(57)【要約】【課題】  ポリエチレン材料からなる細胞培養容器であって、均一に親水化された培養面を備え、細胞培養容器の用途に応じて親水化の程度が適切に制御された細胞培養容器を得ることを可能とする。【解決手段】  ポリエチレン材料からなる細胞培養容器であって、細胞培養容器内の少なくとも一部にエキシマ処理が施された面を培養面として備え、培養面の後退接触角が、３０°より大きく７８°未満である細胞培養容器とする。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエチレン材料からなる細胞培養容器であって、
前記細胞培養容器内の少なくとも一部にエキシマ処理が施された面を培養面として備え、前記培養面の後退接触角が、３０°より大きく７８°未満である
ことを特徴とする細胞培養容器。
【請求項２】
前記培養面の後退接触角が、４５°より大きく７８°未満であり、浮遊性細胞培養用の培養容器として形成された
ことを特徴とする請求項１記載の細胞培養容器。
【請求項３】
前記培養面の後退接触角が、３０°より大きく４５°以下であり、接着性細胞培養用の培養容器として形成された
ことを特徴とする請求項１記載の細胞培養容器。
【請求項４】
前記培養面の１０箇所以上で測定された静的水接触角の標準偏差が、２°以下である
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の細胞培養容器。
【請求項５】
前記培養面の１０箇所以上で測定された静的水接触角の最大値と最小値の差が、５°以下である
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の細胞培養容器。
【請求項６】
ポリエチレンフィルムの少なくとも一部の領域にエキシマ処理を施して、前記領域の後退接触角を、３０°より大きく７８°未満とし、前記領域を培養面として、前記ポリエチレンフィルムからなる細胞培養容器を形成する
ことを特徴とする細胞培養容器の製造方法。
【請求項７】
ポリエチレンフィルムの少なくとも一部の領域にエキシマ処理を施して、前記領域の後退接触角を、４５°より大きく７８°未満とし、前記領域を培養面として、前記ポリエチレンフィルムからなる浮遊性細胞用培養容器を形成する
ことを特徴とする細胞培養容器の製造方法。
【請求項８】
ポリエチレンフィルムの少なくとも一部の領域にエキシマ処理を施して、前記領域の後退接触角を、３０°より大きく４５°以下とし、前記領域を培養面として、前記ポリエチレンフィルムからなる接着性細胞用培養容器を形成する
ことを特徴とする細胞培養容器の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、細胞培養技術に関し、特に細胞培養容器の培養面の表面処理に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、医薬品の生産や、遺伝子治療、再生医療、免疫療法等の分野において、細胞や組織、微生物などを人工的な環境下で効率良く大量に培養することが求められている。
このような状況において、細胞培養容器に細胞と培養液を注入して、細胞を自動的に大量に培養することが行われている。
【０００３】
細胞には、リンパ球や樹状細胞など、培養液中に浮遊させて培養が行われる浮遊性細胞と、ｉＰＳ細胞など、細胞培養容器の培養面に接着させて培養が行われる接着性細胞がある。浮遊性細胞であっても、リンパ球の活性化工程などの特定の工程において、培養面に接着させて培養が行われる場合がある。また、接着性細胞であっても、培養液中でスフェア（凝集塊）を形成させ浮遊させて培養が行われることもある。このため、本明細書において浮遊性細胞とは、このような浮遊させて培養が行われる対象を含み、また接着性細胞とは培養面に接着させて培養が行われる対象を含む。
【０００４】
細胞を培養液中に浮遊させて培養する場合、一般に、細胞培養容器の培養面には、細胞が接着しないように、細胞接着抑制剤（細胞低接着処理剤）を塗布（コーティング）しておく必要がある。
