(57)【要約】      （修正有）【課題】反応チャンバへの塩素蒸気を提供する、化学物質分注装置および方法。【解決手段】化学物質分注装置１００は、塩素含有化学種１０３を貯蔵するように構成される化学物質貯蔵容器１０２と、化学物質貯蔵容器と流体連通する貯留容器１０４と、塩素含有化学種を塩素蒸気に変換するように構成される貯留容器と、貯留容器と流体連通する反応チャンバ１０６とを含む。反応チャンバに塩素蒸気を分注する方法についても開示する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応チャンバへの塩素蒸気を提供する、化学物質分注装置であって、
塩素含有化学種を貯蔵するように構成される化学物質貯蔵容器と、
前記化学物質貯蔵容器と流体連通する貯留容器であって、前記塩素含有化学種を前記塩素蒸気に変換するように構成される、貯留容器と、
前記貯留容器と流体連通する反応チャンバと、を備える、装置。
【請求項２】
前記反応チャンバは、原子層エッチング装置の前記反応チャンバを備える、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記化学物質貯蔵容器は、石英材料を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記化学物質貯蔵容器は、フッ素系フィルムで覆われる内表面を備え、前記フッ素系フィルムは、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、フッ素化エチレンプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、パーフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）、ポリエチレンテレフタレートコポリマー（ＰＥＴＧ）またはポリアミド系コポリマーのうちの少なくとも一つを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記貯留容器はさらに、前記塩素含有化学種を熱分解するように構成される、一つ以上の加熱部を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記装置はさらに、前記塩素蒸気を貯蔵する蒸気貯蔵部を備え、前記蒸気貯蔵部は、前記貯留容器と前記反応チャンバとの間に配置される、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記貯留容器はさらに、前記塩素蒸気を生成するよう、前記塩素含有化学種と反応するように構成される、化学試薬を備える、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記化学物質貯蔵容器に貯蔵される前記塩素含有化学種を加熱するように構成される、一つ以上の加熱部をさらに備える、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記塩素蒸気は、塩素（Ｃｌ２）を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
反応チャンバに塩素蒸気を分注する方法であって、
化学物質貯蔵容器を提供することであって、前記化学物質貯蔵容器は、塩素含有化学種を含有する、提供することと、
前記化学物質貯蔵容器から貯留容器へ、前記塩素含有化学種を流すことと、
前記貯留容器内部で、前記塩素含有化学種を塩素蒸気に変換することと、
前記塩素蒸気を前記反応チャンバの中へ制御可能に流すことと、を含む、方法。
【請求項１１】
前記化学物質貯蔵容器は、フッ素系フィルムで覆われる内表面を備え、前記フッ素系フィルムは、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、フッ素化エチレンプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、パーフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）、ポリエチレンテレフタレートコポリマー（ＰＥＴＧ）またはポリアミド系コポリマーのうちの少なくとも一つを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記化学物質貯蔵容器は、石英材料を含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記化学物質貯蔵容器に貯蔵される前記塩素含有化学種を加熱するように構成される、一つ以上の加熱部を提供することを、さらに含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記塩素含有化学種は、Ｓ２Ｃｌ２、Ｓｅ２Ｃｌ２、ＳＣｌ２、ＳＣｌ、ＰＣｌ５、ＳｅＣｌ４、ＳｅＣｌ２、ＳｉＣｌ４、ＳｂＣｌ３、ＩＣｌ３、Ｉｃｌ、ＳｂＣｌ５、ＢＣｌ３、ＳｅＯ２Ｃｌ２、ＳＯ２Ｃｌ２、ＳｅＯＣｌ２、またはＳｎＣｌ４のうちの少なくとも一つを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
前記塩素含有化学種は、ＣＣｌ４、Ｃ２Ｃｌ６、塩化スクシニル、塩化マロニル、塩化フマリル、メチレンコハク酸クロリド、塩化グルタリル、塩化オキサリル、ＴｉＯＣｌ２、ＮｂＯＣｌ３、ＭｏＯＣｌ４、ＷＯＣｌ４、ＲｅＯ２Ｃｌ３、ＣｌＦ、ＢｒＣｌ、ＣｌＦ３、ＣｌＦ５、ＩＣｌ３、ＩＣｌ、ＦＣｌＯ２、ＦＣｌＯ３、またはＣｌ２Ｏのうちの少なくとも一つを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１６】
前記塩素含有化学種は、置換もしくは非置換塩化アルキルスルフェニル、または置換もしくは非置換塩化アルキルスルホニルを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１７】
前記塩素含有化学種を塩素蒸気に変換することはさらに、前記塩素含有化学種を分解することを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１８】
