(57)【要約】      （修正有）【課題】ビームトラッキングに適したアパーチャを提供する。【解決手段】アパーチャは、Ｘ線を遮蔽するための第１の遮蔽部材１２と２２を有する。遮蔽部材１２は、ＸＹ面内に焦点ｆを中心とした所定半径の円周上に位置する円弧上に形成されたエッジ１３と、エッジ１３の一方の端点に接続され同円弧に隣接するようにＸ線検出器側に位置するように形成されたエッジ１４と、エッジ１３の他方の端点に接続され同円弧に隣接するようにＸ線検出器側に位置するように形成されたエッジ１５とを有する。遮蔽部材２２は、焦点ｆを中心とした同半径の円周上に位置する円弧上に形成されたエッジと、同エッジの一方の端点に接続されたエッジであって、同円弧に隣接する円弧に対してＸ線検出器側に位置するように形成されたエッジと、同エッジの他方の端点に接続されたエッジであって、同円弧に隣接する円弧に対してＸ線検出器側に位置するように形成されたエッジを有する。【選択図】図２３
2019063515.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線管と、
体軸方向に垂直な第１の面内において前記Ｘ線管の焦点を中心とした半径ｒ１の第１の円の円周に沿う第１の方向と前記体軸方向に平行な第２の方向とに並ぶ複数の検出素子を有するＸ線検出器と、
を有するＸ線断層撮影装置において使用され、前記体軸方向におけるＸ線の広がりを規定するアパーチャであって、
Ｘ線を遮蔽するための第１の遮蔽部材と、
前記第１の部材に対して前記第２の方向に配置され、Ｘ線を遮蔽するための第２の遮蔽部材と、
を有し、
前記第１の遮蔽部材および前記第２の遮蔽部材の各々は、
前記第１の面内において前記Ｘ線管の焦点を中心とした半径ｒ２（＜ｒ１）の第２の円の円周上に位置する第１の円弧上に形成された第１のエッジと、
前記第１のエッジの一方の端点に接続された第２のエッジであって、前記第２の円の円周上に位置し前記第１の円弧に隣接する第２の円弧に対して、前記Ｘ線検出器側に位置するように形成された第２のエッジと、
前記第１のエッジの他方の端点に接続された第３のエッジであって、前記第２の円の円周上に位置し前記第２の円弧とは反対側で前記第１の円弧に隣接する第３の円弧に対して、前記Ｘ線検出器側に位置するように形成された第３のエッジと、
を有するアパーチャ。
【請求項２】
前記第２のエッジは、前記第１のエッジの一方の端点に接続された第１の端点と、前記第１の端点の反対側に位置する第２の端点とを有し、
前記第３のエッジは、前記第１のエッジの他方の端点に接続された第３の端点と、前記第３の端点の反対側に位置する第４の端点とを有する、請求項１に記載のアパーチャ。
【請求項３】
前記第２のエッジおよび前記第３のエッジは、前記第１のエッジの前記第２の円の円周に沿う方向における中間点と前記焦点とを含み且つ前記体軸方向に平行な第２の面に対して互いに反対側に位置する、請求項２に記載のアパーチャ。
【請求項４】
前記第１のエッジ、前記第２のエッジ、および前記第３のエッジは、前記第１の面と前記第２の面とに垂直な第３の面内において、同一直線上に延在するように形成されている、請求項３に記載のアパーチャ。
【請求項５】
前記第２のエッジおよび前記第３のエッジは、
前記第１の面内において、前記第２の面に垂直な第３の方向に平行に延在する、請求項３に記載のアパーチャ。
【請求項６】
前記第２のエッジおよび前記第３のエッジは、
前記第１の面内において、前記第２の面に垂直な第３の方向に対して斜めに延在する、請求項３に記載のアパーチャ。
【請求項７】
前記第２のエッジの前記第１の端点および前記第２の端点は、前記体軸方向と前記第３の方向とに垂直な第４の方向における位置が異なっており、
前記第３のエッジの前記第３の端点および前記第４の端点は、前記第４の方向における位置が異なる、請求項６に記載のアパーチャ。
【請求項８】
前記第２のエッジは、
前記第１の端点の前記第４の方向における位置が前記第２の端点の前記第４の方向における位置よりも高くなるように形成されており、
前記第３のエッジは、
前記第３の端点の前記第４の方向における位置が前記第４の端点の前記第４の方向における位置よりも高くなるように形成されている、請求項７に記載のアパーチャ。
【請求項９】
前記第１の遮蔽部材の第１のエッジと前記第２の遮蔽部材の第１のエッジとの間には、第１のアパーチャ幅が設けられており、
前記第１の遮蔽部材の第２のエッジと前記第２の遮蔽部材の第２のエッジとの間には、第２のアパーチャ幅が設けられており、
前記第１の遮蔽部材の第３のエッジと前記第２の遮蔽部材の第３のエッジとの間には、第３のアパーチャ幅が設けられている、請求項５〜８のうちのいずれか一項に記載のアパーチャ。
【請求項１０】
前記第２のアパーチャ幅および前記第３のアパーチャ幅は、
前記第１の面と前記第２の面とに垂直な第３の面内において、前記焦点から離れるに従って大きい値を有する、請求項９に記載のアパーチャ。
【請求項１１】
請求項１〜１０のうちのいずれか一請に記載のアパーチャを有するコリメータ。
【請求項１２】
請求項１〜１０のうちのいずれか一請に記載のアパーチャを有するＸ線断層撮影装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｘ線を遮蔽する遮蔽部材を有するアパーチャ、当該アパーチャを有するコリメータ、および当該アパーチャを有するＸ線断層撮影装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線断層撮影装置は、関心部位の外側にはＸ線ができるだけ照射されないように、Ｘ線の照射範囲を規定するためのアパーチャを有している（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−０５０３６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１には、円弧状の検出器と、Ｘ線を遮蔽するためのコリメータ板を有するコリメータとを備えたＣＴ断層装置が開示されている。特許文献１では、コリメータのコリメータ板の間隔（アパーチャ幅）を調整可能なことが記載されている。したがって、撮影部位の大きさに応じてＸ線の照射範囲を調整することができる。しかし、特許文献１のコリメータでは、円弧形状の検出器に対して、平板プレートを用いているので、プレート間の間隔（アパーチャ幅）によって、Ｘ線ビームの投影領域の形状が大きく変化してしまい、Ｘ線ビームを理想的な形状に保持することが難しいという問題がある。
【０００５】
そこで、検出器が円弧形状であることに着目し、円弧形状のブレードを有するコリメータを用いてＸ線ビームを成形する方法が開発されている。
【０００６】
円弧形状のブレードを用いることにより、投影領域の形状を理想的な矩形状に形成することが可能となる。
【０００７】
ところで、Ｘ線撮影では、被検体のスキャン中の被爆をできるだけ低減することが重要である。そこで、被検体のスキャン中の被爆を低減するために、検出器上の４隅に半影領域を形成し、検出器の４隅で検出されたＸ線の強度変化に基づいてコリメータ板の位置を制御するビームトラッキング技術が知られている。
【０００８】
ビームトラッキング技術は、被検体をスキャン中の被爆を低減するのに有効な技術であるので、様々なビームトラッキング技術が開発されている。しかし、円弧形状のブレードでは、アパーチャ幅を最大にしたときに、検出器に半影を作ることができず、ビームトラッキングが適用できないという問題がある。
【０００９】
したがって、ビームトラッキングに適したアパーチャを有するコリメータを開発することが望まれている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の第１の観点は、Ｘ線管およびＸ線検出器を有するＸ線断層撮影装置において使用されるアパーチャである。Ｘ線検出器は、体軸方向に垂直な第１の面内において前記Ｘ線管の焦点を中心とした半径ｒ１の第１の円の円周に沿う第１の方向と前記体軸方向に平行な第２の方向とに並ぶ複数の検出素子を有している。Ｘ線断層撮影装置で使用されるアパーチャは、Ｘ線を遮蔽するための第１の遮蔽部材と、前記第１の部材に対して前記第２の方向に配置され、Ｘ線を遮蔽するための第２の遮蔽部材とを有している。前記第１の遮蔽部材および前記第２の遮蔽部材の各々は、前記第１の面内において前記Ｘ線管の焦点を中心とした半径ｒ２（＜ｒ１）の第２の円の円周上に位置する第１の円弧上に形成された第１のエッジと、前記第１のエッジの一方の端点に接続された第２のエッジであって、前記第２の円の円周上に位置し前記第１の円弧に隣接する第２の円弧に対して、前記Ｘ線検出器側に位置するように形成された第２のエッジと、前記第１のエッジの他方の端点に接続された第３のエッジであって、前記第２の円の円周上に位置し前記第２の円弧とは反対側で前記第１の円弧に隣接する第３の円弧に対して、前記Ｘ線検出器側に位置するように形成された第３のエッジとを有している。この第１のエッジおよび第２のエッジにより、Ｘ線検出器に半影を作ることができるので、ビームトラッキングに適したアパーチャを得ることができる。
【００１１】
本発明の第２の観点は、第１の観点のアパーチャを有するコリメータである。
本発明の第３の観点は、第１の観点のアパーチャを有するＸ線層撮影装置である。
【発明の効果】
【００１２】
Ｘ線検出器に半影を作ることができるので、ビームトラッキングに適したアパーチャを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】第１の形態に係るＸ線ＣＴ装置７０のハードウェアの構成を概略的に示す図である。
【図２】Ｘ線検出器７５を斜め上から見た図である。
【図３】Ｘ線検出器７５を体軸方向（ｚ方向）から見た図（左側）と、Ｘ線検出器７５をｘ方向から見た図（右側）である。
【図４】比較例のコリメータ７３１の主要部を示す斜視図および上面図である。
【図５】コリメータ７３１の主要部であるアパーチャの斜視図である。
【図６】アパーチャ４の説明図である。
【図７】アパーチャ４およびＸ線検出器７５を斜め上から見た図である。
【図８】アパーチャ４およびＸ線検出器７５を体軸方向（ｚ方向）から見た図である。
【図９】アパーチャ５の説明図である。
【図１０】ゲート部材１００および２００の各々の上面図および側面図である。
【図１１】アパーチャ５およびＸ線検出器７５を斜め上から見た図である。
【図１２】アパーチャ５およびＸ線検出器７５を焦点ｆ側から見た平面図である。
【図１３】図１１における遮蔽部材１０２および２０２の拡大斜視図である。
【図１４】遮蔽部材１０２のエッジ１０３のＸＹ面内における形状を示す図である。
