両面上にそれぞれ絶縁テープ６２を貼合する接着剤付け６０のステップをさらに含むことを特徴とする、請求項１または請求項２に記載のソフトパック電池の負極耳の製造方法。
【請求項４】
前記不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化５０のステップにおいて、選定された気体が酸素ガスである場合、これにより前記不動態化金属膜４１上にさらに金属酸化膜が形成されることを特徴とする、請求項３に記載のソフトパック電池の負極耳の製造方法。
【請求項５】
前記不動態化金属膜のめっき４０のステップにおいて、スパッタリングのために選定された金属がクロムであり、前記金属酸化膜のために選定された材料が三酸化二クロムであることを特徴とする、請求項４に記載のソフトパック電池の負極耳の製造方法。
【請求項６】
前記銅箔基板に対して実行する清浄化と表面粗化１０のステップにおいて、その操作時間を５分に設定し、作用圧力を５ミリトル（ｍｔｏｒｒ）に設定し、前述した気体が、水素ガス、アルゴンガス及び酸素ガスからなる群より選択される少なくとも１種であり、水素ガスが選定された時、その流量を５ｓｃｃｍ（ｓｔａｎｄａｒｄ−ｓｔａｔｅ  ｃｕｂｉｃ  ｃｅｎｔｉｍｅｔｅｒ  ｐｅｒ  ｍｉｎｕｔｅ，立方センチメートル毎分）に設定し、アルゴンガスが選定された時、その流量を２０ｓｃｃｍに設定し、酸素ガスが選定された時、その流量を２０ｓｃｃｍに設定することを特徴とする、請求項５に記載のソフトパック電池の負極耳の製造方法。
【請求項７】
前記ニッケル膜のめっき２０のステップにおいて、スパッタリング環境下に水素ガスとアルゴンガスとを同時に加え、前記水素ガスの流量を５ｓｃｃｍに設定して、アルゴンガスの流量を２５ｓｃｃｍに設定することを特徴とする、請求項６に記載のソフトパック電池の負極耳の製造方法。
【請求項８】
前記ニッケル膜に対して実行する清浄化と表面粗化３０のステップにおいて、その操作時間を１分３０秒に設定して、作用圧力を２ミリトル（ｍｔｏｒｒ）に設定し、前述した気体が、水素ガス、アルゴンガス及び酸素ガスからなる群より選択される少なくとも１種であり、水素ガスが選定された時、その流量を５ｓｃｃｍに設定し、アルゴンガスが選定された時、その流量を２０ｓｃｃｍに設定し、酸素ガスが選定された時、その流量を２０ｓｃｃｍに設定することを特徴とする、請求項７に記載のソフトパック電池の負極耳の製造方法。
【請求項９】
前記不動態化金属膜のめっき４０のステップにおいて、さらにスパッタリング環境下に水素ガスとアルゴンガスとを同時に加え、前記水素ガスの流量を５ｓｃｃｍに設定して、アルゴンガスの流量を２０ｓｃｃｍに設定することを特徴とする、請求項８に記載のソフトパック電池の負極耳の製造方法。
【請求項１０】
前記不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化５０のステップにおいて、その操作時間を１分３０秒に設定して、作用圧力を２ミリトル（ｍｔｏｒｒ）に設定し、前述した気体が、水素ガス、アルゴンガス及び酸素ガスからなる群より選択される少なくとも１種であり、水素ガスが選定された時、その流量を５ｓｃｃｍに設定し、アルゴンガスが選定された時、その流量を２０ｓｃｃｍに設定し、酸素ガスが選定された時、その流量を２０ｓｃｃｍに設定することを特徴とする、請求項９に記載のソフトパック電池の負極耳の製造方法。
【請求項１１】
下記のステップを含むソフトパック電池の正極耳の製造方法であって、
プラズマを利用して適当な気体分子をイオン、電子、遊離基などの高反応性の粒子に迄分解し、これらの高反応性の粒子で室温においてアルミ箔基板７１の少なくとも１つの表面に対して清浄化処理を施すと同時に、前記アルミ箔基板７１の表面粗さを高めるアルミ箔基板に対して実行する清浄化と表面粗化７０のステップと、
