(57)【要約】【課題】余分な電気泳動分散液の付着に起因した基板間の接合不良を抑制する。【解決手段】第１基板および第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間の電気泳動分散液とを具備し、前記第１基板は、前記電気泳動分散液が充填された複数のセルが設けられた画素領域の外側に貫通孔と前記貫通孔に連通する溝とを有する電気泳動装置。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板および第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間の電気泳動分散液とを具備し、
前記第１基板は、前記電気泳動分散液が充填された複数のセルが設けられた画素領域の外側に貫通孔と前記貫通孔に連通する溝とを有する
電気泳動装置。
【請求項２】
前記溝は、前記第１基板のうち前記第２基板に対向する面に設けられる
請求項１の電気泳動装置。
【請求項３】
前記溝は、前記第１基板の表面に対して窪んだ部分である
請求項２の電気泳動装置。
【請求項４】
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられ、前記複数のセルを構成する隔壁部と、
前記画素領域の外側に設けられ、前記第１基板と前記第２基板とを接合するための接合部とを具備し、
前記貫通孔と前記溝とは、前記隔壁部と前記接合部との間に設けられる
請求項３の電気泳動装置。
【請求項５】
前記溝は、前記第１基板の周縁に沿う第１周縁溝を含む
請求項３または請求項４の電気泳動装置。
【請求項６】
前記第１周縁溝は、前記第１基板の全周にわたり設けられる
請求項５の電気泳動装置。
【請求項７】
前記溝は、前記第１周縁溝から前記画素領域側に分岐する複数の分岐溝を含む
請求項５または請求項６の電気泳動装置。
【請求項８】
前記溝は、前記第１周縁溝の内側において前記第１基板の周縁に沿う第２周縁溝を含み、
前記第２周縁溝は、前記分岐溝を介して前記第１周縁溝と連通する
請求項７の電気泳動装置。
【請求項９】
請求項１から請求項８の何れかの電気泳動装置を具備する電子機器。
【請求項１０】
第１基板と第２基板との間の電気泳動分散液を具備する電気泳動装置の製造方法であって、
前記第２基板の面上に前記電気泳動分散液を配置する第１工程と、
接合部を介して前記第１基板と前記第２基板とを接合する第２工程とを含み、
前記第１基板には、前記電気泳動分散液が充填された複数のセルが設けられた画素領域の外側に貫通孔と前記貫通孔に連通する溝とが形成され、
前記第２工程では、前記電気泳動分散液を、前記溝を介して前記貫通孔から流出させる
電気泳動装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、帯電粒子を分散媒に分散した分散液（以下「電気泳動分散液」という）を利用して画像を表示する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば特許文献１には、相互に対向する素子基板と対向基板との間隙に電気泳動分散液を保持した電気泳動装置が開示されている。素子基板と対向基板とは、矩形枠状のシール部により相互に接合される。複数の画素が配列する表示領域とシール部との間には、余分な電気泳動分散液を滞留させるための液溜り部が形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１５−１８０６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１の技術では、矩形枠状のシール部が形成された素子基板の表面に電気泳動分散液を塗布した状態で、素子基板に対向基板が接合される。素子基板の表面に過剰な電気泳動分散液が塗布された場合、素子基板と対向基板とを接合する過程では、液溜り部で収容しきれない余分な電気泳動分散液がシール部の内側の空間から溢れる可能性がある。以上の状態では余分な電気泳動分散液がシール部の上面に付着するから、素子基板と対向基板とを充分に接合できない可能性がある。他方、液溜り部から電気泳動分散液が溢れないように電気泳動分散液の塗布量を抑制した場合、第１基板と第２基板との間に気泡が残留して表示不良の原因となり得る。以上の事情を考慮して、本発明は、余分な電気泳動分散液の付着に起因した基板間の接合不良を抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
