(57)【要約】【課題】セルおよび燃料電池の発電効率を向上させることができるセパレータを提供する。【解決手段】燃料電池用のセパレータであって、相互に隣接する凸条および凹条と、凸条の頂面に形成された複数の筋溝であって、各々が、凸条の凹条に隣接する縁から凸条の縁より少なくとも３０μｍ離れた位置まで延びる最小幅が０．１μｍ以上の複数の筋溝と、を備え、筋溝の最大幅が１０μｍ以下であり、Ｆ＝Ｄ×Ｗｍｉｎａで表される複数の筋溝の密度Ｆが０．５以上である、燃料電池用のセパレータ。ただし、Ｄは、筋溝が形成された凸条の頂面の領域のうち、長辺が凸条の縁を含む長さ５０μｍで、短辺が長さ３０μｍである矩形領域に存在する筋溝の数であり、Ｗｍｉｎａは、矩形領域に存在する筋溝の最小幅の平均（μｍ）である。【選択図】図３
2019160737.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
燃料電池用のセパレータであって、
相互に隣接する凸条および凹条と、
前記凸条の頂面に形成された複数の筋溝であって、各々が、前記凸条の前記凹条に隣接する縁から前記凸条の前記縁より少なくとも３０μｍ離れた位置まで延びる最小幅が０．１μｍ以上の複数の筋溝と、を備え、
前記筋溝の最大幅が１０μｍ以下であり、
下記式（１）で表される前記複数の筋溝の密度Ｆが０．５以上である、燃料電池用のセパレータ。
Ｆ＝Ｄ×Ｗｍｉｎａ  （１）
ただし、Ｄは、前記筋溝が形成された前記凸条の前記頂面の領域のうち、長辺が前記凸条の前記縁を含む長さ５０μｍで、短辺が長さ３０μｍである矩形領域に存在する前記筋溝の数であり、Ｗｍｉｎａは、前記矩形領域に存在する前記筋溝の最小幅の平均（μｍ）である。
【請求項２】
請求項１に記載のセパレータであって、
前記凸条および前記凹条が、純チタン、またはチタン合金からなる基材を含む、セパレータ。
【請求項３】
請求項１または２に記載のセパレータと、
前記凸条の頂面に接触するガス拡散層とを備える、セル。
【請求項４】
請求項３に記載のセルを備える、燃料電池。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、燃料電池用のセパレータ、このセパレータを備えるセル、およびこのセルを備える燃料電池に関する。
【背景技術】
【０００２】
導電性に優れた金属材料の用途として、電池の集電体がある。燃料電池用途では、このような金属材料は、セパレータとして利用される。たとえば、固体高分子形燃料電池では、固体高分子電解質膜を挟むように、１対のセパレータが配置される。セパレータは、燃料電池で発生した電流を集めて取り出す集電体としての機能を有する。
【０００３】
１対のセパレータの一方には、固体高分子電解質膜に対向する面に、燃料ガスを流すための流路としての溝（凹条）が形成されている。また、１対のセパレータの他方には、固体高分子電解質膜に対向する面に、酸化性ガスを流すための流路としての溝が形成されている。セパレータにおいて、溝が形成された面には、ガス拡散層（ＧＤＬ；Gas Diffusion Layer）が重ねられる。セパレータの溝を流れる燃料ガスまたは酸化性ガスは、ガス拡散層に供給される。燃料電池では、燃料ガスおよび酸化性ガスの反応により発電する。以下、燃料ガスと酸化性ガスとを総称して、「反応ガス」という。
【０００４】
溝に垂直なセパレータの断面において、溝の断面積が大きいほど、反応ガスを多く流すことができる。この場合、燃料ガスおよび酸化性ガスの反応量が多くなり、燃料電池から取り出すことができる電流が大きくなる。しかし、セパレータにおいて、溝の幅を大きくすることにより溝の断面積を増やすと、ガス拡散層に接触する部分（以下、「ＧＤＬ接触部」という。）の面積は小さくなる。この場合、セルとしての電気抵抗が高くなる。このため、発電量が増えても、電導時のジュール熱として損失が生じる。
【０００５】
溝を深く形成すれば、ＧＤＬ接触部の面積を小さくすることなく、溝の断面積を増やすことができる。しかし、この場合、セパレータの厚さが増大し、燃料電池の体積が増大する。その結果、燃料電池の容積あたりの発電量は低下してしまう。
【０００６】
ＧＤＬ接触部は、電気を取り出すための領域である。ＧＤＬ接触部に供給される反応ガスの量は、溝に供給される反応ガスの量よりも少ない。その結果、局所的な発電量は、ＧＤＬ接触部では溝に比して少ない。一方、溝では、反応ガスの供給量が多いため、効率的な発電が生じる。しかし、溝では電気を取り出すことができない。このように、セパレータにおいて、発電部と通電部とは分離している。この分離の大きさは、溝のピッチ程度であり、セパレータの板厚に比してかなり大きい。このため、燃料電池の発電効率を十分に高くすることはできなかった。
【０００７】
特許文献１では、反応ガスの流れを調整することが試みられている。その手段として、セパレータには、凹凸部が連続的に形成されたコレクタが備えられている。凹凸部により、反応ガスを三次元的に拡散させ、発電部および通電部それぞれで反応ガスの拡散にむらが生じることを抑制できる。
【０００８】
特許文献２には、セパレータの溝の側面に微小幅の溝を形成することが開示されている。このセパレータでは、微小幅の溝での毛細管現象により、微小幅の溝を介して、水素と酸素との反応により生じた水が外部に排出される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００９−２１０２２号公報
【特許文献２】特開２０１０−２３８６４５号公報
【非特許文献】
【００１０】
【非特許文献１】神戸製鋼技報、Vol.65、No.2、p.21-24 (2015)
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかし、特許文献１のセパレータでは、発電部と通電部との距離は、部材の厚さに比して著しく大きくなる。たとえば、セパレータの厚さが０．１ｍｍ程度であるとすると、発電部と通電部との距離は、少なくとも１ｍｍオーダーとなる。また、特許文献２のセパレータにおいて、微小幅の溝は、水を排出するための構造である。このため、特許文献１および２のセパレータは、通電部と発電部との分離を小さくする方法とはならない。
【００１２】
そこで、本発明の目的は、セルおよび燃料電池の発電効率を向上させることができるセパレータを提供することである。本発明の他の目的は、発電効率が向上されたセルおよび燃料電池を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