前記塩素含有化学種を塩素蒸気に変換することはさらに、前記塩素含有化学種を化学試薬と反応させることを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１９】
前記化学試薬は、酸素（Ｏ２）、水（Ｈ２Ｏ）、オゾン（Ｏ３）、遷移金属または金属酸化物のうちの少なくとも一つを含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記反応チャンバは、原子層エッチングシステムの前記反応チャンバを備える、請求項１０に記載の方法。
【請求項２１】
前記塩素蒸気を蓄積および貯蔵する、蒸気貯蔵部を提供することをさらに含み、前記蒸気貯蔵部は、前記貯留容器と前記反応チャンバとの間に配置される、請求項１０に記載の方法。
【請求項２２】
前記塩素蒸気を前記反応チャンバの中へ制御可能に流すことはさらに、前記反応チャンバ内に配置される基体を、前記塩素蒸気に曝露することを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項２３】
前記反応チャンバ内の前記基体を前記塩素蒸気に曝露することはさらに、前記基体の一部分をエッチングすることを含む、請求項２２に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は概して、化学物質を反応チャンバへ分注する、化学物質分注装置および方法に関する。本開示は特に、反応チャンバで使用するための、塩素含有種の貯蔵および塩素蒸気への転化に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子構造体の製造で利用される、一部の半導体製作工程では、腐食性が高く毒性の強い化学種を利用する場合がある。そのような有害な化学種には、安全な貯蔵、取り扱いおよび処分のため、適切な手順に関連する複雑な安全プロトコルが必要とされてもよい。
【０００３】
半導体製作工程でよく使用される、毒性のある化学種の非限定的な例は、塩素(Cl2)蒸気の化学種である。例えば、塩素蒸気は、洗浄工程、エッチング工程および堆積工程で利用されてもよく、各半導体工程は、塩素蒸気およびあらゆる塩素系反応副産物の特殊な貯蔵、取り扱いならびに処分を必要とする。塩素蒸気は腐食性が強度に高く、そのため、貯蔵、特に長期間の安定的貯蔵には、専門的な耐食性貯蔵容器および純度監視手順を必要とする場合があることは良く知られている。加えて、塩素蒸気は、目および肌だけでなく呼吸器系の両方を攻撃する、毒性の強いガスである。したがって、半導体素子構造体の製造において、塩素蒸気に代わる別の化学種を利用できる、装置および方法が望ましい。
【発明の概要】
【０００４】
この発明の概要は、概念の選択を簡略化した形で紹介するように提供する。これらの概念について、以下の本開示の発明を実施するための形態において、さらに詳細に記載する。本発明の概要は、請求項に記載する主題の重要な特徴も、本質的な特徴も特定することを意図しておらず、請求項に記載する主題の範囲を限定するように使用されることも意図していない。
【０００５】
一部の実施形態では、反応チャンバへの塩素蒸気を提供する化学物質分注装置を提供する。装置は、塩素含有化学種を貯蔵するように構成される化学物質貯蔵容器と、化学物質貯蔵容器と流体連通する貯留容器であって、塩素含有化学種を塩素蒸気に変換するように構成される貯留容器と、貯留容器と流体連通する反応チャンバとを含んでもよい。
【０００６】
本開示の実施形態はまた、反応チャンバに塩素蒸気を供給する方法を提供してもよい。方法は、化学物質貯蔵容器を提供することであって、化学物質貯蔵容器は、塩素含有化学種を含有することと、化学物質貯蔵容器から貯留容器へ、塩素含有化学種を流すことと、貯留容器内部で、塩素含有化学種を塩素蒸気に変換することと、塩素蒸気を反応チャンバの中へ制御可能に流すこととを含んでもよい。
【０００７】
従来の技術を超えて達成される本発明および利点を要約するために、本発明のある目的および利点について、本明細書において上に記載してきた。もちろん、そのような目的または利点のすべてが、本発明のあらゆる特定の実施形態に従って、必ずしも達成されなくてもよいことは理解されるべきである。それゆえ、例えば、本明細書に教授または示唆する通り、一つの利点または利点の一群を達成または最適化する形式で、本明細書に教授または示唆されてもよい、他の目的または利点を必ずしも達成することなく、本発明が具体化または実行されてもよいことを、当業者は認識するであろう。
【０００８】
これらの実施形態のすべては、本明細書に開示する本発明の範囲内であることが意図されている。当業者には、これらのおよび他の実施形態は、添付の図面を参照の上、ある実施形態の続く発明を実施するための形態より容易に明らかとなり、本発明は、開示された全ての特定の実施形態にも限定されない。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
本明細書は、本発明の実施形態と見なされるものを特に指摘し、明確に主張して、特許請求の範囲で結論付けるものの、本開示の実施形態の利点は、添付の図面と併せて読むと、本開示の実施形態のある例についての記載から、より容易に解明されてもよい。
【００１０】
【図１】図１は、本開示の実施形態に従い、反応チャンバへの塩素蒸気を提供する、化学物質送達装置の概略図である。
【００１１】
【図２】図２は、本開示の実施形態に従い、反応チャンバに塩素蒸気を分注する例示的方法の工程フロー図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
ある実施形態および実施例を以下に開示するが、本発明が、具体的に開示する本発明の実施形態および／または使用、ならびにその明白な変形物および均等物を超えて拡大することは、当業者により理解されるであろう。それゆえ、開示する本発明の範囲は、以下に記載し具体的に開示する実施形態によって限定されるべきでないことが意図される。
【００１３】
