(57)【要約】      （修正有）【課題】剥離剤層が貼付される対象物に対して、当該剥離剤層から移行するケイ素含有成分の量を低減できる剥離シートを提供する。【解決手段】基材と、式（ａ）で表される４官能シラン系化合物（Ａ）及び式（ｂ−１）で表される成分を含む３官能シラン系化合物（Ｂ）を含有する剥離剤組成物から形成された剥離剤層とを有する、剥離シート。更に成分（Ａ）と成分（Ｂ）の合計１００モル％に対して、０．０１０〜５０．０００モル％の金属触媒（Ｃ）を含む剥離シート。Ｓｉ（ＯＲ１）ｐ（Ｘ１）４−ｐ・・・（ａ）Ｒ２Ｓｉ（ＯＲ３）ｑ（Ｘ２）３−ｑ・・・（ｂ−１）（Ｒ１及びＲ３は各々独立にＣ１〜６のアルキル；Ｒ２は置換／非置換のＣ６−２４のアルキル、Ｘ１及びＸ２は各々独立にハロゲン；ｐ及びｑは各々独立に０〜３の整数）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、下記成分（Ａ）及び（Ｂ）を含有する剥離剤組成物から形成された剥離剤層とを有する、剥離シート。
成分（Ａ）：下記一般式（ａ）で表される４官能シラン系化合物
Ｓｉ（ＯＲ１）ｐ（Ｘ１）４−ｐ      （ａ）
〔一般式（ａ）中、Ｒ１は、炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｘ１は、ハロゲン原子を表す。Ｒ１及びＸ１が複数存在する場合、複数のＲ１及びＸ１は、互いに同一でも、異なっていてもよい。ｐは０〜４の整数を表す。〕
成分（Ｂ）：下記成分（Ｂ−１）を含有する３官能シラン系化合物
成分（Ｂ−１）：下記一般式（ｂ−１）で表される３官能シラン系化合物
Ｒ２Ｓｉ（ＯＲ３）ｑ（Ｘ２）３−ｑ      （ｂ−１）
〔一般式（ｂ−１）中、Ｒ２は、炭素数６〜２４のアルキル基を表し、該アルキル基は置換基を有していてもよい。Ｒ３は、炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｘ２は、ハロゲン原子を表す。Ｒ３及びＸ２が複数存在する場合、複数のＲ３及びＸ２は、互いに同一でも、異なっていてもよい。ｑは０〜３の整数を表す。〕
【請求項２】
前記剥離剤組成物が、更に、成分（Ｃ）である金属触媒を含有し、成分（Ｃ）の含有量が、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の合計１００モル％に対して、０．０１０モル％以上、５０．０００モル％以下である、請求項１に記載の剥離シート。
【請求項３】
成分（Ｃ）が、チタン系触媒、ジルコニウム系触媒、パラジウム系触媒、錫系触媒、アルミニウム系触媒、及び亜鉛系触媒からなる群から選ばれる少なくとも１種である、請求項２に記載の剥離シート。
【請求項４】
成分（Ｂ−１）が、一般式（ｂ−１）中、Ｒ２が置換基を有さない炭素数６〜２４のアルキル基を表す３官能シラン系化合物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の剥離シート。
【請求項５】
前記剥離剤組成物が、下記条件（Ｉ）を満たす、請求項１〜４のいずれか１項に記載の剥離シート。
条件（Ｉ）：成分（Ｂ）のモル量に対する成分（Ａ）のモル量の比〔（Ａ）／（Ｂ）〕（モル比）が、０．０１以上、５０．０以下
【請求項６】
成分（Ｂ−１）が、一般式（ｂ−１）中、Ｒ２が、炭素数６〜１４のアルキル基を表す３官能シラン系化合物である場合、前記剥離剤組成物が、下記条件（II）を満たす、請求項１〜５のいずれか１項に記載の剥離シート。
条件（II）：成分（Ｂ−１）のモル量に対する成分（Ａ）のモル量の比〔（Ａ）／（Ｂ−１）〕（モル比）が、０．５以上
【請求項７】
成分（Ｂ−１）が、一般式（ｂ−１）中、Ｒ２が、炭素数１５〜２４のアルキル基を表す３官能シラン系化合物である場合、前記剥離剤組成物が、下記条件（III）を満たす、請求項１〜５のいずれか１項に記載の剥離シート。
条件（III）：成分（Ｂ−１）のモル量に対する成分（Ａ）のモル量の比〔（Ａ）／（Ｂ−１）〕（モル比）が、６．０以上
【請求項８】
成分（Ｂ）が、更に、下記成分（Ｂ−２）を含有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の剥離シート。
成分（Ｂ−２）：下記一般式（ｂ−２）で表される３官能シラン系化合物
Ｒ４Ｓｉ（ＯＲ５）ｒ（Ｘ３）３−ｒ      （ｂ−２）
〔一般式（ｂ−２）中、Ｒ４は、炭素数１〜５のアルキル基を表し、該アルキル基は置換基を有していてもよい。Ｒ５は、炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｘ３は、ハロゲン原子を表す。Ｒ５及びＸ３が複数存在する場合、複数のＲ５及びＸ３は、互いに同一でも、異なっていてもよい。ｒは０〜３の整数を表す。〕
【請求項９】
成分（Ｂ−２）が、一般式（ｂ−２）中、Ｒ４が置換基を有さない炭素数１〜５のアルキル基を表す３官能シラン系化合物である、請求項８に記載の剥離シート。
【請求項１０】
成分（Ｂ−１）と成分（Ｂ−２）とが、下記条件（IV）を満たす、請求項８又は９に記載の剥離シート。
条件（IV）：成分（Ｂ−１）及び成分（Ｂ−２）の合計モル量に対する成分（Ｂ−１）のモル量の比〔（Ｂ−１）／｛（Ｂ−１）＋（Ｂ−２）｝〕（モル比）が、０．０２０以上
【請求項１１】
成分（Ｂ−１）の含有量が、成分（Ｂ）１００質量％中、５０質量％以上１００質量％以下である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の剥離シート。
【請求項１２】
前記剥離剤組成物が、更に成分（Ｄ）である酸触媒を含み、成分（Ｄ）の含有量が、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の合計１００モル％に対して、０．０１０モル％以上、１．０００モル％以下である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の剥離シート。
【請求項１３】
成分（Ｄ）が、塩酸、リン酸、酢酸、ギ酸、硫酸、メタンスルホン酸、シュウ酸、p-トルエンスルホン酸、及びトリフルオロ酢酸からなる群から選ばれる少なくとも１種である、請求項１２に記載の剥離シート。
【請求項１４】
前記剥離剤層の厚さが１０，０００ｎｍ以下である、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の剥離シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、剥離シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
リレー、各種スイッチ、コネクタ、モータ、ハードディスク等の電子部品は、様々な製品に広く使用されている。これら電子部品には、部品間の接着、組立時の仮止め、部品の内容表示等を目的として、片面粘着シートや両面粘着シートが貼付されることがある。
片面粘着シートは、粘着シート基材と、その基材上に設けられた粘着剤層とを備えるとともに、電子部品等の被着体に貼付される前には、粘着剤層に剥離シートが貼付されて粘着剤層が保護されるのが一般的である。また、両面粘着シートとしては、基材（芯材）の両面に粘着剤層を設け、その粘着剤層それぞれに剥離シートを貼付したものや、基材を設けずに単体の粘着剤層の両面に剥離シート（「剥離ライナー」ともいう。）を貼付した基材レス両面粘着シートが知られている。
【０００３】
剥離シートの表面（すなわち、粘着剤層との接触面）には、粘着剤層から剥離シートを剥がす際の剥離性を向上するために、剥離剤層が設けられている。剥離剤層の構成材料としては、一般的にシリコーン樹脂が使用されている（例えば、特許文献１参照）。
ところが、シリコーン系剥離剤を剥離剤層に用いた剥離シートを粘着シートに貼付すると、当該剥離剤層中の低分子量のシリコーン樹脂、シロキサン、シリコーンオイル等のシリコーン化合物が粘着シートの粘着剤層に移行することが知られている。
また、剥離シートは、剥離シート自体の製造後には、ロール状に巻き取られ、保管される。この時、剥離シートの裏面（基材の剥離剤層とは反対側の面）と剥離剤層とが接触し、剥離剤層中のシリコーン化合物が剥離シートの裏面に移行する。そして、この剥離シートの裏面に移行したシリコーン化合物は、粘着シートの製造時、粘着シートをロール状に巻き取る際に、粘着シート（例えば、片面粘着シートの場合、当該粘着シート中の粘着剤層とは反対側の基材表面）に移行することも知られている。
【０００４】
シリコーン化合物が移行した粘着シートを、前述した各種電子部品に対して使用した場合、粘着シートの粘着剤層や基材上に移行したシリコーン化合物が徐々に気化する。そして、気化したシリコーン化合物は、例えば、電子部品の電気接点部付近で発生するアーク等により、電気接点部の表面等に堆積する。その結果、微小なシリコーン化合物層やシリコーン化合物に由来する酸化ケイ素系化合物を形成することが知られている。このように、電気接点部の表面にシリコーン化合物に由来する酸化ケイ素系化合物が堆積すると、導電不良を招来することがある。
