(57)【要約】【課題】光輝性を有するが、光輝性を出したくない部分に十分な遮光性を確保するようにする。【解決手段】部分メタリックカード１０は、片面又は両面に光沢印刷層２を含み、光沢印刷層２の上層に部分的に遮蔽印刷層５を含み、光沢印刷層２は金属光沢様の光輝性を発現してもよく、遮蔽印刷層５は白色を有して下層の光沢印刷層２が放つ光輝性を遮蔽する厚みを有して光輝性を必要としない範囲に部分的にレイアウトされて光輝性遮蔽範囲６ａを形成してもよく、遮蔽印刷層５の層厚は下層の光沢印刷層２の光輝性を遮蔽するように３．５μｍ以上であってもよい。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
片面又は両面に光沢印刷層を含み、前記光沢印刷層の上層に部分的に遮蔽印刷層を含む非接触式ＩＣカード。
【請求項２】
前記遮蔽印刷層は、白色である請求項１に記載の非接触式ＩＣカード。
【請求項３】
前記光沢印刷層は、金属光沢様の光輝性を発現することを特徴とする請求項１又は２に記載の非接触式ＩＣカード。
【請求項４】
前記遮蔽印刷層は、下層の光沢印刷層が放つ光輝性を遮蔽する厚みを有し、光輝性を必要としない範囲に部分的にレイアウトされた請求項１から３のいずれか一項に記載の非接触式ＩＣカード。
【請求項５】
前記遮蔽印刷層の層厚は、下層の光沢印刷層の光輝性を遮蔽するように、３．５μｍ以上であることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の非接触式ＩＣカード。
【請求項６】
前記光沢印刷層の上層に、光透過性を有する透過印刷層を含む請求項１から５のいずれか一項に記載の非接触式ＩＣカード。
【請求項７】
前記透過印刷層は、オフセット印刷で加工することで、下層の光沢印刷層の光輝性を透過させる請求項６に記載の非接触式ＩＣカード。
【請求項８】
前記遮蔽印刷層の上層に、光透過性を有する透過印刷層を含む請求項６又は７に記載の非接触式ＩＣカード。
【請求項９】
磁気ストライプを含み、前記遮蔽印刷層及び前記透過印刷層を併せた層厚が１８．８μｍ以下であることを特徴とする請求項６から８のいずれか一項に記載の非接触式ＩＣカード。
【請求項１０】
非接触式ＩＣカードの製造方法であって、
片面又は両面に光沢印刷層を含むベースカードを提供する工程と、
前記光沢印刷層の上層に部分的に遮蔽印刷層を印刷する工程と、
前記光沢印刷層の上層に光透過性を有する透過印刷層を印刷する工程と
を含む非接触式ＩＣカードの製造方法。
【請求項１１】
前記遮蔽印刷層は、白色である請求項１０に記載の非接触式ＩＣカードの製造方法。
【請求項１２】
前記遮蔽印刷層の上層に、光透過性を有する透過印刷層を含む請求項１０又は１１に記載の非接触式ＩＣカードの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、通常の印刷では再現困難なメタリックな光輝性を部分的に有する非接触式ＩＣカード及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、非接触式ＩＣカードは、銀行のキャッシュカード、クレジットカード、鉄道運賃自動清算用カード、小売店の会員カードなど、幅広い業界に導入され、身近な生活からビジネスまで様々な分野で利用されている。
【０００３】
顧客に提供される非接触式ＩＣカードには、発行元のイメージ、提供するサービスのコンセプトなどを際立たせた意匠表現の印刷が加工されており、発行元のイメージの向上や提供するサービスの普及に貢献している。特に高級感が求められるハイブランドや、重要顧客向けには、特別性を引き立たせる為、メタリックな光輝性を備えたメタリックカードと称される非接触式ＩＣカードが提供されている。
【０００４】
前記のメタリックカードは、従来、カード内層に光沢印刷層を有するベースカードを事前に作製しておき、注文後、それぞれ顧客が希望する意匠をカード表面にオフセット印刷で加工している（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２−５６１１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
前記のメタリックカードの製法によると、部分的に光輝性を出したくない場合、オフセット印刷のみでは遮蔽性が不十分であり、下層の光輝性が透けて視認できてしまうことがあった。
【０００７】
