(57)【要約】【課題】次亜塩素酸水の物理量を管理・制御すること。【解決手段】次亜塩素酸水を生成する生成装置と、次亜塩素酸水で気体を洗浄する洗浄装置と、次亜塩素酸水の物理量を取得するセンサとを含む洗浄システムにおいて、センサで取得された次亜塩素酸水の物理量が、許容の範囲外であると判断された場合に、次亜塩素酸水のパラメータの値の設定を変更する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
次亜塩素酸水を生成する生成装置と、前記次亜塩素酸水で気体を洗浄する洗浄装置と、前記次亜塩素酸水の物理量を取得するセンサとを含む洗浄システムであって、
前記洗浄装置で前記次亜塩素酸水を生成するためのパラメータを記憶する記憶手段と、
前記センサで取得された前記次亜塩素酸水の物理量を取得する物理量取得手段と、
前記物理量取得手段により取得された前記物理量が、許容の範囲外であるか否かを判断する判断手段と、
前記判断手段によって、前記物理量が前記許容の範囲外であると判断された場合に、前記パラメータの値の設定を変更するパラメータ変更手段と
を備えることを特徴とする洗浄システム。
【請求項２】
前記生成装置は、炭酸ガス混合法で次亜塩素酸水を生成する生成装置であること
を特徴とする請求項１に記載の洗浄システム。
【請求項３】
前記パラメータ変更手段は、前記記憶手段により記憶された前記パラメータと、前記物理量取得手段により取得された前記物理量との差分に基づいて、当該パラメータの値の設定を変更すること
を特徴とする請求項１または２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記物理量が前記次亜塩素酸水のｐＨであって、前記判断手段によって、前記物理量が前記許容の範囲外であると判断された場合に、前記生成装置、または、前記次亜塩素酸水を貯留する貯留容器、または、前記洗浄装置の稼働の停止を指示する指示手段を更に備えることを特徴とする請求項１乃至３に記載の洗浄システム。
【請求項５】
前記パラメータとは次亜塩素酸水の残留塩素濃度または流量であること
を特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の洗浄システム。
【請求項６】
前記センサとは、前記次亜塩素酸水を貯留する貯留容器に備わる、残留塩素濃度センサまたはｐＨセンサであること
を特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の洗浄システム。
【請求項７】
前記センサとは、前記洗浄装置に備わる、前記残留塩素濃度センサまたは前記ｐＨセンサであること
を特徴とする請求項６に記載の洗浄システム。
【請求項８】
前記残留塩素濃度センサにより、前記貯留容器または前記洗浄装置に含まれる、前記次亜塩素酸水の残留塩素濃度を取得する残留塩素濃度取得手段を更に備えることを特徴とする請求項６または７に記載の洗浄システム。
【請求項９】
前記ｐＨセンサにより、前記貯留容器または前記洗浄装置に含まれる、前記次亜塩素酸水のｐＨを取得するｐＨ取得手段を更に備えることを特徴とする請求項６乃至８に記載の洗浄システム。
【請求項１０】
前記物理量とは、前記次亜塩素酸水の残留塩素濃度または前記次亜塩素酸水のｐＨであること
を特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の洗浄システム。
【請求項１１】
前記許容の範囲とは、前記物理量が当該許容の範囲に含まれる場合に、前記生成装置または前記洗浄装置の稼働を許可する範囲であって、
前記許容の範囲を設定する範囲設定手段を備え、
前記記憶手段は、前記範囲設定手段によって設定された前記許容の範囲を記憶することを特徴とする請求項１乃至１０に記載の洗浄システム。
【請求項１２】
次亜塩素酸水を生成する生成装置と、前記次亜塩素酸水で気体を洗浄する洗浄装置と、前記次亜塩素酸水の物理量を取得するセンサとを含む洗浄システムの制御方法であり、前記洗浄装置で前記次亜塩素酸水を生成するためのパラメータを記憶する記憶手段を備える前記洗浄システムの制御方法であって、
前記センサで取得された前記次亜塩素酸水の物理量を取得する物理量取得工程と、
前記物理量取得工程により取得された前記物理量が、許容の範囲外であるか否かを判断する判断工程と、
前記判断工程によって、前記物理量が前記許容の範囲外であると判断された場合に、前記パラメータの値の設定を変更するパラメータ変更工程と
を備えることを特徴とする洗浄システムの制御方法。
【請求項１３】
次亜塩素酸水を生成する生成装置と、前記次亜塩素酸水で気体を洗浄する洗浄装置と、前記次亜塩素酸水の物理量を取得するセンサとを含む洗浄システムであって、前記洗浄装置で前記次亜塩素酸水を生成するためのパラメータを記憶する記憶手段を備える前記洗浄システムで実行可能なプログラムであって、
前記洗浄システムを、
前記センサで取得された前記次亜塩素酸水の物理量を取得する物理量取得手段と、
前記物理量取得手段により取得された前記物理量が、許容の範囲外であるか否かを判断する判断手段と、
前記判断手段によって、前記物理量が前記許容の範囲外であると判断された場合に、前記パラメータの値の設定を変更するパラメータ変更手段
として機能させることを特徴とする洗浄システムで読み取り実行可能なプログラム。
【請求項１４】
次亜塩素酸水を生成する生成装置と、前記次亜塩素酸水で気体を洗浄する洗浄装置と、前記次亜塩素酸水の物理量を取得するセンサと通信可能な情報処理装置であって、
前記洗浄装置で前記次亜塩素酸水を生成するためのパラメータを記憶する記憶手段と、
前記センサで取得された前記次亜塩素酸水の物理量を取得する物理量取得手段と、
前記物理量取得手段により取得された前記物理量が、許容の範囲外であるか否かを判断する判断手段と
前記判断手段によって、前記物理量が前記許容の範囲外であると判断された場合に、前記パラメータの値の設定を変更するパラメータ変更手段と
を備えることを特徴とする情報処理装置。
【請求項１５】
次亜塩素酸水を生成する生成装置と、前記次亜塩素酸水で気体を洗浄する洗浄装置と、前記次亜塩素酸水の物理量を取得するセンサとを制御可能な情報処理装置の制御方法であり、前記洗浄装置で前記次亜塩素酸水を生成するためのパラメータを記憶する記憶手段を備える前記情報処理装置の制御方法であって、
前記センサで取得された前記次亜塩素酸水の物理量を取得する物理量取得工程と、
前記物理量取得工程により取得された前記物理量が、許容の範囲外であるか否かを判断する判断工程と
前記判断工程によって、前記物理量が前記許容の範囲外であると判断された場合に、前記パラメータの値の設定を変更するパラメータ変更工程と
を備えることを特徴とする情報処理装置の制御方法。
【請求項１６】
次亜塩素酸水を生成する生成装置と、前記次亜塩素酸水で気体を洗浄する洗浄装置と、前記次亜塩素酸水の物理量を取得するセンサとを制御可能な情報処理装置であって、前記洗浄装置で前記次亜塩素酸水を生成するためのパラメータを記憶する記憶手段を備える前記情報処理装置で実行可能なプログラムであって、
前記情報処理装置を、
前記センサで取得された前記次亜塩素酸水の物理量を取得する物理量取得手段と、
前記物理量取得手段により取得された前記物理量が、許容の範囲外であるか否かを判断する判断手段と
前記判断手段によって、前記物理量が前記許容の範囲外であると判断された場合に、前記パラメータの値の設定を変更するパラメータ変更手段
として機能させることを特徴とするプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
洗浄システムにおける洗浄能力を安定的に供給する洗浄システム、その制御方法、及びプログラム、並びに、情報処理装置、その制御方法、及びプログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