本明細書に示される図は、何らかの特定の材料、構造またはデバイスの実際の図であることを意味せず、本開示の実施形態について記載するために使用される、単に理想化された表現にすぎない。
【００１４】
本明細書で使用する通り、「基体」という用語は、使用される場合がある、またはその上にデバイス、回路もしくはフィルムが形成される場合がある、あらゆる下層材料または複数の下層材料を指してもよい。
【００１５】
本明細書で使用する通り、「塩素含有化学種」という用語は、塩素蒸気そのものを除き、塩素（Ｃｌ）成分を含むあらゆる化学種を指してもよい。
【００１６】
本開示の実施形態は、半導体加工装置の反応チャンバに塩素蒸気を分注する、装置および方法を含んでもよい。本開示の実施形態によって、純粋な塩素蒸気よりも腐食性を低くし毒性を弱くできる、一つ以上の塩素含有化学種と、純粋な塩素蒸気を置換する。そのため、本開示の実施形態の化学物質分注装置および方法では、厳しい腐食および安全プロトコルとして、半導体デバイス製作の効率および安全性を増大させる必要がない。
【００１７】
本開示の実施形態は、反応チャンバ用の化学物質分注装置を備える半導体装置を示す図１を参照して、より詳細に理解してもよい。本開示の一部実施形態では、装置１００は、塩素含有化学種１０３を貯蔵するように構成されてもよい、化学物質貯蔵容器１０２と、化学物質貯蔵容器１０２と流体連通する貯留容器１０４であって、塩素含有化学種を塩素蒸気に変換するように構成される、貯留容器１０４と、貯留容器１０４と流体連通する、反応チャンバ１０６とを備える。
【００１８】
図１に示すような化学物質分注装置１００は、現在の開示の化学物質分注装置を簡易化した概略版であり、ありとあらゆる要素、すなわち、現在の開示の化学物質分注装置の製作で利用されてもよい、ありとあらゆるバルブ、粒子フィルタ、シールおよびガスラインなどを包含しないことに留意すべきである。図１に示すような化学物質分注装置１００は、現在の開示の実施形態を理解するように、当業者に充分な開示を提供する、化学物質分注装置の重要な特徴を提供する。
【００１９】
より詳細には、装置１００は、塩素含有化学種１０３を貯蔵するように構成されてもよい、化学物質貯蔵容器１０２を備えてもよい。本開示の一部実施形態では、化学物質貯蔵容器１０２に貯蔵されるべき塩素含有化学種１０３は、固体、液体またはガスの形態であってもよい。一部の実施形態では、化学物質容器１０２に貯蔵されるべき塩素含有化学種１０３は、純粋な塩素蒸気よりも、有害性、腐食性および／または毒性を低くすることができる。しかしながら、塩素含有化学種１０３は、純粋な塩素蒸気と比べて有害性が低い場合でさえも、まだ注意深く取り扱い貯蔵する必要があってもよい。
【００２０】
本開示の一部実施形態では、化学物質貯蔵容器１０２は、石英材料を含んでもよく、すなわち、化学物質貯蔵容器は、化学物質貯蔵容器１０２に貯蔵される塩素含有化学種１０３に対して、実質化学的に不活性である石英材料より実質的に製作されてもよい。本開示の代替実施形態では、化学物質貯蔵容器１０２は、例えば、ハステロイ、モネルまたはそれらの組み合わせなど、耐食性金属または金属合金より製作されてもよい。
【００２１】
本開示の一部実施形態では、化学物質貯蔵容器１０２は、塩素含有化学種１０３と接触する、内表面１０５を備えてもよい。化学物質貯蔵容器１０２の内表面１０５と、塩素含有化学種１０３との間で直接接触するため、容器の内表面１０５は、化学物質貯蔵容器に対する耐食性表面を提供する、耐食性コーティングを備えてもよく、すなわち、耐食性コーティングは、塩素含有化学種が、耐食性コーティングと直接接触し、化学物質貯蔵容器の石英／金属表面とは直接接触しないように、化学物質貯蔵容器１０２の内表面上に提供される。
【００２２】
本開示の一部実施形態では、内表面１０５上の耐食性コーティングは、フッ素系耐食性コーティングを含んでもよい。例えば、フッ素系耐食性コーティングは、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、フッ素化エチレンプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、パーフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）、ポリエチレンテレフタレートコポリマー（ＰＥＴＧ）またはポリアミド系コポリマーのうちの一つ以上を含んでもよい。
【００２３】
耐食性コーティングで覆われている化学物質貯蔵容器の内表面に加えて、本開示の一部実施形態では、装置１００の様々な構成要素間のすべての蒸気通路、すなわち、ガス管路は、化学物質貯蔵容器１０２に貯蔵される塩素含有化学種に対して耐食性があり、塩素含有化学種を塩素蒸気に変換する間に生成される場合がある、あらゆる反応副産物に対しても耐食性があるように、構成されてもよい。例えば、一つ以上の腐食種と接触してもよい、装置１００の蒸気通路、バルブ、コネクタ、シール、マスフロー部およびある特定の全領域は、ハステロイ、モネル、ニッケル系合金、タンタル、タンタル系合金、炭化ケイ素、窒化ホウ素、炭化ホウ素、窒化アルミニウム、石英ガラス、結合非晶質シリコンおよび他の既知の塩素耐性材料を含む、耐食性材料よりすべて製作されてもよい。加えて、塩素含有化学種または反応副産物によって濡らされる場合がある、化学物質分注装置１００の複数部分は、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、フッ素化エチレンプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）またはパーフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）を含むが限定はされない、フッ素系耐食性ライナーで覆われてもよい。
【００２４】
