(57)【要約】【課題】反転オフセット印刷法を実施するための版洗浄に関し、除去凸版に付着した非水溶性ナノ微粒子分散インクを、多量の洗浄液や有機溶剤を使用することなく、また異物付着の原因となる拭き取りを実施することなく、主に水洗を主要な洗浄手段として版洗浄を実施することにより、洗浄不良によるインク残留、異物付着を抑制した環境負荷の低い洗浄方法、および洗浄装置を提供する。これにより、解像性の高い印刷物を提供する。【解決手段】反転オフセット印刷法で使用する非水溶性ナノ微粒子分散インクが付着した除去凸版に剥離液を塗布する、もしくは剥離液に浸漬し、ついで除去凸版に水溶性有機溶剤を含んでもよい水を噴霧する、あるいは浸漬した後、除去凸版上に残留する水溶性有機溶剤を含んでもよい水を除去する。【選択図】図３
2019098550.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反転オフセット印刷法において、ブランケット上に塗布した非水溶性ナノ微粒子分散インク塗膜からその塗膜の不要部分を除く除去凸版の洗浄方法であって、
少なくとも、非水溶性ナノ微粒子分散インクが付着した除去凸版上に剥離液を塗布する、あるいは非水溶性ナノ微粒子分散インクが付着した除去凸版を剥離液に浸漬する第一工程と、
除去凸版上に水溶性有機溶剤を含んでもよい水を噴霧する、あるいは除去凸版を水溶性有機溶剤を含んでもよい水に浸漬する、あるいは除去凸版を水溶性有機溶剤を含んでもよい水に浸漬した後に、水溶性有機溶剤を含んでもよい水を噴霧する第二工程と、
空気を送風して除去凸版から水分を除去して乾燥する第三工程、
を含む、除去凸版の洗浄方法。
【請求項２】
請求項１記載の非水溶性ナノ微粒子分散インクのナノ微粒子がナノ金属微粒子である、請求項１記載の除去凸版の洗浄方法
【請求項３】
請求項２記載のナノ金属微粒子がナノ銀微粒子、あるいはナノ銅微粒子である、請求項２記載の除去凸版の洗浄方法
【請求項４】
請求項１記載の剥離液が次亜塩素酸ナトリウムを含む、請求項１から３いずれか１項記載の除去凸版の洗浄方法。
【請求項５】
請求項４記載の次亜塩素酸ナトリウムの濃度が１００ｐｐｍから１００００ｐｐｍの範囲である、請求項４記載の除去凸版の洗浄方法。
【請求項６】
請求項１記載の水溶性有機溶剤がメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトンである、請求項１から５いずれか１項記載の除去凸版の洗浄方法。
【請求項７】
反転オフセット印刷法を実施する印刷装置に付帯する版洗浄装置であって、除去凸版に請求項１の第一工程記載の剥離液を塗布する塗布ノズル、および除去凸版に請求項１の第二工程記載の水溶性有機溶剤を含んでもよい水を噴霧する噴霧ノズル、および除去凸版表面に請求項１の第三工程記載の空気を送風する送風ノズルを含む、版洗浄装置。
【請求項８】
反転オフセット印刷法を実施する印刷装置に付帯する版洗浄装置であって、除去凸版を請求項１の第一工程記載の剥離液に浸漬する剥離液槽、および除去凸版を請求項１の第二工程記載の水溶性有機溶剤を含んでもよい水に浸漬する水槽、および除去凸版に水溶性有機溶剤を含んでもよい水を噴霧する噴霧ノズル、除去凸版表面に請求項１の第三工程記載の空気を送風する送風ノズルを含む、版洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は反転オフセット印刷用の除去凸版の洗浄方法、及び除去凸版洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、プリンテッドエレクトロニクスの発展は著しく、フィルム上に形成されたディスプレイやウェアラブルデバイスなど、印刷技術で形成される、薄型、軽量の情報端末が提案されている。
【０００３】
現在、前記情報端末に用いられるトランジスタの主流はシリコン系であるが、その製造方法としては、シリコンをスパッタやＣＶＤなどのドライ法で成膜した後、フォトリソグラフィー技術を用いて前記トランジスタをパターニングする方法が一般的である。
【０００４】
これに対して、より低コストで、かつ、プラスチックフィルムに代表されるフレキシブル基材上に容易にパターニングできることから、前記トランジスタを印刷技術で作製するプリンテッドエレクトロニクスが注目されている。印刷技術を用いることで、フォトリソグラフィーよりも装置や製造上のコストが下がり、また、真空や高温プロセスを必要としないことから、エネルギー負荷の低減が達成されるなどのメリットが挙げられる。
【０００５】
