(57)【要約】      （修正有）【課題】裏面にメタルが形成されたウェハを、チッピングの発生や切断不良を抑えて個片化することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。【解決手段】半導体基板１１の裏面にメタル層１３を形成する工程（ｄ）と、メタル層をブレード２２を用いてダイシングする工程（ｅ）と、半導体基板をステルスダイシングする工程とを備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板の裏面にメタル層を形成する工程と、
前記メタル層をブレードダイシングする工程と、
前記半導体基板をステルスダイシングする工程とを備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
半導体基板のストリートに沿ってレーザーを照射し、前記半導体基板内部に改質層を形成する工程と、
前記半導体基板の裏面にメタル層を形成する工程と、
前記メタル層を前記ストリートに沿ってブレードによりダイシングする工程と、
前記改質層が形成された半導体基板に外力を加えて前記半導体基板をダイシングする工程とを備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記メタル層の形成は、前記改質層を形成する工程よりも後に行われ、
前記レーザーは、前記半導体基板の裏面から照射されることを特徴とする請求項２に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項４】
前記外力は、ダイシングされた前記メタル層の裏面にエキスパンドテープを貼り付け、前記エクスパンドテープを拡張することにより加えられることを特徴とする請求項２又は３に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項５】
前記外力は、前記メタル層をダイシングする工程において、前記ブレードにより加えられることを特徴とする請求項２又は３に記載の半導体装置の製造方法。
【請求項６】
前記外力は、前記メタル層を前記メタル層の裏面の方向に反らすことにより加えられることを特徴とする請求項２又は３に記載の半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置の製造方法に関し、特に、裏面にメタルが形成されたウェハを個片化する工程を含む半導体装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
パワーデバイスなどが形成されたウェハには、その裏面に端子としてメタル（例えば、ＣｕやＡｇなど）を形成する構造がとられているものがある。
【０００３】
前述した構造のウェハをブレードダイシングで個片化する場合、半導体基板とメタルの両方を切断する必要がある。しかし、半導体基板とメタルを切断するブレードや条件は異なり、例えば、メタル向けのブレード及び条件でダイシングをすると半導体基板に欠けやクラック（以下、「チッピング」ともいう）が入り易く、半導体基板向けのブレード及び条件でダイシングすると裏面のメタルがブレードに貼り付き、目詰まりが起こり易い。目詰まりしたブレードは切断能力が著しく低下して、半導体基板のチッピングの原因となる。また、メタルの切断能力が低いとメタルが綺麗に切断されず裏面側に伸びてしまい、後の工程でこの伸びた部分が欠落し、ショート不良の原因となる場合もある。また、裏面のメタルが延性の高い性質のものである場合、メタルが延びて切断されず不良となることもある。
【０００４】
このような問題に対し、従来、裏面のメタルをストリートに沿って予め除去しておき、半導体基板の表面からストリートに沿ってブレードにより半導体基板を切断して個片化する方法が提案されている（例えば、特許文献１、２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平４−０５６１４９号公報
【特許文献２】特開平４−３３５５５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
近年、裏面にメタルが形成された構造のウェハでは、デバイスの特性向上の要求から、半導体基板をより薄くし、メタルをより厚くして抵抗を下げる方向になっており、現在の構成比は、半導体基板／メタルの膜厚は、およそ３／２〜１／１といった比率にまでなってきている。
【０００７】
そのため、特許文献１や２のように、裏面のメタルをストリートに沿って予め除去した場合、非常に薄い膜厚の半導体基板をブレードで切断することになるため、チッピングが多く発生して歩留まりが落ち、生産性が低下する。
