(57)【要約】【課題】  本発明は、ヒトの爪のための重合化粧コーティング及び特に改善されたその除去性に関する。【解決手段】  爪から放射線重合化粧コーティングを除去する方法であって、ヒドロキシル含有溶媒を含む溶媒システムを該重合化粧コーティングに塗布することを含む、上記方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
爪から放射線重合化粧コーティングを除去する方法であって、ヒドロキシル含有溶媒を含む溶媒システムを該重合化粧コーティングに塗布することを含む、上記方法。
【請求項２】
前記溶媒システムが、ヒドロキシル含有溶媒及び非ヒドロキシル含有溶媒を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ヒドロキシル含有溶媒が、メタノール、エタノール、及びイソプロパノールからなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記溶媒システムが、アセトン及び酢酸エチルからなる群から選択される非ヒドロキシル含有溶媒を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記溶媒システムが、メタノール、エタノール、及び水からなる群から選択されるヒドロキシル含有溶媒、並びにアセトン及び酢酸エチルからなる群から選択される非ヒドロキシル含有溶媒を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記溶媒システムが、水溶性有機溶媒及び水を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記溶媒システムが、塩基性若しくは酸性の基又はこれらの塩を含有する化合物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
酸性、塩基性、又はカチオン性の基の対イオンとして中和するか又は作用するようにはたらき得る化合物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記溶媒システムが、前記重合化粧コーティング中に存在するイオン又はイオン性の基の対イオンを含有する化合物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記溶媒システムが、酸性基を含有する重合化粧コーティングを除去するように適合されたアミン対イオンを含有する化合物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記溶媒システムが、酸性イオンを含有する重合化粧コーティングを除去するように適合されたアミン対イオンを含有する非ヒドロキシル含有溶媒を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
前記溶媒システムが、酸性基又はその基を含有する化合物を含み、及び前記重合化粧コーティングが、塩基又は塩基性イオンを含有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記溶媒システムが、トリエタノールアミンを含み、及び前記重合化粧コーティングが、カルボン酸、スルホン酸、リン系酸からなる群から選択される酸性基を含有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記溶媒システムが、カルボン酸、スルホン酸、リン系酸、塩酸、及びクエン酸から選択される酸性基を含有する化合物を含み、及び前記重合化粧コーティングが、塩基性基を含有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
（メタ）アクリルオリゴマー、（メタ）アクリルポリマー、若しくは（メタ）アクリルモノマー、或いは（メタ）アクリルオリゴマー及び／又は（メタ）アクリルポリマー及び（メタ）アクリルモノマーの混合物（該オリゴマー又はモノマーは酸性又は塩基性のイオン性基を有する）、並びに光開始剤を含む放射線重合性ネイルコーティング組成物を含む第１パッケージ；及び
該重合性ネイルコーティング組成物を爪に塗布し、放射線硬化した後、該重合性ネイルコーティング組成物を除去するための溶媒システムであって、ヒドロキシル含有溶媒及び非ヒドロキシル含有溶媒を含む上記溶媒システムを含む第２パッケージ；
を含む、２パッケージシステム。
【請求項１６】
前記オリゴマー、ポリマー又はモノマーが酸性又は塩基性のイオン性基を有し、及び第２パッケージが、前記重合性ネイルコーティング組成物を爪に塗布し、放射線硬化した後、前記重合性ネイルコーティング組成物を除去するための溶媒システムであって、前記化粧コーティング組成物中に存在するイオン性基の対イオンを含有する化合物を含む上記溶媒シムテムを含む、請求項１５に記載の２パッケージシステム。
【請求項１７】
オリゴマー、ポリマー、又はモノマーが、カルボン酸、スルホン酸、リン系酸からなる群から選択される酸性イオン性基を有し、及び前記溶媒システムがアミン化合物及びヒドロキシル含有化合物を含む、請求項１５に記載の２パッケージシステム。
【請求項１８】
光開始剤、モノマー及び/又はオリゴマー、並びに光添加剤を含むヒトの爪をコーティングするための放射線硬化性組成物であって、該モノマー及び／又はオリゴマー及び／又は光添加剤が酸又は塩基性イオン性基又はカチオン性基を有し、該イオン性基が、該硬化性組成物をＵＶ放射線に当てることにより硬化されたコーティングの除去性を改良するように適合され、該硬化コーティングが、該コーティング中のイオン性基の対イオンを含有するヒドロキシル含有溶媒及び非ヒドロキシル含有溶媒を含む溶媒システムを用いて浸された際、除去可能である、ヒトの爪をコーティングするための上記放射線硬化性組成物。
