(57)【要約】【課題】本発明の目的は、適切な洗浄力を提供しつつ脱臭にかかるコストを抑えることのできる仕組みを提供することを目的とする。【解決手段】上記の目的を達成するために、洗浄液を生成する生成装置と、洗浄液で気体を洗浄する洗浄装置とを含む洗浄システムであって、洗浄装置で気体を洗浄するためのモードを記憶し、時刻を取得し、時刻に対応するモードを特定し、特定されたモードで洗浄装置が気体を洗浄するよう制御する。【選択図】図１
2019072364.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄液を生成する生成装置と、前記洗浄液で気体を洗浄する洗浄装置とを含む洗浄システムであって、
前記洗浄装置で前記気体を洗浄するためのモードを記憶する記憶手段と、
時刻を取得する取得手段と、
前記時刻に対応する前記モードを特定する特定手段と、
前記特定手段で特定された前記モードで前記洗浄装置が前記気体を洗浄するよう制御する制御手段と
を備えることを特徴とする洗浄システム。
【請求項２】
前記記憶手段は、前記モードを時間帯ごとに対応付けて記憶し、
前記取得手段で取得される前記時刻とは現在時刻であり、
前記特定手段は前記現在時刻に対応する時間帯に対応付けて記憶されている前記モードを特定すること
を特徴とする請求項１に記載の洗浄システム。
【請求項３】
前記記憶手段は、前記モードを、起点を基準にした時間情報と対応付けて記憶し、
前記取得手段で取得される前記時刻とは、起点を基準にした時間情報であり、
前記特定手段は、前記取得手段で取得された前記時間情報に基づいて、前記モードを特定すること
を特徴とする請求項１に記載の洗浄システム。
【請求項４】
前記モードは、前記洗浄液を、前記洗浄装置への気体の流入口と流出口との間にある空間に噴霧するモードと、噴霧しないモードのいずれかであること
を特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の洗浄システム。
【請求項５】
前記洗浄液は、脱臭剤を含有する水溶液であること
を特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の洗浄システム。
【請求項６】
前記洗浄液は、次亜塩素酸又は次亜塩素酸イオンを含有する水溶液であること
を特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の洗浄システム。
【請求項７】
洗浄液を生成する生成装置と、前記洗浄液で気体を洗浄する洗浄装置とを含む洗浄システムであって、前記洗浄装置で前記気体を洗浄するためのモードを記憶する記憶手段を備える洗浄システムの制御方法であって、
時刻を取得する取得工程と、
前記時刻に対応する前記モードを特定する特定工程と、
前記特定工程で特定された前記モードで前記洗浄装置が前記気体を洗浄するよう制御する制御工程と
を含むことを特徴とする洗浄システムの制御方法。
【請求項８】
洗浄液を生成する生成装置と、前記洗浄液で気体を洗浄する洗浄装置と通信可能な情報処理装置であって、
前記洗浄装置で前記気体を洗浄するためのモードを記憶する記憶手段と、
時刻を取得する取得手段と、
前記時刻に対応する前記モードを特定する特定手段と、
前記特定手段で特定された前記モードで前記洗浄装置が前記気体を洗浄するよう制御する制御手段と
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項９】
洗浄液を生成する生成装置と、前記洗浄液で気体を洗浄する洗浄装置と通信可能な情報処理装置であって、前記洗浄装置で前記気体を洗浄するためのモードを記憶する記憶手段を備える前記情報処理装置の制御方法であって、
時刻を取得する取得工程と、
前記時刻に対応する前記モードを特定する特定工程と、
前記特定工程で特定された前記モードで前記洗浄装置が前記気体を洗浄するよう制御する制御工程と
を含むことを特徴とする情報処理装置の制御方法。
【請求項１０】
コンピュータを、請求項８に記載の情報処理装置の各手段として機能させることを特徴とするプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、適切な洗浄力を提供しつつ脱臭にかかるコストを抑えることのできる洗浄システム及び洗浄方法、並びに、情報処理装置、その制御方法、及びプログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
環境意識の高まりとともに、臭気を発生する装置又は施設を稼働する際には、臭気を低減する手段を講じることが必須となっている。排気中の臭気を低減する方法としては、排気を水又は処理液で洗浄することにより、排気中の臭気成分を水に溶解させる方法が知られている。また、この際に脱臭作用を有する処理液を用いることにより、臭気の低減効率を向上させる方法も知られている。例えば、特許文献１には、内部に送り込まれた空気に対して次亜塩素酸水を噴霧することにより空気中の臭気を低減し、臭気が低減された空気を排気する、脱臭装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−１００７１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
堆肥化、畜産、化学、食品、廃棄物処理など各種製造過程、工場で発生する悪臭や有害ガスは、時間帯や製造工程の進み具合によって臭気濃度に変化があり、常に一定の濃度というわけではない。特に堆肥では、有機物を微生物によって分解する際には、分解の進行に応じて、発生する臭気の濃度が上下する。
【０００５】
脱臭能力が固定されたシステムでは、能力不足で悪臭を排気してしまう可能性があり、常に脱臭能力を高めた状態では、ランニングコストが高くなる。
【０００６】
本発明の目的は、適切な洗浄力を提供しつつ脱臭にかかるコストを抑えることのできる仕組みを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の目的を達成するために、本発明の洗浄システムは、洗浄液を生成する生成装置と、前記洗浄液で気体を洗浄する洗浄装置とを含む洗浄システムであって、前記洗浄装置で前記気体を洗浄するためのモードを記憶する記憶手段と、時刻を取得する取得手段と、前記時刻に対応する前記モードを特定する特定手段と、前記特定手段で特定された前記モードで前記洗浄装置が前記気体を洗浄するよう制御する制御手段とを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、適切な洗浄力を提供しつつ脱臭にかかるコストを抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本実施形態における洗浄システムのシステム構成図の一例を示す模式図である。
【図２】脱臭装置２００のハードウェア構成の一例を示す模式図である。
【図３】情報処理装置１００のハードウェア構成の一例を示す模式図である。
【図４】情報処理装置１００の機能構成の一例を示す模式図である。
【図５】第１の実施形態における詳細な処理の流れを説明するフローチャートである。
【図６】設定値テーブル６００の一例を示す構成図である。
【図７】第２の実施形態における詳細な処理の流れを説明するフローチャートである。
【図８】モードテーブル８００の一例を示す構成図である。
【図９】第３の実施形態における詳細な処理の流れを説明するフローチャートである。
【図１０】モードテーブル１０００の一例を示す構成図である。
【図１１】モード選択画面１１００の画面構成の一例を示す構成図である。
【図１２】第４の実施形態における詳細な処理の流れを説明するフローチャートである。
