(57)【要約】【課題】ターゲットを回転させるための駆動源の動力を他の用途にも利用可能とするスパッタ装置及びその制御方法を提供する。【解決手段】モータ５００と、モータ５００により回転する回転軸５１０と、回転軸５１０の回転動力が第１駆動機構により伝達されることで回転するターゲット１１０と、ターゲット１１０の内部に備えられる磁石と、を備え、ターゲット１１０と、ターゲット１１０の構成原子による薄膜を形成させる基板との間に前記磁石による磁場を形成させた状態でスパッタリングを行うマグネトロンスパッタリング方式のスパッタ装置であって、第１駆動機構とは別に、回転軸５１０の回転動力を伝達する第２駆動機構が設けられていることを特徴とする。【選択図】図３
2019099879.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動源と、
前記駆動源により回転する回転軸と、
前記回転軸の回転動力が第１駆動機構により伝達されることで回転するターゲットと、
前記ターゲットの内部に備えられる磁石と、
を備え、
前記ターゲットと、該ターゲットの構成原子による薄膜を形成させる基板との間に前記磁石による磁場を形成させた状態でスパッタリングを行うマグネトロンスパッタリング方式のスパッタ装置であって、
第１駆動機構とは別に、前記回転軸の回転動力を伝達する第２駆動機構が設けられていることを特徴とするスパッタ装置。
【請求項２】
前記回転軸の回転動力の第２駆動機構への伝達と遮断を切り替えるクラッチが備えられていることを特徴とする請求項１に記載のスパッタ装置。
【請求項３】
前記磁石を有する磁石ユニットが前記ターゲットの内部に回転自在に備えられており、
前記回転軸の回転動力が第２駆動機構により伝達されることで前記磁石ユニットが回転することを特徴とする請求項２に記載のスパッタ装置。
【請求項４】
前記ターゲットと前記磁石ユニットとの間には摺動抵抗が発生するように構成されると共に、
前記磁石ユニットの回転を制止させるブレーキが設けられていることを特徴とする請求項３に記載のスパッタ装置。
【請求項５】
前記クラッチにより前記回転軸の回転動力の第２駆動機構への伝達が行われている場合には前記ブレーキが解除され、
前記クラッチにより前記回転軸の回転動力の第２駆動機構への伝達が遮断されている場合には前記ブレーキにより前記磁石ユニットの回転が制止されることを特徴とする請求項４に記載のスパッタ装置。
【請求項６】
第１駆動機構は、
前記回転軸に取り付けられる第１プーリと、
前記ターゲットと共に回転する第１回転体に取り付けられる第２プーリと、
これら第１プーリと第２プーリに巻き付けられる第１ベルトと、
を備え、
第２駆動機構は、
前記回転軸に取り付けられる第３プーリと、
前記磁石ユニットと共に回転する第２回転体に取り付けられる第４プーリと、
これら第３プーリと第４プーリに巻き付けられる第２ベルトと、
を備え、
第２プーリのプーリ径に対する第１プーリのプーリ径の比が、第４プーリのプーリ径に対する第３プーリのプーリ径の比と同一であることを特徴とする請求項５に記載のスパッタ装置。
【請求項７】
第１駆動機構は、
前記回転軸に取り付けられる第１プーリと、
前記ターゲットと共に回転する第１回転体に取り付けられる第２プーリと、
これら第１プーリと第２プーリに巻き付けられる第１ベルトと、
を備え、
第２駆動機構は、
前記回転軸に取り付けられる第３プーリと、
前記磁石ユニットと共に回転する第２回転体に取り付けられる第４プーリと、
これら第３プーリと第４プーリに巻き付けられる第２ベルトと、
を備え、
第２プーリの歯数に対する第１プーリの歯数の比が、第４プーリの歯数に対する第３プーリの歯数の比と同一であることを特徴とする請求項５に記載のスパッタ装置。
【請求項８】
前記磁石ユニットの回転により、前記ターゲットに対する前記磁石の向きが変わるように構成されると共に、
前記スパッタリングが行われていない状態で、前記磁石ユニットの回転制御がなされて、前記磁石の向きが定められることを特徴とする請求項３〜７のいずれか一つに記載のスパッタ装置。
【請求項９】
少なくとも前記駆動源，前記ターゲット，前記磁石，第１駆動機構及び第２駆動機構により構成されるロータリーカソード全体が、前記基板が備えられる室内において移動可能に設けられると共に、
前記回転軸の回転動力が第２駆動機構により伝達されることでロータリーカソード全体が移動することを特徴とする請求項１または２に記載のスパッタ装置。
【請求項１０】
請求項４〜８のいずれか一つに記載のスパッタ装置の制御方法であって、
前記クラッチにより前記回転軸の回転動力の第２駆動機構への伝達を行わせ、かつ前記ブレーキを解除した状態で、前記ターゲットと共に前記磁石ユニットを回転させて、前記磁石の向きを定める前工程と、
前記クラッチにより前記回転軸の回転動力の第２駆動機構への伝達を遮断させ、かつ前記ブレーキにより前記磁石ユニットの回転を制止させた状態で、前記ターゲットを回転させながらスパッタリングを行うスパッタリング工程と、
を有することを特徴とするスパッタ装置の制御方法。
【請求項１１】
請求項４〜８のいずれか一つに記載のスパッタ装置の制御方法であって、
前記クラッチにより前記回転軸の回転動力の第２駆動機構への伝達を行わせ、かつ前記ブレーキを解除することで、前記ターゲット共に前記磁石ユニットを回転させて、前記磁石の向きを定める前工程と、
前記クラッチにより前記回転軸の回転動力の第２駆動機構への伝達を遮断させ、かつ前記ブレーキにより前記磁石ユニットの回転を制止させた状態で、前記ターゲットを回転させながらスパッタリングを行い、かつ前記基板への薄膜形成を行わないプリスパッタリング工程と、
前記クラッチにより前記回転軸の回転動力の第２駆動機構への伝達を遮断させ、かつ前記ブレーキにより前記磁石ユニットの回転を制止させた状態で、前記ターゲットを回転させながらスパッタリングを行い、かつ前記基板への薄膜形成を行うスパッタリング工程と、
を有することを特徴とするスパッタ装置の制御方法。
【請求項１２】
請求項９に記載のスパッタ装置の制御方法であって、
前記基板に対して前記ロータリーカソード全体を移動させながらスパッタリングを行うことを特徴とするスパッタ装置の制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マグネトロンスパッタリング方式のスパッタ装置及びその制御方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
