(57)【要約】【課題】偏光子への水分の浸入を抑えることが可能な表示装置を提供する。【解決手段】  可撓性基板と、前記可撓性基板上に設けられた表示素子層と、前記表示素子層を間にして、前記可撓性基板上に設けられ、前記可撓性基板に対向する第１面、前記第１面に対向する第２面および、前記第１面と前記第２面とをつなぐ端面を有する偏光子と、前記偏光子の前記第１面を覆う第１水分バリア膜と、前記偏光子の前記第２面および前記端面を覆い、前記第１水分バリア膜に接する第２水分バリア膜とを備えた表示装置。【選択図】図１
2019125423.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性基板と、
前記可撓性基板上に設けられた表示素子層と、
前記表示素子層を間にして、前記可撓性基板上に設けられ、前記可撓性基板に対向する第１面、前記第１面に対向する第２面および、前記第１面と前記第２面とをつなぐ端面を有する偏光子と、
前記偏光子の前記第１面を覆う第１水分バリア膜と、
前記偏光子の前記第２面および前記端面を覆い、前記第１水分バリア膜に接する第２水分バリア膜と
を備えた表示装置。
【請求項２】
更に、偏光板を有し、
前記偏光板は、前記偏光子と、前記偏光子と前記表示素子層との間に設けられた位相差層と、前記偏光子を間にして前記位相差層に対向する保護膜とを含み、
前記偏光板の端面は前記偏光子の前記端面を含む
請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記第２水分バリア膜は、前記保護膜を間にして前記偏光子の前記第２面を覆うとともに、前記偏光板の前記端面を覆っている
請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第２水分バリア膜は、前記偏光子と前記保護膜との間に設けられている
請求項２に記載の表示装置。
【請求項５】
前記第２水分バリア膜は、１×１０-3ｇ/（ｍ2・ｄａｙ）以下の水蒸気透過率を有する
請求項１に記載の表示装置。
【請求項６】
前記第１水分バリア膜は、前記表示素子層と、前記偏光板との間に設けられている
請求項２に記載の表示装置。
【請求項７】
前記第１水分バリア膜は、前記表示素子層を前記可撓性基板に封止している
請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
前記第１水分バリア膜は、１×１０-5ｇ/（ｍ2・ｄａｙ）以下の水蒸気透過率を有する
請求項６に記載の表示装置。
【請求項９】
前記第１水分バリア膜は、前記可撓性基板を間にして前記偏光子の前記第１面を覆っている
請求項１に記載の表示装置。
【請求項１０】
更に、前記可撓性基板と前記第１水分バリア膜との間の第１粘着層を有する
請求項９に記載の表示装置。
【請求項１１】
更に、前記偏光板と前記第２水分バリア膜との間の第２粘着層を有する
請求項３に記載の表示装置。
【請求項１２】
前記表示素子層は有機層を含む
請求項１に記載の表示装置。
【請求項１３】
可撓性基板と、
前記可撓性基板上に設けられた表示素子層と、
前記表示素子層を間にして、前記可撓性基板上に設けられ、前記可撓性基板に対向する第１面、前記第１面に対向する第２面および、前記第１面と前記第２面とをつなぐ端面を有する偏光子と、
前記偏光子の前記第１面を覆う第１水分バリア膜と、
前記偏光子を間にして前記表示素子層に対向して設けられ、サブミリオーダ以上の厚さを有するゲル状の衝撃吸収層と、
前記衝撃吸収層を間にして前記表示素子層に対向して設けられ、鉛筆硬度３Ｈ以上の硬度を有する衝撃分散層と、
前記衝撃分散層と前記衝撃吸収層との間に設けられ、前記偏光子の前記第２面を覆うとともに、前記衝撃分散層よりも高い曲げ強度および引っ張り強度を有する第２水分バリア膜と
を備えた表示装置。
【請求項１４】
前記第２水分バリア膜は、更に、前記偏光子の前記端面を覆っている
請求項１３に記載の表示装置。
【請求項１５】
更に、前記可撓性基板を間にして前記表示素子層に対向する緩衝層を有する
請求項１３に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、可撓性基板を用いた表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラスチック基板（樹脂基板）等の可撓性基板を用いた表示装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。この表示装置では、可撓性基板上に例えば、有機ＥＬ（Electro Luminescence）素子等の表示素子層と、円偏光板等の偏光板とが設けられている。偏光板は、偏光子を含んでいる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−１１５３８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このような表示装置では、偏光子への水分の浸入を抑えることが望まれている。よって、偏光子への水分の浸入を抑えることが可能な表示装置を提供することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本技術の一実施の形態に係る表示装置（１）は、可撓性基板と、可撓性基板上に設けられた表示素子層と、表示素子層を間にして、可撓性基板上に設けられ、可撓性基板に対向する第１面、第１面に対向する第２面および、第１面と第２面とをつなぐ端面を有する偏光子と、偏光子の第１面を覆う第１水分バリア膜と、偏光子の第２面および端面を覆い、第１水分バリア膜に接する第２水分バリア膜とを備えたものである。
【０００６】
本技術の一実施の形態に係る表示装置（１）では、第１水分バリア膜および第２水分バリアが設けられているので、第１水分バリア膜と第２水分バリア膜との間に偏光子が封止される。
【０００７】
本技術の一実施の形態に係る表示装置（２）は、可撓性基板と、可撓性基板上に設けられた表示素子層と、表示素子層を間にして、可撓性基板上に設けられ、可撓性基板に対向する第１面、第１面に対向する第２面および、第１面と第２面とをつなぐ端面を有する偏光子と、偏光子の第１面を覆う第１水分バリア膜と、偏光子を間にして表示素子層に対向して設けられ、サブミリオーダ以上の厚さを有するゲル状の衝撃吸収層と、衝撃吸収層を間にして表示素子層に対向して設けられ、鉛筆硬度３Ｈ以上の硬度を有する衝撃分散層と、衝撃分散層と前記衝撃吸収層との間に設けられ、前記偏光子の前記第２面を覆うとともに、前記衝撃分散層よりも高い曲げ強度および引っ張り強度を有する第２水分バリア膜とを備えたものである。