【図１３】モードテーブル１３００の一例を示す構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、添付図面を参照し、本発明の実施形態について説明する。なお、以下説明する実施形態は、本発明を具体的に実施した場合の一例を示すもので、特許請求の範囲に記載した構成の具体的な実施例にすぎない。特に、本発明に係る洗浄装置、洗浄システム、及び洗浄方法は、脱臭対象の気体を脱臭することを主目的とする装置、システム、及び方法には限定されない。本発明に係る洗浄装置、洗浄システム、及び洗浄方法は、気体を洗浄するものであり、脱臭以外の様々な目的で使用可能である。例えば、本発明に係る洗浄装置、洗浄システム、及び洗浄方法は、気体中の除菌対象の除菌のために用いることもできる。したがって、本発明に係る洗浄装置、洗浄システム、及び洗浄方法は、脱臭以外を主目的としているが脱臭に用いることが可能な装置、システム、及び方法を含む。以下、脱臭対象の気体を脱臭することを主目的とする（湿式）脱臭装置、脱臭システム、及び脱臭方法を例として、本発明の実施形態を説明する。
【００１１】
図１は、洗浄液の物理量の制御を行う脱臭システム（洗浄システムに相当する）において、その構成の一例を示すシステム構成図である。脱臭システムは、洗浄システムを制御する情報処理装置１００と、洗浄液の生成を行う生成装置４００と、洗浄液を用いて臭気を脱臭する脱臭装置２００とで構成されている。本実施例においては、生成装置４００内で、炭酸ガス混合法を用いて、洗浄液である次亜塩素酸水を生成している。炭酸ガス混合法とは、次亜塩素酸ナトリウムと、二酸化炭素と、水とを混合させて、次亜塩素酸水を生成する方法である。なお、他の方法により次亜塩素酸水を生成するようにしてもよい。生成装置４００は、脱臭装置２００に接続されており、生成装置４００で生成された洗浄液４１０は、脱臭装置２００に流入する。脱臭装置２００の洗浄部にはセンサが備わっている。センサについては図２で詳細に説明する。流入口１０１を介して脱臭対象の気体５００を供給し、脱臭対象の気体５００は脱臭装置２００内の洗浄部で脱臭される。脱臭装置２００で溢れた洗浄液４１０は、流出口１０３を介して、流出される。
【００１２】
以上で、図１に示す制御システムのシステム構成図の説明を終了する。なお、上記のシステム構成については一例であって、目的や用途に応じて適宜変更されうるものである。
【００１３】
次に、図２を用いて本実施形態における脱臭装置２００のハードウェア構成について説明す
【００１４】
［実施形態１］
実施形態１に係る湿式脱臭装置は、流入口と、洗浄部と、流出口と、洗浄液供給部と、気泡供給部と、を備えている。図２（Ａ）（Ｂ）は、それぞれ、実施形態１に係る湿式脱臭装置の一例の構成を示す概略図である。以下、図２（Ａ）（Ｂ）を参照して、本実施形態に係る湿式脱臭装置について説明する。
【００１５】
図２（Ａ）には、本実施形態に係る脱臭装置２００Ａが示されており、図２（Ｂ）には、本実施形態に係る脱臭装置２００Ｂが示されている。これらの脱臭装置２００Ａ，Ｂには流入口１０１を介して洗浄対象（脱臭対象）の気体が流入し、流入した気体は洗浄液１２２を用いた洗浄により脱臭され、流出口１０３を介して流出する。本明細書において、洗浄対象の気体のことを第１の気体と呼ぶ。
【００１６】
流入口１０１からは、脱臭対象の気体が脱臭装置２００Ａ，Ｂの内部へと流入する。例えば、ポンプ（不図示）を用いて、脱臭対象の気体を流入口１０１へと送ることができる。ここで、気体を流入口１０１に送るためのポンプは、脱臭装置２００Ａ，Ｂの内部あるいは外部のいずれに配置されていてもよい。脱臭対象の気体の種類は特に限定されない。本実施形態に係る脱臭装置２００Ａ，Ｂが有する高い脱臭性能は、高い臭気濃度を有する気体の脱臭に適している。例えば、脱臭対象の気体としては、食品廃棄物又はし尿を貯蔵する容器からの排気を含む、有機物の発酵により生じた気体が挙げられる。脱臭対象の具体例としては、コンポスト（堆肥製造装置）からの排気が挙げられる。
【００１７】
除去される臭気成分も特に限定されない。ここで、コンポストにおける臭気成分の例としては、アンモニア又はトリメチルアミンのような塩基性成分、メチルメルカプタンのような硫化物成分、アセトアルデヒドのようなアルデヒド成分、又はプロピオン酸のようなカルボン酸成分、等が挙げられる。本実施形態に係る脱臭装置２００Ａ，Ｂは、特にアンモニア濃度の低減に適している。例えば、一実施形態において、脱臭対象の気体が有するアンモニア濃度は、冷却器で冷却された場合は、１００ｐｐｍ以上となり、冷却器で冷却されていない場合は、３０００ｐｐｍ以上である。また、流入口１０１から流入する脱臭対象の気体は、脱臭装置等の他の装置により処理が行われた後の気体であってもよい。
【００１８】
洗浄部１２０は、脱臭装置２００Ａ，Ｂに流入した脱臭対象の気体を第１の洗浄液１２２で洗浄する。洗浄部１２０は、脱臭対象の気体と第１の洗浄液１２２とが接触する接触部１２１と、第１の洗浄液１２２が貯められている部分と、を有している。一実施形態において、第１の洗浄液１２２は脱臭装置２００Ａ，Ｂの下部に貯められており、したがって洗浄部１２０も脱臭装置２００Ａ，Ｂの下部に位置する。
【００１９】
図１（Ｃ）は、図２（Ａ）の接触部１２１のうち１つの拡大図である。図１（Ｃ）を用いて、脱臭対象の気体と第１の洗浄液１２２とを混合する処理について説明する。まず、脱臭対象の気体は、ポンプによって加速されることにより、流路狭窄部１２３に向かって移動する。図２（Ａ）の例において、脱臭対象の気体は、接触部１２１に設けられ、第１の洗浄液１２２の液面と近接している流路狭窄部１２３を通る。この際、脱臭対象の気体の流れは加速されるために、第１の洗浄液１２２を伴う渦流が流路狭窄部を通過した後に発生する。このため、脱臭対象の気体と第１の洗浄液１２２とが効率的に混合され、脱臭対象の気体が洗浄される。このように、洗浄部１２０は、脱臭対象の気体と第１の洗浄液１２２とを混合することができ、また一実施形態において脱臭対象の気体と第１の洗浄液１２２とを互いに攪拌することができる。図２（Ａ）の例において、洗浄部１２０は流路狭窄部を有する接触部１２１を２つ有しているが、接触部１２１の数は特に限定されない。例えば、脱臭装置２００Ａ，Ｂには、より脱臭効率を向上させたい場合には、３以上の接触部（流路狭窄部）を設けてもよい。また、脱臭装置２００Ａ，Ｂを、接触部１２１の数を１つとすることで、複数の接触部を備える場合よりも小型化することができる。
【００２０】
図２（Ｂ）の例では、脱臭対象の気体は、接触部１２１において第１の洗浄液１２２の内部を通り、この際に脱臭対象の気体が洗浄される。なお、図２（Ａ）（Ｂ）の例においては、流入口１０１から流入する脱臭対象の気体の圧力のために、第１の洗浄液１２２の液面の高さは不均一となっている。なお、第１の洗浄液１２２の液面の高さは、流入口１５３及び流出口１５４よりも高く、流出口１８０よりも低くなるように設定される。また、洗浄中における第１の洗浄液１２２の液面の高さは、流路狭窄部１２３と近接している。つまり、流出口１８０により第１の洗浄液１２２が排出されることにより、水位が高くなりすぎることを抑制することができ、洗浄に用いた後の第１の洗浄液１２２を排出することが可能となる。流入口１５３及び流出口１５４よりも水位を高く維持することにより、第１の洗浄液１２２に気泡を供給することが可能となる。
【００２１】
もっとも、洗浄部１２０の構成はこのようなものに限られない。例えば、洗浄部１２０において、第１の洗浄液１２２が噴霧されてもよい。この場合、脱臭対象の気体は、第１の洗浄液１２２のミストを通過する際に洗浄される。また、洗浄部１２０において、流入口１０１から流入した脱臭対象の気体が第１の洗浄液１２２中にバブリングされてもよく、この場合も脱臭対象の気体を第１の洗浄液１２２で洗浄できる。
【００２２】
