(57)【要約】【課題】対象物の表面を容易に清掃することができる物品清掃装置の提供。【解決手段】中皿清掃装置７は、側面を有する中皿Ｄの表面を清掃する。この中皿清掃装置７は、中皿Ｄの側面を保持することによって、中皿Ｄを保持する第１インデックス７１と、第１インデックス７１にて保持された中皿Ｄの保持面とは異なる面を清掃する底面清掃機構７１３および平行側面清掃機構７１４と、中皿清掃装置７を制御する制御手段とを備える。制御手段は、第１インデックス７１に中皿Ｄを保持させる側面保持制御部と、第１インデックス７１にて保持された中皿Ｄを底面清掃機構７１３および平行側面清掃機構７１４に清掃させる清掃制御部とを備える。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
側面を有する対象物の表面を清掃する物品清掃装置であって、
前記対象物の側面を保持することによって、前記対象物を保持する側面保持手段と、
前記側面保持手段にて保持された前記対象物の保持面とは異なる面を清掃する清掃手段と、
前記物品清掃装置を制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、
前記側面保持手段に前記対象物を保持させる側面保持制御部と、
前記側面保持手段にて保持された前記対象物を前記清掃手段に清掃させる清掃制御部とを備えることを特徴とする物品清掃装置。
【請求項２】
請求項１に記載された物品清掃装置において、
前記側面保持手段は、前記対象物の側面を挟持することによって、前記対象物を保持することを特徴とする物品清掃装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載された物品清掃装置において、
前記側面保持手段にて保持された前記対象物の保持面とは異なる他の側面を保持することによって、前記対象物を保持する他側面保持手段と、
前記側面保持手段にて保持されていた前記対象物の保持面を清掃する保持面清掃手段とを備え、
前記制御手段は、
前記側面保持手段にて保持されていた前記対象物を前記他側面保持手段に保持させる他側面保持制御部と、
前記側面保持手段にて保持されていた対象物の保持面を前記保持面清掃手段に清掃させる保持面清掃制御部とを備えることを特徴とする物品清掃装置。
【請求項４】
請求項３に記載された物品清掃装置において、
前記側面保持手段および前記他側面保持手段は、
前記対象物を保持するチャックと、
前記チャックを前記対象物に向かって進退させるスライダとを備え、
前記側面保持手段のスライダは、当該側面保持手段のチャックに対して鉛直上方側に位置し、前記他側面保持手段のスライダは、当該他側面保持手段のチャックに対して鉛直下方側に位置するように配置されることを特徴とする物品清掃装置。
【請求項５】
請求項１から請求項４に記載された物品清掃装置において、
前記対象物の表面を密に清掃する密清掃手段と、
前記密清掃手段にて前記対象物の表面を清掃する前に粗く清掃する粗清掃手段を備えることを特徴とする物品清掃装置。
【請求項６】
請求項５に記載された物品清掃装置において、
前記粗清掃手段は、前記対象物の上面を最初に清掃し、前記密清掃手段は、前記清掃手段または前記保持面清掃手段にて前記対象物の上面とは異なる他の面を清掃した後、前記対象物の上面を最後に清掃することを特徴とする物品清掃装置。
【請求項７】
請求項６に記載された物品清掃装置において、
前記密清掃手段は、
前記対象物の上面を清掃する布製の布清掃具と、
前記布清掃具を前記対象物の上面に沿って摺動させる摺動機構とを備え、
前記制御手段は、
前記摺動機構にて前記布清掃具を前記対象物の上面に沿って摺動させることによって、前記対象物の上面を密に清掃する密清掃制御部を備えることを特徴とする物品清掃装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コンパクト等の対象物を清掃する物品清掃装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、コンパクト等の容器に内容物を自動的に装填し、最終製品を製造する装填装置が知られている。例えば、特許文献１に記載された自動組立装置は、コンパクトの蓋を自動的に開蓋する容器開蓋装置や、化粧料を充填した中皿をコンパクトに組み込む中皿組込装置や、中皿に充填された化粧料の上にフィルムを載置するフィルム載置装置や、コンパクトを梱包するカートニング装置などを備えている。そして、これらの装置に対してコンパクトを搬送することによって、最終製品を製造している。
ところで、化粧料を充填した中皿は、その上面、側面、および底面に化粧料などの汚れが付着していることがあり、このような汚れは、コンパクトに組み込む前に清掃しておくことが好ましい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平６−７２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載された自動組立装置では、中皿は、中皿供給コンベヤにて搬送されているので、その上面、側面、および底面を清掃しにくいという問題がある。特に、中皿の底面は、中皿供給コンベヤの搬送路と面接触しているので、上面や側面と比較して清掃しにくいという問題がある。
【０００５】
本発明の目的は、対象物の表面を容易に清掃することができる物品清掃装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の物品清掃装置は、側面を有する対象物の表面を清掃する物品清掃装置であって、対象物の側面を保持することによって、対象物を保持する側面保持手段と、側面保持手段にて保持された対象物の保持面とは異なる面を清掃する清掃手段と、物品清掃装置を制御する制御手段とを備え、制御手段は、側面保持手段に対象物を保持させる側面保持制御部と、側面保持手段にて保持された対象物を清掃手段に清掃させる清掃制御部とを備えることを特徴とする。
【０００７】
このような構成によれば、物品清掃装置は、側面保持手段に対象物の側面を保持させた後、側面保持手段にて保持された対象物の保持面とは異なる面を清掃手段に清掃させるので、例えば、対象物の上面や、底面や、保持面とは異なる側面を容易に清掃することができる。
【０００８】
本発明では、側面保持手段は、対象物の側面を挟持することによって、対象物を保持することが好ましい。
【０００９】
このような構成によれば、側面保持手段は、対象物の側面を挟持することによって、対象物を保持するので、対象物を確実に保持することができ、清掃手段にて効率よく清掃することができる。
【００１０】
本発明では、側面保持手段にて保持された対象物の保持面とは異なる他の側面を保持することによって、対象物を保持する他側面保持手段と、側面保持手段にて保持されていた対象物の保持面を清掃する保持面清掃手段とを備え、制御手段は、側面保持手段にて保持されていた対象物を他側面保持手段に保持させる他側面保持制御部と、側面保持手段にて保持されていた対象物の保持面を保持面清掃手段に清掃させる保持面清掃制御部とを備えることが好ましい。
【００１１】
このような構成によれば、物品清掃装置は、側面保持手段にて保持されていた対象物を他側面保持手段に保持させた後、側面保持手段にて保持されていた対象物の保持面を保持面清掃手段に清掃させるので、対象物の全ての表面を清掃することができる。
【００１２】
本発明では、側面保持手段および他側面保持手段は、対象物を保持するチャックと、チャックを対象物に向かって進退させるスライダとを備え、側面保持手段のスライダは、この側面保持手段のチャックに対して鉛直上方側に位置し、他側面保持手段のスライダは、この他側面保持手段のチャックに対して鉛直下方側に位置するように配置されることが好ましい。
【００１３】
