(57)【要約】【課題】光学異方性層を配向膜上から剥離可能であり、かつ、輝点欠陥の発生が抑制された光学フィルム、配向膜形成用組成物、および、光学フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】支持体と、配向膜と、光学異方性層とをこの順に有し、光学異方性層は、重合性液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物を用いて形成された層であり、配向膜は、所定の繰り返し単位を有するポリマーを含む配向膜形成用組成物を用いて形成された膜である、光学フィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と、配向膜と、光学異方性層とをこの順に有し、
前記光学異方性層は、重合性液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物を用いて形成された層であり、
前記配向膜は、式（１）で表される繰り返し単位、式（２）で表される繰り返し単位、および、式（３）で表される繰り返し単位を有するポリマーを含む配向膜形成用組成物を用いて形成された膜である、光学フィルム。
【化１】
2019148745.tif 000019
式（３）中、Ｌは、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＳＯ2−Ｏ−、−ＳＯ2−ＮＨ−、または、これらの基のうち２種以上を組み合わせた基を表す。
Ｒは、アルキル基、フェニル基、ヘテロアリール基、または、これらの基のうち２種以上を組み合わせた基を表す。前記アルキル基は、水酸基を有していてもよく、ヘテロ原子を含んでいてもよい。
なお、前記Ｒがメチル基である場合、Ｌは、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＳＯ2−Ｏ−、−ＳＯ2−ＮＨ−、または、これらの基のうち２種以上を組み合わせた基を表す。
【請求項２】
前記式（１）で表される繰り返し単位の含有量が、前記ポリマー中の全繰り返し単位に対して、７６．０〜９５．０モル％であり、
前記式（３）で表される繰り返し単位の含有量が、前記ポリマー中の全繰り返し単位に対して、０．５〜１４．０モル％である、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記式（２）で表される繰り返し単位の含有量が、前記ポリマー中の全繰り返し単位に対して、０モル％超２５．０モル％以下である、請求項１または２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記ポリマーが、以下の要件１〜３のいずれかを満たす、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
要件１：前記式（２）で表される繰り返し単位の含有量が、前記ポリマー中の全繰り返し単位に対して、５〜１５モル％であり、かつ、前記式（３）で表される繰り返し単位の含有量が、前記ポリマー中の全繰り返し単位に対して、０．８〜４．２モル％である。
要件２：前記式（２）で表される繰り返し単位の含有量が、前記ポリマー中の全繰り返し単位に対して、０モル％超５モル％未満であり、かつ、前記式（３）で表される繰り返し単位の含有量が、前記ポリマー中の全繰り返し単位に対して、３．８〜１３．４モル％である。
要件３：前記式（２）で表される繰り返し単位の含有量が、前記ポリマー中の全繰り返し単位に対して、１５モル％超２５モル％以下であり、かつ、前記式（３）で表される繰り返し単位の含有量が、前記ポリマー中の全繰り返し単位に対して、０．１〜３．６モル％である。
【請求項５】
前記ポリマーの重量平均分子量が１００００〜７００００である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項６】
前記Ｒ中にメチレン基が含まれる、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項７】
前記ポリマーの破断エネルギーが７５ｍＪ以上である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項８】
式（１）で表される繰り返し単位、式（２）で表される繰り返し単位、および、式（３）で表される繰り返し単位を有するポリマーを含む、配向膜形成用組成物。
【化２】
2019148745.tif 000020
式（３）中、Ｌは、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＳＯ2−Ｏ−、−ＳＯ2−ＮＨ−、または、これらの基のうち２種以上を組み合わせた基を表す。
Ｒは、アルキル基、フェニル基、ヘテロアリール基、または、これらの基のうち２種以上を組み合わせた基を表す。前記アルキル基は、水酸基を有していてもよく、ヘテロ原子を含んでいてもよい。
なお、前記Ｒがメチル基である場合、Ｌは、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＳＯ2−Ｏ−、−ＳＯ2−ＮＨ−、または、これらの基のうち２種以上を組み合わせた基を表す。
【請求項９】
前記式（１）で表される繰り返し単位の含有量が、前記ポリマー中の全繰り返し単位に対して、７６．０〜９５．０モル％であり、
前記式（３）で表される繰り返し単位の含有量が、前記ポリマー中の全繰り返し単位に対して、０．５〜１４．０モル％である、請求項８に記載の配向膜形成用組成物。
【請求項１０】
前記式（２）で表される繰り返し単位の含有量が、前記ポリマー中の全繰り返し単位に対して、０モル％超２５．０モル％以下である、請求項８または９に記載の配向膜形成用組成物。
【請求項１１】
前記ポリマーが、以下の要件１〜３のいずれかを満たす、請求項８〜１０のいずれか１項に記載の配向膜形成用組成物。
要件１：前記式（２）で表される繰り返し単位の含有量が、前記ポリマー中の全繰り返し単位に対して、５〜１５モル％であり、かつ、前記式（３）で表される繰り返し単位の含有量が、前記ポリマー中の全繰り返し単位に対して、０．８〜４．２モル％である。
要件２：前記式（２）で表される繰り返し単位の含有量が、前記ポリマー中の全繰り返し単位に対して、０モル％超５モル％未満であり、かつ、前記式（３）で表される繰り返し単位の含有量が、前記ポリマー中の全繰り返し単位に対して、３．８〜１３．４モル％である。
要件３：前記式（２）で表される繰り返し単位の含有量が、前記ポリマー中の全繰り返し単位に対して、１５モル％超２５モル％以下であり、かつ、前記式（３）で表される繰り返し単位の含有量が、前記ポリマー中の全繰り返し単位に対して、０．１〜３．６モル％である。
【請求項１２】
前記ポリマーの重量平均分子量が１００００〜７００００である、請求項８〜１１のいずれか１項に記載の配向膜形成用組成物。
【請求項１３】
前記Ｒ中にメチレン基が含まれる、請求項８〜１２のいずれか１項に記載の配向膜形成用組成物。
【請求項１４】
前記ポリマーの破断エネルギーが７５ｍＪ以上である、請求項８〜１３のいずれか１項に記載の配向膜形成用組成物。
【請求項１５】
請求項８〜１４のいずれか１項に記載の配向膜形成用組成物を用いて、支持体上に配向膜を形成する工程と、
重合性液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物を用いて、前記配向膜上に光学異方性層を形成する工程と、を有する光学フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム、配向膜形成用組成物、および、光学フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学異方性層は、各種用途に幅広く用いられている。
光学異方性層を形成する際には、通常、配向膜が用いられる。例えば、特許文献１では、ビニル基などの重合性基を有するポリビニルアルコール（ＰＶＡ）を含む配向膜形成用組成物を用いて形成された配向膜上に、光学異方性層を形成する態様が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平９−１５２５０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
一方で、近年、各種装置の薄型化が求められている。例えば、配向膜上に形成された光学異方性層のみを各種基材に転写できると、光学異方性層の形成のために用いられた配向膜および支持体を装置中に組み込む必要がなく、薄型化が達成される。
