(57)【要約】      （修正有）【課題】弁体及びプランジャを接触させた場合に、その隙間に流体が滞留し難く、かつ、軸ブレが生じ難い構造の流体制御弁を提供する。【解決手段】弁座１０と、前記弁座に対して接離方向へ移動する弁体２０と、前記弁体を移動させるアクチュエータ３０と、前記アクチュエータの動力を前記弁体に伝達するプランジャ４０とを備え、前記弁体及び前記プランジャが、前記弁体及び前記弁座の接触に伴う前記プランジャの傾斜を抑制する傾斜抑制突起２２を介して接触させる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
弁室の一部を構成する弁座と、
前記弁室内に設置され、前記弁座に対して接離方向へ移動する弁体と、
前記弁体を移動させるアクチュエータと、
前記アクチュエータの動力を前記弁体に伝達するプランジャとを備え、
前記弁体及び前記プランジャが、前記弁体及び前記弁座の接触に伴う前記プランジャの傾斜を抑制する傾斜抑制突起を介して接触していることを特徴とする流体制御弁。
【請求項２】
前記弁体及び前記プランジャのいずれか一方又は双方に前記傾斜抑制突起が設けられている請求項１記載の流体制御弁。
【請求項３】
前記傾斜抑制突起が、曲面状になっている請求項１又は２のいずれかに記載の流体制御弁。
【請求項４】
前記傾斜抑制突起の頂点が、前記弁体及び前記プランジャの軸上に位置する請求項１乃至３のいずれかに記載の流体制御弁。
【請求項５】
前記弁体を収容する弁室の少なくとも一部を構成し、前記プランジャの周面に接続されるダイアフラムをさらに備え、
前記ダイアフラムが、前記弁室側を向く第１平面と前記弁室と反対側を向く第２平面とを有し、
前記第２平面が、前記プランジャの径方向に対し、前記第１平面の外縁又は当該外縁よりも外側まで延伸している請求項１乃至４のいずれかに記載の流体制御弁。
【請求項６】
前記弁体を支持する弾性体をさらに備え、
前記弾性体が、前記プランジャによって前記弁体が押圧された状態で、前記弁体を前記プランジャ側へ押圧するように構成されている請求項１乃至５のいずれかに記載の流体制御弁。
【請求項７】
前記請求項１乃至６のいずれかに記載の流体制御弁を備えた流体制御装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、流体制御弁及び流体制御装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から流体制御装置（所謂マスフローコントローラ）に用いられる流体制御弁として、特許文献１には、弁座と、弁座に対して接離方向へ移動する弁体と、弁体を移動させるアクチュエータと、アクチュエータの動力を弁体に伝達するプランジャと、弁体を収容する弁室の少なくとも一部を構成し、プランジャの周面に接続されるダイアフラムと、を備えたものが開示されている。
【０００３】
ところで、前記従来の流体制御弁においては、弁体及びプランジャを面接触させる構造が採用されている。このような構成においては、弁体及び弁座の機械加工によって生じる公差の影響を受け易く、弁体及び弁座の接触に伴って生じる当該弁体の傾斜によってプランジャが傾斜してしまうため、各部材の製作工程や各部材の組立工程において高い精度が要求される。また、弁体及びプランジャが面接触された状態が維持されると、その隙間に流体が滞留し、この滞留した流体によって弁体及びプランジャが劣化してしまうことがあった。
【０００４】
さらに、前記従来の流体制御弁においては、ダイアフラムの径が小さく、その撓み量も小さくなり、これに伴ってプランジャの可動範囲も小さくなることから、制御可能な流量レンジが比較的狭くなっていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１３−５０１５８
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
