(57)【要約】【課題】  剥離性、艶消し性および視認性に優れる基材層の少なくとも一方の表面に粒子含有の艶消し層を有する配向ポリエステルフィルムを提供する。【解決手段】  基材層の少なくとも一方の表面に粒子含有の艶消し層を有する積層ポリエステルフィルムであって、該積層ポリエステルフィルムの全光線透過率が５０％〜８０％であり、該艶消し層表面における光沢度（Ｇ６０）が２０％以下であり、最大突起高さが７．０μｍ以下かつ突起高さが２．５μｍを超える表面突起個数が１０〜５０個／μｍ２であることを特徴とする配向ポリエステルフィルム。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材層の少なくとも一方の表面に粒子含有の艶消し層を有する積層ポリエステルフィルムであって、該積層ポリエステルフィルムの全光線透過率が５０％〜８０％であり、該艶消し層表面における光沢度（Ｇ６０）が２０％以下であり、最大突起高さが７．０μｍ以下かつ突起高さが２．５μｍを超える表面突起個数が１０〜５０個／μｍ２であることを特徴とする配向ポリエステルフィルム。
【請求項２】
艶消し層を構成するポリエステルが、ポリエチレンテレフタレートを主成分とし、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートおよびポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレートからなる群から選択される少なくとも１種を含んでいることを特徴とする請求項１に記載の配向ポリエステルフィルム。
【請求項３】
艶消し層に含有される粒子が不定形シリカまたは合成ゼオライトであることを特徴とする請求項１または２に記載の配向ポリエステルフィルム。
【請求項４】
艶消し層に含有される粒子の平均粒子径が２．５〜５．５μｍであり、該粒子の含有量が艶消し層質量を基準として５〜１８質量％であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の配向ポリエステルフィルム。
【請求項５】
基材層を構成するポリエステルが、ポリエチレンテレフタレートを主成分とし、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートおよびポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレートからなる群から選択される少なくとも１種を含んでいることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の配向ポリエステルフィルム。
【請求項６】
基材層を構成するポリエステルの固有粘度が０．５６〜０．８０ｄｌ／ｇであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の配向ポリエステルフィルム。
【請求項７】
基材層の粒子含有量が、基材層質量を基準として４．０質量％以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の配向ポリエステルフィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁波シールドフィルムをフレキシブルプリントサーキットやモジュール等に転写する際に用いられる支持フィルムとして特に好適な配向ポリエステルフィルムに関するものである。さらに詳しくは、かかる転写と同時に支持フィルム表面の凹凸形状も転写して、電磁波シールドフィルム表面に非光沢面を付与するのに好適な艶消し配向ポリエステルフィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、パソコンのような事務機器、携帯電話のような通信機器および医療機器を包含する電子機器や、それを内蔵する各種機器において、近傍界から発生する電磁波を吸収して、誤動作、接点の誤接触、ノイズなどの障害を抑制するために電磁波シールドフィルムで被覆することが知られ、近年、支持フィルム上に電磁波シールドフィルムを形成し（例えば、保護層、電磁波シールド層がこの順に積層された電磁波シールドフィルム）、これを各種機器表面に高温圧着して電磁波シールドフィルムを転写することが行われている。（例えば、特許文献１、２参照）