しかしながら、印刷法はフォトリソグラフィー法と比較すると、概して解像性が悪く、微細なパターニングが課題である。パターニングの精度はトランジスタの性能に直接影響を及ぼすため、解像性の高い印刷技術の開発が求められている。特にナノ銀微粒子やナノ銅微粒子などのナノ金属分散インク、またはナノ金属酸化物分散インクを用いて印刷し、これを焼成してトランジスタに必要な導電性を有する細線電極を作製する場合、印刷の解像性が低いと、前記細線電極に断線や短絡（ショート）が生じて、トランジスタの性能を損なう場合がある。
【０００６】
これに対し、微細パターン形成に有効な印刷方法として、一般にシート状に加工されたゴム製のブランケットと除去凸版を用いる反転オフセット印刷法がある(特許文献１参照)。
【０００７】
反転オフセット印刷法について図１を用いて以下に説明する。
【０００８】
（塗布工程）
まず、離型性表面を有するブランケット１に、インク２を塗布してブランケット１ａを得る。ここで離型性とは前記ブランケット上に形成された塗膜を印刷基材４に接触させて、転写する際に、前記ブランケット上の塗膜残留がなく、印刷基材に移行させる作用をいい、一般に印刷用ブランケットに求められる公知の基本的特性である。
【０００９】
（塗膜濃縮工程）
その後、インクを構成する液体成分の少なくとも一部を蒸発、あるいは前記ブランケットに吸収させ、ブランケット表面に濃縮された塗膜２ａを形成することで、ブランケット１ｂを得る（図１（ａ）〜（ｃ））。
【００１０】
（除去工程）
次に、ブランケット１ｂを除去凸版３に密着させ、前記塗膜を除去凸版３に接触させることで塗膜の不要な部分を除去し、ブランケットに印刷パターンが形成された塗膜２ｂを含むブランケット１ｃを得る（図１（ｄ））。
【００１１】
（転写工程）
次に、ブランケット１ｃを印刷基材４に密着させて離すことで、前記塗膜２ｂを印刷基材に転写することにより、印刷基材上にパターンが形成された印刷物１ｄを得る（図１（ｅ）〜（ｆ））。
【００１２】
（版洗浄工程）
最後に、インクが付着した除去凸版からインクを洗浄除去して除去凸版３を得る。
【００１３】
前記反転オフセット印刷法は、パターニングを行う工程でインクの不要部分を除去凸版へ転写させるため、連続で印刷を行うには、印刷毎に除去凸版上に付着した不要インクを除去する必要がある。
【００１４】
前記版洗浄工程で除去凸版に付着したインクの除去が不十分だと、印刷毎に前記除去工程のパターニング精度が低下して、印刷物の解像性の低下、印刷不良を生じる場合がある。特に、前記反転オフセット印刷法によりトランジスタの微細パターンを形成する場合、トランジスタの電極細線に欠損や断線、あるいは短絡（ショート）が生じるなど、トランジスタの性能を低下させる恐れがある。
【００１５】
前記インクの除去を実施する際、インクが水溶性であれば、水洗によって不要インクを洗浄除去する版洗浄方法（特許文献２）が開示されており、水洗によって低コストで環境負荷の小さい除去凸版の洗浄が達成できる。しかしながら、非水溶性インクが前記除去凸版に付着すると、水洗のみでは付着した不要インクを版から除去できない場合がある。この場合は有機溶剤による拭き取り洗浄や有機溶剤を版に噴霧するなどして洗浄できる場合もあるが、拭き取りの際に拭き取り布、あるいは紙由来の繊維片やスポンジ屑が発生して版に付着する、あるいは除去凸版の凹部（印刷パターンを形成する溝）に拭き残しインクが堆積して前記凹部に目詰まりを生じ、印刷精度が低下して品質を損なう場合がある。特にインクが電極パターニングを目的としたナノ金属などのナノ微粒子分散インクである場合、一般に前記ナノ微粒子は洗浄溶剤に溶解しないために、拭き取りの際に版凹部に堆積しやすく、かつ、いったん微細な凹部に堆積すると、除去が極めて困難となる。またインクを溶解させるための大量の有機溶剤使用に伴う環境負荷の増大も問題となり、かつ、連続的に印刷を繰り返す場合には作業負荷の増大が問題となる。
【００１６】
前記課題を解決する手段として、反転オフセット印刷法を用いて微細なパターニングを行う際に、不要な部分のインクが凸部に転写した除去凸版に、版洗浄用基板又はロールを圧着、続いて剥離し、不要な部分のインクを除去凸版から版洗浄用基板側へ転写させ、次に該基板表面を掻き基板より、不要な部分のインクを回収する版洗浄方法（特許文献３）が開示されている。
【００１７】
しかしながら前記公報の方法では、除去凸版から取り除く不要インクのすべてが版洗浄用基材へ転写されるとは限らず、一部のインクが除去凸版に残留する場合がある。また前記版洗浄用基材上の不要インクを前記掻き基板で除去する際に、インクの乾燥、固化の進行によって掻き取り不良が発生し、版洗浄用基板が十分に清浄化されない状態で除去凸版と圧着、剥離することにより、除去凸版上の不要インクを十分に除去できない場合もある。