以上の課題を解決するために、本発明の好適な態様に係る電気泳動装置は、第１基板および第２基板と、第１基板と第２基板との間の電気泳動分散液とを具備し、第１基板は、電気泳動分散液が充填された複数のセルが設けられた画素領域の外側に貫通孔と貫通孔に連通する溝とを有する。以上の構成では、第１基板が貫通孔を有するから、第１基板と第２基板とを相互に接合する工程において余分な電気泳動分散液が貫通孔から流出する。したがって、余分な電気泳動分散液の付着に起因した、第１基板と第２基板との接合不良（例えば接合強度の不足）を抑制することが可能である。また、貫通孔に連通する溝の毛細管現象により、余分な電気泳動分散液が溝を介して貫通孔に誘導される。すなわち、余分な電気泳動分散液が貫通孔から流出しやすくなる。したがって、第１基板と第２基板との接合不良をより抑制することができる。
【０００６】
本発明の好適な態様において、溝は、第１基板のうち第２基板に対向する面に設けられる。以上の構成では、第１基板のうち第２基板に対向する面に溝が設けられるから、電気泳動分散液の表面が溝に接触する。したがって、貫通孔に連通する溝の毛細管現象を充分に発生させることができる。ひいては、より多くの電気泳動分散液が溝を介して貫通孔から流出する。
【０００７】
本発明の好適な態様において、溝は、第１基板の表面に対して窪んだ部分である。以上の構成では、第１基板の表面に対して窪むように溝が設けられている。したがって、例えば、第１基板の表面に設けられた側壁により溝が設けられている構成と比較して、溝の形成が容易である。また、余分な電気泳動分散液を収容する容量を確保することができる。
【０００８】
本発明の好適な態様において、第１基板と第２基板との間に設けられ、複数のセルを構成する隔壁部と、画素領域の外側に設けられ、第１基板と第２基板とを接合するための接合部とを具備し、貫通孔と溝とは、隔壁部と接合部との間に設けられる。以上の構成では、隔壁部と接合部との間に貫通孔と溝とが設けられる。したがって、画素領域の内側に溝の一部が位置する構成と比較して、表示に与える影響を低減できる。
【０００９】
本発明の好適な態様において、溝は、第１基板の周縁に沿う第１周縁溝を含む。以上の構成では、第１基板の周縁に沿い第１周縁溝が設けられているから、溝が第１基板の周縁に沿わない構成と比較して、毛細管現象が発生する範囲を広く確保できる。したがって、より多くの電気泳動分散液が溝を介して貫通孔から流出する。
【００１０】
本発明の好適な態様において、第１周縁溝は、第１基板の全周にわたり設けられる。以上の構成では、第１周縁溝が第１基板の全周にわたり設けられているから、余分な電気泳動分散液が均一に貫通孔から流出する。
【００１１】
本発明の好適な態様において、溝は、第１周縁溝から画素領域側に分岐する複数の分岐溝を含む。以上の構成では、第１周縁溝から画素領域側に分岐する複数の分岐溝が設けられているから、余分な電気泳動分散液が貫通孔により流出しやすくなる。
【００１２】
本発明の好適な態様において、溝は、第１周縁溝の内側において第１基板の周縁に沿う第２周縁溝を含み、第２周縁溝は、分岐溝を介して第１周縁溝と連通する。以上の構成では、第１周縁溝の内側において第１基板の周縁に沿う第２周縁溝が設けられている。余分な電気泳動分散液を収容する容量をより確保することができる。
【００１３】
本発明の好適な態様に係る電子機器は、前述の各態様に係る電気泳動装置を具備する。例えば、時計や電子ペーパー等が電子機器の好例であるが、本発明の適用範囲は以上の例示に限定されない。
【００１４】
本発明の好適な態様に係る電気泳動装置の製造方法は、第１基板と第２基板との間の電気泳動分散液を具備する電気泳動装置の製造方法であって、第２基板の面上に電気泳動分散液を配置する第１工程と、接合部を介して第１基板と第２基板とを接合する第２工程とを含み、第１基板には、電気泳動分散液が充填された複数のセルが設けられた画素領域の外側に貫通孔と貫通孔に連通する溝とが形成され、第２工程では、電気泳動分散液を、溝を介して貫通孔から流出させる。以上の態様では、第１基板と第２基板とを接合する第２工程において、余分な電気泳動分散液が溝を介して貫通孔から流出する。したがって、例えば第１基板と第２基板との間の気泡の残留を抑制するために充分な分量の電気泳動分散液を第１工程において第２基板の面上に配置しても、余分な電気泳動分散液が接合部に付着する可能性は低減される。すなわち、電気泳動分散液が接合部に付着することに起因した、第１基板と第２基板との接合不良（例えば接合強度の不足）を抑制することが可能である。また、第２工程において貫通孔に連通する溝の毛細管現象が発生することにより、余分な電気泳動分散液が溝を介して貫通孔に誘導される。すなわち、余分な電気泳動分散液が貫通孔から流出しやすくなる。したがって、第１基板と第２基板との接合不良をより抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の第１実施形態に係る電気泳動装置の平面図である。
