(57)【要約】      （修正有）【課題】保管又は他の流体との接触用の薬剤パッケージ又は他の容器の内部のバリア被覆表面を提供すること。【解決手段】容器２１０は内腔に面する内部表面を有する。内部表面は、タイコート皮膜２８９又は層、バリア皮膜又は層２８８、及びｐＨ保護皮膜又は層２８６を含む。タイコート皮膜又は層は、ＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣy（式中、ｘは約０．５〜約２．４であり、ｙは約０．６〜約３である）を含むことができる。バリア皮膜又は層は、ＳｉＯx（式中、ｘは１．５〜２．９である）を含むことができる。バリア皮膜又は層は、内腔への大気ガスの侵入を低減する。ｐＨ保護皮膜又は層もＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣyを含むことができる。一実施形態では、内腔に収容され、５〜９のｐＨを有する流体組成物の存在下で、パッケージの計算保管寿命は保管温度４℃で６ヶ月超となり得る。【選択図】図４
2019081610.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
・内腔の少なくとも一部を囲む内部表面を有する熱可塑性の壁と；
・ＳｉＯxＣyＨz又はＳｉＮxＣyＨz（式中、ｘは、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により測定した場合、約０．５〜約２．４であり、ｙは、ＸＰＳにより測定した場合、約０．６〜約３であり、ｚは、ラザフォード後方散乱分光法（ＲＢＳ）又は水素前方散乱法（ＨＦＳ）の少なくとも一方により測定した場合、約２〜約９である）を含み又はそれからなり、壁面に面する外面と、内部表面とを有するタイコート皮膜又は層と；
・前記タイコート皮膜又は層の内部表面と前記内腔との間に配置される、ＳｉＯx（式中、ｘは、ＸＰＳにより測定した場合、約１．５〜約２．９である）のバリア皮膜又は層と；
・前記バリア皮膜又は層と前記内腔との間に配置される、ＳｉＯxＣyＨz（式中、ｘは、ＸＰＳにより測定した場合、約０．５〜約２．４であり、ｙは、ＸＰＳにより測定した場合、約０．６〜約３であり、ｚは、ＲＢＳ又はＨＦＳの少なくとも一方により測定した場合、約２〜約９である）のｐＨ保護皮膜又は層と
を含む、又はそれらからなる容器であって、
前記ｐＨ保護皮膜又は層は、
【数１】
2019081610.tif 000036
として測定される、減衰全反射（ＡＴＲ）で測定されるＯパラメータが０．４未満であり、
前記ｐＨ保護皮膜又は層とタイコート皮膜又は層とを併用すると、少なくとも６か月間、前記内腔に収容された５より高いｐＨを有する流体に攻撃されても前記バリア皮膜又は層を少なくとも実質的に非溶解状態に保つのに有効である、容器。
【請求項２】
前記タイコート皮膜又は層がプラズマ化学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）により塗布される、請求項１に記載の容器。
【請求項３】
前記バリア皮膜又は層がＰＥＣＶＤにより塗布される、請求項１又は２に記載の容器。
【請求項４】
前記ｐＨ保護皮膜又は層がＰＥＣＶＤにより塗布される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の容器。
【請求項５】
シリンジバレル、バイアル、カートリッジ、又はブリスターパッケージを含む又はそれからなる、請求項１〜４のいずれか一項に記載の容器。
【請求項６】
前記熱可塑性の壁の少なくとも一部が、
・ポリオレフィン、
・ポリビニルアルコール、
・ポリメタクリレートエーテル
・ポリアクリル酸
・ポリアミド
・ポリイミド
・ポリスルホン
・ポリ乳酸
・環状オレフィン重合体又は共重合体
・ポリエステル
・ポリオレフィンとポリエステルとの組合せ、又は
・これらのいずれか１つの組合せ
を含む又はそれからなる、請求項１〜５のいずれか一項に記載の容器。
【請求項７】
前記ｐＨ保護皮膜又は層に関して、ｘが、ＸＰＳにより測定した場合、約１〜約２であり、ｙが、ＸＰＳにより測定した場合、約０．６〜約１．５であり、ｚが、ＲＢＳ又はＨＦＳにより測定した場合、約２〜約５である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の容器。
【請求項８】
前記ｐＨ保護皮膜又は層が、有機ケイ素化合物前駆体を含む前駆体供給物のＰＥＣＶＤにより塗布されたものである、請求項１〜７のいずれか一項に記載の容器。
【請求項９】
前記有機ケイ素化合物前駆体が、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、トリメチルシラン（ＴｒｉＭＳ）、テトラメチルシラン（ＴｅｔｒａＭＳ）、テトラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）又はそれらのうちの２種以上の組合せを含む又はそれからなる、請求項８に記載の容器。
【請求項１０】
前記ｐＨ保護皮膜又は層用の前記前駆体供給物が：
・０．５〜１０標準体積の前記有機ケイ素化合物前駆体と；
・０．１〜１０標準体積の酸素と；
・１〜１００標準体積のキャリアガスと
を含む又はそれからなる、請求項８又は９に記載の容器。
【請求項１１】
前記ｐＨ保護皮膜又は層が、厚さ約１０〜約１０００ｎｍである、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の容器。
【請求項１２】
流体組成物に接触する前記ｐＨ保護皮膜又は層が、２年間、前記内腔に収容された５より高いｐＨを有する流体に接触した後、厚さ１０〜１０００ｎｍである、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の容器。
【請求項１３】
前記内腔に収容された５より高いｐＨを有する流体が直接接触した場合の前記ｐＨ保護皮膜又は層の浸食速度が、前記同じ条件下で前記同じ流体が直接接触した場合の前記バリア皮膜又は層の浸食速度の２０％未満である、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の容器。
【請求項１４】
前記内腔に収容された５より高いｐＨを有する流体が直接接触する時、保管寿命が少なくとも２年である、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の容器。
【請求項１５】
前記保管寿命が２０℃の前記流体を収容する前記容器の保管に基づく、請求項１４に記載の容器。
【請求項１６】
前記保管寿命が４０℃の前記流体を収容する前記容器の保管に基づく、請求項１４に記載の容器。
【請求項１７】
前記内腔に収容された５より高いｐＨを有する流体が、前記流体と８８時間接触する毎にｐＨ保護皮膜又は層厚さ１ｎｍ以下の割合で、前記ｐＨ保護皮膜又は層を除去する、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の容器。
【請求項１８】
前記ｐＨ保護皮膜又は層のＦＴＩＲ吸光度スペクトルは、
・約１０００〜１０４０ｃｍ-1における前記Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ対称伸縮ピークの最大振幅と、
・約１０６０〜約１１００ｃｍ-1における前記Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ非対称伸縮ピークの最大振幅と、
の比率が０．７５より大きい、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の容器。
【請求項１９】
注射用水で希釈され、濃縮硝酸でｐＨ８に調整され、０．２ｗｔ．％ポリソルベート８０界面活性剤を含有する５０ｍＭリン酸カリウム緩衝液による前記容器からのケイ素溶解速度が、１７０ｐｐｂ／日未満である、請求項１〜１８のいずれか一項に記載の容器。
【請求項２０】
前記容器から４０℃の０．１Ｎ水酸化カリウム水溶液への前記ｐＨ保護皮膜又は層、バリア皮膜又は層、及びタイコート皮膜又は層の溶解により測定した場合、前記ｐＨ保護皮膜又は層、バリア皮膜又は層、及びタイコート皮膜又は層の総ケイ素含有量が、６６ｐｐｍ未満である、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の容器。
【請求項２１】
前記計算保管寿命が２年超である、請求項１〜２０のいずれか一項に記載の容器。
【請求項２２】
前記ｐＨ保護皮膜又は層、前記バリア皮膜又は層、前記タイコート皮膜又は層を透過して、前記内腔壁に入射する集束イオンビームにより溝を形成し、６．５時間、前記内腔で４０℃に維持された１Ｎ水酸化カリウム（ＫＯＨ）水溶液に前記溝を曝露させた後、前記バリア皮膜又は層は、ＸＰＳにより検出可能であり、その酸素及びケイ素の原子百分率が、前記溝を前記ＫＯＨ溶液で処理する前のそれらの値の１０原子パーセント以内である、請求項１〜２１のいずれか一項に記載の容器。
【請求項２３】
前記ｐＨ保護皮膜又は層は、
【数２】
2019081610.tif 000037
として測定される、減衰全反射（ＡＴＲ）で測定されるＮパラメータが０．７未満である、請求項１〜２２のいずれか一項に記載の容器。
【請求項２４】
前記ｐＨ保護皮膜又は層が、ＰＥＣＶＤ反応室内で、重合ガスの質量２２，０００ｋＪ／ｋｇ超あたりの電力レベルでＰＥＣＶＤにより塗布されたものである、請求項１〜２３のいずれか一項に記載の容器。
【請求項２５】
前記ｐＨ保護皮膜又は層が、１〜２００Ｗあたりの電力レベルでＰＥＣＶＤにより塗布されたものである、請求項１〜２４のいずれか一項に記載の容器。
【請求項２６】
前記ｐＨ保護皮膜又は層の形成に関して、ＰＥＣＶＤにより印加される電極電力とプラズマ量との比率が、５Ｗ／ｍｌ〜７５Ｗ／ｍｌである、請求項１〜２５のいずれか一項に記載の容器。
【請求項２７】
前記タイコート皮膜又は層に関して、ｘが、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により測定した場合、約１〜約２であり、ｙが、ＸＰＳにより測定した場合、約０．６〜約１．５であり、ｚが、ラザフォード後方散乱分光法（ＲＢＳ）又は水素前方散乱法（ＨＦＳ）により測定した場合、約２〜約５である、請求項１〜２６のいずれか一項に記載の容器。
【請求項２８】
前記タイコート皮膜又は層が、有機ケイ素化合物前駆体を含む前駆体供給物のＰＥＣＶＤにより塗布される、請求項１〜２７のいずれか一項に記載の容器。
【請求項２９】
前記有機ケイ素化合物前駆体が、テトラメチルシラン（ＴｅｔｒａＭＳ）、トリメチルシラン（ＴｒｉＭＳ）、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）、テトラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）、又はこれらのうちの２種以上の組合せである、請求項２８に記載の容器。
【請求項３０】
前記タイコート皮膜又は層用の前記前駆体供給物が、
・０．５〜１０標準体積の前記有機ケイ素化合物前駆体と；
・０．１〜１０標準体積の酸素と；
・１〜１２０標準体積のキャリアガスと
を含む又はそれらからなる、請求項２８又は２９に記載の容器。
【請求項３１】
前記タイコート皮膜又は層が平均して厚さ約５〜約２００ｎｍである、請求項１〜３０のいずれか一項に記載の容器。
【請求項３２】
前記ｐＨ保護皮膜又は層と前記内腔との間に塗布される滑性皮膜又は層を更に含む、請求項１〜３１のいずれか一項に記載の容器。
【請求項３３】
内壁に前記タイコート皮膜又は層、バリア皮膜又は層、及びｐＨ保護皮膜又は層が被覆されているシリンジバレルを有し、前記バレル内に着座するプランジャを更に有し、前記内腔に収容された５より高いｐＨを有する医薬組成物を収容するプレフィルドシリンジであって、少なくとも６ヶ月の保管寿命を有するプレフィルドシリンジである、請求項１〜３２のいずれか一項に記載の容器。
【請求項３４】
前記プランジャ及び／又はシリンジバレル壁の少なくとも一部上に滑性皮膜又は層を更に含む、請求項３３に記載の容器。
【請求項３５】
５より高いｐＨを有する流体を保管するための、請求項１〜３４のいずれか一項に記載の容器の使用。
【請求項３６】
請求項１〜３６のいずれか一項に記載の容器の製造方法であって、
・タイコート皮膜又は層を形成する工程と；
・バリア皮膜又は層を形成する工程と；
・前記バリア皮膜又は層と前記内腔との間に配置されるｐＨ保護皮膜又は層を形成する工程と；
を含み、
前記ｐＨ保護皮膜又は層とタイコート皮膜又は層とを併用すると、少なくとも６か月間、前記内腔に収容された５より高いｐＨを有する流体に攻撃されても前記バリア皮膜又は層を少なくとも実質的に非溶解状態に保つのに有効である方法。
【請求項３７】
請求項１〜３６のいずれか一項に記載の容器の製造に適するように構成された容器処理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願は、２０１３年３月１１日出願の米国仮特許出願第６１／７７６，７３３号明細書、及び２０１３年３月１５日出願の米国仮特許出願第６１／８００，７４６号明細書の優先権を主張する。開示の連続性を提供するために、これらの仮特許出願のそれぞれの明細書全体及び全図面が参照により本明細書に援用される。
【０００２】
米国特許第７，９８５，１８８号明細書の明細書及び図面は参照によりその内容全体が本明細書に援用される。その特許は、別段の記載がない限り、本発明の実施に一般的に使用することができる装置、容器、前駆体、皮膜又は層、及び方法（特に、被覆方法、及び皮膜又は層を検査するための試験方法）について記載している。それらはまた、本明細書で参照するＳｉＯxバリア皮膜又は層及びＳｉＯxＣy皮膜についても記載している。
【０００３】
本発明は、バリア被覆表面の技術分野に関し、例えば、保管又は他の流体との接触用の薬剤パッケージ又は他の容器の内部表面に関する。適切な流体の例は、食品、栄養補助食品、薬物、吸引麻酔薬、診断試験物質、生物学的に活性の化合物又は体液、例えば、血液を含む。本発明は、また、薬剤パッケージ又は他の容器に関し、また、内容物とバリア被覆又は層との間にｐＨ保護皮膜又は層を有する薬剤パッケージを作製するための方法に関する。本発明は、また、より全般的には、パッケージ又は容器以外の物品、例えば、カテーテルを含む医療物品に関する。
【０００４】
本開示は、また、薬剤パッケージ又は他の容器、例えば、製剤保管及び送達、静脈穿刺及び他の医療サンプル採集並びに他の目的のために使用される複数の同一薬剤パッケージ又は他の容器を加工するための改良された方法に関する。
【０００５】
結果的に得られるパッケージも特許請求される。このような薬剤パッケージ又は他の容器はこれら目的において多数が使用されることから製造が比較的経済的でなければならないが、保管及び使用においても非常に信頼性の高いものでなければならない。
【背景技術】
【０００６】
保管又は他の流体との接触用の薬剤パッケージ又は他の容器、例えば、バイアル及びプレフィルドシリンジの製造において重要なことの１つは、薬剤パッケージ又は他の容器の内容が望ましくは相当な保管寿命を有することである。この保管寿命の間、薬剤パッケージ又は他の容器に充填された物質を、それを含む容器壁から、又は薬剤パッケージ又は他の容器壁に塗布されたバリア層、又は他の機能層から分離し、薬剤パッケージ又は他の容器壁、バリア層、又は他の機能層から、充填済み内容に、又はその逆に物質が浸出することを回避することが重要である。
【０００７】
従来のガラス薬剤パッケージ又は他の容器は、製造、充填作業、発送及び使用中に破損又は劣化しやすく、これはガラス微粒子が薬物に入る可能性があることを意味する。ガラス粒子の存在により多くのＦＤＡ警告書及び製品回収につながっている。
【０００８】
そのため、ガラスと比較して寸法公差が大きく、破損の少ないプラスチック薬剤パッケージ又は他の容器に転換した企業もあるが、そのガス（酸素）透過性のため、即ち、プラスチックは小分子ガスを物品内に（又は物品外に）透過させるため、その一次薬剤包装としての使用は依然として限定されている。プラスチックのガス透過性はガラスのガス透過性より極めて大きく、多くの場合（エピネフリンなどの酸素感受性薬物のように）、プラスチックはこのような理由から、これまで容認されてこなかった。
【０００９】
パッケージの流体内容物に接触するプラスチック薬剤パッケージにバリア皮膜又は層を付加することにより透過性の問題に対処してきた。このようなバリア層の１つは、プラズマ化学気相成長法により塗布される、下記で定義されるＳｉＯxの非常に薄い皮膜である。しかし、ＰＥＣＶＤによりパッケージ上に堆積される現在のＳｉＯxバリア層は、４より高いｐＨ値、特に、より高いｐＨ値を有するパッケージの水性内容物により腐食される。これにより、そのバリア効果が低下するため、パッケージの有用な保管寿命が短くなる。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一態様は、内腔の少なくとも一部を囲む内部表面を有する熱可塑性の壁を含む又はそれからなる容器である。
【００１１】
タイコート皮膜又は層は、ＳｉＯxＣyＨz又はＳｉＮxＣyＨz（式中、ｘは、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により測定した場合、約０．５〜約２．４であり、ｙは、ＸＰＳにより測定した場合、約０．６〜約３であり、ｚは、ラザフォード後方散乱分光法（ＲＢＳ）又は水素前方散乱法（ＨＦＳ）の少なくとも一方により測定した場合、約２〜約９である）を含む又はそれからなる。タイコート皮膜又は層は、壁面に面する外面と内部表面とを有する。
【００１２】
バリア皮膜又は層は、ＳｉＯx（式中、ｘは、ＸＰＳにより測定した場合、約１．５〜約２．９である）を含む又はそれからなる。バリア皮膜又は層は、タイコート皮膜又は層の内部表面と内腔との間に配置される。
【００１３】
ｐＨ保護皮膜又は層は、ＳｉＯxＣyＨz（式中、ｘは、ＸＰＳにより測定した場合、約０．５〜約２．４であり、ｙは、ＸＰＳにより測定した場合、約０．６〜約３であり、ｚは、ＲＢＳ又はＨＦＳの少なくとも一方により測定した場合、約２〜約９である）を含む又はそれからなる。ｐＨ保護皮膜又は層は、バリア皮膜又は層と内腔との間に配置される。
【００１４】
ｐＨ保護皮膜又は層とタイコート皮膜又は層とを併用すると、少なくとも６か月間、内腔に収容された５より高いｐＨを有する流体に攻撃されてもバリア皮膜又は層を少なくとも実質的に非溶解状態に保つのに有効である。
【００１５】
本発明の別の態様は、５より高いｐＨを有する流体を保管するためのこのような容器の使用である。
【００１６】
本発明の更に別の態様は、容器内壁上にタイコート皮膜又は層を形成する工程と；タイコート皮膜又は層の少なくとも一部の上にバリア皮膜又は層を形成する工程と；バリア皮膜又は層と内腔との間に配置されるｐＨ保護皮膜又は層を形成する工程とを含む又はそれらからなるこのような容器の製造方法である。
【００１７】
ｐＨ保護皮膜又は層とタイコート皮膜又は層とを併用すると、少なくとも６か月間、内腔に収容された５より高いｐＨを有する流体に攻撃されてもバリア皮膜又は層を少なくとも実質的に非溶解状態に保つのに有効である。
【００１８】
本発明の更に別の態様は、このような容器の製造に適するように構成された容器処理システムである。
【００１９】
本発明の任意の実施形態においては、タイコート皮膜又は層は任意選択的に、プラズマ化学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）により塗布されてもよい。
【００２０】
本発明の任意の実施形態においては、バリア皮膜又は層は任意選択的に、ＰＥＣＶＤにより塗布されてもよい。
【００２１】
本発明の任意の実施形態においては、ｐＨ保護皮膜又は層は任意選択的に、ＰＥＣＶＤにより塗布されてもよい。
【００２２】
本発明の任意の実施形態においては、容器は、シリンジバレル、バイアル、カートリッジ又はブリスターパッケージを含んでも又はそれからなってもよい。
【００２３】
本発明の任意の実施形態においては、熱可塑性の壁の少なくとも一部は、
・ポリオレフィン、
・ポリビニルアルコール、
・ポリメタクリレートエーテル
・ポリアクリル酸
・ポリアミド
・ポリイミド
・ポリスルホン
・ポリ乳酸
・環状オレフィン重合体又は共重合体
・ポリエステル
・ポリオレフィンとポリエステルとの組合せ、又は
・これらのいずれか１つの組合せ
を含む又はそれからなる。
【００２４】
本発明の任意の実施形態においては、ｐＨ保護皮膜又は層に関して、ｘは、ＸＰＳにより測定した場合、任意選択的に約１〜約２であってもよく、ｙは、ＸＰＳにより測定した場合、任意選択的に約０．６〜約１．５であってもよく、ｚは、ＲＢＳ又はＨＦＳにより測定した場合、任意選択的に約２〜約５であってもよい。
【００２５】
本発明の任意の実施形態においては、ｐＨ保護皮膜又は層は、有機ケイ素化合物前駆体を含む前駆体供給物のＰＥＣＶＤにより塗布されたものである。
【００２６】
本発明の任意の実施形態においては、有機ケイ素化合物前駆体は、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、トリメチルシラン（ＴｒｉＭＳ）、テトラメチルシラン（ＴｅｔｒａＭＳ）、テトラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）又はそれらのうちの２種以上の組合せを含む又はそれからなる。
【００２７】
本発明の任意の実施形態においては、ｐＨ保護皮膜又は層用の前駆体供給物は、
・０．５〜１０標準体積の有機ケイ素化合物前駆体と；
・０．１〜１０標準体積の酸素と；
・１〜１００標準体積のキャリアガスと
を含む又はそれからなる。
【００２８】
本発明の任意の実施形態においては、ｐＨ保護皮膜又は層は、任意選択的に厚さ１０〜１０００ｎｍであってもよい。
【００２９】
本発明の任意の実施形態においては、流体組成物に接触するｐＨ保護皮膜又は層は任意選択的に、２年間、内腔に収容された５より高いｐＨを有する流体に接触した後、厚さ１０〜１０００ｎｍであってもよい。
【００３０】
本発明の任意の実施形態においては、内腔に収容された５より高いｐＨを有する流体が直接接触した場合のｐＨ保護皮膜又は層の浸食速度は任意選択的に、同じ条件下で同じ流体が直接接触した場合のバリア皮膜又は層の浸食速度の２０％未満であってもよい。
【００３１】
本発明の任意の実施形態においては、内腔に収容された５より高いｐＨを有する流体が直接接触する時、保管寿命が少なくとも２年である、先行する請求項のいずれかの容器。
【００３２】
本発明の任意の実施形態においては、保管寿命は任意選択的に、２０℃の流体を収容する容器の保管に基づき得る。
【００３３】
本発明の任意の実施形態においては、保管寿命は任意選択的に、４０℃の流体を収容する容器の保管に基づき得る。
【００３４】
本発明の任意の実施形態においては、内腔に収容された５より高いｐＨを有する流体は任意選択的に、流体と８８時間接触する毎にｐＨ保護皮膜又は層厚さ１ｎｍ以下の割合で、ｐＨ保護皮膜又は層を除去し得る。
【００３５】
本発明の任意の実施形態においては、ｐＨ保護皮膜又は層のＦＴＩＲ吸光度スペクトルは任意選択的に、
・約１０００〜１０４０ｃｍ-1におけるＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称伸縮ピークの最大振幅と、
・約１０６０〜約１１００ｃｍ-1におけるＳｉ−Ｏ−Ｓｉ非対称伸縮ピークの最大振幅と、
の比率が０．７５より大きくてもよい。
【００３６】
本発明の任意の実施形態においては、注射用水で希釈され、濃縮硝酸でｐＨ８に調整され、０．２ｗｔ．％ポリソルベート８０界面活性剤を含有する５０ｍＭリン酸カリウム緩衝液による容器からのケイ素溶解速度が、任意選択的に１７０ｐｐｂ／日未満であってもよい。
【００３７】
本発明の任意の実施形態においては、容器から４０℃の０．１Ｎ水酸化カリウム水溶液へのｐＨ保護皮膜又は層、バリア皮膜又は層、及びタイコート皮膜又は層の溶解により測定した場合、ｐＨ保護皮膜又は層、バリア皮膜又は層、及びタイコート皮膜又は層の総ケイ素含有量は任意選択的に６６ｐｐｍ未満であってもよい。
【００３８】
本発明の任意の実施形態においては、計算保管寿命は任意選択的に２年超であってもよい。
【００３９】
本発明の任意の実施形態においては、ｐＨ保護皮膜又は層、バリア皮膜又は層、タイコート皮膜又は層を透過して、内腔壁に入射する集束イオンビームにより溝を形成し、６．５時間、内腔で４０℃に維持された１Ｎ水酸化カリウム（ＫＯＨ）水溶液に溝を曝露させた後、バリア皮膜又は層は任意選択的にＸＰＳにより検出可能であり得、任意選択的にその酸素及びケイ素の原子百分率が、溝をＫＯＨ溶液で処理する前のそれらの値の１０原子パーセント以内であってもよい。
【００４０】
本発明の任意の実施形態においては、ｐＨ保護皮膜又は層は任意選択的に、
【数１】
2019081610.tif 000003
として測定される、減衰全反射（ＡＴＲ）で測定されるＯパラメータが０．４未満であってもよい。
【００４１】
本発明の任意の実施形態においては、ｐＨ保護皮膜又は層は任意選択的に、
【数２】
2019081610.tif 000004
として測定される、減衰全反射（ＡＴＲ）で測定されるＮパラメータが０．７未満であってもよい。
【００４２】
本発明の任意の実施形態においては、ｐＨ保護皮膜又は層は任意選択的に、ＰＥＣＶＤ反応室内で、重合ガスの質量２２，０００ｋＪ／ｋｇ超あたりの電力レベルでＰＥＣＶＤにより塗布され得る。
【００４３】
本発明の任意の実施形態においては、ｐＨ保護皮膜又は層は任意選択的に、１〜２００Ｗあたりの電力レベルでＰＥＣＶＤにより塗布され得る。
【００４４】
本発明の任意の実施形態においては、ｐＨ保護皮膜又は層の形成に関して、ＰＥＣＶＤにより印加される電極電力とプラズマ量との比率は任意選択的に、５Ｗ／ｍｌ〜７５Ｗ／ｍｌであってもよい。
【００４５】
本発明の任意の実施形態においては、タイコート皮膜又は層に関して、ｘは任意選択的に、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により測定した場合、約１〜約２であってもよく、ｙは任意選択的に、ＸＰＳにより測定した場合、約０．６〜約１．５であってもよく、ｚは任意選択的に、ラザフォード後方散乱分光法（ＲＢＳ）又は水素前方散乱法（ＨＦＳ）により測定した場合、約２〜約５であってもよい。
【００４６】
本発明の任意の実施形態においては、タイコート皮膜又は層は任意選択的に、有機ケイ素化合物前駆体を含む前駆体供給物のＰＥＣＶＤにより塗布され得る。
【００４７】
本発明の任意の実施形態においては、有機ケイ素化合物前駆体は任意選択的に、テトラメチルシラン（ＴｅｔｒａＭＳ）、トリメチルシラン（ＴｒｉＭＳ）、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）、テトラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）、又はこれらのうちの２つ以上の組合せであってもよい。
【００４８】
本発明の任意の実施形態においては、タイコート皮膜又は層用の前駆体供給物は任意選択的に、
・０．５〜１０標準体積の有機ケイ素化合物前駆体と；
・０．１〜１０標準体積の酸素と；
・１〜１２０標準体積のキャリアガスと
を含む又はそれらからなる。
【００４９】
本発明の任意の実施形態においては、タイコート皮膜又は層は任意選択的に、平均して厚さ約５〜約２００ｎｍであってもよい。
【００５０】
本発明の任意の実施形態は任意選択的に、ｐＨ保護皮膜又は層と内腔との間に塗布される滑性皮膜又は層を更に含んでもよい。
【００５１】
本発明の任意の実施形態においては、先行する請求項のいずれかの容器は任意選択的に、内壁にタイコート皮膜又は層、バリア皮膜又は層、及びｐＨ保護皮膜又は層が被覆されているシリンジバレルを有するプレフィルドシリンジであってもよい。それは任意選択的に、バレル内に着座するプランジャを更に有してもよい。
【００５２】
本発明の任意の実施形態においては、先行する請求項のいずれかの容器は任意選択的に、内腔に収容される５より高いｐＨを有する医薬組成物を収容し、プレフィルドシリンジが少なくとも６ヶ月の保管寿命を有し得る。
【００５３】
本発明の任意の実施形態においては、請求項３４の容器は任意選択的に、プランジャ及び／又はシリンジバレル壁の少なくとも一部上に滑性皮膜又は層を更に含んでもよい。
【００５４】
本発明の多くの追加の及び代替の態様及び実施形態も考えられ、以下の明細書及び特許請求の範囲に記載されている。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の任意の実施形態による容器の概略断面図である。
【図２】図１の容器壁及び皮膜の一部の拡大詳細図である。
【図３】流体を収容し、プランジャの形態のクロージャで閉鎖された、図１及び図２の容器としてのシリンジバレルの形態の薬剤パッケージの概略図である。
【図４】流体を収容し、クロージャで閉鎖された、図１及び図２の容器としてのバイアルの形態の薬剤パッケージの概略図である。
【図５】流体を収容し、追加の容器壁を画定する被覆シートの形態のクロージャで閉鎖された、図１及び図２の容器としてのブリスターパッケージの形態の薬剤パッケージの概略図である。
【図６】内側壁に被覆されたＳｉＯxバリア層を有するプラスチックコンテナ対ガラスコンテナの、ｐＨ６におけるケイ素溶解対曝露時間のプロットである。
【図７】内側壁に被覆されたＳｉＯxバリア層を有するプラスチックコンテナ対ガラスコンテナの、ｐＨ７におけるケイ素溶解対曝露時間のプロットである。
【図８】内側壁に被覆されたＳｉＯxバリア層を有するプラスチックコンテナ対ガラスコンテナの、ｐＨ８におけるケイ素溶解対曝露時間のプロットである。