本発明者は、特許文献１に記載の方法に従って、光学異方性層を形成したところ、ポリビニルアルコール中の重合性基によって、配向膜と光学異方性層との密着性が高くなりすぎてしまい、光学異方性層を配向膜上から剥離しづらいことを知見した。
そこで、本発明者らは、重合性基を含まないＰＶＡを含む配向膜形成用組成物を用いて形成される配向膜を用いて光学異方性層の形成を試みたところ、光学異方性層を配向膜上から剥離できるものの、光学異方性層を含む光学フィルム自体に輝点欠陥が観察される場合があることを知見した。
【０００５】
本発明は、上記実情に鑑みて、光学異方性層を配向膜上から剥離可能であり、かつ、輝点欠陥の発生が抑制された光学フィルムを提供することを課題とする。
また、本発明は、配向膜形成用組成物、および、光学フィルムの製造方法を提供することも課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、従来技術の問題点について鋭意検討した結果、所定の構造を有するＰＶＡを用いることにより、上記課題を解決できることを見出した。
すなわち、以下の構成により上記目的を達成することができることを見出した。
【０００７】
（１）  支持体と、配向膜と、光学異方性層とをこの順に有し、
光学異方性層は、重合性液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物を用いて形成された層であり、
配向膜は、後述する式（１）で表される繰り返し単位、後述する式（２）で表される繰り返し単位、および、後述する式（３）で表される繰り返し単位を有するポリマーを含む配向膜形成用組成物を用いて形成された膜である、光学フィルム。
（２）  式（１）で表される繰り返し単位の含有量が、ポリマー中の全繰り返し単位に対して、７６．０〜９５．０モル％であり、
式（３）で表される繰り返し単位の含有量が、ポリマー中の全繰り返し単位に対して、０．５〜１４．０モル％である、（１）に記載の光学フィルム。
（３）  式（２）で表される繰り返し単位の含有量が、ポリマー中の全繰り返し単位に対して、０モル％超２５．０モル％以下である、（１）または（２）に記載の光学フィルム。
（４）  ポリマーが、後述する要件１〜３のいずれかを満たす、（１）〜（３）のいずれかに記載の光学フィルム。
（５）  ポリマーの重量平均分子量が１００００〜７００００である、（１）〜（４）のいずれかに記載の光学フィルム。
（６）  Ｒ中にメチレン基が含まれる、（１）〜（５）のいずれかに記載の光学フィルム。
（７）  ポリマーの破断エネルギーが７５ｍＪ以上である、（１）〜（６）のいずれかに記載の光学フィルム。
（８）  後述する式（１）で表される繰り返し単位、後述する式（２）で表される繰り返し単位、および、後述する式（３）で表される繰り返し単位を有するポリマーを含む、配向膜形成用組成物。
（９）  式（１）で表される繰り返し単位の含有量が、ポリマー中の全繰り返し単位に対して、７６．０〜９５．０モル％であり、
式（３）で表される繰り返し単位の含有量が、ポリマー中の全繰り返し単位に対して、０．５〜１４．０モル％である、（８）に記載の配向膜形成用組成物。
（１０）  式（２）で表される繰り返し単位の含有量が、ポリマー中の全繰り返し単位に対して、０モル％超２５．０モル％以下である、（８）または（９）に記載の配向膜形成用組成物。
（１１）  ポリマーが、後述する要件１〜３のいずれかを満たす、（８）〜（１０）のいずれかに記載の配向膜形成用組成物。
（１２）  ポリマーの重量平均分子量が１００００〜７００００である、（８）〜（１１）のいずれかに記載の配向膜形成用組成物。
（１３）  Ｒ中にメチレン基が含まれる、（８）〜（１２）のいずれかに記載の配向膜形成用組成物。
（１４）  ポリマーの破断エネルギーが７５ｍＪ以上である、（８）〜（１３）のいずれかに記載の配向膜形成用組成物。
（１５）  （８）〜（１４）のいずれかに記載の配向膜形成用組成物を用いて、支持体上に配向膜を形成する工程と、
重合性液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物を用いて、配向膜上に光学異方性層を形成する工程と、を有する光学フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、光学異方性層を配向膜上から剥離可能であり、かつ、輝点欠陥の発生が抑制された光学フィルムを提供できる。
また、本発明によれば、配向膜形成用組成物、および、光学フィルムの製造方法を提供できる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。まず、本明細書で用いられる用語について説明する。
【００１０】
本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は、それぞれ波長λにおける面内のレタデーションおよび厚み方向のレタデーションを表す。特に記載がないときは、波長λは、５５０ｎｍとする。
本発明において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）はＡｘｏＳｃａｎ  ＯＰＭＦ−１（オプトサイエンス社製）において、波長λで測定した値である。ＡｘｏＳｃａｎにて平均屈折率（（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３）と膜厚（ｄ（μｍ））を入力することにより、
遅相軸方向（°）
Ｒｅ（λ）＝Ｒ０（λ）
Ｒｔｈ（λ）＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
が算出される。
なお、Ｒ０（λ）は、ＡｘｏＳｃａｎ  ＯＰＭＦ−１で算出される数値として表示されるものであるが、Ｒｅ（λ）を意味している。
【００１１】
本明細書において、屈折率ｎｘ、ｎｙおよびｎｚは、アッベ屈折率（ＮＡＲ−４Ｔ、アタゴ（株）製）を使用し、光源にナトリウムランプ（λ＝５８９ｎｍ）を用いて測定する。また、波長依存性を測定する場合は、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２（アタゴ（株）製）にて、干渉フィルタとの組み合わせで測定できる。
また、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用できる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）。
また、本明細書において、Ｎｚファクターとは、Ｎｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）で与えられる値である。
【００１２】
なお、本明細書では、「可視光」とは、波長が４００〜７００ｎｍの光のことをいう。
また、本明細書において、角度（例えば「９０°」などの角度）、およびその関係（例えば「直交」、「平行」、および「４５°で交差」など）については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±１０°の範囲内であることなどを意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。
【００１３】
本発明の光学フィルムの特徴点の一つとしては、所定の構造を有するＰＶＡを用いる点が挙げられる。
本発明者らの検討によれば、光学フィルムの輝点欠陥が観察される理由の一つとして、配向膜中のＰＶＡの硬さが影響していることを知見している。つまり、配向膜中のＰＶＡが硬い場合、例えば、配向膜を作製する際に実施するラビング処理の際に削り粉が発生しやすく、削り粉が残存した配向膜上で光学異方性層を形成すると、その削り粉が原因となって液晶化合物の配向が乱れ、輝点欠陥が発生しやすいことを本発明者らは知見した。そこで、本発明においては、後述する式（３）で表される繰り返し単位をＰＶＡ中に導入することにより、ＰＶＡに柔軟性を付与して、削り粉などが発生しづらくして、発塵量を低減させ、輝点欠陥の発生を抑制している。
【００１４】
本発明の光学フィルムは、支持体と、配向膜と、光学異方性層とをこの順に有する。
以下、各層について詳述する。
【００１５】
＜支持体＞
支持体は、配向膜および光学異方性層を支持できれば、その種類は特に制限されない。
支持体を構成する材料としては、例えば、樹脂、ガラス、金属、半導体、および、セラミックが挙げられ、支持体の取り扱い性が優れる点で、樹脂が好ましい。つまり、支持体としては、樹脂支持体（樹脂基板）が好ましい。
【００１６】
