(57)【要約】【課題】アレイ部が多数ある分析用チップで、汚れがはなはだしい各アレイ部に洗浄液を多く供給しても、洗浄液が漏出して周囲にある他のアレイ部を汚染することなく、個別に各アレイ部内の汚れを除去して高い品質で効率的な洗浄を実現することが可能な、処理ヘッド並びに処理装置および処理方法を提供する。【解決手段】複数のアレイ部を有し、アレイ部内に被検物質と結合する選択結合物質が多数固定化された検出部を備える分析用チップを処理する処理ヘッドであって、下向きにした検出部に所定間隔をもって対面し、かつアレイ部に対応して区画されている処理部を備え、この処理部は上下方向に延びる柱状ブロックであり、さらに前記柱状ブロックの頂上は水平長手方向に延びる凹型形状に凹型溝が形成されているとともに、前記凹型溝の底面には上向きに洗浄液を供給可能な供給口が設けられている処理ヘッド。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の片側の一平面内に区画された複数のアレイ部を有し、該アレイ部内に被検物質と結合する選択結合物質が複数の検出面に多数固定化された検出部を備える分析用チップを処理する処理ヘッドであって、下向きにした前記検出部の検出面に所定間隔をもって対面し、かつ前記アレイ部に対応して区画されている複数の処理部を備えた処理ヘッドであって、前記一つの処理部は上下方向に延びる柱状ブロックであり、さらに前記柱状ブロックの頂上は水平長手方向に延びる凹型形状の凹型溝に形成されているとともに、前記凹型溝の底面には上向きに洗浄液を供給可能な供給口が設けられていることを特徴とする処理ヘッド。
【請求項２】
さらに、前記凹型溝の底面より上側で洗浄液と接する線状端部と、上下方向に洗浄液を案内可能な面である案内面とを有する保持案内部材が、前記供給口内に挿入されていることを特徴とする請求項１に記載の処理ヘッド。
【請求項３】
さらに前記凹型溝の水平長手方向両側にある端部のうち少なくとも片側端部に、そこから下向きに延びて洗浄液を下向きに排出可能な排出溝が設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載の処理ヘッド。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の処理ヘッドと、前記処理ヘッドの前記凹型溝の底面に、前記分析用チップの下向きにした検出部の検出面が所定間隔をもって対面するように分析用チップを保持する保持部と、前記処理ヘッドの供給口に洗浄液を供給するとともに、前記供給口から洗浄液を回収する洗浄液供給・回収手段と、水平長手方向に延びる前記凹型溝から落下して排出される洗浄液を回収する排出洗浄液回収手段と、を備えることを特徴とする分析用チップの処理装置。
【請求項５】
請求項４に記載の分析用チップの処理装置を用いた分析用チップの処理方法であって、前記処理ヘッドの処理部と分析用チップの検出部の検出面を含むアレイ部との間にある対面空間に、前記処理ヘッドの供給口から洗浄液を供給して貯液する工程と、前記対面空間に洗浄液を貯液した状態を一定時間維持する工程と、さらに前記処理ヘッドの供給口から洗浄液を供給して、前記対面空間に貯液した洗浄液を前記水平長手方向に延びる凹型溝から落下して排出する工程と、を含むことを特徴とする分析用チップの処理方法。
【請求項６】
さらに前記供給口から、前記対面空間に貯液した洗浄液を回収する工程を含むことを特徴とする請求項５に記載の分析用チップの処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、分析用チップのアレイ部の洗浄を、ハイブリダイゼーションや蛍光標識反応後に行なう処理ヘッドと、本処理ヘッドを用いた分析用チップの処理装置および処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
分析用チップは、被検物質と選択的に結合する物質である選択結合性物質（核酸、タンパク質、脂質、糖など）がガラス、金属、樹脂製の基板上に多数固定化された検出部を、区画した複数のアレイ部のそれぞれに備えるものである。このアレイ部内の選択結合性物質と被検物質を通常溶液中でハイブリダイゼーション反応させて、その反応結果から被検物質（サンプル）に含まれる物質の、存在の有無、状態または量などを分析することが可能となる。
【０００３】
この分析用チップの一態様として、基板上にＤＮＡなどの分子を高密度に配置したマイクロアレイと呼ばれるものがある。このようなマイクロアレイを使用すれば、細胞生物学現象における体系的かつ網羅的な遺伝子発現解析を行うことができる。そして各種の遺伝子発現解析が行なえる複数のマイクロアレイを一枚の基板上に備えたものがマルチマイクロアレイであり、多数・多種の遺伝子解析を効率的に行うのに用いられている。
【０００４】
そのようにして生み出されてきたＤＮＡマルチマイクロアレイはＤＮＡチップと呼ばれ、核酸／核酸間ハイブリダイゼーション反応に基づく核酸の検出・定量等に用いられる。ＤＮＡチップとして、例えば、ガラス基板の表面や、樹脂基板に区画形成した凹型くぼみに多数配置した柱状物の頂上面に、多数のＤＮＡ断片が高密度に整列固定化されたものがある。このようなＤＮＡチップのマイクロアレイ部に、対象細胞の発現遺伝子等を蛍光色素等で標識したサンプル液をハイブリダイゼーションさせることで、互いに相補的な核酸（ＤＮＡ又はＲＮＡ）同士が結合する。そして、その結合箇所での蛍光レベルを、高解像度検出装置（スキャナー）で高速に読み取って検出することにより、サンプル中の各遺伝子量を測定することが可能となる。
【０００５】
このようなＤＮＡチップで、蛍光レベルをスキャナーで効率的に高いＳＮ比で読み取るには、ＤＮＡ断片が固定化されて蛍光レベル検出を行うマイクロアレイ部から、洗浄によってノイズ成分を除去することが必要となる。
【０００６】
