(57)【要約】      （修正有）【課題】平版印刷版としたときに小点耐刷性に優れる平版印刷版原版、平版印刷版の製造方法、印刷方法、および、アルミニウム支持体の製造方法を提供する。【解決手段】アルミニウム支持体と、アルミニウム支持体上に配置された画像記録層と、を有する平版印刷版原版であって、非接触三次元粗さ計を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、中心線からの深さが０．７０μｍ以上である凹部の密度が３０００個／ｍｍ２以上であり、原子間力顕微鏡を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の２５μｍ×２５μｍの範囲を５１２×５１２点測定して得られる３次元データから近似三点法により求められる実面積Ｓｘと、幾何学的測定面積Ｓ０とから算出される表面積比ΔＳが３５％以上である、平版印刷版原版。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウム支持体と、前記アルミニウム支持体上に配置された画像記録層と、を有する平版印刷版原版であって、
前記アルミニウム支持体が、アルミニウム板と、前記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを含み、
前記画像記録層が、前記アルミニウム支持体の前記陽極酸化皮膜側に配置され、
非接触三次元粗さ計を用いて、前記アルミニウム支持体の前記画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、中心線からの深さが０．７０μｍ以上である凹部の密度が３０００個／ｍｍ２以上であり、
原子間力顕微鏡を用いて、前記アルミニウム支持体の前記画像記録層側の表面の２５μｍ×２５μｍの範囲を５１２×５１２点測定して得られる３次元データから近似三点法により求められる実面積Ｓｘと、幾何学的測定面積Ｓ０とから、下記式（１）により算出される表面積比ΔＳが３５％以上である、平版印刷版原版。
ΔＳ＝（Ｓｘ−Ｓ０）／Ｓ０×１００（％）  ・・・（１）
【請求項２】
前記アルミニウム支持体の前記画像記録層側の表面が、平均開口径が０．０１〜０．５μｍの凹部を有する、請求項１に記載の平版印刷版原版。
【請求項３】
前記アルミニウム支持体の前記画像記録層側の表面の、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度Ｌ＊の値が６８〜９０である、請求項１または２に記載の平版印刷版原版。
【請求項４】
前記陽極酸化皮膜が、前記アルミニウム板とは反対側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、
前記マイクロポアの前記陽極酸化皮膜表面における平均径が１０〜１５０ｎｍである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
【請求項５】
前記マイクロポアの前記陽極酸化皮膜表面における平均径が１０〜１００ｎｍである、請求項４に記載の平版印刷版原版。
【請求項６】
前記マイクロポアが、前記陽極酸化皮膜表面から深さ１０〜１０００ｎｍの位置までのびる大径孔部と、前記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ２０〜２０００ｎｍの位置までのびる小径孔部とから構成され、
前記大径孔部の前記陽極酸化皮膜表面における平均径が１５〜６０ｎｍであり、
前記小径孔部の前記連通位置における平均径が１３ｎｍ以下である、請求項５に記載の平版印刷版原版。
【請求項７】
前記アルミニウム支持体と、前記画像記録層との間に、更に下塗り層を有し、
前記下塗り層が、ポリビニルホスホン酸を含有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
【請求項８】
前記アルミニウム支持体と、前記画像記録層との間に、更に下塗り層を有し、
前記下塗り層が、ベタイン構造を含む化合物を含有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、
画像様露光された前記平版印刷版原版の未露光部を除去する除去工程と、を含む、平版印刷版の製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、
印刷インキおよび湿し水の少なくとも一方を供給して、印刷機上で画像様露光された前記平版印刷版原版の未露光部を除去し、印刷を行う印刷工程と、を含む、印刷方法。
【請求項１１】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の平版印刷版原版に用いるアルミニウム支持体の製造方法であって、
アルミニウム板に対して、硫酸濃度が０．１〜２．０ｇ／Ｌとなる塩酸処理液中で交流電解を施し、粗面化されたアルミニウム板を作製する塩酸電解処理工程を有する、アルミニウム支持体の製造方法。
【請求項１２】
前記塩酸電解処理工程の後に、
粗面化されたアルミニウム板に対して、陽極酸化処理を施し、前記アルミニウム板上にアルミニウムの陽極酸化皮膜を形成する陽極酸化処理工程と、
陽極酸化皮膜が形成されたアルミニウム板に対して、エッチング処理を施し、前記陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させるポアワイド処理工程と、
をこの順で有する、請求項１１に記載のアルミニウム支持体の製造方法。
【請求項１３】
前記陽極酸化処理工程が、リン酸を用いて陽極酸化処理を施す工程である、請求項１２に記載のアルミニウム支持体の製造方法。
【請求項１４】
アルミニウム支持体と、前記アルミニウム支持体上に配置された画像記録層と、を有する平版印刷版原版であって、
前記アルミニウム支持体が、アルミニウム板と、前記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを含み、
前記画像記録層が、前記アルミニウム支持体の前記陽極酸化皮膜側に配置され、
非接触三次元粗さ計を用いて、前記アルミニウム支持体の前記画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、中心線からの深さが０．７０μｍ以上である凹部の密度が３０００個／ｍｍ２以上である平版印刷版原版。
【請求項１５】
前記アルミニウム支持体の前記画像記録層側の表面の、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度Ｌ＊の値が６８〜９０である、請求項１４に記載の平版印刷版原版。
【請求項１６】
前記陽極酸化皮膜が、前記アルミニウム板とは反対側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、
前記マイクロポアの前記陽極酸化皮膜表面における平均径が１０〜１５０ｎｍである、請求項１４または請求項１５に記載の平版印刷版原版。
【請求項１７】
前記マイクロポアが、前記陽極酸化皮膜表面から深さ１０〜１０００ｎｍの位置までのびる大径孔部と、前記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ２０〜２０００ｎｍの位置までのびる小径孔部とから構成され、
前記大径孔部の前記陽極酸化皮膜表面における平均径が１５〜６０ｎｍであり、
前記小径孔部の前記連通位置における平均径が１３ｎｍ以下である、請求項１４〜１６のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
【請求項１８】
前記アルミニウム支持体の前記画像記録層側の表面の、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度Ｌ＊の値が７５〜９０である、請求項１４〜１７のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
【請求項１９】
前記画像記録層が微粒子形状の高分子化合物を含有し、前記微粒子形状の高分子化合物がスチレンおよびアクリロニトリルを含む共重合体を含む、請求項１４〜１８のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
【請求項２０】
前記画像記録層がボレート化合物を含む、請求項１４〜１９のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
【請求項２１】
前記画像記録層が酸発色剤を含む、請求項１４〜２０のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平版印刷版原版、平版印刷版の製造方法、印刷方法、および、アルミニウム支持体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
平版印刷版に用いられるアルミニウム支持体は、平版印刷版としたときの耐汚れ性および耐刷性を向上させる観点から、アルミニウム板の表面を砂目立て（粗面化処理）して、凹凸を付与することが知られている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、「三次元非接触表面粗さ計を用いて、表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、中心線からの高さが０．７０μｍ以上であり等価円直径が２０μｍ以上である凸部が５．０個以下であり、三次元非接触表面粗さ計を用いて、表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、中心線からの深さが０．５０μｍ以上であり等価円直径が２．０μｍ以上である凹部が８００個以上である、平版印刷版用支持体。」が記載されており（［請求項１］）、この平版印刷版用支持体上に画像記録層を設けた平版印刷版原版が記載されている（［請求項３］）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−２６２５３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者らは、特許文献１に記載された平版印刷版原版について検討したところ、印刷時に、網点面積率が３％の網点部（以下、「小点」という。）に欠けや細り等が発生し、小点耐刷性が劣る問題があることを明らかとした。
ここで、網点面積率とは、単位面積あたりの網点の占めている割合を表し、白地の場合が０％、ベタ（黒地）の場合が１００％である。
【０００６】
そこで、本発明は、平版印刷版としたときに小点耐刷性に優れる平版印刷版原版、平版印刷版の製造方法、印刷方法、および、アルミニウム支持体の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、アルミニウム支持体と、アルミニウム支持体上に配置された画像記録層と、を有する平版印刷版原版において、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面が、所定の深さの凹部を所定の密度で有することにより、平版印刷版としたときに小点耐刷性に優れることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。
【０００８】
［１］  アルミニウム支持体と、アルミニウム支持体上に配置された画像記録層と、を有する平版印刷版原版であって、
アルミニウム支持体が、アルミニウム板と、アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを含み、
画像記録層が、アルミニウム支持体の陽極酸化皮膜側に配置され、
非接触三次元粗さ計を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、中心線からの深さが０．７０μｍ以上である凹部の密度が３０００個／ｍｍ２以上であり、
原子間力顕微鏡を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の２５μｍ×２５μｍの範囲を５１２×５１２点測定して得られる３次元データから近似三点法により求められる実面積Ｓｘと、幾何学的測定面積Ｓ０とから、下記式（１）により算出される表面積比ΔＳが３５％以上である、平版印刷版原版。
ΔＳ＝（Ｓｘ−Ｓ０）／Ｓ０×１００（％）  ・・・（１）
【０００９】
［２］  アルミニウム支持体の画像記録層側の表面が、平均開口径が０．０１〜０．５μｍの凹部を有する、［１］に記載の平版印刷版原版。
［３］  アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度Ｌ＊の値が６８〜９０である、［１］または［２］に記載の平版印刷版原版。
［４］  陽極酸化皮膜が、アルミニウム板とは反対側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、
マイクロポアの陽極酸化皮膜表面における平均径が１０〜１５０ｎｍである、［１］〜［３］のいずれかに記載の平版印刷版原版。
［５］  マイクロポアの陽極酸化皮膜表面における平均径が１０〜１００ｎｍである、［４］に記載の平版印刷版原版。
［６］  マイクロポアが、陽極酸化皮膜表面から深さ１０〜１０００ｎｍの位置までのびる大径孔部と、大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ２０〜２０００ｎｍの位置までのびる小径孔部とから構成され、
大径孔部の陽極酸化皮膜表面における平均径が１５〜６０ｎｍであり、
小径孔部の連通位置における平均径が１３ｎｍ以下である、［５］に記載の平版印刷版原版。
［７］  アルミニウム支持体と、画像記録層との間に、更に下塗り層を有し、
下塗り層が、ポリビニルホスホン酸を含有する、［１］〜［６］のいずれかに記載の平版印刷版原版。
［８］  アルミニウム支持体と、画像記録層との間に、更に下塗り層を有し、
下塗り層が、ベタイン構造を含む化合物を含有する、［１］〜［６］のいずれかに記載の平版印刷版原版。
【００１０】
［９］  ［１］〜［８］のいずれかに記載の平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、
画像様露光された平版印刷版原版の未露光部を除去する除去工程と、を含む、平版印刷版の製造方法。
［１０］  ［１］〜［８］のいずれかに記載の平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、
印刷インキおよび湿し水の少なくとも一方を供給して、印刷機上で画像様露光された平版印刷版原版の未露光部を除去し、印刷を行う印刷工程と、を含む、印刷方法。
【００１１】
［１１］  ［１］〜［８］のいずれかに記載の平版印刷版原版に用いるアルミニウム支持体の製造方法であって、
アルミニウム板に対して、硫酸濃度が０．１〜２．０ｇ／Ｌとなる塩酸処理液中で交流電解を施し、粗面化されたアルミニウム板を作製する塩酸電解処理工程を有する、アルミニウム支持体の製造方法。
［１２］  塩酸電解処理工程の後に、
粗面化されたアルミニウム板に対して、陽極酸化処理を施し、アルミニウム板上にアルミニウムの陽極酸化皮膜を形成する陽極酸化処理工程と、
陽極酸化皮膜が形成されたアルミニウム板に対して、エッチング処理を施し、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させるポアワイド処理工程と、
をこの順で有する、［１１］に記載のアルミニウム支持体の製造方法。
