(57)【要約】【課題】色づき等の表示品位の低下を軽減し得る非矩形形状の表示装置を提供する。【解決手段】表示装置は、非矩形形状の表示領域１０Ｒを有する表示パネルと、表示領域に表示する画像の階調を示す階調信号を表示パネルへ供給する駆動部１２と、を備える。表示領域１０Ｒは、少なくとも３色の各色に対応するサブ画素からなる画素が複数配列された画素群と、各サブ画素に階調信号を供給する複数のデータ線ＳＬと、を有する。表示領域１０Ｒの一部の境界画素１０Ｒａ、１０Ｒｂにおいて、少なくとも一部の色のサブ画素の表示に寄与する有効面積は、非境界画素のサブ画素の有効面積と異なる。駆動部１２は、前記一部の境界画素の少なくとも一部の色のサブ画素の有効面積に対する非境界画素のサブ画素の有効面積の割合に基づいて、各サブ画素に対する階調信号を複数のデータ線ＳＬに供給する。【選択図】図２
2019045686.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非矩形形状の表示領域を有する表示パネルと、
前記表示領域に表示する画像の階調を示す階調信号を前記表示パネルへ供給する駆動部と、を備え、
前記表示領域は、
少なくとも異なる３色の各色に対応するサブ画素からなる画素が複数配列された画素群と、
前記画素群の各サブ画素に前記階調信号を供給する複数のデータ線と、を有し、
前記画素群には、当該表示領域の境界に設けられる複数の境界画素と、境界以外に設けられる複数の非境界画素とが含まれており、
前記複数の境界画素の一部の境界画素において、当該境界画素のサブ画素の少なくとも一部の色のサブ画素の表示に寄与する有効面積は、前記非境界画素のサブ画素の有効面積と異なり、
前記駆動部は、前記境界画素の少なくとも一部の色のサブ画素の前記有効面積に対する前記非境界画素のサブ画素の前記有効面積の割合に基づいて、各サブ画素に対する前記階調信号を前記複数のデータ線に供給する、表示装置。
【請求項２】
前記一部の境界画素の前記少なくとも一部の色のサブ画素の有効面積は、当該サブ画素と同じ色に対応する前記非境界画素のサブ画素の有効面積よりも小さく、
前記駆動部は、前記一部の境界画素の前記少なくとも一部の色のサブ画素と前記非境界画素のサブ画素に、同じ色の画像を表示する際、前記非境界画素のサブ画素の輝度が、前記一部の境界画素の前記少なくとも一部の色のサブ画素の輝度よりも低くなるように前記階調信号を供給する、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記一部の境界画素の前記少なくとも一部の色のサブ画素の有効面積は、当該サブ画素と同じ色に対応する前記非境界画素のサブ画素の有効面積よりも大きく、
前記駆動部は、前記一部の境界画素の前記少なくとも一部の色のサブ画素と前記非境界画素のサブ画素に、同じ色の画像を表示する際、前記一部の境界画素の前記少なくとも一部の色のサブ画素の輝度が、前記非境界画素のサブ画素の輝度よりも低くなるように前記階調信号を供給する、請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記駆動部は、前記一部の境界画素の前記少なくとも一部の色のサブ画素と、当該サブ画素と同じ色に対応する前記非境界画素のサブ画素とに対し、同じ色を表示する際、各サブ画素の輝度差が所定範囲内となるように前記階調信号を供給する、請求項１から３のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項５】
前記表示パネルは、前記画素群において液晶層を備える、請求項１から４のいずれか一項に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、テレビやパーソナルコンピュータだけでなく、携帯電話機、カーナビゲーション装置、ゲーム機等の様々な機器にディスプレイが用いられている。そのため、ディスプレイの表示領域は、矩形形状だけでなく、各種機器に応じて、円形や楕円形等の非矩形形状とされることがある（下記特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−２７６３５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
非矩形形状の表示領域を有する表示装置において、表示領域の境界部分に配置される画素（以下、境界画素）のＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各サブ画素と、表示領域の境界部分以外に配置される画素（以下、非境界画素）のＲＧＢの各サブ画素は、表示に寄与する有効面積が均一ではない。そのため、白色表示の際、表示領域の境界部分の画素の色バランスが崩れて色づきが生じ、表示品位が低下する。
