(57)【要約】【課題】塗面外観に優れ、指紋不可視性、かつ指紋拭き取り性に優れる反射防止フィルムを提供する。【解決手段】上記課題を解決するために、熱可塑性透明基材フィルムの一方の面上に、ハードコート層と指紋なじみ低屈折率層とをこの順に備える反射防止フィルムであって、指紋なじみ低屈折率層は、次の（ａ）〜（ｅ）の各成分；（ａ）フッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体、（ｂ）（ａ）と共重合可能な紫外線硬化型樹脂、（ｃ）中空シリカ微粒子、（ｄ）金属酸化物微粒子、（ｅ）光重合開始剤を含有し、（ａ）成分の含有量が１０．０〜２０．０質量％、（ｂ）成分の含有量が１９．０〜６１．９質量％、（ｃ）成分の含有量が２７．０〜６９．９質量％、（ｄ）成分の含有量が０．１〜３．０質量％、（ｅ）成分の含有量が１．０〜１０．０質量％である樹脂組成物の硬化物である、反射防止フィルムを提供する。【選択図】図１
2019168633.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱可塑性透明基材フィルムの一方の面上に、ハードコート層と指紋なじみ低屈折率層とをこの順に備える反射防止フィルムであって、
前記の指紋なじみ低屈折率層は、次の（ａ）〜（ｅ）の各成分；
（ａ）フッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体、
（ｂ）（ａ）と共重合可能な紫外線硬化型樹脂、
（ｃ）中空シリカ微粒子、
（ｄ）金属酸化物微粒子、および
（ｅ）光重合開始剤
を含有し、（ａ）成分の含有量が１０．０〜２０．０質量％、（ｂ）成分の含有量が１９．０〜６１．９質量％、（ｃ）成分の含有量が２７．０〜６９．９質量％、（ｄ）成分の含有量が０．１〜３．０質量％、および（ｅ）成分の含有量が１．０〜１０．０質量％である樹脂組成物の硬化物である、反射防止フィルム。
【請求項２】
オレイン酸に対する接触角が３０°以下であり、かつＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）が０．００１〜０．０２０μｍであることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネル表面等に適用され、防汚性に優れた反射防止フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、画像表示部に直接触れることにより、情報を入力できるデバイスとしてタッチパネルが広く用いられている。このタッチパネルの表面には、外光からの反射光によって視認性が悪化することを低減するため、一般的に反射防止フィルムが貼着されている。しかし、タッチパネルはほぼ日常的に外気と接触したり人の手に触れられるため、汚れや指紋などがその表面に付着し、視認性の悪化や美観を損ねたりする等の問題が発生する。
【０００３】
この問題を解決するために、フィルム表面にシリコーン系やフッ素系の防汚剤を施した防汚処理した反射防止フィルムが提案されている（特許文献１、特許文献２）。特許文献１では、低屈折率層にポリジメチルシロキサン構造を有するシリコーン材料を加えることで撥水撥油による防汚性の付与が図られている。また、特許文献２では、フッ素系界面活性剤を低屈折率層へ加えることで撥水撥油による防汚性の付与が図られている。これら撥水撥油性による防汚性により付着する指紋を抑制し、かつ拭き取り性を良化している。
【０００４】
また、フィルム表面に撥水親油性の防汚剤を施した防汚処理したハードコートフィルムが提案されている（特許文献３）。特許文献３では、ハードコート層に重合性基含有含フッ素アダマンタン誘導体を加えることで撥水親油性による防汚性の付与が図られている。これは撥水親油性による防汚性により付着する指紋の油分がなじむことで散乱による視認性不良を低減している。
【０００５】
しかし、特許文献１、および特許文献２記載の反射防止フィルムでは、指紋付着性、拭き取り性は優れるが、付着した指紋の油分をはじいてしまい、かえって汚れが目立つという課題がある。付着した指紋の油分をはじかなくするために、シリコーン系やフッ素系の防汚剤を施さなければ、製膜時の塗膜均一性を損ない塗面ムラが発生し、かつ、指紋が拭き取り難くなる。そこで、撥水親油性の防汚剤を施した反射防止フィルムが想定されるが、塗面外観が優れていることはもとより、表面が高強度で耐摩耗性に優れ、傷が付きがたいこと、また汚れを拭き取り易いこと、全て満足することが難しく提案が無い。
また、特許文献３のハードコート層では、付着した指紋の油分がなじむことで汚れは目立たないが、反射防止機能が無いため写り込みが強い課題がある。そこで、フィルム表面に撥水親油性の防汚剤を施した反射防止フィルムが想定される。しかし、塗面外観を満足するため必要量の撥水親油性の防汚剤を施せば、指紋付着性、拭き取り性は優れるが、表面強度、耐摩耗性が劣り、傷が付き易くなる。撥水親油性の防汚剤が不足すれば、製膜時の塗膜均一性を損ない塗面ムラが発生し、かつ、指紋が拭き取り難くなる。塗面外観が優れていることはもとより、表面が高強度で耐摩耗性に優れ、傷が付きがたいこと、また汚れを拭き取り易いこと、全て満足することが難しく提案が無い。
【０００６】
このように、塗面外観が優れていることはもとより、指紋なじみ性、かつ指紋拭き取り性に優れ、表面が高強度で耐摩耗性に優れ、傷が付きがたい反射防止フィルムが求められているのである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１１−１５４１７７号公報
【特許文献２】特開２００８−１２２６０３号公報
【特許文献３】特開２０１２−０２２１７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の課題とするところは、塗面外観に優れ、指紋不可視性、かつ指紋拭き取り性に優れ、耐摩耗性、耐擦傷性に優れる反射防止フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、低屈折率層の構成に、特定のフッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体と金属酸化物微粒子とを特定量用いた樹脂組成物を硬化して適用することによって、上記の課題を解決することの知見を見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は下記の〔１〕および〔２〕である。
〔１〕熱可塑性透明基材フィルムの一方の面上に、ハードコート層と指紋なじみ低屈折率層とをこの順に備える反射防止フィルムであって、
前記の指紋なじみ低屈折率層は、次の（ａ）〜（ｅ）の各成分；
（ａ）フッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体、
