(57)【要約】【課題】洗浄液をリークさせることなく対象物の表面を洗浄することのできる技術を提供する。【解決手段】本開示の一態様による洗浄ツールは、流路形成面と、第２流路と、第３流路とを備える。流路形成面は、洗浄対象面と対向配置され、洗浄対象面との間で、端部が外気と通じる第１流路を形成する。第２流路は、流路形成面に開口し、第１流路と洗浄液供給部とを接続する。第３流路は、流路形成面に開口し、第１流路と吸引機構とを接続する。洗浄ツールは、洗浄液供給部から第２流路を介して供給される洗浄液と第１流路の端部から流入する外気とが、第１流路を通って第３流路に吸引されることにより、洗浄対象面を洗浄する。【選択図】図１０
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄対象面と対向配置され、前記洗浄対象面との間で、端部が外気と通じる第１流路を形成する流路形成面と、
前記流路形成面に開口し、前記第１流路と洗浄液供給部とを接続する第２流路と、
前記流路形成面に開口し、前記第１流路と吸引機構とを接続する第３流路と
を備え、
前記洗浄液供給部から前記第２流路を介して供給される洗浄液と前記第１流路の前記端部から流入する外気とが、前記第１流路を通って前記第３流路に吸引されることにより、前記洗浄対象面を洗浄する、洗浄ツール。
【請求項２】
前記流路形成面の周縁に設けられ、前記洗浄対象面の周縁に設けられる平坦面と対向配置される平坦状のシール面
をさらに備える、請求項１に記載の洗浄ツール。
【請求項３】
前記第２流路は、
前記流路形成面の周縁に沿って延びるスリット部を有する、請求項１または２に記載の洗浄ツール。
【請求項４】
前記第２流路における前記洗浄液の供給口を有する第１部材
と、
前記第１部材に対して着脱自在であり、前記流路形成面を有するとともに、前記第１部材との間で前記スリット部を形成する凹部を有する第２部材と
を含む、請求項３に記載の洗浄ツール。
【請求項５】
前記第２流路は、
前記スリット部の上流側において前記スリット部に連通し、前記洗浄液供給部から供給される前記洗浄液を一時的に貯留する貯留部
を備える、請求項３または４に記載の洗浄ツール。
【請求項６】
複数の前記第２流路と、
単一の前記第３流路と
を備え、
前記流路形成面は、平面視多角形状を有し、
前記第３流路は、前記流路形成面が有する複数の辺のうちの一辺側に配置され、
前記複数の第２流路は、前記流路形成面が有する複数の辺のうち前記一辺側以外の各辺側に配置される、請求項１〜５のいずれか一つに記載の洗浄ツール。
【請求項７】
洗浄対象面を洗浄する洗浄ツールと、
前記洗浄ツールに洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
前記洗浄ツールに供給された洗浄液を吸引する吸引機構と
を備え、
前記洗浄ツールは、
前記洗浄対象面と対向配置され、前記洗浄対象面との間で、端部が外気と通じる第１流路を形成する流路形成面と、
前記流路形成面に開口し、前記第１流路と前記洗浄液供給部とを接続する第２流路と、
前記流路形成面に開口し、前記第１流路と前記吸引機構とを接続する第３流路と
を備え、
前記洗浄液供給部から前記第２流路を介して供給される前記洗浄液と前記第１流路の前記端部から流入する外気とが、前記第１流路を通って前記第３流路に吸引されることにより、前記洗浄対象面を洗浄する、洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、洗浄ツールおよび洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、対象物の表面を洗浄する洗浄装置が知られている。たとえば、特許文献１には、基板をコロ搬送する搬送ラインの上方に配置され、搬送ラインを搬送される基板に洗浄液を供給するノズルと、搬送ラインの下方に配置され、基板から流れ落ちた洗浄液を受け止めるパンとを備える洗浄装置が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−１９９１５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示は、洗浄液をリークさせることなく対象物の表面を洗浄することのできる技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示の一態様による洗浄ツールは、流路形成面と、第２流路と、第３流路とを備える。