また、細胞を培養面に接着させて培養する場合、細胞培養容器の培養面に細胞が十分に接着するように、培養面に表面処理を施して、その親水性を向上させる必要がある。
【０００５】
特にポリエチレン（ＰＥ）製の細胞培養容器においては、このような細胞接着抑制剤からなるコーティング層を培養面に形成しなければ、浮遊性細胞の培養を適切に行うことができなかった。
また、このようにコーティング層を培養面に形成する場合にも、細胞培養容器の培養面に表面処理を施して、培養面を親水化する必要があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平６−９８７５６号公報
【０００７】
【特許文献２】特許第５３１５６４０号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、細胞培養容器の培養面に精度の高い表面処理を施すことは、難しいという問題があった。
具体的には、培養面にコロナ処理を施すことによって、培養面を親水化することが広く行われている。ところが、コロナ処理では、放電によって表面処理を行うため、処理ムラが生じることが多く、親水化の程度が均一な培養面を得ることが困難であり、このような細胞培養容器では、細胞培養を効率よく行うことができないという問題があった。
例えば、処理ムラが生じた培養容器でｉＰＳ細胞を接着培養すると、培養面における親水化された領域にしか細胞が接着できず、培養効率が低下するという問題があった（図５参照。同図において、着色された部分にのみ細胞が接着している。）。
【０００９】
また、浮遊性細胞を培養するための培養容器の培養面に対する表面処理と、接着性細胞を培養するための培養容器の培養面に対する表面処理では、それぞれ異なる程度の親水化処理を施す必要がある。
しかしながら、従来の方法では、表面処理を均一に行うことが難しく、親水化を適切に制御して表面処理を行うことが困難であるという問題があった。
【００１０】
ここで、細胞培養容器の培養面の表面処理に関する技術としては、特許文献１に記載の付着性細胞培養用バッグや、特許文献２に記載の接着性細胞培養用袋状容器を挙げることができる。
特許文献１では、バッグの内面にコロナ放電処理を施すことで付着性細胞を効率よく培養可能にしたものであるが、上記の通り、コロナ放電処理には処理ムラが生じることが多いため、改善の余地のあるものであった。
【００１１】
また、特許文献２では、低圧水銀ランプを用いて紫外線照射を行うことにより、培養面に表面処理が行われている。
しかしながら、低圧水銀ランプでは、ポリオレフィンにおけるC-C, C-H結合の切断が難しく、培養面の改質を行い難いという問題があった（K. Tsuji, Journal of Polymer Science, 467 11 (1973)）。
【００１２】
そこで、本発明者らは鋭意研究し、ポリエチレン材料からなる細胞培養容器において、エキシマ処理を用いて培養面を親水化することで、培養面の表面処理を均一に行えることを見いだした。
また、エキシマ処理による処理強度を制御することによって、浮遊性細胞の培養に適した培養面を得ることができる表面処理と、接着性細胞の培養に適した培養面を得ることができる表面処理とを切り分けて行うことに成功して、本発明を完成させた。
【００１３】
本発明は、上記事情に鑑みなされたものであり、ポリエチレン材料からなる細胞培養容器であって、均一に親水化された培養面を備え、細胞培養容器の用途に応じて親水化の程度が適切に制御された細胞培養容器、及びその製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記目的を達成するため、本発明の細胞培養容器は、ポリエチレン材料からなる細胞培養容器であって、前記細胞培養容器内の少なくとも一部にエキシマ処理が施された面を培養面として備え、前記培養面の後退接触角が、３０°より大きく７８°未満である構成としてある。
【００１５】