（ｂ）（ａ）と共重合可能な紫外線硬化型樹脂、
（ｃ）中空シリカ微粒子、
（ｄ）金属酸化物微粒子、および
（ｅ）光重合開始剤
を含有し、（ａ）成分の含有量が１０．０〜２０．０質量％、（ｂ）成分の含有量が１９．０〜６１．９質量％、（ｃ）成分の含有量が２７．０〜６９．９質量％、（ｄ）成分の含有量が０．１〜３．０質量％、および（ｅ）成分の含有量が１．０〜１０．０質量％である樹脂組成物の硬化物である、反射防止フィルム。
〔２〕オレイン酸に対する接触角が３０°以下であり、かつＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）が０．００１〜０．０２０μｍであることを特徴とする、前記の〔１〕に記載の反射防止フィルム。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、指紋なじみ低屈折率層の樹脂組成を適切に設定したことで、塗膜平滑性、指紋なじみ性、指紋拭き取り性に優れ、かつ表面が高強度で耐摩耗性に優れ、傷が付きがたい反射防止フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一実施態様の反射防止フィルムの一例を示す概略縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
《反射防止フィルム》
本発明の反射防止フィルムは、熱可塑性透明基材フィルム（以下、基材フィルムとする
）の一方の面上に、ハードコート層と指紋なじみ低屈折率層とをこの順に備える。以下に、この反射防止フィルムの構成要素について順に説明する。
【００１３】
＜透明基材フィルム＞
透明基材フィルムは、ポリエステル樹脂やポリカーボネート樹脂、トリアセチルセルロース樹脂、ノルボルネン系樹脂、シクロオレフィン樹脂からなるフィルムを使用できる。ポリエステル樹脂からなるフィルムとしては東レ（株）製ＰＥＴフィルム（ルミラーＵ−４０３）、ポリカーボネート樹脂からなるフィルムとしては帝人化成（株）製ポリカーボネートフィルム（ＰＣ−２１５１）、トリアセチルセルロース樹脂からなるフィルムとしては富士フィルム（株）製トリアセチルセルロースフィルム（フジタック）、ノルボルネン系樹脂からなるフィルムとしてはＪＳＲ（株）製アートンフィルム、シクロオレフィン樹脂からなるフィルムとしては日本ゼオン（株）製ゼオノアフィルム（ＺＦ１４，ＺＦ１６）等が挙げられる。
【００１４】
透明基材フィルムの膜厚は通常２５〜５００μｍ程度であり、下限値としては、好ましくは５０μｍ以上であり、より好ましくは７５μｍ以上である。上限値としては、好ましくは２５０μｍ以下であり、より好ましくは１５０μｍ以下であり、特に好ましくは１２０μｍ以下である。
透明基材フィルムの屈折率は通常１．４９〜１．６７であり、下限値としては、好ましくは１．５２以上であり、より好ましくは１．５６以上である。上限値としては、好ましくは１．６３以下であり、より好ましくは１．５９以下である。
【００１５】
＜ハードコート層＞
ハードコート層は、表面硬度向上のため透明基材フィルム上に設けられる層である。
ハードコート層の屈折率は、１．４９〜１．５９であり、下限値としては、好ましくは１．４９以上であり、より好ましくは１．５０以上である。上限値としては、好ましくは１．５６以下であり、より好ましくは１．５４以下である。屈折率がこの範囲内であれば、透明基材フィルムとハードコート層との屈折率差から干渉縞が発生したりすることがなく、過度の使用量からの高屈折率材料に起因した光の吸収および、光の散乱発生からのハードコート層が着色や全光線透過率が低下が起こったりすることがない。またハードコート層の乾燥硬化後の膜厚は、１〜２０μｍであり、下限値としては、好ましくは２μｍ以上であり、より好ましくは４μｍ以上である。上限値としては、好ましくは１５μｍ以下であり、より好ましくは１０μｍ以下である。膜厚がこの範囲内であれば、十分な表面硬度が得られ、屈曲性の低下等の問題が生じることがない。
【００１６】
＜ハードコート層用樹脂組成物＞
ハードコート層用樹脂組成物に用いられる材料としては、従来より反射防止フィルム等に用いられる公知のものであれば、特に制限されない。例えば、テトラエトキシシラン等の反応性珪素化合物や、活性エネルギー線硬化型樹脂を用いることができ、これらを混合してもよい。そして、これらに光重合開始剤を加えて調製したハードコート層用塗液に紫外線や電子線等の活性エネルギー線を照射して硬化させて第一ハードコート層および第二ハードコート層を形成することができる。活性エネルギー線硬化型樹脂としては、例えば単官能（メタ）アクリレート、多官能（メタ）アクリレートなどが挙げられる。単官能（メタ）アクリレートとして具体的には、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸（ポリ）エチレングリコール基含有（メタ）アクリル酸エステル等が好ましい。多官能（メタ）アクリレートとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン変性アクリレート等の（メタ）アクリロイル基を２個以上含む多官能重合性化合物等が挙げられる。なお、本明細書では、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートおよびメタクリレートを指す。また、同様に、後述の「（メタ）アクリル単量体」は、アクリル単量体およびメタクリル単量体を指し、「（メタ）アクリロイル基」は、アクリロイル基およびメタクリロイル基を指す。
【００１７】
（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ｔ−アミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ヘキサメチル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート等の炭素数が１〜２０のアルキル（メタ）アクリレート；２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシプロピル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等の脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリレート；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等の水酸基含有（メタ）アクリレート；（メタ）アクリル酸等のカルボキシル基含有モノマーなどが挙げられる。
【００１８】
