(57)【要約】【課題】ポッド内部へのパージガス供給圧のばらつきを抑制し、パージガスを均等に導入することができるポッドを提供すること。【解決手段】平板状の被収容物を高さ方向に並置して収容可能なポッド本体と、前記ポッド本体の一側面に設けられた開口と、前記ポッド本体を密閉するように前記開口に着脱可能に取り付けられる蓋と、前記高さ方向に並置される前記被収容物に向けてパージガスを噴き出す複数の通気孔を備え、前記ポッド本体の前記開口と対向する内面及びこれに隣接する一対の内側面、のうちの少なくとも一つの面上に、又は前記少なくとも一つの面と前記被収容物との間に配置された面状パージ部と、前記ポッド本体の内底面に設けられ外部から前記パージガスが供給されるガス供給孔から前記ポッド本体の内部に向かって直立し、かつ第１通路を介して前記面状パージ部に前記パージガスを供給するガス供給部とを有し、前記第１通路には、調圧部材が配置されることを特徴とするポッド。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
平板状の被収容物を高さ方向に並置して収容可能なポッド本体と、
前記ポッド本体の一側面に設けられた開口と、
前記ポッド本体を密閉するように前記開口に着脱可能に取り付けられる蓋と、
前記高さ方向に並置される前記被収容物に向けてパージガスを噴き出す複数の通気孔を備え、前記ポッド本体の前記開口と対向する内面及びこれに隣接する一対の内側面、のうちの少なくとも一つの面上に、又は前記少なくとも一つの面と前記被収容物との間に配置された面状パージ部と、
前記ポッド本体の内底面に設けられ外部から前記パージガスが供給されるガス供給孔から前記ポッド本体の内部に向かって直立し、かつ第１通路を介して前記面状パージ部に前記パージガスを供給するガス供給部とを有し、
前記第１通路には、調圧部材が配置されることを特徴とするポッド。
【請求項２】
平板状の被収容物を高さ方向に並置して収容可能なポッド本体と、
前記ポッド本体の一側面に設けられた開口と、
前記ポッド本体を密閉するように前記開口に着脱可能に取り付けられる蓋と、
前記高さ方向に並置される前記被収容物に向けてパージガスを噴き出す複数の通気孔を備え、前記ポッド本体の前記開口と対向する内面及びこれに隣接する一対の内側面、のうちの少なくとも一つの面上に、又は前記少なくとも一つの面と前記被収容物との間に配置された面状パージ部と、
前記ポッド本体の内底面に設けられ外部から前記パージガスが供給されるガス供給孔から前記ポッド本体の内部に向かって直立し、かつ第１通路を介して前記面状パージ部に前記パージガスを供給するガス供給部とを有し、
前記第１通路は、前記面状パージ部の前記高さ方向における略中央部に配置されることを特徴とするポッド。
【請求項３】
平板状の被収容物を高さ方向に並置して収容可能なポッド本体と、
前記ポッド本体の一側面に設けられた開口と、
前記ポッド本体を密閉するように前記開口に着脱可能に取り付けられる蓋と、
前記高さ方向に並置される前記被収容物に向けてパージガスを噴き出す複数の通気孔を備え、前記ポッド本体の前記開口と対向する内面及びこれに隣接する一対の内側面、のうちの少なくとも一つの面上に、又は前記少なくとも一つの面と前記被収容物との間に配置された面状パージ部と、
前記ポッド本体の内底面に設けられ外部から前記パージガスが供給されるガス供給孔から前記ポッド本体の内部に向かって直立し、かつ第１通路を介して前記面状パージ部に前記パージガスを供給するガス供給部とを有し、
前記面状パージ部は、前記ガス供給部と前記第１通路を介して連通する第１室と、前記第１室と第２通路を介して連通し、かつ、前記複数の通気孔を有する第２室とを備え、
前記第２通路は、前記面状パージ部の幅方向における略中央部に配置されることを特徴とするポッド。
【請求項４】
前記面状パージ部は、前記ガス供給部と前記第１通路を介して連通する第１室と、前記第１室と第２通路を介して連通し、かつ、前記複数の通気孔を有する第２室とを備えることを特徴とする請求項１または２に記載のポッド。
【請求項５】
前記第２通路は、前記面状パージ部の幅方向における略中央部に配置されることを特徴とする請求項４に記載のポッド。
【請求項６】
前記第２通路には、調圧部材が配置されることを特徴とする請求項３〜５のいずれかに記載のポッド。
【請求項７】
前記第１通路には、調圧部材が配置されることを特徴とする請求項２〜６のいずれかに記載のポッド。
【請求項８】
前記ポッド本体の内部には、少なくとも２つの前記ガス供給部が配置され、
前記面状パージ部は、一対の前記ガス供給部の間に配置され、かつ一対の前記ガス供給部の両方から連通されることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載のポッド。
【請求項９】
請求項８に記載のポッドのパージ装置であって、  
ガス供給源と、
前記ガス供給源から一対の前記ガス供給部にそれぞれ接続される配管と、
