(57)【要約】【課題】爪表面等の湾曲する描画対象面の両端部までデザインが崩れず、全面に亘って均一に描画を行うことのできる描画装置及び描画方法を提供する。【解決手段】  描画機構４０は互いに異なる第１方向と第２方向とに沿って移動しながら描画対象面に描画を行う描画ヘッド４１を有し、描画ヘッド４１は、描画対象面が第１方向に対して登り傾斜となり第２方向に対して下り傾斜となる第１領域を有している場合に、第１方向に沿って移動する第１走査と第２方向に沿って移動する第２走査とにより、第１領域に描画予定の画像を構成する複数の第１の画素の少なくとも一部を描画する。制御装置８１は、第１領域に描画予定の画像を構成する複数の画素に対する第１走査で描画ヘッド４１が描画する画素の割合を、第２走査で描画ヘッド４１が描画する画素の割合より多くするように制御する。【選択図】図５
2019050895.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに異なる第１方向と第２方向とに沿って移動しながら描画対象面に描画を行う描画ヘッドと、
前記描画ヘッドの動作を制御する制御装置と、
を備え、
前記描画ヘッドは、前記描画対象面が前記第１方向に対して登り傾斜となり前記第２方向に対して下り傾斜となる第１領域を有している場合に、前記第１方向に沿って移動する第１走査と前記第２方向に沿って移動する第２走査とにより、前記第１領域に描画予定の画像を構成する複数の第１の画素の少なくとも一部を描画し、
前記制御装置は、前記複数の第１の画素に対する、前記第１走査において前記描画ヘッドが描画する前記第１の画素の割合を、前記第２走査において前記描画ヘッドが描画する前記第１の画素の割合より多くするように制御する、
ことを特徴とする描画装置。
【請求項２】
前記制御装置は、
前記第１走査において、前記複数の第１の画素のうちの前記描画ヘッドが描画する前記第１の画素の割合を、前記第１領域における前記第１方向に沿った始点から終点への移動に応じて減少させるように変化させるように制御し、
前記第２走査において、前記複数の第１の画素のうちの、前記第１走査において前記描画ヘッドが描画しなかった前記第１の画素を前記描画ヘッドが描画し、前記複数の第１の画素に対する前記描画ヘッドが描画する前記第１の画素の割合を、前記第１領域における前記第２方向に沿った始点から終点への移動に応じて減少させるように変化させるように制御する、
ことを特徴とする請求項１に記載の描画装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記第１走査及び前記第２走査において、前記複数の第１の画素に対する前記描画ヘッドが描画する前記第１の画素の割合を前記描画ヘッドの位置に対してリニアに変化させるように制御することを特徴とする請求項２に記載の描画装置。
【請求項４】
前記描画ヘッドは、前記描画対象面が前記第１方向に対して下り傾斜となる第２領域を有している場合に、前記第２領域に描画予定の画像を構成する複数の第２の画素の少なくとも一部を前記第１走査と前記第２走査とにより描画し、
前記制御装置は、
前記第１走査において、
前記第１領域における前記複数の第１の画素に対する、前記描画ヘッドが描画する前記第１の画素の割合を、前記第１領域における前記第１方向に沿った始点から終点への移動に応じて、第１の値から前記第１の値より小さい第２の値に減少させ、前記第２領域における前記複数の第２の画素に対する、前記描画ヘッドが描画する前記第２の画素の割合を、前記第２領域における前記第１方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第２の値と同じか前記第２の値より小さい第３の値から前記第３の値より小さい第４の値に減少させ、
前記第２走査において、
前記第２領域における前記複数の第２の画素に対する、前記描画ヘッドが描画する前記第２の画素の割合を、前記第２領域における前記第２方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第１の値から前記第２の値に減少させ、前記第１領域における前記複数の第１の画素に対する、前記描画ヘッドが描画する前記第１の画素の割合を、前記第１領域における前記第２方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第３の値から前記第４の値に減少させる、
ことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の描画装置。
【請求項５】
前記描画対象面は、前記第１方向に沿った両端に対して前記第１方向に沿った中央部が高く、前記第１方向に沿って湾曲した形状を有し、
前記制御部は、前記描画対象面の前記湾曲の程度に応じて、前記第１領域及び前記第２領域の前記第１方向に沿った長さを設定することを特徴とする請求項４に記載の描画装置。
【請求項６】
前記制御装置は、
それぞれに複数の数値の何れかが割り当てられてランダムに配列されている複数のドットにより構成されるマスクパターンのデータを有し、
前記マスクパターンを構成する前記複数のドットに割り当てられている数値に対する閾値を設定して前記複数のドットの一部を抽出し、抽出した前記ドットに基づいて前記描画ヘッドが描画する前記第１画素及び前記第２画素を設定する、
ことを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の描画装置。
【請求項７】
前記描画対象面は、手の指の爪の表面又は足の指の爪の表面であり、前記第１方向は前記爪の幅方向に沿った方向であることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の描画装置。
【請求項８】
前記描画ヘッドは、インクジェット方式により液滴化したインクを吐出することにより前記描画対象面に描画を行うことを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の描画装置。
【請求項９】
描画装置の描画方法であって、
前記描画装置は、互いに異なる第１方向と第２方向とに沿って移動しながら描画対象面に描画を行う描画ヘッドを備え、
前記描画対象面が、前記第１方向に対して登り傾斜となり前記第２方向に対して下り傾斜となる第１領域を有している場合に、前記第１領域に描画予定の画像を構成する複数の第１の画素の少なくとも一部を、前記描画ヘッドにより、前記描画ヘッドを前記第１方向に沿って移動させる第１走査と、前記描画ヘッドを前記第２方向に沿って移動させる第２走査と、により描画させ、
前記複数の第１の画素に対する、前記第１走査において前記描画ヘッドにより描画させる前記第１の画素の割合を、前記第２走査において前記描画ヘッドにより描画させる前記画素の割合より多くするように制御することを特徴とする描画方法。
【請求項１０】
前記第１走査において、前記複数の第１の画素のうちの前記描画ヘッドにより描画させる前記第１の画素の割合を、前記第１描画領域における前記第１方向に沿った始点から終点への移動に応じて減少させるように変化させ、
前記第２走査において、前記複数の第１の画素のうちの、前記第１走査において描画されなかった前記第１の画素を前記描画ヘッドにより描画させ、前記複数の第１の画素に対する前記描画ヘッドにより描画させる前記第１の画素の割合を、前記第１領域における前記第２方向に沿った始点から終点への移動に応じて減少させるように変化させる、
ことを特徴とする請求項９に記載の描画方法。
【請求項１１】
前記描画対象面が前記第１方向に対して下り傾斜となる第２領域を有している場合に、前記第２領域に描画予定の画像を構成する複数の第２の画素の少なくとも一部を前記第１走査と前記第２走査とにより描画させ、
前記第１走査において、前記第１領域における前記複数の第１の画素に対する、前記描画ヘッドにより描画させる前記第１の画素の割合を、前記第１領域における前記第１方向に沿った始点から終点への移動に応じて、第１の値から前記第１の値より小さい第２の値に減少させ、前記第２領域における前記複数の第２の画素に対する、前記描画ヘッドにより描画させる前記第２の画素の割合を、前記第２領域における前記第１方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第２の値と同じか前記第２の値より小さい第３の値から前記第３の値より小さい第４の値に減少させ、
前記第２走査において、前記第２領域における前記複数の第２の画素に対する、前記描画ヘッドにより描画させる前記第２の画素の割合を、前記第２領域における前記第２方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第１の値から前記第２の値に減少させ、前記第１領域における前記複数の第１の画素に対する、前記描画ヘッドにより描画させる前記第１の画素の割合を、前記第１領域における前記第２方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第３の値から前記第４の値に減少させる、
ことを特徴とする請求項９又は請求項１０に記載の描画方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、描画装置及び描画方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、人の指の爪に好みのネイルデザインを描画する描画装置（ネイルプリント装置）が知られている（例えば、特許文献１参照）。