本開示の一部実施形態では、化学物質貯蔵容器１０２は、化学物質貯蔵容器１０２に貯蔵される塩素含有化学種１０３を加熱するように構成される、一つ以上の加熱部１１２をさらに備えてもよい。本開示の一部実施形態では、一つ以上の加熱部１１２は、０℃よりもおおよそ高い、もしくは２０℃よりもおおよそ高い、もしくは１００℃よりもおおよそ高い、もしくは１５０℃よりもおおよそ高い、もしくは２００℃よりもおおよそ高い、もしくは２００℃よりもおおよそ高い、もしくは３００℃よりもおおよそ高い、またはさらに４００℃よりもおおよそ高い温度まで、塩素含有化学種１０３を加熱するように利用されてもよい。
【００２５】
一部の実施形態では、化学物質貯蔵容器１０２に付随する一つ以上の加熱部１１２は、塩素含有化学種を固体から液体またはガスへ変換するように構成される。一部の実施形態では、化学物質貯蔵容器１０２に付随する一つ以上の加熱部１１２は、化学物質貯蔵容器１０２に貯蔵される塩素含有化学種の粘度を、制御するように利用されてもよい。
【００２６】
より詳細には、蒸気通路１０８は、一つ以上のキャリアガスが、キャリアガス貯蔵容器（図示せず）から蒸気通路１０８を介して化学物質貯蔵容器１０２の中へ輸送されてもよいように、化学物質貯蔵容器１０２に接続されてもよい。マスフローコントローラ１０７は、蒸気通路１０８上に置かれ、化学物質貯蔵容器１０２に近接して配置されてもよい。例えば、マスフローコントローラ１０７は、化学物質貯蔵容器１０２に進入するキャリアガスの質量流束を制御するように較正され、それによって、塩素含有化学種１０３の続く流れをより大きく制御することが可能になってもよい。
【００２７】
キャリアガス（例えば、水素、窒素、ヘリウム、アルゴンおよびそれらの混合物）は、塩素含有化学種１０３の曝露表面を越えて流れ、それによって、塩素含有化学種１０３の一部分を拾い上げ、キャリアガスと共に塩素含有化学種を、装置１００の中の所望の場所へ輸送してもよい。本開示の代替実施形態では、キャリアガスは、例えば、任意の蒸気通路１０８｀により、塩素含有化学種１０３によって「泡立て」られ、それによって、塩素含有化学種の一部分を撹拌して拾い上げ、キャリアガスと共に塩素含有化学種を、装置１００の中の所望の場所へ輸送してもよい。例えば、一部の実施形態では、塩素含有化学種１０３は、塩素含有化学種によるキャリアガスの泡立てによる蒸気輸送には好適でない、非常に粘性のある液体を含んでもよい。そのため、本開示の一部実施形態では、化学物質貯蔵容器１０２に付随する一つ以上の加熱部１１２は、塩素含有化学種１０３の粘度を低下させるように利用され、装置１００のさらなる部分へ種を輸送するため、塩素含有化学種１０３によるキャリアガスの泡立てに対して、より好適な粘度にする。
【００２８】
本開示の一部実施形態では、塩素含有化学種１０３は、固体、液体またはガスを含んでもよい。一部の実施形態では、塩素含有化学種１０３は固体を含んでもよい。一部の実施形態では、塩素含有化学種１０３は液体を含んでもよい。一部の実施形態では、化学物質貯蔵容器１０２に貯蔵される塩素含有化学種１０３は、Ｓ２Ｃｌ２、Ｓｅ２Ｃｌ２、ＳＣｌ２、ＳＣｌ、ＰＣｌ５、ＳｅＣｌ４、ＳｅＣｌ２、ＳｉＣｌ４、ＳｂＣｌ３、ＳｂＣｌ５、ＢＣｌ３、ＳＯＣｌ２、ＳｅＯ２Ｃｌ２、ＳＯ２Ｃｌ２、またはＳｅＯＣｌ２のうちの少なくとも一つなど、非金属または半金属塩化物を含んでもよい。一部の実施形態では、塩素含有化学種は、例えば、ＣＣｌ４またはＣ２Ｃｌ６など、炭素および塩素原子を含んでもよい。一部の実施形態では、塩素含有化学種は、例えば、塩化スクシニル、塩化マロニル、塩化フマリル、メチレンコハク酸クロリド、塩化グルタリルまたは塩化オキサリルなど、置換または非置換アルキルおよびアリールポリアシルハライド（ｐｏｌｙ−ａｃｙｌ  ｈａｌｉｄｅ）を含んでもよい。一部の実施形態では、塩化物含有化学種は、例えば、ＴｉＯＣｌ２、ＮｂＯＣｌ３、ＭｏＯＣｌ４、ＷＯＣｌ４、またはＲｅＯ２Ｃｌ３など、金属オキシハライドを含んでもよい。一部の実施形態では、塩素含有化学種は、例えば、ＣｌＦ、ＢｒＣｌ、ＣｌＦ３、ＣｌＦ５、ＩＣｌ３またはＩＣｌなど、一般式ＸａＹｂを有するハロゲン間化合物を含んでもよい。一部の実施形態では、塩素含有化学種は、例えば、ＦＣｌＯ２、ＦＣｌＯ３または過塩素酸塩（例えば、Ｃｌ２Ｏ）など、一般式ＯｂＸａおよびＯｂＸａＹｃを有するオキシハライドを含んでもよい。一部の実施形態では、塩素含有化学種は、塩化フマリル（Ｃ２Ｈ２Ｃ２Ｏ２Ｃｌ２）を含んでもよい。一部の実施形態では、塩素含有化学種は、クロロニトラート（ｃｈｌｏｒｏｎｉｔｒａｔｅ）を含んでもよい。一部の実施形態では、塩素含有化学種は金属を含まない。一部の実施形態では、塩素含有化学種は半金属を含まない。一部の実施形態では、化学物質貯蔵容器１０２に貯蔵される塩素含有化学種１０３は、塩化トリクロロメタンスルフェニルまたはクロロカルボニルスルフェニルを含むが限定はされない、置換または非置換塩化アルキルスルフェニルを含んでもよい。一部の実施形態では、化学物質貯蔵容器１０２に貯蔵される塩素含有化学種１０３は、限定はされないものの、塩化トリクロロメタンスルホニルなど、置換または非置換塩化アルキルスルホニルを含んでもよい。
【００２９】
本開示の一部実施形態では、塩素含有化学種の少なくとも一部分は、化学物質貯蔵容器１０２から蒸気通路１１０を介して反応チャンバ１０６へ、直接輸送される。そのような実施形態では、塩素含有化学種は、貯留容器１０４を迂回して、蒸気通路１１０を介して反応チャンバ１０６へ直接輸送される。そのような実施形態では、蒸気通路１１０上のバルブ１０９Ａは、塩素含有化学種が反応チャンバ１０６に直接流れることが可能になるように、少なくとも一部開いていてもよい。
【００３０】
塩素含有化学種が、化学物質貯蔵容器１０２から反応チャンバ１０６へ直接分注される実施形態では、塩素含有化学種は、ガス状態であってもよく、または化学物質貯蔵容器１０２に付随する一つ以上の加熱部１１２を利用することによって、ガス状態へ変換されてもよい。一部の実施形態では、蒸気通路１１０は、反応チャンバ１０６の中へ進入する前に、蒸気通路１１０に沿って配置されるマスフローコントローラ１１４を含んでもよい。一部の実施形態では、マスフローコントローラ１１４は、反応チャンバ１０６の中へ向かう塩素含有化学種の質量流束を制御してもよいように、化学物質貯蔵容器１０２の中に存在する特定の塩素含有化学種に対してマスフローコントローラ１１４は較正されてもよい。
