(57)【要約】【課題】長期間の繰り返し使用による電荷の蓄積を抑制し、感光層の剥離を抑制した電子写真感光体を提供する。【解決手段】支持体、下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を有する電子写真感光体において、該下引き層が、ポリアミド樹脂と、式（１）で示される化合物で表面処理された酸化チタン粒子を含有し、該下引き層中の該ポリアミド樹脂の体積に対する該酸化チタン粒子の体積をａ、該酸化チタン粒子の平均一次粒径をｂ［μｍ］としたとき、１４．０≦ａ／ｂ≦１９．１を満足し、該電荷発生層が、電荷発生物質と、水酸基を有し、かつ、水酸基価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である熱可塑性樹脂とを含有することを特徴とする電子写真感光体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体、該支持体上に形成された下引き層、該下引き層直上に形成された電荷発生層、及び該電荷発生層上に形成された電荷輸送層を有する電子写真感光体において、
該下引き層が、ポリアミド樹脂と、式（１）で示される化合物で表面処理された酸化チタン粒子を含有し、
該下引き層中の該ポリアミド樹脂の体積に対する該酸化チタン粒子の体積をａ、該酸化チタン粒子の平均一次粒径をｂ［μｍ］としたとき、
式（Ａ）：１４．０≦ａ／ｂ≦１９．１
を満足し、
該電荷発生層が、電荷発生物質と、水酸基を有し、かつ、水酸基価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である熱可塑性樹脂とを含有することを特徴とする電子写真感光体。
【化１】
2019139225.tif 000011
（式（１）中、Ｒ１は、メチル基、エチル基、アセチル基、２−メトキシエチル基を示す。Ｒ２は、水素原子、メチル基を示す。ｍ＋ｎ＝３であり、ｍは０以上の整数、ｎは１以上の整数である。但し、ｎが３のとき、ｍは０である。）
【請求項２】
前記下引き層における前記酸化チタン粒子のＴｉＯ２に対する、前記式（１）で示される化合物のＳｉ元素の含有率をｃ［質量％］としたとき、
式（Ｂ）：０．０１５≦ｂ×ｃ≦０．０３０
を満足する請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
前記下引き層の膜厚ｄ［μｍ］が、
式（Ｃ）０．５≦ｄ≦３．０
を満足する請求項１又は２に記載の電子写真感光体。
【請求項４】
前記下引き層が、式（Ｄ）：０．１５≦ａ／ｄ≦０．５５を満足する請求項１乃至３の何れか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項５】
前記式（１）で示される化合物が、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン及びビニルメチルジメトキシシランから選択される少なくとも１種である請求項１乃至４の何れか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項６】
前記酸化チタン粒子の平均一次粒径ｂ［μｍ］が、０．０１５以上０．０８５以下である請求項１乃至５の何れか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項７】
前記電荷発生物質が、ヒドロキシガリウムフタロシアニンである請求項１乃至６の何れか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項８】
請求項１乃至７の何れか１項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、及びクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項９】
請求項１乃至７の何れか１項に記載の電子写真感光体、並びに、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を有することを特徴とする電子写真装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、並びに、電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プロセスカートリッジや電子写真装置に搭載される電子写真感光体として、有機光導電性物質（電荷発生物質）を含有する電子写真感光体が用いられている。電子写真感光体は、一般的に、支持体と支持体上に形成された感光層とを有し、感光層は電荷発生層及び電荷輸送層を有している。感光層は、電荷発生物質を含有する電荷発生層上に電荷輸送物質を含有する電荷輸送層を積層している積層型感光層が好ましく用いられている。さらに、支持体と感光層との間の接着力を高め、また、支持体から電荷発生層側への電荷注入を抑制し、局所的な帯電性能の低下によるカブリ、リークなどの発生を抑えることを目的として、支持体と電荷発生層との間には下引き層が設けられることが多い。
【０００３】
支持体から電荷発生層側への電荷注入を抑制し、局所的な帯電性能の低下によるカブリ、リークなどの発生を抑えるために、下引き層としては、樹脂中に金属酸化物粒子を分散させた下引き層が用いられている。
【０００４】
近年、より長寿命な電子写真装置が求められており、電子写真感光体の繰り返し使用による安定性や環境安定性のために、長期間の繰り返し使用による電荷の蓄積が少ない下引き層が求められている。
【０００５】
電荷の蓄積が少ない下引き層として、特許文献１では、ポリアミド樹脂と表面処理が施されている金属酸化物粒子を用いる技術が記載されている。
【０００６】
また、特許文献２では、金属酸化物粒子の表面処理剤としてアミノ基を有しないシランカップリング剤を用いる技術が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００９−１５１３２９号公報
【特許文献２】特開２０１４−１８２２９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
近年、長寿命な電子写真感光体が望まれるようになっており、長期間の繰り返し使用による電子写真感光体の安定性や環境安定性のために、下引き層として電荷の蓄積を抑えるだけでなく、支持体と感光層との間の接着力がより高いものが求められている。
【０００９】
本発明者らが検討を行った結果、特許文献１及び２に開示されている技術では、長期間の繰り返し使用において、支持体と感光層との間の接着力が十分でないために感光層が剥離してしまう場合があることがわかった。
【００１０】
本発明の目的は、長期間の繰り返し使用による電荷の蓄積を抑制するとともに、感光層の剥離を抑制した電子写真感光体、並びに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の電子写真感光体は、支持体、該支持体上に形成された下引き層、該下引き層直上に形成された電荷発生層、及び該電荷発生層上に形成された電荷輸送層を有し、該下引き層が、ポリアミド樹脂と、式（１）で示される化合物で表面処理された酸化チタン粒子を含有し、該下引き層中の該ポリアミド樹脂の体積に対する該酸化チタン粒子の体積をａ、該酸化チタン粒子の平均一次粒径をｂ［μｍ］としたとき、式（Ａ）：１４．０≦ａ／ｂ≦１９．１を満足し、該電荷発生層が、電荷発生物質と、水酸基を有し、かつ、水酸基価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である熱可塑性樹脂とを含有することを特徴とする。
