(57)【要約】      （修正有）【課題】いかなる処理されるべきプロセス流をも受容しない触媒領域を、最小化するのに使用され得る、改善された内部構造を含む、処理されるべきプロセス流の半径流を有する反応器を提供する。【解決手段】シェル５と、処理されるべきプロセス流４および除去されるべき流出物１１を導くための手段と、プロセス流を分配するための領域９と、触媒を導入するための任意のディップレッグと、外側スクリーン３および内側スクリーン２とを備え、処理されるべきプロセス流が外側スクリーンから反応器の実質的に中央に位置する内側スクリーンに、または反対に内側スクリーンから外側スクリーンに移動することを可能にし、反応器が、反応器の底部または反応器の頭部の形状と適合する形状を有する少なくとも１つの補助スクリーン１３，１８をさらに備え、補助スクリーンは、外側スクリーンの延長に位置する、反応器。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理されるべきプロセス流の半径流を有する反応器であって、シェル（５）と、処理されるべきプロセス流（４）および除去されるべき流出物（１１）を導くための手段と、前記プロセス流を分配するための領域（９）と、触媒を導入するための任意のディップレッグ（６）と、外側スクリーン（３）および内側スクリーン（２）とを備え、前記外側スクリーン（３）および前記内側スクリーン（２）は、処理されるべき前記プロセス流が外側スクリーン（３）から前記反応器の実質的に中央に位置する内側スクリーン（２）に、または反対に前記内側スクリーン（２）から前記外側スクリーン（３）に移動することを可能にし、前記反応器が、前記反応器の底部または前記反応器の頭部の形状と適合する形状を有する少なくとも１つの補助外側スクリーン（１３，１８）をさらに備え、前記補助外側スクリーン（１３，１８）は、前記外側スクリーン（３）の延長に位置する、反応器。
【請求項２】
前記外側スクリーン（３）の下部は、支持体、好ましくは支持リング（８ａ）上に置かれている、請求項１に記載の反応器。
【請求項３】
前記支持体は、前記処理されるべきプロセス流が通過できるように、穿孔されている、請求項２に記載の反応器。
【請求項４】
前記内側スクリーン（２）の下部表面は、１つ以上の固体プレート片（７）と、前記内側スクリーン（２）の残存部分とは異なる特定の穿孔を有する領域（１４）を含む穿孔されたプレートとを含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の反応器。
【請求項５】
前記内側スクリーン（２）の上部表面は、１つ以上の固体プレート片（７）と、前記内側スクリーン（２）の残存部分とは異なる特定の穿孔を有する領域（１４）を含む穿孔されたプレートとを含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の反応器。
【請求項６】
前記外側スクリーン（３）は、支持リング上に置かれた、または吊り下げられた連続モジュールから構成されており、前記モジュールの各々は、前記反応器の底部に適合されたスクリーンを構成するように前記反応器の底部に延伸している、請求項１〜５のいずれか一項に記載の反応器。
【請求項７】
前記連続モジュールは、複数の組み立てられた部材から構成されている、請求項６に記載の反応器。
【請求項８】
前記反応器は移動床反応器である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の反応器。
【請求項９】
触媒を導入するための一連のパイプ（６）は、触媒を、台形断面（ＢＳｍ）を有する環状領域に排出し、前記環状領域において、触媒は、処理されるべきプロセス流と部分的に接触させられ、前記台形断面の幾何学的形状は、前記外側スクリーン（３）が上方に延伸し、固体プレート部分を含まないものであるようなものである、請求項８に記載の移動床反応器。
【請求項１０】
固体プレートが、水平に対して角度θで傾斜し、前記角度θは前記安息角よりも大きく、前記内側スクリーン（２）上の環状触媒領域を画定する、請求項８に記載の移動床反応器。
【請求項１１】