【００３１】
本開示の一部実施形態では、塩素含有化学種の少なくとも一部分は、蒸気通路１１４を介して貯留容器１０４へ、何らかのキャリアガスと共に輸送される。例えば、バルブ１０９Ｂは、化学物質貯蔵容器１０２から貯留容器１０４へ蒸気が流れるのが可能になるように、少なくとも一部開いていてもよい。そのような実施形態では、塩素含有化学種は、貯留容器１０４内で変換工程を経てもよく、変換工程によって、塩素含有化学種を塩素（Ｃｌ２）蒸気に変換する。
【００３２】
本開示の一部実施形態では、貯留容器１０４は石英材料を含んでもよく、すなわち、貯留容器１０４は実質的に石英材料より製作されてもよい。代替の実施形態では、貯留容器１０４は、例えば、ハステロイ、モネルまたはそれらの組み合わせなど、耐食性金属または金属合金より製作されてもよい。
【００３３】
本開示の一部実施形態では、塩素含有化学種は、貯留容器１０４内で分解工程を経てもよい。本開示の他の実施形態では、塩素含有化学種は、貯留容器１０４内で好適な化学試薬との化学反応を経てもよい。一部の実施形態では、塩素含有化学種と好適な化学試薬との間の反応を、照射および／または電気的手段によって活性化してもよい。
【００３４】
本開示の一部実施形態では、塩素含有化学種は、貯留容器１０４内で分解し、それによって、塩素（Ｃｌ２）蒸気および一つ以上の分解副産物を形成してもよい。一部の実施形態では、一つ以上の加熱部１１６が貯留容器１０４に付随してもよい。一部の実施形態では、例えば、電源または照射源など、一つ以上のエネルギー部が貯留容器１０４に付随してもよい。例えば、貯留容器１０４に付随する一つ以上の加熱部１１６は、貯留容器１０４の外部に配置されてもよく（図１に示す通り）、または代替の実施形態では、一つ以上の加熱部は、貯留容器１０４内に配置されてもよい（図示せず）。貯留容器１０４に付随する一つ以上の加熱１１６（または例えば、照射部または電気部など、代替のエネルギー部）は、塩素含有化学種を、塩素蒸気および一つ以上の分解副産物に分解するように利用されてもよい。例えば、本開示の一部実施形態では、貯留容器１０４に付随する一つ以上の加熱部１１６は、貯留容器１０４内で塩素含有化学種を加熱するように利用されてもよい。本開示の一部実施形態では、貯留容器１０４に付随する一つ以上の加熱部１１６は、おおよそ０℃より高い、もしくはおおよそ２０℃より高い、もしくはおおよそ１００℃より高い、もしくはおおよそ１５０℃より高い、もしくはおおよそ２００℃より高い、もしくはおおよそ３００℃より高い、またはおおよそ４００℃よりさらに高い温度まで、塩素含有化学種を加熱するように構成されてもよい。一部の実施形態では、貯留容器１０４に付随する一つ以上の加熱部１１６は、塩素含有化学種が、塩素（Ｃｌ２）蒸気および一つ以上の分解副産物に熱分解する温度まで、塩素含有化学種を加熱してもよい。
【００３５】
本開示の一部実施形態では、塩素含有化学種の分解によって、塩素（Ｃｌ２）蒸気および一つ以上の分解副産物の形成がもたらされてもよい。本開示の一部実施形態では、貯留容器１０４は、塩素蒸気のみを反応チャンバ１０６へ輸送するような、一つ以上の分解生成物より塩素（Ｃｌ２）蒸気を分離する手段を含んでもよい。例えば、一部の実施形態では、塩素含有化学種はＳＯ２Ｃｌ２を含んでもよく、一つ以上の加熱部１１６を利用して、８０℃より高い温度まで加熱すると、塩素含有化学種は分解して、塩素蒸気およびＳＯ２を含む分解生成物を形成してもよい。本開示の一部実施形態では、分解副産物は、塩素蒸気のみを反応チャンバ１０６に分注するように、ニッケル（Ｎｉ）粉末または他の触媒的活性化表面を利用して、塩素蒸気より選択的に分離されてもよい。
【００３６】
前に述べた通り、本開示の一部実施形態では、塩素化学種の分解によって、塩素蒸気および一つ以上の分解副産物の形成がもたらされてもよい。一部の実施形態では、分解副産物は反応チャンバ１０６で利用されてもよく、すなわち、一つ以上の分解副産物は、反応チャンバ１０６で動作させる工程によって利用されてもよい。そのため、本開示の一部実施形態では、塩素含有化学種の分解中に生成される、一つ以上の分解副産物は、反応チャンバ１０６へ輸送される。
【００３７】
本開示の一部実施形態では、貯留容器１０４は、化学試薬１２０を保持するレセプタクル１１８を含んでもよい。一部の実施形態では、貯留容器１０４は、例えば、酸素含有試薬（例えば、Ｏ２、Ｏ３、またはＨ２Ｏ）などのさらなる化学試薬が、塩素含有化学種との反応のために貯留容器１０４に侵入することが可能になるように、追加の蒸気通路（図示せず）を介して流体接続されてもよい。本開示の一部実施形態では、化学試薬１２０は、塩素（Ｃｌ２）蒸気および一つ以上の反応副産物を生成するために、塩素含有化学種と反応するように選択されてもよい。例えば、塩素含有化学種は、化学物質貯蔵容器１０２から蒸気通路１１４を介して貯留容器１０４の中へ流れてもよく、その後すぐに、塩素含有化学種は、レセプタクル１１８内に保持される化学試薬１２０と反応してもよい。塩素含有化学種と化学試薬１２０との間の反応によって、反応チャンバ１０６へ輸送されてもよい塩素（Ｃｌ２）蒸気、および一つ以上の反応副産物の形成がもたらされてもよい。本開示の一部実施形態では、一つ以上の反応副産物は、レセプタクル１１８に保持されたままである一方、他の実施形態では、生成物による一つ以上の反応は、半導体製作工程で利用するために、反応チャンバ１０６へ移動してもよい。
【００３８】
本開示の一部実施形態では、貯留容器１０４は、塩素含有化学種と化学試薬１２０との間の反応により生成される、一つ以上の反応生成物より塩素蒸気を分離する手段を含んでもよい。非限定的な例の実施形態として、化学試薬１２０は酸化マンガン（ＭｎＯ２）を含んでもよく、塩素含有化学種は塩酸（ＨＣｌ）を含んでもよい。ＨＣｌがＭｎＯ２を通り越すと、塩素蒸気が、レセプタクル１１８内に保たれていてもよい、不揮発性ＭｎＣｌ２水和物の粉末を含む反応副産物と共に、生成されてもよい。本開示の一部実施形態では、化学試薬１２０は、固体または蒸気を含んでもよく、酸素含有試薬（例えば、Ｏ２、Ｈ２Ｏ、またはＯ３）、遷移金属（例えば、ニッケル（Ｎｉ）またはマンガン（Ｍｎ））、リチウム（Ｌｉ）、アルミニウム（Ａｌ））、または金属酸化物（例えば、Ａｌ２Ｏ３またはＭｎＯ２）のうちの少なくとも一つを含んでもよい。
