(57)【要約】【課題】比較的簡便に製造可能で、液体状の物質が表示領域に入り込むことを抑制可能な液晶パネルを提供する。【解決手段】一対の基板１２と、それら一対の基板１２の間に介在させられた液晶層２０と、一対の基板１２の周縁に設けられて液晶層２０を封じるためのシール２２とを備え、一対の基板１２の少なくとも一方１２Ｂを、液晶層２０に含まれる液晶分子を配向させるための配向膜５０Ｂと、その配向膜５０Ｂの外縁とシール２２との間において液晶層２０に接するように設けられて配向膜５０Ｂの濡れ性より高い濡れ性を有する高濡れ性部ＨＷとを含んだ構成とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板と、それら一対の基板の間に介在させられた液晶層と、前記一対の基板の周縁に設けられて前記液晶層を封じるためのシールとを備えた液晶パネルであって、
前記一対の基板の少なくとも一方が、
前記液晶層に含まれる液晶分子を配向させるための配向膜と、
その配向膜の外縁と前記シールとの間において前記液晶層に接するように設けられ、前記配向膜の濡れ性より高い濡れ性を有する高濡れ性部と
を含んで構成された液晶パネル。
【請求項２】
前記一対の基板の少なくとも一方が、
前記配向膜の外縁と前記シールとの間において最も上層側に形成され、前記高濡れ性部として機能する透明導電膜または金属膜を含んで構成された請求項１に記載の液晶パネル。
【請求項３】
前記一対の基板の少なくとも一方が、前記配向膜の下層側に配される電極膜を含んで構成され、
その電極膜が、前記配向膜の外縁を超えて前記シールの内側まで延在しており、自身の外周の前記配向膜に覆われていない部分が、前記高濡れ性部として機能する請求項１または請求項２に記載の液晶パネル。
【請求項４】
前記一対の基板の少なくとも一方が、前記配向膜の下層側に配される電極を含んで構成され、
前記高濡れ性部が、前記電極と同じ材料で、前記電極とは分離して形成された請求項１または請求項２に記載の液晶パネル。
【請求項５】
前記一対の基板の少なくとも一方が、表示領域周りの非表示領域に配された金属膜からなる回路部を含んで構成され、
前記高濡れ性部が、前記回路部の少なくとも一部と重畳する請求項４に記載の液晶パネル。
【請求項６】
前記一対の基板の少なくとも一方が、表示領域周りの非表示領域に配された金属膜からなる回路部を含んで構成され、
その回路部の少なくとも一部が、前記液晶層に接し、前記高濡れ性部として機能する請求項１または請求項２に記載の液晶パネル。
【請求項７】
前記一対の基板の一方が、複数のスイッチング素子と、それら複数のスイッチング素子にそれぞれ接続された複数の画素電極と、それら複数の画素電極に対向する共通電極とを含んで構成されたアレイ基板とされ、
そのアレイ基板に、前記高濡れ性部が形成された請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の液晶パネル。
【請求項８】
前記一対の基板の一方が、複数のスイッチング素子と、それら複数のスイッチング素子にそれぞれ接続された複数の画素電極とを含んで構成されたアレイ基板とされ、
前記一対の基板の他方が、前記複数の画素電極に対向する共通電極を含んで構成された対向基板とされた請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の液晶パネル。
【請求項９】
前記配向膜が、有機材料で構成されている請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の液晶パネル。
【請求項１０】