樹脂支持体を構成する樹脂としては、例えば、ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、および、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系ポリマー；ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系ポリマー；ポリスチレン、および、アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）などのスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、および、エチレン−プロピレン共重合体などのポリオレフィン系ポリマー；塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、および、芳香族ポリアミドなどのアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマーが挙げられる。
また、樹脂支持体を構成する材料としては、熱可塑性ノルボルネン系樹脂も好ましい。熱可塑性ノルボルネン系樹脂としては、日本ゼオン（株）製のゼオネックスおよびゼオノア、ならびに、ＪＳＲ（株）製のアートンなどが挙げられる。
また、樹脂支持体を構成する材料としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）に代表される、セルロース系ポリマーも好ましい。
【００１７】
支持体は、いわゆる透明支持体であることが好ましい。
ここで、本明細書において、「透明」とは、可視光の透過率が６０％以上であることを示し、８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。
【００１８】
支持体の厚みは特に制限されず、１００μｍ以下が好ましく、８０μｍ以下がより好ましく、１０〜８０μｍがさらに好ましい。
【００１９】
＜配向膜＞
配向膜は、上記支持体上に配置される層であり、その表面上に配置される層に対して配向規制力を有する膜である。つまり、配向膜上に液晶化合物などが付与された際には、配向膜は液晶化合物を配向させる配向規制力を有する。
配向膜は、式（１）で表される繰り返し単位、式（２）で表される繰り返し単位、および、式（３）で表される繰り返し単位を有するポリマー（以下、単位「特定ポリマー」ともいう）を含む配向膜形成用組成物を用いて形成された膜（配向膜）である。
【００２０】
【化１】
2019148745.tif 000002
【００２１】
式（３）中、Ｌは、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＳＯ2−Ｏ−、−ＳＯ2−ＮＨ−、または、これらの基のうち２種以上を組み合わせた基を表す。なかでも、特定ポリマーの合成が容易である点から、−ＣＯ−ＮＨ−が好ましい。
なお、後述するＲがメチル基である場合、Ｌは、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＳＯ2−Ｏ−、−ＳＯ2−ＮＨ−、または、これらの基のうち２種以上を組み合わせた基を表す。
【００２２】
Ｒは、アルキル基、フェニル基、ヘテロアリール基、または、これらの基のうち２種以上を組み合わせた基を表す。
アルキル基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。また、アルキル基は、環状構造を有していてもよい。
アルキル基中の炭素数は特に制限されないが、１〜１０が好ましく、２〜８がより好ましい。
アルキル基は、水酸基を有していてもよい。つまり、アルキル基は、置換基として水酸基を有していてもよい。
また、アルキル基は、ヘテロ原子を含んでいてもよい。ヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子、および、硫黄原子などが挙げられる。アルキル基がヘテロ原子を含む場合、例えば、アルキル基中に−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＳＯ2−Ｏ−、および、−ＳＯ2−ＮＨ−などの２価の連結基が含まれる態様が挙げられる。
ヘテロアリール基としては、５員、６員もしくは７員の環またはその縮合環からなるヘテロアリール基が好ましい。ヘテロアリール基に含まれるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、および、窒素原子などが挙げられる。ヘテロアリール基を構成する環の具体例としては、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピロリン環、ピロリジン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、および、イミダゾリン環などが挙げられる。
なかでも、光学異方性層の配向膜上からの剥離性がより優れる点、および、輝点欠陥がより抑制できる点の少なくとも一方の効果が得られる点（以下、単に「本発明の効果がより優れる点」ともいう。）で、Ｒ中にメチレン基が含まれることが好ましい。
【００２３】
特定ポリマー中における式（１）で表される繰り返し単位の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、特定ポリマー中の全繰り返し単位に対して、７６．０〜９５．０モル％が好ましく、７８．０〜９１．０モル％がより好ましい。
【００２４】
特定ポリマー中における式（２）で表される繰り返し単位の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、特定ポリマー中の全繰り返し単位に対して、０モル％超２５．０モル％以下が好ましく、１．０〜２１．０モル％がより好ましい。
【００２５】
特定ポリマー中における式（３）で表される繰り返し単位の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、特定ポリマー中の全繰り返し単位に対して、０．５〜１４．０モル％が好ましい。
【００２６】
なかでも、本発明の効果がより優れる点で、特定ポリマーが、以下の要件１〜３のいずれかを満たすことが好ましい。
要件１：式（２）で表される繰り返し単位の含有量が、特定ポリマー中の全繰り返し単位に対して、５〜１５モル％であり、かつ、式（３）で表される繰り返し単位の含有量が、特定ポリマー中の全繰り返し単位に対して、０．８〜４．２モル％である。
要件２：式（２）で表される繰り返し単位の含有量が、特定ポリマー中の全繰り返し単位に対して、０モル％超５モル％未満であり、かつ、式（３）で表される繰り返し単位の含有量が、特定ポリマー中の全繰り返し単位に対して、３．８〜１３．４モル％である。
要件３：式（２）で表される繰り返し単位の含有量が、特定ポリマー中の全繰り返し単位に対して、１５モル％超２５モル％以下であり、かつ、式（３）で表される繰り返し単位の含有量が、特定ポリマー中の全繰り返し単位に対して、０．１〜３．６モル％である。
【００２７】
特定ポリマーの全繰り返し単位に対する、式（１）で表される繰り返し単位、式（２）で表される繰り返し単位、および、式（３）で表される繰り返し単位の合計含有量は特に制限されないが、９０モル％以上が好ましく、１００モル％がより好ましい。
特定ポリマーは、本発明の効果を損なわない範囲において、式（１）で表される繰り返し単位、式（２）で表される繰り返し単位、および、式（３）で表される繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を有していてもよい。
なお、特定ポリマーは、重合性基を有する繰り返し単位を実質的に含まないことが好ましい。重合性基の定義は、後述する液晶化合物に含まれる重合性基の定義と同義である。上記「実質的に含まない」とは、特定ポリマーの全繰り返し単位に対する、重合性基を有する繰り返し単位の含有量が、０．１モル％以下であることを意味し、０モル％であることが好ましい。
【００２８】
特定ポリマーの重量平均分子量は特に制限されず、５０００〜２０００００の場合が多く、本発明の効果がより優れる点で、１００００〜７００００が好ましい。
【００２９】
特定ポリマーの破断エネルギーは特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、７５ｍＪ以上が好ましく、８０ｍＪ以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、２００ｍＪ以下の場合が多い。
破断エネルギーの測定方法は、以下の通りである。
