(57)【要約】【課題】金属ナノ粒子が分散して付着する主面を有する版を良好に洗浄する。【解決手段】洗浄水を貯留するタンクと、版を洗浄する洗浄空間を有する洗浄槽と、洗浄空間内において版の主面に対してタンク内の洗浄水を供給することで金属ナノ粒子を凝集させて金属凝集体を形成するとともに主面に沿って流れる洗浄水と一緒に金属凝集体を版から取り除く第１洗浄部と、洗浄槽と第１洗浄部とを接続して洗浄水および金属凝集体を洗浄槽からタンクに向けて流通させる配管と、配管に介挿され、配管を流れる金属凝集体をトラップする一方で洗浄水をタンクに向けて通過させるフィルタとを備えている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属ナノ粒子が分散して付着する主面を有する版を洗浄する版洗浄装置であって、
洗浄水を貯留するタンクと、
前記版を洗浄する洗浄空間を有する洗浄槽と、
前記洗浄空間内において前記版の前記主面に対して前記タンク内の前記洗浄水を供給することで前記金属ナノ粒子を凝集させて金属凝集体を形成するとともに前記主面に沿って流れる前記洗浄水と一緒に前記金属凝集体を前記版から取り除く第１洗浄部と、
前記洗浄槽と前記第１洗浄部とを接続して前記洗浄水および前記金属凝集体を前記洗浄槽から前記タンクに向けて流通させる配管と、
前記配管に介挿され、前記配管を流れる前記金属凝集体をトラップする一方で前記洗浄水を前記タンクに向けて通過させるフィルタと
を備えることを特徴とする版洗浄装置。
【請求項２】
請求項１に記載の版洗浄装置であって、
前記洗浄空間内において前記第１洗浄部により洗浄された前記版の前記主面をブラシにより洗浄する第２洗浄部をさらに備える版洗浄装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の版洗浄装置であって、
前記洗浄槽から分離して設けられ、前記洗浄空間内で洗浄された前記版の前記主面を超音波洗浄する第３洗浄部をさらに備える版洗浄装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか一項に記載の版洗浄装置であって、
前記フィルタは３０μｍ〜１００μｍのろ過精度を有している版洗浄装置。
【請求項５】
請求項４に記載の版洗浄装置であって、
鉛直方向において前記洗浄槽は前記タンクよりも高い位置に配置されている版洗浄装置。
【請求項６】
金属ナノ粒子が分散して付着する主面を有する版を洗浄する版洗浄方法であって、
洗浄槽内においてタンクに貯留された洗浄水を前記版の前記主面に供給することで前記洗浄水によって前記金属ナノ粒子を凝集させて金属凝集体を形成するとともに前記主面に沿って流れる前記洗浄水と一緒に前記金属凝集体を前記版から取り除く工程と、
前記版から取り除かれた前記金属凝集体を含有する前記洗浄水を前記洗浄槽により補集する工程と、
前記洗浄槽により補集された前記洗浄水からフィルタにより前記金属凝集体を除去した後で前記洗浄水を前記タンクに戻す工程と
を備えることを特徴とする版洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、金属ナノ粒子が分散して付着する版の主面を洗浄する版洗浄装置および版洗浄方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウェハ、液晶表示装置用ガラス基板、プラズマディスプレイ用ガラス基板、磁気または光ディスク用のガラスまたはセラミック基板、有機ＥＬ用ガラス基板、太陽電池用ガラス基板またはシリコン基板、その他フレキシブル基板およびプリント基板などの電子機器向け基板に対してパターン層を形成するために、版およびブランケットを用いた印刷技術が提案されている（例えば、特許文献１）。
【０００３】