【００１８】
また最表面がシリコーンゴムもしくはフッ素ゴムで構成されるブランケットと、ブランケットが保持される回転ドラムと、ブランケットに対向するように設置された塗工機と、画線部に相当する溝構造部と非画像部に相当する凸部を有する除去凸版と、除去凸版が保持される版ステージと、印刷基材を保持する基材ステージと、除去凸版上に覆い被さるように設置できる洗浄機とを備え、洗浄機は、除去凸版に対向する超音波振動子と、超音波振動子を保持するチャンバとを備えることを特徴とする印刷機（特許文献４）が開示されている。
【００１９】
しかしながら超音波で版洗浄を実施するには多量の洗浄液が必要であり、かつ、洗浄の進行とともに洗浄液のインクによる汚染、着色が激しくなるため、洗浄後のリンス工程が必要となり、廃液量の増大、および長時間化が問題となる。また非水溶性インクを可溶化、もしくは再分散させるために有機溶剤の使用が必要となり、環境負荷の増大が問題となる場合もある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００２０】
【特許文献１】特開２０００−２８９３２０号公報
【特許文献２】特開２０１６−１９８９８６号公報
【特許文献３】特開２０１１−５６８３９号公報
【特許文献４】特開２０１５−２４５０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２１】
本発明が解決しようとする課題は、前記課題を鑑みて成されたものであり、具体的には、
反転オフセット印刷法による印刷パターニングで使用した除去凸版に付着した非水溶性ナノ微粒子分散インクを効率的、かつ、低環境負荷で洗浄除去する版洗浄方法を提供するものであり、これにより、解像性が高い印刷物を提供する。特に本発明の方法で除去凸版を洗浄して印刷物の解像性を高めることにより、反転オフセット印刷法を用いてトランジスタなどを含む電子回路を作製する際に問題となる、回路の断線や短絡（ショート）の発生抑制を可能とし、トランジスタの性能低下を抑制する。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
上記課題を解決する手段として、
（１）反転オフセット印刷法において、ブランケット上に塗布した非水溶性ナノ微粒子分散インク塗膜からその塗膜の不要部分を除く除去凸版の洗浄方法であって、
少なくとも、非水溶性ナノ微粒子分散インクが付着した除去凸版上に剥離液を塗布する、あるいは非水溶性ナノ微粒子分散インクが付着した除去凸版を剥離液に浸漬する第一工程と、
除去凸版上に水溶性有機溶剤を含んでもよい水を噴霧する、あるいは除去凸版を水溶性有機溶剤を含んでもよい水に浸漬する、あるいは除去凸版を水溶性有機溶剤を含んでもよい水に浸漬した後に、水溶性有機溶剤を含んでもよい水を噴霧する第二工程と、
空気を送風して除去凸版から水分を除去して乾燥する第三工程、
を含む、除去凸版の洗浄方法である。
【００２３】
（２）前記記載の非水溶性ナノ微粒子分散インクのナノ微粒子がナノ金属微粒子である、請求項１記載の除去凸版の洗浄方法である。
【００２４】
（３）前記記載のナノ金属微粒子がナノ銀微粒子、あるいはナノ銅微粒子である、前記記載の除去凸版の洗浄方法である。
【００２５】
（４）前記記載の剥離液が次亜塩素酸ナトリウムを含む、前記記載の除去凸版の洗浄方法である。
【００２６】
（５）前記記載の次亜塩素酸ナトリウムの濃度が１００ｐｐｍから１００００ｐｐｍの範囲である、前記記載の除去凸版の洗浄方法である。
【００２７】
（６）前記記載の水溶性有機溶剤がメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトンである、前記記載の除去凸版の洗浄方法である。
【００２８】
（７）反転オフセット印刷法を実施する印刷装置に付帯する版洗浄装置であって、除去凸版に前記第一工程記載の剥離液を塗布する塗布ノズル、および除去凸版に前記第二工程記載の水溶性有機溶剤を含んでもよい水を噴霧する噴霧ノズル、および除去凸版表面に前記第三工程記載の空気を送風する送風ノズルを含む、版洗浄装置である。
【００２９】
（８）反転オフセット印刷法を実施する印刷装置に付帯する版洗浄装置であって、除去凸版を前記第一工程記載の剥離液に浸漬する剥離液槽、および除去凸版を前記第二工程記載の水溶性有機溶剤を含んでもよい水に浸漬する水槽、および除去凸版に前記第二工程記載の水溶性有機溶剤を含んでもよい水を噴霧する噴霧ノズル、除去凸版表面に前記第三工程記載の空気を送風する送風ノズルを含む、版洗浄装置である。
