(57)【要約】【課題】加熱前には導電材料を介した視認性を高めることができ、加熱後には導電材料の硬化物の透過率を下げることができる導電材料を提供する。【解決手段】本発明に係る導電材料は、硬化性成分と、導電性粒子とを含む導電材料であり、導電材料を２５℃から６０℃に加熱したときに、加熱後の波長４００ｎｍにおける透過率が、加熱前の波長４００ｎｍにおける透過率よりも１０％以上低くなる性質を有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
硬化性成分と、導電性粒子とを含む導電材料であり、
導電材料を２５℃から６０℃に加熱したときに、加熱後の波長４００ｎｍにおける透過率が、加熱前の波長４００ｎｍにおける透過率よりも１０％以上低くなる性質を有する、導電材料。
【請求項２】
加熱前の波長４００ｎｍにおける透過率が、８０％以上である、請求項１に記載の導電材料。
【請求項３】
導電材料を２５℃から６０℃に加熱したときに、加熱後の波長４００ｎｍにおける透過率が、８０％以下である、請求項１又は２に記載の導電材料。
【請求項４】
前記導電性粒子が、錫を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の導電材料。
【請求項５】
加熱することで、加熱前の導電材料に対して加熱後の導電材料の波長４００ｎｍにおける透過率を低下させる性質を有する着色剤を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の導電材料。
【請求項６】
前記着色剤として、ロイコ染料を含む、請求項５に記載の導電材料。
【請求項７】
前記硬化性成分が、熱硬化性化合物と熱硬化剤とを含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の導電材料。
【請求項８】
前記硬化性成分が、光硬化性化合物と光重合開始剤とを含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の導電材料。
【請求項９】
フラックスを含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の導電材料。
【請求項１０】
第１の電極を表面に有する第１の接続対象部材と、
第２の電極を表面に有する第２の接続対象部材と、
前記第１の接続対象部材と、前記第２の接続対象部材とを接続している接続部とを備え、
前記接続部の材料が、請求項１〜９のいずれか１項に記載の導電材料であり、
前記第１の電極と前記第２の電極とが、前記導電性粒子により電気的に接続されている、接続構造体。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の導電材料を用いて、第１の電極を表面に有する第１の接続対象部材の表面上に、前記導電材料を配置する工程と、
前記導電材料の前記第１の接続対象部材側とは反対の表面上に、第２の電極を表面に有する第２の接続対象部材を、前記第１の電極と前記第２の電極とが対向するように配置する工程と、
前記導電材料を加熱することで、前記第１の接続対象部材と前記第２の接続対象部材とを接続している接続部を、前記導電材料により形成し、かつ、前記第１の電極と前記第２の電極とを、前記導電性粒子により電気的に接続する工程とを備える、接続構造体の製造方法。
【請求項１２】
加熱前の導電材料に対して、加熱後の導電材料である接続部の波長４００ｎｍにおける透過率を１０％以上低下させる、請求項１１に記載の接続構造体の製造方法。
【請求項１３】
硬化性成分と、導電性粒子とを含む導電材料を用いて、第１の電極を表面に有する第１の接続対象部材の表面上に、前記導電材料を配置する工程と、
前記導電材料の前記第１の接続対象部材側とは反対の表面上に、第２の電極を表面に有する第２の接続対象部材を、前記第１の電極と前記第２の電極とが対向するように配置する工程と、
前記導電材料を加熱又は光を照射することで、前記第１の接続対象部材と前記第２の接続対象部材とを接続している接続部を、前記導電材料により形成し、かつ、前記第１の電極と前記第２の電極とを、前記導電性粒子により電気的に接続する工程とを備え、
加熱又は光の照射前の導電材料に対して、加熱又は光の照射後の導電材料である接続部の波長４００ｎｍにおける透過率を１０％以上低下させる、接続構造体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、硬化性成分と導電性粒子とを含む導電材料に関する。また、本発明は、上記導電材料を用いた接続構造体及び接続構造体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
異方性導電ペースト及び異方性導電フィルム等の異方性導電材料が広く知られている。上記異方性導電材料では、バインダー中に導電性粒子が分散されている。
【０００３】
上記異方性導電材料は、各種の接続構造体を得るために使用されている。上記異方性導電材料による接続としては、例えば、フレキシブルプリント基板とガラス基板との接続（ＦＯＧ（Ｆｉｌｍ  ｏｎ  Ｇｌａｓｓ））、半導体チップとフレキシブルプリント基板との接続（ＣＯＦ（Ｃｈｉｐ  ｏｎ  Ｆｉｌｍ））、半導体チップとガラス基板との接続（ＣＯＧ（Ｃｈｉｐ  ｏｎ  Ｇｌａｓｓ））、並びにフレキシブルプリント基板とガラスエポキシ基板との接続（ＦＯＢ（Ｆｉｌｍ  ｏｎ  Ｂｏａｒｄ））等が挙げられる。
【０００４】
上記異方性導電材料により、例えば、フレキシブルプリント基板の電極とガラスエポキシ基板の電極とを電気的に接続する際には、ガラスエポキシ基板上に、導電性粒子を含む異方性導電材料を配置する。次に、フレキシブルプリント基板を積層して、加熱及び加圧する。これにより、異方性導電材料を硬化させて、導電性粒子を介して電極間を電気的に接続して、接続構造体を得る。
【０００５】
上記接続構造体の製造では、製造工程の自動化が進められており、目視検査の代わりにカメラによる画像認識が用いられることがある。カメラによる画像認識の精度を高めるために、着色剤を含む導電材料が用いられることがある。また、着色剤を含む導電材料は、プラズマディスプレイパネル等の表示装置において、画面のコントラスト比を高めるために用いられることがある。
【０００６】
下記の特許文献１には、（Ａ）導電性粒子と、（Ｂ）着色剤と、（Ｃ）樹脂とを含有する異方性導電性接着剤が開示されている。
【０００７】
下記の特許文献２には、（Ａ）カルボキシル基を有する樹脂、（Ｂ）光重合性モノマー、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）導電性粉末、（Ｅ）耐熱性黒顔料、及び（Ｆ）ガラスフリットを含有するアルカリ現像型光硬化性導電性ペースト組成物が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１７−８２６０号公報
【特許文献２】特開２００４−１４５２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
特許文献１，２に記載の従来の導電材料では、導電材料に着色剤や顔料が配合されているため、導電材料が黒色等に着色されている。着色された導電材料を用いることで、例えば、カメラによる画像認識の精度を高めたり、プラズマディスプレイパネル等の表示装置における画面のコントラスト比を高めたり、ＬＥＤ装置に用いられる接続構造体の光漏れを防止したりすることができる。
【００１０】
しかしながら、表示装置等に用いられる接続構造体の製造の際に、着色された導電材料が接続対象部材等に塗布されると、その後の工程において、接続対象部材等のアライメントに必要なアライメントマークがカメラ等により認識し難くなり、接続構造体の生産性が低下することがある。
【００１１】
従来の導電材料では、表示装置における画面のコントラスト比を高めることと、表示装置等に用いられる接続構造体の生産性を高めることとを両立させることは困難である。
【００１２】
本発明の目的は、加熱前には導電材料を介した視認性を高めることができ、加熱後には導電材料の透過率を下げることができる導電材料を提供することである。また、本発明の目的は、上記導電材料を用いた接続構造体を提供することである。また、本発明の目的は、加熱又は光の照射前には導電材料を介した視認性を高めることができ、加熱又は光の照射後には導電材料の硬化物である接続部の透過率を下げることができる接続構造体の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の広い局面によれば、硬化性成分と、導電性粒子とを含む導電材料であり、導電材料を２５℃から６０℃に加熱したときに、加熱後の波長４００ｎｍにおける透過率が、加熱前の波長４００ｎｍにおける透過率よりも１０％以上低くなる性質を有する、導電材料が提供される。
【００１４】
本発明に係る導電材料のある特定の局面では、加熱前の波長４００ｎｍにおける透過率が、８０％以上である。
【００１５】
本発明に係る導電材料のある特定の局面では、導電材料を２５℃から６０℃に加熱したときに、加熱後の波長４００ｎｍにおける透過率が、８０％以下である。
【００１６】
本発明に係る導電材料のある特定の局面では、前記導電性粒子が、錫を含む。
【００１７】
本発明に係る導電材料のある特定の局面では、前記導電材料が、加熱することで、前記導電材料の波長４００ｎｍにおける透過率を変化させる着色剤を含む。
【００１８】
本発明に係る導電材料のある特定の局面では、前記着色剤として、ロイコ染料を含む。
【００１９】
本発明に係る導電材料のある特定の局面では、前記硬化性成分が、熱硬化性化合物と熱硬化剤とを含む。
【００２０】
本発明に係る導電材料のある特定の局面では、前記硬化性成分が、光硬化性化合物と光重合開始剤とを含む。
【００２１】
本発明に係る導電材料のある特定の局面では、前記導電材料が、フラックスを含む。
【００２２】
本発明の広い局面によれば、第１の電極を表面に有する第１の接続対象部材と、第２の電極を表面に有する第２の接続対象部材と、前記第１の接続対象部材と、前記第２の接続対象部材とを接続している接続部とを備え、前記接続部の材料が、上述した導電材料であり、前記第１の電極と前記第２の電極とが、前記導電性粒子により電気的に接続されている、接続構造体が提供される。
【００２３】
本発明の広い局面によれば、上述した導電材料を用いて、第１の電極を表面に有する第１の接続対象部材の表面上に、前記導電材料を配置する工程と、前記導電材料の前記第１の接続対象部材側とは反対の表面上に、第２の電極を表面に有する第２の接続対象部材を、前記第１の電極と前記第２の電極とが対向するように配置する工程と、前記導電材料を加熱することで、前記第１の接続対象部材と前記第２の接続対象部材とを接続している接続部を、前記導電材料により形成し、かつ、前記第１の電極と前記第２の電極とを、前記導電性粒子により電気的に接続する工程とを備える、接続構造体の製造方法が提供される。
【００２４】
本発明に係る接続構造体の製造方法のある特定の局面では、加熱前の導電材料に対して、加熱後の導電材料である接続部の波長４００ｎｍにおける透過率を１０％以上低下させる。
【００２５】
本発明の広い局面によれば、硬化性成分と、導電性粒子とを含む導電材料を用いて、第１の電極を表面に有する第１の接続対象部材の表面上に、前記導電材料を配置する工程と、前記導電材料の前記第１の接続対象部材側とは反対の表面上に、第２の電極を表面に有する第２の接続対象部材を、前記第１の電極と前記第２の電極とが対向するように配置する工程と、前記導電材料を加熱又は光を照射することで、前記第１の接続対象部材と前記第２の接続対象部材とを接続している接続部を、前記導電材料により形成し、かつ、前記第１の電極と前記第２の電極とを、前記導電性粒子により電気的に接続する工程とを備え、加熱又は光の照射前の導電材料に対して、加熱又は光の照射後の導電材料である接続部の波長４００ｎｍにおける透過率を１０％以上低下させる、接続構造体の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００２６】
本発明に係る導電材料は、硬化性成分と、導電性粒子とを含む。本発明に係る導電材料は、該導電材料を２５℃から６０℃に加熱したときに、加熱後の波長４００ｎｍにおける透過率が、加熱前の波長４００ｎｍにおける透過率よりも１０％以上低くなる性質を有する。本発明に係る導電材料では、上記の構成が備えられているので、加熱前には導電材料を介した視認性を高めることができ、加熱後には導電材料の透過率を下げることができる。
【００２７】
また、本発明に係る接続構造体の製造方法は、硬化性成分と、導電性粒子とを含む導電材料を用いて、第１の電極を表面に有する第１の接続対象部材の表面上に、上記導電材料を配置する工程を備える。本発明に係る接続構造体の製造方法は、上記導電材料の上記第１の接続対象部材側とは反対の表面上に、第２の電極を表面に有する第２の接続対象部材を、上記第１の電極と上記第２の電極とが対向するように配置する工程を備える。本発明に係る接続構造体の製造方法は、上記導電材料を加熱又は光を照射することで、上記第１の接続対象部材と上記第２の接続対象部材とを接続している接続部を、上記導電材料により形成し、かつ、上記第１の電極と上記第２の電極とを、上記導電性粒子により電気的に接続する工程を備える。本発明に係る接続構造体の製造方法では、加熱又は光の照射前の導電材料に対して、加熱又は光の照射後の導電材料である接続部の波長４００ｎｍにおける透過率を１０％以上低下させる。本発明に係る接続構造体の製造方法では、上記の構成が備えられているので、加熱又は光の照射前には導電材料を介した視認性を高めることができ、加熱又は光の照射後には導電材料の硬化物である接続部の透過率を下げることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係る導電材料を用いて得られる接続構造体を模式的に示す断面図である。
【図２】図２（ａ）〜（ｃ）は、本発明の一実施形態に係る導電材料を用いて、接続構造体を製造する方法の一例の各工程を説明するための断面図である。
【図３】図３は、接続構造体の変形例を示す断面図である。
【図４】図４は、導電材料に使用可能な導電性粒子の第１の例を示す断面図である。
【図５】図５は、導電材料に使用可能な導電性粒子の第２の例を示す断面図である。
【図６】図６は、導電材料に使用可能な導電性粒子の第３の例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、本発明の詳細を説明する。
【００３０】
（導電材料）
本発明に係る導電材料は、硬化性成分と、導電性粒子とを含む。本発明に係る導電材料は、該導電材料を２５℃から６０℃に加熱したときに、加熱後の波長４００ｎｍにおける透過率が、加熱前の波長４００ｎｍにおける透過率よりも１０％以上低くなる性質を有する。
【００３１】
本発明に係る導電材料では、上記の構成が備えられているので、加熱前には導電材料を介した視認性を高めることができ、加熱後には導電材料の透過率を下げることができる。例えば、本発明では、加熱後の導電材料の硬化物の透過率を下げることができる。本発明では、加熱前には導電材料を介した視認性を高めることができるので、接続構造体の生産性を効果的に高めることができる。また、本発明では、例えば、加熱後（例えば硬化後）には導電材料の透過率を下げることができるので、カメラによる画像認識の精度を高めたり、プラズマディスプレイパネル等の表示装置における画面のコントラスト比を高めたり、ＬＥＤ装置に用いられる接続構造体の光漏れを防止したりすることができる。
【００３２】