環境意識の高まりとともに、臭気を発生する装置又は施設を稼働する際には、臭気を低減する手段を講じることが必須となっている。排気中の臭気を低減する方法としては、排気を水又は処理液で洗浄することにより、排気中の臭気成分を水に溶解させる方法が知られている。また、この際に脱臭作用を有する処理液を用いることにより、臭気の低減効率を向上させる方法も知られている。例えば、下記の特許文献１では、内部に送り込まれた空気に対して次亜塩素酸水を噴霧することにより空気中の臭気を低減し、臭気が低減された空気を排気する、脱臭装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−１００７１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述の特許文献１に記載の仕組みにより、次亜塩素酸水と臭気とを接触させることで、臭気を脱臭することが可能となる。
【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載の仕組みにおいては、脱臭能力を向上させるために、臭気と次亜塩素酸水を霧化した空気とを接触させているが、次亜塩素酸水の残留塩素濃度やｐＨなどのもたらす影響に関しては、考慮していない。脱臭剤などとして用いられる次亜塩素酸水の脱臭能力は、次亜塩素酸水の残留塩素濃度によって左右される。また、次亜塩素酸水のｐＨが微酸性域よりも低いｐＨになった場合に、塩素ガスが発生する恐れがある。次亜塩素酸水の脱臭能力と安全性とを向上させるために、次亜塩素酸水の残留塩素濃度及びｐＨなどの物理量を管理・制御することが必要である。
【０００６】
そこで本発明は、洗浄システムにおける洗浄能力を安定的に供給することのできる仕組みを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の目的を達成するために本発明の洗浄システムは、次亜塩素酸水を生成する生成装置と、前記次亜塩素酸水で気体を洗浄する洗浄装置と、前記次亜塩素酸水の物理量を取得するセンサとを含む洗浄システムであって、前記洗浄装置で前記次亜塩素酸水を生成するためのパラメータを記憶する記憶手段と、前記センサで取得された前記次亜塩素酸水の物理量を取得する物理量取得手段と、前記物理量取得手段により取得された前記物理量が、許容の範囲外であるか否かを判断する判断手段と、前記判断手段によって、前記物理量が前記許容の範囲外であると判断された場合に、前記パラメータの値の設定を変更するパラメータ変更手段とを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、洗浄システムにおける洗浄能力を安定的に供給することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の実施形態における脱臭システムの構成の一例を示すシステム構成図である。
【図２】本発明の実施形態における脱臭装置の一例を示す概略構成図である。
【図３】本発明の実施形態における情報処理装置１００のハードウェアの構成の一例を示すハードウェア構成図である。
【図４】本発明の実施形態における情報処理装置１００のモジュールの構成の一例を示すブロック図である。
【図５】本発明の実施形態における脱臭方法のフローチャートである。
【図６】本発明の実施形態における情報処理装置１００における、次亜塩素酸水の濃度制御処理の詳細を示すフローチャートである。
【図７】本発明の実施形態における情報処理装置１００における、次亜塩素酸水の流量制御処理の詳細を示すフローチャートである。
【図８】本発明の実施形態における情報処理装置１００における、ｐＨセンサを用いた次亜塩素酸水のｐＨ測定処理の詳細を示すフローチャートである。
【図９】本発明の実施形態における基準範囲・設定値（１）テーブルの構成の一例を示す構成図である。
【図１０】本発明の実施形態における基準範囲・設定値（２）テーブルの構成の一例を示す構成図である。
【図１１】本発明の実施形態における基準範囲・設定値（３）テーブルの構成の一例を示す構成図である。
【図１２】本発明の実施形態におけるモードテーブルの構成の一例を示す構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、添付図面を参照し、本発明の実施形態について説明する。なお、以下で説明する実施形態は、本発明を具体的に実施した場合の一例を示すもので、特に、本発明に係る洗浄装置、洗浄システム、及び洗浄方法は、脱臭対象の気体を脱臭することを目的とするシステムには限定されない。本発明に係る洗浄装置、洗浄システム、及び洗浄方法は、気体を洗浄するものであり、脱臭以外の様々な目的で使用可能である。例えば、本発明に係る洗浄装置、及び洗浄システムは、気体中の除菌対象の除菌のために用いることもできる。したがって、本発明に係る洗浄装置、洗浄システム、及び洗浄方法は、脱臭以外を主目的としているが脱臭に用いることが可能な装置、システム、及び方法を含む。以下、脱臭対象の気体を脱臭することを主目的とする湿式脱臭装置（洗浄装置に相当する）、脱臭システム（洗浄システムに相当する）、脱臭方法を例として、本発明の実施形態を説明する。
【００１１】
図１は、洗浄液の物理量の制御を行う脱臭システムにおいて、その構成の一例を示すシステム構成図である。脱臭システムは、洗浄液の物理量の制御を行う情報処理装置１００と、洗浄液の生成を行う生成装置１１０と、生成装置１１０において生成された洗浄液を貯留する貯留容器１２０と、貯留容器に貯留された洗浄液を用いて臭気を脱臭する湿式脱臭装置２００とで構成されている。本実施例においては、生成装置１１０内で、炭酸ガス混合法を用いて、洗浄液を生成している。炭酸ガス混合法とは、次亜塩素酸ナトリウムと、二酸化炭素と、水とを混合させて、次亜塩素酸水を生成する方法である。生成装置１１０に備わる流出口１１１は、貯留容器の流入口１２１に接続されており、生成装置の流出口１１１から流出された洗浄液は、貯留容器の流入口１２１を通って貯留容器に流入する。同様に、貯留容器に備わる流出口１２２は、湿式脱臭装置の流入口２０１に接続されており、貯留容器の流出口１２２から流出された洗浄液１３０は、湿式脱臭装置の流入口２０１を通って湿式脱臭装置２００に流入する。貯留容器１２０にはセンサ１２３、脱臭装置２００にはセンサ２０２が備わっている。臭気流入部１５０を介して脱臭対象の気体１４０を供給し、脱臭対象の気体１４０は脱臭装置２００内の洗浄部で脱臭される。脱臭装置２００で溢れた洗浄液１３０は、洗浄液１７０を介して、流出される。貯留容器１２０または脱臭装置２００に備わるセンサ１２３，２０２の値に基づいて、生成装置１１０内の原料供給部（不図示）より供給される原料の添加量を変更する。
【００１２】
なお、本実施例において用いるセンサは一例であり、貯留容器または脱臭装置に備わるセンサは、この限りではない。また、センサの備える箇所は、貯留容器内または脱臭装置内であれば、図示した場所に限らない。
【００１３】
以上で、図１に示す制御システムのシステム構成図の説明を終了する。
【００１４】
以下、図２（Ａ）（Ｂ）を参照して、本実施形態に係る湿式脱臭装置について説明する。図２（Ａ）（Ｂ）は、それぞれ、本実施形態に係る湿式脱臭装置の一例の構成を示す概略図である。本実施形態に係る湿式脱臭装置は、流入口と、洗浄部と、流出口と、洗浄液供給部と、気泡供給部とを備えている。
【００１５】
図２（Ａ）には、本実施形態に係る湿式脱臭装置２００Ａが示されており、図２（Ｂ）には、本実施形態に係る湿式脱臭装置２００Ｂが示されている。これらの湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂには流入口２１０を介して洗浄対象（脱臭対象）の気体が流入し、流入した気体は洗浄液を用いた洗浄により脱臭され、流出口２６０を介して流出する。本明細書において、洗浄対象の気体のことを第１の気体と呼ぶ。
【００１６】
流入口２１０からは、脱臭対象の気体が湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂの内部へと流入する。例えば、ポンプ（不図示）を用いて、脱臭対象の気体を流入口２１０へと送ることができる。ここで、気体を流入口２１０に送るためのポンプは、湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂの内部あるいは外部のいずれに配置されていてもよい。脱臭対象の気体の種類は特に限定されない。本実施形態に係る湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂが有する高い脱臭性能は、高い臭気濃度を有する気体の脱臭に適している。例えば、脱臭対象の気体としては、食品廃棄物又はし尿を貯蔵する容器からの排気を含む、有機物の発酵により生じた気体が挙げられる。脱臭対象の具体例としては、コンポスト（堆肥製造装置）からの排気が挙げられる。