多官能重合性化合物としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコール（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカンジメタノールジ（メタ）アクリレート等の２官能の（メタ）アクリレート；トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ（メタ）アクリレート等の４官能以上の（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００１９】
これらのうち生産性および硬度を両立させる観点より、鉛筆硬度（評価法：ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４）がＨ以上となる活性エネルギー線硬化型樹脂を含む組成物の硬化物であることが好ましい。そのような活性エネルギー線硬化型樹脂を含む組成物としては特に限定されるものではないが、例えば、公知の活性エネルギー線硬化型樹脂、または公知の活性エネルギー線硬化型樹脂を２種類以上混合したもの、紫外線硬化性ハードコート材として市販されているものを用いることができる。
【００２０】
光重合開始剤は、紫外線（ＵＶ）等の活性エネルギー線により第一ハードコート層用塗液または第二ハードコート層用塗液を硬化させて塗膜を形成する際の重合開始剤として用いられる。光重合開始剤としては、活性エネルギー線照射により重合を開始するものであれば特に限定されず、公知の化合物を使用できる。例えば、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフェリノプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン等のアセトフェノン系重合開始剤、ベンゾイン、２，２−ジメトキシ１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンゾイン系重合開始剤、ベンゾフェノン、［４−（メチルフェニルチオ）フェニル］フェニルメタノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系重合開始剤、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系重合開始剤等が挙げられる。
塗液の溶媒は、この種の反射防止フィルム等において各層形成用の塗液に従来から使用されている公知のものであれば特に制限は無く、例えばアルコール系、ケトン系、エステル系の溶媒が適時選択できる。
【００２１】
また、ハードコート層は、透光性微粒子を含有していてもよい。透光性微粒子は、ハードコート層に表面の凹凸を形成し、反射防止性（防眩性）を向上させるものである。前記の透光性微粒子は、任意の材料を用いることができる。そのような透光性微粒子としては、例えばシリカのほか、塩化ビニル、（メタ）アクリル単量体、スチレンおよびエチレンから選択される少なくとも１種の単量体を重合して得られる重合体などから形成される。更に、その他添加剤を含有していても良い。その他の添加剤としては、表面調整剤やスリップ剤等が挙げられる。
【００２２】
＜指紋なじみ低屈折率層＞
指紋なじみ低屈折率層の屈折率は、塗布対象層であるハードコート層、または高屈折率層の屈折率より低く設定されることを用件とし、その屈折率は１．３０〜１．４６程度であり、下限値としては、好ましくは１．３３以上であり、より好ましくは１．３７以上である。上限値としては、好ましくは１．４３以下であり、より好ましくは１．４０以下である。屈折率がこの範囲内であれば、十分に硬い層を形成することができ、十分な反射防止性能を得られる。
【００２３】
＜指紋なじみ低屈折率層用樹脂組成物＞
本発明に用いる指紋なじみ低屈折率層は、次の（ａ）〜（ｅ）の各成分；
（ａ）フッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体、
（ｂ）（ａ）と共重合可能な紫外線硬化型樹脂、
（ｃ）中空シリカ微粒子、
（ｄ）金属酸化物微粒子、および
（ｅ）光重合開始剤
を含有する樹脂組成物の硬化物である。
（但し、（ａ）〜（ｅ）の各成分の合計は１００質量％である）
【００２４】
［（ａ）フッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体］
本発明に用いるフッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体（ａ）は、塗膜平滑性を向上し、かつ撥水親油性を発現するためのものであり、指紋なじみ低屈折率層表面を触った際に付着する指紋の付着性を高めることができる。
【００２５】
本発明に用いるフッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体は、フッ素をその構造においてどの部分に含んでいてもよいが、アダマンタン環の水素原子がフッ素原子で置換されている構造のものが好ましい。また、紫外線硬化部分としては、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタン基等の重合性置換基が好ましい。
【００２６】
本発明に用いるフッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体（ａ）は、下記の一般式（Ｉ）で表される。
【化１】
2019168633.tif 000003
上記の一般式（Ｉ）において、Ｆは、フッ素原子を表し、Ｚ１は、下記の一般式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）で表される基を示す。
【化２】
2019168633.tif 000004
上記の式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）中、Ｒ１〜Ｒ４は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、またはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜２０、好ましくは１〜１５の脂肪族炭化水素基を示す。ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素が挙げられる。
【００２７】
ヘテロ原子を含まない炭化水素基としては、炭素数１〜２０、好ましくは１〜１５の直鎖もしくは分岐を有するアルキル基が挙げられ、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、アイコシル基などが挙げられる。これらのうち、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が好ましく挙げられる。
【００２８】
ヘテロ原子を含む炭化水素基としては、
