(57)【要約】【課題】処理ガスの経路に異物が堆積してしまうことを抑制できる湿式除害装置を提案する。【解決手段】処理ガスを液体と接触させることにより無害化するための湿式除害装置であって、かかる湿式除害装置は、処理ガスが吸入される吸入口、及び吸入口よりも下方に設けられて処理ガスが流れる導出口を有する吸入ケーシングと、吸入口と導出口との間に設けられて吸入ケーシングの内壁面に液膜を形成する液膜形成部と、を備える。吸入ケーシングにおける液膜形成部よりも上方を構成する壁部には、吸入ケーシングを加温するヒータが内部に埋め込まれている。【選択図】図１
2019147074.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理ガスを液体と接触させることにより無害化するための湿式除害装置であって、
前記処理ガスが吸入される吸入口、及び当該吸入口よりも下方に設けられて前記処理ガスが流れる導出口を有する吸入ケーシングと、
前記吸入口と前記導出口との間に設けられて前記吸入ケーシングの内壁面に液膜を形成する液膜形成部と、
を備え、
前記吸入ケーシングにおける前記液膜形成部よりも上方を構成する壁部には、前記吸入ケーシングを加温するヒータが内部に埋め込まれている、
湿式除害装置。
【請求項２】
前記吸入ケーシングにおける前記壁部には、鉛直方向に沿った孔が形成されており、
前記ヒータは、前記孔に挿入されたカートリッジヒータである、
請求項１に記載の湿式除害装置。
【請求項３】
前記ヒータが、前記液膜形成部の少なくとも一部の内周側に位置する、請求項１又は２に記載の湿式除害装置。
【請求項４】
前記液膜形成部は、前記吸入ケーシングの内壁面に隣接した環状の液溜め部を有する、請求項１から３の何れか１項に記載の湿式除害装置。
【請求項５】
前記液膜の上端部およびその周辺に向けてパージガスを吹き込むパージガス供給部を更に備える、請求項１から４の何れか１項に記載の湿式除害装置。
【請求項６】
前記ヒータが、前記パージガス供給部の内周側に位置する、請求項５に記載の湿式除害装置。
【請求項７】
前記吸入ケーシングの前記導出口に接続され、前記液膜形成部が供給する液体が溜められる液槽を有する液槽ケーシングと、
前記液槽ケーシングに接続された処理ケーシングと、
前記処理ケーシング内に設けられたファンスクラバーと、
を備える請求項１から６の何れか１項に記載の湿式除害装置。
【請求項８】
前記液槽は、オーバーフローした液体を下流側に流す堰を有しており、
前記吸入ケーシングの前記導出口は、前記堰の上端よりも下方に位置している、
請求項７に記載の湿式除害装置。
【請求項９】
前記液槽内に設けられ、前記液槽に溜められた液体を撹拌するエダクターを更に備えている、
請求項７又は８に記載の湿式除害装置。
【請求項１０】
前記液槽内に設けられ、前記液槽に溜められた液体を撹拌するエダクターを更に備え、
前記液槽は、オーバーフローした液体を下流側に流す堰と、前記堰よりも下流側に設けられたフィルタと、を有し、
前記エダクターは、前記液槽における前記堰よりも上流側である第１液槽に設けられた第１エダクターと、前記堰と前記フィルタとに挟まれた第２液槽に設けられた第２エダクターと、前記フィルタよりも下流側である第３液槽に設けられた第３エダクターと、を有し、
前記第１エダクター、前記第２エダクター、及び前記第３エダクターは、液体を下方に
向けて噴出する、
請求項７から９の何れか１項に記載の湿式除害装置。
【請求項１１】
前記液槽は、当該液槽に溜められた液体を排出する液体排出口を有し、
前記液槽には、前記液体排出口から前記液相内に向かって液体を噴出する排出口エダクターが設けられている、
請求項７から１０の何れか１項に記載の湿式除害装置。
【請求項１２】
前記液槽に溜められた液体を前記液面形成部と前記ファンスクラバーとの少なくとも一方に圧送するポンプを更に備える、請求項７から１１の何れか1項に記載の湿式除害装置。
【請求項１３】
前記液槽ケーシング内を通過する処理ガスに対して液体を噴射するためのノズルを更に備え、
前記ポンプは、前記ノズルに液体を供給する、
請求項１２に記載の湿式除害装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、湿式除害装置に関し、詳しくは、処理ガスを液体と接触させることにより無害化するための湿式除害装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
