(57)【要約】      （修正有）【課題】高効率で安定的な配向制御能が付与され、かつ、焼き付き特性に優れた、横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜を有する基板及び、該基板を有する横電界駆動型液晶表示素子を提供する。【解決手段】光配向性基と極性基とを有する特定重合体（Ｐ）と、下記式（ＯＳ−１）で表される特定溶媒（Ｘ）とを含有する重合体組成物。2019148716.tif 000037式中Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光配向性基と極性基とを有する特定重合体（Ｐ）と下記式（ＯＳ−１）で表される特定溶媒（Ｘ）とを含有する重合体組成物。
【化１】
2019148716.tif 000031
式中Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基である。
【請求項２】
前記特定重合体（Ｐ）が、光配向性基を有する側鎖基（ｆ）を含む構造単位と、極性基を有する側鎖基（ｇ）を含む構造単位とを含む請求項１に記載の重合体組成物。
【請求項３】
前記特定重合体（Ｐ）が、重合性不飽和結合を有するモノマーの重合体である請求項１に記載の重合体組成物。
【請求項４】
前記重合体組成物が、液晶配向膜の形成に用いられる請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の重合体組成物。
【請求項５】
前記光配向性基が、光に感応して架橋反応、異性化反応、または光フリース転位を起こして膜に異方性を付与する官能基である請求項１〜請求項４のいずれか一項に記載の重合体組成物。
【請求項６】
前記特定重合体（Ｐ）が、液晶性を発現する部分構造（ｍ）を有する請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載の重合体組成物。
【請求項７】
前記側鎖基（ｆ）が、前記部分構造（ｍ）を有する請求項２〜請求項６のいずれか一項に記載の重合体組成物。
【請求項８】
前記側鎖基（ｆ）が、下記式（１）〜（６）及び下記式（Ｔ−１）〜（Ｔ−２）よりなる群から選ばれる少なくとも１種の側鎖基である請求項２〜請求項７のいずれか一項に記載の重合体組成物。
【化２】
2019148716.tif 000032
式中、Ａ、Ｂ、Ｄはそれぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、又は−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−を表す；
Ｓは、炭素数１〜１２のアルキレン基であり、それらに結合する水素原子はハロゲン基に置き換えられていてもよい；
Ｔは、単結合または炭素数１〜１２のアルキレン基であり、それらに結合する水素原子はハロゲン基に置き換えられていてもよい；
Ｙ１は、１価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環および炭素数５〜８の脂環式炭化水素から選ばれる環を表すか、それらの置換基から選ばれる同一又は相異なった２〜６の環が結合基Ｂを介して結合してなる基であり、それらに結合する水素原子は、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＮ）２、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＮで置換されても良い；
Ｙ２は、２価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環、炭素数５〜８の脂環式炭化水素、および、それらの組み合わせからなる群から選ばれる基であり、それらに結合する水素原子はそれぞれ独立に−ＮＯ２、−ＣＮ、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＮ）２、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＮ、ハロゲン基、炭素数１〜５のアルキル基、又は炭素数１〜５のアルキルオキシ基で置換されても良い；
Ｒは、ヒドロキシ基、メトキシ基を表す；
Ｖは、−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−（Ｃ６Ｈ４）ｎ−ＣＯ−（ｎは１〜３の整数）を表す；
Ｘは、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、又は−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−を表し、Ｘの数が２となるときは、Ｘ同士は同一でも異なっていてもよい；
Ｃｏｕは、クマリン−６−イル基またはクマリン−７−イル基を表し、それらに結合する水素原子はそれぞれ独立に−ＮＯ２、−ＣＮ、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＮ）２、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＮ、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基で置換されても良い；
ｑ１とｑ２は、一方が１で他方が０である；
ｑ３は０または１である；
Ｐ及びＱは、各々独立に、２価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環、炭素数５〜８の脂環式炭化水素、および、それらの組み合わせからなる群から選ばれる基である；ただし、Ｘが−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−である場合、−ＣＨ＝ＣＨ−が結合する側のＰ又はＱは芳香環であり、Ｐの数が２以上となるときは、Ｐ同士は同一でも異なっていてもよく、Ｑの数が２以上となるときは、Ｑ同士は同一でも異なっていてもよい；
ｋは０又は１である；
ｌ１は０または１である；
ｌ２は０〜２の整数である；
ｌ１とｌ２がともに０であるときは、Ｔが単結合であるときはＡも単結合を表す；
ｌ１が１であるときは、Ｔが単結合であるときはＢも単結合を表す；
Ｈ及びＩは、各々独立に、２価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環、およびそれらの組み合わせから選ばれる基である。
【化３】
2019148716.tif 000033
式中、Ａ、Ｂ、Ｄはそれぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−又は−ＮＨ−ＣＯ−を表す；
Ｓは、炭素数１〜１２のアルキレン基であり、それに結合する水素原子はそれぞれ独立にハロゲン基に置き換えられていてもよい；
Ｔは、単結合または炭素数１〜１２のアルキレン基であり、それらに結合する水素原子はハロゲン基に置き換えられていてもよい；
Ｔが単結合であるときはＢも単結合を表す；
Ｙ１は、２価のベンゼン環である；
Ｐ１、Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立にベンゼン環及び炭素数５〜８の脂環式炭化水素環からなる群から選ばれる基である；
Ｒ１は、−ＣＮ、ハロゲン基、メチル基、メチルカルボニル基、炭素数３〜７のシクロアルキル基又はメトキシ基である。
Ｙ１、Ｐ１、Ｑ１及びＱ２において、ベンゼン環に結合する水素原子はそれぞれ独立に−ＣＮ、ハロゲン基、炭素数１〜５のアルキル基、（炭素数１〜５のアルキル）カルボニル基、又は炭素数１〜５のアルキルオキシ基で置換されてもよい；
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表す；
ｔ１ａ、ｔ１ｂ、ｔ２ａ、ｔ２ｂはそれぞれ独立に０、１または２である、
Ｘ１の数が２となるときは、Ｘ１同士は同一でも異なっていてもよく、Ｘ２の数が２となるときは、Ｘ２同士は同一でも異なっていてもよい；
Ｑ１の数が２となるときは、Ｑ１同士は同一でも異なっていてもよく、Ｑ２の数が２となるときは、Ｑ２同士は同一でも異なっていてもよい；
【請求項９】
前記側鎖基（ｇ）が下記式（Ｒ−５）〜（Ｒ−９）よりなる群から選ばれる少なくとも1種である、請求項２〜請求項８のいずれか一項に記載の重合体組成物。
【化４】
2019148716.tif 000034
式中、Ａ及びＢは上記式（１−１）〜（１−６）と同じ定義を有する；ｌは１〜１２の整数を表す。
【請求項１０】
前記特定重合体（Ｐ）が、プレチルトを発現する部分構造を有していることを特徴とする、請求項１〜請求項９のいずれか一項に記載の重合体組成物。
【請求項１１】
側鎖基（ｆ）がプレチルトを発現する部分構造を有しており、その構造が下記式（Ｖ）で表される、請求項１０に記載の重合体組成物。
【化５】
2019148716.tif 000035
Ｚは酸素原子、または硫黄原子である。
Ｘａ及びＸｂは、それぞれ独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基又は炭素数１〜３のアルキル基である。
Ｒ１は単結合、酸素原子、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり、Ｒ２は２価の芳香族基、２価の脂環式基、２価の複素環式基または２価の縮合環式基であり、Ｒ３は単結合、酸素原子、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり、Ｒ４は炭素数３〜２０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を含む炭素数３〜４０の１価の有機基であり、
Ｒ５は炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、フッ素原子またはシアノ基、好ましくはメチル基、メトキシ基又はフッ素原子である。
ａは０〜３の整数であり、ｂは０〜４の整数である。Ｓｂは、下記式（Ｓｐ）で表される連結基である。
【化６】
2019148716.tif 000036
式中、Ｗ１、Ｗ２及びＷ３は、それぞれ独立して、単結合、二価の複素環、−（ＣＨ２）ｎ−（式中、ｎは１〜２０を表す）、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、―ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−又は−Ｃ≡Ｃ−を表すが、これらの置換基において非隣接のＣＨ２基の一つ以上は独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２―、−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−、−ＯＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−又は−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−（式中、Ｒは独立して水素又は炭素原子数１から５の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を表す）で置換することができ、Ｗ３の右の結合はＺへの結合を表し、
Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立して、単結合、２価のアルキル基、２価の芳香族基、２価の脂環式基、又は２価の複素環式基から選ばれる基であり、それぞれの基は無置換であるか又は一個以上の水素原子がフッ素原子、塩素原子、シアノ基、メチル基又はメトキシ基によって置換されていても良い。
【請求項１２】
前記特定重合体（Ｐ）が、重合性不飽和結合を有するモノマーを重合することにより得られる重合体であって、前記モノマーが重合性不飽和結合と側鎖基（ｆ）とを有する光配向性モノマーを含む、請求項１〜請求項１１のいずれか一項に記載の重合体組成物。
【請求項１３】
特定重合体（Ｐ）の合成に用いる光配向性モノマーの使用割合が、特定重合体（Ｐ）の合成に使用するモノマーの合計量に対して、５モル％以上である請求項１２に記載の重合体組成物。
【請求項１４】
特定重合体（Ｐ）の合成に用いるモノマーが、重合性不飽和結合と側鎖基（ｇ）とを有する極性モノマーを含む、請求項１〜請求項１３のいずれか１項に記載の重合体組成物。
【請求項１５】
前記光配向性モノマーの使用割合と極性モノマーの使用割合との合計が、１００モル％以下である、請求項１４に記載の重合体組成物。
【請求項１６】
請求項１〜請求項１５のいずれか一項に記載の重合体組成物を用いて形成された液晶配向膜。
【請求項１７】
請求項１６に記載の液晶配向膜を具備する液晶素子。
【請求項１８】
請求項１〜請求項１４のいずれか一項に記載の重合体組成物を基板上に塗布して塗膜を形成する工程と、前記重合体組成物を塗布した基板面に光照射して前記塗膜に液晶配向能を付与する工程と、を含む液晶配向膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜を有する基板の製造方法に関する。さらに詳しくは、焼き付き特性に優れる液晶表示素子を製造する新規な方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子は、軽量、薄型かつ低消費電力の表示デバイスとして知られ、近年では大型のテレビ用途に用いられるなど、目覚ましい発展を遂げている。液晶表示素子は、例えば、電極を備えた透明な一対の基板により液晶層を挟持して構成される。そして、液晶表示素子では、液晶が基板間で所望の配向状態となるように有機材料からなる有機膜が液晶配向膜として使用されている。
【０００３】
液晶配向膜は、液晶を挟持する基板の液晶と接する面に形成され、その基板間で液晶を一定の方向に配向させるという役割を担う。そして、液晶配向膜には、液晶を、例えば、基板に対して平行な方向など、一定の方向に配向させるという役割に加え、液晶のプレチルト角を制御するという役割を求められることがある。こうした液晶配向膜における、液晶の配向を制御する能力（以下、配向制御能と言う。）は、液晶配向膜を構成する有機膜に対して配向処理を行うことで与えられる。
【０００４】
配向制御能を付与するための液晶配向膜の配向処理方法としては、従来からラビング法が知られている。ラビング法とは、基板上のポリビニルアルコールやポリアミドやポリイミド等の有機膜に対し、その表面を綿、ナイロン、ポリエステル等の布で一定方向に擦り（ラビングし）、擦った方向（ラビング方向）に液晶を配向させる方法である。このラビング法は簡便に比較的安定した液晶の配向状態を実現できるため、従来の液晶表示素子の製造プロセスにおいて工業的に利用されてきた。そして、液晶配向膜に用いられる有機膜としては、耐熱性等の信頼性や電気的特性に優れたポリイミド系の有機膜が主に選択されてきた。
【０００５】
しかしながら、液晶配向膜の表面を擦るラビング法は、発塵や静電気の発生が問題となることがあった。また、近年の液晶表素子の高精細化や、対応する基板上の電極や液晶駆動用のスイッチング能動素子による凹凸のため、液晶配向膜の表面を布で均一に擦ることができず、均一な液晶の配向を実現できないことがあった。
【０００６】
そこで、ラビングを行わない液晶配向膜の別の配向処理方法として、光配向法が盛んに検討されている。
【０００７】
光配向法には様々な方法があるが、直線偏光またはコリメートした光によって液晶配向膜を構成する有機膜内に異方性を形成し、その異方性に従って液晶を配向させる。
【０００８】
主な光配向法としては、分解型の光配向法が知られている。例えば、ポリイミド膜に偏光紫外線を照射し、分子構造の紫外線吸収の偏光方向依存性を利用して異方的な分解を生じさせる。そして、分解せずに残されたポリイミドにより液晶を配向させるようにする（特許文献１参照）。
【０００９】
また、光架橋型や光異性化型の光配向法も知られている。例えば、ポリビニルシンナメートを用い、偏光紫外線を照射し、偏光と平行な２つの側鎖の二重結合部分で二量化反応（架橋反応）を生じさせる。そして、偏光方向と直交した方向に液晶を配向させる（例えば、非特許文献１を参照のこと。）。また、アゾベンゼンを側鎖に有する側鎖型高分子を用いた場合、偏光紫外線を照射し、偏光と平行な側鎖のアゾベンゼン部で異性化反応を生じさせ、偏光方向と直交した方向に液晶を配向させる（非特許文献２参照）。
【００１０】
以上の例のように、光配向法による液晶配向膜の配向処理方法では、ラビングを不要とし、発塵や静電気の発生の懸念が無い。そして、表面に凹凸のある液晶表示素子の基板に対しても配向処理を施すことができ、工業的な生産プロセスに好適な液晶配向膜の配向処理の方法となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特許第３８９３６５９号公報
【非特許文献】
【００１２】
【非特許文献１】M. Shadt et al., Jpn. J. Appl. Phys. 31, 2155 (1992).
