(57)【要約】【課題】金型を使用することなく、しかも、２つの部材を重ね合わせて接合する必要がなく、単一の部材によって安価に、かつ容易に製造できる２面コーナーリフレクタアレイを提供する。【解決手段】異方性エッチング材料から構成される単一の反射体の各貫通孔３は、光反射性膜で被覆された隣接する反射面３ａ，３ｂが平面視で略直交する角部４を少なくとも１つ有するので、各貫通孔３によって２面コーナーリフレクタ６が構成され、多数の貫通孔３によって、多数の２面コーナーリフレクタ６を有する２面コーナーリフレクタアレイが構成される。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
異方性エッチング材料で構成されると共に、多数の貫通孔が形成された単一の反射体を備え、
前記多数の各貫通孔は、隣接する内壁面が平面視で略直交する角部を少なくとも１つ有し、
前記略直交する前記隣接する内壁面が、光反射性膜で被覆された反射面である、
ことを特徴とする２面コーナーリフレクタアレイ。
【請求項２】
前記角部は、前記隣接する内壁面の仮想延長面が平面視で略直交する、
請求項１に記載の２面コーナーリフレクタアレイ。
【請求項３】
前記異方性エッチング材料が水晶のＺ板である、
請求項１または２に記載の２面コーナーリフレクタアレイ。
【請求項４】
前記角部の仮想２等分線が、前記水晶のＸ軸に沿って延びる、
請求項３に記載の２面コーナーリフレクタアレイ。
【請求項５】
単一の異方性エッチング材料にマスクパターンを形成するマスクパターン形成工程と、
前記マスクパターンをマスクとして異方性エッチングを行って、前記異方性エッチング材料に多数の貫通孔を形成するエッチング工程と、
前記多数の各貫通孔の内壁面を、光反射性膜で被覆して反射面を形成する反射面形成工程とを含み、
前記マスクパターン形成工程では、平面視で略直角な角部を少なくとも１つ有する多角形状の多数のパターンを備える前記マスクパターンを形成する、
ことを特徴とする２面コーナーリフレクタアレイの製造方法。
【請求項６】
前記多数の各パターンは、前記略直角な前記角部の仮想２等分線が、前記異方性エッチング材料の結晶方位に基づく特定方向に延びる、
請求項５に記載の２面コーナーリフレクタアレイの製造方法。
【請求項７】
前記異方性エッチング材料が水晶のＺ板である、
請求項５または６に記載の２面コーナーリフレクタアレイの製造方法。
【請求項８】
前記多数の各パターンは、前記略直角な前記角部の仮想２等分線が、前記水晶のＸ軸に沿って延びる、
請求項７に記載の２面コーナーリフレクタアレイの製造方法。
【請求項９】
前記エッチング工程の前記異方性エッチングが、ウェットエッチングである、
請求項５ないし８のいずれかに記載の２面コーナーリフレクタアレイの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、直交する２つの反射面から構成される２面コーナーリフレクタを多数備えた２面コーナーリフレクタアレイ（DCRA:Dihedral Corner Reflector Array）及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
２面コーナーリフレクタアレイは、映像を当該２面コーナーリフレクタアレイに対して面対称な位置にある空間に結像させることができる光学結像素子であり、空中に映像を表示する空中映像表示技術に利用されている。２面コーナーリフレクタアレイは、２つの直交する反射面を基本構成とする２面コーナーリフレクタの多数の集合として構成される。
【０００３】
かかる２面コーナーリフレクタアレイの製造方法として、樹脂材料などを金型で成型する方法があるが、２面コーナーリフレクタは、微小な凹部や凸部を有しているので、金型の製作に高い精度が要求されると共に、金型からの製品の離型が容易でなく、製造コストが高くなるといった課題がある。