このような装置を用いれば、ネイルサロン等を利用することなく、手軽にネイルプリントを楽しむことができる。
【０００３】
描画装置（ネイルプリント装置）としては、インクジェット方式で描画を行う装置が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特表２００３−５３４０８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、ネイルプリント装置の描画対象である人の爪は、幅方向の左右両端部が低く中心部近傍が高くなっていて全体に丸みを帯びた湾曲形状をしており、描画ヘッドは爪の幅方向に沿って移動しながらインクを吐出して描画を行う。
このため、幅方向の端部において、傾斜した面を登る方向に描画ヘッドが移動する際に描画ヘッドから吐出されたインク液滴は良好に着弾するが、傾斜した面を下る方向に描画ヘッドが移動する際に描画ヘッドから吐出されたインク液滴は着弾しないか、着弾位置がずれたり乱れたりしやすい。このため、描画された画像（ネイルデザイン）に歪みや濃度むら等を生じて、画像品位が劣化するとの問題があった。
【０００６】
本発明は以上のような事情に鑑みてなされたものであり、爪表面等の湾曲する描画対象面の両端部までデザインが崩れず、全面に亘って均一に描画を行うことのできる描画装置及び描画方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決するために、本発明の描画装置は、
互いに異なる第１方向と第２方向とに沿って移動しながら描画対象面に描画を行う描画ヘッドと、
前記描画ヘッドの動作を制御する制御装置と、
を備え、
前記描画ヘッドは、前記描画対象面が前記第１方向に対して登り傾斜となり前記第２方向に対して下り傾斜となる第１領域を有している場合に、前記第１方向に沿って移動する第１走査と前記第２方向に沿って移動する第２走査とにより、前記第１領域に描画予定の画像を構成する複数の第１の画素の少なくとも一部を描画し、
前記制御装置は、前記複数の第１の画素に対する、前記第１走査において前記描画ヘッドが描画する前記第１の画素の割合を、前記第２走査において前記描画ヘッドが描画する前記第１の画素の割合より多くするように制御することを特徴としている。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、爪表面等の湾曲する描画対象面の両端部までデザインが崩れず、全面に亘って均一に描画を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】（ａ）は、本実施形態における描画装置の正面図であり、（ｂ）は、（ａ）に示された描画装置の内部構成を示す側面図である。
【図２】本実施形態に係る描画装置の制御構成を示した要部ブロック図である。
【図３】描画対象である爪の一例を示す平面図である。
【図４】（ａ）は、各曲面補正レベルの爪のイメージを示す図であり、（ｂ）は、曲面補正レベルと各曲面補正レベルにおける補正範囲との対応を示す図である。
【図５】本実施形態において各走査における描画画素の量を示す説明図である。
【図６】マスクパターンの閾値を変化させていった場合の濃度変化を模式的に示す図である。
【図７】４回の走査における閾値の振り分けを示す模式図である。
【図８】４回の走査における各閾値範囲を模式的に示した図である。
【図９】本実施形態における描画処理の全体の流れを示すフローチャートである。
【図１０】本実施形態における描画処理の具体的な内容を示すフローチャートである。
【図１１】本実施形態における描画処理の具体的な内容を示すフローチャートである。
【図１２】（ａ）〜（ｃ）は、各走査における描画画素の量の設定の仕方の変形例を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
図１から図１１を参照しつつ、本発明に係るネイルプリント装置（描画装置）及びネイルプリント装置（描画装置）の描画方法の一実施形態について説明する。
なお、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲を以下の実施形態及び図示例に限定するものではない。
また、以下の実施形態では、ネイルプリント装置１は手の指の爪を描画対象とし、その爪の表面を描画対象面として、これに描画するものとして説明するが、本発明の描画対象面は手の指の爪の表面に限るものではなく、例えば足の指の爪を描画対象とし、その爪の表面を描画対象面としてもよい。
【００１１】
図１（ａ）は、ネイルプリント装置の内部構成を示すネイルプリント装置の正面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）に示されたネイルプリント装置の内部構成を示す側面図である。
図１（ａ）及び図１（ｂ）に示すように、本実施形態におけるネイルプリント装置１は、描画機構４０が描画用具である描画ヘッド４１を備え、インクジェット方式にて印刷指Ｕ１の爪Ｔに描画を施す描画装置である。
このネイルプリント装置１は、ケース本体２と、このケース本体２に収容される装置本体１０とを備えている。
【００１２】
ケース本体２の側面上部一端には、後述する描画機構４０の描画ヘッド４１を交換するために開閉可能に構成された蓋部２３が設けられている。蓋部２３は、例えばヒンジ等を介して、図１に示すように閉状態から開状態まで回動自在となっている。
【００１３】
ケース本体２の上面（天板）には操作部２５（図２参照）が設置されている。
操作部２５は、ユーザが各種入力を行う入力部である。
操作部２５には、例えば、ネイルプリント装置１の電源をＯＮする電源スイッチ釦、動作を停止させる停止スイッチ釦、爪Ｔに描画するデザイン画像を選択するデザイン選択釦、描画開始を指示する描画開始釦等、各種の入力を行うための図示しない操作釦が配置されている。
【００１４】
また、ケース本体２の上面（天板）のほぼ中央部には表示装置２６が設置されている。
表示装置２６は、例えば液晶ディスプレイ（ＬＣＤ：Liquid Crystal Display）、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイその他のフラットディスプレイ等で構成されている。
本実施形態において、この表示装置２６には、例えば、印刷指Ｕ１を撮影して得た爪画像（爪Ｔの画像を含む印刷指Ｕ１の画像）、この爪画像中に含まれる爪Ｔの輪郭等の画像、爪Ｔに描画すべきデザイン画像を選択するためのデザイン選択画面、デザイン確認用のサムネイル画像、各種の指示を表示させる指示画面等が適宜表示される。
なお、表示装置２６の表面に各種の入力を行うためのタッチパネルが一体的に構成されていてもよい。
【００１５】
装置本体１０は、ほぼ箱状に形成され、ケース本体２の内部下方に設置された下部機枠１１と、この下部機枠１１の上方で且つケース本体２の内部上方に設置されている上部機枠１２とを備えている。
【００１６】
まず、下部機枠１１について説明する。
下部機枠１１は、背面板１１１、底板１１２、左右一対の側板１１３ａ，１１３ｂ、Ｘ方向移動ステージ収容部１１４、Ｙ方向移動ステージ収容部１１５及び隔壁１１６を有する。
側板１１３ａ，１１３ｂの下端部は、底板１１２の左右両端部にそれぞれ連結され、側板１１３ａ，１１３ｂが底板１１２に対して立てられた状態に設けられている。
背面板１１１の下部は、前方（指挿入方向手前側）に向かって２段に窪むように形成されている。背面板１１１の下端部は底板１１２の前端部に連結されており、背面板１１１は、底板１１２と側板１１３ａ，１１３ｂによって囲われた領域を前後に区切っている。
この窪んだ背面板１１１の後ろ側に形成される空間がＸ方向移動ステージ収容部１１４、Ｙ方向移動ステージ収容部１１５（図１（ｂ）参照）となっている。Ｘ方向移動ステージ収容部１１４内には、描画機構４０が前方（指挿入方向手前側）に移動した際に描画機構４０のＸ方向移動ステージ４５が収容される。また、Ｙ方向移動ステージ収容部１１５内には、描画機構４０のＹ方向移動ステージ４７が配置されている。
また、隔壁１１６は、下部機枠１１の内部前方側の空間（背面板１１１、底板１１２及び側板１１３ａ，１１３ｂによって囲われた指挿入方向手前側の空間）を上下に区切るように下部機枠１１の内側に設けられている。隔壁１１６はほぼ水平に設けられ、隔壁１１６の左右両端部が側板１１３ａ，１１３ｂにそれぞれ連結され、隔壁１１６の後端部が背面板１１１に連結されている。
【００１７】
この下部機枠１１には、指固定部３０（図１（ｂ）参照）が一体的に設けられている。
指固定部３０は、描画を施す爪Ｔに対応する指（以下、これを「印刷指Ｕ１」という。）を受け入れる指受入部３１と、この印刷指Ｕ１以外の指（以下、これを「非印刷指Ｕ２」という。）を退避させる指退避部３２と、から構成されている。
指受入部３１は、隔壁１１６の上側であって下部機枠１１の幅方向のほぼ中央部に配置されている。また、隔壁１１６によって下部機枠１１の下側に区分けられた空間が指退避部３２を構成している。
例えば、薬指の爪Ｔに描画を施す場合には、指受入部３１に印刷指Ｕ１としての薬指を挿入し、非印刷指Ｕ２であるその他の４指（親指、人差し指、中指、小指）を指退避部３２に挿入する。
