(57)【要約】【課題】これまでとは異なる質感を実現することができる構造を具備した化粧材を提供する。【解決手段】表面に模様が形成されてなる化粧材であって、模様は、複数の凸線条部及び複数の凹線条部が交互に配列した形態であり、複数の凸線条部の頂部を含む仮想の面を模様頂部包絡面としたとき、模様頂部包絡面は凹凸を有している。【選択図】図２
2019081339.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に模様が形成されてなる化粧材であって、
前記模様は、複数の凸線条部及び複数の凹線条部が交互に配列した形態であり、
前記複数の凸線条部の頂部を含む仮想の面を模様頂部包絡面としたとき、前記模様頂部包絡面は凹凸を有している、化粧材。
【請求項２】
基材、及び、前記基材の一方の面に配置され、前記模様を形成する模様形成層を備え、
前記基材の表面に凹凸を有することにより前記模様頂部包絡面の前記凹凸が形成される、請求項１に記載の化粧材。
【請求項３】
前記複数の凸線条部の高さが異なることにより前記模様頂部包絡面の前記凹凸が形成される、請求項１又は２に記載の化粧材。
【請求項４】
前記凸線条部の幅をＷａ、前記凹線条部の幅をＷｂとしてＷａ／Ｗｂをデューティー比としたとき、前記凸線条部の高さＨによらず前記デューティー比が一定である関係を有する模様を含む、請求項１乃至３のいずれかに記載の化粧材。
【請求項５】
前記凸線条部の幅をＷａ、前記凹線条部の幅をＷｂとしてＷａ／Ｗｂをデューティー比としたとき、前記凸線条部の高さＨが高いほど前記デューティー比が小さくなる関係を有する模様を含む、請求項１乃至３のいずれかに記載の化粧材。
【請求項６】
前記凸線条部の幅が３０μｍ未満である、請求項１乃至５のいずれかに記載の化粧材。
【請求項７】
前記凸線条部の幅をＷａ、前記凸線条部の高さをＨとしたとき、Ｈ／Ｗａが１より大きい部位を含む、請求項１乃至６のいずれかに記載の化粧材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は化粧材に関し、従来とは異なる質感を備える化粧材に関する。
【背景技術】
【０００２】
化粧材における意匠表現は多岐に亘るが、例えば特許文献１や特許文献２に記載のように、多数の万線状の凹凸模様を設けることで、表面で反射される光線の強度、すなわち光沢度が、照明光の入射角及び観察者の視線方向の組み合わせに応じて変化する特有の外観上の質感を持たせる技術がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特公平７−２２９８９号公報
【特許文献２】特開平４−１２５１９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１及び特許文献２に記載のような、多数の万線状の凹凸模様を形成することで、例えば木材の表面（木目）の照り感を表現することもできる。
しかしながら近年においては、さらなる意匠表現の多様化の要望があり、これらの要望に対して新たな質感を与えるような表現を提供する必要がある。
【０００５】
そこで本発明は、これまでとは異なる質感を実現することができる構造を具備した化粧材を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
以下、本発明について説明する。
【０００７】
本発明の１つの態様は、表面に模様が形成されてなる化粧材であって、模様は、複数の凸線条部及び複数の凹線条部が交互に配列した形態であり、複数の凸線条部の頂部を含む仮想の面を模様頂部包絡面としたとき、模様頂部包絡面は凹凸を有している、化粧材である。
【０００８】
上記化粧材において、基材、及び、基材の一方の面に配置され、模様を形成する模様形成層を備え、基材の表面に凹凸を有することにより模様頂部包絡面の凹凸が形成されるように構成してもよい。
【０００９】
上記化粧材において、複数の凸線条部の高さが異なることにより模様頂部包絡面の凹凸が形成されるように構成してもよい。
【００１０】
凸線条部の幅をＷａ、凹線条部の幅をＷｂとしてＷａ／Ｗｂをデューティー比としたとき、凸線条部の高さＨによらずデューティー比が一定である関係を有する模様を含むように構成してもよい。
【００１１】
凸線条部の幅をＷａ、凹線条部の幅をＷｂとしてＷａ／Ｗｂをデューティー比としたとき、凸線条部の高さＨが高いほどデューティー比が小さくなる関係を有する模様を含むように構成してもよい。
【００１２】
凸線条部の幅が３０μｍ未満であるように構成してもよく、凸線条部の幅をＷａ、凸線条部の高さをＨとしたとき、Ｈ／Ｗａが１より大きい部位を含むように構成してもよい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の化粧材によれば、凸線条部、凹線条部、及び模様頂部仮想包絡面の形態の特有の構造により、照明光の入射角と観察者の視線方向との組合せに応じて変化する光沢度において、従来とは異なる、より変化に富んだ質感を有するものとなる。更に、化粧材表面の模様部分を手で触れた場合には、凸線条部、凹線条部、及び模様頂部仮想包絡面の形態により、従来の凸条部からなる化粧材と比べて、触感においてもより変化に富んだ質感を有する。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】化粧材１０の表面の一部を拡大して表した平面図である。