マグネトロンスパッタリング方式のスパッタ装置において、カソードとなる円筒状のターゲットが、スパッタリングが行われる際に回転するように構成される技術が知られている。この技術においては、モータなどの駆動源から動力が伝達されることにより、ターゲットが回転されるように構成されている。また、スパッタ装置においては、ターゲット以外の各種部材（装置）についても動力が必要となることがある。
【０００３】
従来例に係るスパッタ装置においては、ターゲットを回転させるための駆動源とは別に、各部材（装置）の駆動源を設ける構成が採用されていた。そのため、装置が大型化してしまったり、コストが増加してしまったりする原因となっていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特表２０１４−５２１８３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、ターゲットを回転させるための駆動源の動力を他の用途にも利用可能とするスパッタ装置及びその制御方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。
【０００７】
すなわち、本発明のスパッタ装置は、
駆動源と、
前記駆動源により回転する回転軸と、
前記回転軸の回転動力が第１駆動機構により伝達されることで回転するターゲットと、
前記ターゲットの内部に備えられる磁石と、
を備え、
前記ターゲットと、該ターゲットの構成原子による薄膜を形成させる基板との間に前記磁石による磁場を形成させた状態でスパッタリングを行うマグネトロンスパッタリング方式のスパッタ装置であって、
第１駆動機構とは別に、前記回転軸の回転動力を伝達する第２駆動機構が設けられていることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、ターゲットを回転させるための駆動源の動力を他の用途にも利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は本発明の実施例１に係るスパッタ装置の概略構成図である。
【図２】図２は本発明の実施例１に係る磁石の配置構成を示す概略図である。
【図３】図３は本発明の実施例１に係るロータリーカソードの概略構成図である。
【図４】図４は本発明の実施例２に係るロータリーカソードの概略構成図である。
【図５】図５は本発明の実施例２に係るスパッタ装置の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下に図面を参照して、この発明を実施するための形態を、実施例に基づいて例示的に詳しく説明する。ただし、この実施例に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などは、特に特定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。
【００１１】
（実施例１）
図１〜図３を参照して、本発明の実施例１に係るマグネトロンスパッタリング方式のスパッタ装置について説明する。
【００１２】
＜スパッタ装置の全体構成＞
図１及び図２を参照して、本実施例に係るスパッタ装置１の全体構成について説明する。図１は本発明の実施例１に係るスパッタ装置の概略構成図であり、スパッタ装置全体を断面的に見た場合の概略構成を示している。なお、図１中の上方は、スパッタ装置１が使用される際の鉛直方向の上方に相当し、図１中の下方は、スパッタ装置１が使用される際の鉛直方向下方に相当する。図２は磁石の配置構成を示す概略図である。
【００１３】
本実施例に係るスパッタ装置１は、内部を低圧力状態にすることのできるチャンバ２０と、チャンバ２０内の上部に設けられるロータリーカソード１０とを備えている。ただし、ロータリーカソード１０は複数の装置や部材により構成されており、本実施例においては、ロータリーカソード１０を構成する複数の装置及び部材のうちの一部は、チャンバ２０の外部に設けられている。そして、本実施例に係るチャンバ２０はアノードとしても機能する。また、チャンバ２０内の下部には、薄膜を形成させるための基板４０を載置する載置台３０が設けられている。なお、載置台３０は、基板４０を所望の位置に搬送することができるように構成されている。
【００１４】
ロータリーカソード１０におけるロータリーカソード装置本体１００は、カソードとなる円筒状のターゲット１１０と、ターゲット１１０の内部に設けられる磁石ユニット１４０とを備えている。ターゲット１１０としては、ＳＵＳやＴｉからなるバッキングチューブの外周面にＩｎ等の接着剤によりターゲット材料が接着されたタイプやバッキングチューブとターゲット材料が一体となった一体型タイプのいずれも適用可能である。そして、ターゲット１１０は、載置台３０に載置される基板４０に対向する位置に設けられ、かつスパッタリングの際に回転するように構成されている。また、磁石ユニット１４０は、その内部に磁石１４１が設けられている。なお、磁石ユニット１４０は、磁石１４１と、磁石１４１を支持する部材などの複数の部材とがユニット化されることにより構成される。
【００１５】
図２は図１中の磁石１４１を下方からみた図である。磁石１４１は、使用時において、下方に異なる２種類の磁極（第１磁極１４１ａと第２磁極１４１ｂ）が向くように配置される。図示の例では、第１磁極１４１ａがＮ極、第２磁極１４１ｂがＳ極の場合を示しているが、第１磁極１４１ａをＳ極とし、第２磁極１４１ｂをＮ極としてもよい。そして、第２磁極１４１ｂは、第１磁極１４１ａとの間に間隔を空けて、かつ第１磁極１４１ａを取り囲むように設けられている。このように、ターゲット１１０の内部に磁石ユニット１４０が備えられることにより、ターゲット１１０と基板４０との間には磁場（漏えい磁場）が形成される。
【００１６】
以上のように構成されるスパッタ装置１においては、ターゲット１１０とアノードであるチャンバ２０との間に一定以上の電圧を印加することにより、これらの間にプラズマが