しかし、ハイブリダイゼーション後の過度の洗浄は、ＤＮＡチップからハイブリダイゼーションで結合した核酸や標識されている蛍光色素も除去するので、常に適切に洗浄することが求められる。さらに洗浄後も、洗浄液が短時間で完全に除去され、すぐにスキャナーでの蛍光レベル検出が行なえると、待ち時間がなく効率的に多数の解析を行なうことができる。また洗浄液の除去を、洗浄液に含まれる塩が蒸発等によって析出することなく行うことができれば、さらにノイズ成分が除去された、ＳＮ比の高い蛍光レベル検出が行える。
【０００７】
このような洗浄、乾燥を一連の処理システムにして、洗浄の高品質化や処理時間短縮による効率化を図ることが近年すすめられている。（例えば特許文献１、２）  特許文献１の手段では、ＤＮＡチップを専用の槽に入れ、これに洗浄液を供給して洗浄を行い、洗浄液の排出後に気体を供給して洗浄液の除去を行わせている。また特許文献２の手段では、ＤＮＡチップ内に多数あるアレイ部ごとに個別に洗浄液を供給、排出、回収することで、アレイ部内だけの洗浄と洗浄液の除去を行なわせている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００３−５７２５７号公報
【特許文献２】特開２０１７−１３８１７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
特許文献１に記載されている手段では、洗浄が最も必要な検出部（ＤＮＡ断片固定化部分）のあるアレイ部を含むＤＮＡチップ全体が洗浄液と接するので、不必要に多くの洗浄液を消費することになる。さらに、必要な部分以外も洗浄液で濡らされるので、それをすべて除去するために、遠心機を活用したり、乾燥を行う等が必要で、より一層の時間と手間がかかることになる。特許文献２に記載されている手段では必要なアレイ部内のみの洗浄と、洗浄液の除去（乾燥）が可能である。しかし、汚れがはなはだしいアレイ部内の洗浄を高い品質で行うために、洗浄液の供給量を多くすると、洗浄液が両端の排出溝に到達する前に、側面側から漏れ出すので、汚れ粒子やそれを含む液体を排出溝まで送れずにアレイ部内に停滞して、洗浄性能を高めることができない。さらに漏れ出した洗浄液は隣のアレイ部内に侵入して、そこを再汚染させてしまう。
【００１０】
本発明は、上記課題を解決するもので、その目的とするところは、アレイ部が多数ある分析用チップで、汚れがはなはだしい各アレイ部に洗浄液を多く供給しても、洗浄液が漏出して周囲にある他のアレイ部を汚染することなく、個別に各アレイ部内の汚れを除去して高い品質で効率的な洗浄を実現できる、処理ヘッド並びに処理装置および処理方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するため、本発明の処理ヘッドは、基板の片側の一平面内に区画された複数のアレイ部を有し、該アレイ部内に被検物質と結合する選択結合物質が複数の検出面に多数固定化された検出部を備える分析用チップを処理する処理ヘッドであって、下向きにした上記検出部の検出面に所定間隔をもって対面し、かつ上記アレイ部に対応して区画されている複数の処理部を備えた処理ヘッドであって、上記一つの処理部は上下方向に延びる柱状ブロックであり、さらに上記柱状ブロックの頂上は水平長手方向に延びる凹型形状の凹型溝に形成されているとともに、上記凹型溝の底面には上向きに洗浄液を供給可能な供給口が設けられていることを特徴とする。
【００１２】
ここで、さらに、上記凹型溝の底面より上側で洗浄液と接する線状端部と、上下方向に洗浄液を案内可能な面である案内面とを有する保持案内部材が、上記供給口内に挿入されていること、さらに上記凹型溝の水平長手方向両側にある端部のうち少なくとも片側端部に、そこから下向きに延びて洗浄液を下向きに排出可能な排出溝が設けられていること、が好ましい。  
【００１３】
本発明の分析用チップの処理装置は、上記の処理ヘッドと、上記処理ヘッドの上記凹型溝の底面に、上記分析用チップの下向きにした検出部の検出面が所定間隔をもって対面するように分析用チップを保持する保持部と、上記処理ヘッドの供給口に洗浄液を供給するとともに、上記供給口から洗浄液を回収する洗浄液供給・回収手段と、水平長手方向に延びる上記凹型溝から落下して排出される洗浄液を回収する排出洗浄液回収手段と、を備えることを特徴とする。
【００１４】
本発明の分析用チップの処理方法は、上記の分析用チップの処理装置を用いた分析用チップの処理方法であって、上記処理ヘッドの処理部と分析用チップの検出部の検出面を含むアレイ部との間にある対面空間に、上記処理ヘッドの供給口から洗浄液を供給して貯液する工程と、上記対面空間に洗浄液を貯液した状態を一定時間維持する工程と、さらに上記処理ヘッドの供給口から洗浄液を供給して、上記対面空間に貯液した洗浄液を上記水平長手方向に延びる凹型溝から落下して排出する工程と、を含むことを特徴とする。
【００１５】
ここで、さらに上記供給口から、上記対面空間に貯液した洗浄液を回収する工程を含む  こと、が好ましい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の処理ヘッドは、マイクロアレイ部が多数ある分析用チップのマイクロアレイ部の面積と位置に対応した上向きの処理部をアレイ部と同数備えており、その処理部を、アレイ部内の下向きにした検出部の検出面と所定間隔をもって対面させ、個別の小さな対面空間を形成できるようにした。さらに各処理部には、水平長手方向に延びる凹型溝を設けるとともに、凹型溝の底面に供給口を設けるようにした。この構成によって供給口から洗浄液を上向きに供給する量をいかに多くしても、洗浄液は凹型溝の側壁（側面）側からは漏れ出さず、対面空間を凹型溝に沿って水平長手方向に流れて溝端部や、溝端部に設けた排出溝で落下して、凹型溝及び対面空間から排出される。この対面空間内の洗浄液の流れによってマイクロアレイ部内にある汚れの粒子や液体をマイクロアレイ部内に停滞させることなく、マイクロアレイ部外の離れた位置まで排出することができる。その結果、マイクロアレイ部内の汚れがはなはだしい場合でも、汚れを除去した高い品質の洗浄を個別に短時間で効率的に行わせることができる。
