(57)【要約】      （修正有）【課題】レンズ基材上に設けられた硬化層上に金属のパターン層を有する眼鏡レンズであって、光学的欠陥の発生が抑制された眼鏡レンズを提供すること。【解決手段】レンズ基材上に硬化層１３を有し、硬化層１３上に複数の層が積層された積層構造を有するパターン層１５を有し、パターン層１５は、硬化層１３の表面に直接積層された金属酸化物層１５ａと、金属層１５ｂと、上記パターン層の最表層に位置する金属酸化物層１５ｃと、を含む。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レンズ基材上に硬化層を有し、
前記硬化層上に、複数の層が積層された積層構造を有するパターン層を有し、
前記パターン層は、前記硬化層の表面に直接積層された金属酸化物層と、金属層と、前記パターン層の最表層に位置する金属酸化物層と、を含む、眼鏡レンズ。
【請求項２】
前記パターン層は、前記硬化層の表面に直接積層された金属酸化物層と、前記金属酸化物層の表面に直接積層された金属層と、前記金属層の表面に直接積層された金属酸化物層と、からなる、請求項１に記載の眼鏡レンズ。
【請求項３】
前記金属層は、クロム層、モリブデン層、タングステン層、鉄層、コバルト層、ニッケル層、銅層、銀層および金層からなる群から選択される金属層である、請求項１または２に記載の眼鏡レンズ。
【請求項４】
前記硬化層の表面に直接積層された金属酸化物層は、酸化ケイ素層、酸化アルミニウム層、酸化セリウム層、酸化クロム層、酸化モリブデン層、酸化タングステン層、酸化ジルコニウム層、酸化チタン層、酸化ニオブ層、酸化スズ層および酸化タンタル層からなる群から選択される金属酸化物層である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の眼鏡レンズ。
【請求項５】
前記硬化層の表面に直接積層された金属酸化物層の厚みは、１〜１００ｎｍの範囲である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の眼鏡レンズ。
【請求項６】
前記パターン層の最表層に位置する金属酸化物層は、酸化ケイ素層、酸化アルミニウム層、酸化セリウム層、酸化クロム層、酸化モリブデン層、酸化タングステン層、酸化ジルコニウム層層、酸化チタン層、酸化ニオブ層、酸化スズ層および酸化タンタル層からなる群から選択される金属酸化物層である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の眼鏡レンズ。
【請求項７】
前記パターン層の最表層に位置する金属酸化物層の厚みは、１〜１００ｎｍの範囲である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の眼鏡レンズ。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の眼鏡レンズを備えた眼鏡。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の眼鏡レンズの製造方法であって、
レンズ基材上に設けられた硬化層の表面にレジストパターンを形成すること、および
前記レジストパターンが形成された硬化層の表面上に積層構造を有する連続層を形成すること、
を含み、
前記積層構造を有する連続層は、前記レジストパターンが形成された硬化層の表面に直接積層された金属酸化物の連続層と、金属の連続層と、前記連続積層構造の最表層に位置する金属酸化物の連続層と、を含み、
前記パターン層を、前記積層構造を有する連続層の形成後に前記レジストパターンを除去することによって、前記積層構造を有する連続層の前記レジストパターン上に形成された部分を剥離することにより形成することを更に含む眼鏡レンズの製造方法。
【請求項１０】
前記レジストパターンの除去は、物理的剥離を含む、請求項９に記載の眼鏡レンズの製造方法。
【請求項１１】
前記パターン層が形成された前記硬化層の表面に、酸素イオンによるイオンクリーニングを施すことを含む、請求項９または１０に記載の眼鏡レンズの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、眼鏡レンズおよび眼鏡、ならびに眼鏡レンズの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に眼鏡レンズには、レンズ基材上に各種機能性層が設けられることにより様々な性能が付与される。そのような機能性層に関して、特許文献１には、レンズ表面に半透過性の薄膜をドット状に設けることが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−５５２５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１の段落００１４には、ドット状に設けられる半透過性の薄膜（パターン層）をＺｒＯ2等の金属酸化物を用いて形成することが記載されている。
一方、基材を通して入射する光をコントロールするための薄膜としては、光の回折効果を効果的に得ることができるため、金属層が適している。
【０００５】
ところで、眼鏡レンズに設けられる機能性層の一例としては、眼鏡レンズの耐久性を向上するためにレンズ基材上に直接またはプライマー等を介して間接的に設けられる硬化層が挙げられる。かかる硬化層は、一般にハードコート層と呼ばれる。
【０００６】
以上に鑑み本発明者は、硬化層が設けられたレンズ基材上に金属層をパターン層として形成することを検討した。しかし検討の結果、そのようにして作製された眼鏡レンズには、キズ等の光学的欠陥による透過率低下という課題があることが判明した。
【０００７】
本発明の一態様は、レンズ基材上に設けられた硬化層上に金属のパターン層を有する眼鏡レンズであって、光学的欠陥の発生が抑制された眼鏡レンズを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様は、レンズ基材上に硬化層を有し、上記硬化層上に複数の層が積層された積層構造を有するパターン層を有し、上記パターン層は、上記硬化層の表面に直接積層された金属酸化物層と、金属層と、上記パターン層の最表層に位置する金属酸化物層と、を含む眼鏡レンズに関する。
【０００９】
上記眼鏡レンズは、レンズ基材上の硬化層上に設けられたパターン層が、硬化層と隣接する金属酸化物層と、パターン層の最表層に位置する金属酸化物層とを含み、これら金属酸化物層の間に金属層を含む。硬化層と隣接する金属酸化物層が硬化層とパターン層との密着性を高めることでき、このことがパターン層の剥離による光学的欠陥の発生を抑制することに寄与すると考えられる。更に、パターン層の最表層に位置する金属酸化物層が金属層の変質を防ぐことおよびパターン層表面のキズの発生を抑制することに寄与することも、光学的欠陥の発生を抑制することにつながると推察される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の一態様によれば、レンズ基材上に設けられた硬化層上に金属層を含むパターン層を有する眼鏡レンズにおける光学的欠陥の発生を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】眼鏡レンズ１の平面図である。
【図２】眼鏡レンズ１のＡ−Ａ’断面図の一部である。
