(57)【要約】      （修正有）【課題】ポリマー層形成のための紫外線照射を行ってもＶＨＲの低下を起こさない液晶組成物、及び前記組成物を用いた高速応答且つ光耐性のある液晶ディスプレイの提供。【解決手段】（Ａ）下記式［Ｉ］のシクロヘキサン化合物、2019137753.tif 000064（式中、Ｒ、Ｒ’は、各々独立して炭素原子数１乃至６の直鎖状アルキル基を表す。）（Ｂ）上記シクロヘキサン化合物（Ａ）以外の化合物であって、かつ、液晶である化合物、（Ｃ）特定の重合性化合物を含有し、任意選択的に、（Ｄ）光重合開始剤を含有する液晶組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）  下記式［Ｉ］のシクロヘキサン化合物、
【化４６】
2019137753.tif 000055
（式中、Ｒ、Ｒ’は、各々独立して炭素原子数１乃至６の直鎖状アルキル基を表す。）
（Ｂ）  上記シクロヘキサン化合物（Ａ）以外の化合物であって、かつ、液晶である化合物、
（Ｃ）  下記式［ＩＩ］の重合性化合物
【化４７】
2019137753.tif 000056
（式中、Ｐ１、Ｐ２は、同一又は異なって、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、ビニル基、又はビニルオキシ基を表し、
Ｓｐ１、Ｓｐ２は、同一又は異なって、炭素原子数１乃至６の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレン基、炭素原子数１乃至６の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレンオキシ基、又は直接結合を表し、
Ｅは、単結合、−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−若しくは−ＣＨ＝ＣＨＣＯ−で連結されていてもよい炭素原子数１０乃至３２のアリーレン基を表す。）、および下記式［ＩＩＩ］の重合性化合物
【化４８】
2019137753.tif 000057
（式中、ＡおよびＢは、同一または異なって、Ｐ−Ｑ−、Ｈ、ハロゲン、ＳＦ５、ＮＯ２、炭素基または炭化水素基を表し、ただし、ＡおよびＢの少なくとも一方はＰ−Ｑ−を表し、
Ｐは重合性基を表し、
Ｑはスペーサー基または単結合を表し、
ｉ個のＬおよびｋ個のＮは、それぞれ同一または異なって、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−１，３−ジイル、ナフタレン−１，６−ジイル、ナフタレン−２，５−ジイルまたはナフタレン−２，７−ジイル（ただし、これらの基における１個以上のＣＨ基は窒素原子で置き換えられていてもよい）、シクロヘキサン−１，３−ジイル（ただし、１個以上の隣接していないＣＨ２基は酸素原子および／または硫黄原子で置き換えられていてもよい）、１，３−シクロヘキセニレン、ピペリジン−２，４−ジイル、ピペリジン−２，６−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，７−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，７−ジイルまたはインダン−２，４−ジイルを表し、ただし、これら全ての基は無置換であっても、Ｔにより単置換または多置換されていてもよく、ただし、ｉ＝ｋ＝１の場合、基ＬおよびＮの一方はＭに示される意味の１つも有してよく、
ｊ個のＭは、それぞれ同一または異なって、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−１，４−ジイルまたはナフタレン−２，６−ジイル（ただし、これらの基における１個以上のＣＨ基は窒素原子で置き換えられていてもよい）、シクロヘキサン−１，４−ジイル（ただし、１個以上の隣接していないＣＨ２基は酸素原子および／または硫黄原子で置き換えられていてもよい）、１，４−シクロヘキセニレン、ビシクロ［１．１．１］ペンタン−１，３−ジイル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、スピロ［３．３］ヘプタン−２，６−ジイル、ピペリジン−２，５−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、インダン−２，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、フルオレン−２，７−ジイルまたはオクタヒドロ−４，７−メタノインダン−２，５−ジイルを表し、ただし、これら全ての基は無置換であっても、Ｔにより単置換または多置換されていてもよく、また、Ｌに示される意味の１つを有してもよく、
Ｔは、Ｐ−Ｑ−、Ｈ、ＯＨ、ハロゲン、ＳＦ５、ＮＯ２、炭素基または炭化水素基を表し、
ｉ個のＷおよびｊ個のＺは、それぞれ同一または異なって、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−（ＣＨ２）ｎ−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−（ＣＦ２）ｎ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＵＶまたは単結合を表し、
ＵおよびＶは、それぞれ互いに独立に、Ｈまたは１〜１２個の炭素原子を有するアルキルを表し、
ｉおよびｋは、それぞれ互いに独立に、０または１を表し、ただし、ｉ＋ｋ＞０であり、
ｊは、０、１、２または３を表し、
ｎは、１、２、３または４を表す。）
からなる群より選択される少なくとも１種の重合性化合物
（ただし、重合性化合物（Ｃ）が式［ＩＩＩ］の重合性化合物である時は、シクロヘキサン化合物（Ａ）における式［Ｉ］のＲおよびＲ’は同時にｎ−プロピル基ではない。）
を含有する液晶組成物。
【請求項２】
更に、
（Ｄ）  光重合開始剤
を含有する、請求項１に記載の液晶組成物。
【請求項３】
重合性化合物（Ｃ）が式［ＩＩ］の重合性化合物である請求項１又は２に記載の液晶組成物。
【請求項４】
式［ＩＩ］においてＰ１およびＰ２がアクリロイルオキシ基を表す請求項３に記載の液晶組成物。
【請求項５】
重合性化合物（Ｃ）が、
下記式：
【化４９】
2019137753.tif 000058
【化５０】
2019137753.tif 000059
及び
【化５１】
2019137753.tif 000060
からなる群より選択される、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の液晶組成物。
【請求項６】
シクロヘキサン化合物（Ａ）を５−９０重量％含む、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の液晶組成物。
【請求項７】
液晶化合物（Ｂ）を５−９０重量％含む、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の液晶組成物。
【請求項８】
５重量％未満の重合性化合物（Ｃ）を含む、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の液晶組成物。
【請求項９】
８重量％未満の光重合開始剤（Ｄ）を含む、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の液晶組成物。
【請求項１０】
一対の基板と、
前記一対の基板の間に挟持され、液晶組成物を含有する液晶層と、
前記液晶層に当接し、前記液晶組成物の配向を制御する配向制御層と、を備え、
前記液晶組成物は、
（Ａ）  下記式［Ｉ］のシクロヘキサン化合物、
【化５２】
2019137753.tif 000061
（式中、Ｒ、Ｒ’は、各々独立して炭素原子数１乃至６の直鎖状アルキル基を表す。）
（Ｂ）  上記シクロヘキサン化合物（Ａ）以外の化合物であって、かつ、液晶である化合物、
（Ｃ）  下記式［ＩＩ］の重合性化合物
【化５３】
2019137753.tif 000062
（式中、Ｐ１、Ｐ２は、同一又は異なって、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、ビニル基、又はビニルオキシ基を表し、
Ｓｐ１、Ｓｐ２は、同一又は異なって、炭素原子数１乃至６の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレン基、炭素原子数１乃至６の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレンオキシ基、又は直接結合を表し、
Ｅは、単結合、−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−若しくは−ＣＨ＝ＣＨＣＯ−で連結されていてもよい炭素原子数１０乃至３２のアリーレン基を表す。）、および下記式［ＩＩＩ］の重合性化合物
【化５４】
2019137753.tif 000063
（式中、ＡおよびＢは、同一または異なって、Ｐ−Ｑ−、Ｈ、ハロゲン、ＳＦ５、ＮＯ２、炭素基または炭化水素基を表し、ただし、ＡおよびＢの少なくとも一方はＰ−Ｑ−を表し、
Ｐは重合性基を表し、
Ｑはスペーサー基または単結合を表し、
ｉ個のＬおよびｋ個のＮは、それぞれ同一または異なって、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−１，３−ジイル、ナフタレン−１，６−ジイル、ナフタレン−２，５−ジイルまたはナフタレン−２，７−ジイル（ただし、これらの基における１個以上のＣＨ基は窒素原子で置き換えられていてもよい）、シクロヘキサン−１，３−ジイル（ただし、１個以上の隣接していないＣＨ２基は酸素原子および／または硫黄原子で置き換えられていてもよい）、１，３−シクロヘキセニレン、ピペリジン−２，４−ジイル、ピペリジン−２，６−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，７−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，７−ジイルまたはインダン−２，４−ジイルを表し、ただし、これら全ての基は無置換であっても、Ｔにより単置換または多置換されていてもよく、ただし、ｉ＝ｋ＝１の場合、基ＬおよびＮの一方はＭに示される意味の１つも有してよく、
ｊ個のＭは、それぞれ同一または異なって、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−１，４−ジイルまたはナフタレン−２，６−ジイル（ただし、これらの基における１個以上のＣＨ基は窒素原子で置き換えられていてもよい）、シクロヘキサン−１，４−ジイル（ただし、１個以上の隣接していないＣＨ２基は酸素原子および／または硫黄原子で置き換えられていてもよい）、１，４−シクロヘキセニレン、ビシクロ［１．１．１］ペンタン−１，３−ジイル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、スピロ［３．３］ヘプタン−２，６−ジイル、ピペリジン−２，５−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、インダン−２，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、フルオレン−２，７−ジイルまたはオクタヒドロ−４，７−メタノインダン−２，５−ジイルを表し、ただし、これら全ての基は無置換であっても、Ｔにより単置換または多置換されていてもよく、また、Ｌに示される意味の１つを有してもよく、
Ｔは、Ｐ−Ｑ−、Ｈ、ＯＨ、ハロゲン、ＳＦ５、ＮＯ２、炭素基または炭化水素基を表し、
ｉ個のＷおよびｊ個のＺは、それぞれ同一または異なって、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−（ＣＨ２）ｎ−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−（ＣＦ２）ｎ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＵＶまたは単結合を表し、
ＵおよびＶは、それぞれ互いに独立に、Ｈまたは１〜１２個の炭素原子を有するアルキルを表し、
ｉおよびｋは、それぞれ互いに独立に、０または１を表し、ただし、ｉ＋ｋ＞０であり、
ｊは、０、１、２または３を表し、
ｎは、１、２、３または４を表す。）
からなる群より選択される少なくとも１種の重合性化合物