【非特許文献２】K. Ichimura et al., Chem. Rev. 100, 1847 (2000).
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
以上のように、光配向法は、ラビング法に代わる技術として大きな利点を持つ。そして、ラビングによって配向制御能がほぼ一定となるラビング法に比べ、光配向法では、偏光した光の照射量を変化させて配向制御能を制御できる。しかしながら、光配向法では、ラビング法による場合と同程度の配向制御能を求める場合、大量の偏光した光の照射量が必要となったり、安定な液晶の配向が実現できない場合がある。
【００１４】
例えば、上記した特許文献１に記載の分解型の光配向法では、ポリイミド膜に出力５００Ｗの高圧水銀灯からの紫外光を６０分間照射する必要があるなど、長時間かつ大量の紫外線照射が必要となる。また、二量化型や光異性化型の光配向法の場合においても、数Ｊ（ジュール）〜数十Ｊ程度の多くの量の紫外線照射が必要となる場合がある。さらに、光架橋型や光異性化型の光配向法の場合、液晶の配向の熱安定性や光安定性に劣るため、液晶表示素子とした場合に、配向不良や表示焼き付きが発生するといった問題があった。特に横電界駆動型の液晶表示素子では液晶分子を面内でスイッチングするため、液晶駆動後の液晶の配向ズレが発生しやすく、ＡＣ駆動に起因する表示焼き付きが大きな課題とされている。
【００１５】
したがって、光配向法では、配向処理の高効率化や安定な液晶配向の実現が求められており、液晶配向膜への高い配向制御能の付与を高効率に行うことができる液晶配向膜や液晶配向剤が求められている。
【００１６】
本発明は、高効率で配向制御能が付与され、焼き付き特性に優れた、横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜を有する基板及び該基板を有する横電界駆動型液晶表示素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明者らは、上記課題を達成するべく鋭意検討を行った結果、以下の発明を見出した。
（１）光配向性基と極性基とを有する特定重合体（Ｐ）と、下記式（ＯＳ−１）で表される特定溶媒（Ｘ）とを含有する重合体組成物。
【００１８】
【化１】
2019148716.tif 000002
【００１９】
式中Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基である。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の組成物を用いた液晶配向剤によれば、高効率で配向制御能が付与され、焼き付き特性に優れた、横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜を有する基板及び該基板を有する横電界駆動型液晶表示素子を提供することが出来る。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の実施形態について詳しく説明する。
＜特定重合体（Ｐ）＞
本発明の液晶配向剤に含有される特定重合体（Ｐ）は、光配向性基と極性基（ただし、前記光配向性基を含む基は除く）を有する。このような形態にすることで、特定溶媒に含まれるヒドロキシ基との相互作用が可能となり、保存安定性に優れ、且つ適度な粘度の液晶配向剤を得ることが可能となる。極性基としては、カルボキシ基、アミノ基、水酸基等が挙げられる。特定重合体（Ｐ）において、光配向性基と極性基は同一の構造単位であっても、異なる構造単位であってもよいが、合成が容易である点で異なる構造単位に含まれていることが好ましい。特定重合体（Ｐ）は、光に対する感度が高い観点で、光配向性基を有する側鎖基（ｆ）を含む構造単位と極性基を有する側鎖基（ｇ）を含む構造単位とを含むことが好ましい。
［光配向性基］
光配向性基は、光に感応して架橋反応、異性化反応、または光フリース転位を起こして膜に異方性を付与する官能基である。光配向性基は特に限定されないが、光に感応して架橋反応、または光フリース転位を起こす官能基が望ましく、架橋反応を起こす官能基がより望ましい。この場合、熱などの外部ストレスに曝されたとしても、実現された配向制御能を長期間安定に保持することができる。
【００２２】
光配向性基の具体例としては、例えばアゾベンゼン又はその誘導体を基本骨格として含むアゾベンゼン含有基、桂皮酸又はその誘導体（桂皮酸構造）を基本骨格として含む桂皮酸構造含有基、カルコン又はその誘導体を基本骨格として含むカルコン含有基、ベンゾフェノン又はその誘導体を基本骨格として含むベンゾフェノン含有基、クマリン又はその誘導体を基本骨格として含むクマリン含有基、トラン又はその誘導体を基本骨格として含むトラン含有基、スチルベン又はその誘導体を含むスチルベン含有基、フェニルベンゾエート又はその誘導体を含むフェニルベンゾエート含有基等が挙げられる。
本発明の特定重合体（Ｐ）を水平配向型の液晶素子の製造に用いる場合、液晶性を発現する部分構造を有していることが好ましく、この場合に得られる液晶配向膜は、安定な液晶配向を実現できる。
［液晶性を発現する部分構造］
液晶性を発現する部分構造（ｍ）は、例えばメソゲン部位を有する構造が挙げられる。特定重合体（Ｐ）において該メソゲン部位は光配向性基と同一の構造単位であっても、異なる構造単位であってもよい。前記メソゲン部位が光配向性基と同一の構造単位である場合、液晶配向性が安定な観点から側鎖基（ｆ）は部分構造（ｍ）を有することが好ましく、この場合に用いられるメソゲン部位を有する構造としては、ビフェニル環、ターフェニル環、フェニルシクロヘキシル環、アゾベンゼン、フェニルベンゾエート、ナフタレン環、ベンジリデンアニリンなどの構造が挙げられる。また、前記メソゲン部位が光配向性基と異なる構造単位である場合、重合が容易な観点で、側鎖基（ｇ）が部分構造（ｍ）を有するか、側鎖基（ｇ）以外のその他の液晶性側鎖基（ｊ）が部分構造（ｍ）を有することが好ましく、この場合に用いられるメソゲン部位を有する構造としては、上記の構造の他フェニルビシクロヘキシル環、ビシクロヘキシル環、下記式（ｌ１）〜（ｌ２）に示す構造、安息香酸などのように側鎖同士が水素結合することでメソゲン部位となる構造を用いることができる。
【００２３】
【化２】
2019148716.tif 000003
【００２４】
特定重合体（Ｐ）が液晶性を発現する部分構造を有する場合、液晶性を示す温度範囲（以下「液晶温度範囲」ともいう。）は特に制限されないが、得られる液晶配向膜の配向規制力及び配向安定性を十分に高くする観点から、液晶温度範囲が９０〜３８０℃の範囲内にあることが好ましく、１００〜３５０℃の範囲内にあることがより好ましい。
【００２５】
特定重合体（Ｐ）を水平配向型の液晶素子の製造に用いる場合、側鎖基（ｆ）としては、下記式（１）〜（６）及び下記式（Ｔ−１）〜（Ｔ−２）よりなる群から選ばれる少なくとも１種の側鎖を含むことが好ましい。
【００２６】
【化３】
2019148716.tif 000004
【００２７】
式中、Ａ、Ｂ、Ｄはそれぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、又は−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−を表す；
Ｓは、炭素数１〜１２のアルキレン基であり、それらに結合する水素原子はハロゲン基に置き換えられていてもよい；
Ｔは、単結合または炭素数１〜１２のアルキレン基であり、それらに結合する水素原子はハロゲン基に置き換えられていてもよい；
Ｙ１は、１価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環および炭素数５〜８の脂環式炭化水素から選ばれる環を表すか、それらの置換基から選ばれる同一又は相異なった２〜６の環が結合基Ｂを介して結合してなる基であり、それらに結合する水素原子は、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＮ）２、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＮで置換されても良い；
Ｙ２は、２価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環、炭素数５〜８の脂環式炭化水素、および、それらの組み合わせからなる群から選ばれる基であり、それらに結合する水素原子はそれぞれ独立に−ＮＯ２、−ＣＮ、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＮ）２、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＮ、ハロゲン基、炭素数１〜５のアルキル基、又は炭素数１〜５のアルキルオキシ基で置換されても良い；
Ｒは、ヒドロキシ基、メトキシ基を表す；
Ｖは、−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−（Ｃ６Ｈ４）ｎ−ＣＯ−（ｎは１〜３の整数）を表す；
Ｘは、単結合、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、又は−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−を表し、Ｘの数が２となるときは、Ｘ同士は同一でも異なっていてもよい；
Ｃｏｕは、クマリン−６−イル基またはクマリン−７−イル基を表し、それらに結合する水素原子はそれぞれ独立に−ＮＯ２、−ＣＮ、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＮ）２、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＮ、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基で置換されても良い；
ｑ１とｑ２は、一方が１で他方が０である；
ｑ３は０または１である；
Ｐ及びＱは、各々独立に、２価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環、炭素数５〜８の脂環式炭化水素、および、それらの組み合わせからなる群から選ばれる基である；ただし、Ｘが−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−である場合、−ＣＨ＝ＣＨ−が結合する側のＰ又はＱは芳香環であり、Ｐの数が２以上となるときは、Ｐ同士は同一でも異なっていてもよく、Ｑの数が２以上となるときは、Ｑ同士は同一でも異なっていてもよい；
ｋは０又は１である；
ｌ１は０または１であり、ｌ１＋ｋ≧１を満たす；
ｌ２は０〜２の整数である；
ｌ１とｌ２がともに０であるときは、Ｔが単結合であるときはＡも単結合を表す；
ｌ１が１であるときは、Ｔが単結合であるときはＢも単結合を表す；
Ｈ及びＩは、各々独立に、２価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、ピロール環、およびそれらの組み合わせから選ばれる基である。
【００２８】
【化４】
2019148716.tif 000005
【００２９】
式中、Ａ、Ｂ、Ｄはそれぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−又は−ＮＨ−ＣＯ−を表す；
Ｓは、炭素数１〜１２のアルキレン基であり、それに結合する水素原子はそれぞれ独立
にハロゲン基に置き換えられていてもよい；
Ｔは、単結合または炭素数１〜１２のアルキレン基であり、それらに結合する水素原子
はハロゲン基に置き換えられていてもよい；
Ｔが単結合であるときはＢも単結合を表す；
Ｙ１は、２価のベンゼン環である；
Ｐ１、Ｑ１及びＱ２は、それぞれ独立にベンゼン環及び炭素数５〜８の脂環式炭化水素環からなる群から選ばれる基である；
Ｒ１は、−ＣＮ、ハロゲン基、メチル基、メチルカルボニル基、炭素数３〜７のシクロアルキル基又はメトキシ基である。
Ｙ１、Ｐ１、Ｑ１及びＱ２において、ベンゼン環に結合する水素原子はそれぞれ独立に−ＣＮ、ハロゲン基、炭素数１〜５のアルキル基、（炭素数１〜５のアルキル）カルボニル基、又は炭素数１〜５のアルキルオキシ基で置換されてもよい；
Ｘ１及びＸ２は、それぞれ独立に単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表す；
ｔ１ａ、ｔ１ｂ、ｔ２ａ、ｔ２ｂはそれぞれ独立に０、１または２である、
Ｘ１の数が２となるときは、Ｘ１同士は同一でも異なっていてもよく、Ｘ２の数が２となるときは、Ｘ２同士は同一でも異なっていてもよい；
Ｑ１の数が２となるときは、Ｑ１同士は同一でも異なっていてもよく、Ｑ２の数が２となるときは、Ｑ２同士は同一でも異なっていてもよい；
特定重合体（Ｐ）をＩＰＳモード又はＦＦＳモード等の水平配向型の液晶素子の製造に用いる場合、側鎖基（ｆ）は、液晶配向性と保存安定性を両立する観点から、上記式（１）〜（６）から選ばれる少なくとも１種の側鎖基であることが好ましく、より好ましくは下記式（１−１）〜（１−３）、（２−１）〜（２−６）、（４−１）〜（４−２）、（５−１）〜（５−２）及び（６−１）よりなる群から選ばれる少なくとも１種の側鎖基であることが好ましい。
【００３０】
【化５】
2019148716.tif 000006
【００３１】
