(57)【要約】【課題】異なる検査光学系を統合した欠陥検査装置、欠陥検査方法、及び、フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】一実施形態に係る欠陥検査装置３Ａは、フィルム１００の欠陥検査装置であり、フィルムの検査領域Ａに照射する検査光Ｌを出力する光照射部１０Ａと、検査領域を撮像する撮像部２０Ａと、を備え、光照射部と撮像部の少なくとも一方は、所定の偏光方向の光を選択的に通過させるフィルタ部１２を有し、フィルタ部は、所定の偏光方向を調整可能に構成されている。【選択図】図２
2019070617.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルムの欠陥検査装置であって、
前記フィルムの検査領域に照射する検査光を出力する光照射部と、
前記検査領域を撮像する撮像部と、
を備え、
前記光照射部と前記撮像部の少なくとも一方は、所定の偏光方向の光を選択的に通過させるフィルタ部を有し、
前記フィルタ部は、前記所定の偏光方向を調整可能に構成されている、
欠陥検査装置。
【請求項２】
前記フィルタ部は、液晶セルの片面に直線偏光フィルムが設けられて構成された液晶フィルタを有する、
請求項１に記載の欠陥検査装置。
【請求項３】
前記フィルムは直線偏光特性を有する光学フィルムであり、
前記光照射部は、
光源と、
前記光源と前記フィルムとの間に配置される前記フィルタ部と、
を有する、
請求項１又は２に記載の欠陥検査装置。
【請求項４】
前記フィルムは直線偏光特性を有する光学フィルムであり、
前記光照射部は、
光源と、
前記光源からの光を、互いに偏光方向が直交する第１偏光光と第２偏光光とに分離する偏光分離素子と、
前記偏光分離素子で分離された前記第２偏光光の光路上に配置されており、前記偏光分離素子で分離された前記第１偏光光の光路を前記第２偏光光の光路に合成する光路合成部と、
前記偏光分離素子で分離された前記１偏光光を前記光路合成部に導く光学系と、
前記光学系によって導かれる前記第１偏光光の光路上に配置される前記フィルタ部と、
を有し、
前記フィルムは、前記第２偏光光の光路上に配置されており、
前記フィルタ部は、前記第１偏光光を選択的に通す場合と、前記第２偏光光を選択的に通す場合とに切り替えられる、
請求項１又は２に記載の欠陥検査装置。
【請求項５】
前記光照射部は、前記第２偏光光の光路上において、前記偏光分離素子と前記光路合成部との間に配置され、前記フィルムに対してクロスニコル状態で配置されるとともに、前記第２偏光光を通す偏光フィルムを有する、
請求項４に記載の欠陥検査装置。
【請求項６】
前記フィルムは、直線偏光特性を有する光学フィルムであり、
前記撮像部は、
カメラと、
前記カメラと前記フィルムとの間に配置される前記フィルタ部と、
を有する、
請求項１〜５の何れか一項に記載の欠陥検査装置。
【請求項７】
前記フィルムと前記撮像部との間に配置される第１直線偏光フィルムを更に有し、
前記フィルムは、直線偏光特性を有さないフィルムであり、
前記光照射部は、
光源と、
前記光源と前記フィルムとの間に配置される前記フィルタ部と、
を有する、
請求項１又は２に記載の欠陥検査装置。
【請求項８】
前記撮像部と前記フィルムとの間に配置される第１直線偏光フィルムを更に有し、
前記フィルムは、偏光特性を有さないフィルムであり、
前記光照射部は、
光源と、
前記光源からの光を、互いに偏光方向が直交する第１偏光光及び第２偏光光に分離する偏光分離素子と、
前記第２偏光光の光路上に配置されており、前記第１偏光光の光路を前記第２偏光光の光路に合成する光路合成部と、
前記偏光分離素子で分離された前記第１偏光光を前記光路合成部に導く光学系と、
前記第２偏光光の光路上において、前記偏光分離素子と前記光路合成部との間に配置され、前記第１直線偏光フィルムに対してクロスニコル状態で配置されるとともに、前記第２偏光光を通す第２直線偏光フィルムと、
前記光学系によって導かれる前記第１偏光光の光路上に配置される前記フィルタ部と、
を有し、
前記フィルムは、前記第２偏光光の光路上に配置され、
前記フィルタ部は、前記第１偏光光を選択的に通す場合と、前記第２偏光光を選択的に通す場合とに切り替えられる、
請求項１又は２に記載の欠陥検査装置。
【請求項９】
前記光照射部と前記フィルムとの間に配置される第１直線偏光フィルムを更に有し、
前記フィルムは、偏光特性を有さないフィルムであり、
前記撮像部は、
カメラと、
前記カメラと前記フィルムとの間に配置される前記フィルタ部と、
を有する、
請求項１又は２に記載の欠陥検査装置。
【請求項１０】
前記光照射部を２つ有しており、
２つの前記光照射部のうちの一方である第１光照射部は、前記フィルムからみて前記撮像部と反対側に配置されており、
２つの前記光照射部のうちの他方である第２光照射部は、前記フィルムからみて前記撮像部と同じ側に配置されている、
請求項１〜９の何れか一項に記載の欠陥検査装置。
【請求項１１】
フィルムの欠陥検査方法であって、
前記フィルムの検査領域に光照射部によって検査光を照射する検査光照射工程と、
前記検査領域を撮像部によって撮像する撮像工程と、
を備え、
前記光照射部と前記撮像部の少なくとも一方は、所定の偏光方向の光を選択的に通過させるフィルタ部を有し、
前記フィルタ部は、前記所定の偏光方向を調整可能に構成されている、
欠陥検査方法。
【請求項１２】
前記フィルタ部は、液晶セルの片面に直線偏光フィルムが設けられて構成された液晶フィルタを有する、
請求項１１に記載の欠陥検査方法。
【請求項１３】
前記フィルムは、直線偏光特性を有する光学フィルムであり、
前記光照射部は、光源からの光を前記フィルタ部に通すことによって前記所定の偏光方向の検査光を出力し、
前記検査光照射工程では、前記フィルタ部によって前記検査光の前記所定の偏光方向を調整する、
請求項１１又は１２に記載の欠陥検査方法。
【請求項１４】
前記フィルムは、直線偏光特性を有する光学フィルムであり、
前記撮像部は、前記フィルタ部を通してカメラで前記フィルムの前記検査領域を撮像し、
前記撮像工程では、前記フィルタ部が通す前記所定の偏光方向を調整する、
請求項１１〜１３の何れか一項に記載の欠陥検査方法。
【請求項１５】
前記フィルムは、偏光特性を有さないフィルムであり、
前記光照射部は、光源からの光を前記フィルタ部に通すことによって前記所定の偏光方向の検査光を出力し、
前記検査光照射工程では、前記フィルタ部によって前記検査光の前記所定の偏光方向を切り替え、
前記撮像工程では、前記撮像部は、前記フィルムと前記撮像部との間に配置された第１直線偏光フィルムを通して前記検査領域を撮像する、
請求項１１又は１２に記載の欠陥検査方法。
【請求項１６】
前記フィルムは、偏光特性を有さないフィルムであり、
前記光照射部は、光源からの光を前記フィルタ部に通すことによって前記所定の偏光方向の検査光を出力し、
前記撮像部は、前記フィルタ部を通してカメラで前記フィルムの前記検査領域を撮像し、
前記検査光照射工程では、前記検査光を、前記光照射部と前記フィルムとの間に配置された第１直線偏光フィルムを介して前記フィルムに照射し、
前記撮像工程では、前記フィルタ部が通す前記所定の偏光方向を調整する、
請求項１１又は１２に記載の欠陥検査方法。
【請求項１７】
請求項１１〜１６の何れか一項に記載の欠陥検査方法を含む、フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、欠陥検査装置、欠陥検査方法、及び、フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
偏光フィルム及び位相差フィルム等の光学フィルム、電池のセパレータに用いられるフィルム等の欠陥を検出する欠陥検査装置が知られている。この種の欠陥検査装置は、搬送部によってフィルムを搬送し、光照射部によってフィルムの検査領域に光を照射し、撮像部によってフィルムの検査領域を撮像し、撮像した画像に基づいて欠陥検査を行う。欠陥検査装置としては、例えば、正透過法に基づいた検査光学系を用いた装置（特許文献１参照）及びクロスニコル透過法に基づいた検査光学系を用いた装置（特許文献２参照）が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−１６７９７５号公報
【特許文献２】特開２００７−２１２４４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
欠陥検査では、欠陥をより確実に検出するために、複数の異なる検査光学系（例えば、正透過検査光学系とクロスニコル検査光学系）で欠陥を検出することが望ましい。しかしながら、それら検査光学系を別々に準備すると、導入コストや管理コストが高くなるため、複数の検査光学系の統合が望まれている。
【０００５】
そこで、本発明は、異なる検査光学系を統合した欠陥検査装置、欠陥検査方法、及び、フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一側面に係る欠陥検査装置は、フィルムの欠陥検査装置であり、上記フィルムの検査領域に照射する検査光を出力する光照射部と、上記検査領域を撮像する撮像部と、を備え、上記光照射部と上記撮像部の少なくとも一方は、所定の偏光方向の光を選択的に通過させるフィルタ部を有し、上記フィルタ部は、上記所定の偏光方向を調整可能に構成されている。
【０００７】
