(57)【要約】【課題】研磨の効率を高めることの容易な研磨パッドを提供する。【解決手段】研磨パッド１１は、基材層１２と基材層１２の主面に積層された研磨層１３とを有する。研磨層１３は、基材層１２の主面に平行な先端面を有する突出部１５が所定のパターンで配置されてなり、突出部１５として、先端側に向かって特定方向の幅が徐々に短くなる先細り形状の第１突出部１６と、先端面における特定方向の幅が第１突出部１６よりも長い第２突出部１７とを備える。【選択図】図４
2019098480.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材層と前記基材層の主面に積層された研磨層とを有し、被研磨物との相対回転により前記被研磨物を研磨する研磨パッドであって、
前記研磨層は、前記基材層の主面に平行な先端面を有する突出部が所定のパターンで配置されてなり、
前記突出部として、
先端側に向かって特定方向の幅が徐々に短くなる先細り形状の第１突出部と、
先端面における前記特定方向の幅が前記第１突出部よりも長い第２突出部とを備えることを特徴とする研磨パッド。
【請求項２】
前記第１突出部は、前記特定方向の一方側が回転方向前方側に位置するように配置され、回転方向前方側に、前記基材層の主面に対する角度が鋭角となる傾斜面を有するとともに、前記傾斜面に直交する断面形状が台形状であり、
前記第２突出部は、前記特定方向の一方側が回転方向前方側に位置するように配置され、回転方向前方側に前記基材層の主面に対する角度が直角となる直角面を有するとともに、前記直角面に直交する断面形状が長方形状であることを特徴とする請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項３】
前記第１突出部及び前記第２突出部は、平面視で平行四辺形状であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の研磨パッド。
【請求項４】
前記研磨層は、径方向内側に位置する内側領域と、径方向外側に位置して、前記被研磨物に対する単位面積当たりの接触面積が前記内側領域よりも大きい外側領域とを備え、
前記内側領域は、前記突出部として前記第１突出部のみが所定のパターンで配置され、
前記外側領域は、前記突出部として前記第１突出部及び前記第２突出部が所定のパターンで配置されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の研磨パッド。
【請求項５】
前記内側領域は、平面視で回転対称の多角形状であることを特徴とする請求項４に記載の研磨パッド。
【請求項６】
前記外側領域は、前記第２突出部の回転方向前方側に前記第１突出部が位置するように、前記第１突出部と前記第２突出部とが交互に配置されていることを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の研磨パッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、研磨パッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
板ガラス等の被研磨物の表面における平滑性は、被研磨物の表面を研磨パッドを用いて研磨することで高められる。研磨パッドを用いて被研磨物を研磨するには、回転している研磨パッドを、被研磨物の表面に当接する。このとき、研磨パッドと、被研磨物との間には、研磨用スラリーが供給され、その研磨用スラリーに含まれる研磨材により被研磨物の表面が研磨される。こうした研磨パッドは、基材層と、被研磨物に接触される研磨層とを有している。特許文献１には、研磨用スラリーの滞留を抑制するように、研磨層（特許文献１の「研磨パッド」に相当）に溝又は間隙を設けた構成が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−１４５４０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、研磨パッドが被研磨物に押し当てられた際には、研磨パッドの突出部における先端面が被研磨物に押圧されることから、研磨パッドの突出部の先端面を大きく形成することにより、研磨の効率を高めることが考えられる。しかしながら、この場合、突出部の先端面が被研磨物に引っ掛かり、被研磨物を飛ばしてしまうという問題が生じやすくなる。したがって、研磨パッドの有する突出部の形状については、未だ改善の余地がある。
