(57)【要約】【課題】表示装置および表示装置の製造方法が提供される。【解決手段】本発明の一実施形態に係る表示装置は、導光板と、前記導光板の一面上に配置され、前記導光板よりも小さい屈折率を有する低屈折層と、前記低屈折層上に配置された波長変換層と、前記導光板の他面上に配置され、ベースフィルム、前記ベースフィルム上の樹脂層に形成されて、一方向に延びたライン形状を有する第１パターン、および前記第１パターンの表面上に形成された第２パターンを含む光学パターン層と、前記導光板と前記ベースフィルムとの間に配置された接着層とを含んでなり、前記接着層の屈折率は前記導光板の屈折率と同じかそれより大きい。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
導光板と、
前記導光板の一面上に配置され、前記導光板よりも小さい屈折率を有する低屈折層と、
前記低屈折層上に配置された波長変換層と、
前記導光板の他面上に配置され、ベースフィルム、前記ベースフィルム上の樹脂層に形成されて、一方向に延びたライン形状を有する第１パターン、および前記第１パターンの表面上に形成された第２パターンを含む光学パターン層と、
前記導光板と前記ベースフィルムとの間に配置された接着層とを含んでなり、
前記接着層の屈折率は前記導光板の屈折率と同じかそれよりより大きい、表示装置。
【請求項２】
前記導光板はガラス導光板であり、前記導光板の屈折率は１．４９乃至１．５１である、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記接着層の屈折率は１．４９乃至１．６１であり、前記接着層の屈折率と前記導光板の屈折率との差は０．１以下である、請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記光学パターン層の屈折率は前記導光板と同じかそれより大きい、請求項２に記載の表示装置。
【請求項５】
前記第２パターンは、前記第１パターンの表面から窪んだ形状を有する、請求項１に記載の表示装置。
【請求項６】
前記第２パターンの幅は前記第１パターンの幅よりも大きい、請求項１に記載の表示装置。
【請求項７】
前記第１パターンの幅は７０μｍ乃至１５０μｍであり、前記第２パターンの幅は１３０μｍ乃至１８０μｍである、請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
前記第１パターンは基底部、および前記基底部上に配置されるパターン部を含み、前記第２パターンは穴底部、および前記穴底部から延びる側壁を含み、前記穴底部における前記樹脂層の高さは前記基底部の高さよりも小さい、請求項１に記載の表示装置。
【請求項９】
前記導光板の一面に沿って延びる仮想の水平面に対して、前記側壁は第１角を成し、前記第１角は７．５°乃至５５°である、請求項８に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記光学パターン層は、前記導光板の一側面に隣接した部分に形成される面取り面をさらに含む、請求項１に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記面取り面は前記光学パターン層と前記接着層との界面に対して第２角を成し、前記第２角は１°乃至１０°である、請求項１０に記載の表示装置。
【請求項１２】
前記低屈折層の屈折率は１．２乃至１．４である、請求項１に記載の表示装置。
【請求項１３】
一面上に低屈折層および波長変換層が形成された導光板を準備する段階と、
ベースフィルムの一面上に樹脂層を形成する段階と、
スタンパーで樹脂層を加圧してパターン部を形成する段階と、
前記ベースフィルムの他面上に接着層を形成し、前記接着層上に配置される離型フィルムを形成する段階と、
前記離型フィルムを除去し、前記ベースフィルムと導光板とを接合する段階とを含んでなり、
前記接着層の屈折率は前記導光板の屈折率と同じかそれより大きい、表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記スタンパーは陰刻パターンおよび陽刻パターンを含み、前記パターン部は、前記陰刻パターンに対応する第１パターン、および前記陽刻パターンに対応する第２パターンを含む、請求項１３に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１５】
前記第１パターンはレンチキュラー形状を含み、前記第２パターンは前記第１パターンの表面からリセスされた形状を有する、請求項１４に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１６】
前記スタンパーは陰刻パターンを含み、前記パターン部は前記陰刻パターンに対応する第１パターンを含み、前記第１パターンの表面上に第２パターンを形成する段階をさらに含む、請求項１３に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１７】
前記第１パターンはレンチキュラー形状を含み、前記第１パターンの表面上に第２パターンを形成する段階は、前記第１パターン上にレーザーを照射して、前記第１パターンの表面から陥没した形状を有する前記第２パターンを形成する、請求項１６に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１８】
前記接着層上に配置される離型フィルムを形成する段階は、前記ベースフィルムの一面上に樹脂層を塗布する段階の前に行われる、請求項１３に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１９】
前記導光板はガラス導光板であり、前記導光板の屈折率は１．４９乃至１．５１である、請求項１３に記載の表示装置の製造方法。
【請求項２０】
前記接着層の屈折率は１．４９乃至１．６１であり、前記接着層の屈折率と前記導光板の屈折率との差は０．１以下である、請求項１９に記載の表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置および表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、バックライトアセンブリから光を受けて映像を表示する。一部のバックライトアセンブリは、光源と導光板を含む。導光板は、光源から光を受けて、表示パネルの側へと光の進行方向をガイドする。通常、光源として、ＬＥＤなどの点光源が多用される。ところが、点光源の場合は、光が拡散して放出されるので、導光板内で直進性が足りなくなるおそれがある。導光板内での光の直進性が損なわれると、対光面の輝度が減少する可能性がある。
【０００３】
また、最近では、液晶表示装置の色再現性などの画質を改善するために、波長変換フィルムを適用することが研究されている。通常、光源として青色光源を使用し、波長変換フィルムを導光板の上部に配置して白色の光に変換させる。波長変換フィルムは波長変換粒子を含むが、波長変換粒子は一般に水分に脆弱であってバリアフィルムで波長変換粒子を保護する。ところが、バリアフィルムは、価格が高く、厚さを増加させる原因になるおそれがある。また、導光板に波長変換フィルムを積層しなければならないので、複雑な組立工程が求められる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開2014-036017公報
【特許文献２】特開2007-213057公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明が解決しようとする課題は、直進性に優れた光ガイド機能および／または波長変換機能を有する光学部材を含む表示装置を提供することである。
【０００６】
本発明が解決しようとする他の課題は、不良発生の際に再利用が容易な表示装置を提供することにある。
【０００７】
本発明が解決しようとする別の課題は、直進性に優れた光ガイド機能および／または波長変換機能を有する光学部材を含む表示装置の製造方法を提供することである。
【０００８】
本発明が解決しようとする別の課題は、不良発生の際に再利用が容易な表示装置の製造方法を提供することである。
【０００９】
本発明の課題は上述した技術課題に限定されず、上述していない別の技術課題は以降の記載から当業者に明確に理解されるだろう。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記の課題を解決するための本発明の一実施形態に係る表示装置は、導光板と、前記導光板の一面上に配置され、前記導光板よりも小さい屈折率を有する低屈折層と、前記低屈折層上に配置された波長変換層と、前記導光板の他面上に配置され、ベースフィルム、前記ベースフィルム上の樹脂層に形成されて、一方向に延びたライン形状を有する第１パターン、および前記第１パターンの表面上に形成された第２パターンを含む光学パターン層と、前記導光板と前記ベースフィルムとの間に配置された接着層とを含んでなり、前記接着層の屈折率は前記導光板の屈折率と同じかそれより大きい。
【００１１】
また、前記導光板はガラス導光板であり、前記導光板の屈折率は１．４９乃至１．５１であり得る。
【００１２】
また、前記接着層の屈折率は１．４９乃至１．６１であり、前記接着層の屈折率と前記導光板の屈折率との差は０．１以下であり得る。
【００１３】
また、前記光学パターン層の屈折率は前記導光板と同じかそれより大きいのでありうる。
【００１４】
また、前記第２パターンは、前記第１パターンの表面から窪んだ形状を有することができる。
【００１５】
また、前記第２パターンの幅は、ライン状の各前記第１パターンの幅よりも大きいのでありうる。