【０００４】
金型を使用しない２面コーナーリフレクタアレイの製造方法として、例えば、特許文献１に開示された製造方法がある。
【０００５】
この特許文献１には、概略四角柱状で１つの面が第１鏡面である第１鏡体及び複数の前記第１鏡体を平行に並べて支持する第１ベースを有する第１部材と、概略四角柱状で１つの面が第２鏡面である第２鏡体及び複数の前記第２鏡体を平行に並べて支持する第２ベースを有する第２部材とを、各第１鏡面と各第２鏡面とがそれぞれ直角をなすように重ね合わせて接合し、２面コーナーリフレクタアレイを構成することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００９−２７６６９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記特許文献１の製造方法のように、第１部材の平行に延びる複数の第１鏡体と、第２部材の平行に延びる複数の第２鏡体とを、各第１鏡面と各第２鏡面とがそれぞれ直角をなすように重ね合わせて接合するには、高い位置精度が求められ、容易ではなく、また、各ベースに、概略四角柱状の複数の鏡体を平行に並べて支持させるのも容易ではない。
【０００８】
特に、視覚効果を高めるために、第１鏡面と第２鏡面とからなる一組の２面コーナーリフレクタを、多数構成しようとすると、平行に並べて配置される概略四角柱状の鏡体のサイズ及び隣合う鏡体間の間隔も小さくなるために、第１部材と第２部材とを、各第１鏡面と各第２鏡面とがそれぞれ直角をなすように
位置合せして接合するのは一層困難になると共に、接合領域も小さくなるために、十分な接合強度が得られない。
【０００９】
本発明は、上記のような点に鑑みて為されたものであって、金型を使用することなく、しかも、２つの部材を重ね合わせて接合する必要がなく、単一の部材によって安価に、かつ容易に製造できる２面コーナーリフレクタアレイ及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明では、上記目的を達成するために、次のように構成している。
【００１１】
すなわち、本発明の２面コーナーリフレクタアレイは、異方性エッチング材料で構成されると共に、多数の貫通孔が形成された単一の反射体を備え、前記多数の各貫通孔は、隣接する内壁面が平面視で略直交する角部を少なくとも１つ有し、前記略直交する前記隣接する内壁面が、光反射性膜で被覆された反射面である。
【００１２】
本発明の２面コーナーリフレクタアレイによれば、単一の反射体の各貫通孔は、光反射性膜で被覆された隣接する反射面が、平面視で略直交する角部を少なくとも１つ有するので、各貫通孔によって２面コーナーリフレクタがそれぞれ構成され、多数の貫通孔によって、多数の２面コーナーリフレクタを有する２面コーナーリフレクタアレイが構成される。
【００１３】
単一の反射体は、異方性エッチング材料で構成されているので、隣接する内壁面が平面視で略直交する角部を少なくとも１つ有する貫通孔を、異方性エッチングによって形成することが可能である。
【００１４】
これによって、金型を使用して２面コーナーリフレクタアレイを成型する従来例のように、製作に高い精度が要求される高価な金型を必要とすることなく、金型からの離型の問題もない。また、上記特許文献１のように、第１部材の平行に延びる複数の第１鏡体と、第２部材の平行に延びる複数の第２鏡体とを、各第１鏡面と各第２鏡面とがそれぞれ直角をなすように、高い位置精度で重ね合わせて２つの部材を接合するといった必要がなく、安価に、かつ、容易に２面コーナーリフレクタアレイを製造することができる。
【００１５】
前記角部は、前記隣接する内壁面の仮想延長面が平面視で略直交するものであってもよい。
