(57)【要約】【課題】基板をスムーズに搬送しつつ異物を効率的に除去する。【解決手段】洗浄装置２０は、一方の板面が処理予定面１０ＭＧ１とされて他方の板面が非処理予定面１０ＭＧ２とされるマザーガラス基板１０ＭＧを搬送する搬送部３１と、少なくともマザーガラス基板１０ＭＧに洗浄液ＣＬを供給する洗浄液供給部３２と、マザーガラス基板１０ＭＧの非処理予定面１０ＭＧ２に当接しつつ搬送部３１によるマザーガラス基板１０ＭＧの搬送方向の正方向に回転する第１回転ブラシ３３と、第１回転ブラシ３３との間でマザーガラス基板１０ＭＧを挟むよう配されていてマザーガラス基板１０ＭＧの処理予定面１０ＭＧ１に当接しつつ搬送方向の逆方向に回転する第２回転ブラシ３４と、を備える。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方の板面が処理予定面とされて他方の板面が非処理予定面とされる基板を搬送する搬送部と、
少なくとも前記基板に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
前記基板の前記非処理予定面に当接しつつ前記搬送部による前記基板の搬送方向の正方向に回転する第１回転ブラシと、
前記第１回転ブラシとの間で前記基板を挟むよう配されていて前記基板の前記処理予定面に当接しつつ前記搬送方向の逆方向に回転する第２回転ブラシと、を備える洗浄装置。
【請求項２】
前記第１回転ブラシ及び前記第２回転ブラシは、複数組が前記搬送方向について離れた位置に配されている請求項１記載の洗浄装置。
【請求項３】
少なくとも前記第２回転ブラシは、前記搬送方向について上流側に配されるものが、下流側に配されるものよりも硬い材質とされる請求項２記載の洗浄装置。
【請求項４】
前記搬送方向について上流側に配される前記第２回転ブラシは、多数本の毛材を有するのに対し、前記搬送方向について下流側に配される前記第２回転ブラシは、多孔質材を有する請求項３記載の洗浄装置。
【請求項５】
前記第１回転ブラシ及び前記第２回転ブラシは、同一材料からなる請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【請求項６】
前記第１回転ブラシ及び前記第２回転ブラシは、間に前記基板が配されない状態では互いに当たり合うよう配される請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【請求項７】
前記洗浄液供給部は、前記第１回転ブラシ及び前記第２回転ブラシの少なくとも一方に対して前記基板側とは反対側に配されていて前記洗浄液を供給する請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【請求項８】
前記搬送部は、前記基板をその板面が水平方向に並行する姿勢に保ちつつ搬送していて、前記基板の搬送方向と交差し且つ前記基板の板面に沿う方向に並行する軸心を有するシャフトと、前記シャフトに軸支されて前記基板の板面に当接されるローラと、を有する請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【請求項９】
前記搬送部は、前記基板をその板面が水平方向に対して交差する姿勢に保ちつつ搬送していて、前記基板の搬送方向及び前記基板の板面の双方と交差する方向に並行する軸心を有するシャフトと、前記シャフトに軸支されて前記基板の端面に当接されるローラと、を有する請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶パネルに用いられるガラス基板を洗浄する洗浄装置の一例として下記特許文献１に記載されたものが知られている。この特許文献１には、円柱形状で回転可能なブラシ体と、このブラシ体に供給される洗浄液とを有して、対象物の洗浄を行う洗浄装置において、前記ブラシ体は、断面円環形状のブラシ部を有して、円柱軸を中心に回転自在に配設され、前記ブラシ体を回転させて、前記ブラシ部を前記対象物の処理対象面に摺接させ、洗浄を行う洗浄装置であって、前記洗浄液は、前記ブラシ体の回転方向に向いた流路を経由して、このブラシ体に回転力を与えるよう制御されて流入される洗浄装置が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−２８９３１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記した特許文献１に記載された洗浄装置では、ノズル式の噴出手段によって噴出する洗浄液の勢いを利用してブラシ体を回転させるようにしている。しかしながら、ブラシ体の材質や形状によっては必要な回転力が得られず、洗浄能力が低下して異物を十分に除去できないおそれがある。これに対し、洗浄能力を高めるべく、噴出手段による洗浄液の勢いを強くした場合には、ブラシ体と対象物との間に生じる摩擦抵抗が増加し、搬送停止に陥る可能性がある。
【０００５】
本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、基板をスムーズに搬送しつつ異物を効率的に除去することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の洗浄装置は、一方の板面が処理予定面とされて他方の板面が非処理予定面とされる基板を搬送する搬送部と、少なくとも前記基板に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、前記基板の前記非処理予定面に当接しつつ前記搬送部による前記基板の搬送方向の正方向に回転する第１回転ブラシと、前記第１回転ブラシとの間で前記基板を挟むよう配されていて前記基板の前記処理予定面に当接しつつ前記搬送方向の逆方向に回転する第２回転ブラシと、を備える。
【０００７】
