(57)【要約】【課題】インクジェットヘッドのインク吐出面に付着した不要なインクを除去する。【解決手段】複数のノズル孔が列状に開設された金属を主成分とする板状体からなり、板状体の一方の表面を主面とするとき、板状体の主面におけるノズル孔周囲部分の表面は、当該ノズル孔周囲部分以外の表面に対し突出しているノズルプレートと、ノズルプレートの裏面に対向して配された基板と、ノズルプレートと基板との間隙をノズル孔毎に区切り、ノズル孔各々に対応するキャビティを形成する複数の隔壁と、各キャビティに設けられ各キャビティ内の圧力を個別に可変する駆動素子とを備えたインクジェットヘッドと、ワイパーブレードと、ワイパーブレードの先端と吐出面とが接触した状態で、ワイパーブレードが吐出面に平行な方向に相対的に移動するように移動させる移動部とを有する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のノズル孔が列状に開設された金属を主成分とする板状体からなり、
前記板状体の一方の表面を主面とするとき、
前記板状体の主面におけるノズル孔周囲部分の表面は、当該ノズル孔周囲部分以外の表面に対し突出している
ノズルプレート。
【請求項２】
前記板状体の主面における前記ノズル孔が存在する面をノズル面とするとき、
前記板状体の主面におけるノズル孔周囲部分表面の突出量は、前記ノズル面において最大であり、前記ノズル面の周縁に近付くにしたがい連続的に増加している
請求項１に記載のノズルプレート。
【請求項３】
前記板状体の主面におけるノズル孔周囲部分表面の当該部分以外の表面に対する傾斜角は、前記ノズル面の周縁外方から前記ノズル面の周縁に近付くにしたがい連続的に増加している
請求項２に記載のノズルプレート。
【請求項４】
前記板状体の主面と背向する裏面の平面視における前記ノズル孔周囲部分に含まれる表面部分は、当該部分以外の表面に対し陥没しており、陥没量は、前記ノズル孔に近付くにしたがい連続的に増加している
請求項１に記載のノズルプレート。
【請求項５】
前記板状体の裏面の平面視における前記ノズル孔周囲部分に含まれる表面部分の当該部分以外の表面部分に対する傾斜角は、前記ノズル孔に近付くにしたがい連続的に増加している
請求項４に記載のノズルプレート。
【請求項６】
前記金属は、ニッケル、クロム、鉄、アルミニウム、銀、金、コバルト、銅、パラジウム、スズ、亜鉛などの金属又はそれらの合金から選択される１以上である
請求項１から５の何れか１項に記載のノズルプレート。
【請求項７】
前記板状体は、前記主面表面から所定深さの範囲にポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）を含む
請求項６に記載のノズルプレート。
【請求項８】
請求項１から７に記載のノズルプレートと、
前記ノズルプレートの裏面に対向して配された振動板と、
前記ノズルプレートと前記振動板との間隙をノズル孔毎に区切り、ノズル孔各々に対応するキャビティを形成する複数の隔壁と、
各キャビティに設けられ各キャビティ内の圧力を個別に可変する駆動素子と
を備えたインクジェットヘッド。
【請求項９】
請求項８に記載のインクジェットヘッドと、
ゴムからなるワイパーブレードと、
前記ワイパーブレードの先端と前記吐出面とが接触した状態で、前記ワイパーブレードが吐出面に平行な方向に相対的に移動するように、前記ワイパーブレード及び前記インクジェットヘッドの少なくとも一方を移動させる移動部とを有する
インクジェット装置。
【請求項１０】
前記ワイパーブレードは、前記移動部による移動の際に前記主面に対し押圧されている
請求項９に記載のインクジェット装置。
【請求項１１】
陽極と陰極との間に、有機発光層を含む機能層を複数有する有機ＥＬ素子の製造装置であって、
前記インクは、前記機能層を形成するための機能性材料を含み、
請求項９又は１０に記載のインクジェット装置を有する
有機ＥＬ素子の製造装置。
【請求項１２】
機能性物質が溶媒に溶解されてなるインクを下地基板上に吐出し、溶媒を乾燥させて前記機能性物質の薄膜を形成する工程を含み、
前記インクの吐出を、請求項１１に記載の有機ＥＬ素子の製造装置により行う
有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項１３】
導電性材料からなり上面が平板状の母型を準備する工程と、
前記母型の上面に絶縁性のフォトレジストを塗布する工程と、
前記フォトレジストをマスクを介して露光した後現像して、ノズル孔を形成する領域より所定寸法だけ大きく当該領域を含むフォトレジスト層を形成する工程と、
前記母型の上面の前記フォトレジスト層の不存在領域にストライク金属めっきを付着させて前記フォトレジスト層に対応する第１部分が開口した密着層を形成する工程と、
前記母型に電圧を印加して前記密着層上及び前記第１部分の周縁近傍の前記フォトレジスト層上に電界金属めっきを積層して、前記第１部分より小さい第２部分が開口した型層を形成する工程と、
加熱処理を施し前記型層表面に前記金属の酸化物層を形成する工程と、
前記母型に電圧を印加して前記酸化物層上及び前記第２部分の周縁近傍の前記フォトレジスト層上に電界金属めっきを積層して、前記フォトレジスト層上の電界金属めっきが形成されない前記第２部分より小さい第３部分をノズル孔としたノズルプレートを形成する工程と、
前記ノズルプレートを前記酸化物層との界面において前記酸化物層以下の層から剥離して前記ノズルプレートを取り出す工程とを有する
ノズルプレートの製造方法。
【請求項１４】
前記ノズルプレートを形成する工程は、前記金属及びポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）の共析電界めっきを積層する工程を含む
請求項１３に記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項１５】
前記金属は、ニッケル、クロム、鉄、アルミニウム、銀、金、コバルト、銅、パラジウム、スズ、亜鉛などの金属又はそれらの合金から選択される１以上である
請求項１３又は１４に記載のノズルプレートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、ノズルプレート、インクジェットプリントヘッド、インクジェット装置及びノズルプレートの製造方法に関し、特に、有機ＥＬ素子の製造に用いられるインクジェットプリントヘッド、インクジェット装置、それに用いるノズルプレート、及びノズルプレートの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、表示装置として基板上に有機ＥＬ素子を配設した有機ＥＬ表示パネルが普及しつつある。有機ＥＬ表示パネルは、自己発光を行う有機ＥＬ素子を利用するため視認性が高く、さらに完全固体素子であるため耐衝撃性に優れるなどの特徴を有する。
有機ＥＬ素子は電流駆動型の発光素子であり、陽極及び陰極の電極対の間に、キャリアの再結合による電界発光現象を行う有機発光層等を積層して構成される。また、有機ＥＬ表示パネルでは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各色に対応する有機ＥＬ素子をそれぞれサブピクセルとし、Ｒ、Ｇ、Ｂの３つのサブピクセルの組み合わせが１ピクセル（１画素）に相当する。
【０００３】
このような有機ＥＬ表示パネルとして、有機ＥＬ素子の有機発光層をインクジェット方式等のウエットプロセス（塗布工程）で形成したものが知られている（例えば、特許文献１）。インクジェット方式では、基板上の隔壁層に行列状に設けられた開口部（有機発光層形成領域に対応する。）に対してインクジェットヘッドを走査させる。そして、インクジェットヘッドが備える複数のノズルのノズル孔から、各開口部に対し有機発光層を構成する有機材料および溶媒を含有したインクの液滴を吐出させる。
【０００４】
このとき、インクジェットヘッドのインク吐出面においてノズル孔の周囲に不要なインクが付着することがある。このような不要なインクがノズル孔の周囲に付着すると、インクの出射方向が曲げられインクの着弾位置が狙った位置からずれたり、所望の量とは異なる量のインクが吐出されたりといったインクの不正吐出が発生する原因となる。また、インクが付着したまま放置されると、やがて付着したインクが乾燥してノズル孔を詰まらせ、インクが全く吐出されないインクの不吐出が発生する原因となる。このような不正吐出や不吐出が発生したノズル（以下、「不吐出ノズル」という。）がインクジェットヘッドに存在すると、インクが全く塗布されない開口部や、インク塗布量が他の開口部とは著しく異なる開口部が生じることとなる。その結果、表示画像に抜けや色の濃さが著しく異なる部分が発生して画質不良が生じることとなる。
【０００５】
これに対し、例えば、特許文献２には、洗浄液塗布ユニット、ワイピングユニット、液体吸収ユニット、及び吸引ユニットを有するクリーニングユニットにより、ノズル孔の周囲に付着したインクを除去する構成が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−２２３９５４号公報
【特許文献２】特開２００５−１３２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、特許文献２のように、インクジェットヘッドのインク吐出面をゴムブレード等のワイパでノズル孔列に沿って擦る場合に、上流側のノズル孔列の周囲に付着していた不要なインクが下流側のノズル孔付近のインク吐出面に移動して再付着するという問題があった。これに対し、インク吐出面に不要なインクが付着しにくくするために、インク吐出面に撥液性の樹脂被膜が形成されている場合があるが、樹脂被膜は比較的やわらかいために傷がつきやすい。微細な傷が生じると、そこにインクが付着しやすくなるため、上述の問題がより発生しやすくなる。
【０００８】
本開示は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、インクジェットヘッドのインク吐出面に不要なインクが付着させることなく、インク吐出面に付着した不要なインクを除去可能な、インクジェットプリントヘッド、インクジェット装置、それに用いるノズルプレート、及びノズルプレートの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本開示の一態様であるインクジェット装置は、複数のノズル孔が列状に開設された金属を主成分とする板状体からなり、前記板状体の一方の表面を主面とするとき、前記板状体の主面におけるノズル孔周囲部分の表面は、当該ノズル孔周囲部分以外の表面に対し突出しているノズルプレートと、前記ノズルプレートの裏面に対向して配された振動板と、前記ノズルプレートと前記振動板との間隙をノズル孔毎に区切り、ノズル孔各々に対応するキャビティを形成する複数の隔壁と、各キャビティに設けられ各キャビティ内の圧力を個別に可変する駆動素子とを備えたインクジェットヘッドと、ゴムからなるワイパーブレードと、前記ワイパーブレードの先端と前記吐出面とが接触した状態で、前記ワイパーブレードが吐出面に平行な方向に相対的に移動するように、前記ワイパーブレード及び前記インクジェットヘッドの少なくとも一方を移動させる移動部とを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本開示の一態様に係るインクジェット装置においては、インクジェットヘッドのインク吐出面をゴムブレード等のワイパでノズル孔列に沿って擦る場合に、インクジェットヘッドのインク吐出面に不要なインクが付着させることなく、インク吐出面に付着した不要なインクを除去することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】実施形態に係るインクジェット装置１０００の主要構成を示す図である。