（ただし、重合性化合物（Ｃ）が式［ＩＩＩ］の重合性化合物である時は、シクロヘキサン化合物（Ａ）における式［Ｉ］のＲおよびＲ’は同時にｎ−プロピル基ではない。）
を含有する液晶組成物からなり、
前記配向制御層は、前記液晶層を形成する液晶組成物中に添加された重合性化合物および光重合開始剤が重合することによって形成された重合体からなることを特徴とする液晶ディスプレイ。
【請求項１１】
前記液晶ディスプレイにおいて、前記配向制御層と前記基板の間の少なくとも一方には、さらに配向膜を備えていることを特徴とする、請求項１０に記載の液晶ディスプレイ。
【請求項１２】
前記配向膜は、ポリイミド、ポリアミド、またはポリシロキサンからなる高分子化合物のいずれかであることを特徴とする、請求項１０又は１１に記載の液晶ディスプレイ。
【請求項１３】
前記配向膜は、ポリイミドであることを特徴とする、請求項１２に記載の液晶ディスプレイ。
【請求項１４】
前記液晶ディスプレイの表示モードはＴＮモード、ＩＰＳモード、ＦＦＳモード、（Ｍ）ＶＡモードのいずれかであることを特徴とする、請求項１０から１３に記載の液晶ディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特定のシクロヘキサン化合物と重合性化合物とを含有する液晶組成物、及び当該液晶組成物を用いた液晶ディスプレイに関する。 
【背景技術】
【０００２】
液晶化合物の特徴である光学異方性（Δｎ）（以下に「Δｎ」ということがある。）や誘電率異方性（Δε）（以下に「Δε」ということがある。）を利用した液晶表示素子は、これまでに多数作られており、時計を始め、電卓、測定機器、自動車用パネル、ワープロ、電子手帳、携帯電話、プリンター、コンピューター、ＴＶ等に利用されて来ている。この液晶表示素子に使用される液晶化合物には固有の液晶相が存在し、その相形態はネマチック相、スメクチック相及びコレステリック相に大別される。そのなかでも、ネマチック相が最も広く利用されている。
【０００３】
いずれの表示素子に用いられる液晶化合物も、水分、空気、熱、光等に対して安定であることが必要であるうえ、室温を中心としてできるだけ広い温度範囲で液晶相を示し、適切な誘電率異方性（Δε）と屈折率異方性（Δｎ）とを有し、応答速度が速く、低電圧駆動ができる特性などが必要となる。この特性を満たすためには、粘度が低く、低い閾値電圧を有する液晶が必要である。現在のところ単一化合物では上記のような条件をすべて満たす物質はなく、数種から、数十種の液晶化合物を混合して要求特性に合致させているのが現状である。さらに、近年の高精細ＴＶ、３Ｄ対応の表示等のため、さらなる応答速度の改良が求められている。
【０００４】
シクロヘキサン化合物を使用した応答性に優れたネマチック液晶組成物についても、多くの提案がなされている。例えば、形成できるプレチルト角が大きく、ストライプ・ドメインの発生率が顕著に低く、更に、化学的に安定で、低電圧駆動が可能であり、高時分割駆動に応えられる高速応答性に優れたネマチック液晶組成物（特許文献１）、所望の複屈折率の大きさに対し、駆動可能な温度範囲が広く、応答性に優れ、コントラストが良いネマチック液晶組成物を提供し、これを用いた、電気光学特性の改善されたＴＮ−ＬＣＤ、ＳＴＮ−ＬＣＤ、ＴＦＴ−ＬＣＤ等の液晶表示装置を提供するものとして新規なシクロヘキサン化合物であって、反強誘電状態から強誘電状態への応答速度が改善された反強誘電性液晶組成物（特許文献２）がある。また、シクロヘキサン環を有し、現在汎用されている液晶組成物に混合した際、粘度を上昇させず、しきい値電圧を効果的に低下させることができる液晶表示セルの材料がある（特許文献３）。しかし、これまでの各提案では、応答速度について満足できるものではなかった。
【０００５】
重合性化合物を用いて液晶材料に事前傾斜角（プレチルト）を持たせるＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）技術では、配向膜を形成したＴＦＴ基板と対向基板の間に液晶化合物、重合性化合物等を含む液晶組成物を充填した液晶セルを作製し、所定電圧を印加した状態で光照射を行い、液晶組成物中の重合性化合物を重合させることにより、配向膜上に配向制御層を形成し、電圧無印加時の液晶化合物分子にチルト角を付与するのが一般的である。この技術は、応答時間がＰＶＡ方式より優れていると言われている。また、液晶組成物を配向させる一方法として、感光性ポリイミド（ＰＩ）を予め基板に塗布して配向膜を形成した後、紫外光を斜め方向から照射してポリイミド分子を配向させ、その後に液晶組成物を導入してこれを配向させる方法があり、この技術も高い応答速度に特徴がある。また、液晶材料中に重合性化合物を含めて、この液晶組成物をポリイミドなどで構成される配向膜を形成していない液晶セルに注入し、紫外光を照射することにより重合性化合物を重合し、基板上に配向制御層を形成し液晶化合物分子を配向させる技術（以下ＰＩレス技術と称する）も開発されている。これらいずれの技術においても応答速度の更なる高速化が求められている。
【０００６】
従来、液晶組成物、特にネガ型液晶組成物には減粘剤としてアルケニル系の化合物が導入されてきた。しかし、このような液晶組成物を用いた液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）を長期にわたって使用した場合に焼き付きが発生するという問題があった。特にＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）技術では電圧保持率（ＶＨＲ）の低下により、焼き付きが発生し易かった。ＰＳＡ技術においては配向制御層形成のために光照射を行うのであるが、アルケニル系化合物の紫外光に対する耐性が低く、光曝露により開裂等の劣化を起こすためと考えられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平６−５６７１７
【特許文献２】特開平７−１２６２０５
【特許文献３】特開２０１２−１８０２８４
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の解決しようとする課題は、ポリマー層形成のための紫外線照射を行ってもＶＨＲの低下を起こさない液晶組成物、及びそのような液晶組成物を用いた高速応答性で高耐光性の液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は以下を包含する。
［１］  （Ａ）  下記式［Ｉ］のシクロヘキサン化合物、
【化１】
2019137753.tif 000002
（式中、Ｒ、Ｒ’は、各々独立して炭素原子数１乃至６の直鎖状アルキル基を表す。）
（Ｂ）  上記シクロヘキサン化合物（Ａ）以外の化合物であって、かつ、液晶である化合物、
（Ｃ）  下記式［ＩＩ］の重合性化合物
【化２】
2019137753.tif 000003
（式中、Ｐ１、Ｐ２は、同一又は異なって、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、ビニル基、又はビニルオキシ基を表し、
Ｓｐ１、Ｓｐ２は、同一又は異なって、炭素原子数１乃至６の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレン基、炭素原子数１乃至６の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレンオキシ基、又は直接結合を表し、
Ｅは、単結合、−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−若しくは−ＣＨ＝ＣＨＣＯ−で連結されていてもよい炭素原子数１０乃至３２のアリーレン基を表す。）、および下記式［ＩＩＩ］の重合性化合物
【化３】
2019137753.tif 000004
（式中、ＡおよびＢは、同一または異なって、Ｐ−Ｑ−、Ｈ、ハロゲン、ＳＦ５、ＮＯ２、炭素基または炭化水素基を表し、ただし、ＡおよびＢの少なくとも一方はＰ−Ｑ−を表し、
Ｐは重合性基を表し、
Ｑはスペーサー基または単結合を表し、
ｉ個のＬおよびｋ個のＮは、それぞれ同一または異なって、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−１，３−ジイル、ナフタレン−１，６−ジイル、ナフタレン−２，５−ジイルまたはナフタレン−２，７−ジイル（ただし、これらの基における１個以上のＣＨ基は窒素原子で置き換えられていてもよい）、シクロヘキサン−１，３−ジイル（ただし、１個以上の隣接していないＣＨ２基は酸素原子および／または硫黄原子で置き換えられていてもよい）、１，３−シクロヘキセニレン、ピペリジン−２，４−ジイル、ピペリジン−２，６−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，７−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，７−ジイルまたはインダン−２，４−ジイルを表し、ただし、これら全ての基は無置換であっても、Ｔにより単置換または多置換されていてもよく、ただし、ｉ＝ｋ＝１の場合、基ＬおよびＮの一方はＭに示される意味の１つも有してよく、
ｊ個のＭは、それぞれ同一または異なって、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−１，４−ジイルまたはナフタレン−２，６−ジイル（ただし、これらの基における１個以上のＣＨ基は窒素原子で置き換えられていてもよい）、シクロヘキサン−１，４−ジイル（ただし、１個以上の隣接していないＣＨ２基は酸素原子および／または硫黄原子で置き換えられていてもよい）、１，４−シクロヘキセニレン、ビシクロ［１．１．１］ペンタン−１，３−ジイル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、スピロ［３．３］ヘプタン−２，６−ジイル、ピペリジン−２，５−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、インダン−２，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、フルオレン−２，７−ジイルまたはオクタヒドロ−４，７−メタノインダン−２，５−ジイルを表し、ただし、これら全ての基は無置換であっても、Ｔにより単置換または多置換されていてもよく、また、Ｌに示される意味の１つを有してもよく、
Ｔは、Ｐ−Ｑ−、Ｈ、ＯＨ、ハロゲン、ＳＦ５、ＮＯ２、炭素基または炭化水素基を表し、
ｉ個のＷおよびｊ個のＺは、それぞれ同一または異なって、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−（ＣＨ２）ｎ−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−（ＣＦ２）ｎ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＵＶまたは単結合を表し、
ＵおよびＶは、それぞれ互いに独立に、Ｈまたは１〜１２個の炭素原子を有するアルキルを表し、
ｉおよびｋは、それぞれ互いに独立に、０または１を表し、ただし、ｉ＋ｋ＞０であり、
ｊは、０、１、２または３を表し、
ｎは、１、２、３または４を表す。）
からなる群より選択される少なくとも１種の重合性化合物
（ただし、重合性化合物（Ｃ）が式［ＩＩＩ］の重合性化合物である時は、シクロヘキサン化合物（Ａ）における式［Ｉ］のＲおよびＲ’は同時にｎ−プロピル基ではない。）
を含有する液晶組成物。
［２］  更に、
（Ｄ）  光重合開始剤
を含有する、請求項１に記載の液晶組成物。
［３］  重合性化合物（Ｃ）が式［ＩＩ］の重合性化合物である請求項１又は２に記載の液晶組成物。
［４］  式［ＩＩ］においてＰ１およびＰ２がアクリロイルオキシ基を表す請求項３に記載の液晶組成物。
［５］  重合性化合物（Ｃ）が、
下記式：
【化４】
2019137753.tif 000005
【化５】
2019137753.tif 000006
及び
【化６】
2019137753.tif 000007
からなる群より選択される、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の液晶組成物。
［６］  シクロヘキサン化合物（Ａ）を５−９０重量％含む、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の液晶組成物。