前記配管を介して一対の前記ガス供給部にそれぞれ供給される前記パージガスの流量を調整する流量調整手段とを有することを特徴とするパージ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体の製造工程において、ウエハを複数の処理装置間で搬送する際に用いられる格納ポッド（ＦＯＵＰ）に関する。また、本発明は、該ポッドの内部を清浄化するためのパージ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体の製造工程において、ウエハは、フープ（ＦＯＵＰ）と呼ばれるポッドに格納されて各処理装置に搬送される。
【０００３】
ウエハが収納されるポッド内部の環境は、ウエハ表面を酸化や汚染から守るために、所定の程度を上回る不活性状態及び清浄度に保たれることが好ましい。ここで、通常、ウエハが収容された状態でのポッド内部は、高清浄に管理された窒素等によって満たされており、汚染物質、酸化性ガス等のポッド内部への侵入を防止している。しかし、ポッド内のウエハの挿脱等を行う際にポッドの内部に侵入する外部気体や、処理後のウエハから放出されるアウトガス等により、ポッド内のウエハ表面が汚染されるおそれがある。そのため、ウエハの処理工程においては、適宜ポッド内部のパージ処理を行い、ポッド内部を清浄化する必要がある。
【０００４】
ポッド内部のパージ処理を行うための方法として、ポッドの底面に配置された底孔と連通し、かつポッド内に突出するように形成されたガス供給用ノズル（タワー型ノズル）を介して、ポッド内部にパージガスを導入することが知られている。また、特許文献１には、ポッド内部にパージガスをより効率的に導入するために、一対のタワー型ノズルの間に面状のパージ部材を設けることが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１５−１６２５３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
近年、半導体素子における配線の微細化が進んだ結果、ウエハ表面を酸化や汚染から守るために、ポッド内部をより効率的かつ高清浄度にパージ処理する技術が求められている。
【０００７】
特許文献１に開示されるような、ポッドの底面から上面に向けて直立する形状のパージノズルを用いる場合、ポッドの底面付近と上面付近におけるガス供給圧の勾配の影響により、高さ方向におけるガス供給量のばらつきが生じうる。
【０００８】
本発明は、このような実情に鑑みてなされ、ポッド内部へのパージガス供給圧のばらつきを抑制し、パージガスを均等に導入することができるポッドを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明の第１の観点に係るポッドは、平板状の被収容物を高さ方向に並置して収容可能なポッド本体と、前記ポッド本体の一側面に設けられた開口と、前記ポッド本体を密閉するように前記開口に着脱可能に取り付けられる蓋と、前記高さ方向に並置される前記被収容物に向けてパージガスを噴き出す複数の通気孔を備え、前記ポッド本体の前記開口と対向する内面及びこれに隣接する一対の内側面、のうちの少なくとも一つの面上に、又は前記少なくとも一つの面と前記被収容物との間に配置された面状パージ部と、前記ポッド本体の内底面に設けられ外部から前記パージガスが供給されるガス供給孔から前記ポッド本体の内部に向かって直立し、かつ第１通路を介して前記面状パージ部に前記パージガスを供給するガス供給部とを有し、前記第１通路には、調圧部材が配置される。
【００１０】
本観点に係るポッドでは、ガス供給部から面状パージ部にパージガスが流入する際、パージガスは所定の通気抵抗を有する調圧部材を通過する。そのため、ガス供給部の高さ方向におけるパージガス供給圧のばらつきを抑制し、面状パージ部に対し高さ方向に均等にパージガスを供給することができる。これにより、面状パージ部からポッド内部に供給されるパージガスの供給量を均等化し、ポッド内部を効率的かつ高清浄度にパージ処理することができる。
【００１１】
本発明の第２の観点に係るポッドは、平板状の被収容物を高さ方向に並置して収容可能なポッド本体と、前記ポッド本体の一側面に設けられた開口と、前記ポッド本体を密閉するように前記開口に着脱可能に取り付けられる蓋と、前記高さ方向に並置される前記被収容物に向けてパージガスを噴き出す複数の通気孔を備え、前記ポッド本体の前記開口と対向する内面及びこれに隣接する一対の内側面、のうちの少なくとも一つの面上に、又は前記少なくとも一つの面と前記被収容物との間に配置された面状パージ部と、前記ポッド本体の内底面に設けられ外部から前記パージガスが供給されるガス供給孔から前記ポッド本体の内部に向かって直立し、かつ第１通路を介して前記面状パージ部に前記パージガスを供給するガス供給部とを有し、前記第１通路は、前記面状パージ部の前記高さ方向における略中央部に配置される。
【００１２】
