(57)【要約】【課題】所望の部位にレーザ光を確実に照射することが可能なレーザ治療装置、及びその制御方法を提供する。【解決手段】レーザ治療装置は、照射系と、波面変更部と、制御部とを含む。照射系は、光源からの治療用レーザ光を出力する。波面変更部は、照射系により出力された治療用レーザ光の波面を変更し、波面が変更された治療用レーザ光を患者眼に導く。制御部は、波面変更部を制御する。【選択図】図１
2019010132.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの治療用レーザ光を出力する照射系と、
前記照射系により出力された前記治療用レーザ光の波面を変更し、波面が変更された前記治療用レーザ光を患者眼に導く波面変更部と、
前記波面変更部を制御する制御部と、
を含むレーザ治療装置。
【請求項２】
前記患者眼に光を投射し、前記患者眼からの戻り光を受光する光学系を含み、
前記制御部は、前記光学系により受光された前記戻り光の受光結果に基づいて前記波面変更部を制御する
ことを特徴とする請求項１に記載のレーザ治療装置。
【請求項３】
前記光学系は、
前記戻り光から複数の集束光を生成するレンズアレイと、
前記レンズアレイにより生成された前記複数の集束光を受光するエリアセンサと、
を含み、
前記エリアセンサによる前記複数の集束光の受光結果に基づいて前記患者眼からの戻り光の波面収差を求める波面収差算出部を含み、
前記制御部は、前記波面収差算出部により求められた前記波面収差に基づいて前記波面変更部を制御する
ことを特徴とする請求項２に記載のレーザ治療装置。
【請求項４】
前記光学系は、光源からの光を参照光と測定光とに分割し、前記測定光を前記患者眼に照射し、前記患者眼からの前記測定光の戻り光と前記参照光との干渉光を検出する干渉光学系を含み、
前記干渉光学系による前記干渉光の検出結果に基づいて前記干渉光の強度を求める干渉強度算出部を含み、
前記制御部は、前記干渉強度算出部により求められた前記干渉光の強度に基づいて前記波面変更部を制御する
ことを特徴とする請求項２に記載のレーザ治療装置。
【請求項５】
前記干渉光学系により得られた前記干渉光の検出結果に基づいて前記患者眼の断層像を形成する画像形成部を含む
ことを特徴とする請求項４に記載の眼科装置。
【請求項６】
光源からの光を参照光と測定光とに分割し、前記測定光を前記患者眼に照射し、前記患者眼からの前記測定光の戻り光と前記参照光との干渉光を検出する干渉光学系と、
前記干渉光学系により得られた前記干渉光の検出結果に基づいて前記患者眼の断層像を形成する画像形成部と
を含む
ことを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載の眼科装置。
【請求項７】
前記患者眼の正面画像及び前記断層像に対して前記治療用レーザ光の照射目標位置を指定するための指定部を含み、
前記制御部は、前記指定部により指定された前記照射目標位置に基づいて、前記治療用レーザ光の照射位置を制御する
ことを特徴とする請求項５又は請求項６に記載のレーザ治療装置。
【請求項８】
前記治療用レーザ光を偏向する光スキャナを含み、
前記制御部は、前記光スキャナを制御することにより前記治療用レーザ光が進行する第１方向に交差する第２方向に当該治療用レーザ光の照射位置を変更する
ことを特徴とする請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載のレーザ治療装置。
【請求項９】
前記波面変更部は、前記光スキャナより前記光源の側に配置されている
ことを特徴とする請求項８に記載のレーザ治療装置。
【請求項１０】
前記光スキャナより前記患者眼の側に配置された視度補正部を含み、
前記制御部は、前記患者眼の屈折力に応じて前記視度補正部を制御することにより眼底共役位置を変更する
ことを特徴とする請求項８又は請求項９に記載のレーザ治療装置。
【請求項１１】
前記制御部は、前記波面変更部を制御することにより前記治療用レーザ光の焦点位置、及び前記治療用レーザ光が進行する第１方向に交差する第２方向における当該治療用レーザ光の照射位置の少なくとも１つを変更する
ことを特徴とする請求項１〜請求項１０のいずれか一項に記載のレーザ治療装置。
【請求項１２】
前記波面変更部は、可変形状ミラーを含む
ことを特徴とする請求項１〜請求項１１のいずれか一項に記載のレーザ治療装置。
【請求項１３】
光源から治療用レーザ光を出力する照射ステップと、
患者眼に光を投射し、前記患者眼からの戻り光の受光結果に基づいて、前記照射ステップにおいて出力された前記治療用レーザ光の波面を変更し、波面が変更された前記治療用レーザ光を患者眼に導く波面変更ステップと、
を含むレーザ治療装置の制御方法。
【請求項１４】
前記患者眼からの戻り光の波面収差を測定する波面収差測定ステップを含み、
前記波面変更ステップは、前記波面収差測定ステップにおいて測定された前記波面収差に基づいて前記治療用レーザ光の波面を変更する
ことを特徴とする請求項１３に記載のレーザ治療装置の制御方法。
【請求項１５】
光コヒーレンストモグラフィを用いて取得された前記患者眼からの測定光の戻り光と参照光との干渉光の強度を特定する干渉強度特定ステップを含み、
前記波面変更ステップは、前記干渉強度特定ステップにおいて特定された前記干渉光の強度に基づいて前記治療用レーザ光の波面を変更する
ことを特徴とする請求項１３に記載のレーザ治療装置の制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、眼科分野で用いられるレーザ治療装置、及びその制御方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
眼科用のレーザ治療装置は、眼の組織の光凝固や光切除などに用いられる。従来のレーザ治療装置では、スリットランプ顕微鏡や手術用顕微鏡などの観察装置を用いて眼の正面画像を観察しつつレーザ光の照準を合わせている。近年、眼の断層像を取得可能な光コヒーレンストモグラフィ装置（ＯＣＴ）装置が組み込まれたレーザ治療装置も登場している。
【０００３】
例えば、特許文献１には、ＯＣＴ装置が組み込まれたレーザ治療装置において、患者眼にレーザ光を照射するための照射光学系の光路と干渉光学系の光路とを実質的に同軸に配置することにより、患者眼の照射目標部位の断層計測を確実に行うようにしたものが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１５−０５８１５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
レーザ治療装置では、レーザ光を十分に集光できない場合、照射目標部位の周辺にもレーザ光が照射されてしまう。例えば、照射目標部位を網膜色素上皮層とした場合、網膜色素上皮層以外の部位にもレーザ光が照射され、網膜色素上皮層以外の部位の組織に対してダメージを与えてしまう可能性がある。特に、照射目標部位が網膜中心窩の付近である場合、錐体にダメージを与える可能性があり、レーザ治療そのものが不可能になる。
【０００６】
また、この種のレーザ治療では複数回のレーザ光の照射が必要であるため、照射目標部位以外の部位における組織へのダメージがより一層大きくなることが懸念される。
【０００７】
更に、レーザ光を照射するための照射光学系の光軸から照射目標部位が離れている場合、収差による影響が大きくなり、レーザ光や照準光を当該照射目標部位に照射することがより一層難しくなる。
【０００８】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、所望の部位にレーザ光を確実に照射することが可能なレーザ治療装置、及びその制御方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
実施形態に係る第１態様は、光源からの治療用レーザ光を出力する照射系と、前記照射系により出力された前記治療用レーザ光の波面を変更し、波面が変更された前記治療用レーザ光を患者眼に導く波面変更部と、前記波面変更部を制御する制御部と、を含むレーザ治療装置である。
【００１０】
また、実施形態に係る第２態様は、第１態様において、前記患者眼に光を投射し、前記患者眼からの戻り光を受光する光学系を含み、前記制御部は、前記光学系により受光された前記戻り光の受光結果に基づいて前記波面変更部を制御してもよい。
【００１１】
また、実施形態に係る第３態様では、第２態様において、前記光学系は、前記戻り光から複数の集束光を生成するレンズアレイと、前記レンズアレイにより生成された前記複数の集束光を受光するエリアセンサと、を含み、前記エリアセンサによる前記複数の集束光の受光結果に基づいて前記患者眼からの戻り光の波面収差を求める波面収差算出部を含み、前記制御部は、前記波面収差算出部により求められた前記波面収差に基づいて前記波面変更部を制御してもよい。
【００１２】
また、実施形態に係る第４態様では、第２態様において、前記光学系は、光源からの光を参照光と測定光とに分割し、前記測定光を前記患者眼に照射し、前記患者眼からの前記測定光の戻り光と前記参照光との干渉光を検出する干渉光学系を含み、前記干渉光学系による前記干渉光の検出結果に基づいて前記干渉光の強度を求める干渉強度算出部を含み、前記制御部は、前記干渉強度算出部により求められた前記干渉光の強度に基づいて前記波面変更部を制御してもよい。
【００１３】
また、実施形態に係る第５態様は、第４態様において、前記干渉光学系により得られた前記干渉光の検出結果に基づいて前記患者眼の断層像を形成する画像形成部を含んでもよい。
【００１４】