［１３］  陽極酸化処理工程が、リン酸を用いて陽極酸化処理を施す工程である、［１２］に記載のアルミニウム支持体の製造方法。
【００１２】
［１４］  アルミニウム支持体と、アルミニウム支持体上に配置された画像記録層と、を有する平版印刷版原版であって、
アルミニウム支持体が、アルミニウム板と、アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを含み、
画像記録層が、アルミニウム支持体の陽極酸化皮膜側に配置され、
非接触三次元粗さ計を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、中心線からの深さが０．７０μｍ以上である凹部の密度が３０００個／ｍｍ２以上である平版印刷版原版。
［１５］  アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度Ｌ＊の値が６８〜９０である、［１４］に記載の平版印刷版原版。
［１６］  陽極酸化皮膜が、アルミニウム板とは反対側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、
マイクロポアの陽極酸化皮膜表面における平均径が１０〜１５０ｎｍである、［１４］または［１５］に記載の平版印刷版原版。
［１７］  マイクロポアが、陽極酸化皮膜表面から深さ１０〜１０００ｎｍの位置までのびる大径孔部と、大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ２０〜２０００ｎｍの位置までのびる小径孔部とから構成され、
大径孔部の陽極酸化皮膜表面における平均径が１５〜６０ｎｍであり、
小径孔部の連通位置における平均径が１３ｎｍ以下である、［１４］〜［１６］のいずれかに記載の平版印刷版原版。
［１８］  アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度Ｌ＊の値が７５〜９０である、［１４］〜［１７］のいずれかに記載の平版印刷版原版。
［１９］  画像記録層が微粒子形状の高分子化合物を含有し、微粒子形状の高分子化合物がスチレンおよびアクリロニトリルを含む共重合体を含む、［１４］〜［１８］のいずれかに記載の平版印刷版原版。
［２０］  画像記録層がボレート化合物を含む、［１４］〜［１９］のいずれかに記載の平版印刷版原版。
［２１］  画像記録層が酸発色剤を含む、［１４］〜［２０］のいずれかに記載の平版印刷版原版。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、平版印刷版としたときに小点耐刷性に優れる平版印刷版原版、平版印刷版の製造方法、印刷方法、および、アルミニウム支持体の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の平版印刷版原版の一実施形態の模式的断面図である。
【図２】アルミニウム支持体の一実施形態の模式的断面図である。
【図３】アルミニウム支持体の製造方法における電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。
【図４】アルミニウム支持体の製造方法における交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。
【図５】アルミニウム支持体の他の実施形態の模式的断面図である。
【図６】アルミニウム支持体の作製における陽極酸化処理に用いられる陽極酸化処理装置の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、式で表される化合物における基の表記に関して、置換または無置換を記していない場合、その基がさらに置換基を有することが可能な場合には、他に特に規定がない限り、その基は、無置換の基のみならず、置換基を有する基も包含する。例えば、式において、「Ｒはアルキル基、アリール基または複素環基を表す」との記載があれば、「Ｒは無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換アリール基、置換アリール基、無置換複素環基または置換複素環基を表す」ことを意味する。
【００１６】
［平版印刷版原版］
本発明の平版印刷版原版は、アルミニウム支持体と、アルミニウム支持体上に配置された画像記録層と、を有する平版印刷版原版である。
また、本発明の平版印刷版原版が有するアルミニウム支持体は、アルミニウム板と、アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを含む。
また、本発明の平版印刷版原版が有する画像記録層は、アルミニウム支持体の陽極酸化皮膜側に配置されている。
更に、本発明の平版印刷版原版は、非接触三次元粗さ計を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、中心線からの深さが０．７０μｍ以上である凹部（以下、「特定凹部」とも略す。）の密度が３０００個／ｍｍ２以上である。
更に、本発明の平版印刷版原版は、原子間力顕微鏡を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の２５μｍ×２５μｍの範囲を５１２×５１２点測定して得られる３次元データから近似三点法により求められる実面積Ｓｘと、幾何学的測定面積Ｓ０とから、下記式（１）により算出される表面積比ΔＳが３５％以上であることが好ましい。
ΔＳ＝（Ｓｘ−Ｓ０）／Ｓ０×１００（％）  ・・・（１）
【００１７】
＜特定凹部の密度＞
本発明において、中心線からの深さが０．７０μｍ以上である凹部の密度は、以下のようにして測定した値をいう。
まず、非接触三次元粗さ計（例えば、ＶｅｒｔＳｃａｎ、（株）菱化システム製）を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を、非接触で、分解能０．０１μｍで走査して３次元データを求める。
次いで、得られた３次元データをソフトウェア（例えば、ＳＸビュア、（株）菱化システム製）を用いて画像解析し、得られる中心線からの深さが０．７０μｍ以上である凹部の個数を求める。
測定は１サンプルにつき、５箇所測定し、その平均値を求め、単位面積（μｍ２）当たりの個数に換算し、凹部の密度とする。
【００１８】
＜表面積比ΔＳ＞
本発明において、表面積比ΔＳは、原子間力顕微鏡（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ：ＡＦＭ）を用いて、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面の２５μｍ×２５μｍの範囲を５１２×５１２点測定して得られる３次元データから近似三点法により求められる実面積Ｓｘと、幾何学的測定面積Ｓ０とから、下記式（１）により算出される値である。
ΔＳ＝（Ｓｘ−Ｓ０）／Ｓ０×１００（％）  ・・・（１）
具体的には、アルミニウム支持体を１ｃｍ角の大きさに切り取って、ピエゾスキャナー上の水平な試料台にセットし、カンチレバーを試料表面にアプローチし、原子間力が働く領域に達したところで、ＸＹ方向にスキャンし、その際、試料の凹凸をＺ方向のピエゾの変位でとらえる。ピエゾスキャナーは、ＸＹ方向について１５０μｍ、Ｚ方向について１０μｍ、走査可能なものを使用する。カンチレバーは共振周波数１３０〜２００ｋＨｚ、バネ定数７〜２０Ｎ／ｍのもの（ＯＭＣＬ−ＡＣ２００−ＴＳ、オリンパス社製）を用い、ＤＦＭモード（Ｄｙｎａｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｏｄｅ）で測定する。また、求めた３次元データを最小二乗近似することにより試料のわずかな傾きを補正し基準面を求める。
また、計測は、表面の２５×２５μｍを５１２×５１２点測定する。Ｘ方向の分解能は０．０５μｍ、Ｙ方向の分解能は、Ｙ方向は１．９μ、Ｚ方向の分解能は１ｎｍ、スキャン速度は１８μｍ／ｓｅｃとする。
【００１９】
本発明の平版印刷版原版は、上述した通り、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面が、特定凹部を３０００個／ｍｍ２以上有し、平版印刷版としたときに小点耐刷性が良好となる。なかでも、表面積比ΔＳが３５％以上であることが好ましい。
このように小点耐刷性が良好となる理由は、詳細には明らかではないが、およそ以下のとおりと推測される。
すなわち、特定凹部を３０００個／ｍｍ２以上有することにより、凹部に入り込んだ画像記録層が摩耗し難くなり、また、凹部が多く、アンカー効果によって密着性も向上するため、小点画像部の細りが起こり難くなったと考えられる。これは、実施例１と比較例１および２との対比から推察することができる。
また、表面積比ΔＳが３５％以上であることにより、アルミニウム支持体と画像記録層との接触面積が増加し、界面密着力が向上するため、小点画像部の細りがより起こり難くなったと考えられる。
【００２０】
本発明においては、特定凹部の密度が、３０００〜６０００個／ｍｍ２であることが好ましく、３５００〜６０００個／ｍｍ２であることがより好ましく、４０００〜６０００個／ｍｍ２であることが更に好ましい。
【００２１】
また、本発明においては、表面積比ΔＳが、３５〜７０％であることが好ましく、３５〜６０％であることがより好ましく、４０〜５５％であることが更に好ましい。
【００２２】
また、本発明においては、界面の密着力を向上させる観点から、アルミニウム板および陽極酸化皮膜を有するアルミニウム支持体は、画像記録層側の表面、すなわち、陽極酸化皮膜の表面が、平均開口径が０．０１〜０．５μｍの凹部（以下、「小波凹部」とも略す。）を有していることが好ましい。
ここで、小波凹部の平均開口径は、陽極酸化皮膜の表面を倍率５万倍の電界放出型走査電子顕微鏡（Field Emission Scanning Electron Microscope：ＦＥ−ＳＥＭ）でＮ＝３枚観察し、得られた３枚の各画像において、４μｍ２の範囲に存在する、０．０１μｍ以上０．５μｍ以下の凹部（ピット）の直径をＮ＝３０個測定し、トータルで９０個の凹部の直径を平均した値である。
なお、小波凹部の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの当該円の直径である。
【００２３】
また、本発明においては、視認性を向上させる観点から、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面、すなわち、陽極酸化皮膜の表面の、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度Ｌ＊の値が６８〜９０であることが好ましく、７５〜９０がより好ましい。
また、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるａ＊の値は、−４〜４であることが好ましく、ｂ＊の値は、−４〜４であることが好ましい。
ここで、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊、ａ＊およびｂ＊は、色彩色差計（例えば、ＣＲ−２２１、コニカミノルタ（株）製）を用いて、５回測定した際の平均値を採用する。
【００２４】
図１は、本発明の平版印刷版原版の一実施形態の模式的断面図である。
図１に示す平版印刷版原版１０は、アルミニウム支持体１２ａと、アルミニウム支持体１２ａ上に配置された画像記録層１６とを有しており、図１に示す通り、アルミニウム支持体１２ａと画像記録層１６との間に、更に下塗り層１４を有していることが好ましい。
図２は、アルミニウム支持体１２ａの一実施形態の模式的断面図である。アルミニウム支持体１２ａは、アルミニウム板１８とアルミニウムの陽極酸化皮膜２０ａ（以下、単に「陽極酸化皮膜２０ａ」とも略す。）とをこの順で積層した積層構造を有する。なお、アルミニウム支持体１２ａ中の陽極酸化皮膜２０ａは、画像記録層１６側に位置する。つまり、平版印刷版原版１０は、アルミニウム板１８、陽極酸化皮膜２０ａ、下塗り層１４、および、画像記録層１６をこの順で有する。
また、陽極酸化皮膜２０ａは、図２に示す通り、その表面からアルミニウム板１８側に向かってのびるマイクロポア２２ａを有していることが好ましい。なお、ここではマイクロポアという用語は、陽極酸化皮膜中のポアを表す一般的に使われる用語であり、ポアのサイズを規定するものではない。
なお、後段で詳述するように、下塗り層１４は必須の構成ではなく、必要に応じて配置される層である。
以下、平版印刷版原版１０の各構成について詳述する。
【００２５】
〔アルミニウム板〕
アルミニウム板１８（アルミニウム支持体）は、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とする金属であり、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる。アルミニウム板１８としては、純アルミニウム板、アルミニウムを主成分とし微量の異元素を含む合金板、または、アルミニウム（合金）がラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムもしくは紙が挙げられる。
【００２６】
アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素元素、鉄元素、マンガン元素、銅元素、マグネシウム元素、クロム元素、亜鉛元素、ビスマス元素、ニッケル元素、および、チタン元素等があり、合金中の異元素の含有量は１０質量％以下である。アルミニウム板１８としては、純アルミニウム板が好適であるが、完全に純粋なアルミニウムは製錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含むものでもよい。
アルミニウム板１８としては、その組成が制限されるものではなく、公知公用の素材のもの（例えば、ＪＩＳ Ａ １０５０、ＪＩＳ Ａ １１００、ＪＩＳ Ａ ３１０３、および、ＪＩＳ Ａ ３００５）を適宜利用できる。
【００２７】
また、アルミニウム板１８の幅は４００〜２０００ｍｍ程度が好ましく、厚みはおよそ０．１〜０．６ｍｍ程度が好ましい。この幅または厚みは、印刷機の大きさ、印刷版の大きさ、および、ユーザーの希望により適宜変更できる。
【００２８】
〔陽極酸化皮膜〕
陽極酸化皮膜２０ａは、陽極酸化処理によってアルミニウム板１８の表面に一般的に作製される皮膜であって、この皮膜は、皮膜表面に略垂直であり、かつ、個々が均一に分布した極微細なマイクロポア２２ａを有していることが好ましい。マイクロポア２２ａは、画像記録層１６側の陽極酸化皮膜２０ａ表面（アルミニウム板１８側とは反対側の陽極酸化皮膜２０ａ表面）から厚み方向（アルミニウム板１８側）に沿ってのびる。
【００２９】
陽極酸化皮膜２０ａ中のマイクロポア２２ａの陽極酸化皮膜表面における平均径（平均開口径）は、１０〜１５０ｎｍであることが好ましく、１０〜１００ｎｍであることがより好ましい。中でも、耐汚れ性、および、画像視認性のバランスの点から、１５〜６０ｎｍが更に好ましく、２０〜５０ｎｍが特に好ましく、２５〜４０ｎｍが最も好ましい。ポアの内部径は、表層よりも広がっても狭まっても同様の効果が得られる。
マイクロポア２２ａの平均径は、陽極酸化皮膜２０ａ表面を倍率１５万倍の電界放出型走査電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）でＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００×６００ｎｍ2の範囲に存在するマイクロポアの径（直径）を測定し、平均した値である。