本観点に係るポッドでは、パージガスは、ガス供給部に対して高さ方向へ流入した後に流れの方向を変え、中央部の第１通路を介して面状パージ部に流入する。そのため、ガス供給部の高さ方向におけるパージガス供給圧のばらつきを抑制し、面状パージ部に均等にパージガスを供給することができる。これにより、面状パージ部からポッド内部に供給されるパージガスの供給量を均等化し、ポッド内部を効率的かつ高清浄度にパージ処理することができる。
【００１３】
本発明の第３の観点に係るポッドは、平板状の被収容物を高さ方向に並置して収容可能なポッド本体と、前記ポッド本体の一側面に設けられた開口と、前記ポッド本体を密閉するように前記開口に着脱可能に取り付けられる蓋と、前記高さ方向に並置される前記被収容物に向けてパージガスを噴き出す複数の通気孔を備え、前記ポッド本体の前記開口と対向する内面及びこれに隣接する一対の内側面、のうちの少なくとも一つの面上に、又は前記少なくとも一つの面と前記被収容物との間に配置された面状パージ部と、前記ポッド本体の内底面に設けられ外部から前記パージガスが供給されるガス供給孔から前記ポッド本体の内部に向かって直立し、かつ第１通路を介して前記面状パージ部に前記パージガスを供給するガス供給部とを有し、前記面状パージ部は、前記ガス供給部と前記第１通路を介して連通する第１室と、前記第１室と第２通路を介して連通し、かつ、前記複数の通気孔を有する第２室とを備え、前記第２通路は、前記面状パージ部の幅方向における略中央部に配置される。
【００１４】
本観点に係るポッドでは、面状パージ部の第１室から第２室にパージガスが流入する際、パージガスは面状パージ部の幅方向略中央部から流入するため、面状パージ部の幅方向中央部に配置され、ガス供給部からの距離が長い通気孔へのガス供給量が相対的に小さくなることを防止し、水平方向のガス供給量ばらつきを抑制することができる。これにより、面状パージ部からポッド内部に供給されるパージガスの供給量を均等化し、ポッド内部を効率的かつ高清浄度にパージ処理することができる。
【００１５】
また、例えば、前記面状パージ部は、前記ガス供給部と前記第１通路を介して連通する第１室と、前記第１室と第２通路を介して連通し、かつ、前記複数の通気孔を有する第２室とを備えていてもよい。また、例えば、前記第２通路は、前記面状パージ部の幅方向における略中央部に配置されていてもよい。
【００１６】
パージガスがガス供給部から面状パージ部に流入する際、通気抵抗を有する調圧部材を通過することで、ガス供給部の高さ方向におけるパージガス供給圧のばらつきを抑制することができる。さらに、面状パージ部の第１室から第２室にパージガスが流入する際、パージガスは面状パージ部の幅方向略中央部から流入することで、ガス供給部からの距離が長い通気孔へのガス供給量が相対的に小さくなることを防止し、水平方向のガス供給量ばらつきを抑制することができる。
【００１７】
また、例えば、前記第２通路には、調圧部材が配置されていてもよい。
【００１８】
パージガスがガス供給部から面状パージ部に流入する際、通気抵抗を有する調圧部材を通過することで、ガス供給部の高さ方向におけるパージガス供給圧のばらつきを抑制することができる。さらに、面状パージ部の第１室から第２室にパージガスが流入する際、パージガスは所定の通気抵抗を有する調圧部材を通過するため、面状パージ部の高さ方向及び幅方向におけるパージガス供給圧のばらつきを抑制することができる。
【００１９】
また、例えば、前記第１通路には、調圧部材が配置されていてもよい。
【００２０】
パージガスがガス供給部から面状パージ部に流入する際、通気抵抗を有する調圧部材を通過することで、ガス供給部の高さ方向におけるパージガス供給圧のばらつきを抑制することができる。さらに、面状パージ部の第１室から第２室にパージガスが流入する際、パージガスは所定の通気抵抗を有する調圧部材を通過するため、面状パージ部の高さ方向及び幅方向におけるパージガス供給圧のばらつきを抑制することができる。
【００２１】
また、例えば、前記ポッド本体の内部には、少なくとも２つの前記ガス供給部が配置されていてもよく、前記面状パージ部は、一対の前記ガス供給部の間に配置され、かつ一対の前記ガス供給部の両方から連通されていてもよい。
【００２２】
２つ以上のガス供給部を用いることで、１つのガス供給部を用いる場合よりも効果的にパージガス供給圧のばらつきを抑制することができる。
【００２３】
本発明に係るパージ装置は、２つの前記ガス供給部が前記ポッド本体の内部に配置されるポッドにパージガスを供給するパージ装置であって、ガス供給源と、前記ガス供給源から一対の前記ガス供給部にそれぞれ接続される配管と、前記配管を介して一対の前記ガス供給部にそれぞれ供給されるパージガスの流量を調整する流量調整手段とを有する。
【００２４】
一対のガス供給部に対するパージガス供給をそれぞれ制御することで、より効果的にパージガス供給圧のばらつきを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】図１は、本発明に係るポッドの概略図である。