【図１５】遮蔽部材２０２のエッジ２０３のＸＹ面内における形状を示す図である。
【図１６】アパーチャ４および５とＸ線検出器７５との位置関係を概略的に示す図である。
【図１７】遮蔽部材３０２および４０２並びにＸ線検出器７５を斜め上から見た図である。
【図１８】遮蔽部材３０２および４０２並びにＸ線検出器７５を焦点ｆ側から見た平面図である。
【図１９】第１の形態のアパーチャ１の斜視図（左側）および上面図（右側）である。
【図２０】第１の形態のアパーチャ１の各ゲート部材の上面図および側面図である。
【図２１】アパーチャ１およびＸ線検出器７５を斜め上から見た図である。
【図２２】アパーチャ１およびＸ線検出器７５を焦点ｆ側から見た平面図である。
【図２３】図２１における遮蔽部材１２の拡大斜視図である。
【図２４】遮蔽部材１２のエッジのＸＹ面内における形状を示す図である。
【図２５】図２１における遮蔽部材２２の拡大斜視図である。
【図２６】遮蔽部材２２のエッジのＸＹ面内における形状を示す図である。
【図２７】エッジ１４および１５の代わりに、エッジ１４および１５よりも長いエッジが形成された例を示す図である。
【図２８】ビームカバレッジを表すグラフを示す図である。
【図２９】第２の形態のおけるアパーチャ２およびＸ線検出器７５を斜め上から見た図である。
【図３０】アパーチャ２およびＸ線検出器７５を焦点ｆ側から見た平面図である。
【図３１】図２９における遮蔽部材３２の拡大斜視図である。
【図３２】遮蔽部材３２のエッジのＸＹ面内における形状を示す図である。
【図３３】図２９における遮蔽部材４２の拡大斜視図である。
【図３４】遮蔽部材４２のエッジのＸＹ面内における形状を示す図である。
【図３５】ＺＸ面内におけるＸ線検出器７５並びに遮蔽部材１２１および２２１の平面図である。
【図３６】ＺＸ面内における遮蔽部材１２１および２２１の拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、発明を実施するための形態について説明するが、本発明は、以下の形態に限定されることはない。
【００１５】
（第１の形態）
図１は、第１の形態に係るＸ線ＣＴ装置７０のハードウェアの構成を概略的に示す図である。
図１に示すように、ガントリ７１は、Ｘ線管７２、第１のコリメータ７３、第２のコリメータ７４、Ｘ線検出器７５、データ収集部（data acquisition system）７６、回転部７７、高電圧電源７８、コリメータ駆動装置７９、回転駆動装置８０、制御部８４を有している。
【００１６】
回転部７７は回転可能に支持されている。Ｘ線管７２、第１のコリメータ７３、第２のコリメータ７４、Ｘ線検出器７５、およびデータ収集部７６は、回転部７７に搭載されている。
【００１７】
Ｘ線管７２及びＸ線検出器７５は、被検体ＳＵが載置される撮影空間、すなわちガントリ７１の空洞部７Ｂを挟んで互いに対向して配置されている。
【００１８】
第１のコリメータ７３は、Ｘ線管７２と空洞部７Ｂとの間に配置されている。第１のコリメータ７３は、Ｘ線管７２のＸ線焦点からＸ線検出器７５に向けて放射されるＸ線をファンビーム（fan beam）やコーンビーム（cone beam）に成形する。
【００１９】
第２のコリメータ７４は、空洞部７ＢとＸ線検出器７５との間に配置されている。第２のコリメータ７４は、Ｘ線検出器７５に入射する散乱線を除去する。
【００２０】
Ｘ線検出器７５は複数のＸ線検出素子を有している。各Ｘ線検出素子は、空洞部７Ｂに配された被検体ＳＵの透過Ｘ線をそれぞれ検出し、その強度に応じた電気信号を出力する。
【００２１】
図２および図３は、Ｘ線検出器７５の説明図である。
図２は、Ｘ線検出器７５を斜め上から見た図であり、図３はＸ線検出器７５を体軸方向（ｚ方向）から見た図（左側）と、Ｘ線検出器７５をｘ方向から見た図（右側）である。
【００２２】
Ｘ線検出器７５は複数の検出素子７５ａを有している。複数の検出素子７５ａは、図３に示すように、体軸方向（ｚ方向）に垂直なＸＹ面内において焦点ｆを中心とした半径ｒ１の第１の円の円周ＣＦ１に沿う方向１０と、体軸方向（ｚ方向）に平行な方向２０とに並ぶように配置されている。
図１に戻って説明を続ける。
【００２３】
データ収集部７６は、Ｘ線検出器７５の各Ｘ線検出素子７５ａから出力される電気信号を受信し、Ｘ線データに変換して収集する。
【００２４】
撮影テーブル８１は、クレードル（cradle）８２および駆動装置８３を有している。被検体ＳＵは、クレードル８２の上に載置される。駆動装置８３は、クレードル８２がｙ方向に昇降するようにクレードル８２を駆動し、更に、クレードル８２がｚ方向に移動するように、クレードル８２を駆動する。
【００２５】
高電圧電源７８は、Ｘ線管７２に高電圧及び電流を供給する。
コリメータ駆動装置７９は第１のコリメータ７３を駆動しその開口を変形させる。
回転駆動装置８０は回転部７７を回転駆動する。
制御部８４は、ガントリ７１内の各装置・各部、および駆動装置８３等を制御する。
【００２６】
操作コンソール９は、操作者からの各種操作を受け付ける。操作コンソール９は、入力装置９１、表示装置９２、記憶装置９３、及び演算処理装置９４を有している。本例では、操作コンソール９は、コンピュータ（computer）により構成されている。
【００２７】
なお、ここでは、図１に示すように、被検体ＳＵの体軸方向、すなわち撮影テーブル８１による被検体ＳＵの搬送方向をｚ方向とする。また、鉛直方向をｙ方向、ｙ方向およびｚ方向に直交する水平方向をｘ方向とする。
【００２８】
第１の形態におけるＣＴ装置の特徴部分は、第１のコリメータ７３である。第１の形態では、コリメータ７３は、被検体の被爆を低減するためのビームトラッキング技術に適した構造を有するように構成されている。以下、第１の形態のコリメータ７３について説明する。尚、以下では、第１の形態のコリメータ７３の構造を理解しやすくするために、第１の形態のコリメータ７３とは異なる構造を有するコリメータ（以下、「比較例のコリメータ」と呼ぶ）について先に説明する。そして、比較例のコリメータの説明をした後に、第１の形態のコリメータ７３について説明することにする。
【００２９】
図４および図５は比較例のコリメータ７３１の説明図である。
図４は比較例のコリメータ７３１の主要部を示す斜視図および上面図であり、図５はコリメータ７３１の主要部であるアパーチャの斜視図である。
【００３０】
コリメータ７３１は、Ｘ線ビームを成形するためにアパーチャ４およびアパーチャ５を有している。アパーチャ５はアパーチャ４の上に配置されている。尚、コリメータ７３１は、フィルタなども有しているが、フィルタなどは図示省略されており、第１の形態の説明において重要な部材であるアパーチャ４および５のみが図示されている。
以下、アパーチャ４およびアパーチャ５について順に説明する。
【００３１】
図６は、アパーチャ４の説明図である。
図６は、アパーチャ４の斜視図、アパーチャ４の上面図、およびアパーチャ４のａ−ａ断面図を示す図である。
アパーチャ４は、Ｘ線を遮蔽するための材料（例えば、タングステンを含む材料）を含む遮蔽部材４ａを有している。また、遮蔽部材４ａはＸ線を透過させるための透過孔４ｂを有している。また、アパーチャ４は、遮蔽部材４ａを支持するための支持部材（図示省略されている）を有している。
【００３２】
図７および図８は、アパーチャ４とＸ線検出器７５との位置関係を示す図である。
図７は、アパーチャ４およびＸ線検出器７５を斜め上から見た図であり、図８はアパーチャ４およびＸ線検出器７５を体軸方向（ｚ方向）から見た図である。
【００３３】
アパーチャ４は、Ｘ線検出器７５のｘ方向（方向１０）におけるビームの広がりを規定する部材である。Ｘ線管から照射されたＸ線ビーム２１０のうち、アパーチャ４の透過孔４ｂに向かうＸ線はＸ線検出器７５に到達するが、アパーチャ４に当たるＸ線は遮蔽されるので、Ｘ線ビーム２１０のｘ方向の広がりを規定することができる。アパーチャ４の透過孔４ｂは、Ｘ線ビーム２１０のｘ方向におけるビーム幅が、Ｘ線検出器７５のｘ方向における幅（Ｘ線検出器７５の左側端部７５ｅと右側端部７５ｄとの間の幅）に略一致するように形成されている。
【００３４】
一方、Ｘ線ビーム２１０のｚ方向における広がりは、アパーチャ４ではなく、アパーチャ４の上に配置された別のアパーチャ５によって規定されている。以下に、アパーチャ５について説明する。
【００３５】
図９は、アパーチャ５の説明図である。
図９には、アパーチャ５の斜視図（左側）および上面図（右側）が示されている。
アパーチャ５は、２つのゲート部材１００および２００を有している。
【００３６】
ゲート部材１００は、Ｘ線を遮蔽する遮蔽部材１０２と、遮蔽部材１０２を支持する支持部材１０１とを有しており、ゲート部材２００は、Ｘ線を遮蔽する遮蔽部材２０２と、遮蔽部材２０２を支持する支持部材２０１とを有している。
【００３７】
アパーチャ５を上側から見ると、支持部材１０１は、遮蔽部材１０２のエッジ１０３が支持部材１０１から突出するように遮蔽部材１０２を支持しており、支持部材２０１は、遮蔽部材２０２のエッジ２０３が支持部材２０１から突出するように遮蔽部材２０２を支持している。
【００３８】
図１０は、ゲート部材１００および２００の各々の上面図および側面図である。
図１０では、ゲート部材１００および２００を比較しやすくするため、ゲート部材２００のエッジ２０３の向きをゲート部材１００のエッジ１０３の向きに一致させた状態で、ゲート部材１００および２００の上面図および側面図が示されている。
【００３９】
側面図に示されているように、遮蔽部材１０２のエッジ１０３および遮蔽部材２０２のエッジ２０３は湾曲状に形成されている。
【００４０】
遮蔽部材１０２のエッジ１０３の形状および遮蔽部材２０２のエッジ２０３の形状は、Ｘ線検出器７５の形状に基づいて規定されている。以下に、遮蔽部材１０２のエッジ１０３および遮蔽部材２０２のエッジ２０３の形状がどのようにして規定されているかについて、図１１〜図１５を参照しながら具体的に説明する。
【００４１】
図１１は、アパーチャ５およびＸ線検出器７５を斜め上から見た図、図１２は、アパーチャ５およびＸ線検出器７５を焦点ｆ側から見た図である。尚、図１１および図１２では、説明の便宜上、アパーチャ５に関しては、遮蔽部材１０２および２０２のみを図示し、支持部材１０１および２０２は図示省略されている。
【００４２】
遮蔽部材１０２および２０２は、体軸方向（ｚ方向）において互いに対向するように配置されている。
【００４３】
図１３は、図１１における遮蔽部材１０２および２０２の拡大斜視図、図１４は遮蔽部材１０２のエッジ１０３のＸＹ面内における形状を示す図、図１５は遮蔽部材２０２のエッジ２０３のＸＹ面内における形状を示す図である。
【００４４】