［７］  前記シクロヘキサン化合物（Ａ）以外の化合物であって、かつ、液晶である化合物（Ｂ）を５−９０重量％含む、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の液晶組成物。
［８］  ５重量％未満の重合性化合物（Ｃ）を含む、［１］乃至［７］のいずれか一項に記載の液晶組成物。
［９］  ８重量％未満の光重合開始剤（Ｄ）を含む、［１］乃至［８］のいずれか一項に記載の液晶組成物。
［１０］  一対の基板と、
前記一対の基板の間に挟持され、液晶組成物を含有する液晶層と、
前記液晶層に当接し、前記液晶組成物の配向を制御する配向制御層と、を備え、
前記液晶組成物は、［１］から［９］のいずれかに記載の液晶組成物からなり、
前記配向制御層は、前記液晶層を形成する液晶組成物中に添加された重合性モノマーおよび光重合開始剤が重合することによって形成された重合体からなることを特徴とする液晶ディスプレイ。
［１１］  前記液晶ディスプレイにおいて、前記配向制御層と前記基板の間の少なくとも一方には、さらに配向膜を備えていることを特徴とする、［１０］に記載の液晶ディスプレイ。
［１２］  前記配向膜は、ポリイミド、ポリアミド、またはポリシロキサンのいずれかであることを特徴とする、［１０］又は［１１］に記載の液晶ディスプレイ。
［１３］  前記配向膜は、ポリイミドであることを特徴とする、［１２］に記載の液晶ディスプレイ。
［１４］  前記液晶ディスプレイの表示モードはＴＮモード、ＩＰＳモード、ＦＦＳモード、（Ｍ）ＶＡモードのいずれかであることを特徴とする、［１０］から［１３］に記載の液晶ディスプレイ。
【発明の効果】
【００１０】
光耐性と液晶組成物の減粘効果とを併せもつ上記式［Ｉ］のシクロヘキサン化合物を減粘剤として、光耐性の低いアルケニル化合物に代えて、液晶組成物中に導入することにより、高速応答、且つ光耐性のある液晶ディスプレイの作製が可能となる。更に、ポリマー層形成を紫外線照射により行うＰＳＡ技術やＰＩレス技術には光耐性の低い液晶組成物を使用することはできないが、上記式［Ｉ］のシクロヘキサン化合物は光安定性を有するため、これらの技術においても有効に活用できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一実施形態である液晶セルの概略図である。
【図２】本発明の一実施形態である液晶セルの概略図である。
【図３】本発明の他の実施形態である液晶セルの概略図である。
【図４】本発明の他の実施形態である液晶セルの概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本明細書における用語の使い方は次のとおりとする。液晶組成物とは、ネマチック相、スメクチック相などの液晶相を有する液晶化合物の１種又は２種以上の混合物、及び液晶相を有する１種又は２種以上の液晶化合物と１種又は２種以上の液晶相を有さない化合物の混合物を意味する。液晶表示素子とは、液晶表示パネル又は液体表示モジュールを意味する。
【００１３】
［（Ａ）  式［Ｉ］のシクロヘキサン化合物］
本発明に係る液晶組成物は、下記式［Ｉ］のシクロヘキサン化合物（Ａ）、
【化７】
2019137753.tif 000008
（式中、Ｒ、Ｒ’は、各々独立して炭素原子数１乃至６の直鎖状アルキル基を表す。）
を含む。
【００１４】
炭素原子数１乃至６の直鎖状アルキル基は具体的には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシルであり、好ましくは、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチルである。
【００１５】
式［Ｉ］のシクロヘキサン化合物（Ａ）の具体例をいくつか挙げると以下のとおりである。
【化８】
2019137753.tif 000009
【化９】
2019137753.tif 000010
【化１０】
2019137753.tif 000011
【００１６】
式［Ｉ］のシクロヘキサン化合物（Ａ）は、複数の立体異性体の混合物として存在してもよい。
【００１７】
式［Ｉ］のシクロヘキサン化合物（Ａ）を製造する方法は、特に限定されるものではないが、例えば下記に示すスキームで表わされる３ＨＦＦＨ３の製造方法に準じて製造することができる。詳細は、例えば、特願２０１６−１７７２７４にも記載されている。
【００１８】
【化１１】
2019137753.tif 000012
上記スキームにおいてＺはハロゲン原子を表す。
【００１９】
［（Ｂ）  上記シクロヘキサン化合物（Ａ）以外の化合物であって、かつ、液晶である化合物］
本発明に係る液晶組成物は、上記シクロヘキサン化合物（Ａ）以外の化合物であって、かつ、液晶である化合物（Ｂ）を含む。なお、以下の記載では、上記シクロヘキサン化合物（Ａ）以外の化合物であって、かつ、液晶である化合物（Ｂ）を「母液晶」と称する場合もある。
【００２０】
液晶化合物（Ｂ）の種類は上記シクロヘキサン化合物（Ａ）以外の化合物であって、かつ、液晶である化合物であれば特に限定されないが、次式（２）及び（３）で表わされる各液晶化合物群の少なくとも１種類の液晶化合物を例示することができる。
【００２１】
【化１２】
2019137753.tif 000013
（式（２）中、Ｒ１は炭素原子数１乃至６の直鎖状アルキル基を表し、環Ｉはシクロヘキサン環、又はベンゼン環を表し、環Ｊはシクロヘキサン環、又は隣り合う２つの炭素原子上にハロゲン原子を有していてもよいベンゼン環を表し、Ｒ２は炭素原子数１乃至６の直鎖状アルキル基、又は炭素原子数１乃至６の直鎖状アルコキシ基を表す。）
【００２２】
【化１３】
2019137753.tif 000014
（式（３）中、Ｒ３は炭素原子数１乃至６の直鎖状アルキル基を表し、環Ｉはシクロヘキサン環、又はベンゼン環を表し、環Ｊはシクロヘキサン環、又は隣り合う２つの炭素原子上にハロゲン原子を有していてもよいベンゼン環を表し、環Ｋは隣り合う２つの炭素原子上にハロゲン原子を有していてもよいベンゼン環を表し、Ｒ４は炭素原子数１乃至６の直鎖状アルキル基、又は炭素原子数１乃至６の直鎖状アルコキシ基を表す。）
【００２３】
「ハロゲン原子」は、フッ素、塩素、臭素、又はヨウ素を意味し、好ましくはフッ素である。
【００２４】
具体的な液晶化合物として若干を例示すれば以下のとおりである。
【化１４】
2019137753.tif 000015
【化１５】
2019137753.tif 000016
【化１６】
2019137753.tif 000017
【化１７】
2019137753.tif 000018
【化１８】
2019137753.tif 000019
【化１９】
2019137753.tif 000020
【化２０】
2019137753.tif 000021
【化２１】
2019137753.tif 000022
【化２２】
2019137753.tif 000023
【化２３】
2019137753.tif 000024
【化２４】
2019137753.tif 000025
【化２５】
2019137753.tif 000026
【化２６】
2019137753.tif 000027
【００２５】
上記以外の液晶化合物は後記する実施例に示す。これらの液晶化合物を任意の割合で配合することにより、本発明の液晶組成物の母液晶を構成する。母液晶中のハロゲン原子を含有しない液晶化合物（Ｂ）対ハロゲン原子を含有する液晶化合物（Ｂ）の重量比率の下限は、好ましくは１：２０、より好ましくは１：１５であり、上限は、好ましくは２：１、より好ましくは１：１である。そして好ましくは、液晶化合物（Ｂ）の合計量を液晶組成物の５−９０重量％とする。
【００２６】
［（Ｃ）  重合性化合物］
本発明に係る液晶組成物は、下記式［ＩＩ］の重合性化合物および下記式［ＩＩＩ］の重合性化合物からなる群より選択される少なくとも１種の重合性化合物を含有する。
【００２７】
式［ＩＩ］の重合性化合物（Ｃ）は、
【化２７】
2019137753.tif 000028
（式中、Ｐ１、Ｐ２は、同一又は異なって、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、ビニル基、又はビニルオキシ基を表し、
Ｓｐ１、Ｓｐ２は、同一又は異なって、炭素原子数１乃至６の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレン基、炭素原子数１乃至６の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレンオキシ基、又は直接結合を表し、
Ｅは、単結合、−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−若しくは−ＣＨ＝ＣＨＣＯ−で連結されていてもよい炭素原子数１０乃至３２のアリーレン基を表す。）
によって表される。
【００２８】
炭素原子数１乃至６の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレン基としては、例えば、メチレン、エチレン、１，３−プロピレン、１，２−プロピレン、２−メチル−１，３−プロピレン、２−メチル−１，２−プロピレン、１，４−ブチレン、１，３−ブチレン、１，２−ブチレン、１，２−シクロペンチレン、１，３−シクロペンチレン、
１，４−シクロヘキシレンなどである。
【００２９】
炭素原子数１乃至６の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレンオキシ基としては、例えば、オキシメチレン、オキシエチレン、オキシプロピレン、オキシブチレン、オキシペンチレン、オキシヘキシレン、オキシシクロペンチレン、オキシシクロヘキシレンなどである。
【００３０】
単結合、−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−若しくは−ＣＨ＝ＣＨＣＯ−で連結されていてもよい炭素原子数１０乃至３２のアリーレン基としては、例えば、ナフタレンジイル、フェナントレンジイル、アントラセンジイル、又は単結合、−ＣＯＣＨ＝ＣＨ−若しくは−ＣＨ＝ＣＨＣＯ−で中断されていてもよいビフェニレンなどである。
【００３１】
若干を化学構造式で示すと以下のとおりである。
【化２８】
2019137753.tif 000029
【００３２】
式［ＩＩＩ］の重合性化合物（Ｃ）は、下記式（１２）：
【化２９】
2019137753.tif 000030
（式（１２）中、ＡおよびＢは、同一または異なって、Ｐ−Ｑ−、Ｈ、ハロゲン、ＳＦ５、ＮＯ２、炭素基または炭化水素基を表し、ただし、ＡおよびＢの少なくとも一方はＰ−Ｑ−を表し、
Ｐは重合性基を表し、
Ｑはスペーサー基または単結合を表し、
ｉ個のＬおよびｋ個のＮは、それぞれ同一または異なって、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−１，３−ジイル、ナフタレン−１，６−ジイル、ナフタレン−２，５−ジイルまたはナフタレン−２，７−ジイル（ただし、これらの基における１個以上のＣＨ基は窒素原子で置き換えられていてもよい）、シクロヘキサン−１，３−ジイル（ただし、１個以上の隣接していないＣＨ２基は酸素原子および／または硫黄原子で置き換えられていてもよい）、１，３−シクロヘキセニレン、ピペリジン−２，４−ジイル、ピペリジン−２，６−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，７−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，７−ジイルまたはインダン−２，４−ジイルを表し、ただし、これら全ての基は無置換であっても、Ｔにより単置換または多置換されていてもよく、ただし、ｉ＝ｋ＝１の場合、基ＬおよびＮの一方はＭに示される意味の１つも有してよく、
ｊ個のＭは、それぞれ同一または異なって、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−１，４−ジイルまたはナフタレン−２，６−ジイル（ただし、これらの基における１個以上のＣＨ基は窒素原子で置き換えられていてもよい）、シクロヘキサン−１，４−ジイル（ただし、１個以上の隣接していないＣＨ２基は酸素原子および／または硫黄原子で置き換えられていてもよい）、１，４−シクロヘキセニレン、ビシクロ［１．１．１］ペンタン−１，３−ジイル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、スピロ［３．３］ヘプタン−２，６−ジイル、ピペリジン−２，５−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、インダン−２，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、フルオレン−２，７−ジイルまたはオクタヒドロ−４，７−メタノインダン−２，５−ジイルを表し、ただし、これら全ての基は無置換であっても、Ｔにより単置換または多置換されていてもよく、また、Ｌに示される意味の１つを有してもよく、