【図２】インクジェット装置の機能ブロック図である。
【図３】インクジェット装置のインクジェットヘッド３０１におけるノズルの概略構成を示す一部拡大断面図である。
【図４】インクジェット装置１０００におけるインクジェットヘッド３０１の拭き取り動作の手順を示す図であって、（ａ）は、インクジェットヘッドの吐出面とワイパーブレードとが接触する前の状態を示す模式側面図であり、（ｂ）は、吐出面とワイパーブレードとが接触した状態を示す模式側面図であり、（ｃ）は、拭き取り動作途中の状態を示す模式側断面図である。
【図５】（ａ）から（ｃ）は、ノズルプレート３０１ｉの製造における各工程での状態を示す図３と同じ位置で切断した模式断面図である。
【図６】（ａ）から（ｃ）は、ノズルプレート３０１ｉの製造における各工程での状態を示す図３と同じ位置で切断した模式断面図である。
【図７】（ａ）から（ｃ）は、ノズルプレート３０１ｉの製造における各工程での状態を示す図３と同じ位置で切断した模式断面図である。
【図８】（ａ）から（ｃ）は、ノズルプレート３０１ｉの製造における各工程での状態を示す模式平面図であり、（ａ）は図５（ｃ）の上面図、（ｂ）は図７（ａ）の上面図、（ｃ）は図７（ｃ）の下面図である。
【図９】（ａ）（ｂ）は、ノズルプレート３０１ｉのインク吐出面３０１ａにおけるノズル孔３０３１周辺を撮像した電子顕微鏡写真である。
【図１０】（ａ）から（ｃ）は、インクジェットヘッド３０１における拭き取り動作途中の状態を示す模式側断面図である。
【図１１】（ａ）から（ｃ）は、インクジェットヘッドの比較例における拭き取り動作途中の状態を示す模式側断面図である。
【図１２】本開示の実施形態に係る表示装置の構成を示す模式ブロック図である。
【図１３】表示装置における表示パネルの構成を示す模式断面図である。
【図１４】表示パネルの製造過程の一部を示す模式断面図である。（ａ）は、基板にＴＦＴ層及び給電電極が形成された状態を示す模式断面図である。（ｂ）は、その上に絶縁層が形成された状態を示す模式断面図である。（ｃ）は、その上に画素電極及び正孔注入層が形成された状態を示す模式断面図である。（ｄ）は、その上に隔壁層が形成された状態を示す模式断面図である。（ｅ）は、隔壁層で規定された領域に正孔輸送層用インクの液滴が吐出されている状態を示す模式断面図である。
【図１５】（ａ）は、正孔輸送層が形成された状態を示す模式断面図である。（ｂ）は、隔壁層で規定された領域に、正孔輸送層の上から有機発光層用インクの液滴が吐出されている状態を示す模式断面図である。（ｃ）は、有機発光層が形成された状態を示す模式断面図である。（ｄ）は、その上に、電子輸送層、電子注入層、及び対向電極が形成された状態を示す模式断面図である。
【図１６】有機ＥＬ表示パネル１００の製造方法において、基板上の隣接する隔壁１０７間の堀状の開口部１１７に発光層形成用のインクを塗布する工程を示す模式平面図である。
【図１７】変形例に係るインクジェットヘッド３０１Ａにおけるノズルの概略構成を示す一部拡大断面図である。
【図１８】（ａ）から（ｃ）は、インクジェットヘッド３０１Ａの製造における各工程での状態を示す図１７と同じ位置で切断した模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
≪本発明を実施するための形態の概要≫
本開示の一態様に係るノズルプレートは、複数のノズル孔が列状に開設された金属を主成分とする板状体からなり、前記板状体の一方の表面を主面とするとき、前記板状体の主面におけるノズル孔周囲部分の表面は、当該ノズル孔周囲部分以外の表面に対し突出していることを特徴とする。また、本開示の一態様に係るインクジェットヘッドは、上記何れかの態様に係るノズルプレートと、前記ノズルプレートの裏面に対向して配された振動板と、前記ノズルプレートと前記振動板との間隙をノズル孔毎に区切り、ノズル孔各々に対応するキャビティを形成する複数の隔壁と、各キャビティに設けられ各キャビティ内の圧力を個別に可変する駆動素子とを備えたことを特徴とする。
【００１３】
係る構成により、インクジェットヘッドのインク吐出面をゴムブレード等のワイパでノズル孔列に沿って擦る場合に、インクジェットヘッドのインク吐出面に不要なインクが付着させることなく、インク吐出面に付着した不要なインクを除去することができる。
また、別の態様では、上記何れかに記載の態様において、前記板状体の主面における前記ノズル孔がある面をノズル面とするとき、前記板状体の主面におけるノズル孔周囲部分表面の突出量は、前記ノズル面において最大であり、前記ノズル面の周縁に近付くにしたがい連続的に増加している構成としてもよい。また、別の態様では、上記何れかに記載の態様において、前記板状体の主面におけるノズル孔周囲部分表面の当該部分以外の表面に対する傾斜角は、前記ノズル面の周縁外方から前記ノズル面の周縁に近付くにしたがい連続的に増加している構成としてもよい。
【００１４】
係る構成により、インク飛沫のノズル面から傾斜面上への移動が容易になるとともに、移動したインク飛沫が、さらに、傾斜面上を傾斜面の麓に向かって移動しやすくなる。
また、別の態様では、上記何れかに記載の態様において、前記板状体の主面と背向する裏面の平面視における前記ノズル孔周囲部分に含まれる表面部分は、当該部分以外の表面に対し陥没しており、陥没量は、前記ノズル孔に近付くにしたがい連続的に増加している構成としてもよい。また、別の態様では、上記何れかに記載の態様において、前記板状体の裏面の平面視における前記ノズル孔周囲部分に含まれる表面部分の当該部分以外の表面部分に対する傾斜角は、前記ノズル孔に近付くにしたがい連続的に増加している構成としてもよい。
【００１５】
係る構成により、インクを吐出するときに、インクと裏面との抵抗を低減して、インクの吐出効率を高めるとともに着弾精度を向上することができる。
また、別の態様では、上記何れかに記載の態様において、前記金属は、ニッケル、クロム、鉄、アルミニウム、銀、金、コバルト、銅、パラジウム、スズ、亜鉛などの金属又はそれらの合金から選択される１以上である構成としてもよい。
【００１６】
係る構成により、インク吐出面に不要なインクが付着させることなく、インク吐出面に付着した不要なインクを容易に除去できる構成を各種金属を用いて実現できる。
また、別の態様では、上記何れかに記載の態様において、前記板状体は、前記主面表面から所定深さの範囲にポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）を含む構成としてもよい。
【００１７】
係る構成により、ノズル面に付着していた不要なインク飛沫は表面張力により傾斜面上への移動が容易になる。さらに、移動したインク飛沫が、傾斜面上を傾斜面の麓に向かって移動しやすくなる。その結果、インク飛沫が下流側のノズル孔付近のノズル面に移動し、インク不正吐出発生の要因となることを防止できる。
また、本開示の一態様に係るインクジェット装置は、上記何れかの態様に係るインクジェットヘッドと、ゴムからなるワイパーブレードと、前記ワイパーブレードの先端と前記吐出面とが接触した状態で、前記ワイパーブレードが吐出面に平行な方向に相対的に移動するように、前記ワイパーブレード及び前記インクジェットヘッドの少なくとも一方を移動させる移動部とを有することを特徴とする。また、別の態様では、上記何れかに記載の態様において、前記ワイパーブレードは、前記移動部による移動の際に、前記主面に対し押圧されている構成としてもよい。
【００１８】
係る構成により、インクジェットヘッドのインク吐出面に不要なインクが付着させることなく、インク吐出面に付着した不要なインクを除去するインクジェット装置を実現できる。
また、本開示の一態様に係る有機ＥＬ素子の製造装置は、陽極と陰極との間に、有機発光層を含む機能層を複数有する有機ＥＬ素子の製造装置であって、前記インクは、前記機能層を形成するための機能性材料を含み、上記何れかの態様に係るインクジェット装置を有することを特徴とする。また、本開示の一態様に係る有機ＥＬ素子の製造方法は、機能性物質が溶媒に溶解されてなるインクを下地基板上に吐出し、溶媒を乾燥させて前記機能性物質の薄膜を形成する工程を含み、前記インクの吐出を、上記何れかの態様に係る有機ＥＬ素子の製造装置により行うことを特徴とする。
【００１９】
インクジェット装置では、不吐出ノズルの発生を防止して、有機機能層の塗布が正常に行われた有機ＥＬ素子を提供することができる。また、そのような有機ＥＬ素子を備え、抜けや色の濃さが著しく異なる部分の無い、良好な画質を備えた有機ＥＬ表示パネルおよび、そのような有機ＥＬ表示パネルを備えた有機ＥＬ表示装置を提供することができる。
また、本開示の一態様に係るノズルプレートの製造方法は、導電性材料からなり上面が平板状の母型を準備する工程と、前記母型の上面に絶縁性のフォトレジストを塗布する工程と、前記フォトレジストをマスクを介して露光した後現像して、ノズル孔を形成する領域より所定寸法だけ大きく当該領域を含むフォトレジスト層を形成する工程と、前記母型の上面の前記フォトレジスト層の不存在領域にストライク金属めっきを付着させて前記フォトレジスト層に対応する第１部分が開口した密着層を形成する工程と、前記母型に電圧を印加して前記密着層上及び前記第１部分の周縁近傍の前記フォトレジスト層上に電界金属めっきを積層して、前記第１部分より小さい第２部分が開口した型層を形成する工程と、加熱処理を施し前記型層表面に前記金属の酸化物層を形成する工程と、前記母型に電圧を印加して前記酸化物層上及び前記第２部分の周縁近傍の前記フォトレジスト層上に電界金属めっきを積層して、前記フォトレジスト層上の電界金属めっきが形成されない前記第２部分より小さい第３部分をノズル孔としたノズルプレートを形成する工程と、前記ノズルプレートを前記酸化物層との界面において前記酸化物層以下の層から剥離して前記ノズルプレートを取り出す工程とを有することを特徴とする。また、別の態様では、上記何れかに記載の態様において、前記金属は、ニッケル、クロム、鉄、アルミニウム、銀、金、コバルト、銅、パラジウム、スズ、亜鉛などの金属又はそれらの合金から選択される１以上である構成としてもよい。
【００２０】
係る構成により、母型に電圧を印加して酸化物層上及び第２部分の周縁近傍のフォトレジスト層上に電界金属めっきを積層することにより、フォトレジスト層上にあって電界金属めっきが形成されなかった第３部分に対応する範囲にノズル孔が形成されているとともに、型層の厚みに起因して、インク吐出面におけるノズル孔周囲部分の表面（ノズル面３０１ｆ及び傾斜面３０１ｈ）は、当該ノズル孔周囲部分以外の表面に対し突出しているノズルプレートを形成することができる。
【００２１】