本発明の他の側面に係る欠陥検査方法は、フィルムの欠陥検査方法であり、上記フィルムの検査領域に光照射部によって検査光を照射する検査光照射工程と、上記検査領域を撮像部によって撮像する撮像工程と、を備え、上記光照射部と上記撮像部の少なくとも一方は、所定の偏光方向の光を選択的に通過させるフィルタ部を有し、上記フィルタ部は、上記所定の偏光方向を調整可能に構成されている。
【０００８】
上記欠陥検査装置及び上記欠陥検査方法では、フィルムの検査領域に光照射部によって検査光を照射した状態で、撮像部により検査領域を撮像する。したがって、撮像部によって、光照射部からの検査光で照明された検査領域の検査画像を取得できる。上記光照射部と上記撮像部の少なくとも一方は、所定の偏光方向の光を選択的に通過させるフィルタ部を有し、上記フィルタ部は、上記所定の偏光方向を調整可能に構成されている。そのため、フィルタ部で上記所定の偏光方向を調整すれば異なる検査状態の検査画像を得ることが可能である。すなわち、一つの欠陥検査装置において、異なる検査光学系を統合できており、フィルタ部が選択的に通す光の偏光方向を調整することで、上記異なる検査光学系それぞれでの欠陥検査が可能である。
【０００９】
上記欠陥検査装置及び上記欠陥検査方法における上記フィルタ部は、液晶セルの片面に直線偏光フィルムが設けられて構成された液晶フィルタを有してもよい。この場合、液晶フィルタへの電圧の印加の有無により、液晶フィルタ内を通過する光の偏光方向を、短い時間(例えば、０．１ｍｓｅｃ〜２５ｍｓｅｃ)で調整可能である。
【００１０】
一実施形態に係る欠陥検査装置における上記フィルムは直線偏光特性を有する光学フィルムであり、上記光照射部は、光源と、上記光源と上記フィルムとの間に配置される上記フィルタ部と、を有してもよい。一実施形態における欠陥検査方法では、上記フィルムは、直線偏光特性を有する光学フィルムであり、上記光照射部は、光源からの光を上記フィルタ部に通すことによって上記所定の偏光方向の検査光を出力し、上記検査光照射工程では、上記フィルタ部によって上記検査光の上記所定の偏光方向を調整してもよい。
【００１１】
この場合、検査光の所定の偏光方向が調整されるので、直線偏光特性を有する光学フィルムの欠陥検査を、例えば平行ニコル状態で行うとともに、クロスニコル状態またはハーフクロスニコル状態でも行い得る。本明細書において、平行ニコル状態は、２つの偏光方向（又は偏光方向と偏光軸）が実質的に平行、換言すれば、２つの偏光方向（又は偏光方向と偏光軸）のなす角度が、０°以上且つ１°以下である状態、好ましくは、０°である状態を意味しており、クロスニコル状態は、２つの偏光方向（又は偏光方向と偏光軸）のなす角度が実質的に直交、換言すれば、８５°以上且つ１０５°以下である状態、好ましくは、９０°である状態を意味しており、ハーフクロスニコル状態は、２つの偏光方向（又は偏光方向と偏光軸）のなす角度が１°より大きく且つ８５°未満である状態を意味している。
【００１２】
一実施形態に係る欠陥検査装置では、上記フィルムは直線偏光特性を有する光学フィルムであり、上記光照射部は、光源と、上記光源からの光を、互いに偏光方向が直交する第１偏光光と第２偏光光とに分離する偏光分離素子と、上記偏光分離素子で分離された上記第２偏光光の光路上に配置されており、上記偏光分離素子で分離された上記第１偏光光の光路を上記第２偏光光の光路に合成する光路合成部と、上記偏光分離素子で分離された上記１偏光光を上記光路合成部に導く光学系と、上記光学系によって導かれる上記第１偏光光の光路上に配置される上記フィルタ部と、を有し、上記フィルムは、上記第２偏光光の光路上に配置されており、上記フィルタ部は、上記第１偏光光を選択的に通す場合と、上記第２偏光光を選択的に通す場合とに切り替えられてもよい。
【００１３】
この構成では、光学フィルムは、第１偏光光を通す直線偏光特性を有する。フィルタ部が第１偏光光を選択的に通す場合、光源からの出力光が偏光分離素子で第１偏光光及び第２偏光光に分離された後、分離された第１偏光光及び第２偏光光の光路は光路合成部で合成され、検査対象のフィルムに向けて出力される。したがって、フィルタ部が第１偏光光を通す場合、光照射部からは無偏光の検査光が出力される。無偏光の検査光は、第１偏光光を含むので、直線偏光特性を有する光学フィルムを、平行ニコル状態での欠陥検査が可能である。フィルタ部が第２偏光光を選択的に通す場合、光源からの出力光が偏光分離素子で第１偏光光及び第２偏光光に分離されると、分離された第１偏光光はフィルタ部で遮断される。そのため、光路合成部からは第２偏光光のみが出力される。したがって、フィルタ部が第２偏光光を選択的に通す場合、光照射部からは第２偏光光としての検査光が出力される。よって、直線偏光特性を有する光学フィルムを、クロスニコル状態での欠陥検査が可能である。
【００１４】
上記光照射部は、上記第２偏光光の光路上において、上記偏光分離素子と上記光路合成部との間に配置され、上記フィルムに対してクロスニコル状態で配置されるとともに、上記第２偏光光を通す偏光フィルムを有してもよい。
【００１５】
一実施形態に係る欠陥検査装置における上記フィルムは、直線偏光特性を有する光学フィルムであり、上記撮像部は、カメラと、上記カメラと上記フィルムとの間に配置される上記フィルタ部と、を有してもよい。一実施形態に係る欠陥検査方法では、上記フィルムは、直線偏光特性を有する光学フィルムであり、上記撮像部は、上記フィルタ部を通してカメラで上記フィルムの上記検査領域を撮像し、上記撮像工程では、上記フィルタ部が通す上記所定の偏光方向を調整されてもよい。
【００１６】
この場合、フィルタ部が通す光の偏光方向を切り替えることで、直線偏光特性を有する光学フィルムと、フィルタ部との配置関係を、例えば、平行ニコル状態とクロスニコル状態又はハーフクロスニコル状態との間で切り替え可能である。よって、例えば、直線偏光特性を有する光学フィルムの欠陥検査を、例えば平行ニコル状態で行うとともに、クロスニコル状態又はハーフクロスニコル状態でも行い得る。
【００１７】
一実施形態に係る欠陥検査装置は、上記フィルムと上記撮像部との間に配置される第１直線偏光フィルムを更に有し、上記フィルムは、直線偏光特性を有さないフィルムであり、  上記光照射部は、光源と、上記光源と上記フィルムとの間に配置される上記フィルタ部と、を有してもよい。一実施形態に係る欠陥検査方法は、上記フィルムは、偏光特性を有さないフィルムであり、上記光照射部は、光源からの光を上記フィルタ部に通すことによって上記所定の偏光方向の検査光を出力し、上記検査光照射工程では、上記フィルタ部によって上記検査光の上記所定の偏光方向を切り替え、上記撮像工程では、上記撮像部は、上記フィルムと上記撮像部との間に配置された第１直線偏光フィルムを通して上記検査領域を撮像してもよい。
【００１８】
この場合、フィルタ部を通る光の偏光方向を切り替えることで、第１直線偏光フィルムとフィルタ部とで平行ニコル状態を形成するとともに、クロスニコル状態又はハーフクロスニコル状態を形成可能である。よって、フィルムが直線偏光特性を有しない場合でも例えば平行ニコル状態での欠陥検査とクロスニコル状態又はハーフクロスニコル状態での欠陥検査を実施できる。
【００１９】
一実施形態に係る欠陥検査装置は、上記撮像部と上記フィルムとの間に配置される第１直線偏光フィルムを更に有し、上記フィルムは、偏光特性を有さないフィルムであり、  上記光照射部は、光源と、上記光源からの光を、互いに偏光方向が直交する第１偏光光及び第２偏光光に分離する偏光分離素子と、上記第２偏光光の光路上に配置されており、上記第１偏光光の光路を上記第２偏光光の光路に合成する光路合成部と、上記偏光分離素子で分離された上記第１偏光光を上記光路合成部に導く光学系と、上記第２偏光光の光路上において、上記偏光分離素子と上記光路合成部との間に配置され、上記第１直線偏光フィルムに対してクロスニコル状態で配置されるとともに、上記第２偏光光を通す第２直線偏光フィルムと、上記光学系によって導かれる上記第１偏光光の光路上に配置される上記フィルタ部と、を有し、上記フィルムは、上記第２偏光光の光路上に配置され、上記フィルタ部は、上記第１偏光光を選択的に通す場合と、上記第２偏光光を選択的に通す場合とに切り替えられてもよい。
【００２０】
この場合も、フィルタ部を通る光の偏光方向を切り替えることで、第１直線偏光フィルムとフィルタ部とで平行ニコル状態を形成するとともに、クロスニコル状態を形成可能である。よって、フィルムが直線偏光特性を有しない場合でも例えば平行ニコル状態での欠陥検査とクロスニコル状態での欠陥検査を実施できる。
【００２１】
一実施形態に係る欠陥検査装置は、上記光照射部と上記フィルムとの間に配置される第１直線偏光フィルムを更に有し、上記フィルムは、偏光特性を有さないフィルムであり、  上記撮像部は、カメラと、上記カメラと上記フィルムとの間に配置される上記フィルタ部と、を有してもよい。一実施形態に係る欠陥検査方法では、上記フィルムは、偏光特性を有さないフィルムであり、上記光照射部は、光源からの光を上記フィルタ部に通すことによって上記所定の偏光方向の検査光を出力し、上記撮像部は、上記フィルタ部を通してカメラで上記フィルムの上記検査領域を撮像し、上記検査光照射工程では、上記検査光を、上記光照射部と上記フィルムとの間に配置された第１直線偏光フィルムを介して上記光学フィルムに照射し、上記撮像工程では、上記フィルタ部が通す上記所定の偏光方向を調整してもよい。