Ｔは、Ｐ−Ｑ−、Ｈ、ＯＨ、ハロゲン、ＳＦ５、ＮＯ２、炭素基または炭化水素基を表し、
ｉ個のＷおよびｊ個のＺは、それぞれ同一または異なって、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−（ＣＨ２）ｎ−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−（ＣＦ２）ｎ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＵＶまたは単結合を表し、
ＵおよびＶは、それぞれ互いに独立に、Ｈまたは１〜１２個の炭素原子を有するアルキルを表し、
ｉおよびｋは、それぞれ互いに独立に、０または１を表し、ただし、ｉ＋ｋ＞０であり、
ｊは、０、１、２または３を表し、
ｎは、１、２、３または４を表す。）
で表される。
【００３３】
特に好ましい式（１２）の重合性化合物は、
Ｌ、Ｍ、Ｎ、Ｗ、Ｚ、Ｐ、Ｑ、ｉ、ｊ、ｋおよびｎは上記の意味を有し、
Ｔは、Ｐ−Ｑ−、ＯＨ、ＣＨ２ＯＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、−ＣＮ、−ＮＯ２、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｘ）２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｙ１、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒｘ、−Ｎ（Ｒｘ）２、置換されていてもよいシリル、置換されていてもよい６〜２０個の炭素原子を有するアリール、または１〜２５個の炭素原子を有する直鎖状または分岐状のアルキル、アルコキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシを表し、但し、１個以上の水素原子はＦ、ＣｌまたはＰ−Ｑ−で置き換えられていてもよく、
Ｙ１は、ハロゲンを表し、
Ｒｘは、Ｐ−Ｑ−、Ｈ、ハロゲン、１〜２５個の炭素原子を有する直鎖状、分岐状または環状のアルキル（但し、１個以上の隣接していないＣＨ２基は、酸素原子および／または硫黄原子が互いに直接連結しないようにして、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−で置き換えられていてもよく、また、１個以上の水素原子はＦ、ＣｌまたはＰ−Ｑ−で置き換えられていてもよい）、置換されていてもよい６〜４０個の炭素原子を有するアリールまたはアリールオキシ基、または置換されていてもよい２〜４０個の炭素原子を有するヘテロアリールまたはヘテロアリールオキシ基を表し、
ＡおよびＢは、Ｐ−Ｑ−、Ｈ、上に定義したとおりのＴ、１〜２５個の炭素原子を有する直鎖状または分岐状のアルキルを表し、但し、１個以上の隣接していないＣＨ２基は、それぞれ互いに独立に、酸素原子および／または硫黄原子が互いに直接連結しないようにして、−Ｃ（Ｒｘ）＝Ｃ（Ｒｘ）−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｎ（Ｒｘ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−で置き換えられていてもよく、また、１個以上の水素原子は、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮまたはＰ−Ｑ−で置き換えられていてもよく、但し、基ＡおよびＢの少なくとも一方はＰ−Ｑ−であるものである。
【００３４】
好ましくは、ＡおよびＢは、同一または異なって、基Ｐ−Ｑ−を表す。
好ましくは、ＡおよびＢは、同一または異なって、基Ｐ−Ｑ−を表し、但し、基Ｑの１つは単結合を表す。
好ましくは、ＡおよびＢの一方はＰ−Ｑ−を表し、他方は上に定義したとおりのＴ、１〜２５個の炭素原子を有する直鎖状または分岐状のアルキルを表し、但し、１個以上の隣接していないＣＨ２基は、それぞれ互いに独立に、酸素原子および／または硫黄原子が互いに直接連結しないようにして、−Ｃ（Ｒｘ）＝Ｃ（Ｒｘ）−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｎ（Ｒｘ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−で置き換えられていてもよく、また、１個以上の水素原子は、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＮまたはＰ−Ｑ−で置き換えられていてもよい。
好ましくは、Ｑは単結合を表す。
好ましくは、ＷおよびＺは単結合を表す。
好ましくは、Ｍは、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−１，４−ジイルまたはナフタレン−２，６−ジイル（但し、これらの基における１個以上のＣＨ基は窒素原子で置き換えられていてもよい）、シクロヘキサン−１，４−ジイル（但し、１個以上の隣接していないＣＨ２基は酸素原子および／または硫黄原子で置き換えられていてもよい）、１，４−シクロヘキセニレン、ビシクロ［１．１．１］ペンタン−１，３−ジイル、ビシクロ［２．２．２］オクタン−１，４−ジイル、スピロ［３．３］ヘプタン−２，６−ジイル、ピペリジン−２，５−ジイル、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル、インダン−２，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、フルオレン−２，７−ジイルまたはオクタヒドロ−４，７−メタノインダン−２，５−ジイルより選択され、但し、これら全ての基は無置換であっても、Ｔにより単置換または多置換されていてもよい。
好ましくは、Ｍは、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−１，４−ジイルまたはナフタレン−２，６−ジイル（但し、これらの基における１個以上のＣＨ基は窒素原子で置き換えられていてもよい）より選択され、但し、これら全ての基は無置換であっても、Ｔにより単置換または多置換されていてもよい。
ＬおよびＮは、１，３−フェニレン、１，４−フェニレン、ナフタレン−１，３−ジイル、ナフタレン−１，６−ジイル、ナフタレン−２，５−ジイルおよびナフタレン−２，７−ジイル（但し、これらの基における１個以上のＣＨ基は窒素原子で置き換えられていてもよい）より選択され、ただし、これら全ての基は無置換であっても、Ｔにより単置換または多置換されていてもよい。
好ましくは、隣接する環基Ｌ、Ｍ、Ｎまたは対応する架橋基Ｗ、Ｚにメタ位またはパラ位で連結されている基Ｌおよび／またはＮは、Ｐ−Ｑ−を表す１個以上の置換基Ｔを有する。
好ましくは、ｉ＝ｋ＝１、および、ｊ＝０、１または２である。
好ましくは、ｉ＝ｊ＝０、ｋ＝１である。
【００３５】
「ハロゲン」は、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒまたはＩを表す。
【００３６】
重合性基Ｐは、例えば、フリーラジカルまたはイオン性連鎖重合、重付加または重縮合などの重合反応に適するか、または、例えば、ポリマー主鎖上への付加または縮合といったポリマー類似反応に適する基である。特に好ましくは、連鎖重合のための基、特に、Ｃ＝Ｃ二重結合またはＣ≡Ｃ三重結合を含有するもの、および、例えば、オキセタンまたはエポキシ基などの開環重合に適する基である。
【００３７】
基Ｐは、好ましくは、ＣＨ２＝ＣＷ１−ＣＯＯ−、ＣＨ２＝ＣＷ１−ＣＯ−、
【００３８】
【化３０】
2019137753.tif 000031
ＣＨ２＝ＣＷ２−（Ｏ）ｋ３−、ＣＷ１＝ＣＨ−ＣＯ−（Ｏ）ｋ３−、ＣＷ１＝ＣＨ−ＣＯ−ＮＨ−、ＣＨ２＝ＣＷ１−ＣＯ−ＮＨ−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−Ｏ−、（ＣＨ２＝ＣＨ）２ＣＨ−ＯＣＯ−、（ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２）２ＣＨ−ＯＣＯ−、（ＣＨ２＝ＣＨ）２ＣＨ−Ｏ−、（ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２）２Ｎ−、（ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２）２Ｎ−ＣＯ−、ＨＯ−ＣＷ２Ｗ３−、ＨＳ−ＣＷ２Ｗ３−、ＨＷ２Ｎ−、ＨＯ−ＣＷ２Ｗ３−ＮＨ−、ＣＨ２＝ＣＷ１−ＣＯ−ＮＨ−、ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＯＯ）ｋ１−Ｐｈｅ−（Ｏ）ｋ２−、ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＯ）ｋ１−Ｐｈｅ−（Ｏ）ｋ２−、Ｐｈｅ−ＣＨ＝ＣＨ−、ＨＯＯＣ−、ＯＣＮ−およびＷ４Ｗ５Ｗ６Ｓｉ−より選択され、式中、Ｗ１は、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、ＣＮ、ＣＦ３、フェニルまたは１〜５個の炭素原子を有するアルキルを表し、特に、Ｈ、Ｆ、ＣｌまたはＣＨ３であり、Ｗ２およびＷ３は、それぞれ互いに独立に、Ｈまたは１〜５個の炭素原子を有するアルキルを表し、特に、Ｈ、メチル、エチルまたはｎ−プロピルであり、Ｗ４、Ｗ５およびＷ６は、それぞれ互いに独立に、Ｃｌ、１〜５個の炭素原子を有するオキサアルキルまたはオキサカルボニルアルキルを表し、Ｗ７およびＷ８は、それぞれ互いに独立に、Ｈ、Ｃｌまたは１〜５個の炭素原子を有するアルキルを表し、Ｐｈｅは、上に定義したとおりの基Ｔの１個以上で置換されていてもよい１，３−フェニレンまたは１，４−フェニレンを表し、ｋ１、ｋ２およびｋ３は、それぞれ互いに独立に、０または１を表し、ｋ３は、好ましくは、１を表す。
【００３９】
特に好ましい基Ｐは、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＯＯ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＯＯ−、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝ＣＨ−Ｏ−、（ＣＨ２＝ＣＨ）２ＣＨ−ＯＣＯ−、（ＣＨ２＝ＣＨ）２ＣＨ−Ｏ−、
【００４０】
【化３１】
2019137753.tif 000032
であり、特に、ビニルオキシ、アクリレート、メタクリレート、フルオロアクリレート、
クロロアクリレート、オキセタンおよびエポキシドである。
【００４１】
Ｑにおけるスペーサー基は当業者には公知であり、例えば、Ｐｕｒｅ  Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．７３巻（５号）、８８８頁（２００１年）およびＣ．Ｔｓｃｈｉｅｒｓｋｅ、Ｇ．Ｐｅｌｚｌ、Ｓ．Ｄｉｅｌｅ、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．２００４年、１１６巻、６３４０〜６３６８頁に記載がある。特に断らない限り、スペーサー基は、反応性メソゲン化合物（以下「ＲＭ」と称することもある）中でメソゲン基と重合性基（１個または複数）とを互いに連結している屈曲性基を表す。
【００４２】
メソゲン基は当業者には公知であり、文献に記載されており、引力および斥力的相互作用の異方性により、低分子量または高分子物質中で液晶（ＬＣ）相の発生に本質的に寄与する基を表す。メソゲン基を含有する液晶化合物（メソゲン化合物）は、それ自身では必ずしも液晶相を有する必要はない。また、他の化合物と混合後および／または重合後のみに、メソゲン化合物が液晶相挙動を示すことも可能である。典型的なメソゲン基は、例えば、剛直な棒状または円盤状の形状の単位である。メソゲン化合物または液晶化合物に関して使用される用語および定義の概説が、Ｐｕｒｅ  Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．７３巻（５号）、８８８頁（２００１年）およびＣ．Ｔｓｃｈｉｅｒｓｋｅ、Ｇ．Ｐｅｌｚｌ、Ｓ．Ｄｉｅｌｅ、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．２００４年、１１６巻、６３４０〜６３６８頁に記載されている。