また、別の態様では、上記何れかに記載の態様において、前記ノズルプレートを形成する工程は、前記金属及びポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）の共析電界めっきを積層する工程を含む構成としてもよい。
係る構成により、ノズル面に付着していた不要なインク飛沫は表面張力により傾斜面上への移動が容易になる。さらに、移動したインク飛沫が、傾斜面上を傾斜面の麓に向かって移動しやすくなる。
【００２２】
≪実施の形態≫
１．インクジェット装置の構成
先ず、本実施形態の液滴吐出方法が用いられるインクジェット装置について説明する。
なお、各図面における部材の縮尺は必ずしも実際のものと同じであるとは限らない。また、本願において、数値範囲を示す際に用いる符号「〜」は、その両端の数値を含む。また、本実施形態で記載している、材料、数値等は好ましいものを例示しているだけであり、それに限定されることはない。また、本開示の技術的思想の範囲を逸脱しない範囲で、適宜変更は可能である。また、他の実施形態との構成の一部同士の組み合わせは、矛盾が生じない範囲で可能である。
【００２３】
１．１  全体構成
図１は、実施形態に係るインクジェット装置１０００の主要構成を示す図である。図２は、インクジェット装置１０００の機能ブロック図である。
図１３に示すように、インクジェット装置１０００は、インクジェットテーブル２００、ヘッド部３００、制御装置１５（図１では、不図示）で構成される。インクジェットテーブル２００には、固定ステージＳＴに固定された塗布対象基板に対してヘッド部３００を移動させるための移動部２３０が含まれる。移動部２３０は、リニアモータ２０４及び２０５、サーボモータ２２１、制御部２１３を有する。
【００２４】
図２に示すように、制御装置１５は、ＣＰＵ１５０、記憶手段１５１（ＨＤＤ等の大容量記憶手段を含む）、表示手段（ディスプレイ）１５３、入力手段１５２で構成される。当該制御装置１５は具体的にはパーソナルコンピューター（ＰＣ）を用いることができる。記憶手段１５１には、制御装置１５に接続されたインクジェットテーブル２００、ヘッド部３００を駆動するための制御プログラム等が格納されている。インクジェット装置１０００の駆動時には、ＣＰＵ１５０が入力手段１５２を通じてオペレータにより入力された指示と、前記記憶手段１５１に格納された各制御プログラムに基づいて所定の制御を行う。
【００２５】
１．２  インクジェットテーブル
図１に示すように、インクジェットテーブル２００はいわゆるガントリー式の動作テーブルであり、基台のテーブルの上をガントリー部（移動架台）が一対のガイドシャフトに沿って移動可能に配されている。
具体的構成として、板状の基台２０１には、その上面の四隅に柱状のスタンド２０２Ａ、２０２Ｂ、２０３Ａ、２０３Ｂが配設されている。これらのスタンド２０２Ａ、２０２Ｂ、２０３Ａ、２０３Ｂに囲まれた内側領域には、塗布対象となる基板を載置するための固定ステージＳＴと、塗布直前にインクを吐出させることにより吐出特性を安定化させるために用いるインクパン（皿状容器）ＩＰがそれぞれ配設されている。
【００２６】
また、スタンド２０２Ａ、２０２Ｂ、２０３Ａ、２０３Ｂには、基台２０１の長手（Ｙ）方向に沿って、ガイドシャフト２０４Ａ、２０４Ｂが平行軸支されている。ガイドシャフト２０４Ａ、２０４Ｂにはリニアモータ２０５、２０６が挿通されており、リニアモータ２０５、２０６に対してガイドシャフト２０４Ａ、２０４Ｂを架け渡すように、ガントリー部２１０が搭載されている。この構成により、インクジェット装置１０００の駆動時において、一対のリニアモータ２０５、２０６が駆動されることで、ガントリー部２１０がガイドシャフト２０４Ａ、２０４Ｂの長手方向（Ｙ軸方向）に沿ってスライド自在に往復運動する。
【００２７】
ガントリー部２１０には、Ｌ字型の台座からなる移動体（キャリッジ）２２０が配設される。移動体２２０にはサーボモータ（移動体モータ）２２１が配設され、各モータの軸の先端に不図示のギヤが配されている。ギヤはガントリー部２１０の長手方向（Ｘ方向）に沿って形成されたガイド溝２１１に嵌合される。ガイド溝２１１の内部にはそれぞれ長手方向に沿って微細なラックが形成されている。ギヤはラックと噛合しているので、サーボモータ２２１が駆動すると、移動体２２０はいわゆるピニオンラック機構によって、Ｘ軸方向に沿って往復自在に精密に移動する。
【００２８】
ここで、移動体２２０にはヘッド部３００が装備されるので、移動体２２０をガントリー部２１０に対して固定した状態でガントリー部２１０をガイドシャフト２０４Ａ、２０４Ｂの長手方向に沿って移動させることによって、また、ガントリー部２１０を停止させた状態で移動体２２０をガントリー部２１０の長手方向に沿って移動させることによって、塗布対象基板に対してヘッド部３００を走査させることができる。ヘッド部３００の主走査方向は行（Ｙ軸）方向であり、副走査方向は列（Ｘ軸）方向である。
【００２９】
なお、リニアモータ２０５、２０６、サーボモータ２２１はそれぞれ直接駆動を制御するための制御部２１３に接続され、当該制御部２１３は制御装置１５内のＣＰＵ１５０に接続されている。インクジェット装置１０００の駆動時には、制御プログラムを読み込んだＣＰＵ１５０により、制御部２１３を介してリニアモータ２０５、２０６、サーボモータ２２１の各駆動が制御される（図２参照）。
【００３０】
１．３  インクジェットヘッド
ヘッド部３００は公知のピエゾ方式を採用し、インクジェットヘッド３０１及び本体部３０２で構成されている。インクジェットヘッド３０１は本体部３０２を介して移動体２２０に固定されている。本体部３０２はサーボモータ３０４（図２参照）を内蔵しており、サーボモータ３０４を回転させることにより、インクジェットヘッド３０１の長手方向と固定ステージＳＴのＸ軸とのなす角度が調節される。また、サーボモータ３０４は、インクジェットヘッド３０１を上下方向（Ｚ軸方向）に移動させる。
【００３１】
図３は、インクジェットヘッド３０１のノズル３０３０の概略構成を示す断面図である。図３に示すように、インクジェットヘッド３０１は、液滴Ｄが吐出される複数のノズル孔３０３１を有するノズルプレート３０１ｉと、複数のノズル孔３０３１がそれぞれ連通するキャビティ３０１ｅを区画する隔壁３０１ｄと、各キャビティ３０１ｅに対応する駆動手段としての駆動素子３０１０を有する振動板３０１ｂとが、順に積層され接合された構造となっている。
【００３２】
振動板３０１ｂは、半導体製造プロセスにより、半導体ウエハ上に、キャビティ３０１ｅの圧力を可変する駆動素子である駆動素子３０１０が一体に形成され、この半導体ウエハが所定形状により切り出されて形成される。
駆動素子３０１０は、一対の電極３０１１、３０１２によりピエゾ素子本体部３０１３が挟まれてなる圧電素子である。外部から一対の電極３０１１、３０１２に駆動電圧パルス（駆動信号）が印加されることにより、接合された振動板３０１ｂを変形させる。これにより隔壁３０１ｄで仕切られたキャビティ３０１ｅの体積が減少し、キャビティ３０１ｅに充填されたインクを加圧して、ノズル孔３０３１からインクを液滴Ｄとして吐出できる構造となっている。そして、駆動電圧パルスの印加が終了すると、振動板３０１ｂは元に戻り、キャビティ３０１ｅの体積が復元することにより、インクが不図示のリザーバからキャビティ３０１ｅに吸引される。駆動素子３０１０に印加される駆動電圧パルスを制御することにより、それぞれのノズル３０３０から吐出されるインクの量や吐出タイミング等の吐出制御を行うことができる。これによりこのインクジェットヘッド３０１では、駆動素子である駆動素子３０１０によりキャビティ３０１ｅの圧力を可変し、このキャビティ３０１ｅに保持した液体であるインクの液滴をノズル孔３０３１より飛び出させ、印刷対象に付着させるようになされている。
【００３３】
隔壁３０１ｄは、感光性を有する樹脂により形成され、スピンコート、バーコート、カーテンコート等の各種塗布手法により振動板３０１ｂに塗布した後、フォトマスクによる露光、現像の処理により形成される。この処理において、隔壁３０１ｄは、半硬化状態によりノズルプレート３０１ｉが配置された後、後述するインクジェットヘッド３０１の組立工程において完全に硬化される。
【００３４】
ノズルプレート３０１ｉには、複数のノズル孔３０３１が列状に開設された金属の板状体からなり、例えば、ニッケル、クロム、鉄、アルミニウム、銀、金、チタンなどの金属又はそれらの合金からなり、電鋳処理により作成される。ノズルプレート３０１ｉの製造方法については後述する。ノズルプレート３０１ｉの肉厚ｔは、数μｍから数十μｍであり、本例では、例えば、約５μｍであり、ノズル孔３０３１の直径は、例えば、１０μｍ以上１５μｍ以下としてもよい。また、プレート３０１ｉは、３０１ｈ側、隔壁３０１ｄの端面に、ノズルプレート３０１ｉを保持し、ノズルプレート３０１ｉを隔壁３０１ｄの端面に密着させて保持するようになされている。
【００３５】
ノズルプレート３０１ｉは、図３（ａ）の下方を向いた表面をインク吐出面３０１ａとする。ノズルプレート３０１ｉは、インク吐出面３０１ａにおけるノズル孔周囲部分３０１ｇの表面（３０１ｈ、３０１ｆ）は、当該ノズル孔周囲部分以外の表面３０１ｋに対し突出している。板状体のインク吐出面３０１ａにおけるノズル孔３０３１がある面をノズル面３０１ｆ、その周囲の傾斜面を３０１ｈとするとき、傾斜面３０１ｈ及びノズル面３０１ｆがノズル孔周囲部分３０１ｇに相当する。ノズル孔周囲部分３０１ｇから拭き出されたインク飛沫４１がノズル孔３０３１に自然に戻るか、ブレードにより効率良く排除するために、ノズル孔周囲部分３０１ｇのインク吐出面３０１ａ方向の長さは、ノズル孔３０３１の直径に対して、０．５倍以上１．５倍以下であることが好ましく、０．７倍以上１．２倍以下であることがより一層好ましい。本実施の形態では、例えば、９μｍ以上１５μｍ以下とした。またブレードすることによるノズル孔の変形を防止するためにノズル孔周囲部の長さは、３μｍ以上が必要であり、より好ましくは５μｍ以上となる。ノズルプレート３０１ｉのインク吐出面３０１ａにおけるノズル孔周囲部分３０１ｇの表面の突出量δｈは、ノズル面３０１ｆで最大であり、傾斜面を３０１ｈではノズル面３０１ｆの周縁に近付くにしたがい連続的に増加している構成としてもよい。本例では、突出量δの最大値は約２から４μｍである。また、インク吐出面３０１ａにおけるノズル孔周囲部分表面３０１ｇの当該部分以外の表面３０１ｋに対する傾斜角は、ノズル面３０１ｆに近付くにしたがい連続的に増加している構成としてもよい。
【００３６】
また、ノズルプレート３０１ｉのインク吐出面３０１ａと背向する裏面３０１ｍの平面視におけるノズル孔周囲部分３０１ｇに含まれる表面部分は、当該部分以外の表面３０１ｌに対し陥没している。このとき、ノズルプレート３０１ｉの裏面３０１ｍのノズル孔周囲部分３０１ｇに含まれる表面部分の陥没量は、ノズル孔３０３１に近付くにしたがい連続的に増加している構成としてもよい。また、ノズルプレート３０１ｉの裏面３０１ｍのノズル孔周囲部分３０１ｇに含まれる表面部分の当該表面部分以外の表面３０１ｌに対する傾斜角は、ノズル孔３０３１に近付くにしたがい連続的に増加している構成としてもよい。
【００３７】