そこで、本発明は、弁体及び弁座を接触させた場合に、プランジャが傾斜し難く、また、弁体及び弁座の間に流体が滞留し難い構造の流体制御弁を提供することを主な課題とするものである。また、本発明は、制御可能な流量レンジを比較的広く設定できる構造の流体制御弁を提供することも課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
すなわち、本発明に係る流体制御弁は、弁座と、前記弁座に対して接離方向へ移動する弁体と、前記弁体を移動させるアクチュエータと、前記アクチュエータの動力を前記弁体に伝達するプランジャとを備え、前記弁体及び前記プランジャが、前記弁座及び前記弁体の接触に伴って生じる前記プランジャの傾斜を抑制する傾斜抑制突起を介して接触していることを特徴とするものである。
【０００８】
このようなものであれば、弁体及びプランジャが傾斜抑制突起を介して接触しているため、弁体及び弁座の接触に伴って生じる当該弁体の傾斜の影響がプランジャに伝わり難くなる。これにより、プランジャの弁座に対する傾斜が一定に保持され易くなる。なお、弁体を支持する部材に伴って生じる当該弁体の傾斜もプランジャに伝わり難くなる。また、弁体及びプランジャの間の隙間に流体が滞留し難くなり、弁体及びプランジャが接触された状態が維持されたとしても、弁体及びプランジャが劣化し難くなる。
【０００９】
また、具体的には、前記弁体及び前記プランジャのいずれか一方又は双方に傾斜抑制突起が設けられているものであって、この場合、前記傾斜抑制突起が、曲面状になっているものであってもよい。なお、傾斜抑制突起を曲面状にすれば、傾斜抑制突起の接触箇所の潰れを抑制できる。
【００１０】
また、前記傾斜抑制突起の頂点が、前記弁体及び前記プランジャの軸上に位置するものであってもよい。なお、軸とは、弁体及びプランジャの径方向に対する中心を通過する軸である。また、弁体及びプランジャにおいて、その一部又は全部が回転対称な形状である場合には、その回転対称の中心となる軸ともいえる。
【００１１】
また、前記弁体を収容する弁室の少なくとも一部を構成し、前記プランジャの周面に接続されるダイアフラムをさらに備え、前記ダイアフラムが、前記弁室側を向く第１平面と前記弁室と反対側を向く第２平面とを有し、前記第２平面が、前記プランジャの径方向に対し、前記第１平面の外縁又は当該外縁よりも外側まで延伸しているものであってもよい。
【００１２】
このようなものであれば、従来のダイアフラムに比べて、同じ径の筐体に対して比較的大きな径のダイアフラムを設けることができるようになり、ダイアフラムの撓み量も増す。これにより、ダイアフラムに接続されたプランジャの可動範囲が大きくなり、その結果、流体制御弁で制御できる流量レンジを広く（大きく）設定できるようになる。
【００１３】
また、前記弁体を支持する弾性体をさらに備え、前記弾性体が、前記プランジャによって前記弁体が押圧された状態で、前記弁体を前記プランジャ側へ押圧するように構成されているものであってもよい。
【００１４】
このようなものであれば、弾性体の押圧力によって弁体の平行度が保たれる。
【００１５】
また、本発明は、前記いずれかの流体体制御弁を備えた流体制御装置である。
【発明の効果】
【００１６】
このように構成した流体制御弁によれば、弁体及び弁座を接触させた場合に、プランジャが傾斜し難く、また、弁体及び弁座の間に流体が滞留し難くなる。制御可能な流量レンジを比較的広く設定できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】実施形態１に係る流体制御装置の全体構成を示す模式図である。
【図２】実施形態１に係る流体制御弁の構成を示す部分模式図である。
【図３】実施形態１に係る流体制御弁を構成する一部の部品を分解した状態を示す断面斜視図である。