なお、マイクロポア２２ａの形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
【００３０】
マイクロポア２２ａの深さは特に制限されないが、１０〜３０００ｎｍが好ましく、５０〜２０００ｎｍがより好ましく、３００〜１６００ｎｍがさらに好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜２０ａの断面の写真（１５万倍）をとり、２５個以上のマイクロポア２２ａの深さを測定し、平均した値である。
【００３１】
マイクロポア２２ａの形状は特に制限されず、図２では、略直管状（略円柱状）であるが、深さ方向（厚み方向）に向かって径が小さくなる円錐状であってもよい。また、マイクロポア２２ａの底部の形状は特に制限されず、曲面状（凸状）であっても、平面状であってもよい。
【００３２】
〔下塗り層〕
下塗り層１４は、アルミニウム支持体１２ａと画像記録層１６との間に配置される層であり、両者の密着性を向上させる。なお、上述したように、下塗り層１４は、必要に応じて設けられる層であり、平版印刷版原版に含まれていなくてもよい。
【００３３】
下塗り層の構成は特に制限されないが、耐刷性を維持しつつ、非画像部のインキ付着性を抑制する観点から、ポリビニルホスホン酸を含有することが好ましい。
ここで、ポリビニルホスホン酸としては、米国特許第３，２７６，８６８号明細書、同第４，１５３，４６１号明細書および同第４，６８９，２７２号明細書に開示されているものを用いることができる。
【００３４】
下塗り層の構成は特に制限されないが、耐汚れ性および放置払い性が良好となる理由から、ベタイン構造を含む化合物を含有することが好ましい。
ここで、ベタイン構造とは、少なくとも１つのカチオンと少なくとも１つのアニオンとを有する構造をいう。なお、通常、カチオンの数とアニオンの数とは等しく、全体として中性であるが、本発明では、カチオンの数とアニオンの数とが等しくない場合は、電荷を打ち消すために、必要な量のカウンターイオンを有することも、ベタイン構造とする。
ベタイン構造は、次に示す式（１）、式（２）、および、式（３）で表される構造のいずれかであることが好ましい。
【００３５】
【化１】
2019162854.tif 000002
【００３６】
式中、Ａ−はアニオンを有する構造を表し、Ｂ＋はカチオンを有する構造を表し、Ｌ０は連結基を表す。＊は、連結部位（連結位置）を表す。
Ａ−は、カルボキシラート、スルホナート、ホスホナート、および、ホスフィナート等のアニオンを有する構造を表すことが好ましく、Ｂ＋は、アンモニウム、ホスホニウム、ヨードニウム、および、スルホニウム等のカチオンを有する構造を表すことが好ましい。
【００３７】
Ｌ０は、連結基を表す。式（１）および式（３）においては、Ｌ０としては二価の連結基が挙げられ、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、二価の脂肪族基、二価の芳香族基、または、それらの組み合わせが好ましい。式（２）においては、Ｌ０としては三価の連結基が挙げられる。
上記連結基は、後述の有してもよい置換基の炭素数を含めて、炭素数３０以下の連結基であることが好ましい。
上記連結基の具体例としては、アルキレン基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０）、並びに、フェニレン基およびキシリレン基等のアリーレン基（好ましくは炭素数５〜１５、より好ましくは炭素数６〜１０）が挙げられる。
【００３８】
なお、これらの連結基は、置換基をさらに有していてもよい。
置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アミノ基、シアノ基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアリールアミノ基、および、ジアリールアミノ基が挙げられる。
【００３９】
ベタイン構造としては、耐刷性、耐汚れ性、放置払い性、および、画像視認性の少なくとも１つがより優れる点（以後、単に「本発明の効果がより優れる点」とも称する）で、式（ｉ）、式（ｉｉ）、または、式（ｉｉｉ）で表される構造が好ましく、式（ｉ）で表される構造がより好ましい。＊は、連結部位を表す。
【００４０】
【化２】
2019162854.tif 000003
【００４１】
式（ｉ）において、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または、ヘテロ環基を表し、Ｒ１とＲ２とは互いに連結し、環構造を形成してもよい。
環構造は、酸素原子等のヘテロ原子を有していてもよい。環構造としては、５〜１０員環が好ましく、５または６員環がより好ましい。
Ｒ１およびＲ２中の炭素数は、１〜３０が好ましく、１〜２０がより好ましい。
Ｒ１およびＲ２として、本発明の効果がより優れる点で、水素原子、メチル基、または、エチル基が好ましい。
【００４２】
Ｌ１は、二価の連結基を表し、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、二価の脂肪族基（例えば、アルキレン基）、二価の芳香族基（例えば、フェニレン基）、または、それらの組み合わせが好ましい。
Ｌ１としては、炭素数３〜５の直鎖アルキレン基が好ましい。
【００４３】
式（ｉ）において、Ａ−は、アニオンを有する構造を表し、カルボキシラート、スルホナート、ホスホナート、または、ホスフィナートが好ましい。
具体的には、以下の構造が挙げられる。
【００４４】
【化３】
2019162854.tif 000004
【００４５】
式（ｉ）において、Ｌ１が炭素数４または５の直鎖アルキレン基であり、かつ、Ａ−がスルホナートである組み合わせが好ましく、Ｌ１が炭素数４の直鎖アルキレン基であり、かつ、Ａ−がスルホナートである組み合わせがより好ましい。
【００４６】
式（ｉｉ）において、Ｌ２は、二価の連結基を表し、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、二価の脂肪族基（例えば、アルキレン基）、二価の芳香族基（例えば、フェニレン基）、または、それらの組み合わせが好ましい。
Ｂ＋は、カチオンを有する構造を表し、アンモニウム、ホスホニウム、ヨードニウム、または、スルホニウムを有する構造が好ましい。中でも、アンモニウムまたはホスホニウムを有する構造が好ましく、アンモニウムを有する構造がより好ましい。
カチオンを有する構造としては、例えば、トリメチルアンモニオ基、トリエチルアンモニオ基、トリブチルアンモニオ基、ベンジルジメチルアンモニオ基、ジエチルヘキシルアンモニオ基、（２−ヒドロキシエチル）ジメチルアンモニオ基、ピリジニオ基、Ｎ−メチルイミダゾリオ基、Ｎ−アクリジニオ基、トリメチルホスホニオ基、トリエチルホスホニオ基、および、トリフェニルホスホニオ基が挙げられる。
【００４７】
式（ｉｉｉ）において、Ｌ３は二価の連結基を表し、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、二価の脂肪族基（例えば、アルキレン基）、二価の芳香族基（例えば、フェニレン基）、または、それらの組み合わせが好ましい。
Ａ−は、アニオンを有する構造を表し、カルボキシラート、スルホナート、ホスホナート、または、ホスフィナートが好ましく、その詳細および好ましい例は、式（ｉ）におけるＡ−と同様である。
Ｒ３〜Ｒ７は、それぞれ独立に、水素原子または置換基（好ましくは炭素数１〜３０）を表し、Ｒ３〜Ｒ７の少なくとも１つは、連結部位を表す。
連結部位であるＲ３〜Ｒ７の少なくとも１つは、Ｒ３〜Ｒ７の少なくとも１つとしての置換基を介して化合物中の他の部位へ連結してもよいし、単結合により化合物中の他の部位へ直結してもよい。
【００４８】
Ｒ３〜Ｒ７で表される置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基、アルキルおよびアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールおよびヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、並びに、シリル基が挙げられる。
【００４９】
上記化合物は、本発明の効果がより優れる点で、ベタイン構造を有する繰り返し単位を含む高分子（以後、単に「特定高分子」とも称する）であることが好ましい。ベタイン構造を有する繰り返し単位としては、式（Ａ１）で表される繰り返し単位が好ましい。
【００５０】
【化４】
2019162854.tif 000005
【００５１】
式中、Ｒ１０１〜Ｒ１０３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、またはハロゲン原子を表す。Ｌは、単結合、または、二価の連結基を表す。
二価の連結基としては、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、二価の脂肪族基、二価の芳香族基、または、それらの組み合わせが挙げられる。
【００５２】
上記組み合わせからなるＬの具体例を、以下に挙げる。なお、下記例において左側が主鎖に結合し、右側がＸに結合する。
Ｌ１：−ＣＯ−Ｏ−二価の脂肪族基−
Ｌ２：−ＣＯ−Ｏ−二価の芳香族基−
Ｌ３：−ＣＯ−ＮＨ−二価の脂肪族基−
Ｌ４：−ＣＯ−ＮＨ−二価の芳香族基−
Ｌ５：−ＣＯ−二価の脂肪族基−
Ｌ６：−ＣＯ−二価の芳香族基−
Ｌ７：−ＣＯ−二価の脂肪族基−ＣＯ−Ｏ−二価の脂肪族基−
Ｌ８：−ＣＯ−二価の脂肪族基−Ｏ−ＣＯ−二価の脂肪族基−
Ｌ９：−ＣＯ−二価の芳香族基−ＣＯ−Ｏ−二価の脂肪族基−
Ｌ１０：−ＣＯ−二価の芳香族基−Ｏ−ＣＯ−二価の脂肪族基−
Ｌ１１：−ＣＯ−二価の脂肪族基−ＣＯ−Ｏ−二価の芳香族基−
Ｌ１２：−ＣＯ−二価の脂肪族基−Ｏ−ＣＯ−二価の芳香族基−
Ｌ１３：−ＣＯ−二価の芳香族基−ＣＯ−Ｏ−二価の芳香族基−
Ｌ１４：−ＣＯ−二価の芳香族基−Ｏ−ＣＯ−二価の芳香族基−
Ｌ１５：−ＣＯ−Ｏ−二価の芳香族基−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−二価の脂肪族基−
Ｌ１６：−ＣＯ−Ｏ−二価の脂肪族基−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−二価の脂肪族基−
【００５３】
二価の脂肪族基としては、アルキレン基、アルケニレン基、および、アルキニレン基が挙げられる。
二価の芳香族基としては、アリール基が挙げられ、フェニレン基またはナフチレン基が好ましい。
【００５４】
Ｘは、ベタイン構造を表す。Ｘは、上述した式（ｉ）、式（ｉｉ）、または、式（ｉｉｉ）で表される構造が好ましい。
特に、式（Ａ１）においては、ＬはＬ１またはＬ３であり、Ｘは式（ｉ）で表される構造であり、式（ｉ）中のＡ−がスルホナート基である組み合わせが好ましい。
【００５５】
特定高分子中におけるベタイン構造を有する繰り返し単位の含有量は特に制限されず、２０〜９５質量％の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、特定高分子を構成する全繰り返し単位に対して、５０〜９５質量％が好ましく、６０〜９０質量％がより好ましい。
【００５６】
特定高分子は、上記ベタイン構造を有する繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を含んでいてもよい。
特定高分子は、アルミニウム支持体１２ａの表面と相互作用する構造（以後、単に「相互作用構造」とも称する）を有する繰り返し単位を含んでいてもよい。
相互作用構造としては、例えば、カルボン酸構造、カルボン酸塩構造、スルホン酸構造、スルホン酸塩構造、ホスホン酸構造、ホスホン酸塩構造、リン酸エステル構造、リン酸エステル塩構造、β−ジケトン構造、および、フェノール性水酸基が挙げられ、例えば、下記に示す式で表される構造が挙げられる。中でも、カルボン酸構造、カルボン酸塩構造、スルホン酸構造、スルホン酸塩構造、ホスホン酸構造、ホスホン酸塩構造、リン酸エステル構造、または、リン酸エステル塩構造が好ましい。
【００５７】
【化５】
2019162854.tif 000006
【００５８】
上記式中、Ｒ１１〜Ｒ１３はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルキニル基、または、アルケニル基を表し、Ｍ、Ｍ１およびＭ２は、それぞれ独立に、水素原子、金属原子（例えば、Ｎａ，Ｌｉ等のアルカリ金属原子）、または、アンモニウム基を表す。Ｂは、ホウ素原子を表す。
【００５９】
相互作用構造を有する繰り返し単位は、式（Ａ２）で表される繰り返し単位が好ましい。
【００６０】
【化６】
2019162854.tif 000007
【００６１】
式中、Ｒ２０１〜Ｒ２０３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜６）、または、ハロゲン原子を表す。
Ｌは、単結合、または、二価の連結基を表す。二価の連結基としては、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、二価の脂肪族基、二価の芳香族基、または、それらの組み合わせが挙げられる。
組み合わせからなるＬの具体例としては、上記式（Ａ１）と同じもの、および、下記Ｌ１７およびＬ１８が挙げられる。
Ｌ１７：−ＣＯ−ＮＨ−
Ｌ１８：−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ１〜Ｌ１８の中では、Ｌ１〜Ｌ４、Ｌ１７、または、Ｌ１８が好ましい。
Ｑは相互作用構造を表し、好ましい態様は上述したものと同じである。
【００６２】
特定高分子中における相互作用構造を有する繰り返し単位の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、特定高分子を構成する全繰り返し単位に対して、１〜４０質量％が好ましく、３〜３０質量％がより好ましい。
【００６３】
特定高分子は、ラジカル重合性反応性基を有する繰り返し単位を含んでいてもよい。
ラジカル重合性反応性基としては、付加重合可能な不飽和結合基（例えば、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリルアミド基、（メタ）アクリロニトリル基、アリル基、ビニル基、ビニルオキシ基、および、アルキニル基）、および、連鎖移動が可能な官能基（メルカプト基等）が挙げられる。
ラジカル重合性反応性基を有する繰り返し単位を含む特定高分子は、特開２００１−３１２０６８号公報に記載の方法でラジカル重合性反応性基を導入することで得ることができる。ラジカル重合性反応性基を有する繰り返し単位を含む特定高分子を用いることにより、未露光部では優れた現像性を発現し、露光部では重合によって現像液の浸透性が抑制され、アルミニウム支持体１２ａと画像記録層１６との間の接着性および密着性がさらに向上する。
【００６４】
特定高分子中におけるラジカル重合性反応性基を有する繰り返し単位の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、特定高分子を構成する全繰り返し単位に対して、１〜３０質量％が好ましく、３〜２０質量％がより好ましい。
【００６５】