本ステップは、主に前記アルミ箔基板７１の表面粗化を経た一面上に真空スパッタリング法により主に正極耳の電解液による侵食を防止して前記正極耳が溶解されないように保護するための不動態化金属膜８１をめっきして、表面粗化を経た後の前記アルミ箔基板７１により前記不動態化金属膜８１と前記アルミ箔基板７１との付着強度を高める不動態化金属膜のめっき８０のステップと、
プラズマを利用して適当な気体分子をイオン、電子、遊離基などの高反応性の粒子に迄分解し、これらの高反応性の粒子で室温において前記不動態化金属膜８１の表面に対して清浄化処理を施し、前記不動態化金属膜８１の表面を清浄化する以外と共に、前記不動態化金属膜８１の表面粗さを高める不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化９０のステップとを含むことを特徴とする、ソフトパック電池の正極耳の製造方法。
【請求項１２】
前記アルミ箔基板に対して実行する清浄化と表面粗化７０、前記不動態化金属膜のめっき８０、や前記不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化９０などのステップを、それぞれ順次に前記アルミ箔基板７１の異なる両面に同時に実行することを特徴とする、請求項１１に記載のソフトパック電池の正極耳の製造方法。
【請求項１３】
前記正極耳の構造上に接着剤層１０１を部分環状に設置して、前記接着剤層１０１の異なる両面上にそれぞれ絶縁テープ１０２を貼合する接着剤付け１００のステップをさらに含むことを特徴とする、請求項１２に記載のソフトパック電池の正極耳の製造方法。
【請求項１４】
前記不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化９０のステップにおいて、選定された気体が酸素ガスである場合、これにより前記不動態化金属膜８１上にさらに金属酸化膜が形成されることを特徴とする、請求項１１〜１３のいずれか１項に記載のソフトパック電池の正極耳の製造方法。
【請求項１５】
前記不動態化金属膜のめっき８０のステップにおいて、スパッタリングのために選定された金属がクロムであり、前記金属酸化膜のために選定された材料が三酸化二クロムであることを特徴とする、請求項１４に記載のソフトパック電池の正極耳の製造方法。
【請求項１６】
前記アルミ箔基板に対して実行する清浄化と表面粗化７０のステップにおいて、その操作時間を５分に設定し、作用圧力を５ミリトル（ｍｔｏｒｒ）に設定し、前述した気体が、水素ガス、アルゴンガス及び酸素ガスからなる群より選択される少なくとも１種であり、水素ガスが選定された時、その流量を５ｓｃｃｍ（ｓｔａｎｄａｒｄ−ｓｔａｔｅ  ｃｕｂｉｃ  ｃｅｎｔｉｍｅｔｅｒ  ｐｅｒ  ｍｉｎｕｔｅ，立方センチメートル毎分）に設定し、アルゴンガスが選定された時、その流量を２０ｓｃｃｍに設定し、酸素ガスが選定された時、その流量を２０ｓｃｃｍに設定することを特徴とする、請求項１５に記載のソフトパック電池の正極耳の製造方法。
【請求項１７】
前記不動態化金属膜のめっき８０のステップにおいて、さらにスパッタリング環境下に水素ガスとアルゴンガスとを同時に加え、前記水素ガスの流量を５ｓｃｃｍに設定して、アルゴンガスの流量を２０ｓｃｃｍに設定することを特徴とする、請求項１６に記載のソフトパック電池の正極耳の製造方法。
【請求項１８】
前記不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化９０のステップにおいて、その操作時間を１分３０秒に設定して、作用圧力を２ミリトル（ｍｔｏｒｒ）に設定し、前述した気体が、水素ガス、アルゴンガス及び酸素ガスからなる群より選択される少なくとも１種であり、水素ガスが選定された時、その流量を５ｓｃｃｍに設定し、アルゴンガスが選定された時、その流量を２０ｓｃｃｍに設定し、酸素ガスが選定された時、その流量を２０ｓｃｃｍに設定することを特徴とする、請求項１７に記載のソフトパック電池の正極耳の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電極の製造方法に係り、特に、ソフトパック電池の負極耳と正極耳の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、現在市場でよく見られる主流のリチウム電池は、パッケージング形式によって円筒型、角型、ソフトパックといった３種類に大別される。