(57)【要約】【課題】生産コストを増加させることなく、ブラックマトリクスのマイクロローディング効果を防止可能で、且つ安定して製造可能なカラーフィルタを提供することを課題とする。【解決手段】ブラックマトリクス（ＢＭ）と、赤色層と、緑色層と、青色層と、を備えたカラーフィルタであって、ブラックマトリクス（ＢＭ）は、額縁ＢＭと、アクティブエリアＢＭと、を備えており、額縁ＢＭは、アクティブエリアＢＭの周縁部に備えられており、アクティブエリアＢＭは、カラーフィルタの有効画面内に備えられており、アクティブエリアＢＭと隣接する額縁ＢＭは、アクティブエリアＢＭから離間して備えられており、アクティブエリアＢＭと額縁ＢＭとが離間した部位には、赤色層と緑色層と青色層と、が積層されてなることを特徴とするカラーフィルタ。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも
赤色層と緑色層と青色層とからなる画素と、
ブラックマトリクスと、
を透明基板上に有するカラーフィルタであって、
前記ブラックマトリクスは、
前記カラーフィルタの有効画面内にアクティブエリアブラックマトリクス（アクティブエリアＢＭ）と、
前記アクティブエリアＢＭを設けた領域の周囲に一定の距離を離間した位置に額縁ブラックマトリクス（額縁ＢＭ）と、
前記アクティブエリアＢＭと前記額縁ＢＭの離間した部位に前記赤色層と前記緑色層と前記青色層が積層された層と、
を備えることを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項２】
前記アクティブエリアＢＭと前記額縁ＢＭの離間した部位に、前記赤色層と前記緑色層と前記青色層から選ばれた２つの色層が重なった層を備えることを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項３】
少なくとも、前記ブラックマトリックスの製造工程、および、前記赤色層と前記緑色層と前記青色層の製造工程を含む請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法であって、
前記ブラックマトリックスの製造工程では前記アクティブエリアＢＭのパターンと前記アクティブエリアＢＭパターンの先端部が一定の距離離間した位置に前記額縁ＢＭのパターンとを有するフォトマスクと、
前記赤色層と前記緑色層と前記青色層の製造工程では前記画素となるパターンおよび前記アクティブエリアＢＭの先端部と前記額縁ＢＭの間の領域と重なるパターンとを有するフォトマスクと、
をそれぞれ用いることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
少なくとも、前記ブラックマトリックスの製造工程、および、前記赤色層と前記緑色層と前記青色層の製造工程を含む請求項２に記載のカラーフィルタの製造方法であって、
前記ブラックマトリックスの製造工程では前記アクティブエリアＢＭのパターンと前記アクティブエリアＢＭパターンの先端部が一定の距離離間した位置に前記額縁ＢＭのパターンとを有するフォトマスクと、
前記赤色層と前記緑色層と前記青色層の中から選ばれた２つの色層の製造工程では色画素パターンおよび前記アクティブエリアＢＭのパターン先端部と前記額縁ＢＭの間の領域と重なるパターンとを有するフォトマスクと、
残り１つの色層の製造工程では、色画素パターンを有するフォトマスクと、
をそれぞれ用いることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高精細なカラーフィルタとその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
高精細カラーフィルタの構成要素であるブラックマトリクス（ＢＭ）は、アクティブ領域におけるアクティブエリアＢＭとその周辺部の遮光領域である額縁ＢＭから構成されている。アクティブエリアＢＭはバックライトの光漏れの防止とＲＧＢの混色防止の役割を担っている。額縁ＢＭは、アクティブ領域のＴＦＴを駆動する周辺回路やその引き回し配線を隠す役割を担っている。
【０００３】
従来から、カラーフィルタの高精細化の進行に伴い、額縁ＢＭと、アクティブエリアＢＭと、の接続部の近傍において、アクティブエリアＢＭの線幅が細くなる現象（マイクロローディング効果）が発生することが知られている（図２参照）。
【０００４】