【００１７】
除去される臭気成分も特に限定されない。ここで、コンポストにおける臭気成分の例としては、アンモニア又はトリメチルアミンのような塩基性成分、メチルメルカプタンのような硫化物成分、アセトアルデヒドのようなアルデヒド成分、又はプロピオン酸のようなカルボン酸成分、等が挙げられる。本実施形態に係る湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂは、特にアンモニア濃度の低減に適している。例えば、一実施形態において、脱臭対象の気体が有するアンモニア濃度は、冷却器で冷却された場合は、１００ｐｐｍ以上となり、冷却器で冷却されていない場合は、３０００ｐｐｍ以上である。また、流入口２１０から流入する脱臭対象の気体は、前段に位置する冷却器又は湿式脱臭装置等の他の装置により処理が行われた後の気体であってもよい。
【００１８】
洗浄部２２０は、湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂに流入した脱臭対象の気体を第１の洗浄液２２２で洗浄する。洗浄部２２０は、脱臭対象の気体と第１の洗浄液２２２とが接触する接触部２２１と、第１の洗浄液２２２が貯められている部分と、を有している。本実施形態において、第１の洗浄液２２２は湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂの下部に貯められており、したがって洗浄部２２０も湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂの下部に位置する。
【００１９】
図２（Ｃ）は、図２（Ａ）の接触部２２１のうち１つの拡大図である。図２（Ｃ）を用いて、脱臭対象の気体と第１の洗浄液２２２とを混合する処理について説明する。まず、脱臭対象の気体は、ポンプによって加速されることにより、流路狭窄部２２３に向かって移動する。図２（Ａ）の例において、脱臭対象の気体は、接触部２２１に設けられ、第１の洗浄液２２２の液面と近接している流路狭窄部２２３を通る。この際、脱臭対象の気体の流れは加速されるために、第１の洗浄液２２２を伴う渦流が流路狭窄部を通過した後に発生する。このため、脱臭対象の気体と第１の洗浄液２２２とが効率的に混合され、脱臭対象の気体が洗浄される。このように、洗浄部２２０は、脱臭対象の気体と第１の洗浄液２２２とを混合することができ、また一実施形態において脱臭対象の気体と第１の洗浄液２２２とを互いに攪拌することができる。図２（Ａ）の例において、洗浄部２２０は流路狭窄部を有する接触部２２１を２つ有しているが、接触部２２１の数は特に限定されない。例えば、湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂには、より脱臭効率を向上させたい場合には、３以上の接触部（流路狭窄部）を設けてもよい。また、湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂを、接触部２２１の数を１つとすることで、複数の接触部を備える場合よりも小型化することができる。
【００２０】
図２（Ｂ）の例では、脱臭対象の気体は、接触部２２１において第１の洗浄液２２２の内部を通り、この際に脱臭対象の気体が洗浄される。なお、図２（Ａ）（Ｂ）の例においては、流入口２１０から流入する脱臭対象の気体の圧力のために、第１の洗浄液２２２の液面の高さは不均一となっている。なお、第１の洗浄液２２２の液面の高さは、流入口２５３及び流出口２５４よりも高く、流出口２８０よりも低くなるように設定される。また、洗浄中における第１の洗浄液２２２の液面の高さは、流路狭窄部２２３と近接している。つまり、流出口２８０により第１の洗浄液２２２が排出されることにより、水位が高くなりすぎることを抑制することができ、洗浄に用いた後の第１の洗浄液２２２を排出することが可能となる。流入口２５３及び流出口２５４よりも水位を高く維持することにより、第１の洗浄液２２２に気泡を供給することが可能となる。
【００２１】
もっとも、洗浄部２２０の構成はこのようなものに限られない。例えば、洗浄部２２０において、第１の洗浄液２２２が噴霧されてもよい。この場合、脱臭対象の気体は、第１の洗浄液２２２のミストを通過する際に洗浄される。また、洗浄部２２０において、流入口２１０から流入した脱臭対象の気体が第１の洗浄液２２２中にバブリングされてもよく、この場合も脱臭対象の気体を第１の洗浄液２２２で洗浄できる。
【００２２】
流出口２６０からは、第１の洗浄液２２２で洗浄された後の気体が流出する。流出口２６０から流出した気体は、大気中に放出されてもよいし、湿式脱臭装置等の他の装置によりさらに処理されてもよい。このように、流出口２６０から排出された後の気体は、流入口２１０から流入する前の脱臭対象の気体と比較して、脱臭対象の臭気成分が低減される。具体的には、脱臭対象の臭気がコンポストからの臭気である場合、湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂで洗浄処理されることにより、少なくともアンモニア濃度が低減される。
【００２３】
次に、湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂの内部構造について説明する。湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂの内部はいくつかの区画に分類されている。湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂは、流入区画２３１を有しており、この流入区画２３１に流入口２１０が設けられている。流入区画２３１とは、第１の洗浄液２２２による洗浄が行われる洗浄部２２０より上流側の部分、すなわち流入口２１０と洗浄部２２０との間の区画である。また、湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂは、流出区画２４１を有しており、この流出区画２４１に流出口２６０が設けられている。流出区画２４１とは、第１の洗浄液２２２による洗浄が行われる洗浄部２２０より下流側の部分、すなわち洗浄部２２０と流出口２６０との間の区画である。
【００２４】
洗浄液供給部２３０，２４０は、第１の洗浄液２２２とは異なる第２の洗浄液（洗浄液に相当する）を供給する。洗浄液供給部２３０，２４０は、洗浄部２２０での洗浄に用いられる第１の洗浄液２２２に混ざるように、第２の供給液を供給することができる。ここで、洗浄液供給部２３０，２４０は、流入口２１０と洗浄部２２０との間、又は洗浄部２２０と流出口２６０との間、の少なくとも一方において、脱臭対象の気体が第２の洗浄液で洗浄されるように、第２の洗浄液を供給することができる。例えば、洗浄液供給部２３０，２４０は、第２の洗浄液を、流入口２１０と洗浄部２２０との間にある空間（すなわち流入区画２３１）と、洗浄部２２０と流出口２６０との間にある空間（すなわち流出区画２４１）との少なくとも一方に噴霧することができる。
【００２５】
一例として、湿式脱臭装置２００Ａは、図２（Ａ）に示すように、第２の洗浄液を流入区画２３１に噴霧する第１の洗浄液供給部２３０と、第２の洗浄液を流出区画２４１に噴霧する第２の洗浄液供給部２４０と、を備えている。第１の洗浄液供給部２３０は、流入口２１０から洗浄部２２０へと向かう気体の流路上で、第２の洗浄液を噴霧する。また、第１の洗浄液供給部２３０は、洗浄部２２０から流出口２６０へと向かう気体の流路上で、第２の洗浄液を噴霧する。もっとも、図２（Ｂ）に示す湿式脱臭装置２００Ｂのように、第２の洗浄液供給部２４０が設けられ、第１の洗浄液供給部２３０は設けられない構成を採用することもできる。また、洗浄液供給部２３０，２４０が第２の洗浄液を噴霧することは必須ではない。例えば、脱臭対象の気体が、第２の洗浄液の内部を気泡として通過するような構成を採用することもできる。
