(57)【要約】【課題】光ビームを操縦するためのシステムおよび方法に関する。【解決手段】例えば、関心視野にわたって光ビームを走査するため、光ビームの角度を調整するために、非機械的ビームステアラを提供することができる。非機械的ビームステアラは、光ビームのサイズよりも小さいステアリング素子の第１集合を含むことができる。ステアリング素子の第１集合は、光ビームを回折することによって光ビームの角度を調整することができる。非機械的ビームステアラはまた、光ビームのサイズよりも大きいステアリング素子の第２集合を含むことができる。ステアリング素子の第２集合は、光ビームを屈折させることによって光ビームの角度を調整することができる。非機械的ビームステアラは、例えば、ビームステアラのサイズを減少させ、ビームステアラの受光角度を増大させるように、補正板なしで動作することができる。【選択図】図１
2019035960.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ビームの角度を調整するためのビームステアリング装置であって、
第１ビームステアリング部分であって、
前記光ビームを面内方向に回折させる部分開口ビームステアリング素子の集合を備える、第１ビームステアリング部分と、
第２ビームステアリング部分であって、
前記光ビームを面内方向に屈折させる全開口屈折ビームステアリング素子の集合を備える、第２ビームステアリング部分と、を備える、ビームステアリング装置。
【請求項２】
部分開口ビームステアリング素子の前記集合は、前記光ビームを第１面内方向に回折させる部分開口ビームステアリング素子の第１集合と、前記光ビームを第２面内方向に回折させる部分開口ビームステアリング素子の第２集合とを備えており、
全開口屈折ビームステアリング素子の前記集合は、前記光ビームを前記第１面内方向に屈折させる全開口屈折ビームステアリング素子の第１集合と、前記光ビームを前記第２面内方向に屈折させる全開口屈折ビームステアリング素子の第２集合とを備えている、請求項１に記載のビームステアリング装置。
【請求項３】
前記第１面内方向および前記第２面内方向は、二等分線に対して角度的に対向している、請求項２に記載のビームステアリング装置。
【請求項４】
部分開口ビームステアリング素子の前記第１集合は、部分開口ビームステアリング素子の第１列を備えており、部分開口ビームステアリング素子の前記第１列における前記部分開口ビームステアリング素子の個々の素子は、前記部分開口ビームステアリング素子の前記個々の素子によって屈折された前記光ビームの前記部分開口部分の角度が、部分開口ビームステアリング素子の前記第１列の回折次数の角度に対応するようなピッチを有している、請求項２または３に記載のビームステアリング装置。
【請求項５】
部分開口ビームステアリング素子の前記第１および第２集合の各々は、二等辺三角形の少なくとも１つの列を含み、前記光ビームの対応する部分の圧縮を低減させるために前記二等辺三角形の底辺が前記光ビームの前記対応する部分の進行方向にほぼ平行であるように、個々の二等辺三角形はそれぞれ傾斜している、請求項２〜４のいずれか１項に記載のビームステアリング装置。
【請求項６】
部分開口ビームステアリング素子の前記第１集合は、回折ビームステアリングと各部分開口屈折素子に対応する前記光ビームのサイズの減少とを提供するように配置された傾斜面を有する部分開口屈折素子の第１列と、さらなるビームステアリングと、部分開口屈折素子の前記第１列によって生じるビームサイズの前記減少を補正するように各部分開口素子に対応する前記光ビームの前記サイズの増大とを提供ための、部分開口屈折素子の前記第１列の前記傾斜面に対して配置された傾斜面を有する部分開口屈折素子の第２列と、を含む、請求項２に記載のビームステアリング装置。
【請求項７】
導波路の長さに沿って前記光ビームを導くように成形された導波路コアと、
前記光ビームの一部と相互作用することができる電気光学材料を含むクラッドと、を備えており、
前記第１または第２ビームステアリング部分の少なくとも１つは、前記電気光学材料の屈折率を調整することによって前記光ビームの角度を面内方向に調整するように成形され配置された少なくとも１つの電極を備えている、請求項１〜６のいずれか１項に記載のビームステアリング装置。
【請求項８】
前記光ビームを面外方向に操縦するエバネッセントアウトカプラを含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載のビームステアリング装置。
【請求項９】
平面導波路を用いて光ビームを操縦する方法であって、
第１ビームステアリング部分を用いて前記光ビームの部分開口部分を第１面内方向に回折させることと、
第２ビームステアリング部分を用いて前記光ビームを前記第１面内方向に屈折させることと、を含む方法。
【請求項１０】
前記光ビームの部分開口部分を第２面内方向に回折させることと、前記光ビームを前記第２面内方向に屈折させることと、を含み、前記第１面内方向および前記第２面内方向は、二等分線に対して角度的に対向している、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
個々の部分開口屈折素子に対応する前記光ビームの部分開口部分を、部分開口ビームステアリング素子の第１集合の第１列の回折次数の角度に対応する角度で屈折させることを含む、請求項９または１０に記載の方法。
【請求項１２】
離散ステアリング電圧の組の１つを部分開口ビームステアリング素子の前記第１列に印加することによって、部分開口ビームステアリング素子の前記第１集合の前記第１列の回折次数の組の１つに前記光ビームを回折することを含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
部分開口ビームステアリング素子の第１集合における少なくとも１列の傾斜した二等辺三角形を使用して前記光ビームを回折させることを含み、各個々の二等辺三角形は、前記二等辺三角形の底辺が、前記光ビームの対応する部分の進行方向にほぼ平行であり、前記光ビームの前記対応する部分の圧縮を低減させるように、傾斜している、請求項９〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記光ビームを前記第１面内方向に回折的に操縦し、部分開口屈折素子の第１列における各部分開口屈折素子に対応する前記光ビームのサイズを減少させることと、前記光ビームを前記第１面内方向にさらに回折的に操縦し、前記複数の部分開口屈折素子の各々に対応する前記光ビームの前記サイズを増大させて部分開口屈折素子の前記第１列によって生じるビームサイズの前記減少を補正することと、を含む、請求項９〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記光ビームを導波路の長さに沿って導くことと、