【００２２】
この場合、フィルタ部を通る光の偏光方向を切り替えることで、第１直線偏光フィルムとフィルタ部とで平行ニコル状態を形成するとともに、クロスニコル状態又はハーフクロスニコル状態を形成可能である。よって、フィルムが直線偏光特性を有しない場合でも例えば平行ニコル状態での欠陥検査とクロスニコル状態又はハーフクロスニコル状態での欠陥検査を実施できる。
【００２３】
一実施形態に係る欠陥検査装置は、上記光照射部を２つ有しており、２つの上記光照射部のうちの一方である第１光照射部は、上記フィルムからみて上記撮像部と反対側に配置されており、２つの上記光照射部のうちの他方である第２光照射部は、上記フィルムからみて上記撮像部と同じ側に配置されていてもよい。
【００２４】
この場合、第１光照射部と撮像部とは透過検査光学系を構成しており、第２光照射部と撮像部とは反射検査光学系を構成している。よって、上記構成では、透過検査光学系と、反射検査光学系とが統合されている。
【００２５】
本発明の他の側面は、上記本発明の他の側面に係る記載の欠陥検査方法によって上記フィルムを検査する工程を備えるフィルムの製造方法にも係る。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、本発明は、異なる検査光学系を統合した欠陥検査装置、欠陥検査方法、及び、フィルムの製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】図１は、第１実施形態に係る欠陥検査装置を含む欠陥検査システムの模式図である。
【図２】図２は、第１実施形態に係る欠陥検査装置の模式図であり、図２の（ａ）部は、欠陥検査装置が有する液晶フィルタ（フィルタ部）がＯＦＦ状態の場合を示しており、図２の（ｂ）部は、欠陥検査装置が有する液晶フィルタ（フィルタ部）がＯＮ状態を示している。
【図３】図３は、第２実施形態に係る欠陥検査装置の模式図である。
【図４】図４は、第３実施形態に係る欠陥検査装置の模式図である。
【図５】図５は、第４実施形態に係る欠陥検査装置の模式図である。
【図６】図６は、検証実験における第１検査での検査画像を示しており、図６の（ａ）部は、正反射検査光学系での検査画像であり、図６の（ｂ）部は、クロスニコル反射検査光学系での検査画像である。
【図７】図７は、検証実験における第２検査での検査画像を示しており、図７の（ａ）部は、正反射検査光学系での検査画像であり、図７の（ｂ）部は、クロスニコル反射検査光学系での検査画像である。
【図８】図８は、第５実施形態に係る欠陥検査装置の模式図である。
【図９】図９は、第６実施形態に係る欠陥検査装置の模式図である。
【図１０】図１０は、第７実施形態に係る欠陥検査装置の模式図である。
【図１１】図１１は、第８実施形態に係る欠陥検査装置の模式図である。
【図１２】図１２は、第９実施形態に係る欠陥検査装置の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。同一の要素には同一符号を付し、重複する説明は省略する。図面の寸法比率は、説明のものと必ずしも一致していない。
【００２９】
（第１実施形態）
図１は、第１実施形態に係る欠陥検査装置を含む欠陥検査システムの模式図である。欠陥検査システム１は、搬送部２と、欠陥検査装置３Ａとを備えており、帯状の光学フィルム１００を、その長手方向に搬送部２で搬送しながら搬送経路に配置された欠陥検査装置３Ａで、光学フィルム１００の欠陥検査をする。
【００３０】
搬送部２は搬送ローラＲを有する。搬送部２は、搬送ローラＲの他、搬送する光学フィルム１００に張力を付与する張力付与装置を備えてもよい。図１には、説明の便宜のために使用するＸＹＺ直交座標が示されている。Ｘ方向は光学フィルム１００の幅方向を示し、Ｙ方向は光学フィルム１００の搬送方向を示す。Ｚ方向は、Ｘ方向及びＹ方向のそれぞれに直交する方向を示す。他の図面の説明においても、同様のＸＹＺ直交座標を利用して説明する場合もある。
【００３１】
欠陥検査システム１は、図１に示したように、マーキング装置４を備えてもよい。マーキング装置４は、欠陥検査装置３Ａから送られてくる欠陥情報を利用して、光学フィルム１００上に目印Ｍを付す装置である。マーキング装置４は、例えば、光学フィルム１００の幅方向Ｘに沿って延在するアームと、ペンなどを有するマーカヘッドとを有する。マーカヘッドがアーム上を幅方向Ｘに移動することにより、光学フィルム１００上に目印Ｍが付される。マーキング装置４は、欠陥検査装置３Ａにより制御されるように構成されていてもよいし、或いは、マーキング装置４自体がコンピュータといった制御部を有していてもよい。また、マーキング装置４は、欠陥検査装置３Ａから送られてくる欠陥情報を２次元コード化し、光学フィルム１００に印字してもよい。
【００３２】
欠陥検査装置３Ａで行う欠陥検査とは、光学フィルム１００の製造工程（搬送工程を含む）の際に発生し得る欠陥を検出する処理の他、検査した欠陥の光学フィルム１００における位置を示す欠陥マップを作成する処理を含んでもよい。この欠陥には、例えば、光学フィルム１００の製造工程において光学フィルム１００内に混入した気泡、異物及び輝点、光学フィルム１００に付着した異物、光学フィルム１００に生じた凹凸などである。
【００３３】
図２を利用して第１実施形態に係る欠陥検査装置３Ａについて説明する。図２は、第１実施形態に係る欠陥検査装置３Ａの模式図であり、図２の（ａ）部は、欠陥検査装置３Ａが有する液晶フィルタ（フィルタ部）がＯＦＦ状態の場合を示しており、図２の（ｂ）部は、欠陥検査装置３Ａが有する液晶フィルタ（フィルタ部）がＯＮ状態を示している。
【００３４】
図２では、欠陥検査装置３Ａで検査する光学フィルム１００として、直線偏光特性を有する偏光フィルムを例示している。以下では、断らない限り偏光フィルムとしての光学フィルム１００は、フィルム本体１０１と、保護フィルム１０２と、保護フィルム１０３との積層体である。
【００３５】
フィルム本体１０１は直線偏光特性を有する。第１実施形態において、フィルム本体１０１の偏光軸ＰＡ１は、光学フィルム１００の搬送方向であるＹ方向に平行である。フィルム本体１０１の材料としては、例えばＰＶＡ（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  Ａｌｃｏｈｏｌ）が挙げられる。保護フィルム１０２，１０３は、フィルム本体１０１の両面に貼合されている。保護フィルム１０２，１０３の材料の例は、ＴＡＣ（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌ  ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）が挙げられる。
【００３６】
光学フィルム１００は、保護フィルム１０２，１０３それぞれのフィルム本体１０１と接する面と反対側の面にさらに、プロテクトフィルム、セパレートフィルム等のフィルムを更に有してもよい。プロテクトフィルム、セパレートフィルム等のフィルムは、例えば、粘着剤または接着剤を介して保護フィルム１０２，１０３に貼合され得る。保護フィルム１０２，１０３のいずれか一方をセパレートフィルム等のフィルムに置換えてもよい。セパレートフィルム及びプロテクトフィルムの材料の例は、ＰＥＴ（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  Ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）である。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは、光学フィルム１００を例えば液晶パネルや他の光学フィルム等に貼り合わせる前後に、光学フィルム１００から剥離される。
【００３７】
以下では、光学フィルム１００の搬送方向（フィルム本体１０１の偏光軸ＰＡ１方向）に偏光した光を第１偏光光と称し、第１偏光光と直交する方向に偏光した光を第２偏光光と称す。
【００３８】
欠陥検査装置３Ａは、光照射部１０Ａと、撮像部２０Ａとを備える。欠陥検査装置３Ａは、光照射部１０Ａ及び撮像部２０Ａを制御する制御装置３０を備えてもよい。以下では、断らない限り、制御装置３０を備えた形態を説明する。他の実施形態においても同様である。
【００３９】
光照射部１０Ａは、光学フィルム１００からみて撮像部２０Ａと反対側に配置されている。光照射部１０Ａは、検査対象である光学フィルム１００に照射する検査光Ｌを、光学フィルム１００の検査領域Ａ（図１参照）に向けて出力する。光照射部１０Ａは、光源１１と、液晶フィルタ１２とを有し、光源１１から出力した無偏光の光を、液晶フィルタ１２を通すことによって所定の偏光状態を有する検査光Ｌとして出力する。図２では、第１偏光光の偏光方向を両矢印で示しており、第２偏光光の偏光方向を黒丸で示している。
【００４０】
光源１１は、無偏光であり、光学フィルム１００の組成および性質に影響を与えない光を出力できれば限定されない。光源１１の例は、例えば、メタルハライドランプ、ハロゲン伝送ライト、蛍光灯などである。光源１１は、図１に示したように、光学フィルム１００の幅方向に延在し得る。或いは、光照射部１０Ａは、複数の光源１１を備え、それらが光学フィルム１００の幅方向に沿って離散的に配置されていてもよい。
【００４１】