また、特に、ハードディスク装置に粘着シートを貼付した場合、前記同様にシリコーン化合物が気化した後、シリコーン化合物やシリコーン化合物に由来する酸化ケイ素系化合物が磁気ヘッドやディスク表面等に堆積する。その結果、微小なシリコーン化合物や酸化ケイ素化合物の堆積物がハードディスクの読み込みや書き込みに悪影響を及ぼす可能性がある。同様に、各種の電子部品、半導体部品及びそれを用いる半導体デバイスの回路等に対しても悪影響を与える可能性がある。
【０００５】
上記観点から、シリコーン化合物の移行を低減できる剥離シートが求められている。
例えば、特許文献２には、剥離層がビニル基又はヘキセニル基を官能基として有するポリジメチルシロキサンを主剤とし、かつ剥離層のコート量が固形分として０．０７ｇ／ｍ２以下であることを特徴とする剥離ライナーが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平６−３３６５７４号公報
【特許文献２】特開２００３−８０６３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献２に記載の剥離ライナーは、精密電子機器分野等の産業分野において、従来の剥離系ライナーに対してシリコーン移行量を低減することができる剥離ライナーである。近年、より高度・精密化が進む上記産業分野では、前述のようにシリコーン化合物や酸化ケイ素化合物等の意図しないケイ素含有成分の混入をより抑制できることが望ましい。
また、粘着テープ、粘着ラベル、粘着シート等、粘着剤から形成される粘着剤層を露出面として有する構造体（以下、「粘着性構造体」ともいう。）を使用するその他分野（例えば、医療分野、食品分野等）でも、当該粘着剤構造体から意図しないケイ素含有成分が被着体に移行することは望ましくない。
そこで、前述の初期段階におけるケイ素含有化合物の移行、すなわち、粘着シートの粘着剤層及び／又は剥離シートの裏面に対する剥離シートの剥離剤層からのケイ素含有成分の移行、を抑制することが考えられる。その結果、当該剥離シートを使用した粘着シートを使用する場合にも、前述したケイ素含有化合物の移行に由来する不具合発生の低減、防止にも繋がる。
このような観点から、初期段階におけるケイ素含有成分の移行量、すなわち、剥離シートの剥離剤層が貼付される対象物に対し、当該剥離剤層から移行するケイ素含有成分の量を低減できる剥離シートが求められている。
したがって、本発明は、剥離剤層が貼付される対象物に対して、当該剥離剤層から移行するケイ素含有成分の量を低減できる剥離シートを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、基材と、特定構造を有する４官能シラン系化合物及び特定構造を有する３官能シラン系化合物を含有する剥離剤層を有する剥離シートが、前記課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、下記［１］〜［１４］を提供する。
［１］基材と、下記成分（Ａ）及び（Ｂ）を含有する剥離剤組成物から形成された剥離剤層とを有する、剥離シート。
成分（Ａ）：下記一般式（ａ）で表される４官能シラン系化合物
Ｓｉ（ＯＲ１）ｐ（Ｘ１）４−ｐ      （ａ）
〔一般式（ａ）中、Ｒ１は、炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｘ１は、ハロゲン原子を表す。Ｒ１及びＸ１が複数存在する場合、複数のＲ１及びＸ１は、互いに同一でも、異なっていてもよい。ｐは０〜４の整数を表す。〕
成分（Ｂ）：下記成分（Ｂ−１）を含有する３官能シラン系化合物
成分（Ｂ−１）：下記一般式（ｂ−１）で表される３官能シラン系化合物
Ｒ２Ｓｉ（ＯＲ３）ｑ（Ｘ２）３−ｑ      （ｂ−１）
〔一般式（ｂ−１）中、Ｒ２は、炭素数６〜２４のアルキル基を表し、該アルキル基は置換基を有していてもよい。Ｒ３は、炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｘ２は、ハロゲン原子を表す。Ｒ３及びＸ２が複数存在する場合、複数のＲ３及びＸ２は、互いに同一でも、異なっていてもよい。ｑは０〜３の整数を表す。〕
［２］前記剥離剤組成物が、更に、成分（Ｃ）である金属触媒を含有し、成分（Ｃ）の含有量が、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の合計１００モル％に対して、０．０１０モル％以上、５０．０００モル％以下である、前記［１］に記載の剥離シート。
［３］成分（Ｃ）が、チタン系触媒、ジルコニウム系触媒、パラジウム系触媒、錫系触媒、アルミニウム系触媒、及び亜鉛系触媒からなる群から選ばれる少なくとも１種である、前記［２］に記載の剥離シート。
［４］  成分（Ｂ−１）が、一般式（ｂ−１）中、Ｒ２が置換基を有さない炭素数６〜２４のアルキル基を表す３官能シラン系化合物である、前記［１］〜［３］のいずれかに記載の剥離シート。
［５］前記剥離剤組成物が、下記条件（Ｉ）を満たす、前記［１］〜［４］のいずれかに記載の剥離シート。
条件（Ｉ）：成分（Ｂ）のモル量に対する成分（Ａ）のモル量の比〔（Ａ）／（Ｂ）〕（モル比）が、０．０１以上、５０．０以下
［６］成分（Ｂ−１）が、一般式（ｂ−１）中、Ｒ２が、炭素数６〜１４のアルキル基を表す３官能シラン系化合物である場合、前記剥離剤組成物が、下記条件（II）を満たす、前記［１］〜［５］のいずれかに記載の剥離シート。
条件（II）：成分（Ｂ−１）のモル量に対する成分（Ａ）のモル量の比〔（Ａ）／（Ｂ−１）〕（モル比）が、０．５以上
［７］成分（Ｂ−１）が、一般式（ｂ−１）中、Ｒ２が、炭素数１５〜２４のアルキル基を表す３官能シラン系化合物である場合、前記剥離剤組成物が、下記条件（III）を満たす、前記［１］〜［５］のいずれかに記載の剥離シート。
条件（III）：成分（Ｂ−１）のモル量に対する成分（Ａ）のモル量の比〔（Ａ）／（Ｂ−１）〕（モル比）が、６．０以上
［８］成分（Ｂ）が、更に、下記成分（Ｂ−２）を含有する、前記［１］〜［７］のいずれかに記載の剥離シート。
成分（Ｂ−２）：下記一般式（ｂ−２）で表される３官能シラン系化合物
Ｒ４Ｓｉ（ＯＲ５）ｒ（Ｘ３）３−ｒ      （ｂ−２）
〔一般式（ｂ−２）中、Ｒ４は、炭素数１〜５のアルキル基を表し、該アルキル基は置換基を有していてもよい。Ｒ５は、炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｘ３は、ハロゲン原子を表す。Ｒ５及びＸ３が複数存在する場合、複数のＲ５及びＸ３は、互いに同一でも、異なっていてもよい。ｒは０〜３の整数を表す。〕
［９］成分（Ｂ−２）が、一般式（ｂ−２）中、Ｒ４が置換基を有さない炭素数１〜５のアルキル基を表す３官能シラン系化合物である、前記［８］に記載の剥離シート。
［１０］成分（Ｂ−１）と成分（Ｂ−２）とが、下記条件（IV）を満たす、前記［８］又は［９］に記載の剥離シート。
条件（IV）：成分（Ｂ−１）及び成分（Ｂ−２）の合計モル量に対する成分（Ｂ−１）のモル量の比〔（Ｂ−１）／｛（Ｂ−１）＋（Ｂ−２）｝〕（モル比）が、０．０２０以上
［１１］成分（Ｂ−１）の含有量が、成分（Ｂ）１００質量％中、５０質量％以上１００質量％以下である、前記［１］〜［１０］のいずれかに記載の剥離シート。
［１２］前記剥離剤組成物が、更に成分（Ｄ）である酸触媒を含み、成分（Ｄ）の含有量が、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の合計１００モル％に対して、０．０１０モル％以上、１．０００モル％以下である、前記［１］〜［１１］のいずれかに記載の剥離シート。
［１３］成分（Ｄ）が、塩酸、リン酸、酢酸、ギ酸、硫酸、メタンスルホン酸、シュウ酸、p-トルエンスルホン酸、及びトリフルオロ酢酸からなる群から選ばれる少なくとも１種である、前記［１２］に記載の剥離シート。
［１４］前記剥離剤層の厚さが１０，０００ｎｍ以下である、前記［１］〜［１３］のいずれかに記載の剥離シート。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、剥離剤層が貼付される対象物に対して、剥離剤層から移行するケイ素含有成分の量を低減できる剥離シートを提供し得る。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
［剥離シート］
本発明の剥離シートは、基材と、下記成分（Ａ）及び（Ｂ）を含有する剥離剤組成物から形成された剥離剤層とを有する。
成分（Ａ）：下記一般式（ａ）で表される４官能シラン系化合物
Ｓｉ（ＯＲ１）ｐ（Ｘ１）４−ｐ      （ａ）
〔一般式（ａ）中、Ｒ１は、炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｘ１は、ハロゲン原子を表す。Ｒ１及びＸ１が複数存在する場合、複数のＲ１及びＸ１は、互いに同一でも、異なっていてもよい。ｐは０〜４の整数を表す。〕
成分（Ｂ）：下記成分（Ｂ−１）を含有する３官能シラン系化合物