−Ｏ−（炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１５の直鎖もしくは分岐を有するアルキル基）、
−Ｓ−（炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１５の直鎖もしくは分岐を有するアルキル基）、
−ＣＯ−（炭素数１〜１９、好ましくは炭素数１〜１４の直鎖もしくは分岐を有するアルキル基）、
−ＮＨ−（炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１５の直鎖もしくは分岐を有するアルキル基）、
−Ｎ（炭素数１〜１９、好ましくは炭素数１〜７の直鎖もしくは分岐を有するアルキル基）、
などが挙げられる。
ヘテロ原子を含む炭化水素基としては、具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基およびジエチルアミノ基などが挙げられる。
【００２９】
ｎは０以上の整数、例えば０〜２０の整数、好ましくは０〜１０の整数、より好ましくは０，１，２，３，４または５である。
ｍは０以上の整数、例えば０〜２０の整数、好ましくは０〜１０の整数、より好ましくは０，１，２，３，４または５、特に０または１である。
【００３０】
上記の一般式（Ｉ）において、Ｘ１は、ビニル基、下記の一般式（IV）、下記の式（Ｖ）または下記の一般式（VI）で表される重合性基を示す。
【化３】
2019168633.tif 000005
上記の一般式（ＩＶ）において、Ｒ５は水素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を示す。上記の一般式（ＶＩ）において、Ｒ６は炭素数１〜５の炭化水素基を示す。この炭素数１〜５の炭化水素基としては、アルキル基およびアルコキシ基などが挙げられる。アルキル基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよく、具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基およびブチル基などが挙げられる。アルコキシ基としては、メトキシ基およびエトキシ基などが挙げられる。
【００３１】
上記の一般式（Ｉ）において、Ｙは、水素原子、炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン置換炭化水素基、環式炭化水素基、ハロゲン置換環式炭化水素基、水酸基、カルボキシル基、および同一の炭素原子に結合した２つのＹが炭素原子と一緒になって形成されたＣ＝Ｏから選ばれる基を示す。
【００３２】
Ｙで示される炭化水素基としては、例えば、ヘテロ原子を含んでいてもよい炭化水素基などが挙げられる。ヘテロ原子を含まない炭化水素基としては、上記の式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）で用いられるものと同様の基を用いることができ、炭素数１〜２０、好ましくは１〜１５の直鎖もしくは分岐を有するアルキル基が挙げられ、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、アイコシル基などが挙げられる。
【００３３】
ヘテロ原子を含む炭化水素基としては、上記の式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）で用いられるものと同様の基を用いることができ、具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基およびジエチルアミノ基などが挙げられる。
【００３４】
Ｙで示される環式炭化水素基としては、例えば炭素数５〜１０のシクロアルキル基、具体的にはシクロペンチル基、メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メチルシクロヘキシル基およびエチルシクロヘキシル基、シクロオクチル基などが挙げられる。また、ハロゲン置換環式炭化水素基としては、上記の環式炭化水素基の水素原子が１個以上ハロゲン原子で置換された基、例えばフルオロシクロペンチル基、フルオロシクロヘキシル基、トリフルオロメチルシクロペンチル基およびトリフルオロメチルシクロヘキシル基などが挙げられる。
【００３５】
上記の一般式（Ｉ）において、ｓは１〜１５の整数であり、下限値としては、好ましくは５以上であり、より好ましくは８以上である。上限値としては、好ましくは１４以下であり、より好ましくは１２以下である。ｓを1以上とすることで、指紋なじみ低屈折率層を硬い層とすることができる。
上記の一般式（Ｉ）において、ｔは１〜１５の整数であり、下限値としては、好ましくは４以上であり、より好ましくは８以上である。ｔを１以上とすることで、指紋なじみ低屈折率層の指紋拭き取り性を優れたものとすることができる。
上記の一般式（Ｉ）において、ｕは０〜１４の整数であり、好ましくは０〜４の整数である。
上記の一般式（Ｉ）において、ｓ＋ｔ＋ｕ＝１６である。
【００３６】
フッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体は、パーフルオロアダマンタノール類とアクリル酸、メタクリル酸を溶媒の還流下に共沸脱水する方法によることができる。ここで用いる原料のパーフルオロアダマンタノール類としては、パーフルオロ−１−アダマンタノール、パーフルオロ−１，３−アダマンタンジオール、パーフルオロ−１−アダマンタンメタノール、パーフルオロ−１，３−アダマンタンジメタノール、パーフルオロ−１−アダマンタンエタノール、パーフルオロ−１，３−アダマンタンジエタノール、１ー(２―ヒドロキシエトキシ)パーフルオロアダマンタン、１，３―ビス(２―ヒドロキシエトキシ)パーフルオロアダマンタンが挙げられる。これらの反応溶媒としては、トルエンやキシレンなどが好適に用いられる。
【００３７】
フッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体は、指紋なじみ低屈折率層用樹脂組成物中に１０．０〜２０．０質量％含まれる。下限値としては、好ましくは１２．０質量％以上あり、より好ましくは１４．０質量％以上である。上限値としては、好ましくは１８．０質量％以下であり、より好ましくは１６．０質量％以下である。含有量が１０．０質量％未満では、コーティング時に平滑性を高めることが出来ず、また指紋なじみ低屈折率層表面を触った際に付着する指紋の付着性を弱めることが出来ない。一方、２０．０質量％を越えると、表面強度で耐摩耗性、傷が付きがたさが悪化する。
【００３８】
［（ｂ）（ａ）と共重合可能な紫外線硬化型樹脂］
本発明に用いる（ａ）と共重合可能な紫外線硬化型樹脂（ｂ）は、指紋なじみ低屈折率層へ硬度を付与することができる。