【００４３】
反応性メソゲン（ＲＭ）は、メソゲン基および重合に適した１個以上の官能基（重合性基すなわちＰ）を含有する重合性化合物を表す。
【００４４】
スペーサー基は、好ましくは、基「Ｐ−Ｑ−」が式「Ｐ−Ｑ’−Ｘ’−」に合致するように式Ｑ’−Ｘ’より選択され、
ここでＱ’は、１〜２０個、好ましくは１〜１２個の炭素原子を有するアルキレンを表し、ただし、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＩまたはＣＮで単置換または多置換されていてもよく、かつ、１個以上の隣接していないＣＨ２基は、酸素原子および／または硫黄原子が互いに直接連結しないようにして、それぞれ互いに独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ０−、−ＳｉＲ０Ｒ００−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＮＲ０−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ０−、−ＮＲ０−ＣＯ−ＮＲ０−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−で置き換えられていてもよく、
Ｘ’は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＲ０−、−ＮＲ０−ＣＯ−、−ＮＲ０−ＣＯ−ＮＲ０−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝ＣＲ０−、−ＣＹ２＝ＣＹ３−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−または単結合を表し、
Ｒ０およびＲ００は、それぞれ互いに独立に、Ｈまたは１〜１２個の炭素原子を有するアルキルを表し、および
Ｙ２およびＹ３は、それぞれ互いに独立に、Ｈ、Ｆ、ＣｌまたはＣＮを表す。
【００４５】
Ｘ’は、好ましくは、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、−ＣＯ−ＮＲ０−、−ＮＲ０−ＣＯ−、−ＮＲ０−ＣＯ−ＮＲ０−または単結合である。
【００４６】
典型的なＱ’は、例えば、−（ＣＨ２）ｐ１−、−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｑ１−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２−または−（ＳｉＲ０Ｒ００−Ｏ）ｐ１−であり、式中、ｐ１は１〜１２の整数、ｑ１は１〜３の整数、およびＲ０およびＲ００は上記の意味を有する。
【００４７】
特に好ましい基−Ｘ’−Ｑ’−は、−（ＣＨ２）ｐ１−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｐ１−、−ＯＣＯ−（ＣＨ２）ｐ１−、−ＯＣＯＯ−（ＣＨ２）ｐ１−である。
【００４８】
特に好ましい基Ｑ’は、例えば、いずれの場合も直鎖状のエチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、ノニレン、デシレン、ウンデシレン、ドデシレン、オクタデシレン、エチレンオキシエチレン、メチレンオキシブチレン、エチレンチオエチレン、エチレン−Ｎ−メチルイミノエチレン、１−メチルアルキレン、エテニレン、プロペニレンおよびブテニレンである。
【００４９】
「炭素基」とは、少なくとも１個の炭素原子を含有する一価または多価の有機基であって、更に原子を含有していないか（例えば、−Ｃ≡Ｃ−など）、または、任意選択的に、例えばＮ、Ｏ、Ｓ、Ｐ、Ｓｉ、Ｓｅ、Ａｓ、ＴｅまたはＧｅなどの原子の１個以上を更に含有している（例えば、カルボニルなど）ものをいう。「炭化水素基」とは、炭素基であって、更に１個以上の水素原子を含有し、任意選択的に、例えばＮ、Ｏ、Ｓ、Ｐ、Ｓｉ、Ｓｅ、Ａｓ、ＴｅまたはＧｅなどのヘテロ原子の１個以上を含有してもよいものをいう。
【００５０】
炭素基または炭化水素基は、飽和基であっても、不飽和基であってもよい。不飽和基は、例えば、アリール、アルケニルまたはアルキニル基である。３個より多い炭素原子を有する炭素基または炭化水素基は、直鎖状、分岐状および／または環状のいずれでもよく、また、スピロ結合または縮合環を有していてもよい。
【００５１】
好ましい炭素基および炭化水素基は、置換されていてもよい１〜４０個、好ましくは１〜２５個、特に好ましくは１〜１８個の炭素原子を有するアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシおよびアルコキシカルボニルオキシ、置換されていてもよい６〜４０個、好ましくは６〜２５個の炭素原子を有するアリールまたはアリールオキシ、または置換されていてもよい６〜４０個、好ましくは６〜２５個の炭素原子を有するアルキルアリール、アリールアルキル、アルキルアリールオキシ、アリールアルキルオキシ、アリールカルボニル、アリールオキシカルボニル、アリールカルボニルオキシおよびアリールオキシカルボニルオキシである。
【００５２】
更に好ましい炭素基および炭化水素基は、Ｃ１〜Ｃ４０アルキル、Ｃ２〜Ｃ４０アルケニル、Ｃ２〜Ｃ４０アルキニル、Ｃ３〜Ｃ４０アリル、Ｃ４〜Ｃ４０アルキルジエニル、Ｃ４〜Ｃ４０ポリエニル、Ｃ６〜Ｃ４０アリール、Ｃ６〜Ｃ４０アルキルアリール、Ｃ６〜Ｃ４０アリールアルキル、Ｃ６〜Ｃ４０アルキルアリールオキシ、Ｃ６〜Ｃ４０アリールアルキルオキシ、Ｃ２〜Ｃ４０ヘテロアリール、Ｃ４〜Ｃ４０シクロアルキル、Ｃ４〜Ｃ４０シクロアルケニルなどである。特に好ましくは、Ｃ１〜Ｃ２２アルキル、Ｃ２〜Ｃ２２アルケニル、Ｃ２〜Ｃ２２アルキニル、Ｃ３〜Ｃ２２アリル、Ｃ４〜Ｃ２２アルキルジエニル、Ｃ６〜Ｃ１２アリール、Ｃ６〜Ｃ２０アリールアルキルおよびＣ２〜Ｃ２０ヘテロアリールである。
【００５３】
更に好ましい炭素基および炭化水素基は、１〜４０個、好ましくは１〜２５個の炭素原子を有する直鎖状、分岐状または環状のアルキル基であり、無置換であるか、または、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＩまたはＣＮで単置換または多置換されており、ただし、１個以上の隣接していないＣＨ２基は、酸素原子および／または硫黄原子が互いに直接連結しないようにして、それぞれ互いに独立に、−Ｃ（Ｒｘ）＝Ｃ（Ｒｘ）−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｎ（Ｒｘ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−で置き換えられていてもよい。
【００５４】
Ｒｘは、好ましくは、Ｈ、ハロゲン、１〜２５個の炭素原子を有する直鎖状、分岐状または環状アルキル鎖（但し、１個以上の隣接していない炭素原子は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−で置き換えられていてもよく、１個以上の水素原子はフッ素で置き換えられていてもよい）、６〜４０個の炭素原子を有する置換されていてもよいアリールまたはアリールオキシ基、または５〜４０個の炭素原子を有する置換されていてもよいヘテロアリールまたはヘテロアリールオキシ基を表す。
【００５５】
「アルキル」、「アリール」、「ヘテロアリール」などは、多価の基、例えば、アルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレンなども包含するものとする。
【００５６】
「アリール」は、芳香族炭素基、またはそれらから誘導される基をいう。「ヘテロアリール」は、１個以上のヘテロ原子を含有する、上の定義の通りの「アリール」をいう。
【００５７】
好ましいアルキル基は、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、２−メチルブチル、ｎ−ペンチル、ｓ−ペンチル、シクロペンチル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、２−エチルヘキシル、ｎ−ヘプチル、シクロヘプチル、ｎ−オクチル、シクロオクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、ドデカニル、トリフルオロメチル、パーフルオロ−ｎ−ブチル、２，２，２−トリフルオロエチル、パーフルオロオクチル、パーフルオロヘキシルなどである。
【００５８】
好ましいアルケニル基は、例えば、エテニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、シクロペンテニル、ヘキセニル、シクロヘキセニル、ヘプテニル、シクロヘプテニル、オクテニル、シクロオクテニルなどである。
【００５９】
好ましいアルキニル基は、例えば、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、オクチニルなどである。
【００６０】
好ましいアルコキシ基は、例えば、メトキシ、エトキシ、２−メトキシエトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｉ−ブトキシ、ｓ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ、２−メチルブトキシ、ｎ−ペントキシ、ｎ−ヘキソキシ、ｎ−ヘプチルオキシ、ｎ−オクチルオキシ、ｎ−ノニルオキシ、ｎ−デシルオキシ、ｎ−ウンデシルオキシ、ｎ−ドデシルオキシなどである。
【００６１】
アリールおよびヘテロアリール基は単環であっても、多環であってもよく、即ち、それらは１個の環を有していてもよく（例えば、フェニルなど）、または２個以上の環を有していてもよく、また、２個以上の環は縮合していてもよく（例えば、ナフチルなど）、または、共有結合によって連結されていてもよく（例えば、ビフェニルなど）、または、縮合環および連結環の組み合わせを含有していてもよい。ヘテロアリール基は１個以上のヘテロ原子、好ましくは、Ｏ、Ｎ、ＳおよびＳｅより選択されるヘテロ原子を含有する。
【００６２】
６〜２５個の炭素原子を有する単環、二環または三環式アリール基および２〜２５個の炭素原子を有する単環、二環または三環式ヘテロアリール基が特に好ましく、これらは縮合環を含有していてもよく、置換されていてもよい。更に、５員、６員または７員のアリールおよびヘテロアリール基が好ましく、但し、１個以上のＣＨ基は、酸素原子および／または硫黄原子が互いに直接連結しないようにして、窒素原子、硫黄原子または酸素原子で置き換えられていてもよい。
【００６３】
好ましいアリール基は、例えば、フェニル、ビフェニル、ターフェニル、［１，１’：３’，１”］ターフェニル−２’−イル、ナフチル、アントラセン、ビナフチル、フェナントレン、ピレン、ジヒドロピレン、クリセン、ペリレン、テトラセン、ペンタセン、ベンゾピレン、フルオレン、インデン、インデノフルオレン、スピロビフルオレンなどである。
【００６４】