前記光ビームの一部と相互作用する電気光学クラッドの屈折率を調整することによって、前記光ビームの角度を面内方向に調整することと、を含む、請求項９〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、光ビームを操縦するためのシステムおよび方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
特定の非機械的ビームステアラは、光ビームの角度を動的に調整する際に、課題に直面する可能性がある。
【発明の概要】
【０００３】
特定のビームステアリングシステムでは、部分開口屈折素子のアレイを使用して光ビームの角度を調整し、回折効果を低減することができる。例えば屈折アレイ内の個々の素子の各々を輝かせることによって、さらに補正板を使用することによって、回折効果を低減することができる。補正板の使用はビームステアラのサイズを増大させ、さらにビームステアラの許容角度を制限する可能性がある。本発明者らは、例えば、コンパクトなビームステアラを提供し、ビームステアラの許容角度を増大させるように、補正板なしで動作することができる非機械的ビームステアラが必要であることを特に認識した。本開示のさらなる特徴は、添付の特許請求の範囲において提供され、この特徴は、本明細書の他の箇所に明示的に示されていない限り、任意の置換または組み合わせで互いに随意的に組み合わせることができる。
【０００４】
一態様では、本開示は、光ビームの角度を調整するためのビームステアリング装置を特徴とすることができる。ビームステアリング装置は、離散ビームステアリング部分を含むことができる。離散ビームステアリング部分は、例えば光ビームを面内方向に回折させる部分開口ビームステアリング素子の集合を含むことができる。ビームステアリング装置はまた、連続ビームステアリング部分を含むことができる。連続ビームステアリング部分は、例えば光ビームを面内方向に連続的に屈折させる全開口屈折ビームステアリング素子の集合を含むことができる。部分開口ビームステアリング素子の集合は、例えば光ビームを第１面内方向に回折させる部分開口ビームステアリング素子の第１集合と、例えば光ビームを第２面内方向に回折させる部分開口ビームステアリング素子の第２集合とを含み、全開口屈折ビームステアリング素子の集合は、例えば光ビーム第１面内方向に連続的に屈折させる全開口屈折ビームステアリング素子の第１集合と、例えば光ビームを第２面内方向に連続的に屈折させる全開口屈折ビームステアリング素子の第２集合とを含む。第１面内方向および第２面内方向は、二等分線に対して角度的に対向することができる。部分開口ビームステアリング素子の第１集合は、部分開口ビームステアリング素子の第１列を含むことができ、部分開口ビームステアリング素子の第１列における部分開口ビームステアリング素子の個々の素子は、部分開口ビームステアリング素子の個々の素子によって屈折された光ビームの部分開口部分の角度が、部分開口ビームステアリング素子の第１列の回折次数の角度に対応するようなピッチを有することができる。部分開口ビームステアリング素子の第２集合は、部分開口ビームステアリング素子の第１列を含むことができ、部分開口ビームステアリング素子の第１列における部分開口ビームステアリング素子の個々の素子は、部分開口ビームステアリング素子の個々の素子によって屈折された光ビームの部分開口部分の角度が、部分開口ビームステアリング素子の第１列の回折次数の角度に対応するようなピッチを有することができる。部分開口ビームステアリング素子の第１および第２集合の各々は、少なくとも１つの二等辺三角形の列を含むことができ、各個々の二等辺三角形は、二等辺三角形の底辺が、光ビームの対応する部分の進行方向にほぼ平行であり、例えば光ビームの対応する部分の圧縮を低減させるように傾斜することができる。部分開口ビームステアリング素子の第１集合は、例えば回折ビームステアリングと各部分開口屈折素子に対応する光ビームのサイズの減少とを提供するように配置された傾斜面を有する部分開口屈折素子の第１列と、例えばさらなるビームステアリングと各部分開口素子に対応する光ビームのサイズの増大とを提供して、例えば部分開口屈折素子の第１列によって生じるビームサイズの減少を補正するように部分開口屈折素子の第１列の傾斜面に対して配置することができる傾斜面を有する部分開口屈折素子の第２列とを含むことができる。傾斜面は、光ビームの進行方向に対して傾斜することができる。ビームステアリング装置はまた、導波路の長さに沿って光ビームを導くように成形された導波路コアを含むことができる。ビームステアリング装置はまた、光ビームの一部と相互作用することができる電気光学材料を含むクラッドを含むことができる（例えば、電気光学材料が光ビームに屈折率を提供することができる）。ビームステアリング装置はまた、電気光学材料の屈折率を調整することによって光ビームの角度を面内方向に調整するように成形され配置された少なくとも１つの電極を含むことができる。ビームステアリング装置はまた、例えば光ビームを面外方向に操縦するエバネッセントアウトカプラを含むことができる。
【０００５】
一態様では、本開示は、平面導波路を用いて光ビームを操縦する方法を特徴とすることができる。本方法は、部分開口ビームステアリング素子の第１集合を含む、導波路の離散ビームステアリング部分を提供することを含むことができ、例えば光ビームを第１面内方向に回折させる。本方法はまた、部分開口ビームステアリング素子の第１集合を含む、導波路の連続ビームステアリング部分を提供することを含むことができ、例えば光ビームを第１面内方向に屈折させる。本方法はまた、部分開口ビームステアリング素子の第２集合を含む離散ビームステアリング部分を提供して、例えば光ビームを第２面内方向に回折させることと、部分開口ビームステアリング素子の第２集合を含む連続ビームステアリング部分を提供して、例えば光ビームを第２面内方向に屈折させることとを含むことができ、第１面内方向および第２面内方向は、二等分線に対して角度的に対向することができる。