第１実施形態において、液晶フィルタ１２は、光源１１から出力光に含まれる偏光光のうち所定の偏光方向の光を選択的に通す。液晶フィルタ１２は、一定の電圧が印加された状態がＯＮ状態であり、上記一定の電圧が印加されていない状態でＯＦＦ状態である。液晶フィルタ１２のＯＮ／ＯＦＦ状態を切り替えることで、液晶フィルタ１２が通す光の偏光方向が切り替えられる。液晶フィルタ１２は、制御装置３０に電気的に接続されており、制御装置３０でＯＮ／ＯＦＦ制御される。以下の説明では、断らない限り、液晶フィルタ１２が通す光の所定の偏光方向の調整は、互いに直交する第１偏光と第２偏光との間で偏光方向の切り替えを意味する。しかしながら、液晶フィルタ１２に印加する電圧を制御することによって、所定の偏光方向は調整され得る。
【００４２】
液晶フィルタ１２は、直線偏光フィルム１２ａと、液晶セル１２ｂとを有する。直線偏光フィルム１２ａは直線偏光特性を有する。液晶セル１２ｂは、セパレータを挟んで配置された一対のガラス板の間に液晶材料が充填されて構成されている。上記一対のガラス板の内面には、互いに配向方向が直交した配向膜が形成されている。
【００４３】
液晶フィルタ１２は、直線偏光フィルム１２ａが光学フィルム１００とクロスニコルを形成するように、すなわち、Ｚ方向からみた場合に、直線偏光フィルム１２ａの偏光軸ＰＡ２とフィルム本体１０１の偏光軸ＰＡ１とが直交するように配置されている。したがって、偏光軸ＰＡ２の方向は、紙面に直交する方向である。そのため、図２では、偏光軸ＰＡ２を黒丸で示している。他の図面でも同様である。
【００４４】
液晶フィルタ１２は、光源１１と光学フィルム１００との間に直線偏光フィルム１２ａが光源１１側に位置するように配置されている。よって、光源１１からの無偏光の出力光が液晶フィルタ１２に入射されると、直線偏光フィルム１２ａの偏光軸ＰＡ２に沿った偏光方向を有する光である第２偏光光のみが直線偏光フィルム１２ａを通過し、液晶セル１２ｂに入射する。
【００４５】
液晶フィルタ１２がＯＦＦ状態の場合、液晶セル１２ｂに入射した第２偏光光は、液晶セル１２ｂ内で偏光方向が９０°回転し、図２の（ａ）部に示したように、第１偏光光として出力される。すなわち、液晶フィルタ１２がＯＦＦ状態では、見かけ上、第１偏光光が選択的に液晶フィルタ１２を通過する。一方、液晶フィルタ１２がＯＮ状態の場合、液晶セル１２ｂには電圧が印加されている。この場合、図２の（ｂ）部に示したように、第２偏光光が出力される。すなわち、液晶フィルタ１２がＯＮ状態では、第２偏光光が選択的に液晶フィルタ１２を通過している。
【００４６】
よって、光照射部１０Ａは、液晶フィルタ１２をＯＮ／ＯＦＦ制御することによって、第１偏光光としての検査光Ｌと、第２偏光光としての検査光Ｌを切り替えて光学フィルム１００に照射する機能を有する。
【００４７】
図２に示した液晶フィルタ１２と光学フィルム１００の配置関係は、光学フィルム１００を液晶フィルタ１２の液晶セル１２ｂに貼合した場合、液晶パネルを構成する配置関係に相当する。
【００４８】
撮像部２０Ａは、光学フィルム１００を撮像する少なくとも一つのカメラ２１を有する。図１では、撮像部２０Ａが、光学フィルム１００の幅方向に沿って配置された複数のカメラ２１を有する形態を例示している。カメラ２１は、ＣＣＤカメラといったエリアセンサカメラである。カメラ２１は、ラインセンサカメラであってもよい。カメラ２１がラインセンサカメラである場合、カメラ２１と光学フィルム１００とを相対的に移動させることで、光学フィルム１００の検査領域Ａを撮像可能である。撮像部２０Ａ（具体的には、カメラ２１）は、制御装置３０に電気的に接続されており、撮像タイミングが制御されるとともに、得られた撮像データを制御装置３０に入力する。
【００４９】
制御装置３０は、光照射部１０Ａ及び撮像部２０Ａを制御する。第１実施形態では、制御装置３０は、液晶フィルタ１２及びカメラ２１を制御する形態を説明しているが、例えば制御装置３０は、光源１１の光出力タイミングを制御してもよい。制御装置３０は、例えばコンピュータ（演算部）を有する。制御装置３０は、撮像部２０から入力される撮像データに対して、欠陥部分を検出し、欠陥部分を強調表示するような画像処理を実施する機能、光学フィルム１００の画像に対して欠陥位置を示す欠陥マップを作成する機能などを有してもよい。欠陥検査システム１が、図１に例示したように、マーキング装置４を備える形態では、制御装置３０は、図１に示したようにマーキング装置４にも電気的に接続され、マーキング装置４を制御して、検出した欠陥情報に基づいた目印Ｍを光学フィルム１００に付与してもよい。
【００５０】
次に、欠陥検査装置３Ａを利用して光学フィルム１００を検査する方法について説明する。欠陥検査を実施する際には、光照射部１０Ａから所定の偏光状態(所定の偏光方向)の検査光Ｌを光学フィルム１００の検査領域Ａに照射する（検査光照射工程）。検査光照射工程で光学フィルム１００に検査光Ｌを照射した際に、撮像部２０Ａ（より具体的にはカメラ２１）で検査領域Ａを撮像する（撮像工程）。
【００５１】
検査光照射工程では、液晶フィルタ１２をＯＮ／ＯＦＦ制御することにより、検査光Ｌの所定の偏光状態を切り替える。具体的には、例えば、まず、液晶フィルタ１２をＯＦＦ状態にセットし、第１偏光光である検査光Ｌを光学フィルム１００に照射する。その後、液晶フィルタ１２をＯＮ状態にセットし、第２偏光光である検査光Ｌを光学フィルム１００に照射する。液晶フィルタ１２をＯＮ状態にセットした後に、ＯＦＦ状態に切り替えてもよい。
【００５２】
撮像工程では、検査光Ｌの所定の偏光状態の切り替えに同期して、撮像部２０Ａで、検査領域Ａを撮像する。
【００５３】
上記欠陥検査方法では、検査光照射工程で第１偏光光である検査光Ｌを光学フィルム１００に照射すると、検査光Ｌと、光学フィルム１００とは平行ニコル状態、すなわち、検査光Ｌの偏光方向と、光学フィルム１００が有するフィルム本体１０１の偏光軸ＰＡ１の方向とが実質的に一致した状態で、検査光Ｌが光学フィルム１００に入射する。一方、検査光照射工程で第２偏光光である検査光Ｌを光学フィルム１００に照射すると、検査光Ｌと光学フィルム１００とはクロスニコル状態、すなわち、検査光Ｌの偏光方向と、偏光軸ＰＡ１とが実質的に直交した状態で、検査光Ｌが光学フィルム１００に入射する。
【００５４】
従って、液晶フィルタ１２が通すべき光の所定の偏光方向の切り替えに同期して、撮像部２０Ａで、検査領域Ａを撮像することで、光学フィルム１００に対して平行ニコル状態の検査光Ｌ（平行ニコル光）及びクロスニコル状態の検査光Ｌ（クロスニコル光）それぞれで光学フィルム１００が照明された場合の検査画像が、撮像工程で得られる。
【００５５】
次に、図１及び図２に示した欠陥検査装置３Ａを利用した欠陥検査方法を含む光学フィルム１００の製造方法を説明する。ここでは、図２に示したように、保護フィルム１０２、フィルム本体１０１及び保護フィルム１０３の積層体である光学フィルム１００を製造する場合を例にして説明する。
【００５６】
光学フィルム１００を製造する際、帯状のフィルム本体１０１、帯状の保護フィルム１０２及び帯状の保護フィルム１０３をそれぞれ長手方向に搬送しながら、フィルム本体１０１の一方の片面に保護フィルム１０２を貼合し、他方の片面に保護フィルム１０３を貼合する（貼合工程）。フィルム本体１０１と、保護フィルム１０２及び保護フィルム１０３の貼合は、例えば一対の貼合ローラを用いて行い得る。貼合工程は、フィルム本体１０１に保護フィルム１０２及び保護フィルム１０３を同時に貼合してもよいし、フィルム本体１０１に、保護フィルム１０２及び保護フィルム１０３の一方を貼合した後、他方を貼合してもよい。
【００５７】
上記貼合工程の後に、保護フィルム１０３、フィルム本体１０１及び保護フィルム１０２の積層体としての光学フィルム１００を欠陥検査装置３Ａにおける光照射部１０Ａと撮像部２０Ａとの間に搬送しながら欠陥検査装置３Ａで光学フィルム１００の欠陥検査を行う（欠陥検査工程）。欠陥検査工程では、上記で説明した欠陥検査方法で光学フィルム１００の欠陥検査を行う。欠陥検査システム１が、マーキング装置４を備える形態では、欠陥検査工程の結果に応じて、マーキング装置４で目印Ｍを光学フィルム１００に付与する工程（マーキング工程）を実施してもよい。
【００５８】
上記製造方法では、保護フィルム１０３、フィルム本体１０１及び保護フィルム１０２の積層体としての光学フィルム１００を、欠陥検査装置３Ａによって欠陥検査を実施した。しかしながら、保護フィルム１０３及び保護フィルム１０２が貼合される前のフィルム本体１０１を光学フィルムとして欠陥検査装置３Ａで欠陥検査してもよい。
【００５９】
欠陥検査装置３Ａ及び欠陥検査装置３Ａを利用した欠陥検査方法では、液晶フィルタ１２をＯＮ／ＯＦＦ制御することによって、一つの装置で平行ニコル状態での照射による光学フィルム１００の検査画像と、クロスニコル状態での照射による光学フィルム１００の検査画像を得ることができる。
【００６０】
したがって、欠陥検査装置３Ａは、平行ニコルによる透過検査光学系（以下、「正透過検査光学系」と称す）と、クロスニコルによる透過検査光学系（以下、クロスニコル透過検査光学系）とが一つに統合された構成を有する。欠陥は、その種類に応じて正透過検査光学系及びクロスニコル透過検査光学系の何れかでのみ検出される場合がある。欠陥検査装置３Ａのように、正透過検査光学系と、クロスニコル透過検査光学系とが一つの装置に統合されていれば、光学フィルム１００内の欠陥を確実に検出しやすい。
