(57)【要約】【課題】抵抗値変動が改善された導電材料が得られる導電材料の処理方法を提供する。【解決手段】支持体上に光透過性導電層として網目状金属細線パターンを有する導電材料を、カチオン性エマルションで処理する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に光透過性導電層として網目状金属細線パターンを有する導電材料を、カチオン性エマルションで処理することを特徴とする導電材料の処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、抵抗値変動が改善された導電材料が得られる、導電材料の処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
スマートフォン、パーソナル・デジタル・アシスタント（ＰＤＡ）、ノートＰＣ、タブレットＰＣ、ＯＡ機器、医療機器、あるいはカーナビゲーションシステム等の電子機器においては、これらのディスプレイに入力手段としてタッチパネルセンサーが広く用いられている。
【０００３】
タッチパネルセンサーには、位置検出の方法により光学方式、超音波方式、抵抗膜方式、表面型静電容量方式、投影型静電容量方式等があり、上記したディスプレイ用途においては抵抗膜方式と投影型静電容量方式が好適に利用されている。抵抗膜方式のタッチパネルセンサーは、支持体上に光透過性導電層を有する導電材料を２枚利用し、これら導電材料をドットスペーサーを介して対向配置した構造を有しており、タッチパネルセンサーの１点に力を加えることにより光透過性導電層同士が接触し、各光透過性導電層に印加された電圧をもう一方の光透過性導電層を通して測定することで、力の加えられた位置の検出を行うものである。一方、投影型静電容量方式のタッチパネルセンサーは、２層の光透過性導電層を有する導電材料を１枚、または１層の光透過性導電層を有する導電材料を２枚利用し、指等を接近させた際の光透過性導電層間の静電容量変化を検出し、指を接近させた位置の検出を行うものである。後者は可動部分がないため耐久性に優れる他、多点同時検出ができることから、スマートフォンやタブレットＰＣ等で、とりわけ広く利用されている。
【０００４】
従来技術においては、光透過性導電層はＩＴＯ（インジウム−錫酸化物）等の透明導電性酸化物を含有する導電膜により形成されるのが一般的であった。例えば特開２０１５−３２１８３号公報（特許文献１）には、光透過性導電層の材料としてＩＴＯやＩＺＯ（インジウム−亜鉛酸化物）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）等の透明導電体を使用したタッチパネルセンサー部材が開示されている。
【０００５】
また、近年では光透過性導電層として網目状金属細線パターンを有する導電材料も開示されている。例えば特開２０１５−１３３２３９号公報（特許文献２）には網目状金属細線パターンを、銀微粒子を含有するインクを印刷して形成する方法や、無電解めっき触媒を含有する樹脂塗料を印刷した後に無電解めっきを施す方法、金属層上にフォトレジスト層を設け、レジストパターンを形成した後、金属層をエッチング除去するサブトラクティブ法、銀塩感光材料を用いる方法等、様々な方法により形成できることが記載されている。
【０００６】
上記した導電材料において、網目状金属細線パターンを有する光透過性導電層上に粘着剤層と、該粘着剤層上に機能材料とを有する導電材料積層体も知られており、例えば特開２０１４−１９８８１１号公報（特許文献３）にはタッチパネルセンサー上に粘着剤層と、該粘着剤層上に保護基板を有するタッチパネル用積層体が開示されている。該粘着剤層は一般的に、表示装置やタッチパネルセンサー等の各部材間を密着させるために利用されるものである。
【０００７】
上記した導電材料積層体は様々な場所で用いられ、例えば太陽光が照射される場所でも使用される。ところが、網目状金属細線パターンを有する光透過性導電層上に粘着剤層を設け導電材料積層体とした場合、太陽光が照射されると該光透過性導電層の抵抗値が変動するという問題があり、改善が求められていた。
【０００８】
太陽光の照射に伴う光透過性導電層の抵抗値変動を改善する方法として、特開２０１５−５８６６２号公報（特許文献４）には、光透過性導電層の下引き層がアミノ基を有する化合物を含有し、粘着剤層がカチオン重合型光硬化性樹脂を含有する導電材料積層体が開示され、特開２０１５−１０６５００号公報（特許文献５）には光透過性導電層の下引き層がアミノ基を有する化合物を含有し、粘着剤層がアシルホスフィン系化合物やトリハロアルキル化合物を用いて重合された樹脂を含有する導電材料積層体が開示される。また特開２０１６−２１０９１６号公報（特許文献６）には紫外線吸収能または光安定性能を有する分子骨格を有するアクリルモノマー等を重合させて得られるアクリル系粘着剤を含有するタッチパネル用層間充填材料を光透過層導電層上に貼合する方法が開示され、特開２０１６−１６０８号公報（特許文献７）には金属繊維と、金属添加剤を含む樹脂層とを有する膜（導電材料積層体）が開示され、特開２０１６−２１１７０号公報（特許文献８）には金属ナノワイヤーを含有する光透過性導電層と、特定波長以上の可視光を透過させる光透過層を備える静電容量結合方式タッチパネル入力装置付き表示装置（導電材料積層体）が開示される。しかしながら、太陽光の照射に伴う光透過性導電層の抵抗値変動に関しては、さらなる改善が望まれていた。
【０００９】
他方、特開２００３−１３２５２号公報（特許文献９）には、亜鉛系メッキ鋼板等の金属材料表面に耐食性、耐アルカリ性、耐指紋性を付与することを目的とし、カチオン性樹脂の水系エマルション樹脂（カチオン性エマルション）と特定の金属化合物等を含有する金属表面処理剤を金属材料表面に塗布、乾燥させ皮膜を形成する金属材料の表面処理方法が開示され、特開２０１０−２３６０７４号公報（特許文献１０）には、鋼板の折り曲げ加工部の耐食性、耐溶剤性等に優れた皮膜を金属材料表面に形成することを目的とし、カチオン性ウレタン樹脂エマルションを含有する表面処理剤をめっき鋼板に塗布、乾燥させ皮膜を形成するめっき鋼板の製造方法が開示される。特開２００９−１８５３４２号公報（特許文献１１）には支持体上にアミノ基を有するカチオン性エマルションを含有する物理現像核層を有する導電材料前駆体を用いた導電材料の処理方法が開示され、該製造方法に従って得られる導電材料が物理現像核層上に有する金属パターンは、支持体側から見た場合に可視光反射率が低いことから、室内光や外光に影響されることなく視認性に優れることが記載される。
【００１０】
また、特開２０１５−１５７９１３号公報（特許文献１２）には、高温高湿環境下の耐白化性に優れる光学用粘着剤組成物として、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミドを含むモノマー成分を共重合して得られる共重合体を含む光学用粘着剤組成物が開示され、該光学用粘着剤組成物を金属または金属酸化物により形成された透明電極層上に積層することが記載される。さらに特開２０１６−２１５６２９号公報（特許文献１３）には、光学フィルムと、粘着剤層と、金属層とをこの順に含み、該粘着剤層が有機カチオンとアニオンからなるイオン性化合物を含有することで、高温高湿環境下における金属層の腐食を抑制できることが記載される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２０１５−３２１８３号公報