遮蔽部材１０２のエッジ１０３は、図１４に示すように、ＸＹ面内において焦点ｆを中心とした半径ｒ２の第２の円の円周ＣＦ２上に位置する円弧Ａ０上に形成されている。遮蔽部材１０２のエッジ１０３は、図１４に示すように、２つの端点１０３ａおよび１０３ｂを有しており、ＸＹ面内において、端点１０３ａから端点１０３ｂに向かって円弧Ａ０上に延在するように形成されている。
【００４５】
一方、遮蔽部材２０２のエッジ２０３については、図１５に示されている。
【００４６】
遮蔽部材２０２のエッジ２０３も、遮蔽部材１０２のエッジ１０３と同様に、ＸＹ面内において焦点ｆを中心とした半径ｒ２の第２の円の円周ＣＦ２上に位置する円弧Ａ０上に形成されている。遮蔽部材２０２のエッジ２０３は、図１５に示すように、２つの端点２０３ａおよび２０３ｂを有しており、ＸＹ面内において、端点２０３ａから端点２０３ｂに向かって円弧Ａ０上に延在するように形成されている。
【００４７】
また、遮蔽部材１０２のエッジ１０３および遮蔽部材２０２のエッジ２０３は、図１２に示すように、ＺＸ面内において、互いに平行になるように形成されている。
【００４８】
Ｘ線ビーム２１０のうち、遮蔽部材１０２のエッジ１０３と遮蔽部材２０２のエッジ２０３とに挟まれた領域に向かうＸ線はＸ線検出器７５に到達するが、遮蔽部材１０２および２０２に当たるＸ線は遮蔽されるので、Ｘ線ビーム２１０のｚ方向の広がりを制限することができる。図１２では、Ｘ線ビーム２１０が、Ｘ線ビーム２１０のｚ方向における幅がＸ線検出器７５のｚ方向における幅に略一致するように成形されている様子が示されている。
【００４９】
上記のように、アパーチャ４はＸ線ビーム２１０のｘ方向における広がりを規定し（図８参照）、アパーチャ５はＸ線ビーム２１０のｚ方向における広がりを規定する（図１２参照）。したがって、アパーチャ４および５によって、Ｘ線ビーム２１０のｘ方向およびｚ方向における広がりを規定することができる。図１６に、両方のアパーチャ４および５とＸ線検出器７５との位置関係を概略的に示す。図１６では、Ｘ線ビーム２１０のｚ方向における幅がＸ線検出器７５のｚ方向における幅に略一致するように、アパーチャ５の遮蔽部材１０２および２０２のアパーチャ幅ＷがＷ＝Ｗｍ（例えば、最大アパーチャ幅）に設定されている。この場合、アパーチャ４および５によって、Ｘ線検出器７５の表面７５ｆにおけるＸ線ビーム２１０のビームの投影領域Ｒ０を、Ｘ線検出器７５の輪郭に略一致する矩形の形状を有するように規定することができる。したがって、Ｘ線ビーム２１０の投影領域Ｒ０が理想的な矩形の形状を有するように、Ｘ線ビーム２１０を成形することができる。
【００５０】
しかし、図１６では、Ｘ線ビーム２１０の投影領域Ｒ０がＸ線検出器７５の輪郭に略一致しているので、Ｘ線検出器７５の表面７５ｆの全体が、Ｘ線ビーム２１０の本影領域となる。したがって、Ｘ線ビーム２１０のｚ方向のビーム幅をＸ線検出器７５のｚ方向の幅に一致させた場合、Ｘ線検出器７５の表面７５ｆにＸ線ビーム２１０の半影領域を設けることができず、ビームトラッキングができないという問題がある。そこで、ビームトラッキングを可能とするために、遮蔽部材１０２および２０２の代わりに、以下のような別の遮蔽部材を使用することが考えられる（図１７および図１８参照）。
【００５１】
図１７及び図１８は、遮蔽部材１０２および２０２とは別の遮蔽部材３０２および４０２の説明図である。
図１７は、遮蔽部材３０２および４０２並びにＸ線検出器７５を斜め上から見た図であり、図１８は、遮蔽部材３０２および４０２並びにＸ線検出器７５を焦点ｆ側から見た平面図である。尚、図１７および図１８では、説明の便宜上、アパーチャ４（図７参照）は図示省略されている。
【００５２】
遮蔽部材３０２は、図１８に示すように、エッジ３０３の両端に、ｚ方向とは反対方向に突出する突出部ｅ１およびｅ２を有している。また、遮蔽部材４０２は、エッジ４０３の両端に、ｚ方向に突出する突出部ｅ３およびｅ４を有している。したがって、Ｘ線ビーム２１０は突出部ｅ１〜ｅ４により遮蔽されるので、Ｘ線検出器７５の４隅に半影領域ＰＲ０１〜ＰＲ０４を設けることができる。
【００５３】
しかし、遮蔽部材３０２および４０２は、突出部ｅ１〜ｅ４を設ける必要があるので、突出部ｅ１と突出部ｅ３との間のアパーチャ幅Ｗ２および突出部ｅ２と突出部ｅ４との間のアパーチャ幅Ｗ３が、エッジ３０３とエッジ４０３との間のアパーチャ幅Ｗ１よりも、２Δｗだけ狭くなる。したがって、アパーチャ幅Ｗ１を、Ｗ１＜２Δｗにすることができず、アパーチャ幅Ｗ１の調整範囲が制限されるという問題がある。
【００５４】
そこで、第１の形態では、アパーチャ幅Ｗ１の調整範囲をできるだけ制限されることなく、ビームトラッキングができるように、アパーチャを構成している。以下に、第１の形態のアパーチャについて説明する。
【００５５】
図１９及び図２０は、第１の形態のアパーチャ１の説明図である。
図１９は第１の形態のアパーチャ１の斜視図（左側）および上面図（右側）であり、図２０は第１の形態のアパーチャ１の各ゲート部材の上面図および側面図である。
【００５６】
第１の形態のアパーチャ１は、２つのゲート部材１０および２０を有している。
ゲート部材１０は、Ｘ線を遮蔽する遮蔽部材１２と、遮蔽部材１２を支持する支持部材１１とを有しており、ゲート部材２０は、Ｘ線を遮蔽する遮蔽部材２２と、遮蔽部材２２を支持する支持部材２１とを有している。
【００５７】
第１の形態のアパーチャ１は、比較例のアパーチャ５（図９参照）と比較すると、遮蔽部材１２および２２のエッジの形状が異なっている。以下に、第１の形態において、遮蔽部材１２および２２のエッジの形状について説明する。
【００５８】
図２１は、アパーチャ１およびＸ線検出器７５を斜め上から見た図、図２２は、アパーチャ１およびＸ線検出器７５を焦点ｆ側から見た図である。尚、図２１および図２２では、説明の便宜上、アパーチャ１に関しては、遮蔽部材１２および２２のみを図示し、支持部材１１および２１は図示省略されている。
【００５９】
アパーチャ１の遮蔽部材１２および２２は、体軸方向（ｚ方向）において互いに対向するように配置されている。遮蔽部材１２および２２によって、Ｘ線ビーム２１０のｚ方向の広がりが規定される。
以下、遮蔽部材１２および２２のエッジについて順に説明する。
【００６０】
図２３および図２４は遮蔽部材１２のエッジの説明図である。
図２３は、遮蔽部材１２の拡大斜視図であり、図２４は遮蔽部材１２のエッジのＸＹ面内における形状を示す図である。
遮蔽部材１２は、エッジ１３、エッジ１４、およびエッジ１５を有している。
【００６１】
遮蔽部材１２のエッジ１３は、図２４に示すように、ＸＹ面内において焦点ｆを中心とした半径ｒ２の第２の円の円周ＣＦ２上に位置する円弧Ａ１上に形成されている。したがって、遮蔽部材１２のエッジ１３は半径ｒ２の第２の円の円周ＣＦ２上に位置しており、この点については、比較例における遮蔽部材１０２のエッジ１０３（図１４参照）と同じである。しかし、第１の形態における遮蔽部材１２のエッジ１３は、比較例における遮蔽部材１０２のエッジ１０３よりも、短くなるように形成されている。図２３および図２４では、第１の形態における遮蔽部材１２のエッジ１３の長さと比較例における遮蔽部材１０２のエッジ１０３の長さの違いを明確にするため、比較例における遮蔽部材１０２のエッジ１０３の一方の端点１０３ａおよび他方の端点１０３ｂが示されている。第１の形態における遮蔽部材１２のエッジ１３は、比較例における遮蔽部材１０２のエッジ１０３よりも、半径ｒ２の第２の円の円周ＣＦ２上に位置する円弧Ａ１１の長さａ１１と円弧Ａ１２の長さａ１２の合計長（ａ１１＋ａ１２）だけ短くなるように形成されている。第１の形態では、ａ１１およびａ１２はａ１１＝ａ１２に設定されているが、ａ１１≠ａ１２に設定することも可能である。
【００６２】
また、第１の形態の遮蔽部材１２は、円弧状のエッジ１３の他に、２つの直線状のエッジ１４および１５を有するように形成されている。
【００６３】
図２４には、面Ｓ１が示されている。面Ｓ１は、エッジ１３の円周ＣＦ２に沿う方向３０における中間点ＰＣと焦点ｆとを含み且つ体軸方向（ｚ方向）に平行な面である。エッジ１４および１５は、面Ｓ１に対して互いに反対側に位置している。
以下、エッジ１４および１５について順に説明する。
【００６４】
エッジ１４は、円弧状のエッジ１３の一方の端点１３ａから、面Ｓ１に対して垂直の方向４０とは反対方向に向かって延在する直線状のエッジ（長さｑ１４）である。エッジ１４は、円弧状のエッジ１３の端点１３ａに接続された一方の端点１４ａと、当該一方の端点１４ａとは反対側に位置する他方の端点１４ｂとを有している。面Ｓ１に対して平行且つ方向４０に対して垂直の方向５０（図２４においてｙ方向に対応する）について考えると、エッジ１４は、端点１４ａおよび１４ｂの方向５０における位置が同じ位置ｐ１１になるように形成されている。
【００６５】
また、図２４には、ＸＹ面に投影されたラインＬ１１が示されている。ラインＬ１１は、ＸＹ面内において、焦点ｆと、比較例の遮蔽部材１０２のエッジ１０３の一方の端点１０３ａとに重なる線である。第１の形態では、エッジ１４の端点１４ｂは、ＸＹ面内に投影されたラインＬ１１上において、比較例の遮蔽部材１０２のエッジ１０３の一方の端点１０３ａからΔｇ１１だけＸ線検出器７５側に離れた位置に存在している。
【００６６】
エッジ１４は、比較例の遮蔽部材１０２のエッジ１０３の端点１０３ａの方向５０における位置ｐ１１０よりもΔｈ１１だけ低い位置ｐ１１に形成されている。したがって、エッジ１４は、円弧Ａ１に隣接する円弧Ａ１１に対してＸ線検出器７５側に位置するように形成されている。また、図２４において、円弧Ａ１１、ラインＬ１１、およびエッジ１４で囲まれた領域ｒｅ１１は、ハッチングで示されている。比較例の遮蔽部材１０２のエッジ１０３は、円弧Ａ１１上に延在しているので、比較例の遮蔽部材１０２を用いた場合、領域ｒｅ１１に向かうＸ線ビームは、比較例の遮蔽部材１０２で遮蔽されることなく、Ｘ線検出器７５に到達する。しかし、第１の形態の遮蔽部材１２では、円弧Ａ１１よりもＸ線検出器７５側にエッジ１４が形成されているので、第１の形態の遮蔽部材１２を用いた場合、領域ｒｅ１１に向かうＸ線ビームを、遮蔽部材１２のエッジ１４側の部分で遮蔽することができる。したがって、検出器７５の角部７５１（図２１および図２２参照）に半影領域ＰＲ１１を形成することができる。エッジ１４の端点１４ａは、半影領域ＰＲ１１の頂点ｖ１１に対応する。したがって、エッジ１４の方向５０における位置ｐ１１（図２４参照）を調整することにより、半影領域ＰＲ１１の方向４０（ｘ方向）に沿う辺Ｓ１１を所望の長さに調整することができる。例えば、エッジ１４の方向５０における位置ｐ１１を高くすると（即ち、Δｈ１１を短くすると）、エッジ１４の端点１４ａが、比較例の遮蔽部材１０２のエッジ１０３の端点１０３ａに近づくので、半影領域ＰＲ１１の頂点ｖ１１が頂点ｖ１１０に近づく。このため、エッジ１４の方向５０における位置ｐ１１を高くすると（即ち、Δｈ１１を短くすると）、半影領域ＰＲ１１の辺Ｓ１１を短くすることができる。一方、エッジ１４の方向５０における位置ｐ１１を低くすると（即ち、Δｈ１１を長くすると）、エッジ１４の端点１４ａが、比較例の遮蔽部材１０２のエッジ１０３の端点１０３ａから離れるので、半影領域ＰＲ１１の頂点ｖ１１が頂点ｖ１１０から離れる。このため、エッジ１４の方向５０における位置ｐ１１を低くする（即ち、Δｈ１１を長くする）ことにより、半影領域ＰＲ１１の辺Ｓ１１を長くすることができる。