【化１】
2019139225.tif 000002
（式（１）中、Ｒ１は、メチル基、エチル基、アセチル基、２−メトキシエチル基を示す。Ｒ２は、水素原子、メチル基を示す。ｍ＋ｎ＝３であり、ｍは０以上の整数、ｎは１以上の整数である。但し、ｎが３のとき、ｍは０である。）
【００１２】
また、本発明は、上記電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、及びクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジに関する。
【００１３】
また、本発明は、上記電子写真感光体、並びに、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を有することを特徴とする電子写真装置に関する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、長期間の繰り返し使用による電荷の蓄積が抑制され、かつ、感光層の剥離が抑制された電子写真感光体、並びに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】電子写真感光体の層構成の一例を示す図である。
【図２】電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジを有する電子写真装置の概略構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の電子写真感光体は、支持体、該支持体上に形成された下引き層、該下引き層直上に形成された電荷発生層、及び該電荷発生層上に形成された電荷輸送層を有し、該下引き層が、ポリアミド樹脂と、式（１）で示される化合物で表面処理された酸化チタン粒子を含有し、該下引き層中の該ポリアミド樹脂の体積に対する該酸化チタン粒子の体積をａ、該酸化チタン粒子の平均一次粒径をｂ［μｍ］としたとき、式（Ａ）：１４．０≦ａ／ｂ≦１９．１を満足し、該電荷発生層が、電荷発生物質と、水酸基を有し、かつ、水酸基価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である熱可塑性樹脂を含有することを特徴とする。
【化２】
2019139225.tif 000003
（式（１）中、Ｒ１は、メチル基、エチル基、アセチル基、２−メトキシエチル基を示す。Ｒ２は、水素原子、メチル基を示す。ｍ＋ｎ＝３であり、ｍは０以上の整数、ｎは１以上の整数である。但し、ｎが３のとき、ｍは０である。）
【００１７】
係る電子写真感光体が、長期間の繰り返し使用によっても電荷の蓄積が抑制され、感光層の剥離が抑制される理由について、本発明者らは、以下のように推測している。
感光層の剥離を抑制するために、感光層と下引き層との間の接着力を高める必要がある。本発明において、下引き層はポリアミド樹脂と酸化チタン（二酸化チタン、ＴｉＯ２）粒子とを含有し、下引き層の直上にある電荷発生層には、水酸基を有する水酸基価５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の熱可塑性樹脂が用いられる。この下引き層と、電荷発生層に用いられる熱可塑性樹脂との接着力を高めるために、表面に不飽和結合を有する式（１）で示される化合物で処理した酸化チタン粒子を用いている。凝集エネルギーの大きな不飽和結合を有することで、下引き層の表面に存在している酸化チタン粒子と電荷発生層との間の接着力が高まり、感光層の剥離が抑制されていると考えている。
【００１８】
また、下引き層に滞留する電荷の蓄積を抑制するためには、下引き層中に酸化チタン粒子が均一に分散されていることが好ましい。式（１）の分子鎖の短いシランカップリング剤を選択することで、酸化チタン粒子の表面の疎水性を高めつつ、表面処理している化合物間の絡み合いを起こしにくくすることで、均一に分散されていると考えている。
【００１９】
以上、感光層の剥離の抑制と下引き層に滞留する電荷の蓄積の抑制という二つの効果を高水準で両立させるために、次のことを見出した。式（１）で示される化合物で表面処理済みの酸化チタン粒子の平均一次粒径に応じて、下引き層における酸化チタン粒子とポリアミド樹脂の体積比（ポリアミド樹脂の体積に対する酸化チタン粒子の体積）のよりよい値がある。それが式（Ａ）の関係式である。即ち、下引き層中の該ポリアミド樹脂の体積に対する該酸化チタン粒子の体積をａ、該酸化チタン粒子の平均一次粒径をｂ［μｍ］としたとき、式（Ａ）：１４．０≦ａ／ｂ≦１９．１を満足する。式（Ａ）の値が１４．０より小さいと、本発明における下引き層に滞留する電荷の蓄積の抑制効果が満足できない水準となり、１９．１よりも大きいと、感光層の剥離の抑制効果が満足できない水準となる。
【００２０】
本発明の電子写真感光体は、支持体、該支持体上に形成された下引き層、該下引き層直上に形成された電荷発生層、該電荷発生層上に形成された電荷輸送層を有する。
【００２１】
図１は、電子写真感光体の層構成の一例を示す図である。図１中、電子写真感光体は、支持体１０１、下引き層１０２、電荷発生層１０４、電荷輸送層１０５を有する。
【００２２】
〔支持体〕
支持体としては、導電性を有するもの（導電性支持体）が好ましく、例えば、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、金などの金属またはこれら金属の合金の支持体を用いることができる。また、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、ガラスなどの絶縁性支持体上にアルミニウム、クロム、銀、金などの金属の薄膜を形成した支持体または酸化インジウム、酸化スズなどの導電性材料の薄膜を形成した支持体が挙げられる。支持体の表面には、電気的特性の改善や干渉縞の抑制のため、陽極酸化などの電気化学的な処理や、湿式ホーニング処理、ブラスト処理、切削処理などを施してもよい。
【００２３】
支持体と下引き層との間には、導電層を設けてもよい。導電層は、導電性粒子を樹脂に分散させた導電層用塗布液の塗膜を支持体上に形成し、乾燥させることで得られる。
【００２４】
〔下引き層〕
支持体と電荷発生層との間に、下引き層が設けられる。
下引き層は、ポリアミド樹脂と式（１）で示される化合物で表面処理済みの酸化チタン粒子とを含有し、式（Ａ）を満たす。
【００２５】
ポリアミド樹脂としては、アルコール系溶剤に可溶なポリアミド樹脂が好ましい。例えば、３元系（６−６６−６１０）共重合ポリアミド、４元系（６−６６−６１０−１２）共重合ポリアミド、Ｎ−メトキシメチル化ナイロン、重合脂肪酸系ポリアミド、重合脂肪酸系ポリアミドブロック共重合体、ジアミン成分を有する共重合ポリアミドなどが好ましく用いられる。
【００２６】
