(57)【要約】【課題】軽量で錆の問題がなく、光輝感が高い平板、及び該平板を用いた波板の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】光輝性粒子を含む光輝樹脂層１２と、耐候性樹脂層１４とを備える平板１０Ａであって、平板１０Ａの表面１０ａの平面方向に対する垂直方向に表面１０ａを撮像する撮像手段を配置し、前記垂直方向とＤ６５光源から表面１０ａへの入射光とがなす角度を測定角θとする光輝感測定において、前記測定角θが１５°、４５°、又は７５°のいずれかで測定した光輝強度（Ｓｉ）が１．９以上である、平板１０Ａ。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光輝性粒子を含む光輝樹脂層を備える平板であって、
平板の表面の平面方向に対する垂直方向に前記表面を撮像する撮像手段を配置し、前記垂直方向とＤ６５光源から前記表面への入射光とがなす角度を測定角θとする光輝感測定において、前記測定角θが１５°、４５°、又は７５°のいずれかで測定した光輝強度（Ｓｉ）が１．９以上である、平板。
【請求項２】
前記測定角θが１５°で測定した光輝強度（Ｓｉ）が４．０以上であり、光輝面積（Ｓａ）が７．０以上である、請求項１に記載の平板。
【請求項３】
前記測定角θが４５°で測定した光輝強度（Ｓｉ）が２．０以上であり、光輝面積（Ｓａ）が８．０以上である、請求項１又は２に記載の平板。
【請求項４】
前記測定角θが７５°で測定した光輝強度（Ｓｉ）が１．９以上であり、光輝面積（Ｓａ）が５．０以上である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の平板。
【請求項５】
前記表面に対する粒子感測定で測定される粒子感（Ｇ）が３．０以上である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の平板。
【請求項６】
前記光輝性粒子が、アルミニウム粒子である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の平板。
【請求項７】
前記光輝性粒子の平均粒径が５．０〜３０μｍである、請求項１〜６のいずれか一項に記載の平板。
【請求項８】
前記表面が平滑である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の平板。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の平板を、厚さ方向に切断した断面形状が波状となるように加工して波板を得る、波板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平板、及び波板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、農業用ハウス、畜舎等の屋根として、従来は厚さ方向に切断した断面形状が波状の金属板が用いられていた。金属板は、光輝感が高いものの、重いために取り扱いが困難であり、また錆等の劣化の問題もある。
【０００３】
軽量で錆の問題がない波板としては、ポリ塩化ビニルやポリカーボネート等の樹脂製の波板が知られている（例えば特許文献１、２）。しかし、樹脂製の波板は、金属製の波板に比べて光輝感が低い。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−２６３７３１号公報
【特許文献２】特開２００４−１４８６５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、軽量で錆の問題がなく、光輝感が高い平板、及び該平板を用いた波板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、以下の態様を有する。
［１］光輝性粒子を含む光輝樹脂層を備える平板であって、
平板の表面の平面方向に対する垂直方向に前記表面を撮像する撮像手段を配置し、前記垂直方向とＤ６５光源から前記表面への入射光とがなす角度を測定角θとする光輝感測定において、前記測定角θが１５°、４５°、又は７５°のいずれかで測定した光輝強度（Ｓｉ）が１．９以上である、平板。
［２］前記測定角θが１５°で測定した光輝強度（Ｓｉ）が４．０以上であり、光輝面積（Ｓａ）が７．０以上である、［１］に記載の平板。
［３］前記測定角θが４５°で測定した光輝強度（Ｓｉ）が２．０以上であり、光輝面積（Ｓａ）が８．０以上である、［１］又は［２］に記載の平板。
［４］前記測定角θが７５°で測定した光輝強度（Ｓｉ）が１．９以上であり、光輝面積（Ｓａ）が５．０以上である、［１］〜［３］のいずれかに記載の平板。