真空ポンプ装置は、半導体、液晶、太陽光パネル、又は、ＬＥＤ等の製造設備の一つとして広く使用されている。これらの製造プロセス等においては、真空ポンプを真空チャンバに接続して、真空チャンバ内に導入された処理ガスを真空ポンプによって真空引きする。真空ポンプによって真空引きする気体には、シランガス（ＳｉＨ４）、ジクロロシランガス（ＳｉＨ２Ｃｌ２）、アンモニア（ＮＨ３）などの有害可燃性ガス、または、ＮＦ３、ＣｌＦ３，ＳＦ６，ＣＨＦ３，Ｃ２Ｆ６，ＣＦ４等のハロゲン系難分解性ガスが含まれる場合があり、そのまま大気中に放出することができない。そのため、従来、真空ポンプ装置では、真空ポンプの後段に、真空引きしたガスを無害化処理する除害装置を設けている。ガスの無害化処理としては、処理ガスを液体と接触させて異物および水溶性成分等を除去する湿式、並びに処理ガスを燃焼させることによる燃焼式などが知られている。
【０００３】
また、真空ポンプから排気される処理ガスには、真空チャンバ内での反応等によって固形化した物質、または、固形化しやすい物質が反応副生成物として混入している場合がある。こうした生成物が除害装置に侵入すると、配管および除害装置の詰まり、又は、除害装置の処理効率の低下を招くおそれがある。このため、真空ポンプ装置と除害装置との間に、異物を取り除くための異物除去機構が設けられる場合がある。
【０００４】
異物除去機構としては、例えばフィルタ又はトラップなどを用いることができる。フィルタ又はトラップは、簡易な構成で異物を除去することができるが、定期的にフィルタの交換などのメンテナンスが必要となる。また、異物除去機構としては、気体を撹拌するファンと、ファンを駆動するモータと、液体を噴出するノズルと、を備えるファンスクラバーも知られている。ファンスクラバーでは、ノズルから噴出される液体によって異物を捕捉する。ファンスクラバーは、異物除去機構として機能すると共に湿式除害装置としても機能する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−２５１１３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来の異物除去機構または除害装置は、その機能が発揮されるよりも上流側の配管等に凝縮性生成物などの異物が堆積してしまう場合があった。こうした配管への異物の堆積を防ぐために、配管を昇温したり、配管に濡れ壁（液面）を形成したり、またはスクレーパなどで機械的に掻き落とすことが行われる。ここで、配管を昇温する場合、配管を例えば１５０℃以上の高温に加温することが望ましい。しかし、湿式除害装置においては、液体が供給される領域付近では液体によって配管の温度が下がり、その付近に異物が堆積してしまう場合があった。また、濡れ壁を形成する場合も、その濡れ壁よりも上流側に凝縮性生成物などの異物が堆積したり、濡れ壁を形成するための液体供給部にジクロロシラン（ＳｉＨ２Ｃｌ２）などの水溶性ガスと水との反応生成物が堆積することがあった。水と反応した生成物の中には完全な反応が終わっていない、不安定な状態の反応物、具体的には水素を発生する反応性の高いシロキサン混合物を生成することがある。液体が供給される
領域付近で、スクレーパなどにより異物を取り除く場合、摩擦による静電気が着火源となり、発火する危険を伴うことが知られている。
【０００７】
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、処理ガスの経路に異物が堆積してしまうことを抑制できる湿式除害装置を提案することを目的とする。
提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
（形態１）形態１によれば、処理ガスを液体と接触させることにより無害化するための湿式除害装置が提案される。かかる湿式除害装置は、前記処理ガスが吸入される吸入口、及び当該吸入口よりも下方に設けられて前記処理ガスが流れる導出口を有する吸入ケーシングと、前記吸入口と前記導出口との間に設けられて前記吸入ケーシングの内壁面に液膜を形成する液膜形成部と、を備え、前記吸入ケーシングにおける前記液膜形成部よりも上方を構成する壁部には、前記吸入ケーシングを加温するヒータが内部に埋め込まれている。
形態１によれば、吸入ケーシングの内壁面に液膜が形成されると共に、この液膜より上方の吸入ケーシングの壁部内部にヒータが埋め込まれている。これにより、液膜が形成される内壁面近傍まで吸入ケーシングを加温することができ、処理ガスの経路に異物が堆積してしまうことを抑制できる。
【０００９】
（形態２）形態２によれば、形態１の湿式除害装置において、前記吸入ケーシングにおける前記壁部には、鉛直方向に沿った孔が形成されており、前記ヒータは、前記孔に挿入されたカートリッジヒータである。
形態２によれば、湿式除害装置を簡易に構成できるとともに、ヒータの交換およびメンテナンスを容易にすることができる。
【００１０】