【００１７】
以上の優れた本発明の処理ヘッドを使用した分析用チップの処理装置および処理方法を用いれば、高い品質での洗浄と洗浄液除去が、分析用チップのアレイ部ごとに短い時間で個別に効率的に行なえる結果、どのアレイ部でも同じ高いＳＮ比での蛍光レベル検出が実現でき、複数のサンプル（検体）に対して個々に信頼性の高い検出結果を短時間で、しかも低コストでもたらすことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明になる処理ヘッド４を用いた処理装置１の概略正面断面図である。
【図２】分析用チップ２の概略図である
【図３】処理ヘッド４の概略斜視図である。
【図４】処理ヘッド４と分析用チップ２との洗浄液の付着状況を示す説明面である。
【図５】本発明になる分析用チップの処理方法をステップ的に示す説明図である。
【図６】処理ヘッドの別の実施態様を示す部分拡大斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明を図１〜３を参照しながら説明する。図１は、本発明になる処理ヘッド４を用いた処理装置１の概略正面断面図、図２は分析用チップ２の概略図、図３は処理ヘッド４の概略斜視図、である。
【００２０】
まず図１を参照すると、本発明になる処理装置１が示されている。処理装置１は、分析用チップ２の処理装置であり、処理ヘッド４により、分析用チップ２の洗浄等を行うものである。この処理装置１は、処理ヘッド４と、分析用チップ２の検出面である頂上面２５を下向きにして、処理ヘッド４の処理部４０の溝底面４０２にすきま量Ｃだけ離れて対面するように分析用チップ２を保持するチップ保持部３と、処理ヘッド４を支持するヘッド支持部５と、処理ヘッド４の供給口４２に洗浄液を供給するとともに、供給口４２から洗浄液を吸引して回収する洗浄液供給・回収部８と、処理ヘッド４の処理部４０から排出される洗浄液を回収する排出洗浄液回収部６と、を備えて構成されている。そして、洗浄等の動作は、図示されていないコンピュータからなる制御装置により制御される。
【００２１】
なお分析用チップ２の詳細は図２に示されている。図２（ａ）は分析用チップ２の正面断面図、図２（ｂ）は図２（ａ）の分析用チップを下側から見た平面図である。図２（ａ）と図２（ｂ）を見ると、分析用チップ２には、スライドガラスと同様な板状の基板である本体２０の片側となる一平面の上面２１に、９個に区画された領域であるアレイ部２２がある。このアレイ部２２は、本体２０の上面２１で開口している凹形形状のくぼみになっている。それぞれのアレイ部２２の底面２３には６個の柱状体２４が備えられている。すなわち分析用チップ２は、基板である本体２０の片側の一平面内に区画された複数のアレイ部２２を有している。柱状体２４の最下部となる頂上面２５には、被検物質と結合する選択結合性物質が多数固定化されている。この頂上面２５に固定化された選択結合性物質に被検物質がハイブリダイゼーションによって結合すると、被検物質に標識された蛍光色素も同時に結合するので、頂上面２５がスキャナーで蛍光色素を検出できる検出面となる。そして検出面を備える柱状体２４のすべてで、検出部を構成する。すなわち、分析用チップ２はアレイ部２２内に被検物質と結合する選択結合物質が複数の検出面である頂上面２５に多数固定化された検出部が備えられている。
【００２２】
次に、処理装置１を構成する各部分の詳細について、順に説明する。
【００２３】
再び図１を見ると、分析用チップ２を保持するチップ保持部３は、分析用チップ２の４隅でＸ方向とＹ方向に位置決めしながら、上下方向であるＺ方向に分析用チップ２を支持する位置決め支持体３１と、位置決め支持体を支持するフレーム３２と、から構成される。これよりチップ保持部３は、処理ヘッド４の凹型溝である溝４０１の底面となる溝底面４０２に、分析用チップ２の下向きにした検出部の検出面である頂上面２５が所定間隔であるすきま量Ｃをもって対面するように分析用チップ２を保持する保持部である。なおフレーム３２は、紙面に直交するＹ方向に奥側まで延びて、図示されていない共通ベース上に立つ支柱に固定されている。
【００２４】
次に分析用チップ２の下には、分析用チップ２を処理する処理ヘッド４が配置されている。この処理ヘッド４の詳細については、図３を用いて説明する。図３で、処理ヘッド４は、処理部４０が分析用チップ２のアレイ部２２と同じ９個だけ、ベース板４１上に林立する構成をしている。９個ある処理部４０の配置位置は、分析用チップ２のアレイ部２２に対応させている。１個の処理部４０は、上下方向（Ｚ方向）に伸びる矩形形状の柱状ブロックである柱状本体４０６の頂上部に、水平長手方向（Ｘ方向）に伸びる溝４０１を備えた構造となっている。溝４０１は、溝底面４０２の水平短手方向（Ｙ方向、水平長手方向に直交）両側に側壁４０３Ａ、４０３Ｂを備えた凹型形状の凹型溝となっている。すなわち、一つの処理部４０は上下方向に延びる柱状ブロックであり、さらに柱状ブロックの頂上は水平長手方向に延びる凹型形状の凹型溝である溝４０１に形成されている。溝４０１の最上部は側壁４０３Ａ、４０３Ｂの上方にある側壁天面４０４Ａ、４０４Ｂであり、最下部は溝底面４０２となる。
【００２５】
