(57)【要約】      （修正有）【課題】低溶融粘度、高屈折率、及び高ガラス転移温度（耐熱性）を有する化合物及び化合物からなる優れた光学材料を提供すること。【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する化合物。2019108493.tif 000012（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基又はハロゲン原子を表し、これらの基の中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、酸素原子が隣り合わない条件で、−Ｏ−で置換される場合もあり、化合物の構造中に、複数存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８は、それぞれ、同一である場合も、異なる場合もある。Ｘ１とＸ２は単結合又は炭素数１〜２０のアルキレンオキシ基を示し、Ｍはインダン構造を有する２価の基である。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する化合物。
【化１】
2019108493.tif 000010
（式中、Ｍは、下記式（ａ）又は（ｂ）で表される群から選ばれる置換基を表し、
Ｍで表される基中の水素原子はハロゲン原子で置換される場合があり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基又はハロゲン原子を表し、
Ｘ１は、単結合又は−Ｒ９Ｏ−を表し、
Ｘ２は、単結合又は−ＯＲ９−を表し、
Ｒ９は、炭素原子数１〜２０の炭化水素基を表し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９で表される基の中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、酸素原子が隣り合わない条件で、−Ｏ−で置換される場合もあり、
化合物の構造中に、複数存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｘ１、Ｘ２及びＭは、それぞれ、同一である場合も、異なる場合もある。）
【化２】
2019108493.tif 000011
（式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５及びＲ２６は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜２０の基又はハロゲン原子を表し、
Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５及びＲ２６で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、酸素原子又は硫黄原子が隣り合わない条件で、−Ｏ−又は−Ｓ−で置換される場合があり、
Ｒ１１とＲ１２、Ｒ１２とＲ１３、Ｒ１３とＲ１４、Ｒ１９とＲ２０、Ｒ２０とＲ２１及びＲ２１とＲ２２は結合して環を形成する場合があり、
式中の＊は、これらの式で表される基が、＊部分で、隣接する基と結合することを意味する。）
【請求項２】
上記一般式（Ｉ）において、（ａ）のＲ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８のうち少なくとも一つがフェニル基又は（ｂ）のＲ２３、Ｒ２４、Ｒ２５及びＲ２６のうち少なくとも一つがフェニル基である請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
上記一般式（Ｉ）において、（ａ）のＲ１５がフェニル基又は（ｂ）のＲ２３及びＲ２５のうち少なくとも一つがフェニル基である請求項１又は２に記載の化合物。
【請求項４】
上記一般式（Ｉ）において、Ｍが、（ａ）である請求項１〜３の何れか一項に記載の化合物。
【請求項５】
請求項１〜４の何れか一項に記載の化合物を含有する成形体。
【請求項６】
請求項５に記載の成形体からなる光学材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特定の繰り返し単位を有するポリカーボネート樹脂及びそれにより形成される、光学レンズに代表される光学材料に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
カメラ、フィルム一体型カメラ、ビデオカメラ等の各種カメラの光学系に使用される光学素子の材料として、光学ガラスあるいは光学用透明樹脂が使用されている。光学ガラスは、耐熱性や透明性、寸法安定性、耐薬品性等に優れており、様々な屈折率（ｎＤ）やアッベ数（νＤ）を有する多種類の材料が存在している。しかし、材料コストが高い上、成形加工性が悪く、生産性が低いという問題点を有している。とりわけ、収差補正に使用される非球面レンズに加工するには、極めて高度な技術と高いコストがかかるため実用上大きな障害となっている。