【特許文献２】特開２０１５−１３３２３９号公報
【特許文献３】特開２０１４−１９８８１１号公報
【特許文献４】特開２０１５−５８６６２号公報
【特許文献５】特開２０１５−１０６５００号公報
【特許文献６】特開２０１６−２１０９１６号公報
【特許文献７】特開２０１６−１６０８号公報
【特許文献８】特開２０１６−２１１７０号公報
【特許文献９】特開２００３−１３２５２号公報
【特許文献１０】特開２０１０−２３６０７４号公報
【特許文献１１】特開２００９−１８５３４２号公報
【特許文献１２】特開２０１５−１５７９１３号公報
【特許文献１３】特開２０１６−２１５６２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の課題は、太陽光の照射に伴う抵抗値変動が改善された導電材料が得られる、導電材料の処理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の上記課題は、以下の発明によって達成される。
（１）支持体上に光透過性導電層として網目状金属細線パターンを有する導電材料を、カチオン性エマルションで処理することを特徴とする導電材料の処理方法。
【発明の効果】
【００１４】
本発明により、太陽光の照射に伴う抵抗値変動が改善された導電材料が得られる、導電材料の処理方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】実施例で用いたポジ型透過原稿の概略図
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明について説明する。本発明の導電材料の処理方法は、支持体上に光透過性導電層として網目状金属細線パターンを有する導電材料を、カチオン性エマルションで処理することを特徴とする。
【００１７】
＜カチオン性エマルション＞
本発明に用いるカチオン性エマルションについて説明する。本発明においてカチオン性エマルションとは、カチオン性基を有する非水溶性高分子化合物を水系分散媒中に分散した組成物を意味し、カチオン性基とは水系分散媒中で正電荷を有する基を意味する。本発明ではカチオン性基が有する正電荷の作用により、非水溶性高分子化合物は水系分散媒中に安定して分散すると同時に、光透過性導電層が有する網目状金属細線パターン表面に非水溶性高分子化合物が吸着、被覆し、太陽光の照射に伴う抵抗値変動の抑制が可能になるものと推測される。
【００１８】
上記したカチオン性エマルションが有するカチオン性基としては、第一級アンモニウム基（アンモニウム基）、第二級アンモニウム基（アルキルアンモニウム基等）、第三級アンモニウム基（ジアルキルアンモニウム基等）、第四級アンモニウム基（トリアルキルアンモニウム基等）、イミダゾリウム基、ピリジニウム基、ピロリジニウム基、ピペリジニウム基、ピラゾリウム基、モルホリニウム基、ピラゾリニウム基、ヒドロイミダゾリウム基、トリアゾリウム基、ピリダジニウム基、ピリミジニウム基、ピラジニウム基、チアゾリウム基、オキサゾリウム基、インドリウム基、キノリニウム基、イソキノリニウム基、キノキサリニウム基等の窒素原子を有するカチオン性基、スルホニウム基、ホスホニウム基等を例示できる。カチオン性基は、ハロゲン化物イオン、硝酸イオン、酢酸イオン等の公知のアニオンとの塩を形成していてもよい。非水溶性高分子化合物はカチオン性基を１種類のみ有していてもよく、２種類以上有していてもよい。上記したカチオン性基の中でも、窒素原子を有するカチオン性基を非水溶性高分子化合物が有することが、太陽光の照射に伴う導電材料の光透過性導電層の抵抗値変動を効果的に抑制できるため好ましく、第一級アンモニウム基、第二級アンモニウム基、第三級アンモニウム基、第四級アンモニウム基がより好ましく、第四級アンモニウム基が特に好ましい。
【００１９】
本発明における非水溶性高分子化合物としては、上記したカチオン性基を有するアクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、スチレン樹脂、エチレン酢酸ビニル樹脂、ＡＢＳ樹脂、シリコーン樹脂、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリアミド樹脂、ポリエステル、ポリウレタン等の重合体を例示できる。これらの非水溶性高分子化合物は、対応する単量体を公知の方法で重合することで得られる。非水溶性高分子化合物は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよく、上記した非水溶性高分子化合物の２種以上の複合物を用いてもよい。上記した中でも、カチオン性基を有するポリウレタン、またはカチオン性基を有するアクリル樹脂を非水溶性高分子化合物として用いたカチオン性エマルションは、太陽光の照射に伴う導電材料の光透過性導電層の抵抗値変動を効果的に抑制できるため好ましい。
【００２０】
カチオン性エマルションが含有する、カチオン性基を有する非水溶性高分子化合物の平均粒子径は特に限定されないが、５００ｎｍ以下であることが低ヘイズの導電材料が得られるため好ましく、３００ｎｍ以下であることがより好ましく、２００ｎｍ以下であることが特に好ましい。下限は１ｎｍ以上であることが好ましい。カチオン性基を有する非水溶性高分子化合物の平均粒子径の調節方法は限定されず、非水溶性高分子化合物の重合速度や撹拌速度を調節する方法や、非水溶性高分子化合物を分散する際の分散条件を調節する方法が例示できる。なお、本発明における平均粒子径とは、動的光散乱法を用いて測定し、キュムラント法による解析で求められた値を意味する。平均粒子径の測定装置としては、大塚電子（株）光散乱光度計ＤＬＳ−７０００やレーザー粒径解析装置ＰＡＲ−III等を例示できる。
【００２１】
カチオン性エマルションが含有する水系分散媒とは、水を少なくとも含有する分散媒を意味し、カチオン性基を有する非水溶性高分子化合物の分散安定性に優れることから、水を５０質量％以上含有する分散媒が好ましく、より好ましい水の含有量は６０質量％以上であり、特に好ましくは７０質量％以上である。水の他に分散媒が含有していてもよい分散媒としては親水性の有機溶媒が挙げられ、メタノール、エタノール、プロパノール、ベンジルアルコール等のアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類を例示できる。
【００２２】
カチオン性エマルションが含有する、カチオン性基を有する非水溶性高分子化合物の含有量は特に限定されないが、０．１質量％以上であることが太陽光の照射に伴う導電材料の光透過性導電層の抵抗値変動を効果的に抑制できるため好ましく、より好ましくは０．５質量％以上であり、特に好ましくは１．０質量％以上である。上限は３５質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下がより好ましい。
【００２３】
カチオン性エマルションのｐＨは特に限定されないが、太陽光の照射に伴う導電材料の光透過性導電層の抵抗値変動を効果的に抑制する観点から２〜９であることが好ましい。ｐＨ調整のため、カチオン性エマルションは塩酸、硫酸、酢酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸塩、炭酸塩等のｐＨ調整剤を含有していてもよい。さらに本発明におけるカチオン性エマルションは、ｐＨ調整剤以外に必要に応じて界面活性剤、消泡剤、抑泡剤、増粘剤、防腐剤等の公知の添加剤を含有していてもよい。