【０００５】
本発明は、こうした実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、研磨の効率を高めることの容易な研磨パッドを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決する研磨パッドは、基材層と前記基材層の主面に積層された研磨層とを有し、被研磨物との相対回転により前記被研磨物を研磨する研磨パッドであって、前記研磨層は、前記基材層の主面に平行な先端面を有する突出部が所定のパターンで配置されてなり、前記突出部として、先端側に向かって特定方向の幅が徐々に短くなる先細り形状の第１突出部と、先端面における前記特定方向の幅が前記第１突出部よりも長い第２突出部とを備える。
【０００７】
上記構成によれば、突出部として、先端面の幅が異なる第１突出部及び第２突出部を設けている。そのため、研磨の効率を高めるために、第２突出部の先端面を大きく形成した場合にも、第１突出部において、被研磨物に対する接触面積が小さく、かつ先細り形状による撓みによって接触圧が小さくなる箇所が存在することにより、被研磨物に対する過度な引っ掛かりが抑制される。これにより、突出部の先端面を大きく形成した場合に生じる被研磨物を飛ばしてしまう問題が抑制され、研磨の効率を高めることが容易な研磨パッドとなる。
【０００８】
上記研磨パッドにおいて、前記第１突出部は、前記特定方向の一方側が回転方向前方側に位置するように配置され、回転方向前方側に、前記基材層の主面に対する角度が鋭角となる傾斜面を有するとともに、前記傾斜面に直交する断面形状が台形状であり、前記第２突出部は、前記特定方向の一方側が回転方向前方側に位置するように配置され、回転方向前方側に前記基材層の主面に対する角度が直角となる直角面を有するとともに、前記直角面に直交する断面形状が長方形状であることが好ましい。
【０００９】
上記構成によれば、第１突出部による被研磨物に対する過度な引っ掛かりの抑制効果、及び第２突出部の先端面を大きくすることによる研磨の効率の向上効果が更に向上する。
上記研磨パッドにおいて、前記第１突出部及び前記第２突出部は、平面視で平行四辺形状であることが好ましい。
【００１０】
上記構成によれば、第１突出部及び第２突出部の間を研磨用スラリーが流れやすくなり、研磨の効率が向上する。
上記研磨パッドにおいて、前記研磨層は、径方向内側に位置する内側領域と、径方向外側に位置して、前記被研磨物に対する単位面積当たりの接触面積が前記内側領域よりも大きい外側領域とを備え、前記内側領域は、前記突出部として前記第１突出部のみが所定のパターンで配置され、前記外側領域は、前記突出部として前記第１突出部及び前記第２突出部が所定のパターンで配置されていることが好ましい。
【００１１】
先端面の幅が長く形成された第２突出部は、高い研磨効率が得られるが、被研磨物に対する過度な引っ掛かりが生じやすい。こうした第２突出部を、研磨層における１回転当たりの移動距離が長い外側領域のみに第１突出部と組み合わせて配置することによって、研磨の効率の向上効果及び過度な引っ掛かりの抑制効果を高いレベルで両立させることができる。
【００１２】
上記研磨パッドにおいて、前記内側領域は、平面視で回転対称の多角形状であることが好ましい。
上記構成によれば、研磨パッドの回転時において、内側領域の外周（内側領域及び外側領域の境界部分）のみが通過し続ける部分が生じることが抑制されて、研磨ムラが生じ難くなる。
【００１３】