【００１８】
図１（ａ）及び図１（ｂ）に示すように、指受入部３１は、下部機枠１１の前面側（印刷指挿入方向の手前側）に開口しており、下側が隔壁１１６の一部を構成する指載置部１１６ａによって区画されている。指載置部１１６ａは、描画を施す爪Ｔの指（印刷指Ｕ１）をＸＹ平面上に載置するものである。
また、指受入部３１の上側には、指受入部３１に挿入された印刷指Ｕ１の爪Ｔを露出させるための図示しない窓部が形成されている。
また、隔壁１１６の上面であって下部機枠１１の前面側の両側部には、下部機枠１１の前面側を塞ぐ前壁３１ｆ（図１（ａ）参照）が立設されている。また、隔壁１１６の上面には、この前壁３１ｆの中央部寄りの端部から前記指受入部３１に向けて狭窄し、印刷指Ｕ１を指受入部３１内に案内する一対のガイド壁３１ｇ（図１（ａ）参照）が立設されている。
ユーザは指受入部３１に挿入した印刷指Ｕ１と指退避部３２に挿入した非印刷指Ｕ２との間に隔壁１１６を挟むことができる。そのため、指受入部３１内に挿入された印刷指Ｕ１が安定して固定される。
【００１９】
下部機枠１１の上面であって、指受入部３１の横（本実施形態では、図１（ａ）において右側）には、後述する描画ヘッド４１の移動可能範囲内に、非描画時に、描画ヘッド４１が待機するホームエリア６０が設けられている。
ホームエリア６０には、例えば後述する描画ヘッド４１のインク吐出部（ノズル面）をクリーニングするためのクリーニング機構やインク吐出部（ノズル面）の保湿状態を保つためのキャップ機構等（いずれも図示せず）で構成されるインクジェット保守部が、非描画時に描画ヘッド４１が配置される位置に対応して設けられている。
なお、ホームエリア内のインクジェット保守部等の配置はここで例示したものに限定されない。
【００２０】
描画機構４０は、描画ヘッド４１、描画ヘッド４１を支持するユニット支持部材４４、描画ヘッド４１をＸ方向（図１（ａ）におけるＸ方向、描画装置１の左右方向）に移動させるためのＸ方向移動ステージ４５、Ｘ方向移動モータ４６、描画ヘッド４１をＹ方向（図１（ｂ）におけるＹ方向、描画装置１の前後方向）に移動させるためのＹ方向移動ステージ４７、Ｙ方向移動モータ４８等を備えて構成されている。
本実施形態では、描画機構４０は、幅方向に沿った一端側から他端側に亘って登り傾斜と下り傾斜とを有するように湾曲する描画対象面である爪Ｔの表面に対して、描画ヘッド４１を一端側から他端側に亘って偶数回走査することで描画対象面に描画を行うようになっている。
なお、描画機構４０（描画機構４０の描画ヘッド４１）の具体的な描画の仕方については後述する。
【００２１】
本実施形態において描画ヘッド４１は、ヘッドホルダ４３に保持されてユニット支持部材４４に設けられている。
描画ヘッド４１は、例えば、イエロー（Ｙ；YELLOW）、マゼンタ（Ｍ；MAGENTA）、シアン（Ｃ；CYAN）のインクに対応する図示しないインクカートリッジと各インクカートリッジにおける描画対象（爪Ｔ）に対向する面（本実施形態では、図１（ａ）等における下面）に設けられたインク吐出部４１１（図８参照）とが一体に形成されたインクカートリッジ一体型のヘッドである。インク吐出部４１１は、それぞれの色のインクを噴射する複数のノズルからなるノズルアレイを備えており、描画ヘッド４１は、インクを微滴化し、インク吐出部４１１から描画対象面（爪Ｔの表面）に対して直接にインクを吹き付けて描画を行う。
インクを噴射する複数のノズルは、それぞれ図示しないピエゾ素子（圧電素子）等を備え、後述する描画制御部８１４（図２参照）により、個別に噴射制御を行うことができるようになっている。本実施形態では、後述するように、インク吐出部４１１を４つの領域（Ａｒ１〜Ａｒ４）に分けて順次各領域内のノズルを駆動させることで描画を行う（図８等参照）。
なお、描画ヘッド４１は、上記３色のインクを吐出させるものに限定されない。その他の種類のインクを貯留するインクカートリッジ及びインク吐出部を備えていてもよい。
また、描画ヘッド４１のノズルは、個別に噴射制御を行うことが可能なものであればその構成は特に問わず、ピエゾ素子を用いてインクを吐出させる方式のものに限定されない。例えば個々のノズルにヒータを備えるサーマル方式のノズル等であってもよい。
【００２２】
また、ユニット支持部材４４は、Ｘ方向移動ステージ４５に取り付けられたＸ方向移動部４５１に固定されている。Ｘ方向移動部４５１は、Ｘ方向移動モータ４６の駆動によりＸ方向移動ステージ４５上を図示しないガイドに沿ってＸ方向に移動するようになっており、これにより、ユニット支持部材４４に取り付けられている描画ヘッド４１が、Ｘ方向（図１（ａ）におけるＸ方向、ネイルプリント装置１の左右方向）に移動するようになっている。
また、Ｘ方向移動ステージ４５は、Ｙ方向移動ステージ４７のＹ方向移動部４７１に固定されている。Ｙ方向移動部４７１は、Ｙ方向移動モータ４８の駆動によりＹ方向移動ステージ４７上を図示しないガイドに沿ってＹ方向に移動するようになっており、これにより、ユニット支持部材４４に取り付けられている描画ヘッド４１が、Ｙ方向（図１（ｂ）におけるＹ方向、ネイルプリント装置１の前後方向）に移動するようになっている。
なお、本実施形態において、Ｘ方向移動ステージ４５及びＹ方向移動ステージ４７は、Ｘ方向移動モータ４６、Ｙ方向移動モータ４８と、図示しないボールネジ及びガイドとを組み合わせることで構成されている。
本実施形態では、Ｘ方向移動モータ４６及びＹ方向移動モータ４８等により、描画ヘッド４１をＸ方向及びＹ方向に駆動するＸＹ駆動部としてのヘッド移動部４９が構成されている。
【００２３】
描画機構４０における描画ヘッド４１、Ｘ方向移動モータ４６、Ｙ方向移動モータ４８は、後述する制御装置８０の描画制御部８１４（図２参照）に接続され、該描画制御部８１４によって制御されるようになっている。
【００２４】
また、撮影機構５０は、撮像装置５１と、照明装置５２とを備えている。
この撮影機構５０は、指受入部３１内に挿入されて窓部から見える爪Ｔ（爪Ｔを含む印刷指Ｕ１）を照明装置５２によって照明する。そして、撮像装置５１によってその印刷指Ｕ１を撮影して、印刷指Ｕ１の画像である爪画像（爪Ｔの爪画像を含む指の画像）を得るものである。
図１（ａ）及び図１（ｂ）に示すように、本実施形態において、撮像装置５１及び照明装置５２は、上部機枠１２に設けられている。
すなわち、上部機枠１２には基板１３が設置されており、撮影機構５０を構成する撮像装置５１及び照明装置５２は、この基板１３の下面に、隔壁１１６に対向するように設けられている。
なお、基板１３に取り付けられている撮像装置５１及び照明装置５２の位置は図示例に限定されない。
【００２５】
撮像装置５１は、例えば、２００万画素程度以上の画素を有する固体撮像素子とレンズ等を備えて構成された小型撮像装置である。
本実施形態では、撮影機構５０の撮像装置５１によって、爪Ｔを含む印刷指Ｕ１を撮影して爪画像が取得される。
後述する爪情報検出部８１２は、この爪画像を用いて印刷指Ｕ１及び描画対象である爪Ｔの位置や形状（爪Ｔの輪郭）、爪Ｔの縦横比等を検出するようになっている。
【００２６】
照明装置５２は、例えば白色ＬＥＤ等の照明装置である。
本実施形態では、撮像装置５１の両側、手前側及び奥側に撮像装置５１を囲むように４つの照明装置５２が配置されている。照明装置５２は、下方に向けて光を照射して、撮像装置５１の下方の撮影範囲を照明する。
なお、照明装置５２を設ける数や、その配置等は図示例に限定されない。
【００２７】
この撮影機構５０は、後述する制御装置８０の撮影制御部８１１（図２参照）に接続され、該撮影制御部８１１によって制御されるようになっている。
なお、撮影機構５０によって撮影された画像（すなわち、爪画像）の画像データは、後述する記憶部８２の爪画像記憶領域８２１に記憶される。
【００２８】
制御装置８０は、例えば上部機枠１２に配置された基板１３等に設置されている。
図２は、本実施形態における制御構成を示す要部ブロック図である。
制御装置８０は、図２に示すように、図示しないＣＰＵ（Central Processing Unit）により構成される制御部８１と、ＲＯＭ（Read Only Memory）及びＲＡＭ（Random Access Memory）等（いずれも図示せず）で構成される記憶部８２とを備えるコンピュータである。
【００２９】
記憶部８２には、ネイルプリント装置１を動作させるための各種プログラムや各種データ等が格納されている。
具体的には、記憶部８２のＲＯＭには、印刷指Ｕ１の位置や形状（輪郭）、爪Ｔの位置や形状（輪郭）、爪Ｔの縦横比等の検出を行うための爪情報検出プログラム、ネイルデザインの画像データに曲面補正等を行って描画用のデータを生成するための描画データ生成プログラム、描画処理を行うための描画プログラム等の各種プログラムが格納されており、これらのプログラムが制御装置８０によって実行されることによって、ネイルプリント装置１の各部が統括制御されるようになっている。
また、本実施形態において記憶部８２には、撮影機構５０によって取得されたユーザの印刷指Ｕ１の爪Ｔの爪画像を記憶する爪画像記憶領域８２１、爪情報検出部８１２によって検出された爪情報（印刷指Ｕ１の輪郭や爪Ｔの輪郭、爪Ｔの縦横比等）が記憶される爪情報記憶領域８２２、及び描画対象である爪Ｔに描画されるネイルデザインの画像データ（これを単に「デザインデータ」ともいう。）を記憶するネイルデザイン記憶領域８２３、後述する爪Ｔの曲面補正レベルに応じた補正を行う際に必要なデータを記憶する補正用データ記憶領域８２４等が設けられている。