【００２６】
脱臭対象の気体を洗浄した後の第２の洗浄液は、洗浄部２２０での洗浄に用いられる第１の洗浄液に混ざるように、洗浄液供給部２３０，２４０は設けられている。例えば、図２（Ａ）（Ｂ）に示されるように、湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂは、流入口２１０、洗浄部２２０、流出口２６０を有する単一の洗浄槽を有することができる。そして、洗浄部２２０における第１の洗浄液２２２の液面が、第２の洗浄液の供給位置（すなわち洗浄液供給部２３０，２４０の位置）よりも低くなるように、洗浄液供給部２３０，２４０を配置することができる。
【００２７】
洗浄液供給部２３０，２４０は、湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂに貯められている第１の洗浄液２２２を供給するのではなく、装置の外部から供給された第２の洗浄液を供給することができる。このような構成によれば、洗浄液供給部２３０，２４０は新鮮な洗浄液を供給することができ、新鮮な洗浄液を用いて脱臭対象の気体を洗浄することができるため、臭気をよりよく低減できる。ここで、新鮮な洗浄液とは、湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂにおける脱臭対象の気体の洗浄にまだ用いられていない洗浄液のことを指す。例えば、新鮮な洗浄液は、脱臭対象の気体に含まれる臭気成分が実質的に含有されていない洗浄液でありうる。また、新鮮な洗浄液は、洗浄液自身以外の成分が実質的に含有されていない洗浄水でありうる。もっとも、新鮮な洗浄液は、装置の外部から供給されこの装置においてまだ洗浄に用いられていないのであれば、別の湿式脱臭装置における気体の洗浄に用いられた後の洗浄液であってもよい。このような構成を、第１の洗浄液２２２を用いて脱臭対象の気体を洗浄する洗浄部２２０と組み合わせて用いることにより、臭気の除去能力が向上しうる。とりわけ、第２の洗浄液供給部２４０は、第１の洗浄液２２２を用いて洗浄した後の気体を、さらに新鮮な洗浄液で洗浄することにより、臭気をよりよく除去することを可能とする。以上のように、洗浄部２２０での洗浄に用いられる第１の洗浄液２２２に混ざるように、新鮮な第２の洗浄液を供給しているため、第１の洗浄液２２２における洗浄対象の成分をより低減することができる。また、後述する流出口２８０を有する構成であれば、第１の洗浄液２２２が適宜排出されるため、より新鮮な洗浄液で洗浄することが可能となる。
【００２８】
以下、第１の洗浄液２２２及び第２の洗浄液についてさらに説明する。第２の洗浄液は特に限定されない。例えば、第２の洗浄液は水であってもよい。また、第２の洗浄液は、アンモニア等の塩基性臭気成分の除去能力が向上するように、ｐＨ７未満の弱酸性又は酸性水溶液であってもよい。さらに、脱臭効率を向上させるために、第２の洗浄液は脱臭剤を含有する水溶液であってもよい。脱臭剤の種類は特に限定されず、例えば酸化剤、抗菌剤、又は微生物等でありうる。酸化剤の例としては、オゾン又は次亜塩素酸等が挙げられる。抗菌剤の例としては、キトサン又はカテキン等が挙げられる。
【００２９】
本実施形態において、第２の洗浄液としては、次亜塩素酸又は次亜塩素酸イオンを含有する水溶液が用いられる。この場合、第２の洗浄液のｐＨは特に限定されないが、活性が向上するように、第２の洗浄液のｐＨを７以下にすることができる。また、安定性の観点から、第２の洗浄液のｐＨを５以上にすることができる。ｐＨが５以上７以下の次亜塩素酸又は次亜塩素酸イオンを含有する水溶液は、次亜塩素酸水として知られている。消臭性能の観点から、第２の洗浄液における塩素濃度は１００ｐｐｍ以上とすることができ、又は１０００ｐｐｍ以上とすることができる。一方、経済性の観点から、第２の洗浄液における塩素濃度は、１０ｐｐｍ以上であってもよく、また、５００ｐｐｍ以下であってもよい。
【００３０】
第２の洗浄液は、次亜塩素酸と、炭酸水素イオンと、を含有している次亜塩素酸水であってもよい。このような次亜塩素酸水は、緩衝作用のためにｐＨが安定するため、その性質も安定している。このような次亜塩素酸水は、水中で次亜塩素酸ナトリウム及び炭酸ガスを混合及び希釈することにより得ることができる。もっとも、水の電解、又は次亜塩素酸ナトリウムと希塩酸との混合のような、他の方法により得られた次亜塩素酸水を、第２の洗浄液として用いることもできる。
【００３１】
第１の洗浄液２２２は、脱臭対象の気体の洗浄に用いられた後の第２の洗浄液が混合される。このため、一実施形態において、第１の洗浄液２２２の組成は、第２の洗浄液とは異なっている。例えば、第１の洗浄液２２２の臭気成分濃度は、第２の洗浄液よりも高くなりうる。また一例として、洗浄液に次亜塩素酸水を用いる場合には、第１の洗浄液２２２と第２の洗浄液とはｐＨの値が異なる。つまり、洗浄に用いられた第１の洗浄液２２２よりも、新鮮な洗浄液である第２の洗浄液は、より次亜塩素散水の理想的なｐＨの範囲に近い。そのため、第２の洗浄液は、脱臭対象の成分により、次亜塩素散水のｐＨの値が酸性側若しくはアルカリ性側に近くなる。また、第２の洗浄液の脱臭剤濃度（例えば塩素濃度）を、第１の洗浄液よりも高くすることができる。
【００３２】
第１の洗浄液２２２の液性は、洗浄液を追加する方法、又は後述する気泡を供給する方法等を用いて調整することができる。一実施形態において、第１の洗浄液としては、次亜塩素酸又は次亜塩素酸イオンを含有する水溶液が用いられる。この場合、第１の洗浄液のｐＨは特に限定されないが、活性が向上するように、第１の洗浄液のｐＨを７以下にすることができる。また、安定性の観点から、第１の洗浄液のｐＨを５以上にすることができる。消臭性能の観点から、第１の洗浄液における塩素濃度は１００ｐｐｍ以上とすることができ、又は１０００ｐｐｍ以上とすることができる。一方、経済性の観点から、第１の洗浄液における塩素濃度は、１０ｐｐｍ以上で、且つ、５００ｐｐｍ以下であってもよい。
【００３３】
気泡供給部２５０は、第１の洗浄液２２２に、洗浄対象の気体（脱臭対象の気体、あるいは第１の気体）とは異なる第２の気体の泡を混入させる。気泡供給部２５０は、湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂの外部から供給された気体の泡を、第２の気体の泡として混入させることができる。気泡供給部２５０の働きにより、洗浄部２２０における第１の洗浄液２２２と脱臭対象の気体との接触面積が増加するため、洗浄効率が向上する。一実施形態において、気泡供給部２５０は、洗浄効率をより向上させるため、第１の洗浄液２２２にナノバブルを供給する。ナノバブルとは、平均気泡径１μｍ未満の気泡のことを指す。ナノバブルを用いることにより、第１の洗浄液２２２を活性化することもできる。また、ナノバブルを用いることにより、第１の洗浄液２２２中における汚泥の発生を抑制することもできる。なお、気泡供給部２５０の機能は、第１の洗浄液２２２と脱臭対象の気体との接触面積を増加させる機能を備えていれば、ナノバブルを供給する機能に限定されるものではない。一実施形態として、気泡供給部２５０は、第１の洗浄液２２２にマイクロバブルあるいはミリバブルを供給してもよいし、これらが混合された気泡を供給してもよい。
【００３４】
