(57)【要約】【課題】  省スペースで弾性変形可能又はコイル状のチューブの内面をプラズマ照射で表面改質するのに好適なチューブの表面処理装置を提供する。【解決手段】  チューブの表面処理装置１は、真空チャンバー２と、真空チャンバー２内に配置され、塔本体５０の外周に弾性変形可能なチューブ７が螺旋状に巻回されて取り付けられ、又はコイル状のチューブが取り付けられる支持塔５と、塔本体５０の外周に周方向に沿って配置された複数の第１電極体と、塔本体５０の外周に周方向に沿って前記第１電極体の間に配置された複数の第２電極体と、前記第１電極体と前記第２電極体に所定電圧を印加する電源部１２と、塔本体５０に取り付けられるチューブ７に接続されてチューブ７内の気体を排気し、チューブ７内にプラズマが発生する気圧に減圧する第１真空ポンプ部８と、を有する。【選択図】  図１
2019077104.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弾性変形可能又はコイル状のチューブの内面をプラズマ照射により表面処理するチューブの表面処理装置であって、
真空チャンバーと、
前記真空チャンバー内に配置され、塔本体の外周に前記弾性変形可能なチューブが螺旋状に巻回されて取り付けられ、又は前記コイル状のチューブが取り付けられる支持塔と、
前記塔本体の外周に周方向に沿って配置された複数の第１電極体と、
前記塔本体の外周に周方向に沿って前記第１電極体の間に配置された複数の第２電極体と、
前記第１電極体と前記第２電極体に所定電圧を印加する電源部と、
前記塔本体に取り付けられるチューブに接続されて前記チューブ内の気体を排気し、前記チューブ内にプラズマが発生する気圧に減圧する第１真空ポンプ部と、
を有することを特徴とするチューブの表面処理装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記チューブの両端部は、前記チューブの両端部に取り付けられるチューブ止め手段により前記塔本体の外周面に取り外し可能に止められることを特徴とするチューブの表面処理装置。
【請求項３】
請求項１において、
前記塔本体の外周面に前記チューブが嵌合する嵌合溝を螺旋状に形成したことを特徴とするチューブの表面処理装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項において、
前記支持塔は、前記真空チャンバー内に取り出し可能に取り付けられていることを特徴とするチューブの表面処理装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項において、
前記真空チャンバー内の気体を排気して、前記チューブ内の気圧よりも高く前記真空チャンバー内でプラズマが発生しない圧力に減圧し、前記チューブ内の気圧との間に生じる差圧を調節可能とする第２真空ポンプ部を有することを特徴とするチューブの表面処理装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１項において、
前記真空チャンバーは、縦長有底の筒体形状に形成されたチャンバー本体と、前記チャンバー本体の上端開口を塞ぐ蓋体と、を有し、前記上端開口を通して前記支持塔を取り出し可能とすることを特徴とするチューブの表面処理装置。
【請求項７】
被処理対象物の内面及び外面のうち一方の面をプラズマ照射により処理するプラズマ処理装置であって、
気圧をそれぞれ調整可能な２つの空間のうち一方の空間に前記被処理対象物の内面を、他方の空間に前記被処理対象物の外面を配置した状態で前記２つの空間の差圧が所定条件となるように前記一方の空間の気圧及び前記他方の空間の気圧を減圧するとともに、前記一方の空間の気圧を前記他方の空間の気圧よりも低くすることを特徴とするプラズマ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、弾性変形可能又はコイル状のチューブ内をプラズマ照射により表面改質するチューブの表面処理装置に係り、特に、省スペースで弾性変形可能又はコイル状のチューブの内面をプラズマ照射で表面改質するのに好適なチューブの表面処理装置及びプラズマ処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