［５］前記表面に対する粒子感測定で測定される粒子感（Ｇ）が３．０以上である、［１］〜［４］のいずれかに記載の平板。
［６］前記光輝性粒子が、アルミニウム粒子である、［１］〜［５］のいずれかに記載の平板。
［７］前記光輝性粒子の平均粒径が５．０〜３０μｍである、［１］〜［６］のいずれかに記載の平板。
［８］前記表面が平滑である、［１］〜［７］のいずれかに記載の平板。
［９］［１］〜［８］のいずれかに記載の平板を、厚さ方向に切断した断面形状が波状となるように加工して波板を得る、波板の製造方法。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の平板は、軽量で錆の問題がなく、光輝感が高い。
本発明の波板の製造方法によれば、軽量で錆の問題がなく、光輝感が高い波板が得られる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】光輝感測定を説明する概略図である。
【図２】本発明の平板の一例を示した断面図である。
【図３】本発明の波板の一例を示した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下の説明において例示される図の寸法等は一例であって、本発明はそれらに必ずしも限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することが可能である。
【００１０】
［平板］
本発明の平板は、光輝性粒子を含む光輝樹脂層を備える平板であって、後述する高輝度測定における測定角θが１５°、４５°、又は７５°のいずれかで測定した光輝強度（Ｓｉ）が１．９以上の平板である。これにより、光輝感が高い平板となる。
本発明の平板における、測定角θが１５°、４５°、又は７５°のいずれかで測定した光輝強度（Ｓｉ）が１．９以上である表面は、一方の表面のみであってもよく、両方の表面であってもよい。
【００１１】
光輝感（Ｓｐａｒｋｌｅ）測定は、ＢＹＫ社製のＢＹＫ−ｍａｃ  ｉ（マルチアングル（６角度）測色、光輝感・粒子感測定器）により行うことができる。光輝感はメタリック感と言い換えられる。
光輝感測定は、図１に示すように、平板１０の表面１０ａの平面方向に対する垂直方向に表面１０ａを撮像する撮像手段１１０を配置し、垂直方向とＤ６５光源１２０から表面１０ａへの入射光とがなす角度を測定角θとして行われる。測定角θを１５°、４５°、７５°の３角度としてＤ６５光源１２０により平板１０の表面１０ａを照らし、撮像手段１１０により表面１０ａの画像を視野角度１０°で撮る。得られた画像が明るさレベルのヒストグラムを用いた画像解析アルゴリズムで解析され、各測定角θの光輝強度（Ｓｉ）及び光輝面積（Ｓａ）が算出される。
撮像手段１１０としては、ＣＣＤチップが用いられる。
【００１２】
本発明の平板の表面の光輝感測定における測定角θが７５°で測定した光輝強度（Ｓｉ）は、１．９以上が好ましく、２．５以上がより好ましく、３．０以上がさらに好ましい。測定角θが７５°で測定した光輝強度（Ｓｉ）が前記下限値以上であれば、光輝感が高い平板となる。
測定角θが７５°で測定した光輝強度（Ｓｉ）は、さらに、８．０以下が好ましく、７．０以下がより好ましい。
なお、本発明における光輝強度（Ｓｉ）は、３６個の試料について光輝感測定した各々の光輝強度（Ｓｉ）の値の平均値である。
【００１３】
本発明の平板の表面の光輝感測定における測定角θが７５°で測定した光輝面積（Ｓａ）は、５．０以上が好ましく、６．０以上がより好ましく、７．０以上がさらに好ましい。測定角θが７５°で測定した光輝面積（Ｓａ）が前記下限値以上であれば、光輝感が高い平板となる。
測定角θが７５°で測定した光輝面積（Ｓａ）は、さらに、１４．０以下が好ましく、１３．５以下がより好ましい。
なお、本発明における光輝面積（Ｓａ）は、３６個の試料について光輝感測定した各々の光輝面積（Ｓａ）の値の平均値である。
【００１４】
本発明の平板の表面の光輝感測定における測定角θが４５°で測定した光輝強度（Ｓｉ）は、１．９以上が好ましく、２．０以上がより好ましく、３．０以上がさらに好ましい。測定角θが４５°で測定した光輝強度（Ｓｉ）が前記下限値以上であれば、光輝感が向上する。
測定角θが４５°で測定した光輝強度（Ｓｉ）は、さらに、９．０以下が好ましく、８．０以下がより好ましい。
【００１５】
本発明の平板の表面の光輝感測定における測定角θが４５°で測定した光輝面積（Ｓａ）は、８．０以上が好ましく、９．０以上がより好ましく、１０．０以上がさらに好ましい。測定角θが４５°で測定した光輝面積（Ｓａ）が前記下限値以上であれば、光輝感が向上する。
測定角θが４５°で測定した光輝面積（Ｓａ）は、さらに、１８．０以下が好ましく、１７．０以下がより好ましい。
【００１６】