また、実施形態に係る第６態様は、第１態様〜第３態様のいずれかにおいて、光源からの光を参照光と測定光とに分割し、前記測定光を前記患者眼に照射し、前記患者眼からの前記測定光の戻り光と前記参照光との干渉光を検出する干渉光学系と、前記干渉光学系により得られた前記干渉光の検出結果に基づいて前記患者眼の断層像を形成する画像形成部とを含んでもよい。
【００１５】
また、実施形態に係る第７態様は、第５態様又は第６態様において、  前記患者眼の正面画像及び前記断層像に対して前記治療用レーザ光の照射目標位置を指定するための指定部を含み、前記制御部は、前記指定部により指定された前記照射目標位置に基づいて、前記治療用レーザ光の照射位置を制御してもよい。
【００１６】
また、実施形態に係る第８態様は、第１態様〜第７態様のいずれかにおいて、前記治療用レーザ光を偏向する光スキャナを含み、前記制御部は、前記光スキャナを制御することにより前記治療用レーザ光が進行する第１方向に交差する第２方向に当該治療用レーザ光の照射位置を変更してもよい。
【００１７】
また、実施形態に係る第９態様は、第８態様において、前記波面変更部は、前記光スキャナより前記光源の側に配置されていてもよい。
【００１８】
また、実施形態に係る第１０態様は、第８態様又は第９態様において、前記光スキャナより前記患者眼の側に配置された視度補正部を含み、前記制御部は、前記患者眼の屈折力に応じて前記視度補正部を制御することにより眼底共役位置を変更してもよい。
【００１９】
また、実施形態に係る第１１態様は、第１態様〜第１０態様のいずれかにおいて、前記制御部は、前記波面変更部を制御することにより前記治療用レーザ光の焦点位置、及び前記治療用レーザ光が進行する第１方向に交差する第２方向における当該治療用レーザ光の照射位置の少なくとも１つを変更してもよい。
【００２０】
また、実施形態に係る第１２態様では、第１態様〜第１１態様のいずれかにおいて、前記波面変更部は、可変形状ミラーを含んでもよい。
【００２１】
実施形態に係る第１３態様は、光源から治療用レーザ光を出力する照射ステップと、患者眼に光を投射し、前記患者眼からの戻り光の受光結果に基づいて、前記照射ステップにおいて出力された前記治療用レーザ光の波面を変更し、波面が変更された前記治療用レーザ光を患者眼に導く波面変更ステップと、を含むレーザ治療装置の制御方法である。
【００２２】
また、実施形態に係る第１４態様は、第１３態様において、前記患者眼からの戻り光の波面収差を測定する波面収差測定ステップを含み、前記波面変更ステップは、前記波面収差測定ステップにおいて測定された前記波面収差に基づいて前記治療用レーザ光の波面を変更してもよい。
【００２３】
また、実施形態に係る第１５態様は、第１３態様において、光コヒーレンストモグラフィを用いて取得された前記患者眼からの測定光の戻り光と参照光との干渉光の強度を特定する干渉強度特定ステップを含み、前記波面変更ステップは、前記干渉強度特定ステップにおいて特定された前記干渉光の強度に基づいて前記治療用レーザ光の波面を変更してもよい。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、所望の部位にレーザ光を確実に照射することが可能なレーザ治療装置、及びその制御方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】実施形態に係るレーザ治療装置の構成例を示す概略図である。
【図２】実施形態に係るレーザ治療装置の動作例を示す概略図である。
【図３】実施形態に係るレーザ治療装置の動作を説明するための概略図である。
【図４】実施形態に係るレーザ治療装置の構成例を示す概略図である。
【図５】実施形態に係るレーザ治療装置の構成例を示す概略図である。
【図６】実施形態に係るレーザ治療装置の動作を説明するための概略図である。
【図７】実施形態に係るレーザ治療装置の動作を説明するための概略図である。
【図８】実施形態に係るレーザ治療装置の動作を説明するための概略図である。
【図９】実施形態に係るレーザ治療装置の構成例を示す概略図である。
【図１０】実施形態に係るレーザ治療装置の構成例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
この発明に係るレーザ治療装置、及びその制御方法の実施形態の一例について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、実施形態において、この明細書において引用されている文献に記載された技術を任意に援用することが可能である。
【００２７】
以下の実施形態では、レーザ治療装置に搭載されている装置光学系から患者に向かう方向を「Ｚ方向」とする。また、Ｚ方向に直交する水平方向を「Ｘ方向」とする。さらに、Ｘ方向とＺ方向の双方に直交する方向を「Ｙ方向」とする。
【００２８】
［構成］
図１に、実施形態に係るレーザ治療装置の構成の概要を表す機能ブロック図を示す。レーザ治療装置１は、装置光学系１００と、制御ユニット２００とを含む。装置光学系１００は、レーザ光を患者眼Ｅに照射するための光学系を含む。制御ユニット２００は、レーザ治療装置１の各部を制御する。
【００２９】
レーザ治療装置１には、データ処理ユニット２１０と、操作ユニット２２０と、表示ユニット２３０とが設けられていてもよい。制御ユニット２００は、データ処理ユニット２１０、操作ユニット２２０、及び表示ユニット２３０を制御する。また、レーザ治療装置１には、更に、後述の画像形成ユニットが設けられていてもよい。この場合、制御ユニット２００は、画像形成ユニットを制御することが可能である。
【００３０】
装置光学系１００は、照明光学系１０と、観察光学系２０と、走査光学系３０と、波面補正光学系４０と、照射光学系５０と、測定光学系６０とを含む。装置光学系１００の観察系は、例えば、照明光学系１０と観察光学系２０とを含む。
【００３１】
装置光学系１００は、上記の光学系の光路を分離したり他の光学系と結合したりするための光路結合分離部材としての光学素子を含む。図１では、光路結合分離部材として、例えば、ビームスプリッタＭ１、穴あきミラーＭ２、反射ミラーＭ３、ビームスプリッタＭ４が設けられている。
【００３２】
ビームスプリッタＭ１は、観察系の光路とそれ以外の光学系の光路とを結合したり、患者眼Ｅからの戻り光の光路を観察系の光路とそれ以外の光学系の光路とに分離したりする。ビームスプリッタＭ１は、観察系からの光を透過し、それ以外の光学系（測定光学系６０又は照射光学系５０）からの光を反射する特性を有する。ビームスプリッタＭ１は、観察系の光軸がそれ以外の光学系の光軸と略同軸になるように、これら光学系を結合することが望ましい。
【００３３】
（観察系）
装置光学系１００における観察系は、上記のように、照明光学系１０と、観察光学系２０とを含む。照明光学系１０は、患者眼Ｅの眼底Ｅｆを照明する。照明光学系１０は、照明光源やレンズなどを含む。観察光学系２０は、照明光学系１０により照明されている眼底Ｅｆを観察するために用いられる。
【００３４】
穴あきミラーＭ２は、照明光学系１０の光路と観察光学系２０の光路とを結合する。穴あきミラーＭ２は、照明光学系１０の光軸が観察光学系２０の光軸と略同軸になるように双方の光学系を結合することが望ましい。穴あきミラーＭ２に形成されている穴部は、例えば、後述のように患者眼Ｅの瞳と光学的に略共役な位置に配置される。照明光学系１０からの眼底照明光は、穴あきミラーＭ２に形成されている穴部の周辺部で反射され、患者眼Ｅの眼底Ｅｆに導かれる。眼底Ｅｆからの眼底照明光の戻り光は、穴あきミラーＭ２に形成されている穴部を通過し、観察光学系２０に導かれる。観察光学系２０は、接眼レンズ及び撮像素子の少なくとも一方を含む。接眼レンズは、眼底Ｅｆの肉眼観察に用いられる。撮像素子は、眼底Ｅｆの正面画像の取得に用いられる。撮像素子を用いて取得された画像は、撮像素子からの信号を受けた制御ユニット２００が表示ユニット２３０を制御することによって図示しない表示部等に表示される。
【００３５】
（測定光学系）
測定光学系６０は、患者眼Ｅに光を投射し、患者眼Ｅからの戻り光を受光する光学系である。このような測定光学系６０は、波面測定光学系及び干渉光学系の少なくとも一方を含む。波面測定光学系は、患者眼Ｅからの戻り光を受光し、受光された戻り光の波面収差を測定するために用いられる。干渉光学系は、光源からの光を測定光と参照光とに分割し、測定光の患者眼Ｅ（眼底Ｅｆ）からの戻り光と参照光とを重ね合わせて得られる干渉光を検出手段に導く。この場合、レーザ治療装置１において、例えばスウェプトソースタイプ又はスペクトラルドメインタイプのＯＣＴが適用される。
【００３６】
制御ユニット２００は、測定光学系６０により得られた患者眼Ｅからの戻り光の受光結果に基づいて波面補正光学系４０を制御することが可能である。例えば、制御ユニット２００は、照射目標位置に基づいて波面補正光学系４０を制御する。それにより、レーザ光（治療用レーザ光）の焦点位置を所望の照射位置の近傍に配置することが可能になる。また、例えば、制御ユニット２００は、波面測定光学系を用いて得られた波面収差の算出結果に基づいて波面補正光学系４０を制御する。それにより、眼底Ｅｆの形状に合わせて波面補正光学系４０を制御することが可能になる。
【００３７】
また、制御ユニット２００は、干渉光学系により得られた干渉光の検出結果に基づいて波面補正光学系４０を制御することが可能である。この場合、制御ユニット２００は、干渉光の検出結果に基づいて形成された断層像において指定された位置がレーザ光の照射目標位置になるように波面補正光学系４０を制御する。また、制御ユニット２００は、干渉光の検出結果に基づいて特定された干渉光（干渉信号）の強度に基づいて波面補正光学系４０を制御することが可能である。