【００１６】
角部の頂点付近の隣接する内壁面が、例えば異方性エッチングの際のエッチング材料の結晶異方性によって、歪んで完全には直交しないような場合であっても、隣接する内壁面の仮想延長面が平面視で略直交するので、前記角部の頂点付近を除く隣接する内壁面は略直交することになり、光反射性膜で被覆された隣接する反射面として、２面コーナーリフレクタを構成することができる。
【００１７】
前記異方性エッチング材料が水晶のＺ板であるのが好ましい。
【００１８】
上記構成によれば、Ｚ板の水晶の結晶異方性を利用した異方性エッチングによって、隣接する内壁面が平面視で略直交する角部を少なくとも１つ有する多数の貫通孔を形成し、隣接する内壁面を光反射性膜で被覆して反射面とすることができ、これによって、２面コーナーリフレクタアレイを得ることができる。
【００１９】
前記角部の仮想２等分線が、前記水晶のＸ軸に沿って延びるのが好ましい。
【００２０】
上記構成によれば、水晶のＸ軸を基準にして異方性エッチングを行うことで、Ｚ板の水晶の結晶異方性を利用して、隣接する内壁面が平面視で略直交する角部を少なくとも１つ有する貫通孔を形成することができる。
【００２１】
本発明の２面コーナーリフレクタアレイの製造方法は、単一の異方性エッチング材料にマスクパターンを形成するマスクパターン形成工程と、前記マスクパターンをマスクとして異方性エッチングを行って、前記異方性エッチング材料に多数の貫通孔を形成するエッチング工程と、前記多数の各貫通孔の内壁面を、光反射性膜で被覆して反射面を形成する反射面形成工程とを含み、前記マスクパターン形成工程では、平面視で略直角な角部を少なくとも１つ有する多角形状の多数のパターンを備える前記マスクパターンを形成する。
【００２２】
本発明の２面コーナーリフレクタアレイの製造方法によれば、単一の異方性エッチング材料に、平面視で略直角な角部を少なくとも１つ有する多角形状のパターンを多数備えるマスクパターンを形成し、このマスクパターンをマスクとして異方性エッチングを行うことによって、異方性エッチング材料に、隣接する内壁面が平面視で略直交する角部を少なくとも１つ有する多数の貫通孔を形成することができ、多数の各貫通孔の内壁面を、光反射性膜で被覆して反射面とすることによって、２面コーナーリフレクタアレイが得られる。
【００２３】
このように単一の異方性エッチング材料に対して、フォトリソグラフィを利用した異方性エッチングを行って２面コーナーリフレクタアレイを製造するので、金型を使用して２面コーナーリフレクタアレイを成型する従来例のような製作に高い精度が要求される高価な金型を使用する必要もなく、金型からの離型の問題も生じない。更に、上記特許文献１のように、第１鏡面を有する第１鏡体の複数を、平行に並べて支持した第１部材と、第２鏡面を有する第２鏡体の複数を、平行に並べて支持した第２部材との２つの部材を製造する必要がなく、それら２つの部材の各第１鏡面と各第２鏡面とがそれぞれ直角をなすように、高い位置精度で重ね合わせて接合する必要もなく、安価に、かつ、容易に２面コーナーリフレクタアレイを製造することができる。
【００２４】
前記多数の各パターンは、前記略直角な前記角部の仮想２等分線が、前記異方性エッチング材料の結晶方位に基づく特定方向に延びるのが好ましい。
【００２５】
上記構成によれば、異方性エッチング材料の結晶方位に基づく特定方向を基準にしたマスクパターンをマスクとして異方性エッチングを行うことで、結晶異方性を利用して、隣接する内壁面が平面視で略直交する角部を有する貫通孔を形成することができる。
【００２６】
前記異方性エッチング材料が水晶のＺ板であるのが好ましい。
【００２７】
上記構成によれば、Ｚ板の水晶の結晶異方性を利用した異方性エッチングによって、隣接する内壁面が平面視で略直交する角部を少なくとも１つ有する貫通孔を形成することができる。