前記高濡れ性部が、前記シールの内側に全周にわたって延在する請求項１から請求項９のいずれか一項に記載の液晶パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネルは、一対の基板と、それら一対の基板の間に介在させられた液晶層と、一対の基板の周縁に設けられて前記液晶層を封じるためのシールとを備えている。その液晶パネル内、つまり、液晶層に、外部からの浸入あるいはシール材の未硬化成分の分離等が原因で、水等の液体状の物質が混入してしまう場合がある。下記特許文献１に記載の液晶パネルは、混入した液体を無機材からなる配向膜が吸湿して配向機能が劣化することを防止すべく、表示領域とシールとの間において、混入した液体を吸湿するための吸湿層が配向膜の上層側に形成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−１８１７９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、配向膜は、有機材料から構成される場合が多く、その配向膜、基板表面の絶縁膜および液晶材は、濡れ性が比較的低い、換言すれば、接触角が大きい。そのため、液体状の物質は、それらの中では、球形に近い状態（液泡）となる。液体状の物質が、そのような液泡となると、液晶層内を移動して表示領域にまで入り込んでしまう場合がある。そして、液泡が表示領域に入りこんでしまうと、その液泡によって液晶配向が乱れ、表示ムラや微小輝点等の表示不良が生じてしまうのである。特に、液晶パネルの信頼性試験である熱衝撃試験において、液晶パネルの膨張や収縮によって、液泡が移動して表示領域に入り込んでしまう場合が多い。また、上記特許文献１に記載の液晶パネルは、当該液晶パネルの基板を製造する工程において、配向膜を形成する工程の後に、吸湿層を形成する工程が追加で必要になってしまう。
【０００５】
本発明は、そのような実情に鑑みてなされたものであり、比較的簡便に製造可能で、液体状の物質が表示領域に入り込むことを抑制可能な液晶パネルを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために本発明の液晶パネルは、
一対の基板と、それら一対の基板の間に介在させられた液晶層と、前記一対の基板の周縁に設けられて前記液晶層を封じるためのシールとを備えた液晶パネルであって、
前記一対の基板の少なくとも一方が、
前記液晶層に含まれる液晶分子を配向させるための配向膜と、
その配向膜の外縁と前記シールとの間において前記液晶層に接するように設けられ、前記配向膜の濡れ性より高い濡れ性を有する高濡れ性部と
を含んで構成されたことを特徴とする。
【０００７】
このような構成とされた液晶パネルは、配向膜より濡れ性の高い高濡れ性部によって、浸入した液体状の物質を吸着させることができるため、その液体状の物質が液泡となって表示領域に入り込むことを抑制することができる。また、この構成の液晶パネルは、配向膜とシールとの間に高濡れ性部として機能するものを新たに形成した構成であってもよく、表示領域の外側において、従来から存在する濡れ性が高い層を配向膜で覆わずに露出させることで、その層を高濡れ性部として機能させるような構成であってもよい。なお、高濡れ性部を新たに形成する構成であっても、配向膜を形成する工程の前に、他の工程と同時に形成することが可能であるため、液体状の物質が表示領域に入り込むことを抑制可能な液晶パネルを、比較的簡便に製造することが可能である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、比較的簡便に製造可能で、液体状の物質が表示領域に入り込むことを抑制可能な液晶パネルを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の第１実施例の液晶パネルの平面図である。
【図２】本発明の第１実施例の液晶パネルの断面図である。
【図３】本発明の第２実施例の液晶パネルの断面図である。
【図４】本発明の第３実施例の液晶パネルの断面図である。
【図５】本発明の第４実施例の液晶パネルの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明を実施するための形態として、本発明のいくつかの実施例を、図を参照しつつ詳しく説明する。なお、本発明は、下記の実施例に限定されるものではなく、当業者の知識に基づいて種々の変更、改良を施した種々の態様で実施することができる。
【実施例１】
【００１１】