流出口１０３からは、第１の洗浄液１２２で洗浄された後の気体が流出する。流出口１０３から流出した気体は、大気中に放出されてもよいし、脱臭装置等の他の装置によりさらに処理されてもよい。このように、流出口１０３から排出された後の気体は、流入口１０１から流入する前の脱臭対象の気体と比較して、脱臭対象の臭気成分が低減される。具体的には、脱臭対象の臭気がコンポストからの臭気である場合、脱臭装置２００Ａ，Ｂで洗浄処理されることにより、少なくともアンモニア濃度が低減される。
【００２３】
次に、脱臭装置２００Ａ，Ｂの内部構造について説明する。脱臭装置２００Ａ，Ｂの内部はいくつかの区画に分類されている。脱臭装置２００Ａ，Ｂは、流入区画１３１を有しており、この流入区画１３１に流入口１０１が設けられている。流入区画１３１とは、第１の洗浄液１２２による洗浄が行われる洗浄部１２０より上流側の部分、すなわち流入口１０１と洗浄部１２０との間の区画である。また、脱臭装置２００Ａ，Ｂは、流出区画１４１を有しており、この流出区画１４１に流出口１０３が設けられている。流出区画１４１とは、第１の洗浄液１２２による洗浄が行われる洗浄部１２０より下流側の部分、すなわち洗浄部１２０と流出口１０３との間の区画である。
【００２４】
洗浄液供給部１３０，１４０は、第１の洗浄液１２２とは異なる第２の洗浄液を供給する。洗浄液供給部１３０，１４０は、洗浄部１２０での洗浄に用いられる第１の洗浄液１２２に混ざるように、第２の供給液を供給することができる。ここで、洗浄液供給部１３０，１４０は、流入口１０１と洗浄部１２０との間、又は洗浄部１２０と流出口１０３との間、の少なくとも一方において、脱臭対象の気体が第２の洗浄液で洗浄されるように、第２の洗浄液を供給することができる。例えば、洗浄液供給部１３０，１４０は、第２の洗浄液を、流入口１０１と洗浄部１２０との間にある空間（すなわち流入区画１３１）と、洗浄部１２０と流出口１０３との間にある空間（すなわち流出区画１４１）との少なくとも一方に噴霧することができる。噴霧の量や有無は、噴霧を制御するバルブにより、制御される。
【００２５】
一例として、脱臭装置２００Ａは、図２（Ａ）に示すように、第２の洗浄液を流入区画１３１に噴霧する第１の洗浄液供給部１３０と、第２の洗浄液を流出区画１４１に噴霧する第２の洗浄液供給部１４０と、を備えている。第１の洗浄液供給部１３０は、流入口１０１から洗浄部１２０へと向かう気体の流路上で、第２の洗浄液を噴霧する。また、第１の洗浄液供給部１３０は、洗浄部１２０から流出口１０３へと向かう気体の流路上で、第２の洗浄液を噴霧する。もっとも、図２（Ｂ）に示す脱臭装置２００Ｂのように、第２の洗浄液供給部１４０が設けられ、第１の洗浄液供給部１３０は設けられない構成を採用することもできる。また、洗浄液供給部１３０，１４０が第２の洗浄液を噴霧することは必須ではない。例えば、脱臭対象の気体が、第２の洗浄液の内部を気泡として通過するような構成を採用することもできる。
【００２６】
脱臭対象の気体を洗浄した後の第２の洗浄液は、洗浄部１２０での洗浄に用いられる第１の洗浄液に混ざるように、洗浄液供給部１３０，１４０は設けられている。例えば、図２（Ａ）（Ｂ）に示されるように、脱臭装置２００Ａ，Ｂは、流入口１０１、洗浄部１２０、流出口１０３を有する単一の洗浄槽を有することができる。そして、洗浄部１２０における第１の洗浄液１２２の液面が、第２の洗浄液の供給位置（すなわち洗浄液供給部１３０，１４０の位置）よりも低くなるように、洗浄液供給部１３０，１４０を配置することができる。
【００２７】
センサ１１０、１１１は、気体５００の臭気の濃度を測定することのできるセンサである。本実施形態では、アンモニアの濃度を測定するセンサを例として説明をするが、これに限定されず、他の臭気成分の濃度を測定するセンサであってもよいし、複数の臭気成分の濃度を測定するセンサであってもよい。センサ１１０は、流入口１０１の近くに設けられ、洗浄前の気体５００のアンモニアの濃度を測定することができる。センサ１１１は、流出口１０３の近くに設けられ、洗浄前の気体５００のアンモニアの濃度を測定することができる。
【００２８】
洗浄液供給部１３０，１４０は、脱臭装置２００Ａ，Ｂに貯められている第１の洗浄液１２２を供給するのではなく、装置の外部から供給された第２の洗浄液を供給することができる。このような構成によれば、洗浄液供給部１３０，１４０は新鮮な洗浄液を供給することができ、新鮮な洗浄液を用いて脱臭対象の気体を洗浄することができるため、臭気をよりよく低減できる。ここで、新鮮な洗浄液とは、脱臭装置２００Ａ，Ｂにおける脱臭対象の気体の洗浄にまだ用いられていない洗浄液のことを指す。例えば、新鮮な洗浄液は、脱臭対象の気体に含まれる臭気成分が実質的に含有されていない洗浄液でありうる。また、新鮮な洗浄液は、洗浄液自身以外の成分が実質的に含有されていない洗浄水でありうる。もっとも、新鮮な洗浄液は、装置の外部から供給されこの装置においてまだ洗浄に用いられていないのであれば、別の脱臭装置における気体の洗浄に用いられた後の洗浄液であってもよい。このような構成を、第１の洗浄液１２２を用いて脱臭対象の気体を洗浄する洗浄部１２０と組み合わせて用いることにより、臭気の除去能力が向上しうる。とりわけ、第２の洗浄液供給部１４０は、第１の洗浄液１２２を用いて洗浄した後の気体を、さらに新鮮な洗浄液で洗浄することにより、臭気をよりよく除去することを可能とする。以上のように、洗浄部１２０での洗浄に用いられる第１の洗浄液１２２に混ざるように、新鮮な第２の洗浄液を供給しているため、第１の洗浄液１２２における洗浄対象の成分をより低減することができる。また、後述する流出口１８０を有する構成であれば、第１の洗浄液１２２が適宜排出されるため、より新鮮な洗浄液で洗浄することが可能となる。
【００２９】
以下、第１の洗浄液１２２及び第２の洗浄液についてさらに説明する。第２の洗浄液は特に限定されない。例えば、第２の洗浄液は水であってもよい。また、第２の洗浄液は、アンモニア等の塩基性臭気成分の除去能力が向上するように、ｐＨ７未満の弱酸性又は酸性水溶液であってもよい。さらに、脱臭効率を向上させるために、第２の洗浄液は脱臭剤を含有する水溶液であってもよい。脱臭剤の種類は特に限定されず、例えば酸化剤、抗菌剤、又は微生物等でありうる。酸化剤の例としては、オゾン又は次亜塩素酸等が挙げられる。抗菌剤の例としては、キトサン又はカテキン等が挙げられる。
【００３０】
一実施形態において、第２の洗浄液としては、次亜塩素酸又は次亜塩素酸イオンを含有する水溶液が用いられる。この場合、第２の洗浄液のｐＨは特に限定されないが、活性が向上するように、第２の洗浄液のｐＨを７以下にすることができる。また、安定性の観点から、第２の洗浄液のｐＨを５以上にすることができる。ｐＨが５以上７以下の次亜塩素酸又は次亜塩素酸イオンを含有する水溶液は、次亜塩素酸水として知られている。消臭性能の観点から、第２の洗浄液における塩素濃度は１００ｐｐｍ以上とすることができ、又は１０００ｐｐｍ以上とすることができる。一方、経済性の観点から、第２の洗浄液における塩素濃度は、１０ｐｐｍ以上であってもよく、また、５００ｐｐｍ以下であってもよい。
【００３１】
第２の洗浄液は、次亜塩素酸と、炭酸水素イオンと、を含有している次亜塩素酸水であってもよい。このような次亜塩素酸水は、緩衝作用のためにｐＨが安定するため、その性質も安定している。このような次亜塩素酸水は、水中で次亜塩素酸ナトリウム及び炭酸ガスを混合及び希釈することにより得ることができる。もっとも、水の電解、又は次亜塩素酸ナトリウムと希塩酸との混合のような、他の方法により得られた次亜塩素酸水を、第２の洗浄液として用いることもできる。
【００３２】