上記研磨パッドにおいて、前記外側領域は、前記第２突出部の回転方向前方側に前記第１突出部が位置するように、前記第１突出部と前記第２突出部とが交互に配置されていることが好ましい。
【００１４】
上記構成によれば、研磨の効率の向上効果及び過度な引っ掛かりの抑制効果を高いレベルで両立させることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、研磨の効率を高めることが容易となる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】研磨パッドを示す平面図。
【図２】領域Ａ１の拡大図。
【図３】図２の３−３線断面図。
【図４】図２の４−４線断面図。
【図５】研磨パッドの使用状態の一例を示す概略正面図。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、研磨パッドの一実施形態について図面を参照して説明する。なお、図面では、説明の便宜上、構成の一部を誇張して示す場合がある。また、各部分の寸法比率についても、実際と異なる場合がある。
【００１８】
図１及び図３に示すように、研磨パッド１１は、円形状の内周端１１ａと、同じく円形状の外周端１１ｂとを有し、基材層１２と、基材層１２の主面ＰＳに積層された研磨層１３とを有している。研磨パッド１１は、被研磨物との相対回転により被研磨物を研磨する用途に用いられる。
【００１９】
＜基材層＞
研磨パッド１１の基材層１２は、金属層と、研磨層１３よりも圧縮変形し易い弾性層とを備える二層構造である（図示略）。金属層は、例えば、アルミニウム、ステンレス鋼等から構成される。弾性層は、ゴム又はエラストマーから構成される。弾性層は、非発泡体であってもよいし発泡体であってもよい。金属層と弾性層とは接着層を介して接着されている。
【００２０】
＜研磨層＞
図３に示すように、研磨パッド１１の研磨層１３は、基材層１２の弾性層側の面に積層されている。研磨層１３は、基材層１２に支持される平板状の支持部１４と、この支持部１４から突出する複数の突出部１５とを備えている。支持部１４と複数の突出部１５とは、ウレタンゴム等の弾性材料から一体に構成されている。研磨層１３と基材層１２とは接着層を介して接着されている。
【００２１】
図１及び図２に示すように、研磨層１３の突出部１５は、平面視で平行四辺形形状に形成されている。そして、研磨パッド１１は、突出部１５の配置パターンが異なる複数の領域を有している。詳述すると、研磨パッド１１は、研磨層１３の平面視において、中心角を６０°として６等分した扇形の領域であって、図１における時計回りの順で領域Ａ１，Ａ２，Ａ３，Ａ４，Ａ５，Ａ６に区分される。領域Ａ１と領域Ａ４、領域Ａ２と領域Ａ５、及び領域Ａ３と領域Ａ６は、研磨パッド１１の平面視において、それぞれ対向して配置されている。
【００２２】
領域Ａ１，Ａ４の突出部１５は、図１の紙面上下方向を基準の径方向Ｄ１とした場合、径方向Ｄ１、及び径方向Ｄ１と直交する方向において離間するように並設されている。領域Ａ２，Ａ５の突出部１５は、径方向Ｄ１から時計回りに６０°回転した方向を径方向Ｄ２とした場合、径方向Ｄ２、及び径方向Ｄ２と直交する方向において離間するように並設されている。領域Ａ３，Ａ６の突出部１５は、径方向Ｄ１から時計回りに１２０°回転した方向を径方向Ｄ３とした場合、径方向Ｄ３、及び径方向Ｄ３と直交する方向において離間するように並設されている。
【００２３】
図１及び図２に示すように、領域Ａ１〜Ａ６はそれぞれ、径方向内側に位置する内側領域Ａａと、径方向外側に位置する外側領域Ａｂとを有している。内側領域Ａａと外側領域Ａｂとは、突出部１５の配置パターンがそれぞれ異なっている。図１に示すように、領域Ａ１〜Ａ６の内側領域Ａａを合わせた内側領域Ａａ全体の平面視の形状は、回転対称の多角形状の一種である星型多角形（六芒星形状）である。また、平面視において、内側領域Ａａ及び外側領域Ａｂの合計面積に対する内側領域Ａａの割合は、例えば、３０〜５５％である。
【００２４】
＜突出部＞