式中、Ａ、Ｂ、Ｄ、Ｙ１、Ｘ、Ｙ２、及びＲは、上記と同じ定義を有する；
ｌは１〜１２の整数を表す；
ｍは、０〜２の整数を表し、ｍ１、ｍ２は１〜３の整数を表す；
ｎは０〜１２の整数（ただしｎ＝０のときＢは単結合である）を表す。
【００３２】
【化６】
2019148716.tif 000007
【００３３】
【化７】
2019148716.tif 000008
【００３４】
式中、Ａ、Ｘ、ｌ及びｍは、上記と同じ定義を有する。
【００３５】
【化８】
2019148716.tif 000009
【００３６】
式中、Ａ、Ｂ、Ｙ１、ｑ１、ｑ２、ｍ１、及びｍ２は、上記と同じ定義を有する。
【００３７】
Ｒ１は、水素原子、−ＮＯ２、−ＣＮ、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＮ）２、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＮ、ハロゲン基を表す。
【００３８】
【化９】
2019148716.tif 000010
【００３９】
式中、Ａ、Ｙ１、Ｘ、ｌ及びｍは上記と同じ定義を有する。
【００４０】
特定重合体（Ｐ）をＴＮモード又はＳＴＮモード等の水平配向型の液晶素子の製造に用いる場合、側鎖基（ｆ）は、液晶配向性と保存安定性を両立する観点から、上記式（１）、（２）及び上記式（Ｔ−１）〜（Ｔ−２）よりなる群から選ばれる少なくとも１種の側鎖基を用いることが好ましく、より好ましくは上記式（１−１）〜（１−３）、（２−１）〜（２−６）、下記式（Ａ−１−１）〜（Ａ−１−７）及び（Ａ−２−１）〜（Ａ−２−１４）よりなる群から選ばれる少なくとも１種の側鎖基であることが好ましい。
【００４１】
【化１０】
2019148716.tif 000011
【００４２】
【化１１】
2019148716.tif 000012
【００４３】
式中、ｓ１およびｓ２はそれぞれ独立にメチレン基の数を表し、２乃至９の自然数である。
【００４４】
【化１２】
2019148716.tif 000013
【００４５】
【化１３】
2019148716.tif 000014
【００４６】
（式中、ｓ１およびｓ２はそれぞれ独立に２乃至９の自然数である。）
［その他の液晶性側鎖基（ｊ）］
その他の液晶性側鎖基（ｊ）としては、配向性を高める観点で、下記式（Ｒ−１）〜（Ｒ−４）よりなる群から選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。
【００４７】
【化１４】
2019148716.tif 000015
【００４８】
式中、Ａは上記式（１−１）〜（１−６）と同じ定義を有する；
Ｒ３は、水素原子、−ＮＯ２、−ＣＮ、−ＣＨ＝Ｃ（ＣＮ）２、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＮ、ハロゲン基、１価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、窒素含有複素環、炭素数５〜８の脂環式炭化水素、炭素数１〜２のアルキル基、又は炭素数１〜２のアルコキシ基を表す；
ｌは１〜１２の整数を表し、ｍ１ａ〜ｍ１ｅ、ｍ２ａ〜ｍ２ｅ、ｍ３ａ、ｍ３ｂ、ｍ４ａ、ｍ４ｂはそれぞれ独立して０から２の整数を表し、但し、式（Ｒ−１）〜（Ｒ−２）において、ｍ１ａ＋ｍ１ｂ＋ｍ１ｃ＋ｍ１ｄ＋ｍ１ｅ≧２又はｍ２ａ＋ｍ２ｂ＋ｍ２ｃ＋ｍ２ｄ＋ｍ２ｅ≧２を満たし、式（Ｒ−３）〜（Ｒ−４）において、全てのｍ３ａ＋ｍ３ｂ≧１又はｍ４ａ＋ｍ４ｂ≧１を満たす；
Ｒ３は、水素原子、−ＮＯ２、−ＣＮ、ハロゲン基、１価のベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環、フラン環、窒素含有複素環、及び炭素数５〜８の脂環式炭化水素、および、アルキル基、又はアルキルオキシ基を表す；
Ｚ１は単結合、−ＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２−を表す。
［プレチルトを発現する部分構造］
本発明の特定重合体（Ｐ）を、垂直配向型の液晶素子の製造に用いる場合、特定重合体（Ｐ）は、プレチルトを発現する部分構造を有していることが好ましい。
【００４９】
プレチルトを発現する部分構造は、液晶配向剤を用いて形成した高分子薄膜にプレチルト角を付与する構造である。具体例としては、下記式（Ｈ）で表される部分構造が挙げられる。
【００５０】
【化１５】
2019148716.tif 000016
【００５１】
Ａはピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、２，５−チオフェニレン、２，５−フラニレン、１，４−若しくは２，６−ナフチレン又はフェニレンを表し、任意の水素原子はフッ素、塩素、シアノから選択される基によるか、又は炭素数１〜５のアルコキシ基、直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル残基（アルキル残基に含まれる任意の水素原子は１個のシアノ基又は１個以上のハロゲン原子で置換されている）で置換されてもよく、Ｒ１は単結合、酸素原子、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり、Ｒ２は２価の芳香族基、２価の脂環式基、２価の複素環式基または２価の縮合環式基であり、Ｒ３は単結合、酸素原子、−ＣＯＯ−または−ＯＣＯ−であり、Ｒ４は炭素数３〜２０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を含む炭素数３〜４０の１価の有機基であり、ａは０〜３の整数であり、＊は結合位置を表す。
【００５２】
Ｒ２の２価の芳香族基として、例えば１，４−フェニレン基、２−フルオロ−１，４−フェニレン基、３−フルオロ−１，４−フェニレン基、２，３，５，６−テトラフルオロ−１，４−フェニレン基、ナフチレン基等を挙げることができる。
【００５３】
Ｒ２の２価の脂環式基として、例えばトランス１，４−シクロヘキシレン、トランス−トランス−１，４−ビシクロヘキシレン等を挙げることができる。
【００５４】
Ｒ２の２価の複素環式基として、例えば１，４−ピリジレン基、２，５−ピリジレン基、１，４−フラニレン基、１，４−ピペラジン基、１，４−ピペリジン基等を挙げることができる。
【００５５】
Ｒ２は、１，４−フェニレン基、トランス１，４−シクロヘキシレン、トランス−トランス−１，４−ビシクロヘキシレンであるのがよい。
【００５６】
Ｒ４の炭素数３〜２０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を含む炭素数３〜４０の１価の有機基としては、例えば炭素数１３〜２０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、又はこれらのアルキル基がコレステニル基、コレスタニル基、アダマンチル基、シクロヘキシル基、ビシクロヘキシル基等の環状基に結合した構造を挙げることができ、このアルキル基の水素原子の一部または全部はフッ素原子により置換されていてもよい。炭素数３〜２０の直鎖又は分岐鎖のアルキル基の例としては、例えばｎ−プロピル、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ラウリル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−エイコシル基、４，４，４−トリフロロブチル基、４，４，５，５，５−ペンタフルオロペンチル、４，４，５，５，６，６，６−ヘプタフルオロヘキシル基、３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、２−（パーフルオロブチル）エチル基、２−（パーフルオロオクチル）エチル基、２−（パーフルオロデシル）エチル基等を挙げることができる。
【００５７】
プレチルトを発現する部分構造は光配向性基と同一の構造単位であっても、光配向性と異なる構造単位であってもよい。プレチルトを調整しやすい観点から、プレチルトを発現する部分構造は光配向性基と同一の構造単位であることが好ましく、合成が容易である観点で、側鎖基（ｆ）がプレチルトを発現する部分構造を有することが好ましく、このような側鎖基（ｆ）の具体例としては、下記式（Ｖ）の側鎖基を挙げることができる。
【００５８】
【化１６】
2019148716.tif 000017
【００５９】
Ｚは酸素原子、または硫黄原子である。
【００６０】
Ｘａ及びＸｂは、それぞれ独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基又は炭素数１〜３のアルキル基である。
【００６１】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、ａは式（Ｈ）と同義である。
【００６２】
Ｒ５は炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、フッ素原子またはシアノ基、好ましくはメチル基、メトキシ基又はフッ素原子である。
【００６３】
ｂは０〜４の整数である。
【００６４】
Ｓｂの炭素数１〜１０の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基として、炭素数１〜８の直鎖又は分岐鎖のアルキレン基であることが好ましく、例えばメチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、ｎ−ブチレン基、ｔ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、ｎ−ヘキシレン基、ｎ−ヘプチレン基、ｎ−オクチレン基が好ましい。
Ｓｂは、下記式（Ｓｐ）で表される連結基である。
【００６５】
【化１７】
2019148716.tif 000018
【００６６】
式中、Ｗ１、Ｗ２及びＷ３は、それぞれ独立して、単結合、二価の複素環、−（ＣＨ２）ｎ−（式中、ｎは１〜２０を表す）、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、―ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−又は−Ｃ≡Ｃ−を表すが、これらの置換基において非隣接のＣＨ２基の一つ以上は独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２―、−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−、−ＯＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−又は−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−（式中、Ｒは独立して水素又は炭素原子数１から５の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を表す）で置換することができ、Ｗ３の右の結合はＺへの結合を表し、
Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立して、単結合、２価のアルキル基、２価の芳香族基、２価の脂環式基、又は２価の複素環式基から選ばれる基であり、それぞれの基は無置換であるか又は一個以上の水素原子がフッ素原子、塩素原子、シアノ基、メチル基又はメトキシ基によって置換されていても良い。
【００６７】
Ｓｂの２価の芳香族基として、例えば１，４−フェニレン基、２−フルオロ−１，４−フェニレン基、３−フルオロ−１，４−フェニレン基、２，３，５，６−テトラフルオロ−１，４−フェニレン基等を挙げることができる。
【００６８】
式（ｐａ−１−ａ）又は（ｐａ−１−ｍａ）中、Ｓｂの２価の脂環式基として、例えばトランス−１，４−シクロヘキシレン、トランス−トランス−１，４−ビシクロヘキシレン等を挙げることができる。
【００６９】
Ｓｂの２価の複素環式基として、例えば１，４−ピリジレン基、２，５−ピリジレン基、１，４−フラニレン基、１，４−ピペラジン基、１，４−ピペリジン基等を挙げることができる。
【００７０】
Ｓｂは、炭素数１〜８のアルキレン基であることが好ましく、より好ましくは炭素数１〜６のアルキレン基であり、さらに好ましくは炭素数１〜４のアルキレン基であるのがよい。
【００７１】
プレチルトを発現する部分構造を有する側鎖基（ｆ）としては、プレチルト発現能に優れる観点から、下記式（Ｖ−１）〜（Ｖ−１１）よりなる群から選ばれる少なくとも１種の側鎖基であることが好ましい。
【００７２】
【化１８】
2019148716.tif 000019
【００７３】
特定重合体（Ｐ）の主骨格の種類は、保存安定性が高い観点から、好ましくは、重合性不飽和結合を有するモノマーの重合体である。特定重合体（Ｐ）の重合に用いるモノマーは、重合性不飽和結合を有していれば特に限定されないが、例えば（メタ）アクリル系化合物、共役ジエン化合物、芳香族ビニル化合物、マレイミド化合物、α−メチレン−γ−ブチロラクトン化合物、ノルボルネン化合物等が挙げられる。重合が容易な観点から、特定重合体（Ｐ）は、（メタ）アクリル系化合物を含むモノマーを原料として用いて得られる重合体であることが好ましい。
【００７４】