【０００５】
本発明は、非矩形形状の表示領域を有する表示装置において色づき等の表示品位の低下を抑制し得る技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一実施形態における表示装置は、非矩形形状の表示領域を有する表示パネルと、前記表示領域に表示する画像の階調を示す階調信号を前記表示パネルへ供給する駆動部と、を備え、前記表示領域は、少なくとも異なる３色の各色に対応するサブ画素からなる画素が複数配列された画素群と、前記画素群の各サブ画素に前記階調信号を供給する複数のデータ線と、を有し、前記画素群には、当該表示領域の境界に設けられる複数の境界画素と、境界以外に設けられる複数の非境界画素とが含まれており、前記複数の境界画素の一部の境界画素において、当該境界画素のサブ画素の少なくとも一部の色のサブ画素の表示に寄与する有効面積は、前記非境界画素のサブ画素の有効面積と異なり、前記駆動部は、前記境界画素の少なくとも一部の色のサブ画素の前記有効面積に対する前記非境界画素のサブ画素の前記有効面積の割合に基づいて、各サブ画素に対する前記階調信号を前記複数のデータ線に供給する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、非矩形形状の表示装置において色づき等の表示品位の低下を軽減することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】図１は、第１実施形態における表示装置の概略構成を示す断面図である。
【図２】図２は、図１に示すアクティブマトリクス基板の概略構成を示す平面図である。
【図３】図３は、図２に示す表示領域の一部のサブ画素を拡大した平面図である。
【図４】図４の（ａ）は、図３に示すＡ−Ａ線で表示パネルを切断したときの断面図Ａ−Ａ断面図、図４の（ｂ）は、図３に示すＢ−Ｂ線で表示パネルを切断したときのＢ−Ｂ断面図である。
【図５】図５は、図２に示すコーナー画素領域のサブ画素と、非境界画素領域のサブ画素の開口部を示す図である。
【図６】図６は、第１実施形態におけるコーナー画素領域の画素のサブ画素の白色表示時の階調電圧と透過率の関係を示す図である。
【図７Ａ】図７Ａは、第１実施形態における白色表示時のコーナー画素領域のサブ画素と非境界画素領域のサブ画素の階調電圧と透過率の関係を示す図である。
【図７Ｂ】図７Ｂは、第１実施形態における中間調表示時のコーナー画素領域のサブ画素と非境界画素領域のサブ画素の階調電圧と透過率の関係を示す図である。
【図８】図８は、第２実施形態における非境界画素領域とコーナー画素領域の一部の画素のサブ画素を拡大した模式図である。
【図９】図９は、図８に示すコーナー画素領域のサブ画素と非境界画素領域のサブ画素の開口部を示す図である。
【図１０】図１０は、図８に示すコーナー画素領域の画素のサブ画素の白色表示時の階調電圧と透過率の関係を示す図である。
【図１１Ａ】図１１Ａは、第２実施形態における白色表示時のコーナー画素領域のサブ画素と非境界画素領域のサブ画素の階調電圧と透過率の関係を示す図である。
【図１１Ｂ】図１１Ｂは、第２実施形態における中間調表示時のコーナー画素領域のサブ画素と非境界画素領域のサブ画素の階調電圧と透過率の関係を示す図である。
【図１２】図１２は、変形例１に係るアクティブマトリクス基板の概略構成を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の一実施形態における表示装置は、非矩形形状の表示領域を有する表示パネルと、前記表示領域に表示する画像の階調を示す階調信号を前記表示パネルへ供給する駆動部と、を備え、前記表示領域は、少なくとも異なる３色の各色に対応するサブ画素からなる画素が複数配列された画素群と、前記画素群の各サブ画素に前記階調信号を供給する複数のデータ線と、を有し、前記画素群には、当該表示領域の境界に設けられる複数の境界画素と、境界以外に設けられる複数の非境界画素とが含まれており、前記複数の境界画素の一部の境界画素において、当該境界画素のサブ画素の少なくとも一部の色のサブ画素の表示に寄与する有効面積は、前記非境界画素のサブ画素の有効面積と異なり、前記駆動部は、前記境界画素の少なくとも一部の色のサブ画素の前記有効面積に対する前記非境界画素のサブ画素の前記有効面積の割合に基づいて、各サブ画素に対する前記階調信号を前記複数のデータ線に供給する（第１の構成）。