本方法はまた、部分開口ビームステアリング素子の第１集合の第１列に個々の部分開口ビームステアリング素子を提供することを含むことができ、例えば、光ビームの対応する部分開口部分を、部分開口ビームステアリング素子の第１集合の第１列の回折次数の角度に対応する角度で屈折させる。本方法はまた、部分開口ビームステアリング素子の第１集合の第１列に連結された第１電極を提供することを含むことができ、例えば、離散ステアリング電圧の組の１つを部分開口ビームステアリング素子の第１列に印加することによって、例えば、部分開口ビームステアリング素子の第１集合の第１列の回折次数の組の１つに光ビームを回折する。本方法はまた、部分開口ビームステアリング素子の第１集合において少なくとも１列の傾斜した二等辺三角形を提供して、例えば光ビームを回折させることを含むことができ、各個々の二等辺三角形は、二等辺三角形の底辺が光ビームの対応する部分の進行方向にほぼ平行となり得るように傾斜することができ、例えば光ビームの対応する部分の圧縮を低減させる。本方法はまた、例えば第１方向に回折ビームステアリングと各部分開口屈折素子に対応する光ビームのサイズの減少とを提供するように、部分開口屈折素子の第１集合において第１列と、例えば第１方向にさらなるビームステアリングと、各部分開口素子に対応する光ビームのサイズの増大とを提供して、例えば部分開口屈折素子の第１列によって生じるビームサイズの減少を補正するように、部分開口屈折素子の第１集合において第２列と、を提供することを含む。本方法はまた、光ビームを導波路の長さに沿って導く導波路のコアを提供することを含むことができる。本方法はまた、光ビームの一部と相互作用することができる電気光学クラッドを提供することを含むことができる。本方法はまた、電気光学クラッドの屈折率を調整することによって光ビームの角度を面内方向に調整するように成形され配置された少なくとも１つの電極を提供することを含むことができる。
【０００６】
一態様では、本開示は、光ビームの角度を調整するための導波路を特徴とすることができる。導波路は、導波路の長さに沿って光ビームを導くように成形された導波路コアを含むことができる。導波路はまた、光ビームの一部と相互作用することができる電気光学材料を含むクラッドを含むことができる。導波路はまた、例えば電気光学材料の屈折率を調整することによって光ビームの角度を面内方向に調整するように成形され配置された電極を含むことができる。電極配置は、離散ビームステアリング部分を含むことができる。離散ビームステアリング部分は、部分開口ビームステアリング素子の集合を含むことができ、例えば光ビームを面内方向に回折する。電極配置はまた、連続ビームステアリング部分を含むことができる。連続ビームステアリング部分は、全開口屈折ビームステアリング素子の集合を含むことができ、例えば光ビームを面内方向に連続的に屈折させる。部分開口ビームステアリング素子の集合は、部分開口ビームステアリング素子の第１列を含むことができ、部分開口ビームステアリング素子の第１列における部分開口ビームステアリング素子の個々の素子は、部分開口ビームステアリング素子の個々の素子によって屈折された光ビームの部分開口部分の角度が、部分開口ビームステアリング素子の第１列の回折次数の角度に対応するようなピッチを有することができる。部分開口ビームステアリング素子の集合は、光ビームを第１面内方向に操縦することができる部分開口ビームステアリング素子の第１列を含むことができ、部分開口ビームステアリング素子の第１列における部分開口ビームステアリング素子の個々の素子は、部分開口ビームステアリング素子の個々の素子によって屈折された光ビームの部分開口部分の角度が、部分開口ビームステアリング素子の第１列の回折次数の角度に対応するようなピッチを有することができ、部分開口ビームステアリング素子の集合は、光ビームを第２面内方向に操縦することができる部分開口ビームステアリング素子の第２列を含むことができ、部分開口ビームステアリング素子の第２列における部分開口ビームステアリング素子の個々の素子は、部分開口ビームステアリング素子の個々の素子によって屈折された光ビームの部分開口部分の角度が、部分開口ビームステアリング素子の第２列の回折次数の角度に対応するようなピッチを有することができる。部分開口ビームステアリング素子の集合は、光ビームを第１面内方向にさらに操縦することができる部分開口ビームステアリング素子の第２列を含むことができ、部分開口ビームステアリング素子の第２列における部分開口ビームステアリング素子の個々の素子は、第１列における個々の部分開口ビームステアリング素子と同じピッチを有することができる。
【０００７】
一態様では、本開示は、平面導波路を用いて光ビームを操縦する方法を特徴とすることができる。本方法は、光ビームの部分開口部分を第１面内方向に離散的に回折することを含むことができる。本方法はまた、光ビームを第１面内方向に連続的に屈折させることを含むことができる。本方法はまた、光ビームの部分開口部分を第２面内方向に離散的に回折し、光ビームを第２面内方向に連続的に屈折させることを含み、第１面内方向および第２面内方向は、二等分線に対して角度的に対向している。本方法はまた、個々の部分開口屈折素子に対応する光ビームの部分開口部分を、部分開口ビームステアリング素子の第１集合の第１列の回折次数の角度に対応する角度で屈折させることを含むことができる。本方法はまた、離散ステアリング電圧の組の１つを部分開口ビームステアリング素子の第１列に印加することによって、部分開口ビームステアリング素子の第１集合の第１列の回折次数の組の１つに光ビームを離散的に回折することを含むことができる。本方法はまた、部分開口ビームステアリング素子の第１集合における少なくとも１列の傾斜した二等辺三角形を使用して光ビームを回折させることを含むことができ、各個々の二等辺三角形は、二等辺三角形の底辺が、光ビームの対応する部分の進行方向にほぼ平行であり、光ビームの対応する部分の圧縮を低減させるように、傾斜している。本方法はまた、光ビームを第１面内方向に回折的に操縦し、部分開口屈折素子の第１列における各部分開口屈折素子に対応する光ビームのサイズを減少させることと、光ビームを第１面内方向にさらに回折的に操縦し、複数の部分開口屈折素子の各々に対応する光ビームのサイズを増大させて部分開口屈折素子の第１列によって生じるビームサイズの減少を補正することと、を含むことができる。本方法はまた、光ビームを導波路の長さに沿って導くことと、光ビームの一部と相互作用することができる電気光学クラッドの屈折率を調整することによって、光ビームの角度を面内方向に調整することとを含む。