【請求項１９】
前記添加剤がポリマーである、請求項１８に記載の組成物。
【請求項２０】
前記添加剤がオリコマーである、請求項１８に記載の組成物。
【請求項２１】
光開始剤、（メタ）アクリルオリゴマー又は（メタ）アクリルポリマー又はこれらの混合物を含むヒトの爪をコーティングするための放射線硬化性組成物であって、該オリゴマー又はポリマーが、酸性、塩基性又はカチオン性の基を含有する、ヒトの爪をコーティングするための上記放射線硬化性組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本出願は、２０１３年３月１４日に出願された米国仮出願第６１／７８２，４６８号及び２０１３年８月３０日に出願された米国仮出願第６１／８７２，０８８号に基づく利益を主張する。
【０００２】
本発明は、ヒトの爪のための重合化粧コーティング及び特に改善されたその除去性に関する。
【０００３】
ヒト爪用放射線硬化性化粧コーティングは典型的に、プロのネイルサロンにおいて施され、そこでは、爪の技術者が手の爪又は足の爪にゲルコーティングを塗布し、当該コーティングを紫外線に曝して、当該コーティングを硬化させ、その結果、溶媒系マニキュア液よりも遥かに高い耐久性を有するコーティングが得られる。溶媒系マニキュア液は、アセトン等の溶媒を用いて容易に除去されるが、重合化粧コーティングは耐久性が非常に高くなるように設計されており、空気乾燥されたネイルエナメルに比べて容易には除去できない。ヒト爪用重合化粧コーティングの除去性の問題に対する種々の解決策が提案されており、例えば米国特許第３，９２８，１１３号においてＲｏｓｅｎｂｅｒｇは、溶媒システムにおける水溶性又は水膨潤性のポリマーを含むベースコートを塗布した後、光硬化性ネイルラッカー組成物を塗布し、その後硬化させることを提案している。米国特許出願公開第２０１１／０１８２８３８号においてＴｏｎｇらは、天然及び人工の爪用の重合化粧コーティングを開示しており、このコーティングは、反応性（メタ）アクリラート、反応性ウレタン（メタ）アクリラート、反応性ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリラート、ポリメチル（メタ）アクリラートポリ（メタ）アクリル酸コポリマー、ピロメリト酸二無水物グリセリルジ（メタ）アクリラート、非反応性溶媒溶解性ポリマー、非反応性溶媒を含む溶媒を用いた除去性が改良されており、放射線下で、溶媒溶解性ポリマーを含有するボイドを有するアクリル系熱硬化物質に硬化される。Ｒｏｓｅｎｂｅｒｇ、Ｔｏｎｇら、及びこの問題に取組んだ他の先行技術には問題があり、この問題を本発明が解決する。例えばＲｏｓｅｎｂｅｒｇについては、そのベースコートに耐水性がなく、水に曝された場合コーティングシステム全体が持ち上がり、水の影響を非常に受け易いので失敗している。参考文献には、除去のために使用される溶媒システムにおいて酸も塩基も開示していない。
【発明の概要】
【０００４】
本発明には、一態様において、放射線重合化粧コーティングを爪から除去する方法が含まれ、当該コーティングには、酸性若しくは塩基性の基又は塩を含有する化合物が含まれ、水によって除去されず、当該方法には、有機ヒドロキシル含有溶媒を含む溶媒システムを、当該重合化粧コーティングに塗布することが含まれる。
【発明を実施するための形態】
【０００５】
本発明の幾つかの実施態様では、当該溶媒システムに更に、非ヒドロキシル含有溶媒が含まれる。本発明の幾つかの実施態様では、当該溶媒システムに、水と水溶性有機溶媒の混合物が含まれる。
【０００６】
本発明の幾つか実施態様では、当該溶媒システムに、酸性基、塩基性基又は塩を含有する化合物、及びヒドロキシル含有溶媒が含まれる。
【０００７】
本発明の幾つかの実施態様では、当該溶媒システムに、酸性基、塩基性基又は塩を含有する化合物、ヒドロキシル含有溶媒、及び非ヒドロキシル含有溶媒が含まれる。
【０００８】
本発明の幾つかの実施態様では、当該溶媒システムに、酸性基、塩基性基又は塩を含有する化合物、及び非ヒドロキシル含有溶媒が含まれる。
【０００９】
本発明の幾つかの実施態様において、当該溶媒システムには、酸性基、塩基性基又は塩を含有する化合物、並びに水及び水溶性溶媒の混合物が含まれる。
【００１０】
好ましいヒドロキシル含有溶媒は、メタノール、エタノール、及びイソプロパノールであり、任意に水で希釈される。エタノールは特に好ましいヒドロキシル含有溶媒である。好ましい非ヒドロキシル溶媒は、存在する場合には、アセトン及び酢酸エチルである。
【００１１】
幾つかの実施態様では、ヒドロキシル含有溶媒及び１種以上の非ヒドロキシル含有溶媒（例えばアセトン）は混合され、アセトン単独の場合よりもより効果的に重合化粧コーティングを除去する作用を示す。
【００１２】
幾つかの実施態様では、水及び１種以上の非ヒドロキシル含有溶媒（例えばアセトン）は混合され、アセトン単独の場合よりもより効果的に重合化粧コーティングを除去する作用を示す。
【００１３】
特定の実施態様では、当該溶媒システムには、重合化粧コーティング中に存在するイオン基又はイオン性基の対イオンを含有する化合物が含まれる。
【００１４】
幾つかの実施態様では、当該放射線硬化コーティング組成物には、酸性、塩基性又はカチオン性の基を含有する反応性オリゴマー又はポリマーが含まれ、当該コーティングは非ヒドロキシル含有溶媒を用いて除去できる。当該オリゴマー及びポリマーには、モノマーのセグメントが含まれ、アニオン重合、カチオン重合、ラジカル重合又は縮合重合の方法によって作製され、少なくとも５つのモノマー単位が最終的な材料中に含まれる。好ましいオリゴマー及びポリマーには、最終的な材料中に少なくとも２０のモノマー単位が含まれる。当該材料には、放射線硬化膜又はコーティング中に組込まれ得るビニル基が含まれる。（メタ）アクリルビニル基が好ましい。（メタ）アクリルとは、アクリル基及び（メタ）アクリルビニル基の両方を意味する。当該コーティング中にこれらの材料を使用することにより、当該コーティングの爪の表面に対する全体的な接着性が改善されることが期待される。