【図２】化粧材１０の断面を表した図である。
【図３】化粧材２０の断面を表した図である。
【図４】化粧材３０の表面の一部を拡大して表した図である。
【図５】図４のうち１つの単位領域３３に注目して表した図である。
【図６】図６（ａ）〜図６（ｃ）はいずれも化粧材３０の断面を表した図である。
【図７】化粧材５０の表面の一部を拡大して表した図である。
【図８】網状領域について説明する図である。
【図９】レーザにより型に凹凸を形成する場面を説明する図である。
【図１０】図１０（ａ）〜図１０（ｃ）は、化粧材１０の層構成の他の例を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明を図面に示す形態に基づき説明する。ただし、本発明はこれら形態に限定されるものではない。なお、以下に示す図面では分かりやすさのため部材の大きさや比率を変更または誇張して記載することがある。また、見やすさのため説明上不要な部分の図示や繰り返しとなる符号は省略することがある。
【００１６】
図１は第１の形態にかかる化粧材１０の一部を拡大し、模様形成層１２側から平面視した図（平面図）である。図１及び以下に示す図には便宜のため必要に応じて、方向を表す矢印（ｘ、ｙ、ｚ）も表した。ここでｘｙ方向は化粧材１０における面内方向、ｚ方向は厚さ方向である。図１は化粧材１０を模様層形成層１２側の特にz方向から視た図と言うことになる。
また図２には、化粧材１０の断面形状を表した。この断面は後で説明する凸線条部１３の稜線が延びる方向に対して直交する厚さ方向（ｚ方向）断面である。
図１、図２からわかるように、化粧材１０は、基材１１及び該基材１１の一方の面に積層された模様形成層１２を有して構成されている。
【００１７】
基材１１は、模様形成層１２を支持するとともに化粧材１０に強度を付与する機能を有するシート状の部材である。さらに本形態の基材１１は模様形成層１２が配置される側の面に凹凸を有する基材凹凸面Ｓｋが形成される。本形態ではこれにより模様形成層１２において仮想の面である模様頂部仮想包絡面Ｓｔにも凹凸が形成される。
図２に点線で表した線は仮想の線であることを意味する。
【００１８】
基材凹凸面Ｓｋは、ｘｙ方向位置において表面高度が一定でなく、ｘｙ方向の位置により表面の高さ位置が変わるような凹凸面とされている。より具体的には、極大部分即ち極大点又は極大線（稜線乃至尾根線）を１つ以上有し、極大部分同士の間隔が目視乃至は触感で認識可能な程度の３ｍｍ以上３００ｍｍ以下程度の範囲に分布する事が好ましく、より好ましくは１０ｍｍ以上１００ｍｍ以下程度とする。
高さ変化は１方向のみ、例えば、ｘ方向のみで高さが変化しｙ方向は一定高さの所謂波板状の凹凸面でも良い。具体的には、基材凹凸面Ｓｋをｚｘ平面に平行な仮想切断面で切断した形状が、
ｚ＝Ａｓｉｎ（ｋｘ＋φ）
ｙ＝Ｂ
（Ａ、ｋ、Ｂ、φは適宜の定数）
で表わされる正弦波曲線となり、一方、ｙｚ平面に平行な仮想切断面で切断した形状が、
Ｚ＝Ｃ
ｘ＝Ｄ
（Ｃ、Ｄは適宜定数）
である凹凸形状が挙げられる。
【００１９】
また、ｘ方向とｙ方向との両方向に高さが変化する凹凸面でも良い。具体的には、基材凹凸面Ｓｋをｚｘ平面に平行な仮想切断面で切断した形状が、
ｚ＝Ａｓｉｎ（ｋｘ＋φ）
ｙ＝Ｂ
（Ａ、ｋ、φ、Ｂは適宜の定数）
で表わされる正弦波曲線となり、一方、ｙｚ平面に平行な仮想切断面で切断した形状が、
ｚ＝Ｅｓｉｎ（ｍｙ＋ξ）
ｘ＝Ｆ
（Ｅ、ｍ、ξ、Ｆは適宜定数）
である凹凸形状が挙げられる。
【００２０】
かかる基材凹凸面Ｓｋの凹凸状としては、以上の他にも、求める化粧材の表面外観意匠乃至触感に応じて、各種の凹凸面形状を採用し得る。
又、これらの基材凹凸面Ｓｋの高さの高低差は、目視で視認乃至触感で認知可能な程度の０．１ｍｍ以上１０ｍｍ以下程度とすることが好ましく、より好ましくは０．５ｍｍ以上１ｍｍ以下程度である。特に、シート状の基材に金属ロール形態のエンボス版によりエンボス加工して凹凸を賦形する製造方法を採用して量産する場合は、加工適性上、基材凹凸面Ｓｋの高さの高低差の上限は、１ｍｍ以下、好ましくは０．７ｍｍ以下とする。
【００２１】
基材１１は従来公知の化粧材と同様のものを適用することができ、その材料は特に限定されない。例えば、基材の材料としては、通常、ポリエチレン、ポリプロピレン、オレフィン系熱可塑性エラストマー、アイオノマー等のポリオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等の熱可塑性ポリエステル樹脂、熱可塑性ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体）、スチレン樹脂等の熱可塑性樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、２液硬化型ウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂、或いは、ラジカル重合型のアクリレート系やカチオン重合型のエポキシ系等で電離放射線（紫外線、電子線等）で硬化する電離放射線硬化性樹脂等が用いられる。なお、基材の材料が樹脂の場合、公知の着色剤で着色しても良い。この他、紙、不織布、金属、木、陶磁器や硝子等のセラミックス、セメント、石等もシート、板、立体物等の形状で、適宜上記樹脂材料と積層させて、使用することもできる。