【００１６】
また、前記第１パターンの幅は７０μｍ乃至１５０μｍであり、前記第２パターンの幅は１３０μｍ乃至１８０μｍであり得る。
【００１７】
また、前記第１パターンは基底部、および前記基底部上に配置されるパターン部を含み、前記第２パターンは穴底部、および前記穴底部から延びる側壁を含むが、前記穴底部における前記樹脂層の高さ（厚さ）は前記基底部の高さ（厚さ）よりも小さいのでありうる。
【００１８】
また、前記導光板の一面に沿って延びる仮想の水平面に対して、前記側壁は第１角を成し、前記第１角は７．５°乃至５５°であり得る。
【００１９】
また、光学パターン層は、前記導光板の一側面に隣接した部分に形成される面取り面（テーパー状に傾斜する端面）をさらに含むことができる。
【００２０】
また、前記面取り面は、前記光学パターン層と前記接着層との界面に対して第２角を成し、前記第２角は２°乃至１０°であり得る。
【００２１】
また、前記低屈折層の屈折率は１．２乃至１．４であり得る。
【００２２】
上記の課題を解決するための本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法は、一面上に低屈折層および波長変換層が形成された導光板を準備する段階と、ベースフィルムの一面上に樹脂層を形成する段階と、スタンパーで樹脂層を加圧してパターン部を形成する段階と、前記ベースフィルムの他面上に接着層を形成し、前記接着層上に配置される離型フィルムを形成する段階と、前記離型フィルムを除去し、前記ベースフィルムと導光板とを接合する段階とを含んでなり、前記接着層の屈折率は前記導光板の屈折率と同じかそれより大きいのでありうる。
【００２３】
また、前記スタンパーは陰刻パターンおよび陽刻パターンを含み、前記パターン部は前記陰刻パターンに対応する第１パターン、および前記陽刻パターンに対応する第２パターンを含むことができる。
【００２４】
また、前記第１パターンはレンチキュラー形状を含み、前記第２パターンは前記第１パターンの表面から凹んだ形状を有することができる。
【００２５】
また、前記スタンパーは陰刻パターンを含み、前記パターン部は前記陰刻パターンに対応する第１パターンを含むが、前記第１パターンの表面上に第２パターンを形成する段階をさらに含むことができる。
【００２６】
また、前記第１パターンはレンチキュラー形状を含み、前記第１パターンの表面上に第２パターンを形成する段階は、前記第１パターン上にレーザーを照射して、前記第１パターンの表面か陥没した形状を有する前記第２パターンを形成することができる。
【００２７】
また、前記接着層上に配置される離型フィルムを形成する段階は、前記ベースフィルムの一面上に樹脂層を塗布する段階の前に行われ得る。
【００２８】
また、前記導光板はガラス導光板であり、前記導光板の屈折率は１．４９乃至１．５１であり得る。
【００２９】
また、接着層の屈折率は１．４９乃至１．６１であり、前記接着層の屈折率と前記導光板の屈折率との差は０．１以下であり得る。
【発明の効果】
【００３０】
本発明の実施形態によれば、少なくとも次のような効果がある。
【００３１】
出光率に優れた表示装置を提供することができる。
【００３２】
不良発生の際に再利用が容易な表示装置を提供することができる。
【００３３】
本発明の実施形態に係る効果は以上で例示された内容によって限定されず、さらに様々な効果が本明細書に含まれている。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の一実施形態に係る光学部材の斜視図である。
【図２】図１のII−II’に沿って切断した断面図である。
【図３】本発明の一実施形態に係る表示装置の部分斜視図である。
【図４】本発明の一実施形態に係る表示装置の部分平面図である。
【図５】図４のVII−VII’線に沿って切断した断面図である。
【図６】図４のVI−VI’線に沿って切断した断面図である。
【図７】本発明の他の実施形態に係る表示装置の部分断面図である。
【図８】本発明の他の実施形態に係る表示装置の断面図である。
【図９】本発明の一実施形態に係る表示装置の断面図である。
【図１０】本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１１】本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１２】本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１３】本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１４】本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１５】本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１６】本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１７】本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１８】本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１９】本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図２０】本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図２１】本発明の他の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
本発明の利点、特徴、及びそれらを達成する方法は、添付図面と共に詳細に後述されている実施形態を参照すると明確になるだろう。しかし、本発明は、以下で開示する実施形態に限定されるものではなく、互いに異なる多様な形態で実現される。但し、本実施形態は、単に本発明の開示を完全たるものにし、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供されるものである。本発明は、請求項の範疇によってのみ定められる。
【００３６】
「第１」、「第２」などの用語は様々な構成要素を叙述するために使用されるが、これらの構成要素はこれらの用語によって限定されないのは勿論である。これらの用語は、単に一つの構成要素を他の構成要素と区別するために使用するものである。よって、以下で言及される第１構成要素は本発明の技術的思想内で第２構成要素であることもある。
【００３７】
以下、添付図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
【００３８】
本発明の利点、特徴、及びそれらを達成する方法は、添付図面と共に詳細に後述されている実施形態を参照すると明確になるだろう。しかし、本発明は、以下で開示する実施形態に限定されるものではなく、互いに異なる多様な形態で実現される。但し、本実施形態は、単に本発明の開示を完全たるものにし、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供されるものである。本発明は、請求項の範疇によってのみ定められる。
【００３９】
素子（ｅｌｅｍｅｎｔｓ）または層が他の素子または層の「上（ｏｎ）」にあると記載された場合は、他の素子または層の真上に存在する場合またはそれらの間に別の層または別の素子が介在している場合を全て含む。これに対し、素子が「直接上（ｄｉｒｅｃｔｌｙ  ｏｎ）」にあると記載された場合は、それらの間に別の素子または層が介在していないことを示す。明細書全体にわたり、同一の参照符号は同一の構成要素を指し示す。「および／または」は言及されたアイテムのそれぞれおよび一つ以上の全ての組み合わせを含む。
【００４０】
以下、添付図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
【００４１】
図１は一実施形態に係る光学部材の斜視図である。図２は図１のII−II’線に沿って切断した断面図である。
【００４２】
図１および図２を参照すると、本発明の一実施形態に係る表示装置は光学部材１００を含むことができる。一実施形態において、光学部材１００は、導光板１０と、導光板１０の上面１０ａ上に配置された低屈折層２０と、低屈折層２０上に配置された波長変換層３０と、導光板１０の下面１０ｂ上に配置された光学パターン層７０と、導光板１０と光学パターン層７０との間に配置される接着層ＡＤとを含んでなる。
【００４３】
導光板１０は、光の進行経路を導く役割を果たす。導光板１０は略多角柱形状を有することができる。すなわち、導光板１０を、垂直方向に沿って、幅方向または長手方向に切断した断面が、扁平な四角形、六角形または八角形でありうる。言い換えると、このような断面が、扁平な四角形でありうるが、扁平な四角形の下方の２つの隅角部、または４つの隅角部にて、面取りを行った形状であってもよい。導光板１０の平面形状は、長方形であり得るが、これに限定されるものではない。例示的な実施形態において、導光板１０は、平面形状が長方形であって、垂直方向及び長手方向に沿った断面にて、下方の隅角部が面取りされている一種の六角柱状をなすことができ、上面１０ａ、下面１０ｂおよび４つの側面１０ｓ（１０ｓ１、１０ｓ２、１０ｓ３、１０ｓ４）を含むことができる。
【００４４】