従来の導電材料では、導電材料に黒色顔料等の着色剤を配合することで、導電材料を着色している。黒色等に着色された導電材料を用いることで、例えば、カメラによる画像認識の精度を高めたり、プラズマディスプレイパネル等の表示装置における画面のコントラスト比を高めたり、ＬＥＤ装置に用いられる接続構造体の光漏れを防止したりすることができる。
【００３３】
従来の導電材料では、導電材料が黒色等に着色されているため、表示装置等に用いられる接続構造体の製造の際に、アライメントを実施することが困難なことがある。一般的に、アライメントを実施する際には、接続対象部材等の表面上の特定の場所に配置されたパターン又はマーク（アライメントマーク）をカメラ等により検出し、該アライメントマークを基に接続対象部材等の位置を決めることが必要となる。表示装置等に用いられる接続構造体の製造の際に、着色された導電材料が接続対象部材等に塗布されると、接続対象部材等の表面上のアライメントマークがカメラ等により検出され難くなることがあり、アライメントを実施することが困難なことがある。従来の着色された導電材料を用いてアライメントを確実に実施するためには、着色された導電材料が塗布される場所から離れた位置にアライメントマークを配置する等の特別な対策が必要となり、接続構造体の生産性が低下することがある。
【００３４】
本発明者らは、特定の導電材料を用いることで、表示装置等に用いられる接続構造体の製造の際に、特別な対策を必要とすることなく、アライメントを確実に実施できることを見出した。本発明に係る導電材料は、加熱後の波長４００ｎｍにおける透過率が、加熱前の波長４００ｎｍにおける透過率よりも１０％以上低くなる性質を有するので、加熱前の透過率を過度に低くする必要がない。アライメントを実施する際には、導電材料の透過率を比較的高くすることができ、アライメントを実施した後には、加熱等することにより導電材料の透過率を比較的低くすることができる。
【００３５】
本発明では、アライメントを実施する際には、導電材料の透過率を比較的高くすることができ、アライメントの際に特別な対策が必要ではないので、表示装置等に用いられる接続構造体の生産性を効果的に高めることができる。また、本発明では、アライメントを実施した後には、加熱等することにより導電材料の透過率を比較的低くすることができ、プラズマディスプレイパネル等の表示装置における画面のコントラスト比を効果的に高めることができる。本発明では、特定の導電材料を用いているので、表示装置における画面のコントラスト比を高めることと、表示装置等に用いられる接続構造体の生産性を高めることとを両立させることができる。
【００３６】
また、本発明では、加熱前には導電材料を介した視認性を高めることができ、電極間又は電極近傍に、導電性粒子を精度よく配置することができる。従って、電極間の導電接続時に、導電性粒子が、上下の対向した電極間に集まりやすく、導電性粒子を電極（ライン）上に配置することができる。また、導電性粒子の一部が、接続されてはならない横方向の電極間に配置され難く、接続されてはならない横方向の電極間に配置される導電性粒子の量をかなり少なくすることができる。結果として、本発明では、接続されるべき電極間の導通信頼性を高めることができ、接続されてはならない横方向の電極間において、絶縁信頼性を高めることができる。
【００３７】
さらに、本発明では、電極間の位置ずれを防ぐことができる。本発明では、導電材料を上面に配置した第１の接続対象部材に、第２の接続対象部材を重ね合わせる際に、第１の接続対象部材の電極と第２の接続対象部材の電極とのアライメントがずれた状態でも、そのずれを補正して電極同士を接続させることができる（セルフアライメント効果）。
【００３８】
本発明に係る導電材料は、該導電材料を２５℃から６０℃に加熱したときに、加熱後の波長４００ｎｍにおける透過率が、加熱前の波長４００ｎｍにおける透過率よりも１０％以上低くなる性質を有する。加熱後の波長４００ｎｍにおける透過率は、加熱前の波長４００ｎｍにおける透過率よりも２０％以上低いことが好ましく、加熱前の波長４００ｎｍにおける透過率よりも３０％以上低いことがより好ましい。加熱前後の波長４００ｎｍにおける透過率が、上記の好ましい関係を満足すると、加熱前には導電材料を介した視認性をより一層高めることができ、加熱後には導電材料の透過率をより一層下げることができる。
【００３９】
本発明に係る導電材料では、２５℃での波長４００ｎｍにおける透過率は、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上である。２５℃での波長４００ｎｍにおける透過率が、上記下限以上であると、加熱前には導電材料を介した視認性をより一層高めることができる。
【００４０】
本発明に係る導電材料では、該導電材料を２５℃から６０℃に加熱したときに、加熱後の波長４００ｎｍにおける透過率は、好ましくは８０％以下であり、より好ましくは６０％以下、さらに好ましくは２０％以下、特に好ましくは５％以下、最も好ましくは１％以下である。加熱後の波長４００ｎｍにおける透過率が、上記上限以下であると、加熱後には導電材料の透過率をより一層下げることができる。
【００４１】
加熱前後の上記導電材料の波長４００ｎｍにおける透過率は、以下のようにして測定することができる。
【００４２】
上記導電材料を２５℃にして、加熱前の測定試料を得る。また、加熱前の測定試料を６０℃に加熱して、加熱後の測定試料を得る。得られた加熱前後の測定試料を用いて、２５℃で波長４００ｎｍにおける透過率を測定する。上記波長４００ｎｍにおける透過率は、例えば、分光光度計（日本分光社製「Ｖ−６７０」）等を用いて測定することができる。なお、ディテクターには積分球を用いることができる。
【００４３】
加熱前後の上記導電材料の波長４００ｎｍにおける透過率を上記の好ましい関係を満足するように調整方法は、特に限定されない。この調整方法としては、例えば、加熱によって、波長４００ｎｍにおける透過率を低下させる化合物を添加する方法、並びに上記化合物の種類及び配合量を調整する方法等が挙げられる。
【００４４】
上記導電材料は、２５℃で液状であることが好ましい。上記導電材料は、導電ペーストとして用いられることが好ましい。
【００４５】
上記導電材料の２５℃での粘度（η２５）は、好ましくは０．１Ｐａ・ｓ以上、より好ましくは１０Ｐａ・ｓ以上、さらに好ましくは５０Ｐａ・ｓ以上であり、好ましくは３００Ｐａ・ｓ以下、より好ましくは２００Ｐａ・ｓ以下である。上記粘度（η２５）は、配合成分の種類及び配合量により適宜調整することができる。上記導電材料の２５℃での粘度（η２５）が、上記下限以上及び上記上限以下であると、導電材料の塗布性がより一層高くなり、導電材料を用いて電極間を電気的に接続する場合に、電極上に導電性粒子がより一層効率的に配置される。
【００４６】
上記粘度（η２５）は、例えば、Ｅ型粘度計（東機産業社製「ＴＶＥ２２Ｌ」）等を用いて、２５℃及び５ｒｐｍの条件で測定することができる。
【００４７】
上記導電材料は、導電ペースト及び導電フィルム等として使用され得る。上記導電ペーストは異方性導電ペーストであることが好ましく、上記導電フィルムは異方性導電フィルムであることが好ましい。電極上に導電性粒子をより一層効率的に配置する観点からは、上記導電材料は、導電ペーストであることが好ましい。上記導電材料は、電極の電気的な接続に好適に用いられる。上記導電材料は、回路接続材料であることが好ましい。
【００４８】
以下、導電材料に含まれる各成分を説明する。なお、本明細書中において、「（メタ）アクリル」は「アクリル」と「メタクリル」との一方又は双方を意味し、「（メタ）アクリレート」は「アクリレート」と「メタクリレート」との一方又は双方を意味し、「（メタ）アクリロイル」は「アクリロイル」と「メタクリロイル」との一方又は双方を意味する。
【００４９】
（導電性粒子）
上記導電材料は、導電性粒子を含む。上記導電性粒子は、接続対象部材の電極間を電気的に接続する。上記導電性粒子は、導電部の外表面部分にはんだを有することが好ましい。上記導電性粒子は、はんだにより形成されたはんだ粒子であってもよい。上記はんだ粒子は、中心部分及び外表面のいずれもがはんだにより形成されている。上記はんだ粒子は、中心部分及び外表面のいずれもがはんだである粒子である。上記導電性粒子は、基材粒子と、該基材粒子の表面上に配置された導電部とを有していてもよい。この場合に、上記導電性粒子は、導電部の外表面部分に、はんだを有することが好ましい。
【００５０】
上記導電性粒子は、導電部の外表面部分にはんだを有することが好ましい。上記基材粒子は、はんだにより形成されたはんだ粒子であってもよい。上記導電性粒子は、基材粒子及び導電部の外表面部分のいずれもがはんだであるはんだ粒子であってもよい。
【００５１】
なお、上記はんだ粒子を用いた場合と比べて、はんだにより形成されていない基材粒子と、該基材粒子の表面上に配置されたはんだ部とを備える導電性粒子を用いた場合には、電極上に導電性粒子が集まり難くなる。さらに、導電性粒子同士のはんだ接合性が低いために、電極上に移動した導電性粒子が電極外に移動しやすくなる傾向があり、電極間の位置ずれの抑制効果も低くなる傾向がある。従って、上記導電性粒子は、はんだにより形成されたはんだ粒子であることが好ましい。
【００５２】
次に、図面を参照しつつ、導電性粒子の具体例を説明する。
【００５３】
図４は、導電材料に使用可能な導電性粒子の第１の例を示す断面図である。
【００５４】
図４に示す導電性粒子２１は、はんだ粒子である。導電性粒子２１は、全体がはんだにより形成されている。導電性粒子２１は、基材粒子をコアに有さず、コアシェル粒子ではない。導電性粒子２１は、中心部分及び導電部の外表面部分のいずれもがはんだにより形成されている。
【００５５】
図５は、導電材料に使用可能な導電性粒子の第２の例を示す断面図である。
【００５６】
図５に示す導電性粒子３１は、基材粒子３２と、基材粒子３２の表面上に配置された導電部３３とを備える。導電部３３は、基材粒子３２の表面を被覆している。導電性粒子３１は、基材粒子３２の表面が導電部３３により被覆された被覆粒子である。
【００５７】
導電部３３は、第２の導電部３３Ａと、はんだ部３３Ｂ（第１の導電部）とを有する。導電性粒子３１は、基材粒子３２と、はんだ部３３Ｂとの間に、第２の導電部３３Ａを備える。従って、導電性粒子３１は、基材粒子３２と、基材粒子３２の表面上に配置された第２の導電部３３Ａと、第２の導電部３３Ａの外表面上に配置されたはんだ部３３Ｂとを備える。
【００５８】
図６は、導電材料に使用可能な導電性粒子の第３の例を示す断面図である。
【００５９】
図５における導電性粒子３１の導電部３３は２層構造を有する。図６に示す導電性粒子４１は、単層の導電部として、はんだ部４２を有する。導電性粒子４１は、基材粒子３２と、基材粒子３２の表面上に配置されたはんだ部４２とを備える。
【００６０】
以下、導電性粒子の他の詳細について説明する。
【００６１】
基材粒子：
上記基材粒子としては、樹脂粒子、金属粒子を除く無機粒子、有機無機ハイブリッド粒子及び金属粒子等が挙げられる。上記基材粒子は、金属粒子を除く基材粒子であることが好ましく、樹脂粒子、金属粒子を除く無機粒子又は有機無機ハイブリッド粒子であることがより好ましい。上記基材粒子は、コアと、該コアの表面上に配置されたシェルとを備えるコアシェル粒子であってもよい。上記コアが有機コアであってもよく、上記シェルが無機シェルであってもよい。
【００６２】
上記基材粒子は、樹脂粒子又は有機無機ハイブリッド粒子であることがさらに好ましく、樹脂粒子であってもよく、有機無機ハイブリッド粒子であってもよい。これらの好ましい基材粒子の使用により、電極間の電気的な接続により一層適した導電性粒子が得られる。
【００６３】
上記導電性粒子を用いて電極間を接続する際には、上記導電性粒子を電極間に配置した後、圧着することにより上記導電性粒子を圧縮させる。基材粒子が樹脂粒子又は有機無機ハイブリッド粒子であると、上記圧着の際に上記導電性粒子が変形しやすく、導電性粒子と電極との接触面積が大きくなる。このため、電極間の導通信頼性がより一層高くなる。
【００６４】
上記樹脂粒子の材料として、種々の樹脂が好適に用いられる。上記樹脂粒子の材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリイソブチレン、ポリブタジエン等のポリオレフィン樹脂；ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート等のアクリル樹脂；ポリアルキレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリアミド、フェノールホルムアルデヒド樹脂、メラミンホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミンホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、飽和ポリエステル樹脂、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリアセタール、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ジビニルベンゼン重合体、ジビニルベンゼン系共重合体、及び、エチレン性不飽和基を有する種々の重合性単量体を１種もしくは２種以上重合させて得られる重合体等が挙げられる。上記ジビニルベンゼン系共重合体としては、ジビニルベンゼン−スチレン共重合体及びジビニルベンゼン−（メタ）アクリル酸エステル共重合体等が挙げられる。
【００６５】
導電性粒子に適した任意の圧縮特性を有する基材粒子を設計及び合成することができ、かつ基材粒子の硬度を好適な範囲に容易に制御できるので、上記樹脂粒子の材料は、エチレン性不飽和基を複数有する重合性単量体を１種又は２種以上重合させた重合体であることが好ましい。
【００６６】
上記樹脂粒子を、エチレン性不飽和基を有する重合性単量体を重合させて得る場合には、上記エチレン性不飽和基を有する重合性単量体としては、非架橋性の単量体と架橋性の単量体とが挙げられる。
【００６７】
上記非架橋性の単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系単量体；（メタ）アクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸等のカルボキシル基含有単量体；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート化合物；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、ポリオキシエチレン（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート等の酸素原子含有（メタ）アクリレート化合物；（メタ）アクリロニトリル等のニトリル含有単量体；酢酸ビニル、酪酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等の酸ビニルエステル化合物；エチレン、プロピレン、イソプレン、ブタジエン等の不飽和炭化水素；トリフルオロメチル（メタ）アクリレート、ペンタフルオロエチル（メタ）アクリレート、塩化ビニル、フッ化ビニル、クロルスチレン等のハロゲン含有単量体等が挙げられる。
【００６８】