【００１５】
ある実施態様では、当該溶媒システムに、塩基性又は酸性の基又はその塩を含有する化合物が含まれる。当該塩基性基は、特に重合化粧コーティングが、ある実施態様において存在する中性又はイオン化の形態における酸性基を含有する場合には、例えばアミンであり得る。例えば、当該溶媒システムは、トリエタノールアミン又はその塩を含むことができ、そして重合化粧コーティングは、カルボン酸、スルホン酸、若しくはリン系酸又はその塩等の酸性基を含有し得る。
【００１６】
他の実施態様では、当該溶媒システムは、酸性基又は酸性基の塩を含有する化合物を含み、そして当該重合化粧コーティングは、塩基性基又はカチオンを含有する。例えば、当該溶媒システムは、カルボン酸、スルホン酸、リン酸、塩酸、酢酸及び/又はクエン酸又はその酸の塩等の酸性基を含むことができ、そして当該重合化粧コーティングはアミン基、アミン塩、第４級アンモニウム基又はホスホニウム塩等の塩基性基を含む。他の実施態様では、当該溶媒システムは、酸性基又は酸性基の塩を含有する化合物及び非ヒドロキシル含有溶媒が含まれる。
【００１７】
他の実施態様では、酸性、塩基性又はカチオン性の基を含有する重合性コーティングが、爪又は別の硬化された又は乾燥されたコーティングに塗布され、未硬化のまま又は部分的にのみ硬化される場合がある。この実施態様では、その後、酸性、塩基性又はカチオン性の基を含有してもよいし又は含有しなくてもよい別のコーティングを塗布し、そしてその後両方のコーティングを硬化する。
【００１８】
別の態様では、本発明には、光開始剤並びに（メタ）アクリルオリゴマー又はポリマー、（メタ）アクリルモノマー、又は（メタ）アクリルオリゴマー又はポリマー及び（メタ）アクリルモノマーの混合物（オリゴマー又はモノマーは、酸性又は塩基性のイオン性基、その基の塩、又はカチオン性の基を有する。）を含む放射線重合性ネイルコーティング組成物を含む第１パッケージを含む２パッケージシステムが含まれる。更に、当該第１パッケージは酸性又は塩基性のイオン性基又は塩を有する非重合性添加剤を含み得る。第２パッケージは、重合性ネイルコーティング組成物が爪に塗布され放射線硬化された後、当該組成物を除去する溶媒システムを含み、当該溶媒システムが上記溶媒システムを含む。
【００１９】
当該重合性コーティング組成物中のオリゴマー、ポリマー、モノマー、及び／又は添加剤は、酸性若しくは塩基性若しくはカチオン性の基、又は酸性若しくは塩基性の基の塩を有することができ、この場合、第２パッケージは、重合性ネイルコーティング組成物を爪に塗布し放射線硬化した後、当該組成物を除去するための溶媒システムを含むことができ、当該溶媒システムは、酸性、塩基性又はカチオン性の基の対イオンとして中和するか作用するようにはたらくことができる化合物を含む。当該酸性基はカルボン酸、スルホン酸、又はリン酸系の基であり得、当該塩基性基はアミンであり得る。カチオン性基は例えば、第４級アンモニウム基であり得る。
【００２０】
酸性若しくは塩基性の基又は塩は、重合性コーティング組成物に幾つかの方法で組込まれ得る。代表的であるが非限定的な例としては、酸性若しくは塩基性の基又はその塩を含有するモノマーの組込みが挙げられる。
【００２１】
本発明に有用な重合性不飽和モノマーの例としては、アクリル酸、（メタ）アクリル酸、スチレンスルホン酸、マレイン酸、マレイン酸のモノエステル、フマル酸、フマル酸のモノエステル、ジメチルアミノエチルアクリラート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリラート、ジメチルアミノプロピルアクリラート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリラート、（メタ）アクリロイルエチルベタイン、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、２−（アクリロイルオキシ）エチルトリメチルアンモニウム塩、アクリルアミドプロピルトリアンモニウム塩（ａｃｒｙｌａｍｉｄｏｐｒｏｐｙｌｔｒｉｍｍｏｎｉｕｍ  ｓａｌｔｓ）、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）−２−プロペンアミド、イタコン酸、イタコン酸のモノエステル、ジエチルアミノエチルアクリラート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリラート、ビニルピリジン、アミノエチルアクリラート、アミノエチル（メタ）アクリラート、アミノスチレン、ジメチルアミノスチレン、クロトン酸、ホスホエチル（メタ）アクリラート、ジアリルジメチルアンモニウムモノマーの塩、Ｎ−トリルグリシングリシジル（メタ）アクリラート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリラート、及びコハク酸、マレイン酸、フタル酸、トリメリット酸、及びピロメリット酸（ｐｒｙｒｏｍｅｌｌｉｔｉｃ  ａｃｉｄｓ）の無水物を含む無水物のグリセロールジ（メタ）アクリラート付加物が挙げられる。
【００２２】
これらのモノマーから作られる非反応性ポリマー及びオリゴマーもまた、本発明において有用である。これらの材料は、これらのモノマーのホモポリマー又はこれらのモノマーのうち１種以上と他のモノマーとのコポリマーであり得る。多様な他のモノマーを使用して上記材料からコポリマーを形成することができる。一般に、これらのポリマー及びオリゴマーは、ラジカル重合法を用いて形成される。