一実施形態において、導光板１０の上面１０ａと下面１０ｂは、それぞれ一つの平面上に位置し、上面１０ａが位置する平面と下面１０ｂが位置する平面とは略平行して全体的に均一な厚さを有することができる。ところが、これに限定されるものではなく、上面１０ａまたは下面１０ｂが複数の平面からなるか、或いは上面１０ａが位置する平面と下面１０ｂが位置する平面とが交差してもよい。例えば、くさび型導光板１０のように、一側面（例えば、入光面）からそれに対向する他側面（例えば、対光面）へ行くほど厚さが薄くなるのであってもよい。また、一側面（例えば、入光面）の近くでは、それに対向する他側面（例えば、対光面）の側へと進むにつれて上方に向かうように下面１０ｂが傾斜して厚さが減少した後、一側面（例えば、入光面）から、ある距離以上離れた領域では、上面１０ａと下面１０ｂが、互いに平行で、いずれも平坦な形状（平面状）に形成されてもよい。
【００４５】
一実施形態において、光源４００は、導光板１０の少なくとも一側面１０ｓに隣接して配置できる。図面では、導光板１０の一長辺が位置する側面１０ｓ１に、一つの細長いプリント回路基板４２０に実装された複数のＬＥＤ光源４１０が配置されている場合を例示したが、これに限定されるものではない。例えば、複数のＬＥＤ光源４１０が両長辺の側面１０ｓ１、１０ｓ３に隣接して配置されてもよく、一短辺または両短辺の側面１０ｓ２、１０ｓ４に隣接して配置されてもよい。図１の実施形態において、光源４００が隣接して配置された導光板１０の一長辺の側面１０ｓ１は、光源４００の光が直接入射する入光面（図面において、説明の便宜上、「１０ｓ１」と表記）となり、それに対向する他の長辺の側面１０ｓ３は、対光面（図面において、説明の便宜上、「１０ｓ３」と表記）となる。
【００４６】
一実施形態において、導光板は、ガラスからなるガラス導光板であり得る。この場合、導光板の屈折率は１．４９以上１．５１以下であり得る。
【００４７】
他の実施形態において、導光板１０は有機物質または無機物質からなり得る。例えば、導光板１０は、ＰＭＭＡ（Ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）、ＰＣ(polycarbonate)、ＰＥＴ(polyethylene terephtalate)などの有機物質またはガラス（ｇｌａｓｓ）などの無機物質からなり得るが、これらに限定されるものではない。
【００４８】
導光板１０の上面１０ａには低屈折層２０が配置される。低屈折層２０は、導光板１０と波長変換層３０との間に介在され、導光板１０の全反射を助ける。さらに具体的に説明すると、導光板１０によって、入光面１０ｓ１から対光面１０ｓ３の側へと、効率の良い光ガイドが行われるためには、導光板１０の上面１０ａおよび下面１０ｂで効果的な内部全反射が行われることが好ましい。導光板１０で内部全反射が行われ得る条件の一つは、導光板１０の屈折率が、それと光学的界面をなす媒質の屈折率に比べて大きいことである。導光板１０と光学的界面をなす媒質の屈折率が低いほど、全反射臨界角が小さくなり、さらに多くの内部全反射が行われ得る。
【００４９】
導光板１０がガラスからなる場合を例に挙げて説明すると、導光板１０の上面１０ａが空気層に晒されて、それと界面をなす場合には、一般な空気層の屈折率は約１であるので、十分な全反射が行われ得る。しかし、図２に示すように、導光板１０の上面１０ａに他の光学機能層が積層されて一体化されていれば、一般に十分な全反射が行われ難い。例えば、導光板１０の上面１０ａに屈折率１．５以上の物質層が積層されると、導光板１０の上面１０ａでは全反射が行われない。また、導光板１０の上面１０ａに導光板１０よりも屈折率が微細に小さい、例えば１．４９程度の物質層が積層されると、導光板１０の上面１０ａで内部全反射が行われるものの、臨界角があまり大きいため、十分な全反射が行われない。導光板１０の上面１０ａ上に積層される波長変換層３０は、通常１．５内外の屈折率を有するが、このような波長変換層３０が導光板１０の上面１０ａに直接積層されると、導光板１０の上面１０ａで十分な全反射が行われ難い。
【００５０】
導光板１０と波長変換層３０との間に介在されて導光板１０の上面１０ａと界面をなす低屈折層２０は、導光板１０よりも低い屈折率を有するため、導光板１０の上面１０ａで全反射が行われるようにする。また、低屈折層２０は、その上部に配置される物質層である波長変換層３０よりも低い屈折率を有するため、波長変換層３０が直接導光板１０の上面１０ａに配置される場合よりもさらに多い全反射が行われるようにする。
【００５１】
導光板１０の屈折率と低屈折層２０の屈折率との差は０．２以上であり得る。低屈折層２０の屈折率が導光板１０の屈折率よりも０．２以上小さい場合には、導光板１０の上面１０ａにより十分な全反射が行われ得る。導光板１０の屈折率と低屈折層２０の屈折率との差の上限には制限がないが、通常適用される導光板１０および低屈折層２０の屈折率を考慮すると、１以下であり得る。
【００５２】
低屈折層２０の屈折率は１．２乃至１．４の範囲にあり得る。一般に、固体相の媒質は、その屈折率を１に近づけるほど、製造コストが幾何級数的に増加する。低屈折層２０の屈折率が１．２以上であれば、過度な製造コストの増加を防ぐことができる。また、低屈折層２０の屈折率が１．４以下であることが、導光板１０の上面１０ａの全反射臨界角を十分に小さくすることに有利である。例示的な実施形態において、約１．２５の屈折率を有する低屈折層２０が適用できる。
【００５３】
上述した低屈折率を示すために、低屈折層２０はボイド（void；空孔・空隙）を含むことができる。ボイドは、内部が、真空であるか、或いは空気またはその他の気体などで充填され得る。各ボイド内の空間は、低屈折層２０を構成するパーティクル（例えば、球形シェル状などの中空パーティクル）やマトリクス材料などによって取り囲まれうる。
【００５４】
低屈折層２０の厚さは０．４μｍ〜２μｍであり得る。低屈折層２０の厚さが可視光の波長範囲、すなわち０．４μｍ以上である場合、導光板１０の上面と実効的な光学的界面をなすことができるため、導光板１０の上面でスネルの法則による全反射がよく行われ得る。低屈折層２０があまりにも厚い場合、光学部材１００の薄膜化に逆行し、材料の費用が増加し、光学部材１００の輝度の観点からも不利であるので、低屈折層２０は２μｍ以下の厚さに形成できる。例示的な実施形態において、低屈折層２０の厚さは約０．５μｍであり得る。
【００５５】
低屈折層２０は、導光板１０の上面１０ａの大部分を覆うが、導光板１０の縁の一部を露出させることができる。言い換えれば、低屈折層２０の側面２０ｓを基準に、導光板１０の側面１０ｓが突出するのでありうる。低屈折層２０が省かれることで露出する導光板１０の縁部の上面１０ａは、低屈折層２０の側面２０ｓがパッシベーション層４０によって安定的に覆われるようにするためのスペースを提供する。
【００５６】
低屈折層２０はコーティングなどの方法で形成できる。例えば、導光板１０の上面１０ａに低屈折層２０用組成物をスリットコーティングし、乾燥および硬化させて低屈折層２０を形成することができる。しかし、これに限定されるものではなく、他の様々な積層方法が適用できる。
【００５７】
低屈折層２０の上面１０ａには波長変換層３０が配置される。波長変換層３０は、入射した光の少なくとも一部について波長を変換する。波長変換層３０は、バインダー層と、バインダー層内に分散した波長変換粒子とを含むことができる。波長変換層３０は、波長変換粒子の他に、バインダー層に分散した散乱粒子をさらに含むことができる。
【００５８】
バインダー層は、波長変換粒子が分散する媒質であって、一般にバインダーと呼ばれる様々な樹脂組成物からなることができる。但し、これに限定されるものではなく、本明細書において、波長変換粒子および／または散乱粒子を分散配置させることができる媒質であれば、その名称、追加的な他の機能、構成物質などに関係なくバインダー層と呼ばれうる。
【００５９】
波長変換粒子は、入射した光の波長を変換する粒子であり、例えば、量子ドット（Ｑｕａｎｔｕｍ  ｄｏｔ：ＱＤ）、蛍光物質または燐光物質であり得る。波長変換粒子の一つの例である量子ドットについて詳細に説明すると、量子ドットは、数ナノメートルサイズの結晶構造を持つ物質であって、数百乃至数千個程度の原子から構成され、小さいサイズによりエネルギーバンドギャップ（ｂａｎｄ  ｇａｐ）が大きくなる、量子閉じ込め（ｑｕａｎｔｕｍ  ｃｏｎｆｉｎｅｍｅｎｔ）効果を示す。量子ドットのバンドギャップよりもエネルギーが高い波長の光が入射する場合、量子ドットは、その光を吸収して励起状態となり、特定の波長の光を放出しながら基底状態に落ちる。放出された光の波長はバンドギャップに該当する値を有する。量子ドットは、その大きさと組成などを調節すると、量子閉じ込め効果による発光特性を調節することができる。
【００６０】
波長変換粒子は、入射光を互いに異なる波長に変換する複数の波長変換粒子を含むことができる。例えば、波長変換粒子は、特定の波長の入射光を第１波長に変換して放出する第１波長変換粒子と、第２波長に変換して放出する第２波長変換粒子とを含むことができる。例示的な実施形態において、光源から出射されて波長変換粒子に入射する光はブルー波長の光であり、前記第１波長はグリーン波長であり、前記第２波長はレッド波長であり得る。例えば、前記ブルー波長は４２０ｎｍ乃至４７０ｎｍでピークを有する波長であり、前記グリーン波長は５２０ｎｍ乃至５７０ｎｍでピークを有する波長であり、前記レッド波長は６２０ｎｍ乃至６７０ｎｍでピークを有する波長であり得る。しかし、ブルー、グリーン、及びレッドの波長は、前記例示に限定されるものではなく、本技術分野でブルー、グリーン、及びレッドとして認識できる波長範囲を全て含むものと理解されるべきである。
【００６１】