【図２】図２は、本発明に係るポッドにおいてパージ処理が行われる様子を示す概略図である。
【図３】図３は、本発明に係るポッドが有するパージノズルの斜視図である。
【図４】図４（ａ）は、本発明の第１実施形態に係るポッドが有するパージノズルの概略正面図であり、図４（ｂ）は、図４（ａ）に示すパージノズルをＡ−Ａ’断面で切断した概略平面断面図である。
【図５】本発明に係るポッドが載置された載置台を有するパージ装置を示す概略図である。
【図６】図６（ａ）は、本発明の第２実施形態に係るポッドが有するパージノズルの概略正面図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）に示すパージノズルをＡ−Ａ’断面で切断した概略平面断面図である。
【図７】図７（ａ）は、本発明の第３実施形態に係るポッドが有するパージノズルの概略正面図であり、図７（ｂ）は、図７（ａ）に示すパージノズルをＡ−Ａ’断面で切断した概略平面断面図である。図７（ｃ）は、図７（ａ）に示すパージノズルをＢ−Ｂ’断面で切断した概略平面断面図である。
【図８】図８（ａ）は、本発明の第４実施形態に係るポッドが有するパージノズルの概略正面図であり、図８（ｂ）は、図８（ａ）に示すパージノズルをＡ−Ａ’断面で切断した概略平面断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
第１実施形態
以下、本発明の第１実施形態に係るポッドについて、図面を参照して説明する。図１は、本発明に係るポッド１の概略図である。図２は、本発明に係るポッド１においてパージ処理が行われる様子を示す概略図である。図３は、本発明に係るポッド１が有するパージノズル１０の斜視図である。
【００２７】
図１〜図３に示すように、本発明の第１実施形態に係るポッド１は、ウエハ２を収容するためのポッド本体３と、ポッド本体３の一側面に設けられた開口３ａと、ポッド本体３を密閉するための蓋４と、ポッド１の内部にパージガスを導入するための面型のパージノズル１０とを有する。ウエハ２は、ポッド１の外部から開口３ａを介してポッド本体３に収容される。ポッド本体３の内部には、複数の平板状のウエハ２が、各々水平方向（ポッド本体３の内底面３ｃの延在方向に平行な方向）に延在し、かつ高さ方向（開口３ａの延在方向）に各々平行となるように並置して収容される。ウエハ２の収容後、開口３ａに着脱可能な蓋４を取り付けることで、ポッド本体３が密閉される。
【００２８】
図２は、ポッド本体３の内部に設けられたパージノズル１０により、パージ処理が行われる様子を示す。図中の矢印Ａで示すように、ポッド本体３の内部には、パージノズル１０からウエハ２の延在面と略平行にパージガス（例えば、窒素等の不活性ガス）が導入される。ポッド本体３に導入されたパージガスは、ポッド本体３の内部に存在していた気体とともに、開口３ａまたはポッド本体３に設けられた排気孔から排出される。これにより、ポッド１内部の気体が清浄化される。パージガスは、ポッド１を載置するための載置台３０に設けられたガス供給ポート３１を介してパージノズル１０に供給される。
【００２９】
図３に示すように、パージノズル１０は、ガス供給部１１と、面状パージ部１３とを有する。ガス供給部１１は、載置台３０のガス供給ポート３１から流入したパージガスを面状パージ部１３に供給する。面状パージ部１３は、ガス供給部１１から供給されたパージガスをポッド本体３の内部に導入する。
【００３０】
図３に示すように、ガス供給部１１は、ポッド本体３の内底面３ｃに設けられたガス供給孔５と連通し、かつガス供給孔５からポッド本体３の内部に向かって直立する。ガス供給孔５及びガス供給部１１は、ポッド本体３の開口３ａと対向する内面（開口対向面３ｂ）の近傍であって、開口３ａ方向から見て、ポッド本体３に収容されるウエハ２を避けた両隅に対になって配置される。載置台３０のガス供給ポート３１をガス供給孔５に接続することで、ガス供給ポート３１とガス供給部１１とが、ガス供給孔５を介して連通する。ガス供給ポート３１からガス供給孔５を介して供給されたパージガスは、ガス供給部１１の内部に設けられた中空部１２（図４（ｂ）参照）に流入した後、面状パージ部１３に供給される。
【００３１】
