(57)【要約】【課題】ロールトゥロールで搬送されてくる基板に対して基板のアライメントによる歪を生じさせずに塗布する塗布装置を提供する。【解決手段】ロールトゥロールで搬送される基板の上面より上の空間で塗布ノズルを移動させて基板の上面に塗布液を塗布する塗布装置において、塗布ノズルと、塗布ノズルを直線方向に移動させる走査部と、走査部を回転させる回転部と、回転部を基板の搬送方向に移動させる搬送方向移動部と、塗布前に基板上の塗布領域に対する角度ずれを検出する角度ずれ検出手段と、角度ずれ検出手段で検出した基板上の塗布領域に対する角度ずれに合わせて回転部を回転させる制御部と、を有する【選択図】          図４
2019155226.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロールトゥロールで搬送される基板の上面より上の空間で塗布ノズルを移動させて前記基板の上面に塗布液を塗布する塗布装置において、
前記塗布ノズルと、
前記塗布ノズルを直線方向に移動させる走査部と、
前記走査部を回転させる回転部と、
前記回転部を前記基板の搬送方向に移動させる搬送方向移動部と、
塗布前に前記基板上の塗布領域の角度ずれを検出する角度ずれ検出手段と、
前記角度ずれ検出手段で検出した前記基板上の塗布領域の角度ずれに合わせて前記回転部を回転させる制御部と、を有することを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記直線方向に前記塗布ノズルが移動しながら塗布を行うことを特徴とする、請求項１に基板の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ロールトゥロールで搬送される基板に塗液を塗布する塗布装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
画像表示機器に使用されるカラーフィルタに画素要素を形成する色素を塗布する方法の一つとして、従来からインクジェット法が提案されている。具体的には、マトリクス状に遮光部が形成されたガラスや樹脂フィルム等で作成された基板上に形成された複数の区画のそれぞれに、塗布ヘッドのノズルからインクを吐出して塗布し、インク層が形成される。
【０００３】
樹脂フィルムの基板に対してインクの塗布を行う場合、下記特許文献１に示すようなロールトゥロールの塗布装置が用いられる。
【０００４】
ロールトゥロールの塗布装置において、基板は長手方向のロールに巻かれ、送り出し（搬送）が可能な状態にされた上で、インクの塗布が行われる。また、インクの塗布処理が行われる塗布ヘッドの近傍では、塗布時に基板が動くことの無いように吸着ステージなどの基板把持装置によって基板を固定し、当該基板把持装置を変位させることによって塗布ヘッドと基板の位置合わせ（アライメント）を行った後、基板への塗布が行われる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２−１７３５０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、上記特許文献１に示したようなロールトゥロールの塗布装置では、基板のアライメントを行う際に基板に歪が生じるという問題があった。具体的には、アライメントを行う際に基板把持装置が基板を固定したのち変位した場合に基板把持装置の近傍において基板に過剰な引っ張りの力が生じてしまう。そのため、基板に歪が生じそれが基板の皺となって表れる。その基板の皺の上にインクを塗布した場合、塗布ムラが発生し品質に悪影響を及ぼすおそれがあった。
【０００７】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、ロールトゥロールで搬送されてくる基板に対して基板のアライメントによる歪を生じさせずに塗布する塗布装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、
