(57)【要約】【課題】反射防止特性等の所望の特性を有し、密着性及び外部応力抵抗性に優れたプラスチック光学製品等を提供する。【解決手段】プラスチック光学製品は、プラスチック基材の片面又は両面に対し、直接又は中間膜を介して形成された光学多層膜を備えており、前記光学多層膜は、内部応力として引張応力を持つ高屈折率材料製の引張応力高屈折率層と、低屈折率材料製の低屈折率層と、を含んでおり、前記光学多層膜における前記基材側から数えて１層目に、前記引張応力高屈折率層が、物理膜厚を１０ｎｍ以下とした状態で配置されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラスチック製の基材の片面又は両面において、直接又は中間膜を介して配置された光学多層膜を備えており、
前記光学多層膜は、内部応力として引張応力を持つ高屈折率材料製の引張応力高屈折率層と、低屈折率材料製の低屈折率層と、を含んでおり、
前記光学多層膜における前記基材側から数えて１層目に、前記引張応力高屈折率層が、物理膜厚を１０ｎｍ以下とした状態で配置されている
ことを特徴とするプラスチック光学製品。
【請求項２】
前記光学多層膜において、高屈折率材料製の高屈折率層、及び前記低屈折率層が、交互に配置されている
ことを特徴とする請求項１に記載のプラスチック光学製品。
【請求項３】
前記引張応力高屈折率層は、ＺｒＯ２層である
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のプラスチック光学製品。
【請求項４】
前記光学多層膜の総物理膜厚は、２００ｎｍ以上である
ことを特徴とする請求項１ないしは請求項３の何れかに記載のプラスチック光学製品。
【請求項５】
前記中間膜は、ハードコート膜である
ことを特徴とする請求項１ないしは請求項４の何れかに記載のプラスチック光学製品。
【請求項６】
請求項１ないしは請求項５の何れかに記載のプラスチック光学製品が用いられている
ことを特徴とするプラスチック眼鏡レンズ。
【請求項７】
請求項６に記載のプラスチック眼鏡レンズが用いられている
ことを特徴とする眼鏡。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラスチック眼鏡レンズ（サングラスレンズを含む）を始めとするプラスチック光学製品、及び当該プラスチック眼鏡レンズを用いた眼鏡（サングラスを含む）に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射特性及び耐熱性について共に良好な性能を有するプラスチックレンズとして、国際公開第２０１０／０１６４６２号（特許文献１）に記載された実施例２，３が知られている。
このレンズは、プラスチック基材上に、熱硬化性のシリコーン系ハードコート層及び反射防止膜を備えている。その反射防止膜は、低屈折率層と高屈折率層が交互に積層された全４層構造であり、プラスチック基材に最も近い第１層は、物理膜厚が１１ｎｍ（ナノメートル）である高屈折率層としての二酸化ジルコニウム層であり、第２，４層は、低屈折率層としての二酸化ケイ素であって、反射防止膜の総膜厚は、２００ｎｍ未満（実施例２：１７４ｎｍ，実施例３：１７０ｎｍ）である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第２０１０／０１６４６２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
以上のレンズでは、反射防止膜の第１層の物理膜厚が１１ｎｍであるため、反射防止膜が脆くなる可能性がある。