【００２４】
カチオン性基を有する非水溶性高分子化合物を得る方法としては、所望する非水溶性高分子化合物に対応する単量体と、カチオン性基を有する公知の単量体とを重合し、非水溶性高分子化合物にカチオン性基を導入する方法を例示できる。本方法に基づき、本発明に好ましく用いることのできるカチオン性ポリウレタンエマルションおよびカチオン性アクリル樹脂エマルションを製造する方法を以下に詳述するが、これに限定されない。
【００２５】
カチオン性ポリウレタンエマルションの製造方法としては、特開２００２−３０７８１１号公報に記載されているように、重合用溶媒中にてポリイソシアネートと、ポリオールと、分子中にアミノ基を有する鎖伸長剤とを反応させウレタンプレポリマーとし、該ウレタンプレポリマー中のアミノ基を酸で中和、もしくは四級化剤で四級化した後、次いで撹拌しながら水を加えて分散させ、さらに重合用溶媒を留去する方法が例示できる。
【００２６】
重合用溶媒は特に限定されず、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトンなどのケトン類、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチルなどの有機酸エステル類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類、等の公知の有機溶媒を用いることができる。
【００２７】
ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、２，２’−ジフェニルメタンジイソシアネート、２，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルジメチルメタンジイソシアネート、４，４’−ジベンジルジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、１，３−フェニレンジイソシアネート、１，４−フェニレンジイソシアネート等の芳香族ポリイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２−メチルペンタン−１，５−ジイソシアネート、３−メチルペンタン−１，５−ジイソシアネート等の脂肪族ポリイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、水添ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、水添ビフェニル−４，４’−ジイソシアネート、１，４−シクロヘキサンジイソシアネート、水添トリレンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン等の脂環式ポリイソシアネート等が例示できるが、これらに限定されない。ポリイソシアネートは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２８】
ポリオールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、３−メチルペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、ビスフェノールＡ、水添ビスフェノールＡ、シクロヘキサンジメタノール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトール等の低分子量ポリオール、前記低分子量ポリオールとコハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、テトラヒドロフラン酸等の多価カルボン酸を反応させて得られるポリエステルポリオール、前記低分子量ポリオールとエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等のアルキレンオキサイドを反応させて得られるポリエーテルポリオール、前記低分子量ポリオールとジフェニルカーボネート、ホスゲン等を反応させて得られるポリカーボネートポリオール、ポリブタジエンポリオール、ポリイソプレンポリオール、水添ポリブタジエンポリオール、水添ポリイソプレンポリオール等の炭化水素系ポリオール等が例示できるが、これらに限定されない。ポリオールは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２９】
上記したようなポリオールとしては市販品を用いることができる。ポリオールの市販品としては、例えば東ソー（株）より市販されるニッポラン（登録商標）シリーズ、旭硝子（株）より市販されるエクセノール（登録商標）シリーズ、旭化成（株）より市販されるデュラノール（登録商標）シリーズ等を挙げることができ、これらを入手し利用することができる。
【００３０】
分子中にアミノ基を有する鎖伸長剤としては、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等の脂肪族ジアミン、イソホロンジアミン、１，４−ジアミノシクロヘキサン等の脂環式ジアミン、マロン酸ジヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド等のジヒドラジド化合物、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン等のポリアミン等を例示できるが、これらに限定されない。分子中にアミノ基を有する鎖伸長剤は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３１】
本発明における分子中にアミノ基を有する鎖伸長剤の使用量は特に限定されないが、ポリイソシアネートとポリオールとの合計に対して５〜２５質量％であることが、太陽光の照射に伴う導電材料の光透過性導電層の抵抗値変動を効果的に抑制できるため好ましい。
【００３２】
鎖伸長剤によってポリウレタンに導入されたアミノ基を中和する場合に用いる酸としては、ギ酸、酢酸、酪酸、乳酸、リンゴ酸、マロン酸、アジピン酸等の有機酸や、塩酸、リン酸、硝酸等の無機酸を例示できる。
【００３３】
鎖伸長剤によってポリウレタンに導入されたアミノ基を四級化する場合に用いる四級化剤としては、塩化メチル、塩化ベンジル、ヨウ化メチル等のハロゲン化アルキル、硫酸ジメチル、硫酸ジエチル等の硫酸エステル、エピクロロヒドリン等を例示できる。
【００３４】
重合用溶媒を留去する方法としては、エバポレーターを用いて減圧留去する方法を例示できる。以上の手順により、カチオン性ポリウレタンエマルションを得ることができる。
【００３５】
カチオン性アクリル樹脂エマルションの製造方法としては、特開２００７−１８６６８２号公報に記載されているように、重合用溶媒中にてカチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体およびカチオン性基を有さないエチレン性不飽和単量体との混合物と、重合開始剤とを滴下しながら加熱し重合させた後、カチオン性基を酸で中和し、次いで撹拌しながら水を加えて分散させ、さらに重合用溶媒を留去する方法が例示できる。
【００３６】
重合用溶媒としては、カチオン性ポリウレタンエマルションの製造方法において前記した重合用溶媒を用いることができる。