【図２】図１におけるII−II線の断面図である。
【図３】溝の平面図である。
【図４】電気泳動装置の製造方法における工程Ｐ1の説明図である。
【図５】電気泳動装置の製造方法における工程Ｐ2の説明図である。
【図６】電気泳動装置の製造方法における工程Ｐ3の説明図である。
【図７】電気泳動装置の製造方法における工程Ｐ4の説明図である。
【図８】電気泳動装置の製造方法における工程Ｐ5の説明図である。
【図９】電気泳動装置の製造方法における工程Ｐ5の説明図である。
【図１０】電気泳動装置の製造方法における工程Ｐ5の説明図である。
【図１１】電気泳動装置の製造方法における工程Ｐ5の説明図である。
【図１２】電気泳動装置の製造方法における工程Ｐ6の説明図である。
【図１３】第２実施形態における電気泳動装置の平面図である。
【図１４】第２実施形態における溝の平面図である。
【図１５】変形例における溝の平面図である。
【図１６】図１５におけるXVI−XVI線の断面図である。
【図１７】電子機器の一例である腕時計の正面図である。
【図１８】電子機器の一例である電子ペーパーの斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
＜第１実施形態＞
図１は、本発明の第１実施形態に係る電気泳動装置１００の平面図であり、図２は、図１におけるII−II線の断面図である。第１実施形態の電気泳動装置１００は、相互に交差するＸ方向とＹ方向とにわたり画素領域Ａ内に行列状に配列された複数の画素を利用して任意の画像を表示する表示機器である。図１および図２に例示される通り、電気泳動装置１００は、相互に間隔をあけて対向する第１基板１０と第２基板２０とを具備する。第１基板１０は、表示画像を視認する利用者側に位置し、第２基板２０は利用者とは反対側（背面側）に位置する。第１基板１０および第２基板２０の各々は、光透過性の板状部材である。ただし、背面側に位置する第２基板２０の光透過性は必須ではない。
【００１７】
図１および図２に例示される通り、第１基板１０と第２基板２０とは接合部３０を介して相互に接合される。接合部３０は、画素領域Ａの外側に設けられ、第１基板１０と第２基板２０とを接合するための構造体である。具体的には、接合部３０は、第１基板１０および第２基板２０の各々の周縁に沿う環状（具体的には矩形枠状）に形成される。第１実施形態の接合部３０は、図２に例示される通り、基礎部３２とシール材３４とを含んで構成される。基礎部３２は、アクリル系またはエポキシ系等の樹脂材料で形成された矩形枠状の構造体であり、シール材３４は、同様の樹脂材料で基礎部３２の上面に形成された接着層である。
【００１８】
図２に例示される通り、第１基板１０と第２基板２０との間隙には電気泳動分散液４０が保持される。第１基板１０と第２基板２０との間隙内で接合部３０により包囲された空間に電気泳動分散液４０が封止される。第１基板１０と第２基板２０との間の電気泳動分散液４０は、複数の帯電粒子４２（４２B，４２W）の電気泳動を利用して階調を表示する表示媒体である。具体的には、電気泳動分散液４０は、相互に逆極性に帯電した白色の帯電粒子４２Wおよび黒色の帯電粒子４２Bと、複数の帯電粒子４２（４２W，４２B）が泳動可能に分散された分散媒４４とを含んで構成される。
【００１９】
図２に例示される通り、第１基板１０のうち第２基板２０との対向面には共通電極１２と絶縁層１４とが形成される。共通電極１２は、画素領域Ａ内の複数の画素にわたり連続する電極であり、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）等の光透過性の導電材料で形成される。絶縁層１４は、絶縁材料で形成されて共通電極１２を覆う光透過性の被膜である。絶縁層１４の材料は任意であるが、例えば酸化珪素または窒化珪素等の無機材料や各種の樹脂材料が好適である。
【００２０】