【０００８】
本開示は、例として、添付の図面を参照して以下に説明される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、ハイブリッドビームステアラの一例を示す。
【図２Ａ】図２Ａは、ハイブリッドビームステアラの一例を示す。
【図２Ｂ】図２Ｂは、ハイブリッドビームステアラの断面図の一例を示す。
【図２Ｃ】図２Ｃは、ハイブリッドビームステアラの一例を示す。
【図２Ｄ】図２Ｄは、ハイブリッドビームステアラの一例を示す。
【図３Ａ】図３Ａは、ハイブリッドビームステアラの動作の一例を示す。
【図３Ｂ】図３Ｂは、ハイブリッドビームステアラの動作の一例を示す。
【図３Ｃ】図３Ｃは、ハイブリッドビームステアラの動作の一例を示す。
【図４】図４は、ハイブリッドビームステアラにおける回折損失のシミュレーション結果を示す。
【図５】図５は、非機械的ビームステアラの一例を示す。
【図６Ａ】図６Ａは、非機械的ビームステアラの動作の一例を示す。
【図６Ｂ】図６Ｂは、非機械的ビームステアラの動作の一例を示す。
【図７】図７は、非機械的ビームステアラを用いて光ビームを操縦する方法を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
非機械的ビームステアラは、光ビームの角度を調整することができ、例えば、関心視野にわたって光ビームを走査することができる。非機械的ビームステアラは、自動車用ライダーシステムのようなライダーシステムに使用することができる。部分開口屈折素子のアレイを使用して、光ビームの角度を調整することができ、回折効果を低減することができる。例えば屈折アレイ内の個々の素子の各々を輝かせることによって、さらに補正板を使用することによって、調整することができる。しかし、補正板の使用はビームステアラのサイズを増大させ、さらにビームステアラの許容角度を制限する可能性がある。以下では、例えば、コンパクトなビームステアラを提供し、ビームステアラの許容角度を増大させるように、補正板なしで動作することができる非機械的ビームステアラについて説明する。
【００１１】
図１は、ハイブリッドビームステアラ１００の一例を示す。ハイブリッドビームステアラ１００は、離散ビームステアリング領域１０４と、連続ビームステアリング領域１２０とを含むことができる。離散ビームステアリング領域１０４は、部分開口屈折素子１０８の第１配置と、部分開口屈折素子１１２の第２配置を含むことができる。部分開口屈折素子は、光ビームのサイズよりも小さい屈折素子を指すことができる（例えば、光ビームは複数の部分開口屈折素子にまたがることができる）。連続ビームステアリング領域１２０は、全開口屈折素子１２１の第１配置と、全開口屈折素子１２２の第２配置とを含むことができる。全開口屈折素子は、光のサイズよりも大きい屈折素子を指すことができる（例えば、光ビームは、全開口屈折素子よりも小さいサイズを有する）。動作中、光ビーム１３０を離散ビームステアリング領域１０４に入射させることができる。離散ビームステアリング領域１０４は、光ビーム１３０の角度を離散角度±Δθｃｏａｒｓｅ（例えばプラスまたはマイナス２度）で調整することができる。連続ビームステアリング領域１２０は、光ビーム１３０の角度を、−Δθｆｉｎｅから＋Δθｆｉｎｅ（例えば、マイナス１度からプラス１度の範囲の角度）の範囲の連続角度で調整することができる。ΔθｃｏａｒｓｅはΔθｆｉｎｅの２倍になり得る。印加電圧は、離散ビームステアリング領域１０４と連続ビームステアリング領域１２０とにおける光ビーム１３０の角度を調整するために使用することができる。
【００１２】
図２Ａは、ハイブリッドビームステアラ１００などのハイブリッドビームステアラの一例を示す。ハイブリッドビームステアラは、離散ビームステアリング領域１０４と、連続ビームステアリング領域１２０とを含むことができる。離散ビームステアリング領域１０４は、部分開口屈折素子１０８の第１配置と、部分開口屈折素子１１２の第２配置を含むことができる。部分開口屈折素子１０８の第１配置の屈折率は、部分開口屈折素子１１２の第２配置の屈折率とは異なり得る。連続ビームステアリング領域１２０は、全開口屈折素子１２１の第１配置と、全開口屈折素子１２２の第２配置とを含むことができる。全開口屈折素子１２１の第１配置の屈折率は、全開口屈折素子１２２の第２配置の屈折率とは異なり得る。部分開口屈折素子１０８の第１配置は、部分開口屈折素子１０９の第１列と、部分開口屈折素子１１０の第２列とを含むことができる。部分開口屈折素子１０９の第１列は、第１界面１０９ａと、第２界面１０９ｂとを含むことができる。部分開口屈折素子１１０の第２列は、第１界面１１０ａと、第２界面１１０ｂとを含むことができる。動作中、光ビーム１３０などの光ビームは、第１界面１０９ａに入射し、光ビームが屈折し得る第２界面１０９ｂに進行することができる。第２界面１０９ｂで屈折することに加えて、光ビーム１３０の方向に対する第２界面１０９ｂの相対角度などにより、第２界面１０９ｂで屈折すると光ビームのサイズが減少する。光ビーム１３０が第１列１０９における複数の部分開口屈折素子の上に広がることができる例では、光ビームの各対応する部分のサイズの減少は、光ビームの波面における空間振幅変動をもたらし、光ビームの回折を増加させる可能性がある。光ビーム１３０は、第２界面１０９ｂによって屈折された後、第１界面１１０ａに向かって進行し、第１界面１１０ａに入射することができる。光ビームは、第１界面１１０ａによって屈折され、次に、部分開口屈折素子１１０の第２列を出る前に第２界面１１０ｂに進行することができる。光ビーム１３０の大きさは、第１界面１１０ａで屈折する他に、光ビーム１３０の方向に対する第１界面１１０ａの相対角度などにより、第１界面１１０ａで屈折して、増加することができる。光ビーム１３０が第２列１１０における複数の部分開口屈折素子の上に広がることができる例では、光ビームの各対応する部分のサイズの増加は、部分開口屈折素子１０９の第１列によって生じるような光ビームの各対応する部分のサイズの減少を相殺することができる。部分開口屈折素子１０９の第１列によって生じるような光ビームの各対応する部分のサイズの減少を相殺することは、光ビームの波面における振幅変動を低減することができ、例えば、回折効果を低減させる。部分開口屈折素子１０９の第１列の隣接部分は、光ビームに空間的位相不連続を誘発する可能性があり、例えば光ビームの回折を引き起こす可能性がある。