成分（Ｂ−１）：下記一般式（ｂ−１）で表される３官能シラン系化合物
Ｒ２Ｓｉ（ＯＲ３）ｑ（Ｘ２）３−ｑ      （ｂ−１）
〔一般式（ｂ−１）中、Ｒ２は、炭素数６〜２４のアルキル基を表し、該アルキル基は置換基を有していてもよい。Ｒ３は、炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｘ２は、ハロゲン原子を表す。Ｒ３及びＸ２が複数存在する場合、複数のＲ３及びＸ２は、互いに同一でも、異なっていてもよい。ｑは０〜３の整数を表す。〕
【００１１】
前記剥離剤層は、少なくとも前記基材の片側に設けられる。なお、本発明の剥離シートは、基材の片側の面上にのみ剥離剤層を設けたものであってもよく、基材の両面に剥離剤層を設けたものであってもよい。また、剥離剤層は、基材の表面に直接形成して設けてもよいが、必要に応じて、後述するプライマー層や目止め層等のその他層を介して設けてもよい。
以下、本発明の剥離シートが有する基材及び剥離剤層等について説明する。
【００１２】
＜剥離剤層＞
本発明の剥離シートが有する剥離剤層は、前述の剥離剤組成物から形成されてなる。
剥離剤層の厚さとしては、好ましくは１０ｎｍ以上、より好ましくは５０ｎｍ以上、更に好ましくは１００ｎｍ以上、より更に好ましくは３００ｎｍ以上である。また、当該厚さは、好ましくは１０，０００ｎｍ以下、より好ましくは２，０００ｎｍ以下、更に好ましくは１，０００ｎｍ以下である。
なお、剥離剤層の厚さは、後述する実施例に記載の方法により測定することができる。
【００１３】
（剥離剤組成物）
前記剥離剤組成物は、成分（Ａ）として一般式（ａ）で表される４官能シラン系化合物、及び成分（Ｂ）として一般式（ｂ−１）で表される３官能シラン系化合物を含有する３官能シラン系化合物を含む組成物である。
当該剥離剤組成物は、更に成分（Ｃ）として金属触媒を含むことが好ましく、更に成分（Ｄ）として酸触媒を含むことがより好ましく、更に成分（Ｃ）及び成分（Ｄ）を含むことが更に好ましい。また、本発明の効果を損なわない範囲において、成分（Ａ）〜（Ｄ）以外のその他の添加剤を含有してもよい。
【００１４】
剥離剤組成物中のシラン系化合物同士の縮合反応が進行し、重合体となることで剥離剤層が形成される。本発明者らは、シラン系化合物同士の反応により得られる重合体の構造について、特定の炭素数を有するアルキル基を有する３官能シラン系化合物を含む成分（Ｂ）を用いることで、成分（Ｂ）に由来する単位中のアルキル基（一般式（ｂ−１）中のＲ２、及び／又は、一般式（ｂ−２）中のＲ４）の存在が、剥離性向上に寄与することに着目した。
更に、本発明者らは、シラン系化合物同士の反応により得られる重合体が架橋構造を形成するため、前記重合体を剥離シートの剥離剤層として用いることができれば、剥離剤成分の移行が少ない剥離シートを得ることができると推測した。
その一方で、成分（Ｂ）中の前記アルキル基の鎖長、すなわち、前記アルキル基の炭素数が増加したり、又はフェニル基等の嵩高い有機基であったりすると、それらの有機基の立体障害等によって反応性が低下して、剥離剤層の硬化性が低下して、面状態の悪化や、未反応成分の存在により、剥離性が低下してしまう傾向にあると推測した。
同様に、成分（Ｂ）中の前記アルキル基の鎖長、すなわち、前記アルキル基の炭素数が少ない場合にも、剥離性の向上に寄与するものと考えられる成分（Ｂ）に由来する前記アルキル基による効果が損なわれるものと推測された。
したがって、単に、シラン系化合物からなる硬化物を形成しても、単純に、剥離シート用の剥離剤層として用いることは困難である。
なお、剥離剤層の硬化性が向上することで、未反応原料の残存量も低下し、より被着体への剥離剤層由来成分の移行を低減できるものと考えられる。したがって、前記剥離シートの剥離性を向上させる観点でも、剥離剤層の硬化性を向上させることは好ましいものと考えられる。
【００１５】
そして、本発明者らは、以下の要件を満たすことで、剥離シートとして使用し得る剥離性と、ケイ素原子の移行とを両立できる剥離シートを形成し得ることを見出した。
すなわち、後述する成分（Ａ）及び成分（Ｂ）において、特定の炭素数を有する長鎖アルキル基を有する３官能シラン系化合物を含む成分（Ｂ）を用いることで、所望の剥離性と被着体へのケイ素原子の移行の少ない剥離剤層を形成し得ることを見出し、本発明を完成させたものである。
以下、本発明で用いる剥離剤組成物に含まれる各成分等について説明する。
【００１６】
〔成分（Ａ）：一般式（ａ）で表される４官能シラン系化合物〕
剥離剤組成物は、成分（Ａ）として下記一般式（ａ）で表される４官能シラン系化合物を含有する。
Ｓｉ（ＯＲ１）ｐ（Ｘ１）４−ｐ      （ａ）
〔一般式（ａ）中、Ｒ１は、炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｘ１は、ハロゲン原子を表す。Ｒ１及びＸ１が複数存在する場合、複数のＲ１及びＸ１は、互いに同一でも、異なっていてもよい。ｐは０〜４の整数を表す。〕
【００１７】
Ｒ１として選択し得るアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ネオペンチル基、メチルペンチル基等が挙げられる。これらの中でも、剥離剤層の硬化性を向上させる得る観点から、メチル基、エチル基、又はｎ−プロピル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。
Ｒ１として選択し得るアルキル基は、直鎖及び分岐鎖のいずれであってもよいが、直鎖であることが好ましい。
【００１８】
Ｘ１として選択し得るハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子が好ましく、塩素原子がより好ましい。
また、成分（Ａ）としては、一般式（ａ）中のｐが４であるシラン系化合物を含むことが好ましい。
なお、一般式（ａ）で表されるシラン系化合物は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１９】
剥離剤組成物中の成分（Ａ）の含有量は、剥離剤層の硬化性及び剥離性をより向上させる観点から、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の合計１００モル％中、好ましくは４５．００モル％以上、より好ましくは５５．００モル％以上、更に好ましくは６５．００モル％以上、より更に好ましくは７５．００モル％以上であり、そして、好ましくは９９．００モル％以下、より好ましくは９８．００モル％以下、更に好ましくは９７．５０モル％以下である。なお、当該含有量は、各成分を配合する時の配合量から算出することもできる。
【００２０】
〔成分（Ｂ）：成分（Ｂ−１）を含む３官能シラン系化合物〕
剥離剤組成物は、成分（Ａ）と共に、成分（Ｂ）として下記成分（Ｂ−１）を含む３官能シラン系化合物を含有する。
成分（Ｂ−１）：下記一般式（ｂ−１）で表される３官能シラン系化合物
Ｒ２Ｓｉ（ＯＲ３）ｑ（Ｘ２）３−ｑ      （ｂ−１）
〔一般式（ｂ−１）中、Ｒ２は、炭素数６〜２４のアルキル基を表し、該アルキル基は置換基を有していてもよい。Ｒ３は、炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｘ２は、ハロゲン原子を表す。Ｒ３及びＸ２が複数存在する場合、複数のＲ３及びＸ２は、互いに同一でも、異なっていてもよい。ｑは０〜３の整数を表す。〕
【００２１】
Ｒ２として選択し得るアルキル基の炭素数は６〜２４である。
当該アルキル基の炭素数が６未満であると、剥離性が低下する傾向にある。このような観点から、当該アルキル基の炭素数は、好ましくは７以上、より好ましくは８以上、更に好ましくは９以上である。
当該アルキル基の炭素数が２４を超えると、剥離剤組成物から形成される剥離剤層の硬化性が劣る。また、当該アルキル基の炭素数が増加するほど、剥離剤組成物がゲル化し易く、当該剥離剤組成物から形成される剥離剤層の面状態も悪化し、結果として、剥離性が低下する傾向にある。このような観点から、当該アルキル基の炭素数は、好ましくは１６以下、より好ましくは１４以下、更に好ましくは１１以下である。
なお、Ｒ２として選択し得るアルキル基の炭素数には、当該アルキル基が有していてもよい任意の置換基の炭素数は含まれない。
【００２２】
Ｒ２として選択し得るアルキル基としては、例えば、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−イコシル基、ｎ−ヘンイコシル基、ｎ−ドコシル基、ｎ−トリコシル基、ｎ−テトラコシル基、メチルペンチル基、イソへキシル基、ペンチルヘキシル基、ブチルペンチル基、及び２−エチルヘキシル基等が挙げられる。
なお、Ｒ２として選択し得るアルキル基としては、直鎖又は分岐鎖のいずれであってもよいが、成分（Ｂ−１）の反応性及び剥離剤層の硬化性を向上させる観点から、直鎖であることが好ましい。また、剥離剤層の硬化性及び剥離性を向上させる観点から、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基又はｎ−ヘキサデシル基等が好ましく、ｎ−デシル基又はｎ−ドデシル基がより好ましい。