第１の洗浄液１２２は、脱臭対象の気体の洗浄に用いられた後の第２の洗浄液が混合される。このため、一実施形態において、第１の洗浄液１２２の組成は、第２の洗浄液とは異なっている。例えば、第１の洗浄液１２２の臭気成分濃度は、第２の洗浄液よりも高くなりうる。また一例として、洗浄液に次亜塩素酸水を用いる場合には、第１の洗浄液１２２と第２の洗浄液とはｐＨの値が異なる。つまり、洗浄に用いられた第１の洗浄液１２２よりも、新鮮な洗浄液である第２の洗浄液は、より次亜塩素散水の理想的なｐＨの範囲に近い。そのため、第２の洗浄液は、脱臭対象の成分により、次亜塩素散水のｐＨの値が酸性側若しくはアルカリ性側に近くなる。また、第２の洗浄液の脱臭剤濃度（例えば塩素濃度）を、第１の洗浄液よりも高くすることができる。
【００３３】
第１の洗浄液１２２の液性は、洗浄液を追加する方法、又は後述する気泡を供給する方法等を用いて調整することができる。一実施形態において、第１の洗浄液としては、次亜塩素酸又は次亜塩素酸イオンを含有する水溶液が用いられる。この場合、第１の洗浄液のｐＨは特に限定されないが、活性が向上するように、第１の洗浄液のｐＨを７以下にすることができる。また、安定性の観点から、第１の洗浄液のｐＨを５以上にすることができる。消臭性能の観点から、第１の洗浄液における塩素濃度は１００ｐｐｍ以上とすることができ、又は１０００ｐｐｍ以上とすることができる。一方、経済性の観点から、第１の洗浄液における塩素濃度は、１０ｐｐｍ以上で、且つ、５００ｐｐｍ以下であってもよい。
【００３４】
気泡供給部１５０は、第１の洗浄液１２２に、洗浄対象の気体（脱臭対象の気体、あるいは第１の気体）とは異なる第２の気体の泡を混入させる。気泡供給部１５０は、脱臭装置２００Ａ，Ｂの外部から供給された気体の泡を、第２の気体の泡として混入させることができる。気泡供給部１５０の働きにより、洗浄部１２０における第１の洗浄液１２２と脱臭対象の気体との接触面積が増加するため、洗浄効率が向上する。一実施形態において、気泡供給部１５０は、洗浄効率をより向上させるため、第１の洗浄液１２２にナノバブルを供給する。ナノバブルとは、平均気泡径１μｍ未満の気泡のことを指す。ナノバブルを用いることにより、第１の洗浄液１２２を活性化することもできる。また、ナノバブルを用いることにより、第１の洗浄液１２２中における汚泥の発生を抑制することもできる。なお、気泡供給部１５０の機能は、第１の洗浄液１２２と脱臭対象の気体との接触面積を増加させる機能を備えていれば、ナノバブルを供給する機能に限定されるものではない。一実施形態として、気泡供給部１５０は、第１の洗浄液１２２にマイクロバブルあるいはミリバブルを供給してもよいし、これらが混合された気泡を供給してもよい。
【００３５】
気泡供給部１５０が供給する気体の種類は、特に制限されない。例えば、気泡供給部１５０は、空気を供給してもよい。一方で、気泡供給部１５０は、第１の洗浄液１２２の液性を調整する作用を有する気体を、第１の洗浄液１２２に混入させることができる。このような気体の例としては、二酸化炭素のような酸性ガスが挙げられる。第１の洗浄液１２２の液性を調整することにより、臭気成分の除去効率を向上させることができる。例えば、第１の洗浄液１２２は、塩基性成分を吸収するとｐＨが上昇するが、酸性ガスを用いて第１の洗浄液１２２のｐＨを低下させることにより、塩基性成分の除去効率を向上させることができる。また、特に第１の洗浄液１２２又は第２の洗浄液として次亜塩素酸水を用いる場合、酸性ガスを用いて第１の洗浄液１２２のｐＨを低下させることにより、脱臭活性を向上させることができる。また、気泡供給部１５０は、脱臭作用を有する気体を、第１の洗浄液１２２に混入させることができる。このような気体の例としては、オゾン等が挙げられる。つまり、脱臭対象の気体がアンモニアを含有し、第１の洗浄液１２２に次亜塩素酸水を用いる場合には、気泡に酸性ガスを用いることが好適である。このような構成の場合、脱臭処理後の第１の洗浄液１２２のｐＨを抑制しつつ、気液接触を増加させることが可能となる。
【００３６】
気泡供給部１５０の具体的な構成については、特に限定されない。図２（Ａ）（Ｂ）には、気泡供給部１５０の具体的な構成の一例が示されている。これらの例において、気泡供給部１５０は、流入口１５３及び流出口１５４を備える循環路１５１と、循環路１５１の中にある第１の洗浄液１２２に泡を混入させる放出部１５２と、を備えている。循環路１５１には、循環路１５１と洗浄部１２０との接続部である流入口１５３を介して、洗浄部１２０から、洗浄部１２０に貯められている第１の洗浄液１２２が流入する。また、循環路１５１からは、循環路１５１と洗浄部１２０との接続部である流出口１５４を介して、流入した第１の洗浄液が再び洗浄部１２０へと供給される。このような構成によれば、第１の洗浄液１２２を攪拌することができる。
【００３７】
脱臭装置２００Ａ，Ｂは、さらなる構成を有していてもよい。例えば、脱臭装置２００Ａ，Ｂは、第１の洗浄液１２２を投入するための投入部１７０を有していてもよい。また、脱臭装置２００Ａ，Ｂは、第１の洗浄液１２２が流出する流出口１８０を有していてもよい。一実施形態においては、第１の洗浄液１２２の量は流出口１８０により制限される。すなわち、第２の洗浄液が混合されても、第１の洗浄液１２２はオーバーフローとして流出口１８０から流出するため、第１の洗浄液１２２の量が一定量に保たれる。さらに、脱臭装置２００Ａ，Ｂは、底部に排出口１９０を有していてもよい。排出口１９０を介して、脱臭装置２００Ａ，Ｂに蓄積した汚泥を排出することができる。さらに、図２（Ｂ）に示すように、気液接触効率を向上させるために、第２の洗浄液が噴霧され、脱臭対象の気体が通過する箇所に、充填剤１９５を設けてもよい。
【００３８】
次に、一実施形態に係る脱臭方法について、説明する。この脱臭方法は、例えば、上述した実施形態１に係る湿式脱臭装置を用いて実現可能であるが、他の湿式脱臭装置を用いることも可能である。
【００３９】
まず、脱臭対象の気体が、第１の洗浄液による洗浄を行う洗浄部へと導かれる（ステップＳ１０）。例えば、脱臭対象の気体を、流入口１０１から洗浄部１２０に導入することができる。次に、第１の洗浄液に、脱臭対象の気体とは異なる気体の泡が混合される（ステップＳ２０）。例えば、気泡供給部１５０は、第１の洗浄液１２２に泡を混合することができる。そして、第１の洗浄液１２２で洗浄された後の気体が、洗浄部の外へ導かれる（ステップＳ３０）。例えば、洗浄部１２０において洗浄された気体を、流出口１０３へと導出することができる。
【００４０】
また、この脱臭方法は、第１の洗浄液１２２とは異なる第２の洗浄液であって、洗浄部１２０での洗浄に用いられる第１の洗浄液１２２に混ざるように、第２の洗浄液を供給する処理を行うステップを有している。この処理を処理Ａと呼ぶことにする。このステップは、例えば、ステップＳ１０とステップＳ３０との少なくとも一方において行うことができる。例えば、ステップＳ１０とステップＳ３０との少なくとも一方において、導かれる気体が第２の洗浄液で洗浄されかつ導かれる気体を洗浄した後の第２の洗浄液が第１の洗浄液に混ざるように、第１の洗浄液とは組成が異なる第２の洗浄液を供給することができる。例えば、第１の洗浄液供給部１３０は、流入口１０１から洗浄部１２０へと導かれる気体を洗浄するように、第２の洗浄液を供給することができる。また、第２の洗浄液供給部１４０は、洗浄部１２０から流出口１０３へと導かれる気体を洗浄するように、第２の洗浄液を供給することができ
【００４１】
［実施形態１の変形例］
脱臭装置の脱臭能力を向上させるという実施形態１に係る構成の目的を達成するためには、実施形態１に示した構成の全てを採用する必要はない。以下、実施形態１の変形例について説明す
【００４２】
［変形例１］
一実施形態に係る湿式脱臭装置は、上述の流入口１０１、洗浄部１２０、流出口１０３、及び洗浄液供給部１３０と洗浄液供給部１４０との少なくとも一方を有している。このような構成によれば、洗浄部１２０と、洗浄液供給部１３０，１４０との組み合わせにより、脱臭能力が向上する。このような湿式脱臭装置を用いた脱臭方法は、図４（Ａ）のステップＳ１０及びステップＳ３０を行い、ステップＳ１０とステップＳ３０との少なくとも一方において処理Ａを行うことにより実現でき
