(57)【要約】【課題】高解像度かつインクの使用効率に優れる印刷プロセスを実現可能であり、さらにインク残りを抑えることが可能な印刷用凹版、及びその製造方法を提供する。【解決手段】印刷用凹版は、基材上に、ゴム層と、ゴム層上に設けられた凸パターン部及び凸パターン部間に形成された凹パターン部とを備え、凸パターン部は、撥液性を有する第一のフォトレジストからなる凸部と、凸部の上面および側面を覆うように形成され、撥液性を有する第二のフォトレジストからなる被覆部とにより構成され、ゴム層は、架橋シリコーンゴムからなることを特徴とする。【選択図】図１
2019015850.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に、ゴム層と、ゴム層上に設けられた凸パターン部及び前記凸パターン部間に形成された凹パターン部とを備え、
前記凸パターン部は、撥液性を有する第一のフォトレジストからなる凸部と、前記凸部の上面および側面を覆うように形成され、撥液性を有する第二のフォトレジストからなる被覆部とにより構成され、
前記ゴム層は、架橋シリコーンゴムからなることを特徴とする印刷用凹版。
【請求項２】
前記凸部と前記被覆部とが同一の材料からなることを特徴とする請求項１に記載の印刷用凹版。
【請求項３】
前記被覆部の膜厚は前記凸部の膜厚より薄いことを特徴とする請求項１または２に記載の印刷用凹版。
【請求項４】
前記凸部の膜厚は０．３μｍ以上であって前記被覆部の膜厚は０．２μｍ以上であり、かつ、前記凸部と前記被覆部の合計膜厚は１０μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の印刷用凹版。
【請求項５】
前記被覆部における、前記印刷用凹版に供給される印刷用インクの溶媒に対する後退接触角が５０°以上であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の印刷用凹版。
【請求項６】
前記ゴム層の表面に、酸素プラズマ処理が施されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の印刷用凹版。
【請求項７】
前記架橋シリコーンゴムは、架橋ポリジメチルシロキサンであることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の印刷用凹版。
【請求項８】
前記基材上に架橋シリコーンゴムからなるゴム層を形成する第一の製膜工程と、
前記ゴム層の上に、撥液添加剤を添加した第一のフォトレジストからなる第一のレジスト層を形成する第二の製膜工程と、
前記第一のレジスト層に所定のパターンを露光する第一の露光工程と、
前記第一のレジスト層から、未硬化状態の前記第一のフォトレジストを除去して凸部を形成する第一の現像工程と、
前記凸部が形成された前記ゴム層の上に、撥液添加剤を添加した第二のフォトレジストからなる第二のレジスト層を形成する第三の製膜工程と、
前記第二のレジスト層に、前記凸部の上面および側面を覆う被覆部を形成するためのパターンを露光する第二の露光工程と、
前記第二のレジスト層から、未硬化状態の前記第二のフォトレジストを除去して、前記被覆部と前記凸部とにより構成される前記凸パターン部と、前記凸パターン部間に形成された凹パターン部とを形成する第二の現像工程とを含むことを特徴とする印刷用凹版の製造方法。
【請求項９】
前記第一の製膜工程と前記第二の製膜工程の間に、前記ゴム層に酸素プラズマ処理を施す表面処理工程を含むことを特徴とする請求項８に記載の印刷用凹版の製造方法。
【請求項１０】
前記第一のフォトレジストと前記第二のフォトレジストとが同一材料であることを特徴とする請求項８または９に記載の印刷用凹版の製造方法。
【請求項１１】