図２に例示される通り、第２基板２０のうち第１基板１０との対向面には回路層２２が形成される。回路層２２は、導電層と絶縁層とを含む複数層（図示略）の積層で構成され、複数の画素の各々を駆動するためのトランジスターや配線を内包する。回路層２２の面上には複数の画素電極２４が形成される。複数の画素電極２４は、例えばＩＴＯやＩＺＯ等の光透過性の導電材料で形成される。各画素電極２４は、画素毎に個別に形成された略矩形状の電極である。図１に例示される通り、画素領域Ａの内側には、相互に間隔をあけてＸ方向およびＹ方向にわたり複数の画素電極２４が行列状に配列する。
【００２１】
画素電極２４と共通電極１２との間の電圧に応じて複数の帯電粒子４２が泳動することで画素電極２４毎に階調（白色／黒色）が制御される。例えば、白色の帯電粒子４２Wが共通電極１２に接近することで白色が表示され、黒色の帯電粒子４２Bが共通電極１２に接近することで黒色が表示される。以上の説明から理解される通り、画素電極２４と共通電極１２とが電気泳動分散液４０を挟んで相互に対向する部分が画素として機能する。
【００２２】
図１および図２に例示される通り、第１基板１０と第２基板２０との間には隔壁部２６が設けられる。隔壁部２６は、第２基板２０の面上に形成される。具体的には、隔壁部２６は、画素領域Ａの内側に位置し、第１基板１０と第２基板２０との間隙を複数の空間（以下「セル」という）Ｃに区画する構造体である。つまり、隔壁部２６は、第１基板１０と第２基板２０との間に設けられ、複数のセルＣを構成する。隔壁部２６の上面は、第１基板１０の面上に形成された絶縁層１４の表面に接触する。第１実施形態では、図１および図２に例示される通り、第１基板１０と第２基板２０との間隙が隔壁部２６により画素毎に区画され、Ｘ方向とＹ方向とにわたり複数のセルＣが行列状に配列する。すなわち、隔壁部２６の平面形状は、Ｙ方向に隣合う各画素電極２４の間の領域内でＸ方向に延在する直線状の部分と、Ｘ方向に隣合う各画素電極２４の間の領域内でＹ方向に延在する直線状の部分とを組合わせた格子状である。画素領域Ａは、隔壁部２６の外周縁により包囲された領域とも換言され得る。隔壁部２６の材料は任意であるが、例えばアクリル系またはエポキシ系等の樹脂材料が好適である。なお、隔壁部２６を遮光材料で形成すれば、各画素の間隙を遮光する遮光層として隔壁部２６を利用することが可能である。
【００２３】
図２に例示される通り、電気泳動分散液４０は、隔壁部２６で区画された複数のセルＣの各々に充填される。すなわち、画素領域Ａには、電気泳動分散液４０が充填された複数のセルＣが配列する。第１実施形態では、隔壁部２６の外周縁（最外周）と接合部３０の内周縁との間の空間（以下「貯留空間」という）Ｒにも電気泳動分散液４０が充填される。図１に例示される通り、貯留空間Ｒは、平面視で（すなわち第１基板１０または第２基板２０の表面に垂直な方向からみて）画素領域Ａを包囲する矩形枠状の空間である。
【００２４】
図１および図２に例示される通り、第１基板１０は、貫通孔１６と貫通孔１６に連通する溝１７とを有する。第１実施形態の第１基板１０には、平面視で相異なる位置に複数の貫通孔１６が形成され、かつ、各貫通孔１６に連通する溝１７が形成される。図２に例示される通り、第１実施形態の溝１７は、第１基板１０のうち第２基板２０に対向する面に設けられ、第１基板１０の表面に対して窪んだ部分である。複数の貫通孔１６の各々と溝１７とは、接合部３０を介して第１基板１０と第２基板２０とを相互に接合する工程（後述の工程Ｐ5）において余分な電気泳動分散液４０を外部に流出させるための空間である。図１に例示される通り、第１実施形態の第１基板１０は、画素領域Ａの外側に複数の貫通孔１６と溝１７とを有する。具体的には、各貫通孔１６と溝１７とは、平面視で（すなわち第１基板１０に垂直な方向からみて）、隔壁部２６と接合部３０との間に設けられる。各貫通孔１６と溝１７とは、画素領域Ａの外周縁と接合部３０の内周縁との間に位置するとも換言され得る。すなわち、各貫通孔１６と溝１７とは貯留空間Ｒに連通する。以上の例示の通り、第１実施形態では画素領域Ａの外側に貫通孔１６と溝１７とが形成されるから、画素領域Ａ内の画像表示に貫通孔１６は影響しない。なお、貫通孔１６と溝１７との形成には公知の加工技術が任意に採用され得る。例えば、切削等の機械加工やエッチング等の化学加工により第１基板１０に貫通孔１６と溝１７とを形成することが可能である。
【００２５】