【００１０】
第１の構成によれば、非矩形形状の表示領域の一部の境界画素において、少なくとも一部の色のサブ画素の有効面積は、非境界画素のサブ画素の有効面積と異なる。各サブ画素に対する階調信号は、一部の境界画素のサブ画素の有効面積と非境界画素のサブ画素の有効面積との割合に応じて設定される。そのため、境界画素と非境界画素とに同じ色を表示する際、当該色に応じた階調信号を各サブ画素に対して一律に供給する場合と比べ、画素の色バランスが崩れにくく、色づき等の表示品位の低下が生じにくい。
【００１１】
第１の構成において、前記一部の境界画素の前記少なくとも一部の色のサブ画素の有効面積は、当該サブ画素と同じ色に対応する前記非境界画素のサブ画素の有効面積よりも小さく、前記駆動部は、前記一部の境界画素の前記少なくとも一部の色のサブ画素と前記非境界画素のサブ画素に、同じ色の画像を表示する際、前記非境界画素のサブ画素の輝度が、前記一部の境界画素の前記少なくとも一部の色のサブ画素の輝度よりも低くなるように前記階調信号を供給することとしてもよい（第２の構成）。第２の構成によれば、各画素に対して一律に同じ色に対応する階調信号を供給する場合と比べ、境界画素と、非境界画素との間で輝度差が生じにくく、白色表示の際の色づきを生じにくくすることができる。
【００１２】
第１の構成において、前記一部の境界画素の前記少なくとも一部の色のサブ画素の有効面積は、当該サブ画素と同じ色に対応する前記非境界画素のサブ画素の有効面積よりも大きく、前記駆動部は、前記一部の境界画素の前記少なくとも一部の色のサブ画素と前記非境界画素のサブ画素に、同じ色の画像を表示する際、前記一部の境界画素の前記少なくとも一部の色のサブ画素の輝度が、前記非境界画素のサブ画素の輝度よりも低くなるように前記階調信号を供給することとしてもよい（第３の構成）。第３の構成によれば、各画素に対して一律に同じ色に対応する階調信号を供給する場合と比べ、境界画素と、非境界画素との間で輝度差が生じにくく、白色表示の際の色づきを生じにくくすることができる。
【００１３】
第１から第３のいずれかの構成において、前記駆動部は、前記一部の境界画素の前記少なくとも一部の色のサブ画素と、当該サブ画素と同じ色に対応する前記非境界画素のサブ画素とに対し、同じ色を表示する際、各サブ画素の輝度差が所定範囲内となるように前記階調信号を供給することとしてもよい（第４の構成）。第４の構成によれば、境界画素と非境界画素との間の輝度差が視認されにくい。
【００１４】
第１から第４のいずれかの構成において、前記表示パネルは、前記画素群において液晶層を備えることとしてもよい（第５の構成）。
【００１５】
本発明の一実施形態における表示装置は、表示領域を有する表示パネルと、前記表示領域に表示する画像の階調を示す階調信号を前記表示パネルへ供給する駆動部と、を備え、前記表示領域は、少なくとも異なる３色の各色に対応するサブ画素からなる画素が複数配列された画素群と、前記画素群の各サブ画素に前記階調信号を供給する複数のデータ線と、を有し、前記画素群の一部のサブ画素の表示に寄与する有効面積は、当該一部のサブ画素と同じ色に対応する他のサブ画素の有効面積と異なり、前記駆動部は、前記一部の画素の前記有効面積に対する前記他のサブ画素の前記有効面積の割合に基づいて、各サブ画素に対する前記階調信号を前記複数のデータ線に供給する（第６の構成）。
【００１６】
第６の構成によれば、表示領域の一部のサブ画素の有効面積は、当該一部のサブ画素と同じ色に対応する他のサブ画素の有効面積と異なる。各サブ画素に対する階調信号は、一部のサブ画素の有効面積と他のサブ画素の有効面積との割合に応じて設定される。そのため、一部のサブ画素を含む画素と、他の画素とに同じ色を表示する際、当該色に応じた階調信号を各サブ画素に対して一律に供給する場合と比べ、画素の色バランスが崩れにくく、色づき等の表示品位の低下が生じにくい。
【００１７】
以下、図面を参照し、本発明の実施の形態を詳しく説明する。図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。なお、説明を分かりやすくするために、以下で参照する図面においては、構成が簡略化または模式化して示されたり、一部の構成部材が省略されたりしている。また、各図に示された構成部材間の寸法比は、必ずしも実際の寸法比を示すものではない。
【００１８】
［第１実施形態］