【図３】眼鏡レンズ１におけるパターン層１５の層構成を示す断面図である。
【図４】眼鏡レンズ１の製造方法の一例を示すフロー図である。
【図５】レジストパターン形成工程（Ｓ２）の工程図である。
【図６】積層構造を有する連続層２２の形成工程（Ｓ３）の模式図である。
【図７】剥離工程（Ｓ４）後の眼鏡レンズ１の断面図の一部である。
【図８】剥離工程（Ｓ４）において使用可能な処理装置８の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
［眼鏡レンズおよびその製造方法］
以下、上記眼鏡レンズおよびその製造方法について、更に詳細に説明する。以下における図面に基づく説明は例示であって、本発明は例示された態様に限定されるものではない。
【００１３】
＜眼鏡レンズの構成＞
本発明の一態様にかかる眼鏡レンズは、レンズ基材上に硬化層を有し、上記硬化層の表面にパターン層を有する。被被覆面上に開口部を含まずに連続して設けられた層は「連続層」であり、これに対し「パターン層」とは、被被覆面上に、開口部を含んで不連続に設けられた層である。そのようなパターン層を有する眼鏡レンズの一例の平面図を図１に示す。
【００１４】
図１中、眼鏡レンズ１は、パターン層が複数の微細なドットＤとして形成され、これらドットＤによって透かしマークＭが形成されている。ただし図１に示す態様は例示であって、パターン層の形状、ドットの配置等はパターン層を設ける目的に応じて決定すればよく、図１に示す態様に限定されない。
【００１５】
図２は、図１中の眼鏡レンズ１のＡ−Ａ’断面図の一部である。眼鏡レンズ１は、レンズ基材１１を有し、レンズ基材１１の表面上に、硬化層１３と、パターン層１５と、反射防止層１７と、撥水層１９とをこの順に有する。パターン層１５は、複数の開口部２０を含み、硬化層１３の表面上に不連続に設けられた層である。図１に示す眼鏡レンズの構成は例示であって、本発明の一態様にかかる眼鏡レンズは、レンズ基材上に硬化層を有し、硬化層の表面に以下に詳述するパターン層を有するものであればよい。
【００１６】
以下において、硬化層の表面に直接積層された金属酸化物層を「第１の金属酸化物層」
と呼び、パターン層の最表層に位置する金属酸化物層を「第２の金属酸化物層」と呼ぶ。図３は、眼鏡レンズ１におけるパターン層１５の層構成を示す断面図である。図３に示された態様では、パターン層１５は、硬化層１３の表面１１３に直接積層された第１の金属酸化物層１５ａ、第１の金属酸化物層１５ａの表面に直接積層された金属層１５ｂ、および金属層１５ｂの表面に直接積層された第２の金属酸化物層１５ｃからなる３層の積層構造を有するパターン層である。ただし、本発明の一態様にかかる眼鏡レンズにおけるパターン層は、硬化層と隣接する層および最表層が金属酸化物層であって、これら金属酸化物層の間に金属層が位置するものであればよく、上記３層からなる積層構造を有するものに限定されない。例えば、パターン層には、２層以上の金属層が含まれてもよく、第１の金属酸化物層および第２の金属酸化物層に加えて１層以上の金属酸化物層が含まれていてもよい。金属酸化物層は、例えば、金属層および金属酸化物層から構成される３〜７層程度の積層構造を有することができる。
【００１７】
次に、上記眼鏡レンズに含まれる（または含まれ得る）各部について更に詳細に説明する。
【００１８】
＜レンズ基材＞
レンズ基材としては、眼鏡レンズに一般的に使用される各種レンズ基材を用いることができる。レンズ基材は、例えばプラスチックレンズ基材またはガラスレンズ基材であることができる。ガラスレンズ基材は、例えば無機ガラス製のレンズ基材であることができる。レンズ基材としては、軽量で割れ難いという観点から、プラスチックレンズ基材が好ましい。プラスチックレンズ基材としては、（メタ）アクリル樹脂をはじめとするスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アリル樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂（ＣＲ−３９）等のアリルカーボネート樹脂、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、イソシアネート化合物とジエチレングリコールなどのヒドロキシ化合物との反応で得られたウレタン樹脂、イソシアネート化合物とポリチオール化合物とを反応させたチオウレタン樹脂、分子内に１つ以上のジスルフィド結合を有する（チオ）エポキシ化合物を含有する硬化性組成物を硬化した硬化物（一般に透明樹脂と呼ばれる。）を挙げることができる。硬化性組成物は、重合性組成物ともいうことができる。レンズ基材としては、染色されていないもの（無色レンズ）を用いてもよく、染色されているもの（染色レンズ）を用いてもよい。レンズ基材の屈折率は、例えば、１．６０〜１．７５程度であることができる。ただしレンズ基材の屈折率は、上記範囲に限定されるものではなく、上記の範囲内でも、上記の範囲から上下に離れていてもよい。本発明および本明細書において、屈折率とは、波長５００ｎｍの光に対する屈折率をいうものとする。また、レンズ基材は、屈折力を有するレンズ（いわゆる度付レンズ）であってもよく、屈折力なしのレンズ（いわゆる度なしレンズ）であってもよい。
【００１９】
上記眼鏡レンズは、単焦点レンズ、多焦点レンズ、累進屈折力レンズ等の各種レンズであることができる。レンズの種類は、レンズ基材の両面の面形状により決定される。図１では、説明のために物体側表面１１１および眼球側表面１１２の両表面は平面として図示されているが、レンズ基材表面は、凸面、凹面、平面のいずれであってもよい。通常のレンズ基材および眼鏡レンズでは、物体側表面は凸面、眼球側表面は凹面である。ただし、本発明は、これに限定されるものではない。「物体側表面」とは、眼鏡レンズを備えた眼鏡が装用者に装用された際に物体側に位置する表面であり、「眼球側表面」とは、その反対、即ち眼鏡レンズを備えた眼鏡が装用者に装用された際に眼球側に位置する表面である。
【００２０】
＜硬化層＞
上記眼鏡レンズは、レンズ基材とパターン層との間に、硬化性組成物を硬化した硬化層を有する。硬化層は、一般にハードコート層と呼ばれる各種硬化層を形成するための硬化性組成物を用いて形成することができる。硬化層については、例えば特開２０１２−１２８１３５号公報の段落００２５〜００２８、００３０を参照できる。硬化層は、例えばシラン化合物と金属酸化物粒子を含む硬化性組成物をレンズ基材表面に直接または他の層を介して間接的に塗布して塗布層を形成し、この塗布層を硬化処理（加熱、光照射等）により硬化させて形成することができる。また、レンズ基材と上記硬化層との間には、密着性向上のためのプライマー層を形成してもよい。プライマー層の詳細については、例えば特開２０１２−１２８１３５号公報の段落００２９〜００３０を参照できる。
【００２１】
＜パターン層＞
（金属層）