【００２３】
Ｒ２として選択し得るアルキル基は、置換基を有していてもよい。
このような置換基としては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；ヒドロキシル基；ニトロ基；アミノ基；シアノ基；チオール基；エポキシ基；グリシドキシ基；アクリロイルオキシ基；（メタ）アクリロイルオキシ基；環形成炭素数３〜１２（好ましくは環形成炭素数６〜１０）のシクロアルキル基；環形成炭素数６〜１２のアリール基；窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子から選ばれるヘテロ原子を含む環形成原子数６〜１２のヘテロアリール基；炭素数１〜６（好ましくは炭素数１〜３）のアルコキシ基；環形成炭素数６〜１２のアリールオキシ基等が挙げられ、これらの置換基は更に置換されていてもよい。
ただし、Ｒ２として選択し得るアルキル基としては、置換基を有していないアルキル基であることが好ましい。
【００２４】
Ｒ３として選択し得るアルキル基、及びＸ２として選択し得るハロゲン原子としては、それぞれ、前述の一般式（ａ）中のＲ１として選択し得るアルキル基、及びＸ１として選択し得るハロゲン原子と同じものが挙げられる。
また、成分（Ｂ）としては、一般式（ｂ−１）中のｑが３である３官能シラン系化合物を含む３官能シラン系化合物であることが好ましい。
なお、前記一般式（ｂ−１）で表される３官能シラン系化合物は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２５】
剥離剤組成物中の成分（Ｂ）の含有量は、剥離剤層の剥離性を向上させる観点から、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の合計１００モル％中、好ましくは１．００モル％以上、より好ましくは２．００モル％以上、更に好ましくは２．５０モル％以上である。また、剥離剤層の硬化性を向上させる観点から、当該含有量は、好ましくは５５．００モル％以下、より好ましくは４５．００モル％以下、更に好ましくは３５．００モル％以下である。なお、当該含有量は、各成分を配合する時の配合量から算出することもできる。
【００２６】
｛条件（Ｉ）について｝
剥離剤組成物は、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の関係において、下記条件（Ｉ）を満たす剥離剤組成物であることが好ましい。
条件（Ｉ）：成分（Ｂ）のモル量に対する成分（Ａ）のモル量の比〔（Ａ）／（Ｂ）〕（モル比）が、０．０１以上、５０．０以下
比〔（Ａ）／（Ｂ）〕（モル比）が、０．０１以上であると、剥離剤組成物から形成される剥離剤層の硬化性及び剥離性が優れるため好ましい。このような観点から、比〔（Ａ）／（Ｂ）〕（モル比）は、より好ましくは０．０１以上、更に好ましくは０．１以上、より更に好ましくは０．５以上、より更に好ましくは１．５以上である。
また、比〔（Ａ）／（Ｂ）〕（モル比）は、５０．０以下であることが好ましい。比〔（Ａ）／（Ｂ）〕（モル比）が５０．０以下であることで、前記成分（Ｂ）に由来する単位中のアルキル基の存在によって、剥離剤組成物から形成される剥離剤層が、より良好な剥離性を有するため好ましい。このような観点から、比〔（Ａ）／（Ｂ）〕（モル比）は、より好ましくは４５．０以下、更に好ましくは以下、より更に好ましくは３５．０以下である。
【００２７】
剥離剤組成物から剥離剤層を形成する過程において、剥離剤組成物中の各シラン系化合物同士の縮合反応により重合体が生成される。当該重合体は、成分（Ｂ）に由来の単位の間に、スペーサーの役割を担う成分（Ａ）に由来の単位が組み込まれた構造を有している。そのため、比〔（Ａ）／（Ｂ）〕（モル比）の値が大きいほど、スペーサーである成分（Ａ）の配合量が多くなるので、成分（Ｂ）に由来する単位間の平均距離は大きくなると考えられる。
つまり、比〔（Ａ）／（Ｂ）〕（モル比）の値は、成分（Ｂ）に由来する単位間の平均距離を示す指標になっている。
【００２８】
｛条件（II）について｝
剥離剤組成物は、成分（Ｂ−１）が、一般式（ｂ−１）中、Ｒ２が、炭素数６〜１４のアルキル基を表す３官能シラン系化合物である場合、成分（Ａ）及び成分（Ｂ−１）の関係において、下記条件（II）を満たす剥離剤組成物であることが好ましい。
条件（II）：成分（Ｂ−１）のモル量に対する成分（Ａ）のモル量の比〔（Ａ）／（Ｂ−１）〕（モル比）が、０．５以上
一般式（ｂ−１）中、Ｒ２が、炭素数６〜１４のアルキル基を表す３官能シラン系化合物である場合、比〔（Ａ）／（Ｂ−１）〕（モル比）が、０．５以上であると、剥離剤組成物から形成される剥離剤層の硬化性、剥離性が優れるため好ましい。このような観点から、比〔（Ａ）／（Ｂ−１）〕（モル比）は、より好ましくは１．０以上、より好ましくは１．５以上である。
また、比〔（Ａ）／（Ｂ−１）〕（モル比）は、５０．０以下であることが好ましい。比〔（Ａ）／（Ｂ−１）〕（モル比）が５０．０以下であることで、一般式（ｂ−１）中のＲ２で表されるアルキル基の存在によって、剥離剤組成物から形成される剥離層が、より良好な剥離性を有する。このような観点から、比〔（Ａ）／（Ｂ−１）〕（モル比）は、より好ましくは４５．０以下、更に好ましくは４０．０以下、より更に好ましくは３５．０以下である。
また、一般式（ｂ−１）中、Ｒ２が、炭素数６〜１４のアルキル基を表す３官能シラン系化合物である場合、剥離剤組成物から形成される剥離剤層から移行するケイ素含有成分の量をより低減できる観点から、比〔（Ａ）／（Ｂ−１）〕（モル比）は、より好ましくは３．０以上、更に好ましくは５．０以上、より更に好ましくは１０．０以上である。
【００２９】
｛条件（III）について｝
剥離剤組成物は、成分（Ｂ−１）が、一般式（ｂ−１）中、Ｒ２が、炭素数１５〜２４のアルキル基を表す３官能シラン系化合物である場合、成分（Ａ）及び成分（Ｂ−１）の関係において、下記条件（III）を満たす剥離剤組成物であることが好ましい。
条件（III）：成分（Ｂ−１）のモル量に対する成分（Ａ）のモル量の比〔（Ａ）／（Ｂ−１）〕（モル比）が、６．０以上であることが好ましい。
一般式（ｂ−１）中、Ｒ２が、炭素数１５〜２４のアルキル基を表す３官能シラン系化合物である場合、比〔（Ａ）／（Ｂ−１）〕（モル比）が、６．０以上であると、剥離剤組成物から形成される剥離剤層の硬化性、剥離性が優れるため好ましい。このような観点から、比〔（Ａ）／（Ｂ−１）〕（モル比）は、より好ましくは１２．０以上、より好ましくは２４．０以上である。そして、比〔（Ａ）／（Ｂ−１）〕（モル比）は、５０．０以下であることが好ましい。当該〔（Ａ）／（Ｂ−１）〕（モル比）が５０．０以下であることで、一般式（ｂ−１）中のＲ２で表されるアルキル基の存在によって、剥離剤組成物から形成される剥離層が、より良好な剥離性を有する。このような観点から、比〔（Ａ）／（Ｂ−１）〕（モル比）は、より好ましくは４５．０以下、更に好ましくは４０．０以下、より更に好ましくは３５．０以下である。
【００３０】
成分（Ｂ）中の成分（Ｂ−１）の含有量は、成分（Ｂ）１００質量％中、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは７５質量％以上、より好ましくは８０質量％以上、更に好ましくは８５質量％以上、より更に好ましくは９０質量％以上、より更に好ましくは９５質量％以上、より更に好ましくは９９質量％以上であり、そして、好ましくは１００質量％以下である。また、得られる剥離シートの剥離性を向上させる観点から、当該含有量は、より好ましくは１００質量％である。なお、当該含有量は、各成分を配合する時の配合量から算出することもできる。
【００３１】
成分（Ｂ）は、更に、下記成分（Ｂ−２）を含有してもよい。
成分（Ｂ−２）：下記一般式（ｂ−２）で表される３官能シラン系化合物
Ｒ４Ｓｉ（ＯＲ５）ｒ（Ｘ３）３−ｒ      （ｂ−２）
〔一般式（ｂ−２）中、Ｒ４は、炭素数１〜５のアルキル基を表し、該アルキル基は置換基を有していてもよい。Ｒ５は、炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｘ３は、ハロゲン原子を表す。Ｒ５及びＸ３が複数存在する場合、複数のＲ５及びＸ３は、互いに同一でも、異なっていてもよい。ｒは０〜３の整数を表す。〕
【００３２】
Ｒ４として選択し得るアルキル基の炭素数は１〜５である。なお、Ｒ４として選択し得るアルキル基の炭素数には、当該アルキル基が有してもよい任意の置換基の炭素数は含まれない。
Ｒ４として選択し得るアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基等が挙げられる。これらの中でも、剥離剤層の硬化性を向上させる得る観点から、メチル基、エチル基、又はｎ−プロピル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましく、メチル基が更に好ましい。