前記架橋シリコーンゴムは、架橋ポリジメチルシロキサンであることを特徴とする請求項８乃至１０のいずれか１項に記載の印刷用凹版の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、印刷用凹版、及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機デバイス用の印刷法においては、高解像度での印刷プロセスが求められている。該印刷法としては、サブμｍオーダーでの大面積パターニングが可能なマイクロコンタクトプリント（μＣＰ）法が知られている（非特許文献１）。また特許文献１には、支持体上に、少なくとも、インキ受容層、シリコーンゴム層をこの順に積層してなる直描型水なし平版印刷版原版であって、該インキ受容層に対する水の接触角が８５°以下であり、水または水に界面活性剤を添加した水溶液で現像することを特徴とする直描型水なし平版印刷版原版が記載されている。
【０００３】
しかしながら、特許文献１に開示されている技術では、有機デバイス用の印刷法で用いられる凹部へのインクの埋め込みによる凹版印刷において、高解像度かつインクの使用効率に優れる印刷プロセスを達成することが困難であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−３２２２２７号公報
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】「応用物理」、応用物理学会、２００８年、第７７巻、第２号、１７３〜１７７頁
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、高解像度かつインクの使用効率に優れる印刷プロセスを実現可能であり、さらにインク残りを抑えることが可能な印刷用凹版、及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、基材上に、ゴム層と、ゴム層上に設けられた凸パターン部及び凸パターン部間に形成された凹パターン部とを備え、凸パターン部は、撥液性を有する第一のフォトレジストからなる凸部と、凸部の上面および側面を覆うように形成され、撥液性を有する第二のフォトレジストからなる被覆部とにより構成され、ゴム層は、架橋シリコーンゴムからなることを特徴とする印刷用凹版である。
【０００８】
本発明の印刷用凹版において、凸部と被覆部とが同一の材料からなっていてもよい。また、典型的には、被覆部の膜厚は凸部の膜厚より薄い。また、典型的には、凸部の膜厚は０．３μｍ以上であり被覆部の膜厚は０．２μｍ以上であり、かつ、凸部と被覆部の合計膜厚は１０μｍ以下である。また、被覆部における、印刷用凹版に供給される印刷用インクの溶媒に対する後退接触角が５０°以上であることが好ましい。
【０００９】
また、ゴム層の表面に、酸素プラズマ処理が施されていてもよい。また、架橋シリコーンゴムは、架橋ポリジメチルシロキサンであってもよい。
【００１０】
また、本発明は、基材上に架橋シリコーンゴムからなるゴム層を形成する第一の製膜工程と、ゴム層の上に、撥液添加剤を添加した第一のフォトレジストからなる第一のレジスト層を形成する第二の製膜工程と、第一のレジスト層に所定のパターンを露光する第一の露光工程と、第一のレジスト層から、未硬化状態の第一のフォトレジストを除去して凸部を形成する第一の現像工程と、凸部が形成されたゴム層の上に、撥液添加剤を添加した第二のフォトレジストからなる第二のレジスト層を形成する第三の製膜工程と、第二のレジスト層に、凸部の上面および側面を覆う被覆部を形成するためのパターンを露光する第二の露光工程と、第二のレジスト層から、未硬化状態の第二のフォトレジストを除去して、被覆部と凸部とにより構成される凸パターン部と、凸パターン部間に形成された凹パターン部とを形成する第二の現像工程とを含む印刷用凹版の製造方法である。
【００１１】
また、第一の製膜工程と第二の製膜工程の間に、ゴム層に酸素プラズマ処理を施す表面処理工程を含んでいてもよい。また、第一のフォトレジストと第二のフォトレジストとが同一材料であってもよい。また、架橋シリコーンゴムは、架橋ポリジメチルシロキサンであってもよい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、高解像度かつインクの使用効率に優れる印刷プロセスを実現可能であり、さらにパターン境界部の撥液性不足によるインク残りを抑えることが可能な印刷用凹版、及びその製造方法を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本実施形態の印刷用凹版の断面模式図。