【００３８】
（照射光学系）
照射光学系５０は、治療用レーザ光を眼底Ｅｆに照射する。治療用レーザ光は、眼底Ｅｆのレーザ治療（光凝固、光切除等）に用いられる。照射光学系５０には、治療用レーザ光を出力する治療用レーザ光源が設けられていてもよい。治療用レーザ光源は、その用途に応じて可視レーザ光でも不可視レーザ光でもよい。治療用レーザ光源は、制御ユニット２００により制御される。
【００３９】
照射光学系５０は、治療用レーザ光（照射光）の照準を合わせるための照準光を眼底Ｅｆに照射する機能を有していてもよい。照射光学系５０には、照準光を出力する照準光源が設けられていてもよい。例えば、眼底Ｅｆを肉眼で観察しつつ照準を合わせる構成が適用される場合、術者眼により認識可能な可視光を発する光源（レーザ光源、発光ダイオード等）が照準光源として用いられる。また、眼底Ｅｆの撮影画像を観察しつつ照準を合わせる構成が適用される場合、撮影画像を取得するための撮像素子が感度を有する波長帯の光を発する光源（レーザ光源、発光ダイオード等）が照準光源として用いられる。照準光源の動作は、制御ユニット２００により制御される。
【００４０】
例えば、照射光学系５０から出力された治療用レーザ光（又は照準光）は、後述の制御ユニット２００による制御を受けた走査光学系３０により、所定の照射パターンに従って眼底Ｅｆに照射される。治療用レーザ光の照射パターンには様々な条件（照射条件）がある。治療用レーザ光の投影像（つまり眼底Ｅｆに対する治療用レーザ光の照射範囲）をスポットと呼ぶ。照射条件としては、複数のスポットの配列（配列条件）、配列のサイズ（配列サイズ条件）、配列の向き（配列方向条件）、各スポットのサイズ（スポットサイズ条件）、スポットの間隔（スポット間隔条件）、スポットの個数（スポット数条件）などがある。
【００４１】
配列条件は、複数のスポットがどのように配列されているかを示す条件である。配列条件には、例えば、特許文献１に記載されているように、円状配列、楕円状配列、矩形状配列、弧状配列、直線状配列、円板状配列、楕円板状配列、矩形板状配列、扇形板状配列、幅のある円状配列（円環状配列）、幅のある弧状配列（円環状配列の一部：部分円環状配列）、幅のある直線状配列（帯状配列）などがある。また、ユーザが任意に配列を設定できるように構成することも可能である。また、２以上の配列を組み合わせて使用することも可能である。配列条件は、走査光学系３０の制御に用いられる。また、配列条件は、波面補正光学系４０の制御に用いられてもよい。
【００４２】
ビームスプリッタＭ４は、測定光学系６０の光路と照射光学系５０の光路とを結合したり、患者眼Ｅからの戻り光の光路から測定光学系６０の光路を分離したりする。ビームスプリッタＭ４は、測定光学系６０の光軸が照射光学系５０の光軸と略同軸になるように双方の光学系を結合することが望ましい。測定光学系６０からの光は、ビームスプリッタＭ４を透過し、波面補正光学系４０と走査光学系３０とを経由し、患者眼Ｅに導かれる。照射光学系５０からの光（治療用レーザ光や照準光）は、ビームスプリッタＭ４により反射され、波面補正光学系４０と走査光学系３０とを経由し、患者眼Ｅに導かれる。測定光学系６０からの光の患者眼Ｅからの戻り光は、ビームスプリッタＭ４を透過し、測定光学系６０において受光される。照射光学系５０からの照準光の患者眼Ｅからの戻り光は、ビームスプリッタＭ１を透過し、観察光学系２０に入射する。
【００４３】
（波面補正光学系）
波面補正光学系４０は、少なくとも照射光学系５０からの光の波面を変更し、波面が変更された光を患者眼Ｅに導く。このような波面補正光学系４０は、可変形状ミラーを含む。波面補正光学系４０は、制御ユニット２００からの制御を受け、少なくとも照射光学系５０からの光の波面を変更することが可能である。それにより、照射光学系５０からの光の患者眼Ｅにおける焦点位置が少なくともＺ方向に変更される。波面補正光学系４０は、波面を操作する波面操作光学系、波面を変更する波面変更光学系、又は波面を制御する波面制御光学系の一例である。なお、波面補正光学系４０は、測定光学系６０からの光の波面を変更し、波面が変更された光を患者眼Ｅに導いてもよい。
【００４４】
（走査光学系）
走査光学系３０は、波面補正光学系４０により波面が補正された光を偏向し、偏向された光を患者眼Ｅに導く。このような走査光学系３０は、ガルバノミラー等の光スキャナを含む。走査光学系３０は、制御ユニット２００からの制御を受け、波面補正光学系４０により波面が補正された光を偏向することが可能である。それにより、照射光学系５０からの光の患者眼Ｅにおける照射位置がＸ方向及びＹ方向の少なくとも１つの方向に変更される。
【００４５】
走査光学系３０により偏向された光は、反射ミラーＭ３により反射され、ビームスプリッタＭ１に導かれる。ビームスプリッタＭ１に導かれてきた光は、ビームスプリッタＭ１により患者眼Ｅに向けて反射される。
【００４６】
制御ユニット２００は、制御部と、記憶部とを含む。制御部の機能は、例えばプロセッサにより実現される。この明細書において、プロセッサは、例えば、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）、ＧＰＵ（Ｇｒａｐｈｉｃｓ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）、ＡＳＩＣ（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ  Ｓｐｅｃｉｆｉｃ  Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔ）、プログラマブル論理デバイス（例えば、ＳＰＬＤ（Ｓｉｍｐｌｅ  Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ  Ｌｏｇｉｃ  Ｄｅｖｉｃｅ）、ＣＰＬＤ（Ｃｏｍｐｌｅｘ  Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ  Ｌｏｇｉｃ  Ｄｅｖｉｃｅ）、ＦＰＧＡ（Ｆｉｅｌｄ  Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ  Ｇａｔｅ  Ａｒｒａｙ））等の回路により実現される。記憶部には、レーザ治療装置１を制御するためのコンピュータプログラムがあらかじめ格納される。このコンピュータプログラムには、各種の光源制御用プログラム、波面補正制御用プログラム、走査光学系制御用プログラム、各種の検出器制御用プログラム、画像形成用プログラム、データ処理用プログラム及びユーザインターフェイス用プログラムなどが含まれる。このようなコンピュータプログラムに従って制御部が動作することにより、制御ユニット２００は制御処理を実行する。
【００４７】
データ処理ユニット２１０は、制御ユニット２００からの制御を受け、装置光学系１００を用いて得られた受光結果に対して各種のデータ処理（画像処理）や解析処理を施す。例えば、データ処理ユニット２１０は、画像の輝度補正や分散補正等の補正処理を実行する。また、データ処理ユニット２１０は、眼底像や前眼部像や断層像に対して各種の画像処理や解析処理を施す。データ処理ユニット２１０は、断層像の間の画素を補間する補間処理などの公知の画像処理を実行することにより、患者眼Ｅのボリュームデータ（ボクセルデータ）を形成することができる。ボリュームデータに基づく画像を表示させる場合、データ処理ユニット２１０は、このボリュームデータに対してレンダリング処理を施して、特定の視線方向から見たときの擬似的な３次元画像を形成する。
【００４８】
データ処理ユニット２１０は、制御ユニット２００と同様に、制御部と、記憶部とを含み、記憶部にあらかじめ格納されたコンピュータプログラムに従って制御部が動作することにより、データ処理ユニット２１０はデータ処理を実行する。
【００４９】
操作ユニット２２０は、レーザ治療装置１に対してユーザが指示を入力するために使用される。操作ユニット２２０は、コンピュータに用いられる公知の操作デバイスを含んでよい。例えば、操作ユニット２２０は、マウスやタッチパッドやトラックボール等のポインティングデバイスを含んでよい。また、操作ユニット２２０は、キーボードやペンタブレット、専用の操作パネルなどを含んでよい。
【００５０】
表示ユニット２３０は、液晶ディスプレイなどの表示部を備え、制御ユニット２００からの制御を受け、画像などの各種情報を表示する。表示ユニット２３０と操作ユニット２２０は、それぞれ個別のユニットとして構成される必要はない。例えばタッチパネルのように、表示機能と操作機能とが一体化されたデバイスを用いることも可能である。
【００５１】
レーザ治療装置１には、装置光学系１００を３次元的に移動する光学系移動部（図示せず）が設けられている。それにより、患者眼Ｅと装置光学系１００とを相対的に移動することが可能である。光学系移動部は、図１に示す装置光学系１００のうち一部の光学系だけを移動するものであってもよい。光学系移動部には、移動対象の光学系（例えば、装置光学系１００）を保持する保持部材と、この保持部材を移動するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構とが設けられる。アクチュエータは、例えばパルスモータにより構成される。伝達機構は、例えば歯車の組み合わせやラック・アンド・ピニオンなどによって構成される。制御ユニット２００は、光学系移動部を制御して、装置光学系１００に設けられた光学系を３次元的に移動させることができる。例えば、この制御は、アライメントやトラッキングにおいて用いられる。トラッキングとは、患者眼Ｅの運動に合わせて装置光学系１００を移動させるものである。トラッキングを行う場合には、事前にアライメントとピント合わせが実行される。トラッキングは、患者眼Ｅを動画撮影して得られる画像に基づき患者眼Ｅの位置や向きに合わせて装置光学系をリアルタイムで移動させることにより、アライメントとピントが合った好適な位置関係を維持する機能である。