図３は、溝１７の平面図である。図３に例示される通り、溝１７は、第１基板１０の周縁に沿う第１周縁溝１７A1と、第１周縁溝１７A1から画素領域Ａ側に分岐する複数の分岐溝１７Bとを含む。第１実施形態の第１周縁溝１７A1は、第１基板１０の全周にわたり矩形枠状に設けられ、各貫通孔１６に直接的に連通する。一方で、各分岐溝１７Bは、第１周縁溝１７A1の内周から画素領域Ａの外周縁に向い、第１周縁溝１７A1に沿って略一定の間隔で形成される。各分岐溝１７Bは、直接的に、または、第１周縁溝１７A1を介して間接的に貫通孔１６に連通する。
【００２６】
図１に例示される通り、第１実施形態における貫通孔１６の断面形状は円形状である。各貫通孔１６の内径は帯電粒子４２の粒径（例えば平均径）よりも大きい。したがって、電気泳動分散液４０の帯電粒子４２は分散媒４４とともに貫通孔１６の内部を流動可能である。なお、貫通孔１６の断面形状の典型例は円形状であるが、円形状以外の断面形状（例えば多角形状）の貫通孔１６を形成することも可能である。また、溝１７の流路幅（短手方向における寸法）は、帯電粒子４２の粒径よりも大きい。したがって、電気泳動分散液４０の帯電粒子４２は分散媒４４とともに溝１７の内部を流動可能である。なお、溝１７の断面形状の典型例は矩形状であるが、矩形状以外の断面形状（例えば多角形状）の溝１７を形成することも可能である。第１実施形態では、溝１７の流路幅は、溝１７の全体にわたり略一定である。なお、図１では、貫通孔１６の内径が溝１７の流路幅よりも大きい構成を例示したが、貫通孔１６の内径が溝１７の流路幅よりも小さい構成も採用され得る。
【００２７】
図１および図２に例示される通り、第１基板１０の複数の貫通孔１６の各々は閉塞部１８により閉塞される。閉塞部１８は、第１基板１０のうち第２基板２０とは反対側の表面に形成されて貫通孔１６を閉塞する。閉塞部１８の材料は任意であるが、例えばアクリル系またはエポキシ系等の樹脂材料が好適である。以上に例示した通り、貯留空間Ｒに連通する貫通孔１６が閉塞部１８により閉塞された状態では、貯留空間Ｒ内の電気泳動分散液４０が貫通孔１６を介して外部空間に流出することはない。
【００２８】
＜電気泳動装置１００の製造方法＞
以上に例示した電気泳動装置１００の製造方法を説明する。図４から図１２は、電気泳動装置１００の製造方法の工程図である。工程Ｐ1では、図４に例示される通り、共通電極１２と絶縁層１４とが形成された第１基板１０のうち画素領域Ａの外側に、複数の貫通孔１６と各貫通孔１６に連通する溝１７とが形成される。複数の貫通孔１６は、相異なる位置に形成される。なお、貫通孔１６および溝１７の形成と共通電極１２および絶縁層１４の形成との順序は任意である。例えば、複数の貫通孔１６が形成された第１基板１０の面上に共通電極１２と絶縁層１４とを形成することも可能である。
【００２９】
工程Ｐ2では、図５に例示される通り、第２基板２０の表面に、回路層２２と複数の画素電極２４と隔壁部２６とが順次に形成される。工程Ｐ2での各層の形成には公知の成膜技術および加工技術が任意に採用され得る。なお、工程Ｐ1と工程Ｐ2との先後は任意である。
【００３０】
工程Ｐ2の後の工程Ｐ3では、図６に例示される通り、第２基板２０の面上に接合部３０が形成される。具体的には、画素領域Ａを包囲する矩形枠状の基礎部３２が公知の製造技術により形成され、基礎部３２の表面に樹脂材料のシール材３４（すなわち、第１基板１０と第２基板２０とを接合するための接着剤）が塗布される。
【００３１】
工程Ｐ3の後の工程Ｐ4（第１工程の例示）では、図７に例示される通り、第２基板２０の面上に電気泳動分散液４０が配置される。具体的には、隔壁部２６で区画された各セルＣ（すなわち画素領域Ａ内）に電気泳動分散液４０が充填される。接合後の第１基板１０と第２基板２０との間隙内に気泡が残留しないように、工程Ｐ4では、充分な分量の電気泳動分散液４０が第２基板２０の面上に塗布される。具体的には、接合後の第１基板１０と第２基板２０との間隙に想定される容積を上回る分量の電気泳動分散液４０が、工程Ｐ4では第２基板２０の面上に塗布される。したがって、工程Ｐ4で画素領域Ａ内に配置された電気泳動分散液４０は、画素領域Ａの内側から外側に流動して貯留空間Ｒ内にも到達し得る。ただし、工程Ｐ4で第２基板２０の面上に配置される電気泳動分散液４０の分量は、貯留空間Ｒからは溢れない程度に制限される。したがって、工程Ｐ4の段階で電気泳動分散液４０が貯留空間Ｒに流動した場合でも、接合部３０の上面まで電気泳動分散液４０が到達することはない。
【００３２】