【０００８】
本技術の一実施の形態に係る表示装置（２）では、第１水分バリア膜および第２水分バリアが設けられているので、第１水分バリア膜と第２水分バリア膜との間に偏光子が挟まれる。
【発明の効果】
【０００９】
本技術の一実施の形態に係る表示装置（１）（２）によれば、第１水分バリア膜および第２水分バリア膜を設けるようにしたので、周囲から偏光子への水分の浸入を抑えることができる。よって、偏光子への水分の浸入を抑えることが可能となる。
【００１０】
なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれの効果であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本技術の第１の実施の形態に係る表示装置の概略構成例を表す模式断面図である。
【図２】図１に示した偏光板の構成の一例を表す模式断面図である。
【図３】図１に示した第２水分バリア膜の構成の一例を表す模式断面図である。
【図４】変形例１に係る表示装置の概略構成例を表す模式断面図である。
【図５】変形例２に係る表示装置の概略構成例を表す模式断面図である。
【図６】本技術の第２の実施の形態に係る表示装置の概略構成例を表す模式断面図である。
【図７】変形例３に係る表示装置の概略構成例を表す模式断面図である。
【図８】変形例４に係る表示装置の概略構成例を表す模式断面図である。
【図９】図１に示した表示装置の概略構成例を表すブロック図である。
【図１０】図９に示した表示装置を備えた電子機器の概略構成例を表すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本技術の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態（第１水分バリア膜および第２水分バリア膜を有する表示装置の例）
２．変形例１（偏光子の第２面に第２水分バリア膜が直接設けられている例）
３．変形例２（第１水分バリア膜が、可撓性基板を間にして偏光子の第１面を覆う例）
４．第２の実施の形態（第１水分バリア膜および第２水分バリア膜とともに、衝撃吸収層および衝撃分散層を有する表示装置の例）
５．変形例３（第１水分バリア膜が、可撓性基板を間にして偏光子の第１面を覆う例）
６．変形例４（第２水分バリア膜から偏光子の端面が露出されている例）
７．適用例１（表示装置の例）
８．適用例２（電子機器の例）
【００１３】
＜第１の実施の形態＞
［構成］
図１は、本技術の第１の実施の形態に係る表示装置（表示装置１）の概略構成例を、模式的に断面図で表したものである。表示装置１は、例えば、可撓性を有する基板１１上に有機電界発光（ＥＬ：Electro-Luminescence）素子を有するフレキシブルディスプレイである。基板１１は、互いに対向する表面（表面１１Ｆ）および裏面（裏面１１Ｂ）を有している。表示装置１は、基板１１の表面１１Ｆ上に、例えばＵＣ（Under Coat）膜１２、表示素子層１３、第１水分バリア膜１４、偏光板１５、粘着層１６（第２粘着層）および第２水分バリア膜１７をこの順に備えている。表示装置１は、基板１１の裏面１１Ｂに、粘着層１８を介して補強部材１９を有している。
【００１４】
可撓性の基板１１（可撓性基板）は、例えば、ＰＩ（ポリイミド）などの樹脂材料により構成されている。すなわち、この基板１１は、例えば樹脂基板（プラスチック基板）からなる。基板１１は、ガラスまたは金属等を用いて構成するようにしてもよい。基板１１の厚みは、例えば５μｍ〜１００μｍである。
【００１５】
基板１１の表面１１Ｆに設けられたＵＣ膜１２は、基板１１から、上層に例えばナトリウムイオン等の物質が移動するのを防ぐためのものであり、窒化シリコン（ＳｉＮ）膜および酸化シリコン（ＳｉＯ）膜等の絶縁材料により構成されている。例えば、ＵＣ膜１２は、基板１１に近い位置から順に窒化シリコン（ＳｉＮ）膜および酸化シリコン（ＳｉＯ）膜が積層された積層膜であってもよい。ＵＣ膜１２は、例えば、基板１１の表面１１Ｆ全面にわたって設けられている。
【００１６】
ＵＣ膜１２と表示素子層１３との間には、例えば、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）が設けられている（図示せず）。この薄膜トランジスタは、例えば、トップゲート型、ボトムゲート型あるいはデュアルゲート型の薄膜トランジスタであり、基板１１上の選択的な領域に半導体層を有している。この半導体層は、チャネル領域（活性層）を含んでおり、例えば、インジウム（Ｉｎ），ガリウム（Ｇａ），亜鉛（Ｚｎ），スズ（Ｓｎ），チタン（Ｔｉ）およびニオブ（Ｎｂ）等のうちの少なくとも１種の元素の酸化物を主成分として含む、酸化物半導体により構成されている。具体的には、この酸化物半導体としては、酸化インジウム錫亜鉛（ＩＴＺＯ），酸化インジウムガリウム亜鉛（ＩＧＺＯ: ＩｎＧａＺｎＯ），酸化亜鉛（ＺｎＯ），酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ），酸化インジウムガリウム（ＩＧＯ），酸化インジウム錫（ＩＴＯ）および酸化インジウム（ＩｎＯ）等が挙げられる。なお、この半導体層が、低温多結晶シリコン（ＬＴＰＳ）または非結晶シリコン（ａ−Ｓｉ）等から構成されていてもよい。
【００１７】
基板１１の表面１１Ｆ上に設けられた表示素子層１３は、複数の画素を含むと共に、上記した薄膜トランジスタが複数配置されたバックプレーンにより表示駆動される、有機ＥＬ素子を含んでいる。この有機ＥＬ素子は、ＵＣ膜１２側から順に、例えば、アノード電極、発光層を含む有機層およびカソード電極を有している。アノード電極は、例えば上記した薄膜トランジスタにおけるソース・ドレイン電極に接続されている。カソード電極には、例えば配線などを通じて、各画素に共通のカソード電位が供給されるようになっている。有機ＥＬ素子は、アノード電極と発光層との間に、アノード電極側から正孔注入層および正孔輸送層をこの順に有していてもよい。有機ＥＬ素子は、カソード電極と発光層との間に、カソード電極側から電子注入層および電子輸送層をこの順に有していてもよい。
【００１８】