インクジェットヘッド３０１の組立工程は、基台にノズルプレート３０１ｉを保持したまま、隔壁３０１ｄが形成されてなる振動板３０１ｂにノズルプレート３０１ｉの裏面を押し付けた状態で、全体を所定温度に加熱することにより、隔壁３０１ｄを完全に硬化させ、この硬化の際に、ノズルプレート３０１ｉの裏面と隔壁３０１ｄの端面とを接着する。また硬化の後、基台を取り外す。
【００３８】
なお、図３において、破線で囲んで示す部分がひとつのノズル３０３０である。すなわち、キャビティ３０１ｅおよびキャビティ３０１ｅを形成している隔壁３０１ｄ、振動板３０１ｂ、ノズルプレート３０１ｉ、並びに、駆動素子３０１０、ノズル孔３０３１によりノズル３０３０が構成される。
インクジェットヘッド３０１は固定ステージＳＴに対向する面（吐出面）に複数のノズル３０３０を備えており、これらのノズル３０３０はインクジェットヘッド３０１の長手方向に沿って列状に配置されている。インクジェットヘッド３０１に供給されたインク（インク）は、各ノズル３０３０から液滴として塗布対象基板に対して吐出される。
【００３９】
上述したように、各ノズル３０３０における液滴の吐出動作は、各ノズル３０３０が備えるピエゾ素子（圧電素子）３０１０に与えられる駆動電圧によって制御される。吐出制御部３０３は、各駆動素子３０１０に与える駆動信号を制御することにより、各ノズル３０３０からそれぞれ液滴吐出を行わせる。具体的には、図２に示すように、ＣＰＵ１５０が所定の制御プログラムを記憶手段１５１から読み出し、吐出制御部３０３に対して、所定の電圧を対象の駆動素子３０１０に印加するように指示する。
【００４０】
１．４  クリーニング部
図１に示すように、インクジェット装置１０００は、クリーニング部４００を備える。クリーニング部４００は、ゴムブレード等の弾性体からなる板状のワイパーブレード４１０（以後、「ブレード」とする）、ブレード４１０を支持する支持部材４２０、及び支持部材４２０が固定されるベース４３０を有する。支持部材４２０は、板状のブレード４１０の一方の面に連設され、ブレード４１０の端縁４１１を上方に向けた状態でブレード４１０を支持している。即ち、ブレード４１０及び支持部材４２０は、ベース４３０を介して基台２０１に固定されている。支持部材４２０は、ブレード４１０を吐出面に接触させたときにたわんで吐出面との接触が不均一にならない程度の強度が必要である。
【００４１】
ブレード４１０の列垂直方向長さ（Ｙ方向の長さ）は、インクジェットヘッド３０１の列垂直方向の幅に合わせて適宜決定することができるが、例えば、１０〜３０ｍｍ程度が妥当である。
以上の構成を有するインクジェット装置１０００を用い、インクジェット方式による塗布工程を行う。
【００４２】
次に、本実施形態の液滴吐出方法において行われるインクの拭き取り動作について説明する。
２．インクジェットヘッドの拭き取り動作
図４は、インクジェット装置１０００におけるインクジェットヘッド３０１の拭き取り動作の手順を示す図であって、（ａ）は、インクジェットヘッドの吐出面とワイパーブレードとが接触する前の状態を示す模式側面図であり、（ｂ）は、吐出面とワイパーブレードとが接触した状態を示す模式側面図であり、（ｃ）は、拭き取り動作途中の状態を示す模式側断面図である
先ず、図４（ａ）に示すように、インクジェットヘッド３０１のインク吐出面３０１ａの吐出方向側にブレード４１０が位置するように、インクジェットヘッド３０１を移動させる。このとき、ブレード４１０の端縁４１１の稜線に平行な方向と、インクジェットヘッド３０１の列垂直方向とが一致する態様でインクジェットヘッド３０１とブレード４１０とを対向配置させる。インクジェットヘッド３０１の移動は、移動部２３０（図２参照）により行われる。
【００４３】
次に、インクジェットヘッド３０１のインク吐出面３０１ａをブレード４１０に近づく方向（この場合は、鉛直下方）に移動させて、図４（ｂ）に示すように、インク吐出面３０１ａをブレード４１０に接触させる。このとき、ブレード４１０の端縁４１１をインク吐出面３０１ａが軽く押圧する程度に接触させる。
そして、インク吐出面３０１ａとブレード４１０とが接触した状態で、インクジェットヘッド３０１を図４（ｂ）、（ｃ）に示す白抜き矢印の方向に移動させる。すると、インク吐出面３０１ａの不要な付着インク１０が、インク吐出面３０１ａからブレード４１０の端縁４１１により拭き取られて除去される。
【００４４】
また、このとき、ブレード４１０は、ブレード４１０の端縁４１１をインク吐出面３０１ａが軽く押圧する程度に接触させる程度に支持されているので、端縁４１１がインク吐出面３０１ａに傷を付けることなく、インク吐出面３０１ａの付着インク１０を除去することができる。
３．ノズルプレート３０１ｉの製造方法
次に、ノズルプレート３０１ｉの製造方法について、図面を用いて説明する。図５（ａ）から（ｃ）、図６（ａ）から（ｃ）、図７（ａ）から（ｃ）は、における各図は、ノズルプレート３０１ｉの製造における各工程での状態を示す図３と同じ位置で切断した模式断面図である。図８（ａ）から（ｃ）は、ノズルプレート３０１ｉの製造における各工程での状態を示す模式平面図であり、（ａ）は図５（ｃ）の上面図、（ｂ）は図７（ａ）の上面図、（ｃ）は図７（ｃ）の下面図である。
【００４５】
金属からなる基板を母型８００として準備し表面８０１ａを研磨する（図５（ａ））。母型８００は、導電性を有する部材であればよく、例えば、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、ニッケル−鉄合金、黄銅等、ノズルプレートの離型のよい金属材料により形成される。好ましくは、ステンレスである。次に、母型８００の表面８０１ａに感光性絶縁材料からなるフォトレジスト層８１０を印刷法、スピンコート法、インクジェット法などの湿式成膜プロセスを用い塗布（図５（ｂ））した後、ノズル孔３０３１を含む範囲であってノズル孔３０３１よりも所定寸法だけ大きい範囲に対応する開口部が施されたフォトマスクを重ね、その上から紫外線照射を行いフォトレジスト層８１０を露光し、フォトマスクが有するパターンを転写する。その後、現像によって、ノズル孔３０３１を形成する領域より所定寸法だけ大きくノズル孔を形成する領域を含むようにパターニングされたフォトレジスト層８１０を形成する（図５（ｃ））。フォトレジスト層８１０が除去された領域をフォトレジスト層の不存在領域８１０ａとする。母型８００を平面視したとき、図８（ａ）に示すように、ノズル孔３０３１を形成する領域を含む複数の領域からなるフォトレジスト層８１０が形成される。
【００４６】
次に、金属、例えば、ニッケルの塩化物浴によりストライクニッケルめっき処理を行う（図６（ａ））。これにより、母型８００の上面のフォトレジスト層８１０の不存在領域８１０ａにストライクニッケルめっきを付着させてフォトレジスト層８１０に対応する第１部分８２０ａが開口した密着層８２０が形成される。これにより、母型８００の表面８０１ａの不動態皮膜を除去して活性なストライクニッケルめっきによる密着層８２０を形成し、上層に対する接着性を向上することができる。ここで、ストライクニッケルめっきを構成するニッケルの他、めっきを構成する金属は、電鋳処理により皮膜を形成できるものであればよく、例えば、クロム、鉄、アルミニウム、銀、金、コバルト、銅、パラジウム、スズ、亜鉛などの金属又はそれらの合金を用いる構成としてもよい。
【００４７】
次に、母型８００を負極として電界ニッケルめっき処理を行う（図６（ｂ））。電界ニッケルめっきからなる型層８３０は、絶縁性のフォトレジスト層８１０の不存在領域８１０ａ内において密着層８２０上に不存在領域８１０ａから等方的に積層される。すなわち、図６（ｂ）に示すように、電界ニッケルめっき処理においては、型層８３０は、不存在領域８１０ａ内の導電性を有するストライクニッケルめっきからなる密着層８２０の表面から、フォトレジスト層８１０中心を通る任意の断面内において電界の強さに応じ等方的に堆積する。したがって、フォトレジスト層８１０の周縁８１０ｂよりも内方においては、フォトレジスト層８１０中心を通る任意の断面内において周縁８１０ｂを円弧の中心とする扇型形状の侵入部８３０ａが形成される。これにより、母型８００に電圧を印加して密着層８２０上及び第１部分８２０ａの周縁近傍のフォトレジスト層８１０上に電界ニッケルめっきを積層することにより、第１部分８２０ａ内に第１部分８２０ａより小さい第２部分８３０ｂが開口した型層８３０が形成される。ここで、型層８３０の厚みの最大値は約２〜３μｍとすることが好ましい。型層８３０の厚みは、形成されるノズルプレート３０１ｉのインク吐出面３０１ａにおけるノズル孔周囲部分３０１ｇ表面の突出量δｈ（図３）に相当する。
【００４８】
次に、成膜した型層８３０に対して焼成工程を実施して表面を酸化し酸化物層８３１を形成する（図６（ｃ））。すなわち、型層８３０成膜後に所定条件の焼成工程（加熱温度２００℃以上６００℃以内、加熱時間５分以上１２０分以内の条件で大気焼成する工程）で酸化処理を図る。型層８３０と上層との間に酸化物層８３１を介在させることにより上層との密着性を低め、上層に対する剥離性を向上することができる。十分な剥離性を得るために酸化物層８３１の厚みは約０．５μｍとすることが好ましい。
【００４９】
次に、母型８００を負極として電界ニッケルめっき処理を行う（図７（ａ））。ここでも、電界ニッケルめっきからなるノズルプレート層３０１ｉＸは、絶縁性のフォトレジスト層８１０の不存在領域８１０ａ内において酸化物層８３１上に不存在領域８１０ａから等方的に積層される。すなわち、図７（ａ）に示すように、ノズルプレート層３０１ｉＸは、不存在領域８１０ａ内のストライクニッケルめっきからなる密着層８２０の表面から、フォトレジスト層８１０中心を通る任意の断面内において電界の強さに応じ等方的に堆積する。したがって、フォトレジスト層８１０の周縁８１０ｂよりも内方においては、フォトレジスト層８１０中心を通る任意の断面内において周縁８１０ｂを円弧の中心とする中空扇型形状の侵入部３０１ｉＸａが形成される。これにより、母型８００に電圧を印加して酸化物層８３１上及び第２部分８３０ｂの周縁８３０ｃ近傍のフォトレジスト層８１０上に電界ニッケルめっきを積層することにより、フォトレジスト層８１０上の電界ニッケルめっきが形成されない第３部分３０１ｉＸｂをノズル孔３０３１としたノズルプレート層３０１ｉＸが形成される（図８（ｂ））。第３部分３０１ｉＸｂの開口径は第２部分８３０ｂよりノズルプレート層３０１ｉＸの厚みの２倍に相当する距離だけ小さい。ノズルプレート層３０１ｉＸの厚みは、形成されるノズルプレート層３０１ｉＸの肉厚ｔ（図３）に相当し、数μｍから数十μｍであり、本例では、例えば、約５μｍとしている。なお、めっきを構成する金属は、電鋳処理により皮膜を形成できるものであればよく、例えば、ニッケル、クロム、鉄、アルミニウム、銀、金、コバルト、銅、パラジウム、スズ、亜鉛などの金属又はそれらの合金を用いる構成としてもよい。
【００５０】