上記架橋性の単量体としては、例えば、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレート化合物；トリアリル（イソ）シアヌレート、トリアリルトリメリテート、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、ジアリルアクリルアミド、ジアリルエーテル、γ−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、トリメトキシシリルスチレン、ビニルトリメトキシシラン等のシラン含有単量体等が挙げられる。
【００６９】
上記エチレン性不飽和基を有する重合性単量体を、公知の方法により重合させることで、上記樹脂粒子を得ることができる。この方法としては、例えば、ラジカル重合開始剤の存在下で懸濁重合する方法、並びに非架橋の種粒子を用いてラジカル重合開始剤とともに単量体を膨潤させて重合する方法等が挙げられる。
【００７０】
上記基材粒子が金属粒子を除く無機粒子又は有機無機ハイブリッド粒子である場合に、上記基材粒子の材料である無機物としては、シリカ、アルミナ、チタン酸バリウム、ジルコニア及びカーボンブラック等が挙げられる。上記無機物は金属ではないことが好ましい。上記シリカにより形成された粒子としては特に限定されないが、例えば、加水分解性のアルコキシシリル基を２つ以上持つケイ素化合物を加水分解して架橋重合体粒子を形成した後に、必要に応じて焼成を行うことにより得られる粒子が挙げられる。上記有機無機ハイブリッド粒子としては、例えば、架橋したアルコキシシリルポリマーとアクリル樹脂とにより形成された有機無機ハイブリッド粒子等が挙げられる。
【００７１】
上記有機無機ハイブリッド粒子は、コアと、該コアの表面上に配置されたシェルとを有するコアシェル型の有機無機ハイブリッド粒子であることが好ましい。上記コアが有機コアであることが好ましい。上記シェルが無機シェルであることが好ましい。電極間の接続抵抗をより一層効果的に低くする観点からは、上記基材粒子は、有機コアと上記有機コアの表面上に配置された無機シェルとを有する有機無機ハイブリッド粒子であることが好ましい。
【００７２】
上記有機コアの材料としては、上述した樹脂粒子の材料等が挙げられる。
【００７３】
上記無機シェルの材料としては、上述した基材粒子の材料として挙げた無機物が挙げられる。上記無機シェルの材料は、シリカであることが好ましい。上記無機シェルは、上記コアの表面上で、金属アルコキシドをゾルゲル法によりシェル状物とした後、該シェル状物を焼成させることにより形成されていることが好ましい。上記金属アルコキシドはシランアルコキシドであることが好ましい。上記無機シェルはシランアルコキシドにより形成されていることが好ましい。
【００７４】
上記基材粒子が金属粒子である場合に、該金属粒子の材料である金属としては、銀、銅、ニッケル、ケイ素、金及びチタン等が挙げられる。
【００７５】
上記基材粒子の粒子径は、好ましくは０．５μｍ以上、より好ましくは１μｍ以上、さらに好ましくは３μｍ以上であり、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは６０μｍ以下、さらに好ましくは５０μｍ以下である。上記基材粒子の粒子径が、上記下限以上であると、導電性粒子と電極との接触面積が大きくなるため、電極間の導通信頼性がより一層高くなり、導電性粒子を介して接続された電極間の接続抵抗をより一層効果的に低くすることができる。さらに基材粒子の表面に導電部を形成する際に凝集し難くなり、凝集した導電性粒子が形成され難くなる。上記基材粒子の粒子径が、上記上限以下であると、導電性粒子が十分に圧縮されやすく、導電性粒子を介して接続された電極間の接続抵抗をより一層効果的に低くすることができる。
【００７６】
上記基材粒子の粒子径は、５μｍ以上４０μｍ以下であることが特に好ましい。上記基材粒子の粒子径が、５μｍ以上４０μｍ以下の範囲内であると、電極間の間隔をより小さくすることができ、かつ導電部の厚みを厚くしても、小さい導電性粒子を得ることができる。
【００７７】
上記基材粒子の粒子径は、基材粒子が真球状である場合には、直径を示し、基材粒子が真球状ではない場合には、最大径を示す。
【００７８】
上記基材粒子の粒子径は、平均粒子径であることが好ましく、数平均粒子径であることが好ましい。上記基材粒子の粒子径は粒度分布測定装置等を用いて求められる。基材粒子の粒子径は、任意の基材粒子５０個を電子顕微鏡又は光学顕微鏡にて観察し、平均値を算出することにより求めることが好ましい。電子顕微鏡又は光学顕微鏡での観察では、１個当たりの導電性粒子の粒子径は、円相当径での粒子径として求められる。電子顕微鏡又は光学顕微鏡での観察において、任意の５０個の導電性粒子の円相当径での平均粒子径は、球相当径での平均粒子径とほぼ等しくなる。粒度分布測定装置では、１個当たりの導電性粒子の粒子径は、球相当径での粒子径として求められる。導電性粒子において、上記基材粒子の粒子径を測定する場合には、例えば、以下のようにして測定できる。
【００７９】
導電性粒子の含有量が３０重量％となるように、Ｋｕｌｚｅｒ社製「テクノビット４０００」に添加し、分散させて、導電性粒子検査用埋め込み樹脂を作製する。検査用埋め込み樹脂中に分散した導電性粒子の中心付近を通るようにイオンミリング装置（日立ハイテクノロジーズ社製「ＩＭ４０００」）を用いて、導電性粒子の断面を切り出す。そして、電界放射型走査型電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）を用いて、画像倍率を２５０００倍に設定し、５０個の導電性粒子を無作為に選択し、各導電性粒子の基材粒子を観察する。各導電性粒子における基材粒子の粒子径を計測し、それらを算術平均して基材粒子の粒子径とする。
【００８０】
導電部：
上記基材粒子の表面上に導電部を形成する方法、並びに上記基材粒子の表面上又は上記第２の導電部の表面上にはんだ部を形成する方法は特に限定されない。上記導電部及び上記はんだ部を形成する方法としては、例えば、無電解めっきによる方法、電気めっきによる方法、物理的な衝突による方法、メカノケミカル反応による方法、物理的蒸着又は物理的吸着による方法、並びに金属粉末もしくは金属粉末とバインダーとを含むペーストを基材粒子の表面にコーティングする方法等が挙げられる。上記導電部及び上記はんだ部を形成する方法は、無電解めっき、電気めっき又は物理的な衝突による方法であることが好ましい。上記物理的蒸着による方法としては、真空蒸着、イオンプレーティング及びイオンスパッタリング等の方法が挙げられる。また、上記物理的な衝突による方法では、例えば、シーターコンポーザ（徳寿工作所社製）等が用いられる。
【００８１】
上記基材粒子の融点は、上記導電部及び上記はんだ部の融点よりも高いことが好ましい。上記基材粒子の融点は、好ましくは１６０℃を超え、より好ましくは３００℃を超え、さらに好ましくは４００℃を超え、特に好ましくは４５０℃を超える。なお、上記基材粒子の融点は、４００℃未満であってもよい。上記基材粒子の融点は、１６０℃以下であってもよい。上記基材粒子の軟化点は２６０℃以上であることが好ましい。上記基材粒子の軟化点は２６０℃未満であってもよい。
【００８２】
上記導電性粒子は、単層のはんだ部を有していてもよい。上記導電性粒子は、複数の層の導電部（はんだ部，第２の導電部）を有していてもよい。すなわち、上記導電性粒子では、導電部を２層以上積層してもよい。上記導電部が２層以上の場合、上記導電性粒子は、導電部の外表面部分にはんだを有することが好ましい。
【００８３】
上記はんだは、融点が４５０℃以下である金属（低融点金属）であることが好ましい。上記はんだ部は、融点が４５０℃以下である金属層（低融点金属層）であることが好ましい。上記低融点金属層は、低融点金属を含む層である。上記導電性粒子におけるはんだは、融点が４５０℃以下である金属（低融点金属）であることが好ましい。上記はんだ粒子は、低融点金属粒子であることが好ましい。上記低融点金属粒子は、低融点金属を含む粒子である。上記低融点金属とは、融点が４５０℃以下の金属を示す。上記低融点金属の融点は、好ましくは３００℃以下、より好ましくは１６０℃以下である。上記はんだは、融点が１５０℃未満の低融点はんだであることが好ましい。上記はんだ粒子の融点は、１５０℃未満であることが好ましい。
【００８４】
上記低融点金属の融点及び上記はんだ粒子の融点は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）により求めることができる。示差走査熱量測定（ＤＳＣ）装置としては、ＳＩＩ社製「ＥＸＳＴＡＲ  ＤＳＣ７０２０」等が挙げられる。
【００８５】
また、上記導電性粒子におけるはんだは、錫を含むことが好ましい。上記導電性粒子は、錫を含むことが好ましい。上記はんだ部に含まれる金属１００重量％中及び上記導電性粒子におけるはんだに含まれる金属１００重量％中、錫の含有量は、好ましくは３０重量％以上、より好ましくは４０重量％以上、さらに好ましくは７０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上である。上記はんだ部及び上記導電性粒子におけるはんだに含まれる錫の含有量が、上記下限以上であると、導電性粒子と電極との導通信頼性がより一層高くなる。
【００８６】
なお、上記錫の含有量は、高周波誘導結合プラズマ発光分光分析装置（堀場製作所社製「ＩＣＰ−ＡＥＳ」）、又は蛍光Ｘ線分析装置（島津製作所社製「ＥＤＸ−８００ＨＳ」）等を用いて測定することができる。
【００８７】
上記はんだを導電部の外表面部分に有する導電性粒子を用いることで、はんだが溶融して電極に接合し、はんだが電極間を導通させる。例えば、はんだと電極とが点接触ではなく面接触しやすいため、接続抵抗が低くなる。また、はんだを導電部の外表面部分に有する導電性粒子の使用により、はんだと電極との接合強度が高くなる結果、はんだと電極との剥離がより一層生じ難くなり、導通信頼性が効果的に高くなる。
【００８８】
上記はんだ部及び上記はんだを構成する低融点金属は特に限定されない。該低融点金属は、錫、又は錫を含む合金であることが好ましい。該合金としては、錫−銀合金、錫−銅合金、錫−銀−銅合金、錫−ビスマス合金、錫−亜鉛合金、錫−インジウム合金等が挙げられる。電極に対する濡れ性に優れることから、上記低融点金属は、錫、錫−銀合金、錫−銀−銅合金、錫−ビスマス合金、錫−インジウム合金であることが好ましい。錫−ビスマス合金、錫−インジウム合金であることがより好ましい。
【００８９】
上記はんだ（はんだ部）を構成する材料は、ＪＩＳ  Ｚ３００１：溶接用語に基づき、液相線が４５０℃以下である溶加材であることが好ましい。上記はんだの組成としては、例えば亜鉛、金、銀、鉛、銅、錫、ビスマス、インジウム等を含む金属組成が挙げられる。低融点で鉛フリーである錫−インジウム系（１１７℃共晶）、又は錫−ビスマス系（１３９℃共晶）が好ましい。すなわち、上記はんだは、鉛を含まないことが好ましく、錫とインジウムとを含むはんだ、又は錫とビスマスとを含むはんだであることが好ましい。
【００９０】
はんだ部又は導電性粒子におけるはんだと電極との接合強度をより一層高めるために、上記導電性粒子におけるはんだは、ニッケル、銅、アンチモン、アルミニウム、亜鉛、鉄、金、チタン、リン、ゲルマニウム、テルル、コバルト、ビスマス、マンガン、クロム、モリブデン、パラジウム等の金属を含んでいてもよい。また、はんだ部又は導電性粒子におけるはんだと電極との接合強度をさらに一層高める観点からは、上記導電性粒子におけるはんだは、ニッケル、銅、アンチモン、アルミニウム又は亜鉛を含むことが好ましい。はんだ部又は導電性粒子におけるはんだと電極との接合強度をより一層高める観点からは、接合強度を高めるためのこれらの金属の含有量は、上記導電性粒子におけるはんだ１００重量％中、好ましくは０．０００１重量％以上であり、好ましくは１重量％以下である。
【００９１】
上記第２の導電部の融点は、上記はんだ部の融点よりも高いことが好ましい。上記第２の導電部の融点は、好ましくは１６０℃を超え、より好ましくは３００℃を超え、さらに好ましくは４００℃を超え、さらに一層好ましくは４５０℃を超え、特に好ましくは５００℃を超え、最も好ましくは６００℃を超える。上記はんだ部は融点が低いために導電接続時に溶融する。上記第２の導電部は導電接続時に溶融しないことが好ましい。上記導電性粒子は、はんだを溶融させて用いられることが好ましく、上記はんだ部を溶融させて用いられることが好ましく、上記はんだ部を溶融させてかつ上記第２の導電部を溶融させずに用いられることが好ましい。上記第２の導電部の融点が上記はんだ部の融点をよりも高いことによって、導電接続時に、上記第２の導電部を溶融させずに、上記はんだ部のみを溶融させることができる。
【００９２】
上記はんだ部の融点と上記第２の導電部との融点との差の絶対値は、０℃を超え、好ましくは５℃以上、より好ましくは１０℃以上、さらに好ましくは３０℃以上、特に好ましくは５０℃以上、最も好ましくは１００℃以上である。
【００９３】
上記第２の導電部は、金属を含むことが好ましい。上記第２の導電部を構成する金属は特に限定されない。該金属としては、例えば、金、銀、銅、白金、パラジウム、亜鉛、鉛、アルミニウム、コバルト、インジウム、ニッケル、クロム、チタン、アンチモン、ビスマス、ゲルマニウム及びカドミウム、並びにこれらの合金等が挙げられる。また、上記金属として、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）を用いてもよい。上記金属は１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００９４】
上記第２の導電部は、ニッケル層、パラジウム層、銅層又は金層であることが好ましく、ニッケル層、金層又は銅層であることがより好ましく、銅層であることがさらに好ましい。導電性粒子は、ニッケル層、パラジウム層、銅層又は金層を有することが好ましく、ニッケル層、金層又は銅層を有することがより好ましく、銅層を有することがさらに好ましい。これらの好ましい導電部を有する導電性粒子を電極間の接続に用いることにより、電極間の接続抵抗がより一層低くなる。また、これらの好ましい導電部の表面には、はんだ部をより一層容易に形成できる。
【００９５】
上記はんだ部の厚みは、好ましくは０．００５μｍ以上、より好ましくは０．０１μｍ以上であり、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは１μｍ以下、さらに好ましくは０．３μｍ以下である。はんだ部の厚みが、上記下限以上及び上記上限以下であると、十分な導電性が得られ、かつ導電性粒子が硬くなりすぎずに、電極間の接続の際に導電性粒子が十分に変形する。
【００９６】
上記導電性粒子の粒子径は、好ましくは０．０１μｍ以上、より好ましくは０．５μｍ以上、さらに好ましくは１μｍ以上、特に好ましくは３μｍ以上であり、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは６０μｍ以下、さらに好ましくは５０μｍ以下、特に好ましくは４０μｍ以下である。上記導電性粒子の粒子径が、上記下限以上及び上記上限以下であると、電極上に導電性粒子におけるはんだをより一層効率的に配置することができ、電極間に導電性粒子におけるはんだを多く配置することが容易であり、導通信頼性がより一層高くなる。
【００９７】
上記導電性粒子の粒子径は、平均粒子径であることが好ましく、数平均粒子径であることがより好ましい。導電性粒子の平均粒子径は、例えば、任意の導電性粒子５０個を電子顕微鏡又は光学顕微鏡にて観察し、平均値を算出することや、レーザー回折式粒度分布測定を行うことにより求められる。電子顕微鏡又は光学顕微鏡での観察では、１個当たりの導電性粒子の粒子径は、円相当径での粒子径として求められる。電子顕微鏡又は光学顕微鏡での観察において、任意の５０個の導電性粒子の円相当径での平均粒子径は、球相当径での平均粒子径とほぼ等しくなる。レーザー回折式粒度分布測定では、１個当たりの導電性粒子の粒子径は、球相当径での粒子径として求められる。上記導電性粒子の粒子径は、レーザー回折式粒度分布測定により算出することが好ましい。