【００２８】
前記多数の各パターンは、前記略直角な前記角部の仮想２等分線が、前記水晶のＸ軸に沿って延びるのが好ましい。
【００２９】
上記構成によれば、水晶のＸ軸を基準にしたマスクパターンをマスクとして異方性エッチングを行うことで、Ｚ板の水晶の結晶異方性を利用して、隣接する内壁面が平面視で略直交する角部を少なくとも１つ有する多数の貫通孔を形成することができる。
【００３０】
前記エッチング工程の前記異方性エッチングが、ウェットエッチングであるのが好ましい。
【００３１】
上記構成によれば、ウェットエッチングを用いることによって貫通孔の内壁面を平滑な状態にすることができる。
【発明の効果】
【００３２】
本発明によれば、２面コーナーリフレクタの反射面を構成する、平面視で略直交する隣接する内壁面を有する多数の貫通孔を、単一の異方性エッチング材料に対する異方性エッチングによって形成することができるので、金型を使用して２面コーナーリフレクタアレイを成型する従来例のような製作に高い精度が要求される高価な金型を使用する必要もなく、金型からの離型の問題も生じない。更に、上記特許文献１のように、第１鏡面を有する第１鏡体の複数を、平行に並べて支持した第１部材と、第２鏡面を有する第２鏡体の複数を、平行に並べて支持した第２部材との２つの部材を製造する必要がなく、それら２つの部材の各第１鏡面と各第２鏡面とがそれぞれ直角をなすように、高い位置精度で重ね合わせて接合する必要もなく、安価に、かつ、容易に２面コーナーリフレクタアレイを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】図１は本発明の一実施形態に係る２面コーナーリフレクタアレイの平面図である。
【図２】図２は図１の一部を拡大して示す平面図である。
【図３】図３は図１の一部を拡大して示す斜視図である。
【図４】図４は図１の一つの貫通孔を代表的に示す拡大した平面図である。
【図５】図５は図１の２面コーナーリフレクタアレイによる結像様式を模式的に示す図である。
【図６】図６はＺカットの水晶板を示す切断方位図である。
【図７】図７は図１の２面コーナーリフレクタアレイの製造工程を示す概略断面図である。
【図８】図８はエッチング工程のマスクパターンを示す平面図である。
【図９】図９は図８のマスクパターンの１つのパターンを代表的に示す拡大した平面図である。
【図１０】図１０は貫通孔の角部における内壁面の歪を示す図４に対応する平面図である。
【図１１】図１１は本発明の他の実施形態に係る２面コーナーリフレクタアレイの平面図である。
【図１２】図１２は図１１の一つの貫通孔を代表的に示す拡大した平面図である。
【図１３】図１３はエッチング工程のマスクパターンを示す平面図である。
【図１４】図１４は図１３のマスクパターンの１つのパターンを代表的に示す拡大した平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【００３５】
図１は、本発明の一実施形態の２面コーナーリフレクタアレイの平面図であり、図２は図１の一部を拡大して示す平面図であり、図３は、図１の一部を拡大して示す斜視図である。
【００３６】
この実施形態の２面コーナーリフレクタアレイ１は、平面視矩形、この例では平面視正方形の平板状の単一の反射体２を備えている。
【００３７】
この反射体２は、正方形の各一辺の長さが、例えば、約５０ｍｍであり、厚みが、例えば、０．０８ｍｍ〜０．３ｍｍである。平板状の反射体２には、その表裏の板面に対して垂直に貫通する多数の貫通孔３が形成されている。この反射体２は、後述のように、各貫通孔３の内壁面を含む全面が、光反射性膜で被覆された反射面となっている。
【００３８】
図４は、図１ないし図３の一つの貫通孔３を代表的に拡大して示す平面図である。
【００３９】