【図２】後退接触角を説明する概略図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明を実施するための形態（以下、「本実施形態」と言う。）について説明する。本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施できる。
【００１５】
本実施形態の印刷用凹版は、基材上に、ゴム層と、ゴム層上に設けられた凸パターン部及び凸パターン部間に形成された凹パターン部とを備え、凸パターン部は、撥液性を有する第一のフォトレジストからなる凸部と、凸部の上面および側面を覆うように形成され、撥液性を有する第二のフォトレジストからなる被覆部とにより構成され、ゴム層は、架橋シリコーンゴムからなる印刷用凹版である。
【００１６】
本実施形態の印刷用凹版は、図１に模式的に示した断面構造を有する。本実施形態において、印刷用凹版１は、基材６に積層されたゴム層７上に、凸パターン部５と、凸パターン部５間に形成された凹パターン部２とを有する。凸パターン部５は、凸部３と、凸部３の上面および側面を覆うように形成された被覆部４とにより構成される。凹パターン部２により印刷パターンが決定される。本実施形態の印刷用凹版１を用いた印刷においては、凹パターン部２にインクが充填され、次いで、被印刷物に凹パターン部２のインクが移ることにより、被印刷物に印刷される。本実施形態の印刷用凹版１は、凹版印刷において用いられる版である。
【００１７】
本実施形態において、凸部３および被覆部４が撥液添加剤を添加したフォトレジストからなることで、被覆部４がインクに対する撥液性（以下、単に「撥液性」ともいう。）を有する。また、ゴム層７が架橋シリコーンゴムからなることで、凹パターン部２の底部がインクに対する親液性（以下、単に「親液性」ともいう。）を有する。印刷用凹版１において、被覆部４が撥液性であり、凹パターン部２の底部が親液性を有することで、被覆部４と凹パターン部２の底部とに撥液性の差が生まれる。そのため、被覆部４の上面のインクが凹パターン部２に入り込み易くなり、凹パターン部２のみにインキングが可能となる。その結果、高解像度かつインクの使用効率に優れる印刷プロセスが実現可能となる。さらに被覆部４は、凸部３の上面および側面を覆うようにして形成されているため、その上面だけでなく側面の一部も撥液性を有する。そのため、パターン境界部の撥液性不足によるインク残りを抑えることができ、その結果、インク転写性及びインクの使用効率を向上させることが可能となる。
【００１８】
なお、撥液添加剤やフォトレジストは、汎用性の高い材料を使用可能で、特定のものに限定されるものではない。撥液添加剤やフォトレジストは、凸部３と被覆部４とでそれぞれ異なる材料を使用することができるが、同一のものを使用してもよい。
【００１９】
凸部３と被覆部４の合計膜厚は、被覆部４の上面と凹パターン部２の底部との高低差、すなわち凸パターン部５の高さとして表される。凸部３と被覆部４の合計膜厚は、本実施形態の印刷用凹版１における凹パターン部２へのインクの入りやすさ、被覆部４の撥液性、インクの転写率に影響する。具体的には、凸部３の膜厚は０．３μｍ以上であることが好ましく、被覆部４の膜厚は０．２μｍ以上であることが好ましい。被覆部４の膜厚が０．２μｍ以上であることにより、被覆部４側面の撥液性が十分に発現し得る。凸部３と被覆部４の合計膜厚は、０．５μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上であることがより好ましい。凸部３と被覆部４の合計膜厚が０．５μｍ以上であることにより、被覆部４に充分な撥液性を発現させることができるため、インクが凹パターン部２に入り込み易くなる。その結果、凹パターン部２のみにインキングが可能となり、高解像度の印刷を行なうことができる。また凸部３と被覆部４の合計膜厚は、インク転写率の観点から１０μｍ以下であることが好ましい。さらに、詳細は後述するが、被覆部４の側面のうちより多くの部分に撥液性を得るため、被覆部４の膜厚は凸部３の膜厚より薄いことが好ましい。