【００３０】
制御部８１は、機能的に見た場合、撮影制御部８１１、爪情報検出部８１２、描画データ生成部８１３、描画制御部８１４、表示制御部８１５等を備えている。これら撮影制御部８１１、爪情報検出部８１２、描画データ生成部８１３、描画制御部８１４、表示制御部８１５等としての機能は、制御部８１のＣＰＵと記憶部８２のＲＯＭに記憶されたプログラムとの共働によって実現される。
【００３１】
撮影制御部８１１は、撮影機構５０の撮像装置５１及び照明装置５２を制御して撮像装置５１により、指受入部３１に挿入された印刷指Ｕ１の画像（爪Ｔの画像を含む印刷指Ｕ１の画像、以下「爪画像」という。）を撮影させるものである。
撮影機構５０により取得された爪画像の画像データは、記憶部８２の爪画像記憶領域８２１に記憶される。
なお、以下においては、撮影機構５０により取得された爪画像から印刷指Ｕ１や爪Ｔの輪郭、爪Ｔの縦横比等を爪情報として検出する場合について説明するが、爪画像から検出される爪情報はこれに限定されず、例えば爪Ｔの曲率等も爪画像に基づいて検出されてもよい。
【００３２】
爪情報検出部８１２は、撮影機構５０の撮像装置５１によって取得された爪Ｔを含む印刷指Ｕ１の画像である爪画像から、印刷指Ｕ１の領域を画する指の輪郭や、描画対象である爪Ｔの領域を画する爪Ｔの輪郭（爪形状）、描画対象である爪Ｔ表面の爪幅方向における湾曲の程度を示す曲面レベル等を検出する。
爪情報検出部８１２による爪情報の検出手法は、例えば、印刷指Ｕ１や爪Ｔと背景（本実施形態では、指載置部１１６ａ）との色の差を印刷指Ｕ１や爪Ｔの形状（輪郭）を検出する。また、爪Ｔと印刷指Ｕ１との色の差や陰影の付き方等から爪Ｔと印刷指Ｕ１の皮膚との境界を検出し、爪Ｔの形状（輪郭）を取得する。
また、例えば撮影機構５０において、照明装置５２による光の照射角度等を変えながら複数回撮影を行い、複数枚の爪画像が取得されている場合には、爪情報検出部８１２は、爪画像に現れる陰影の程度等に基づいて、爪Ｔ表面の幅方向における湾曲の程度がどの程度であり、その程度の補正が必要であるかを示す曲面補正レベルを取得する。この曲面補正レベルは、後述する図４（ａ）に示すように、爪Ｔ表面の水平方向の所定間隔毎の位置の湾曲の程度、すなわち爪Ｔ表面の水平方向に対する傾斜の程度、に対応する情報を含んでいる。
なお、爪情報検出部８１２による爪情報の検出手法は、ここで例示したものに限定されず、各種の手法を用いることが可能である。また、爪情報検出部８１２が曲面レベルを検出するとしたが、この曲面補正レベルは爪情報検出部８１２が検出する態様に限るものではなく、例えば予め曲面補正レベルの標準的な値が設定されていてもよく、ユーザがその曲面補正レベルの設定値を変更可能となっていてもよい。
【００３３】
図３は、描画対象である爪Ｔを示す模式図である。
図３では、描画対象面である爪Ｔの爪表面を上方から見た平面図と、爪Ｔを先端側から見た正面図とを１つの図の中に示し、爪表面を上方から平面的に見た場合の見かけ上の爪幅寸法をＷとしている。
また、比較的平坦で曲面補正を必要としない爪幅方向のほぼ中央部の領域を「無補正領域Ｃ」、湾曲していて曲面補正が必要な爪幅方向の両端部のうち、左側端部の領域を「左補正領域ＬＥ」、右側端部の領域を「右補正領域ＲＥ」としている。
図３に示すように、描画対象面である爪Ｔの表面は、幅方向の一端側端部Ｅ１と他端側端部Ｅ２との高さが相対的に低く、幅方向の中央部の高さが相対的に高くなるように湾曲している。これに対し、描画ヘッド４１を爪Ｔの幅方向に沿って、一端側端部Ｅ１から他端側端部Ｅ２に向かう方向に移動（走査）させながらインク液滴を吐出させた場合、吐出されたインク液滴の進行方向（吐出方向）は、図３のｄに示すように、鉛直方向に対して描画ヘッド４１の移動方向に向かって傾斜した方向となる。このため、爪Ｔの表面の、描画ヘッド４１の移動方向に沿って登り傾斜となる領域に対する走査（これを「第１走査」という。）では描画ヘッド４１から吐出されたインク液滴が爪Ｔの表面の高さの低い部分にも良好に着弾する。これに対して、爪Ｔの表面の、描画ヘッド４１の移動方向に沿って下り傾斜となる領域に対する走査（これを「第２走査」という。）では描画ヘッド４１（図３の上側に一点鎖線で示す。）から吐出されたインク液滴の進行方向ｄと爪Ｔの表面の傾斜方向との角度差が小さくなる。そのため、インク液滴が着弾し難くなったり、着弾位置が乱れたりして、インク液滴の着弾が不良となってしまう。
そこで本実施形態では、爪Ｔの幅方向の長さをＷとした場合に、爪Ｔの幅方向の中央部は補正のいらない無補正領域Ｃとし、この無補正領域Ｃの左側の所定の幅領域を左補正領域ＬＥとし、無補正領域Ｃの右側の所定の幅領域を右補正領域ＲＥとして、左補正領域ＬＥ及び右補正領域ＲＥにおいて補正を行うようにしている。
【００３４】
具体的には、爪情報検出部８１２は、図４（ａ）に示すように、爪Ｔの湾曲程度から、曲面補正レベルを０〜５の６段階のうちのいずれかに分類する。爪情報検出部８１２が曲面補正レベルの分類を行う手法は特に限定されないが、例えば、記憶部８２の補正用データ記憶領域８２４には、曲面補正レベルを分類するための閾値等が記憶されており、爪情報検出部８１２は爪Ｔの表面形状を検出すると、当該ユーザの爪Ｔがいずれの曲面補正レベルに分類されるかを、閾値を参照しながら決定する。なお、曲面補正レベルはここに示す６段階に限定されず、３段階等少なくてもよいし、７段階以上にさらに細かく分類されてもよい。
図４（ａ）では、ほぼ平坦に近い爪Ｔ表面の曲面レベルを「曲面補正レベル０」とし、比較的湾曲の少ない全体に平坦な爪Ｔ表面の曲面レベルを「曲面補正レベル１」とし、比較的大きく湾曲した爪Ｔ表面の曲面レベルを「曲面補正レベル５」とし、そのほぼ中間の一般的・標準的な爪Ｔ表面の曲面レベルを「曲面補正レベル２」「曲面補正レベル３」として、それぞれ閾値を設けて分類している。
【００３５】
また、図４（ｂ）に示すように、各曲面補正レベル０〜５について、それぞれ補正範囲を対応付けたテーブルが補正用データ記憶領域８２４に記憶されている。
補正範囲は、補正を行う領域の幅を爪幅Ｗに占める割合（％）で規定したものである。
例えば、爪Ｔが曲面補正レベル１に分類された場合には、爪Ｔの左端部から５％の幅領域が左補正領域ＬＥとされ、爪Ｔの右端部から５％の幅領域が右補正領域ＲＥとされ、これ以外の中央部分が無補正領域Ｃとなる。
また、爪Ｔが曲面補正レベル５に分類された場合には、爪Ｔの左端部から２５％の幅領域が左補正領域ＬＥとされ、爪Ｔの右端部から２５％の幅領域が右補正領域ＲＥとされ、これ以外の中央部分が無補正領域Ｃとなる。
【００３６】
描画データ生成部８１３は、描画ヘッド４１により印刷指Ｕ１の爪Ｔにネイルデザインの描画を施すのに必要なデータを生成するものである。描画データ生成部８１３は、ユーザによって選択されたネイルデザインをユーザの爪形状に合せ込むとともに、爪情報検出部８１２により検出された曲面補正レベルに応じて、複数回の走査においていずれの画素を描画するのか（すなわち、描画ヘッド４１のインク吐出部４１１のうち、いずれの画素に対応するノズルを駆動させるのか）を制御するための描画用データを生成する。
また、描画制御部８１４は、描画データ生成部８１３により生成された描画用データに基づいて適宜複数のノズルの全部又は一部を駆動させながら描画対象面である爪表面上で描画ヘッド４１を複数回走査させ、画像を形成させるように描画ヘッド４１を制御する。
本実施形態では、爪Ｔの上で描画ヘッド４１を往復移動させながら、４回の走査（４パス）で画像を形成させるようになっている。
描画制御部８１４は、描画データ生成部８１３によって生成された描画用データに基づいて描画機構４０に制御信号を出力し、爪Ｔに対してこの描画データにしたがった描画を施すように描画機構４０のＸ方向移動モータ４６、Ｙ方向移動モータ４８、描画ヘッド４１等を制御する。
【００３７】
本実施形態では、描画データ生成部８１３及び描画制御部８１４により描画機構４０の描画動作を制御する制御部が構成されている。
【００３８】
本実施形態では、描画機構４０は、描画対象面である爪Ｔの表面を爪Ｔの幅方向の一端側から他端側に亘って偶数回走査することで描画対象面に描画を行うようになっている。
そしてこのとき、描画機構４０の描画動作を制御する制御部である描画データ生成部８１３及び描画制御部８１４は、描画機構４０の走査により描画される画素を描画画素として、描画対象面（爪Ｔの表面）における描画ヘッド４１の移動方向に沿って登り傾斜となる領域に対する走査（第１走査）では、描画機構４０により当該第１走査において描画される描画画素の量を、第１走査の始点から描画ヘッド４１の移動方向に沿って多量から少量へ減少させるように変化させる。
また、描画対象面（爪Ｔの表面）における描画ヘッド４１の移動方向に沿って下り傾斜となる領域に対する走査（第２走査）では、描画機構４０により当該走査において描画される描画画素の量を、第２走査の始点から、少なくとも第１走査の終点における量から描画ヘッド４１の移動方向に沿って減少させるように変化させる。