下塗り層１４中における上記ベタイン構造を有する化合物の含有量は特に制限されないが、下塗り層全質量に対して、８０質量％以上が好ましく、９０質量％以上がより好ましい。上限としては、１００質量％が挙げられる。
【００６６】
なお、上記では、ベタイン構造を有する化合物を含む下塗り層１４について述べたが、下塗り層は他の化合物を含む形態であってもよい。
例えば、下塗り層は、親水性基を有する化合物を含む形態であってもよい。親水性基としては、カルボン酸基、スルホン酸基等が挙げられる。
親水性基を有する化合物は、さらに、ラジカル重合性反応性基を有していてもよい。
【００６７】
〔画像記録層〕
画像記録層１６としては、印刷インキおよび／または湿し水により除去可能な画像記録層であることが好ましい。
以下、画像記録層１６の各構成成分について説明する。
【００６８】
＜赤外線吸収剤＞
画像記録層１６は、赤外線吸収剤を含むことが好ましい。
赤外線吸収剤は、７５０〜１４００ｎｍの波長域に極大吸収を有することが好ましい。特に、機上現像型の平版印刷版原版では、白灯下の印刷機で機上現像される場合があるため、白灯の影響の受けにくい７５０〜１４００ｎｍの波長域に極大吸収を有する赤外線吸収剤を用いることにより、現像性に優れた平版印刷版原版を得ることができる。
赤外線吸収剤としては、染料または顔料が好ましい。
【００６９】
染料としては、市販の染料、および、「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知の染料が挙げられる。
染料としては、具体的には、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、および、インドレニンシアニン色素が挙げられる。中でも、シアニン色素またはインドレニンシアニン色素が好ましく、シアニン色素がより好ましく、下記式（ａ）で表されるシアニン色素がさらに好ましい。
【００７０】
式（ａ）
【化７】
2019162854.tif 000008
【００７１】
式（ａ）中、Ｘ１は、水素原子、ハロゲン原子、−Ｎ（Ｒ９）（Ｒ１０）、−Ｘ２−Ｌ１、または、以下に示す基を表す。
【００７２】
【化８】
2019162854.tif 000009
【００７３】
Ｒ９およびＲ１０は、それぞれ独立に、芳香族炭化水素基、アルキル基、または、水素原子を表し、Ｒ９とＲ１０とが互いに結合して環を形成してもよい。中でも、フェニル基が好ましい。
Ｘ２は酸素原子または硫黄原子を表し、Ｌ１はヘテロ原子（Ｎ、Ｓ、Ｏ、ハロゲン原子、Ｓｅ）を含んでいてもよい炭素数１〜１２の炭化水素基を表す。
Ｘａ−は後述するＺａ−と同様に定義され、Ｒａは、水素原子、アルキル基、アリール基、アミノ基、また、ハロゲン原子を表す。
【００７４】
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の炭化水素基を表す。また、Ｒ１とＲ２とは互いに結合し環を形成してもよく、環を形成する際は５員環または６員環を形成していることが好ましい。
Ａｒ１およびＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基（例えば、アルキル基）を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環基またはナフタレン環基が好ましい。
Ｙ１およびＹ２は、それぞれ独立に、硫黄原子または炭素数１２個以下のジアルキルメチレン基を表す。
Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、置換基（例えば、アルコキシ基）を有していてもよい炭素数２０個以下の炭化水素基を表す。
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１２個以下の炭化水素基を表す。
また、Ｚａ−は、対アニオンを表す。ただし、式（ａ）で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはＺａ−は必要ない。Ｚａ−としては、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、および、スルホン酸イオンが挙げられ、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、または、アリールスルホン酸イオンが好ましい。
【００７５】
上記赤外線吸収染料は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよく、顔料等の赤外線吸収染料以外の赤外線吸収剤を併用してもよい。顔料としては、特開２００８−１９５０１８号公報の段落［００７２］〜［００７６］に記載の化合物が好ましい。
【００７６】
赤外線吸収剤の含有量は、画像記録層１６全質量に対して、０．０５〜３０質量％が好ましく、０．１〜２０質量％がより好ましい。
【００７７】
＜重合開始剤＞
画像記録層１６は、重合開始剤を含むことが好ましい。
重合開始剤としては、光、熱またはその両方のエネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を開始する化合物（いわゆる、ラジカル重合開始剤）が好ましい。重合開始剤としては、例えば、光重合開始剤、および、熱重合開始剤が挙げられる。
重合開始剤としては、具体的には、特開２００９−２５５４３４号公報の段落［０１１５］〜［０１４１］に記載される重合開始剤が使用できる。
なお、重合開始剤として、反応性および安定性の点から、オキシムエステル化合物、または、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、および、スルホニウム塩等のオニウム塩が好ましい。
【００７８】
重合開始剤の含有量は、画像記録層１６全質量に対して、０．１〜５０質量％が好ましく、０．５〜３０質量％がより好ましい。
【００７９】
＜重合性化合物＞
画像記録層１６は、重合性化合物を含むことが好ましい。
重合性化合物としては、少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する付加重合性化合物が好ましい。中でも、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも１個（好ましくは２個）以上有する化合物がより好ましい。いわゆる、ラジカル重合性化合物がより好ましい。
重合性化合物としては、例えば、特開２００９−２５５４３４号公報の段落［０１４２］〜［０１６３］に例示される重合性化合物が使用できる。
【００８０】
また、イソシアネートとヒドロキシル基との付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適である。その具体例としては、特公昭４８−４１７０８号公報に記載されている１分子に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式（Ａ）で示されるヒドロキシル基を含むビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含むビニルウレタン化合物等が挙げられる。
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ４）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（Ｒ５）ＯＨ      （Ａ）
（ただし、Ｒ４およびＲ５は、ＨまたはＣＨ３を示す。）
【００８１】
重合性化合物の含有量は、画像記録層１６全質量に対して、３〜８０質量％が好ましく、１０〜７５質量％がより好ましい。
【００８２】
＜バインダーポリマー＞
画像記録層１６は、バインダーポリマーを含むことが好ましい。
バインダーポリマーとしては、公知のバインダーポリマーが挙げられる。バインダーポリマーとしては、具体的には、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、ノボラック型フェノール系樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、および、天然ゴムが挙げられる。
バインダーポリマーは、画像部の皮膜強度を向上するために、架橋性を有していてもよい。バインダーポリマーに架橋性を持たせるためには、エチレン性不飽和結合等の架橋性官能基を高分子の主鎖中または側鎖中に導入すればよい。架橋性官能基は、共重合により導入してもよい。
バインダーポリマーとしては、例えば、特開２００９−２５５４３４号公報の段落［０１６５］〜［０１７２］に開示されるバインダーポリマーを使用できる。
【００８３】
バインダーポリマーの含有量は、画像記録層１６全質量に対して、５〜９０質量％が好ましく、５〜７０質量％がより好ましい。
【００８４】
＜界面活性剤＞
画像記録層１６は、印刷開始時の機上現像性を促進させるため、および、塗布面状を向上させるために、界面活性剤を含んでいてもよい。
界面活性剤としては、ノニオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、および、フッ素系界面活性剤が挙げられる。
界面活性剤としては、例えば、特開２００９-２５５４３４号公報の段落［０１７５］〜［０１７９］に開示される界面活性剤を使用できる。
【００８５】
界面活性剤の含有量は、画像記録層１６全質量に対して、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜５質量％がより好ましい。
【００８６】
画像記録層１６は、さらに必要に応じて、上記以外の他の化合物を含んでいてもよい。
他の化合物としては、特開２００９−２５５４３４号公報の段落［０１８１］〜［０１９０］に開示される着色剤、焼き出し剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、および、低分子親水性化合物等が挙げられる。
また、他の化合物としては、特開２０１２−１８７９０７号公報の段落［０１９１］〜［０２１７］に開示される、疎水化前駆体（熱が加えられたときに画像記録層を疎水性に変換できる微粒子）、低分子親水性化合物、感脂化剤（例えば、ホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマー）、連鎖移動剤、ボレート化合物、酸発色剤、も挙げられる。
なお、酸発色剤とは、電子受容性化合物（例えば、酸等のプロトン）を受容した状態で加熱することにより、発色する性質を有する化合物を意味する。酸発色剤としては、ラクトン、ラクタム、サルトン、スピロピラン、エステル、または、アミド等の部分骨格を有し、電子受容性化合物と接触した時に、速やかにこれらの部分骨格が開環または開裂する無色の化合物が好ましい。酸発色剤としては、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、スピロラクトン化合物、および、スピロラクタム化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物であることが好ましい。
また、画像記録層は、微粒子形状の高分子化合物を含んでいてもよく、熱可塑性ポリマー粒子を含んでいてもよい。
熱可塑性ポリマー粒子を構成するポリマーとしては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート、および、ポリアルキレン構造を有するメタクリレート等のモノマーのホモポリマー若しくはコポリマーまたはそれらの混合物が挙げられる。中でも、ポリスチレン、スチレンおよびアクリロニトリルを含む共重合体、または、ポリメタクリル酸メチルが好ましい。
【００８７】
〔その他の層〕
本発明の平版印刷版原版は、上述したアルミニウム支持体１２ａ、下塗り層１４、および、画像記録層１６以外の他の層を含んでいてもよい。
例えば、画像記録層１６における傷等の発生防止、酸素遮断、および、高照度レーザー露光時のアブレーション防止のため、必要に応じて、画像記録層１６の上に保護層を含んでいてもよい。
保護層に用いられる材料としては、例えば、特開２００９-２５５４３４号公報の段落［０２１３］〜［０２２７］等に記載される材料（水溶性高分子化合物、無機質の層状化合物等）が挙げられる。
【００８８】
［アルミニウム支持体の製造方法］
本発明のアルミニウム支持体の製造方法は、上述した本発明の平版印刷版原版に用いるアルミニウム支持体の製造方法である。
ここで、本発明のアルミニウム支持体の製造方法は、アルミニウム板に対して、硫酸濃度が０．１〜２．０ｇ／Ｌとなる塩酸処理液中で交流電解を施し、粗面化されたアルミニウム板を作製する塩酸電解処理工程を有する。
また、本発明のアルミニウム支持体の製造方法は、上記塩酸電解処理工程後に、粗面化されたアルミニウム板に対して、陽極酸化処理を施し、アルミニウム板上にアルミニウムの陽極酸化皮膜を形成する陽極酸化処理工程を有していることが好ましい。
更に、本発明のアルミニウム支持体の製造方法は、上記陽極酸化処理工程後に、陽極酸化皮膜が形成されたアルミニウム板に対して、エッチング処理を施し、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させるポアワイド処理工程を有していることが好ましい。
以下、上述した各工程ならびに任意の処理について詳述する。
【００８９】
〔機械的粗面化処理〕
本発明のアルミニウム支持体の製造方法は、塩酸電解処理工程の前に、機械的粗面化処理を施していてもよい。
機械的粗面化処理方法としては、例えば、アルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立てするボールグレイン法、特開平６−１３５１７５号公報および特公昭５０−４００４７号公報に記載されているナイロンブラシと研磨剤で表面を砂目立てするブラシグレイン法を用いることができる。
【００９０】
〔塩酸電解処理工程〕
本発明のアルミニウム支持体の製造方法が有する塩酸電解処理工程は、アルミニウム板に対して、硫酸濃度が０．１〜２．０ｇ／Ｌとなる塩酸処理液中で交流電解を施し、粗面化されたアルミニウム板を作製する工程である。
本発明においては、このような塩酸電解処理を施し、後述する陽極酸化処理を施すことにより、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面が、特定凹部を３０００個／ｍｍ２以上有する。
また、本発明においては、塩酸処理液中の上記硫酸濃度は、０．１〜１．５ｇ／Ｌであることが好ましく、０．２〜１．５ｇ／Ｌであることがより好ましい。
【００９１】
塩酸電解処理の交流電源波形は、サイン波、矩形波、台形波、および、三角波等を用いることができる。周波数は０．１〜２５０Ｈｚが好ましい。
図３は、塩酸電解処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。
図３において、ｔａはアノード反応時間、ｔｃはカソード反応時間、ｔｐは電流が０からピークに達するまでの時間、Ｉａはアノードサイクル側のピーク時の電流、Ｉｃはカソードサイクル側のピーク時の電流である。台形波において、電流が０からピークに達するまでの時間ｔｐは１〜１０ｍｓｅｃが好ましい。塩酸電解処理に用いる交流の１サイクルの条件が、アルミニウム板のアノード反応時間ｔａとカソード反応時間ｔｃの比ｔｃ／ｔａが１〜２０、アルミニウム板がアノード時の電気量Ｑｃとアノード時の電気量Ｑａの比Ｑｃ／Ｑａが０．３〜２０、アノード反応時間ｔａが５〜１０００ｍｓｅｃ、の範囲にあるのが好ましい。電流密度は台形波のピーク値で電流のアノードサイクル側Ｉａ、カソードサイクル側Ｉｃともに１０〜２００Ａ／ｄｍ2が好ましい。Ｉｃ／Ｉａは、０．３〜２０が好ましい。