次に、遮蔽部材１２のエッジ１５について説明する。
【００６７】
図２４に示すように、エッジ１５は、円弧状のエッジ１３の他方の端点１３ｂから、面Ｓ１に対して垂直の方向４０に向かって延在する直線状のエッジ（長さｑ１５）である。エッジ１５は、円弧状のエッジ１３の端点１３ｂに接続された一方の端点１５ａと、当該一方の端点１５ａとは反対側に位置する他方の端点１５ｂとを有している。エッジ１５は、端点１５ａおよび１５ｂの方向５０における位置が同じ位置ｐ１２になるように形成されている。尚、第１の形態では、エッジ１５の長さｑ１５は、エッジ１４の長さｑ１４と同じであるが（ｑ１４＝ｑ１５）、ｑ１４≠ｑ１５にすることも可能である。
【００６８】
また、図２４には、ＸＹ面に投影されたラインＬ１２が示されている。ラインＬ１２は、ＸＹ面内において、焦点ｆと、比較例の遮蔽部材１０２のエッジ１０３の他方の端点１０３ｂとに重なる線である。第１の形態では、エッジ１５の端点１５ｂは、ＸＹ面内に投影されたラインＬ１２上において、比較例の遮蔽部材１０２のエッジ１０３の他方の端点１０３ｂからΔｇ１２だけＸ線検出器７５側に離れた位置に存在している。
【００６９】
エッジ１５は、比較例の遮蔽部材１０２のエッジ１０３の端点１０３ｂの方向５０における位置ｐ１２０よりもΔｈ１２だけ低い位置ｐ１２に形成されている。したがって、エッジ１５は、円弧Ａ１に隣接する円弧Ａ１２に対してＸ線検出器７５側に位置するように形成されている。また、図２４において、円弧Ａ１２、ラインＬ１２、およびエッジ１５で囲まれた領域ｒｅ１２は、ハッチングで示されている。比較例の遮蔽部材１０２のエッジ１０３は円弧Ａ１２上に延在しているので、比較例の遮蔽部材１０２を用いた場合、領域ｒｅ１２に向かうＸ線ビームは、比較例の遮蔽部材１０２で遮蔽されることなく、Ｘ線検出器７５に到達する。しかし、第１の形態の遮蔽部材１２では、円弧Ａ１２よりもＸ線検出器７５側にエッジ１５が形成されているので、第１の形態の遮蔽部材１２を用いた場合、領域ｒｅ１２に向かうＸ線ビームを、遮蔽部材１２のエッジ１５側の部分で遮蔽することができる。したがって、検出器７５の角部７５２（図２１および図２２参照）に半影領域ＰＲ１２を形成することができる。エッジ１５の端点１５ａは、半影領域ＰＲ１２の頂点ｖ１２に対応する（図２２参照）。したがって、エッジ１５の方向５０における位置ｐ１２（図２４参照）を調整することにより、半影領域ＰＲ１２の方向４０（ｘ方向）に沿う辺Ｓ１２を所望の長さに調整することができる。例えば、エッジ１５の方向５０における位置ｐ１２を高くすると（即ち、Δｈ１２を短くすると）、エッジ１５の端点１５ａが、比較例の遮蔽部材１０２のエッジ１０３の端点１０３ｂに近づくので、半影領域ＰＲ１２の頂点ｖ１２が頂点ｖ１２０に近づく。このため、エッジ１５の方向５０における位置ｐ１２を高くすると（即ち、Δｈ１２を短くすると）、半影領域ＰＲ１２の辺Ｓ１２を短くすることができる。一方、エッジ１５の方向５０における位置ｐ１２を低くすると（即ち、Δｈ１２を長くすると）、エッジ１５の端点１５ａが、比較例の遮蔽部材１０２のエッジ１０３の端点１０３ｂから離れるので、半影領域ＰＲ１２の頂点ｖ１２が頂点ｖ１２０から離れる。このため、エッジ１５の方向５０における位置ｐ１２を低くする（即ち、Δｈ１２を長くする）ことにより、半影領域ＰＲ１２の辺Ｓ１２を長くすることができる。
次に、もう一方の遮蔽部材２２について説明する。
【００７０】
図２５および図２６は遮蔽部材２２のエッジの説明図である。
図２５は遮蔽部材２２の拡大斜視図であり、図２６は遮蔽部材２２のエッジのＸＹ面内における形状を示す図である。
遮蔽部材２２は、エッジ２３、エッジ２４、およびエッジ２５を有している。
【００７１】
遮蔽部材２２のエッジ２３は、図２６に示すように、ＸＹ面内において焦点ｆを中心とした半径ｒ２の第２の円の円周ＣＦ２上に位置する円弧Ａ２上に形成されている。したがって、遮蔽部材２２のエッジ２３は半径ｒ２の第２の円の円周ＣＦ２上に位置しており、この点については、比較例における遮蔽部材２０２のエッジ２０３（図１５参照）と同じである。しかし、第１の形態における遮蔽部材２２のエッジ２３は、比較例における遮蔽部材２０２のエッジ２０３よりも、短くなるように形成されている。図２５および図２６では、第１の形態における遮蔽部材２２のエッジ２３の長さと比較例における遮蔽部材２０２のエッジ２０３の長さの違いを明確にするため、比較例における遮蔽部材２０２のエッジ２０３の一方の端点２０３ａおよび他方の端点２０３ｂが示されている。第１の形態における遮蔽部材２２のエッジ２３は、比較例における遮蔽部材２０２のエッジ２０３よりも、半径ｒ２の第２の円の円周ＣＦ２上に位置する円弧Ａ２１の長さａ２１と円弧Ａ２２の長さａ２２の合計長（ａ２１＋ａ２２）だけ短くなるように形成されている。第１の形態では、ａ２１およびａ２２はａ２１＝ａ２２に設定されているが、ａ２１≠ａ２２に設定することも可能である。更に、第１の形態では、ａ１１およびａ１２（図２３および図２４参照）と、ａ２１およびａ２２（図２５および図２６参照）は、以下の式を満たすように設定されている。
ａ１１＝ａ１２＝ａ２１＝ａ２２  ・・・（１）
【００７２】
しかし、ａ１１、ａ１２、ａ２１、およびａ２２のうちの少なくとも一つの長さが、残りの長さと異なるようにすることも可能である。
【００７３】
また、第１の形態の遮蔽部材２２は、円弧状のエッジ２３の他に、２つの直線状のエッジ２４および２５を有するように形成されている。
【００７４】
図２６には、面Ｓ１が示されている。図２６に示す面Ｓ１は、図２４に示す面Ｓ１と同一の面であり、エッジ２３の円周ＣＦ２に沿う方向３０における中間点ＰＣと焦点ｆとを含み且つ体軸方向（ｚ方向）に平行な面である。エッジ２４および２５は、面Ｓ１に対して互いに反対側に位置している。
以下、エッジ２４および２５について順に説明する。
【００７５】
エッジ２４は、円弧状のエッジ２３の一方の端点２３ａから、面Ｓ１に対して垂直の方向４０とは反対方向に向かって延在する直線状のエッジ（長さｑ２４）である。エッジ２４は、円弧状のエッジ２３の端点２３ａに接続された一方の端点２４ａと、当該一方の端点２４ａとは反対側に位置する他方の端点２４ｂとを有している。エッジ２４は、端点２４ａおよび２４ｂの方向５０における位置が同じ位置ｐ２１になるように形成されている。
【００７６】
また、図２６には、ＸＹ面に投影されたラインＬ２１が示されている。ラインＬ２１は、ＸＹ面内において、焦点ｆと、比較例の遮蔽部材２０２のエッジ２０３の一方の端点２０３ａとに重なる線である。第１の形態では、エッジ２４の端点２４ｂは、ＸＹ面内に投影されたラインＬ２１上において、比較例の遮蔽部材２０２のエッジ２０３の一方の端点２０３ａからΔｇ２１だけＸ線検出器７５側に離れた位置に存在している。
【００７７】
エッジ２４は、比較例の遮蔽部材２０２のエッジ２０３の端点２０３ａの方向５０における位置ｐ２１０よりもΔｈ２１だけ低い位置ｐ２１に形成されている。したがって、エッジ２４は、円弧Ａ２に隣接する円弧Ａ２１に対してＸ線検出器７５側に位置するように形成されている。また、図２６において、円弧Ａ２１、ラインＬ１１、およびエッジ２４で囲まれた領域ｒｅ２１は、ハッチングで示されている。比較例の遮蔽部材２０２のエッジ２０３は、円弧Ａ２１上に延在しているので、比較例の遮蔽部材２０２を用いた場合、領域ｒｅ２１に向かうＸ線ビームは、比較例の遮蔽部材２０２で遮蔽されることなく、Ｘ線検出器７５に到達する。しかし、第１の形態の遮蔽部材２２では、円弧Ａ２１よりもＸ線検出器７５側にエッジ２４が形成されているので、第１の形態の遮蔽部材２２を用いた場合、領域ｒｅ２１に向かうＸ線ビームを、遮蔽部材２２のエッジ２４側の部分で遮蔽することができる。したがって、検出器７５の角部７５３（図２１および図２２参照）に半影領域ＰＲ２１を形成することができる。エッジ２４の端点２４ａは、半影領域ＰＲ２１の頂点ｖ２１に対応する。したがって、エッジ２４の方向５０における位置ｐ２１（図２６参照）を調整することにより、半影領域ＰＲ２１の方向４０（ｘ方向）に沿う辺Ｓ２１を所望の長さに調整することができる。例えば、エッジ２４の方向５０における位置ｐ２１を高くすると（即ち、Δｈ２１を短くすると）、エッジ２４の端点２４ａが、比較例の遮蔽部材２０２のエッジ２０３の端点２０３ａに近づくので、半影領域ＰＲ２１の頂点ｖ２１が頂点ｖ２１０に近づく。このため、エッジ２４の方向５０における位置ｐ２１を高くすると（即ち、Δｈ２１を短くすると）、半影領域ＰＲ２１の辺Ｓ２１を短くすることができる。一方、エッジ２４の方向５０における位置ｐ２１を低くすると（即ち、Δｈ２１を長くすると）、エッジ２４の端点２４ａが、比較例の遮蔽部材２０２のエッジ２０３の端点２０３ａから離れるので、半影領域ＰＲ２１の頂点ｖ２１が頂点ｖ２１０から離れる。このため、エッジ２４の方向５０における位置ｐ２１を低くする（即ち、Δｈ２１を長くする）ことにより、半影領域ＰＲ２１の辺Ｓ２１を長くすることができる。
また、遮蔽部材２２は更にエッジ２５を有している。
【００７８】
エッジ２５は、円弧状のエッジ２３の他方の端点２３ｂから、面Ｓ１に対して垂直の方向４０に向かって延在する直線状のエッジ（長さｑ２５）である。エッジ２５は、円弧状のエッジ２３の端点２３ｂに接続された一方の端点２５ａと、当該一方の端点２５ａとは反対側に位置する他方の端点２５ｂとを有している。エッジ２５は、端点２５ａおよび２５ｂの方向５０における位置が同じ位置ｐ２２になるように形成されている。第１の形態では、エッジ２５の長さｑ２５は、エッジ２４の長さｑ２４と同じであるが（ｑ２４＝ｑ２５）、ｑ２４≠ｑ２５にすることも可能である。尚、第１の形態では、エッジ１４およびエッジ１５の長さｑ１４およびｑ１５（図２４参照）と、エッジ２４および２５の長さｑ２４およびｑ２５（図２６参照）は、以下の式を満たすように設定されている。