気泡供給部２５０が供給する気体の種類は、特に制限されない。例えば、気泡供給部２５０は、空気を供給してもよい。一方で、気泡供給部２５０は、第１の洗浄液２２２の液性を調整する作用を有する気体を、第１の洗浄液２２２に混入させることができる。このような気体の例としては、二酸化炭素のような酸性ガスが挙げられる。第１の洗浄液２２２の液性を調整することにより、臭気成分の除去効率を向上させることができる。例えば、第１の洗浄液２２２は、塩基性成分を吸収するとｐＨが上昇するが、酸性ガスを用いて第１の洗浄液２２２のｐＨを低下させることにより、塩基性成分の除去効率を向上させることができる。また、特に第１の洗浄液２２２又は第２の洗浄液として次亜塩素酸水を用いる場合、酸性ガスを用いて第１の洗浄液２２２のｐＨを低下させることにより、脱臭活性を向上させることができる。また、気泡供給部２５０は、脱臭作用を有する気体を、第１の洗浄液２２２に混入させることができる。このような気体の例としては、オゾン等が挙げられる。つまり、脱臭対象の気体がアンモニアを含有し、第１の洗浄液２２２に次亜塩素酸水を用いる場合には、気泡に酸性ガスを用いることが好適である。このような構成の場合、脱臭処理後の第１の洗浄液２２２のｐＨを抑制しつつ、気液接触を増加させることが可能となる。
【００３５】
気泡供給部２５０の具体的な構成については、特に限定されない。図２（Ａ）（Ｂ）には、気泡供給部２５０の具体的な構成の一例が示されている。これらの例において、気泡供給部２５０は、流入口２５３及び流出口２５４を備える循環路２５１と、循環路２５１の中にある第１の洗浄液２２２に泡を混入させる放出部２５２と、を備えている。循環路２５１には、循環路２５１と洗浄部２２０との接続部である流入口２５３を介して、洗浄部２２０から、洗浄部２２０に貯められている第１の洗浄液２２２が流入する。また、循環路２５１からは、循環路２５１と洗浄部２２０との接続部である流出口２５４を介して、流入した第１の洗浄液が再び洗浄部２２０へと供給される。このような構成によれば、第１の洗浄液２２２を攪拌することができる。
【００３６】
湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂは、さらなる構成を有していてもよい。例えば、湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂは、第１の洗浄液２２２を投入するための投入部２７０を有していてもよい。また、湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂは、第１の洗浄液２２２が流出する流出口２５４を有していてもよい。一実施形態においては、第１の洗浄液２２２の量は流出口２８０により制限される。すなわち、第２の洗浄液が混合されても、第１の洗浄液２２２はオーバーフローとして流出口２８０から流出するため、第１の洗浄液２２２の量が一定量に保たれる。さらに、湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂは、底部に排出口２９０を有していてもよい。排出口２９０を介して、湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂに蓄積した汚泥を排出することができる。さらに、図２（Ｂ）に示すように、気液接触効率を向上させるために、第２の洗浄液が噴霧され、脱臭対象の気体が通過する箇所に、充填剤２９５を設けてもよい。
【００３７】
湿式脱臭装置２００Ａ，Ｂは、洗浄部にセンサ２０２を備えている。脱臭装置内にセンサを備えることにより、次亜塩素酸水の残留塩素濃度及びｐＨを管理・制御することができる。
【００３８】
以上で、図２に示す脱臭装置の概略構成図に関する説明を終了する。
【００３９】
以下、図３を用いて、図１に示した情報処理装置１００のハードウェア構成に関して説明する。
【００４０】
図３に示すように、情報処理装置１００は、システムバス３０４を介してＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）３０１、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）３０２、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）３０３、入力コントローラ３０５、ビデオコントローラ３０６、メモリコントローラ３０７、通信Ｉ／Ｆコントローラ３０８等が接続された構成を採る。
【００４１】
ＣＰＵ３０１は、システムバス３０４に接続される各デバイスやコントローラを統括的に制御する。
【００４２】
また、ＲＯＭ３０３あるいは外部メモリ３１１（記憶手段に相当する）には、ＣＰＵ３０１の制御プログラムであるＢＩＯＳ（Ｂａｓｉｃ  Ｉｎｐｕｔ／Ｏｕｔｐｕｔ  Ｓｙｓｔｅｍ）やＯＳ（Ｏｐｅｒａｔｉｎｇ  Ｓｙｓｔｅｍ）や、各サーバあるいは各ＰＣが実行する機能を実現するために必要な後述する各種プログラム等が記憶されている。また、本発明を実施するために必要な情報が記憶されている。なお外部メモリはデータベースであってもよい。
【００４３】
ＲＡＭ３０２（記憶手段に相当する）は、ＣＰＵ３０１の主メモリ、ワークエリア等として機能する。ＣＰＵ３０１は、処理の実行に際して必要なプログラム等をＲＯＭ３０３あるいは外部メモリ３１１からＲＡＭ３０２にロードし、ロードしたプログラムを実行することで各種動作を実現する。
【００４４】
また、入力コントローラ３０５は、キーボード（ＫＢ）３０９や不図示のマウス等のポインティングデバイス等からの入力を制御する。
【００４５】
ビデオコントローラ３０６は、ディスプレイ３１０等の表示器への表示を制御する。尚、表示器は液晶ディスプレイ等の表示器でもよい。これらは、必要に応じて管理者が使用する。
【００４６】
メモリコントローラ３０７は、ブートプログラム、各種のアプリケーション、フォントデータ、ユーザファイル、編集ファイル、各種データ等を記憶する外部記憶装置（ハードディスク（ＨＤ））や、フレキシブルディスク（ＦＤ）、あるいは、ＰＣＭＣＩＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｃｏｍｐｕｔｅｒ  Ｍｅｍｏｒｙ  Ｃａｒｄ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ）カードスロットにアダプタを介して接続されるコンパクトフラッシュ（登録商標）メモリ等の外部メモリ３１１（記憶手段に相当する）へのアクセスを制御する。
【００４７】
通信Ｉ／Ｆコントローラ３０８は、ネットワークを介して外部機器と接続・通信し、ネットワークでの通信制御処理を実行する。例えば、ＴＣＰ／ＩＰ（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  Ｐｒｏｔｏｃｏｌ／Ｉｎｔｅｒｎｅｔ  Ｐｒｏｔｏｃｏｌ）を用いた通信等が可能である。本実施形態では、ネットワークを介して、生成装置１１０や湿式脱臭装置２００と通信可能に接続されているが、有線ケーブルなどで接続されるようにしても構わない。
【００４８】
尚、ＣＰＵ３０１は、例えばＲＡＭ３０２内の表示情報用領域へアウトラインフォントの展開（ラスタライズ）処理を実行することにより、ディスプレイ３１０上に表示することが可能である。また、ＣＰＵ３０１は、ディスプレイ３１０上のマウスカーソル（図示しない）等によるユーザ指示を可能とする。
【００４９】
本発明を実現するための後述する各種プログラムは、外部メモリ３１１に記録されており、必要に応じてＲＡＭ３０２にロードされることによりＣＰＵ３０１によって実行されるものである。
【００５０】
以上で、図３に示す情報処理装置１００のハードウェア構成に関する説明を終了する。上記の構成は一例であって、目的や用途に応じて適宜変更されうる。
【００５１】
以下、図４を用いて、図１に示した情報処理装置１００のモジュール構成の一例を示すブロック図に関して説明する。
【００５２】
情報処理装置１００は、物理量取得部４０１、判断部４０２、パラメータ変更部４０３、指示部４０４、残留塩素濃度取得部４０５、ｐＨ取得部４０６、範囲設定部４０７を備える。
【００５３】
物理量取得部４０１は、容器に含まれる洗浄液の物理量を取得するよう制御する機能部である。
【００５４】
判断部４０２は、物理量取得部４０１で取得した物理量が、所定の範囲内であるか否かを判断するよう制御する機能部である。
【００５５】
パラメータ変更部４０３は、判断部４０２における判断に基づいて、パラメータの値の設定を変更するよう制御する機能部である。
【００５６】
指示部４０４は、判断部４０２における判断に基づいて、脱臭装置の稼働の停止を指示するよう制御する制御部である。