上記眼鏡レンズは、上記硬化層上にパターン層を有する。このパターン層は、金属層を含む。本発明および本明細書において、「金属層」は、金属元素の単体（純金属）および複数の金属元素の合金からなる群から選ばれる成分（以下において、単に「金属」とも記載する。）を任意の成膜方法によって堆積させて形成された膜を意味し、成膜時に不可避的に混入する不純物および成膜を補助するために任意に使用される公知の添加剤を除けば、金属からなる膜である。金属層は、膜の質量に対して、例えば９０〜１００質量％を金属が占める膜であることができ、９５〜１００質量％を金属が占める膜であることもできる。金属元素としては、遷移元素、例えば、クロム族元素（例えばクロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ））、鉄族元素（例えば鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ））、貴金属元素（例えば銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）、金（Ａｕ））等を挙げることができる。透過率、膜安定性、材料の入手容易性等の観点から、クロム族元素が好ましく、クロム（Ｃｒ）がより好ましい。即ち、金属層の好ましい一態様は、クロム層である。金属層の膜厚は、例えば１〜１００ｎｍの範囲であり、１〜５０ｎｍの範囲であることが好ましい。
【００２２】
（金属酸化物層）
上記パターン層には、硬化層と隣接する第１の金属酸化物層と最表層の第２の金属酸化物層との間に上記金属層が含まれる。本発明および本明細書において、「金属酸化物層」とは、金属酸化物を任意の成膜方法によって堆積させて形成された膜を意味し、成膜時に不可避的に混入する不純物および成膜を補助するために任意に使用される公知の添加剤を除けば、金属酸化物からなる膜である。金属酸化物層は、膜の質量に対して、例えば９０〜１００質量％を金属酸化物が占める膜であることができ、９５〜１００質量％を金属酸化物が占める膜であることもできる。金属酸化物層としては、例えば、酸化ケイ素層、酸化アルミニウム層、酸化セリウム層、酸化クロム層、酸化モリブデン層、酸化タングステン層、酸化ジルコニウム層、酸化チタン層、酸化ニオブ層、酸化スズ層、酸化タンタル層等を挙げることができる。
第１の金属酸化物層は、硬化層の表面に直接積層された金属酸化物層であって、硬化層との密着性向上の観点からは、酸化ケイ素層であることが好ましい。第１の金属酸化物層の膜厚は、硬化層との密着性向上および透過率の観点からは、１〜１００ｎｍの範囲であることが好ましく、１〜５０ｎｍの範囲であることがより好ましい。一態様では、上記金属層は、第１の金属酸化物層の表面に直接積層された層であることができる。
一方、第２の金属酸化物層は、パターン層の最表層に位置し、一態様では、上記金属層の表面に直接積層された層であることができる。第２の金属酸化物層は、パターン層において金属層を保護する役割を果たすことができ、パターン層表面のキズの発生を抑制する役割を果たすこともできる。金属層の保護の一態様としては、例えば酸化防止を挙げることができる。金属層の保護およびパターン層表面のキズの発生抑制の観点からは、最表層に位置する金属酸化物層は、酸化ケイ素層、酸化アルミニウム層、酸化セリウム層、酸化クロム層、酸化モリブデン層、酸化タングステン層、酸化ジルコニウム層、酸化チタン層、酸化ニオブ層、酸化スズ層、酸化タンタル層であることが好ましく、酸化ケイ素層であることがより好ましい。この金属酸化物層の膜厚は、金属層の保護および透過率の観点からは、１〜１００ｎｍの範囲であることが好ましく、１〜５０ｎｍの範囲であることがより好ましい。
以上の金属酸化物層を構成する金属酸化物は、化学量論組成の状態であってもよく、化学量論組成から酸素が欠損または過多の状態にあるものであってもよい。この点は、上記パターン層が第１の金属酸化物層および第２の金属酸化物層以外に１層以外の金属酸化物層を含む場合のそれら金属酸化物層についても同様である。
【００２３】
＜任意に設けられ得る層＞
上記眼鏡レンズは、以上説明したレンズ基材、硬化層およびパターン層を少なくとも含むものであればよく、１層以外の他の層を任意に含むこともできる。任意に設けられ得る層の一例としては、反射防止層を挙げることができる。
【００２４】
反射防止層は、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層された積層構造を有する多層膜であることができる。本発明および本明細書において、「高屈折率」および「低屈折率」に関する「高」、「低」とは、相対的な表記である。即ち、高屈折率層とは、同じ多層膜に含まれる低屈折率層より屈折率が高い層をいう。換言すれば、低屈折率層とは、同じ多層膜に含まれる高屈折率層より屈折率が低い層をいう。高屈折率層を構成する高屈折率材料の屈折率は、例えば１．６０以上（例えば１．６０〜２．４０の範囲）であり、低屈折率層を構成する低屈折率材料の屈折率は、例えば１．５９以下（例えば１．３７〜１．５９の範囲）であることができる。ただし上記の通り、高屈折率および低屈折率に関する「高」、「低」の表記は相対的なものであるため、高屈折率材料および低屈折率材料の屈折率は、上記範囲に限定されるものではない。
【００２５】
高屈折率材料および低屈折率材料としては、無機材料、有機材料または有機・無機複合材料を用いることができ、成膜性等の観点からは無機材料が好ましい。即ち、反射防止層は、無機多層膜であることが好ましい。具体的には、高屈折率層を形成するための高屈折率材料としては、酸化ジルコニウム（例えばＺｒＯ2）、酸化タンタル（例えばＴａ2Ｏ5）、酸化チタン（例えばＴｉＯ2）、酸化アルミニウム（例えばＡｌ2Ｏ3）、酸化イットリウム（例えばＹ2Ｏ3）、酸化ハフニウム（例えばＨｆＯ2）、および酸化ニオブ（例えばＮｂ2Ｏ5）からなる群から選ばれる酸化物の一種または二種以上の混合物を挙げることができる。一方、低屈折率層を形成するための低屈折率材料としては、酸化ケイ素（例えばＳｉＯ2）、フッ化マグネシウム（例えばＭｇＦ2）およびフッ化バリウム（例えばＢａＦ2）からなる群から選ばれる酸化物またはフッ化物の一種または二種以上の混合物を挙げることができる。上記の例示では、便宜上、酸化物およびフッ化物を化学量論組成で表示したが、化学量論組成から酸素またはフッ素が欠損もしくは過多の状態にあるものも、高屈折率材料または低屈折率材料として使用可能である。
【００２６】
好ましくは、高屈折率層は高屈折率材料を主成分とする膜であり、低屈折率層は低屈折率材料を主成分とする膜である。ここで主成分とは、膜において最も多くを占める成分であって、通常は膜の質量に対して５０質量％程度〜１００質量％、更には９０質量％程度〜１００質量％を占める成分である。上記高屈折率材料または低屈折率材料を主成分とする成膜材料（例えば蒸着源）を用いて成膜を行うことにより、そのような膜（例えば蒸着膜）を形成することができる。なお成膜材料に関する主成分も、上記と同様である。膜および成膜材料には、不可避的に混入する不純物が含まれる場合があり、また、主成分の果たす機能を損なわない範囲で他の成分、例えば他の無機物質や成膜を補助する役割を果たす公知の添加成分が含まれていてもよい。成膜は、公知の成膜方法により行うことができ、成膜の容易性の観点からは、蒸着により行うことが好ましい。反射防止層は、例えば、高屈折率層と低屈折率層が交互に合計３〜１０層積層された多層膜であることができる。高屈折率層の膜厚および低屈折率層の膜厚は、層構成に応じて決定することができる。詳しくは、反射防止層に含まれる層の組み合わせ、および各層の膜厚は、高屈折率層および低屈折率層を形成するための成膜材料の屈折率と、反射防止層を設けることにより眼鏡レンズにもたらしたい所望の反射特性および透過特性に基づき、公知の手法による光学的シミュレーションにより決定することができる。また、反射防止層には、導電性酸化物を主成分とする層（導電性酸化物層）、好ましくは導電性酸化物を主成分とする蒸着源を用いる蒸着により形成された導電性酸化物の蒸着膜の一層以上が多層膜の任意の位置に含まれていてもよい。