本発明の平板の表面の光輝感測定における測定角θが１５°で測定した光輝強度（Ｓｉ）は、１．９以上が好ましく、４．０以上がより好ましく、５．０以上がさらに好ましい。測定角θが１５°で測定した光輝強度（Ｓｉ）が前記下限値以上であれば、光輝感が向上する。
測定角θが１５°で測定した光輝強度（Ｓｉ）は、さらに、９．０以下が好ましく、８．０以下がより好ましい。
【００１７】
本発明の平板の表面の光輝感測定における測定角θが１５°で測定した光輝面積（Ｓａ）は、７．０以上が好ましく、８．０以上がより好ましく、９．０以上がさらに好ましい。測定角θが１５°で測定した光輝面積（Ｓａ）が前記下限値以上であれば、光輝感が向上する。
測定角θが１５°で測定した光輝面積（Ｓａ）は、さらに、１８．０以下が好ましく、１７．０以下がより好ましい。
【００１８】
本発明の平板の表面に対する粒子感測定で測定される粒子感（Ｇ）は、３．０以上が好ましく、３．４以上がより好ましく、３．７以上がさらに好ましい。粒子感（Ｇ）が前記下限値以上であれば、光輝感が向上し、ザラザラした質感を付与できる。
粒子感（Ｇ）は、さらに、４．５以下が好ましく、４．１以下がより好ましい。
なお、本発明における粒子感（Ｇ）は、３６個の試料について粒子感測定した各々の粒子感（Ｇ）の平均値である。
【００１９】
粒子感（Ｇｒａｉｎｉｎｅｓｓ）測定は、ＢＹＫ社製のＢＹＫ−ｍａｃ  ｉ（マルチアングル（６角度）測色、光輝感・粒子感測定器）により行うことができる。白色塗装された半球内の拡散照明の下に平板を配置し、ＣＣＤチップにより平板の表面の画像を撮る。得られた画像が明るさレベルのヒストグラムを用いて分析され、明暗領域の均一性が一つの粒状性を示す値として０〜１５の範囲で表される。粒子感（Ｇ）は、数値が小さいほど微細で、大きいほど粒状であることを意味する。
【００２０】
本発明の平板における、測定角θが７５°での光輝強度（Ｓｉ）が１．９以上の表面は、シボ加工されても構わないが、シボ加工せずに平滑であっても充分な光輝感が得られる。
【００２１】
光輝樹脂層を構成する樹脂としては、屋根等の波板に用いられている公知の樹脂を使用でき、ポリ塩化ビニルやポリカーボネートを例示することができる。なかでも、耐候性に優れる点から、ポリカーボネートが好ましい。光輝樹脂層を構成する樹脂としては、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２２】
ポリカーボネートは、例えば、種々のジヒドロキシジアリール化合物とホスゲンとを反応させるホスゲン法、又はジヒドロキシジアリール化合物とジフェニルカーボネート等の炭酸エステルとを反応させるエステル交換法によって得られる。
【００２３】
ジヒドロキシジアリール化合物としては、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル−３−メチルフェニル）プロパン等のビス（ヒドロキシアリール）アルカン類；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン等のビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類；４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル等のジヒドロキシジアリールエーテル類；４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド等のジヒドロキシジアリールスルフィド類；４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド等のジヒドロキシジアリールスルホキシド類；４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン等のジヒドロキシジアリールスルホン類を例示することができる。ジヒドロキシジアリール化合物としては、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２４】
ポリカーボネートを製造する際には、ジヒドロキシジアリール化合物に、ピペラジン、ジピペリジルハイドロキノン、レゾルシン、４，４’−ジヒドロキシジフェニル等を混合して使用してもよい。また、分子量調節剤、触媒等を必要に応じて使用することもできる。
【００２５】