このようにすれば、搬送部により搬送される基板は、洗浄液供給部から洗浄液が供給されるとともに、回転する第１回転ブラシ及び第２回転ブラシによって挟まれることで洗浄が図られて両板面に付着していた異物が除去される。基板のうちの一方の板面は、当該洗浄装置による洗浄後に所定の処理がなされる処理予定面とされるのに対し、他方の板面は、当該洗浄装置による洗浄後に処理がなされない非処理予定面とされる。第１回転ブラシは、基板の非処理予定面に当接されて非処理予定面を洗浄するのに対し、第２回転ブラシは、基板の処理予定面に当接されて処理予定面を洗浄する。そして、第１回転ブラシは、搬送部による基板の搬送方向の正方向に回転するので、基板の搬送を補助することができる。これにより、基板のスムーズな搬送が担保されるので、搬送停止に陥る事態が生じ難くなって高い生産性が得られる。これに対し、第２回転ブラシは、搬送部による基板の搬送方向の逆方向に回転することで、基板の処理予定面に付着していた異物を効率的に除去することができる。これにより、異物の残存に起因して当該洗浄装置による洗浄後に行われる処理に不具合が生じ難くなる。ここで言う「処理」の一例としては、基板の処理予定面に金属膜を成膜してパターニングすることで配線を形成する処理が挙げられるが、上記したように基板の処理予定面に付着していた異物が第２回転ブラシによって効率的に除去されることで、処理予定面に形成された配線が残存した異物と共に剥離する、などの不具合が生じ難くなる。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、基板をスムーズに搬送しつつ異物を効率的に除去することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の実施形態１に係る液晶パネルの断面構成を示す概略断面図
【図２】マザーガラス基板を洗浄するための洗浄装置の概略図
【図３】洗浄装置を構成するブラシ洗浄槽内にてマザーガラス基板が洗浄される状態を示す断面図
【図４】第１回転ブラシ及び第２回転ブラシによってマザーガラス基板が洗浄される状態を示す側面図
【図５】第１回転ブラシ及び第２回転ブラシの間にマザーガラス基板が配されない状態を示す側面図
【図６】本発明の実施形態２に係る洗浄装置を構成するブラシ洗浄槽内にてマザーガラス基板が洗浄される状態を示す断面図
【図７】本発明の実施形態３に係る洗浄装置を構成するブラシ洗浄槽内にてマザーガラス基板が洗浄される状態を示す側面図
【図８】図７のＡ−Ａ線断面図
【発明を実施するための形態】
【００１０】
＜実施形態１＞
本発明の実施形態１を図１から図５によって説明する。本実施形態では、液晶表示装置を構成する液晶パネル１０における各基板１０Ａ，１０Ｂの製造に用いられる洗浄装置２０について例示する。なお、各図面の一部にはＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸を示しており、各軸方向が各図面で示した方向となるように描かれている。このうち、Ｚ軸方向は、鉛直方向と一致し、Ｘ軸方向及びＹ軸方向は、水平方向と一致している。また、特に断りがない限りは、上下の記載については鉛直方向（図３から図５）を基準とする。
【００１１】
まず、液晶パネル１０の構成について説明する。液晶パネル１０は、図１に示すように、一対の基板１０Ａ，１０Ｂ間に、電界印加に伴って光学特性が変化する物質である液晶材料を含む液晶層１０Ｃを封入してなる。液晶パネル１０を構成する両基板１０Ａ，１０Ｂのうち、表側に配されるものがＣＦ基板１０Ａとされ、裏側に配されるものがアレイ基板１０Ｂとされる。ＣＦ基板１０Ａは、対向基板とも呼ばれ、アレイ基板１０Ｂは、アクティブマトリクス基板やＴＦＴ基板とも呼ばれる。ＣＦ基板１０Ａ及びアレイ基板１０Ｂは、いずれもほぼ透明で優れた透光性を有するガラス基板１０ＧＳの内面側に所定の膜、すなわち構造物を既知のフォトリソグラフィ法により順次に積層形成してなるものとされる。なお、両基板１０Ａ，１０Ｂの外側の板面には、表裏一対の偏光板１０Ｄ，１０Ｅがそれぞれ貼り付けられている。
【００１２】
アレイ基板１０Ｂの内側、つまり液晶層１０Ｃ側の板面には、図１に示すように、スイッチング素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor）１０Ｆ及び画素電極１０Ｇが多数個ずつマトリクス状に並んで設けられている。これらＴＦＴ１０Ｆ及び画素電極１０Ｇの周りには、格子状をなしていて金属膜からなるゲート配線及びソース配線（いずれも図示せず）が配設されている。ゲート配線及びソース配線は、ＴＦＴ１０Ｆに接続されている。画素電極１０Ｇは、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明電極材料からなり、ゲート配線及びソース配線に供給される各信号に基づいて駆動されるＴＦＴ１０Ｆによって所定の電位に充電されるようになっている。また、アレイ基板１０Ｂの内面側には、各種絶縁膜が設けられている。
【００１３】
ＣＦ基板１０Ａの内側の板面には、図１に示すように、赤色（Ｒ），緑色（Ｇ），青色（Ｂ）を呈する３色のカラーフィルタ１０Ｈと、光を遮る遮光部１０Ｉと、が設けられている。このカラーフィルタ１０Ｈは、アレイ基板１０Ｂ側の各画素電極１０Ｇと平面に視て重畳する配置とされ、各画素電極１０Ｇと共にＲ，Ｇ，Ｂの３色の画素部を構成している。遮光部１０Ｉは、アレイ基板１０Ｂ側のゲート配線及びソース配線と平面に視て重畳する配置とされ、隣り合う画素部の間を仕切っている。カラーフィルタ１０Ｈの上層側には、対向電極１０Ｋが内側に重なって設けられている。対向電極１０Ｋは、ＣＦ基板１０Ａの内面におけるほぼ全域にわたってベタ状に形成されている。対向電極１０Ｋは、画素電極１０Ｇと同様の透明電極材料からなり、常に一定の基準電位に保たれている。従って、各ＴＦＴ１０Ｆが駆動されるのに伴って各ＴＦＴ１０Ｆに接続された各画素電極１０Ｇが充電されると、各画素電極１０Ｇとの間には電位差が生じ得る。そして、対向電極１０Ｋと各画素電極１０Ｇとの間に生じる電位差に基づいて液晶層１０Ｃに含まれる液晶分子の配向状態が変化し、それに伴って透過光の偏光状態が変化し、もって液晶パネル１０の透過光量が各画素毎に個別に制御されるとともに所定のカラー画像が表示されるようになっている。なお、両基板１０Ａ，１０Ｂにおける最内面には、液晶層１０Ｃに臨む形で配されて液晶分子を配向させる配向膜１０Ｌ，１０Ｍがそれぞれ設けられている。