【発明の効果】
【００３０】
本発明によれば、非水溶性ナノ微粒子分散インクを用いる反転オフセット印刷を連続的に実施するための版洗浄において、主として環境負荷の少ない水を用いて、除去凸版に付着した不要インクを効率的に洗浄、除去することができる。本発明の版洗浄装置を用いることで、版洗浄不良に起因する印刷欠陥を大幅に抑制することができるので、解像性の高い印刷物を得ることができる。本発明の版洗浄方法を用いる反転オフセット印刷を実施することにより、トランジスタなどを含む電子回路を印刷する際に問題となる、断線や短絡（ショート）を抑制し、トランジスタの性能低下、動作不良を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】反転オフセット印刷工程を説明するための断面模式図である。
【図２】本発明の版洗浄方法を実施するための装置構成の一例を示す模式図である。
【図３】本発明の版洗浄方法の工程の一例を説明するための断面模式図である。
【図４】本発明の版洗浄方法の工程の一例を説明するための断面模式図である。
【図５】本発明の実施例で使用する除去凸版の印刷パターンを示す模式図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
本発明の版洗浄方法によって洗浄、除去できるインクは反転オフセット印刷用に調製された非水溶性で、かつ、ナノ微粒子を分散したインクであれば特に限定は無く、公知公用のインクを用いることができ、具体的には印刷後の焼成により導電性を発現するナノ銀微粒子、ナノ銅微粒子や、金属酸化物であるナノ酸化銅微粒子、およびナノチタン酸バリウム微粒子などを、ブタノールやトルエン、キシレン、酢酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどの非水溶性有機溶剤に分散したインクを挙げることができる。
【００３３】
本発明の版洗浄方法で洗浄できる除去凸版の種類に関しても特に限定は無く、ウェットエッチング法やドライエッチング法、電鋳法などの各種の方法で印刷パターンが形成されたガラス、シリコン、セラミック、金属板など各種の材質の版を洗浄することができる。
【００３４】
また前記ブランケットに関しても、反転オフセット印刷用に作製されたブランケットであれば特に限定は無く、シリコンゴム、ウレタンゴムなどの公知公用の材料をシート状に加工したブランケットを用いることができ、さらにこれらのブランケットはポリエチレンテレフタレートシートやクッション層としてスポンジシート上に前記ブランケット用ゴムシートを積層してもよい。
【００３５】
以下、本発明の実施形態の一例を、図面を用いて詳細に説明するが本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３６】
図２は本発明の版洗浄方法を実施する装置構成の一例の模式図である。本図を用いて本発明の装置構成の一例を説明する。
【００３７】
本発明の洗浄装置の一形態は少なくとも、非水溶性ナノ微粒子分散インクが付着した除去凸版３上に剥離液を塗布する塗布ノズル５と、除去凸版上に水溶性有機溶剤を含んでもよい水を噴霧する噴霧ノズル６と、除去凸版上に空気を送風する送風ノズル７を含む。
【００３８】
本発明の洗浄装置に含まれる前記の塗布ノズル、噴霧ノズル、送風ノズルはそれぞれ少なくとも１個以上、具備していればよく、洗浄する版の面積に応じてそれぞれ２個以上を有してもよい。
【００３９】
前記の各ノズルは走行モーターなどにより、版上を移動することができる。これにより除去凸版全域を洗浄することができる。また本発明の版洗浄方法は剥離液の塗布、および水溶性有機溶剤を含んでもよい水の噴霧を伴うので、剥離液、水溶性有機溶剤を含んでもよい水の飛散を防止するための、前記除去凸版、および前記の各ノズル全体を囲う可動式のチャンバー（カバー）を設置することが好ましい。
【００４０】
前記の剥離液を塗布する塗布ノズルには剥離液を供給する剥離液槽９、および剥離液を送液するポンプ１２を接続する。
【００４１】
前記の第一工程で使用する塗布ノズルの形状、種類に関しては特に限定は無いが、塗布ノズルを介して除去凸版に塗布する剥離液量は除去凸版上のインク塗膜全体を覆う程度の少量を塗布するのに適するシリンジ、ディスペンサーなどを好適な塗布ノズルとして挙げることができる。
【００４２】
本発明の第二工程で使用する噴霧ノズルには水溶性有機溶剤を含んでもよい水を供給する水槽９、および水溶性有機溶剤を含んでもよい水を送液するポンプ１３を接続する。
【００４３】