【００２２】
基材の厚さには特に制限は無いが、シート状基材又はフィルム状基材の場合は、例えば、最も薄い部分で厚さ２０μｍ以上１０００μｍ以下程度、板状基材の場合は、例えば、最も薄い部分で１ｍｍ以上２０ｍｍ以下程度とすることができる。
【００２３】
模様形成層１２は、基材１１の面のうち基材凹凸面Ｓｋ上に積層された層であり、化粧材１０における模様を形成する層である。本形態で模様形成層１２は次のような形態を備えている。
【００２４】
本形態で模様形成層１２は図１、及び図２からわかるように、凸線条部１３と凹線条部１４とが交互に配列して模様を形成している。
この凸線条部１３は図２に表れる断面において高さＨ１３、幅Ｗ１３の略長方形とされている。凸線条部１３はこの断面を有して、その稜線が配列方向とは異なる方向（例えば配列方向に直交する方向）に延びるように構成されている。凸線条部１３が延びる長さは特に限定されることはなく適宜必要に応じて決めることができる。ここで、１つの凸線条部１３の高さはその幅方向で異なる場合があるが、その際には最も高い部位を凸線条部１３の高さとする。また、凸線条部１３の幅はその高さ方向中央における幅を凸線条部の幅とする。
一方、凹線条部１４は図２に表れるように隣り合う凸線条部１３の間に形成され、凸線条部１３の形状によりその形状が決まる。従って、凹線条部１４の幅Ｗ１４は、凸線条部１３のピッチＰ１３から凸線条部１３の幅Ｗ１３を引いた値となる。
【００２５】
ここで、Ｗ１３、Ｗ１４、Ｈ１４の大きさは特に限定されることはないが、化粧材の模様を形成するという観点から微細なものあることが好ましく、本形態ではそれぞれ、１μｍ≦Ｗ１３≦１０００μｍ、１μｍ≦Ｗ１４≦１０００μｍ、３μｍ≦Ｈ１３≦３０００μｍであることが好ましい。
【００２６】
また、凸線条部１３における高さと幅の比であるＨ１３／Ｗ１３（アスペクト比とも言う。）は１よりも大きいことが好ましい。これによれば化粧材の質感をさらに新しいものとすることができる。但し、アスペクト比が大き過ぎると、型製造の難度が上がり、又、型及び化粧材において外力が加わった際に凸線条部１３への応力が集中しては損傷し易くなる。そのため、通常は、アスペクト比は５以下、好ましくは３以下とされる。
【００２７】
なお、本形態の凸線条部１３の断面形状は略長方形であるが、これに限定されることなく他の形態であってもよい。これには例えば台形、先端が半円形である形状、及び、出隅部にＲが形成され形状等を挙げることができ、適宜変更することは可能である。このとき凸線条部の幅は、上記したようにその高さ方向中央における幅を凸線条部の幅とする。後で説明する各形態でも同様である。
【００２８】
ここで、模様形成層１２は基材側（基端部側）とは反対側（頂部側）において全体として凹凸を有している。本形態の当該凹凸は次の通りである。
図２に符号Ｓｔで表した点線のように、凸線条部１３の頂部の稜線を含むような仮想の包絡面を模様頂部包絡面Ｓｔとする。そして、本形態ではこの仮想包絡面Ｓｔが凹凸を有するように形成されている。この凹凸は、前記の基材凹凸面Ｓｋの説明の箇所で例示した凹凸形状と同様の凹凸形状の中から選択される。
尚、特に模様頂部包絡面Ｓｔは化粧材の最表面の形状となる為、基材凹凸面Ｓｋ以上に化粧材の外観意匠乃至触感に大きく寄与する。よって、特に模様頂部包絡面Ｓｔは所望の外観意匠乃至触感の再現に最適な形状を選択する必要がある。
例えば、化粧材表面が木板表面（木目）の外観意匠及び触感を再現すると共に、年輪のうち秋材部がレリーフ上に突出した所謂「浮造り調」の木板表面（木目）の外観意匠及び触感を再現する場合は、模様頂部包絡面Ｓｔの形状は浮造り調木板表面の年輪の凹凸形状に対応した、秋材部が相対的に突出し春材部が相対的に凹んだ凹凸形状とする。この場合、複数の凸線条部及び複数の凹線条部が交互に配列した万線状の凹凸形状の方は、年輪の秋材部の平均的走行方向に大略一致する方向に延在するよう配置される。
【００２９】
又、例えば、化粧材表面が花崗岩板の外観意匠及び触感を再現する場合は、模様頂部包絡面Ｓｔの形状は花崗岩板表面の劈開面に配列した微小単結晶群の表面凹凸形状に対応した各単結晶部分に対応した凹凸形状とする。この場合、凸線条部及び複数の凹線条部が交互に配列した万線状の凹凸形状の方は、劈開面上の各単結晶の輪郭線で区画される閉領域毎に万線状凹凸形状を嵌合し、且つ境界線を介して隣接する閉領域同志は、凸線条部及び凹線条部の延在方向、凸線条部の幅、及び凹線条部の幅のうち何れか１つ以上が異なるよう配置される。
【００３０】
尚、斯かる万線状凹凸の配置の具体例としては、特開平８−５２８４９号公報（特に、図２、図３、図１０）開示の配置をあげることができる。
【００３１】