また、本発明の細胞培養容器の製造方法は、ポリエチレンフィルムの少なくとも一部の領域にエキシマ処理を施して、前記領域の後退接触角を、３０°より大きく７８°未満とし、前記領域を培養面として、前記ポリエチレンフィルムからなる細胞培養容器を形成する方法としてある。
【００１６】
また、本発明の細胞培養容器の製造方法は、ポリエチレンフィルムの少なくとも一部の領域にエキシマ処理を施して、前記領域の後退接触角を、４５°より大きく７８°未満とし、前記領域を培養面として、前記ポリエチレンフィルムからなる浮遊性細胞用培養容器を形成する方法としてある。
【００１７】
また、本発明の細胞培養容器の製造方法は、ポリエチレンフィルムの少なくとも一部の領域にエキシマ処理を施して、前記領域の後退接触角を、３０°より大きく４５°以下とし、前記領域を培養面として、前記ポリエチレンフィルムからなる接着性細胞用培養容器を形成する方法としてある。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、ポリエチレン材料からなる細胞培養容器であって、均一に親水化された培養面を備え、細胞培養容器の用途に応じて親水化の程度が適切に制御された細胞培養容器、及びその製造方法の提供が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】静的水接触角及び後退接触角についての説明図である。
【図２】エキシマ処理を施した培養面（試験１：実施例１〜４）から選択された複数の点における静的水接触角の平均値（Avg.）、標準偏差（s.d.）、最大値（Max.）、最小値（Min.）、及び最大値と最小値との差（Max.-Min.）、並びに、コロナ処理を施した培養面（試験１：比較例１〜２）から選択された複数点の静的水接触角の平均値（Avg.）、標準偏差（s.d.）、最大値（Max.）、最小値（Min.）、及び最大値と最小値との差（Max.-Min.）を示す図である。
【図３】エキシマ処理を各種条件で施した培養面（試験２）における静的水接触角、及び後退接触角を示すグラフを表す図である。
【図４】エキシマ処理を各種条件で施した培養面（試験３）における静的水接触角、及び後退接触角を示すグラフを表す図である。
【図５】従来のコロナ処理を施して処理ムラが生じた培養面を有する細胞培養容器を用いて、ｉＰＳ細胞を接着培養した結果を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の細胞培養容器、及び細胞培養容器の製造方法の実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は、以下の実施形態及び実施例の具体的な内容に限定されるものではない。
本実施形態の細胞培養容器は、ポリエチレン材料からなる細胞培養容器であって、細胞培養容器内の少なくとも一部にエキシマ処理が施された面を培養面として備え、培養面の後退接触角が、３０°より大きく７８°未満であることを特徴とする。
【００２１】
まず、静的水接触角と後退接触角について、図１を参照して説明する。
静的水接触角とは、静止した液体の表面が固体壁の表面に接するところで液面と固体面がなす角（図１のθｓ）を意味する。静的水接触角が大きいと、固体壁の表面の疎水性が相対的に強く、静的水接触角が小さいと、固体壁の表面の親水性が相対的に強いという関係がある。
具体的には、ポリオレフィン系材料の一種であるポリエチレンフィルムからなる培養容器の培養面における静的水接触角が６０°より大きく８０°以下の場合、接着性細胞は培養面に好適に接着して、効率的に培養できることが知られている。
【００２２】
また、ポリエチレンフィルムの表面の静的水接触角は、未処理の状態では９５°以上を示し、疎水性が強いために、接着性細胞を接着させて培養することはできない。また、細胞接着抑制剤をコーティングすることもできないため、浮遊性細胞を培養することもできない。
一方、ポリエチレンフィルムからなる培養容器の培養面に表面処理を施して、その静的水接触角を８０°より大きく９５°未満とすれば、培養面に細胞接着抑制剤をコーティングすることができ、浮遊性細胞を培養することが可能となる。