好ましいヘテロアリール基は、例えば、ピロール、ピラゾール、イミダゾール、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、テトラゾール、フラン、チオフェン、セレノフェン、オキサゾール、イソオキサゾール、１，２−チアゾール、１，３−チアゾール、１，２，３−オキサジアゾール、１，２，４−オキサジアゾール、１，２，５−オキサジアゾール、１，３，４−オキサジアゾール、１，２，３−チアジアゾール、１，２，４−チアジアゾール、１，２，５−チアジアゾール、１，３，４−チアジアゾールなどの５員環；ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、１，３，５−トリアジン、１，２，４−トリアジン、１，２，３−トリアジン、１，２，４，５−テトラジン、１，２，３，４−テトラジン、１，２，３，５−テトラジンなどの６員環；またはインドール、イソインドール、インドリジン、インダゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、プリン、ナフタイミダゾール、フェナントライミダゾール、ピリダイミダゾール、ピラジンイミダゾール、キノキサリンイミダゾール、ベンゾキサゾール、ナフトキサゾール、アントロキサゾール、フェナントロキサゾール、イソオキサゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、ジベンゾフラン、キノリン、イソキノリン、プテリジン、ベンゾ−５，６−キノリン、ベンゾ−６，７−キノリン、ベンゾ−７，８−キノリン、ベンゾイソキノリン、アクリジン、フェノチアジン、フェノキサジン、ベンゾピリダジン、ベンゾピリミジン、キノキサリン、フェナジン、ナフチリジン、アザカルバゾール、ベンゾカルボリン、フェナントリジン、フェナントロリン、チエノ［２，３ｂ］チオフェン、チエノ［３，２ｂ］チオフェン、ジチエノチオフェン、イソベンゾチオフェン、ジベンゾチオフェン、ベンゾチアジアゾチオフェンなどの縮合基；またはこれらの基の組み合わせである。また、ヘテロアリール基は、アルキル、アルコキシ、チオアルキル、フッ素、フルオロアルキル、または更なるアリールまたはヘテロアリール基で置換されていてもよい。
【００６５】
アリール、ヘテロアリール、炭素基および炭化水素基は、１個以上の置換基を有していてもよく、置換基は、好ましくは、シリル、スルホ、スルホニル、ホルミル、アミン、イミン、ニトリル、メルカプト、ニトロ、ハロゲン、Ｃ１〜１２アルキル、Ｃ６〜１２アリール、Ｃ１〜１２アルコキシ、ヒドロキシル、またはこれらの基の組み合わせを含む群より選択される。
【００６６】
好ましい置換基は、例えば、アルキルまたはアルコキシなどの溶解促進基、フッ素、ニトロまたはニトリルなどの電子求引基、またはポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）を上昇させる基であり、特に、例えば、ｔ−ブチルまたは置換されていてもよいアリール基などの嵩高い基である。
【００６７】
より好ましい置換基は、例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、−ＣＮ、−ＮＯ２、−ＮＣＯ、−ＮＣＳ、−ＯＣＮ、−ＳＣＮ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｘ）２、−Ｃ（＝Ｏ）Ｙ１、−Ｃ（＝Ｏ）Ｒｘ、−Ｎ（Ｒｘ）２であり、式中、Ｒｘは上記の意味を有し、Ｙ１はハロゲン、６〜４０個、好ましくは置換されていてもよいシリルまたは６〜２０個の炭素原子を有するアリール、および１〜２５個の炭素原子を有する直鎖状または分岐状のアルキル、アルコキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルカルボニルオキシまたはアルコキシカルボニルオキシを表し、ただし、１個以上の水素原子はＦまたはＣｌで置き換えられていてもよい。
【００６８】
置換されたシリルまたはアリールは、好ましくは、ハロゲン、−ＣＮ、Ｒ０、−ＯＲ０、−ＣＯ−Ｒ０、−ＣＯ−Ｏ−Ｒ０、−Ｏ−ＣＯ−Ｒ０または−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−Ｒ０で置換されていてもよく、Ｒ０は上に定義したとおりである。
【００６９】
更に好ましい置換基は、例えば、Ｆ、Ｃｌ、ＣＮ、ＮＯ２、ＣＨ３、Ｃ２Ｈ５、ＯＣＨ３、ＯＣ２Ｈ５、ＣＯＣＨ３、ＣＯＣ２Ｈ５、ＣＯＯＣＨ３、ＣＯＯＣ２Ｈ５、ＣＦ３、ＯＣＦ３、ＯＣＨＦ２、ＯＣ２Ｆ５、フェニルである。
【００７０】
好ましい式（１２）の重合性化合物は、２個以上の重合性基Ｐを含有する分岐状の基Ｒａおよび／またはＲｂおよび／または多官能重合性基を１個以上含有する。このタイプの適切な基、およびそれらを含有する重合性化合物は、例えば、米国特許第７，０６０，２００号明細書または米国特許出願公開第２００６／０１７２０９０号公報に記載されている。以下の式より選択される多官能重合性基が特に好ましい。
【００７１】
【化３２】
2019137753.tif 000033
式中、
ａｌｋｙｌは、単結合または１〜１２個の炭素原子を有する直鎖状または分岐状のアルキレンを表し、但し、１個以上の隣接していないＣＨ２基は、酸素原子および／または硫黄原子が互いに直接連結しないようにして、それぞれ互いに独立に、−Ｃ（Ｒｘ）＝Ｃ（Ｒｘ）−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｎ（Ｒｘ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−で置き換えられていてもよく、１個以上の水素原子はＦ、ＣｌまたはＣＮで置き換えられていてもよく、ここで、Ｒｘは上に定義したとおりであり、好ましくは、上に定義したとおりのＲ０を表し、
ａａおよびｂｂは、それぞれ互いに独立に、０、１、２、３、４、５または６を表し、
Ｘは、Ｘ’に示される意味の１つを有し、
Ｐ１〜５は、それぞれ互いに独立に、上でＰに示される意味の１つを有する。
【００７２】
重合性化合物は、当業者には公知であり、例えば、Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ編、Ｍｅｔｈｏｄｅｎ  ｄｅｒ  ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ  Ｃｈｅｍｉｅ［Ｍｅｔｈｏｄｓ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ］、Ｔｈｉｅｍｅ−Ｖｅｒｌａｇ社、Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ市などの有機化学の標準的な著作に記載される方法に準じて調製される。式Ｉの重合性アクリレート類およびメタクリレート類の合成は、米国特許第５，７２３，０６６号明細書に記載される方法に準じて行うことができる。具体例は実施例で記載する。
【００７３】
最も単純な場合、一般式ＨＯ−Ｌ−Ｗ−（Ｍ−Ｚ）ｉ−Ｎ−ＯＨ（式中、Ｌ、Ｍ、Ｎ、Ｗ、Ｚおよびｉは上に定義したとおりである）で表される市販のジオール類、例えば、１−（３−ヒドロキシフェニル）フェニル−３−オールなどを、基Ｐを含有する対応する酸、酸誘導体、またはハロゲン化化合物、例えば塩化（メタ）アクリロイルまたは（メタ）アクリル酸などを使用して、例えば、ＤＣＣ（ジシクロヘキシルカルボジイミド）などの脱水剤の存在下でエステル化またはエーテル化することで合成を行う。
【００７４】
更に好ましい（Ｃ）重合性化合物の具体例の一つは、ジビニルベンゼンである。より好ましくは、ｍ−ジビニルベンゼン、ｐ−ジビニルベンゼン又はそれらの混合物を用いることができる。
【００７５】
更に好ましい重合性化合物（Ｃ）の他の具体例は、下記式：
【化３３】
2019137753.tif 000034
【化３４】
2019137753.tif 000035
【化３５】
2019137753.tif 000036
で表されるメタクリル酸誘導体である。
【００７６】
［（Ｄ）光重合開始剤］
本発明に係る液晶組成物は光重合開始剤（Ｄ）を含むことができる。
光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。
【００７７】
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、ＢＡＳＦ社製の「イルガキュア６５１」、「イルガキュア１８４」、「イルガキュア８１９」、「イルガキュア９０７」、「イルガキュア１８７０」（ＣＧＩ−４０３／イルガキュア１８４＝７／３混合開始剤）、「イルガキュア５００」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア１１７３」、「イルガキュア２９５９」、「イルガキュア４２６５」、「イルガキュア４２６３」、「イルガキュア１２７」、“ＯＸＥ０１”等；日本化薬製の「カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ」、「カヤキュアーＢＰ−１００」、「カヤキュアーＢＤＭＫ」、「カヤキュアーＣＴＸ」、「カヤキュアーＢＭＳ」、「カヤキュアー２−ＥＡＱ」、「カヤキュアーＡＢＱ」、「カヤキュアーＣＰＴＸ」、「カヤキュアーＥＰＤ」、「カヤキュアーＩＴＸ」、「カヤキュアーＱＴＸ」、「カヤキュアーＢＴＣ」、「カヤキュアーＭＣＡ」等；サートマー社製の“Ｅｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴＯ４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）”等、及びそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。
【００７８】
［応用例］
本発明に係る液晶組成物は、シクロヘキサン化合物（Ａ）を、好ましくは５−９０重量％、より好ましくは１０−８５重量％、最も好ましくは２０−８０重量％含む。
【００７９】
本発明に係る液晶組成物は、液晶化合物（Ｂ）を、好ましくは５−９０重量％、より好ましくは１０−８５重量％、最も好ましくは２０−８０重量％含む。
【００８０】
本発明に係る液晶組成物は、好ましくは５％未満、より好ましくは３％未満、特に好ましくは２％未満の（Ｃ）重合性化合物を含む。
【００８１】
本発明に係る液晶組成物中の（Ｄ）光重合開始剤の含有量は、上記組成物に含まれる重合可能な重合性化合物を重合させ、かつ開始点が増えすぎないように設定するという理由から、組成物中８重量％未満が好ましく、１〜５重量％がより好ましい。
【００８２】
上記各成分は慣用の手段によって配合し、混合することができる。
【００８３】
本発明に係る液晶組成物は、電気光学用途に好適である。特に、ＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）技術による液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）における使用に好適であり、ＰＩレスＩＰＳ／ＦＦＳ技術による液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）における使用に更に好適である。本発明に係る液晶組成物は、液晶セルに封入して、電気光学表示素子とすることができる。
【００８４】
下記にＰＳＡ技術およびＰＩレスＩＰＳ／ＦＦＳ技術について説明する。
＜実施形態１：ポリイミド（ＰＩ）等の従来型配向膜を備える液晶ディスプレイ＞
実施形態１を、図１及び図２によって説明する。本実施形態では、従来型の配向膜を備えるパネル状の液晶セルを有する液晶ディスプレイ（液晶表示装置）について例示する。
【００８５】
［液晶ディスプレイ］
本実施形態に係る液晶ディスプレイは、テレビ受像装置を始め、パソコン、タブレット端末、携帯電話のディスプレイやモニター等に用いることができる。
液晶ディスプレイは、パネル状の液晶セル（液晶パネル）を備える。液晶ディスプレイは、透過型、反射型等の何れの型であってもよく、透過型の場合は、液晶セルの背面側（後述するアレイ基板側）に配されて液晶セルに光を供給する図示しないバックライト装置をさらに備える。反射型の場合は、液晶セル１の背面側に配されて液晶セル１に向けて外向を反射するための反射板をさらに備える。また、液晶セルには、図示しない偏光板や位相板等が積層される。
【００８６】
［液晶セル］
液晶セルとしては、図１及び図２に示すように、板面を互いに向かいわせた状態で配置される一対の基板１１ａ，１１ｂと、両基板１１ａ，１１ｂ間に介在し、電圧印加に伴って光学特性が変化する物質である液晶材料を含む液晶層３０と、を備えている。
両基板１１ａ，１１ｂは、それぞれ無アルカリガラスや石英ガラス等からなる透光性に優れたガラス基板を備えており、それぞれのガラス基板上に既知のフォトリソグラフィ法等によって複数の膜が積層されてなる。
【００８７】
（画素電極基板）
一対の基板１１ａ，１１ｂのうち、一方の基板１１ｂは、画素電極基板（アレイ基板、アクティブマトリクス基板、素子基板）１１ｂである。詳細は図示しないが、画素電極基板１１ｂには、互いに直交するソース配線とゲート配線に接続されたスイッチング素子（例えばＴＦＴ）と、そのスイッチング素子に接続された画素電極等が設けられている。画素電極としては、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ：Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）等の透明導電材料が利用される。画素電極基板１１ｂには、必要に応じて、微細な線状突起（土手状構造物）やスリット（溝状構造物）からなる凹凸（配向規制用構造物）等が形成されていてもよい。