図２は、アクティブエリアＢＭの縦方向の線幅が５μｍである場合を例に、マイクロローディング効果を説明する図である。図２（ａ）は、使用するフォトマスクを示している。このフォトマスクは、ＣＤ補正していないフォトマスクであり、額縁ＢＭに隣接した線幅５μｍのアクティブエリアＢＭを形成するフォトマスクパターンが示されている。図２（ｂ）は、そのフォトマスクを使用して形成したＢＭを示している。額縁ＢＭに隣接したアクティブエリアＢＭの線幅はマイクロローディング効果により細くなっており、線幅５μｍのパターンを形成するフォトマスクで露光したにもかかわらず、４μｍのパターンが形成された例を示している。
【０００５】
マイクロローディング効果を回避する方法として、額縁ＢＭと、アクティブエリアＢＭと、の接続部の近傍におけるフォトマスクの寸法に補正（ＣＤ補正と言う。）をかけることが行われて来た（図３参照）。
【０００６】
図３（ａ）は、ＣＤ補正したフォトマスクを例示したものである。額縁ＢＭに隣接したアクティブエリアＢＭを形成するフォトマスクパターンは、ＣＤ補正により６μｍとしてあるフォトマスクである。図３（ｂ）は、このフォトマスクを使用して作製したＢＭである。ＣＤ補正したフォトマスクを使用したことで、マイクロローディング効果を回避し、正常な線幅５μｍのアクティブエリアＢＭを形成できることを例示したものである。
【０００７】
しかしながら、高精細化の進行は留まることを知らず、アクティブエリアＢＭの線幅が４μｍ以下となるに伴い、ＣＤ補正では高精細化に対応することが困難となり（図４および図５参照）ＢＭパターンを良好に形成する事ができなくなってきた。
【０００８】
図４（ａ）は、アクティブエリアＢＭの線幅が３〜４μｍの場合のＣＤ補正していないフォトマスクを例示したものである。図４（ｂ）は、そのフォトマスクを使用して作製したＢＭの例を示したものであり、マイクロローディング効果によって、アクティブエリアＢＭの線幅が３〜４μｍより細くなって、透明基板から剥離した例を示している。
【０００９】
図５（ａ）は、アクティブエリアＢＭの線幅が３〜４μｍの場合のＣＤ補正したフォトマスクを例示したものであり、額縁ＢＭに隣接したアクティブエリアＢＭの線幅を５μｍにした場合を示している。図５（ｂ）は、そのフォトマスクを使用して作製したＢＭパターンを例示したものであり、ＣＤ補正により太くした額縁ＢＭに隣接したアクティブエリアＢＭが解像しなくなった場合を例示したものである。
【００１０】
以上に説明した様な状況のため、線幅が４μｍ以下の高精細なＢＭパターンにおいて、マイクロローディング効果を回避可能な技術が求められていた。
【００１１】
マイクロローディング効果を回避可能な先行技術として、例えば特許文献１には、樹脂のブラックマトリクスの形成において額縁ＢＭ部と線パターンの接続部分における線パターンの線幅細りを無くすことを課題として、基板上に形成した黒色感光性樹脂層に、フォトマスクを用いてブラックマトリクスのパターンを露光する露光工程を第１回目の露光工程と第２回目の露光工程で構成し、第１回目の露光工程と第２回目の露光工程では、フォトマスクと黒色感光性樹脂層との間隙を異ならせ、かつ、フォトマスクの面方向の位置を、カラーフィルタの画素のピッチの整数倍のピッチでずらして配置して露光することでブラックマトリクスを有するカラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法が開示されている。
【００１２】
しかしながら、フォトリソグラフィー工程が２回となるため、処理速度が１／２に低下する問題がある。
【００１３】
また、特許文献２には、現像によるブラックマトリクス線幅の額縁ＢＭ付近における細りやくびれを抑えた高精細カラーフィルタの製造方法を提供することを課題として、ブラックフォトレジストからなる塗膜に、パターン照射を行い、現像により画素と画素とを区分するブラックマトリックス線と、その周囲を囲む額縁ＢＭ部からなるブラックマトリックスを形成し、前記ブラックマトリックス上に着色画素を設けるカラーフィルタの製造方法であって、前記ブラックフォトレジストからなる塗膜の、ブラックマトリックスの額縁ＢＭ部に相当する部分に、露光量の異なる箇所を設け、露光量の異なる箇所を現像除去することにより、額縁ＢＭ部近傍の現像液の活性を減少させ、額縁ＢＭ部近傍に位置するブラックマトリックスの線幅の細りやくびれの発生を防止する技術が開示されている。