【００２３】
また、後退接触角（以下、単に後退角と称する場合がある）とは、水滴が固体壁の表面を滑落するときの後方の接触角（図１のθr）を意味する。すなわち、水平に支持した固体壁の表面に水滴を摘下し、固体壁を徐々に傾けて、液滴が転落を開始するときの後方の接触角である。
後退角は、固体壁の表面の動的な濡れ性（親水性）を示す指標として用いることができる。すなわち、後退角が大きいと、固体壁の表面の疎水性が相対的に強く、後退角が小さいと、固体壁の表面の親水性が相対的に強いという関係がある。
【００２４】
エキシマ処理は、光源としてエキシマランプを用いる表面処理である。波長200nm以下の紫外線は真空紫外線と呼ばれ、エキシマ処理ではこの真空紫外線の照射が行われる。エキシマランプには様々な波長の真空紫外線を照射するものがあるが、一般的には、波長172nmのキセノンエキシマランプが使用されている。以下の実施例では、このキセノンエキシマランプを使用した。
このようなエキシマ処理をポリエチレンフィルムに施すと、ポリエチレンの表面物性が変化して、親水化される。また、エキシマ処理の処理強度が強いほど、その親水化の程度は大きくなる。
【００２５】
本実施形態の細胞培養容器は、細胞培養容器の培養面の後退接触角が、３０°より大きく７８°未満となっている。
すなわち、本実施形態の細胞培養容器は、その培養面の後退接触角が、浮遊性細胞用の培養容器、又は接着性細胞用の培養容器に適した範囲のものとなっている。
また、本実施形態の細胞培養容器は、培養面にエキシマ処理を施して形成されているため、処理ムラがなく、均一に親水化された培養面を有するものとなっている。
【００２６】
また、本実施形態の細胞培養容器を、その培養面の後退接触角が、４５°より大きく７８°未満であり、浮遊性細胞培養用の培養容器として形成されたものとすることも好ましい。
このような細胞培養容器によれば、培養面に細胞接着抑制剤をコーティングして、培養面上に細胞接着抑制剤からなるコーティング層を好適に形成することができる。このため、浮遊性細胞の培養に適したものとすることが可能である。
【００２７】
なお、細胞接着抑制剤としては、リン脂質ポリマー、ポリビニルアルコール誘導体、リン脂質・高分子複合体、ポリヒドロキシエチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、アガロース、キトサン、ポリエチレングリコール、アルブミン等を用いることができる。また、これらを組み合わせて用いても良い。
【００２８】
また、本実施形態の細胞培養容器を、その培養面の後退接触角が、３０°より大きく４５°以下であり、接着性細胞培養用の培養容器として形成されたものとすることも好ましい。
このような細胞培養容器によれば、培養面に接着性細胞を十分に接着させることができ、接着性細胞の培養に適したものとすることが可能である。
また、このような接着性細胞の培養に適したものとする観点から、本実施形態の細胞培養容器を、その培養面の後退接触角が、３３°より大きく４５°以下であり、接着性細胞培養用の培養容器として形成されたものとすることも好ましい。
【００２９】
本実施形態の細胞培養容器は、その培養面の１０箇所以上で測定された静的水接触角の標準偏差が、５°以下であることが好ましく、４°以下であることがより好ましく、３°以下であることがさらに好ましく、２°以下であることが特に好ましい。
また、本実施形態の細胞培養容器は、その培養面の１０箇所以上で測定された静的水接触角の最大値と最小値の差が、１０°以下であることが好ましく、９°以下であることがより好ましく、８°以下であることがさらに好ましく、７°以下であることがさらにまた好ましく、６°以下であることがさらにまた好ましく、５°以下であることが特に好ましい。
このような細胞培養容器によれば、エキシマ処理を施すことにより均一に親水化された培養面を備えているため、高い培養効率が得られるものとなっている。
【００３０】
ここで、細胞培養容器の培養面の表面処理に施される場合のある紫外線処理では、一般的に、低圧水銀ランプが用いられる。