燃料電池用のセパレータであって、
相互に隣接する凸条および凹条と、
前記凸条の頂面に形成された複数の筋溝であって、各々が、前記凸条の前記凹条に隣接する縁から前記凸条の前記縁より少なくとも３０μｍ離れた位置まで延びる最小幅が０．１μｍ以上の複数の筋溝と、を備え、
前記筋溝の最大幅が１０μｍ以下であり、
下記式（１）で表される前記複数の筋溝の密度Ｆが０．５以上である、燃料電池用のセパレータ。
Ｆ＝Ｄ×Ｗｍｉｎａ  （１）
ただし、Ｄは、前記筋溝が形成された前記凸条の前記頂面の領域のうち、長辺が前記凸条の前記縁を含む長さ５０μｍで、短辺が長さ３０μｍである矩形領域に存在する前記筋溝の数であり、Ｗｍｉｎａは、前記矩形領域に存在する前記筋溝の最小幅の平均（μｍ）である。
【００１４】
本発明の実施形態のセルは、
前記セパレータと、
前記凸条の頂面に接触するガス拡散層と、
を備える。
本発明の実施形態の燃料電池は、前記セルを備える。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のセパレータは、セルおよび燃料電池の発電効率を向上させることができる。本発明のセルおよび燃料電池は、発電効率が向上されている。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１Ａ】図１Ａは、本発明の一実施形態に係るセパレータを含む固体高分子形燃料電池の斜視図である。
【図１Ｂ】図１Ｂは、燃料電池のセル（単セル）の分解斜視図である。
【図２】図２は、セパレータの平面図である。
【図３】図３は、図２に示すセパレータにおいて、ＧＤＬ接触部の縁近傍を拡大して示す図である。
【図４Ａ】図４Ａは、ＧＤＬ接触部における筋溝形成領域の一例を示す平面図である。
【図４Ｂ】図４Ｂは、ＧＤＬ接触部における筋溝形成領域の一例を示す平面図である。
【図４Ｃ】図４Ｃは、ＧＤＬ接触部における筋溝形成領域の一例を示す平面図である。
【図４Ｄ】図４Ｄは、ＧＤＬ接触部における筋溝形成領域の一例を示す平面図である。
【図５】図５は、工程１〜工程３を経て得られた基材および脆化層の断面図である。
【図６】図６は、試料の接触抵抗を測定する装置の構成を示す図である。
【図７Ａ】図７Ａは、本発明例３のセパレータにおけるＧＤＬ接触部のＳＥＭ像である。
【図７Ｂ】図７Ｂは、本発明例１１のセパレータにおけるＧＤＬ接触部のＳＥＭ像である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。以下の説明で、特に断りがない限り、化学組成について、「％」は質量％を意味する。
【００１８】
［燃料電池及びセル］
図１Ａは、本発明の一実施形態に係るセパレータを含む固体高分子形燃料電池の斜視図である。図１Ｂは、燃料電池のセル（単セル）の分解斜視図である。図１Ａおよび図１Ｂに示すように、燃料電池１は単セルの集合体である。燃料電池１において、複数のセルが積層され直列に接続されている。
【００１９】
図１Ｂに示すように、単セルでは、固体高分子電解質膜２の一面および他面に、それぞれ、燃料電極膜（アノード）３、および酸化剤電極膜（カソード）４が積層されている。そして、この積層体の両面にそれぞれセパレータ５ａ、５ｂが重ねられている。図１Ｂでは、セパレータ５ａ、５ｂの周縁部は図示を省略している。
【００２０】
固体高分子電解質膜２を構成する代表的な材料として、水素イオン（プロトン）交換基を有するふっ素系イオン交換樹脂膜がある。燃料電極膜３および酸化剤電極膜４は、カーボンシートからなるガス拡散層と、ガス拡散層の固体高分子電解質膜２側の表面に接するように設けられた触媒層とを備える。カーボンシートは、カーボン繊維から構成される。カーボンシートとしては、カーボンペーパ、またはカーボンクロスが用いられる。触媒層は、粒子状の白金触媒と、触媒担持用カーボンと、水素イオン（プロトン）交換基を有するふっ素樹脂とを有する。固体高分子電解質膜２、燃料電極膜３、および酸化剤電極膜４は、これらが貼り合わされた一体的な構成部材であるＭＥＡ(Membrane Electrode Assembly)として用いられることがある。
【００２１】
セパレータ５ａ、５ｂは、相互に隣接する凸条および凹条６ａ、６ｂを含む。セパレータ５ａに形成された凹条６ａには、燃料ガス（水素または水素含有ガス）Ｇ１が流される。これにより、燃料電極膜３のガス拡散層に燃料ガスＧ１が供給される。燃料電極膜３では、燃料ガスＧ１はガス拡散層を透過して触媒層に至る。また、セパレータ５ｂに形成された凹条６ｂには、空気等の酸化性ガスＧ２が流される。これにより、酸化剤電極膜４のガス拡散層に酸化性ガスＧ２が流される。酸化剤電極膜４では、酸化性ガスＧ２はガス拡散層を透過して触媒層に至る。これらのガスにより、電気化学反応が生じて、燃料電極膜３と酸化剤電極膜４との間に、直流電圧が発生する。
【００２２】
固体高分子電解質膜２とセパレータ５ｂとの間では、水素イオンと酸素イオンとの反応により、水が生成する。セパレータ５ｂに形成された凹条６ｂは、生成した水を外部に排出する流路としても機能する。
【００２３】
［セパレータ］
セパレータ５ａ、５ｂは、金属からなる基材を有する。純チタン、またはチタン合金は、導電性、および燃料電池内での耐食性が高いので、基材を構成する金属として好ましい。ここで、「純チタン」とは、９８．８％以上のＴｉを含有し、残部が不純物からなる金属材を意味する。純チタンとして、たとえば、ＪＩＳ１種〜ＪＩＳ４種の純チタンを用いることができる。これらのうち、ＪＩＳ１種およびＪＩＳ２種の純チタンは、経済性に優れ、加工しやすいという利点を有する。「チタン合金」とは、７０％以上のＴｉを含有し、残部が合金元素と不純物元素とからなる金属材を意味する。チタン合金として、たとえば、耐食用途のＪＩＳ１１種、１３種、もしくは１７種、または高強度用途のＪＩＳ６０種を用いることができる。
【００２４】
基材を構成する金属は、ステンレス鋼等、純チタンおよびチタン合金以外の金属であってもよい。セパレータ５ａ、５ｂの表層部には、酸化物、窒化物、または炭化物が存在していてもよい。
【００２５】
以下では、セパレータ５ａ、５ｂの構造を、セパレータ５ａを例に説明する。セパレータ５ｂは、セパレータ５ａと同様の構造を有し、同様の効果を奏することができる。
【００２６】
図２は、セパレータ５ａの平面図である。図２には、セパレータ５ａにおいて固体高分子電解質膜２に対向する面（以下、「対向面」という。）を示す。セパレータ５ａは、矩形状である。凸条の頂部としてのガス拡散層接触部（以下、「ＧＤＬ接触部」という。）１１は、燃料電極膜３のガス拡散層に接触する。ＧＤＬ接触部１１の表面は、ほぼ同一平面上にある。凹条６ａは、ＧＤＬ接触部１１に隣接している。凹条６ａは、固体高分子電解質膜２側から見て、ＧＤＬ接触部１１に対して凹んでいる。