【００９８】
上記導電性粒子の粒子径のＣＶ値は、好ましくは５％以上、より好ましくは１０％以上であり、好ましくは４０％以下、より好ましくは３０％以下である。上記粒子径のＣＶ値が、上記下限以上及び上記上限以下であると、電極上にはんだをより一層効率的に配置することができる。但し、上記導電性粒子の粒子径のＣＶ値は、５％未満であってもよい。
【００９９】
上記導電性粒子の粒子径のＣＶ値（変動係数）は、以下のようにして測定できる。
【０１００】
ＣＶ値（％）＝（ρ／Ｄｎ）×１００
ρ：導電性粒子の粒子径の標準偏差
Ｄｎ：導電性粒子の粒子径の平均値
【０１０１】
上記導電性粒子の形状は特に限定されない。上記導電性粒子の形状は、球状であってもよく、扁平状等の球状以外の形状であってもよい。
【０１０２】
導電材料１００重量％中、上記導電性粒子の含有量は、好ましくは１重量％以上、より好ましくは２重量％以上、さらに好ましくは１０重量％以上、特に好ましくは２０重量％以上、最も好ましくは３０重量％以上であり、好ましくは８０重量％以下、より好ましくは６０重量％以下、さらに好ましくは５０重量％以下である。上記導電性粒子の含有量が、上記下限以上及び上記上限以下であると、電極上に導電性粒子をより一層効率的に配置することができ、電極間に導電性粒子を多く配置することが容易であり、導通信頼性がより一層高くなる。導通信頼性をより一層高める観点からは、上記導電性粒子の含有量は多い方が好ましい。
【０１０３】
（硬化性成分）
上記導電材料は硬化性成分を含む。上記硬化性成分は、熱硬化性化合物又は光硬化性化合物を含むことが好ましい。上記硬化性成分は、熱硬化性化合物のみを含んでいてもよく、光硬化性化合物のみを含んでいてもよく、熱硬化性化合物と光硬化性化合物との双方を含んでいてもよい。上記硬化性成分が熱硬化性化合物を含む場合には、導電材料をより一層良好に硬化させるために、上記硬化性成分は、熱硬化性化合物と熱硬化剤とを含むことが好ましい。導電材料をより一層良好に硬化させるために、上記硬化性成分は硬化促進剤を含んでいてもよい。上記硬化性成分が光硬化性化合物を含む場合には、導電材料をより一層良好に硬化させるために、上記硬化性成分は、光硬化性化合物と光重合開始剤とを含むことが好ましい。
【０１０４】
（硬化性成分：熱硬化性化合物）
上記熱硬化性化合物は特に限定されない。上記熱硬化性化合物としては、オキセタン化合物、エポキシ化合物、エピスルフィド化合物、（メタ）アクリル化合物、フェノール化合物、アミノ化合物、不飽和ポリエステル化合物、ポリウレタン化合物、シリコーン化合物及びポリイミド化合物等が挙げられる。導電材料の硬化性及び粘度をより一層良好にする観点、導通信頼性をより一層効果的に高める観点、及び絶縁信頼性をより一層効果的に高める観点からは、エポキシ化合物又はエピスルフィド化合物が好ましく、エポキシ化合物がより好ましい。上記熱硬化性化合物は、エポキシ化合物を含むことが好ましい。上記熱硬化性化合物は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【０１０５】
上記エポキシ化合物は、少なくとも１個のエポキシ基を有する化合物である。上記エポキシ化合物としては、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物、ビスフェノールＳ型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、ビフェニル型エポキシ化合物、ビフェニルノボラック型エポキシ化合物、ビフェノール型エポキシ化合物、ナフタレン型エポキシ化合物、フルオレン型エポキシ化合物、フェノールアラルキル型エポキシ化合物、ナフトールアラルキル型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物、アントラセン型エポキシ化合物、アダマンタン骨格を有するエポキシ化合物、トリシクロデカン骨格を有するエポキシ化合物、ナフチレンエーテル型エポキシ化合物、及びトリアジン核を骨格に有するエポキシ化合物等が挙げられる。上記エポキシ化合物は１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【０１０６】
上記エポキシ化合物は、常温（２５℃）で液状又は固体であり、上記エポキシ化合物が常温で固体である場合には、上記エポキシ化合物の溶融温度は、上記導電性粒子の導電部の融点以下であることが好ましい。
【０１０７】
絶縁信頼性をより一層効果的に高める観点、及び導通信頼性をより一層効果的に高める観点からは、上記熱硬化性化合物は、エポキシ化合物を含むことが好ましい。
【０１０８】
硬化物の耐熱性をより一層効果的に高める観点からは、上記熱硬化性化合物は、イソシアヌル骨格を有する熱硬化性化合物を含むことが好ましい。
【０１０９】
上記イソシアヌル骨格を有する熱硬化性化合物としてはトリイソシアヌレート型エポキシ化合物等が挙げられ、日産化学工業社製ＴＥＰＩＣシリーズ（ＴＥＰＩＣ−Ｇ、ＴＥＰＩＣ−Ｓ、ＴＥＰＩＣ−ＳＳ、ＴＥＰＩＣ−ＨＰ、ＴＥＰＩＣ−Ｌ、ＴＥＰＩＣ−ＰＡＳ、ＴＥＰＩＣ−ＶＬ、ＴＥＰＩＣ−ＵＣ）等が挙げられる。
【０１１０】
導電材料１００重量％中、上記熱硬化性化合物の含有量は、好ましくは２０重量％以上、より好ましくは４０重量％以上、さらに好ましくは５０重量％以上であり、好ましくは９９重量％以下、より好ましくは９８重量％以下、さらに好ましくは９０重量％以下、特に好ましくは８０重量％以下である。上記熱硬化性化合物の含有量が、上記下限以上及び上記上限以下であると、導電材料をより一層良好に硬化させることができ、接続信頼性がより一層高くなり、導電材料を用いて電極間を電気的に接続する場合に、電極上に導電性粒子がより一層効率的に配置される。上記熱硬化性化合物の含有量が、上記下限以上及び上記上限以下であると、導電材料をより一層良好に硬化させることができ、接続信頼性がより一層高くなり、電極間の絶縁信頼性がより一層効果的に高くなり、電極間の導通信頼性がより一層効果的に高くなる。耐衝撃性をより一層効果的に高める観点からは、上記熱硬化性化合物の含有量は多い方が好ましい。
【０１１１】
導電材料１００重量％中、上記エポキシ化合物の含有量は、好ましくは２０重量％以上、より好ましくは４０重量％以上、さらに好ましくは５０重量％以上であり、好ましくは９９重量％以下、より好ましくは９８重量％以下、さらに好ましくは９０重量％以下、特に好ましくは８０重量％以下である。上記エポキシ化合物の含有量が、上記下限以上及び上記上限以下であると、導電材料をより一層良好に硬化させることができ、接続信頼性がより一層高くなり、導電材料を用いて電極間を電気的に接続する場合に、電極上に導電性粒子がより一層効率的に配置される。上記エポキシ化合物の含有量が、上記下限以上及び上記上限以下であると、導電材料をより一層良好に硬化させることができ、接続信頼性がより一層高くなり、電極間の絶縁信頼性がより一層効果的に高くなり、電極間の導通信頼性がより一層効果的に高くなる。耐衝撃性をより一層高める観点からは、上記エポキシ化合物の含有量は多い方が好ましい。
【０１１２】
（硬化性成分：熱硬化剤）
上記熱硬化剤は特に限定されない。上記熱硬化剤は、上記熱硬化性化合物を熱硬化させる。上記熱硬化剤としては、イミダゾール硬化剤、アミン硬化剤、フェノール硬化剤、ポリチオール硬化剤等のチオール硬化剤、酸無水物硬化剤、熱カチオン開始剤（熱カチオン硬化剤）及び熱ラジカル発生剤等が挙げられる。上記熱硬化剤は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【０１１３】
導電材料を低温でより一層速やかに硬化可能とする観点からは、上記熱硬化剤は、イミダゾール硬化剤、チオール硬化剤、又はアミン硬化剤であることが好ましい。また、上記熱硬化性化合物と上記熱硬化剤とを混合したときの保存安定性を高める観点からは、上記熱硬化剤は、潜在性の硬化剤であることが好ましい。潜在性の硬化剤は、潜在性イミダゾール硬化剤、潜在性チオール硬化剤又は潜在性アミン硬化剤であることが好ましい。なお、上記熱硬化剤は、ポリウレタン樹脂又はポリエステル樹脂等の高分子物質で被覆されていてもよい。
【０１１４】
上記イミダゾール硬化剤は特に限定されない。上記イミダゾール硬化剤としては、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾリウムトリメリテート、２，４−ジアミノ−６−［２’−メチルイミダゾリル−（１’）］−エチル−ｓ−トリアジン及び２，４−ジアミノ−６−［２’−メチルイミダゾリル−（１’）］−エチル−ｓ−トリアジンイソシアヌル酸付加物、２−フェニル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール、２−フェニル−４−ベンジル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール、２−パラトルイル−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール、２−メタトルイル−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール、２−メタトルイル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール、２−パラトルイル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール等における１Ｈ−イミダゾールの５位の水素をヒドロキシメチル基で、かつ、２位の水素をフェニル基またはトルイル基で置換したイミダゾール化合物等が挙げられる。
【０１１５】
上記チオール硬化剤は特に限定されない。上記チオール硬化剤としては、トリメチロールプロパントリス−３−メルカプトプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス−３−メルカプトプロピオネート及びジペンタエリスリトールヘキサ−３−メルカプトプロピオネート等が挙げられる。
【０１１６】
上記アミン硬化剤は特に限定されない。上記アミン硬化剤としては、ヘキサメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、３，９−ビス（３−アミノプロピル）−２，４，８，１０−テトラスピロ［５．５］ウンデカン、ビス（４−アミノシクロヘキシル）メタン、メタフェニレンジアミン及びジアミノジフェニルスルホン等が挙げられる。
【０１１７】
上記酸無水物硬化剤は特に限定されず、エポキシ化合物等の熱硬化性化合物の硬化剤として用いられる酸無水物であれば広く用いることができる。上記酸無水物硬化剤としては、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルブテニルテトラヒドロ無水フタル酸、フタル酸誘導体の無水物、無水マレイン酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸、無水グルタル酸、無水コハク酸、グリセリンビス無水トリメリット酸モノアセテート、及びエチレングリコールビス無水トリメリット酸等の２官能の酸無水物硬化剤、無水トリメリット酸等の３官能の酸無水物硬化剤、並びに、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、メチルシクロヘキセンテトラカルボン酸無水物、及びポリアゼライン酸無水物等の４官能以上の酸無水物硬化剤等が挙げられる。
【０１１８】
上記熱カチオン開始剤は特に限定されない。上記熱カチオン開始剤としては、ヨードニウム系カチオン硬化剤、オキソニウム系カチオン硬化剤及びスルホニウム系カチオン硬化剤等が挙げられる。上記ヨードニウム系カチオン硬化剤としては、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスファート等が挙げられる。上記オキソニウム系カチオン硬化剤としては、トリメチルオキソニウムテトラフルオロボラート等が挙げられる。上記スルホニウム系カチオン硬化剤としては、トリ−ｐ−トリルスルホニウムヘキサフルオロホスファート等が挙げられる。
【０１１９】
上記熱ラジカル発生剤は特に限定されない。上記熱ラジカル発生剤としては、アゾ化合物及び有機過酸化物等が挙げられる。上記アゾ化合物としては、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）等が挙げられる。上記有機過酸化物としては、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド及びメチルエチルケトンペルオキシド等が挙げられる。
【０１２０】
上記熱硬化剤の反応開始温度は、好ましくは５０℃以上、より好ましくは７０℃以上、さらに好ましくは８０℃以上であり、好ましくは２５０℃以下、より好ましくは２００℃以下、さらに好ましくは１５０℃以下、特に好ましくは１４０℃以下である。上記熱硬化剤の反応開始温度が、上記下限以上及び上記上限以下であると、導電性粒子が電極上により一層効率的に配置される。上記熱硬化剤の反応開始温度は、８０℃以上１４０℃以下であることが特に好ましい。
【０１２１】
導電性粒子を電極上により一層効率的に配置する観点からは、上記熱硬化剤の反応開始温度は、上記導電性粒子におけるはんだの融点よりも、高いことが好ましく、５℃以上高いことがより好ましく、１０℃以上高いことがさらに好ましい。
【０１２２】
上記熱硬化剤の反応開始温度は、ＤＳＣでの発熱ピークの立ち上がり開始の温度を意味する。
【０１２３】
上記熱硬化剤の含有量は特に限定されない。上記熱硬化性化合物１００重量部に対して、上記熱硬化剤の含有量は、好ましくは０．０１重量部以上、より好ましくは１重量部以上であり、好ましくは２００重量部以下、より好ましくは１００重量部以下、さらに好ましくは７５重量部以下である。熱硬化剤の含有量が、上記下限以上であると、導電材料を十分に硬化させることが容易である。熱硬化剤の含有量が、上記上限以下であると、硬化後に硬化に関与しなかった余剰の熱硬化剤が残存し難くなり、かつ硬化物の耐熱性がより一層高くなる。
【０１２４】
（硬化性成分：硬化促進剤）
上記導電材料は硬化促進剤を含んでいてもよい。上記硬化促進剤は特に限定されない。上記硬化促進剤は、上記熱硬化性化合物と上記熱硬化剤との反応において硬化触媒として作用することが好ましい。上記硬化促進剤は、上記熱硬化性化合物との反応において硬化触媒として作用することが好ましい。上記硬化促進剤は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【０１２５】
上記硬化促進剤としては、ホスホニウム塩、三級アミン、三級アミン塩、四級オニウム塩、三級ホスフィン、クラウンエーテル錯体、及びホスホニウムイリド等が挙げられる。具体的には、上記硬化促進剤としては、イミダゾール化合物、イミダゾール化合物のイソシアヌル酸塩、ジシアンジアミド、ジシアンジアミドの誘導体、メラミン化合物、メラミン化合物の誘導体、ジアミノマレオニトリル、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ビス（ヘキサメチレン）トリアミン、トリエタノールアミン、ジアミノジフェニルメタン、有機酸ジヒドラジド等のアミン化合物、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデセン−７、３，９−ビス（３−アミノプロピル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、三フッ化ホウ素、並びに、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリブチルホスフィン及びメチルジフェニルホスフィン等の有機リン化合物等が挙げられる。