前記反応器は固定床反応器であり、前記反応器内において、前記触媒は、前記反応器の周囲に位置する外側スクリーン（３）と、前記反応器の実質的に中央に位置する内側スクリーン（２）との間に配置される、請求項１〜７のいずれか一項に記載の反応器。
【請求項１２】
前記触媒床は、前記反応器の頭部の触媒床の上部を区分けする実質的に水平な固体プレート（１７）と、前記反応器の底部を充填する不活性ビーズの床との間に位置する、請求項１１に記載の固定床反応器。
【請求項１３】
第２の補助外側スクリーン（１８）が、前記外側スクリーン（３）の上かつその延長に加えられている、請求項１１または１２に記載の固定床反応器。
【請求項１４】
精製または石油化学プロセスにおける、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の反応器の使用。
【請求項１５】
前記精製または石油化学プロセスが、以下のプロセス：ガソリンの連続改質、ガソリンの骨格異性化、オレフィンメタセシス、オリゴクラッキング、パラフィンまたは芳香族化合物の脱水素化、およびアンモニア製造プロセス、から選択される、請求項１４に記載の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガソリンの触媒改質または、ＢＴＸ（ベンゼン、トルエンおよびキシレンの略）などの芳香族化合物の生成のような、処理されるべきプロセス流（process stream）（明細書中、残りの部分では供給物としても知られる）の半径流（radial flow）を有する反応器で作動するプロセスにおける反応器の内部構造に関する。用語「供給物の半径流」は、供給物の流れが触媒床を通って略水平であることを意味する。供給物の半径流を有する反応器には、移動床反応器および固定床反応器が含まれる。本発明は、移動床反応器および固定床反応器に等しく適用可能である。
【０００２】
用語「移動床」とは、小さな粒子の形態で分散された触媒全体が、重力の影響下で実質的に垂直に流れることを意味する。この種類の移動床流は、特に、ガソリンの連続的な改質のような触媒の連続再生を含むプロセスにおいて見られる。本発明は、芳香族のヒドロアルキル化、キシレンの異性化などの固定床反応器にも適用可能である。
【０００３】
本発明は、反応器中に存在する触媒の全体積に対して、処理されるべき供給物と接触させる触媒の体積を増加させることによって、移動床または固定床式の半径流反応器の内部構造を改善することからなる。
【０００４】
本発明によれば、同等の性能のためには、結果として反応器体積が減少されるか、または別の観点からは、同じ体積の反応器においては、反応に利用可能な触媒の量が増加する。
【背景技術】
【０００５】
特許文献１は、従来の移動床技術を要約している。
【０００６】
該先行技術によれば、移動床式の半径流反応器の場合、外側スクリーンのための支持リングの下および内側スクリーンの外側に位置する領域は、処理されるべきプロセス流を受容しない特定量の触媒を含有する。したがって、この領域は、反応において活性化されていないという意味で、デッドボリュームを構成する。
【０００７】
他の従来技術の場合には、固定床式の半径流反応器の場合、外側スクリーンのための支持リングの下および内側スクリーンの外側に位置する領域は触媒を含まない。さらには、反応器の頭部領域も触媒を含まない。
【０００８】
さらには、該先行技術によれば、移動床半径流反応器の頭部において、触媒の漸進的導入は、複数の導管を介して行われ、各導管は、一般に複数の要素によって構成され、触媒床の中央に中心を置く円錐部分によって終端されている。前記円錐部分は、外側スクリーンと内側スクリーンとの間に位置する環状触媒領域の触媒を、反応器の全周にわたって分配させるものである。前記円錐部分は、モジュラーの外側スクリーンの場合には、特許文献２の図２に示されるように、外側スクリーンが固体プレート片を含む領域である触媒床の最上部に配置される。一方、内側スクリーンの上部もまた、前記図２でも見られるように、固体プレートを含む。その結果、これら２つの固体プレートの間に位置する領域は、処理されるべきプロセス流と接触しない触媒を含有する。
【０００９】