【００２７】
セパレータ５ａは、矩形であるので、図２の平面図において、２対の対辺を含む。これらのうち、１対の対辺（図２において、左右の対辺）を、以下、「第１の辺」および「第２の辺」という。凹条６ａは、この実施形態では、セパレータ５ａの第１および第２の辺に垂直に延びる複数の第１部分６ａ１と、隣接する２つの第１部分６ａ１をつなぐ複数の第２部分６ａ２とを有する。第１部分６ａ１は、第１の辺の近傍と第２の辺の近傍との間に渡って延びている。
【００２８】
複数の第１部分６ａ１は、対向面のほぼ全域にわたって、均等に形成されている。すなわち、複数の第１部分６ａ１は、互いにほぼ同じ幅を有するとともに、ほぼ同じピッチで形成されている。第１部分６ａ１の幅方向に関して、複数の第１部分６ａ１は、対向面の一端近傍から他端近傍に渡って形成されている。以上の構成により、凹条６ａにより、燃料ガスを対向面に渡って流すことができる。図２に、燃料ガスが流れる方向を矢印で示す。
【００２９】
凹条６ａの幅は、１〜３ｍｍであることが好ましい。凹条６ａの幅が１ｍｍ以上であれば、凹条６ａにおいてガスの導入部と排出部との間の圧力損失を小さくし、燃料ガスの流量を十分に確保することができる。その結果、ガスの滞留、および結露を生じ難くすることができる。
【００３０】
一方、燃料電池内では、セパレータ５ａには、燃料電極膜３のガス拡散層が押しつけられている。このとき、ガス拡散層を構成するカーボン繊維が変形して、カーボン繊維の一部が凹条６ａ内に入り込むことがある。この場合、凹条６ａの横断面積（凹条の長さ方向に垂直な断面における凹条６ａの面積）は、実質的に小さくなる。これにより、凹条６ａに流れる燃料ガスの流量が低下する。凹条６ａの幅が３ｍｍ以下であれば、凹条６ａ内に入り込むカーボン繊維の量を少なくして、燃料ガスの流量を十分に確保することができる。
【００３１】
凹条６ａの深さは、凹条６ａの幅の半分程度、すなわち、０．５〜１．５ｍｍであることが好ましい。凹条６ａの深さが０．５ｍｍ以上であれば、凹条６ａにおいてガスの導入部と排出部との間の圧力損失を小さくし、燃料ガスの流量を十分に確保することができる。凹条６ａの深さが１．５ｍｍ以下であれば、セルの厚さを十分に薄くすることができる。
【００３２】
対向面において、凹条６ａの面積とＧＤＬ接触部１１の面積とは、ほぼ同じであることが好ましい。対向面において、凹条６ａ以外の部分は、大部分、ＧＤＬ接触部１１である。対向面を垂直に見て、対向面の面積に占める凹条６ａの面積の割合は、たとえば、４０〜６０％であることが好ましい。この場合、ＧＤＬ接触部１１とガス拡散層との接触による通電量と、凹条６ａを流れる燃料ガスによる発電量とのバランスを保ち、セルとしての発電量を大きくすることができる。
【００３３】
図３は、図２に示すセパレータ５ａにおいて、ＧＤＬ接触部１１の縁Ｂ近傍を拡大して示す図である。縁Ｂは、ＧＤＬ接触部１１と凹条６ａとの境界である。凹条６ａの内側面（図３で紙面にほぼ垂直な面）とＧＤＬ接触部１１とが曲面を介して相互に移行する場合は、縁Ｂは、その曲面とＧＤＬ接触部１１との境界線とする。
【００３４】
ＧＤＬ接触部１１の表層部には、複数の微細溝が形成されている。ＧＤＬ接触部１１において、縁Ｂに隣接する幅が３０μｍの領域を、以下、「隣接領域」Ａという。隣接領域Ａは、ＧＤＬ接触部１１において、縁Ｂと、縁Ｂから３０μｍ離れた位置にある線（以下、「内方区画線」という。）Ｄとの間の領域である。複数の微細溝のうち一部の微細溝Ｃ１〜Ｃ８は、隣接領域Ａ内に少なくとも一部が入る。
【００３５】
微細溝は、直線状に延びていてもよい。また、微細溝は、折れ曲がり部、および曲線状の部分の少なくとも一方を有していてもよい。この実施形態では、微細溝Ｃ１〜Ｃ８は、縁Ｂにほぼ垂直に延びている。しかし、微細溝は、縁Ｂに斜交する方向に延びていてもよい。微細溝Ｃ１〜Ｃ８は、隣接領域Ａから、隣接領域Ａ外の領域（凹条６ａの内面、およびＧＤＬ接触部１１内で隣接領域Ａ外の領域の少なくとも一方）に延びている。
【００３６】
微細溝Ｃ１〜Ｃ８の各々の最大幅は、１０μｍ以下である。これにより、セパレータ５ａの強度は、実質的に低下しない。また、微細溝Ｃ１〜Ｃ８の幅が大きすぎると、燃料電池内の環境でセパレータ５ａの耐食性が低下することがある。微細溝Ｃ１〜Ｃ８の最大幅を１０μｍ以下とすることにより、セパレータ５ａの耐食性を高く保つことができる。
【００３７】
微細溝Ｃ１〜Ｃ８は、たとえば、後述するように、基材の表層部に形成された脆化層にひずみを与えることにより生じる微細な亀裂とすることができる。このようにして形成される亀裂の最大幅は、亀裂毎に、そして、基材上の領域毎には、大幅には変わらない。このため、隣接領域Ａの一部で微細溝Ｃ１〜Ｃ８の最大幅が１０μｍ以下であることが確認できると、セパレータ５ａ全体について、微細溝は、幅が１０μｍを超える部分を有さないと判断することができる。
【００３８】
微細溝Ｃ１〜Ｃ８のうち、下記(i)および(ii)の要件を満たすものを、以下、「筋溝」という。下記(ii)の要件に関しては、ＧＤＬ接触部１１の表面（凸条の頂面）の領域のうち、長辺が縁Ｂを含む長さ５０μｍで、短辺が長さ３０μｍである矩形領域Ｒについて判断する。筋溝は、矩形領域Ｒ外で、幅が０．１μｍ未満の部分を有してもよい。
(i)縁Ｂから少なくとも内方区画線Ｄまで延びる。
(ii)最小幅が０．１μｍ以上である。
【００３９】
微細溝Ｃ１〜Ｃ８のうち、上記(i)の要件を満たすものは、微細溝Ｃ１〜Ｃ３、Ｃ６、Ｃ７である。これらは、いずれも、上記(ii)の要件を満たすものとする。したがって、微細溝Ｃ１〜Ｃ３、Ｃ６、Ｃ７は、筋溝である。
【００４０】
下記式（１）で表される筋溝Ｃ１〜Ｃ３、Ｃ６、Ｃ７の密度Ｆは、０．５以上である。
Ｆ＝Ｄ×Ｗｍｉｎａ  （１）
ここで、Ｄは、矩形領域Ｒに存在する筋溝Ｃ１〜Ｃ３の数である。微細溝についての「幅」は、ＧＤＬ接触部１１表面での開口部における幅である。Ｗｍｉｎａは、矩形領域Ｒに存在する筋溝Ｃ１〜Ｃ３の最小幅の平均（μｍ）である。
【００４１】
図３の例では、Ｄは３である。微細溝Ｃ１、Ｃ２およびＣ３の最小幅を、それぞれ、Ｗ１（μｍ）、Ｗ２（μｍ）、およびＷ３（μｍ）とする。Ｗｍｉｎａは、（Ｗ１＋Ｗ２＋Ｗ３）／３である。したがって、密度Ｆは、３×（Ｗ１＋Ｗ２＋Ｗ３）／３＝Ｗ１＋Ｗ２＋Ｗ３である。このように、式（１）の右辺は、矩形領域Ｒにおける筋溝Ｃ１〜Ｃ３それぞれの最小幅の合計に等しい。