前記記載の噴霧ノズルの形状、種類に関しては特に限定は無いが、前記第一工程で剥離したインク塗膜を、噴霧ノズルを介して噴霧する水溶性有機溶剤を含んでもよい水で洗浄、除去するために、一定の水圧を印加できる噴霧ノズルが好ましく、その一例として、高圧１流体ノズル、２流体ノズル、４流体ノズル、高圧ジェットノズル、パルスジェットノズルなどの公知公用の加圧式ノズルを用いることができるが、これらに限定されるものではない。噴霧ノズルの具体的な一例として、株式会社いけうち社製２流体ノズル、スプレーイングシステムジャパン株式会社製高圧スプレーノズルＭＥＧシリーズ、株式会社ゼビオス製パルスジェットクリーナーなどを挙げることができる。
【００４４】
本発明の第三工程で使用する送風ノズルには空気を供給するコンプレッサー、あるいはボンベ１０を接続する。
【００４５】
前記記載の送風ノズルを用いて版上に空気を送風することにより、前記第二工程で噴霧した版上に残留する水溶性有機溶剤を含んでもよい水を除去して、版表面を乾燥することができる。送風ノズルの形状、種類に関しては特に限定は無く、公知公用のエアブローノズル、あるいはスリットノズルを用いることができる。
【００４６】
前記第二工程で発生する洗浄廃液は廃液回収槽１１に回収することができる。
【００４７】
続いて本発明の版洗浄方法の一形態を説明する（図３参照）。
【００４８】
反転オフセット印刷により前記除去凸版３に付着したインクを除去するため、前記の第一工程で塗布ノズル５を介して除去凸版上に剥離液をインク塗膜が付着した版全面に塗布する（図３（ｂ））。この時に塗布する剥離液量には特に限定は無いが、インク塗膜付着面全体を覆う程度に塗布することが好ましい。
【００４９】
前記第一工程で使用する剥離液に関しては、除去凸版に付着した非水溶性ナノ微粒子分散インク塗膜を溶解、あるいは分散させることなく、前記インク塗膜と除去凸版との界面に浸透し、かつ、前記除去凸版から前記インク塗膜を剥離させる作用を有するものであれば特に限定は無いが、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ性水溶液、次亜塩素酸ナトリウム水溶液や、１,８−ジアザビシクロ（５，４，０）−ウンデカ−７−エン、ピリジンなどの有機塩基、Ｎ，Ｎ−ジエチル−１，３−ジアミノプロパン、Ｎ−ブチルジエノールアミン、１，３−ジアミノプロパンなどのアミン類の水溶液、あるいはこれらの混合物の水溶液を好適な剥離液として挙げることができる。
【００５０】
また前記の剥離液は界面活性剤を含んでいてもよく、具体的には、カルボン酸塩、スルホン酸塩、硫酸エステル塩などのアニオン系、エーテル型やエステル型などのノニオン系やカチオン系、両性界面活性剤を挙げることができ、さらに具体的にはアルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルアミン塩、アルキルアリルスルホン酸塩、ジアルキルスルホ琥珀酸塩、アルキル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル塩、第４級アンモニウム塩、アルキルリン酸エステル、アルキルリン酸エステル、ラウリン酸グリセリン、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、アルキルリン酸エステルなどの公知公用の界面活性剤を挙げることができる。また、花王株式会社製エマルゲンシリーズ、三洋化成工業株式会社製サンノニックシリーズ、新日本理化株式会社製コニオンシリーズなどの市販の界面活性剤を用いることもできる。
【００５１】
剥離液塗布後、インク塗膜内部に剥離液が浸透し、除去凸版の表面とインク塗膜の界面における付着力が低下することにより、一部のインク塗膜には自然剥離が生じる。また除去凸版に残留するインク塗膜も剥離液の作用による付着力の低下により、水噴霧などによって版から容易に除去することができる（図３（ｃ））。
【００５２】
続いて、第二工程で前記噴霧ノズル６を介して、前記除去凸版上に水溶性有機溶剤を含んでもよい水を噴霧することにより、剥離したインク塗膜、および版上に残留しているが、付着力が低下したインク塗膜を剥離液とともに版上から除去することができる（図３（ｄ）、（ｅ））。ここで水溶性有機溶剤を含んでもよい水を噴霧する圧力には特に限定は無いが、少なくとも０．１ＭＰａ以上の水圧印加が好ましい。また温度に関しても特に限定は無いが、環境負荷を考慮して、少なくとも０℃以上で８０℃以下、好ましくは２０℃から５０℃の範囲を好適な噴霧水温として挙げることができる。また噴霧速度に関しても特に限定は無く、洗浄する版の面積に応じて適宜、設定することができる。