特許文献３、特許文献４および特許文献５は、ガソリンの触媒改質におけるプロセスに特に使用され得る異なる種類の移動床反応器を記載している。この種類のプロセスでは、触媒は、「リフト」輸送システムによって、先行する反応器の底部から連続して反応器の頭部に運ばれることによって、反応区域の様々な（一般には３つ、４つまたは５つの）反応器中を移動する。次に、再生器の頭部に運ばれ、再生された触媒は反応区域に戻される。
【００１０】
先行技術（特許文献６）の他の変形例によれば、様々な触媒領域が積み重ねられるため（故に、「スタック型反応器」として知られている）、様々な反応区域を含み、その間を触媒が移動する単一の反応器が形成される。特許文献５の図１に示すように、複数のスタック化された反応区域を含む反応器と、１つ以上の反応区域を含む１つ以上の他の反応器とを関連付けることも可能である。
【００１１】
当業者に実行可能な特定の適合を用いることで、本発明は、個別の反応器の反応領域およびスタック化された反応領域の両方、または２つの様式の組み合わせに関する。
【００１２】
特許文献１には、内側スクリーンと外側スクリーンとが、複数の触媒受け具またはモジュールからなる同等の装置（「触媒容器」として既知の装置）に置き換えられた技術が記載されており、これらは各々軸平面に分割されたシリンダのセグメントである。前記モジュールはジョンソンスクリーンによって構成されている。本発明は、内側スクリーンと外側スクリーンとの両方の実施形態、および特許文献１に記載される種類の装置を使用する実施形態の両方で適用され得る。
【００１３】
本発明はまた、特許文献７に記載されるような反応器内部の熱を回収するための反応器に関する。
【００１４】
特許文献８は、触媒が、前記バスケットの下部にフラップが設置されている移動バスケットに封入されている触媒移動床反応器を記載している。本発明は、その特許に記載される反応器にも関する。実際、反応流に透過性のあるフラップを概念化することは完全に可能である。
【００１５】
特許文献９は、触媒が反応器のエンベロープ（囲い）内に収容され、ガスが複数の垂直円筒状分配器を介して分配される反応器を記載している。本発明は、その種類の反応器にも適用可能である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１６】
【特許文献１】米国特許第６，２２１，３２０号明細書
【特許文献２】米国特許第７，７４９，４６７（Ｂ２）号明細書
【特許文献３】米国特許第３，８６４，２４０号明細書
【特許文献４】米国特許第４，０４０，７９４号明細書
【特許文献５】仏国特許発明第２，１６０，２６９号明細書
【特許文献６】米国特許第３，７０６，５３６号明細書
【特許文献７】欧州特許第２，２２５，0１６号明細書
【特許文献８】仏国特許出願公開第２０１４／５１６１３号明細書
【特許文献９】仏国特許出願公開第２０１６／５５２５１号明細書
【発明の概要】
【００１７】
本発明は、処理されるべきプロセス流の半径流を有する反応器の内部構造に関する。好ましくは、これらの反応器は、触媒の移動床または固定床で作動し、一般に固定床反応器または移動床反応器と呼ばれる。
【００１８】
より詳細には、本発明は、外側スクリーン３から内側スクリーン２へ、または逆に内側スクリーン２から外側スクリーン３へと処理されるべきプロセス流の半径流を有する反応器に関し、この反応器において、処理されるべきプロセス流が到達しない触媒を含む少なくとも１つの領域（デッドゾーンと呼ばれる）は、最小限まで減少された体積を有し、すなわち：
・一方では、外側スクリーン３の下端部と内側スクリーン２の下端部との間に位置する下側領域ＢＩと、および他方では反応器の底部であり、
・反応器が移動床反応器である場合には、シェルのレベルで反応器に触媒を導入するためのディップレッグ６と外側スクリーン３および内側スクリーン２の上端との間に位置する上側ゾーンＢＳｍ、または固体プレート７の下端部、である。
【００１９】
固定床反応器の場合、領域ＢＩおよびＢＳｆは一般に触媒を含まず、固体が存在しないか、触媒的に不活性な物質で少なくとも部分的に充填されている。特に、領域ＢＩは、少なくとも部分的に不活性固体で充填されているのが好ましく、領域ＢＳｆは好ましくは空であり、反応器の頭部と、上部を触媒床から区分けする固体プレート１７との間に位置される。しかしながら、これらの領域は、本発明による反応器の内部構造が改善されているために、デッドゾーンを構成することなしに、少なくとも部分的に触媒で充填され得る。