さらに溝４０１の水平長手方向両側には、端部となる溝端４０５Ｌと溝端４０５Ｒがそれぞれ設けられている。そして一つの片側端部となる溝端４０５Ｒには、溝端４０５Ｒを含む溝底面４０２から下向きに延びて、ベース板４１上まで達する排出溝４０７が設けられている。上側から排出溝４０７を見ると、「コ」の字（溝端４０５Ｒ側が開いている矩形）形状の排出開口４０８を、溝端４０５Ｒより内側（供給口４２のある側）に備えている。すなわち排出溝４０７は、片側端部となる溝端４０５Ｒに設けられている。この排出溝４０７は、溝底面４０２上で溝端４０５Ｒ側にある洗浄液を排出開口４０８から下向きに排出可能にする。排出溝４０７は、もう一つの片側端部となる溝端４０５Ｌに設けられていてもよいし、溝４０１の水平長手方向両側にある溝４０５Ｌと４０５Ｒの両方に設けられていてもよいが、少なくともどちらかの片側端部に設けるようにする。すなわち、凹型溝である溝４０１の水平長手方向両側にある端部のうち少なくとも片側端部に、そこから下向きに延びて洗浄液を下向きに排出可能な排出溝４０７が設けられている。また溝端４０５Ｒとは逆側の片側端部となる溝端４０５Ｌには、排出溝は設けられていないが、溝底面４０２上の洗浄液で溝端４０５Ｌを通過して外側に行くものは、柱状本体４０６の垂直面に沿って下向きに排出される。ただし、実際の排出される洗浄液量は排出溝４０７の方がはるかに多く、効率が高い。すなわち溝底面４０２上を溝端４０５Ｒ側に流れる洗浄液は排出溝４０７の排出開口４０８直上まで案内され、そこで排出開口４０８の面積分の洗浄液が重力により続けて落下していく。一方溝底面４０２上の洗浄液が水平長手方向に流れて溝端４０５Ｌを通過しようとする時は、表面張力によるブレーキが作用するので、その通過量は著しく減じられ、排出溝４０７での洗浄液排出量よりもはるかに少なくなる。また供給口４２から供給されて溝４０１を水平長手方向に流れる洗浄液も、排出量がより多い排出溝４０７のある側、すなわち溝端４０５Ｒ側により多く案内されて流れるので、溝端４０５Ｌ側とはさらに一層排出できる洗浄液量に差がでてしまう。
【００２６】
さて溝端４０５Ｌ近傍の溝底面４０２には、上向きに洗浄液を供給可能な供給口４２が設けられている。すなわち、凹型溝である溝４０１の底面である溝底面４０２には上向きに洗浄液を供給可能な供給口４２が設けられている。この供給口４２は、溝底面４０２からベース板４１の底面４３まで上下方向（Ｚ方向）に延びて貫通している貫通孔４４が、溝底面４０２で開口したものである。供給口４２内および貫通孔４４内には、保持案内部材７０が挿入されている。保持案内部材７０は、厚さ（Ｙ方向寸法）がＴで、Ｙ方向に見て長方形の板状物となっている。そしてそのＺ方向長さの１／３〜１／１０程度が長さＬとなって溝底面４０２より上にあり、Ｚ方向長さの２／３〜９／１０程度が溝底面４０２より下、すなわち供給口４２および貫通孔４４の内部にある。保持案内部材７０をＺ方向下向きに見ると、「一」の字形状となっている。そしてＺ方向には、上記したように長さＬだけ溝底面４０２より上にはみ出しているが、側壁４０３Ａ、４０３Ｂの側壁天面４０４Ａ、４０４Ｂを越えないように配置されている（位置関係については、図４（ａ）、図４（ｂ）を参照）。長さＬは、溝底面４０２から側壁天面４０４Ａ、４０４Ｂまでの長さの、好ましくは２０〜９５％、より好ましくは３０〜７０％にする。さて保持案内部材７０のＸ方向両端にある線状の端部である線状端部７１Ｌ、７１Ｒは、貫通孔４４の内面と接することで固定化されている。また長方形の面である板面７２Ａ、７２Ｂと貫通孔４４の内面との間にはＹ方向に十分なすきまがあるので、そのすきまを洗浄液が通過することができる。また板面７２Ａ、７２Ｂは、上下方向であるＺ方向に洗浄液を案内する面である案内面となる。
【００２７】
溝底面４０２より上に洗浄液がある場合は、線状端部７１Ｌ、７１Ｒと板面７２Ａ、７２Ｂの溝底面４０２より上側にある部分が洗浄液と接し、洗浄液の表面張力により、洗浄液の塊が供給口４２から離れていかないように洗浄液を保持できるようになる。また板面７２Ａ、７２Ｂは、貫通孔４４の底面４３側から供給される洗浄液を溝底面４０２上まで導く案内面となる。すなわち保持案内部材７０は、処理部４０の一部である溝底面４０２より上側で洗浄液と接する線状端部７１Ｌ、７１Ｒと、上下方向に洗浄液を案内可能な案内面となる板面７２Ａ、７２Ｂとを有する。底面４３側から貫通孔４４に供給された洗浄液は、保持案内部材７０の板面７２Ａ、７２Ｂに沿って溝４０１の溝底面４０２の上側まで導かれた後は、供給口４２から溝端４０５Ｌと溝端４０５Ｒに向けて、溝４０１の水平長手両方向（Ｘ方向に）沿って流れる。溝端４０５Ｌに達した洗浄液は、溝端４０５Ｌを通過してから、柱状本体４０６の側面に沿って上下方向に落下して排出される。一方溝端４０５Ｒに達した洗浄液は、排出開口４０８から排出溝４０７に沿って上下方向に落下して排出される。上記したように、排出溝４０７の方が多くの洗浄液を排出できるので、供給口４２からは溝端４０５Ｒに向かう洗浄液の方が、溝端４０５Ｌに向かうものよりも多くなる。したがって洗浄液量を大幅に増加させて洗浄性能を高めたい場合は、処理ヘッド４の処理部４０に溝４０１を設けるとともに、加えて排出溝４０７を溝４０１の水平長手方向の少なくとも片側端部に設けることが好ましい。
【００２８】
さらに再び図１にもどると、処理ヘッド４の処理部４０は、分析用チップ２の下向きにした検出面である頂上面２５に対し、その溝底面４０２がすきま量Ｃだけ離れて対面する位置に配置されている。この時、頂上面２５と側壁天面４０４Ａ、４０４Ｂの間にもすきま量Ｃより小さいすきまができるようになっている。このようにして検出部となる全ての頂上面２５を含むアレイ部２２と、処理部４０の対面により囲まれる空間が対面空間Ｓとなる。なお真上から見て、処理部４０は、分析用チップ２のアレイ部２２にほぼ重なる外形形状と位置になるよう構成されている。すなわち処理ヘッド４は、下向きにした検出部の検出面である頂上面２５に所定間隔であるすきま量Ｃをもって対面し、かつアレイ部２２に対応して矩形状に区画されている複数の処理部４０を備えている。上記の構成のため、供給口４２から処理部４０に供給される洗浄液は、溝底面４０２や側壁４０３Ａ、４０３Ｂに沿って水平長手方向（Ｘ方向）に沿って流れ、側壁天面４０４Ａ、４０４Ｂを乗り越えて水平長手方向に直交する方向（Ｙ方向）に流れるものはほとんどない。
【００２９】