【００５３】
前記水溶性有機溶剤として、水溶性が高く、かつ、揮発性が高く、洗浄後の版の乾燥性に優れる、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトンを挙げることができる。
【００５４】
本発明の第三工程では前記送風ノズル７を用いて版上に空気を送風することにより、前記第二工程で噴霧した版上に残留する水溶性有機溶剤を含んでもよい水を除去して、版表面を乾燥することができる（図３（ｆ））。送風する空気量に関しても特に限定はなく、版上の残留液成分を完全に除去するのに十分な空気を送風することにより、版表面を乾燥して、次の印刷を実施することができる。
【００５５】
さらに図４を用いて、本発明の版洗浄を実施する装置、および洗浄方法の一例を説明する。
【００５６】
反転オフセット印刷により前記除去凸版３に付着したインクを除去するため、インク塗膜が付着した除去凸版を、第一工程として剥離液を満たした剥離液槽８に浸漬する（図４（ｂ））。剥離液への浸漬後、インク塗膜内部に剥離液が浸透し、除去凸版の表面とインク塗膜の界面における付着力が低下し、一部のインク塗膜には自然剥離が生じる。また除去凸版に残留するインク塗膜も剥離液の作用による付着力の低下により、版から容易に除去することができる（図４（ｃ））。浸漬時間には特に限定は無い。
【００５７】
続いて、第二工程として前記除去凸版上に水溶性有機溶剤を含んでもよい水を満たした水槽に浸漬する、またはさらに、噴霧ノズルを介して水溶性有機溶剤を含んでもよい水を噴霧することにより、剥離液、および剥離した一部のインク塗膜を除去凸版から除去することができる（図３（ｄ）、（ｅ））。ここで水溶性有機溶剤を含んでもよい水の水温に関しては特に限定は無いが、環境負荷を考慮して、少なくとも０℃以上で８０℃以下、好ましくは２０℃から５０℃の範囲を好適な水温として挙げることができる。また噴霧する圧力にも特に限定は無いが、少なくとも０．１ＭＰａ以上の水圧印加が好ましい。
【００５８】
続いて、本発明の第三工程では前記記載と同様に送風ノズル７を用いて版上に空気を送風することにより、前記第二工程で噴霧した版上に残留する水溶性有機溶剤を含んでもよい水を除去して、版表面を乾燥することができる（図４（ｆ））。送風する空気量に関しても特に限定はなく、版上の残留液成分を完全に除去するのに十分な空気を送風することにより、版表面を乾燥して、次の印刷を実施することができる。
【００５９】
本発明の版洗浄装置を用いた版洗浄方法により、大量の有機溶剤の使用を必要とせず、あるいは拭き取りによる版洗浄に伴う異物付着や除去凸版の凹部への拭き残しインクの堆積を生じることなく、水を主成分とする洗浄が可能となり、印刷品質の向上や環境負荷の低減に寄与することができる。
【００６０】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲は以下の実施例に限定されるものではない。
【実施例１】
【００６１】
（印刷準備（インク））
反転オフセット印刷用ナノ微粒子分散インクとして、１−ブタノールを溶媒とする銀ナノ粒子分散インク（銀の固形分として１５％、平均粒子径２０μｍ)を用いた。前記導電性インクは本発明の方法で印刷した後、１８０℃で３０分間、オーブン中で加熱することにより、導電性を有する印刷物とすることができる。
【００６２】
（印刷準備（版））
印刷用除去凸版は厚み３．０ｍｍのウェットエッチング法で印刷パターンを加工した印刷方向４７０ｍｍ×幅方向３７０ｍｍ角のソーダガラス版を用いた。印刷パターンとして、線幅が５０μｍ、長さが３０ｃｍの線状のパターン（以下、細線）が６００本、３００μｍ間隔で平行に配置した（図５）。なお、印刷パターン部分はウェットエッチング法で版深８μｍの精度で凹形状に加工されている。
【００６３】
（印刷準備（ブランケット））
ブランケットとして、３３０ｍｍ×４７０ｍｍ角の株式会社金陽社製反転オフセット印刷用ブランケット（１２０μｍ厚みのポリエステルフィルムに２００μｍ厚みのシリコーンゴムを積層）を用いた。
【００６４】
（印刷準備（印刷基材））
印刷基材として４００ｍｍ×３２０ｍｍ角で０．７ｍｍ厚みの無アルカリガラス板を使用した。
【００６５】
（印刷準備（印刷機））
印刷機として前記記載のブランケットを装着したＭＨＩソリューションテクノロジーズ株式会社製ＰＥ−ＴＥＳＴＥＲ Ｐ−３００を使用した。前記印刷機はブランケットを装着する回転ドラムと、版および印刷基材を設置する印刷ステージに加えて、ブランケットにインクを塗布するスリットダイコーターと本発明の版洗浄装置を具備する。
【００６６】
（版洗浄準備（剥離液調製））