特定重合体（Ｐ）の合成に際し、（メタ）アクリル系化合物の使用割合は、合成に使用するモノマーの合計量に対して、５０モル％以上とすることが好ましく、６０モル％以上とすることがより好ましく、７０モル以上とすることがさらに好ましい。なお、本明細書において「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタクリルを含む意味である。
【００７５】
特定重合体（Ｐ）は、例えば重合性不飽和結合を有するモノマーを重合開始剤の存在下で重合することにより得ることができる。使用するモノマーは、重合性不飽和結合と上記側鎖基（ｆ）とを有する化合物（以下、「光配向性モノマー」とも称する）を含んでいることが好ましい。光配向性モノマーの具体例としては、例えば上記式（１）〜式（６）、上記式（Ｔ−１）〜式（Ｔ−２）又は上記式（Ｖ）で表される側鎖基に重合性不飽和結合が結合したモノマーが挙げられる。また、本発明の特定重合体（Ｐ）が、その他の液晶性側鎖基（ｊ）を含む場合には、重合性不飽和結合とその他の液晶性側鎖基（ｊ）とを有する化合物（以下、「その他の液晶性側鎖モノマー」とも称する）を含んでいることが好ましく、上記その他の液晶性側鎖基（ｊ）に重合性不飽和結合が結合したモノマーを原料の一部に用いることが好ましい。
［側鎖基（ｇ）］
側鎖基（ｇ）としては、前記したように部分構造（ｍ）を有していてもよく、このような側鎖基（ｇ）としては、液晶配向性を高める観点で、下記式（Ｒ−５）〜（Ｒ−９）よりなる群から選ばれる少なくとも１種の側鎖基であることが好ましい。
【００７６】
【化１９】
2019148716.tif 000020
【００７７】
式中、Ａ及びＢは上記式（１−１）〜（１−６）と同じ定義を有する；
ｌは１〜１２の整数を表し、ｍ５は１〜３の整数を表し、ｍ７、ｍ８、ｍ９は１〜２の整数を表す。
【００７８】
側鎖基（ｇ）としては、上記式（Ｒ−５）〜（Ｒ−９）以外のその他の極性基含有側鎖から選ばれてもよい。その他の極性基含有側鎖としては、下記式（Ｕ）で示される側鎖基を挙げることができる。尚、特定重合体（Ｐ）を垂直配向型の液晶表示素子に用いる場合、垂直配向性を高める観点で、特定重合体（Ｐ）は側鎖基（ｆ）と側鎖基（ｕ）とを含むことが好ましい。
【００７９】
【化２０】
2019148716.tif 000021
【００８０】
Ｓａは、単結合又は２価の連結基を表し、Ｉａ１は、カルボキシ基、水酸基、下記式（ａ２）の少なくとも一つの部分構造を有する基または１級アミノ基から選ばれる１価の有機基を示す。但し、下記式（ａ２）は１級アミノ基以外の基を示す。
【００８１】
【化２１】
2019148716.tif 000022
【００８２】
式中、＊は結合手を示す。
【００８３】
上記式（ａ２）の部分構造を有する基としては、例えば５員または６員の窒素含有複素環等を挙げることができ、例えばピペリジン、モルホリン等を挙げることができる。これらのそれぞれの基は無置換であるか又は一個以上の水素原子がフッ素原子、塩素原子、シアノ基、メチル基又はメトキシ基によって置換されていても良い。Ｉａ１の好ましい例として、カルボキシ基、および水酸基から選ばれる１価の有機基を挙げることができる。
【００８４】
Ｓａにおける２価の連結基としては、例えば、炭素数１〜１０（好ましくは１〜６）のアルカンジイル基、炭素数６〜２０（好ましくは６〜１４）のアリーレン基、（＊Ａ）−ＣＯＮＨ−Ｒ６−（＊Ｂ）基、（＊Ａ）−ＣＯＯ−Ｒ７−（＊Ｂ）基等が挙げられる。ここで、Ｒ６及びＲ７は、相互に独立に、単結合、又は炭素数１〜１２（好ましくは１〜６）のアルカンジイル基、炭素数６〜２０（好ましくは６〜１４）のアリーレン基、アルキレンオキシアリーレン基を示し、アルカンジイル基の任意の炭素−炭素結合は−Ｏ−結合を有してもよく、（＊Ａ）は不飽和結合を有する炭素原子と結合する結合手であることを示し、（＊Ｂ）はＩａ１と結合する結合手であることを示す。アルカンジイル基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、エタン−１，１−ジイル基、プロパン−１，１−ジイル基、プロパン−１，２−ジイル基、プロパン−１，３−ジイル基、プロパン−２，２−ジイル基、ブタン−１，２−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基等を挙げることができる。また、アリーレン基としては、例えば、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、アントリレン基等を挙げることができる。アルキレンオキシアリーレン基としては、例えば、エチレンオキシフェニレン基、ヘキシレンオキシフェニレン基、ヘキシレンオキシビフェニル基等を挙げることができる。中でも、Ｓａにおける２価の連結基としては、炭素数１〜１０（好ましくは１〜６）のアルカンジイル基、炭素数６〜２０（好ましくは６〜１４）のアリーレン基、（＊Ａ）−ＣＯＯ−Ｒ７−（＊Ｂ）基が好ましく、Ｒ７としては、炭素数２〜６のアルカンジイル基が好ましい。
【００８５】
本発明の特定重合体（Ｐ）の合成に用いるモノマーは、重合性不飽和結合と上記側鎖基（ｇ）とを有する化合物（以下、「極性モノマー」とも称する）を含んでいることが好ましく、このような化合物として、前記式（Ｒ−５）〜（Ｒ−９）から選ばれる側鎖基と重合性不飽和結合とを有する化合物、前記式（ｕ）で表される基と重合性不飽和結合を有する化合物（以下、モノマー（ｕ−１）とも称する）等を挙げることができる。中でも、極性モノマーとしては、（Ｒ−５）〜（Ｒ−９）から選ばれる側鎖基に重合性不飽和結合が結合した化合物及びモノマー（ｕ−１）で示される化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種を用いることが好ましい。
［モノマー（ｕ−１）］
モノマー（ｕ−１）として、下記式（ｕ−１）の構造を挙げることができる。
【００８６】
【化２２】
2019148716.tif 000023
【００８７】
式中、Ｉａ１及びＳａは、前記式（ｕ）と同義であり、ｒ１は、１又は２である。
【００８８】
カルボキシ基を有する上記式（ｕ−１）の具体例として、例えば、（メタ）アクリル酸、カルボキシエチル（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレート、クロトン酸、イソクロトン酸、α−エチルアクリル酸、β−エチルアクリル酸、β−プロピルアクリル酸、β−イソプロピルアクリル酸、イタコン酸、フマール酸、ビニル安息香酸等を挙げることができる。また、アミノ基を有する上記式（ｕ−１）の具体例として、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチルアミノエチル等を挙げることができる。水酸基を有する上記式（ｕ−１）の具体例として、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、８−ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、１０−ヒドロキシデシル（メタ）アクリレート、１２−ヒドロキシラウリル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、その他、（４−ヒドロキシメチルシクロへキシル）メチルアクリレート、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシ（メタ）アクリルアミド等を挙げることができる。
上記式（ａ２）の部分構造を有する基を有する上記式（ｕ−１）の具体例としては、メタクリル酸２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル等を挙げることができる。 
【００８９】
本発明の特定重合体（Ｐ）の合成に用いる光配向性モノマー、極性モノマー、又はその他の液晶性側鎖モノマーはそれぞれ、１種類単独で用いてもよく、２種以上を組合せて用いてもよい。
【００９０】
特定重合体（Ｐ）の合成に用いる光配向性モノマーの使用割合は、特定重合体（Ｐ）の合成に使用するモノマーの合計量に対して、光配向性を高める観点から、５モル％以上であることが好ましく、１０モル％以上であることがより好ましい。光配向性モノマーの使用割合と極性基モノマーの使用割合との合計量は、保存安定性を高める観点から１００モル％以下であることが好ましく、９５モル％以下であることが好ましい。
【００９１】
なお、特定重合体（Ｐ）の合成に際しては、重合性不飽和結合を有するモノマーとして、上記以外のその他のモノマーを併用してもよい。その他のモノマーの使用割合は、特定重合体（Ｐ）の合成に使用するモノマーの合計量に対して、上限値は５０モル％以下とすることが好ましく、４０モル％以下とすることがより好ましい。
【００９２】
その他のモノマーとしては、例えば工業的に入手できる重合反応可能なモノマーが挙げられる。
【００９３】
その他のモノマーの具体例としては、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物及びビニル化合物等が挙げられる。
【００９４】
アクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ベンジルアクリレート、ナフチルアクリレート、アントリルアクリレート、アントリルメチルアクリレート、フェニルアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、３−メトキシブチルアクリレート、２−メチル−２−アダマンチルアクリレート、２−プロピル−２−アダマンチルアクリレート、８−メチル−８−トリシクロデシルアクリレート、及び、８−エチル−８−トリシクロデシルアクリレート等が挙げられる。
【００９５】
メタクリル酸エステル化合物としては、例えば、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、アントリルメタクリレート、アントリルメチルメタクリレート、フェニルメタクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート、メトキシトリエチレングリコールメタクリレート、２−エトキシエチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、３−メトキシブチルメタクリレート、２−メチル−２−アダマンチルメタクリレート、２−プロピル−２−アダマンチルメタクリレート、８−メチル−８−トリシクロデシルメタクリレート、及び、８−エチル−８−トリシクロデシルメタクリレート等が挙げられる。  グリシジル（メタ）アクリレート、（３−メチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、および（３−エチル−３−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレートなどの環状エーテル基を有する（メタ）アクリレート化合物も用いることができる。
【００９６】
ビニル化合物としては、例えば、ビニルエーテル、メチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、及び、プロピルビニルエーテル等が挙げられる。
【００９７】
スチレン化合物としては、例えば、スチレン、メチルスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン等が挙げられる。
【００９８】
マレイミド化合物としては、例えば、マレイミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、及びＮ−シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。
【００９９】
特定重合体（Ｐ）の製造方法については、特に限定されるものではなく、工業的に扱われている汎用な方法が利用できる。具体的には、カチオン重合やラジカル重合、アニオン重合により製造することができる。これらの中では反応制御のしやすさなどの観点からラジカル重合が特に好ましい。
【０１００】
ラジカル重合の重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤や、可逆的付加−開裂型連鎖移動（ＲＡＦＴ）重合試薬等の公知の化合物を使用することができる。
【０１０１】
ラジカル熱重合開始剤は、分解温度以上に加熱することにより、ラジカルを発生させる化合物である。このようなラジカル熱重合開始剤としては、例えば、ケトンパーオキサイド類（メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド等）、ジアシルパーオキサイド類（アセチルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド等）、ハイドロパーオキサイド類（過酸化水素、ｔｅｒｔ−ブチルハイドパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等）、ジアルキルパーオキサイド類  （ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド等）、パーオキシケタール類（ジブチルパーオキシ  シクロヘキサン等）、アルキルパーエステル類（パーオキシネオデカン酸−ｔｅｒｔ−ブチルエステル、  パーオキシピバリン酸−ｔｅｒｔ−ブ