本発明の第１実施例の液晶パネル１０を、図１および図２に示す。本液晶パネル１０は、全体としては横長の方形状をなしている。本液晶パネル１０の表示面は、図１に示すように、画像が表示される表示領域（アクティブエリア）ＡＡと、表示領域ＡＡを取り囲む額縁状（枠状）をなすとともに画像が表示されない非表示領域（ノンアクティブエリア）ＮＡＡとに区分される。ちなみに、図１においては、内側の一点鎖線が表示領域ＡＡの外形を表しており、その内側の一点鎖線よりも外側の領域が非表示領域ＮＡＡとなっている。
【００１２】
本液晶パネル１０は、図２に示すように、一対の基板１２を貼り合わせてなり、表側（正面側）に配されるものがＣＦ基板（対向基板）１２Ａとされ、裏側（背面側）に配されるものがアレイ基板（表示装置用基板、アクティブマトリクス基板）１２Ｂとされる。これらＣＦ基板１２Ａおよびアレイ基板１２Ｂは、それぞれ、ほぼ透明なガラス基板上に既知のフォトリソグラフィ法などによって複数の膜が積層されたものである。このうちのアレイ基板１２Ｂは、ＣＦ基板１２Ａよりも大型となっていてその一部がＣＦ基板１２Ａに対して側方に突き出しており、その突き出し部分（非表示領域ＮＡＡを構成する）には、各種信号を供給するための部品としてドライバ（パネル駆動部品）１４およびフレキシブル基板（信号伝送部材）１６が実装されている。ドライバ１４は、内部に駆動回路を有するＬＳＩチップからなり、アレイ基板１２Ｂに対してＣＯＧ（Chip On Glass）実装されており、フレキシブル基板１６によって伝送される各種信号を処理する。フレキシブル基板１６は、絶縁性および可撓性を有する基材上に多数本の配線パターンを形成してなり、液晶パネル１０におけるアレイ基板１２Ｂと図示しないコントロール基板（信号供給源）とに接続されることで、コントロール基板から出力される各種信号を液晶パネル１０へ伝送する。
【００１３】
互いに対向状をなす一対の基板１２Ａ，１２Ｂの間には、電界印加に伴って光学特性が変化する物質である液晶分子を含む液晶層２０と、液晶層２０を封じるためのシール２２とが介設されている。シール２２は、一対の基板１２Ａ，１２Ｂの間の非表示領域ＮＡＡである外周端部に配されるとともに、その外周端部の全周にわたって延在する形で設けられており、平面視において方形の枠状（無端環状）をなしている（図１を参照）。シール２２により一対の基板１２Ａ，１２Ｂの外周端部において液晶層２０の厚さ分のギャップ（セルギャップ）が保持される。また、図示は省略するが、表示領域ＡＡにおいて一対の基板１２Ａ，１２Ｂの間には、セルギャップを保持するためのスペーサが介設されている。
【００１４】
次に、図２を参照しつつ、液晶パネル１０の内部構造について説明する。なお、内部構造に係る各種構造物は、簡略化して図示している。アレイ基板１２Ｂの内面側には、表示領域ＡＡに、画素回路部２４、画素電極２６および共通電極２８が配され、非表示領域ＮＡＡに、周辺回路部（回路部）３２および結線部３４が配されている。画素回路部２４は、詳しい図示は省略するが、マトリクス状に配置された複数の画素からなり、走査信号を伝送するゲート配線（走査配線）と、画像信号を伝送するソース配線（信号配線）と、ゲート配線およびソース配線に接続されるスイッチング素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor）とを含んで構成される。ゲート配線は、金属膜（第１金属膜，Ａｇ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｔｉ，Ｍｏ等、およびこれらの合金や積層膜）からなりＸ軸方向に沿って延在していてＹ軸方向に沿って多数本が間隔を空けて並んで配される。ソース配線は、ゲート配線に対してゲート絶縁膜を介して上層側に配される金属膜（第２金属膜，第２金属膜は第１金属膜と同様の材料を用いることができる）からなり、Ｙ軸方向に沿って延在していてＸ軸方向に沿って多数本が間隔を空けて並んで配される。ＴＦＴは、半導体膜からなるチャネル部などを有する既知の構成であり、画素電極２６に接続されている。ＴＦＴは、ゲート配線に伝送される走査信号に基づいて駆動され、ソース配線に伝送される画像信号を、チャネル部を介して画素電極２６に供給し、画素電極２６を所定の電位に充電する。ＴＦＴおよび画素電極２６は、ゲート配線およびソース配線により囲まれた領域に配されており、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に沿って多数個ずつマトリクス状に並んで配されている。