酸化チタン粒子としては、電荷の蓄積の抑制という観点から、結晶構造がルチル型またはアナターゼ型であることが好ましく、光触媒活性の弱いルチル型であることがより好ましい。ルチル型である場合、ルチル化率９０％以上であることが好ましい。酸化チタン粒子の形状は球形であることが好ましく、その平均一次粒径ｂ［μｍ］は、電荷の蓄積の抑制と均一分散性という観点から、０．００６以上０．１８０以下であることが好ましく、０．０１５以上０．０８５以下であることがより好ましい。酸化チタン粒子は、式（１）で示される化合物で表面処理されており、感光層の剥離の抑制と均一分散性という観点から、分子量が小さく、Ｒ２が存在する場合はメチル基であることが好ましい。具体的には、式（１）で示される化合物が、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン及びビニルメチルジメトキシシランから選択される少なくとも１種であることがより好ましい。
【００２７】
下引き層における、酸化チタン粒子とポリアミド樹脂の体積比（ポリアミド樹脂の体積に対する酸化チタン粒子の体積）ａは、０．２以上１．０以下であることが好ましい。０．２未満であると、本発明における電荷の蓄積の抑制効果が十分に得られず、１．０より大きいと、本発明における感光層の剥離の抑制効果が十分に得られない。ａのより好ましい範囲は、０．３以上０．８未満である。
【００２８】
とりわけ、ａとｂの好ましい範囲の中でも、下記式（Ａ）の関係式を満たしていることで、感光層の剥離の抑制と下引き層に滞留する電荷の蓄積の抑制という二つの効果を高水準で両立することができる。
式（Ａ）：１４．０≦ａ／ｂ≦１９．１
【００２９】
ａ／ｂの値が１４．０未満であると、本発明における下引き層に滞留する電荷の蓄積の抑制効果が満足できない水準となり、１９．１よりも大きいと、感光層の剥離の抑制効果が満足できない水準となる。より好ましくは、下記式（Ａ’）の関係式を満たしていることである。
式（Ａ’）：１４．８≦ａ／ｂ≦１７．４
【００３０】
また、式（１）で示される化合物で表面処理済みの酸化チタン粒子の表面処理量は、下記式（Ｂ）の関係式を満たしていることが好ましい。即ち、下引き層における前記酸化チタン粒子のＴｉＯ２に対する、前記式（１）で示される化合物のＳｉ元素の含有率をｃ［質量％］としたとき、下記式（Ｂ）を満足することが好ましい。
式（Ｂ）：０．０１５≦ｂ×ｃ≦０．０３０
【００３１】
ｂ×ｃの値が０．０１５以上であると、下引き層における酸化チタン粒子の均一分散性が向上し、局所的な帯電性能の低下によるカブリ、リークなどの発生の抑制効果が高まる。０．０３０以下であると下引き層に滞留する電荷の蓄積の抑制効果が高まる。より好ましくは、下記式（Ｂ’）の関係式を満たしていることである。
式（Ｂ’）：０．０２０≦ｂ×ｃ≦０．０２７
【００３２】
下引き層の膜厚ｄ［μｍ］は、下記式（Ｃ）を満たしていることが好ましい。
式（Ｃ）：０．５≦ｄ≦３．０
ｄが０．５以上であると、感光層の剥離の抑制効果が高まり、３．０以下であると、下引き層に滞留する電荷の蓄積の抑制効果が高まる。
【００３３】
さらに、下記式（Ｄ）の関係式を満たしていることが好ましい。
式（Ｄ）：０．１５≦ａ／ｄ≦０．５５
【００３４】
式（Ａ）と式（Ｄ）の関係式を同時に満たすことで、感光層の剥離の抑制と下引き層に滞留する電荷の蓄積の抑制という二つの効果を更なる高水準で両立することができる。より好ましくは、下記式（Ｄ’）の関係式を満たしていることである。
式（Ｄ’）：０．３０≦ａ／ｄ≦０．４２
【００３５】
加えて、式（１）で示される化合物で表面処理済みの酸化チタン粒子の疎水化度をｅ［％］としたとき、ポリアミド樹脂中の分散性を高め、下引き層に滞留する電荷の蓄積が抑制されることから、１０以上４０以下であることが好ましい。
【００３６】
式（Ｂ）とｅの値の関係性は、本発明の効果をより高水準で達成するためには、下記式（Ｅ）を満たすことがより好ましい。
式（Ｅ）：０．２５≦ｂ×ｃ×ｅ≦１．０５
【００３７】
酸化チタン粒子は、式（１）で示される化合物で表面処理される前に、Ａｌ２Ｏ３などの無機物で表面処理が行われていてもよいが、Ｓｉ元素が含まれる無機物で表面処理を行う場合においても、式（Ｂ）を満たすように処理することが好ましい。但し、無機物で表面処理を行わない方が好ましい。
【００３８】
本発明における下引き層は、上記ポリアミド樹脂や酸化チタン粒子以外にも、電子写真感光体の干渉縞防止効果を高めたり、下引き層の成膜性を高めたりする目的で、有機物粒子やレベリング剤などの添加剤を含有してもよい。但し、下引き層における添加剤の含有量は、下引き層の全質量に対して１０質量％以下であることが好ましい。
【００３９】
下引き層は、機能を分離するなどの目的で、２層以上設けてもよい。この場合、複数の下引き層の内一番上層にある、少なくとも電荷発生層と接している層は、ポリアミド樹脂と式（１）で示される化合物で表面処理済みの酸化チタン粒子を含有し、式（Ａ）を満たしていなければならない。
【００４０】
〔電荷発生層〕
下引き層の直上には、電荷発生層が設けられる。
電荷発生層は、電荷発生物質と水酸基を有する水酸基価５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の熱可塑性樹脂を含有する。
【００４１】
電荷発生層に用いられる電荷発生物質としては、アゾ顔料、ペリレン顔料、アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体、ジベンズピレンキノン誘導体、ピラントロン誘導体、ビオラントロン誘導体、イソビオラントロン誘導体、インジゴ誘導体、チオインジゴ誘導体、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどのフタロシアニン顔料や、ビスベンズイミダゾール誘導体などが挙げられる。これらの中でも、フタロシアニン顔料が好ましい。フタロシアニン顔料の中でも、オキシチタニウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニンが好ましい。また、本発明における感光層の剥離の抑制効果をより高めるために、電荷発生層に用いられる樹脂と共に電荷発生物質も水酸基を有している方が好ましく、その観点から、ヒドロキシガリウムフタロシアニンがより好ましい。
【００４２】
水酸基を有する水酸基価５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の熱可塑性樹脂として、例えば、ポリビニルブチラール樹脂などのポリビニルアセタール樹脂、エチレンビニルアルコール共重合樹脂などのポリオレフィン樹脂、ポリエステルポリオール樹脂などのポリオール樹脂などが挙げられる。本発明における感光層の剥離の抑制効果をより高めるためには、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることがより好ましい。水酸基を有する水酸基価５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の熱可塑性樹脂の重量平均分子量は、５，０００〜４００，０００の範囲であることが好ましい。
【００４３】
電荷発生層において、電荷発生物質と結着樹脂との質量比率（電荷発生物質／結着樹脂）は、１０／１〜１／１０の範囲であることが好ましく、５／１〜１／５の範囲であることがより好ましい。電荷発生層の膜厚は、０．０５μｍ以上５μｍ以下であることが好ましい。電荷発生層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤または芳香族炭化水素溶剤などが挙げられる。
【００４４】
〔電荷輸送層〕
電荷発生層上には、電荷輸送層が設けられる。
【００４５】