流路形成面は、洗浄対象面と対向配置され、洗浄対象面との間で、端部が外気と通じる第１流路を形成する。第２流路は、流路形成面に開口し、第１流路と洗浄液供給部とを接続する。第３流路は、流路形成面に開口し、第１流路と吸引機構とを接続する。洗浄ツールは、洗浄液供給部から第２流路を介して供給される洗浄液と第１流路の端部から流入する外気とが、第１流路を通って第３流路に吸引されることにより、洗浄対象面を洗浄する。
【発明の効果】
【０００６】
本開示によれば、洗浄液をリークさせることなく対象物の表面を洗浄することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】図１は、本開示の一実施形態に係る基板処理システムの構成を示す図である。
【図２】図２は、本開示の一実施形態に係る基板処理装置の構成を示す模式図である。
【図３】図３は、ノズルの構成の一例を示す模式図である。
【図４】図４は、本開示の一実施形態に係る洗浄装置を斜め上方から見た模式斜視図である。
【図５】図５は、本開示の一実施形態に係る洗浄装置を斜め下方から見た模式斜視図である。
【図６】図６は、本開示の一実施形態に係る洗浄装置の模式断面図である。
【図７】図７は、本開示の一実施形態に係る洗浄装置による洗浄処理の手順を示すフローチャートである。
【図８】図８は、本開示の一実施形態による第１の変形例に係る洗浄ツールの模式平面図である。
【図９】図９は、本開示の一実施形態による第２の変形例に係る洗浄ツールの模式平面図である。
【図１０】図１０は、本開示の一実施形態による第３の変形例に係る洗浄ツールの模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下に、本開示による洗浄ツールおよび洗浄装置を実施するための形態（以下、「実施形態」と記載する）について図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施形態により本開示による洗浄ツールおよび洗浄装置が限定されるものではない。また、各実施形態は、処理内容を矛盾させない範囲で適宜組み合わせることが可能である。また、以下の各実施形態において同一の部位には同一の符号を付し、重複する説明は省略される。
【０００９】
以下の実施形態では、半導体ウェハ等の基板に処理液を供給するノズルを洗浄対象物とするノズル洗浄装置に対して本開示による洗浄ツールおよび洗浄装置を適用した場合の例について説明する。しかし、本開示による洗浄ツールおよび洗浄装置における洗浄対象物は、ノズルに限定されない。また、以下の実施形態では、洗浄対象物の下方に洗浄ツールが配置される場合の例について説明するが、洗浄対象物および洗浄ツールの配置は、本例に限定されるものではなく、洗浄対象物の上方または側方に洗浄ツールが配置されてもよい。
【００１０】
＜１．基板処理システムの構成＞
まず、実施形態に係る洗浄装置を供える基板処理システムの構成について図１を用いて説明する。図１は、本開示の一実施形態に係る基板処理システムの構成を示す図である。なお、以下においては、位置関係を明確にするために、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸を規定し、Ｚ軸正方向を鉛直上向き方向とする。
【００１１】
図１に示すように、基板処理システム１は、基板搬入出部２と、基板搬送部３と、基板処理部４とを備える。これら基板搬入出部２、基板搬送部３および基板処理部４は、Ｘ軸正方向に、基板搬入出部２、基板搬送部３および基板処理部４の順で接続される。
【００１２】
基板搬入出部２は、基板Ｗを複数枚（たとえば、２５枚）まとめてキャリア２１で搬入及び搬出するための処理部である。基板搬入出部２には、たとえば４個のキャリア２１が基板搬送部３の前壁３１に密着した状態で並べて載置される。