図１は、本実施形態における表示装置の概略構成を示す断面図である。表示装置１は、表示パネル２として、アクティブマトリクス基板１０と、対向基板２０と、アクティブマトリクス基板１０と対向基板２０との間に挟持された液晶層３０とを有する。なお、この図では図示を省略しているが、表示装置１は、液晶層３０と反対側のアクティブマトリクス基板１０の面方向に設けられたバックライトと、アクティブマトリクス基板１０と対向基板２０とを挟む一対の偏光板とを備える。以下、アクティブマトリクス基板１０、及び対向基板２０の具体的な構成について説明する。
【００１９】
図２は、アクティブマトリクス基板１０の概略構成を示す平面図である。図２に示すようにアクティブマトリクス基板１０は、Ｘ軸に平行な短辺と長辺とが、Ｙ軸に平行な２つの辺とそれぞれ接続された非矩形形状を有する。この例では、アクティブマトリクス基板１０の外形の各辺は直線状を有する。
【００２０】
アクティブマトリクス基板１０は、複数のゲート線ＧＬと、複数のソース線（データ線）ＳＬと、ゲートドライバ１１と、ソースドライバ１２と、を備える。
【００２１】
アクティブマトリクス基板１０は、複数のゲート線ＧＬと複数のソース線ＳＬによって規定されるサブ画素からなる画素群を有する表示領域１０Ｒが形成されている。表示領域１０Ｒは、アクティブマトリクス基板１０と同様の非矩形形状となるように、アクティブマトリクス基板１０のＹ軸正方向側に設けられた一部のゲート線ＧＬが、他のゲート線ＧＬよりも短く、当該一部のゲート線ＧＬと交差するソース線ＳＬは、他のソース線ＳＬよりも短くなっている。
【００２２】
以下、図２において、表示領域１０Ｒの境界に設けられる境界画素のうち、他のゲート線ＧＬより長さが短いゲート線ＧＬの端部付近に設けられる画素領域１０Ｒａ、１０Ｒｂをコーナー画素領域１０Ｒａ、１０Ｒｂと称する。また、境界画素以外の画素領域を非境界画素領域と称する。
【００２３】
２つのゲートドライバ１１は、表示領域１０Ｒの外側において、複数のゲート線ＧＬの両端に設けられ、各ゲートドライバ１１は、複数のゲート線ＧＬのそれぞれと信号線（図示略）を介して接続されている。各ゲートドライバ１１は、複数のゲート線ＧＬのそれぞれを走査する複数のシフトレジスタ（図示略）を有する。
【００２４】
ソースドライバ１２は、表示領域１０Ｒの外側において、Ｘ軸に平行な長辺側に設けられている。ソースドライバ１２は、複数のソース線ＳＬのそれぞれと配線１２１を介して接続され、各ソース線ＳＬに、表示する画像の階調を示す信号（以下、階調電圧信号）を供給する。
【００２５】
図１では図示を省略しているが、対向基板２０は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色のカラーフィルタを複数備えるとともに、カラーフィルタが配置されていない領域にブラックマトリクスを有する。ＲＧＢの各カラーフィルタは、表示領域１０Ｒの各画素と対向する位置に所定の順序で配列されている。
【００２６】
以下、サブ画素の構成について具体的に説明する。図３は、一部のサブ画素を拡大した平面図である。図４は、図３に示すＡ−Ａ線とＢ−Ｂ線の位置で表示パネル２を切断したときの、表示パネル２の各断面図（（ａ）：Ａ−Ａ断面、（ｂ）：Ｂ−Ｂ断面）である。
【００２７】
図３に示すように、サブ画素Ｐは、ＴＦＴ（Thin Film Transistor：薄膜トランジスタ）１３と画素電極１４とを有する。
【００２８】
ＴＦＴ１３は、ゲート線ＧＬとソース線ＳＬとが交差する位置に設けられ、ゲート線ＧＬ及びソース線ＳＬと接続されている。また、ＴＦＴ１３は、コンタクトホールＣＨを介して画素電極１４と接続されている。
【００２９】
画素電極１４は、例えば、ＩＴＯ等の透明導電膜で構成される。画素電極１４は、ソース線ＳＬと略平行な２つのスリットＰａを有する。図３では図示を省略しているが、図４に示すように、アクティブマトリクス基板１０には、画素電極１４と対向するように対向電極１５が設けられている。対向電極１５は、例えば、ＩＴＯ等の透明導電膜で構成される。画素電極１４に設けられたスリットＰａにおいて、画素電極１４と対向電極１５との間に横電界が形成され、液晶分子が駆動される。
【００３０】
サブ画素Ｐにおいて、破線枠の外側の領域、すなわち、ゲート線ＧＬ、ソース線ＳＬ、ＴＦＴ１３、及び、画素電極１４とＴＦＴ１３とを接続するコンタクト部分を含む領域は、対向基板２０に設けられたブラックマトリクスＢＭ（図４参照）によって覆われている。つまり、図３に示すサブ画素Ｐにおいて、破線枠ＰＯの内側の領域が光を透過させる領域であり、表示に寄与する領域（以下、開口部）ＰＯである。言い換えれば、本実施形態において、開口部ＰＯは、バックライト（図示略）から照射される表示パネルに照射された光が、ブラックマトリクスＢＭ、ゲート線ＧＬ及びソース線ＳＬ等の不透明な配線、及びＴＦＴ１３等の素子によって遮られることなく透過する領域である。