【００１４】
上記のような構成の各基板１０Ａ，１０Ｂは、既知のフォトリソグラフィ法を用いてガラス基板１０ＧＳのうちの内側の板面上に各種電極や各種配線などを構成する各導電膜や各絶縁膜などが繰り返し成膜及びパターニングされることで製造されている。なお、上記した各導電膜には、金属膜や透明電極膜が含まれる。そして、本実施形態では、複数のガラス基板１０ＧＳが板面内に並んで配されてなるマザーガラス基板１０ＭＧに対してフォトリソグラフィ法に係る各種処理がなされている。ガラス基板１０ＧＳは、いわば「単位基板」であり、マザーガラス基板１０ＭＧは、複数の単位基板を含む「基板」である。このマザーガラス基板１０ＭＧは、ガラス製造工場にて製造されてから液晶パネル製造工場に搬入された後に各種処理がなされるのであるが、液晶パネル製造工場での受け入れに際しては洗浄装置２０による洗浄がなされている。本実施形態ではこの「受け入れ洗浄」にて用いる洗浄装置２０について説明する。従って、洗浄装置２０によって洗浄されるマザーガラス基板１０ＭＧは、その板面上に導電膜、絶縁膜などの構造物が非形成の状態とされる。
【００１５】
なお、マザーガラス基板１０ＭＧにおける表裏一対の板面のうち、一方の板面は、ガラス基板１０ＧＳにおける内側の板面と一致していて、フォトリソグラフィ法により各導電膜や各絶縁膜などが形成される処理が行われる処理予定面１０ＭＧ１とされる。これに対し、マザーガラス基板１０ＭＧにおける他方の板面は、ガラス基板１０ＧＳにおける外側の板面と一致していて、各導電膜や各絶縁膜などが形成される処理が行われない非処理予定面１０ＭＧ２とされる。
【００１６】
洗浄装置２０は、図２に示すように、紫外線洗浄槽２１と、ブラシ洗浄槽２２と、超音波洗浄槽２３と、乾燥槽２４と、を備える。紫外線洗浄槽２１は、搬入されたマザーガラス基板１０ＭＧに対して紫外線を照射するものであり、表面に付着していた有機系の異物ＦＭを分解したり、表面改質を図ったりすることができる。ブラシ洗浄槽２２は、詳しくは後述するが搬入されたマザーガラス基板１０ＭＧに対して洗浄液を供給しつつブラシ洗浄を行って表面に付着していた異物ＦＭの除去を図るものである。超音波洗浄槽２３は、例えば搬入されたマザーガラス基板１０ＭＧを洗浄液に浸漬しつつ洗浄液中にて超音波発振器に超音波を発振させることで、表面に付着した異物ＦＭを除去するものである。また、超音波洗浄槽２３は、例えばマザーガラス基板１０ＭＧに対して超音波が載った洗浄液を噴射する構成などであっても構わない。乾燥槽２４は、搬入されたマザーガラス基板１０ＭＧを所定の温度環境下で所定時間乾燥するものである。なお、紫外線洗浄槽２１は、乾式洗浄を行うのに対し、ブラシ洗浄槽２２及び超音波洗浄槽２３は、湿式洗浄を行うものである、と言える。以下、ブラシ洗浄槽２２について詳しく説明する。
【００１７】
ブラシ洗浄槽２２は、図３に示すように、槽本体３０と、槽本体３０内に配されてマザーガラス基板１０ＭＧを搬送する搬送部３１と、槽本体３０内に配されてマザーガラス基板１０ＭＧに洗浄液ＣＬを供給する洗浄液供給部３２と、槽本体３０内に配されてマザーガラス基板１０ＭＧを表裏両側から挟み込む形で配される第１回転ブラシ３３及び第２回転ブラシ３４と、を備える。なお、図３に示されるＸ軸方向がマザーガラス基板１０ＭＧの搬送方向と一致しており、図３における左側がマザーガラス基板１０ＭＧの搬送方向の上流側であり、右側がマザーガラス基板１０ＭＧの搬送方向の下流側である。槽本体３０は、中空の箱型をなしており、マザーガラス基板１０ＭＧの搬送方向についての上流側及び下流側の各壁部には、マザーガラス基板１０ＭＧの搬入及び搬出を行うための搬入口３０Ａ及び搬出口３０Ｂが設けられている。槽本体３０に設けられた搬入口３０Ａは、紫外線洗浄槽２１（図２参照）における図示しない搬出口に連通する形で開口するのに対し、搬出口３０Ｂは、超音波洗浄槽２３（図２参照）における図示しない搬入口に連通する形で開口している。これにより、紫外線洗浄槽２１から搬出されたマザーガラス基板１０ＭＧをブラシ洗浄槽２２に直接搬入することができるとともに、ブラシ洗浄槽２２から搬出されたマザーガラス基板１０ＭＧを超音波洗浄槽２３に直接搬入することができる。
【００１８】
搬送部３１は、図３に示すように、マザーガラス基板１０ＭＧをその板面が水平方向に並行する姿勢に保ちつつ搬送するものである。搬送部３１は、Ｙ軸方向に並行する軸心を有するシャフト３１Ａと、シャフト３１Ａに軸支されてマザーガラス基板１０ＭＧの板面に当接されるローラ３１Ｂと、を有する。なお、図３における紙面の法線方向がＹ軸方向である。搬送部３１を構成するシャフト３１Ａ及びローラ３１Ｂは、槽本体３０内においてＸ軸方向について間隔を空けて複数組が並んで配されるとともに、マザーガラス基板１０ＭＧに対してＺ軸方向について下側に配されている。搬送部３１により搬送されるマザーガラス基板１０ＭＧは、処理予定面１０ＭＧ１がＺ軸方向について上側を向くとともに非処理予定面１０ＭＧ２が下側を向く姿勢とされる。従って、搬送部３１は、マザーガラス基板１０ＭＧにおける非処理予定面１０ＭＧ２を支持しつつ搬送する。シャフト３１Ａは、軸心が、マザーガラス基板１０ＭＧの搬送方向と交差し且つマザーガラス基板１０ＭＧの板面に沿う方向に並行している、と言える。このシャフト３１Ａは、動力源であるモータ（図示せず）に接続されることで、図３に示す時計回り方向、つまりマザーガラス基板１０ＭＧの搬送方向の正方向に回転可能とされる。ローラ３１Ｂは、各シャフト３１Ａに対して軸心に沿う方向、つまりＹ軸方向について複数ずつが間隔を空けて並ぶ形で設けられている。以上により、搬送部３１は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に沿って並ぶ複数ずつのローラ３１Ｂによってマザーガラス基板１０ＭＧにおける非処理予定面１０ＭＧ２を万遍なくＺ軸方向について下側から支持しつつシャフト３１Ａの回転に伴ってＸ軸方向に沿って下流側から上流側へ向けて搬送する。なお、搬送部３１は、ブラシ洗浄槽２２以外の各槽２１，２３，２４にも設けられており、隣り合う槽２１〜２４の間を跨ぐ形でマザーガラス基板１０ＭＧの搬送を連続的に行うことができる。