【００４３】
［変形例２］
一実施形態に係る湿式脱臭装置は、上述の流入口１０１、洗浄部１２０、流出口１０３、及び気泡供給部１５０を有している。ここで、洗浄部１２０は、流入口１０１から流入した脱臭対象の気体と、第１の洗浄液１２２とを混合することにより、脱臭対象の気体を第１の洗浄液１２２で洗浄する。このような構成によれば、第１の洗浄液１２２に混入された気泡のために、脱臭対象の気体と第１の洗浄液１２２とを混合する際に接触面積が増加するため、脱臭能力が向上する。このような湿式脱臭装置を用いた脱臭方法は、図４（Ａ）のステップＳ１０、ステップＳ２０、及びステップＳ３０を行うことにより実現できる。処理Ａを行うことは必須ではな
【００４４】
［変形例３］
一実施形態に係る湿式脱臭装置は、上述の流入口１０１、洗浄部１２０、流出口１０３、及び気泡供給部１５０を有している。ここで、気泡供給部１５０は、第１の洗浄液１２２の液性を調整する作用を有するか又は脱臭作用を有する気体の泡を、第１の洗浄液１２２に混入させる。このような構成によれば、既に説明したように脱臭能力を向上させることができる。このような湿式脱臭装置を用いた脱臭方法は、図４（Ａ）のステップＳ１０、ステップＳ２０、及びステップＳ３０を行うことにより実現できる。処理Ａを行うことは必須ではない。
【００４５】
以上で図２に示す脱臭装置２００Ａ，Ｂのハードウェア構成の説明を終了する。
【００４６】
次に、図３を用いて、図１に示した情報処理装置１００のハードウェア構成に関して説明する。
【００４７】
図３に示すように、情報処理装置１００は、システムバス２０４を介してＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）２０１、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）２０２、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）２０３、入力コントローラ２０５、ビデオコントローラ２０６、メモリコントローラ２０７、通信Ｉ／Ｆコントローラ２０８等が接続された構成を採る。
【００４８】
ＣＰＵ２０１は、システムバス２０４に接続される各デバイスやコントローラを統括的に制御する。
【００４９】
また、ＲＯＭ２０３あるいは外部メモリ２１１（記憶手段に相当する）には、ＣＰＵ２０１の制御プログラムであるＢＩＯＳ（Ｂａｓｉｃ  Ｉｎｐｕｔ／Ｏｕｔｐｕｔ  Ｓｙｓｔｅｍ）やＯＳ（Ｏｐｅｒａｔｉｎｇ  Ｓｙｓｔｅｍ）や、各サーバあるいは各ＰＣが実行する機能を実現するために必要な後述する各種プログラム等が記憶されている。また、本発明を実施するために必要な情報が記憶されている。なお外部メモリはデータベースであってもよい。
【００５０】
ＲＡＭ２０２（記憶手段に相当する）は、ＣＰＵ２０１の主メモリ、ワークエリア等として機能する。ＣＰＵ２０１は、処理の実行に際して必要なプログラム等をＲＯＭ２０３あるいは外部メモリ２１１からＲＡＭ２０２にロードし、ロードしたプログラムを実行することで各種動作を実現する。
【００５１】
また、入力コントローラ２０５は、キーボード（ＫＢ）２０９や不図示のマウス等のポインティングデバイス等からの入力を制御する。
【００５２】
ビデオコントローラ２０６は、ディスプレイ２１０等の表示器への表示を制御する。尚、表示器は液晶ディスプレイ等の表示器でもよい。これらは、必要に応じて管理者が使用する。
【００５３】
メモリコントローラ２０７は、ブートプログラム、各種のアプリケーション、フォントデータ、ユーザファイル、編集ファイル、各種データ等を記憶する外部記憶装置（ハードディスク（ＨＤ））や、フレキシブルディスク（ＦＤ）、あるいは、ＰＣＭＣＩＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｃｏｍｐｕｔｅｒ  Ｍｅｍｏｒｙ  Ｃａｒｄ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ）カードスロットにアダプタを介して接続されるコンパクトフラッシュ（登録商標）メモリ等の外部メモリ２１１（記憶手段に相当する）へのアクセスを制御する。
【００５４】
通信Ｉ／Ｆコントローラ２０８は、ネットワークを介して外部機器と接続・通信し、ネットワークでの通信制御処理を実行する。例えば、ＴＣＰ／ＩＰ（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  Ｐｒｏｔｏｃｏｌ／Ｉｎｔｅｒｎｅｔ  Ｐｒｏｔｏｃｏｌ）を用いた通信等が可能である。本実施形態では、ネットワークを介して、生成装置４００や脱臭装置２００と通信可能に接続されているが、有線ケーブルなどで接続されるようにしても構わない。
【００５５】
尚、ＣＰＵ２０１は、例えばＲＡＭ２０２内の表示情報用領域へアウトラインフォントの展開（ラスタライズ）処理を実行することにより、ディスプレイ２１０上に表示することが可能である。また、ＣＰＵ２０１は、ディスプレイ２１０上のマウスカーソル（図示しない）等によるユーザ指示を可能とする。
【００５６】
本発明を実現するための後述する各種プログラムは、外部メモリ２１１に記録されており、必要に応じてＲＡＭ２０２にロードされることによりＣＰＵ２０１によって実行されるものである。
【００５７】
以上で、図３に示す情報処理装置１００のハードウェア構成に関する説明を終了する。上記の構成は一例であって、目的や用途に応じて適宜変更されうる。
【００５８】
次に図４を用いて、情報処理装置１００の機能構成の一例について説明する。
【００５９】
情報処理装置１００は、時刻情報取得部３０１、判断部３０２、通知部３０３、記憶制御部３０４を備えている。
【００６０】
時刻情報取得部３０１は、現在の時間の時刻情報を取得する機能部である。本実施形態では、時刻情報を、時分の単位で取得しているが、秒の単位まで取得してもよいし、時の単位を取得するようにしてもよい。
【００６１】
判断部３０２は、時刻情報取得部３０１で取得された時刻情報に基づいて、適切な気体の洗浄モードを判断する機能部である。通知部３０３は、判断部３０２での判断されたモードを、生成装置４００や脱臭装置２００に対して指示を行う機能部である。記憶制御部３０４は、時刻情報に対応する指示であって、生成装置４００や脱臭装置２００に対する指示の内容を記憶するよう制御する機能部である。
【００６２】
以上で、図４に示す機能構成の一例の説明を終了する。
【００６３】
次に図５のフローチャートを用いて本実施形態における処理の内容を説明する。
【００６４】
ステップＳ５０１では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、開始指示ボタン（不図示）の押下を受け付けたか否かを判定する。この開始指示ボタンの押下は、ユーザから受け付けるものであり、ユーザは例えば本洗浄システムで洗浄する対象の気体５００を生成するコンポストに有機物を投入したタイミングで、この開始指示ボタンを押下する。有機物を投入することで、有機物の分解が始まるとともに、気体５００が生成される。
【００６５】
ステップＳ５０２では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、ステップＳ５０１で開始指示ボタンを押下されたタイミングを基準としてタイマーをリセットし、タイマーをスタートさせる。
【００６６】