Ｒ４として選択し得るアルキル基は、置換基を有していてもよい。なお、Ｒ４として選択し得るアルキル基が有し得る置換基は、Ｒ２として選択し得るアルキル基が有し得る置換基について前述したとおりである。ただし、Ｒ４として選択し得るアルキル基としては、置換基を有していないアルキル基であることが好ましい。
【００３３】
Ｒ５として選択し得るアルキル基、及びＸ３として選択し得るハロゲン原子としては、前述の一般式（ａ）中のＲ１として選択し得るアルキル基、Ｘ１として選択し得るハロゲン原子と同じものが挙げられる。
また、成分（Ｂ−２）としては、一般式（ｂ−２）中のｒが３である３官能シラン系化合物を含むことが好ましい。
なお、一般式（ｂ−２）で表される３官能シラン系化合物は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３４】
成分（Ｂ）が、成分（Ｂ−１）及び成分（Ｂ−２）を含む場合、剥離剤組成物中の成分（Ｂ−１）の含有量は、剥離剤層の硬化性及び剥離性を向上させる観点から、成分（Ａ）、成分（Ｂ−１）及び成分（Ｂ−２）の合計１００モル％中、好ましくは０．３０モル％以上、より好ましくは１．００モル％以上、更に好ましくは４．００モル％以上、より更に好ましくは８．００モル％以上、より更に好ましくは１３．００モル％以上であり、そして、好ましくは４０．００モル％以下、より好ましくは２５．００モル％以下、更に好ましくは２０．００モル％以下、より更に好ましくは１７．００モル％以下である。なお、当該含有量は、各成分を配合する時の配合量から算出することもできる。
成分（Ｂ）が、成分（Ｂ−１）及び成分（Ｂ−２）を含む場合、剥離剤組成物中の成分（Ｂ−２）の含有量は、剥離剤層の硬化性及び剥離性を向上させる観点から、成分（Ａ）、成分（Ｂ−１）及び成分（Ｂ−２）の合計１００モル％中、好ましくは０．５０モル％以上、より好ましくは１．００モル％以上、更に好ましくは２．００モル％以上、より更に好ましくは３．００モル％以上であり、そして、好ましくは３０．００モル％以下、より好ましくは２０．００モル％以下、更に好ましくは１５．００モル％以下、より更に好ましくは１０．００モル％以下である。なお、当該含有量は、各成分を配合する時の配合量から算出することもできる。
【００３５】
成分（Ｂ）が、成分（Ｂ−１）及び成分（Ｂ−２）を含む場合、成分（Ｂ）中の成分（Ｂ−１）の含有量は、成分（Ｂ）１００質量％中、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは６５質量％以上、更に好ましくは８０質量％以上であり、そして、好ましくは９８質量％以下、より好ましくは９５質量％以下、更に好ましくは９０質量％以下である。
成分（Ｂ）が、成分（Ｂ−１）及び成分（Ｂ−２）を含む場合、成分（Ｂ）中の成分（Ｂ−２）の含有量は、成分（Ｂ）１００質量％中、好ましくは２質量％以上、より好ましくは５質量％以上、更に好ましくは１０質量％以上であり、そして、好ましくは５０質量％以下、より好ましくは３５質量％以下、更に好ましくは２０質量％以下である。
なお、当該含有量は、各成分を配合する時の配合量から算出することもできる。
【００３６】
成分（Ｂ）は、前述の成分（Ｂ−１）及び成分（Ｂ−２）以外に、本発明の効果を損なわない範囲において、その他の３官能系シラン系化合物を含有していてもよい。
成分（Ｂ）中、前述の成分（Ｂ−１）及び成分（Ｂ−２）の含有量が、好ましくは９０質量％以上、より好ましくは９５質量％以上、更に好ましくは９８質量％以上であり、そして、好ましくは１００質量％以下である。
また、本発明の効果をより発現し易くする観点から、成分（Ｂ）中、前述の成分（Ｂ−１）及び成分（Ｂ−２）の含有量が１００質量％であることがより更に好ましく、得られる剥離シートの剥離性をより向上させる観点からは、成分（Ｂ）中、成分（Ｂ−１）の含有量が１００質量％であることがより更に好ましい。
【００３７】
｛条件（IV）について｝
成分（Ｂ）が、成分（Ｂ−１）及び成分（Ｂ−２）を含む場合、成分（Ｂ−１）及び成分（Ｂ−２）の関係において、下記条件（IV）を満たすことが好ましい。
条件（IV）：成分（Ｂ−１）及び成分（Ｂ−２）の合計モル量に対する成分（Ｂ−１）のモル量の比〔（Ｂ−１）／｛（Ｂ−１）＋（Ｂ−２）｝〕（モル比）が、０．０２０以上
比〔（Ｂ−１）／｛（Ｂ−１）＋（Ｂ−２）｝〕（モル比）が、０．０２０以上であると、一般式（ｂ−１）中のＲ２で表されるアルキル基の存在によって、剥離剤組成物から形成される剥離剤層の剥離性が向上するため好ましい。このような観点から、当該〔（Ｂ−１）／｛（Ｂ−１）＋（Ｂ−２）｝〕（モル比）は、好ましくは０．０５０以上、より好ましくは０．１００以上、更に好ましくは０．１５０以上、より更に好ましくは０．２５０以上である。
そして、当該〔（Ｂ−１）／｛（Ｂ−１）＋（Ｂ−２）｝〕（モル比）の上限は、好ましくは０．９９５以下、より好ましくは０．９９０以下、更に好ましくは０．９８０以下、より更に好ましくは０．９５０以下である。
【００３８】
〔成分（Ｃ）：金属触媒〕
剥離剤組成物は、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）と共に、更に成分（Ｃ）として金属触媒を含むことが好ましい。当該金属触媒を含むことで、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の縮合反応を効果的に促進させることができ、剥離剤組成物から形成される剥離剤層の硬化性を十分に向上させることができる。
また、成分（Ｃ）を含む剥離剤組成物の場合、比較的低温下（１３０℃以下）の場合であっても、十分に剥離剤組成物の硬化反応を進行させることができる。そのため、例えば、耐熱性が低い基材上に、当該剥離剤組成物から形成される剥離剤層を形成したい場合、基材の熱収縮を抑え得る低温条件下において剥離剤層を形成したい場合にも、剥離剤層の硬化性を向上させることができる。
【００３９】
成分（Ｃ）としては、チタン系触媒、ジルコニウム系触媒、パラジウム系触媒、錫系触媒、アルミニウム系触媒、及び亜鉛系触媒からなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
【００４０】
成分（Ｃ）としては、触媒作用発現のために光照射を必要としない金属触媒であることが好ましい。
なお、本明細書において、当該「触媒作用発現のために光照射を必要としない金属触媒」とは、前記成分（Ａ）及び成分（Ｂ）との縮合反応に対する触媒作用を発現するために光照射を必要としない金属触媒のことを指す。例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２）や酸化亜鉛（ＺｎＯ）等の、光照射により電子と正孔を生成することで酸化反応及び還元反応を引き起こすといった、触媒作用発現のために光照射が必要とされる、一般に光触媒と呼ばれるものは除かれる。
なお、剥離剤層が前記「触媒作用発現のために光照射を必要としない金属触媒」を含有する場合には、光触媒を用いた場合に生じる虞がある不具合を回避できるため好ましい。当該、光触媒を用いた場合に生じる虞がある不具合とは、例えば、光触媒に起因して剥離剤層の表面粗さが大きくなることによる剥離性の低下、又はシラン系化合物の重合体の加水分解を促進することによる剥離剤層の耐久性の低下といった問題が挙げられる。
【００４１】
チタン系触媒としては、チタン原子を含有する光触媒以外の化合物であることが好ましく、例えば、チタンアルコキシド、チタンキレート、チタンアシレート等が挙げられ、チタンの水酸化物、酢酸塩、炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、又は塩化物等であってもよい。
チタンアルコキシドとしては、例えば、チタンテトライソプロポキシド、チタンテトラノルマルブトキシド、チタンブトキシドダイマー、チタンテトラ−２−エチルヘキソキシド等が挙げられる。
チタンキレートとしては、例えば、チタンジイソプロポキシビス（アセチルアセトネート）、チタンテトラアセチルアセトネート等のチタンアセチルアセトネート；チタンジイソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）等のチタンエチルアセトアセテート；チタンジイソプロポキシビス（トリエタノールアミネート）等のチタントリエタノールアミネート；チタンテトラオクチレングリコネート、チタンジオクチロキシビス（オクチレングリコネート）、チタンジ−２−エチルヘキソキシビス（２−エチル−３−ヒドロキシヘキソキシド）等のチタンオクチレングリコネート；チタンラクテート、チタンラクテートアンモニウム塩等が挙げられる。
チタンアシレートとしては、例えば、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００４２】