【０００３】
一方、光学用透明樹脂、中でも熱可塑性透明樹脂からなる光学レンズは、射出成形により大量生産が可能で、しかも非球面レンズの製造も容易であるという利点を有しており、現在カメラ用レンズ用途として使用されている。光学用透明樹脂としては、ビスフェノールＡからなるポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ−４−メチルペンテン、ポリメチルメタクリレートあるいは非晶質ポリオレフィンなどが例示される。
【０００４】
しかしながら、光学用透明樹脂を光学レンズとして用いる場合、屈折率やアッベ数以外にも、透明性、耐熱性、低複屈折性が求められるため、樹脂の特性バランスによって使用箇所が限定されてしまうという弱点がある。例えば、ポリスチレンは耐熱性が低く複屈折が大きい、ポリ−４−メチルペンテンは耐熱性が低い、ポリメチルメタクリレートはガラス転移温度が低く、耐熱性が低く、屈折率が小さい、ビスフェノールＡからなるポリカーボネートは複屈折が大きい等の弱点を有するため使用箇所が限られてしまい好ましくない。
【０００５】
一方、一般に光学材料の屈折率が高いと、同一の屈折率を有するレンズエレメントをより曲率の小さい面で実現できるため、発生する収差量を小さくできる。高屈折率化は、レンズの枚数の低減、レンズの偏心感度の低減、レンズ厚の低減によるレンズ系の小型軽量化を可能にするため有用である。
【０００６】
特許文献１には、フルオレン環の９位にベンゼン環を２個以上有する芳香族炭化水素環を含む、水酸基含有基が二つ結合した特定の構造のジオール化合物を用いた、透明性の高いポリカーボネート樹脂又はポリエステル樹脂が開示されているが、溶融粘度が高く成形性に課題を残している。特許文献２には、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、特定のポリオルガノシロキサン化合物及び２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンを、ホスゲンを用いて反応することにより得られる成形性が良好なポリカーボネート樹脂が開示されているが、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンの溶融粘度が高い為に、製造時に毒性の強いホスゲンを使用する必要があるという課題を残している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１７−１７１８２７号公報
【特許文献２】特開２００１−３４２２４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明が解決しようとする課題は、低溶融粘度、高屈折率、及び高ガラス転移温度（耐熱性）を有する化合物を提供し、優れた光学材料を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、鋭意検討を行い、特定の構造を有する化合物を用いることで上記課題を解決できることを知見した。
【００１０】
すなわち、本発明は以下の各項に関するものである。
［１］  下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する化合物。
【化１】
2019108493.tif 000002
（式中、Ｍは、下記式（ａ）又は（ｂ）で表される群から選ばれる置換基を表し、
Ｍで表される基中の水素原子はハロゲン原子で置換される場合があり、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７及びＲ８はそれぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基又はハロゲン原子を表し、
Ｘ１は、単結合又は−Ｒ９Ｏ−を表し、
Ｘ２は、単結合又は−ＯＲ９−を表し、
Ｒ９は、炭素原子数１〜２０の炭化水素基を表し、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９で表される基の中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、酸素原子が隣り合わない条件で、−Ｏ−で置換される場合もあり、
化合物の構造中に、複数存在するＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｘ１、Ｘ２及びＭは、それぞれ、同一である場合も、異なる場合もある。）
【化２】
2019108493.tif 000003
（式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５及びＲ２６は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、複素環を含有する炭素原子数２〜２０の基又はハロゲン原子を表し、
Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４、Ｒ２５及びＲ２６で表される基中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、酸素原子又は硫黄原子が隣り合わない条件で、−Ｏ−又は−Ｓ−で置換される場合があり、
Ｒ１１とＲ１２、Ｒ１２とＲ１３、Ｒ１３とＲ１４、Ｒ１９とＲ２０、Ｒ２０とＲ２１及びＲ２１とＲ２２は結合して環を形成する場合があり、
式中の＊は、これらの式で表される基が、＊部分で、隣接する基と結合することを意味する。）
【００１１】
［２］  上記一般式（Ｉ）において、（ａ）のＲ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８のうち少なくとも一つがフェニル基又は（ｂ）のＲ２３、Ｒ２４、Ｒ２５及びＲ２６のうち少なくとも一つがフェニル基である［１］に記載の化合物。
【００１２】
［３］  上記一般式（Ｉ）において、（ａ）のＲ１５がフェニル基又は（ｂ）のＲ２３及びＲ２５のうち少なくとも一つがフェニル基である［１］又は［２］に記載の化合物。
【００１３】
［４］  上記一般式（Ｉ）において、Ｍが、（ａ）である［１］〜［３］の何れか一項に記載の化合物。
【００１４】
［５］  ［１］〜［４］の何れか一項に記載の化合物を含有する成形体。
【００１５】
［６］  ［５］に記載の成形体からなる光学材料。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、高屈折率、高ガラス転移温度（耐熱性）及び低溶融粘度を有する化合物を提供でき、該化合物を用いれば、優れた高屈折率光学レンズを得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明について、その好ましい実施形態について詳細に説明する。
本発明は、高屈折率、低アッベ数、低複屈折、高透明性、及び高ガラス転移温度（耐熱性）をバランス良く有する光学材料（スマートフォン向けカメラレンズ、メガネレンズ）に関するものであり、上記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する化合物から形成される。
【００１８】
上記一般式（Ｉ）中のＲ１〜Ｒ８で表される炭素原子数１〜２０の炭化水素基は、特に限定されるものではないが、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数４〜２０のシクロアルキルアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基及び炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基等であることが好ましい。これらの中でも、光学材料として用いる場合、高屈折率であることから、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数２〜１０のアルケニル基、炭素原子数１〜１０のアルカンジイル基、炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素原子数６〜１０のアリール基及び炭素原子数７〜１０のアリールアルキル基等であることがより好ましい。
【００１９】
上記炭素原子数１〜２０のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、アミル、イソアミル、ｔ−アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、２−エチルヘキシル、ｔ−オクチル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル及びイコシル等が挙げられ、上記炭素原子数１〜１０のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、アミル、イソアミル、ｔ−アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、２−エチルヘキシル、ｔ−オクチル、ノニル、イソノニル、デシル及びイソデシル等が挙げられる。
【００２０】
上記炭素原子数２〜２０のアルケニル基としては、例えば、ビニル、２−プロペニル、３−ブテニル、２−ブテニル、４−ペンテニル、３−ペンテニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、５−ヘキセニル、２−ヘプテニル、３−ヘプテニル、４−ヘプテニル、３−オクテニル、３−ノネニル、４−デセニル、３−ウンデセニル、４−ドデセニル、３−シクロヘキセニル、２，５−シクロヘキサジエニル−１−メチル、及び４，８，１２−テトラデカトリエニルアリル等が挙げられ、上記炭素原子数２〜１０のアルケニル基としては、例えば、ビニル、２−プロペニル、３−ブテニル、２−ブテニル、４−ペンテニル、３−ペンテニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、５−ヘキセニル、２−ヘプテニル、３−ヘプテニル、４−ヘプテニル、３−オクテニル、３−ノネニル及び４−デセニル等が挙げられる。