本発明に用いる（ａ）と共重合可能な紫外線硬化型樹脂（ｂ）としては、例えば単官能（メタ）アクリレート、多官能（メタ）アクリレートなどが挙げられる。単官能（メタ）アクリレートとして具体的には、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸（ポリ）エチレングリコール基含有（メタ）アクリル酸エステル等が好ましい。多官能（メタ）アクリレートとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン変性アクリレート等の（メタ）アクリロイル基を２個以上含む多官能重合性化合物等が挙げられる。
（ａ）と共重合可能な紫外線硬化型樹脂（ｂ）としては、上記ハードコート層用樹脂組成物に用いられる単官能（メタ）アクリレート、多官能重合性化合物などを同様に用いることができる。
【００３９】
本発明に用いる（ａ）と共重合可能な紫外線硬化型樹脂（ｂ）は、指紋なじみ低屈折率層用樹脂組成物中に１９．０〜６１．９質量％含まれる。下限値としては、好ましくは２５．０質量％以上あり、より好ましくは３０．０質量％以上である。上限値としては、好ましくは５０．０質量％以下であり、より好ましくは４０．０質量％以下である。含有量が１９．０質量％未満では、指紋なじみ低屈折率層の硬度不足や、透過率の低下が生じる。一方、６１．９質量％を越えると、塗膜屈折率が高くなり、反射率防止性能が低下するため好ましくない。
【００４０】
［（ｃ）中空シリカ微粒子］
本発明に用いる中空シリカ微粒子（ｃ）は、屈折率を積極的に低くするために配合されるものである。中空シリカ微粒子（ｃ）の屈折率は製法によって異なるが、１．２５〜１．４０であることが好ましい。中空シリカ微粒子としては、屈折率を低くするものであれば特に限定されず、公知の中空シリカ微粒子を使用できる。具体的には、日揮触媒化成（株）製アクリル修飾中空シリカ微粒子  スルーリアＮＡＵ等が挙げられる。
本発明に用いる中空シリカ微粒子（ｃ）は、指紋なじみ低屈折率層中に２７．０〜６９．９質量％含まれる。下限値としては、好ましくは２５．０質量％以上であり、より好ましくは３５．０質量％以上である。上限値としては、好ましくは６０．０質量％以下であり、より好ましくは４５．０質量％以下である。中空シリカ微粒子（ｃ）の含有量が２７．０質量％未満では、指紋なじみ低屈折率層の屈折率を後述の範囲とすることが出来ない。一方、シリカ微粒子の含有量が６９．９質量％より多いと、塗膜強度が弱くなる。
【００４１】
［（ｄ）金属酸化物微粒子］
本発明に用いる金属酸化物微粒子（ｄ）は、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化錫、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化ベリリウム等の微粒子が挙げられる。これらの金属酸化物微粒子のうち、特に酸化アルミニウムの微粒子が耐摩耗性および耐擦傷性の観点から好ましい。
【００４２】
本発明に用いる金属酸化物微粒子（ｄ）の平均粒子径は、指紋なじみ低屈折率層の厚さを大きく越えないことが好ましく、通常０．１μｍ以下、特に好ましくは１０〜１００ｎｍである。平均粒子径がこの範囲内であれば、光の散乱が生じる等、指紋なじみ低屈折率層の光学性能が不本意な方向へ変化することがない。また、金属酸化物微粒子（ｄ）の屈折率や層中での含有率等に起因する透明性への影響も重要であり、光学物品の透明性を低下させないよう、金属酸化物微粒子（ｄ）の屈折率、含有率を調整する。さらに、金属酸化物微粒子（ｄ）は、必要に応じて微粒子表面を各種カップリング剤等により修飾することができる。そのようなカップリング剤としては、例えば３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン等の有機置換された珪素化合物が挙げられる。その他にも、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、アンチモン等の金属アルコキシドを含む有機酸塩等が挙げられる。特に、表面を（メタ）アクリロイル基等の反応性基で修飾することにより、硬度の高い減反射層を形成することができる。
【００４３】
金属酸化物微粒子（ｄ）は、本発明においてはフッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体（ａ）と組合わせて用いているので、相互に強め合うことによって過度の量を添加することなく、耐摩耗性や耐擦傷性の表面強度についての性能を発現することができる。
金属酸化物微粒子（ｄ）の含有量は、低屈折率層用樹脂組成物中に０．１〜３.０質量％である。下限値としては、好ましくは０．２質量％以上であり、より好ましくは０．５質量％以上である。上限値としては、好ましくは２．５質量％以下であり、より好ましくは２．０質量％以下である。但し、先述の酸化アルミニウムにおいては、透明性への影響が大きく、また少量の添加で十分な効果が得られることから、下限値としては、好ましくは０．１質量％以上であり、より好ましくは０．２質量％以上である。上限値としては、好ましくは１．０質量％以下であり、より好ましくは０．５質量％以下である。
【００４４】
［（ｅ）光重合開始剤］
本発明に用いる光重合開始剤（ｅ）は、紫外線（ＵＶ）等の活性エネルギー線により指紋なじみ低屈折率層用塗液を硬化させて塗膜を形成する際の重合開始剤として用いられる。光重合開始剤（ｅ）としては、活性エネルギー線照射により重合を開始するものであれば特に限定されず、公知の化合物を使用できる。例えば、１−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン等のアセトフェノン系重合開始剤、ベンゾイン、２，２−ジメトキシ１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンゾイン系重合開始剤、ベンゾフェノン、［４−（メチルフェニルチオ）フェニル］フェニルメタノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系重合開始剤、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系重合開始剤等が挙げられる。
本発明に用いる光重合開始剤（ｅ）の含有量は、指紋なじみ低屈折率層用樹脂組成物中に１．０〜１０．０質量％であり、下限値としては、好ましくは２．０質量％以上であり、より好ましくは４．０質量％以上である。上限値としては、好ましくは８．０質量％以下であり、より好ましくは６．０質量％以下である。光重合開始剤（ｅ）の含有量が１．０質量％未満では、ハードコート層の硬化が不十分となる。一方、光重合開始剤（ｅ）の含有量が１０．０質量％を超えると、光開始剤が不必要に多くなり好ましくない。
【００４５】
［その他の成分］