図２〜４に示すように、突出部１５は、その形状の異なる第１突出部１６及び第２突出部１７を備えている。第１突出部１６は、内側領域Ａａ及び外側領域Ａｂの両方に配置されるとともに、第２突出部１７は、外側領域Ａｂのみに配置されている。
【００２５】
図３及び図４に示すように、第１突出部１６は、基材層１２の主面ＰＳに平行な先端面１６ａと、その先端面１６ａに連なる第１側面１６ｂと、その第１側面１６ｂの反対側の面である第２側面１６ｃとを有している。第１側面１６ｂは、基材層１２の主面ＰＳに対する第１角度θ１が鋭角となる傾斜面である。第２側面１６ｃは、基材層１２の主面ＰＳに対する第２角度θ２が直角となる直角面である。したがって、第１突出部１６は、第１側面１６ｂに直交する断面形状が台形状に形成されて、第１側面１６ｂと第２側面１６ｃとの間の幅（特定方向の幅）が基端側から先端側に向かって短くなる先細り形状になっている。
【００２６】
第１突出部１６の第１側面１６ｂの第１角度θ１は、８０°以下であることが好ましく、より好ましくは７０°以下であり、さらに好ましくは６０°以下である。この第１角度θ１は、１０°以上であることが好ましく、より好ましくは２０°以上であり、さらに好ましくは３０°以上である。また、第１側面１６ｂは、先端面１６ａの面積よりも広い面積を有することが好ましい。
【００２７】
上記角度に関して、基材層１２の主面ＰＳが凹凸を有する場合は、研磨パッド１１と被研磨物との相対回転の軸方向に対して直交する仮想面が角度の基準となる主面ＰＳに相当する。第１突出部１６の先端面１６ａは、基材層１２の主面ＰＳの状態や研磨層１３の寸法誤差により、例えば、±５°以内の程度の角度で傾斜していてもよい。これらの点は、後述する第２突出部１７についても同様である。
【００２８】
第１突出部１６の第１側面１６ｂに直交する断面において、第１突出部１６の基端部分の幅Ｈ１（特定方向の幅）に対する先端面１６ａの幅Ｈ２（特定方向の幅）の比（Ｈ２／Ｈ１）は、例えば、０．５〜０．６５である。
【００２９】
図２に示す第１突出部１６の長さＬ１（第１側面１６ｂに沿った方向の長さ）は、特に限定されるものではないが、例えば、第１突出部１６の基端部分の幅Ｈ１と同じ又はそれ以上であることが好ましい。第１突出部１６の基端部分の幅Ｈ１に対する長さＬ１の比（Ｌ１／Ｈ１）は、例えば、１．０〜１．３である。なお、本実施形態においては、内側領域Ａａに配置される第１突出部１６は、長さＬ１が幅Ｈ１よりも長く、外側領域Ａｂに配置される第１突出部１６は、長さＬ１が幅Ｈ１と同程度である。
【００３０】
図４に示すように、第２突出部１７は、基材層１２の主面ＰＳに平行な先端面１７ａと、その先端面１７ａに連なる第１側面１７ｂと、その第１側面１７ｂの反対側の面である第２側面１７ｃとを有している。第１側面１７ｂは、基材層１２の主面ＰＳに対する第１角度θ３が直角となる直角面である。第２側面１７ｃは、基材層１２の主面ＰＳに対する第２角度θ４が直角となる直角面である。
【００３１】
したがって、第２突出部１７は、第１側面１７ｂに直交する断面形状が長方形状に形成されて、第１側面１７ｂと第２側面１７ｃとの間の幅（特定方向の幅）が基端側から先端側まで同じである。第２突出部１７の第１側面１７ｂに直交する断面において、第２突出部１７の基端部分の幅Ｈ３（特定方向の幅）に対する先端面１７ａの幅Ｈ４（特定方向の幅）の比（幅Ｈ４／Ｈ３）は、１である。
【００３２】
図２に示す第２突出部１７の長さＬ２（第１側面１６ｂに沿った方向の長さ）は、特に限定されるものではないが、例えば、第２突出部１７の基端部分の幅Ｈ３と同じ又はそれ以上であることが好ましい。第２突出部１７の基端部分の幅Ｈ３に対する長さＬ２の比（Ｌ２／Ｈ３）は、例えば、１．０〜１．３である。なお、本実施形態においては、第２突出部１７の長さＬ２は、幅Ｈ３と同程度である。
【００３３】
第２突出部１７は、先端面における特定方向の幅が第１突出部１６よりも長くなるように形成されている。すなわち、第２突出部１７の先端面１７ａの幅Ｈ４は、第１突出部１６の先端面１６ａの幅Ｈ２よりも長い。第１突出部１６の先端面１６ａの幅Ｈ２に対する第２突出部１７の先端面１７ａの幅Ｈ４の比（Ｈ４／Ｈ２）は、例えば、１．３〜１．７である。また、第１突出部１６の基端部分の幅Ｈ１に対する第２突出部１７の基端部分の幅Ｈ３の比（Ｈ３／Ｈ１）は、例えば、０．９〜１．１である。