即ち、二酸化ジルコニウム層は内部応力として引張応力を呈し、二酸化ケイ素層並びにプラスチック基材及びシリコーン系ハードコート層は内部応力として圧縮応力を呈することから、多くの場合、以上のレンズとは異なり、ハードコート層に隣接する反射防止膜の第１層は、プラスチック基材と同じ圧縮応力を呈する二酸化ケイ素層とされる。一方、ハードコート層に対する密着性は、二酸化ケイ素層より二酸化ジルコニウム層の方が良好である。そこで、密着性を重視して、反射防止膜の第１層を１１ｎｍの物理膜厚の二酸化ジルコニウム層とすると、その引張応力とハードコート層の圧縮応力という互いに相反する作用が、反射防止膜やハードコート膜の内部で保持されることとなる。すると、例えば、プラスチック眼鏡レンズの外形を眼鏡フレームに入れるために切削する玉型加工が、プラスチック眼鏡レンズとこれに付けた治具（レンズロックキャップ）とをレンズ加工軸で挟んで施される際に、プラスチック眼鏡レンズの反射防止膜がレンズ加工軸と治具とで挟んた部分からひび割れる等、反射防止膜付きのレンズが外部応力に対して弱くなってしまう可能性がある。
そこで、本発明の主な目的は、反射防止特性等の所望の特性を有し、密着性及び外部応力抵抗性に優れたプラスチック光学製品，プラスチック眼鏡レンズ，眼鏡を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、プラスチック光学製品であって、プラスチック製の基材の片面又は両面において、直接又は中間膜を介して配置された光学多層膜を備えており、前記光学多層膜は、内部応力として引張応力を持つ高屈折率材料製の引張応力高屈折率層と、低屈折率材料製の低屈折率層と、を含んでおり、前記光学多層膜における前記基材側から数えて１層目に、前記引張応力高屈折率層が、物理膜厚を１０ｎｍ以下とした状態で配置されていることを特徴とするものである。
請求項２に記載の発明は、上記発明にあって、前記光学多層膜において、高屈折率材料製の高屈折率層、及び前記低屈折率層が、交互に配置されていることを特徴とするものである。
請求項３に記載の発明は、上記発明にあって、前記引張応力高屈折率層は、ＺｒＯ２層であることを特徴とするものである。
請求項４に記載の発明は、上記発明にあって、前記光学多層膜の総物理膜厚は、２００ｎｍ以上であることを特徴とするものである。
請求項５に記載の発明は、上記発明にあって、前記中間膜は、ハードコート膜であることを特徴とするものである。
請求項６に記載の発明は、プラスチック眼鏡レンズであって、上記のプラスチック光学製品が用いられていることを特徴とするものである。
請求項７に記載の発明は、眼鏡であって、上記のプラスチック眼鏡レンズが用いられていることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の主な効果は、反射防止特性等の所望の特性を有し、密着性及び外部応力抵抗性に優れたプラスチック光学製品等が提供されることである。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】実施例１，比較例１に係る反射率分布を示すグラフである。
【図２】実施例２，比較例２〜３に係る反射率分布を示すグラフである。
【図３】実施例３，比較例５に係る反射率分布を示すグラフである。
【図４】実施例４，比較例６に係る反射率分布を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本発明に係る実施の形態の例が説明される。
本発明は、以下の形態に限定されない。
【０００９】
本発明に係るプラスチック光学製品では、基材の片面あるいは両面に対し、光学多層膜が形成されている。
本発明において、基材はプラスチックであればどのような材質であっても良く、好ましくは透光性を有する。基材の材料として、好ましくは熱硬化性樹脂が用いられ、例えばポリウレタン樹脂、チオウレタン樹脂、ウレタン−ウレア樹脂、エピスルフィド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリ４−メチルペンテン−１樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂、あるいはこれらの組合せが用いられる。又、屈折率が高く（特に眼鏡レンズ用として）好適なものとして、エピスルフィド基とポリチオール及び／又は含硫黄ポリオールとを付加重合して得られるエピスルフィド樹脂、あるいはこのエピスルフィド樹脂と他の樹脂の組合せを挙げることができる。