【０１２６】
上記ホスホニウム塩は特に限定されない。上記ホスホニウム塩としては、テトラノルマルブチルホスホニウムブロマイド、テトラノルマルブチルホスホニウムＯ，Ｏ−ジエチルジチオリン酸、メチルトリブチルホスホニウムジメチルリン酸塩、テトラノルマルブチルホスホニウムベンゾトリアゾール、テトラノルマルブチルホスホニウムテトラフルオロボレート、及びテトラノルマルブチルホスホニウムテトラフェニルボレート等が挙げられる。
【０１２７】
上記熱硬化性化合物が良好に硬化するように、上記硬化促進剤の含有量は適宜選択される。上記熱硬化性化合物１００重量部に対する上記硬化促進剤の含有量は、好ましくは０．５重量部以上、より好ましくは３重量部以上であり、好ましくは８重量部以下、より好ましくは６重量部以下である。上記硬化促進剤の含有量が、上記下限以上及び上記上限以下であると、上記熱硬化性化合物を良好に硬化させることができる。
【０１２８】
（硬化性成分：光硬化性化合物）
上記光硬化性化合物は特に限定されない。上記光硬化性化合物は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【０１２９】
上記光硬化性化合物は、エチレン性不飽和結合を２個以上有することが好ましい。
【０１３０】
上記エチレン性不飽和結合を含む基としては、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイル基等が挙げられる。導電材料をより一層良好に硬化させる観点からは、（メタ）アクリロイル基が好ましい。上記光硬化性化合物は、（メタ）アクリロイル基を有することが好ましい。
【０１３１】
導電材料をより一層良好に硬化させる観点、及び硬化物の密着性をより一層高める観点からは、上記光硬化性化合物は、エポキシ（メタ）アクリレートを含むことが好ましい。硬化物の耐熱性をより一層高める観点からは、上記エポキシ（メタ）アクリレートは、２官能のエポキシ（メタ）アクリレートと、３官能以上のエポキシ（メタ）アクリレートとを含むことが好ましい。２官能のエポキシ（メタ）アクリレートは、（メタ）アクリロイル基を２個有することが好ましい。３官能以上のエポキシ（メタ）アクリレートは、（メタ）アクリロイル基を３個以上有することが好ましい。
【０１３２】
エポキシ（メタ）アクリレートは、（メタ）アクリル酸とエポキシ化合物とを反応させて得られる。エポキシ（メタ）アクリレートは、エポキシ基を（メタ）アクリロイル基に変換することにより得ることができる。光硬化性化合物を含む導電材料は光の照射により硬化させるので、エポキシ（メタ）アクリレートは、エポキシ基を有さないことが好ましい。
【０１３３】
上記エポキシ（メタ）アクリレートとしては、ビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート（例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳ型エポキシ（メタ）アクリレート）、クレゾールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート、アミン変性ビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート、カルボン酸無水物変性エポキシ（メタ）アクリレート、及びフェノールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０１３４】
導電材料１００体積％中、上記光硬化性化合物の含有量は、好ましくは５体積％以上、より好ましくは１０体積％以上であり、好ましくは４０体積％以下、より好ましくは３０体積％以下である。上記光硬化性化合物の含有量が、上記下限以上及び上記上限以下であると、導電材料をより一層良好に硬化させることができ、硬化物の密着性がより一層高くなる。
【０１３５】
（硬化性成分：光重合開始剤）
光重合開始剤は特に限定されない。上記光重合開始剤として、光の照射により上記光硬化性化合物を硬化させることができる光重合開始剤を適宜用いることができる。上記光重合開始剤は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【０１３６】
上記光重合開始剤としては、アシルフォスフィンオキサイド、ハロメチル化トリアジン、ハロメチル化オキサジアゾール、イミダゾール、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエーテル、アントラキノン、ベンズアンスロン、ベンゾフェノン、アセトフェノン、チオキサントン、安息香酸エステル、アクリジン、フェナジン、チタノセン、α−アミノアルキルフェノン、オキシム、及びこれらの誘導体等が挙げられる。
【０１３７】
ベンゾフェノン系光重合開始剤としては、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル及びミヒラーズケトン等が挙げられる。ベンゾフェノン系光重合開始剤の市販品としては、ＥＡＢ（保土谷化学工業社製）等が挙げられる。
【０１３８】
アセトフェノン系光重合開始剤の市販品としては、ダロキュア１１７３、ダロキュア２９５９、イルガキュア１８４、イルガキュア９０７、及びイルガキュア３６９（以上いずれもＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。
【０１３９】
ベンゾイン系光重合開始剤の市販品としては、イルガキュア６５１（ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。
【０１４０】
アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤の市販品としては、Ｌｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯ、及びイルガキュア８１９（以上いずれもＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。
【０１４１】
チオキサントン系光重合開始剤の市販品としては、イソプロピルチオキサントン、及びジエチルチオキサントン（以上いずれも東京化成工業社製）等が挙げられる。
【０１４２】
オキシム系光重合開始剤の市販品としては、イルガキュアＯＸＥ−０１、及びイルガキュアＯＸＥ−０２（以下いずれもＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。
【０１４３】
上記光硬化性化合物１００重量部に対して、上記光重合開始剤の含有量は、好ましくは１重量部以上、より好ましくは３重量部以上であり、好ましくは２０重量部以下、より好ましくは１５重量部以下である。光重合開始剤の含有量が、上記下限以上及び上記上限以下であると、光硬化性化合物を良好に光硬化させることができ、導電材料をより一層良好に硬化させることができる。
【０１４４】
（着色剤）
上記導電材料は、加熱することで、加熱前の導電材料に対して加熱後の導電材料の波長４００ｎｍにおける透過率を低下させる性質を有する着色剤を含むことが好ましい。上記着色剤は、加熱することで、加熱前の導電材料に対して加熱後の導電材料の波長４００ｎｍにおける透過率を１０％以上（好ましくは１５％以上、より好ましくは２０％以上）低下させる性質を有することがより好ましい。上記導電材料が上記着色剤を含むことで、上記導電材料が、加熱後の波長４００ｎｍにおける透過率が、加熱前の波長４００ｎｍにおける透過率よりも低くなる性質を有することがより好ましい。上記導電材料が上記着色剤を含むことで、加熱後の波長４００ｎｍにおける透過率が、加熱前の波長４００ｎｍにおける透過率よりも１０％以上（好ましくは２０％以上、より好ましくは３０％以上）低くなる性質を有することがさらに好ましい。
【０１４５】
上記着色剤は、上記の好ましい態様を満足する着色剤であれば、特に限定されない。上記着色剤は、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【０１４６】
上記着色剤としては、ロイコ染料、顕色剤及びマイクロカプセル等が挙げられる。画面のコントラスト比をより一層効果的に高める観点、及び接続構造体の生産性をより一層効果的に高める観点からは、上記着色剤は、ロイコ染料又はマイクロカプセルであることが好ましく、ロイコ染料であることがより好ましい。
【０１４７】
上記ロイコ染料の市販品としては、Ｓ−２０５、ＢＬＡＣＫ３０５、ＢＬＡＣＫ４００、ＥＴＡＣ、ＢＬＡＣＫ１００、及びＮＩＲ  ＢＬＡＣＫ７８（以上いずれも山田化学工業社製）等が挙げられる。
【０１４８】
上記着色剤として上記ロイコ染料を用いる場合には、上記ロイコ染料は後述するフラックス等の酸成分を有する化合物とともに用いることが好ましい。上記ロイコ染料は、酸成分と反応することで着色するので、酸成分を有する化合物は２５℃で固形であり、１５０℃で溶融することが好ましい。酸成分を有する化合物が２５℃で固形であると、上記ロイコ染料と酸成分を有する化合物とは反応せず、上記導電材料は着色しない。結果として、加熱前の上記導電材料の波長４００ｎｍにおける透過率を比較的高くすることができる。一方、酸成分を有する化合物が１５０℃で溶融すると、上記ロイコ染料と酸成分を有する化合物とは反応し、上記導電材料は着色する。結果として、加熱後の上記導電材料の波長４００ｎｍにおける透過率を比較的低くすることができる。酸成分を有する化合物は、上記の好ましい態様を満足する化合物であれば、特に限定されない。酸成分を有する化合物は、フラックスであることが好ましい。
【０１４９】
上記酸成分を有する化合物の市販品としては、グルタル酸、アジピン酸、及びクエン酸（以上いずれも東京化成工業社製）等が挙げられる。
【０１５０】
上記硬化性成分１００重量部に対する上記着色剤の含有量は、好ましくは０．１重量部以上、より好ましくは１重量部以上であり、好ましくは１０重量部以下、より好ましくは５重量部以下である。上記硬化性成分１００重量部に対する上記着色剤の含有量が、上記下限以上及び上記上限以下であると、加熱前には導電材料を介した視認性をより一層高めることができ、加熱後には導電材料の透過率をより一層下げることができる。
【０１５１】
導電材料１００重量％中、上記着色剤の含有量は、好ましくは０．０３重量％以上、より好ましくは０．３重量％以上であり、好ましくは３重量％以下、より好ましくは１．５重量％以下である。導電材料１００重量％中の上記着色剤の含有量が、上記下限以上及び上記上限以下であると、加熱前には導電材料を介した視認性をより一層高めることができ、加熱後には導電材料の透過率をより一層下げることができる。
【０１５２】
（フラックス）
上記導電材料は、フラックスを含むことが好ましい。上記フラックスを用いることで、金属表面の酸化膜を除去することができ、導電材料を用いて電極間を電気的に接続する場合に、電極上に導電性粒子をより一層効率的に配置することができる。上記フラックスは特に限定されない。上記フラックスとして、はんだ接合等に一般的に用いられているフラックスを用いることができる。
【０１５３】
上記フラックスとしては、塩化亜鉛、塩化亜鉛と無機ハロゲン化物との混合物、塩化亜鉛と無機酸との混合物、溶融塩、リン酸、リン酸の誘導体、有機ハロゲン化物、ヒドラジン、アミン化合物、有機酸及び松脂等が挙げられる。上記フラックスは、１種のみが用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【０１５４】
上記溶融塩としては、塩化アンモニウム等が挙げられる。上記有機酸としては、乳酸、クエン酸、ステアリン酸、グルタミン酸及びグルタル酸等が挙げられる。上記松脂としては、活性化松脂及び非活性化松脂等が挙げられる。上記フラックスは、カルボキシル基を２個以上有する有機酸、又は松脂であることが好ましい。上記フラックスは、カルボキシル基を２個以上有する有機酸であってもよく、松脂であってもよい。カルボキシル基を２個以上有する有機酸、松脂の使用により、電極間の導通信頼性がより一層高くなる。
【０１５５】
上記カルボキシル基を２個以上有する有機酸としては、例えば、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、及びセバシン酸等が挙げられる。
【０１５６】
上記アミン化合物としては、シクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、ベンズヒドリルアミン、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、フェニルイミダゾール、カルボキシベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、及びカルボキシベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【０１５７】
上記松脂はアビエチン酸を主成分とするロジン類である。上記ロジン類としては、アビエチン酸、及びアクリル変性ロジン等が挙げられる。フラックスはロジン類であることが好ましく、アビエチン酸であることがより好ましい。この好ましいフラックスの使用により、電極間の導通信頼性がより一層高くなる。
【０１５８】
上記フラックスの活性温度（融点）は、好ましくは５０℃以上、より好ましくは７０℃以上、さらに好ましくは８０℃以上であり、好ましくは２００℃以下、より好ましくは１９０℃以下、より一層好ましくは１６０℃以下、さらに好ましくは１５０℃以下、更に一層好ましくは１４０℃以下である。上記フラックスの活性温度が、上記下限以上及び上記上限以下であると、フラックス効果がより一層効果的に発揮され、導電性粒子が電極上により一層効率的に配置される。上記フラックスの活性温度（融点）は８０℃以上１９０℃以下であることが好ましい。上記フラックスの活性温度（融点）は８０℃以上１４０℃以下であることが特に好ましい。
【０１５９】
フラックスの活性温度（融点）が８０℃以上１９０℃以下である上記フラックスとしては、コハク酸（融点１８６℃）、グルタル酸（融点９６℃）、アジピン酸（融点１５２℃）、ピメリン酸（融点１０４℃）、スベリン酸（融点１４２℃）等のジカルボン酸、安息香酸（融点１２２℃）、リンゴ酸（融点１３０℃）等が挙げられる。
【０１６０】
また、上記フラックスの沸点は２００℃以下であることが好ましい。
【０１６１】
上記フラックスは、導電材料中に分散されていてもよく、導電性粒子の表面上に付着していてもよい。
【０１６２】
フラックスの融点が、導電性粒子におけるはんだの融点より高いことにより、電極部分に導電性粒子を効率的に凝集させることができる。これは、接合時に熱を付与した場合、接続対象部材上に形成された電極と、電極周辺の接続対象部材の部分とを比較すると、電極部分の熱伝導率が電極周辺の接続対象部材部分の熱伝導率よりも高いことにより、電極部分の昇温が速いことに起因する。導電性粒子におけるはんだの融点を超えた段階では、導電性粒子におけるはんだ部は溶解するが、表面に形成された酸化被膜は、フラックスの融点（活性温度）に達していないので、除去されない。この状態で、電極部分の温度が先に、フラックスの融点（活性温度）に達するため、優先的に電極上に移動した導電性粒子の表面の酸化被膜が除去され、導電性粒子におけるはんだが電極の表面上に濡れ拡がることができる。これにより、電極上に効率的に導電性粒子を凝集させることができる。