工程Ｐ4の後の工程Ｐ5（第２工程の例示）では、図８から図１１に例示される通り、工程Ｐ1の実行後の第１基板１０と工程Ｐ4の実行後の第２基板２０とが、工程Ｐ3で形成された接合部３０を介して相互に接合される。工程Ｐ5において第１基板１０を第２基板２０に接近させる過程では、まず、図８に例示される通り、第１基板１０のうち第２基板２０との対向面が最初に接合部３０のシール材３４に接触する。すなわち、第１基板１０と第２基板２０との間の空間は、複数の貫通孔１６を介して外部空間に連通した状態で接合部３０により封止される。
【００３３】
第１基板１０と第２基板２０とが更に接近すると、図９に例示される通り、第１基板１０の面上に形成された絶縁層１４の表面が電気泳動分散液４０に接触する。電気泳動分散液４０は、第１基板１０の接触により押圧されることで、画素領域Ａの内側から貯留空間Ｒに流動する。第１基板１０と第２基板２０とが更に接近すると、電気泳動分散液４０が貯留空間Ｒに充填され、図１０に破線の矢印で図示される通り、貯留空間Ｒ内の余分な電気泳動分散液４０が貫通孔１６に発生する毛細管現象に起因した毛管力により第１基板１０の各貫通孔１６から外部空間に流出する。第１実施形態では、各貫通孔１６に連通する溝１７にも毛細管現象が発生するので、余分な電気泳動分散液４０が溝１７を介して各貫通孔１６に誘導される。すなわち、余分な電気泳動分散液４０が貫通孔１６から流出しやすくなる。前述の通り、貫通孔１６の内径と溝１７の流路幅とは帯電粒子４２の粒径よりも大きいから、帯電粒子４２も分散媒４４とともに溝１７を介して貫通孔１６から流出する。そして、図１１に例示される通り、隔壁部２６の上面が第１基板１０の面上の絶縁層１４に接触した状態で第１基板１０と第２基板２０とが保持される。以上に例示した通り、工程Ｐ5では、余分な電気泳動分散液４０を溝１７を介して貫通孔１６から流出させる。したがって、第１基板１０と第２基板２０との間の空間の圧力の過度な上昇が抑制される。
【００３４】
工程Ｐ5の後の工程Ｐ6では、図１２に例示される通り、複数の貫通孔１６の各々を閉塞する閉塞部１８が形成される。具体的には、第１基板１０のうち第２基板２０とは反対側の表面に到達した電気泳動分散液４０が払拭されたうえで、各貫通孔１６を閉塞するように例えば樹脂材料が塗布および硬化されることで閉塞部１８が形成される。工程Ｐ6における閉塞部１８の形成により、貫通孔１６を介した電気泳動分散液４０の流出が停止する。すなわち、電気泳動装置１００の製造後（例えば使用される段階）には、電気泳動分散液４０が貫通孔１６から流出することはない。
【００３５】
ところで、工程Ｐ5の過程で接合部３０の頂上面に電気泳動分散液４０が付着すると、第１基板１０と接合部３０とが適切に接合されず、第１基板１０と第２基板２０との接合不良が発生し得る。以上に説明した通り、第１実施形態では、第１基板１０と第２基板２０とを接合する工程Ｐ5において、貫通孔１６を介して余分な電気泳動分散液４０が流出する。したがって、第１基板１０と第２基板２０との間の気泡の残留を抑制するために充分な分量の電気泳動分散液４０を工程Ｐ4において第２基板２０に配置した場合でも、工程Ｐ5の過程で電気泳動分散液４０が接合部３０の頂上面まで到達する可能性は低減される。すなわち、余分な電気泳動分散液４０が接合部３０の上面に付着することに起因した、第１基板１０と第２基板２０との接合不良（例えば接合強度の不足）を抑制することが可能である。
【００３６】
第１実施形態では特に、貫通孔１６に連通した溝１７を第１基板１０が有するから、溝１７に発生する毛細管現象により、余分な電気泳動分散液４０が溝１７を介して貫通孔１６に誘導される。すなわち、余分な電気泳動分散液４０が貫通孔１６から流出しやすくなる。したがって、第１基板１０と第２基板２０との接合不良をより抑制することができる。また、第１実施形態では、溝１７が第１基板１０の表面に対して窪んでいるので、余分な電気泳動分散液４０を収容する容量を確保することができる。
【００３７】
＜第２実施形態＞
本発明の第２実施形態を説明する。なお、以下に例示する各形態において作用または機能が第１実施形態と同様である要素については、第１実施形態の説明で使用した符号を流用して各々の詳細な説明を適宜に省略する。
【００３８】