【００２７】
更に、上記眼鏡レンズに任意に含まれ得る層としては、撥水性または親水性の防汚層、防曇層等の各種機能性層を挙げることができる。これら機能性層については、いずれも公知技術を適用することができる。例えば、反射防止層の表面に、防汚層としてフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含む撥水層を形成することができる。
【００２８】
＜眼鏡レンズの製造方法＞
上記の本発明の一態様にかかる眼鏡レンズは、レジストを利用したパターニングによりパターン層を形成する工程を経て製造することができ、リフトオフプロセスを利用して製造することが好ましい。
【００２９】
本発明の一態様にかかる眼鏡レンズの製造方法の好ましい態様としては、
レンズ基材上に設けられた硬化層の表面にレジストパターンを形成すること、および
上記レジストパターンが形成された硬化層の表面上に、積層構造を有する連続層を形成すること、を含み、
上記積層構造を有する連続層は、上記レジストパターンが形成された硬化層の表面に直接積層された金属酸化物の連続層と、金属の連続層と、上記連続積層構造の最表層に位置する金属酸化物の連続層と、を含み、
上記パターン層を、上記積層構造を有する連続層の形成後に上記レジストパターンを除去することによって、上記積層構造を有する連続層の上記レジストパターン上に形成された部分を剥離することにより形成することを更に含む眼鏡レンズの製造方法、
を挙げることができる。以下、上記製造方法について、更に詳細に説明する。
【００３０】
（硬化層形成工程Ｓ１）
図４は、眼鏡レンズ１の製造方法の一例を示すフロー図である。
硬化層形成工程（Ｓ１）において、レンズ基材１１上に硬化層１３が形成される。硬化層１３は、硬化性組成物をディッピング法等の公知の塗布法によってレンズ基材１１の表面１１１に塗布して塗布層を形成し、形成した塗布層を加熱、光照射等の公知の硬化処理により硬化させることによって形成することができる。
【００３１】
（レジストパターン形成工程Ｓ２）
レジストパターン形成工程（Ｓ２）では、レンズ基材１１上の硬化層１３の表面１１３にレジストパターンを形成する。図５は、レジストパターン形成工程の工程図である。例えば、インクジェット装置５を用いて、インクジェット法により、硬化層１３の表面１１３にインクをパターン状に塗布することによって、レジストパターン２１を形成することができる。インクが硬化性を有する場合、インクの種類に応じた硬化処理（例えば光照射、加熱）を行うことにより、インクを硬化させることができる。こうしてレジストパターンを形成することにより、硬化層表面の一部はレジストパターン２１により覆われ、一部はインクにより覆われずに露出する。
【００３２】
レジストパターン形成工程の具体的態様としては、図５に示されている態様を挙げることができる。図５（Ａ）に示されているように、インクジェットノズル５１から複数の液滴ｄを吐出する。図５（Ｂ）に示されているように、吐出された液滴が硬化層１３の表面１１３で他の液滴ｄと結合することにより、１つのドット部２１ａが形成される。このように複数の液滴ｄが結合したドット部２１ａが硬化層表面に配列してレジストパターン２１が形成される。
【００３３】
上記のレジストパターン形成後には、図５（Ｃ）に示されているように、レジストパターン２１に対して光照射装置６を用いて紫外線等の光を照射することにより、レジストパターン２１を硬化させる。
【００３４】
インクは、優れた硬化性を得る観点から、（メタ）アクリルモノマーを含むことが好ましく、水溶性ポリマーと（メタ）アクリルモノマーとを含むことが好ましい。本発明および本明細書において、「水溶性」とは、２５℃の水１００ｇに対して、１ｇ以上溶解する性質を意味するものとする。
【００３５】
水溶性ポリマーとしては、例えば、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸等が挙げられ、ポリビニルピロリドンが好ましい。
水溶性ポリマーの重量平均分子量は、好ましくは１００以上、より好ましくは３００以上、更に好ましくは４００以上、一層好ましくは１，０００以上、より一層好ましくは５，０００以上であり、また、好ましくは１００，０００以下、インクジェット法におけるインクの吐出安定性の観点から、より好ましくは３０，０００以下、更に好ましくは１５，０００以下である。
上記インクの水溶性ポリマーの含有量は、好ましくは１質量％以上、より好ましくは２質量％以上、更に好ましくは３質量％以上であり、また、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下、更に好ましくは１０質量％以下、一層好ましくは８質量％以下であり、優れた硬化性を得る観点から、より一層好ましくは５質量％以下、更に一層好ましくは４質量％以下である。
【００３６】
（メタ）アクリルモノマーとしては、例えば、単官能（メタ）アクリレート、多官能（メタ）アクリレートが挙げられる。これらの中でも、硬化性の観点から、単官能（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートとの組み合わせが好ましい。
本発明および本明細書において、「（メタ）アクリルモノマー」とは、アクリルモノマーおよびメタクリルモノマーからなる群から選ばれる少なくとも１種を意味し、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートおよびメタクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１種を意味する。
【００３７】
単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、アルコキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。
アルコキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートのアルコキシ基の炭素数は、好ましくは１〜４であり、より好ましくは１〜３であり、更に好ましくは１または２である。
ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとしては、例えば、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。アルコキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとしては、例えば、メトキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。メトキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとしては、例えば、メトキシジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。エトキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとしては、例えば、エトキシジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシトリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。