【０１６３】
上記フラックスは、加熱によりカチオンを放出するフラックスであることが好ましい。加熱によりカチオンを放出するフラックスの使用により、導電性粒子を電極上により一層効率的に配置することができる。
【０１６４】
上記加熱によりカチオンを放出するフラックスとしては、上記熱カチオン開始剤（熱カチオン硬化剤）が挙げられる。
【０１６５】
電極上に導電性粒子をより一層効率的に配置する観点、絶縁信頼性をより一層効果的に高める観点、及び導通信頼性をより一層効果的に高める観点からは、上記フラックスは、酸化合物と塩基化合物との塩であることが好ましい。
【０１６６】
上記酸化合物は、カルボキシル基を有する有機化合物であることが好ましい。上記酸化合物としては、脂肪族系カルボン酸であるマロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、クエン酸、リンゴ酸、環状脂肪族カルボン酸であるシクロヘキシルカルボン酸、１，４−シクロヘキシルジカルボン酸、芳香族カルボン酸であるイソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、及びエチレンジアミン四酢酸等が挙げられる。電極上に導電性粒子をより一層効率的に配置する観点、絶縁信頼性をより一層効果的に高める観点、及び導通信頼性をより一層効果的に高める観点からは、上記酸化合物は、グルタル酸、シクロヘキシルカルボン酸、又はアジピン酸であることが好ましい。
【０１６７】
上記塩基化合物は、アミノ基を有する有機化合物であることが好ましい。上記塩基化合物としては、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、エチルジエタノールアミン、シクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ベンジルアミン、ベンズヒドリルアミン、２−メチルベンジルアミン、３−メチルベンジルアミン、４−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルアミン、Ｎ−メチルベンジルアミン、Ｎ−エチルベンジルアミン、Ｎ−フェニルベンジルアミン、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジルアミン、Ｎ−イソプロピルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルベンジルアミン、イミダゾール化合物、及びトリアゾール化合物が挙げられる。電極上に導電性粒子をより一層効率的に配置する観点、絶縁信頼性をより一層効果的に高める観点、及び導通信頼性をより一層効果的に高める観点からは、上記塩基化合物は、ベンジルアミンであることが好ましい。
【０１６８】
導電材料１００重量％中、上記フラックスの含有量は、好ましくは０．５重量％以上であり、好ましくは３０重量％以下、より好ましくは２５重量％以下である。上記導電材料は、フラックスを含んでいなくてもよい。上記フラックスの含有量が、上記下限以上及び上記上限以下であると、導電性粒子及び電極の表面に酸化被膜がより一層形成され難くなり、さらに、導電性粒子及び電極の表面に形成された酸化被膜をより一層効果的に除去できる。
【０１６９】
（フィラー）
本発明に係る導電材料は、フィラーを含んでいてもよい。フィラーは、有機フィラーであってもよく、無機フィラーであってもよい。上記導電材料がフィラーを含むことにより、導電材料の粘度を容易に調整することができ、導電材料を用いて電極間を電気的に接続する場合に、電極上に導電性粒子をより一層効率的に配置することができ、基板の全電極上に対して、導電性粒子を均一に凝集させることができる。
【０１７０】
上記導電材料は、上記フィラーを含まないか、又は上記フィラーを５重量％以下で含むことが好ましい。導電材料を用いて電極間を電気的に接続する場合に、フィラーの含有量が少ないほど、電極上に導電性粒子が移動しやすくなる。
【０１７１】
導電材料１００重量％中、上記フィラーの含有量は、好ましくは０重量％（未含有）以上であり、好ましくは５重量％以下、より好ましくは２重量％以下、さらに好ましくは１重量％以下である。上記フィラーの含有量が、上記下限以上及び上記上限以下であると、導電材料を用いて電極間を電気的に接続する場合に、導電性粒子が電極上により一層均一に配置される。
【０１７２】
（他の成分）
上記導電材料は、必要に応じて、例えば、充填剤、増量剤、軟化剤、可塑剤、増粘剤、チキソ剤、レベリング剤、重合触媒、硬化触媒、着色剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤及び難燃剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。
【０１７３】
（接続構造体及び接続構造体の製造方法）
本発明に係る接続構造体は、第１の電極を表面に有する第１の接続対象部材と、第２の電極を表面に有する第２の接続対象部材と、上記第１の接続対象部材と、上記第２の接続対象部材とを接続している接続部とを備える。本発明に係る接続構造体では、上記接続部の材料が、上述した導電材料である。本発明に係る接続構造体では、上記第１の電極と上記第２の電極とが、上記導電性粒子により電気的に接続されている。
【０１７４】
本発明に係る接続構造体の製造方法は、上述した導電材料を用いて、第１の電極を表面に有する第１の接続対象部材の表面上に、上記導電材料を配置する工程を備える。本発明に係る接続構造体の製造方法は、上記導電材料の上記第１の接続対象部材側とは反対の表面上に、第２の電極を表面に有する第２の接続対象部材を、上記第１の電極と上記第２の電極とが対向するように配置する工程を備える。本発明に係る接続構造体の製造方法は、上記導電材料を加熱することで、上記第１の接続対象部材と上記第２の接続対象部材とを接続している接続部を、上記導電材料により形成し、かつ、上記第１の電極と上記第２の電極とを、上記導電性粒子により電気的に接続する工程を備える。本発明に係る接続構造体の製造方法では、加熱前の導電材料に対して、加熱後の導電材料である接続部の波長４００ｎｍにおける透過率を１０％以上（好ましくは２０％以上、より好ましくは３０％以上）低下させることが好ましい。
【０１７５】
また、本発明に係る接続構造体の製造方法は、硬化性成分と、導電性粒子とを含む導電材料を用いて、第１の電極を表面に有する第１の接続対象部材の表面上に、上記導電材料を配置する工程を備える。本発明に係る接続構造体の製造方法は、上記導電材料の上記第１の接続対象部材側とは反対の表面上に、第２の電極を表面に有する第２の接続対象部材を、上記第１の電極と上記第２の電極とが対向するように配置する工程を備える。本発明に係る接続構造体の製造方法は、上記導電材料を加熱又は光を照射することで、上記第１の接続対象部材と上記第２の接続対象部材とを接続している接続部を、上記導電材料により形成し、かつ、上記第１の電極と上記第２の電極とを、上記導電性粒子により電気的に接続する工程を備える。本発明に係る接続構造体の製造方法では、加熱又は光の照射前の導電材料に対して、加熱又は光の照射後の導電材料である接続部の波長４００ｎｍにおける透過率を１０％以上（好ましくは２０％以上、より好ましくは３０％以上）低下させる。
【０１７６】
本発明に係る接続構造体及び接続構造体の製造方法では、上記の構成が備えられているので、加熱前には導電材料を介した視認性をより一層高めることができ、加熱後には導電材料の硬化物である接続部の透過率をより一層下げることができる。
【０１７７】
また、本発明に係る接続構造体及び接続構造体の製造方法では、特定の導電材料を用いることで、導電性粒子が第１の電極と第２の電極との間に集まりやすく、導電性粒子を電極（ライン）上に効率的に配置することができる。また、導電性粒子の一部が、電極が形成されていない領域（スペース）に配置され難く、電極が形成されていない領域に配置される導電性粒子の量をかなり少なくすることができる。従って、第１の電極と第２の電極との間の導通信頼性を高めることができる。しかも、接続されてはならない横方向に隣接する電極間の電気的な接続を防ぐことができ、絶縁信頼性を高めることができる。
【０１７８】
上記導電材料は、導電ペースト及び導電フィルム等として使用され得る。電極上に導電性粒子を効率的に配置し、かつ電極が形成されていない領域に配置される導電性粒子の量をかなり少なくするためには、上記導電材料は、導電フィルムではなく、導電ペーストを用いることが好ましい。
【０１７９】
電極間でのはんだ部の厚みは、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上であり、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは８０μｍ以下である。電極の表面上のはんだ濡れ面積（電極の露出した面積１００％中のはんだが接している面積）は、好ましくは５０％以上、より好ましくは７０％以上であり、好ましくは１００％以下である。
【０１８０】
本発明に係る接続構造体の製造方法では、上記第２の接続対象部材を配置する工程及び上記接続部を形成する工程において、加圧を行わず、上記導電材料には、上記第２の接続対象部材の重量が加わることが好ましい。本発明に係る接続構造体の製造方法では、上記第２の接続対象部材を配置する工程及び上記接続部を形成する工程において、上記導電材料には、上記第２の接続対象部材の重量の力を超える加圧圧力は加わらないことが好ましい。これらの場合には、複数の電極間において、導電性粒子の量の均一性をより一層高めることができる。さらに、電極間でのはんだ部の厚みをより一層効果的に厚くすることができ、複数の導電性粒子が電極間に多く集まりやすくなり、複数の導電性粒子を電極（ライン）上により一層効率的に配置することができる。また、複数の導電性粒子の一部が、電極が形成されていない領域（スペース）に配置され難く、電極が形成されていない領域に配置される導電性粒子の量をより一層少なくすることができる。従って、電極間の導通信頼性をより一層高めることができる。しかも、接続されてはならない横方向に隣接する電極間の電気的な接続をより一層防ぐことができ、絶縁信頼性をより一層高めることができる。
【０１８１】
また、導電フィルムではなく、導電ペーストを用いれば、導電ペーストの塗布量によって、接続部及びはんだ部の厚みを調整することが容易になる。一方で、導電フィルムでは、接続部の厚みを変更したり、調整したりするためには、異なる厚みの導電フィルムを用意したり、所定の厚みの導電フィルムを用意したりしなければならないという問題がある。また、導電フィルムでは、導電ペーストと比べて、導電フィルムの溶融粘度を十分に下げることができず、導電性粒子の凝集が阻害されやすい傾向がある。
【０１８２】
以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明する。
【０１８３】
図１は、本発明の一実施形態に係る導電材料を用いて得られる接続構造体を模式的に示す断面図である。
【０１８４】
図１に示す接続構造体１は、第１の接続対象部材２と、第２の接続対象部材３と、第１の接続対象部材２と第２の接続対象部材３とを接続している接続部４とを備える。接続部４は、上述した導電材料により形成されている。本実施形態では、上記導電材料は、硬化性成分と、導電性粒子とを含む。本実施形態では、硬化性成分として、熱硬化性化合物と、熱硬化剤とが用いられている。本実施形態では、上記導電性粒子として、はんだ粒子が用いられている。本実施形態では、上記導電材料として、導電ペーストが用いられている。
【０１８５】
接続部４は、複数のはんだ粒子が集まり互いに接合したはんだ部４Ａと、硬化性成分が熱硬化された硬化物部４Ｂとを有する。
【０１８６】
第１の接続対象部材２は表面（上面）に、複数の第１の電極２ａを有する。第２の接続対象部材３は表面（下面）に、複数の第２の電極３ａを有する。第１の電極２ａと第２の電極３ａとが、はんだ部４Ａにより電気的に接続されている。従って、第１の接続対象部材２と第２の接続対象部材３とが、はんだ部４Ａにより電気的に接続されている。なお、接続部４において、第１の電極２ａと第２の電極３ａとの間に集まったはんだ部４Ａとは異なる領域（硬化物部４Ｂ部分）では、はんだ粒子は存在しない。はんだ部４Ａとは異なる領域（硬化物部４Ｂ部分）では、はんだ部４Ａと離れたはんだ粒子は存在しない。なお、少量であれば、第１の電極２ａと第２の電極３ａとの間に集まったはんだ部４Ａとは異なる領域（硬化物部４Ｂ部分）に、はんだ粒子が存在していてもよい。
【０１８７】
図１に示すように、接続構造体１では、第１の電極２ａと第２の電極３ａとの間に、複数のはんだ粒子が集まり、複数のはんだ粒子が溶融した後、はんだ粒子の溶融物が電極の表面を濡れ拡がった後に固化して、はんだ部４Ａが形成されている。このため、はんだ部４Ａと第１の電極２ａ、並びにはんだ部４Ａと第２の電極３ａとの接続面積が大きくなる。すなわち、はんだ粒子を用いることにより、導電性の外表面がニッケル、金又は銅等の金属である導電性粒子を用いた場合と比較して、はんだ部４Ａと第１の電極２ａ、並びにはんだ部４Ａと第２の電極３ａとの接触面積が大きくなる。このことによっても、接続構造体１における導通信頼性及び接続信頼性が高くなる。なお、導電材料にフラックスが含まれる場合に、フラックスは、一般に、加熱により次第に失活する。
【０１８８】
なお、図１に示す接続構造体１では、はんだ部４Ａの全てが、第１，第２の電極２ａ，３ａ間の対向している領域に位置している。図３に示す変形例の接続構造体１Ｘは、接続部４Ｘのみが、図１に示す接続構造体１と異なる。接続部４Ｘは、はんだ部４ＸＡと硬化物部４ＸＢとを有する。接続構造体１Ｘのように、はんだ部４ＸＡの多くが、第１，第２の電極２ａ，３ａの対向している領域に位置しており、はんだ部４ＸＡの一部が第１，第２の電極２ａ，３ａの対向している領域から側方にはみ出していてもよい。第１，第２の電極２ａ，３ａの対向している領域から側方にはみ出しているはんだ部４ＸＡは、はんだ部４ＸＡの一部であり、はんだ部４ＸＡから離れたはんだ粒子ではない。なお、本実施形態では、はんだ部から離れたはんだ粒子の量を少なくすることができるが、はんだ部から離れたはんだ粒子が硬化物部中に存在していてもよい。
【０１８９】
はんだ粒子の使用量を少なくすれば、接続構造体１を得ることが容易になる。はんだ粒子の使用量を多くすれば、接続構造体１Ｘを得ることが容易になる。
【０１９０】
接続構造体１，１Ｘでは、第１の電極２ａと接続部４，４Ｘと第２の電極３ａとの積層方向に第１の電極２ａと第２の電極３ａとの対向し合う部分をみたときに、第１の電極２ａと第２の電極３ａとの対向し合う部分の面積１００％中の５０％以上に、接続部４，４Ｘ中のはんだ部４Ａ，４ＸＡが配置されていることが好ましい。接続部４，４Ｘ中のはんだ部４Ａ，４ＸＡが、上記の好ましい態様を満足することで、導通信頼性をより一層高めることができる。
【０１９１】