【００２３】
酸性若しくは塩基性の基又は塩を含有する他の非反応性ポリマーもまた、本発明の放射線硬化性コーティング組成物に有用である。カルボキシル基を含有するセルロース材料を組込むことができる。縮合ポリマー、例えばポリエステル、ポリウレタン、ポリアミド及びポリ尿素、又はエステル、ウレタン、アミド、及び尿素の基の混合物を含有するポリマーもまた、当該コーティングに組込むことができる。例えば、酸基を組込んだポリウレタンは、米国特許第３，４１２，０５４号に記載されている。酸基を含有するポリエステルは、例えば酸性末端基を得るために過剰量の二酸を使用して、二酸をジオールと縮合させることにより調製することができる。塩基性又は酸性の基を有するポリアミドは、ジアミンと二酸との縮合により調製することができる。二酸対ジアミンの比率を変えることにより、ポリマー中に、酸性又は塩基性の基が残存して含有されるかどうかを制御することができる。所望により、残存するアミン基を第４級アンモニウム塩に転化することができる。エチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド又はテトラヒドロフランから作られたポリエーテル等の開環重合によって作られるポリマーは、重合にアジリジンを含ませることにより又は最初の反応物としてアミンを使用してポリマーを形成することにより、例えば塩基性基又は塩を含有させて作製することができる。これらの又は他の一般的な方法を使用して、酸性若しくは塩基性の基又は塩を、本発明のコーティング組成物に有用なオリゴマー又はポリマーに含ませることができる。
【００２４】
酸性若しくは塩基性の基又は塩を含有する反応性オリゴマーもまた、本発明に有用である。これらのオリゴマーを、上記非反応性ポリマー及びオリゴマーを反応性ポリマーに、種々の既知の方法により転化することにより作ることができる。例えば、酸基を含有する反応性（メタ）アクリル系ポリマーは、ポリマー構造にヒドロキシル含有モノマーを含ませ、その後当該ヒドロキシル単位をジイソシアナート及びヒドロキシル含有（メタ）アクリルモノマーと反応させることにより、又は当該ヒドロキシル単位を（メタ）アクリルイソシアナートと反応させることにより調製することができる。酸性基を含有する反応性ウレタンは、酸性基を含有するイソシアナート末端プレポリマーを、例えばカルボキシル基を含有するヒドロキシル含有材料（例えば、２−カルボキシル，１，３ジヒドロキシプロパン）を当該プレポリマーに含ませることにより、形成し、その後当該プレポリマーをヒドロキシル含有（メタ）アクリルモノマーと反応させることにより調製することができる。塩基性基を含有する反応性ポリエーテルは、エポキシドとアジリジンの反応後、酸性基含有（メタ）アクリル系モノマーと反応させることにより、又はエポキシドを酸性基含有（メタ）アクリル系モノマーと反応させることにより、調製することができる。本発明に有用な、酸性若しくは塩基性の基又は塩を含有する反応性オリゴマー及びポリマーを形成するための多くの他の方法がある。本発明に有用なモノマー、反応性オリゴマー、非反応性のオリゴマー及びポリマー又は他の添加剤の例としては、カルボン酸、スルホン酸、及びリン系酸の基、及びアミノ基等の塩基性基、並びにこれらの酸性及び塩基性の基の塩、を含むものが挙げられる。第４級アンモニウム基を含有するモノマー、反応性オリゴマー、非反応性のオリゴマー、ポリマー及び他の材料もまた、本発明に有用である。
【００２５】
幾つかの実施態様では、オリゴマー又はモノマーは、カルボン酸、スルホン酸、リン系酸からの酸性イオン性基を有し、そして当該溶媒システムは、アミン化合物を含むことができる。
【００２６】
当該コーティングは更に、放射線硬化性ネイルコーティングの分野で使用されるモノマー及びオリゴマーを含有し得る。
【００２７】
他の有用なモノマーの例には、アクリル酸及びメタクリル酸のエステル及びアミドが挙げられる。アクリル酸及びメタクリル酸のエステルは、本明細書中では（メタ）アクリル酸エステルと称される。モノメチル（メタ）アクリル酸エステルの特定の例には、非限定的に、メチル（メタ）アクリラート、エチル（メタ）アクリラート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリラート、エチル（メタ）アクリラート、ブチル（メタ）アクリラート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリラート、ブトキシエチル（メタ）アクリラート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリラート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリラート、エトキシエチル（メタ）アクリラート、ｔ−ブチルアミノエチル（メタ）アクリラート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリラート、ホスホエチル（メタ）アクリラート、メトキシプロピル（メタ）アクリラート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリラート、フェノキシエチレングリコール（メタ）アクリラート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリラート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリラート、２−（メタ）アクリルオキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルエチルフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルフタル酸、ステアリル（メタ）アクリラート、イソボルニル（メタ）アクリラート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリラート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリラート、（メタ）アクリルアミド、及びアリルモノマーが含まれる。