【００４２】
微細溝Ｃ１〜Ｃ４、Ｃ６〜Ｃ８は、縁Ｂから延びているので、凹条６ａの内部に連通している。このため、凹条６ａを流れる燃料ガスは、微細溝Ｃ１〜Ｃ４、Ｃ６〜Ｃ８内に導入される。これにより、ＧＤＬ接触部１１の領域内において、発電を生じさせることができる。ただし、ＧＤＬ接触部１１内で縁Ｂからの長さが短い微細溝、および隣接領域Ａ内で最小幅が狭い溝は、ＧＤＬ接触部１１の領域内で発電を生じさせることには、十分に寄与しない。
【００４３】
筋溝の密度Ｆが０．５以上であることにより、ＧＤＬ接触部１１において、縁Ｂから３０μｍ以上内方の領域まで、多くの燃料ガスを供給することができる。このため、ＧＤＬ接触部１１の領域内で発電量を十分に向上させることができる。セパレータ５ｂ（図１Ｂ参照）はセパレータ５ａと同様の構造を有するので、セパレータ５ｂの筋溝の密度Ｆは０．５以上である。これにより、セパレータ５ｂのＧＤＬ接触部１１において、ＧＤＬ接触部１１の縁から３０μｍ以上内方の領域まで、酸化性ガスを十分に供給することができる。
【００４４】
したがって、セパレータ５ａ、５ｂは、セルおよび燃料電池の発電効率を向上させることができる。セパレータ５ａ、５ｂを備えたセルおよび燃料電池は、発電効率が向上されている。
【００４５】
上記効果を十分に奏するためには、密度Ｆは、１以上であることが好ましく、２以上であることがより好ましい。
【００４６】
密度Ｆが０．５、１または２以上であるとの要件は、隣接領域Ａ内に設定し得るすべての矩形領域Ｒについて満たされる必要はなく、隣接領域Ａ内の一部の矩形領域Ｒについて満たされればよい。この要件が満たされる矩形領域Ｒで、発電量を向上させる効果が得られる。
【００４７】
また、下記式（２）で表される最大幅密度Ｇが４０以下であることが好ましい。
Ｇ＝Ｄ×Ｗｍａｘａ  （２）
ただし、Ｗｍａｘａは、矩形領域Ｒに存在する筋溝Ｃ１〜Ｃ３の最大幅の平均（μｍ）である。
【００４８】
最大幅密度Ｇは、各筋溝Ｃ１〜Ｃ３について、幅が最大となる部分の断面積の合計に関係している。幅密度Ｇが４０以下であることにより、微細溝が形成されていない領域の面積がある程度広く保たれる。これにより、矩形領域Ｒ（隣接領域Ａ）が脆くなって欠けることを抑制することができる。このような効果を十分に奏するため、最大幅密度Ｇは、３５以下であることがより好ましく、３０以下であることがさらに好ましい。
【００４９】
微細溝が折れ曲がり部または曲線状の部分を有すると、その部分で燃料ガスの流れが抑制される。この場合、微細溝に導入された燃料ガスは、ＧＤＬ接触部１１の内方の領域に効率的には供給されない。このため、微細溝は、折れ曲がり部または曲線状の部分を有さず、直線状に延びることが好ましい。
【００５０】
微細溝は、セパレータ５ａ、５ｂにおいて、対向面の全面（凹条の内面を含む。）に渡って形成されていてもよい。また、筋溝は、隣接領域Ａ内を含む一部の領域にのみ形成されていてもよい。図４Ａ〜図４Ｄは、ＧＤＬ接触部１１における筋溝形成領域の一例を示す平面図である。
【００５１】
図４Ａおよび図４Ｃに示すように、筋溝Ｃ２１、Ｃ２３は、ＧＤＬ接触部１１において、幅方向の端部近傍にのみ形成されていてもよい。この場合、ＧＤＬ接触部１１の幅方向中央部には、筋溝Ｃ２１、Ｃ２３が形成されていない領域が存在する。また、図４Ａに示すように、ＧＤＬ接触部１１の幅方向の一方側の筋溝Ｃ２１と反対側の筋溝Ｃ２１とは、同一直線上にのるように形成されていてもよい。図４Ｃに示すように、ＧＤＬ接触部１１の幅方向の一方側の筋溝Ｃ２３と反対側の筋溝Ｃ２３とは、同一直線上にのらないように形成されていてもよい。
【００５２】
図４Ｂに示すように、筋溝Ｃ２２は、ＧＤＬ接触部１１の幅方向に渡って連続して形成されていてもよい。図４Ｄに示すように、筋溝Ｃ２４は、ＧＤＬ接触部１１の幅方向の一方側にのみ形成されていてもよい。
【００５３】
以上、燃料電池が固体高分子形燃料電池である場合について説明したが、燃料電池は、それ以外の燃料電池、たとえば、固体電解質形、溶融炭酸塩形、またはリン酸形の燃料電池であってもよい。
【００５４】
［セパレータの製造方法］
本発明のセパレータを製造する方法は、特に限定されない。一例として、本発明のセパレータは、基材の表層部に脆化層を形成する脆化層形成工程と、脆化層にひずみを与えて、脆化層に亀裂を生じさせる亀裂生成工程とを含む方法により製造することができる。この方法により、筋溝としての亀裂を安価に形成することができる。
【００５５】
脆化層は、たとえば、基材の表層部に対して、酸化処理、窒化処理、または炭化処理を施すことによって形成することができる。これらの場合、酸化処理、窒化処理、または炭化処理により、それぞれ形成される化合物である酸化物、窒化物、または炭化物の層は、脆化層の少なくとも一部をなす。酸化処理により得られる酸化物の層が導電性を有さない場合は、酸化物の層に還元処理を施すことによって、酸化物の層に導電性を付与する。
【００５６】
これらの化合物の層と基材の金属部との間で、基材の深さ方向に関して組成が急激に変化すると、脆化層の少なくとも一部をなす化合物の層が、亀裂形成時に、基材から剥離しやすい。この場合、熱処理により元素を拡散させて、化合物の層と基材との間に、これらの中間的な組成を有する遷移層を形成することが好ましい。これにより、基材に対する化合物の層の密着性を高くすることができる。
【００５７】
〈基材が純チタンまたはチタン合金からなる場合〉
セパレータを製造する方法は、以下に説明する工程１〜工程３を含んでもよい。
【００５８】
工程１
この工程では、脆化層形成工程として、基材の表層部に、酸化処理により、主としてＴｉＯ２からなる酸化皮膜を生成させる。この場合、酸化皮膜は、少なくとも脆化層の一部をなす。酸化処理は、たとえば、酸化性雰囲気（たとえば、大気雰囲気）中での熱処理、または陽極酸化処理とすることができる。亀裂は脆化層に導入されるので、厚い脆化層を形成することにより、深い亀裂（筋溝）を形成することができる。陽極酸化により、基材の表層部に、厚い（たとえば、厚さが３０ｎｍ以上の）均質な酸化皮膜を、容易に形成することができる。このため、工程１では、陽極酸化処理を行うことが好ましい。
【００５９】