【００９２】
本発明においては、塩酸電解処理が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和は、２５〜１０００Ｃ／ｄｍ2が好ましく、特定凹部が形成され易くなる理由から、３５０〜１０００Ｃ／ｄｍ２であるのが好ましい。
【００９３】
交流を用いた塩酸電解処理には図４に示した装置を用いることができる。
図４は、交流を用いた塩酸電解処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。
図４において、５０は主電解槽、５１は交流電源、５２はラジアルドラムローラ、５３ａおよび５３ｂは主極、５４は電解液供給口、５５は電解液、５６はスリット、５７は電解液通路、５８は補助陽極、６０は補助陽極槽、Ｗはアルミニウム板である。電解槽を２つ以上用いるときには、電解条件は同じでもよいし、異なっていてもよい。
アルミニウム板Ｗは主電解槽５０中に浸漬して配置されたラジアルドラムローラ５２に巻装され、搬送過程で交流電源５１に接続する主極５３ａおよび５３ｂにより電解処理される。電解液５５は、電解液供給口５４からスリット５６を通じてラジアルドラムローラ５２と主極５３ａおよび５３ｂとの間の電解液通路５７に供給される。主電解槽５０で処理されたアルミニウム板Ｗは、次いで、補助陽極槽６０で電解処理される。この補助陽極槽６０には補助陽極５８がアルミニウム板Ｗと対向配置されており、電解液５５が補助陽極５８とアルミニウム板Ｗとの間の空間を流れるように供給される。
【００９４】
〔アルカリエッチング処理〕
本発明のアルミニウム支持体の製造方法は、上述した機械的粗面化処理を施した場合の機械的粗面化処理の後や、上述した塩酸電解処理工程の前後に、アルカリエッチング処理を施すことが好ましい。
なお、塩酸電解処理より前に行われるアルカリエッチング処理は、機械的粗面化処理を行っていない場合には、アルミニウム基材（圧延アルミ）の表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等を除去することを目的として、また、既に機械的粗面化処理を行っている場合には、機械的粗面化処理によって生成した凹凸のエッジ部分を溶解させ、急峻な凹凸を滑らかなうねりを持つ表面に変えることを目的として行われる。
【００９５】
アルカリエッチング処理の前に機械的粗面化処理を行わない場合、エッチング量は、０．１〜１０ｇ／ｍ２であるのが好ましく、１〜５ｇ／ｍ２であるのがより好ましい。エッチング量が１〜１０ｇ／ｍ２であると、表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等の除去が十分に行われる。
【００９６】
アルカリエッチング処理の前に機械的粗面化処理を行う場合、エッチング量は、３〜２０ｇ／ｍ２であるのが好ましく、５〜１５ｇ／ｍ２であるのがより好ましい。
【００９７】
塩酸電解処理の直後に行うアルカリエッチング処理は、酸性電解液中で生成したスマットを溶解させることと、塩酸電解処理により形成された凹凸のエッジ部分を溶解させることを目的として行われる。塩酸電解処理で形成される凹凸は電解液の種類によって異なるためにその最適なエッチング量も異なるが、塩酸電解処理後に行うアルカリエッチング処理のエッチング量は、０〜０．５ｇ／ｍ２であることが好ましく、０〜０．１ｇ／ｍ２であることがより好ましい。
【００９８】
アルカリ溶液に用いられるアルカリとしては、例えば、カセイアルカリ、アルカリ金属塩が挙げられる。特に、カセイソーダの水溶液が好ましい。
【００９９】
アルカリ溶液の濃度は、エッチング量に応じて決定することができるが、１〜５０質量％であるのが好ましく、１０〜３５質量％であるのがより好ましい。アルカリ溶液中にアルミニウムイオンが溶解している場合には、アルミニウムイオンの濃度は、０．０１〜１０質量％であるのが好ましく、３〜８質量％であるのがより好ましい。アルカリ溶液の温度は２０〜９０℃であるのが好ましい。処理時間は０〜１２０秒であるのが好ましい。
【０１００】
アルミニウム基材をアルカリ溶液に接触させる方法としては、例えば、アルミニウム基材をアルカリ溶液を入れた槽の中を通過させる方法、アルミニウム基材をアルカリ溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方法、アルカリ溶液をアルミニウム基材の表面に噴きかける方法が挙げられる。
【０１０１】
〔デスマット処理〕
本発明のアルミニウム支持体の製造方法は、塩酸電解処理またはアルカリエッチング処理を行った後、表面に残留する腐食性生物を除去するために酸洗い（デスマット処理）が行われるのが好ましい。
用いられる酸としては、例えば、硝酸、硫酸、塩酸等が一般的であるが、その他の酸を用いてもよい。
上記デスマット処理は、例えば、上記アルミニウム基材を塩酸、硝酸、硫酸等の濃度０．５〜３０質量％の酸性溶液（アルミニウムイオン０．０１〜５質量％を含有する。）に接触させることにより行う。
アルミニウム基材を酸性溶液に接触させる方法としては、例えば、アルミニウム基材を酸性溶液を入れた槽の中を通過させる方法、アルミニウム基材を酸性溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方法、酸性溶液をアルミニウム基材の表面に噴きかける方法が挙げられる。
デスマット処理後のアルミニウム基材の表面状態は、その後の自然酸化皮膜成長に影響するため、酸の選択や、濃度、温度条件は、目的に応じて適宜選定される。
【０１０２】
〔水洗処理〕
本発明のアルミニウム支持体の製造方法は、上述した各処理の工程終了後には水洗を行うことが好ましい。特に工程最後に行う水洗は、その後の自然酸化皮膜成長に影響するため、純水、井水、水道水等を用い、十分に行う必要がある。
【０１０３】
〔陽極酸化処理工程〕
上記陽極酸化処理工程は、上述した塩酸電解処理工程後に、粗面化されたアルミニウム板に対して、陽極酸化処理を施し、アルミニウム板上にアルミニウムの陽極酸化皮膜を形成する工程である。
ここで、上記陽極酸化処理工程の手順は、特に限定されず、公知の方法が挙げられる。
陽極酸化処理工程においては、硫酸、リン酸、および、シュウ酸等の水溶液を電解浴として用いることができる。例えば、硫酸の濃度は、１００〜３００ｇ／Ｌが挙げられる。
陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって適宜設定されるが、例えば、液温５〜７０℃（好ましくは１０〜６０℃）、電流密度０．５〜６０Ａ／ｄｍ2（好ましくは５〜６０Ａ／ｄｍ2）、電圧１〜１００Ｖ（好ましくは５〜５０Ｖ）、電解時間１〜１００秒（好ましくは５〜６０秒）、および、皮膜量０．１〜５ｇ／ｍ2（好ましくは０．２〜３ｇ／ｍ2）が挙げられる。
【０１０４】
本発明においては、アルミニウム支持体と画像記録層との密着性をより高くする観点から、陽極酸化処理工程が、リン酸を用いて陽極酸化処理を施す工程であることが好ましい。
【０１０５】
〔ポアワイド処理工程〕
上記ポアワイド処理工程は、上述した陽極酸化処理工程後に、陽極酸化皮膜が形成されたアルミニウム板に対して、エッチング処理を施し、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させる処理（孔径拡大処理）工程である。
ポアワイド処理は、上述した陽極酸化処理工程により得られたアルミニウム板を、酸水溶液またはアルカリ水溶液に接触させることにより行うことができる。接触させる方法は特に制限されず、例えば、浸せき法およびスプレー法が挙げられる。
【０１０６】
［平版印刷版原版の製造方法］
上述した本発明の平版印刷版原版を製造する方法は、上述した本発明のアルミニウム支持体の製造方法に引き続き、以下の工程を順番に実施する製造方法が好ましい。
（下塗り層形成工程）ポアワイド処理工程で得られたアルミニウム支持体上に下塗り層を形成する工程
（画像記録層形成工程）下塗り層上に画像記録層を形成する工程
以下、各工程の手順について詳述する。
【０１０７】
〔下塗り層形成工程〕
下塗り層形成工程は、ポアワイド処理工程で得られたアルミニウム支持体上に下塗り層を形成する工程である。
下塗り層の製造方法は特に制限されず、例えば、所定の化合物（例えば、ベタイン構造を有する化合物）を含む下塗り層形成用塗布液をアルミニウム支持体の陽極酸化皮膜上に塗布する方法が挙げられる。
下塗り層形成用塗布液には、溶媒が含まれることが好ましい。溶媒としては、水または有機溶媒が挙げられる。
下塗り層形成用塗布液の塗布方法としては、公知の種々の方法が挙げられる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアナイフ塗布、ブレード塗布、および、ロール塗布が挙げられる。
下塗り層の塗布量(固形分)は、０．１〜１００ｍｇ／ｍ２が好ましく、１〜５０ｍｇ／ｍ２がより好ましい。
【０１０８】
〔画像記録層形成工程〕
画像記録層形成工程は、下塗り層上に画像記録層を形成する工程である。
画像記録層の形成方法は特に制限されず、例えば、所定の成分（上述した、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物等）を含む画像記録層形成用塗布液を下塗り層上に塗布する方法が挙げられる。
画像記録層形成用塗布液には、溶媒が含まれることが好ましい。溶媒としては、水または有機溶媒が挙げられる。
画像記録層形成用塗布液の塗布方法は、下塗り層形成用塗布液の塗布方法として例示した方法が挙げられる。
画像記録層の塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、一般的に０．３〜３．０ｇ／ｍ２が好ましい。
【０１０９】
なお、画像記録層上に保護層を設ける場合、保護層の製造方法は特に制限されず、例えば、所定の成分を含む保護層形成用塗布液を画像記録層上に塗布する方法が挙げられる。
【０１１０】
上記実施形態において、陽極酸化皮膜２０ａ中のマイクロポア２２ａが略直管状の形態について述べたが、マイクロポアの陽極酸化皮膜表面における平均径が所定の範囲内であれば、マイクロポアは他の構造であってもよい。
例えば、図５に示すように、アルミニウム支持体１２ｂが、アルミニウム板１８と、大径孔部２４と小径孔部２６とから構成されるマイクロポア２２ｂを有する陽極酸化皮膜２０ｂとを含む形態であってもよい。
陽極酸化皮膜２０ｂ中のマイクロポア２２ｂは、陽極酸化皮膜表面から深さ１０〜１０００ｎｍ（深さＤ：図５参照）の位置までのびる大径孔部２４と、大径孔部２４の底部と連通し、連通位置からさらに深さ２０〜２０００ｎｍの位置までのびる小径孔部２６とから構成される。
以下に、大径孔部２４と小径孔部２６について詳述する。
【０１１１】
大径孔部２４の陽極酸化皮膜２０ｂ表面における平均径は、上述した陽極酸化皮膜２０ａ中のマイクロポア２２ａの陽極酸化皮膜表面における平均径と同じで、１０〜１００ｎｍであることが好ましく、耐汚れ性、および、画像視認性のバランスの点から、１５〜６０ｎｍがより好ましく、２０〜５０ｎｍが更に好ましく、２５〜４０ｎｍが特に好ましい。
大径孔部２４の陽極酸化皮膜２０ｂ表面における平均径の測定方法は、陽極酸化皮膜２０ａ中のマイクロポア２２ａの陽極酸化皮膜表面における平均径の測定方法と同じである。
【０１１２】
大径孔部２４の底部は、陽極酸化皮膜表面から深さ１０〜１０００ｎｍ（以後、深さＤとも称する）に位置する。つまり、大径孔部２４は、陽極酸化皮膜表面から深さ方向（厚み方向）に１０〜１０００ｎｍのびる孔部である。上記深さは、１０〜２００ｎｍが好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜２０ｂの断面の写真（１５万倍）をとり、２５個以上の大径孔部２４の深さを測定し、平均した値である。
【０１１３】
大径孔部２４の形状は特に制限されず、例えば、略直管状（略円柱状）、および、深さ方向（厚み方向）に向かって径が小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。
【０１１４】
小径孔部２６は、図５に示すように、大径孔部２４の底部と連通して、連通位置よりさらに深さ方向（厚み方向）に延びる孔部である。
小径孔部２６の連通位置における平均径は、１３ｎｍ以下が好ましい。中でも、１１ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、５ｎｍ以上の場合が多い。
【０１１５】
小径孔部２６の平均径は、陽極酸化皮膜２０ａ表面を倍率１５万倍のＦＥ−ＳＥＭでＮ＝４枚観察し、得られた４枚の画像において、４００×６００ｎｍ２の範囲に存在するマイクロポア（小径孔部）の径（直径）を５０個測定し、平均した値である。なお、大径孔部の深さが深い場合は、必要に応じて、陽極酸化皮膜２０ｂ上部（大径孔部のある領域）を切削し（例えば、アルゴンガスによって切削）、その後陽極酸化皮膜２０ｂ表面を上記ＦＥ−ＳＥＭで観察して、小径孔部の平均径を求めてもよい。
なお、小径孔部２６の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
【０１１６】
小径孔部２６の底部は、上記の大径孔部２４との連通位置からさらに深さ方向に２０〜２０００ｎｍのびた場所に位置する。言い換えると、小径孔部２６は、上記大径孔部２４との連通位置からさらに深さ方向（厚み方向）にのびる孔部であり、小径孔部２６の深さは２０〜２０００ｎｍである。なお、上記深さは、５００〜１５００ｎｍが好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜２０ｂの断面の写真（５万倍）をとり、２５個以上の小径孔部の深さを測定し、平均した値である。
【０１１７】
小径孔部２６の形状は特に制限されず、例えば、略直管状（略円柱状）、および、深さ方向に向かって径が小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。
【０１１８】
なお、上記アルミニウム支持体１２ｂの製造方法は特に制限されないが、以下の工程を順番に実施する製造方法が好ましい。
（塩酸電解処理工程）アルミニウム板に上述した塩酸電解処理を施す工程
（第１陽極酸化処理工程）粗面化処理されたアルミニウム板を陽極酸化する工程
（ポアワイド処理工程）第１陽極酸化処理工程で得られた陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板を、酸水溶液またはアルカリ水溶液に接触させ、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させる工程
（第２陽極酸化処理工程）ポアワイド処理工程で得られたアルミニウム板を陽極酸化する工程
各工程の手順は、公知の方法を参照できる。
【０１１９】
また、上記図１においては下塗り層１４を用いた態様について述べたが、上述したように、下塗り層は平版印刷版原版に含まれていてなくてもよい。
下塗り層を設けない場合、アルミニウム支持体上に親水化処理を施した後、画像記録層を形成してもよい。
親水化処理としては、特開２００５−２５４６３８号公報の段落［０１０９］〜［０１１４］に開示される公知の方法が挙げられる。中でも、ケイ酸ソーダおよびケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸漬させる方法、または、親水性ビニルポリマーまたは親水性化合物を塗布して親水性の下塗層を形成させる方法により、親水化処理を行うのが好ましい。