【図９】３〜９の異なる名目ｐＨ値の溶液とともに保管した場合に、３０ｎｍの残留皮膜厚さを残すために最初に必要とされるＳｉＯx皮膜厚さのプロットである。
【図１０】ｐＨ８及び４０℃における、種々のＰＥＣＶＤ皮膜のケイ素溶解速度を示す。
【図１１】反応性前駆体ガスとしてＯＭＣＴＳ及び酸素を使用するＰＥＣＶＤ皮膜の単位質量あたりエネルギ入カ（Ｗ／ＦＭ又はＫＪ／ｋｇ）対Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ対称／非対称伸縮モードの比率のプロットである。
【図１２】反応性前駆体ガスとしてＯＭＣＴＳ及び酸素を使用するＰＥＣＶＤ皮膜の単位質量あたりエネルギ入カ（Ｗ／ＦＭ又はＫＪ／ｋｇ）対ケイ素保管寿命（日）のプロットである。
【図１３】ＰＥＣＶＤ皮膜のフーリエ変換赤外吸収分光（ＦＴＩＲ）吸光度スペクトルである。
【図１４】ＰＥＣＶＤ皮膜のフーリエ変換赤外吸収分光（ＦＴＩＲ）吸光度スペクトルである。
【図１５】ＰＥＣＶＤ皮膜のフーリエ変換赤外吸収分光（ＦＴＩＲ）吸光度スペクトルである。
【図１６】ＰＥＣＶＤ皮膜のフーリエ変換赤外吸収分光（ＦＴＩＲ）吸光度スペクトルである。
【図１７】本来、米国特許第８，０６７，０７０号明細書の図５として示したＰＥＣＶＤ皮膜のフーリエ変換赤外吸収分光（ＦＴＩＲ）吸光度スペクトルであり、同特許において言及したＯパラメータの計算を示すために注釈するものである。
【図１８】円筒部及びデータを取った特定の点を示す、図１、図２、及び図３による三層皮膜を有するシリンジの概略図である。
【図１９】図１８、図１、図２、及び図３により示されるシリンジの、三層皮膜の全厚対円筒部中の位置のトリメトリックマップ（Ｔｒｉｍｅｔｒｉｃ  ｍａｐ）である。
【図２０】図１８に示される位置２における三層皮膜の基板及び皮膜を示す顕微鏡写真断面図である。
【図２１】図１８、図１、図２、及び図３により示されるシリンジの、三層皮膜の全厚対円筒部中の位置の別のトリメトリックマップである。
【図２２】図１８に示される位置１、２、３、及び４における、図２１と同じ皮膜を示す皮膜厚さのプロットである。
【図２３】実施例で測定を行った表面上の点を示す、シリンジの概略図である。
【図２４】実施例で検討する、アルカリ試薬による攻撃後のピンホールの防止における本三層皮膜の利点を示す写真である。
【図２４Ａ】図２４の表示部分の拡大詳細図である。
【図２５】実施例ＮＮに関して図２に示すような容器壁と皮膜セットとに設けた横方向のトレンチの概略断面図である。
【図２６】実施例ＮＮで言及するようなＫＯＨ処理前の図２５のトレンチの顕微鏡写真平面図である。
【図２７】実施例ＮＮで言及するようなＫＯＨ処理の３時間後の図２５のトレンチの顕微鏡写真平面図である。
【図２８】実施例ＮＮで言及するようなＫＯＨ処理の６．５時間後の図２５のトレンチの顕微鏡写真平面図である。
【図２９】実施例ＮＮで言及するようなＫＯＨ処理前の図２５のトレンチ全体を横方向に走査して得られるＸＰＳプロットである。
【図３０】実施例ＮＮで言及するようなＫＯＨ処理の３時間後の図２５のトレンチ全体を横方向に走査して得られるＸＰＳプロットである。
【図３１】実施例ＮＮで言及するようなＫＯＨ処理の６時間後の図２５のトレンチ全体を横方向に走査して得られるＸＰＳプロットである。
【図３２】容器を製造し、それらの製造プロセスを行うためのシステムの概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００５６】
図面では以下の参照符号を使用する。
【００５７】
【表１】
2019081610.tif 000005
【００５８】
本発明の文脈においては、以下の定義及び略語を使用する。
【００５９】
用語「少なくとも（ａｔ  ｌｅａｓｔ）」は、本発明の文脈においては、同用語に続く整数と「等しいかそれを超える（ｅｑｕａｌ  ｏｒ  ｍｏｒｅ）」ことを意味する。「を含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」という語は他の要素又はステップを排除するものではなく、また、不定冠詞「ａ」又は「ａｎ」は別段の定めがなければ複数形を排除するものではない。パラメータ範囲が示される場合、範囲の限界として提供するパラメータ値及び前記範囲内にあるパラメータの全ての値を開示することを意図する。
【００６０】
例えば、潤滑剤の堆積物、処理台又は処理デバイスに対する「第１の」及び「第２の」又は類似の言及は、存在する最小数の堆積物、処理台又はデバイスを意味するものであり、必ずしも堆積物、処理台及びデバイスの順序又は総数を示すものとは限らず、又は記載された数を超える追加の堆積物、処理台及びデバイスを要求するものではない。これら用語は、処理台又は各々の台において実施される特定の処理の数を限定するものではない。例えば、「第１の」堆積物は、本明細書の文脈においては、限定されることなく、唯一の堆積物であっても、又は複数の堆積物のいずれか１つであってもよい。換言すれば、「第１の」堆積物という記載は、第２の又は他の堆積物も有する実施形態を可能にするが、必要とするわけではない。
【００６１】
本発明の目的においては、「有機ケイ素化合物前駆体」は、酸素又は窒素原子及び有機炭素原子（有機炭素原子は少なくとも１個の水素原子と結合した炭素原子である）に結合した四価ケイ素原子である、以下の結合の少なくとも１つを有する化合物である。
【化１】
2019081610.tif 000006
揮発性の有機ケイ素化合物前駆体は、ＰＥＣＶＤ装置に蒸気として供給されうる前駆体と定義され、任意の有機ケイ素化合物前駆体である。任意選択的に、有機ケイ素化合物前駆体は、直鎖シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、アルキルトリメトキシシラン、直鎖シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、及びこれら前駆体のいずれか２つ以上の複合体からなる群から選択される。
【００６２】
明細書及び特許請求の範囲において、ＰＥＣＶＤ前駆体、気体反応物又はプロセスガス及びキャリアガスの供給量は「標準体積（ｓｔａｎｄａｒｄ  ｖｏｌｕｍｅｓ）」で表される場合がある。チャージガス又は他の一定量のガスの標準体積は、（実際の送達温度及び圧力を考慮しない）標準温度及び圧力において占める一定量のガスの体積である。標準体積は異なる体積の単位を使用して測定することができるが、それでもなお本開示及び特許請求の範囲の範囲内とされうる。例えば、同じ一定量のガスを、標準立方センチメートルの数値、標準立方メートルの数値、又は標準立方フィートの数値として表すことができる。標準体積もまた異なる標準温度及び圧力を使用して定義することができるが、それでもなお本開示及び特許請求の範囲の範囲内とされうる。例えば、標準温度が０℃、標準圧力が７６０トル（従来のまま）である可能性も、標準温度が２０℃、標準圧力が１トルである可能性もある。しかし、特定の場合においてどのような標準を使用したとしても、２つ以上の異なるガスの相対体積を特定のパラメータを明示せずに比較する場合、特に明示しない限りは、各ガスに対して同じ体積、標準温度及び標準圧力の単位が使用される。
【００６３】
本明細書においては、ＰＥＣＶＤ前駆体、気体反応物又はプロセスガス及びキャリアガスの対応する供給速度は単位時間あたりの標準体積で表される。例えば、実施例において、流量は標準立方センチメートル／分として表され、ｓｃｃｍと略される。他のパラメータと同様、秒又は時間などの他の時間単位を使用できるが、２つ以上のガスの流量を比較する場合、特に明記されない限りは一貫したパラメータが使用される。
【００６４】
「容器」は、本発明の文脈においては、少なくとも１つの開口部と、内側又は内部表面を画定する壁とを備えた任意の種類の容器とされうる。基板は内腔を有する容器の壁とされうる。本発明は特定の容量の薬剤パッケージ又は他の容器に必ずしも限定されるわけではないが、内腔が０．５〜５０ｍＬ、任意選択的に、１〜１０ｍＬ、任意選択的に、０．５〜５ｍＬ、任意選択的に、１〜３ｍＬの空隙容量を有する薬剤パッケージ又は他の容器が企図される。基板表面は、少なくとも１つの開口部及び内側又は内部表面を有する容器の内側又は内部表面の一部又は全てとされうる。薬剤パッケージの幾つかの例としては、バイアル、プラスチック被覆バイアル、シリンジ、プラスチック被覆シリンジ、ブリスターパック、アンプル、プラスチック被覆アンプル、カートリッジ、ボトル、プラスチック被覆ボトル、パウチ、ポンプ、噴霧器、ストッパ、針、プランジャ、キャップ、ステント、カテーテル又はインプラントが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６５】
「少なくとも（ａｔ  ｌｅａｓｔ）」という用語は、本発明の文脈においては、この用語に続く整数と「等しいかそれより多い（ｅｑｕａｌ  ｏｒ  ｍｏｒｅ）」ことを意味する。したがって、容器は、本発明の文脈においては、１つ又は複数の開口部を有する。サンプルチューブ（１つの開口部）又はシリンジバレル（２つの開口部）の開口部のような１つ又は２つの開口部が好適である。容器が２つの開口部を有する場合、それらは同じ又は異なる大きさのものとすることもできる。１つより多い開口部がある場合、１つの開口部は本発明によるＰＥＣＶＤ皮膜法のガス注入用に使用することができる一方で、もう一方の開口部はキャップが嵌められるか開放されるかのいずれかである。本発明による容器は、例えば、血液又は尿などの生物学的流体を採集又は保管するためのサンプルチューブ、生物学的に活性の化合物又は組成物、例えば、薬剤又は薬剤組成物を保管又は送達するためのシリンジ（又はその一部、例えば、シリンジバレル）、生物学的材料又は生物学的に活性の化合物又は組成物を保管するためのバイアル、管、例えば、生物学的材料又は生物学的に活性の化合物又は組成物を輸送するためのカテーテル、又は流体を保持するための、例えば、生物学的材料又は生物学的に活性の化合物又は組成物を保持するためのキュベットとすることができる。
【００６６】
容器はあらゆる形状のものとすることができる。その開端部の少なくとも１つに隣接する、実質的に円筒状の壁を有する容器が好適である。一般に、容器の内部壁は、例えば、サンプルチューブ又はシリンジバレル内のように円筒状の形状である。サンプルチューブ及びシリンジ又はそれらの部品（例えば、シリンジバレル）が考えられる。
【００６７】
「疎水性層」は、本発明の文脈においては、皮膜又は層が、皮膜又は層で被覆された表面のぬれ張力を、対応する非被覆表面と比べて低下させることを意味する。疎水性は、したがって、非被覆基板及び皮膜又は層両方の機能である。用語「疎水性」が使用される他の文脈の適切な代替物にも同じことが当てはまる。用語「親水性」は逆、すなわち、基準サンプルと比べてぬれ張力が増加することを意味する。本疎水性層は、それら疎水性及び疎水性を提供するプロセス条件によって主に画定される。
【００６８】
実験組成物ＳｉwＯxＣyＨz又は均等な組成物ＳｉＯxＣyにおいて、この明細書全体を通じて使用されるｗ、ｘ、ｙ及びｚの値は、分子中の原子の数又は種類を限定するものではなく（例えば、皮膜又は層の）比率又は実験式と理解すべきである。例えば、分子組成Ｓｉ4Ｏ4Ｃ8Ｈ24を有するオクタメチルシクロテトラシロキサンは、分子式のｗ、ｘ、ｙ及びｚそれぞれを最大公約数である４で割ることにより得た以下の実験式、Ｓｉ1Ｏ1Ｃ2Ｈ6、によって記載されうる。ｗ、ｘ、ｙ及びｚの値は、また、整数に限定されない。例えば、（非環式）オクタメチルトリシロキサンの分子組成Ｓｉ3Ｏ2Ｃ8Ｈ24はＳｉ1Ｏ0.67Ｃ2.67Ｈ8に可約である。また、ＳｉＯxＣyＨzはＳｉＯxＣyの均等として記載されるが、ＳｉＯxＣyの存在を示すために任意の割合の水素の存在を示す必要はない。
【００６９】
「ぬれ張力」は表面の疎水性又は親水性の特定の測度である。任意のぬれ張力測定方法は、本発明の文脈においては、ＡＳＴＭ  Ｄ２５７８又はＡＳＴＭ  Ｄ２５７８に記載されている方法の変更形態である。この方法では、標準的なぬれ張力の溶液（ダイン溶液（ｄｙｎｅ  ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ）と称される）を使用してプラスチック膜表面をちょうど２秒間濡らすのに最も近い溶液を決定する。これが膜のぬれ張力である。本明細書中において使用する手順はＡＳＴＭ  Ｄ  ２５７８から変更され、基板は平坦なプラスチック膜でなく、ＰＥＴチューブを形成するためのプロトコルに従い作製され、チューブ内側を疎水性皮膜又は層（欧州特許出願公開第２２５１６７１Ａ２号明細書の実施例９を参照）で被覆するためのプロトコルに従い被覆された（対照以外）チューブである。
【００７０】
ケイ素、酸素、及び炭素の原子比率は、ＸＰＳにより求めることができる。Ｈ原子の原子比率は、水素を検出しないＸＰＳにより測定することができない。任意選択的に、Ｈ原子の割合は、例えば、ラザフォード後方散乱法又は水素前方散乱法、好ましくは前者により、別々に求めることができる。また、特に明記しない限り、ｗの値は１に正規化され、その場合、下付き文字ｗは好都合には省略される。従って、皮膜又は層は、一態様においては、式ＳｉwＯxＣyＨzを有し得、例えば、式中、ｗは１であり、ｘは約０．５〜約２．４であり、ｙは約０．６〜約３であり、ｚは約２〜約９である。従って、ｗ、ｘ及びｙの規定が同じである同皮膜又は層は、別の態様において、式ＳｉＯxＣyを有し得、例えば、式中、ｘは約０．５〜約２．４であり、ｙは約０．６〜約３であり、ｗ及びｚは省略される。通常、このような皮膜又は層は、従って、１００％の炭素＋酸素＋ケイ素に対して正規化された、３６％〜４１％の炭素を含有する。
【００７１】
「シリンジ」という用語は、カートリッジ、「ペン」型注射器、及び他の１つ又は複数の構成要素と共に組み立てられて機能的なシリンジを提供するようになっている他の種類のバレル又はリザーバを含むように広く定義される。「シリンジ」はまた、内容物を分注するための機構を提供する、オートインジェクタなどの関連物品を含むように広く定義される。
【００７２】
皮膜若しくは層又は処理は、それが表面のぬれ張力を、対応する非被覆面又は非処理面と比較して低下させる場合、「疎水性」と定義される。従って、疎水性は非処理基板と処理の両方の機能である。
【００７３】
「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」という語は他の要素又はステップを排除するものではない。
【００７４】
不定冠詞「１つの（ａ）」又は「１つの（ａｎ）」は複数形を排除するものではない。
【００７５】
ここで、いくつかの実施形態を示す添付の図面を参照して本発明をより詳細に説明する。しかしながら、本発明は多くの異なる形態で具現化することができ、ここで説明する実施形態に限定されるものと解釈すべきではない。むしろ、これら実施形態は本発明の例であり、特許請求の範囲の文言により示される全範囲を有する。全体にわたり同様の数は同様の要素又は対応する要素を意味する。以下の開示は、特定の実施形態に特に限定されない限りは全実施形態に関連する。
【００７６】
図１及び図２を参照すると、ここでは薬剤パッケージ２１０の形態の容器が示されている。このような容器の幾つかの非限定的な例には、シリンジバレル、バイアル、ブリスターパック若しくはパッケージ、アンプル、カートリッジ、ボトル、パウチ、ポンプ、噴霧器、ストッパ、針、プランジャ、キャップ、ステント、カテーテル若しくはインプラント、又は他の任意の種類の流体用容器若しくは導管がある。
【００７７】
図１及び図２の容器２１０は、壁２１４により少なくとも部分的に画定された内腔２１２を有する。壁２１４の少なくとも一部は任意選択的に、環状オレフィン重合体を含む。より一般的には、容器２５０の壁２１４に適した材料としては、ポリオレフィン（例えば、環状オレフィン重合体、環状オレフィン共重合体、又はポリプロピレン）、ポリエステル、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、又はこれらのいずれかの任意の組合せ若しくは共重合体が挙げられる。任意選択的に、容器２５０の壁２１４の少なくとも一部は、ガラス、例えば、ホウケイ酸ガラスを含む又はそれから本質的になる。この段落中の材料のいずれか２種以上の組合せを使用することもできる。
【００７８】
壁２１４は、内腔に面する内部表面と、外面と、内腔２１２に面する壁２１４の少なくとも一部上の容器被覆セット２８５とを有する。内部表面は、タイコート皮膜又は層２８９、バリア皮膜又は層２８８、及びｐＨ保護皮膜又は層２８６を含む。容器皮膜又は層のセット２８５のこの実施形態は「三層皮膜」として知られることもあり、ＳｉＯxのバリア皮膜又は層２８８は任意選択的に、それぞれ本明細書に定義されるＳｉＯxＣyの有機層であるｐＨ保護皮膜又は層２８６とタイコート皮膜又は層２８９との間に挟設されることにより、さもなければそれを除去するほど十分高いｐＨを有する内容物から保護される。
【００７９】
図１及び図２は、少なくとも１つの開口部を有する容器を示すが、シリンジなどの２つ以上の開口部を有する容器、又はパウチ、ブリスターパック、若しくはアンプルなどの開口部を有していない容器も含むものと理解されたい。
【００８０】
タイコート皮膜又は層
図１及び図２を参照すると、接着皮膜又は層と称されることもある、タイコート皮膜又は層２８９が設けられている。タイコート皮膜又は層２８９は任意選択的に、基板、特に熱可塑性基板へのバリア皮膜又は層２８８の接着を改善する機能を果たすが、タイコート層はガラス基板又は別の皮膜若しくは層への接着を改善するのに使用することもできる。
【００８１】
任意選択的に、タイコート皮膜又は層２８９は、基板又は壁２１４へのバリア皮膜又は層２８８への接着を改善する。例えば、接着層又は皮膜とも称されるタイコート皮膜又は層２８９を基板に塗布することができ、基板へのバリア層又は皮膜の接着を改善する接着層にバリア層を塗布することができる。任意選択的に、接着又はタイコート皮膜又は層２８９はまた、バリア皮膜又は層２８８にかかる応力を除去し、バリア層が熱膨張若しくは熱収縮又は機械的衝撃による損傷を受け難くすると考えられる。
【００８２】
任意選択的に、バリア皮膜又は層２８８の下に塗布されるタイコート皮膜又は層２８９は、バリア皮膜又は層２８８の上に塗布されるｐＨ保護皮膜又は層２８６の機能を改善することができる。
【００８３】
任意選択的に、接着又はタイコート皮膜又は層２８９はまた、バリア皮膜又は層２８８とＣＯＰ基板との間の欠陥を分断すると考えられる。これは、接着又はタイコート皮膜又は層２８９が塗布されるときに形成され得るピンホール又は他の欠陥があっても、バリア皮膜又は層２８８が塗布されると連続しなくなり、このように１つの皮膜中のピンホール又は他の欠陥は他の皮膜中の欠陥と一列に並ばないため、起こると考えられる。任意選択的に、接着又はタイコート皮膜又は層２８９はバリア層としての効果が幾らかあり、このように、バリア皮膜又は層２８９を通って延びる漏れ経路となる欠陥があっても接着又はタイコート皮膜又は層２８９で塞ぐことができる。
【００８４】
任意選択的に、タイコート皮膜又は層２８９は、ＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣyを含み、好ましくはＳｉＯxＣyで構成されても、それを含んでも、又はそれから本質的になってもよく、式中、ｘは約０．５〜約２．４であり、ｙは約０．６〜約３である。タイコート皮膜又は層２８９中のＳｉ、Ｏ、及びＣの原子比率は任意選択的に：
Ｓｉ  １００：Ｏ  ５０〜１５０：Ｃ  ９０〜２００（即ち、ｘ＝０．５〜１．５、ｙ＝０．９〜２）；
Ｓｉ  １００：Ｏ  ７０〜１３０：Ｃ  ９０〜２００（即ち、ｘ＝０．７〜１．３、ｙ＝０．９〜２）
Ｓｉ  １００：Ｏ  ８０〜１２０：Ｃ  ９０〜１５０（即ち、ｘ＝０．８〜１．２、ｙ＝０．９〜１．５）
Ｓｉ  １００：Ｏ  ９０〜１２０：Ｃ  ９０〜１４０（即ち、ｘ＝０．９〜１．２、ｙ＝０．９〜１．４）、又は
Ｓｉ  １００：Ｏ  ９２〜１０７：Ｃ  １１６〜１３３（即ち、ｘ＝０．９２〜１．０７、ｙ＝１．１６〜１．３３）、
であってもよい。
【００８５】
原子比率は、ＸＰＳにより求めることができる。ＸＰＳにより測定されないＨ原子を考慮して、タイコート皮膜又は層２８９は、従って一態様においては、式ＳｉwＯxＣyＨz（又はその均等のＳｉＯxＣy）を有してもよく、例えば、式中、ｗは１であり、ｘは約０．５〜約２．４であり、ｙは約０．６〜約３であり、ｚは約２〜約９である。通常、タイコート皮膜又は層２８９は、１００％の炭素＋酸素＋ケイ素に対して正規化された３６％〜４１％の炭素を含有する。
【００８６】
任意選択的に、タイコート皮膜又は層は、本明細書の他の箇所に記載されているｐＨ保護皮膜又は層２８６と組成が類似していても又は同一であってもよいが、これは必要条件ではない。
【００８７】
任意選択的に、タイコート皮膜又は層２８９は、平均して厚さ５〜２００ｎｍ（ナノメートル）、任意選択的に５〜１００ｎｍ、任意選択的に５〜２０ｎｍである。これらの厚さは重要ではない。タイコート皮膜又は層２８９は、その機能が基板の表面特性を変化させることであるため、一般的に比較的薄いが、必ずしもそうとは限らない。
【００８８】
タイコート皮膜又は層２８９は、内腔２１２に面する内部表面と、壁２１４内部表面に面する外面とを有する。任意選択的に、タイコート皮膜又は層２８６は、少なくともバリア皮膜又は層と同一の広がりを有する。任意選択的に、タイコート皮膜又は層は、例えば、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）、テトラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）、又はヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）を含む前駆体供給物のＰＥＣＶＤにより塗布される。
【００８９】
バリア皮膜又は層
図１及び図２を参照すると、バリア皮膜又は層２８８を任意選択的に、薬剤パッケージ、例えば、熱可塑性パッケージの容器上にプラズマ化学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）又は他の化学気相成長法により堆積させて、酸素、二酸化炭素、又は他のガスが容器に入ることを防止することができ、バリア皮膜２８８は任意選択的に、非被覆容器２１０と比較して内腔２１０内への大気ガスの侵入を低減する、及び／又はパッケージ壁内への若しくはパッケージ壁を通した医薬物質の浸出を防止するのに有効である。
【００９０】
充填された薬剤パッケージ又は他の容器２１０内で、バリア皮膜又は層２８６が壁２１４の内面又は内部表面と、保管される流体を収容するようになっている内腔２１２との間に配置されるように、バリア皮膜又は層２８６は任意選択的に、熱可塑性の壁２１４に直接又は間接的に塗布することができる（例えば、タイコート皮膜又は層２８９をそれらの間に介在させることができる）。ＳｉＯxのバリア皮膜又は層２８６は、熱可塑性の壁２１４により支持される。本明細書の他の箇所に又は米国特許第７，９８５，１８８号明細書に記載されているバリア皮膜又は層２８６を任意の実施形態で使用することができる。
【００９１】
バリア層は任意選択的に、「ＳｉＯx」皮膜と特徴付けられ、ケイ素、酸素、及び任意選択的に他の元素を含有し、式中、酸素原子対ケイ素原子の比率であるｘは、約１．５〜約２．９、又は１．５〜約２．６、又は約２である。１つの好適なバリア組成物は、例えば、ｘが２．３のものである。
【００９２】
任意選択的に、バリア皮膜又は層２８８は厚さ２〜１０００ｎｍであり、任意選択的に厚さ４ｎｍ〜５００ｎｍであり、任意選択的に厚さ１０〜２００ｎｍであり、任意選択的に厚さ２０〜２００ｎｍであり、任意選択的に厚さ２０〜３０ｎｍであり、ＳｉＯx（式中、ｘは１．５〜２．９である）を含む。ＳｉＯxのバリア皮膜又は層２８８は、内腔２１２に面する内部表面２２０と、タイコート皮膜又は層２８９の内部表面に面する外面２２２とを有する。例えば、２８８などの、任意の実施形態のバリア皮膜又は層は、少なくとも２ｎｍ、又は少なくとも４ｎｍ、又は少なくとも７ｎｍ、又は少なくとも１０ｎｍ、又は少なくとも２０ｎｍ、又は少なくとも３０ｎｍ、又は少なくとも４０ｎｍ、又は少なくとも５０ｎｍ、又は少なくとも１００ｎｍ、又は少なくとも１５０ｎｍ、又は少なくとも２００ｎｍ、又は少なくとも３００ｎｍ、又は少なくとも４００ｎｍ、又は少なくとも５００ｎｍ、又は少なくとも６００ｎｍ、又は少なくとも７００ｎｍ、又は少なくとも８００ｎｍ、又は少なくとも９００ｎｍの厚さで塗布されうる。バリア皮膜又は層は、１０００ｎｍ以下、又は最大で９００ｎｍ、又は最大で８００ｎｍ、又は最大で７００ｎｍ、又は最大で６００ｎｍ、又は最大で５００ｎｍ、又は最大で４００ｎｍ、又は最大で３００ｎｍ、又は最大で２００ｎｍ、又は最大で１００ｎｍ、又は最大で９０ｎｍ、又は最大で８０ｎｍ、又は最大で７０ｎｍ、又は最大で６０ｎｍ、又は最大で５０ｎｍ、又は最大で４０ｎｍ、又は最大で３０ｎｍ、又は最大で２０ｎｍ、又は最大で１０ｎｍ、又は最大で５ｎｍの厚さとされうる。
【００９３】
厚さ４ｎｍ〜５００ｎｍ、任意選択的に厚さ７ｎｍ〜４００ｎｍ、任意選択的に厚さ１０ｎｍ〜３００ｎｍ、任意選択的に厚さ２０ｎｍ〜２００ｎｍ、任意選択的に厚さ２０〜３０ｎｍ、任意選択的に厚さ３０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲が考えられる。前述の最小厚さのいずれか１つと、前述の最大厚さのいずれかの等しい又はより大きいものとで構成される特定の厚さ範囲が特に考えられる。
【００９４】
ＳｉＯx又は他のバリア皮膜又は層の厚さは、例えば、透過電子顕微鏡法（ＴＥＭ）により測定することができ、その組成はＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）により測定することができる。
【００９５】
任意選択的に、バリア皮膜又は層２８８は、バリア皮膜又は層を有していない容器と比較して、内腔内への大気ガスの侵入を低減するのに有効である。任意選択的に、バリア皮膜又は層２８８は、壁２１４を透過する酸素に対するバリアとなる。任意選択的に、バリア皮膜又は層２８８は、内腔２１２の内容物による壁２１４の組成物の抽出に対するバリアである。
【００９６】
ｐＨ保護皮膜又は層
本明細書で定義されるＳｉＯxなどの特定のバリア皮膜又は層２８６は、本明細書の他の箇所に記載されている被覆容器、特にバリア皮膜又は層が内容物に直接接触する被覆容器の特定の比較的高いｐＨの内容物により攻撃されると、６ヶ月未満でバリア改善率が測定可能な程度低下するという特徴を有することが判明した。本発明者らは、ＳｉＯxのバリア層又は皮膜が一部の流体、例えば、５より高いｐＨを有する水性組成物により浸食又は溶解されることを見い出した。化学気相成長法により塗布される皮膜は非常に薄く−厚さ数十〜数百ナノメートルになり得るため、浸食速度が比較的遅くても製品パッケージの所望の保管寿命よりも短い時間でバリア層の有効性が失われる又は低下するおそれがある。これは、水性流体医薬組成物の多くが血液及びヒト又は動物の他の体液のｐＨと類似のおよそ７のｐＨ、又はより広く４〜８、あるいは５〜９の範囲のｐＨを有するため、水性流体医薬組成物では特に問題となる。医薬製剤のｐＨが高いほどＳｉＯx皮膜の侵食又は溶解が速くなる。任意選択的に、バリア皮膜若しくは層２８８、又は他のｐＨ感受性材料をｐＨ保護皮膜又は層２８６で保護することにより、この問題に対処することができる。
【００９７】
ｐＨ保護皮膜又は層２８６は任意選択的に、下地バリア皮膜又は層２８８を、界面活性剤が存在するものを含む４〜８のｐＨを有する容器２１０の内容物から保護する。その製造時から使用時まで内腔２１２の内容物と接触しているプレフィルド薬剤パッケージでは、ｐＨ保護皮膜又は層２８６は任意選択的に、プレフィルドシリンジの所期の保管寿命にわたり有効な酸素バリアを維持するのに十分、バリア皮膜又は層２８８の攻撃を防止又は抑制する。流体が直接接触した場合のｐＨ保護皮膜又は層２８６の浸食速度、溶解速度又は浸出速度（関連する概念の異なる名称）は、５〜９のｐＨを有する流体が直接接触した場合のバリア皮膜又は層２８８の浸食速度より小さい。ｐＨ保護皮膜又は層２８６は、薬剤パッケージ又は他の容器２１０の保管寿命中、バリア皮膜がバリアとして機能するのに少なくとも十分な時間、５〜９のｐＨを有する流体２１８をバリア皮膜又は層２８８から隔離するのに有効である。
【００９８】
本発明者らは、ｐＨ保護皮膜又は層がかなりの有機成分を有する、ポリシロキサン前駆体から形成されるＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣyの特定のｐＨ保護皮膜又は層は、流体に曝露されても急速に浸食せず、実際、流体が４〜８又は５〜９の範囲内のｐＨを有するとき、浸食又は溶解が比較的遅いことを更に見い出した。例えば、ｐＨ８では、前駆体オクタメチルシクロテトラシロキサン、即ち、ＯＭＣＴＳから成膜されたｐＨ保護皮膜又は層の溶解速度は非常に遅い。従って、ＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣyのこれらのｐＨ保護皮膜又は層を、ＳｉＯxのバリア層を被覆するのに使用することができ、それを薬剤パッケージ内の流体から保護することによりバリア層の利点を保持する。保護層はＳｉＯx層の少なくとも一部に塗布され、さもなければ内容物がＳｉＯx層と接触することになる、容器内に保管される内容物からＳｉＯx層を保護する。
【００９９】