その中、ソフトパック電池は、円筒型と角型といった２種の形態のリチウム電池に比べて多くの利点を有し、これらについて以下のようにまとめることができる。良好な安全性能：ソフトパック電池は、構造上、アルミラミネートフィルム包装が採用され、安全問題が発生する際には、ソフトパック電池は、一般的に鋼ケースやアルミケース電池芯のように突如爆発の発生の心配がなく、ゆっくりとガスで膨張して破裂することとなる。重量軽量化：ソフトパック電池の重量は、同等容量の鋼ケースリチウム電池より４０％軽く、アルミケースリチウム電池より２０％軽いため、比較的に高いエネルギー密度を持つ。内部抵抗小：ソフトパック電池の内部抵抗は、リチウム電池に比べて小さいから、電池の自己消費電力を大いに低減することができる。設計柔軟性：外形が任意の形状に変えることができ、さらに薄型化され、顧客のニーズに応じてオーダーメードが可能となり、新たな電池芯の規格を開発することができる。
【０００３】
ただ、調べによれば、現在、ソフトパック電池の正、負極耳を生産するための方法は、いずれも洗浄、電気めっきや化学めっきなどの手順を含み、伝統的な製造方法は、下記のいくつかの問題点がある。基板の表面洗浄の不十分は、後製造工程の電気めっき膜の不均一性及び電気めっき膜の易剥離性を惹起する要因の一つとなっている。電気めっきや化学めっきによる膜厚を制御し難く、バッチ安定性が劣化してしまう。電気めっきや化学めっきを利用する金属膜の結晶性が悪く、金属膜の表面孔穴に欠陥が多いため、電解液に対する耐食性が好ましくない。不動態化層の表面を処理しないと、接着剤層との間の粘着力が乏しく、接着剤層が剥離し易くなる。上記の数点からは、いずれもリチウム電池のサイクル寿命の低下を引き起こし、ひいては正、負極耳付近に液漏れが起こり、安全への危害を招く危険につながる。このほか、電気めっきや化学めっきにより大量の廃液が発生し、電気めっきにより生じる廃液の汚染物には、通常、油脂、不純物、懸濁物質、酸アルカリ、クロム酸塩、シアン化物及び重金属物質などの汚染物質が含まれるので、法に従って回収処理を行う場合では、正、負極耳の生産コストを大幅に高めることとなる一方、法に従って回収しなければ、高額な罰金が科せられるだけでなく、生活環境に対しても取り返しの付かない損傷が生じてしまい、後世に禍根を残すこととなる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、ソフトパック電池の負極耳と正極耳の製造方法を提供することを主な目的とし、その解決しようとする技術的課題は、如何にして正、負極耳の耐食効能及び引張強度を増大させてリチウム電池の安全性を高めることができ、かつ重金属溶液を発生せずに環境汚染をもたらすことのないより理想的で実用性のある製造方法を研究開発するかを目標として革新突破を思案することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の課題を解決するための技術的特長は、主としてかかるソフトパック電池の負極耳の製造方法のステップであり、それについては次のように分けて説明する。銅箔基板に対して実行する清浄化と表面粗化のステップには、プラズマを利用して適当な気体分子をイオン、電子、遊離基などの高反応性の粒子に迄分解し、これらの高反応性の粒子で室温において銅箔基板の少なくとも１つの表面に対して清浄化処理を施すと同時に、銅箔基板の表面粗さを高める。