（形態３）形態３によれば、形態１又は２の湿式除害装置において、前記ヒータが、前記液膜形成部の少なくとも一部の内周側に位置する。
形態３によれば、液膜形成部の近傍をヒータによって加温することができ、吸入ケーシングに異物が堆積してしまうことを抑制できる。
【００１１】
（形態４）形態４によれば、形態１から３の何れか１つの湿式除害装置において、前記液膜形成部は、前記吸入ケーシングの内壁面に隣接した環状の液溜め部を有する。
【００１２】
（形態５）形態５によれば、形態１から４の何れか１つの湿式除害装置において、前記液膜の上端部およびその周辺に向けてパージガスを吹き込むパージガス供給部を更に備える。
形態５によれば、液膜形成部近傍に異物が堆積することを更に抑制することができる。
【００１３】
（形態６）形態６によれば、形態５の湿式除害装置において、前記ヒータが、前記パージガス供給部の内周側に位置する。
形態６によれば、液膜形成部近傍に異物が堆積することを更に抑制することができる。
【００１４】
（形態７）形態７によれば、形態１から６の何れか１つの湿式除害装置において、前記吸入ケーシングの前記導出口に接続され、前記液膜形成部が供給する液体が溜められる液槽を有する液槽ケーシングと、前記液槽ケーシングに接続された処理ケーシングと、前記処理ケーシング内に設けられたファンスクラバーと、を備える。
形態７によれば、ファンスクラバーによって処理ガスに含まれる異物および水溶性成分を除去することができる。
【００１５】
（形態８）形態８によれば、形態７の湿式除害装置において、前記液槽は、オーバーフロ
ーした液体を下流側に流す堰を有しており、前記吸入ケーシングの前記導出口は、前記堰の上端よりも下方に位置している。
形態８によれば、吸入ケーシングの導出口から流れる処理ガスを液槽に溜められた液体と接触させることができ、処理ガスに含まれる異物および水溶性成分を除去することができる。
【００１６】
（形態９）形態９によれば、形態７又は８の湿式除害装置において、前記液槽内に設けられ、前記液槽に溜められた液体を撹拌するエダクターを更に備えている。
形態９によれば、液槽に溜められた液体の表面に異物が堆積することを抑制することができる。
【００１７】
（形態１０）形態１０によれば、形態７から９の何れか１つの湿式除害装置において、前記液槽内に設けられ、前記液槽に溜められた液体を撹拌するエダクターを更に備え、前記液槽は、オーバーフローした液体を下流側に流す堰と、前記堰よりも下流側に設けられたフィルタと、を有し、前記エダクターは、前記液槽における前記堰よりも上流側である第１液槽に設けられた第１エダクターと、前記堰と前記フィルタとに挟まれた第２液槽に設けられた第２エダクターと、前記フィルタよりも下流側である第３液槽に設けられた第３エダクターと、を有し、前記第１エダクター、前記第２エダクター、及び前記第３エダクターは、液体を下方に向けて噴出する。
【００１８】
（形態１１）形態１１によれば、形態７から１０の何れか１つの湿式除害装置において、前記液槽は、当該液槽に溜められた液体を排出する液体排出口を有し、前記液槽には、前記液体排出口から前記液相内に向かって液体を噴出する排出口エダクターが設けられている。
形態１１によれば、液体排出口が詰まることを抑制できる。
【００１９】
（形態１２）形態１２によれば、形態７から１１の何れか１つの湿式除害装置において、前記液槽に溜められた液体を前記液面形成部と前記ファンスクラバーとの少なくとも一方に圧送するポンプを更に備える。
【００２０】
（形態１３）形態１３によれば、形態１２の湿式除害装置において、前記液槽ケーシング内を通過する処理ガスに対して液体を噴射するためのノズルを更に備え、前記ポンプは、前記ノズルに液体を供給する。
形態１３によれば、液槽径―シング内を通過する処理ガスと液体とを接触させることができ、処理ガスに含まれる異物および水溶性成分を除去することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】実施形態にかかる湿式除害装置の概略構成を示す図である。
【図２】液膜形成部の構成を側方から拡大して示す図である。
【図３】液膜形成部の構成を上方から示す図である。
【図４】図２の変形例を示す図である。
【図５】液溜め部を有さない液膜形成部の一例を側方から示す図である。
【図６】液溜め部を有さない液膜形成部の一例を上方から示す図である。
【図７】堰を有さない液溜め部を備えた液膜形成部の一例を上方から示す図である。
【図８】堰を有さない液溜め部を備えた液膜形成部の一例を側方から拡大して示す図である。
【図９】パージガスを吹き込むパージガス供給部の一例を上方から示す図である。
【図１０】パージガスを吹き込むパージガス供給部の一例を側方から示す図である。