この印刷技術では、塗布層が塗布されたブランケットに対し、基板に形成すべきパターンと反対のパターン、つまり反転パターンを有する版を押し当てて接触させることによって、ブランケット上の塗布層をパターニングして上記反転パターンを有するパターン層をブランケット上に形成する（パターニング処理）。そして、当該ブランケットを基板に押し当てて接触させることによって、上記パターン層を基板に転写する（転写処理）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−１８４３８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記印刷技術において、版の再利用によるランニングコストの低減を図るために、使用後の版に有機溶媒を供給して洗浄する版洗浄技術が提案されている。塗布層がレジスト材料などで構成される場合には、上記提案技術により版を良好に洗浄することが可能であった。しかしながら、近年に検討されているように上記印刷技術を配線パターンの印刷に転用する場合、版の洗浄が大きな問題となっている。配線パターンの印刷においては、銀（Ａｇ）に代表される金属ナノ粒子を含有する塗布材料が用いられており、パターニング処理後の版のうち塗布層と接触していた主面においては乾燥状態または半乾き状態の金属ナノ粒子が分散して付着している。当該主面に対して提案技術と同様に有機溶媒を供給したとしても金属ナノ粒子を取り除くことが不可能であった。
【０００６】
この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、金属ナノ粒子が分散して付着する主面を有する版を良好に洗浄することができる版洗浄装置および版洗浄方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この発明の一の態様は、金属ナノ粒子が分散して付着する主面を有する版を洗浄する版洗浄装置であって、洗浄水を貯留するタンクと、版を洗浄する洗浄空間を有する洗浄槽と、洗浄空間内において版の主面に対してタンク内の洗浄水を供給することで金属ナノ粒子を凝集させて金属凝集体を形成するとともに主面に沿って流れる洗浄水と一緒に金属凝集体を版から取り除く第１洗浄部と、洗浄槽と第１洗浄部とを接続して洗浄水および金属凝集体を洗浄槽からタンクに向けて流通させる配管と、配管に介挿され、配管を流れる金属凝集体をトラップする一方で洗浄水をタンクに向けて通過させるフィルタとを備えることを特徴としている。
【０００８】
また、この発明の他の態様は、金属ナノ粒子が分散して付着する主面を有する版を洗浄する版洗浄方法であって、洗浄槽内においてタンクに貯留された洗浄水を版の主面に供給することで洗浄水によって金属ナノ粒子を凝集させて金属凝集体を形成するとともに主面に沿って流れる洗浄水と一緒に金属凝集体を版から取り除く工程と、版から取り除かれた金属凝集体を含有する洗浄水を洗浄槽により補集する工程と、洗浄槽により補集された洗浄水からフィルタにより金属凝集体を除去した後で洗浄水をタンクに戻す工程とを備えることを特徴としている。
【０００９】
なお、本明細書における「洗浄水」とは、半導体装置や液晶表示装置などの製造分野で多用されている、脱イオン水（Ｄｅ Ｉｏｎｉｚｅｄ Ｗａｔｅｒ：以下「ＤＩＷ」と記載する）、純水またはＤＩＷ等に界面活性剤を少量添加したものを意味している。
【００１０】
このように構成した発明によれば、版の主面に洗浄水が供給されると、主面上において分散して存在していた金属ナノ粒子同士が凝集し、フレーク状または薄片状の金属凝集体を形成する。この金属凝集体は主面に沿って流れる洗浄水と一緒に版から洗い流された後でフィルタにトラップされて分離除去される。一方、金属凝集体が分離除去された使用後の洗浄水はタンクに戻されて再利用に供される。
【発明の効果】
【００１１】