【００３１】
ここで、図４を参照し、アクティブマトリクス基板１０と対向基板２０の断面構造について具体的に説明する。
【００３２】
図４（ａ）（ｂ）に示すように、アクティブマトリクス基板１０は、透光性を有する基板１００の上に、ＴＦＴ１３のゲート電極１３ａと、ゲート電極１３ａを覆う絶縁膜１０１を有する。図４（ａ）に示すように、絶縁膜１０１の上には、ＴＦＴ１３の半導体層１３ｂと、半導体層１３ｂの一部を覆うソース電極１３ｃ及びドレイン電極１３ｄとが設けられている。また、図４（ｂ）に示すように、絶縁膜１０１の上には、ソース線ＳＬが設けられている。
【００３３】
図４（ａ）（ｂ）に示すように、ソース電極１３ｃ及びドレイン電極１３ｄと、ソース線ＳＬを覆うようにパッシベーション膜１０２が設けられ、パッシベーション膜１０２の上には有機絶縁膜１０３が設けられている。有機絶縁膜１０３の上には対向電極１５が設けられ、対向電極１５を覆うようにパッシベーション膜１０４が設けられている。
【００３４】
図４（ａ）（ｂ）に示すように、画素電極１４は、パッシベーション膜１０４の上に設けられる。画素電極１４は、図４（ａ）に示すように、パッシベーション膜１０４と有機絶縁膜１０３とパッシベーション膜１０２とを貫通するコンタクトホールＣＨを介してドレイン電極１３ｄと接続される。
【００３５】
対向基板２０は、図４（ａ）（ｂ）に示すように、透光性を有する基板２００上に、所定の順序で配列されたＲ，Ｇ，Ｂの各色のカラーフィルタ２０１を有する。Ｒ，Ｇ，Ｂの各カラーフィルタ２０１は、一の画素電極１４と対向するように配置される。ブラックマトリクスＢＭは、カラーフィルタ２０１と重ならない位置に設けられる。また、図４（ｂ）に示すように、対向基板２０は、カラーフィルタ２０１とブラックマトリクスＢＭとを覆うオーバーコート層２０２を有する。
【００３６】
ここで、本実施形態におけるサブ画素Ｐの開口部面積、すなわち、サブ画素Ｐにおいて表示に寄与する有効面積について説明する。図５は、図２に示すコーナー画素領域１０Ｒｂの一部のサブ画素と、非境界画素領域の一部のサブ画素の開口部を表した模式図である。図５におけるＲ，Ｇ，Ｂのいずれかの文字が付された矩形ＰＯは、Ｒ，Ｇ，Ｂのいずれかのサブ画素の開口部を示している。非境界画素領域のＲＧＢのそれぞれに対応するサブ画素をサブ画素Ｐｒ、Ｐｇ、Ｐｂ、コーナー画素領域１０ＲｂのＲＧＢのそれぞれに対応するサブ画素をサブ画素Ｐｂｒ、Ｐｂｇ、Ｐｂｂとする。
【００３７】
図５に示すように、コーナー画素領域１０Ｒｂに配置される画素のうち、サブ画素Ｐｂｒの開口部面積は、非境界画素領域の各サブ画素と同等であるが、サブ画素Ｐｂｇ、Ｐｂｂの開口部面積は、非境界画素領域の各サブ画素の開口部面積よりも小さい。
【００３８】
図示を省略するが、コーナー画素領域１０ＲａのＲ，Ｇ，Ｂの各サブ画素は、表示領域１０Ｒの外側から順に、Ｒのサブ画素Ｐａｒ、Ｇのサブ画素Ｐａｇ、Ｂのサブ画素Ｐａｂが配置される。この場合、サブ画素Ｐａｂの開口部面積は、非境界画素領域のサブ画素と同等であるが、サブ画素Ｐａｒ、Ｐａｇの開口部面積は、非境界画素領域のサブ画素の開口部面積よりも小さい。
【００３９】
このように、表示領域１０Ｒにおけるサブ画素の開口部面積が均一でない場合、同じ色のサブ画素に対して同じ色（階調）を表示する際、各サブ画素に対し、一律に同じ階調電圧を印加すると、サブ画素間で透過率に差異が生じ、輝度差が生じる。
【００４０】
そこで、本実施形態では、コーナー画素領域の画素において、開口部面積が小さいサブ画素の順に透過率が大きくなるように、ソースドライバ１２により各サブ画素に対して階調電圧を印加する。
【００４１】
図６は、コーナー画素領域１０Ｒｂの画素のサブ画素の白色表示時の階調電圧と透過率の関係を示す図である。この例では、階調電圧が高いほど透過率も高くなるように構成されている。また、コーナー画素領域１０Ｒｂに設けられるサブ画素Ｐｂｒ、Ｐｂｇ、Ｐｂｂの白色表示時の階調電圧をＶｂｒ、Ｖｂｇ、Ｖｂｂとする。
【００４２】
図６に示すように、本実施形態では、開口部面積が最も小さいサブ画素Ｐｂｂの階調電圧Ｖｂｂが最も高く、開口部面積が最も大きいサブ画素Ｐｂｒの階調電圧が最も低くなるように階調電圧が設定される。これにより、白色表示時の各サブ画素Ｐｂｒ、Ｐｂｇ、Ｐｂｂの透過率Ｔｂｒ、Ｔｂｇ、Ｔｂｂは、Ｔｂｂ＞Ｔｂｇ＞Ｔｂｒの順に高くなる。
【００４３】