図１３は、第２実施形態における電気泳動装置１００の平面図であり、図１４は、第２実施形態における溝１７の平面図である。第１実施形態では、第１基板１０の周縁に沿う第１周縁溝１７A1と、第１周縁溝１７A1から画素領域Ａ側に分岐する複数の分岐溝１７Bとを含む溝１７を第１基板が有する構成を例示した。図１３および図１４に例示される通り、第２実施形態の溝１７は、第１実施形態と同様の第１周縁溝１７A1と複数の分岐溝１７Bとに加えて、第１周縁溝１７A1の内側において第１基板１０の周縁に沿う第２周縁溝１７A2を含む。第２周縁溝１７A2は、第１周縁溝１７A1の内周と接合部３０の内周縁との間に位置する。第２実施形態の第２周縁溝１７A2は、第１基板１０の全周にわたり矩形枠状に設けられる。複数の分岐溝１７Bは第２周縁溝１７A2に交差する。すなわち、第２周縁溝１７A2は、分岐溝１７Bを介して第１周縁溝１７A1を連通する。つまり、第２周縁溝１７A2は、分岐溝１７Bおよび第１周縁溝１７A1を介して貫通孔１６と連通する。
【００３９】
電気泳動装置１００の他の構成や製造方法は第１実施形態と同様である。したがって、第２実施形態においても第１実施形態と同様の効果が実現される。第２実施形態では特に、第１周縁溝１７A1と分岐溝１７Bに加えて、第２周縁溝１７A2を第１基板１０が有するので、余分な電気泳動分散液４０を収容する容量をより確保することができるという利点がある。
＜変形例＞
以上に例示した各態様は多様に変形され得る。具体的な変形の態様を以下に例示する。以下に例示する態様は、前述の各形態に適用され得る。また、以下の例示から任意に選択された２個以上の態様は、相互に矛盾しない範囲で適宜に併合され得る。
【００４０】
（１）前述の各形態では、第１基板１０のうち第２基板２０に対向する面に溝１７を形成したが、第１基板１０において溝１７を形成する位置は以上の例示に限定されない。第１基板１０のうち第２基板２０に対向する面に溝１７を形成する前述の態様によれば、電気泳動分散液４０の表面が溝１７に接触するから、貫通孔１６に連通する溝の毛細管現象を充分に発生させることができる。したがって、より多くの電気泳動分散液４０が溝１７を介して貫通孔１６から流出する。
【００４１】
（２）前述の各形態では、図２に例示した通り、第１基板１０の表面に対して窪んだ部分を溝１７としたが、溝１７の形状は以上の例示に限定されない。図１５は、変形例における溝１７の平面図であり、図１６は、図１５におけるXVI−XVI線の断面図である。例えば、図１５および図１６に例示される通り、第１基板１０の表面に形成された側壁１９により溝１７を形成してもよい。具体的には、第１基板１０のうち第２基板２０に対向する面に、一定の間隔で相互に対向する一対の側壁１９を形成することで、貫通孔１６と連通する第１外周溝１７A1および分岐溝１７Bが形成される。溝１７の平面形状は、前述の各形態と同様である。以上の構成においても、溝１７の毛細管現象により、余分な電気泳動分散液４０が溝１７を介して貫通孔１６に誘導されるので、余分な電気泳動分散液４０が貫通孔１６から流出しやすくなる。したがって、前述の各形態と同様に、第１基板１０と第２基板２０との接合不良をより抑制することができる。ただし、第１基板１０の表面に対して窪んだ部分を溝１７とする前述の各形態によれば、第１基板１０の表面に形成された側壁１９により溝１７が形成されている構成と比較して溝１７の形成が容易である。また、余分な電気泳動分散液４０を収容する容量を確保することができるという利点がある。以上の説明から理解される通り、溝１７の形状は任意であり、第１基板１０の表面に形成された側壁１９により形成される溝１７についても、第１基板１０に形成される溝１７の概念に包含され得る。なお、第２実施形態では、第２周縁溝１７A2についても側壁１９により形成してもよい。
【００４２】
（３）前述の各形態では、第１基板１０の全周にわたり第１周縁溝１７A1を設けたが、第１基板１０の周縁の一部に第１周縁溝１７A1を設けてもよい。ただし、第１基板１０の全周にわたり第１周縁溝１７A1を設ける前述の各形態によれば、余分な電気泳動分散液４０が均一に貫通孔１６から流出する。なお、第２実施形態では、第２周縁溝１７A2についても、第１基板１０の周縁の一部において第２周縁溝１７A2を設けてもよい。
【００４３】
（４）前述の各形態では、各分岐溝１７Bは第１周縁溝１７A1から画素領域Ａ側に分岐したが、分岐溝１７Bが分岐する方向は以上の例示に限定されない。例えば、各分岐溝１７Bが第１周縁溝１７A1から接合部３０側に分岐する構成も採用され得る。
【００４４】
（５）前述の各形態では、隔壁部２６と接合部３０との間に貫通孔１６と溝１７とを形成したが、貫通孔１６と溝１７とを形成する位置は以上の例示に限定されない。例えば、溝１７の一部が画素領域Ａの内側に位置してもよい。ただし、隔壁部２６と接合部３０との間に貫通孔１６と溝１７とを形成する前述の形態によれば、画素領域Ａの内側に溝１７の一部が位置する構成と比較して、表示に与える影響を低減できる。