次に、成膜したノズルプレート層３０１ｉＸを酸化物層８３１との界面において酸化物層８３１以下の層から剥離して（図７（ｂ））、ノズルプレート層３０１ｉＸを取り出し、ノズルプレート３０１ｉを完成する（図７（ｃ））。完成したノズルプレート３０１ｉでは、図７（ｃ）に示すように、フォトレジスト層８１０上にあって電界ニッケルめっきが形成されなかった第３部分３０１ｉＸｂに対応する範囲にノズル孔３０３１が形成されているとともに、型層８３０の厚みに起因して、インク吐出面３０１ａにおけるノズル孔周囲部分３０１ｇの表面（ノズル面３０１ｆ及び傾斜面３０１ｈ）は、当該ノズル孔周囲部分以外の表面３０１ｋに対し突出している。また、ノズルプレート３０１ｉのインク吐出面３０１ａにおけるノズル孔３０３１がある面をノズル面３０１ｆとするとき、ノズルプレート３０１ｉのインク吐出面３０１ａにおけるノズル孔周囲部分３０１ｇ表面の突出量δｈは、ノズル面３０１ｆで最大であり、型層８３０の上縁の形状に沿うように、ノズル面３０１ｆに近付くにしたがい連続的に増加している。
【００５１】
４．実施例
ノズルプレート３０１ｉの実施例についてインク吐出面３０１ａの表面状態を観察した。
図９（ａ）（ｂ）は、完成したノズルプレート３０１ｉのインク吐出面３０１ａにおけるノズル孔３０３１周辺を写した電子顕微鏡写真であり、（ａ）はインク吐出面３０１ａに垂直な法線方向から、（ｂ）はインク吐出面３０１ａの法線から２０°傾斜した方向から撮像したものである。ノズル孔３０３１に対しノズル孔周囲部分３０１ｇを構成する、ノズル孔３０３１があるノズル面３０１ｆと、その周囲の傾斜面３０１ｈは、当該ノズル孔周囲部分３０１ｇ以外の表面３０１ｋに対し突出していることがわかる。また、ノズル孔周囲部分３０１ｇ表面の突出量δｈは、ノズル面３０１ｆで最大であり、傾斜面を３０１ｈではノズル面３０１ｆに近付くにしたがい連続的に増加していることがわかる。
【００５２】
５．効果確認試験
ノズルプレート３０１ｉの実施例と比較例とを用いてインクジェットヘッドを作成し、インク拭き取り試験を行った。
図１０（ａ）から（ｃ）は、インクジェットヘッド３０１における拭き取り動作途中の状態を示す模式側断面図である。図１１（ａ）から（ｃ）は、インクジェットヘッドの比較例における拭き取り動作途中の状態を示す模式側断面図である。比較例は、インク吐出面３０１ａＸが平坦なノズルプレート３０１ｉＸのインク吐出面を実施例と同じブレード４１０でノズル孔列に沿って擦る構成としている。
【００５３】
図１１（ａ）から（ｃ）に示すように、比較例では、上流側のノズル孔３０３１ａの周囲に付着していた不要なインク飛沫４１が下流側のノズル孔３０３１ｂ付近のインク吐出面に移動するという問題があった。この場合、ノズル孔列の途中にインク飛沫４１が付着した状態では、上述のとおり、インクの出射方向が曲げられインクの着弾位置が狙った位置からずれたり、所望の量とは異なる量のインクが吐出されたりといったインクの不正吐出が発生する原因となる。そのため、インクの不正吐出を防止するためには、ノズル孔列の最下流までインク飛沫４１を移動させることが必要となる。
【００５４】
これに対し、実施例では、図１０（ａ）から（ｃ）に示すように、上流側のノズル孔３０３１ａがあるノズル面３０１ｆに付着していた不要なインク飛沫４１はブレード４１０で擦り採られ表面張力により傾斜面３０１ｈ上に移動する。ノズルプレート３０１ｉのインク吐出面３０１ａにおいて、ノズル孔周囲部分３０１ｇ表面の突出量δｈは、ノズル面３０１ｆで最大であり、傾斜面を３０１ｈではノズル面３０１ｆに近付くにしたがい連続的に増加している。そのため、傾斜面３０１ｈ上に移動したインク飛沫４１はブレード４１０の端縁４１１から離間し、インク飛沫４１が下流側のノズル孔３０３１ｂ付近のノズル面３０１ｆに移動するという問題は改善される。その結果、インクの不正吐出が発生する原因となるノズル面３０１ｆに付着したインク飛沫４１を確実に除去することができる。
【００５５】
６．インクジェット装置の応用
６．１  表示装置の全体構成
次に、インクジェット装置１０００を用いて製造される有機ＥＬ表示パネル（以下、単に「表示パネル」と称する。）１００の構成および製造方法、並びに表示パネル１００を含む表示装置１の構成について説明する。
【００５６】
図１２は、本開示の実施形態に係る液滴吐出方法を含む製造方法により製造された有機ＥＬ素子を含む表示装置１の構成を示すブロック図である。図１２に示すように、表示装置１は、表示パネル１００と、これに接続された駆動制御部２０とを有し構成されている。表示パネル１００は、有機材料の電界発光現象を利用したパネルであり、複数の有機ＥＬ素子が、例えば、マトリクス状に配列され構成されている。駆動制御部２０は、４つの駆動回路２１〜２４と制御回路２５とから構成されている。
【００５７】
なお、実際の表示装置１では、表示パネル１００に対する駆動制御部２０の配置については、これに限られない。
６．２  表示パネルの構成
（１）各層の構成
表示パネル１００の構成について、図１３を用い説明する。
【００５８】
図１３は、表示パネル１００の構成の一部の断面図である。表示パネル１００は、同図上側を表示面とする、いわゆるトップエミッション型である。図１３に示すように、表示パネル１００は、基板１０１をベースとして形成されている。そして、基板１０１上には、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）層１０２および給電電極（配線部）１０３が形成されており、その上を覆うように層間絶縁膜１０４が積層形成されている。
【００５９】
絶縁層である層間絶縁膜１０４上には、画素電極１０６が形成されており、その上を覆うように正孔注入層１０９が積層形成されている。
正孔注入層１０９の上には、有機発光層１１１の形成領域となる複数の開口部１１７（図４参照）が形成された隔壁層１０７が設けられている。開口部１１７の内部には、正孔輸送層１１０および有機発光層１１１が順次積層形成されている。
【００６０】
そして、有機発光層１１１および隔壁層１０７の上に、電子輸送層１１２、電子注入層１１３、対向電極１１４、封止層１１８が順次積層されている。
基板１０１は表示パネル１００における背面基板であり、その表面には、表示パネル１００をアクティブマトリクス方式で駆動するためのＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を含むＴＦＴ層１０２が形成されている。ＴＦＴ層１０２には、各ＴＦＴに対して外部から電力を供給するための配線部である給電電極１０３が含まれるが、本実施形態においては、説明をわかりやすくするために、別の符号を付して説明する。また、本実施形態においては、給電電極１０３は、モリブデン（Ｍｏ）を用いて形成されている。
【００６１】
層間絶縁膜１０４は、ＴＦＴ層１０２および給電電極１０３が配設されていることにより生じる表面段差を平坦に調整するために設けられており、絶縁性に優れる有機材料で構成されている。
コンタクトホール（コンタクト部）１０５は、給電電極１０３と画素電極１０６とを電気的に接続するために設けられ、層間絶縁膜１０４の表面から裏面にわたって形成されている。コンタクトホール１０５は、列方向に配列されている開口部１１７（図４参照）の間に位置するように形成されており、隔壁層１０７により覆われた構成となっている。コンタクトホール１０５が隔壁層１０７により覆われていない場合には、コンタクトホール１０５の存在により、有機発光層１１１が平坦な層とはならず、発光ムラ等の原因となる。これを避けるため、上記のような構成としている。
【００６２】
画素電極１０６は陽極であり、開口部１１７に形成される一の有機発光層１１１毎に形成されている。表示パネル１００はトップエミッション型であるため、画素電極１０６の材料としては光反射性材料が選択されている。光反射性材料としては、例えば、アルミニウム（Ａｌ）を主成分とする金属から構成された金属膜とニッケル（Ｎｉ）膜との積層膜である。
【００６３】
正孔注入層１０９は、画素電極１０６から有機発光層１１１への正孔の注入を促進させる目的で設けられている。
隔壁層１０７は、有機発光層１１１を形成する際、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各色に対応する有機発光層材料と溶媒を含むインク（インク）が互いに混入することを防止する機能を果たす。
【００６４】
コンタクトホール１０５の上方を覆うように設けられている隔壁層１０７は、全体的にはＸＺ平面またはＹＺ平面に沿った断面が台形の断面形状を有しているが、コンタクトホール１０５に対応する位置では、隔壁層材料が収縮して落ち込んだ形状となっている。
正孔輸送層１１０は、画素電極１０６から注入された正孔を有機発光層１１１へ輸送する機能を有する。
【００６５】
有機発光層１１１は、キャリア（ホールと電子）の再結合による発光を行う部位であり、Ｒ、Ｇ、Ｂのいずれかの色に対応する有機材料を含むように構成され、開口部１１７内に形成されている。また、有機ＥＬ素子を用いた表示パネルでは、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色に対応する有機ＥＬ素子をそれぞれサブピクセルとし、Ｒ、Ｇ、Ｂの３つのサブピクセルの組み合わせが１ピクセル（１画素）に相当する。
【００６６】
なお、各開口部１１７に形成される有機発光層１１１を、すべて同色の有機発光層とすることもできる。
電子輸送層１１２は、対向電極１１４から注入された電子を有機発光層１１１へ輸送する機能を有する。
電子注入層１１３は、対向電極１１４から有機発光層１１１への電子の注入を促進させる機能を有する。
【００６７】
対向電極１１４は陰極である。表示パネル１００はトップエミッション型であるため、対向電極１１４の材料としては光透過性材料が選択されている。
対向電極１１４の上には、有機発光層１１１が水分や空気等に触れて劣化することを抑制する目的で封止層が設けられている。表示パネル１００はトップエミッション型であるため、封止層の材料としては、例えばＳｉＮ（窒化シリコン）、ＳｉＯＮ（酸窒化シリコン）等の光透過性材料を選択する。
【００６８】
なお、図１３には図示しないが、封止層１１８の上にカラーフィルターや上部基板を載置し、接合してもよい。上部基板の載置・接合により、水分および空気などから、有機層（正孔輸送層１１０、有機発光層１１１、電子輸送層１１２）の保護が図られる。
（２）各層の材料
次に、上記で説明した各層の材料を例示する。言うまでもなく、以下に記載した材料以外の材料を用いて各層を形成することも可能である。
【００６９】
基板１０１：無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラス、石英、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂、アルミナ等の絶縁性材料
層間絶縁膜１０４：ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂
画素電極１０６：Ａｇ（銀）、Ａｌ（アルミニウム）、銀とパラジウムと銅との合金、銀とルビジウムと金との合金、アルミニウム合金、Ｍｏ（モリブデン）、ＭｏＣｒ（モリブデンとクロムの合金）、ＭｏＷ（モリブデンとタングステンの合金）、ＮｉＣｒ（ニッケルとクロムの合金）
なお、画素電極１０６の表面には公知の透明導電膜を設けてもよい。透明導電膜の材料としては、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）を用いることができる。
【００７０】
隔壁層１０７：アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂
有機発光層１１１：オキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、８−ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、２−ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩とＩＩＩ族金属との錯体、オキシン金属錯体、希土類錯体等の蛍光物質（いずれも特開平５−１６３４８８号公報に記載）
正孔注入層１０９：トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、ブタジエン化合物、ポリスチレン誘導体、ヒドラゾン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、テトラフェニルベンジン誘導体（いずれも特開平５−１６３４８８号公報に記載）、ＭｏＯｘ（酸化モリブデン）、ＷＯｘ（酸化タングステン）又はＭｏｘＷｙＯｚ（モリブデン−タングステン酸化物）等の金属酸化物、金属窒化物又は金属酸窒化物
正孔輸送層１１０：トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、ブタジエン化合物、ポリスチレン誘導体、ヒドラゾン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、テトラフェニルベンジン誘導体（いずれも特開平５−１６３４８８号公報に記載）
電子輸送層１１２： ニトロ置換フルオレノン誘導体、チオピランジオキサイド誘導体、ジフェキノン誘導体、ペリレンテトラカルボキシル誘導体、アントラキノジメタン誘導体、フレオレニリデンメタン誘導体、アントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ペリノン誘導体、キノリン錯体誘導体（いずれも特開平５−１６３４８８号公報に記載）、リンオキサイド誘導体、トリアゾール誘導体、トジアジン誘導体、シロール誘導体、ジメシチルボロン誘導体、トリアリールボロン誘導体
電子注入層１１３：リチウム、バリウム、カルシウム、カリウム、セシウム、ナトリウム、ルビジウム等の低仕事関数金属、及びフッ化リチウム等の低仕事関数金属塩、酸化バリウム等の低仕事関数金属酸化物
対向電極１１４：ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）
以上、表示パネル１００の構成等について説明した。次に、表示パネル１００の製造方法を例示する。
【００７１】
６．３  表示パネルの製造方法
ここで、実施形態に係る表示パネル１００の製造方法について図１４（ａ）〜（ｅ）および図１５（ａ）〜（ｄ）を用いて説明する。なお、図１４（ａ）〜（ｅ）、図１５（ａ）〜（ｄ）は、表示パネル１００の製造過程を模式的に示す一部拡大断面図である。
まず、ＴＦＴ層１０２及び給電電極１０３が形成された基板１０１を準備する（図１４（ａ））。
【００７２】
その後、フォトレジスト法に基づき、ＴＦＴ層１０２及び給電電極１０３の上に絶縁性に優れる有機材料を用いて、厚み約４［μｍ］の層間絶縁膜１０４を形成する。このとき、コンタクトホール１０５を列方向に隣接する各開口部１１７の間の位置に合わせて形成する（図１４（ｂ））。このとき、所望のパターンマスクを用いたフォトレジスト法を行うことで、層間絶縁膜１０４とコンタクトホール１０５を同時に形成することができる。なお、当然ながらコンタクトホール１０５の形成方法はこれに限定されない。例えば、一様に層間絶縁膜１０４を形成した後、所定の位置の層間絶縁膜１０４を除去して、コンタクトホール１０５を形成することもできる。
【００７３】
続いて、真空蒸着法またはスパッタ法に基づき、厚み１５０［ｎｍ］程度の金属材料からなる画素電極１０６を、給電電極１０３と電気接続させながら、サブピクセル毎に形成する。つづいて、反応性スパッタ法に基づき、正孔注入層１０９を形成する（図１４（ｃ））。
次に、隔壁層１０７をフォトリソグラフィー法に基づいて形成する。まず隔壁層材料として、感光性レジストを含むペースト状の隔壁層材料を用意する。この隔壁層材料を正孔注入層１０９上に一様に塗布する。この上に、開口部１１７のパターンに形成されたマスクを重ねる。続いてマスクの上から感光させ、隔壁層パターンを形成する。その後は、余分な隔壁層材料を水系もしくは非水系エッチング液（現像液）で洗い出す。これにより、隔壁層材料のパターニングが完了する。以上で有機発光層形成領域となる開口部１１７が規定されるとともに、表面が少なくとも撥水性の隔壁層１０７が完成する（図１４（ｄ））。
【００７４】
なお、隔壁層１０７の形成工程においては、さらに、開口部１１７に塗布するインクに対する隔壁層１０７の接触角を調節する、もしくは、表面に撥水性を付与するために隔壁層１０７の表面を所定のアルカリ性溶液や水、有機溶媒等によって表面処理するか、プラズマ処理を施すこととしてもよい。
次に、正孔輸送層１１０を構成する有機材料と溶媒を所定比率で混合し、正孔輸送層用インクを調製する。このインクを各インクジェットヘッド３０１に供給し、塗布工程に基づき、各開口部１１７に対応するノズル３０３０から、正孔輸送層用インクよりなる液滴１８を吐出する（図１４（ｅ））。その後、インクに含まれる溶媒を蒸発乾燥させ、必要に応じて加熱焼成すると正孔輸送層１１０が形成される（図１５（ａ））。
【００７５】
次に、有機発光層１１１を構成する有機材料と溶媒を所定比率で混合し、有機発光層用インクを調製する。このインクをインクジェットヘッド３０１に供給し、塗布工程に基づき、開口部１１７に対応するノズル３０３０から、有機発光層用インクよりなる液滴１９を吐出する（図１５（ｂ））。その後、インクに含まれる溶媒を蒸発乾燥させ、必要に応じて加熱焼成すると有機発光層１１１が形成される（図１５（ｃ））。
【００７６】
次に、インクジェット法を用いて、有機発光層１１１のインクを開口部１１７内に塗布する方法の詳細について説明する。図１６は、基板に対して発光層形成用のインクを塗布する工程を示す図であって、隣接する隔壁１０７間の堀状の開口部１１７に一様に発光層形成用のインクを塗布する工程を示す模式平面図である。有機発光層１１１の形成時には、有機発光層１１１を形成するための溶液であるインクを用いて、赤色サブピクセル用の開口部１１７Ｒ内に赤色用の有機発光層１１１、緑色サブピクセル用の開口部１１７Ｇ内に緑色用の有機発光層１１１、及び青色サブピクセル用の開口部１１７Ｂ内に青色用の有機発光層１１１を、複数のラインバンク間の各領域に形成する。
【００７７】
説明を簡略にするため、ここでは、ノズルから吐出するインクの量を第１の条件に設定して基板上の複数の第１色目の間隙にインクを塗布し、次に、ノズルから吐出するインクの量を第２の条件に設定してその基板上の複数の第２色目の間隙にインクを塗布し、次にノズルから吐出するインクの量を第３の条件に設定してその基板上の複数の第３色目の間隙にインクを塗布する方法で、３色全部の間隙にインクを順次塗布する。基板１０１に対して第１色目の間隙へのインクの塗布が終わると、次に、その基板の第２色目の間隙にインクを塗布し、さらに、その基板の第３色目の間隙にインクを塗布する工程が繰り返し行われ、３色の間隙用のインクを順次塗布する。
【００７８】
上記において、複数の基板に対して第１色目の間隙へのインクの塗布が終わると、次に、その複数の基板に第２色目の間隙にインクを塗布し、次にその複数の基板の第３色目の間隙にインクを塗布する工程を繰り返し行って、３色の間隙用のインクを順次塗布してもよい。
他方、ノズルから吐出するインクの量を第１の条件に設定して１枚の基板上の第１色目の間隙にインクを塗布した後、インクの量を第２の条件に変更して隣接する第２色目の間隙にインクを塗布し、さらに、インクの量を第３の条件に変更して隣接する第３色目の間隙にインクを塗布し、インクの量を第１の条件に戻して隣接する第１色目の間隙にインクを塗布し、この動作を繰り返して１枚の基板上の３色の間隙全部にインクを連続して塗布してもよい。
【００７９】
（隔壁層１０７間の開口部１１７に一様に塗布する方法）
次に、１色の間隙中にインク（例えば、赤色間隙用のインク）を塗布する方法について説明する。
有機発光層１１１は、発光領域だけでなく、隣接する非自己発光領域まで連続して延伸されている。このようにすると、有機発光層１１１の形成時に、発光領域に塗布されたインクが、非自己発光領域に塗布されたインクを通じて列方向に流動でき、後述する本実施の形態に係るインク乾燥工程を実施することにより列方向の画素間でその有機発光層１１１の膜厚を平準化することができる。但し、非自己発光領域では、Ｘ方向に延伸した低い隔壁によって、インクの流動が程良く抑制される。よって、列方向に大きな膜厚むらが発生しにくく画素毎の輝度むらや寿命低下が改善される。
【００８０】
本塗布方法では、図１６に示すように、基板１０１は、隔壁層１０７がＹ方向に沿った状態で液滴吐出装置の動作テーブル上に載置され、Ｙ方向に沿って複数のノズル孔３０３１がライン状に配置されたインクジェットヘッド３０１をＸ方向に走査しながら、各ノズル孔３０３１から隔壁層１０７同士の開口部１１７内に設定された着弾目標を狙ってインクを着弾させることによって行う。
【００８１】
なお、同一の塗布量にて有機発光層１１１のインクを塗布する領域は、ｘ方向に隣接して並ぶ３つの領域の中の１つである。
有機発光層１１１の形成方法はこれに限定されず、インクジェット法やグラビア印刷法以外の方法、例えばディスペンサー法、ノズルコート法、スピンコート法、凹版印刷、凸版印刷等の公知の方法によりインクを滴下・塗布しても良い。
【００８２】
次に、有機発光層１１１の表面に、電子輸送層１１２を構成する材料を真空蒸着法に基づいて成膜する。これにより、電子輸送層１１２が形成される。つづいて、電子注入層１１３を構成する材料を蒸着法、スピンコート法、キャスト法などの方法により成膜し、電子注入層１１３が形成される。そして、ＩＴＯ、ＩＺＯ等の材料を用い、真空蒸着法、スパッタ法等で成膜する。これにより対向電極１１４が形成される（図１５（ｄ））。
【００８３】
なお、図示しないが、対向電極１１４の表面には、ＳｉＮ、ＳｉＯＮ等の光透過性材料をスパッタ法、ＣＶＤ法等で成膜することで、封止層を形成する。
以上の工程を経ることにより表示パネル１００が完成する。そして、図１４（ｅ）及び図１５（ｂ）に示すインクジェットヘッド３０１のノズル３０３０からインク液滴を吐出する工程の前後に、図４（ａ）〜（ｃ）に示す付着インクの拭き取り除去動作を行う。
【００８４】
７．まとめ
以上、説明したように、本実施形態のインクジェット装置１０００は、複数のノズル孔３０３１が列状に開設された金属を主成分とする板状体からなり、板状体の一方の表面をインク吐出面３０１ａとするとき、板状体のインク吐出面３０１ａにおけるノズル孔周囲部分３０１ｇの表面は、当該ノズル孔周囲部分３０１ｇ以外の表面３０１ｋに対し突出しているノズルプレート３０１ｉと、ノズルプレート３０１ｉの裏面３０１ｍに対向して配された振動板３０１ｂと、ノズルプレート３０１ｉと振動板３０１ｂとの間隙をノズル孔３０３１毎に区切り、ノズル孔３０３１各々に対応するキャビティ３０１ｅを形成する複数の隔壁３０１ｄと、各キャビティ３０１ｅに設けられ各キャビティ３０１ｅ内の圧力を個別に可変する駆動素子３０１０とを備えたインクジェットヘッド３０１を有する構成を採る。