【００５２】
［動作例］
図２に、実施形態に係るレーザ治療装置１の動作例を示す。制御ユニット２００の記憶部には、図２に示す処理を実現するためのコンピュータプログラムが記憶されている。制御ユニット２００の制御部は、このコンピュータプログラムに従って動作することにより、図２に示す処理を実行する。
【００５３】
（Ｓ１）
まず、制御ユニット２００は、光学系移動部を制御し、装置光学系１００を初期位置に移動させる。その後、制御ユニット２００は、患者眼Ｅに対して装置光学系１００の位置合わせを行うためのアライメントの実行を制御する。
【００５４】
制御ユニット２００は、観察系を用いて取得された患者眼Ｅの眼底像（眼底Ｅｆの正面画像）を表示ユニット２３０の表示部に表示させ、操作ユニット２２０を用いてユーザにより指定された方向に装置光学系１００を移動するように光学系移動部を制御することが可能である。この場合、観察光学系２０は、照明光学系１０により照明されている患者眼Ｅの正面画像を取得する。
【００５５】
また、制御ユニット２００は、図示しない前眼部撮影系により得られた患者眼Ｅの前眼部像を表示ユニット２３０の表示部に表示させ、操作ユニット２２０を用いてユーザにより指定された方向に装置光学系１００を移動するように光学系移動部を制御してもよい。
【００５６】
また、制御ユニット２００は、図示しないアライメント光源からの光を患者眼Ｅに投射し、その戻り光に対応した像に基づいて光学系移動部を制御することにより、患者眼Ｅに対する装置光学系１００の位置合わせを実行してもよい。
【００５７】
また、制御ユニット２００は、図示しない２以上のカメラを用いて互いに異なる方向から患者眼Ｅの前眼部を撮影し、視差が設けられた２以上の画像から患者眼Ｅの位置を特定し、特定された患者眼Ｅの位置に基づいて光学系移動部を制御することにより、患者眼Ｅに対する装置光学系１００の位置合わせを実行してもよい。
【００５８】
制御ユニット２００は、アライメント完了後に、ピント調整を行い、トラッキングを開始させることが可能である。
【００５９】
制御ユニット２００は、観察系により得られた眼底像の合焦状態（ぼけ具合）を特定し、特定された合焦状態が所望の合焦状態となるように装置光学系１００等を移動させることでピント調整を行うことが可能である。また、制御ユニット２００は、２以上のカメラを用いて互いに異なる方向から前眼部を撮影し、視差が設けられた２以上の画像から合焦状態を特定し、特定された合焦状態が所望の合焦状態となるように装置光学系１００のＺ方向の移動量を求めてもよい。
【００６０】
また、制御ユニット２００は、観察系を用いて患者眼Ｅの画像を反復的に取得し、所定のタイミングで取得された画像中の特徴部位を特定し、特定された特徴部位の位置が変更したときのずれ量がキャンセルされるように光学系移動部を制御することによりトラッキングを行うことが可能である。
【００６１】
（Ｓ２）
次に、制御ユニット２００は、測定光学系６０を制御して、患者眼Ｅの測定を開始させる。測定光学系６０は、患者眼Ｅに光を投射し、患者眼Ｅからの戻り光を受光する。測定光学系６０が波面測定光学系を含む場合、測定光学系６０は、例えば戻り光を分割することにより得られた多数の光束をシャックハルトマンセンサにより検出する。測定光学系６０が干渉光学系を含む場合、測定光学系６０は、例えば戻り光と参照光と干渉させることにより得られた干渉光を検出する。
【００６２】
（Ｓ３）
続いて、制御ユニット２００は、ステップＳ２において得られた戻り光の受光結果に基づいて波面補正光学系４０に対する補正量（波面収差補正量、制御量）をデータ処理ユニット２１０に算出させる。
【００６３】
データ処理ユニット２１０は、治療用レーザ光の所定の照射目標位置とステップＳ２において取得された戻り光の受光結果とに基づいて当該補正量を算出することが可能である。例えば、取得された戻り光の受光結果から、照射目標位置のＺ位置（基準位置に対するＺ方向の位置）に対する補正量が算出される。照射目標位置は、あらかじめ決められた照射目標位置、又は操作ユニット２２０を用いて指定された照射目標位置であってよい。
【００６４】
データ処理ユニット２１０におけるデータ処理の内容は、測定光学系６０により得られる測定結果に対応する。測定光学系６０が波面測定光学系を含む場合、データ処理ユニット２１０は、例えば、測定光学系６０により得られた測定結果に基づいて公知の手法により波面収差を算出する。更に、データ処理ユニット２１０は、照射目標位置のＺ位置にレーザ光の焦点位置が一致するように、算出された波面収差から波面補正光学系４０に対する補正量を求める。レーザ光の焦点位置は、例えば、装置光学系１００と患者眼Ｅとの位置関係やあらかじめ測定されたレーザ光のビーム形状から特定される。また、レーザ光の焦点位置は、光線追跡処理等の公知の処理により特定されてもよい。
【００６５】
測定光学系６０が干渉光学系を含む場合、データ処理ユニット２１０又は後述の画像形成ユニット２４０は、測定光学系６０により得られた測定結果に基づいて、断層像を形成する。データ処理ユニット２１０は、形成された断層像においてあらかじめ決められた照射目標位置、又は操作ユニット２２０を用いて断層像中で指定された照射目標位置に対応した波面補正光学系４０に対する補正量を求める。この場合、データ処理ユニット２１０は、断層像中のＺ方向の照射目標位置に対応して波面補正光学系４０に対する補正量があらかじめ設定されたテーブル情報を記憶し、当該テーブル情報に基づいて補正量を求めることが可能である。
【００６６】
また、測定光学系６０が干渉光学系を含む場合、データ処理ユニット２１０は、例えば、測定光学系６０により得られた測定結果に基づいて、干渉光を検出することにより得られた干渉信号（検出結果）の強度を求めてもよい。データ処理ユニット２１０は、干渉光の検出結果に対して公知の処理を施すことにより干渉信号の強度（干渉光の強度）を求めることが可能である。更に、データ処理ユニット２１０は、求められた干渉信号の強度から波面補正光学系４０に対する補正量を求めてもよい。この場合、データ処理ユニット２１０は、干渉信号の強度に対応して波面補正光学系４０に対する補正量があらかじめ設定されたテーブル情報を記憶し、当該テーブル情報に基づいて補正量を求めることが可能である。
【００６７】
（Ｓ４）
制御ユニット２００は、レーザ光照射制御を行う。レーザ光照射制御には、レーザ出力制御、波面補正制御、走査制御が含まれる。制御ユニット２００は、照射光学系５０に含まれるレーザ照射光源を制御することにより所定の出力条件でレーザ光を出力させるレーザ光照射制御を行う。制御ユニット２００は、ステップＳ３において求められた補正量に基づいて、照射光学系５０から出力されたレーザ光に対して波面補正光学系４０による波面の補正を行う波面補正制御を行う。制御ユニット２００は、波面補正光学系４０により波面が補正されたレーザ光が、事前に設定された照射目標位置に照射されるように走査光学系３０によるレーザ光の偏向方向を制御する走査制御を行う。照射目標位置のＸ方向の位置とＹ方向の位置は、走査光学系３０による偏向制御で変更される。照射目標位置のＺ方向の位置は、波面補正光学系４０による波面補正制御で変更される。以上で、レーザ治療装置１の動作は終了する（エンド）。
【００６８】
なお、ステップＳ２及びステップＳ３を省略し、ステップＳ４において、制御ユニット２００は、予め決められた補正量で波面補正光学系４０を制御してもよい。
【００６９】
また、ステップＳ３において、データ処理ユニット２１０は、測定光学系６０による戻り光の受光結果を繰り返し取得し、干渉信号の強度が最大になるように波面補正光学系４０に対する補正量を求めるようにしてもよい。
【００７０】
図３に、実施形態に係るレーザ治療装置１の動作説明図を示す。図３は、患者眼Ｅの眼底Ｅｆに照射されるレーザ光のビームの断面形状を模式的に表したものである。
【００７１】
例えば、制御ユニット２００は、図２のステップＳ２において得られた測定光学系６０による測定結果に基づいてレーザ光のビームのＺ方向の断面形状の予想画像ＬＢ１を断層像ＩＭＧ１に重畳させて表示ユニット２３０の表示部に表示させることが可能である。予想画像ＬＢ１は、あらかじめ測定されたレーザ光のビームの断面形状に対し、測定光学系６０による測定結果に対応する補正を行うことで得られる。また、光線追跡処理等の公知の処理によりレーザ光のビームの断面形状の予想画像ＬＢ１を作成するようにしてもよい。
【００７２】
制御ユニット２００は、上記のように、所定の照射目標位置になるように補正量を算出させ、算出された補正量に基づいて波面補正光学系４０を制御することにより、レーザ光の焦点位置を移動させることなくビームのＺ方向の断面形状を小さくすることができる（ビームＬＢ２）。それにより、照射目標位置の周辺の部位へのレーザ光の照射を回避できるようになる。
【００７３】
また、制御ユニット２００は、算出された補正量に基づいて波面補正光学系４０を制御することにより、レーザ光の焦点位置をＺ方向に移動させることも可能である（ビームＬＢ３）。
【００７４】