ロールトゥロールで搬送される基板の上面より上の空間で塗布ノズルを移動させて前記基板の上面に塗布液を塗布する塗布装置において、前記塗布ノズルと、前記塗布ノズルを直線方向に移動させる走査部と、前記走査部を回転させる回転部と、前記回転部を前記基板の搬送方向に移動させる搬送方向移動部と、塗布前に前記基板上の塗布領域の角度ずれを検出する角度ずれ検出手段と、前記角度ずれ検出手段で検出した前記基板上の塗布領域の角度ずれに合わせて前記回転部を回転させる制御部と、を有することを特徴としている。
【０００９】
本装置を用いることにより、基板のアライメントによる歪を基板に生じさせることなく塗布領域に正確に塗布できる。
【００１０】
また、本発明の塗布装置は、前記直線方向に前記塗布ノズルが移動しながら塗布を行ってもよい。
【００１１】
本装置を用いることにより、直線方向に連続して設けられている塗布領域に効率よく塗布ができる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の塗布装置によると、ロールトゥロールで搬送されてくる基板に対して基板のアライメントによる歪を生じさせずに塗布することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】一般的なロールトゥロールの塗布装置を説明する図である。
【図２】一般的なロールトゥロールの塗布装置での基板のアライメントを説明する図である。
【図３】本発明の塗布装置の一例を説明する図である。
【図４】本発明の塗布装置による基板への塗布を説明する図である。
【図５】一般的なロールトゥロールの塗布装置と本発明の塗布装置との塗布時の違いを説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
まず、図１および図２を用いて、一般的なロールトゥロールの塗布装置の構成と基板のアライメントの方法について説明してから、本発明の塗布装置の実施例を説明する。
【００１５】
図１（Ａ）は、一般的なロールトゥロールの塗布装置１の側面図であり、図１（Ｂ）は、図１（Ａ）のａ矢視の平面図である。一般的なロールトゥロールの塗布装置１は、可撓性を有する基板２を巻き出す巻き出しロール３、巻き出しロール３から巻き出された基板２を巻き取る巻き取りロール４、巻き出しロール３と巻き取りロール４との間に位置し、上面で基板２を吸着し把持する吸着ステージ５、吸着ステージ５と巻き出しロール３との間および吸着ステージ５と巻き取りロール４との間に位置し、基板２を吸着ステージ５の上部で支持し搬送する基板支持部１０と、吸着ステージ５の上部に位置し、基板２に塗布液を塗布する塗布部８と、にて構成されている。
【００１６】
ここで、基板２の搬送方向である基板２の長手方向をＸ軸方向、基板２の幅方向でありＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向およびＹ軸方向と直交する方向をＺ軸方向と呼ぶ。
【００１７】
吸着ステージ５は、基板２を吸着する面である吸着面９を上面に有するステージであり、図示しない真空供給源と配管により接続されている。この吸着ステージ５に吸着固定された基板２に対して、塗布部８によって塗布液の塗布が行われる。なお、塗布部８によって塗布される方の基板２の面を基板２の表面、この表面の反対側の面（吸着ステージ５が吸着する方の面）を基板２の裏面と呼ぶ。
【００１８】
また、吸着ステージ５は、後述する図示しないアライメント機構によってＸ軸方向の移動、Ｙ軸方向の移動、およびＺ軸方向に回転軸を有する回転といったような変位をすることが可能であり、基板２の一部を吸着ステージ５が吸着した状態で吸着ステージ５が変位して、塗布部８と基板２との位置合わせ（アライメント）が行われることにより、塗布部８が基板２上の正確な位置に処理を行うことが可能となる。
【００１９】
吸着面９は、基板２を載置する平坦面であり、高い平面度で基板２を載置し、吸着固定する。基板２が高い平面度で保持されることにより、塗布部８と基板２との距離を精度良く制御できるため、塗布部８が基板２に対し正確な処理を行うことができる。
【００２０】
また、吸着面９は多数の孔を有し、これらの孔が吸着ステージ５と上記真空供給源とを接続する配管と連通されている。これにより、真空供給源が動作することによって各孔に吸引力が付与されるため、基板２の裏面を吸着することができる。