【００３９】
本開示の一部実施形態では、塩素含有化学種と化学試薬１２０との間の反応は、高温で起こってもよい。例えば、貯留容器１０４に付随する一つ以上の加熱部１１６が、塩素含有化学種との反応の前に、化学試薬１２０を加熱するように利用されてもよい。非限定的な例の実施形態として、化学試薬１２０は、おおよそ０℃より高い、もしくはおおよそ２０℃より高い、またはおおよそ１００℃よりさらに高い温度まで、貯留容器１０４内で加熱されてもよい。本開示の一部実施形態では、塩素含有化学種と化学試薬との間の反応を、例えば、電気エネルギー部または照射エネルギー部など、代替のエネルギー部を介して促進してもよいように、代替のエネルギー部が貯留容器１０４に付随してもよい。
【００４０】
本開示の一部実施形態では、貯留容器１０４で生成される塩素蒸気は、半導体製作工程に使用するため、直接反応チャンバ１０６に輸送されてもよく、言い換えると、貯留容器１０４で生成される塩素蒸気は、反応チャンバ１０６で即座に利用されてもよい。そのような実施形態では、塩素蒸気は、少なくとも一部開いているバルブ１２４を通り、その後、反応チャンバ１０６への入り口より前に配置される、マスフローコントローラ１２６を通って流れてもよい。一部の実施形態では、マスフローコントローラ１２６は、反応チャンバに進入する塩素蒸気の質量流束を注意深く制御できるように、塩素蒸気およびあらゆる反応副産物に対しても較正される。
【００４１】
本開示の他の実施形態では、貯留容器で生成される塩素蒸気は、反応チャンバへの進入の前に、蒸気貯蔵部の中に蓄積されてもよい。より詳細には、任意の蒸気貯蔵部１２２は、貯留容器１０４と反応チャンバ１０６との間に配置されてもよく、そのような蒸気貯蔵部１２２は、貯留容器１０４により生成される塩素蒸気を収集および蓄積してもよい。本開示の一部実施形態では、蒸気貯蔵部１２２は、貯留容器１０４に不可欠でその中に配置されてもよい一方、他の実施形態では、蒸気貯蔵部１２２は、貯留容器の外部に配置されるが、貯留容器１０４に流体接続されてもよい（図１に示す通り）。本開示の一部実施形態では、蒸気貯蔵部１２２は、一つ以上の製作工程に反応チャンバを供給するのに充分な塩素蒸気を蓄積してもよい。非限定的な例の実施形態として、蒸気貯蔵部１２２は、０．０１ｇ／ｃｍ３より高い、もしくは１ｇ／ｃｍ３より高い、または１０ｇ／ｃｍ３よりさらに高い塩素濃度の総量を蓄積するように構成されてもよい。本開示の一部実施形態では、蒸気貯蔵部は、０．０１トールより大きい、もしくは０．１０トールより大きい、もしくは１トールより大きい、もしくは１０トールより大きい、または５０トールよりさらに大きい塩素の一部圧力で、塩素の蒸気を分注、蓄積および／または抽出するように構成されてもよい。本開示の一部実施形態では、蒸気貯蔵部１２２は、蒸気貯蔵部１２２により、０．１ｓｃｃｍより大きい、もしくは１ｓｃｃｍより大きい、もしくは１０ｓｃｃｍより大きい、もしくは１００ｓｃｃｍより大きい、もしくは５００ｓｃｃｍより大きい、または１０００ｓｃｃｍよりさらに大きい流量を伴う、塩素の流れを提供してもよいように、塩素蒸気を分注、蓄積および／または抽出してもよい。
【００４２】
本開示の一部実施形態では、塩素蒸気および／または塩素含有化学種は、反応チャンバ１０６に分注される。反応チャンバ１０６、および付随する半導体加工装置（図示せず）は、反応チャンバ１０６で実施される半導体製作工程次第で、多くの形態を取ることができる。本開示の一部実施形態では、反応チャンバは、原子層エッチング装置、原子層堆積装置、プラズマエッチング装置、化学気相蒸着装置または前処理装置のうちの少なくとも一つである反応チャンバを備えてもよい。一部の実施形態では、装置はプラズマを含まない。
【００４３】
一部の実施形態では、反応チャンバ１０６はさらに、基体支持体１２８を備えてもよく、その上に、少なくとも一つの基体１３０が、処理のために位置付けられてもよい。一部の実施形態では、塩素蒸気は、貯留容器１０４から分注されて、反応チャンバ１０６に進入してもよく、塩素蒸気は基体１３０と接触してもよい。
【００４４】
非限定的な例の実施形態として、反応チャンバ１０６は、原子層エッチング装置の反応チャンバを備えてもよく、基体は、基体１３０の曝露表面を塩素化できるように、塩素蒸気と接触してもよく、すなわち、塩素の単分子層が基体１３０の表面上に存在してもよい。基体１３０の表面を塩素化した後、続く工程段階は、任意のプラズマ表面１３２を利用する、塩素化表面のイオン衝撃を含んでもよく、例えば、基体表面に衝突するイオンは、アルゴンイオンを含んでもよい。基体表面を塩素化し、続いてアルゴンイオンを塩素化表面に衝突させる工程によって、原子層エッチング工程で基体１３０の一部分除去をもたらしてもよい。基体表面を塩素化し、アルゴンイオンを塩素化表面に衝突させる工程は、基体１３０の所望の量が除去されるまで、複数回繰り返されてもよい。
【００４５】
本開示の実施形態はまた、塩素蒸気を反応チャンバに分注する方法を含んでもよい。本開示の方法は、本開示の実施形態に従う、例示的方法２００用の工程フロー図を示す図２を参照して図示することができる。
【００４６】
例示的方法２００は、塩素含有化学種を包含する化学物質貯蔵容器を提供することを含む、工程ブロック２１０を含んでもよい。より詳細には、方法は、石英材料、または例えば、ハステロイもしくはモネルなど、耐食性金属もしくは金属合金より、化学物質貯蔵容器を製作することを含んでもよい。加えて、化学物質貯蔵容器を製作することは、例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、フッ素化エチレンプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）またはパーフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）など、フッ素系フィルムで覆われる内表面を伴う、化学物質貯蔵容器を製作することを含んでもよい。化学物質貯蔵容器を提供する方法はまた、化学物質貯蔵容器、およびその中に貯蔵される塩素含有化学種を加熱するように構成される、一つ以上の加熱部を提供することをさらに含んでもよい。例えば、一部の実施形態では、本開示の方法は、０℃より高い、もしくは２０℃より高い、もしくは１００℃より高い、もしくは２００℃より高い、もしくは３００℃より高い、または４００℃よりさらに高い温度まで、化学物質貯蔵容器の中の塩素含有化学種を加熱することを含んでもよい。