以上のように、金属ナノ粒子が分散して付着している版の主面に洗浄水を供給することで金属ナノ粒子を凝集して金属凝集体を形成し、洗浄水を一緒に版から洗い流しているため、版を良好に洗浄することができる。しかも、版から流れ出てくる洗浄水からフィルタにより金属凝集体を分離除去した洗浄水のみをタンクに戻し、再利用に供しているために、版の洗浄に要するランニングコストを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】この発明にかかる版洗浄装置の第１実施形態を示す図である。
【図２】図１の版洗浄装置における部分平面図である。
【図３】この発明にかかる版洗浄装置の第２実施形態を示す図である。
【図４】この発明にかかる版洗浄装置の第３実施形態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
図１はこの発明にかかる版洗浄装置の第１実施形態を示す図である。図２は図１の版洗浄装置における部分平面図である。この版洗浄装置１００は、装置本体１が洗浄槽１１と乾燥槽１２とに区分けされている。洗浄槽１１および乾燥槽１２はそれぞれ洗浄空間１１ａおよび乾燥空間１２ａを有しており、これらの空間１１ａ、１２ａ内を版Ｐが搬送部２によりＹ方向に搬送される。なお、図１中の符号１３〜１５はそれぞれ搬入口、搬送口および搬出口であり、版Ｐは搬入口１３を介して洗浄槽１１に搬入され、搬送口１４を介して洗浄槽１１から乾燥槽１２に搬送され、さらに搬出口１５を介して乾燥槽１２から搬出される。
【００１４】
搬送部２は互いに平行にＹ方向に沿って配列された複数の搬送ローラ２１を備える。複数の搬送ローラ２１は、洗浄空間１１ａおよび乾燥空間１２ａにそれぞれ配設されている。また、図示を省略しているが、Ｙ方向において洗浄槽１１の上流側および乾燥槽１２の下流側にも複数の搬送ローラがそれぞれ設けられている。
【００１５】
搬送ローラ２１は図２に示すようにローラ軸２１１を有し、ローラ軸２１１の両端には、搬送される版Ｐの端部下面を支持するとともに版Ｐの幅方向、つまり図中のＸ方向への変位を規制する鍔付ローラ２１２がそれぞれ設けられている。これら一対の鍔付ローラ２１２、２１２の間では、ローラ軸２１１に対して版Ｐの下面を支持する円盤状の複数の中間ローラ２１３が設けられている。これらローラ軸２１１、鍔付ローラ２１２および中間ローラ２１３は、装置全体を制御する制御部３からの動作指令に応じて駆動機構（図示省略）が作動するにより、その軸心周りに一体的に回転駆動される。これによって金属ナノ粒子（本実施形態では、銀ナノ粒子）が分散して付着している上面Ｐａを鉛直上方に向けた、いわゆるフェースアップ状態で版Ｐが搬入口１３、洗浄槽１１、搬送口１４、乾燥槽１２および搬出口１５の順に搬送される。そして、版Ｐは洗浄槽１１の移動中に第１洗浄部４による洗浄処理を受け、乾燥槽１２の移動中に乾燥部５による乾燥処理を受ける。
【００１６】
第１洗浄部４は洗浄水供給部６から圧送されてくる洗浄水を洗浄空間１１ａ内で版Ｐの下面Ｐｂに供給して下面洗浄を行うとともに上記洗浄水とクリーンエアー（フィルタによってろ過されて不純物を含まない空気）との混合流体を版Ｐの上面Ｐａに供給して上面洗浄を行う。なお、クリーンエアーの代わりに窒素ガスを用いてもよい。
【００１７】
また、第１洗浄部４では、図１に示すように、版Ｐの搬送方向Ｙにおける上流側に下面洗浄用のノズル４１が配置される一方、下流側に上面洗浄用のノズル４２が配置されており、ノズル４１、４２に対して洗浄水供給部６が接続されている。この洗浄水供給部６は、図１に示すように、鉛直方向Ｚにおいて洗浄槽１１よりも低い位置に配置されて洗浄水を貯留するタンク６１と、タンク６１内の洗浄水をノズル４１に供給する下面供給系６２と、タンク６１内の洗浄水をノズル４２に供給する上面供給系６３と、洗浄槽１１に補集された使用済みの洗浄水を回収する回収系６４とを有している。タンク６１では、その側面下方部に対して供給用配管６１１の一方端部が接続されるとともに、その側面中央部に対して循環用配管６１２の一方端部が接続されている。また、供給用配管６１１および循環用配管６１２の他方端部に対して下面供給系６２および上面供給系６３が接続されている。
