(57)【要約】      （修正有）【課題】飲食のために調理オーブンから食品が取り出される前に、食品が配置され、多数の調理環境を通して運ばれる回転式の調理プレートと共に、視認可能な火炎を閉鎖環境を提供する。【解決手段】食品を調理するためのオーブンであって、オーブンの調理チャンバは、回転式の調理プレートで下面が境界づけられており、食品を調理チャンバにアクセスさせるオーブンの前部の出入り口と、調理プレートの鉛直下方にある調理プレート加熱要素１０２と、未調理食品の下方の前記調理プレートの局所温度を検知する、少なくとも１つの調理プレートセンサと、未調理食品の直下の前記調理プレートの検知された局所温度に応じて、未調理食品の下方領域に局在する前記調理プレートの下方にある熱源の熱出力を変化させる制御装置と、を具えることを特徴とするオーブンである。【選択図】図９
2019051334.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
食品を調理するためのオーブンであって、当該オーブンは：
調理チャンバを具え、
前記調理チャンバは、回転式の調理プレートで下面が境界づけられており、
食品を前記調理チャンバにアクセスさせる前記オーブンの前部の出入り口と、
前記調理プレートの鉛直下方にある少なくとも１つの調理プレート加熱要素と、
未調理食品の下方の前記調理プレートの局所温度を検知する、少なくとも１つの調理プレートセンサと、
未調理食品の直下の前記調理プレートの検知された局所温度に応じて、未調理食品の下方領域に局在する前記調理プレートの下方にある少なくとも１つの熱源の熱出力を変化させる制御装置と、
を具えることを特徴とするオーブン。
【請求項２】
請求項１に記載の調理オーブンが、
前記回転式の調理プレートを通る半径方向中央の空洞を規定する面と、
前記調理プレートの中央の空洞における中央加熱要素と、
をさらに具えることを特徴とするオーブン。
【請求項３】
請求項２に記載の調理オーブンが、前記中央加熱要素と前記調理プレートのベーキング領域との間に半径方向に配置され且つ鉛直に延びる中央の熱デフレクタを具えることを特徴とするオーブン。
【請求項４】
請求項２に記載の調理オーブンにおいて、前記加熱要素が、前記中央の空洞において視認可能な中央の放射加熱火炎を提供することを特徴とするオーブン。
【請求項５】
請求項４に記載の調理オーブンが、
前記出入り口に対して前記調理チャンバ内の周囲にオフセットされた位置にある外周の複数火炎マニホールドと、
前記中央放射加熱火炎と前記外周の複数火炎マニホールドとの間の熱出力のオフセットを維持するための、前記中央放射加熱火炎への流れる流体を制御する弁および前記外周の複数火炎マニホールドへ流れる流体を制御する弁に連結された回路と、
を具えることを特徴とするオーブン。
【請求項６】
請求項１に記載の調理オーブンが、
前記調理プレート近くの空気の局所温度を検知する少なくとも１つの調理プレートセンサと、
未調理食品の直下にある前記調理プレートの検知された局所温度に応じて、前記調理プレート加熱要素の熱出力を変化させる制御装置と、
をさらに具えることを特徴とするオーブン。  
【請求項７】
請求項１に記載の調理オーブンが、
未調理食品の進入を検知する少なくとも１つの食品進入センサと、
未調理食品によってシステムに加えられた追加の熱負荷を計算するようプログラムされた回路と、
未調理食品に応じて、前記調理プレート加熱要素の熱出力を変化させる制御装置と、
をさらに具えることを特徴とするオーブン。
【請求項８】
請求項１に記載の調理オーブンにおいて、前記調理プレートが、前記調理チャンバの周囲にオフセットされたブロイリング領域に、外周の複数火炎マニホールドをさらに具えることを特徴とするオーブン。
【請求項９】
請求項１に記載の調理オーブンが、前記調理プレートの上方であって前記調理チャンバの内部の最上部の下方に熱シールドを有するベーキング領域をさらに具えることを特徴とする調理オーブン。
【請求項１０】
請求項１に記載の調理オーブンが、前記調理プレートを前記出入口に対して回転させるために前記オーブンの内部の下方部に駆動システムを具えることを特徴とするオーブン。
【請求項１１】
請求項１０に記載の調理オーブンにおいて、前記駆動システムのスピードが可変であることを特徴とするオーブン。
【請求項１２】
請求項１に記載の調理オーブンにおいて、前記調理オーブンが、調理を強化し且つ前記調理プレート上の食品の滑りを回避するために、酸化アルミニウム仕上げで被覆されていることを特徴とするオーブン。
【請求項１３】
請求項１に記載の調理オーブンにおいて、前記調理プレートは、断面がアーチ状であり、且つ半径方向中心に隆起部を有することを特徴とするオーブン。