【００１４】
しかしながら、実生産において、現像液が疲労して徐々に活性が変化するなか、現像液の活性を部分的に、且つ安定して、制御することは困難であると考えられる。
【００１５】
そのため、４μｍ以下の高精細なＢＭパターンを製造可能な技術として、マイクロローディング効果を回避可能で、工程数を増加させることなく、且つ安定して実施可能な技術の出現が待望されていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１６】
【特許文献１】特開２０１２−１３８４０号公報
【特許文献２】特開２０１４−２２８７２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
本発明は、生産コストを増加させることなく、ブラックマトリクスのマイクロローディング効果を回避可能で、且つ安定して製造可能なカラーフィルタおよびその製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
上記の課題を解決する手段として、本発明の第一の態様は、少なくとも、
赤色層と緑色層と青色層とからなる画素と、
ブラックマトリクスと、
を透明基板上に有するカラーフィルタであって、
前記ブラックマトリクスは、
前記カラーフィルタの有効画面内にアクティブエリアブラックマトリクス（アクティブエリアＢＭ）と、
前記アクティブエリアＢＭを設けた領域の周囲に一定の距離を離間した位置に額縁ブラックマトリクス（額縁ＢＭ）と、
前記アクティブエリアＢＭと前記額縁ＢＭの離間した部位に前記赤色層と前記緑色層と前記青色層が積層された層と、
を備えることを特徴とするカラーフィルタである。
【００１９】
また、第二の態様は、前記アクティブエリアＢＭと前記額縁ＢＭの離間した部位に、前記赤色層と前記緑色層と前記青色層から選ばれた２つの色層が重なった層を備えることを特徴とするカラーフィルタである。
【００２０】
アクティブエリアＢＭが４μｍ以下に微細化すると、額縁ＢＭに隣接するアクティブエリアＢＭの線幅が細くなるマイクロローディング効果が発生する。本発明は、額縁ＢＭをアクティブエリアＢＭ側から外側に向って削除させることにより、額縁ＢＭとアクティブエリアＢＭを離間させ、マイクロローディング効果を発生させない状況でＢＭの形成を行う。そのため、アクティブエリアＢＭにはマイクロローディング効果が発生しない。その後の赤色、緑色、青色の各色層の形成工程にて、額縁ＢＭをアクティブエリアＢＭの端部から外側に向って削除した部位に、順次、色層を積層させ、ＢＭと同等の遮光性を備えた層を形成することにより、削除された額縁ＢＭを補完する形で形成することで、本発明のカラーフィルタを完成させることができる。
【００２１】
また、第三の態様は、少なくとも、前記ブラックマトリックスの製造工程、および、前記赤色層と前記緑色層と前記青色層の製造工程を含む請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法であって、
前記ブラックマトリックスの製造工程では前記アクティブエリアＢＭのパターンと前記アクティブエリアＢＭパターンの先端部が一定の距離離間した位置に前記額縁ＢＭのパターンとを有するフォトマスクと、
前記赤色層と前記緑色層と前記青色層の製造工程では前記画素となるパターンおよび前記アクティブエリアＢＭの先端部と前記額縁ＢＭの間の領域と重なるパターンとを有するフォトマスクと、
をそれぞれ用いることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００２２】
また、第四の態様は、少なくとも、前記ブラックマトリックスの製造工程、および、前記赤色層と前記緑色層と前記青色層の製造工程を含む請求項２に記載のカラーフィルタの製造方法であって、
前記ブラックマトリックスの製造工程では前記アクティブエリアＢＭのパターンと前記アクティブエリアＢＭパターンの先端部が一定の距離離間した位置に前記額縁ＢＭのパターンとを有するフォトマスクと、
前記赤色層と前記緑色層と前記青色層の中から選ばれた２つの色層の製造工程では色画素パターンおよび前記アクティブエリアＢＭのパターン先端部と前記額縁ＢＭの間の領域と重なるパターンとを有するフォトマスクと、
残り１つの色層の製造工程では、色画素パターンを有するフォトマスクと、