表示素子層１３上の第１水分バリア膜１４は、表示素子層１３の端部を覆い、ＵＣ膜１２に接している。即ち、第１水分バリア膜１４と基板１１との間に表示素子層１３が封止されており、第１水分バリア膜１４は、表示素子層１３を外部から保護するため封止膜として機能している。この第１水分バリア膜１４は、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯx），窒化シリコン（ＳｉＮx），酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）および酸化アルミニウム（ＡｌＯ）などの無機材料により構成されている。第１水分バリア膜１４は、このような無機材料と有機材料とを、例えば、交互に３層以上積層させて構成するようにしてもよい。第１水分バリア膜１４の厚みは、例えば０．１μｍ〜２０μｍである。第１水分バリア膜１４は、１×１０-5ｇ/（ｍ2・ｄａｙ）以下の水蒸気透過率を有していることが好ましい。このような水蒸気透過率の低い第１水分バリア膜１４を設けることにより、表示素子層１３の信頼性を向上させることができる。この表示素子層１３の封止膜である第１水分バリア膜１４が、偏光板１５の裏面（後述の裏面１５Ｂ）を覆っている。
【００１９】
第１水分バリア膜１４上に設けられた偏光板１５は、基板１１に対向する裏面（裏面１５Ｂ）、裏面１５Ｂに対向する表面１５Ｆおよび、表面１５Ｆと裏面１５Ｂとをつなぐ端面１５Ｅを有している。偏光板１５の裏面１５Ｂは、例えば第１水分バリア膜１４に接しており、偏光板１５の表面１５Ｆおよび端面１５Ｅは、例えば粘着層１６に接している。この偏光板１５は、例えば円偏光板であり、表示装置１に入射した外光の反射を抑える役割を担っている。
【００２０】
図２は、偏光板１５の具体的な構成の一例を表したものである。偏光板１５は、裏面１５Ｂ（基板１１）側から、例えば、位相差層１５１、偏光子１５２および保護膜１５３をこの順に有している。位相差層１５１と第１水分バリア膜１４（図１）との間には粘着層１５４Ａが設けられ、位相差層１５１と偏光子１５２との間には粘着層１５４Ｂが設けられている。
【００２１】
位相差層１５１は、例えば、２つの偏光成分に１／４波長の位相差を与えるものであり、ＰＣ（ポリカーボネート）により構成されている。
【００２２】
偏光子１５２は、直線偏光を得るためのものであり、例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ：Polyvinyl Alcohol）系フィルムを含んでいる。この偏光子１５２は、基板１１に対向する裏面（裏面１５２Ｂ、第１面）、裏面１５２Ｂに対向する表面（表面１５２Ｆ、第２面）および、表面１５２Ｆと裏面１５２Ｂとをつなぐ端面１５２Ｅを有している。偏光板１５の裏面１５Ｂ側に偏光子１５２の裏面１５２Ｂ、偏光板１５の表面１５Ｆ側に偏光子の表面１５２Ｆが各々設けられている。偏光板１５の端面１５Ｅは、偏光子１５２の端面１５２Ｅを含んでいる。
【００２３】
保護膜１５３は、偏光子１５２および位相差層１５１を保護するためのものであり、例えば、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）により構成されている。
【００２４】
保護膜１５３の端面および位相差層１５１の端面は、偏光子１５２の端面１５２Ｅに揃えて配置されており、偏光板１５の端面１５Ｅは、偏光子１５２の端面１５２Ｅとともに、保護膜１５３の端面および位相差層１５１の端面を含んでいる。
【００２５】
粘着層１５４Ａは、位相差層１５１を第１水分バリア膜１４に貼り合わせるためのものである。粘着層１５４Ｂは、偏光子１５２を位相差層１５１に貼り合わせるためのものである。
【００２６】
本実施の形態では、偏光板１５の表面１５Ｆおよび端面１５Ｅが、粘着層１６を介して第２水分バリア膜１７に覆われており、第２水分バリア膜１７は、偏光板１５の周囲で第１水分バリア膜１４に接している。即ち、偏光板１５は、第１水分バリア膜１４と第２水分バリア膜１７との間に封止されている。これにより、偏光板１５、特に偏光子１５２への水分の浸入を抑えることができる。第２水分バリア膜１７は、例えば、保護膜１５３および粘着層１６を間にして偏光子１５２の表面１５２Ｆを覆っている。
【００２７】
図３は、第２水分バリア膜１７の構成の一例を模式的に表したものである。第２水分バリア膜１７は、例えば、樹脂膜１７１と樹脂膜１７１上に設けられたバリア層１７２とを含んでいる。バリア層１７２は、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯX），窒化シリコン（ＳｉＮX），酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）および酸化アルミニウム（ＡｌＯ）等の無機材料を化学気相成長法（ＣＶＤ：Chemical Vapor Deposition）または原子層堆積法（ＡＬＤ：Atomic Layer Deposition）等を用いて樹脂膜１７１上に成膜することにより形成されている。例えば、このバリア層１７２が粘着層１６に接している。第２水分バリア膜１７の厚みは、例えば０．１μｍ〜２０μｍである。第２水分バリア膜１７は、１×１０-3ｇ/（ｍ2・ｄａｙ）以下の水蒸気透過率を有していることが好ましい。第２水分バリア膜１７は、偏光板１５上から偏光板１５の周囲に広がって設けられ、偏光板１５の周囲で第１水分バリア膜１４に接している。
【００２８】
第２水分バリア膜１７と偏光板１５との間に設けられた粘着層１６は、第２水分バリア膜１７を偏光板１５に貼り合わせるためのものである。この粘着層１６は、水分バリア機能を有していることが好ましく、例えば１０ｇ/（ｍ2・ｄａｙ）以下の水蒸気透過率を有していることが好ましい。
【００２９】
基板１１（裏面１１Ｂ）と補強部材１９との間に設けられた粘着層１８は、基板１１と補強部材１９とを貼り合わせるためのものである。粘着層１８は、例えばアクリル系粘着材により構成されている。
【００３０】
補強部材１９は、粘着層１８を間にして基板１１の裏面１１Ｂに対向している。この補強部材１９は、可撓性の基板１１を保護および補強するためのものであり、例えばステンレス鋼等の金属薄膜またはＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等の樹脂材料により構成されている。補強部材１９は、基板１１に剛性を与えるものであってもよく、あるいは、高い放熱性を有するものであってもよい。補強部材１９により、基板１１の裏面１１Ｂでの静電気の発生を抑えるようにしてもよい。補強部材１９の厚みは、例えば５μｍ〜１００μｍである。