【０００８】
したがって、本発明は、裏面にメタルが形成されたウェハを、チッピングの発生や切断不良を抑えて個片化することが可能な半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の半導体装置の製造方法は、半導体基板の裏面にメタル層を形成する工程と、前記メタル層をブレードダイシングする工程と、前記半導体基板をステルスダイシング（登録商標）する工程とを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、メタル層についてはメタル向けのブレード及び条件でダイシングを行うことができ、半導体基板についてはステルスダイシングを行うことによりチッピングの発生がないことから、生産性を低化させることなくウェハを個片化することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の第１の実施形態の半導体装置の製造方法を示す工程断面図である。
【図２】図１に示す半導体基板の平面図である。
【図３】図１の部分拡大図の一例を示す図である。
【図４】図１の部分拡大図の他の例を示す図である。
【図５】本発明の第２の実施形態の半導体装置の製造方法を示す工程断面図である。
【図６】本発明の第３の実施形態の半導体装置の製造方法を示す工程断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図面を参照しながら本発明を実施するための形態を説明する。
【００１３】
［第１の実施形態］
図１（ａ）〜（ｇ）は、本発明の第１の実施形態の半導体装置の製造方法を示す工程断面図であり、特に、半導体基板の裏面にメタルを形成し、これを個片化する工程を説明するための工程断面図である。
【００１４】
図１（ａ）に示すように、例えば、ＭＯＳＦＥＴ等のパワーデバイスが形成された半導体基板１１の表面１１の表面１１ｔにサポート基板２０及びバックグラインドテープ２１を順に貼り付ける。
【００１５】
次に、バックグラインドを行い、図１（ｂ）に示すように、半導体基板１１の厚さを薄くした後、サポート基板２０からバックグラインドテープ２１を剥がす。
【００１６】
次に、半導体基板１１に格子状に複数設けられた図２に示すストリート１１ｓｔに沿って、半導体基板１１の裏面１１ｂ側からレーザーを照射する。これにより、図１（ｃ）に示すように、半導体基板１１の内部に改質層（ダメージ層）１２が形成される。
【００１７】
次に、図１（ｄ）に示すように、半導体基板１１の裏面１１ｂ上に、めっきによりメタル層１３を形成する。
【００１８】
続いて、ストリート１１ｓｔ（図２参照）に沿って、メタル層の裏面１３ｂ側からメタル層１３をブレード２２によりダイシングする。このとき、半導体基板１１はダイシングしないため、メタル向けのブレード及び条件を用いる。これにより、図１（ｅ）に示すように、メタル層１３は、格子状に分割される。
【００１９】
次に、半導体基板１１からサポート基板２０を剥がした後、図１（ｆ）に示すように、メタル層１３の裏面にエキスパンドテープ２３を貼り付ける。
【００２０】
最後に、エキスパンドテープ２３をエキスパンドする。これにより、半導体基板１１に外力が加わるため、図１（ｇ）に示すように、半導体基板１１の改質層１２から上下に分断が進み、半導体基板１１がストリート１１ｓｔに沿って格子状に分割される。
【００２１】
以上のようにして、半導体基板１１の裏面にメタル層１３が形成されたウェハを個片化することができる。
【００２２】
本実施形態によれば、半導体基板１１についてはステルスダイシング（改質層１２の形成及び外力の印加）によって分割し、メタル層１３についてはメタル向けのブレード及び条件でのダイシングにより分割することができるため、チッピングの発生や切断不良を抑制して、ウェハを個片化することが可能となる。
【００２３】
また、上述のとおり、メタル層１３の切断は、メタル層１３の裏面１３ｂ側からのブレードダイシングにより行っているため、メタルのメタル層１３の裏面側への伸びの発生が抑制され、伸びた部分の欠落による不良の発生も防止できる。
【００２４】
なお、本実施形態においては、メタル層１３を形成する前に、半導体基板１１の裏面１１ｂからレーザーを照射して改質層１２を形成している。これに対し、半導体基板１１の裏面にメタル層１３を形成した後に、改質層１２の形成を行うことも可能である。ただし、一般に、半導体基板１１表面１１ｔ側のストリートには、マークやＴＥＧなどが配置されているため、半導体基板１１表面１１ｔ側からレーザー照射を行った場合、マークやＴＥＧなどが妨げとなり、ステルスダイシングに悪影響が生じるおそれがある。そのため、本実施形態のように、メタル層１３の形成前に半導体基板１１の裏面１１ｂ側からレーザーの照射を行っておくのが望ましい。