【請求項１４】
請求項１に記載の調理オーブンにおいて、前記調理プレートが、その半径方向外側部分にデブリを集めるチャネルを具えることを特徴とするオーブン。
【請求項１５】
請求項１４に記載の調理オーブンにおいて、前記デブリを集めるチャネルが前記オーブンの内面に取り外し可能に取り付けられており、当該デブリを集めるチャネル内へと下方に延在することを特徴とするオーブン。
【請求項１６】
請求項１に記載の調理オーブンにおいて、前記少なくとも１つの調理プレート加熱要素が、放射熱源であることを特徴とするオーブン。
【請求項１７】
請求項１６に記載の調理オーブンにおいて、前記放射熱源が、ガス火炎熱源であることを特徴とするオーブン。
【請求項１８】
請求項１６に記載の調理オーブンにおいて、前記放射熱源が、ファイバーメッシュ熱源であることを特徴とするオーブン。  
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願
この開示は、２０１３年４月２２日に出願された米国仮特許出願第６１／８１４，７４８号の優先権を主張し、本明細書に参照として組み込まれる。
【０００２】
この開示は、飲食のために調理オーブンから食品が取り出される前に、食品が配置され、多数の調理環境を通して運ばれる回転式の調理プレートと共に、視認可能な火炎を具える閉鎖環境で食品を調理するための調理オーブンの分野に関する。
【発明の概要】
【０００３】
本明細書では、食品を調理するためのオーブンであって、オーブン上部の内側部分の調理チャンバを具え、当該調理チャンバは、中央を通る空洞を規定する面を有する回転式の調理プレートで下面が境界づけられており、食品を調理チャンバにアクセスさせるオーブン前部の出入り口と、出入り口を通して視認可能な調理プレートの中央を通る空洞にある中央の熱源と、調理プレート下方の少なくとも１つの熱源と、を具えるオーブンが開示される。
【０００４】
本明細書に記載の調理オーブンは、一実施例ではオーブン内部の下方部に、出入り口に対して調理プレートを回転させるための駆動システムを具える。
【０００５】
本明細書に記載の調理オーブンは、駆動システムのスピードが可変であるように構成されてもよい。
【０００６】
本明細書に記載の調理オーブンは、調理プレートが当該調理プレート上での調理を促進するとともに食品が滑るのを回避するための酸化アルミニウム仕上げで覆われるように構成されてもよい。
【０００７】
記載の調理オーブンでは、調理プレートがアーチ形の断面を有し、半径方向中心に隆起した部分を有するように構成されてもよい。
【０００８】
本明細書に記載の調理オーブンは、調理プレートがその半径方向の外側部にデブリを集めるチャネルを具えて構成されてもよい。
【０００９】
本明細書に記載の調理オーブンは、そのオーブンの内面に取り外し可能に取り付けられデブリを集めるチャネル内へと下方に延びるデブリリングを具えて構成されてもよい。
【００１０】
本明細書に記載の調理オーブンは、一実施例では中央を通る空洞に、視認可能な中央の放射加熱火炎を提供する装置を具える。
【００１１】
本明細書に記載の調理オーブンは、一実施例では出入り口に対し調理チャンバ内の周囲のオフセットされた位置における外周の複数火炎マニホールドと、中央の放射加熱火炎と外周の複数火炎マニホールドとの間の熱出力のオフセットを維持するための、中央の放射火炎へ流れる流体（ガス）を制御する弁および外周の複数火炎マニホールドへ流れる流体（ガス）を制御する弁に連結された回路と、を具える。
【００１２】
本明細書に記載の調理オーブンは、調理チャンバ内の温度に応じて、中央の放射加熱火炎と外周の複数火炎マニホールドの熱出力を調整するために調理チャンバの熱検出器と接続されている回路を具えて構成されてもよい。
【００１３】
本明細書に記載の調理オーブンは、調理プレート下方の少なくとも１つの熱源が放射熱源で構成されてもよい。
【００１４】
本明細書に記載の調理オーブンは、放射熱源がガス火炎熱源で構成されてもよい。
【００１５】
本明細書に記載の調理オーブンは、放射熱源がファイバーメッシュ熱源で構成されてもよい。
【００１６】
本明細書に記載の調理オーブンは、一実施例では調理プレートの局所温度を検知する少なくとも１つのセンサと、検知された局所温度に応じて調理プレート下方の少なくとも１つの熱源の熱出力を変化させる制御装置と、をさらに具える。
【００１７】
本明細書に記載の調理オーブンは、一実施例では調理プレートの近くの空気の局所温度を検知する少なくとも１つのセンサと、検知された局所温度に応じて調理プレート下方の少なくとも１つの熱源の熱出力を変化させる制御装置と、をさらに具える。
【００１８】