本形態では、模様形成層１２の複数の凸線条部１３の高さがいずれも同じとされているため、模様頂部仮想包絡面Ｓｔの凹凸形状は基材１１の基材凹凸面Ｓｋの凹凸に沿ったものになる。ただし本発明はこれに限定されることなく、後で説明するように基材の凹凸とは無関係に模様頂部仮想包絡面Ｓｔの凹凸が形成されてもよいし、基材の凹凸と他の凹凸との合成により模様頂部仮想包絡面Ｓｔの凹凸が決まっても良い。即ち、模様頂部包絡面Ｓｔの形状と基材凹凸面Ｓｋの形状とは同形状とする必要は無く、所望の外観意匠乃至触感に応じて、両者を同様の形状としても良いし、或いは両者を別形状としても良い。
【００３２】
このように、凸線条部を有するとともに、この凸線条部による模様頂部仮想包絡面が凹凸を有することにより、外観意匠乃至触感において従来とは異なる特有の質感を与えることができる。
【００３３】
模様形成層１２を形成する材料は、化粧材に用いられる通常の材料を適宜用いることができる。基材を加熱軟化させて型（エンボス版）を押圧するのであれば模様形成層１２は基材１１と同じ材料により形成される。また模様形成層１２を基材１１と別層として基材１１に積層するのであれば、溶融した組成物を成形後に硬化させる観点から、基材１１とは別に準備した、上記基材１１と同様の樹脂を用いることができる。
【００３４】
なお、ここで示した凸線条部はその稜線が直線状に延びる形態であるが、これに限らず、平面視に於いて、凸線条部は稜線が延びる方向に対して放物線、双曲線、正弦波曲線、双曲線正弦関数曲線、楕円関数曲線、サイクロイド曲線等の曲線状乃至は波型状など他の形態となるようにすることもできる。後で説明する各形態でも同様である。
【００３５】
図３には第２の形態を説明する図を示した。図３は図２と同じ視点による化粧材２０の断面図である。図３からわかるように、化粧材２０では基材２１は模様形成層２２が配置される側の面も平滑な平坦面であり、凹凸を有していない。基材２１の材料や厚さは基材１１と同様に考えることができる。
【００３６】
一方、模様形成層２２に具備される凸線条部２３及び凹線条部２４において、凸線条部２３の高さＨ２３が、複数の凸線条部２３で異なるように形成されている。これにより、基材凹凸面Ｓｋが平坦な平面であっても、模様頂部仮想包絡面Ｓｔが凹凸を有するように構成されている。
このような化粧材２０によっても従来とは異なる特有の質感を与えることができる。
【００３７】
模様頂部包絡面Ｓｔの凹凸形状の考え方は化粧材１０で説明した模様頂部包絡面Ｓｔと同様である。
【００３８】
また、凸線条部２３の幅Ｗ２３、凹線条部２４の幅Ｗ２４、及び凸線条部２３の高さＨ２３の大きさは特に限定されることはないが、化粧材の模様を形成するという観点から微細なものあることが好ましく、本形態ではそれぞれ、１μｍ≦Ｗ２３≦１０００μｍ、１μｍ≦Ｗ２４≦１０００μｍ、３μｍ≦Ｈ２３≦３０００μｍであることが好ましい。
【００３９】
図４は第３の形態にかかる化粧材３０の一部を拡大し、模様形成層３２側から平面視した図である。本形態の化粧材３０は、正六角形の領域である単位領域３３が平面視で２次元的にｘｙ方向に配列されている。わかりやすさのため、図４には１つの単位領域３３について太線で縁取りをして表した。
尚、ここで言う単位領域とは、繰り返し単位、即ち、平面（ｘｙ平面）内において、並進対称性を有する方向（３対の対辺と直交する方向）に隣接して繰り返し配列することにより平面を隙間無く被覆することが可能な単位となる領域を意味する。
【００４０】
図５には、図４のうちから１つの単位領域３３を抜きだして拡大した図を表した。図５からわかるように、単位領域３３はさらに複数の個別領域３４〜個別領域４３の１０領域に分かれており、個別領域３４〜個別領域４３にそれぞれの模様形成層が設けられている。
本形態の化粧材３０では繰り返し単位としての単位領域３３が配列され、この単位領域３３の中に、それぞれの模様を具備する個別領域３４〜個別領域４３が形成される例である。ただし、このような繰り返し単位としての単位領域がなく、全体に個別領域が複数形成されたものであってもよい。そして本形態では２種類の領域が存在するため、わかり易さのために「単位領域」及び「個別領域」と呼んで区別するが、これらを総称して「領域」として表現することもできる。
【００４１】
図４、図５には一部に点線が示されているが、この点線は実際には存在しない線であるが、単位領域及び個別領域の境界をわかり易くするために付した仮想の線である。図４、図５からわかるように本形態では単位領域３３は正六角形であり、単位領域３３内において各個別領域３４〜個別領域４３は三角形である。
【００４２】
図６（ａ）〜図６（ｃ）には、個別領域３４〜個別領域４３のうち、３つの個別領域３４、３５、３６が備える断面形状を表した。この断面はいずれも個別領域に形成される凸線条部の稜線が延びる方向に対して直交する厚さ方向（ｚ方向）断面である。
図６（ａ）〜図６（ｃ）からわかるように、化粧材３０は、基材２１及び該基材２１の一方の面に積層された模様形成層３２を有して構成されている。この模様形成層３２が上記単位領域３３及び個別領域３４〜個別領域４３の形状を形成している。
【００４３】
本形態の基材２１は、上記した化粧材２０の基材２１と同様である。従って、基材２１のうち模様形成層３２が積層される側の面も平滑な平坦面に形成されている。