ｑ１４＝ｑ１５＝ｑ２４＝ｑ２５  ・・・（２）
【００７９】
しかし、ｑ１４、ｑ１５、ｑ２４、ｑ２５のうちの少なくとも一つの長さが、残りの長さと異なるようにすることも可能である。
【００８０】
また、図２６には、ＸＹ面に投影されたラインＬ２２が示されている。ラインＬ２２は、ＸＹ面内において、焦点ｆと、比較例の遮蔽部材２０２のエッジ２０３の他方の端点２０３ｂとに重なる線である。第１の形態では、エッジ２５の端点２５ｂは、ＸＹ面内に投影されたラインＬ２２上において、比較例の遮蔽部材２０２のエッジ２０３の他方の端点２０３ｂからΔｇ２２だけＸ線検出器７５側に離れた位置に存在している。
【００８１】
エッジ２５は、比較例の遮蔽部材２０２のエッジ２０３の端点２０３ｂの方向５０における位置ｐ２２０よりもΔｈ２２だけ低い位置ｐ２２に形成されている。したがって、エッジ２５は、円弧Ａ２に隣接する円弧Ａ２２に対してＸ線検出器７５側に位置するように形成されている。また、図２６において、円弧Ａ２２、ラインＬ２２、およびエッジ２５で囲まれた領域ｒｅ２２は、ハッチングで示されている。比較例の遮蔽部材２０２のエッジ２０３は、円弧Ａ２２上に延在しているので、比較例の遮蔽部材２０２を用いた場合、領域ｒｅ２２に向かうＸ線ビームは、比較例の遮蔽部材２０２で遮蔽されることなく、Ｘ線検出器７５に到達する。しかし、第１の形態の遮蔽部材２２では、円弧Ａ２２よりもＸ線検出器７５側にエッジ２５が形成されているので、第１の形態の遮蔽部材２２を用いた場合、領域ｒｅ２２に向かうＸ線ビームを、遮蔽部材２２のエッジ２５側の部分で遮蔽することができる。したがって、検出器７５の角部７５４（図２１および図２２参照）に半影領域ＰＲ２２を形成することができる。エッジ２５の端点２５ａは、半影領域ＰＲ２２の頂点ｖ２２に対応する（図２２参照）。したがって、エッジ２５の方向５０における位置ｐ２２（図２６参照）を調整することにより、半影領域ＰＲ２２の方向４０（ｘ方向）に沿う辺Ｓ２２を所望の長さに調整することができる。例えば、エッジ２５の方向５０における位置ｐ２２を高くすると（即ち、Δｈ２２を短くすると）、エッジ２５の端点２５ａが、比較例の遮蔽部材２０２のエッジ２０３の端点２０３ｂに近づくので、半影領域ＰＲ２２の頂点ｖ２２が頂点ｖ２２０に近づく。このため、エッジ２５の方向５０における位置ｐ２２を高くすると（即ち、Δｈ２２を短くすると）、半影領域ＰＲ２２の辺Ｓ２２を短くすることができる。一方、エッジ２５の方向５０における位置ｐ２２を低くすると（即ち、Δｈ２２を長くすると）、エッジ２５の端点２５ａが、比較例の遮蔽部材２０２のエッジ２０３の端点２０３ｂから離れるので、半影領域ＰＲ２２の頂点ｖ２２が頂点ｖ２２０から離れる。このため、エッジ２５の方向５０における位置ｐ２２を低くする（即ち、Δｈ２２を長くする）ことにより、半影領域ＰＲ２２の辺Ｓ２２を長くすることができる。
【００８２】
図２１〜図２６を参照しながら説明したように、第１の形態における遮蔽部材１２および２２は、円弧Ａ１１、Ａ１２、Ａ２１、およびＡ２２に対してＸ線検出器７５側にエッジ１４、１５、２４、および２５を有しているので、領域ｒｅ１１、ｒｅ１２、ｒｅ２１、およびｒｅ２２に向かうＸ線ビームを遮蔽することができる。したがって、図２１および図２２に示すように、Ｘ線検出器７５の４隅に、領域ｒｅ１１、ｒｅ１２、ｒｅ２１、およびｒｅ２２に対応する半影領域ＰＲ１１、ＰＲ１２、ＰＲ２１、およびＰＲ２２を設けることができる。このため、第１の形態の遮蔽部材１２および２２により得られる投影領域（本影領域）Ｒ１０を、Ｘ線検出器７５の４隅を含まない形状にすることができる。
【００８３】
上記のように、比較例の遮蔽部材１０２および２０２を使用し、図１６に示すようにアパーチャ幅ＷをＷ＝Ｗｍに設定した場合、Ｘ線検出器７５に半影領域を作ることができず、ビームトラッキングを実行することができないという問題がある。これに対し、第１の形態では、遮蔽部材１２のエッジ１４および１５と、遮蔽部材２２のエッジ２４および２５とにより、領域ｒｅ１１、ｒｅ１２、ｒｅ２１、およびｒｅ２２に向かうＸ線ビームを遮蔽することができる。したがって、第１の形態の遮蔽部材１２および２２を用いた場合、Ｘ線検出器７５の４隅に半影領域ＰＲ１１、ＰＲ１２、ＰＲ２１、およびＰＲ２２（図２１および図２２参照）を設けることができるので、アパーチャ幅ＷをＷ＝Ｗｍに設定してもビームトラッキングを実行することができる。
【００８４】
また、図２２に示すように、遮蔽部材１２のエッジ１３、１４、および１５は、ＸＹ面と面Ｓ１とに垂直な面（図２２においてＺＸ面に対応する面）内において、方向４０に沿って同一直線上に延在している。同様に、遮蔽部材２２のエッジ２３、２４、および２５も、ＸＹ面と面Ｓ１とに垂直な面（図２２においてＺＸ面に対応する面）内において、方向４０に沿って同一直線上に延在している。したがって、第１の形態では、遮蔽部材１２および２２に、半影領域を形成するための突出部ｅ１〜ｅ４（図１８参照）を設ける必要がないので、突出部ｅ１〜ｅ４を設けた場合に生じるアパーチャ幅Ｗ１（図１８参照）の制限を受けずに、半影領域を作ることができる。
【００８５】
尚、第１の形態では、遮蔽部材１２のエッジ１４および１５の長さは、それぞれ、ｑ１４およびｑ１５に設定されている（図２４参照）。しかし、エッジ１４および１５の代わりに、エッジ１４および１５よりも長いエッジを形成してもよい（図２７参照）。
【００８６】
図２７は、エッジ１４および１５の代わりに、エッジ１４および１５よりも長いエッジが形成された例を示す図である。図２７では、エッジ１４’は、エッジ１４よりも延長部分１４ｃだけ長く形成されたエッジを表しており、エッジ１５’は、エッジ１５よりも延長部分１５ｃだけ長く形成されたエッジを表している。
【００８７】
エッジ１４’の端点１４ｂ’は、エッジ１４の端点１４ｂの位置Ｊ１から、方向４０とは反対方向に、延長部分１４ｃの長さＱ１４だけずれた位置に設けられている。また、エッジ１５’の端点１５ｂ’は、エッジ１５の端点１５ｂの位置Ｊ２から、方向４０に、延長部分１５ｃの長さＱ１５だけずれた位置に設けられている。エッジ１４および１５の代わりに、エッジ１４’および１５’を形成した場合でも、領域ｒｅ１１およびｒｅ１２に向かって進むＸ線は遮蔽される。したがって、エッジ１４および１５の代わりに、エッジ１４’および１５’を形成しても、ビームトラッキングを実行することができる。エッジ１４’はエッジ１５’と同じ長さにしてもよいし、異なる長さにしてもよい。尚、図２７では、エッジ１４’の延長部分１４ｃおよびエッジ１５’の延長部分１５ｃは、方向４０に平行である。しかし、これらの延長部分は、方向４０に対して斜めになるように形成されてもよい。
【００８８】
尚、図２７では、遮蔽部材１２について説明したが、半影領域を確保できるのであれば、遮蔽部材２２のエッジ２４および２５を長くしてもよい。また、遮蔽部材１２および２２のうちのいずれか一方の遮蔽部材のエッジを他方の遮蔽部材のエッジよりも長くすることも可能である。
【００８９】
次に、第１の形態における遮蔽部材１２および２２を用いた場合のＸ線検出器上のビームシェイプと、比較例における遮蔽部材１０２および２０２を用いた場合のＸ線検出器上のビームシェイプとの違いについて、図２８を参照しながら説明する。
【００９０】
図２８の上段は、比較例における遮蔽部材１０２および２０２を用いた場合のＸ線検出器上のビームシェイプを表すグラフであり、図２８の下段は、第１の形態における遮蔽部材１２および２２を用いた場合のＸ線検出器上のビームシェイプを表すグラフである。
【００９１】
各グラフの横軸はチャンネル方向における検出素子の位置を表し、縦軸は列方向における検出素子の位置を表す。
【００９２】
各グラフには、カバレージが８０ｍｍの場合のビームシェイプと、カバレージが４０ｍｍの場合のビームシェイプが示されている。
【００９３】
比較例における遮蔽部材１０２および２０２を用いた場合、Ｘ線検出器のチャネル方向の位置に関わらず、ビーム幅は同じであるので、Ｘ線検出器の４隅に、ビームトラッキングを行うための半影領域を得ることができない。
【００９４】
一方、第１の形態における遮蔽部材１２および２２を用いた場合、Ｘ線検出器のチャンネル方向の両端において、ビーム幅を小さくすることができるので、Ｘ線検出器の４隅に、ビームトラッキングを行うための半影領域が得られることがわかる。
【００９５】
（２）第２の形態
第２の形態は、第１の形態と比較すると、アパーチャの遮蔽部材のエッジが異なっている。以下に、第２の形態について説明する。
【００９６】
図２９〜図３４は、第２の形態における遮蔽部材３２および４２のエッジの説明図である。以下、各図について説明する。
図２９は、第２の形態のおけるアパーチャ２およびＸ線検出器７５を斜め上から見た図、図３０は、アパーチャ２およびＸ線検出器７５を焦点ｆ側から見た平面図である。尚、図２９および図３０では、説明の便宜上、第１の形態と同様に、アパーチャ２に関しては、遮蔽部材３２および４２のみを図示し、遮蔽部材３２および４２を支持する支持部材は図示省略されている。
【００９７】
アパーチャ２の遮蔽部材３２および４２は、体軸方向（ｚ方向）において互いに対向するように配置されている。遮蔽部材３２および４２によって、Ｘ線ビーム２１０のｚ方向の広がりが規定される。
以下、アパーチャ２の遮蔽部材３２および４２のエッジについて順に説明する。
【００９８】
図３１および図３２は遮蔽部材３２のエッジの説明図である。
図３１は、遮蔽部材３２の拡大斜視図であり、図３２は遮蔽部材３２のエッジのＸＹ面内における形状を示す図である。
遮蔽部材３２は、エッジ３３、エッジ３４、およびエッジ３５を有している。
【００９９】
遮蔽部材３２のエッジ３３は、図３２に示すように、ＸＹ面内において焦点ｆを中心とした半径ｒ２の第２の円の円周ＣＦ２上に位置する円弧Ａ３上に形成されている。したがって、遮蔽部材３２のエッジ３３は半径ｒ２の第２の円の円周ＣＦ２上に位置しており、この点については、比較例における遮蔽部材１０２のエッジ１０３（図１４参照）と同じである。しかし、第２の形態における遮蔽部材３２のエッジ３３は、比較例における遮蔽部材１０２のエッジ１０３よりも、短くなるように形成されている。図３１および図３２では、第２の形態における遮蔽部材３２のエッジ３３の長さと比較例における遮蔽部材１０２のエッジ１０３の長さの違いを明確にするため、比較例における遮蔽部材１０２のエッジ１０３の一方の端点１０３ａおよび他方の端点１０３ｂが示されている。第２の形態における遮蔽部材３２のエッジ３３は、比較例における遮蔽部材１０２のエッジ１０３よりも、半径ｒ２の第２の円の円周ＣＦ２上に位置する円弧Ａ３１の長さａ３１と円弧Ａ３２の長さａ３２の合計長（ａ３１＋ａ３２）だけ短くなるように形成されている。第２の形態では、ａ３１およびａ３２はａ３１＝ａ３２に設定されているが、ａ３１≠ａ３２に設定することも可能である。