本明細書に記載の調理オーブンは、一実施例では未調理の食品の進入を検知する少なくとも１つのセンサと、未調理の食品によってシステムに加えられた追加の熱負荷を計算するようプログラムされた回路と、未調理の食品に応じて調理プレート下方の少なくとも１つの熱源の熱出力を変化させる制御装置と、をさらに具える。
【００１９】
本明細書に記載の調理オーブンは、一実施例では、中央の放射加熱火炎と調理プレートのベーキング領域との間で半径方向に配置された中央の熱デフレクタをさらに具える。
【００２０】
本明細書に記載の調理オーブンは、調理プレートが、調理チャンバの周囲にオフセットされたブロイリング領域に、外周の複数火炎マニホールドをさらに具えて構成されてもよい。
【００２１】
本明細書に記載の調理オーブンは、一実施例では、調理プレートの上であって調理チャンバ内面の最上部の下に熱シールドを有するベーキング領域を、さらに具える。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】図１は、構造物／アセンブリの完成に近い段階の、開示された装置の一実施例の前方等角図である。
【図２】図２は、図１に示す一実施例の平面図である。
【図３】図３は、図１に示す一実施例の左側面図である。
【図４】図４は、図１に示す一実施例の正面図である。
【図５】図５は、図１に示す一実施例の等角部分分解図である。
【図６】図６は、図５から追加の構成物を取り除いた状態の図１に示す一実施例の等角部分分解図である。
【図７】図７は、図１に示す例の等角正面図であり、前面パネルおよび内側パネルが取り去られて内部の作動要素が示されている。
【図８】図８は、図７に示す領域８の代替例の詳細図である。
【図９】図９は、図６に示すものをさらに分解した等角図である。
【図１０】図１０は、図９の一実施例の等角正面図であり、回転式の調理プレートが取り付けられている。
【図１１】図１１は、図１０に示す一実施例の等角図であり、調理プレートの近くおよび上方に示される熱偏向および反射用シールドを具える。
【図１２】図１２は、図１１に示す一実施例の等角平面図であり、側方の熱偏向シールドが取り付けられている。
【図１３】図１３は、図１２の例の等角正面図であり、デブリシールドが取り付けられている。
【図１４】図１４Ａは、図１３の領域１４の詳細な拡大図である。図１４Ｂは、図１４Ａに示すアセンブリの代替例である。
【図１５】図１５は、図１３に示す例に類似する一実施例の等角側面図であり、側面のバーナアセンブリの半径方向の外側を示している。
【図１６】図１６は、図１５に示す側面のバーナアセンブリの等角分解図である。
【図１７】図１７は、図１５の領域１７の詳細拡大図である。
【図１８】図１８は、図１に示す実施例の天井アセンブリの構成要素の等角平面図である。
【図１９】図１９は、図１８の天井キャストの構成要素の等角平面図である。
【図２０】図２０は、図１の回転式調理プレートの構成要素の別の実施例の等角平面図である。
【図２１】図２１は、図２０の実施例の等角底面図である。
【図２２】図２２は、図２０の実施例の陰線の側面図である。
【図２３】図２３は、図２２の領域２３の詳細な拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本明細書は、その中で回転式プレート２２上のピザおよびその他の食品を調理するためのオーブン２０を開示する。説明を簡潔にするために、ピザという用語は、ピザとサンドウィッチ等のその他の同様に調理された食品に包括して使用される。説明の目的のために、平面２４、後側２６、右側３０、左側２８、底面３２および前側３４が規定されている。右側／左側は、本例では垂直面を通して対称ではないが、左右対称像のように作製されてもよい。ナポリ型のオーブンの一般形をなすように、平面２４を含むオーブン２０の全体形は、ナポリの伝統的なオーブンの形を与えられてもよい。さらに、本例の平面２４は、一実施例ではその上方の中央部分に上部ベント３８が設けられたドームキャップ３６を具える。この半径方向中央の上部ベント３８を含むようにすることは、後に理解されるであろう特別なダクトおよびオーブン２０内部の構成を必要とする。  一形態では、スタッコまたはその他の装飾的な特徴がオーブン２０の外面４０に取り付けられ、視覚的な魅力をさらに促進し、一形態ではナポリ型のオーブンの印象をさらに与えるようにしてもよい。このような取り付けを実現するために、オーブンハウジングの外側面は、ワイヤメッシュで覆われ、オーブンが設置されて試験された後の装飾的なカバリングの取り付けが容易になるようにしてもよい。
【００２４】