ステップＳ５０３では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、設定値テーブル６００を読み込む。例えば、図６に示す設定値テーブル６００である。設定値テーブル６００には、経過時間６０１、想定アンモニア臭気濃度６０２、次亜塩素酸水濃度６０３（パラメータに相当する）、次亜塩素酸水流量６０４（パラメータに相当する）、炭酸ガス流量６０５（パラメータに相当する）が対応付けて記憶されている。経過時間６０１は、タイマーの値の指標である。想定アンモニア臭気濃度６０２は、経過時間６０１に対応して想定されるアンモニア臭気の濃度である。次亜塩素酸水濃度６０３は、生成装置４００に対して指示を行うための次亜塩素酸水の濃度である。次亜塩素酸水流量６０４は、生成装置４００に対して指示を行うための次亜塩素酸水の流量（生成量）である。炭酸ガス流量６０５は、生成装置４００に対して、次亜塩素酸水を生成するための炭酸ガスの流量である。図６に示すように、経過時間６０１が大きくなる（時間が進む）につれて、次亜塩素酸水濃度６０３や次亜塩素酸水流量６０４、炭酸ガス流量６０５を増やし、ある時刻を境にして次亜塩素酸水濃度６０３や次亜塩素酸水流量６０４、炭酸ガス流量６０５を現象させるよう設定がされている。これは、想定アンモニア臭気濃度６０２に示すように、経過時間６０１が大きくなるにつれて、徐々に臭気成分が増大し、一定のピークを迎えたあと、臭気成分が減少する傾向があるためである。
【００６７】
ステップＳ５０４では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、ステップＳ５０２でスタートしたタイマーの値（時間情報に相当する）を参照し、タイマーの値に基づいて、対応する設定値を特定する。例えば、タイマーの値が、「４：３６」であった場合には、想定アンモニア臭気濃度６０２は、１５００、次亜塩素酸水濃度６０３は８０、次亜塩素酸水流量６０４は４、炭酸ガス流量６０５は５、として特定することができる。
【００６８】
ステップＳ５０５では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、ステップＳ５０４で特定された設定値を、生成装置４００に対して通知する。
【００６９】
ステップＳ５０６では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、洗浄処理の継続をするか否かを判定する。例えば、ユーザが洗浄指示の終了指示を受け付けた場合には、継続をしないと判定することができる。継続をすると判定された場合には処理をステップＳ５０３に戻し、継続をしないと判定された場合には処理を終了する。
【００７０】
ステップＳ５１１では、生成装置４００が、ステップＳ５０５で通知された設定値を受信する。
【００７１】
ステップＳ５１２では、生成装置４００が、ステップＳ５１１で受信した設定値で、洗浄液（次亜塩素酸水）を生成する。
【００７２】
以上で第１の実施形態の説明を終了する。
【００７３】
このようにして、ユーザから洗浄の開始指示を受け付けた時点からの経過時間に応じて、適切な設定値で生成装置４００が次亜塩素酸水を生成することによって、例えばコンポストのように、有機物の投入時点を起点として臭気が徐々に強くなり、ある時点を境に臭気が徐々に減少するような場合でも、洗浄液の生成装置４００の生成する洗浄液の洗浄力を適切に設定することで、適切な洗浄力を保ちつつも、洗浄液の生成に係るコストを低減することのできる効果がある
【００７４】
［第２の実施形態］
次に第２の実施形態について説明する。第１の実施形態では、経過時間に応じて、生成装置４００で生成される洗浄液の生成のためのパラメータを変更した。第２の実施形態では、第１の実施形態と異なり、経過時間に応じて、脱臭装置２００の洗浄モードを制御する。第１の実施形態とは、システム構成、ハードウェア構成、機能構成は同様であるため説明は省略する。第１の実施形態と処理の異なる部分について説明し、処理が同様の部分については説明を省略する。
【００７５】
以下、図７のフローチャートを用いて、第２の実施形態について詳細な処理の流れを説明する。
【００７６】
ステップＳ５０１からステップＳ５０２は第１の実施形態と処理の内容は同様であるため説明は省略する。
【００７７】
ステップＳ７０１では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、モードテーブル８００を読み込む。例えば、図８に示すモードテーブル８００である。モードテーブル８００には、経過時間６０１、想定アンモニア臭気濃度６０２、噴霧モード８０１とが対応付けて記憶されている。噴霧モード８０１は、洗浄液供給部１３０、１４０での洗浄液の噴霧の有無を示すモードである。噴霧モード８０１がＯＮの場合には、脱臭装置２００は噴霧を制御するバルブを開き、洗浄液の噴霧を行う。本実施形態では、噴霧の有無を制御しているが、センサ１１０で取得された臭気の濃度に応じて、噴霧の量を増やすように制御してもよい。すなわち、気体５００の臭気の濃度に応じて脱臭の能力を高めるよう、脱臭装置２００を動作させられれば、ほかのモードでも構わない。なお、本実施形態では、脱臭装置２００の脱臭のモードを噴霧に関するモードを例として説明しているが、必ずしも噴霧に関するモードである必要はなく、例えば、洗浄の回数を増やすなど、他のモードによって脱臭の能力を高めるようにしても構わない。
【００７８】
図８に示すように、経過時間６０１が大きくなり（時間が進む）、所定のタイミングから噴霧モード８０１をＯＮにして、あるタイミングを境にして噴霧モード８０１がＯＦＦになるよう設定がされている。これは、想定アンモニア臭気濃度６０２に示すように、経過時間６０１が大きくなるにつれて、徐々に臭気成分が増大し、一定のピークを迎えたあと、臭気成分が減少する傾向があるためである。このようにすることで、臭気の増大に対して脱臭装置２００の洗浄能力を強くすることができ、臭気の増大に対応することができるようになる。
【００７９】
ステップＳ７０２では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、ステップＳ５０２でスタートしたタイマーの値を参照して、噴霧モード８０１を特定する。例えば、参照したタイマーの値が、「９：１２」だった場合には、対応する噴霧モード８０１はＯＮであると特定することができる。
【００８０】
ステップＳ７０３では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、ステップＳ７０２で特定された噴霧モード８０１を脱臭装置２００に対して通知する。
【００８１】
ステップＳ７０４では、生成装置４００が、ステップＳ７０３で通知された噴霧モード８０１を受信する。
【００８２】
ステップＳ７０５では、生成装置４００が、ステップＳ７１１で受信した噴霧モード８０１に応じて、洗浄を実行する。すなわち、噴霧モード８０１がＯＮの場合には、脱臭装置２００は噴霧を制御するバルブを開き、洗浄液の噴霧を行うことで、気体５００を洗浄する箇所を増やすことができ、気体５００の洗浄の能力を上げることができるという効果がある。噴霧モード８０１がＯＦＦの場合には、脱臭装置２００は噴霧を制御するバルブを閉め、洗浄液である次亜塩素酸水の消費を低減する。
【００８３】
以上で第２の実施形態の説明を終了する。ユーザから洗浄の開始指示を受け付けた時点からの経過時間に応じて、適切に脱臭装置２００の洗浄能力を変更することによって、例えばコンポストのように、有機物の投入時点を起点として臭気が徐々に強くなり、ある時点を境に臭気が徐々に減少するような場合でも、適切な洗浄力を保ちつつも、洗浄液の生成に係るコストを低減することのできる効果がある。すなわち、第２の実施形態によれば、生成装置で生成される洗浄液の濃度などの洗浄能力を変更することなく、脱臭装置２００の洗浄能力を変更することで、時系列に沿って増減する気体５００に含まれる臭気の濃度に応じて適切な洗浄能力を提供することができるという効果がある
【００８４】
［第３の実施形態］