【００１０】
光学多層膜は、反射防止特性や反射増強特性といった所望の特性を得るために付与される。高屈折率層や低屈折率層の層数や材質の選択、各層における厚み（層に係る物理膜厚あるいは光学膜厚）の増減といった設計要素の変更により、光学多層膜の設計が変更される。光学多層膜は、好ましくは誘電体材料を用いた無機多層膜であり、適宜下記の特徴を有する。尚、光学多層膜は、両面に形成される場合、好ましくは何れの膜も下記の特徴を有し、更に好ましくは何れの膜も同一の積層構造となるようにする。
即ち、光学多層膜では、好ましくは低屈折率層と高屈折率層が交互に積層されており、最も基材側の層（基材に最も近い層）を１層目とすると、１層目は、内部応力として引張応力を持つ高屈折率層即ち引張応力高屈折率層とされており、且つ物理膜厚が１０ｎｍ以下とされている。
かような１層目の高屈折率層は、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）や、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、あるいはこれらの二種以上の混合物といった高屈折率材料から形成され、好ましくはＺｒＯ２から形成される。現状で代表的な高屈折率材料は、酸化セレン（ＣｅＯ２）を除いて引張応力を持つ。
又、奇数層目は、高屈折率層であり、１層目と同様な高屈折率材料から形成され（引張応力高屈折率層）、あるいはＣｅＯ２等の圧縮応力を呈する高屈折率材料（圧縮応力高屈折率層）から形成され、若しくはこれらの混合物から形成される（混合高屈折率層）。
更に、偶数層目は、低屈折率層であり、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、あるいはこれらの二種以上の混合物といった低屈折率材料から形成される。現状で代表的な低屈折率材料は、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）を除いて圧縮応力を持つ。
あるいは、１層目に隣接する２層目に、ＣｅＯ２等の圧縮応力を呈する高屈折率材料が配置されても良い。このとき、３層目に、高屈折率材料が配置されても良いし、低屈折率材料が配置されても良く、後者の場合、３層目以降の奇数層目が低屈折率層となり、偶数層目が高屈折率層となる。同様に、１層目以外の高屈折率層の隣接層に別の材質の高屈折率層が配置されても良いし、１層目以外の低屈折率層の隣接層に別の材質の低屈折率層が配置されても良い。
光学多層膜の低屈折率層や高屈折率層は、真空蒸着法やイオンアシスト蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタ法等により形成される。
又、膜設計の容易さや成膜コストの観点から、高屈折率材料及び低屈折率材料がそれぞれ２種以下で用いられることが好ましく、高屈折率材料及び低屈折率材料が１種ずつ用いられることがより好ましい。
【００１１】
本発明において、光学多層膜と基材の間及び光学多層膜の表面の少なくとも一方に、ハードコート膜（ＨＣ膜）や防汚膜（撥水膜，撥油膜）等の別種の膜が付加されても良く、光学多層膜が両面に形成される場合には、付加される膜の種類が互いに変えられたり、膜の有無が互いに変えられたりして良い。
光学多層膜と基材の間に付加する膜（中間膜）としてＨＣ膜が配置される場合、ＨＣ膜は、好適には基材の表面にハードコート液を均一に施すことで形成される。