試験管やピペットの内壁面をプラズマ照射により親水性の改善を図る表面処理方法として、例えば、開口端を塞いた試験管内を真空状態に維持し、試験管の両端に配置した電極に所定電圧の直流パルス電圧を所定時間印加することが提案されている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第５７８５６５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に開示された表面処理方法により、弾性変形可能な長尺チューブの内面を表面処理する場合、長尺チューブを真っ直ぐに延ばさなければならず、スペース確保等の点から非現実的であった。
【０００５】
また、コイル状のチューブの内面をプラズマ照射により表面改質処理する場合、特許文献１の電極配置ではプラズマの発生が困難である。
【０００６】
そこで、本発明は、このような従来の技術の有する未解決の課題に着目してなされたものであって、省スペースで弾性変形可能又はコイル状のチューブの内面をプラズマ照射で表面改質するのに好適なチューブの表面処理装置及びプラズマ処理装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
〔発明１〕  上記目的を達成するために、発明１のチューブの表面処理装置は、弾性変形可能又はコイル状のチューブの内面をプラズマ照射により表面処理するチューブの表面処理装置であって、真空チャンバーと、前記真空チャンバー内に配置され、塔本体の外周に前記弾性変形可能なチューブが螺旋状に巻回されて取り付けられ、又は前記コイル状のチューブが取り付けられる支持塔と、前記塔本体の外周に周方向に沿って配置された複数の第１電極体と、前記塔本体の外周に周方向に沿って前記第１電極体の間に配置された複数の第２電極体と、前記第１電極体と前記第２電極体に所定電圧を印加する電源部と、前記塔本体に取り付けられるチューブに接続されて前記チューブ内の気体を排気し、前記チューブ内にプラズマが発生する気圧に減圧する第１真空ポンプ部と、を有する。
【０００８】
ここで、真空とは、大気圧より低い圧力の気体で満たされた空間内の状態をいう。以下、本願明細書において同じである。
【０００９】
〔発明２〕  さらに、発明２のチューブの表面処理装置は、発明１のチューブの表面処理装置において、前記チューブの両端部は、前記チューブの両端部に取り付けられるチューブ止め手段により前記塔本体の外周面に取り外し可能に止められる。
【００１０】
〔発明３〕  さらに、発明３のチューブの表面処理装置は、発明１のチューブの表面処理装置において、前記塔本体の外周面に前記チューブが嵌合する嵌合溝を螺旋状に形成した。
【００１１】
〔発明４〕  さらに、発明４のチューブの表面処理装置は、発明１乃至３のいずれか１のチューブの表面処理装置において、前記支持塔は、前記真空チャンバー内に取り出し可能に取り付けられている。
【００１２】
〔発明５〕  さらに、発明５のチューブの表面処理装置は、発明１乃至４のいずれか１のチューブの表面処理装置において、前記真空チャンバー内の気体を排気して、前記チューブ内の気圧よりも高く前記真空チャンバー内でプラズマが発生しない圧力に減圧し、前記チューブ内の気圧との間に生じる差圧を調節可能とする第２真空ポンプ部を有する。
【００１３】
〔発明６〕  さらに、発明６のチューブの表面処理装置は、発明１乃至５のいずれか１のチューブの表面処理装置において、前記真空チャンバーは、縦長有底の筒体形状に形成されたチャンバー本体と、前記チャンバー本体の上端開口を塞ぐ蓋体と、を有し、前記上端開口を通して前記支持塔を取り出し可能とする。