チルエステル、パーオキシ  ２−エチルシクロヘキサン酸−ｔｅｒｔ−アミルエステル等）、過硫酸塩類（過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム等）、アゾ系化合物（アゾビスイソブチロニトリル、および２，２′−ジ（２−ヒドロキシエチル）アゾビスイソブチロニトリル等）が挙げられる。このようなラジカル熱重合開始剤は、１種を単独で使用することもできるし、あるいは２種以上を組み合わせて使用することもできる。
【０１０２】
ラジカル光重合開始剤は、ラジカル重合を光照射によって開始する化合物であれば特に限定されない。このようなラジカル光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−エチルアントラキノン、アセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−４’−イソプロピルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、カンファーキノン、ベンズアントロン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］
−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４，４’−トリ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、２−（４’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（３’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’，４’−ジメトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２’−メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４’−ペンチルオキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−［ｐ−Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシカルボニルメチル）］−２，６−ジ（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−ｓ−トリアジン、１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（４’−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズオキサゾール、２−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）ベンズチアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、３，３’−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、３−（２−メチル−２−ジメチルアミノプロピオニル）カルバゾール、３，６−ビス（２−メチル−２−モルホリノプロピオニル）−９−ｎ−ドデシルカルバゾール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ビス（５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ジ（メトキシカルボニル）−４，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４’−ジ（メトキシカルボニル）−４，３’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４，４’−ジ（メトキシカルボニル）−３，３’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２−（３−メチル−３Ｈ−ベンゾチアゾール−２−イリデン）−１−ナフタレン−２−イル−エタノン、又は２−（３−メチル−１，３−ベンゾチアゾール−２（３Ｈ）−イリデン）−１−（２−ベンゾイル）エタノン等を挙げることができる。これらの化合物は単独で使用してもよく、２つ以上を混合して使用することもできる。
【０１０３】
ラジカル重合法は、特に制限されるものでなく、乳化重合法、懸濁重合法、分散重合法、沈殿重合法、塊状重合法、溶液重合法等を用いることができる。
【０１０４】
本発明の液晶配向剤の重合反応に用いる有機溶媒としては、生成した高分子が溶解するものであれば特に限定されない。その具体例を以下に挙げる。
【０１０５】
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、イソプロピルアルコール、メトキシメチルペンタノール、ジペンテン、エチルアミルケトン、メチルノニルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトール、エチルカルビトール、エチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、トリプロピレングリコールメチルエーテル、３−メチル−３−メトキシブタノール、ジイソプロピルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジイソブチレン、アミルアセテート、ブチルブチレート、ブチルエーテル、ジイソブチルケトン、メチルシクロへキセン、プロピルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジオキサン、ｎ−へキサン、ｎ−ペンタン、ｎ−オクタン、ジエチルエーテル、シクロヘキサノン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸メチルエチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸、３−メトキシプロピオン酸、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、ジグライム、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、３−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、３−エトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、３−ブトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド等が挙げられる。
【０１０６】
これら有機溶媒は単独で使用しても、混合して使用してもよい。さらに、生成する高分子を溶解させない溶媒であっても、生成した高分子が析出しない範囲で、上述の有機溶媒に混合して使用してもよい。
【０１０７】
また、ラジカル重合において有機溶媒中の酸素は重合反応を阻害する原因となるので、有機溶媒は可能な程度に脱気されたものを用いることが好ましい。
【０１０８】
ラジカル重合の際の重合温度は３０℃〜１５０℃の任意の温度を選択することができるが、好ましくは５０℃〜１００℃の範囲である。また、反応は任意の濃度で行うことができるが、濃度が低すぎると高分子量の重合体を得ることが難しくなり、濃度が高すぎると反応液の粘性が高くなり過ぎて均一な攪拌が困難となるので、モノマー濃度が、好ましくは１質量％〜５０質量％、より好ましくは５質量％〜３０質量％である。反応初期は高濃度で行い、その後、有機溶媒を追加することができる。
【０１０９】
上述のラジカル重合反応においては、ラジカル重合開始剤の比率がモノマーに対して多いと得られる高分子の分子量が小さくなり、少ないと得られる高分子の分子量が大きくなるので、ラジカル開始剤の比率は重合させるモノマーに対して０．１モル％〜１０モル％であることが好ましい。また重合時には各種モノマー成分や溶媒、開始剤などを追加することもできる。
［重合体の回収］
上述の反応により得られた、特定重合体（Ｐ）の反応溶液から、生成した高分子を回収する場合には、反応溶液を貧溶媒に投入して、それら重合体を沈殿させれば良い。沈殿に用いる貧溶媒としては、メタノール、アセトン、ヘキサン、ヘプタン、ブチルセルソルブ、ヘプタン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エタノール、トルエン、ベンゼン、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、水等を挙げることができる。貧溶媒に投入して沈殿させた重合体は、濾過して回収した後、常圧あるいは減圧下で、常温あるいは加熱して乾燥することができる。また、沈殿回収した重合体を、有機溶媒に再溶解させ、再沈殿回収する操作を２回〜１０回繰り返すと、重合体中の不純物を少なくすることができる。この際の貧溶媒として、例えば、アルコール類、ケトン類、炭化水素等が挙げられ、これらの中から選ばれる３種類以上の貧溶媒を用いると、より一層精製の効率が上がるので好ましい。
【０１１０】
本発明の特定重合体（Ｐ）の分子量は、得られる塗膜の強度、塗膜形成時の作業性、および塗膜の均一性を考慮した場合、ＧＰＣ（Gel Permeation Chromatography）法で測定した重量平均分子量が、２０００〜１００００００が好ましく、より好ましくは、５０００〜１０００００である。
＜重合体組成物＞
本発明に用いられる重合体組成物は、液晶配向膜の形成に好適となるように塗布液として調製されることが好ましい。すなわち、本発明に用いられる重合体組成物は、樹脂被膜を形成するための樹脂成分が有機溶媒に溶解した溶液として調製されることが好ましい。ここで、その樹脂成分とは、既に説明した特定重合体（Ｐ）を含む樹脂成分である。その際、樹脂成分の含有量は、１質量％〜２０質量％が好ましく、より好ましくは３質量％〜１５質量％、特に好ましくは３質量％〜１０質量％である。
【０１１１】
本実施形態の重合体組成物において、前述の樹脂成分は、全てが上述した特定重合体（Ｐ）であってもよいが、電気特性や電圧保持率を高める観点から、それら以外の他の重合体が混合されていてもよい。その際、樹脂成分中における他の重合体の含有量は、０．５質量％〜８０質量％、好ましくは１質量％〜５０質量％である。
【０１１２】
そのような他の重合体は、例えば、ポリ（メタ）アクリレートやポリアミック酸やポリイミド等からなり、上記以外の重合体等が挙げられる。
＜特定溶媒＞
本発明の重合体組成物に含有される特定溶媒は、下記式（Ｘ）で表される。
【０１１３】
【化２３】
2019148716.tif 000024
【０１１４】
Ｒ１〜Ｒ３の炭素数１〜３のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基が挙げられ、中でもメチル基が好ましい。上記式（ＯＳ−１）で表される化合物の具体例としては、例えばラクトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルラクトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルラクトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルラクトアミド、Ｎ−エチルラクトアミド、Ｎ−イソプロピルラクトアミド等が挙げられ、中でもＮ，Ｎ−ジメチルラクトアミドが特に好ましい。
【０１１５】
上記特定溶媒の含有量は、液晶配向剤に含有させる溶媒全体の１〜１００質量％が好ましく、１〜９０質量％がより好ましい。
＜その他の溶媒＞
本発明の重合体組成物に用いるその他の有機溶媒は、樹脂成分を溶解させる有機溶媒であれば特に限定されない。その具体例を以下に挙げる。
【０１１６】
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルカプロラクタム、２−ピロリドン、Ｎ−エチルピロリドン、Ｎ−ビニルピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、３−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、３−エトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、３−ブトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、１，３−ジメチル−イミダゾリジノン、エチルアミルケトン、メチルノニルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジグライム、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、トリプロピレングリコールメチルエーテル等が挙げられる。これらは単独で使用しても、混合して使用してもよい。
【０１１７】
本発明に用いられる重合体組成物は、特定重合体（Ｐ）以外の成分を含有してもよい。その例としては、重合体組成物を塗布した際の、膜厚均一性や表面平滑性を向上させる溶媒や化合物、基板との密着性を向上させる化合物等を挙げることができるが、これに限定されない。
【０１１８】
膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる溶媒（貧溶媒）の具体例としては、次のものが挙げられる。