【００６１】
更に、正透過検査光学系及びクロスニコル透過検査光学系の何れでも検出可能な欠陥の場合において、例えば正透過検査光学系によって現れていた欠陥が、クロスニコル透過検査光学系の検査画像で現れない場合、その欠陥は、フィルム本体１０１より上側（撮像部２０Ａ側）に生じていると判断できる。すなわち、光学フィルム１００における欠陥発生層を識別も可能である。そのため、上記欠陥検査方法を有する光学フィルム１００の製造方法では、欠陥を含まない製品としての光学フィルム１００をより製造し易い。
【００６２】
欠陥検査装置３Ａでは、正透過検査光学系での欠陥検査と、クロスニコル透過検査光学系での欠陥検査を、液晶フィルタ１２のＯＮ／ＯＦＦ制御で切り替え可能である。液晶フィルタ１２の切り替えは、より短い時間（例えば、０．１ｍｓｅｃ〜２５ｍｓｅｃ）で可能であるため、２つの検査光学系での欠陥検査を効率的に実施できる。そのため、上記欠陥検査方法を含んだ光学フィルム１００の製造方法では、欠陥を含まない製品としての光学フィルム１００を効率的に生産できる。
【００６３】
（第２実施形態）
第１実施形態は、光照射部が液晶フィルタ（フィルタ部）を備えており、光学フィルム１００の下側に液晶フィルタが配置された形態である。しかしながら、欠陥検査装置は、図３に示したように、撮像部が液晶フィルタを備えてもよい。
【００６４】
図３は、第２実施形態に係る欠陥検査装置３Ｂの模式図である。欠陥検査装置３Ｂは、光照射部１０Ｂと、撮像部２０Ｂとを有する。図３では、光の光路の一例を一点鎖線の矢印で模式的に示している。
【００６５】
光照射部１０Ｂは、液晶フィルタ１２を有しない点で、第１実施形態の光照射部１０Ａと相違する。光照射部１０Ｂが有する光源１１の構成は、第１実施形態の場合と同様である。
【００６６】
撮像部２０Ｂは、カメラ２１と光学フィルム１００との間に配置された液晶フィルタ１２を有する点で、第１実施形態の撮像部２０Ａと相違する。カメラ２１の構成は、第１実施形態の場合と同様である。カメラ２１は、制御装置３０に電気的に接続されており、第１実施形態と同様に制御装置３０によって制御される。
【００６７】
撮像部２０Ｂが有する液晶フィルタ１２の構成は、第１実施形態の場合と同様である。液晶フィルタ１２は、制御装置３０に電気的に接続されており、制御装置３０によってＯＮ／ＯＦＦ制御される。
【００６８】
液晶フィルタ１２は、直線偏光フィルム１２ａが撮像部２０Ｂ側に位置し、直線偏光フィルム１２ａの偏光軸ＰＡ２と、フィルム本体１０１の偏光軸ＰＡ１とがクロスニコル状態になるように、配置されている。このような配置では、液晶フィルタ１２には、液晶セル１２ｂ側から光が入射する。よって、液晶フィルタ１２がＯＦＦ状態では、液晶フィルタ１２は、直線偏光フィルム１２ａの偏光軸ＰＡ２と直交する偏光方向を有する第１偏光光を選択的に通過させる。ただし、液晶フィルタ１２に入射した第１偏光光は、液晶セル１２ｂを通過する間に偏光方向が９０°回転し、第２偏光光として出力される。一方、液晶フィルタ１２がＯＮ状態では、液晶フィルタ１２は、第２偏光光を選択的に通過させる。液晶フィルタ１２がＯＮ状態では、液晶フィルタ１２に入射した第２偏光光は、その偏光方向を維持したまま液晶フィルタ１２から出力される。
【００６９】
次に、欠陥検査装置３Ｂを利用して光学フィルム１００の欠陥を検査する方法を説明する。欠陥検査を実施する際には、光照射部１０Ｂからの無偏光の出力光を検査光Ｌとして光学フィルム１００の検査領域Ａに照射する（検査光照射工程）。検査光照射工程で光学フィルム１００に検査光Ｌを照射した際に、撮像部２０Ｂ（より具体的にはカメラ２１）で検査領域Ａを撮像する（撮像工程）。より詳細には、カメラ２１で液晶フィルタ１２を通して光学フィルム１００を撮像する。撮像工程では、液晶フィルタ１２のＯＮ／ＯＦＦ制御に同期してカメラ２１で光学フィルム１００を撮像することによって、液晶フィルタ１２がＯＮ状態の場合の検査画像を得るとともに、液晶フィルタ１２がＯＦＦ状態の場合の検査画像を得る。
【００７０】
欠陥検査装置３Ｂも、第１実施形態の場合と同様に、正透過検査光学系と、クロスニコル検査光学系とが統合された装置である。この点を説明する。説明の便宜上、まず、光学フィルム１００に欠陥がないと仮定する。
【００７１】
上記検査光照射工程では、無偏光の光である検査光Ｌが光学フィルム１００に照射される。光学フィルム１００のフィルム本体１０１は偏光軸ＰＡ１を有するので、検査光Ｌに含まれる第１偏光光が光学フィルム１００から出力され、液晶フィルタ１２に入射する。
【００７２】
液晶フィルタ１２がＯＦＦ状態であれば、光学フィルム１００からの第１偏光光は、前述したように、液晶フィルタ１２を通過し、その通過過程で第２偏光光に変換された後、第２偏光光として出力される。液晶フィルタ１２から出力された第２偏光光は、カメラ２１で受けられる。よって、液晶フィルタ１２がＯＦＦ状態の場合、光学フィルム１００の透過画像が得られる。すなわち、液晶フィルタ１２をＯＦＦ状態にセットした場合、欠陥検査装置３Ｂの検査光学系は、正透過検査光学系として機能する。
【００７３】
一方、液晶フィルタ１２がＯＮ状態であれば、前述したように液晶フィルタ１２は、第２偏光光を選択的に通過させることから、光学フィルム１００からの第１偏光光は、液晶フィルタ１２を通過しない。換言すれば、ＯＮ状態の液晶フィルタ１２は、光学フィルム１００に対してクロスニコル状態で配置された偏光フィルタとして機能する。すなわち、液晶フィルタ１２をＯＮ状態にセットした場合、欠陥検査装置３Ｂの検査光学系は、クロス透過検査光学系として機能する。
【００７４】
したがって、欠陥検査装置３Ｂも、正透過検査光学系と、クロスニコル検査光学系とが統合された装置である。
【００７５】
欠陥検査装置３Ｂを正透過検査光学系として機能させる場合において、光学フィルム１００に欠陥が含まれていると、欠陥によって光が遮られたり、欠陥部分で偏光状態が擾乱されることで、検査画像において欠陥部分は、例えば暗い領域として現れる。
【００７６】
一方、欠陥検査装置３Ｂをクロスニコル検査光学系として機能させる場合、光学フィルム１００におけるフィルム本体１０１より上側（撮像部２０Ｂ側）に欠陥が存在しなければ、前述したように、光学フィルム１００からは第１偏光光が出力されるので、検査画像は実質的に真っ暗な画像となる。光学フィルム１００におけるフィルム本体１０１より上側（撮像部２０Ｂ側）に欠陥が存在していれば、フィルム本体１０１からの第１偏光光の偏光状態が欠陥で擾乱されるので、光学フィルム１００からの出力光は、第２偏光光を含む。この第２偏光光は、ＯＮ状態の液晶フィルタ１２を通過可能であることから、カメラ２１に光が入射する。よって、検査画像において欠陥が輝点として現れる。
【００７７】
欠陥検査装置３Ｂも、正透過検査光学系と、クロスニコル検査光学系とが統合された装置であり、正透過検査光学系と、クロスニコル検査光学系とは、液晶フィルタ１２のＯＮ／ＯＦＦ制御で切り替えられる。そのため、欠陥検査装置３Ｂも、第１実施形態の欠陥検査装置３Ａと同様の作用効果を有する。
【００７８】
更に、正透過検査光学系及びクロスニコル透過検査光学系の何れでも検出可能な欠陥の場合において、例えば正透過検査光学系によって現れていた欠陥が、クロスニコル透過検査光学系の検査画像で現れない場合、その欠陥は、フィルム本体１０１より上側（撮像部２０Ａ側）に生じていると判断できる。すなわち、欠陥検査装置３Ｂにおいても、光学フィルム１００における欠陥発生層を識別も可能である。
【００７９】
欠陥検査装置３Ｂは、欠陥検査装置３Ａの代わりに図１に示した欠陥検査システム１に適用できる。よって、欠陥検査装置３Ｂを利用した欠陥検査方法を含む光学フィルム１００の製造方法は、第１実施形態と同様の作用効果を有する。
【００８０】
（第３実施形態）
図４は、第３実施形態に係る欠陥検査装置３Ｃの模式図である。図４でも、光の光路を一点鎖線で模式的に示している。
【００８１】
図４に示した欠陥検査装置３Ｃは、第１実施形態において、撮像部２０Ａの代わりに第２実施形態で説明した撮像部２０Ｂを備える点で、第１実施形態の欠陥検査装置３Ａと相違する。光照射部１０Ａが有する液晶フィルタ１２、撮像部２０Ｂが有する液晶フィルタ１２及びカメラ２１は、第１及び第２実施形態の場合と同様に、制御装置３０に電気的に接続され、制御装置３０で制御される。
【００８２】
欠陥検査装置３Ｃを利用して光学フィルム１００の欠陥を検査する方法を説明する。欠陥検査を実施する際には、光照射部１０Ａから検査光Ｌを光学フィルム１００の検査領域Ａ（図１参照）に照射する（検査光照射工程）。検査光照射工程で光学フィルム１００に検査光Ｌを照射した際に、撮像部２０Ｂ（より具体的にはカメラ２１）で検査領域Ａを撮像する（撮像工程）。
【００８３】
検査光照射工程では、光照射部１０Ａが有する液晶フィルタ１２をＯＮ／ＯＦＦ制御することにより、第１実施形態の場合と同様に、検査光Ｌの所定の偏光状態（所定の偏光方向）を切り替える。撮像工程では、光照射部１０Ａが有する液晶フィルタ１２のＯＮ／ＯＦＦ制御に応じて、撮像部２０Ｂが有する液晶フィルタ１２をＯＮ／ＯＦＦ制御し、光照射部１０Ａ及び撮像部２０Ｂそれぞれが有する液晶フィルタ１２のＯＮ状態とＯＦＦ状態の組み合わせに応じて検査画像を得る。
【００８４】