【００１３】
基板搬送部３は、基板搬入出部２に隣接して配置され、内部に基板搬送装置３２と基板受渡台３３とを備える。基板搬送装置３２は、キャリア２１と基板受渡台３３との間で基板Ｗの搬送を行う。
【００１４】
基板処理部４は、基板搬送部３に隣接して配置される。基板処理部４は、基板搬送装置４１と複数の基板処理装置４２とを備える。基板処理装置４２は、基板搬送装置４１の移動方向に沿って並べて配置され、基板搬送装置４１は、基板受渡台３３と基板処理装置４２との間で基板Ｗの搬送を行う。そして、基板処理装置４２は、基板搬送装置４１によって搬入される基板Ｗに対して所定の薬液処理を行う。
【００１５】
また、基板処理システム１は、制御装置５０を備える。制御装置５０は、基板処理システム１の動作を制御する装置である。制御装置５０は、たとえばコンピュータであり、制御部５１と記憶部５２とを備える。記憶部５２には、後述するノズル洗浄処理やダミーディスペンス処理等の各種の処理を制御するプログラムが格納される。制御部５１は記憶部５２に記憶されたプログラムを読み出して実行することによって基板処理システム１の動作を制御する。
【００１６】
なお、かかるプログラムは、コンピュータによって読み取り可能な記録媒体に記録されていたものであって、その記録媒体から制御装置５０の記憶部５２にインストールされたものであってもよい。コンピュータによって読み取り可能な記録媒体としては、たとえばハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルディスク（ＭＯ）、メモリカードなどがある。
【００１７】
＜２．基板処理装置の構成＞
次に、実施形態に係る基板処理装置４２の構成について図２を用いて説明する。図２は、本開示の一実施形態に係る基板処理装置４２の構成を示す模式図である。
【００１８】
図２に示すように、実施形態に係る基板処理装置４２は、処理室１１内に、基板保持部１２と、ノズルユニット１３と、洗浄装置５とを備える。
【００１９】
基板保持部１２は、回転保持機構１４と、処理液回収機構１５とを備える。回転保持機構１４は、基板Ｗを水平に保持するとともに、保持した基板Ｗを鉛直軸まわりに回転させる。処理液回収機構１５は、回転保持機構１４を取り囲むように配置され、基板Ｗの回転による遠心力によって基板Ｗの外方へ飛散する処理液を受け止めて回収する。
【００２０】
ノズルユニット１３は、回転保持機構１４によって保持された基板Ｗの上方から基板Ｗへ向けて処理液を供給する。かかるノズルユニット１３は、ノズル１６と、ノズル１６を水平に支持するノズルアーム１７と、ノズルアーム１７を旋回移動および昇降移動させる移動機構１８とを備える。
【００２１】
ここで、ノズル１６の構成について図３を参照して説明する。図３は、ノズル１６の構成の一例を示す模式図である。
【００２２】
図３に示すように、ノズル１６は、たとえば１つの吐出部１９を備える。吐出部１９は、図示しない処理液供給源に接続されており、処理液供給源から供給される処理液を鉛直下向きに吐出する。
【００２３】
ノズル１６の下面は平坦面６１であり、吐出部１９は、ノズル１６の平坦面６１から下方に突出している。吐出部１９は、吐出口（図示せず）が設けられる先端面９１と、平坦面６１から先端面９１に向かって漸次幅狭となるテーパ状の複数の側面９２とを有する。これら吐出部１９の先端面９１および複数の側面９２は、洗浄対象面Ｓに相当する。
【００２４】
洗浄装置５は、ノズルユニット１３が備える吐出部１９を洗浄する装置であり、たとえば、基板Ｗの外方におけるノズルユニット１３の待機位置に配置される。
【００２５】
＜３．洗浄装置の構成＞
次に、洗浄装置５の構成について図４〜図６を参照して説明する。図４は、本開示の一実施形態に係る洗浄装置５を斜め上方から見た模式斜視図である。図５は、本開示の一実施形態に係る洗浄装置５を斜め下方から見た模式斜視図である。図６は、本開示の一実施形態に係る洗浄装置５の模式断面図である。
【００２６】