二官能性メタクリル酸エステルの例には、非限定的に、１,４−ブタンジオールジ（メタ）アクリラート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリラート、１,９−ノナンジオールジ（メタ）アクリラート、１,１０−デカンジオールジ（メタ）アクリラート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリラート、２−メチル−１,８−オクタンジオールジ（メタ）アクリラート、グリセロールジ（メタ）アクリラート、エチレングリコールジ（メタ）アクリラート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリラート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリラート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリラート、エトキシル化プロピレングリコールジ（メタ）アクリラート、エトキシル化ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリラート、ポリエトキシプロポキシジ（メタ）アクリラート、エトキシル化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリラート、プロポキシル化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリラート、プロポキシル化エトキシル化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリラート、ビスフェノールＡグリシジル（メタ）アクリラート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリラート、グリセリンジ（メタ）アクリラート、エトキシル化グリセリンジ（メタ）アクリラート、ビスアクリルアミド、ビスアリルエーテル、及びアリル（メタ）アクリラートが含まれる。トリ及びこれ以上の高次の（メタ）アクリロイルエステルの例には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリラート、エトキシル化グリセリントリ（メタ）アクリラート、エトキシル化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリラート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）ア��リラート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリラート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリラート、プロポキシル化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリラート、エトキシル化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリラート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリラート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリラート、及びエトキシル化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリラートが含まれる。
【００２８】
本発明に有用なウレタン（メタ）アクリラートは、少なくとも２つ以上のアクリル基又はメタクリル基及びウレタン基を有する。例には、脂肪族、芳香族、ポリエステル、及びポリエーテルポリオールに基づくウレタン、並びに脂肪族、芳香族、ポリエステル、及びポリエーテルジイソシアナート（（メタ）アクリラート末端基でキャップされている）に基づくウレタンが含まれる。更に、イソシアナートプレポリマーを、ポリオール−ジイソシアナートコアの代わりに使用することができる。本発明に有用なエポキシ（メタ）アクリラート及びエポキシウレタン（メタ）アクリラートは、少なくとも２つ以上のアクリル又はメタクリル基を有し、任意にウレタン基を有する。例には、（メタ）アクリラート末端基でキャップされた、脂肪族又は芳香族エポキシプレポリマーに基づくエポキシ（メタ）アクリラートが含まれる。脂肪族又は芳香族ウレタンスペーサーを任意に、エポキシと（メタ）アクリラート末端基（複数可）の間に挿入することができる。本発明に有用なアクリル化ポリエステルオリゴマーは、少なくとも２つ以上のアクリル基又はメタクリル基及びポリエステルコアを有する。本発明に有用なアクリル化ポリエーテルオリゴマーは、少なくとも２つ以上のアクリル又はメタクリル基及びポリエーテルコアを有する。本発明に有用なアクリル化アクリラートオリゴマーは、少なくとも２つ以上のアクリル基又はメタクリル基及びポリアクリルコアを有する。これらの反応性ウレタン、エポキシ、ポリエステル、ポリエーテル及びアクリルは、ＢＡＳＦ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ、 Ｂａｙｅｒ ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ、 Ｂｏｍａｒ Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓ Ｃｏ, Ｃｏｇｎｉｓ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ、Ｃｙｔｅｃ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ Ｉｎｃ、ＤＳＭ ＮｅｏＲｅｓｉｎｓ、 Ｅｔｅｒｎａｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ, Ｌｔｄ、 ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ、 Ｒａｈｎ ＡＧ、 Ｓａｒｔｏｍｅｒ ＵＳＡ、 ＬＬＣ、及び ＳＩ Ｇｒｏｕｐ, Ｉｎｃ.を含む幾つかの供給業者から入手できる。