【図４】実施形態１に係る流体制御弁を構成する一部の部品を組み立てた状態を示す断面斜視図である。
【図５】実施形態１に係る流体制御弁を構成するプランジャの一部を示す拡大模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下に、本発明に係る流体制御弁及びその流体制御弁を用いた流体制御装置を図面に基づいて説明する。
【００１９】
本発明に係る流体制御装置は、半導体製造プロセスに使用される所謂マスフローコントローラである。なお、本発明に係る流体制御装置は、半導体制御プロセスだけでなく、その他のプロセスにおいても使用することができる。
【００２０】
＜実施形態１＞  本実施形態に係る流体制御装置ＭＦＣは、図１に示すように、圧力式のものである。具体的には、流体制御装置ＭＦＣは、その内部に流路Ｌが設けられたブロック体Ｂと、ブロック体Ｂに設置される流体制御弁Ｖと、ブロック体Ｂの流体制御弁Ｖよりも下流側に設置される一対の圧力センサＰＳ１，ＰＳ２と、一対の圧力センサＰＳ１，ＰＳ２で測定される圧力値に基づき算出される流路Ｌの流量値が予め定められた目標値に近づくように流体制御弁Ｖをフィードバック制御する制御部Ｃと、を備えている。
【００２１】
前記ブロック体Ｂは、矩形状のものであり、その所定面に流体制御弁Ｖ及び一対の圧力センサＰＳ１，ＰＳ２が設置されている。また、ブロック体Ｂには、その所定面に流体制御弁Ｖを設置するための凹状の収容部Ｂ１が設けられており、その収容部Ｂ１によって流路Ｌが上流側流路Ｌ１と下流側流路Ｌ２とに分断されている。そして、収容部Ｂ１には、その底面に上流側流路Ｌ１の一端が開口していると共に、その側面に下流側流路Ｌ２の一端が開口している。
【００２２】
一対の圧力センサＰＳ１，ＰＳ２は、流路Ｌにおける層流素子Ｓ１の上流側と下流側にそれぞれ接続されており、いずれも一対の圧力センサＰＳ１，ＰＳ２の出力に基づいて流量を算出する流量算出部Ｓ２に接続されている。一対の圧力センサＰＳ１，ＰＳ２は、ブロック体Ｂの所定面に対して流体制御弁Ｖと共に一列に並べて取り付けてある。
【００２３】
前記流体制御弁Ｖは、所謂ノーマルオープンタイプのものである。具体的には、流体制御弁Ｖは、ブロック体Ｂの収容部Ｂ１に嵌め込まれる弁座１０と、弁座１０に対して接離方向へ移動できるように設置された弁体２０と、弁体２０を移動させるアクチュエータ３０と、弁体２０とアクチュエータ３０との間に介在し、アクチュエータ３０の動力を弁体２０に伝達するプランジャ４０と、アクチュエータ３０とプランジャ４０との間に介在し、プランジャ４０をアクチュエータ３０に接続する接続機構５０と、弁体２０を収容する弁室ＶＲの一部を構成し、プランジャ４０と一体的に接続された薄膜状のダイアフラム６０と、プランジャ４０に設置され、弁座１０に対する弁体２０の位置を示す出力値を出力する位置センサ７０と、を備えている。
【００２４】
また、前記流体制御弁Ｖは、アクチュエータ３０及びプランジャ４０を内部空間に収容し、ブロック体Ｂの所定面に設置される略筒状の筐体８０を備えている。筐体８０は、組立を考慮して複数の部品に分割されており、各部品は、ネジ止め或いはカシメ等によって連結される。なお、筐体８０には、その一端側に内部空間をダイアフラム６０によって仕切って形成された凹部８１が設けられている。そして、ブロック体Ｂの収容部Ｂ１に弁座１０を嵌め込んだ状態で、その収容部Ｂ１を塞ぐように筐体８０の一端を所定面に密着させることにより、その一端側に設けられた凹部８１によって弁室ＶＲが形成されるように構成されている。よって、弁室ＶＲは、その内面の一部、具体的には、弁座１０と対向する面がダイアフラム６０で構成される。そして、流体制御弁Ｖは、このダイアフラム６０の撓みを利用し、弁室ＶＲの気密性を保持しながら、アクチュエータ３０の動力をプランジャ４０を介して弁体２０に伝達するようになっている。
【００２５】