さて処理ヘッド４は、ヘッド支持部５を構成する門型フレーム５２の上側にある支持面５３で支持されている。すなわち、支持面５３上に処理ヘッド４の底面４３が接することで、処理ヘッド４が支持されている。そして門型フレーム５２そのものは、これまたヘッド支持部５を構成する昇降台５１上に固定されている。なお昇降台５１は、図示されていない昇降駆動装置により、上下方向（Ｚ方向）に自在に昇降される。これによって、昇降台５１に門型フレーム５２を介して搭載されている処理ヘッド４も、上下方向に自在に昇降し、処理部４０の溝底面４０２と分析用チップ２の頂上面２５との間のすきま量Ｃを自在に調整できる。なお図示されていない昇降装置は、フレーム３２と同じく、図示されていない共通ベース上に支持、固定されている。
【００３０】
昇降台５１上にはまた、排出洗浄液回収部６を構成するトレイ６１も固定されている。処理ヘッド４の溝４０１に供給口４２から供給される洗浄液は、上記したように溝底面４０２等に沿って水平長手方向（Ｘ方向）に流れ、溝端４０５Ｌ、４０５Ｒから柱状本体４０６の側面や排出溝４０７を伝わって落下して、排出される。排出された洗浄液は、門型フレーム５２の支持面５３の端部に固定された排出案内板６２に案内されて、トレイ６１に回収される。排出案内板６２も構成部材に含む排出洗浄液回収部６は、水平長手方向に延びる凹型溝である溝４０１から、経路を問わず落下して排出される洗浄液を回収する排出洗浄液回収手段となる。なおトレイ６１は、上側から見ると「回」の字形状（すなわち、２重矩形）をしていて、図１に示される２箇所ある液溜め部は連通している。すなわち、トレイ６１の液溜め部が、処理ヘッド４とそれを支持する門型フレーム５２の周囲を取り囲む構成となっている。そのため、トレイ６１に溜まった洗浄液は、１箇所だけ設置された図示されていない排出管を通って落下し、これまた図示されていないメイントレイに最終的に回収される。
【００３１】
さて処理ヘッド４の貫通孔４４の底面４３での開口には、洗浄液供給・回収部８が接続されている。洗浄液供給・回収部８は、上流側から、洗浄液を貯蔵する貯蔵タンク８１と、貯蔵タンク８１とポンプ８３の入口側を接続する入口配管８２と、洗浄液を一定量送液することと吸引することができるポンプ８３と、ポンプ８３の出口側に接続されている出口配管８４と、出口配管８４の９か所で分岐して処理ヘッド４の９個ある貫通孔４４の底面４３での開口にそれぞれ接続される分岐管８５と、９個の分岐管８５のそれぞれに１個ずつ取り付けられて、ポンプ８３からの送液・吸引／遮断を律するバルブ８６より構成される。洗浄液供給・回収部８は以上の構成によって、バルブ８６を開にしてポンプ８３を正転させれば、貯蔵タンク８１の洗浄液を処理ヘッド４の供給口４２に供給して、供給口４２から処理部４０の溝４０１上に吐出することができる。同じ状況でポンプ８３を逆転させれば、処理部４０の溝４０１上の洗浄液を供給口４２から吸引して回収し、貯蔵タンク８１まで戻すことができる。すなわち洗浄液供給・回収部８は、処理ヘッド４の供給口４２に洗浄液を供給するとともに、供給口４２から洗浄液を回収する洗浄液供給・回収手段である。
【００３２】
次に図４を参照しながら、以上説明した処理装置１を用いた洗浄のために、洗浄液を対面空間Ｓに供給して保持させる状況について説明する。
【００３３】
図４（ａ）は、対面空間Ｓに洗浄液を充満させて分析用チップ２と処理ヘッド４の処理部４０を断面でＹ方向に見た正面断面図、図４（ｂ）は同じ状況を排水溝４０７側からＸ方向に見た概略側面図である。図４（ａ）、（ｂ）ともに、細い破線は分析用チップ２を、細い実線は処理ヘッド４の処理部４０を表している。また太い破線は、対面空間Ｓに洗浄液が充満して、その容積が最大限に拡張する時の境界位置を示し、太い実線はその容積が逆に最小限に縮小する時の境界位置を示している。なお図４（ａ）、（ｂ）で示される太い破線と太い実線の位置は、対面空間Ｓで充満している洗浄液の分析用チップ２や処理部４０上での境界位置も示している。
【００３４】
まず図４（ａ）で、洗浄液供給・回収部８のポンプ８３を駆動して、洗浄液を貫通孔４４を介して供給口４２に供給すると、供給口４２から吐出された洗浄液は溝底面４０２上を左右（水平長手方向、Ｘ方向）に広がって行きながら上下方向（Ｚ方向）に積み上がって行く。そしてアレイ部２２の頂上面２５はもちろんのこと、底面２３に付着してから、対面空間Ｓ内でさらに左右に太い破線で示す境界位置まで広がる。すきま量Ｃが１ｍｍ以下であるなら、太い破線で示される境界位置は、処理部４０では細い実線で示される処理部４０の外形形状よりわずかに外側に広がり、分析用チップ２ではアレイ部２２の区画よりも少し外側に広がるだけである。そして左側に向かう洗浄液は、溝端４０５Ｌを通過してから、柱状本体４０６の側面に沿って上下方向に落下して、排出される。また右側に向かう洗浄液の先頭は一旦溝端４０５Ｒの直上位置を少しだけ越えた位置まで案内された後、溝端４０５Ｒより内側（供給口４２側）に配置されている排出開口４０８から、排出溝４０７に沿って上下方向に落下して、排出される。供給口４２からの洗浄液の供給が続いても、溝底面４０２と頂上面２５との間のすきま量Ｃが１ｍｍ程度以下であるなら、供給された洗浄液は溝４０１を水平長手方向（Ｘ方向）の左右に流れて、溝端４０５Ｌおよび排出開口４０８で上下方向に落下するだけである。図４（ｂ）に示されている通り、水平長手方向に直交する方向（Ｙ方向）には、最初に太い破線で示す柱状本体４０６の外形形状の位置まで広がるだけで、洗浄液が供給され続けられても、その位置を維持しつづけ、そこを越えて流れていくことはない。これは、水平長手方向の流れに関与するすきま量Ｃよりも、水平長手方向に直交する方向に関与するすきまＣａ（頂上面２５と側壁天面４０４Ａ、４０４Ｂとの間のすきま）の方が小さいことによる。
【００３５】