【００４７】
塩素含有化学種を包含する化学物質貯蔵容器を提供する方法はさらに、Ｓ２Ｃｌ２、Ｓｅ２Ｃｌ２、ＳＣｌ２、ＳＣｌ、ＰＣｌ５、ＳｅＣｌ４、ＳｅＣｌ２、ＳｉＣｌ４、ＳｂＣｌ３、ＳｂＣｌ５、ＢＣｌ３、ＳｅＯ２Ｃｌ２、ＳＯ２Ｃｌ２、ＳｅＯＣｌ２、ＳｂＣｌ５またはＳｎＣｌ４のうちの少なくとも一つなど、室温および周囲圧力で液体または固体である化学物質を含むように、塩素含有化学種を選択することを含んでもよい。代替として、塩素含有化学種は、置換（または非置換）塩化アルキルスルフェニルまたは置換（または非置換）塩化アルキルスルホニルより選択されてもよい。
【００４８】
方法２００は、塩素含有化学種を貯留容器へ流すことを含む、工程ブロック２２０に続いてもよい。より詳細には、塩素含有化学種を貯留容器へ流すことは、化学物質貯蔵容器の中へキャリアガスを提供することを含んでもよい。例えば、キャリアガスは、水素、窒素、ヘリウム、アルゴンおよびそれらの混合物のうちの少なくとも一つを含んでもよい。キャリアガスは、塩素含有化学種を貯留容器へ運ぶように利用されてもよい。例えば、方法の一部実施形態では、キャリアガスは、塩素含有化学種の表面を通り越してもよい一方で、他の実施形態では、キャリアガスは、蒸気を拾い上げるのを補助するように、塩素含有化学種によって「泡立て」られてもよい。塩素含有化学種の貯留容器への流れをさらに制御するために、化学物質貯蔵容器へのキャリアガスの質量流束を、マスフローコントローラを利用することによって制御してもよい。
【００４９】
方法２００は、貯留容器の中で塩素含有化学種を塩素蒸気に変換することを含む、工程ブロック２３０に続いてもよい。より詳細には、本開示の方法は、貯留容器の中で塩素含有化学種を分解することによって、塩素含有化学種を塩素蒸気に変換することを含んでもよい。例えば、方法は、０℃より高い、もしくは２０℃より高い、もしくは１００℃より高い、もしくは２００℃より高い、もしくは３００℃より高い、または４００℃よりさらに高い温度にまで、塩素含有化学種を加熱することによって、塩素含有化学種を分解することを含んでもよい。また、塩素蒸気を形成するように、塩素含有化学種を分解することによって、塩素蒸気より分離されてもよいか、または代替として、製作工程で利用されるように反応チャンバへ分注されてもよい、一つ以上の分解副産物を生成してもよい。
【００５０】
本開示の方法はまた、貯留容器内に配置される化学試薬と、塩素含有化学種を反応させることによって、塩素含有化学種を塩素蒸気に変換することを含んでもよい。例えば、塩素含有化学種と反応するように利用される化学試薬は、酸素含有試薬（例えば、Ｏ２、Ｈ２Ｏ、またはＯ３）、遷移金属（例えば、ニッケル（Ｎｉ）またはマンガン（Ｍｎ））、リチウム（Ｌｉ）、アルミニウム（Ａｌ））、または金属酸化物（例えば、Ａｌ２Ｏ３またはＭｎＯ２）のうちの少なくとも一つを含んでもよい。塩素含有化学種と化学試薬との間の反応によって、塩素蒸気および一つ以上の反応副産物を生成してもよい。本開示の一部実施形態では、方法は、一つ以上の反応副産物を塩素蒸気より分離することを含んでもよく、または代替として、一つ以上の反応副産物は、製作工程で利用されるように、反応チャンバへ分注されてもよい。
【００５１】
方法２００は、塩素蒸気を反応チャンバの中へ制御可能に流すことを含む、工程ブロック２４０に続いてもよい。より詳細には、貯留容器で生成される塩素蒸気は、反応チャンバに進入する塩素蒸気の質量流束を調節するように、マスフローコントローラを利用して、反応チャンバへ分注されてもよい。例えば、マスフローコントローラは、塩素蒸気の質量流束を、反応チャンバに進入する前に制御できるように、貯留容器と反応チャンバとの間に配置されてもよい。本開示の一部実施形態では、方法は、反応チャンバで工程を動作させる前に、塩素含有化学種を塩素蒸気に変換することを含んでもよい。
【００５２】
本開示の一部実施形態では、塩素蒸気を反応チャンバの中へ制御可能に流す方法はさらに、反応チャンバに進入する前に、蒸気貯蔵部に塩素蒸気を蓄積および貯蔵することを含んでもよい。例えば、蒸気貯蔵部は、貯留容器と反応チャンバとの間に配置されてもよく、貯留容器の中に生成される塩素蒸気を蓄積および貯蔵してもよい。一部の実施形態では、本開示の方法は、反応チャンバで工程を同時に動作させている間に、塩素含有化学種を塩素蒸気に変換することを含んでもよい。
【００５３】
本開示の一部実施形態では、塩素蒸気を反応チャンバの中へ制御可能に流す方法はさらに、反応チャンバ内の基体を塩素蒸気に曝露することを含んでもよい。例えば、基体を塩素蒸気に曝露することは、反応チャンバ内で実施される半導体製作工程の一部分を含んでもよく、半導体製作工程は、堆積工程、エッチング工程または洗浄工程のうちの少なくとも一つを含む。非限定的な例として、反応チャンバ内の基体を塩素蒸気に曝露することは、原子層エッチング工程の一部分を含んでもよく、基体を塩素蒸気に曝露することによって、基体の曝露表面の塩素化がもたらされる。原子層エッチング工程は、例えば、アルゴンイオンなどのイオンを、基体の塩素化表面に衝突させて進めてもよい。イオンによる塩素化基体表面の衝撃は、例えば、遠隔のプラズマ源または直流プラズマ源など、反応チャンバへのプラズマ表面を提供することによって達成されてもよい。基体の塩素蒸気への曝露、および続くイオン衝撃によって、原子層エッチング工程で基体の一部分がエッチングされてもよい。本開示の一部実施形態では、方法は、基体の所望の量をエッチング工程によって除去するまで、基体の原子エッチング制御が可能となるように、基体を塩素蒸気に繰り返し暴露することと、続けてイオンを塩素化表面に衝突させることとを含んでもよい。本開示の一部実施形態では、装置１００はプラズマ源を含まなくてもよい。