ジルコニウム系触媒としては、ジルコニウム原子を含有する光触媒以外の化合物であることが好ましく、例えば、ジルコニウムアルコキシド、ジルコニウムキレート、ジルコニウムアシレート等が挙げられ、ジルコニウムの水酸化物、酢酸塩、炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、又は塩化物等であってもよい。
ジルコニウムアルコキシドとしては、例えば、ジルコニウムテトラノルマルプロポキシド、ジルコニウムテトラノルマルブトキシド等が挙げられる。
ジルコニウムキレートとしては、例えば、ジルコニウムトリブトキシモノアセチルアセトネート、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート等のジルコニウムアセチルアセトネート；ジルコニウムジブトキシビス（エチルアセトアセテート）等のジルコニウムエチルアセトアセテート；塩化ジルコニル化合物、ジルコニウムラクテートアンモニウム塩等が挙げられる。
ジルコニウムアシレートとしては、例えば、オクチル酸ジルコニウム化合物、ステアリン酸ジルコニウム等が挙げられる。
【００４３】
パラジウム系触媒としては、パラジウム原子を含有する光触媒以外の化合物であることが好ましく、例えば、パラジウム、塩化パラジウム、水酸化パラジウム、パラジウム炭素触媒（Ｐｄ／Ｃ）等が挙げられる。
【００４４】
錫系触媒としては、錫原子を含有する光触媒以外の化合物であることが好ましく、例えば、スタナスオクトエート、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫メルカプタイド、ジブチル錫ジチオカルボキシレート、ジブチル錫ジマレエート、ジオクチル錫メルカプタイド、ジオクチル錫チオカルボキシレート等の有機錫化合物、又は無機錫化合物が挙げられる。
【００４５】
アルミニウム系触媒としては、アルミニウム原子を含有する光触媒以外の化合物であることが好ましく、例えば、アルミニウムのアセトアセテート錯体、又はアルミニウムのアセチルアセトネート錯体等が挙げられる。
アルミニウムのアセトアセテート錯体としては、例えば、ジイソプロポキシアルミニウムモノオレイルアセトアセテート、モノイソプロポキシアルミニウムビスオレイルアセトアセテート、モノイソプロポキシアルミニウムモノオレエートモノエチルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムモノラウリルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムモノステアリルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムモノイソステアリルアセトアセテート、モノイソプロポキシアルミニウムモノ−Ｎ−ラウロイル−β−アラネートモノラウリルアセトアセテート、アルミニウムトリスアセチルアセトネート等が挙げられる。
アルミニウムのアセチルアセトネート錯体としては、例えば、モノアセチルアセトネートアルミニウムビス（イソブチルアセトアセテート）キレート、モノアセチルアセトネートアルミニウムビス（２−エチルヘキシルアセトアセテート）キレート、モノアセチルアセトネートアルミニウムビス（ドデシルアセトアセテート）キレート、モノアセチルアセトネートアルミニウムビス（オレイルアセトアセテート）キレート等が挙げられる。
【００４６】
亜鉛系触媒としては、亜鉛原子を含有する光触媒以外の化合物であることが好ましく、例えば、亜鉛−クロム酸化物、亜鉛−アルミニウム酸化物、亜鉛−アルミニウム−クロム酸化物、亜鉛−クロム−マンガン酸化物、亜鉛−鉄酸化物、亜鉛−鉄−アルミニウム酸化物等が挙げられる。
【００４７】
また、シラン系化合物同士の縮合反応を効果的に促進させ、剥離剤組成物から形成される剥離剤層の硬化性を向上させる観点、及び、比較的低温下（１３０℃以下）でも硬化反応を進行させ得る剥離剤組成物とする観点から、少なくとも前記チタン系触媒を含有していることが好ましい。当該チタン系触媒としては、チタンキレートが好ましく、チタンエチルアセトアセテート、チタンアセチルアセトネート又はチタンオクチレングリコネートがより好ましく、チタンエチルアセトアセテートが更に好ましく、チタンジイソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）がより更に好ましい。
なお、成分（Ｃ）としては、単独で又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４８】
剥離剤組成物中の成分（Ｃ）の含有量は、剥離剤組成物から形成される剥離剤層の硬化性を向上させる観点、及び、比較的低温下（１３０℃以下）でも硬化反応を進行させ得る剥離剤組成物とする観点から、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の合計１００モル％に対して、好ましくは０．０１０モル％以上、より好ましくは０．１００モル％以上、更に好ましくは０．１５０モル％以上、より更に好ましくは０．３００モル％以上、より更に好ましくは０．５００モル％以上、より更に好ましくは１．０００モル％以上である。そして、当該含有量は、好ましくは５０．０００モル％以下、より好ましくは３０．０００モル％以下、更に好ましくは２０．０００モル％以下、より更に好ましくは１０．０００モル％以下、より更に好ましく６．０００モル％以下、より更に好ましくは３．０００モル％以下である。
なお、当該含有量は、各成分を配合する時の配合量から算出することもできる。
【００４９】
〔成分（Ｄ）：酸触媒〕
剥離剤組成物は、剥離剤組成物から形成される剥離剤層の硬化性をより向上させる観点から、更に成分（Ｄ）として酸触媒を含むことがより好ましい。
剥離剤組成物中に酸触媒を含有することで、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）が有する反応性官能基の加水分解が促進される。その結果、シラン系化合物同士の縮重合反応がより促進され、硬化性に優れた剥離剤層を形成することができる。なお、「反応性官能基」とは、シラン系化合物中、例えば、前記一般式（ａ）中（ＯＲ１）又は（Ｘ１）で表される官能基、一般式（ｂ−１）中、（ＯＲ３）又は（Ｘ２）で表される官能基、及び一般式（ｂ−２）中、（ＯＲ５）又は（Ｘ３）で表される官能基等を指す。
成分（Ｄ）としては、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の反応性官能基の加水分解を促進させる作用を有する成分であれば特に制限はない。例えば、剥離剤組成物から形成される剥離剤層の硬化性をより向上させる観点から、塩酸、リン酸、酢酸、ギ酸、硫酸、メタンスルホン酸、シュウ酸、ｐ−トルエンスルホン酸、及びトリフルオロ酢酸からなる群より選ばれる１種以上を含むことが好ましく、塩酸を含むことがより好ましい。
なお、成分（Ｄ）としては、単独で又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５０】
剥離剤組成物中の成分（Ｄ）の含有量は、剥離剤組成物から形成される剥離剤層の硬化性をより向上させる観点から、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の合計１００モル％に対して、好ましくは０．０１０モル％以上、より好ましくは０．０３０モル％以上、更に好ましくは０．０５０モル％以上、より更に好ましくは０．０６０モル％以上である。そして、当該含有量は、好ましくは１.０００モル％以下、より好ましくは０．５００モル％以下、更に好ましくは０．１００モル％以下、より更に好ましくは０．０７５モル％以下である。
なお、当該含有量は、各成分を配合する時の配合量から算出することもできる。
【００５１】
〔その他の添加剤〕
剥離剤組成物には、前述の成分（Ａ）〜成分（Ｄ）以外に、本発明の効果を損なわない範囲において、その他の添加剤を含有していてもよい。
その他の添加剤としては、例えば、樹脂成分、硬化剤、酸化防止剤、光安定剤、難燃剤、導電剤、帯電防止剤、可塑剤等が挙げられる。
これらの添加剤のそれぞれの含有量は、剥離剤組成物の全量に対して、好ましくは０〜２０質量％、より好ましくは０〜１０質量％、更に好ましくは０〜５質量％、より更に好ましくは０〜２質量％である。
【００５２】
樹脂成分としては、特に制限は無く、例えば、結合剤として、セルロース誘導体樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、シリコーン系樹脂、ビニル系樹脂等が挙げられる。
【００５３】
剥離剤組成物中の成分（Ａ）及び成分（Ｂ）並びに必要に応じて用いる成分（Ｃ）及び成分（Ｄ）の合計含有量は、剥離剤組成物中の全有効成分１００質量％中、好ましくは５０質量％以上、より好ましくは６５質量％以上、更に好ましくは８０質量％以上、より更に好ましくは９０質量％以上、より更に好ましくは９５質量％以上、より更に好ましくは９８質量％以上、より更に好ましくは９９質量％以上であり、そして、好ましくは１００質量％以下である。
