(57)【要約】【課題】融液内への大きな被処理物の投入時に融液が飛び散ることを抑制することができる被処理物投入装置を提供する。【解決手段】溶融るつぼ２１を内部に有する処理装置２に対し、被処理物を外部から投入する被処理物投入装置１であって、被処理物を収容可能な被処理物収容部１１と、被処理物収容部に収容された被処理物を処理装置側へ搬送する搬送部１２と、搬送部１２で搬送される被処理物を処理装置２へ導入する導入部１３を備え、導入部１３は、処理装置２に備える投入口２６Ａに接続されるジョイント部１３２Ｂと、接続された投入口２６Ａから処理装置２の内部まで入り込んで搬送部１２からの被処理物を受け取って下方に位置する溶融るつぼ２１へ案内すべく上下動可能で、かつ、垂直方向に延びる投入管１３１と、を備え、投入管１３１の内部に、被処理物が衝突しながら案内される衝突部１３３を備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理物を加熱溶融する溶融るつぼを内部に有する処理装置に対し、被処理物を外部から投入するための被処理物投入装置において、
前記被処理物を一時的に収容可能な被処理物収容部と、
該被処理物収容部に収容された被処理物を前記処理装置側へ搬送する搬送部と、
該搬送部で搬送される被処理物を前記処理装置へ導入する導入部を備え、
該導入部は、前記処理装置に備える投入口に接続されるジョイント部と、該接続された投入口から前記処理装置の内部まで入り込んで前記搬送部からの被処理物を受け取って下方に位置する前記溶融るつぼへ案内すべく上下動可能で、かつ、垂直方向に延びる投入管と、を備え、該投入管の内部に、被処理物が衝突しながら案内される衝突部を備えていることを特徴とする被処理物投入装置。
【請求項２】
前記衝突部は、板状であり、下向き斜めに配置されていることを特徴とする請求項１に記載の被処理物投入装置。
【請求項３】
前記衝突部は、前記投入管の周方向に沿って順次下降するように配置されていることを特徴とする請求項２に記載の被処理物投入装置。
【請求項４】
前記投入管は、被処理物を側方から受け取るために長手方向途中に形成した開口部を備えていることを特徴とする請求項１〜３のうちのいずれか１項に記載の被処理物投入装置。
【請求項５】
前記処理装置の投入口が、被処理物の加熱溶融後に固化した処理物の物体を取り出す取出口を兼用していることを特徴とする請求項１〜４のうちのいずれか１項に記載の被処理物投入装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被処理物を加熱溶融する溶融るつぼを内部に有する処理装置に対し、被処理物を外部から投入するための被処理物投入装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
上記処理装置により、例えば半導体基板の材料である単結晶シリコンを製造するには、被処理物であるシリコン材料（シリコンナゲット）が、被処理物投入装置から処理装置に投入され、投入されたシリコンナゲットが溶融るつぼに投入される。投入されたシリコンナゲットは、加熱溶融され、溶融されたシリコンに種となる単結晶シリコンを漬けてから、回転しつつ持ち上げることによって結晶を成長させていき、最終的に略円柱状の単結晶シリコン（インゴット）が形成される（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
前記被処理物投入装置は、溶融るつぼを覆うメインチャンバーの上方にゲートバルブを介して接続された引き上げチャンバーの内部に配置されたリチャージ管から構成されている。このリチャージ管は、シリコン材料を収容する石英製の円筒部材と、円筒部材の下端の開口部を開閉するための円錐バルブと、を備えている。そして、シリコン材料を収容したリチャージ管を引き上げチャンバー内にワイヤーで吊るしてセットする。この状態で円錐バルブを開放することによりシリコン材料を溶融るつぼに投入する。
【０００４】