【図１１】パージガス供給部を、図７及び図８に示す液膜形成部と共に使用した例を示す図である。
【図１２】吸入ケーシングにおける液膜形成部より上方の壁部を拡大して示す斜視図である。
【図１３】カートリッジヒータの一例を示す図である。
【図１４】本実施形態のエダクターの構成を示す斜視図である。
【図１５】本実施形態のエダクターの構成を示す断面図である。
【図１６】本実施形態のエダクターの作用を説明するための模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。以下で説明する図面において、同一の又は相当する構成要素には、同一の符号を付して重複した説明を省略する。本実施形態の湿式除害装置は、処理ガスを液体と接触させることにより無害化するものであり、例えば半導体、液晶、太陽光パネル、又は、ＬＥＤ等の製造設備の一つとして利用することができる。
【００２３】
図１は、実施形態にかかる湿式除害装置の概略構成を示す図である。この湿式除害装置１０は、真空ポンプからの気体を無害化するために設けられ、一次側（上流側）に図示しない真空ポンプが接続される。なお、本実施形態の湿式除害装置は、真空ポンプからの気体を無害化するために単独で用いられてもよいし、燃焼式などの他の除害装置と共に用いられてもよい。例えば、真空ポンプが真空引きした気体に含まれる除去対象のガスがすべて水溶性成分である場合には、湿式除害装置１０が単独で用いられてもよい。また、他の除害装置と共に用いられる場合には、湿式除害装置１０の後段に他の除害装置が接続されることが好ましい。
【００２４】
図１に示すように、実施形態の湿式除害装置１０は、図示しない真空ポンプからの処理ガスが吸入される吸入ケーシング２０、吸入ケーシング２０に接続された液槽ケーシング４０、及び、液槽ケーシング４０に接続された処理ケーシング５０を備える。吸入ケーシング２０に吸入された処理ガスは、液槽ケーシング４０および処理ケーシング５０を通って、外部に排出される、又は続けて別の除害装置に導入される。
【００２５】
本実施形態の吸入ケーシング２０は、全体として、上端が閉口すると共に下端が開口した円筒状になっている。下端の開口は、処理ガスが流れる導出口２４を構成し、液槽ケーシング４０内に配置される。吸入ケーシング２０の上端近傍には、図示しない真空ポンプに接続される吸入口２２が形成されている。吸入口２２から吸入ケーシング２０内に吸入された処理ガスは、導出口２４を通って液槽ケーシング４０内に案内される。吸入口２２から真空ポンプに向かう吸入配管２３には、配管ヒータ２３ａが設けられている。配管ヒータ２３ａは、処理ガスが吸入配管２３内を流れるときに吸入配管２３を所定温度（例えば１８０℃）に加温するものであり、ジャケットヒータ等、種々のヒータを採用することができる。こうした配管ヒータ２３ａによって、吸入配管２３及び吸入口２２に異物が堆積してしまうことを抑制できる。
【００２６】
吸入ケーシング２０の吸入口２２と導出口２４との間には、吸入ケーシング２０の内壁面に液膜（濡れ壁）Ｌｆを形成するための液膜形成部２６が設けられている。本実施形態の液膜形成部２６は、環状の吸入ケーシング２０の周方向において全周にわたって設けられている。つまり、吸入ケーシング２０は、液膜形成部２６よりも上方の壁部３１と、液膜形成部２６よりも下方の壁部２１とに区分けされている。液膜形成部２６によって内壁面に液膜Ｌｆが形成されることにより、壁部２１の内壁面近傍で異物が液膜によって流されるため、壁部２１に異物が堆積してしまうことを抑制できる。
【００２７】
図２から図９は、壁部２１の内壁面に液膜を形成する各種機構の構成例を示す。
図２は、液膜形成部２６の構成を側方から拡大して示す図である。この例の液膜形成部２６は、壁部２１の内壁面に隣接した環状の液溜め部２８と、壁部２１に連続して液溜め部２８より上方に突出した堰２９ａと、液溜め部２８に液体を供給する液体供給部２７と、を備えている。堰２９ａの頂部を均一な高さとすることにより、液溜め部２８から溢れた液体が壁部２１の内壁面に沿って流れ、均質な膜厚の液膜を形成することができる。なお、図２に示す例では、堰２９ａの頂部が矩形状となっているが、角が丸められた曲面状となっていてもよい。こうすれば、堰２９ａを超える液体の流れをより滑らかなものとすることができる。
【００２８】
図３は、液膜形成部２６の構成例を上方から示す図である。図３に示すように、液溜め部２８への液体の供給は、液溜め部２８の接線方向から行われることが好ましい。これにより、液溜め部２８に旋回流を形成し、堰２９ａから溢れ出る液体をらせん状に流すことができる。液溜め部２８に旋回流が生じることにより、全周方向において液溜め部２８内の水位を均一に上昇させて堰２９ａから溢れ出させることができ、壁部２１の内壁面に均一な液膜を形成することができる。なお、図３に示す例では、４つの液体供給部２７が設けられているが、こうした例に限定されず１つ以上の液体供給部２７が設けられていればよい。
