(57)【要約】【課題】スケール洗浄性、ゴムパッキン適合性、金属腐食防止性に優れ、且つ貯蔵安定性を有する酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物を提供する。【解決手段】本発明の酸性ＣＩＰ用洗浄剤洗浄剤組成物は、（Ａ）メタンスルホン酸、（Ｂ）クエン酸を含有し、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の質量比が、（Ａ）／（Ｂ）の値が０．０２５以上、２．５未満となる割合で含有することを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）メタンスルホン酸、
（Ｂ）クエン酸
を含有し、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の質量比が、（Ａ）／（Ｂ）の値が０．０２５以上、２．５未満となる割合で含有することを特徴とする酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物。
【請求項２】
さらに、（Ｃ）リン酸、有機ホスホン酸、有機ホスフィン酸又はこれらの塩より選ばれた少なくとも一種を含有することを特徴とする請求項１に記載の酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物。
【請求項３】
さらに、（Ｄ）ノニオン界面活性剤を含有することを特徴とする請求項１又は２のいずれか一項に記載の酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物。
【請求項４】
（Ａ）成分と（Ｂ）成分の質量比が、（Ａ）／（Ｂ）の値が０．１以上、１以下となる割合で含有することを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物。
【請求項５】
組成物中の蒸発残留物の合計割合が３０質量％以上、８０質量％以下である請求項１から４のいずれか一項に記載の酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物。
【請求項６】
上記請求項１から５のいずれか一項に記載の酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物を、（Ａ）成分の濃度が０．０１質量％以上、１０質量％以下となるように希釈した水溶液として酸洗浄工程に用い、被洗浄物を、１）水によるすすぎ洗浄、２）アルカリ洗浄、３）水によるすすぎ洗浄、４）酸洗浄、５）水によるすすぎ洗浄、の各工程を、１）〜５）の各工程間において乾燥処理を行うことなく順次行って洗浄することを特徴とするＣＩＰ洗浄方法。
【請求項７】
上記請求項１から５のいずれか一項に記載の酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物を、（Ａ）成分の濃度が０．０１質量％以上、１０質量％以下となるように希釈した水溶液として酸洗浄工程に用い、被洗浄物を、１）水によるすすぎ洗浄、２）酸洗浄、３）水によるすすぎ洗浄、４）アルカリ洗浄、５）水によるすすぎ洗浄、の各工程を、１）〜５）の各工程間において乾燥処理を行うことなく順次行って洗浄することを特徴とするＣＩＰ洗浄方法。
【請求項８】
上記請求項１から５のいずれか一項に記載の酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物を、（Ａ）成分の濃度が０．０１質量％以上、１０質量％以下となるように希釈した水溶液として酸洗浄工程に用い、被洗浄物を、１）水によるすすぎ洗浄、２）酸洗浄、３）水によるすすぎをせずに酸洗浄液を排出し、４）アルカリ洗浄、５）水によるすすぎ洗浄、の各工程を、１）〜５）の各工程間において乾燥処理を行うことなく順次行って洗浄することを特徴とするＣＩＰ洗浄方法。
【請求項９】
上記請求項１から５のいずれか一項に記載の酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物を、（Ａ）成分の濃度が０．０１質量％以上、１０質量％以下となるように希釈した水溶液として酸洗浄工程に用い、被洗浄物を、１）水によるすすぎ洗浄、２）酸洗浄、３）水によるすすぎ、及び酸洗浄液の排出をしないで、４）アルカリ洗浄、５）水によるすすぎ洗浄、の各工程を、１）〜５）の各工程間において乾燥処理を行うことなく順次行って洗浄することを特徴とするＣＩＰ洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物及びそれを用いたＣＩＰ洗浄方法に関する。詳しくは、食品、飲料工場等の製造設備や製造機器類のＣＩＰ洗浄に使用する酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物及びそれを用いたＣＩＰ洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