さらに、偶数回の走査において対をなす走査、すなわち、一端側から他端側に走査する往路の際の第１走査における描画画素の量の変化と、他端側から一端側に走査する復路の際の第２走査における描画画素の量の変化とが互いに補完し合うように描画機構４０の描画動作を制御する。
【００３９】
以下、図５から図１１を参照しつつ、描画データ生成部８１３及び描画制御部８１４による描画機構４０の描画動作の制御について説明する。
図５は、本実施形態において描画機構の各走査における描画画素の割合を示す説明図である。
ここでは、爪幅がＷ、曲面補正レベルが４で、補正範囲が２０％とされる場合であり、図５における描画ヘッド４１が左から右に向かって移動（移動方向Ｒ）して描画する場合、爪Ｔの幅方向の左側端部からＷ×２０／１００の領域を左補正領域ＬＥとする。また、図５における描画ヘッド４１が右から左に向かって移動（移動方向Ｌ）して描画する場合、爪Ｔの幅方向の右側端部からＷ×２０／１００の領域を右補正領域ＲＥとし、これ以外の爪幅Ｗの６０％にあたる中心部分を、補正を行わない無補正領域Ｃとする。
そして、爪Ｔの表面である描画対象面の単位領域Ｐを４回の走査（パス）でシングリング印刷する場合を例として説明する。
【００４０】
ここで、図５等においては、１パス目（１走査目）は、描画ヘッド４１が左から右（図５において左から右）に移動することにより走査され、描画ヘッド４１の移動方向（描画方向）は右方向Ｒとなる。このときの描画を図５等において「Ｌ２Ｒ１」とする。また、２パス目（２走査目）は、描画ヘッド４１が右から左（図５において右から左）に移動することにより走査され、描画ヘッド４１の移動方向（描画方向）は左方向Ｌとなる。このときの描画を図５等において「Ｒ２Ｌ２」とする。同様に、３パス目（３走査目）は、描画ヘッド４１が左から右（図５において左から右）に移動することにより走査され、描画ヘッド４１の移動方向（描画方向）は右方向Ｒとなる。このときの描画を図５等において「Ｌ２Ｒ３」とする。また、４パス目（４走査目）は、描画ヘッド４１が右から左（図５において右から左）に移動することにより走査され、描画ヘッド４１の移動方法（描画方向）は左方向Ｌとなる。このときの描画を図５等において「Ｒ２Ｌ４」とする。
【００４１】
従来の一般的な手法によれば、１パス目（１走査目）から４パス目（４走査目）の各走査において、爪Ｔの幅方向の全域で、描画するデザイン画像を構成する全画素のうちの２５％の画素ずつを描画していき、４回のパス（走査）によって全画素の描画が行われるようにする。
これに対し、本実施形態では、爪Ｔの幅方向の両端部に設定された左補正領域ＬＥ及び右補正領域ＲＥにおいて、描画するデザイン画像を構成する全画素のうちの各走査において描画機構４０により描画する画素（以下、描画画素とも記す）の量を、各走査における描画ヘッド４１の移動に伴って変化させるようになっている。
【００４２】
すなわち、本実施形態では、図５に示すように、左側から右側（図５において移動方向Ｒ）への１パス目（１走査目）のＬ２Ｒ１において、左補正領域ＬＥでは、左補正領域ＬＥの始点（すなわち、左側端部）においては、デザイン画像を構成する全画素のうちの描画画素の割合を５０％とし、左補正領域ＬＥの終点（すなわち、左補正領域ＬＥにおける無補正領域Ｃとの境界側）では、描画画素の割合を２５％とし、左補正領域ＬＥの始点から終点にかけて、描画画素の割合を５０％から２５％に変化させる。
そして、無補正領域Ｃでは描画画素の割合を２５％とする。
さらに、１パス目（１走査目）のＬ２Ｒ１において、右補正領域ＲＥでは、右補正領域ＲＥの始点（すなわち、右補正領域ＲＥにおける無補正領域Ｃとの境界側である左側端部）においては、描画画素の割合を２５％とし、右補正領域ＲＥの終点では、描画画素の割合を０％とし、右補正領域ＲＥの始点から終点にかけて、描画画素の割合を２５％から０％に変化させる。
これにより、図５において１パス目（１走査目）のＬ２Ｒ１として示すように、左補正領域ＬＥでは、左側端部において描画画素の割合を５０％とし、描画画素の割合を徐々に２５％まで減少させながら描画し、無補正領域Ｃでは描画画素の割合を２５％として描画し、右補正領域ＲＥでは、描画画素の割合を２５％から徐々に０％まで減少させながら描画を行う。
【００４３】
また、この１パス目（１走査目）のＬ２Ｒ１と対をなす走査である右側から左側（図５において移動方向Ｌ）への２パス目（２走査目）のＲ２Ｌ２では、右補正領域ＲＥの始点（すなわち、右側端部）においては、描画画素の割合を５０％とし、右補正領域ＲＥの終点（すなわち、右補正領域ＲＥにおける無補正領域Ｃとの境界側）においては、描画画素の割合を２５％とし、右補正領域ＲＥの始点から終点にかけて、描画画素の割合を５０％から２５％に変化させる。
そして、無補正領域Ｃでは描画画素の割合を２５％とする。
さらに、２パス目（２走査目）のＲ２Ｌ２において、左補正領域ＬＥでは、左補正領域ＬＥの始点（すなわち、左補正領域ＬＥにおける無補正領域Ｃとの境界側である右側端部）において、描画画素の割合を２５％とし、左補正領域ＬＥの終点では、描画画素の割合を０％とし、左補正領域ＬＥの始点から終点にかけて、描画画素の割合を２５％から０％に変化させる。
これにより、図５において２パス目（２走査目）のＲ２Ｌ２として示すように、右補正領域ＲＥでは、右側端部において描画画素の割合を５０％とし、描画画素の割合を徐々に２５％まで減少させながら描画し、無補正領域Ｃでは描画画素の割合を２５％として描画し、左補正領域ＬＥでは、描画画素の割合を２５％から徐々に０％まで減少させながら描画を行う。
【００４４】
この結果、図５に示す１パス目（１走査目）のＬ２Ｒ１における描画画素量の模式的な推移図と２パス目（２走査目）のＲ２Ｌ２における描画画素量の模式的な推移図とを爪Ｔの幅方向の両端部の形状が嵌り合うように、Ｌ２Ｒ１における描画画素量の模式的な推移図を上下反転させて重ね合わせると、１パス目と２パス目とによる描画画素の割合は、左側端部から右側端部間の全体に亘ってほぼ均一に５０％となる。
すなわち、爪Ｔの幅方向の一端側から他端側に走査する往路の際の第１走査（図５ではＬ２Ｒ１）において描画されなかった画素（非描画画素）を他端側から一端側に走査する復路の際の第２走査（図５ではＲ２Ｌ２）において描画することで、往路の際の第１走査（図５ではＬ２Ｒ１）ける描画画素の割合の変化と、復路の際の第２走査（図５ではＲ２Ｌ２）における描画画素の割合の変化とが、互いに補完し合う関係となる。
なお、このことは、図５に示す３パス目（３走査目）のＬ２Ｒ３と４パス目（４走査目）のＲ２Ｌ４との間でも同様である。
このように、本実施形態では、爪Ｔの幅方向に沿って走査する往路と復路の両方向において描画が可能であり、その一部において、一方向の走査時においてのみ描画が行われる領域が存することとなる。
そして、描画機構４０の描画動作を制御する制御部である描画データ生成部８１３及び描画制御部８１４は、描画対象面である爪Ｔの表面の湾曲の程度（すなわち、曲面補正レベル）に応じて描画画素量の補正を行う補正範囲を調整し、描画機構４０による描画画素の量の変化の程度を制御するようになっている。
また、本実施形態では、描画データ生成部８１３及び描画制御部８１４は、図５における描画画素量の模式的な推移図に示すように、描画機構４０による描画画素の量をリニアに変化させるように制御する。このため、描画画素の量を調整する領域（すなわち、左補正領域ＬＥ及び右補正領域ＲＥ）と調整しない領域（すなわち、無補正領域Ｃ）との間に筋等が現れにくく、美しい仕上がりのネイルプリントを行うことができる。
【００４５】
ここで、各走査において描画を行う画素である描画画素と描画を行わない非描画画素との振り分けについて具体的に説明する。
本実施形態において、記憶部の補正用データ記憶領域８２４等には、ランダムに配列される複数のドットからなるマスクパターン（シングリングマスク）のデータが記憶されており、描画機構４０の描画動作を制御する制御部を構成する描画データ生成部８１３は、このマスクパターンを構成するドットにより描画機構４０により描画される描画画素の割合を制御する。
図６にマスクパターン（シングリングマスク）の一例を示す。
マスクパターン（シングリングマスク）は、縦方向及び横方向のそれぞれに２５６個のドットが配列された正方形の領域を有し、６５５３６個のドットがこの領域内にランダムかつ均一に配列されている。各ドットは描画機構４０による描画における解像度と同じ密度で配置されている。そして、各ドットには０から２５５の数値の何れか割り当てられており、各数値が割り当てられているドットがそれぞれ２５６個あり、それぞれが領域内にランダムかつ均一に配列されている。また、実際の描画対象面に対しては、描画対象面の全体をカバーするように複数のマスクパターンが適用される。
そして、このマスクパターンに対して、各ドットに割り当てられている数値に対する閾値を設定することにより、その閾値に対応するドットを抽出することができ、デザイン画像を構成する全画素のうちの抽出したドットに対応する画素を、描画機構４０により描画する描画画素に設定し、それ以外を描画機構４０により描画を行わない非描画画素に設定する。すなわち、図６に示すように、閾値を０から１２に設定した場合には描画画素の割合は５％となり、閾値を０から２５に設定した場合には描画画素の割合は１０％となり、閾値を０から３８に設定した場合には描画画素の割合は１５％となり、閾値を０から６３に設定した場合には描画画素の割合は２５％となり、閾値を０から２５５に設定した場合には描画画素の割合は１００％となる。なお、上記の閾値の範囲は一例であり、例えば閾値を６４から１２７に設定した場合でも、閾値を１２８から１９１に設定した場合でも、閾値を１９２から２５５に設定した場合でも、描画画素の割合は２５％となる。また、閾値の範囲が異なると、マスクパターンにおける対応するドットの位置も異なることになる。