また、従来の転写型の電磁波シールドフィルムは、クリアな成品外観を得るために平坦な支持フィルムが用いられていたが、近年、艶消し性を有する成品の表面外観についても転写法を用いて付与する試みがなされつつある。それに伴い、艶消し層を備えた、転写後の艶消し性に優れた支持フィルムが求められるようになってきた。
【０００３】
一方、艶消し層を備えたフィルムについて、特許文献３には、成形性、厚み斑、耐熱性に優れた成形用艶消し積層ポリエステルフィルムが開示されている。しかしながら、電磁波シールドフィルム転写用等の支持フィルムとしての検討はなされておらず、よって通常の成形加工用としては十分であっても、転写用の支持フィルムとしては不十分である。
【０００４】
また、特許文献４には、良好な艶消し性と透明性とを有する二軸延伸共押出し艶消しポリエステルフィルムが開示されており、積層フィルムの片面に粒径が２〜５μｍの粒子を１〜１０重量％添加することが開示されている。しかし、具体的に例示されているフィルム光沢度（Ｇ６０）は５０〜７０程度であり、また、転写加工用の支持フィルムとして用いる検討はなされていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−９５５６６号公報
【特許文献２】特開２００９−３８２７８号公報
【特許文献３】特開平４−１１０１４７号公報
【特許文献４】特開２００２−２００７２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
近年、電磁波シールドフィルムをフレキシブルプリントサーキット（以下ＦＰＣと称することがある）やモジュールに転写するに際して、生産効率を高めるべく、より高温高速での転写加工処理がなされるようになってきた。しかしながら、このような転写条件においては、上述したような従来の支持フィルムでは、フィルム光沢度を下げると、剥離する際に支持フィルムが破断するといった剥離性の問題が発生しやすい。また、支持フィルムに極めて高い突起があると、その表面の上に形成された離型層から突出し、該離型層を介して形成される加工層に直接接触や接着が起こり、転写層の該離型層との剥離力が重剥離化するなど不具合が発生しやすい。また、支持フィルムの表面突起個数が極めて多い場合も、該離型層を介して形成される転写層と該離型層の接触面積が広がり、重剥離化につながるなど問題が発生しやすい。さらに、支持フィルムの視認性向上のために白く濃い着色を行うと、支持フィルムがより破断しやすくなる。本発明は、上記を鑑みなされたもので、その目的は、剥離性、艶消し性および視認性に優れる配向ポリエステルフィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者等は、かかる課題を解決するために鋭意検討した結果、転写法により艶消し性を電磁波シールドフィルムに付与する場合、従来よりもさらにマットな艶消し性を付与するべく支持フィルム中の粒子径を大きくしたり、粒子含有量を増やしたりする方法では、転写後の支持フィルムの剥離性や転写性で効果を得ることができなかった。ところが、驚くべきことに艶消し層に用いた粒子による支持フィルムの艶消し層表面への突出し量を、適度な最大突起高さと突起個数に抑制したところ、上記課題を解決できることを見出し、さらに検討を重ねた結果本発明を完成するに至った。
【０００８】
かくして本発明によれば、基材層の少なくとも一方の表面に粒子含有の艶消し層を有する積層ポリエステルフィルムであって、該積層ポリエステルフィルムの全光線透過率が５０％〜８０％であり、該艶消し層表面における光沢度（Ｇ６０）が２０％以下であり、最大突起高さが７．０μｍ以下かつ突起高さが２．５μｍを超える表面突起個数が１０〜５０個／μｍ２であることを特徴とする配向ポリエステルフィルムが提供される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の配向ポリエステルフィルムは、艶消し性に優れると同時に、得られる配向ポリエステルフィルムに高度な視認性と支持フィルム剥離時の破断耐性とを具備することができる。また、本発明によれば、転写層の重剥離化を生じ難い配向ポリエステルフィルムを得ることができ、極めて取り扱いが難しい転写工程で製造される電磁波シールドフィルム等の転写フィルムをＦＰＣやモジュール等の部材としても好適に用いることができる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明について詳細に説明する。