【００５４】
上に記載した本開示の例示的実施形態は、添付の特許請求の範囲およびその法的等価物により定義される、本発明の実施形態の単なる例であるため、これらの実施形態によって本発明の範囲は限定されない。いかなる同等の実施形態も、本発明の範囲内にあることを意図している。実際に、記載した要素の代替の有用な組み合わせなど、本明細書に示し記載したものに加えて、本開示の様々な改変が、記載から当業者に明らかとなってもよい。このような改変および実施形態もまた、添付の特許請求の範囲に入ると意図される。
［発明の態様］
［１］
反応チャンバへの塩素蒸気を提供する、化学物質分注装置であって、
塩素含有化学種を貯蔵するように構成される化学物質貯蔵容器と、
前記化学物質貯蔵容器と流体連通する貯留容器であって、前記塩素含有化学種を前記塩素蒸気に変換するように構成される、貯留容器と、
前記貯留容器と流体連通する反応チャンバと、を備える、装置。
［２］
前記反応チャンバは、原子層エッチング装置の前記反応チャンバを備える、１に記載の装置。
［３］
前記化学物質貯蔵容器は、石英材料を含む、１に記載の装置。
［４］
前記化学物質貯蔵容器は、フッ素系フィルムで覆われる内表面を備え、前記フッ素系フィルムは、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、フッ素化エチレンプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、パーフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）、ポリエチレンテレフタレートコポリマー（ＰＥＴＧ）またはポリアミド系コポリマーのうちの少なくとも一つを含む、１に記載の装置。
［５］
前記貯留容器はさらに、前記塩素含有化学種を熱分解するように構成される、一つ以上の加熱部を備える、１に記載の装置。
［６］
前記装置はさらに、前記塩素蒸気を貯蔵する蒸気貯蔵部を備え、前記蒸気貯蔵部は、前記貯留容器と前記反応チャンバとの間に配置される、１に記載の装置。
［７］
前記貯留容器はさらに、前記塩素蒸気を生成するよう、前記塩素含有化学種と反応するように構成される、化学試薬を備える、１に記載の装置。
［８］
前記化学物質貯蔵容器に貯蔵される前記塩素含有化学種を加熱するように構成される、一つ以上の加熱部をさらに備える、１に記載の装置。
［９］
前記塩素蒸気は、塩素（Ｃｌ２）を含む、１に記載の装置。
［１０］
反応チャンバに塩素蒸気を分注する方法であって、
化学物質貯蔵容器を提供することであって、前記化学物質貯蔵容器は、塩素含有化学種を含有する、提供することと、
前記化学物質貯蔵容器から貯留容器へ、前記塩素含有化学種を流すことと、
前記貯留容器内部で、前記塩素含有化学種を塩素蒸気に変換することと、
前記塩素蒸気を前記反応チャンバの中へ制御可能に流すことと、を含む、方法。
［１１］
前記化学物質貯蔵容器は、フッ素系フィルムで覆われる内表面を備え、前記フッ素系フィルムは、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、フッ素化エチレンプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、パーフルオロアルコキシ（ＰＦＡ）、ポリエチレンテレフタレートコポリマー（ＰＥＴＧ）またはポリアミド系コポリマーのうちの少なくとも一つを含む、１０に記載の方法。
［１２］
前記化学物質貯蔵容器は、石英材料を含む、１０に記載の方法。
［１３］
前記化学物質貯蔵容器に貯蔵される前記塩素含有化学種を加熱するように構成される、一つ以上の加熱部を提供することを、さらに含む、１０に記載の方法。
［１４］
前記塩素含有化学種は、Ｓ２Ｃｌ２、Ｓｅ２Ｃｌ２、ＳＣｌ２、ＳＣｌ、ＰＣｌ５、ＳｅＣｌ４、ＳｅＣｌ２、ＳｉＣｌ４、ＳｂＣｌ３、ＩＣｌ３、Ｉｃｌ、ＳｂＣｌ５、ＢＣｌ３、ＳｅＯ２Ｃｌ２、ＳＯ２Ｃｌ２、ＳｅＯＣｌ２、またはＳｎＣｌ４のうちの少なくとも一つを含む、１０に記載の方法。
［１５］
前記塩素含有化学種は、ＣＣｌ４、Ｃ２Ｃｌ６、塩化スクシニル、塩化マロニル、塩化フマリル、メチレンコハク酸クロリド、塩化グルタリル、塩化オキサリル、ＴｉＯＣｌ２、ＮｂＯＣｌ３、ＭｏＯＣｌ４、ＷＯＣｌ４、ＲｅＯ２Ｃｌ３、ＣｌＦ、ＢｒＣｌ、ＣｌＦ３、ＣｌＦ５、ＩＣｌ３、ＩＣｌ、ＦＣｌＯ２、ＦＣｌＯ３、またはＣｌ２Ｏのうちの少なくとも一つを含む、１０に記載の方法。
［１６］
前記塩素含有化学種は、置換もしくは非置換塩化アルキルスルフェニル、または置換もしくは非置換塩化アルキルスルホニルを含む、１０に記載の方法。
［１７］
前記塩素含有化学種を塩素蒸気に変換することはさらに、前記塩素含有化学種を分解することを含む、１０に記載の方法。
［１８］
前記塩素含有化学種を塩素蒸気に変換することはさらに、前記塩素含有化学種を化学試薬と反応させることを含む、１０に記載の方法。
［１９］
前記化学試薬は、酸素（Ｏ２）、水（Ｈ２Ｏ）、オゾン（Ｏ３）、遷移金属または金属酸化物のうちの少なくとも一つを含む、１８に記載の方法。
［２０］
前記反応チャンバは、原子層エッチングシステムの前記反応チャンバを備える、１０に記載の方法。
［２１］
前記塩素蒸気を蓄積および貯蔵する、蒸気貯蔵部を提供することをさらに含み、前記蒸気貯蔵部は、前記貯留容器と前記反応チャンバとの間に配置される、１０に記載の方法。
［２２］
前記塩素蒸気を前記反応チャンバの中へ制御可能に流すことはさらに、前記反応チャンバ内に配置される基体を、前記塩素蒸気に曝露することを含む、１０に記載の方法。
［２３］
前記反応チャンバ内の前記基体を前記塩素蒸気に曝露することはさらに、前記基体の一部分をエッチングすることを含む、２２に記載の方法。
【図１】
2019063792.tif 000003
【図２】
2019063792.tif 000004
【外国語明細書】
2019063792000001.pdf