【００２９】
上記（メタ）アクリラート系重合性モノマーに加えて、他の重合性モノマー、分子内に少なくとも1つのフリーラジカル重合性基を含有するモノマーのオリゴマー又はポリマーは、いかなる制限を課すことなく硬化性ゲル中で使用することができる。少なくとも1つのフリーラジカル重合性基を有する化合物には、単一の成分だけでなく、重合性モノマーの混合物も含まれる。従って、フリーラジカル重合性基を含有する２種以上の材料の組合せを併用することができる。
【００３０】
ゲルには更に、光開始剤が含まれる。これらの例には、ベンジルケトン、モノマー性ヒドロキシルケトン、ポリマー性ヒドロキシルケトン、アルファアミノケトン、アシルホスフィンオキシド、メタロセン、ベンゾフェノン、ベンゾフェノン誘導体等が含まれる。具体な例には、１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン、２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−（４−モルホリニル）フェニル）−１−ブタノン（２−ｂｅｎｚｙｌ−２−(ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏ)−１−(４−(４−ｍｏｒｐｈｏｒｌｉｎｙｌ)ｐｈｅｎｙｌ)−１−ｂｕｔａｎｏｎｅ）、２−メチル−１−（４−メチルチオ）フェニル−２−（４−モルホリニル）−１−プロパノン（２−ｍｅｔｈｙｌ−１−(４−ｍｅｔｈｙｌｔｈｉｏ)ｐｈｅｎｙｌ−２−(４−ｍｏｒｐｈｏｒｌｉｎｙｌ)−１−ｐｒｏｐａｎｏｎｅ）、ジフェニル−（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド、フェニルビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド、ベンジル−ジメチルケタール、イソプロピルチオキサントン、及びこれらの混合物が含まれる。
【００３１】
更に、脂肪族又は芳香族アミン等の光促進剤、並びに充填剤、阻害剤、可塑剤及び接着促進剤をゲル中に含ませることができる。
【００３２】
更に、コーティングは、当該技術分野において通常使用される充填剤、可塑剤、顔料、染料、レオロジー変性剤、及び色安定剤を含有することができる。
【００３３】
ヒトの爪から放射線重合化粧コーティングを除去する方法には、ヒドロキシル含有溶媒を含む溶媒システムを、酸性若しくは塩基性の基又は塩を含み、水では除去できないネイルコーティングに塗布し、そして当該溶媒に当該コーティングを短時間浸し、その後、ネイルコーティングを優しくスクラップにすること又は布で拭くこと又は水又は石鹸と水で洗うことが含まれる。当該溶媒システムには、ヒドロキシル含有溶媒及び非ヒドロキシル含有溶媒の両方が含まれ得る。ヒドロキシル含有溶媒の例には、メタノール、エタノール、及びイソプロパノールが含まれ、エタノールが最も好ましい。非ヒドロキシル含有溶媒の例には、アセトン、酢酸エチルが含まれる。２種以上の又はいずれか若しくは両方の溶媒の混合物も企図される。
【００３４】
ヒト爪用ＵＶ重合性コーティング組成物は、溶媒システムに浸すことにより、所望の際、容易に除去できるように特に設計された酸性、塩基性、塩、又はカチオン性の基等のイオン基又はイオン性基を含む特別に配合されたシステムであり得、当該溶媒システムは、ヒドロキシル及び非ヒドロキシル含有溶媒、例えばアセトン、酢酸エチル、及び任意に塩基性若しくは酸性の基又は塩を含有する化合物を含む。適するアミンには、トリエタノールアミンが含まれ、そして適する酸性化合物は、カルボン酸、スルホン酸、又はリン酸の基を含む化合物、及び塩酸である。
【００３５】
重合ヒト爪コーティングは、酸性又は塩基性の化合物（前記溶媒システム中に存在する場合）に対する対イオンを含み、例えば前記溶媒システムにアミン又は他の塩基が含まれる場合は酸性基を含み、或いは前記溶媒システムに酸が含まれる場合はアミン等の塩基性基が含まれる。
【００３６】
本発明の組成物の態様には、第１パッケージ及び第２パッケージを含む２パッケージシステム又はキットが含まれる。第１パッケージには、（メタ）アクリルオリゴマー、（メタ）アクリルモノマー、（メタ）アクリルポリマーあるいは（メタ）アクリルオリゴマー及び／又はポリマー及び（メタ）アクリルモノマーの混合物（オリゴマー又はモノマーは酸性又は塩基性のイオン性基を有する）、任意に酸性又は塩基性の機能性添加剤又は塩、並びに光開始剤を含む重合性ネイルコーティング組成物が含まれ、第２パッケージには、爪に塗布し、放射線硬化した後、重合性ネイルコーティング組成物を除去する溶媒システムが含まれ、当該溶媒システムにはヒドロキシル含有溶媒及び非ヒドロキシル含有溶媒が含まれる。例えば、オリゴマー、モノマー、又はポリマーには、カルボン酸、スルホン酸、又はリン系酸からなる群から選択される酸性イオン性基、又はジメチルアミノエチル（メタ）アクリラート又はジメチルアミノプロピル（メタ）アクリラート等の塩基性イオン性基が含まれることが可能であり、そして前記溶媒システムには、オリゴマー、モノマー、又はポリマーが酸性基又は酸性化合物を含有する場合、アミン化合物及びヒドロキシル含有化合物が含まれ、オリゴマー、モノマー、又はポリマーが塩基性基を含む場合。第１及びパッケージ及び第２パッケージは無論別々に販売可能であり、場合によっては、硬化性ポリマーシステムを選択すること及び溶媒システムを別々に選択することを消費者に提供して、利用可能とできるので、キットとして販売される必要はない。