【００１４】
〔発明７〕  一方、上記目的を達成するために、発明７のプラズマ処理装置は、被処理対象物の内面及び外面のうち一方の面をプラズマ照射により処理するプラズマ処理装置であって、気圧をそれぞれ調整可能な２つの空間のうち一方の空間に前記被処理対象物の内面を、他方の空間に前記被処理対象物の外面を配置した状態で前記２つの空間の差圧が所定条件となるように前記一方の空間の気圧及び前記他方の空間の気圧を減圧するとともに、前記一方の空間の気圧を前記他方の空間の気圧よりも低くする。
【発明の効果】
【００１５】
以上説明したように、発明１のチューブの表面処理装置によれば、弾性変形可能なチューブの長さに関係なく、又はコイル状のチューブでも塔本体の外周に巻き付けた状態で配置できるので、装置の省スペース化を図ることができる。また、第１電極体と第２電極体をチューブを挟んで対向配置せず、塔本体の外周に周方向に沿って交互に配置してプラズマを発生させることができるので、第１電極体と第２電極体の配置の自由度が増し、装置のコンパクト化を図ることができる。
【００１６】
さらに、発明２のチューブの表面処理装置によれば、チューブの長短に合わせて塔本体の外周面にチューブを適切に取り付けることができる。
【００１７】
さらに、発明３のチューブの表面処理装置によれば、同一長さのチューブを容易に取り付けできるので、多数本の同一な長さのチューブを効率よく処理することができる。
【００１８】
さらに、発明４のチューブの表面処理装置によれば、予めチューブを取り付けた支持塔を用意しておけば、処理終了から次の処理までの支持塔の交換時間を短縮することができ、処理効率をアップさせることができる。
【００１９】
さらに、発明５のチューブの表面処理装置によれば、第２真空ポンプ部により、チューブの変形強度の大小に応じてチューブの内外の差圧を調節することで、チューブの圧潰を防止して、チューブ内の内周表面のみに表面改質処理を施すことができる。
【００２０】
さらに、発明６のチューブの表面処理装置によれば、支持塔の交換は、蓋体をチャンバー本体から取り外し、チャンバー本体の開口から支持塔をチャンバー本体内に降ろす操作と引き上げる簡単な操作で支持塔の交換操作を行うことができる。
【００２１】
一方、発明７のプラズマ処理装置によれば、被処理対象物の変形を抑制し被処理対象物の内面及び外面のうち一方の面を処理することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】チューブの表面処理装置１の外観斜視図である。
【図２】チューブの表面処理装置１の正面図である。
【図３】チューブの表面処理装置１の右側面図である。
【図４】チューブの表面処理装置１の上面図である。
【図５】支持塔５の外観斜視図である。
【図６】（ａ）が支持塔５の上面図、（ｂ）が支持塔５の右側面図、（ｃ）が支持塔５の正面図である。
【図７】支持塔２００の分解斜視図である。
【図８】図７のＡ−Ａ線に沿った断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
〔第１実施形態〕
以下、本発明の第１実施形態を説明する。図１乃至図６は、本実施形態を示す図である。
【００２４】
まず、本実施形態の構成を説明する。
図１は、チューブの表面処理装置１の外観斜視図である。図２は、チューブの表面処理装置１の正面図である。図３は、チューブの表面処理装置１の右側面図である。
【００２５】
図１において、チューブの表面処理装置１は、縦長の筒体形状に形成された真空チャンバー２と、真空チャンバー２内に取り出し可能に設置された支持塔５と、支持塔５に螺旋状に巻回される弾性変形可能な長尺のチューブ７内の気体を排気する第１真空ポンプ部８と、真空チャンバー２内の気体を排気する第２真空ポンプ部９と、支持塔５に取付けた第１電極１０と第２電極１１に例えば直流のパルス電圧を印加する電源部１２とを有する。