図４および図５に示すように、洗浄装置５は、洗浄対象面Ｓを洗浄する洗浄ツール１００と、洗浄ツール１００に洗浄液を供給する洗浄液供給部１４０と、洗浄ツール１００に供給された洗浄液を吸引する吸引機構１５０とを備える。
【００２７】
洗浄ツール１００は、第１部材１０１と、第２部材１０２と、第３部材１０３とを備える。第２部材１０２は、略直方体状の部材である。第１部材１０１は、側面視略Ｌ字状の部材であり、第２部材１０２が有する複数の面のうち隣接する２つの側面を覆うように第２部材１０２に取り付けられる。第３部材１０３は、第２部材１０２に取り付けられる。第２部材１０２は、第１部材１０１に対して着脱自在であり、第３部材１０３は、第２部材１０２に対して着脱自在である。
【００２８】
洗浄ツール１００は、流路形成面１１１と、第２流路１２０と、第３流路１３０とを備える。
【００２９】
流路形成面１１１は、洗浄対象面Ｓと対向配置される面である。具体的には、流路形成面１１１は、洗浄対象面Ｓのうち先端面９１と対向配置される第１の面１１１ａと、洗浄対象面Ｓのうち複数の側面９２と対向配置される複数の第２の面１１１ｂとを含む。
【００３０】
図６に示すように、流路形成面１１１は、洗浄対象面Ｓとの間で、端部が外気と通じる第１流路１１０を形成する。
【００３１】
流路形成面１１１の周縁には、シール面１１５が設けられている。シール面１１５は、洗浄対象面Ｓの周縁に設けられる平坦面６１と対向配置される平坦状の面である。第１流路１１０は、これらシール面１１５と平坦面６１とによって形成される流路を介して外気と通じている。
【００３２】
なお、本実施形態において、洗浄対象面Ｓの外形は平面視四角形状を有しており、流路形成面１１１も、洗浄対象面Ｓの外形に合わせて平面視四角形状に形成される。また、本実施形態において、洗浄対象面Ｓは、平坦面６１から突出しており、流路形成面１１１は、シール面１１５よりも凹んでいる。このように、流路形成面１１１は、洗浄対象面Ｓの形状に応じた形状に形成される。
【００３３】
第２流路１２０は、流路形成面１１１に開口し、第１流路１１０と洗浄液供給部１４０とを接続する。第２流路１２０は、第１部材１０１と第２部材１０２とにより形成される。具体的には、第２流路１２０は、洗浄液の供給口１２１と、供給口１２１に連通する円筒状の供給路１２２とを有する。供給口１２１および供給路１２２は、第１部材１０１に形成される。また、第２流路１２０は、供給路１２２に連通し、洗浄液を一時的に貯留する貯留部１２３と、貯留部１２３に連通するスリット部１２４と、スリット部１２４に連通するスリット状の流出口１２５とを有する。貯留部１２３、スリット部１２４および流出口１２５は、第２部材１０２の側面に形成された凹部と、かかる凹部を覆うように第２部材１０２に取り付けられた第１部材１０１の側面とによって形成される。
【００３４】
供給口１２１は、供給管１６０を介して洗浄液供給部１４０に接続される。洗浄液供給部１４０は、たとえば、洗浄液供給源１４１と、バルブ１４２とを備える。洗浄液供給源１４１は、たとえば、洗浄液を貯留するタンクである。バルブ１４２は、供給管１６０を開閉する。バルブ１４２は、制御部５１と電気的に接続されており、制御部５１によって制御される。
【００３５】
貯留部１２３は、洗浄液供給部１４０から供給管１６０、供給口１２１および供給路１２２を介して供給される洗浄液を一時的に貯留する。貯留部１２３は、スリット部１２４の長さ方向（ここでは、Ｘ軸方向）の幅と同一の幅を有しており、貯留部１２３に貯留された洗浄液は、スリット部１２４の長さ方向において均等にスリット部１２４に流入する。したがって、流出口１２５から洗浄液を均等に流出させることができる。
【００３６】
なお、洗浄液は、仮にスリット部１２４に直接供給されたとしても、スリット部１２４を通過する間に、スリット部１２４の長さ方向に広がっていく。このため、第２流路１２０は、必ずしも貯留部１２３を有することを要しない。
【００３７】