また、本発明に用いる指紋なじみ低屈折率層用樹脂組成物には上記の化合物以外に本発明の効果を損なわない範囲において、その他の成分を含んでいても差し支えない。その他の成分は特に限定されるものではなく、例えば無機または有機顔料、他の重合体、熱分解型重合開始剤、光重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、レベリング剤等が挙げられる。
【００４６】
本発明の反射防止フィルムは、ハードコート層と指紋なじみ指紋なじみ低屈折率層以外の他の層を含むことも可能である。
他の層としては、例えば、反射防止効果をより発揮することができるための高屈折率層や、ハードコートと基材フィルムとの密着性を向上させる易接着層等の層が好ましい。
【００４７】
＜高屈折率層＞
高屈折率層は、上記の指紋なじみ低屈折率層との有意な屈折率差により、反射防止効果を発現させるための層である。高屈折率層の屈折率は、ハードコート層および指紋なじみ低屈折率層より高く設定される。高屈折率層の屈折率は１．５〜２．４に設定する。この屈折率が１．５より小さい場合、反射防止性能が損なわれる。一方、屈折率が２．４を超える高屈折率層を形成することは現状では困難である。
【００４８】
＜高屈折率層用樹脂組成物＞
この高屈折率層を構成する材料としては、前記の高屈折率層の屈折率の範囲において、従来より反射防止フィルム等に用いられる公知のものであれば、特に制限されず、無機材料および有機材料を任意に用いることができる。無機材料としては、例えば酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化シラン、酸化アンチモン、酸化ジルコニウム、酸化錫、ＩＴＯ等の微粒子が挙げられる。特に、導電性や帯電防止能の観点より、酸化錫、酸化アンチモンおよびＩＴＯが好ましく、高屈折率の観点より、酸化チタン、酸化セリウム、酸化亜鉛および酸化ジルコニウムが好ましい。
【００４９】
有機材料としては、例えば重合硬化したものの屈折率が１．５〜１．８の重合性単量体を含む組成物等を用いることができる。そのような重合性単量体としては、２−ビニルナフタレン、４−ブロモスチレン、９−ビニルアントラセン等が挙げられる。
また、高屈折率層を構成する材料としては、無機材料の微粒子と有機材料とを併用することができるが、この場合には、前述した重合硬化物の屈折率が１．６〜１．８であるような重合性単量体のみならず、それ以外の重合性単量体およびこれらの重合体を含む組成物をウェットコーティング時の活性エネルギー線硬化型樹脂として用いることができる。無機材料の微粒子の平均粒子径は高屈折率層の厚みを大きく超えないことが好ましく、特に０．１５μｍ以下であることが好ましい。無機材料の微粒子の平均粒子径が高屈折率層の厚みより大きくなると、光の散乱が生じる等、高屈折率層の光学性能が低下する傾向にある。
【００５０】
＜易接着層＞
易接着層は、光学的な悪影響を及ぼすことなく、基材フィルムとハードコート層との密着性を高める機能を有している。この易接着層の膜厚は５〜３０ｎｍである。下限としては、好ましくは１０ｎｍ以上であり、より好ましくは１５ｎｍ以上である。上限としては、好ましくは２５ｎｍ以下であり、より好ましくは２０ｎｍ以下である。
易接着層を形成する材料としては特に限定されないが、干渉縞等が生じない屈折率を有する材料であることが好ましい。
【００５１】
本発明の反射防止フィルムについて、図１を用いて説明する。
図１（ａ）、（ｂ）に示す反射防止フィルム１０、１０Ａは、透明基材フィルム１上にハードコート層２、必要に応じて形成される高屈折率層３および最表面層としての指紋なじみ低屈折率層４を積層した構成である。
【００５２】
＜ハードコート層、高屈折率層および指紋なじみ低屈折率層の形成＞
ハードコート層、高屈折率層および指紋なじみ低屈折率層は、各樹脂組成物を透明基材フィルム上へ順に塗布した後に、活性エネルギー線照射により硬化することで形成される。
ハードコート層、高屈折率層および指紋なじみ低屈折率層の塗布方法は特に制限されず、例えばロールコート法、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ダイコート法、インクジェット法、グラビアコート法等公知のいかなる方法も採用できる。また、活性エネルギー線の種類は特に制限されないが、利便性等の観点から紫外線を用いることが好ましい。尚、ハードコート層の透明基材フィルムに対する密着性を向上させるために、予め透明基材フィルム表面にコロナ放電処理等の前処理を施すことも可能である。
【００５３】
また、塗工性の観点から、各樹脂組成物は溶媒に希釈し塗工することが好ましい。溶媒としては、各層形成用の塗液に従来から使用されている公知のものであれば特に制限は無く、例えばアルコール系、ケトン系、エステル系の溶媒が適時選択でき、フィルム表面の乾燥ムラ等を考慮して、蒸気圧の異なる複数の溶媒を用いることが好ましい。
上記のコーティング法等で塗布された後の乾燥は、乾燥機等を用いて適宜行えばよい。乾燥温度は、溶媒の蒸気圧や固形分濃度によって適宜設定することができるが、フィルム表面の乾燥ムラやゆず肌等を防ぐために、段階的に温度を上げて乾燥することが好ましい。乾燥時間は、溶媒の蒸気圧や固形分濃度によって適宜設定すればよい。
【００５４】
本発明に用いる樹脂組成物が（ａ）〜（ｄ）成分を本発明の規定量範囲含有するので、その硬化物の作用により、本発明の反射防止フィルムは、オレイン酸に対する接触角が好ましくは３０°以下であり、より好ましくは２０°以下である。接触角は小さいほど好ましいためその下限は特に規定されないが、５°以上であることが好ましい。また、本発明の反射防止フィルムは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に規定される算術平均粗さ（Ｒａ）が好ましくは０．００１〜０．０２０μｍである。接触角および算術平均粗さ（Ｒａ）の値から、本発明の反射防止フィルムにおいては、指紋なじみ低屈折率層を構成する樹脂が生体由来脂質成分に対してなじみやすくなり、付着した指紋が視認され難くなる機能を発現することができるものと推測される。同時に、本発明の反射防止フィルムにおいては、生体由来脂質成分の微小液滴化からの光の乱反射によって、ディスプレイ画像等の視認性が悪くなることもない。
【実施例】
【００５５】
以下に、実施例および比較例を挙げて前記の実施形態をさらに具体的に説明する。
（Ｌ１−１〜Ｌ１−１１（実施例用指紋なじみ低屈折率層用組成物の作製））
指紋なじみ低屈折率層用樹脂組成物として次の原料を使用し、各原料を下記の表１に記載した組成にて、（ａ）フッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体、（ｂ）（ａ）と共重合可能な紫外線硬化型樹脂、（ｃ）中空シリカ微粒子、（ｄ）金属酸化物微粒子、（ｅ）光重合開始剤とを混合し、指紋なじみ低屈折率層用樹脂組成物Ｌ１−１〜Ｌ１−１１を調製した。尚、各材料の配合量は、固形分の質量％を記載している。その結果を表１に示す。