第２界面１０９ｂのピッチは、例えば部分開口屈折素子１０９の第１列の回折次数に対応する角度で光ビームを屈折させるように選択することができる。部分開口屈折素子１１０の第２列の隣接部分は、光ビームに空間的位相不連続を誘発する可能性があり、例えば光ビームの回折を引き起こす可能性がある。第１界面１１０ａのピッチは、例えば部分開口屈折素子１１０の第２列の回折次数に対応する角度で光ビームを屈折させるように選択することができる。一実施例では、部分開口屈折素子１０８の第１配置または部分開口屈折素子１１２の第２配置の屈折率は、例えば、部分開口屈折素子１０９の第１列または部分開口屈折素子１１０の第２列の回折次数に対応する角度で光ビーム１３０の屈折を提供するように、調整することができる。第２界面１１０ｂを出た後、光ビームは、連続ビームステアリング領域１２０に導くことができる。一実施例では、第２界面１０９ｂのピッチは、例えば部分開口屈折素子１０９の第１列の回折次数に対応しない角度で光ビームの屈折を提供するように、選択することができる。光ビームは次に、第１界面１１０に導くことができ、第１界面１１０ａのピッチは、例えば部分開口屈折素子１１０の第２列の回折次数に対応する角度で光ビームを屈折させるように、選択することができる。光ビームは次に、第１の全開口屈折素子１２１と第２の全屈折素子１２２との間の各界面１２３で屈折され得る。一実施例では、全開口屈折素子１２１の第１配置または全開口屈折素子１２２の第２配置の屈折率は、例えば各界面１２３における光ビーム１３０の屈折を調整するように、調整することができる。部分開口屈折素子１０８の第１配置の屈折率が、部分開口屈折素子１１２の第２配置の屈折率よりも大きい例では、離散ビームステアリング領域１０４は、第１の方向に光ビーム１３０の角度を調整することができる。部分開口屈折素子１０８の第１配置の屈折率が、部分開口屈折素子１１２の第２配置の屈折率よりも小さい例では、離散ビームステアリング領域１０４は、第２の方向に光ビーム１３０の角度を調整することができる。第１の方向および第２の方向は、二等分線に対して角度的に対向することができる。全開口屈折素子１２１の第１配置の屈折率が、全開口屈折素子１２２の第２配置の屈折率よりも大きい例では、連続ビームステアリング領域１２０は、第１の方向に光ビーム１３０の角度を調整することができる。全開口屈折素子１２１の第１配置の屈折率が、全開口屈折素子１２２の第２配置の屈折率よりも小さい例では、連続ビームステアリング領域１２０は、第２の方向に光ビーム１３０の角度を調整することができる。第１の方向および第２の方向は、二等分線に対して角度的に対向することができる。
【００１３】
図２Ｂは、ハイブリッドビームステアラ１００などのハイブリッドビームステアラの断面図を示す。ハイブリッドビームステアラ１００は、電極配置１４０、第１クラッド１４４、導波路コア１４８、および第２クラッド１５２を含むことができる。動作中、光ビーム１３０は、導波路コア１４８を通して導くことができる。電極配置１４０は、図２Ａに示されるような屈折配置１０８、１１２、１２１、および１２２に対応するパターンのようなパターンを含むことができる。電極配置１４０に印加された電圧に応じて、電極配置１４０の形状と同じ屈折形状のパターンが第１クラッド１４４に形成され得る。電極配置１４０は、１つ以上の電極を含むことができ、１つ以上の電極の各々は、屈折配置１０８、１１２、１２１、および１２２の１つに対応し得る。第１クラッド１４４に形成された屈折形状は、図２Ａに関して上述したように、導波路コア１４８を通して導かれる光ビームの面内角度を調整することができる。一実施例では、第１クラッド１４４は液晶材料を含むことができ、電極配置１４０への印加電圧は、液晶材料の屈折率の変化を提供することができ、例えば、電極配置１４０の形状に対応する第１クラッド１４４の屈折形状を提供する。導波路コア１４８または第２クラッド１５２は、例えば第１クラッド１４４の領域内に均一な電界線（例えば、平行平板コンデンサにおける電界線と同様の電界線）を提供するように、導電性であり得る。
【００１４】
図２Ｃは、離散ビームステアリング領域１０４が部分開口二等辺形状の屈折素子１６０の第１列と部分開口二等辺形状の屈折素子１６４の第２列とを含むことができる、ハイブリッドビームステアラの一例を示す。動作中、光ビーム１３０などの光ビームは、部分開口二等辺形状の屈折素子１６０の第１列によって第１方向に屈折することができ、部分開口二等辺形状の屈折素子１６４の第２列によって第２方向に屈折することができる。部分開口二等辺形状の屈折素子１６０の第１列と部分開口二等辺形状の屈折素子１６４の第２列とにおける各個々の屈折素子は、光ビーム１３０の進行方向にほぼ平行に傾斜した底辺を含むことができ、例えば、光ビーム１３０の対応する部分の圧縮を低減させる。
【００１５】
図２Ｄは、追加の離散ビームステアリング領域１０５を含むことができるハイブリッドビームステアラの一例を示す。離散ビームステアリング領域１０４および１０５の各々は、離散角度±Δθｃｏａｒｓｅで光ビーム１３０の角度を個別に調整することができる。組み合わせて、離散ビームステアリング領域１０４および１０５は、離散角度±２Δθｃｏａｒｓｅ、±Δθｃｏａｒｓｅ、または０で光ビーム１３０の角度を調整することができる。
【００１６】
図３Ａは、ハイブリッドビームステアラ１００などのハイブリッドビームステアラの動作の一例を示す。離散ビームステアリング領域１０４は、光ビーム１３０の角度を離散角度±Δθｃｏａｒｓｅで調整することができる。連続ビームステアリング領域１２０は、光ビーム１３０の角度を−Δθｆｉｎｅから＋Δθｆｉｎｅの範囲の連続角度で調整することができる。組み合わせて、離散ビームステアリング領域１０４および連続ビームステアリング領域１０８は、３つの角度範囲１７０、１７４、および１７８にわたって光ビームの角度を調整することができる。第１の角度範囲１７０については、１つ以上の電圧を、離散ビームステアリング領域１０４内の電極に印加して、光ビームの角度を離散角度−Δθｃｏａｒｓｅで調整することができ、１つ以上の可変電圧を連続ビームステアリング領域１２０の電極に印加して、光ビームの角度を−Δθｆｉｎｅから＋Δθｆｉｎｅの範囲の連続角度で調整することができる。したがって、第１の角度範囲１７０において、光ビームの角度は、−Δθｃｏａｒｓｅ−Δθｆｉｎｅから−Δθｃｏａｒｓｅ＋Δθｆｉｎｅの範囲で調整することができる。