具体的には、光照射部１０Ａが有する液晶フィルタ１２をＯＦＦ状態にセットした際に、撮像部２０Ｂが有する液晶フィルタ１２をＯＮ／ＯＦＦ制御し、撮像部２０Ｂが有する液晶フィルタ１２がＯＦＦ状態及びＯＮ状態にセットされた際に検査画像をそれぞれ得る。また、光照射部１０Ａが有する液晶フィルタ１２をＯＮ状態にセットした際に、撮像部２０Ｂが有する液晶フィルタ１２をＯＮ／ＯＦＦ制御し、撮像部２０Ｂが有する液晶フィルタ１２がＯＦＦ状態及びＯＮ状態にセットされた際に検査画像をそれぞれ得る。したがって、欠陥検査装置３Ｃでは、表１に示したケースａ〜ケースｄに対応した検査画像が得られる。
【表１】
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【００８５】
ケースａでは、光学フィルム１００に平行ニコル状態の検査光Ｌが照射されるので、光学フィルム１００からは第１偏光光が出力される。第１偏光光は、第２実施形態で説明したように、ケースａにおける液晶フィルタ１２を通過可能である。よって、ケースａでの検査光学系は、正透過検査光学系に相当する。
【００８６】
ケースｂでは、ケースａと同様に、光学フィルム１００からは第１偏光光が出力される。ケースｂでは、撮像部２０Ｂの液晶フィルタ１２がＯＮ状態にセットされているので、光学フィルム１００に欠陥が存在しない場合（より具体的には、フィルム本体１０１より上側に欠陥が存在しない場合）、撮像部２０Ｂが有する液晶フィルタ１２を光は通過しない。よって、ケースｂは、クロスニコル透過検査光学系に相当する。
【００８７】
ケースｃ及びケースｄでは、光学フィルム１００にクロスニコル状態の検査光Ｌが照射されるので、クロスニコル透過検査光学系に相当する。
【００８８】
このように、欠陥検査装置３Ｃでも正透過検査光学系とクロスニコル透過検査光学系が統合されており、２つの光学系を液晶フィルタ１２のＯＮ／ＯＦＦ制御で切り替えられる。したがって、欠陥検査装置３Ｃ及び欠陥検査装置３Ｃを用いた欠陥検査方法は、第１実施形態の欠陥検査装置３Ａと同様の作用効果を有する。
【００８９】
欠陥検査装置３Ｃは、欠陥検査装置３Ａの代わりに図１に示した欠陥検査システム１に適用できる。よって、欠陥検査装置３Ｂを利用した欠陥検査方法を含む光学フィルム１００の製造方法は、第１実施形態と同様の作用効果を有する。欠陥検査装置３Ｃでは、上記ケースａ〜ケースｄの４つの状態それぞれで光学フィルム１００の欠陥検査を実施できることから、光学フィルム１００に応じた検査をし易い。
【００９０】
（第４実施形態）
第１〜第３実施形態で説明した欠陥検査装置３Ａ，３Ｂ，３Ｃは、透過検査光学系を採用していた。しかしながら、図５に模式的に示したように、欠陥検査装置は、反射検査光学系を採用してもよい。図５は、第４実施形態に係る欠陥検査装置３Ｄの模式図である。図５でも、光の光路の一例を一点鎖線で模式的に示している。
【００９１】
欠陥検査装置３Ｄは、検査対象である光学フィルム１００に対して、光照射部１０Ａと、撮像部２０Ａとが同じ側に配置されている点で、第１実施形態の欠陥検査装置３Ａと相違する。換言すれば、欠陥検査装置３Ｄでは、第１の実施形態の欠陥検査装置３Ａにおいて、光照射部１０Ａからの検査光Ｌが、光学フィルム１００で反射した場合に、その反射光が撮像部２０Ａに入射するように光照射部１０Ａ及び撮像部２０Ａが配置されている。光照射部１０Ａ及び撮像部２０Ａの構成は、第１実施形態と同様であるとともに、欠陥検査装置３Ｄを利用した光学フィルム１００の欠陥検査方法は、第１実施形態と同様である。
【００９２】
欠陥検査装置３Ｄは、反射検査光学系を採用しているため、液晶フィルタ１２をＯＮ／ＯＦＦ制御することによって、一つの装置で、光学フィルム１００に対する平行ニコル状態の検査光Ｌ（平行ニコル光）が光学フィルム１００に照射された場合の反射検査画像と、光学フィルム１００に対するクロスニコル状態の検査光Ｌ（クロスニコル光）が光学フィルム１００に照射された場合の反射検査画像を得ることができる。したがって、欠陥検査装置３Ｄは、平行ニコル状態の反射検査光学系（以下、「正反射検査光学系」と称す）と、クロスニコル状態の反射検査光学系（以下、クロスニコル反射検査光学系）とが一つに統合されている。更に、正反射検査光学系とクロスニコル反射検査光学系とは、液晶フィルタ１２をＯＮ／ＯＦＦ制御することで切り替えられる。したがって、欠陥検査装置３Ｄ及び欠陥検査装置３Ｄを利用した光学フィルム１００の欠陥検査方法は、第１実施形態の場合と同様の作用効果を有する。
【００９３】
欠陥検査装置３Ｄは、前述したように反射検査光学系を採用している。光照射部１０Ａからの検査光Ｌが、第１偏光光である場合、検査光Ｌは、フィルム本体１０１より下側（図５では、保護フィルム１０３）に伝播可能である。よって、正反射検査光学系では、フィルム本体１０１より下側に含まれる欠陥も検出可能である。逆に、光照射部１０Ａからの検査光Ｌが、第２偏光光である場合、検査光Ｌは、フィルム本体１０１より下側に伝播できない。したがって、クロスニコル反射検査光学系では、フィルム本体１０１及びフィルム本体１０１より上側に位置する欠陥を検査可能であるが、フィルム本体１０１より下側の欠陥を検出できない。したがって、欠陥検査装置３Ｄにおいて、正反射検査光学系での検査と、クロスニコル反射検査光学系での検査とを切り替えることによって、光学フィルム１００の厚さ方向における欠陥の位置も特定できる。
【００９４】
具体的には、正反射検査光学系及びクロスニコル反射検査光学系それぞれを利用した検査によって欠陥が検出できれば、その欠陥は、フィルム本体１０１及びフィルム本体１０１より上側に位置する。逆に、正反射検査光学系で欠陥が検出されている一方、クロスニコル反射検査光学系では欠陥が検出されていなければ、その欠陥は、フィルム本体１０１より下側に位置する。このように、欠陥検査装置３Ｄでは、欠陥の位置をより詳細に識別可能である。この点を検証した実験（検証実験）を説明する。検証実験の説明では、これまでの説明における構成要素に対応する要素には同様の符号をして説明する。
【００９５】
［検証実験］
検証実験に使用した光学フィルム１００は、保護フィルム１０３、フィルム本体１０１及び保護フィルム１０２がこの順に積層されたフィルムであった。保護フィルム１０２，１０３の材料はＴＡＣであり、フィルム本体１０１の材料はＰＶＡであった。検証実験に使用した光学フィルム１００には、保護フィルム１０２側に気泡が混入しているフィルムを使用した。
【００９６】
検証実験では、図５に示した構成の欠陥検査装置３Ｄを使用した。ただし、カメラ２１にはラインセンサカメラを採用し、ラインセンサカメラと光学フィルム１００とを相対的に移動させることで、光学フィルム１００の検査画像を得た。
【００９７】
（第１検査）
第１検査では、保護フィルム１０２側が光照射部１０Ａ及び撮像部２０Ａ側に位置するように、光学フィルム１００を欠陥検査装置３Ｄにセットし、液晶フィルタ１２をＯＦＦ状態及びＯＮ状態にセットすることで、正反射検査光学系と、クロスニコル反射検査光学系とで光学フィルム１００の検査画像を得た。図６は、第１検査での検査画像を示しており、図６の（ａ）部は、正反射検査光学系での検査画像であり、図６の（ｂ）部は、クロスニコル反射検査光学系での検査画像である。
【００９８】
（第２検査）
第２検査では、第１検査の場合に対して光学フィルム１００を裏返した状態で欠陥検査装置３Ｄに光学フィルム１００をセットした。すなわち、保護フィルム１０２側が光照射部１０Ａ及び撮像部２０Ａと反対側に位置するように、光学フィルム１００を欠陥検査装置３Ｄにセットした。そして、第１検査の場合と同様に、正反射検査光学系と、クロスニコル反射検査光学系とで光学フィルム１００の検査画像を得た。図７は、第２検査での検査画像を示しており、図７の（ａ）部は、正反射検査光学系での検査画像であり、図７の（ｂ）部は、クロスニコル反射検査光学系での検査画像である。図７の（ａ）部及び（ｂ）部において、一点鎖線で示した領域は互いに対応する領域である。
【００９９】
第１検査では、正反射検査光学系の検査と、クロスニコル反射検査光学系の検査の何れでも気泡欠陥を確認できた。この場合、前述のように、欠陥はフィルム本体１０１より上側に位置すると推定される。そして、第１検査では、気泡欠陥を含む保護フィルム１０２がフィルム本体１０１より光照射部１０Ａ及び撮像部２０Ａ側に位置するため、フィルム本体１０１に対する欠陥位置が、検査画像から判断できるものと一致していることが理解できる。
【０１００】
第２検査では、正反射検査光学系での検査では、図７の（ａ）部の一点鎖線で囲んだ領域内に気泡欠陥を確認できた一方、クロスニコル反射検査光学系の検査では、図７の（ｂ）部の一点鎖線で囲んだ領域内には気泡欠陥を確認できなかった。この場合、前述したように、欠陥はフィルム本体１０１より下側に位置していると推定される。そして、第２検査では、気泡欠陥を含む保護フィルム１０２がフィルム本体１０１に対して光照射部１０Ａ及び撮像部２０Ａと反対側に位置するため、フィルム本体１０１に対する欠陥位置が、検査画像から判断できるものと一致していることが理解できる。
【０１０１】
したがって、欠陥検査装置３Ｄにおいて、正反射検査光学系及びクロスニコル反射検査光学系それぞれでの欠陥検査の結果を比較することで、欠陥の位置をより具体的に特定可能である。
【０１０２】
欠陥検査装置３Ｄは、欠陥検査装置３Ｄの代わりに図１に示した欠陥検査システム１に適用できる。よって、欠陥検査装置３Ｄを利用した欠陥検査方法を含む光学フィルム１００の製造方法は、第１実施形態と同様の作用効果を有する。