ケイ酸ソーダおよびケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液による親水化処理は、米国特許第２，７１４，０６６号明細書および米国特許第３，１８１，４６１号明細書に記載されている方法および手順に従って行うことができる。
【０１２０】
［平版印刷版の製造方法］
次に、平版印刷版原版を用いて平版印刷版を製造する方法について記載する。
平版印刷版の製造方法は、通常、平版印刷版原版を画像様に露光（画像露光）し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、画像様露光された平版印刷版原版の未露光部を除去する工程とを有する。
より具体的には、平版印刷版の製造方法の一つの態様は、平版印刷版原版を画像様に露光（画像露光）し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、ｐＨ２〜１２の現像液により平版印刷版原版の未露光部を除去する除去工程と、を含む平版印刷版の製造方法が挙げられる。
また、平版印刷版の製造方法の他の一つの態様は、平版印刷版原版を画像様に露光（画像露光）し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、印刷インキおよび湿し水の少なくとも一方を供給して、印刷機上で画像様露光された平版印刷版原版の未露光部を除去する機上現像工程と、を含む平版印刷版の製造方法が挙げられる。
以下、これらの態様について詳述する。
【０１２１】
平版印刷版の製造方法は、上記平版印刷版原版を、画像様に露光（画像露光）する工程を含む。画像露光は、例えば、線画像または網点画像を有する透明原画を通したレーザー露光、または、デジタルデータによるレーザー光走査で行われる。
光源の波長は、７５０〜１４００ｎｍが好ましい。波長７５０〜１４００ｎｍの光を出射する光源の場合は、この波長領域に吸収を有する増感色素である赤外線吸収剤を含む画像記録層が好ましく用いられる。
波長７５０〜１４００ｎｍの光を出射する光源としては、赤外線を放射する固体レーザーおよび半導体レーザーが挙げられる。赤外線レーザーに関しては、出力は１００ｍＷ以上が好ましく、１画素当たりの露光時間は２０マイクロ秒以内が好ましく、照射エネルギー量は１０〜３００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、および、フラットベッド方式のいずれでもよい。
画像露光は、プレートセッター等を用いて常法により行うことができる。なお、後述する機上現像方式の場合には、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で平版印刷版原版の画像露光を行ってもよい。
【０１２２】
画像露光された平版印刷版原版は、ｐＨ２〜１２の現像液により未露光部を除去する方式（現像液処理方式）、または、印刷機上で印刷インキおよび湿し水の少なくとも一方により未露光部分を除去する方式（機上現像方式）で現像処理される。
【０１２３】
（現像液処理方式）
現像液処理方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、ｐＨが２〜１４の現像液により処理され、非露光部の画像記録層が除去されて平版印刷版が製造される。
現像液としては、リン酸基、ホスホン酸基およびホスフィン酸基よりなる群から選ばれる少なくとも１つ以上の酸基と、１つ以上のカルボキシル基とを有する化合物（特定化合物）を含み、ｐＨが５〜１０である現像液が好ましい。
【０１２４】
現像処理の方法としては、手処理の場合、例えば、スポンジまたは脱脂綿に現像液を十分に含ませ、平版印刷版原版全体を擦りながら処理し、処理終了後は十分に乾燥する方法が挙げられる。浸漬処理の場合は、例えば、現像液の入ったバットまたは深タンクに平版印刷版原版を約６０秒間浸して撹拌した後、脱脂綿またはスポンジ等で平版印刷版原版を擦りながら十分乾燥する方法が挙げられる。
【０１２５】
現像処理には、構造の簡素化、および、工程を簡略化した装置が用いられることが好ましい。
従来の現像処理においては、前水洗工程により保護層を除去し、次いでアルカリ性現像液により現像を行い、その後、後水洗工程でアルカリを除去し、ガム引き工程でガム処理を行い、乾燥工程で乾燥する。
なお、現像およびガム引きを１液で同時に行うこともできる。ガムとしては、ポリマーが好ましく、水溶性高分子化合物、および、界面活性剤がより好ましい。
さらに、前水洗工程も行うことなく、保護層の除去、現像およびガム引きを１液で同時に行うことが好ましい。また、現像およびガム引きの後に、スクイズローラーを用いて余剰の現像液を除去した後、乾燥を行うことが好ましい。
【０１２６】
本処理は、上記現像液に１回浸漬する方法であってもよいし、２回以上浸漬する方法であってもよい。中でも、上記現像液に１回または２回浸漬する方法が好ましい。
浸漬は、現像液が溜まった現像液槽中に露光済みの平版印刷版原版をくぐらせてもよいし、露光済みの平版印刷版原版の版面上にスプレー等から現像液を吹き付けてもよい。
なお、現像液に２回以上浸漬する場合であっても、同じ現像液、または、現像液と現像処理により画像記録層の成分の溶解または分散した現像液（疲労液）とを用いて２回以上浸漬する場合は、１液での現像処理（１液処理）という。
【０１２７】
また、現像処理では、擦り部材を用いることが好ましく、画像記録層の非画像部を除去する現像浴には、ブラシ等の擦り部材が設置されることが好ましい。
現像処理は、常法に従って、好ましくは０℃〜６０℃、より好ましくは１５℃〜４０℃の温度で、例えば、露光処理した平版印刷版原版を現像液に浸漬してブラシで擦る、または、外部のタンクに仕込んだ処理液をポンプで汲み上げてスプレーノズルから吹き付けてブラシで擦る等により行うことができる。これらの現像処理は、複数回続けて行うこともできる。例えば、外部のタンクに仕込んだ現像液をポンプで汲み上げてスプレーノズルから吹き付けてブラシで擦った後に、再度スプレーノズルから現像液を吹き付けてブラシで擦る等により行うことができる。自動現像機を用いて現像処理を行う場合、処理量の増大により現像液が疲労してくるので、補充液または新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させることが好ましい。
【０１２８】
本開示における現像処理には、従来、ＰＳ版（Ｐｒｅｓｅｎｓｉｔｉｚｅｄ Ｐｌａｔｅ）およびＣＴＰ（コンピュータ・トゥ・プレート）用に知られているガムコーターおよび自動現像機も用いることができる。自動現像機を用いる場合、例えば、現像槽に仕込んだ現像液、または、外部のタンクに仕込んだ現像液をポンプで汲み上げてスプレーノズルから吹き付けて処理する方式、現像液が満たされた槽中に液中ガイドロール等によって印刷版を浸漬搬送させて処理する方式、および、実質的に未使用の現像液を一版毎に必要な分だけ供給して処理するいわゆる使い捨て処理方式のいずれの方式も適用できる。どの方式においても、ブラシおよびモルトン等によるこすり機構があるものがより好ましい。例えば、市販の自動現像機（Ｃｌｅａｎ  Ｏｕｔ  Ｕｎｉｔ  Ｃ８５／Ｃ１２５、Ｃｌｅａｎ−Ｏｕｔ  Ｕｎｉｔ＋  Ｃ８５／１２０、ＦＣＦ  ８５Ｖ、ＦＣＦ  １２５Ｖ、ＦＣＦ  Ｎｅｗｓ（Ｇｌｕｎｚ  ＆  Ｊｅｎｓｅｎ社製））、および、Ａｚｕｒａ  ＣＸ８５、Ａｚｕｒａ  ＣＸ１２５、Ａｚｕｒａ  ＣＸ１５０（ＡＧＦＡ  ＧＲＡＰＨＩＣＳ社製）を利用できる。また、レーザー露光部と自動現像機部分とが一体に組み込まれた装置を利用することもできる。
【０１２９】
（機上現像方式）
機上現像方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、印刷機上で印刷インキと湿し水とを供給することにより、非画像部の画像記録層が除去されて平版印刷版が製造される。
即ち、平版印刷版原版を画像露光後、なんらの現像液処理を施すことなく、そのまま印刷機に装着するか、または、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光し、ついで、印刷インキと湿し水とを供給して印刷すると、印刷途上の初期の段階で、非画像部においては、供給された印刷インキおよび／または湿し水によって、未露光部の画像記録層が溶解または分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。一方、露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。最初に版面に供給されるのは、印刷インキでもよく、湿し水でもよいが、湿し水が除去された画像記録層成分によって汚染されることを防止する点で、最初に印刷インキを供給することが好ましい。
このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。つまり、本発明の印刷方法の一態様としては、平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、印刷インキおよび湿し水の少なくとも一方を供給して、印刷機上で画像様露光された平版印刷版原版の未露光部を除去し、印刷を行う印刷工程とを有する印刷方法が挙げられる。
【０１３０】
本発明に係る平版印刷版原版からの平版印刷版の製造方法においては、現像方式を問わず、必要に応じて、画像露光前、画像露光中、または、画像露光から現像処理までの間に、平版印刷版原版の全面を加熱してもよい。
【実施例】
【０１３１】
以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０１３２】
［アルミニウム支持体の製造］
厚さ０．３ｍｍの材質１Ｓのアルミニウム板（アルミニウム合金板）に対し、下記（Ａ）から（Ｄ）のいずれかの処理を施し、アルミニウム支持体を製造した。なお、全ての処理工程の間には水洗処理を施し、水洗処理の後にはニップローラで液切りを行った。
【０１３３】
〔実施例１〕
＜処理Ａ＞
（Ａ−ａ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、１０ｇ／ｍ２であった。
【０１３４】
（Ａ−ｂ）酸性水溶液中でのデスマット処理（第１デスマット処理）
次に、酸性水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸１５０ｇ／Ｌの水溶液を用いた。その液温は３０℃であった。デスマット液はスプレーにより吹き付けて、３秒間デスマット処理した。その後、水洗処理を行った。
【０１３５】
（Ａ−ｃ）塩酸水溶液中での電気化学的粗面化処理（塩酸電解処理）
次に、塩酸濃度１３ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度１５ｇ／Ｌ、硫酸濃度２ｇ／Ｌの電解液を用い、交流電流を用いて電解粗面化処理を行った。電解液の液温は３０℃であった。アルミニウムイオン濃度は塩化アルミニウムを添加して調整した。
交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は６０Ｈｚ、交流電流１周期におけるアノード反応時間とカソード反応時間は１：１、電流密度は交流電流波形のピーク電流値で７５Ａ／ｄｍ２であった。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で４５０Ｃ／ｄｍ２であり、電解処理は１１２．５Ｃ／ｄｍ２ずつ４秒間の通電間隔を開けて４回に分けて行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。その後、水洗処理を行った。
【０１３６】
（Ａ−ｄ）アルカリエッチング処理
電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板を、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度２５℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。電気化学的粗面化処理が施された面のアルミニウムの溶解量は０．２ｇ／ｍ２であった。その後、水洗処理を行った。
【０１３７】
（Ａ−ｅ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、酸性水溶液中でのデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５．０ｇ／Ｌ溶解）を用いた。液温は３０℃であった。デスマット液はスプレーに吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
【０１３８】
（Ａ−ｆ）陽極酸化処理
図６に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第１段階の陽極酸化処理を行った。表１に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成し、アルミニウム支持体を作製した。
【０１３９】
〔実施例２〜１６、２３、２４、２６および２７〕
実施例１の（Ａ−ｃ）塩酸電解処理における塩酸水溶液中の硫酸濃度および周波数、（Ａ−ｄ）アルカリエッチング処理の条件および有無、ならびに、（Ａ−ｆ）陽極酸化処理の電解液、温度、電流密度および皮膜量を下記表１に示す値に変更した以外は、実施例１と同様の方法により、アルミニウム支持体を作製した。なお、下記表１中、実施例１、２３および２４は、下塗り層の種類が異なる実施例であるため、アルミニウム支持体としては同じであり、実施例２６および２７は、画像記録層の種類が異なる実施例であるため、アルミニウム支持体としては同じである。
【０１４０】
〔実施例１７〜２０〕
＜処理Ｂ＞
（Ｂ−ａ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、１０ｇ／ｍ２であった。
【０１４１】
（Ｂ−ｂ）酸性水溶液中でのデスマット処理（第１デスマット処理）
次に、酸性水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸１５０ｇ／Ｌの水溶液を用いた。その液温は３０℃であった。デスマット液はスプレーにより吹き付けて、３秒間デスマット処理した。その後、水洗処理を行った。
【０１４２】
（Ｂ−ｃ）塩酸水溶液中での電気化学的粗面化処理
次に、塩酸濃度１３ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度１５ｇ／Ｌ、硫酸濃度３ｇ／Ｌの電解液を用い、交流電流を用いて電解粗面化処理を行った。電解液の液温は３０℃であった。アルミニウムイオン濃度は塩化アルミニウムを添加して調整した。交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は６０Ｈｚ、交流電流１周期におけるアノード反応時間とカソード反応時間は１：１、電流密度は交流電流波形のピーク電流値で７５Ａ／ｄｍ２であった。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で４５０Ｃ／ｄｍ２であり、電解処理は１１２．５Ｃ／ｄｍ２ずつ４秒間の通電間隔を開けて４回に分けて行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。その後、水洗処理を行った。