又、ＨＣ膜は、好ましくは無機酸化物微粒子を含むオルガノシロキサン系樹脂を用いて形成される（シリコーン系ＨＣ膜の一例）。オルガノシロキサン系樹脂は、アルコキシシランを加水分解し縮合させることで得られるものが好ましい。又、オルガノシロキサン系樹脂の具体例として、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルシリケート、又はこれらの組合せが挙げられる。これらアルコキシシランの加水分解縮合物は、当該アルコキシシラン化合物あるいはそれらの組合せを、塩酸等の酸性水溶液で加水分解することにより製造される。
一方、無機酸化物微粒子の材質の具体例として、酸化亜鉛、二酸化ケイ素（シリカ微粒子）、酸化アルミニウム、酸化チタン（チタニア微粒子）、酸化ジルコニウム（ジルコニア微粒子）、酸化スズ、酸化ベリリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化セリウムの各ゾルを単独であるいは何れか２種以上を混晶化したものが挙げられる。無機酸化物微粒子の直径は、ＨＣ膜の透明性確保の観点から、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましく、１ｎｍ以上５０ｎｍ以下であるとより好ましい。又、無機酸化物微粒子の配合量（濃度）は、ＨＣ膜における硬度や強靱性の適切な度合での確保という観点から、ＨＣ膜の全成分中の４０重量％以上６０重量％以下を占めることが好ましい。加えて、ハードコート液には、硬化触媒としてアセチルアセトン金属塩、及びエチレンジアミン四酢酸金属塩の少なくとも一方等を付加することができ、更に基材に対する密着性確保や形成の容易化、所望の（半）透明色の付与等の必要に応じて、界面活性剤、着色剤、溶媒等を添加することができる。
他方、ＨＣ膜は、アクリル系樹脂を用いて形成されても良い（アクリル系ＨＣ膜）。この場合、好ましくは、紫外線（ＵＶ）を照射することで硬化するＵＶ硬化性アクリル樹脂を用いて、ＵＶを照射することにより形成される。
ＨＣ膜の物理膜厚は、０．５μｍ（マイクロメートル）以上４．０μｍ以下とすると好ましい。この膜厚範囲の下限については、これより薄いと充分な硬度を得難いことから定まる。一方、上限については、これより厚くするとクラックや脆さの発生等、物性に関する問題の生ずる可能性が飛躍的に高まることから定まる。
更に、ＨＣ膜と基材表面の間に、ＨＣ膜の密着性を向上する観点からプライマー膜を付加しても良い。プライマー膜の材質として、例えばポリウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、メタクリル樹脂、有機ケイ素系樹脂、又はこれらの組合せが挙げられる。プライマー膜は、好適には基材の表面にプライマー液を均一に施すことで形成される。プライマー液は、水又はアルコール系の溶媒に上記の樹脂材料と無機酸化物微粒子を混合させた液である。
【００１２】
かようなプラスチック基材やＨＣ膜は、内部応力として圧縮応力を持ち、これらの何れかに接触する光学多層膜の１層目が引張応力を持つ高屈折率層であると、基材やＨＣ膜に対する密着性は１層目が圧縮応力を持つ低屈折率層であるものに比べて向上するものの、圧縮応力及び引張応力という相反する内部応力が保持されることとなり、膜構成によっては外部応力に対して弱くなってしまう。
本発明の光学多層膜では、引張応力を持つ高屈折率層である１層目の物理膜厚が１０ｎｍ以下となっているため、保持される引張応力の単位面積当たりの大きさが所定程度以下となり、圧縮応力を持つ基材やＨＣ膜に接していたとしても、相反する内部応力の程度が小さく押さえられる。そして、１層目の物理膜厚が１０ｎｍ以下であっても、引張応力を持つ高屈折率層である１層目が基材やＨＣ膜に接していることに変わりはないため、光学多層膜と基材やＨＣ膜との密着性は維持される。
光学多層膜は、各層の物理膜厚を合計した総物理膜厚が２００ｎｍ以上であることが、次の観点から好ましい。即ち、総物理膜厚がこの程度に厚いと、各層の内部応力に起因する光学多層膜の内部応力のバランスを確保することが困難になり、そのままでは光学多層膜の密着性が確保し難くなるところ、上述の１層目の高屈折率層が配置されることにより、かように厚い光学多層膜であっても密着性が確保されることとなる。