電荷輸送層に用いられる電荷輸送物質としては、例えば、多環芳香族化合物、複素環化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、ベンジジン化合物、トリアリールアミン化合物、トリフェニルアミンなどが挙げられる。また、これらの化合物から誘導される基を主鎖または側鎖に有するポリマーも挙げられる。
【００４６】
電荷輸送層に用いられる結着樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリスチレン樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂が好ましい。結着樹脂の重量平均分子量は、１０，０００〜３００，０００の範囲であることが好ましい。
【００４７】
電荷輸送層において、電荷輸送物質と結着樹脂との質量比率（電荷輸送物質／結着樹脂）は、１０／５〜５／１０の範囲であることが好ましく、１０／８〜６／１０の範囲であることがより好ましい。電荷輸送層の膜厚は、５μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましく、１５μｍ以上２５μｍ以下であることがより好ましい。
【００４８】
電荷輸送層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤または芳香族炭化水素溶剤などが挙げられる。
【００４９】
また、電荷輸送層上には、導電性粒子または電荷輸送物質と結着樹脂とを含有する保護層（表面保護層）を設けてもよい。保護層には、潤滑剤などの添加剤をさらに含有させてもよい。また、保護層の結着樹脂自体に導電性や電荷輸送性を有させてもよく、その場合、保護層には、当該結着樹脂以外の導電性粒子や電荷輸送物質を含有させなくてもよい。また、保護層の結着樹脂は、熱可塑性樹脂でもよいし、熱、光、放射線（電子線など）などにより硬化させてなる硬化性樹脂であってもよい。
【００５０】
導電層、下引き層、電荷発生層、電荷輸送層などの電子写真感光体を構成する各層を形成する方法としては、以下の方法が好ましい。すなわち、各層を構成する材料を溶剤に溶解及び／または分散させて得られた塗布液を塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を乾燥及び／または硬化させることによって形成する方法である。塗布液を塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法（浸漬コーティング法）、スプレーコーティング法、カーテンコーティング法、スピンコーティング法、リング法などが挙げられる。これらの中でも、効率性及び生産性の観点から、浸漬塗布法が好ましい。
【００５１】
〔プロセスカートリッジ及び電子写真装置〕
図２に、本発明の電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジを有する電子写真装置の概略構成の一例を示す。
【００５２】
図２に示す電子写真装置は、円筒状の電子写真感光体１を有し、軸２を中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。回転駆動される電子写真感光体１の表面（周面）は、帯電手段３（一次帯電手段：帯電ローラーなど）により、正または負の所定電位に均一に帯電される。次いで、均一に帯電された電子写真感光体１の表面は、スリット露光やレーザービーム走査露光などの露光手段（不図示）からの露光光（画像露光光）４で露光される。こうして電子写真感光体１の表面に、目的の画像に対応した静電潜像が順次形成されていく。
【００５３】
電子写真感光体１の表面に形成された静電潜像は、次いで現像手段５の現像剤に含まれるトナーにより現像されてトナー像となる。次いで、電子写真感光体１の表面に形成担持されているトナー像が、転写手段（転写ローラーなど）６からの転写バイアスによって、転写材（紙など）Ｐに順次転写されていく。なお、転写材Ｐは、転写材供給手段（不図示）から電子写真感光体１と転写手段６との間（当接部）に電子写真感光体１の回転と同期して取り出されて給送される。
【００５４】
トナー像の転写を受けた転写材Ｐは、電子写真感光体１の表面から分離されて定着手段８へ導入されて像定着を受けることにより画像形成物（プリント、コピー）として装置外へ排出される。
【００５５】
トナー像転写後の電子写真感光体１の表面は、クリーニング手段（クリーニングブレードなど）７によって転写残りの現像剤（転写残トナー）の除去を受けて清浄面化される。次いで、清浄面化された電子写真感光体１の表面は、前露光手段（不図示）からの前露光（不図示）により除電処理された後、繰り返し画像形成に使用される。なお、図２に示すように、帯電手段３が帯電ローラーなどを用いた接触帯電手段である場合は、前露光は必ずしも必要ではない。
【００５６】
上記の電子写真感光体１、帯電手段３、現像手段５、転写手段６及びクリーニング手段７などの構成要素のうち、複数の構成要素を選択して容器に納めてプロセスカートリッジ９として一体に支持する。このプロセスカートリッジ９を複写機やレーザービームプリンターなどの電子写真装置本体に対して着脱自在に構成することができる。図２では、電子写真感光体１と、帯電手段３、現像手段５及びクリーニング手段７とを一体に支持してカートリッジ化して、電子写真装置本体のレールなどの案内手段１０を用いて電子写真装置本体に着脱自在なプロセスカートリッジ９としている。
【実施例】
【００５７】
以下、実施例と比較例により、本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例と比較例中の「部」は「質量部」を意味する。
【００５８】
（実施例１）
長さ２６０．５ｍｍ、直径３０ｍｍのアルミニウムシリンダー（ＪＩＳ  Ｈ  ４０００：２００６  Ａ３００３Ｐ、アルミニウム合金）を切削加工（ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２０１４、十点平均粗さＲｚｊｉｓ：０．８μｍ）し、それを支持体（導電性支持体）として用いた。
【００５９】
次に、ルチル型酸化チタン粒子（平均一次粒径：５０ｎｍ、テイカ製）１００部をトルエン５００部と攪拌混合した。続いて、式（１）において、ｍ＝０、ｎ＝３、Ｒ１がメチル基であるビニルトリメトキシシラン（商品名：ＫＢＭ−１００３、信越化学製）３．０部を添加し、８時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、３時間１２０℃で乾燥させることによって、ビニルトリメトキシシランで表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子を得た。
【００６０】
続いて、以下の材料を用意した。
・前記ビニルトリメトキシシランで表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子１８部
・Ｎ−メトキシメチル化ナイロン（商品名：トレジンＥＦ−３０Ｔ、ナガセケムテックス製）４．５部
・共重合ナイロン樹脂（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ製）１．５部
これらを、メタノール９０部と１−ブタノール６０部の混合溶剤に加えて分散液を調製した。