【００８８】
（対向電極基板）
一対の基板１１ａ，１１ｂのうち、他方の基板１１ａは、対向電極基板１１ａであり、本実施形態では、この対向電極基板１１ａに対向電極（共通電極）が形成されている。対向電極としては、画素電極と同じく、ＩＴＯ、ＩＺＯ等の透明導電材料が利用される。詳細は図示しないが、本実施形態に係る対向電極基板１１ａには、対向電極（共通電極）等に加えて、Ｒ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）等の各着色部が所定配列で配置されたカラーフィルタが設けられ、カラーフィルタ基板（ＣＦ基板）とされている。また、対向電極基板１１ａにも、必要に応じて、線状突起やスリットからなる凹凸（配向規制用構造物）等を形成することができる。なお、対向電極基板１１ａが必ずしもカラーフィルタを備えている必要はなく、液晶ディスプレイが、カラーフィルタが画素電極基板１１ｂ上に設けられたカラーフィルタオンアレイ構造であっても、カラーフィルタを有しないモノクロディスプレイであってもよい。また、液晶層に電圧を印加するための２種類の電極は、必ずしも別々の基板に形成されている必要はなく、例えば画素電極基板１１ｂに共通電極が形成される構成であってもよい。
【００８９】
（シール剤）
両基板１１ａ，１１ｂの間には、液晶層３０の厚さ分のセルギャップを維持した状態で、液晶層３０を取り囲んでこれを封止するように、図示しないシール剤が配される。このシール剤によって、両基板１１ａ，１１ｂが貼り合わせられている。
シール剤には既知のものを使用でき、例えばエポキシ系やアクリル系の樹脂等からなる、熱硬化型、紫外線硬化型、紫外線熱併用型のものを好ましく用いることができる。
【００９０】
（液晶層）
液晶層３０は、前述の液晶組成物を含んで構成されている。液晶組成物の液晶材料は、特定の方向に配向する特性を有し、閾値以上の電圧を印加することで、その配向性が制御される。液晶層３０において、電圧無印加の状態における液晶配向モードは、公知のモードの中から、適宜、選択される。例えば、既述したＴＮモード、ＩＰＳモード、ＦＦＳモード、（Ｍ）ＶＡモード等とすることができる。
【００９１】
（配向膜）
本実施形態１に係る液晶セルでは、図１に示すように、両基板１１ａ，１１ｂの内面側には、液晶層に含まれる液晶分子を配向させるための従来型の配向膜１２ａ，１２ｂがそれぞれ形成されている。配向膜には既知のものを使用することができるが、熱安定性や成膜性の観点から、ポリイミドやポリアミド、ポリシロキサンを含む高分子化合物からなるものとすることが好ましい。
なお、このような従来型の配向膜は、必ずしも両基板１１ａ，１１ｂの双方に形成されている必要はなく、何れか一方のみに形成されていてもよい。
配向膜１２ａ，１２ｂには、目的に応じて、垂直配向膜、水平配向膜、光配向膜等の各種配向膜が適宜選択され、ラビング処理、光配向処理等の配向処理を適宜施されて利用される。
配向処理を施す場合には、光配向処理によることが好ましい。光配向処理によれば、ラビング配向処理と比較して、塵の発生や構造物の破損を軽減できる。光配向処理を可能とするために、配向膜１２ａ，１２ｂは、光配向性官能基を有していることが好ましい。光配向性官能基は、所定の光（偏光紫外線等）を受けると反応（例えば、光異性化反応）して、構造が変化する官能基である。側鎖に光反応性官能基を導入すれば、主鎖の構造を維持しつつ、配向膜に光配向性を付与することができる。光反応性官能基は、側鎖への官能基の導入性や反応性の観点から、例えばシンナメート基、カルコニル基、クマリン基、アゾベンゼン基等からなる群から選ばれる少なくとも１種とすることが好ましい。
【００９２】
（配向制御層）
図２に示すように、本実施形態では、液晶層３０の画素電極基板１１ｂ及び対向電極基板１１ａの両面側に、配向制御層２１ａ，２１ｂが形成される。
配向制御層２１ａ，２１ｂは、前述の液晶組成物中に含まれる重合性モノマー２０及び、場合によっては光重合開始剤が重合して、液晶層３０と両配向膜１２ａ，１２ｂとの界面に選択的に形成される重合体層である。なお、「液晶層３０と両配向膜１２ａ，１２ｂとの界面」とは、両配向膜１２ａ，１２ｂ上に形成された構造物のうち最も液晶層３０側に配される構造物と、液晶層３０との境界面を意味し、配向制御層２１ａ，２１ｂは、液晶層３０に直接当接するように形成される。
本実施形態では、電圧無印加の状態における液晶層３０中の液晶配向モードは、配向制御層および両配向膜によって規定される。
【００９３】
＜実施形態２：従来型配向膜を備えない液晶ディスプレイ＞
実施形態２を、図３及び図４によって説明する。本実施形態では、いわゆる従来型の配向膜を備えない、従来型配向膜レスの液晶ディスプレイについて例示する。本明細書において、従来型の配向膜とは、既述したように、ポリイミド等からなる樹脂を基板上に塗布することによって形成せしめた配向膜をいう。
【００９４】
［液晶ディスプレイ］
本実施形態に係る液晶ディスプレイは、テレビ受像装置を始め、パソコン、タブレット端末、携帯電話のディスプレイやモニター等に用いることができる。
液晶ディスプレイは、パネル状の液晶セル（液晶パネル）を備える。液晶ディスプレイは、透過型、反射型等の何れの型であってもよく、透過型の場合は、液晶セルの背面側（後述するアレイ基板側）に配されて液晶セルに光を供給する図示しないバックライト装置をさらに備える。反射型の場合は、液晶セルの背面側に配されて液晶セルに向けて外向を反射するための反射板をさらに備える。また、液晶セルには、図示しない偏光板や位相板等が積層される。
【００９５】
［液晶セル］
液晶セルとしては、従来型の配向膜を備えない既知の構成のものを用いることができる。図３及び図４に示すように、液晶セルは、板面を互いに向かいわせた状態で配置される一対の基板１１ａ，１１ｂと、両基板１１ａ，１１ｂ間に介在し、電圧印加に伴って光学特性が変化する物質である液晶分子を含む液晶層３０と、を備えている。
両基板１１ａ，１１ｂは、それぞれ無アルカリガラスや石英ガラス等からなる透光性に優れたガラス基板を備えており、それぞれのガラス基板上に既知のフォトリソグラフィ法等によって複数の膜が積層されてなる。
【００９６】
（画素電極基板）
一対の基板１１ａ，１１ｂのうち、一方の基板１１ｂは、画素電極基板（アレイ基板、アクティブマトリクス基板、素子基板）１１ｂである。詳細は図示しないが、画素電極基板１１ｂには、互いに直交するソース配線とゲート配線に接続されたスイッチング素子（例えばＴＦＴ）と、そのスイッチング素子に接続された画素電極等が設けられている。画素電極としては、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ：Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）等の透明導電材料が利用される。画素電極基板１１ｂには、必要に応じて、微細な線状突起（土手状構造物）やスリット（溝状構造物）からなる凹凸（配向規制用構造物）等が形成されていてもよい。
【００９７】
（対向電極基板）
一対の基板１１ａ，１１ｂのうち、他方の基板１１ａは、対向電極基板１１ａであり、本実施形態では、この対向電極基板１１ａに対向電極（共通電極）が形成されている。対向電極としては、画素電極と同じく、ＩＴＯ、ＩＺＯ等の透明導電材料が利用される。詳細は図示しないが、本実施形態に係る対向電極基板１１ａには、対向電極（共通電極）等に加えて、Ｒ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）等の各着色部が所定配列で配置されたカラーフィルタが設けられ、カラーフィルタ基板（ＣＦ基板）とされている。また、対向電極基板１１ａにも、必要に応じて、線状突起やスリットからなる凹凸（配向規制用構造物）等を形成することができる。なお、対向電極基板１１ａが必ずしもカラーフィルタを備えている必要はなく、液晶ディスプレイが、カラーフィルタが画素電極基板１１ｂ上に設けられたカラーフィルタオンアレイ構造であっても、カラーフィルタを有しないモノクロディスプレイであってもよい。また、液晶層に電圧を印加するための２種類の電極は、必ずしも別々の基板に形成されている必要はなく、例えば画素電極基板１１ｂに共通電極が形成される構成であってもよい。
【００９８】
（シール剤）
両基板１１ａ，１１ｂの間には、液晶層３０の厚さ分のセルギャップを維持した状態で、液晶層３０を取り囲んでこれを封止するように、図示しないシール剤が配される。このシール剤によって、両基板１１ａ，１１ｂが貼り合わせられている。
シール剤には既知のものを使用でき、例えばエポキシ系やアクリル系の樹脂等からなる、熱硬化型、紫外線硬化型、紫外線熱併用型のものを好ましく用いることができる。
【００９９】
（液晶層）
液晶層３０は、後記する液晶組成物を含んで構成されている。液晶組成物中の液晶材料は、特定の方向に配向する特性を有し、閾値以上の電圧を印加することで、その配向性が制御される。液晶層３０において、電圧無印加の状態における液晶配向モードは、公知のモードの中から、適宜、選択される。例えば、既述したＴＮモード、ＩＰＳモード、ＦＦＳモード、（Ｍ）ＶＡモード等とすることができる。
【０１００】
（配向制御層）
図４に示すように、本実施形態では、液晶層３０の画素電極基板１１ｂ及び対向電極基板１１ａの両面側に、配向制御層２１ａ，２１ｂが形成される。
配向制御層２１ａ，２１ｂは、後記する液晶組成物中に含まれる重合性モノマー２０及び場合によっては光重合開始剤が重合して、液晶層３０と両基板１１ａ，１１ｂとの界面に選択的に形成される重合体層である。なお、「液晶層３０と両基板１１ａ，１１ｂとの界面」とは、両基板１１ａ，１１ｂ上に形成された構造物のうち最も液晶層３０側に配される構造物と、液晶層３０との境界面を意味し、配向制御層２１ａ，２１ｂは、液晶層３０に直接当接するように形成される。
本実施形態では、両基板１１ａ，１１ｂの何れにもポリイミド等からなる従来型の配向膜は形成されておらず、電圧無印加の状態における液晶層３０中の液晶配向モードは、配向制御層や配向規制用構造物等によって規定される。
【実施例】
【０１０１】
以下に実施例等を参照して本発明を更に詳しく説明するが、本発明は以下の実施例等によってなんら制限を受けるものではない。
尚、パーセンテージは重量パーセントである。温度は全て摂氏温度で示される。Ｎ-Ｉ転移点はネマチック相アイソトロピック相転移温度、Δｎは光学異方性（５８９ｎｍ，２５℃）を表わす。Δεは誘電率異方性を表す。
【０１０２】
実施例に使用したシクロヘキサン化合物、液晶化合物および重合性化合物の構造及び略称は以下のとおりである。
【０１０３】
式［Ｉ］のシクロヘキサン化合物（Ａ）
【化３６】
2019137753.tif 000037
【化３７】
2019137753.tif 000038
【化３８】
2019137753.tif 000039
【化３９】
2019137753.tif 000040
【０１０４】
式［ＩＩ］の重合性化合物（Ｃ）
【化４０】
2019137753.tif 000041
【化４１】
2019137753.tif 000042
【化４２】
2019137753.tif 000043
【０１０５】
比較のシクロヘキサン化合物
【化４３】
2019137753.tif 000044
【化４４】
2019137753.tif 000045
【０１０６】
比較の重合性化合物
【化４５】
2019137753.tif 000046
【０１０７】
合成例
上記シクロヘキサン化合物２ＨＦＦＨ３を以下のように合成した。
２−クロル−５−エチルヘキサノンと塩化４−ｎ−プロピルシクロヘキシルマグネシウムをジエチルエーテルあるいはＴＨＦ溶媒を用い、塩化亜鉛、銅（ＩＩ）アセチルアセトナートの存在下に反応させ、通常の処理を行い、４−エチル−４’−ｎ−プロピルビ（シクロヘキサン）−２−オンを得た。
Δｎ＝  ０．０５９              ｍ／ｚ＝２５０
【０１０８】
ジクロロメタン８ｍｌに上記で得た４−エチル−４’−ｎ−プロピルビ（シクロヘキサン）−２−オン０．５ｇを溶解し、４℃にてＤＡＳＴの０．５ｇを加えた。その後、室温にて３８時間撹拌した。その後、トルエン抽出し、シリカゲルカラム処理（ヘプタン／酢酸エチル＝５／１）により、シクロヘキサン化合物２ＨＦＦＨ３を０．２ｇ得た。
Δｎ＝０．０６２          ｍ／ｚ＝２７２