これらの中でも、インクジェット法におけるインクの吐出安定性の観点から、アルコキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートが好ましく、メトキシポリエチレングリコールモノアクリレートがより好ましく、メトキシトリエチレングリコールモノアクリレートが更に好ましい。
【００３８】
多官能（メタ）アクリレートは、好ましくは二官能（メタ）アクリレートである。二官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。これらの中でも、硬化性の観点およびインクジェット法におけるインクの吐出安定性の観点から、ポリエチレングリコールジアクリレートが好ましい。ポリエチレングリコールジアクリレートのポリエチレングリコール部位の平均付加モル数は、好ましくは３以上、より好ましくは６以上、更に好ましくは９以上であり、また、好ましくは３０以下、より好ましくは２５以下、更に好ましくは１８以下である。
【００３９】
インクの（メタ）アクリレートの含有量は、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは２０質量％以上、更に好ましくは３０質量％以上であり、また、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは６０質量％以下、更に好ましくは５０質量％以下である。
インクの単官能（メタ）アクリレートの含有量は、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは２０質量％以上、更に好ましくは３０質量％以上であり、また、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは６０質量％以下、更に好ましくは５０質量％以下である。
インクの多官能（メタ）アクリレートの含有量は、好ましくは１質量％以上、より好ましくは３質量％以上、更に好ましくは５質量％以上であり、また、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下、更に好ましくは１０質量％以下である。
インクにおける多官能（メタ）アクリレート／単官能（メタ）アクリレートの質量比は、硬化性の観点から、好ましくは５／９５以上、より好ましくは８／９２以上、更に好ましくは１０／９０以上であり、また、好ましくは４０／６０以下、より好ましくは３０／７０以下、更に好ましくは２０／８０以下である。
【００４０】
硬化処理を光照射により行う場合、インクは光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤を使用することができ、水酸基を２以上有する光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤としては、例えば、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］―２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オンが挙げられる。
インクの光重合開始剤の含有量は、硬化性を高める観点から、好ましくは１質量％以上、より好ましくは３質量％以上、更に好ましくは５質量％以上であり、また、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは２０質量％以下、更に好ましくは１０質量％以下である。
また、硬化性の観点から、インクの光重合開始剤の含有量は、（メタ）アクリレートの合計量の１００質量部に対して、好ましくは５質量部以上、より好ましくは８質量部以上、更に好ましくは１０質量部以上であり、また、好ましくは４０質量部以下、より好ましくは３０質量部以下、更に好ましくは２０質量部以下である。
【００４１】
インクは、レジストパターンの形成性を向上させる観点から、高沸点溶媒を含むことが好ましい。
高沸点溶媒の沸点は、好ましくは１５０℃以上、より好ましくは１６０℃以上、更に好ましくは１７０℃以上、一層好ましくは１８０℃以上であり、また、好ましくは３５０℃以下、より好ましくは３３０℃以下、更に好ましくは３００℃以下である。
高沸点溶媒としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリプロピレングリコール等のオキシエチレンまたはオキシプロピレン付加重合体；プロピレングリコール等のジオール類；グリセリン等のトリオール類；チオジグリコール；トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル等の低級アルキルグリコールエーテル類；トリエチレングリコールジエチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジエチルエーテル等の低級ジアルキルグリコールエーテル類等が挙げられる。これらは単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、プロピレングリコールが好ましい。
インクの高沸点溶媒の含有量は、好ましくは５質量％以上、より好ましくは１０質量％以上、更に好ましくは１５質量％以上であり、また、好ましくは４０質量％以下、より好ましくは３０質量％以下、更に好ましくは２０質量％以下である。
【００４２】
インクは、粘度調整の観点から、水を含むことができる。
水としては、例えば、水道水、純水、イオン交換水等が挙げられる。
インクの水の含有量は、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは２０質量％以上、更に好ましくは３０質量％以上であり、また、好ましくは８０質量％以下、より好ましくは７０質量％以下、更に好ましくは６０質量％以下である。
【００４３】
インクの粘度は、インクジェット法への適性の観点から、好ましくは１ｍＰａ・ｓ以上、より好ましくは５ｍＰａ・ｓ以上、更に好ましくは８ｍＰａ・ｓ以上であり、また、好ましくは４０ｍＰａ・ｓ以下、より好ましくは３０ｍＰａ・ｓ以下、更に好ましくは２０ｍＰａ・ｓ以下、一層好ましくは１５ｍＰａ・ｓ以下である。
【００４４】
インクのｐＨは、好ましくは３．０以上、より好ましくは３．５以上、更に好ましくは４．０以上であり、また、好ましくは１２以下、より好ましくは１１以下、更に好ましくは１０以下である。
【００４５】
硬化層の表面１１３に対するインクの接触角は、レジストパターンのドット形状をより真円に近づける観点から、好ましくは２５°以上、より好ましくは３０°以上、更に好ましくは４５°以上であり、また、好ましくは６５°以下、より好ましくは６０°以下、更に好ましくは５５°以下、更に好ましくは５３°以下である。接触角は、ＪＩＳ  Ｒ  ３２５７：１９９０の静滴法により測定される値である。
【００４６】
インクジェット法は、型式や方式が限定されることはなく、連続型であってもオンデマンド型であってもよく、オンデマンド型であればピエゾ方式であってもサーマル方式であってもよい。