＜配向ポリエステルフィルム＞
本発明の配向ポリエステルフィルムは、基材層の少なくとも一方の表面に粒子含有の艶消し層を有する積層ポリエステルフィルムである。艶消し層と基材層とを有することにより、後述する表面突起高さ、光沢度および全光線透過率を安定した製膜性の下に得ることができる。基材層がなく、粒子含有の単層だけでは、表面粗さ、光沢度および全光線透過率と安定した製膜性とを同時に満足させることが難しくなる。
【００１１】
（艶消し層）
配向ポリエステルフィルムの少なくとも一方の表面を占める艶消し層は、表面に凹凸を形成させるための粒子（凹凸形成粒子）を含有するポリエステルからなるが、後述する最大突起高さを７．０μｍ以下、突起高さが２．５μｍを超える表面突起個数が１０〜５０個／μｍ２にするという点から、粒子含有のポリエステルの延伸性が良好な共重合ポリエステルや複数のポリエステルを溶融混合したポリエステル組成物が好ましく、特に後述する基材層に用いられるポリエステルと主たる成分が同一のものが好ましい。すなわち、例えば基材層のポリエステルの主たる成分がエチレンテレフタレートである場合は、艶消し層のポリエステルは、ポリエチレンテレフタレート系共重合ポリエステル、またはポリエチレンテレフタレートを主成分とするポリエステル組成物が好ましい。なかでも、ポリエステル組成物の従成分としては、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレートの群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【００１２】
また、艶消し層中の粒子の平均粒子径は、２．５〜５．５μｍが好ましく、その含有量は、艶消し層の質量を基準として５〜１８質量％が好ましい。また、粒子の最大粒子径（Ｄ９８）は、好ましくは１５μｍ以下、さらに好ましくは１２μｍ以下である。なお、ここでいう最大粒子径は、累積粒径分布曲線の９８％における粒径（Ｄ９８）である。このような態様とすることで、十分な艶消し性を得ながら、転写工程での剥離性を優れたものにし易くなる。艶消し層中の粒子含有量が下限値に満たない場合は、上述の光沢度が得難くなる傾向にあり、他方、上限値を超える場合は、転写工程での高温圧着後の剥離性が不良になるだけでなく、製膜性が低下して破れが発生しやすくなる等、フィルムの製膜自体が困難となる傾向にある。これらの観点から、粒子の含有量は、好ましくは７質量％以上、さらに好ましくは９質量％以上であり、また、好ましくは１６質量％以下であり、さらに好ましくは１４質量％以下である。
【００１３】
粒子の平均粒子径は、さらに好ましくは３．０〜５．５μｍ、より好ましくは３．０〜５．３μｍである。粒子の平均粒子径が下限に満たない場合は、光沢度を下げる効果が低下し、光沢度を下げるためにさらに粒子の添加量を増やすこととなって、転写工程での高温圧着後の剥離性が不良になる場合がある。一方、粒子の平均粒子径が上限値を超える場合は、艶消し層表面の上に形成される離型層を介してなる絶縁保護層まで突出し、転写工程における絶縁保護層の剥離時に重剥離化が起こる等の不具合が生じやすくなるだけでなく、支持フィルムの製膜性も劣る傾向にある。
【００１４】
艶消し層に用いられる粒子は、ＴＧ−ＤＴＡ法による３００℃での重量変化が３．０％以下であることが好ましく、さらには１．５〜３．０％であることが好ましい。なお、ここでいう粒子の重量変化は、具体的にはＴＧ−ＤＴＡ装置により３０℃から５００℃まで昇温速度１０℃／分で昇温した際の、３００℃における重量変化を測定したものである。該重量変化が上限値を超えると、ポリエステルフィルムの製造工程やその後の転写工程で発泡を引き起こしたり、また分子量を低下させてフィルムの製膜性や耐熱性を低下させる場合があり、特に粒子を多量に含有させた場合に支持フィルムの製膜性や耐熱性を著しく低下させることがある。
【００１５】