【００５７】
残留塩素濃度取得部４０５は、容器内の残留塩素濃度を取得するよう制御する機能部である。
【００５８】
ｐＨ取得部４０６は、容器内のｐＨを取得するよう制御する機能部である。
【００５９】
範囲設定部４０７は、生成装置または洗浄装置の稼働を許可する範囲を設定するよう制御する機能部である。
【００６０】
以上で、図４に示す情報処理装置１００のモジュール構成に関する説明を終了する。
【００６１】
本実施形態に係る脱臭方法について、図５のフローチャートを参照して説明する。この脱臭方法は、例えば、上述した実施形態に係る湿式脱臭装置を用いて実現可能であるが、他の湿式脱臭装置を用いることも可能である。
【００６２】
ステップＳ５０１において、脱臭対象の気体が、第１の洗浄液による洗浄を行う洗浄部へと導かれる。例えば、脱臭対象の気体を、流入口２１０から洗浄部２２０に導入することができる。ステップＳ５０２において、第１の洗浄液に、脱臭対象の気体とは異なる気体の泡が混合される。例えば、気泡供給部２５０は、第１の洗浄液２２２に泡を混合することができる。ステップＳ５０３において、第１の洗浄液２２２で洗浄された後の気体が、洗浄部の外へ導かれる。例えば、洗浄部２２０において洗浄された気体を、流出口２６０へと導出することができる。
【００６３】
以上で、図５に示す脱臭方法のフローチャートに関する説明を終了する。
【００６４】
以降、脱臭システムの制御処理に関して説明する。
【００６５】
本実施例では、以上で示したような湿式脱臭装置、脱臭システム、及び脱臭方法において、適切な物理量である洗浄液を湿式脱臭装置に供給するために、貯留容器または洗浄部に備わるセンサより取得した物理量を用いて、洗浄液の濃度制御または流量制御を行っている。なお、本実施例では、洗浄液を次亜塩素酸水、洗浄液の原料の１つを次亜塩素酸ナトリウムとしているが、もちろん一例に過ぎない。また、湿式脱臭装置の仕組みも、一例に過ぎない。
【００６６】
本実施例のような、炭酸ガス混合法を用いて次亜塩素酸水を生成する手法を用いると、微酸性域でｐＨが安定することが知られているが、万が一、他の成分が装置内に混入し、微酸性域を脱して更に酸の度合いが高まった際には、塩素ガスを発生する恐れがある。本脱臭システムでは、当該脱臭システムにおいて使用する次亜塩素酸水の濃度を管理し、次亜塩素酸水の濃度を制御するため、また、次亜塩素酸水のｐＨを管理し安全性を保つため、貯留容器や脱臭装置に残留塩素濃度センサやｐＨセンサなどの、物理量を測定するセンサ１２３，２０２を備える。
＜第１の実施形態＞
以下、図６を用いて、本発明の第１の実施形態における、残留塩素濃度センサを用いた次亜塩素酸水の濃度制御処理に関して説明する。
【００６７】
第１の実施形態では、貯留容器、及び、脱臭装置の洗浄部に残留塩素濃度センサを備える。残留塩素濃度センサの値を基に、洗浄部に供給する次亜塩素酸水の残留塩素濃度の設定を変更することにより、次亜塩素酸水の濃度制御を行う。次亜塩素酸水の残留塩素濃度を測定することにより、直接的に次亜塩素酸水の残留塩素濃度制御を行い、適切な濃度による脱臭処理を行うことが可能となる。
【００６８】
ステップＳ６０１では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、貯留容器内のセンサ１２３から、次亜塩素酸水の残留塩素濃度センサ測定値を取得する。
【００６９】
ステップＳ６０２では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、図９で示す基準範囲・基準範囲・設定値（１）テーブル９００、図１２で示すモードテーブル１２００を読み込む。
【００７０】
基準範囲・設定値（１）テーブル９００は、項目９０１、基準範囲９０２、設定値９０３で構成されている。基準範囲９０２は、本実施例の脱臭システムの処理を行うのに適しているとする、それぞれの項目９０１に対応する値の範囲である。設定値９０３は、それぞれの項目に対応する値の設定値である。装置の特有の誤差や、次亜塩素酸水の残留塩素濃度の分解などにより、設定値と測定値は異なることがあるため、設定値は基準範囲内に含まれなくてもよい。
【００７１】
モードテーブル１２００は、モード１２０１、処理内容１２０２、設定ＯＮ／ＯＦＦ１２０３で構成されている。モード１２０１に対応する処理内容１２０２の各処理は、設定ＯＮ／ＯＦＦ１２０３にＯＮが格納されているとき、行うことが可能である。
【００７２】
ステップＳ６０３では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、ステップＳ６０１で取得した貯留容器内の残留塩素濃度センサ測定値と、ステップＳ６０２で読み込んだ基準範囲・設定値（１）テーブル９００を参照し、貯留容器内の残留塩素濃度センサ測定値が基準範囲９０２内であるか否かを判断する。貯留容器内の残留塩素濃度センサ測定値が基準範囲９０２内ではない場合には、ステップＳ６０４へ進み、基準範囲９０２内である場合には、ステップＳ６０９に進む。
【００７３】
ステップＳ６０４では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、貯留容器内の次亜塩素酸水の残留塩素濃度を再設定する。このとき、残留塩素濃度センサ測定値と、元々の設定値との差分を考慮して、再設定を行う。例えば、残留塩素濃度センサ測定値が３５０ｐｐｍ、元々の設定値が４００ｐｐｍであったときに、残留塩素濃度５０ｐｐｍ分の差分を考慮して、次亜塩素酸水の残留塩素濃度の設定値を４３０ｐｐｍに再設定するなどである。
【００７４】
ステップＳ６０５では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、ステップＳ６０４で再設定した、貯留容器内の次亜塩素酸水の残留塩素濃度を、基準範囲・設定値（１）テーブル９００に反映する。
【００７５】
ステップＳ６０６では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、再設定した設定値を生成装置１１０へ送信する。この処理を行うことによって、貯留容器内の次亜塩素酸水の残留塩素濃度の調整を行い、測定値を基準範囲内に収めることができる。測定値を基準範囲内に収めることで、洗浄システム全体における、次亜塩素酸水による洗浄能力を均一化させることができる。
【００７６】
ステップＳ６０７では、生成装置１１０が、再設定した設定値を受信する。
【００７７】
ステップＳ６０８では、生成装置１１０が、受信した設定値を基に次亜塩素酸水を生成する。
【００７８】
ステップＳ６０９では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、洗浄部測定モードがＯＮであるか否かを判断する。洗浄部測定モードとは、モードテーブル１２００に記載する、洗浄部においてセンサを用いた測定を行うモード１２０１のことである。洗浄部測定モードがＯＮである場合には、ステップＳ６１０に進み、洗浄部測定モードがＯＦＦである場合には、ステップＳ６０１に戻す。ステップＳ６０１に戻すのは、所定の時間ごとであってもよいし、所定の時間をおかなくてもよい。
【００７９】
ステップＳ６１０では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、洗浄部内のセンサ２０２から、次亜塩素酸水の残留塩素濃度センサ測定値を取得する。
【００８０】
ステップＳ６１１では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、ステップＳ６１０で取得した洗浄部内の残留塩素濃度センサ測定値が基準範囲９０２内であるか否かを判断する。貯留容器内の残留塩素濃度センサ測定値が基準範囲９０２内ではない場合には、ステップＳ６１２へ進み、基準範囲９０２内である場合には、ステップＳ６０１に戻す。ステップＳ６０１に戻すのは、所定の時間ごとであってもよいし、所定の時間をおかなくてもよい。
【００８１】