前記例示的な実施形態において、波長変換層３０に入射したブルー光は、波長変換層３０を通過しながら一部が第１波長変換粒子に入射してグリーン波長に変換されて放出され、他の一部が第２波長変換粒子に入射してレッド波長に変換されて放出され、残りの一部は第１及び第２波長変換粒子に入射せずにそのまま出射されうる。したがって、波長変換層３０を通過した光は、ブルー波長の光、グリーン波長の光、およびレッド波長の光を全て含む。放出される、互いに異なる波長の光の比率を適切に調節すると、白色光または他の色の出射光を表示することができる。波長変換層３０に変換された光は、狭い範囲の特定の波長内に集中し、狭い半値幅を有するシャープなスペクトルを持つ。よって、このようなスペクトルの光をカラーフィルターでフィルタリングして色を実現する場合、色再現性が改善できる。
【００６２】
前記例示的な実施形態とは異なり、入射光が紫外線などの短波長の光であり、これをそれぞれブルー、グリーン、及びレッドの波長に変換する３種類の波長変換粒子が波長変換層３０内に配置されて白色光を出射することもできる。
【００６３】
波長変換層３０は散乱粒子をさらに含むことができる。散乱粒子は、非量子ドット粒子であって、波長変換機能がない粒子であり得る。散乱粒子は、入射した光を散乱させてさらに多くの入射光が波長変換粒子側に入射できるようにする。それだけでなく、散乱粒子は、波長別光の出射角を均一に制御する役割を果たすことができる。具体的には、一部のの入射光が波長変換粒子に入射した後、波長が変換されて放出されるとき、その放出方向はランダムな散乱特性を持つ。もし波長変換層３０内に散乱粒子がなければ、波長変換粒子の衝突後に放出するグリーン、及びレッドの波長は散乱放出特性を持つが、波長変換粒子の衝突なしで放出するブルー波長は散乱放出特性を持たないため、出射角度によってブルー／グリーン／レッドの波長の放出量が異なる。散乱粒子は、波長変換粒子に衝突せずに放出されるブルー波長に対しても散乱放出特性を付与することにより、波長別光の出射角を同様に調節することができる。散乱粒子としてはＴｉＯ２、ＳｉＯ２などが使用できる。
【００６４】
波長変換層３０は低屈折層２０よりも厚いのでありうる。波長変換層３０の厚さは約１０μｍ〜５０μｍであり得る。例示的な実施形態において、波長変換層３０の厚さは約１５μｍであり得る。
【００６５】
波長変換層３０は、低屈折層２０の上面２０ａを覆い、低屈折層２０と完全にオーバーラップすることができる。波長変換層３０の下面３０ｂは低屈折層２０の上面２０ａに直接接することができる。一実施形態において、波長変換層３０の側面３０ｓは低屈折層２０の側面２０ｓに整列されうる。波長変換層３０の側面３０ｓの傾斜角は、低屈折層２０の側面２０ｓの傾斜角よりも小さいのでありうる。後述するように、波長変換層３０をスリットコーティングなどの方法で形成する場合、相対的に厚い波長変換層３０の側面３０ｓは、低屈折層２０の側面２０ｓよりも緩やかな傾斜角を持つことができる。しかし、これに限定されるものではなく、形成方法によっては、波長変換層３０の側面３０ｓの傾斜角が低屈折層２０の側面２０ｓの傾斜角と実質的に同じかそれより小さいこともある。
【００６６】
波長変換層３０はコーティングなどの方法で形成できる。例えば、低屈折層２０が形成された導光板１０上に波長変換組成物をスリットコーティングし、乾燥および硬化させて波長変換層３０を形成することができる。しかし、これに限定されるものではなく、他の様々な積層方法が適用できる。
【００６７】
低屈折層２０および波長変換層３０上にはパッシベーション層４０が配置される。パッシベーション層４０は、水分および／または酸素（以下、「水分／酸素」という）の浸透を防ぐ役割を果たす。パッシベーション層４０は無機物質を含んで構成できる。例えば、シリコン窒化物、アルミニウム窒化物、ジルコニウム窒化物、チタン窒化物、ハフニウム窒化物、タンタル窒化物、シリコン酸化物、アルミニウム酸化物、チタン酸化物、スズ酸化物、セリウム酸化物及びシリコン酸化窒化物や、光透過率が確保された金属薄膜などを含んで構成できる。例示的な実施形態において、パッシベーション層４０はシリコン窒化物からなることができる。
【００６８】
パッシベーション層４０は、低屈折層２０と波長変換層３０を完全に覆う。パッシベーション層４０は、波長変換層３０に完全に被覆し、それから外側にさらに延びて、波長変換層３０の側面３０ｓと低屈折層２０の側面２０ｓを覆う。パッシベーション層４０は、低屈折層２０が露出する導光板１０の縁部の上面１０ａにまで延びることで、パッシベーション層４０の縁部が導光板１０の上面１０ａに直接接することができる。一実施形態において、パッシベーション層４０の側面４０ｓは、導光板１０の側面４０ｓに整列しうる。パッシベーション層４０の側面４０ｓの傾斜角は、波長変換層３０の側面３０ｓの傾斜角よりも大きいのでありうる。さらに、パッシベーション層４０の側面４０ｓの傾斜角は低屈折層２０の側面２０ｓの傾斜角よりも大きいのでありうる。
【００６９】
パッシベーション層４０の厚さは、波長変換層３０よりも小さく、低屈折層２０と類似するか、或いはそれより小さいのでありる。パッシベーション層４０の厚さは０．１μｍ乃至２μｍであり得る。パッシベーション層４０の厚さが０．１μｍ以上であれば、有意な水分／酸素浸透防止機能を発揮することができ、０．３μｍ以上であれば、実効的な水分／酸素浸透防止機能を有することができる。パッシベーション層４０の厚さが２μｍ以下であることが、薄膜化および透過率の観点から有利である。例示的な実施形態において、パッシベーション層４０の厚さは約０．４μｍであり得る。
【００７０】
波長変換層３０、特にそれに含まれている波長変換粒子は水分／酸素に脆弱である。波長変換フィルムの場合、波長変換層の上下面にバリアフィルムを積層して波長変換層への水分／酸素の浸透を防ぐ。ところが、本実施形態の場合、バリアフィルムなしで波長変換層３０が直接配置されるので、バリアフィルムの代わりに波長変換層３０を保護する密封構造が必要である。前記密封構造は、パッシベーション層４０と導光板１０によって実現できる。
【００７１】
波長変換層３０に水分が浸透しうる入り口（ゲート）は、波長変換層３０の上面３０ａ、側面３０ｓ及び下面３０ｂである。上述したように、波長変換層３０の上面３０ａと側面３０ｓはパッシベーション層４０によって覆われて保護されるので、水分／酸素の浸透が遮断するか、または少なくとも減少させる（以下、「遮断／低減」という）ことができる。
【００７２】
一方、波長変換層３０の下面３０ｂは、低屈折層２０の上面２０ａと当接しているが、低屈折層２０がボイドを含むか或いは有機物質からなる場合、低屈折層２０の内部で水分の移動が可能なので、それにより波長変換層３０の下面３０ｂへ水分／酸素が浸透しうる。ところが、低屈折層２０の側面２０ｓはパッシベーション層４０によって覆われて保護されるので、低屈折層２０の側面２０ｓを通じた水分／酸素の浸透が遮断／低減されうる。低屈折層２０が波長変換層３０よりも突出して上面２０ａの一部が露出しても、該当部位はパッシベーション層４０によって覆われて保護されるので、これを通じた水分／酸素の浸透も遮断／低減できる。低屈折層２０の下面２０ｂは導光板１０に接している。導光板１０がガラスなどの無機物質からなる場合、パッシベーション層４０と同様に、水分／酸素の浸透を遮断／低減させることができる。結局、低屈折層２０と波長変換層３０との積層体は、表面がパッシベーション層４０と導光板１０によって囲まれて密封されるので、たとえ低屈折層２０の内部に水分／酸素の移動経路が形成されていたとしても、水分／酸素の浸透自体が前記密封構造によって遮断／低減されうるため、水分／酸素による波長変換粒子の劣化を防止するか或いは少なくとも緩和させることができる。
【００７３】
パッシベーション層４０は蒸着などの方法で形成できる。例えば、低屈折層２０と波長変換層３０が順次形成された導光板１０上に、化学気相蒸着（ＣＶＤ）法を用いてパッシベーション層４０を形成することができる。しかし、これに限定されるものではなく、他の様々な積層方法が適用できる。
【００７４】
また、上記のような、光学部材１００の波長変換層３０とその密封構造であると、別途のフィルムとして提供される波長変換フィルムよりも、製造コストを下げ、厚さを減少させることができる。具体的に、波長変換フィルムは、波長変換層３０の上下にバリアフィルムを貼り付けたものであるが、バリアフィルムは、高価であるうえ、厚さも１００μｍ以上と厚いため、波長変換フィルムの全厚は約２７０μｍに達する。一方、実施形態に係る光学部材１００の場合、低屈折層２０を約０．５μｍの厚さ、パッシベーション層４０を約０．４μｍの厚さに形成することができるので、導光板１０を除いた全厚を約１６μｍのレベルに維持することができるため、これを採用する表示装置１０００の厚さを減少させることができる。また、実施形態に係る光学部材１００は、高価なバリアフィルムを省略することができるため、製造コストも波長変換フィルムよりも低く管理することができる。
【００７５】
次に、光学パターン層７０について詳細に説明する。
【００７６】
図３は本発明の一実施形態に係る表示装置の部分斜視図である。図４は本発明の一実施形態に係る表示装置の部分平面図である。図５は図４のVII−VII’線に沿って切断した断面図である。図６は図４のVI−VI’線に沿って切断した断面図である。
【００７７】
図３乃至図６を参照すると、導光板１０の下面１０ｂ上には光学パターン層７０が配置される。光学パターン層７０に形成された光学パターン７５（図３）は、光の進行経路を調節して、導光板１０が表示パネル３００側に均一に光を供給することができるように助ける。光学パターン層７０は、導光板１０の下面１０ｂの大部分を覆うが、導光板１０の縁部の一部を露出させるのでありうる。すなわち、光学パターン層７０の側面７０ｓを基準に、導光板１０の側面１０ｓが突出するのでありうる。光学パターン層７０の側面７０ｓと導光板１０の側面１０ｓとの間に一定のスペースを確保することにより、光学パターン層７０が導光板１０より外側に突出することを防止することができる。また、インプリント法で光学パターン層７０のパターン部７１ｂを形成する場合、樹脂塗布過程で導光板１０の側面１０ｓにまで樹脂が溢れ出ることを防止することができる。