【００２６】
次に、真空チャンバー２の構成を説明する。
真空チャンバー２は、底部２０を有する縦長円筒形状のチャンバー本体２１の上端に形成された開口２２を円盤形状の蓋体２３により閉塞している。チャンバー本体２１の側面に、チャンバー本体２１の内外を連通する第１排気ポート２４と第２排気ポート２５が取付けられている。第１排気ポート２４と第２排気ポート２５は第１真空ポンプ部４と不図示の接続パイプを介して接続される。
【００２７】
底部２０の中央部分に有底の円形形状の底穴部２６が形成されている。底穴部２６には、支持塔５を底部２０に取付ける中空形状の取り付け台２７が嵌合している。取り付け台２７は、円筒形状の第１係合部２８と第１係合部２８よりも外径が大径の円盤形状の台本体部２９が同一軸心上に一体的に形成され、台本体部２９が底穴部２６に嵌合する。台本体部２９の上面３０は、底部２０の表面と一致している。
【００２８】
底穴部２６には、周方向に一定角度間隔で４本の取り付けピン３１ａ〜３１ｄが上方に向けて支出されている。台本体部２９には、取り付けピン３１ａ〜３１ｄに対応して係合孔３２ａ〜３２ｄが形成されている。台本体部２９の係合孔３２ａ〜３２ｄを取り付けピン３１ａ〜３１ｄに差し込んで接着剤等で接着することで取り付け台２７が底部２０に固定される。第１係合部２８は、直径線を挟んで前部３３の上面が後部３４の上面よりも上下方向において低く形成され、前部３３の上面と後部３４の上面との間で上下方向に段差３５が形成されている。
【００２９】
蓋体２３の内面の外周部は、開口２２の上端面の全周面と密着状態で当接する。蓋体２３には、チャンバー本体２１の内外を連通する第３排気ポート３６と、チャンバー本体２１内の気圧を測定する圧力計３７が取り付けられている。第３排気ポート３６は第２真空ポンプ部９と不図示の接続パイプを介して接続される。第２真空ポンプ部９を駆動して真空チャンバー２内の気圧を減圧すると、蓋体２３は差圧によりチャンバー本体２１の開口に密着する。
【００３０】
次に、支持塔５の構成を説明する。
図４は、チューブの表面処理装置１の上面図である。図５は、支持塔５の外観斜視図である。図６は、（ａ）が支持塔５の上面図、（ｂ）が支持塔５の右側面図、（ｃ）が支持塔５の正面図である。
【００３１】
支持塔５は、円筒形状の塔本体５０と、塔本体５０の下端部が差し込まれる円筒形状に形成された第２係合部５１とを有する。塔本体５０は、外周面に軸方向に沿って第１凹溝５２〜第４凹溝５５の４つの凹溝が等間隔（９０度）に形成されている。対向する第１凹溝５２と第３凹溝５４には第１電極１０のＡ電極体１０ＡとＢ電極体１０Ｂが装着される。第１電極１０は、細幅の導電部材を平面コ字形状に折曲して形成され、中央部分の接続体１００の両側に第１電極体をなすＡ電極体１０ＡとＢ電極体１０Ｂが対向配置される。第２電極１１は、第１電極１０と同様に構成され、中央部分の接続体１１０の両側に第２電極体をなすＣ電極体１１ＣとＤ電極体１１Ｄが対向配置される。そして、対向する第２凹溝５３と第４凹溝５５にＣ電極体１１ＣとＤ電極体１１Ｄが装着される。すなわち、前記第１電極体の間に前記第２電極体が配置される。
【００３２】
第２係合部５１の内径孔５６に塔本体５０の下端部が密嵌合する。内径孔５６の内面には、第１凹溝５２〜第４凹溝５５の凹部に対応して第１係合片５７〜第４係合片６０が内向きに形成されている。第１係合片５７〜第４係合片６０は、第１凹溝５２〜第４凹溝５５に装着されるＡ電極１０Ａ、Ｂ電極１０Ｂ、Ｃ電極１１Ｃ、Ｄ電極１１Ｄの外面に達する位置までに延びている。
【００３３】