ＰＥＴ基板上に、後述する試験組成物を＃２６のワイヤーバーで塗布し、塗膜を６０℃の温風で６０秒乾燥し、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥して、塗膜を得る。得られた塗膜上に、試験組成物を＃２６のワイヤーバーで塗布し、得られた塗膜を６０℃の温風で６０秒乾燥し、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥する処理を２回繰り返して実施し、試験用配向膜（厚み６μｍ）を得る。次に、試験用配向膜をＰＥＴ基板から剥離して、１×１５ｃｍのサンプルを作製する。テンシロン万能材料試験機（エー・アンド・デー（株）社製）で、作製したサンプルを長手方向に引っ張り（チャック間１０ｃｍ、速度５０ｍｍ／ｍｉｎ、２５℃、４０％環境）、破断するまでの変位−荷重グラフから、破断エネルギーを算出する。なお、破断エネルギーは、変位−荷重グラフ（ＳＳカーブ）の面積値に該当する。
【００３０】
試験組成物
――――――――――――――――――――――――――――――――――
特定ポリマー                                              １０質量部
水                                                      １１９質量部
メタノール                                                ３８質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                            ０．５質量部
クエン酸エステル（三協化学（株）製）                ０．１７５質量部
【００３１】
配向膜形成用組成物における特定ポリマーの含有量は特に制限されないが、配向膜形成用組成物中の全固形分に対して、８０質量％以上が好ましく、９０質量％以上がより好ましい。上限値は特に制限されないが、１００質量％が挙げられる。
なお、上記全固形分とは、配向膜を形成する成分を意図し、溶媒は含まれない。
【００３２】
配向膜形成用組成物には、上記特定ポリマー以外の他の成分が含まれていてもよい。
配向膜形成用組成物には、溶媒が含まれていてもよい。溶媒としては、水および有機溶媒が挙げられる。
配向膜形成用組成物には、架橋剤が含まれていてもよい。
配向膜形成用組成物には、アルカリ成分を中和する中和剤（例えば、クエン酸エステル）が含まれていてもよい。
【００３３】
配向膜は、特定ポリマーを含む配向膜形成用組成物を用いて形成された膜であるが、その製造手順については後段で詳述する。
【００３４】
配向膜の厚みは特に制限されないが、０．２〜１．０μｍが好ましく、０．４〜０．８μｍがより好ましい。
【００３５】
＜光学異方性層＞
光学異方性層は、上記配向膜上に配置される層である。通常、光学異方性層は、配向膜に直接接するように、配向膜上に配置される。
光学異方性層は、この層を通過した光に位相差を生じさせる層である。
光学異方性層は、重合性液晶化合物を含む光学異方性層形成用組成物を用いて形成される層である。より具体的には、後段で詳述するように、光学異方性層形成用組成物を塗布して形成される塗膜中の重合性液晶化合物を配向させて、その状態を固定することにより形成された層であることが好ましく、この場合、層となった後はもはや液晶性を示す必要はない。
【００３６】
重合性液晶化合物とは、重合性基を有する液晶化合物である。
重合性基の種類は特に制限されず、ラジカル重合またはカチオン重合が可能な重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、アクリロイル基またはメタアクリロイル基が好ましい。
カチオン重合性基としては、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、および、ビニルオキシ基などが挙げられる。
特に、好ましい重合性基の例としては下記が挙げられる。
【００３７】
【化２】
2019148745.tif 000003
【００３８】
液晶化合物の種類は特に制限されないが、その形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（円盤状液晶化合物。ディスコティック液晶化合物）とに分類できる。さらにそれぞれ低分子タイプと高分子タイプとがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。なお、２種以上の棒状液晶化合物、２種以上の円盤状液晶化合物、または、棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物との混合物を用いてもよい。
【００３９】
重合性液晶化合物としては、式（４）で表される化合物が好ましい。
【００４０】
【化３】
2019148745.tif 000004
【００４１】
式（４）中、Ｙ11、Ｙ12およびＹ13は、それぞれ独立に、置換されていてもよいメチン基または窒素原子を表す。
Ｙ11、Ｙ12およびＹ13がメチンの場合、メチンの水素原子は置換基で置き換わってもよい。
【００４２】
Ｌ1、Ｌ2およびＬ3は、それぞれ独立に、単結合または２価の連結基を表す。
２価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ7−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、２価の環状基、または、これらの基のうち２種以上を組み合わせた基が挙げられる。Ｒ7は、炭素数１〜７のアルキル基または水素原子である。
上記２価の環状基とは、少なくとも１種類の環状構造を有する２価の連結基（以下、「環状基」ともいう。）である。環状基は、５員環、６員環、または７員環であることが好ましい。環状基に含まれる環は、縮合環または単環でもよい。環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、および、複素環のいずれでもよい。芳香族環としては、ベンゼン環またはナフタレン環が好ましい。脂肪族環としては、シクロヘキサン環が好ましい。複素環としては、ピリジン環またはピリミジン環が好ましい。
【００４３】
Ｈ1、Ｈ2およびＨ3は、それぞれ独立に、式（４−Ａ）で表される基、または、式（４−Ｂ）で表される基を表す。
式（４−Ａ）中、ＹＡ1およびＹＡ2は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいメチンまたは窒素原子を表す。ＸＡは、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表す。＊は式（４）におけるＬ1〜Ｌ3側と結合する位置を表し、＊＊は式（４）におけるＲ1〜Ｒ3側と結合する位置を表す。
式（４−Ｂ）中、ＹＢ1およびＹＢ2は、それぞれ独立に、置換基を有してもよいメチンまたは窒素原子を表す。ＸＢは、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表す。＊は式（４）におけるＬ1〜Ｌ3側と結合する位置を表し、＊＊は式（４）におけるＲ1〜Ｒ3側と結合する位置を表す。
【００４４】
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、式（４‐Ｃ）で表される基を表す。
式（４−Ｃ）    ＊−（−Ｌ21−Ｑ2）n1−Ｌ22−Ｌ23−Ｑ1
式（４−Ｃ）中、＊は、式（４）におけるＨ1〜Ｈ3側と結合する位置を表す。
Ｌ21は、単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基の定義は、上述した通りである。
Ｑ2は、少なくとも１種類の環状構造を有する２価の基（環状基）を表す。環状基の定義は、上述した通りである。
ｎ１は、０〜４の整数を表す。
Ｌ22は、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ2−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、または、−Ｃ≡Ｃ−を表す。
Ｌ23は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、または、これらの基のうち２種以上を組み合わせた基を表す。
Ｑ1は、重合性基または水素原子を表す。重合性基の定義は、上述した通りである。
【００４５】
光学異方性層形成用組成物における重合性液晶化合物の含有量は特に制限されないが、光学異方性層形成用組成物中の全固形分に対して、７５質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましい。上限値は特に制限されないが、１００質量％が挙げられる。
なお、上記全固形分とは、光学異方性層を形成する成分を意図し、溶媒は含まれない。