【００２１】
また、吸着面９の大きさは、塗布部８が一回の塗布動作を行う基板２上の塗布領域の大きさよりも十分に大きい。具体的には、基板２上における塗布領域の形成位置のずれ量の最大値を塗布領域の大きさに加えて求められる大きさよりも吸着面９の大きさは大きい。こうすることにより、塗布領域の形成位置の位置ずれおよび吸着面９上に基板２が載置された際の塗布領域の位置ずれが生じたとしても常に塗布領域全体を吸着面９上に位置させることが可能であり、正確にアライメントおよび処理を行うことができる。
【００２２】
基板支持部１０は、基板２を支持して基板２の搬送を補助する機構であり、吸着ステージ５に対して基板２の搬送方向（Ｘ軸方向）の上流側および下流側に配置されている。なお、以降の説明では、上流側に配置された基板支持部１０を基板支持部１０ａと呼び、また、下流側に配置された基板支持部１０を基板支持部１０ｂと呼ぶ。
【００２３】
ここで、基板支持部１０ａおよび基板支持部１０ｂのＺ軸方向の位置は、基板２の搬送時において、これら基板支持部１０ａおよび基板支持部１０ｂにより支持された基板２の一部が吸着ステージ５の吸着面９に接触しない位置に設定されている。
【００２４】
また、各基板支持部１０は、送りロール６とニップロール７とを有し、これらで基板２をはさみこむことにより、基板２の搬送時に基板２の位置がずれることを防ぎながら搬送を補助する。なお、以降の説明では、基板支持部１０ａが有する送りロール６およびニップロール７を送りロール６ａおよびニップロール７ａと呼び、基板支持部１０ｂが有する送りロール６およびニップロール７を送りロール６ｂおよびニップロール７ｂと呼ぶ。
【００２５】
送りロール６は、Ｙ軸方向に中心軸を有する円柱状の ロールであり、この中心軸を回転軸として回転可能である。ここで、基板２の裏面が送りロール６に接した状態で、送りロール６の表面の移動速度が基板２の搬送速度と同等となるように送りロール６を回転させることにより、基板２を少ない摩擦で送り出すことができる。
【００２６】
ニップロール７は、基板２をはさんで送りロール６と対向するように設けられているＹ軸方向に中心軸を有する円柱状のロールであり、この中心軸を回転軸として回転可能である。基板２はこのニップロール７と送りロール６との間を通るようにセットされ、ニップロール７は所定の力で基板２を送りロール６に押しつける。すなわち、ニップロール７と送りロール６とで基板２をはさみこむ。これにより、基板２の搬送時に基板２の位置がずれることを防ぐ。そして、基板２の表面がニップロール７に接した状態で、ニップロール７の表面の移動速度が基板２の搬送速度と同等となるようにニップロール７を回転させることにより、基板２を少ない摩擦で送り出すことができる。
【００２７】
ここで、少なくとも吸着ステージ５の基板搬送方向（Ｘ軸方向）の下流側にあるニップロール７ｂは、基板２の塗布部８により処理された部分と接触しないようにするため、図１（Ｂ）に示すように基板２の幅方向（Ｙ軸方向）の端部近傍とだけ接するように配置されている。なお、吸着ステージ５の上流側にあるニップロール７ａもニップロール７ｂと同様の構成であっても良い。
【００２８】
吸着ステージ５の図示しないアライメント機構は、本実施形態では、Ｘ軸方向への直動機構、Ｙ軸方向への直動機構、および、Ｚ軸方向に回転軸を有する回転機構を備えており、同じく図示しない制御装置からの指令を受けて動作し、上記直動機構および回転機構が駆動することによって吸着ステージ５を変位させる。これにより塗布部８と基板２とのアライメントが行われる。
【００２９】
塗布部８は塗布液を塗布する塗布ノズルを備えた少なくともＸ軸方向とＸ軸方向との２軸に移動可能な図示しない塗布ヘッドを有し、吸着ステージ５にてアライメントされた基板２の表面の所定の塗布領域上に図示しない塗布ヘッドを移動させて塗布液を塗布ノズルから基板２の表面に向けて放出する。これにより基板２への塗布液の塗布が行われる。
【００３０】