【００１８】
下面供給系６２はポンプ６２１、減圧弁６２２および三方弁６２３を有している。下面供給系６２では、三方弁６２３に設けられる３つのポートがそれぞれ配管６２４〜６２６を介して供給用配管６１１の他方端部、循環用配管６１２の他方端部およびノズル４１と接続されている。これらのうち配管６２４にはポンプ６２１および減圧弁６２２が介挿されている。このため、制御部３からの指令に応じて三方弁６２３の切替が行われることでポンプ６２１により送液されてきた洗浄水の送り先が切り替えられる。より具体的には、配管６２４、６２５が接続されるように三方弁６２３が切り替えられることで、タンク６１、ポンプ６２１、減圧弁６２２、三方弁６２３および配管６１１、６２４、６２５、６１２で循環経路が形成される。そして、制御部３からの指令に応じてポンプ６２１が作動すると、減圧弁６２２により調整された圧力で上記循環経路内を洗浄水が循環する。
【００１９】
一方、上記のように洗浄水を循環させた状態から配管６２４、６２６が接続されるように三方弁６２３が切り替えられると、次のようにしてノズル４１への洗浄水の供給が開始される。つまり、上記切替によりタンク６１、ポンプ６２１、減圧弁６２２、三方弁６２３および配管６１１、６２４、６２６で供給経路が形成される。この切替と同時に、洗浄水の循環が停止されるとともに上記供給経路に沿って洗浄水が直ちに所望圧力でノズル４１に送液される。その結果、版Ｐの下面Ｐｂに向けて洗浄水が供給され、搬送される版Ｐの下面Ｐｂに対する下面洗浄が実行される。
【００２０】
上面供給系６３も基本的に下面供給系６２と同様に構成されている。つまり、上面供給系６３はポンプ６３１、減圧弁６３２および三方弁６３３を有している。上面供給系６３では、三方弁６３３に設けられる３つのポートがそれぞれ配管６３４〜６３６を介して供給用配管６１１の他方端部、循環用配管６１２の他方端部およびノズル４２と接続されている。このため、制御部３からの指令に応じて三方弁６３３の切替が行われることでポンプ６３１により送液されてきた洗浄水の送り先が切り替えられ、下面供給系６２と同様に循環経路と供給経路とが選択的に形成される。つまり、配管６３４、６３５が接続されるように三方弁６３３が切り替えられることで循環経路が形成され、その状態でポンプ６３１が作動すると、減圧弁６２２により調整された圧力で上記循環経路内を洗浄水が循環する。一方、配管６３４、６３６が接続されるように三方弁６３３が切り替えられることで供給経路が形成され、次のようにしてノズル４２への洗浄水の供給が開始される。つまり、上記切替によりタンク６１、ポンプ６３１、減圧弁６３２、三方弁６３３および配管６１１、６３４、６３６で供給経路が形成される。この切替と同時に、洗浄水の循環が停止されるとともに上記供給経路に沿って洗浄水が直ちに所望圧力でノズル４２に送液される。このノズル４２は、いわゆる２流体ノズルであり、洗浄水供給部６以外にクリーンエアー供給部７にも接続されている。なお、本実施形態では、５本のノズル４２をＸ方向に配列しているが、Ｘ方向に吐出口がスリット状に延設された、いわゆるスリットノズルを用いてもよい。
【００２１】
クリーンエアー供給部７は、図１に示すように、工場用力などのクリーンエアー源（窒素ガスを用いる場合には、窒素ガス供給源）とノズル４２とを接続する配管７１と、配管７１に介挿された開閉弁７２とを備えている。そして、上記したように洗浄水がノズル４２に供給されるのに同期して開閉弁７２が開成してクリーンエアーがノズル４２に圧送される。これによって、洗浄水とクリーンエアーの混合流体が版Ｐの上面Ｐａに向けてノズル４２から吐出され、混合流体による版Ｐの上面洗浄が実行される。なお、このようにして洗浄槽１１の洗浄空間１１ａでは洗浄水および混合流体による版Ｐの洗浄が行われる。そして、使用された洗浄水は洗浄槽１１の内底部に補集される。この補集された洗浄水を回収するために、洗浄水供給部６に回収系６４が設けられている。