このような構成によれば、側面保持手段のスライダは、この側面保持手段のチャックに対して鉛直上方側に位置し、他側面保持手段のスライダは、この他側面保持手段のチャックに対して鉛直下方側に位置するように配置されているので、側面保持手段および他側面保持手段を互いに接触させることなく側面保持手段のチャックおよび他側面保持手段のチャックを進退させることができる。換言すれば、側面保持手段および他側面保持手段は、対象物を同時に保持することができるので、他側面保持手段は、側面保持手段にて保持された対象物を床面などに置くことなく空中にて保持して受け取ることができる。
【００１４】
本発明では、対象物の表面を密に清掃する密清掃手段と、密清掃手段にて対象物の表面を清掃する前に粗く清掃する粗清掃手段を備えることが好ましい。
【００１５】
このような構成によれば、物品清掃装置は、粗清掃手段にて対象物の表面を粗く清掃した後、密清掃手段にて対象物の表面を密に清掃することができるので、対象物の表面を確実に清掃することができる。
【００１６】
本発明では、粗清掃手段は、対象物の上面を最初に清掃し、密清掃手段は、清掃手段または保持面清掃手段にて対象物の上面とは異なる他の面を清掃した後、対象物の上面を最後に清掃することが好ましい。
【００１７】
ここで、化粧料を充填した中皿の上面は、使用者の目に留まりやすく汚れの目立つ部位であるので、最も丁寧に清掃することが望ましい。仮に中皿の側面や底面を清掃する前に中皿の上面を清掃するとすれば、中皿の側面や底面を清掃したときに中皿の上面に汚れが付着してしまうおそれがある。また、仮に中皿の側面や底面を清掃した後に中皿の上面を清掃するとすれば、清掃後の中皿の側面や底面に中皿の上面の汚れが付着してしまうおそれがある。
【００１８】
本発明によれば、粗清掃手段は、対象物の上面を最初に清掃し、密清掃手段は、清掃手段または保持面清掃手段にて対象物の上面とは異なる他の面を清掃した後、対象物の上面を最後に清掃するので、中皿の側面や底面を清掃したときに中皿の上面に汚れが付着してしまうおそれや、清掃後の中皿の側面や底面に中皿の上面の汚れが付着してしまうおそれを取り除くことができるとともに、中皿の上面を最も丁寧に清掃することができる。
【００１９】
本発明では、密清掃手段は、対象物の上面を清掃する布製の布清掃具と、布清掃具を対象物の上面に沿って摺動させる摺動機構とを備え、制御手段は、摺動機構にて布清掃具を対象物の上面に沿って摺動させることによって、対象物の上面を密に清掃する密清掃制御部を備えることが好ましい。
【００２０】
このような構成によれば、物品清掃装置は、摺動機構にて布清掃具を対象物の上面に沿って摺動させることによって、対象物の上面を密に清掃するので、対象物の上面を磨くようにして清掃することができ、例えば、ブラシなどを用いて対象物の表面を清掃する場合と比較して丁寧に清掃することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】閉蓋状態としたコンパクトを示す上面図および側面図
【図２】開蓋状態としたコンパクトを示す上面図および側面図
【図３】コンパクトの装填装置を示す上面図
【図４】中皿清掃装置の外観を示す上面図
【図５】中皿コンベアおよび第１インデックスの拡大上面図
【図６】中皿コンベアを搬送方向の手前側から見た図
【図７】中皿コンベアおよび第１インデックスの腕部の拡大図
【図８】中皿コンベアにて搬送された中皿を第１インデックスにて保持している状態を示す図
【図９】第１インデックスの腕部および底面清掃機構の拡大図
【図１０】底面清掃機構にて中皿の底面を清掃している状態を示す図
【図１１】第１インデックスの腕部および平行側面清掃機構の拡大図
【図１２】平行側面清掃機構にて中皿の両側面を清掃している状態を示す図
【図１３】第２インデックスおよび中皿送出機構の拡大上面図
【図１４】第１インデックスの腕部および第２インデックスの腕部の拡大斜視図
【図１５】第１インデックスにて搬送された中皿を第２インデックスにて保持している状態を示す図
【図１６】第２インデックスの腕部および傾斜側面清掃機構の拡大上面図
【図１７】上面密清掃機構の拡大上面図
【図１８】第２インデックスおよび上面密清掃機構の拡大側面図
【図１９】摩擦清掃機の要部を拡大した上面図
【図２０】摩擦清掃機にて中皿の上面および不織布を擦り合わせている状態を示す図
【図２１】中皿送出機構の拡大上面図
【図２２】中皿送出機構の拡大側面図
【図２３】集塵機構の外観斜視図
【図２４】第２インデックスを回転させた状態を示す集塵機構の外観斜視図
【図２５】中皿清掃装置の概略構成を示すブロック図
【図２６】中皿清掃装置の制御方法を示すフローチャート
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。
本実施形態のコンパクトの装填装置は、化粧料を充填した中皿と、ブラシとを容器に装填することによって、最終製品としてのコンパクトを製造する装置である。まず、このコンパクトについて説明する。
【００２３】
図１は、閉蓋状態としたコンパクトを示す上面図および側面図である。図２は、開蓋状態としたコンパクトを示す上面図および側面図である。具体的には、図１（Ａ）および図２（Ａ）は、コンパクトの上面図であり、図１（Ｂ）および図２（Ｂ）は、コンパクトの側面図である。
コンパクト１００は、図１および図２に示すように、容器２０と、この容器２０に装填された中皿ＤおよびブラシＢとを備えている（図２（Ａ）参照）。
【００２４】
容器２０は、容器本体２０１と、容器本体２０１を蓋する蓋部材２０２とを備えている。
容器本体２０１は、化粧料Ｃ１を充填した中皿Ｄを収容する収容部２０１Ａと、ブラシＢを収容する収容部２０１Ｂとを備えている。
蓋部材２０２は、矩形板状のミラーＭと、このミラーＭを収容する収容部２０２Ａとを備えている。
【００２５】
また、容器２０は、容器本体２０１の一端および蓋部材２０２の一端を回動自在に接続するヒンジ部２０３と、容器本体２０１の他端および蓋部材２０２の他端を開閉自在に係合するフック部２０４とを有している。この容器２０は、ヒンジ部２０３を回動させてフック部２０４を係合して閉蓋状態とすることによって、全体略直方体状となる。
【００２６】
図３は、コンパクトの装填装置を示す上面図である。具体的には、図３は、コンパクトの装填装置１を鉛直上方側から見た模式図である。なお、図３では、鉛直上方向を＋Ｚ軸方向とし、このＺ軸と直交する２軸をＸ，Ｙ軸として説明する。以下の図面においても同様である。
コンパクトの装填装置１は、図３に示すように、複数の容器２０を収容したパレット２を所定方向（Ｘ軸方向）に沿って搬送することによって、複数の容器２０を搬送するコンベアＶを備えている。
【００２７】
また、コンパクトの装填装置１は、容器供給装置３と、ラベル貼付装置４と、容器移載装置５と、容器開蓋装置６と、中皿清掃装置７と、中皿装填装置８と、ブラシ装填装置９と、パレット調整装置１０と、容器排出装置１１とを備え、これらの装置３〜１１は、コンベアＶの上流側から下流側に向かって配設されている。
なお、コンベアＶおよび装置３〜１１は、ガラス板を嵌め込まれたフレームにて密閉された領域の内部に収納されている（図示略）。作業者は、コンベアＶおよび装置３〜１１の近傍にそれぞれ配設された扉を開くことによって、コンベアＶおよび装置３〜１１のメンテナンス等を実施できる。
【００２８】
コンベアＶは、６個の容器２０を供給したパレット２を所定方向（Ｘ軸方向）に沿って搬送することによって、容器２０を搬送する。
コンベアＶは、パレット２を＋Ｘ軸方向に搬送することによって、容器２０を搬送する往路用コンベアＶ１と、往路用コンベアＶ１と平行に配設されるとともに、パレット２を−Ｘ軸方向に搬送することによって、パレット２を往路用コンベアＶ１の上流側に搬送する復路用コンベアＶ２とを備えている。
【００２９】