【００３７】
光開始剤、モノマー及び/又はオリゴマー、及び任意の添加剤を含むヒトの爪のコーティング用ＵＶ硬化性組成物の幾つかの態様では、当該モノマー及び／又はオリゴマー及び／又は任意の添加剤は、イオン性の酸性若しくは塩基性又はカチオン性の基を有する。このようなイオン性基は、硬化性組成物をＵＶ放射線に当てることにより硬化したコーティングの除去性を改良するような態様に適合しており、当該硬化コーティングは、コーティング中のイオン性基の対イオンを含有する化合物を含有する、ヒドロキシル含有溶媒及び非ヒドロキシル含有溶媒を含む溶媒システムに浸すと除去できる。
【００３８】
【実施例】
【００３９】
（例１）オリゴマーの調製
【００４０】
反応性オリゴマーを以下のように調製した。
攪拌機を備えた樹脂製ケトルに、乾燥空気下、０．６モルのイソホロンジイソシアナート（ＩＰＤＩ）及び０．１６０グラムのＤＢＤＴＬ及び１．１グラムのブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）を入れた。その後、０．６モルのヒドロキシエチルアクリラート（ＨＥＡ）を１時間かけて添加し、その後０．３０モルの分子量（Ｍｗ）  ２０００のポリブチレングリコールジオールを添加した。添加後、イソシアナートのピークが赤外スペクトルに残らなくなるまで当該反応を８０℃で保持した。
【００４１】
（例２）：酸含有オリゴマーを用いたソークオフの結果
材料：
ＥＭＡ−エチルメタクリラート
ＨＥＭＡ−ヒドロキシメチルエチルメタクリラート
Ｓａｒｂｏｘ ５１０Ｅ３５−エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリラートで希釈した８官能性酸含有オリゴマー
Ｓａｒｂｏｘ ＳＢ４００−ＰＭアルコールで希釈した８官能性酸含有オリゴマー
ＴＰＯ−ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド
【００４２】
以下の配合物を使用した。
【表１】
2019070022.tif 000002
【表２】
2019070022.tif 000003
【００４３】
ドローダウンバーを用いて、各配合物の１０ミルのフィルムをガラススライドに塗布した。その後、当該フィルムを３分間、ネイル業界で硬化用に使用される標準的な紫外線ランプの下で硬化させた。硬化後、当該スライドを溶媒に浸漬し、当該フィルムが当該ガラスから完全に剥離するのに必要な時間を測定した。表１（アセトンは先行技術を示す。）に、その結果を示す。
【表３】
2019070022.tif 000004
【００４４】
（例３）酸含有プレコートを有する場合のソークオフの結果
【００４５】
別の実験では、酢酸エチルに溶解された２０％Ｓａｒｂｏｘ ５１０Ｅ３５からなるプライマーコートを使用した。プレコートを、ネイルジェルブラシを用いて塗布した後、ドローダウンを配合３（下表に成分を列挙する。）により作製した。
【表４】
2019070022.tif 000005
得られた或いはフィルムを上記のように硬化し、ソークオフの結果を、上記と同じ方法を用いて得た。比較結果を下の表２に示す。
【表５】
2019070022.tif 000006
【００４６】
従って、本発明は、本目的を実行し、記載した目的及び利点、並びに本発明に内在する他の点を達成するために良好に適合される。本発明は、記載され且つ説明され、本発明の具体的な実施態様を参照することによって明確にされるが、このような参照によって、本発明が限定されることを意味するものではなく、このような限定を推測すべきではない。従って、本発明には、添付したクレームの精神及び範囲によってのみ限定されることが意図されるものであり、全ての点において均等物への完全な認識を与えるものである。
【手続補正書】
【提出日】平成31年1月30日(2019.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
爪から放射線重合化粧コーティングを除去する方法であって、ヒドロキシル含有溶媒を含む溶媒システムを該重合化粧コーティングに塗布することを含む、上記方法、
（メタ）アクリルオリゴマー、（メタ）アクリルポリマー、若しくは（メタ）アクリルモノマー、或いは（メタ）アクリルオリゴマー及び／又は（メタ）アクリルポリマー及び（メタ）アクリルモノマーの混合物（該オリゴマー又はモノマーは酸性又は塩基性のイオン性基を有する）、並びに光開始剤を含む放射線重合性ネイルコーティング組成物を含む第１パッケージ；及び
該重合性ネイルコーティング組成物を爪に塗布し、放射線硬化した後、該重合性ネイルコーティング組成物を除去するための溶媒システムであって、ヒドロキシル含有溶媒及び非ヒドロキシル含有溶媒を含む上記溶媒システムを含む第２パッケージ；
を含む、２パッケージシステム、或いは、
光開始剤、モノマー及び/又はオリゴマー、並びに光添加剤を含むヒトの爪をコーティングするための放射線硬化性組成物であって、該モノマー及び／又はオリゴマー及び／又は光添加剤が酸又は塩基性イオン性基又はカチオン性基を有し、該イオン性基が、該硬化性組成物をＵＶ放射線に当てることにより硬化されたコーティングの除去性を改良するように適合され、該硬化コーティングが、該コーティング中のイオン性基の対イオンを含有するヒドロキシル含有溶媒及び非ヒドロキシル含有溶媒を含む溶媒システムを用いて浸された際、除去可能である、ヒトの爪をコーティングするための上記放射線硬化性組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