をそれぞれ用いることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００２３】
本発明のカラーフィルタの製造方法においては、フォトマスクのＣＤ補正は行わず、額縁ＢＭとアクティブエリアＢＭが隣接した部位で発生するマイクロローディング効果を起こす領域に額縁ＢＭを形成せず、アクティブエリアＢＭの額縁ＢＭ側の端部から、マイクロローディング効果が発生しない距離だけ額縁ＢＭを離間して形成するフォトマスクパタ
ーンを使用する。このことにより、額縁ＢＭの幅が狭くなり、本来の額縁ＢＭの目的であるアクティブエリアＢＭの周縁部に配置されているＴＦＴの引き回し配線が露出してしまう。そのため、アクティブエリアＢＭの額縁ＢＭ側の端部から、マイクロローディング効果が発生しない距離だけ額縁ＢＭを離間した部位に、色層を積層することにより遮光性がＢＭと同等の層を形成する。このことにより、マイクロローディング効果の影響が避けられ、アクティブエリアＢＭと額縁ＢＭの離間した部位をＲＧＢ（赤色、緑色、青色）層の積層により、額縁ＢＭと同等の遮光性を有する積層パターンが形成された構成となる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明のカラーフィルタによれば、額縁ＢＭと隣接するアクティブエリアＢＭがマイクロローディング効果を引き起こす事がない様に、額縁ＢＭをアクティブエリアＢＭの額縁ＢＭ側の端部から離間して形成するため、マイクロローディング効果が発生することが無い。また額縁ＢＭをアクティブエリアＢＭの額縁ＢＭ側の端部から離間した部分には額縁ＢＭが無くなり、アクティブエリアＢＭの周縁部に配置されているＴＦＴの引き回し配線が見えてしまうことを防ぐため、赤色、緑色、青色の各色層の形成工程にて、額縁ＢＭが無くなった部位に遮光層を形成することで、本来の額縁ＢＭの機能を失うことなくカラーフィルタを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明のブラックマトリクス（ＢＭ）を例示する上面図であって、（ａ）は本発明のブラックマトリクスを露光するフォトマスク（ＢＭの形成に使用する感光性レジストにネガ型を使用する場合、ＢＭと白黒関係が反転したフォトマスクを使用するが、図示し易くするため、白黒同一のパターンとして示した。）、（ｂ）は（ａ）のフォトマスクを用いて露光し、現像することによって形成されたＢＭ、（ｃ）はＢＭの額縁ＢＭを除去した部分に、ＲＧＢ（赤色、緑色、青色）層を重ねて作製した部分を備えたＢＭ、をそれぞれ例示している。
【図２】従来のＢＭ形成における問題点を説明する説明図であって、アクティブエリアのＢＭの線幅（縦方向）を５μｍで設計したＣＤ補正していないフォトマスクを用いて露光・現像することによって形成したＢＭの額縁ＢＭに近接したアクティブエリアのＢＭの線幅が、マイクロローディング効果によって細くなり、４μｍになっている場合を例示している。
【図３】従来のＢＭ形成における問題点を説明する説明図であって、図２と同様にアクティブエリアのＢＭの線幅を５μｍで設計し、額縁ＢＭに近接したアクティブエリアのＢＭの線幅を６μｍにＣＤ補正したフォトマスクを用いて露光・現像する事によって形成したＢＭの額縁ＢＭに近接したアクティブエリアのＢＭの線幅が５μｍになっている場合を例示している。
【図４】従来のＢＭ形成における問題点を説明する説明図であって、アクティブエリアのＢＭの線幅を３〜４μｍで設計したＣＤ補正無しのフォトマスクを用いて、露光・現像する事によって得たＢＭパターンにおいて、額縁ＢＭに近接したアクティブエリアのＢＭが、マイクロローディング効果によって、線幅が細り剥離した状態を例示している。
【図５】従来のＢＭ形成における問題点を説明する説明図であって、アクティブエリアのＢＭの線幅が３〜４μｍであり、額縁ＢＭに近接した部分のアクティブエリアのＢＭの線幅をＣＤ補正して５μｍとしたフォトマスクを用いて、露光・現像する事によって得たＢＭにおいて、額縁ＢＭに近接したアクティブエリアのＢＭが解像せずＢＭの塗膜が残留した状態を例示している。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
＜カラーフィルタ＞
本発明のカラーフィルタについて、図１を用いて説明する。
本発明のカラーフィルタは、透明基板上に、ブラックマトリクス（ＢＭ）と、赤色層と