【００８５】
係る構成により、インクジェットヘッドのインク吐出面をゴムブレード等のワイパでノズル孔列に沿って擦る場合に、インクジェットヘッドのインク吐出面に不要なインクが付着させることなく、インク吐出面に付着した不要なインクを除去することができる。具体的には、クリーニング動作において、インクジェットヘッドのインク吐出面をゴムブレード等のワイパでノズル孔列に沿って擦る場合に、上流側のノズル孔３０３１ａがあるノズル面３０１ｆに付着していた不要なインク飛沫４１はブレード４１０で擦り採られ表面張力によりノズル面３０１ｆ以外の表面に移動する。インクジェットヘッド３０１では、インク吐出面３０１ａにおけるノズル孔周囲部分３０１ｇの表面は、当該ノズル孔周囲部分３０１ｇ以外の表面３０１ｋに対し突出しているノズルプレート３０１ｉを用いているので、ノズル面３０１ｆ以外の表面に移動したインク飛沫４１はブレード４１０の端縁４１１から離間し、インク飛沫４１が下流側のノズル孔３０３１ｂ付近のノズル面３０１ｆに移動するという問題は改善される。その結果、インクの不正吐出が発生する原因となるノズル面３０１ｆに付着したインク飛沫４１を確実に除去することができる。
【００８６】
さらに、ゴムからなるワイパーブレード４１０と、ワイパーブレード４１０の先端４１１とインク吐出面３０１ａとが接触した状態で、ワイパーブレード４１０がインク吐出面３０１ａに平行な方向に相対的に移動するように、ワイパーブレード４１０及びインクジェットヘッド３０１の少なくとも一方を移動させる移動部２３０とを有する構成を採る。
係る構成により、インクジェットヘッドのインク吐出面に不要なインクが付着させることなく、インク吐出面に付着した不要なインクを除去するインクジェット装置１０００を実現できる。インクジェット装置１０００では、不吐出ノズルの発生を防止して、有機機能層の塗布が正常に行われた有機ＥＬ素子を提供することができる。また、そのような有機ＥＬ素子を備え、抜けや色の濃さが著しく異なる部分の無い、良好な画質を備えた有機ＥＬ表示パネルおよび、そのような有機ＥＬ表示パネルを備えた有機ＥＬ表示装置を提供することができる。
【００８７】
また、ノズルプレート３０１ｉにおいて、板状体のインク吐出面３０１ａにおけるノズル孔３０３１がある面をノズル面３０１ｆとするとき、板状体のインク吐出面３０１ａにおけるノズル孔周囲部分３０１ｇ表面の突出量δｈは、ノズル面３０１ｆにおいて最大であり、ノズル面３０１ｆの周縁に近付くにしたがい連続的に増加している構成としてもよい。
【００８８】
さらに、ノズルプレート３０１ｉにおいて、板状体のインク吐出面３０１ａにおけるノズル孔周囲部分３０１ｇ表面の当該部分以外の表面３０１ｋに対する傾斜角は、ノズル面３０１ｆの周縁外方からノズル面３０１ｆの周縁に近付くにしたがい連続的に増加している構成としてもよい。
係る構成により、クリーニング動作において、インクジェットヘッドのインク吐出面をゴムブレード等のワイパでノズル孔列に沿って擦る場合に、インクジェットヘッドのノズル孔付近のインク吐出面に付着した不要なインク飛沫をノズル孔付近のインク吐出面から容易に除去することができる。具体的には、上流側のノズル孔３０３１ａがあるノズル面３０１ｆに付着していた不要なインク飛沫４１はブレード４１０で擦り採られ表面張力により傾斜面３０１ｈ上に移動する。この際に、インク飛沫４１のノズル面３０１ｆから傾斜面３０１ｈ上への移動が容易になるとともに、移動したインク飛沫４１が、さらに、傾斜面３０１ｈ上を傾斜面３０１ｈの麓に向かって移動しやすくなる。その結果、傾斜面３０１ｈの麓に移動したインク飛沫４１はブレード４１０の端縁４１１から確実にて離間し、インク飛沫４１が下流側のノズル孔３０３１ｂ付近のノズル面３０１ｆに移動するという問題はより一層改善される。
【００８９】
あるいは、ノズルプレート３０１ｉにおいて、板状体のインク吐出面３０１ａと背向する裏面３０１ｍの平面視におけるノズル孔周囲部分３０１ｇに含まれる表面部分は、当該部分以外の表面３０１ｌに対し陥没しており、陥没量は、ノズル孔３０３１に近付くにしたがい連続的に増加している構成としてもよい。
また、板状体の裏面３０１ｍの平面視におけるノズル孔周囲部分３０１ｇに含まれる表面部分３０１ｊの当該部分以外の表面部分３０１ｌに対する傾斜角は、ノズル孔３０３１に近付くにしたがい連続的に増加している構成としてもよい。
【００９０】
係る構成により、インクを吐出するときに、インクと裏面３０１ｍとの抵抗を低減して、インクの吐出効率を高めるとともに着弾精度を向上することができる。
また、金属は、ニッケル、クロム、鉄、アルミニウム、銀、金、コバルト、銅、パラジウム、スズ、亜鉛などの金属又はそれらの合金から選択される１以上である構成としてもよい。
【００９１】
係る構成により、インク吐出面に不要なインクが付着させることなく、インク吐出面に付着した不要なインクを容易に除去できる構成を各種金属を用いて実現できる。
また、本実施形態のノズルプレート３０１ｉの製造方法は、導電性材料からなり上面が平板状の母型を準備する工程と、母型８００の上面に絶縁性のフォトレジストを塗布する工程と、フォトレジストをマスクを介して露光した後現像して、ノズル孔３０３１を形成する領域より所定寸法だけ大きく当該領域を含むフォトレジスト層８１０を形成する工程と、母型８００の上面８００ａのフォトレジスト層８１０の不存在領域８１０ａにストライク金属めっきを付着させてフォトレジスト層８１０に対応する第１部分８２０ａが開口した密着層８２０を形成する工程と、母型８００に電圧を印加して密着層８２０上及び第１部分８２０ａの周縁近傍のフォトレジスト層８１０上に電界ニッケルめっきを積層して、第１部分８２０ａより小さい第２部分８３０ｂが開口した型層８３０を形成する工程と、加熱処理を施し型層８３０表面に金属の酸化物層８３１を形成する工程と、母型８００に電圧を印加して酸化物層上８３１及び第２部分８３０ｂの周縁近傍のフォトレジスト層８１０上に電界ニッケルめっきを積層して、フォトレジスト層８１０上の電界ニッケルめっきが形成されない第２部分８３０ｂより小さい第３部分３０１ｉＸｂをノズル孔３０３１としたノズルプレート３０１ｉを形成する工程と、ノズルプレート３０１ｉを酸化物層８３１との界面において酸化物層８３１以下の層から剥離してノズルプレート３０１ｉを取り出す工程とを有する構成としてもよい。
【００９２】
係る構成により、インク吐出面に不要なインクが付着させることなく、インク吐出面に付着した不要なインクを容易に除去できる構成を実現できるインクジェットヘッド３０１に用いるノズルプレート３０１ｉを製造することができる。具体的には、上記製造方法では、母型８００に電圧を印加して酸化物層８３１上及び第２部分８３０ｂの周縁８３０ｃ近傍のフォトレジスト層８１０上に電界金属めっきを積層する。これより、電界金属めっきからなるノズルプレート層３０１ｉＸは、絶縁性のフォトレジスト層８１０の不存在領域８１０ａ内の密着層８２０の表面から、フォトレジスト層８１０中心を通る任意の断面内において電界の強さに応じ等方的に堆積する。したがって、フォトレジスト層８１０の周縁８１０ｂよりも内方においては、フォトレジスト層８１０中心を通る任意の断面内において周縁８１０ｂを円弧の中心とする中空扇型形状の侵入部３０１ｉＸａが形成される。その結果、フォトレジスト層８１０上にあって電界金属めっきが形成されなかった第３部分３０１ｉＸｂに対応する範囲にノズル孔３０３１が形成されているとともに、型層８３０の厚みに起因して、インク吐出面３０１ａにおけるノズル孔周囲部分３０１ｇの表面（ノズル面３０１ｆ及び傾斜面３０１ｈ）は、当該ノズル孔周囲部分以外の表面３０１ｋに対し突出しているノズルプレート３０１ｉが形成される。
【００９３】
≪変形例１≫
実施の形態に係るインクジェット装置１０００、インクジェットヘッド３０１、ノズルプレート３０１ｉを説明したが、本開示は、その本質的な特徴的構成要素を除き、以上の実施の形態に何ら限定を受けるものではない。例えば、実施の形態に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態や、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で各実施の形態における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本開示に含まれる。以下では、そのような形態の一例として、変形例を説明する。
【００９４】
（１）  構成
変形例１に係るインクジェットヘッド３０１Ａではノズルプレート３０１ｉＡにおいて、インク吐出面３０１ａＡ表面から所定深さの範囲にポリテトラフルオロエチレン (Polytetrafluoroethylene：ＰＴＦＥ)を含む板状体から構成されている点で、実施の形態に係るインクジェットヘッド３０１と相違し、他の構成についてはインクジェットヘッド３０１と同じであるため説明を省略する。
【００９５】
図１７は、変形例１に係るインクジェットヘッド３０１Ａにおけるノズルの概略構成を示す一部拡大断面図である。インクジェットヘッド３０１Ａではノズルプレート３０１ｉＡは、ノズルプレート３０１ｉ同様、複数のノズル孔３０３１が列状に開設さている金属の板状体からなり、例えば、ニッケル、クロム、鉄、アルミニウム、銀、金、コバルト、銅、パラジウム、スズ、亜鉛などの金属からなり、電鋳処理により作成される。本例では、ニッケルを用いる構成とした。さらに、ノズルプレート３０１ｉＡは、インク吐出面３０１ａＡ表面から所定深さの範囲にポリテトラフルオロエチレンを含む。すなわち、図１７に示すように、ノズルプレート下地層３０１ｉＡ２上のポリテトラフルオロエチレン含有層３０１ｉＡ１を備えた構成を有する。
【００９６】
（２）  製造方法
インクジェットヘッド３０１Ａの製造方法について説明する。図１８（ａ）から（ｃ）は、インクジェットヘッド３０１Ａの製造における各工程での状態を示す図１７と同じ位置で切断した模式断面図である。図１８（ａ）より前段の製造工程については、図５（ａ）から（ｃ）、及び図６（ａ）から（ｃ）に示したインクジェットヘッド３０１の各工程における製造方法と同じである。
【００９７】
図６（ｃ）に示したインクジェットヘッド３０１と同様に、上層に対する剥離性を向上するために、成膜した型層８３０に対して焼成工程を実施して表面を酸化し酸化物層８３１を形成した後、母型８００を負極としてニッケル・ポリテトラフルオロエチレン共析電界ニッケルめっき処理を行う（図７（ａ））。ここでも、インクジェットヘッド３０１と同様に、ニッケル・ポリテトラフルオロエチレン共析電界ニッケルめっきからなるポリテトラフルオロエチレン含有層３０１ｉＡ１は、絶縁性のフォトレジスト層８１０の不存在領域８１０ａ内において酸化物層８３１上に不存在領域８１０ａから等方的に積層される。
【００９８】