光学多層膜の密着性が確保されれば、その光学多層膜付きのプラスチック光学製品における外部応力に対する抵抗性が向上し、プラスチック光学製品の加工時等において加わる圧力や応力により光学多層膜等にクラック（ひび割れ）が発生する事態が防止される。
【００１３】
又、好適には、基材はプラスチック眼鏡レンズ基材であり、プラスチック光学製品はプラスチック眼鏡レンズである。
プラスチック光学製品がプラスチック眼鏡レンズであれば、これに対する玉型加工時において、光学多層膜等にクラック（ひび割れ）が発生する事態が防止される。
又、当該プラスチック眼鏡レンズを用いて、眼鏡を作製することができる。
【実施例】
【００１４】
次いで、本発明の実施例１〜４、及び本発明に属さない比較例１〜６が、適宜図面を用いて説明される。
尚、本発明は、以下の実施例に限定されない。又、本発明の捉え方により、下記の実施例が実質的には比較例となったり、下記の比較例が実質的には実施例となったりすることがある。
【００１５】
≪基材と中間膜等≫
これら実施例ないし比較例は、何れもプラスチック眼鏡レンズであり、それらの基材は、何れも熱硬化性樹脂製であって、眼鏡用プラスチックレンズとして標準的な大きさの円形で度数がＳ−０．００である球面レンズ基材であり、より詳細には次の２種のうちの何れかである。
即ち、第１の基材は、チオウレタン樹脂製であって、その屈折率は１．６０であり、アッベ数は４１である（チオウレタン基材）。第１の基材は、実施例１〜３，比較例１〜５で用いられる。
又、第２の基材は、アクリル系樹脂製であって、屈折率は１．４９、アッベ数は５８である（アクリル系基材）。第２の基材は、実施例４，比較例６で用いられる。
【００１６】
又、これら実施例ないし比較例においては、中間膜として、ハードコート液の塗布により形成されるＨＣ膜が両面に付与された。
プラスチック眼鏡レンズ基材に接するＨＣ膜は、より詳細には次の２種のうちの何れかである。
即ち、第１のＨＣ膜は、シリコーン系の熱硬化性ハードコートであり、何れも物理膜厚が２．５μｍである（シリコーン系ＨＣ膜）。シリコーン系ＨＣ膜は、屈折率が１．６０であり、実施例１〜２，比較例１〜３で用いられる。
又、第２のＨＣ膜は、アクリル系のＵＶ硬化性ハードコートであり、何れも物理膜厚が２．０μｍである（アクリル系ＨＣ膜）。アクリル系ＨＣ膜は、実施例３〜４，比較例４〜６で用いられる。
【００１７】
≪光学多層膜等≫
更に、これら実施例ないし比較例（比較例４を除く）では、光学多層膜が、基材の両面における中間膜の上において、同一の構成で形成された。
光学多層膜の高屈折率層はＺｒＯ２層であり、低屈折率層はＳｉＯ２層であって（無機多層膜）、各層の物理膜厚及び光学膜厚は、実施例１〜４ないし比較例１〜６（比較例４を除く）の各々において、次の［表１］〜［表４］における「層構成」の欄で示される通りである。より詳しくは、実施例１及び比較例１の物理膜厚等は［表１］の上部に示され、実施例２並びに比較例２及び比較例３の物理膜厚等は［表２］の上部に示され、実施例３並びに比較例４及び比較例５の物理膜厚等は［表３］の上部に示され、実施例４及び比較例６の物理膜厚等は［表４］の上部に示される。
尚、ＺｒＯ２層の屈折率は、波長５００ｎｍにおいて２．０３４であり、ＳｉＯ２層の屈折率は、波長５００ｎｍにおいて１．４６９である。又、光学膜厚は、設計波長λ＝５００ｎｍにおけるものである。
【００１８】
【表１】
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【表２】
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【００１９】
【表３】
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【表４】
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【００２０】