【００２０】
本実施形態において、ゴム層７の材料としては架橋シリコーンゴムが用いられる。架橋シリコーンゴムは架橋構造を有するため、ゴム層７は網目構造を有する。すなわち、凹パターン部２の底部が架橋シリコーンゴムからなる網目構造を有していることにより、凹パターン部２の底部は多孔構造となる。そのため、多孔中にインク溶媒が吸収され、凹パターン部２の底部は膨潤する性質を有することとなる。
【００２１】
架橋シリコーンゴムは、シロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）を主骨格としたゴムであり、架橋前の未硬化状態にあるシリコーンゴムを架橋することで得られるゴムである。例えば、付加重合型の架橋シリコーンゴムは、ヒドロキシル基を末端に有するポリマーと、ビニル基を末端に有するポリマーと、重合開始剤（これらを組み合わせたものが、２液、または３液に分けられた状態のものを用いることができる）を混合して架橋反応を起こさせることで、得ることができる。
【００２２】
架橋前のシリコーンゴムとしては、シリコーンのみを重合させたものであってもよく、シリコーンと有機モノマーとを重合させた変性シリコーンゴムを用いてもよい。例えば、エチレンプロピレンゴムをシリコーン変性したゴムであってもよい。
【００２３】
架橋シリコーンゴムとしては、例えば、架橋オルガノポリシロキサン、架橋オルガノハイドロジェンポリシロキサン、架橋ポリジメチルシロキサン等が挙げられ、架橋ポリジメチルシロキサンが好ましい。ゴム層７の架橋シリコーンゴムに対して、親水性官能基を設けるような親液性処理を行ってもよい。
【００２４】
次に、図２を用いて、後退接触角について説明する。本実施形態において、後退接触角は、滑落法から求められる値である。滑落法は、版表面１０に液滴を着滴させた後、液滴を版ごと傾斜させる方法である。液滴が動き始めた時の版と水平方向とのなす角度を滑落角８といい、またこの時の液滴の後部（上方）側の液面と版とのなす角度を後退接触角９という。滑落角８が大きいほど液滴が版表面１０に強く付着しているといえる。
【００２５】
ここで、印刷用凹版１においては、被覆部４から凹パターン部２にインクが滑り落ちることが望ましい。被覆部４にインクを残りにくくするためには、被覆部４の後退接触角９が大きいことが必要である。これらのことから、本実施形態において後退接触角９は重要なパラメータである。印刷用凹版１の被覆部４のインクの溶媒に対する後退接触角９は５０°以上であると、被覆部４にインクが残りにくいため、印刷用凹版１の被覆部４のインクの溶媒に対する後退接触角９は５０°以上であることが好ましい。
【００２６】
インクに含まれる溶媒としては、シクロヘキサノン、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、オクタン、デカン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メシチレン、シクロヘキシルベンゼン、ビニルトルエン、アニソール、デカヒドロナフタレン、テトラヒドロナフタレン、１−メチルナフタレン、３−カレン、ｐ−シメン、デカメチルテトラシロキサン、シクロペンタシロキサン、オルトケイ酸テトラエチル、ｄ−リモネン、α−ピネン、β−ピネン、ｔｒａｎｓ−アネトール、安息香酸ベンジル、酢酸ヘキシル、酢酸２−エチルヘキシル、酢酸２−フェニルエチル、酢酸シンナミル、イソ酪酸２−フェニルエチル、フェニル酢酸エチル、プロピオン酸ベンジル、安息香酸ブチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、イソ酪酸イソブチル、チオアニソール、キノリン、４−エチルモルホリン、酢酸フェニル、１−シクロヘキシル−２−ピロリドン、オイゲノール、ヘキサメチルリン酸トリアミド、炭酸プロピレン、ジペンチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルｎ−アミルケトン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブチルケトン、石油系溶剤、および水から選択される１種が好適に使用される。あるいは、これらの溶媒の２種以上の混合溶媒であってもよい。すなわち、本実施形態における印刷用凹版１において、被覆部４（凸パターン部５）の上述の溶媒に対する後退接触角９が５０°以上であることが好ましい。