ニッケル膜のめっきのステップには、真空スパッタリング法により銅箔基板の粗面にニッケル膜をめっきして、前述した銅箔基板の表面粗化によりニッケル膜と銅箔基板との付着強度を高める。ニッケル膜に対して実行する清浄化と表面粗化のステップには、プラズマを利用して適当な気体分子をイオン、電子、遊離基などの高反応性の粒子に迄分解し、これらの高反応性の粒子で室温において前記ニッケル膜の表面に対して清浄化処理を施すと同時に、前記ニッケル膜の表面粗さを高める。不動態化金属膜のめっきのステップには、本ステップは、主に前記ニッケル膜上に真空スパッタリング法によりさらに負極耳の電解液による侵食を防止して負極耳が溶解されないように保護するための不動態化金属膜をめっきして、前述したニッケル膜の表面粗化により不動態化金属膜とニッケル膜との付着強度を高める。及び、不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化のステップには、プラズマを利用して適当な気体分子をイオン、電子、遊離基などの高反応性の粒子に迄分解し、これらの高反応性の粒子で室温において前記不動態化金属膜の表面に対して清浄化処理を施すと同時に、前記不動態化金属膜の表面粗さを高める。かかるソフトパック電池の正極耳の製造方法のステップについては次のように分けて説明する。アルミ箔基板に対して実行する清浄化と表面粗化のステップには、プラズマを利用して適当な気体分子をイオン、電子、遊離基などの高反応性の粒子に迄分解し、これらの高反応性の粒子で室温においてアルミ箔基板の任意の１つの表面に対して清浄化処理を施すと同時に、アルミ箔基板の表面粗さを高める。不動態化金属膜のめっきのステップには、本ステップは、主に前記アルミ箔基板の表面粗化を経た一面上に真空スパッタリング法により主に正極耳の電解液による侵食を防止して正極耳が溶解されないように保護するための不動態化金属膜をめっきして、表面粗化を経た後のアルミ箔基板により不動態化金属膜とアルミ箔基板との付着強度を高める。及び、不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化のステップには、プラズマを利用して適当な気体分子をイオン、電子、遊離基などの高反応性の粒子に迄分解し、これらの高反応性の粒子で室温において前記不動態化金属膜の表面に対して清浄化処理を施し、前記不動態化金属膜の表面を清浄化する以外と共に、前記不動態化金属膜の表面粗さを高める。
【発明の効果】
【０００６】
この斬新な独特の設計によれば、本発明は、従来の技術に比較すると、プラズマを用いて清浄化と表面粗化及び真空スパッタリングを完了する技術手段により、正、負極耳の耐食効能及び引張強度を増大させ、しかも伝統的な正、負極耳の生産方式で発生可能な油脂、不純物、懸濁物質、酸アルカリ、クロム酸塩、シアン化物及び重金属物質などの汚染物質の発生を完全に回避できる実用進歩性と好適な産業経済（利用）利益を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明の負極耳を単面加工する製造プロセス図である。
【図２】本発明の負極耳を両面加工する製造プロセス図である。
【図３】本発明の正極耳を単面加工する製造プロセス図である。
【図４】本発明の正極耳を両面加工する製造プロセス図である。
【図５】本発明に表面粗化を実行した後の銅箔基板／アルミ箔基板の断面概略図である。
【図６】本発明の負極耳の接着剤付け後の外観斜視図である。
【図７】本発明の負極耳の接着剤付け後の断面図である。
【図８】本発明のスパッタによる不動態化金属膜と伝統的な電気めっきや化学めっきによる金属膜との耐食テスト結果の比較図表である。
【図９】本発明の正極耳の接着剤付け後の外観斜視図である。
【図１０】本発明の正極耳の接着剤付け後の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