スリット部１２４は、流路形成面１１１の周縁に沿って延びるスリット状の流路であり、第１部材１０１と第２部材１０２との間に形成される。スリット部１２４は、流路形成面１１１における第１の面１１１ａの４辺のうちの一辺に沿って延びている。かかるスリット部１２４に連通する流出口１２５も、スリット部１２４と同様にスリット形状を有する。すなわち、流出口１２５は、第１の面１１１ａの４辺のうちの一辺に沿って開口する。
【００３８】
第３流路１３０は、流路形成面１１１に開口し、第１流路１１０と吸引機構１５０とを接続する。第３流路１３０は、第２部材１０２と第３部材１０３とにより形成される。具体的には、第３流路１３０は、流入口１３１と、吸引口１３２とを有し、流入口１３１は第２部材１０２に形成され、吸引口１３２は第３部材１０３に形成される。
【００３９】
流入口１３１は、流路形成面１１１における第１の面１１１ａの４辺のうち、上述した第２流路１２０が配置される辺と対向する辺側に形成される。吸引口１３２は、吸引管１７０を介して吸引機構１５０に接続される。吸引機構１５０は、たとえばエジェクタであり、吸引管１７０を介して第１流路１１０、第２流路１２０および第３流路１３０内を吸引する。吸引機構１５０は、制御部５１と電気的に接続されており、制御部５１によって制御される。
【００４０】
なお、ここでは、第３流路１３０の流入口１３１が円形状である場合の例を示したが、流入口１３１は、第２流路１２０の流出口１２５と平行に延びるスリット形状を有していてもよい。
【００４１】
このように、洗浄ツール１００は、第１部材１０１、第２部材１０２および第３部材１０３を組み合わせることで構成される。流路形成面１１１は、第２部材１０２に形成されるため、洗浄対象面Ｓの形状に応じて第２部材１０２を取り替えることができる。したがって、様々な形状の洗浄対象面Ｓを洗浄可能な洗浄ツール１００を提供することができる。
【００４２】
＜４．洗浄装置の動作＞
次に、洗浄装置５の具体的動作について図７を参照して説明する。図７は、本開示の一実施形態に係る洗浄装置５による洗浄処理の手順を示すフローチャートである。
【００４３】
図７に示すように、洗浄処理では、まず、洗浄対象面Ｓを洗浄ツール１００の流路形成面１１１に対向配置させる（ステップＳ１０１）。具体的には、制御部５１は、移動機構１８（図２参照）を制御してノズル１６を移動させることにより、吐出部１９の洗浄対象面Ｓを流路形成面１１１に対向配置させる。これにより、第１流路１１０が形成される。
【００４４】
つづいて、制御部５１は、吸引機構１５０を制御して第１流路１１０、第２流路１２０および第３流路１３０内の吸引を開始する（ステップＳ１０２）。また、制御部５１は、洗浄液供給部１４０のバルブ１４２を制御して供給管１６０を開く（ステップＳ１０３）。これにより、第２流路１２０に洗浄液が供給される。第２流路１２０に供給された洗浄液は、吸引機構１５０による吸引力によって貯留部１２３からスリット部１２４に流入し、スリット部１２４の長さ方向に広がりながらスリット部１２４を進んで流出口１２５から第１流路１１０に流出する（図６中、黒塗りの矢印で示す）。このように、洗浄ツール１００は、スリット部１２４およびスリット状の流出口１２５を有するため、洗浄対象面Ｓの幅方向全体に均等に洗浄液を供給することができる。
【００４５】
第１流路１１０の端部は外気に通じているため、吸引機構１５０による吸引力によって第１流路１１０の端部から第１流路１１０に外気が流入する（図６中、白抜きの矢印で示す）。洗浄ツール１００は、かかる外気の流れによって、洗浄対象物であるノズル１６と洗浄ツール１００との間の隙間をシールすることができる。このため、第２流路１２０から第１流路１１０に流出した洗浄液が洗浄ツール１００からリークすることを抑制することが可能である。また、Ｏリング等のシール部材が不要となるため、シール部材とノズル１６あるいは洗浄ツール１００との当接面において洗浄液の液残りが発生することを抑制することができる。また、洗浄液によって劣化するおそれのあるシール部材と異なり、劣化によるリークの発生もない。
【００４６】
また、流路形成面１１１の周縁には、洗浄対象面Ｓの周縁に設けられる平坦面６１と対向配置される平坦状のシール面１１５が設けられるため、洗浄液のリークをより確実に抑制することができる。