修理、メンテナンス、またはクリーニングのための内側部分へのアクセスを可能にするために、フロントアクセスパネル４２および／またはサイドアクセスパネル４４を使用してもよい。例えば図７では、前面のアクセスパネル４２は、オーブンの内部稼動を見せるために取り去られている。一形態では、アクセスパネル４２および４４は、装置内へ気流を促すのを可能にするために、メッシュ、ルーバー、または非固体材料であってもよい。サブパネル４２’が、前面パネル４２全体を取り去らずに、前側のより小さい部分にアクセスするために使用されてもよい。任意のパネルは、パネルが開かれた場合に、電気、火、またはガスの供給の何れかを止めるか停止させるための安全回路の連動装置を含んでもよい。さらに、安全連動装置が、任意のパネルが開かれた場合に、調理プレートの回転を避けるために提供されてもよい。
【００２５】
酸化加熱要素（バーナ）を含む、幾つかの加熱要素は、オーブン下方部の調理プレート２０の下方で用いることができるが、不十分な燃焼による問題を減らし過熱を避けるために、オーブン２０の下方部を通る気流量を十分に保持することが、一般的に望まれる。
【００２６】
調理プレートを不規則に加熱すると、調理プレートにダメージを与えるため、連動装置システムを設けて、調理プレート２２が回転するまで、プレート下のヒータを介して熱が与えられないようにしてもよい。このため、メインスイッチは、３つの位置、すなわちオフ、作動、燃焼の３つを有することができる。この方法によると、装置は停止することができ、加熱なしに作動（回転）することができ、そして加熱とともに回転することができる。
【００２７】
内部の熱電対を設けて、安全な加熱レベルを超えた場合に、すべてのバーナが止まるようにしてもよい。
【００２８】
図１に示されるように、オーブン２０の少なくとも１つの例は、調理される食品の挿入および撤去を容易にするフロントシェルフ４４の近くに回転式の調理プレート２２を具える。第２のフロントシェルフ４４’が設けられてもよい。一形態では、調理プレート２２はアルミニウムのようなプレート装置であり、熱吸収、耐久性および／またはフットポジショニングを促進するべく上面と下面がコーティングされている。後述の例では、調理プレートは複数の補助部分から構成され、熱膨張が対策され、製造の困難さおよびコストが低減し、さらに、もし補助部分がダメージを与えられた場合に個別の補助部分との交換が可能となる。一形態では、調理プレート２２は通常は回転するので、そのようなシェルフ４４は、挿入前および調理後に回転しない面上へ食品をセットするのを助けるのに特に有用である。オーブン内へ食品を簡単に配置できるように、入口／出口４６が設けられてもよい。一形態では、入口は、取り外し可能なパネル４８とともにシェルフ４４によって規定される（図４）。このパネル４８の内側の殆どの形はアーチ形として示されているが、美観および／または機能的な要望のため他の形状が用いられてもよい。パネル４８は、熱を装置内に留めるのにも役立つ。
【００２９】
装置全体は、左側から右側まで６フィートの幅、正面から後側まで６フィートの奥行き、下から上まで６フィートの高さであり、非常に大きく、装置全体は非常に重いので、一形態では、リフト支柱５０がフォークトラックのフォーク、ハンドトラックのフォークの中または下へ提供されてもよく、またはその他の昇降装置がオーブン２０を持ち上げて再配置するために挿入されてもよい。これらのリフト支柱は、美観の向上のために、取り付けられている場合にはカバーパネル５１によって隠されてもよい。
【００３０】
図５を参照すると、断熱バリア６４が、調理チャンバ６６の外側ハウジングを隔離するために提供されることができる。
【００３１】
図６を参照すると、熱バリア６４が取り去られ、さらに天井アセンブリ５８が、下側の構成要素から取り去られている。天井アセンブリ５８は、キャスト部材６９を一般的に具えるので、低い差圧では実質的にガス非透過性である。オーブンは、調理チャンバ６６内部に大量の排気ガス、その他芳香、匂い、熱を発生させ、それ故にある種のベント３８が所望される。オーブン２０の前方３４近くにベント配管６０を設けると入口／出口４６を通る熱や排気ガスが減少する。図６に示されるように、配管６０は、中央部分の端面６２（図１８および１９参照）の近くからの排気を中央ベント３８に再配向する。これにより、ナポリオーブンの型が維持される。図６に戻ると、複数の熱反射パネル５２が、天井アセンブリ５８のための剛性支持体を提供すると同時に断熱層６４を保護するために、断熱層６４および調理チャンバ６６の間に提供される。
【００３２】
フレームワーク５４が、リフト支柱５０に取り付けられて、中央支柱５６に対すると同時にパネル５２に対する剛性支持体を提供し、このパネル５２は以降に詳述するが、一般的に中央のフレーム装置、中央の熱デフレクタ、および他の構成要素を支持する。外周のガス火炎ジェットマニホールド６８が、出入り口４６から周囲にオフセットされて設けられている。