【００２７】
上述のように、本実施形態においては、凹パターン部２の底部が親液性を有し、被覆部４が撥液性を有する。すなわち、凹パターン部２の底部がインク溶媒に対して低静的接触角を有し、被覆部４がインク溶媒に対して高静的接触角を有することで、静的接触角の差により撥液性の差が生じる。被覆部４が高後退接触角を有することで、印刷用凹版１へのインキングの際に、凹パターン部２の底部でインクが濡れ広がり、被覆部４ではインクをはじく。そのため、被覆部４から凹パターン部２へインクの流動が起こり、インクが凹パターン部２に入り込みやすくなる。これにより、凹パターン部２のみにインキングが可能となり、高解像度の印刷プロセスが実現可能となる。
【００２８】
被覆部４は高静的接触角であって、好ましくはインク溶媒に対する静的接触角が６０°以上であり、凹パターン部２の底部は低静的接触角であって、インク転写性の観点から、好ましくはインク溶媒に対する静的接触角が１０°以上４０°以下である。なお、静的接触角の差が大きくなるほど、被覆部４上面と凹パターン部２の底部との高低差が小さかったり、印刷パターン線幅が小さかったりする場合であっても、凹パターン部２に対するインクの入り込みに優れる。
【００２９】
本実施形態において、被覆部４のインク溶媒に対する静的接触角と、凹パターン部２の底部のインク溶媒に対する静的接触角との差は、大きいほど好ましいが、２０°以上であることが好ましく、３０°以上であることがより好ましく、４０°以上であることがさらに好ましく、５０°以上であることがよりさらに好ましい。被覆部４のインク溶媒に対する静的接触角と、凹パターン部２の底部のインク溶媒に対する静的接触角との差は、（被覆部４のインク溶媒に対する静的接触角）−（凹パターン部２の底部のインク溶媒に対する静的接触角）として求められる。
【００３０】
被覆部４および凹パターン部２の底部のインク溶媒に対する静的接触角の差が２０°以上であることにより、被覆部４と凹パターン部２の底部との間に撥液性の差が生じ、インクが凹パターン部２に入り込みやすくなり好適である。
【００３１】
本実施形態において、被覆部４および凹パターン部２の底部のインク溶媒に対する静的接触角の差は、被覆部４と凹パターン部２の底部についてそれぞれ同一のインク溶媒に対する静的接触角を測定し、その差を計算することにより求めることができる。具体的には、接触角計を用いることにより、上記後退接触角と同様に、被覆部４および凹パターン部２の底部のインク溶媒に対する静的接触角を測定し、その差を計算ことにより求める。
【００３２】
印刷用凹版１の形状は、特に限定されるものではないが、平板状、円筒状等が挙げられ、印刷効率の観点で、略円筒状であることが好ましい。本実施形態において、略円筒状とは、円筒の側面の少なくとも一部に対して、印刷用凹版を取り付けた状態であり、形状として円筒状形態を有していることを意味する。
【００３３】
本実施形態における印刷用凹版の製造方法は、以下のとおりである。
【００３４】
印刷用凹版１の製造方法は、
１．基材６上に架橋シリコーンゴムからなるゴム層７を形成する第一の製膜工程、
２．ゴム層７の上に、撥液添加剤を添加した第一のフォトレジストからなる第一のレジスト層を形成する第二の製膜工程、
３．第一のレジスト層に所定のパターンを露光する第一の露光工程、
４．未硬化状態の第一のフォトレジストを除去して凸部３を形成する第一の現像工程、
５．凸部３が形成されたゴム層７の上に、撥液添加剤を添加した第二のフォトレジストからなる第二のレジスト層を形成する第三の製膜工程、
６．第二のレジスト層に、凸部３の上面および側面を覆う被覆部４を形成するためのパターンを露光する第二の露光工程、
７．未硬化状態の第二のフォトレジストを除去して、被覆部４と凸部３とにより構成される凸パターン部５と、凸パターン部５間に形成された凹パターン部２とを形成する第二の現像工程、