【００３１】
［作用・効果］
この表示装置１では、外部から入力される映像信号に基づいて、表示素子層１３における各画素が表示駆動され、映像表示がなされる。このとき、例えば画素ごとに薄膜トランジスタが電圧駆動される。具体的には、この薄膜トランジスタに対して閾値電圧以上の電圧が供給されると、前述した半導体層が活性化され（チャネルが形成され）、その結果、薄膜トランジスタにおける一対のソース・ドレイン電極間に、電流が流れる。このような薄膜トランジスタに対する電圧駆動を利用して、表示装置１における映像表示が行われる。
【００３２】
本実施の形態の表示装置１では、偏光板１５の裏面１５Ｂを覆う第１水分バリア膜１４と、偏光板１５の表面１５Ｆおよび端面１５Ｅを覆う第２水分バリア膜１７とが設けられ、第２水分バリア膜１７が偏光板１５の周囲で第１水分バリア膜１４に接する。これにより、第１水分バリア膜１４と第２水分バリア膜１７との間に偏光板１５が封止され、周囲から偏光板１５、特に偏光子１５２への水分の浸入を抑えることができる。以下、この作用・効果について、詳細に説明する。
【００３３】
偏光板を構成する偏光子は、例えばポリビニルアルコール系フィルム等の吸湿性の高い樹脂材料を含んでいる。水分を含んだ偏光板は、例えば膨張し、大きさが著しく変化する。可撓性の基板を用いたフレキシブルディスプレイでは、この偏光板の大きさの変化に起因して、基板が変形するおそれがある。例えば、この基板の変形は、ディスプレイ全体の反りなど、ディスプレイ全体の変形を引き起こす。また、例えば、薄いガラスを基板に用いた場合には、基板が割れるおそれがある。
【００３４】
これに対し、表示装置１では、偏光板１５の裏面１５Ｂを覆う第１水分バリア膜１４と、偏光板１５の表面１５Ｆおよび端面１５Ｅを覆う第２水分バリア膜１７との間に偏光板１５封止される。これにより、周囲から偏光板１５に向かう水分が、第１水分バリア膜１４および第２水分バリア膜１７に遮断されるので、偏光板１５への水分の浸入が抑えられる。したがって、水分に起因した偏光板１５の大きさの変化が抑えられる。
【００３５】
以上のように本実施の形態では、第１水分バリア膜１４および第２水分バリア膜１７を設けるようにしたので、周囲から偏光子１５２への水分の浸入を抑えることができる。よって、偏光子１５２への水分の浸入を抑えることが可能となる。可撓性の基板１１を用いた表示装置１では、反りなどの変形および基板１１の割れ等を防ぐことが可能となる。
【００３６】
以下、本実施の形態の変形例および他の実施の形態について説明するが、以降の説明において上記実施の形態と同一構成部分については同一符号を付してその説明は適宜省略する。
【００３７】
＜変形例１＞
図４は、上記第１の実施の形態の変形例１に係る表示装置（表示装置１Ａ）の模式的な断面構成を表している。この表示装置１Ａでは、第２水分バリア膜（第２水分バリア膜１７Ａ）が、直接、偏光子１５２の表面１５２Ｆおよび端面１５２Ｅを覆っている。この点を除き、表示装置１Ａは上記第１の実施の形態の表示装置１と同様の構成を有し、その作用および効果も同様である。
【００３８】
表示装置１Ａは、基板１１の表面１１Ｆ上に、ＵＣ膜１２、表示素子層１３、第１水分バリア膜１４、粘着層１５４Ａ、位相差層１５１、粘着層１５４Ｂ、偏光子１５２、第２水分バリア膜１７Ａ，粘着層１６および保護膜４１をこの順に有している。即ち、第２水分バリア膜１７Ａは、偏光子１５２と保護膜４１との間に設けられている。偏光子１５２の裏面１５２Ｂは、第１水分バリア膜１４に覆われており、偏光子１５２の表面１５２Ｆおよび端面１５２Ｅは、第２水分バリア膜１７Ａに覆われている。
【００３９】
第２水分バリア膜１７Ａは、偏光子１５２の表面１５２Ｆおよび端面１５２Ｅに接して設けられている。第２水分バリア膜１７Ａは、偏光子１５２上から偏光子１５２の周囲に広がっており、偏光子１５２の周囲で第１水分バリア膜１４に接している。
【００４０】
この第２水分バリア膜１７Ａは、例えば、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）膜および酸化アルミニウム（ＡｌＯｘ）膜等の無機材料膜により構成されている。この無機材料膜は、例えば、ＣＶＤ法またはＡＬＤ法等により形成することができる。第２水分バリア膜１７は、１×１０-3ｇ/（ｍ2・ｄａｙ）以下の水蒸気透過率を有していることが好ましい。第２水分バリア膜１７Ａには、粘着層１６により保護膜４１が貼り合わされている。
【００４１】
保護膜４１は、第２水分バリア膜１７Ａを間にして偏光子１５２等を覆っている。この保護膜４１は、表示装置１の保護膜１５３と同様に、位相差層１５１および偏光子１５２を保護するためのものであり、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等により構成されている。
【００４２】
表示装置１Ａでは、偏光子１５２の裏面１５２Ｂを覆う第１水分バリア膜１４と、偏光子１５２の表面１５２Ｆおよび端面１５２Ｅを覆う第２水分バリア膜１７Ａとの間に偏光子１５２が封止される。このような表示装置１Ａも、表示装置１と同様に、偏光子１５２への水分の浸入を抑えることが可能となる。
【００４３】
＜変形例２＞
図５は、上記第１の実施の形態の変形例２に係る表示装置（表示装置１Ｂ）の模式的な断面構成を表している。この表示装置１Ｂでは、基板１１の裏面１１Ｂに粘着層１８（第１粘着層）を介して第１水分バリア膜（第１水分バリア膜１９Ｂ）が設けられている。この点を除き、表示装置１Ｂは上記第１の実施の形態の表示装置１と同様の構成を有し、その作用および効果も同様である。
【００４４】
表示装置１Ｂは、基板１１の表面１１Ｆ上に、ＵＣ膜１２、表示素子層１３、封止膜１４Ｂ、偏光板１５、粘着層１６および第２水分バリア膜１７をこの順に有している。表示装置１Ｂは、基板１１の裏面１１Ｂに、粘着層１８を間にして第１水分バリア膜１９Ｂを有している。偏光板１５の裏面１５Ｂは、第１水分バリア膜１９Ｂに覆われており、偏光板１５の表面１５Ｆおよび端面１５Ｅは、第２水分バリア膜１７に覆われている。
【００４５】