【００２０】
本発明による反応器は、反応器の底部または反応器の頭部の形状に適合する形状を有する少なくとも１つの補助外側スクリーン１３，１８を含み、前記補助外側スクリーン１３，１８は、外側スクリーン３の延長に位置する。
【００２１】
「適合する形状」という用語は、補助外側スクリーン金型の形状が、それが配置される反応器の領域における反応器のシェルの形状にできるだけ完全に一致することを意味する。
【００２２】
「外側スクリーン３の延長に位置する」という表現は、補助外側スクリーンが、外側スクリーン３の直接的な延長に位置する（図６）、すなわち補助外側スクリーンが外側スクリーン３の延長部を形成するか、または外側スクリーン３の支持部が存在する場合には外側スクリーン３の支持部のすぐ下に位置する（図２）、ことを意味する。
【００２３】
より詳細には、本発明は、処理されるべきプロセス流の半径流を有する反応器であって、シェル５と、処理されるべきプロセス流４および除去されるべき流出物１１を導くための手段と、前記プロセス流を分配するための領域９と、触媒を導入するための任意のディップレッグ６と、外側スクリーン３および内側スクリーン２とを備え、外側スクリーン３および内側スクリーン２は、処理されるべきプロセス流を外側スクリーン３から反応器の実質的に中心に位置する内側スクリーン２に移動させる、反応器に関し、前記反応器は、反応器の底部または反応器の頭部の形状に適合する形状を有する少なくとも１つの補助外側スクリーン１３，１８を含み、前記補助外側スクリーン１３，１８は、外側スクリーン３の延長に位置する。本発明に関しては、処理されるべきプロセス流が内側スクリーン２から外側スクリーン３に移動する場合を包含する。
【００２４】
実際に、半径流反応器では、外側スクリーン３の下部は、支持体、好ましくは支持リング８ａ上に置かれ、前記支持体は、好ましくは、処理されるべきプロセス流が通過するように穿孔されている。
【００２５】
しかしながら、場合によっては、外側スクリーン３および補助外側スクリーン１３を種々の手段によって固定することが可能であり：外側スクリーン３および１３が反応器に吊り下げられるか、または例えば、ボルト止めまたは溶接などの、当業者に既知の任意の固定手段によってシェルに固定される。前記外側スクリーン３および補助外側スクリーン１３は、溶接またはボルト止めによって、または当業者に既知の任意の他の手段によって任意で接合され得るか、または実際には単一部材で製造され得る。
【００２６】
本発明による反応器によって、前記デッドゾーンＢＩまたはＢＳｍ、ＢＳｆのうちの少なくとも１つは、同じ反応器内の前記デッドゾーンの全体積ＶＴの５０％未満の残存体積ＶＲ（処理されるべきプロセス流が到達しない体積として定義される体積）を有する。好ましくは、前記残存体積ＶＲは、体積ＶＴの１％〜４５％の範囲内、より好ましくは体積ＶＴの２％〜３０％の範囲内、およびより好ましくは体積ＶＴの２％〜１５％の範囲内に留まる。
【００２７】
本発明による反応器の１つ以上の実施形態によれば、内側スクリーン２の下部表面は、１つ以上の固体プレート片７と、特定の穿孔領域１４、すなわち、内側スクリーン２の残存部分とは異なる穿孔を含む穿孔されたプレートを含む。
【００２８】
１つ以上の実施形態によれば、内側スクリーン２の上部表面は、１つ以上の固体プレート片７と、特定の穿孔領域１４、すなわち、内側スクリーン２の残存部分とは異なる穿孔を含む穿孔されたプレートを含む。
【００２９】
１つ以上の実施形態によれば、外側スクリーン３は連続モジュールから構成され、各モジュールは、反応器底部に適合するスクリーンを構成するように、反応器の底部に延在している。好ましくは、前記連続モジュールは、複数の組み立てられた部材から構成される。
【００３０】
好ましくは、本発明による反応器は移動床反応器である。これは、触媒が本発明による反応器内、好ましくは重力流形態で反応器の頂部から底部へ移動することを意味するが、触媒の逆の動きも可能である。
【００３１】