食品工場、飲料工場等では、その製造設備や製造機器類のためにＣＩＰ洗浄によって洗浄を行っている。ＣＩＰ洗浄とは“Ｃｌｅａｎｉｎｇ  ｉｎ  ｐｌａｃｅ”の頭文字をとったもので、製造設備や製造機器類を分解することなく、そのままの状態で洗浄液を流通させてその内部を満たして循環させたり、さらには洗浄液をスプレーしたりして、残留汚れを洗浄・除去する洗浄方法であり、定置洗浄又は定置循環洗浄とも呼ばれている。このＣＩＰ洗浄には、アルカリ洗浄剤、酸洗浄剤、さらには殺菌剤などが使用されている。一般に、１．水洗浄、２．アルカリ洗浄、３．水すすぎ、４．酸洗浄、５．水すすぎ、６．殺菌、７．水すすぎという工程で行われているが、洗浄剤の配合成分、汚れの種類や状態に応じて、一部が省略されたり、順序が変更されたり、あるいは同じ工程が繰り返し実施される場合もある。また、対象となる汚れは食品残渣であり、タンパク質、油脂及び炭水化物などの有機質汚れ、炭酸カルシウム、燐酸カルシウム及びケイ酸カルシウムなどの無機質汚れが挙げられる。さらに有機質汚れについては殺菌機などで見られる加熱変性した強固なものも存在する。
【０００３】
ＣＩＰ洗浄に際して、酸洗浄工程に用いる酸として、従来、硝酸が広く利用されていた。しかし、硝酸は強酸であり、また酸化力を有する。このため、例えば、製造設備、配管ライン中、配管連結部、熱交換器、充填機などをＣＩＰ洗浄する際に、設備等に使用されているゴムパッキンにヒビ割れや硬化が生じ、ゴムパッキンを腐食する等の影響を及ぼす。
【０００４】
そこで、近年、食品製造設備のＣＩＰ洗浄用に、酸として硝酸の代わりにスルファミン酸を用い、スルファミン酸を安定化させるための尿素と併用した酸洗浄剤組成物が提案されている（例えば、特許文献１）。また、飲料水配管から固形沈積物を除去する目的として、スルファミン酸、メタンスルホン酸、ホスホノブタン−トリカルボン酸、２−プロパノールを特定の割合で含む洗浄剤が有効であると提案されている（特許文献２）。さらに、メタンスルホン酸、硝酸及びリン酸を含む茹で麺装置用酸洗浄剤（特許文献３）や、硬質材料表面に付着したスケールを除去する酸性洗浄剤として、メタンスルホン酸とクエン酸等のヒドロキシカルボン酸との混合物を用いることも提案されている（特許文献４）。さらに、メタンスルホン酸とクエン酸を特定の比率で配合したＣＩＰ用酸性洗浄剤組成物も提案されている（特許文献５）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−２１７８２７号公報
【特許文献２】特開２００８−２６６５６２号公報
【特許文献３】特開２０１１−３２３９６号公報
【特許文献４】特開２０１３−３１８２３号公報
【特許文献５】特開２０１５−７４６６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１〜３に記載されている洗浄剤は、ゴムパッキンに対してヒビ割れや硬化等の影響を及ぼすこと、もしくは、設備等に用いられるステンレス材質に対して腐食を及ぼす問題があり、両者を満足するものはなかった。また、特許文献４に記載されている酸性洗浄剤は、金属腐食防止性はあるものの、ＣＩＰ洗浄剤のように高濃縮化すると貯蔵安定性が低下し、容易に高濃度の洗浄剤とすることができないため、製造、容器及び輸送費用などのコスト、加えてそれに伴う二酸化炭素排出量削減などの点で、満足のいくものではなかった。しかも、ＣＩＰ洗浄工程では、特許文献４に記載されているような、酸洗浄処理とアルカリ洗浄処理の間で乾燥処理を施すと、酸洗浄液やアルカリ洗浄液によって一旦洗浄された汚れが乾燥処理工程後に設備に付着残留してしまうという問題がある。特許文献５に記載されているＣＩＰ用酸性洗浄剤組成物は、高温時の金属腐食防止性において依然として課題がある。
従って、本発明が解決しようとする課題は、スケール洗浄性、ゴムパッキン適合性、金属腐食防止性に優れ、且つ高濃度としても貯蔵安定性が良好な酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物及びそれを用いたＣＩＰ洗浄方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明者等は鋭意検討した結果、メタンスルホン酸、クエン酸という特定の化合物を選択して組みあわせ、メタンスルホン酸に対してクエン酸を特定の比率で組みあわせることで、メタンスルホン酸、クエン酸の含有量を高濃度化しても貯蔵安定性に優れた酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物を得ることができるとともに、スケール洗浄性にも優れ、従来の酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物が有していた金属に対する腐食性とゴムに対する腐食性の問題を同時に解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