【００２９】
図４は図２の変形例を示しており、堰２９ｂの頂部が外周側に突出したＬ字型となっている。こうした例においても、壁部２１の内壁面に均一な液膜を形成することができると考えられる。なお、この場合においても、堰２９ｂの頂部は角が丸められた曲面状となっていてもよい。
【００３０】
図２から図４に示す例では、液膜形成部２６は、液溜め部２８を有するものとしたが、液溜め部２８を有さなくてもよい。図５および図６は、液溜め部を有さない液膜形成部２６の一例を示す図である。図５および図６に示す例では、液体供給部２７ｂが、壁部２１の内壁面に直接に液体を供給する。ここで、図６に示すように、液体供給部２７ｂは、壁部２１の内壁面の接線方向に向けて液体を供給し、内壁面にらせん状に液体を流すことが好ましい。こうした例においても、壁部２１の内壁面に均一な液膜を形成することができると考えられる。なお、図６に示す例では、４つの液体供給部２７ｂが設けられているが、こうした例に限定されず１つ以上の液体供給部２７ｂが設けられればよい。
【００３１】
また、液膜形成部２６の液溜め部２８に堰２９ａ，２９ｂが設けられないものとしてもよい。図７および図８は、堰を有さない液溜め部を備えた液膜形成部の一例を示す図である。図７に示すように、液溜め部２８の側壁２８ｂの内面の接線方向に沿って設置された液体供給部２７ｃから液体が供給される。液体供給部２７ｃから供給された液体は、その運動エネルギーによって液溜め部２８の側壁２８ｂに沿って流れる。このときに、液体には遠心力が働き、図８に示すように側壁２８ｂの側面に沿って周回を続けようとする。その一方で、液体供給部２７ｃから連続して液体が供給されるため、側壁２８ｂを周回する液体は、１周目，２周目，３周目と周回を重ねるほど上に押し上げられていく。ただし、周回するにつれて摩擦により運動エネルギーが小さくなっていき、同時に遠心力も弱まるので、上に押し上げられた液体は重力によって円周の内側に向けて流れ落ちていく。このようにして、半径方向外側から内側に向かって斜め下方に傾斜した液面を有する液膜が形成される。そして、液溜め部２８の底板２８ａの内端から壁部２１の内壁面に沿って流れ落ちていき、壁部２１の内壁面に液膜（濡れ壁）Ｌｆが形成される。
【００３２】
さらに、液膜形成部２６によって形成される液膜の上端部およびその周辺には、パージガスが供給されることが好ましい。パージガスは、空気または窒素などを用いることができる。また、パージガスは、所定温度（例えば、１８０℃）に加温されて供給されることが好ましい。
【００３３】
図９および図１０は、パージガスを吹き込むパージガス供給部２５の一例を示す図である。図９および図１０に示す例では、パージガス供給部２５は、短い円筒状であり、内部に円形溝２５ｇを有している。パージガス供給部２５は、液溜め部２８の上方に設けられ、円周方向に間隔をおいて複数のノズル２５ｎから円形溝２５ｇにパージガスを供給する。ノズル２５ｎからパージガスを円形溝２５ｇの外周側の面の接線方向に向けて吹き込むことにより、パージガスは円形溝２５ｇの全周に充満して円形溝２５ｇの下端の開口２５ｓの全周から下方に吹き出す。なお、パージガス供給部２５の開口２５ｓは、図１０に示すように、内周側に向かって傾斜していてもよいし、単に下方または内周に開口していてもよい。このように、円形溝２５ｇからパージガスを円環状に吹き出すことにより、液膜Ｌｆの上端部及びその周辺（つまり、液溜め部２８に形成されている水の旋回流の上端部及びその近傍）の周辺雰囲気をパージガス（空気又は窒素）で置換することができる。図９に示す例では、ノズル２５ｎは２カ所設置されているが、ノズルの個数は、液体供給部２７の数と同一としてもよく、吸入ケーシング２０の寸法などに応じて適宜変更可能である。
【００３４】
なお、パージガス供給部２５を設ける場合、液膜形成部２６を図７及び図８に示す構成例とすることで、水撥ねが生じるのを好適に抑制できる。図１１は、パージガス供給部２５を、図７及び図８に示す液膜形成部２６と共に使用した例を示す図である。上記したように、液膜形成部２６は、堰を有さない液溜め部２８を備えている。こうした液膜形成部２６によって形成される液膜Ｌｆにパージガスが吹き付けられた場合、液膜Ｌｆの一部がくぼむだけで液体の流れは阻害されず、液体が撥ねることを好適に抑制できる。ただし、パージガス供給部２５は、堰を有さない液溜め部２８を備えた液膜形成部２６と共に使用されることに限定されず、図２から図６に示すような他の構成の液膜形成部２６と共に使用されてもよい。