本発明による移動床反応器の１つ以上の実施形態によれば、触媒を導入するための一連のパイプ６は、台形断面ＢＳｍを有する環状領域内に触媒を排出し、ここで、触媒は、処理されるべきプロセス流と部分的に接触させられ、前記台形断面の形状は、外側スクリーン３が上向きに延長し、固体プレート部分を含まないような形状である。
【００３２】
本発明による移動床反応器の１つ以上の実施形態によれば、水平に対して角度θで傾斜し、その角度θが安息角（angle of repose）よりも大きい固体プレートは、内側スクリーン２上の環状触媒領域を画定している。好ましくは、内側スクリーン２の上部には、その上部に、内側スクリーン２の残存部分とは異なる穿孔を有する特定の穿孔領域１４を含む穿孔されたプレートが設けられている。
【００３３】
本発明の1つ以上の実施形態によれば、本発明による反応器は固定床反応器であり、すなわち、触媒は反応器内部の床に固定されている。
【００３４】
本発明に従って処理されるべきプロセス流の半径流を有する固定床反応器において、前記触媒は、一般に、反応器の周囲に位置する外側スクリーン３と、実質的に反応器の中央に位置する内側スクリーン２との間に配置される。
【００３５】
好ましくは、触媒床は、反応器の頭部の触媒床の上部を区分けする略水平な固体プレート１７と、反応器の底部を充填する不活性ビーズの床との間に位置する。
【００３６】
本発明による他の種類の反応器の場合のように、固定床反応器の場合には、前記反応器は、反応器の底部に適合する補助外側スクリーン１３を含み、前記スクリーンは、外側スクリーン３の内側に位置している。
【００３７】
さらには、１つ以上の実施形態によれば、外側スクリーン３の上かつその延長に、第２の補助外側スクリーン１８が追加され得る。前記スクリーン１８の形状は、特に、前記スクリーンの少なくとも一部分がシェルの湾曲部分に配置されている場合に、反応器の頭部の形状に適合されることが好ましい。この第２の補助スクリーン１８は、固定床反応器が使用される際に設置されることが好ましい。
【００３８】
本発明はまた、好ましくは、以下のプロセス：ガソリンの連続改質、ガソリンの骨格異性化、オレフィンメタセシス、オリゴクラッキング、パラフィンまたは芳香族化合物の脱水素化、およびアンモニア製造プロセス、から選択される、精製または石油化学プロセスにおける本発明による半径流反応器の使用にも関する。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】図１は、従来技術による移動床および半径流反応器の概略図である。
【図２】図２は、本発明の１つの実施形態による移動床および半径流反応器の概略図である。
【図３】図３は、本発明の１つの実施形態による移動床および半径流反応器の概略図である。
【図４】図４は、本発明の１つの実施形態による移動床および半径流反応器の概略図である。
【図５】図５は、従来技術による固定床および半径流反応器の概略図である。
【図６】図６は、本発明の１つの実施形態による固定床および半径流反応器の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
図１は、従来技術による内部構造を備えた半径状移動床反応器を示す。処理されるべきプロセス流、すなわち供給物は、反応器のパイプ４を介して導入され、外部エンベロープまたはシェル１、すなわち反応器の壁と、外側バスケットとして既知の連続シリンダを構成する一体型装置によって構成されている外側スクリーン３との間に位置するプロセス流用の分配領域９に分配される。
【００４１】
触媒は、一連のパイプ６を介して反応器の頂部に導入され、各パイプ６は、パイプ６の端部の円錐部１０ａと触媒床の中心上部とで画定される中心円錐部分ＢＳｍに出て、外側スクリーン３と内側スクリーン２との間に位置する入口環状触媒領域５の上に触媒が分配されるのを可能となる。中心円錐部ＢＳｍは、固体プレート片によって構成されている。円錐部分の垂直軸は、触媒床の中心を通過する。好ましくは、水平線に対する円錐角は、安息角よりも大きくなければならない。
【００４２】
前記円錐部分ＢＳｍは、触媒床５の最高部分で終端している。触媒床のこの最高部分において、外側スクリーンは、固体プレート片７を含む。
【００４３】