【０１００】
また、第２の形態の遮蔽部材３２は、円弧状のエッジ３３の他に、２つの直線状のエッジ３４および３５を有するように形成されている。
【０１０１】
図３２には、面Ｓ２が示されている。面Ｓ２は、エッジ３３の円周ＣＦ２に沿う方向３０における中間点ＰＣと焦点ｆとを含み且つ体軸方向（ｚ方向）に平行な面である。エッジ３４および３５は、面Ｓ２に対して互いに反対側に位置している。
以下、エッジ３４および３５について順に説明する。
【０１０２】
エッジ３４は、円弧状のエッジ３３の一方の端点３３ａから、面Ｓ２の垂直の方向４０に対して斜めに延在する直線状のエッジ（長さｑ３４）であり、方向４０に対して角度α１１だけ傾いている。エッジ３４は、円弧状のエッジ３３の端点３３ａに接続された一方の端点３４ａと、当該一方の端点３４ａとは反対側に位置する他方の端点３４ｂとを有している。面Ｓ２に対して平行且つ方向４０に対して垂直の方向５０（図３２においてｙ方向に対応する）について考えると、エッジ３４は、端点３４ａの方向５０における位置ｐ１１１が端点３４ｂの方向５０における位置ｐ１１よりも高くなるように形成されている。
【０１０３】
また、図３２には、ＸＹ面に投影されたラインＬ１１が示されている。ラインＬ１１は、ＸＹ面内において、焦点ｆと、比較例の遮蔽部材１０２のエッジ１０３の一方の端点１０３ａとに重なる線である。第２の形態では、エッジ３４の端点３４ｂは、ＸＹ面内に投影されたラインＬ１１上において、比較例の遮蔽部材１０２のエッジ１０３の一方の端点１０３ａからΔｇ１１だけＸ線検出器７５側に離れた位置に存在している。したがって、エッジ３４は、円弧Ａ３に隣接する円弧Ａ３１に対してＸ線検出器７５側に位置するように形成されている。また、図３２において、円弧Ａ３１、ラインＬ１１、およびエッジ３４で囲まれた領域ｒｅ３１は、ハッチングで示されている。比較例の遮蔽部材１０２のエッジ１０３は、円弧Ａ３１上に延在しているので、比較例の遮蔽部材１０２を用いた場合、領域ｒｅ３１に向かうＸ線ビームは、比較例の遮蔽部材１０２で遮蔽されることなく、Ｘ線検出器７５に到達する。しかし、第２の形態の遮蔽部材３２では、円弧Ａ３１よりもＸ線検出器７５側にエッジ３４が形成されているので、第２の形態の遮蔽部材３２を用いた場合、領域ｒｅ３１に向かうＸ線ビームを、遮蔽部材３２のエッジ３４側の部分で遮蔽することができる。したがって、検出器７５の角部７５１（図２９および図３０参照）に半影領域ＰＲ３１を形成することができる。エッジ３４の端点３４ａは、半影領域ＰＲ３１の頂点ｖ３１に対応する。したがって、エッジ３４の端点３４ａの方向５０における位置ｐ１１１（図３２参照）を調整することにより、半影領域ＰＲ３１の方向４０（ｘ方向）に沿う辺Ｓ３１を所望の長さに調整することができる。例えば、エッジ３４の端点３４ａの方向５０における位置ｐ１１１を高くすると、エッジ３４の端点３４ａが比較例の遮蔽部材１０２のエッジ１０３の端点１０３ａに近づくので、半影領域ＰＲ３１の頂点ｖ３１が頂点ｖ３１０に近づく。このため、エッジ３４の端点３４ａの方向５０における位置ｐ１１１を高くすることにより、半影領域ＰＲ３１の辺Ｓ３１を短くすることができる。一方、エッジ３４の端点３４ａの方向５０における位置ｐ１１１を低くすると、エッジ３４の端点３４ａが比較例の遮蔽部材１０２のエッジ１０３の端点１０３ａから離れるので、半影領域ＰＲ３１の頂点ｖ３１が頂点ｖ３１０から離れる。このため、エッジ３４の端点３４ａの方向５０における位置ｐ１１１を低くすることにより、半影領域ＰＲ３１の辺Ｓ３１を長くすることができる。
【０１０４】
また、エッジ３４の端点３４ａの位置を固定した上で角度α１１を小さくすることにより、半影領域ＰＲ３１の方向２０（ｚ方向）に沿う辺Ｓ３１１を短くすることができ、一方、エッジ３４の端点３４ａの位置を固定した上で角度α１１を大きくすることにより半影領域ＰＲ３１の辺Ｓ３１１を長くすることができる。
【０１０５】
尚、図３１および図３２では、第２の形態のエッジ３４と第１の形態のエッジ１４との違いが明確になるように、参考として第１の形態のエッジ１４も示されている。第２の形態のエッジ３４は、第１の形態のエッジ１４よりも、角度α＝α１１だけ傾斜するように形成されている。
次に、遮蔽部材３２のエッジ３５について説明する。
【０１０６】
エッジ３５は、円弧状のエッジ３３の他方の端点３３ｂから、面Ｓ２に垂直の方向４０に対して斜めに延在する直線状のエッジ（長さｑ３５）であり、方向４０に対して角度α１２だけ傾いている。エッジ３５は、円弧状のエッジ３３の端点３３ｂに接続された一方の端点３５ａと、当該一方の端点３５ａとは反対側に位置する他方の端点３５ｂとを有している。エッジ３５は、端点３５ａの方向５０における位置ｐ１２１が端点３５ｂの方向５０における位置ｐ１２よりも高くなるように形成されている。尚、第２の形態では、エッジ３５の長さｑ３５は、エッジ３４の長さｑ３４と同じであるが（ｑ３４＝ｑ３５）、ｑ３４≠ｑ３５にすることも可能である。
【０１０７】
また、図３２には、ＸＹ面に投影されたラインＬ１２が示されている。ラインＬ１２は、ＸＹ面内において、焦点ｆと、比較例の遮蔽部材１０２のエッジ１０３の他方の端点１０３ｂとに重なる線である。第２の形態では、エッジ３５の端点３５ｂは、ＸＹ面内に投影されたラインＬ１２上において、比較例の遮蔽部材１０２のエッジ１０３の他方の端点１０３ｂからΔｇ１２だけＸ線検出器７５側に離れた位置に存在している。したがって、エッジ３５は、円弧Ａ３に隣接する円弧Ａ３２に対してＸ線検出器７５側に位置するように形成されている。また、図３２において、円弧Ａ３２、ラインＬ１２、およびエッジ３５で囲まれた領域ｒｅ３２は、ハッチングで示されている。比較例の遮蔽部材１０２のエッジ１０３は、円弧Ａ３２上に延在しているので、比較例の遮蔽部材１０２を用いた場合、領域ｒｅ３２に向かうＸ線ビームは、比較例の遮蔽部材１０２で遮蔽されることなく、Ｘ線検出器７５に到達する。しかし、第２の形態の遮蔽部材３２では、円弧Ａ３２よりもＸ線検出器７５側にエッジ３５が形成されているので、第２の形態の遮蔽部材３２を用いた場合、領域ｒｅ３２に向かうＸ線ビームを、遮蔽部材３２のエッジ３５側の部分で遮蔽することができる。したがって、検出器７５の角部７５２（図２９および図３０参照）に半影領域ＰＲ３２を形成することができる。エッジ３５の端点３５ａは、半影領域ＰＲ３２の頂点ｖ３２に対応する。したがって、エッジ３５の端点３５ａの方向５０における位置ｐ１２１（図３２参照）を調整することにより、半影領域ＰＲ３２の方向４０（ｘ方向）に沿う辺Ｓ３２を所望の長さに調整することができる。例えば、エッジ３５の端点３５ａの方向５０における位置ｐ１２１を高くすると、エッジ３５の端点３５ａが比較例の遮蔽部材１０２のエッジ１０３の端点１０３ｂに近づくので、半影領域ＰＲ３２の頂点ｖ３２が頂点ｖ３２０に近づく。このため、エッジ３５の端点３５ａの方向５０における位置ｐ１２１を高くすることにより、半影領域ＰＲ３２の辺Ｓ３２を短くすることができる。一方、エッジ３５の端点３５ａの方向５０における位置ｐ１２１を低くすると、エッジ３５の端点３５ａが比較例の遮蔽部材１０２のエッジ１０３の端点１０３ｂから離れるので、半影領域ＰＲ３２の頂点ｖ３２が頂点ｖ３２０から離れる。このため、エッジ３５の端点３５ａの方向５０における位置ｐ１２１を低くすることにより、半影領域ＰＲ３２の辺Ｓ３２を長くすることができる。
【０１０８】
また、エッジ３５の端点３５ａの位置を固定した上で角度α１２を小さくすることにより半影領域ＰＲ３２の方向２０（ｚ方向）に沿う辺Ｓ３２１を短くすることができ、一方、エッジ３５の端点３５ａの位置を固定した上で角度α１２を大きくすることにより半影領域ＰＲ３２の辺Ｓ３２１を長くすることができる。
【０１０９】
尚、図３１および図３２では、第２の形態のエッジ３５と第１の形態のエッジ１５との違いが明確になるように、参考として第１の形態のエッジ１５も示されている。第２の形態のエッジ３５は、第１の形態のエッジ１５よりも、角度α＝α１２だけ傾斜するように形成されている。また、第２の形態では、エッジ３４の角度α１１とエッジ３５の角度α１２は、α１１＝α１２に設定されているが、α１１≠α１２に設定することも可能である。
次に、もう一方の遮蔽部材４２について説明する。
【０１１０】
図３３および図３４は遮蔽部材４２のエッジの説明図である。
図３３は遮蔽部材４２の拡大斜視図であり、図３４は遮蔽部材４２のエッジのＸＹ面内における形状を示す図である。
遮蔽部材４２は、エッジ４３、エッジ４４、およびエッジ４５を有している。
【０１１１】
遮蔽部材４２のエッジ４３は、図３４に示すように、ＸＹ面内において焦点ｆを中心とした半径ｒ２の第２の円の円周ＣＦ２上に位置する円弧Ａ４上に形成されている。したがって、遮蔽部材４２のエッジ４３は半径ｒ２の第２の円の円周ＣＦ２上に位置しており、この点については、比較例における遮蔽部材２０２のエッジ２０３（図１５参照）と同じである。しかし、第２の形態における遮蔽部材４２のエッジ４３は、比較例における遮蔽部材２０２のエッジ２０３よりも、短くなるように形成されている。図３３および図３４では、第２の形態における遮蔽部材４２のエッジ４３の長さと比較例における遮蔽部材２０２のエッジ２０３の長さの違いを明確にするため、比較例における遮蔽部材２０２のエッジ２０３の一方の端点２０３ａおよび他方の端点２０３ｂが示されている。第２の形態における遮蔽部材４２のエッジ４３は、比較例における遮蔽部材２０２のエッジ２０３よりも、半径ｒ２の第２の円の円周ＣＦ２上に位置する円弧Ａ４１の長さａ４１と円弧Ａ４２の長さａ４２の合計長（ａ４１＋ａ４２）だけ短くなるように形成されている。第２の形態では、ａ４１およびａ４２はａ４１＝ａ４２に設定されているが、ａ４１≠ａ４２に設定することも可能である。更に、第２の形態では、ａ３１およびａ３２（図３２参照）と、ａ４１およびａ４２（図３４参照）は、以下の式を満たすように設定されている。
ａ３１＝ａ３２＝ａ４１＝ａ４２  ・・・（３）
【０１１２】
しかし、ａ３１、ａ３２、ａ４１、およびａ４２のうちの少なくとも一つの長さが、残りの長さと異なるようにすることも可能である。
【０１１３】
また、第２の形態の遮蔽部材４２は、円弧状のエッジ４３の他に、２つの直線状のエッジ４４および４５を有するように形成されている。
【０１１４】