この貫通孔３は、隣接する内壁面が光反射性膜で被覆された反射面３ａ，３ｂを有し、両反射面３ａ，３ｂが平面視で略直交する角部４を１つ有する六角形状となっている。すなわち、角部４を構成する両反射面３ａ，３ｂのなす角θは、略９０度である。
【００４０】
ここで、略直交するとは、直角（９０度）に交差する場合に限らず、９０±２度、好ましくは、９０±１度の角度範囲で交差する場合も含むものである。また、交差する角部４の頂点４ａ付近の反射面３ａ，３ｂが、例えば、曲面状に歪んでいるような場合も含むものである。
【００４１】
貫通孔３のサイズは、各反射面３ａ，３ｂにそれぞれ隣接して、互いに対向する反射面３ｃ，３ｄ間の距離Ｌ１が、例えば、０．３３ｍｍであり、前記角部４の頂点４ａと、この角部４に対向する角部５の頂点との距離Ｌ２が、例えば、０．３３ｍｍである。
【００４２】
また、反射体２に形成されている貫通孔３の単位面積あたりの形成数は、前記サイズの貫通孔３の場合、例えば、１ｍｍ2あたりでは約８個である。
【００４３】
反射体２の貫通孔３のサイズや数等は、２面コーナーリフレクタアレイ１の用途や要求される明度や解像度等に応じて適宜選択すればよい。
【００４４】
反射体２は、特定の結晶面がエッチングされ易い、異方性エッチング材料である水晶ウェハで構成されている。貫通孔３の内壁面は、後述の異方性エッチングによって、平板状の反射体２の表裏の板面に対して略垂直に形成されている。ここで、略垂直とは、垂直である９０度だけでなく、９０±３度、好ましくは、９０±２度、更に好ましくは、９０±１度を含むものである。
【００４５】
貫通孔３の平面視で略直角の角部４の成す角度を二等分する仮想二等分線ＶＬ１は、水晶ウェハのＸ軸に沿って延びている。更に、この仮想二等分線ＶＬ１の角部４の頂点４ａに向かう方向が、−Ｘ軸方向となっている。
【００４６】
異方性エッチングによって、多数の貫通孔３が形成された水晶ウェハは、その全面が、貫通孔３の内壁面を含めて光反射性膜で被覆された反射面、すなわち、鏡面とされて反射体２が構成されている。
【００４７】
この反射体２の各貫通孔３において、隣接する反射面３ａ，３ｂは、平面視で略直交しており、この２つの反射面３ａ，３ｂによって、２面コーナーリフレクタ６が構成され、各貫通孔３からなる微小な２面コーナーリフレクタ６を、縦横に多数並べた２面コーナーリフレクタアレイ１が構成される。
【００４８】
ここで、図５を参照して、２面コーナーリフレクタアレイ１の光学結像作用について説明する。図５は、２面コーナーリフレクタアレイ１による結像様式を模式的に示す図であり、多数の各貫通孔３の略直交する反射面３ａ，３ｂをＶ字形状で簡略化して示している。
【００４９】
２面コーナーリフレクタアレイ１は、素子面７に対して一方側（図５では下方側）の空間に配置した光源８の空中像９を実像として、素子面７に対する面対称位置に結像させるものである。
【００５０】
このような２面コーナーリフレクタアレイ１による結像作用は、各２面コーナーリフレクタ６において、光源８からの光が素子面７の一方側から他方側へ透過する際に、光源８から発した光が、貫通孔３の直交する２つの反射面３ａ，３ｂの一方の反射面３ａ（３ｂ）で反射し、更に他方の反射面３ｂ（３ａ）で反射することによって得られるものである。
【００５１】
このように２面コーナーリフレクタアレイ１では、素子面７の一方側の空間に配置された光源８から発した光が、２面コーナーリフレクタアレイ１を通過する際に、２面コーナーリフレクタ６の２つの反射面３ａ，３ｂで１回ずつ、合計２回反射する。これにより、素子面７に対する光源８の面対称位置に空中像９が結像し、それを素子面７に対して空中像９と同じ側の空間から観察することができる。
【００５２】
次に、この実施形態の２面コーナーリフレクタアレイ１の製造方法について説明する。