【００３４】
図２及び図３に示すように、内側領域Ａａにおいて、第１突出部１６は、研磨パッド１１と被研磨物との相対回転の方向ＲＤの一方側である回転方向前方側に第１側面１６ｂ（傾斜面）が位置するように、第１側面１６ｂに沿った方向及び同方向に直交する方向に複数、並設される。
【００３５】
図２及び図４に示すように、外側領域Ａｂにおいて、第１突出部１６は、回転方向前方側に第１側面１６ｂ（傾斜面）が位置するように、第１側面１６ｂに沿った方向（長さＬ１に沿った方向）に複数、並設される。第２突出部１７は、回転方向前方側に第１側面１７ｂ（直角面）が位置するように、第１側面１７ｂに沿った方向（長さＬ２に沿った方向）に複数、並設される。そして、第２突出部１７の回転方向前方側に第１突出部１６が位置するように、第１側面１６ｂに沿った方向に並ぶ第１突出部１６の列と、第１側面１７ｂに沿った方向に並ぶ第２突出部１７の列とが、当該列と直交する方向に交互に配置される。
【００３６】
第１突出部１６及び第２突出部１７が配置される外側領域Ａｂは、第１突出部１６のみが配置される内側領域Ａａよりも平面視において、単位面積当たりに占める突出部１５の先端面（先端面１６ａ，１７ａ）の割合が大きくなっている。すなわち、外側領域Ａｂは、被研磨物に対する単位面積当たりの接触面積が内側領域Ａａよりも大きくなっている。外側領域Ａｂの上記割合は、例えば、６０〜７５％である。内側領域Ａａの上記割合は、例えば、２５〜４０％である。そして、外側領域Ａｂの上記割合は、例えば、内側領域Ａａの上記割合の１．５〜３倍である。なお、内側領域Ａａ及び外側領域Ａｂの上記割合は、第１突出部１６及び第２突出部１７の配置パターンや、第１突出部１６及び第２突出部１７の形状を変更することにより調整できる。
【００３７】
＜研磨パッドの溝＞
図１に示すように、研磨パッド１１の溝１８は、研磨パッド１１の内周端１１ａから外周端１１ｂへ向かって直線状に延びる主幹溝１８ａと、主幹溝１８ａと研磨パッド１１の外周端１１ｂとを直線状に連結する分岐溝１８ｂとを備えている。主幹溝１８ａ及び分岐溝１８ｂは、研磨パッド１１の内周端１１ａと外周端１１ｂとの間において連続した溝１８を構成している。
【００３８】
図３及び図４に示すように、研磨パッド１１の溝１８は、突出部１５とこれに隣り合う突出部１５との間に形成されている。研磨パッド１１の溝１８は、研磨層１３からなる内底を有する第１溝１８ｃと、基材層１２からなる内底を有する第２溝１８ｄとから構成されている。第２溝１８ｄは、研磨層１３と研磨層１３とが離間した部分に形成され、突出部１５とこれに隣り合う突出部１５との間において基材層１２が露出している部分である。換言すると、研磨層１３は、基材層１２上に離間して配置された複数の研磨層１３から構成されることで、研磨パッド１１は、基材層１２を内底として構成された第２溝１８ｄを有している。なお、図１では、第１溝１８ｃと第２溝１８ｄと区別するために第２溝１８ｄを梨地模様で示している。
【００３９】
また、外側領域Ａｂにおける第２突出部１７の第２側面１７ｃと第１突出部１６の第１側面１６ｂとの間隔は、内側領域Ａａにおける第１突出部１６間の間隔と同じである。そして、外側領域Ａｂにおける第１突出部１６の第２側面１６ｃと第２突出部１７の第１側面１７ｂとの間隔は、外側領域Ａｂにおける第２突出部１７の第２側面１７ｃと第１突出部１６の第１側面１６ｂとの間隔よりも短い。
【００４０】
＜研磨パッドの各寸法＞
研磨パッド１１の直径は特に限定されないが、例えば、１０〜１０００ｍｍ程度である。研磨パッド１１の各部分の寸法についても特に限定されないが、平面視において突出部１５の基端部分の幅（Ｈ１，Ｈ３）は３〜２０ｍｍ程度であり、突出部１５の長さ（Ｌ１，Ｌ２）は５〜５０ｍｍ程度であり、溝１８の幅は、３〜２０ｍｍ程度に設定される。また、突出部１５の高さは、５〜３０ｍｍ程度に設定される。