なお、当該含有量は、各成分を配合する時の配合量から算出することもできる。
なお、本発明において、剥離剤組成物中の「有効成分」とは、当該剥離剤組成物中に含まれる成分中、反応に直接関与しない溶媒（水や有機溶媒）を除いた液体成分、及び常温で固形である成分を指す。
【００５４】
＜基材＞
本発明の剥離シートで用いる基材としては、例えば、紙基材、樹脂フィルム、樹脂シート、紙基材を樹脂でラミネートした基材、合成紙、不織布等の多孔質基材、金属箔、金属シート、及びガラスシート等が挙げられ、剥離シートの用途に応じて適宜選択することができる。
紙基材を構成する紙としては、例えば、薄葉紙、中質紙、上質紙、含浸紙、コート紙、アート紙、硫酸紙、グラシン紙、無塵紙等が挙げられる。
樹脂フィルム又は樹脂シートを構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）等のポリオレフィン系樹脂；ポリノルボルネン、エチレン−ノルボルネン共重合体等のシクロオレフィン系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体等、エチレン−メタクリル酸共重合体のビニル系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；ポリスチレン；アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体；三酢酸セルロース；ポリカーボネート；ポリウレタン、アクリル変性ポリウレタン等のウレタン系樹脂；ポリイミド、ポリエーテルイミド等のポリイミド系樹脂；ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン等のポリエーテル系樹脂；ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂；トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂等が挙げられる。
【００５５】
紙基材を樹脂でラミネートした基材としては、前記紙基材を、ポリエチレン、ポリプロピレン等の熱可塑性樹脂でラミネートしたラミネート紙等が挙げられる。
合成紙としては、熱可塑性樹脂と無機充填剤との組み合わせにより表層を紙化したものであって、例えば、ポリオレフィン系樹脂合成紙、ポリスチレン系樹脂合成紙、ポリ塩化ビニル系樹脂合成紙、ポリエステル系樹脂合成紙等が挙げられる。
金属箔又は金属シートとしては、特に制限はなく、例えば、アルミニウム、ニッケル、ステンレス、銅、チタン、若しくはタングステン等の各種金属からなる金属箔又は金属シートが挙げられる。
これらの基材の中でも、樹脂フィルム又は樹脂シートが好ましく、ポリエステル系樹脂からなる樹脂フィルム又は樹脂シートがより好ましく、ポリエチレンテレフタレートからなる樹脂フィルム又は樹脂シートが更に好ましい。
【００５６】
本発明の剥離シートの一態様で用いる基材として、剥離剤層又は後述する耐候層との密着性を向上させる観点から、前述の基材の表面上にプライマー層を設けたプライマー層付き基材を用いてもよい。
プライマー層を構成する成分としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステルウレタン系樹脂、アクリル系樹脂等が挙げられ、これらの樹脂は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５７】
また、本発明の剥離シートの一態様で用いる基材として、前述の基材の表面上又はプライマー層付き基材の表面上に、更に高分子紫外線吸収剤からなる耐候層を設けた耐候層付き基材（耐候層と基材との間にプライマー層を有していてもよい）を用いてもよい。当該高分子紫外線吸収剤としては、紫外線吸収骨格がポリマー構造内に共有結合している構造を有するものであり、重量平均分子量が５，０００以上のものが好ましく、より好ましくは１０，０００以上である。
【００５８】
また、本発明の剥離シートの一態様で用いる基材が樹脂フィルム又は樹脂シートである場合、剥離剤層との密着性を向上させる観点から、必要に応じて、これら樹脂フィルム又は樹脂シートの表面に対して、酸化法や凹凸化法等の表面処理を施してもよい。
酸化法としては、特に限定されず、例えば、コロナ放電処理法、プラズマ処理法、クロム酸酸化（湿式）、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理等が挙げられる。
また、凹凸化法としては、特に限定されず、例えば、サンドブラスト法、溶剤処理法等が挙げられる。
これらの表面処理は、基材の種類に応じて適宜選定されるが、剥離剤層との密着性向上の観点、及び操作性の観点から、コロナ放電処理法が好ましい。
また、前述した各種基材の表面に金属を蒸着させた金属蒸着フィルム又は金属蒸着シートを用いてもよい。当該金属としては、特に制限はなく、例えば、アルミニウム、ニッケル、鉄、銅、金、銀、クロム等の各種金属及びそれらの炭化物、酸化物又は窒化物等が挙げられる。
【００５９】
また、基材の種類によっては、基材の表面上に、所望により目止め層を設けてもよい。当該目止め層は、剥離剤組成物（溶液状態）の基材への浸透防止の他、基材と剥離剤層との密着性を更に向上させるために、又は、基材が紙基材等の柔軟すぎる基材の場合に、剛性を付与するために設けられる。当該目止め層としては、特に制限はないが、例えば、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリスチレン系樹脂等を主成分として、必要に応じ、クレー、シリカ、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化亜鉛等のフィラーを添加したもの等からなる層が挙げられる。当該層の厚さは、特に制限はないが、例えば、０．１〜３０μｍの範囲である。
【００６０】
基材の厚さは、剥離シートの用途に応じて適宜設定されるが、取扱性及び経済性の観点から、好ましくは１０〜２５０μｍ、より好ましくは１５〜２００μｍ、更に好ましくは２０〜１５０μｍである。
なお、本発明で用いる基材には、更に、前述の高分子紫外線吸収剤以外の紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、着色剤等が含有されていてもよい。
【００６１】
本発明の剥離シートは、後述する実施例に記載の方法で測定される剥離力が、好ましくは１，５００ｍＮ／２０ｍｍ以下、より好ましくは９００ｍＮ／２０ｍｍ以下、更に好ましくは７００ｍＮ／２０ｍｍ以下、より更に好ましくは６００ｍＮ／２０ｍｍ以下、より更に好ましくは４５０ｍＮ／２０ｍｍ以下、より更に好ましくは４００ｍＮ／２０ｍｍ以下である。また、当該剥離力の下限値は、特に制限はないが、好ましくは２０ｍＮ／２０ｍｍ以上である。
【００６２】
また、本発明の剥離シートは、後述する実施例に記載の方法で測定される走査型Ｘ線分光分析（ＸＰＳ）によって測定される炭素原子濃度（Ｃ）、酸素原子濃度（Ｏ）、及びケイ素原子濃度（Ｓｉ）の合計１００ａｔｏｍ％に対する、ケイ素原子濃度（Ｓｉ）〔すなわち、炭素原子濃度（Ｃ）、酸素原子濃度（Ｏ）、及びケイ素原子濃度（Ｓｉ）に基づいて、式  Ｓｉ／（Ｓｉ＋Ｏ＋Ｃ）の値に１００を乗じて算出される値〕が、好ましくは１．０００ａｔｏｍ％以下、より好ましくは０．５００ａｔｏｍ％以下、更に好ましくは０．２５０ａｔｏｍ％以下より好ましくは０．１５０ａｔｏｍ％以下、より更に好ましくは０．１００ａｔｏｍ％以下、より更に好ましくは０．０７５ａｔｏｍ％以下、より更に好ましくは０．０６０ａｔｏｍ％以下である。
【００６３】
［剥離シートの製造方法］
前記剥離シートの製造方法は、下記工程（１）及び（２）を有する。
工程（１）：下記成分（Ａ）及び（Ｂ）を含有する剥離剤組成物を調製する工程
成分（Ａ）：下記一般式（ａ）で表される４官能シラン系化合物
Ｓｉ（ＯＲ１）ｐ（Ｘ１）４−ｐ      （ａ）
〔一般式（ａ）中、Ｒ１は、炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｘ１は、ハロゲン原子を表す。Ｒ１及びＸ１が複数存在する場合、複数のＲ１及びＸ１は、互いに同一でも、異なっていてもよい。ｐは０〜４の整数を表す。〕
成分（Ｂ）：成分（Ｂ−１）として下記一般式（ｂ−１）で表される３官能シラン系化合物（Ｂ−１）を含む３官能シラン系化合物
Ｒ２Ｓｉ（ＯＲ３）ｑ（Ｘ２）３−ｑ      （ｂ−１）
〔一般式（ｂ−１）中、Ｒ２は、炭素数６〜２４のアルキル基を表し、該アルキル基は置換基を有していてもよい。Ｒ３は、炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｘ２は、ハロゲン原子を表す。Ｒ３及びＸ２が複数存在する場合、複数のＲ３及びＸ２は、互いに同一でも、異なっていてもよい。ｑは０〜３の整数を表す。〕
工程（２）：工程（１）で得られた剥離剤組成物を基材上に塗布し、乾燥して剥離剤層を形成する工程
【００６４】