図３４には、面Ｓ２が示されている。図３４に示す面Ｓ２は、図３２に示す面Ｓ２と同一の面であり、エッジ４３の円周ＣＦ２に沿う方向３０における中間点ＰＣと焦点ｆとを含み且つ体軸方向（ｚ方向）に平行な面である。エッジ４４および４５は、面Ｓ２に対して互いに反対側に位置している。
以下、エッジ４４および４５について順に説明する。
【０１１５】
エッジ４４は、円弧状のエッジ４３の一方の端点４３ａから、面Ｓ２の垂直の方向４０に対して斜めに延在する直線状のエッジ（長さｑ４４）であり、方向４０に対して角度α２１だけ傾いている。エッジ４４は、円弧状のエッジ４３の端点４３ａに接続された一方の端点４４ａと、当該一方の端点４４ａとは反対側に位置する他方の端点４４ｂとを有している。エッジ４４は、端点４４ａの方向５０における位置ｐ２１１が端点４４ｂの方向５０における位置ｐ２１よりも高くなるように形成されている。
【０１１６】
また、図３４には、ＸＹ面に投影されたラインＬ２１が示されている。ラインＬ２１は、ＸＹ面内において、焦点ｆと、比較例の遮蔽部材２０２のエッジ２０３の一方の端点２０３ａとに重なる線である。第２の形態では、エッジ４４の端点４４ｂは、ＸＹ面内に投影されたラインＬ２１上において、比較例の遮蔽部材２０２のエッジ２０３の一方の端点２０３ａからΔｇ２１だけＸ線検出器７５側に離れた位置に存在している。したがって、エッジ４４は、円弧Ａ４に隣接する円弧Ａ４１に対してＸ線検出器７５側に位置するように形成されている。また、図３４において、円弧Ａ４１、ラインＬ２１、およびエッジ４４で囲まれた領域ｒｅ４１は、ハッチングで示されている。比較例の遮蔽部材２０２のエッジ２０３は、円弧Ａ４１上に延在しているので、比較例の遮蔽部材２０２を用いた場合、領域ｒｅ４１に向かうＸ線ビームは、比較例の遮蔽部材２０２で遮蔽されることなく、Ｘ線検出器７５に到達する。しかし、第２の形態の遮蔽部材４２では、円弧Ａ４１よりもＸ線検出器７５側にエッジ４４が形成されているので、第２の形態の遮蔽部材４２を用いた場合、領域ｒｅ４１に向かうＸ線ビームを、遮蔽部材４２のエッジ４４側の部分で遮蔽することができる。したがって、検出器７５の角部７５３（図２９および図３０参照）に半影領域ＰＲ４１を形成することができる。エッジ４４の端点４４ａは、半影領域ＰＲ４１の頂点ｖ４１に対応する。したがって、エッジ４４の端点４４ａの方向５０における位置ｐ２１１（図３４参照）を調整することにより、半影領域ＰＲ４１の方向４０（ｘ方向）に沿う辺Ｓ４１を所望の長さに調整することができる。例えば、エッジ４４の端点４４ａの方向５０における位置ｐ２１１を高くすると、エッジ４４の端点４４ａが比較例の遮蔽部材２０２のエッジ２０３の端点２０３ａに近づくので、半影領域ＰＲ４１の頂点ｖ４１が頂点ｖ４１０に近づく。このため、エッジ４４の端点４４ａの方向５０における位置ｐ２１１を高くすることにより、半影領域ＰＲ４１の辺Ｓ４１を短くすることができる。一方、エッジ４４の端点４４ａの方向５０における位置ｐ２１１を低くすると、エッジ４４の端点４４ａが比較例の遮蔽部材２０２のエッジ２０３の端点２０３ａから離れるので、半影領域ＰＲ４１の頂点ｖ４１が頂点ｖ４１０から離れる。このため、エッジ４４の端点４４ａの方向５０における位置ｐ２１１を低くすることにより、半影領域ＰＲ４１の辺Ｓ４１を長くすることができる。
【０１１７】
また、エッジ４４の端点４４ａの位置を固定した上で角度α２１を小さくすることにより半影領域ＰＲ４１の方向２０（ｚ方向）に沿う辺Ｓ４１１を短くすることができ、一方、エッジ４４の端点４４ａの位置を固定した上で角度α２１を大きくすることにより半影領域ＰＲ４１の辺Ｓ４１１を長くすることができる。
【０１１８】
尚、図３３および図３４では、第２の形態のエッジ４４と第１の形態のエッジ２４との違いが明確になるように、参考として第１の形態のエッジ２４も示されている。第２の形態のエッジ４４は、第１の形態のエッジ２４よりも、角度α＝α２１だけ傾斜するように形成されている。  次に、遮蔽部材４２のエッジ４５について説明する。
【０１１９】
エッジ４５は、円弧状のエッジ４３の他方の端点４３ｂから、面Ｓ２に垂直の方向４０に対して斜めに延在する直線状のエッジ（長さｑ４５）であり、方向４０に対して角度α２２だけ傾いている。エッジ４５は、円弧状のエッジ４３の端点４３ｂに接続された一方の端点４５ａと、当該一方の端点４５ａとは反対側に位置する他方の端点４５ｂとを有している。エッジ４５は、端点４５ａの方向５０における位置ｐ２２１が端点４５ｂの方向５０における位置ｐ２２よりも高くなるように形成されている。尚、第２の形態では、エッジ４５の長さｑ４５は、エッジ４４の長さｑ４４と同じであるが（ｑ４４＝ｑ４５）、ｑ４４≠ｑ４５にすることも可能である。尚、第２の形態では、エッジ３４およびエッジ３５の長さｑ３４およびｑ３５（図３２参照）と、エッジ４４および４５の長さｑ４４およびｑ４５（図３４参照）は、以下の式を満たすように設定されている。
ｑ３４＝ｑ３５＝ｑ４４＝ｑ４５  ・・・（４）
【０１２０】
しかし、ｑ３４、ｑ３５、ｑ４４、ｑ４５のうちの少なくとも一つの長さが、残りの長さと異なるようにすることも可能である。
【０１２１】
また、図３４には、ＸＹ面に投影されたラインＬ２２が示されている。ラインＬ２２は、ＸＹ面内において、焦点ｆと、比較例の遮蔽部材２０２のエッジ２０３の他方の端点２０３ｂとに重なる線である。第２の形態では、エッジ４５の端点４５ｂは、ＸＹ面内に投影されたラインＬ２２上において、比較例の遮蔽部材２０２のエッジ２０３の他方の端点２０３ｂからΔｇ２２だけＸ線検出器７５側に離れた位置に存在している。したがって、エッジ４５は、円弧Ａ４に隣接する円弧Ａ４２に対してＸ線検出器７５側に位置するように形成されている。また、図３４において、円弧Ａ４２、ラインＬ２２、およびエッジ４５で囲まれた領域ｒｅ４２は、ハッチングで示されている。比較例の遮蔽部材２０２のエッジ２０３は、円弧Ａ４２上に延在しているので、比較例の遮蔽部材２０２を用いた場合、領域ｒｅ４２に向かうＸ線ビームは、比較例の遮蔽部材２０２で遮蔽されることなく、Ｘ線検出器７５に到達する。しかし、第２の形態の遮蔽部材４２では、円弧Ａ４２よりもＸ線検出器７５側にエッジ４５が形成されているので、第２の形態の遮蔽部材４２を用いた場合、領域ｒｅ４２に向かうＸ線ビームを、遮蔽部材４２のエッジ４５側の部分で遮蔽することができる。したがって、検出器７５の角部７５４（図２９および図３０参照）に半影領域ＰＲ４２を形成することができる。エッジ４５の端点４５ａは、半影領域ＰＲ４２の頂点ｖ４２に対応する。したがって、エッジ４５の端点４５ａの方向５０における位置ｐ２２１（図３４参照）を調整することにより、半影領域ＰＲ４２の方向４０（ｘ方向）に沿う辺Ｓ４２を所望の長さに調整することができる。例えば、エッジ４５の端点４５ａの方向５０における位置ｐ２２１を高くすると、エッジ４５の端点４５ａが比較例の遮蔽部材２０２のエッジ２０３の端点２０３ｂに近づくので、半影領域ＰＲ４２の頂点ｖ４２が頂点ｖ４２０に近づく。このため、エッジ４５の端点４５の方向５０における位置ｐ２２１を高くすることにより、半影領域ＰＲ４２の辺Ｓ４２を短くすることができる。一方、エッジ４５の端点４５の方向５０における位置ｐ２２１を低くすると、エッジ４５の端点４５ａが比較例の遮蔽部材２０２のエッジ２０３の端点２０３ｂから離れるので、半影領域ＰＲ４２の頂点ｖ４２が頂点ｖ４２０から離れる。このため、エッジ４５の端点４５の方向５０における位置ｐ２２１を低くすることにより、半影領域ＰＲ４２の辺Ｓ４２を長くすることができる。
【０１２２】
また、エッジ４５の端点４５ａの位置を固定した上で角度α２２を小さくすることにより半影領域ＰＲ４２の方向４０（ｚ方向）に沿う辺Ｓ４２１を短くすることができ、一方、エッジ４５の端点４５ａの位置を固定した上で角度α２２を大きくすることにより半影領域ＰＲ４２の辺Ｓ４２１を長くすることができる。
【０１２３】
尚、図３３および図３４では、第２の形態のエッジ４５と第１の形態のエッジ２５との違いが明確になるように、参考として第１の形態のエッジ２５も示されている。第２の形態のエッジ４５は、第１の形態のエッジ２５よりも、角度α＝α２２だけ傾斜するように形成されている。また、第２の形態では、エッジ４４の角度α２１とエッジ４５の角度α２２は、α２１＝α２２に設定されているが、α２１≠α２２に設定することも可能である。
【０１２４】
図２９〜図３４を参照しながら説明したように、第２の形態における遮蔽部材３２および４２は、円弧Ａ３１、Ａ３２、Ａ４１、およびＡ４２に対してＸ線検出器７５側にエッジ３４、３５、４４、および４５を有しているので、領域ｒｅ３１、ｒｅ３２、ｒｅ４１、およびｒｅ４２に向かうＸ線ビームを遮蔽することができる。したがって、図２９および図３０に示すように、Ｘ線検出器７５の４隅に、領域ｒｅ３１、ｒｅ３２、ｒｅ４１、およびｒｅ４２に対応する半影領域ＰＲ３１、ＰＲ３２、ＰＲ４１、およびＰＲ４２を設けることができるので、アパーチャ幅ＷをＷ＝Ｗｍ（図１６参照）に設定してもビームトラッキングを実行することができる。
【０１２５】
また、図３０に示すように、遮蔽部材３２のエッジ３３、３４、および３５は、ＸＹ面と面Ｓ２とに垂直な面（図３０においてＺＸ面に対応する面）内において、方向４０に沿って同一直線上に延在しており、遮蔽部材４２のエッジ４３、４４、および４５も、ＸＹ面と面Ｓ２とに垂直な面（図３０においてＺＸ面に対応する面）内において、方向４０に沿って同一直線上に延在している。したがって、遮蔽部材３２および４２に、半影領域を形成するための突出部ｅ１〜ｅ４（図１８参照）を設ける必要がないので、突出部ｅ１〜ｅ４を設けた場合に生じるアパーチャ幅Ｗ１（図１８参照）の制限を受けずに、半影領域を作ることができる。
【０１２６】
また、第２の形態では、遮蔽部材３２のエッジ３４および３５の角度α＝α１１およびα＝α１２（図３２参照）の値に基づいて、半影領域ＰＲ３１の辺Ｓ３１１および半影領域ＰＲ３２の辺Ｓ３２１を所望の長さに設定することができる。同様に、遮蔽部材４２のエッジ４４および４５の角度α＝α２１およびα＝α２２（図３４参照）の値に基づいて、半影領域ＰＲ４１の辺Ｓ４１１および半影領域ＰＲ４２の辺Ｓ４２１を所望の長さに設定することができる。
【０１２７】
（３）第３の形態
第３の形態における遮蔽部材は、第１の形態における遮蔽部材と比較すると、ＺＸ面内におけるエッジの形状は異なるが、ＸＹ面内におけるエッジの形状は同じである。したがって、第３の形態の説明に当たっては、ＸＹ面におけるエッジの形状の説明は省略し、ＺＸ面内におけるエッジの形状について主に説明する。
【０１２８】
図３５および図３６は、第３の形態における遮蔽部材１２１および２２１のエッジの説明図である。以下、各図について説明する。