発生する。そして、プラズマ中の陽イオンがターゲット１１０に衝突することで、ターゲット１１０からターゲット材料の粒子が放出される。ターゲット１１０から放出された粒子は、衝突を繰り返しながら、放出された粒子のうちターゲット物質の中性の原子が基板４０に堆積していく。これにより、基板４０には、ターゲット１１０の構成原子による薄膜が形成される。また、本実施例に係るスパッタ装置１においては、上記の漏えい磁場によって、図１中Ｐに示す付近（ターゲット１１０に対して略平行な磁場が形成される付近）にプラズマを集中させることができる。これにより、効率的にスパッタリングが行われるため、基板４０へのターゲット物質の堆積速度を向上させることができる。更に、本実施例に係るスパッタ装置１においては、スパッタリングの最中にターゲット１１０が回転するように構成されている。これにより、ターゲット１１０の消耗領域（エロ―ジョンによる浸食領域）が一部に集中することはなく、ターゲット１１０の利用効率を高めることができる。
【００１７】
＜ロータリーカソード＞
特に、図３を参照して、本実施例に係るロータリーカソード１０について、より詳細に説明する。図３は本発明の実施例１に係るロータリーカソード１０の概略構成図であり、ロータリーカソード１０を断面的に見た場合の概略構成を示している。
【００１８】
ロータリーカソード１０は、ターゲット１１０を有するロータリーカソード装置本体１００と、ターゲット１１０を回転させる機能を有するエンドブロック２００と、ターゲット１１０を回転自在に支持する機能を有するサポートブロック３００とを備えている。また、ロータリーカソード１０は、エンドブロック２００とサポートブロック３００を支持する支持部材４００と、ターゲット１１０を回転させるための駆動源であるモータ５００と、モータ５００等の駆動制御を行う制御装置６００とを備えている。なお、ロータリーカソード装置本体１００は、上述したチャンバ２０（図３では不図示）の内部に配置されており、エンドブロック２００の内部及びモータ５００等は、大気に曝されている。
【００１９】
ロータリーカソード装置本体１００は、上記の通り、ターゲット１１０と、ターゲット１１０内に設けられる磁石ユニット１４０とを備えている。また、ロータリーカソード装置本体１００は、ターゲット１１０に固定され、かつサポートブロック３００に回転自在に支持されるサポートブロック側環状部材１２０も備えている。
【００２０】
エンドブロック２００は、支持部材４００に対して固定されるケース２１０と、ケース２１０内に設けられる軸状部材２２０と、軸状部材２２０に対して回転自在に設けられるエンドブロック側環状部材２１５とを備えている。また、軸状部材２２０とエンドブロック側環状部材２１５との間には一対の軸受Ｂが設けられている。これにより、軸状部材２２０に対して、エンドブロック側環状部材２１５は回転することができる。また、軸状部材２２０とエンドブロック側環状部材２１５との間の環状隙間を封止する密封装置Ｓも設けられている。また、磁石ユニット１４０と軸状部材２２０は、ピンなどの連結部材２５０によって連結されている。従って、磁石ユニット１４０が軸状部材２２０に対して回転することはない。
【００２１】
そして、エンドブロック側環状部材２１５とターゲット１１０は、クランプなどの締結部材２６０によって固定されている。なお、エンドブロック側環状部材２１５とターゲット１１０との間の環状隙間を封止するガスケットＧも設けられている。更に、ケース２１０とエンドブロック側環状部材２１５との間にも軸受Ｂ及び密封装置Ｓが設けられている。従って、ケース２１０に対して、エンドブロック側環状部材２１５は回転することができ、かつケース２１０とエンドブロック側環状部材２１５との間の環状隙間は封止される。また、ケース２１０と支持部材４００との間にもガスケットＧが設けられている。従って、ケース２１０内は大気に曝されているものの、ロータリーカソード装置本体１００が
配されている空間は低圧力状態（通常、真空に近い状態）に維持される。
【００２２】
軸状部材２２０には、その内部に冷却液が流れる流路（不図示）が設けられている。この軸状部材２２０を回転自在に支持しつつ、流路内に冷却液を供給し、かつ流路内から冷却液を排出するためにロータリージョイントＪが設けられている。このロータリージョイントＪには、軸状部材２２０が挿通される軸孔Ｊ１が形成されている。そして、この軸孔Ｊ１と軸状部材２２０との間には軸受Ｂ及び密封装置Ｓが複数備えられている。なお、複数の軸受Ｂ及び密封装置Ｓは、流路等の構成に応じて、各種の配置構成が採用され得るため、図３においては、軸受Ｂ及び密封装置Ｓの配置構成については省略して示している。
【００２３】
上述したサポートブロック側環状部材１２０には、サポートブロック３００に形成された貫通孔３１０に挿入される軸部１２１が設けられている。この軸部１２１と貫通孔３１０との間に軸受Ｂが設けられることにより、サポートブロック３００に対して、サポートブロック側環状部材１２０は回転することができる。また、サポートブロック側環状部材１２０には、磁石ユニット１４０に対して、サポートブロック側環状部材１２０を回転自在にするための軸受用穴１２２が設けられている。この軸受用穴１２２に磁石ユニット１４０に備えられた軸部１４２が挿入されている。そして、この軸部１４２と軸受用穴１２２との間の環状隙間に軸受Ｂが設けられることによって、磁石ユニット１４０に対して、サポートブロック側環状部材１２０は回転することができる。また、軸部１４２と軸受用穴１２２との間の環状隙間には、密封装置Ｓも設けられている。また、サポートブロック側環状部材１２０とターゲット１１０は、クランプなどの締結部材１２３によって固定されている。なお、サポートブロック側環状部材１２０とターゲット１１０との間の環状隙間を封止するガスケットＧも設けられている。
【００２４】
なお、上述した各部に備えられた複数の密封装置Ｓは、いずれも密封装置Ｓの径方向の内側と外側に設けられる２部材の回転を可能としつつ、これら２部材間の環状隙間を封止する機能を備えている。
【００２５】
＜駆動機構＞
本実施例に係るスパッタ装置１においては、モータ５００によって、ターゲット１１０と磁石ユニット１４０の両者を回転させることができるように構成されている。以下、これらを回転させる駆動機構について、詳細に説明する。
【００２６】
モータ５００によって回転する回転軸５１０は、軸受Ｂが備えられた軸受部材５２０によって、回転自在に支持されている。
【００２７】
ターゲット１１０を回転させるための第１駆動機構は、回転軸５１０に取り付けられる第１プーリ５３０と、ターゲット１１０と共に回転する第１回転体としてのエンドブロック側環状部材２１５に取り付けられる第２プーリ２３０と、これら第１プーリ５３０と第２プーリ２３０に巻き付けられる第１ベルト２３１とから構成される。以上のように構成される第１駆動機構によれば、モータ５００により回転軸５１０が回転すると、回転動力が第１ベルト２３１によって第２プーリ２３０に伝達されて、ターゲット１１０がサポートブロック側環状部材１２０及びエンドブロック側環状部材２１５と共に回転する。