即ち、実施例１，比較例１では、光学多層膜が、可視域（ここでは４００ｎｍ以上７８０ｎｍ以下）及びその隣接域（ここでは３８０ｎｍ以上４００ｎｍ未満）内における、波長４５０ｎｍ前後の域の反射率（極大値６．８％前後）を、他の域に比べて大きくした反射防止膜となるように設計されたもので、実施例１の光学多層膜は全６層であり、比較例１の光学多層膜は全５層である。上述の波長域におけるこれらの反射率分布が、図１に示される。
実施例１における、最も基材に近くＨＣ膜に隣接する１層目は、物理膜厚が９．２０ｎｍであるＺｒＯ２層であり、総物理膜厚は、４６９．７２ｎｍである。
比較例１における１層目は、物理膜厚が１６７．０５ｎｍであるＳｉＯ２層であり、総物理膜厚は、４０４．１２ｎｍである。
【００２１】
又、実施例２，比較例２〜３では、光学多層膜が、上記波長域内における、波長４８０ｎｍ前後の域の反射率（極大値３０％前後）を、他の域に比べて大きくした反射防止膜となるように設計されたもので、実施例２の光学多層膜は全１０層であり、比較例２の光学多層膜は全９層であり、比較例３の光学多層膜は全１０層である。上述の波長域におけるこれらの反射率分布が、図２に示される。
実施例２における１層目は、物理膜厚が８．５０ｎｍであるＺｒＯ２層であり、総物理膜厚は、８０４．４１ｎｍである。
比較例２における１層目は、物理膜厚が２０．００ｎｍであるＳｉＯ２層であり、総物理膜厚は、７８９．５３ｎｍである。
比較例３における１層目は、物理膜厚が１５．００ｎｍであるＺｒＯ２層であり、総物理膜厚は、８６４．５５ｎｍである。
【００２２】
更に、実施例３，比較例５では、光学多層膜が、チオウレタン基材上にアクリル系ＨＣ膜が形成された場合において、可視域内で反射防止特性を呈するように設計されたもので、実施例３の光学多層膜は全６層であり、比較例５の光学多層膜は全５層である。上述の波長域におけるこれらの反射率分布が、図３に示される。チオウレタン基材とアクリル系ＨＣ膜とで屈折率が異なっているため、反射率分布にリップル（波）が生じている。
実施例３における１層目は、物理膜厚が６．５０ｎｍであるＺｒＯ２層であり、総物理膜厚は、２３８．４７ｎｍである。
比較例５における１層目は、物理膜厚が２５．００ｎｍであるＳｉＯ２層であり、総物理膜厚は、２３３．９０ｎｍである。
尚、比較例４は、チオウレタン基材上にアクリル系ＨＣ膜が形成されたものであり、実施例３あるいは比較例５において光学多層膜が省略されたものに等しい。
【００２３】
更に、実施例４，比較例６では、アクリル系基材上にアクリル系ＨＣ膜が形成された場合において、光学多層膜が、可視域内で反射防止特性を呈すると共に、近赤外域（ここでは７８０ｎｍを超えた波長域）で近赤外線反射特性を呈する（波長１０４０ｎｍ付近で反射率分布の極大値が３５％程度である）ように設計されたもので、実施例４の光学多層膜は全８層であり、比較例６の光学多層膜は全７層である。可視域及び赤外域のうち１５００ｎｍ以下の域を合わせた波長域におけるこれらの反射率分布が、図４に示される。
実施例４における１層目は、物理膜厚が７．５０ｎｍであるＺｒＯ２層であり、総物理膜厚は、５６１．６６ｎｍである。
比較例６における１層目は、物理膜厚が４０．００ｎｍであるＳｉＯ２層であり、総物理膜厚は、５５９．７５ｎｍである。
【００２４】
≪耐候密着試験及び外部応力抵抗性試験等≫
上記の実施例や比較例における、光学多層膜（比較例４においてはＨＣ膜）の密着性を評価するため、耐候密着試験が行われた。
耐候密着試験は、促進された状態で、次のように行われた。
まず、レンズの各面において、カッターによって、１００マスのマス目が、１マスを１辺の大きさが１０ｍｍ（ミリメートル）である正方形とした状態で形成された。
次いで、マス目形成箇所に対するセロハンテープの付着及び勢いのある剥離が５回繰り返され、剥がれが生じなかったマスの数が確認された（初期の確認）。半マス分の剥がれは、０．５マスとして数えられた。