【００１５】
画素電極２６および共通電極２８は、ＩＴＯやＩＺＯ等の透明電極膜からなり、ここではＩＺＯ膜からなるものとする。画素電極２６は、共通電極２８に対して透明電極膜間絶縁膜（層間絶縁膜）３６を介して上層側に配されている。共通電極２８は、複数の画素電極２６と重畳するように連続的に形成され、少なくとも画面表示中においてはほぼ一定の基準電位が供給されるものであり、画素電極２６との間には、画素電極２６に充電された電位に基づく電位差が生じ得るものとされる。それぞれの画素電極２６には、例えば２〜５μｍ幅のスリットが、１つ以上形成されており、共通電極２８と画素電極２６との間の電位差に基づいて発生する電界には、アレイ基板１２Ｂの板面に沿う成分に加えて、アレイ基板１２Ｂの板面に対する法線方向の成分を含むフリンジ電界（斜め電界）が含まれる。従って、この液晶パネル１０は、フリンジ電界を利用して液晶層２０に含まれる液晶分子の配向状態を制御する、いわゆるＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードとされている。
【００１６】
周辺回路部３２は、ゲート配線やソース配線に信号を供給する回路や、表示領域ＡＡの欠陥を検査するための信号を供給する回路、静電気対策のための回路などを含み、ゲート配線やソース配線などと同じ金属膜からなる配線やチャネル部と同じ半導体膜からなるＴＦＴなどの回路素子などから構成される。周辺回路部３２は、表示領域ＡＡを四方からほぼ全周にわたって取り囲む配置とされる。また、周辺回路部３２は、図２に示すように、例えば、非表示領域ＮＡＡにおいてシール２２よりも内寄り（表示領域ＡＡの近く）に配されており、シール２２とは平面視において非重畳の配置とされる。なお、周辺回路部３２は、アレイ基板１２Ｂの非表示領域ＮＡＡに設けられた図示しない接続配線によってそれぞれドライバ１４やフレキシブル基板１６等に接続されている。
【００１７】
結線部３４は、周辺回路部に含まれる配線やソース配線などを、ドライバ１４やフレキシブル基板１６等と接続するための配線領域であり、別の層の金属膜からなる接続配線に継ぎかえている部分を含んで構成される。結線部３４には、各金属膜間に介在する各絶縁膜を開口させることで配線同士を結線するためのコンタクトホール（図示省略）が設けられている。結線部３４は、非表示領域ＮＡＡのうち、周辺回路部３２よりも外寄りに配されている。結線部３４は、大部分がシール２２と平面視において重畳する配置とされる。
【００１８】
アレイ基板１２Ｂにおける画素回路部２４、周辺回路部３２および結線部３４の上層側には、絶縁膜（平坦化膜）４０が設けられている。絶縁膜４０は、アレイ基板１２Ｂにおいてシール２２の内側の全範囲にわたって概ねベタ状に設けられている。絶縁膜４０は、例えばアクリル樹脂（例えばＰＭＭＡ等）等の有機材料からなり、自身よりも下層側に生じた段差を平坦化するのに機能する。絶縁膜４０は、画素回路部２４、周辺回路部３２および結線部３４を上層側から覆っている。そして、絶縁膜４０の上層側には、先に説明した画素電極２６や共通電極２８が配されている。ちなみに、絶縁膜４０には、表示領域ＡＡにおいて画素電極２６などを画素回路部２４に接続するためのコンタクトホール（図示省略）が開口形成されている。
【００１９】
次に、ＣＦ基板１２Ａの内部構造について説明する。ＣＦ基板１２Ａの内面側における表示領域ＡＡには、各画素電極２６と重畳する位置にカラーフィルタ４２が設けられている。カラーフィルタ４２は、赤色，緑色，青色を呈する３色がＸ軸方向に沿って繰り返し交互に並ぶ配置とされるとともに、それらがＹ軸方向に沿って延在することで、全体としてストライプ状に配列されている。ＣＦ基板１２Ａの内面側には、隣り合うカラーフィルタ４２間を仕切ることで混色を防ぐなどのために遮光部（ブラックマトリクス）４４が、表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡＡとに跨る範囲にわたって設けられている。