第１水分バリア膜１９Ｂは、粘着層１８を間にして基板１１に対向しており、粘着層１８により、基板１１の裏面１１Ｂに貼り合わされている。この第１水分バリア膜１９Ｂは、表示素子層１３および基板１１等を間にして偏光板１５の裏面１５Ｂを覆っている。第１水分バリア膜１９Ｂは、基板１１の裏面１１Ｂを覆うとともに、基板１１の周囲に広がって設けられている。基板１１の周囲の第１水分バリア膜１９Ｂに、第２水分バリア膜１７が接している。第１水分バリア膜１９Ｂは、偏光板１５への水分の浸入を抑える役割に加えて、基板１１を保護および補強する役割を担っていることが好ましい。
【００４６】
この第１水分バリア膜１９Ｂは、例えば、金属膜等により構成されている。金属膜により構成された第１水分バリア膜１９Ｂは、高い放熱性を有している。この金属膜の構成材料としては、例えば、４２アロイ（４２Ｎｉ），ステンレス鋼（ＳＵＳ：Steel Use Stainless），マグネシウム（Ｍｇ）合金，アルミニウム（Ａｌ）および銅（Ｃｕ）等が挙げられる。第１水分バリア膜１９Ｂには、塑性変形しにくい材料を用いることが好ましい。第１水分バリア膜１９Ｂは、第２水分バリア膜１７と同様の構成を有していてもよく、例えば、樹脂膜とバリア層とを含んでいてもよい（図３参照）。第１水分バリア膜１９Ｂは、１×１０-3ｇ/（ｍ2・ｄａｙ）以下の水蒸気透過率を有していることが好ましい。
【００４７】
表示素子層１３上の封止膜１４Ｂは、表示素子層１３の端部を覆い、ＵＣ膜１２に接している。即ち、封止膜１４Ｂと基板１１との間に表示素子層１３が封止されており、封止膜１４Ｂは、表示素子層１３を外部から保護するため封止膜として機能している。この封止膜１４Ｂは、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯx），窒化シリコン（ＳｉＮx），酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）および酸化アルミニウム（ＡｌＯ）などの無機材料により構成されている。
【００４８】
表示装置１Ｂでは、偏光板１５の裏面１５Ｂを覆う第１水分バリア膜１９Ｂと、偏光板１５の表面１５Ｆおよび端面１５Ｅを覆う第２水分バリア膜１７との間に偏光板１５が封止される。このような表示装置１Ｂも、表示装置１と同様に、偏光子１５２への水分の浸入を抑えることが可能となる。
【００４９】
＜第２の実施の形態＞
図６は、第２の実施の形態に係る表示装置（表示装置５）の模式的な断面構成を表している。この表示装置５は、耐衝撃構造を有している。この点を除き、表示装置５は上記第１の実施の形態の表示装置１と同様の構成を有し、その作用および効果も同様である。
【００５０】
表示装置５は、基板１１の表面１１Ｆに、ＵＣ膜１２、表示素子層１３、第１水分バリア膜１４、偏光板１５、衝撃吸収層５１、第２水分バリア膜５２、粘着層１６および衝撃分散層５３をこの順に有している。表示装置５は、基板１１の裏面１１Ｂに、粘着層１８を間にして緩衝層５４を有している。この表示装置５の耐衝撃構造は、例えば、偏光板１５上に設けられた、衝撃吸収層５１、第２水分バリア膜５２および衝撃分散層５３を含んでいる。
【００５１】
衝撃吸収層５１を間にして表示素子層１３に対向する衝撃分散層５３は、外部から加わった衝撃を一点に集中させないように分散させる機能と、引っ掻き等によって表面にキズが付くことを防止する機能とを持つ。衝撃分散層５３は、鉛筆硬度３Ｈ以上の硬度を持った樹脂フィルムによって構成されている。衝撃分散層５３の硬度の上限は、特に限定されない。衝撃分散層５３は、例えば、鉛筆硬度１０Ｈ以下の硬度を持った樹脂フィルムによって構成されている。樹脂フィルムの硬度を高めるためには、フィルム基材表面にハードコート材料を塗布または蒸着することが一般に行われる。しかし、フィルム基材の片面にハードコート処理した場合には、フィルム基材に反りが発生しやすく、貼合プロセスが困難になりやすい。また、フィルム基材の片面にハードコート処理されたもの（以下、「片面ＨＣ（Hard Coat）処理フィルム」と称する。）を貼合した場合には、貼合した樹脂フィルムが残留応力により割れたり、反ったりしてしまうことがある。そこで、衝撃分散層５３は、ハードコート材料を固めてフィルム状にしたもの（以下、「ＨＣ（Hard Coat）フィルム」と称する。）、または、フィルム基材の両面にハードコート処理されたフィルム（以下、「両面ＨＣ処理フィルム」と称する。）によって構成されていることが好ましい。
【００５２】
ＨＣフィルムおよび両面ＨＣ処理フィルムでは、反りの発生が少なく、所望の鉛筆硬度やヤング率、厚みを実現することができる。そのため、ＨＣフィルムおよび両面ＨＣ処理フィルムは、衝撃分散層５３として適している。
【００５３】
偏光板１５を間にして表示素子層１３に対向する衝撃吸収層５１は、衝撃分散層５３が衝撃を受けた際に、当該衝撃吸収層５１が衝撃分散層５３に生じた湾曲に応じた変形をすることにより、外部からの衝撃を吸収する機能（衝撃吸収機能）を持つ。衝撃吸収層５１は、サブミリオーダ以上の厚さを有するゲル状の樹脂層である。衝撃吸収層５１を構成するゲル状の樹脂層では、アスカーＣ硬度が３０以上８０以下となっていることが好ましい。アスカーＣ硬度が３０よりも小さい場合、衝撃吸収層５１が衝撃により潰れてしまい、衝撃を十分吸収できなくなる可能性がある。また、アスカーＣ硬度が８０よりも大きい場合、衝撃が加わった際のゲルの変形が小さく、衝撃を十分吸収できなくなる可能性がある。本実施の形態では、衝撃分散層５３が設けられているので、衝撃吸収層５１の厚さは、衝撃分散層５３が設けられていない場合に衝撃吸収層５１として必要とされる厚さ（例えば、２ｍｍ程度）よりも薄くなっている。
【００５４】
衝撃吸収層５１は、ゲル状接着層であってもよい。このとき、衝撃吸収層５１は、偏光板１５の表面１５Ｆおよび端面１５Ｅに接して設けられ、第２水分バリア膜５２を偏光板１５に貼り合わせる機能（貼合機能）を有している。衝撃吸収層５１がゲル状接着層である場合、衝撃吸収層５１は、例えば、アクリル系のゲル状接着剤で構成されている。ゲル状接着剤としては、シリコンゲルなども候補に挙げることが可能ではある。しかし、シリコンゲルでは、油の染み出しが発生する可能性あり、ディスプレイの信頼性を低下させるおそれがある。
【００５５】
この衝撃吸収層５１は、水分バリア機能を有していることが好ましく、例えば１０ｇ/（ｍ2・ｄａｙ）以下の水蒸気透過率を有していることが好ましい。耐衝撃構造を有する表示装置５は、表示装置１に比べて高い剛性を有しているので、衝撃吸収層５１の水分バリア機能が低い場合であっても、表示装置５の変形が抑えられる。
【００５６】