【００７８】
光学パターン層７０の側面７０ｓは、低屈折層２０の側面２０ｓと実質的に整列しうる。
【００７９】
一実施形態において、光学パターン層７０は、導光板１０と同じかそれより大きい屈折率を有する物質からなることができる。例えば、導光板１０がガラスからなる実施形態において、光学パターン層７０の屈折率は１．４９乃至１．６１であり得る。光学パターン層７０と導光板１０とで屈折率が同一であれば、導光板１０の下面１０ｂと光学パターン層７０との界面を光学的界面として認識しないため、一つの一体化された導光板の如く光を進行させることができる。ところが、これに限定されるものではなく、光学パターン層７０は、導光板１０よりも大きい屈折率を有することもできる。この場合、当該界面で屈折および反射が行われ得るが、全般的な導光機能は維持できる。
【００８０】
一実施形態において、光学パターン層７０と導光板１０との間には接着層ＡＤが配置されうる。
【００８１】
接着層ＡＤは、光学パターン層７０と導光板１０とを一体に接合させる役割を果たすことができる。
【００８２】
一実施形態において、接着層ＡＤの厚さは５μｍ乃至２０μｍであり得る。接着層ＡＤの厚さが５μｍより小さい場合には、接着性能が低下して十分な接着力の確保が難しくなるおそれがあり、接着層ＡＤの厚さが２０μｍ以上である場合には、製品薄膜化に逆行し、全体的な光学特性が低下するおそれがある。
【００８３】
導光板１０における下面１０ｂに向かって進行する光が接着層ＡＤで反射されると、光学パターン７０が碌な機能を行うことができなくなる。このため、接着層ＡＤと導光板１０との界面で全反射が起こらないように、接着層ＡＤの屈折率が導光板１０と同じかそれより大きいことができる。
【００８４】
つまり、一実施形態において、接着層ＡＤの屈折率と導光板１０の屈折率との差は０（導光板１０の屈折率と接着層ＡＤの屈折率とが同じである場合。この場合にも、全反射は起こらない）乃至０．１であり得る。
【００８５】
すなわち、接着層ＡＤの屈折率は１．４９乃至１．６１であり得る。
【００８６】
光学パターン層７０と導光板１０とが接着層によって接合される場合には、光学パターン７０層または導光板１０に不良が発生したときに、いずれか一方を除去することにより、正常状態にある他の構成材を再利用することができるという利点がある。例えば、光学パターン層７０が不良である場合、導光板１０から光学パターン層７０を容易に除去して、新たな光学パターン層７０を、既存の導光板１０に貼り付けることができる。
【００８７】
以下、光学パターン層７０について具体的に説明する。一実施形態において、光学パターン層７０は、ベースフィルムＢＦと、これに積層される樹脂層８０に形成された第１パターン７１及び第２パターン７２を含むことができる。
【００８８】
ベースフィルムＢＦは、樹脂層８０の支持材として、後述する第１パターン７１及び第２パターン７２が配置されるスペースを提供することができる。ベースフィルムＢＦの一面は、接着層ＡＤと直接接触することができ、これにより光学パターン層７０と導光板１０とが接合されうる。
【００８９】
一実施形態において、ベースフィルムＢＦは、ＰＭＭＡ（Ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）などのアクリル系樹脂、ＰＣ（ＰｏｌｙＣａｒｂｏｎａｔｅ；ポリカーボネート）、ＣＯＰ（Ｃｙｃｌｏ  Ｏｌｅｆｉｎ  Ｐｏｌｙｍｅｒ；シクロオレフィンポリマー）およびＭＳ（Ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ  ｓｔｙｒｅｎｅ；メタクリレート・スチレン共重合体）よりなる群から選択された少なくとも一つを含んで構成できる。但し、これは例示的なものに過ぎず、ベースフィルムＢＦの材質はこれに限定されるものではない。また、一実施形態において、ベースフィルムＢＦの厚さは６０μｍ乃至８０μｍであり得る。
【００９０】
ベースフィルムＢＦの屈折率は、導光板１０と同じかそれより大きいのでありうる。このため、ベースフィルムＢＦの屈折率は１．４９乃至１．６１であり得る。
【００９１】
ベースフィルムＢＦ上の樹脂層８０には第１パターン７１が配置されうる。図３及び図４を参照すると、第１パターン７１は、湾曲状の凸面を含み、入光面１０ｓ１から対光面１０ｓ３側へと連続的なライン形状をなすように延びており、導光板１０内に入射した光が対光面１０ｓ３側へと直進するように誘導する。すなわち、第１パターン７１は、対光面１０ｓ３に隣接した両側面１０ｓ２、１０ｓ４に向かって進行する光を、屈折させて対光面１０ｓ３側へと進行するように誘導することができる。
【００９２】
第２パターン７２は、第１パターン７１上に形成される凹陥部としての形状を有し、光を屈折させて進行方向を表示パネル３００側へ誘導する。つまり、第２パターン７２は、導光板１０と光学パターン層７０の内部で、全反射によって、進行する光を屈折させて表示パネル３００の側へと進行するようにする。
【００９３】
一実施形態において、第１パターン７１および第２パターン７２が形成された樹脂層８０の屈折率は１．４９乃至１．６１であり得る。
【００９４】
前述したように、導光板１０の屈折率が１．４９乃至１．５１であり、接着層ＡＤおよびベースフィルムＢＦの屈折率が１．４９乃至１．６１であるという数値範囲条件にて、樹脂層８０の屈折率が、導光板１０の屈折率と同じかそれより大きく維持される場合、光学部材１００の出光率が向上されうる。
【００９５】
図５を参照すると、一実施形態において、第１パターン７１が形成された領域にて、樹脂層８０は、基底部７１ａとパターン部７１ｂからなることができる。
【００９６】
基底部７１ａは、ベースフィルムＢＦとパターン部７１ｂとの間に配置され、パターンが形成されていない領域と定義しうる。
【００９７】
基底部７１ａは、パターン部７１ｂを支持し、第１パターン７１を有する樹脂層８０がベースフィルムＢＦに十分に結合できるようにする。
【００９８】
パターン部７１ｂは、パターンが形成された部分を意味する。パターン部７１ｂは光の経路を調節することができる。すなわち、入光面１０ｓ１に入ってきた光は、基底部７１ａを通過し、パターン部７１ｂと空気層とがなす界面で屈折／反射されて、対光面１０ｓ３へ向かうように経路が調節される。具体的には、光源４００から出射された光の一部は、対光面１０ｓ３に向かって進行し、一部は対光面１０ｓ３と入光面１０ｓ１との間の両側面１０ｓ２、１０ｓ４に向かって進行する。両側面１０ｓ２、１０ｓ４に向かって進行していた光の一部は、パターン部７１ｂと空気層とがなす界面で屈折されて対光面１０ｓ３へ向かうように進行方向が変更されうる。
【００９９】
パターン部７１ｂの各突条（各第１パターン７１）は、入光面１０ｓ１から対光面１０ｓ３の側へと連続的に延びた直線状であり得る。一実施形態において、パターン部７１ｂの各突条の断面形状は、半円形、三角形および四角形などから選択されたいずれかの形状を有することができる。パターン部７１ｂの断面形状は、各突条が延びる直線に沿って、一定であり得るが、これに限定されるものではない。例えば、パターン部７１ｂは、図４に示すようにレンチキュラー（ｌｅｎｔｉｃｕｌａｒ）形状をなし、その断面が半円形の形状であり、入光面１０ｓ１から対光面１０ｓ３に至るまで、その断面の大きさが一定であり得る。図示してはいないが、パターン部７１ｂの断面形状は、入光面１０ｓ１から対光面１０ｓ３へ行くほど半円の大きさが大きくなるようにすることも可能である。
【０１００】
樹脂層８０の厚さｄ７１は、基底部７１ａの高さｈ７１ａと、パターン部７１ｂの高さｈ７１ｂとの和として計算されうる。基底部７１ａは、第２パターン７２の箇所以外にて、樹脂層８０の全体にわたって同一の高さ（厚さ）ｈ７１ａを持つのに対し、パターン部７１ｂは、パターンの形状に応じて高さｈ７１ｂが変わり得る。したがって、樹脂層８０の厚さｄ７１の変化は、パターン部７１ｂの高さｈ７１ｂの変化に依存する。例示的に、第１パターン７１がレンチキュラーパターンであるとき、樹脂層８０の厚さｄ７１が最も厚いところは、パターン部７１ｂの高さｈ７１ｂが最も高いところ、つまり尾根筋部に該当しうる。また、樹脂層８０の厚さｄ７１が最も薄いところは谷筋部に該当しうるのであり、この谷筋部では、樹脂層８０の厚さｄ７１と、基底部７１ａの高さｈ７１ａとは、同一であり得る。
【０１０１】
樹脂層８０の厚さｄ７１の最大値は約４０μｍ以下であり得る。第１パターン７１の厚さｄ７１が４０μｍより厚い場合には、光学部材１００の薄膜化に逆行し、材料費用が増加し、重量増加に応じて、導光板１０から樹脂層８０が脱け落ちるおそれが大きくなりうる。また、インプリント法で第１パターン７１を形成する場合には、塗布される樹脂の厚さの増加に応じてＵＶ硬化時間が長くなるので、樹脂層８０が黄変する可能性が高くなる樹脂層８０の厚さｄ７１の下限には制限がないが、基底部７１ａとパターン部７１ｂが十分な効果を示すことができる程度の厚さを少なくとも有することが好ましい。
【０１０２】