【００２８】
磁石ユニット１４０を回転させるための第２駆動機構は、回転軸５１０に取り付けられる第３プーリ５４０と、磁石ユニット１４０と共に回転する第２回転体としての軸状部材２２０に取り付けられる第４プーリ２４０と、これら第３プーリ５４０と第４プーリ２４０に巻き付けられる第２ベルト２４１とから構成される。第３プーリ５４０と回転軸５１０との間には軸受Ｂが設けられている。また、回転軸５１０には、回転動力の第２駆動機構への伝達と遮断を切り替えるクラッチ５５０が備えられている。より具体的には、この
クラッチ５５０は、回転軸５１０に対して回転軸５１０の回転中心軸線と平行に往復移動可能に構成されている。そして、クラッチ５５０が、第３プーリ５４０に接触した状態では回転軸５１０の回転動力が第３プーリ５４０に伝達され、第３プーリ５４０から離れると回転軸５１０の回転動力が第３プーリ５４０に伝達されないように構成されている。なお、図３においては、第３プーリ５４０に接触した状態のクラッチ５５０を実線で示し、第３プーリ５４０から離れた状態のクラッチ５５０ａを点線で示している。なお、クラッチ５５０の動力として、電磁力を利用した電磁式クラッチを好適に利用することができる。ただし、これに限らず、機械式、油圧式、空圧式など各種のクラッチを利用することもできる。
【００２９】
また、軸状部材２２０には、磁石ユニット１４０の回転を制止させるブレーキ２４２が設けられている。より具体的には、このブレーキ２４２は、軸状部材２２０に対して軸状部材２２０の回転中心軸線と平行に往復移動可能に構成されている。そして、ブレーキ２４２が第４プーリ２４０に接触した状態では第４プーリ２４０の回転が制止され、ブレーキ２４２が第４プーリ２４０から離れると、第４プーリ２４０の回転が可能な状態となる。なお、図３においては、第４プーリ２４０に接触した状態のブレーキ２４２ａを点線で示し、第４プーリ２４０から離れた状態のブレーキ２４２を実線で示している。なお、ブレーキ２４２の動力として、電磁力を利用した電磁式ブレーキを好適に利用することができる。ただし、これに限らず、機械式、油圧式、空圧式など各種のブレーキを利用することもできる。
【００３０】
以上のように構成される第２駆動機構によれば、クラッチ５５０により駆動伝達がなされる状態、かつブレーキ２４２が解除された状態においては、モータ５００により回転軸５１０が回転すると、回転動力が第２ベルト２４１によって第４プーリ２４０に伝達されて、軸状部材２２０と共に磁石ユニット１４０が回転する。そして、クラッチ５５０により動力の伝達が遮断された状態においては、回転軸５１０の回転動力は磁石ユニット１４０には伝達されない。しかしながら、サポートブロック側環状部材１２０と磁石ユニット１４０における軸部１４２との間の環状隙間、及びエンドブロック側環状部材２１５と軸状部材２２０との間の環状隙間には、複数の軸受Ｂ及び密封装置Ｓが設けられている。従って、ターゲット１１０と磁石ユニット１４０との間には、これら複数の軸受Ｂと密封装置Ｓによる摺動抵抗が発生することになる。そのため、第２駆動機構によって、磁石ユニット１４０に動力が伝達されていなくても、ターゲット１１０が回転すると磁石ユニット１４０が摺動抵抗によって多少連れ回りする可能性がある。そこで、本実施例に係る第２駆動機構には、上記の通りブレーキ２４２が設けられている。これにより、クラッチ５５０により動力の伝達が遮断される場合には、ブレーキ２４２によって第４プーリ２４０の回転を制止させることで、磁石ユニット１４０の連れ回りが阻止される。
【００３１】
＜プーリ比＞
本実施例に係るロータリーカソード１０においては、第１駆動機構を構成するプーリのプーリ比と、第２駆動機構を構成するプーリのプーリ比を同一にすることで、ターゲット１１０と磁石ユニット１４０を同時に回転させる場合に、両者間に摺動抵抗が発生しないようにしている。まず、その理由を説明する。
【００３２】
説明の便宜上、サポートブロック３００の貫通孔３１０とサポートブロック側環状部材１２０の軸部１２１との間の軸受Ｂにより発生する摺動抵抗を抵抗Ｆ１とする。また、サポートブロック側環状部材１２０の軸受用穴１２２と磁石ユニット１４０の軸部１４２との間の軸受Ｂ及び密封装置Ｓにより発生する摺動抵抗を抵抗Ｆ２とする。また、エンドブロック側環状部材２１５と軸状部材２２０との間の軸受Ｂ及び密封装置Ｓにより発生する摺動抵抗を抵抗Ｆ３とする。また、ケース２１０とエンドブロック側環状部材２１５との間の軸受Ｂ及び密封装置Ｓにより発生する摺動抵抗を抵抗Ｆ４とする。更に、ロータリー
ジョイントＪの軸孔Ｊ１と軸状部材２２０との間の軸受Ｂ及び密封装置Ｓにより発生する摺動抵抗を抵抗Ｆ５とする。
【００３３】
そうすると、第２駆動機構による動力伝達を行わずに、ターゲット１１０のみを回転させる場合に発生する摺動抵抗は、Ｆ１＋Ｆ２＋Ｆ３＋Ｆ４となる。そして、第２駆動機構による動力伝達を行うことで、ターゲット１１０と磁石ユニット１４０の両者を回転させる場合であって、両者間に摺動抵抗が発生する場合の摺動抵抗は、Ｆ１＋Ｆ２＋Ｆ３＋Ｆ４＋Ｆ５となる。これに対して、第２駆動機構による動力伝達を行うことで、ターゲット１１０と磁石ユニット１４０の両者を回転させる場合であって、両者間に摺動抵抗が発生しない場合の摺動抵抗は、Ｆ１＋Ｆ４＋Ｆ５となる。以上より、ターゲット１１０と磁石ユニット１４０を同時に回転させる場合に、両者間に摺動抵抗が発生しないようにすることで、必要な動力を抑制することができることが分かる。つまり、モータ５００の負荷を低減させることができる。
【００３４】
次に、第１駆動機構を構成するプーリのプーリ比と、第２駆動機構を構成するプーリのプーリ比を同一にするための具体例を説明する。
【００３５】
プーリとベルトとの間の摩擦力を利用してベルトを回転させる場合のように、プーリ径に応じて、回転軸５１０の回転数と軸状部材２２０の回転数との関係が決まる場合には、以下のように設定すればよい。すなわち、第２プーリ２３０のプーリ径に対する第１プーリ５３０のプーリ径の比が、第４プーリ２４０のプーリ径に対する第３プーリ５４０のプーリ径の比と同一に設定すればよい。例えば、第１プーリ５３０のプーリ径をＤ１，第２プーリ２３０のプーリ径をＤ２とした場合に、第３プーリ５４０のプーリ径をＤ１，第４プーリ２４０のプーリ径をＤ２とすることができる。また、第１プーリ５３０のプーリ径をＤ１，第２プーリ２３０のプーリ径をＤ２とした場合に、第３プーリ５４０のプーリ径をＤ１／２，第４プーリ２４０のプーリ径をＤ２／２とすることもできる。