遮光部４４は、表示領域ＡＡではゲート配線およびソース配線と重畳するよう格子状をなしているものの、非表示領域ＮＡＡでは周辺回路部３２と重畳するようにベタ状をなしている。カラーフィルタ４２および遮光部４４の上層側には、オーバーコート膜（対向側絶縁膜）４６が形成される。オーバーコート膜４６は、ＣＦ基板１２Ａにおいてシール２２の内側の全範囲にわたって概ねベタ状に設けられている。オーバーコート膜４６は、絶縁膜４０と同様に、例えばアクリル樹脂（例えばＰＭＭＡ等）等の有機材料からなり、自身よりも下層側に生じた段差を平坦化するのに機能する。
【００２０】
一対の基板１２Ａ，１２Ｂの各々の液晶層２０に接する最内面には、液晶層２０に含まれる液晶分子を配向させるためのＣＦ側配向膜（対向側配向膜）５０Ａおよびアレイ側配向膜（配向膜）５０Ｂがそれぞれ設けられている。ＣＦ側配向膜５０Ａおよびアレイ側配向膜５０Ｂは、いずれも例えば有機材料であるポリイミドからなる。ＣＦ側配向膜５０Ａは、オーバーコート膜４６の上層側に配されており、少なくとも表示領域ＡＡにおいてオーバーコート膜４６を全域にわたって上層側から覆っている。図２においては、シール２２の内側のほぼ全範囲にわたってベタ状に設けられている。また、アレイ側配向膜５０Ｂは、画素電極２６の上層側に配されており、少なくとも表示領域ＡＡにおいて画素電極２６を全域にわたって上層側から覆っている。
【００２１】
そして、本実施例の液晶パネル１０は、アレイ基板１２Ｂの構造に特徴を有している。アレイ基板１２Ｂには、上述したように、その内面側に、画素回路部２４，周辺回路部３２および結線部３４が配され、その上層側に、絶縁膜４０がシール２２の内側の全範囲にわたって概ねベタ状に設けられ、さらにその上層側に、共通電極２８が設けられている。その共通電極２８は、表示領域ＡＡだけでなく、シール２２の内側の全範囲にわたって設けられている。それに対して、その共通電極２８の上層側に設けられた層間絶縁膜３６および画素電極２６を覆うアレイ側配向膜５０Ｂは、それら層間絶縁膜３６および画素電極２６を覆うことが可能な最小限の範囲に留められており、非表示領域ＮＡＡには拡げられていない。つまり、アレイ側配向膜５０Ｂの外縁からシール２２の内側までの範囲においては、共通電極２８が、液晶層２０に接するように構成されているのである。なお、詳細な図示や説明は省略するが、アレイ側配向膜５０Ｂは、成膜工程において流動性が高い素材であるため、従来から検討されている種々の手法（たとえば印刷方式による成膜も含む）を用いて、成膜される範囲が制限されるようになっている。
【００２２】
共通電極２８は、透明導電膜であるＩＺＯ膜であり、有機材料からなるアレイ側配向膜５０Ｂより、濡れ性が高い、換言すれば、接触角が低い。つまり、共通電極２８におけるアレイ側配向膜５０Ｂの外縁からシール２２の内側までの部分（図１におけるハッチング領域）が、高濡れ性部ＨＷとして機能し、高濡れ性部ＨＷは、シール２２の内側に全周にわたって延在しているのである。
【００２３】
一般的には、配向膜は、シール２２の内側のほぼ全体を覆っている。そのような場合、液晶層２０内に水等の液体状の物質が浸入すると、配向膜および液晶材は、濡れ性が比較的低いため、浸入した液体状の物質は、液晶層２０内で液泡ＬＦとなる。その液泡ＬＦは、液晶層２０内を移動しやすく、例えば、図２において二点鎖線で示したように、表示領域ＡＡまで達してしまうと、その液泡ＬＦによって液晶配向が乱れ、表示ムラや微小輝点等の表示不良が生じてしまうのである。特に、晶パネルの信頼性試験である熱衝撃試験において、液晶パネルの膨張や収縮によって、液泡ＬＦが移動して表示領域ＡＡにまで達してしまう場合が多い。
【００２４】
それに対して、本液晶パネル１０は、上述した高濡れ性部ＨＷが設けられているため、液体状の物質Ｌは、図２に示すように、高濡れ性部ＨＷに吸着させられることになるのである。そして、高濡れ性部ＨＷが、表示領域ＡＡを取り囲むように、全周にわたって設けられているため、比較的多くの液体状の物質Ｌを吸着させることができ、本液晶パネル１０によれば、液体状の物質Ｌが表示領域ＡＡ内に入り込むことを抑制することが可能である。また、本液晶パネル１０は、その製造工程が、従来の液晶パネルの製造工程に対して、アレイ基板１２Ｂの共通電極２８とアレイ側配向膜５０Ｂの成膜範囲を変更するのみであるため、簡便に、高濡れ性部ＨＷを形成することが可能である。