ステップＳ６１２では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、洗浄部優先モードがＯＮであるか否かを判断する。洗浄部優先モードとは、モードテーブル１２００に記載する、貯留容器のセンサ測定値よりも、洗浄部のセンサ測定値を優先して、処理を行うモード１２０１のことである。洗浄部優先モードがＯＮである場合には、ステップＳ６１３に進み、洗浄部優先モードがＯＦＦである場合には、ステップＳ６１６に進む。
【００８２】
ステップＳ６１３では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、貯留容器内の次亜塩素酸水の残留塩素濃度を再設定する。
【００８３】
ステップＳ６１４では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、ステップＳ６１３で再設定した、貯留容器内の次亜塩素酸水の残留塩素濃度を、基準範囲・設定値（１）テーブル９００に反映する。
【００８４】
ステップＳ６１５では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、再設定した設定値を生成装置１１０へ送信し、ステップＳ６１０に戻す。この処理を行うことによって、次亜塩素酸水の残留塩素濃度の調整を直接的に行うことが可能となる。
【００８５】
ステップＳ６１６では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、タイマーモードがＯＮであるか否かを判断する。タイマーモードとは、所定の自動測定間隔に基づいて、処理を行うモードである。タイマーモードがＯＮである場合には、所定の時間ごとにステップＳ６０１に戻す。タイマーモードがＯＦＦである場合には、処理を終了する。
【００８６】
以上が、本発明の第１の実施形態に関する説明である。
＜第２の実施形態＞
以下、図７を用いて、本発明の第２の実施形態における、残留塩素濃度センサを用いた次亜塩素酸水の流量制御処理に関して説明する。
【００８７】
第２の実施形態では、貯留容器、及び、脱臭装置の洗浄部に残留塩素濃度センサを備える。残留塩素濃度センサの値を基に、洗浄部に供給する次亜塩素酸水の流量の設定を変更することにより、次亜塩素酸水の流量制御を行う。次亜塩素酸水の濃度を変更するよりも、洗浄部の次亜塩素酸水の残留塩素濃度を簡単に操作することが可能となる。ここでいう流量とは、貯留容器から脱臭装置へ流れ込む次亜塩素酸水の流量を指し、生成装置から貯留容器へ流れ込む流量とほぼ同じである。
【００８８】
以下、第２の実施形態について、上述した第１の実施形態と、システム構成、ハードウェア構成、モジュール構成が同じ部分については説明を省略し、当該第１の実施形態と処理が異なる部分について説明する。
【００８９】
ステップＳ６０１及びＳ６０２の処理の内容は第１の実施形態と同様なため、説明は省略する。
【００９０】
ステップＳ６０３では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、ステップＳ６０１で取得した貯留容器内の残留塩素濃度センサ測定値が基準範囲９０２内であるか否かを判断する。貯留容器内の残留塩素濃度センサ測定値が基準範囲９０２内である場合には、ステップＳ７０１へ進み、基準範囲９０２内ではない場合には、ステップＳ６０９に進む。
【００９１】
ステップＳ７０１では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、次亜塩素酸水の流量を再設定する。このとき、残留塩素濃度センサ測定値と、元々の設定値との差分を考慮して、再設定を行う。例えば、残留塩素濃度センサ測定値が３５０ｐｐｍ、残留塩素濃度の設定値が４００ｐｐｍ、次亜塩素酸水の流量の元の設定値が４０Ｌ／ｍｉｎであったときに、残留塩素濃度５０ｐｐｍ分の差分を考慮して、次亜塩素酸水の流量の設定値を５０Ｌ／ｍｉｎに再設定するなどである。
【００９２】
ステップＳ７０２では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、ステップＳ７０１で再設定した次亜塩素酸水の流量を、基準範囲・設定値（１）テーブル９００に反映する。
【００９３】
ステップＳ６０６〜Ｓ６１１の処理の内容は第１の実施形態と同様なため、説明は省略する。
【００９４】
ステップＳ６１２では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、洗浄部優先モードがＯＮであるか否かを判断する。洗浄部優先モードがＯＮである場合には、ステップＳ７０１に進み、洗浄部優先モードがＯＦＦである場合には、ステップＳ６１６に進む。
【００９５】
ステップＳ７０３では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、次亜塩素酸水の流量を再設定する。脱臭容器内での脱臭に伴い、貯留容器内と脱臭装置内とでは、通常、脱臭装置内の方が次亜塩素酸水の残留塩素濃度が低くなる。次亜塩素酸水の流量を大きくすることによって、脱臭装置内の次亜塩素酸水の残留塩素濃度を高くすることができる。次亜塩素酸水の流量を大きくすることによって、脱臭装置内の次亜塩素酸水の入れ替わりが盛んになるため、流量を大きくする前と比較すると、次亜塩素酸水の残留塩素濃度を高くすることが可能となる。
【００９６】
ステップＳ７０４では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、ステップＳ７０３で再設定した次亜塩素酸水の流量を、基準範囲・設定値（１）テーブル９００に反映する。
【００９７】
ステップＳ６１５及びＳ６１６の処理の内容は第１の実施形態と同様なため、説明は省略する。
【００９８】
以上が、本発明の第２の実施形態に関する説明である。以上のように、第１の実施形態、第２の実施形態では、次亜塩素酸水の残留塩素濃度や流量を変更（パラメータ変更に相当する）し、制御する。
＜第３の実施形態＞
以下、図８を用いて、本発明の第３の実施形態における、ｐＨセンサを用いた次亜塩素酸水のｐＨ測定処理に関して説明する。第１の実施形態及び第２の実施形態では、残留塩素濃度センサを用いていたが、第３の実施形態においてはｐＨセンサを用いる。
【００９９】
第３の実施形態では、貯留容器、及び、脱臭装置の洗浄部にｐＨセンサを備える。本実施例で挙げたような炭酸ガス混合法で次亜塩素酸水を生成する場合には、ｐＨが塩素ガス発生域まで下がることは滅多にないが、安全を確保するために、ｐＨセンサを備えることにより、ｐＨが下がりすぎたために塩素ガスが発生するなどの、非常事態に備える。第３の実施形態では、ｐＨセンサを用いて次亜塩素酸水のｐＨを測定し、必要に応じて、脱臭システムに含まれる生成装置や脱臭装置の稼働を停止する。
【０１００】
ステップＳ８０１では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、貯留容器内のセンサ１２３から、次亜塩素酸水のｐＨセンサ測定値を取得する。
【０１０１】
ステップＳ８０２では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、図９で示す基準範囲・設定値（１）テーブル９００、図１２で示すモードテーブル１２００を読み込む。
【０１０２】
ステップＳ８０３では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、ステップＳ６０１で取得した貯留容器内のｐＨセンサ測定値が基準範囲（許容の範囲に相当する）９０２内であるか否かを判断する。貯留容器内のｐＨセンサ測定値が基準範囲９０２内である場合には、ステップＳ８０７へ進み、基準範囲９０２内ではない場合には、ステップＳ８０４に進む。
【０１０３】
ステップＳ８０４では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、洗浄部測定モードがＯＮであるか否かを判断する。洗浄部測定モードがＯＮである場合には、ステップＳ８０５に進み、洗浄部測定モードがＯＦＦである場合には、ステップＳ８０１に進む。ステップＳ６０１に戻すのは、所定の時間ごとであってもよいし、所定の時間をおかなくてもよい。
【０１０４】