次に第３の実施形態について説明する。第３の実施形態では、洗浄システムの洗浄のためのモードを複数テンプレートの形式で記憶しておき、ユーザがテンプレートを選択するだけで、生成装置４００での次亜塩素酸水の生成のためのパラメータや、脱臭装置２００の洗浄のモードを簡便に設定することができる仕組みを提供する。本実施形態は、第１の実施形態と、システム構成、ハードウェア構成、機能構成は同様であるため説明は省略する。第１の実施形態と処理の異なる部分について説明し、処理が同様の部分については説明を省略する。
【００８５】
以下、図９のフローチャートを用いて、第３の実施形態について詳細な処理の流れを説明する。
【００８６】
ステップＳ９０１では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、モードテーブル１０００を取得する。例えば、図１０に示すモードテーブル１０００である。モードテーブル１０００には、モード１００１、次亜塩素酸水濃度１００２、次亜塩素酸水流量１００３、噴霧モード１００４が対応付けて記憶されている。モード１００１は、モードごとに一意に与えられるＩＤである。次亜塩素酸水濃度１００２は、生成装置４００に対して指示を行うための次亜塩素酸水の濃度である。次亜塩素酸水流量１００３は、生成装置４００に対して指示を行うための次亜塩素酸水の流量（生成量）である。噴霧モード１００４は、洗浄液供給部１３０、１４０での洗浄液の噴霧の有無を示すモードである。噴霧モード８０１がＯＮの場合には、脱臭装置２００は噴霧を制御するバルブを開き、洗浄液の噴霧を行う。本実施形態では、噴霧の有無を制御しているが、センサ１１０で取得された臭気の濃度に応じて、噴霧の量を増やすように制御してもよい。すなわち、気体５００の臭気の濃度に応じて脱臭の能力を高めるよう、脱臭装置２００を動作させられれば、ほかのモードでも構わない。なお、本実施形態では、脱臭装置２００の脱臭のモードを噴霧に関するモードを例として説明しているが、必ずしも噴霧に関するモードである必要はなく、例えば、洗浄の回数を増やすなど、他のモードによって脱臭の能力を高めるようにしても構わない。図１０に示すように、ユーザが設定しなければならない項目について、テンプレートとなる値がそれぞれ入っている。
【００８７】
ステップＳ９０２では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、ディスプレイ２１０に、モード選択画面１１００を表示する。例えば、図１１に示すモード選択画面１１００である。モード選択画面１１００のモードボタン１１０１乃至１１０４は、モード１００１ごとに対応付けて管理がされており、例えば、モード１ボタン１１０１とモード１００１「１」とが対応付けて管理されている。すなわち、ユーザが、図１１のモード１ボタン１１０１を押下すると、洗浄システムの洗浄モードは、モード１ボタン１１０１と対応づけて管理されるモード１００１が適用されるようになる
ステップＳ９０３では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、モードボタン１１０１乃至１１０４のいずれかのボタンの選択を受け付けたか否かを判定する。ボタンの選択を受け付けたと判定された場合には処理を巣９０４に進め、そうでない場合にはボタンの選択を受け付けるまで待機する。
【００８８】
ステップＳ９０４では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、ステップＳ９０３で選択されたと判定されたモードボタン１１０１乃至１１０４のいずれかに対応する、モード１００１に対応する設定値（パラメータ：次亜塩素酸水濃度１００２、次亜塩素酸水流量１００３、噴霧モード１００４）を対応する装置に対してそれぞれ通知する。つまり、次亜塩素酸水濃度１００２、次亜塩素酸水流量１００３を生成装置４００に対して通知し、噴霧モード１００４を脱臭装置２００に対して通知する。
【００８９】
ステップＳ９０５では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、洗浄処理の継続をするか否かを判定する。例えば、ユーザが洗浄指示の終了指示を受け付けた場合には、継続をしないと判定することができる。継続をすると判定された場合には処理をステップＳ５０３に戻し、継続をしないと判定された場合には処理を終了する。
【００９０】
ステップＳ９１１では、脱臭装置２００が、ステップＳ９０４で通知された設定値（噴霧モード１００４）を受信する。
【００９１】
ステップＳ９１２では、脱臭装置２００が、ステップＳ９１１で受信された、噴霧モード１００４に基づいて、洗浄液の噴霧を制御する。
【００９２】
ステップＳ９２１では、生成装置４００が、ステップＳ９０４で通知された設定値（次亜塩素酸水濃度１００２、次亜塩素酸水流量１００３）を受信する。
【００９３】
ステップＳ９２２では、生成装置４００が、ステップＳ９２１で受信された、次亜塩素酸水濃度１００２、次亜塩素酸水流量１００３に基づいて、次亜塩素酸水の生成を実行する。
【００９４】
このように、第３の実施形態では、洗浄システムで設定しなければならない複数のパラメータを、ユーザがボタンを押下するだけで適切に設定をすることができるようになるため、洗浄システムの設定に係る手間を軽減し、洗浄システムに係るパラメータを簡便に設定することができる仕組みを提供する。このようにすることで、仮に気体５００の臭気が増大したことをユーザが気が付き、即座に洗浄システムの設定を変更したい場合でもボタンを押下するだけで、適切なパラメータを設定できるという効果がある。
【００９５】
以上で第３の実施形態の説明を終了する。
【００９６】
［第４の実施形態］
次に第４の実施形態について説明する。本実施形態は、第３の実施形態と、システム構成、ハードウェア構成、機能構成は同様であるため説明は省略する。第３の実施形態と処理の異なる部分について説明し、処理が同様の部分については説明を省略する。
【００９７】
本実施形態は、第１の実施形態と異なり、２４時間単位で、時間帯ごとに適切な洗浄システムのパラメータが記憶されており、現在時刻に応じて適切なパラメータを設定することで、１日のうちに一定の周期で臭気の濃度が変更する場合であっても適切なパラメータを洗浄システムに適用することができる。
【００９８】
以下、図１２のフローチャートを用いて詳細に処理の内容を説明する。
【００９９】
ステップＳ１２０１では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、モードテーブル１３００を取得する。図１３に示すように、モードテーブル１３００には、時間帯１３０１とモード１００１とが対応付けて記憶されている。モード１００１には、図１０に示すように、モード１００１に対応して、次亜塩素酸水濃度６０３（パラメータに相当する）、次亜塩素酸水流量６０４（パラメータに相当する）、炭酸ガス流量６０５（パラメータに相当する）が対応付けて記憶されている。例えば、堆肥を作るコンポストなどにおいては、時間帯によって洗浄対象の気体５００に含まれる臭気の濃度が高くなる時間帯と、低くなる時間帯とが存在する。そのため、時間帯１３０１に対応付けてモード１００１がこのように管理されていることにより、気体５００の臭気の濃度の変化に応じて適切にパラメータを洗浄システムにおいて適用することができる。
【０１００】
ステップＳ１２０２では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、現在の時刻を取得する。
【０１０１】
ステップＳ１２０３では、ステップＳ１２０２で取得された現在時刻に対応するモードを特定する。例えば、ステップＳ１２０２で取得された現在時刻が、１０：３７であった場合には、対応するモード１００１が「３」であると特定することができる。すなわち、モード１００１が「３」に対応する次亜塩素酸水濃度６０３（パラメータに相当する）、次亜塩素酸水流量６０４（パラメータに相当する）、炭酸ガス流量６０５（パラメータに相当する）も特定をすることができる。