【００２１】
上記炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基とは、３〜２０の炭素原子を有する、飽和単環式又は飽和多環式アルキル基を意味する。例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、アダマンチル、デカハイドロナフチル、オクタヒドロペンタレン、ビシクロ［１．１．１］ペンタニル及びテトラデカヒドロアントラセニル等が挙げられ、上記炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、アダマンチル、デカハイドロナフチル、オクタヒドロペンタレン及びビシクロ［１．１．１］ペンタニル等が挙げられる。
【００２２】
上記炭素原子数４〜２０のシクロアルキルアルキル基とは、アルキル基の水素原子が、シクロアルキル基で置換された４〜２０の炭素原子を有する基を意味する。例えば、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘプチルメチル、シクロオクチルメチル、シクロノニルメチル、シクロデシルメチル、２−シクロブチルエチル、２−シクロペンチルエチル、２−シクロヘキシルエチル、２−シクロヘプチルエチル、２−シクロオクチルエチル、２−シクロノニルエチル、２−シクロデシルエチル、３−シクロブチルプロピル、３−シクロペンチルプロピル、３−シクロヘキシルプロピル、３−シクロヘプチルプロピル、３−シクロオクチルプロピル、３−シクロノニルプロピル、３−シクロデシルプロピル、４−シクロブチルブチル、４−シクロペンチルブチル、４−シクロヘキシルブチル、４−シクロヘプチルブチル、４−シクロオクチルブチル、４−シクロノニルブチル、４−シクロデシルブチル、３−３−アダマンチルプロピル及びデカハイドロナフチルプロピル等が挙げられ、上記炭素原子数４〜１０のシクロアルキルアルキル基としては、例えば、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘプチルメチル、シクロオクチルメチル、シクロノニルメチル、２−シクロブチルエチル、２−シクロペンチルエチル、２−シクロヘキシルエチル、２−シクロヘプチルエチル、２−シクロオクチルエチル、３−シクロブチルプロピル、３−シクロペンチルプロピル、３−シクロヘキシルプロピル、３−シクロヘプチルプロピル、４−シクロブチルブチル、４−シクロペンチルブチル及び４−シクロヘキシルブチル等が挙げられる。
【００２３】
上記炭素原子数６〜２０のアリール基としては、例えば、フェニル、トリル、キシリル、エチルフェニル、ナフチル、アンスリル、フェナントレニル等や、上記アルキル基、上記アルケニル基やカルボキシル基、ハロゲン原子等で１つ以上置換されたフェニル、ビフェニリル、ナフチル、アンスリル等、例えば、４−クロロフェニル、４−カルボキシルフェニル、４−ビニルフェニル、４−メチルフェニル、２，４，６−トリメチルフェニル等が挙げられ、上記炭素原子数６〜１０のアリール基としては、例えば、フェニル、トリル、キシリル、エチルフェニル及びナフチル等や、上記アルキル基、上記アルケニル基やカルボキシル基、ハロゲン原子等で１つ以上置換されたフェニル、ビフェニリル、ナフチル、アンスリル等、例えば、４−クロロフェニル、４−カルボキシルフェニル、４−ビニルフェニル、４−メチルフェニル、２，４，６−トリメチルフェニル等が挙げられる。
【００２４】
上記炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基とは、アルキル基の水素原子が、アリール基で置換された７〜３０の炭素原子を有する基を意味する。例えば、ベンジル、α−メチルベンジル、α、α−ジメチルベンジル、フェニルエチル及びナフチルプロピル等が挙げられ、上記炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基とは、アルキル基の水素原子が、アリール基で置換された７〜２０の炭素原子を有する基を意味する。例えば、ベンジル、α−メチルベンジル、α、α−ジメチルベンジル及びフェニルエチル等が挙げられる。
【００２５】
上記一般式（Ｉ）中のＲ９で表される炭素原子数１〜２０の炭化水素基としては、上記Ｒ１〜Ｒ８で表される１価の炭化水素基として挙げた各種の基に対応する２価の炭化水素基を挙げることができる。
【００２６】
上記一般式（Ｉ）中のＲ１〜Ｒ９で表される基の中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−で置換される場合がある。この場合、酸素原子が隣り合わないことが条件であり、具体的には、−Ｏ−Ｏ−を含まないことが条件である。
【００２７】
置換基（ａ）及び（ｂ）中のＲ１１〜Ｒ２６で表される炭素原子数１〜２０の炭化水素基としては、上記Ｒ１〜Ｒ８で表される炭素原子数１〜２０の炭化水素基と同様なものを挙げることができる。