本発明は以下の理論の精度に依拠するものではないが、更に、浸食を回避するために有効なｐＨ保護皮膜又は層は、本開示に記載のシロキサン類及びシラザン類から製造することができると考えられる。環状シロキサン又は直鎖シラザン前駆体、例えば、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）から堆積されたＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣ皮膜は、インタクトな環状シロキサン環及び前駆体構造の繰り返し単位が比較的長く連続したものを含むと考えられる。これらの皮膜は、ナノ多孔質であるが構造化され且つ疎水性であると考えられ、これら特性はｐＨ保護皮膜又は層、また保護皮膜又は層としてのそれらの成功に寄与すると考えられる。これは、例えば、米国特許第７，９０１，７８３号明細書に示されている。ＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣy皮膜はまた、直鎖シロキサン前駆体又は直鎖シラザン前駆体、例えば、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）又はテトラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）から堆積させることもできる。
【０１００】
本発明者らは、本明細書に記載のｐＨ保護皮膜又は層の以下の作用理論を提供する。本発明は、この理論の精度にも、この理論の使用により予測可能な実施形態にも限定されるものではない。
【０１０１】
ＳｉＯxバリア層の溶解速度は、層内のＳｉＯ結合に依存するものと考えられる。酸素結合部位（シラノール）は溶解速度を増加させると考えられる。
【０１０２】
ＯＭＣＴＳベースのｐＨ保護皮膜又は層はＳｉＯxバリア層のシラノール部位と結合してＳｉＯx表面を「修復」、すなわち不動態化するため、溶解速度を大幅に低下させると考えられる。この仮説では、ＯＭＣＴＳ層の厚さは主要な保護手段ではなく、主要な手段はＳｉＯx表面の不動態化である。本明細書に記載されるｐＨ保護皮膜又は層は、ｐＨ保護皮膜又は層の架橋結合密度を増加することにより改善され得ると考えられる。
【０１０３】
ｐＨ保護皮膜又は層２８６は任意選択的に、少なくとも６か月間、流体２１８により攻撃されても、バリア皮膜又は層２８８を少なくとも実質的に非溶解状態に保つのに効果的である。
【０１０４】
ｐＨ保護皮膜又は層は任意選択的に、非被覆面及び／又は前駆体としてＨＭＤＳＯを用いたバリア被覆面と比較して、ｐＨ保護皮膜又は層と接触する化合物又は組成物の成分の沈殿を防止又は低減することができ、特に、インスリン沈殿又は血液凝固を防止又は低減することができる。
【０１０５】
図１及び図２を参照すると、ｐＨ保護皮膜又は層２８６は、それぞれ前記に定義される、ＳｉwＯxＣyＨz（若しくはその均等のＳｉＯxＣy）又はＳｉwＮxＣyＨz若しくはその均等のＳｉＮxＣy）、好ましくはＳｉＯxＣy（式中、ｘは約０．５〜約２．４であり、ｙは約０．６〜約３である）で構成されてもよい、それを含んでもよい、又はそれから本質的になってもよい。ｐＨ保護皮膜又は層２８６中のＳｉ、Ｏ及びＣの原子比率は任意選択的に：
Ｓｉ  １００：Ｏ  ５０〜１５０：Ｃ  ９０〜２００（即ち、ｘ＝０．５〜１．５、ｙ＝０．９〜２）；
Ｓｉ  １００：Ｏ  ７０〜１３０：Ｃ  ９０〜２００（即ち、ｘ＝０．７〜１．３、ｙ＝０．９〜２）
Ｓｉ  １００：Ｏ  ８０〜１２０：Ｃ  ９０〜１５０（即ち、ｘ＝０．８〜１．２、ｙ＝０．９〜１．５）
Ｓｉ  １００：Ｏ  ９０〜１２０：Ｃ  ９０〜１４０（即ち、ｘ＝０．９〜１．２、ｙ＝０．９〜１．４）、又は
Ｓｉ  １００：Ｏ  ９２〜１０７：Ｃ  １１６〜１３３（即ち、ｘ＝０．９２〜１．０７、ｙ＝１．１６〜１．３３）、又は
Ｓｉ  １００：Ｏ  ８０〜１３０：Ｃ  ９０〜１５０、
であってもよい。
【０１０６】
あるいは、ｐＨ保護皮膜又は層は、５０％未満の炭素及び２５％超のケイ素のＸ線光電子分光（ＸＰＳ）によって決定される、炭素、酸素及びケイ素の１００％に正規化した原子濃度を有しうる。あるいは、原子濃度は、２５〜４５％炭素、２５〜６５％ケイ素、及び１０〜３５％酸素である。あるいは、原子濃度は、３０〜４０％炭素、３２〜５２％ケイ素、及び２０〜２７％酸素である。あるいは、原子濃度は、３３〜３７％炭素、３７〜４７％ケイ素、及び２２〜２６％酸素である。
【０１０７】
任意選択的に、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）によって決定される、炭素、酸素及びケイ素の１００％に正規化したｐＨ保護被膜又は層における炭素の原子濃度は、有機ケイ素化合物前駆体の原子式における炭素の原子濃度を超えることができる。例えば、炭素の原子濃度が、１〜８０原子百分率、あるいは１０〜７０原子百分率、あるいは２０〜６０原子百分率、あるいは３０〜５０原子百分率、あるいは３５〜４５原子百分率、あるいは３７〜４１原子百分率だけ増加する実施形態が企図される。
【０１０８】
任意選択的に、ｐＨ保護皮膜又は層における炭素対酸素の原子比率は有機ケイ素化合物前駆体と比べて増加させることができる、及び／又は、酸素対ケイ素の原子比率は有機ケイ素化合物前駆体と比べて減少させることができる。
【０１０９】
任意選択的に、ｐＨ保護皮膜又は層は、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）によって決定される、炭素、酸素及びケイ素の１００％に正規化したケイ素の原子濃度を有することができ、これは、供給ガスの原子式におけるケイ素の原子濃度よりも小さい。例えば、ケイ素の原子濃度が１〜８０原子百分率、あるいは１０〜７０原子百分率、あるいは２０〜６０原子百分率、あるいは３０〜５５原子百分率、あるいは４０〜５０原子百分率、あるいは４２〜４６原子百分率だけ減少する実施形態が企図される。
【０１１０】
別のオプションとして、有機ケイ素化合物前駆体の合計式と比べて、原子比率Ｃ：Ｏを増加することができる、及び／又は原子比率Ｓｉ：Ｏを減少することができる合計式を特徴としうるｐＨ保護皮膜又は層がいずれの実施形態においても企図される。
【０１１１】
Ｓｉ：Ｏ：Ｃ又はＳｉ：Ｎ：Ｃの原子比率は、ＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）により求めることができる。Ｈ原子を考慮して、ｐＨ保護皮膜又は層は、従って一態様においては、式ＳｉwＯxＣyＨz、又はその均等のＳｉＯxＣyを有してもよく、例えば、式中、ｗは１であり、ｘは約０．５〜約２．４であり、ｙは約０．６〜約３であり、ｚは約２〜約９である。
【０１１２】
塗布時のｐＨ保護皮膜又は層の厚さは任意選択的に、１０〜１０００ｎｍ；あるいは１０ｎｍ〜９００ｎｍ；あるいは１０ｎｍ〜８００ｎｍ；あるいは１０ｎｍ〜７００ｎｍ；あるいは１０ｎｍ〜６００ｎｍ；あるいは１０ｎｍ〜５００ｎｍ；あるいは１０ｎｍ〜４００ｎｍ；あるいは１０ｎｍ〜３００ｎｍ；あるいは１０ｎｍ〜２００ｎｍ；あるいは１０ｎｍ〜１００ｎｍ；あるいは１０ｎｍ〜５０ｎｍ；あるいは２０ｎｍ〜１０００ｎｍ；あるいは５０ｎｍ〜１０００ｎｍ；あるいは５０ｎｍ〜８００ｎｍ；任意選択的に５０〜５００ｎｍ；任意選択的に１００〜２００ｎｍ；あるいは１００ｎｍ〜７００ｎｍ；あるいは１００ｎｍ〜２００ｎｍ；あるいは３００〜６００ｎｍである。厚さは容器全体にわたり均一である必要はなく、通常、容器の部分により好ましい値と異なる。
【０１１３】
ｐＨ保護皮膜又は層は、Ｘ線反射率（ＸＲＲ）によって決定されるように、１．２５〜１．６５ｇ／ｃｍ3、あるいは１．３５〜１．５５ｇ／ｃｍ3、あるいは１．４〜１．５ｇ／ｃｍ3、あるいは１．４〜１．５ｇ／ｃｍ3、あるいは１．４４〜１．４８ｇ／ｃｍ3の密度を有しうる。任意選択的に、有機ケイ素化合物はオクタメチルシクロテトラシロキサンとすることができ、ｐＨ保護皮膜又は層は、同じＰＥＣＶＤ反応条件下で有機ケイ素化合物としてＨＭＤＳＯから作製されたｐＨ保護皮膜又は層の密度よりも高くされうる密度を有することができる。
【０１１４】
ｐＨ保護皮膜又は層は、任意選択的に、約５〜約９、任意選択的に約６〜約８、任意選択的に約６．４〜約７．８の（ＡＦＭによって測定された）ＲＭＳ表面粗さ値を有しうる。ＡＦＭによって測定されたｐＨ保護皮膜又は層のＲa表面粗さ値は、約４〜約６、任意選択的に、約４．６〜約５．８とされうる。ＡＦＭによって測定されたｐＨ保護皮膜又は層のＲmax表面粗さ値は、約７０〜約１６０、任意選択的に、約８４〜約１４２、任意選択的に、約９０〜約１３０とされうる。
【０１１５】
ｐＨ保護の内部表面は任意選択的に、ＡＳＴＭ  Ｄ７３３４−０８「前進接触角測定による皮膜、基板及び顔料の表面濡れ性に関する標準的技法（Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｐｒａｃｔｉｃｅ  ｆｏｒ  Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｗｅｔｔａｂｉｌｉｔｙ  ｏｆ  Ｃｏａｔｉｎｇｓ，  Ｓｕｂｓｔｒａｔｅｓ  ａｎｄ  Ｐｉｇｍｅｎｔｓ  ｂｙ  Ａｄｖａｎｃｉｎｇ  Ｃｏｎｔａｃｔ  Ａｎｇｌｅ  Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ）」に準拠して、ｐＨ保護面上の水滴のゴニオメーター角度測定により測定した場合、９０°〜１１０°、任意選択的に８０°〜１２０°、任意選択的に７０°〜１３０°の接触角（蒸留水との）を有し得る。
【０１１６】
任意選択的に、任意の実施形態のｐＨ保護皮膜又は層２８６のＦＴＩＲ吸光度スペクトルは、通常、約１０００〜１０４０ｃｍ-1に位置するＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称伸縮ピークの最大振幅と、通常、約１０６０〜約１１００ｃｍ-1に位置するＳｉ−Ｏ−Ｓｉ非対称伸縮ピークの最大振幅との間において０．７５を超える比率を有する。あるいは、任意の実施形態においては、この比率は、少なくとも０．８、又は少なくとも０．９、又は少なくとも１．０、又は少なくとも１．１、又は少なくとも１．２とされうる。あるいは、任意の実施形態においては、この比率は、最大で１．７、又は最大で１．６、又は最大で１．５、又は最大で１．４、又は最大で１．３とされうる。図１〜５の本発明の別の実施形態として、ここで記載した任意の最小比率はここで記載した任意の最大比率と組み合わせることができる。
【０１１７】
任意選択的に、任意の実施形態においては、薬剤のない状態のｐＨ保護皮膜又は層２８６は非油性の外観を有する。この外観により、場合によっては、効果的なｐＨ保護皮膜又は層を、場合によっては油性（すなわち、光沢のある）外観を有することが認められている滑性層と区別されることが認められている。
【０１１８】
任意選択的に、任意の実施形態におけるｐＨ保護被覆又は層２８６について、注射用水で希釈され、濃縮硝酸でｐＨ８に調整され、０．２ｗｔ．％ポリソルベート８０界面活性剤を含有し（溶解試薬の変化を回避するために薬剤のない状態で測定した）、４０℃である５０ｍＭリン酸カリウム緩衝液によるケイ素溶解速度は１７０ｐｐｂ／日未満である。（ポリソルベート８０は、例えば、Ｔｗｅｅｎ（登録商標）−８０としてＵｎｉｑｅｍａ  Ａｍｅｒｉｃａｓ  ＬＬＣ，Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ  Ｄｅｌａｗａｒｅから入手可能な一般的な製剤の原料である。）
【０１１９】
任意選択的に、任意の実施形態におけるｐＨ保護被覆又は層２８６について、ケイ素溶解速度は、１６０ｐｐｂ／日未満、又は１４０ｐｐｂ／日未満、又は１２０ｐｐｂ／日未満、又は１００ｐｐｂ／日未満、又は９０ｐｐｂ／日未満、又は８０ｐｐｂ／日未満である。任意選択的に、図２４〜２６の任意の実施形態においては、ケイ素溶解速度は、１０ｐｐｂ／日超、又は２０ｐｐｂ／日超、又は３０ｐｐｂ／日超、又は４０ｐｐｂ／日超、又は５０ｐｐｂ／日超、又は６０ｐｐｂ／日超である。任意の実施形態におけるｐＨ保護被覆又は層２８６について、ここで記載した任意の最低速度はここで記載した任意の最大速度と組み合わせることができる。
【０１２０】
任意選択的に、任意の実施形態におけるｐＨ保護被覆又は層２８６について、容器からｐＨ８の試験組成物への溶解時のｐＨ保護皮膜又は層及びバリア皮膜の総ケイ素含有量は、６６ｐｐｍ未満、又は６０ｐｐｍ未満、又は５０ｐｐｍ未満、又は４０ｐｐｍ未満、又は３０ｐｐｍ未満、又は２０ｐｐｍ未満である。
【０１２１】
ｐＨ保護皮膜又は層２８６は、内腔２１２に面する内部表面と、バリア皮膜又は層２８８の内部表面に面する外面とを有する。任意選択的に、ｐＨ保護皮膜又は層２８６は、少なくともバリア皮膜又は層２８８と同一の広がりを有する。あるいは、流体が、ｐＨ保護皮膜又は層の存在しないバリア皮膜の特定の部分と接触しない、又は稀にしか接触しない場合、ｐＨ保護皮膜又は層２８６はバリア皮膜より範囲が狭くてもよい。あるいは、ｐＨ保護皮膜又は層２８６は、バリア皮膜を設けていない領域を被覆することができる場合、バリア皮膜より広範囲にわたってもよい。
【０１２２】
ｐＨ保護皮膜又は層２８６は任意選択的に、非環状シロキサン、単環式シロキサン、多環式シロキサン、ポリシルセスキオキサン、単環式シラザン、多環式シラザン、ポリシルセスキアザン、シラトラン、シルクアシラトラン、シルプロアトラン、アザシラトラン、アザシルクアシラトラン、アザシルプロアトラン、又はこれらの前駆体のいずれか２種以上の組合せを含む前駆体供給物のプラズマ化学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）により塗布することができる。このような用途に考えられる幾つかの特定の非限定的な前駆体としては、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）が挙げられる。
【０１２３】
任意選択的に、ｐＨ保護皮膜又は層２８６のＦＴＩＲ吸光度スペクトルは、約１０００〜１０４０ｃｍ-1におけるＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称伸縮ピークの最大振幅と、約１０６０〜約１１００ｃｍ-1におけるＳｉ−Ｏ−Ｓｉ非対称伸縮ピークの最大振幅との比率が０．７５より大きい。
【０１２４】
内腔２１２に収容された５〜９のｐＨを有する流体組成物の存在下で、容器２１０の計算保管寿命は、４℃の保管温度で６カ月超である。任意選択的に、８のｐＨを有する流体組成物が直接接触した場合のｐＨ保護皮膜又は層２８６の浸食速度は、同じ条件下で同じ流体組成物が直接接触した場合のバリア皮膜又は層２８８の浸食速度の２０％未満、任意選択的に１５％未満、任意選択的に１０％未満、任意選択的に７％未満、任意選択的に５％〜２０％、任意選択的に５％〜１５％、任意選択的に５％〜１０％、任意選択的に５％〜７％である。任意選択的に、流体組成物は、流体組成物と４４時間する毎にｐＨ保護皮膜又は層厚さ１ｎｍ以下の割合でｐＨ保護皮膜又は層２８６を除去する。
【０１２５】
任意選択的に、注射用水で希釈され、濃縮硝酸でｐＨ８に調整され、０．２ｗｔ．％ポリソルベート８０界面活性剤を含有する５０ｍＭリン酸カリウム緩衝液による容器からのｐＨ保護皮膜又は層及びバリア皮膜又は層のケイ素溶解速度は、１７０ｐｐｂ（１０億分率）／日未満である。
【０１２６】
任意選択的に、容器から４０℃の０．１Ｎ水酸化カリウム水溶液に溶解する場合の、ｐＨ保護皮膜又は層２８６及びバリア皮膜又は層２８８の総ケイ素含有量は、６６ｐｐｍ未満である。
【０１２７】
任意選択的に、容器２１０の計算保管寿命（総Ｓｉ／Ｓｉ溶解速度）は２年超である。
【０１２８】
任意選択的に、ｐＨ保護皮膜又は層２８６は：
【数３】
2019081610.tif 000007
として測定される、減衰全反射（ＡＴＲ）で測定したＯパラメータが０．４未満である。
【０１２９】
Ｏパラメータは、最も広くは０．４〜０．９のＯパラメータ値を請求する米国特許第８，０６７，０７０号明細書において定義される。１２５３ｃｍ-1において０．０４２４の吸光度及び１０００〜１１００ｃｍ-1において０．０８の最大吸光度を得るための波数及び吸光度スケールの補間の結果として計算されたＯパラメータの０．５３を示すために注釈されること以外は、米国特許第８，０６７，０７０号明細書の図５と同じである図６に示すように、Ｏパラメータは、上記式の分子及び分母を見いだすための、ＦＴＩＲ振幅対波数プロットの物理的分析から測定されうる。Ｏパラメータは、また、デジタル波数対吸光度データから測定されうる。
【０１３０】
米国特許第８，０６７，０７０号明細書では、双方がともに非環式シロキサン類であるＨＭＤＳＯ及びＨＭＤＳＮのみによる実験に依拠し、請求されるＯパラメータ範囲が優れたｐＨ保護皮膜又は層を提供すると主張する。驚くべきことに、本発明者は、米国特許第８，０６７，０７０号明細書において請求された範囲外のＯパラメータが、米国特許第８，０６７，０７０号明細書において得られるものよりも更に良好な結果を提供することができることを発見した。あるいは、図１〜５の実施形態においては、Ｏパラメータは、０．１〜０．３９、又は０．１５〜０．３７、又は０．１７〜０．３５の値を有する。
【０１３１】
任意選択的に、ｐＨ保護皮膜又は層は減衰全反射（ＡＴＲ）によって測定される０．７未満のＮパラメータを示し、以下のように測定される。
【数４】
2019081610.tif 000008
【０１３２】
Ｎパラメータもまた米国特許第８，０６７，０７０号明細書に記載されており、２つの特定波数（これら波数のどちらも範囲ではない）における強度が使用されること以外はＯパラメータと同様に測定される。米国特許第８，０６７，０７０号明細書は、０．７〜１．６のＮパラメータを有する不活性化層を請求する。同じく、本発明者は、上述のように、０．７を下回るＮパラメータを有するｐＨ保護皮膜又は層２８６を用いてより良好な皮膜を作製した。あるいは、Ｎパラメータは、少なくとも０．３、又は０．４〜０．６、又は少なくとも０．５３の値を有する。
【０１３３】
ＳｉwＯxＣy又はその均等のＳｉＯxＣyの保護皮膜又は層は、それがｐＨ保護皮膜又は層としても機能するかどうかに関わらず、疎水性層としての有用性も有し得る。適した疎水性皮膜又は層及びそれらの用途、特性、及び使用については米国特許第７，９８５，１８８号明細書に記載されている。本発明の任意の実施形態では、どちらの種類の皮膜又は層の特性も有する二重機能の保護／疎水性皮膜又は層を設けることができる。
【０１３４】
段階的複合層（Ｇｒａｄｅｄ  Ｃｏｍｐｏｓｉｔｅ  Ｌａｙｅｒ）
ＳｉＯxの隣接層及びｐＨ保護皮膜又は層に関してここで考えられる別の方法は、任意の２つ以上の隣接ＰＥＣＶＤ層の段階的複合体、例えば、バリア皮膜又は層２８８及びｐＨ保護皮膜又は層２８６及び／又は滑性皮膜又は層２８１の段階的複合体である。段階的複合物は、それらの間に中間組成物の遷移又は界面を有する別個の保護及び／又はバリア層又は皮膜、又は、それらの間に中間組成物の中間にある明確な（ｉｎｔｅｒｍｅｄｉａｔｅ  ｄｉｓｔｉｎｃｔ）ｐＨ保護皮膜又は層を有する別個の保護及び／又は疎水性層及びＳｉＯx、又は、保護及び／又は疎水性層の組成物から、よりＳｉＯxのような組成物に、プライマー皮膜又は層を法線方向に連続的に又は段階的に変化させる１つの皮膜又は層とされうる。
【０１３５】
段階的複合物の段階はどの方向にも進むことができる。例えば、ＳｉＯxの組成物は基板に直接塗布することができ、プライマー皮膜又は層の表面から離れた組成物まで累進することができ、任意選択的に、更に、疎水性皮膜又は層、又は滑性皮膜又は層などの別の種類の皮膜又は層まで累進することができる。更に、任意の実施形態においては、接着皮膜又は層、例えば、ＳｉwＯxＣy、又はその均等のＳｉＯxＣyを、任意選択的に、バリア層を塗布する前に基板に直接塗布することができる。累進的プライマー皮膜又は層は、ある組成物の層が別の組成物の層に比べて基板に接着するのにより好適である場合に特に企図される。この場合、より良好に接着する組成物は、例えば、基板に直接塗布することができる。段階的プライマー皮膜又は層のより遠い部分は、隣接する段階的プライマー皮膜又は層の部分に比べて基板とあまり融和しないものとなりうることが考えられる。これは、いずれの箇所においてもプライマー皮膜又は層は特性が徐々に変化しうるため、プライマー皮膜又は層のほぼ同じ深さの隣接する部分はほぼ同一の組成物を有し、実質的に異なる深さの物理的により広く分離した部分はより多種多様な特性を有しうることが理由である。また、より劣るバリアを形成する、より離れたプライマー皮膜又は層部分が、バリアによって妨げられるか遮断されることを意図した物質で汚染されることを防止するため、基板への又は基板からの物質の移動に対するより良好なバリアを形成するプライマー皮膜又は層部分を基板に直接設けることができると考えられる。
【０１３６】
塗布された皮膜又は層は、段階的とされる代わりに、任意選択的に、１つの層と次の層との間における組成物の大きな勾配なしで明確な遷移を有することができる。そのようなプライマー皮膜又は層は、例えば、層を形成するためのガスを非プラズマ状態における定常状態流として提供し、その後、皮膜又は層を基板上に形成するために短時間のプラズマ放電によりシステムを励起することによって作製することができる。次のプライマー皮膜又は層が塗布される場合、前のプライマー皮膜又は層用のガスは除去され、次のプライマー皮膜又は層用のガスがプラズマを励起する前に定常状態で適用され、再度、基板又はその最も離れた前のプライマー皮膜又は層の表面に、存在する場合、界面におけるわずかな徐々の遷移を有して別の層を形成する。
【０１３７】
一実施形態は、基板上に疎水性ｐＨ保護皮膜又は層を形成するのに有効な条件下で実施することができる。任意選択的に、ｐＨ保護皮膜又は層の疎水性は、気体反応物中のＯ２対有機ケイ素化合物前駆体の比を設定することにより、及び／又はプラズマを発生させるために使用される電力を設定することにより調整することができる。任意選択的に、ｐＨ保護皮膜又は層は、非被覆面より低いぬれ張力、任意選択的に２０〜７２ダイン／ｃｍ、任意選択的に３０〜６０ダイン／ｃｍ、任意選択的に３０〜４０ダイン／ｃｍ、任意選択的に３４ダイン／ｃｍのぬれ張力を有し得る。任意選択的に、ｐＨ保護皮膜又は層は非被覆面より疎水性が高くてもよい。
【０１３８】
設備
ＰＥＣＶＤ皮膜又は層を形成するためのＰＥＣＶＤ装置
特にタイコート皮膜若しくは層２８９、バリア皮膜若しくは層２８８、又はｐＨ保護皮膜若しくは層２８６を含む、本明細書に記載のＰＥＣＶＤ皮膜又は層のいずれかを塗布するのに適したＰＥＣＶＤ装置、システム、及び前駆体物質は、米国特許第７，９８５，１８８号明細書に記載されており、この特許は参照により援用される。
【０１３９】
これらの条件の概要を、このような容器の製造に適するように構成された容器処理システムを示す図３２に記載する。壁２１４を有する容器を、米国特許第７，９８５，１８８号明細書に記載のＰＥＣＶＤ装置などのタイコート皮膜又は層を壁の内部表面に塗布するのに適した装置であるタイコータ３０２に搬送することができる。
【０１４０】
次いで、容器を、米国特許第７，９８５，１８８号明細書に記載のＰＥＣＶＤ装などの、バリア皮膜又は層を壁の内部表面に塗布するのに適した装置であるバリアコータ３０４に搬送することができる。
【０１４１】
容器を、米国特許第７，９８５，１８８号明細書に記載のＰＥＣＶＤ装置などの、ｐＨ保護皮膜又は層を壁の内部表面に塗布するのに適した装置であるｐＨ保護コータ３０６に搬送することができる。これにより皮膜セットが完成する。
【０１４２】
任意選択的に、このシステムによりさらなる工程を行うことができる。例えば、被覆容器を、流体を流体供給装置３１０から被覆容器の内腔に入れる流体充填装置３０８に搬送することができる。
【０１４３】
別の例では、充填された容器を、クロージャ、例えば、プランジャ又はストッパをクロージャ供給装置３１４から取り、それらを被覆容器の内腔に着座させるクロージャ取り付け装置３１２に搬送することができる。
【０１４４】
本発明の任意の実施形態においては、タイコート皮膜又は層は任意選択的に、プラズマ化学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）により塗布され得る。
【０１４５】
本発明の任意の実施形態においては、バリア皮膜又は層は任意選択的に、ＰＥＣＶＤにより塗布され得る。
【０１４６】
本発明の任意の実施形態においては、ｐＨ保護皮膜又は層は任意選択的に、ＰＥＣＶＤにより塗布され得る。
【０１４７】
本発明の任意の実施形態においては、容器は、シリンジバレル、バイアル、カートリッジ、又はブリスターパッケージを含んでも又はそれからなってもよい。
【０１４８】
ＳｉＯxバリア層を形成するための反応条件は、米国＞特許第７，９８５，１８８号明細書に記載されており、この特許は参照により援用される。
【０１４９】
タイコート又は接着皮膜又は層は、例えば、前駆体としてテトラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）又はヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）を流量０．５〜１０ｓｃｃｍ、好ましくは１〜５ｓｃｃｍ；酸素流量０．２５〜５ｓｃｃｍ、好ましくは０．５〜２．５ｓｃｃｍ；及びアルゴン流量１〜１２０ｓｃｃｍ、好ましくは１ｍＬシリンジではこの範囲の上部、５ｍｌバイアルではこの範囲の下部で用いて、作製することができる。ＰＥＣＶＤ中の容器内の全圧は、０．０１〜１０トル、好ましくは０．１〜１．５トルとすることができる。印加される電力レベルは、５〜１００ワット、好ましくは１ｍＬシリンジではこの範囲の上部、５ｍｌバイアルではこの範囲の下部とすることができる。堆積時間（即ち、ＲＦ電源の「投入」時間）は０．１〜１０秒、好ましくは１〜３秒である。電源サイクルを任意選択的に、電源投入時に、２秒などの短時間で０ワットから全出力に直線的に上昇させる又は漸次増加させることができ、それによりプラズマの均一性を改善することができる。しかし、一定時間での出力の直線的上昇は任意選択的である。
【０１５０】
本明細書に記載のｐＨ保護皮膜又は層２８６皮膜又は層は、多くの異なる方法で塗布することができる。一例では、米国特許第７，９８５，１８８号明細書に記載の低圧ＰＥＣＶＤ法を使用することができる。別の例では、低圧ＰＥＣＶＤを使用する代わりに、大気圧ＰＥＣＶＤを用いてｐＨ保護皮膜又は層を堆積させることができる。別の例では、皮膜を単に蒸発させ、保護されるＳｉＯx層上に堆積させることができる。別の例では、皮膜を、保護されるＳｉＯx層上にスパッタリングすることができる。更に別の例では、ｐＨ保護皮膜又は層２８６を、ＳｉＯx層のリンス又は洗浄に使用される液体媒体から塗布することができる。
【０１５１】
他の前駆体及び方法を使用して、ｐＨ保護皮膜若しくは層を塗布する又は不動退化処理を施すことができる。例えば、ヘキサメチレンジシラザン（ＨＭＤＺ）を前駆体として使用することができる。ＨＭＤＺはその分子構造に酸素を含有しないという利点を有する。この不動態化処理は、ＨＭＤＺによるＳｉＯxバリア層の表面処理とすることが考えられる。シラノール結合部位における二酸化ケイ素皮膜の分解を遅くする及び／又はなくすために、皮膜を不働態化しなければならない。ＨＭＤＺによる表面の不働態化（及び任意選択的に、ＨＭＤＺから得られる皮膜の幾つかの単層の塗布）により、溶解に対して表面が強化され、その結果、分解が低減すると考えられる。ＨＭＤＺが二酸化ケイ素皮膜中に存在する−ＯＨ部位と反応し、その結果、ＮＨ３が発生し、Ｓ−（ＣＨ３）３がケイ素に結合すると考えられる（水素原子が発生してＨＭＤＺの窒素と結合し、ＮＨ３が生成すると考えられる）。
【０１５２】
このＨＭＤＺ不活性化はいくつかの可能な経路を通じて達成することが可能であると考えられる。
【０１５３】
１つの考えられる経路は、周囲温度におけるＨＭＤＺの脱水／気化である。まず、例えば、ヘキサメチレンジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）を使用してＳｉＯx表面を堆積させる。被覆されたそのままの二酸化ケイ素表面は、その後、ＨＭＤＺ蒸気と反応させる。一実施形態においては、ＳｉＯx表面が対象の物品上に堆積されるとすぐに真空が維持される。ＨＭＤＳＯ及び酸素は押し出され、ベース真空（ｂａｓｅ  ｖａｃｕｕｍ）が達成される。ベース真空が達成されると、ＨＭＤＺ蒸気はｍＴｏｒｒ範囲から大きなＴｏｒｒ（ｍａｎｙ  Ｔｏｒｒ）の圧力で二酸化ケイ素の表面上を流れる（対象の部分が被覆されたため）。ＨＭＤＺは、その後、（生じた反応の副産物であるＮＨ3とともに）押し出される。ガス流中のＮＨ3の量は（残留ガス分析器、例としてＲＧＡを用いて）監視することができ、それ以上のＮＨ3が検出されない場合には反応が完了する。この部分は、その後、（清浄なドライガス又は窒素とともに）大気に排出される。生じた表面には、その後、不動態化されていることが認められる。この方法は、任意選択的に、プラズマを形成することなく達成することが可能であると考えられる。
【０１５４】
あるいは、ＳｉＯxバリア皮膜又は層の形成後、ＨＭＤＺの脱水／気化前に、真空を遮断することができる。ＨＭＤＺの脱水／気化は、その後、ＳｉＯxバリア皮膜又は層の形成に使用したものと同じ装置又は異なる装置のいずれかにおいて実施されうる。
【０１５５】
高温でのＨＭＤＺの脱水／気化もまた考えられる。上記プロセスは、あるいは、室温を超えて約１５０℃までの高温で実施されうる。最高温度は被覆された部品が構成される物質によって決定される。被覆される部分を歪ませない、又はそうでなければ損傷しない上限温度を選択すべきである。
【０１５６】
プラズマアシストによるＨＭＤＺの脱水／気化もまた考えられる。上記実施形態の脱水／気化のいずれかを実施した後、その部分にＨＭＤＺ蒸気が入ると、プラズマが発生される。プラズマ電力は数ワット〜１００＋ワットの範囲とされうる（ＳｉＯxを堆積させるのに使用したものと同様の電力）。上記はＨＭＤＺに限定されるものではなく、水素と反応する任意の分子に適用可能とすることができ、例えば、この明細書に記載されている窒素含有前駆体のいずれかである。
【０１５７】