【００４７】
第２流路１２０から第１流路１１０に流出した洗浄液は、第１流路１１０の端部から流入する外気と混合されてミスト化する。ミスト化した洗浄液は、第１流路１１０を流通した後、流入口１３１から第３流路１３０に流入し、第３流路１３０から洗浄ツール１００の外部へ排出される（図６中、ハッチングを付した矢印で示す）。洗浄対象面Ｓは、第１流路１１０を流通するミスト化された洗浄液によって洗浄される。このように、洗浄ツール１００は、洗浄液供給部１４０から第２流路１２０を介して供給される洗浄液と第１流路１１０の端部から流入する外気とが、第１流路１１０を通って第３流路１３０に吸引されることにより、洗浄対象面Ｓを洗浄する。これにより、ミスト化した洗浄液で洗浄対象面Ｓを洗浄することができるため、洗浄対象面Ｓの洗浄性能を高めることができる。
【００４８】
つづいて、制御部５１は、ステップＳ１０３においてバルブ１４２を開いてからの経過時間が予め設定された第１設定時間に達したか否かを判定する（ステップＳ１０４）。ステップＳ１０４において、第１設定時間に達していない場合（ステップＳ１０４，Ｎｏ）、制御部５１は、ステップＳ１０４の処理を繰り返す。
【００４９】
一方、ステップＳ１０４において第１設定時間に達したと判定した場合（ステップＳ１０４，Ｙｅｓ）、制御部５１は、バルブ１４２を制御して、供給管１６０を閉じる（ステップＳ１０５）。これにより、洗浄ツール１００への洗浄液の供給が停止される。
【００５０】
洗浄ツール１００への洗浄液の供給が停止されると、第１部材１０１には吸引機構１５０によって外気が流入する。これにより、洗浄対象面Ｓが外気により乾燥される。このように、洗浄ツール１００によれば、たとえば、第２流路１２０に供給する流体を洗浄液から乾燥気体に切り替える等の動作を行うことなく、洗浄工程から乾燥工程へスムーズに移行することができる。
【００５１】
つづいて、制御部５１は、ステップＳ１０２において吸引を開始してからの経過時間が予め設定された第２設定時間に達したか否かを判定する（ステップＳ１０６）。ステップＳ１０６において、第２設定時間に達していない場合（ステップＳ１０６，Ｎｏ）、制御部５１は、ステップＳ１０６の処理を繰り返す。
【００５２】
一方、ステップＳ１０６において第２設定時間に達したと判定した場合（ステップＳ１０６，Ｙｅｓ）、制御部５１は、吸引機構１５０を制御して、第１流路１１０、第２流路１２０および第３流路１３０内の吸引を停止する（ステップＳ１０７）。その後、制御部５１は、移動機構１８を制御して洗浄対象面Ｓを流路形成面１１１から退避させて（ステップＳ１０８）、一連の洗浄処理を終える。
【００５３】
＜５．洗浄装置の変形例＞
次に、上述した洗浄装置５の変形例について説明する。図８は、本開示の一実施形態による第１の変形例に係る洗浄ツールの模式平面図である。図９は、本開示の一実施形態による第２の変形例に係る洗浄ツールの模式平面図である。
【００５４】
図８に示すように、第１の変形例に係る洗浄装置５Ａは、洗浄ツール１００Ａを備える。洗浄ツール１００Ａは、複数（ここでは、３つ）の第２流路１２０と、単一の第３流路１３０とを備える。
【００５５】
単一の第３流路１３０の流入口１３１は、平面視四角形状に形成される流路形成面１１１Ａの４つの辺のうちの一辺側に配置される。また、３つの第２流路１２０の流出口１２５は、流路形成面１１１Ａが有する４つの辺のうち、流入口１３１が配置される一辺側以外の各辺側に配置される。３つの第２流路１２０は、供給管１６０を介して洗浄液供給部１４０に接続される。
【００５６】
かかる洗浄ツール１００Ａでは、平面視四角形状を有する洗浄対象面（図示せず）に対して３方向から洗浄液を供給することができる。したがって、たとえば、洗浄対象面の面積が大きい場合であっても、洗浄対象面に対して均等に洗浄液を供給することができる。
【００５７】
なお、ここでは、洗浄ツール１００Ａが、３つの第２流路１２０を備える場合の例を示したが、洗浄ツール１００Ａは、３つの第２流路１２０が繋がった平面視略Ｕ字状の単一の第２流路を備えていてもよい。