基底部７１ａの高さｈ７１ａと、パターン部７１ｂの高さｈ７１ｂは、第１パターン７１の箇所での樹脂層８０の厚さｄ７１を考慮して決定できる。すなわち、パターン部７１ｂの高さｈ７１ｂと基底部７１ａの高さｈ７１ａとの和は約４０μｍ以下であり得る。基底部７１ａの高さｈ７１ａは約２０μｍ以内であり、パターン部７１ｂの高さｈ７１ｂは５μｍ乃至２０μｍの範囲内にあり得る。一般に、パターン部７１ｂの幅ｐ７１に比べて、高さｈ７１ｂが大きいほど、すなわちパターン部７１ｂが基底部７１ａから、より多く突出するほど、光の直進性が増加するが、第１パターン７１の可能な厚さｄ７１を考慮すると、パターン部７１ｂの高さｈ７１ｂを無限に増加させることは現実的に困難である。また、基底部７１ａの高さｈ７１ａが約２０μｍよりも小さい場合には、パターン部７１ｂを十分に支持し難いという点を考慮すると、パターン部７１ｂの高さｈ７１ｂは約２０μｍ以下であり得る。また、パターン部７１ｂの高さｈ７１ｂが５μｍ以上であり得る。パターン部７１ｂの高さｈ７１ｂが５μｍ以上であれば、パターン部７１ｂの表面積がある程度確保され、光の経路を変更するための十分な屈折が起こり得る。
【０１０３】
凸条としての第１パターン７１のピッチｐ７１は、パターン部７１ｂの高さｈ７１ｂを考慮して決定されうる。パターン部７１ｂの高さｈ７１ｂに比べてピッチｐ７１の割合が過度に大きい場合には、パターン部７１ｂの表面積が小さくなるので、光がパターン部７１ｂの表面で屈折される確率が減少する。また、パターン部７１ｂの高さｈ７１ｂに比べてピッチｐ７１の割合が過度に小さい場合には、基底部７１ａから突出したパターン部７１ｂを支持すべき十分な耐久性を確保するのが難しくなるおそれがある。これを考慮すると、パターン部７１ｂのピッチｐ７１は７０μｍ乃至１５０μｍの範囲であり得る。すなわち、パターン部７１ｂのピッチｐ７１が１５０μｍ以下であれば、上述したパターン部７１ｂの高さｈ７１ｂの範囲内で、第１パターン７１が光の直進性を誘導するのに効果的である。また、パターン部７１ｂのピッチｐ７１が７０μｍ以上であれば、上述したパターン部７１ｂの高さｈ７１ｂの範囲内でパターン部７１ｂの形状を維持するための耐久性を確保するのに有利である。また、インプリント法で第１パターン７１を形成する場合、第１パターン７１の材料である樹脂と、スタンパー（ｓｔａｍｐｅｒ）との間の引力によって、樹脂からスタンパーを取り外すときに樹脂が剥離してしまう場合が発生しうる。しかし、パターン部７１ｂのピッチｐ７１が７０μｍ以上であれば、スタンパーによって樹脂が剥離しない程度に、十分な樹脂間の引力を確保することができる。例示的な実施形態において、パターン部７１ｂの高さｈ７１ｂは約８．５μｍであり、パターン部７１ｂのピッチｐ７１は約７０μｍであり得る。
【０１０４】
図６を参照すると、第２パターン７２は、第１パターン７１の表面からベースフィルムＢＦに向かって窪んだ凹部の形状を有することができる。
【０１０５】
一実施形態において、第２パターン７２は、第１パターン７１の表面上に複数形成されうる。また、これらの第２パターン７２は互いに離隔して形成されうる（図４参照）。特には、少なくとも第２パターン７２の径だけ、互いに隔離されうる。
【０１０６】
一実施形態において、第２パターン７２は、第１パターン７１の表面から陥没した形状（ほぼ垂直方向の周壁を有する凹陥部の形状）を有することができる。
【０１０７】
第２パターン７２は、光を屈折させて表示パネル３００の側へと光を誘導するための屈折パターンであり得る。つまり、導光板１０および光学パターン７０内で全反射によって進行していた光が、第２パターン７２と空気層とがなす光学界面で、入射角が臨界角よりも小さくなり、表示パネル３００側へ進行経路が変更できる。
【０１０８】
第２パターン７２は、第１パターン７１の長さ方向に沿って、異なる密度で配置されうる。例えば、相対的に、導かれる光量が豊富な、入光面１０ｓ１に隣接した領域では配置密度を小さくし、相対的に導かれる光量が少ない対光面１０ｓ３に隣接した領域では、配置密度を大きくすることができる。他の例として、入光面１０ｓ１に隣接した領域で第２パターン７２の面積を小さくし、対光面１０ｓ３に隣接した領域に行くほど第２パターン７２の面積を大きくすることができる。
【０１０９】
第２パターン７２は、凸条としての各第１パターン７１の幅方向に沿って規則的に配列されることも可能であるが、これに限定されず、不規則に配列されることも可能である。但し、表示パネル３００側へと均一に光を供給するためには、幅方向に沿って類似の密度で配置されることが有利であり得る。第２パターン７２は、第１パターン７１の尾根筋部だけでなく、第１パターン７１間の谷筋部にも配置されうるのであり、尾根筋部および谷筋部にわたって配置されてもよい。例示的な実施形態において、第２パターン７２は、第１パターンの幅方向に沿って互い違いに配置されうる。すなわち、凸条としての各第１パターン７１の長さ方向に延びる細長い配置領域を行とし、第１パターン７１の幅方向に延びる細長い配置領域を列とするマトリクスを想定すると、同一の列に配置される第２パターン７２は、隣接した行には配置されないのでありうる。つまり、同一の列に配置された第２パターン７２は、奇数番目の行にのみ配置され、偶数番目の行には配置されないのでありうる。
【０１１０】
一実施形態において、第２パターン７２は、２つの第１パターン７１（凸条）にわたって形成されるか、或いは３つの第１パターン７１（凸条）にわたって形成され得る。
【０１１１】
言い換えれば、第２パターン７２の幅ｗ２（列の方向の寸法）は、凸条としての各第１パターン７１の幅ｗ１よりも大きいのでありうる。これにより、第２パターン７２は、その配置の位置に応じて、隣接する２つまたは３つの第１パターン７１にわたって形成できる。図４などは第２パターン７２の平面形状が円形である場合を例示するが、これに限定されるものではない。他の実施形態において、第２パターン７２の平面形状は楕円形であるか、或いは直線を含む多角形の形状であり得る。この場合、第２パターン７２の幅ｗ２は、径（平面形状が持つ最大の幅）を意味するものとすることもできる。
【０１１２】
一実施形態において、各第１パターン７１の幅は７０μｍ乃至１５０μｍであり得る。各第２パターン７２の幅は、第１パターン７１の幅よりも大きく、例えば１３０μｍ〜１８０μｍであり得る。
【０１１３】
図６を参照すると、一実施形態において、第２パターン７２は、穴口部７２ｔ、穴底部７２ｂ、および穴口部７２ｔと穴底部７２ｂとの間に配置される側壁７２ｓを含むことができる。
【０１１４】
前述した第２パターン７２の幅ｗ２は、穴口部７２ｔの幅として定義できる。
【０１１５】
説明の便宜のために、穴底部７２ｂの高さｈ７２が定義されうる。穴底部７２ｂｔでの樹脂層８０の高さ（厚さ）ｈ７２は、先に説明した基底部７１ａの高さｈ７１ａよりも小さいのでありうる。すなわち、穴底部７２ｔは、基底部７１ａの上端よりもベースフィルムＢＦに近づけて配置できる。つまり、第２パターン７２は、パターン部７１ｂを完全に貫通した上で、基底部７１ａの一部を掘り出すことで形成されうる。このように第２パターン７２を形成する場合、出光効率が向上されうる。
【０１１６】
一実施形態において、穴底部７２ｂの深さｄ７２は１６μｍ乃至２１μｍであり得る。すなわち、穴底部７２ｂの深さはパターン部７１ｂの高さｈ７１ｂより大きく、これにより、第２パターン７２は、パターン部７１ｂを完全に貫通するのでありうる。
【０１１７】
穴口部７２ｔは、開口しており、これにより空いた空間からなるのであり得る。側壁７２ｓは、穴底部７２ｂから延びて形成されうるのであり、開口した上部７２ｔと穴底部７２ｂとを連結するのでありうる。
【０１１８】
一実施形態において、側壁７２ｓは、図６に示すように、垂直方向に延びるのでありうる。但し、他の実施形態において、側壁７２ｓは一定の角度だけ傾くのでありうる。これについての具体的な説明は、図７を参照して具体的に後述する。
【０１１９】
以下、本発明の他の実施形態に係る表示装置について説明する。以下に説明する構成の一部は、先に本発明の一実施形態に係る表示装置として説明した構成と、実質的に同一であり、重複説明を避けるために、一部の構成についての説明は省略されうる。
【０１２０】
図７は本発明の他の実施形態に係る表示装置の部分断面図である。図７を参照すると、一実施形態において、側壁７２ｓ１は、仮想の水平面に対して一定の角度傾くことができる。
【０１２１】
一実施形態において、側壁７２ｓ１と、穴口部７２ｔを示す仮想の水平面（図７の破線）とは、第１角αを成すのでありうる。一実施形態において、この仮想の水平面は、図７に示された導光板１０の下面１０ｂまたは上面１０ａに対して平行な面であり得る。一実施形態において、第１角αは７．５°乃至５５°であり得る。
【０１２２】
この場合、第２パターン７２の幅は、穴口部７２ｔから穴底部７２ｂへ行くほど減少するのでありうる。すなわち、第２パターン７２の穴口部７２ｔの幅が穴底部７２ｂの幅よりも大きいのでありうる。
【０１２３】
第１角αが７．５°よりも小さい場合、対光面１０ｓ３側へ直進する光の進行経路上に置かれ難いので、第１角αが７．５°以上であるとき、より多くの光の進行経路を表示パネル３００側へ誘導することができる。また、第１角αが５５°より大きい場合、第２パターン７２に対する光の入射角が小さくなり、全反射の起こる確率が増加するので、光の進行経路が入射面側に反転されるおそれがある。
【０１２４】
側壁７２ｓ１が第１角αでもって傾く場合、相対的に多くの光が表示パネル３００に向かって進行するように誘導することができる。
【０１２５】
図８は、本発明の他の実施形態に係る表示装置の断面図である。
【０１２６】
図８を参照すると、一実施形態において、光学パターン層７０＿１は面取り面７０ｒを含むことができる。
【０１２７】
面取り面７０ｒは、光学パターン層７０＿１のうち、入光面１０ｓ１に隣接した部分に形成できる。
【０１２８】
一実施形態において、面取り面７０ｒは、光学パターン層７０＿１と接着層ＡＤとの界面に対して第２角θを成すことができる。一実施形態において、第２角θは２°乃至１０°であり得る。