この分散液を、直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて縦型サンドミルにて５時間分散処理することにより、下引き層用塗布液を調製した。この下引き層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を１０分間１００℃で乾燥させることによって、膜厚が２．０μｍの下引き層を形成した。
【００６１】
この下引き層において、パラメータａ＝０．７８、ｂ＝０．０５０、ｃ＝０．４５、ｄ＝２．０であり、式（Ａ）：ａ／ｂ＝１５．６、式（Ｂ）：ｂｃ＝０．０２３、式（Ｃ）：ｄ＝２．０、式（Ｄ）：ａ／ｄ＝０．３９であった。ａの値は、電子写真感光体作製後、電子写真感光体の断面を電界放出形走査電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ、商品名：Ｓ−４８００、日立ハイテクノロジーズ製）を用いた顕微鏡像から求めた。ｃの値は、式（１）で示される化合物で表面処理済みの酸化チタン粒子作製後、粒子を波長分散型蛍光Ｘ線分析装置（ＸＲＦ、商品名：Ａｘｉｏｓ  ａｄｖａｎｃｅｄ、ＰＡＮａｌｙｔｉｃａｌ製）を用いて分析した。得られた結果から、検出されたＴｉ元素のみを酸化物であると仮定し、ソフトウェア（ＳｐｅｃｔｒａＥｖａｌｕａｔｉｏｎ、ｖｅｒｔｉｏｎ５．０Ｌ）にてＴｉＯ２に対するＳｉ元素の含有量（質量％）から求めた。ｅの値は、式（１）で示される化合物で表面処理済みの酸化チタン粒子のメタノール濡れ性を測定して求めた。メタノール濡れ性の測定は、粉体濡れ性試験機（商品名：ＷＥＴ１００Ｐ、レスカ製）を用いて以下のように行った。２００ｍｌのビーカーに、式（１）で示される化合物で表面処理済みの酸化チタン粒子０．２ｇとイオン交換水５０ｇを加え、ビュレットを用いてビーカー内をゆっくり撹拌しながらメタノールを滴下する。ビーカーの内部の光透過率が１０％となったときのメタノール滴下量をｔとしたとき、ｅ＝１００×ｔ／（ｔ＋５０）より疎水化度ｅの値を算出した。
【００６２】
次に、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）の７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°及び２８．３°にピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶（電荷発生物質）を用意した。このヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶１０部、ポリビニルブチラール樹脂５部及びシクロヘキサノン２６０部を、直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて縦型サンドミルに入れ、１．５時間分散処理した。ポリビニルブチラール樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＸ−１、水酸基価：１７３ｍｇＫＯＨ／ｇ、積水化学工業製）を用いた。次に、これに酢酸エチル２４０部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を、下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を１０分間８０℃で乾燥させることによって、膜厚が０．２５μｍの電荷発生層を形成した。
【００６３】
次に、下記式（２）で示されるアミン化合物（電荷輸送物質）１０部、及び下記式（３−１）で示される構造単位と、下記式（３−２）で示される構造単位とを５／５の割合で有し、重量平均分子量が１００，０００であるポリアリレート樹脂１０部を用意した。これらを、ジメトキシメタン３０部及びクロロベンゼン７０部の混合溶剤に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。この電荷輸送層用塗布液を、電荷発生層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を６０分間１２０℃で乾燥させることによって、膜厚が２０μｍの電荷輸送層を形成した。
【化３】
2019139225.tif 000004
【化４】
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【化５】
2019139225.tif 000006
以上のようにして、支持体上に下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を有する電子写真感光体を製造した。
【００６４】
（接着力の評価）
評価機としてヒューレットパッカード製のレーザービームプリンター（商品名：ＨＰ  ＬａｓｅｒＪｅｔ  Ｅｎｔｅｒｐｒｉｓｅ６００  Ｍ６０９ｄｎ、非接触現像方式、プリント速度：Ａ４縦７１枚／分）を改造し、接着力の評価を行った。製造した電子写真感光体は、ＨＰ  ＬａｓｅｒＪｅｔ  Ｅｎｔｅｒｐｒｉｓｅ６００  Ｍ６０９ｄｎ用のプロセスカートリッジに装着した。電子写真感光体と現像剤担持体の間隔を保持するために、支持体の一端側及び他端側から約９ｍｍの位置を中心として、４ｍｍ幅の回転できる円筒状でＰＯＭ素材の間隔保持部材を当接させた。当接力は２５Ｎとした。温度１５℃、湿度１０％ＲＨの環境下にて、Ａ４サイズの普通紙で印字比率１％の画像を、２枚画像形成するごとに停止する間欠モードにより、４０，０００枚の画像形成を行った。
【００６５】
接着力の評価は、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−６：１９９９に基づいてクロスカット試験を行った。ただし、評価は４０，０００枚の画像形成終了後、温度１５℃、湿度１０％ＲＨの環境下に２４時間以上静置した後、後述のようにカットすることでクロスカット試験を行った。カットには単一切り込み工具を用い、刃を塗膜に対して約６０°に立てた状態で、手動で行った。製造した電子写真感光体の塗膜の膜厚は６０μｍ以下であるので、カットの間隔は１ｍｍとした。
【００６６】
クロスカット試験は、電子写真感光体の間隔保持部材が当接していた４ｍｍ幅の箇所を、１ｍｍ幅で格子パターンの各方向でのカット数を５個として１６マスを作製した。これを上下２箇所それぞれについて行い、１６マス中何マス剥がれたかをその平均値を用いて評価した。結果を、表１に示す。
【００６７】
（電位変動分の評価）
上記接着力の評価と同様にして、電位変動分の評価を行った。製造した電子写真感光体は、ＨＰ  ＬａｓｅｒＪｅｔ  Ｅｎｔｅｒｐｒｉｓｅ６００  Ｍ６０９ｄｎ用のプロセスカートリッジに装着し、現像位置に電位プローブ（商品名：ｍｏｄｅｌ６０００Ｂ−８、トレック・ジャパン製）を装着するよう改造した。その後、電子写真感光体の中央部（支持体の端から約１３０ｍｍの位置）の電位を表面電位計（商品名：ｍｏｄｅｌ３４４、トレック・ジャパン製）を使用して測定した。電子写真感光体の表面電位は、温度１５℃、湿度１０％ＲＨの環境下にて、初期暗部電位（Ｖｄ０）が−６００Ｖ、初期明部電位（Ｖｌ０）が−１５０Ｖになるよう、画像露光の光量を設定した。その状態（現像機の部分に電位プローブがある状態）で設定した露光量において、上記接着力の評価と同様にして、４０，０００枚の画像形成を行い、繰り返し使用後の明部電位（Ｖｌｆ）を測定した。その明部電位の電位変動分ΔＶｌ＝Ｖｌｆ−Ｖｌ０（単位：Ｖ）を、表１に示す。
【００６８】