続いて、図２（Ａ）および図２（Ｂ）を用いて、一般的なロールトゥロールの塗布装置１での基板２のアライメントについて説明する。図２（Ａ）は、図１（Ａ）のａ矢視であり、基板支持部１０ａ、１０ｂ間に支持され静止している基板２の裏面に吸着ステージ５の吸着面９を接触させるように吸着ステージ５をＺ軸方向に移動し、基板２の裏面を吸着面９にて吸着させて基板２を吸着ステージ５にて把持させた状態を表している。
【００３１】
ここでの基板２上の塗布領域３４の位置は、所定の位置に対して角度ずれ（α）を生じている。この角度ずれ（α）に対して、所定の塗布位置に基板２のアライメントを行うために吸着ステージ５を基板２を吸着したまま回転させた状態を図２（Ｂ）に表す。このアライメントにより、基板支持部１０ａと吸着ステージ５との間、および吸着ステージ５と基板支持部１０ｂとの間において、基板２に過剰な引っ張りの力が掛かると同時に基板２の幅方向にその引っ張り力による張力差が発生し基板２に歪が生じる。この歪により基板２の表面に皺（Ｚ）が発生する。この皺（Ｚ）の上に塗布部８にて塗布液が塗布された場合、塗布ムラが発生し品質に悪影響を及ぼすおそれがあった。
【００３２】
これに対する本発明の塗布装置の一例を以下の実施例にて説明する。
【実施例１】
【００３３】
本発明の塗布装置の一例を図３を用いて説明する。図３（Ａ）は、本発明の塗布装置の一例の側面図を表し、図３（Ｂ）は図３（Ａ）のｂ矢視の平面図を表す。ここで、図１、図２を用いて説明した一般的なロールトゥロールの塗布装置と同じ機構のものには同じ名称と同じ符号を用いている。
【００３４】
本発明の塗布装置１１は、可撓性を有する基板２を巻き出す巻き出しロール３、巻き出しロール３から巻き出された基板２を巻き取る巻き取りロール４、巻き出しロール３と巻き取りロール４の間に位置し、上面で基板２を吸着し把持する吸着ステージ１５、吸着ステージ１５と巻き出しロール３との間および吸着ステージ１５と巻き取りロール４との間に位置し、基板２を吸着ステージ１５の上部で支持し搬送する基板支持部１０と、吸着ステージ１５の上部に位置し、基板２に塗布液を塗布する塗布部１８と、にて構成されている。
【００３５】
本発明の塗布装置１１は、吸着ステージ１５がアライメント機構を有しておらず、その代わりに塗布部１８がその役割を果たすことが、前述の一般的なロールトゥロール塗布装置と異なる。
【００３６】
吸着ステージ１５は、基板２を吸着する面である吸着面１９を有するステージであり、図示しない真空供給源と配管により接続されている。この吸着ステージ１５に吸着固定された基板２に対して、塗布部１８によって塗布液の塗布が行われる。
【００３７】
吸着ステージ１５は、図示しない昇降機構によってＺ軸方向に変位をすることが可能であり、吸着ステージ１５がＺ軸方向に変位して、巻き出しロール３と巻き取りロール４との間で、基板２の搬送方向（Ｘ軸方向）において吸着ステージ１５の前後に位置する基板支持部１０によって支持された基板２の裏面を吸着する。こうすることで、基板２の位置を固定する。
【００３８】
吸着面１９は、基板２を載置する平坦面であり、高い平面度で基板２を載置し、吸着固定する。基板２が高い平面度で保持されることにより、塗布部１８と基板２との距離を精度良く制御できるため、塗布部１８が基板２に対し正確な処理を行うことができる。
【００３９】
また、吸着面１９は多数の孔を有し、これらの孔が吸着ステージ１５と上記真空供給源とを接続する配管と連通されている。これにより、真空供給源が動作することによって各孔に吸引力が付与されるため、基板２の裏面を吸着することができる。
【００４０】
塗布部１８は、図示しない塗布ノズルを有する塗布ヘッド２０と、塗布ヘッド２０を 基板２の上面である基板２の表面に平行な面上で任意の直線方向に移動させる走査部２１と、走査部２１を基板２の搬送方向（Ｘ軸方向）に移動させる搬送方向移動部２２と、搬送方向移動部２２と走査部２１との間に設けられ走査部２１を回転させる回転部２３と、吸着ステージ１５に吸着された基板２上の塗布領域の角度ずれを検出する角度ずれ検出手段２４と、角度ずれ検出手段２４にて検出された角度ずれに合わせて回転部２３を回転させる制御を行う図示しない制御部とにより構成されている。
【００４１】