なお、制御ユニット２００は、事前に設定された照射目標位置に基づいて走査光学系３０を制御することにより、レーザ光の眼底Ｅｆにおける照射位置をＸ方向及びＹ方向の少なくとも１つの方向に移動することが可能である。また、制御ユニット２００は、事前に設定された照射目標位置に基づいて波面補正光学系４０を制御することにより、レーザ光の眼底Ｅｆにおける照射位置をＸ方向及びＹ方向の少なくとも１つの方向に移動するようにしてもよい。また、制御ユニット２００は、波面補正光学系４０と図示しない光学系移動部とを制御することにより、レーザ光のＺ方向の照射位置を移動してもよい。また、制御ユニット２００は、図示しない光学系移動部だけを制御することにより、レーザ光のＺ方向の照射位置を移動してもよい。
【００７５】
以下、実施形態に係るレーザ治療装置１の具体的な構成例について説明する。
【００７６】
［第１構成例］
第１構成例では、装置光学系１００において、測定光学系６０が波面測定光学系６０Ａを備え、レーザ治療部位の確認用に干渉光学系７０が別途に設けられている。干渉光学系７０は、主として、レーザ光が照射された部位の断層像を取得するために用いられる。なお、第１構成例において、干渉光学系７０が省略された構成であってもよい。
【００７７】
図４に、実施形態の第１構成例に係るレーザ治療装置の機能ブロック図を示す。図４において、図１と同様の部分には同一符号を付し、適宜説明を省略する。
【００７８】
第１構成例に係る装置光学系１００では、図１に示す装置光学系に対して、干渉光学系７０及びビームスプリッタＭ５が追加されている。ビームスプリッタＭ５は、干渉光学系７０の光路と波面測定光学系６０Ａ（測定光学系６０）の光路とを結合したり、患者眼Ｅからの戻り光の光路から干渉光学系７０（又は測定光学系６０）の光路を分離したりする。ビームスプリッタＭ５は、測定光学系６０の光軸が干渉光学系７０の光軸と略同軸になるように双方の光学系を結合することが望ましい。
【００７９】
例えば、干渉光学系７０からの光は、ビームスプリッタＭ５を透過し、ビームスプリッタＭ４を透過し、波面補正光学系４０と走査光学系３０とを経由し、患者眼Ｅに導かれる。干渉光学系７０からの光の患者眼Ｅからの戻り光は、ビームスプリッタＭ４を透過し、ビームスプリッタＭ５を透過し、干渉光学系７０において干渉光の生成に用いられる。
【００８０】
例えば、測定光学系６０からの光は、ビームスプリッタＭ５により反射され、ビームスプリッタＭ４を透過し、波面補正光学系４０と走査光学系３０とを経由し、患者眼Ｅに導かれる。測定光学系６０からの光の患者眼Ｅからの戻り光は、ビームスプリッタＭ４を透過し、ビームスプリッタＭ５により反射され、測定光学系６０において受光される。
【００８１】
第１構成例に係るレーザ治療装置１には、画像形成ユニット２４０が設けられている。画像形成ユニット２４０は、各種の画像（画像データ）を形成する。画像形成ユニット２４０は、干渉光学系７０における干渉光の検出結果に基づいて患者眼Ｅの断層像（ＯＣＴ画像）を形成する。具体的には、画像形成ユニット２４０は、干渉光学系７０における干渉光の検出結果と、制御ユニット２００から入力される画素位置信号とに基づいて、患者眼Ｅの眼底Ｅｆの断層像の画像データを形成する。画像形成ユニット２４０は、例えば一連の波長走査毎に（Ａライン毎に）、干渉光の検出結果に基づくスペクトル分布にフーリエ変換等を施すことにより、各Ａラインにおける反射強度プロファイルを形成し、各Ａラインの反射強度プロファイルを画像化することにより画像データを形成することが可能である。
【００８２】
また、画像形成ユニット２４０は、観察光学系２０の撮像素子による患者眼Ｅの前眼部からの戻り光の検出結果に基づいて患者眼Ｅの前眼部像を形成することが可能である。
【００８３】
図５に、実施形態の第１構成例に係るレーザ治療装置１の光学系の構成の概略を示す。図５には、眼底Ｅｆのレーザ治療に用いられるコンタクトレンズＣＬが示されている。レーザ治療を行わないとき、コンタクトレンズＣＬは装置光学系１００の光軸から退避可能であってよい。図５において、図４と同様の部分には同一符号を付し、適宜説明を省略する。なお、図５では、患者眼Ｅの眼底Ｅｆと光学的に共役な位置が眼底共役位置Ｐとして図示され、患者眼Ｅの瞳と光学的に共役な位置が瞳共役位置（前眼部共役位置）Ｑとして図示されている。
【００８４】
装置光学系１００には、対物レンズ２が設けられている。対物レンズ２は、患者眼Ｅに対峙する位置に配置される。対物レンズ２は、収差を抑えるために複数のレンズを組み合わせた構造を有していてもよいし、１枚のレンズで構成されていてもよい。図５に示すように、眼底Ｅｆのレーザ照射時には、対物レンズ２は、ビームスプリッタＭ１とコンタクトレンズＣＬ（患者眼Ｅ）との間に配置される。
【００８５】
（観察系）
照明光学系１０は、患者眼Ｅの眼底Ｅｆを照明するための照明光を出力する照明光源１１を含む。照明光源１１は、ハロゲンランプやＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）を含む。照明光学系１０には、照明光源１１から出力される光を屈折させるレンズが設けられていてもよい。照明光源１１の動作は、制御ユニット２００により制御される。
【００８６】
穴あきミラーＭ２に形成されている穴部は、瞳共役位置Ｑ又はその近傍に配置される。
【００８７】
観察光学系２０は、撮像素子２１と、結像レンズ２２とを含む。撮像素子２１の検出面は、眼底共役位置Ｐ又はその近傍に配置されている。撮像素子２１と穴あきミラーＭ２との間に、結像レンズ２２が配置されている。
【００８８】
照明光源１１から出力された照明光は、穴あきミラーＭ２の穴部の周辺領域で反射され、ビームスプリッタＭ１、対物レンズ２、及びコンタクトレンズＣＬを通過し、患者眼Ｅの眼底Ｅｆを照明する。眼底Ｅｆからの照明光の戻り光は、同一の経路を逆方向に進行し、穴あきミラーＭ２の穴部を通過する。穴あきミラーＭ２の穴部を通過した戻り光は、結像レンズ２２により撮像素子２１の検出面に集光される。撮像素子２１は、例えば、ＣＣＤ又はＣＭＯＳイメージセンサにより構成されている。撮像素子２１による患者眼Ｅからの戻り光の検出結果は、眼底像の形成に用いられる。
【００８９】
（照射光学系）
照射光学系５０は、光源５１と、光ファイバ５２と、レンズ５３とを含む。光源５１は、例えば、５００ｎｍ〜９００ｎｍの波長範囲から選択された波長成分（例えば、６３８ｎｍ）のレーザ光（治療用レーザ光）を発するものが用いられる。光源５１として、例えば、レーザーダイオード（Ｌａｓｅｒ  Ｄｉｏｄｅ：ＬＤ）、スーパールミネッセントダイオード（Ｓｕｐｅｒ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ  Ｄｉｏｄｅ：ＳＬＤ）、レーザードリブンライトソース（Ｌａｓｅｒ  Ｄｒｉｖｅｎ  Ｌｉｇｈｔ  Ｓｏｕｒｃｅ：ＬＤＬＳ）などが挙げられる。光源５１が発するレーザ光は、単一波長の光に限定されず、ある程度の帯域幅の波長成分を有するものであってもよい。光源５１が発する光は、指向性の高い光（すなわち、拡がり角の小さい光）であってよい。
【００９０】
光源５１には、レーザ光をレンズ５３に導く光ファイバ５２が接続されている。光ファイバ５２は、シングルモードファイバである。光ファイバ５２のコア径は、光源５１が発するレーザ光のスポット径と略等しくてよい。光ファイバ５２の出射端には、光ファイバ５２から出射したレーザ光を平行光束にするためのレンズ５３が配置されている。レンズ５３を通過したレーザ光は、ビームスプリッタＭ４に導かれる。
【００９１】
（波面測定光学系）
波面測定光学系６０Ａには、照射光学系５０や干渉光学系７０等の別途に設けられた光学系に含まれる光源から出力された波面収差測定用の光の眼底Ｅｆからの反射光が入射する。なお、波面測定光学系６０Ａに、患者眼Ｅの眼底Ｅｆに波面収差測定用の光を照射する光学系が設けられ、当該波面収差測定用の光の眼底Ｅｆからの反射光がレンズアレイ６２に入射するように構成されていてもよい。この場合、波面測定光学系６０Ａから出力された波面収差測定用の光は、ビームスプリッタＭ５により眼底Ｅｆに向けて反射される。眼底Ｅｆからの反射光は、ビームスプリッタＭ５により反射され、後述のＣＣＤ６１に導かれる。
【００９２】
波面測定光学系６０Ａは、シャックハルトマンセンサを含む。具体的には、撮像素子であるＣＣＤ６１と、その手前に配置されたレンズアレイ６２と、レンズ６３、６４とを含む。レンズアレイ６２は、小さなレンズを格子状に配列したもので、入射光を多数の光束に分割しそれぞれ集光する。レンズアレイ６２の焦点をＣＣＤ６１により撮像し、各レンズの焦点位置を解析することで、レンズアレイ６２に入射した光の波面収差を検出することができる。すなわち、レンズアレイ６２を介して患者眼Ｅの眼底Ｅｆからの反射像を観察することで、当該反射像における波面の乱れを検出することができる。ＣＣＤ６１により得られた画像は、制御ユニット２００、画像形成ユニット２４０又はデータ処理ユニット２１０等の画像解析部に送られ、この画像解析部で波面の乱れが解析され、その結果に基づく制御信号（フィードバック信号）が、波面補正光学系４０に送られる。
【００９３】
（干渉光学系）
干渉光学系７０には、眼底Ｅｆなどの測定部位の断層像を取得するための光学系が設けられている。この光学系は、従来のフーリエドメインタイプのＯＣＴ装置と同様の構成を有する。すなわち、この光学系は、光源ユニット（ＯＣＴ光源）からの光（低コヒーレンス光）を参照光ＬＲと測定光ＬＳに分割し、眼底Ｅｆを経由した測定光ＬＳの戻り光と参照光路を経由した参照光ＬＲとを干渉させて干渉光ＬＣを生成し、この干渉光ＬＣのスペクトル成分を検出するように構成されている。この検出結果（検出信号）は、画像形成ユニット２４０に送られる。
【００９４】
光源ユニット７１は、出射光の波長を掃引（走査）可能な波長掃引型（波長走査型）光源を含む。波長掃引型光源には、例えば、共振器を含み、所定の中心波長を有する光を発するレーザ光源が用いられる。光源ユニット７１は、人眼では視認できない近赤外の波長帯において、出力波長を時間的に変化させる。