【０１４３】
（Ｂ−ｄ）アルカリエッチング処理
電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板を、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度２５℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。電気化学的粗面化処理が施された面のアルミニウムの溶解量は０．２ｇ／ｍ２であった。その後、水洗処理を行った。
【０１４４】
（Ｂ−ｅ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、酸性水溶液中でのデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５．０ｇ／Ｌ溶解）を用いた。液温は３０℃であった。デスマット液はスプレーに吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
【０１４５】
（Ｂ−ｆ）陽極酸化処理
図６に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第１段階の陽極酸化処理を行った。表１に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。
【０１４６】
（Ｂ−ｇ）ポアワイド処理
上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液に表１に示す条件にて浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行い、アルミニウム支持体を作製した。
【０１４７】
〔実施例２１〜２２、２５、２９、および、３１〕
＜処理Ｃ＞
（Ｃ−ａ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、１０ｇ／ｍ２であった。
【０１４８】
（Ｃ−ｂ）酸性水溶液中でのデスマット処理（第１デスマット処理）
次に、酸性水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸１５０ｇ／Ｌの水溶液を用いた。その液温は３０℃であった。デスマット液はスプレーにより吹き付けて、３秒間デスマット処理した。その後、水洗処理を行った。
【０１４９】
（Ｃ−ｃ）塩酸水溶液中での電気化学的粗面化処理
次に、塩酸濃度１３ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度１５ｇ／Ｌ、硫酸濃度３ｇ／Ｌの電解液を用い、交流電流を用いて電解粗面化処理を行った。電解液の液温は３０℃であった。アルミニウムイオン濃度は塩化アルミニウムを添加して調整した。交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は６０Ｈｚ、交流電流１周期におけるアノード反応時間とカソード反応時間は１：１、電流密度は交流電流波形のピーク電流値で７５Ａ／ｄｍ２であった。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で４５０Ｃ／ｄｍ２であり、電解処理は１１２．５Ｃ／ｄｍ２ずつ４秒間の通電間隔を開けて４回に分けて行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。その後、水洗処理を行った。
【０１５０】
（Ｃ−ｄ）アルカリエッチング処理
電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板を、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度２５℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。電気化学的粗面化処理が施された面のアルミニウムの溶解量は０．２ｇ／ｍ２であった。その後、水洗処理を行った。
【０１５１】
（Ｃ−ｅ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、酸性水溶液中でのデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５．０ｇ／Ｌ溶解）を用いた。液温は３０℃であった。デスマット液はスプレーに吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
【０１５２】
（Ｃ−ｆ）第１段階の陽極酸化処理
図６に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第１段階の陽極酸化処理を行った。表１に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。
【０１５３】
（Ｃ−ｇ）ポアワイド処理
上記陽極酸化処理したアルミニウム板を、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液に表１に示す条件にて浸漬し、ポアワイド処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。
【０１５４】
（Ｃ−ｈ）第２段階の陽極酸化処理
図６に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第２段階の陽極酸化処理を行った。表１に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成し、アルミニウム支持体を作製した。
【０１５５】
〔実施例２８、３０、および、３２〕
＜処理Ｄ＞
（Ｄ−ａ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板に、カセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度７０℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。その後、スプレーによる水洗を行った。後に電気化学的粗面化処理を施す面のアルミニウム溶解量は、１０ｇ／ｍ２であった。
【０１５６】
（Ｄ−ｂ）酸性水溶液中でのデスマット処理（第１デスマット処理）
次に、酸性水溶液中でデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、硫酸１５０ｇ／Ｌの水溶液を用いた。その液温は３０℃であった。デスマット液はスプレーにより吹き付けて、３秒間デスマット処理した。その後、水洗処理を行った。
【０１５７】
（Ｄ−ｃ）塩酸水溶液中での電気化学的粗面化処理
次に、塩酸濃度１３ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度１５ｇ／Ｌ、硫酸濃度０．６ｇ／Ｌの電解液を用い、交流電流を用いて電解粗面化処理を行った。電解液の液温は３０℃であった。アルミニウムイオン濃度は塩化アルミニウムを添加して調整した。交流電流の波形は正と負の波形が対称な正弦波であり、周波数は６０Ｈｚ、交流電流１周期におけるアノード反応時間とカソード反応時間は１：１、電流密度は交流電流波形のピーク電流値で７５Ａ／ｄｍ２であった。また、電気量はアルミニウム板がアノード反応に預かる電気量の総和で４５０Ｃ／ｄｍ２であり、電解処理は１１２．５Ｃ／ｄｍ２ずつ４秒間の通電間隔を開けて４回に分けて行った。アルミニウム板の対極にはカーボン電極を用いた。その後、水洗処理を行った。
【０１５８】
（Ｄ−ｄ）アルカリエッチング処理
電気化学的粗面化処理後のアルミニウム板を、カセイソーダ濃度５質量％、アルミニウムイオン濃度０．５質量％のカセイソーダ水溶液を、温度２５℃でスプレー管により吹き付けてエッチング処理を行った。電気化学的粗面化処理が施された面のアルミニウムの溶解量は表１に記載の量であった。その後、水洗処理を行った。
【０１５９】
（Ｄ−ｅ）酸性水溶液中でのデスマット処理
次に、酸性水溶液中でのデスマット処理を行った。デスマット処理に用いる酸性水溶液は、陽極酸化処理工程で発生した廃液（硫酸１７０ｇ／Ｌ水溶液中にアルミニウムイオン５．０ｇ／Ｌ溶解）を用いた。液温は３０℃であった。デスマット液はスプレーに吹き付けて３秒間デスマット処理を行った。
【０１６０】
（Ｄ−ｆ）第１段階の陽極酸化処理
図６に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第１段階の陽極酸化処理を行った。表１に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成した。
【０１６１】
（Ｄ−ｇ）第２段階の陽極酸化処理
図６に示す構造の直流電解による陽極酸化装置を用いて第２段階の陽極酸化処理を行った。表１に示す条件にて陽極酸化処理を行い、所定の皮膜厚の陽極酸化皮膜を形成し、アルミニウム支持体を作製した。
【０１６２】
〔比較例１〜３〕
実施例１の（Ａ−ｃ）塩酸電解処理における塩酸水溶液中の硫酸濃度、および、（Ａ−ｄ）アルカリエッチング処理の条件を下記表１に示す値に変更した以外は、実施例１と同様の方法により、アルミニウム支持体を作製した。
【０１６３】
〔比較例４〕
特許文献１（特開２００５−２６２５３０号公報）の［０１５８］〜［０１６６］段落に記載された内容に従って、アルミニウム支持体を作製した。
【０１６４】
【表１】
2019162854.tif 000010
【０１６５】
作製したアルミニウム支持体について、陽極酸化皮膜のアルミニウム板側とは反対側の表面における特定凹部の密度、表面積比ΔＳ、小波凹部の平均開口径（平均径）、および、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系における明度Ｌ＊の値を上述した方法により測定した。これらの結果を下記表２に示す。
また、作製したアルミニウム支持体について、マイクロポアを有する陽極酸化皮膜中の大径孔部の陽極酸化皮膜表面における平均径（表層平均径）、小径孔部の連通位置における平均径（内部平均径）、ならびに、大径孔部および小径孔部の深さを、上述した方法により測定した。これらの結果を下記表２に示す。なお、下記表２中、表層平均径および内部平均径が同じ値である例は、第２の陽極酸化処理を施さなかった例である。
【０１６６】
［下塗り層の形成］
作製した各アルミニウム支持体の陽極酸化皮膜表面に対して、以下に詳述する処理Ａ〜処理Ｃのいずれかを実施した。なお、各実施例および比較例で採用した処理の種類は、下記表２に示す通りであり、実施例２７については、下塗り層を形成しなかったため、「−」と表記している。
【０１６７】
〔処理Ａ〕
アルミニウム支持体上に、下塗り層形成用塗布液１を乾燥塗布量が２０ｍｇ／ｍ２になるよう塗布して、下塗り層を形成した。
なお、下塗り層形成用塗布液１は、以下の構造式の高分子（０．５ｇ）、日本エマルジョン（株）製の界面活性剤（エマレックス７１０）１質量％水溶液（０．８６ｇ）、および、水（５００ｇ）を含んでいた。なお、各構成単位の括弧の右下の数値は、質量％を表す。
【０１６８】
【化９】
2019162854.tif 000011
【０１６９】
〔処理Ｂ〕
アルミニウム支持体を、４ｇ／Ｌのポリビニルホスホン酸を含む４０℃の水溶液（ｐＨ＝１．９）に１０秒間浸漬した。その後、アルミニウム支持体を取り出して、２０℃のカルシウムイオンを含む脱塩水で２秒間洗浄し、乾燥した。処理後、アルミニウム支持体上のＰ量およびＣａ量は、それぞれ２５ｍｇ／ｍ２および１．９ｍｇ／ｍ２であった。
【０１７０】
〔処理Ｃ〕
アルミニウム支持体上に、下塗り層形成用塗布液２を乾燥塗布量が２０ｍｇ／ｍ2になるよう塗布して、下塗り層を形成した。
なお、下塗り層形成用塗布液２は、以下の構造式の高分子（０．５ｇ）、日本エマルジョン（株）製の界面活性剤（エマレックス７１０）１質量％水溶液（０．８６ｇ）、および、水（５００ｇ）を含んでいた。なお、各構成単位の括弧の右下の数値は、質量％を表す。
【０１７１】
【化１０】
2019162854.tif 000012
【０１７２】
［画像記録層の形成］
下塗り層を形成したアルミニウム支持体上に、以下に詳述する画像記録層Ａ〜Ｃを形成した。なお、各画像記録層の形成方法は以下の通りであり、各実施例および比較例で採用した画像記録層の種類は、下記表２に示す通りである。
【０１７３】
〔画像記録層Ａの形成方法〕
アルミニウム支持体上に、下記組成の画像記録層形成用塗布液Ａをバー塗布した後、１００℃にて６０秒間でオーブン乾燥し、乾燥塗布量１．０ｇ／ｍ2の画像記録層を形成した。
画像記録層形成用塗布液Ａは、下記感光液（１）およびミクロゲル液（１）を塗布直前に混合し攪拌することにより得た。
【０１７４】
＜感光液＞
・バインダーポリマー（１）〔下記〕                  ０．２４０ｇ
・重合開始剤（２）〔下記〕                          ０．２４５ｇ
・赤外線吸収剤（２）〔下記〕                        ０．０４６ｇ
・ボレート化合物                                    ０．０１０ｇ
テトラフェニルほう酸ナトリウム
・ラジカル重合性化合物
トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート
（ＮＫエステルＡ−９３００、新中村化学（株）製）  ０．１９２ｇ
・低分子親水性化合物                                ０．０６２ｇ
トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート
・低分子親水性化合物（１）〔下記〕                  ０．０５０ｇ
・感脂化剤                                          ０．０５５ｇ
ホスホニウム化合物（１）〔下記〕
・感脂化剤                                          ０．０１８ｇ
ベンジル−ジメチル−オクチルアンモニウム・ＰＦ６塩
・感脂化剤                                          ０．０３５ｇ
アンモニウム基含有ポリマー（１）
〔下記、還元比粘度４４ｍｌ／ｇ〕
・フッ素系界面活性剤（１）〔下記〕                  ０．００８ｇ
・２−ブタノン                                      １．０９１ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール                    ８．６０９ｇ
【０１７５】
＜ミクロゲル液＞
・ミクロゲル（１）                                  ２．６４０ｇ
・蒸留水                                            ２．４２５ｇ
【０１７６】
上記感光液に用いたバインダーポリマー（１）、重合開始剤（２）、赤外線吸収剤（２）、低分子親水性化合物（１）、ホスホニウム化合物（１）、アンモニウム基含有ポリマー（１）、および、フッ素系界面活性剤（１）の構造を以下に示す。
【０１７７】
【化１１】
2019162854.tif 000013
2019162854.tif 000014
【０１７８】
【化１２】
2019162854.tif 000015
2019162854.tif 000016
2019162854.tif 000017