【００３７】
カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、ビニルピリジン、２−メチル−５−ビニルピリジン、（メタ）アクリル酸２−（ジメチルアミノ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ジエチルアミノ）エチル、（メタ）アクリル酸２−（ｔ−ブチルアミノ）エチル、２−［（アクリロイルオキシ）エチル］トリメチルアンモニウムクロライド、２−［（アクリロイルオキシ）エチル］ベンジルジメチルアンモニウムクロライド、Ｎ−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］（メタ）アクリルアミド、Ｎ−［３−（ジエチルアミノ）プロピル］（メタ）アクリルアミド等が例示できる。カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。なお、「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」または「メタクリル」を表し、他も同様である。
【００３８】
上記したようなカチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては市販品を用いることができる。カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体の市販品としては、例えばＫＪケミカルズ（株）より市販されるＤＭＡＰＡＡ（登録商標）等、東亞合成（株）より市販されるアロン（登録商標）ＤＡ等を挙げることができ、これらを入手し利用することができる。
【００３９】
カチオン性基を有さないエチレン性不飽和単量体としては、（メタ）アクリル酸や、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸イソペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸ノニル等の（メタ）アクリル酸アルキルエステルや、（メタ）アクリル酸２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸２−エトキシエチル、（メタ）アクリル酸メトキシトリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸３−メトキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−エトキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−メトキシブチル、（メタ）アクリル酸４−エトキシブチル等の（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシヘキシル等のヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸メチルグリシジル等のグリシジル基含有（メタ）アクリル酸エステル等が例示できる。
【００４０】
重合開始剤は特に限定されず、電離放射線（紫外線、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線等）や熱により単量体の重合反応を開始させうる公知の化合物を用いることができる。重合開始剤としては２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス−２，４−ジメチルバレロニトリル、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］二塩酸塩、過酸化ベンゾイル、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム等のラジカル重合開始剤や、トリアリールスルホニウム塩、ジアリールヨードニウム塩等のカチオン重合開始剤が例示できる。なお、特開２０１１−７９９１０号公報の段落００１２に示されているように、カチオン重合開始剤は重合反応中に分解され、得られる重合物もカチオン性を有さないため、カチオン重合開始剤を用いただけではカチオン性エマルションは得られない。
【００４１】
上記したような重合開始剤としては市販品を用いることができる。重合開始剤の市販品としては、例えばＢＡＳＦジャパン（株）より市販されるＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）  １８４、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ６５１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ２９５９等、和光純薬工業（株）より市販されるＡＩＢＮ、Ｖ−７０、ＶＡ−０４４等を挙げることができ、これらを入手し利用することができる。
【００４２】
カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体によって導入されたカチオン性基の中和に用いる酸としては、カチオン性ポリウレタンエマルションの製造方法において前記した酸を用いることができる。カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体によって導入されたカチオン性基を四級化する場合に用いる四級化剤としては、カチオン性ポリウレタンエマルションの製造方法において前記した四級化剤を用いることができる。重合用溶媒を留去する方法としては、エバポレーターを用いて減圧留去する方法を例示できる。以上の手順により、カチオン性アクリル樹脂エマルションを得ることができる。
【００４３】
カチオン性基を有する単量体を用いることなく、カチオン性基を有する非水溶性高分子化合物を得る方法としては、特開２０１２−７２８３号公報に記載されているように、カチオン性基を有する界面活性剤および／またはカチオン性基を有する水溶性高分子化合物を分散剤（乳化剤）として用い、水を含む分散媒中に非水溶性高分子化合物を分散する方法が例示できる。
【００４４】
前記した分散剤（乳化剤）として利用するカチオン性基を有する界面活性剤は特に限定されず、公知のカチオン性基を有する界面活性剤を用いることができる。カチオン性基を有する界面活性剤としては、ラウリルアミン塩酸塩、ステアリルアミン塩酸塩、オレイルアミン酢酸塩、ステアリルアミン酢酸塩、ステアリルアミノプロピルアミン酢酸塩等のアルキルアミン塩、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジラウリルジメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジステアリルアンモニウムクロライド、ジステアリルジメチルアンモニウムクロライド、ラウリルジヒドロキシエチルメチルアンモニウムクロライド、オレイルビスポリオキシエチレンメチルアンモニウムクロライド、ラウロイルアミノプロピルジメチルエチルアンモニウムエトサルフェート、ラウロイルアミノプロピルジメチルヒドロキシエチルアンモニウムパークロレート等の４級アンモニウム塩等が例示できる。カチオン性基を有する界面活性剤は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４５】