【０１０２】
ステップＳ９０４からステップＳ９０５については、第３の実施形態と処理の内容は同様であるため、説明を省略する。
【０１０３】
ステップＳ９１１からステップＳ９１２については、第３の実施形態と処理の内容は同様であるため、説明を省略する。
【０１０４】
ステップＳ９２１からステップＳ９２２については、第３の実施形態と処理の内容は同様であるため、説明を省略する。
【０１０５】
以上で、第４の実施形態の説明を終了する。
【０１０６】
第４の実施形態によれば、２４時間単位で、時間帯ごとに適切な洗浄システムのパラメータが記憶されており、現在時刻に応じて適切なパラメータを設定することで、１日のうちに一定の周期で臭気の濃度が変更する場合であっても適切なパラメータを洗浄システムに適用することができる。特にコンポストから廃棄される気体５００のように、１日のなかで気体５００に含まれる臭気の濃度が上下する場合であっても効率的に洗浄システムのパラメータを設定することができる。
【０１０７】
以上、本発明によれば、適切な洗浄力を提供しつつ脱臭にかかるコストを抑えることができる。
【０１０８】
脱臭装置２００は、実施形態１に係る湿式脱臭装置を用いてもよいし、その他の脱臭装置を用いてもよい。例えば図１３に示すように、脱臭装置２００にセンサ１１１を設けず、センサ１１０のみを設けるようにしても構わない。
【０１０９】
第１の脱臭装置２００として実施形態１に係る脱臭装置２００Ａ，Ｂを用いる場合、洗浄液４１０は第２の洗浄液として供給され、洗浄液４２０が流出する流出口２１４は流出口１８０に対応する。また、流入口１０１は流入口１０１に対応し、流出口２１２は流出口１０３に対応し、排出口２１３は排出口１９０に対応する。この場合、外部の生成装置４００から供給された洗浄液４１０を、そのまま第１の脱臭装置２００の内部に噴霧することができる。このような構成によれば、湿式脱臭システムの後段において新鮮な洗浄液を用いて脱臭対象の気体を洗浄することができるため、臭気をよりよく低減できる。また、第２の脱臭装置２００として実施形態１に係る脱臭装置２００Ａ，Ｂを用いる場合、洗浄液４２０は第２の洗浄液として供給され、洗浄液４３０が流出する流出口２２４は流出口１８０に対応する。また、流入口２２１は流入口１０１に対応し、流出口２２２は流出口１０３に対応し、排出口２２３は排出口１９０に対応する。
【０１１０】
以上、本実施形態に係る湿式脱臭システムの構成例をいくつか紹介した。しかしながら、本実施形態に係る湿式脱臭システムは、上記の構成には限定されない。すなわち、本実施形態に係る湿式脱臭システムは、１以上の任意の数の冷却装置と、１以上の任意の数の脱臭装置とを備えることができる。例えば、図３の構成において、脱臭装置として第１の脱臭装置２００のみが用いられ、第１の脱臭装置の内部の洗浄液が脱臭対象の気体を冷却するために冷却装置に供給されてもよい。また、図３の構成において、脱臭装置としてさらなる第３の脱臭装置が用いられてもよい。それぞれの冷却装置及び脱臭装置の構成は特に限定されず、冷却装置及び脱臭装置のうちの１以上として実施形態１に係る湿式脱臭装置を採用することもできる。また、互いに異なる構成を有する、１以上の実施形態１に係る湿式脱臭装置を採用することもできる。例えば、第１の脱臭装置２００が図２（Ｂ）に示される構成を有し、第２の脱臭装置２００が図２（Ａ）に示される構成を有してもよい。
【０１１１】
また、本実施形態１〜４についてそれぞれ組み合わせたものについても本発明の範囲内であることは自明である。
【０１１２】
本発明は、例えば、システム、装置、方法、プログラム若しくは記憶媒体等としての実施形態も可能であり、具体的には、複数の機器から構成されるシステムに適用してもよいし、また、１つの機器からなる装置に適用してもよい。なお、本発明は、前述した実施形態の機能を実現するソフトウェアのプログラムを、システム或いは装置に直接、或いは遠隔から供給するものを含む。そして、そのシステム或いは装置の情報処理装置が前記供給されたプログラムコードを読み出して実行することによっても達成される場合も本発明に含まれる。
【０１１３】
したがって、本発明の機能処理を情報処理装置で実現するために、前記情報処理装置にインストールされるプログラムコード自体も本発明を実現するものである。つまり、本発明は、本発明の機能処理を実現するためのコンピュータプログラム自体も含まれる。
【０１１４】
その場合、プログラムの機能を有していれば、オブジェクトコード、インタプリタにより実行されるプログラム、ＯＳに供給するスクリプトデータ等の形態であってもよい。
【０１１５】
プログラムを供給するための記録媒体としては、例えば、フレキシブルディスク、ハードディスク、光ディスク、光磁気ディスク、ＭＯ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷなどがある。また、磁気テープ、不揮発性のメモリカード、ＲＯＭ、ＤＶＤ（ＤＶＤ−ＲＯＭ，ＤＶＤ−Ｒ）などもある。
【０１１６】
その他、プログラムの供給方法としては、クライアントコンピュータのブラウザを用いてインターネットのホームページに接続する。そして、前記ホームページから本発明のコンピュータプログラムそのもの、若しくは圧縮され自動インストール機能を含むファイルをハードディスク等の記録媒体にダウンロードすることによっても供給できる。
【０１１７】
また、本発明のプログラムを構成するプログラムコードを複数のファイルに分割し、それぞれのファイルを異なるホームページからダウンロードすることによっても実現可能である。つまり、本発明の機能処理を情報処理装置で実現するためのプログラムファイルを複数のユーザに対してダウンロードさせるＷＷＷサーバも、本発明に含まれるものである。
【０１１８】
また、本発明のプログラムを暗号化してＣＤ−ＲＯＭ等の記憶媒体に格納してユーザに配布し、所定の条件をクリアしたユーザに対し、インターネットを介してホームページから暗号化を解く鍵情報をダウンロードさせる。そして、ダウンロードした鍵情報を使用することにより暗号化されたプログラムを実行して情報処理装置にインストールさせて実現することも可能である。
【０１１９】
また、情報処理装置が、読み出したプログラムを実行することによって、前述した実施形態の機能が実現される。その他、そのプログラムの指示に基づき、情報処理装置上で稼動しているＯＳなどが、実際の処理の一部又は全部を行い、その処理によっても前述した実施形態の機能が実現され得る。
【０１２０】
さらに、記録媒体から読み出されたプログラムが、情報処理装置に挿入された機能拡張ボードや情報処理装置に接続された機能拡張ユニットに備わるメモリに書き込まれる。その後、そのプログラムの指示に基づき、その機能拡張ボードや機能拡張ユニットに備わるＣＰＵなどが実際の処理の一部又は全部を行い、その処理によっても前述した実施形態の機能が実現される。
【０１２１】
なお、前述した実施形態は、本発明を実施するにあたっての具体化の例を示したものに過ぎず、これらによって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されてはならないものである。即ち、本発明はその技術思想、又はその主要な特徴から逸脱することなく、様々な形で実施することができる。
【符号の説明】
【０１２２】
１００  情報処理装置
２０１  ＣＰＵ
２０２  ＲＡＭ
２０３  ＲＯＭ
２０４  システムバス
２０５  入力コントローラ
２０６  ビデオコントローラ
２０７  メモリコントローラ
２０８  通信Ｉ／Ｆコントローラ
２０９  キーボード
２１０  ディスプレイ
２１１  外部メモリ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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