【００５３】
この実施形態の製造方法では、先ず、異方性エッチング材料である水晶ウェハに、フォトリソグラフィを用いた異方性エッチングを行う。
【００５４】
この実施形態では、水晶ウェハとして、水晶のＺ板を用いている。Ｚ板１０は、図６の切断方位図に示すように、Ｚ軸に対して９０°の角度で切り出されたＺカットの水晶基板であり、主面（Ｘ−Ｙ平面）がＺ軸に直交する。
【００５５】
図７は、このＺ板１０に対して、フォトリソグラフィを用いた異方性エッチングを行い、更に、光反射性膜で被覆して反射体２を作製する工程を示す概略断面図である。
【００５６】
この図７においては、矩形板状のＺ板１０のＸ軸方向が左方向、Ｚ軸方向が上方向となる。
【００５７】
このＺ板１０の両主面は、研磨加工によって、平坦平滑面（鏡面加工面）となっている。
【００５８】
先ず、図７（ａ）に示される洗浄したＺ板１０に、例えば、スパッタリングや蒸着などの手法を用いて耐フッ酸膜である金属膜１１を、図７（ｂ）に示すように形成する。この金属膜１１は、例えばクロム（Ｃｒ）の下地層に金（Ａｕ）を積層したものである。
【００５９】
次に、図７（ｃ）に示されるようにスピンコートなどによって、フォトレジスト１２を塗布する。
【００６０】
このフォトレジスト１２を、図７（ｄ）に示すように、多数の貫通孔３に対応するパターンとなるように露光及び現像する。
【００６１】
次に、図７（ｅ）に示すように、フォトレジスト１２をマスクにして金属膜１１のウェットエッチングを行い、フォトレジスト１２に覆われていない金属膜１１の部分を除去する。これによって、Ｚ板１０の表裏面を露出させて貫通孔形成用のマスクパターン１３を形成する。
【００６２】
図８は、このマスクパターン１３を示す平面図である。この実施形態のマスクパターン１３は、平面視で正方形の多数のパターン１４を備えている。各パターン１４が、上記各貫通孔３を形成するための開口したパターンである。
【００６３】
図９は、図８の一つのパターン１４を代表的に拡大して示す平面図である。このパターン１４は、平面視で直角な４つの角部１５1〜１５4を有する正方形である。
【００６４】
このパターン１４は、正方形のパターンの一辺を、Ｚ板１０のＹ軸に対してθ1＝４５度時計回りに回転させたパターンとなっている。
【００６５】
これによって、パターン１４の４つの角部１５1〜１５4の内の１つの角部１５1の成す角度を二等分する仮想二等分線ＶＬ２は、Ｚ板１０のＸ軸に沿って延びる。更に、この仮想二等分線ＶＬ２の角部１５1の頂点１５1ａに向かう方向が、Ｚ板１０の−Ｘ軸方向となっている。
【００６６】
このようにＺ板１０の−Ｘ軸を基準にして、平面視正方形のパターン１４の１つの角部１５1を位置させたマスクパターン１３をマスクとして異方性エッチングを行うことで、Ｚ板１０の結晶異方性を利用して、上記図４に示すように、隣接する内壁面が平面視で略直交する角部４を少なくとも１つ有する貫通孔３を形成することができる。
【００６７】
このようにして、図７（ｆ）に示すように、Ｚ板１０の表裏の板面に対して垂直な内壁面を有する多数の貫通孔３を形成する。
【００６８】
次に、図７（ｇ）に示すように、フォトレジスト１２及び金属膜１１を除去し、多数の貫通孔３が形成されたＺ板１０を得る。
【００６９】
その後、このＺ板１０の全面を、光反射性膜１６で被覆して反射面を形成する反射面形成工程を行う。
【００７０】
具体的には、図７（ｇ）に示される多数の貫通孔３が形成されたＺ板１０に、貫通孔３の内壁面を含む露出面の全面に、図７（ｈ）に示されるように、例えば、スパッタリングや蒸着などの手法を用いて金属膜からなる光反射性膜１６を形成して反射面、すなわち、鏡面とする反射膜形成工程を行う。これによって、図１に示される反射体２となり、２面コーナーリフレクタアレイ１が得られる。
【００７１】