即ち本発明は、
（１）（Ａ）メタンスルホン酸、（Ｂ）クエン酸を含有し、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の質量比が、（Ａ）／（Ｂ）の値が０．０２５以上、２．５未満となる割合で含有することを特徴とする酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物、
（２）さらに、（Ｃ）リン酸、有機ホスホン酸、有機ホスフィン酸又はこれらの塩より選ばれた少なくとも一種を含有することを特徴とする上記（１）の酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物、
（３）さらに、（Ｄ）ノニオン界面活性剤を含有することを特徴とする上記（１）又は（２）のいずれかの酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物、
（４）（Ａ）成分と（Ｂ）成分の質量比が、（Ａ）／（Ｂ）の値が０．１以上、１以下となる割合で含有することを特徴とする上記（１）から（３）のいずれかの酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物、
（５）組成物中の蒸発残留物の合計割合が３０質量％以上、８０質量％以下である上記（１）から（４）のいずれかの酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物、
（６）上記（１）〜（５）のいずれかの酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物を、（Ａ）成分の濃度が０．０１質量％以上、１０質量％以下となるように希釈した水溶液として酸洗浄工程に用い、被洗浄物を、１）水によるすすぎ洗浄、２）アルカリ洗浄、３）水によるすすぎ洗浄、４）酸洗浄、５）水によるすすぎ洗浄、の各工程を、１）〜５）の各工程間において乾燥処理を行うことなく順次行って洗浄することを特徴とするＣＩＰ洗浄方法、
（７）上記（１）〜（５）のいずれかの酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物を、（Ａ）成分の濃度が０．０１質量％以上、１０質量％以下となるように希釈した水溶液として酸洗浄工程に用い、被洗浄物を、１）水によるすすぎ洗浄、２）酸洗浄、３）水によるすすぎ洗浄、４）アルカリ洗浄、５）水によるすすぎ洗浄、の各工程を、１）〜５）の各工程間において乾燥処理を行うことなく順次行って洗浄することを特徴とするＣＩＰ洗浄方法、
（８）上記（１）から（５）のいずれかの酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物を、（Ａ）成分の濃度が０．０１質量％以上、１０質量％以下となるように希釈した水溶液として酸洗浄工程に用い、被洗浄物を、１）水によるすすぎ洗浄、２）酸洗浄、３）水によるすすぎをせずに酸洗浄液を排出し、４）アルカリ洗浄、５）水によるすすぎ洗浄、の各工程を、１）〜５）の各工程間において乾燥処理を行うことなく順次行って洗浄することを特徴とするＣＩＰ洗浄方法、
（９）上記（１）から（５）のいずれかの酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物を、（Ａ）成分の濃度が０．０１質量％以上、１０質量％以下となるように希釈した水溶液として酸洗浄工程に用い、被洗浄物を、１）水によるすすぎ洗浄、２）酸洗浄、３）水によるすすぎ、及び酸洗浄液の排出をしないで、４）アルカリ洗浄、５）水によるすすぎ洗浄、の各工程を、１）〜５）の各工程間において乾燥処理を行うことなく順次行って洗浄することを特徴とするＣＩＰ洗浄方法、
を要旨とするものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物及びそれを用いたＣＩＰ洗浄方法は、スケール洗浄性、ゴムパッキン適合性、金属腐食防止性に優れ、且つ貯蔵安定性が良好である等の効果を奏する。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物は、（Ａ）成分としてメタンスルホン酸、（Ｂ）成分としてクエン酸とを含有する。
本発明の酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物は、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の質量比が、（Ａ）／（Ｂ）の値が０．０２５以上、２．５未満となる割合で含有するが、０．０５以上、１．５以下となる割合が好ましく、０．１以上、１以下となる割合がより好ましい。（Ａ）／（Ｂ）の値が０．０２５未満であると、炭酸カルシウムに対するスケール洗浄性が低下する場合があり、２．５を超えると、金属腐食防止性およびゴムパッキン適合性が低下する場合や、高濃縮化ができない場合がある。