次に、本実施形態に係る流体制御弁Ｖの構成する各部材を図２〜図５に基づき詳細に説明する。なお、図３及び図４は、流体制御弁Ｖを構成する部品、特に、プランジャ４０や弁体１０及びその周辺を構成する部品のみを図示している。
【００２６】
前記弁座１０は、ブロック体Ｂの収容部Ｂ１に嵌り込むブロック状のものである。そして、弁座１０は、ブロック体Ｂの収容部Ｂ１に嵌め込んだ状態で、そのブロック体Ｂの所定面と同一方向を向く面が弁座面１１となっており、その弁座面１１が弁室ＶＲの内面の一部を構成している。また、弁座１０の内部には、上流側流路Ｌ１と連通する第１流路ｌ１と下流側流路Ｌ２と連通する複数の第２流路ｌ２とが設けられている。
【００２７】
前記第１流路ｌ１は、その一端が弁座面１１の中央に開口していると共に、その他端が収容部Ｂ１の底面と対向する面に開口している。また、前記第２流路ｌ２は、その一端が弁座面１１の中央を中心とした同心円上に開口していると共に、その他端が収容部Ｂ１の内側面と対向する外側面に開口している。そして、弁座１０の外側面は、段状になっており、弁座面１１側が収容部Ｂ１の内側面と密着するようになっていると共に、弁座面１１と反対面側が収容部Ｂ１の内側面と隙間１２を空けて対向するようになっている。これにより、ブロック体Ｂの収容部Ｂ１に弁座１０を嵌め込んだ状態で、第１流路Ｌ１が上流側流路ｌ１と連通すると共に、第２流路Ｌ２が隙間１２を介して下流側流路ｌ２と連通するようになっている。
【００２８】
前記弁座面１１には、その中央を中心として同心円状に複数の導通溝１３が形成されている。そして、各流通溝１３には、第２流路ｌ２へと連通する複数の導通孔１４が等間隔に配置されている。これにより、弁室ＶＲ内に滞留する流体が偏りなく第２流路ｌ２へ導出されるようになっている。
【００２９】
前記弁体２０は、弁座面１１と対向する平坦な着座面２１を有する薄板状のものである。そして、弁体２０には、着座面２１と反対側の面であるダイアフラム６０と対向する面に曲面状（具体的には、球面状）の傾斜抑制突起２２が設けられている。なお、傾斜抑制突起２２は、ダイアフラム６０に接続されるプランジャ４０と対向するように設けられている。また、傾斜抑制突起２２は、弁体２０の軸（図２中、一点鎖線にて示す。）上にその頂点が位置するように設けられており、また、その頂点がプランジャ４０の軸（図２中、一点鎖線にて示す。）上に位置するように配置されている。また、弁体２０は、弁座面１１に対し、その弁座面１１に設置された支持リング２３上に載置されるリング状の板バネ２４（弾性体）を介して支持されている。これにより、弁体２０は、弁座１０側に対する押圧力に対して板バネ２４によって反発するようになっている。
【００３０】
前記アクチュエータ３０は、ピエゾ素子を複数枚積層してなるピエゾスタック３１と、ピエゾスタック３１に対して電圧を印加するための端子３２（図１参照）と、を備えている。そして、アクチュエータ３０は、筐体８０の他端側に保持されており、端子３２を介して印加される電圧によってピエゾスタック３１が筐体８０の一端側に向かって伸長するように構成されている。
【００３１】
前記プランジャ４０は、その一端側がダイアフラム６０と一体的に形成され、その他端側がアクチュエータ３０側へ伸びる棒状のものである。そして、プランジャ４０は、ダイアフラム６０とアクチュエータ３０との間で分割されており、ダイアフラム６０と接続される第１分割体４１と、第１分割体４１よりもアクチュエータ３０側に配置される第２分割体４２と、を備えている。
【００３２】
前記第１分割体４１は、その弁体２０側の周面にダイアフラム６０が一体的に形成されている。そして、第１分割体４１は、その弁体２０側の先端面が当該弁体２０の傾斜抑制突起２２と接触するように構成されている。具体的には、第１分割体４１（プランジャ４０）は、その軸上に位置する点で傾斜抑制突起２２の頂点と点接触している。ここで、点接触とは、弁体２０及びプランジャ４０が厳密に点で接触している状態の他、経年劣化によって弁体２０及びプランジャ４０の接触点が変形して厳密に点接触していないような状態や、弁体２０及びプランジャ４０の製造において生じる誤差等によって厳密に点接触していないような状態も含まれる。また、第１分割体４１は、そのアクチュエータ３０側に第２分割体４２と連結される連結凸部４１ｚが設けられている。