第２水分バリア膜５２は、衝撃吸収層５１を介して偏光板１５の表面１５Ｆおよび端面１５Ｅを覆い、偏光板１５の周囲で第１水分バリア膜１４に接している。この第２水分バリア膜５２は、周囲から偏光板１５への水分の浸入を抑える機能とともに、耐衝撃構造における歪み緩和機能を有している。
【００５７】
この第２水分バリア膜５２の歪み緩和機能は、荷重に対する衝撃分散層５３の割れ耐性を高めるものである。衝撃分散層５３に曲げ耐性の高い部材が使用された場合であっても、その下層に非常に柔らかい衝撃吸収層５１があるときには、荷重によって衝撃分散層５３が大きくたわみ、曲げ破壊ひずみを超えて割れてしまう可能性がある。そこで、本実施の形態では、荷重に対する衝撃分散層５３の割れ耐性を高めるために、衝撃分散層５３と衝撃吸収層５１の間の第２水分バリア膜５２が歪み緩和機能を有している。
【００５８】
第２水分バリア膜５２は、衝撃分散層５３よりも曲げ強度および引っ張り強度の高い樹脂膜（図３の樹脂膜１７１）を含んでいる。そのような樹脂膜としては、例えば、ＰＥＴフィルムが挙げられる。第２水分バリア膜５２は、例えば、このような樹脂膜とバリア層（図３のバリア層１７２）とを含んでいる。バリア層は、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯX），窒化シリコン（ＳｉＮX），酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）および酸化アルミニウム（ＡｌＯ）等の無機材料を化学気相成長法または原子層堆積法等を用いて樹脂膜上に成膜することにより形成されている。例えば、このバリア層が衝撃吸収層５１に接している。第２水分バリア膜５２は、１×１０-3ｇ/（ｍ2・ｄａｙ）以下の水蒸気透過率を有していることが好ましい。
【００５９】
以下に、衝撃分散層５３と第２水分バリア膜５２との組み合わせの例を挙げる。
衝撃分散層５３                          第２水分バリア膜５２
１．  有機／無機ハイブリッドＨＣフィルム        ＰＥＴ
２．  有機／無機ハイブリッドＨＣフィルム        ＴＡＣ
３．  有機／無機ハイブリッドＨＣフィルム        ＰＩ
４．  ＰＥＴ基材ＨＣ処理フィルム                ＰＥＴ
５．  ＰＥＴ基材ＨＣ処理フィルム                ＴＡＣ
６．  ＰＥＴ基材ＨＣ処理フィルム                ＰＩ
７．  ＴＡＣ基材ＨＣ処理フィルム                ＰＥＴ
８．  ＴＡＣ基材ＨＣ処理フィルム                ＴＡＣ
９．  ＴＡＣ基材ＨＣ処理フィルム                ＰＩ
１０．ＰＣ基材ＨＣ処理フィルム                  ＰＥＴ
１１．ＰＣ基材ＨＣ処理フィルム                  ＴＡＣ
１２．ＰＣ基材ＨＣ処理フィルム                  ＰＩ
１３．ＰＭＭＡ基材ＨＣ処理フィルム              ＰＥＴ
１４．ＰＭＭＡ基材ＨＣ処理フィルム              ＴＡＣ
１５．ＰＭＭＡ基材ＨＣ処理フィルム              ＰＩ
【００６０】
ＨＣフィルム：ハードコート材料を固めてフィルム状にしたもの
有機／無機ハイブリッド：有機材料と無機材料とが混ぜ合わされたハードコート材料
ＨＣ処理フィルム：フィルム基材にハードコート処理されたフィルム
ＰＥＴ基材：ＰＥＴで形成されたフィルム基材
ＴＡＣ基材：ＴＡＣで形成されたフィルム基材
ＰＣ基材：ＰＣで形成されたフィルム基材
ＰＭＭＡ基材：ＰＭＭＡで形成されたフィルム基材
【００６１】
基板１１の裏面１１Ｂには、粘着層１８により緩衝層５４が貼り合わされている。この緩衝層５４が、衝撃吸収層５１、第２水分バリア膜５２および衝撃分散層５３とともに、耐衝撃構造を構成していてもよい。この緩衝層５４は、表示装置５に衝撃が加えられた際に、局所的な撓みを低減する機能を有しており、例えば基板１１に剛性を与えるものである。このような緩衝層５４には、高いヤング率を有し、かつ、塑性変形しにくい材料を用いることが好ましい。具体的には、緩衝層５４は、例えば、４２アロイ（４２Ｎｉ），ステンレス鋼（ＳＵＳ：Steel Use Stainless），マグネシウム（Ｍｇ）合金，アルミニウム（Ａｌ）および銅（Ｃｕ）等の金属膜により構成されている。
【００６２】
基板１１の表面１１Ｆの衝撃吸収層５１、第２水分バリア膜５２および衝撃分散層５３により、十分な剛性が得られる場合には、緩衝層５４を省略するようにしてもよい。緩衝層５４を省略することにより、表示装置５を薄くすることができる。
【００６３】
表示装置５では、偏光板１５の裏面１５Ｂを覆う第１水分バリア膜１４と、偏光板１５の表面１５Ｆおよび端面１５Ｅを覆う第２水分バリア膜５２との間に偏光板１５が封止される。このような表示装置５も、表示装置１と同様に、偏光子１５２への水分の浸入を抑えることが可能となる。
【００６４】
加えて、耐衝撃構造を有する表示装置５では、以下のような効果が得られる。
【００６５】
外部からの衝撃によって、ディスプレイの表面に傷が付いたり、ディスプレイ内部が破壊され、機能が損なわれたりすることがある。特に、フレキシブルディスプレイには、薄い、軽い、柔軟といった特徴がある一方で、衝撃耐性が低いという欠点がある。従来では、ディスプレイの衝撃耐性を改善するために、ディスプレイの表面に強化ガラスが貼合されていた。しかし、重量や厚みが増してしまう欠点があった。また、フレキシブルディスプレイの表面に強化ガラスが貼合された場合には、薄い、軽い、柔軟といった特徴が損なわれてしまう。
【００６６】
一方、本実施の形態では、衝撃分散層５３の下に設けられた衝撃吸収層５１が、サブミリオーダ以上の厚さを有するゲル状の樹脂層によって構成されている。これにより、衝撃分散層５３が衝撃を受けた際に、衝撃吸収層５１が衝撃分散層５３に生じた湾曲に応じた変形をするので、外部からの衝撃を吸収することができる。単に接着を目的として設けられた厚さの薄い接着層には、このような機能を持たせることはできない。
【００６７】
また、本実施の形態では、衝撃分散層５３と衝撃吸収層５１との間に、衝撃分散層５３よりも曲げ強度および引っ張り強度の高い第２水分バリア膜５２が設けられている。これにより、衝撃分散層５３の下に非常に柔らかい衝撃吸収層５１が設けられている場合であっても、衝撃分散層５３が曲げ破壊ひずみを超えて割れてしまう可能性を低減することができる。従って、本実施の形態では、強化ガラスを使用しなくても、割れの発生を抑えつつ、外部からの衝撃を吸収することができる。