【００４５】
（６）前述の各形態では、溝１７の流路面積が溝１７の全地点において略一定である構成を例示したが、例えば溝１７の流路幅が貫通孔１６に近いほど大きい構成も採用され得る。以上の構成では、溝１７の流路幅が貫通孔１６に近いほど大きいので、余分な電気泳動分散液４０が貫通孔１６から流出しやすくなる。
【００４６】
（７）第１実施形態では、第１基板１０の周縁に沿う第１周縁溝１７A1と分岐溝１７Bとを溝１７が含む構成を例示し、第２実施形態では、第１基板１０の周縁に沿う第１周縁溝１７A1と第２周縁溝１７A2とを溝１７が含む構成を例示したが、溝１７の具体意的な形状は任意である。例えば、溝１７が第１基板１０の周縁に沿わない構成（つまり第１周縁溝１７A1および第２周縁溝１７A2を溝１７が含まない構成）も採用され得る。ただし、第１基板１０の周縁に沿う第１周縁溝１７A1（第２実施形態では第１周縁溝１７A1および第２周縁溝１７A2）を溝１７が含む前述の形態によれば、溝が第１基板１０の周縁に沿わない構成と比較して、毛細管現象が発生する範囲を広く確保できる。したがって、より多くの電気泳動分散液４０が溝１７を介して貫通孔１６から流出する。また、分岐溝１７Bを溝１７が含まない構成も採用され得る。ただし、第１周縁溝１７A1から画素領域Ａ側に分岐する複数の分岐溝１７Bが形成された前述の各形態によれば、余分な電気泳動分散液４０が貫通孔１６から流出しやすくなる。以上の説明から理解される通り、貫通孔１６に連通する形状であれば、溝１７の具体的な平面形状は任意である。
【００４７】
（８）前述の各形態では、図１に例示した通り、平面視で画素領域Ａの各縁辺の中点の近傍に合計４個の貫通孔１６を形成したが、貫通孔１６の位置や個数は任意である。
【００４８】
（９）前述の各形態では、図７に例示した工程Ｐ4において画素領域Ａの内側に電気泳動分散液４０を配置したが、画素領域Ａの内側および外側の双方に電気泳動分散液４０を配置することも可能である。
【００４９】
（１０）前述の各形態では、第１基板１０と第２基板２０との間隙を画素毎に区画する形状の隔壁部２６を例示したが、隔壁部２６の形状は以上の例示に限定されない。例えば、第１基板１０と第２基板２０との間隙を、相互に隣合う複数の画素を単位として複数の空間に区画する形状の隔壁部２６を形成することも可能である。また、隔壁部２６が第２基板２０の全面にわたり連続する必要はなく、相互に離間した複数の部分で隔壁部２６を構成することも可能である。
【００５０】
＜電子機器＞
以上に例示した電気泳動装置１００は、種々の電子機器に利用され得る。電気泳動装置１００を利用した電子機器の具体的な形態を以下に例示する。
【００５１】
図１７は、電気泳動装置１００を表示機器として利用した腕時計９２の正面図である。図１７に例示される通り、腕時計９２は、電気泳動装置１００を収容する筐体９２１と、筐体９２１に連結されたバンド９２２とを具備するウェアラブル機器である。利用者はバンド９２２を手首に巻回することで腕時計９２を装着可能である。電気泳動装置１００の画素領域Ａは筐体９２１の開口９２３から露出し、時刻等の各種の情報の表示に利用される。筐体９２１に設置された操作子９２４が操作されると、例えば画素領域Ａに表示される画像が変更される。
【００５２】
図１８は、電気泳動装置１００を利用した電子ペーパー９４の斜視図である。図１８に例示される通り、電子ペーパー９４は、弾性変形が可能なシートを第１基板１０および第２基板２０として利用した電気泳動装置１００を具備し、画素領域Ａ内に各種の画像を表示する。
【００５３】
本発明が適用される電子機器は以上の例示に限定されない。例えば、携帯電話機や電子書籍等の情報端末，携帯型の音響再生装置，タッチパネル搭載型の表示装置など、各種の電子機器に本発明の電気泳動装置を利用することが可能である。
【符号の説明】
【００５４】
１００…電気泳動装置、１０…第１基板、１２…共通電極、１４…絶縁層、１６…貫通孔、１７…溝、１７A1…第１周縁溝、１７A2…第２周縁溝、１７B…分岐溝、１８…閉塞部、１９…側壁、２０…第２基板、２２…回路層、２４…画素電極、２６…隔壁部、３０…接合部、３２…基礎部、３４…シール材、４０…電気泳動分散液、４２（４２B，４２W）…帯電粒子、４４…分散媒、Ａ…画素領域、Ｃ…セル、Ｒ…貯留空間。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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