ジヒドロキシアリール化合物と３価以上のフェノール化合物を混合して使用してもよい。３価以上のフェノール化合物としては、フロログルシン、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘプテン、２，４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘプタン、１，３，５−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ベンゾール、１，１，１−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−エタン、２，２−ビス−［４，４−（４，４’−ジヒドロキシジフェニル）−シクロヘキシル］−プロパンを例示することができる。
【００２６】
ポリカーボネートの粘度平均分子量は、１０，０００〜１００，０００が好ましく、１５，０００〜３５，０００がより好ましい。
【００２７】
光輝性粒子としては、光輝性を有する粒子であればよく、金属粒子、金属酸化物粒子、無機粒子（ただし、金属粒子及び金属酸化物粒子を除く。）又は有機粒子が金属又は金属酸化物で被覆された複合粒子を例示することができる。光輝性粒子としては、１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２８】
金属粒子を構成する金属としては、アルミニウム、銀、ニッケル、金、チタン、ランタン、タングステンを例示することができる。金属粒子は、樹脂、無機化合物、有機ケイ素化合物、カップリング剤等が被覆された粒子であってもよい。これにより、光輝樹脂層を形成する樹脂と金属粒子との親和性が向上する。金属粒子としては、金属系屋根材等のような光沢が得られやすい点から、アルミニウム粒子が好ましい。
【００２９】
金属酸化物粒子を構成する金属酸化物としては、酸化アルミニウム、酸化銀、酸化ニッケル、酸化金、酸化チタン、酸化ランタン、酸化タングステンを例示することができる。
【００３０】
無機粒子を構成する無機材料としては、ガラスを例示することができる。
有機粒子を構成する有機材料としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリアミド、ポリアセタール、ポリスチレン、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートを例示することができる。
無機粒子又は有機粒子を被覆する金属及び金属酸化物としては、金属粒子及び金属酸化物粒子で挙げた金属及び金属酸化物を例示することができる。
【００３１】
光輝性粒子の形状は、特に限定されず、フレーク状、コイン状を例示することができる。
光輝性粒子の平均粒径は、５．０〜３０．０μｍが好ましく、１０．０〜３０．０μｍがより好ましく、１５．０〜２０．０μｍがさらに好ましい。光輝性粒子の平均粒径が前記範囲の下限値以上であれば、光輝感の高い平板及び波板が得られやすい。光輝性粒子の平均粒径が前記範囲の上限値以下であれば、シボ加工が無い平滑面でも光輝感が得られやすい。
なお、光輝性粒子の平均粒径は、顕微鏡像から３０個の粒子を無作為に選び、それぞれの粒子について、最小径および最大径を測定し、最小径と最大径との中央値を一粒子の粒子径とし、測定した３０個の粒子の粒子径を算術平均して得た値である。
【００３２】
光輝性粒子としては、市販品を使用してもよい。市販品の具体例としては、長瀬産業株式会社製のアルミニウムマスターバッチ（ＭＨＦ−Ｅシリーズ、ＭＨＦ−Ａシリーズ）を例示することができる。
【００３３】
光輝樹脂層中の光輝性粒子の含有量は、光輝強度（Ｓｉ）、光輝面積（Ｓａ）、粒子感（Ｇ）を所望の範囲内に制御できるように調節すればよく、光輝樹脂層中の樹脂の総量１００質量部に対して、１．５〜２．５質量部が好ましく、１．７〜２．３質量部がより好ましく、１．９〜２．１質量部がさらに好ましい。光輝性粒子の含有量が前記範囲内であれば、光輝感の高い平板及び波板が得られやすい。
【００３４】
光輝樹脂層には、本発明の効果を損なわない範囲で、熱安定剤、着色剤、蛍光増白剤、難燃剤、充填剤、離型剤、軟化剤、帯電防止剤、抗菌剤等の各種の添加剤が添加されていてもよい。
【００３５】
光輝樹脂層の厚さは、０．５〜１０．０ｍｍが好ましく、０．６〜４．０ｍｍがより好ましい。光輝樹脂層の厚さが前記範囲内であれば、シボ加工が無い平滑面でも光輝感が得られやすい。
【００３６】
本発明の平板は、光輝樹脂層のみを有する平板であってもよく、光輝樹脂層と、光輝樹脂層以外の他の層が積層された平板であってもよい。他の層としては、紫外線吸収剤が含有された耐候性樹脂層を例示することができる。例えば、本発明の平板や波板を屋根材として使用する場合、太陽光線が当たる一方の面に耐候性樹脂層を設けることが好ましい。
具体的には、本発明の平板としては、図２に例示した平板１０Ａとすることができる。平板１０Ａは、光輝樹脂層１２と、光輝樹脂層１２の一方の表面に設けられた耐候性樹脂層１４とを備えている。
【００３７】
耐候性樹脂層を構成する樹脂としては、紫外線による変色が少ないものが好ましく、アクリル、ポリカーボネート等を例示できる。
紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン系化合物、サリチル酸フェニルエステル系化合物を例示することができる。なかでも、紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン系化合物が好ましい。
【００３８】
耐候性樹脂層中の紫外線吸収剤の含有量は、耐候性樹脂層中の樹脂１００質量部に対して、１〜２０質量部が好ましく、３〜１０質量部がより好ましい。紫外線吸収剤の含有量が前記範囲の下限値以上であれば、優れた耐候性が得られやすい。紫外線吸収剤の含有量が前記範囲の上限値以下であれば、優れた耐候性が得られやすい。
【００３９】
耐候性樹脂層の厚さは、１〜５０μｍが好ましく、５〜３５μｍがより好ましい。耐候性樹脂層の厚さが前記範囲の下限値以上であれば、優れた耐候性が得られやすい。
【００４０】
本発明の平板の厚さは、用途に応じて適宜設定でき、例えば、０．５〜１０ｍｍとすることができる。
【００４１】
本発明の平板の製造方法としては、特に限定されず、光輝樹脂層に用いる樹脂、光輝性粒子、及び必要に応じて用いる添加剤等を混合した樹脂組成物を用いた押出成形を例示することができる。光輝樹脂層と耐候性樹脂層が積層された平板の場合は、共押出しによる方法、ラミネーションによる方法が挙げられる。
【００４２】
以上説明したように、本発明の平板は、光輝性粒子を含む光輝樹脂層を備えている。このように、本発明の平板は樹脂製であるために金属板に比べて軽量であり、錆の問題もない。また本発明の平板は、表面に対する光輝感測定における測定角θが１５°、４５°、７５°のいずれかで測定した光輝強度（Ｓｉ）が１．９以上になっているため、光輝感が高く、意匠性にも優れている。
【００４３】
［波板の製造方法］
本発明の波板の製造方法は、前記した本発明の平板を、厚さ方向に切断した断面形状が波状となるように加工して波板を得る方法である。本発明の製造方法で得られる波板は、本発明の平板を用いているため、軽量で錆の問題がないうえ、光輝感が高い。
【００４４】
平板を波板に加工する方法は、公知の方法を採用することができる。平板の波板への加工は、平板の製造後に連続して行うことが好ましい。例えば、樹脂組成物を板状に押出成形し、上下方向に対となって配置された複数のロール対の間を通過させることで波状に加工して、所望の長さ毎に切断して波板を得る方法が挙げられる。
【００４５】
本発明の製造方法で製造する波板の形状は、例えば、図３に例示した、厚さ方向に切断した断面形状が正弦波状の波板２０が挙げられる。波板２０における隣り合う山部分２１のピッチｄ、谷部分２２の深さｈは、特に限定されず、適宜設定することができる。
なお、波板の形状は、波板２０のような形状には限定されず、例えば、厚さ方向に切断した断面形状が曲線部と直線部が組み合わされて波状になっている形状であってもよい。
【実施例】
【００４６】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の記載によっては限定されない。
［光輝強度（Ｓｉ、光輝面積（Ｓａ）、粒子感（Ｇ）］
平板の表面の光輝強度（Ｓｉ、光輝面積（Ｓａ）は、ＢＹＫ社製のＢＹＫ−ｍａｃ  ｉ（マルチアングル（６角度）測色、光輝感・粒子感測定器）により光輝感測定を行って求めた。
平板の表面の粒子感（Ｇ）は、光輝感測定で用いたものと同じＢＹＫ社製のＢＹＫ−ｍａｃ  ｉにより粒子感測定を行って求めた。
【００４７】
［実施例１］
ポリカーボネート（商品名「ＳＤポリカ」、住化ポリカーボネート社製、粘度平均分子量：２７０００）と、金属粒子としてアルミニウム顔料マスターバッチ（商品名「ＭＨＦ−Ａシリーズ」、長瀬産業株式会社製）とを混合した組成物を押出機により金型温度約２７０℃で溶融混練し、溶融物を押出して光輝樹脂層の単層からなる厚さ０．７ｍｍの平板を作製した。
【００４８】
［実施例２］
片面にシボ加工を施すために成形ロールを変更した以外は、実施例１と同様にして平板を作製した。
【００４９】
［比較例１］
金属粒子を用いない以外は、実施例１と同様にして平板を作製した。
【００５０】
各例の平板の表面に対する光輝強度（Ｓｉ）、光輝面積（Ｓａ）、粒子感（Ｇ）の測定結果を表１に示す。
【００５１】
【表１】
2019071825.tif 000003
【符号の説明】
【００５２】
１０，１０Ａ…平板、１２…光輝樹脂層、１４…耐候性樹脂層、２０…波板、１１０…撮像手段、１２０…Ｄ６５光源。
【図１】
2019071825.tif 000004
【図２】
2019071825.tif 000005
【図３】
2019071825.tif 000006