このマスクパターン（シングリングマスク）では、全てのドットがランダムかつ均一に配列されているため、これに閾値を適用して各走査における描画画素を設定した場合に、描画画素の割合が多いときも少ないときも、図６に示すように、均等な濃度となるようにされる。
【００４６】
一般的な描画手法としては、このようなマスクパターンに対して閾値を設定したテーブルを準備し、このテーブルに基づいて、１パス目（１走査目）では閾値を０から６３に設定して、描画画素の割合を２５％として描画し、２パス目（２走査目）では閾値を６４から１２７に設定して、描画画素の割合を２５％として描画し、３パス目（３走査目）では閾値を１２８から１９１に設定して、描画画素の割合を２５％として描画し、４パス目（４走査目）では閾値を１９２から２５５に設定して、描画画素の割合を２５％として描画することとなる。
【００４７】
これに対して、本実施形態では、図７及び図８に示すように、１パス目（１走査目）のＬ２Ｒ１時において、左補正領域ＬＥの間では、マスクパターンに対する閾値を０から１２７に設定した状態から閾値を０から６４に設定した状態まで徐々に変化させ、無補正領域Ｃの間では閾値を０から６３に設定する。そして、右補正領域ＲＥの間では、閾値を０から６３に設定した状態から閾値を０に設定した状態まで徐々に変化させて、それぞれにおいて閾値に対応して描画画素の割合を設定して、描画機構４０による描画を行う。
２パス目（２走査目）のＲ２Ｌ２時において、右補正領域ＲＥの間では、閾値を０から１２７に設定した状態から閾値を６４から１２７に設定した状態まで徐々に変化させていく。無補正領域Ｃの間では閾値を６４から１２７に設定する。そして、左補正領域ＬＥの間では閾値を６４から１２７に設定した状態から閾値を１２７に設定した状態へ徐々に変化させて、それぞれにおいて閾値に対応して描画画素の割合を設定して、描画機構４０による描画を行う。すなわち、１パス目の描画画素と２パス目の描画画素は互いに異なっている。
また、３パス目（３走査目）のＬ２Ｒ３において、左補正領域ＬＥの間では、閾値を１２８から２５５に設定した状態から閾値を１２８から１９１に設定した状態まで徐々に変化させ、無補正領域Ｃの間では閾値を１２８から１９１に設定する。そして、右補正領域ＲＥの間では閾値を１２８から１９１に設定した状態から閾値を１２８に設定した状態へ徐々に変化させて、それぞれにおいて閾値に対応して描画画素の割合を設定して、描画機構４０による描画を行う。
さらに、４パス目（４走査目）のＲ２Ｌ４時において、右補正領域ＲＥの間では、閾値を１２８から２５５に設定した状態から閾値を１９２から２５５に設定した状態まで徐々に変化させ、無補正領域Ｃの間では閾値を１９２から２５５に設定する。そして、左補正領域ＬＥの間では、閾値を１９２から２５５に設定した状態から閾値を２５５に設定した状態へ徐々に変化させて、それぞれにおいて閾値に対応して描画画素の割合を設定して、描画機構４０による描画を行う。ここで、３パス目及び４パス目の描画画素は１パス目及び２パス目の描画画素とは異なり、３パス目の描画画素と４パス目の描画画素は互いに異なっている。
【００４８】
表示制御部８１５は、表示装置２６を制御して表示装置２６に各種の表示画面を表示させるものである。本実施形態では、表示制御部８１５は、例えばネイルデザインの選択画面やデザイン確認用のサムネイル画像、印刷指Ｕ１を撮影して取得した爪画像、各種の指示画面、操作画面等を表示装置２６に表示させるようになっている。
なお、ユーザの爪Ｔ表面の曲面レベルが決定されると、これを表示装置２６に表示させてユーザに確認を求めるようにしてもよい。この場合、ユーザが装置側で自動的に選択された曲面レベルが自分の爪Ｔに合っていないと判断するときは、操作部２５やタッチパネル等から曲面レベルを変更したり、微調整を行ったりすることができてもよい。
【００４９】
次に、図９から図１１を参照しつつ、本実施形態におけるネイルプリント装置１による描画方法について説明する。
【００５０】
図９は、ネイルプリント装置による描画処理の全体の流れを示すフローチャートである。
このネイルプリント装置１により描画を行う場合、ユーザはまず、電源スイッチを入れて制御装置８０を起動させる。
描画スイッチから指示が入力されると、描画動作を開始する前に、まず撮影制御部８１１が撮影機構５０を制御して、照明装置５２により印刷指Ｕ１を照明しながら撮像装置５１により印刷指Ｕ１を撮影させる。これにより、撮影制御部８１１は、印刷指Ｕ１の爪Ｔの撮影画像（爪画像）を取得する（ステップＳ１）。
次に爪情報検出部８１２が爪画像から、爪Ｔの輪郭や爪Ｔの高さ方向の位置等の爪情報を検出する（ステップＳ２）。
さらに、爪情報検出部８１２は爪情報から描画対象である爪Ｔの爪幅方向における湾曲の程度を示す曲面補正レベルを取得する（ステップＳ３）。
【００５１】
爪Ｔについて曲面補正レベルが取得されると、描画データ生成部８１３は、この曲面補正レベルに応じて設定された補正範囲を決定する（ステップＳ４）。
さらに、描画データ生成部８１３は、曲面補正レベルに応じて設定された補正範囲等に基づくとともに、爪の形状等の爪情報を考慮して描画用画像データを生成する（ステップＳ５）。
【００５２】
描画データ生成部８１３により、描画用画像データが生成されると、描画制御部８１４はこれに基づいて描画ヘッド４１の動作を制御し、爪Ｔへのネイルデザインの描画処理を開始する（ステップＳ６）。
【００５３】
次に、図１０及び図１１に基づいて、描画処理について説明する。
描画処理が開始されると、図１０に示すように、描画制御部８１４は、当該描画が１パス目（１走査目）のＬ２Ｒ１であるか否かを判断する（ステップＳ１１）。そしてＬ２Ｒ１の描画である場合（ステップＳ１１；ＹＥＳ）には、Ｌ２Ｒ１に対応した描画処理を行うように描画機構４０を制御する（ステップＳ１２）。
すなわち、左補正領域ＬＥにおいては始点（すなわち、左側端部）から終点にかけては、描画画素の割合を５０％から２５％まで徐々に減少させていき、無補正領域Ｃでは描画画素の割合を２５％とし、右補正領域ＲＥでは描画画素の割合を２５％から０％まで徐々に減少させていく補正処理を行いながら、描画処理を行う。
【００５４】
ここで、１パス目（１走査目）のＬ２Ｒ１の描画処理を行う場合の処理について、図１１を参照しつつ説明する。
１パス目（１走査目）のＬ２Ｒ１の描画処理を行う場合、図１１に示すように、描画制御部８１４は、描画位置が左補正領域ＬＥか否かを判断する（ステップＳ２１）。そして描画位置が左補正領域ＬＥである場合（ステップＳ２１；ＹＥＳ）には、左補正領域ＬＥに対応する描画画素の割合で描画を行う（ステップＳ２２）。すなわち、左補正領域ＬＥにおいては始点（すなわち、左側端部）から終点にかけて、描画画素の割合を５０％から２５％まで徐々に減少させて描画を行う。
【００５５】
他方、描画位置が左補正領域ＬＥでない場合（ステップＳ２１；ＮＯ）には、描画制御部８１４は、描画位置が無補正領域Ｃか否かを判断する（ステップＳ２３）。そして描画位置が無補正領域Ｃである場合（ステップＳ２３；ＹＥＳ）には、無補正領域Ｃに対応する描画画素量で描画を行う（ステップＳ２４）。すなわち、無補正領域Ｃでは描画画素の割合を２５％として描画を行う。
【００５６】
他方、描画位置が無補正領域Ｃでない場合（ステップＳ２３；ＮＯ）には、描画制御部８１４は、さらに描画位置が右補正領域ＲＥか否かを判断する（ステップＳ２５）。そして描画位置が右補正領域ＲＥである場合（ステップＳ２５；ＹＥＳ）には、右補正領域ＲＥに対応する描画画素の割合で描画を行う（ステップＳ２６）。すなわち、右補正領域ＲＥでは描画画素の割合を２５％から０％まで徐々に減少させていく補正処理を行いながら描画処理を行う。
なお、Ｒ２Ｌ２からＲ２Ｌ４の描画を行う場合も上記とほぼ同様の処理が行われる。
【００５７】
他方、図１０に戻り、Ｌ２Ｒ１の描画でない場合（ステップＳ１１；ＮＯ）には、描画制御部８１４は、当該描画が２パス目（２走査目）のＲ２Ｌ２であるか否かを判断する（ステップＳ１３）。そしてＲ２Ｌ２の描画である場合（ステップＳ１３；ＹＥＳ）には、Ｒ２Ｌ２に対応した描画処理を行うように描画機構４０を制御する（ステップＳ１４）。
すなわち、右補正領域ＲＥにおいては始点（すなわち、右側端部）から終点にかけては、描画画素の割合を５０％から２５％まで徐々に減少させていき、無補正領域Ｃでは描画画素の割合を２５％とし、左補正領域ＬＥでは描画画素の割合を２５％から０％まで徐々に減少させていく補正処理を行いながら描画処理を行う。
【００５８】
他方、Ｒ２Ｌ２の描画でない場合（ステップＳ１３；ＮＯ）には、描画制御部８１４は、当該描画が３パス目（３走査目）のＬ２Ｒ３であるか否かを判断する（ステップＳ１５）。そしてＬ２Ｒ３の描画である場合（ステップＳ１５；ＹＥＳ）には、Ｌ２Ｒ３に対応した描画処理を行うように描画機構４０を制御する（ステップＳ１６）。