（実施例２〜６）
実施例１の各パラメータを表１のように変更した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に接着力と電位変動分の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００６９】
（実施例７〜９）
実施例１の下引き層用塗布液に用いたビニルトリメトキシシランで表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子の作製において、ビニルトリメトキシシラン３．０部をそれぞれ２．０部、２．５部、５．０部に変更した。それ以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に接着力と電位変動分の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００７０】
（実施例１０）
実施例１の下引き層用塗布液に用いたビニルトリメトキシシランで表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子を、以下のように作製した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に接着力と電位変動分の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００７１】
ルチル型酸化チタン粒子（平均一次粒径：５０ｎｍ、テイカ製）１００部をメタノール４００部、メチルエチルケトン１００部と攪拌混合した。続いて、式（１）において、ｍ＝０、ｎ＝３、Ｒ１がメチル基であるビニルトリメトキシシラン（商品名：ＫＢＭ−１００３、信越化学製）３．５部を添加し、８時間攪拌した。その後、メタノールとメチルエチルケトンを減圧蒸留にて留去し、３時間１２０℃で乾燥させることによって、ビニルトリメトキシシランで表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子を得た。
【００７２】
（実施例１１）
実施例１で用いた下引き層用塗布液を、以下のように調製した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００７３】
ルチル型酸化チタン粒子（平均一次粒径：３５ｎｍ、テイカ製）１００部をトルエン５００部と攪拌混合した。続いて、式（１）において、ｍ＝０、ｎ＝３、Ｒ１がメチル基であるビニルトリメトキシシラン（商品名：ＫＢＭ−１００３、信越化学製）４．３部を添加し、８時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、３時間１２０℃で乾燥させることによって、ビニルトリメトキシシランで表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子を得た。
【００７４】
以下の材料を用意した。
・前記ビニルトリメトキシシランで表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子１６部
・Ｎ−メトキシメチル化ナイロン（商品名：トレジンＥＦ−３０Ｔ、ナガセケムテックス製）６．０部
・共重合ナイロン樹脂（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ製）２．０部
これらを、メタノール９０部と１−ブタノール６０部の混合溶剤に加えて分散液を調製した。
この分散液を、直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて縦型サンドミルにて５時間分散処理し、ガラスビーズを取り除くことにより、下引き層用塗布液を調製した。
【００７５】
（実施例１２）
実施例１１の各パラメータを表１のように変更した以外は実施例１１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に接着力と電位変動分の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００７６】
（実施例１３）
実施例１で用いた下引き層用塗布液を、以下のように調製した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００７７】
ルチル型酸化チタン粒子（平均一次粒径：１５ｎｍ、テイカ製）１００部をトルエン５００部と攪拌混合した。続いて、式（１）において、ｍ＝０、ｎ＝３、Ｒ１がメチル基であるビニルトリメトキシシラン（商品名：ＫＢＭ−１００３、信越化学製）１０．０部を添加し、８時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、３時間１２０℃で乾燥させることによって、ビニルトリメトキシシランで表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子を得た。
【００７８】
以下の材料を用意した。
・前記ビニルトリメトキシシランで表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子１２部
・Ｎ−メトキシメチル化ナイロン（商品名：トレジンＥＦ−３０Ｔ、ナガセケムテックス製）９．０部
・共重合ナイロン樹脂（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ製）３．０部
これらを、メタノール９０部と１−ブタノール６０部の混合溶剤に加えて分散液を調製した。
この分散液を、直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて縦型サンドミルにて５時間分散処理し、ガラスビーズを取り除くことにより、下引き層用塗布液を調製した。
【００７９】
（実施例１４、１５）
実施例１３の各パラメータを表１のように変更した以外は実施例１３と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に接着力と電位変動分の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００８０】
（実施例１６）
実施例１で用いた下引き層用塗布液を、以下のように調製した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００８１】
ルチル型酸化チタン粒子（平均一次粒径：８０ｎｍ、テイカ製）１００部をトルエン５００部と攪拌混合した。続いて、式（１）において、ｍ＝０、ｎ＝３、Ｒ１がメチル基であるビニルトリメトキシシラン（商品名：ＫＢＭ−１００３、信越化学製）１．８部を添加し、８時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、３時間１２０℃で乾燥させることによって、ビニルトリメトキシシランで表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子を得た。
【００８２】
以下の材料を用意した。
・前記ビニルトリメトキシシランで表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子１９．８部
・Ｎ−メトキシメチル化ナイロン（商品名：トレジンＥＦ−３０Ｔ、ナガセケムテックス製）３．３部