本実施形態の細胞培養容器に用いるエキシマ処理と紫外線処理とでは、光源の種類と、紫外線の波長の長さが相違する。
具体的には、エキシマランプ（キセノンエキシマランプ）が用いられるエキシマ処理では波長が172nmの紫外線が使用され、低圧水銀ランプが用いられる紫外線処理では、一般的に、波長が185nm、254nmの紫外線が使用される。
【００３１】
エキシマ処理は、化学結合の切断能力や活性酸素の生成能力が高く(表面処理技術ハンドブック, P532-538, エヌ・ティー・エス)、細胞培養容器の培養面を様々な強度で改質することが可能である。
これに対して、紫外線処理は、ポリオレフィンのC-C, C-H結合を切断することが難しく、細胞培養容器の培養面を様々な強度で改質することは困難である。
このため、紫外線処理では、細胞培養容器の培養面の後退接触角を浮遊性細胞の培養用、又は接着性細胞の培養用に適した範囲に制御して、それぞれの細胞に適した細胞培養容器を得ることは、非常に困難であった。
【００３２】
本実施形態の細胞培養容器の形状は、袋状（バッグ形状）とすることが好ましいが、これに限定されない。また、本実施形態の細胞培養容器に、細胞や培養液の注入出を行うための注入出用ポートを備えることも好ましい。
また、本実施形態の細胞培養容器を、その培養面に複数のウェルが形成されたものとすることも好ましい。本実施形態の細胞培養容器に複数のウェルを形成すれば、細胞を各ウェル内に集めることができ、スフェア培養の初期段階における細胞密度を高めてスフェアの形成効率を向上させることなどが可能となる。
【００３３】
本実施形態の細胞培養容器の製造方法は、ポリエチレンフィルムの少なくとも一部の領域にエキシマ処理を施して、該領域の後退接触角を、３０°より大きく７８°未満とし、該領域を培養面として、ポリエチレンフィルムからなる細胞培養容器を形成することを特徴とする。
また、本実施形態の細胞培養容器の製造方法を、ポリエチレンフィルムの少なくとも一部の領域にエキシマ処理を施して、前記領域の後退接触角を、４５°より大きく７８°未満とし、前記領域を培養面として、前記ポリエチレンフィルムからなる浮遊性細胞用培養容器を形成する方法とすることも好ましい。
【００３４】
具体的には、エキシマ処理の処理条件を、培養面とエキシマランプの距離を３ｍｍ〜４ｍｍとし、ランプに対する培養面の移動速度を６０ｍｍ／ｓｅｃ（秒）〜５ｍｍ／ｓｅｃとすることにより、培養面の後退接触角が４５°より大きく７８°未満となる培養面を得ることができる。このとき、培養面の静的水接触角は、概ね８０°〜９５°となり、培養面に細胞接着抑制剤からなるコーティング層を適切に形成することができる。
【００３５】
また、本実施形態の細胞培養容器の製造方法を、ポリエチレンフィルムの少なくとも一部の領域にエキシマ処理を施して、前記領域の後退接触角を、３０°より大きく４５°以下とし、前記領域を培養面として、前記ポリエチレンフィルムからなる接着性細胞用培養容器を形成する方法とすることも好ましい。
【００３６】
具体的には、エキシマ処理の処理条件を、培養面とエキシマランプの距離を３ｍｍ〜４ｍｍとし、ランプに対する培養面の移動速度を２ｍｍ／ｓｅｃ（秒）とすることにより、又は、この条件によるエキシマ処理を２回若しくは３回以上繰り返すことによって、培養面の後退接触角が３０°より大きく４５°以下となる培養面を得ることができる。このとき、培養面の静的水接触角は、概ね６０°〜８０°となり、培養面に接着性細胞を好適に接着することができる。
【００３７】
なお、本実施形態において、エキシマ処理の処理条件は、上記の各条件に限定されるものではなく、後退接触角を上記の範囲に制御できる限りにおいて、その他の処理条件としても良いことは言うまでもない。
【００３８】
また、エキシマ処理は、瞬時に最大出力で照射することが可能であるが、紫外線処理は最大出力が出るまでに数十分間かかる。
このため、本実施形態の細胞培養容器の製造方法において、エキシマ処理を行うことで、細胞培養容器をより効率的に製造することも可能となっている。