【００４４】
模様形成層３２は、基材２１の一方の面に積層された模様を形成する層であり、この模様が単位領域３３及び個別領域３４〜個別領域４３のように所定の形状を有して模様を構成している。本形態で模様形成層３２は次のような形態を備えている。
【００４５】
上記したように、本形態で模様形成層３２は、化粧材３０の平面視で正六角形の単位領域３３を有し、複数の単位領域３３が２次元的にｘｙ平面内に配列されて全平面を被覆している。そして、各々の単位領域３３が複数の個別領域３４〜個別領域４３に分かれており、個別領域ごとにそれぞれの模様が形成されている。以下個別領域３４、３５、３６を例に説明する。
【００４６】
個別領域３４は図５、及び図６（ａ）からわかるように、万線状の凸線条部３４ａと凹線条部３４ｂとが交互に配列してなる。
この凸線条部３４ａは図６（ａ）に表れる断面において高さＨ３４ａ、幅Ｗ３４ａの略長方形とされている。凸線条部３４ａはこの断面を有して、その稜線が配列方向とは異なる方向（例えば配列方向に直交する方向）に延びるように構成されている。凸線条部３４ａが延びる長さは個別領域３４の輪郭形状により決まる。
一方、凹線条部３４ｂは図６（ａ）に表れるように隣り合う凸線条部３４ａの間に形成され、凸線条部３４ａの形状によりその形状が決まる。従って、凹線条部３４ｂの幅Ｗ３４ｂは、凸線条部３４ａのピッチＰ３４ａから凸線条部３４ａの幅Ｗ３４ａを引いた値となる。
【００４７】
ここで、Ｗ３４ａ、Ｗ３４ｂ、Ｈ３４ａの大きさは特に限定されることはないが、化粧材の模様を形成するという観点から微細なものあることが好ましく、本形態ではそれぞれ、１μｍ≦Ｗ３４ａ≦１０００μｍ、１μｍ≦Ｗ３４ｂ≦１０００μｍ、３μｍ≦Ｈ３４ａ≦３０００μｍであることが好ましい。
【００４８】
また、凸線条部３４ａにおける高さと幅の比であるＨ３４ａ／Ｗ３４ａ（アスペクト比とも言う。）は１よりも大きいことが好ましい。これによれば化粧材の質感をさらに新しいものとすることができる。但し、アスペクト比が大き過ぎると、型製造の難度が上がり、又、型及び化粧材において外力が加わった際に凸線条部３４ａへの応力が集中しては損傷し易くなる。そのため、通常は、アスペクト比は５以下、好ましくは３以下とされる。
【００４９】
ここで、個別領域３４に属する複数の凸線条部３４ａは基材側（基端部側）とは反対側（頂部側）において全体として凹凸を有している。本形態の当該凹凸も上記した模様頂部包絡面Ｓｔと同様に考えることができる。すなわち、本形態でもこの模様頂部仮想包絡面Ｓｔが凹凸を有するように形成されている。この凹凸は前記の模様頂部包絡面Ｓｔ同様の形状とすることができる。
【００５０】
模様形成層３２を形成する材料は、上記模様形成層１２と同様に考えることができる。
【００５１】
個別領域３５は個別領域３４に隣り合う個別領域であり、図５、及び図６（ｂ）からわかるように、万線状の凸線条部３５ａと凹線条部３５ｂとが交互に配列してなる。
凸線条部３５ａは図６（ｂ）に表れる断面において高さＨ３５ａ、及び幅Ｗ３５ａの長方形とされている。凸線条部３５ａはこの断面を有してその稜線が配列方向とは異なる方向（例えば配列方向に直交する方向）で、かつ、個別領域３４の凸線条部３４ａが延びる方向とは異なる方向に延びるように構成されている。凸線条部３５ａが延びる長さは個別領域３５の輪郭形状により決まる。
一方、凹線条部３５ｂは図６（ｂ）に表れるように隣り合う凸線条部３５ａの間に形成され、凸線条部３５ａの形状によりその形状が決まる。従って、凹線条部３５ｂの幅Ｗ３５ｂは、凸線条部３５ａのピッチＰ３５ａから凸線条部３５ａの幅Ｗ３５ａを引いた値となる。
【００５２】
ここで、個別領域３５における高さＨ３５ａ、幅Ｗ３５ａ、幅Ｗ３５ｂの好ましい大きさの範囲は個別領域３４と同様に考えることができる。これに加えて個別領域３５では、個別領域３４との関係で、Ｈ３４ａ＞Ｈ３５ａであることが好ましい。さらに、本形態で個別領域３５は、Ｗ３４ａ＝Ｗ３５ａ、Ｗ３４ｂ＜Ｗ３５ｂ、及び、Ｐ３４＜Ｐ３５とされている。
ここで、Ｈ３４ａ＞Ｈ３５ａとは、個別領域３４に属する凸線条部３４ａの高さの平均が、個別領域３５に属する凸線条部３５ａの高さの平均よりも大きいことを意味する。
【００５３】
そしてここでも、個別領域３５に属する複数の凸線条部３５ａは基材側（基端部側）とは反対側（頂部側）において全体として凹凸を有している。これも上記した模様頂部包絡面Ｓｔと同様に考えることができる。
【００５４】
個別領域３６は個別領域３４に隣り合う個別領域であり、図５、及び図６（ｃ）からわかるように、万線状の凸線条部３６ａと凹線条部３６ｂとが交互に配列してなる。
凸線条部３６ａは図６（ｃ）に表れる断面において高さＨ３６ａ、及び幅Ｗ３６ａの長方形とされている。凸線条部３６ａはこの断面を有してその稜線が配列方向とは異なる方向（例えば配列方向に直交する方向）で、かつ、個別領域３６の凸線条部３６ａが延びる方向とは異なる方向に延びるように構成されている。凸線条部３６ａが延びる長さは個別領域３６の輪郭形状により決まる。
一方、凹線条部３６ｂは図６（ｃ）に表れるように隣り合う凸線条部３６ａの間に形成され、凸線条部３６ａの形状によりその形状が決まる。従って、凹線条部３６ｂの幅Ｗ３６ｂは、凸線条部３６ａのピッチＰ３６ａから凸線条部３６ａの幅Ｗ３６ａを引いた値となる。