【００２５】
ここでは、画素電極２６は、共通電極２８に対して上層側に配されている構成を示したが、逆であってもよい。すなわち、画素電極２６は、共通電極２８に対して層間絶縁膜３６を介して下層側に配されていてもよい。この場合、複数の画素電極２６と重畳するように連続的に形成された共通電極２８には、例えば２〜５μｍ幅のスリットが、それぞれの画素電極２６に対して１つ以上形成される。また、絶縁膜４０は、有機材料としたが、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）や窒化珪素（ＳｉＮｘ）等の無機材料や、有機材料と無機材料の積層であってもよい。さらに、層間絶縁膜３６と絶縁膜４０とが共通の膜であってもよい。すなわち、図２において、絶縁膜４０が無い構成であってもよい。
【実施例２】
【００２６】
第２実施例の液晶パネル６０の断面を、図３に示す。第２実施例の液晶パネル６０は、第１実施例の液晶パネル１０と、ほぼ同様の構成であるため、第１実施例の液晶パネル１０と同じ構成要素のものは、同じ符号を付し、その説明を省略する。第２実施例の液晶パネル６０は、一対の基板６２の各々が、第１実施例の液晶パネル１０の一対の基板１２の各々と異なるため、以下に、それらＣＦ基板６２Ａおよびアレイ基板６２Ｂの断面構造について、詳しく説明する。
【００２７】
本実施例に係るアレイ基板６２Ｂは、第１実施例に係るアレイ基板１２Ｂと同様に、その内面側に、画素回路部２４，周辺回路部３２および結線部３４が配され、その上層側に、絶縁膜４０がシール２２の内側の全範囲にわたって概ねベタ状に設けられている。ただし、その上層に形成される共通電極６４は、表示領域ＡＡにのみ配されており、その共通電極６４となるＩＺＯ膜を形成する工程においては、例えばフォトリソグラフィ法により、その共通電極６４と同時に、その共通電極６４とは分離してＩＺＯ膜６６が非表示領域ＡＡにも形成されている。つまり、ＩＺＯ膜６６は、周辺回路部３２、詳しく言えば、その周辺回路部３２が有する金属膜からなる回路と重畳するものとなっている。
【００２８】
そして、共通電極６４の上層側には、下層側から順に、層間絶縁膜３６，画素電極２６アレイ側配向膜６８Ｂが配されている。アレイ側配向膜６８Ｂは、共通電極６４，層間絶縁膜３６および画素電極２６を覆うことが可能な最小限の範囲に留められており、非表示領域ＮＡＡには拡げられていない。つまり、ＩＺＯ膜６６は、アレイ側配向膜６８Ｂの外縁とシール２２との間において最も上層側に形成され、液晶層２０に接しているのである。したがって、そのＩＺＯ膜６６は、高濡れ性部ＨＷとして機能するものとなっている。上述したように、このＩＺＯ膜６６は、共通電極６４と同じ材料である透明導電膜で、その共通電極６４と同時に成膜されるため、高濡れ性部ＨＷを形成するために、新たな工程を追加する必要がなく、簡便に高濡れ性部ＨＷが形成されている。また、高濡れ性部ＨＷとして機能するＩＺＯ膜６６の吸着機能は、電位に依存しないため、電圧を印加する必要がないため、共通電極６４とは電気的に独立させることができる。ＩＺＯ膜６６を電気的に独立させた場合には、ＩＺＯ膜６６の下層に配置された周辺回路部３２と共通電極６４の間の付加容量の増加を抑制することができる。
【００２９】
また、本第２実施例と第１実施例とを組み合わせて実施することもできる。つまり、アレイ側配向膜６８Ｂの外縁とシール２２との間において、部分的に電気的に独立させた透明導電膜を設け、残りの部分は共通電極を液晶層に露出させるような構成とすることもできる。例えば、周辺回路部３２のうち特に寄生容量の増加が好ましくない部分（例えばゲート配線に信号を供給する回路に接続されるクロック配線等）に対して本第２実施例を適用し、その他の部分には第１実施例を適用することができる。
【００３０】