図６は、コーナー画素領域１０Ｒｂの画素の例であるが、コーナー画素領域１０Ｒａにおける画素の各サブ画素の階調電圧も同様の考え方である。つまり、コーナー画素領域１０Ｒａの画素のサブ画素Ｐａｒ、Ｐａｇ、Ｐａｂの白色表示時の階調電圧をＶａｒ、Ｖａｇ、Ｖａｂとした場合、Ｖａｒ＞Ｖａｇ＞Ｖａｂとなるように階調電圧が設定される。これにより、サブ画素Ｐａｒ、Ｐａｇ、Ｐａｂの透過率Ｔａｒ、Ｔａｇ、Ｔａｂは、Ｔａｒ＞Ｔａｇ＞Ｔａｂの順に高くなる。
【００４４】
ここで、本実施形態におけるコーナー画素領域と非境界画素領域の階調電圧の設定例について説明する。図７Ａは、白色表示時のコーナー画素領域１０Ｒｂのサブ画素Ｐｂｂと非境界画素領域のサブ画素Ｐｂの階調電圧と透過率の関係を示す図である。また、図７Ｂは、中間調表示時のコーナー画素領域１０Ｒｂのサブ画素Ｐｂｂと非境界画素領域のサブ画素Ｐｂの階調電圧と透過率の関係を示す図である。
【００４５】
この例では、透過率１００％の階調電圧をＶ１、透過率５０％の階調電圧をＶ２とする（Ｖ１＞Ｖ２）。例えば、サブ画素Ｐｂの開口部面積に対するサブ画素Ｐｂｂの開口部面積の割合が７０％であるとする。この場合、図７Ａに示すように、白色表示において、サブ画素Ｐｂｂは、階調電圧Ｖｂｂとして透過率Ｔｂｂが１００％となるようにＶ１が印加される。一方、このとき、サブ画素Ｐｂは、透過率Ｔｂがサブ画素Ｐｂｂの７０％程度となる階調電圧Ｖｂ１が印加される。
【００４６】
同様に、中間調表示を行う場合、図７Ｂに示すように、中間調表示時のサブ画素Ｐｂｂは、階調電圧Ｖｂｂとして、透過率Ｔｂｂが５０％となるようにＶ２が印加される。一方、サブ画素Ｐｂは、透過率Ｔｂがサブ画素Ｐｂｂの７０％、すなわち、透過率Ｔｂが３５％程度となるように階調電圧Ｖｂ２が印加される。
【００４７】
図７Ａ、７Ｂでは、コーナー画素領域１０Ｒｂのサブ画素Ｐｂｂと非境界画素領域のサブ画素Ｐｂの透過率と階調電圧の関係を例に説明したが、コーナー画素領域１０Ｒｂのサブ画素Ｐｂｇと非境界画素領域のサブ画素Ｐｇ、及びコーナー画素領域１０Ｒａのサブ画素Ｐａｒ，Ｐａｇと非境界画素領域のサブ画素Ｐｒ，Ｐｇの透過率と階調電圧の関係も同様である。
【００４８】
つまり、本実施形態では、非境界画素領域のサブ画素の階調電圧は、当該サブ画素と同じ色に対応し、当該サブ画素よりも開口部面積が小さい、コーナー画素領域１０Ｒａ、１０Ｒｂにおけるサブ画素の開口部面積に応じて設定される。言い換えれば、非境界画素領域のサブ画素の階調電圧は、当該サブ画素の開口部面積と、当該サブ画素と同じ色に対応するコーナー画素領域１０Ｒａ、１０Ｒｂにおけるサブ画素の開口部面積との比率に基づいて設定される。
【００４９】
なお、非境界画素領域のサブ画素と、当該サブ画素と同じ色のコーナー画素領域１０Ｒａ、１０Ｒｂのサブ画素の輝度が同じになるように、非境界画素領域のサブ画素の階調電圧が設定されることが好ましいが、必ずしも同じでなくてもよい。非境界画素領域のサブ画素と、当該サブ画素と同じ色のコーナー画素領域１０Ｒａ、１０Ｒｂのサブ画素の輝度の差が視認できない程度の差であればよい。具体的には、例えば、非境界画素領域のサブ画素の階調と、当該サブ画素と同じ色のコーナー画素領域１０Ｒａ、１０Ｒｂのサブ画素の階調の差が１階調程度以内の差であればよい。また、非境界画素領域のサブ画素の透過率と、当該サブ画素と同じ色のコーナー画素領域１０Ｒａ、１０Ｒｂのサブ画素の透過率の差は、例えば、カラーフィルタ２０１の製造時のばらつきに応じて１０％程度以内の差となるようにしてもよい。
【００５０】
上記実施形態では、非境界画素領域のサブ画素の透過率を、当該サブ画素と同じ色で開口部面積が小さいコーナー画素領域のサブ画素よりも小さくする。これにより、例えば、白色表示を行った際、コーナー画素領域の画素と非境界画素領域の画素との間の輝度差が低減される。その結果、コーナー画素領域と非境界画素領域の画素間で色バランスが崩れにくく、色づき等の表示品位の低下が軽減される。
【００５１】
［第２実施形態］
上述した第１実施形態では、コーナー画素領域の一部のサブ画素の開口部面積が、非境界画素領域におけるサブ画素の開口部面積よりも小さい場合について説明した。本実施形態では、コーナー画素領域の一部のサブ画素の開口部面積が、非境界画素領域におけるサブ画素の開口部面積よりも大きい場合について説明する。
【００５２】
図８は、非境界画素領域における一部の画素と、図２に示すコーナー画素領域１０Ｒｂにおける一部の画素を拡大した模式図である。図８において、第１実施形態と同様の構成には、第１実施形態と同じ符号が付されている。
【００５３】