【００３３】
前記第２分割体４２は、そのアクチュエータ３０側の周面にネジ溝４２ｘが形成されている。そして、第２分割体４２は、そのアクチュエータ３０側が接続機構５０を介してアクチュエータ３０に接続されている。具体的には、接続機構５０は、第２分割体４２のネジ溝４２ｘが嵌り込むネジ孔５１ｘを備えた略ナット状のネジ部材５１と、ネジ部材５１と嵌り合ってアクチュエータ３０と接触する接触部材５２と、を備えており、これらの部材５１，５２を介して第２分割体４２は、アクチュエータ３０に接続されている。また、第２分割体４２は、その弁体２０側に第１分割体４１と連結される連結凹部４２ｚが設けられている。
【００３４】
なお、前記ネジ部材５１及び前記接触部材５２は、プランジャ４０の軸方向に対して交差する方向（直交する方向）へ互いに摺動できるように接続されている。これにより、前記各部材の製造や組立てによる誤差によって生じる前記軸方向と直交する方向への軸ズレを吸収できるようになっている。
【００３５】
また、前記第２分割体４２は、押圧機構９０によってアクチュエータ３０側に押圧される構造になっている。具体的には、押圧機構９０は、筐体８０内で位置ズレしないように保持された支持部材９１と、第１分割体４１が通され、支持部材９１に一端が支持される弾性体９２（例えば、コイルバネ）と、を備えている。そして、第２分割体４２は、プランジャ４０がアクチュエータ３０に押圧されて弁体２０側へ移動し、ダイアフラム６０が弁室ＶＲ側へ撓んだ状態になると、弾性体９２によってアクチュエータ３０側に押圧されるようになっている。
【００３６】
次に、前記第１分割体４１及び前記第２分割体４２の連結構造について図５に基づき詳述する。
【００３７】
前記第１分割体４１及び前記第２分割体４２は、連結凸部４１ｚ及び連結凹部４２ｚを介して互いに連結するように構成されている。前記連結凸部４１ｚは、断面Ｔ字状に形成されている。連結凸部４１ｚには、その外周面に嵌合片４１ａが設けられている。なお、嵌合片４１ａは、プランジャ４０の軸方向に伸びる軸を中心として回転対称となる形状になっており、これにより、プランジャ４０の周方向に周回する形状になっている。また、前記連結凹部４２ｘは、断面Ｔ字状に形成されており、一側面から当該一側面と反対面へ貫通している。連結凹部４２ｘには、その内周面に嵌合片４１ａが嵌り込む嵌合溝４２ａが設けられている。
【００３８】
また、嵌合溝４２ａのプランジャ４０の軸方向に対する幅は、嵌合片４１ａの当該軸方向に対する幅よりも所定距離αだけ長くなっている。さらに、嵌合溝４２ａのプランジャ４０の軸方向と直交する方向に対する径は、嵌合片４１ａの当該直交する方向に対する径よりも所定距離βだけ長くなっている。
【００３９】
前記第１分割体４１及び前記第２分割体４２は、連結凸部４１ａを連結凹部４２ａにスライドして嵌め込んで連結できるように構成されており、この時、嵌合片４１ａに嵌合溝４２ａが嵌り込んだ状態となる。そして、第２分割体４２は、嵌合片４１ａ及び嵌合溝４２ａの嵌め合わせにより、嵌合片４１ａに沿って嵌合溝４２ａを摺動させて、第２分割体４２の周方向（図３中、矢印Ａ方向）へフリー回転するように構成されている。言い換えれば、第２分割体４２は、第１分割体４１に対し、ネジ部材５１の締め方向及び緩め方向へ回転自在になっている。また、第２分割体４２は、嵌合片４１ａ及び嵌合溝４２ａの嵌め合わせにより、嵌合片４１ａに沿って嵌合溝４２ａをプランジャ４０の軸方向へ摺動させて所定距離αスライドするように構成されている。さらに、第２分割体４２は、嵌合片４１ａ及び嵌合溝４２ａの嵌め合わせにより、嵌合片４１ａに沿ってプランジャ４０の軸方向と直交する方向へ摺動させて所定距離βスライドできるように構成されている。