【００６８】
また、本実施の形態において、衝撃吸収層５１がゲル状接着層で構成されている場合には、第２水分バリア膜５２を偏光板１５に貼り合わせることができる。また、本実施の形態において、衝撃吸収層５１がアクリル系のゲル状接着剤で構成されている場合には、シリコンゲルのような油の染み出しが起こらないので、ディスプレイの信頼性を低下させるおそれがない。
【００６９】
＜変形例３＞
図７は、上記第２の実施の形態の変形例３に係る表示装置（表示装置５Ａ）の模式的な断面構成を表している。この表示装置５Ａでは、基板１１の裏面１１Ｂに粘着層１８を介して第１水分バリア膜（第１水分バリア膜５４Ａ）が設けられている。この点を除き、表示装置５Ａは上記第２の実施の形態の表示装置５と同様の構成を有し、その作用および効果も同様である。
【００７０】
表示装置５Ａは、基板１１の表面１１Ｆ上に、ＵＣ膜１２、表示素子層１３、封止膜１４Ｂ、偏光板１５、衝撃吸収層５１、第２水分バリア膜５２、粘着層１６および衝撃分散層５３をこの順に有している。表示装置５Ａは、基板１１の裏面１１Ｂに、粘着層１８を間にして第１水分バリア膜５４Ａを有している。偏光板１５の裏面１５Ｂは、第１水分バリア膜５４Ａに覆われており、偏光板１５の表面１５Ｆおよび端面１５Ｅは、第２水分バリア膜５２に覆われている。
【００７１】
第１水分バリア膜５４Ａは、粘着層１８を間にして基板１１に対向しており、粘着層１８により、基板１１の裏面１１Ｂに貼り合わされている。この第１水分バリア膜５４Ａは、表示素子層１３および基板１１等を間にして偏光板１５の裏面１５Ｂを覆っている。第１水分バリア膜５４Ａは、基板１１よりも広がって設けられている。基板１１の周囲から露出された部分の第１水分バリア膜５４Ａに、第２水分バリア膜５２が接している。第１水分バリア膜５４Ａは、偏光板１５への水分の浸入を抑える役割に加えて、基板１１を保護および補強する役割を担っていることが好ましい。
【００７２】
この第１水分バリア膜５４Ａは、例えば、金属膜等により構成されている。金属膜により構成された第１水分バリア膜５４Ａは、高い放熱性を有している。この金属膜の構成材料としては、例えば、４２アロイ（４２Ｎｉ），ステンレス鋼（ＳＵＳ：Steel Use Stainless），マグネシウム（Ｍｇ）合金，アルミニウム（Ａｌ）および銅（Ｃｕ）等が挙げられる。第１水分バリア膜５４Ａは、第２水分バリア膜５２と同様の構成を有していてもよく、例えば、樹脂膜とバリア層とを含んでいてもよい（図３参照）。第１水分バリア膜５４Ａは、１×１０-3ｇ/（ｍ2・ｄａｙ）以下の水蒸気透過率を有していることが好ましい。
【００７３】
表示装置５Ａでは、偏光板１５の裏面１５Ｂを覆う第１水分バリア膜５４Ａと、偏光板１５の表面１５Ｆおよび端面１５Ｅを覆う第２水分バリア膜５２との間に偏光板１５が封止される。このような表示装置５Ａも、表示装置１と同様に、偏光子１５２への水分の浸入を抑えることが可能となる。また、耐衝撃構造を有する表示装置５Ａは、表示装置５と同様に、強化ガラスを使用しなくても、割れの発生を抑えつつ、外部からの衝撃を吸収することができる。
【００７４】
＜変形例４＞
図８は、上記第２の実施の形態の変形例４に係る表示装置（表示装置５Ｂ）の模式的な断面構成を表している。この表示装置５Ｂでは、第２水分バリア膜５２から偏光板１５の端面１５Ｅが露出されている。この点を除き、表示装置５Ｂは上記第２の実施の形態の表示装置５と同様の構成を有し、その作用および効果も同様である。
【００７５】
表示装置５Ｂでは、第２水分バリア膜５２が、偏光板１５の大きさと略同じ大きさを有している。この第２水分バリア膜５２が、偏光板１５の表面１５Ｆを覆っている。第１水分バリア膜１４は、偏光板１５の裏面１５Ｂを覆っている。偏光板１５の端面１５Ｅは、第１水分バリア膜１４および第２水分バリア膜５２から露出されている。
【００７６】
表示装置５Ｂでは、偏光板１５の裏面１５Ｂを覆う第１水分バリア膜１４と、偏光板１５の表面１５Ｆを覆う第２水分バリア膜５２との間に偏光板１５が挟まれる。このような表示装置５Ｂであっても、偏光板１５の表面１５Ｆおよび裏面１５Ｂからの水分の浸入が抑えられる。よって、偏光子１５２への水分の浸入を抑えることが可能となる。更に、偏光板１５の周囲の第１水分バリア膜１４と第２水分バリア膜５２とが接する領域が不要となるので、表示装置５に比べて、いわゆる額縁領域を小さくすることができる。また、耐衝撃構造を有する表示装置５Ｂは、表示装置５と同様に、強化ガラスを使用しなくても、割れの発生を抑えつつ、外部からの衝撃を吸収することができる。
【００７７】
＜適用例＞
上記実施の形態等に係る表示装置１，１Ａ，１Ｂ，５，５Ａ，５Ｂ（以下、表示装置１と略す）の、電子機器への適用例（適用例）について説明する。
【００７８】
まず、表示装置１のブロック構成例を説明する。
【００７９】
［表示装置１のブロック構成例］
図９は、表示装置１の概略構成例を、ブロック図で模式的に表したものである。この表示装置１は、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、映像として表示するものであり、前述した有機ＥＬディスプレイの他にも、例えば液晶ディスプレイなどにも適用される。表示装置１は、例えばタイミング制御部２５と、信号処理部２６と、駆動部２７と、表示画素部２８とを備えている。
【００８０】
タイミング制御部２５は、各種のタイミング信号（制御信号）を生成するタイミングジェネレータを有しており、これらの各種のタイミング信号を基に、信号処理部２６等の駆動制御を行うものである。
【００８１】
信号処理部２６は、例えば、外部から入力されたデジタルの映像信号に対して所定の補正を行い、それにより得られた映像信号を駆動部２７に出力するものである。
【００８２】
駆動部２７は、例えば走査線駆動回路および信号線駆動回路などを含んで構成され、各種制御線を介して表示画素部２８の各画素を駆動するものである。
【００８３】
表示画素部２８は、例えば有機ＥＬ素子または液晶表示素子等の表示素子（前述した表示素子層１３）と、表示素子を画素ごとに駆動するための画素回路とを含んで構成されている。
【００８４】
［電子機器の構成例］
上記実施の形態において説明した表示装置１は、様々なタイプの電子機器に適用することが可能である。
【００８５】