・共重合ナイロン樹脂（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ製）１．１部
これらを、メタノール９０部と１−ブタノール６０部の混合溶剤に加えて分散液を調製した。
この分散液を、直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて縦型サンドミルにて５時間分散処理し、ガラスビーズを取り除くことにより、下引き層用塗布液を調製した。
【００８３】
（実施例１７〜２０）
実施例１のルチル型酸化チタン粒子の表面処理化合物を表１のように変更した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に接着力と電位変動分の評価を行った。実施例１７ではビニルトリエトキシシラン（商品名：ＫＢＥ−１００３、信越化学製）を用いた。実施例１８ではビニルトリアセトキシシラン（商品名：Ｚ−６０７５、東レ・ダウコーニング製）を用いた。実施例１９ではビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン（商品名：Ａ−１７２、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン製）を用いた。実施例２０ではビニルメチルジメトキシシラン（商品名：Ａ−２１７１、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン製）を用いた。結果を、表１に示す。
【００８４】
（実施例２１）
実施例１の支持体と下引き層の間に、以下の導電層を形成した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００８５】
酸素欠損型酸化スズが被覆されている酸化チタン粒子２１４部、フェノール樹脂（商品名：プライオーフェンＪ−３２５、大日本インキ化学工業製）１３２部を１−メトキシ−２−プロパノール１０３部の溶剤に加えて分散液を調製した。
この分散液を、直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、３時間分散処理を行い、ガラスビーズを取り除いた。その後、シリコーン樹脂粒子（商品名：トスパール１２０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン製）２９部、シリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レ・ダウコーニング製）０．０３部を加えることにより、導電層用塗布液を調製した。この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を３０分間１５０℃で乾燥させることによって、膜厚が３０μｍの導電層を形成した。
【００８６】
（実施例２２）
実施例１の支持体と下引き層の間に、以下の導電層を形成した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００８７】
リンドープ酸化スズが被覆されている酸化チタン粒子２０７部、フェノール樹脂（商品名：プライオーフェンＪ−３２５、大日本インキ化学工業製）１４４部を１−メトキシ−２−プロパノール９８部の溶剤に加えて分散液を調製した。
この分散液を、直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて縦型サンドミルにて４．５時間分散処理を行い、ガラスビーズを取り除いた。その後、シリコーン樹脂粒子（商品名：トスパール１２０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン製）４４部、シリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レ・ダウコーニング製）０．０３部を加えることにより、導電層用塗布液を調製した。この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を３０分間１５０℃で乾燥させることによって、膜厚が３０μｍの導電層を形成した。
【００８８】
（実施例２３、２４）
実施例１０の下引き層用塗布液に用いたビニルトリメトキシシランで表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子の作製において、ビニルトリメトキシシラン３．５部をそれぞれ５．０部、３．０部に変更した。それ以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に接着力と電位変動分の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００８９】
（実施例２５）
実施例１０の各パラメータを表１のように変更した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に接着力と電位変動分の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００９０】
（実施例２６）
実施例１の下引き層用塗布液に用いたビニルトリメトキシシランで表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子の作製において、ビニルトリメトキシシラン３．０部を１．７部に変更した。それ以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に接着力と電位変動分の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００９１】
（実施例２７）
実施例１の下引き層を、以下のように形成した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に接着力と電位変動分の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００９２】
以下の材料を用意した。
・実施例１のビニルトリメトキシシランで表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子１６．２部
・Ｎ−メトキシメチル化ナイロン（商品名：トレジンＥＦ−３０Ｔ、ナガセケムテックス製）４．５部
・共重合ナイロン樹脂（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ製）１．５部
これらを、メタノール９０部と１−ブタノール６０部の混合溶剤に加えて分散液を調製した。
この分散液を、直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて縦型サンドミルにて５時間分散処理することにより、下引き層用塗布液を調製した。この下引き層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を１０分間１００℃で乾燥させることによって、膜厚が１．５μｍの下引き層を形成した。
【００９３】
（実施例２８）
実施例１の下引き層用塗布液を、以下のように調製した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に接着力と電位変動分の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００９４】