また、コンベアＶは、復路用コンベアＶ２にて往路用コンベアＶ１の上流側に搬送されてきたパレット２を往路用コンベアＶ１に送り出す往路用送出機構（図示略）と、往路用コンベアＶ１にて復路用コンベアＶ２の上流側に搬送されてきたパレット２を復路用コンベアＶ２に送り出す復路用送出機構（図示略）とを備えている。
【００３０】
したがって、コンベアＶは、パレット２を往路用コンベアＶ１にて＋Ｘ軸方向に搬送した後、復路用送出機構にて復路用コンベアＶ２に送り出し、復路用コンベアＶ２にて−Ｘ軸方向に搬送した後、往路用送出機構にて往路用コンベアＶ１に再び送り出すので、パレット２をＺ軸まわりに回転させるように巡回させて搬送する。
【００３１】
容器供給装置３は、作業者によってメインコンベア３３に載置された容器２０をラベル貼付装置４に搬送する。ここで、作業者は、閉蓋状態の容器本体２０１を鉛直上方側とし、蓋部材２０２を鉛直下方側とし、表裏反転させた容器２０を容器供給装置３に載置する。
【００３２】
ラベル貼付装置４は、−Ｙ軸方向に向かって容器２０を搬送する搬送路４１と、搬送路４１にて搬送されている容器２０に対して鉛直上方側からラベルを貼り付ける貼付機構４２とを備えている。ここで、容器２０は、表裏反転しているので、ラベル貼付装置４は、容器本体２０１にラベルを貼り付けている。
容器移載装置５は、搬送路４１を介して＋Ｘ軸方向に向かって搬送されている容器２０をパレット２に移載する。具体的には、容器移載装置５は、６個の容器２０をパレット２に移載する。
なお、容器２０は、ラベル貼付装置４にてラベルを貼り付けられた後、容器移載装置５にてパレット２に移載される前、換言すれば搬送路４１を介して＋Ｘ軸方向に向かって搬送されているときに、閉蓋状態の容器本体２０１を鉛直下方側とし、蓋部材２０２を鉛直上方側とするように反転させている。
【００３３】
容器開蓋装置６は、パレット２に供給された容器２０のフック部２０４の係合を解除した後、ヒンジ部２０３を回動させることによって、容器２０を開蓋する。
中皿清掃装置７は、中皿Ｄを鉛直上方側から把持する第１インデックス７１と、中皿Ｄを鉛直下方側から把持する第２インデックス７２とを備え、第１インデックス７１および第２インデックス７２に把持された中皿Ｄの底面、各側面、および上面（周縁部）の６面を清掃する。この中皿清掃装置７については後に詳細に説明する。
【００３４】
中皿装填装置８は、中皿清掃装置７にて清掃された中皿Ｄを容器開蓋装置６にて開蓋状態とした容器２０のそれぞれに装填する。具体的には、中皿装填装置８は、容器２０の収容部２０１Ａにホットメルト接着剤を塗布した後、化粧料Ｃ１を充填した中皿Ｄを装填する。
ブラシ装填装置９は、ブラシＢを載置する載置台９１と、載置台９１に載置されたブラシＢを容器２０に装填する装填機構９２を備えている。この装填機構９２は、中皿装填装置８にて中皿Ｄを装填した容器２０のそれぞれにブラシＢを装填する。具体的には、ブラシ装填装置９は、容器２０の収容部２０１ＢにブラシＢを装填する。
【００３５】
パレット調整装置１０は、容器２０の大きさに合わせてパレット２の調整を実施する。ここで、パレット２は、６個の容器２０を収容できるとともに、その収容幅を調整できるようになっている。パレット調整装置１０は、このパレット２の収容幅の調整を実施する。
容器排出装置１１は、容器２０を排出する排出路１１１と、容器２０をパレット２から排出路１１１に移載する移載機構１１２とを備え、この移載機構１１２にて容器２０をパレット２から排出路１１１に移載して排出する。
【００３６】
＜中皿清掃装置＞
図４は、中皿清掃装置の外観を示す上面図である。
中皿清掃装置７は、図４に示すように、＋Ｙ軸方向側に向かって中皿Ｄを搬送する中皿コンベア７０と、中皿コンベア７０にて搬送された中皿Ｄを保持するとともに、この中皿Ｄを紙面反時計回りに搬送する第１インデックス７１と、第１インデックス７１にて搬送された中皿Ｄを保持するとともに、この中皿Ｄを紙面反時計回りに搬送する第２インデックス７２と、第２インデックス７２にて搬送された中皿Ｄを−Ｘ軸方向側に向かって送り出す中皿送出機構７３とを備えている。
なお、中皿清掃装置７は、ガラス板を嵌め込まれたフレームＦＬにて密閉された領域の内部に収納されている。作業者は、中皿清掃装置７の近傍にそれぞれ配設された扉を開くことによって、中皿清掃装置７のメンテナンス等を実施できる。
【００３７】
この中皿清掃装置７は、側面を有する対象物としての中皿Ｄの表面を清掃する物品清掃装置である。
なお、本実施形態では、側面を有する対象物として中皿Ｄを例示して説明するが、対象物は、側面を有していればよく、本発明は、どのような対象物に適用してもよい。
【００３８】
図５は、中皿コンベアおよび第１インデックスの拡大上面図である。
中皿コンベア７０は、図５に示すように、中皿Ｄを載置するとともに、＋Ｙ軸方向側に移動することによって、＋Ｙ軸方向側に向かって中皿Ｄを搬送する搬送路７０１と、搬送路７０１に載置された中皿Ｄの上面を粗く清掃する上面粗清掃機構７０２と、搬送路７０１にて搬送された中皿Ｄを静止させるストッパ７０３とを備えている。
【００３９】
図６は、中皿コンベアを搬送方向の手前側から見た図である。換言すれば、図６は、中皿コンベア７０を−Ｙ軸方向側から見た図である。
上面粗清掃機構７０２は、図６に示すように、中皿Ｄの上面に当接することによって、中皿Ｄの上面を粗く清掃するウレタン７０２Ａと、ウレタン７０２Ａを支持する直方体状のボックス７０２Ｂと、ボックス７０２ＢをＸ軸方向に沿ってスライドさせるボックススライダ７０２Ｃとを備えている。このボックススライダ７０２Ｃは、ボックス７０２Ｂをスライドさせることによって、中皿Ｄの上面に対するウレタン７０２Ａの位置を調整する。
【００４０】
ウレタン７０２Ａは、Ｙ軸方向に沿って延在する複数の凸部７０２Ａ１および凹部７０２Ａ２を有し、この凸部７０２Ａ１を中皿Ｄの上面に当接させるようにしてボックス７０２Ｂの底面に取り付けられている。
【００４１】
ボックス７０２Ｂは、中空状の本体部７０２Ｂ１と、本体部７０２Ｂ１の＋Ｘ軸方向側に＋Ｚ軸方向側に向かって突出するように設けられた集塵パイプ７０２Ｂ２とを備えている。
本体部７０２Ｂ１は、その底面に形成された複数の開孔７０２Ｂ３（図５参照）を有し、各開孔７０２Ｂ３は、ウレタン７０２Ａの凹部７０２Ａ２と対応する位置に形成されている。
集塵パイプ７０２Ｂ２は、集塵機（図示略）に接続されている。この集塵機は、集塵パイプ７０２Ｂ２を介して本体部７０２Ｂ１の内部の空気を吸引することによって、本体部７０２Ｂ１の内部の集塵を実施する。
【００４２】
したがって、中皿コンベア７０は、搬送路７０１にて＋Ｙ軸方向側に向かって中皿Ｄを搬送するので、上面粗清掃機構７０２は、ウレタン７０２Ａを中皿Ｄの上面に当接させることによって、中皿Ｄの上面を擦るようにして粗く清掃することができる。
また、上面粗清掃機構７０２は、集塵パイプ７０２Ｂ２に接続された集塵機にて集塵パイプ７０２Ｂ２を介して本体部７０２Ｂ１の内部の空気を吸引することによって、ウレタン７０２Ａの凹部７０２Ａ２と、ボックス７０２Ｂの本体部７０２Ｂ１の開孔７０２Ｂ３とを介して中皿Ｄの上面を吸引して粗く清掃することができる。
【００４３】
第１インデックス７１は、図５に示すように、中心軸Ｏ回りに回転自在に設けられた円盤部７１１と、円盤部７１１から径方向に沿って延出する４つの腕部７１２と、円盤部７１１の−Ｙ軸方向側に設けられた底面清掃機構７１３と、円盤部７１１の＋Ｘ軸方向側に設けられるとともに、中皿Ｄの互いに平行となる両側面を清掃する平行側面清掃機構７１４とを備えている。
【００４４】
円盤部７１１は、中心軸Ｏ回りに回転する出力軸を有するモータ（図示略）と、中心軸Ｏに沿って昇降するロッドを有するエアシリンダ（図示略）とに接続されている。モータは、中心軸Ｏ回りに円盤部７１１を紙面反時計回りに回転させる。具体的には、モータは、円盤部７１１を９０度ごと間欠的に回転させる。エアシリンダは、中心軸Ｏに沿って円盤部７１１を昇降させる。具体的には、エアシリンダは、モータにて円盤部７１１を回転させる前に円盤部７１１を上昇させ、モータにて円盤部７１１を回転させた後に円盤部７１１を下降させる。