ｐＨ保護皮膜又は層を塗布する別の方法は、ｐＨ保護皮膜又は層として非晶質炭素又はフッ化炭化水素皮膜、又はこの２種の組合せを塗布する方法である。非晶質炭素皮膜は、飽和炭化水素（例えば、メタン若しくはプロパン）又は不飽和炭化水素（例えば、エチレン、アセチレン）をプラズマ重合用の前駆体として使用してＰＥＣＶＤにより形成することができる。フッ化炭化水素皮膜は、フッ化炭化水素化合物（例えば、ヘキサフルオロエチレン又はテトラフルオロエチレン）から得ることができる。どちらかの種類の皮膜、又は両方の組合せを真空ＰＥＣＶＤ又は大気圧ＰＥＣＶＤにより堆積させることができる。非晶質炭素及び／又はフッ化炭化水素皮膜はシラノール結合を含まないため、非晶質炭素及び／又はフッ化炭化水素皮膜はシロキサン皮膜より良好にＳｉＯxバリア層を不動態化すると考えられる。
【０１５８】
更に、ｐＨ保護皮膜又は層をＳｉＯxバリア層上に提供するためにフルオロシリコン（ｆｌｕｏｒｏｓｏｌｉｃｏｎ）前駆体が使用されうることが考えられる。これは、前駆体としてヘキサフルオロシランなどのフッ素化シラン前駆体及びＰＥＣＶＤ法を使用することによって実施されうる。生じる皮膜は、また、非湿潤性皮膜（ｎｏｎ−ｗｅｔｔｉｎｇ  ｃｏａｔｉｎｇ）となることが予想される。
【０１５９】
本明細書に記載のｐＨ保護皮膜又は層のプロセスの任意の実施形態はまた、被覆される物品を使用してプラズマを閉じ込めることなく実施され得ると更に考えられる。例えば、医療品、例えば、カテーテル、外科用器具、クロージャ、及びその他のものの外部表面を、高周波ターゲットを用いて皮膜をスパッタリングすることにより不動態化又は保護することができる。
【０１６０】
ＳｉＯxバリア層の保護又は不動態化のために企図される更に別の皮膜様式は、ポリアミドアミンエピクロルヒドリン樹脂を使用したバリア層の皮膜である。例えば、バリア皮膜部分は、流体ポリアミドアミンエピクロルヒドリン樹脂融液、溶液又は分散液（ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ）中における浸漬皮膜によってディップコーティングされ、高圧蒸気殺菌又は他の６０〜１００℃の温度での加熱によって硬化されうる。ｐＨ５〜８の水性環境においてはポリアミドアミンエピクロルヒドリン樹脂の皮膜が優先的に使用されうることが企図される。これは、そのような樹脂がそのｐＨ範囲内において紙の高い湿潤強度を提供することが公知であることが理由である。湿潤強度は長期間にわたり完全な水の浸漬にさらされた紙が機械強度を維持する能力であり、ＳｉＯxバリア層上のポリアミドアミンエピクロルヒドリン樹脂の皮膜は水性媒体中の溶解に対して同様の抵抗を有することが考えられる。また、ポリアミドアミンエピクロルヒドリン樹脂は滑性の向上を紙に付与することから、それはまた、例えば、ＣＯＣ又はＣＯＰから作製した、熱可塑性プラスチック表面上の皮膜の形態において滑性を提供することが企図される。
【０１６１】
ＳｉＯx層を保護するための更に別の方法は、ｐＨ保護皮膜又は層として、ポリフルオロアルキルエーテルの塗液を塗布した後、ｐＨ保護皮膜又は層を大気圧プラズマにより硬化する方法である。例えば、ＴｒｉｂｏＧｌｉｄｅ（登録商標）は滑性を提供するのに好都合に使用されるため、本明細書に記載のＴｒｉｂｏＧｌｉｄｅ（登録商標）の商標で実施されるプロセスを使用して、滑性層でもあるｐＨ保護皮膜又は層を設けることができると考えられる。
【０１６２】
直径１／８”（０．３２ｃｍ）のチューブ（端部が開放している）を有する試料サイズ３ｍｌのシリンジ内にｐＨ保護皮膜又は層２８６を作成するための例示的なＰＥＣＶＤ反応条件は以下の通りである。
【０１６３】
ｐＨ保護皮膜又は層を堆積させるために、例えば、以下の標準体積比を有する前駆体供給物又はプロセスガスを用いることができる：
・０．５〜１０の標準体積、任意選択的に１〜６の標準体積、任意選択的に２〜４の標準体積、任意選択的に６以下の標準体積、任意選択的に２．５以下の標準体積、任意選択的に１．５以下の標準体積、任意選択的に１．２５以下の標準体積の前駆体、例えば、ＯＭＣＴＳ又は任意の実施形態の他の前駆体の１種；
・０〜１００の標準体積、任意選択的に１〜２００の標準体積、任意選択的に１〜８０の標準体積、任意選択的に５〜１００の標準体積、任意選択的に１０〜７０の標準体積の任意の実施形態のキャリアガス、例えば、アルゴン。
・０．１〜１０の標準体積、任意選択的に０．１〜２の標準体積、任意選択的に０．２〜１．５の標準体積、任意選択的に０．２〜１の標準体積、任意選択的に０．５〜１．５の標準体積、任意選択的に０．８〜１．２の標準体積の酸化剤。
電力レベルは、例えば、０．１〜５００ワットとすることができる。
考えられる特定の流量及び電力レベルとしては以下のものが挙げられる。
ＯＭＣＴＳ：２．０ｓｃｃｍ
酸素：０．７ｓｃｃｍ
アルゴン：７．０ｓｃｃｍ
電力：３．５ワット
【０１６４】
三層皮膜のＰＥＣＶＤプロセス
ＰＥＣＶＤ三層プロセス一般パラメータ表（１ｍＬシリンジ及び５ｍＬバイアル）に、１ｍＬシリンジバレルでの三層皮膜に関する他の一般被覆パラメータ範囲を示し、括弧内に好ましい範囲を示す。
【０１６５】
【表２】
2019081610.tif 000009
【０１６６】
【表３】
2019081610.tif 000010
【０１６７】
１ｍＬシリンジ及び５ｍＬバイアルに使用された特定の被覆パラメータの例を、ＰＥＣＶＤ三層プロセス特定パラメータ表（１ｍＬシリンジ及び５ｍＬバイアル）に示す。
【０１６８】
【表４】
2019081610.tif 000011
【０１６９】
【表５】
2019081610.tif 000012
【０１７０】
前述のように１ｍＬシリンジに塗布されたｐＨ保護皮膜又は層のＯパラメータ値及びＮパラメータ値は、それぞれ０．３４及び０．５５である。
【０１７１】
５ｍＬバイアルに塗布されたｐＨ保護皮膜又は層のＯパラメータ値及びＮパラメータ値は、それぞれ０．２４及び０．６３である。
【０１７２】
容器、一般的
本明細書に記載の及び／又は本明細書に記載の方法に従って作成されたプライマー皮膜又は層を有する容器は、化合物又は組成物の収容、及び／又は保管、及び／又は送達に使用することができる。化合物又は組成物は、感受性、例えば、空気感受性、酸素感受性、感湿性、及び／又は機械的作用（ｉｎｆｌｕｅｎｃｅｓ）感受性の場合がある。それは、生物活性化合物又は組成物、例えば、インスリンのような医薬製剤若しくは薬剤、又はインスリンを含む組成物であってもよい。別の態様において、それは生物学的流体、任意選択的に体液、例えば血液又は血液分画であってもよい。本発明の特定の態様においては、化合物又は組成物は、それを必要とする対象に投与される製品、例えば、血液（ドナーからレシピエントへの血液の輸血、又は患者から患者自身に戻される血液の再導入におけるような）又はインスリンのような注射される製品であってもよい。
【０１７３】
本明細書に記載の及び／又は本明細書に記載の方法に従って作成されるプライマー皮膜又は層を有する容器は更に、その内部空間に収容される化合物又は組成物を容器材料の表面の機械的及び／又は化学的作用から保護するために使用することができる。例えば、それは、化合物又は組成物の成分の沈殿及び／又は凝固若しくは血小板活性化、例えば、インスリン沈殿又は血液凝固若しくは血小板活性化を防止又は低減するために使用することができる。
【０１７４】
それは更に、例えば、１種以上の化合物が容器の周囲の環境から容器の内部空間に入ることを防止又は低減することにより、内部に収容される化合物又は組成物を薬剤パッケージ又は他の容器の外部の環境から保護するために使用することができる。このような環境化合物は、気体又は液体、例えば、酸素、空気、及び／又は水蒸気を含有する大気ガス又は液体であってもよい。
【０１７５】
本明細書に記載のプライマー皮膜又は層を有する容器はまた、真空排気され、真空排気された状態で保管されてもよい。例えば、プライマー皮膜又は層があると、プライマー皮膜又は層のない対応する容器と比較して真空を良好に維持することができる。この実施形態の一態様においては、プライマー皮膜又は層を有する容器は採血管である。採血管は、血液凝固又は血小板活性化を防止する薬剤、例えば、ＥＤＴＡ又はヘパリンを含有してもよい。
【０１７６】
例えば、容器として、長さ約１ｃｍ〜約２００ｃｍ、任意選択的に約１ｃｍ〜約１５０ｃｍ、任意選択的に約１ｃｍ〜約１２０ｃｍ、任意選択的に約１ｃｍ〜約１００ｃｍ、任意選択的に約１ｃｍ〜約８０ｃｍ、任意選択的に約１ｃｍ〜約６０ｃｍ、任意選択的に約１ｃｍ〜約４０ｃｍ、任意選択的に約１ｃｍ〜約３０ｃｍの長さのチューブを提供し、それを後述のプローブ電極で処理することにより、前述の実施形態のいずれかを製造することができる。特に、上記範囲の比較的長い長さの場合、プライマー皮膜又は層の形成時にプローブと容器を相対運動させることが有用となり得ると考えられる。これは、例えば、容器をプローブに対して動かすことにより、又はプローブを容器に対して動かすことにより行うことができる。
【０１７７】
これらの実施形態においては、バリア皮膜又は層は、真空排気した採血管に必要な高いガスバリア完全性を提供するのに好ましいものと比較して薄くなり得る、又は完全さが低くなり得ると考えられる。これらの実施形態においては、プライマー皮膜又は層は、長期間、バリア層と接触する液体物質を保管するのに必要な長い保管寿命を提供するのに好ましいものと比較して薄くなり得る、又は完全さが低くなり得ると考えられる。
【０１７８】
前述の実施形態のいずれかの任意選択的な特徴として、容器は中心軸線を有し得る。
【０１７９】
前述の実施形態のいずれかの任意選択的な特徴として、容器壁は、少なくとも２０℃になると、少なくとも実質的に直線から、中心軸における曲げ半径が容器の外径の１００倍以下の大きさまでの範囲で壁を破壊することなく撓むほど十分な可撓性を有する。
【０１８０】
前述の実施形態のいずれかの任意選択的な特徴として、中心軸における曲げ半径は、容器の外径の９０倍以下の大きさ、又は８０倍以下の大きさ、又は７０倍以下の大きさ、又は６０倍以下の大きさ、又は５０倍以下の大きさ、又は４０倍以下の大きさ、又は３０倍以下の大きさ、又は２０倍以下の大きさ、又は１０倍以下の大きさ、又は９倍以下の大きさ、又は８倍以下の大きさ、又は７倍以下の大きさ、又は６倍以下の大きさ、又は５倍以下の大きさ、又は４倍以下の大きさ、又は３倍以下の大きさ、又は２倍以下の大きさ、又は容器の外径以下である。
【０１８１】
前述の実施形態のいずれかの任意選択的な特徴として、容器壁は可撓性材料で製造された流体接触面であってもよい。
【０１８２】
前述の実施形態のいずれかの任意選択的な特徴として、容器内腔はポンプの流体流路であってもよい。
【０１８３】
前述の実施形態のいずれかの任意選択的な特徴として、容器は血液を医療用に良好な状態に維持するようになっている血液バッグであってもよい。
【０１８４】
前述の実施形態のいずれかの任意選択的な特徴として、高分子材料は、２つの例として、シリコーンエラストマー若しくは熱可塑性ポリウレタン、又は血液若しくはインスリンとの接触に適した任意の材料であってもよい。
【０１８５】
任意選択的な実施形態においては、容器の内径は少なくとも２ｍｍ又は少なくとも４ｍｍである。
【０１８６】
前述の実施形態のいずれかの任意選択的な特徴として、容器はチューブである。
【０１８７】
前述の実施形態のいずれかの任意選択的な特徴として、内腔は少なくとも２つの開放端を有する。
【０１８８】
薬剤パッケージ
図１及び図２により最も広く示される容器２１０は、薬剤パッケージとして使用することが考えられている。
【０１８９】
図１〜図５は、内腔２１２を囲む壁２１４、内腔２１２内の流体２１８、及び容器皮膜又は層のセット２８５、即ち、バリア皮膜又は層２８８とｐＨ保護皮膜又は層２８６を含む、幾つかの例示的な薬剤パッケージ又は他の容器２１０を示す。流体２１８は内腔２１２に収容されている。任意選択的に、図１〜図５の実施形態のいずれかに関して、流体２１８は、５〜６、任意選択的に６〜７、任意選択的に７〜８、任意選択的に８〜９、任意選択的に６．５〜７．５、任意選択的に７．５〜８．５、任意選択的に８．５〜９のｐＨを有する水性流体である。任意選択的に、ｐＨ保護皮膜又は層２８６は、流体２１８をバリア皮膜２８８から隔離するのに有効である。任意選択的に、５〜９のｐＨを有する水性流体２１８が直接接触した場合のｐＨ保護皮膜又は層２８６の浸食速度は、５〜９のｐＨを有する水性流体２１８が直接接触した場合のバリア皮膜２８８の浸食速度より低い。任意選択的に、図１〜図５の実施形態のいずれかに関して、薬剤パッケージ２１０の保管寿命は、薬剤パッケージ２１０が組み立てられた後、少なくとも１年、あるいは少なくとも２年であってもよい。
【０１９０】
任意選択的に、図１〜図５の実施形態のいずれかに関して、保管寿命は、３℃で、あるいは４℃以上で、あるいは２０℃以上で、あるいは２３℃で、あるいは４０℃で測定される。
【０１９１】
任意選択的に、図１〜図５の実施形態のいずれかに関して、流体２１８は、２０℃、且つ７６０ｍｍＨｇの圧力と定義される海面における周囲圧力で液体である。
【０１９２】
任意選択的に、図１〜図５の実施形態のいずれかに関して、流体２１８は水性液体である。
【０１９３】
任意選択的に、図１〜図５の実施形態のいずれかに関して、流体２１８に接触するｐＨ保護皮膜又は層２８６は、薬剤パッケージ２１０が組み立てられた２年後に、厚さ１０〜１０００ｎｍ、任意選択的に厚さ５０〜５００ｎｍ、任意選択的に厚さ１００〜４００ｎｍ、任意選択的に厚さ１５０〜３００ｎｍである。
【０１９４】
図１９を参照すると、２５２などのシリンジは任意選択的に、バレル２５０に挿入されるプランジャ先端部を有するプランジャ２５８と、プッシュロッドとを含む。プランジャ２５８は任意選択的に、少なくともバレル内部表面２６４と接触する表面に滑性層を備える。プランジャ先端部上の滑性皮膜又は層は、保管中の「付着摩擦（ｓｔｉｃｋｔｉｏｎ）」を防止し、プランジャを前進させるときのプランジャ先端部とバレルとの摩擦を低下させ続けるのに適切な位置にあり、ＣＶＤにより塗布されると、従来のシリコンオイル（ｓｉｌｉｃｏｎ  ｏｉｌ）皮膜又は層と比較して、プランジャ先端部がバレルに及ぼす力による変位を受け難いと考えられ、独立した液滴の場合よりも均一に均一な皮膜として塗布される。
【０１９５】
任意選択的に、ＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣyから成膜されたプライマー皮膜又は層２８６の上にＳｉＯxの更なる親水性プライマー層を塗布することができる。ｐＨが十分高い場合、流体２１８に曝露されるこのさらなるプライマー層の部分は浸食されるが、プランジャシールにより流体２１８から保護されるこのさらなるプライマー層の部分は所定の位置に残留し、更に、シリンジを使用するときに受けるＦｉを低減する。
【０１９６】
任意選択的に、図１〜図５の実施形態のいずれかに関して、流体２１８のｐＨは５〜６であり、ｐＨ保護皮膜又は層２８６のＴＥＭによる厚さは保管寿命の終わりに少なくとも８０ｎｍである。あるいは、流体２１８のｐＨは６〜７であり、ｐＨ保護皮膜又は層２８６のＴＥＭによる厚さは、保管寿命の終わりに少なくとも８０ｎｍである。あるいは、流体２１８のｐＨは７〜８であり、ｐＨ保護皮膜又は層２８６のＴＥＭによる厚さは保管寿命の終わりに少なくとも８０ｎｍである。あるいは、流体２１８のｐＨは８〜９であり、ｐＨ保護皮膜又は層２８６のＴＥＭによる厚さは保管寿命の終わりに少なくとも８０ｎｍである。あるいは、流体２１８のｐＨは５〜６であり、ｐＨ保護皮膜又は層２８６のＴＥＭによる厚さは保管寿命の終わりに少なくとも１５０ｎｍである。あるいは、流体２１８のｐＨは６〜７であり、ｐＨ保護皮膜又は層２８６のＴＥＭによる厚さは保管寿命の終わりに少なくとも１５０ｎｍである。あるいは、流体２１８のｐＨは７〜８であり、ｐＨ保護皮膜又は層２８６のＴＥＭによる厚さは保管寿命の終わりに少なくとも１５０ｎｍである。あるいは、流体２１８のｐＨは８〜９であり、ｐＨ保護皮膜又は層２８６のＴＥＭによる厚さは保管寿命の終わりに少なくとも１５０ｎｍである。
【０１９７】
任意選択的に、図１〜図５の実施形態のいずれかに関して、流体２１８はｐＨ保護皮膜又は層２８６を、流体２１８と４４時間接触する毎にｐＨ保護皮膜又は層厚さ１ｎｍ以下（毎年２００ｎｍ）、あるいは流体２１８と８８時間接触する毎にｐＨ保護皮膜又は層厚さ１ｎｍ以下（毎年１００ｎｍ）、あるいは流体２１８と１７５時間接触する毎にｐＨ保護皮膜又は層厚さ１ｎｍ以下（毎年５０ｎｍ）、あるいは流体２１８と２５０時間接触する毎にｐＨ保護皮膜又は層厚さ１ｎｍ以下（毎年３５ｎｍ）、あるいは流体２１８と３５０時間接触する毎にｐＨ保護皮膜又は層厚さ１ｎｍ以下（毎年２５ｎｍ）の割合で除去する。ｐＨ保護皮膜又は層の除去速度は、既知の期間、流体に曝露された試料からＴＥＭにより求めることができる。
【０１９８】
任意選択的に、図２４〜図２６の任意の実施形態においては、パッケージの計算保管寿命（総Ｓｉ／Ｓｉ溶解速度）は、６ヶ月超、又は１年超、又は１８ヶ月超、又は２年超、又は２年半超、又は３年超、又は４年超、又は５年超、又は１０年超、又は２０年超である。任意選択的に、図２４〜図２６の任意の実施形態においては、パッケージ計算保管寿命（総Ｓｉ／Ｓｉ溶解速度）は６０年未満である。
【０１９９】
図１〜図５の本発明の代替の実施形態として、ここで記載した任意の最低時間をここで記載した任意の最大時間と組み合わせることができる。
【０２００】
任意選択的に、図１〜図５の実施形態のいずれかに関して、流体２１８は、後述の物質のいずれかから選択される、１種の要素又は２種以上の要素の組合せを含む。幾つかの例として、流体２１８は、吸入麻酔薬、注射剤、液剤（非注射剤）、様々な種類の薬物、及び診断試験からなる群から選択される物質であってもよい。
【０２０１】
図１及び図２の内腔２１２に収容されるのに適した吸入麻酔薬の例としては：アリフルラン；クロロホルム；シクロプロパン；デスフルラン（Ｓｕｐｒａｎｅ）；ジエチルエーテル；エンフルラン（Ｅｔｈｒａｎｅ）；塩化エチル；エチレン；ハロタン（Ｆｌｕｏｔｈａｎｅ）；イソフルラン（Ｆｏｒａｎｅ、Ｉｓｏｆｌｏ）；イソプロペニルビニルエーテル；メトキシフルラン；メトキシフルラン；メトキシプロパン；亜酸化窒素；ロフルラン；セボフルラン（Ｓｅｖｏｒａｎｅ、Ｕｌｔａｎｅ、Ｓｅｖｏｆｌｏ）；テフルラン；トリクロロエチレン；ビニルエーテル；キセノンが挙げられる。
【０２０２】
図１及び図２の内腔２１２に収容されるのに適した注射剤の例としては：Ａｂｌａｖａｒ（ガドホスベセット三ナトリウム注射薬）；アバレリックスデポ；アボボツリナムトキシンＡ注射薬（Ｄｙｓｐｏｒｔ）；ＡＢＴ−２６３；ＡＢＴ−８６９；ＡＢＸ−ＥＦＧ；Ａｃｃｒｅｔｒｏｐｉｎ（ソマトロピン注射薬）；Ａｃｅｔａｄｏｔｅ（アセチルシステイン注射薬）；アセタゾラミド注射薬（アセタゾラミド注射薬）；アセチルシステイン注射薬（Ａｃｅｔａｄｏｔｅ）；アクテムラ（トシリズマブ注射薬）；Ａｃｔｈｒｅｌ（注射用コルチコレリンオーバイントリフルテート）；Ａｃｔｕｍｍｕｎｅ；アクチバーゼ；注射用アシクロビル（ゾビラックス注射薬）；Ａｄａｃｅｌ；アダリムマブ；アデノスキャン（アデノシン注射薬）；アデノシン注射薬（アデノスキャン）；Ａｄｒｅｎａｃｌｉｃｋ；ＡｄｒｅＶｉｅｗ（ヨーベングアンＩ１２３静脈内用注射薬）；Ａｆｌｕｒｉａ；Ａｋ−Ｆｌｕｏｒ（フルオレセイン注射薬）；アウドラザイム（ラロニダーゼ）；アルグルセラーゼ注射薬（セレデース）；アルケラン注射薬（メルファランＨｃｌ注射薬）；注射用アロプリノールナトリウム（Ａｌｏｐｒｉｍ）；Ａｌｏｐｒｉｍ（注射用アロプリノールナトリウム）；アルプロスタジル；Ａｌｓｕｍａ（スマトリプタン注射薬）；ＡＬＴＵ−２３８；アミノ酸注射薬；Ａｍｉｎｏｓｙｎ；アピドラ；アプレミラスト；注射用アルプロスタジルデュアルチャンバシステム（Ｄｕａｌ  Ｃｈａｍｂｅｒ  Ｓｙｓｔｅｍ）（Ｃａｖｅｒｊｅｃｔ  Ｉｍｐｕｌｓｅ）；ＡＭＧ００９；ＡＭＧ０７６；ＡＭＧ１０２；ＡＭＧ１０８；ＡＭＧ１１４；ＡＭＧ１６２；ＡＭＧ２２０；ＡＭＧ２２１；ＡＭＧ２２２；ＡＭＧ２２３；ＡＭＧ３１７；ＡＭＧ３７９；ＡＭＧ３８６；ＡＭＧ４０３；ＡＭＧ４７７；ＡＭＧ４７９；ＡＭＧ５１７；ＡＭＧ５３１；ＡＭＧ５５７；ＡＭＧ６２３；ＡＭＧ６５５；ＡＭＧ７０６；ＡＭＧ７１４；ＡＭＧ７４５；ＡＭＧ７８５；ＡＭＧ８１１；ＡＭＧ８２７；ＡＭＧ８３７；ＡＭＧ８５３；ＡＭＧ９５１；アミオダロンＨＣｌ注射薬（アミオダロンＨＣｌ注射薬）；アモバルビタールナトリウム注射薬（アミタールナトリウム）；アミタールナトリウム（アモバルビタールナトリウム注射薬）；アナキンラ；Ａｎｔｉ−Ａｂｅｔａ；Ａｎｔｉ−Ｂｅｔａ７；Ａｎｔｉ−Ｂｅｔａ２０；Ａｎｔｉ−ＣＤ４；Ａｎｔｉ−ＣＤ２０；Ａｎｔｉ−ＣＤ４０；Ａｎｔｉ−ＩＦＮａｌｐｈａ；Ａｎｔｉ−ＩＬ１３；Ａｎｔｉ−ＯＸ４０Ｌ；Ａｎｔｉ−ｏｘＬＤＳ；Ａｎｔｉ−ＮＧＦ；Ａｎｔｉ−ＮＲＰ１；アリクストラ；Ａｍｐｈａｄａｓｅ（ヒアルロニダーゼ注射薬）；Ａｍｍｏｎｕｌ（フェニル酢酸ナトリウム及び安息香酸ナトリウム注射薬）；Ａｎａｐｒｏｘ；アンゼメット注射薬（メシル酸ドラセトロン注射薬）；アピドラ（インスリングルリシン［ｒＤＮＡ由来］注射薬）；Ａｐｏｍａｂ；Ａｒａｎｅｓｐ（ダルベポエチンアルファ）；アルガトロバン（アルガトロバン注射薬）；塩酸アルギニン注射薬（Ｒ−Ｇｅｎｅ１０；アリストコート；アリストスパン；三酸化ヒ素注射薬（トリセノックス）；アルチケーンＨＣＩ（Ａｒｔｉｃａｎｅ  ＨＣｌ）及びエピネフリン注射薬（Ｓｅｐｔｏｃａｉｎｅ）；アーゼ���（オファツムマブ注射薬）；Ａｓｃｌｅｒａ（ポリドカノール注射薬）；アタルレン；アタルレン−ＤＭＤ；アテノロール注射薬（テノーミンＩ．Ｖ．注射薬）；ベシル酸アトラクリウム注射薬（ベシル酸アトラクリウム注射薬）；アバスチン；アザクタム注射薬（アズトレオナム注射薬）；アジスロマイシン（ジスロマック注射薬）；アズトレオナム注射薬（アザクタム注射薬）；バクロフェン注射薬（リオレサール髄注（Ｉｎｔｒａｔｈｅｃａｌ））；静菌水（注射用静菌水）；バクロフェン注射薬（リオレサール髄注）；Ｂａｌ  ｉｎ  Ｏｉｌ  Ａｍｐｕｌｅｓ（ジメルカープロール（Ｄｉｍｅｒｃａｒｐｒｏｌ）注射薬）；ＢａｙＨｅｐＢ；ＢａｙＴｅｔ；ベナドリル；塩酸ベンダムスチン注射薬（トレアンダ）；メシル酸ベンズトロピン注射薬（コゲンチン）；ベタメタゾン懸濁注射液（Ｃｅｌｅｓｔｏｎｅ  Ｓｏｌｕｓｐａｎ）；ベキサール；バイシリンＣ−Ｒ９００／３００（ペニシリンＧベンザチン及びペニシリンＧプロカイン注射薬）；ブレノキサン（ブレオマイシン硫酸塩注射薬）；ブレオマイシン硫酸塩注射薬（ブレノキサン）；ボニバ注射薬（イバンドロネートナトリウム注射薬）；ボトックスコスメティック（注射用ボツリヌストキシンＡ）；ＢＲ３−ＦＣ；Ｂｒａｖｅｌｌｅ（ウロホリトロピン注射薬）；ブレチリウム（ブレチリウムトシラート注射薬）；ブレビタールナトリウム（メトヘキシタールナトリウム注射用）；Ｂｒｅｔｈｉｎｅ；Ｂｒｉｏｂａｃｅｐｔ；ＢＴＴ−１０２３；ブピバカインＨＣＩ；バイエッタ；Ｃａ−ジエチレントリアミン五酢酸（ペンテト酸カルシウム三ナトリウム注射薬）；カバジタキセル注射薬（ジェブタナ）；カフェインアルカロイド（カフェイン及び安息香酸ナトリウム注射薬）；カルシジェックス注射薬（カルシトリオール）；カルシトリオール（カルシジェックス注射薬）；塩化カルシウム（塩化カルシウム注射薬１０％）；カルシウムジナトリウムベルセネート（エデト酸カルシウム二ナトリウム注射薬）；キャンパス（アルテムツズマブ（Ａｌｔｅｍｔｕｚｕｍａｂ））；Ｃａｍｐｔｏｓａｒ注射薬（イリノテカン塩酸）；カナキヌマブ注射薬（イラリス）；カパスタット硫酸塩（Ｃａｐａｓｔａｔ  Ｓｕｌｆａｔｅ）（注射用カプレオマイシン）；注射用カプレオマイシン（カパスタット硫酸塩（Ｃａｐａｓｔａｔ  Ｓｕｌｆａｔｅ））；カーディオライト（注射用テクネチウムＴｃ９９セスタミビ用調製キット（Ｐｒｅｐ  ｋｉｔ））；カーティセル；Ｃａｔｈｆｌｏ；注射用セファゾリン及びブドウ糖（セファゾリン注射薬）；セフェピム塩酸塩；セフォタキシム；セフトリアキソン；セレザイム；Ｃａｒｎｉｔｏｒ注射薬；Ｃａｖｅｒｊｅｃｔ；Ｃｅｌｅｓｔｏｎｅ  Ｓｏｌｕｓｐａｎ；Ｃｅｌｓｉｏｒ；Ｃｅｒｅｂｙｘ（ホスフェニトインナトリウム注射薬）；セレデース（アルグルセラーゼ注射薬）；Ｃｅｒｅｔｅｃ（テクネチウムＴｃ９９ｍエキサメタジム注射薬）；セルトリズマブ；ＣＦ−１０１；クロラムフェニコールコハク酸ナトリウム（クロラムフェニコールコハク酸ナトリウム注射薬）；クロラムフェニコールコハク酸ナトリウム注射薬（クロラムフェニコールコハク酸ナトリウム）；コレスタゲル（コレセベラムＨＣＬ）；絨毛性ゴナドトロピンアルファ注射薬（Ｏｖｉｄｒｅｌ）；シムジア；シスプラチン（シスプラチン注射薬）；クロラール（クロファラビン注射薬）；クエン酸クロミフィン（Ｃｌｏｍｉｐｈｉｎｅ  Ｃｉｔｒａｔｅ）；クロニジン注射薬（Ｄｕｒａｃｌｏｎ）；コゲンチン（メシル酸ベンズトロピン注射薬）；コリスチメタート注射薬（Ｃｏｌｙ−Ｍｙｃｉｎ  Ｍ）；Ｃｏｌｙ−Ｍｙｃｉｎ  Ｍ（コリスチメタート注射薬）；Ｃｏｍｐａｔｈ；コニバプタンＨｃｌ注射薬（バプリゾール）；注射用結合型エストロゲン（プレマリン注射薬）；コパキソン；注射用コルチコレリンオーバイントリフルテート（Ａｃｔｈｒｅｌ）；コルベルト（フマル酸イブチリド注射薬）；キュビシン（ダプトマイシン注射薬）；ＣＦ−１０１；Ｃｙａｎｏｋｉｔ（注射用ヒドロキソコバラミン）；シタラビンリポソーム注射薬（デポサイト）；シアノコバラミン；サイトベン（ガンシクロビル）；Ｄ．Ｈ．Ｅ．４５；ダセツズマブ；ダコゲン（デシタビン注射薬）；ダルテパリン；ダントリウムＩＶ（注射用ダントロレンナトリウム）；注射用ダントロレンナトリウム（ダントリウムＩＶ）；ダプトマイシン注射薬（キュビシン）；ダルベポエチンアルファ；ＤＤＡＶＰ注射薬（デスモプレシン酢酸塩注射薬）；Ｄｅｃａｖａｘ；デシタビン注射薬（ダコゲン）；無水アルコール（無水アルコール注射薬）；デノスマブ注射薬（プロリア）；デラテストリル；デルエストロゲン；デルテパリンナトリウム；Ｄｅｐａｃｏｎ（バルプロ酸ナトリウム注射薬）；デポメロドール（酢酸メチルプレドニゾロン懸濁注射液）；デポサイト（シタラビンリポソーム注射薬）；デポデュール（モルヒネ硫酸塩ＸＲリポソーム注射薬）；デスモプレシン酢酸塩注射薬（ＤＤＡＶＰ注射薬）；デポエストラジオール；デポプロベラ１０４ｍｇ／ｍｌ；デポプロベラ１５０ｍｇ／ｍｌ；デポテストステロン；注射用デキスラゾキサン、静注のみ（Ｔｏｔｅｃｔ）；ブドウ糖／電解質；ブドウ糖及び塩化ナトリウム注射薬（０．９％塩化ナトリウム中ブドウ糖５％）；ブドウ糖；ジアゼパム注射薬（ジアゼパム注射薬）；ジゴキシン注射薬（ラノキシン注射薬）；ジラウジッド−ＨＰ（ヒドロモルホン塩酸注射薬）；ジメルカープロール（Ｄｉｍｅｒｃａｒｐｒｏｌ）注射薬（Ｂａｌ  ｉｎ  Ｏｉｌ  Ａｍｐｕｌｅｓ）；ジフェンヒドラミン注射薬（ベナドリル注射薬）；ジピリダモール注射薬（ジピリダモール注射薬）；ＤＭＯＡＤ；ドセタクセル注射用（タキソテール）；メシル酸ドラセトロン注射薬（アンゼメット注射薬）；ドリバックス（ドリペネム注射用）；ドリペネム注射用（ドリバックス）；ドキセルカルシフェロール注射薬（Ｈｅｃｔｏｒｏｌ注射薬）；ドキシル（ドキソルビシンＨｃｌリポソーム注射薬）；ドキソルビシンＨｃｌリポソーム注射薬（ドキシル）；Ｄｕｒａｃｌｏｎ（クロニジン注射薬）；Ｄｕｒａｍｏｒｐｈ（モルヒネ注射薬）；Ｄｙｓｐｏｒｔ（アボボツリナムトキシンＡ注射薬）；エカランチド注射薬（Ｋａｌｂｉｔｏｒ）；ＥＣ−ナプロシン（ナプロキセン）；エデト酸カルシウム二ナトリウム注射薬（カルシウムジナトリウムベルセネート）；Ｅｄｅｘ（注射用アルプロスタジル）；Ｅｎｇｅｒｉｘ；エドロホニウム注射薬（Ｅｎｌｏｎ）；エリグルスタットターテート（Ｅｌｉｇｌｕｓｔａｔ  Ｔａｒｔａｔｅ）；エロキサチン（オキサリプラチン注射薬）；イメンド注射薬（フォサプレピタントジメグルミン注射薬）；エナラプリラート注射薬（エナラプリラート注射薬）；Ｅｎｌｏｎ（エドロホニウム注射薬）；エノキサパリンナトリウム注射薬（ラブノックス）；エオビスト（ガドキセト酸二ナトリウム注射薬）；エンブレル（エタネルセプト）；エノキサパリン；Ｅｐｉｃｅｌ；エピネフェリン（Ｅｐｉｎｅｐｈｅｒｉｎｅ）；エピペン；エピペンＪｒ．；エピラツズマブ；アービタックス；エルタペネム注射薬（Ｉｎｖａｎｚ）；エリスロポエテン（Ｅｒｙｔｈｒｏｐｏｉｅｔｅｎ）；必須アミノ酸注射薬（Ｎｅｐｈｒａｍｉｎｅ）；エストラジオールシピオネート；吉草酸エストラジオール；エタネルセプト；エキセナチド注射薬（バイエッタ）；エブロトラ（Ｅｖｌｏｔｒａ）；ファブラザイム（アダルシダーゼベータ（Ａｄａｌｓｉｄａｓｅ  ｂｅｔａ））；ファモチジン注射薬；ＦＤＧ（フルデオキシグルコースＦ１８注射薬）；フェラヘム（フェルモキシトール注射薬）；フェリデックスＩ．Ｖ．（フェルモキシデス注射可能溶液）；Ｆｅｒｔｉｎｅｘ；フェルモキシデス注射可能溶液（フェリデックスＩ．Ｖ．）；フェルモキシトール注射薬（フェラヘム）；フラジール注射薬（メトロニダゾール注射薬）；Ｆｌｕａｒｉｘ；フルダラ（リン酸フルダラビン）；フルデオキシグルコースＦ１８注射薬（ＦＤＧ）；フルオレセイン注射薬（Ａｋ−Ｆｌｕｏｒ）；フォリスチムＡＱカートリッジ（フォリトロピンベータ注射薬）；フォリトロピンアルファ注射薬（ゴナールエフＲＦＦ）；フォリトロピンベータ注射薬（フォリスチムＡＱカートリッジ）；フォロチン（プララトレキサート溶液静注用）；フォンダパリヌクス；フォルテオ（テリパラチド（ｒＤＮＡ由来）注射薬）；Ｆｏｓｔａｍａｔｉｎｉｂ；フォサプレピタントジメグルミン注射薬（イメンド注射薬）；ホスフェニトインナトリウム注射薬（ホスカビル）；ホスカビル（ホスフェニトインナトリウム注射薬）；ホスフェニトインナトリウム注射薬（Ｃｅｒｅｂｙｘ）；ホスプロポフォール二ナトリウム注射薬（Ｌｕｓｅｄｒａ）；フラグミン；フゼオン（エンフビルチド）；ＧＡ１０１；ガドベン酸メグルミン注射薬（Ｍｕｌｔｉｈａｎｃｅ）；ガドホスベセット三ナトリウム注射薬（Ａｂｌａｖａｒ）；ガド