を含む。
【００３５】
また、本実施形態の印刷用凹版１の製造方法においては、上記第一の製膜工程と上記第二の製膜工程との間に、ゴム層７に酸素プラズマ処理を施す表面処理工程を有していてもよい。
【００３６】
上述のように、まず、基材６上に架橋シリコーンゴムからなるゴム層７を形成する（第一の製膜工程）。架橋シリコーンゴムの基材６上への形成方法は、平板状の層とすることができるのであれば特に限定されるものではないが、スピンコート、射出成形等により行なうことができる。
【００３７】
次いで、架橋シリコーンゴムからなるゴム層７に対して、スピンコート法等により撥液添加剤を添加した第一のフォトレジストを積層させる（第二の製膜工程）。第一のフォトレジストがポジ型レジストの場合には、スピンコート後、プリベーク（半硬化）を行ない、第一のフォトレジストを除去したい部分を露光する（第一の露光工程）。次に、現像して露光部の第一のフォトレジストを除いた後、洗浄することにより、凸部３を得る（第一の現像工程）。第一のフォトレジストがネガ型レジストの場合には、スピンコート後、プリベーク（半硬化）を行ない、第一のフォトレジストを残存させたい部分を露光する（第一の露光工程）。次に、現像して未露光部の第一のフォトレジストを除いた後、洗浄することにより、ポジ型レジストの場合と同様に凸部３を得る（第一の現像工程）。
【００３８】
ここで、撥液添加剤は、上記第二の製膜工程において、第一のレジスト層の表面に集積する傾向がある。これにより、凸部３の上面は撥液添加剤の含有量が充分であるため通常充分な撥液性が得られるが、凸部３の側面は撥液添加剤の含有量が充分ではないため充分な撥液性を得ることができない。そこで、凸部３の側面に充分な撥液性を付与するため、凸部３の上面および側面を覆う被覆部４を形成すべく、以下の工程を行う。
【００３９】
次に、凸部３が形成されたゴム層７に対して、スピンコート法等により撥液添加剤を添加した第二のフォトレジストを積層させる（第三の製膜工程）。第二のフォトレジストがポジ型レジストの場合には、スピンコート後、プリベーク（半硬化）を行ない、平面視において凸部３の上面および側面の近傍を含む所定の範囲を除いた部分を露光する（第二の露光工程）。次に、現像して露光部の第二のフォトレジストを除いた後、洗浄することにより、被覆部４を得る（第二の現像工程）。第二のフォトレジストがネガ型レジストの場合には、スピンコート後、プリベーク（半硬化）を行い、平面視において凸部３の上面および側面の近傍を含む所定の範囲を露光する（第二の露光工程）。次に、現像して未露光部の第二のフォトレジストを除いた後、洗浄することにより、ポジ型レジストの場合と同様に被覆部４を得る（第二の現像工程）。
【００４０】
第一のフォトレジストと、第二のフォトレジストとは、異なる材料を使用することもできるが、同一の材料とすることにより工程を簡略化できる。
【００４１】
また、第一のフォトレジスト及び第二のフォトレジストの膜厚は任意に設定し得るが、凸部３を得る工程（第一の現像工程）と同様に、被覆部４を得る工程（第二の現像工程）においても、撥液添加剤は第二のレジスト層の表面に集積する傾向がある。そのため、ゴム層７上に第二のフォトレジストを塗布して硬化した際に、凸部３に対応してゴム面７から立ち上がり露出した第二のフォトレジストの側面部分（被覆部４の側面となる部分）の表面には、撥液添加剤が集積し易くなる。したがって、被覆部４のうち凸部３の側面を覆う部分の表面に撥液添加剤を局在化させて充分な撥液性を付与するためには、第二のフォトレジストのうち凸部３の側面を覆う部分の露出面積（表面積）を大きくすれば良い。この凸部３の側面を覆う部分の露出面積（表面積）を大きくするには、第二のフォトレジストの膜厚を薄くすれば良い。また、被覆部４の側面の撥液添加剤の含有量を凸部３の側面の撥液添加剤の含有量よりも多くするには、被覆部４の膜厚を凸部３の膜厚より薄くすればよい。それ故に、被覆部４の膜厚は、凸部３の膜厚より薄くすることが好ましい。尚、被覆部４の側面におけるゴム層７から被覆部４の膜厚に相当する高さまでの部分（除去された第二のフォトレジストと接続していた部分）は第二のレジスト層の表面に相当する部分を有していない部分であることから、撥液添加剤が充分に集積しておらず、被覆部４の他の部分と比べて撥液性が劣る。この点からも、被覆部４の膜厚は、凸部３の膜厚より薄くすることが好ましい。