【００３３】
図７を参照すると、前方のアクセスパネル４２と、当該アクセスパネル４２と入口／出口４６の間に設けられた機器／読み出し／制御パネルを除いて、ほぼ組み立てられた装置が示されている。図７は、回転式のプレート２２が、どのようにしてリング７２の下方領域に取り付けられた複数の支柱７０によって支持されるかを示している。一形態では、リングは、複数のスピンドル７４によって支持されている。一形態では、スピンドル７４は、ボールベアリングを具え、リング７２の回転差のために先細であってもよい。図８は、図７に示す装置の別の実施例の詳細図を示しており、ここでは、駆動モータ７６は、モータ７６が係合したら、回転するように取り付けられた回転ホイール８０を有するギアボックス７８に取り付けられている。一形態では、このアセンブリは、軸８２と、ホイール８０の外側端縁８４をリング７２の外側端縁８６へ付勢するスプリングまたは同等物といった弾性部材とによりフレーム５４に取り付けられている。この方法により、モータ７６が回転輪８０を回転させると、同様にリング７２、支柱７０、および調理プレート２２が回転する。この接触駆動システムは、ギア、ベルトまたはその他のシステムを利用したその他の駆動システムよりも汚れに影響されず、大きな熱変化によって著しく影響されることがない。システムは、駆動リングがホイールへ滑ることを許容するので、偶然にメンテナンス要員を傷つける傾向も少ない。一形態では、例えば薄いまたは厚いクラストピザを調理するべく調理プレート２２の可変の回転スピードを調整するために、調理のための制御が制御パネル８８上で提供される。図７では、軸８２は図８の例に対しモータアセンブリの反端側の端部に取り付けられている。
【００３４】
図１０を参照すると、以前に説明された要素が、図６および図７で示したのとは別の面から示されており、パネル５２を含む外側ハウジングが内部の構成要素をより十分に示すために取り去られていることが理解できる。図２２を参照すると理解できるように、調理プレート２２は、外側部分９２から内側部分９２へ「ドーム状」またはアーチ状であってもよい。この方法により、調理プレート２２が加熱されて、熱膨張が原因で拡大すると、支柱７０に、一般的に半径方向外側へ力がかけられ、中央のデブリリング９４が、僅かに上側かつ内側の位置となるが、十分なクリアランスがあり、図９でより理解されるように、赤外線ヒータ支持プレート９８に固定された中央のガイドリング９６と係合することがない。
【００３５】
図９において、回転する支柱７０が、リング７２に固定され、半径方向へ外側に広がり、支持プレート９８上方に垂直に示されている。本図において、調理プレート２２は、この構成をより適切に示すために取り去られている。図示するように、空洞１００を規定する複数の面が、赤外線またはその他の放射ヒータ１０２を取り付けて固定するために設けられる。これらの放射ヒータ１０２は、図１１において１つの構成で示されている。さらに、小さい熱デフレクタプレートを設けて、調理プレート２２の下側の所望する位置へ放射熱を偏向させてもよい。そのようなプレートは、調理プレート２２の中央から半径方向に平行な面で支持プレート９８から垂直に広がってもよい。一形態では、調理プレート２２の下側１０５は、熱吸収および／または熱保持を改善する処理をされてもよい。一形態では、この処理は、放射熱を吸収する要素を含んでもよい。一形態では、耐熱の黒色塗装または別の暗色面を用いてもよい。
【００３６】
図９は、開口部１０８を規定する面を取り囲むリング１０６も示している。一形態では、１またはそれ以上の熱検知装置（センサ）１１０が、フレーム５４に取り付けられており、それぞれが調理プレート２２の下側１０５へ開口部１０８を通って上方を検知する。一形態では、センサ１１０は、調理プレート２２から放射している赤外線（ＩＲ）エネルギ（放射線）を検知する。この方法で、調理プレート２２の下側１０５上に局在する「冷温スポット」を検知することができる。そのような冷温スポットは、予熱するタイミングで放射ヒータ１０２を起動するとともに、冷温スポットが各々の放射バーナを通過する際に、計算された時間で冷温スポットへ計算された熱量を提供することにより解消しうる。冷温スポットを所望の温度にするための熱の差が比較的小さい場合、１つのバーナのみが使用されてもよく、短く低い加熱時間で可能となる。しかしながら、もし冷温スポットが大きい場合には、冷温スポットが各放射バーナに近づいて通過する際に、より多くのバーナが使用されてもよい。
【００３７】