テリドール注射薬溶液（プロハンス）；カドベルセタミド注射薬（ＯｐｔｉＭＡＲＫ）；ガドキセト酸二ナトリウム注射薬（エオビスト）；ガニレリクス（ガニレリクス酢酸塩注射薬）；ガーダシル；ＧＣ１００８；ＧＤＦＤ；注射用ゲムツズマブオゾガマイシン（マイロターグ）；ジェノトロピン；ゲンタマイシン注射薬；ＧＥＮＺ−１１２６３８；ゴリムマブ注射薬（シンポニー注射薬）；ゴナールエフＲＦＦ（フォリトロピンアルファ注射薬）；グラニセトロン塩酸塩（カイトリル注射薬）；ゲンタマイシン硫酸塩；グラチラマー酢酸塩；Ｇｌｕｃａｇｅｎ；グルカゴン；ＨＡＥ１；Ｈａｌｄｏｌ（ハロペリドール注射薬）；Ｈａｖｒｉｘ；Ｈｅｃｔｏｒｏｌ注射薬（ドキセルカルシフェロール注射薬）；ヘッジホッグ経路阻害薬；へパリン；ハーセプチン；ｈＧ−ＣＳＦ；ヒューマログ；ヒト成長ホルモン；ヒューマトロープ；ＨｕＭａｘ；ヒュメゴン；ヒュミラ；ヒューマリン；イバンドロネートナトリウム注射薬（ボニバ注射薬）；イブプロフェンリシン注射薬（ＮｅｏＰｒｏｆｅｎ）；フマル酸イブチリド注射薬（コルベルト）；イダマイシンＰＦＳ（イダルビシン塩酸注射薬）；イダルビシン塩酸注射薬（イダマイシンＰＦＳ）；イラリス（カナキヌマブ注射薬）；注射用イミペネム及びシラスタチン（プリマキシンＩ．Ｖ．）；イミトレックス；インコボツリナムトキシンＡ注射用（Ｘｅｏｍｉｎ）；Ｉｎｃｒｅｌｅｘ（メカセルミン［ｒＤＮＡ由来］注射薬）；インダシンＩＶ（インドメタシン注射薬）；インドメタシン注射薬（インダシンＩＶ）；Ｉｎｆａｎｒｉｘ；イノヘップ；インスリン；インスリンアスパルト［ｒＤＮＡ由来］注射薬（ＮｏｖｏＬｏｇ）；インスリングラルギン［ｒＤＮＡ由来］注射薬（ランタス）；インスリングルリシン［ｒＤＮＡ由来］注射薬（アピドラ）；インターフェロンアルファ−２ｂ、遺伝子組換え注射用（イントロンＡ）；イントロンＡ（インターフェロンアルファ−２ｂ、遺伝子組換え注射用）；Ｉｎｖａｎｚ（エルタペネム注射薬）；Ｉｎｖｅｇａ  Ｓｕｓｔｅｎｎａ（パリペリドンパルミチン酸エステル持効性懸濁注射液）；インビラーゼ（サキナビルメシル酸塩）；ヨーベングアンＩ１２３静脈内用注射薬（ＡｄｒｅＶｉｅｗ）；イオプロミド注射薬（Ｕｌｔｒａｖｉｓｔ）；イオベルソール注射薬（オプチレイ注射薬）；Ｉｐｌｅｘ（メカセルミンリンファバート［ｒＤＮＡ由来］注射薬）；Ｉｐｒｉｖａｓｋ；イリノテカン塩酸（Ｃａｍｐｔｏｓａｒ注射薬）；含糖酸化鉄注射薬（ヴェノファー）；Ｉｓｔｏｄａｘ（ロミデプシン注射用）；イトラコナゾール注射薬（スポラノックス注射薬）；ジェブタナ（カバジタキセル注射薬）；Ｊｏｎｅｘａ；Ｋａｌｂｉｔｏｒ（エカランチド注射薬）；ＫＣＬ  ｉｎ  Ｄ５ＮＳ（５％ブドウ糖及び塩化ナトリウム中塩化カリウム（Ｐｏｔａｓｓｉｕｍ  Ｃｈｌｏｒｉｄｅ  ｉｎ  ５％  Ｄｅｘｔｒｏｓｅ  ａｎｄ  Ｓｏｄｉｕｍ  Ｃｈｌｏｒｉｄｅ）注射薬）；ＫＣＬ  ｉｎ  Ｄ５Ｗ；ＫＣＬ  ｉｎ  ＮＳ；ケナログ１０注射薬（トリアムシノロンアセトニド懸濁注射液）；ケピバンス（パリフェルミン）；ケプラ注射薬（レベチラセタム）；ケラチノサイト；ＫＦＧ；キナーゼ阻害薬；Ｋｉｎｅｒｅｔ（アナキンラ）；Ｋ��ｎｌｙｔｉｃ（ウロキナーゼ注射薬）；Ｋｉｎｒｉｘ；クロノピン（クロナゼパム）；カイトリル注射薬（グラニセトロン塩酸塩）；ラコサミド錠及び注射薬（ビンパット）；乳酸リンゲル液；ラノキシン注射薬（ジゴキシン注射薬）；ランソプラゾール注射用（プレバシドＩ．Ｖ．）；ランタス；ロイコボリンカルシウム（ロイコボリンカルシウム注射薬）；レンテ（Ｌ）；レプチン；レベミル；リューカインサルグラモスチム；ロイプロリド酢酸塩；レボチロキシン；レベチラセタム（ケプラ注射薬）；ラブノックス；レボカルニチン注射薬（Ｃａｒｎｉｔｏｒ注射薬）；レキスキャン（レガデノソン注射薬）；リオレサール髄注（バクロフェン注射薬）；リラグルチド［ｒＤＮＡ］注射薬（ビクトーザ）；ラブノックス（エノキサパリンナトリウム注射薬）；ルセンティス（ラニビズマブ注射薬）；Ｌｕｍｉｚｙｍｅ；ルプロン（ロイプロリド酢酸塩注射薬）；Ｌｕｓｅｄｒａ（ホスプロポフォール二ナトリウム注射薬）；Ｍａｃｉ；マグネシウム硫酸塩（マグネシウム硫酸塩注射薬）；マンニトール注射薬（マンニトールＩＶ）；マーカイン（ブピバカイン塩酸及びエピネフリン注射薬）；マキシピーム（セフェピム塩酸塩注射用）；テクネチウム注射薬のＭＤＰ多用量（Ｍｕｌｔｉｄｏｓｅ）キット（テクネチウムＴｃ９９ｍメドロナート注射薬）；メカセルミン［ｒＤＮＡ由来］注射薬（Ｉｎｃｒｅｌｅｘ）；メカセルミンリンファバート［ｒＤＮＡ由来］注射薬（Ｉｐｌｅｘ）；メルファランＨｃｌ注射薬（アルケラン注射薬）；メトトレキサート；メナクトラ；Ｍｅｎｏｐｕｒ（メノトロピンス注射薬）；メノトロピンス注射用（Ｒｅｐｒｏｎｅｘ）；メトヘキシタールナトリウム注射用（ブレビタールナトリウム）；メチルドーパート塩酸塩注射薬、溶液（メチルドーパートＨｃｌ）；メチレンブルー（メチレンブルー注射薬）；酢酸メチルプレドニゾロン懸濁注射液（デポメロドール）；ＭｅｔＭａｂ；メトクロプラミド注射薬（Ｒｅｇｌａｎ注射薬）；Ｍｅｔｒｏｄｉｎ（ウロホリトロピン注射用）；メトロニダゾール注射薬（フラジール注射薬）；Ｍｉａｃａｌｃｉｎ；ミダゾラム（ミダゾラム注射薬）；ミンパラ（シナカレト（Ｃｉｎａｃａｌｅｔ））；ミノシン注射薬（ミノサイクリン注射薬）；ミノサイクリン注射薬（ミノシン注射薬）；ミポメルセン；ミトキサントロン注射用濃縮液（ノバントロン）；モルヒネ注射薬（Ｄｕｒａｍｏｒｐｈ）；モルヒネ硫酸塩ＸＲリポソーム注射薬（デポデュール）；モルイン酸ナトリウム（モルイン酸ナトリウム注射薬）；モテサニブ；モゾビル（プレリキサフォル注射薬）；Ｍｕｌｔｉｈａｎｃｅ（ガドベン酸メグルミン注射薬）；多電解質及びブドウ糖注射薬；多電解質注射薬；マイロターグ（注射用ゲムツズマブオゾガマイシン）；マイオザイム（アルグルコシダーゼアルファ）；ナフシリン注射薬（ナフシリンナトリウム）；ナフシリンナトリウム（ナフシリン注射薬）；ナルトレキソンＸＲ注射薬（ビビトロル；ナプロシン（ナプロキセン）；ＮｅｏＰｒｏｆｅｎ（イブプロフェンリシン注射薬）；ナンドロルデカン酸エステル（Ｎａｎｄｒｏｌ  Ｄｅｃａｎｏａｔｅ）；ネオスチグミンメチル硫酸塩（ネオスチグミンメチル硫酸塩注射薬）；ＮＥＯ−ＧＡＡ；ＮｅｏＴｅｃｔ（テクネチウムＴｃ９９ｍデプレオチド注射薬）；Ｎｅｐｈｒａｍｉｎｅ（必須アミノ酸注射薬）；Ｎｅｕｌａｓｔａ（ペグフィルグラスチム）；Ｎｅｕｐｏｇｅｎ（フィルグラスチム）；ノボリン；Ｎｏｖｏｌｏｇ；ＮｅｏＲｅｃｏｒｍｏｎ；Ｎｅｕｔｒｅｘｉｎ（グルコン酸トリメトレキサート注射薬）；ＮＰＨ（Ｎ）；Ｎｅｘｔｅｒｏｎｅ（アミオダロンＨＣｌ注射薬）；ノルディトロピン（ソマトロピン注射薬）；生理食塩水（塩化ナトリウム注射薬）；ノバントロン（ミトキサントロン注射用濃縮液）；ノボリン７０／３０イノレット（７０％ＮＰＨ、ヒトインスリンイソフェン懸濁液及び３０％レギュラー、ヒトインスリン注射薬）；ＮｏｖｏＬｏｇ（インスリンアスパルト［ｒＤＮＡ由来］注射薬）；Ｎｐｌａｔｅ（ロミプロスチム）；ニュートロピン（ソマトロピン（ｒＤＮＡ由来）注射用）；ニュートロピンＡＱ；ニュートロピンデポ（Ｄｅｐｏｔ）（ソマトロピン（ｒＤＮＡ由来）注射用）；オクトレオチド酢酸塩注射薬（サンドスタチンＬＡＲ）；オクレリズマブ；オファツムマブ注射薬（アーゼラ）；徐放性オランザピン懸濁注射液（Ｚｙｐｒｅｘａ  Ｒｅｌｐｒｅｖｖ）；Ｏｍｎｉｔａｒｇ；Ｏｍｎｉｔｒｏｐｅ（ソマトロピン［ｒＤＮＡ由来］注射薬）；オンダンセトロン塩酸注射薬（ゾフラン注射薬）；ＯｐｔｉＭＡＲＫ（カドベルセタミド注射薬）；オプチレイ注射薬（イオベルソール注射薬）；オレンシア；Ｏｓｍｉｔｒｏｌ注射薬、Ａｖｉｖａ（マンニトール注射薬、Ａｖｉｖａプラスチック薬剤）；Ｏｓｍｉｔｒｏｌ注射薬、Ｖｉａｆｌｅｘ（マンニトール注射薬、Ｖｉａｆｌｅｘプラスチック薬剤）；オステオプロテグリン（Ｏｓｔｅｏｐｒｏｔｅｇｒｉｎ）；Ｏｖｉｄｒｅｌ（絨毛性ゴナドトロピンアルファ注射薬）；オキサシリン（オキサシリン注射用）；オキサリプラチン注射薬（エロキサチン）；オキシトシン注射薬（ピトシン）；パリペリドンパルミチン酸エステル持効性懸濁注射液（Ｉｎｖｅｇａ  Ｓｕｓｔｅｎｎａ）；パミドロン酸二ナトリウム注射薬（パミドロン酸二ナトリウム注射薬）；パニツムマブ静注用（ベクティビックス）；パパベリン塩酸塩注射薬（パパベリン注射薬）；パパベリン注射薬（パパベリン塩酸塩注射薬）；副甲状腺ホルモン；パリカルシトール注射薬フリップトップ型バイアル（Ｚｅｍｐｌａｒ注射薬）；ＰＡＲＰ阻害薬；Ｐｅｄｉａｒｉｘ；ペグイントロン；ペグインターフェロン；ペグフィルグラスチム；ペニシリンＧベンザチン及びペニシリンＧプロカイン；ペンテト酸カルシウム三ナトリウム注射薬（Ｃａ−ジエチレントリアミン五酢酸）；ペンテト酸亜鉛三ナトリウム注射薬（Ｚｎ−ジエチレントリアミン五酢酸）；ペプシド注射薬（ファモチジン注射薬）；Ｐｅｒｇｏｎａｌ；ペルツズマブ；フェントラミンメシル酸塩（フェントラミンメシル酸塩注射用）；サリチル酸フィゾスチグミン（サリチル酸フィゾスチグミン（注射薬））；サリチル酸フィゾスチグミン（注射薬）（サリチル酸フィゾスチグミン）；ピペラシリン及びタゾバクタム注射薬（ゾシン）；ピトシン（オキシトシン注射薬）；Ｐｌａｓｍａ−Ｌｙｔｅ１４８（多電解質注射薬）；Ｐｌａｓｍａ−Ｌｙｔｅ５６及びブドウ糖（多電解質及��ブドウ糖注射薬、Ｖｉａｆｌｅｘプラスチック薬剤パッケージ２１０）；ＰｌａｓｍａＬｙｔｅ；プレリキサフォル注射薬（モゾビル）；ポリドカノール注射薬（Ａｓｃｌｅｒａ）；塩化カリウム；プララトレキサート溶液静注用（フォロチン）；酢酸プラムリンタイド注射薬（Ｓｙｍｌｉｎ）；プレマリン注射薬（注射用結合型エストロゲン）；注射用テクネチウムＴｃ９９セスタミビ用調製キット（Ｐｒｅｐ  ｋｉｔ）（カーディオライト）；プレバシドＩ．Ｖ．（ランソプラゾール注射用）；プリマキシンＩ．Ｖ．（注射用イミペネム及びシラスタチン）；Ｐｒｏｃｈｙｍａｌ；プロクリット；黄体ホルモン；プロハンス（ガドテリドール注射薬溶液）；プロリア（デノスマブ注射薬）；プロメタジンＨＣｌ注射薬（プロメタジン塩酸注射薬）；プロプラノロール塩酸塩注射薬（プロプラノロール塩酸塩注射薬）；グルコン酸キニジン注射薬（キニジン注射薬）；キニジン注射薬（グルコン酸キニジン注射薬）；Ｒ−Ｇｅｎｅ１０（塩酸アルギニン注射薬）；ラニビズマブ注射薬（ルセンティス）；ラニチジン塩酸塩注射薬（ザンタック注射薬）；ラプティバ；リクラスト（ゾレドロン酸注射薬）；Ｒｅｃｏｍｂｉｖａｒｉｘ  ＨＢ；レガデノソン注射薬（レキスキャン）；Ｒｅｇｌａｎ注射薬（メトクロプラミド注射薬）；レミケード；レナジェル；Ｒｅｎｖｅｌａ（炭酸セベラマー）；Ｒｅｐｒｏｎｅｘ（メノトロピンス注射用）；レトロビルＩＶ（ジドブジン注射薬）；ｒｈＡｐｏ２Ｌ／ＴＲＡＩＬ；リンゲル及び５％ブドウ糖注射薬（ブドウ糖加リンガー液（Ｒｉｎｇｅｒｓ））；リンゲル液（リンガー（Ｒｉｎｇｅｒｓ）液）；リツキサン；リツキシマブ；ロセフィン（セフトリアキソン）；ロクロニウム臭化物注射薬（Ｚｅｍｕｒｏｎ）；Ｒｏｆｅｒｏｎ−Ａ（インターフェロンアルファ−２ａ）；Ｒｏｍａｚｉｃｏｎ（フルマゼニル）；ロミデプシン注射用（Ｉｓｔｏｄａｘ）；サイゼン（ソマトロピン注射薬）；サンドスタチンＬＡＲ（オクトレオチド酢酸塩注射薬）；スクレロスチンＡｂ；Ｓｅｎｓｉｐａｒ（シナカルセト）；Ｓｅｎｓｏｒｃａｉｎｅ（ブピバカインＨＣＩ注射薬）；Ｓｅｐｔｏｃａｉｎｅ（アルチケーンＨＣＩ（Ａｒｔｉｃａｎｅ  ＨＣｌ）及びエピネフリン注射薬）；Ｓｅｒｏｓｔｉｍ  ＬＱ（ソマトロピン（ｒＤＮＡ由来）注射薬）；シンポニー注射薬（ゴリムマブ注射薬）；ナトリウム酢酸塩（ナトリウム酢酸塩注
射薬；炭酸水素ナトリウム（炭酸水素ナトリウム５％注射薬）；乳酸ナトリウム（乳酸ナトリウム注射薬、ＡＶＩＶＡ）；フェニル酢酸ナトリウム及び安息香酸ナトリウム注射薬（Ａｍｍｏｎｕｌ）；ソマトロピン（ｒＤＮＡ由来）注射用（ニュートロピン）；スポラノックス注射薬（イトラコナゾール注射薬）；ステラーラ注射薬（ウステキヌマブ）；Ｓｔｅｍｇｅｎ；Ｓｕｆｅｎｔａ（クエン酸スフェンタニル注射薬）；クエン酸スフェンタニル注射薬（Ｓｕｆｅｎｔａ）；Ｓｕｍａｖｅｌ；スマトリプタン注射薬（Ａｌｓｕｍａ）；Ｓｙｍｌｉｎ；Ｓｙｍｌｉｎ  Ｐｅｎ；全身用ヘッジホッグ（Ｓｙｓｔｅｍｉｃ  Ｈｅｄｇｅｈｏｇ）拮抗薬；Ｓｙｎｖｉｓｃ−Ｏｎｅ（ヒラン（Ｈｙｌａｎ）Ｇ−Ｆ２０単回関節内注射薬）；タルセバ；タキソテール（ドセタクセル注射用）；テクネチウムＴｃ９９ｍ；テラバンシン注射用（ヴィバティブ）；テムシロリムス注射薬（トーリセル）；テノーミンＩ．Ｖ．注射薬（アテノロール注射薬）；テリパラチド（ｒＤＮＡ由来）注射薬（フォルテオ）；テストステロンシピオネート；テストステロンエナント酸エステル；テストステロンプロピオン酸エステル；Ｔｅｖ−Ｔｒｏｐｉｎ（ソマトロピン、ｒＤＮＡ由来、注射用）；ｔｇＡＡＣ９４；塩化タリウム；テオフィリン；チオテパ（チオテパ注射薬）；サイモグロブリン（抗胸腺細胞免疫グロブリン（ウサギ）；タイロゲン（チロトロピンアルファ注射用）；チカルシリンナトリウム及びクラブラン酸カリウムギャラクシー（Ｇａｌａｘｙ）（チメンチン注射薬）；Ｔｉｇａｎ注射薬（塩酸トリメトベンズアミド注射可能物質（ｉｎｊｅｃｔａｂｌｅ）；チメンチン注射薬（チカルシリンナトリウム及びクラブラン酸カリウムギャラクシー（Ｇａｌａｘｙ）；ＴＮＫａｓｅ；トブラマイシン注射薬（トブラマイシン注射薬）；トシリズマブ注射薬（アクテムラ）；トーリセル（テムシロリムス注射薬）；Ｔｏｔｅｃｔ（注射用デキスラゾキサン、静注のみ）；トラスツズマブ−ＤＭ１；Ｔｒａｖａｓｏｌ（アミノ酸（注射薬））；トレアンダ（塩酸ベンダムスチン注射薬）；トレルスター（トリプトレリンパモエート懸濁注射液用）；トリアムシノロンアセトニ；酢酸トリアムシノロン；トリアムシノロンヘキサアセトニド懸濁注射液（アリストスパン注射薬２０ｍｇ）；Ｔｒｉｅｓｅｎｃｅ（トリアムシノロンアセトニド懸濁注射液）；塩酸トリメトベンズアミド注射可能物質（ｉｎｊｅｃｔａｂｌｅ）（Ｔｉｇａｎ注射薬）；グルコン酸トリメトレキサート注射薬（Ｎｅｕｔｒｅｘｉｎ）；トリプトレリンパモエート懸濁注射液用（トレルスター）；Ｔｗｉｎｊｅｃｔ；Ｔｒｉｖａｒｉｓ（トリアムシノロンアセトニド懸濁注射液）；トリセノックス（三酸化ヒ素注射薬）；Ｔｗｉｎｒｉｘ；腸チフスＶｉ；Ｕｌｔｒａｖｉｓｔ（イオプロミド注射薬）；ウロホリトロピン注射用（Ｍｅｔｒｏｄｉｎ）；ウロキナーゼ注射薬（Ｋｉｎｌｙｔｉｃ）；ウステキヌマブ（ステラーラ注射薬）；ウルトラレンテ（Ｕ）；バリウム（ジアゼパム）；バルプロ酸ナトリウム注射薬（Ｄｅｐａｃｏｎ）；Ｖａｌｔｒｏｐｉｎ（ソマトロピン注射薬）；バルプロ酸ナトリウム（バルプロ酸ナトリウム注射薬）；バルプロ酸ナトリウム注射薬（バ��プロ酸ナトリウム）；バプリゾール（コニバプタンＨｃｌ注射薬）；ＶＡＱＴＡ；バソビスト（ガドホスベセット三ナトリウム静注用）；ベクティビックス（パニツムマブ静注用）；ヴェノファー（含糖酸化鉄注射薬）；ベルテポルフィン注射薬（ビスダイン）；ヴィバティブ（テラバンシン注射用）；ビクトーザ（リラグルチド［ｒＤＮＡ］注射薬）；ビンパット（ラコサミド錠及び注射薬）；ビンブラスチン硫酸塩（ビンブラスチン硫酸塩注射薬）；Ｖｉｎｃａｓａｒ  ＰＦＳ（ビンクリスチン硫酸塩注射薬）；ビクトーザ；ビンクリスチン硫酸塩（ビンクリスチン硫酸塩注射薬）；ビスダイン（ベルテポルフィン注射薬）；ビタミンＢ−１２；ビビトロル（ナルトレキソンＸＲ注射薬）；ボルベン（塩化ナトリウム中ヒドロキシエチルデンプン（Ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌ  Ｓｔａｒｃｈ  ｉｎ  Ｓｏｄｉｕｍ  Ｃｈｌｏｒｉｄｅ）注射薬）；ゼローダ；ゼニカル（オルリスタット）；Ｘｅｏｍｉｎ（インコボツリナムトキシンＡ注射用）；ゾレア；ザンタック注射薬（ラニチジン塩酸塩注射薬）；Ｚｅｍｐｌａｒ注射薬（パリカルシトール注射薬フリップトップ型バイアル）；Ｚｅｍｕｒｏｎ（ロクロニウム臭化物注射薬）；ゼナパックス（ダクリズマブ）；ゼバリン；ジドブジン注射薬（レトロビルＩＶ）；ジスロマック注射薬（アジスロマイシン）；Ｚｎ−ジエチレントリアミン五酢酸（ペンテト酸亜鉛三ナトリウム注射薬）；ゾフラン注射薬（オンダンセトロン塩酸注射薬）；Ｚｉｎｇｏ；ゾレドロン酸注射用（ゾメタ）；ゾレドロン酸注射薬（リクラスト）；ゾメタ（ゾレドロン酸注射用）；ゾシン（ピペラシリン及びタゾバクタム注射薬）；Ｚｙｐｒｅｘａ  Ｒｅｌｐｒｅｖｖ（徐放性オランザピン懸濁注射液）が挙げられる。
【０２０３】
図１及び図２の内腔２１２に収容されるのに適した液剤（非注射型）の例としては：液剤（非注射型）；エビリファイ；ＡｃｃｕＮｅｂ（アルブテロール硫酸塩吸入液）；Ａｃｔｉｄｏｓｅ  Ａｑｕａ（薬用炭懸濁液）；薬用炭懸濁液（Ａｃｔｉｄｏｓｅ  Ａｑｕａ）；アドベア；Ａｇｅｎｅｒａｓｅ経口液（アンプレナビル経口液）；Ａｋｔｅｎ（リドカイン塩酸塩眼用ゲル）；Ａｌａｍａｓｔ（ペミロラストカリウム点眼液）；アルブミン（ヒト）５％溶液（ブミネート５％）；アルブテロール硫酸塩吸入液；Ａｌｉｎｉａ；Ａｌｏｃｒｉｌ；アルファガン；Ａｌｒｅｘ；オルベスコ；アンプレナビル経口液；Ａｎａｌｐｒａｍ−ＨＣ；アルフォルモテロール酒石酸塩吸入液（Ｂｒｏｖａｎａ）；アリストスパン注射薬２０ｍｇ（トリアムシノロンヘキサアセトニド懸濁注射液）；アサコール；アズマネックス；Ａｓｔｅｐｒｏ；Ａｓｔｅｐｒｏ（アゼラスチン塩酸塩鼻用スプレー）；アトロベント鼻用スプレー（臭化イプラトロピウム鼻用スプレー）；アトロベント鼻用スプレー．０６；オーグメンチンＥＳ−６００；Ａｚａｓｉｔｅ（アジスロマイシン点眼液）；アゼライン酸（Ｆｉｎａｃｅａゲル）；アゼラスチン塩酸塩鼻用スプレー（Ａｓｔｅｐｒｏ）；Ａｚｅｌｅｘ（アゼライン酸クリーム）；エイゾプト（ブリンゾラミド懸濁性点眼液）；静菌性生理食塩水（Ｂａｃｔｅｒｉｏｓｔａｔｉｃ  Ｓａｌｉｎｅ）；平衡塩類（ｂａｌａｎｃｅｄ  ｓａｌｔ）；ベポタスチン；バクトロバン鼻腔用；バクトロバン；Ｂｅｃｌｏｖｅｎｔ；Ｂｅｎｚａｃ  Ｗ；Ｂｅｔｉｍｏｌ；ベトプティックエス；Ｂｅｐｒｅｖｅ；ビマトプロスト点眼液；Ｂｌｅｐｈ  １０（スルファセタミドナトリウム点眼液１０％）；ブリンゾラミド懸濁性点眼液（エイゾプト）；ブロムフェナク点眼液（Ｘｉｂｒｏｍ）；Ｂｒｏｍｈｉｓｔ；Ｂｒｏｖａｎａ（アルフォルモテロール酒石酸塩吸入液）；ブデソニド吸入用懸濁液（パルミコート吸入液）；Ｃａｍｂｉａ（ジクロフェナクカリウム経口液用）；Ｃａｐｅｘ；Ｃａｒａｃ；Ｃａｒｂｏｘｉｎｅ−ＰＳＥ；Ｃａｒｎｉｔｏｒ；Ｃａｙｓｔｏｎ（アズトレオナム吸入液用）；セルセプト；Ｃｅｎｔａｎｙ；Ｃｅｒｕｍｅｎｅｘ；Ｃｉｌｏｘａｎ点眼液（シプロフロキサシンＨＣＬ点眼液）；Ｃｉｐｒｏｄｅｘ；シプロフロキサシンＨＣＬ点眼液（Ｃｉｌｏｘａｎ点眼液）；クレマスチンフマル酸塩シロップ（クレマスチンフマル酸塩シロップ）；ＣｏＬｙｔｅ（ＰＥＧ電解質溶液）；Ｃｏｍｂｉｖｅｎ；コムタン；Ｃｏｎｄｙｌｏｘ；Ｃｏｒｄｒａｎ；Ｃｏｒｔｉｓｐｏｒｉｎ懸濁性点眼液；Ｃｏｒｔｉｓｐｏｒｉｎ耳用懸濁液；クロモリンナトリウム吸入液（ＩｎｔａｌＮｅｂｕｌｉｚｅｒ溶液）；ロモリンナトリウム点眼液（Ｏｐｔｉｃｒｏｍ）；電解質加結晶アミノ酸溶液（Ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ  Ａｍｉｎｏ  Ａｃｉｄ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ  ｗｉｔｈ  Ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｔｅｓ）（Ａｍｉｎｏｓｙｎ電解質）；Ｃｕｔｉｖａｔｅ；Ｃｕｖｐｏｓａ（グリコピロレート経口液）；シアノコバラミン（ＣａｌｏＭｉｓｔ鼻用スプレー）；サイクロスポリン経口液（Ｇｅｎｇｒａｆ経口液）；サイクロジル；Ｃｙｓｖｉｅｗ（ヘキサミノレブリナート塩酸塩膀胱内溶液（Ｉｎｔｒａｖｅｓｉｃａ��  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ））；ＤｅｒｍＯｔｉｃオイル（フルオシノロンアセトニドオイル点耳薬（Ｏｉｌ  Ｅａｒ  Ｄｒｏｐｓ））；デスモプレシン酢酸塩鼻用スプレー；ＤＤＡＶＰ；Ｄｅｒｍａ−Ｓｍｏｏｔｈｅ／ＦＳ；デキサメサゾンＩｎｔｅｎｓｏｌ；ダイアニール低カルシウム；ダイアニールＰＤ；ジクロフェナクカリウム経口液用（Ｃａｍｂｉａ）；ジダノシン小児用散経口液用（ヴァイデックス）；ディフェリン；ディランチン１２５（フェニトイン経口懸濁液）；Ｄｉｔｒｏｐａｎ；ドルゾラミド塩酸塩点眼液（トルソプト）；ドルゾラミド塩酸塩−チモロールマレイン酸塩点眼液（コソプト）；ドボネックススカルプ（Ｓｃａｌｐ）（カルシポトリエン溶液）；ドキシサイクリンカルシウム経口懸濁液（ビブラマイシン経口用）；Ｅｆｕｄｅｘ；エラプレース（イデュルスルファーゼ溶液）；Ｅｌｅｓｔａｔ（エピナスチンＨＣｌ点眼液）；Ｅｌｏｃｏｎ；エピナスチンＨＣｌ点眼液（Ｅｌｅｓｔａｔ）；エピビルＨＢＶ；Ｅｐｏｇｅｎ（エポエチンアルファ）；エリスロマイシン局所用液１．５％（Ｓｔａｔｉｃｉｎ）；Ｅｔｈｉｏｄｏｌ（エチオダイズド油）；エトスクシミド経口液（ザロンチン経口液）；オイラックス；Ｅｘｔｒａｎｅａｌ（イコデキストリン腹膜透析溶液）；Ｆｅｌｂａｔｏｌ；フェリデックスＩ．Ｖ．（フェルモキシデス注射可能溶液）；Ｆｌｏｖｅｎｔ；Ｆｌｏｘｉｎ耳用薬（オフロキサシン耳科用液）；Ｆｌｏ−Ｐｒｅｄ（プレドニゾロン酢酸エステル経口懸濁液）；Ｆｌｕｏｒｏｐｌｅｘ；フルニソリド点鼻液（フルニソリド鼻用スプレー．０２５％）；フルオロメトロン懸濁性点眼液（ＦＭＬ）；フルルビプロフェンナトリウム点眼液（Ｏｃｕｆｅｎ）；ＦＭＬ；Ｆｏｒａｄｉｌ；フマル酸ホルモテロール吸入液（Ｐｅｒｆｏｒｏｍｉｓｔ）；フォサマックス；フラダンチン（ニトロフラントイン経口懸濁液）；フロキソン；ガンマガード液（静注用免疫グロブリン（ヒト）１０％）；ガントリシン（アセチルスルフイソキサゾール小児用懸濁液）；ガチフロキサシン点眼液（Ｚｙｍａｒ）；Ｇｅｎｇｒａｆ経口液（サイクロスポリン経口液）；グリコピロレート経口液（Ｃｕｖｐｏｓａ）；ハルシノニド局所用液（Ｈａｌｏｇ溶液）；Ｈａｌｏｇ溶液（ハルシノニド局所用液）；ＨＥＰ−ＬＯＣＫ  Ｕ／Ｐ（防腐剤無添加ヘパリンロック用フラッシュ液）；ヘパリンロック用フラッシュ液（Ｈｅｐｆｌｕｓｈ  １０；ヘキサミノレブリナート塩酸塩膀胱内溶液（Ｉｎｔｒａｖｅｓｉｃａｌ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ）（Ｃｙｓｖｉｅｗ）；酒石酸水素ヒドロコドン及びアセトアミノフェン経口液（Ｌｏｒｔａｂ  Ｅｌｉｘｉｒ）；ヒドロキノン３％局所用液（Ｍｅｌｑｕｉｎ−３局所用液）；ＩＡＰ拮抗薬；Ｉｓｏｐｔｏ；臭化イプラトロピウム鼻用スプレー（アトロベント鼻用スプレー）；イトラコナゾール経口液（スポラノックス経口液）；ケトロラクトロメタミン点眼液（Ａｃｕｌａｒ  ＬＳ）；カレトラ；ラノキシン；レクシヴァ；ロイプロリド酢酸塩デポー懸濁液用（ルプロンデポ１１．２５ｍｇ）；レボベタキソロール塩酸塩懸濁性点眼液（ベタキソン）；レボカルニチン錠、経口液、無糖（Ｃａｒｎｉｔｏｒ）；レボフロキサシン点眼液０．５％（Ｑｕｉｘｉｎ）；リドカイ���ＨＣｌ無菌液（キシロカインＭＰＦ無菌液）；Ｌｏｋ  Ｐａｋ（ヘパリンロック用フラッシュ液）；ロラゼパムＩｎｔｅｎｓｏｌ；Ｌｏｒｔａｂ  Ｅｌｉｘｉｒ（酒石酸水素ヒドロコドン及びアセトアミノフェン経口液）；Ｌｏｔｅｍａｘ（エタボン酸ロテプレドノール懸濁性点眼液）；エタボン酸ロテプレドノール懸濁性点眼液（Ａｌｒｅｘ）；低カルシウム腹膜透析溶液（ダイアニール低カルシウム）；ルミガン（ビマトプロスト点眼液０．０３％緑内障用）；ルプロンデポ１１．２５ｍｇ（ロイプロリド酢酸塩デポー懸濁液用）；メゲストロール酢酸塩経口懸濁液（メゲストロール酢酸塩経口懸濁液）；ＭＥＫ阻害薬；Ｍｅｐｒｏｎ；Ｍｅｓｎｅｘ；メスチノン；メサラミン注腸剤（Ｒｅｃｔａｌ  Ｓｕｓｐｅｎｓｉｏｎ  Ｅｎｅｍａ）（Ｒｏｗａｓａ）；Ｍｅｌｑｕｉｎ−３局所用液（ヒドロキノン３％局所用液）；ＭｅｔＭａｂ；メチルドーパートＨｃｌ（メチルドーパート塩酸塩注射薬、溶液）；Ｍｅｔｈｙｌｉｎ経口液（メチルフェニデートＨＣｌ経口液５ｍｇ／５ｍＬ及び１０ｍｇ／５ｍＬ）；酢酸メチルプレドニゾロン懸濁注射液（デポメロドール）；メチルフェニデートＨＣｌ経口液５ｍｇ／５ｍＬ及び１０ｍｇ／５ｍＬ（Ｍｅｔｈｙｌｉｎ経口液）；コハク酸メチルプレドニゾロンナトリウム（ソルメドロール）；メチプラノロール点眼液（Ｏｐｔｉｐｒａｎｏｌｏｌ）；Ｍｉｇｒａｎａｌ；Ｍｉｏｃｈｏｌ−Ｅ（アセチルコリン塩化物眼内溶液（Ｉｎｔｒａｏｃｕｌａｒ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ））；Ｍｉｃｒｏ−Ｋ液体懸濁液用（塩化カリウム徐放製剤液体懸濁液用）；ミノシン（ミノサイクリン塩酸経口懸濁液）；ナサコート；ネオマイシン硫酸塩及びポリミキシンＢ硫酸塩及びヒドロコルチゾン；ネパフェナク懸濁性点眼液（ネバナック）；ネバナック（ネパフェナク懸濁性点眼液）；ニトロフラントイン経口懸濁液（フラダンチン）；Ｎｏｘａｆｉｌ（ポサコナゾール経口懸濁液）；ニスタチン（経口）（ニスタチン経口懸濁液）；ニスタチン経口懸濁液（ニスタチン（経口））；Ｏｃｕｆｅｎ（フルルビプロフェンナトリウム点眼液）；オフロキサシン点眼液（オフロキサシン点眼液）；オフロキサシン耳科用液（Ｆｌｏｘｉｎ耳用薬）；オロパタジン塩酸点眼液（Ｐａｔａｄａｙ）；Ｏｐｔｉｃｒｏｍ（クロモリンナトリウム点眼液）；Ｏｐｔｉｐｒａｎｏｌｏｌ（メチプラノロール点眼液）；パタノール；Ｐｅｄｉａｐｒｅｄ；ＰｅｒｉｏＧａｒｄ；フェニトイン経口懸濁液（ディランチン１２５）；Ｐｈｉｓｏｈｅｘ；ポサコナゾール経口懸濁液（Ｎｏｘａｆｉｌ）；塩化カリウム徐放製剤液体懸濁液用（Ｍｉｃｒｏ−Ｋ液体懸濁液用）；Ｐａｔａｄａｙ（オロパタジン塩酸点眼液）；Ｐａｔａｎａｓｅ鼻用スプレー（オロパタジン塩酸鼻用スプレー）；ＰＥＧ電解質溶液（ＣｏＬｙｔｅ）；ペミロラストカリウム点眼液（Ａｌａｍａｓｔ）；Ｐｅｎｌａｃ（シクロピロクス局所用液）；ＰＥＮＮＳＡＩＤ（ジクロフェナクナトリウム局所用液）；Ｐｅｒｆｏｒｏｍｉｓｔ（フマル酸ホルモテロール吸入液）；腹膜透析溶液；フェニレフリン塩酸塩点眼液（ネオシネフリン）；フォスフォリンアイオダイド（エコチオパートヨウ化物点眼液用）；ポドフィロックス（ポドフィロックス局所用液）；Ｐｒｅｄ  Ｆｏｒｔｅ（プレドニゾロン酢酸エステル懸濁性点眼液）；プララトレキサート溶液静注用（フォロチン）；Ｐｒｅｄ  Ｍｉｌｄ；Ｐｒｅｄｎｉｓｏｎｅ  Ｉｎｔｅｎｓｏｌ；プレドニゾロン酢酸エステル懸濁性点眼液（Ｐｒｅｄ  Ｆｏｒｔｅ）；プレバシド；ＰｒｉｓｍａＳｏｌ溶液（滅菌血液濾過（Ｓｔｅｒｉｌｅ  Ｈｅｍｏｆｉｌｔｒａｔｉｏｎ）血液濾過透析溶液（Ｈｅｍｏｄｉａｆｉｌｔｒａｔｉｏｎ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ））；プロエアー；Ｐｒｏｇｌｙｃｅｍ；プロハンス（ガドテリドール注射薬溶液）；塩酸プロパラカイン点眼液（Ａｌｃａｉｎｅ）；Ｐｒｏｐｉｎｅ；パルミコート；プルモザイム；Ｑｕｉｘｉｎ（レボフロキサシン点眼液０．５％）；ＱＶＡＲ；ラパミューン；レベトール；Ｒｅｌａｃｏｎ−ＨＣ；ロタリックス（経口生ロタウイルスワクチン懸濁液）；経口生ロタウイルスワクチン懸濁液（ロタリックス）；Ｒｏｗａｓａ（メサラミン注腸剤（Ｒｅｃｔａｌ  Ｓｕｓｐｅｎｓｉｏｎ  Ｅｎｅｍａ））；サブリル（ビガバトリン経口液）；サクロシダーゼ経口液（Ｓｕｃｒａｉｄ）；サンディミュン；Ｓｅｐｒａ；Ｓｅｒｅｖｅｎｔ  Ｄｉｓｋｕｓ；ソルコーテフ（ヒドロコルチゾンコハク酸エステルナトリウム）；ソルメドロール（コハク酸メチルプレドニゾロンナトリウム）；スピリーバ；スポラノックス経口液（イトラコナゾール経口液）；Ｓｔａｔｉｃｉｎ（エリスロマイシン局所用液１．５％）；スタレボ；Ｓｔａｒｌｉｘ；滅菌血液濾過（Ｓｔｅｒｉｌｅ  Ｈｅｍｏｆｉｌｔｒａｔｉｏｎ）血液濾過透析溶液（Ｈｅｍｏｄｉａｆｉｌｔｒａｔｉｏｎ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ）（ＰｒｉｓｍａＳｏｌ溶液）；Ｓｔｉｍａｔｅ；スクラルファート（カラファート懸濁液）；スルファセタミドナトリウム点眼液１０％（Ｂｌｅｐｈ  １０；Ｓｙｎａｒｅｌ点鼻液（子宮内膜症用酢酸ナファレリン点鼻液）；Ｔａｃｌｏｎｅｘ  Ｓｃａｌｐ（カルシポトリエン及びジプロピオン酸ベタメタゾン局所懸濁液（Ｔｏｐｉｃａｌ  Ｓｕｓｐｅｎｓｉｏｎ））；タミフル；トービイ；ＴｏｂｒａＤｅｘ；Ｔｏｂｒａｄｅｘ  ＳＴ（トブラマイシン／デキサメサゾン懸濁性点眼液０．３％／０．０５％）；トブラマイシン／デキサメサゾン懸濁性点眼液０．３％／０．０５％（Ｔｏｂｒａｄｅｘ  ＳＴ）；チモロール；Ｔｉｍｏｐｔｉｃ；トラバタンズ；トレプロスチニル吸入液（Ｔｙｖａｓｏ）；トルソプト（ドルゾラミド
塩酸塩点眼液）；Ｔｙｖａｓｏ（トレプロスチニル吸入液）；ベントリン；ブイフェンド；ビブラマイシン経口用（ドキシサイクリンカルシウム経口懸濁液）；ヴァイデックス（ジダノシン小児用散経口液用）；ビガバトリン経口液（サブリル）；Ｖｉｏｋａｓｅ；ビラセプト；ビラミューン；ビタミンＫ１（ビタミンＫ１の流体コロイド溶液）；ボルタレン眼科用薬（ジクロフェナクナトリウム点眼液）；ザロンチン経口液（エトスクシミド経口液）；ザイアジェン；ザイボックス；Ｚｙｍａｒ（ガチフロキサシン点眼液）；Ｚｙｍａｘｉｄ（ガチフロキサシン点眼液）が挙げられる。
【０２０４】