【００３９】
さらに、エキシマ処理を行うことで、均一に親水化された培養面を有する細胞培養容器を製造することができるため、高い培養効率を得ることが可能となっている。
また、エキシマ処理を行うことにより、培養面の後退接触角を細胞培養容器の用途に応じて適切に制御することができる。このため、本実施形態の細胞培養容器の製造方法によれば、浮遊性細胞用培養容器、及び接着性細胞用培養容器を容易に製造することが可能になっている。
【００４０】
以上説明したように、本実施形態の細胞培養容器、及び細胞培養容器の製造方法によれば、ポリエチレン材料からなる細胞培養容器であって、均一に親水化された培養面を備え、細胞培養容器の用途に応じて親水化の程度が適切に制御された細胞培養容器を得ることが可能になっている。
【実施例】
【００４１】
以下、エキシマ処理とコロナ処理をそれぞれ施した培養面の均一性を比較した試験と、細胞培養容器の培養面に対して施したエキシマ処理の様々な処理条件と後退接触角との関係について確認した試験について、説明する。
【００４２】
（試験１）
まず、エキシマ処理とコロナ処理をそれぞれ施した培養面の均一性を比較した試験について説明する。
細胞培養容器の材料としてポリエチレンフィルムを用い、その表面を培養面と想定した。そして、この培養面に対し、表面処理として、エキシマ処理とコロナ処理をそれぞれ各種条件で行った。
【００４３】
エキシマ処理を行うための装置としては、キセノンエキシマランプ装置（株式会社エム・ディ・コム製のエキシマ照射装置）を使用して、電圧を１２Ｖとした。そして、培養面とランプの距離を４ｍｍ、キセノンエキシマランプ装置における、ポリエチレンフィルムを配置したステージの移動速度を２０ｍｍ／ｓｅｃとしたエキシマ処理（実施例１）、同距離を４ｍｍ、同ステージの移動速度を２ｍｍ／ｓｅｃとしたエキシマ処理（実施例２）、同距離を３ｍｍ、同ステージの移動速度を２０ｍｍ／ｓｅｃとしたエキシマ処理（実施例３）、及び、同距離を３ｍｍ、同ステージの移動速度を２ｍｍ／ｓｅｃとしたエキシマ処理（実施例４）を行った。
【００４４】
コロナ処理を行うための装置としては、バッチ式コロナ処理装置（春日電機株式会社製）を使用した。そして、出力を２８０Ｗ、電極間距離を５ｍｍ、バッチ式コロナ処理装置における、ポリエチレンフィルムを配置したステージの移動速度を５０ｍｍ／ｓｅｃとしたコロナ処理（比較例１）、出力を５２０Ｗとし、距離とステージの移動速度を比較例１と同条件としたコロナ処理（比較例２）を行った。
【００４５】
そして、フィルム表面から任意に１０カ所の点を選択して、それぞれにおける静的水接触角を測定し、その平均値（Avg.）、標準偏差（s.d.）、最大値（Max.）、最小値（Min.）、及び最大値と最小値との差（Max.-Min.）を算出した。その結果を図２に示す。
【００４６】
同図に示されるように、実施例１〜４の静的水接触角の標準偏差（s.d.）は、それぞれ１．７°、０．５°、０．７°、０．５°であった。これに対して、比較例１〜２の静的水接触角の標準偏差は、それぞれ６．５°、６．３°であった。
このことから、エキシマ処理による培養面の表面処理では、コロナ処理に比較して、表面処理の均一性が大きく向上していることが分かる。
【００４７】
また、同図に示されるように、実施例１〜４の静的水接触角の最大値と最小値の差（Max.-Min.）は、それぞれ４．８°、１．６°、２．５°、１．４°であった。これに対して、比較例１〜２の静的水接触角の最大値と最小値の差は、それぞれ１１．９°、１４．９°であった。
このことからも、エキシマ処理による培養面の表面処理では、コロナ処理に比較して、表面処理の均一性が大きく向上することが明らかとなった。
【００４８】
（試験２）
次に、細胞培養容器の培養面に対して施したエキシマ処理の様々な処理条件と後退接触角との関係について確認した試験について説明する。
細胞培養容器の材料としてポリエチレンフィルムを用い、その表面を培養面と想定した。そして、この培養面に対する表面処理として、エキシマ処理を各種条件で行った。