【００３６】
また、プーリが複数の歯を有する部材（歯車など）で構成され、かつベルトがプーリの歯に噛み合うように構成される場合のように、プーリの歯数に応じて、回転軸５１０の回転数と軸状部材２２０の回転数との関係が決まる場合には、以下のように設定すればよい。すなわち、第２プーリ２３０の歯数に対する第１プーリ５３０の歯数の比が、第４プーリ２４０の歯数に対する第３プーリ５４０の歯数の比と同一に設定すればよい。例えば、第１プーリ５３０の歯数をＮ１，第２プーリ２３０の歯数をＮ２とした場合に、第３プーリ５４０の歯数をＮ１，第４プーリ２４０の歯数をＮ２とすることができる。また、第１プーリ５３０の歯数をＮ１，第２プーリ２３０の歯数をＮ２とした場合に、第３プーリ５４０の歯数をＮ１／２，第４プーリ２４０の歯数をＮ２／２とすることもできる。
【００３７】
なお、このようにプーリが複数の歯を有する部材で構成される場合においても、第２プーリ２３０のピッチ円直径に対する第１プーリ５３０のピッチ円直径の比が、第４プーリ２４０のピッチ円直径に対する第３プーリ５４０のピッチ円直径の比と同一に設定することもできる。
【００３８】
＜ロータリーカソードの動作制御＞
制御装置６００によるロータリーカソード１０の動作制御について説明する。スパッタリングを行う場合には、基板４０の形状等に応じて、薄膜を形成させる部位が異なることがある。そして、薄膜を形成させる部位は、プラズマを集中させる位置を変えることで設定することができる。本実施例に係るロータリーカソード１０によれば、磁石ユニット１４０を回転させて、ターゲット１１０に対する磁石１４１の向きを変えることで、プラズマを集中させる位置を変えることが可能となる。
【００３９】
また、長期間に亘ってロータリーカソード１０が使用されていない場合など、ターゲット１１０の表面が酸化してしまったり、表面に汚れが付着してしまったりする場合がある。そのため、基板４０に薄膜を形成させるためのスパッタリングを行う前に、基板４０への薄膜の形成を伴わないスパッタリング動作（プリスパッタリングと呼ばれる）を行って、汚れなどを除去する制御を行うことがある。この場合には、例えば、基板４０が配置される側とは反対側に磁石１４１を向かせた状態でプリスパッタリングが行われる。
【００４０】
以下、磁石１４１の向きを設定した後に、スパッタリングを行う場合の動作制御と、プリスパッタリングを行った後に、基板４０への薄膜形成を行うスパッタリングを行う場合の動作制御について、それぞれ説明する。
【００４１】
＜＜磁石の向きを設定した後にスパッタリングを行う場合＞＞
制御装置６００は、モータ５００と、クラッチ５５０と、ブレーキ２４２の駆動制御を行うことができるように構成されている。また、制御装置６００は、ターゲット１１０とチャンバ２０間に電圧を印加する制御なども行うことができるように構成されている。スパッタリングに先立って、制御装置６００によって、クラッチ５５０により回転動力の伝達が可能な状態、かつブレーキ２４２を解除した状態で、モータ５００により回転軸５１０を回転させる制御が行われる。これにより、ターゲット１１０と共に磁石ユニット１４０が回転し、磁石１４１の向きが定められる（以上、前工程）。以上のように、スパッタリングが行われていない状態で、磁石ユニット１４０の回転制御がなされて、磁石１４１の向きが定められる。
【００４２】
その後、制御装置６００によって、クラッチ５５０により回転動力の伝達が遮断された状態、かつブレーキ２４２により磁石ユニット１４０の回転が制止された状態で、モータ５００により回転軸５１０を回転させる制御が行われる。また、同時に、制御装置６００によって、ターゲット１１０とチャンバ２０間に電圧を印加する制御が行われる。これにより、ターゲット１１０が回転しながらスパッタリングが行われる（スパッタリング工程）。
【００４３】
以上のような制御が行われることで、基板４０に対する所望の位置に薄膜を形成させることが可能となる。
【００４４】
＜＜プリスパッタリングを行う場合＞＞
プリスパッタリングに先立って、制御装置６００によって、クラッチ５５０により回転動力の伝達が可能な状態、かつブレーキ２４２を解除した状態で、モータ５００により回転軸５１０を回転させる制御が行われる。これにより、ターゲット１１０と共に磁石ユニット１４０が回転し、磁石１４１の向きが定められる（以上、前工程）。以上のように、スパッタリングが行われていない状態で、磁石ユニット１４０の回転制御がなされて、磁石１４１の向きが定められる。
【００４５】
次に、制御装置６００によって、クラッチ５５０により回転動力の伝達が遮断された状態、かつブレーキ２４２により磁石ユニット１４０の回転が制止された状態で、モータ５００により回転軸５１０を回転させる制御が行われる。また、同時に、制御装置６００によって、ターゲット１１０とチャンバ２０間に電圧を印加する制御が行われる。これにより、ターゲット１１０が回転しながらスパッタリングが行われる（プリスパッタリング工程）。このプリスパッタリング工程においては、基板４０への薄膜形成は行わない。このプリスパッタリング工程によって、ターゲット１１０の表面の汚れ等が除去される。
【００４６】
スパッタリングを行う際に、プリスパッタリング工程中における磁石１４１の向きを変更する必要がある場合には、プリスパッタリング工程の後に、磁石１４１の向きを再度定
める制御が行われる。磁石１４１の向きを定める制御については、上述の通りであるので、その説明は省略する。
【００４７】
その後、制御装置６００によって、クラッチ５５０により回転動力の伝達が遮断された状態、かつブレーキ２４２により磁石ユニット１４０の回転が制止された状態で、モータ５００により回転軸５１０を回転させる制御が行われる。また、同時に、制御装置６００によって、ターゲット１１０とチャンバ２０間に電圧を印加する制御が行われる。これにより、ターゲット１１０が回転しながらスパッタリングが行われる（スパッタリング工程）。この工程においては、基板４０への薄膜形成が行われる。
【００４８】
＜本実施例に係るスパッタ装置の優れた点＞
以上説明したように、本実施例に係るスパッタ装置１によれば、ターゲット１１０を回転させるための駆動源（モータ５００）の動力を他の用途にも利用することができる。すなわち、本実施例においては、モータ５００によって、ターゲット１１０だけでなく、磁石ユニット１４０を回転させることができる。従って、駆動源の数を低減させることができるので、装置の小型化を図ることができ、かつコスト削減を図ることも可能になる。