【００１９】
洗浄液供給部３２は、図３に示すように、槽本体３０における搬入口３０Ａ付近から搬出口３０Ｂ付近に至るまでＸ軸方向について間隔を空けて複数が配されている。大部分の洗浄液供給部３２は、搬送部３１に対してマザーガラス基板１０ＭＧを挟んでＺ軸方向について上側に配されている。従って、これらの洗浄液供給部３２から吐出された洗浄液ＣＬは、重力によって落下して少なくともマザーガラス基板１０ＭＧにおける処理予定面１０ＭＧ１上に供給される。一部の洗浄液供給部３２は、搬送部３１に対してマザーガラス基板１０ＭＧを挟んでＺ軸方向について下側に配されている。従って、この洗浄液供給部３２から吐出された洗浄液ＣＬは、重力に抗しつつマザーガラス基板１０ＭＧにおける非処理予定面１０ＭＧ２に供給される。マザーガラス基板１０ＭＧの下側に位置する洗浄液供給部３２は、Ｘ軸方向について搬入口３０Ａ付近に配されており、マザーガラス基板１０ＭＧの上側に位置する洗浄液供給部３２との間でマザーガラス基板１０ＭＧを挟み込んでいる。マザーガラス基板１０ＭＧの上側に位置する洗浄液供給部３２には、マザーガラス基板１０ＭＧの処理予定面１０ＭＧ１と正対配置されるものと、マザーガラス基板１０ＭＧとの間に後述する第２回転ブラシ３４が介在していて第２回転ブラシ３４に対して上側に配されるものが含まれる。第２回転ブラシ３４の上側に位置する洗浄液供給部３２は、第２回転ブラシ３４を介してマザーガラス基板１０ＭＧに洗浄液液ＣＬを供給する。なお、洗浄液供給部３２から吐出される洗浄液ＣＬは、例えば純水または超純水などとされる。また、洗浄液供給部３２は、図示は省略するが、Ｙ軸方向について複数が並んで配されている。
【００２０】
第１回転ブラシ３３及び第２回転ブラシ３４は、図３に示すように、２組がＸ軸方向について離れた位置に配されている。従って、搬送部３１により搬送されるマザーガラス基板１０ＭＧは、上流側と下流側とでそれぞれ第１回転ブラシ３３及び第２回転ブラシ３４によって挟まれてブラシ洗浄される。このうちの第１回転ブラシ３３は、図４に示すように、マザーガラス基板１０ＭＧに対してＺ軸方向について搬送部３１側、つまり下側に配されている。従って、第１回転ブラシ３３は、マザーガラス基板１０ＭＧの非処理予定面１０ＭＧ２に当接することで非処理予定面１０ＭＧ２のブラシ洗浄を行うことができる。第１回転ブラシ３３は、回転軸となる第１軸部３３Ａと、第１軸部３３Ａに植え込まれた多数本の第１毛材３３Ｂと、から構成され、いわゆる植え込み式ロールブラシである。第１軸部３３Ａは、動力源であるモータ（図示せず）に接続されることで、図３に示す時計回り方向、つまり搬送部３１によるマザーガラス基板１０ＭＧの搬送方向の正方向に回転可能とされる。詳しくは、第１回転ブラシ３３は、マザーガラス基板１０ＭＧの非処理予定面１０ＭＧ２に当接される第１毛材３３Ｂがマザーガラス基板１０ＭＧの搬送方向の正方向に進行するよう回転される。第１毛材３３Ｂは、ナイロンなどの合成樹脂材料からなり、スポンジなどの多孔質材に比べると、硬質である。第１毛材３３Ｂは、第１軸部３３Ａの外周面のほぼ全域にわたって放射状に外向きに突き出す形で配されている。第１毛材３３Ｂは、マザーガラス基板１０ＭＧに対して直接当接する当接部品である。第１回転ブラシ３３は、第１軸部３３Ａの回転に伴って多数本の第１毛材３３Ｂがマザーガラス基板１０ＭＧの非処理予定面１０ＭＧ２に対して間断無く擦れることで、非処理予定面１０ＭＧ２に付着していた異物ＦＭを剥離して除去することができる。マザーガラス基板１０ＭＧは、回転される第１回転ブラシ３３の第１毛材３３Ｂが非処理予定面１０ＭＧ２に当たりつつ搬送方向の正方向に移動されることで、搬送方向の下流側への移動が補助・推進されるようになっている。
【００２１】
第２回転ブラシ３４は、図４に示すように、マザーガラス基板１０ＭＧに対してＺ軸方向について搬送部３１側とは反対側、つまり上側に配されており、Ｚ軸方向について第１回転ブラシ３３との間でマザーガラス基板１０ＭＧを挟み込んでいる。従って、第２回転ブラシ３４は、マザーガラス基板１０ＭＧの処理予定面１０ＭＧ１に当接することで処理予定面１０ＭＧ１のブラシ洗浄を行うことができる。第２回転ブラシ３４は、回転軸となる第２軸部３４Ａと、第２軸部３４Ａに植え込まれた多数本の第２毛材３４Ｂと、から構成され、第１回転ブラシ３３と同様の植え込み式ロールブラシである。第２毛材３４Ｂは、第１回転ブラシ３３と同様に、スポンジなどの多孔質材に比べると硬質な合成樹脂製（例えばナイロン製）とされており、第２軸部３４Ａの外周面のほぼ全域にわたって放射状に外向きに突き出す形で配されている。つまり、第２回転ブラシ３４は、第１回転ブラシ３３と同一材料からなり、好ましくは同一部品とされる。第２毛材３４Ｂは、マザーガラス基板１０ＭＧに対して直接当接する当接部品である。そして、第２軸部３４Ａは、動力源であるモータ（図示せず）に接続されることで、図３に示す時計回り方向、つまり搬送部３１によるマザーガラス基板１０ＭＧの搬送方向の逆方向に回転可能とされる。詳しくは、第２回転ブラシ３４は、マザーガラス基板１０ＭＧの処理予定面１０ＭＧ１に当接される第２毛材３４Ｂがマザーガラス基板１０ＭＧの搬送方向の逆方向に進行するよう回転される。第２回転ブラシ３４は、第２軸部３４Ａの回転に伴って多数本の第２毛材３４Ｂがマザーガラス基板１０ＭＧの処理予定面１０ＭＧ１に対して間断無く擦れることで、処理予定面１０ＭＧ１に付着していた異物ＦＭを剥離して除去することができる。マザーガラス基板１０ＭＧは、回転される第２回転ブラシ３４の第２毛材３４Ｂが処理予定面１０ＭＧ１に当たりつつ搬送方向の逆方向に移動されることで、搬送方向の下流側への移動に対する抵抗力が作用するものの、その分処理予定面１０ＭＧ１に付着していた異物ＦＭには第２毛材３４Ｂから大きな力が作用して異物ＦＭの剥離・除去が効率的に促進されるようになっている。