【００２２】
回収系６４は、洗浄槽１１とタンク６１とを接続する回収用の配管６４１と、配管６４１に介挿されたフィルタ６４２とを有している。フィルタ６４２は上記したように洗浄水により版Ｐを洗浄した際に版Ｐの上面Ｐａに沿って流れる洗浄水と一緒に版Ｐから取り除かれた除去物（後で詳述する金属凝集体８）をトラップして洗浄水のみをタンク６１に戻す機能を有している。特に、本実施形態では後で図２に基づいて詳述するように版Ｐの上面Ｐａに分散して付着している銀ナノ粒子を凝集させた金属凝集体を除去するために、ろ過精度（捕集対象とする粒子径をミクロンで表した値）が３０μｍないし１００μｍのフィルタを用いている。したがって、回収系６４によりタンク６１に戻される回収物はほぼ洗浄水となっている。
【００２３】
このように洗浄水を回収しており、タンク６１内での洗浄水の貯留量は時間とともに変動する。そこで、貯留量を確認するために、タンク６１内での洗浄水の液面が所定の下限位置となっていることを検知する下限液面センサ６１３と、同液面が所定の上限位置となっていることを検知する上限液面センサ６１４とがタンク６１に取り付けられている。また、タンク６１には、図１に示すように、洗浄水補充部６５が接続され、液面が下限位置を下回った際には洗浄水を補充する。こうしてタンク６１には版Ｐの洗浄処理に十分な量の洗浄水が常時貯留されている。なお、同図中の符号６１５はタンク６１の側面上方部に接続され、タンク６１の貯留容量を超えた洗浄水をタンク外に排液するオーバーフロー配管を示している。
【００２４】
このように構成された第１洗浄部４を有する洗浄槽１１に隣接して乾燥槽１２が配置され、当該乾燥槽１２の乾燥空間１２ａには乾燥部５が設けられている。乾燥部５は、版Ｐの上面Ｐａおよび下面Ｐｂに付着した洗浄水をエアーにより除去する、いわゆる液切り処理を実行して版Ｐを乾燥させる。乾燥空間１２ａには、上下一対の上エアナイフ５１および下エアナイフ５２が配設されている。上エアナイフ５１は、複数の搬送ローラ２１によって搬送される版Ｐの上方に配置される。上エアナイフ５１は、版Ｐの上面Ｐａに対向し、Ｘ方向に延びるスリット状の吐出口５１１を備え、当該吐出口５１１より下方かつ上流側（図１における左手側）に向かう気体流を、版ＰのＸ方向に亘って供給する。同様に、下エアナイフ５２は版Ｐの下面Ｐｂに対向し、Ｘ方向に延びるスリット状の吐出口５２１を備え、当該吐出口５２１より上方かつ上流側（図１における左手側）に向かうエアー流を、版ＰのＸ方向に亘って供給する。その結果、洗浄処理を受けた版Ｐに付着する洗浄水が除去される（乾燥処理）。
【００２５】
このように構成された版洗浄装置１００では、予め記憶部（図示省略）に記憶された版洗浄プログラムにしたがって制御部３が装置各部を制御することで、いわゆるフェースアップ姿勢で版ＰをＹ方向に搬送しつつ第１洗浄部４による水洗処理および乾燥部５による乾燥処理が制御部３により統括制御されて、順次、実行される。特に、版Ｐの搬送が開始された時点では、下面供給系６２および上面供給系６３はともに循環経路に切り替えられ、図１中の点線矢印で示すように、洗浄水は循環している。そして、搬送部２により版ＰがＹ方向に搬送され、版Ｐの先端部、つまり（＋Ｙ）方向端部がノズル４１の上方位置に移動してくるタイミングで下面供給系６２においてのみ循環経路から供給経路に切り替えられ（同図の１点鎖線参照）、版Ｐの下面Ｐｂへの洗浄水供給が開始される。この下面洗浄処理は版Ｐがノズル４１の直上位置を通過するまで継続され、版Ｐの下面洗浄が行われる。一方、直上通過後において洗浄水の経路は循環経路に戻される。
【００２６】