【００４９】
また、本実施例に係るスパッタ装置１においては、第１駆動機構を構成するプーリのプーリ比と、第２駆動機構を構成するプーリのプーリ比を同一にしたことにより、モータ５００の負荷を低減させることができる。これにより、モータ５００の小型化を図ることがき、かつコスト削減を図ることもできる。
【００５０】
（実施例２）
図４及び図５には、本発明の実施例２が示されている。上記実施例１では、第２駆動機構によって、磁石ユニットを回転させる場合の構成を説明した。これに対し、本実施例においては、第２駆動機構によって、ロータリーカソード全体を移動させる場合の構成を説明する。その他の構成および作用については実施例１と同一なので、同一の構成部分については同一の符号を付して、その説明は適宜省略する。
【００５１】
図４は本発明の実施例２に係るロータリーカソード１０の概略構成図であり、ロータリーカソード１０を断面的に見た場合の概略構成を示している。図５は本発明の実施例２に係るスパッタ装置の概略構成図であり、スパッタ装置全体を断面的に見た場合の概略構成を示している。
【００５２】
本実施例に係るロータリーカソード１０においても、上記実施例１の場合と同様に、ターゲット１１０を有するロータリーカソード装置本体１００と、ターゲット１１０を回転させる機能を有するエンドブロック２００と、ターゲット１１０を回転自在に支持する機能を有するサポートブロック３００とを備えている。また、ロータリーカソード１０は、ターゲット１１０を回転させるための駆動源であるモータ５００と、モータ５００等の駆動制御を行う制御装置６００とを備えている。なお、本実施例に係るロータリーカソード１０の場合には、上記実施例１の場合とは異なり、ロータリーカソード１０を構成する複数の装置及び部材は、全てチャンバ２０の内部に設けられている。
【００５３】
ロータリーカソード装置本体１００，サポートブロック３００及びモータ５００の構成については、上記実施例１の場合と同一であるので、その説明は省略する。なお、本実施例に係るサポートブロック３００は、移動可能に構成されるロータリーカソード１０のいずれかの部材に固定されていればよい。
【００５４】
本実施例に係るエンドブロック２００においても、上記実施例１の場合と同様に、ケース２１０と、ケース２１０内に設けられる軸状部材２２０と、軸状部材２２０に対して回
転自在に設けられるエンドブロック側環状部材２１５とを備えている。本実施例においては、ケース２１０内に、モータ５００及び制御装置６００なども配置されている。このケース２１０の内部は密閉空間となるように構成されており、チャンバ２０内の低圧状態（通常、真空に近い状態）になる空間とは隔てられている。これにより、ケース２１０の内部の空間は、大気又は大気に近い状態が維持されるように構成されている。従って、モータ５００等の機能が低下してしまうことはない。また、軸状部材２２０には、上記実施例１の場合と同様に、第２プーリ２３０が取り付けられている。ただし、本実施例の場合には、上記実施例１の場合とは異なり、軸状部材２２０には、第４プーリ２４０は取り付けられていない。エンドブロック２００に関しては、この第４プーリ２４０が取り付けられていない点、及びケース２１０の構成が異なる点が上記実施例１の場合とは異なっている。また、本実施例の場合には、軸状部材２２０はモータ５００によっては回転しないように構成されている。その他の構成については、上記実施例１の場合と同様であるので、その説明は省略する。なお、上記実施例１で説明した通り、ターゲット１１０に対する磁石１４１の向きを変更できるように構成するのが望ましい。従って、軸状部材２２０については、例えば、手動によって作業者が回転できるように構成したり、別の駆動源によって、軸状部材２２０を回転できるように構成したりしてもよい。勿論、磁石１４１の向きを変更する必要性に乏しい場合には、軸状部材２２０を固定してもよい。
【００５５】
＜駆動機構＞
本実施例に係るスパッタ装置１においては、モータ５００によって、ターゲット１１０を回転させると共に、ロータリーカソード１０全体を移動させることができるように構成されている。以下、これらの駆動機構について、詳細に説明する。
【００５６】
モータ５００によって回転する回転軸５１０は、軸受Ｂが備えられた軸受部材５２０によって、回転自在に支持されている。なお、ケース２１０には、回転軸５１０が挿通される挿通孔が設けられており、この挿通孔内に、回転軸５１０の軸受Ｂと密封装置Ｓが備えられている。
【００５７】
ターゲット１１０を回転させるための第１駆動機構は、実施例１の場合と同様に、回転軸５１０に取り付けられる第１プーリ５３０と、ターゲット１１０と共に回転するエンドブロック側環状部材２１５に取り付けられる第２プーリ２３０と、これら第１プーリ５３０と第２プーリ２３０に巻き付けられる第１ベルト２３１とから構成される。第１駆動機構の動作メカニズムについては、上記実施例１で説明した通りであるので、その説明は省略する。
【００５８】
次に、第２駆動機構について説明する。本実施例に係る第２駆動機構は、回転軸５１０に取り付けられる第５プーリ５６０と、ラックギア５８０とから構成される。第５プーリ５６０は、歯車のように、複数の歯を備える部材から構成されており、ラックギア５８０と噛み合うように構成されている。そして、第５プーリ５６０と回転軸５１０との間には軸受Ｂが設けられている。また、回転軸５１０には、回転動力の第２駆動機構への伝達と遮断を切り替えるクラッチ５７０が備えられている。より具体的には、このクラッチ５７０は、回転軸５１０に対して回転軸５１０の回転中心軸線と平行に往復移動可能に構成されている。そして、クラッチ５７０が、第５プーリ５６０に接触した状態では回転軸５１０の回転動力が第５プーリ５６０に伝達され、第５プーリ５６０から離れると回転軸５１０の回転動力が第５プーリ５６０に伝達されないように構成されている。なお、図４においては、第５プーリ５６０に接触した状態のクラッチ５７０を実線で示し、第５プーリ５６０から離れた状態のクラッチ５７０ａを点線で示している。なお、クラッチ５７０の動力として、電磁力を利用した電磁式クラッチを好適に利用することができる。ただし、これに限らず、機械式、油圧式、空圧式など各種のクラッチを利用することもできる。
【００５９】