前記した分散剤（乳化剤）として利用するカチオン性基を有する水溶性高分子化合物は特に限定されず、公知のカチオン性基を有する水溶性高分子化合物を用いることができる。カチオン性基を有する水溶性高分子化合物としては、第四級アンモニウム塩含有ポリビニルアルコール、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、ポリビニルアミン、カチオン化ヒドロキシエチルセルロース、カチオン化デンプン等が例示できる。カチオン性基を有する水溶性高分子化合物は単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４６】
上記したカチオン性基を有する界面活性剤やカチオン性基を有する水溶性高分子化合物を用いて、水を含む分散媒中に非水溶性高分子化合物を分散する方法は特に限定されず、例えば所望する非水溶性高分子化合物に対応する単量体を、カチオン性基を有する界面活性剤および／またはカチオン性基を有する水溶性高分子化合物を含有する溶媒中で重合する方法や、所望する非水溶性高分子化合物を、カチオン性基を有する界面活性剤および／またはカチオン性基を有する水溶性高分子化合物を含有する溶媒中で、ホモジナイザーやメディアミル等の公知の分散装置を用いて分散する方法が挙げられる。
【００４７】
カチオン性エマルションとしては市販品を用いることができる。カチオン性エマルションの市販品としては、例えば第一工業製薬（株）より市販されるスーパーフレックス（登録商標）６２０、６５０、信越化学工業（株）より市販されるビニブラン（登録商標）２６４７、２６５２、２６８７、大成ファインケミカル（株）より市販されるアクリット（登録商標）ＵＷ−３１９ＳＸ、ＵＷ−５５０ＣＳ、ＷＢＲ−２１２２Ｃ、ＷＥＭ−５０５Ｃ、ユニチカ（株）より市販されるアローベース（登録商標）ＣＢ−１０１０、ＣＢ−１２００等を挙げることができ、これらを入手し利用することができる。
【００４８】
＜カチオン性エマルションによる処理＞
カチオン性エマルションを用いて後述する導電材料の光透過性導電層を処理する方法は特に限定されず、導電材料が有する光透過性導電層にカチオン性エマルションを接触させればよい。具体的には、導電材料をカチオン性エマルションに浸漬する方法、バーコート法、スピンコーティング法、ダイコート法、ブレードコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、キスコート法等の公知の塗布方法で導電材料の光透過性導電層上にカチオン性エマルションを塗布する方法、グラビア印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、グラビアオフセット印刷、ディスペンサー印刷、パッド印刷等の公知の印刷方法で導電材料の光透過性導電層上にカチオン性エマルションを印刷する方法が例示できる。上記した方法の中でも、導電材料をカチオン性エマルションに浸漬する方法は、塗布や印刷と比較して多量のカチオン性エマルションを光透過性導電層に接触させることができるため、光透過性導電層が有する網目状金属細線パターン表面を非水溶性高分子化合物で緻密に被覆でき、太陽光の照射に伴う抵抗値変動を効果的に抑制できるため特に好ましい。
【００４９】
導電材料が有する光透過性導電層にカチオン性エマルションを接触させる時間は特に限定されないが、１秒以上であることが抵抗値変動を効果的に抑制できるため好ましく、より好ましくは３秒以上であり、特に好ましくは５秒以上である。上限は１０分以下であることが好ましく、より好ましくは５分以下である。導電材料が有する光透過性導電層にカチオン性エマルションを接触させる際のカチオン性エマルションの温度は特に限定されないが、１０℃以上であることが抵抗値変動を効果的に抑制できるため好ましく、より好ましく３０℃以上である。上限は７０℃以下であることが好ましい。
【００５０】
＜水洗＞
上記した方法で導電材料が有する光透過性導電層をカチオン性エマルションで処理した後、余剰なカチオン性エマルションを除去することを目的として、導電材料を水洗することが好ましい。これにより、光学特性（ヘイズ、全光線透過率等）に優れた導電材料が得られる。カチオン性基の性質により、光透過性導電層が有する網目状金属細線パターン表面にカチオン性基を有する非水溶性高分子化合物は吸着しているので、水洗後もカチオン性エマルションによる処理効果は有効である。水洗は水単体で行ってもよく、リン酸塩、炭酸塩等のｐＨ調整剤を含有する水で行ってもよく、腐敗を防止する目的で防腐剤を含有する水で行ってもよい。
【００５１】
水洗方法は特に限定されないが、スクラビングローラ等を用いて温水シャワーを噴射しながら除去する方法や、温水をノズル等でジェット噴射しながら水の勢いで除去する方法を例示できる。シャワーやノズルを複数個設けて、除去の効率を高めることもできる。水洗後は加熱や自然乾燥により導電材料上の残存する水分を乾燥させることが好ましい。
【００５２】
本発明の導電材料の処理方法において、カチオン性エマルションによる処理が行われた後の導電材料を水洗しない場合は、光透過性導電層上に存在するカチオン性エマルションの分散媒を加熱や自然乾燥により乾燥させ、光透過性導電層上にカチオン性基を有する非水溶性高分子化合物を含有する膜が形成されていてもよい。カチオン性基を有する非水溶性高分子化合物を含有する膜の厚みは特に限定されない。
【００５３】
＜導電材料＞
本発明における導電材料が有する支持体の材質は特に限定されないが、導電材料をタッチパネルセンサー等の光透過性が必要な用途に利用する場合、導電材料には透明性が求められるため、支持体は光透過性を有することが特に好ましい。光透過性を有する支持体としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリアリレート、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリイミド、フッ素樹脂、フェノキシ樹脂、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリフェニレンスルファイド、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、アクリル樹脂、セロファン、ナイロン、ポリスチレン系樹脂、ＡＢＳ樹脂等の各種樹脂フィルム、石英ガラス、無アルカリガラス等のガラス等が例示できる。支持体の全光線透過率は６０％以上であることが好ましく、特に好ましくは７０％以上であり、支持体のヘイズは０〜３％であることが導電材料の透明性に優れるため好ましく、特に好ましくは０〜２％である。支持体は、光透過性導電層を有する側の面や、光透過性導電層を有する側の面の反対側の面に、易接着層、ハードコート層、反射防止層、防眩層、ＩＴＯやポリチオフェン等の非金属系導電材料を含有する層、等の公知の層を有していてもよい。
【００５４】
本発明において網目状金属細線パターンを構成する金属細線は金属を含有し、かつ導電性を有していればよく、該金属細線の金属種や金属組成、金属以外のバインダー成分の有無、光透過性導電層の形状等は限定されない。金属細線が含有する金属としては金、銀、銅、アルミニウム、ニッケルおよびこれらの合金が光透過性導電層の導電性に優れることから好ましく、銀およびその合金は導電性にとりわけ優れることから特に好ましい。