【００４１】
＜研磨パッドの使用方法＞
研磨パッド１１は、例えば、回転駆動装置を備えた周知の研磨機に取り付けられる。被研磨物の表面は、研磨パッド１１と被研磨物との相対回転により研磨される。被研磨物としては、ガラス板、ステンレス板、アルミニウム板等の板材が挙げられる。なお、こうした研磨では、砥粒を含む研磨用スラリーが用いられる。
【００４２】
図５には、研磨パッド１１の使用状態の一例を示している。研磨パッド１１は、研磨機の回転軸ＲＳに取り付けられる。被研磨物としてのガラス板ＧＳは、支持台Ｂ上に固定されている。研磨用スラリーＳＬは、回転軸ＲＳの中空部、及び研磨パッド１１の中央の貫通孔を通じてガラス板ＧＳの上面と研磨層１３との間に供給される。研磨パッド１１は、研磨層１３における第１突出部１６の第１側面１６ｂ（傾斜面）が先頭になってガラス板ＧＳに対して進行する方向に回転される。これにより、ガラス板ＧＳの上面が研磨される。このとき、研磨パッド１１の有する溝１８は、研磨用スラリーや研磨屑の流路となり、研磨用スラリーや研磨屑は、研磨パッド１１の外周端１１ｂから排出される。
【００４３】
次に、本実施形態の作用及び効果について説明する。
（１）研磨パッド１１は、基材層１２と基材層１２の主面に積層された研磨層１３とを有する。研磨層１３は、基材層１２の主面に平行な先端面を有する突出部１５が所定のパターンで配置されてなり、突出部１５として、先端側に向かって特定方向の幅が徐々に短くなる先細り形状の第１突出部１６と、先端面における特定方向の幅が第１突出部１６よりも長い第２突出部１７とを備える。
【００４４】
上記構成によれば、突出部１５として、先端面の幅が異なる第１突出部１６及び第２突出部１７を設けている。そのため、研磨の効率を高めるために、第２突出部１７の先端面を大きく形成した場合にも、第１突出部１６において、被研磨物に対する接触面積が小さく、かつ先細り形状による撓みによって接触圧が小さくなる箇所が存在することにより、被研磨物に対する過度な引っ掛かりが抑制される。これにより、突出部の先端面を大きく形成した場合に生じる被研磨物を飛ばしてしまう問題が抑制され、研磨の効率を高めることが容易な研磨パッドとなる。
【００４５】
（２）第１突出部１６は、特定方向の一方側が回転方向前方側に位置するように配置され、回転方向前方側に、基材層１２の主面に対する角度が鋭角となる第１側面１６ｂ（傾斜面）を有するとともに、第１側面１６ｂに直交する断面形状が台形状である。第２突出部１７は、特定方向の一方側が回転方向前方側に位置するように配置され、回転方向前方側に、基材層１２の主面に対する角度が直角となる第１側面１７ｂ（直角面）を有するとともに、第１側面１７ｂに直交する断面形状が長方形状である。
【００４６】
上記構成によれば、第１突出部１６による被研磨物に対する過度な引っ掛かりの抑制効果、及び第２突出部１７の先端面を大きくすることによる研磨の効率の向上効果が更に向上する。
【００４７】
（３）第１突出部１６及び第２突出部１７は、平面視で平行四辺形状である。
上記構成によれば、第１突出部１６及び第２突出部１７の間を研磨用スラリーが流れやすくなり、研磨の効率が向上する。
【００４８】
（４）研磨層１３は、径方向内側に位置する内側領域Ａａと、径方向外側に位置して、被研磨物に対する単位面積当たりの接触面積が内側領域Ａａよりも大きい外側領域Ａｂとを備える。内側領域Ａａは、第１突出部１６のみが所定のパターンで配置され、外側領域Ａｂは、第１突出部１６及び第２突出部１７が所定のパターンで配置されている。
【００４９】
先端面の幅が長い第２突出部１７は、高い研磨効率が得られるが、被研磨物に対する過度な引っ掛かりが生じやすい。こうした第２突出部１７を、研磨層１３における１回転当たりの移動距離が長い外側領域Ａｂのみに第１突出部１６と組み合わせて配置することによって、研磨の効率の向上効果及び過度な引っ掛かりの抑制効果を高いレベルで両立させることができる。
【００５０】