【００４０】
前記ダイアフラム６０は、筐体８０の内部空間を仕切るように形成されており、弁室ＶＲの気密性を保持しながらプランジャ４０の動きを弁体２０に伝達する役割を果たすものである。そして、ダイアフラム６０は、弁室ＶＲ側を向く第１平面６１と、弁室ＶＲと反対側（筐体８０の内部空間側）を向く第２平面６２と、を有している。そして、第２平面６２が、ダイアフラム６０に接続されたプランジャ４０の径方向に対し、第１平面の外縁よりも外側まで延伸している。これにより、ダイアフラム６０の直径を大きく設定できるようになり、ダイアフラム６０を大きく撓ませることができるようになる。その結果、プランジャ４０の軸方向に対する移動の自由度が上がり、これに伴って弁体２０の移動距離も増す。これにより、流体制御弁Ｖによって制御できる流量レンジを広くすることができるようになる。
【００４１】
前記位置センサ７０は、弁座１０の弁座面１１に対する弁体２０の着座面２１の位置を示す出力値を出力するものである。そして、位置センサ７０は、弁座１０の弁座面１１に対する相対位置が変化しないように筐体８０に固定された第１センサ部７１と、第２分割体４２に固定される第２センサ部７２と、を備えており、第１センサ部７１とそのターゲットとなる第２センサ部７２との相対位置（相対距離）に基づく値を前記出力値として出力するように構成されている。なお、第１センサ部７１は、筐体８０に支持された板バネ７３によって弁座１０側へ常時押圧されており、これにより、位置ズレを抑制している。また、第２センサ部７２は、第２分割体４２に対してネジ部材５１を介して位置ズレしないように固定されている。これにより、位置センサ７０を構成する各部材の位置が固定され、位置センサ７０による検出精度が向上する。
【００４２】
前記制御部Ｃは、ＣＰＵ、メモリ、Ａ／Ｄ・Ｄ／Ａコンバータ等を備えた所謂コンピュータを有し、前記メモリに格納されているプログラムが実行され、各種機器が協働することによって前記各機能が実現されるようにしてある。具体的には、流量算出部Ｓ３で算出された流量値が予めメモリに記憶された目標値に近づくように流体制御弁Ｖを位置センサ７０の出力値をフィードバック制御するものである。
【００４３】
次に、本実施形態に係る流体制御弁Ｖの動作について説明する。
【００４４】
前記流体制御弁Ｖは、アクチュエータ３０に電圧が印加されていない状態において、弁開度（弁座１０の弁座面１１と弁体２０の着座面２１との間の距離）が所定値になるように設定されている。なお、この弁開度が所定値になった状態が流体制御弁Ｖの全開状態となる。
【００４５】
次に、アクチュエータ３０に電圧が印加された状態になると、アクチュエータ３０が伸びる。そして、このアクチュエータ３０の伸びに伴う動力が接続機構５０、第２分割体４２（プランジャ）、第１分割体４１（プランジャ）の順番で弁体２０へと伝達され、弁体２０が板バネ２４の押圧に抗するように弁座２０に接触する方向（近づく方向）に向かって移動する。これにより、弁開度が所定値よりも小さい値となる。なお、アクチュエータ３０は、印加される電圧値が大きくなるほどその伸びが大きくなるため、電圧値の大きさを調節することにより、弁開度を制御できるようになっている。
【００４６】
なお、アクチュエータ３０に印加される電圧が所定値以上になると、弁座１０の弁座面１１と弁体２０の着座面２１とが接触する。この時、弁座１０及び弁体２０の公差によって弁体２０が傾斜することがあるが、弁体２０及びプランジャ４０は、傾斜抑制突起２２を介して接触するため、その傾斜によるプランジャ４０の傾斜が抑制される。
【００４７】