また、本実施例に係るＣＦ基板６２Ａは、第１実施例に係るＣＦ基板１２Ａと同様に、カラーフィルタ４２，遮光部４４が配されるとともに、その上層側にオーバーコート膜４６が配され、さらその上層側にオーバーコート膜４６を覆うＣＦ側配向膜６８Ａが配されている。ただし、ＣＦ側配向膜６８Ａは、オーバーコート膜４６を覆うことが可能な最小限の範囲に留められている。そして、そのＣＦ側配向膜６８Ａの外縁とシール２２との間には、遮光部４４の上層側に、配線に用いられる材料と同じ材料で金属膜７０が配されている。この金属膜７０は、ＣＦ側配向膜６８Ａの外縁とシール２２との間において最も上層側に形成され、液晶層２０に接しているのである。したがって、その金属膜７０も、高濡れ性部ＨＷとして機能するものとなっている。
【００３１】
以上のように、本実施例の液晶パネル６０は、ＣＦ基板６２Ａおよびアレイ基板６２Ｂの両者に、高濡れ性部ＨＷが形成されているため、より多くの液体状の物質を吸着させることが可能であり、液体状の物質Ｌが表示領域ＡＡ内に入り込むことを、効果的に抑制することが可能である。なお、本実施例においては、ＣＦ基板６２Ａに高濡れ性部として、金属膜７０が設けられていたが、ＩＴＯやＩＺＯなどの透明導電膜が設けられてもよい。金属膜７０は電圧が印加されていなくてもよく、この場合には金属膜７０からの電界が表示領域ＡＡ内にまで広がり液晶の配向乱れを引き起こすことがない。また金属膜７０は、金属膜７０からの電界が表示領域ＡＡ内に液晶の配向乱れを起こさない範囲の電圧が印加されていてもよい。
【実施例３】
【００３２】
第３実施例の液晶パネル８０の断面を、図４に示す。第３実施例の液晶パネル８０は、第１実施例の液晶パネル１０と、ほぼ同様の構成であるため、第１実施例の液晶パネル１０と同じ構成要素のものは、同じ符号を付し、その説明を省略する。第３実施例の液晶パネル８０は、アレイ基板８２が、第１実施例の液晶パネル１０のアレイ基板１２Ｂと異なるため、以下に、そのアレイ基板８２の断面構造について、詳しく説明する。
【００３３】
本実施例に係るアレイ基板８２は、第１実施例に係るアレイ基板１２Ｂと同様に、その内面側に、画素回路部２４，周辺回路部３２および結線部３４が配されている。そして、それらの上層側には、第１実施例に係るアレイ基板１２Ｂと同じ順で、下層側から順に、絶縁膜８４，共通電極８６，層間絶縁膜８８，画素電極９０，アレイ側配向膜９２が積層されている。ただし、絶縁膜８４および共通電極８６が、成膜されている範囲が、第１実施例に係るアレイ基板１２Ｂとは異なっている、具体的には、本実施例に係るアレイ基板８２においては、絶縁膜８４が、表示領域ＡＡを覆うもの、換言すれば、画素回路部２４を覆うことが可能な最小限の範囲にのみ形成されており、その上層側に配される共通電極８６も、表示領域ＡＡにのみ形成されている。その上層側の層間絶縁膜８８は、それら絶縁膜８４および共通電極８６を覆うことが可能な最小限の範囲にのみ形成されている。また、アレイ側配向膜９２は、これら絶縁膜８４，共通電極８６，層間絶縁膜８８およびその上層側に配された画素電極９０を覆うことが可能な最小限の範囲にのみ形成されている。
【００３４】
つまり、本実施例の液晶パネル８０は、周辺回路部３２および結線部３４が、アレイ側配向膜９２の外縁とシール２２との間において最も上層側に形成され、液晶層２０に接している。そして、それら周辺回路部３２および結線部３４を構成する金属膜のうち、最も上層側の金属膜が、液晶層２０に接するようにしているのである。したがって、周辺回路部３２および結線部３４におけるアレイ側配向膜９２の外縁からシール２２の内側までの部分に存在する部分が、高濡れ性部ＨＷとして機能する。本液晶パネル１０の製造工程は、従来の液晶パネルの製造工程に対して、周辺回路部３２および結線部３４の上層側の層の成膜範囲を変更するのみであるため、簡便に、高濡れ性部ＨＷを形成することが可能である。ちなみに、高濡れ性部ＨＷの濡れ性は、周辺回路部３２および結線部３４の電位には依存しないため、高濡れ性部ＨＷは、液体状の物質Ｌを問題なく吸着することができる。なお、周辺回路部３２および結線部３４は、それらの各々を構成する金属膜が液晶層２０に接して高濡れ性部ＨＷとして機能するように構成されていたが、その金属膜をＩＺＯ等の透明導電膜で覆って、その透明導電膜を液晶層２０に接するようにして高濡れ性部ＨＷとして機能するようにしてもよい。