【００２２】
第１回転ブラシ３３及び第２回転ブラシ３４は、図５に示すように、間にマザーガラス基板１０ＭＧが配されない状態では互いに当たり合うよう配されている。詳しくは、第１回転ブラシ３３及び第２回転ブラシ３４は、第１軸部３３Ａと第２軸部３４Ａとの間の距離が、第１毛材３３Ｂの長さと第２毛材３４Ｂの長さとを足し合わせた寸法よりも短くなるよう設置されている。これにより、第１回転ブラシ３３及び第２回転ブラシ３４は、マザーガラス基板１０ＭＧの洗浄を行わない場合、第１毛材３３Ｂと第２毛材３４Ｂとの先端部分同士が当たり合う関係となっている。第１回転ブラシ３３と第２回転ブラシ３４との間にマザーガラス基板１０ＭＧが配されない状態は、例えば複数のマザーガラス基板１０ＭＧを間欠的に搬送する場合に生じ得る。このとき、第１回転ブラシ３３及び第２回転ブラシ３４は、毛材３３Ｂ，３４Ｂ同士が互いに当たり合いつつそれぞれ回転されることで、各回転ブラシ３３，３４に付着していた異物ＦＭを除去することができる。これにより、各回転ブラシ３３，３４の毛材３３Ｂ，３４Ｂに付着していた異物ＦＭによりマザーガラス基板１０ＭＧが汚染される事態を生じ難くすることができる。しかも、第２回転ブラシ３４には、Ｚ軸方向について上側、つまりマザーガラス基板１０ＭＧ側とは反対側に配された洗浄液供給部３２から洗浄液ＣＬが供給されるようになっているから、洗浄液ＣＬを利用して各回転ブラシ３３，３４の毛材３３Ｂ，３４Ｂに付着していた異物ＦＭをより確実に除去することができる。
【００２３】
次に、上記のような構成の洗浄装置２０におけるブラシ洗浄槽２２の作用について説明する。ブラシ洗浄槽２２に搬入されるマザーガラス基板１０ＭＧは、洗浄装置２０における上流側に配された紫外線洗浄槽２１にて表面に付着した異物ＦＭに含まれる有機系の異物ＦＭが予め分解された状態とされている。ブラシ洗浄槽２２の槽本体３０における搬入口３０Ａから内部に搬入されたマザーガラス基板１０ＭＧは、図３に示すように、搬送部３１によってＸ軸方向に沿って下流側へ向けて搬送されて搬出口３０Ｂから搬出されるまでの間に、洗浄液供給部３２から洗浄液ＣＬの供給を受けつつ２組の第１回転ブラシ３３及び第２回転ブラシ３４によってそれぞれブラシ洗浄される。
【００２４】
第１回転ブラシ３３は、図４に示すように、第１軸部３３Ａが軸心周りに同図の時計回り方向に回転されると、第１毛材３３Ｂがマザーガラス基板１０ＭＧの非処理予定面１０ＭＧ２に対して擦れ当たりつつ図４に示す左側、つまり搬送方向の正方向に移動されることになる。これにより、搬送部３１によるマザーガラス基板１０ＭＧの搬送が補助・推進されるので、マザーガラス基板１０ＭＧのスムーズな搬送が担保され、搬送停止に陥る事態が生じ難くなって高い生産性が得られる。これに対し、第２回転ブラシ３４は、第２軸部３４Ａが軸心周りに図４の時計回り方向に回転されると、第２毛材３４Ｂがマザーガラス基板１０ＭＧの処理予定面１０ＭＧ１に対して擦れ当たりつつ図４に示す右側、つまり搬送方向の逆方向に移動されることになる。このため、搬送部３１により搬送方向の下流側へ向けて移動されるマザーガラス基板１０ＭＧには抵抗力が作用するものの、その抵抗力の分だけ処理予定面１０ＭＧ１に付着していた異物ＦＭには第２毛材３４Ｂから引き剥がすような大きな力が作用することになる。これにより、異物ＦＭの剥離・除去が効率的に促進されるので、マザーガラス基板１０ＭＧの処理予定面１０ＭＧ１上に異物ＦＭが残存する事態が生じ難くなる。従って、洗浄装置２０による「受け入れ洗浄」を終えた後に、マザーガラス基板１０ＭＧの処理予定面１０ＭＧ１に金属膜を成膜してパターニングすることでゲート配線やソース配線などの配線や端子を形成する処理を行ったとき、処理予定面１０ＭＧ１上に異物ＦＭが存在しないことで、配線や端子が異物ＦＭと共に剥離する、といった不具合が生じ難くなる。
【００２５】
しかも、第１回転ブラシ３３及び第２回転ブラシ３４は、図３に示すように、Ｘ軸方向について離間した位置に２組が配されているので、マザーガラス基板１０ＭＧを搬送方向についての上流側と下流側とでそれぞれ第１回転ブラシ３３及び第２回転ブラシ３４によって挟んで洗浄することができる。これにより、異物ＦＭをより効率的に除去することができる。さらには、第１回転ブラシ３３及び第２回転ブラシ３４は、同一材料からなるので、マザーガラス基板１０ＭＧとの間に生じる摩擦抵抗がバランス良く作用し、仮に第１回転ブラシ及び第２回転ブラシが異なる材料からなる場合に比べると、搬送停止に陥る事態がより生じ難くなる。また、複数のマザーガラス基板１０ＭＧを間欠的に搬送して洗浄処理を行う場合のように、第１回転ブラシ３３及び第２回転ブラシ３４の間にマザーガラス基板１０ＭＧが配されない状態では毛材３３Ｂ，３４Ｂ同士が当たり合うようになっているので、第１回転ブラシ３３及び第２回転ブラシ３４を自己洗浄することができて各回転ブラシ３３，３４に付着していた異物ＦＭを除去することができる。このとき、第２回転ブラシ３４には、洗浄液供給部３２から洗浄液供給部３２が供給されるようになっているので、第１回転ブラシ３３及び第２回転ブラシ３４の自己洗浄を効率的に行うことができる。
【００２６】
以上説明したように本実施形態の洗浄装置２０は、一方の板面が処理予定面１０ＭＧ１とされて他方の板面が非処理予定面１０ＭＧ２とされるマザーガラス基板（基板）１０ＭＧを搬送する搬送部３１と、少なくともマザーガラス基板１０ＭＧに洗浄液ＣＬを供給する洗浄液供給部３２と、マザーガラス基板１０ＭＧの非処理予定面１０ＭＧ２に当接しつつ搬送部３１によるマザーガラス基板１０ＭＧの搬送方向の正方向に回転する第１回転ブラシ３３と、第１回転ブラシ３３との間でマザーガラス基板１０ＭＧを挟むよう配されていてマザーガラス基板１０ＭＧの処理予定面１０ＭＧ１に当接しつつ搬送方向の逆方向に回転する第２回転ブラシ３４と、を備える。
【００２７】