図８において、破線枠で示す画素ＰＢは、本実施形態におけるコーナー画素領域１０Ｒｂの画素である。画素ＰＢは、ＲＧＢに対応するサブ画素ＰＢｒ、ＰＢｇ、ＰＢｂで構成される。
【００５４】
図８に示すように、コーナー画素領域と非境界画素領域のサブ画素及び画素電極１４のＸ軸方向の長さは同等であるがＹ軸方向の長さが異なる。具体的には、サブ画素ＰＢｒ、ＰＢｇのＹ軸方向の長さは、サブ画素Ｐｒ、Ｐｇよりも長く、画素電極１４のＹ軸方向の長さも、サブ画素ＰＢｒ、ＰＢｇがサブ画素Ｐｒ、Ｐｇより長い。一方、境界画素領域のサブ画素ＰＢｂと非境界画素領域のサブ画素ＰｂのＹ軸方向の長さ、及び境界画素領域のサブ画素ＰＢｂと非境界画素領域のサブ画素Ｐｂの各画素電極１４のＹ軸方向の長さは同等である。
【００５５】
ここで、本実施形態におけるコーナー画素領域１０Ｒｂのサブ画素と、非境界画素領域のサブ画素の開口部面積について説明する。図９は、本実施形態におけるコーナー画素領域と非境界画素領域のサブ画素の開口部ＰＯを示す図である。
【００５６】
図９に示すように、コーナー画素領域１０Ｒｂのサブ画素ＰＢｒの開口部面積は、非境界画素領域のサブ画素Ｐｒよりも大きく、コーナー画素領域１０Ｒｂのサブ画素ＰＢｇの開口部面積は、非境界画素領域のサブ画素Ｐｇよりも大きい。一方、コーナー画素領域１０Ｒｂのサブ画素ＰＢｂと、非境界画素領域のサブ画素Ｐｂの開口部面積は同等である。
【００５７】
本実施形態では、上述の第１実施形態と同様、例えば、白色を表示した際、開口部面積が小さいサブ画素の順に透過率が大きくなるように、ソースドライバ１２により各サブ画素に対して階調電圧を印加する。サブ画素ＰＢｒ、ＰＢｇ、ＰＢｂの白色表示時の階調電圧をＶＢｒ、ＶＢｇ、ＶＢｂとする。このとき、図１０に示すように、開口部面積が最も小さいサブ画素ＰＢｂの階調電圧ＶＢｂが最も高く、開口部面積が最も大きいサブ画素ＰＢｒの階調電圧ＶＢｒが最も低くなるように階調電圧は設定される。これにより、白色表示時の各サブ画素ＰＢｒ、ＰＢｇ、ＰＢｂの透過率ＴＢｒ、ＴＢｇ、ＴＢｂは、ＴＢｂ＞ＴＢｇ＞ＴＢｒの順に高くなる。
【００５８】
図９は、コーナー画素領域１０Ｒｂの画素の例であるが、コーナー画素領域１０Ｒａにおける画素の各サブ画素の階調電圧も同様の考え方である。図示を省略するが、コーナー画素領域１０Ｒａの場合、コーナー画素領域１０Ｒａに配置される画素は、Ｂに対応するサブ画素ＰＡｂ、Ｇに対応するサブ画素ＰＡｇ、Ｒに対応するサブ画素ＰＡｒの順に開口部面積が大きくなる。よって、サブ画素ＰＡｒ、ＰＡｇ、ＰＡｂの白色表示時の階調電圧ＶＡｒ、ＶＡｇ、ＶＡｂは、ＶＡｒ＞ＶＡｇ＞ＶＡｂとなるように階調電圧が設定される。これにより、サブ画素ＰＡｒ、ＰＡｇ、ＰＡｂの透過率ＴＡｒ、ＴＡｇ、ＴＡｂは、ＴＡｒ＞ＴＡｇ＞ＴＡｂの順に高くなる。
【００５９】
ここで、本実施形態におけるコーナー画素領域と非境界画素領域の階調電圧の設定例について説明する。図１１Ａは、白色表示時のコーナー画素領域１０Ｒｒのサブ画素ＰＢｒと非境界画素領域のサブ画素Ｐｒの階調電圧と透過率の関係を示す図である。また、図１１Ｂは、中間調表示時のコーナー画素領域１０Ｒｂのサブ画素ＰＢｒと非境界画素領域のサブ画素Ｐｒの階調電圧と透過率の関係を示す図である。
【００６０】
この例では、上述の第１実施形態と同様、透過率１００％の階調電圧をＶ１、透過率５０％の階調電圧をＶ２としている（Ｖ１＞Ｖ２）。また、この例では、サブ画素ＰＢｒの開口部面積がサブ画素Ｐｒの開口部面積に対して１３０％であるものとする。
【００６１】
この場合、図１１Ａに示すように、白色表示時のサブ画素Ｐｒには、透過率Ｔｒが１００％となるように、サブ画素Ｐｒの階調電圧ＶｒとしてＶ１を印加する。一方、サブ画素ＰＢｒには、透過率ＴＢｒがサブ画素Ｐｒの７７％（＝１００÷１３０×１００）程度となる階調電圧ＶＢｒを印加する。
【００６２】
同様に、中間調表示を行う場合、図１１Ｂに示すように、サブ画素Ｐｒには、透過率Ｔｒが５０％となるように階調電圧ＶｒとしてＶ２を印加する。一方、サブ画素ＰＢｒには、透過率ＴＢｒがサブ画素Ｐｒの７７％程度、すなわち、透過率ＴＢｒが３９％程度となる階調電圧ＶＢｒを印加する。
【００６３】
図１１Ａ、１１Ｂでは、コーナー画素領域１０Ｒｂのサブ画素ＰＢｒと非境界画素領域のサブ画素Ｐｒの透過率と階調電圧の関係を例に説明したが、コーナー画素領域１０Ｒｂのサブ画素ＰＢｇと非境界画素領域のサブ画素Ｐｇ、及びコーナー画素領域１０Ｒａのサブ画素ＰＡｂ，ＰＡｇと非境界画素領域のサブ画素Ｐｂ，Ｐｇの透過率と階調電圧の関係も同様である。
【００６４】