再び図４（ａ）にもどり、供給口４２からの洗浄液の供給が停止すると、空間Ｓ内の洗浄液には排出による負圧が排出が続く限り作用することになるので、処理部４０では、境界位置が溝端４０５Ｌ、４０５Ｒの直上位置を少し越えた位置から直上位置にもどり、分析用チップ２でも境界位置がアレイ部２２の区画から外側に広がっている位置から区画の直上位置にもどる。これに伴い対面空間Ｓ内の洗浄液はその容積を減じていき、最終的に太い実線の位置を境界位置として、洗浄液は対面空間Ｓ内で保持される。すなわち貯液される。なお貯液時でも、溝端４０５Ｒの内側に排出開口４０８があっても、境界位置は溝端４０５Ｒ直上となる。これは静止時に排出開口４０８直上にある洗浄液が、分析チップ２から表面張力で保持されて落下しないことによる。太い実線で示す位置は、すきま量Ｃが１ｍｍ以下ならば、Ｘ方向、Ｙ方向ともに、処理ヘッド４の処理部４０の外形形状や、分析用チップ２のアレイ部２２の区画外形形状にほぼ重なる位置となる。最大限に拡大する時の境界位置を示す太い破線では、洗浄液がその縁部と接触する処理部４０上よりも、面（上面２１）と接する分析用チップ２上の方が、洗浄液がやや広がる位置にある。このように対面空間Ｓ内で洗浄液が保持、すなわち貯液される時には、分析用チップ２のアレイ部２２は洗浄液に接していることが好ましい。そのために図４（ａ）で、アレイ部２２のＸ方向長さＬＣｘに対して、処理部４０上での溝端４０５Ｌ、４０５Ｒ間のＸ方向寸法Ｌｘは、好ましくは±１ｍｍ以下、より好ましくは±０．５ｍｍの以下の相違となるよう設定する。同様に、図４（ｂ）で、アレイ部２２のＹ方向長さＬＣｙに対して、処理部４０の外形（縁部）のＹ方向長さＬｙは、好ましくは±１ｍｍ以下、より好ましくは±０．５ｍｍの以下の相違となるように設定する。または排出溝４０７の排出開口４０８のＸ方向長さＬＨｘとＹ方向長さＬＨｙは大きいほど排水量が多くなるが、Ｙ方向長さＬＨｙの最大は、溝底面４０２のＹ方向長さＬＤｙとなる制約がある。
【００３６】
また、図３に示す溝４０１の形状については、供給口４２から供給される洗浄液が水平長手方向に流れるように、溝幅ＬＤｙは処理部４０の外形のＹ方向長さＬｙの好ましくは２０〜９０％、より好ましくは５０〜８０％にし、溝深さＬＤｚ（溝底面４０２から側壁天面４０４Ａ、４０４Ｂまでの長さ）は好ましくは０．１〜０．８ｍｍ、より好ましくは０．２〜０．５ｍｍにする。
【００３７】
以上のように本発明の処理ヘッド４を用い、すきま量Ｃの設定、アレイ部２２に対する処理部４０の外形形状の設定、溝４０１の形状の設定を適切に行えば、９個の処理部４０とアレイ部２２に対応して形成される９個の対面空間Ｓのそれぞれで、個別に、相互干渉することなく、洗浄液を保持して貯液することができる。さらには、供給口４２からの単位時間当たりの洗浄液量を多くしても、それに見合うだけ排出溝４０７より洗浄液が排出される結果、洗浄液供給時でも貯液時と境界位置がさほど変わらないで維持されるので、相互干渉を起こさないで各アレイ部２２の洗浄を個別に高品質で行うことができる。対面空間Ｓでの洗浄液の貯液は、洗浄液供給・回収部８のバルブ８６を閉にする（洗浄液の流通を遮断する）ことで、そのままの状態で維持することができる。このように対面空間Ｓで洗浄液を貯液して、しばらく放置すると、アレイ部２２にある汚れが洗浄液の方に拡散し、貯液している洗浄液に汚れが含まれることになる。この状態で供給口４２から洗浄液を供給すると、貯液されていた洗浄液は左右に押し流されて、溝端４０５Ｌや排出溝４０７から排出され、一緒に汚れも排出される。そして最終的には対面空間Ｓの洗浄液を新たな洗浄液に完全に更新する。以上の対面空間Ｓ内での貯液と、対面空間Ｓ内の洗浄液の排出／更新、を繰り返すことにより、洗浄が行われることになる。さらに対面空間Ｓの容積も小さいので、更新に使用される洗浄液量も少ない。
【００３８】
次に、図５を参照して、分析用チップの処理装置である処理装置１を用いた本発明の分析用チップの処理方法である、分析用チップ２のアレイ部２２の洗浄と洗浄液の除去について説明する。図５（ａ）〜（ｆ）には、図１で示される処理装置１の、処理ヘッド４と分析用チップ２の一部とその周囲を取り出して拡大して示す正面断面図（Ｙ方向に見た図）が配置されている。またステップＳＴ０〜ＳＴ５が図５（ａ）〜（ｆ）に対応していて、それぞれのステップの時の状況や各部の動作の結果が、対応する図に示される。ステップＳＴは数字の大きい方が時間的に後になる。さらに図５（ｂ１）と（ｂ２）では、（ｂ２）の方が時間的に後になる。アルファベットが変わっても、数字の大きい方が時間的に後になるのは同様である。図５にその実行状況が示されるステップＳＴを実施することによって、処理ヘッド４の処理部４０と分析用チップ２の検出部の検出面である頂上面２５を含むアレイ部２２との間にある対面空間Ｓに、処理ヘッド４の供給口４２から洗浄液を供給して貯液する工程と、対面空間Ｓに洗浄液を貯液した状態を一定時間維持する工程と、さらに処理ヘッド４の供給口４２から洗浄液を供給して、対面空間Ｓに貯液した洗浄液を、水平長手方向に延びる凹型溝である溝４０１から落下して排出する工程と、を含む分析用チップの処理方法を実行することになる。それに加えて、さらに供給口４２から、対面空間Ｓに貯液した洗浄液を回収する工程を含む分析用チップの処理方法も実行することになる。
【００３９】
以下、図５に状況が示されるステップＳＴを、順をたどって説明する。
【００４０】
（ステップＳＴ０）（図５（ａ）の状況）
分析用チップ２のアレイ部２２の洗浄の準備ステップである。ハイブリダイゼーションを終了して、アレイ部２２に汚れＤｉが付着している分析用チップ２は、検出面である頂上面２５を下向きにして、チップ保持部３の位置決め支持体３１に取付けて、位置決めされる。設置された分析用チップ２の直下の離れた位置で待機していた処理ヘッド４を、昇降台５１を駆動して上昇させることで、分析チップ２に近接させる。そして、処理ヘッド４の処理部４０の溝底面４０２と頂上面２５との間の間隔がすきま量Ｃとなる位置で、昇降台５１を停止させる。これによって、処理部４０と頂上面２５を含むアレイ部２２との間に、対面空間Ｓが形成される。この時、バルブ８６は閉であり、洗浄液は、貯蔵タンク８１から、入口配管８２、ポンプ８３、出口配管８４、分岐管８５のバルブ８６まで充満しており、バルブ８６を開にして、ポンプ８３を駆動すれば、いつでも洗浄液を処理ヘッド４に送液できる状態にある。
【００４１】