なお、本実施形態では、第１インデックス７１は、モータおよびエアシリンダを備え、モータおよびエアシリンダにて円盤部７１１を回転・昇降させているが、これとは異なる機構を採用し、円盤部７１１を回転・昇降させてもよく、例えば、エアシリンダを用いることなく円盤部７１１を昇降させてもよい。
【００４５】
図７は、中皿コンベアおよび第１インデックスの腕部の拡大図である。具体的には、図７（Ａ）は、中皿コンベア７０および第１インデックス７１の腕部７１２の拡大上面図であり、図７（Ｂ）は、中皿コンベア７０および第１インデックス７１の腕部７１２を＋Ｙ軸方向側から見た拡大側面図である。
腕部７１２は、図７に示すように、中皿Ｄを保持するチャック７１２Ａと、チャック７１２Ａを腕部７１２の延在方向に沿って（中皿Ｄに向かって）進退させるスライダ７１２Ｂとを備えている。
チャック７１２Ａは、中皿Ｄの傾斜した側面に当接する傾斜爪部７１２Ａ１と、中皿Ｄの傾斜した側面と対向する側面に当接する対向爪部７１２Ａ２とを有している。
【００４６】
図８は、中皿コンベアにて搬送された中皿を第１インデックスにて保持している状態を示す図である。具体的には、図８（Ａ）は、中皿コンベア７０および第１インデックス７１の腕部７１２の拡大上面図であり、図８（Ｂ）は、中皿コンベア７０および第１インデックス７１の腕部７１２を＋Ｙ軸方向側から見た拡大側面図である。
【００４７】
第１インデックス７１は、モータにて円盤部７１１を９０度ごと間欠的に回転させることによって、ストッパ７０３にて静止させられた中皿Ｄの上方位置に腕部７１２を静止させる。そして、第１インデックス７１は、エアシリンダにて円盤部７１１を下降させた後、図８（Ｂ）の矢印に示すように、傾斜爪部７１２Ａ１および対向爪部７１２Ａ２を中皿Ｄに向かって進出させることによって、チャック７１２Ａにて中皿Ｄを保持する。
【００４８】
このように、本実施形態では、第１インデックス７１は、中皿Ｄ（対象物）の側面を保持することによって、中皿Ｄを保持する側面保持手段として機能する。また、第１インデックス７１は、中皿Ｄの側面を挟持することによって、中皿Ｄを保持している。具体的には、第１インデックス７１は、中皿Ｄを保持するチャック７１２Ａと、チャック７１２Ａを中皿Ｄに向かって進退させるスライダ７１２Ｂとを備え、スライダ７１２Ｂは、チャック７１２Ａに対して鉛直上方側に位置するように配置されている。
【００４９】
なお、本実施形態では、第１インデックス７１は、中皿Ｄの側面を挟持することによって、中皿Ｄを保持しているが、例えば、中皿Ｄの１つの側面のみを吸引することなどによって、中皿Ｄを保持してもよい。要するに、側面保持手段は、中皿Ｄの側面を保持することによって、中皿Ｄを保持すればよい。
また、本実施形態では、スライダ７１２Ｂは、チャック７１２Ａに対して鉛直上方側に位置するように配置されているが、これとは異なる位置に配置されていてもよい。
【００５０】
次に、第１インデックス７１は、エアシリンダにて円盤部７１１を上昇させた後、モータにて円盤部７１１を９０度ごと間欠的に回転させることによって、図５に示すように、底面清掃機構７１３の上方位置にチャック７１２Ａにて中皿Ｄを保持した腕部７１２を静止させる。そして、第１インデックス７１は、エアシリンダにて円盤部７１１を下降させる。
【００５１】
図９は、第１インデックスの腕部および底面清掃機構の拡大図である。具体的には、図９（Ａ）は、第１インデックス７１の腕部７１２および底面清掃機構７１３の拡大上面図であり、図９（Ｂ）は、第１インデックス７１の腕部７１２および底面清掃機構７１３を＋Ｘ軸方向側から見た拡大側面図である。
底面清掃機構７１３は、図９に示すように、中皿Ｄの底面に当接することによって、中皿Ｄの底面を清掃する清掃具７１３Ａと、清掃具７１３Ａを収容する直方体状のボックス７１３Ｂと、ボックス７１３ＢをＹ軸方向に沿ってスライドさせるボックススライダ７１３Ｃとを備えている。このボックススライダ７１３Ｃは、ボックス７１３Ｂをスライドさせることによって、中皿Ｄの底面に対して清掃具７１３Ａを移動させる。
【００５２】
清掃具７１３Ａは、Ｘ軸回りに回転自在となるようにボックス７１３Ｂに支持されたローラブラシ７１３Ａ１と、ローラブラシ７１３Ａ１の回転軸の＋Ｘ軸方向側の端部を覆うようにしてボックス７１３Ｂに取り付けられた中空状のサブボックス７１３Ａ２と、サブボックス７１３Ａ２に固定されたモータ７１３Ａ３と、ローラブラシ７１３Ａ１の回転軸およびモータ７１３Ａ３の出力軸に掛け回されたベルト７１３Ａ４とを備えている。
【００５３】
ボックス７１３Ｂは、上面側に開口を有する箱状の本体部７１３Ｂ１と、本体部７１３Ｂ１の−Ｙ軸方向側に＋Ｘ軸方向側に向かって突出するように設けられた集塵パイプ７１３Ｂ２とを備えている。
集塵パイプ７１３Ｂ２は、集塵機（図示略）に接続されている。この集塵機は、集塵パイプ７１３Ｂ２を介して本体部７１３Ｂ１の内部の空気を吸引することによって、本体部７１３Ｂ１の内部の集塵を実施する。
【００５４】
図１０は、底面清掃機構にて中皿の底面を清掃している状態を示す図である。具体的には、図１０（Ａ）は、第１インデックス７１の腕部７１２および底面清掃機構７１３の拡大上面図であり、図１０（Ｂ）は、第１インデックス７１の腕部７１２および底面清掃機構７１３を＋Ｘ軸方向側から見た拡大側面図である。
底面清掃機構７１３は、図１０に示すように、モータ７１３Ａ３の出力軸を回転させることによって、ベルト７１３Ａ４を介してローラブラシ７１３Ａ１の回転軸を回転させた状態において、ボックススライダ７１３Ｃにてボックス７１３Ｂを＋Ｙ軸方向に向かってスライドさせることによって、中皿Ｄの底面に対して清掃具７１３Ａを移動させる（図中矢印参照）。これによって、清掃具７１３Ａは、中皿Ｄの底面にローラブラシ７１３Ａ１を当接させて中皿Ｄの底面を清掃する。
【００５５】
このように、本実施形態では、底面清掃機構７１３は、第１インデックス７１にて保持された中皿Ｄの保持面（チャック７１２Ａにて保持された中皿Ｄの側面）とは異なる面（中皿Ｄの底面）を清掃する清掃手段として機能する。
【００５６】
次に、第１インデックス７１は、エアシリンダにて円盤部７１１を上昇させた後、モータにて円盤部７１１を９０度ごと間欠的に回転させることによって、図５に示すように、平行側面清掃機構７１４の上方位置にチャック７１２Ａにて中皿Ｄを保持した腕部７１２を静止させる。そして、第１インデックス７１は、エアシリンダにて円盤部７１１を下降させる。
【００５７】
図１１は、第１インデックスの腕部および平行側面清掃機構の拡大図である。具体的には、図１１（Ａ）は、第１インデックス７１の腕部７１２および平行側面清掃機構７１４の拡大上面図であり、図１１（Ｂ）は、第１インデックス７１の腕部７１２および平行側面清掃機構７１４を＋Ｘ軸方向側から見た拡大側面図である。
平行側面清掃機構７１４は、図１１に示すように、中皿Ｄの互いに平行となる両側面に当接することによって、中皿Ｄの両側面を清掃する一対の清掃具７１４Ａと、各清掃具７１４Ａの一部を収容する直方体状のボックス７１４Ｂと、各清掃具７１４ＡをＹ軸方向に沿ってスライドさせる一対の清掃具スライダ７１４Ｃとを備えている。各清掃具スライダ７１４Ｃは、各清掃具７１４Ａをスライドさせることによって、中皿Ｄの両側面の位置に合わせて各清掃具７１４Ａの位置を調整する。
【００５８】
各清掃具７１４Ａは、各清掃具スライダ７１４Ｃに固定されたベース７１４Ａ０と、Ｘ軸回りに回転自在となるようにベース７１４Ａ０に支持されたローラブラシ７１４Ａ１と、ローラブラシ７１４Ａ１の回転軸の＋Ｘ軸方向側の端部を覆うようにしてベース７１４Ａ０に取り付けられた中空状のサブボックス７１４Ａ２と、サブボックス７１４Ａ２に固定されたモータ７１４Ａ３と、ローラブラシ７１４Ａ１の回転軸およびモータ７１４Ａ３の出力軸に掛け回されたベルト７１４Ａ４とを備えている。