【００４６】
光学異方性層形成用組成物には、上記重合性液晶化合物以外の他の成分が含まれていてもよい。
光学異方性層形成用組成物には、重合開始剤が含まれていてもよい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、および、光重合開始剤が挙げられる。
【００４７】
光学異方性層形成用組成物には、重合性モノマーが含まれていてもよい。重合性モノマーとしては、ラジカル重合性またはカチオン重合性の化合物が挙げられる。重合性モノマーとしては、多官能性ラジカル重合性モノマーが好ましい。重合性モノマーとしては、例えば、特開２００２−２９６４２３号公報中の段落［００１８］〜［００２０］に記載のものが挙げられる。
【００４８】
光学異方性層形成用組成物には、塗工の均一性の点から、界面活性剤が含まれていてもよい。界面活性剤としては、フッ素系化合物が好ましい。具体的には、特開２００１−３３０７２５号公報中の段落［００２８］〜［００５６］に記載の化合物、および、特願２００３−２９５２１２号明細書中の段落［００６９］〜［０１２６］に記載の化合物が挙げられる。
【００４９】
光学異方性層形成用組成物には溶媒が含まれていてもよく、溶媒としては有機溶媒が好ましい。
【００５０】
光学異方性層形成用組成物には、偏光界面側垂直配向剤および空気界面側垂直配向剤など垂直配向促進剤、並びに、偏光子界面側水平配向剤および空気界面側水平配向剤など水平配向促進剤などの配向制御剤が含まれていてもよい。これらの配向制御剤としては、公知の化合物が適宜使用されるが、例えば、円盤状液晶化合物の偏光子界面側垂直配向剤としては特開２０１２−２１５７０４号公報の段落［００７９］〜［０１０４］に記載の化合物が挙げられ、空気界面側垂直配向剤としては特開２０１２−２１５７０４号公報の段落［０１０６］〜［０１１３］に記載の化合物が挙げられ、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。
【００５１】
さらに、光学異方性層形成用組成物には、上記成分以外に、密着改良剤、可塑剤、および、ポリマーなどが含まれていてもよい。
【００５２】
光学異方性層は、いわゆるλ／４板またはλ／２板であることが好ましい。
λ／４板（λ／４機能を有する板）とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または、円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する光学異方性層である。より具体的には、所定の波長λｎｍにおける面内レタデーションがλ／４（または、この奇数倍）を示す層である。
なかでも、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）は、１００〜２００ｎｍが好ましく、１２０〜１６０ｎｍがより好ましい。
また、λ／２板とは、特定の波長λｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（λ）がＲｅ（λ）≒λ／２を満たす光学異方性層のことをいう。なかでも、波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）は、２１０〜３００ｎｍが好ましい。
【００５３】
光学異方性層の厚みは特に制限されないが、装置の薄型化の点で、０．７〜２．５μｍが好ましく、０．９〜２．２μｍがより好ましい。
【００５４】
光学異方性層は、単層構造であっても、多層構造であってもよい。
光学異方性層が多層構造である場合、例えば、λ／４板とλ／２板とを含む複層型の光学異方性層が挙げられる。
【００５５】
光学異方性層は、順波長分散性（面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて小さくなる特性。）および逆波長分散性（面内レタデーションが、測定波長が大きくなるにつれて大きくなる特性。）のいずれかの性質を示し、逆波長分散性を示すことが好ましい。
【００５６】
＜その他構成＞
光学フィルムは、支持体、配向膜、および、光学異方性層以外の他の層を含んでいてもよい。例えば、支持体と配向膜との間には下地層が配置されていてもよい。
【００５７】
＜光学フィルムの製造方法＞
光学フィルムの製造方法は特に制限されないが、以下の工程１および工程２を有する方法が好ましい。
工程１：配向膜形成用組成物を用いて、支持体上に配向膜を形成する工程
工程２：光学異方性層形成用組成物を用いて、配向膜上に光学異方性層を形成する工程
以下、各工程の手順について詳述する。
【００５８】
（工程１）
工程１は、配向膜形成用組成物を用いて、支持体上に配向膜を形成する工程である。
本工程で使用される配向膜形成用組成物および支持体については、上述した通りである。
【００５９】
配向膜を形成する具体的な手順の一態様としては、支持体上に配向膜形成用組成物を塗布して、支持体上に塗膜を形成して、塗膜に対してラビング処理を施して配向膜を形成する方法が挙げられる。
支持体上に配向膜形成用組成物を塗布する方法は特に制限されず、例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、および、ダイコーティング法などが挙げられる。
配向膜形成用組成物を支持体上に塗布後、必要に応じて、配向膜形成用組成物が塗布された支持体に対して乾燥処理を施して、溶媒の除去を実施してもよい。
【００６０】
次に、上記手順によって得られた支持体上の塗膜に対して、ラビング処理を施して配向膜を形成する。
ラビング処理の方法は特に制限されず、公知の方法が採用される。
【００６１】
（工程２）
工程２は、光学異方性層形成用組成物を用いて、配向膜上に光学異方性層を形成する工程である。
【００６２】
光学異方性層を形成する具体的な手順の一態様としては、配向膜上に光学異方性層形成用組成物を塗布して、配向膜上に塗膜を形成して、塗膜中の重合性液晶化合物を配向させた後、塗膜に対して硬化処理を施して光学異方性層を形成する方法が挙げられる。
配向膜上に光学異方性層形成用組成物を塗布する方法としては、上述した配向膜形成用組成物を塗布する方法と同様の方法が挙げられる。
光学異方性層形成用組成物を配向膜上に塗布後、必要に応じて、光学異方性層形成用組成物が塗布された支持体に対して乾燥処理を施して、溶媒の除去を実施してもよい。
【００６３】
塗膜中の重合性液晶化合物を配向させる方法（配向処理）は特に制限されず、例えば、塗膜を加熱する方法、および、室温により塗膜を乾燥させる方法が挙げられる。配向処理で形成される液晶相は、サーモトロピック性液晶化合物の場合、一般に温度の変化により転移させることができる。リオトロピック性液晶化合物の場合には、溶媒量などの組成比によっても転移させることができる。
なお、塗膜を加熱する場合の条件は特に制限されないが、加熱温度としては５０〜１５０℃が好ましく、加熱時間としては１０秒間〜５分間が好ましい。
【００６４】
次に、重合性液晶化合物が配向している塗膜に対して硬化処理を施して、光学異方性層を形成する。
硬化処理の方法は特に制限されず、光照射処理および加熱処理が挙げられ、光照射よりが好ましい。
露光の際の光の種類は特に制限されないが、紫外光が好ましい。
露光の際の照射量は特に制限されず、１０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2が好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５Ｊ／ｃｍ2がより好ましい。また、重合反応を促進するため、加熱条件下で実施してもよい。
【００６５】
＜用途＞
上記で得られた光学フィルムは、いわゆる転写フィルムとして利用できる。つまり、光学異方性層と配向膜との間で剥離可能であるため、光学異方性層を他の部材上に転写できる。
なお、光学異方性層は、種々の用途に好ましく用いることができる。例えば、液晶セルを光学補償するための光学補償フィルム、有機エレクトロルミネッセンス表示装置で外光の反射を防止するためのλ／４板、または、λ／２板として有用である。
【実施例】
【００６６】
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更できる。従って、本発明の範囲は以下に示す実施例により制限的に解釈されるべきものではない。
【００６７】
＜特定ポリマーの合成＞
（ＰＶＡ−３の合成）
３００ｍＬフラスコにジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）（１５１．８ｇ）を入れ、ＤＭＳＯ撹拌下、２５℃にて原料１（３９ｇ）をフラスコ内にゆっくり投入した。