この光反射性膜１６を構成する金属膜として、例えば、銀、ニッケル、アルミニウムなどの金属を用いることができ、この実施形態では、銀合金（例えばＡｇ−Ｐｄ-Ｃｕ合金）を用いている。
【００７２】
なお、空中映像を表示する表示画面に応じて、２面コーナーリフレクタアレイ１を大型化する場合には、例えば、透明なガラス基板等に、２面コーナーリフレクタアレイ１を、縦横に多数並べて接合すればよい。
【００７３】
以上のように本実施形態によれば、単一の反射体２の多数の貫通孔３は、隣接する反射面３ａ，３ｂが平面視で略直交する角部４を少なくとも１つ有するので、各貫通孔３の反射面３ａ，３ｂによって２面コーナーリフレクタ６がそれぞれ構成され、多数の貫通孔３によって、多数の２面コーナーリフレクタ６を有する２面コーナーリフレクタアレイ１が構成される。
【００７４】
反射体２は、単一の異方性エッチング材料であるＺ板１０で構成されているので、隣接する内壁面が平面視で略直交する角部４を有する貫通孔３を、異方性エッチングによって容易に形成することが可能である。
【００７５】
したがって、金型を使用して２面コーナーリフレクタアレイを成型する従来例のように、製作に高い精度が要求される高価な金型を必要とすることなく、金型からの離型の問題もない。
【００７６】
更に、第１部材と第２部材とによって２面コーナーリフレクタアレイを構成する上記特許文献１のように、２つの部材を、各部材の各鏡面がそれぞれ直角をなすように高い位置精度で重ね合わせて接合するといった必要がない。
【００７７】
また、単一の反射体２によって２面コーナーリフレクタ６を構成するので、２つの部材を重ね合わせて２面コーナーリフレクタを構成する特許文献１に比べて、光の利用効率が高いものとなる。
【００７８】
このように本実施形態によれば、従来例に比べて、簡便な方法で２面コーナーリフレクタを多数備えた２面コーナーリフレクタアレイを安価に製造することができる。
【００７９】
また、この実施形態では、反射体２は、貫通孔３を含む全面が、光反射性膜１６で覆われており、反射体２を構成する水晶が露出していない。これによって、貫通孔３の内壁面のみを光反射性膜１６で覆った場合のように、光源からの光が反射体２を構成する水晶の内部を通過することがなく、したがって、水晶の内部を通過することによる屈折率の変化の影響を受けることがない。
【００８０】
なお、本発明の他の実施形態として、反射体２は、その全面ではなく、貫通孔３の内壁面のみを光反射性膜で覆うようにしてもよい。
【００８１】
上記のようにＺ板１０のウェットエッチングによって、上記図４に示すように、平面視で略直交する反射面３ａ，３ｂからなる２面コーナーリフレクタ６を構成する多数の貫通孔３を形成するが、ウェットエッチングの条件等によっては、Ｚ板１０の結晶異方性に起因して、両反射面３ａ，３ｂが交差する角部４の頂点付近４ａでは、各反射面３ａ，３ｂが、例えば、図１０に示すように、曲面状に歪む場合がある。かかる場合には、曲面状の部分は、２面コーナーリフレクタ６を構成することができない。
【００８２】
この２面コーナーリフレクタ６を構成できない角部４の頂点４ａ付近の歪みを抑制するために、次の実施形態のようにしてもよい。
【００８３】
図１１及び図１２は、本発明の他の実施形態の２面コーナーリフレクタアレイ１1の上記図１及び図４に対応する平面図である。
【００８４】
この実施形態の２面コーナーリフレクタアレイ１1では、各貫通孔３1において、平面視で略直交する２つの各反射面３1ａ，３1ｂによって２面コーナーリフレクタ６1が構成され、各貫通孔３1からなる微小な２面コーナーリフレクタ６1を、縦横に多数並べた２面コーナーリフレクタアレイ１1が構成される。
【００８５】
この実施形態では、平面視で、隣接する反射面３1ａ，３1ｂの仮想延長面ＶＳ１，ＶＳ２が、略直交しており、その仮想角部４1の先端は、Ｚ板１０の−Ｘ軸方向へ突出した突出部１７となっている。