【００５６】
また、屈折率の測定は、下記方法を用いて行った。
（１）屈折率１．４９のアクリル樹脂板（「デラグラスＡ」、旭化成ケミカルズ（株）製）上に、ディップコーター（（株）杉山元医理器製）により、各塗液をそれぞれ乾燥膜厚で光学膜厚が５５０ｎｍ程度になるように層の厚みを調整して塗布した。
（２）溶媒乾燥後、必要に応じて紫外線照射装置（岩崎電気（株）製）により窒素雰囲気下で１２０Ｗ高圧水銀灯を用いて、４００ｍＪの紫外線を照射して各塗液を硬化させた。
（３）アクリル樹脂板裏面をサンドペーパーで荒らし、黒色塗料で塗りつぶしたものを分光光度計（「Ｕ−Ｂｅｓｔ  Ｖ５６０」、日本分光（株）製）により、光の波長４００〜６５０ｎｍにおける５°、−５°正反射率を測定し、その反射率の極小値又は極大値を読み取った。
（４）反射率の極値より以下の式を用いて屈折率を計算した。
【００５７】
【数１】
2019168633.tif 000006
【００５８】
【表１】
2019168633.tif 000007
【００５９】
指紋なじみ低屈折率層用樹脂組成物の各原料としては、以下の通りである。（ａ）フッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体として、１−パーフルオロアダマンチルメタクリラート（出光興産（株）製、商品名：アダマンテートＸ−Ｆ−１０１）、パーフルオロ−１，３−ビス（アクリロキシエトキシ）アダマンタン（出光興産（株）製、商品名：アダマンテートＸ−Ｆ−２０１）、２−パーフルオロ−１，３−アダマンタンジオールジメタクリラート（出光興産（株）製、商品名：アダマンテートＸ−Ｆ−２０３）を使用した。（ｂ）（ａ）と共重合可能な紫外線硬化型樹脂としては、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ、日本合成化学工業（株）製紫光ＵＶ−７６００Ｂを使用した。（ｃ）中空シリカ微粒子として、日揮触媒化成（株）製アクリル修飾中空シリカ微粒子  スルーリアＮＡＵ（屈折率１．２５、平均粒径６０ｎｍ）を使用した。（ｄ）金属酸化物微粒子として、ビックケミー・ジャパン（株）製、アルミナ微粒子（屈折率１．７６、平均粒径４０ｎｍ）を使用した。（ｅ）光開始剤として、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（Ｉ−９０７）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４（Ｉ−１８４）を使用した。
【００６０】
（Ｈ１−１（高屈折率層用樹脂組成物の作製））
高屈折率層用樹脂組成物として（ｆ）金属酸化物微粒子４７．５質量％と、（ｇ）紫外線硬化型樹脂４７．５質量％と、（ｈ）光開始剤５質量％とを混合し、高屈折率層用樹脂組成物Ｈ１−１を調製した。尚、各材料の配合量は、固形分の質量％を記載している。
高屈折率層用樹脂組成物の各原料としては、以下の通りである。
（ｆ）金属酸化物微粒子：シーアイ化成（株）製ＲＴＴＭＩＢＫ１５ＷＴ％−Ｎ２４（チタニア分散液）（ｇ）紫外線硬化型樹脂：日本合成化学工業（株）製紫光ＵＶ−７６００Ｂ
（ｈ）光開始剤：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４（Ｉ−１８４）
【００６１】
（ＨＣ１−１〜ＨＣ１−２（ハードコート用樹脂組成物の作製））
ハードコート用樹脂組成物として次の原料を使用し、各原料を下記の表２に記載した組成にて、（ｉ）紫外線硬化型樹脂と、（ｊ）表面調整剤と、（ｋ）光開始剤とを混合し、ハードコート用樹脂組成物ＨＣ１−１〜ＨＣ１−２を調製した。尚、各材料の配合量は、固形分の質量％を記載している。その結果を下記の表２に示す。
【００６２】
【表２】
2019168633.tif 000008
【００６３】
ハードコート用樹脂組成物の各原料としては、以下の通りである。（ｉ）紫外線硬化型樹脂としては、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ、日本合成化学工業（株）製紫光ＵＶ−７６００Ｂを使用した。（ｊ）表面調整剤としては、ビックケミー・ジャパン（株）製ＢＹＫ−３０６を使用した。（ｋ）光開始剤として、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４（Ｉ−１８４）を使用した。
【００６４】
（実施例１−１）
透明基材フィルムとしてコニカミノルタオプト（株）製トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（製品名：ＫＣ８ＵＹ、膜厚：８０μｍ）の一面に、ハードコート用樹脂組成物（ＨＣ１−１）および溶媒（メチルイソブチルケトン）を１：１の割合で混合したハードコート層用塗液をバーコーターにて硬化後の膜厚が７μｍとなるように塗布し、１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させることによりハードコート層を形成した。
次いで、このハードコート層上に、指紋なじみ低屈折率層用樹脂組成物（Ｌ１−１）および溶媒（メチルイソブチルケトン）を１：５の割合で混合した指紋なじみ低屈折率層用塗液をバーコーターにて硬化後の膜厚が０．１μｍとなるように塗布し、窒素雰囲気下、１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させることにより反射防止フィルム（ＡＲ１−１）を作製した。
【００６５】
（実施例１−２〜実施例１−１１）
ハードコート用樹脂組成物、指紋なじみ低屈折率層用樹脂組成物を下記の表３に記載した材料および各層の組合せとした以外は、実施例１−１と同様にして、反射防止フィルム（ＡＲ１−２〜ＡＲ１−１１）を作製した。
（実施例１−１２）
実施例１−１で形成したハードコート層上に、高屈折率層用樹脂組成物（Ｈ１−１）および溶媒（メチルイソブチルケトン）を１：５の割合で混合した高屈折率層用塗液をバーコーターにて硬化後の膜厚が０．１μｍとなるように塗布し、窒素雰囲気下、１２０Ｗ高圧水銀灯にて４００ｍＪの紫外線を照射して硬化させることにより高屈折率層を形成した。最後に、指紋なじみ低屈折率層用樹脂組成物を下記の表３に記載した材料および各層の組合せとした以外は、実施例１−１と同様にして、反射防止フィルム（ＡＲ１−１２）を作製した。
得られた反射防止フィルムについて、指紋拭取り性、耐擦傷性、最小反射率を下記の方法で測定した。その結果を下記の表３に示す。
【００６６】
＜最小反射率＞