【００３５】
再び図１を参照して説明する。吸入ケーシング２０における液膜形成部２６よりも上方の壁部３１には、壁部３１を所定温度（例えば１８０℃）へと加温するカートリッジヒータ３４が埋め込まれている。図１２は、壁部３１を拡大して示す斜視図であり、図１３は、カートリッジヒータの一例を示す図である。なお、図１２では、壁部３１上端を塞ぐ上面部（図１参照）３２近傍の図示が省略されている。図１２に示すように、吸入ケーシング２０の壁部３１は、例えば厚みが１０ｍｍ程度など、肉厚となっている。壁部３１は、壁部２１と同一の素材で形成されてもよいし、別の素材で形成されてもよく、例えばステンレス製配管を用いることができる。また、壁部３１は、壁部２１に比べて肉厚であってもよい。そして、壁部３１には、鉛直方向に長い穴３１ａが上方に向かって開口して形成されており、この穴３１ａにカートリッジヒータ３４が挿入されている。カートリッジヒータ３４は、長尺状のヒータである。カートリッジヒータ３４は、穴３１ａに挿入されるヒータ部３４ａと、外部電源に接続される配線部３４ｂと、を有する。また、配線部３４ｂは、ヒータ部３４ａ近傍が絶縁体３４ｃで覆われている。カートリッジヒータ３４としては、壁部３１内に埋め込むことができる寸法のヒータが用いられればよく、公知のカートリッジヒータが用いられればよい。また、穴３１ａの形状は、カートリッジヒータ３４の寸法に応じて設計されればよい。なお、図１２に示す例では、カートリッジヒータ３４は、壁部３１の周方向に離れて６カ所設置されているが、カートリッジヒータ３４の個数は、吸入ケーシング２０の寸法および材料、並びに、カートリッジヒータ３４の性能などに応じて適宜変更可能である。例えば、カートリッジヒータ３４の個数は、液膜形成部２６における液体供給部２７の数、または、パージガス供給部２５におけるノズル２５ｎの数と同一としてもよい。
【００３６】
配管の内部表面温度を上げるためには、配管の外側からジャケットヒータを使用することが一般的である。しかし、本実施形態では、壁部３１の下端近傍は、その外周側にパー
ジガス供給部２５および液膜形成部２６が位置しており、ジャケットヒータを用いて直接に加温することが困難となっている。そのため、本実施形態の吸入ケーシング２０では、壁部３１が肉厚に構成されて穴３１ａが形成されており、カートリッジヒータ３４が挿入されている。このようにカートリッジヒータ３４が壁部３１に埋め込まれていることにより、液膜形成部２６の近傍まで壁部３１を好適に加温することができ、液膜形成部２６の近傍に異物が堆積してしまうことを防止することができる。また、内部に埋め込まれたカートリッジヒータ３４により壁部３１を直接温めることで、ジャケットヒータより効率よく壁部３１を昇温させることができ、省エネを図ることができる。さらに、一般にカートリッジヒータは、ジャケットヒータより安価であり、コストダウンを図ることもできる。しかも、本実施形態では、壁部３１に形成された穴３１ａにカートリッジヒータ３４が挿入されているため、吸入ケーシング２０に対してカートリッジヒータ３４を着脱することができ、カートリッジヒータ３４のメンテナンス及び交換を容易に行うことができる。
【００３７】
再び図１を参照して説明する。本実施形態では、壁部３１の上端は、上面部３２によって塞がれている。なお、上面部３２は、壁部３１と一体であってもよいし、壁部３１とビスなどの締結具によって締結されるものとしてもよい。また、上面部３２には、壁部３１に形成された穴３１ａと連通してカートリッジヒータ３４の配線部３４ｂが挿通する孔が形成されていてもよい。
【００３８】
図１に示すように、吸入ケーシング２０の導出口２４は、液槽ケーシング４０に接続されている。液槽ケーシング４０は、液槽４２を有しており、この液槽４２には例えば液膜Ｌｆとして流されている液体が流下する。液槽４２は、吸入ケーシング２０の導出口２４よりも処理ケーシング５０側に堰４４を有すると共に、堰４４よりも処理ケーシング５０側にフィルタ４５を有する。以下、液槽４２において、導出口２４の真下を含む図１中堰４４よりも左側の領域を第１液槽４２ａといい、堰４４とフィルタ４５とに挟まれた領域を第２液槽４２ｂといい、フィルタ４５よりも図１中右側の領域を第３液槽４２ｃという。吸入ケーシング２０の導出口２４から流下した液体は、第１液槽４２ａに一旦入る。そして、第１液槽４２ａに溜められた液体は、堰４４をオーバーフローして第２液槽４２ｂに流れ込み、フィルタ４５を通過して第３液槽４２ｃに流れ込む。第３液槽４２ｃには液体排出口４３が設けられており、液槽４２内の液体は液体排出口４３から排出される。また、液槽ケーシング４０は、処理ケーシング５０と連通する連通口４９を上面に有する。連通口４９は、第２液槽４２ｂの上方に設けられることが好ましい。