図１を参照し、この図に示すのは、本発明の負極耳を単面加工する製造方法の好適な実施例だが、これらの実施例は説明のみに用いられるもので、特許請求の際、それらの構造に制限されないものとする。
【０００９】
かかる負極耳を単面加工する製造方法は、下記のステップを含む。
銅箔基板に対して実行する清浄化と表面粗化１０のステップにて、プラズマを利用して気体分子をイオン、電子、遊離基などの高反応性の粒子に迄分解し、これらの高反応性の粒子で室温において銅箔基板１１の任意の１つの表面に対して清浄化処理（油汚れと不純物の除去）を施すと同時に、銅箔基板１１の表面粗さを高め、本発明の好適な実施例において、本ステップの操作時間を５分に設定し、作用圧力を５ミリトル（ｍｔｏｒｒ）に設定し、その中、前述した気体が、水素ガス、アルゴンガス及び酸素ガスからなる群より選択される少なくとも１種であり、水素ガスが選定された時、その流量を５ｓｃｃｍ（ｓｔａｎｄａｒｄ−ｓｔａｔｅ  ｃｕｂｉｃ  ｃｅｎｔｉｍｅｔｅｒ  ｐｅｒ  ｍｉｎｕｔｅ，立方センチメートル毎分）に設定し、アルゴンガスが選定された時、その流量を２０ｓｃｃｍに設定し、酸素ガスが選定された時、その流量を２０ｓｃｃｍに設定する。前記銅箔基板１１の表面粗化を経た後の断面図の詳細は、図５に示す態様で表示される。
【００１０】
ニッケル膜のめっき２０のステップにて、真空スパッタリング法により銅箔基板１１の粗面にニッケル膜２１をめっきし、本発明の好適な実施例において、前記ニッケル膜２１の厚さが約１〜２μｍであり、本ステップの作用圧力を１０ミリトルに設定し、かつニッケルをめっきする過程において、前記銅箔基板１１を約３００℃まで予加熱しておくことで、ニッケル膜２１の前記銅箔基板１１上での付着強度を高めて、前述した銅箔基板１１の表面粗化によりニッケル膜２１と銅箔基板１１との付着強度を高め、本ステップにおいて、スパッタリング環境下に水素ガスとアルゴンガスとを同時に加えることもでき、その中、前記水素ガスの流量を５ｓｃｃｍに設定して、アルゴンガスの流量を２５ｓｃｃｍに設定する。
【００１１】
ニッケル膜に対して実行する清浄化と表面粗化３０のステップにて、プラズマを利用して気体分子をイオン、電子、遊離基などの高反応性の粒子に迄分解し、これらの高反応性の粒子で室温において前記ニッケル膜２１の表面に対して清浄化処理（油汚れと不純物の除去）を施すと同時に、ニッケル膜２１の表面粗さを高める。本発明の好適な実施例において、本ステップの操作時間を１分３０秒に設定して、作用圧力を２ミリトル（ｍｔｏｒｒ）に設定し、前述した気体が、水素ガス、アルゴンガス及び酸素ガスからなる群より選択される少なくとも１種であり、水素ガスが選定された時、その流量を５ｓｃｃｍに設定し、アルゴンガスが選定された時、その流量を２０ｓｃｃｍに設定し、酸素ガスが選定された時、その流量を２０ｓｃｃｍに設定する。
【００１２】
不動態化金属膜のめっき４０のステップにて、本ステップは、主に前記ニッケル膜２１上に真空スパッタリング法によりさらに不動態化金属膜４１をめっきし、前記不動態化金属膜４１は、主に負極耳の電解液による侵食を防止して負極耳が溶解されないように保護するためのもので、より一層ソフトパック電池の使用寿命を延長することができる。前記不動態化金属膜４１の材質は、クロム金属またはチタン金属から選択されてもよく、本好適な実施例において、前記不動態化金属膜４１の材質は、クロム金属が選定される。前記不動態化金属膜４１の厚さが約１００〜２００ｎｍであり、本ステップの作用圧力を５ミリトルに設定し、かつ不動態化金属膜４１をスパッタリングする過程において、前記銅箔基板１１と、前もってスパッタリングされたニッケル膜２１とを一緒に約３００℃まで予加熱しておくことで、不動態化金属膜４１と前記ニッケル膜２１上での付着強度を高める。