ここで、パージノズル１０にパージガスを供給するためのパージ装置について説明する。図５は、ポッド１が載置された載置台３０を有するパージ装置３２を示す概略図である。ガス供給部１１のガス供給孔５には、載置台３０の上面に埋設されたガス供給ポート３１が接続される。ガス供給ポート３１は、ガス圧力及び流量を制御して供給あるいはその停止を行うパージ装置３２の一部であり、ガス供給ポート３１には、パージ装置３２における他の部分からパージガスが供給される。パージ装置３２は、ガス供給源３３と、ガス供給源３３から一対のガス供給部１１にそれぞれ接続される配管３４と、配管３４を介して一対のガス供給部１１にそれぞれ供給されるパージガスの流量を調整する流量調整手段３５とを有する。配管３４は、その上端にガス供給ポート３１を備えており、ガス供給ポート３１により、パージ装置３２の配管３４とポッド１のガス供給孔５とが、気密に接続される。一対のガス供給部１１へのパージガスの供給量は、流量調整手段３５により相互に等しくなるように調整されることが好ましい。なお、本図では、一対のガス供給部１１に対して１つのガス供給源３３及び流量調整手段３５を用いる場合を例示しているが、パージ装置はこれに限定されるものではない。例えば、変形例に係るパージ装置は、各ガス供給部１１ごとに１つのガス供給源３３及び流量調整手段３５を有してもよい。また、上述のパージ装置３２は、独立の装置として構成されてもよいし、ロードポート装置等の一部として構成されてもよい。
【００３２】
図３に示すように、面状パージ部１３は、一対のガス供給部１１の一方から他方にかけて延びる板状の形態を有し、開口対向面３ｂとポッド本体３に収容されるウエハ２との間に配置される。面状パージ部１３は、ガス供給部１１の中空部１２と第１通路２０を介して連通する内部室１７（図４（ｂ）参照）を備える。面状パージ部１３において開口３ａに対向する噴出面１４には、内部室１７内のパージガスを、ウエハ２に向けて、噴出面１４と略垂直方向に噴き出す通気孔１５が、複数形成されている。通気孔１５は、開口３ａに向かってウエハ２の延在面と略平行なガス流Ａ（図２参照）を形成するように、噴出面１４に配置される。したがって、ガス供給部１１の中空部１２から面状パージ部１３の内部室１７に流入したパージガスは、通気孔１５を介してガス流Ａとしてポッド本体３の内部に導入される。
【００３３】
面状パージ部１３における噴出面１４は、図４（ｂ）に示すようにウエハ２のエッジ方向に湾曲した湾曲形状を有しているため、ウエハ２と噴出面１４との平均距離が小さく、効率的にウエハ２の周辺にパージガスを供給することができる。ただし、噴出面１４の形状はこれに限定されず、噴出面１４は、平面状であってもよい。噴出面１４の高さ方向の長さＨ１は、特に限定されないが、例えば、高さ方向に関して最下段に収容されるウエハ２から最上段に配置されるウエハ２までの高さ方向の長さの０．５〜１．５倍であることが好ましい。特にウエハ２全体の周辺にパージガスを供給するためにはＨ１は１．０倍よりも大きいことが好ましい。なお、１．０倍を超えると供給されるパージガスの進行方向にウエハが存在しないこととなるため、パージガスによってポッド内部に乱流を生じさせることが起こり得る。そのため、最大でも１．５倍とすることが好ましい。噴出面１４の幅方向の長さＷ１は、特に限定されないが、例えば、高さ方向に並置して収容されたウエハ２の幅方向の直径の０．３〜１．３倍であることが好ましい。特にウエハ２全体の周辺にパージガスを供給するためにはＷ１は１．０倍よりも大きいことが好ましい。なお、上記のＨ１における理由と同様に、ウエハ不存在領域における乱流発生を防止する観点から、１．０倍よりも大きくする場合は最大で１．３倍とすることが好ましい。
【００３４】
通気孔１５は、パージガスを噴出できればよく、通気孔１５の形状、大きさ、数、配置は特に限定されないが、通気孔１５は、噴出面１４全体に、略均等に形成されていることが好ましい。通気孔１５は、フィルタ等が配置されない単純な開口であってもよく、フィルタが配置された開口であってもよく、また、噴出面１４全体がフィルタ状の通気孔１５になっていてもよい。
【００３５】
図４（ａ）は、本実施形態に係るポッド１が有するパージノズル１０の概略正面図であり、図４（ｂ）は、図４（ａ）に示すパージノズル１０をＡ−Ａ’断面で切断した概略平面断面図である。
【００３６】
図４（ｂ）に示すように、本実施形態では、ガス供給部１１の中空部１２と面状パージ部１３の内部室１７とを連通する第１通路２０に第１調圧部材２２が配置されている。第１調圧部材２２としては、例えば、所定の通気抵抗を有するフィルタを用いることができる。
【００３７】
図４（ａ）に示すように、第１通路２０の高さ方向の長さは、中空部１２より短く、面状パージ部１３の内部室１７と略同一である。第１調圧部材２２は、第１通路２０の全体に設けられており、第１調圧部材２２の形状は、第１通路２０と同じである。第１調圧部材２２を第１通路２０の全体に設けることにより、中空部１２から内部室１７へのパージガス供給圧を確実に均等化することができる。なお、第１通路２０に配置される第１調圧部材２２としては、特定のフィルタのみに限定されず、不織布フィルタや、多孔質フィルタ、メッシュフィルタ、内部室１７および中空部１２より流路断面積が狭い絞り孔、パンチング板等が挙げられる。
【００３８】
また、第１通路２０及び第１調圧部材２２は、図４（ｂ）に示すように、上方向から見て、第１調圧部材２２における面状パージ部１３中央側の部分が、外側の部分より開口３ａに近づくように傾斜して配置されることが好ましい。これにより、面状パージ部１３がウエハ２のエッジ方向に湾曲している場合でも、内部室１７の内部空間（流路断面）に向かって効率的にパージガスを供給することができる。