【００８６】
図４に示される上記実施形態と同様に、貫通孔３1の平面視で略直角の仮想角部４1の成す角度を二等分する仮想二等分線ＶＬ３は、Ｚ板１０のＸ軸に沿って延び、更に、この仮想二等分線ＶＬ３の仮想角部４1の仮想頂点４1ａに向かう方向が、Ｚ板１０の−Ｘ軸方向となっている。
【００８７】
このように隣接する反射面３1ａ，３1ｂの仮想延長面ＶＳ１，ＶＳ２が、略直交する仮想角部４1を、Ｚ板１０の−Ｘ軸方向へ突出させることによって、図１０に示される反射面３ａ，３ｂの角部４付近の曲面状に歪んだ部分が無くなり、その分、平面状の反射面３1ａ，３1ｂの占める部分、すなわち、２面コーナーリフレクタ６1を構成する部分を増やすことができる。
【００８８】
図１３は、かかる貫通孔３1を有するＺ板１０を、異方性エッチングによって形成するためのマスクパターン１３1を示す図８に対応する平面図であり、図１４は、図１３の一つのパターン１４1を代表的に拡大して示す図９に対応する平面図である。
【００８９】
このパターン１４1は、平面視で略直角な仮想角部１８を１つ有する多角形状であって、パターン１４1の仮想角部１８を構成する各辺１８1，１８2にそれぞれ対向する各対向辺１８3，１８4は、円弧状の曲線となっている。
【００９０】
このパターン１４1では、仮想角部１８の先端が、Ｚ板１０の−Ｘ軸方向へ突出した突出部１９となっている。このようにマスクパターン１３1のパターン１４1の直角な仮想角部１８を、Ｚ板１０の−Ｘ軸側へ突出させることによって、図１２に示すように、貫通孔３1における仮想角部４1付近の曲面状に歪んだ部分を無くすことができる。
【００９１】
なお、図９に示される上記実施形態と同様に、このパターン１４1は、図１４に示すように、略直角をなす仮想角部１８を構成する一辺１８1が、Ｚ板１０のＹ軸に対してθ1＝４５度時計回りに回転したパターンとなっている。
【００９２】
また、平面視で略直角の仮想角部１８の成す角度を二等分する仮想二等分線ＶＬ４は、Ｚ板１０のＸ軸に沿って延び、この仮想二等分線ＶＬ４の仮想角部１８の仮想頂点１８ａに向かう方向が、Ｚ板１０の−Ｘ軸方向となっている。
【００９３】
このようにＺ板１０の−Ｘ軸を基準にして、多角形状のパターン１４1の直角な仮想角部１８を位置させたマスクパターン１３1をマスクとして異方性エッチングを行うことで、Ｚ板１０の結晶異方性を利用して、図１２に示すように、隣接する内壁面が平面視で略直交する仮想角部４1を少なくとも１つ有する貫通孔３1を形成することができる。
【００９４】
その他の構成は、上記実施形態と同様である。
【００９５】
マスクパターンは、上記実施形態に限らず、種々のパターンを用いることができ、平面視で略直角の角部を少なくとも１つ有するパターンを多数有するものであればよい。
【００９６】
上記各実施形態では、異方性エッチング材料として水晶を使用したが、シリコン単結晶などの他の異方性エッチング材料を使用してもよい。
【符号の説明】
【００９７】
１，１1                ２面コーナーリフレクタアレイ
２，２1                反射体
３，３1                貫通孔
４                     角部
４1                    仮想角部
１０                   Ｚ板
１３，１３1            マスクパターン
１４，１４1            パターン
１６                   光反射性膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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