【００５８】
また、図９に示すように、第２の変形例に係る洗浄装置５Ｂは、洗浄ツール１００Ｂを備える。洗浄ツール１００Ｂは、複数（ここでは、４つ）の第２流路１２０と、単一の第３流路１３０とを備える。
【００５９】
４つの第２流路１２０の流出口１２５は、平面視四角形状に形成される流路形成面１１１Ｂの４つの辺側に配置される。４つの第２流路１２０は、供給管１６０を介して洗浄液供給部１４０に接続される。また、単一の第３流路１３０の流入口１３１は、流路形成面１１１Ｂの中央に配置される。
【００６０】
かかる洗浄ツール１００Ｂでは、平面視四角形状を有する洗浄対象面（図示せず）に対して４方向から洗浄液を供給することができる。したがって、たとえば、洗浄対象面の面積が大きい場合であっても、洗浄対象面に対して均等に洗浄液を供給することができる。
【００６１】
なお、洗浄対象面の形状は平面視四角形状に限定されない。洗浄対象面は、四角形以外の多角形状を有していてもよい。また、第２流路１２０の個数も上述した個数に限定されず、洗浄対象面の形状に応じて増減可能である。また、洗浄対象面は、平面視円形状を有していてもよい。
【００６２】
次に、第３の変形例について図１０を参照して説明する。図１０は、本開示の一実施形態による第３の変形例に係る洗浄ツールの模式断面図である。ここでは、洗浄装置５を用いて説明するが、洗浄装置５Ａ，５Ｂについても同様である。
【００６３】
図１０に示すように、洗浄装置５は、洗浄対象面ＳＣが上方を向いた洗浄対象物１６Ｃにも適用可能である。この場合、洗浄対象面ＳＣに対して上方から洗浄液を供給することとなるが、第１流路１１０の端部から第１流路１１０内に流入する外気によって第１流路１１０の端部がシールされることから、洗浄対象物１６Ｃと洗浄ツール１００と間の隙間から洗浄液がリークすることを抑制することができる。したがって、たとえば、リークした洗浄液を受けるパン等を洗浄ツール１００の下方に配置する必要がない。また、リークを抑制するために、洗浄対象物１６Ｃを反転させて洗浄するといった作業も不要である。なお、洗浄対象面ＳＣは、たとえば、先端面９１Ｃと、平坦面６１Ｃから先端面９１Ｃに向かって漸次幅狭となるテーパ状の複数の側面９２Ｃとを有する。
【００６４】
洗浄対象物は、たとえば、駆動源に接続され、かかる駆動源によって流路形成面１１１，１１１Ａ，１１１Ｂまで移動可能な物体であれば如何なる物体であってもよい。たとえば、基板搬送装置３２，４１（図１参照）は、基板Ｗを水平に保持する保持部と、保持部を移動させる移動機構とを備えており、保持部は、基板Ｗが載置される載置面と、この載置面から上方に突出する爪部とを備えている。洗浄装置５，５Ａ，５Ｂは、かかる爪部の表面を洗浄対象面とすることができる。また、洗浄対象物は、必ずしも駆動源に接続された物体であることを要しない。駆動源に接続されていない物体を洗浄対象物とする場合、洗浄装置５，５Ａ，５Ｂは、洗浄ツール１００，１００Ａ，１００Ｂを水平方向および鉛直方向に移動可能な駆動源を備えていればよい。すなわち、洗浄ツール１００，１００Ａ，１００Ｂを洗浄対象物まで移動させて、洗浄対象面に流路形成面１１１，１１１Ａ，１１１Ｂを対向配置させる構成であってもよい。
【００６５】
また、洗浄対象面は、必ずしも凸形状であることを要さず、凹形状を有していてもよい。すなわち、洗浄対象面は、平坦面に対して凹んでいてもよい。この場合、洗浄ツールは、シール面１１５に対して突出した流路形成面を有していればよい。
【００６６】