【００１１】
本発明の酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物には、上記（Ａ）成分、（Ｂ）成分の他に、更に（Ｃ）成分としてリン酸、有機ホスホン酸、有機ホスフィン酸又はこれらの塩より選ばれた少なくとも一種が配合されていると、スケール洗浄性、特に鉄スケール洗浄性が向上するため、好ましい。
（Ｃ）成分の有機ホスホン酸、有機ホスフィン酸としては、分子内に少なくとも１つ以上のホスホン酸基を含む化合物であり、具体的には、メチルジホスホン酸、エチリデンジホスホン酸、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸、１−ヒドロキシプロピリデン−１，１−ジホスホン酸、１−ヒドロキシブチリデン−１，１−ジホスホン酸、エチルアミノビス（メチレンホスホン酸）、ドデシルアミノビス（メチレンホスホン酸）、エチレンジアミンビス（メチレンホスホン酸）、アミノトリ（メチレンホスホン酸）、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、１，２−プロピレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、ヘキサメチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、シクロヘキサンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、グリコールエーテルジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）、トリエチレンテトラミンヘキサ（メチレンホスホン酸）、トリ（２−アミノエチル）アミンヘキサ（メチレンホスホン酸）、テトラエチレンペンタミンヘプタ（メチレンホスホン酸）、ペンタエチレンヘキサミンオクタ（メチレンホスホン酸）、２−ホスホノブタン−１，２，４−トリカルボン酸、アミノトリメチレンホスホン酸、ビス（ポリ−２−カルボキシエチル）ホスフィン酸又はその塩、ホスフィノカルボン酸共重合物等が挙げられ、これらの中でも、スケール洗浄性の点から、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸、２−ホスホノブタン−１，２，４−トリカルボン酸、アミノトリ（メチレンホスホン酸）、エチレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）が好ましい。
【００１２】
（Ｃ）成分であるリン酸、有機ホスホン酸、有機ホスフィン酸又はこれらの塩より選ばれた少なくとも一種の配合量は、酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物中に１質量％以上、５０質量％以下となる割合で含有することが好ましく、３質量％以上、２５質量％以下となる割合で含有することがより好ましく、５質量％以上、２０質量％以下となる割合で含有することが更に好ましい。（Ｃ）成分が１質量％未満であると、スケール洗浄性の効果が少なく現実的ではなく、５０質量％を超えると貯蔵安定性が低下する場合がある。（Ｃ）成分は１種又は２種以上を併用することができる。
【００１３】
本発明の酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物は、更に（Ｄ）成分としてノニオン界面活性剤を配合してもよい。（Ｄ）成分のノニオン界面活性剤としては、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンジアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルエステル、ポリオキシアルキレンアルキルジエステル、ポリオキシアルキレンアルキルアリールエーテル、グリセリン脂肪酸エステル又はそのエチレンオキサイド付加物、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビット脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンヒマシ油、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキシエチレンアルキルアミン、高級脂肪酸アルカノールアミド、アルキルグリコシド、アルキルアミンオキサイド等が挙げられる。これらの中でも、泡立ちが少ない点から、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルケニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテル、エチレンオキシドとプロピレンオキシドのランダム或いはブロック付加体等のポリアルキレンオキサイド付加物が好ましい。