続いて、レンズがサンシャインウェザーメータ（スガ試験機株式会社製Ｓ８０Ｂ）に６０時間（ｈｒ．）投入され、その後、投入前と同様に、新たに形成されたマス目形成箇所に対して適用したセロハンテープによって剥がれが発生しなかったマスの数が数えられた（６０ｈｒ．の確認）。
更にその後、同様にレンズがサンシャインウェザーメータに６０時間投入され剥がれなかったマス目数が確認され（述べ１２０ｈｒ．の確認）、かような投入と確認が、６０時間毎に最初の投入から述べ２４０時間投入された後の確認まで繰り返された（１８０ｈｒ．の確認，２４０ｈｒ．の確認）。
かような試験の結果は、上記［表１］〜［表４］における「耐候密着」の欄に示される。
【００２５】
又、上記の実施例や比較例における、光学多層膜の外部応力に対する耐久性を評価するため、光学多層膜が形成されない比較例４を除き、外部応力抵抗性試験が行われた。
外部応力抵抗性試験は、玉型加工に係るものとして、次のように行われた。
即ち、レンズが玉型加工機（エッジャー）にセットされ、玉型加工された。
より詳細には、エッジャーは、移動可能であり且つ自身の軸周りで回転可能である砥石と、一対のレンズ加工軸と、を有しており、片面（凸面）に治具（レンズロックキャップ）を両面テープで付けたレンズが、レンズ加工軸において治具で位置決めされた状態で挟まれてセットされ、セットされたレンズの外周部に対し、適宜回転された砥石が移動により適用されて、丸形のレンズが、眼鏡フレーム内に入るような略楕円形状の玉型に加工された。
かような玉型加工においては、レンズにおける、レンズ加工軸や治具に対する接触部位や、その隣接部位に、最も外部応力がかかる。外部応力抵抗性試験においては、玉型加工時に、クラック（ひび割れ）の発生が防止されたか否かが確認された。
かような試験の結果は、上記［表１］〜［表４］における「玉型加工クラック防止」の欄に示される。
玉型加工において、クラックの発生が防止された場合、同欄に「○」が表示され、クラックが発生した場合、同欄に「×」が表示される。
【００２６】
実施例１及び比較例１は、何れも波長４５０ｎｍ付近を反射させる特性を有しており、又玉型加工時のクラック発生が防止されて外部応力抵抗性を有しているものの、耐候密着試験の結果においては、差が生じた。
即ち、比較例１では、初期において剥がれなかった（１００マス剥がれなし）ものの、６０ｈｒ．で半マス剥がれ（９９．５マス剥がれなし）、１２０ｈｒ．で１マス剥がれ（９９マス剥がれなし）、１８０ｈｒ．以降で５マスずつ剥がれた（９５マス剥がれなし）。
これに対し、実施例１では、２４０ｈｒ．に至るまで剥がれが生じなかった。
かような差は、比較例１では光学多層膜の１層目がＳｉＯ２層であり、ＨＣ膜と同様に圧縮応力を有して玉型加工時のクラック防止作用を有するものの、ＨＣ膜との密着性が比較的に劣るのに対し、実施例１では光学多層膜の１層目がＺｒＯ２層であり、ＨＣ膜との密着性が比較的に優れていることによる。
更には、実施例１では、光学多層膜の１層目の物理膜厚が１０ｎｍ以下（９．２０ｎｍ）に抑えられているから、１層目の圧縮応力が抑えられ、よって玉型加工時のクラック防止作用を有しており、外部応力抵抗性を有している。
【００２７】
実施例２及び比較例２，３は、何れも波長４８０ｎｍ付近を反射させる特性を有しているものの、耐候密着試験の結果や外部応力抵抗性試験の結果においては、差が生じた。
即ち、比較例２では、外部応力抵抗性試験において玉型加工時のクラックの発生はなかったものの、耐候密着試験において６０ｈｒ．で半マスが剥がれ、１２０ｈｒ．以降で２マスが剥がれた。
又、比較例３では、耐候密着試験において剥がれが生じなかったものの、外部応力抵抗性試験においてクラックが発生した。
これらに対し、実施例２では、耐候密着試験において２４０ｈｒ．に至るまで剥がれが生じず、外部応力抵抗性試験においてクラックの発生が防止された。