図１及び２の内腔２１２に収容されるのに適した薬物の種類の例としては：５α還元酵素阻害薬；５−アミノサリチル酸塩；５ＨＴ３受容体拮抗薬；アダマンタン抗ウイルス薬；副腎皮質ステロイド；副腎皮質ホルモン阻害薬；アドレナリン作動性気管支拡張薬；高血圧性緊急疾患用薬；肺高血圧症用薬剤；アルドステロン受容体拮抗薬；アルキル化薬；αアドレナリン受容体拮抗薬；αグルコシダーゼ阻害薬；代替薬；殺アメーバ薬；アミノグリコシド；アミノペニシリン類；アミノサリチル酸塩；アミリン類似体；鎮痛薬配合剤；鎮痛薬；アンドロゲン及びアナボリックステロイド；アンジオテンシン変換酵素阻害薬；アンジオテンシンＩＩ阻害薬；肛門直腸製剤；食欲抑制薬；制酸薬；駆虫薬；抗血管原性眼用薬；抗ＣＴＬＡ−４モノクローナル抗体；感染症薬；抗アドレナリン作動薬、中枢作用型；抗アドレナリン作動薬、末梢作用型；抗アンドロゲン薬；抗狭心症薬；抗不整脈薬；抗喘息薬配合剤；抗生物質／抗腫瘍薬；抗コリン性制吐剤；抗コリン性抗パーキンソン薬；抗コリン性気管支拡張薬；抗コリン性変時性薬（ａｎｔｉｃｈｏｌｉｎｅｒｇｉｃ  ｃｈｒｏｎｏｔｒｏｐｉｃ  ａｇｅｎｔｓ）；抗コリン作動薬／鎮痙薬；凝固阻止剤；抗痙攣薬；抗うつ薬；抗糖尿病薬；抗糖尿病薬配合剤；止瀉薬；抗利尿ホルモン；解毒薬；制吐薬／抗暈眩薬；抗真菌薬；抗ゴナドトロピン薬；痛風治療薬；抗ヒスタミン薬；高脂血症用薬；高脂血症用配合剤；降圧配合剤；尿酸降下薬；抗マラリア薬；抗マラリア薬配合剤；抗マラリア薬キノリン類；代謝拮抗薬；抗片頭痛薬；抗腫瘍性解毒剤；抗腫瘍性インターフェロン；抗腫瘍性モノクローナル抗体；抗腫瘍薬；抗パーキンソン薬；抗血小板薬；抗緑膿菌ペニシリン系薬；抗乾癬薬；抗精神病薬；抗リウマチ薬；防腐薬及び殺菌薬；抗甲状腺薬；抗毒素及び抗蛇毒素；抗結核薬；抗結核薬配合剤；鎮咳薬；抗ウイルス薬；抗ウイルス配合剤；抗ウイルスインターフェロン；抗不安薬、鎮静薬、及び催眠薬；アロマターゼ阻害薬；非定型抗精神病薬；アゾ−ル抗真菌薬；細菌性ワクチン；バルビツール酸系抗痙攣薬；バルビツール薬；ＢＣＲ−ＡＢＬチロシンナーゼ阻害薬；ベンゾジアゼピン系抗痙攣薬；ベンゾジアゼピン；βアドレナリン遮断薬；βラクタマーゼ阻害薬；胆汁酸金属イオン封鎖剤；生物学的製剤；ビスホスホネート製剤；骨吸収阻害薬；気管支拡張薬配合剤；気管支拡張薬；カルシトニン；カルシウムチャネル遮断薬；カルバメート系抗痙攣薬；カルバペネム；炭酸脱水酵素阻害抗痙攣薬；炭酸脱水酵素阻害薬；心緊張薬（ｃａｒｄｉａｃ  ｓｔｒｅｓｓｉｎｇ  ａｇｅｎｔ）；心選択性β遮断薬；心血管作動薬；カテコールアミン；ＣＤ２０モノクローナル抗体；ＣＤ３３モノクローナル抗体；ＣＤ５２モノクローナル抗体；中枢神経系薬；セファロスポリン；耳垢水；キレート剤；ケモカイン受容体拮抗薬；クロライドチャネルアクチベーター；コレステロール吸収阻害薬；コリン作動薬；コリン作動性筋興奮薬；コリンエステラーゼ阻害薬；中枢興奮薬；凝固調整剤；コロニー刺激因子；避妊薬；副腎皮質刺激ホルモン；クマリン類及びインダンジオン類；ｃｏｘ−２阻害薬；充血除去薬；外皮用薬；診断的放射性医薬品；ジベンザゼピン系抗痙攣薬；消化���素；ジペプチジルペプチダーゼ４阻害薬；利尿薬；ドパミン作用性抗パーキンソン薬；アルコール依存性に使用される薬物；エキノカンジン；ＥＧＦＲ阻害薬；エストロゲン受容体拮抗薬；エストロゲン；去痰薬；第Ｘａ因子阻害剤；脂肪酸誘導体抗痙攣薬；フィブリン酸誘導体；第１世代セファロスポリン；第４世代セファロスポリン；機能性腸疾患薬；胆石可溶化薬（ｇａｌｌｓｔｏｎｅ  ｓｏｌｕｂｉｌｉｚｉｎｇ  ａｇｅｎｔ）；ＧＡＢＡ類似体；ＧＡＢＡ再取り込み阻害薬；ＧＡＢＡトランスアミナーゼ阻害薬；胃腸薬；全身麻酔薬；尿生殖路薬（ｇｅｎｉｔｏｕｒｉｎａｒｙ  ｔｒａｃｔ  ａｇｅｎｔｓ）；胃腸刺激薬；グルココルチコイド；グルコース上昇剤（ｇｌｕｃｏｓｅ  ｅｌｅｖａｔｉｎｇ  ａｇｅｎｔｓ）；グリコペプチド系抗生物質；糖タンパク質血小板阻害薬（ｇｌｙｃｏｐｒｏｔｅｉｎ  ｐｌａｔｅｌｅｔ  ｉｎｈｂｉｔｏｒｓ）；グリシルシクリン類；ゴナドトロピン放出ホルモン；ゴナドトロピン放出ホルモン拮抗薬；ゴナドトロピン；Ｉ群抗不整脈薬；ＩＩ群抗不整脈薬；ＩＩＩ群抗不整脈薬；ＩＶ群抗不整脈薬；Ｖ群抗不整脈薬；成長ホルモン受容体遮断薬；成長ホルモン；ヘリコバクターピロリ除菌薬；Ｈ２拮抗薬；造血幹細胞モビライザー（ｍｏｂｉｌｉｚｅｒ）；へパリン拮抗薬；へパリン；ＨＥＲ２阻害薬；植物製品；ヒストン脱アセチル化酵素阻害薬；ホルモン補充療法；ホルモン；ホルモン／抗腫瘍薬；ヒダントイン系抗痙攣薬；違法（ストリート）薬物；免疫グロブリン；免疫薬；免疫抑制薬；インポテンス薬；インビボ診断生物学的製剤；インクレチンミメティクス；吸入感染症薬（ｉｎｈａｌｅｄ  ａｎｔｉ−ｉｎｆｅｃｔｉｖｅｓ）；吸入コルチコステロイド；強心薬；インスリン；インスリン様増殖因子；インテグラーゼ鎖移転阻害薬；インターフェロン；静脈内栄養製品（ｉｎｔｒａｖｅｎｏｕｓ  ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ  ｐｒｏｄｕｃｔｓ）；ヨード造影剤；イオン化ヨード造影剤；鉄製品；ケトライド類；緩下薬；鎮癩薬；ロイコトリエン調整剤；リンコマイシン誘導体；脂質化グリコペプチド；局所注射麻酔薬；ループ利尿薬；肺表面活性剤；リンパ管染色剤；リソソーム酵素；マクロライド誘導体；マクロライド類；磁気共鳴イメージング造影剤；肥満細胞安定化剤；医療ガス；メグリチニド類；代謝薬；メチルキサンチン類；ミネラルコルチコイド；ミネラル及び電解質；その他薬剤；その他鎮痛薬；その他抗生物質；その他抗痙攣薬；その他抗うつ薬；その他抗糖尿病薬；その他制吐剤；その他抗真菌薬；その他高脂血症用薬；その他抗マラリア薬；その他抗腫瘍薬；その他抗パーキンソン；その他抗精神病薬；その他抗結核薬；その他抗ウイルス薬；その他抗不安薬、鎮静薬及び催眠薬；その他生物学的製剤；その他骨吸収阻害薬；その他心血管作動薬；その他中枢神経系薬；その他凝固調整剤；その他利尿薬；その他尿生殖路薬；その他ＧＩ薬；その他ホルモン；その他代謝薬；その他眼用薬；その他耳用薬；その他呼吸薬；その他性ホルモン；その他局所薬；その他未分類薬；その他腟用薬（ｖａｇｉｎａｌ  ａｇｅｎｔｓ）；有糸分裂阻害薬；モノアミン酸化酵素阻害薬；モノクローナル抗体；口及び咽喉製品（ｍｏｕｔｈ  ａｎｄ  ｔｈｒｏａｔ  ���ｒｏｄｕｃｔｓ）；ｍＴＯＲ阻害薬；ｍＴＯＲキナーゼ阻害薬；粘液溶解薬；マルチキナーゼ阻害薬；筋弛緩薬；散瞳薬；麻薬性鎮痛薬配合剤；麻薬性鎮痛薬；鼻用感染症薬；鼻用抗ヒスタミン薬及び充血除去薬；鼻用潤滑剤及び灌注剤；鼻用製剤；鼻用ステロイド；天然ペニシリン系薬；ノイラミニダーゼ阻害薬；神経筋遮断薬；次世代セファロスポリン；ニコチン酸誘導体；硝酸薬；非ヌクレオシド系逆転写酵素阻害薬；非心選択性β遮断薬；非ヨード造影剤；非イオン性ヨード造影剤；非スルホニル尿素；非ステロイド性抗炎症薬；ノルエピネフィリン再取り込み阻害薬；ノルエピネフィリン−ドパミン再取り込み阻害薬；ヌクレオシド系逆転写酵素阻害薬（ＮＲＴＩｓ）；栄養補助食品；栄養製品；眼用麻酔薬；眼用感染症薬；眼用抗炎症薬；眼用抗ヒスタミン薬及び充血除去薬；眼用診断用薬；眼用緑内障薬；眼用潤滑剤及び灌注剤；眼用製剤；眼用ステロイド；感染症薬追加眼用ステロイド；眼外科薬（ｏｐｈｔｈａｌｍｉｃ  ｓｕｒｇｉｃａｌ  ａｇｅｎｔｓ）；経口栄養補助食；耳用麻酔薬；耳用感染症薬；耳用製剤；耳用ステロイド；感染症薬追加耳用ステロイド；オキサゾリジンジオン系抗痙攣薬；上皮小体ホルモン及び類似体；ペニシリナーゼ耐性ペニシリン；ペニシリン系薬；末梢性オピオイド受容体拮抗薬；末梢性血管拡張薬；末梢作用型抗肥満薬；フェノチアジン制吐剤；フェノチアジン系抗精神病薬；フェニルピペラジン系抗うつ薬；血漿増量剤；血小板凝集阻害薬；血小板刺激剤；ポリエン類；カリウム保持性利尿薬；プロバイオティクス；黄体ホルモン受容体調節薬；プロゲスチン；プロラクチン阻害薬；プロスタグランジンＤ２拮抗薬；タンパク分解酵素阻害薬；プロトンポンプ阻害薬；ソラレン類；精神治療薬；精神治療用複合剤（ｐｓｙｃｈｏｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃ  ｃｏｍｂｉｎａｔｉｏｎｓ）；プリンヌクレオシド；ピロリジン抗痙攣薬；キノロン剤；造影剤；放射線補助剤（ｒａｄｉｏｌｏｇｉｃ  ａｄｊｕｎｃｔｓ）；放射線剤；放射線共役剤（ｒａｄｉｏｌｏｇｉｃ  ｃｏｎｊｕｇａｔｉｎｇ  ａｇｅｎｔｓ）；放射性医薬品；ＲＡＮＫリガンド阻害薬；遺伝子組換えヒトエリスロポエチン；レニン阻害薬；呼吸薬；呼吸吸入薬製品（ｒｅｓｐｉｒａｔｏｒｙ  ｉｎｈａｌａｎｔ  ｐｒｏｄｕｃｔｓ）；リファマイシン誘導体；サリチル酸塩；硬化剤；第２世代セファロスポリン；選択的エストロゲン受容体調節薬；選択的セロトニン再取り込み阻害薬；セロトニン−ノルエピネフィリン再取り込み阻害薬；セロトニン作動性神経腸調節薬；性ホルモン複合剤；性ホルモン；骨格筋弛緩薬複合剤；骨格筋弛緩薬；禁煙薬；ソマトスタチン及びソマトスタチン類似体；殺精子剤；スタチン；滅菌洗浄溶液（ｓｔｅｒｉｌｅ  ｉｒｒｉｇａｔｉｎｇ  ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ）；ストレプトミセス誘導体；スクシンイミド抗痙攣薬；スルホンアミド；スルホニル尿素；合成排卵誘発剤；四環系抗うつ薬；テトラサイクリン；治療用放射性医薬品；サイアザイド系利尿薬；チアゾリジンジオン類；チオキサンテン；第３世代セファロスポリン；トロンビン阻害剤；血栓溶解薬；甲状腺剤；陣痛抑制薬；局所座瘡薬；局所薬；局所麻酔薬；局所感染症薬；局所抗生物質；局所抗真菌薬；局所抗ヒスタミン薬；局所抗乾癬薬；局所抗ウイルス薬；局所収斂薬；局所排膿促進薬；局所脱色剤；局所皮膚軟化薬；局所角質溶解薬；局所ステロイド；感染症薬追加局所ステロイド；トキソイド；トリアジン抗痙攣薬；三環系抗うつ薬；三官能性モノクローナル抗体；腫瘍壊死因子（ＴＮＦ）阻害薬；チロシンナーゼ阻害薬；超音波造影剤；上気道用複合剤（ｕｐｐｅｒ  ｒｅｓｐｉｒａｔｏｒｙ  ｃｏｍｂｉｎａｔｉｏｎｓ）；尿素抗痙攣薬（ｕｒｅａ  ａｎｔｉｃｏｎｖｕｌｓａｎｔｓ）；尿路感染症薬；尿路鎮痙薬；尿ｐＨ調整剤；子宮収縮薬；ワクチン；混合ワクチン；腟抗感染薬；膣坐剤；血管拡張薬；バソプレッシン拮抗薬；昇圧薬；ＶＥＧＦ／ＶＥＧＦＲ阻害薬；ウイルス性ワクチン；関節内補充薬；ビタミンミネラル複合体；ビタミンが挙げられる。
【０２０５】
図１及び２の内腔２１２に収容されるのに適した診断試験の例としては：１７−ヒドロキシプロゲステロン；ＡＣＥ（アンジオテンシンＩ変換酵素）；アセトアミノフェン；酸性ホスファターゼ；副腎皮質刺激ホルモン；活性凝固時間；活性化プロテインＣ耐性；副腎皮質刺激ホルモン（ＡＣＴＨ）；アラニンアミノトランスフェラーゼ（ＡＬＴ）；アルブミン；アルドラーゼ；アルドステロン；アルカリフォスファターゼ；アルカリフォスファターゼ（ＡＬＰ）；α１−抗トリプシン；α−フェトプロテイン；α−フェトプロティエン（ｆｅｔｏｐｒｏｔｉｅｎ）；アンモニアレベル；アミラーゼ；ＡＮＡ（抗核アントボディ（ａｎｔｉｎｕｃｌｅａｒ  ａｎｔｂｏｄｉｅｓ））；ＡＮＡ（抗核抗体）；アンジオテンシン変換酵素（ＡＣＥ）；アニオンギャップ；抗カルジオリピン抗体；抗カルジオリピンアンティブボディ（ａｎｔｉｖｂｏｄｉｅｓ）（ＡＣＡ）；抗セントロメア抗体；抗利尿ホルモン；抗ＤＮＡ；抗デオキシリボヌクレアーゼＢ；抗グリアジン抗体；抗糸球体基底膜抗体；抗ＨＢｃ（Ｂ型肝炎コア抗体；抗ＨＢｓ（Ｂ型肝炎表面抗体；抗リン脂質抗体；抗ＲＮＡポリメラーゼ；抗スミス（Ｓｍ）抗体；抗平滑筋抗体；抗ストレプトリジンＯ価（ＡＳＯ）；抗トロンビンＩＩＩ；抗Ｘａ活性；抗Ｘａアッセイ；アポリポタンパク；ヒ素；アスパラギン酸アミノトランスフェラーゼ（ＡＳＴ）；Ｂ１２；塩基好性白血球；β２−ミクログロブリン；β−ヒドロキシブチレート；Ｂ−ＨＣＧ；ビリルビン；直接ビリルビン；間接ビリルビン；総ビリルビン；出血時間；血液ガス（動脈性）；血液尿素窒素（ＢＵＮ）；血液尿素窒素；ＢＵＮ；ＣＡ１２５；ＣＡ１５−３；ＣＡ１９−９；カルシトニン；カルシウム；カルシウム（イオン化）；一酸化炭素（ＣＯ）；ＣＥＡ（癌胎児性抗原）；全血球計算（値）、全血算；癌胎児性抗原；ＣＥＡ；セルロプラスミン；ＣＨ５０クロライド（ＣＨ５０Ｃｈｌｏｒｉｄｅ）；コレステロール；コレステロール、ＨＤＬ；血栓溶解時間；血餅退縮時間；ＣＭＰ；ＣＯ２；寒冷凝集素；補体第３成分；銅；副腎皮質刺激ホルモン放出ホルモン（ＣＲＨ）刺激試験；コルチゾル；コートロシン刺激試験；Ｃペプチド；ＣＰＫ（総）；ＣＰＫ−ＭＢ；Ｃ反応性タンパク；クレアチニン；クレアチニンキナーゼ（ＣＫ）；クリオグロブリン；ＤＡＴ（直接抗グロブリン試験）；Ｄダイマー；デキタメタゾン抑制試験；ＤＨＥＡ−Ｓ；希釈ラッセルクサリ蛇毒；楕円赤血球；好酸球；赤血球沈降速度（ＥＳＲ）；エストラジオール；エストリオール；エタノール；エチレングリコール；ユーグロブリン溶解；第Ｖ因子ライデン；第ＶＩＩＩ因子阻害薬；第ＶＩＩＩ因子レベル；フェリチン；フィブリン体分解産物；フィブリノーゲン；葉酸塩；葉酸塩（血清；ナトリウム分画排泄率（ＦＥＮＡ）；ＦＳＨ（卵胞刺激因子）；ＦＴＡ−ＡＢＳ；γグルタミルトランスフェラーゼ（ＧＧＴ）；ガストリン；ＧＧＴＰ（γグルタミルトランスフェラーゼ）；グルコース；成長ホルモン；ハプトグロビン；ＨＢｅＡｇ（Ｂ型肝炎ｅ抗原）；ＨＢｓ−Ａｇ（Ｂ型肝炎表面抗原）；ヘリコバクターピロリ；ヘマトクリット（赤血球容積率）；ヘマトクリット（ＨＣＴ））；ヘモグロビン；ヘモグロビンＡ１Ｃ��ヘモグロビン電気泳動；Ａ型肝炎抗体；Ｃ型肝炎抗体；ＩＡＴ（間接抗グロブリン試験）；免疫固定法（ＩＦＥ）；鉄；乳酸脱水素酵素（ＬＤＨ）；乳酸（乳酸塩）；ＬＤＨ；ＬＨ（ルーティナイジング（Ｌｅｕｔｉｎｉｚｉｎｇ）ホルモン；リパーゼ；ループス抗凝固因子；リンパ球；マグネシウム；ＭＣＨ（平均赤血球ヘモグロビン量；ＭＣＨＣ（平均赤血球ヘモグロビン濃度）；ＭＣＶ（平均赤血球容積）；マロン酸メチル；単球；ＭＰＶ（平均血小板容積）；ミオグロビン；好中球；上皮小体ホルモン；リン；血小板（ｐｌｔ）；カリウム；プレアルブミン；プロラクチン；前立腺特異抗原（ＰＳＡ）；タンパク質Ｃ；タンパク質Ｓ；ＰＳＡ（前立腺特異抗原）；ＰＴ（プロトロンビン時間）；ＰＴＴ（部分トロンボプラスチン時間）；ＲＤＷ（赤血球分布幅）；レニン；レンニン；網状赤血球数；網状赤血球；リウマチ因子（ＲＦ）；血沈速度；血清グルタミン酸ピルビン酸トランスアミナーゼ（ＳＧＰＴ；血清タンパク電気泳動（ＳＰＥＰ）；ナトリウム；Ｔ３レジン摂取率（Ｔ３ＲＵ）；フリーＴ４；トロンビン時間；甲状腺刺激ホルモン（ＴＳＨ）；チロキシン（Ｔ４）；全鉄結合能（ＴＩＢＣ）；総タンパク；トランスフェリン（鉄結合性グロブリン）；トランスフェリン飽和剤；トリグリセリド（ＴＧ）；トロポニン；尿酸；シアノコバラミン（ビタミンＢ１２）；白血球（ＷＢＣ）；ウィダール試験が挙げられる。
【０２０６】
更に別の実施形態は、本明細書中のいずれかの実施形態において定義された基板上の、本明細書中のいずれかの実施形態において定義されたｐＨ保護皮膜又は層を有する容器を含む医療用又は診断用キットである。任意選択的に、キットは更に、容器内に収容される薬剤又は診断薬；及び／又は皮下針、両頭針又は他の送達導管及び／又は取扱説明書を含む。
【０２０７】
有機ケイ素化合物前駆体から堆積されたプライマー皮膜又は層を有する、生血液（Ｖｉａｂｌｅ  ｂｌｏｏｄ）を収容する容器
更に別の実施形態は血液収容容器である。このような容器の幾つかの非限定的な例には、輸血バッグ、試料を採取した血液試料採取容器、人工心肺のチューブ類、可撓壁採血バッグ、又は手術中に患者の血液を採取し、その血液を患者自身の血管系に再導入するために使用されるチューブ類がある。容器が血液を圧送するためのポンプ含む場合、特に好適なポンプは遠心ポンプ又は蠕動ポンプである。容器は壁を有し；壁は内腔を画定する内面又は内部表面を有する。壁の内面又は内部表面は、任意選択的に疎水性表面も呈する、保護層の少なくとも部分的なプライマー皮膜又は層を有する。プライマー皮膜又は層は単分子の厚さほどの薄さであっても、又は約１０００ｎｍの厚さであってもよい。容器は、内腔内に疎水性層と接触して配置された、患者の血管系に戻される生血液を収容する。
【０２０８】
一実施形態は、壁を含み、且つ内腔を画定する内面又は内部表面を有する、血液収容容器である。内面又は内部表面は、任意選択的に疎水性表面も呈する、少なくとも部分的なプライマー皮膜又は層を有する。プライマー皮膜又は層はまた、ＳｉＯxＣyを含んでも、又はＳｉＯxＣyから実質的になってもよく、式中、ｘ及びｙは本明細書に定義する通りである。内面又は内部表面上で、疎水性皮膜又は層の厚さは単分子の厚さから約１０００ｎｍの厚さの範囲内である。容器は、内腔内に疎水性皮膜又は層と接触して配置された、患者の血管系に戻される生血液を含む。
【０２０９】
有機ケイ素化合物前駆体から堆積されたプライマー皮膜又は層は容器内での血液の凝固又は血小板活性化を低減する
別の実施形態は壁を有する容器である。壁は、内腔を画定する内面又は内部表面を有し、疎水性表面も呈する少なくとも部分的なプライマー皮膜又は層を有し、式中、任意選択的にｘ及びｙは前記に定義する通りである。内面又は内部表面で、プライマー皮膜又は層の厚さは単分子の厚さから約１０００ｎｍの厚さの範囲内である。プライマー皮膜又は層は、疎水性層で被覆されていない同じ種類の壁と比較して、内面又は内部表面に曝露された血液の凝固又は血小板活性化を低減するのに有効である。
【０２１０】
疎水性層を組み込むことにより、未修飾の高分子表面又はＳｉＯx表面と接触するその特性と比較して、血液が癒着する又は凝塊を形成する傾向を低減すると考えられる。この特性により、心臓手術中に人工心肺を使用する場合のように、患者から血液を抜き取り、後でその患者自身に戻すことを必要とする種類の手術を受ける患者に必要な血中へパリン濃度を低下することにより、血液をへパリンで処理する必要が低減する又は場合によってはなくなると考えられる。これにより、へパリンの使用に起因する出血合併症が低減し、それにより血液がこのような薬剤パッケージ又は他の容器を通過することに伴う手術の合併症が低減すると考えられる。
【０２１１】
別の実施形態は、壁を含み、且つ内腔を画定する内面又は内部表面を有する容器である。内面又は内部表面は、疎水性表面を呈する少なくとも部分的なプライマー皮膜又は層を有し、内面又は内部表面で、プライマー皮膜又は層の厚さは単分子の厚さから約１０００ｎｍの厚さであり、プライマー皮膜又は層は内面又は内部表面に曝露された血液の凝固又は血小板活性化を低減するのに有効である。
【０２１２】
ＩＩＩ族元素又はＩＶ族元素のプライマー皮膜又は層を有する生血液を収容する容器
別の実施形態は内腔を画定する内面又は内部表面を有する壁を有する、血液収容容器である。内面又は内部表面は、ＩＩＩ族の１種以上の元素、ＩＶ族の１種以上の元素、又はこれらの２種以上の組合せを含む組成物の少なくとも部分的なプライマー皮膜又は層を有する。内面又は内部表面で、プライマー皮膜又は層の厚さは単分子の厚さから約１０００ｎｍの厚さ（両端値を含む）までである。容器は、内腔内にプライマー皮膜又は層と接触して配置された、患者の血管系に戻される生血液を収容する。
【０２１３】
ＩＩＩ族元素又はＩＶ族元素のプライマー皮膜又は層は容器内での血液の凝固又は血小板活性化を低減する
任意選択的に、前段落の容器内で、ＩＩＩ族元素又はＩＶ族元素のプライマー皮膜又は層は、容器壁の内面又は内部表面に曝露される血液の凝固又は血小板活性化を低減するのに有効である。
【０２１４】
インスリン容器
１つの選択肢として、化合物又は組成物の成分はインスリンであり、インスリンの沈殿が防止又は低減される。別の選択肢として、化合物又は組成物の成分は血液又は血液分画であり、血液凝固又は血小板活性化が防止又は低減される。更に別の選択肢として、プライマー皮膜又は層を有する容器は採血管である。任意選択的に、採血管は血液凝固又は血小板活性化を防止する薬剤、例えば、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）、そのナトリウム塩、又はヘパリンを含み得る。
【０２１５】
インスリンの保管に、前述のいずれかの実施形態による被覆基板を使用することが考えられる。
【０２１６】
プロトコル及び試験方法
原子組成
タイコート皮膜又は層、バリア皮膜又は層、及びｐＨ保護皮膜又は層の原子組成は、ケイ素、酸素、及び炭素の測定にはＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）、並びに水素の測定にはラザフォード後方散乱（ＲＢＳ）又は水素前方散乱（ＨＦＳ）分光法のいずれかを用いてキャラクタリゼーションを行う。ＸＰＳは水素を検出しないため、水素含有量を求めるには別の分析方法を使用する。特記しない限り、以下の方法を使用する。
【０２１７】
ＸＰＳプロトコル
ＸＰＳデータは、比感度係数及び均質な層を前提とするモデルを用いて定量化される。分析体積は、分析面積（スポットサイズ又は開口サイズ）と情報深さとの積である。光電子はＸ線侵入深さ（通常、何ミクロン（マイクロメートル）もの深さ）内で発生するが、上部の３つの光電子脱出深さ内の光電子だけが検出される。脱出深さは約１５〜３５Åであり、これにより分析深さは約５０〜１００Åとなる。通常、信号の９５％はこの深さから発生する。
【０２１８】
以下の分析パラメータを使用する。
・機器：ＰＨＩ  Ｑｕａｎｔｕｍ  ２０００
・Ｘ線源：Ｍｏｎｏｃｈｒｏｍａｔｅｄ  Ａｌｋａ  １４８６．６ｅＶ
・取り込み角  ±２３°
・取り出し角  ４５°
・分析面積  ６００μｍ
・電荷補正  Ｃ１ｓ  ２８４．８ｅＶ
・イオン銃条件  Ａｒ＋、１ｋｅＶ、２×２ｍｍラスター
・スパッタ速度  １５．６Å／分（ＳｉＯ２当量）
【０２１９】
値は、検出される元素を用いて１００パーセントに正規化されている。検出限界は、約０．０５〜１．０原子パーセントである。
【０２２０】
ラザフォード後方散乱分光法（ＲＢＳ）
ＲＢＳスペクトルは、後方散乱角１６０°及び適切なグレージング角（ｇｒａｚｉｎｇ  ａｎｇｌｅ）で（試料を入射イオンビームに垂直な向きに配置して）取得する。入射ビームに対してランダムな配置（ｇｅｏｍｅｔｒｙ）を呈するように、試料を小さい角度で回転又は傾斜させる。これは、フィルムと基板の両方でのチャネリングを回避する。２つの検出角度を使用することにより、薄い表面層を分析する必要がある場合、組成の測定精度を著しく改善することができる。
【０２２１】
薄い（＜１００ｎｍ）非晶質又は多結晶性フィルムが単結晶基板上に存在するとき、「イオンチャネリング」を使用して基板からの後方散信号を低減することができる。この結果、基板信号と重なる元素、通常、酸素、窒素及び炭素などの軽元素を含有する層の組成の精度が改善される。
分析パラメータ：ＲＢＳ
・Ｈｅ＋＋イオンビームエネルギー  ２．２７５ＭｅＶ
・法線（Ｎｏｒｍａｌ）検出角度  １６０°
・グレージング検出角度  約１００°
・分析モード  ＣＣ  ＲＲ
【０２２２】
理論層モデルを適用し、理論スペクトルと実験スペクトルとの十分な一致が認められるまで元素濃度と厚さを反復的に調節することにより、スペクトルをフィットさせる。
【０２２３】
水素前方散乱法分光法（ＨＦＳ）
ＨＦＳ実験では、検出器を入射Ｈｅ＋＋イオンビームの前方軌道から３０°で配置し、入射ビームが法線から７５°で表面に当たるように試料を回転させる。この配置では、プロービングＨｅ＋＋イオンビームとの衝突後に試料から前方に散乱された軽原子、即ち、水素を捕集することが可能である。同様に試料から前方に散乱されるＨｅ＋＋イオンを除去するために、検出器上に薄い吸収箔を配置する。
【０２２４】
水素濃度は、異なる物質の阻止能により正規化した後、標準試料から得られる水素カウント数を比較することにより求められる。水素注入ケイ素試料及び幾何学的試料、白雲母を標準物質として使用する。水素注入ケイ素試料中の水素濃度は、その表示注入量１．６×１０１７±０．２×１０１７ａｔｏｍｓ／ｃｍ2であると測定された。白雲母（ＭＵＳＣ）試料は約６．５±０．５原子パーセントの水素を有することが知られている。
【０２２５】
試料の分析領域中の水素損失を調べる。これは、異なる取得時間のスペクトルを取得することにより行われる（最初、Ｈｅ＋＋ビームに短時間曝露した後、比較的長時間曝露する）。５μＣ及び４０μＣでの電荷蓄積を使用する。４０μＣスペクトル中の比例信号が比較的低い場合、これは水素損失を示している。そのような場合、スペクトル中のノイズが高くなってしまうが、比較的短い曝露を分析に選択する。残留水分又は炭化水素の吸着による表面水素を明らかにするために、ケイ素対照試料を実際の試料と共に分析し、対照試料からの水素信号を実際の試料から得られる各スペクトルから引く。ＨＦＳ取得中、後方散スペクトルは１６０°の角度の検出器（試料は前方散乱の向きに配置する）を用いて取得する。ＲＢＳスペクトルを使用して、試料に送出される総電荷を正規化する。
分析パラメータ：ＨＦＳ
・Ｈｅ＋＋イオンビームエネルギー  ２．２７５ＭｅＶ
・法線検出角度  １６０°
・グレージング検出角度  約３０°
・試料法線に対するイオンビーム  ７５°
【０２２６】
総ケイ素測定のためのプロトコル
このプロトコルは、容器壁全体に存在するケイ素皮膜の総量を決定するために使用される。溶液又は成分とガラスとの間の接触を回避するよう留意し、ある供給量の０．１Ｎ水酸化カリウム（ＫＯＨ）水溶液を用意する。使用される水は精製水で、１８ＭΩ品質である。特に定めのない限りは測定にＰｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ  Ｏｐｔｉｍａ  Ｍｏｄｅｌ  ７３００ＤＶ  ＩＣＰ−ＯＥＳ機器が使用される。
【０２２７】
試験される各デバイス（バイアル、シリンジ、チューブ等）並びにそのキャップ及びクリンプ（バイアルの場合）又は他のクロージャを空〜０．００１ｇにおいて計量し、その後、ＫＯＨ溶液で完全に充填し（ヘッドスペースなしで）、キャップを嵌め、クリンプし、０．００１ｇ以下において再計量した。温浸ステップにおいては、１２１℃のオートクレーブオーブン（液体サイクル）中に各バイアルが１時間配置される。温浸ステップはケイ素皮膜を容器壁からＫＯＨ溶液中に定量的に除去するために実施される。この温浸ステップ後、バイアルはオートクレーブオーブンから取り出され、室温まで冷却される。バイアルの内容はＩＣＰチューブに移動される。各溶液の総Ｓｉ濃度がＩＣＰ／ＯＥＳによってＩＣＰ／ＯＥＳの実施手順に従い実行される。
【０２２８】
総Ｓｉ濃度はＫＯＨ溶液中のＳｉの１０億分率として報告される。この濃度は、温浸ステップが使用されそれが除去される前に容器壁上にあったケイ素皮膜の総量を示す。
【０２２９】
総Ｓｉ濃度は、また、ＳｉＯxバリア層が塗布され、ＳｉＯxＣy第２層（例えば、滑性層又はｐＨ保護皮膜若しくは層）がその後塗布され、ＳｉＯxＣy層だけの総ケイ素濃度を知りたい場合のように、容器上の全ケイ素層よりも少数の層について決定することができる。この決定は、２セットの容器を用意し、その１つのセットにはＳｉＯx層のみを塗布し、そのもう一方のセットには同じＳｉＯx層、続いてＳｉＯxＣy層又は関心のある他の層を塗布することによって実施される。各セットの容器の総Ｓｉ濃度は上に記載したのと同じ手法で決定される。２つのＳｉ濃度間の差がＳｉＯxＣy第２層の総Ｓｉ濃度である。
【０２３０】
容器中の溶解したケイ素を測定するためのプロトコル
実施例のいくつかにおいては、例えば、試験溶液の溶解速度を評価するために、試験溶液によって容器の壁から溶解したケイ素の量が１０億分率（ｐｐｂ）で決定される。この溶解したケイ素の決定は、試験条件下でＳｉＯx及び／又はＳｉＯxＣy皮膜又は層が提供された容器内に試験溶液を保管し、その後、溶液のサンプルを容器から除去し、サンプルのＳｉ濃度を試験することによって実施される。試験は、総ケイ素測定のためのプロトコルと同じ手法で実施されるが、そのプロトコルの温浸ステップの代わりにこのプロトコルに記載されるような容器内における試験溶液の保管が使用される。総Ｓｉ濃度は試験溶液中のＳｉの１０億分率として報告される。
【０２３１】
平均溶解速度を決定するためのプロトコル
実施例から分かるように、ケイ素溶解速度は、容器からその内容物中に浸出される総ケイ素を求めることにより測定され、ｐＨ保護皮膜若しくは層２８６、滑性層２８１、バリア皮膜若しくは層２８８、又は存在する他の物質に由来するケイ素を区別するものではない。
【０２３２】
実施例において報告される平均溶解速度は以下のように決定される。既知の総ケイ素測定値を有する一連の試験容器に、総ケイ素測定のためのプロトコルにおいてバイアルにＫＯＨ溶液を充填する手法と類似の手法で所望の試験溶液を充填する。（試験溶液は、本実施例で用いられるような生理的に不活性の試験溶液とすることも、薬剤パッケージを形成するために容器内に保管されることを意図した生理的に活性な製剤とすることもできる）。試験溶液は各々の容器内にいくつかの異なる時間量の間保管され、その後、各保管時間おける試験溶液中のＳｉ濃度を１０億分率で分析する。各々の保管時間及びＳｉ濃度は、その後、プロットされる。プロットを分析し、最急勾配を有する実質的に線形の点の列を求める。
【０２３３】
日数に対する溶解量（ｐｐｂ  Ｓｉ）のプロットでは、Ｓｉ層が試験溶液によって完全に温浸されているとは思われないものの、時間とともに勾配が減少する。
【０２３４】
以下、表１０のＰＣ１９４試験データにおいては、最小二乗線形回帰プログラムを使用し、各実験プロットのうち最初の５つの標本値群に合致する線形プロットを求めることにより溶解対時間のデータの線形プロットを作成する。その後、各線形プロットの勾配が決定され、試験に適用可能な平均溶解速度を示すものとして、単位時間あたりの試験溶液中に溶解したＳｉの１０億分率で報告される。
【０２３５】
計算保管寿命を決定するためのプロトコル
以下の実施例において報告される計算保管寿命値は、総ケイ素測定のためのプロトコル及び平均溶解速度を決定するためのプロトコルにそれぞれ記載したように決定された総ケイ素測定値及び平均溶解速度の外挿によって決定される。示された保管条件下において、ＳｉＯxＣy  ｐＨ保護皮膜又は層は皮膜が完全に除去されるまで平均溶解速度で除去されると想定される。したがって、容器の総ケイ素測定値を溶解速度によって除算すると、試験溶液がＳｉＯxＣy皮膜を完全に溶解するのに要する時間が得られる。この期間は計算保管寿命として報告される。市販保管寿命の計算とは異なり、安全率は計算されない。その代わり、計算保管寿命は計算破損時間である。