（ステップＳＴ１）（図５（ｂ１）、（ｂ２）の状況）
対面空間Ｓに洗浄液を供給して充填するステップである。ポンプ８３を駆動し、バルブ８６を開にしてから、洗浄液を所定流量Ｑ１（単位時間当たりの液体量＝供給速度）にて一定の液体量Ｖ１（容積）だけ、ポンプ８３から送液する。これによって、処理ヘッド４の供給口４２から、対面空間Ｓに洗浄液が供給される。上記したように、供給された洗浄液で対面空間Ｓは充満し、最大に拡張した境界位置まで洗浄液は広がる（図５（ｂ１）で示される状態）。ポンプ８３からの送液を終了した時点で、バルブ８６を閉にする。供給口４２からの洗浄液の供給が終了してからしばらくたった時点で、溝端４０５Ｌ、排出溝４０７からの余剰分の洗浄液の排出も終了し、拡張時よりも縮小した境界位置で洗浄液が表面張力の作用によって保持されて、対面空間Ｓ内に貯液される（図５（ｂ２）で示される状態）。なお溝端４０５Ｌ、排出溝４０７から排出された洗浄液は、ベース板４１、排出案内板６２を伝わって流れ、トレイ６１に回収される。なおすきま量Ｃが１ｍｍ以下と適切に設定されておれば、この洗浄液の貯液過程で洗浄液が、水平長手方向に直交する方向（Ｙ方向）に漏出することはない。
【００４２】
（ステップＳＴ２）（図５（ｃ）の状況）
洗浄ステップ１（汚れＤｉの頂上面２５を含むアレイ部２２からの分離）である。バルブ８６を閉のままにしておくと、対面空間Ｓで洗浄液が充満して貯液されている状態は維持される。この洗浄液充満状態（貯液）を、時間ｔ１だけ維持する。この時間ｔ１の間に、洗浄液に接触している汚れＤｉには、（１）液体状の汚れＤｉは洗浄液に混ざりこんで薄められる（洗浄液に含有される）、（２）乾燥固化物となっている汚れＤｉは、溶解して洗浄液中に含まれる、（３）乾燥固化物となっている汚れＤｉで、完全に溶解しないが頂上面２５やその他のアレイ部２２の部分への付着は解かれて、洗浄液中に浮遊する、ということが起こる。すなわち、何らかの形態で、汚れＤｉのアレイ部２２からの分離が行われる。
【００４３】
（ステップＳＴ３）（図５（ｄ１）、（ｄ２）の状況）
洗浄ステップ２（アレイ部２２から分離した汚れＤｉの除去）である。再びポンプ８３を駆動し、バルブ８６を開にしてから、洗浄液を所定流量Ｑ２にて一定の液体量Ｖ２だけ、ポンプ８３から送液して、供給口４２から洗浄液を対面空間Ｓに追加供給する。この追加供給量分だけ対面空間Ｓ内の洗浄液は、水平長手方向に流れて、溝端４０５Ｌ、排出溝４０７から落下して、対面空間Ｓの外部に排出される。水平長手方向に延びる溝４０１の効果により、流量Ｑ２や流す液体量Ｖ２を大きくしても、洗浄液は確実に水平長手方向に多く流れて排出するので、洗浄能力を高めることができる。処理ヘッド４の構成上、供給口４２から追加供給される洗浄液の大半は、排出溝４０７があって排出量の多い溝端４０５Ｒ側に向かって流れるが、一部は溝端４０５Ｌ側に向かって流れる。さて、洗浄液の追加供給によって、対面空間Ｓに充満していた汚れＤｉを含む洗浄液は押し流され、供給された洗浄液に確実に置きかえられる。この対面空間Ｓから排出された汚れＤｉを含む洗浄液は、溝端４０５Ｌから柱状本体４０６の側面を伝わって落下するものと、排出溝４０７を伝わって落下するものとが、ベース板４１、排出案内板６２を伝わって流れ、トレイ６１に回収される。以上の結果として、汚れＤｉがアレイ部２２を含む対面空間Ｓから除去される（図５（ｄ１）で示される状態）。供給口４２からの洗浄液の供給を終了した時点で、バルブ８６を閉にする。この時点で溝端４０５Ｌ及び排出溝４０７からの洗浄液の排出は終了し、更新された洗浄液はその位置で保持される。すなわち、対面空間Ｓに更新された洗浄液が貯液される（（図５（ｄ２）で示される状態）
なお、洗浄液を所定流量Ｑ２にて一定の液体量Ｖ２だけポンプ８３から送液することを、一定時間間隔でＮ回繰り返してもよい。このような洗浄液の間欠供給を行うと、いわゆるゆさぶり効果により、アレイ部２２内の柱状体２４等にひっかかっている汚れＤｉが解放されて、排出するのが容易となる。
【００４４】
（ステップＳＴ４）（図５（ｅ１）、（ｅ２）の状況）
洗浄液の回収ステップである。ポンプ８３を逆側に駆動し、バルブ８６を開にしてから、所定流量Ｑ３（単位時間当たりの液体量＝吸引速度）にて一定の液体量Ｖ３だけ、供給口４２から、対面空間Ｓ内の洗浄液を吸引する。これによって、対面空間Ｓ内の洗浄液は、処理部４０の溝４０１とアレイ部２２に接触しながら供給口４２の方に移動し、対面空間Ｓ内で占める容積を次第に小さくしていく（図５（ｅ１）で示される状態）。液体量Ｖ３だけ洗浄液を吸引することが完了すれば、バルブ８６を閉にする。これによって対面空間Ｓに充満していた洗浄液がすべて回収され、同時に分析用チップのアレイ部２２からも洗浄液は除去される（図５（ｅ２）で示される状態）。なお液体量Ｖ３は、対面空間Ｓに充満した洗浄液を全量回収できるように、適切に設定することが好ましい。また保持案内部材７０は、溝底面４０２より上側にある線状端部７１Ｌ、７１Ｒや板面７２Ａ、７２Ｂが、洗浄液を供給口４２の所で保持するので、洗浄液の供給口４２からの吸引を手助けする。すなわち保持案内部材７０は、供給口４２からの洗浄液の回収がすすんで、対面空間Ｓ内の洗浄液がその容積を減じていく時に、保持案内部材７０が供給口４２の周りに洗浄液を収束させるように作用する。それゆえ、対面空間Ｓ内の洗浄液を確実に全量回収できる。それに対し、溝端４０５Ｌ、４０５Ｒおよび排出溝４０７では、保持案内部材７０のように洗浄液を引き寄せるものがないので、ここから対面空間Ｓ内の洗浄液をすべて排出することはない。
【００４５】
（ステップＳＴ５）（図５（ｆ）の状況）
終了ステップである。対面空間Ｓから全ての洗浄液を回収できており、昇降台５１を下降させることにより処理ヘッド４を下限位置に移動させてから、洗浄と洗浄液除去が終了した分析用チップ２を取り出す。
【００４６】
つづいて、ハイブリダイゼーションが終了し、汚れＤｉがアレイ部に付着した分析用チップ２がくれば、同様にステップＳＴ０〜ＳＴ５を繰り返し、アレイ部２２から汚れＤｉを除去する洗浄と、その洗浄液の除去を行う。