【０１１９】
例えば、イソプロピルアルコール、メトキシメチルペンタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルカルビトール、エチルカルビトール、エチルカルビトールアセテート、エチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、トリプロピレングリコールメチルエーテル、３−メチル−３−メトキシブタノール、ジイソプロピルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジイソブチレン、アミルアセテート、ブチルブチレート、ブチルエーテル、ジイソブチルケトン、メチルシクロへキセン、プロピルエーテル、ジヘキシルエーテル、１−ヘキサノール、ｎ−へキサン、ｎ−ペンタン、ｎ−オクタン、ジエチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸メチルエチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸、３−メトキシプロピオン酸、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、１−メトキシ−２−プロパノール、１−エトキシ−２−プロパノール、１−ブトキシ−２−プロパノール、１−フェノキシ−２−プロパノール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート、プロピレングリコール−１−モノエチルエーテル−２−アセテート、ジプロピレングリコール、２−（２−エトキシプロポキシ）プロパノール、乳酸メチルエステル、乳酸エチルエステル、乳酸ｎ−プロピルエステル、乳酸ｎ−ブチルエステル、乳酸イソアミルエステル等の低表面張力を有する溶媒等が挙げられる。
【０１２０】
これらの貧溶媒は、１種類でも複数種類を混合して用いてもよい。上述のような溶媒を用いる場合は、重合体組成物に含まれる溶媒全体の溶解性を著しく低下させることが無いように、溶媒全体の５質量％〜８０質量％であることが好ましく、より好ましくは２０質量％〜６０質量％である。
【０１２１】
膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる化合物としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびノ二オン系界面活性剤等が挙げられる。
【０１２２】
より具体的には、例えば、エフトップ（登録商標）３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（トーケムプロダクツ社製）、メガファック（登録商標）Ｆ１７１、Ｆ１７３、Ｒ−３０（ＤＩＣ社製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１（住友スリーエム社製）、アサヒガード（登録商標）ＡＧ７１０（旭硝子社製）、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８２、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ１０５、ＳＣ１０６（ＡＧＣセイミケミカル社製）等が挙げられる。これらの界面活性剤の使用割合は、重合体組成物に含有される樹脂成分の１００質量部に対して、好ましくは０．０１質量部〜２質量部、より好ましくは０．０１質量部〜１質量部である。
【０１２３】
基板との密着性を向上させる化合物の具体例としては、次に示す官能性シラン含有化合物などが挙げられる。
【０１２４】
例えば、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、２−アミノプロピルトリメトキシシラン、２−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、Ｎ−トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、１０−トリメトキシシリル−１，４，７−トリアザデカン、１０−トリエトキシシリル−１，４，７−トリアザデカン、９−トリメトキシシリル−３，６−ジアザノニルアセテート、９−トリエトキシシリル−３，６−ジアザノニルアセテート、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【０１２５】
さらに、基板と液晶表示素子を構成した時のバックライトによる電気特性の低下等を防ぐ目的で、以下のようなフェノプラスト系やエポキシ基含有化合物の添加剤を、重合体組成物中に含有させても良い。具体的なフェノプラスト系添加剤を以下に示すが、この構造に限定されない。
【０１２６】
【化２４】
2019148716.tif 000025
【０１２７】
具体的なエポキシ基含有化合物としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、２，２−ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，３，５，６−テトラグリシジル−２，４−ヘキサンジオール、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン（例えば、三菱ガス化学（株）製、商品名「ＴＥＴＲＡＤ−Ｃ」等）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，−テトラグリシジル−４、４’−ジアミノジフェニルメタンなどが例示される。
【０１２８】
基板との密着性を向上させる化合物を使用する場合、その使用量は、重合体組成物に含有される樹脂成分の１００質量部に対して０．１質量部〜３０質量部であることが好ましく、より好ましくは１質量部〜２０質量部である。使用量が０．１質量部未満であると密着性向上の効果は期待できず、３０質量部よりも多くなると液晶の配向性が悪くなる場合がある。
【０１２９】
添加剤として、光増感剤を用いることもできる。無色増感剤および三重項増感剤が好ましい。
【０１３０】
光増感剤としては、芳香族ニトロ化合物、クマリン（７−ジエチルアミノ−４−メチルクマリン、７−ヒドロキシ４−メチルクマリン）、ケトクマリン、カルボニルビスクマリン、芳香族２−ヒドロキシケトン、およびアミノ置換された、芳香族２−ヒドロキシケトン（２−ヒドロキシベンゾフェノン、モノ−もしくはジ−ｐ−（ジメチルアミノ）−２−ヒドロキシベンゾフェノン）、アセトフェノン、アントラキノン、キサントン、チオキサントン、ベンズアントロン、チアゾリン（２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−β−ナフトチアゾリン、２−（β−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、２−（α−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、２−（β−ナフトイルメチレン）−３−メチル
−β−ナフトチアゾリン、２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチル−β−ナフトチアゾリン、２−（ｐ−フルオロベンゾイルメチレン）−３−メチル−β−ナフトチアゾリン）、オキサゾリン（２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−β−ナフトオキサゾリン、２−（β−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾオキサゾリン、２−（α−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾオキサゾリン、２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチルベンゾオキサゾリン、２−（β−ナフトイルメチレン）−３−メチル−β−ナフトオキサゾリン、２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチル−β−ナフトオキサゾリン、２−（ｐ−フルオロベンゾイルメチレン）−３−メチル−β−ナフトオキサゾリン）、ベンゾチアゾール、ニトロアニリン（ｍ−もしくはｐ−ニトロアニリン、２，４，６−トリニトロアニリン）またはニトロアセナフテン（５−ニトロアセナフテン）、（２−［（ｍ−ヒドロキシ−ｐ−メトキシ）スチリル］ベンゾチアゾール、ベンゾインアルキルエーテル、Ｎ−アルキル化フタロン、アセトフェノンケタール（２，２−ジメトキシフェニルエタノン）、ナフタレン、アントラセン（２−ナフタレンメタノール、２−ナフタレンカルボン酸、９−アントラセンメタノール、および９−アントラセンカルボン酸）、ベンゾピラン、アゾインドリジン、メロクマリン等がある。
【０１３１】
好ましくは、芳香族２−ヒドロキシケトン（ベンゾフェノン）、クマリン、ケトクマリン、カルボニルビスクマリン、アセトフェノン、アントラキノン、キサントン、チオキサントン、およびアセトフェノンケタールである。
【０１３２】
重合体組成物には、上述したものの他、得られる液晶配向膜の誘電率や導電性などの電気特性を変化させる目的で、誘電体や導電物質を添加してもよい。
＜液晶素子の製造方法＞
本発明の液晶素子は、上記のような本発明の重合体組成物を用いて形成した配向膜を具備するものである。本発明の液晶素子の駆動モードは特に限定せず、種々の駆動モードに適用することができる。液晶素子は、例えば以下の工程１〜工程３を含む方法により製造することができる。工程１は、所望の動作モードによって使用基板が異なる。工程２及び工程３は各動作モード共通である。
（１）本発明の重合体組成物を用いて基板上に塗膜を形成する工程、
（２）塗膜面に配向性を付与する処理を施す工程、及び
（３）塗膜を形成した一対の基板を、液晶分子の層を介して塗膜が相対するように対向配
置して液晶セルを構成する工程。
【０１３３】
以下、上記各製造方法について順に説明する。
【０１３４】
[第１の製造方法]
上記第１の製造方法における工程（１）は、所望の動作モードによって使用基板が異なる。工程（３）は各動作モードに共通である。
［工程（１）；塗膜の形成］
先ず基板上に本発明の重合体組成物を塗布し、次いで塗布面を加熱することにより基板上に塗膜を形成する。
（１−１）例えばＴＮモード、ＳＴＮモード又はＶＡモードの液晶表示素子を製造する場合、まず、パターニングされた透明導電膜が設けられている基板二枚を一対として、その各透明性導電膜形成面上に、本発明の重合体組成物を、好ましくはオフセット印刷法、スピンコート法、ロールコーター法又はインクジェット印刷法によりそれぞれ塗布する。基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラスなどのガラス；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリ（脂環式オレフィン）などのプラスチックからなる透明基板を用いることができるが、得られる液晶素子の適用範囲が広がる観点から、上記プラスチックからなる透明基板を用いることが好ましい。基板の一面に設けられる透明導電膜としては、酸化スズ（ＳｎＯ２）からなるＮＥＳＡ膜（米国ＰＰＧ社登録商標）、酸化インジウム−酸化スズ（Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２）からなるＩＴＯ膜などを用いることができる。
【０１３５】
重合体組成物を塗布した後、塗布した重合体組成物の液垂れ防止などの目的で、好ましくは予備加熱（プレベーク）が実施される。プレベーク温度は、好ましくは３０〜２００℃であり、より好ましくは４０〜１５０℃であり、特に好ましくは４０〜１００℃である。プレベーク時間は、好ましくは０．２５〜１０分であり、より好ましくは０．５〜５分である。尚プレベークは、一段階で行うか、もしくは２段階以上の多段階で行ってもよい。
（１−２）ＩＰＳモード又はＦＦＳモードの液晶表示素子を製造する場合、櫛歯型にパターニングされた透明導電膜又は金属膜からなる電極が設けられている基板の電極形成面と、電極が設けられていない対向基板の一面とに、本発明の重合体組成物をそれぞれ塗布し、次いで各塗布面を加熱することにより塗膜を形成する。このとき使用される基板及び透明導電膜の材質、塗布方法、塗布後の加熱条件、並びに形成される塗膜の好ましい膜厚については上記（１−１）と同様である金属膜としては、例えばクロムなどの金属からなる膜を使用することができる。
【０１３６】
上記（１−１）及び（１−２）のいずれの場合も、基板上に重合体組成物を塗布した後、有機溶媒を除去することによって配向膜となる塗膜が形成される。
［工程（２−Ａ）：配向処理］
上記のようにして基板上に形成された塗膜に対し光照射することにより、塗膜に液晶配向能を付与して液晶配向膜とする。ここで照射する光としては、例えば１５０〜８００ｎｍの波長の光を含む紫外線、可視光線などを挙げることができる。これらのうち、３００〜４００ｎｍの波長の光を含む紫外線が好ましい。照射光は偏光であっても非偏光であってもよい。偏光としては、直線偏光を含む光を使用することが好ましい。
【０１３７】
光の照射は、用いる光が偏光である場合には、基板面に垂直の方向から行っても斜め方向から行ってもよく、あるいはこれらを組み合わせて行ってもよい。非偏光を照射する場合には、基板面に対して斜めの方向から行う必要がある。