第２係合部５１は、直径線を挟んで後部６１の下面が前部６２の下面よりも上方に位置するように形成され、前部６２の下面と後部６１の下面との間で上下方向に段差６３が形成されている。第２係合部５１と第１係合部２８は外径が同径に形成され、第２係合部５１を第１係合部２８に対し、互いの段差３５と段差６３が接するようにして重ねると、軸回りに回転不能に係合する。
【００３４】
塔本体５０の下端部は、第２係合部５１の段差６３と一致するように切欠かれており、塔本体５０の後部６４の下端は第２係合部５１の後部６１の下面まで達し、塔本体５０の前部６５の下端は第２係合部５１の前部６２の下面まで達している。
【００３５】
図６に示すように、第１電極１０と第２電極１１は、接続体１００と接続体１１０を塔本体５０の下側に互いに直交するように配置し、Ａ電極体１０Ａを第１凹溝５２、Ｂ電極体１０Ｂを第３凹溝５４、Ｃ電極体１１Ｃを第２凹溝５３、Ｄ電極体１１Ｄを第４凹溝５５に差し込むようにして装着する。第２電極１１は塔本体５０の後部６４の下端に接続体１１０を配置し、第１電極１０は塔本体５０の前部６５の下端に接続体１００を配置している。したがって、第１電極１０の接続体１００は第２電極１１の接続体１１０よりも下方に位置し、ショートすることがない。なお、第２電極１１のＣ電極体１１Ｃが装着される第２凹溝５３は、塔本体５０の前部６５に設けられているので、第４凹溝５５が設けられている塔本体５０の後部６４の下端と同レベルの位置まで切欠かれている。
【００３６】
Ａ電極体１０Ａ、Ｂ電極体１０Ｂ、Ｃ電極体１１Ｃ、Ｄ電極体１１Ｄには塔本体５０を貫通して高圧パルス側給電ピン（不図示）とグランド側給電ピン（不図示）が差し込まれる給電ピン差込孔６６が下方位置にそれぞれ形成されている。Ａ電極体１０Ａ、Ｂ電極体１０Ｂ、Ｃ電極体１１Ｃ、Ｄ電極体１１Ｄは、給電ピン差込孔６６の上方に複数設けたねじ孔（不図示）を通してねじ（不図示）が塔本体５０にねじ込まれ、第１電極板１０と第２電極板１１が塔本体５０に固定される。
【００３７】
前記高圧パルス側給電ピンとグランド側給電ピンは、例えばチャンバー本体２１に取付けた高圧パルス接続端子（不図示）と、グランド接続端子（不図示）にそれぞれ不図示の給電線を介して接続される。電源部１２は、不図示の接続線を介して前記高圧パルス接続端子とグランド接続端子に接続される。
【００３８】
塔本体５０の外周面には、上下方向に沿って螺旋状のガイド溝６７が形成されている。ガイド溝６７には、軟弾性を有するチューブ７が嵌合して巻回される。チューブ７としては、輸血用、点滴用等の医療用チューブを例示することができるがこれに限定されるものではない。塔本体５０の外周に巻回支持されるチューブ７の下端側に位置する一端開口７ａと上端側に位置する他端開口７ｂは、第１排気ポート２４と第２排気ポート２５にそれぞれ不図示の接続パイプを介して接続される。なお、チューブ７の他端開口７ｂを閉塞し、一端開口７ａからのみ排気するようにしても良い。その際、第２排気ポート２５を閉栓する。
【００３９】
次に、チューブ７の表面処理操作を説明する。
本実施形態において、チューブ７の内周面を表面改質する場合、支持塔５にチューブ７をガイド溝６７に嵌合して予め保持する。また、前記高圧パルス側給電ピンとグランド側給電ピンをそれぞれ第１電極板１０と第２電極板１１の給電ピン差込孔６６に差し込む。さらに、チューブ７の一端開口７ａに不図示の接続パイプを接続し、第１真空ポンプ部８との接続を行う。なお、チューブ７の他端開口７ｂを予め閉塞する。
【００４０】
そして、真空チャンバー２の蓋体２３を取り外してチャンバー本体２１の開口２２を開放し、チューブ７が巻回保持された支持塔５を開口２２からチャンバー本体２１内の底部２０に向けて差し入れる。支持塔５の第２係合部５１を取り付け台部２７の第１係合部２８に係合させることにより、支持塔５が真空チャンバー２の底部２０に回転不能に取付けられる。支持塔５の取付け終了後に、蓋体２３をチャンバー本体２１の上端に載置して開口２２を閉じる。
【００４１】