【０２３６】
ｐｐｂ  Ｓｉ対時間のプロットでは時間とともに勾配が減少するため、比較的短い測定時間から比較的長い計算保管寿命への外挿は、実際に得られる計算保管寿命を低く見積もる傾向にある「最悪の場合」の試験（「ｗｏｒｓｔ  ｃａｓｅ」ｔｅｓｔ）であると考えられると理解すべきである。
【０２３７】
皮膜厚さの測定
ｐＨ保護皮膜又は層、バリア皮膜又は層、滑性皮膜又は層、及び／又はこれら層のいずれか２つ以上の複合体などのＰＥＣＶＤ皮膜又は層の厚さは、例えば、透過電子顕微鏡法（ＴＥＭ）により測定することができる。ｐＨ保護皮膜又は層の例示的なＴＥＭ画像を図１７に示す。ＳｉＯ2バリア皮膜又は層の例示的なＴＥＭ画像を図１８に示す。
【０２３８】
ＴＥＭは、例えば、以下のように実施することができる。２方向で断面を加工する集束イオンビーム（ＦＩＢ）用に試料を準備することができる。Ｋ５７５Ｘ  Ｅｍｉｔｅｃｈプライマー皮膜又は層システムを使用して、試料にまず炭素の薄層（厚さ５０〜１００ｎｍ）を被覆した後、白金のスパッタ皮膜又は層（厚さ５０〜１００ｎｍ）を被覆することができる、又は、試料に保護スパッタＰｔ層を直接被覆することができる。被覆された試料をＦＥＩ  ＦＩＢ２００  ＦＩＢシステム内に配置することができる。３０ｋＶガリウムイオンビームを対象領域上にラスター走査しながら、有機金属ガスを注入することにより追加の白金皮膜又は層をＦＩＢ堆積することができる。各試料の対象領域は、シリンジバレルの長さの半分まで下がった位置になるように選択することができる。長さ約１５μｍ（「マイクロメートル」）、幅２μｍ及び深さ１５μｍの薄い断面を、ｉｎ−ｓｉｔｕ  ＦＩＢリフトアウト法を用いてダイ表面から抽出することができる。断面は、ＦＩＢ堆積白金を用いて２００メッシュ銅製ＴＥＭグリッドに取り付けることができる。幅約８μｍの寸法の、各断面内の１つ又は２つのウィンドウはＦＥＩ  ＦＩＢを、ガリウムイオンビームを用いて電子透過性になるまで薄肉化することができる。
【０２３９】
準備した試料の断面画像解析は透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は走査透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）のいずれか又は両方を利用して実施することができる。全画像化データはデジタル方式で記録することができる。ＳＴＥＭ画像化では、薄肉化した箔を有するグリッドをＳＴＥＭ専用のＨｉｔａｃｈｉ  ＨＤ２３００に移すことができる。走査透過電子画像は原子番号コントラストモード（ＺＣ）及び透過電子モード（ＴＥ）で、適切な倍率で取得することができる。以下の機器設定を使用することができる。
機器  走査透過電子顕微鏡
製造業者／型式  Ｈｉｔａｃｈｉ  ＨＤ２３００
加速電圧  ２００ｋＶ
対物絞り  ２
コンデンサレンズ１設定  １．６７２
コンデンサレンズ２設定  １．７４７
おおよその対物レンズ設定  ５．８６
ＺＣモード投影レンズ  １．１４９
ＴＥモード投影レンズ  ０．７
画像取得
画素分解能  １２８０×９６０
取得時間  ２０秒（×４
【０２４０】
ＴＥＭ分析では、試料グリッドをＨｉｔａｃｈｉ  ＨＦ２０００透過電子顕微鏡に移すことができる。透過電子画像は適切な倍率で取得することができる。画像取得時に使用される関連機器設定は下記に記載するものとすることができる。
機器  透過電子顕微鏡
製造業者／型式  Ｈｉｔａｃｈｉ  ＨＦ２０００
加速電圧  ２００ｋＶ
コンデンサレンズ１  ０．７８
コンデンサレンズ２  ０
対物レンズ  ６．３４
コンデンサレンズ絞り  １
撮影（ｉｍａｇｉｎｇ）用対物レンズ絞り  ３
ＳＡＤ用選択領域絞り  Ｎ／Ａ
【０２４１】
ＳＥＭの手順
ＳＥＭサンプルの調製：各シリンジサンプルをその長さに沿って半分に切断した（内側又は内部表面を露出させるため）。サンプルを小さくするためにシリンジ（ルアー端部）の上部を切り取った。
【０２４２】
サンプルを導電性黒鉛接着剤によってサンプルホルダ上に取り付け、その後、Ｄｅｎｔｏｎ  Ｄｅｓｋ  ＩＶ  ＳＥＭサンプル調製システム内に配置し、薄い（約５０Å）金皮膜をシリンジの内側又は内部表面上にスパッタした。金皮膜は測定中における表面の帯電を除去するのに使用される。
【０２４３】
サンプルをスパッタシステムから取り出し、Ｊｅｏｌ  ＪＳＭ  ６３９０  ＳＥＭ（走査型電子願徴鏡）のサンプルステージ上に取り付けた。サンプルをサンプル隔室内において少なくとも１ｘ１０-6トルまで排気した。サンプルが必要な真空レベルに達すると、スリットバルブを開き、サンプルを分析台に移動させた。
【０２４４】
サンプルをまずは粗い分解能で画像化し、その後、より高い倍率の画像を蓄積した。図に提供したＳＥＭ画像は端から端まで（水平及び垂直）が５μｍである。
【０２４５】
ＡＦＭ（原子間力顕微鏡法）手順
ＡＦＭ画像は、ＮａｎｏＳｃｏｐｅ  ＩＩＩ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ  ３０００マシン（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ，Ｓａｎｔａ  Ｂａｒｂａｒａ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ，ＵＳＡ）を使用して収集した。機器はＮＩＳＴにトレース可能な標準に照らして校正した。エッチングされたシリコン製の走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）チップを使用した。自動平坦化（ａｕｔｏ−ｆｌａｔｔｅｎｉｎｇ）、平面フィッティング又は畳み込みを含む画像処理手順を用いた。１つの１０μｍｘ１０μｍ面積を画像化した。粗さ分析を実施し、以下において表した。（１）二乗平均粗さ（Ｒｏｏｔ−Ｍｅａｎ−Ｓｑｕａｒｅ  Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ）、ＲＭＳ、２  平均粗さ、Ｒａ、及び（３）最大高さ（山対谷）、Ｒmax。これらは全てｎｍで測定した（表５及び図８〜１６を参照）。粗さ分析のため、各サンプルを１０μｍｘ１０μｍ面積上において画像化し、続いて、１０μｍｘ１０μｍ画像においてフィーチャを切断する３つの断面を分析者が選択した。フィーチャの垂直深さは断面ツール（ｃｒｏｓｓ  ｓｅｃｔｉｏｎ  ｔｏｏｌ）を使用して測定した。各断面について、二乗平均粗さ（ＲＭＳ）をナンメートルで報告した。これらＲＭＳ値を各サンプルの３つの断面の平均値とともに表５に示す。
【０２４６】
図８〜１６（実施例Ｑ、Ｔ及びＶ）に代表される１０μｍｘ１０μｍ画像の更なる分析を実施した。この分析では、各画像から３つの断面を抽出した。画像内においてフィーチャを切断するための断面の位置を分析者が選択した。フィーチャの垂直深さは断面ツールを使用して測定した。
【０２４７】
デジタル機器のＮａｎｏｓｃｏｐｅ  ＩＩＩ  ＡＦＭ／ＳＴＭは、表面の３次元表示をデジタル形式で取得及び保存する。これら表面は種々の手法で分析されうる。
【０２４８】
Ｎａｎｏｓｃｏｐｅ  ＩＩＩソフトウェアは任意のＡＦＭ又はＳＴＭ画像の粗さ分析を実行することができる。この分析の産物（ｐｒｏｄｕｃｔ）は選択した画像を上面図で再生する単一ページである。画像の右上は「画像統計」ボックスであり、阻止域（それを通過するＸを有するボックス）によって除外される任意の面積を差し引いた画像全体の計算した特性を列挙する。画像の選択した部分について類似の更なる統計を計算することができ、これらはページの右下部分の「ボックス統計（Ｂｏｘ  Ｓｔａｔｉｓｔｉｃｓ）」内に列挙される。以下に続くのはこれら統計の記載及び説明である。
【０２４９】
画像統計：
Ｚ範囲（Ｒр）：画像の最高点と最低点との間の差。この値は画像の平面内の傾きに関して補正されない。したがって、平面フィッティング又はデータの平坦化により値は変化する。
【０２５０】
平均：画像化された面積内の全Ｚ値の平均。この値は画像の平面内の傾きに関して補正されない。したがって、平面フィッティング又はデータの平坦化によりこの値は変化する。
【０２５１】
ＲＭＳ（Ｒq）：これは画像におけるＺ値（又はＲＭＳ粗さ）の標準偏差である。それは以下の式により計算される。
Ｒq＝｛Σ（Ｚ1−Ｚavg）２／Ｎ｝
式中、Ｚavgは画像内の平均Ｚ値であり、Ｚ1はＺの現在値であり、Ｎは画像内における点の数である。この値は画像の平面内の傾きに関して補正されない。したがって、平面フィッティング又はデータの平坦化によりこの値は変化する。
【０２５２】
平均粗さ（Ｒa）：これは中心平面に対する表面の平均値であり、以下の式を使用して計算される。
【数５】
2019081610.tif 000013
式中、ｆ（ｘ，ｙ）は中心平面に対する表面であり、Ｌx及びＬyは表面の寸法である。
【０２５３】
最大高さ（Ｒmax）：これは平均平面に対する表面の最高点と最低点との間の高さの差である。
【０２５４】
表面積：（光学的計算）：これは画像化された面積の３次元表面の面積である。それは画像全体において３つの隣接する標本値群によって形成された三角形の面積の合計をとることにより計算される。
【０２５５】
表面積差：（任意の計算）これは表面積が画像化された面積を超過する量である。それは割合として表され、以下の式により計算される。
表面積差＝１００［（表面積／Ｓ1２−１］
式中、Ｓ1は走査された面積から阻止域によって除外された任意の面積を差し引いた長さ（及び幅）である。
【０２５６】
中心平面：平均平面に平行する平坦平面である。中心平面の上及び下の画像面によって囲まれた体積は等しい。
【０２５７】
平均平面：画像データはこの平坦平面に関して最小分散を有する。それはＺデータに適合する一次最小二乗による結果である。
【実施例】
【０２５８】
実施例１〜４−ｐＨ保護層の作製条件
ｐＨ保護層の作製に使用される幾つかの条件を表１に示す。
【０２５９】
【表６】
2019081610.tif 000014
【０２６０】
実施例５〜８
シリンジサンプルは以下のように作製した。ＣＯＣシリンジバレルを形成するためのプロトコルに従い、ＣＯＣ  ８００７延伸バレルシリンジを作製した。ＣＯＣシリンジバレル内部をＳｉＯxで被覆するためのプロトコルに従い、ＳｉＯxバリア皮膜又は層をシリンジバレルに塗布した。ＣＯＣシリンジバレル内部をＯＭＣＴＳで被覆するためのプロトコルに従い、ｐＨ保護皮膜又は層をＳｉＯxで被覆されたシリンジに塗布し、以下のように変更を加えた。表２に示すアルゴンキャリアガス及び酸素を使用した。プロセス条件は以下のように又は表２に示すように設定した。
ＯＭＣＴＳ  −  ３ｓｃｃｍ（使用する場合）
アルゴンガス  −  ７．８ｓｃｃｍ（使用する場合）
酸素  ０．３８ｓｃｃｍ（使用する場合）
電力  −  ３ワット
電源オン時間  −  １０秒
実施例５，６、及び７のシリンジを、容器中の溶解したケイ素を測定するためのプロトコルを使用して試験し、総抽出可能レベル（有機ケイ素化合物ベースＰＥＣＶＤ  ｐＨ保護皮膜又は層の抽出を示す）を決定し、この例に示すように変更を加えるとともに補足した。
【０２６１】
ケイ素は塩水温浸（ｓａｌｉｎｅ  ｗａｔｅｒ  ｄｉｇｅｓｔｉｏｎ）を使用して抽出した。エラストマ製の先端の材料から材料が抽出することを防止するために各シリンジプランジャの先端をＰＴＦＥテープで被覆し、その後、シリンジバレル基部内に挿入した。シリンジバレルに、２ミリリットルの０．９％水性の生理食塩水を、シリンジのルアーチップを通じて挿入した皮下針を介して充填した。生理食塩水を収容及び送達するために多くのプレフィルドシリンジが使用されることから、これは抽出可能性に適した試験である。ルアーチップは適切な直径を有する一片のＰＴＦＥビーディングとともに差し込んだ。シリンジをＰＴＦＥ試験台にルアーチップを上向きにした状態でセットし、オーブン内に５０℃で７２時間配置した。
【０２６２】
その後、静的又は動的モードのいずれかを使用して生理食塩水をシリンジバレルから除去した。表２に示す静的モードにおいては、シリンジプランジャを試験台から取り外し、シリンジ内の流体を容器内に移した。表２に示す動的モードにおいては、ルアーチップシールを取り外し、プランジャを押下して流体をシリンジバレル内に通し、内容を容器内に排出した。いずれの場合においても、各シリンジバレルから得られる流体を１８．２ＭΩ−ｃｍ脱イオン水を使用して５０ｍｌの体積にし、更に、分析中におけるナトリウムバックグラウンド（ｓｏｄｉｕｍ  ｂａｃｋｇｒｏｕｎｄ）を最小にするために２倍希釈した。ＣＶＨバレルは２ミリリットルを収容し、市販バレルは２．３２ミリリットルを収容した。
【０２６３】
次に、容器中の溶解したケイ素を測定するためのプロトコルを使用し、各シリンジから回収した流体を抽出可能ケイ素に関して試験した。使用した機器はＣｅｔａｃ  ＡＳＸ−５２０オートサンプラを備えたＰｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ  Ｅｌａｎ  ＤＲＣ  ＩＩであった。以下のＩＣＰ−ＭＳ条件を用いた。
噴霧器：Ｑｕａｒｔｚ  Ｍｅｉｎｈａｒｄｔ
噴霧室：Ｃｙｃｌｏｎｉｃ
ＲＦ（高周波）電力：１５５０ワット
アルゴン（Ａｒ）流：１５．０Ｌ／分
補助Ａｒ流：１．２Ｌ／分
噴霧器ガス流：０．８８Ｌ／分
積分時間：８０秒
走査モード：ピークホッピング（ｐｅａｋ  ｈｏｐｐｉｎｇ）
ＣｅＯ（ｍ／ｚ１５６：＜２％としてのセリウムのＲＰｑ（ＲＰｑは除去パラメータ（ｒｅｊｅｃｔｉｏｎ  ｐａｒａｍｅｔｅｒ））
【０２６４】
シリンジＥ、Ｆ及びＧから得た水性希釈物の一定分量を注入し、Ｓｉに関して１リットルあたりマイクログラムの濃度単位において分析した。この試験の結果を表２に示す。結果は定量的でないが、それらは、ｐＨ保護皮膜又は層からの抽出可能物が、ＳｉＯxバリア層のみの抽出可能物に比べて明らかに高いわけではないことは示している。また、静的モードは動的モードに比べて大幅に少ない抽出可能物を生じ、これは予想通りであった。
【０２６５】
【表７】
2019081610.tif 000015
【０２６６】
実施例９〜１１
３つの異なるｐＨ保護皮膜又は層を使用するシリンジ実施例９、１０、及び１１は、以下以外、即ち、表３に示すもの以外、実施例５〜８と同様に製造した。
・ＯＭＣＴＳ  −  ２．５ｓｃｃｍ
・アルゴンガス  −  ７．６ｓｃｃｍ（使用する場合）
・酸素  ０．３８ｓｃｃｍ（使用する場合）
・電力  −  ３ワット
・電源投入時間  −  １０秒
【０２６７】
シリンジ実施例９は、ＯＭＣＴＳ、酸素、及びキャリアガスを使用する３成分のｐＨ保護皮膜又は層を有した。シリンジ実施例１０は、ＯＭＣＴＳ及び酸素を使用するが、キャリアガスを使用しない２成分のｐＨ保護皮膜又は層を有した。シリンジ実施例１１は、１成分のｐＨ保護皮膜又は層（ＯＭＣＴＳのみ）を有した。次いで、実施例９〜１１のシリンジの滑性を、実施例５〜８について記載したように試験した。
【０２６８】
これらの実施例に従って作製されるｐＨ保護皮膜又は層はまた、バリア皮膜又は層が設けられているがｐＨ保護皮膜又は層は設けられていない類似の容器と比較して容器の保管寿命を延長するための保護皮膜又は層として機能すると考えられる。
表３：ＯＭＣＴＳｐＨ保護皮膜又は層
・ＯＭＣＴＳ  −  ２．５ｓｃｃｍ
・アルゴンガス  −  ７．６ｓｃｃｍ（使用する場合）
・酸素  ０．３８ｓｃｃｍ（使用する場合）
・電力  −  ３ワット
・電源投入時間  −  １０秒
【０２６９】
実施例１２〜１４
実施例１２〜１４ではＨＭＤＳＯを前駆体として使用したこと以外、実施例１２〜１４ではＯＭＣＴＳ前駆体ガスを用いた実施例９〜１１を繰り返した。結果を表４に示す。これらの実施例に従って作製される皮膜は、バリア皮膜又は層が設けられているがｐＨ保護皮膜又は層は設けられていない類似の容器と比較して容器の保管寿命を延長するためのｐＨ保護皮膜又は層として、また保護皮膜又は層としても機能すると考えられている。
【０２７０】
【表８】
2019081610.tif 000016
【０２７１】
これらの実施例に従って作製されるｐＨ保護皮膜又は層はまた、バリア皮膜又は層が設けられているがｐＨ保護皮膜又は層は設けられていない類似の容器と比較して、容器の保管寿命を延長するための保護皮膜又は層として機能すると考えられている。
【０２７２】
【表９】
2019081610.tif 000017
【０２７３】
【表１０】
2019081610.tif 000018
【０２７４】
滑性及び／又は保護性の測定の概要
［表８は、上記ＯＭＣＴＳ皮膜又は層の概要を示す。
【０２７５】
【表１１】
2019081610.tif 000019
【０２７６】
比較実施例２６：ＳｉＯx皮膜の溶解対ｐＨ
ここで変更を加えるもの以外の、容器中の溶解したケイ素を測定するためのプロトコルは以下の通りである。試験溶液、ｐＨ３、６、７、８、９及び１２の５０ｍＭ緩衝溶液を用意する。研究されるｐＨ値を提供するのに適切なｐＫａ値を有する緩衝液を選択する。ｐＨ３、７、８及び１２についてはリン酸カリウム緩衝液を選択し、ｐＨ６についてはクエン酸ナトリウム緩衝液を利用し、ｐＨ９についてはトリス緩衝液を選択する。３ｍｌの各試験溶液をホウケイ酸ガラス５ｍｌ薬剤バイアル及びＳｉＯxで被覆された５ｍｌ熱可塑性プラスチック薬剤バイアル内に配置する。バイアルは全て、標準的な、被覆されたストッパで閉じられ、圧着される。バイアルをストレージ内に２０〜２５℃で配置し、誘導結合プラズマ分光計（ＩＣＰ）により、異なる保管時間の、バイアル内に収容された溶液中のＳｉ含有量を１０億分率（ｐｐｂ）重量において分析するため、種々の時点において引き出す。
【０２７７】
ガラス溶解の速度を監視するためにここで変更を加えるもの以外は平均溶解速度Ｓｉ含有量を決定するためのプロトコルを使用する。各ｐＨ条件におけるホウケイ酸ガラス又はＳｉＯx皮膜の溶解の平均速度を決定するためにデータをプロットする。ｐＨ６〜８の代表的なプロットは図２７〜２９である。
【０２７８】
ｐｐｂにおけるＳｉ溶解の速度は、除去されたＳｉの総重量を決定し、その後、溶液に曝露したバイアル表面（１１．６５ｃｍ2）の量の表面積計算及びＳｉＯxの密度の２．２ｇ／ｃｍ3を使用することによってＳｉ溶解速度における予測厚さ（ｎｍ）に変換される。図９は、この例の条件及び想定に基づく（所望の２年の保管寿命の終了時に少なくとも３０ｎｍの残留ＳｉＯx皮膜を想定し、且つ２０〜２５℃での保管を想定する）必要とされるＳｉＯx皮膜の予測初期厚さを示す。図９に示すように、皮膜の予測初期厚さは、ｐＨ５において約３６ｎｍ、ｐＨ６において約８０ｎｍ、ｐＨ７において約２３０ｎｍ、ｐＨ７．５において約４００ｎｍ、ｐＨ８において約７５０ｎｍ、及びｐＨ９において約２６００ｎｍである。
【０２７９】
図９における皮膜厚さは、医薬品及びバイオテクノロジー製品における典型的でない過酷な場合の状況を表す。大部分のバイオテクノロジー製品及び多くの医薬製品は冷却された状態で保管され、いずれも室温を超える温度での保管は通常推奨されない。一般的な経験則として、他の全ての条件が同じであれば、保管の温度が低くなるほど必要とされる厚さが低減される。
【０２８０】
この試験に基づき以下の結論に達した。第１に、ＳｉＯx皮膜又はガラスの溶解するＳｉの量はｐＨが増加するにつれて指数関数的に増加する。第２に、８未満のｐＨにおいてＳｉＯx皮膜はホウケイ酸ガラスよりもゆっくりと溶解する。ＳｉＯx皮膜は、経時的に、線形の、単相性（ｍｏｎｏｐｈａｓｉｃ）の溶解を示し、その一方で、ホウケイ酸ガラスは溶液への曝露の早期において、よりゆっくりとした線形の溶解の後に、より急速な溶解を示す傾向にある。これは、ＳｉＯx皮膜の均一な組成に対し、形成プロセス中、いくらかの塩及び要素がホウケイ酸に表面蓄積することに起因する可能性がある。この結果は、８未満のｐＨにおいてガラスの溶解を低減するためにＳｉＯx皮膜をホウケイ酸ガラスバイアルの壁に設けることの有用性を付随的に示唆する。第３に、製剤が保管されるバイアルのための、ＰＥＣＶＤが塗布されたバリア皮膜は、少なくとも製剤がバリア皮膜と著しく相互作用する場合においては、特定の製剤及び提案された保管条件に適合させることが必要である（又はその逆）。
【０２８１】
実施例２７
ｐＨ保護皮膜又は層をその保護皮膜又は層としての機能性について試験するために、ＳｉＯx皮膜＋ＯＭＣＴＳ  ｐＨ保護皮膜又は層で被覆された容器について実験を実施した。容器は、環式オレフィンコポリマー（ＣＯＣ、Ｔｏｐａｓ（登録商標）６０１３Ｍ−０７）を含む５ｍＬバイアル（バイアルには、通常、５ｍＬまでの製品が充填され、キャップが嵌められている場合の、ヘッドスペースなしのそれら容量は約７．５ｍＬである）である。
【０２８２】
６０個の容器のそれら内部表面をＳｉＯx皮膜で被覆した。ＳｉＯx皮膜は、バイアルを被覆するのに好適な機器が使用されること以外は、上に説明した、チューブ内側をＳｉＯxで被覆するためのプロトコルに従い、ＨＭＤＳＯ前駆体ガスを使用して、プラズマ化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）法で作製した。以下の条件が使用される。
ＨＭＤＳＯ流量：０．４７ｓｃｃｍ
酸素流量：７．５ｓｃｃｍ
ＲＦ電力：７０ワット
被覆時間：１２秒（２秒のＲＦ電力ランプアップ時間を含む）
【０２８３】
次に、ＳｉＯx皮膜のものと同じ皮膜装置を使用すること以外は、上に説明したＣＯＣシリンジバレル内部をＯＭＣＴＳ滑性皮膜で被覆するためのプロトコルに従い、ＳｉＯxで被覆されたバイアルのＳｉＯx上を、ＰＥＣＶＤ法でＯＭＣＴＳ前駆体ガスを使用して作製したＳｉＯxＣy皮膜で被覆した。したがって、シリンジを被覆するためのプロトコルにおいて特別な適応は使用されない。以下の条件が使用される。
ＯＭＣＴＳ流量：２．５ｓｃｃｍ
アルゴン流量：１０ｓｃｃｍ
酸素流量：０．７ｓｃｃｍ
ＲＦ電力：３．４ワット
被覆時間：５秒
【０２８４】
８つのバイアルを選択し、上に説明した総ケイ素測定のためのプロトコルを使用して、ＰＥＣＶＤ皮膜（ＳｉＯx＋ＳｉＯxＣy）の総堆積量をＰｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ  Ｏｐｔｉｍａ  Ｍｏｄｅｌ  ７３００ＤＶ  ＩＣＰ−ＯＥＳ機器により決定した。この測定は、両皮膜中のケイ素の総量を決定するものであり、それぞれＳｉＯx皮膜とＳｉＯxＣy皮膜とを区別するものではない。結果を以下に示す。
【０２８５】
【表１２】
2019081610.tif 000020
【０２８６】
以下の研究においては、この実施例に特に明記されない限り、平均溶解速度を決定するためのプロトコルに従う。ｐＨの溶解速度に対する効果を試験するため、残りの実験では、それぞれｐＨ４及びｐＨ８の２つの緩衝ｐＨ試験溶液を使用する。両試験溶液は、リン酸カリウムを緩衝液として使用し、注射用水（ＷＦＩ）で希釈した（０．１ｕｍ滅菌済、濾過済）５０ｍＭ緩衝液である。ｐＨは濃縮硝酸でｐＨ４又は８にそれぞれ調整した。
【０２８７】
２５本のバイアルに、各バイアルに７．５ｍｌの、ｐＨ４の緩衝試験溶液を充填し、他の２５本のバイアルに、各バイアルに７．５ｍｌの、ｐＨ４の緩衝試験溶液を充填した（充填レベルはバイアルの上部まででありヘッドスペースはないことに留意されたい）。バイアルは、予洗したブチルストッパ及びアルミニウムクリンプを使用して閉じた。各ｐＨのバイアルは２つの群に分割した。１２本のバイアルを含む各ｐＨの１つの群を４℃で保管し、１３本のバイアルの第２の群を２３℃で保管する。
【０２８８】
バイアルは、１日目、３日目、６日目、及び８日目にサンプル採取する。この実施例において特に明記されない限りは、容器中の溶解したケイ素を測定するためのプロトコルを使用する。分析結果は各バイアルの緩衝試験溶液中のケイ素の１０億分率に基づき報告される。平均溶解速度を決定するためのプロトコルにおいては、溶解速度は上述のように１日あたりの１０億分率の観点から計算される。各々の保管温度における結果は以下の通りである。
【０２８９】
【表１３】
2019081610.tif 000021
【０２９０】
ｐＨ８及びｐＨ４におけるＯＭＣＴＳベース皮膜のＳｉ溶解対時間の観察では、ｐＨ４の速度は室温条件において高くなることを示す。したがって、ｐＨ４の速度は、溶解するであろう初期皮膜の量を考慮した上で、保管寿命の終了時に適切な厚さの皮膜を残すには初めにどれほどの材料を塗布する必要があるかを決定するために使用される。この計算の結果は以下の通りである。
【０２９１】
【表１４】
2019081610.tif 000022
【０２９２】
この計算に基づくと、３年の計算保管寿命を達成するにはＯＭＣＴＳ保護層を約２．５倍厚くする必要がある（試験された皮膜の全質量を示す１４，３７１ｐｐｂの溶解に対し、３３９４５ｐｐｂの溶解となる）。
【０２９３】
実施例２８
上記の比較実施例２６の結果と実施例２７の結果が以下のように比較されうる。ここで、「ｐＨ保護被膜又は層」とは、実施例ＢＢにおいて言及したＳｉＯxＣyの皮膜である。
【０２９４】
【表１５】
2019081610.tif 000023
【０２９５】
このデータは、ｐＨ８においては、ＳｉＯxＣy皮膜も被覆されたバイアルの、ＳｉＯxのケイ素溶解速度のみが２桁超減少することを示す。
【０２９６】
実施例２９
同様の加速させた溶解条件下で実施したいくつかの異なる実験の以下のデータによって別の比較を示す。そのうちの１日のデータを同様に図１０に示す。
【０２９７】
【表１６】
2019081610.tif 000024
【０２９８】
【表１７】
2019081610.tif 000025
【０２９９】
図１０並びに行Ａ（ＯＭＣＴＳ皮膜を有するＳｉＯx）と行Ｃ（ＯＭＣＴＳ皮膜のないＳｉＯx）の比較では、ｐＨ８においては、ＯＭＣＴＳ  ｐＨ保護被膜又は層もまた、ＳｉＯx皮膜に対する効果的な保護皮膜又は層であることを示す。ＯＭＣＴＳ皮膜では、１日目の溶解速度が２５０４ｕｇ／Ｌ（本明細書では「ｕ」又はμ又はギリシャ文字「ｍｕ」は同一であり、「マイクロ」の略語である）から１６５ｕｇ／Ｌに減少した。このデータは、また、ＨＭＤＳＯベースのＳｉwＯxＣy（又はその均等のＳｉＯxＣy）オーバーコート（行Ｄ）では、ＯＭＣＴＳベースのＳｉwＯxＣy（又はその均等のＳｉＯxＣy）オーバーコート（行Ａ）よりもかなり高い溶解速度になったことを示す。このデータは、線状前駆体に対し、環式前駆体を使用することによりかなりの利点が得られることを示す。
【０３００】
実施例３０
表９に列挙したサンプル１〜６を実施例ＡＡに記載したように調製した。更なる詳細は以下の通りである。
【０３０１】
環式オレフィン共重合体（ＣＯＣ）樹脂を射出成形して５ｍｌバイアルのバッチを形成する。シリコンチップを両面粘着テープによってバイアルの内面壁に接着する。バイアル及びチップはプラズマ化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）によって２層皮膜で被覆した。第１層は本開示に定義されるバリア特性を備えたＳｉＯxを含み、第２層はＳｉＯxＣy  ｐＨ保護皮膜又は層であった。
【０３０２】
ＯＭＣＴＳ、アルゴン及び酸素を含む前駆体混合ガスを各バイアル内部に導入した。バイアル内部のガスを高周波（１３．５６ＭＨｚ）電源により容量結合電極間において励起した。単位ｓｃｃｍにおけるモノマー流量（Ｆm）、単位ｓｃｃｍにおける酸素流量（Ｆo）、ｓｃｃｍにおけるアルゴン流量、及び単位ワットにおける電力（Ｗ）を表９に示す。
【０３０３】
ｋＪ／ｋｇの単位における複合パラメータ（ｃｏｍｐｏｓｉｔｅ  ｐａｒａｍｅｔｅｒ）Ｗ／ＦＭは、プロセスパラメータＷ、Ｆｍ、Ｆｏ及び個々のガス種のｇ／モルにおける分子量Ｍから計算した。Ｗ／ＦＭは重合ガスの単位質量あたりエネルギ入カと定義される。重合ガスは、モノマー及び酸素などであるがそれらに限定されない、成長する皮膜に組み込まれる種と定義される。非重合ガス（Ｎｏｎ−ｐｏｌｙｍｅｒｉｚｉｎｇ  ｇａｓｅｓ）は、対照的に、アルゴン、ヘリウム及びネオンなどであるがそれらに限定されない、成長する皮膜に組み込まれることのない種である。
【０３０４】
この試験においては、高Ｗ／ＦＭにおけるＰＥＣＶＤ処理により高いモノマーフラグメンテーション（ｍｏｎｏｍｅｒ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ）が発生し、より高い架橋結合密度を有する有機シロキサン皮膜を生成したと考えられる。比較すると、低いＷ／ＦＭにおけるＰＥＣＶＤ処理により、より低いモノマーフラグメンテーションが発生し、比較的低い架橋結合密度を有する有機シロキサン皮膜を生成したと考えられる。
【０３０５】
異なる皮膜間におけるサンプル５、６、２及び３の相対的な架橋結合密度を、ＦＴＩＲ吸光度スペクトルを測定することによって比較した。サンプル５、６、２及び３のスペクトルを図１３〜１６に提供する。各スペクトルにおいて、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の対称伸縮モード（１０００〜１０４０ｃｍ-1）におけるピーク吸光度に対する非対称伸縮モード（１０６０〜１１００ｃｍ-1）におけるピーク吸光度の比率を測定し、これら２つの測定値の比率を全て表９に示すように計算した。図１１に示すように、各々の比率は複合パラメータＷ／ＦＭに対して線形相関を有することが判明した。
【０３０６】
定性的関係（シリコンチップに塗布した場合に皮膜が油性（光沢があり、しばしば虹色の光彩を伴う）に見えるか非油性（光沢がない）に見えるか）もまた、表９のＷ／ＦＭ値と相関することが判明した。表９に確認されるように、低いＷ／ＦＭ値で堆積させた油性外観の皮膜（Ｏｉｌｙ  ａｐｐｅａｒｉｎｇ  ｃｏａｔｉｎｇｓ）は、それらのより低い対称／非対称比率によって決定されるように、より高いＷ／ＦＭ及びより高い架橋結合密度で堆積させた非油性皮膜と比べてより低い架橋結合密度を有すると考えられる。この一般的な経験則から唯一除外されるのは表９のサンプル２である。サンプル２の皮膜はそれが薄すぎるために見えなかったことから非油性の外観を呈したと考えられる。したがって、表９においてサンプル２の油性観察は報告されなかった。赤外線スペクトルをチップ及びサンプル皮膜に透過させ、非被覆ヌルチップ（ｎｕｌｌ  ｃｈｉｐ）の透過を減じた、透過モードにおけるＦＴＩＲによってチップを分析した。