本発明は、上述の実情に鑑みて提案されるものであって、光輝性を有するが、光輝性を出したくない部分に十分な光遮蔽性を確保することができるような非接触式ＩＣカード及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述の課題を解決するために、本願に係る非接触式ＩＣカードの発明は、片面又は両面に光沢印刷層を含み、光沢印刷層の上層に部分的に遮蔽印刷層を含んでいる。遮蔽印刷層は、白色であってもよい。
【０００９】
光沢印刷層は、金属光沢様の光輝性を発現してもよい。遮蔽印刷層は、下層の光沢印刷層が放つ光輝性を遮蔽する厚みを有し、光輝性を必要としない範囲に部分的にレイアウトされてもよい。遮蔽印刷層の層厚は、下層の光沢印刷層の光輝性を遮蔽するように、３．５μｍ以上であってもよい。
【００１０】
光沢印刷層の上層に、光透過性を有する透過印刷層を含んでもよい。遮蔽印刷層の上層に、光透過性を有する透過印刷層を含んでもよい。透過印刷層は、オフセット印刷で加工することで、下層の光沢印刷層の光輝性を透過させてもよい。
【００１１】
磁気ストライプを含み、遮蔽印刷層及び透過印刷層を併せた層厚が１８．８μｍ以下であってもよい。
【００１２】
本願に係る非接触式ＩＣカードの製造方法は、片面又は両面に光沢印刷層を含むベースカードを提供する工程と、光沢印刷層の上層に部分的に遮蔽印刷層を印刷する工程と、光沢印刷層の上層に光透過性を有する透過印刷層を印刷する工程とを含んでいる。遮蔽印刷層は、白色であってもよい。遮蔽印刷層の上層に、光透過性を有する透過印刷層を含んでもよい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によると、光輝性を有するが、光輝性を出したくない部分に十分な遮光性を確保することができるような非接触式ＩＣカードを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本実施の形態の非接触式ＩＣカードの構成を示す断面図である。
【図２】遮蔽印刷層の印刷層厚に対する光輝性遮蔽具合の評価結果を示した図である。
【図３】印刷層厚に対する磁気ストライプの磁気出力の関係を表したグラフである。
【図４】比較例として従来の非接触式ＩＣカードの構成を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本実施の形態に係る非接触式ＩＣカード及びその製造方法について、図面を参照して詳細に説明する。本実施の形態の非接触式ＩＣカードは、光沢印刷層の上層において光輝性を必要としない範囲に遮蔽印刷層を設けて部分的に光輝性を有するメタリックカードを実現したものであり、本実施の形態ではこのような非接触式ＩＣカードを部分メタリックカードと称することにする。
【００１６】
図１は、部分メタリックカード１０の構成を示す断面図である。部分メタリックカード１０においては、中間支持材１の上面に、光沢印刷層２、透明表皮材３、遮蔽印刷層５及び透過印刷層４が順に積層されている。中間支持材１は、ＩＣチップ、アンテナ等の回路を内部に含み、部分メタリックカード１０に剛性を与えて支持している。遮蔽印刷層５は、透明表皮材３の上面に部分的にレイアウトされ、光輝性遮蔽範囲６ａ及び光輝性開口範囲６ｂを形成している。中間支持材１の下面には、透明表皮材３及び透過印刷層４が順に積層されている。
【００１７】
本実施の形態の部分メタリックカード１０は以下のような一連の工程によって製造される。中間支持材１の上面全面に、金属粉を配合したインクを、シルクスクリーン印刷で印刷することにより、光沢印刷層２を形成する。
【００１８】
光沢印刷層２の上面に、透明で、下層の光沢印刷層２の光輝性が充分透過する熱可塑性プラスチックフィルム、ＰＶＣ又は、ＰＥＴ−Ｇを熱プレス加工することにより、透明表皮材３を形成する。熱プレス加工の際、下層を良く透過させる為、鏡面加工の化粧板でサンドすることにより、透明表皮材３の表面を鏡面に仕上げる。
【００１９】
一方、中間支持材１の下面にも、光沢印刷層２の上面と同様に透明表皮材３を形成する。ここで、中間支持材１の上面に光沢印刷層２及び透明表皮材３、下面に透明表皮材３を積層してベースカードを構成することもできる。以下の工程は、ベースカードから部分メタリックカード１０を製造する工程とも同様である。
【００２０】
透明表皮材３の上面で、光沢印刷層２の光輝性が不要な光輝性遮蔽範囲６ａに、オフセット印刷で、光遮蔽性の高い酸化チタン顔料を含む白インクでベタ印刷をおこない遮蔽印刷層５を形成する。遮蔽印刷層５は、透明表皮材３の上面の全面ではなく、光輝性を必要としない場所に光輝性遮蔽範囲６ａが形成されるように部分的にレイアウトされる。透明表皮材３の上面であって遮蔽印刷層５が形成されない部分には、光輝性開口範囲６ｂが形成される。
【００２１】