粒子の種類としては、無機粒子、有機粒子のどちらでもよく、不定形シリカ（コロイドシリカ）、シリカ、タルク、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、リン酸リチウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、アルミナ、カーボンブラック、二酸化チタン、カオリン、合成ゼオライト、架橋ポリスチレン粒子、架橋アクリレート粒子などが例示される。これらの粒子の中で、不定形シリカまたは合成ゼオライトが好ましく、これらはいずれか１種を用いても併用してもよい。また同じ種類で粒径が異なる粒子の混合物を用いてもよい。また、不定形シリカの場合は、シランカップリング剤で表面処理して、水分吸着性を低下したものがより好ましい。特に好ましい粒子は合成ゼオライトであり、合成ゼオライトの吸着性、特に水分吸着性を低下させるために、ｐＨが５以上の酸で粒子形状を崩さない程度の酸処理をしたものが好ましく、さらに３００℃以上の温度で熱処理したものが好ましい。
【００１６】
粒子の形状は特に規定するものではないが、不定形であると粒度分布が広くなり、凝集による粗大突起を引き起こしやすく、転写工程の剥離不良や、フィルムの製膜性が低下することがある。したがって粒子の形状は球状もしくは多面状であることが好ましい。好ましい粒子として、球状もしくは多面状の合成ゼオライトが例示される。特に多面形状の粒子の場合は艶消し効果が得られやすい。多面形状の粒子の中でも、特に立方体形状の粒子が好ましい。
【００１７】
これらの粒子の添加方法は特に制限されないが、例えばポリエステルの重縮合中にグリコール分散系として添加する方法、押出中マスターバッチを介して艶消し層に添加する方法等が挙げられる。
【００１８】
（基材層）
本発明の基材層を構成するポリエステルは、芳香族二塩基酸またはそのエステル形成性誘導体とジオールまたはそのエステル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステルである。かかるポリエステルの具体例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレンカルボキシレート等を例示することができ、これらに少量の従成分を共重合した共重合体またはこれと少量の割合の他樹脂とのブレンド物等であっても良い。これらのうち、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートが耐熱性の観点で好ましく、さらにポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレートが耐熱性と成型性のバランスが良いため特に好ましい。
【００１９】
基材層の粒子含有量は、基材層の質量を基準として４．０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは２．５質量％以下、さらに好ましくは２．０質量％以下である。このような態様にすることにより、優れた製膜性を得やすくなる。視認性の向上のためには、二酸化チタンを０．５質量％〜２．０質量％を含有することが好ましい。この範囲より少ない場合、視認性が悪化する場合があり、多い場合も視認性が悪化するだけでなく、剥離時の破断や脆化の原因となる場合がある。
【００２０】
基材層の厚みは、好ましくは３．０〜１４８．５μｍ、さらに好ましくは１４．０〜９８．０μｍ、特に好ましくは３４．５〜６７．０μｍである。
【００２１】
（最大突起高さ）
本発明の艶消し層表面の最大突起高さは、７．０μｍ以下である必要があり、最大突起高さがかかる範囲であることにより、転写工程の転写加工層の艶消し性が良好なものとなる。最大突起高さが上限を超えると、艶消し層の表面突起が艶消し層表面の上に直に積層される離型層を突出し、さらに離型層の上に積層される絶縁保護層と接触することにより、転写工程における絶縁保護層の表面粗さの均一性が損なわれるため転写加工層表面の艶消し性が不良になる。また、絶縁保護層との直接の接触は、離型性を低下させ重剥離化が起こるなど剥離性を低下させる。このような観点から、最大突起高さは、好ましくは６．５μｍ以下、さらに好ましくは６．０μｍ以下である。
【００２２】
（表面突起個数）