図１０を参照すると、いくつかの放射バーナ１０２は、ガス弁１８０および制御弁１８２と繋がるパイプ１７８を介し、中央のガスマニホールドへ接続されて示される。着火装置１８４またはパイロットバーナが使用されてもよい。これらの弁および着火装置はそれぞれ、一実施例ではプログラム可能な回路によって制御されてもよい。７つまたはそれ以上のパイロットバーナ（各バーナアセンブリに１つ）があってもよいが、パイロットバーナ単独で生成される熱が重要である。
【００３８】
代替的に、  放射ヒータ１０２は電熱源またはその他の熱源であってもよい。
【００３９】
別の例では、センサが、ピザの進入を検知するために配置されてもよく、この場合はシステムが未調理のピザのシステムへの熱負荷を予期するとこれに応じて加熱要素を調整する。
【００４０】
これらの各々の検知および加熱方法は、組み合わせて使用されてもよい。
【００４１】
一形態では、調理プレート２２は、蓄熱容量が低い製品を含み、例えば未調理のピザが、予熱された調理パネル２２上に置かれた場合には調理パネル２２およびピザの間で熱移動が起こる。アルミニウムは、蓄熱容量が低くおよび熱伝導率が高いことが明らかな１つの材料である。多くの加熱装置が調理プレート２２を加熱するとともに、調理プレート２２の面上のピザを直接加熱するのに使用されており、特に、高い生産適用において使用されているが、調理プレート２２に亘るだけでなく調理サイクルから調理サイクルへの均一に近い熱分配を維持することが所望されている。
【００４２】
運用において、このオーブンの領域は、操作の際に往々にして大量の空中粒子を含むことがわかっている。ピザクラストの小さい粒子またはその他の軽い粒子が、空中を浮遊するようになり、調理プレート２２の下方を移動する。これは、検知部分（レンズ）の清潔を維持するために、方向性のあるエアフローを有するファンまたはエアポンプを設け、レンズに亘り清潔なエアを流して、粒子がそこに蓄積しないようにしてもよい。
【００４３】
１つの運用形態では、熱検知装置１１０は、入口／出口４６に対する調理プレート２２の回転を通して、図１３で示されるような約２７０度または図１５で示されるような約２９０度に位置している。このようにして、ピザが調理プレート２２上に置かれ、調理プレート２２が回転するにつれて、十分な時間が調理プレート２２からピザへの加熱に与えられる。それ故に、「冷温スポット」の先端が熱検出器１１０で検出されたときに、時間回路が、調理プレート２２の回転スピードおよび次の放射ヒータ１０２の回転位置に対して接続される。一形態では、放射ヒータ１０２の接続から放射ヒータ１０２の熱出力へある程度時間がかかり、同様にこの放射ヒータ１０２の接続から放射ヒータの熱出力中止まである程度時間がかかる場合がある。それ故に、「冷温スポット」が放射ヒータ１０２の上方に位置するより前に放射ヒータ１０２を接続して、「冷温スポット」が放射ヒータ１０２の上方に垂直にある場合にのみ、放射ヒータ１０２が放射熱を出力するようにする。さらに、熱検出器１１０は、「冷温スポット」の温度を測定し、回路はそのようなデータを与えられてもよい。回路は、「冷温スポット」を所望する温度へ戻すために必要とされる放射ヒータ１０２の数を決定することができる。
【００４４】
１つの例では、中央および外側の壁の加熱要素は、冷温スポットのための変化はしない。
【００４５】
図９は、先に説明した回路によって制御される弁へ同様に接続された流体（可燃性のガス）の導管１１４／１１６と接続された中央の火炎ジェットアセンブリ１１２も示している。この場合の回路は、中央の火炎ジェットアセンブリ１１２と外周の火炎ジェットアセンブリ６８との間の温度差を維持できる。例えば、調理プレート２２の中央部分に対する調理プレート２２の外周部の相対的なサイズにより、中央の火炎ジェットアセンブリ１１２の温度または熱出力と比べて、外周の火炎ジェットアセンブリ６８を、実質的に高い温度または温度に対する熱出力に維持することが望まれる。試験によると、この温度差が十分に維持されない場合、外周の火炎マニホールド８０に最も近いピザの端縁が、中央の火炎アセンブリ１１２に最も近いピザの端縁よりも実質的により暗いかまたはより明るくなることが示された。電磁カウンターのような装置を用いて、プレート２２の回転スピードを決定する回路へデータを提供し、それから得られた中位径、食品調理プロセスのスピードを決定または計算できるようにしてもよい。
【００４６】