【００２８】
置換基（ａ）及び（ｂ）中のＲ１１〜Ｒ２６で表される複素環を含有する炭素原子数２〜２０の基は、特に限定されるものではないが、例えば、ピロリル、ピリジル、ピリジルエチル、ピリミジル、ピリダジル、ピペラジル、ピペリジル、ピラニル、ピラニルエチル、ピラゾリル、トリアジル、トリアジルメチル、ピロリジル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、モルフォリニル、チオモルフォリニル、２−ピロリジノン−１−イル、２−ピペリドン−１−イル、２，４−ジオキシイミダゾリジン−３−イル及び２，４−ジオキシオキサゾリジン−３−イル等が挙げられ、置換基等を含めて具体的に記載すると下記の構造を有する基等が挙げられる。
【００２９】
【化３】
2019108493.tif 000004
（上記式中、Ｒは水素原子又は炭素原子数１〜６のアルキル基を表し、Ｚは直接結合又は炭素原子数１〜６のアルキレン基を表す。尚、式中の＊は、これらの式で表される基が、＊部分で、隣接する基と結合することを意味する。）
【００３０】
上記炭素原子数１〜６のアルキル基としては、炭素原子数１〜２０のアルキル基として上記で例示したものの中の、炭素原子数１〜６のものが挙げられる。
【００３１】
上記炭素原子数１〜６のアルキレン基としては、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン等が挙げられる。
【００３２】
置換基（ａ）及び（ｂ）中のＲ１１とＲ１２、Ｒ１２とＲ１３、Ｒ１３とＲ１４、Ｒ１９とＲ２０、Ｒ２０とＲ２１及びＲ２１とＲ２２が、結合して形成する環としては、例えば、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロペンテン環、ベンゼン環、ピロリジン環、ピロール環、ピペラジン環、モルホリン環、チオモルホリン環、テトラヒドロピリジン環、ラクトン環及びラクタム環等の５〜７員環並びにナフタレン環及びアントラセン環等の縮合環等が挙げられる。
【００３３】
上記一般式（Ｉ）中のＲ１１〜Ｒ２６で表される基の中のメチレン基の１つ又は２つ以上は、−Ｏ−又は−Ｓ−で置換される場合がある。この場合、酸素原子又は硫黄原子が隣り合わないことが条件であり、具体的には、−Ｏ−Ｏ−、−Ｏ−Ｓ−、−Ｓ−Ｓ−を含まないことが条件である。
【００３４】
上記一般式（Ｉ）のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【００３５】
上記一般式（Ｉ）のＲ１〜Ｒ９及びＲ１１〜Ｒ２６のうち一つ以上がアリール基であるものは、得られる化合物の屈折率が高いことから好ましく、アリール基がフェニル基である場合、化合物の原料であるジオール成分の合成が容易であることから更に好ましい。その中でも、（ａ）のＲ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８のうち少なくとも一つ以上がフェニル基又は（ｂ）のＲ２３、Ｒ２４、Ｒ２５及びＲ２６のうち少なくとも一つ以上がフェニル基であるものが好ましい。特に、ジオール成分の合成が容易なことから、フェニル基の置換位置が、上記一般式（Ｉ）においてＭが（ａ）の場合、Ｒ１５であることが好ましく、Ｍが（ｂ）の場合、Ｒ２３又はＲ２５であることが好ましい。
【００３６】
上記一般式（Ｉ）のＭが（ａ）の化合物は、原料であるジオール成分の合成が容易なことから好ましい。
【００３７】
本発明の化合物の好ましいポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は２０，０００〜３００，０００である。より好ましくは、ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は３０，０００〜１２０，０００である。
上記の平均分子量の化合物を用いることで、生産性が高く、強度に優れた光学レンズが得られることから好ましい。
【００３８】
上記化合物は、これを用いた成形体の膜厚を薄くできることから、高屈折率の化合物であることが好ましい。
【００３９】
上記化合物は、耐熱性に優れることが好ましく、具体的には、ガラス転移温度（Ｔｇ）が２５０℃以上であることが好ましく、２８０℃以上であることがより好ましい。
【００４０】
上記化合物は、成形性に優れることから、溶融粘度が１０００Ｐａ・ｓ未満であることが好ましく、８００Ｐａ・ｓ未満であることがより好ましい。
【００４１】
本発明の化合物は、原料のジオール成分を、炭酸ジエステルと、塩基性化合物触媒又はエステル交換触媒もしくはその双方からなる混合触媒の存在下で反応させる、公知の溶融重縮合法により製造することができる。ジオール成分は１種のみを用いることもできるし、２種以上を用いることもできる。
【００４２】
上記ジオール成分の好ましい例として下記に記載の化合物Ｎｏ．Ａ１〜Ａ４３が挙げられる。
【００４３】
【化４】
2019108493.tif 000005