【０１２９】
入光面１０ｓ１に隣接するように面取り面７０ｒが形成されると、光源４００から面取り面７０ｒを通って光学パターン層７０中へと進行する光の進行角度を調節して、低い屈折率の差を克服しつつ、導光するように誘導することができる。すなわち、光源４００からの光について、入射角度（界面に垂直の方向に対する光線の角度）を大きくするとともに、界面で反射された光が後述の反射部材２５０に反射されて再度入射する割合を高めることができる。また、導光板１０の内部から面取り面７０ｒに向かった光について、全反射されて、導光板１０の側へと戻る割合を高めることができる。
【０１３０】
図９は本発明の一実施形態に係る表示装置の断面図である。図９を参照すると、一実施形態において、表示装置１０００は、光源４００、光源４００の出射経路上に配置された光学部材１００、および光学部材１００の上部に配置された表示パネル３００を含む。
【０１３１】
光学部材としては、上述した実施形態に係る光学部材がすべて適用できる。
【０１３２】
光源４００は、光学部材１００の一側に配置される。光源４００は、光学部材１００の導光板１０の入光面１０ｓ１に隣接して配置されうる。光源４００は、複数の点光源または線光源を含むことができる。前記点光源は、ＬＥＤ（ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ）光源４１０であり得る。複数のＬＥＤ光源４１０はプリント回路基板４２０に実装できる。ＬＥＤ光源４１０はブルー波長の光を発光することができる。
【０１３３】
ＬＥＤ光源４１０から放出されたブルー波長の光は、光学部材１００の導光板１０に入射する。光学部材１００の導光板１０は、光を導き、導光板１０の上面１０ａまたは下面１０ｂを通じて出射させる。光学部材１００の波長変換層３０は、導光板１０から入射したブルー波長の光の一部を、他の波長、例えばグリーン波長とレッド波長に変換する。変換されたグリーン波長とレッド波長の光は、変換されていないブルー波長と共に上部に放出されて表示パネル３００側へ提供される。
【０１３４】
光学部材１００は、モジュール間の結合部材６１０を介して表示パネル３００と結合することができる。モジュール間の結合部材６１０は四角枠の形状を有することができる。モジュール間の結合部材６１０は、表示パネル３００および光学部材１００における、それぞれの縁の部位に配置できる。
【０１３５】
一実施形態において、モジュール間の結合部材６１０の下面は、光学部材１００のパッシベーション層４０の上面に配置される。モジュール間の結合部材６１０は、下面が、パッシベーション層４０上で波長変換層３０の上面３０ａにのみ突き当てられて重ねられ、側面３０ｓには重ならないように配置できる。
【０１３６】
モジュール間の結合部材６１０は、ポリマー樹脂や接着テープまたは粘着テープなどを含むことができる。
【０１３７】
モジュール間の結合部材６１０は、光透過阻止機能をさらに行うことができる。例えば、モジュール間の結合部材６１０が、ブラック顔料や染料などの光吸収物質を含むか、或いは反射物質を含むことができる。
【０１３８】
表示装置１０００はハウジング５００をさらに含むことができる。ハウジング５００は、一面が開放されており、底面５１０と、底面５１０に連結された側壁５２０とを含む。底面５１０と側壁５２０によって画された空間内に、光源４００、並びに、光学部材１００と表示パネル３００とを互いに組み付けたアセンブリー（組み付け体）、および、反射部材２５０が収納できる。光源４００、反射部材２５０、および光学部材１００・表示パネル３００アセンブリーは、ハウジング５００の底面５１０上に配置される。ハウジング５００の側壁５２０の高さは、ハウジング５００の内部に置かれた光学部材１００・表示パネル３００アセンブリーの高さと実質的に同一であり得る。表示パネル３００の周囲の側端面と、ハウジング５００の側壁の上端部とが、互いに隣接して配置され、ハウジング結合部材６２０によって相互に結合されうる。ハウジング結合部材６２０は四角枠の形状を有することができる。ハウジング結合部材６２０はポリマー樹脂や接着または粘着テープなどを含むことができる。
【０１３９】
表示装置１０００は少なくとも一つの光学フィルム２００をさらに含むことができる。一つまたは複数の光学フィルム２００は、光学部材１００と表示パネル３００との間で、モジュール間の結合部材６１０によって囲まれた空間に収納されうる。一つまたは複数の光学フィルム２００の側面は、モジュール間の結合部材６１０の内側面に接して、この内側面に取り付け・付着されうる。図面では、少なくとも一つの光学フィルム２００と光学部材１００との間、および光学フィルム２００と表示パネル３００との間がそれぞれ離隔している場合を例示的に示したが、前記離隔空間が必須的に要求されるものではない。
【０１４０】
光学フィルム２００は、プリズムフィルム、拡散フィルム、マイクロレンズフィルム、レンチキュラーフィルム、偏光フィルム、反射偏光フィルム、位相差フィルムなどであり得る。表示装置１０００は、同一の種類または異なる種類の複数の光学フィルム２００を含むことができる。複数の光学フィルム２００が適用される場合、各光学フィルム２００は互いに重畳するように配置され、それぞれ側面がモジュール間の結合部材６１０の内側面に接してそれに付着できる。各光学フィルム２００同士は離隔し、それらの間に空気層が配置できる。
【０１４１】
以下、本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法について説明する。
【０１４２】
図１０乃至図２０は、本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【０１４３】
図１０乃至図２０を参照すると、本発明の一実施形態に係る表示装置の製造方法は、スタンパーを用いて導光板上に光学パターンを形成することを含む。まず、スタンパーを製造する方法について説明する。
【０１４４】
図１０を参照すると、第１パターン７１と同じ形状の第１マスターパターン１０１０が形成されたマスター基板１０００を用意する。マスター基板１０００は、ＰＭＭＡ（Ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌ ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）、ＰＣ、ＰＥＴなどからなることができる。第１マスターパターン１０１０は、マスター基板１０００自体の形状から形成されうる。例えば、パターンロール（図示せず）を用いて基板の押出と同時にパターンを成形することができる。マスター基板１０００は、平面形状が長方形であって、垂直方向及び長手方向に沿った断面にて、上面（パターン形成面）の側の隅角部が面取りされている一種の六角柱状をなすことができ、上面に、一方向に連続するレンチキュラー形状の第１マスターパターン１０１０が刻まれた形状を有することができる。
【０１４５】
次いで、図１１に示すように、マスター基板１０００の第１マスターパターン１０１０の表面に第２マスターパターン１０２０を形成する（Ｓ２２）。第２マスターパターン１０２０は、レーザー（Ｌａｓｅｒ）を照射して形成することができる。レーザー（Ｌａｓｅｒ）は、予め定められた位置に従って照射できる。すなわち、第２マスターパターン１０２０は、前述の第２パターン７２の配置と同一の配置を持つように予め決定されていてもよい。第２マスターパターン１０２０の幅や深さは照射されるレーザーの波長、エネルギー、照射時間、照射角度などによって調節できる。ここで、第２マスターパターン１０２０は、第２パターン７２と同一の形状を有するように形成される。すなわち、先立って、本発明の幾つかの実施形態に係る表示装置で備えられるものとして説明した第２パターン７２と、同一の形状及びサイズを有するように形成することができる。
【０１４６】
また、第２マスターパターン１０２０は、レーザーを１回照射して形成してもよいが、所望の形状および深さに応じてレーザーを何度も照射して形成してもよい。
【０１４７】
結果的に、マスター基板１０００は、前述の光学パターン７５と同一のマスターパターン１０１０、１０２０を有するように形成できる。
【０１４８】
次に、図１２に示すように、マスター基板１０００の一面（パターン形成面）に樹脂を塗布した後、これを硬化させてスタンパー２０００を形成する。ここで、マスター基板１０００の一面とは、第１マスターパターン１０１０と第２マスターパターン１０２０が形成された面を意味する。
【０１４９】
具体的には、マスター基板１０００の一面上にスリットノズルを用いてスタンパー用樹脂を塗布する。スタンパー用樹脂は、紫外線が通過することが可能な透明材質で形成できる。次いで、紫外線照射および／または熱を加えて樹脂を硬化させた後、マスター基板１０００から硬化した前記樹脂を分離してスタンパー２０００を完成させる。スタンパー２０００には、マスター基板１０００に形成されたパターン１０１０、１０２０とは陰影（凹凸）が反対になったパターン２０１０、２０２０が形成されうる。すなわち、図１３に示すように、陰刻パターン２０１０と陽刻パターン２０２０を含むスタンパー２０００が形成できる。
【０１５０】
次に、図１４を参照すると、ベースフィルムＢＦ上に樹脂層８０を塗布する段階が行われ得る。一実施形態において、樹脂層８０の塗布はスリットコーティング方式を用いることができる。但し、これは例示的なものであり、樹脂層８０の塗布方式はこれに限定されるものではない。
【０１５１】