上記実施形態では、コーナー画素領域の一部のサブ画素の開口部面積を、非境界画素領域のサブ画素の開口部面積よりも大きくする。そして、コーナー画素領域の一部のサブ画素の透過率が、当該サブ画素と同じ色の非境界画素領域のサブ画素よりも小さくなるように階調電圧を設定する。そのため、例えば、白色表示を行った際、コーナー画素領域に配置される画素のサブ画素の輝度と、非境界画素領域に配置される画素のサブ画素の輝度が同等となる。その結果、コーナー画素領域と非境界画素領域の画素間で色バランスが崩れにくく、色づき等の表示品位の低下が軽減される。また、上記実施形態では、非境界画素領域のサブ画素の透過率がコーナー画素領域のサブ画素よりも大きいため、表示パネル全体としての透過率を第１実施形態よりも高くすることができる。
【００６５】
以上、本発明に係る表示装置の一例について説明したが、本発明に係る表示装置は、上述した実施形態の構成に限定されず、様々な変形構成とすることができる。
【００６６】
（１）上述した実施形態では、アクティブマトリクス基板１０のＸ軸に平行な短辺とＹ軸に平行な２つの辺とを接続する辺の部分が直線状である例を説明したが、図１２に示すように円弧状であってもよい。また、アクティブマトリクス基板１０の表示領域１０Ｒ’も、アクティブマトリクス基板１０の外形形状と同様の形状となるように構成されていてもよい。
【００６７】
（２）上述した実施形態では、液晶を用いた表示装置の例を説明したが、有機ＥＬ（Electro Luminescence）を用いた表示装置であってもよい。この場合には、コーナー画素領域と非境界画素領域におけるサブ画素の表示に寄与する有効面積、すなわち、サブ画素の発光領域の面積の比率に応じて、サブ画素に対する階調を示す電流値を設定する。
【００６８】
（３）上述した実施形態では、画素がＲＧＢの３つのサブ画素で構成される例を説明したが、例えば、ＲＧＢＹ（黄）やＲＧＢＷ（白）等、４つ以上のサブ画素で構成されていてもよい。
【００６９】
（４）上述した実施形態では、境界画素のサブ画素の開口部ＰＯは矩形形状であるが、非矩形形状であってもよい。例えば、表示領域の境界に弧状となる部分がある場合、その境界画素のサブ画素の開口部ＰＯの端部が弧状となるように、当該サブ画素がブラックマトリクスＢＭに覆われるようにしてもよい。
【００７０】
（５）上述した実施形態では、非矩形形状の表示領域において、サブ画素の有効面積が均一でない場合を例に説明したが、矩形形状の表示領域において、サブ画素の有効面積が均一でない場合に適用されてもよい。例えば、矩形形状の表示領域の一部にセル厚を調整するためのスペーサが設けられる場合、スペーサ周辺の光漏れを防ぐため、スペーサを覆うブラックマトリクスＢＭの領域はスペーサ径よりも大きくする。そのため、スペーサが設けられるサブ画素の開口部は、当該サブ画素と同じ色に対応する他のサブ画素の開口部より小さくなる。つまり、スペーサが設けられるサブ画素と他の画素とで有効面積が異なる。この場合、当該スペーサが設けられるサブ画素と他のサブ画素との輝度差が低減するように、上述した第１実施形態と同様の方法により、スペーサが設けられていないサブ画素の階調電圧を制御し、透過率を調整する。これにより、同じ色に対応するスペーサが設けられたサブ画素と、スペーサが設けられていないサブ画素において、白色表示を行っても色づきが生じにくい。
【００７１】
（６）上述した実施形態では、表示領域の外縁形状が非矩形形状である例を説明したが、例えば、表示領域は、その外縁形状が矩形形状であり、表示領域の内側に円形等の穴があいている形状であってもよい。この場合、穴周辺のサブ画素、すなわち、穴の外縁と重なるサブ画素は、当該サブ画素と同じ色に対応する他のサブ画素よりも開口部が小さくなる。そのため、この場合には、穴周辺のサブ画素と他のサブ画素との輝度差が低減するように、上述した第１実施形態と同様の方法により、他のサブ画素の階調電圧を制御して透過率を調整する。
【符号の説明】
【００７２】
１…表示装置、２…表示パネル、１０…アクティブマトリクス基板、１０Ｒａ，１０Ｒｂ…コーナー画素領域、１１…ゲートドライバ、１２…ソースドライバ、１３…ＴＦＴ、１４…画素電極、１５…対向電極（共通電極）、２０…対向基板、３０…液晶層、２０１…カラーフィルタ、ＢＭ…ブラックマトリクス、ＧＬ…ゲート線、ＳＬ…ソース線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１２】
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