本発明の艶消し層表面の表面突起個数は、突起高さが２．５μｍを超える表面突起個数が１０〜５０個／μｍ２である必要があり、１５〜４５個／μｍ２であることが好ましく、２０〜４０個／μｍ２であることがより好ましい。表面突起個数がかかる範囲であることにより、転写工程の転写加工層の剥離力が良好かつ転写後の転写加工層の表面外観（艶消し性）が良好なものとなる。表面突起個数が下限値に満たない場合、転写加工層表面の艶消し性が不良となり、また表面積が小さくなり、転写加工層との接着性が低下により剥離力が軽くなるため、転写前に剥離が起こり、該剥離片が工程を汚染することから支持フィルムとして適さない。一方、上限値を超えた場合、艶消し性は良好なものの、粒子を多く添加することに繋がり転写加工層との表面積が広くなることから、転写時の剥離に抵抗が大きくなり重剥離化が起こるため剥離性が不良になる。
【００２３】
（光沢度）
本発明の配向ポリエステルフィルムは、その艶消し層表面の光沢度（Ｇ６０）が２０％以下である必要があり、好ましくは１６％以下、より好ましくは１３％以下である。なお、ここでいう光沢度（Ｇ６０）とは、ＪＩＳ規格Ｚ８７４１に準拠し、入射角、受光角ともに６０°で測定した値である。光沢度がかかる範囲であることにより、艶消し表面外観を電磁波シールドフィルム等の転写フィルム表面に好適に付与することができる。光沢度が上限値を超えると、粒子の添加量を減らしたり、粒子径を小さくすることになり、転写前に剥離された剥離片が転写工程汚染に繋がる。また転写工程における転写後の加工層表面に十分な艶消し性を付与できなくなる。
【００２４】
（全光線透過率）
本発明の配向ポリエステルフィルムは、全光線透過率が５０％〜８０％の範囲であることが視認性の点から必要であり、好ましくは５５％〜７５％、より好ましくは６０％〜７０％である。ここでいう全光線透過率とは、ＪＩＳ規格Ｋ７１３６に準拠し、測定した値である。全光線透過率が下限値より低い場合、転写工程の転写加工層の剥離後において、支持フィルム側への該転写加工層の剥離残差の観察検査が困難になるため好ましくない。一方、上限値より高い場合、転写加工層の剥離前の欠点の観察結果が困難になるため好ましくない。
【００２５】
＜フィルム製造方法＞
本発明の配向ポリエステルフィルムは、基本的には従来から知られている、あるいは当業界に蓄積されている方法で得ることができる。以下、本発明の配向ポリエステルフィルムを得るための製造方法について詳記する。なお、本発明の配向ポリエステルフィルムは、一軸配向フィルムであっても二軸配向フィルムであっても良いが、生産性や物性のバランスの点から二軸配向フィルムであることが好ましい。以下、二軸配向フィルムを例にとって、説明する。
【００２６】
まず、前述の通り、ポリエステルの主たる成分がポリエチレンテレフタレートである場合、例えば以下の方法で製造することができる。すなわち、艶消し層および基材層を共押出法により積層押出し、キャスティングドラムで冷却固化させて未延伸シートを作製する。具体的には樹脂組成物の融点（Ｔｍ、単位：℃）以上（Ｔｍ＋５０℃）以下の温度で加熱溶融して押し出す。
【００２７】
次いで、例えば逐次延伸の場合、縦方向（製膜機械軸方向のこと。以下、機械軸方向、連続製膜方向、長手方向またはＭＤと称することがある）および横方向（連続機械軸方向と厚み方向とに垂直な方向のこと。以下、幅方向、ＴＤと称することがある）に延伸するが、縦方向、横方向を任意の順序で逐次延伸しても良い。また縦方向と横方向を同時に延伸する同時延伸しても良い。
【００２８】
縦方向の延伸は、例えば温度６０〜１３０℃、好ましくは９０〜１２５℃で２．０〜３．５倍、好ましくは２．５〜３．０倍延伸する。横方向の延伸は、例えば温度１００〜１３０℃、好ましくは９０〜１２５℃で２．０〜５０倍、好ましくは３．０〜５０倍延伸する。また、一方向の延伸は２段以上の多段で行う方法を用いることもできるが、最終的な延伸倍率は前述の範囲内にあることが好ましい。
【００２９】
次いで、所望に応じて熱固定処理を行なう。例えば艶消し層および基材層がポリエチレンテレフタレートで構成されている場合では、２２０〜２５０℃の温度、好ましくは２２５〜２３５℃の温度で、２〜３０秒、好ましくは２〜２０秒、さらに好ましくは３〜１０秒の時間の範囲で熱固定する。その際、熱収縮率を低減する目的で、２０％以内の制限収縮もしくは伸長、または定長下で行なってもよく、また２段以上で行なってもよい。
【００３０】
＜その他のフィルム特性＞
（固有粘度）