図１１を参照すると、中央の熱デフレクタ１１８が、調理プレート２２とともに回転しないように構成された支持パネル９８に固定されてもよい。この熱デフレクタは、中央の火炎および外周の火炎からの放射熱をブロイリング領域の方へ、そしてベーキング領域から離れるように方向付けるように、垂直に角度付けられてもよい。さらに、調理プレート２２は、調理効果の異なる複数の領域を通って回転してもよい。例えば、ピザのクラストはトッピングよりも調理または「焼く」のに実質的に長い時間がかかるため、ベーキング領域１２０を出入り口近くまたは開口部４６近くに設けて、そのような環境において非常に熱くなるであろう天井アセンブリ５８へ向けられる放射熱から熱デフレクタによって一部分が保護された状態でピザがベーキング領域へ入るようにしてもよい。一形態では、熱デフレクタ１１８と同様に熱デフレクタ１２２は、湾曲、変形、脱気することなくオーブン２０内で耐えられるよう十分な熱耐久性をもつ、例えばステンレス鋼のような、成形および／または溶接された金属であってもよい。一度ピザがベーキング領域１２０から離れると、ブロイリング領域１２４に入り、中央の火炎マニホールド１１２とともに外周の火炎マニホールド６８からの放射熱および対流熱がピザのトッピングを炙る。
【００４７】
ピザの調理時間は、オーブン２０の温度とともにクラストの厚さおよび構成、トッピングの厚さおよび構成に影響されるが、比較的共通の、チーズを含むトッピング、ソースの薄い層を有する比較的薄い型のクラストの場合、このオーブンは、連続的な出し入れベースにおいて、３−４分あるいはいくつかの応用例では２分以下の一回転で、ピザを適切に調理することが示される。試験は、クラストが生焼けだったり焦げたりせず、またトッピングが調理不足だったり焼きすぎとなることなく、この設計のオーブンにおいて１時間で２５０枚から２７５枚または３００枚までのピザを調理できることを示している。さらに、ピザが比較的熱い天井アセンブリにシェフィリング（ｃｈｅｆｆｉｎｇ）または持ち上げられることが防がれる。
【００４８】
調理されるべき各食品の比較的小さい部分は、それらから何気なく剥がれたピザのトッピング、クラスト等のようなデブリを有することが考えられ、このデブリを、除去することが困難なオーブン２０の下方部分へ移動させないようにすることが一般的に望まれているため、いくつかの特徴が、このデブリを封じこめ、除去するために設計されている。例えば、調理プレート２２のドーム状構造体はそのような除去を促し、重力を利用してアーチ状の面の下方のデブリチャネル１２６へそのようなデブリが移るようにしてもよい。図２３でもっとも簡単に理解できるが、図１３および１４でも見ることができる。中央のフリンジまたはリング９４は、そのようなデブリが中央を通る空洞を通過するのを実質的に妨げることで封じ込めを促してもいる。さらに、図１３を参照すると、デブリリング１２８が、パネル５２の内側に提供され、デブリチャネル１２６内へと下方へ突き出ていてもよい。このデブリリング１２８は、熱膨張および熱収縮の影響を非常に受けやすいため、パネル５２のようなオーブン２０の内側部分に硬く取り付けられずに、むしろそれらから緩やかに支持されることが望ましい。さらに、開口部４６を制限するのを避けるために、デブリリングは、開口部４６の各周囲側に端部１３０／１３１を具えていてもよい。この場所を通過する何れのデブリもシェルフ４４によって封じ込められまたはそこから外部の部屋の床へ落ちるので、いずれにせよオーブンの内側の下方部分へ移動することがない。図１３に示された例では、リング１２８は、位置１３２において連結された個別のアーチ状の部分を具える。
【００４９】
図１４に示されるように、複数のハンガー１３４が、デブリリング１２８が中に配置される全体的にＵ形の端部１３６を有して提供されてもよい。それ故に、重力またはピザのブラシによって移動された任意のデブリは、デブリリング１２８に接触しデブリチャネル１２６に落ちることができる。  
【００５０】
一形態では、毎日の始まりまたは特定のスケジュール上で、駆動モータ７６が、任意の加熱要素に接続するよりも先に接続されてもよい。これは、プレート２２を熱または火炎なしで回転させることで、デブリチャネル１２６内部の任意のデブリが、安全に掃除され、払い落とされまたは、熱いデブリが引き起こす火の危険性または掃除機の損傷なしで、そこから取り除かれることができる。
【００５１】
図２０−２３を参照すると、回転する調理プレート２２は、複数のフランジ１３８を含んで示されている。図１１を参照することによって十分理解されるように、支柱７０の上端１４０に取り付けられたこれらのフランジ１３８は、回転を通してその上に調理プレートを保持する。
【００５２】