このようにすれば、搬送部３１により搬送されるマザーガラス基板１０ＭＧは、洗浄液供給部３２から洗浄液ＣＬが供給されるとともに、回転する第１回転ブラシ３３及び第２回転ブラシ３４によって挟まれることで洗浄が図られて両板面に付着していた異物ＦＭが除去される。マザーガラス基板１０ＭＧのうちの一方の板面は、当該洗浄装置２０による洗浄後に所定の処理がなされる処理予定面１０ＭＧ１とされるのに対し、他方の板面は、当該洗浄装置２０による洗浄後に処理がなされない非処理予定面１０ＭＧ２とされる。第１回転ブラシ３３は、マザーガラス基板１０ＭＧの非処理予定面１０ＭＧ２に当接されて非処理予定面１０ＭＧ２を洗浄するのに対し、第２回転ブラシ３４は、マザーガラス基板１０ＭＧの処理予定面１０ＭＧ１に当接されて処理予定面１０ＭＧ１を洗浄する。そして、第１回転ブラシ３３は、搬送部３１によるマザーガラス基板１０ＭＧの搬送方向の正方向に回転するので、マザーガラス基板１０ＭＧの搬送を補助することができる。これにより、マザーガラス基板１０ＭＧのスムーズな搬送が担保されるので、搬送停止に陥る事態が生じ難くなって高い生産性が得られる。これに対し、第２回転ブラシ３４は、搬送部３１によるマザーガラス基板１０ＭＧの搬送方向の逆方向に回転することで、マザーガラス基板１０ＭＧの処理予定面１０ＭＧ１に付着していた異物ＦＭを効率的に除去することができる。これにより、異物ＦＭの残存に起因して当該洗浄装置２０による洗浄後に行われる処理に不具合が生じ難くなる。ここで言う「処理」の一例としては、マザーガラス基板１０ＭＧの処理予定面１０ＭＧ１に金属膜を成膜してパターニングすることで配線を形成する処理が挙げられるが、上記したようにマザーガラス基板１０ＭＧの処理予定面１０ＭＧ１に付着していた異物ＦＭが第２回転ブラシ３４によって効率的に除去されることで、処理予定面１０ＭＧ１に形成された配線が残存した異物ＦＭと共に剥離する、などの不具合が生じ難くなる。
【００２８】
また、第１回転ブラシ３３及び第２回転ブラシ３４は、複数組が搬送方向について離れた位置に配されている。このようにすれば、搬送部３１により搬送されるマザーガラス基板１０ＭＧは、搬送方向についての上流側と下流側とでそれぞれ第１回転ブラシ３３及び第２回転ブラシ３４によって挟まれて洗浄される。これにより、異物ＦＭをより効率的に除去することができる。
【００２９】
また、第１回転ブラシ３３及び第２回転ブラシ３４は、同一材料からなる。第１回転ブラシ３３及び第２回転ブラシ３４が回転しつつマザーガラス基板１０ＭＧに当接されるのに伴って摩擦抵抗が生じる。第１回転ブラシ３３及び第２回転ブラシ３４は、同一材料からなるので、マザーガラス基板１０ＭＧとの間に生じる摩擦抵抗がバランス良く作用し、仮に第１回転ブラシ及び第２回転ブラシが異なる材料からなる場合に比べると、搬送停止に陥る事態がより生じ難くなる。
【００３０】
また、第１回転ブラシ３３及び第２回転ブラシ３４は、間にマザーガラス基板１０ＭＧが配されない状態では互いに当たり合うよう配される。例えば複数のマザーガラス基板１０ＭＧを間欠的に搬送する場合、第１回転ブラシ３３と第２回転ブラシ３４との間にマザーガラス基板１０ＭＧが配されない状態が生じ得る。このとき、第１回転ブラシ３３と第２回転ブラシ３４とが互いに当たり合いつつ回転されることで、各回転ブラシ３３，３４に付着していた異物ＦＭを除去することができる。これにより、各回転ブラシ３３，３４に付着していた異物ＦＭによりマザーガラス基板１０ＭＧが汚染される事態を生じ難くすることができる。
【００３１】
また、洗浄液供給部３２は、第１回転ブラシ３３及び第２回転ブラシ３４の少なくとも一方に対してマザーガラス基板１０ＭＧ側とは反対側に配されていて洗浄液ＣＬを供給する。このようにすれば、回転される第１回転ブラシ３３及び第２回転ブラシ３４の少なくとも一方には、マザーガラス基板１０ＭＧ側とは反対側に配される洗浄液供給部３２から洗浄液ＣＬが供給されるので、第１回転ブラシ３３と第２回転ブラシ３４との間にマザーガラス基板１０ＭＧが配されない状態では、供給される洗浄液ＣＬを利用することで各回転ブラシ３３，３４に付着していた異物ＦＭをより確実に除去することができる。
【００３２】
また、搬送部３１は、マザーガラス基板１０ＭＧをその板面が水平方向に並行する姿勢に保ちつつ搬送していて、マザーガラス基板１０ＭＧの搬送方向と交差し且つマザーガラス基板１０ＭＧの板面に沿う方向に並行する軸心を有するシャフト３１Ａと、シャフト３１Ａに軸支されてマザーガラス基板１０ＭＧの板面に当接されるローラ３１Ｂと、を有する。このようにすれば、シャフト３１Ａに軸支されたローラ３１Ｂは、マザーガラス基板１０ＭＧの板面に当接することで、マザーガラス基板１０ＭＧを板面が水平方向に並行する姿勢に保ちつつ安定的に搬送することができる。
【００３３】
＜実施形態２＞
本発明の実施形態２を図６によって説明する。この実施形態２では、第１回転ブラシ１３３及び第２回転ブラシ１３４の材料を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【００３４】
本実施形態に係る第１回転ブラシ１３３及び第２回転ブラシ１３４は、図６に示すように、マザーガラス基板１１０ＭＧの搬送方向についての上流側に配されるものと、下流側に配されるものと、で材料が異なる構成とされている。詳しくは、マザーガラス基板１１０ＭＧの搬送方向について上流側に配される第１回転ブラシ１３３及び第２回転ブラシ１３４は、上記した実施形態１に記載されたものと同様に、各軸部１３３Ａ，１３４Ａにナイロンなどの合成樹脂材料からなる各毛材１３３Ｂ，１３４Ｂを設置した構成とされる。これに対し、マザーガラス基板１１０ＭＧの搬送方向について下流側に配される第１回転ブラシ１３３及び第２回転ブラシ１３４は、各毛材１３３Ｂ，１３４Ｂに比べると軟質な多孔質材３５，３６をそれぞれ有している。具体的には、第１回転ブラシ１３３及び第２回転ブラシ１３４が有する第１多孔質材３５及び第２多孔質材３６は、ＰＶＡ（polyvinyl alcohol）などの合成樹脂材料からなり、表面及び内部に微細な気孔を多数有するスポンジ状をなしている。