【００１４】
（Ｄ）成分であるノニオン界面活性剤の配合量は、酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物中に０．０１質量％以上、５質量％以下となる割合で含有することが好ましく、０．０３質量％以上、２質量％以下となる割合で含有することがより好ましく、０．０５質量％以上、１質量％以下となる割合で含有することが更に好ましい。（Ｄ）成分の配合量が０．０１質量％未満であると、有機質汚れに対する洗浄性効果が期待できない場合があり、５質量％を超えると泡立ちが多くなる場合があるために好ましくない。（Ｄ）成分のノニオン界面活性剤は、１種又は２種以上を併用することができる。
【００１５】
本発明の酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物は、本発明の効果が損なわない範囲で、酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物の製剤形態に応じて、当該技術分野で通常使用される成分を含有していてもよい。このような成分としては、例えば、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分以外のその他の酸成分や、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤等の界面活性剤、消泡剤、有機溶剤、増粘剤、香料、色素、防腐剤等が挙げられる。
【００１６】
（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分以外のその他の酸成分としては、例えば、グリコール酸、乳酸、リンゴ酸、グルコン酸、酒石酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、酢酸、イセチオン酸、アジピン酸等が挙げられる。
【００１７】
アニオン界面活性剤としては、例えば、高級アルコール硫酸エステル塩、硫化オレフィン塩、高級アルキルスルホン酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩、硫酸化脂肪酸塩、スルホン化脂肪酸塩、リン酸エステル塩、脂肪酸エステルの硫酸エステル塩、グリセライド硫酸エステル塩、脂肪酸エステルのスルホン酸塩、α−スルホ脂肪酸メチルエステル塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩、脂肪酸アルカノールアミド又はそのアルキレンオキサイド付加物の硫酸エステル塩、スルホコハク酸エステル、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、アルキルベンゾイミダゾールスルホン酸塩、Ｎ−アシル−Ｎ−メチルタウリンの塩、アシルオキシエタンスルホン酸塩、アルコキシエタンスルホン酸、Ｎ−アシル−Ｎ−カルボキシエチルタウリン又はその塩、及びアルキル又はアルケニルアミノカルボキシメチル硫酸塩等を挙げることができる。
【００１８】
カチオン界面活性剤としては、例えば、アルキル（アルケニル）トリメチルアンモニウム塩、ジアルキル（アルケニル）ジメチルアンモニウム塩、アルキル（アルケニル）四級アンモニウム塩、エーテル基或いはエステル基或いはアミド基を含有するモノ或いはジアルキル（アルケニル）四級アンモニウム塩、アルキル（アルケニル）ピリジニウム塩、アルキル（アルケニル）ジメチルベンジルアンモニウム塩、アルキル（アルケニル）イソキノリニウム塩、ジアルキル（アルケニル）モルホニウム塩、ポリオキシエチレンアルキル（アルケニル）アミン、アルキル（アルケニル）アミン塩、ポリアミン脂肪酸誘導体、アミルアルコール脂肪酸誘導体、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム等が挙げられる。
【００１９】