【００５９】
ボックス７１４Ｂは、上面側に開口を有する箱状の本体部７１４Ｂ１と、本体部７１４Ｂ１の中央に＋Ｘ軸方向側に向かって突出するように設けられた集塵パイプ７１４Ｂ２とを備えている。
集塵パイプ７１４Ｂ２は、集塵機（図示略）に接続されている。この集塵機は、集塵パイプ７１４Ｂ２を介して本体部７１４Ｂ１の内部の空気を吸引することによって、本体部７１４Ｂ１の内部の集塵を実施する。
【００６０】
また、平行側面清掃機構７１４は、ボックス７１４Ｂおよび各清掃具スライダ７１４Ｃを−Ｚ軸方向側から支持するとともに、ボックス７１４Ｂおよび各清掃具スライダ７１４ＣをＺ軸方向に沿って昇降させる昇降機（図示略）を備えている。
【００６１】
図１２は、平行側面清掃機構にて中皿の両側面を清掃している状態を示す図である。
平行側面清掃機構７１４は、図１２に示すように、モータ７１４Ａ３の出力軸を回転させることによって、ベルト７１４Ａ４を介してローラブラシ７１４Ａ１の回転軸を回転させた状態において、昇降機にて各清掃具７１４Ａを＋Ｚ軸方向に向かって上昇させることによって、中皿Ｄの両側面に対して各清掃具７１４Ａを移動させる（図中矢印参照）。これによって、各清掃具７１４Ａは、中皿Ｄの両側面にローラブラシ７１４Ａ１を当接させて中皿Ｄの両側面を清掃する。
【００６２】
このように、本実施形態では、平行側面清掃機構７１４は、第１インデックス７１にて保持された中皿Ｄの保持面（チャック７１２Ａにて保持された中皿Ｄの側面）とは異なる面（中皿Ｄの互いに平行となる両側面）を清掃する清掃手段として機能する。
【００６３】
図１３は、第２インデックスおよび中皿送出機構の拡大上面図である。
第２インデックス７２は、図１３に示すように、中心軸Ｏ回りに回転自在に設けられた円盤部７２１と、円盤部７２１から径方向に沿って延出する４つの腕部７２２と、円盤部７２１の＋Ｘ軸方向側に設けられるとともに、中皿Ｄの傾斜した側面および中皿Ｄの傾斜した側面と対向する側面を清掃する傾斜側面清掃機構７２３と、円盤部７２１の＋Ｙ軸方向側に設けられるとともに、中皿Ｄの上面を密に清掃する上面密清掃機構７２４とを備えている。また、第２インデックス７２は、円盤部７２１および腕部７２２の下方位置に設けられるとともに、傾斜側面清掃機構７２３および上面密清掃機構７２４による中皿Ｄの清掃に起因して落下する化粧料などを集塵する集塵機構７２５を備えている。
【００６４】
円盤部７２１は、中心軸Ｏ回りに回転する出力軸を有するモータ（図示略）と、中心軸Ｏに沿って昇降するロッドを有するエアシリンダ（図示略）とに接続されている。モータは、中心軸Ｏ回りに円盤部７２１を紙面反時計回りに回転させる。具体的には、モータは、円盤部７２１を９０度ごと間欠的に回転させる。エアシリンダは、中心軸Ｏに沿って円盤部７２１を昇降させる。具体的には、エアシリンダは、モータにて円盤部７２１を回転させる前に円盤部７２１を下降させ、モータにて円盤部７２１を回転させた後に円盤部７２１を上昇させる。
なお、本実施形態では、第２インデックス７２は、モータおよびエアシリンダを備え、モータおよびエアシリンダにて円盤部７２１を回転・昇降させているが、これとは異なる機構を採用し、円盤部７２１を回転・昇降させてもよく、例えば、エアシリンダを用いることなく円盤部７２１を昇降させてもよい。
【００６５】
図１４は、第１インデックスの腕部および第２インデックスの腕部の拡大斜視図である。
第２インデックス７２の腕部７２２は、図１４に示すように、中皿Ｄの側面に当接する爪部を有し、中皿Ｄを保持するチャック７２２Ａと、チャック７２２Ａを腕部７２２の延在方向と直交する方向に沿って（中皿Ｄに向かって）進退させるスライダ７２２Ｂとを備えている。
【００６６】
図１５は、第１インデックスにて搬送された中皿を第２インデックスにて保持している状態を示す図である。具体的には、図１５（Ａ）は、第１インデックス７１にて搬送された中皿Ｄを第２インデックス７２にて保持する前の状態を示す図であり、図１５（Ｂ）は、第１インデックス７１にて搬送された中皿Ｄを第２インデックス７２にて保持した後の状態を示す図である。
【００６７】
第２インデックス７２は、モータにて円盤部７２１を９０度ごと間欠的に回転させることによって、第１インデックス７１にて搬送された中皿Ｄの下方位置に腕部７２２を静止させる。そして、第２インデックス７２は、図１５（Ａ）に示すように、エアシリンダにて円盤部７２１を上昇させた後、チャック７２２Ａの爪部を中皿Ｄに向かって進出させることによって（図中矢印）、チャック７２２Ａにて中皿Ｄを保持する。その後、第１インデックス７１は、図１５（Ｂ）に示すように、チャック７１２Ａの爪部を中皿Ｄに対して後退させることによって（図中矢印）、中皿Ｄを解放する。
【００６８】
このように、本実施形態では、第２インデックス７２は、第１インデックス７１にて保持された中皿Ｄの保持面（チャック７１２Ａにて保持された中皿Ｄの側面）とは異なる他の側面（中皿Ｄの互いに平行となる両側面）を保持することによって、中皿Ｄを保持する他側面保持手段として機能する。また、第２インデックス７２は、中皿Ｄの側面を挟持することによって、中皿Ｄを保持している。具体的には、第２インデックス７２は、中皿Ｄを保持するチャック７２２Ａと、チャック７２２Ａを中皿Ｄに向かって進退させるスライダ７２２Ｂとを備え、スライダ７２２Ｂは、チャック７２２Ａに対して鉛直下方側に位置するように配置されている。
【００６９】
なお、本実施形態では、第２インデックス７２は、中皿Ｄの側面を挟持することによって、中皿Ｄを保持しているが、例えば、中皿Ｄの１つの側面のみを吸引することなどによって、中皿Ｄを保持してもよい。要するに、他側面保持手段は、中皿Ｄの側面を保持することによって、中皿Ｄを保持すればよい。
また、本実施形態では、スライダ７２２Ｂは、チャック７２２Ａに対して鉛直下方側に位置するように配置されているが、これとは異なる位置に配置されていてもよい。
【００７０】
次に、第２インデックス７２は、エアシリンダにて円盤部７２１を下降させた後、モータにて円盤部７２１を９０度ごと間欠的に回転させることによって、図１３に示すように、傾斜側面清掃機構７２３の下方位置にチャック７２２Ａにて中皿Ｄを保持した腕部７２２を静止させる。そして、第２インデックス７２は、エアシリンダにて円盤部７２１を上昇させる。
【００７１】
ここで、第１インデックス７１は、前述したように、エアシリンダにて円盤部７１１を上昇させた後、モータにて円盤部７１１を９０度ごと間欠的に回転させることによって、図５に示すように、底面清掃機構７１３の上方位置にチャック７１２Ａにて中皿Ｄを保持した腕部７１２を静止させる。そして、第１インデックス７１は、エアシリンダにて円盤部７１１を下降させる。
換言すれば、第１インデックス７１および第２インデックス７２は、互いに同期して９０度ごと間欠的に回転するとともに、互いに同期して昇降するようになっている。
【００７２】
図１６は、第２インデックスの腕部および傾斜側面清掃機構の拡大上面図である。
傾斜側面清掃機構７２３は、図１６に示すように、中皿Ｄの傾斜した側面に当接することによって、中皿Ｄの傾斜した側面を清掃する清掃具７２３Ａと、中皿Ｄの傾斜した側面と対向する側面に当接することによって、中皿Ｄの傾斜した側面と対向する側面を清掃する清掃具７２３Ｂと、清掃具７２３Ａを中皿Ｄの傾斜した側面と直交する方向に沿ってスライドさせる清掃具スライダ７２３Ｃと、清掃具７２３ＢをＸ軸方向に沿ってスライドさせる清掃具スライダ７２３Ｄとを備えている。各清掃具スライダ７２３Ｃ，７２３Ｄは、各清掃具７２３Ａ，７２３Ｂをスライドさせることによって、中皿Ｄの両側面の位置に合わせて各清掃具７２３Ａ，７２３Ｂの位置を調整する。
【００７３】
ここで、清掃具スライダ７２３Ｃは、Ｚ軸回りに回動自在となっている。例えば、清掃具７２３ＡをＸ軸方向に沿ってスライドさせるように清掃具スライダ７２３Ｃを回動させることによって、傾斜側面清掃機構７２３は、底面矩形状の中皿を清掃することができるように設定することができる。