従って、第１多孔質材３５及び第２多孔質材３６は、マザーガラス基板１１０ＭＧの板面に当たる箇所が潰れるよう容易に弾性変形するので、マザーガラス基板１１０ＭＧの板面に対する接触面積が各毛材１３３Ｂ，１３４Ｂに比べると大きくなっている。これにより、マザーガラス基板１１０ＭＧの板面上に残存する異物（本実施形態では図示せず）をぬぐい取ることができる。第１多孔質材３５及び第２多孔質材３６は、略円筒状をなしており、第１軸部１３３Ａ及び第２軸部１３４Ａに対して外嵌された状態で取り付けられることで、第１軸部１３３Ａ及び第２軸部１３４Ａと共に回転することが可能とされる。第１多孔質材３５及び第２多孔質材３６は、外周面に多数の凹凸を有しており、その凹凸によってマザーガラス基板１１０ＭＧの板面上に残存する異物を効率的にぬぐい取ることができる。また、第１多孔質材３５及び第２多孔質材３６は、マザーガラス基板１１０ＭＧに対して直接当接する当接部品である、と言える。
【００３５】
続いて、本実施形態に係るブラシ洗浄槽１２２の作用について説明する。槽本体１３０内において搬送部１３１により搬送されるマザーガラス基板１１０ＭＧは、搬送方向についての上流側にて第１回転ブラシ１３３及び第２回転ブラシ１３４の第１毛材１３３Ｂ及び第２ヶ材１３４Ｂによって洗浄される。このとき、処理予定面１１０ＭＧ１に付着していた異物は、第１多孔質材３５及び第２多孔質材３６に比べて硬い材質とされる第１毛材１３３Ｂ及び第２ヶ材１３４Ｂによって処理予定面１１０ＭＧ１及び非処理予定面１１０ＭＧ２から掻き取られて効率的に剥離される。その後、マザーガラス基板１１０ＭＧは、搬送方向についての下流側にて比較的柔らかい材質とされる第１回転ブラシ１３３及び第２回転ブラシ１３４の第１多孔質材３５及び第２多孔質材３６によって洗浄される。このとき、第１回転ブラシ１３３は、マザーガラス基板１１０ＭＧの非処理予定面１１０ＭＧ２に当接される第１多孔質材３５がマザーガラス基板１１０ＭＧの搬送方向の正方向に進行するよう回転されるのに対し、第２回転ブラシ１３４は、マザーガラス基板１１０ＭＧの処理予定面１１０ＭＧ１に当接される第２多孔質材３６がマザーガラス基板１１０ＭＧの搬送方向の逆方向に進行するよう回転される。そして、上流側にて第１毛材１３３Ｂ及び第２ヶ材１３４Ｂによって処理予定面１１０ＭＧ１及び非処理予定面１１０ＭＧ２から剥離されて処理予定面１１０ＭＧ１及び非処理予定面１１０ＭＧ２上に残存していた異物は、処理予定面１１０ＭＧ１及び非処理予定面１１０ＭＧ２に対して密着するよう潰れる第１多孔質材３５及び第２多孔質材３６によって効率的にぬぐい取られる。以上により、マザーガラス基板１１０ＭＧの処理予定面１１０ＭＧ１から異物を効率的に除去することができる。
【００３６】
以上説明したように本実施形態によれば、少なくとも第２回転ブラシ１３４は、搬送方向について上流側に配されるものが、下流側に配されるものよりも硬い材質とされる。このようにすれば、搬送部１３１により搬送されるマザーガラス基板１１０ＭＧは、搬送方向についての上流側にて比較的硬い材質とされる第２回転ブラシ１３４によって洗浄されることで、処理予定面１１０ＭＧ１に付着していた異物が処理予定面１１０ＭＧ１から効率的に剥離される。その後、マザーガラス基板１１０ＭＧは、搬送方向についての下流側にて比較的柔らかい材質とされる第２回転ブラシ１３４によって洗浄されることで、処理予定面１１０ＭＧ１から剥離されて処理予定面１１０ＭＧ１上に残存していた異物が効率的にぬぐい取られる。以上により、マザーガラス基板１１０ＭＧの処理予定面１１０ＭＧ１から異物を効率的に除去することができる。
【００３７】
また、搬送方向について上流側に配される第２回転ブラシ１３４は、多数本の第２毛材１３４Ｂを有するのに対し、搬送方向について下流側に配される第２回転ブラシ１３４は、第２多孔質材３６を有する。このようにすれば、搬送方向について上流側に配される第２回転ブラシ１３４が有する多数本の第２毛材１３４Ｂによってマザーガラス基板１１０ＭＧの処理予定面１１０ＭＧ１に付着していた異物を処理予定面１１０ＭＧ１から効率的に剥離することができる。搬送方向について下流側に配される第２回転ブラシ１３４が有する第２多孔質材３６によってマザーガラス基板１１０ＭＧの処理予定面１１０ＭＧ１から剥離されて処理予定面１１０ＭＧ１上に残存していた異物を効率的にぬぐい取ることができる。
【００３８】
＜実施形態３＞
本発明の実施形態３を図７または図８によって説明する。この実施形態３では、上記した実施形態１からマザーガラス基板２１０ＭＧの搬送方法を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【００３９】
本実施形態に係る搬送部２３１は、図７及び図８に示すように、マザーガラス基板２１０ＭＧをその板面が鉛直方向であるＺ軸方向に並行する姿勢、つまり水平方向に対して直交する姿勢に保ちつつ搬送する。詳しくは、搬送部２３１は、Ｙ軸方向、つまりマザーガラス基板２１０ＭＧの搬送方向及びマザーガラス基板２１０ＭＧの板面の双方と直交する方向に並行する軸心を有するシャフト２３１Ａと、シャフト２３１Ａに軸支されてマザーガラス基板２１０ＭＧの端面に当接されるローラ２３１Ｂと、を有する。このようにすれば、シャフト２３１Ａに軸支されたローラ２３１Ｂは、マザーガラス基板２１０ＭＧの端面に当接することで、マザーガラス基板２１０ＭＧを板面が水平方向に対して直交する姿勢に保ちつつ搬送することができる。搬送部２３１により搬送されるマザーガラス基板２１０ＭＧは、板面が水平方向に対して直交する姿勢に保たれているから、自重によって撓んで板面内に凹部が生じ難くなっている。これにより、大型のマザーガラス基板２１０ＭＧを洗浄する上で好適となる。
【００４０】