単結晶シリコンの生産性の向上を図るために、大きなシリコン材料を多量に投入することが好ましいが、リチャージ管に大きなシリコン材料を多量に収容することが困難であるため、一回に投入するシリコン材料の投入量を増大させることができない。これを解決するために、例えば大きなシリコン材料を多量に収容することができる収容部を処理装置の外部に設け、収容部のシリコン材料を処理装置の溶融るつぼへ投入する筒状の案内管を収容部と溶融るつぼとの間に垂直配置する。この構成では、高い位置に配置された収容部からのシリコン材料が案内管内を自重落下するため、リチャージ管の下端からシリコン材料を落下させる特許文献１の構成に比べ、シリコン材料の移動速度が速くなる。移動速度が速い大きなシリコン材料が溶融された融液内に投入されると、融液が飛び散ってしまい、その融液が溶融るつぼの近辺に配置しているカーボンで形成されている保温材等に付着してしまう。付着後、加熱されてカーボン（不純物）を含んだシリコン融液となり、そのシリコン融液が再度溶融るつぼ内に落下してしまい、形成される単結晶シリコンが不良品になってしまうという不都合を発生していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１３−２５６４０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
そこで本発明は、融液内への大きな被処理物の投入時に融液が飛び散ることを抑制することができる被処理物投入装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の被処理物投入装置は、被処理物を加熱溶融する溶融るつぼを内部に有する処理装置に対し、被処理物を外部から投入するための被処理物投入装置であって、前記被処理物を一時的に収容可能な被処理物収容部と、該被処理物収容部に収容された被処理物を前記処理装置側へ搬送する搬送部と、該搬送部で搬送される被処理物を前記処理装置へ導入する導入部を備え、該導入部は、前記処理装置に備える投入口に接続されるジョイント部と、該接続された投入口から前記処理装置の内部まで入り込んで前記搬送部からの被処理物を受け取って下方に位置する前記溶融るつぼへ案内すべく上下動可能で、かつ、垂直方向に延びる投入管と、を備え、該投入管の内部に、被処理物が衝突しながら案内される衝突部を備えていることを特徴としている。
【０００８】
上記のように、処理装置の溶融るつぼに被処理物を投入する場合には、まず、処理装置に備える被処理物の投入口に被処理物投入装置のジョイント部を接続する。接続が完了すると、投入管を下降させて接続された投入口から処理装置の内部まで入り込ませる。この状態で、被処理物収容部で収容されている被処理物を搬送部で投入管側へ搬送し、搬送される被処理物が投入管の内部を自重落下して溶融るつぼへ投入することができる。この被処理物の自重落下時に、投入管内の衝突部に被処理物が衝突することによって、被処理物の移動速度が減速され、溶融るつぼへ投入されるときの被処理物の移動速度を小さく抑えることができる。
【０００９】
また、前記被処理物投入装置は、前記衝突部が、板状であり、下向き斜めに配置されていてもよい。
【００１０】
上記のように、衝突部が、板状であるため、衝突部の配置による投入管の重量増大を抑制することができる。また、衝突部が垂直方向に対して斜めに配置されていることにより、被処理物が衝突部に確実に衝突して被処理物の有効な減速を行うことができる。
【００１１】
また、前記被処理物投入装置は、前記衝突部が、前記投入管の周方向に沿って順次下降するように配置されていてもよい。
【００１２】
上記のように、衝突部が、投入管の周方向に沿って順次下降するように配置されることによって、衝突部に沿って被処理物を衝突案内させて被処理物の有効な減速を行うことができる。
【００１３】
また、前記被処理物投入装置は、前記投入管が、被処理物を側方から受け取るために長手方向途中に形成した開口部を備えていてもよい。
【００１４】
上記のように、投入管が、被処理物を側方から受け取るために長手方向途中に形成した開口部を備えているので、開口部の位置が、投入管の上端よりも低い位置になり、その分、溶融るつぼへ投入されるときの被処理物の移動速度を小さく抑えることができるだけでなく、被処理物投入装置における上下方向のコンパクト化を図ることができる。
【００１５】
また、前記被処理物投入装置は、前記処理装置の投入口が、被処理物の加熱溶融後に固化した処理物の物体を取り出す取出口を兼用していてもよい。
【００１６】