【実施例４】
【００３５】
第４実施例の液晶パネル１００の断面を、図５に示す。液晶パネル１００は、一対の基板１０２と、それら一対の基板１０２の間に介在させられた液晶層１０４と、一対の基板１０２の周縁に設けられて液晶層１０４を封じるためのシール１０６とを備えている。第１実施例の液晶パネル１０は、ＦＦＳモードのものとされていたが、第４実施例の液晶パネル１００は、１対の基板１０２の両者に電極が配されて液晶層１０４を電極で挟み込んで液晶分子を制御するＴＮモードもしくはＶＡモードのものとされている。
【００３６】
一対の基板１０２のうち、裏側に配されるアレイ基板１０２Ｂには、互いに直交するソース配線及びゲート配線に接続されたスイッチング素子であるＴＦＴ１０８と、そのＴＦＴ１０８に接続された画素電極１１０とが、多数個ずつマトリクス状に並んで設けられている。そして、それら複数のＴＦＴ１０８と画素電極１１０を覆うようにしてアレイ側配向膜１１２Ｂが、シール１０６内のほぼ全範囲にわたってベタ状に設けられている。
【００３７】
一方、表側に配されるＣＦ基板（対向基板）１０２Ａには、第１実施例に係るＣＦ基板と同様に、Ｒ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）等の各着色部が所定配列で配置されたカラーフィルタ１１４と、隣り合う着色部の間を仕切る遮光部（ブラックマトリクス）１１６とが配されるとともに、それらを覆うようにしてオーバーコート膜１１８が設けられている。そのオーバーコート膜１１８は、ＣＦ基板１０２Ａにおいてシール１０６の内側の全範囲にわたって概ねベタ状に設けられている。
【００３８】
本実施例に係るＣＦ基板１０２Ａは、そのオーバーコート膜１１８の上層側には、ＩＴＯやＩＺＯ等の透明導電膜からなる共通電極（対向電極）１２０が配されている。ここでは、共通電極１２０はＩＴＯからなるものとする。その共通電極１２０は、オーバーコート膜１１８を覆うように、シール１０６の内側の全範囲にわたって概ねベタ状に設けられている。一方、その共通電極１２０の上層側には、ＣＦ側配向膜１１２Ａが配されているが、表示領域ＡＡを覆うことが可能な最小限の範囲に留められており、非表示領域ＮＡＡには拡げられていない。つまり、ＣＦ側配向膜１１２Ａの外縁からシール１０６の内側までの範囲においては、共通電極１２０が、液晶層１０４に接するように構成されているのである。したがって、共通電極１２０におけるＣＦ側配向膜１１２Ａの外縁からシール１０６の内側までの部分（図１におけるハッチング領域）が、高濡れ性部ＨＷとして機能するようになっているのである。
【００３９】
本実施例の液晶パネル１００は、その製造工程が、従来の液晶パネルの製造工程に対して、ＣＦ基板１０２Ａの共通電極１２０とＣＦ側配向膜１１２Ａの成膜範囲を変更するのみであるため、簡便に、高濡れ性部ＨＷを形成することが可能である。
【００４０】
なお、各実施例において、オーバーコート膜は必ずしも必要な構成ではない。
【符号の説明】
【００４１】
１０…液晶パネル、１２…一対の基板、１２Ａ…ＣＦ基板、１２Ｂ…アレイ基板、２０…液晶層、２２…シール、２８…共通電極〔高濡れ性部ＨＷ〕、３２…周辺回路部、３４…結線部、５０Ａ…ＣＦ側配向膜、５０Ｂ…アレイ側配向膜、６０…液晶パネル（第２実施例）、６２…一対の基板、６２Ａ…ＣＦ基板、６２Ｂ…アレイ基板、６６…ＩＺＯ膜〔高濡れ性部〕、６８Ａ…ＣＦ側配向膜、６８Ｂ…アレイ側配向膜、７０…金属膜〔高濡れ性部〕、８０…液晶パネル（第３実施例）、８２…アレイ基板、９２…アレイ側配向膜、１００…液晶パネル（第４実施例）、１０２…一対の基板、１０２Ａ…ＣＦ基板、１０２Ｂ…アレイ基板、１０４…液晶層、１０６…シール、１１２Ａ…ＣＦ側配向膜、１１２Ｂ…アレイ側配向膜、１２０…共通電極〔高濡れ性部ＨＷ〕
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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