【０１７９】
−ミクロゲル（１）の合成−
下記構造の多官能イソシアナート（三井化学（株）製；７５質量％酢酸エチル溶液）４．４６ｇ、トリメチロールプロパン（６モル）とキシレンジイソシアナート（１８モル）とを付加させ、これにメチル片末端ポリオキシエチレン（１モル、なおオキシエチレン単位の繰り返し数は９０）を付加させた付加体（三井化学（株）製；５０質量％酢酸エチル溶液）１０ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬（株）製、ＳＲ４４４）３．１５ｇ、および、パイオニンＡ−４１Ｃ（竹本油脂（株）製）０．１ｇを酢酸エチル１７ｇに溶解させ、油相成分を得た。また、ポリビニルアルコール（（株）クラレ製ＰＶＡ−２０５）の４質量％水溶液４０ｇを調製して、水相成分を得た。
油相成分および水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて１２０００ｒｐｍで１０分間乳化した。得られた乳化物を蒸留水２５ｇに添加し、得られた溶液を室温で３０分間攪拌後、さらに、５０℃で３時間攪拌した。得られたミクロゲルの固形分濃度を、１５質量％になるように蒸留水を用いて希釈し、これをミクロゲル（１）とした。ミクロゲル（１）の平均粒径を光散乱法により測定したところ、平均粒径は０．２μｍであった。
【０１８０】
【化１３】
2019162854.tif 000018
【０１８１】
〔画像記録層Ｂの形成方法〕
アルミニウム支持体上に、下記組成の画像記録層形成用塗布液Ｂを塗布した後、５０℃にて６０秒間乾燥し、乾燥塗布量１．０ｇ／ｍ２の画像記録層を形成した。
画像記録層形成用塗布液Ｂは、熱可塑性樹脂粒子、赤外線吸収剤ＩＲ−０１、ポリアクリル酸、および、界面活性剤を含み、ｐＨが３．６であった。
熱可塑性樹脂粒子：スチレン／アクリロニトリル共重合体（モル比５０／５０）、平均粒径：６１ｎｍ
赤外線吸収剤ＩＲ−０１：下記構造の赤外線吸収剤（Ｅｔはエチル基を表す。）
【０１８２】
【化１４】
2019162854.tif 000019
【０１８３】
ポリアクリル酸：重量平均分子量２５００００
界面活性剤：Ｚｏｎｙｌ  ＦＳＯ１００（Ｄｕ  Ｐｏｎｔ社製）
【０１８４】
また、上記各成分の塗布量は、以下の通りであった。
熱可塑性樹脂粒子：０．６９（ｇ／ｍ２）
赤外線吸収剤ＩＲ−０１：１．０３×１０−４（ｍｏｌ／ｍ２）
ポリアクリル酸：０．０９（ｇ／ｍ２）
界面活性剤：０．００７５（ｇ／ｍ２）
【０１８５】
〔画像記録層Ｃの形成方法〕
アルミニウム支持体上に、下記組成の画像記録層形成用塗布液Ｃをバー塗布した後、１００℃にて６０秒間でオーブン乾燥し、乾燥塗布量１．０ｇ／ｍ2の画像記録層を形成した。
【０１８６】
＜画像記録層形成用塗布液Ｃ＞
・重合性化合物１：０．１５質量部
・重合性化合物２：０．１質量部
・グラフトコポリマー２：０．８２５質量部
・Ｋｌｕｃｅｌ  Ｍ（Ｈｅｒｃｕｌｅｓ社製）：０．０２０質量部
・Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ２５０（ＢＡＳＦ社製）：０．０３２質量部
・赤外線吸収剤（１）：０．０２質量部
・テトラフェニルホウ酸ナトリウム：０．０３質量部
・Ｂｙｋ  ３３６（Ｂｙｋ  Ｃｈｅｍｉｅ社製）：０．０１５質量部
・Ｂｌａｃｋ−ＸＶ（山本化成（株））：０．０４質量部
・ｎ−プロパノール：７．４７０質量部
・水：１．８６８質量部
【０１８７】
重合性化合物１：ＵＡ５１０Ｈ（共栄社化学（株）製、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートとの反応物）
重合性化合物２：ＡＴＭ−４Ｅ（新中村化学工業（株）製、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート）
グラフトコポリマー２：ポリ（エチレングリコール）メチルエーテルメタクリレート／スチレン／アクリロニトリル＝１０：９：８１のグラフトコポリマーのポリマー粒子であり、これを、ｎ−プロパノール／水の質量比が８０／２０である溶媒中に、２４質量％含有している分散体である。また、その体積平均粒径は１９３ｎｍである。
赤外線吸収剤（１）：以下化合物
【０１８８】
【化１５】
2019162854.tif 000020
【０１８９】
〔保護層の形成〕
上記画像記録層上に、さらに下記組成の保護層塗布液（１）をバーコーター塗布した後、１２０℃にて６０秒間でオーブン乾燥し、乾燥塗布量０．１５ｇ／ｍ２の保護層を形成し、平版印刷版原版を作製した。
【０１９０】
＜保護層塗布液（１）＞
・無機質層状化合物分散液（１）                                  １．５ｇ
・ポリビニルアルコール（日本合成化学工業（株）製ＣＫＳ５０、スルホン酸変性、
けん化度９９モル％以上、重合度３００）６質量％水溶液          ０．５５ｇ
・ポリビニルアルコール（（株）クラレ製ＰＶＡ−４０５、けん化度８１．５モル％、
重合度５００）６質量％水溶液                                  ０．０３ｇ
【０１９１】
−無機質層状化合物分散液（１）の調製−
イオン交換水１９３．６質量部に合成雲母ソマシフＭＥ−１００（コープケミカル（株）製）６．４質量部を添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径（レーザー散乱法）が３μｍになるまで分散した。得られた分散粒子のアスペクト比は１００以上であった。
【０１９２】
［評価方法］
（１）耐刷性
得られた平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム（株）製Ｌｕｘｅｌ  ＰＬＡＴＥＳＥＴＴＥＲ  Ｔ−６０００ＩＩＩにて、外面ドラム回転数１０００ｒｐｍ、レーザー出力７０％、および、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光した。露光画像にはベタ画像および２０μｍドットＦＭ（Frequency Modulation）スクリーンの３％網点チャートを含むようにした。
得られた露光済み平版印刷版原版を現像処理することなく、（株）小森コーポレーション製印刷機ＬＩＴＨＲＯＮＥ２６の版胴に取り付けた。Ｅｃｏｌｉｔｙ−２（富士フイルム（株）製）／水道水＝２／９８（容量比）の湿し水とＶａｌｕｅｓ−Ｇ（Ｎ）墨インキ（大日本インキ化学工業（株）製）とを用い、ＬＩＴＨＲＯＮＥ２６の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時１００００枚の印刷速度で、特菱アート（７６．５ｋｇ）紙に印刷を行った。
印刷枚数を増やしていくと徐々に画像記録層が磨耗するため、印刷物上のインキ濃度が低下した。
ベタ画像の濃度が薄くなり始めたと目視で認められた時点の印刷枚数により、ベタ耐刷性として評価した。
また、印刷物におけるＦＭスクリーン３％網点の網点面積率をグレタグ濃度計で計測した値が印刷１００枚目の計測値よりも２０％低下したときの印刷部数を刷了枚数として小点耐刷性を評価した。結果を下記表２に示す。
【０１９３】
（２）耐汚れ性
上記（１）で得られた平版印刷版を用い、上記（１）と同様の方法で印刷を行い、１万枚印刷した後における非画像部のブランケットの汚れをテープに転写し、１ｃｍ２あたりのインキ汚れ面積が１％未満のものを「１００」と評価し、１％以上２％未満のものを「９０」と評価し、２％以上４％未満のものを「８０」と評価し、４％以上６％未満のものを「７０」と評価した。結果を下記表２に示す。
【０１９４】
（３）検版性（画像視認性）
検版性は、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ値（明度）を用い、露光部のＬ値と未露光部のＬ値の差ΔＬで表記した。ΔＬの値が大きい程、検版性が優れることを意味する。測定は、ＫＯＮＩＣＡ−ＭＩＮＯＬＴＡ製分光測色計ＣＭ２６００ｄとオペレーションソフトＣＭ−Ｓ１００Ｗを用い、ＳＣＥ（正反射光除去）方式で行った。結果を下記表２に示す。
【０１９５】
【表２】
2019162854.tif 000021
【０１９６】
上記表２に示すように、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面について、特定凹部を３０００個／ｍｍ２未満有する場合は、小点耐刷性が劣ることが分かった（比較例１〜４）。
これに対し、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面が、特定凹部を３０００個／ｍｍ２以上有することにより、平版印刷版としたときに小点耐刷性が良好となることが分かった（実施例１〜３２）。
【符号の説明】
【０１９７】
ｔａ  アノード反応時間
ｔｃ  カソード反応時間
ｔｐ  電流が０からピークに達するまでの時間
Ｉａ  アノードサイクル側のピーク時の電流
Ｉｃ  カソードサイクル側のピーク時の電流
１０    平版印刷版原版
１２ａ，１２ｂ    アルミニウム支持体
１４    下塗り層
１６    画像記録層
１８  アルミニウム板
２０ａ，２０ｂ    陽極酸化皮膜
２２ａ，２２ｂ    マイクロポア
２４    大径孔部
２６    小径孔部
５０  主電解槽
５１  交流電源
５２  ラジアルドラムローラ
５３ａ，５３ｂ  主極
５４  電解液供給口
５５  電解液
５６  補助陽極
６０  補助陽極槽
Ｗ  アルミニウム板
６１０  陽極酸化処理装置
６１２  給電槽
６１４  電解処理槽
６１６  アルミニウム板
６１８，６２６  電解液
６２０  給電電極
６２２，６２８  ローラ
６２４  ニップローラー
６３０  電解電極
６３２  槽壁
６３４  直流電源
【図１】
2019162854.tif 000022
【図２】
2019162854.tif 000023
【図３】
2019162854.tif 000024
【図４】
2019162854.tif 000025
【図５】
2019162854.tif 000026
【図６】
2019162854.tif 000027
【手続補正書】
【提出日】平成30年12月13日(2018.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウム支持体と、前記アルミニウム支持体上に配置された画像記録層と、を有する平版印刷版原版であって、
前記アルミニウム支持体が、アルミニウム板と、前記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを含み、
前記画像記録層が、前記アルミニウム支持体の前記陽極酸化皮膜側に配置され、
非接触三次元粗さ計を用いて、前記アルミニウム支持体の前記画像記録層側の表面の４００μｍ×４００μｍの範囲を測定して得られる、中心線からの深さが０．７０μｍ以上である凹部の密度が３０００個／ｍｍ２以上であり、
前記陽極酸化皮膜の皮膜量が、１．５ｇ／ｍ２以上である、平版印刷版原版。
【請求項２】
前記画像記録層が、下記式（ａ）で表されるシアニン色素を含む、請求項１に記載の平版印刷版原版。
【化１】
2019162854.tif 000028
式（ａ）中、Ｘ１は、水素原子、ハロゲン原子、−Ｎ（Ｒ９）（Ｒ１０）、−Ｘ２−Ｌ１、または、以下に示す基を表す。
【化２】
2019162854.tif 000029
Ｒ９およびＲ１０は、それぞれ独立に、芳香族炭化水素基、アルキル基、または、水素原子を表し、Ｒ９とＲ１０とが互いに結合して環を形成してもよい。
Ｘ２は酸素原子または硫黄原子を表し、Ｌ１はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数１〜１２の炭化水素基を表す。
Ｘａ−は、対アニオンを表す。
Ｒａは、水素原子、アルキル基、アリール基、アミノ基、また、ハロゲン原子を表す。
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の炭化水素基を表す。また、Ｒ１とＲ２とは互いに結合し環を形成してもよい。
Ａｒ１およびＡｒ２は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を表す。
Ｙ１およびＹ２は、それぞれ独立に、硫黄原子または炭素数１２個以下のジアルキルメチレン基を表す。
Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数２０個以下の炭化水素基を表す。
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１２個以下の炭化水素基を表す。
Ｚａ−は、対アニオンを表す。
【請求項３】
前記画像記録層が、熱可塑性ポリマー粒子を含む、請求項１または２に記載の平版印刷版原版。
【請求項４】
前記熱可塑性ポリマー粒子が、スチレン／アクリロニトリル共重合体である、請求項３に記載の平版印刷版原版。
【請求項５】
前記画像記録層上に保護層を含み、
前記保護層は、水溶性高分子化合物を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
【請求項６】
前記水溶性高分子化合物が、ポリビニルアルコールである、請求項５に記載の平版印刷版原版。
【請求項７】
前記画像記録層が、重合性化合物を含み、
前記重合性化合物が、イソシアネートとヒドロキシル基との付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
【請求項８】
前記画像記録層が、ボレート化合物を含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
【請求項９】
前記画像記録層が、架橋性を有するバインダーポリマーを含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
【請求項１０】
前記バインダーポリマーが、架橋性官能基を高分子の主鎖中または側鎖中に有する、請求項９に記載の平版印刷版原版。
【請求項１１】
前記陽極酸化皮膜が、前記アルミニウム板とは反対側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、
前記マイクロポアの前記陽極酸化皮膜表面における平均径が１０〜１５０ｎｍである、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の平版印刷版原版。
【請求項１２】
前記マイクロポアが、前記陽極酸化皮膜表面から深さ１０〜１０００ｎｍの位置までのびる大径孔部と、前記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ２０〜２０００ｎｍの位置までのびる小径孔部とから構成され、
前記大径孔部の前記陽極酸化皮膜表面における平均径が１５〜６０ｎｍであり、
前記小径孔部の前記連通位置における平均径が１３ｎｍ以下である、請求項１１に記載の平版印刷版原版。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、
画像様露光された前記平版印刷版原版の未露光部を除去する除去工程と、を含む、平版印刷版の製造方法。
【請求項１４】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程と、
印刷インキおよび湿し水の少なくとも一方を供給して、印刷機上で画像様露光された前記平版印刷版原版の未露光部を除去し、印刷を行う印刷工程と、を含む、印刷方法。