【０１０９】
他の上記シクロヘキサン化合物も、合成例にならって同様にして合成することができる。
【０１１０】
実施例Ｉ、比較例ＩＩ、ＩＩＩ
以下の実施例、比較例の説明においては、記載の簡単のために、液晶化合物及び重合性化合物を含むものを「液晶組成物」と称し、これに対して重合性化合物を含まないものを「液晶材料」と称する。
（１．１）液晶材料
表１−１に示す組成の母液晶に上記シクロヘキサン化合物３ＨＦＦＨ３を加え、ネガ型液晶材料Ｉ、ＩＩＩを調製した（Ｎ−Ｉ転移点：８２℃、Δｎ＝０．１０、Δε＝−２．５）。また、表１−１に示す組成の母液晶材料に、本発明に属しない３ＨＨＶを加えた液晶材料ＩＩも併せて準備した（Ｎ−Ｉ転移点：８１℃、Δｎ＝０．１０、Δε＝−２．５）。
（１．２）式［ＩＩ］の重合性化合物（Ｃ）を含む液晶組成物
上記（１．１）のネガ型液晶材料Ｉの１００重量部に対し、上記重合性化合物［ＩＩ−１］を０．３重量部溶解させた。所定量の重合性化合物［ＩＩ−１］を液晶材料Ｉに添加後、５０℃のオーブン中で約２０分間放置して重合性化合物［ＩＩ−１］を溶解させ、更に暗所（２０℃）中で一晩放置することにより、完全に重合性化合物［ＩＩ−１］が溶解していることを確認した。これを本発明に属する液晶組成物Ｉ（実施例）とする。液晶材料ＩＩ、ＩＩＩに対しては本発明に属しない上記重合性化合物［ＩＩ−Ａ］を０．３重量部溶解させ、本発明に属しない液晶組成物ＩＩ、ＩＩＩ（比較例）とした。
（１．３）ＰＳＡ用液晶セル作製工程
一対のＩＴＯ電極を有するガラス基板を２枚用意し、それぞれの片面にポリイミド系垂直配向膜を塗布し、９０℃で５分間の仮焼成、続いて２００℃で４０分間の本焼成を行った。続いて、一方の基板上にシールを描画した。シール剤はＵＶと熱で硬化するタイプを用いた。続いて、その基板上に、重合性化合物［ＩＩ−１］を含むネガ型液晶組成物Ｉを滴下した後、他方の基板を貼り合せてから１００℃のオーブン中で４０分間放置し、シールを完全に硬化させて液晶セルとした。続いて、重合性化合物［ＩＩ−１］の重合によりポリマー層の形成を行うため、液晶セルに１０Ｖの矩形波電圧（６０Ｈｚ）を印加し、紫外線照射を２０分間行った。紫外光は、株式会社東芝製のブラックライト「ＦＨＦ−３２ＢＬＢ」を用いて発生させた。以上の工程によりＰＳＡ用液晶セルを作製した。本発明に属しない液晶組成物ＩＩ、ＩＩＩを用いて、同様の工程で比較例用ＰＳＡ用液晶セルを作製した。
（１．４）電圧保持率（ＶＨＲ）測定
上記ＰＳＡ用液晶セルのＶＨＲ測定を行った。測定は、紫外光照射によるポリマー層形成前後で行った。用いた装置及び測定条件は以下のとおりである。
装置：株式会社東陽テクニカ製６２５４型ＶＨＲ測定システム
測定条件：５Ｖ印加、フレーム期間：１６．６ｍｓ、７０℃
結果を表１−２に示す。
【０１１１】
【表１】
2019137753.tif 000047
【０１１２】
【表２】
2019137753.tif 000048
【０１１３】
上記表より、式［Ｉ］で表されるシクロヘキサン化合物を含有する液晶組成物を用いることにより、ポリマー層形成のための紫外線照射を行っても、ＶＨＲの低下は無かった。
【０１１４】
実施例ＩＶ、比較例Ｖ
（２．１）液晶材料
表２−１に示す組成の母液晶に上記シクロヘキサン化合物３ＨＦＦＨ２を加え、ネガ型液晶材料ＩＶを調製した（Ｎ−Ｉ転移点：８５℃、Δｎ＝０．１０、Δε＝−２．５）。また、表２−１に示す組成の母液晶材料に、本発明に属しない３ＨＨＶを加えた液晶材料Ｖも併せて準備した（Ｎ−Ｉ転移点：８５℃、Δｎ＝０．１０、Δε＝−２．５）。
（２．２）式［ＩＩ］の重合性化合物（Ｃ）を含む液晶組成物
上記（２．１）のネガ型液晶材料ＩＶの１００重量部に対し、上記重合性化合物［ＩＩ−２］を０．３重量部溶解させた。所定量の重合性化合物［ＩＩ−２］を液晶材料に添加後、５０℃のオーブン中で約２０分間放置して重合性化合物［ＩＩ−２］を溶解させ、更に暗所（２０℃）中で一晩放置することにより、完全に重合性化合物［ＩＩ−２］が溶解していることを確認した。これを本発明に属する液晶組成物ＩＶ（実施例）とする。液晶材料Ｖに対しても上記重合性化合物［ＩＩ−２］を０．３重量部溶解させ、液晶組成物Ｖ（比較例）とした。
（２．３）ＰＳＡ用液晶セル作製工程
一対のＩＴＯ電極を有するガラス基板を２枚用意し、それぞれの片面にポリイミド系垂直配向膜を塗布し、９０℃で５分間の仮焼成、続いて２００℃で４０分間の本焼成を行った。続いて、一方の基板上にシールを描画した。シール剤はＵＶと熱で硬化するタイプを用いた。続いて、その基板上に、重合性化合物［ＩＩ−２］を含むネガ型液晶組成物ＩＶを滴下した後、他方の基板を貼り合せてから１００℃のオーブン中で４０分間放置し、シールを完全に硬化させて液晶セルとした。続いて、重合性化合物［ＩＩ−２］の重合によりポリマー層の形成を行うため、液晶セルに１０Ｖの矩形波電圧（６０Ｈｚ）を印加し、紫外線照射を３０分間行った。紫外光は、株式会社東芝製のブラックライト「ＦＨＦ−３２ＢＬＢ」を用いて発生させた。以上の工程によりＰＳＡ用液晶セルを作製した。本発明に属しない液晶組成物Ｖを用いて、同様の工程で比較例用ＰＳＡ用液晶セルを作製した。
（２．４）電圧保持率（ＶＨＲ）測定
上記ＰＳＡ用液晶セルのＶＨＲ測定を行った。測定は、紫外光照射によるポリマー層形成前後で行った。用いた装置及び測定条件は以下のとおりである。
装置：株式会社東陽テクニカ製６２５４型ＶＨＲ測定システム
測定条件：５Ｖ印加、フレーム期間：１６．６ｍｓ、７０℃
結果を表２−２に示す。
【０１１５】
【表３】
2019137753.tif 000049
【０１１６】
【表４】
2019137753.tif 000050
【０１１７】
上記表より、式［Ｉ］で表されるシクロヘキサン化合物を含有する液晶組成物を用いることにより、ポリマー層形成のための紫外線照射を行っても、ＶＨＲの低下は無かった。また、ポリマー層形成のための重合性化合物を重合性化合物［ＩＩ−１］から重合性化合物［ＩＩ−２］に変更しても実施例Ｉと同様の効果が得られた。
【０１１８】
実施例ＶＩ、比較例ＶＩＩ
（３．１）液晶材料
表３−１に示す組成の母液晶材料に上記シクロヘキサン化合物３ＨＦＦＨ４を加え、ネガ型液晶材料ＶＩを調製した（Ｎ−Ｉ転移点：８２℃、Δｎ＝０．１０、Δε＝−２．５）。また、表３−１に示す組成の母液晶材料に、本発明に属しない３ＨＨＶ１を加えた液晶材料ＶＩＩも併せて準備した（Ｎ−Ｉ転移点：８１℃、Δｎ＝０．１０、Δε＝−２．５）。
（３．２）式［ＩＩ］の重合性化合物（Ｃ）を含む液晶組成物
上記（３．１）のネガ型液晶材料ＶＩの１００重量部に対し、上記重合性化合物［ＩＩ−３］を０．３重量部溶解させた。所定量の重合性化合物［ＩＩ−３］を液晶材料に添加後、５０℃のオーブン中で約２０分間放置して重合性化合物［ＩＩ−３］を溶解させ、更に暗所（２０℃）中で一晩放置することにより、完全に重合性化合物［ＩＩ−３］が溶解していることを確認した。これを本発明に属する液晶組成物ＶＩ（実施例）とする。液晶材料ＶＩＩに対しても上記重合性化合物［ＩＩ−３］を０．３重量部溶解させ、本発明に属しない液晶組成物ＶＩＩ（比較例）とした。
（３．３）ＰＳＡ用液晶セル作製工程
一対のＩＴＯ電極を有するガラス基板を２枚用意し、それぞれの片面にポリイミド系垂直配向膜を塗布し、９０℃で５分間の仮焼成、続いて２００℃で４０分間の本焼成を行った。続いて、一方の基板上にシールを描画した。シール剤はＵＶと熱で硬化するタイプを用いた。続いて、その基板上に、重合性化合物［ＩＩ−３］を含むネガ型液晶組成物ＶＩを滴下した後、他方の基板を貼り合せてから１００℃のオーブン中で４０分間放置し、シールを完全に硬化させて液晶セルとした。続いて、重合性化合物［ＩＩ−３］の重合によりポリマー層の形成を行うため、液晶セルに１０Ｖの矩形波電圧（６０Ｈｚ）を印加し、紫外線照射を２０分間行った。紫外光は、株式会社東芝製のブラックライト「ＦＨＦ−３２ＢＬＢ」を用いて発生させた。以上の工程によりＰＳＡ用液晶セルを作製した。本発明に属しない液晶組成物ＶＩＩを用いて、同様の工程で比較例用ＰＳＡ用液晶セルを作製した。
（３．４）電圧保持率（ＶＨＲ）測定
上記ＰＳＡ用液晶セルのＶＨＲ測定を行った。測定は、紫外光照射によるポリマー層形成前後で行った。用いた装置及び測定条件は以下のとおりである。
装置：株式会社東陽テクニカ製６２５４型ＶＨＲ測定システム
測定条件：５Ｖ印加、フレーム期間：１６．６ｍｓ、７０℃
結果を表３−２に示す。
【０１１９】
【表５】
2019137753.tif 000051
【０１２０】
【表６】
2019137753.tif 000052
【０１２１】
上記表より、式［Ｉ］で表されるシクロヘキサン化合物を含有する液晶組成物を用いることにより、ポリマー層形成のための紫外線照射を行っても、ＶＨＲの低下は無かった。また、ポリマー層形成のための重合性化合物を重合性化合物［ＩＩ−１］、［ＩＩ−２］から重合性化合物［ＩＩ−３］に変更しても実施例である液晶組成物Ｉ、ＩＶと同様の効果が得られた。
【０１２２】
実施例ＶＩＩＩ、比較例ＩＸ
（４．１）液晶材料
表４−１に示す組成の母液晶材料に上記シクロヘキサン化合物３ＨＦＦＨ３を加え、ネガ型液晶材料ＶＩＩＩを調製した（Ｎ−Ｉ転移点：８２℃、Δｎ＝０．１０、Δε＝−２．５）。また、表４−１に示す組成の母液晶材料に、本発明に属しない３ＨＨＶを加えた液晶材料ＩＸも併せて準備した（Ｎ−Ｉ転移点：８１℃、Δｎ＝０．１０、Δε＝−２．５）。
（４．２）式［ＩＩ］の重合性化合物（Ｃ）を含む液晶組成物
上記（４．１）のネガ型液晶材料ＶＩＩＩの１００重量部に対し、上記重合性化合物［ＩＩ−１］を１．０重量部溶解させた。所定量の重合性化合物［ＩＩ−１］を液晶材料に添加後、５０℃のオーブン中で約２０分間放置して重合性化合物［ＩＩ−１］を溶解させ、更に暗所（２０℃）中で一晩放置することにより、完全に重合性化合物［ＩＩ−１］が溶解していることを確認した。これを本発明に属する液晶組成物ＶＩＩＩ（実施例）とする。液晶材料ＩＸに対しても上記重合性化合物［ＩＩ−１］を１．０重量部溶解させ、本発明に属しない液晶組成物ＩＸ（比較例）とした。
（４．３）ＰＩレスＩＰＳモード液晶セル作製工程
ＩＴＯ電極を有するガラス基板と、ＩＴＯ電極を有さない対向側ガラス基板を用意し、一方の基板上にシールを描画した。シール剤はＵＶと熱で硬化するタイプを用いた。続いて、その基板上に、重合性化合物［ＩＩ−１］を含むネガ型液晶組成物ＶＩＩＩを滴下した後、他方の基板を貼り合せてから１００℃のオーブン中で４０分間放置し、シールを完全に硬化させて液晶セルとした。続いて、重合性化合物［ＩＩ−１］の重合により水平配向ポリマー層の形成を行うため、液晶セルを９０℃以上に加熱した状態で偏光紫外線照射を２０分間行った。偏光紫外光は、ウシオ電機株式会社製超高圧水銀ランプに偏光子を介した装置を用いて発生させた。以上の工程によりＰＩレスＩＰＳモード液晶セルを作製した。本発明に属しない液晶組成物ＩＸを用いて、同様の工程で比較例用ＰＩレスＩＰＳモード液晶セルを作製した。
（４．４）電圧保持率（ＶＨＲ）測定
上記ＰＩレスＩＰＳモード液晶セルのＶＨＲ測定を行った。測定は、紫外光照射によるポリマー層形成前後で行った。用いた装置及び測定条件は以下のとおりである。
装置：株式会社東陽テクニカ製６２５４型ＶＨＲ測定システム
測定条件：５Ｖ印加、フレーム期間：１６．６ｍｓ、７０℃
結果を表４−２に示す。
【０１２３】
【表７】
2019137753.tif 000053
【０１２４】
【表８】
2019137753.tif 000054
【０１２５】
上記表より、式［Ｉ］で表されるシクロヘキサン化合物を含有する液晶組成物を用いることにより、水平配向ポリマー層形成のための偏光紫外線照射を行っても、ＶＨＲの低下は無かった。
【産業上の利用可能性】
【０１２６】
本発明により、ポリマー層形成のための紫外線照射を行ってもＶＨＲの低下を起こさない液晶組成物、及びそのような液晶組成物を用いた高速応答性で高耐光性の液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の提供が可能となった。
【符号の説明】
【０１２７】
１１ａ    対向電極基板
１１ｂ    画素電極基板
１２ａ    配向膜
１２ｂ    配向膜
２０      重合性化合物（モノマー）
２１ａ    配向制御層
２１ｂ    配向制御層
３０      液晶層
【図１】
2019137753.tif 000065
【図２】
2019137753.tif 000066
【図３】
2019137753.tif 000067
【図４】
2019137753.tif 000068