塗布ヘッド２０は、後述する走査部２１の直線方向移動ブロック２５に取り付けられており、走査部２１、搬送方向移動部２２、回転部２３の動きに伴い、少なくともＸ軸方向とＹ軸方向に移動可能であり、吸着面１９にて固定された基板２の表面の所定の塗布領域上に塗布ヘッド２０を移動させて塗布液を基板２の表面に向けて放出する。これにより、基板２への塗布液の塗布が行われる。
【００４２】
走査部２１は、直線方向移動ブロック２５、直線方向ガイド部２６、直線方向駆動部２７にて構成されている。ここで、直線方向移動ブロック２５は、直線方向ガイド部２６によって直線方向に動きを規制されており、直線方向駆動部２７にて、直線方向ガイド部２６にガイドされながら移動する。ここで、直線方向移動ブロック２５と直線方向ガイド部２６とは、直線方向移動ブロック２５の動きを直線方向のみに規制する構成であればよく、たとえば、リニアガイドのような構成であってもよい。また、直線方向駆動部２７は、直線方向移動ブロック２５の位置を直線方向の任意の位置に変位させるものであればよく、たとえば、直線方向ガイド部２６に平行に設けられたボールネジとそのボールネジを回転させるサーボモータのような構成であってもよい。これらの構成により直線方向の任意の位置に直線方向移動ブロック２５を変位させることを可能にしている。
【００４３】
搬送方向移動部２２は、搬送方向移動ブロック２８、搬送方向ガイド部２９、搬送方向駆動部３０にて構成されている。ここで、搬送方向移動ブロック２８は、搬送方向ガイド部２９によって搬送方向（Ｘ軸方向）に動きを規制されており、搬送方向駆動部３０にて、搬送方向ガイド部２９にガイドされながら移動する。ここで、搬送方向移動ブロック２８と搬送方向ガイド部２９とは、搬送方向移動ブロック２８の動きを搬送方向（Ｘ軸方向）のみに規制する構成であればよく、たとえば、ＬＭガイドのような構成であってもよい。また、搬送方向駆動部３０は、搬送方向移動ブロック２８の位置を搬送方向（Ｘ軸方向）の任意の位置に変位させるものであればよく、たとえば、搬送方向ガイド部２９のガイド方向に平行に設けられたボールネジとそのボールネジを回転させるサーボモータのような構成であってもよい。これらの構成により搬送方向（Ｘ軸方向）の任意の位置に搬送方向移動ブロック２８を変位させることを可能にしている。
【００４４】
本実施例では、搬送方向移動部２２は、基板２の幅方向（Ｙ軸方向）に対して吸着ステージ１５を挟む形で両側にＸ軸方向に平行に設けられている。ここで両側の搬送方向移動部２２、搬送方向移動ブロック２８、搬送方向ガイド部２９、搬送方向駆動部３０について、 基板２の搬送方向の上流から見て、左側を搬送方向移動部２２ａ、搬送方向移動ブロック２８ａ、搬送方向ガイド部２９ａ、搬送方向駆動部３０ａ、右側を搬送方向移動部２２ｂ、搬送方向移動ブロック２８ｂ、搬送方向ガイド部２９ｂ、搬送方向駆動部３０ｂとする。
【００４５】
回転部２３は、本実施例では上部回転部３１と下部回転部３２とに分かれており、下部回転部３２を固定側とした場合、上部回転部３１が下部回転部３２に対してＺ軸方向を回転軸として自由に回転できるような構造を有している。下部回転部３２は搬送方向移動部２２の搬送方向移動ブロック２８に固定されている。ここで、回転部２３、上部回転部３１、下部回転部３２について、搬送方向移動部２２ａ側を回転部２３ａ、上部回転部３１ａ、下部回転部３２ａ、搬送方向移動部２２ｂ側を回転部２３ｂ、上部回転部３１ｂ、下部回転部３２ｂとする。
【００４６】
ここで、上部回転部３１ａには、直線方向ガイド部２６の片方の端部が固定されている。また、上部回転部３１ｂには、直線方向ガイド部２６のもう片方の端部が、上部回転部３１ａの回転中心（ｃ）と上部回転部３１ｂの回転中心（ｃ’）とを結ぶ直線方向Ｗにスライドできるような形で取り付けられている。このとき直線方向ガイド部２６の端部は、直線方向ガイド部２６が直線方向移動ブロック２５の移動をガイドする方向が直線方向Ｗと平行な方向になるように、上部回転部３１ａと上部回転部３１ｂに取り付けられている。