【００５５】
ここで、個別領域３６における高さＨ３６ａ、幅Ｗ３６ａ、幅Ｗ３６ｂの好ましい大きさの範囲は個別領域３４と同様に考えることができる。これに加えて個別領域３６では、個別領域３４との関係で、Ｈ３４ａ＞Ｈ３６ａであることが好ましい。さらに、本形態で個別領域３６は、Ｗ３４ａ＜Ｗ３６ａ、Ｗ３４ｂ＜Ｗ３６ｂ、及び、Ｐ３５ａ＝Ｐ３６ａとされている。
ここで、Ｈ３４ａ＞Ｈ３６ａとは、個別領域３４に属する凸線条部３４ａの高さの平均が、個別領域３６に属する凸線条部３６ａの高さの平均よりも大きいことを意味する。
【００５６】
そしてここでも、個別領域３６に属する複数の凸線条部３６ａは基材側（基端部側）とは反対側（頂部側）において全体として凹凸を有している。これも上記した模様頂部包絡面Ｓｔと同様に考えることができる。
【００５７】
他の個別領域３７〜個別領域４３についても同様に考えることができる。
そして、それぞれの個別領域が特有の模様頂部仮想包絡面Ｓｔの凹凸形状を有しているとともに、凸線条部の高さ、幅、及び延びる向きの少なくとも１つにおいて隣の個別領域と異なっていることが好ましい。
このような模様形成層１２でも、これまでとは異なる特有の質感を表現することができる。
【００５８】
この中でも、本形態では、複数存在する領域（単位領域及び個別領域を問わず凹凸層に存在する領域の総称としての領域。）の間で、凸線条部の平均高さが異なる関係にある領域が含まれるものが好ましい。このように平均高さが異なる関係にある複数の領域を含むことで、従来と異なる質感の表現の多様性を高めることができる。
ここで、このように凸線条部における高さを領域間で異なるものとする際には、次のようにしてもよい。すなわち、凸線条部の幅をＷａ、凹線条部の幅をＷｂとしてＷａ／Ｗｂをデューティー比としたとき、凸線条部の高さＨによらずデューティー比Ｗａ／Ｗｂが同じ、又は、凸線条部の高さＨが高いものほどデューティー比Ｗａ／Ｗｂが小さくなるように構成することができる。これにより従来に対してさらに異なる質感の表現をすることができる。因みに、特許文献１（特公平７−２２９８９号公報）及び特許文献２（特開平４−１２５１９９号公報）開示の化粧材に於いては、其の実施例にも記載の如く、金属の版材上に版下画像からの露光でパターニングされた感光性レジスト膜を介してしての腐蝕により製造したエンボス版により賦形するものである。そのため、所謂サイドエッチング現象により必然的に斯かるデューティー比Ｗａ／Ｗｂは高さＨの増大と共に増大するものしか製造し得無い（此の辺の事情については、同樣の分野の技術を開示する特許第４６１２２００号公報の特許請求の範囲及び図１參照）。
【００５９】
図７には、第４の形態にかかる化粧材５０を平面視した図を表した。図７は、図４に相当する図である。この化粧材５０では、模様形成層５２において、領域５３〜領域５７がｘ方向に配列され、点線で示した各領域の境界が曲線状である例である。各領域には上記個別領域の例に倣って凸線条部凹線条部、模様頂部包絡面Ｓｔ、及び基材凹凸面Ｓｋが具備されている。
このような化粧材５０によっても本発明の効果を奏するものとなる。
【００６０】
次に化粧材の製造方法の例を説明する。ここでは化粧材３０を作製する方法を例示する。ただし、化粧材を製造する方法がこれに限定されることはない。
以下に説明する製造方法には、原稿画像を作製する工程、版下画像を作製する工程、版を作製する工程、及び模様形成層を作製する工程を含んでいる。
【００６１】
原稿画像を作製する工程では、模様形成層３２に表現すべき模様を取得してこれを原稿画像とする。原稿画像はデジタルデータであることが好ましいため、デジタルデータでない場合には写真やスキャナ等を用いることによりデジタルデータ化する。また、初めから模様をＣＡＤ等を用いてデジタルデータを利用して設計していた場合にはそのデジタルデータを用いることができる。
これで、デジタルデータとして原稿画像が得られる。
【００６２】
版下画像を作製する工程では、得られた原稿画像を、濃度−万線変換プログラムによって、模様の階調画像に対応して二値画像としての万線パターンを二次元仮想平面上に生成して配置し、デジタルデータとして版下画像を得る。
【００６３】
ここでは、予め設定しておいた、凸線条部の周期、万線の線形状、線が延びる方向、万線の幅の可変レンジ等の万線生成条件に従い、二値画像として万線を生成する。このようにして生成された万線は、その線分部分が、化粧材における凸線条部に該当し、線分と線分との間の部分が化粧材における凹線条部に該当する。このようにして、万線模様を有する版下画像が得られる。
【００６４】
版を作製する工程では、版下画像に基づいて図４の如き平面視形状の凹凸模樣を表面に有するエンボス版（化粧材用成形型）の作製を行う。
該凹凸模樣は、閉領域からなる各個別領域３４〜４３、３４〜４３、３４〜４３、…が相互に隣接して連結することで平面を区画して被覆した個別領域の集合体を有する。