【００５５】
支持体上に網目状金属細線パターンを有する光透過性導電層を形成する方法は特に限定されず、例えば特開２０１５−６９８７７号公報に開示される方法に従い、金属およびバインダーを含有する導電性金属インキや導電性ペーストを、支持体上に印刷等の方法で付与し網目状金属細線パターンを形成する方法や、特開２００７−５９２７０号公報に開示される方法に従い、支持体上にハロゲン化銀乳剤層を設けた銀塩感光材料を導電材料前駆体として用い、硬化現像方式を用いて網目状金属細線パターンを形成する方法、特開２００４−２２１５６４号公報、特開２００７−１２３１４号公報等に開示される方法に従い、支持体上にハロゲン化銀乳剤層を設けた銀塩感光材料を導電材料前駆体として用い、直接現像方式を用いて網目状金属細線パターンを形成する方法、特開２００３−７７３５０号公報、特開２００５−２５０１６９号公報、特開２００７−１８８６５５号公報、特開２００４−２０７００１号公報等に開示される方法に従い、支持体上に物理現像核層と、ハロゲン化銀乳剤層を少なくともこの順に有する銀塩感光材料を導電材料前駆体として用い、可溶性銀塩形成剤および還元剤をアルカリ液中で作用させる、いわゆる銀塩拡散転写法を用いて網目状金属細線パターンを形成する方法、特開２０１４−１９７５３１号公報に開示される方法に従い、支持体上に下地層、感光性レジスト層を積層した感光性レジスト材料を導電材料前駆体として用い、感光性レジスト層を任意のパターン状に露光後、現像し、レジスト画像を形成した後、無電解めっきを施してレジスト画像に被覆されていない下地層上に金属を局在化させ、その後レジスト画像を除去し網目状金属細線パターンを形成する方法、特開２０１５−８２１７８号公報に開示されている方法に従い、支持体上に金属膜、レジスト膜を設け、該レジスト膜を露光および現像して開口部を形成し、該開口部の金属膜をエッチングして除去して網目状金属細線パターンを形成する方法、特開２０１２−２８１８３号公報に開示されている方法に従い、支持体上に金属ナノワイヤーを含有する層を形成し、該層をパターニングして網目状金属細線パターンを形成する方法等が例示できる。
【００５６】
上記した方法の中でも、銀塩感光材料を導電材料前駆体として用いる方法、および感光性レジスト材料を導電材料前駆体として用いる方法が導電性に優れた銀を含有する網目状金属細線パターンを容易に形成できることから好ましく、金属細線の微細化が容易であることから銀塩感光材料を導電材料前駆体として用いた銀塩拡散転写法を用いる方法が特に好ましい。
【００５７】
本発明において光透過性導電層は、カチオン性エマルションによる処理に先立って、公知の金属表面処理が施されていてもよい。例えば特開２００８−３４３６６号公報に記載されているような還元性物質、水溶性リンオキソ酸化合物、水溶性ハロゲン化合物を作用させてもよく、特開２０１３−１９６７７９号公報に記載されているような分子内に２つ以上のメルカプト基を有するトリアジンもしくはその誘導体を作用させてもよく、特開２０１１−２０９６２６号公報に記載されているように硫化反応による黒化処理を施してもよい。また、銀塩感光材料を導電材料前駆体として用いて網目状金属細線パターンを有する光透過性導電層を形成する場合、光透過性導電層と粘着剤層との接着性を改善する観点から、特開２００７−１２４０４号公報に記載されているように光透過性導電層をタンパク質分解酵素等の酵素を含有する処理液で処理し、残存するゼラチン等を低減してもよい。
【００５８】
本発明の導電材料の処理方法に従い得られた導電材料をタッチパネルセンサーに利用する場合、光透過性導電層が有する網目状金属細線パターンは、複数の単位格子を網目状に配置した幾何学形状を有することがセンサーの感度、視認性（難視認性）等の観点から好ましい。単位格子の形状としては、例えば正三角形、二等辺三角形、直角三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形等の四角形、六角形、八角形、十二角形、二十角形等のｎ角形、星形等を組み合わせた形状が挙げられ、またこれらの形状の単独の繰り返し、あるいは２種類以上の複数の形状の組み合わせが挙げられる。中でも単位格子の形状としては正方形もしくは菱形が好ましい。またボロノイ図形やドロネー図形、ペンローズタイル図形等に代表される不規則幾何学形状も、好ましい網目状金属細線パターンの形状の一つである。
【００５９】
本発明の導電材料の処理方法により得られた導電材料をタッチパネルセンサーに利用する場合、該導電材料は光透過性導電層として、互いに電気的に絶縁された複数のセンサーを有するセンサー部を有することが好ましい。また該センサー部の視認性（難視認性）の観点から、光透過性導電層にはセンサーと電気的に絶縁されたダミー部を有していてもよい。またセンサー部、ダミー部以外に、外部に電気信号を取り出すために設けられる端子部や、センサー部と端子部を電気的に接続する周辺配線部を有していてもよい。該端子部および周辺配線部は網目状金属細線パターンからなっていてもよく、塗りつぶしパターンであってもよい。
【００６０】
網目状金属細線パターンを構成する金属細線の線幅は、光透過性導電層が良好な光透過性と導電性を両立するために１．０〜２０μｍであることが好ましく、より好ましくは１．５〜１５μｍである。網目状金属細線パターンが単位格子を網目状に配置した幾何学形状を有する場合、単位格子の繰り返し周期は１００〜１０００μｍであることが好ましく、より好ましくは１００〜４００μｍである。
【００６１】
本発明により得られた導電材料の光透過性導電層を有する側の面、あるいはもう一方の側の面に、粘着剤層を介して機能材料を設け、導電材料積層体とすることができる。粘着剤層とは、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤等の公知の粘着剤を含有する層を意味する。粘着剤層の厚みは５〜５００μｍであることが導電材料積層体の透明性に優れるため好ましく、より好ましくは１０〜２５０μｍである。同様の観点から、粘着剤層の全光線透過率は９０％以上であることが好ましく、特に好ましくは９５％以上であり、粘着剤層のヘイズは０〜３％が好ましく、特に好ましくは０〜２％である。
【００６２】
粘着剤層として、特開平９−２５１１５９号公報、特開２０１１−７４３０８号公報等に例示されている透明性の高いアクリル系粘着剤を使用した光学用粘着テープや、特開２００９−４８２１４号公報、特開２０１０−２５７２０８号公報等に例示されている透明性の高い硬化型樹脂の硬化物を用いてもよい。光学用粘着テープ、透明性の高い硬化型樹脂はともに市販されており、前者としては住友スリーエム（株）より高透明性接着剤転写テープ（８１７１ＣＬ／８１７２ＣＬ／８１４６−１／８１４６−２／８１４６−３／８１４６−４等）、日東電工（株）より光学用透明粘着シート（ＬＵＣＩＡＣＳ（登録商標）  ＣＳ９６２２Ｔ／ＣＳ９８６２ＵＡ等）等が例示でき、後者としてはデクセリアルズ（株）より光学弾性樹脂ＳＶＲ（登録商標）シリーズ（ＳＶＲ１１５０、ＳＶＲ１３２０等）、協立化学産業（株）よりＷＯＲＬＤ  ＲＯＣＫ（登録商標）シリーズ（ＨＲＪ（登録商標）−４６、ＨＲＪ−２０３等）、ヘンケルジャパン（株）より紫外線硬化型光学透明接着剤Ｌｏｃｔｉｔｅ（登録商標）  ＬＯＣＡシリーズ（Ｌｏｃｔｉｔｅ３１９２、Ｌｏｃｔｉｔｅ３１９３等）等が例示でき、これらを入手し利用することができる。