【０１３８】
使用する光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、水銀−キセノンランプ（Ｈｇ−Ｘｅランプ）などを挙げることができる。偏光は、これらの光源を、例えばフィルター、回折格子などと併用する手段などにより得ることができる。
【０１３９】
光の照射量は、０．１ｍＪ／ｃｍ２以上１，０００ｍＪ／ｃｍ２未満とすることが好ま
しく、１〜５００ｍＪ／ｃｍ２とすることがより好ましく、２〜２００ｍＪ／ｃｍ２とす
ることがさらに好ましい。なお、本発明の液晶配向剤を用いると、光照射量が５００ｍＪ
／ｃｍ２以下、さらに２００ｍＪ／ｃｍ２以下であっても、光配向法によって良好な液晶
配向能を付与することができ、液晶配向膜の製造コストの削減に資する。
【０１４０】
また、塗膜に対する光照射は、反応性を高めるために塗膜を加温しながら行ってもよい。加温の際の温度は、通常３０〜２５０℃であり、好ましくは４０〜２００℃であり、より好ましくは５０〜１５０℃である。
［工程（２−Ｂ）：加熱処理］
ＴＮモード、ＳＴＮモード、ＩＰＳモード又はＦＦＳモードの液晶素子を製造する場合、光照射量を低減し、且つ安定な液晶配向を得る観点で、上記（２−Ａ）の工程に加えて加熱処理をすることが好ましい。加熱処理は、ホットプレート、熱循環型オーブンまたはＩＲ（赤外線）型オーブンなどの加熱手段を用いることができる。
【０１４１】
特定重合体（Ｐ）が液晶性を発現する部分構造を有する場合、加熱温度は、使用する塗膜の液晶性を発現させる温度を考慮して決めることができる。
【０１４２】
塗膜における熱による異方性の増幅効果が高い観点から、加熱処理の温度範囲は、使用する特定重合体（Ｐ）の液晶発現温度の温度範囲の下限より１０℃低い温度を下限とし、その液晶温度範囲の上限より１０℃低い温度を上限とする範囲の温度であることが好ましい。
【０１４３】
上記配向処理の工程により形成される膜の膜厚は、好ましくは０．００１〜１μｍであり、より好ましくは０．００５〜０．５μｍである。
［工程（３）：液晶セルの構築］
上記配向処理により得られた液晶配向膜が形成された基板を２枚準備し、対向配置した２枚の基板間に液晶を配置することにより液晶セルを製造する。
【０１４４】
液晶セルを製造するには、例えば以下の２つの方法が挙げられる。第一の方法は、従来から知られている方法である。先ず、それぞれの液晶配向膜が対向するように間隙（セルギャップ）を介して２枚の基板を対向配置し、２枚の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基板表面及びシール剤により区画されたセルギャップ内に液晶を注入充填した後、注入孔を封止することにより、液晶セルを製造することができる。また、第二の方法は、ＯＤＦ（Ｏｎｅ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌ）方式と呼ばれる手法である。液晶配向膜を形成した２枚の基板のうちの一方の基板上の所定の場所に、例えば紫外光硬化性のシール材を塗布し、さらに液晶配向膜面上の所定の数箇所に液晶を滴下した後、液晶配向膜が対向するように他方の基板を貼り合わせるとともに液晶を基板の全面に押し広げ、次いで基板の全面に紫外光を照射してシール剤を硬化することにより、液晶セルを製造することができる。いずれの方法による場合でも、上記のようにして製造した液晶セルにつき、さらに、用いた液晶が等方相をとる温度まで加熱した後、室温まで徐冷することにより、液晶充填時の流動配向を除去することが望ましい。
【０１４５】
工程３において、液晶層中に重合性モノマーを含む液晶セルを構築し、その構築した液晶セルに対して光照射することにより重合性モノマーを重合して、液晶の初期配向を付与する処理を行ってもよい。当該処理を行うことによって、応答速度に優れた液晶素子が得られる点で好適である。
【０１４６】
重合性モノマーとしては、光による重合性が高い点で、（メタ）アクリロイル基を２個以上有する化合物を好ましく用いることができる。その具体例としては、例えばビフェニル構造を有するジ（メタ）アクリレート、フェニル−シクロヘキシル構造を有するジ（メタ）アクリレート、２，２−ジフェニルプロパン構造を有するジ（メタ）アクリレート、ジフェニルメタン構造を有するジ（メタ）アクリレート、ジフェニルチオエーテル構造を有するジ−チオ（メタ）アクリレート、ナフタレン構造を有するジ（メタ）アクリレート、アントラセン構造を有するジ（メタ）アクリレート、フェナントレン構造を有するジ（メタ）アクリレート、光照射によってラジカルを生成する構造を有するジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。重合性モノマーの配合割合は、液晶層の形成に使用される液晶組成物の全体量に対して、０．１〜１．０質量％とすることが好ましい。なお、重合性モノマーは、１種を単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【０１４７】
液晶セルに対する光照射は、一対の電極間に電圧を印加しない状態で行ってもよく、液晶層中の液晶分子が駆動しない所定電圧（例えば０Ｖ）を印加した状態で行ってもよく、あるいは、液晶分子が駆動する所定電圧を印加した状態で行ってもよい。本開示の液晶配向剤を横電界式の液晶セルを備える液晶素子に適用する場合には、一対の電極間に電圧を印加しない状態で液晶セルに光照射することが好ましい。照射する光としては、例えば１５０〜８００ｎｍの波長の光を含む紫外線及び可視光線を用いることができるが、３００〜４００ｎｍの波長の光を含む紫外線が好ましい。光の照射方向は、用いる放射線が直線偏光又は部分偏光である場合には、基板面に垂直の方向から行ってもよく、斜め方向から行ってもよく、又はこれらを組み合わせて行ってもよい。非偏光の放射線を照射する場合、照射方向は斜め方向とする。
【０１４８】
照射光の光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマレーザー等を使用することができる。なお、上記の好ましい波長領域の紫外線は、光源を、例えばフィルター回折格子などと併用する手段等により得ることができる。光の照射量としては、好ましくは１，０００〜２００，０００Ｊ／ｍ２であり、より好ましくは１，０００〜１００，０００Ｊ／ｍ２である。
【０１４９】
重合性モノマーを液晶層中に混入する代わりに液晶配向膜中に混入しておき、液晶セルに光照射することにより、液晶に初期配向を付与してもよい。この場合、工程１では、重合性モノマーを含む重合体組成物を用いて基板上に塗膜を形成する。重合体組成物に含有させる重合性モノマーとしては、液晶層中に含有させる重合性モノマーの説明が適用される。重合性モノマーの含有割合は、重合体組成物中に含まれる重合体成分の合計１００質量部に対して、１〜１００質量部とすることが好ましく、５〜５０質量部とすることがより好ましい。
【０１５０】
続いて、必要に応じて液晶セルの外側表面に偏光板を貼り合わせることにより液晶素子が得られる。偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ素を吸収させた「Ｈ膜」と称される偏光フィルムを酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板又はＨ膜そのものからなる偏光板が挙げられる。
【０１５１】
本開示の液晶素子は種々の用途に有効に適用することができ、例えば、時計、携帯型ゲーム、ワープロ、ノート型パソコン、カーナビゲーションシステム、カムコーダー、ＰＤＡ、デジタルカメラ、携帯電話、スマートフォン、各種モニター、液晶テレビ、インフォメーションディスプレイなどの各種表示装置や、調光フィルム等に用いることができる。また、本開示の重合体組成物を用いて形成された液晶素子は位相差フィルムに適用することもできる。
＜実施例＞
以下、実施例を用いて本発明を説明するが、本発明は、該実施例に限定されるものではない。
【０１５２】
実施例で使用する略号は以下のとおりである。
（メタクリルモノマー）
【０１５３】
【化２５】
2019148716.tif 000026
【０１５４】
式（ＭＡ１）及び（ＭＡ３）〜（ＭＡ５）中、二重結合はＥ体を示す。）
（重合開始剤）
ＡＩＢＮ：２，２’−アゾビスイソブチロニトリル
（架橋剤成分）
ＴＥＴＲＡＤ−Ｃ：１，３−ビス（Ｎ，Ｎ’−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン
【０１５５】
【化２６】
2019148716.tif 000027
【０１５６】
ＭＡ１は特許文献（ＷＯ２０１１／０８４５４６）に記載の合成法にて合成した。
【０１５７】
ＭＡ２は特許文献（特開平９-１１８７１７）に記載の合成法にて合成した。
ＭＡ３は下記合成例１に記載の合成法にて合成した。
ＭＡ４は英国特許ＧＢ２３０６４７０Ｂに記載の合成法にて合成した。
ＭＡ５は非特許文献（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ ２００７, ４０, ６３５５-６３６０）に記載の合成法にて合成した。
ＭＡＡ（メタクリル酸）並びに、ＴＥＴＲＡＤ−Ｃは、市販で購入可能な試薬を用いた。
本実施例で用いる有機溶媒の略号を以下に示す。
＜有機溶媒＞
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＮＭＰ：Ｎ−メチル−２−ピロリドン
ＤＭＬ：Ｎ,Ｎ-ジメチルラクトアミド
ＢＣＳ：ブチルセロソルブ
ＰＧＭＥ：プロピレングリコールモノメチルエーテル
ＣＨＮ：シクロヘキサノン
ＨＧ：へキシレングリコール
＜分子量測定＞
合成例におけるポリマーの分子量はセンシュー科学社製  常温ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（ＳＳＣ−７２００、Ｓｈｏｄｅｘ社製カラム（ＫＤ−８０３、ＫＤ−８０５）を用い以下のようにして測定した。
カラム温度：５０℃
溶離液：ＤＭＦ（添加剤として、臭化リチウム−水和物（ＬｉＢｒ・Ｈ２Ｏ）が３０ｍｍｏｌ／Ｌ、リン酸・無水結晶（ｏ−リン酸）が３０ｍｍｏｌ／Ｌ、ＴＨＦが１０ｍｌ／Ｌ）
流速：１．０ｍｌ／分
検量線作成用標準サンプル：東ソー社製  ＴＳＫ  標準ポリエチレンオキサイド（分子量約９０００，０００、１５０，０００、１００，０００、３０，０００）、及び、ポリマーラボラトリー社製  ポリエチレングリコール（分子量  約１２，０００、４，０００、１，０００）。
＜１ＨＮＭＲの測定＞
装置：フーリエ変換型超伝導核磁気共鳴装置（ＦＴ−ＮＭＲ）「ＩＮＯＶＡ−４００」（Ｖａｒｉａｎ製）４００ＭＨｚ。
溶媒：重水素化クロロホルム（ＣＤＣｌ３）又は重水素化Ｎ，Ｎ−ジメチルスルホキシド（［Ｄ６］−ＤＭＳＯ）。
標準物質：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）。
＜＜モノマー及びポリマーの合成＞＞
＜モノマー合成例１＞
［ＭＡ３］の合成：
【０１５８】
【化２７】
2019148716.tif 000028
【０１５９】
２Ｌ四つ口フラスコに、１−ブロモ−■４−■（ｔｒａｎｓ−■４−ペンチルシクロヘキシル）■−ベンゼン（１５０．０ｇ、４８５ｍｍｏｌ）、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル（９３．２４ｇ、７２８ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（２．１８ｇ、９．７ｍｍｏｌ）、トリ（ｏ−トリル）ホスフィン（５．９０ｇ、２０ｍｍｏｌ）、トリプロピルアミン（２０８．５ｇ、１４５５ｍｍｏｌ）及びＤＭＡｃ（７５０ｇ）を加えて、１００℃に加熱しながら攪拌した。反応終了後、反応液を濾過して不溶物を除去し、濾液を純水（３．８Ｌ）に注ぎ、１２Ｎ−ＨＣｌ水溶液で中和した。中和後、酢酸エチル（２．５Ｌ）を注ぎ、抽出を行った。抽出した有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水乾燥し、無水硫酸マグネシウムを濾過した。得られた濾液をロータリーエバポレーターにて溶媒留去し、粗物を冷メタノール（１９０ｇ）にてリパルプ洗浄することで、［ＭＡ−３−１］（白色固体）を１３７．０ｇ得た（収率７９％）。
【０１６０】
２Ｌ四つ口フラスコに、［ＭＡ−３−１］（１３７．０ｇ、３８４ｍｍｏｌ）、ギ酸（１０００ｇ）を加えて、５０℃に加熱しながら攪拌した。反応終了後、反応液を純水（３．０Ｌ）に注ぎ、沈殿物を濾過した。得られた粗物を酢酸エチル（２００ｇ）にてリパルプ洗浄することで、［ＭＡ−３−２］（白色固体）を１１１．８ｇ得た（収率９６％）。目的物の１Ｈ−ＮＭＲの結果を以下に示す。この結果から、得られた固体が、目的の［ＭＡ−３−２］であることを確認した。
１Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ, ［Ｄ６］-ＤＭＳＯ）:δ１２.３４ （ｓ,１Ｈ）, ７.５３-７.６０ （ｍ,３Ｈ）, ７.２５-７.２７ （ｄ,２Ｈ）, ６.４４-６.４８ （ｄ,１Ｈ）, ２.４５-２.５１ （ｔ,１Ｈ）, １.７７-１.８３ （ｔ,４Ｈ）, １.３８-１.４８ （ｍ,２Ｈ）, １.１７-１.３４ （ｍ,９Ｈ）, ０.９７-１.０７ （ｍ,２Ｈ）, ０.８７-０.８９ （ｔ,３Ｈ）.