続いて、アクチュエータ３０に印加される電圧が小さくなると、アクチュエータ３０が縮む。そして、このアクチュエータ３０の縮みに伴って弁体２０が板バネ２４の押圧によって弁座１０と離間する方向（遠ざかる方向）に向かって移動する。これにより、弁開度が大きい値になる。
【００４８】
ここで、アクチュエータ３０に印加された電圧が小さくなる場合には、アクチュエータ３０の縮みに伴う動力が直接ダイアフラム６０に伝達されないようになっている。詳述すると、アクチュエータ３０が縮むと、第２分割体４２は、弾性体９２の押圧によってアクチュエータ３０側へ移動する。しかし、第２分割体４２は、第１分割体４１に対して所定距離αスライドできるように構成されていることから、第２分割体４２の動作がこのスライド動作によって吸収されて第１分割体４１に対して直接伝達されないようになっている。そして、第１分割体４１が、ダイアフラム６０の復元力によってアクチュエータ３０側へ移動すると共に、弁体２０が、板バネ２４の押圧によって弁座１０から離間する方向へ移動し、弁開度が大きい値になる。これにより、アクチュエータ３０の縮みに伴う力がダイアフラム６０へ直接伝達され難くなり、ダイアフラム６０の損傷を抑制できる。また、プランジャ４０が一体に形成されたものに比べて、プランジャ４０をアクチュエータ３０側へ移動させるための動力（押圧機構９０の押圧力、ダイアフラム６０の復元力）が増える。これにより、アクチュエータ３０の縮みによる動きに伴うプランジャ４０の追従動作が速くなり、流体制御弁Ｖの応答性が向上する。
【００４９】
＜その他の実施形態＞  前記実施形態１においては、弁体２０の傾斜抑制突起２２として、曲面状のものを採用しているが、例えば、円錐状、角錐状等のものあってもよい。但し、傾斜抑制突起２２を曲面状とした方が、プランジャ４０との接触によって潰れ難くなる。また、前記実施形態１においては、弁体２０側に傾斜抑制突起２２を設けたが、プランジャ４０側に傾斜抑制突起２２を設けてもよく、弁体２０側及びプランジャ４０側の両方に傾斜抑制突起２２を設けてもよい。
【００５０】
また、前記実施形態１においては、ダイアフラム６０の第２平面６２を、プランジャ４０の径方向に対し、第１平面６１の外縁よりも外側まで延伸しているが、第１平面６１の外縁まで延伸しているものであってもよい。なお、言い換えれば、第２平面６２の周縁が、第１平面６１の周縁又はその周縁よりも外側まで延伸しているものであるともいえる。
【００５１】
また、前記実施形態１においては、ノーマルオープンタイプの流体制御弁Ｖを例示して本発明を説明しているが、本発明は、ノーマルクローズタイプの流体制御弁にも適用することができる。
【００５２】
また、前記実施形態１においては、流体制御弁Ｖのアクチュエータ３０としてピエゾ素子（ピエゾスタック）を使用しているが、ソレノイド等を使用してもよい。
【００５３】
また、前記実施形態１においては、流体制御装置ＭＦＣとして、位置センサ７０の出力値に基づき流体制御弁Ｖをフィードバック制御する方式のマスフローコントローラを例示して説明しているが、本発明は、熱式流量センサ又は圧力式流量センサの測定値に基づき流体制御弁をフィードバック制御する方式のマスフローコントローラにも適用できる。
【００５４】
その他、本発明は前記各実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であるのは言うまでもない。
【符号の説明】
【００５５】
ＭＦＣ  流体制御装置
Ｂ  ブロック体
Ｓ  流量センサ
Ｖ  流体制御弁
１０  弁座
２０  弁体
２１  着座面
２２  傾斜抑制突起
３０  アクチュエータ
４０  プランジャ
６０  ダイアフラム
６１  第１平面
６２  第２平面
７０  位置センサ
８０  筐体
９０  押圧機構
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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