【０３０７】
下地ＳｉＯx皮膜を高いｐＨ及び温度の水溶液から保護する、高いＷ／ＦＭ値で作製した非油性有機シロキサン層が好適であったが、これは、表９に確認されるように、それらが低いＳｉ溶解及び長い保管寿命を提供したことが理由である。例えば、油性皮膜における大幅に短い保管寿命及び高い溶解速度とは対照的に、非油性皮膜においてはｐＨ８及び４０℃のバイアルの内容による計算ケイ素溶解は低減され、結果的な保管寿命はある場合においては１３８１日、別の場合においては１１４７日であった。計算保管寿命は実施例ＡＡに関して示したように決定した。計算保管寿命は、また、有機シロキサンｐＨ保護皮膜又は層におけるＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の対称伸縮モードと非対称伸縮モードの比率に線形に相関する。
【０３０８】
サンプル６は特にサンプル５と比較されうる。有機シロキサン、ｐＨ保護皮膜又は層を表９のサンプル６のプロセス条件に従い堆積させた。皮膜を高Ｗ／ＦＭで堆積させた。これにより、０．９５８の高いＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称／非対称比率を有する非油性皮膜が形成され、結果的に、８４．１ｐｐｂ／日の低い溶解速度（平均溶解速度を決定するためのプロトコルによって測定した）及び１１４７日の長い保管寿命（計算保管寿命を決定するためのプロトコルによって測定した）となった。対称Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピーク吸光度と比べると比較的類似している非対称Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピーク吸光度を呈するこの皮膜のＦＴＩＲスペクトルを図３５に示す。これは高い架橋結合密度の皮膜を示すものであり、ｐＨ保護及び長い保管寿命において好適な特性である。
【０３０９】
有機シロキサンｐＨ保護皮膜又は層を表９のサンプル５のプロセス条件に従い堆積させた。皮膜は中程度のＷ／ＦＭで堆積させた。これにより、０．６７３の低いＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称／非対称比率を有する油性皮膜が形成され、結果的に、２３６．７ｐｐｂ／日の高い溶解速度（平均溶解速度を決定するためのプロトコルに準ずる）及び２７１日のより短い保管寿命（計算保管寿命を決定するためのプロトコルに準ずる）になった。対称Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピーク吸光度と比べると比較的高い非対称Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピーク吸光度を呈するこの皮膜のＦＴＩＲスペクトルを図１３に示す。これは低い架橋結合密度の皮膜を示すものであり、いずれの実施形態においてもｐＨ保護及び長い保管寿命にとって好ましくない特性であると考えられる。
【０３１０】
サンプル２は特にサンプル３と比較されうる。ｐＨ保護皮膜又は層は表９のサンプル２のプロセス条件に従い堆積させた。皮膜は低いＷ／ＦＭで堆積させた。これにより、０．５８２の低いＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称／非対称比率を呈する皮膜が形成され、結果的に、１７４ｐｐｂ／日の高い溶解速度及び１０７日の短い保管寿命になった。対称Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピーク吸光度と比べると比較的高い非対称Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピーク吸光度を呈するこの皮膜のＦＴＩＲスペクトルを図３６に示す。これは低い架橋結合密度の皮膜を示すものであり、ｐＨ保護及び長い保管寿命においては好ましくない特性である。
【０３１１】
有機シロキサン、ｐＨ  ｐＨ保護皮膜又は層は表９のサンプル３のプロセス条件に従い堆積させた。皮膜は高Ｗ／ＦＭで堆積させた。これにより、０．９４７の高いＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称／非対称比率を有する非油性皮膜が形成され、結果的に、７９．５ｐｐｂ／日の低いＳｉ溶解速度（平均溶解速度を決定するためのプロトコルに準ずる）及び１３８１日の長い保管寿命（計算保管寿命を決定するためのプロトコルに準ずる）になった。対称Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピーク吸光度と比べると比較的類似している非対称Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピーク吸光度を呈するこの皮膜のＦＴＩＲスペクトルを図３７に示す。これは高い架橋結合密度の皮膜を示すものであり、ｐＨ保護及び長い保管寿命において好適な特性である。
【０３１２】
【表１８】
2019081610.tif 000026
【０３１３】
実施例３１
この例及び表１０（結果が表にされている）に示すように変更を加え、実施例２７と同様の実験を実施した。１００本の５ｍＬＣＯＰバイアルを作製し、サンプルＰＣ１９４では不活性化層又はｐＨ保護皮膜のみを塗布したこと以外は、上に記載したようにＳｉＯxバリア層及びＯＭＣＴＳベースのｐＨ保護皮膜又は層で被覆した。表１０に報告されるように、バイアルの表面から抽出され、全ｐＨ保護皮膜又は層を除去する皮膜量を１０億分率において再度測定した。
【０３１４】
この例では、いくつかの異なる皮膜溶解条件を用いた。溶解のために使用した試験溶液は、０．０２ｗｔ．％又は０．２ｗｔ．％いずれかのポリソルベート８０界面活性剤、並びに８のｐＨを維持するための緩衝液を含有するものであった。溶解試験を２３℃又は４０℃のいずれかにおいて実施した。
【０３１５】
複数のシリンジに各試験溶液を充填し、示した温度で保管し、抽出プロファイル及び抽出されたケイ素の量を決定するためにいくつかの間隔をおいて分析した。長期に及んだ保管時間の平均溶解速度を、その後、平均溶解速度を決定するためのプロトコルに従って得たデータを外挿することによって計算した。結果は上に記載した通りに計算し、表１０に示す。特に注目すべきは、表１０に示すように、ＰＣ１９４  ｐＨ保護皮膜又は層によって充填済みパッケージの非常に長い計算保管寿命が提供されたことである。
【０３１６】
ｐＨ８、０．０２ｗｔ．％ポリソルベート８０界面活性剤、２３℃における保管に基づくと、２１０４５日（５７年超）、
【０３１７】
ｐＨ８、０．２ｗｔ．％ポリソルベート８０界面活性剤、２３℃における保管に基づくと、３８７６８日（１００年超）
【０３１８】
ｐＨ８、０．０２ｗｔ．％ポリソルベート８０界面活性剤、４０℃における保管に基づくと、８１８４日（２２年超）、及び、
【０３１９】
ｐＨ８、０．２ｗｔ．％ポリソルベート８０界面活性剤、４０℃における保管に基づくと、１４７３２日（４０年超）。
【０３２０】
表１０を参照すると、最長計算保管寿命は１５０ワットのＲＦ電力レベル及び対応する高Ｗ／ＦＭ値の使用に対応する。使用する電力レベルが高くなるほどｐＨ保護皮膜又は層の架橋結合密度が高くなると考えられる。
【０３２１】
【表１９】
2019081610.tif 000027
【０３２２】
実施例３２
ＲＦ電力レベルの継続的な増加の、ｐＨ保護皮膜又は層のＦＴＩＲ吸光度スペクトルに対する影響を示す、実施例３１のものに類似する更なる一連の実験を実施した。結果は表１１に示す。表１１では、いずれの場合においても、通常、約１０００〜１０４０ｃｍ-1に位置するＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称伸縮ピークの最大振幅と、通常、約１０６０〜約１１００ｃｍ-1に位置するＳｉ−Ｏ−Ｓｉ非対称伸縮ピークの最大振幅との間において０．７５を超える対称／非対称比率を示す。したがって、特に定めのない限り比較可能な条件下における対称／非対称比率は、２０Ｗの電力レベルにおいては０．７９、４０Ｗ、６０Ｗ又は８０Ｗの電力レベルにおいては１．２１又は１．２２、１００ワットにおいては１．２６である。
【０３２３】
表１１の１５０ワットのデータは他のデータとは幾分異なる条件下でとったものであり、上に記載した２０〜１００ワットのデータと直接比較することはできない。表１１のサンプル６及び８のＦＴＩＲデータはバイアルの上部からとったものであり、表１１のサンプル７及び９のＦＴＩＲデータはバイアルの下部からとったものである。また、表１１のサンプル８及び９においては、ＯＭＣＴＳの量をサンプル６及び７に比べて半分に削減した。表１１のサンプル６及び７とサンプル８及び９との比較によって示されるように、１５０Ｗの電力レベルを維持する一方で酸素レベルを低減すると対称／非対称比率が更に上昇した。
【０３２４】
他の条件が等しければ、対称／非対称比率を増加すると、５を超えるｐＨを有する材料が充填された容器の保管寿命は増加すると考えられる。
【０３２５】
表１２は、表１１に概要を示した実験の、計算したＯパラメータ及びＮパラメータ（米国特許第８，０６７，０７０号明細書に定義された）を示す。表１２に示すように、０．１３４〜０．３４３の範囲のＯパラメータ及び０．４０８〜０．６２３の範囲のＮパラメータは全て米国特許第８，０６７，０７０号明細書において請求した範囲外である。
【０３２６】
【表２０】
2019081610.tif 000028
【０３２７】
【表２１】
2019081610.tif 000029
【０３２８】
実施例３３
この実施例の目的は、ガラス、ＣＯＰ及び被覆バイアルからの、僅かに粘性の水溶液の回収性（ｒｅｃｏｖｅｒａｂｉｌｉｔｙ）又は排出を評価することである。
【０３２９】
この試験では、（Ａ）非被覆ＣＯＰバイアル、（Ｂ）シリンジバレル内部をＳｉＯxで被覆するための上記プロトコル、続いてシリンジバレル内部をＯＭＣＴＳＰＨ保護皮膜又は層で被覆するためのプロトコルに従って作成したＳｉＯx＋ｐＨ保護層被覆ＣＯＰバイアル、及び（Ｃ）ガラスバイアルからの、注射用水中の３０ｃｐｓ（センチポアズ）炭水化物溶液の回収を評価した。
【０３３０】
２．０ｍｌの炭水化物溶液を、それぞれ、ガラス、ＣＯＰ、及びｐＨ保護皮膜バイアルである３０個のバイアルにピペットで移した。溶液をバイアルから１０ｍｌシリンジで、２３ゲージ、１．５”針により吸引した。溶液が回収される量が最大になるように吸引するため、バイアルを片側に傾けた。全バイアルについて同じ手法及び同様の引き出し時間（ｗｉｔｈｄｒａｗａｌ  ｔｉｍｅ）を使用した。バイアルを、空のとき、２．０ｍｌの溶液をバイアルに配置した後、バイアルから溶液の吸引を終えたときに計量した。バイアルに送達された量は、（Ａ）空バイアルの重量を、２．０ｍｌの溶液を有するバイアルの重量から減ずることにより決定した。回収されなかった溶液の重量は、（Ｂ）空バイアルの重量を、溶液をバイアルから吸引した後のバイアルの重量から減ずることにより決定した。未回収比率はＢをＡで除算し、１００を乗じることにより決定した。
【０３３１】
薬物製品の吸引時、ガラスバイアルが溶液で濡れたままであることが観察された。ＣＯＰバイアルは液体をはじいた及び溶液がバイアルから吸引された際。これが回収の助けとなったが、液滴が吸引時バイアルの側壁に玉を形成する（ｂｅａｄ）のが観察された。ｐＨ保護皮膜バイアルもまた吸引時に液体をはじいたが側壁に溶液の玉形成（ｂｅａｄｉｎｇ）は観察されなかった。
【０３３２】
結論は、ｐＨ保護皮膜バイアルはガラスバイアルが濡れるようには水溶液で濡れず、ガラスと比して薬物製品の優れた回収につながるというものであった。ｐＨ保護皮膜バイアルでは、水性製品の吸引時、側壁における溶液の玉形成の発生は観察されなかった。したがって、製品回収実験においては、被覆されたバイアルは非被覆ＣＯＰバイアルよりも良好に機能した。
【０３３３】
実施例３４
シリンジ試料は以下のように作製した。ＣＯＣシリンジバレルを形成するためのプロトコルに従って、ＣＯＣ８００７延伸バレルシリンジを作製した。ＣＯＣシリンジバレル内部をＳｉＯxで被覆するためのプロトコルに従って、ＳｉＯx皮膜又は層をシリンジの幾つかに塗布した。以下のように変更を加えた、ＣＯＣシリンジバレル内部をＯＭＣＴＳ滑性皮膜で被覆するためのプロトコルに従い、ｐＨ保護皮膜又は層をＳｉＯx被覆シリンジに塗布した。ＯＭＣＴＳは揮発性が低いため、気化器から供給した。アルゴンキャリアガスを使用した。プロセス条件は以下のように設定した。
・ＯＭＣＴＳ  −  ３ｓｃｃｍ
・アルゴンガス  −  ６５ｓｃｃｍ
・電力  −  ６ワット
・時間  −  １０秒
【０３３４】
表に記載した試料を作製する時にコータに僅かな漏れがあったことが後で判明し、その推定酸素流は１．０ｓｃｃｍであった。試料は酸素を導入せずに作製した。
【０３３５】
これらの実施例に従って作製される皮膜は、バリア皮膜又は層が設けられているがｐＨ保護皮膜又は層は設けられていない類似の容器と比較して容器の保管寿命を延長するためのプライマー皮膜又は層として、また保護皮膜又は層としても機能すると考えられている。
【０３３６】
三層皮膜のＰＥＣＶＤプロセス
本明細書に記載のＰＥＣＶＤ三層皮膜を、例えば、次のように１ｍＬ容器〜５ｍＬ容器に関して塗布することができる。２つの特定の実施例は、１ｍＬ熱可塑性樹脂シリンジ及び５ｍＬ熱可塑性樹脂薬物バイアルである。それより大きい又は小さい容器はパラメータの調節を必要とし、当業者はそれを本明細書の開示に鑑みて実施することができる。
【０３３７】
使用する装置は、本明細書に一般的に記載したような回転四極磁石（ｒｏｔａｔｉｎｇ  ｑｕａｄｒｕｐｏｌｅ  ｍａｇｎｅｔｓ）を有するＰＥＣＶＤ装置である。
【０３３８】
１ｍＬシリンジバレルの三層皮膜に関する一般被覆パラメータ範囲をＰＥＣＶＤ三層プロセス一般パラメータ表（１ｍＬシリンジ及び５ｍＬバイアル）に示し、好ましい範囲を括弧内に示す。
【０３３９】
【表２２】
2019081610.tif 000030
【０３４０】
【表２３】
2019081610.tif 000031
【０３４１】
実施例３５
１ｍＬシリンジ及び５ｍＬバイアルに使用した特定被覆パラメータの実施例をＰＥＣＶＤ三層プロセス特定のパラメータ表（１ｍＬシリンジ及び５ｍＬバイアル）に示す。
【０３４２】
【表２４】
2019081610.tif 000032
【０３４３】
【表２５】
2019081610.tif 000033
【０３４４】
前述の１ｍＬシリンジに塗布されたｐＨ保護皮膜又は層のＯパラメータ値及びＮパラメータ値は、それぞれ０．３４及び０．５５である。
【０３４５】
５ｍＬバイアルに塗布されたｐＨ保護皮膜又は層のＯパラメータ値及びＮパラメータ値は、それぞれ０．２４及び０．６３である。
【０３４６】
実施例３６
図１８及び表、実施例３６を参照すると、固定（ｓｔａｋｅｄ）針（ＰＥＣＶＤ堆積中に存在する）及び表示する三層皮膜（平均厚さ：接着又はタイコート皮膜又は層３８ｎｍ；バリア皮膜又は層５５ｎｍ、ｐＨ保護皮膜又は層２７３ｎｍ）を有する１ｍＬシリンジの長さに沿った４つの点における厚さの均一性が示されている。表は、印を付けた４つの点における個々の層の厚さを示し、高プロファイルシリンジバレルに沿った各点で各層が十分な厚さを有することを示す。
【０３４７】
【表２６】
2019081610.tif 000034
【０３４８】
図１９を参照すると、プロットは、図１８に示すバレルの円筒内面の部分の皮膜厚さをマッピングするが、長方形になるように展開されている。三層皮膜の厚さの範囲全体は５７２±８９ｎｍである。
【０３４９】
図２０は、図１８に示す点２でのＣＯＰシリンジ基板上の三層皮膜の断面を示す顕微鏡写真である。
【０３５０】
図１８〜図２０の三層皮膜に類似する皮膜を有するシリンジの保管寿命を、本明細書に記載のケイ素溶解及び外挿方法を用いて試験し、二層皮膜（タイコート皮膜又は層がないこと以外、三層皮膜に類似している）を有するシリンジ、及びバリア層がなくシリンジの熱可塑性バレルに直接塗布されたｐＨ保護皮膜又は層だけである単層皮膜を有するシリンジと比較する。試験溶液は０．２％Ｔｗｅｅｎ、ｐＨ８リン酸緩衝液であった。単層皮膜及び三層皮膜の外挿された保管寿命は類似しており、非常に長く、約１４年であった。二層皮膜を有するシリンジの保管寿命はずっと短く、２年未満であった。換言すれば、ｐＨ保護層の下にバリア層が存在すると、皮膜の保管寿命が大幅に短くなるが、バリア層の下にタイコート皮膜又は層を設け、バリア皮膜又は層を各ＳｉＯxＣy層で挟持することにより、保管寿命が回復した。バリア層はガスバリアを確立するために必要であり、そのため、単層被膜は単独で十分なガスバリア特性を提供するとは考えられない。従って、露出したバリア皮膜又は層を攻撃する溶液と接触したままでも、ガスバリア特性と長い保管寿命とを併せ持ったのは三層皮膜だけであった。
【０３５１】
実施例３７
図２１及び図２２は、内径に対してずっと短い、従って均一に被覆し易い５ｍＬバイアルの三層皮膜分布を示し、皮膜厚さのばらつきがほとんどなく、被覆された表面の大部分は三層の厚さ１５０〜２５０ｎｍであり、容器を被覆した三層が５０〜２５０ｎｍであったのはごく一部だけであった。
【０３５２】
実施例３８
図２３は、バイアル位置による皮膜厚さ（ｎｍ）の内訳を示す。バイアル皮膜分布表は、皮膜の均一性を示す。
【０３５３】
【表２７】
2019081610.tif 000035
【０３５４】
実施例３９
図２４は、前述の三層バイアル皮膜の完全性を示す目視検査結果である。図２４及び図２４Ａの３本の５ｍＬ環状オレフィン重合体（ＣＯＣ）バイアルは、それぞれ：
・非被覆（左側のバイアル）、
・本明細書に記載の二層皮膜（バリア皮膜又は層＋ｐＨ保護皮膜又は層−三層皮膜の第２の成分と第３の成分）を被覆したもの（中央のバイアル）；及び
・本明細書に記載の三層皮膜を被覆したもの（右側のバイアル）、
であった。
【０３５５】
３本のバイアルをそれぞれ、１Ｎ水酸化カリウムに４時間曝露した後、皮膜により保護されていない熱可塑性バイアルの露出部分があれば色を濃くする酸化ルテニウム（ＲｕＯ４）染色剤に２４時間曝露した。高ｐＨ水酸化カリウムへの曝露により、バリア皮膜又は層の露出部分はかなりの割合で浸食されるが、インタクトなｐＨ保護皮膜又は層により大きく低減する。特に、皮膜系にピンホールがあれば、高ｐＨ曝露により広がる。図♯２４に示すように、非被覆バイアルは完全に黒色であり、有効な皮膜が存在しないことを示す。二層皮膜は、処理条件で大部分インタクトな状態であったが、顕微鏡検査では多くのピンホール（図２４Ａで示す）を有し、ピンホールではルテニウム染色剤が皮膜を通って熱可塑性基板に達した。二層皮膜の全体的外観は、染色剤が浸透した目に見える「汚染」領域を明確に示す。しかし、三層皮膜は、染色剤が浸透しないようにバイアル全体を保護し、図示されるバイアルは処理後も透明なままである。これは、バリア皮膜又は層を２つのＳｉＯxＣy層間に挟持し、この両方によりバリア層の直接的な腐食、並びにバリア層の下側の浸食及びバリア層の薄片の除去が起こらないようにバリア層が保護される結果であると考えられる。
【図１】
2019081610.tif 000038
【図２】
2019081610.tif 000039
【図３】
2019081610.tif 000040
【図４】
2019081610.tif 000041
【図５】
2019081610.tif 000042
【図６】
2019081610.tif 000043
【図７】
2019081610.tif 000044
【図８】
2019081610.tif 000045
【図９】
2019081610.tif 000046
【図１０】
2019081610.tif 000047
【図１１】
2019081610.tif 000048
【図１２】
2019081610.tif 000049
【図１３】
2019081610.tif 000050
【図１４】
2019081610.tif 000051
【図１５】
2019081610.tif 000052
【図１６】
2019081610.tif 000053
【図１７】
2019081610.tif 000054
【図１８】
2019081610.tif 000055
【図１９】
2019081610.tif 000056
【図２０】
2019081610.tif 000057
【図２１】
2019081610.tif 000058
【図２２】
2019081610.tif 000059
【図２３】
2019081610.tif 000060
【図２４】
2019081610.tif 000061
【図２４Ａ】
2019081610.tif 000062
【図２５】
2019081610.tif 000063
【図２６】
2019081610.tif 000064
【図２７】
2019081610.tif 000065
【図２８】
2019081610.tif 000066
【図２９】
2019081610.tif 000067
【図３０】
2019081610.tif 000068
【図３１】
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【図３２】
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【手続補正書】
【提出日】平成31年1月11日(2019.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
・内腔の少なくとも一部を囲む内部表面を有する熱可塑性の壁と；
・ＳｉＯxＣyＨz又はＳｉＮxＣyＨz（式中、ｘは、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）により測定した場合、０．５〜２．４であり、ｙは、ＸＰＳにより測定した場合、０．６〜３であり、ｚは、ラザフォード後方散乱分光法（ＲＢＳ）又は水素前方散乱法（ＨＦＳ）の少なくとも一方により測定した場合、２〜９である）を含み又はそれからなり、壁面に面する外面と、内部表面とを有するタイコート皮膜又は層と；
・前記タイコート皮膜又は層の内部表面と前記内腔との間に配置される、ＳｉＯx（式中、ｘは、ＸＰＳにより測定した場合、１．５〜２．９である）のバリア皮膜又は層と；
・前記バリア皮膜又は層と前記内腔との間に配置される、ＳｉＯxＣyＨz（式中、ｘは、ＸＰＳにより測定した場合、０．５〜２．４であり、ｙは、ＸＰＳにより測定した場合、０．６〜３であり、ｚは、ＲＢＳ又はＨＦＳの少なくとも一方により測定した場合、２〜９である）のｐＨ保護皮膜又は層と
を含む、又はそれらからなる容器であって、
前記ｐＨ保護皮膜又は層は、
【数１】
2019081610.tif 000071
として測定される、減衰全反射（ＡＴＲ）で測定されるＯパラメータが０．４未満であり、
併用して有効な前記ｐＨ保護皮膜又は層とタイコート皮膜又は層とは、少なくとも６か月間、前記内腔に収容された５より高いｐＨを有する流体に攻撃されても前記バリア皮膜又は層を少なくとも実質的に非溶解状態に保つものである、前記容器。
【請求項２】
前記タイコート皮膜又は層、前記バリア皮膜又は層、あるいは前記ｐＨ保護被膜又は層の少なくとも１つが、プラズマ化学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）により塗布される、請求項１に記載の容器。
【請求項３】
シリンジバレル、バイアル、カートリッジ、又はブリスターパッケージを含む又はそれからなる、請求項１〜２のいずれか一項に記載の容器。
【請求項４】
前記熱可塑性の壁の少なくとも一部が、
・ポリオレフィン、
・ポリビニルアルコール、
・ポリメタクリレートエーテル
・ポリアクリル酸
・ポリアミド
・ポリイミド
・ポリスルホン
・ポリ乳酸
・環状オレフィン重合体又は共重合体
・ポリエステル
・ポリオレフィンとポリエステルとの組合せ、又は
・これらのいずれか１つの組合せ
を含む又はそれからなる、請求項１〜３のいずれか一項に記載の容器。
【請求項５】
前記ｐＨ保護皮膜又は層あるいはタイコート皮膜又は層の少なくとも一方に関して、ｘが、ＸＰＳにより測定した場合、１〜２であり、ｙが、ＸＰＳにより測定した場合、０．６〜１．５であり、ｚが、ＲＢＳ又はＨＦＳにより測定した場合、２〜５である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の容器。
【請求項６】
前記ｐＨ保護皮膜又は層が、厚さ１０〜１０００ｎｍである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の容器。
【請求項７】
前記内腔に収容された５より高いｐＨを有する流体が直接接触した場合の前記ｐＨ保護皮膜又は層の浸食速度が、前記同じ条件下で前記同じ流体が直接接触した場合の前記バリア皮膜又は層の浸食速度の２０％未満である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の容器。
【請求項８】
前記内腔に収容された５より高いｐＨを有する流体が直接接触する時、元来は２０℃の前記流体を収容する前記容器の保管に基づき、あるいは４０℃の前記流体を収容する前記容器の保管に基づき、保管寿命が少なくとも２年である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の容器。
【請求項９】
前記内腔に収容された５より高いｐＨを有する流体が、前記流体と８８時間接触する毎にｐＨ保護皮膜又は層厚さ１ｎｍ以下の割合で、前記ｐＨ保護皮膜又は層を除去する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の容器。
【請求項１０】
前記ｐＨ保護皮膜又は層のＦＴＩＲ吸光度スペクトルは、
・１０００〜１０４０ｃｍ-1における前記Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ対称伸縮ピークの最大振幅と、
・１０６０〜１１００ｃｍ-1における前記Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ非対称伸縮ピークの最大振幅と、
の比率が０．７５より大きい、請求項１〜９のいずれか一項に記載の容器。
【請求項１１】
前記タイコート皮膜又は層が平均して厚さ５〜２００ｎｍである、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の容器。
【請求項１２】
内壁に前記タイコート皮膜又は層、バリア皮膜又は層、及びｐＨ保護皮膜又は層が被覆されているシリンジバレルを有し、前記バレル内に着座するプランジャを更に有し、前記内腔に収容された５より高いｐＨを有する医薬組成物を収容するプレフィルドシリンジであって、少なくとも６ヶ月の保管寿命を有するプレフィルドシリンジである、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の容器。
【請求項１３】
５より高いｐＨを有する流体を保管するための、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の容器の使用。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の容器の製造方法であって、
・タイコート皮膜又は層を形成する工程と；
・バリア皮膜又は層を形成する工程と；
・前記バリア皮膜又は層と前記内腔との間に配置されるｐＨ保護皮膜又は層を形成する工程と；
を含み、
前記ｐＨ保護皮膜又は層とタイコート皮膜又は層とを併用すると、少なくとも６か月間、前記内腔に収容された５より高いｐＨを有する流体に攻撃されても前記バリア皮膜又は層を少なくとも実質的に非溶解状態に保つのに有効である方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２４５】
ＡＦＭ（原子間力顕微鏡法）手順
ＡＦＭ画像は、ＮａｎｏＳｃｏｐｅ  ＩＩＩ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ  ３０００マシン（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ，Ｓａｎｔａ  Ｂａｒｂａｒａ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ，ＵＳＡ）を使用して収集した。機器はＮＩＳＴにトレース可能な標準に照らして校正した。エッチングされたシリコン製の走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）チップを使用した。自動平坦化（ａｕｔｏ−ｆｌａｔｔｅｎｉｎｇ）、平面フィッティング又は畳み込みを含む画像処理手順を用いた。１つの１０μｍｘ１０μｍ面積を画像化した。粗さ分析を実施し、以下において表した。（１）二乗平均粗さ（Ｒｏｏｔ−Ｍｅａｎ−Ｓｑｕａｒｅ  Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ）、ＲＭＳ、２  平均粗さ、Ｒａ、及び（３）最大高さ（山対谷）、Ｒmax。これらは全てｎｍで測定した（表５）。粗さ分析のため、各サンプルを１０μｍｘ１０μｍ面積上において画像化し、続いて、１０μｍｘ１０μｍ画像においてフィーチャを切断する３つの断面を分析者が選択した。フィーチャの垂直深さは断面ツール（ｃｒｏｓｓ  ｓｅｃｔｉｏｎ  ｔｏｏｌ）を使用して測定した。各断面について、二乗平均粗さ（ＲＭＳ）をナンメートルで報告した。これらＲＭＳ値を各サンプルの３つの断面の平均値とともに表５に示す。