２Ｌ四つ口フラスコに、［ＭＡ−２−２］（３０．０ｇ、１００ｍｍｏｌ）、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル（１５．６ｇ、１１９ｍｍｏｌ）、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ）（２８．７ｇ、１５０ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（１．２２ｇ、１０ｍｍｏｌ）、ＴＨＦ（１５０ｇ）を加えて、室温で攪拌した。反応終了後、反応液を酢酸エチル（１．０Ｌ）に注ぎ、純水（８００ｍｌ）を用いて抽出を行った。抽出した有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて脱水乾燥し、無水硫酸マグネシウムを濾過した。得られた濾液をロータリーエバポレーターにて溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル：ヘキサン＝１：５体積比）にて単離することで、［ＭＡ３］（白色固体）を３６．６ｇ得た（収率８８％）。目的物の１Ｈ−ＮＭＲの結果を以下に示す。この結果から、得られた固体が、目的の［ＭＡ３］であることを確認した。
１Ｈ ＮＭＲ （４００ ＭＨｚ, ［Ｄ６］-ＤＭＳＯ）:δ７.６２-７.６６ （ｍ,３Ｈ）, ７.２５-７.２７ （ｄ,２Ｈ）, ６.５８-６.６２ （ｄ,１Ｈ）, ６.０４ （ｓ,１Ｈ）, ５.７０ （ｓ,１Ｈ）, ４.３６-４.４２ （ｍ,４Ｈ）, ２.４８-２.５２ （ｔ,１Ｈ）, １.８８ （ｓ,３Ｈ）, １.７６-１.８３ （ｔ,４Ｈ）, １.３６-１.４４ （ｍ,２Ｈ）, １.１８-１.３１ （ｍ,９Ｈ）, １.００-１.０３ （ｍ,２Ｈ）, ０.８５-０.８８ （ｔ,３Ｈ）.
＜ポリマー合成例１＞
ＭＡ１（３．９９ｇ、１２．０ｍｍｏｌ）、ＭＡ２（５．５２ｇ、１８．０ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（８８．５ｇ）中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行なった後、ＡＩＢＮを（０．２４６ｇ、１．５ｍｍｏｌ）を加え再び脱気を行なった。この後５０℃で３０時間反応させメタクリレートのポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をジエチルエーテル（１０００ｍｌ）に滴下し、得られた沈殿物をろ過した。この沈澱物をジエチルエーテルで洗浄し、４０℃のオーブン中で減圧乾燥しメタクリレートポリマー粉末（Ａ）を得た。このポリマーの数平均分子量は１５０００、重量平均分子量は３００００であった。
＜ポリマー合成例２＞
ＭＡ３（２．５ｇ、６．０ｍｍｏｌ）とＭＡＡ（２．０ｇ、２４．０ｍｍｏｌ）をＣＨＮ（１２．８ｇ）及び、ＰＧＭＥ（１２．８ｇ）中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、重合開始剤としてＡＩＢＮ（０．２ｇ、１．０ｍｍｏｌ）を加え、再び脱気を行った。この後、６０℃で１３時間反応させメタクリレートポリマー粉末（Ｂ）を得た。このポリマーの数平均分子量は４１０００、重量平均分子量は１３９０００であった。
＜ポリマー合成例３＞
ＭＡ５（３４．５ｇ：６０ｍｍｏｌ）、ＭＡ４（１７．３ｇ：４０ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（２８２ｇ）中に溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、ＡＩＢＮ（０．５ｇ：３ｍｍｏｌ）を加え再び脱気を行った。この後、６０℃で６時間反応させメタクリレートのポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をメタノール（２０００ｍｌ）に滴下し、得られた沈殿物をろ過した。この沈澱物をメタノールで洗浄し、減圧乾燥しメタクリレートポリマー粉末（Ｃ）を得た。このポリマーの数平均分子量は２５０００、重量平均分子量は９５０００であった。
＜＜液晶配向剤の調製＞＞
＜実施例１＞
得られたメタクリレートポリマー粉末（Ａ）（４．０ｇ）にＤＭＬ（５６．０ｇ）を加え、室温で５時間攪拌して溶解させた。この溶液にＢＣＳ（４０．０ｇ）を加え攪拌することにより液晶配向剤（Ａ１）を得た。
＜実施例２＞
得られたメタクリレートポリマー粉末（Ｂ）４．０ｇに、ＣＨＮ（１０．０ｇ）、ＰＧＭＥ（３０．０ｇ）、ＤＭＬ（５６．０ｇ）及びＴＥＴＲＡＤ−Ｃ（１．２ｇ）を加え室温にて撹拌することにより、液晶配向剤（Ｂ１）を得た。
＜比較例１＞
得られたメタクリレートポリマー粉末（Ａ）（４．０ｇ）にＮＭＰ（５６．０ｇ）を加え、室温で５時間攪拌して溶解させた。この溶液にＢＣＳ（４０．０ｇ）を加え攪拌することにより液晶配向剤（Ａ２）を得た。
＜比較例２＞
得られたメタクリレートポリマー粉末（Ａ）（４．０ｇ）にＮＭＰ（６６．０ｇ）を加え、室温で５時間攪拌して溶解させた。この溶液にＨＧ（３０．０ｇ）を加え攪拌することにより液晶配向剤（Ａ３）を得た。
＜比較例３＞
得られたメタクリレートポリマー粉末（Ｂ）４．０ｇに、ＣＨＮ（１０．０ｇ）、ＰＧＭＥ（３０．０ｇ）、ＮＭＰ（５６．０ｇ）及びＴＥＴＲＡＤ−Ｃ（１．２ｇ）を加え室温にて撹拌することにより、液晶配向剤（Ｂ２）を得た。
＜比較例４＞
得られたメタクリレートポリマー粉末（Ｃ）（４．０ｇ）にＮＭＰ（４６．０ｇ）を加え、室温で１時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＣＨＮ（５０．０ｇ）を加え、固形分濃度が４．０ｗｔ％、の液晶配向剤（Ｃ１）を得た。
＜比較例５＞
得られたメタクリレートポリマー粉末（Ｃ）（４．０ｇ）にＤＭＬ（４６．０ｇ）を加え、室温で１時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＣＨＮ（５０．０ｇ）を加え、固形分濃度が４．０ｗｔ％、の液晶配向剤（Ｃ２）を得た。
【０１６１】
実施例及び比較例で得られた液晶配向剤のモノマー組成を表１に示す。
【０１６２】
【表１】
2019148716.tif 000029
【０１６３】
＜粘度測定＞
液晶配向剤の粘度は、Ｅ型粘度計ＴＶＥ−２２Ｈ（東機産業社製）を用い、サンプル量１．１ｍＬ、コーンロータＴＥ−１（１°３４´、Ｒ２４）、温度２５℃で測定した。
実施例１で得られた液晶配向剤（Ａ１）の測定を行ったところ、１３．０ｍＰａ・ｓであった。実施例２、比較例１〜５についても実施例１と同様の方法を用いて、粘度を測定した。結果を表２に示す。
＜保存安定性＞
保存安定性の評価は、液晶配向剤を−２０℃で２４時間保管した後、溶液に白濁や析出が見られないかで判断した。実施例１〜実施例２、比較例１〜５で得られた液晶配向剤を用いて得られた結果を表２に示す。
【０１６４】
【表２】
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【０１６５】
※１  カッコ内の数値は、重合体100重量部に対する添加剤の重量比を示す。
※２  カッコ内の数値は、重合体固形分と溶媒との合計100重量部に対する重合体の重量比を示す。
※３  カッコ内の数値は、重合体固形分と溶媒との合計100重量部に対する各溶媒の重量比を示す。
表２に示す通り、ポリマー粉末（Ａ）：実施例１と比較例１、またポリマー粉末（Ｂ）：実施例２と比較例２を比較すると、ＤＭＬを含む液晶配向剤は粘度が大きく増加していることが読み取れる。
一方、ポリマー粉末（Ｃ）：比較例３と比較例４の粘度は大差ないことから、ポリマー粉末（Ａ）、（Ｂ）の側鎖部位に含まれるカルボキシル基がＤＭＬと特異的に塩形成し、その相互作用により増粘していると推考している。
＜＜液晶配向膜の作製＞＞
実施例及び比較例で得られた液晶配向剤を細孔径１μｍのメンブランフィルタで加圧濾過し、次の手順に従って液晶配向膜を作製した。
＜液晶配向剤Ａ１〜Ａ３＞
得られた溶液をＩＴＯ膜からなる透明電極付きガラス基板のＩＴＯ面にスピンコートし、７０℃のホットプレートで９０秒間乾燥し、膜厚１００ｎｍの液晶配向膜を形成した。次いで塗膜面に偏光板を介して、照射強度４．３ｍＷ／ｃｍ２の３１３ｎｍの直線偏光紫外線を基板法線方向に１０ｍＪ／ｃｍ２照射した後、１２０℃のホットプレートで１０分間焼成を行うことで、液晶配向膜付き基板を得た。
直線偏光紫外線は高圧水銀ランプの紫外光に３１３ｎｍのバンドパスフィルターを通した後、３１３ｎｍの偏光板を通すことで調製した。
＜液晶配向剤Ｂ１〜Ｂ２＞
得られた溶液をＩＴＯ膜からなる透明電極付きガラス基板のＩＴＯ面にスピンコートし、５０℃のホットプレートで１２０秒間乾燥した後、１２０℃のホットプレートで２分間焼成を行い、膜厚１００ｎｍの液晶配向膜を形成した。塗膜面に偏光板を介して、照射強度４．３ｍＷ／ｃｍ２の３１３ｎｍの直線偏光紫外線を基板法線方向から４０°傾斜した角度から５０ｍＪ／ｃｍ２照射し、液晶配向膜付き基板を得た。直線偏光紫外線は高圧水銀ランプの紫外光に３１３ｎｍのバンドパスフィルターを通した後、３１３ｎｍの偏光板を通すことで調製した。
＜液晶配向剤Ｃ１〜Ｃ２＞
得られた溶液をＩＴＯ膜からなる透明電極付きガラス基板のＩＴＯ面にスピンコートし、４０℃のホットプレートで３００秒間乾燥し、膜厚１００ｎｍの液晶配向膜を形成した。次いで塗膜面に偏光板を介して、照射強度４．３ｍＷ／ｃｍ２の３１３ｎｍの直線偏光紫外線を基板法線方向から４０°傾斜した角度からに４０ｍＪ／ｃｍ２照射した後、１２０℃のホットプレートで１０分間焼成を行うことで、液晶配向膜付き基板を得た。
直線偏光紫外線は高圧水銀ランプの紫外光に３１３ｎｍのバンドパスフィルターを通した後、３１３ｎｍの偏光板を通すことで調製した。