【００４７】
レジストパターン２１は、硬化層１３の表面１１３上に形成する開口部２０に対応するドット部２１ａを有している。このようにドット部２１ａが形成された硬化層１３の表面１１３上に、積層構造を有する連続層が形成される。以下において、積層構造を有する連続層を、連続積層構造とも記載する。
【００４８】
ドット部２１ａの中心から隣接するドット部２１ａの中心の間隔ＡＤは、例えば、０．１ｍｍ以上、好ましくは０．２ｍｍ以上、より好ましくは０．３ｍｍ以上であり、また、例えば、５．０ｍｍ以下、好ましくは３．０ｍｍ以下、より好ましくは１．０ｍｍ以下である。
ドットの直径ＤＤは、例えば、０．０１ｍｍ以上、より好ましくは０．０５ｍｍ以上、更に好ましくは０．１ｍｍ以上であり、また、例えば、５．０ｍｍ以下、好ましくは２．０ｍｍ以下、より好ましくは１．０ｍｍ以下、更に好ましくは０．５ｍｍ以下である。
間隔ＡＤ／直径ＤＤは、好ましくは１．０超、より好ましくは１．１以上、更に好ましくは１．２以上であり、また、好ましくは２．０以下、より好ましくは１．８以下、更に好ましくは１．５以下である。
【００４９】
インクジェット法により形成されるドットのドット密度は、レジストパターン形成性を向上させる観点から、好ましくは３００ｄｐｉ（ｄｏｔｓ  ｐｅｒ  ｉｎｃｈ）以上、より好ましくは４００ｄｐｉ以上、更に好ましくは５００ｄｐｉ以上であり、また、好ましくは１０００ｄｐｉ以下、より好ましくは９００ｄｐｉ以下、更に好ましくは８００ｄｐｉ以下である。
【００５０】
ドットひとつあたりのインク吐出量は、形成されたドットの硬化性を高め、レジストパターン形成性を向上させる観点から、好ましくは６００ｐｌ（ｐｉｃｏｌｉｔｒｅ）以上、より好ましくは１０００ｐｌ以上、更に好ましくは２０００ｐｌ以上であり、また、好ましくは６０００ｐｌ以下、より好ましくは５０００ｐｌ以下、更に好ましくは４０００ｐｌ以下である。
【００５１】
（連続積層構造形成工程Ｓ３）
連続積層構造形成工程（Ｓ３）では、レジストパターン２１が形成された硬化層１３の表面１１３上に、積層構造を有する連続層２２が形成される。この積層構造を有する連続層２２は、第１の金属酸化物の連続層、金属の連続層および第２の金属酸化物の連続層から構成される。上記連続層の金属については、先の金属層に関する記載を参照できる。また、上記の第１の金属酸化物については先の第１の金属酸化物層に関する記載を参照でき、上記の第２の金属酸化物については先の第２の金属酸化物層に関する記載を参照できる。図４に示す態様では、第１の金属酸化物層、金属層および第２の金属酸化物層からなるパターン層が形成される。ただし、先に記載したように、上記眼鏡レンズが有するパターン層は、かかる層構成のものに限定されない。
【００５２】
上記の各連続層の形成（工程Ｓ３１、Ｓ３２およびＳ３３）は、公知の成膜法によって行うことができる。上記の各連続層の形成は、好ましくは蒸着により行うことができる。例えば、図６に示されているように、硬化層１３の表面１１３に設けられたレジストパターン２１および開口部２０を被覆するように、蒸着装置７により、積層構造を有する連続層２２を形成することができる。本発明および本明細書における「蒸着」には、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等が包含される。真空蒸着法では、蒸着中にイオンビームを同時に照射するイオンアシスト法（イオンアシスト蒸着）を用いてもよい。
【００５３】
（剥離工程Ｓ４）
上記の積層構造を有する連続層２２の形成後、剥離工程（Ｓ４）においてレジストパターン２１を剥離することにより、レジストパターン２１とともに、積層構造を有する連続層２２のレジストパターン２１上に形成された部分も剥離して除去することができる（リフトオフ）。これにより、図７に示されているように、硬化層１３の表面１１３上に、複数の開口部２０を有するパターン層１５を形成することができる。
【００５４】
剥離工程におけるレジストパターンの除去は、物理的剥離および／または化学的剥離によって行うことができる。「物理的剥離」とは、剥離対象を外力を加えることにより除去することである。これに対し、溶媒や薬液により剥離対象を化学的に変質させることによって除去することは、「化学的剥離」である。剥離工程は、物理的剥離により行ってもよく、化学的剥離により行ってもよく、物理的剥離と化学的剥離を組み合わせて行ってもよく、化学的剥離のための溶媒や薬液を使用しながら物理的剥離を行ってもよい。レジストパターン上に金属の連続層（単層）を形成した後に物理的剥離によりレジストパターンを除去すると、剥離工程後に残留させてパターン層となる部分の表面にキズが生じたり、一部が剥離してしまう場合がある。また、レジストパターン上に金属の連続層（単層）を形成した後に化学的剥離によりレジストパターンを除去すると、剥離工程後に残留させてパターン層となる部分の表面が変質したり、一部が剥離してしまう場合がある。以上のようなキズ、変質や部分的な剥離は、眼鏡レンズの光学的欠陥となり眼鏡レンズの光学特性を目標値から逸脱させる原因となる。これに対し、上記の積層構造を有する連続層は、最表層が金属酸化物層であるため、最表層が金属層である場合と比べ、物理的剥離においてキズを生じ難く、化学的剥離において変質し難いと、本発明者は推察している。また、上記の積層構造を有する連続層は、硬化層と隣接する層が金属酸化物層であることにより硬化層との密着性に優れるため、硬化層に金属層が隣接している場合と比べ、物理的剥離または化学的剥離において部分的な剥離が生じ難いと本発明者は考えている。以上のことが、光学的欠陥の発生を抑制することに寄与すると本発明者は推察している。
【００５５】
物理的剥離は、例えば、レジストパターン（即ち凸部）２１を、固体摺洗材を接触させて擦ることにより行うことができる。これにより、積層構造を有する連続層のレジストパターン２１上に形成された部分を、レジストパターン２１とともに除去することができる。こうして積層構造を有する連続層２２が部分的に除去されることにより、硬化層１３の表面１１３上に、複数の開口部２０を有するパターン層１５を形成することができる。
【００５６】
「固体摺洗材」とは、研磨的な動作によって処理対象を取り除く固体状の材料を意味する。固体摺洗材としては、例えば、発泡体、エラストマー、布、研磨パット、またはブラシを用いることができる。発泡体としては、例えば、メラミン樹脂フォーム、ウレタン樹脂フォーム等が挙げられる。エラストマーとしては、例えば、ゴム、ウレタンエラストマー等が挙げられる。布は、不織布、織布のいずれであってもよい。これらの中でも、発泡体が好ましく、メラミン樹脂フォームがより好ましい。固体摺洗材の形状は、例えば、シート、手袋等のいずれの形状であってもよい。
【００５７】
物理的剥離は、乾燥条件下で行ってもよく、湿潤条件下で行ってもよい。物理的剥離では通常剥離屑が発生するが、乾燥条件下で物理的剥離を行うと、剥離屑を乾燥した状態で発生させることができる。乾燥した状態の剥離屑は、粘着テープ、エアブロー等により簡単に除去することができる。
【００５８】
物理的剥離は、一態様では、固体摺洗材と接触させる対象を回転させて行うことができる。図８は、物理的剥離を行うための処理装置８の一例を示す模式図である。物理的剥離では、例えば、図８に示されているように、処理装置８のステージ８２に、硬化層１３、レジストパターン２１および積層構造を有する連続層２２が形成されたレンズ基材１１を保持し、レンズ基材１１を回転させて、乾燥条件下で、固体摺洗材８１２を接触させる。