上記第１の電極と上記接続部と上記第２の電極との積層方向に上記第１の電極と上記第２の電極との対向し合う部分をみたときに、上記第１の電極と上記第２の電極との対向し合う部分の面積１００％中の５０％以上に、上記接続部中のはんだ部が配置されていることが好ましい。上記第１の電極と上記接続部と上記第２の電極との積層方向に上記第１の電極と上記第２の電極との対向し合う部分をみたときに、上記第１の電極と上記第２の電極との対向し合う部分の面積１００％中の６０％以上に、上記接続部中のはんだ部が配置されていることがより好ましい。上記第１の電極と上記接続部と上記第２の電極との積層方向に上記第１の電極と上記第２の電極との対向し合う部分をみたときに、上記第１の電極と上記第２の電極との対向し合う部分の面積１００％中の７０％以上に、上記接続部中のはんだ部が配置されていることがさらに好ましい。上記第１の電極と上記接続部と上記第２の電極との積層方向に上記第１の電極と上記第２の電極との対向し合う部分をみたときに、上記第１の電極と上記第２の電極との対向し合う部分の面積１００％中の８０％以上に、上記接続部中のはんだ部が配置されていることが特に好ましい。上記第１の電極と上記接続部と上記第２の電極との積層方向に上記第１の電極と上記第２の電極との対向し合う部分をみたときに、上記第１の電極と上記第２の電極との対向し合う部分の面積１００％中の９０％以上に、上記接続部中のはんだ部が配置されていることが最も好ましい。上記接続部中のはんだ部が、上記の好ましい態様を満足することで、導通信頼性をより一層高めることができる。
【０１９２】
上記第１の電極と上記接続部と上記第２の電極との積層方向と直交する方向に上記第１の電極と上記第２の電極との対向し合う部分をみたときに、上記第１の電極と上記第２の電極との対向し合う部分に、上記接続部中のはんだ部の６０％以上が配置されていることが好ましい。上記第１の電極と上記接続部と上記第２の電極との積層方向と直交する方向に上記第１の電極と上記第２の電極との対向し合う部分をみたときに、上記第１の電極と上記第２の電極との対向し合う部分に、上記接続部中のはんだ部の７０％以上が配置されていることがより好ましい。上記第１の電極と上記接続部と上記第２の電極との積層方向と直交する方向に上記第１の電極と上記第２の電極との対向し合う部分をみたときに、上記第１の電極と上記第２の電極との対向し合う部分に、上記接続部中のはんだ部の９０％以上が配置されていることがさらに好ましい。上記第１の電極と上記接続部と上記第２の電極との積層方向と直交する方向に上記第１の電極と上記第２の電極との対向し合う部分をみたときに、上記第１の電極と上記第２の電極との対向し合う部分に、上記接続部中のはんだ部の９５％以上が配置されていることが特に好ましい。上記第１の電極と上記接続部と上記第２の電極との積層方向と直交する方向に上記第１の電極と上記第２の電極との対向し合う部分をみたときに、上記第１の電極と上記第２の電極との対向し合う部分に、上記接続部中のはんだ部の９９％以上が配置されていることが最も好ましい。上記接続部中のはんだ部が、上記の好ましい態様を満足することで、導通信頼性をより一層高めることができる。
【０１９３】
次に、図２では、本発明の一実施形態に係る導電材料を用いて、接続構造体１を製造する方法の一例を説明する。
【０１９４】
先ず、第１の電極２ａを表面（上面）に有する第１の接続対象部材２を用意する。次に、図２（ａ）に示すように、第１の接続対象部材２の表面上に、硬化性成分１１Ｂと、複数のはんだ粒子１１Ａとを含む導電材料１１を配置する（第１の工程）。用いた導電材料１１は、硬化性成分１１Ｂとして、熱硬化性化合物と熱硬化剤とを含む。
【０１９５】
第１の接続対象部材２の第１の電極２ａが設けられた表面上に、導電材料１１を配置する。導電材料１１の配置の後に、はんだ粒子１１Ａは、第１の電極２ａ（ライン）上と、第１の電極２ａが形成されていない領域（スペース）上との双方に配置されている。
【０１９６】
導電材料１１の配置方法としては、特に限定されないが、ディスペンサーによる塗布、スクリーン印刷、及びインクジェット装置による吐出等が挙げられる。
【０１９７】
また、第２の電極３ａを表面（下面）に有する第２の接続対象部材３を用意する。次に、図２（ｂ）に示すように、第１の接続対象部材２の表面上の導電材料１１において、導電材料１１の第１の接続対象部材２側とは反対側の表面上に、第２の接続対象部材３を配置する（第２の工程）。導電材料１１の表面上に、第２の電極３ａ側から、第２の接続対象部材３を配置する。このとき、第１の電極２ａと第２の電極３ａとを対向させる。
【０１９８】
次に、はんだ粒子１１Ａの融点以上に導電材料１１を加熱する（第３の工程）。好ましくは、硬化性成分１１Ｂ（熱硬化性化合物）の硬化温度以上に導電材料１１を加熱する。この加熱時には、電極が形成されていない領域に存在していたはんだ粒子１１Ａは、第１の電極２ａと第２の電極３ａとの間に集まる（自己凝集効果）。導電フィルムではなく、導電ペーストを用いた場合には、はんだ粒子１１Ａが、第１の電極２ａと第２の電極３ａとの間により一層効果的に集まる。また、はんだ粒子１１Ａは溶融し、互いに接合する。また、硬化性成分１１Ｂは熱硬化する。この結果、図２（ｃ）に示すように、第１の接続対象部材２と第２の接続対象部材３とを接続している接続部４が、導電材料１１により形成される。導電材料１１により接続部４が形成され、複数のはんだ粒子１１Ａが接合することによってはんだ部４Ａが形成され、硬化性成分１１Ｂが熱硬化することによって硬化物部４Ｂが形成される。はんだ粒子１１Ａが十分に移動すれば、第１の電極２ａと第２の電極３ａとの間に位置していないはんだ粒子１１Ａの移動が開始してから、第１の電極２ａと第２の電極３ａとの間にはんだ粒子１１Ａの移動が完了するまでに、温度を一定に保持しなくてもよい。
【０１９９】
また、硬化性成分１１Ｂは、光硬化性化合物と光重合開始剤とを含んでいてもよい。硬化性成分１１Ｂが光硬化性化合物と光重合性開始剤とを含んでいる場合には、上記第３の工程において、加熱又は光を照射することで接続部４を形成してもよい。硬化性成分１１Ｂが光硬化性化合物と光重合性開始剤とを含んでいる場合には、上記第３の工程において、光を照射することで接続部４を形成してもよい。
【０２００】
上記光硬化性化合物を光硬化させるために用いられる光源としては、紫外線又は可視光線等の活性エネルギー線を発光する照射装置が挙げられる。上記光源としては、例えば、超高圧水銀灯、Ｄｅｅｐ  ＵＶランプ、高圧水銀灯、低圧水銀灯、メタルハライドランプ及びエキシマレーザーが挙げられる。これらの光源は、光硬化性化合物及び光重合開始剤種類、配合組成及び配合成分の感光波長に応じて適宜選択されることが好ましい。光の照射時の積算光量は、光硬化性化合物及び光重合開始剤の種類、配合組成及び配合成分により適宜選択されることが好ましい。積算光量は、一般に、好ましくは１ｍＪ／ｃｍ２以上であり、好ましくは５０ｍＪ／ｃｍ２以下である。
【０２０１】
また、上記第３の工程の後に、接続部４を加熱又は光を照射することで、接続部４の波長４００ｎｍにおける透過率を変化させる工程（第４の工程）をさらに備えていてもよい。
【０２０２】
上記第１の工程と、上記第３の工程又は上記第４の工程とにおいて、導電材料１１の波長４００ｎｍにおける透過率と接続部４の波長４００ｎｍにおける透過率とが変化していることが好ましい。上記第３の工程又は上記第４の工程において加熱することで、導電材料１１の波長４００ｎｍにおける透過率と接続部４の波長４００ｎｍにおける透過率とが変化することが好ましい。上記第３の工程又は上記第４の工程において光を照射することで、導電材料１１の波長４００ｎｍにおける透過率と接続部４の波長４００ｎｍにおける透過率とが変化することが好ましい。上記第１の工程と、上記第３の工程又は上記第４の工程とにおいて、導電材料１１の波長４００ｎｍにおける透過率が、接続部４の波長４００ｎｍにおける透過率よりも１０％以上高くなることが好ましい。上記第３の工程又は上記第４の工程において加熱することで、導電材料１１の波長４００ｎｍにおける透過率が、接続部４の波長４００ｎｍにおける透過率よりも１０％以上高くなることが好ましい。上記第３の工程又は上記第４の工程において光を照射することで、導電材料１１の波長４００ｎｍにおける透過率が、接続部４の波長４００ｎｍにおける透過率よりも１０％以上高くなることが好ましい。上記第１の工程において、導電材料１１の波長４００ｎｍにおける透過率は比較的高いことが好ましく、上記第３の工程又は上記第４の工程において、接続部４の波長４００ｎｍにおける透過率は比較的低いことが好ましい。
【０２０３】
上記の好ましい態様を満足することで、上記第１の工程では、導電材料１１の波長４００ｎｍにおける透過率は比較的高いので、第１の接続対象部材２の表面上に配置されたアライメントマークをカメラ等により検出することができ、第１の接続対象部材２の位置を容易に決めることができる。このため、第２の接続対象部材３を配置する際に特別な対策が不要となり、接続構造体の生産性を高めることができる。上記第３の工程又は上記第４の工程では、接続部４の波長４００ｎｍにおける透過率は比較的低いので、カメラによる画像認識の精度を高めたり、プラズマディスプレイパネル等の表示装置における画面のコントラスト比を高めたり、ＬＥＤ装置に用いられる接続構造体の光漏れを防止したりすることができる。
【０２０４】
本実施形態では、上記第２の工程、上記第３の工程及び上記第４の工程において、加圧を行わないことが好ましい。この場合には、導電材料１１には、第２の接続対象部材３の重量が加わる。このため、接続部４の形成時に、はんだ粒子１１Ａが、第１の電極２ａと第２の電極３ａとの間により一層効果的に集まる。なお、上記第２の工程、上記第３の工程及び上記第４の工程の内の少なくとも１つの工程において、加圧を行えば、はんだ粒子１１Ａが第１の電極２ａと第２の電極３ａとの間に集まろうとする作用が阻害される傾向が高くなる。
【０２０５】
また、本実施形態では、加圧を行っていないため、第１の電極２ａと第２の電極３ａとのアライメントがずれた状態で、第１の接続対象部材２と第２の接続対象部材３とが重ね合わされた場合でも、そのずれを補正して、第１の電極２ａと第２の電極３ａとを接続させることができる（セルフアライメント効果）。これは、第１の電極２ａと第２の電極３ａとの間に自己凝集している溶融したはんだが、第１の電極２ａと第２の電極３ａとの間のはんだと導電材料のその他の成分とが接する面積が最小となる方がエネルギー的に安定になるため、その最小の面積となる接続構造であるアライメントのあった接続構造にする力が働くためである。この際、導電材料が硬化していないこと、及び、その温度、時間にて、導電材料のはんだ粒子以外の成分の粘度が十分低いことが望ましい。
【０２０６】
はんだ粒子の融点での導電材料の粘度は、好ましくは５０Ｐａ・ｓ以下、より好ましくは１０Ｐａ・ｓ以下、さらに好ましくは１Ｐａ・ｓ以下であり、好ましくは０．１Ｐａ・ｓ以上、より好ましくは０．２Ｐａ・ｓ以上である。上記粘度が、上記上限以下であれば、はんだ粒子を効率的に凝集させることができる。上記粘度が、上記下限以上であれば、接続部でのボイドを抑制し、接続部以外への導電材料のはみだしを抑制することができる。
【０２０７】
上記はんだ粒子の融点での導電材料の粘度は、ＳＴＲＥＳＳＴＥＣＨ（ＲＥＯＬＯＧＩＣＡ社製）等を用いて、歪制御１ｒａｄ、周波数１Ｈｚ、昇温速度２０℃／分、測定温度範囲２５〜２００℃（但し、はんだ粒子の融点が２００℃を超える場合には温度上限をはんだ粒子の融点とする）の条件で測定可能である。測定結果から、はんだ粒子の融点（℃）での粘度が評価される。
【０２０８】
このようにして、図１に示す接続構造体１が得られる。
【０２０９】
なお、上記第２の工程と上記第３の工程と上記第４の工程とは連続して行われてもよい。また、上記第２の工程を行った後に、得られる第１の接続対象部材２と導電材料１１と第２の接続対象部材３との積層体を、加熱部に移動させて、上記第３の工程及び上記第４の工程を行ってもよい。上記加熱を行うために、加熱部材上に上記積層体を配置してもよく、加熱された空間内に上記積層体を配置してもよい。
【０２１０】
上記第３の工程又は第４の工程における上記加熱温度は、好ましくは１４０℃以上、より好ましくは１６０℃以上であり、好ましくは４５０℃以下、より好ましくは２５０℃以下、さらに好ましくは２００℃以下である。
【０２１１】
上記第３の工程又は第４の工程における加熱方法としては、はんだ粒子の融点以上及び硬化性成分の硬化温度以上に、接続構造体全体を、リフロー炉を用いて又はオーブンを用いて加熱する方法や、接続構造体の接続部のみを局所的に加熱する方法が挙げられる。
【０２１２】
局所的に加熱する方法に用いる器具としては、ホットプレート、熱風を付与するヒートガン、はんだゴテ、及び赤外線ヒーター等が挙げられる。
【０２１３】
また、ホットプレートにて局所的に加熱する際、接続部直下は、熱伝導性の高い金属にて、その他の加熱することが好ましくない個所は、フッ素樹脂等の熱伝導性の低い材質にて、ホットプレート上面を形成することが好ましい。
【０２１４】
上記第３の工程又は第４の工程における光を照射する方法としては、上述した光硬化性化合物を光硬化させるために用いられる光源等を用いて積算光量が１ｍＪ／ｃｍ２以上５０ｍＪ／ｃｍ２以下となるように光を照射する方法等が挙げられる。
【０２１５】
上記第１，第２の接続対象部材は、特に限定されない。上記第１，第２の接続対象部材としては、具体的には、半導体チップ、半導体パッケージ、ＬＥＤチップ、ＬＥＤパッケージ、コンデンサ及びダイオード等の電子部品、並びに樹脂フィルム、プリント基板、フレキシブルプリント基板、フレキシブルフラットケーブル、リジッドフレキシブル基板、ガラスエポキシ基板及びガラス基板等の回路基板等の電子部品等が挙げられる。上記第１，第２の接続対象部材は、電子部品であることが好ましい。
【０２１６】
上記第１の接続対象部材及び上記第２の接続対象部材の内の少なくとも一方が、樹脂フィルム、フレキシブルプリント基板、フレキシブルフラットケーブル又はリジッドフレキシブル基板であることが好ましい。上記第２の接続対象部材が、樹脂フィルム、フレキシブルプリント基板、フレキシブルフラットケーブル又はリジッドフレキシブル基板であることが好ましい。樹脂フィルム、フレキシブルプリント基板、フレキシブルフラットケーブル及びリジッドフレキシブル基板は、柔軟性が高く、比較的軽量であるという性質を有する。このような接続対象部材の接続に導電フィルムを用いた場合には、導電性粒子が電極上に集まりにくい傾向がある。これに対して、導電ペーストを用いることで、樹脂フィルム、フレキシブルプリント基板、フレキシブルフラットケーブル又はリジッドフレキシブル基板を用いたとしても、導電性粒子を電極上に効率的に集めることで、電極間の導通信頼性を十分に高めることができる。樹脂フィルム、フレキシブルプリント基板、フレキシブルフラットケーブル又はリジッドフレキシブル基板を用いる場合に、半導体チップ等の他の接続対象部材を用いた場合と比べて、加圧を行わないことによる電極間の導通信頼性の向上効果がより一層効果的に得られる。
【０２１７】
上記接続対象部材に設けられている電極としては、金電極、ニッケル電極、錫電極、アルミニウム電極、銅電極、モリブデン電極、銀電極、ＳＵＳ電極、及びタングステン電極等の金属電極が挙げられる。上記接続対象部材がフレキシブルプリント基板である場合には、上記電極は金電極、ニッケル電極、錫電極、銀電極又は銅電極であることが好ましい。上記接続対象部材がガラス基板である場合には、上記電極はアルミニウム電極、銅電極、モリブデン電極、銀電極又はタングステン電極であることが好ましい。なお、上記電極がアルミニウム電極である場合には、アルミニウムのみで形成された電極であってもよく、金属酸化物層の表面にアルミニウム層が積層された電極であってもよい。上記金属酸化物層の材料としては、３価の金属元素がドープされた酸化インジウム及び３価の金属元素がドープされた酸化亜鉛等が挙げられる。上記３価の金属元素としては、Ｓｎ、Ａｌ及びＧａ等が挙げられる。