【００９５】
光源ユニット７１から出力される光Ｌ０は、例えば、光源５１が発するレーザ光と異なる波長帯を含む近赤外領域の光であってよい。例えば、光Ｌ０は、１０４０〜１０６０ｎｍ程度（例えば、１０５０ｎｍ）の中心波長を有し、５０ｎｍ程度の波長幅を有する近赤外光であってよい。なお、この実施形態では特にスウェプトソースタイプについて説明しているが、スペクトラルドメインタイプを適用する場合には、スーパールミネセントダイオード（Ｓｕｐｅｒ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ  Ｄｉｏｄｅ：ＳＬＤ）や、ＬＥＤや、ＳＯＡ（Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  Ｏｐｔｉｃａｌ  Ａｍｐｌｉｆｉｅｒ）等の光出力デバイスが光源ユニット７１として用いられる。一般に、光源ユニット７１の構成としては、光コヒーレンストモグラフィのタイプに応じたものが適宜選択される。
【００９６】
光源ユニット７１から出力された光Ｌ０は、光ファイバによりファイバカプラ７２に導かれて測定光ＬＳと参照光ＬＲとに分割される。
【００９７】
測定光ＬＳは、光ファイバにより導光され、ファイバ端部７３から出射される。ファイバ端部７３から出射された測定光ＬＳは、コリメートレンズ７４により平行光束となる。この光ファイバのファイバ端部７３は、眼底共役位置Ｐ又はその近傍に配置されている。測定光ＬＳの光路は、ビームスプリッタＭ５により前述の波面測定光学系６０Ａ（測定光学系６０）の光路に結合される。後述の光路を経由して眼底Ｅｆに照射された測定光ＬＳは、例えば、眼底Ｅｆなどの測定部位において散乱、反射される。この散乱光及び反射光をまとめて測定光ＬＳの戻り光と称することがある。測定光ＬＳの戻り光は、同じ経路を逆向きに進行してファイバカプラ７２に導かれる。
【００９８】
参照光ＬＲは、光ファイバにより導光され、偏波調整器（偏波コントローラ）を経て、ファイバ端部から出射され、レンズ７５により平行光束となる。偏波調整器は、例えば、ループ状にされた光ファイバに対して外部から応力を与えることで、当該光ファイバ内を通過している参照光ＬＲの偏光状態を調整する。平行光束とされた参照光ＬＲは、参照ミラー７６により反対方向に反射され、再び、レンズ７５により光ファイバのファイバ端部に集光される。レンズ７５及び参照ミラー７６を含む参照ユニットは、一体となって参照光ＬＲの進行方向に沿って移動可能である。参照ユニットを移動することにより眼軸長補正が可能である。参照ミラー７６に反射された参照光ＬＲは、同じ経路を逆向きに進行してファイバカプラ７２に導かれる。なお、分散補償用の光学素子（ペアプリズム等）や、偏光補正用の光学素子（波長板等）や制御ユニット２００の制御の下で光ファイバを通過している参照光の光量を調整する光減衰器（アッテネータ）を参照光ＬＲの光路（参照光路）に設けてもよい。
【００９９】
ファイバカプラ７２は、測定光ＬＳの戻り光と、参照ミラー７６に反射された参照光ＬＲとを合波する。これにより生成された干渉光ＬＣは、光ファイバにより検出ユニット７７に導光される。ファイバカプラ７２は、所定の分岐比（例えば１：１）で干渉光を分岐して一対の干渉光ＬＣを生成する。一対の干渉光ＬＣは、検出ユニット７７に設けられた検出器（バランスドフォトダイオード）により検出される。なお、スペクトラルドメインＯＣＴの場合、検出器（分光器）は、ファイバカプラにより生成された干渉光を複数の波長成分に分解して検出する。
【０１００】
検出器は、一対の干渉光ＬＣを検出した結果（検出信号）を図示しないＤＡＱ（Ｄａｔａ  Ａｃｑｕｉｓｉｔｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍ）に送る。ＤＡＱには、光源ユニット７１からクロックが供給される。このクロックは、波長可変光源により所定の波長範囲内にて掃引される各波長の出力タイミングに同期して生成される。ＤＡＱは、このクロックに基づいて検出信号をサンプリングする。サンプリング結果は、ＯＣＴ画像を形成するための画像形成ユニット２４０に送られる。
【０１０１】
ビームスプリッタＭ４とビームスプリッタＭ１との間には、波面補正光学系４０、走査光学系３０、視度補正光学系８０が設けられている。
【０１０２】
（波面補正光学系）
ビームスプリッタＭ４の患者眼Ｅの側には、波面補正光学系４０が配置されている。波面補正光学系４０は、可変形状ミラーを含む。可変形状ミラーは、複数のアクチュエータによって表面の形状を変形させることが可能なミラーである。
【０１０３】
可変形状ミラーは、治療用レーザ光の焦点位置が照射目標位置に一致するように制御ユニット２００により生成された制御信号により駆動される。
【０１０４】
また、可変形状ミラーは、ＣＣＤ６１の検出結果を用いて形成された画像の解析結果に基づく制御信号により駆動されてもよい。例えば、ＣＣＤ６１の検出結果に基づく撮像画像に歪み（波面の歪み）がある場合、その歪みを減少させるように可変形状ミラーの表面形状の変形が行われる。すなわち、ＣＣＤ６１による検出結果に基づく眼底Ｅｆの画像の歪みが小さくなるように、フィードバック制御により、可変形状ミラーの表面形状の変形が行われ、眼底Ｅｆの画像の歪みが抑制される。
【０１０５】
波面補正光学系４０の患者眼Ｅの側には、光束を整えるためのレンズ３２ｂ、３２ａを介して、走査光学系３０が配置されている。レンズ３２ｂとレンズ３２ａとの間に、眼底共役位置Ｐ又はその近傍が配置される。
【０１０６】
（走査光学系）
走査光学系３０は、光源５１からのレーザ光を患者眼Ｅの眼底Ｅｆに照射するために用いられる。また、走査光学系３０は、干渉光学系７０からの測定光ＬＳで患者眼Ｅの眼底Ｅｆを走査するために用いられる。
【０１０７】
走査光学系３０は、垂直方向光スキャナ３０Ｖと、水平方向光スキャナ３０Ｈとを含む。垂直方向光スキャナ３０Ｖは、その傾きが変更可能なミラーであり、制御ユニット２００からの制御により反射面の傾きが制御される。垂直方向光スキャナ３０Ｖは、例えば、眼底面内の垂直方向の走査に用いられる。垂直方向光スキャナ３０Ｖは、ガルバノミラーなどの低速スキャナであってよい。垂直方向光スキャナ３０Ｖの患者眼Ｅの側には、レンズ３１ｂ、３１ａを介して水平方向光スキャナ３０Ｈが配置されている。水平方向光スキャナ３０Ｈは、その傾きが変更可能なミラーであり、制御ユニット２００からの制御により反射面の傾きが制御される。水平方向光スキャナ３０Ｈは、例えば、垂直方向に直交する眼底面内の水平方向の走査に用いられる。垂直方向光スキャナ３０Ｖ及び水平方向光スキャナ３０Ｈのいずれか一方は、レゾナントミラーやＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ  Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｓｙｓｔｅｍｓ）ミラーなどの高速スキャナであってよい。垂直方向光スキャナ３０Ｖの反射面及び水平方向光スキャナ３０Ｈの反射面は、瞳共役位置Ｑ又はその近傍に配置されている。レンズ３１ａとレンズ３１ｂとの間には、眼底共役位置Ｐ又はその近傍が配置されている。
【０１０８】
水平方向光スキャナ３０Ｈの患者眼Ｅの側には、レンズ８３を介して、視度補正光学系８０が配置されている。視度補正光学系８０は、レーザ光を眼底Ｅｆ上に略点像として照射するように調整するための調整手段の一例である。視度補正光学系８０は、視度補正ミラー８２ａ、８２ｂを含む。視度補正ミラー８２ａは、レンズ８３とレンズ８１ｂとの間に配置され、入射した光を視度補正ミラー８２ｂに向けて反射する。視度補正ミラー８２ｂの機能は、コーナーキューブにより実現される。視度補正ミラー８２ｂは、入射光を入射方向に直交する方向に反射した後、その反射光を入射方向と反対の方向に出射する。
視度補正ミラー８２ｂの２つの反射面との間には、眼底共役位置Ｐ又はその近傍が配置されている。視度補正ミラー８２ｂは、図示しない移動機構により光軸方向に移動される。この移動機構は、制御ユニット２００により制御される。視度補正ミラー８２ｂは、患者眼Ｅの屈折力に応じて、眼底共役位置Ｐを連続的に移動する。視度補正ミラー８２ｂを視度補正ミラー８２ａに対して相対的に遠近させることで、眼底Ｅｆに装置光学系１００の焦点が位置するように調整される。すなわち、視度には個人差や個体差があるが、この視度に違いがあっても、視度補正ミラー８２ｂの位置を移動することで、眼底Ｅｆに装置光学系１００の焦点が位置するように、つまり眼底Ｅｆ上にレーザ光が略点像として集光して照射されるように調整される。なお、視度補正光学系８０において、患者眼Ｅの瞳は無限遠と共役関係にあるため、視度補正ミラー８２ｂの移動によって装置光学系１００内の瞳共役関係は変動しない。
【０１０９】
視度補正光学系８０の患者眼Ｅの側には、レンズ８１ｂ、８１ａを介して反射ミラーＭ３が配置されている。レンズ８１ａ、８１ｂの間に、瞳共役位置Ｑ又はその近傍が配置される。反射ミラーＭ３の患者眼Ｅの側には、ビームスプリッタＭ１が配置されている。反射ミラーＭ３とビームスプリッタＭ１との間には、眼底共役位置Ｐ又はその近傍が配置されている。
【０１１０】
照射光学系５０は、実施形態に係る「照射系」の一例である。波面補正光学系４０は、実施形態に係る「波面変更部」の一例である。制御ユニット２００は、実施形態に係る「制御部」の一例である。測定光学系６０は、実施形態に係る「光学系」の一例である。ＣＣＤ６１は、実施形態に係る「エリアセンサ」の一例である。データ処理ユニット２１０は、実施形態に係る「波面収差算出部」又は「干渉強度算出部」の一例である。画像形成ユニット２４０は、実施形態に係る「画像形成部」の一例である。操作ユニット２２０は、実施形態に係る「指定部」の一例である。走査光学系３０、垂直方向光スキャナ３０Ｖ、水平方向光スキャナ３０Ｈは、実施形態に係る「光スキャナ」の一例である。視度補正光学系８０は、実施形態に係る「視度補正部」の一例である。