その後、第１真空ポンプ部８と第２真空ポンプ部９を駆動し、処理対象物であるチューブ７の処理対象面である内面側の気圧（Ｐ１）と処理対象物の非処理対象面側をなす真空チャンバー２内の気圧（Ｐ２）に差圧（Ｐ１＜Ｐ２）が生じるように、チューブ７の内側の気圧（Ｐ１）を真空チャンバー２内の気圧（Ｐ２）よりも低くする。真空チャンバー２内の気圧（Ｐ２）は、チューブ７の外面側でプラズマが発生しない気圧に設定する。
【００４２】
塔本体５０の外周面には、第１電極１０のＡ電極体１０ＡとＢ電極体１０Ｂが対向配置され、周方向に９０度の角度をずらして第２電極１１のＣ電極体１１ＣとＤ電極体１１Ｄが配置される。
【００４３】
すなわち、塔本体５０の周方向に、Ａ電極体１０Ａ、Ｂ電極体１０Ｂ、Ｃ電極体１１Ｃ、Ｄ電極体１１Ｄの順で配置される。電源部１２から第１電極１０にはプラス極性の高圧パルス電圧が印加され、第２電極１１にはマイナス極性のグランド電圧が印加される。すなわち、塔本体５０の外周には、プラス極性の電極体（１０Ａ、１０Ｂ）とマイナス極性の電極体（１１Ｃ、１１Ｄ）が交互に配置される。このため、チューブ７内を所定の気圧値に減圧した状態で第１電極１０と第２電極１１に所定電圧を印加すると、隣接する電極体間でチューブ７内にプラズマが発生し、チューブ７の内周面をプラズマ照射により親水性等を向上させた改質処理を行うことができる。
【００４４】
本実施形態において、真空チャンバー２内で被処理対象物であるチューブ７の処理対象面であるチューブ７の内側の気圧を非処理対象面である外側の気圧よりも低くして差圧状態を生成している。処理対象面と非処理対象面に生じる差圧は、被処理対象物が差圧で潰れない範囲に設定する。非処理対象面側の気圧は、プラズマが発生する気圧（閾値）を下回らない、すなわちプラズマが発生しない気圧よりも高い範囲で設定する。なお、前記閾値はプラズマの電源電圧に応じた値である。また、前記差圧の許容度は、被処理対象物の強度により異なるが、例えばペットボトルと試験管ではペットボトルの方が差圧は小さい。
【００４５】
したがって、変形強度が高い潰れ難いチューブ７に対しては、内側だけ減圧することができる。一方、変形強度が低い潰れやすいチューブ７に対しては、チューブ７の内側と外側の両方を減圧する。例えば、チューブ７内の気圧（Ｐ１）を２００Ｐａ、チューブ７外の気圧（Ｐ２）を２０００Ｐａに設定し、チューブ７内のみにプラズマが発生し、チューブ７外にプラズマが発生しないようにチューブ７の外側、すなわち真空チャンバー２内の気圧をチューブ７内の気圧よりもやや高めに設定する。真空チャンバー２内の気圧は圧力計３７によりチェックすることで、真空チャンバー２内にプラズマが発生しない気圧を維持することができる。
【００４６】
次に、本実施形態の効果を説明する。
本実施形態によれば、チューブ７を塔本体５２に螺旋状に巻回するようにしているので、チューブ７が長くても小さなスペースでチューブ７の内表面をプラズマ照射により表面改質処理を行うことができる。
【００４７】
また、塔本体５０の外周面に螺旋状にガイド溝６７を設けてチューブ７を嵌合して保持しているので、塔本体５０へのチューブ７の取り付けが容易なので、所定長さのチューブ７を短時間に多数本処理することができる。
【００４８】
また、第２真空ポンプ部９により、チューブの変形強度の大小に応じてチューブ７の内外の差圧を調節することで、チューブの圧潰を防止して、チューブ７内の内周表面のみに表面改質処理を施すことができる。
【００４９】
さらに、チューブ７が巻回される塔本体５０の外周面に周方向に沿って正極と負極の電極板（Ａ電極体、Ｂ電極体、Ｃ電極体、Ｄ電極体）１０、１１を交互に配置することで、隣接するＡ電極体１０Ａ、Ｂ電極体１０Ｂ、Ｃ電極体１１Ｃ、Ｄ電極体１１Ｄ間でプラズマが発生する。このため、正極と負極の電極板１０、１１の配置を塔本体５０に配置でき、電極板（電極体）の配置の自由度が増し、装置のコンパクト化を図ることができる。
【００５０】