上記のように、処理装置の投入口が処理物の物体を取り出す取出口を兼用することによって、物体を取り出せるように大径に構成された取出口を被処理物の投入口に利用することができ、大きな被処理物を処理装置内へ投入口を通して投入することができる。しかも、搬送部により被処理物を連続投入することができる連続投入式に構成されているので、バッチ式に比べて、処理物の物体を取り出す取出口がより一層大型化されるため、改造を加えることなく、大きな被処理物を投入口を通して投入することができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、投入管の内部に、被処理物が衝突しながら案内される衝突部を備えることによって、溶融るつぼへ投入されるときの被処理物の移動速度を小さく抑えることができるので、融液内への大きな被処理物の投入時に融液が飛び散ることを抑制することができる被処理物投入装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】被処理物投入装置を処理装置に接続した状態を示す側面図である。
【図２】図１において投入管を下降させて処理装置内に入り込んだ状態を示している。
【図３】投入管の斜視図である。
【図４】投入管の底面図である。
【図５】投入管の正面図である。
【図６】投入管を落下して溶融るつぼへ投入される被処理物の移動軌跡を示す要部の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
図１及び図２に、本実施形態に係る被処理物投入装置１が処理装置２に接続された状態を示している。この接続状態において処理装置２に被処理物投入装置１からの被処理物が投入されて処理装置２が被処理物の処理を行う。図２は、後述する投入管１３１を下降させて被処理物を処理装置２へ投入管１３１を介して投入可能な状態である。
【００２０】
処理装置２は、被処理物を加熱溶融する溶融るつぼ２１をケーシング２２内に備えている。このケーシング２２は、内部を気密状態にすることができるように構成されている。処理装置２は、半導体基板の材料である単結晶シリコンを製造するために用いられる。具体的には、不活性ガス雰囲気中において被処理物としての多結晶シリコン（シリコンナゲット）を溶融るつぼ２１に入れて例えばヒータ等の加熱手段（図示せず）を用いて加熱溶融する。溶融状態となったシリコンに種となる単結晶シリコンを漬けてから、回転しつつ持ち上げることによって結晶を成長させていき、最終的に略円柱状の単結晶シリコン（インゴット）が形成される。前記不活性ガス雰囲気とは、処理装置の内部空間を一度真空引きした上で、アルゴンや窒素等の不活性ガスで満たされた雰囲気を指す。そのため、図示していない脱気ポンプ（真空ポンプ）及び不活性ガス供給管が処理装置２に設けられている。なお、処理する被処理物の種類や処理内容によっては、ケーシング２２の内部を真空雰囲気としてもよいし、また、ケーシング２２の内部を気密状態にしないものとして実施してもよい。
【００２１】
また、処理装置２は、溶融るつぼ２１の上方に熱遮蔽体２３を備える。この熱遮蔽体２３は、溶融るつぼ２１から引き上げられる単結晶シリコン（図示せず）が受ける溶融るつぼ２１及び融液２４の熱の影響を低減させるために設けられている。この熱遮蔽体２３は、主要部分が高融点金属（モリブデン、タンタル等）により形成され、下側ほど内径が小さくなる下窄まりのテーパ筒状に構成されている。
【００２２】
ケーシング２２の上端には、後述する投入管１３１をケーシング２２内に入り込ませるための開口部２２ａが形成された円筒部２２Ａが上方へ突出形成されている。この円筒部２２Ａの上端には、開口部２２ａと連通する開口部２６Ｂを閉鎖するための開放可能な仕切弁２５を下端に備えるとともに上端に後述する被処理物投入装置１のジョイント部１３２Ｂを接続するための箱状の被ジョイント部２６が取り付けられている。被ジョイント部２６の上端には、後述する投入管１３１を内部に投入するための投入口２６Ａが形成されている。
【００２３】
被処理物投入装置１は、処理装置２に対し、処理装置２の外部から被処理物を処理装置２の内部の溶融るつぼ２１に投入することができるものである。この被処理物投入装置１は、内部を気密状態にできるように構成されているが、処理装置２と同様に、処理する被処理物の種類や処理内容によっては、内部を気密状態にしないものとして実施してもよい。
【００２４】
また、被処理物投入装置１は、被処理物収容部１１と、搬送部１２と、導入部１３とが連結一体化されて構成されている。これら被処理物収容部１１、搬送部１２、導入部１３は、石英ガラス製から構成されているが、被処理物が触れる部分のみが石英ガラスで構成されていてもよい。
【００２５】