かような差は、次のことによるものと考えられる。即ち、比較例２では、光学多層膜の１層目がＳｉＯ２層であり、ＨＣ膜と同様に圧縮応力を有して玉型加工時のクラック防止作用を有するものの、ＨＣ膜との密着性が比較的に劣る。又、比較例３では、光学多層膜の１層目がＺｒＯ２層であり、ＨＣ膜との密着性が比較的に優れているものの、１層目の物理膜厚が１０ｎｍを超えており（１５．００ｎｍ）、１層目の引張応力が比較的に大きくなってＨＣ膜の圧縮応力と比較的に大きく相反し、玉型加工時のように大きな外部応力がかかるとひび割れてしまう。これらに対し、実施例２では、光学多層膜の１層目がＺｒＯ２層であり、ＨＣ膜との密着性が比較的に優れており、更に物理膜厚が１０ｎｍ以下（８．５０ｎｍ）に抑えられていて圧縮応力が抑えられ、外部応力抵抗性を具備して玉型加工時のクラック防止作用を有しているものである。
【００２８】
実施例３及び比較例４，５は、何れもチオウレタン基材上にアクリル系ＨＣ膜が形成されたものであり、実施例３及び比較例５は、更に互いに同様な反射率分布を有する光学多層膜がＨＣ膜上に形成されている。
比較例４に係る耐候密着試験の結果は、ＨＣ膜が１２０ｈｒ．で半数剥がれ落ちるという、アクリル系ＨＣ膜のチオウレタン基材に対する密着性が比較的に悪いことを示すものとなり、その後の耐候密着試験、並びに外部応力抵抗性試験は、不実施とされた。
比較例５では、外部応力抵抗性試験においてクラックは発生しなかったものの、耐候密着試験の結果は、２４０ｈｒ．で８０マス剥がれる等、光学多層膜のＨＣ膜に対する密着性が比較的に悪いことを示すものとなった。
これらに対し、実施例３では、耐候密着試験において２４０ｈｒ．で１２マスの剥がれとなり、外部応力抵抗性試験においてクラックの発生が防止された。
実施例３では、光学多層膜の１層目はＺｒＯ２層であり、アクリル系ＨＣ膜に対する密着性が、比較例５（光学多層膜の１層目がＳｉＯ２層であり耐候密着試験結果が２４０ｈｒ．で８０マスの剥がれ）と比べて飛躍的に良好となる。
そして、ＨＣ膜と基材との密着性が比較例４で示されるように比較的に悪かったとしても、更に実施例３の光学多層膜が形成されることで、プラスチックレンズ全体としての耐候密着性が改善される。又、実施例３では、光学多層膜の１層目の物理膜厚が１０ｎｍ以下（６．５０ｎｍ）であるため、玉型加工時のクラックの発生が防止され、外部応力抵抗性も良好である。
【００２９】
実施例４及び比較例６は、何れもアクリル系基材上にアクリル系ＨＣ膜及び光学多層膜が形成されたものであり、可視域で反射防止特性を有し且つ近赤外域で反射特性を有するものである。
比較例６では、光学多層膜の１層目がＳｉＯ２層であり、外部応力抵抗性試験においてクラックの発生が抑制されているものの、耐候密着試験における剥がれが最大９５マス（１８０ｈｒ．）生じている。
これに対し、実施例４では、光学多層膜の１層目がＺｒＯ２層であり、耐候密着試験における剥がれが最大４マス（１８０ｈｒ．）と大幅に改善されている。又、１層目の物理膜厚が１０ｎｍ以下（７．５０ｎｍ）であるため、玉型加工時のクラックの発生が防止され、外部応力抵抗性も良好である。
尚、実施例３，４の耐候密着試験の結果は、実施例１，２の結果より若干劣るものの、実施例１，２は、チオウレタン基材及びシリコーン系ＨＣ膜に係るものであって、比較的に素材や形成のコストが嵩むものであり、実施例３（チオウレタン基材及びアクリル系ＨＣ膜）や実施例４（アクリル系基材及びアクリル系ＨＣ膜）は、コスト面でメリットを有するものである。
【００３０】
以上の通り、実施例１〜４のように、光学多層膜における基材側の１層目が、物理膜厚を１０ｎｍ以下とした引張応力を有する高屈折率層であれば、所望の特性が実現され、且つ密着性と外部応力抵抗性とが両立される。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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