【０１１１】
図６及び図７に、実施形態の第１構成例に係るレーザ治療装置１の動作例を示す。図６及び図７は、後述の図８に示すような眼底Ｅｆの断層像において操作ユニット２２０を用いて指定された照射目標位置（３次元位置）に治療用レーザ光を照射する場合の動作例を表す。制御ユニット２００の記憶部には、図６及び図７に示す処理を実現するためのコンピュータプログラムが記憶されている。制御ユニット２００の制御部は、このコンピュータプログラムに従って動作することにより、図６及び図７に示す処理を実行する。
【０１１２】
（Ｓ１１）
まず、制御ユニット２００は、光学系移動部を制御し、装置光学系１００を初期位置に移動させる。
【０１１３】
（Ｓ１２）
続いて、制御ユニット２００は、図２のステップＳ１と同様に、患者眼Ｅに対して装置光学系１００の位置合わせを行うためのアライメントの実行を制御する。また、制御ユニット２００は、トラッキング制御を開始してもよい。
【０１１４】
（Ｓ１３）
次に、制御ユニット２００は、走査光学系３０の制御を開始する。
【０１１５】
（Ｓ１４）
続いて、制御ユニット２００は、眼底Ｅｆへのピント調整を行う。例えば、制御ユニット２００は、制御ユニット２００が観察系により得られた眼底像を表示ユニット２３０の表示部に表示させ、ユーザが操作ユニット２２０に対して操作を行うことで視度補正ミラー８２ｂが移動される。
【０１１６】
（Ｓ１５）
続いて、制御ユニット２００は、照射光学系５０や干渉光学系７０等の別途に設けられた光学系又は測定光学系６０に設けられた光源からの波面収差測定用の光を眼底Ｅｆに照射させる。波面測定光学系６０Ａは、波面収差測定用の光の眼底Ｅｆからの戻り光を検出する。制御ユニット２００は、波面測定光学系６０Ａにより得られた測定結果に基づいて波面収差をデータ処理ユニット２１０に算出させ、波面補正光学系４０に対する補正量をデータ処理ユニット２１０に算出させる。制御ユニット２００は、算出された補正量に基づいて波面補正光学系４０を制御する。
【０１１７】
（Ｓ１６）
次に、制御ユニット２００は、干渉光学系７０からの測定光ＬＳで眼底Ｅｆをスキャンさせる。
【０１１８】
（Ｓ１７）
制御ユニット２００は、ステップＳ１６において得られた干渉光学系７０による干渉光ＬＣの検出結果に基づいて眼底Ｅｆの３次元画像データ（ボリュームデータ）をデータ処理ユニット２１０形成させる。制御ユニット２００は、形成された３次元画像データからＸＺ断面の断層像ＩＭＧＸとＹＺ断面の断層像ＩＭＧＹを形成させ、眼底像ＩＭＧ２とともに表示ユニット２３０の表示部に表示させる（図８参照）。
【０１１９】
（Ｓ１８）
続いて、制御ユニット２００は、ステップＳ１７において表示された眼底像ＩＭＧ２、断層像ＩＭＧＸ、ＩＭＧＹに対してユーザにより操作ユニット２２０を用いて指定された治療用レーザ光の照射目標位置ＴＰの３次元位置（ｘｔ，ｙｔ，ｚｔ）を受け付ける。制御ユニット２００は、眼底像ＩＭＧ２、断層像ＩＭＧＸ、ＩＭＧＹにおいて、指定された治療用レーザ光の照射目標位置ＴＰを識別表示させる。例えば、照射目標位置ＴＰのＸ位置及びＹ位置は、眼底Ｅｆにおける複数の照射位置を表す照射パターンの基準位置となる。
【０１２０】
（Ｓ１９）
制御ユニット２００は、ステップＳ１８において指定された照射目標位置のＺ位置がｚｔとなるように波面補正光学系４０を制御する。また、制御ユニット２００は、ステップＳ１８において指定された照射目標位置のＸ位置がｘｔとなり、Ｙ位置がｙｔとなるように走査光学系３０を制御する。
【０１２１】
（Ｓ２０）
制御ユニット２００は、照射光学系５０の光源５１を制御して治療用レーザ光の出力を開始させる。
【０１２２】
（Ｓ２１）
制御ユニット２００は、あらかじめ決められた照射パターンに従って走査光学系３０を制御することにより、例えば基準位置が照射目標位置ＴＰに配置された照射パターンにおける各照射位置に治療用レーザ光を照射する。
【０１２３】
（Ｓ２２）
制御ユニット２００は、ステップＳ１８で指定された照射目標位置ＴＰ（又は照射パターンに含まれるスポットの位置）の近傍を干渉光学系７０からの測定光ＬＳでスキャンさせることにより、ＯＣＴ撮影を行う。
【０１２４】
（Ｓ２３）
制御ユニット２００は、ステップＳ２２において得られた干渉光学系７０の検出結果に基づいて照射目標位置ＴＰの近傍の断層像を画像形成ユニット２４０に形成させる。続いて、制御ユニット２００は、形成された断層像を表示ユニット２３０の表示部に表示させる。
【０１２５】
（Ｓ２４）
制御ユニット２００は、ステップＳ２３で表示ユニット２３０の表示部に表示された断層像の画像データを記憶部に保存する。以上で、レーザ治療装置１の動作は終了する（エンド）。
【０１２６】
［第２構成例］
第２構成例では、装置光学系１００において、測定光学系６０が干渉光学系６０Ｂを備えている。干渉光学系６０Ｂは、波面補正光学系４０に対する補正量を求めたり、レーザ治療部位の確認に用いられたりする。
【０１２７】
図９に、実施形態の第２構成例に係るレーザ治療装置の機能ブロック図を示す。図９において、図１と同様の部分には同一符号を付し、適宜説明を省略する。
【０１２８】
第２構成例に係る装置光学系１００では、図１に示す装置光学系に対し、測定光学系６０が干渉光学系６０Ｂを含む。干渉光学系６０Ｂの構成は、図４に示す干渉光学系７０の構成と同様である。
【０１２９】
第２構成例に係るレーザ治療装置１には、第１構成例と同様に、画像形成ユニット２４０が設けられている。画像形成ユニット２４０は、干渉光学系６０Ｂにおける干渉光の検出結果に基づいて患者眼Ｅの断層像（ＯＣＴ画像）を形成する。具体的には、画像形成ユニット２４０は、干渉光学系６０Ｂにおける干渉光の検出結果と、制御ユニット２００から入力される画素位置信号とに基づいて、患者眼Ｅの眼底Ｅｆの断層像の画像データを形成する。
【０１３０】
図１０に、実施形態の第２構成例に係るレーザ治療装置１の光学系の構成の概略を示す。図１０において、図５と同様の部分には同一符号を付し、適宜説明を省略する。
【０１３１】
図１０に示す光学系の構成が図５に示す光学系の構成と異なる点は、波面測定光学系６０Ａ及びビームスプリッタＭ５が省略された点と、干渉光学系７０と同様の構成の光学系が干渉光学系６０Ｂとして設けられている点である。
【０１３２】
第２構成例では、制御ユニット２００は、干渉光学系６０Ｂにより得られた測定結果に基づいて断層像を画像形成ユニット２４０に形成させ、形成された断層像を表示ユニット２３０の表示部に表示させる。制御ユニット２００は、表示部に表示された断層像においてあらかじめ決められた照射目標位置、又は操作ユニット２２０を用いて断層像中で指定された照射目標位置に対応した波面補正光学系４０に対する補正量をデータ処理ユニット２１０に算出させる。制御ユニット２００は、算出された補正量に基づいて波面補正光学系４０を制御することにより、照射光学系５０から治療用レーザ光の波面を変更することが可能である。
【０１３３】
また、制御ユニット２００は、干渉光学系６０Ｂにより得られた測定結果に基づいて干渉光の強度に対応した波面補正光学系４０に対する補正量をデータ処理ユニット２１０に算出させてもよい。制御ユニット２００は、算出された補正量に基づいて波面補正光学系４０を制御することにより、照射光学系５０から治療用レーザ光の波面を変更することが可能である。
【０１３４】
なお、制御ユニット２００は、治療前のレーザ治療部位の断層像と治療後のレーザ治療部位の断層像とを表示ユニット２３０の表示部に表示させてもよい。この場合、各断層像においてレーザ治療部位を識別表示させたり、両断層像を並べて表示させたりすることが可能である。また、治療前のレーザ治療部位の眼底像と治療後のレーザ治療部位の眼底像と表示ユニット２３０の表示部に表示させてもよい。この場合、各眼底像においてレーザ治療部位を識別表示させたり、両眼底像を並べて表示させたりすることが可能である。
【０１３５】
［効果］
実施形態に係るレーザ治療装置の効果について説明する。
【０１３６】
実施形態に係るレーザ治療装置（１）は、照射系（照射光学系５０）と、波面変更部（波面補正光学系４０）と、制御部（制御ユニット２００）とを含む。照射系は、光源（光源５１）からの治療用レーザ光を出力する。波面変更部は、照射系により出力された治療用レーザ光の波面を変更し、波面が変更された治療用レーザ光を患者眼（Ｅ）に導く。制御部は、波面変更部を制御する。
【０１３７】
このような構成によれば、波面変更部により治療用レーザ光の波面を変更し、波面が変更された治療用レーザ光を患者眼に導くようにしたので、治療用レーザ光の焦点位置を患者眼の任意の位置に配置させることができるようになる。それにより、所望の部位に治療用レーザ光を確実に照射することが可能なレーザ治療装置を提供することができるようになる。例えば、患者眼における網膜の所望の錐体細胞に対してのみ治療用レーザ光を照射することが可能になる。
【０１３８】
また、実施形態に係るレーザ治療装置は、患者眼に光を投射し、患者眼からの戻り光を受光する光学系（測定光学系６０）を含み、制御部は、光学系により受光された戻り光の受光結果に基づいて波面変更部を制御してもよい。
【０１３９】