以下の材料を用意した。
・実施例１のビニルトリメトキシシランで表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子２２部
・Ｎ−メトキシメチル化ナイロン（商品名：トレジンＥＦ−３０Ｔ、ナガセケムテックス製）４．５部
・共重合ナイロン樹脂（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ製）１．５部
これらを、メタノール９０部と１−ブタノール６０部の混合溶剤に加えて分散液を調製した。
【００９５】
（比較例１）
実施例１で用いた下引き層を、以下のように形成した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００９６】
ルチル型酸化チタン粒子（平均一次粒径：３５ｎｍ、テイカ製）１００部をトルエン５００部と攪拌混合した。続いて、メチルハイドロジェンシロキサンとジメチルシロキサンの共重合体（ｍｏｌ比１：１）３．５部を添加し、８時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、３時間１２０℃で乾燥させることによって、メチルハイドロジェンシロキサンとジメチルシロキサンの共重合体で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子を得た。
【００９７】
以下の材料を用意した。
・前記メチルハイドロジェンシロキサンとジメチルシロキサンの共重合体で表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子１４部
・下記式（４−１）で示される構造単位と、下記式（４−２）で示される構造単位と、下記式（４−３）でしめされる構造単位とを２／６／２の割合で有するポリアミド樹脂４部
これらを、エタノール１８部、１−プロパノール８部、テトラヒドロフラン１２部の混合溶剤に加えて分散液を調製した。
【化６】
2019139225.tif 000007
この分散液を、直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて縦型サンドミルにて１０時間分散処理し、ガラスビーズを取り除くことにより、下引き層用塗布液を調製した。この下引き層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を３０分間１２０℃で乾燥させることによって、膜厚が１．０μｍの下引き層を形成した。
【００９８】
（比較例２）
実施例１で用いた下引き層を、以下のように形成した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分の評価を行った。結果を、表１に示す。
【００９９】
アナターゼ型酸化チタン粒子（平均一次粒子：５０ｎｍ、富士チタン工業製）１００部をトルエン２００部と撹拌混合した。続いて、ビニルトリメトキシシラン（商品名：ＫＢＭ−１００３、信越化学製）０．５部を添加し、２時間撹拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、２時間１３５℃で乾燥させることによって、ビニルトリメトキシシランで表面処理済みのアナターゼ型酸化チタン粒子を得た。
【０１００】
前記ビニルトリメトキシシランで表面処理済みのアナターゼ型酸化チタン粒子３３部、下記式（５）で示されるブロックイソシアネート化合物６部、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−１、積水化学製）５部、添加剤としてアリザリン１部を用意した。これらを、メチルエチルケトン２５部に加えて分散液を調製した。
【化７】
2019139225.tif 000008
この分散液を、直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて縦型サンドミルにて３時間分散処理を行い、ガラスビーズを取り除いた。その後、シリコーン樹脂粒子（商品名：トスパール１３０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン製）３部を加えることにより、下引き層用塗布液を調製した。この下引き層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を３０分間１８０℃で乾燥させることによって、膜厚が２０．０μｍの下引き層を形成した。
【０１０１】
（比較例３）
実施例１で用いた下引き層と電荷発生層を、以下のように形成した以外は実施例１と同様にして電子写真感光体を製造し、同様に電位変動分の評価を行った。結果を、表１に示す。
【０１０２】
ルチル型酸化チタン粒子（平均一次粒径：５０ｎｍ、テイカ製）１００部をトルエン５００部と攪拌混合した。続いて、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（商品名：ＫＢＭ−５１０３、信越化学製）０．１部を添加し、８時間攪拌した。その後、トルエンを減圧蒸留にて留去し、３時間１２０℃で乾燥させることによって、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランで表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子を得た。
【０１０３】
前記３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランで表面処理済みのルチル型酸化チタン粒子１７部、共重合ナイロン樹脂（商品名：アミランＣＭ８０００、東レ製）１部を用意した。これらを、メタノール２９部と１，２−ジクロロエタン５３部の混合溶剤に加えて分散液を調製した。
【０１０４】
この分散液を、直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて縦型サンドミルにて８時間分散処理し、ガラスビーズを取り除くことにより、下引き層用塗布液を調製した。この下引き層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を１０分間１１０℃で乾燥させることによって、膜厚が３．０μｍの下引き層を形成した。
【０１０５】
次に、下記式（６）で示されるビスアゾ顔料（電荷発生物質）１５部、フェノキシ樹脂（商品名：ＰＫＨＨ、ユニオンカーバイド製）１５部を１，２−ジメトキシエタン１００部の溶剤に加えて分散液を調製した。この分散液を、直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて縦型サンドミルに入れ、８時間分散処理し、ガラスビーズを取り除くことにより、電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を、下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を１０分間９０℃で乾燥させることによって、膜厚が０．８０μｍの電荷発生層を形成した。
【化８】
2019139225.tif 000009
【０１０６】
【表１】
2019139225.tif 000010
【図１】
2019139225.tif 000012
【図２】
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