陽極酸化処理は、チタンの一般的な陽極酸化に用いられる水溶液、たとえば、リン酸水溶液、硫酸水溶液等を用いて実施することが可能である。陽極酸化の電圧は、１５Ｖ以上で、絶縁破壊を起こさない上限の電圧（約１５０Ｖ）未満とする。ＴｉＯ２の結晶構造がアナターゼ型である場合は、ＴｉＯ２がルチル型またはブルッカイト型である場合に比して、次に実施する工程２（還元処理）で、より多くの低次酸化物を生成できる。陽極酸化の電圧を４０Ｖ以上とすることにより、酸化皮膜のＴｉＯ２の結晶構造をアナターゼ型にすることができる。このため、陽極酸化の電圧は、４０Ｖ以上とすることが好ましい。陽極酸化の電圧は、１１５Ｖ以下とすることが好ましい。１１５Ｖは、工業的に容易にチタンの陽極酸化が可能な上限の電圧である。
【００６０】
工程２
工程２では、酸化皮膜に還元処理を施す。ＴｉＯ２は、導電性を実質的に有さない。したがって、工程１で形成された酸化皮膜は、導電性を実質的に有さない。一方、ＴｉＯ２を還元して得られるＴｉＯ、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ３Ｏ５、Ｔｉ４Ｏ７等の低次酸化物（ＴｉｎＯ（２ｎ−１））は導電性を有する。したがって、工程２を実施することにより、工程１で形成された酸化皮膜に導電性を付与することができる。
【００６１】
還元処理は、たとえば、酸化皮膜を、還元に寄与する炭素を含む炭素源で被覆し、その後、低酸素分圧（たとえば、酸素分圧が１０−２Ｐａ以下）の雰囲気で熱処理を施すことにより行うことができる。この方法によれば、ＴｉＯ２が還元されて低次酸化物が形成される。このとき、たとえば、以下の反応が生じる。
２ＴｉＯ２＋Ｃ→Ｔｉ２Ｏ３＋ＣＯ↑
【００６２】
また、熱処理を行うことにより、チタン酸化物中のＯ、および還元に用いるＣ（炭素）が基材中に拡散し、低次酸化物の層の下に、ＯおよびＣがＴｉに固溶した固溶層が形成される。αチタン相のｃ軸の格子定数は、ＯおよびＣを固溶することにより大きくなる。したがって、αチタン相のｃ軸の格子定数は、ＯおよびＣの固溶量の指標となる。
【００６３】
固溶層におけるαチタン相のｃ軸の格子定数は、０．４７２ｎｍ以上であることが好ましい。このような固溶層には、亀裂が生じやすい。すなわち、このような固溶層は、脆化層の一部として機能する。このような効果を十分に奏するため、固溶層において、αチタン相のｃ軸の格子定数は０．４７４ｎｍ以上であることがより好ましい。また、固溶層は、過剰にＯおよびＣを含むと、脆くなりすぎる。このため、固溶層において、αチタン相のｃ軸の格子定数は、０．４８０ｎｍ以下であることが好ましく、０．４７８ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００６４】
また、固溶層は、上述の遷移層としても機能する。すなわち、固溶層を設けることにより、固溶層が形成されていなかった場合に比して、基材から酸化皮膜が剥離しにくくすることができる。
【００６５】
炭素源として、たとえば、ポリビニールアルコール（以下、「ＰＶＡ」という。）、またはカルボキシメチルセルロース（以下、「ＣＭＣ」という。）などＣとＨとで構成された有機物を用いることができる。また、炭素源として、アクリル塗料等、樹脂系塗料を用いてもよい。ＰＶＡ、ＣＭＣ、およびアクリルは、いずれも、低酸素分圧雰囲気で加熱すると、炭素化する。
【００６６】
ＰＶＡおよびＣＭＣは、水溶性である。このため、ＰＶＡまたはＣＭＣの水溶液を酸化皮膜の表面に塗布することにより、酸化皮膜の表面を炭素源で被覆することができる。ＰＶＡまたはＣＭＣの水溶液は適度の粘度を有するので、塗布しやすい。また、アクリル塗料を酸化皮膜の表面に塗布することにより、酸化皮膜の表面を炭素源で被覆してもよい。
【００６７】
炭素源を被覆する他の方法として、表層部に酸化皮膜を形成した基材に、圧延油を用いたスキンパス圧延（圧下率が５％以下の圧延）を施すことが挙げられる。これにより、炭素源としての圧延油を、酸化皮膜の表面に付着させることができる。圧下率が５％を超えると、酸化皮膜が破壊されて、基材を構成する金属が露出する。露出した金属の部分には、亀裂が生じない。したがって、圧延油を付着させるための圧延として、スキンパス圧延を採用することが好ましい。
【００６８】
また、塊状（ブロック状等）の導電性炭素材を酸化皮膜に対して摺動させることによって、酸化皮膜に導電性炭素材を付着させてもよい。これによっても、酸化皮膜を、炭素源としての導電性炭素材で被覆することができる。経済性が許せば、蒸着により、酸化皮膜をＣで被覆してもよい。
【００６９】
還元処理の温度は、６００℃以上８５０℃以下とすることが好ましい。還元処理の温度が６００℃未満であると、ＴｉＯ２の還元がほとんど進行しない。また、還元処理の温度が８５０℃を超えると、基材中へのＣの拡散速度が大きくなり、炭化チタン（ＴｉＣ）が形成される可能性がある。炭化チタンは、酸性環境で溶解する。燃料電池内は酸性環境であるので、炭化チタンが形成されたセパレータは、耐食性に乏しい。
【００７０】
還元処理の時間は、所定の温度に到達してからの保持時間として、１０秒以上１０分以下であることが好ましい。保持時間が１０秒未満であると、ＴｉＯ２の還元がほとんど進行しない。保持時間が１０分を超えると、炭化チタンが形成される可能性がある。
【００７１】
上記の温度および保持時間では、低次酸化物を形成することができるのみならず、低次酸化物の下に、固溶層を形成することもできる。
【００７２】
工程３
この工程では、脆化層にひずみを与えて、亀裂（セパレータにおける、筋溝を含む微細溝）を、脆化層に形成する。脆化層にひずみを与える方法として、たとえば、工程２を経た基材に、所定の延伸率で、スキンパス圧延または冷間圧延を施すことが挙げられる。圧延により生じる歪みにより、脆化層に亀裂を生じさせることができる。ただし、圧延による基材の変形量は、基材の延性範囲内とする。基材の圧延部に対して圧延方向に張力を与えると、圧延方向とほぼ垂直に延びる亀裂が形成される。すなわち、亀裂の幅方向は、圧延方向とほぼ平行になる。
【００７３】
亀裂を形成するための圧延に用いる圧延機は、延伸率を制御できるものであれば、特に限定されない。ただし、工程３の後、通常、基材を最終的なセパレータ形状にプレス成形するため、工程３での圧延は、厚さが０．１〜０．２ｍｍ程度の薄い基材に対して実施することになる。このため、バックアップロールの剛性が高く、高精度の圧延ができるクラスター圧延機、たとえば、直列６段式圧延機、またはゼンジミア圧延機を用いることが好ましい。
【００７４】