【００３９】
本実施形態では、吸入ケーシング２０の導出口２４は、堰４４の上端よりも下方（例えば１０ｍｍ程度下方）に位置している。つまり、導出口２４は、第１液槽４２ａに溜められた液体に浸漬する。導出口２４から導出された処理ガスは、第１液槽４２ａ内を通って液槽ケーシング４０内を流れ、連通口４９を通って処理ケーシング５０内に流れる。吸入ケーシング２０の導出口２４が堰４４の上端よりも下方に位置することにより、導出口２４から導出される処理ガスを第１液槽４２ａに溜められた液体と接触させることができ、処理ガスに含まれる異物および水溶性成分を除去することができる。
【００４０】
本実施形態の液槽ケーシング４０は、液槽４２内に配置されたエダクター４８を更に備えている。エダクター４８は、第１液槽４２ａに設けられた第１エダクター４８ａ、第２液槽４２ｂに設けられた第２エダクター４８ｂ、第３液槽４２ｃに設けられた第３エダクター４８ｃを含んでいる。第１エダクター４８ａ、第２エダクター４８ｂ、第３エダクター４８ｃは、液体を下方に向けて噴出する。これらのエダクター４８ａ〜４８ｃは、液槽４２の液面近傍の液体を吸入するように、その配置が定められるとよい。また、エダクター４８は、第３液槽４２ｃに設けられて液体排出口４３から液槽４２内に向けて液体を噴出する第４エダクター（排出口エダクター）４８ｄを含んでいる。
【００４１】
本実施形態では、エダクター４８ａ〜４８ｄ（４８）は、同一のエダクターが用いられている。図１４および図１５は、本実施形態のエダクター４８の構成を示す斜視図および断面図である。エダクター４８は、略円筒状の本体部４８１と、本体部４８１より小径の円筒状部分であって駆動水が供給される給水部４８２とを備えている。図１５に示すように、本体部４８１は、給水部４８２より供給された駆動水を高速で噴出するための小径の孔からなるノズル４８４と、ノズル４８４の下端から末広がり状に開口面積が拡大している拡散室４８５と、拡散室４８５の直下の位置に対向して形成された２つの吸込口４８３、４８３とを備えている。液槽タンク４０内において、エダクター４８ａ〜４８ｃは、給水部４８２に形成された給水口４８ＩＮが上方に、本体部３ａに形成された吐出口４８ＯＵＴが下方に位置するように垂直方向に配置される。また、第４エダクター４８ｄは、吐出口４８が液体排出部４３から離れた方向に位置するように配置される。
【００４２】
次に、エダクター４８の各部の寸法関係の一例について説明する。図１５に示すように、本体部４８１の内径をｄ１（ｍｍ）とすると、ノズル４８４の口径ｄ３は、ｄ３＝（０．１６〜０．２６）ｄ１に設定され、吸込口４８５の直径ｄ２は、ｄ２＝（０．８〜０．９５）ｄ１に設定され、本体部４８１の長さｌｂは、ｌｂ＝（２．５〜３．５）ｄ１に設定されている。ノズル４８４の下端から末広がり状に開口面積が拡大している拡散室４８５の下端ｅは、内径ｄ１に設定されている。本実施形態で用いたエダクター４８の具体的寸法は、内径ｄ１が１９．６ｍｍ、吸込口４８５の直径ｄ２が１７ｍｍ、ノズル３ｎの口径ｄ３が４．２ｍｍ、本体部４８１の外径が２４ｍｍ、本体部４８１の長さｌｂが５９ｍｍである。本体部４８１および給水部４８２を含むエダクター４の全長は７２ｍｍであり、また材質はＰＶＣ等の樹脂材である。図示するように、エダクター４８は構造がきわめて簡易であり、また小型・軽量で安価なユニットである。
【００４３】
図１６は、本実施形態のエダクター４８の作用を説明するための模式図である。給水部４８２の給水口４８ＩＮより供給された駆動水は、白抜きの矢印で示すようにノズル４８４で絞られ、拡散室４８５に高速で放出される。このとき、高速流により拡散室４８５の圧力が低下して液槽４２の液体が、黒塗り矢印で示すように二つの吸込口４８３，４８３から拡散室４８５に吸い込まれる。吸込口４８３，４８３から拡散室４８５に吸い込まれた水は、給水部４８２から流入した駆動水とともに吐出口４８ＯＵＴから吐出される。この場合、給水部４８２から給水される水量をＱとすると、二つの吸込口４８３，４８３から吸い込まれる水量は約４Ｑであり、トータル５Ｑの水量の液体がエダクター４８から噴射される。
【００４４】
こうしたエダクター４８によって、液槽４２内の液体を撹拌することができる。これにより、液槽４２の液面に異物が堆積してしまうことを防止することができる。また、液槽４２には、処理ガスに含まれていた成分が十分に酸化することなく含まれる場合がある。エダクター４８によって液槽４２内の液体を撹拌することにより、こうした十分に酸化していない成分を完全に酸化させることができ、液槽ケーシング４０内が意図しない条件下となることを抑制できる。また、第４エダクター４８ｄは、液体排出口４３から離れる方向に液体を噴出する。これにより、液体排出口４３が詰まることを抑制できる。