被処理物収容部１１は、被処理物を一時的に収容し、上端に被処理物を投入可能な投入口１１１Ａを有し、かつ、下端に被処理物を排出するための排出口１１１Ｂを有するホッパー１１１と、ホッパー１１１を覆う上下方向で連結された上下一対のケーシング１１２，１１３と、上側ケーシング１１２の上端の開口１１２Ａを閉じる開閉可能な蓋体１１４と、を備えている。したがって、蓋体１１４を開放することによって、開口１１２Ａから被処理物をホッパー１１１に供給することができ、蓋体１１４を閉じることによって、外気に対して気密状態を保持することができるように構成されている。
【００２６】
搬送部１２は、被処理物収容部１１に収容された被処理物を処理装置２側へ搬送するように構成され、具体的には、被処理物収容部１１の下方へ落下供給される被処理物を受け取って搬送する電磁振動フィーダから構成されている。この電磁振動フィーダは、駆動部１２１と、駆動部１２１の上方に配置されるトラフ１２２と、を備え、駆動部１２１を駆動することによりトラフ１２２を振動させて、トラフ１２２に被処理物収容部１１から落下供給される被処理物を導入部１３側へ搬送する。トラフ１２２は、上部及び搬送方向下流端が開放されている樋状の部材から構成されている。また、トラフ１２２の被処理物を受ける底板部の内面１２２Ｃに石英ガラスが張られている。また、トラフ１２２は、それの一端部が下側のケーシング１１３の内部に配置され、他端部が下側のケーシング１１３から径外方向に突出する突出部１２３の終端部に配置されている。突出部１２３は、下側のケーシング１１３の側部から径外方向外側に突出するように一体形成された第１突出部１２３Ａと、第１突出部１２３Ａの搬送方向終端に連結された第２突出部１２３Ｂと、第２突出部１２３Ｂの搬送方向終端に一端が連結され、かつ、他端が後述するケーシング１３２の下端部に連結される第３突出部１２３Ｃと、を備えている。また、トラフ１２２の搬送方向終端部には、搬送される被処理物を後述する投入管１３１に受け渡すための受け渡し部材１２４を備えている。受け渡し部材１２４は、底板と底板の左右幅方向両端から上方に立ち上がるとともに被処理物移動方向終端が斜めにカットされて上下方向に沿う端面を有する左右一対の側板と、を備え、先端の排出口１２４Ａ側ほど下方に傾斜する前下がり姿勢になっている。そして、受け渡し部材１２４は、後述する投入管１３１への被処理物の受け渡し時に、受け渡し部材１２４の先端部が投入管１３１の内部に位置するように搬送方向に移動可能に構成されている。
【００２７】
導入部１３は、搬送部１２で搬送される被処理物を処理装置２へ導入するために設けられている。この導入部１３は、図１及び図２に示すように、縦長状でかつ垂直方向に延びる縦（上下）姿勢に構成され、導入部１３を構成するケーシング１３２の下端部が前記第３突出部１２３Ｃの搬送方向終端に固定されている。
【００２８】
また、図１、図２に示すように、導入部１３は、被ジョイント部２６の投入口２６Ａ及び開口部２６Ｂを貫通して処理装置２の内部まで入り込んで搬送部１２からの被処理物を下方に位置する溶融るつぼ２１へ自重落下させるべく上下動可能に構成された投入管１３１と、投入管１３１を覆うケーシング１３２と、を備えている。ケーシング１３２の下端には、開口部１３２Ａが形成され、このケーシング１３２の下端を被ジョイント部２６の上端に合わせることによって、開口部１３２Ａと投入口２６Ａとが連通した状態でケーシング１３２と被ジョイント部２６とを接続することができる。ケーシング１３２の下端の開口部１３２Ａが形成されている部分を、被ジョイント部２６に接続するためのジョイント部１３２Ｂとする。なお、この接続状態を維持するためのロック機構（図示せず）をロック及びロック解除自在に設けて実施することが望ましい。
【００２９】
投入管１３１は、図３〜図５に示すように、上端が閉じられ（図３、図５では、上端を閉じる上壁部を省略している）、下端が開口された円筒状部材から構成され、長手方向一端部には、側方の一部が開口された開口部１３１Ａが形成されており、この開口部１３１Ａを通して、被処理物を投入管１３１の内部に投入することができる。この開口部１３１Ａが、搬送部１２からの被処理物を側方から受け取るために投入管１３１の長手方向途中に形成した開口部に相当する。また、開口部１３１Ａの幅方向両端には、外側に突出する板状の突出片１３１Ｂ，１３１Ｂを備えており、搬送部１２からの被処理物を投入管１３１の内部に確実に入り込むようにガイドするガイド部材を構成している。また、投入管１３１を上下動させるための駆動機構１５を備えている。
【００３０】