両性界面活性剤としては、例えば、ラウリルジメチルベタイン、ラウリルジエチルベタイン、ステアリルジメチルベタイン、オレイルジメチルベタイン、ラウリルジヒドロキシエチルベタイン等のアルキルベタイン型両性界面活性剤；Ｎ−ヤシ脂肪酸アシル−Ｎ−カルボキシメチル−Ｎ−ヒドロキシエチルエチレンジアミンナトリウム（２−ヤシアルキル−Ｎ−カルボキシメチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリウムベタイン）、Ｎ−ヤシ脂肪酸アシル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルエチレンジアミンナトリウム、Ｎ−牛脂脂肪酸アシル−Ｎ−カルボキシメチル−Ｎ−ヒドロキシエチルエチレンジアミンナトリウム、Ｎ−牛脂脂肪酸アシル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルエチレンジアミンナトリウム等のイミダゾリウムベタイン型両性界面活性剤；ラウリン酸アミドプロピルベタイン、ステアリン酸アミドプロピルベタイン、オレイン酸アミドプロピルベタイン等のアミドプロピルベタイン型両性界面活性剤；ラウリルアミノプロピオン酸ナトリウム、オレイルアミノプロピオン酸ナトリウム、ラウリルアミノジプロピオン酸ナトリウム、オレイルアミノジプロピオン酸ナトリウム等のアミノ酸型両性界面活性剤が挙げられる。
【００２０】
消泡剤としては、シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、アルキル変性シリコーン、及びこれらのシリコーン物質を使用したシリコーン系エマルション等のシリコーン系消泡剤；ポリエーテル系消泡剤等が挙げられる。これらの消泡剤は、本発明の酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物中の濃度が０．０００１質量％以上、１質量％以下となる量を添加することが好ましく、０．０００３質量％以上、０．５質量％以下となる量を添加することがより好ましい。
【００２１】
有機溶剤としては、例えば、エタノール、プロパノール、ブタノール等の低級アルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール等のグリコール類、グリセリン、ポリグリセリン、ソルビトール等のポリオール類が挙げられる。これらの溶剤は、本発明の酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物中の濃度が、０．００１質量％以上、５質量％以下となる量を添加することが好ましく、０．００５質量％以上、１質量％以下となる量を添加することがより好ましい。
【００２２】
増粘剤としては、例えば、セルロース・ポリマー（カルボキシメチルセルロースなど）、ポリアクリル酸ソーダ、ポリビニルアルコール、カルボキシビニルポリマー、植物の粘液からのキサンタン・ガム、グアール・ガムなどの天然ガム、アルギネート、スターチ、多糖類をベースとする増粘剤、ペクチンなどのハイドロコロイド増粘剤等が挙げられる。増粘剤は、本発明の酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物中の濃度が０．０５質量％以上、４質量％以下となる量を添加することが好ましく、０．１質量％以上、２質量％以下となる量を添加することがより好ましく、０.２質量％以上、１質量％以下となる量を添加することがより好ましい。
【００２３】
香料としては、例えば、天然香料、合成香料、これらの調合香料等が挙げられる。色素としては、例えば、天然色素、合成色素、これらの混合物が挙げられる。
【００２４】
防腐剤としては、例えば、チアゾリン類、ヒダントイン類や、ヨード−２−プロピニルブチルカーバメイト、イソプロピルメチルフェノール、ヘキサクロロフェン、イルガサン、トリクロサン等が挙げられる。チアゾリン類としては、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、イソチアゾリン−３−オン、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン、Ｎ−ｎ−ブチル−ベンズイソチアゾリン−３−オン等が挙げられる。ヒダントイン類としては、１，３−ジメチロール−５，５−ジメチルヒダントイン、１又は３−モノメチロール−５，５−ジメチルヒダントイン、ジメチルヒダントイン、１、３−ジクロロ−５，５−ジメチルヒダントイン、１、３−ジクロロエチルメチルヒダントイン等が挙げられる。これら酸性洗浄剤のうち、より好ましいものとしては１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オンやイソプロピルメチルフェノールが挙げられる。これらは単独でも２種以上を組み合わせて用いても良い。
【００２５】
本発明の酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物は、組成物中の蒸発残留物の合計の割合が、３０質量％以上、８０質量％以下であることが好ましく、３２質量％以上、６５質量％以下がより好ましい。蒸発残留物とは、洗浄剤組成物中に含まれている水等の蒸発成分が蒸発した後に残留する残査分であり、蒸発残留物の割合は、ＪＩＳ Ｋ ０１０２（２００８）に定められた方法で、以下のようにして求める。
【００２６】
洗浄剤組成物中の蒸発残留物測定法