【００４５】
再び図１を参照して説明する。液槽ケーシング４０は、液槽ケーシング４０内を流れる処理ガスへ液体を噴射するノズル４６を有している。ノズル４６によって液槽ケーシング４０内の全域に液体が撒かれることが好ましいが、ノズル４６の数および配置については、液槽ケーシング４０の寸法等に基づいて適宜定められればよい。ノズル４６から処理ガスへ液体を噴射ることにより、処理ガスを液体と接触させて処理ガスに含まれる異物および水溶性成分を除去することができる。
【００４６】
本実施形態の湿式除害装置１０は、液槽４２の液体排出口４３から排出された液体を圧
送するポンプ６０を備えている。ポンプ６０に接続された液体流路６１には、液体に含まれる異物等を除去する除去機構（不図示）が設けられてもよい。ポンプ６０は、液体排出口４３から排出された液体を、吸入ケーシング２０の液体供給部２７と、液槽ケーシング４０のノズル４６と、エダクター４８の給水部４８ｂと、処理ケーシング５０のファンスクラバー５６との少なくとも１つに供給する。このように液槽４２に溜められた液体を再利用することにより、ランニングコストの低下を図ることができると共に、環境保全に資することができる。なお、ポンプ６０は、液体排出口４３から排出された液体の一部を外部に放出できるとよい。そして、ポンプ６０は、液槽４２（例えば第２液槽４２ｂ）に設けられた水位計（不図示）等に基づいて、液槽４２（例えば第２液槽４２ｂ）の水位が所定範囲（予め定められた第１閾値以上第２閾値未満の範囲）となるように制御されるとよい。
【００４７】
処理ケーシング５０は、液槽ケーシング４０の連通口４９から上方に延びる流路５２と、ファンスクラバー５６が収容される処理室５４と、を有している。処理室５４は、除害された処理ガスが流れる気体排出口５７と、液体を排出する液体排出口５８と、を有している。また、処理ケーシング５０は、ファンスクラバー５６に液体を供給するノズル５６ａと、流路５２及び気体排出口５７に液体を供給するノズル５９と、を有する。本実施形態では、ノズル５６ａにはポンプ６０を通じて液槽４２に溜められていた液体（循環液体）が供給され、ノズル５９には図示しない供給部から新水（工業用水等）が供給される。ただし、こうした例に限定されず、湿式除害装置１０において使用される種々の液体は、すべて循環液体が用いられてもよいし、適宜新水が用いられてもよい。
【００４８】
ファンスクラバー５６は、ファンを回転させることにより処理ガスと液体とを撹拌して、処理ガスに含まれる異物および水溶性成分を除去する。なお、ファンスクラバー５６については、公知の手段を用いることができ、本発明の中核をなさないため詳細な説明は省略する。処理室５４を通過した処理ガスは気体排出口５７を通って、外部に排出される、又は別の除害装置へと案内される。また、処理室５４内の液体は、液体排出口５８を通って処理室５４外に排出される。本実施形態では、液体排出口５８は、液槽ケーシング４０に接続されており、処理室５４から排出された液体は液槽４２内に流下する。なお、図１では、液体排出口５８は、第３液槽４２ｃの上方に接続されているが、第２液槽４２ｂ又は第１液槽４２ａの上方に接続されてもよい。
【００４９】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、上記した発明の実施の形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明にはその均等物が含まれることはもちろんである。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、実施形態および変形例の任意の組み合わせが可能であり、特許請求の範囲および明細書に記載された各構成要素の任意の組み合わせ、または、省略が可能である。
【符号の説明】
【００５０】
湿式除害装置…１０
吸入ケーシング…２０
壁部…２１
吸入口…２２
導出口…２４
液膜形成部…２６
液溜め部…２８
壁部…３１
穴…３１ａ
カートリッジヒータ（ヒータ）…３４
液槽ケーシング…４０
液槽…４２
第１液槽…４２ａ
第２液槽…４２ｂ
第３液槽…４２ｃ
液体排出口…４３
エダクター…４８
第１エダクター…４８ａ
第２エダクター…４８ｂ
第３エダクター…４８ｃ
第４エダクター（排出口エダクター）…４８ｄ
処理ケーシング…５０
ファンスクラバー…５６
ポンプ…６０
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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