このような構成によれば、患者眼からの戻り光に基づいて、眼底の形状などの患者眼の状態やビーム径などの治療用レーザ光の状態を把握することができるので、患者眼の状態や治療用レーザ光の状態に応じて波面変更部を制御することが可能になる。それにより、患者眼の状態や治療用レーザ光の状態に応じて治療用レーザ光の焦点位置を任意の位置に配置させることができるようになる。
【０１４０】
また、実施形態に係るレーザ治療装置では、光学系は、戻り光から複数の集束光を生成するレンズアレイ（６２）と、レンズアレイにより生成された複数の集束光を受光するエリアセンサ（ＣＣＤ６１）と、を含み、エリアセンサによる複数の集束光の受光結果に基づいて患者眼からの戻り光の波面収差を求める波面収差算出部（データ処理ユニット２１０）を含み、制御部は、波面収差算出部により求められた波面収差に基づいて波面変更部を制御してもよい。
【０１４１】
このような構成によれば、求められた波面収差に基づいて眼底の形状などの患者眼の状態を把握することができるので、患者眼の状態に応じて波面変更部を制御することが可能になる。それにより、患者眼の状態に応じて治療用レーザ光の焦点位置を任意の位置に配置させることができるようになる。
【０１４２】
また、実施形態に係るレーザ治療装置では、光学系は、光源（光源ユニット７１）からの光（Ｌ０）を参照光（ＬＲ）と測定光（ＬＳ）とに分割し、測定光を患者眼に照射し、患者眼からの測定光の戻り光と参照光との干渉光（ＬＣ）を検出する干渉光学系（７０、６０Ｂ）を含み、干渉光学系による干渉光の検出結果に基づいて干渉光の強度を求める干渉強度算出部（データ処理ユニット２１０）を含み、前記制御部は、干渉強度算出部により求められた干渉光の強度に基づいて波面変更部を制御してもよい。
【０１４３】
このような構成によれば、患者眼からの戻り光に基づいて生成された干渉光の強度に基づいて、眼底の形状などの患者眼の状態やビーム径などの治療用レーザ光の状態を把握することができるので、患者眼の状態や治療用レーザ光の状態に応じて波面変更部を制御することが可能になる。それにより、患者眼の状態や治療用レーザ光の状態に応じて治療用レーザ光の焦点位置を任意の位置に配置させることができるようになる。
【０１４４】
また、実施形態に係るレーザ治療装置は、干渉光学系により得られた干渉光の検出結果に基づいて患者眼の断層像を形成する画像形成部（画像形成ユニット２４０）を含んでもよい。
【０１４５】
このような構成によれば、治療前や治療後におけるレーザ治療部位の断層像を確認することで、治療用レーザ光が確実に治療部位に照射されたか否かを容易に判断することが可能になる。それにより、従来では確認が困難であったレーザ治療の効果を容易に把握することができるようになる。
【０１４６】
また、実施形態に係るレーザ治療装置は、光源（光源ユニット７１）からの光（Ｌ０）を参照光（ＬＲ）と測定光（ＬＳ）とに分割し、測定光を患者眼に照射し、患者眼からの測定光の戻り光と参照光との干渉光（ＬＣ）を検出する干渉光学系（７０、６０Ｂ）と、干渉光学系により得られた干渉光の検出結果に基づいて患者眼の断層像を形成する画像形成部（画像形成ユニット２４０）とを含んでもよい。
【０１４７】
このような構成によれば、治療前や治療後におけるレーザ治療部位の断層像を確認することで、治療用レーザ光が確実に治療部位に照射されたか否かを容易に判断することが可能になる。それにより、従来では確認が困難であったレーザ治療の効果を容易に把握することができるようになる。
【０１４８】
また、実施形態に係るレーザ治療装置は、患者眼の正面画像及び断層像に対して治療用レーザ光の照射目標位置（ＴＰ）を指定するための指定部（操作ユニット２２０）を含み、制御部は、指定部により指定された照射目標位置に基づいて、治療用レーザ光の照射位置を制御してもよい。
【０１４９】
このような構成によれば、治療用レーザ光の照射目標位置を３次元位置として指定することが可能になるので、ユーザにより指定された所望の部位に治療用レーザ光を確実に照射することが可能なレーザ治療装置を提供することができるようになる。
【０１５０】
また、実施形態に係るレーザ治療装置は、治療用レーザ光を偏向する光スキャナ（走査光学系３０）を含み、制御部は、光スキャナを制御することにより治療用レーザ光が進行する第１方向（Ｚ方向）に交差する第２方向（Ｘ方向、Ｙ方向）に当該治療用レーザ光の照射位置を変更してもよい。
【０１５１】
このような構成によれば、光スキャナを制御することにより治療用レーザ光の進行方向に交差する方向に２次元的に照射位置を変更することができるので、簡素な構成で、所望の部位に治療用レーザ光を確実に照射することが可能になる。
【０１５２】
また、実施形態に係るレーザ治療装置では、波面変更部は、光スキャナより光源（５１）の側に配置されていてもよい。
【０１５３】
このような構成によれば、波面変更部により波面が変更された治療用レーザ光の照射位置を変更するようにしたので、光スキャナで偏向後の治療用レーザ光の波面を変更する場合に比べて、波面変更部のサイズの小型化が可能になる。
【０１５４】
また、実施形態に係るレーザ治療装置は、光スキャナより患者眼の側に配置された視度補正部（視度補正光学系８０）を含み、制御部は、患者眼の屈折力に応じて視度補正部を制御することにより眼底共役位置（Ｐ）を変更してもよい。
【０１５５】
このような構成によれば、患者眼の視度に応じて装置光学系１００の焦点を患者眼の所望の位置に配置させることができるため、患者眼の視度にかかわらず測定精度の高いレーザ治療装置を提供することが可能になる。
【０１５６】
また、実施形態に係るレーザ治療装置では、制御部は、波面変更部を制御することにより治療用レーザ光の焦点位置、及び治療用レーザ光が進行する第１方向（Ｚ方向）に交差する第２方向（Ｘ方向、Ｙ方向）における当該治療用レーザ光の照射位置の少なくとも１つを変更してもよい。
【０１５７】
このような構成によれば、波面変更部を制御するだけで、治療用レーザ光の進行方向や当該進行方向に交差する方向に焦点位置を３次元的に変更することが可能になる。それにより、簡素な構成で、所望の部位に治療用レーザ光を確実に照射することが可能なレーザ治療装置を提供することができるようになる。
【０１５８】
また、実施形態に係るレーザ治療装置では、波面変更部は、可変形状ミラーを含んでもよい。
【０１５９】
このような構成によれば、可変形状ミラーにより治療用レーザ光の波面を変更することができるので、簡素な構成で、所望の部位に治療用レーザ光を確実に照射することが可能なレーザ治療装置を提供することができるようになる。
【０１６０】
また、実施形態に係るレーザ治療装置の制御方法は、照射ステップと、波面変更ステップとを含む。照射ステップは、光源（５１）から治療用レーザ光を出力する。波面変更ステップは、患者眼（Ｅ）に光を投射し、患者眼からの戻り光の受光結果に基づいて、照射ステップにおいて出力された治療用レーザ光の波面を変更し、波面が変更された治療用レーザ光を患者眼に導く。
【０１６１】
このような構成によれば、光源から出力された治療用レーザ光の波面を変更し、波面が変更された治療用レーザ光を患者眼に導くようにしたので、治療用レーザ光の焦点位置を任意の位置に配置させることができる。それにより、所望の部位に治療用レーザ光を確実に照射することようにレーザ治療装置を制御することができるようになる。
【０１６２】
また、実施形態に係るレーザ治療装置の制御方法は、患者眼からの戻り光の波面収差を測定する波面収差測定ステップを含み、波面変更ステップは、波面収差測定ステップにおいて測定された波面収差に基づいて治療用レーザ光の波面を変更してもよい。
【０１６３】
このような構成によれば、求められた波面収差に基づいて眼底の形状などの患者眼の状態を把握することができるので、患者眼の状態に応じて波面変更部を制御することが可能になる。それにより、患者眼の状態に応じて治療用レーザ光の焦点位置を任意の位置に配置させることができるようになる。
【０１６４】
また、実施形態に係るレーザ治療装置の制御方法は、光コヒーレンストモグラフィを用いて取得された患者眼からの測定光の戻り光と参照光との干渉光の強度を特定する干渉強度特定ステップを含み、波面変更ステップは、干渉強度特定ステップにおいて特定された干渉光の強度に基づいて治療用レーザ光の波面を変更してもよい。
【０１６５】
このような構成によれば、患者眼からの戻り光に基づいて生成された干渉光の強度に応じて、眼底の形状などの患者眼の状態やビーム径などの治療用レーザ光の状態を把握することができるので、患者眼の状態や治療用レーザ光の状態に応じて波面変更部を制御することが可能になる。それにより、患者眼の状態や治療用レーザ光の状態に応じて治療用レーザ光の焦点位置を任意の位置に配置させることができるようになる。
【０１６６】
以上に示した複数の実施形態は、この発明を実施するための一例に過ぎない。この発明を実施しようとする者は、この発明の要旨の範囲内において任意の変形、省略、追加等を施すことが可能である。
【符号の説明】
【０１６７】
１  レーザ治療装置
１０  照明光学系
２０  観察光学系
３０  走査光学系
４０  波面補正光学系
５０  照射光学系
６０  測定光学系
６０Ａ  波面測定光学系
６０Ｂ、７０  干渉光学系
１００  装置光学系
２００  制御ユニット
２１０  データ処理ユニット
２２０  操作ユニット
２３０  表示ユニット
２４０  画像形成ユニット
Ｅ  患者眼
Ｅｆ  眼底
Ｍ１、Ｍ４、Ｍ５  ビームスプリッタ
Ｍ２  穴あきミラー
Ｍ３  反射ミラー
【図１】
2019010132.tif 000003
【図２】
2019010132.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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