蒸発皿を１０５℃の乾燥機内で１時間加熱した後、シリカゲル（青色）入りのデシケーター内で放冷し、質量を測定する操作を、蒸発皿の質量が恒量化するまで繰り返し、「蒸発皿の質量」を求める。
恒量化した蒸発皿に洗浄剤組成物の試料を入れ、「加熱前の試料と蒸発皿の質量」を測定した後、１０５℃の乾燥機内で２時間加熱し、シリカゲル（青色）入りのデシケーター内で放冷し、質量を測定する操作を、質量が恒量化するまで繰り返して「加熱後の試料と蒸発皿の質量」を求め、以下の式より蒸発残留物の割合を求める。
【００２７】
（数１）
蒸発残留物の割合(質量％）＝
｛（加熱前の試料と蒸発皿の質量）−（加熱後の試料と蒸発皿の質量）｝
÷｛（加熱前の前の試料と蒸発皿の質量）−（蒸発皿の質量）｝×１００
【００２８】
本発明の酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物は、ガラス、プラスチック、金属等の硬質表面であればいずれの硬質表面においても使用可能であり、具体的な洗浄場所としては、工場設備等へのＣＩＰ洗浄（定置洗浄）の酸性洗浄工程に用いられる。本発明の酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物を使用する場合は、ＣＩＰ洗浄する設備の種類や汚れの程度に応じ、（Ａ）成分の濃度が０．０１質量％以上、５質量％以下になるように希釈して用いるが、（Ａ）成分濃度が０．０３質量％以上、３質量％以下がより好ましく、０．０５質量％以上、１質量％以下が更に好ましい。希釈には水又は湯が用いられるが、６０〜８０℃の水溶液として酸性洗浄工程に用いることが好ましい。
【００２９】
ＣＩＰ洗浄は、通常、水によるすすぎ洗浄、アルカリ洗浄、酸洗浄、殺菌等の工程を組みあわせて被洗浄物を洗浄する。本発明の酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物はＣＩＰ洗浄における酸洗浄工程において使用される。本発明のＣＩＰ洗浄方法は、（Ａ）成分の濃度が０．０１質量％以上、５質量％以下となるように希釈した水溶液として酸洗浄工程に用いるものである。本発明ＣＩＰ洗浄方法の一つは、被洗浄物を、１）水によるすすぎ洗浄、２）アルカリ洗浄、３）水によるすすぎ洗浄、４）酸洗浄、５）水によるすすぎ洗浄、の各工程を、１）〜５）の各工程間において乾燥処理を行うことなく順次行って洗浄する方法である。また今ひとつは、被洗浄物を、１）水によるすすぎ洗浄、２）酸洗浄、３）水によるすすぎ洗浄、４）アルカリ洗浄、５）水によるすすぎ洗浄、の各工程を、１）〜５）の各工程間において乾燥処理を行うことなく順次行って洗浄する方法である。ＣＩＰ洗浄におけるアルカリ洗浄工程、酸洗浄工程、殺菌洗浄工程の各工程は、汚れの質や量に応じ、１０〜６０分間、一般に２０〜４０分間行われる。本発明のＣＩＰ洗浄方法は、ＣＩＰ洗浄工程中の各工程間において乾燥処理を行わないことを特徴とするもので、各工程が終了する前に乾燥処理を行うと、洗浄した汚れが設備等に付着、残留してしまう。本発明方法において、５）水によるすすぎ洗浄が終了した後であれば、乾燥処理を行っても汚れの付着、残留を生じることがない。また本発明方法において、５）水によるすすぎ洗浄後に、必要に応じて殺菌処理、次亜塩素酸ナトリウム処理、過酢酸処理、ヨウ素処理、熱水処理等の各種処理を行っても良い。
【実施例】
【００３０】
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。
実施例１〜４０、比較例１〜５
表１〜５に示す配合の酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物を調製した。また各酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物について、スケール洗浄性、安定性、金属腐食防止性、ゴムパッキン適合性を試験した。結果を表１〜５に併せて示す。
【００３１】
【表１】
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【００３２】
【表２】
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【００３３】
【表３】
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【００３４】
【表４】
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【００３５】
【表５】
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【００３６】
※１：スケール洗浄性試験
２００ｍＬビーカーに、各酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物を、表に示す所定濃度に希釈した水溶液１００ｍＬを調製し、そこに炭酸カルシウム０．４ｇを添加して２０分間攪拌した。