【００４９】
エキシマ処理を行うための装置としては、キセノンエキシマランプ装置（株式会社エム・ディ・コム製のエキシマ照射装置）を使用し、電圧を１２Ｖ、培養面とランプの距離を４ｍｍとした。
そして、キセノンエキシマランプ装置における、ポリエチレンフィルムを配置したステージの移動速度と、エキシマ処理の処理回数の条件を様々に設定することによって、強度の異なるエキシマ処理をそれぞれ別個のフィルム表面に対して行った。
【００５０】
具体的には、エキシマ処理を行わなかったポリエチレンフィルム（未処理）と、ステージの移動速度を６０ｍｍ／ｓｅｃ、４０ｍｍ／ｓｅｃ、２０ｍｍ／ｓｅｃ、１０ｍｍ／ｓｅｃ、５ｍｍ／ｓｅｃ、２ｍｍ／ｓｅｃとして、それぞれ１回のエキシマ処理を行ったポリエチレンフィルムを準備した。ステージの移動速度が遅ければ遅いほど、エキシマ処理の処理時間が長くなり、処理強度が大きくなる。
【００５１】
また、使用した装置のステージの移動速度の最低速度が２ｍｍ／ｓｅｃであったため、これ以上の強度のエキシマ処理として、２ｍｍ／ｓｅｃで２回エキシマ処理を行ったポリエチレンフィルムと、２ｍｍ／ｓｅｃで３回エキシマ処理を行ったポリエチレンフィルムを準備した。
【００５２】
静的水接触角及び後退接触角の測定には、固液界面解析システムＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ  ７００（協和界面科学株式会社製）を使用した。
具体的には、静的水接触角（θｓ）は、フィルム上に純水３μｌを滴下して測定した。また、後退接触角（θｒ）は、フィルム上に純水３０μｌを滴下し、１秒毎に１°ずつ測定台を傾け、滑落時の後退接触角（θｒ）を接線法により算出して得た。その結果を図３に示す。
【００５３】
同図に示されるように、エキシマ処理を行わなかった培養面の静的水接触角は１００．９°、後退接触角は９０．２°であった。
また、ステージの移動速度を６０ｍｍ／ｓｅｃとしてエキシマ処理を行った培養面の静的水接触角は９５．０°、後退接触角は７７．２°であった。
また、ステージの移動速度を４０ｍｍ／ｓｅｃとしてエキシマ処理を行った培養面の静的水接触角は９３．１°、後退接触角は６８．３°であった。
【００５４】
また、ステージの移動速度を２０ｍｍ／ｓｅｃとしてエキシマ処理を行った培養面の静的水接触角は９０．１°、後退接触角は６０．６°であった。
また、ステージの移動速度を１０ｍｍ／ｓｅｃとしてエキシマ処理を行った培養面の静的水接触角は８７．５°、後退接触角は５４．３°であった。
また、ステージの移動速度を５ｍｍ／ｓｅｃとしてエキシマ処理を行った培養面の静的水接触角は８２．０°、後退接触角は５０．４°であった。
【００５５】
また、ステージの移動速度を２ｍｍ／ｓｅｃとしてエキシマ処理を行った培養面の静的水接触角は７７．８°、後退接触角は４２．４°であった。
さらに、ステージの移動速度を２ｍｍ／ｓｅｃとして２回エキシマ処理を行った培養面の静的水接触角は７４．２°、後退接触角は４０．９°であった。
また、ステージの移動速度を２ｍｍ／ｓｅｃとして３回エキシマ処理を行った培養面の静的水接触角は７２．４°、後退接触角は４３．０°であった。
【００５６】
以上の結果から、ポリエチレンフィルムに対するエキシマ処理の強度を制御することによって、後退接触角を適切に調整できることが明らかとなった。
具体的には、エキシマ処理の処理条件を、培養面とランプの距離を４ｍｍとし、ステージの移動速度を６０ｍｍ／ｓｅｃ〜５ｍｍ／ｓｅｃとすることにより、後退接触角を４５°より大きく７８°未満となるように制御できることが分かった。
このとき、静的水接触角は、８０°〜９５°の範囲にあり、細胞接着抑制剤のコーティングに適した表面処理が行われていること、すなわち、浮遊性細胞用培養容器の製造に適していることが分かる。
【００５７】
また、エキシマ処理の処理条件を、フィルム表面とランプの距離を４ｍｍとし、ステージの移動速度を２ｍｍ／ｓｅｃ以上の強度とすることにより、後退接触角を３０°より大きく４５°以下となるように制御できることが分かった。