【００４４】
【化５】
2019108493.tif 000006
【００４５】
【化６】
2019108493.tif 000007
【００４６】
【化７】
2019108493.tif 000008
【００４７】
上記炭酸ジエステルとしては、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボネート、ｍ−クレジルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネート等が挙げられる。これらの中でも特にジフェニルカーボネートが好ましい。炭酸ジエステルは、ジオール成分１モルに対して０．９７〜１．２０モルの比率で用いられることが好ましく、更に好ましくは０．９８〜１．１０モルの比率である。炭酸ジエステルは１種のみを用いることもできるし、２種以上を用いることもできる。
【００４８】
上記塩基性化合物触媒としては、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、および含窒素化合物等があげられる。
【００４９】
上記アルカリ金属化合物としては、例えばアルカリ金属の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物又はアルコキシド等が挙げられる。具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸セシウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸セシウム、安息香酸リチウム、リン酸水素２ナトリウム、リン酸水素２カリウム、リン酸水素２リチウム、フェニルリン酸２ナトリウム、ビスフェノールＡの２ナトリウム塩、２カリウム塩、２セシウム塩、２リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩、リチウム塩等が用いられる。
【００５０】
上記アルカリ土類金属化合物としては、例えばアルカリ土類金属の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物又はアルコキシド等が挙げられる。具体的には、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素ストロンチウム、炭酸水素バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム、酢酸ストロンチウム、酢酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、安息香酸カルシウム、フェニルリン酸マグネシウム等が用いられる。
【００５１】
上記含窒素化合物としては、例えば４級アンモニウムヒドロキシドおよびそれらの塩、アミン類等が挙げられる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等のアルキル、アリール、基等を有する４級アンモニウムヒドロキシド類、トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン等の３級アミン類、ジエチルアミン、ジブチルアミン等の２級アミン類、プロピルアミン、ブチルアミン等の１級アミン類、２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾール類、あるいは、アンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルアンモニウムテトラフェニルボレート等の塩基あるいは塩基性塩等が用いられる。
【００５２】
エステル交換触媒としては、亜鉛、スズ、ジルコニウム、鉛の塩が好ましく用いられ、これらは単独もしくは組み合わせて用いることができる。
エステル交換触媒としては、例えば、酢酸亜鉛、安息香酸亜鉛、２−エチルヘキサン酸亜鉛、塩化スズ（ＩＩ）、塩化スズ（ＩＶ）、酢酸スズ（ＩＩ）、酢酸スズ（ＩＶ）、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズオキサイド、ジブチルスズジメトキシド、ジルコニウムアセチルアセトナート、オキシ酢酸ジルコニウム、ジルコニウムテトラブトキシド、酢酸鉛（ＩＩ）、酢酸鉛（ＩＶ）等が挙げられる。
【００５３】
これらの触媒は、ジオール成分の合計１モルに対して、１０−９〜１０−３モルの比率で、好ましくは１０−７〜１０−４モルの比率で用いられる。
【００５４】
溶融重縮合法は、前記の原料および触媒を用いて、常圧または減圧下で加熱し、副生成物を除去しながらエステル交換反応により溶融重縮合を行うものである。反応は、一般には二段以上の多段行程で実施される。
【００５５】