【００４２】
このように、凸部３に加えて被覆部４も撥液添加剤を添加したフォトレジストで形成し、かつ、被覆部４の膜厚を凸部３の膜厚より薄くすることにより、被覆部４の上面は高い撥液性が得られる。被覆部４の側面のうち、ゴム層７から被覆部４の膜厚に相当する高さを超える部分は、被覆部４の上面よりはやや撥液性が劣るものの、当該部分はゴム面７から立ち上がり露出した第二のフォトレジストの側面部分に相当する部分である。そのため、その表面には撥液添加剤が集積しており、凸部３のみを形成した場合の凸部３の側面の撥液性を大きく上回る撥液性が得られる。被覆部４の側面のうち、ゴム層７から被覆部４の膜厚に相当する高さまでの部分は第二のレジスト層の表面に相当する部分を有していない部分であることから、撥液性が低くなるが、凸部３の膜厚よりも被覆部４の膜厚を薄く形成すればその影響を抑えることが可能となる。これにより、パターン境界部の撥液性不足によるインク残りを最小限とすることができる。
【００４３】
本実施形態の印刷用凹版１を得る具体的な方法としては、例えば以下を挙げることができる。
１．印刷用凹版１の基材６となるアルミ板等の金属板やＰＥＴ板等のプラスチック板に対して、架橋シリコーンゴムをスピンコート法によって製膜する。
２．基材６上の、架橋シリコーンゴムからなるゴム層７に対して、フォトレジストを積層するための前処理として、酸素プラズマ処理を施す。ゴム層７に対して、酸素プラズマ処理を施すことにより、凹パターン部２の底部としてのゴム層７に対して親液性を付与すると共に、フォトレジストを均一に積層することができる。酸素プラズマ処理は、酸素流量、高周波出力、処理時間を適宜制御することにより行うことができる。例えば、酸素流量１００ｍｌ／ｍｉｎ、高周波出力２００Ｗ、処理時間４ｍｉｎの条件で行うことができる。
３．ゴム層７の上に撥液添加剤を添加したポジ型フォトレジストをスピンコート法によって製膜する。
４．フォトレジストを、例えば、プリベーク温度範囲を１００℃以上１２０℃以下、ベーク時間を５ｍｉｎ以上２０ｍｉｎの条件で、プリベークする。
５．フォトレジストを除去したい部分に対して、３６５ｎｍを含む波長帯のＵＶ光を用いて、ＵＶ照射する。
６．現像・リンスすることで露光部のフォトレジストを除去し、凸部３を形成する。現像液としては、例えば、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）水溶液等を用いることができ、現像時間は、例えば、０．５ｍｉｎ以上２ｍｉｎ以下で好適に行うことができる。リンス液としては、純水等を用いることができ、リンス時間は、例えば、２０ｓｅｃ以上１２０ｓｅｃ以下で好適に行うことができる。
７．フォトレジストを、例えば、１５０℃、ベーク時間を２０ｍｉｎの条件で、ポストベークする。
８．凸部３が形成されたゴム層７の上に撥液添加剤を添加したポジ型フォトレジストをスピンコート法によって製膜する。
９．フォトレジストをプリベークする。その条件は、工程４と同様のものを適用できる。
１０．３６５ｎｍを含む波長帯のＵＶ光を用いて、凸部３の上面および側面を覆う被覆部４を形成するためのパターンに従って、ＵＶ照射する。
１１．現像・リンスすることで露光部のフォトレジストを除去し、被覆部４を形成する。その条件は、工程６と同様のものを適用できる。
１２．フォトレジストをポストベークする。その条件は、工程７と同様のものを適用できる。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
本発明は、例えばマイクロコンタクトプリント（μＣＰ）法に用いられる印刷用凹版に好適に利用することができる。
【符号の説明】
【００４５】
１…印刷用凹版
２…凹パターン部
３…凸部
４…被覆部
５…凸パターン部
６…基材
７…ゴム層
８…滑落角
９…後退接触角
１０…版表面
【図１】
2019015850.tif 000003
【図２】
2019015850.tif 000004