第２の角度範囲１７４については、ほぼゼロの値を有する１つ以上の電圧を離散ビームステアリング領域１０４内の電極に印加することができ、光ビームの角度は、離散ビームステアリング領域１０４によって変化しないものとすることができる。連続ビームステアリング領域１２０内の電極に１つ以上の可変電圧を印加して、光ビームの角度を−Δθｆｉｎｅから＋Δθｆｉｎｅの範囲の連続角度で調整することができる。したがって、第２の角度範囲１７４では、−Δθｆｉｎｅから＋Δθｆｉｎｅの範囲で光ビームの角度を調整することができる。第３の角度範囲１７８については、離散ビームステアリング領域１０４内の電極に１つ以上の電圧を印加して、光ビームの角度を離散角度＋Δθｃｏａｒｓｅで調整することができ、１つ以上の可変電圧を連続ビームステアリング領域１２０内の電極に印加して、光ビームの角度を−Δθｆｉｎｅから＋Δθｆｉｎｅの範囲の連続角度で調整することができる。したがって、第３の角度範囲１７８では、＋Δθｃｏａｒｓｅ−Δθｆｉｎｅから＋Δθｃｏａｒｓｅ＋Δθｆｉｎｅの範囲で光ビームの角度を調整することができる。
【００１７】
図３Ｂは、ハイブリッドビームステアラ１００などのハイブリッドビームステアラの動作方法を示している。ハイブリッドビームステアラは、−Δθｍａｘから＋Δθｍａｘの範囲にわたって光ビームの面内角度を調整することができ、ΔθｍａｘはΔθｃｏａｒｓｅ＋Δθｆｉｎｅに相当し得る。第１の角度範囲１７０については、電圧を電極に印加して、部分開口屈折素子１１２の第２配置の屈折率を調整し、例えば、光ビームの角度を角度−Δθｃｏａｒｓｅで調整することができる。さらに、電圧を電極に印加して、全開口屈折素子１２１の第１配置と全開口屈折素子１２２の第２配置との屈折率を調整して、例えば、光ビームの角度を−Δθｆｉｎｅから＋Δθｆｉｎｅの範囲にわたって調整することができる。したがって、対応する電極に電圧を印加して屈折素子１１２、１２１および１２２の屈折率を調整することによって、光ビームの角度を第１の角度範囲１７０内で調整することができる。第２の角度範囲１７４については、部分開口屈折素子１０８および１１２の第１および第２配置は、非アクティブとすることができる（例えば、屈折素子１０８および１１２に対応する電極にほぼゼロの値を有する電圧を印加してもよい）。電極に電圧を印加して、全開口屈折素子１２１の第１配置と全開口屈折素子１２２の第２配置との屈折率を順次調整することができ、例えば、光ビームの角度を−Δθｆｉｎｅから＋Δθｆｉｎｅの範囲にわたって調整することができる。したがって、対応する電極に電圧を印加して屈折素子１２１および１２２の屈折率を調整することによって、光ビームの角度を第２の角度範囲１７４内で調整することができる。第３の角度範囲１７８については、電圧を電極に印加して、部分開口屈折素子１０８の第１配置の屈折率を調整し、例えば、光ビームの角度を角度＋Δθｃｏａｒｓｅで調整することができる。さらに、電極に電圧を印加して、全開口屈折素子１２１の第１配置と全開口屈折素子１２２の第２配置との屈折率を順次調整することができ、例えば、光ビームの角度を−Δθｆｉｎｅから＋Δθｆｉｎｅの範囲にわたって調整することができる。したがって、対応する電極に電圧を印加して屈折素子１０８、１２１および１２２の屈折率を調整することによって、光ビームの角度を第３の角度範囲１７８内で調整することができる。
【００１８】
図３Ｃは、ハイブリッドビームステアラ１００などのハイブリッドビームステアラの動作方法を示す。図３Ｃに示した動作方法は、対応する電極に電圧を印加して、全開口屈折素子１２１の第１配置と全開口屈折素子１２２の第２配置との屈折率を同時に調整することができることを除いて、図３Ｂに関して説明した動作方法と同様である。これは、全開口屈折素子１２１の第１配置と全開口屈折素子１２２の第２配置との屈折率が順次調整される図３Ｂにおいて示した動作方法とは対照的である。
【００１９】
図４は、部分開口屈折素子１０９または１１０の列の１つの屈折率を調整することができる印加電圧の関数として回折損失（例えば、中心光ビームからの回折散乱）のシミュレーション結果を示す。部分開口屈折素子の個々の１つの屈折角度が部分開口屈折素子の列の回折次数に対応するとき、印加電圧が増大するにつれて、回折損失を低減することができる。本実施例では、図４に示すように、部分開口屈折素子の列は４次回折格子を含むことができ、部分開口屈折素子の個々の１つの屈折角度が４つの回折次数の１つに対応するとき、回折損失を低減することができる。第４回折次数は、最大ステアリング電圧（例えば、部分開口屈折素子の列の屈折率を調整するために適用することができる最大許容電圧）に対応することができる。部分開口屈折素子の列がｎ次回折格子を含むことができる例では、最大ステアリング電圧はｎ次回折次数に対応することができ、部分開口屈折素子の列は、ｎ離散角度で回折損失が低減された状態でビームを操縦することができる。ここで、ｎは正の整数であり得る。
【００２０】
図５は、非機械的ビームステアラ５００の一例を示す。非機械的ビームステアラは、インカプラ５０４、ハイブリッドビームステアラ１００、およびアウトカプラ５０８を含むことができる。動作中、光ビーム１３０は、インカプラ５０４によって非機械的ビームステアラ５００に連結することができる。インカプラ５０４は、エバネセントインカプラまたは回折インカプラを含むことができる。光ビーム１３０は次に、ハイブリッドビームステアラ１００に導くことができる。ハイブリッドビームステアラは、光ビーム１３０の面内角度を調整することができる。光ビーム１３０は次に、アウトカプラ５０８によってハイブリッドビームステアラ１００の外に連結することができる。アウトカプラ５０８は、その全体が参照により本明細書に組み込まれるＡｎｄｅｒｓｏｎらの米国特許出願公開第ＵＳ２０１７／０１５３５３０Ａ１号明細書に記載されているエバネセントアウトカプラなどの回折アウトカプラまたはエバネセントアウトカプラを含むことができる。一実施例では、アウトカプラ５０８は、光ビーム１２０の角度を面外方向に調整することができる。
【００２１】