処理されるべきプロセス流は、略水平になるように、かつ重力下で、すなわち略垂直に移動する触媒に対して垂直に触媒床を通過する。触媒床５からの出口において、処理されたプロセス流は中央導管または内側スクリーン２に回収され、パイプ１１を介して反応器から放出される。
【００４４】
外側スクリーン３の下部は、反応器１のエンベロープに溶接された固体支持リング８上に置かれる。一般に、それは、例えばキーまたはボルトなどの取り外し可能な固定手段、またはタック溶接によって固定される。
【００４５】
一般に、内側スクリーン２は、処理されたプロセス流１１の出口パイプの周囲で反応器の底部に溶接された支持リング（図示せず）上に置かれる。一般に、これは、例えばキーまたはボルトなどの取り外し可能な固定手段、またはタック溶接によって固定される。触媒床５のこの最低部分において、内側スクリーン２は、少なくとも１つの固体プレート片７を含む。
【００４６】
触媒は、重力下で触媒領域の頂部から底部へ徐々に流れる。典型的には、触媒は、１つ以上の出口パイプ１２によって底部から抜き取られる。リフトを使用して、抜き取られた触媒を、次の反応器の触媒領域の上部に、または最後の反応器の後に位置する再生器に、例えばガス、好ましくは水素などの作動流体によって移送することができる。
【００４７】
図２は、本発明の好ましい実施形態の１つに従って改善された内部構造を備えた、移動床式で作動する半径流床反応器を示す。反応器の上部全体、即ち、外部スクリーン３の上端部の固体プレートまたは固体片から形成される円錐部分ＢＳｍは、図１に示される反応器のものと同一である。
【００４８】
１つ以上の実施形態によれば、外側スクリーン３の下部は、処理されるべきプロセス流が通過できるように穿孔された支持リング８ａ上に置かれている。一例として、支持リングには規則的な間隔（または不連続であってもよい）でオリフィスが設けられている。従来技術と比較すると、穿孔された支持リングの下に、反応器の底部１３に適合された外側スクリーンが追加されている。
【００４９】
１つ以上の実施形態によれば、反応器の底部において、１つ以上の固体プレート片７を含む内部スクリーン２の表面は、図１と比較して最小化されている。
【００５０】
さらに、図１に示された構成とは対照的に、内側スクリーン２の下部は、有利には、その下部に、スクリーンの残存部分とは異なる穿孔を有する特定の穿孔領域１４を含む穿孔されたプレートを有し得る。
【００５１】
図１と比較して、図２に示された実施形態による構成は、反応器の底部の領域ＢＩの体積を減少させるのに使用することができ、前記領域は反応容器内にあり、触媒を含み、それを通過する処理されるべきプロセス流を含まない。これは、これらの領域ＢＩは先行技術においては化学反応の観点から無効である（デッドゾーン）が、本発明による反応器においては少なくとも部分的に有効になることを意味する。デッドゾーンの体積を減少させるという事実は、反応器の効率の全体的な増加をもたらす。
【００５２】
図３は、本発明の好ましい実施形態による改善された内部構造を備えた移動式で作動する半径流床反応器を示す。反応器の下部全体、すなわち、支持リング８およびその下部に少なくとも１つの固体プレート片７を含む内部スクリーン２は、図１に示される反応器のものと同一である。
【００５３】
触媒は、触媒が処理されるべきプロセス流と部分的に接触する台形断面ＢＳｍを有する環状領域に開口する一連のパイプ６を介して反応器の頂部に導入される。パイプ６は有利には、触媒が環状触媒領域全体に分布され得るように円錐部分を含み得る。図１とは対照的に、台形断面の幾何学的形状は、図１と比較して外側スクリーン３が上方に延伸し、固体プレート部分を含まないものである。
【００５４】
外側スクリーン３の上端は、内側スクリーン２の上端より上に位置している。水平に対して角度θで傾斜し、その角度が安息角よりも大きい固体プレートは、内側スクリーン２上の環状触媒領域を画定している。図１に示す構成とは対照的に、内側スクリーン２の上部は、有利には、その上部に、スクリーンの残存部分とは異なる穿孔を有する特定の穿孔領域１４を含む穿孔されたプレートを有し得る。
【００５５】