この状態で、たとえば、搬送方向移動ブロック２８ａを動かさないで、搬送方向駆動部３０ｂにより搬送方向移動ブロック２８ｂのみを 基板２の搬送方向下流に移動させると、直線方向移動部２２は、回転部２３ａの回転軸に沿って、基板２を上から見た場合に左回転方向に回転する。この時、回転部２３ｂ側の直線方向ガイド部２６の片方の端は、上部回転部３１ｂにおいて回転部３１ａの回転中心（ｃ）と回転部３１ｂの回転中心（ｃ’）とを結ぶ直線方向Ｗにスライドできるような形で取り付けられているため、上部回転部３１ｂと共に回転しながら、上部回転部３１ａの回転中心（ｃ）と上部回転部３１ｂの回転中心（ｃ’）とを結ぶ直線上をスライドする。このように搬送方向移動ブロック２８ａと搬送方向移動ブロック２８ｂのＸ軸方向の位置関係を変化させることにより、走査部２１の直線方向移動ブロック２５の移動方向をＹ軸方向に対して任意の角度をもった直線方向に設定できる。これによりＹ軸方向に対して任意の角度を持った直線方向の任意の位置に塗布ヘッド２０を変位させることができる。
【００４７】
角度ずれ検出手段２４は、吸着ステージ１５の吸着面１９に吸着された基板２上の塗布領域の角度ずれ量を検出する機能を有していればよく、たとえば、ＣＣＤカメラをつかった画像処理にて基板２上の塗布領域の角度ずれ量を検出してもよい。
【００４８】
ここで図示しない制御部は、角度ずれ検出手段２４にて検出された基板２上の塗布領域の角度ずれに対して、搬送方向移動部２２ａまたは搬送方向移動部２２ｂ、またはその両方を制御することで、回転部２３を回転させて塗布ヘッド２０が移動する直線方向の角度を調整する。これについて、図４（Ａ）および図４（Ｂ）を用いて説明する。
【００４９】
図４（Ａ）は図３（Ａ）のｂ矢視の平面図であり、基板支持部１０ａ、１０ｂ間に支持され静止している基板２の裏面に吸着ステージ１５の吸着面１９を接触させるように吸着ステージ１５をＺ軸方向に移動し、基板２の裏面を吸着面１９にて吸着させて基板２を吸着ステージ１５にて固定させた状態を表している。ここで図４では図示されていない角度ずれ検出手段２４により、基板２上のマーク（ｆ）、（ｆ’）の位置から基板２上の塗布領域３４の角度ずれ（α）が検出されている。
【００５０】
図４（Ａ）の状態では、搬送方向移動ブロック２８ａの位置と搬送方向移動ブロック２８ｂの位置とは、Ｘ軸方向において同じである。この位置関係により、走査部２１の直線方向移動ブロック２５はＹ軸方向に移動できる状態である。この状態において、図４（Ｂ）に示すように、搬送方向移動ブロック２８ｂをＸ軸方向に移動させることで、基板２上の塗布領域３４の角度ずれ（α）に塗布ヘッド２０が移動する直線方向を合わせることができる。このときの搬送方向移動ブロック２８ｂのＸ軸方向の移動量（Ｌ）について、以降に説明する。
【００５１】
ここで、回転部２３ａの回転中心（ｃ）を通るＹ軸方向の直線上にある搬送方向移動ブロック２８ｂ上の任意の位置を開始点（ｄ）とし、回転中心（ｃ）と開始点（ｄ）を通る無限直線を基板２上の塗布領域３４の角度ずれ（α）に塗布ヘッド２０が移動する直線方向を合わせる方向、すなわち図４（Ｂ）において左回転方向にαだけ回転させたときに、開始点（ｄ）を通るＸ軸方向の無限直線と交わる点を移動点（ｅ）とする。このときの移動点（ｅ）から開始点（ｄ）までの距離（Ｌ）を搬送方向移動ブロック２８ｂのＸ軸方向移動量（Ｌ）とすればよい。
【００５２】
このようにして、角度ずれ検出手段２４にて検出された基板２上の塗布領域３４の角度ずれ（α）に対して、図示しない制御部により、図４（Ｂ）に示すように、直線方向移動ブロック２５の移動方向をＹ軸方向から基板２上の塗布領域３４の角度ずれ（α）分回転させるように、搬送方向駆動部３０ａと搬送方向駆動部３０ｂとを制御する。これにより、塗布ヘッド２０をＹ軸方向に対して任意の角度を持った直線方向に移動させながら、任意の塗布領域の任意の位置に移動させることができる。こうすることにより、ロールトゥロールで搬送されてくる基板上の塗布領域に角度ずれが生じていても基板のアライメントによる歪を生じさせずに塗布することができる。
【００５３】