炭酸カルシウムの溶解性の良いものほどスケール溶解性が良いものとして、以下の基準でスケール洗浄性を評価し、△、○、◎の評価のものをスケール洗浄性において実用性のあるものとして判定した。
スケール洗浄性評価基準
◎：６０％以上溶解した。
○：４０％以上、６０％未満溶解した。
△：２０％以上、４０％未満溶解した。
×：２０％未満溶解した。
【００３７】
※２：安定性試験
各酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物を２５０ｍＬ容量のキャップ付きポリエチレン製容器に２００ｍＬ入れて、−５℃、２５℃、４０℃に設定されたそれぞれのインキュベーターに３０日間静置した後、均一溶液となることを目視で確認した。目視にて分離や析出物の沈殿の有無を確認し、以下の基準で安定性を評価した。○の評価のものを安定性において実用性のあるものとして判定した。
安定性評価基準：
○：透明溶液であり、分離も析出物も見られない
×：各設定温度のうち、−５℃、２５℃、４０℃のいずれか一つ以上において分離や析出物の沈殿が見られる。
【００３８】
※３：ゴムパッキン適合性試験
各酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物の１０質量％水溶液５０ｍＬを１００ｍＬのキャップ付きポリエチレン製容器に入れ、このポリエチレン製容器にＥＰＤＭゴムパネル（入間川ゴム株式会社製、縦×横×厚み＝５０ｍｍ×２５ｍｍ×２ｍｍ（体積２５００立方ミリメートル））またはＮＢＲゴムパネル（入間川ゴム株式会社製、縦×横×厚み＝５０ｍｍ×２５ｍｍ×２ｍｍ）を全体が浸るように入れ、キャップをする。８０℃に昇温した後、同温度に保持して２４時間静置後、ゴムパネルを取り出し、流水で洗浄した。１０５℃で３時間乾燥した後の外観変化を目視にて判断して以下の基準で評価し、△、○の評価のものを実用性のあるものとして判定した。
ゴムパッキン適合性評価基準：
○：硬化、ヒビ割れ、膨張などの外観変化が見られない。
△：硬化、ヒビ割れ、膨張などの外観変化が若干見られるが、使用は可能。
×：硬化、ヒビ割れ、膨張などの外観変化が見られる。
【００３９】
※４：金属腐食防止性試験
各酸性ＣＩＰ用洗浄剤組成物の１０質量％水溶液８０ｍＬを１００ｍＬキャップ付きポリ瓶に入れ、このポリ瓶にＳＵＳ３０４パネルまたはＳＵＳ３１６パネルを半分程度が浸るように入れ、キャップをする。８０℃に昇温した後、同温度に保持して２４時間静置後、ＳＵＳパネルを取り出し、流水で洗浄した後、ＳＵＳパネルの、水溶液につかっていた浸漬部、水溶液と空気との境の喫水線部、空気中に表出していた気相部の腐食の有無を目視にて確認し、以下の基準で金属腐食防止性を評価した。△、○の評価のものを実用性のあるものとして判定した。
金属腐食防止性評価基準：
○：浸漬部、喫水線部、気相部の何れにおいても変化が見られない。
△：浸漬部、喫水線部、気相部の何れかで若干の腐食が見られるが、使用は可能。
×：浸漬部、喫水線部、気相部の何れか又は２以上の箇所で腐食が見られる。
【００４０】
※５：ＣＩＰ洗浄工程適合性（洗浄性）
ＳＵＳ３０４のステンレスパネル（２ｃｍ×７ｃｍ）に乾燥質量が５０ｍｇ程度となるように牛乳を塗布して１３０℃で３０分加熱したものを被洗浄物として用い、以下の条件の洗浄工程を表に示す順に組み合わせた方法で洗浄試験を行った。
洗浄工程の条件
ａ）前すすぎ工程：８０℃のイオン交換水１００ｍＬで１０分間すすぎをおこなった後、イオン交換水を排出する。
ｂ）酸洗浄工程１：本発明の液体洗浄剤組成物の濃度３質量％水溶液１００ｍＬにより、８０℃で２０分洗浄後、酸洗浄液を排出する。
ｃ）中間すすぎ工程：８０℃のイオン交換水１００ｍＬで１０分間すすぎをおこなった後、イオン交換水を排出する。
ｄ）アルカリ洗浄工程１：アルカリ性ＣＩＰ洗浄剤（アデカサイクルＮＺ３０、ＡＤＥＫＡクリーンエイド社製）の濃度３質量％水溶液１００ｍＬにより、８０℃で２０分洗浄後、アルカリ洗浄液を排出する。
ｅ）殺菌：９０℃以上の熱水１００ｍＬにより２０分間殺菌後、熱水を排出する。
ｆ）酸洗浄工程２：本発明の液体洗浄剤組成物の濃度３質量％水溶液１００ｍＬにより、８０℃で２０分洗浄後、酸洗浄液を排出しない。
ｇ）アルカリ洗浄工程２：ＣＩＰ用酸洗浄液中（容量１００ｍＬ）にアルカリ性ＣＩＰ洗浄剤（アデカサイクルＮＺ３０、ＡＤＥＫＡクリーンエイド社製、重量５ｇ）を添加する（酸洗浄液を中和しアルカリ洗浄液へ一気にシフトさせる）。アルカリ洗浄液８０℃で２０分洗浄後、アルカリ洗浄液を排出する。
【００４１】
洗浄後のステンレスパネル表面を洗浄前と比較し、洗浄性の評価をした。
評価基準
◎：汚れの残留がない。
○：汚れの残留がほとんどない。
△：汚れの残留が若干確認されたが、問題ないレベル。
×：汚れの残留が確認された。
とし、評価が△、○、◎を実用性のあるものと判定した。