図１および図２と比較して、図３に示される本発明の実施形態による構成は、反応器の頭部における領域ＢＳｍを減少させるのに使用することができ、前記領域は反応容器内にあり、触媒を含み、前記先行技術（図１）の反応器においてはそれを通過する処理されるべきプロセス流を含まないため、領域ＢＳｍは化学反応の観点からは無効領域である。デッドゾーンの体積を減少させるという事実は、反応器の効率の全体的な増加をもたらす。
【００５６】
図４は、本発明の好ましい実施形態による改善された内部構造を備えた半径流移動床反応器を示す。
【００５７】
１つ以上の実施形態によれば、外側スクリーン３は連続した外部モジュールから構成され、各モジュールは、反応器の底部および／または頭部で適合したスクリーンを構成するように反応器の底部および／または頭部まで延伸している。連続モジュールは、複数の組み立てられた部材から構成されてもよく、または単一の部材によって構成されてもよい。それらは、組み立てられた部材によって構成されるのが好ましい。
【００５８】
触媒は、図３のものと同様の台形断面１０ｂを有する環状領域に放出する一連のパイプ６を介して反応器の頂部に導入される。
【００５９】
図１に示される構成とは対照的に、内側スクリーンの下部および上部は、有利には、その下部および／または上部に、スクリーンの残存部分とは異なる穿孔を有する特定の穿孔領域１４を含む穿孔されたプレートを有し得る。
【００６０】
図１と比較して、図４に示される本発明の実施形態による構成は、無効である反応器の頭部および底部（デッドゾーン）における領域ＢＳｍおよびＢＩを減少させるのに使用され得る。
【００６１】
図５は、従来技術による固定床式で作動する半径流反応器を示す。
【００６２】
処理されるべきプロセス流、すなわち供給物は、反応器のパイプ４を介して導入され、反応器の頭部１６に、次いで、外部エンベロープまたはシェル１と外部スクリーン３との間に位置するプロセス流分配領域９に分配され、前記外側スクリーンは、前記反応器中に吊り下げられた複数の連続モジュールによって構成されている。
【００６３】
触媒床は、一般に反応器の接線のレベルに位置する反応器の頭部から触媒床の上部を分離する固体プレート７と、一般に下側の接線からのものである反応器の底部を充填する不活性ビーズの床との間に位置する。
【００６４】
処理されるべきプロセス流は、触媒床５に略水平かつ垂直になるように触媒床を通過する。触媒床からの出口において、処理されたプロセス流は、中
央導管または内側スクリーン２に回収され、パイプ１１を介して反応器から放出される。
【００６５】
内側スクリーン２は、一般に、処理されたプロセス流の出口パイプ１１の周囲で反応器の底部に溶接された支持リング（図示せず）上に置かれる。触媒床５の最低部分であるこの部分において、内側スクリーン２は、少なくとも１つの固体プレート片７を含む。
【００６６】
処理されるべきプロセス流が通過する触媒領域は、灰色の領域Ａとして示されている。
【００６７】
図６は、本発明の好ましい実施形態による改善された内部構造を備えた固定床式で作動する半径流床反応器を示す。
【００６８】
１つ以上の実施形態によれば、外側スクリーン３は連続した外部モジュールから構成され、各モジュールは、底部および／または頭部で適合したスクリーンを構成するように反応器の底部および／または頭部まで延伸している。連続モジュールは、複数の組み立てられた部材から構成されてもよく、または単一の部材によって構成されてもよい。それらは、組み立てられた部材によって構成されるのが好ましい。
【００６９】
図５と比較すると、触媒床の上部は反応器の頭部に突っ込んでおり、触媒床の下部は底部に突っ込んでいる。反応器の底部に位置する不活性ビーズ床の高さは、図１と比較して減少しているため、デッドゾーンＢＩおよびＢＳｆの体積が減少し、反応器の効率が増加する。
【００７０】
図５に示される構成とは対照的に、内側スクリーン２の下部および上部は、有利には、その下部および／または上部に、スクリーンの残存部分とは異なる穿孔を有する特定の穿孔領域１４を含む穿孔されたプレートを有し得る。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【外国語明細書】
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