なお、本実施形態では、清掃具スライダ７２３ＣをＺ軸回りに回動自在としているが、他の清掃具スライダ７１４Ｃ，７２３ＤをＺ軸回りに回動自在としてもよい。
【００７４】
清掃具７２３Ａは、清掃具スライダ７２３Ｃに固定されたベース７２３Ａ０と、中皿Ｄの傾斜した側面と平行する水平軸回りに回転自在となるようにベース７２３Ａ０に支持されたローラブラシ７２３Ａ１と、ローラブラシ７２３Ａ１の回転軸の−Ｙ軸方向側の端部を覆うようにしてベース７２３Ａ０に取り付けられた中空状のサブボックス７２３Ａ２と、サブボックス７２３Ａ２に固定されたモータ７２３Ａ３と、ローラブラシ７２３Ａ１の回転軸およびモータ７２３Ａ３の出力軸に掛け回されたベルト７２３Ａ４とを備えている。
【００７５】
清掃具７２３Ｂは、清掃具スライダ７２３Ｄに固定されたベース７２３Ｂ０と、Ｙ軸回りに回転自在となるようにベース７２３Ｂ０に支持されたローラブラシ７２３Ｂ１と、ローラブラシ７２３Ｂ１の回転軸の−Ｙ軸方向側の端部を覆うようにしてベース７２３Ｂ０に取り付けられた中空状のサブボックス７２３Ｂ２と、サブボックス７２３Ｂ２に固定されたモータ７２３Ｂ３と、ローラブラシ７２３Ｂ１の回転軸およびモータ７２３Ｂ３の出力軸に掛け回されたベルト７２３Ｂ４とを備えている。
【００７６】
また、傾斜側面清掃機構７２３は、各清掃具スライダ７２３Ｃ，７２３Ｄを＋Ｚ軸方向側から支持するとともに、各清掃具スライダ７２３Ｃ，７２３ＤをＺ軸方向に沿って昇降させる昇降機（図示略）を備えている。
傾斜側面清掃機構７２３は、前述した平行側面清掃機構７１４と同様に、モータ７２３Ａ３，７２３Ｂ３の出力軸を回転させることによって、ベルト７２３Ａ４，７２３Ｂ４を介してローラブラシ７２３Ａ１，７２３Ｂ１の回転軸を回転させた状態において、昇降機にて各清掃具７２３Ａ，７２３Ｂを−Ｚ軸方向に向かって下降させることによって、中皿Ｄの両側面に対して各清掃具７２３Ａ，７２３Ｂを移動させる。これによって、各清掃具７２３Ａ，７２３Ｂは、中皿Ｄの傾斜した側面および中皿Ｄの傾斜した側面と対向する側面にローラブラシ７２３Ａ１，７２３Ｂ１を当接させて中皿Ｄの傾斜した側面および中皿Ｄの傾斜した側面と対向する側面を清掃する。
【００７７】
このように、本実施形態では、傾斜側面清掃機構７２３は、第１インデックス７１にて保持されていた中皿Ｄの保持面（チャック７１２Ａにて保持された中皿Ｄの側面）を清掃する保持面清掃手段として機能する。
【００７８】
次に、第２インデックス７２は、エアシリンダにて円盤部７２１を下降させた後、モータにて円盤部７２１を９０度ごと間欠的に回転させることによって、図１３に示すように、上面密清掃機構７２４の下方位置にチャック７２２Ａにて中皿Ｄを保持した腕部７２２を静止させる。そして、第２インデックス７２は、エアシリンダにて円盤部７２１を上昇させる。
【００７９】
図１７は、上面密清掃機構の拡大上面図である。図１８は、第２インデックスおよび上面密清掃機構の拡大側面図である。具体的には、図１７は、上面密清掃機構７２４を＋Ｚ軸方向側から見た図であり、図１８は、第２インデックス７２および上面密清掃機構７２４を＋Ｙ軸方向側から見た図である。
上面密清掃機構７２４は、図１７および図１８に示すように、第２インデックス７２の＋Ｚ軸方向側に設けられたベース７２４Ａと、ベース７２４ＡのＸ軸方向の両側に設けられるとともに、Ｙ軸回りに回転自在に支持された一対の巻取ローラ７２４Ｂと、ベース７２４ＡのＸ軸方向の両側に設けられるとともに、各巻取ローラ７２４Ｂを回転させる一対のモータ７２４Ｃと、一対の巻取ローラ７２４Ｂに掛け回された帯状の不織布７２４Ｄと、中皿Ｄの上面に不織布７２４Ｄを介して当接し、中皿Ｄの上面および不織布７２４Ｄを擦り合わせる摩擦清掃機７２４Ｅとを備えている。
【００８０】
ベース７２４Ａは、Ｘ軸方向を長手方向とする矩形板状のベース本体７２４Ａ１と、−Ｚ軸方向側に向かって延出するようにベース本体７２４Ａ１に固定された２つのプレート７２４Ａ２と、各プレート７２４Ａ２の間に固定されたプレート７２４Ａ３とを備えている。
各巻取ローラ７２４Ｂは、ベース７２４Ａの−Ｙ軸方向側に設けられた歯車７２４Ｂ１を備えている。各歯車７２４Ｂ１は、各モータ７２４Ｃの出力軸７２４Ｃ１に接続されている。したがって、各モータ７２４Ｃは、出力軸７２４Ｃ１を回転させることによって、各歯車７２４Ｂ１を介して各巻取ローラ７２４Ｂを回転させる。
不織布７２４Ｄは、−Ｘ軸方向側に設けられた巻取ローラ７２４Ｂの近傍に設けられた変動ローラ７２４Ｆと、変動ローラ７２４Ｆの＋Ｘ軸方向側に設けられた３個の固定ローラ７２４Ｇとを経由して−Ｘ軸方向側に設けられた巻取ローラ７２４Ｂから＋Ｘ軸方向側に設けられた巻取ローラ７２４Ｂに巻き取られる。
【００８１】
変動ローラ７２４Ｆは、図１８に示すように、ベース７２４Ａに一端を回動自在に支持された棒状体７２４Ｆ１と、棒状体７２４Ｆ１の他端に回転自在となるように設けられたローラ本体７２４Ｆ２とを備えている。この変動ローラ７２４Ｆは、棒状体７２４Ｆ１の位置を調整することによって、不織布７２４Ｄの張力を調整する。具体的には、変動ローラ７２４Ｆは、棒状体７２４Ｆ１を反時計回りに回動させることによって、不織布７２４Ｄの張力を大きくすることができ、棒状体７２４Ｆ１を図中実線の位置まで回動させることによって、不織布７２４Ｄの張力を最大とすることができる。また、変動ローラ７２４Ｆは、棒状体７２４Ｆ１を時計回りに回動させることによって、不織布７２４Ｄの張力を小さくすることができ、棒状体７２４Ｆ１を図中二点鎖線の位置まで回動させることによって、不織布７２４Ｄの張力を最小とすることができる。
各固定ローラ７２４Ｇは、ベース７２４Ａの各プレート７２４Ａ２に回転自在となるように固定されている。
【００８２】
摩擦清掃機７２４Ｅは、図１７および図１８に示すように、中皿Ｄの上面に不織布７２４Ｄを介して当接し、中皿Ｄの上面および不織布７２４Ｄを擦り合わせる摺動機構７２４Ｈと、Ｚ軸方向に沿って進退自在となるように、摺動機構７２４Ｈを支持するとともに、ベース７２４Ａのプレート７２４Ａ３に固定された支持機構７２４Ｅ１とを備えている。この支持機構７２４Ｅ１は、Ｚ軸方向に沿って摺動機構７２４Ｈを進退させることによって、中皿Ｄの上面に対する摺動機構７２４Ｈの位置を調整することができる。
【００８３】
図１９は、摩擦清掃機の要部を拡大した上面図である。
摺動機構７２４Ｈは、図１９に示すように、支持機構７２４Ｅ１にて支持された矩形板状の基部７２４Ｈ１と、Ｙ軸方向に延在するように基部７２４Ｈ１に固定されたガイドレール７２４Ｈ２と、ガイドレール７２４Ｈ２に取り付けられるとともに、ガイドレール７２４Ｈ２に沿って移動する移動体７２４Ｈ３と、移動体７２４Ｈ３に固定されるとともに、中皿Ｄの上面に不織布７２４Ｄを介して当接する矩形板状の当接板７２４Ｈ４とを備えている。
【００８４】
また、摺動機構７２４Ｈは、基部７２４Ｈ１の−Ｙ軸方向側に固定されたモータ７２４Ｈ５と、モータ７２４Ｈ５の出力軸に同心状となるように固定された円盤７２４Ｈ６に対して一端を回動自在に固定されるとともに、移動体７２４Ｈ３の−Ｙ軸方向側の端部に他端を回転自在に固定されるシャフト７２４Ｈ７とを備えている。
【００８５】
図２０は、摩擦清掃機にて中皿の上面および不織布を擦り合わせている状態を示す図である。
モータ７２４Ｈ５に固定されたシャフト７２４Ｈ７の一端の中心軸は、モータ７２４Ｈ５の出力軸に対して偏心している。したがって、モータ７２４Ｈ５の出力軸を回転させると、シャフト７２４Ｈ７の一端は、図２０に示すように、モータ７２４Ｈ５の出力軸の周囲を回転することになる（図中矢印参照）。そして、シャフト７２４Ｈ７は、モータ７２４Ｈ５の出力軸の回転に伴ってガイドレール７２４Ｈ２に沿って進退することになり、当接板７２４Ｈ４は、シャフト７２４Ｈ７および移動体７２４Ｈ３を介してＹ軸方向に沿って進退することになる。したがって、摺動機構７２４Ｈは、中皿Ｄの上面に不織布７２４Ｄを介して当接板７２４Ｈ４を当接させて中皿Ｄの上面および不織布７２４Ｄを擦り合わせることができる。