図３５は、ＺＸ面内におけるＸ線検出器７５並びに遮蔽部材１２１および２２１の平面図、図３６は、ＺＸ面内における遮蔽部材１２１および２２１の拡大図である。
【０１２９】
尚、図３５および図３６では、説明の便宜上、第３の形態の遮蔽部材１２１が有するエッジのうち、第１の形態の遮蔽部材１２と同じエッジについては、同じ符号で示されている。同様に、第３の形態の遮蔽部材２２１が有するエッジのうち、第１の形態の遮蔽部材２２と同じエッジについては、同じ符号で示されている。
【０１３０】
先ず、遮蔽部材１２１について説明する。
遮蔽部材１２１は、エッジ１３、エッジ１４１、およびエッジ１５１を有している。
【０１３１】
遮蔽部材１２１のエッジ１３は、第１の形態の遮蔽部材１２のエッジ１３と同じである。しかし、遮蔽部材１２１のエッジ１４１および１５１は、第１の形態の遮蔽部材１２のエッジ１４および１５とは異なっている。そこで、以下では、遮蔽部材１２１のエッジ１３の説明は省略し、エッジ１４１および１５１について具体的に説明する。
【０１３２】
エッジ１４１は、エッジ１３の一方の端点に接続された一方の端点１４１ａと、当該一方の端点１４１ａとは反対側に位置する他方の端点１４１ｂとを有している。図３６において、エッジ１４１の端点１４１ａおよび１４１ｂのｚ方向における位置は、それぞれ符号「ｐ１１」および「ｐ１１０」で示されている。焦点ｆのｚ方向における位置を「ｐｆ」とすると、エッジ１４１の端点１４１ｂのｚ方向における位置ｐ１１０は、エッジ１４１の端点１４１ａのｚ方向における位置ｐ１１よりも、焦点ｆのｚ方向における位置ｐｆから離れている。図３６では、第３の形態におけるエッジ１４１と、第１の形態におけるエッジ１４との違いが明確になるように、参考として第１の形態のエッジ１４も示されている。ＸＹ面と面Ｓ１とに垂直な面（図３６においてＺＸ面に対応する面）内において、第１の形態におけるエッジ１４は、エッジ１３に対して同一直線上に並ぶように形成されているが、第３の形態におけるエッジ１４１は、エッジ１３に対して角度β１１だけ傾くように形成されている。したがって、第１の形態の遮蔽部材１２を用いた場合、領域ｒｅ５１に向かうＸ線ビームは遮蔽されるが、第３の形態の遮蔽部材１２１を用いた場合、領域ｒｅ５１に向かうＸ線ビームは遮蔽されることなく、Ｘ線検出器７５に到達することができる。このため、第３の形態の遮蔽部材１２１を用いた場合、エッジ１４１の端点１４１ａの位置を固定した上でエッジ１４１の角度β１１を小さくすることにより半影領域ＰＲ１１の方向２０（ｚ方向）に沿う辺Ｓ１１１（図３５参照）を長くすることができ、一方、エッジ１４１の端点１４１ａの位置を固定した上で角度β１１を大きくすることにより半影領域ＰＲ１１の辺Ｓ１１１を短くすることができる。
次に、エッジ１５１について説明する。
【０１３３】
エッジ１５１は、エッジ１３の他方の端点に接続された一方の端点１５１ａと、当該一方の端点１５１ａとは反対側に位置する他方の端点１５１ｂとを有している。図３６において、エッジ１５１の端点１５１ａおよび１５１ｂのｚ方向における位置は、それぞれ符号「ｐ１２」および「ｐ１２０」で示されている。エッジ１５１の端点１５１ｂのｚ方向における位置ｐ１２０は、エッジ１５１の端点１５１ａのｚ方向における位置ｐ１２よりも、焦点ｆのｚ方向における位置ｐｆから離れている。図３６では、第３の形態におけるエッジ１５１と、第１の形態におけるエッジ１５との違いが明確になるように、参考として第１の形態のエッジ１５も示されている。ＸＹ面と面Ｓ１とに垂直な面（図３６においてＺＸ面に対応する面）内において、第１の形態におけるエッジ１５は、エッジ１３に対して同一直線上に並ぶように形成されているが、第３の形態におけるエッジ１５１は、エッジ１３に対して角度β１２だけ傾くように形成されている。したがって、第１の形態の遮蔽部材１２を用いた場合、領域ｒｅ５２に向かうＸ線ビームは遮蔽されるが、第３の形態の遮蔽部材１２１を用いた場合、領域ｒｅ５２に向かうＸ線ビームは遮蔽されることなく、Ｘ線検出器７５に到達することができる。このため、第３の形態の遮蔽部材１２１を用いた場合、エッジ１５１の端点１５１ａの位置を固定した上でエッジ１５１の角度β１２を小さくすることにより半影領域ＰＲ１２の方向２０（ｚ方向）に沿う辺Ｓ１２１（図３５参照）を長くすることができ、一方、エッジ１５１の端点１５１ａの位置を固定した上で角度β１２を大きくすることにより半影領域ＰＲ１２の辺Ｓ１２１を短くすることができる。
次に、遮蔽部材２２１について説明する。
【０１３４】
遮蔽部材２２１は、エッジ２３、エッジ２４１、およびエッジ２５１を有している。
遮蔽部材２２１のエッジ２３は、第１の形態の遮蔽部材２２のエッジ２３と同じである。しかし、遮蔽部材２２１のエッジ２４１および２５１は、第１の形態の遮蔽部材２２のエッジ２４および２５とは異なっている。そこで、以下では、遮蔽部材２２１のエッジ２３の説明は省略し、エッジ２４１および２５１について具体的に説明する。
【０１３５】
エッジ２４１は、エッジ２３の一方の端点に接続された一方の端点２４１ａと、当該一方の端点２４１ａとは反対側に位置する他方の端点２４１ｂとを有している。図３６において、エッジ２４１の端点２４１ａおよび２４１ｂのｚ方向における位置は、それぞれ符号「ｐ２１」および「ｐ２１０」で示されている。エッジ２４１の端点２４１ｂのｚ方向における位置ｐ２１０は、エッジ２４１の端点２４１ａのｚ方向における位置ｐ２１よりも、焦点ｆのｚ方向における位置ｐｆから離れている。図３６では、第３の形態におけるエッジ２４１と、第１の形態におけるエッジ２４との違いが明確になるように、参考として第１の形態のエッジ２４も示されている。ＸＹ面と面Ｓ１とに垂直な面（図３６においてＺＸ面に対応する面）内において、第１の形態におけるエッジ２４は、エッジ２３に対して同一直線上に並ぶように形成されているが、第３の形態におけるエッジ２４１は、エッジ２３に対して角度β２１だけ傾くように形成されている。したがって、第１の形態の遮蔽部材２２を用いた場合、領域ｒｅ６１に向かうＸ線ビームは遮蔽されるが、第３の形態の遮蔽部材２２１を用いた場合、領域ｒｅ６１に向かうＸ線ビームは遮蔽されることなく、Ｘ線検出器７５に到達することができる。このため、第３の形態の遮蔽部材２２１を用いた場合、エッジ２４１の端点２４１ａの位置を固定した上でエッジ２４１の角度β２１を小さくすることにより半影領域ＰＲ２１の方向２０（ｚ方向）に沿う辺Ｓ２１１（図３５参照）を長くすることができ、一方、エッジ２４１の端点２４１ａの位置を固定した上でエッジ２４１の角度β２１を大きくすることにより半影領域ＰＲ２１の辺Ｓ２１１を短くすることができる。
次に、エッジ２５１について説明する。
【０１３６】
エッジ２５１は、エッジ２３の他方の端点に接続された一方の端点２５１ａと、当該一方の端点２５１ａとは反対側に位置する他方の端点２５１ｂとを有している。図３６において、エッジ２５１の端点２５１ａおよび２５１ｂのｚ方向における位置は、それぞれ符号「ｐ２２」および「ｐ２２０」で示されている。エッジ２５１の端点２５１ｂのｚ方向における位置ｐ２２０は、エッジ２５１の端点２５１ａのｚ方向における位置ｐ２２よりも、焦点ｆのｚ方向における位置ｐｆから離れている。図３６では、第３の形態におけるエッジ２５１と、第１の形態におけるエッジ２５との違いが明確になるように、参考として第１の形態のエッジ２５も示されている。ＸＹ面と面Ｓ１とに垂直な面（図３６においてＺＸ面に対応する面）内において、第１の形態におけるエッジ２５は、エッジ２３に対して同一直線上に並ぶように形成されているが、第３の形態におけるエッジ２５１は、エッジ２３に対して角度β２２だけ傾くように形成されている。したがって、第１の形態の遮蔽部材２２を用いた場合、領域ｒｅ６２に向かうＸ線ビームは遮蔽されるが、第３の形態の遮蔽部材２２１を用いた場合、領域ｒｅ６２に向かうＸ線ビームは遮蔽されることなく、Ｘ線検出器７５に到達することができる。このため、第３の形態の遮蔽部材２２１を用いた場合、エッジ２５１の端点２５１ａの位置を固定した上でエッジ２５１の角度β２１を小さくすることにより半影領域ＰＲ２２の方向２０（ｚ方向）に沿う辺Ｓ２２１（図３５参照）を長くすることができ、一方、エッジ２５１の端点２５１ａの位置を固定した上でエッジ２５１の角度β２１を大きくすることにより半影領域ＰＲ２２の辺Ｓ２２１を短くすることができる。
【０１３７】
第３の形態では、角度β１１、β１２、β２１、およびβ２２は、β１１＝β１２＝β２１＝β２２を満たしている。しかし、角度β１１、β１２、β２１、およびβ２２の少なくとも一つの角度が、他の角度とは異なる値を有することも可能である。
【０１３８】
また、エッジ１３および２３は方向４０に平行である。したがって、エッジ１３と２３との間のアパーチャ幅Ｗ１は、エッジ１３および２３の全長に渡って同じ値を有している。しかし、エッジ１４１と２４１との間のアパーチャ幅Ｗ２は、焦点ｆから離れるに従って大きい値を有している。同様に、エッジ１５１と２５１との間のアパーチャ幅Ｗ３も、焦点ｆから離れるに従って大きい値を有している。
【０１３９】
第３の形態では、遮蔽部材１２１のエッジ１４１および１５１の角度β＝β１１およびβ＝β１２（図３６参照）の値に基づいて、半影領域ＰＲ１１の辺Ｓ１１１および半影領域ＰＲ１２の辺Ｓ１２１を所望の長さに設定することができる。同様に、遮蔽部材２２１のエッジ２４１および２５１の角度β＝β２１およびβ＝β２２（図３６参照）の値に基づいて、半影領域ＰＲ２１の辺Ｓ２１１および半影領域ＰＲ２２の辺Ｓ２２１を所望の長さに設定することができる。
【符号の説明】
【０１４０】
１  アパーチャ
９  操作コンソール
１０、２０  ゲート部材
１１、２１  支持部材
１２、２２  遮蔽部材
１３、１４、１５、２３、２４、２５  エッジ
１３ａ、１３ｂ、１４ａ、１４ｂ、１５ａ、１５ｂ、２３ａ、２３ｂ、２３ａ、２３ｂ、２４ａ、２４ｂ、２５ａ、２５ｂ  端点
１４ｃ、１５ｃ  延長部分
７０  Ｘ線ＣＴ装置
７１  ガントリ
７２  Ｘ線管
７３  第１のコリメータ
７４  第２のコリメータ
７５  Ｘ線検出器
７６  データ収集部
７７  回転部
７８  高電圧電源
７９  コリメータ駆動装置
８０  回転駆動装置
８１  撮影テーブル
８２  クレードル
８３  駆動装置
８４  制御部
９１  入力装置
９２  表示装置
９３  記憶装置
９４  演算処理装置
７５１、７５２、７５３、７５４  角部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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