一実施形態において、樹脂層８０は約４０μｍ以下の厚さに塗布できる。一般に、樹脂層８０をＵＶ硬化させるとき、紫外線に晒される時間が長くなるほど、樹脂層８０が黄変（Ｙｅｌｌｏｗｉｓｈ）される可能性が増加する。樹脂層８０の厚さが４０μｍ以下である場合、樹脂層８０の黄変なしで効果的に樹脂層８０を硬化させることができる。樹脂層８０の厚さの下限には制限がないが、追って形成される光学パターン７０の厚さを考慮して、樹脂層は２０μｍ以上に塗布することが好ましい。
【０１５２】
樹脂層８０は、ベース樹脂、ＵＶ開始剤およびバインダーを含む物質で構成できる。ベース樹脂は、アクリレート（ａｃｒｙｌａｔｅ）、ウレタン（Ｕｒｅｔｈａｎｅ）、ウレタンアクリレート（Ｕｒｅｔｈａｎｅ  ａｃｒｙｌａｔｅ）、シリコーン（ｓｉｌｉｃｏｎｅ）およびエポキシ（Ｅｐｏｘｙ）、またはこれらの組み合わせからなり得る。但し、これに限定されるものではなく、導光板１０との十分な結合力を有する物質であれば限定されない。
【０１５３】
次いで、図１５を参照すると、スタンパー２０００で樹脂層８０を加圧してパターン８１、８２を形成する段階が行われ得る。すなわち、樹脂層８０にスタンパー２０００を当てて圧着すると、シスタンパー２０００のパターン２０１０、２０２０が樹脂層８０に転写されることにより、スタンパー２０００のパターン２０１０、２０２０とは陰影（凹凸）が反対になっている第１パターン８１及び第２パターン８２が形成できる。
【０１５４】
次に、図１６を参照すると、スタンパー２０００上に紫外線ＵＶを照射して樹脂層８０を仮硬化させる段階が行われ得る。仮硬化段階を経ると、樹脂層８０間の結合力が増加して、スタンパー２０００分離の際に樹脂層８０が剥離してしまうことを防止することができる。
【０１５５】
次に、図１７を参照すると、スタンパー２０００を除去した後、樹脂層８０を本硬化させる段階が行われ得る。樹脂層８０の本硬化は、樹脂層８０に紫外線ＵＶを直接照射することにより行われ得る。
【０１５６】
その結果として、樹脂層８０には、第１パターン８１及び第２パターン８２を形成することができる。第１パターン８１及び第２パターン８２は、先立って本発明の幾つかの実施形態で説明した第１パターン７１及び第２パターン７２と実質的に同一であり得る。
【０１５７】
次いで、図１８を参照すると、光学パターン７５が形成された樹脂層８０上に保護フィルムＰＦを形成する段階が行われ得る。光学パターン７５が工程中に損傷することを防止するために、樹脂層８０上には、樹脂層８０を覆う保護フィルムＰＦが配置できる。
【０１５８】
次に、図１９を参照すると、ベースフィルムＢＦの下面に、接着層ＡＤおよび離型フィルム５０１を形成する段階が行われ得る。
【０１５９】
一実施形態において、接着層ＡＤは感圧接着剤（ＰＳＡ、Ｐｒｅｓｓｕｒｅ  Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ）であり得る。接着層ＡＤは、先立って本発明の幾つかの実施形態に係る表示装置で説明したのと同一であり得る。よって、これについての詳細な説明は省略する。
【０１６０】
一実施形態において、接着層ＡＤは、ベースフィルムＢＦの一面（樹脂層８０とは逆側の面）上にコーティングされる方式で形成されうる。
【０１６１】
接着層ＡＤを保護し且つ接着層ＡＤへの異物の混入を防止するために、離型フィルム５０１を接着層ＡＤの上に形成することができる。離型フィルム５０１は、後述する付着工程の前まで接着層ＡＤを保護する役目をし、接着層ＡＤから簡単に分離できる。
【０１６２】
次に、図２０を参照すると、一実施形態において、離型フィルム５０１を除去し、光学パターン層７０を導光板１０に貼り付ける段階が行われ得る。
【０１６３】
具体的には、光学パターン層７０は導光板１０の下面１０ｂに貼り付けられうる。接着層ＡＤは、導光板１０の下面１０ｂとベースフィルムＢＦとの間に配置され、導光板１０ｂとベースフィルムＢＦとを接合させることができる。
【０１６４】
このように接着層ＰＳＡを用いて光学パターン層７０と導光板１０とを接合する場合、光学パターン層７０または導光板１０に不良が発生するときにこれらの二つを分離して、正常状態である構成を簡単に再利用することができるという利点がある。すなわち、再利用の可能性を高めることにより、費用を節約することができる。
【０１６５】
光学パターン層７０を導光板１０に貼り付ける直前に接着層ＡＤを形成する段階が行われるものと説明したが、これに限定されるものではない。
【０１６６】
他の実施形態において、ベースフィルムＢＦの下面に接着層ＡＤおよび離型フィルム５０１を形成する段階は、ベースフィルムＢＦに樹脂層８０を塗布する段階の前に行われてもよい。
【０１６７】
次いで、保護フィルムＰＦを除去する段階が行われ得る。保護フィルムＰＦは、工程中に光学パターン７５を保護するためのものであり、工程の中間または工程の完了後に除去できる。
【０１６８】
図２１は本発明の他の実施形態に係る表示装置の製造方法を説明するための断面図である。図２１を参照すると、図２０の段階の後に、第１パターン８１上に第２パターン８２を形成する段階が行われ得る。
【０１６９】
先立って説明した本発明の一実施形態とは異なり、第２パターン８２は光学パターン８０と導光板１０との接合の段階の後に形成できる。
【０１７０】
この場合、先立って図１１で第２マスターパターン１０２０を形成する段階は省略され、これにより、マスター基板１０００は第１マスターパターン１０１０のみを含む。
【０１７１】
また、このようなマスター基板１０００に基づいて形成されたスタンパー２０００は、陰刻パターン２０１０のみを含み、陽刻パターン２０２０を含まなくてもよい。
【０１７２】
第１パターン８１上に第２パターン８２を形成する段階は、第１パターン８１上にレーザー（ｌａｓｅｒ）を照射して、第１パターン８１の上面から窪んだ形状を有する第２パターン８２を形成する段階を含むことができる。
【０１７３】
結果物である第２パターン８２の形状は、先立って本発明の幾つかの実施形態に係る表示装置で説明した第２パターン７２と実質的に同一であり得る。
【０１７４】
以上、添付図面を参照して本発明の実施形態について説明したが、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者は、本発明がその技術的思想または必須の特徴を変更することなく他の具体的な形態で実施できることを理解することができるであろう。よって、上述した実施形態は、あらゆる面で例示的なもので、限定的なものではないと理解すべきである。
【０１７５】
好ましい具体的な実施形態においては、以下のとおりである。
【０１７６】
導光板の少なくとも一の側面（入射端面）に沿って、点光源としてのブルーＬＥＤが配列され、導光板の出射面（表側の面）には、波長変換粒子（量子ドット）を含む波長変換層が設けられる、液晶表示装置用のバックライト装置において、
下記(i)または(i)〜(ii)の問題に対処すべく、好ましい実施形態において、Ａ１〜Ａ４とするか、または、Ａ１〜Ａ４及びＢ１〜Ｂ３とする。
【０１７７】
(i) 点光源を用いることに起因して導光板内での直進性が損なわれる。導光板自体に光を導くための微細な凹凸パターンを設けた場合、このためのコストが大きくなる。
(ii) 波長変換層に、水分の浸入を防止するバリアフィルムを設けた場合に、コスト及び厚み寸法が増大してしまう。
【０１７８】
Ａ１  導光板10と波長変換層30との間には、導光板10の材料（特には、屈折率１．５の一般的なガラス）よりも屈折率の低い材料（例えば、屈折率1.38のフッ化マグネシウム）からなる低屈折層20を配置する。
これにより、導光板内を伝播していく光が、出射面（表側の面）にて全反射する割合を向上させる。
【０１７９】
Ａ２  導光板10の裏面には、凹凸による光学パターンが形成された光学パターン層70を貼り付ける。
【０１８０】
Ａ３  光学パターン層70は、硬化済みのアクリレート樹脂などからなるベースフィルムの片面に、光硬化性のアクリレート樹脂を塗布して、インプリント法により光学パターン71,72を形成したものである。
【０１８１】
Ａ４  光学パターン71,72としては、光を一方向に導くための、直線状に延びる畝（うね）状のパターン（第１光学パターン71）を、全面にわたって設ける。
さらには、第１光学パターン71を貫通する島状の孔部としての第２光学パターン72を設けることで、導光板内を伝播していく光が、適宜に裏面側へと出た後、反射部材250で反射されて、出射面（表側の面）へと送られるようにする。
【０１８２】
Ｂ１  コストを抑えつつ、波長変換層30への水分の浸入を防ぐべく、導光板10の材料には、一般的なガラス（屈折率１．５）などを用いる。
【０１８３】
Ｂ２  波長変換層30を、シリコン窒化物などの無機材料からなるパッシベーション層40で被覆して封止する。
【０１８４】
Ｂ３  導光板10の四周の縁部上で、低屈折層20及び波長変換層30が省かれるようにする。特には、厚みの大きい波長変換層30の側端面は、充分にテーパー状をなすようにする。
これにより、パッシベーション層40が、周縁部にて、ガラスなどの無機材料からなる導光板10と接合されることで、波長変換層30を封止する。
【符号の説明】
【０１８５】
１０    導光板
２０    低屈折層
３０    波長変換層
４０    パッシベーション層
７０    光学パターン
１００    光学部材
ＡＤ    接着層
ＢＦ    ベースフィルム
【図１】
2019140106.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
2019140106.tif 000021
【図２０】
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【図２１】
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