【００３９】
本実施形態のポッド１では、ガス供給部１１の中空部１２から面状パージ部１３の内部室１７にパージガスが流入する際、パージガスは所定の通気抵抗を有する第１調圧部材２２を通過する。そのため、ポッド１は、ガス供給部１１の高さ方向におけるパージガス供給圧のばらつきを抑制し、面状パージ部１３の内部室１７に対し高さ方向に均等にパージガスを供給することができる。これにより、面状パージ部１３からポッド１内部に供給されるパージガスの供給量を均等化し、ポッド内部を効率的かつ高清浄度にパージ処理することができる。また、高さ方向に並置して収容されるウエハ２全体に向けてパージガスを噴き出すことにより、一部のウエハ２の周辺にパージガスが供給されずにウエハ２が劣化する問題を防止することができる。
【００４０】
第２実施形態
図６（ａ）は、本発明の第２実施形態に係るポッドが有するパージノズル１００の概略正面図であり、図６（ｂ）は、図６（ａ）に示すパージノズル１００をＡ−Ａ’断面で切断した概略平面断面図である。本実施形態に係るポッドは、パージノズル１００の内部構造が異なる点を除き、第１実施形態に係るポッド１と同様の構成である。そのため、第１実施形態に係るポッド１と同一の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。
【００４１】
図６（ｂ）に示すように、本実施形態において、面状パージ部１３ａの内部室１７ａは、第１室１８及び第２室１９を有する。すなわち、内部室１７ａは、面状パージ部１３ａの背面１６側に配置される第１室１８と、噴出面１４側に配置される第２室１９とに、第２調圧部材２３によって分割されている。
【００４２】
第１室１８は、ガス供給部１１ａの中空部１２ａと第１通路２０を介して連通している。第１室１８は、面状パージ部１３ａの開口対向面３ｂ側の背面１６を、第１室１８の側壁の一部として含むように形成されている。また、第２室１９は、第１室１８と、第２調圧部材２３が配置される第２通路２１を介して連通する。第２室１９は、ポッド内部にパージガスを噴出する通気孔１５が形成された面状パージ部１３ａの開口３ａ側の噴出面１４を、第２室１９の側壁の一部として含むように形成されている。さらに、第２通路２１に配置される第２調圧部材２３は、第１室１８内部及び第２室１９内部より高い通気抵抗を有する。
【００４３】
図６（ａ）に示すように、第２通路２１の高さ方向の長さは、面状パージ部１３ａの内部室１７ａと略同一である。また、第２通路２１の幅方向の長さは、特に限定されないが、少なくとも噴出面１４の幅方向の長さ以上であることが好ましい。第２調圧部材２３は、第２通路２１の全体に設けられており、第２調圧部材２３の形状は、第２通路２１と同じである。第２調圧部材２３を第２通路２１の全体に設けることにより、第１室１８から第２室１９へのパージガス供給圧を確実に均等化することができる。なお、第２通路２１に配置される第２調圧部材２３としては、第１調圧部材２２と同様、特定のフィルタのみに限定されず、不織布フィルタや、多孔質フィルタ、メッシュフィルタ、内部室１７ａおよび中空部１２ａより流路断面積が狭い絞り孔、パンチング板等が挙げられる。また、第２調圧部材２３の通気抵抗は、第１調圧部材２２と異なっていてもよい。
【００４４】
図６（ｂ）に示すように、第２調圧部材２３は、上方向から見て噴出面１４と同等の曲率で湾曲しており、かつ面状パージ部１３ａの厚み方向において噴出面１４と背面１６の略中央部分に配置されている。また、図６（ｂ）に示すように、第２室１９とガス供給部１１ａとの間には、隔壁２４が設けられており、パージガスは、ガス供給部１１ａから直接第２室１９には流入できない構造になっている。隔壁２４は、上方向から見て第２調圧部材２３の幅方向における端部と噴出面１４の幅方向における端部とを結ぶように設けられる。隔壁２４の高さ方向の長さは、第２調圧部材２３と略同一である。また、隔壁２４によってポッド内部へのパージガスの供給が阻害されないよう、隔壁２４は、幅方向において噴出面１４よりも外側に設けられることが好ましい。
【００４５】
本実施形態によれば、面状パージ部１３ａの第１室１８から第２室１９にパージガスが流入する際、パージガスは所定の通気抵抗を有する第２調圧部材２３を通過するため、面状パージ部１３ａの高さ方向及び幅方向におけるパージガス供給圧のばらつきを抑制することができる。これにより、面状パージ部１３ａからポッド内部に供給されるパージガスの供給量を均等化し、ポッド内部を効率的かつ高清浄度にパージ処理することができる。
【００４６】
なお、本実施形態では、上記の構成に加えて、第１通路２０に調圧部材が配置されてもよい。これにより、上述した効果をさらに高めることができる。
【００４７】
第３実施形態