本発明の配向ポリエステルフィルムを構成する基材層ポリエステルの固有粘度（ＩＶ）は、０．５６〜０．８０ｄｌ／ｇの範囲であることが機械的性能の点から好ましく、より好ましくは０．５６〜０．７４ｄｌ／ｇであり、さらに好ましくは０．６０〜０．７０ｄｌ／ｇである。かかる固有粘度は２５℃のｏ−クロロフェノール溶液での測定値で表される。フィルムの固有粘度が下限値に満たない場合、機械的性能が低下して剥離性等加工時の取り扱い性が難しくなる傾向にある。一方、上限値を超えると、溶融押出や延伸等、フィルムの製造工程における負荷が増大し、生産性が低下する場合がある。一方、艶消し層には、艶消し層突起高さ、突起頻度、光沢度（Ｇ６０）および全光線透過率にかかる要件を満たすために、前述のように平均粒子径が大きい粒子をかなりの量含有させている。したがって、剥離性等の取り扱い性の点からはポリエステルの固有粘度は高い方が好ましいが、高くなりすぎると粒子の含有量が高いこととあいまって製膜性が著しく低下するので、含有する粒子の種類および含有量に応じて固有粘度を調整することが好ましい。
【００３１】
（フィルム厚み）
本発明の配向ポリエステルフィルムは、電磁波シールドフィルム転写用等の支持フィルムとして使用される厚さを有していれば良く、好ましくは１０〜１５０μｍ、さらに好ましくは２０〜１００μｍ、特に好ましくは４５〜７０μｍである。
【００３２】
一方、艶消し層のフィルム厚みは１．５〜７．０μｍの範囲であることが艶消し層表面の最大突起高さ、表面突起個数を形成する点で好ましく、さらに好ましくは２．０〜６．０μｍであり、特に好ましくは３．０〜５．５μｍである。下限値より艶消し層厚みが薄い場合、最大突起高さが高くなり、表面突起個数が多くなることで、重剥離化が起こる場合があるため好ましくない。一方、上限値より艶消し層厚みが厚い場合、適度な最大突起高さや表面突起個数を得られないことから、転写加工層が転写工程を経る前に一部剥離を起こし、その剥離粉が転写加工層の表面を汚染する場合があるため好ましくない。
【実施例】
【００３３】
以下、実施例により本発明をさらに説明する。なお、各特性値は以下の方法により測定した。
１．光沢度（Ｇ６０）
ＪＩＳ規格Ｚ８７４１（方法３）に準拠し、日本電色工業社製のグロスメーター「ＶＧＳ−ＳＥＮＳＯＲ」を用いて測定した。入射角、受光角ともに６０°で５回測定し、その平均値を用いた。
２．平均粒子径
粒子をエチレングリコール中に３質量％の濃度になるようにミキサーで撹拌し、島津製作所社製レーザー散乱式粒度分布測定装置ＳＡＬＤ−７０００を用いて測定を行った。粒度分布測定から５０％体積粒径（Ｄ５０）を求め、これを平均粒子径とした。
３．粒子含有量
フィルムサンプルから艶消し層と基材層それぞれの表面を削り取り、ポリエステル樹脂に対して良溶媒、粒子に対して貧溶媒となるような溶媒を１種類選択して溶媒へ分散処理を施した後、粒子をその分散液から遠心分離し、粒子の全体質量に対する比率（質量％）をもって粒子の含有量とした。
４．フィルム厚み
基材層、艶消し層のフィルム厚みは、サンプルフィルムを三角形に切り出し、包埋用カプセルに固定後、エポキシ樹脂にて包埋した。そして包埋されたサンプルをミクロトーム（ＵＬＴＲＡＣＵＴ−Ｓ）で縦方向に平行な断面を５０ｎｍ厚の薄膜切片にした後、レーザー顕微鏡を用いて観察撮影し、写真から各層の厚みを１０点ずつ計測し、それぞれの層について平均厚みを求めた。艶消し層については、粒子の存在しない部分について計測した。また支持フィルムのフィルム厚みは前述の基材層フィルム厚み、艶消し層フィルム厚みで計測された値の和とした。
５．全光線透過率
ＪＩＳ−Ｋ７１３６に準拠し、日本電色工業社製ヘーズメーター「ＮＤＨ−２０００」を用いて全光線透過率を測定した。
６．表面粗さ
ＪＩＳ−Ｂ０６０１、Ｂ０６５１に準拠し、三次元表面粗さ計（小坂研究所、商品名：ＳＵＲＦ  ＣＯＲＤＥＲ  ＳＥ−３ＣＫ）を用いて、触針先端半径Ｒ２μｍ、走査ピッチ２μｍ、走査長１ｍｍ、走査本数１００本、カットオフ０．２５ｍｍ、倍率５０００倍の条件にて、算術平均粗さＲａ、最大高さＲｙを測定した。
７．最大突起高さ
０．９ｍｍ×０．９ｍｍのフィルムサンプルを準備し、キーエンス社製レーザーマイクロスコープを用い、対物レンズを５０倍にして観察対象箇所にてオートフォーカスで形状測定を実施した。測定後、保存された形状測定データを装置に内在するアプリケーションにて解析した。得られた突起の最大値を最大突起高さ（μｍ）とした。
８．表面突起個数
０．９ｍｍ×０．９ｍｍのフィルムサンプルを準備し、キーエンス社製レーザーマイクロスコープを用い、対物レンズを５０倍にして観察対象箇所にてオートフォーカスで形状測定を実施した。測定後、保存された形状測定データを装置に内在するアプリケーションにて解析し、艶消し層表面の突起高さが２．５μｍ以上である単位面積当たりの突起数を算出し、表面突起個数（個／μｍ２）とした。