図１０は、図９に示した表示装置１を備えた電子機器（電子機器３）への適用例を、ブロック図で表したものである。このような電子機器３としては、例えばテレビジョン装置、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）、スマートフォン、タブレット型ＰＣ、携帯電話機、デジタルスチルカメラおよびデジタルビデオカメラ等が挙げられる。
【００８６】
電子機器３は、例えば上記した表示装置１と、インターフェース部３０とを備えている。インターフェース部３０は、外部から各種の信号および電源等が入力される入力部である。このインターフェース部３０は、また、例えばタッチパネル、キーボードまたは操作ボタン等のユーザインターフェースを含んでいてもよい。
【００８７】
以上、実施の形態および変形例を挙げて本開示の技術を説明したが、本技術はこれらの実施の形態等に限定されず、種々の変形が可能である。
【００８８】
例えば、上記実施の形態等に記載した各層の材料および厚みは列挙したものに限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよい。更に、表示装置では、上記した全ての層を備えている必要はなく、あるいは上記した各層に加えて更に他の層を備えていてもよい。
【００８９】
また、上記実施の形態等では、表示素子層１３が有機ＥＬ素子を含む場合について説明したが、表示素子層１３は、例えば液晶表示素子等の他の表示素子を含んでいてもよい。
【００９０】
また、上記第２の実施の形態では、耐衝撃構造が、衝撃吸収層５１、第２水分バリア膜５２および衝撃分散層５３を１つずつ含む場合について説明したが、耐衝撃構造に、複数の衝撃吸収層５１、複数の第２水分バリア膜５２または複数の衝撃分散層５３が含まれていてもよい。
【００９１】
なお、本明細書中に記載された効果はあくまで例示であって限定されるものではなく、また、他の効果があってもよい。
【００９２】
また、本技術は以下のような構成を取ることも可能である。
（１）
可撓性基板と、
前記可撓性基板上に設けられた表示素子層と、
前記表示素子層を間にして、前記可撓性基板上に設けられ、前記可撓性基板に対向する第１面、前記第１面に対向する第２面および、前記第１面と前記第２面とをつなぐ端面を有する偏光子と、
前記偏光子の前記第１面を覆う第１水分バリア膜と、
前記偏光子の前記第２面および前記端面を覆い、前記第１水分バリア膜に接する第２水分バリア膜と
を備えた表示装置。
（２）
更に、偏光板を有し、
前記偏光板は、前記偏光子と、前記偏光子と前記表示素子層との間に設けられた位相差層と、前記偏光子を間にして前記位相差層に対向する保護膜とを含み、
前記偏光板の端面は前記偏光子の前記端面を含む
前記（１）に記載の表示装置。
（３）
前記第２水分バリア膜は、前記保護膜を間にして前記偏光子の前記第２面を覆うとともに、前記偏光板の前記端面を覆っている
前記（２）に記載の表示装置。
（４）
前記第２水分バリア膜は、前記偏光子と前記保護膜との間に設けられている
前記（２）に記載の表示装置。
（５）
前記第２水分バリア膜は、１×１０-3ｇ/（ｍ2・ｄａｙ）以下の水蒸気透過率を有する
前記（１）ないし（４）のうちいずれか１つに記載の表示装置。
（６）
前記第１水分バリア膜は、前記表示素子層と、前記偏光板との間に設けられている
前記（２）に記載の表示装置。
（７）
前記第１水分バリア膜は、前記表示素子層を前記可撓性基板に封止している
前記（６）に記載の表示装置。
（８）
前記第１水分バリア膜は、１×１０-5ｇ/（ｍ2・ｄａｙ）以下の水蒸気透過率を有する
前記（６）または（７）に記載の表示装置。
（９）
前記第１水分バリア膜は、前記可撓性基板を間にして前記偏光子の前記第１面を覆っている
前記（１）に記載の表示装置。
（１０）
更に、前記可撓性基板と前記第１水分バリア膜との間の第１粘着層を有する
前記（９）に記載の表示装置。
（１１）
更に、前記偏光板と前記第２水分バリア膜との間の第２粘着層を有する
前記（３）に記載の表示装置。
（１２）
前記表示素子層は有機層を含む
前記（１）ないし（１１）のうちいずれか１つに記載の表示装置。
（１３）
可撓性基板と、
前記可撓性基板上に設けられた表示素子層と、
前記表示素子層を間にして、前記可撓性基板上に設けられ、前記可撓性基板に対向する第１面、前記第１面に対向する第２面および、前記第１面と前記第２面とをつなぐ端面を有する偏光子と、
前記偏光子の前記第１面を覆う第１水分バリア膜と、
前記偏光子を間にして前記表示素子層に対向して設けられ、サブミリオーダ以上の厚さを有するゲル状の衝撃吸収層と、
前記衝撃吸収層を間にして前記表示素子層に対向して設けられ、鉛筆硬度３Ｈ以上の硬度を有する衝撃分散層と、
前記衝撃分散層と前記衝撃吸収層との間に設けられ、前記偏光子の前記第２面を覆うとともに、前記衝撃分散層よりも高い曲げ強度および引っ張り強度を有する第２水分バリア膜と
を備えた表示装置。
（１４）
前記第２水分バリア膜は、更に、前記偏光子の前記端面を覆っている
前記（１３）に記載の表示装置。
（１５）
更に、前記可撓性基板を間にして前記表示素子層に対向する緩衝層を有する
前記（１３）または（１４）に記載の表示装置。
【符号の説明】
【００９３】
１，１Ａ，１Ｂ，５，５Ａ，５Ｂ…表示装置、１１…基板、１１Ｆ，１５Ｆ，１５２Ｆ…表面、１１Ｂ，１５Ｂ，１５２Ｂ…裏面、１２…ＵＣ膜、１３…表示素子層、１４，１９Ｂ，５４Ａ…第１水分バリア膜、１４Ａ…封止膜、１５…偏光板、１５Ｅ，１５２Ｅ…端面、１５１…位相差層、１５２…偏光子、１５３，４１…保護膜、１５４Ａ，１５４Ｂ，１６，１８…粘着層、１７，１７Ａ，５２…第２水分バリア膜、１７１…樹脂膜、１７２…バリア層、１９…補強部材、２５…タイミング制御部、２６…信号処理部、２７…駆動部、２８…表示画素部、３…電子機器、３０…インターフェース部、５１…衝撃吸収層、５３…衝撃分散層、５４…緩衝層。
【図１】
2019125423.tif 000003
【図２】
2019125423.tif 000004
【図３】
2019125423.tif 000005
【図４】
2019125423.tif 000006
【図５】
2019125423.tif 000007
【図６】
2019125423.tif 000008
【図７】
2019125423.tif 000009
【図８】
2019125423.tif 000010
【図９】
2019125423.tif 000011
【図１０】
2019125423.tif 000012