具体的には、常圧または減圧下、第一段目の反応を１２０〜２６０℃、好ましくは１８０〜２４０℃の温度で０．１〜５時間、好ましくは０．５〜３時間行う。次いで反応系の減圧度を上げながら反応温度を高めてジオール成分と炭酸ジエステルとの反応を行い、最終的には１ｍｍＨｇ以下の減圧下、２００〜３５０℃の温度で０．０５〜２時間重縮合反応を行う。このような反応は、連続式で行っても良くまたバッチ式で行ってもよい。上記の反応を行うに際して用いられる反応装置は、錨型攪拌翼、マックスブレンド攪拌翼、ヘリカルリボン型攪拌翼等を装備した縦型であっても、パドル翼、格子翼、メガネ翼等を装備した横型であってもスクリューを装備した押出機型であってもよく、また、これらを重合物の粘度を勘案して適宜組み合わせた反応装置を使用して好適に実施される。
【００５６】
一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する化合物の製造方法では、重合反応終了後、熱安定性および加水分解安定性を保持するために、触媒を除去もしくは失活させる。一般的には、公知の酸性物質の添加による触媒の失活を行う方法が好適に実施される。これらの物質としては、具体的には、安息香酸ブチル等のエステル類、ｐ−トルエンスルホン酸等の芳香族スルホン酸類、ｐ−トルエンスルホン酸ブチル、ｐ−トルエンスルホン酸ヘキシル等の芳香族スルホン酸エステル類、亜リン酸、リン酸、ホスホン酸等のリン酸類、亜リン酸トリフェニル、亜リン酸モノフェニル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸ジエチル、亜リン酸ジｎ−プロピル、亜リン酸ジｎ−ブチル、亜リン酸ジｎ−ヘキシル、亜リン酸ジオクチル、亜リン酸モノオクチル等の亜リン酸エステル類、リン酸トリフェニル、リン酸ジフェニル、リン酸モノフェニル、リン酸ジブチル、リン酸ジオクチル、リン酸モノオクチル等のリン酸エステル類、ジフェニルホスホン酸、ジオクチルホスホン酸、ジブチルホスホン酸等のホスホン酸類、フェニルホスホン酸ジエチル等のホスホン酸エステル類、トリフェニルホスフィン、ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン等のホスフィン類、ホウ酸、フェニルホウ酸等のホウ酸類、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩等の芳香族スルホン酸塩類、ステアリン酸クロライド、塩化ベンゾイル、ｐ−トルエンスルホン酸クロライド等の有機ハロゲン化物、ジメチル硫酸等のアルキル硫酸、塩化ベンジル等の有機ハロゲン化物等が好適に用いられる。これらの失活剤は、触媒量に対して０．０１〜５０倍モル、好ましくは０．３〜２０倍モル使用される。触媒量に対して０．０１倍モルより少ないと、失活効果が不充分となり好ましくない。また、触媒量に対して５０倍モルより多いと、化合物の耐熱性が低下し、成形体が着色しやすくなるため好ましくない。
【００５７】
触媒失活後、ポリマー中の低沸点化合物を０．１〜１ｍｍＨｇの圧力、２００〜３５０℃の温度で脱揮除去する工程を設けても良く、このためには、パドル翼、格子翼、メガネ翼等、表面更新能の優れた攪拌翼を備えた横型装置、あるいは薄膜蒸発器が好適に用いられる。
【００５８】
本発明の成形体は、上記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する化合物を含有していればよく、特に限定されないが、成型性が高く、高透明性、高屈折率であり、薄膜を形成できることから光学材料、特に光学レンズに好ましく使用できる。
【００５９】
上記成形体は、異物含有量が極力少ないことが望まれるため、上記化合物を製造する際には、溶融原料の濾過、触媒液の濾過が好適に実施される。濾過に用いるフィルターのメッシュは５μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１μｍ以下である。さらに、得られた上記化合物のポリマーフィルターによる濾過が好適に実施される。ポリマーフィルターのメッシュは１００μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは３０μｍ以下である。また、上記化合物のペレットを採取する工程は当然低ダスト環境でなければならず、クラス１０００以下であることが好ましく、より好ましくはクラス１００以下である。
【００６０】
本発明の成形体は、上記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する化合物を射出成形機あるいは射出圧縮成形機により所望の形状に射出成形することによって得ることができる。射出成形の成形条件は特に限定されないが、成形温度は好ましくは１８０〜２８０℃である。また、射出圧力は好ましくは５０〜１７００ｋｇ／ｃｍ２である。
【００６１】
成形体への異物の混入を極力避けるため、成形環境も当然低ダスト環境でなければならず、クラス１０００以下であることが好ましく、より好ましくはクラス１００以下である。
【００６２】
このようにして得られる本発明の成形体（光学レンズ）は、ＪＩＳ−Ｋ−７１４２の方法で測定した屈折率が１．６０〜１．６５、好ましくは１．６２〜１．６４である。
【００６３】