また、支持塔５の交換は、蓋体２３をチャンバー本体２１から取り外し、チャンバー本体２１の開口２２から支持塔５をチャンバー本体２１内に降ろすという簡単な操作で取り付け台部２７に支持塔５が取り付けることができ、また逆に引き上げるだけで処理済みのチューブ７が取り付けられた支持塔５を容易に取り出すことができる。
【００５１】
さらに、予めチューブ７を取り付けた支持塔５を複数用意しておけば、処理終了から次の処理までの交換時間を短縮することができ、処理効率をアップさせることができる。
【００５２】
〔第２実施形態〕
次に、本発明の第２実施形態を説明する。図７及び図８は、本実施形態を示す図である。
【００５３】
図７は、支持塔２００の分解斜視図である。図８は、図７のＡ−Ａ線に沿った断面図である。なお、第１実施形態に示す部材と同じ部材には同じ符号を付してその説明を省略する。
【００５４】
まず、支持塔２００の構成を説明する。
図７及び図８において、第２実施形態の支持塔２００は、円筒形状に形成された塔本体２０１の下端部に、第１実施形態の支持塔５に設けた第２係合部５１と同構造の第３係合部（不図示）が設けられている。支持塔２００は、図１に示す真空チャンバー２の取り付け台部２７に設けた第１係合部２８に係合し、真空チャンバー２の底部に取り出し可能に取付けられる。
【００５５】
支持塔２００の塔本体２０１は、第１実施形態に示す第１電極板１０と第２電極板１１が取付けられる。塔本体２０１の外周面に第１凹溝２０２〜第４凹溝２０５が等角度間隔で形成され、第１電極板１０のＡ電極体１０Ａを第１凹溝２０２、Ｂ電極体１０Ｂを第３凹溝２０４、第２電極板１１のＣ電極体１１Ｃを第２凹溝２０３、Ｄ電極体１１Ｄを第４凹溝２０５に差し込むようにして装着する。
【００５６】
本実施形態では、高圧パルスが印加される第１電極板１０を塔本体２０１の下側から装着し、グランド側電圧が印加される第２電極板１１を塔本体２０１の上側から装着している。塔本体２０１は上端と下端の端面が共に平坦面に形成されているので、第１電極板１０と第２電極板１１を塔本体２０１の上端又は下端側から装着すると、第１電極１０の接続体１００と第２電極１１の接続体１１０がショートする。しかし、本実施形態では第１電極板１０と第２電極板１１が塔本体２０１の上端側と下端側に別々に配置しているので、ショートすることがない。
【００５７】
塔本体２０１の外周面にチューブ７が螺旋状に巻回される。塔本体２０１の外周面に螺旋状に巻回されたチューブ７の両端部は、チューブ止め手段である第１チューブ端部押え体２０６と第２チューブ端部押え体２０７により取り外し可能に保持された状態で塔本体２０１の外周面に押し付けられて移動不能に止められる。
【００５８】
第１チューブ端部押え体２０６と第２チューブ端押え体２０７は同一構造に形成されており、第１チューブ端部押え体２０６の構成について説明し、第２チューブ端押え体２０７の構成については、同一部材には同一の符号を付し、その説明を省略する。第１チューブ端部押え体２０６は、直方体形状の本体部２０８の一側面２０９の一端側にチューブ７が嵌合する半円形状の嵌合溝２１０が形成され、一側面２０９の他端に差込突起部２１１が前方に向けて突出している。
【００５９】
第１チューブ押え体２０６の嵌合溝２１０にチューブ７の一端部を嵌合し、第２チューブ押え体２０７の嵌合溝２１０にチューブ７の他端部を嵌合させた状態で、塔本体２０１の外周面にチューブ７を螺旋状に巻回する。その際、巻回始端側の第１チューブ端部押え体２０６の差込突起部２１１を例えば塔本体２０１の外周面の下部に形成した差込孔２１２に取り外し可能に差し込んで固定する。チューブ７を塔本体２０１の外周面に対して螺旋状に巻き終えると、チューブ７の他端部に設けた第２チューブ押え体２０７の差込突起部２１１を塔本体２０１の外周面に形成した他の差込孔２１２に差し込んで固定する。
【００６０】