【００５９】
図８に示されるように、処理装置８は、上部に蓋８１１を有するチャンバ８１と、チャンバ８１内に設置され、レンズ基材１１を保持するステージ８２と、ステージ８２を回転させるモータ８３とを備える。
蓋８１１は、チャンバ８１内面側に固体摺洗材８１２を有し、蓋８１１によりチャンバ８１を閉じると、ステージ８２上に保持されたレンズ基材１１と接触する。
【００６０】
図８に示されるように、物理的剥離では、ステージ８２にレンズ基材１１を設置して、ステージ８２を回転させ、乾燥条件下で固体摺洗材８１２を接触させることで、レジストパターン（凸部）２１を、その上に形成された積層構造を有する連続層２２を介して摺り、連続層２２のレジストパターン２１上に形成された部分をレジストパターン２１とともに除去する。これにより、図７に示されているように、開口部２０を有するパターン層１５が形成された眼鏡レンズ１が得られる。回転については、上記のようにレンズ基材１１を回転させてもよく、固体摺洗材８１２を回転させてもよく、レンズ基材１１および固体摺洗材８１２を回転させてもよい。
【００６１】
物理的剥離では、剥離されたレジストパターン２１や積層構造を有する連続層２２のレジストパターン上に形成されていた部分に由来する剥離屑が発生し、眼鏡レンズ表面に付着する場合がある。そのような剥離屑は、粘着テープ、エアブロー等で取り除くことができる。
【００６２】
更に、好ましくは上記の剥離屑を除去する前または除去した後に、洗浄を行うことができる。洗浄は、例えば水系溶媒を用いて行うことができる。一態様では、洗浄は水洗により行うことができる。または、洗浄に代えて、または洗浄の前もしくは後に、湿潤条件下で物理的剥離を行うこともできる。湿潤条件下での物理的剥離は、例えば、水系溶媒を含ませた固体摺洗材を用いることができる。水系溶媒とは、水を６０質量％以上含有する溶媒を意味する。水系溶媒としては、水が好ましい。水系溶媒に、水以外に含まれ得る溶媒としては、エタノール、メタノール、プロパノール等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒が挙げられる。水系溶媒の水の含有量は、好ましくは８０質量％以上、より好ましくは９０質量％以上、更に好ましくは９５質量％以上、一層好ましくは１００質量％である。湿式条件下での物理的剥離により、レジストパターンの残存を防ぎ、レジストパターンをより確実に剥離することができる。
【００６３】
（機能性層形成工程Ｓ５）
図４にフロー図が示されている態様では、上記の剥離工程後、機能性層形成工程（Ｓ５）において、機能性層が形成される。図２に示されている構成の眼鏡レンズを得る場合、機能性層形成工程では、低屈折率層１７Ｌと高屈折率層１７Ｈとが交互に積層された反射防止層１７が形成され、反射防止層１７上に撥水層１９が形成される。
【００６４】
機能性層形成工程において、機能性層が形成される表面に対して表面処理を行うことができる。この表面処理として、表面クリーニングを挙げることができ、具体例としてはイオンクリーニングを挙げることができる。イオンクリーニングにより、機能性層が形成される表面に付着した有機物を除去して表面を清浄化することができる。イオンクリーニングは、イオン銃（ＩＧ；Ｉｏｎ  ｇｕｎ）によって処理表面にイオンを照射する処理である。照射されるイオンとしては、クリーニング性の観点から、酸素イオンが好ましい。イオンクリーニングによってパターン層の表面にもイオンが照射されるが、パターン層の最表層に金属酸化物層が位置することにより、酸素イオンによるパターン層の酸化が生じにくくなり、酸化による透過率変化を抑制することができる。また、表面クリーニングは、不活性ガス、例えばアルゴン（Ａｒ）ガスやキセノン（Ｘｅ）ガス、または窒素（Ｎ2）ガスを用いて行ってもよく、酸素ラジカルや酸素プラズマを照射して行ってもよい。
【００６５】
機能性層形成工程では、上記眼鏡レンズに任意に設けられ得る層として先に記載した各種層の一層以上を、パターン層を有する硬化層表面に形成することができる。
【００６６】
［眼鏡］
本発明の更なる態様は、上記眼鏡レンズを備えた眼鏡に関する。この眼鏡に含まれる眼鏡レンズの詳細については、先に記載した通りである。フレーム等の眼鏡の構成については、特に制限はなく、公知技術を適用することができる。
【実施例】
【００６７】
以下、本発明を実施例により更に説明する。ただし本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。
【００６８】
［実施例１］
１．硬化層形成工程
眼鏡レンズ用モノマー（三井化学株式会社製ＭＲ８）により製造した眼鏡用レンズ基材の物体側表面（凸面）に、シラン化合物と金属酸化物粒子を含む硬化性組成物（ＨＯＹＡ株式会社製ハードコート液（商品名：ＨＣ６０Ｓ））を塗布して塗布層を形成し、この塗布層を加熱により硬化させてハードコート層（硬化層）を設けた。
【００６９】
２．レジストパターン形成工程
（インクの調製）
サンプル瓶に、ポリエチレングリコールジアクリレート（平均付加モル数１４，ＣＡＳ  Ｎｏ．２６５７０−４８−９）５質量部、メトキシトリエチレングリコールアクリレート（ＣＡＳ  Ｎｏ.４８０６７−７２−７）３５質量部および水１６質量部を加え、撹拌した。その後、プロピレングリコール１８質量部を加え、更に撹拌した。更に、１質量％ＮａＯＨ水溶液を添加し、ｐＨを調整した。その後更に、光重合開始剤として、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（ＣＡＳ  Ｎｏ．１０６７９７−５３−９）５質量部を添加して撹拌し、２０質量％のポリビニルピロリドン水溶液（重量平均分子量１０，０００，ＣＡＳ  Ｎｏ．９００３−３９−８）１７．５質量部を添加し撹拌して、フィルタリングを行って不溶分を取り除き、ｐＨ７のインクを得た。得られたインクは、粘度１４．５ｍＰａ・ｓ、接触角５０°であった。
インクのｐＨは、温度２５℃の条件下、ｐＨメーター（株式会社堀場製作所製Ｆ−５５）を用い、ガラス電極法により測定した。
インクの粘度は、ＪＩＳ  Ｚ  ８８０３：２０１１に準拠して、温度２５℃の条件下、音叉型振動式粘度計（株式会社エー・アンド・ディー製ＳＶ−１０）で測定した。
上記接触角は、上記の硬化層形成工程と同様に眼鏡用レンズ基材上に形成したハードコート層の表面に上記インクを滴下し、ＪＩＳ  Ｒ  ３２５７：１９９０  ６．静滴法に記載の方法により測定した。
【００７０】
（レジストパターンの形成）
上記１．で形成したハードコート層の表面に、上記で調製したインクを、ノズル（京セラ株式会社製ＫＪ４Ａ）を装着したインクジェット装置により、９６００×６００ｄｐｉのドット密度で、印字幅１０８ｍｍで、ドット間隔０．４３２ｎｍ、ドット直径０．３２３ｎｍの格子状のドットとしてハードコート層の表面の全面に塗布した。１ドットあたりの液滴量は、２４００ｐｌとした。レジストパターンの形成後、紫外線照射装置（ウシオ電機株式会社製ＵＶＸ−０１２１２Ｓ1ＣＳ０１）により、紫外線を照射しインクを硬化させてレジストパターンを形成した。レジストパターンは、円状のドットとして、格子欠陥なく形成できた。