図２０では、１つの例は、半径方向内側端部１７０でデブリリング９４または中央カラーに固定されたスポーク１６８の支持構造体を用いる実施例が示されている。半径方向の外側部端１７４は、留め具１７６、溶接、または他の方法によってデブリリング１２６を含むまたはこれに取り付けられたリング１７６に取り付けられてもよい。１つの例では、これにより、支持構造体を調理プレート２２とは異なる材料で構成することができる。例えば、図２０に示されている支持構造体は、ステンレススチールで成り、調理プレート２２は、高い熱伝導性のためにアルミニウムでできていてもよい。この支持構造体はまた、その後に支持構造体に個別に取り付けられる幾つかのセグメントとは別に、調理プレート２２および／またはデブリリング１２６を製造できるようにする。例えば図１３において、調理プレートは、複数のセグメントから構成されて示されている。幾つかのセグメントとは別に調理プレート２２および／またはデブリリング１２６を浮動状態で作製すると、装置がそのような変化した温度で動作することに役立つ。平らで均一な表面を助長するため、アセンブリ後に調理プレートおよび／またはデブリリングに仕上げ層が適用されてもよい。
【００５３】
図１６および１７を見ると、外周の火炎マニホールドの異なる図が示されている。図１７は、全体的に、図１５の領域１７として火炎マニホールド６８の後側を示す。図１５は、図１３に示されるものとは僅かに異なる例を示す。図１５では、火炎マニホールド６８とピザまたはその他調理された食品が取り出される場合に通る開口部との間に１のパネル５２のみが存在する。これは、プレート２２が回転する調理プロセスにおいて火炎マニホールドを良く配置するためである。図１６は、ハウジング１４６で覆われた複数の火炎ジェット１４４と流体連通する流体供給導管１４２を示している。一形態では、着火装置１４８が提供され、アセンブリに沿った幾つかのポイントで、火炎マニホールド６８のリモート点火を提供する。一形態では、着火装置１４８は圧電性の点火装置である。火炎は間に比較的小さい間隔が設けられた火炎ジェットから火炎ジェットに移動するので、点火装置１４８は、通常は各火炎ジェット１４４に必要ではない。一形態では、バーナジェットばね１５０が、各ジェット１４４に提供されてもよい。
【００５４】
図１８および１９を参照すると、天井アセンブリ５８は、支持フレーム１５２、外周部材１５４、および天井キャスティング１５６を全体的に具えて示されている。１つの例における天井キャスティング１５６は、ハニカム金属構造体１５８で形成され、後に硬化あるいは養生して天井キャスティング１５６を形成するセラミック流体１６０がその中および上へ注がれる。一形態では、複数のハンガー１６２が、フレーム１５２に固定され、ハニカム構造体内へと下方に突出して、ゆるやかにそこへ取り付けられてもよい。一旦セラミック流体１６０が周辺で固まると、ハンガー１６２はその場所に固定され、ボルトまたはその他の留め具１６４を用いて、フレーム１５２にハンガー１６２を固定することができる。図１８に示される開口部１６６は、説明目的のものであり、図１９を参照することで理解されるような最終製品の物理的構造ではない。
【００５５】
一形態では、いずれかのアクセスドアが開くとすべてのガス供給弁が閉じ、すべてのアクセスドアが閉められるまで調理プレートの回転を禁止する安全構造が実装され、またリセットを使用してもよい。
【００５６】
調理チャンバ温度、調理プレート２２の基礎温度および調理プレート２２の回転スピードに応じた中央火炎ジェットと外周火炎ジェットとの間の温度バランスのために、容易にアクセス可能な制御を提供してもよい。
【００５７】
理解されるように、キャスティング１５６、および外周部材１５４はともに、調理チャンバ６６の内面に一致するように形成してもよい。例えば、図１９に示されるキャスティング１５６は１１の面を有する。この例では、１０面は、調理チャンバの内部壁に適合しており、１面は配管６０に適合する。これらの面は、前方で開口部の出入り口４６および配管６０を形成しない場合には、正１２面体を形成する。
【００５８】
本発明が幾つかの実施例の説明によって示され、示された実施例が詳細に説明されたが、添付された請求項の範囲を詳細に制限するまたは多少なりとも限定することは本出願の意図ではない。添付された請求項の範囲内の更なる利点および改変を、当業者は容易に考えることができる、従って、その広い形態におけるこの発明は、特定の細部、代表的な装置および方法、図示され説明された例示的な実施例に限定されない。従って、出願人の全体的概念的の趣旨および範囲から逸脱することなく、そのような細部からの発展が成されることができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４Ａ】
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【図１４Ｂ】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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