、緑色層と、青色層と、を備えたカラーフィルタである。
【００２７】
ブラックマトリクス（ＢＭ）は、額縁ＢＭと、アクティブエリアＢＭと、を備えており、
額縁ＢＭは、アクティブエリアＢＭの周縁部に備えられている。また、アクティブエリアＢＭは、カラーフィルタの有効画面内に備えられている。
【００２８】
アクティブエリアＢＭと隣接する額縁ＢＭは、アクティブエリアＢＭの線幅が減少するマイクロローディング効果を生じない位置までアクティブエリアＢＭから離間して備えられており、アクティブエリアＢＭと額縁ＢＭとが離間した部位には、赤色層と緑色層と青色層と、が積層されている。
【００２９】
図１（ａ）は、本発明のカラーフィルタの製造に使用するフォトマスクを例示したものである。アクティブエリアＢＭの線幅は３〜４μｍである。このような微細な線幅のアクティブエリアＢＭでは、額縁ＢＭと隣接する領域で、マイクロローディング効果が起こる。このマイクロローディング効果の影響により、アクティブエリアＢＭの線幅が設計値より細くなってしまう。ＢＭの線幅がこの効果により細くなると下地からＢＭが剥離することがある。
通常、ＢＭの形成材料として通常はネガ型レジスト材料を使用するため、フォトマスクとＢＭとは、白黒反転しているが、ここでは便宜上、色黒同一の図面を用いて説明を行う。本発明の特徴は、額縁ＢＭと、額縁ＢＭに隣接するアクティブエリアＢＭと、をマイクロローディング効果が起こらない距離に離間させてＢＭを形成することである。それを可能とするパターンを形成したフォトマスクを使用する。
【００３０】
図１（ｂ）は、（ａ）のフォトマスクを使用して形成したＢＭパターンを例示したものである。額縁ＢＭからアクティブエリアＢＭの額縁ＢＭ側の端部が、マイクロローディング効果を起こさない距離に離間しているため、アクティブエリアＢＭが細くなることはない。この様にするため、額縁ＢＭを離間させるため、額縁ＢＭを削除し、額縁ＢＭの幅を狭くする。そうすると額縁ＢＭの下にあるＴＦＴの引き回し配線が額縁ＢＭからはみ出すため、視認されてしまう。
【００３１】
図１（ｃ）は、額縁ＢＭを削除した部分に、ＲＧＢ層（赤色、緑色、青色）の形成工程にて、各色層を積層することにより、遮光層を形成し、額縁ＢＭの下にあるＴＦＴの引き回し配線を遮蔽した状態を示している。
【００３２】
＜カラーフィルタの製造方法＞
本発明のカラーフィルタの製造方法は、ブラックマトリクス（ＢＭ）の製造工程と、色層（赤色層と緑色層と青色層）の製造工程と、を備えている。
ブラックマトリクス（ＢＭ）の製造工程で使用するフォトマスクは、額縁ＢＭが、該額縁ＢＭと隣接するアクティブエリアＢＭの線幅が減少するマイクロローディング効果を生じない位置まで、アクティブエリアＢＭから離間して配置されるパターンを有している。
色層の製造工程で使用するフォトマスクは、額縁ＢＭとアクティブエリアＢＭとが離間した部位に、各色層が積層されるパターンを有している。
【００３３】
（ＢＭの製造工程）
通常のフォトブラックの製造工程を使用して製造することができるが、使用するフォトマスクのみ異なる。
まず、ガラス基板などの透明基板を洗浄し、ガラス基板の表面から付着異物や塵埃を除去し、更に表面汚染物質を除去することにより、ブラックマトリクス（ＢＭ）を形成する黒色感光性レジストをムラ無く、均一に塗布できるようにする。
【００３４】
次に、レジスト塗布装置を用いて、透明基板上に、黒色感光性レジストを塗布し、レジストに含まれる溶剤を揮発させるため、乾燥処理を行う。
【００３５】
透明基板上に黒色感光性レジスト層を形成した後、ＢＭ用フォトマスクを用いて、露光し、現像することにより、所望のＢＭパターンを備えたＢＭを得ることができる。
【００３６】
本発明のカラーフィルタの製造方法の特徴は、このＢＭ用フォトマスクのパターンにある。図１（ａ）に例示した様に、本発明のカラーフィルタの製造方法で使用するＢＭ用フォトマスクは、カラーフィルタの有効画面領域であるアクティブエリアＢＭを形成するパターンと、アクティブエリアＢＭを形成するパターンの周縁部に備えられた額縁ＢＭと呼ばれる周縁部遮蔽パターンと、を備えている。
【００３７】
アクティブエリアＢＭの額縁ＢＭ側の端部と、額縁ＢＭと、をマイクロローディング効果が発生しない距離に離間させることが必要である。それは、アクティブエリアＢＭの額縁ＢＭ側の端部と額縁ＢＭとを離間させる方向の、額縁ＢＭの幅を狭めることで実施することができる。図１（ａ）、（ｂ）中に記載した、額縁ＢＭを削除した部分、が額縁ＢＭの幅を狭めた部分に相当する。