塔本体２０１の外周面に螺旋状に巻回されたチューブ７は、下方に位置する一端部と上方に位置する他端部が第１チューブ押え体２０６と第２チューブ押え体２０７を介して塔本体２０１の外周面に固定されるので、チューブ７は塔本体２０１の外周面に螺旋状に巻回した状態に保持される。
【００６１】
次に、本実施形態の効果を説明する。
本実施形態では、チューブ７の長さに応じて巻回する際のピッチを変更することで、チューブ７を塔本体２０１に対して螺旋状に巻回した状態に保持することができる。チューブ７が長ければ、巻回するピッチを小さくし、短ければ巻回するピッチを大きくする。なお、差込突起部２１１が差し込まれる差込孔２１２を塔本体２０１の外周面に周方向及び上下方向に複数個所設けることにより、チューブ７の長さに関係なく同じピッチでチューブ７を塔本体２０１の外周面に取り付けることができる。
【００６２】
本実施形態によれば、長さの異なるチューブ７を塔本体２０１に螺旋状に巻回保持することができる。このため、チューブ７の長さ毎に塔本体２０１を用意する必要がない。
【００６３】
〔変形例〕
なお、上記第１及び第２実施形態において、平面コ字形状の第１電極１０と第２電極１１塔本体５０に対して直交するように配置し、正極と負極のそれぞれ２本の電極体（１０Ａ、１０Ｂ、１１Ａ、１１Ｂ）を交互に配置しているが、正極と負極のそれぞれ３本又はそれ以上の電極体を交互に配置するようにしても良い。
【００６４】
また、上記第１及び第２実施形態並びにその変形例においては、支持塔５、２００は円筒形状に形成しているが、円柱形状でも良く、角筒形状、角柱形状であっても良い。
【００６５】
また、上記第１及び第２実施形態並びにその変形例においては、支持塔５、２００を真空チャンバー２の底部２０に取付ける取付手段として、第１係合部２８と第２係合部５１とを係合させて上下方向の軸回りに回転不能としているが、この構成に限定されるものではなく、支持塔５、２００が底部２０に取り外し可能に取り付けできる構成であれば良い。
【００６６】
また、上記第１及び第２実施形態並びにその変形例においては、コイル状のチューブを塔本体２００に取り付けても良い。
【符号の説明】
【００６７】
１…チューブの表面処理装置、  ２…真空チャンバー、  ５…支持塔、  ７…チューブ、  ７ａ…一端開口、  ７ｂ…他端開口、  ８…第１真空ポンプ部、  ９…第２真空ポンプ部、  １０…第１電極、  １１…第２電極、  １０Ａ…Ａ電極体、  １０Ｂ…Ｂ電極体、  １００…接続体、  １１０…接続体、  １１Ｃ…Ｃ電極体、  １１Ｄ…Ｄ電極体、  １２…電源部、  ２０…底部、  ２１…チャンバー本体、  ２２…開口、  ２３…蓋体、  ２４…第１排気ポート、  ２５…第２排気ポート、  ２６…底穴部、  ２７…取り付け台、  ２８…第１係合部、  ２９…台本体部、  ３０…上面、  ３１ａ〜３１ｄ…取り付けピン、  ３２ａ〜３２ｄ…係合孔、  ３３…前部、  ３４…後部、  ３５…段差、  ３６…第３排気ポート、  ３７…圧力計、  ５０…塔本体、  ５１…第２係合部、  ５２〜５５…第１凹溝〜第４凹溝、  ５６…内径孔、  ５７〜６０…第１係合片〜第４係合片、  ６１…後部、  ６２…前部、  ６３…段差、  ６４…後部、  ６５…前部、  ６６…給電ピン差込孔、  ６７…ガイド溝、  ２００…支持塔、  ２０１…塔本体、  ２０２〜２０５…第１凹溝〜第４凹溝、  ２０６…第１チューブ端部押え体、  ２０７…第２チューブ端部押え体、  ２０８…本体部、  ２０９…一側面、  ２１０…嵌合溝、  ２１１…差込突起部、  ２１２…差込孔、  ２１３…高圧パルス側給電ピン、  ２１４…グランド側給電ピン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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