（５）内側領域Ａａは、平面視で回転対称の多角形状である。
上記構成によれば、研磨パッド１１の回転時において、内側領域Ａａの外周（内側領域Ａａ及び外側領域Ａｂの境界部分）のみが通過し続ける部分が生じることが抑制されて、研磨ムラが生じ難くなる。
【００５１】
（６）外側領域Ａｂは、第１突出部１６の回転方向前方側に第２突出部１７が位置するように、第１突出部１６と第２突出部１７とが交互に配置されている。
上記構成によれば、研磨の効率の向上効果及び過度な引っ掛かりの抑制効果を高いレベルで両立させることができる。
【００５２】
本実施形態は、以下のように変更して実施することができる。本実施形態及び以下の変更例は、技術的に矛盾しない範囲で互いに組み合わせて実施することができる。
・突出部１５の形状を変更してもよい。例えば、平面視で長方形状や菱形状となる突出部１５としてもよい。第１突出部１６について、第１側面１６ｂ及び第２側面１６ｃの両方が傾斜面となる断面台形状としてもよい。この場合、第１突出部１６の第２角度θ２は鋭角であってもよいし、鈍角であってもよい。第２突出部１７について、第１側面１７ｂ及び第２側面１７ｃの少なくとも一方が傾斜面となる断面台形状としてもよい。この場合、第２突出部１７の第１角度θ３、第２角度θ４は鋭角であってもよいし、鈍角であってもよい。
【００５３】
・第１突出部１６及び第２突出部１７の配置を変更してもよい。例えば、内側領域Ａａに第１突出部１６を設けてもよい。上記実施形態では、領域Ａ１〜Ａ６に区分していたが、これに限定されず、区分する領域の数や形状を変更してもよい。また、領域Ａ１〜Ａ６等の突出部１５の配置が異なる領域を設けることなく、研磨パッドの中心から放射状となるように突出部１５を一様に配置してもよい。形状の異なる複数種類の第１突出部１６、及び形状の異なる複数種類の第２突出部１７を組み合わせて配置してもよい。
【００５４】
上記実施形態では、外側領域において、第１突出部１６の回転方向前方側に第２突出部１７が位置するように、第１突出部１６と第２突出部１７とを交互に配置していたが、第２突出部１７の間に２以上の第１突出部１６が位置するように配置してもよい。また、第１突出部１６の回転方向前方側に第２突出部１７が位置しない配置としてもよい。
【００５５】
・内側領域Ａａを、星型多角形以外の回転対称の多角形状（例えば、正五角形、正六角形等の正多角形）としてもよいし、回転対称の多角形状以外の形状（例えば、円形、楕円形）としてもよい。また、内側領域Ａａ及び外側領域Ａｂを設けない構成としてもよい。
【００５６】
・前記研磨パッド１１の基材層１２は、弾性層が省略されたものであってもよい。
・研磨パッド１１の研磨層１３は、基材層１２上に離間して配置される複数の研磨層１３から構成されているが、一体となった単数の研磨層１３から構成されてもよい。
【００５７】
・研磨パッド１１は、研磨層１３側から見た平面視（図１）において反時計回りとなるように相対回転させて使用するが、時計回りとなるように相対回転させて使用する研磨パッドに変更されてもよい。
【００５８】
・研磨パッド１１の研磨層１３（各突出部１５）に砥粒を含有させることで、研磨用スラリーを用いずに水等を研磨用液として被研磨物を研磨してもよい。
・研磨パッド１１を回転させずに、被研磨物を回転させることで被研磨物を研磨してもよい。また、研磨パッド１１は、複数の研磨パッドを遊星歯車機構により同時に回転させて用いる研磨機に装着して用いてもよい。
【符号の説明】
【００５９】
１１…研磨パッド、１２…基材層、１３…研磨層、１５…突出部、１６…第１突出部、１６ａ…先端面、１６ｂ…第１側面（傾斜面）、１７…第２突出部、１７ａ…先端面、１７ｂ…第１側面（直角面）、１８…溝、Ａ１〜Ａ６…領域、Ａａ…内側領域、Ａｂ…外側領域、ＧＳ…ガラス板、ＰＳ…主面、ＲＤ…相対回転の方向。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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