図６Ａは、非機械的ビームステアラ５００などの非機械的ビームステアラの動作の一例を示す。非機械的ビームステアラは、光ビームの角度を動的に調整して、例えば、２次元関心視野６００を横切って光ビーム１３０を走査することができる。アウトカプラ５０８は、例えば印加電圧に応じて光ビームの角度を面外方向に調整することができ、ハイブリッドビームステアラ１００は、例えば印加電圧に応じて光ビームの角度を面内方向に調整することができる。ハイブリッドビームステアラ１００は、経路６２０によって示されるように、３つの角度範囲１７０、１７４、および１７８にわたって光ビームの角度を連続的に調整することができる。光ビームの面外角度は次に、アウトカプラ５０８によって調整することができる。ハイブリッドビームステアラ１００は、経路６２１によって示されるように、３つの角度範囲１７０、１７４、および１７８にわたって光ビームの角度を連続的に調整することができる。走査は、経路６２２〜６２８に沿って続行することができ、アウトカプラ５０８およびハイブリッドビームステアラ１００は、角度範囲１７０、１７４、１７８および６１０内の角度を含んで、２次元関心視野６００を横切って光ビームを走査することができる。角度範囲１７０、１７４および１７８の間の各境界において、ハイブリッドビームステアラ１００内の離散ビームステアリング領域に印加される電圧を調整することができる。
【００２２】
図６Ｂは、非機械的ビームステアラ５００などの非機械的ビームステアラの動作の一例を示す。図６Ａと同様に、非機械的ビームステアラは、光ビームの角度を動的に調整して、例えば、２次元関心視野６００を横切って光ビームを走査することができる。アウトカプラ５０８は、例えば印加電圧に応じて光ビームの角度を面外方向に調整することができ、ハイブリッドビームステアラ１００は、例えば印加電圧に応じて光ビームの角度を面内方向に調整することができる。図６Ｂに示す例では、光ビームの走査中に離散ビームステアリング領域１０８などの離散ビームステアリング領域に印加される電圧変化の数を低減することができる。離散ビームステアリング領域に印加される電圧変化の数のこのような減少は、離散ビームステアリング領域が非機械式ビームステアリング装置５００の他の部分よりも電圧変化に応答するのが遅い場合に有利であり得る。ハイブリッドビームステアラ１００は、経路６５０ａによって示されるように、第１の角度範囲１７０にわたって光ビームの角度を連続的に調整することができる。光ビームの面外角度は次に、アウトカプラ５０８によって調整することができる。ハイブリッドビームステアラ１００は次に、経路６５０ｂで示すように、第１の角度範囲１７０にわたって光ビームの角度を連続的に調整することができる。走査は、経路６５０ｃ〜６５０ｋに沿って続行することができ、アウトカプラ５０８およびハイブリッドビームステアラ１０８は、角度範囲１７０および６１０内の角度にわたって光ビームを走査することができる。次に、離散ビームステアリング領域１０８に印加される電圧は変更することができ、ハイブリッドビームステアラ１０８およびアウトカプラ５０８は、経路６５５ａ〜６５５ｋに沿って光ビームを走査することができ、アウトカプラ５０８およびハイブリッドビームステアラ１０８は、角度範囲１７４および６１０内の角度にわたって光ビームを走査することができる。次に、離散ビームステアリング領域１０８に印加される電圧は変更することができ、ハイブリッドビームステアラ１０８およびアウトカプラ５０８は、経路６６０ａ〜６６０ｋに沿って光ビームを走査することができ、アウトカプラ５０８およびハイブリッドビームステアラ１０８は、角度範囲１７８および６１０内の角度にわたって光ビームを走査することができる。
【００２３】
図７は、平面導波路などの非機械的ビームステアラを用いて光ビームを操縦する方法を示す。離散ビームステアリング領域１０４などの、導波路の離散ビームステアリング部分を提供することができる（ステップ７１０）。導波路の離散ビームステアリング部分は、部分開口屈折素子１０８の第１配置などの、部分開口ビームステアリング素子の第１集合を含むことができる。部分開口ビームステアリング素子の第１集合は、光ビームを第１面内方向に回折することができる。連続ビームステアリング領域１２０などの、導波路の連続ビームステアリング部分を提供することができる（ステップ７２０）。導波路の連続ビームステアリング部分は、全開口屈折素子１２１の第１配置および全開口屈折素子１２２の第２配置などの、部分開口ビームステアリング素子の第１集合を含むことができる。開口屈折素子１２１の第１配置は、光ビームを第１面内方向に屈折させることができる。導波路の離散ビームステアリング部分は、部分開口屈折素子１１２の第２配置などの、部分開口ビームステアリング素子の第２集合を含むことができる。部分開口ビームステアリング素子の第２集合は、光ビームを第２面内方向に回折することができる。連続ビームステアリング部分は、全開口屈折素子１２２の第２配置などの、部分開口ビームステアリング素子の第２集合を含むことができる。全開口屈折素子１２２の第２配置は、光ビーム第２面内方向に屈折させることができる。第１面内方向および第２面内方向は、二等分線に対して角度的に対向することができる。部分開口ビームステアリング素子の第１集合は、部分開口ビームステアリング素子の第１集合の第１列の回折次数の角度に対応する角度で光ビームの対応する部分開口部分を屈折させることができる部分開口ビームステアリング素子の第１列を含むことができる（ステップ７３０）。部分開口ビームステアリング素子の第１集合の第１列に連結された第１電極は、例えば離散ステアリング電圧の組の１つを部分開口ビームステアリング素子の第１列に印加することによって、例えば部分開口ビームステアリング素子の第１集合の第１列の回折次数の組の１つに光ビームを回折するように、提供することができる（ステップ７４０）。
【００２４】
本明細書に記載される非限定的な態様の各々は、それ自体で成り立つことができ、または、１つまたは複数の他の実施例との様々な置換または組み合わせで組み合わせることができる。上記の詳細な説明は、詳細な説明の一部を形成する添付の図面の参照を含む。図面は、例示として、本発明を実施することができる具体的な実施形態を示す。これらの実施形態は、本明細書では「実施例」とも呼ばれる。かかる実施例は、図示または記載されたものに加えて要素を含むことができる。しかし、本発明者は、図示または記載された要素のみが提供される実施例も意図している。さらに、本発明者は、図示または記載された特定の実施例（またはその１つまたは複数の態様）または他の実施例（またはその１つまたは複数の態様）のいずれかに関して、図示または記載されたそれらの要素（またはその１つまたは複数の態様）のいかなる組み合わせまたは置換を用いた実施例も意図している。本明細書とその参照によって組み込まれた任意の文書との間に一貫性のない使用がある場合は、本明細書における使用方法で統制するものとする。