【００４７】
それ以降をつづけて行う場合、１番目の分析用チップ２の処理終了後に、２番目の分析用チップ２の処理をそのまま継続して行ってもよいし、１番目の分析用チップ２の最後に回収した洗浄液をすべて排出してから、２番目の分析用チップ２の処理を開始してもよい。
また上記の処理方法で、ステップＳＴ２（汚れＤｉの分離）とステップＳＴ３（分離した汚れＤｉの除去と洗浄液の更新）については、適宜繰り返してよい。例えば２回繰り返す場合は具体的に、ステップＳＴ０→ＳＴ１→ＳＴ２→ＳＴ３→ＳＴ２→ＳＴ３→ＳＴ４→ＳＴ５、のようにする。これによって分離に時間がかかる汚れＤｉも除去することが可能となり、より洗浄性が向上する。また、ステップＳＴ３を省略して、ステップＳＴ０→ＳＴ１→ＳＴ２→ＳＴ４→ＳＴ５のようにしてもよい。この場合、アレイ部２２から分離した汚れＤｉは、供給口４２から吸引されて、処理ヘッド４内部から分岐管８５やその上流まで達する可能性がある。そのため、ステップＳＴ５終了後に、回収した液量以上に供給口４２からの吐出を行って、汚れＤｉを処理ヘッド４の外部に排出することが必要となる。
【００４８】
さらに洗浄液については、汚れＤｉを溶解したり、アレイ部２２から分離できるもので、ＤＮＡに影響を与えないものが好ましく、食塩水、水等に、表面活性剤を付加したものが好適に用いられる。処理ヘッドの材質については、洗浄液に塩が含まれることが多いので、それへの耐性を有するものであることが好ましく、合成樹脂、セラミックス、ステンレス鋼（ＳＵＳ３１６）等が好適に用いられる。
【００４９】
また、処理ヘッド４の処理部４０の溝底面４０２とアレイ部２２の頂上面２５との間の間隔であるすきま量Ｃについては、上記したように、好ましくは１ｍｍ以下、より好ましくは０．６ｍｍ以下にする。この値であれば、供給口４２から洗浄液が供給される時に、洗浄液は溝４０１を水平長手方向に確実に流れ、流量や流す液体量を大きくして、洗浄性能を高めることができる。
【００５０】
なお、洗浄液を送液する洗浄液供給・回収部８のポンプ８３については、シリンジポンプ、モーノポンプ等が適用できるが、密閉性があって計量性が高いとともに、少量の間欠供給が容易に行えるシリンジポンプ、ダイヤフラムポンプ、ベロフラムポンプ等の間欠型定量ポンプを使用するのが好ましい。
【００５１】
保持案内部材７０については、線状端部７１Ｌ、７１Ｒを貫通孔４６の内面に接触させて固定している。また保持案内部材７０の貫通孔４６内でのＺ方向長さについては、特に制約はないが、洗浄液が伝わって流れる長さがあることと設置のしやすさから、好ましくは５ｍｍ以上、より好ましくは１０ｍｍ以上にする。
【００５２】
保持案内部材７０を上からＺ方向に見た形状については、「一」の字形状の他、略Ｕ字形状、略Ｖ字形状、半円形状等、線状端部がある形状ならいかなるものでもよい。さらに図６に示されている別の案内保持部材７５のように、中空円形形状のパイプ本体７５１の水平長手方向（Ｘ方向）の両側に、上下方向（Ｚ方向）に供給口４２より下の位置まで達する一定間隔のスリット７５２Ｌ、７５２Ｒを設けるものでもよい。
【００５３】
排出溝４０７を上下方向に上側から見た排出開口４０８の形状については、「コ」の字形状（凹型形状）の他、半円形状、円弧形状、三角形状、台形形状、アリ溝形状等、溝を形成できるならいかなる形状でもよいが、洗浄液の排出能力が高まるよう面積を大きくすることが好ましい。
【００５４】
次に図６に、供給口４２を中央に設けて、さらに円弧形状の排出開口４１８Ｌ、４１８Ｒを備える排出溝４１７Ｌ、４１７Ｒを処理ヘッドに適用した態様を示す。図６は、処理ヘッドの処理部４０の別の実施態様を示す部分拡大斜視図である。供給口４２から供給される洗浄液が水平長手方向（Ｘ方向）の両方に均等に流れて、両側にある排出溝４１７Ｌ、４１７Ｒで均等に排出できるように、案内保持部材７５、排出溝４１７Ｌ、４１７Ｒ、排出開口４１８Ｌ、４１８Ｒの形状や配置位置を、供給口４２を中心に左右対称にしている。これによってアレイ部２２の一様な洗浄品質がえられる。
【産業上の利用可能性】
【００５５】
本発明の処理ヘッド並びに分析用チップの処理装置および処理方法は、ＤＮＡチップ等の分析用チップのハイブリダイゼーションや蛍光標識反応後の洗浄と洗浄液の除去に利用することができる。効率的で高い品質の洗浄処理によって、高いＳＮ比での蛍光検出が可能となる結果、本発明は、臨床現場や検査センターにおける迅速で正確な疾患の診断・診察を実現するために利用することができる。
【符号の説明】
【００５６】
１  処理装置
２  分析用チップ
３  チップ保持部
４  処理ヘッド
５  ヘッド支持部
６  排出洗浄液回収部
８  洗浄液供給・回収部
２０  本体
２１  上面
２２  アレイ部
２３  底面
２４  柱状体
２５  頂上面
３１  位置決め支持体
３２  フレーム
４０  処理部
４１  ベース板
４２  供給口
４３  底面
４４  貫通孔
５１  昇降台
５２  門型フレーム
５３  支持面
６１  トレイ
６２  排出案内板
７０  保持案内部材
７１Ｌ、７１Ｒ  線状端部
７２Ａ、７２Ｂ  板面
７５  保持案内部材
８１  貯蔵タンク
８２  入口配管
８３  ポンプ
８４  出口配管
８５  分岐管
８６  バルブ
４０１  溝
４０２  溝底面
４０３Ａ、４０３Ｂ  側壁
４０４Ａ、４０４Ｂ  側壁天面
４０５Ｌ、４０５Ｒ  溝端
４０６  柱状本体
４０７  排出溝
４０８  排出開口
４１７Ｌ、４１７Ｒ  排出溝
４１８Ｌ、４１８Ｒ  排出開口
７５１  パイプ本体
７５２Ｌ、７５２Ｒ  スリット
Ｃ  すきま量
Ｄｉ  汚れ
Ｌ  長さ
Ｓ  対面空間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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