上記光学レンズの表面には、必要に応じ、反射防止層あるいはハードコート層といったコート層が設けられていても良い。反射防止層は、単層であっても多層であっても良く、有機物であっても無機物であっても構わないが、無機物であることが好ましい。具体的には、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタニウム、酸化セリウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム等の酸化物あるいはフッ化物が例示される。これらのうちでより好ましいものは酸化ケイ素、酸化ジルコニウムであり、更に好ましいものは酸化ケイ素と酸化ジルコニウムの組み合わせである。
また、反射防止層に関しては、単層／多層の組み合わせ、またそれらの成分、厚みの組み合わせ等について特に限定はされないが、好ましくは２層構成又は３層構成、特に好ましくは３層構成である。また、該反射防止層全体として、光学レンズの厚みの０．０００１７〜３．３％、具体的には０．０５〜３μｍ、特に好ましくは１〜２μｍとなるような厚みで形成するのがよい。
【実施例】
【００６４】
以下に本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に何らの制限を受けるものではない。
【００６５】
＜実施例１＞
上記化合物Ｎｏ．Ａ１；１５１４ ｇ（４．０ｍｏｌ）、ジフェニルカーボネート；８７８．２ｇ（４．１ｍｏｌ）、および炭酸水素ナトリウム；２．１ｍｇ（２．５×１０−５ｍｏｌ）を攪拌機および留出装置付きの５リットル反応器に入れ、窒素雰囲気７６０Ｔｏｒｒの下１時間かけて２１５℃に加熱し撹拌した。
【００６６】
その後、１５分かけて減圧度を１５０Ｔｏｒｒに調整し、２１５℃、１５０Ｔｏｒｒの条件下で２０分間保持しエステル交換反応を行った。さらに３７．５℃／ｈｒの速度で２４０℃まで昇温し、２４０℃、１５０Ｔｏｒｒで１０分間保持した。その後、１０分かけて１２０Ｔｏｒｒに調整し、２４０℃、１２０Ｔｏｒｒで７０分間保持した。その後、１０分かけて１００Ｔｏｒｒに調整し、２４０℃、１００Ｔｏｒｒで１０分間保持した。更に４０分かけて１Ｔｏｒｒ以下とし、２４０℃、１Ｔｏｒｒ以下の条件下で１０分間撹拌下重合反応を行った。反応終了後、反応器内に窒素を吹き込んで常圧にし、化合物Ｎｏ．１を得た。
【００６７】
＜比較例１＞
実施例１の化合物Ｎｏ．Ａ１をビスフェノールＡに変えた以外は、実施例１と同様の操作を行い、比較化合物Ｎｏ．１を得た。
【００６８】
＜比較例２＞
実施例１の化合物Ｎｏ．Ａ１を９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンに変えた以外は、実施例１と同様の操作を行い、比較化合物Ｎｏ．２を得た。
【００６９】
＜比較例３＞
実施例１の化合物Ｎｏ．Ａ１を１，４−ブタンジオールに変えた以外は、実施例１と同様の操作を行い、比較化合物Ｎｏ．３を得た。
【００７０】
＜実施例２、比較例４〜６＞
得られた化合物Ｎｏ．１及び比較化合物Ｎｏ．１〜３について、以下の物性を下記に示す方法によって測定した。得られた測定結果を表１に示す。
【００７１】
＜ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）＞
ＧＰＣ（日立社製、型番：ＥＬＩＴＥ  ＬａＣｈｒｏｍ  Ｌ−２０００、カラム：ＫＦ−８０５、−８０４、−８０３連結）を用い、クロロホルムを展開溶媒として、既知の分子量（分子量分布＝１）の標準ポリスチレンを用いて検量線を作成した。この検量線に基づいて、ＧＰＣのリテンションタイムから算出した。
【００７２】
＜ガラス転移温度（Ｔｇ）＞
示差熱走査熱量分析計（ＤＳＣ：日立社製、型番：ＤＳＣ７０００Ｘ）を用いて測定を行い、得られたＤＳＣ曲線のベースラインと変曲点での接線との交点の温度をＴｇとした。
【００７３】
＜屈折率＞
得られた化合物を３ｍｍ厚×８ｍｍ×８ｍｍの直方体にプレス成形し、ＡＴＡＧＯ（株）製屈折率計により、ＪＩＳ−Ｋ−７１４２の方法で測定した。
【００７４】
＜溶融粘度＞
東洋精機製作所（株）社製の細管流動式レオメーターを用いて、下記の操作を行い、溶融粘度を測定した。
得られた化合物を３００℃に加熱して完全に溶融した後、射出速度を０．０１〜１５０ｍｍ／ｓに設定し、長さ（Ｌ）と径（Ｄ）の比（Ｌ／Ｄ）が４０／２、２０／１、１０／０．５、１５／１、１０／１、５／１の６種類の溶融粘度測定用のキャピラリを用いて測定した。
上記評価において溶融粘度が８００Ｐａ・ｓ未満のものを〇、８００Ｐａ・ｓ以上１０００Ｐａ・ｓ未満のものを△、１０００Ｐａ・ｓ以上のものを×とした。
【００７５】
【表１】
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【００７６】
本発明の化合物は、表１に示す通り、高品質な光学材料を提供できることから有用である。具体的には、耐熱性が高く（高Ｔｇ）、低膜厚（高屈折率）で成形性に優れる（低溶融粘度）光学材料を提供できる。