次に、母型８００を負極として電界ニッケルめっき処理を行う（図７（ａ））。ここでも、電界ニッケルめっきからなるノズルプレート下地層３０１ｉＡ２は、絶縁性のフォトレジスト層８１０の不存在領域８１０ａ内においてポリテトラフルオロエチレン含有層３０１ｉＡ１に不存在領域８１０ａから等方的に積層される。すなわち、ポリテトラフルオロエチレン含有層３０１ｉＡ１及びノズルプレート下地層３０１ｉＡ２は、それぞれ、不存在領域８１０ａ内の導電性を有するストライクニッケルめっきからなる密着層８２０の表面から、フォトレジスト層８１０中心を通る任意の断面内において電界の強さに応じ等方的に堆積する。したがって、ポリテトラフルオロエチレン含有層３０１ｉＡ１及びノズルプレート下地層３０１ｉＡ２には、フォトレジスト層８１０の周縁８１０ｂよりも内方において、フォトレジスト層８１０中心を通る任意の断面内において周縁８１０ｂを円弧の中心とする中空扇型形状の侵入部３０１ｉＡａが形成される。
【００９９】
次に、成膜したポリテトラフルオロエチレン含有層３０１ｉＡ１及びノズルプレート下地層３０１ｉＡ２を酸化物層８３１との界面において酸化物層８３１以下の層から剥離して取り出し、ノズルプレート３０１ｉＡを完成する（図１８（ｃ））。
完成したノズルプレート３０１ｉＡでは、図１８（ｃ）に示すように、インクジェットヘッド３０１と同様に、フォトレジスト層８１０上にあって電界ニッケルめっきが形成されなかった第３部分３０１ｉＸｂに対応する範囲にノズル孔３０３１が形成されているとともに、型層８３０の厚みに起因して、インク吐出面３０１ａにおけるノズル孔周囲部分３０１ｇ（ノズル面３０１ｆ及び傾斜面３０１ｈ）は、当該ノズル孔周囲部分以外の表面３０１ｋに対し突出している。また、板状体のインク吐出面３０１ａにおけるノズル孔３０３１がある面をノズル面３０１ｆとするとき、ノズルプレート３０１ｉのインク吐出面３０１ａにおけるノズル孔周囲部分３０１ｇ表面の突出量δｈは、ノズル面３０１ｆで最大であり、型層８３０の上縁の形状に沿うように、ノズル面３０１ｆに近付くにしたがい連続的に増加している。
【０１００】
以上説明したように、変形例１に係るノズルプレート３０１ｉＡは、インク吐出面３０１ａ表面から所定深さの範囲３０１ｉＡ１にポリテトラフルオロエチレンを含む構成を採る。
係る構成により、ノズルプレート３０１ｉＡのインク吐出面３０１ａＡとインクに対する撥液性を向上することができる。その結果、インクジェットヘッド３０１Ａでは、フリーニング動作において、図１０（ａ）から（ｃ）に示す場合と同様、上流側のノズル孔３０３１ａがあるノズル面３０１ｆに付着していた不要なインク飛沫４１はブレード４１０で擦り採られ表面張力により傾斜面３０１ｈ上に移動する際に、インク飛沫４１がポリテトラフルオロエチレン含有層３０１ｉＡ１を移動しやすくなり、インク飛沫４１の傾斜面３０１ｈ上への移動が容易になる。さらに、移動したインク飛沫４１が、傾斜面３０１ｈ上を傾斜面３０１ｈの麓に向かって移動しやすくなる。その結果、傾斜面３０１ｈの麓に移動したインク飛沫４１はブレード４１０の端縁４１１から確実に離間し、インク飛沫４１が下流側のノズル孔３０３１ｂ付近のノズル面３０１ｆに移動し、インク不正吐出発生の要因となることを防止できる。
【０１０１】
また、製造工程において、金属及びポリテトラフルオロエチレンの共析電界めっきを積層する工程を含むことにより、ノズルプレート３０１ｉＡを製造することができる。
≪その他の変形例≫
以上、本開示の具体的な構成について、実施形態を例に説明したが、本開示は実施形態の構成に限られない。さらに、例えば、以下のような変形例が考えられる。
【０１０２】
（１）上記実施の形態では、ノズルプレート３０１ｉを構成する金属には、ニッケルを用いる構成とした。しかしながら、ノズルプレート３０１ｉを構成する金属は、電鋳処理により皮膜を形成できるものであればよく、例えば、ニッケル、クロム、鉄、アルミニウム、銀、金、コバルト、銅、パラジウム、スズ、亜鉛などの金属又はそれらの合金を用いる構成としてもよい。
【０１０３】
（２）上記実施の形態では、ノズルプレート３０１ｉには、複数のノズル孔３０３１からなる列が一列に開設さている構成とした。しかしながら、ノズルプレート３０１ｉは、列状に開設された複数のノズル孔３０３１列を有する構成であればよく、例えば、複数のノズル孔３０３１からなる列が二列等、複数列開設さている構成、複数列のそれぞれに含まれるノズル孔３０３１の位相が互いにずれた、いわゆる千鳥配列を採る構成であってもよい。
【０１０４】
（３）上記実施の形態に係るインクジェットヘッド３０１では、各ノズル３０３０における液滴の吐出動作は、各ノズル３０３０が備える駆動素子（圧電素子）３０１０に与えられる駆動電圧によって制御される構成とした。しかしながら、駆動素子３０１０は、圧電素子には限られないことは言うまでもなく、例えば、発熱素子等、キャビティ３０１ｅ内のインク圧力を可変することができる他の素子を用いることができる。
【０１０５】
（４）上記実施の形態に係るインクジェットヘッド３０１は、ノズルプレート３０１ｉと、ノズルプレート３０１ｉの裏面３０１ｍに対向して配された振動板３０１ｂと、ノズルプレート３０１ｉと振動板３０１ｂとの間隙をノズル孔３０３１毎に区切り、ノズル孔３０３１各々に対応するキャビティ３０１ｅを形成する複数の隔壁３０１ｄと、各キャビティ３０１ｅに設けられ各キャビティ３０１ｅ内の圧力を個別に可変する駆動素子３０１０とを備えた構成とした。しかしながら、ノズルプレート３０１ｉと振動板３０１ｂとが対向して配されている構成に限定されず、ノズルプレート３０１ｉと振動板３０１ｂとの位置関係は適宜変更してもよい。例えば、ノズルプレート３０１ｉと振動板３０１ｂのそれぞれの平面が垂直に交わる配置としてもよい。
【０１０６】
（５）上記実施形態においては、ブレード４１０は移動せずに、インクジェットヘッド３０１が移動する場合について説明したが、これに限られない。インク吐出面３０１ａの付着インク拭き取りの際に、インクジェットヘッド３０１を移動させずに、ブレード４１０を移動させてもよい。その場合、移動部は、ブレード４１０又はクリーニング部４００全体をインクジェットヘッド３０１に対して移動させる。或いは、インクジェットヘッド３０１とブレード４１０の両方を移動させてもよい。即ち、インク吐出面３０１ａとブレード４１０とが接触した状態でインク吐出面３０１ａに対してブレード４１０が相対的に移動する構成であれば、何れを移動させてもよい。
【０１０７】
（６）図１３には図示していないが、対向電極１１４の上方に、各有機発光層１１１の位置に合わせて、各々の色に対応するカラーフィルターが配設されていてもよい。カラーフィルターは、Ｒ、Ｇ、Ｂに対応する波長の可視光を透過させるために設けられる透明層である。
カラーフィルターは、具体的には、複数の開口部をピクセル単位に行列状に形成した隔壁層が設けられたカラーフィルター形成用の基板に対し、カラーフィルター材料および溶媒を含有したインクを塗布する工程により形成される。本開示は、このカラーフィルターを形成する際の塗布工程にも適用することが可能である。
【０１０８】
なお、カラーフィルター材料としては、例えば、ＪＳＲ株式会社製のカラーレジスト等を用いることができる。
（７）図１３において、基板１０１上にＴＦＴ層１０２〜対向電極１１４の各層が積層形成されてなる構成を示した。本開示においては、各層のうちの何れかの層を欠いている、もしくは、例えば透明導電層などの他の層をさらに含む構成とすることもできる。
【０１０９】
（８）上記実施形態において、リニアモータ２０５、２０６、サーボモータ２２１はそれぞれガントリー部２１０、移動体２２０の移動手段の例示にすぎず、これらの利用は必須ではない。例えば、タイミングベルト機構やボールネジ機構を利用することにより、ガントリー部または移動体の少なくともいずれかを移動させることしてもよい。
（９）上記の実施形態においては、塗布対象基板に対してヘッド部側を走査させる方法を示したが、本開示はこれに限定されない。ノズルが複数配列されたヘッド部に対して塗布対象基板側を移動させてもよい。
【０１１０】
（１０）実施形態においては、ブレード４１０の軸方向がインクジェットヘッド３０１の短手方向と一致する向きでブレード４１０とインク吐出面３０１ａとを接触させ、インクジェットヘッド３０１の長手方向にブレード４１０を相対的に移動させたが、これに限られない。例えば、インクジェットヘッドの長手方向とブレード４１０の軸とが一致する向きでブレード４１０とインク吐出面３０１ａとを接触させ、インクジェットヘッド３０１の短手方向にブレード４１０を相対的に移動させてもよい。さらには、インクジェットヘッド３０１の長手方向に対して斜めにブレード４１０を相対的に移動させてもよい。
【０１１１】
≪補足≫
以上で説明した実施の形態は、いずれも本発明の好ましい一具体例を示すものである。実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態、工程、工程の順序などは一例であり、本発明を限定する主旨ではない。また、実施の形態における構成要素のうち、本発明の最上位概念を示す独立請求項に記載されていない工程については、より好ましい形態を構成する任意の構成要素として説明される。
【０１１２】
また、上記の工程が実行される順序は、本発明を具体的に説明するために例示するためのものであり、上記以外の順序であってもよい。また、上記工程の一部が、他の工程と同時（並列）に実行されてもよい。
また、発明の理解の容易のため、上記各実施の形態で挙げた各図の構成要素の縮尺は実際のものと異なる場合がある。また本発明は上記各実施の形態の記載によって限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。
【０１１３】
また、各実施の形態及びその変形例の機能のうち少なくとも一部を組み合わせてもよい。
さらに、本実施の形態に対して当業者が思いつく範囲内の変更を施した各種変形例も本発明に含まれる。
【産業上の利用可能性】
【０１１４】
本開示のインクジェット装置等は、情報記録用、又は産業用印刷に用いられるインクジェット方式の画像形成装置に好適に利用可能である。また、電子デバイス、例えば、家庭用もしくは公共施設、あるいは業務用の各種表示装置、テレビジョン装置、携帯型電子機器用ディスプレイ等として用いられる有機ＥＬ表示パネルの製造等に好適に利用可能である。
【符号の説明】
【０１１５】
１        表示装置
１００    有機ＥＬ表示パネル
２３０    移動部
３０１    インクジェットヘッド
３０１ａ  インク吐出面（主面）
３０１ｂ  振動板
３０１ａ  吐出面
３０１ｄ  隔壁
３０１ｅ  キャビティ
３０１ｆ  ノズル面
３０１ｇノズル孔周囲部分
３０１ｈ  傾斜面
３０１ｉ  ノズルプレート
３０１ｊ  裏面の表面
３０１ｋ  ノズル孔周囲部分以外の表面
３０１ｍ  裏面
４００    クリーニング部
４１０    ワイパーブレード
８００  母型
８１０  フォトレジスト層
８１０ａ  フォトレジスト層の不存在領域
８１０ｂ  フォトレジスト層８１０の周縁
８２０  密着層
８２０ａ  第１部分
８３０  型層
８３０ａ  侵入部
８３０ｂ  第２部分
８３０ｃ  第２部分８３０ｃの周縁
８３１  酸化物層
３０１ｉＸ  ノズルプレート層
３０１ｉＸａ  侵入部
３０１ｉＸｂ  第３部分
１０００  インクジェット装置
３０３０  ノズル
３０３１  ノズル孔
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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