また、版Ｐの下面洗浄から少し遅れて上面洗浄が行われる。すなわち、搬送部２により搬送される版Ｐの先端部がノズル４２の下方位置に移動してくるタイミングで上面供給系６３において三方弁６３３の開閉状態が変更されることで洗浄水の経路が循環経路から供給経路に切り替えられ（同図の１点鎖線参照）、ノズル４２に向けて洗浄水が送液される。また、開閉弁７２が開成されて当該ノズル４２に対してクリーンエアー供給部７によりクリーンエアーが圧送される。これによって、洗浄水とクリーンエアーの混合流体が版Ｐの上面Ｐａに向けてノズル４２から吐出され、銀ナノ粒子が分散して付着している上面Ｐａに対して混合流体が供給される。
【００２７】
銀ナノ粒子は従来より知られているように活性であり、純水やＤＩＷに接液すると、直ちに凝集する性質を有している。このため、図２中の拡大図に示すように、版Ｐの上面Ｐａへの混合流体の供給によって混合流体に含まれる洗浄水によって銀ナノ粒子（同図中ではドットにより模式的に示している）が凝集してフレーク状または薄片状の金属凝集体８を形成する。金属凝集体８は小さくても１００μｍを超える粒径を有しており、上面Ｐａに沿って流れる混合流体と一緒に版Ｐから洗い流される。このような上面洗浄が版Ｐの後端部、つまり（−Ｙ）方向端部がノズル４２の下方位置を通過するまで継続される。一方、直下通過後において洗浄水の経路は循環経路に戻される。
【００２８】
こうして版Ｐの上面Ｐａおよび下面Ｐｂが洗浄水により洗浄された後で、版Ｐは洗浄槽１１から乾燥槽１２に搬送され、液切りによる乾燥処理を受け、版洗浄装置１００から搬出される。また、上記のように洗浄処理を行っている間、洗浄槽１１の内底部で補集された使用済の洗浄水と金属凝集体８（図２）は配管６４１を介してタンク６１に向けて流れる。このとき、金属凝集体８は上記したように１００μｍを超える粒径を有しているため、フィルタ６４２にトラップされ、タンク６１には洗浄水のみが戻る。このため、タンク６１に金属凝集体８が混入するのを確実に防止することができ、上記のようにして回収した洗浄水を再利用に供することが可能となっている。
【００２９】
以上のように、本実施形態によれば、図２中の拡大図に示すように銀ナノ粒子が分散して付着している版Ｐの上面Ｐａに対して混合流体（＝洗浄水＋クリーンエアー）を供給することによってフィルタ６４２によりトラップ可能なサイズにまで銀ナノ粒子を凝集させて金属凝集体８を形成している。そして、版Ｐの上面Ｐａに沿って流れる混合流体と一緒に金属凝集体８を版Ｐから取り除いている。したがって、版Ｐを良好に洗浄することができる。しかも、版Ｐから流れ出てくる使用済の洗浄水からフィルタ６４２により金属凝集体８を取り除いて洗浄水のみをタンクに戻し、再利用に供しているために、版Ｐの洗浄に要するランニングコストを低減することができる。
【００３０】
また、銀ナノ粒子を凝集して金属凝集体８を形成し、これをフィルタ６４２で除去するため、銀ナノ粒子を直接トラップするためのフィルタに比べてフィルタ６４２のろ過精度を大幅に高い値に設定することができる。このことはフィルタ６４２のコストを低減することができるのみならず、フィルタ交換頻度を抑えることができる。また、フィルタ６４２での圧損を抑えることができ、本実施形態のように鉛直方向Ｚにおいてタンク６１を洗浄槽１１よりも低い位置に配置し、水頭差を利用して洗浄水を効率よく回収することができる。これらのことは、ランニングコストの低減を図る上で有利である。
【００３１】
さらに、銀ナノ粒子が付着した版Ｐの上面Ｐａを洗浄した洗浄水をタンク６１に戻しているため、タンク６１に貯留された洗浄水中に抗菌効果を有する銀イオンが存在する。その結果、洗浄水を長時間繰り返して使用したとしても循環使用している洗浄水にバクテリア等が発生することなく、洗浄水の交換頻度を抑えることができ、ランニングコストを低減させることができる。
【００３２】
このように第１実施形態では、版Ｐの上面Ｐａが本発明の「版の主面」の一例に相当している。
【００３３】
図３はこの発明にかかる版洗浄装置の第２実施形態を示す図である。第２実施形態が第１実施形態と大きく相違する点は、洗浄槽１１の洗浄空間１１ａで版Ｐの上面Ｐａを洗浄する洗浄手段として第２洗浄部９を追加している点である。なお、その他の構成は第１実施形態と基本的に同一であるため、同一構成については同一符号を付して構成説明を省略する。