次に、基板の幅方向に一列に塗布領域が設けられている基板に、複数の塗布ノズルを有する塗布ヘッドを直線方向に移動させながら基板に塗布を行う場合、基板上の塗布領域に角度ずれが生じていると、本発明の塗布装置が有しているような塗布ヘッドの移動方向をＹ軸方向に対して任意の角度を持った直線方向に調整する機能を有していない塗布装置では、複雑な制御が必要となる。これについて、図５（Ａ）、図５（Ｂ）を用いて説明する。
【００５４】
図５（Ａ）は、本発明の塗布装置が有しているような塗布ヘッドの移動方向をＹ軸方向に対して任意の角度を持った直線方向に調整する機能を有していない塗布装置、たとえば、上述の一般的なロールトゥロールのような塗布装置であり、基板２上の塗布領域３５は図示されていない角度ずれ検出手段により、基板２上のマーク（ｆ）、（ｆ’）の位置から角度ずれ（α）が検出されている。この状態で複数の塗布ノズル３３を有する塗布ヘッド２０をＹ軸方向に移動させながら所定の塗布領域３５に塗布液を塗布する場合、各塗布領域３５の上に位置する塗布ノズル３３は異なるため、同じ塗布ノズル３３で塗布すると所定の各塗布領域３５に正しく塗布できなくなる。このため、角度ずれのある基板２上の各塗布領域３５に、それぞれ対応する塗布ノズル３３を選出し塗布する複雑な制御が必要となる。
【００５５】
これに対して、本発明の塗布装置を用いれば、図５（Ｂ）に示すように、角度ずれ（α）がある基板２上の各塗布領域３５に対して、その角度ずれ（α）に合わせて塗布ヘッド２０の移動方向である直線方向の角度を調整し、塗布ヘッド２０を移動させながら同じ塗布ノズル３３で所定の各塗布領域３５に効率よく塗布することができる。
【００５６】
以上の塗布装置により、ロールトゥロールで搬送されてくる基板に対して基板のアライメントによる歪を生じさせずに塗布することができる。
【００５７】
本発明の塗布装置は、以上で説明した形態に限らず、本発明の範囲内において他の形態であってもよい。たとえば、回転部２３は回転駆動機能を有し、回転部２３を回転駆動機能により回転させることにより任意の直線方向に走査部２１の直線方向移動ブロック２５の移動方向を調整してもよい。
【００５８】
また、回転駆動機能を有する回転部２３を用いることで、片側の搬送方向移動部２２を設けなくてもよいし、または、搬送方向移動部２２の片方の搬送方向駆動部３０を設けなくてもよい。
【００５９】
また、片側または両側の搬送方向移動部２２全体を搬送方向（Ｘ軸方向）に相対的に移動させて回転部２３を回転させてもよい。また、片側の搬送方向移動部２２全体を、反対側の搬送方向移動部２２とのＸ軸方向の平行関係を維持したまま、Ｘ軸方向に限らずＹ軸方向にも移動させて回転部２３を回転させてもよい。
【００６０】
直線方向駆動部２７、搬送方向駆動部３０は、ボールネジとサーボモータにこだわらない。たとえば、エアシリンダやリニアモータ等でもよい。
【００６１】
また、塗布ヘッド２０はインクジェットノズル式の塗布ノズルに限ったものではなく、たとえば、ストライプ塗工方式に用いられるスリットダイ等を用いてもよい。
【００６２】
また、本発明の塗布装置を枚葉方式の塗布装置に使ってもよい。
【符号の説明】
【００６３】
１    一般的なロールトゥロール塗布装置
２    基板
３    巻き出しロール
４    巻き取りロール
５    吸着ステージ
６    送りロール
７    ニップロール
８    塗布部
９    吸着面
１０    基板支持部
１１    塗布装置
１５    吸着ステージ
１８    塗布部
１９    吸着面
２０    塗布ヘッド
２１    走査部
２２    搬送方向移動部
２３    回転部
２４    角度ずれ検出手段
２５    直線方向移動ブロック
２６    直線方向ガイド部
２７    直線方向駆動部
２８    搬送方向移動ブロック
２９    搬送方向ガイド部
３０    搬送方向駆動部
３１    上部回転部
３２    下部回転部
３３    塗布ノズル
３４    塗布領域
３５    塗布領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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