なお、原料１中の式（１）で表される繰り返し単位の数値「８８」、および、式（２）で表される繰り返し単位「１２」は、全繰り返し単位に対する、各繰り返し単位の含有量（モル％）を表す。原料１の重量平均分子量は１５０００であった。
【００６８】
【化４】
2019148745.tif 000005
【００６９】
原料１を投入後、フラスコ内にＤＭＳＯ（１６．５ｇ）を加えてフラスコ内壁を洗浄し、４５〜５０℃に昇温後、ブチルイソシアネート（３ｇ）を１時間かけてゆっくりフラスコ内に滴下した。
滴下後、滴下の際にフラスコ内にブチルイソシアネートを滴下するために用いた配管内にＤＭＳＯ（５．５ｇ）を通して、配管内を洗浄し、洗浄に用いたＤＭＳＯをフラスコ内にさらに加えた。フラスコ内の反応溶液を５０℃にて１時間反応させた後、３５℃に冷却、メタノール（ＭｅＯＨ）（７８ｍＬ）をゆっくりフラスコ内に添加した。ＭｅＯＨ添加後、酢酸エチル（ＥＡ）（１１７０ｍＬ）／ＭｅＯＨ（３９０ｍＬ）混合溶媒に上記反応溶液を滴下し、室温にて再沈殿を行った。得られた固形分をろ過し、ＭｅＯＨ（１８２ｍＬ）で洗浄し粗体を得た。得られた粗体をＭｅＯＨ（５２５ｍＬ）に添加し、室温にて３０分撹拌後、ろ過を行い、得られた固形分をさらにＭｅＯＨ（６０ｍＬ）で洗浄し精製物を得た。精製物に対して純水（３５０ｍＬ）を添加し、得られた水溶液を３０℃にて３０分撹拌し、ＰＶＡ−３液（４７１．３ｇ）（固形分濃度：７．４５質量％、ＭｅＯＨ／ＤＭＳＯ／ＥＡ＝１７．０／０．３６／０．９２）を得た。1Ｈ ＮＭＲ（溶媒：重水）を用いて、ＰＶＡ−３中の式（３）で表される繰り返し単位の含有量を測定したところ、全繰り返し単位に対する、式（３）で表される単位の含有量は３．７モル％であった。
【００７０】
（ＰＶＡ−１〜ＰＶＡ−２、ＰＶＡ−４〜ＰＶＡ−１４、および、ＰＶＡ−２２の合成）
使用する原料の種類を後述する表１のように変更し、後述する表１中の式（３）で表される繰り返し単位の含有量となるように、ブチルイソシアネートの使用量を変更した以外は、（ＰＶＡ−３の合成）と同様の手順に従って、ＰＶＡ−１〜ＰＶＡ−２、ＰＶＡ−４〜ＰＶＡ−１４、および、ＰＶＡ−２２を合成した。
【００７１】
（ＰＶＡ−１５〜ＰＶＡ−２０、および、ＰＶＡ−２３の合成）
後述する表１中の「Ｒ」欄に示す基が得られるように、ブチルイソシアネートの代わりに他の化合物を用いて、後述する表１中の式（３）で表される繰り返し単位の含有量となるように上記他の化合物の使用量を変更した以外は、（ＰＶＡ−３の合成）と同様の手順に従って、ＰＶＡ−１５〜ＰＶＡ−２０、および、ＰＶＡ−２３を合成した。
なお、ブチルイソシアネートの代わりに、ＰＶＡ−１５〜ＰＶＡ−２０、および、ＰＶＡ−２３の合成に使用した他の化合物は、それぞれ以下の通りである。
ＰＶＡ−１５の合成：２−エチルヘキシルイソシアネート
ＰＶＡ−１６の合成：ｔ−ブチルイソシアネート
ＰＶＡ−１７の合成：エチル−２−イソシアネートアセテート
ＰＶＡ−１８の合成：シクロヘキシルイソシアネート
ＰＶＡ−１９の合成：フェニルイソシアネート
ＰＶＡ−２０の合成：２−イソシアネートエチルイソブチレート
ＰＶＡ−２３の合成：２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート
【００７２】
（ＰＶＡ−２１の合成）
下記スキームに従い、化合物（ｔ−ブチル（４−イソシアネートブトキシ）ジメチルシラン）を合成した。
【００７３】
【化５】
2019148745.tif 000006
【００７４】
【化６】
2019148745.tif 000007
【００７５】
４−アミノブタノール（４．０ｇ）およびピリジン（８．０ｍＬ）の混合物に、２５℃にて、tert−ブチルジメチルシリルクロリド（８．２ｇ）を加えた。得られた混合物を２５℃にて１２時間撹拌した後、溶媒を減圧留去した。次に、得られた濃縮物を塩化メチレン（５０ｍｌ）に溶解させて、得られた溶液を飽和重曹水で洗浄した。次に、得られた溶液に硫酸ナトリウムを加えて乾燥し、硫酸ナトリウムをろ過により除去した後、得られたろ液から溶媒を減圧留去した。得られた濃縮物に対して、クロロホルム−メタノールを溶媒に用いたシリカゲルカラムクロマトグラフィによる精製を行うことで、アミン体を得た（８．１１ｇ；収率８８．９％）。
アミン体（８．１１ｇ）および塩化メチレン（１００ｍＬ）の混合物に、０℃にて、トリホスゲン（３．９ｇ）を添加した。その後、混合液の内温が１０℃を超えないように、混合液にトリエチルアミン（８．０６ｇ）を滴下し、得られた混合液を０℃にて３０分間撹拌した。得られた混合液に塩化メチレン（２００ｍＬ）を加えて、得られた溶液を飽和重曹水（１００ｍＬ）および飽和食塩水（１００ｍＬ）で洗浄した。次に、得られた溶液に硫酸ナトリウムを加えて乾燥し、硫酸ナトリウムをろ過により除去した後、得られたろ液から溶媒を減圧留去し、tert−ブチル（４−イソシアネートブトキシ）ジメチルシラン（３．９３ｇ；収率４３．０％）を得た。
【００７６】
ブチルイソシアネートに代えて、tert−ブチル（４−イソシアネートブトキシ）ジメチルシランを用いた以外は、（ＰＶＡ−３の合成）と同様の手順に従って、ＰＶＡ−２１保護体の７．４５％水溶液を合成した（下記スキーム参照）。得られた水溶液の質量は、４９７ｇ(収率８５．９％)。
【００７７】
【化７】
2019148745.tif 000008
【００７８】
次に、下記スキームに従い、ＰＶＡ−２１を合成した。
【００７９】
【化８】
2019148745.tif 000009
【００８０】
具体的には、ＰＶＡ−２１保護体の７．４５％水溶液（３００ｇ）の液温が１０℃を超えないように、１．０ｍｏｌ／Ｌのテトラブチルアンモニウムフルオリドテトラヒドロフラン溶液（１６．７ｍＬ）を、ＰＶＡ−２１保護体の水溶液に滴下した。その後、得られた溶液を０℃にて２時間撹拌した後、溶液をアセトニトリル（１０００ｍＬ）に加えて再沈処理を行い、沈殿した固形分をろ過により回収した。回収された固形分をメタノール／水＝９／１溶液（３００ｍＬ）で２回、メタノール（３００ｍＬ）で１回リスラリーした後、得られた固形分をイオン交換水（２００ｍＬ）に溶解することで、ＰＶＡ−２１の６．９３％水溶液を得た（重量は２６９ｇ、収率８７．２％）。
【００８１】
＜実施例Ａ１〜Ａ２４、比較例Ａ１〜Ａ３＞
（配向膜の形成）
長尺状のセルロースアシレートフィルム（ＴＤ８０ＵＬ、富士フイルム社製）を、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した。その後、フィルムのバンド面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ2で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、フィルムに対して、純水を３ｍｌ／ｍ2で塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りとを３回繰り返した後に、得られたフィルムを７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアシレートフィルム（厚み：８０μｍ）を作製した。
【００８２】
アルカリ溶液の組成
──────────────────────────────────
水酸化カリウム                                        ４．７質量部
水                                                  １５．８質量部
イソプロパノール                                    ６３．７質量部
界面活性剤ＳＦ−１：Ｃ14Ｈ29Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）20Ｈ    １．０質量部
プロピレングリコール                                １４．８質量部
──────────────────────────────────
【００８３】
セルロースアシレートフィルムのアルカリ鹸化処理を行った面に、下記組成の配向膜形成用組成物を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。なお、下記の配向膜形成用組成物中の特定ポリマーとは、表１に記載の各実施例および比較例で用いられるＰＶＡ−１〜ＰＶＡ−２３、および、原料１〜原料２をそれぞれ意図する。
次に、塗膜を６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥して、塗膜Ａ（厚み：５００ｎｍ）を得た。
得られた塗膜Ａに対して、ラビング処理を施し、配向膜を得た。
このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度を７２．５°とした（フィルム幅方向を０°、フィルム長手方向を９０°とし、配向膜側から観察してフィルム幅方向を基準に時計回り方向を正の値で表すと、ラビングローラーの回転軸は−１７．５°）。
【００８４】
配向膜形成用組成物
――――――――――――――――――――――――――――――――――
特定ポリマー                                              １０質量部
水                                                      ３７１質量部
メタノール                                              １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                            ０．５質量部
クエン酸とクエン酸トリメチルの混合）                ０．１７５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
【００８５】
（光学異方性層Ａの形成）
下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む光学異方性層Ａ形成用組成物を、配向膜上に＃４．８のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度は２６ｍ／ｍｉｎとした。溶媒の乾燥およびディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、配向膜上の塗膜を、１３０℃の温風で９０秒間、続いて、１００℃の温風で６０秒間加熱し、８０℃にて３００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ（紫外線）照射を行い、液晶化合物の配向を固定化し、光学異方性層Ａを含む光学フィルムを得た。光学異方性層Ａの厚みは２．０μｍであった。ディスコティック液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶化合物がフィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。
また、遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と平行で、フィルム幅方向を０°（フィルム長手方向を９０°、光学異方性層Ａ側から観察してフィルム幅方向を基準に時計回り方向を正の値で表す。）とすると、−１７．５°であった。光学異方性層Ａの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは２４０ｎｍであり、光学異方性層Ａは順波長分散性を示す。
【００８６】
光学異方性層Ａ形成用組成物の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
ディスコティック液晶−１                                    ８０質量部
ディスコティック液晶−２                                    ２０質量部
配向膜界面配向剤−１                                      １．６質量部
含フッ素化合物（Ｆ−１）                                ０．２１質量部
含フッ素化合物（Ｆ−２）                              ０．０７５質量部
含フッ素化合物（Ｆ−３）                                  ０．１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート        
５質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製）              ４質量部
メチルエチルケトン                                        ２００質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
【００８７】
ディスコティック液晶−１
【００８８】
【化９】
2019148745.tif 000010
【００８９】
ディスコティック液晶−２
【００９０】
【化１０】
2019148745.tif 000011
【００９１】
配向膜界面配向剤−１
【００９２】
【化１１】
2019148745.tif 000012
【００９３】
含フッ素化合物（Ｆ−１）
【００９４】
【化１２】
2019148745.tif 000013
【００９５】
含フッ素化合物（Ｆ−２）
【００９６】
【化１３】
2019148745.tif 000014
【００９７】
含フッ素化合物（Ｆ−３）
【００９８】
【化１４】
2019148745.tif 000015
【００９９】
なお、上記含フッ素化合物（Ｆ−１）〜（Ｆ−３）において、各繰り返し単位の横に記載の数値（例えば、含フッ素化合物（Ｆ−１）では、「２５」、「２５」、および、「５０」）は、全繰り返し単位に対する、各繰り返し単位の含有量（モル％）を表す。
【０１００】
＜各種評価＞
（輝点欠陥評価）
拡散光源下、目視にて得られた光学フィルム（観察面積：２０ｃｍ×１３０ｃｍ）を検査し、直径１２０μｍ以上の欠陥数を計測して、以下の基準に従って評価した。
「Ａ」：欠陥数が４個以下
「Ｂ」：欠陥数が５〜１０個
「Ｃ」：欠陥数が１１〜１５個
「Ｄ」：欠陥数が１６個以上
【０１０１】
（剥離性評価）
得られた光学フィルムを１５０ｍｍ×２５ｍｍに裁断し、光学異方性層Ａ側を、粘着剤（ＳＫ１４７８,綜研化学社製）を介してガラス基板に貼合した後、試験片の長さ方向一端（幅２５ｍｍの一辺）をつかみ、温度２５℃および相対湿度６０％の雰囲気下、クロスヘッドスピード（つかみ移動速度）１０００ｍｍ／分にて１８０°方向に剥離したときの剥離強度をテンシロン万能材料試験機（エー・アンド・デー（株）社製）にて測定し、以下の基準で評価した。以下の評価基準Ａ〜Ｃでは、光学異方性層Ａと配向膜との界面において、全面がキレイに剥離できた。評価基準Ｄでは、光学異方性層Ａと配向膜との界面における一部がキレイに剥離できなかった。
（評価基準）
Ａ：２３ｇｆ／２５ｍｍ未満
Ｂ：２３ｇｆ／２５ｍｍ以上、４０ｇｆ／２５ｍｍ未満
Ｃ：４０ｇｆ／２５ｍｍ以上
Ｄ：光学異方性層Ａと配向膜との界面における一部が剥離できなかった
【０１０２】
（破断エネルギー評価）
上述した方法に従って、特定ポリマーの破断エネルギーを測定した。
【０１０３】
なお、ＰＶＡ−１〜ＰＶＡ−２５中の式（３）で表される繰り返し単位中の「Ｌ」は、−ＣＯ−ＮＨ−を表す。
また、比較例Ａ２およびＡ３では、原料１および原料２を「特定ポリマー」として用いて、光学フィルムを製造した。
【０１０４】
表１の「Ｒ」欄の各記号は、以下の基を表す。
「ｎ−Ｂｕｔｙｌ」：−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ3
「ｔ−Ｂｕｔｙｌ」：ターシャリ−ブチル基
「Ｐｈｅ」：フェニル基
表１中の「式（１）単位の含有量（モル％）」は、各特定ポリマー中の全繰り返し単位に対する、式（１）で表される繰り返し単位の含有量（モル％）を表す。
表１中の「式（２）単位の含有量（モル％）」は、各特定ポリマー中の全繰り返し単位に対する、式（２）で表される繰り返し単位の含有量（モル％）を表す。
表１中の「式（３）単位の含有量（モル％）」は、各特定ポリマー中の全繰り返し単位に対する、式（３）で表される繰り返し単位の含有量（モル％）を表す。
表１中の「Ｍｗ」は、特定ポリマーの重量平均分子量を表す。
なお、比較例Ａ１で使用されるＰＶＡ−２３は、式（３）中のＲが表１に記載のメタクリロイルオキシ基を含む基である繰り返し単位を有し、特定ポリマーには該当しないが、以下の表１中では「特定ポリマー」と同列に表記する。
また、比較例Ａ２およびＡ３で使用される原料１および２も特定ポリマーには該当しないが、以下の表１中では「特定ポリマー」と同列に表記する。
また、表１中、「他の単位の含有量（モル％）」とは、ＰＶＡ−２３中の全繰り返し単位に対する、式（３）中のＲが表１に記載のメタクリロイルオキシ基を含む基である繰り返し単位の含有量を表す。
【０１０５】
表１中の原料１〜８は、式（１）で表される繰り返し単位、および、式（２）で表される繰り返し単位からなるポリマーであり、表２に示す各繰り返し単位の含有量および重量平均分子量を示す。