図５は、工程１〜工程３を経て得られた基材および脆化層の断面図である。純チタンまたはチタン合金からなる基材１５の上には、固溶層１７が形成されている。固溶層１７の上には、酸化皮膜１８が形成されている。酸化皮膜１８および固溶層１７は、脆化層１６を構成する。亀裂Ｃは、脆化層１６に形成されており、基材１５には至っていない。なお、実際には、基材１５と固溶層１７との間では、酸素濃度および炭素濃度等の組成は連続的に変化しており、明りょうな境界は有さない。
【００７５】
〈基材が純チタンおよびチタン合金以外の金属からなる場合〉
基材には、純チタンおよびチタン合金以外の金属として、たとえば、ステンレス鋼、Ｎｉ基合金、またはアルミニウム合金を用いることができる。ステンレス鋼、Ｎｉ基合金、またはアルミニウム合金からなる基材に対しては、たとえば、表層部を窒化することにより、脆化層を形成することができる。
【００７６】
ステンレス鋼からなる基材の表層部を窒化する方法として、たとえば、窒化炉を用い、アンモニアガス雰囲気中、４５０〜６５０℃で２〜４０時間熱処理することが挙げられる。熱処理温度が４５０℃未満である場合、および熱処理時間が２時間未満である場合は、窒化物の層が十分に形成されない。熱処理温度が６５０℃を超える場合、および熱処理時間が４０時間を超える場合は、窒化物が過剰に形成され、基材およびセパレータの強度が低下する。
【００７７】
Ｎｉ基合金およびアルミニウム合金は、難窒化性である。このため、Ｎｉ基合金およびアルミニウム合金からなる基材に対しては、プラズマイオン窒化（ＰＩＮ；Plasma Ion Nitriding）処理により、表層部を窒化することが好ましい。プラズマイオン窒化処理では、基材を構成する材料により、形成される窒化物の層の厚さが変わる。このため、基材を構成する材料ごとに、プラズマイオン窒化処理の条件を調整する必要がある。
【００７８】
また、アルミニウム合金は低融点であるため、アルミニウム合金からなる基材に対してプラズマイオン窒化処理を施す際は、基材の温度がアルミニウム合金の融点を超えないように注意する必要がある。また、アルミニウム合金の表層部には、強固なＡｌ２Ｏ３の皮膜が形成されている。この皮膜は、窒化を阻害する。このため、表面にＡｌ２Ｏ３の皮膜が形成された基材に対しては、窒化処理チャンバー内で、まず、アルゴンスパッタにより皮膜を除去し、その後大気開放することなく、同一チャンバー内でプラズマイオン窒化処理を行うことが好ましい。
【００７９】
〈筋溝の他の形成方法〉
筋溝の形成方法は、上記の方法に限られず、たとえば、リソグラフィ等の電子材料の微細加工に用いる方法、またはイオンビームを用いる加工方法であってもよい。これらの方法によれば、図４Ａ〜４Ｄに示すように、所定の領域に所定の長さを有する筋溝Ｃ２１〜Ｃ２４を形成することができる。ただし、これらの方法は、脆化層を形成する上記の方法に比して、量産性が低く、コスト高となる。
【００８０】
〈セパレータ形状への成形方法〉
筋溝を形成した後、基材を、セパレータ形状、すなわち、対向面に、凹条、およびＧＤＬ接触部を有する形状に成形する。成形は、量産性を高くするため、プレス加工により行うことが好ましい。形成すべき凹条の主たる長さ方向（図２の例では、第１部分６ａ１の長さ方向）を、亀裂生成工程での圧延方向と一致させることにより、大部分の筋溝（微細溝）を凹条に直交させることができる。
【実施例】
【００８１】
本発明の効果を確認するため、セパレータの試料を作製し、評価した。
【００８２】
［試料の作製］
表１に、用いた基材を構成する材料を示す。基材を構成する材料は、純チタン（基材Ａ）、チタン合金（基材Ｂ）、ステンレス鋼（基材Ｃ〜Ｆ）、ニッケル基合金（基材Ｇ）、およびアルミニウム合金（基材Ｈ）であった。表２に、基材ＡおよびＢの組成（単位は、質量％）を示す。基材は、いずれも、厚さが０．１ｍｍの平板材であった。基材の主面は、矩形状であった。
【００８３】
【表１】
2019160737.tif 000003
【００８４】
【表２】
2019160737.tif 000004
【００８５】
基材の表層部に脆化層を形成した。ただし、比較例として、一部の試料については脆化層を形成しなかった。表３に、試料の作製条件および評価結果を示す。
【００８６】
【表３】
2019160737.tif 000005
【００８７】
脆化層は、以下の方法のいずれかにより形成した。
ａ：陽極酸化処理、および還元熱処理
ｂ：窒素を含む雰囲気中での加熱による窒化処理
ｃ：プラズマイオン窒化処理
【００８８】
基材ＡおよびＢに対しては、方法ａにより脆化層を形成した。基材Ｃ〜Ｆに対しては、方法ｂにより脆化層を形成した。基材ＧおよびＨに対しては、方法ｃにより脆化層を形成した。
【００８９】
陽極酸化は、１０質量％硫酸水溶液中で行った。このとき、白金製の対極を用い、直流安定化電源により、対極と基材との間に、表３に示す電圧を印加した。電圧印加後、対極と基材との間に流れる電流が除々に小さくなり低位に安定してから３０秒間保持して、処理を終了した。
【００９０】
陽極酸化により、試料の表層部には、主としてＴｉＯ２からなる酸化皮膜が形成された。そこで、ＴｉＯ２を低次酸化物に還元して酸化皮膜に導電性を付与するため、試料に対して還元熱処理を施した。まず、陽極酸化を行った試料を、以下の方法により、炭素源で被覆した。炭素源として、キシダ化学社製のＰＶＡを用いた。このＰＶＡは、重合度が５００で、けん化度が８６．５〜８９であった。このＰＶＡを１０質量％含む水溶液を作製した。そして、室温で、試料を、この水溶液に浸漬した後、引き上げた。これにより、試料の表面にＰＶＡの水溶液を塗布した。その後、この試料を、１日、大気乾燥した。
【００９１】
得られた試料を、アルゴンガス雰囲気中、７２０℃で３０秒加熱することにより還元熱処理した。
【００９２】
窒素を含む雰囲気中での加熱による窒化処理は、アンモニアガス雰囲気中、５２０℃で１０時間加熱することにより行った。
【００９３】
プラズマイオン窒化処理は、窒化層の厚さが５μｍになる条件で行った。具体的には、基材Ｇに対しては、Ｎ２とＨ２とが体積比で１：１の組成を有し、圧力が８００Ｐａの雰囲気中、７００℃で１８０時間処理した。基材Ｈに対しては、直流タイプのイオン窒化装置を用い、アルゴンガスでプレスパッタして酸化膜を除去した。その後、基材Ｈを、Ｎ２とＨ２とが体積比で１：１の組成を有し、圧力が１９０Ｐａの雰囲気中、４７５℃で１０時間処理した。
【００９４】
続いて、脆化層を形成した試料に対して、長さ方向に所定のひずみを与える圧延を行った。これにより、脆化層に、亀裂、すなわち、セパレータにおける、筋溝を含む微細溝を形成した。圧延は、冷間で１回の圧下として実施した。具体的には、６段式のゼンジミア圧延機により、ロール径６ｃｍの圧延ロールを用い、４ｍｐｍの速度で圧延した。表３に、圧延による延伸率を示す。