また、前述したニッケル膜２１の表面粗化により不動態化金属膜４１とニッケル膜２１との付着強度向上を助長する効果があり、本ステップにおいても、スパッタリング環境下に水素ガスとアルゴンガスとを同時に加えることもでき、その中、前記水素ガスの流量を５ｓｃｃｍに設定して、アルゴンガスの流量を２０ｓｃｃｍに設定する。図８を参照して、この図には、伝統的な電気めっきや化学めっき法で得られるニッケル膜と、本発明のスパッタリング法で生成されるニッケル膜２１とを腐食テストを経た後、その余剰厚さが最初の厚さに相対する百分比を示す比較図表が示される。図中に示した結果から明白に分かるように、伝統的な電気めっきや化学めっき法で得られるニッケル膜は、初期の段階の始めから厚さが次第に薄くなりつつあり、ひいては６日目に至っては、ほとんど完全に腐食されてなくなった。対照的に、本発明のスパッタリング法で生成されるニッケル膜２１の方では、５日目になって始めて次第に腐食されていき、８日目になってもなお、その厚さが最初の厚さの５０％まで保持される。一旦負極耳の腐食が進んで薄くなった後、ソフトパック電池のアルミラミネートフィルムと負極耳との間に液漏れ現象が生じるだけでなく、危険を及ぼしてしまう可能性もある。
【００１３】
不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化５０のステップにて、プラズマを利用して適当な気体分子をイオン、電子、遊離基などの高反応性の粒子に迄分解し、これらの高反応性の粒子で室温において前記不動態化金属膜４１の表面に対して清浄化処理（油汚れと不純物の除去）を施すと同時に、前記不動態化金属膜４１の表面粗さを高める。本発明の好適な実施例において、本ステップの操作時間を１分３０秒に設定して、作用圧力を２ミリトル（ｍｔｏｒｒ）に設定し、前述した気体が、水素ガス、アルゴンガス及び酸素ガスからなる群より選択される少なくとも１種であり、水素ガスが選定された時、その流量を５ｓｃｃｍに設定し、アルゴンガスが選定された時、その流量を２０ｓｃｃｍに設定し、酸素ガスが選定された時、その流量を２０ｓｃｃｍに設定する。もし、本ステップに選定された気体が酸素ガスである場合、前述したクロムをめっきした不動態化金属膜４１について言えば、前記不動態化金属膜４１上にさらに金属酸化膜（三酸化二クロムＣｒ２Ｏ３）が形成され、三酸化二クロムが耐食の特性を持つため、同様に電解液による負極耳への侵食を防止することができ、負極耳の使用時の安定性を高めることができる。
【００１４】
前述したソフトパック電池の負極耳の製造方法は、前記銅箔基板１１の任意の一面を加工製造する方法であり、前記銅箔基板１１の両面を同時に加工製造することを示す図２を参照して、図示のように、その手順、加工環境と加工条件については、いずれも前述した銅箔基板１１を単面加工する製造方法と同じだが、両面を同時に加工することによって製造工程を有効に簡略化でき、大量生産を容易に行い、生産能力を高めることができる。
【００１５】
図６及び図７を参照して、図示のように、本発明により作製された負極耳をソフトパック電池に組み立てる前にさらに１つのステップを含み、つまり接着剤付け６０のステップである。それは、主に前述した負極耳の構造上に接着剤層６１を部分環状に設置してから、前記接着剤層６１の異なる両面上にそれぞれ絶縁テープ６２を貼合する。前述した接着剤層６１と絶縁テープ６２とも、同一のステップにおける一回の組み付け作業で定位置に組み付けられて、製造工程の簡略化と効率の向上の目的を達成することができる。かかる負極耳とは、電池芯中から負電圧・電流を引き出す金属導電体である。接着剤層６１と絶縁テープ６２の設置を経た後、ソフトパック電池のパッケージング時、負極耳とソフトパック電池のアルミラミネートフィルムとの短絡現象が起きるのを防止することができる。また、前述したステップでは、前記不動態化金属膜４１の表面粗さを高めることは、前記接着剤層６１の前記不動態化金属膜４１に相対する付着強度を高めることである。前述した接着剤付け６０の製造工程は、単独に実施されてもよく、あるいは図１及び図２に示すように、負極耳の全自動生産の過程において順次に完了されてもよい。