以上のように構成される第２駆動機構によれば、クラッチ５７０により動力伝達がなされる状態においては、モータ５００により回転軸５１０が回転すると、第５プーリ５６０も回転する。そして、クラッチ５７０により動力の伝達が遮断された状態においては、回転軸５１０の回転動力は第５プーリ５６０には伝達されない。
【００６０】
＜ロータリーカソードの動作制御＞
制御装置６００によるロータリーカソード１０の動作制御について説明する。ロータリーカソード１０によって、基板４０に薄膜を形成させる範囲が、基板４０全体よりも少ない場合には、スパッタリングの際に、基板４０を移動させたり、ロータリーカソード１０自体を移動させたりする必要がある。本実施例においては、スパッタリングの際にロータリーカソード１０自体を移動させることができる。以下、ロータリーカソード１０自体を移動させながらスパッタリングを行う場合の動作制御について説明する。
【００６１】
図５に示すように、本実施例に係るロータリーカソード１０は、その装置全体が、基板４０が備えられる室内（チャンバ２０内）において、ガイドレール５８１上を直線的に移動可能に構成されている。そして、このガイドレール５８１と平行に、上述したラックギア５８０が設けられている。なお、本実施例の場合には、ガイドレール５８１及びラックギア５８０は直線的かつ平行に設けられているが、これらを曲線的かつ平行に設けることで、ロータリーカソード１０を曲線的に移動させることも可能である。
【００６２】
本実施例に係る制御装置６００は、モータ５００とクラッチ５７０の駆動制御を行うことができるように構成されている。また、制御装置６００は、ターゲット１１０とチャンバ２０間に電圧を印加する制御なども行うことができるように構成されている。そして、制御装置６００によって、クラッチ５７０により回転動力の伝達が可能な状態で、モータ５００により回転軸５１０を回転させる制御が行われる。また、同時に、制御装置６００によって、ターゲット１１０とチャンバ２０間に電圧を印加する制御が行われる。これにより、ターゲット１１０が回転しながらスパッタリングが行われる。更に、第５プーリ５６０がラックギア５８０上を回転するため、ロータリーカソード１０全体が図５中矢印Ｓ方向に移動する。なお、ロータリーカソード１０に対向する付近において、基板４０上に薄膜４１が形成される。従って、ロータリーカソード１０の移動と共に、薄膜４１が形成される位置も移動する。これにより、基板４０全体に薄膜４１を形成させることができる。なお、スパッタリングを行う際に、ロータリーカソード１０全体を移動させる必要がない場合には、クラッチ５７０により回転動力の伝達を遮断した状態で、モータ５００により回転軸５１０を回転させる制御を行えばよい。
【００６３】
以上のように構成される本実施例に係るスパッタ装置１においても、ターゲット１１０を回転させるための駆動源（モータ５００）の動力を他の用途にも利用することができる。すなわち、本実施例においては、モータ５００によって、ターゲット１１０を回転させるだけでなく、ロータリーカソード１０全体を移動させることができる。従って、駆動源の数を低減させることができるので、装置の小型化を図ることができ、かつコスト削減を図ることも可能になる。
【００６４】
（その他）
実施例１においては第２駆動機構により磁石ユニット１４０を回転させる場合を示し、実施例２においては第２駆動機構によりロータリーカソード１０全体を移動させる場合を示した。しかしながら、本発明における第２駆動機構は、これら以外の部材等に回転動力を伝達するために用いられる場合も含まれる。
【００６５】
また、上記各実施例においては、第２駆動機構が一つのみ設けられる場合を例にして説明した。しかしながら、本発明における第２駆動機構は、一つの駆動源の回転軸に対して
複数設けることも可能である。例えば、上記のモータ５００の回転軸５１０に対して、実施例１に示した磁石ユニット１４０を回転させるための第２駆動機構と、実施例２に示したロータリーカソード１０全体を移動させるための第２駆動機構の両者を設けるようにしてもよい。
【符号の説明】
【００６６】
１…スパッタ装置，１０…ロータリーカソード，４０…基板，１００…ロータリーカソード装置本体，１１０…ターゲット，１４０…磁石ユニット，１４１…磁石，５００…モータ，５１０…回転軸
【図１】
2019099879.tif 000003
【図２】
2019099879.tif 000004
【図３】
2019099879.tif 000005
【図４】
2019099879.tif 000006
【図５】
2019099879.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】平成31年4月15日(2019.4.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
駆動源と、
前記駆動源により回転する回転軸と、
前記回転軸の回転動力をターゲットに伝達し、該ターゲットを回転させる第１駆動機構と、
前記ターゲットの内部に備えられる磁石と、
を備え、
前記ターゲットと、該ターゲットの構成原子による薄膜を形成させる基板との間に前記磁石による磁場を形成させた状態でスパッタリングを行うマグネトロンスパッタリング方式のスパッタ装置であって、
前記回転軸の回転動力を伝達する第２駆動機構と、
前記ターゲットの内部に回転自在に設けられる内部ユニットと、を有し、
前記回転軸の回転動力が第２駆動機構により伝達されることで前記内部ユニットが回転することを特徴とするスパッタ装置。
【請求項２】
前記回転軸の回転動力の第２駆動機構への伝達と遮断を切り替えるクラッチが備えられていることを特徴とする請求項１に記載のスパッタ装置。
【請求項３】
前記内部ユニットは、前記磁石を有する磁石ユニットであることを特徴とする請求項１または２に記載のスパッタ装置。
【請求項４】
前記ターゲットと前記内部ユニットとの間には摺動抵抗が発生するように構成されると共に、
前記内部ユニットの回転を制止させるブレーキが設けられていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載のスパッタ装置。
【請求項５】
前記クラッチにより前記回転軸の回転動力の第２駆動機構への伝達が行われている場合には前記ブレーキが解除され、
前記クラッチにより前記回転軸の回転動力の第２駆動機構への伝達が遮断されている場
合には前記ブレーキにより前記内部ユニットの回転が制止されることを特徴とする請求項４に記載のスパッタ装置。
【請求項６】
第１駆動機構は、