なお、表２中の「式（１）単位の含有量（モル％）」は、各ポリマー中の全繰り返し単位に対する、式（１）で表される繰り返し単位の含有量（モル％）を表す。
なお、表２中の「式（２）単位の含有量（モル％）」は、各ポリマー中の全繰り返し単位に対する、式（２）で表される繰り返し単位の含有量（モル％）を表す。
【０１０６】
【表１】
2019148745.tif 000016
【０１０７】
【表２】
2019148745.tif 000017
【０１０８】
表１に示すように、所定の配向膜形成用組成物を用いて形成された配向膜を含む光学フィルムにおいては、所望の効果が得られることが確認された。
なかでも、実施例Ａ１〜Ａ５の比較、実施例Ａ７〜Ａ９の比較、および、実施例Ａ１２〜Ａ１３の比較より、上述した要件１〜３のいずれかを満たす実施例（実施例Ａ２〜Ａ３、実施例Ａ８、および、実施例Ａ１２）において、より効果が優れることが確認された。
また、実施例Ａ７、Ａ１０、および、Ａ１１の比較より、特定ポリマーの重量平均分子量が１００００〜７００００である場合、より効果が優れることが確認された。
また、実施例Ａ１５〜Ａ２１の比較より、Ｒ中にメチレン基が含まれる場合（実施例Ａ１５、実施例Ａ１７、実施例Ａ１８、実施例Ａ２０、および、実施例Ａ２１）、より効果が優れることが確認された。
【０１０９】
＜実施例Ｂ１〜Ｂ２４＞
光学異方性層Ａの代わりに、以下の手順に従って光学異方性層Ｂを用い、ラビングローラーの回転軸の位置を−１７．５°から＋１２．５°に変更した以外は、実施例Ａ１〜Ａ２４のそれぞれの手順と同様の手順に従って、実施例Ｂ１〜Ｂ２４のフィルムをそれぞれ作製した。
【０１１０】
（光学異方性層Ｂの形成）
下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む光学異方性層Ｂ形成用組成物を、配向膜上に＃２．８のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度は２６ｍ／ｍｉｎとした。溶媒の乾燥およびディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、配向膜上の塗膜を、１３０℃の温風で９０秒間、続いて、１００℃の温風で６０秒間加熱し、８０℃にて３００ｍＪ／ｃｍ2のＵＶ照射を行い、液晶化合物の配向を固定化し、光学異方性層Ｂを形成した。光学異方性層Ｂの厚みは１．３μｍであった。ディスコティック液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶化合物がフィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。また、遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と直交で、フィルム幅方向を０°（フィルム長手方向を９０°、光学異方性層Ｂ側から観察してフィルム幅方向を基準に時計回り方向を正の値で表す。）とすると、−７７．５°であった。光学異方性層Ｂの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１２０ｎｍであり、光学異方性層Ｂは順波長分散性を示す。
【０１１１】
光学異方性層Ｂ形成用組成物の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
ディスコティック液晶−１                                  ８０質量部
ディスコティック液晶−２                                  ２０質量部
配向膜界面配向剤−１                                    ０．６質量部
含フッ素化合物（Ｆ−１）                                ０．２質量部
含フッ素化合物（Ｆ−２）                                ０．１質量部
含フッ素化合物（Ｆ−３）                                ０．１質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート        
１０質量部
光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製）            ５質量部
メチルエチルケトン                                      ３５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１１２】
実施例Ｂ１〜Ｂ２４で得られた各フィルムを用いて、上述した各種評価を実施したところ、実施例Ｂ１〜Ｂ２４のそれぞれで得られた評価結果と、実施例Ａ１〜Ａ２４のそれぞれで得られた評価結果とは、対応していた。つまり、例えば、実施例Ｂ１での「輝点欠陥評価」および「剥離評価」は、実施例Ａ１での「輝点欠陥評価」および「剥離評価」と同じく、それぞれ「Ｂ」および「Ａ」であった。
上記結果より、光学異方性層の種類を変更しても、所定の効果が得られることが確認された。
【０１１３】
＜実施例Ｃ１〜Ｃ２４＞
光学異方性層Ａの代わりに、以下の手順に従って光学異方性層Ｃを用い、ラビングローラーの回転軸の位置を−１７．５°から＋１２．５°に変更した以外は、実施例Ｃ１〜Ｃ２２のそれぞれの手順と同様の手順に従って、実施例Ｃ１〜Ｃ２４のフィルムをそれぞれ作製した。
【０１１４】
（光学異方性層Ｃの形成）
下記の組成の棒状液晶化合物を含む光学異方性層Ｃ形成用組成物を、配向膜上に＃２．８のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は２６ｍ／ｍｉｎとした。溶媒の乾燥および棒状液晶化合物の配向熟成のために、配向膜上の塗膜を、６０℃の温風で６０秒間加熱し、６０℃にてＵＶ照射を行い、液晶化合物の配向を固定化し、光学異方性層Ｃを形成した。光学異方性層Ｃの厚みは１．０μｍであった。棒状液晶化合物の長軸のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、液晶化合物がフィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。また、遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と直交で、フィルム幅方向を０°（フィルム長手方向を９０°、光学異方性層Ｃ側から観察してフィルム幅方向を基準に時計回り方向を正の値で表す。）とすると、−７７．５°であった。光学異方性層Ｃの波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションは１１６ｎｍであり、光学異方性層Ｃは順波長分散性を示す。
【０１１５】
光学異方性層Ｃ形成用組成物の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
・棒状液晶化合物の混合物（Ａ）                                １００質量部
・光重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製）                ６質量部
・含フッ素化合物（Ｆ−１）                                  ０．２５質量部
・含フッ素化合物（Ｆ−２）                                    ０．１質量部
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート    ４質量部
・メチルエチルケトン                                          ３３７質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１１６】
棒状液晶化合物の混合物（Ａ）
【０１１７】
【化１５】
2019148745.tif 000018
【０１１８】
実施例Ｃ１〜Ｃ２４で得られた各フィルムを用いて、上述した各種評価を実施したところ、実施例Ｃ１〜Ｃ２４のそれぞれで得られた評価結果と、実施例Ａ１〜Ａ２４のそれぞれで得られた評価結果とは、対応していた。つまり、例えば、実施例Ｃ１での「輝点欠陥評価」および「剥離評価」は、実施例Ａ１での「輝点欠陥評価」および「剥離評価」と同じく、それぞれ「Ｂ」および「Ａ」であった。
上記結果より、光学異方性層の種類を変更しても、所定の効果が得られることが確認された。