水酸化ナトリウムでｐＨを８から９のアルカリ性に調整した有効塩素濃度５％の次亜塩素酸ナトリウム水溶液をイオン交換水で５０倍に希釈して、これを剥離液とした。
【００６７】
（導電細線印刷工程）
前記導電性インクを前記回転ドラムに装着したブランケットにスリットダイコーターを用いて塗布することにより、前記ブランケット上にインク塗膜を形成した。インク塗膜形成後、インク塗膜が濃縮されて、銀光沢を帯びたのを確認した後、前記記載の版にインク塗膜が形成されたブランケットを毎秒１０ｍｍの速度で回転ドラムを回転させながら、前記版３に密着させることにより、前記インク塗膜から印刷パターン以外の不要な部分を除去して、ブランケット表面に印刷パターンを形成した。次に、印刷パターンが形成されたブランケットを同様にして前記印刷基材に密着させて離すことで、印刷パターンを印刷基材に転写することにより、印刷基材上に印刷物を得た。
【００６８】
（版洗浄工程）
続いて、前記インク塗膜が付着した除去凸版に、前記記載の剥離液５００ｍＬをディスペンサーを塗布ノズルとして用いて塗布した。除去凸版を剥離液で被覆させた後、さらに２分間、静置したところ、インク塗膜内への剥離液の浸透に伴うインク塗膜の変色、および一部のインク塗膜の自然剥離を確認した。続いて噴霧ノズルとして株式会社ゼビオス製パルスジェットクリーナーを用いて、水温２５℃、噴霧圧５ＭＰａで版上にイオン交換水を約２Ｌ、噴霧し、剥離したインク塗膜、および剥離液を版から洗浄、除去した。ここで剥離液塗布後に変色しながらも、自然剥離せずに版表面に留まっていたインク塗膜も洗浄、除去できていることを確認した。さらに送風ノズルとしてエアナイフを用いて版上に残留する噴霧水を送風、除去することにより、前記除去凸版の洗浄を完了した。
【００６９】
前記印刷工程および版洗浄工程を２０回連続して繰り返して、前記細線が形成された印刷物を２０部、作製した。
【００７０】
（導電細線印刷パターン精度の評価）
前記印刷工程で作製した細線が形成された印刷物をオーブンを用いて１８０℃で３０分間、加熱、焼成した後、日置電機株式会社製Ｘ−Ｙ  Ｃ  ＨｉＴＥＳＴＥＲを用いて、６００本すべての細線の断線数と隣接細線間のショート数を測定することにより、本発明の方法で作製した印刷物の印刷精度を評価した（表１）。２０回の連続印刷で断線数は合計１個（印刷１回あたり、０．０５個）、ショート数は１個（印刷１回あたり、０．０５個）であり、パターン欠陥は細線数６００本に対して２０回連続平均でそれぞれ断線０．００８％、ショート０．００８％であり、断線およびショートが無い無欠陥印刷品の歩留まりは９０％であった。
【００７１】
【表１】
2019098550.tif 000003
【実施例２】
【００７２】
版洗浄工程の第一工程において、塗布ノズルを介して版に塗布する剥離として、実施例１の剥離液５００ｍＬに、ラウリル硫酸０．１ｇを加えて剥離液とし、さらに版洗浄の第二工程において、実施例１のパルスジェットクリーナーに替えて、株式会社いけうち製１流体ノズルＶＶＰを用い、温度３５℃、噴霧圧０．５ＭＰａのイソプロピルアルコールを１０％含むイオン交換水を約１Ｌ噴霧する以外は、実施例１と同様にして、２０回連続印刷を実施し、その印刷精度を測定した（表２）。２０回の連続印刷で断線数は合計３個（印刷１回あたり、０．１５個）、ショート数は０個であり、パターン欠陥は細線数６００本に対して２０回連続平均でそれぞれ断線０．０２５％、ショート０．００％であり、断線およびショートが無い無欠陥印刷品の歩留まりは８５％であった。
【００７３】
【表２】
2019098550.tif 000004
【実施例３】
【００７４】
実施例１と同様にして印刷を行うことによって得られたナノ銀インク塗膜が付着した除去凸版を洗浄する版洗浄工程において、濃度５０００ｐｐｍに調製した次亜塩素酸ナトリウム水溶液（アルカリ性）を満たした剥離液槽に３分間、インク塗膜が付着した版を浸漬した後、水温５０℃のイオン交換水を満たした水槽に１０秒間、浸漬し、さらに株式会社いけうち製１流体ノズルＶＶＰを用いて、噴霧圧０．２ＭＰａで１０％のエタノールを含む２５℃のイオン交換水を版表面に約５００ｍＬ噴霧する以外は、実施例１と同様にして、２０回連続印刷を実施し、その印刷精度を測定した（表３）。２０回の連続印刷で断線数は合計２個（印刷１回あたり、０．１個）、ショート数は２個（印刷１回あたり、０．１個）であり、パターン欠陥は細線数６００本に対して２０回連続平均でそれぞれ断線０．０１７％、ショート０．０１７％であり、断線およびショートが無い無欠陥印刷品の歩留まりは８５％であった。
【００７５】
【表３】