【００９５】
［試料の評価］
以上の工程により得られた試料について、以下の評価をした。
【００９６】
〈試料表層部のα−Ｔｉ相の格子定数〉
リガク社製のＸ線回折装置リント２５００を用い、試料表層部のα−Ｔｉ相の格子定数を測定した。ターゲットはＣｏを用いた。試料表面に対するＸ線の入射角を０．３ｄｅｇに固定して、薄膜Ｘ線回折測定を実施した。そして、α−Ｔｉ相の（００２）面による回折線の角度（２θ）を測定した。得られたθの値を、Ｂｒａｇｇの式、すなわち、２×ｄ＝λ×ｓｉｎ（θ）に代入して、ｄの値を求めた。そして、ｃ軸の格子定数ｃをｄ×２として求めた。
【００９７】
〈接触抵抗〉
試料として、セパレータ形状にプレスする前の平板材を、耐食性試験として、９０℃、ｐＨ２のＨ２ＳＯ４水溶液に９６時間浸漬した。耐食性試験は、接触抵抗を測定するための試料についてのみ行った。その後、試料を水洗して乾燥させた。そして、下記の方法で試料に応力を繰り返し与え、その後、接触抵抗測定を行った。以下、繰り返し荷重の付与および接触抵抗の測定の具体的な方法を説明する。
【００９８】
図６は、試料の接触抵抗を測定する装置の構成を示す図である。図６を参照して、まず、作製した試料Ｓを、燃料電池用のガス拡散層として使用される１対のカーボンペーパ（東レ株式会社製ＴＧＰ−Ｈ−９０）１２で挟み込み、これを１対の白金電極１３で挟んだ。各カーボンペーパ１２の面積は、１ｃｍ２であった。
【００９９】
そして、１対の白金電極１３の間に荷重を加えた。図６に、荷重を加えた方向を白抜き矢印で示す。荷重は、５ｋｇｆ／ｃｍ２（４．９０×１０５Ｐａ）と２０ｋｇｆ／ｃｍ２（１９．６×１０５Ｐａ）との間で繰り返し１０回変化させた。荷重を５ｋｇｆ／ｃｍ２から２０ｋｇｆ／ｃｍ２へ変更する途中、および２０ｋｇｆ／ｃｍ２から５ｋｇｆ／ｃｍ２へ変更する途中で、荷重が１０ｋｇｆ／ｃｍ２（９．８１×１０５Ｐａ）の状態で、数秒保持した。
【０１００】
次に、各試料の接触抵抗を測定した。接触抵抗の測定は、非特許文献１に記載されている方法に準じて行った。１対の白金電極１３の間に、１０ｋｇｆ／ｃｍ２の荷重を加えた。この状態で、１対の白金電極１３の間に一定の電流を流し、このとき生じるカーボンペーパ１２と試料Ｓとの間の電圧降下を測定した。電流値および電圧降下の測定には、東陽テクニカ社製のデジタルマルチメータＫＥＩＴＨＬＥＹ ２００１を用いた。この結果に基づいて抵抗値を求めた。得られた抵抗値は、試料Ｓの両面の接触抵抗を合算した値となるため、これを２で除して、試料Ｓの片面あたりの接触抵抗値とした。
【０１０１】
荷重を繰り返し変化させたのは、燃料電池運転中にセパレータ表面にかかる荷重が繰り返し変化することを模擬するためである。燃料電池内では、燃料電池に接続された電気的負荷の大きさが変動することに伴うガス流量および圧力の変動、燃料電池の起動および停止による温度変化などにより、セパレータ表面にかかる荷重が繰り返し変化する。セパレータの材料によっては、そのような荷重の変動を受けると、セパレータの接触抵抗が徐々に上昇することがある。
【０１０２】
表３で、「耐食性試験後接触抵抗」の「評価」の欄における符号の意味は、以下の通りである。
◎：接触抵抗が１０ｍΩ・ｃｍ２未満（耐食性は良好であった。）
〇：接触抵抗が１０ｍΩ・ｃｍ２以上、２０ｍΩ・ｃｍ２未満
□：接触抵抗が２０ｍΩ・ｃｍ２以上５０ｍΩ・ｃｍ２未満
×：接触抵抗が５０ｍΩ・ｃｍ２以上（耐食性に乏しく、発電効率を著しく低下させる程度に接触抵抗が増大した。）
【０１０３】
〈セパレータ形状への成形〉
次に、平板材としての試料を、最終的なセパレータ形状、すなわち、凹条およびＧＤＬ接触部を有する形状に、プレス加工により成形した。セパレータ（成形後の試料）の形態は、以下の通りとした。成形後の試料の発電部の外形は、長辺が１４ｃｍで、短辺が７ｃｍの矩形状であった。したがって、平面視において、この試料の発電部の面積は９８ｃｍ２であった。
【０１０４】
凹条は、第１部分６ａ１および第２部分６ａ２（図２参照）を含むサーペンタイン流路を構成していた。ただし、１枚のセパレータにつき、凹条の第１部分の数は３本であった。凹条の内側面は、ＧＤＬ接触部の表面に対して７５°傾斜していた。このため、凹条の幅は、凹条の深さ方向に変化していた。同様に、凸条（リブ）の幅は、凸条の高さ方向に変化していた。凹条の幅、およびＧＤＬ接触部の幅は、これらの長さ方向に関しては、実質的に変化していなかった。
【０１０５】
凹条の深さ方向に関する平均幅は、１．５ｍｍであった。凸条の高さ方向の平均幅は、１．５ｍｍであった。すなわち、凹条の平均ピッチは、３．０ｍｍであった。凹条の開口部における幅は、１．７ｍｍであった。凸条の頂面（ＧＤＬ接触部の表面）の幅は、１．３ｍｍであった。凹条の深さは、０．７ｍｍであった。
【０１０６】
〈微細溝のサイズおよび密度〉
成形後の試料から、一辺が５ｍｍの正方形の観察用サンプルを採取した。サンプルは、成形後の試料において凹条とＧＤＬ接触部とを含んだ。
【０１０７】
日本電子社製の走査型電子顕微鏡ＪＳＭ−７８００を用いて、サンプルの表面を観察した。加速電圧は１０ｋＶとした。倍率は２０００倍とした。サンプル表面において、長辺の長さが５０μｍで短辺の長さが３０μｍの矩形の領域の画像（ＳＥＭ像）を、視野を変えて１０個の領域について取得した。各画像は、その画像の一方の長辺がＧＤＬ接触部の縁（ＧＤＬ接触部と凹条との稜線）を含み、その画像全体がＧＤＬ接触部の像となる領域について得た。すなわち、各画像の視野は、矩形領域であった。
【０１０８】
図７Ａおよび図７Ｂに、それぞれ、本発明例３および１１のセパレータについて得たＳＥＭ像を示す。図７Ａおよび図７ＢのいずれのＳＥＭ像でも、ＧＤＬ接触部の表層部に微細溝としての亀裂が形成されている。表層部に脆化層を形成した試料を圧延することにより、微細溝を形成できることがわかる。
【０１０９】
１つのサンプルの１０個の画像について、筋溝の本数、ならびに、各筋溝の最小幅および最大幅を測定した。測定した筋溝の本数に基づき、１つの画像あたり、すなわち、１つの矩形領域あたりの筋溝の数（平均）Ｄを求めた。また、測定した最小幅のうち最小のものを最小幅Ｗｍｉｎとした。測定した最大幅のうち最大のものを最大幅Ｗｍａｘとした。また、測定した最小幅の平均を平均最小幅Ｗｍｉｎａとした。測定した最大幅の平均を平均最大幅Ｗｍａｘａとした。以上の結果に基づき、Ｄ×Ｗｍｉｎａ、およびＤ×Ｗｍａｘａを算出した。
【０１１０】
〈燃料電池単セルの出力電圧〉