【００１６】
図３を参照し、この図に示すのは、本発明の正極耳を単面加工する製造方法の好適な実施例だが、これらの実施例は説明のみに用いられるもので、特許請求の際、それらの構造に制限されないものとする。
【００１７】
かかる正極耳を単面加工する製造方法は、下記のステップを含む。
アルミ箔基板に対して実行する清浄化と表面粗化７０のステップにて、プラズマを利用して気体分子（窒素ガスあるいはアルゴンガス）をイオン、電子、遊離基などの高反応性の粒子に迄分解し、これらの高反応性の粒子で室温においてアルミ箔基板７１の任意の１つの表面に対して清浄化処理（油汚れと不純物の除去）を施すと同時に、前記アルミ箔基板７１の表面粗さを高める。本ステップの操作時間を５分に設定し、作用圧力を５ミリトル（ｍｔｏｒｒ）に設定し、その中、前述した気体が、水素ガス、アルゴンガス及び酸素ガスからなる群より選択される少なくとも１種であり、水素ガスが選定された時、その流量を５ｓｃｃｍに設定し、アルゴンガスが選定された時、その流量を２０ｓｃｃｍに設定し、酸素ガスが選定された時、その流量を２０ｓｃｃｍに設定する。前記アルミ箔基板７１の表面粗化を経た後の断面図の詳細は、図５に示す態様で表示される。
【００１８】
不動態化金属膜のめっき８０のステップにて、本ステップは、主に前記アルミ箔基板７１の表面粗化を経た一面上に真空スパッタリング法により不動態化金属膜８１をめっきし、前記不動態化金属膜８１は、主に正極耳の電解液による侵食を防止して正極耳が溶解されないように保護するためのものである。前記不動態化金属膜８１の材質は、クロム金属またはチタン金属から選択されてもよく、本好適な実施例において、前記不動態化金属膜８１の材質は、クロム金属が選定される。前記不動態化金属膜８１の厚さが約１００〜２００ｎｍであり、本ステップの作用圧力を５ミリトルに設定し、かつ不動態化金属膜８１をスパッタリングする過程において、前記アルミ箔基板７１を約３００℃まで予加熱しておくことで、不動態化金属膜８１と前記アルミ箔基板７１上での付着強度を高める。また、前述したアルミ箔基板７１の表面粗化により前記不動態化金属膜８１と前記アルミ箔基板７１との付着強度向上を助長する効果があり、本ステップにおいても、スパッタリング環境下に水素ガスとアルゴンガスとを同時に加えることもでき、その中、前記水素ガスの流量を５ｓｃｃｍに設定して、アルゴンガスの流量を２０ｓｃｃｍに設定する。
【００１９】
不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化９０のステップにて、プラズマを利用して適当な気体分子をイオン、電子、遊離基などの高反応性の粒子に迄分解し、これらの高反応性の粒子で室温において前記不動態化金属膜８１の表面に対して清浄化処理（油汚れと不純物の除去）を施すと同時に、前記不動態化金属膜８１の表面粗さを高める。本発明の好適な実施例において、本ステップの操作時間を１分３０秒に設定して、作用圧力を２ミリトル（ｍｔｏｒｒ）に設定し、前述した気体が、水素ガス、アルゴンガス及び酸素ガスからなる群より選択される少なくとも１種であり、水素ガスが選定された時、その流量を５ｓｃｃｍに設定し、アルゴンガスが選定された時、その流量を２０ｓｃｃｍに設定し、酸素ガスが選定された時、その流量を２０ｓｃｃｍに設定する。もし、本ステップに選定された気体が酸素ガスである場合、前述したクロムをめっきした不動態化金属膜８１について言えば、前記不動態化金属膜８１上にさらに金属酸化膜（三酸化二クロムＣｒ２Ｏ３）が形成され、三酸化二クロムが耐食の特性を持つため、同様に電解液による正極耳への侵食を防止することができ、正極耳の使用時の安定性を高めることができる。その腐食防止作用効果は、前述した負極耳の製造工程中で得られるものと同じである。
【００２０】