このとき、静的水接触角は、６０°〜８０°の範囲にあり、接着性細胞の接着に適した表面処理が行われていること、すなわち、接着性細胞用培養容器の製造に適していることが分かった。
【００５８】
（試験３）
次に、細胞培養容器の培養面に対して施したエキシマ処理の様々な処理条件と後退接触角との関係について、試験２と条件を変えて確認した試験について説明する。
本試験では、試験２と同じエキシマ照射装置を使用し、同電圧で、フィルム表面とランプの距離を３ｍｍとした。その他の各種条件は、試験２と同様とした。その結果を図４に示す。
【００５９】
同図に示されるように、エキシマ処理を行わなかった培養面の静的水接触角は１００．９°、後退接触角は９０．２°であった。
また、ステージの移動速度を６０ｍｍ／ｓｅｃとしてエキシマ処理を行った培養面の静的水接触角は９２．９°、後退接触角は７１．８°であった。
また、ステージの移動速度を４０ｍｍ／ｓｅｃとしてエキシマ処理を行った培養面の静的水接触角は９０．６°、後退接触角は６７．１°であった。
【００６０】
また、ステージの移動速度を２０ｍｍ／ｓｅｃとしてエキシマ処理を行った培養面の静的水接触角は８７．７°、後退接触角は６１．０°であった。
また、ステージの移動速度を１０ｍｍ／ｓｅｃとしてエキシマ処理を行った培養面の静的水接触角は８５．１°、後退接触角は５３．４°であった。
また、ステージの移動速度を５ｍｍ／ｓｅｃとしてエキシマ処理を行った培養面の静的水接触角は８０．４°、後退接触角は４５．４°であった。
【００６１】
また、ステージの移動速度を２ｍｍ／ｓｅｃとしてエキシマ処理を行った培養面の静的水接触角は７５．３°、後退接触角は４１．５°であった。
さらに、ステージの移動速度を２ｍｍ／ｓｅｃとして２回エキシマ処理を行った培養面の静的水接触角は７１．７°、後退接触角は４１．６°であった。
また、ステージの移動速度を２ｍｍ／ｓｅｃとして３回エキシマ処理を行った培養面の静的水接触角は７０．０°、後退接触角は３３．４°であった。
【００６２】
以上の結果から、ポリエチレンフィルムに対するエキシマ処理の強度を制御することによって、後退接触角を適切に調整できることが明らかとなった。
具体的には、エキシマ処理の処理条件を、培養面とランプの距離を３ｍｍとし、ステージの移動速度を６０ｍｍ／ｓｅｃ〜５ｍｍ／ｓｅｃとすることにより、後退接触角を４５°より大きく７８°未満となるように制御できることが分かった。
このとき、静的水接触角は、８０°〜９５°の範囲にあり、細胞接着抑制剤のコーティングに適した表面処理が行われていること、すなわち、浮遊性細胞用培養容器の製造に適していることが分かる。
【００６３】
また、エキシマ処理の処理条件を、培養面とランプの距離を３ｍｍとし、ステージの移動速度を２ｍｍ／ｓｅｃ以上の強度とすることにより、後退接触角を３０°より大きく４５°以下となるように制御できることが分かった。
このとき、静的水接触角は、６０°〜８０°の範囲にあり、接着性細胞の接着に適した表面処理が行われていること、すなわち、接着性細胞用培養容器の製造に適していることが分かった。
【００６４】
本発明は、以上の実施形態及び実施例に限定されるものではなく、本発明の範囲内において、種々の変更実施が可能であることは言うまでもない。
例えば、上記実施形態及び実施例では、エキシマ処理の条件として特定の条件を示したが、これらに限定されるものではなく、細胞培養容器の培養面の後退接触角が本発明の範囲内になるように処理可能な条件であれば、適宜変更することが可能である。
【産業上の利用可能性】
【００６５】
本発明は、浮遊性細胞用、又は接着性細胞用に使用される、均一に親水化された培養面を備えた培養容器を製造する場合に、好適に利用することが可能である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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