【００８６】
このように、本実施形態では、上面密清掃機構７２４は、中皿Ｄの表面を密に清掃する密清掃手段として機能する。また、本実施形態では、前述した上面粗清掃機構７０２は、上面密清掃機構７２４にて中皿Ｄの表面を清掃する前に粗く清掃する粗清掃手段として機能する。
なお、本実施形態では、中皿清掃装置７は、上面粗清掃機構７０２および上面密清掃機構７２４の双方を備えているが、いずれか一方のみを備えていてもよく、中皿Ｄの上面を清掃しない場合には、双方を備えていなくてもよい。
【００８７】
また、本実施形態では、上面粗清掃機構７０２は、中皿Ｄの上面を最初に清掃し、上面密清掃機構７２４は、底面清掃機構７１３、平行側面清掃機構７１４、および傾斜側面清掃機構７２３にて中皿Ｄの上面とは異なる他の面を清掃した後、中皿Ｄの上面を最後に清掃しているが、これとは異なる順序で中皿Ｄの表面を清掃してもよい。
また、上面密清掃機構７２４は、中皿Ｄの上面を清掃する布製の布清掃具（不織布７２４Ｄ）と、この布清掃具を中皿Ｄの上面に沿って摺動させる摺動機構７２４Ｈとを備えているが、中皿Ｄの表面を密に清掃することができれば、これとは異なる構成を採用してもよい。
【００８８】
次に、第２インデックス７２は、エアシリンダにて円盤部７２１を下降させた後、モータにて円盤部７２１を９０度ごと間欠的に回転させることによって、図１３に示すように、中皿送出機構７３の下方位置にチャック７２２Ａにて中皿Ｄを保持した腕部７２２を静止させる。そして、第２インデックス７２は、エアシリンダにて円盤部７２１を上昇させる。
【００８９】
図２１は、中皿送出機構の拡大上面図である。図２２は、中皿送出機構の拡大側面図である。具体的には、図２１は、中皿送出機構７３を＋Ｚ軸方向側から見た図であり、図２２は、中皿送出機構７３を＋Ｙ軸方向側から見た図である。
中皿送出機構７３は、図２１および図２２に示すように、矩形板状のベース７３１と、ベース７３１の３箇所に固定されたローラ７３２と、各ローラ７３２のうち、＋Ｚ軸方向側に固定されたローラ７３２を回転させるモータ７３３と、各ローラ７３２に掛け回されたベルト７３４と、−Ｘ軸方向側に向かって中皿Ｄを搬送するベルトコンベア７３５とを備えている。
【００９０】
ベルト７３４は、その外周面に所定の距離を隔てて設けられたＸＺ平面視Ｌ字状の複数のフック７３４Ａを備えている。このベルト７３４は、＋Ｚ軸方向側に固定されたローラ７３２をモータ７３３にて回転させることによって、第１インデックス７１および第２インデックス７２の回転と同期して間欠的に回転するようになっている。
具体的には、第２インデックス７２の円盤部７２１を回転させることによって、中皿送出機構７３の下方位置にチャック７２２Ａにて中皿Ｄを保持した腕部７２２を静止させた後、モータ７３３は、ベルト７３４を回転させることによって、フック７３４Ａを中皿Ｄの下方位置に移動させる。その後、第２インデックス７２は、チャック７２２Ａの爪部を中皿Ｄに対して後退させることによって、中皿Ｄを解放する。これによって、中皿Ｄは、ベルト７３４のフック７３４Ａの上面に載置されることになる。そして、モータ７３３は、ベルト７３４を回転させることによって、中皿Ｄを載置したフック７３４Ａをベルトコンベア７３５の上方位置に移動させる。
【００９１】
ベルトコンベア７３５は、中皿Ｄを載置する搬送路７３５Ａと、搬送路７３５Ａに所定の距離を隔てて設けられた凸部７３５Ｂとを有している。ベルトコンベア７３５は、搬送路７３５Ａを−Ｘ軸方向側に向かって移動させることによって、ベルト７３４のフック７３４Ａの上面に載置された中皿Ｄを凸部７３５Ｂにて押し出し、第２インデックス７２にて搬送された中皿Ｄを−Ｘ軸方向側に向かって搬送する。
【００９２】
図２３は、集塵機構の外観斜視図である。
集塵機構７２５は、図２２および図２３に示すように、傾斜側面清掃機構７２３および上面密清掃機構７２４による中皿Ｄの清掃に起因して落下する化粧料などを集塵する有底円筒状の集塵ボックス７２５Ａと、集塵ボックス７２５Ａの底面に当接するとともに、集塵ボックス７２５Ａの底面に落下した化粧料などを集める矩形板状のスクレイパ７２５Ｂと、スクレイパ７２５Ｂを第２インデックス７２の腕部７２２に取り付けるとともに、スクレイパ７２５Ｂの長手方向と平行な軸を回動軸として回動自在にスクレイパ７２５Ｂを支持する回動支持部７２５Ｃとを備えている。
【００９３】
図２４は、第２インデックスを回転させた状態を示す集塵機構の外観斜視図である。
スクレイパ７２５Ｂは、回動支持部７２５Ｃを介して第２インデックス７２の腕部７２２に取り付けられているので、図２４に示すように、第２インデックス７２の回転に伴って集塵ボックス７２５Ａの底面に沿って回転することになる（図中矢印参照）。ここで、回動支持部７２５Ｃは、スクレイパ７２５Ｂの自重にてスクレイパ７２５Ｂを集塵ボックス７２５Ａの底面に当接させるべく自由に回動できるようにスクレイパ７２５Ｂを支持している。
したがって、スクレイパ７２５Ｂは、傾斜側面清掃機構７２３および上面密清掃機構７２４による中皿Ｄの清掃に起因して落下する化粧料などを掃くようにして集めることができる。
【００９４】
また、集塵機構７２５は、集塵ボックス７２５Ａの底面（−Ｚ軸方向側の面）に取り付けられた集塵パイプ７２５Ｄを備え、集塵ボックス７２５Ａは、集塵パイプ７２５Ｄの取り付け位置に形成された複数の開孔７２５Ａ１を有している。
集塵パイプ７２５Ｄは、集塵機（図示略）に接続されている。この集塵機は、集塵ボックス７２５Ａの開孔７２５Ａ１および集塵パイプ７２５Ｄを介して集塵ボックス７２５Ａの内部の空気を吸引することによって、スクレイパ７２５Ｂにて集められた化粧料などの集塵を実施する。
【００９５】
図２５は、中皿清掃装置の概略構成を示すブロック図である。
中皿清掃装置７は、前述したように、第１インデックス７１、第２インデックス７２、および中皿送出機構７３を備えている他、図２５に示すように、中皿清掃装置７の全体を制御する制御手段７４を備えている。
制御手段７４は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）や、メモリなどによって構成され、このメモリに記憶された所定のプログラムに従って情報処理を実行する。この制御手段７４は、中皿保持制御部７４１と、中皿清掃制御部７４２と、搬送制御部７４３とを備えている。
【００９６】
中皿保持制御部７４１は、第１インデックス７１のチャック７１２Ａの進退と、第２インデックス７２のチャック７２２Ａの進退とを制御することによって、中皿Ｄの保持および解放を制御する。
中皿清掃制御部７４２は、底面清掃機構７１３、平行側面清掃機構７１４、傾斜側面清掃機構７２３、および上面密清掃機構７２４を制御することによって、中皿Ｄの表面を清掃する。
搬送制御部７４３は、第１インデックス７１の回転および昇降と、第２インデックス７２の回転および昇降と、中皿送出機構７３のベルト７３４の回転とを制御することによって、中皿Ｄを中皿コンベア７０からベルトコンベア７３５まで搬送する。
【００９７】
図２６は、中皿清掃装置の制御方法を示すフローチャートである。
中皿清掃装置７にて中皿Ｄの表面を清掃する場合には、制御手段７４は、メモリに記憶された所定のプログラムに従って、図２６に示すように、ステップＳＴ１〜ＳＴ５を実行する。
まず、中皿保持制御部７４１は、中皿Ｄの保持および解放を実行する（ステップＳＴ１：中皿保持・解放ステップ）。具体的には、中皿保持制御部７４１は、前述したように、中皿コンベア７０にて搬送された中皿Ｄを第１インデックス７１に保持させる。また、中皿保持制御部７４１は、前述したように、第１インデックス７１にて搬送された中皿Ｄを第２インデックス７２に保持させた後、第１インデックス７１に解放させる。さらに、中皿保持制御部７４１は、前述したように、中皿Ｄを第２インデックス７２に解放させる。