遮蔽印刷層５は、光輝性を完全に遮蔽することが必要であり、光沢印刷層２に含まれる金属粉の粒径や配合比にもよるが、上記の光遮蔽性の高い酸化チタン顔料を含む白インクを用いる場合、後述するように、少なくとも３．５μｍ以上の印刷層厚としている。
【００２２】
遮蔽印刷層５の上面に、オフセット印刷で、任意の意匠の透過印刷層４の印刷をおこなう。遮蔽印刷層５の上面に、透過印刷層４のインクは存在していても、していなくてもよい。また、光沢印刷層２は金属粉の影響で銀色になっているが、遮蔽印刷層５に、白インクを用いることで、白色を表現することも可能となる。
【００２３】
中間支持材１の下面に積層された透明表皮材３の下面に、オフセット印刷で、任意の意匠の透過印刷層４の印刷をおこなってもよい。
【００２４】
本実施の形態の部分メタリックカード１０は、磁気ストライプ７をカード長辺近傍に設置し、磁界によって記録した情報を磁気リーダで読み取る機能を提供することもできる。ここで、磁気ストライプ７側に遮蔽印刷層５、透過印刷層４を印刷する場合、磁気リーダとの距離を保持して記録情報の読み取りを確保するように、遮蔽印刷層５及び透過印刷層４の厚みを併せた印刷層厚８は、後述するように１８．８μｍ以下としている。
【００２５】
本実施の形態の部分メタリックカード１０によると、光輝性を有するが、光輝性を出したくない部分に十分な遮光性を確保することができる。光輝性を出したくない場合とは、例えば、店名や重要なキャッチコピーの文字の背景に光輝性があると視認判読性が悪化し、宣伝効果が失われてしまう場合や、トレードマークの光輝性を際立たせる目的で、そのマーク以外の範囲の光輝性を完全に遮蔽する必要がある場合などがある。本実施の形態の部分メタリックカード１０を用いることによって、通常の印刷では困難な意匠性の高い部分的な光輝性を提供することができる。
【００２６】
なお、遮蔽印刷層５は、光輝性を遮蔽することができるものであれば、白色に限らずクリーム色など他の色であってもよい。遮蔽印刷層５は、例えば、赤色、黄色、緑色、青色、紫色、シアン又はマゼンタであってもよい。
【実施例】
【００２７】
図２は、遮蔽印刷層５の印刷層厚に対する光輝性の遮蔽具合の関係を示している。遮蔽印刷層５には、上記の光遮蔽性の高い酸化チタン顔料を含む白インクを使用した。図中の遮蔽印刷層５の拡大写真に見られるように、印刷層厚が１．３μｍ以下では、光沢印刷層２の光輝性が完全に視認できた。印刷層厚が２．４μｍでは、光沢印刷層２の光輝性がやや視認できた。印刷層厚が３．５μｍ以上では、光沢印刷層２の光輝性が完全に遮蔽できていた。前述のように、本実施の形態の部分メタリックカード１０では、遮蔽印刷層５の印刷層厚を少なくとも３．５μｍとすることによって、光沢印刷層２の光輝性を完全に遮蔽している。
【００２８】
図３は、遮蔽印刷層５及び透過印刷層４の厚みを併せた印刷層厚８と磁気出力との関係を示すグラフである。グラフに示した印刷層厚８に対する磁気出力のデータを外延することによって、印刷層厚が１８．８μｍ以下であれば、例えばＪＩＳＸ６３０２−２：２００５磁気ストライプ−低保磁力によって標準規格が制定されている磁気ストライプ７の出力特性が満たされることが明らかになった。前述のように、本実施の形態では、印刷層厚８を１８．８μｍ以下とすることによって、磁気ストライプ７の出力特性を確保している。
【００２９】
（比較例）
図４は、比較例として従来の非接触式ＩＣカードの構成を示す断面図である。比較例の非接触式ＩＣカードは、メタリックカードと称され、全面に光輝性を有している。このメタリックカード１００においては、中間支持材１の上面に、光沢印刷層２、透明表皮材３及び透過印刷層４が順に積層され、カード長辺近傍に磁気ストライプ７を設置されている。中間支持材１の下面には、透明表皮材３及び透過印刷層４が順に積層されている。なお、本実施の形態の部分メタリックカード１０との対応関係を明らかにするため、対応する部材には同一の参照符号を付した。
【００３０】
比較例のメタリックカード１００においては、本実施の形態の部分メタリックカード１０のような遮蔽印刷層５が存在していない。したがって、比較例のメタリックカード１００の上面の全面は、光沢印刷層２による光輝性を有している。
【符号の説明】
【００３１】
１    中間支持材
２    光沢印刷層
３    透明表皮材
４    透過印刷層
５    遮蔽印刷層
６ａ  光輝性遮蔽範囲
６ｂ  光輝性開口範囲
７    磁気ストライプ
８    印刷層厚（遮蔽印刷層５＋透過印刷層４）
１０  部分メタリックカード
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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