また、投入管１３１の内部（ここでは内面）には、被処理物が衝突しながら案内される衝突部１３３を備えている。この衝突部１３３は、突出片１３１Ｂ，１３１Ｂの下端部間に架け渡された最上段に位置する板状で略長方形状の衝突部材１３１ａと、板状で半円状の複数（ここでは８枚）の衝突部材１３３Ａとからなり、投入管１３１の周方向に沿って順次下降するように垂直方向に対して斜めに配置されている。投入管１３１及び複数の衝突部材１３３ａ，１３３Ａは、石英ガラス製で構成されているため、円筒状の投入管１３１を作製するのではなく、まず一対の半円状の部材を作製し、それら一対の部材の内面それぞれに、必要枚数の衝突部材１３３ａ，１３３Ａを溶着したのち、一対の半円状の部材を合わせて溶着により連結することによって、円筒状の投入管１３１を作製することになる。なお、図１及び図２において、被処理物との衝突時の衝突力が最も大きい最上段に位置する衝突部材１３３ａ（該衝撃力が２番目に大きい上から２番目に位置する衝突部材１３３Ａの厚みも同様にしてもよい）の厚みを、他の衝突部材１３３Ａの厚みよりも厚くしており、被処理物との衝突により衝突部材１３３Ａが破損することを抑制できる。なお、衝突力が大きい最上段に位置する衝突部材１３３ａの厚みを他の衝突部材１３３Ａの厚みよりも厚くしているが、全ての衝突部材１３３Ａを同一厚みにして実施することもできる。また、８枚の衝突部材１３３Ａの水平に対する傾斜角度を同一角度にしているが、最上段に位置する衝突部材１３３ａの水平に対する傾斜角度を、他の衝突部材１３３Ａの水平に対する傾斜角度よりも大きな角度にしている。このように衝突部材１３３ａが他の衝突部材１３３Ａよりも下向きにすることで、開口部１３１Ａから投入された被処理物が開口部１３１Ａ側へ跳ね返ってくることがないようにしている。
【００３１】
駆動機構１５は、図１に示すように、ケーシング１３２の一端部（上端部）に備えるモータ（ここでは、インダクションモータを用いているが、サーボモータでもよい）１５１と、モータ１５１の回転力が伝達されて回転される螺軸１５２と、螺軸１５２の回転により上下移動するスライダ１５３と、を備え、スライダ１５３が投入管１３１の一端（上端）を閉じる板状の円形の上壁部１３１Ｋの中心部に貫通装着され、このスライダ１５３に螺軸１５２が螺合されている。したがって、モータ１５１を例えば一方に駆動回転させることによって、スライダ１５３を螺軸１５２に沿って下方へ移動させることで投入管１３１を下降させることができ、また、モータ１５１を他方に駆動回転させることによって、スライダ１５３を螺軸１５２に沿って上方へ移動させることで投入管１３１を上昇させることができる。
【００３２】
前記のように構成された被処理物投入装置１は、パンタグラフ式のリフター３１及び４つの車輪３２（図１、図２では２個のみ図示）を備えた自走式の移動装置３に載置されており、４つの車輪３２の駆動を制御することによって、被処理物投入装置１を目標となる位置まで移動させることができ、移動後にリフター３１を伸縮駆動することによって被処理物投入装置１を所定の高さに位置させることができる。
【００３３】
また、前記被処理物投入装置１は、移動装置３上に設置された旋回機構３３に取り付けられており、旋回機構３３の駆動により縦軸Ｘ回り（図１参照）で被処理物投入装置１を回転させることで、被処理物投入装置１を処理装置２に接続できる位置に位置させることができる。旋回機構３３は、図示していないが、回転台と回転台を回転させるモータと、を備えている。
【００３４】
以上のように構成された被処理物投入装置１により処理装置２に被処理物を投入するまでの過程を説明する。まず、被処理物収容部１に被処理物を収容したのち、移動装置３により処理装置２の所定位置まで移動させる。被処理物投入装置１の高さをリフター３１の伸縮駆動により調整したのち、被処理物投入装置１のケーシング１３２の下端を処理装置２の被ジョイント部２６に合わせるように旋回機構３３を駆動させて被処理物投入装置１を所定角度回転させる。被処理物投入装置１の導入部１３のケーシング１３２の下端を処理装置２の被ジョイント部２６に一致させて両者の接続が完了すると、図２に示すように、仕切弁２５を開放状態にしたのち、モータ１５１を駆動させて投入管１３１を下降させて処理装置２内の所定位置（溶融るつぼ２１の融液２４の融液面２４Ａに対する所定位置）まで入り込ませる。引き続いて、受け渡し部材１２４の先端部が投入管１３１の内部に位置するように受け渡し部材１２４を投入管１３１側（搬送方向前進側）へ移動させる（図２参照）。
【００３５】