【００３８】
（色層（赤色層と緑色層と青色層）の製造工程）
次に、上記で作製したＢＭが形成された基板上に、赤色、緑色、青色の各色層を形成する。この工程は、通常のフォトリソ方式のカラーフィルタの製造方法と変わりはないが、使用するフォトマスクが異なる。
【００３９】
赤色、緑色、青色の各色層を形成するフォトマスクは、色毎に別のフォトマスクを使用しても良いし、１つのフォトマスクを使用して、シフトさせて目合わせして、露光することでも良い。いずれの場合も、図１（ｃ）に示した、額縁ＢＭを削除した部分にＲＧＢ層（赤色、緑色、青色の各色層）を重ねて作製した部分、を作製可能なフォトマスクを使用する必要がある。
【００４０】
通常のフォトマスクは、アクティブエリアの赤色、緑色、青色の各色層を形成するパターンを備えたフォトマスクであるが、本発明のカラーフィルタの製造方法で使用するフォトマスクは、アクティブエリアの赤色、緑色、青色の各色層を形成するパターンに加えて、額縁ＢＭを除去した部分にも、１色毎に形成可能なパターンを備えている事が特徴である。
【００４１】
このようなフォトマスクを使用することにより、赤色と緑色と青色の任意の２色を組合せて積層するか、または３色を積層することによって、額縁ＢＭを除去した部分に遮光性を備えた層を形成することができる。
【００４２】
以上、本発明のカラーフィルタとその製造方法について説明した。
本発明のカラーフィルタは、従来のフォトリソ方式のカラーフィルタの製造設備を使用して、同等の生産速度で製造可能であるため、従来のフォトリソ方式のカラーフィルタと同等のコストで製造可能であり、異なるのは使用するフォトマスクのパターンの構成のみである。そのため、従来のフォトリソ方式のカラーフィルタと同等に安定して製造することが可能である。
【符号の説明】
【００４３】
１・・・フォトマスクの線幅３〜４μｍで設計したアクティブエリアＢＭに対応する部分２・・・フォトマスクの額縁ＢＭを削除した部分に対応する部分
３・・・フォトマスクの額縁ＢＭに対応する部分
４・・・線幅３〜４μｍで形成されたアクティブエリアＢＭ
５・・・額縁ＢＭを削除した部分
６・・・額縁ＢＭ
７・・・額縁ＢＭを削除下部分にＲＧＢ層を重ねて形成した部分
８・・・フォトマスクの線幅５μｍで設計したアクティブエリアＢＭに対応する部分
９・・・フォトマスクの額縁ＢＭに対応する部分
１０・・・線幅５μｍで設計したアクティブエリアＢＭ
１１・・・マイクロローディング効果で細くなった（４μｍ）アクティブエリアＢＭ
１２・・・額縁ＢＭ
１３・・・フォトマスクのＣＤ補正していない（５μｍ）アクティブエリアＢＭに対応する部分
１４・・・フォトマスクのＣＤ補正で太くなった（６μｍ）アクティブエリアＢＭに対応する部分
１５・・・フォトマスクの額縁ＢＭに対応する部分
１６・・・線幅５μｍのアクティブエリアＢＭ
１７・・・線幅５μｍのアクティブエリアＢＭ
１８・・・額縁ＢＭ
１９・・・フォトマスクの線幅３〜４μｍで設計したアクティブエリアＢＭに対応する部分
２０・・・フォトマスクのＣＤ補正していないフォトマスクのアクティブエリアＢＭに対応する部分
２１・・・フォトマスクの額縁ＢＭに対応する部分
２２・・・線幅３〜４μｍで形成されたアクティブエリアＢＭ
２３・・・マイクロローディング効果でＢＭが剥離した部分
２４・・・フォトマスクのＣＤ補正していない（３〜４μｍ）アクティブエリアＢＭに対応する部分
２５・・・フォトマスクのＣＤ補正で太くした（５μｍ）アクティブエリアＢＭに対応する部分
２６・・・フォトマスクの額縁ＢＭに対応する部分
２７・・・線幅３〜４μｍで形成されたアクティブエリアＢＭ
２８・・・ＣＤ補正によりＢＭが解像しなくなった部分
【図１】
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【図２】
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【図３】
2019045571.tif 000005
【図４】
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【図５】
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