反射防止フィルムの裏面反射を防ぐため、裏面をサンドペーパーで粗し、黒色塗料で塗り潰したものを分光光度計［日本分光（株）製、商品名：Ｕ−ｂｅｓｔ５６０］により、光の波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの５°、−５°正反射スペクトルを測定した。得られた反射スペクトルより、最小反射率（％）を読み取った。
【００６７】
＜ヘイズ値および全光線透過率＞
日本電色工業（株）製のＮＤＨ−２０００を使用し、ヘイズ値、および全光線透過率を測定した。
【００６８】
＜指紋不可視性＞
ディスプレイ用表面材上に指紋を付着させ、その視認性について下記の４段階にて目視による官能評価を行った。
４：散乱による指紋が全く見えない
３：散乱による指紋が極僅かに見える
２：散乱による指紋が僅かに見える
１：散乱による指紋がはっきり見える
【００６９】
＜指紋拭取り性＞
人工指脂液（尿素１ｇ、乳酸４．６ｇ、ピロリン酸ナトリウム８ｇ、食塩７ｇ、エタノール２０ｍＬを蒸留水で１Ｌに希釈したもの）を１滴、反射防止フィルム表面に滴下する。その後、日本製紙クレシア（株）製キムワイプを用い、人工指脂液を馴染ませる。続いて、東レ（株）製トレシーを用いて５往復拭取りを実施した後、表面の跡を目視で観察し下記の３段階で評価した。
○：人工指脂液の跡が無い場合
△：人工指脂液の跡が一部残る場合
×：人工指脂液の跡が残る場合
【００７０】
＜耐摩耗性＞
反射防止フィルム表面を（株）本光製作所製の消しゴム摩耗試験機の先端に、市販のネル布をシリコーンゴム製
のクッションを介して設置し、５００ｇｆの荷重をかけて、ストローク幅２５ｍｍ、速度３０ｍｍ／ｓｅｃで５００往復摩擦したあとの表面を目視で観察し、以下の○、×で評価した。
○：傷が０〜１０本、かつ著しい変色無し
×：傷が１１本以上、まはた著しい変色有り
【００７１】
＜耐擦傷性＞
反射防止フィルム表面を＃００００のスチールウールに２５０ｇｆの荷重をかけて、ストローク幅２５ｍｍ、速度３０ｍｍ／ｓｅｃで１０往復摩擦したあとの表面を目視で観察し、以下の○、×で評価した。
※スチールウールは約１０ｍｍφにまとめ、表面が均一になるようにカット、摩擦して均したものを使用した。
○：傷が０〜１０本
×：傷が１１本以上
【００７２】
＜表面粗さ＞
（株）小坂研究所製表面粗さ測定機、サーフコーダＳＥ４０００を使用し、走査範囲１．５ｍｍ、走査速度０．１ｍｍ／ｓの条件で、に規定に基づいて算術平均粗さ（Ｒａ）を測定した。
【００７３】
＜オレイン酸接触角＞
協和界面科学（株）製ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ５００を使用し、４μＬの液滴により接触角を測定した。
【００７４】
＜塗面外観＞
ＵＶ照射後の硬化膜表面を目視で観察し、以下の○、×で評価した。
○：著しいムラ、スジ、ハジキ等がない
×：容易に視認できる著しいムラ、スジ、ハジキ等がある
【００７５】
【表３】
2019168633.tif 000009
【００７６】
（Ｌ２−１〜Ｌ２−１４（比較例用低屈折率層用組成物の作製））
低屈折率用樹脂組成物として上記の原料に加え、下記の原料を使用し、各原料を表４に記載した組成にて混合し、低屈折率層用樹脂組成物Ｌ２−１〜Ｌ２−１４を調製した。尚、各材料の配合量は、固形分の質量％を記載している。その結果を表４に示す。
各原料としては、以下の通りである。フッ素含有紫外線硬化型樹脂として、ダイキン工業（株）製オプツールＤＡＣ−ＨＰ、フッ素を含有しないシリコーン系紫外線硬化型樹脂として、信越シリコーン（株）性ＴＩＣ−２４５９、フッ素を含有し紫外線硬化しない樹脂として、ＤＩＣ（株）製メガファックＦ−５５８を使用した。その結果を下記の表４に示す。
【００７７】
【表４】
2019168633.tif 000010
【００７８】
（比較例１−１〜比較例１−１４）
低屈折率層用樹脂組成物を表４に記載した材料とした以外は、実施例１−１と同様にして、反射防止フィルム（ＡＲ２−１〜ＡＲ２−１４）を作製した。得られた反射防止フィルムについて、指紋拭取り性、耐擦傷性、最小反射率を測定した。その結果を下記の表５に示す。
【００７９】
【表５】
2019168633.tif 000011
【００８０】
実施例１−１〜１−１２では、指紋なじみ低屈折率層を形成する指紋なじみ低屈折率層用樹脂組成物が本発明で規定される範囲に設定されていることから、反射防止機能が良好で、ヘイズ値が１．０％以下、指紋不可視性、指紋拭き取り性が優れ、耐摩耗性、耐擦傷性が良好で、表面粗さが０．００１μｍ〜０，０２０μｍ範囲内で、かつオレイン酸接触角が３０°以下の反射防止フィルムを作製することが出来た。
【００８１】
その一方、比較例１−１は、（ａ）フッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体の配合が７．０質量％である低屈折率層を用いていることから、指紋視認性、指紋拭き取り性が悪い結果となった。比較例１−２は、（ａ）フッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体の配合が２５．０質量％である低屈折率層を用いていることから、耐摩耗性、耐擦傷性が弱い結果となった。比較例１−３は、（ｂ）（ａ）と共重合可能な紫外線硬化型樹脂が１５．０質量％であり、（ｃ）中空シリカ微粒子の配合が７３．９質量％である指紋なじみ低屈折率層を用いていることから、耐摩耗性、耐擦傷性が弱く、または反射防止性能が悪い結果となった。比較例１−４は（ｂ）が７０．９質量％であり、（ｃ）の配合が１８．０質量％である低屈折率層を用いていることから、耐摩耗性、耐擦傷性が弱い結果、または反射防止性能が悪い結果となった。
比較例１−５、１−６は（ｄ）金属酸化物微粒子を配合していない、または５．０質量％含む低屈折率層を用いていることから、耐摩耗性、耐擦傷性が弱い結果、またはヘイズ値が高い結果となった。比較例１−７、１−８は（ｅ）光重合開始剤の配合が０．５質量％であるか、１５．０質量％である指紋なじみ低屈折率層を用いていることから、耐摩耗性、耐擦傷性が弱い結果となった。
比較例１−９はフッ素含有紫外線硬化型アダマンタン誘導体でなく、アダマンタン構造を有さないフッ素含有紫外線硬化型の樹脂からなる低屈折率層を用いたことから、オレイン酸接触角が高く、指紋がハジキ、散乱することで指紋不可視性が悪化する結果となった。比較例１−１０はフッ素含有紫外線硬化型樹脂でなく、シリコーン系紫外線硬化型の樹脂を含む低屈折率層を用いたことから、オレイン酸接触角が高く、指紋がハジキ、散乱することで指紋不可視性が悪化する結果となった。比較例１−１１はフッ素含有紫外線硬化型樹脂でなく、フッ素を含有し紫外線硬化しない樹脂を含む低屈折率層を用いたことから、耐擦傷性が弱い結果となった。
【符号の説明】
【００８２】
１  透明基材フィルム
２  ハードコート層
３  高屈折率層
４  指紋なじみ低屈折率層
１０，１０Ａ  反射防止フィルム
【図１】
2019168633.tif 000012