上記状態から、搬送部１２を駆動させて被処理物を搬送し、搬送される被処理物が受け渡し部材１２４を介して投入管１３１に受け渡される。このとき、図６に示すように、被処理物Ｓは、最上段に位置する衝突部材１３３ａに衝突して落下速度が減速され、次の上から２番目の衝突部材１３３Ａへ衝突し、順次下段に位置する衝突部材１３３Ａに衝突することによって、被処理物Ｓの落下速度が投入管１３１の下端出口では落下速度が小さくなり、投入管１３１から溶融るつぼ２１の融液内へ大きな被処理物が投入された時に融液が飛び散ることを抑制することができる。処理装置２への被処理物Ｓの投入が完了すると、受け渡し部材１２４を後退側へ移動させてから、投入管１３１を上昇させたのち、仕切弁２５を閉じる。こののち、被処理物投入装置１を処理装置２から取り外す。
【００３６】
また、被処理物投入装置１は、処理装置２の投入口である開口部２２ａが、被処理物の加熱溶融後に固化した処理物の物体（単結晶シリコン（インゴット））を取り出す取出口を兼用している。このように、処理装置２の投入口２２ａが処理物の物体（単結晶シリコン（インゴット））を取り出す取出口を兼用することによって、物体を取り出せるように大径に構成された取出口を被処理物の投入口に利用することができ、大きな被処理物を処理装置２内へ投入口２２ａを通して投入することができる。しかも、被処理物投入装置１は、搬送部１２により被処理物を連続投入することができる連続投入式に構成されているので、バッチ式に比べて、処理物の物体（単結晶シリコン（インゴット））を取り出す取出口がより一層大型化されるため、改造を加えることなく、大きな被処理物を投入口２２ａを通して投入することができる。
【００３７】
なお、実際の使用に当たっては、一台の被処理物投入装置１に対して２台以上（例えば６台）の処理装置２を設けて、被処理物の処理を行うことが多い。つまり、一台の被処理物投入装置１を複数台の処理装置２に順次接続して被処理物を投入していく方法で処理している。本発明では、搬送部１２で搬送される被処理物を処理装置２へ導入する導入部１３を処理装置２に設けるのではなく、被処理物投入装置１に設けているので、導入部１３を全ての処理装置２に設ける場合に比べてコスト面において有利になる。
【００３８】
尚、本発明に係る被処理物投入装置は、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
【００３９】
例えば、投入管１３１の上端部の側方に被処理物を投入する開口部１３１Ａを形成したが、投入管１３１の上端に被処理物を投入する開口部を形成し、投入管１３１の上端の開口部から被処理物を投入してもよい。
【００４０】
前記実施形態では、受け渡し部材１２４を設けたが、搬送部１２及び投入管１３１の形状や方向等を工夫することにより、受け渡し部材１２４を省略してもよい。
【００４１】
前記実施形態では、衝突部１３３を複数の衝突部材１３３ａ，１３３Ａから構成したが、１枚の衝突部材から構成してもよい。また、衝突部１３３を板状の衝突部材１３３ａ，１３３Ａから構成したが、帯状または塊状のものや複数の凸部から構成する等、衝突部の構成は自由に変更することができる。
【符号の説明】
【００４２】
１…被処理物投入装置、２…処理装置、３…移動装置、１１…被処理物収容部、１２…搬送部、１３…導入部、１５…駆動機構、２２…ケーシング、２２Ａ…円筒部、２２ａ…開口部（投入口）、２３…熱遮蔽体、２３…ジョイント部、２４…融液、２４Ａ…融液面、２５…仕切弁、２６…被ジョイント部、２６Ａ…投入口、２６Ｂ…開口部、３１…リフター、３２…車輪、３３…旋回機構、１１１…ホッパー、１１１Ａ…投入口、１１１Ｂ…排出口、１１２，１１３…上下のケーシング、１１２Ａ…開口、１１４…蓋体、１２１…駆動部、１２２…トラフ、１２２Ｃ…内面、１２３…突出部、１２３Ａ…第１突出部、１２３Ｂ…第２突出部、１２３Ｃ…第３突出部、１２４…受け渡し部材、１２４Ａ…排出口、１３１…投入管、１３１Ａ…開口部、１３１Ａ…開口部、１３１Ｂ…突出片、１３１Ｋ…上壁部、１３２…ケーシング、１３２…ケーシング、１３２Ａ…開口部、１３２Ｂ…ジョイント部、１３３…衝突部、１３３Ａ…衝突部材、１５１…モータ、１５２…螺軸、１５３…スライダ、Ｓ…被処理物、Ｘ…縦軸
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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