ここで、このような凹凸模様は、図４に対応する図８に示したように（見易さのため一部を太線であらわしている。）、各領域の輪郭形状のみからなり万線状の凸線条部及び凹線条部を具備しない画像である網状領域３２’に対して、各個別領域に相当する領域内３４〜４３、３４〜４３、…内に万線状の凸線条部３４ａ、３５ａ、３６ａ・・・及び凹線条部３４ｂ、３５ｂ、３６ｂ、…を交互に配列してなるものと考える。
そして具体的には凹凸模様の製造工程は以下の手順（１）〜（５）からなる。
【００６５】
〔（１）濃淡階調版下画像作成工程〕
以下の画像作成工程（１）−１〜（１）−３を、アドビシステムズ社製のグラフィックデザイン描画ソフトウエア「Illustrator」を用い、ＴＩＦＦ形式で８ｂｉｔの画像濃淡階調（２５６階調）で２５４０ｄｐｉの解像度の画像データ（網状領域、万線、及び両者の合成画像）を作成した。
【００６６】
（１）−１
先ず、図４の凹凸模様の平面視画像から、万線画像を除いた図８に示した画像に相当する網状領域３２’の画像を作成した。
【００６７】
（１）−２
描画ソフトウエア「Illustrator」を用い、各個別領域３４、３５、…、４２、４３に嵌め込むべき万線状の凸線条部及び凹線条部３４ａ及び３４ｂ、３５ａ及び３５ｂ、…、４２ａ及び４２ｂ、４３ａ及び４３ｂの形状（以下、万線形状ともいう。）に対応するデジタルの濃淡画像データを作成した。
尚、該濃淡画像は、後述の金属ロール表面の一座標毎に画像濃度を対応させたものである。
【００６８】
（１）−３
描画ソフトウエア「Illustrator」を用い、以上で得られた網状領域内の各個別領域内に以上で得られた各個別領域用の万線形状を嵌め込み、図４の凹凸模様に対応する濃淡画像データを得た。この濃淡画像データを凹凸模様画像データともいう。
【００６９】
〔（２）金属ロール準備工程〕
上記工程（１）と並行して、図９に示したようなエンボス版彫刻用の金属ロール６０を準備した。金属ロール６０は、軸方向両端部に回転駆動軸（ｓｈａｆｔ）６１を有する中空の鉄製の円筒の表面に銅層をメッキ形成したものである。砥石で金属ロール６０の表面を研磨して粗面化し、彫刻用レーザ光の鏡面反射による彫刻効率の低下を防止する処理をした。
【００７０】
〔（３）レーザ光彫刻工程〕
図９に模式的に示したように、レーザ光直接彫刻機を用い、工程（２）で用意した金属ロール６０の表面を工程（１）で作成した模様画像データに基づき彫刻する。これによりその表面に図４のような化粧材表面の模様と同一平面視形状で且つ逆模様（化粧材の凸に対応する部分がエンボス版面上では凹となる関係）の形状を形成した。
従ってエンボス版における模様が備えるべき形状は、上記した化粧材における模様の凹凸関係が反転した態様であり、同様に考えることができる。
【００７１】
金属ロール６０をその回転駆動軸６１を介して電動機で駆動し、回転駆動軸６１を中心軸として回転する。レーザーヘッド６２から出射される発振波長１０２４ｎｍ、レーザスポット径１０μｍ、出力６００Ｗのファイバーレーザ光Ｌで金属ロール６０の表面の全面を走査する。その際には工程（１）で作成した凹凸模様画像データの濃度値に応じてレーザ光をＯＮ−ＯＦＦ切換（照射又は非照射の切換）を行い、照射位置には１回のレーザ光照射による金属の蒸発で深さ１０μｍの凹部を形成する。かかるレーザ光による金属ロール表面に対する走査を１０回繰り返した。また、蒸発した金属が粉体となって金属ロール６０の表面に残留又は付着することを防止するため、彫刻液吐出ヘッド６３から彫刻液Ｔを金属ロール６０の表面のレーザ光照射領域に吹き付けた状態でレーザ光照射を行った。
その際に、例えば、凹凸模様画像データ上で版深５０μｍに対応する画像濃度の位置座標においては、合計１０回の走査のうち、最初の５回分のみレーザ光を照射（ＯＮ）し、残り５回分についてはレーザ光は非照射（ＯＦＦ）となるよう制御する。
かかるレーザ光の走査を完了させ、金属ロール６０の表面に所望の凹凸形状を形成した。
【００７２】
〔（４）電界研磨工程〕
彫刻液を洗浄した後、電解研磨を行い、金属ロール６０の表面に付着した金属の残渣を除去した。
【００７３】
〔（５）クロムメッキ工程〕
工程（４）の後、該金属ロール表面にメッキにより厚さ１０μｍのクロム層を形成した。
【００７４】
以上により模様形成層３２の表面に形成された模様の凹凸が反転した形状を表面に備える版（化粧材用成形型、本形態ではエンボス版）を得ることができる。
【００７５】
次に、模様形成層を作製する工程で、作製された版（エンボス版）を用いて、基材２１にエンボス加工を行えば化粧材３０が得られる。エンボス加工は、適宜な公知の方法によれば良く、特に制限はない。エンボス加工の代表的な方法は例えば次のようなものである。
基材としてポリオレフィン系樹脂等の熱可塑性樹脂からなる樹脂シートを用いる。この基材を加熱軟化させ、その表面にエンボス版を押圧して該樹脂シート表面にエンボス版表面の凹凸模樣を賦形する。そして樹脂シートを冷却して固化させて樹脂シート上の凹凸模様を固定する。その後に凹凸模様が賦形された樹脂シートをエンボス版から離型する。
ここで、各種エンボス加工法について、さらに説明すると例えば次の（Ａ）〜（Ｅ）のような方法がある。
【００７６】
（Ａ）基材となる樹脂シートを加熱軟化させ、エンボス版を押圧して、エンボス加工する。