工程（１）では、更に成分（Ｃ）として金属触媒を含む剥離剤組成物を調製することが好ましく、更に成分（Ｄ）として酸触媒を含む剥離剤組成物を調製することがより好ましく、更に成分（Ｃ）及び成分（Ｄ）を含む剥離剤組成物を調製することが更に好ましい。また、本発明の効果を損なわない範囲において、成分（Ａ）〜（Ｄ）以外のその他の添加剤を含有する剥離剤組成物を調製してもよい。
成分（Ｃ）を配合する場合、成分（Ａ）〜成分（Ｃ）の配合順としては、好ましくは、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）を配合したのち、更に成分（Ｃ）を配合するのが好ましい。
また、成分（Ｃ）及び成分（Ｄ）を配合する場合、好ましくは成分（Ａ）及び成分（Ｂ）を配合したのち、成分（Ｄ）を配合し、その後、更に成分（Ｃ）を配合するのが好ましい。または、成分（Ａ）及び成分（Ｂ）のそれぞれに対し予め成分（Ｄ）を配合して、それらを混合した後、更に成分（Ｃ）を配合してもよい。
これら、各成分の混合方法は特に制限はなく、公知の混合方法を用いて混合することができる。また、各成分を後述する有機溶媒等で希釈したものを混合してもよい。
【００６５】
なお、工程（２）で、工程（１）で得られた剥離剤組成物を基材上に塗布する場合、有機溶媒に溶かして、溶液の形態として、公知の塗布方法で塗布することが好ましい。
当該有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソプロピルアルコール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、ミネラルスピリット等が挙げられる。
塗布方法としては、特に制限はなく、例えば、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ディップコート法、カーテンコート法、ダイコート法、グラビアコート法等が挙げられる。
【００６６】
剥離剤組成物を基材上に塗布して塗膜を形成した後、当該塗膜の乾燥温度及び乾燥時間については、特に制限はなく、適宜設定することができる。
なお、剥離剤組成物は、成分（Ｃ）を含む場合、１３０℃以下と比較的低温下でも硬化反応を進行させることができ、ポリ塩化ビニル等の耐熱性の低い基材を用いた場合に、当該基材の熱収縮を抑制することができる。
そのため、このような観点、及び生産性の観点から、当該乾燥温度としては、好ましくは１０〜１４０℃、より好ましくは１０〜１３０℃、より好ましくは２０〜１２０℃、更に好ましくは４０〜１１０℃、より更に好ましくは５０〜９５℃である。
【００６７】
［剥離シートの用途］
前記剥離シートは、剥離剤成分の移行が少なく、剥離性も良好である。
そのため、前記剥離シートは、例えば、ハードディスクドライブ、リレー、スイッチ、その他精密電子機器、及び精密電子部品等の半導体製品に貼付する粘着シートの保護用、医療用品及び食品等の封緘、又は表示用ラベル等の粘着シートの保護用で用いられる剥離シートとして好適である。
【実施例】
【００６８】
実施例１〜８、比較例１〜３
（１）剥離剤組成物の調製
表１に示す種類及び配合比（有効成分比、モル％）で成分（Ａ）及び成分（Ｂ）を配合し、エタノールを加えて希釈し、有効成分濃度１．３Ｍの溶液を得た。当該溶液に表１に示す配合比（有効成分比、モル％）で成分（Ｄ）である塩酸を配合して１分間攪拌した。攪拌後、１５分間静置した。
次いで、表１に示す配合比（有効成分比、モル％）で成分（Ｃ）であるチタンジイソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）を配合して、剥離剤組成物の溶液を調製した。
（２）剥離シートの作製
基材として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱ケミカル株式会社製、製品名「ダイアホイル」、厚さ５０μｍ）を用いた。当該基材上に、前記のとおり調製した剥離剤組成物の溶液を、マイヤーバーを用いて塗布して塗膜を形成した。
次いで、当該塗膜を８０℃で２分間乾燥し、表１に示す厚さの剥離剤層を有する剥離シートを作製した。
【００６９】
実施例１〜８及び比較例１〜３で用いた剥離剤組成物の調製に際し使用した、表１に記載の各成分の詳細は以下のとおりである。
＜成分（Ａ）：４官能シラン系化合物＞
・「ＴＥＯＳ」：テトラエトキシシラン、前記一般式（ａ）中、ｐ＝４、Ｒ１＝エチル基（炭素数：２）である４官能シラン系化合物。
＜成分（Ｂ）：３官能シラン系化合物＞
・「Ｃ１０」：デシルトリメトキシシラン（前記一般式（ｂ−１）中のｑ＝３、Ｒ２＝ｎ−デシル基（炭素数：１０）、Ｒ３＝メチル基（炭素数：１）である３官能シラン系化合物）。
・「Ｃ１２」：ドデシルトリメトキシシラン（前記一般式（ｂ−１）中のｑ＝３、Ｒ２＝ｎ−ドデシル基（炭素数：１２）、Ｒ３＝メチル基（炭素数：１）である３官能シラン系化合物）。
・「Ｃ１６」：ヘキサデシルトリメトキシシラン（前記一般式（ｂ−１）中のｑ＝３、Ｒ２＝ｎ−ヘキサデシル基（炭素数：１６）、Ｒ３＝メチル基（炭素数：１）である３官能シラン系化合物）。
・「Ｃ１」：メチルトリメトキシシラン（前記一般式（ｂ−２）中のｒ＝３、Ｒ４＝メチル基（炭素数：１）、Ｒ５＝メチル基（炭素数：１）である３官能シラン系化合物）。
＜成分（Ｂ）以外の３官能シラン系化合物＞
・「Ｐｈ」：フェニルトリメトキシシラン。
＜成分（Ｃ）：金属触媒＞
・「チタン系触媒」：マツモトファインケミカル株式会社製、商品名「オルガチックス  ＴＣ−７５０」、チタンジイソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）。
＜成分（Ｄ）：酸触媒＞
・「塩酸」：０．０１Ｍ塩酸。
【００７０】
比較例４
剥離剤組成物として、剥離性シリコーン化合物（信越化学工業株式会社製、製品名「シリコーンＫＳ−８４７」、固形分３０質量％）１００質量部に、白金触媒（信越化学工業株式会社製、製品名「ＰＬ−５０Ｔ」、固形分２質量％）１質量部を添加し、トルエンで希釈して混合してシリコーン系剥離剤組成物の溶液（固形分１０質量％）を調製した。
基材として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱ケミカル株式会社製、製品名「ダイアホイル」、厚さ５０μｍ）を用いた。当該基材上に、前記のとおり調製した剥離剤組成物の溶液を、マイヤーバーを用いて塗布して塗膜を形成した。
次いで、当該塗膜を１３０℃で１分間乾燥し、表１に示す厚さの剥離剤層を有する剥離シートを作製した。
【００７１】
実施例及び比較例で作製した剥離剤層及び剥離シートの各特性について、以下の方法に基づき評価した。その結果を表１に示す。
【００７２】
＜剥離剤層の厚さ＞
剥離剤層の厚さは、Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製の分光エリプソメーター（製品名「Ｍ−２０００」）にて測定した。
【００７３】
＜剥離剤成分の移行性評価：ケイ素原子移行性の評価＞
剥離シートからの剥離剤成分の移行性は、剥離シートの剥離剤層を貼付した粘着剤層中のケイ素原子濃度を測定することで評価した。
具体的には、各実施例及び比較例で得られた剥離シートの剥離剤層上に、粘着テープ（日東電工株式会社製、製品名「３１Ｂ」）を、２３℃、５０ＲＨ（相対湿度）の環境下で、重さが２ｋｇのローラーを１往復させて貼付した。同環境下で２４時間静置し、粘着テープを剥離シートから剥がした後の粘着テープの粘着剤層表面の走査型Ｘ線分光分析（ＸＰＳ）測定を行った。
表面のＸＰＳ測定は、ＰＨＩ  Ｑｕａｎｔｅｒａ  ＳＸＭ（アルバック・ファイ株式会社製）を使用して行った。以下に示す条件にて測定を行い、粘着剤層の表面に存在する炭素原子、酸素原子、ケイ素原子の合計量（１００ａｔｏｍ％）に対する、炭素原子濃度（Ｃ）、酸素原子濃度（Ｏ）及びケイ素原子濃度（Ｓｉ）を算出した。
＜測定条件＞
Ｘ線源：単色化ＡｌＫα
出力  ：２５Ｗ
加速電圧：１５ｋＶ
ビーム直径：１００μｍ
光電子取り出し角度：４５°
パルスエネルギー：１１２ｅＶ（炭素原子、酸素原子）、２２４ｅＶ（ケイ素原子）
ステップ分解能：０．１ｅＶ（炭素原子、酸素原子）、０．２ｅＶ（ケイ素原子）
測定面積：１００μｍφ
【００７４】
＜剥離シートの剥離力＞
ガラス板上に各実施例及び比較例で得られた剥離シートを置き、当該剥離シートの剥離剤層上に、縦１００ｍｍ×横２０ｍｍで裁断した粘着テープ（日東電工株式会社製、製品名「３１Ｂ」）を、２３℃、５０ＲＨ（相対湿度）の環境下で、重さが２ｋｇのローラーを１往復させて貼付した。
２０分間静置後、１８０°引き剥がし法により、剥離速度０．３ｍ／分にて、剥離シートの剥離力を測定した。
【００７５】
【表１】
2019081258.tif 000002
【００７６】
表１より、実施例１〜８の剥離シートは、比較例４の剥離シートと対比して剥離剤成分の移行が少ないことが確認された。
また、比較例１〜３の剥離シートは、剥離力が高く、剥離性に劣る結果となった。そのため、比較例１〜３の剥離シートは、剥離シート用途に耐え得るものではないと判断した。