すなわち、この場合には、１パス目（１走査目）のＬ２Ｒ１である場合と同様に、左補正領域ＬＥにおいては、始点（すなわち、左側端部）から終点にかけては、描画画素の割合を５０％から２５％まで徐々に減少させていき、無補正領域Ｃでは描画画素の割合を２５％とし、右補正領域ＲＥでは描画画素の割合を２５％から０％まで徐々に減少させていく補正処理を行いながら描画処理を行う。
【００５９】
他方、Ｌ２Ｒ３の描画でない場合（ステップＳ１５；ＮＯ）には、描画制御部８１４は、当該描画が４パス目（４走査目）のＲ２Ｌ４であると判断し、Ｒ２Ｌ４に対応した描画処理を行うように描画機構４０を制御する（ステップＳ１７）。
すなわち、この場合には、２パス目（２走査目）のＲ２Ｌ２である場合と同様に、右補正領域ＲＥにおいては、始点（すなわち、右側端部）から終点にかけては、描画画素の割合を５０％から２５％まで徐々に減少させていき、無補正領域Ｃでは描画画素の割合を２５％とし、左補正領域ＬＥでは描画画素の割合を２５％から０％まで徐々に減少させていく補正処理を行いながら描画処理を行う。
このようにして、描画対象面について、１パス目（１走査目）のＬ２Ｒ１から４パス目（４走査目）のＲ２Ｌ４の描画処理が終了すると、図９のステップＳ６の描画処理を終了する。
【００６０】
次に、図９に戻り、描画制御部８１４は、爪Ｔについて全ての描画処理が終了したか否かを常に判断し（ステップＳ７）、描画処理が終了した場合（ステップＳ７；ＹＥＳ）には処理を終了し、終了していない（すなわち、描画ヘッドによる４回の走査が終了していない）場合（ステップＳ７；ＮＯ）には、ステップＳ６に戻って処理を繰り返す。
【００６１】
以上のように、本実施形態によれば、ネイルプリント装置１は、互いに異なる第１方向と第２方向とに沿って移動しながら描画対象面である爪Ｔの表面に描画を行う描画ヘッド４１を有し、描画ヘッド４１は、描画対象面（爪Ｔの表面）が第１方向に対して登り傾斜となり第２方向に対して下り傾斜となる第１領域を有している場合に、第１方向に沿って移動する第１走査と第２方向に沿って移動する第２走査とにより、第１領域に描画予定の画像を構成する複数の第１の画素の少なくとも一部を描画する。そして、制御装置８１は、第１領域に描画予定の画像を構成する複数の画素に対する第１走査で描画ヘッド４１が描画する画素の割合を、第２走査で描画ヘッド４１が描画する画素の割合より多くするように制御するようになっている。
登り傾斜における走査では、インク液滴の着弾が乱れないため、着弾させる画素数（すなわち、描画画素量、描画量）を多くしても高精細に描画を施すことができる。他方で、下り傾斜における走査では、描画ヘッド４１からインクを吐出させてもうまく着弾しないこともあり、また着弾してもその着弾位置が乱れやすい。
この点、着弾が乱れる場面では描画量（描画画素量）を減らし、良好に着弾させることのできる側からの描画量（描画画素量）を多くすることにより、描画の仕上がりを良くすることができる。
また、登り傾斜における第１走査と下り傾斜における第２走査とで、描画画素の量の変化が互いに補完し合うように描画動作を制御している。このため、
着弾の乱れを防ぐために描画量（描画画素量）を減らした部分は、当該走査と対をなす走査において画素を描画することができ、爪Ｔの幅方向を全体として見たときの濃度のばらつきも生じず、高精細な描画を実現することができる。
【００６２】
偶数回の走査において対をなす２回の走査（例えば移動方向Ｒへの往路と移動方向Ｌの復路）の第１走査と第２走査とで描画画素の量の変化を補完し合うため、最低限描画ヘッド４１を１往復させることで濃度むらのない画像形成を可能とする。
【００６３】
また、本実施形態のように、描画対象面が幅方向の一端側端部と他端側端部との高さが低く、幅方向の中央部の高さが高くなるように湾曲する爪の表面である場合に描画量（描画画素量）の制御を行うことができるため、美しいネイルプリントを実現することができる。
【００６４】
また、本実施形態では、描画対象面（爪Ｔの表面等）の湾曲の程度に応じて描画機構４０による描画画素の量の変化の程度を制御することができる。
爪Ｔの湾曲形状は人によって様々であるところ、このように、湾曲の程度を考慮して制御を行うことにより、どのような形状の爪Ｔにも適切な補正を行って、高精細なネイルデザインを実現することができる。
【００６５】
また、本実施形態では、描画機構４０により描画される描画画素の量をリニアに変化させるようになっている。
このため、描画画素の量の調整を行った箇所において筋が現れたりせず、美しい仕上がりとすることができる。
【００６６】
また、本実施形態では、それぞれに複数の数値のいずれかが割り当てられてランダムに配列される複数のドットからなるマスクパターンを有し、このマスクパターンを構成する各ドットに割り当てられている数値に対する閾値を設定することにより描画機構により描画される描画画素の量を制御している。
このため、描画画素を均一に配置することができ、むらのない描画を行うことができる。
【００６７】
なお、以上本発明の実施形態について説明したが、本発明は、かかる実施形態に限定されず、その要旨を逸脱しない範囲で、種々変形が可能であることは言うまでもない。
【００６８】
例えば、本実施形態では、図５に示すように、左補正領域ＬＥにおいては始点（すなわち、左側端部）から終点にかけては、描画画素とする量を５０％から２５％までリニアに減少させていき、右補正領域ＲＥにおいても描画画素とする量を２５％から０％までリニアに減少させていく場合を例示したが、偶数回の走査のうち、左補正領域ＬＥと右補正領域ＲＥとの対応する部分において全ての画素が埋まるように補完し合うような構成となっていればよく、各領域における描画画素の設定の仕方は本実施例の場合に限定されない。
【００６９】
例えば、図１２（ａ）に示すように、左補正領域ＬＥにおいては始点（すなわち、左側端部）から所定の範囲内は５０％を描画画素とし、右補正領域ＲＥにおけるこれに対応する部分は０％としてもよい。
さらに、図１２（ｂ）に示すように、左補正領域ＬＥ内は全て５０％を描画画素とし、これに対応する右補正領域ＲＥ内は全て描画画素を０％として、下り傾斜の部分では描画を行わないようにしてもよい。
リニアに変化していない部分がある場合、当該箇所で境界部分に筋が現れるおそれがあるが、描画するデザイン等によっては境界部分における筋が気にならない場合もあり、全体として描画対象面の両端部と中央部等の濃度がそろっていれば美しい仕上がりに見せることができる。
【００７０】
また、登り傾斜部分に対応する補正領域と下り傾斜部分に対応する補正領域とにおいて互いに補完し合うように補正が行われていればよく、例えば、図１２（ｃ）に示すように曲面に沿う方向の一端側から他端側まで全体的にリニアに描画画素量が変化していくようにしてもよい。この場合には無補正領域Ｃがない構成となる。
このように全体がリニアに変化する場合でも、対となる走査間において描画画素に偏り等がないように補完し合う構成とすれば、全体として美しい仕上がりを実現することができる。
【００７１】
また、本実施形態では、図５に示すように描画画素量が直線的に変化する場合を例示したが、描画画素量の変化は直線的なものに限定されず、例えば曲線を描くものであってもよい。
この場合も対となる走査間において互いに補完し合う形状の曲線を描くように描画画素量の変化を設定すれば、むらのない美しい仕上がりとすることができる。
【００７２】
さらに、本実施形態では、描画対象面の単位領域Ｐを４回のパス（走査）で描画する場合を例示したが、描画対象面の単位領域Ｐを描画するためのパス数は４回に限定されない。互いに補完し合うことのできる一対の走査があるように構成すればよく、偶数回の走査であれば、２回でもよく、６回以上でもよい。
【００７３】
また、本実施形態では、図９等に示すように描画ヘッド４１のインク吐出部４１１がＡｒ１〜Ａｒ４の４つの領域に分けられている場合を例示したが、インク吐出部４１１の構成はこれに限定されない。さらに多くの領域に分割されていてもよい。
【００７４】
また、本実施形態では、図６に示すようなマスクパターン（シングリングマスク）を用いて、各走査において描画する描画画素と描画しない非描画画素とを振り分ける場合を例示したが、各走査において描画する描画画素と描画しない非描画画素とを振り分ける手法はこれに限定されず、描画する画素（これに対応するノズル）を間引きながら印刷を行う各種の手法を適用することも可能である。
【００７５】
また、本実施形態では、ネイルデザインの画像データが装置内の記憶部８２に記憶されている場合を例示したが、ネイルデザインの画像データは、例えばインターネット等を介して外部装置から取得してもよい。
また、補正等の描画制御を行う制御部についても外部装置に持ち、描画装置自体には制御信号を受けて描画処理を行う機能部のみがあるような構成を採用することも可能である。
【００７６】
また、本実施形態では、描画ヘッド４１がインクジェット方式のものである場合を例示して説明したが、描画ヘッドはこれに限定されず、例えば、インクジェット方式の描画ヘッドと、ペン等の描画用具とを両方備え、両者を使って描画を行うものであってもよい。
【００７７】
以上本発明のいくつかの実施形態を説明したが、本発明の範囲は、上述の実施の形態に限定するものではなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲とその均等の範囲を含む。