ステップＳ８０５では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、洗浄部内のセンサ２０２から、次亜塩素酸水のｐＨセンサ測定値を取得する。
【０１０５】
ステップＳ８０６では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、ステップＳ８０５で取得した洗浄部内のｐＨセンサ測定値と、ステップＳ８０２で読み込んだ基準範囲・設定値（１）テーブル９００とをもとに、洗浄部内のｐＨセンサ測定値が基準範囲９０２内であるか否かを判断する。貯留容器内の残留塩素濃度センサ測定値が基準範囲９０２内である場合には、ステップＳ８０７へ進み、基準範囲９０２内ではない場合には、ステップＳ６０１に戻す。ステップＳ６０１に戻すのは、所定の時間ごとであってもよいし、所定の時間をおかなくてもよい。
【０１０６】
ステップＳ８０７では、情報処理装置１００のＣＰＵ３０１が、生成装置及び脱臭装置に稼働停止を指示し、処理を終了する。生成装置及び脱臭装置に稼働停止を指示することにより、塩素ガスの発生を抑制することができる。
【０１０７】
なお、ステップＳ８０６において、ｐＨセンサ測定値が基準範囲よりも大きな値の場合には、生成装置及び脱臭装置に稼働停止を指示せずに、炭酸ガスの流量を変更するなどして、ｐＨを下げる操作を行ってもよい。ｐＨセンサ測定値が基準範囲よりも大きな値の場合には、塩素ガスが発生する危険性が低いためであり、洗浄システムを止めずに稼働させることでより効率的に洗浄することができるという効果がある。
【０１０８】
以上が、本発明の第３の実施形態に関する説明である。
【０１０９】
以上で、３つの実施形態を説明したが、次亜塩素酸水の物理量を測定するために用いるセンサは、残留塩素濃度センサやｐＨセンサに限らない。また、貯留容器に残留塩素濃度センサを備え、洗浄部にｐＨセンサを備えるなど、複数の実施形態を組み合わせてもよい。センサは、貯留容器と洗浄部との両方に必ずしも備える必要はなく、片方にのみ備えていてもよい。また、貯留容器や洗浄部のそれぞれに、複数種類のセンサを備えていてもよい。
【０１１０】
本実施例では、図９に示すように洗浄対象を堆肥製造装置からの排気として、基準範囲や設定値を定めているが、他の例として、図１０や図１１に示す。図１０に示す基準範囲・設定値（２）テーブル１０００では、洗浄対象を居室の空気としている。図１１に示す基準範囲・設定値（３）テーブル１１００では洗浄対象をカット野菜としている。基準範囲・設定値（２）テーブル１０００及び基準範囲・設定値（３）テーブル１１００は、基準範囲・設定値（１）テーブル９００と同様に、項目９０１、基準範囲９０２、設定値９０３で構成されている。洗浄対象は、図１０、図１１に示す以外にも複数挙げられる。
【０１１１】
基準範囲・設定値（１）テーブル９００、基準範囲・設定値（２）テーブル１０００、基準範囲・設定値（３）テーブル１１００、モードテーブル１２００などに含まれる情報は情報処理装置１００内で書き換えが可能であり、例えば、洗浄対象とする気体を指定するだけで、気体に対応する、センサの種類や、設定値の変更、基準範囲の変更が可能となっている。
【０１１２】
用いるセンサは、本実施例においては残留塩素濃度センサ、ｐＨセンサなどを想定しているが、洗浄液の物理量を測定するセンサであれば、これらに限定しない。
【０１１３】
本実施例では、洗浄液を次亜塩素酸水、次亜塩素酸水の生成方法を炭酸ガス混合法としているが、他の洗浄液、他の生成方法でもよい。また、システム内に、次亜塩素酸水に関する物理量を測定するための他のセンサを導入し、他のセンサに関するテーブルを作成し、それを読み込むのでもよい。
【０１１４】
以上で、脱臭システムの制御処理に関する説明を終了する。
【０１１５】
上記により、本発明によれば、洗浄液の物理量の制御を適切に行う仕組みを提供することができる。
【０１１６】
本発明は、例えば、システム、装置、方法、プログラム若しくは記憶媒体等としての実施形態も可能であり、具体的には、複数の機器から構成されるシステムに適用してもよいし、また、１つの機器からなる装置に適用してもよい。なお、本発明は、前述した実施形態の機能を実現するソフトウェアのプログラムを、システム或いは装置に直接、或いは遠隔から供給するものを含む。そして、そのシステム或いは装置の情報処理装置が前記供給されたプログラムコードを読み出して実行することによっても達成される場合も本発明に含まれる。
【０１１７】
したがって、本発明の機能処理を情報処理装置で実現するために、前記情報処理装置にインストールされるプログラムコード自体も本発明を実現するものである。つまり、本発明は、本発明の機能処理を実現するためのコンピュータプログラム自体も含まれる。
【０１１８】
その場合、プログラムの機能を有していれば、オブジェクトコード、インタプリタにより実行されるプログラム、ＯＳに供給するスクリプトデータ等の形態であってもよい。
【０１１９】
プログラムを供給するための記録媒体としては、例えば、フレキシブルディスク、ハードディスク、光ディスク、光磁気ディスク、ＭＯ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷなどがある。また、磁気テープ、不揮発性のメモリカード、ＲＯＭ、ＤＶＤ（ＤＶＤ−ＲＯＭ，ＤＶＤ−Ｒ）などもある。
【０１２０】
その他、プログラムの供給方法としては、クライアントコンピュータのブラウザを用いてインターネットのホームページに接続する。そして、前記ホームページから本発明のコンピュータプログラムそのもの、若しくは圧縮され自動インストール機能を含むファイルをハードディスク等の記録媒体にダウンロードすることによっても供給できる。
【０１２１】
また、本発明のプログラムを構成するプログラムコードを複数のファイルに分割し、それぞれのファイルを異なるホームページからダウンロードすることによっても実現可能である。つまり、本発明の機能処理を情報処理装置で実現するためのプログラムファイルを複数のユーザに対してダウンロードさせるＷＷＷサーバも、本発明に含まれるものである。
【０１２２】
また、本発明のプログラムを暗号化してＣＤ−ＲＯＭ等の記憶媒体に格納してユーザに配布し、所定の条件をクリアしたユーザに対し、インターネットを介してホームページから暗号化を解く鍵情報をダウンロードさせる。そして、ダウンロードした鍵情報を使用することにより暗号化されたプログラムを実行して情報処理装置にインストールさせて実現することも可能である。
【０１２３】
また、情報処理装置が、読み出したプログラムを実行することによって、前述した実施形態の機能が実現される。その他、そのプログラムの指示に基づき、情報処理装置上で稼動しているＯＳなどが、実際の処理の一部又は全部を行い、その処理によっても前述した実施形態の機能が実現され得る。
【０１２４】
さらに、記録媒体から読み出されたプログラムが、情報処理装置に挿入された機能拡張ボードや情報処理装置に接続された機能拡張ユニットに備わるメモリに書き込まれる。その後、そのプログラムの指示に基づき、その機能拡張ボードや機能拡張ユニットに備わるＣＰＵなどが実際の処理の一部又は全部を行い、その処理によっても前述した実施形態の機能が実現される。
【０１２５】
なお、前述した実施形態は、本発明を実施するにあたっての具体化の例を示したものに過ぎず、これらによって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されてはならないものである。即ち、本発明はその技術思想、又はその主要な特徴から逸脱することなく、様々な形で実施することができる。
【符号の説明】
【０１２６】
１００  情報処理装置
３０１  ＣＰＵ
３０２  ＲＡＭ
３０３  ＲＯＭ
３０４  システムバス
３０５  入力コントローラ
３０６  ビデオコントローラ
３０７  メモリコントローラ
３０８  通信Ｉ／Ｆコントローラ
３０９  キーボード
３１０  ディスプレイ
３１１  外部メモリ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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