以上説明したように本実施形態によれば、搬送部２３１は、マザーガラス基板２１０ＭＧをその板面が水平方向に対して交差する姿勢に保ちつつ搬送していて、マザーガラス基板２１０ＭＧの搬送方向及びマザーガラス基板２１０ＭＧの板面の双方と交差する方向に並行する軸心を有するシャフト２３１Ａと、シャフト２３１Ａに軸支されてマザーガラス基板２１０ＭＧの端面に当接されるローラ２３１Ｂと、を有する。このようにすれば、シャフト２３１Ａに軸支されたローラ２３１Ｂは、マザーガラス基板２１０ＭＧの端面に当接することで、マザーガラス基板２１０ＭＧを板面が水平方向に対して交差する姿勢に保ちつつ搬送することができる。搬送部２３１により搬送されるマザーガラス基板２１０ＭＧは、板面が水平方向に対して交差する姿勢に保たれているから、自重によって撓んで板面内に凹部が生じ難くなっている。これにより、大型のマザーガラス基板２１０ＭＧを洗浄する上で好適となる。
【００４１】
＜他の実施形態＞
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
（１）上記した各実施形態では、第１回転ブラシ及び第２回転ブラシが毛材を有する場合に、毛材が合成樹脂製とされる場合を示したが、合成樹脂材料以外の材料からなる毛材を用いることも可能である。例えば、金属材料（鋼線、ステンレス線など）、獣毛などの動物繊維、植物繊維などからなる毛材を用いることができる。また、砥粒入りナイロンからなる毛材を用いることもできる。
（２）上記した各実施形態では、洗浄装置による洗浄後に金属膜からなる配線を形成する処理を行う場合を例示したが、それ以外にも、洗浄装置による洗浄後に、絶縁膜や透明電極膜や配向膜を成膜・パターニングする処理や、何らかの材料からなる膜を成膜した後でその表面を改質する処理や、配向膜の配向処理などを行う場合であってもよい。
（３）上記した実施形態１，３では、第１回転ブラシ及び第２回転ブラシが共に毛材を有する場合を示したが、第１回転ブラシ及び第２回転ブラシが共に実施形態２に記載したような多孔質材を有する構成であっても構わない。それ以外にも、例えば第１回転ブラシのみが多孔質材を有する構成であっても構わない。なお、第２回転ブラシは、処理予定面の異物を効率的に剥離するために毛材を有する構成であることが好ましいが、必ずしもその限りではない。
（４）上記した実施形態２では、搬送方向の上流側と下流側とで第１回転ブラシの材質が異なる場合を示したが、搬送方向の上流側と下流側に配される第１回転ブラシの材質を同じにすることも可能である。その場合、各第１回転ブラシが共に毛材を有する構成であってもよいが、各第１回転ブラシが共に多孔質材を有する構成であっても構わない。
（５）上記した実施形態２では、多孔質材の材料名としてＰＶＡを例示したが、多孔質材の材料として例えばウレタン樹脂やオレフィン系樹脂などを用いることも可能である。
（６）上記した実施形態３では、搬送部によりマザーガラス基板の板面を鉛直方向に並行する姿勢で搬送する場合を示したが、搬送部によりマザーガラス基板の板面を鉛直方向及び水平方向の双方に対する斜め方向に並行する姿勢で搬送するようにしても構わない。
（７）上記した実施形態３に記載した構成に、実施形態２に記載した構成を組み合わせることも勿論可能である。
（８）上記した各実施形態では、第１回転ブラシ及び第２回転ブラシがマザーガラス基板の搬送方向について離間した位置に２組配される場合を示したが、第１回転ブラシ及び第２回転ブラシがマザーガラス基板の搬送方向について離間した位置に３組以上配される構成であっても構わない。
（９）上記した各実施形態での図示以外にも、第１回転ブラシ及び第２回転ブラシの配置などは適宜に変更可能である。また、洗浄液供給部の設置数や配置などは適宜に変更可能である。また、搬送部を構成するシャフト及びローラの設置数や配置間隔などは適宜に変更可能である。
（１０）上記した各実施形態では、洗浄装置がブラシ洗浄槽以外に紫外線洗浄槽、超音波洗浄槽及び乾燥槽を有する構成とされる場合を示したが、ブラシ洗浄槽以外の構成について適宜に変更することが可能である。
（１１）上記した各実施形態では、「受け入れ洗浄」で用いられる洗浄装置を例示したが、「受け入れ洗浄」の後で行われる洗浄工程で用いられる洗浄装置であっても構わない。例えば、フォトリソグラフィ法により各種膜を成膜・パターニングする際に行われる洗浄工程や、マザーガラス基板を複数のガラス基板に分割した後で行われる洗浄工程などで用いられる洗浄装置にも本発明は適用可能である。
（１２）上記した各実施形態では、「基板」としてマザーガラス基板を洗浄する洗浄装置を例示したが、非ガラス製の基板、例えば合成樹脂製の基板を洗浄する洗浄装置であっても構わない。
（１３）上記した各実施形態では、ブラシ洗浄槽で用いられる洗浄液が純水または超純水とされる場合を示したが、洗浄液が純水や超純水以外であっても構わない。
（１４）上記した各実施形態では、ＴＮ型やＶＡ型の液晶パネルを構成するガラス基板のマザーガラス基板を洗浄するための洗浄装置を示したが、ＩＰＳ型やＦＦＳ型の液晶パネルを構成するガラス基板のマザーガラス基板を洗浄するための洗浄装置であっても構わない。
（１５）上記した各実施形態では、液晶パネルを構成するガラス基板のマザーガラス基板を洗浄するための洗浄装置を示したが、液晶パネル以外の表示パネルを構成する基板を洗浄するための洗浄装置であっても構わない。液晶パネル以外の表示パネルとしては、例えば有機ＥＬパネル、ＥＰＤ（マイクロカプセル型電気泳動方式のディスプレイパネル）、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）表示パネルなどが挙げられる。
【符号の説明】
【００４２】
１０ＭＧ，１１０ＭＧ，２１０ＭＧ…マザーガラス基板（基板）、１０ＭＧ１，１１０ＭＧ１…処理予定面、１０ＭＧ２，１１０ＭＧ２…非処理予定面、２０…洗浄装置、３１，１３１，２３１…搬送部、３１Ａ，２３１Ａ…シャフト、３１Ｂ，２３１Ｂ…ローラ、３２…洗浄液供給部、３３，１３３…第１回転ブラシ、３４，１３４…第２回転ブラシ、３４Ｂ，１３４Ｂ…第２毛材（毛材）、３６…第２多孔質材（多孔質材）、ＣＬ…洗浄液
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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