従って、本発明は、本目的を実行し、記載した目的及び利点、並びに本発明に内在する他の点を達成するために良好に適合される。本発明は、記載され且つ説明され、本発明の具体的な実施態様を参照することによって明確にされるが、このような参照によって、本発明が限定されることを意味するものではなく、このような限定を推測すべきではない。従って、本発明には、添付したクレームの精神及び範囲によってのみ限定されることが意図されるものであり、全ての点において均等物への完全な認識を与えるものである。
本発明の好ましい態様には以下が含まれる。
（１）爪から放射線重合化粧コーティングを除去する方法であって、ヒドロキシル含有溶媒を含む溶媒システムを該重合化粧コーティングに塗布することを含む、上記方法。
（２）前記溶媒システムが、ヒドロキシル含有溶媒及び非ヒドロキシル含有溶媒を含む、（１）に記載の方法。
（３）前記ヒドロキシル含有溶媒が、メタノール、エタノール、及びイソプロパノールからなる群から選択される、（１）に記載の方法。
（４）前記溶媒システムが、アセトン及び酢酸エチルからなる群から選択される非ヒドロキシル含有溶媒を含む、（１）に記載の方法。
（５）前記溶媒システムが、メタノール、エタノール、及び水からなる群から選択されるヒドロキシル含有溶媒、並びにアセトン及び酢酸エチルからなる群から選択される非ヒドロキシル含有溶媒を含む、（１）に記載の方法。
（６）前記溶媒システムが、水溶性有機溶媒及び水を含む、（１）に記載の方法。
（７）前記溶媒システムが、塩基性若しくは酸性の基又はこれらの塩を含有する化合物を含む、（１）に記載の方法。
（８）酸性、塩基性、又はカチオン性の基の対イオンとして中和するか又は作用するようにはたらき得る化合物を含む、（１）に記載の方法。
（９）前記溶媒システムが、前記重合化粧コーティング中に存在するイオン又はイオン性の基の対イオンを含有する化合物を含む、（１）に記載の方法。
（１０）前記溶媒システムが、酸性基を含有する重合化粧コーティングを除去するように適合されたアミン対イオンを含有する化合物を含む、（１）に記載の方法。
（１１）前記溶媒システムが、酸性イオンを含有する重合化粧コーティングを除去するように適合されたアミン対イオンを含有する非ヒドロキシル含有溶媒を含む、（１）に記載の方法。
（１２）前記溶媒システムが、酸性基又はその基を含有する化合物を含み、及び前記重合化粧コーティングが、塩基又は塩基性イオンを含有する、（１）に記載の方法。
（１３）前記溶媒システムが、トリエタノールアミンを含み、及び前記重合化粧コーティングが、カルボン酸、スルホン酸、リン系酸からなる群から選択される酸性基を含有する、（１）に記載の方法。
（１４）前記溶媒システムが、カルボン酸、スルホン酸、リン系酸、塩酸、及びクエン酸から選択される酸性基を含有する化合物を含み、及び前記重合化粧コーティングが、塩基性基を含有する、（１）に記載の方法。
（１５）（メタ）アクリルオリゴマー、（メタ）アクリルポリマー、若しくは（メタ）アクリルモノマー、或いは（メタ）アクリルオリゴマー及び／又は（メタ）アクリルポリマー及び（メタ）アクリルモノマーの混合物（該オリゴマー又はモノマーは酸性又は塩基性のイオン性基を有する）、並びに光開始剤を含む放射線重合性ネイルコーティング組成物を含む第１パッケージ；及び
該重合性ネイルコーティング組成物を爪に塗布し、放射線硬化した後、該重合性ネイルコーティング組成物を除去するための溶媒システムであって、ヒドロキシル含有溶媒及び非ヒドロキシル含有溶媒を含む上記溶媒システムを含む第２パッケージ；
を含む、２パッケージシステム。
（１６）前記オリゴマー、ポリマー又はモノマーが酸性又は塩基性のイオン性基を有し、及び第２パッケージが、前記重合性ネイルコーティング組成物を爪に塗布し、放射線硬化した後、前記重合性ネイルコーティング組成物を除去するための溶媒システムであって、前記化粧コーティング組成物中に存在するイオン性基の対イオンを含有する化合物を含む上記溶媒シムテムを含む、（１５）に記載の２パッケージシステム。
（１７）オリゴマー、ポリマー、又はモノマーが、カルボン酸、スルホン酸、リン系酸からなる群から選択される酸性イオン性基を有し、及び前記溶媒システムがアミン化合物及びヒドロキシル含有化合物を含む、（１５）に記載の２パッケージシステム。
（１８）光開始剤、モノマー及び/又はオリゴマー、並びに光添加剤を含むヒトの爪をコーティングするための放射線硬化性組成物であって、該モノマー及び／又はオリゴマー及び／又は光添加剤が酸又は塩基性イオン性基又はカチオン性基を有し、該イオン性基が、該硬化性組成物をＵＶ放射線に当てることにより硬化されたコーティングの除去性を改良するように適合され、該硬化コーティングが、該コーティング中のイオン性基の対イオンを含有するヒドロキシル含有溶媒及び非ヒドロキシル含有溶媒を含む溶媒システムを用いて浸された際、除去可能である、ヒトの爪をコーティングするための上記放射線硬化性組成物。
（１９）前記添加剤がポリマーである、（１８）に記載の組成物。
（２０）前記添加剤がオリコマーである、（１８）に記載の組成物。
（２１）  光開始剤、（メタ）アクリルオリゴマー又は（メタ）アクリルポリマー又はこれらの混合物を含むヒトの爪をコーティングするための放射線硬化性組成物であって、該オリゴマー又はポリマーが、酸性、塩基性又はカチオン性の基を含有する、ヒトの爪をコーティングするための上記放射線硬化性組成物。
【外国語明細書】
2019070022000001.pdf