前述したソフトパック電池の正極耳の製造方法は、前記アルミ箔基板７１の任意の一面を加工製造する方法であり、前記アルミ箔基板７１の両面を同時に加工製造することを示す図４を参照して、図示のように、その手順、加工環境と加工条件については、いずれも前述したアルミ箔基板７１を単面加工する製造方法と同じである。しかし、両面を同時に加工することによって製造工程を有効に簡略化でき、大量生産を容易に行い、生産能力を高めることができる。
【００２１】
図９及び図１０を参照して、図示のように、本発明により作製された正極耳をソフトパック電池に組み立てる前にさらに１つのステップを含み、つまり接着剤付け１００のステップである。それは、主に前述した正極耳の構造上に接着剤層１０１を部分環状に設置してから、前記接着剤層１０１の異なる両面上にそれぞれ絶縁テープ１０２を貼合する。前述した接着剤層１０１と絶縁テープ１０２とも、同一のステップにおける一回の組み付け作業で定位置に組み付けられて、製造工程の簡略化と効率の向上の目的を達成することができる。かかる正極耳とは、電池芯中から正電圧・電流を引き出す金属導電体である。接着剤層１０１と絶縁テープ１０２の設置を経た後、ソフトパック電池のパッケージング時、正極耳とソフトパック電池のアルミラミネートフィルムとの短絡現象が起きるのを防止することができる。また、前述したステップでは、前記不動態化金属膜８１の表面粗さを高めることは、前記接着剤層１０１の前記不動態化金属膜８１に相対する付着強度を高めることである。前述した接着剤付け１００の製造工程は、単独に実施されてもよく、あるいは図３及び図４に示すように、正極耳の全自動生産の過程において順次に完了されてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００２２】
以上、要するに、本発明による前述した正、負極耳の加工製造方法の好適な実施例において、プラズマを利用して表面清浄化と表面粗化処理を施すこと、及びスパッタリング法を利用して各材質の不動態化金属膜４１，８１をめっきすることなどの斬新な独特の加工方式で得られる製品を電解液中に浸漬し、ニッケル膜２１の電解液による腐食で減肉した厚さの残った百分比を測定し、本発明の好適な実施例における製品は、明らかに電解液に対して現在の市場製品を超える耐食性を持つ点で、従来品と比べて実用進歩性が著しい。さらに、本発明による前述した正、負極耳の加工製造方法の好適な実施例において、プラズマを利用して不動態化金属膜４１，８１に対して清浄化と表面粗化を実行するような斬新な独特の加工方式で得られる製品は、接着剤層６１，１０１の前記不動態化金属膜４１，８１に相対する付着強度を高め、結合強度を現在の市場製品規格の７  Ｎ／ｃｍを超える２０  Ｎ／ｃｍ（ニュートン／センチメートル）まで向上させ、正、負極耳とアルミラミネートフィルムとの間の密封性を向上させてソフトパック電池の安全性を大幅に高めることができる。
【符号の説明】
【００２３】
１０：銅箔基板に対して実行する清浄化と表面粗化
１１：銅箔基板
２０：ニッケル膜のめっき
２１：ニッケル膜
３０：ニッケル膜に対して実行する清浄化と表面粗化
４０：不動態化金属膜のめっき
４１：不動態化金属膜
５０：不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化
６０：接着剤付け
６１：接着剤層
６２：絶縁テープ
７０：アルミ箔基板に対して実行する清浄化と表面粗化
７１：アルミ箔基板
８０：不動態化金属膜のめっき
８１：不動態化金属膜
９０：不動態化金属膜に対して実行する清浄化と表面粗化
１００：接着剤付け
１０１：接着剤層
１０２：絶縁テープ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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