９．剥離性
サンプルフィルムの艶消し層表面に、メラミン系樹脂（大日精化社製熱硬化性樹脂、商品名：ＥＸ１１４Ｄメジウム）を塗工・硬化することにより厚さ２．５μｍの離型層を形成させた。その上にＵＶ硬化型アクリル系樹脂（大日精化社製ハードコート、商品名セイカビームＥＸＦ−０１Ｊ）を塗工・硬化することにより厚さ５μｍの絶縁保護層を形成させた。さらに絶縁保護層の上に導電性ペースト（藤倉化成社製銀ペースト、商品名：ＦＡ−３５３）を塗工することにより厚さ１５μｍの導電層を形成して、サンプルフィルムの艶消し層上にこれら加工層を備えた転写用加工フィルムを作製した。次いで、上記で得られた転写用フィルムを、易接着性塗布層が形成されたフィルム表面に、加工層の最表面が被覆面側となるように貼り合わせ、温度２００℃、圧力１ＭＰａ、１時間の条件で圧着した。圧力を開放し、サンプルを室温において２５℃になるまで冷ました後、支持フィルムを手で剥離し、転写された加工層のうちメラミン系離型層に積層されていたＵＶ硬化型アクリル系樹脂層の表面を目視で観察し、以下の指標で評価し、○を良好な結果とした。
○：剥離（きれいに剥離している。）
△：汚染（剥離工程を経る前に一部剥離が進行し、その剥離粉が転写加工層の表面を汚染する。）
×：破断（剥離中に転写用加工フィルムが破断する。）
１０．艶消し性
上記１の光沢度と同様の方法にて得られた加工層転写後のサンプルについて、加工層最表面（ＵＶ硬化型アクリル系樹脂層）の光沢度（Ｇ６０）を測定し、結果を以下のような指標により評価し、○以上を良好な結果とした。
◎：１５％以下（加工層転写面の艶消し性が極めて良好）
○：１５％を超え、２０％以下（加工層転写面の艶消し性良好）
×：２０％を超える。（加工層転写面の艶消し性不良）
１１．視認性
黒いアクリルプレートの上に水滴を垂らし、その上に艶消し層がアクリルプレートに接触する形でサンプルフィルムを置き、サンプルフィルムとアクリルプレートの間の空気を抜いた状態で、サンプルフィルムの見え方を確認し、以下の指標で測定し、○を良好な結果とした。
○：適度な白さ（視認性良好）
×：透明あるいは白過ぎ（視認性不良）
【００３４】
＜実施例１＞
ポリエチレンテレフタレート（固有粘度０．６３ｄｌ／ｇ）に表１に示すとおりの粒子および樹脂を添加して艶消し層（Ａ層）を形成するためのＡ層ポリマーとし、また、Ａ層と同様に粒子および樹脂を表１の含有量にて添加し、基材層（Ｂ層）を形成するためのＢ層ポリマーとし、それぞれ２８０℃に加熱された押出機に供給し、Ａ層ポリマー、Ｂ層ポリマーをＡ／Ｂの積層構成となるような２層フィードブロック装置を用い合流させ、その積層状態を維持したままダイスよりシートを２０℃に維持した回転冷却ドラム上に溶融押出して未延伸フィルムとし、次いで該未延伸フィルムを縦方向に３．２倍延伸し、その後、１５０℃で横方向に３．４倍に延伸し、２３０℃で熱固定して、配向ポリエステルフィルム（厚さ５０μｍ）を得た。得られたフィルムの評価結果を表１に示す。
【００３５】
＜実施例２〜１４、比較例１〜１２＞
Ａ層ポリマーおよびＢ層ポリマーに添加する粒子、樹脂およびそれらの含有量を表１および表２記載のとおりとする以外は実施例１と同様にして配向ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムの評価結果を表１および表２に示す。
【００３６】
【表１】
2019162825.tif 000002
【００３７】
【表２】
2019162825.tif 000003
【００３８】
表１および表２中のＰＢＴはポリブチレンテレフタレート、ＰＴＴはポリトリメチレンテレフタレート、ＰＣＴはポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレートを意味する。
【産業上の利用可能性】
【００３９】
本発明の配向ポリエステルフィルムは、例えば電磁波シールドフィルム転写用等の支持フィルムとして使用した場合、転写後の電磁波シールドフィルム等の表面に良好な艶消し性を付与することができ、しかも視認性および転写工程における転写後の支持フィルムの剥離性に優れているので、その産業上の利用価値は極めて高い。