【００３４】
第２洗浄部９は、洗浄空間１１ａ内で版Ｐの搬送方向Ｙにおいて第１洗浄部４の下流側に配置されて混合流体によりスプレ洗浄された版Ｐの上面Ｐａをさらにブラシ洗浄するものである。この第２洗浄部９は、図示を省略する駆動機構により回転駆動されるロールブラシ９１を有している。ロールブラシ９１は、搬送部２により搬送される版Ｐの上面Ｐａに対して摺接可能に配置されている。このため、例えば版Ｐの周縁部に付着していたために、微量ながらも第１洗浄部４により除去することができなかった銀ナノ粒子などをロールブラシ９１により確実に版Ｐの上面Ｐａから取り除くことができる。したがって、第２実施形態によれば、洗浄効率をさらに高めることができる。
【００３５】
ところで、第１実施形態では、ノズル４２からスプレ状に吐出される混合流体により版Ｐの上面Ｐａをスプレ洗浄し、第２実施形態ではさらにブラシ洗浄を組み合わせている。このようなスプレ洗浄やブラシ洗浄を行うことで上記したように大部分の銀ナノ粒子を版Ｐから除去することができるが、上記洗浄中に微量ながらも銀ナノ粒子が版Ｐの上面Ｐａに形成された凹凸パターン（図２中の符号ＰＴ）に入り込むことがある。そこで、凹凸パターンＰＴに入り込んだ銀ナノ粒子をも除去するためには、超音波洗浄部を本発明の「第３洗浄部」として第１実施形態や第２実施形態と組み合わせるのが好適である。ここでは、第２実施形態に超音波洗浄部を組み合わせた版洗浄装置１００について図４を参照しつつ説明する。
【００３６】
図４はこの発明にかかる版洗浄装置の第３実施形態を示す図である。この版洗浄装置１００では、銀ナノ粒子が分散して付着した版Ｐの上面Ｐａに対して第１洗浄部４が混合流体（＝洗浄水＋クリーンエアー）をスプレ状に供給して銀ナノ粒子を凝集させて金属凝集体８を形成し、洗浄水と一緒に洗い流す。そして、スプレ洗浄された版Ｐの上面Ｐａに対して第２洗浄部９がブラシ洗浄を行う。こうしたスプレ洗浄時およびブラシ洗浄時に微量ではあるもの銀ナノ粒子が版Ｐの凹凸パターンＰＴ（図２）に入り込むことがあるが、次の超音波洗浄部１０で凹凸パターンＰＴから効率よく除去される（超音波洗浄）。そして、これらの互いに異なる３種類の洗浄態様で洗浄された版Ｐから洗浄水が最後に乾燥部５により除去される。
【００３７】
このように第３実施形態では、銀ナノ粒子を凝集させて金属凝集体８の形で洗浄除去する態様と、銀ナノ粒子のままで超音波により除去する態様とを組み合わせているため、版Ｐから銀ナノ粒子を高効率で除去することができる。
【００３８】
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記実施形態では、第１洗浄部４は混合流体をノズル４２からスプレ状に吐出しているが、混合流体の代わりに、洗浄水のみを供給するように構成してもよく、この場合、スプレ状に洗浄水を吐出してもよいし、Ｘ方向に延びる吐出口を有するスリットノズルをノズル４２として用いてもよい。
【００３９】
また、上記第３実施形態では、洗浄手段として、スプレ洗浄、ブラシ洗浄および超音波洗浄を組み合わせているが、スプレ洗浄と超音波洗浄を組み合わせても同様の作用効果が得られる。
【産業上の利用可能性】
【００４０】
この発明は、金属ナノ粒子が分散して付着する版の主面を洗浄する版洗浄技術全般に適用することができる。
【符号の説明】
【００４１】
２…搬送部
４…第１洗浄部
６…洗浄水供給部
８…金属凝集体
９…第２洗浄部
１０…超音波洗浄部（第３洗浄部）
１１…洗浄槽
４２…ノズル
６１…タンク
９１…ロールブラシ
１００…版洗浄装置
６４１…配管
６４２…フィルタ
Ｐ…版
Ｐａ…（版の）上面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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