筋溝により燃料電池の発電効率が向上することを確認するため、単セルの燃料電池を作製し、出力電圧を測定した。本発明例２０では、燃料電池単セルを作製する前に、ＥＣＲ(Electron Cyclotron Resonance)スパッタリング法により、表面に非晶質炭素膜を形成した。ＥＣＲスパッタリングは、グラファイトのターゲットを用い、３．５Ｗ／ｃｍ２のパワー密度で、１時間行った。その際、セパレータに２０Ｖのバイアス電圧を印加した。セパレータの温度は、雰囲気温度とした。
【０１１１】
次に、固体高分子形燃料電池のＭＥＡを、以下のようにして作製した。固体高分子電解質膜（イオン交換膜）として、ナフィオン膜（Ｄｕｐｏｎｔ社製ＮＲ２１１）を用いた。そして、Ｐｔ担持黒鉛触媒（田中貴金属社製ＴＥＣ１０Ｅ５０Ｅ）をナフィオン分散溶液（Ｄｕｐｏｎｔ社製ＤＥ５２１）に分散させたインクを作製した。このインクを、この固体高分子電解質膜の両面に塗布した。この状態の固体高分子電解質膜を、１対のガス拡散層（ＳＧＬカーボン社製３５ＢＣ）で挟んで、１２０℃、５ＭＰａで１０分ホットプレスした。これにより、ＭＥＡを得た。
【０１１２】
セパレータを２枚用い、これらのセパレータでＭＥＡを挟んで単セルを作製した。各セパレータのＧＤＬ接触部を、ＭＥＡの電極膜（ガス拡散層）に接触させた。
【０１１３】
作製した単セルを用いて、以下の条件で運転した。セル温度は、６８℃とした。酸化性ガスとしての空気を、３Ｌ／分の流量で、一方のセパレータの凹条に導入した。燃料ガスとしての水素を、６Ｌ／分の流量で、他方のセパレータの凹条に導入した。空気および水素の流量は、いずれも、２５℃、１気圧におけるものであった。空気および水素は、いずれも、６８℃の純水にバブリングして用いた。得られた空気および水素は、６８℃以上に加熱した配管を介して、単セルに供給した。これにより、単セルに供給される空気および水素を、１００％加湿ガスとした。
【０１１４】
この状態で、電子負荷装置（菊水電子社製ＰＬＺ６６４ＷＡ）を用いて、単セルを運転した。電子負荷装置は、電流制御モードに設定して用いた。これにより、５０Ａ（約０．５Ａ／ｃｍ２）の定電流を生じさせた。この状態で、単セルの出力電圧を測定した。出力電圧が高いほど、単セルの発電効率は高い。運転を開始した直後の出力は安定しないので、５００時間運転後の出力電圧を評価した。
【０１１５】
表３で、「出力電圧」の「評価」の欄における符号の意味は、以下の通りである。
◎：出力電圧が０．３７Ｖ以上（発電効率向上の効果が十分にあった。）
〇：出力電圧が０．３６Ｖ以上、０．３７Ｖ未満
□：出力電圧が０．３４Ｖ以上、０．３６Ｖ未満
×：出力電圧が０．３４Ｖ未満（発電効率向上の効果が実質的になかった。）
【０１１６】
〈評価結果〉
本発明例の耐食性は良好であった。すなわち、これらの試料の耐食性試験後の接触抵抗は、許容できる程度に低かった。本発明例のセパレータは、いずれも、燃料電池単セルに用いたときの出力電圧（発電効率）の向上効果が認められた。すなわち、ＧＤＬ接触部に、本発明における要件を満足する筋溝が形成されていることにより、燃料電池（セル）の発電効率が向上することが確認された。
【０１１７】
ただし、本発明例１、３および１３では、Ｄ×Ｗｍｉｎａの値は、０．５以上ではあったが小さかった。このため、ＧＤＬ接触部に、燃料ガスまたは酸化性ガスを多く供給できず、発電効率向上の効果が低かった。また、本発明例５、１２および１７では、他の本発明例に比して、Ｄ×Ｗｍａｘａの値が高く、耐食性試験時に腐食生成物が形成されやすかった。このため、本発明例５、１２および１７では、他の本発明例に比して、耐食性試験後の接触抵抗が高かった。
【０１１８】
本発明例１３〜１９を本発明例１〜１２と対比すると、純チタンおよびチタン合金以外の金属からなる基材を用いた場合は、純チタンまたはチタン合金からなる基材を用いた場合に比して、耐食性試験後の接触抵抗が高くなる傾向があった。本発明例２０では、表層に非晶質炭素膜が設けられていることにより、接触抵抗の上昇は抑制された。
【０１１９】
比較例１では、純チタンである基材Ａに対して、陽極酸化および還元熱処理を施して脆化層を形成した。還元熱処理により低次酸化物が十分に形成されたので、得られた試料の接触抵抗（耐食性試験後）は、十分に低かった。しかし、圧延時の延伸率が小さく、脆化層に十分なひずみを与えることができなかった。このため、形成された筋溝が少なかった。その結果、筋溝により、燃料ガスおよび酸化性ガスをＧＤＬ接触部に供給することがほとんどできず、単セルの発電効率は、向上しなかった。
【０１２０】
比較例２では、純チタンである基材Ａに対して、脆化層の形成および圧延を行わなかった。このため、筋溝を含む微細溝は形成されなかった。比較例２では、接触抵抗は高く、発電効率は低かった。これは、比較例２では、還元熱処理を行わなかったことにより、自然酸化膜（ＴｉＯ２）の存在により、初期から抵抗値が高かったことによる。
【０１２１】
比較例３では、圧延時の延伸率が大きかったため、微細溝の最大幅Ｗｍａｘが１０μｍを超えた。このため、試料の耐食性が乏しく、耐食性試験後の接触抵抗が高くなった。比較例３のセパレータは、セル内の環境でセパレータに腐食生成物が形成され、接触抵抗が増大した。これにより、筋溝が形成されていることによる発電効率の向上効果が打ち消され、出力電圧は、ほとんど向上しなかった。また、セルの運転を終了した後のセパレータについてＧＤＬ接触部表面を観察したところ、微細溝周辺に脆化層の剥離が生じていた。
【符号の説明】
【０１２２】
１：燃料電池
３：燃料電極膜
４：酸化剤電極膜
５ａ、５ｂ：セパレータ
６ａ、６ｂ：凹条
１１：ガス拡散層（ＧＤＬ）接触部
１５：基材
１６：脆化層
１７：固溶層
１８：酸化皮膜
Ａ：隣接領域
Ｂ：縁
Ｃ１〜Ｃ８：微細溝
Ｃ１〜Ｃ３、Ｃ６、Ｃ７、Ｃ２１〜Ｃ２４：筋溝
Ｄ：内方区画線
Ｇ１：燃料ガス
Ｇ２：酸化性ガス
Ｒ：矩形領域
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図４Ｄ】
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【図５】
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【図６】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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