【００２５】
本明細書では、「少なくとも１つ」または「１つ以上」の他の任意のインスタンスまたは用途とは無関係に、１つまたは複数のものを含むように、特許文書において一般的であるように、用語「ａ」または「ａｎ」が使用される。本明細書において、「または（ｏｒ）」という用語は、他に示されていない限り、「ＡまたはＢ（Ａ  ｏｒ  Ｂ）」が、「ＡではあるがＢではない（Ａ  ｂｕｔ  ｎｏｔ  Ｂ）」、「ＡではなくＢである（Ｂ  ｂｕｔ  ｎｏｔ  Ａ）」、および「ＡおよびＢ（Ａ  ａｎｄ  Ｂ）」を含むように、非排他的または（ｏｒ）を指す。本明細書では、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」および「それにおいて（ｉｎ  ｗｈｉｃｈ）」という用語は、それぞれの用語「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」および「それにおいて（ｗｈｅｒｅｉｎ）」の平易な英語の均等物として使用される。また、以下の特許請求の範囲において、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」および「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」という用語は、制約のないものであり、すなわち、請求項内の、システム、装置、物品、組成物、配合物、またはプロセスなどの用語の後に列挙された要素とは別の要素を含む、システム、装置、物品、組成物、配合物、またはプロセスは、依然としてその請求項の範囲内にあると考えられる。さらに、以下の特許請求の範囲において、「第１」、「第２」、および「第３」などの用語は単にラベルとして使用され、それらの対象に数値的な要件を課すことを意図しない。
【００２６】
本明細書に記載の方法の実施例は、少なくとも部分的にマシンまたはコンピュータで実施することができる。いくつかの実施例は、上記の実施例で説明した方法を実行するために電子デバイスを構成するように動作可能な命令を用いて符号化されたコンピュータ可読媒体またはマシン可読媒体を含むことができる。かかる方法の実装には、マイクロコード、アセンブリ言語コード、高水準言語コードなどのコードを含めることができる。かかるコードは、様々な方法を実行するためのコンピュータ可読命令を含むことができる。コードは、コンピュータプログラム製品の一部を形成することができる。さらに、一実施例では、コードは、実行中または他の時間などに、１つ以上の揮発性の、非一時的な、または不揮発性の有形のコンピュータ可読媒体に有形的に格納することができる。これらの有形のコンピュータ可読媒体の実施例には、ハードディスク、リムーバブル磁気ディスク、リムーバブル光ディスク（例えば、コンパクトディスクおよびデジタルビデオディスク）、磁気カセット、メモリカードまたはスティック、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、読み出し専用メモリ（ＲＯＭ）、および同類のものが含まれるが、これらに限定されない。
【００２７】
上記は、例示的なものであって、限定的なものではないことが意図される。例えば、上記の実施例（またはその１つまたは複数の態様）は、互いに組み合わせて使用されてもよい。上記の説明を検討した上で、当業者などによって、他の実施形態を使用することができる。要約は、３７Ｃ．Ｆ．Ｒ．§１．７２（ｂ）に準拠して提供され、読み手が技術的開示の本質を迅速に確認することを可能にする。要約は、特許請求の範囲または意味を解釈または限定するために使用されないという理解の下で提出される。また、上記の発明を実施するための形態では、本開示を簡素化するために様々な特徴をグループ化することができる。これは、特許請求されない開示特徴が任意の請求項に必須であることを意図していると解釈されるべきではない。むしろ、本発明の主題は、特定の開示された実施形態の全ての特徴よりも少なくてもよい。したがって、以下の特許請求の範囲は、実施例または実施形態として発明を実施するための形態に組み込まれ、各請求項は、別個の実施形態として成り立つものであり、かかる実施形態は、様々な組み合わせまたは置換で互いに組み合わせ得ることが考えられる。本発明の範囲は、かかる特許請求の範囲が権利を与えられる均等物の全範囲と共に、添付の特許請求の範囲を参照して決定されるべきである。
【符号の説明】
【００２８】
１００  ハイブリッドビームステアラ
１０４  離散ビームステアリング領域
１０５  追加の離散ビームステアリング領域
１０８  部分開口屈折素子の第１配置
１０９  部分開口屈折素子の第１列
１０９ａ  第１界面
１０９ｂ  第２界面
１１０  部分開口屈折素子の第２列
１１０ａ  第１界面
１１０ｂ  第２界面
１１２  部分開口屈折素子の第２配置
１２０  連続ビームステアリング領域
１２１  全開口屈折素子の第１配置
１２２  全開口屈折素子の第２配置
１３０  光ビーム
１４０  電極配置
１４４  第１クラッド
１４８  導波路コア
１５２  第２クラッド
１６０  部分開口二等辺形状の屈折素子の第１列
１６４  部分開口二等辺形状の屈折素子の第２列
１７０  第１の角度範囲
１７４  第２の角度範囲
１７８  第３の角度範囲
５００  非機械的ビームステアラ
５０４  インカプラ
５０８  アウトカプラ
６００  ２次元関心視野
６１０  角度範囲
６２０〜６２８  経路
６５０ａ〜６５０ｋ  経路
６５５ａ〜６５５ｋ  経路
６６０ａ〜６６０ｋ  経路
【図１】
2019035960.tif 000003
【図２Ａ】
2019035960.tif 000004
【図２Ｂ】
2019035960.tif 000005
【図２Ｃ】
2019035960.tif 000006
【図２Ｄ】
2019035960.tif 000007
【図３Ａ】
2019035960.tif 000008
【図３Ｂ】
2019035960.tif 000009
【図３Ｃ】
2019035960.tif 000010
【図４】
2019035960.tif 000011
【図５】
2019035960.tif 000012
【図６Ａ】
2019035960.tif 000013
【図６Ｂ】
2019035960.tif 000014
【図７】
2019035960.tif 000015
【外国語明細書】
2019035960000001.pdf