図７（ａ）は、本発明の第３実施形態に係るポッドが有するパージノズル１１０の概略正面図であり、図７（ｂ）は、図７（ａ）に示すパージノズル１１０をＡ−Ａ’断面で切断した概略平面断面図である。図７（ｃ）は、図７（ａ）に示すパージノズル１１０をＢ−Ｂ’断面で切断した概略平面断面図である。本実施形態に係るポッドは、パージノズル１１０の内部構造が異なる点を除き、第１実施形態に係るポッド１と同様の構成である。そのため、第１実施形態に係るポッド１と同一の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。
【００４８】
図７（ｂ）及び図７（ｃ）に示すように、本実施形態では、ガス供給部１１ｂの中空部１２ｂと面状パージ部１３ｂの内部室１７ｂとの間に隔壁２５が設けられている。隔壁２５の面状パージ部１３ｂの高さ方向略中央部には孔が形成されており、該孔が中空部１２ｂと内部室１７ｂとを連通する第１通路２０ａとなっている。
【００４９】
図７（ａ）に示すように、隔壁２５の高さ方向の長さは、中空部１２ｂより短く、面状パージ部１３ｂの内部室１７ｂと略同一である。また、隔壁２５は、幅方向において噴出面１４よりも外側に設けられている。
【００５０】
第１通路２０ａの幅方向の長さは、特に限定されないが、面状パージ部１３ｂの厚み方向の長さの２０〜１５０％とすることが好ましい。また、第１通路２０ａの高さ方向の長さは、特に限定されないが、面状パージ部１３ｂの高さ方向の長さの２０〜１５０％とすることが好ましい。また、図７（ｂ）に示すように、第１通路２０ａは、上方向から見て面状パージ部１３における中央側の部分が、外側の部分よりも開口３ａに近づくように傾斜して配置されることが好ましい。
【００５１】
本実施形態によれば、ガス供給部１１ｂの中空部１２ｂの上端に達したパージガスは、隔壁２４に衝突して減圧された後、第１通路２０ａを介して面状パージ部１３ｂの内部室１７ｂに流入する。そのため、ガス供給部１１ｂの高さ方向におけるパージガス供給圧のばらつきを抑制し、面状パージ部１３ｂの内部室１７ｂに均等にパージガスを供給することができる。これにより、面状パージ部１３ｂからポッド内部に供給されるパージガスの供給量を均等化し、ポッド内部を効率的かつ高清浄度にパージ処理することができる。
【００５２】
なお、本実施形態では、上記の構成に加えて、第１通路２０ａに調圧部材が配置されてもよい。これにより、上述した効果をさらに高めることができる。
【００５３】
第４実施形態
図８（ａ）は、本発明の第４実施形態に係るポッドが有するパージノズル１２０の概略正面図であり、図８（ｂ）は、図８（ａ）に示すパージノズル１２０をＡ−Ａ’断面で切断した概略平面断面図である。本実施形態に係るポッドは、パージノズル１２０の内部構造が異なる点を除き、第１実施形態に係るポッド１と同様の構成である。そのため、第１実施形態に係るポッド１と同一の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。
【００５４】
図８（ｂ）に示すように、面状パージ部１３ｃの内部室１７ｃは、面状パージ部１３ｃの背面１６側に配置される第１室１８ａと、噴出面１４側に配置される第２室１９ａとに、隔壁２６によって分割されている。
【００５５】
面状パージ部１３ｃの第１室１８ａは、ガス供給部１１ｃの中空部１２ｃと第１通路２０を介して連通している。また、第１室１８ａは、面状パージ部１３ｃの開口対向面３ｂ側の背面１６を、第１室１８ａの側壁として含む。第２室１９ａは、ポッド内部にパージガスを噴出する通気孔１５を備える面状パージ部１３ｃの開口３ａ側の噴出面１４を、第２室１９ａの側壁として含む。
【００５６】
図８（ｂ）に示すように、隔壁２６はＬ字状の断面形状を有しており、その一部は第１室１８ａと第２室１９ａとの間に配置されており、他の一部は第２室１９ａとガス供給部１１ｃの中空部１２ｃとの間に配置されている。したがって、隔壁２６は、ガス供給部１１ｃの中空部１２ｃと面状パージ部１３ｃの内部室１７ｃにおける第２室１９ａとを仕切る。隔壁２６は、パージガスが通過しない壁面を構成しており、ガス供給部１１ｃのパージガスは、直接第２室１９ａに流入するのではなく、第１室１８ａを介して第２室１９ａに供給される。
【００５７】
面状パージ部１３ｃは、幅方向において略対称に配置された２つの隔壁２６を有している。２つの隔壁２６の間には隙間が形成されており、２つの隔壁２６の隙間が第２通路２１ａとなっている。第２通路２１ａは、隔壁２６の面状パージ部１３ｃの幅方向略中央部に配置されている。第２通路２１ａは、面状パージ部１３ｃの第１室１８ａと第２室１９ａとを連通する。
【００５８】
図８（ａ）に示すように、第２通路２１ａの高さ方向の長さは、面状パージ部１３ｃの内部室１７ｃと略同一である。また、第２通路２１ａの幅方向の長さは、特に限定されないが、噴出面１４の幅方向の長さＷ１の５〜８５％とすることが好ましい。
【００５９】