【０１０３】
（第５実施形態）
図８は、第５実施形態に係る欠陥検査装置３Ｅの模式図である。欠陥検査装置３Ｅは、第１光照射部１０Ａ１と第２光照射部１０Ａ２とを備える点で第１実施形態の欠陥検査装置３Ａと相違する。図８でも、光の光路の一例を一点鎖線で模式的に示している。
【０１０４】
第１光照射部１０Ａ１は、光学フィルム１００からみて撮像部２０Ａと反対側に配置されており、検査光Ｌを光学フィルム１００に斜め入射する。このように斜め入射するように第１光照射部１０Ａ１が配置されている点以外は、第１光照射部１０Ａ１の構成は、第１実施形態の光照射部１０Ａの構成と同様である。
【０１０５】
第２光照射部１０Ａ２は、第４実施形態で説明した光照射部１０Ａと同様の構成及び配置である。すなわち、第２光照射部１０Ａ２は、撮像部２０Ａと共に反射検査光学系を構成するように光学フィルム１００に対して配置されている。第２光照射部１０Ａ２は、第１光照射部１０Ａ１及び第２光照射部１０Ａ２それぞれからの検査光Ｌに基づいて光学フィルム１００から出力される光が、撮像部２０Ａが有するカメラ２１の受光面の同じ領域に入射するように配置されていてもよいし、異なる領域に入射するように配置されていてもよい。
【０１０６】
制御装置３０は、第１光照射部１０Ａ１及び第２光照射部１０Ａ２それぞれの液晶フィルタ１２に電気的に接続されており、第１光照射部１０Ａ１及び第２光照射部１０Ａ２それぞれの液晶フィルタ１２をＯＮ／ＯＦＦ制御する。
【０１０７】
次に、欠陥検査装置３Ｅを利用した光学フィルム１００の欠陥検査方法を説明する。まず、第１光照射部１０Ａ１及び第２光照射部１０Ａ２それぞれからの検査光Ｌに基づいて光学フィルム１００から出力される光が、撮像部２０Ａが有するカメラ２１の受光面の同じ領域に入射する形態を説明する。
【０１０８】
欠陥検査を実施する際には、第１光照射部１０Ａ１から検査光Ｌを光学フィルム１００の検査領域Ａ（図１参照）に照射するとともに、第２光照射部１０Ａ２から検査光Ｌを光学フィルム１００の検査領域Ａに照射する（検査光照射工程）。検査光照射工程で光学フィルム１００に検査光Ｌを照射した際に、撮像部２０Ａで光学フィルム１００を撮像する（撮像工程）。
【０１０９】
検査光照射工程では、第１光照射部１０Ａ１及び第２光照射部１０Ａ２から異なるタイミングで検査光Ｌを光学フィルム１００の検査領域Ａに照射する。そして、第１光照射部１０Ａ１及び第２光照射部１０Ａ２それぞれから検査光Ｌを出力する際、検査光Ｌを出力する光照射部（第１光照射部１０Ａ１又は第２光照射部１０Ａ２）が有する液晶フィルタ１２をＯＮ／ＯＦＦ制御することで、検査光Ｌの所定の偏光状態を切り替える。
【０１１０】
例えば、第１光照射部１０Ａ１から検査光Ｌを出力する場合、第１光照射部１０Ａ１が有する液晶フィルタ１２をＯＦＦ状態にセットして第１偏光光である検査光Ｌを光学フィルム１００に照射する。続いて、第１光照射部１０Ａ１が有する液晶フィルタ１２をＯＮ状態にセットして第２偏光光である検査光Ｌを光学フィルム１００に照射する。第２光照射部１０Ａ２から検査光Ｌを出力する場合、第１光照射部１０Ａ１の場合と同様に、第２光照射部１０Ａ２が有する液晶フィルタ１２をＯＮ／ＯＦＦ制御する。
【０１１１】
撮像工程では、第１光照射部１０Ａ１から検査光Ｌを出力する際の液晶フィルタ１２のＯＮ／ＯＦＦ制御に同期して、撮像部２０Ａのカメラ２１で光学フィルム１００の検査領域Ａを撮像する。同様に、第２光照射部１０Ａ２から検査光Ｌを出力する際の液晶フィルタ１２のＯＮ／ＯＦＦ制御に同期して、撮像部２０Ａのカメラ２１で光学フィルム１００の検査領域Ａを撮像する。
【０１１２】
第１光照射部１０Ａ１及び第２光照射部１０Ａ２それぞれからの検査光Ｌに基づいて光学フィルム１００から出力される光が、撮像部２０Ａが有するカメラ２１の受光面の異なる領域に入射する場合の欠陥検査方法を説明する。この場合も上記検査光照射工程と撮像工程とを有する。
【０１１３】
ただし、検査光照射工程では、第１光照射部１０Ａ１及び第２光照射部１０Ａ２から同じタイミングで検査光Ｌを出力してもよい。そして、第１光照射部１０Ａ１及び第２光照射部１０Ａ２それぞれが有する液晶フィルタ１２をＯＮ／ＯＦＦ制御する。第１光照射部１０Ａ１が有する液晶フィルタ１２のＯＮ／ＯＦＦ制御及び第２光照射部１０Ａ２が有する液晶フィルタ１２のＯＮ／ＯＦＦ制御のタイミングは同じでも異なっていてもよい。
【０１１４】
撮像工程では、第１光照射部１０Ａ１及び第２光照射部１０Ａ２それぞれが有する液晶フィルタ１２のＯＮ／ＯＦＦ制御のタイミングに同期して撮像部２０Ａのカメラ２１で光学フィルム１００の検査領域Ａを撮像する。
【０１１５】
欠陥検査装置３Ｅにおいて、第１光照射部１０Ａ１及び撮像部２０Ａは、第１実施形態で説明した透過検査光学系を構成している。したがって、欠陥検査装置３Ｅ及び欠陥検査装置３Ｅにおいて、第１光照射部１０Ａ１を利用した欠陥検査は、第１実施形態で説明した欠陥検査装置３Ａと同様の作用効果を有する。
【０１１６】
欠陥検査装置３Ｅにおいて、第２光照射部１０Ａ２及び撮像部２０Ａは、第４実施形態で説明した反射検査光学系を構成している。したがって、欠陥検査装置３Ｅ及び欠陥検査装置３Ｅにおいて、第２光照射部１０Ａ２を利用した欠陥検査は、第４実施形態で説明した欠陥検査装置３Ｅと同様の作用効果を有する。
【０１１７】
更に、欠陥検査装置３Ｅでは、透過検査光学系と反射検査光学系が統合された装置である。そのため、透過検査光学系で検出可能な欠陥と、反射検査光学系で検出可能な欠陥とを一つの装置で検出でき、光学フィルム１００の欠陥をより確実に検出可能である。
【０１１８】
欠陥検査装置３Ｅは、欠陥検査装置３Ａの代わりに図１に示した欠陥検査システム１に適用できる。よって、欠陥検査装置３Ｅを利用した欠陥検査方法を含む光学フィルム１００の製造方法は、第１実施形態と同様の作用効果を有する。
【０１１９】
（第６実施形態）
図９は、第６実施形態に係る欠陥検査装置３Ｆの模式図である。欠陥検査装置３Ｆは、光照射部１０Ａの代わりに光照射部１０Ｃを備える点で、第１実施形態の欠陥検査装置３Ａと相違する。図９でも光の光路を一点鎖線で模式的に示している。
【０１２０】
光照射部１０Ｃは、光源１１と、偏光分離素子１３と、光路合成部１４と、第１ミラー１５Ａ、第２ミラー１５Ｂと、直線偏光フィルム１６と、液晶フィルタ１２とを有する。光源１１の構成及び液晶フィルタ１２の構成は、第１実施形態と同様である。
【０１２１】
偏光分離素子１３は、光源１１からの出力光の光路上に配置されており、光源１１からの無偏光の出力光を、互いに偏光方向が直交する第１偏光光と第２偏光光とに分離する。具体的には、第２偏光光を透過し、第１偏光光を反射する。偏光分離素子１３の例は、ＡＰＦ（ＡｄｖａｎｃｅｄＰｏｌａｒｉｚｉｎｇ Ｆｉｌｍ）を用いた素子であり、例えば、プリズム、ガラス板などの一側面にＡＰＦが形成された素子である。
【０１２２】
光路合成部１４は、第２偏光光の光路上に配置されている。具体的には、Ｚ方向において、偏光分離素子１３と光学フィルム１００との間に配置されている。光路合成部１４は、偏光分離素子１３で分離された第１偏光光の光路を第２偏光光の光路に合成して出力する光学素子である。光路合成部１４は、第１偏光光及び第２偏光光の光路を一致させた状態で、第１偏光光及び第２偏光光を光学フィルム１００側に出力する。光路合成部１４の例は、偏光分離素子１３と同じである。
【０１２３】
第１ミラー１５Ａ及び第２ミラー１５Ｂは、偏光分離素子１３で分離された第１偏光光を光路合成部１４に導く光学系を構成している。具体的には、第１ミラー１５Ａは、偏光分離素子１３の側方に配置されており、偏光分離素子１３からの第１偏光光を光学フィルム１００側に反射する。第２ミラー１５Ｂは、第１ミラー１５Ａで反射された第１偏光光の光路上であって、光路合成部１４の側方に配置されており、第１ミラー１５Ａで反射された第１偏光光を光路合成部１４側に反射する。
【０１２４】
直線偏光フィルム１６は、直線偏光特性を有する光学フィルムである。直線偏光フィルム１６は、偏光分離素子１３と光路合成部１４との間において、第２偏光光の光路上に配置されている。直線偏光フィルム１６は、その偏光軸ＰＡ３が、光学フィルム１００とクロスニコル状態となるように、すなわち、Ｚ方向からみて、フィルム本体１０１の偏光軸ＰＡ１と、直線偏光フィルム１６の偏光軸ＰＡ３とが直交するように、配置されている。
【０１２５】
液晶フィルタ１２は、第１ミラー１５Ａと第２ミラー１５Ｂの間において、第１偏光光の光路上に配置されている。液晶フィルタ１２は、直線偏光フィルム１２ａが第２ミラー１５Ｂ側に位置しており、直線偏光フィルム１２ａの偏光軸ＰＡ２が、光学フィルム１００と平行ニコル状態となるよう配置されている。このような配置では、液晶フィルタ１２がＯＮ状態では、液晶フィルタ１２は、第１偏光光を通す。一方、液晶フィルタ１２がＯＦＦ状態では、液晶フィルタ１２は、第１偏光光を遮断する。
【０１２６】
上記光照射部１０Ｃの構成では、光源１１からの出力光は、偏光分離素子１３で第２偏光光と第１偏光光に分離される。具体的には、第２偏光光は偏光分離素子１３を透過し、第１偏光光は第１ミラー１５Ａ側に反射する。
【０１２７】
偏光分離素子１３を透過した第２偏光光は、直線偏光フィルム１６に入射する。直線偏光フィルム１６の偏光軸ＰＡ３の方向は、第２偏光光の偏光方向と同じであるため、偏光分離素子１３からの第２偏光光は、直線偏光フィルム１６を通過して、光路合成部１４に入射する。