【００６３】
機能材料としては、本発明の導電材料や、化学強化ガラス、ソーダガラス、石英ガラス、無アルカリガラス等のガラス、ポリエチレンテレフタレート等の各種樹脂を含有するフィルム、および上記したガラスやフィルムの少なくとも一方の面にハードコート層、反射防止層、防眩層、偏光層、ＩＴＯ導電膜等の公知の機能層を有する材料を例示できる。
【実施例】
【００６４】
以下、本発明に関し実施例を用いて詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
【００６５】
＜カチオン性エマルション１の準備＞
重合用溶媒としてメチルエチルケトンを３７７質量部、ポリオールとしてニッポラン４０１０（東ソー（株）製ポリエステルポリオール）を３００質量部とトリメチロールプロパンを９．０質量部、ポリイソシアネートとしてイソホロンジイソシアネートを１８０質量部、分子中にアミノ基を有する鎖伸長剤としてＮ−メチルジエタノールアミンを４９質量部、以上の材料を反応容器に投入し、７０〜７５℃に保ちながら９０分間撹拌してウレタンプレポリマーを得た。次に、撹拌しながら四級化剤として硫酸ジメチルを３８．１質量部添加し、５０〜６０℃に保ちながら２０分間撹拌し、ウレタンプレポリマー中の三級アミノ基を四級化し、第四級アンモニウム基とした。その後、撹拌しながら水を添加し、次いでメチルエチルケトンをエバポレーターで留去することで、カチオン性ポリウレタンエマルション１（カチオン性基を有する非水溶性高分子化合物の含有量は５質量％、ｐＨは５．３）を得た。大塚電子（株）製レーザー粒径解析装置ＰＡＲ−IIIを用いてキュムラント法による解析により求めた平均粒子径は１０ｎｍであった。
【００６６】
＜カチオン性エマルション２の準備＞
第一工業製薬（株）より市販されるスーパーフレックス６５０（カチオン性ポリウレタンエマルション、平均粒子径１０ｎｍ）を入手し、水で希釈し、カチオン性エマルション２（カチオン性基を有する非水溶性高分子化合物の含有量は５質量％、ｐＨは７．８）を得た。
【００６７】
＜カチオン性エマルション３の準備＞
ユニチカ（株）より市販されるアローベースＣＢ−１２００（カチオン性ポリオレフィンエマルション、平均粒子径７０ｎｍ）を入手し、水で希釈し、カチオン性エマルション３（カチオン性基を有する非水溶性高分子化合物の含有量は５質量％、ｐＨは３．６）を得た。
【００６８】
＜カチオン性エマルション４の準備＞
大成ファインケミカル（株）より市販されるアクリットＵＷ−３１９ＳＸ（カチオン性アクリル樹脂エマルション、平均粒子径５０ｎｍ）を入手し、水で希釈し、カチオン性エマルション４（カチオン性基を有する非水溶性高分子化合物の含有量は５質量％、ｐＨは５．７）を得た。
【００６９】
＜カチオン性エマルション５の準備＞
大成ファインケミカル（株）より市販されるアクリットＵＷ−５５０ＣＳ（カチオン性アクリル樹脂エマルション、平均粒子径９０ｎｍ）を入手し、水で希釈し、カチオン性エマルション５（カチオン性基を有する非水溶性高分子化合物の含有量は５質量％、ｐＨは４．３）を得た。
【００７０】
＜アニオン性エマルション１の準備＞
第一工業製薬（株）より市販されるスーパーフレックス１５０（アニオン性ポリウレタンエマルション、平均粒子径３０ｎｍ）を入手し、水で希釈し、アニオン性エマルション１（非水溶性高分子化合物の含有量は５質量％、ｐＨは８．０）を得た。
【００７１】
＜カチオン性基を有する水溶性高分子化合物の水溶液１の準備＞
日本合成化学工業（株）より市販されるゴーセネックス（登録商標）Ｋ−４３４（第四級アンモニウム塩含有ポリビニルアルコール）を入手し、水で溶解し、カチオン性基を有する水溶性高分子化合物の水溶液１（カチオン性基を有する水溶性高分子化合物の含有量は５質量％、ｐＨは５．８）を得た。
【００７２】
＜カチオン性基を有する水溶性高分子化合物の水溶液２の準備＞
三菱ケミカル（株）より市販されるサフトマー（登録商標）ＳＴ−２０００Ｈ（第四級アンモニウム塩含有ポリアクリル酸）を入手し、水で希釈し、カチオン性基を有する水溶性高分子化合物の水溶液２（カチオン性基を有する水溶性高分子化合物の含有量は５質量％、ｐＨは６．４）を得た。
【００７３】
＜カチオン性基を有する界面活性剤の水溶液１の準備＞
花王（株）より市販されるコータミン（登録商標）８６Ｗ（ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド）を入手し、水で希釈し、カチオン性基を有する界面活性剤の水溶液１（カチオン性基を有する界面活性剤の含有量は５質量％、ｐＨは５．６）を得た。
【００７４】
＜導電材料１の作製＞
支持体として、厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた。なお、支持体の全光線透過率は９１．８％、ヘイズは０．７％であった。
【００７５】
次に下記組成の物理現像核層塗液を支持体上にグラビアコーティングにより均一に塗布、乾燥して物理現像核層を設けた。
【００７６】
＜硫化パラジウムゾルの調製＞
Ａ液    塩化パラジウム                                  ５ｇ
塩酸                                          ４０ｍＬ
蒸留水                                    １０００ｍＬ
Ｂ液    硫化ソーダ                                  ８．６ｇ
蒸留水                                    １０００ｍＬ
Ａ液とＢ液を撹拌しながら混合し、３０分後にイオン交換樹脂の充填されたカラムに通し硫化パラジウムゾルを得た。
【００７７】
＜物理現像核層塗液／１ｍ２あたり＞
前記硫化パラジウムゾル（固形分として）              ０．４ｍｇ
２質量％グリオキサール水溶液                        ２００ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                                    ４ｍｇ
デナコール（登録商標）ＥＸ−８３０                    ２５ｍｇ
（ナガセケムテックス（株）製ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル）
１０質量％エポミン（登録商標）ＨＭ−２０００水溶液  ５００ｍｇ
（（株）日本触媒製ポリエチレンイミン；平均分子量３０，０００）
【００７８】
【化１】
2019012311.tif 000002
【００７９】
続いて、支持体に近い方から順に下記組成の中間層１、ハロゲン化銀乳剤層１、および保護層１を上記物理現像核層の上にスライドコーティングにより均一に塗布、乾燥して、導電材料前駆体１を得た。ハロゲン化銀乳剤層１が含有するハロゲン化銀乳剤は、コントロールドダブルジェット法で製造した。このハロゲン化銀乳剤が含有するハロゲン化銀粒子は、塩化銀９５ｍｏｌ％と臭化銀５ｍｏｌ％で、平均粒径が０．１５μｍになるように調製した。このようにして得られたハロゲン化銀粒子を定法に従いチオ硫酸ナトリウムと塩化金酸を用い、金イオウ増感を施した。こうして得られたハロゲン化銀乳剤は、銀１ｇあたり０．５ｇのゼラチンを保護コロイド（バインダー）として含有する。
【００８０】