図８（ｂ）に示すように、第１室１８ａと第２室１９ａとの間に配置された隔壁２６は、上方向から見て噴出面１４と同等の曲率で湾曲しており、かつ面状パージ部１３ａの厚み方向において噴出面１４と背面１６の略中央部分に配置されている。隔壁２６の高さ方向の長さは、面状パージ部１３ｃの内部室１７ｃと略同一である。第２室１９ａと中空部１２ｃとの間に配置される隔壁２６は、幅方向において噴出面１４よりも外側に、その一部がはみ出すように設けられることが好ましい。
【００６０】
本実施形態によれば、面状パージ部１３ｃの第１室１８ａから第２室１９ａにパージガスが流入する際、パージガスは面状パージ部１３ｃの幅方向略中央部から流入する。これにより、パージノズル１２０は、面状パージ部１３ｃの幅方向中央部に配置され、ガス供給部１１ｃからの距離が長い通気孔１５へのガス供給量が相対的に小さくなることを防止し、水平方向のガス供給量ばらつきを抑制することができる。これにより、面状パージ部１３ｃからポッド内部に供給されるパージガスの供給量を均等化し、ポッド内部を効率的かつ高清浄度にパージ処理することができる。
【００６１】
なお、本実施形態では、上記の構成に加えて、第２通路２１ａに調圧部材が配置されてもよい。これにより、上述した効果をさらに高めることができる。
【００６２】
以上、本発明に係るポッドおよびパージ装置について実施形態を示して説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能である。
【００６３】
例えば、上述の実施形態では、一対のガス供給部１１及びガス供給孔５を介してパージノズル１０にガスを供給しているが、ガス供給部１１及びガス供給孔５の数はこれに限定されるものではなく、１つあるいは３つ以上であってもよい。
【００６４】
また、面状パージ部１３の形状や寸法、面状パージ部１３に設けられる通気孔１５の形状、数および配置についても、実施形態及び図面の記載に限定されるものではなく、ウエハ２の収容数、ポッド１の内容積、要求される清浄度、パージ効率、さらには加工上の容易性等に応じ、適宜変更することが可能である。
【００６５】
また、上述の実施形態では、面状パージ部１３がポッド本体の開口対向面３ｂとウエハ２との間に配置される場合を例示したが、面状パージ部１３の配置はこれに限定されない。例えば、面状パージ部１３が開口対向面３ｂ上に配置された態様（すなわち、通気孔１５が開口対向面３ｂに直接形成された態様）としてもよい。また、面状パージ部１３は、ポッド本体の開口対向面３ｂに隣接する一対の内側面３ｄ（図３において、ポッド本体の開口対向面３ｂに隣接する面のうち、内底面３ｃ及び天井面３ｅを除く面）の一方の面上、あるいはこれとウエハ２との間に配置されてもよい。さらに、面状パージ部１３は、ポッド本体の開口対向面３ｂ及び一対の内側面３ｄのうちの複数の面上、あるいはこれらとウエハ２との間に配置されてもよい。この場合、各々の面状パージ部が、通気孔１５から高さ方向に並置されるウエハ２の延在面と略平行にパージガスを噴き出すように構成される。
【００６６】
また、上述の実施形態では、ガス供給部１１がポッド本体の内底面３ｃからポッド内部に向かって直立するように配置される場合を例示したが、ガス供給部１１はポッド本体の天井面３ｅからポッド内部に向かって直立するように配置されてもよい。また、面状パージ部１３の通気孔１５から均等にパージガスを供給することが可能であれば、ガス供給部１１を介さず、面状パージ部１３の下端に載置台のガス供給ポート３１を接続してパージガスを導入する構成とすることも可能である。
【００６７】
また、上述の実施形態では、本発明に係るポッドとして、半導体処理装置に対して好適に用いられるＦＯＵＰを例示したが、本発明は、半導体処理装置に用いられるＦＯＵＰ等に限定されず、例えば液晶ディスプレイのパネルを扱う処理装置等、半導体に準じた処理が行われる種々の処理装置に用いられるポッドに対しても適用可能である。また、ポッド内に収容される被収容物も、ウエハに限らず、表示デバイスや光電変換デバイスなどに用いられるガラス基板であってもよい。
【符号の説明】
【００６８】
１：ポッド
２：ウエハ
３：ポッド本体
３ａ：開口
３ｂ：開口対向面
３ｃ：内底面
３ｄ：内側面
３ｅ：天井面
４：蓋
５：ガス供給孔
１０、１００、１１０、１２０：パージノズル
１１、１１ａ〜１１ｃ：ガス供給部
１２、１２ａ〜１２ｃ：中空部
１３、１３ａ〜１３ｃ：面状パージ部
１４：噴出面
１５：通気孔
１６：背面
１７、１７ａ〜１７ｃ：内部室
１８、１８ａ：第１室 
１９、１９ａ：第２室
２０、２０ａ：第１通路
２１、２１ａ：第２通路
２２：第１調圧部材
２３：第２調圧部材
２４〜２６：隔壁
３０：載置台
３１：ガス供給ポート
３２：パージ装置
３３：ガス供給源  
３４：配管
３５：流量調整手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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