以下に、この出願の願書に最初に添付した特許請求の範囲に記載した発明を付記する。付記に記載した請求項の項番は、この出願の願書に最初に添付した特許請求の範囲の通りである。
〔付記〕
＜請求項１＞
互いに異なる第１方向と第２方向とに沿って移動しながら描画対象面に描画を行う描画ヘッドと、
前記描画ヘッドの動作を制御する制御装置と、
を備え、
前記描画ヘッドは、前記描画対象面が前記第１方向に対して登り傾斜となり前記第２方向に対して下り傾斜となる第１領域を有している場合に、前記第１方向に沿って移動する第１走査と前記第２方向に沿って移動する第２走査とにより、前記第１領域に描画予定の画像を構成する複数の第１の画素の少なくとも一部を描画し、
前記制御装置は、前記複数の第１の画素に対する、前記第１走査において前記描画ヘッドが描画する前記第１の画素の割合を、前記第２走査において前記描画ヘッドが描画する前記第１の画素の割合より多くするように制御する、
ことを特徴とする描画装置。
＜請求項２＞
前記制御装置は、
前記第１走査において、前記複数の第１の画素のうちの前記描画ヘッドが描画する前記第１の画素の割合を、前記第１領域における前記第１方向に沿った始点から終点への移動に応じて減少させるように変化させるように制御し、
前記第２走査において、前記複数の第１の画素のうちの、前記第１走査において前記描画ヘッドが描画しなかった前記第１の画素を前記描画ヘッドが描画し、前記複数の第１の画素に対する前記描画ヘッドが描画する前記第１の画素の割合を、前記第１領域における前記第２方向に沿った始点から終点への移動に応じて減少させるように変化させるように制御する、
ことを特徴とする請求項１に記載の描画装置。
＜請求項３＞
前記制御部は、前記第１走査及び前記第２走査において、前記複数の第１の画素に対する前記描画ヘッドが描画する前記第１の画素の割合を前記描画ヘッドの位置に対してリニアに変化させるように制御することを特徴とする請求項２に記載の描画装置。
＜請求項４＞
前記描画ヘッドは、前記描画対象面が前記第１方向に対して下り傾斜となる第２領域を有している場合に、前記第２領域に描画予定の画像を構成する複数の第２の画素の少なくとも一部を前記第１走査と前記第２走査とにより描画し、
前記制御装置は、
前記第１走査において、
前記第１領域における前記複数の第１の画素に対する、前記描画ヘッドが描画する前記第１の画素の割合を、前記第１領域における前記第１方向に沿った始点から終点への移動に応じて、第１の値から前記第１の値より小さい第２の値に減少させ、前記第２領域における前記複数の第２の画素に対する、前記描画ヘッドが描画する前記第２の画素の割合を、前記第２領域における前記第１方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第２の値と同じか前記第２の値より小さい第３の値から前記第３の値より小さい第４の値に減少させ、
前記第２走査において、
前記第２領域における前記複数の第２の画素に対する、前記描画ヘッドが描画する前記第２の画素の割合を、前記第２領域における前記第２方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第１の値から前記第２の値に減少させ、前記第１領域における前記複数の第１の画素に対する、前記描画ヘッドが描画する前記第１の画素の割合を、前記第１領域における前記第２方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第３の値から前記第４の値に減少させる、
ことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の描画装置。
＜請求項５＞
前記描画対象面は、前記第１方向に沿った両端に対して前記第１方向に沿った中央部が高く、前記第１方向に沿って湾曲した形状を有し、
前記制御部は、前記描画対象面の前記湾曲の程度に応じて、前記第１領域及び前記第２領域の前記第１方向に沿った長さを設定することを特徴とする請求項４に記載の描画装置。
＜請求項６＞
前記制御装置は、
それぞれに複数の数値の何れかが割り当てられてランダムに配列されている複数のドットにより構成されるマスクパターンのデータを有し、
前記マスクパターンを構成する前記複数のドットに割り当てられている数値に対する閾値を設定して前記複数のドットの一部を抽出し、抽出した前記ドットに基づいて前記描画ヘッドが描画する前記第１画素及び前記第２画素を設定する、
ことを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の描画装置。
＜請求項７＞
前記描画対象面は、手の指の爪の表面又は足の指の爪の表面であり、前記第１方向は前記爪の幅方向に沿った方向であることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の描画装置。
＜請求項８＞
前記描画ヘッドは、インクジェット方式により液滴化したインクを吐出することにより前記描画対象面に描画を行うことを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の描画装置。
＜請求項９＞
描画装置の描画方法であって、
前記描画装置は、互いに異なる第１方向と第２方向とに沿って移動しながら描画対象面に描画を行う描画ヘッドを備え、
前記描画対象面が、前記第１方向に対して登り傾斜となり前記第２方向に対して下り傾斜となる第１領域を有している場合に、前記第１領域に描画予定の画像を構成する複数の第１の画素の少なくとも一部を、前記描画ヘッドにより、前記描画ヘッドを前記第１方向に沿って移動させる第１走査と、前記描画ヘッドを前記第２方向に沿って移動させる第２走査と、により描画させ、
前記複数の第１の画素に対する、前記第１走査において前記描画ヘッドにより描画させる前記第１の画素の割合を、前記第２走査において前記描画ヘッドにより描画させる前記画素の割合より多くするように制御することを特徴とする描画方法。
＜請求項１０＞
前記第１走査において、前記複数の第１の画素のうちの前記描画ヘッドにより描画させる前記第１の画素の割合を、前記第１描画領域における前記第１方向に沿った始点から終点への移動に応じて減少させるように変化させ、
前記第２走査において、前記複数の第１の画素のうちの、前記第１走査において描画されなかった前記第１の画素を前記描画ヘッドにより描画させ、前記複数の第１の画素に対する前記描画ヘッドにより描画させる前記第１の画素の割合を、前記第１領域における前記第２方向に沿った始点から終点への移動に応じて減少させるように変化させる、
ことを特徴とする請求項９に記載の描画方法。
＜請求項１１＞
前記描画対象面が前記第１方向に対して下り傾斜となる第２領域を有している場合に、前記第２領域に描画予定の画像を構成する複数の第２の画素の少なくとも一部を前記第１走査と前記第２走査とにより描画させ、
前記第１走査において、前記第１領域における前記複数の第１の画素に対する、前記描画ヘッドにより描画させる前記第１の画素の割合を、前記第１領域における前記第１方向に沿った始点から終点への移動に応じて、第１の値から前記第１の値より小さい第２の値に減少させ、前記第２領域における前記複数の第２の画素に対する、前記描画ヘッドにより描画させる前記第２の画素の割合を、前記第２領域における前記第１方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第２の値と同じか前記第２の値より小さい第３の値から前記第３の値より小さい第４の値に減少させ、
前記第２走査において、前記第２領域における前記複数の第２の画素に対する、前記描画ヘッドにより描画させる前記第２の画素の割合を、前記第２領域における前記第２方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第１の値から前記第２の値に減少させ、前記第１領域における前記複数の第１の画素に対する、前記描画ヘッドにより描画させる前記第１の画素の割合を、前記第１領域における前記第２方向に沿った始点から終点への移動に応じて、前記第３の値から前記第４の値に減少させる、
ことを特徴とする請求項９又は請求項１０に記載の描画方法。
【符号の説明】
【００７８】
１        ネイルプリント装置
４０      描画機構
４１      描画ヘッド
５０      撮影機構
８１      制御部
８２      記憶部
８１２    爪情報検出部
８１３    描画データ生成部
８２４    補正用データ記憶領域
Ｔ        爪
Ｕ１      印刷指
【図１】
2019050895.tif 000003
【図２】
2019050895.tif 000004
【図３】
2019050895.tif 000005
【図４】
2019050895.tif 000006
【図５】
2019050895.tif 000007
【図６】
2019050895.tif 000008
【図７】
2019050895.tif 000009
【図８】
2019050895.tif 000010
【図９】
2019050895.tif 000011
【図１０】
2019050895.tif 000012
【図１１】
2019050895.tif 000013
【図１２】
2019050895.tif 000014