（Ｂ）エンボス版を押圧する時の熱圧で表面シートとなる樹脂シート（基材）とベースシートとする樹脂シート（第２の基材）とを熱融着することにより、エンボス加工とラミネートとを同時に行うダブリングエンボス法によりエンボス加工する。
（Ｃ）表面シートとする樹脂シート（基材）を、Ｔダイから溶融押出しをし、冷却ローラを兼ねるシリンダ状のエンボス版上に接触させて表面シートの成膜と同時にエンボス加工する。このとき、さらに表面シートの裏面側に挿入したベースシートとする樹脂シート（第２の基材）を熱融着させてダブリングエンボスを成膜と同時に行う。
（Ｄ）特開昭５７−８７３１８号公報、特開平７−３２４７６号公報等に開示の如く、シリンダ状のエンボス版の表面に電離放射線硬化性樹脂の未硬化液状物を塗工する。さらにその上に、樹脂シート等からなるベースシートを重ねた状態で電離放射線を照射して未硬化液状物を硬化させて硬化物とする。その際、該硬化物をベースシートと接着させた後、エンボス版から離型して、ベースシートと該ベースシート上の硬化物とからなる基材とすることで、基材にエンボス加工する。
（Ｅ）チタン紙等の紙にメラミン樹脂等の熱硬化性樹脂の未硬化物を含浸した含浸紙を、コア紙、木材合板上等の裏打材上に載置して、これら載置した複数層を熱プレス成形することによって各層を積層一体化し熱硬化性樹脂化粧材を作製する。そのとき、含浸紙表面側にエンボス版を挿入することによって、熱硬化性樹脂を含浸硬化させて化粧材とする際にその表面に熱プレスと同時にエンボス加工する。
【００７７】
なお、（Ａ）〜（Ｃ）のエンボス加工法で用いる基材の材料としては代表的には熱可塑性樹脂が使用され、（Ｄ）のエンボス加工法で用いる基材の材料としては代表的には電離放射線硬化性樹脂が使用され、（Ｅ）のエンボス加工法で用いる基材の材料としては代表的には熱硬化性樹脂が使用される。
【００７８】
以上のようにして化粧材３０を得ることができる。
【００７９】
次に、以上のように説明した化粧材１０、２０、３０、５０の変形例としての化粧材を説明する。図１０（ａ）〜図１０（ｃ）に層構成を示した。ここで図１０（ａ）〜図１０（ｃ）では化粧材１０を基に説明するが、他の形態の化粧材についても同様に考えることができる。
【００８０】
図１０（ａ）の構成の化粧材１０’は単層からなる化粧材である。このような化粧材１０’は、例えば、熱可塑性樹脂シートからなる基材１１を、加熱軟化してエンボス版を押圧するエンボス加工を行えば良い。この結果、基材１１の表面には、所望の凹凸形状の凸線条部１３及び凹線条部１４からなる模様形成層１２による模様が賦形される。この構成では付加的な装飾層は無いが、基材１１を透明なものとした場合でも、他の素材に積層することで、当該他の素材の模様を活かして表面化粧することができる。また、基材１１は適宜着色剤で茶色や灰色等に着色してもよく、この場合には基材自体が装飾層となる。
【００８１】
図１０（ｂ）の構成の化粧材１０’’は、図１０（ａ）の構成に対して、基材１１の裏側に装飾層１１ａを形成した構成である。この様な構成の化粧材１０’’を作製するには、例えば、基材１１としては装飾層１１ａが透視できる様に透明な樹脂シートを使用し、この基材１１の裏側とする面に装飾層１１ａを印刷形成した後、加熱軟化させてエンボス版を表側とする面に押圧するエンボス加工を行えば良い。
【００８２】
図１０（ｃ）の構成の化粧材１０’’’は、図１０（ｂ）の構成に対して、さらに装飾層１１ａの面のうち模様形成層１２が配置される側とは反対側にもベースシートとする他の基材１１ｂを積層した例である。この様な構成の化粧材１０’’’を作製するには、ベースシートとする着色した不透明な熱可塑性樹脂シートからなる基材１１ｂの表側とする面に、装飾層１１ａを印刷形成した後、このベースシートと、表面シートとする透明な熱可塑性樹脂シートからなる基材１１とを、ダブリングエンボス法で熱融着によって積層すると同時に基材１１の表面に所望の模様をエンボス加工すれば良い。
【００８３】
以上説明した化粧材の用途は特に制限は無いが、例えば、壁、床、天井等の建築物の内装材、建築物の外壁、屋根、門扉、塀、柵等の外裝材、扉、窓枠、扉、扉枠等の建具、廻り縁、幅木、手摺等の造作部材の表面材、テレビ受像機、冷蔵庫等の家電製品の筐体の表面材、箪笥等の家具の表面材、箱、樹脂瓶等の容器の表面材、車両等の内装材又は外裝材、船舶の内装材又は外裝材等である。
【符号の説明】
【００８４】
１０、２０、３０、５０  化粧材
１１、２１  基材
１２、２２、３２、５２  模様形成層
１３、２３、３４ａ、３５ａ、３６ａ  凸線条部
１４、２４、３４ｂ、３５ｂ、３６ｂ  凹線条部
【図１】
2019081339.tif 000003
【図２】
2019081339.tif 000004
【図３】
2019081339.tif 000005
【図４】
2019081339.tif 000006
【図５】
2019081339.tif 000007
【図６】
2019081339.tif 000008
【図７】
2019081339.tif 000009
【図８】
2019081339.tif 000010
【図９】
2019081339.tif 000011
【図１０】
2019081339.tif 000012