【００９８】
また、中皿清掃制御部７４２は、中皿Ｄの表面の清掃を実行する（ステップＳＴ２：中皿清掃ステップ）。具体的には、中皿清掃制御部７４２は、前述したように、底面清掃機構７１３に中皿Ｄの底面を清掃させる。また、中皿清掃制御部７４２は、前述したように、平行側面清掃機構７１４に中皿Ｄの互いに平行となる両側面を清掃させる。また、中皿清掃制御部７４２は、前述したように、傾斜側面清掃機構７２３に中皿Ｄの傾斜した側面および中皿Ｄの傾斜した側面と対向する側面を清掃させる。さらに、中皿清掃制御部７４２は、前述したように、上面密清掃機構７２４に中皿Ｄの上面を密に清掃させる。
なお、制御手段７４は、ステップＳＴ１およびステップＳＴ２を略同時に実行する。
【００９９】
次に、制御手段７４は、中皿Ｄの保持および解放を完了したか否かを判定する（ステップＳＴ３：中皿保持・解放判定ステップ）。
制御手段７４は、ステップＳＴ３にて中皿Ｄの保持および解放を完了したと判定された場合には、中皿Ｄの清掃を完了したか否かを判定する（ステップＳＴ４：中皿清掃判定ステップ）。
制御手段７４は、ステップＳＴ３にて中皿Ｄの保持および解放を完了していないと判定された場合、およびステップＳＴ４にて中皿Ｄの清掃を完了していないと判定された場合には、ステップＳＴ３の処理を再び実行する。
【０１００】
なお、本実施形態では、制御手段７４は、ステップＳＴ３にて中皿Ｄの保持および解放を完了したか否かを判定し、ステップＳＴ４にて中皿Ｄの清掃を完了したか否かを判定し、これらの処理を完了していないと判定した場合には、次の処理を実行することなく、ステップＳＴ３の処理を再び実行しているが、例えば、所定の時間を経過したか否かを判定し、所定の時間を経過したと判定した場合に次の処理を実行するようにしてもよい。
【０１０１】
搬送制御部７４３は、ステップＳＴ４にて中皿Ｄの清掃を完了したと判定した場合には、第１インデックス７１の回転および昇降と、第２インデックス７２の回転および昇降と、中皿送出機構７３のベルト７３４の回転とを制御することによって、中皿Ｄを搬送する（ステップＳＴ５：中皿搬送ステップ）。その後、制御手段７４は、ステップＳＴ１を再び実行する。
【０１０２】
このように、本実施形態では、中皿保持制御部７４１は、第１インデックス７１に中皿Ｄを保持させる側面保持制御部として機能し、中皿清掃制御部７４２は、第１インデックス７１にて保持された中皿Ｄを底面清掃機構７１３および平行側面清掃機構７１４に清掃させる清掃制御部として機能する。
また、本実施形態では、中皿保持制御部７４１は、第１インデックス７１にて保持されていた中皿Ｄを第２インデックス７２に保持させる他側面保持制御部として機能し、中皿清掃制御部７４２は、第２インデックス７２にて保持された中皿Ｄを傾斜側面清掃機構７２３に清掃させる保持面清掃制御部として機能する。
さらに、本実施形態では、中皿清掃制御部７４２は、摺動機構７２４Ｈにて不織布７２４Ｄを中皿Ｄの上面に沿って摺動させることによって、中皿Ｄの上面を密に清掃する密清掃制御部として機能する。
【０１０３】
このような本実施形態によれば、以下の作用・効果を奏することができる。
（１）中皿清掃装置７は、第１インデックス７１に中皿Ｄの側面を保持させた後、第１インデックス７１にて保持された中皿Ｄの保持面とは異なる面を底面清掃機構７１３および平行側面清掃機構７１４に清掃させるので、中皿Ｄの底面や、保持面とは異なる側面を容易に清掃することができる。
（２）第１インデックス７１は、中皿Ｄの側面を挟持することによって、中皿Ｄを保持するので、中皿Ｄを確実に保持することができ、底面清掃機構７１３および平行側面清掃機構７１４にて効率よく清掃することができる。
（３）中皿清掃装置７は、第１インデックス７１にて保持されていた中皿Ｄを第２インデックス７２に保持させた後、第１インデックス７１にて保持されていた中皿Ｄの保持面を
傾斜側面清掃機構７２３に清掃させるので、中皿Ｄの全ての表面を清掃することができる。
【０１０４】
（４）第１インデックス７１のスライダ７１２Ｂは、この第１インデックス７１のチャック７１２Ａに対して鉛直上方側に位置し、第２インデックス７２のスライダ７２２Ｂは、この第２インデックス７２のチャック７２２Ａに対して鉛直下方側に位置するように配置されているので、第１インデックス７１および第２インデックス７２を互いに接触させることなく第１インデックス７１のチャック７１２Ａおよび第２インデックス７２のチャック７２２Ａを進退させることができる。換言すれば、第１インデックス７１および第２インデックス７２は、中皿Ｄを同時に保持することができるので、第２インデックス７２は、第１インデックス７１にて保持された中皿Ｄを床面などに置くことなく空中にて保持して受け取ることができる。
【０１０５】
（５）中皿清掃装置７は、上面粗清掃機構７０２にて中皿Ｄの表面を粗く清掃した後、上面密清掃機構７２４にて中皿Ｄの表面を密に清掃することができるので、中皿Ｄの表面を確実に清掃することができる。
（６）上面粗清掃機構７０２は、中皿Ｄの上面を最初に清掃し、上面密清掃機構７２４は、底面清掃機構７１３、平行側面清掃機構７１４、および傾斜側面清掃機構７２３にて中皿Ｄの上面とは異なる他の面を清掃した後、中皿Ｄの上面を最後に清掃するので、中皿Ｄの側面や底面を清掃したときに中皿Ｄの上面に汚れが付着してしまうおそれや、清掃後の中皿Ｄの側面や底面に中皿Ｄの上面の汚れが付着してしまうおそれを取り除くことができるとともに、中皿Ｄの上面を最も丁寧に清掃することができる。
（７）中皿清掃装置７は、摺動機構７２４Ｈにて不織布７２４Ｄを中皿Ｄの上面に沿って摺動させることによって、中皿Ｄの上面を密に清掃するので、中皿Ｄの上面を磨くようにして清掃することができ、例えば、ブラシなどを用いて中皿Ｄの表面を清掃する場合と比較して丁寧に清掃することができる。
【０１０６】
なお、本発明は、前記実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、前記実施形態では、コンパクトの装填装置１に中皿清掃装置７を採用していたが、これ以外の装置に本発明の物品清掃装置を採用してもよい。
【産業上の利用可能性】
【０１０７】
以上のように、本発明は、コンパクト等の対象物を清掃する物品清掃装置に好適に利用できる。
【符号の説明】
【０１０８】
１            コンパクトの装填装置
２            パレット
７            中皿清掃装置
７０          中皿コンベア
７１          第１インデックス（側面保持手段）
７２          第２インデックス（他側面保持手段）
７３          中皿送出機構
７４          制御手段
７０２        上面粗清掃機構（粗清掃手段）
７１２Ａ      チャック
７１２Ｂ      スライダ
７１３        底面清掃機構（清掃手段）
７１４        平行側面清掃機構（清掃手段）
７２２Ａ      チャック
７２２Ｂ      スライダ
７２３        傾斜側面清掃機構（保持面清掃手段）
７２４        上面密清掃機構（密清掃手段）
７２４Ｄ      不織布（布清掃具）
７２４Ｈ      摺動機構
７４１        中皿保持制御部（側面保持制御部，他側面保持制御部）
７４２        中皿清掃制御部（清掃制御部，保持面清掃制御部，密清掃制御部）
７４３        搬送制御部
Ｄ            中皿
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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