【０２１８】
本発明に係る接続構造体では、上記第１の電極及び上記第２の電極は、エリアアレイ又はペリフェラルにて配置されていることが好ましい。上記第１の電極及び上記第２の電極が、エリアアレイ又はペリフェラルにて配置されている場合において、本発明の効果がより一層効果的に発揮される。上記エリアアレイとは、接続対象部材の電極が配置されている面にて、格子状に電極が配置されている構造のことである。上記ペリフェラルとは、接続対象部材の外周部に電極が配置されている構造のことである。電極が櫛型に並んでいる構造の場合は、櫛に垂直な方向に沿って導電性粒子が凝集すればよいのに対して、上記エリアアレイ又はペリフェラル構造では電極が配置されている面において、全面にて均一に導電性粒子が凝集する必要がある。そのため、従来の方法では、導電性粒子の量が不均一になりやすいのに対して、本発明の方法では、導電性粒子の量を容易に均一にすることができる。
【０２１９】
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を具体的に説明する。本発明は、以下の実施例のみに限定されない。
【０２２０】
硬化性成分（熱硬化性化合物）：
熱硬化性化合物１：ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、三菱化学社製「ＹＬ９８０」
熱硬化性化合物２：ナフタレン型エポキシ化合物、ＤＩＣ社製「ＨＰ−４０３２Ｄ」
【０２２１】
硬化性成分（熱硬化剤）：
熱硬化剤１：マイクロカプセル型潜在性硬化剤、旭化成イーマテリアルズ社製「ＨＸＡ−３９２２ＨＰ」
熱硬化剤２：２，４−ジアミノ−６−［２’−メチルイミダゾリル−（１’）］−エチル−ｓ−トリアジンイソシアヌル酸付加物、四国化成工業社製「２ＭＡ−ＯＫ」
【０２２２】
フラックス：
フラックス１：「グルタル酸ベンジルアミン塩」、融点１０８℃
フラックス１の作製方法：
ガラスビンに、反応溶媒である水２４ｇと、グルタル酸（和光純薬工業社製）１３．２１２ｇとを入れ、室温で均一になるまで溶解させた。その後、ベンジルアミン（和光純薬工業社製）１０．７１５ｇを入れて、約５分間撹拌し、混合液を得た。得られた混合液を５〜１０℃の冷蔵庫に入れて、一晩放置した。析出した結晶をろ過により分取し、水で洗浄し、真空乾燥し、フラックス１を得た。
【０２２３】
導電性粒子：
導電性粒子１：ＳｎＢｉはんだ粒子、融点１３８℃、三井金属社製「Ｓｎ４２Ｂｉ５８」を選別したはんだ粒子、粒子径：１２μｍ
【０２２４】
着色剤：
着色剤１：山田化学工業社製「Ｓ−２０５」、融点１６５℃
着色剤２：山田化学工業社製「ＢＬＡＣＫ３０５」、融点１８２℃
着色剤３：山田化学工業社製「ＥＴＡＣ」、融点２０７℃
着色剤４：山田化学工業社製「ＢＬＡＣＫ１００」、融点１８０℃
着色剤５：山田化学工業社製「ＮＩＲ  ＢＬＡＣＫ７８」、融点１３３℃
着色剤６：三菱マテリアル社製「チタンブラック」
【０２２５】
（実施例１〜６及び比較例１，２）
（１）導電材料（異方性導電ペースト）の作製
下記の表１に示す成分を下記の表１に示す配合量で配合して、導電材料（異方性導電ペースト）を得た。
【０２２６】
（２）第１の接続構造体（エリアアレイ基板）の作製
第１の接続対象部材として、ガラスエポキシ基板本体（サイズ２０×２０ｍｍ、厚み１．２ｍｍ、材質ＦＲ−４）の表面に、４００μｍピッチで２５０μｍの銅電極が、エリアアレイにて配置されており、銅電極が配置されていない領域にソルダーレジスト膜が形成されているガラスエポキシ基板を準備した。銅電極の表面とソルダーレジスト膜の表面との段差は、１５μｍであり、ソルダーレジスト膜は銅電極よりも突出している。
【０２２７】
第２の接続対象部材として、半導体チップ本体（サイズ５×５ｍｍ、厚み０．４ｍｍ）の表面に、第１の接続対象部材の電極に対して、同じパターンとなるように、銅電極が配置されており、最表面にパッシベーション膜（ポリイミド、厚み５μｍ、電極部の開口径２００μｍ）が形成されている半導体チップを準備した。銅電極の数は、半導体チップ１個当たり、１０個×１０個の合計１００個である。
【０２２８】
上記ガラスエポキシ基板の上面に、作製直後の導電材料（異方性導電ペースト）を厚さ１００μｍとなるように塗工し、導電材料（異方性導電ペースト）層を形成した。次に、導電材料（異方性導電ペースト）層の上面に半導体チップを電極同士が対向するように積層した。導電材料（異方性導電ペースト）層には、上記半導体チップの重量は加わる。その状態から、導電材料（異方性導電ペースト）層の温度が、昇温開始から５秒後にはんだの融点となるように加熱した。更に、昇温開始から１５秒後に、導電材料（異方性導電ペースト）層の温度が１６０℃となるように加熱し、導電材料（異方性導電ペースト）を硬化させ、第１の接続構造体を得た。加熱時には、加圧を行わなかった。
【０２２９】
（３）第２の接続構造体（ペリフェラル基板）の作製
第１の接続対象部材として、ガラスエポキシ基板本体（サイズ２０×２０ｍｍ、厚み１．２ｍｍ、材質ＦＲ−４）の表面に、４００μｍピッチで２５０μｍの銅電極が、チップ外周部に配置（ペリフェラル）されており、銅電極が配置されていない領域にソルダーレジスト膜が形成されているガラスエポキシ基板を準備した。銅電極の表面とソルダーレジスト膜の表面との段差は、１５μｍであり、ソルダーレジスト膜は銅電極よりも突出している。
【０２３０】
第２の接続対象部材として、半導体チップ本体（サイズ５×５ｍｍ、厚み０．４ｍｍ）の表面に、第１の接続対象部材の電極に対して、同じパターンとなるように、銅電極が配置されており、最表面にパッシベーション膜（ポリイミド、厚み５μｍ、電極部の開口径２００μｍ）が形成されている半導体チップを準備した。銅電極の数は、半導体チップ１個当たり、１０個×４辺の合計３６個である。
【０２３１】
上記ガラスエポキシ基板の上面のペリフェラル部分に、作製直後の導電材料（異方性導電ペースト）を厚さ１００μｍとなるように塗工し、導電材料（異方性導電ペースト）層を形成した。次に、導電材料（異方性導電ペースト）層の上面に半導体チップを電極同士が対向するように積層した。導電材料（異方性導電ペースト）層には、上記半導体チップの重量は加わる。その状態から、導電材料（異方性導電ペースト）層の温度が、昇温開始から５秒後にはんだの融点となるように加熱した。更に、昇温開始から１５秒後に、導電材料（異方性導電ペースト）層の温度が１６０℃となるように加熱し、導電材料（異方性導電ペースト）を硬化させ、第１の接続構造体を得た。加熱時には、加圧を行わなかった。
【０２３２】
（評価）
（１）加熱前の導電材料の波長４００ｎｍにおける透過率Ｔ１、加熱後の導電材料の波長４００ｎｍにおける透過率Ｔ２、及び加熱前の導電材料の波長４００ｎｍにおける透過率Ｔ１と加熱後の導電材料の波長４００ｎｍにおける透過率Ｔ２との差（Ｔ１−Ｔ２）
作製直後の導電材料（異方性導電ペースト）を用いて、加熱前の導電材料の波長４００ｎｍにおける透過率Ｔ１を測定した。また、加熱後の導電材料の波長４００ｎｍにおける透過率Ｔ２を測定した。加熱前の導電材料の波長４００ｎｍにおける透過率Ｔ１及び加熱後の導電材料の波長４００ｎｍにおける透過率Ｔ２は、以下のようにして測定した。測定結果から、加熱前の導電材料の波長４００ｎｍにおける透過率Ｔ１と、加熱後の導電材料の波長４００ｎｍにおける透過率Ｔ２との差（Ｔ１−Ｔ２）を算出した。
【０２３３】
加熱前の導電材料の波長４００ｎｍにおける透過率Ｔ１及び加熱後の導電材料の波長４００ｎｍにおける透過率Ｔ２の測定方法：
上記導電材料を２５℃にして、加熱前の測定試料を得た。また、加熱前の測定試料を６０℃のホットプレート上で１０分間加熱して、加熱後の測定試料を得た。得られた加熱前後の測定試料を用いて、２５℃で波長４００ｎｍにおける透過率を測定した。分光光度計（日本分光社製「Ｖ−６７０」）により波長４００ｎｍにおける透過率を測定した。
【０２３４】
（２）２５℃における粘度（η２５）
作製直後の導電材料（異方性導電ペースト）の２５℃での粘度（η２５）を、Ｅ型粘度計（東機産業社製「ＴＶＥ２２Ｌ」）を用いて、２５℃及び５ｒｐｍの条件で測定した。
【０２３５】
（３）はんだ粒子の融点−１０℃における粘度（η−１０）
作製直後の導電材料（異方性導電ペースト）の粘度を、ＳＴＲＥＳＳＴＥＣＨ（ＥＯＬＯＧＩＣＡ社製）を用いて、歪制御１ｒａｄ、周波数１Ｈｚ、昇温速度２０℃／分、測定温度範囲４０℃〜はんだ粒子の融点の条件で測定した。この測定において、はんだ粒子の融点−１０℃での粘度を読み取り、はんだ粒子の融点−１０℃における導電材料（異方性導電ペースト）の粘度とした。
【０２３６】
（４）電極上のはんだの配置精度
得られた第１，第２の接続構造体において、第１の電極と接続部と第２の電極との積層方向に第１の電極と第２の電極との対向し合う部分をみたときに、第１の電極と第２の電極との対向し合う部分の面積１００％中の、接続部中のはんだ部が配置されている面積の割合Ｘを評価した。電極上のはんだの配置精度を下記の基準で判定した。
【０２３７】
［電極上のはんだの配置精度の判定基準］
○○：割合Ｘが７０％以上
○：割合Ｘが６０％以上７０％未満
△：割合Ｘが５０％以上６０％未満
×：割合Ｘが５０％未満
【０２３８】
（５）上下の電極間の導通信頼性
得られた第１，第２の接続構造体（ｎ＝１５個）において、上下の電極間の接続抵抗をそれぞれ、４端子法により測定した。接続抵抗の平均値を算出した。なお、電圧＝電流×抵抗の関係から、一定の電流を流した時の電圧を測定することにより接続抵抗を求めることができる。導通信頼性を下記の基準で判定した。
【０２３９】
［導通信頼性の判定基準］
○○：接続抵抗の平均値が８．０Ω以下
○：接続抵抗の平均値が８．０Ωを超え１０．０Ω以下
△：接続抵抗の平均値が１０．０Ωを超え１５．０Ω以下
×：接続抵抗の平均値が１５．０Ωを超える
【０２４０】
（６）隣接する電極間の絶縁信頼性
得られた第１，第２の接続構造体（ｎ＝１５個）において、温度８５℃、及び湿度８５％の雰囲気中に１００時間放置後、隣接する電極間に、５Ｖを印加し、抵抗値を２５箇所で測定した。絶縁信頼性を下記の基準で判定した。
【０２４１】
［絶縁信頼性の判定基準］
○○：接続抵抗の平均値が１０７Ω以上
○：接続抵抗の平均値が１０６Ω以上１０７Ω未満
△：接続抵抗の平均値が１０５Ω以上１０６Ω未満
×：接続抵抗の平均値が１０５Ω未満
【０２４２】
（７）配置精度維持性
作製直後の導電材料（異方性導電ペースト）を厚さ１００μｍとなるように塗工し、導電材料（異方性導電ペースト）層を形成した後、半導体チップの積層前に１２時間そのまま放置したこと以外は第１，第２の接続構造体と同様にして、第１’，第２’の接続構造体を作製した。
【０２４３】
得られた第１’，第２’の接続構造体において、第１の電極と接続部と第２の電極との積層方向に第１の電極と第２の電極との対向し合う部分をみたときに、第１の電極と第２の電極との対向し合う部分の面積１００％中の、接続部中のはんだ部が配置されている面積の割合Ｘ’から、配置精度維持性を評価した。配置精度維持性を下記の基準で判定した。
【０２４４】
［配置精度維持性の判定基準］
○○：割合Ｘ’が７０％以上
○：割合Ｘ’が６０％以上７０％未満
△：割合Ｘ’が５０％以上６０％未満
×：割合Ｘ’が５０％未満
【０２４５】
（８）アライメントマークの画像認識
第１の接続構造体の作製に用いる第１の接続対象部材（ガラスエポキシ基板本体（サイズ２０×２０ｍｍ、厚み１．２ｍｍ、材質ＦＲ−４））を準備した。なお、第１の接続対象部材の上面には、アライメントマークが所定の場所に配置されている。
【０２４６】
上記第１の接続対象部材の上面に、作製直後の導電材料（異方性導電ペースト）を厚さ１００μｍとなるように塗工することで、評価用サンプルを得た。
【０２４７】
評価用サンプルを用いて、アライメントマークをカメラにより検出することができるか否かを確認した。アライメントマークの画像認識を下記の基準で判定した。
【０２４８】
［アライメントマークの画像認識の判定基準］
○：アライメントマークを認識することができ、接続構造体を効率的に生産できる
×：アライメントマークを認識することができず、接続構造体を効率的に生産できない
【０２４９】
（９）コントラスト比
第１の接続構造体の作製の際に、上記第２の接続対象部材の代わりにＬＥＤチップを用いて評価用サンプルを得た。具体的には、以下のようにして評価用サンプルを得た。
【０２５０】
第１の接続構造体の作製に用いる第１の接続対象部材（ガラスエポキシ基板本体（サイズ２０×２０ｍｍ、厚み１．２ｍｍ、材質ＦＲ−４））を準備した。ガラスエポキシ基板本体の表面には、４００μｍピッチで２５０μｍの銅電極が、エリアアレイにて配置されており、銅電極が配置されていない領域にソルダーレジスト膜が形成されている。銅電極の表面とソルダーレジスト膜の表面との段差は、１５μｍであり、ソルダーレジスト膜は銅電極よりも突出している。
【０２５１】
第２の接続対象部材として、ＬＥＤチップ（サイズ５×５ｍｍ、厚み０．４ｍｍ）を準備した。ＬＥＤチップの表面には、第１の接続対象部材の電極に対して、同じパターンとなるように、銅電極が配置されており、最表面にパッシベーション膜（ポリイミド、厚み５μｍ、電極部の開口径２００μｍ）が形成されている。銅電極の数は、ＬＥＤチップ１個当たり、１０個×１０個の合計１００個である。
【０２５２】
上記ガラスエポキシ基板の上面に、作製直後の導電材料（異方性導電ペースト）を厚さ１００μｍとなるように塗工し、導電材料（異方性導電ペースト）層を形成した。次に、導電材料（異方性導電ペースト）層の上面にＬＥＤチップを電極同士が対向するように積層した。導電材料（異方性導電ペースト）層には、上記ＬＥＤチップの重量は加わる。その状態から、導電材料（異方性導電ペースト）層の温度が、昇温開始から５秒後にはんだの融点となるように加熱した。更に、昇温開始から１５秒後に、導電材料（異方性導電ペースト）層の温度が１６０℃となるように加熱し、導電材料（異方性導電ペースト）を硬化させ、評価用サンプルを得た。加熱時には、加圧を行わなかった。
【０２５３】
評価用サンプルのコントラスト比を以下のようにして測定した。コントラスト比を下記の基準で判定した。
【０２５４】
コントラスト比の測定方法：
得られた評価用サンプルに、２．５Ｖの電圧を印加することで、ＬＥＤを点灯させた。ＬＥＤ直下の光束をＡ（ｌｍ）、ＬＥＤから１ｍｍ離れた場所の光束をＢ（ｌｍ）として、コントラスト比（Ｂ／Ａ）を算出した。
【０２５５】
［コントラスト比の判定基準］
○：コントラスト比が１．５以上
×：コントラスト比が１．５未満
【０２５６】
結果を下記の表１に示す。
【０２５７】
【表１】
2019140101.tif 000003
【０２５８】
フレキシブルプリント基板、樹脂フィルム、フレキシブルフラットケーブル及びリジッドフレキシブル基板を用いた場合でも、同様の傾向が見られた。
【符号の説明】
【０２５９】
１，１Ｘ…接続構造体
２…第１の接続対象部材
２ａ…第１の電極
３…第２の接続対象部材
３ａ…第２の電極
４，４Ｘ…接続部
４Ａ，４ＸＡ…はんだ部
４Ｂ，４ＸＢ…硬化物部
１１…導電材料
１１Ａ…はんだ粒子
１１Ｂ…硬化性成分
２１…導電性粒子（はんだ粒子）
３１…導電性粒子
３２…基材粒子
３３…導電部
３３Ａ…第２の導電部
３３Ｂ…はんだ部
４１…導電性粒子
４２…はんだ部
【図１】
2019140101.tif 000004
【図２】
2019140101.tif 000005
【図３】
2019140101.tif 000006
【図４】
2019140101.tif 000007
【図５】
2019140101.tif 000008
【図６】
2019140101.tif 000009