前記回転軸に取り付けられる第１プーリと、
前記ターゲットと共に回転する第１回転体に取り付けられる第２プーリと、
これら第１プーリと第２プーリに巻き付けられる第１ベルトと、
を備え、
第２駆動機構は、
前記回転軸に取り付けられる第３プーリと、
前記内部ユニットと共に回転する第２回転体に取り付けられる第４プーリと、
これら第３プーリと第４プーリに巻き付けられる第２ベルトと、
を備え、
第２プーリのプーリ径に対する第１プーリのプーリ径の比が、第４プーリのプーリ径に対する第３プーリのプーリ径の比と同一であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載のスパッタ装置。
【請求項７】
第１駆動機構は、
前記回転軸に取り付けられる第１プーリと、
前記ターゲットと共に回転する第１回転体に取り付けられる第２プーリと、
これら第１プーリと第２プーリに巻き付けられる第１ベルトと、
を備え、
第２駆動機構は、
前記回転軸に取り付けられる第３プーリと、
前記内部ユニットと共に回転する第２回転体に取り付けられる第４プーリと、
これら第３プーリと第４プーリに巻き付けられる第２ベルトと、
を備え、
第２プーリのプーリ径に対する第１プーリのプーリ径の比が、第４プーリのプーリ径に対する第３プーリのプーリ径の比と同一であることを特徴とする請求項５に記載のスパッタ装置。
【請求項８】
第１駆動機構は、
前記回転軸に取り付けられる第１プーリと、
前記ターゲットと共に回転する第１回転体に取り付けられる第２プーリと、
これら第１プーリと第２プーリに巻き付けられる第１ベルトと、
を備え、
第２駆動機構は、
前記回転軸に取り付けられる第３プーリと、
前記内部ユニットと共に回転する第２回転体に取り付けられる第４プーリと、
これら第３プーリと第４プーリに巻き付けられる第２ベルトと、
を備え、
第２プーリの歯数に対する第１プーリの歯数の比が、第４プーリの歯数に対する第３プーリの歯数の比と同一であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載のスパッタ装置。
【請求項９】
第１駆動機構は、
前記回転軸に取り付けられる第１プーリと、
前記ターゲットと共に回転する第１回転体に取り付けられる第２プーリと、
これら第１プーリと第２プーリに巻き付けられる第１ベルトと、
を備え、
第２駆動機構は、
前記回転軸に取り付けられる第３プーリと、
前記内部ユニットと共に回転する第２回転体に取り付けられる第４プーリと、
これら第３プーリと第４プーリに巻き付けられる第２ベルトと、
を備え、
第２プーリの歯数に対する第１プーリの歯数の比が、第４プーリの歯数に対する第３プーリの歯数の比と同一であることを特徴とする請求項５に記載のスパッタ装置。
【請求項１０】
前記内部ユニットの回転により、前記ターゲットに対する前記磁石の向きが変わるように構成されると共に、
前記スパッタリングが行われていない状態で、前記内部ユニットの回転制御がなされて、前記磁石の向きが定められることを特徴とする請求項３〜９のいずれか一つに記載のスパッタ装置。
【請求項１１】
駆動源と、
前記駆動源により回転する回転軸と、
前記回転軸の回転動力をターゲットに伝達し、該ターゲットを回転させる第１駆動機構と、
前記ターゲットの内部に備えられる磁石と、
を備え、
前記ターゲットと、該ターゲットの構成原子による薄膜を形成させる基板との間に前記磁石による磁場を形成させた状態でスパッタリングを行うマグネトロンスパッタリング方式のスパッタ装置であって、
前記回転軸の回転動力を伝達する第２駆動機構を有し、
少なくとも前記駆動源，前記ターゲット，前記磁石，第１駆動機構及び第２駆動機構により構成されるロータリーカソード全体が、前記基板が備えられる室内において移動可能に設けられると共に、
前記回転軸の回転動力が第２駆動機構により伝達されることでロータリーカソード全体が移動することを特徴とするスパッタ装置。
【請求項１２】
請求項４，５，７または９のいずれか一つに記載のスパッタ装置の制御方法であって、
前記クラッチにより前記回転軸の回転動力の第２駆動機構への伝達を行わせ、かつ前記ブレーキを解除した状態で、前記ターゲットと共に前記内部ユニットを回転させて、前記磁石の向きを定める前工程と、
前記クラッチにより前記回転軸の回転動力の第２駆動機構への伝達を遮断させ、かつ前記ブレーキにより前記内部ユニットの回転を制止させた状態で、前記ターゲットを回転させながらスパッタリングを行うスパッタリング工程と、
を有することを特徴とするスパッタ装置の制御方法。
【請求項１３】
請求項４，５，７または９に記載のスパッタ装置の制御方法であって、
前記クラッチにより前記回転軸の回転動力の第２駆動機構への伝達を行わせ、かつ前記ブレーキを解除することで、前記ターゲット共に前記内部ユニットを回転させて、前記磁石の向きを定める前工程と、
前記クラッチにより前記回転軸の回転動力の第２駆動機構への伝達を遮断させ、かつ前記ブレーキにより前記内部ユニットの回転を制止させた状態で、前記ターゲットを回転させながらスパッタリングを行い、かつ前記基板への薄膜形成を行わないプリスパッタリング工程と、
前記クラッチにより前記回転軸の回転動力の第２駆動機構への伝達を遮断させ、かつ前記ブレーキにより前記内部ユニットの回転を制止させた状態で、前記ターゲットを回転させながらスパッタリングを行い、かつ前記基板への薄膜形成を行うスパッタリング工程と
、
を有することを特徴とするスパッタ装置の制御方法。
【請求項１４】
請求項１１に記載のスパッタ装置の制御方法であって、
前記基板に対して前記ロータリーカソード全体を移動させながらスパッタリングを行うことを特徴とするスパッタ装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
すなわち、本発明のスパッタ装置は、
駆動源と、
前記駆動源により回転する回転軸と、
前記回転軸の回転動力をターゲットに伝達し、該ターゲットを回転させる第１駆動機構と、
前記ターゲットの内部に備えられる磁石と、
を備え、
前記ターゲットと、該ターゲットの構成原子による薄膜を形成させる基板との間に前記磁石による磁場を形成させた状態でスパッタリングを行うマグネトロンスパッタリング方式のスパッタ装置であって、
前記回転軸の回転動力を伝達する第２駆動機構と、
前記ターゲットの内部に回転自在に設けられる内部ユニットと、を有し、
前記回転軸の回転動力が第２駆動機構により伝達されることで前記内部ユニットが回転することを特徴とする。