＜中間層１組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン                                            ０．５ｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                                    ５ｍｇ
染料１                                                  ５ｍｇ
【００８１】
【化２】
2019012311.tif 000003
【００８２】
＜ハロゲン化銀乳剤層１組成／１ｍ２あたり＞
ハロゲン化銀乳剤                                    ３．０ｇ銀相当
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール                ３ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                                  ２０ｍｇ
【００８３】
＜保護層１組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン                                                １ｇ
不定形シリカマット剤（平均粒径３．５μｍ）            １０ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                                  １０ｍｇ
【００８４】
導電材料前駆体１と、図１で示したポジ型透過原稿とを密着し、水銀灯を光源とする密着プリンターで４００ｎｍ以下の光をカットする樹脂フィルターを介して露光した。該ポジ型透過原稿は網目状パターン２１と塗りつぶしパターン２２、２２’から構成される試験パターン２３（２３ａ〜２３ｅの５本）を有する。試験パターン２３を構成する塗りつぶしパターン２２と２２’は、線幅５．０μｍ、一辺の長さが３００μｍで狭い方の角度が６０°の菱形の単位格子による網目状パターン２１を介して接続されている。なお図中、破線は後述する機能材料の貼合領域３０を表す。その後、下記拡散転写現像液中に２０℃で６０秒間浸漬した後、続いてハロゲン化銀乳剤層、中間層、および保護層を４０℃の温水で水洗除去し、乾燥処理した。このようにして導電材料１を得た。なお、得られた導電材料１が有するパターンの形状、線幅等は、前記したポジ型透過原稿と同様であった。
【００８５】
＜拡散転写現像液組成＞
水酸化カリウム                                        ２５ｇ
ハイドロキノン                                        １８ｇ
１−フェニル−３−ピラゾリドン                          ２ｇ
亜硫酸カリウム                                        ８０ｇ
Ｎ−メチルエタノールアミン                            １５ｇ
臭化カリウム                                        １．２ｇ
全量を水で１０００ｍｌ
ｐＨ＝１２．２に調整する。
【００８６】
＜導電材料２の作製＞
導電材料１をカチオン性エマルション１中に４０℃で１分間浸漬した後、シャワー水洗により余剰なカチオン性エマルション１を除去し、乾燥して導電材料２を得た。
【００８７】
＜導電材料３の作製＞
カチオン性エマルション１中への浸漬条件を４０℃で１０秒間とした以外は導電材料２と同様にして導電材料３を得た。
【００８８】
＜導電材料４の作製＞
カチオン性エマルション１中への浸漬条件を４０℃で３分間とした以外は導電材料２と同様にして導電材料４を得た。
【００８９】
＜導電材料５の作製＞
カチオン性エマルション１に代わり、カチオン性エマルション２を用いた以外は導電材料２と同様にして導電材料５を得た。
【００９０】
＜導電材料６の作製＞
カチオン性エマルション１に代わり、カチオン性エマルション３を用いた以外は導電材料２と同様にして導電材料６を得た。
【００９１】
＜導電材料７の作製＞
カチオン性エマルション１に代わり、カチオン性エマルション４を用いた以外は導電材料２と同様にして導電材料７を得た。
【００９２】
＜導電材料８の作製＞
カチオン性エマルション１に代わり、カチオン性エマルション５を用いた以外は導電材料２と同様にして導電材料８を得た。
【００９３】
＜導電材料９の作製＞
カチオン性エマルション１に代わり、アニオン性エマルション１を用いた以外は導電材料２と同様にして導電材料９を得た。
【００９４】
＜導電材料１０の作製＞
カチオン性エマルション１に代わり、カチオン性基を有する水溶性高分子化合物の水溶液１を用いた以外は導電材料２と同様にして導電材料１０を得た。
【００９５】
＜導電材料１１の作製＞
カチオン性エマルション１に代わり、カチオン性基を有する水溶性高分子化合物の水溶液２を用いた以外は導電材料２と同様にして導電材料１１を得た。
【００９６】
＜導電材料１２の作製＞
カチオン性エマルション１に代わり、カチオン性基を有する界面活性剤の水溶液１を用いた以外は導電材料２と同様にして導電材料１２を得た。
【００９７】
＜積層体の作製＞
導電材料１〜１２それぞれについて、機能材料の貼合場所３０に住友スリーエム（株）製高透明性接着剤転写テープ８１４６−４を貼合し、厚み１００μｍの粘着剤層とした。続いて機能材料としてＥＡＧＬＥ  ＸＧ（登録商標）（コーニングジャパン（株）製無アルカリガラス）を粘着剤層上に貼合して積層体を作製した。
【００９８】
＜抵抗値評価＞
積層体の試験パターン２３ａ〜２３ｅの５本それぞれについて、塗りつぶしパターン２２と２２’の間の抵抗値を測定し、試験パターン２３ａ〜２３ｅの初期抵抗値Ｒａ〜Ｒｅ（単位：ｋΩ）をそれぞれ得た。次に、積層体に対して、スガ試験機（株）製キセノンウェザーメーターＮＸ２５を用いてキセノンランプ光（太陽光と類似した分光分布を有する光）を１０００時間照射した。条件はＪＩＳ  Ｋ７３５０−２に従い、放射照度６０Ｗ／ｍ２（波長３００ｎｍ〜４００ｎｍ）、槽内温度３８℃、槽内湿度５０％ＲＨ、ブラックパネル温度６３℃とした。照射終了後、試験パターン２３ａ〜２３ｅの５本それぞれについて抵抗値を再測定し、抵抗値Ｒ’ａ〜Ｒ’ｅ（単位：ｋΩ）を得た。そして以下の式に従い、個々の試験パターン（試験パターン２３ａ〜２３ｅ）のそれぞれについて、キセノンランプ光照射前後での抵抗値変化率（単位：％）を算出し、さらに試験パターン２３ａ〜２３ｅの抵抗値変化率を平均して導電材料１〜１２の平均抵抗値変化率（単位：％）とした。この結果を表１に示す。
試験パターン２３ｘの抵抗値変化率（単位：％）＝（Ｒ’ｘ−Ｒｘ）／Ｒｘ×１００
式中ｘはａ〜ｅを表す。
【００９９】
【表１】
2019012311.tif 000004
【０１００】
表１の結果から本発明の有効性が判る。
【符号の説明】
【０１０１】
２１  網目状パターン
２２、２２’  塗りつぶしパターン
２３ａ〜２３ｅ  試験パターン
３０  機能材料の貼合領域
【図１】
2019012311.tif 000005