【００２５】
図３は、図１（ｇ）におけるＰ部分の拡大図の一例を示す図である。また、図４は、図１（ｇ）におけるＰ部分拡大図の他の例を示す図である。
【００２６】
図１（ｅ）に示す工程において、図３に示すように、ブレード２２による切り込み１３ｃが半導体基板１１まで達さず、メタル層１３が切り込み１３ｃの底部に薄く残っていても、図１（ｇ）に示す工程におけるエキスパンドによる外力によって改質層１２から上下に分断が進み、薄く残ったメタル層１３も分断されるため、ウェハを個片化することができる。
【００２７】
一方、図１（ｅ）に示す工程において、図４に示すように、ブレード２２による切り込み１３ｃが半導体基板１１に達していると、エキスパンドによって、半導体基板１１の切り込み１３ｃの部分からも分断が進むことになるため、切り込み１３ｃが図３に示すような状態である場合と比べ、より確実にウェハを個片化することができる。したがって、ブレード２２による切り込み１３ｃは、半導体基板１１にまで達している方が望ましい。
【００２８】
ただし、切り込み１３ｃを半導体基板１１に達するようにするか否かは、半導体基板１１やメタル層１３の厚さやその他の条件等に応じて、適宜選択するのが好ましい。
【００２９】
［第２の実施形態］
図５は、本発明の第２の実施形態の半導体装置の製造方法を示す工程断面図である。
【００３０】
本実施形態による半導体装置の製造方法は、図１に示す第１の実施形態の半導体装置の製造方法の図１（ｄ）に示す工程までは同一であるため、同様の構成要素には同一の符号を付し、重複する説明は適宜省略する。
【００３１】
本実施形態では、図１（ｄ）に示すように、半導体基板１１の裏面１１ｂ上にメタル層１３を形成した後、図５に示すように、ストリート１１ｓｔ（図２参照）に沿って、メタル層１３の裏面１３ｂ側からメタル層１３をブレード２２によりダイシングする。このとき、半導体基板１１に力が加わるようにブレードダイシングを行うことにより、半導体基板１１に外力が加わることにより、改質層１２から上下に分断が進み、ウェハを個片化することができる。したがって、本実施形態によれば、エキスパンドテープが不要となり、工程を簡略化することができる。なお、本実施形態は、半導体基板１１のバックグラインド後の厚さが特に薄い場合に有効である。
【００３２】
［第３の実施形態］
図６（ａ）〜（ｃ）は、本発明の第３の実施形態の半導体装置の製造方法を示す工程断面図である。
本実施形態による半導体装置の製造方法は、図１に示す第１の実施形態の半導体装置の製造方法の図１（ｄ）に示す工程までは同一であるため、同様の構成要素には同一の符号を付し、重複する説明は適宜省略する。
【００３３】
本実施形態では、図１（ｄ）に示すように、半導体基板１１の裏面１１ｂ上にメタル層１３を形成した後、図６（ａ）に示すように、サポート基板２０を半導体基板１１の表面から剥がす。
【００３４】
次に、図６（ｂ）に示すように、メタル層１３をメタル層１３の裏面１３ｂの方向に反らすことにより、半導体基板１１に外力が加えられて、半導体基板１１が改質層１２に沿って格子状に分割される。
【００３５】
その後、図６（ｃ）に示すように、メタル層１３の裏面１３ｂ側からメタル層１３をブレード２２によりダイシングする。これにより、メタル層１３も格子状に分割され、ウェハの個片化が完了する。
【００３６】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能であることは言うまでもない。
【００３７】
例えば、上記第１の実施形態では、メタル層１３をブレードダイシングした後に、エキスパンドにより半導体基板１１を分割しているが、メタル層１３の延性が高い場合には、エキスパンドによる半導体基板１１の分割を先に行い、その後、メタル層１３をブレードダイシングするようにしてもよい。
【００３８】
また、上記実施形態においては、バックグラインドを行う際に、サポート基板２０を用いる例を示したが、サポート基板２０は用いなくても構わない。
【符号の説明】
【００３９】
１１  半導体基板
１２  改質層
１３  メタル層
２０  サポート基板
２１  バックグラインドテープ
２２  ブレード
２３  エキスパンドテープ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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