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【実施例４】
【００７６】
反転オフセット印刷用ナノ微粒子分散インクとして、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを溶媒とする銅ナノ粒子分散インク（銅の固形分として２０％、平均粒子径１００μｍ)を用いる以外は、実施例３と同様にして、版洗浄を実施し、連続２０回印刷、および印刷物を窒素雰囲気下、２００℃で６０分間、オーブンで加熱焼成した後、印刷精度を評価した（表４）。２０回の連続印刷で断線数は合計２個（印刷１回あたり、０．１個）、ショート数は２個（印刷１回あたり、０．１個）であり、パターン欠陥は細線数６００本に対して２０回連続平均でそれぞれ断線０．０１７％、ショート０．０１７％であり、断線およびショートが無い無欠陥印刷品の歩留まりは８０％であった。
【００７７】
【表４】
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【実施例５】
【００７８】
洗浄液として濃度２０％のＮ，Ｎ−ジエチル−１，３−ジアミノプロパン（東京化成工業株式会社製）水溶液を用いる以外は、実施例３と同様にして、版洗浄を実施し、連続２０回印刷、および印刷物を１８０℃で３０分間、オーブンで加熱焼成した後、印刷精度を評価した（表５）。２０回の連続印刷で断線数は合計３個（印刷１回あたり、０．１５個）、ショート数は２個（印刷１回あたり、０．１個）であり、パターン欠陥は細線数６００本に対して２０回連続平均でそれぞれ断線０．０２５％、ショート０．０１７％であり、断線およびショートが無い無欠陥印刷品の歩留まりは７５％であった。
【００７９】
【表５】
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［比較例１］
【００８０】
版洗浄工程において、株式会社ＭＣＣ社製クリーンワイパー（製品名スフィーダ）を用いて、イソプロピルアルコールでインクが付着した版の表面を拭き取り洗浄する以外は実施例１と同様にして、連続２０回印刷、および印刷物を１８０℃で３０分間、オーブンで加熱焼成した後、印刷精度を評価した。版洗浄は印刷毎に実施しているが、印刷回数の増加とともに印刷欠陥が著しく増大することを確認した（表６）。また版の目視観察からも印刷回数の増大とともに版の凹部（印刷パターンが形成された溝）に拭き取りの際にはまり込んだ未洗浄インクの堆積を確認した。さらに版、および印刷物の顕微鏡観察から、クリーンワイパー由来と見られる繊維片が多数確認された。無欠陥印刷品の歩留まりはわずかに５％であった。
【００８１】
【表６】
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［比較例２］
【００８２】
版洗浄工程の第一工程において、塗布ノズルによる剥離液塗布を実施しない以外は、実施例１と同様にして印刷物を作製したところ、版から不要インクを除去することができず、連続印刷を実施できなかった。
［比較例３］
【００８３】
版洗浄工程の第一工程において、塗布ノズルによる剥離液塗布に替えて、エタノールを塗布したところ、版に付着した不要インクはエタノールに溶けて版の凹部も含めて除去凸版表面全体に広がった。さらに実施例１と同様にして噴霧ノズルを介して水を噴霧したところ、一部のインクの固形分が析出して版に再付着し、版から不要インクを除去することができず、連続印刷を実施できなかった。
【符号の説明】
【００８４】
１ ： ブランケット
１ａ ： インク塗膜が塗布されたブランケット
１ｂ ： インク塗膜２ａが形成されたブランケット
１ｃ ： インク塗膜２ｂが形成されたブランケット
１ｄ ： 印刷物
２ ： インク塗膜
２ａ ： 濃縮されたインク塗膜
２ｂ ： ブランケット表面にパターニングされたインク塗膜
２ｃ ： 除去凸版に除去されたインク塗膜
３ ： 除去凸版
４ ： 印刷基材
５ ： 塗布ノズル
６ ： 噴霧ノズル
７ ： 送風ノズル
８ ： 剥離液槽
９ ： 水槽
１０ ： エアコンプレッサー or 圧縮空気ボンベ
１１ ： 廃液回収槽
１２ ： 送液ポンプ
１３ ： 送液ポンプ
１４ ： 剥離液
１５ ： 剥離したインク塗膜片
１６ ： 水溶性有機溶剤を含んでよい水
１７ ： エア
１８ ： 導電層
１９ ： 絶縁膜
２０ ： 対極電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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