上述してきたように、本開示の一実施形態に係る洗浄装置５，５Ａ，５Ｂは、洗浄ツール１００，１００Ａ，１００Ｂと、洗浄液供給部１４０と、吸引機構１５０とを備える。洗浄ツール１００，１００Ａ，１００Ｂは、洗浄対象面Ｓ，ＳＣを洗浄する。洗浄液供給部１４０は、洗浄ツール１００，１００Ａ，１００Ｂに洗浄液を供給する。吸引機構１５０は、洗浄ツール１００，１００Ａ，１００Ｂに供給された洗浄液を吸引する。また、洗浄ツール１００，１００Ａ，１００Ｂは、流路形成面１１１，１１１Ａ，１１１Ｂと、第２流路１２０と、第３流路１３０とを備える。流路形成面１１１，１１１Ａ，１１１Ｂは、洗浄対象面Ｓ，ＳＣと対向配置され、洗浄対象面Ｓ，ＳＣとの間で、端部が外気と通じる第１流路１１０を形成する。第２流路１２０は、流路形成面１１１，１１１Ａ，１１１Ｂに開口し、第１流路１１０と洗浄液供給部１４０とを接続する。第３流路１３０は、流路形成面１１１，１１１Ａ，１１１Ｂに開口し、第１流路１１０と吸引機構１５０とを接続する。そして、洗浄装置５，５Ａ，５Ｂは、洗浄液供給部１４０から第２流路１２０を介して供給される洗浄液と第１流路１１０の端部から流入する外気とが、第１流路１１０を通って第３流路１３０に吸引されることにより、洗浄対象面Ｓ，ＳＣを洗浄する。
【００６７】
これにより、第１流路１１０の端部から第１流路１１０内に流入する外気によって第１流路１１０の端部がシールされることから、洗浄対象物１６Ｃと洗浄ツール１００との間の隙間から洗浄液がリークすることを抑制することができる。したがって、洗浄装置５，５Ａ，５Ｂによれば、洗浄液をリークさせることなく対象物の表面を洗浄することができる。
【００６８】
また、洗浄装置５，５Ａ，５Ｂは、流路形成面１１１，１１１Ａ，１１１Ｂの周縁に設けられ、洗浄対象面Ｓ，ＳＣの周縁に設けられる平坦面６１，６１Ｃと対向配置される平坦状のシール面１１５をさらに備える。これにより、洗浄液のリークをより確実に抑制することができる。
【００６９】
また、洗浄ツール１００，１００Ａ，１００Ｂは、第１部材１０１と、第２部材１０２とを含む。第１部材１０１は、第２流路１２０における洗浄液の供給口１２１を有する。第２部材１０２は、第１部材１０１に対して着脱自在であり、流路形成面１１１，１１１Ａ，１１１Ｂを有するとともに、第１部材１０１との間で第２流路１２０のスリット部を形成する凹部を有する。これにより、洗浄対象面Ｓ，ＳＣの形状に応じて第２部材１０２を取り替えることで、様々な形状の洗浄対象面Ｓ，ＳＣを洗浄可能な洗浄ツール１００，１００Ａ，１００Ｂを提供することができる。
【００７０】
また、第２流路１２０は、流路形成面１１１，１１１Ａ，１１１Ｂの周縁に沿って延びるスリット部１２４を有する。これにより、洗浄対象面Ｓの幅方向全体に均等に洗浄液を供給することができる。
【００７１】
また、第２流路１２０は、スリット部１２４の上流側においてスリット部１２４に連通し、洗浄液供給部１４０から供給される洗浄液を一時的に貯留する貯留部１２３を備える。これにより、スリット部１２４に対してスリット部１２４の長さ方向に均等に洗浄液を流入させることができることから、洗浄対象面Ｓの幅方向全体により均等に洗浄液を供給することができる。
【００７２】
また、洗浄装置５Ａ，５Ｂは、複数の第２流路１２０と、単一の第３流路１３０とを備える。流路形成面１１１Ａ，１１１Ｂは、平面視多角形状を有する。第３流路１３０は、流路形成面１１１Ａ，１１１Ｂが有する複数の辺のうちの一辺側に配置される。複数の第２流路１２０は、流路形成面１１１Ａ，１１１Ｂが有する複数の辺のうち上記一辺側以外の各辺側に配置される。これにより、平面視多角形状を有する洗浄対象面Ｓ，ＳＣに対して複数の方向から洗浄液を供給することができる。したがって、たとえば、洗浄対象面Ｓ，ＳＣの面積が大きい場合であっても、洗浄対象面Ｓ，ＳＣに対して均等に洗浄液を供給することができる。
【００７３】
今回開示された実施形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。実に、上記した実施形態は多様な形態で具現され得る。また、上記の実施形態は、添付の請求お範囲及びその趣旨を逸脱することなく、様々な形態で省略、置換、変更されてもよい。
【符号の説明】
【００７４】
Ｓ  洗浄対象面
５  洗浄装置
１００  洗浄ツール
１１０  第１流路
１１１  流路形成面
１２０  第２流路
１３０  第３流路
１４０  洗浄液供給部
１５０  吸引機構
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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