【００７１】
３．連続積層構造形成工程
上記硬化後、真空蒸着装置において、ハードコート層表面に対して、酸素イオンによるイオンクリーニングを実施した。イオンクリーニングの処理条件は、加速電圧３５０Ｖ、電流１８０ｍＡ、Ｏ2導入流量１０ｓｃｃｍ、Ａｒ導入流量１０ｓｃｃｍ、処理時間４５ｓｅｃとした。続いて、酸化ケイ素層を蒸着し（Ｅｍｉ．電流：１５５ｍＡ）、金属層としてクロム層を蒸着し（Ｅｍｉ．電流：３８ｍＡ）、酸化ケイ素層を更に蒸着し（Ｅｍｉ．電流：１５５ｍＡ）、酸化ケイ素層（連続層）、クロム層（連続層）および酸化ケイ素層（連続層）がこの順に積層された連続積層構造を形成した。
【００７２】
４．剥離工程
上記３．で連続積層構造を形成した眼鏡用レンズ基材を、図８に示す処理装置８のステージ８２に載置し、回転させ、その表面に乾燥条件下でメラミン樹脂フォーム８１２を５秒間押し当て物理的剥離を行い、その後、回転を止め物理的剥離が行われた表面に付着した剥離屑を粘着テープで除去し、続いてその表面を水洗し乾燥させた。
こうして、眼鏡用レンズ基材上に形成されたハードコート層の表面に、第１の金属酸化物層（膜厚１０ｎｍの酸化ケイ素層）、金属層（膜厚１０ｎｍのクロム層）および第２の金属酸化物層（膜厚１０ｎｍの酸化ケイ素層）からなる３層構成のパターン層を形成した。
【００７３】
［実施例２］
剥離工程を、上記剥離屑の除去後に眼鏡用レンズ基材処理装置８のステージ８２上で回転させ、その表面に水を含ませたメラミン樹脂フォーム８１２を押し当てて、最後にエアーを吹き付けて乾燥させて行った点以外、実施例１と同様にして、眼鏡用レンズ基材上に形成されたハードコート層の表面に、第１の金属酸化物層（膜厚１０ｎｍの酸化ケイ素層）、金属層（膜厚１０ｎｍのクロム層）および第２の金属酸化物層（膜厚１０ｎｍの酸化ケイ素層）からなる３層構成のパターン層を形成した。
【００７４】
実施例１、２の各眼鏡レンズのパターン層を光学顕微鏡で観察したところ、パターン層表面にキズや変質は確認されず、パターン層の部分的な剥離も見られなかった。
【００７５】
実施例１、２の各眼鏡レンズを真空蒸着装置内に配置し、この装置内でパターン層が形成されたハードコート層表面に対して、酸素イオンによるイオンクリーニングを実施した。イオンクリーニングの処理条件は、加速電圧３５０Ｖ、加速電流１８０ｍＡ、Ｏ2導入流量１０ｓｃｃｍ、Ａｒ導入流量１０ｓｃｃｍ、処理時間４５ｓｅｃとした。
イオンクリーニング前後にそれぞれ波長３８０〜７８０ｎｍにおける平均透過率を求め、「｛（イオンクリーニング後の平均透過率−イオンクリーニング前の平均透過率）／イオンクリーニング前の平均透過率｝×１００」として可視光透過率変化率を算出したところ、実施例１、２の各眼鏡レンズにおいて、可視光透過率変化率は０．５％以下であり、パターン層の酸化による透過率変化が抑制されていることが確認された。
【００７６】
［比較例１］
上記３．で連続層としてクロム層のみを形成した点以外、実施例１と同様にして、眼鏡用レンズ基材上に形成されたハードコート層の表面に、金属層（膜厚１０ｎｍのクロム層）の単層からなるパターン層を形成した。
【００７７】
比較例１の眼鏡レンズのパターン層を光学顕微鏡で観察したところ、パターン層表面のキズやパターン層の部分的な剥離が見られた。これら光学的欠陥（キズおよび部分的な剥離）は、眼鏡レンズの可視光透過率を変化させる原因となる。
【００７８】
［比較例２］
上記３．で、クロム層上への酸化ケイ素層の蒸着を行わなかった点以外、実施例１と同様にして、眼鏡用レンズ基材上に形成されたハードコート層の表面に、金属酸化物層（膜厚１０ｎｍの酸化ケイ素層）と金属層（膜厚１０ｎｍのクロム層）の２層からなるパターン層を形成した。
【００７９】
比較例２の眼鏡レンズのパターン層を光学顕微鏡で観察したところ、パターン層表面にキズが見られた。この光学的欠陥（キズ）は、眼鏡レンズの可視光透過率を変化させる原因となる。
【００８０】
最後に、前述の各態様を総括する。
【００８１】
一態様によれば、レンズ基材上に硬化層を有し、上記硬化層上に複数の層が積層された積層構造を有するパターン層を有し、上記パターン層は上記硬化層の表面に直接積層された金属酸化物層と、金属層と、上記パターン層の最表層に位置する金属酸化物層とを含む眼鏡レンズが提供される。
【００８２】
上記眼鏡レンズは、レンズ基材上に設けられた硬化層上に金属層を含むパターン層を有する眼鏡レンズであって光学的欠陥発生の抑制が可能である。
【００８３】
一態様では、上記パターン層は、上記硬化層の表面に直接積層された金属酸化物層と、上記金属酸化物層の表面に直接積層された金属層と、上記金属層の表面に直接積層された金属酸化物層と、からなることができる。
【００８４】
一態様では、上記金属層は、クロム層、モリブデン層、タングステン層、鉄層、コバルト層、ニッケル層、銅層、銀層および金層からなる群から選択される金属層であることができる。
【００８５】
一態様では、上記硬化層の表面に直接積層された金属酸化物層は、酸化ケイ素層、酸化アルミニウム層、酸化セリウム層、酸化クロム層、酸化モリブデン層、酸化タングステン層、酸化ジルコニウム層、酸化チタン層、酸化ニオブ層、酸化スズ層および酸化タンタル層からなる群から選択される金属酸化物層であることができる。
【００８６】
一態様では、上記硬化層の表面に直接積層された金属酸化物層の厚みは、１〜１００ｎｍの範囲であることができる。
【００８７】
一態様では、上記パターン層の最表層に位置する金属酸化物層は、酸化ケイ素層、酸化アルミニウム層、酸化セリウム層、酸化クロム層、酸化モリブデン層、酸化タングステン層、酸化ジルコニウム層、酸化チタン層、酸化ニオブ層、酸化スズ層および酸化タンタル層からなる群から選択される金属酸化物層であることができる。
【００８８】
一態様では、上記パターン層の最表層に位置する金属酸化物層の厚みは、１〜１００ｎｍの範囲であることができる。
【００８９】
一態様によれば、上記眼鏡レンズを備えた眼鏡が提供される。
【００９０】
一態様によれば、上記眼鏡レンズの製造方法であって、レンズ基材上に設けられた硬化層の表面にレジストパターンを形成すること、および上記レジストパターンが形成された硬化層の表面上に積層構造を有する連続層を形成することを含み、上記積層構造を有する連続層は、上記レジストパターンが形成された硬化層の表面に直接積層された金属酸化物の連続層と、金属の連続層と、上記連続積層構造の最表層に位置する金属酸化物の連続層とを含み、上記パターン層を、上記積層構造を有する連続層の形成後に上記レジストパターンを除去することによって、上記積層構造を有する連続層の上記レジストパターン上に形成された部分を剥離することにより形成することを更に含む眼鏡レンズの製造方法が提供される。
【００９１】
一態様では、上記レジストパターンの除去は、物理的剥離を含むことができる。
【００９２】
一態様では、上記製造方法は、上記パターン層が形成された上記硬化層の表面に、酸素イオンによるイオンクリーニングを施すことを含むことができる。
【００９３】
本明細書に記載の各種態様は、任意の組み合わせで２つ以上を組み合わせることができる。
【００９４】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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