【０１２８】
一方、偏光分離素子１３で反射された第１偏光光は、第１ミラー１５Ａで第２ミラー１５Ｂ側に反射する。第１ミラー１５Ａと第２ミラー１５Ｂの間には、液晶フィルタ１２が配置されているので、第１ミラー１５Ａで反射した第１偏光光は液晶フィルタ１２に入射する。
【０１２９】
液晶フィルタ１２がＯＮ状態であれば、第１偏光光は、液晶フィルタ１２を通過する。液晶フィルタ１２を透過した第１偏光光は、第２ミラー１５Ｂで反射し、光路合成部１４に入射する。
【０１３０】
光路合成部１４は、直線偏光フィルム１６を通過した第２偏光光と、第２ミラー１５Ｂからの第１偏光光の光路を一致させて出力する。換言すれば、光路合成部１４は、第２偏光光と第１偏光光とを合成し、無偏光の光として出力する。よって、液晶フィルタ１２がＯＮ状態では、光照射部１０Ｃは、無偏光の検査光Ｌを出力する。
【０１３１】
液晶フィルタ１２がＯＦＦ状態であれば、第１偏光光は液晶フィルタ１２で遮断されるので、光路合成部１４には、第１偏光光は到達しない。よって、光路合成部１４からは、直線偏光フィルム１６を通過した第２偏光光のみが出力される。すなわち、液晶フィルタ１２がＯＦＦ状態では、光照射部１０Ｃは、第２偏光光である検査光Ｌを出力する。
【０１３２】
このように、光照射部１０Ｃでは、液晶フィルタ１２をＯＮ／ＯＦＦ制御することで、無偏光の検査光Ｌと、第２偏光光の検査光Ｌとを切り替えて出力できる。
【０１３３】
光照射部１０Ｃが液晶フィルタ１２のＯＮ／ＯＦＦ制御により、検査光Ｌの偏光状態を切り替えて出力できるので、欠陥検査装置３Ｆを用いた光学フィルム１００の欠陥検査方法は、欠陥検査装置３Ａの場合と同様である。
【０１３４】
検査光Ｌが無偏光状態である場合、検査光Ｌは第１偏光光を含む。よって、第６実施形態では、液晶フィルタ１２がＯＮ状態の場合、光学フィルム１００には、平行ニコル光である検査光Ｌが照射される。一方、液晶フィルタ１２がＯＦＦ状態であって、検査光Ｌが第２偏光光である場合、光学フィルム１００には、クロスニコル光である検査光Ｌが照射される。したがって、欠陥検査装置３Ｆでは、正透過検査光学系とクロスニコル検査光学系とが統合されており、液晶フィルタ１２のＯＮ／ＯＦＦ制御によって、それらの検査光学系が切り替えられる。したがって、欠陥検査装置３Ｆ及び欠陥検査装置３Ｆを用いた光学フィルムの欠陥検査方法は、第１実施形態の場合と同様の作用効果を有する。
【０１３５】
液晶フィルタ１２を光が通過すると、例えば偏光フィルムを通過する場合より光量が減衰する。しかしながら、欠陥検査装置３Ｆをクロスニコル透過検査光学系として使用して欠陥検査を実施する際、第２偏光光は、液晶フィルタ１２を通過しないので、クロスニコル透過検査光学系の検査において、光学フィルム１００の照明に必要な光量を確保し易い。欠陥検査装置３Ｆを正透過検査光学系として使用して欠陥検査を実施する際には、第１偏光光は液晶フィルタ１２を通過する。この場合、前述したように、光量の減衰が生じる。ただし、正透過では光学フィルム１００の照明に必要な光量を、クロスニコル透過より確保し易い。そのため、光量の減衰の影響が小さい。液晶フィルタ１２の構成によっては、液晶フィルタ１２に印加する電圧を調整することで、直線偏光フィルム１２ａを通過する光量を調整可能である。その結果、液晶フィルタ１２を使用した欠陥検査装置３Ｆにおいて、欠陥検査に要する光量を得るために、光源１１からの光量の増加量を低減可能であり、光源１１の選択の幅が広がるとともに、省エネに資する。
【０１３６】
欠陥検査装置３Ｆは、欠陥検査装置３Ａの代わりに図１に示した欠陥検査システム１に適用できる。よって、欠陥検査装置３Ｆを利用した欠陥検査方法を含む光学フィルム１００の製造方法は、第１実施形態と同様の作用効果を有する。
【０１３７】
第６実施形態では、光照射部１０Ｃが、光源１１と、偏光分離素子１３と、光路合成部１４と、第１ミラー１５Ａ、第２ミラー１５Ｂと、直線偏光フィルム１６と、液晶フィルタ１２とを有する場合を説明した。しかしながら、光照射部１０Ｃは、光源１１と、偏光分離素子１３と、光路合成部１４と、第１ミラー１５Ａ、第２ミラー１５Ｂと、液晶フィルタ１２とを有していればよい。すなわち、光照射部１０Ｃは、直線偏光フィルム１６を有さなくてもよい。光照射部１０Ｃが直線偏光フィルム１６を有する実施形態では、直線偏光フィルム１６を通過した光の偏光方向の精度が向上する。そのため、より正確なクロスニコル状態で検査を実施できる。
【０１３８】
（第７実施形態）
図１０は、第７実施形態に係る欠陥検査装置３Ｇの模式図である。欠陥検査装置３Ｇは、光照射部１０Ｃが撮像部２０Ａとともに、反射検査光学系を構成するように、光学フィルム１００からみて撮像部２０Ａと同じ側に配置されている点で、第６実施形態と相違する。この相違点以外は、第６実施形態と同様であるため、欠陥検査装置３Ｇ及び欠陥検査装置３Ｇを用いた欠陥検査方法の作用効果も第６実施形態と同様である。図１０においても、光の光路の一例を一点鎖線で模式的に示している。
【０１３９】
欠陥検査装置３Ｇの構成は、第４実施形態の欠陥検査装置３Ｄにおいて光照射部１０Ａを光照射部１０Ｃに代えた構成に相当する。したがって、欠陥検査装置３Ｇ及び欠陥検査装置３Ｇを用いた欠陥検査方法は、第４実施形態で説明した反射検査光学系が有する作用効果と同様の作用効果も有する。
【０１４０】
第７実施形態においても、第６実施形態の場合と同様に、光照射部１０Ｃは、直線偏光フィルム１６を有さなくてもよい。光照射部１０Ｃが直線偏光フィルム１６を有する場合の作用効果は第６実施形態の場合と同様である。
【０１４１】
第６及び７実施形態において、偏光分離素子１３によって分離された２つの偏光光の偏光方向精度を向上させるため、偏光分離素子１３から液晶フィルタ１２の間、好ましくは第１ミラー１５Ａから液晶フィルタ１２の間に第１偏光光と平行ニコルの状態にある直線偏光フィルムをさらに設置してもよい。
【０１４２】
（第８実施形態）
図１１は、第８実施形態に係る欠陥検査装置３Ｈの模式図である。欠陥検査装置３Ｈは、光照射部１０Ｃの代わりに光照射部１０Ｄを備える点で、第６実施形態の欠陥検査装置３Ｆと相違する。図１１においても、光の光路の一例を一点鎖線で模式的に示している。
【０１４３】
光照射部１０Ｄは、光源１１と、光路合成部１４と、直線偏光フィルム１６と、光源１７と、液晶フィルタ１２Ａとを有する。光源１１、光路合成部１４及び直線偏光フィルム１６の構成は、第６実施形態と同様である。更に、光源１１、直線偏光フィルム１６及び光路合成部１４の配置関係は、光源１１と直線偏光フィルム１６の間に偏光分離素子１３が配置されていない点以外は、第６実施形態の場合と同様である。
【０１４４】
光源１７は、光路合成部１４の側方（Ｙ方向に沿った側方）に配置されている。光源１７と光路合成部１４との間には液晶フィルタ１２Ａが配置されている。液晶フィルタ１２Ａは、ＯＮ／ＯＦＦの切り替えによって、第１偏向光を通す場合と、光を遮断する場合とを切り替えるシャッターとして機能する。液晶フィルタ１２Ａは、光源１７及び液晶フィルタ１２Ａは、液晶フィルタ１２Ａから出力される第１偏光光が、光路合成部１４に入射した際に、直線偏光フィルム１６を通過して光路合成部１４に入射した第２偏光光の光路と合成されるように、配置されている。
【０１４５】
例えば、液晶フィルタ１２Ａは、図１１に示したように、液晶セル１２ｂと、液晶セル１２ｂの一方の面に設けられた直線偏光フィルム１２ａと、液晶セル１２ｂの他方の面（直線偏光フィルム１２ａが設けられる面とは反対の面）に直線偏光フィルム１２ｃとを有する。直線偏光フィルム１２ａの偏光軸ＰＡ２と直線偏光フィルム１２ｃの偏光軸ＰＡ５とは直交している。液晶フィルタ１２Ａは、直線偏光フィルム１２ｃが光源１７に面し、かつ、偏光軸ＰＡ２が偏光軸ＰＡ１と平行ニコル状態になるように配置されている。このような液晶フィルタ１２Ａの構成及び配置では、液晶フィルタ１２ＡがＯＦＦ状態において、光源１７からの光（無偏光光）のうち第１偏光光が液晶フィルタ１２Ａを選択的に通過し、液晶フィルタ１２ＡがＯＮ状態において、光源１７からの光が遮断される。
【０１４６】
光照射部１０Ｄは、光源１１及び光源１７からそれぞれ光を出力した状態で、液晶フィルタ１２ＡをＯＮ／ＯＦＦ制御することで、光照射部１０Ｃと同様の機能を有する。したがって、欠陥検査装置３Ｈ及び欠陥検査装置３Ｈを用いた光学フィルム１００の欠陥検査方法は、第６実施形態の場合と同様の作用効果を有する。
【０１４７】
欠陥検査装置３Ｈにおいては、光源１７をＯＦＦ状態、すなわち、光源１７からの光の出力を停止することによってもクロスニコル透過検査光学系を実現可能である。
【０１４８】
欠陥検査装置３Ｈでは、透過検査光学系を採用しているが、第７実施形態のように、光照射部１０Ｄを、撮像部２０Ａと同じ側に配置して反射検査光学系を採用してもよい。
【０１４９】
（第９実施形態）
第１〜第８実施形態では、直線偏光特性を有する光学フィルムを検査対象とした欠陥検査装置を説明した。しかしながら、光学フィルムは、直線偏光特性を有しなくてもよい。第９実施形態として、直線偏光特性を有しない光学フィルムが検査対象である場合の欠陥検査装置を説明する。図１２は、第９実施形態に係る欠陥検査装置３Ｉの模式図である。
【０１５０】
欠陥検査装置３Ｉは、直線偏光特性を有さない光学フィルム１００Ａの欠陥を検査する装置である。光学フィルム１００Ａの例としては、図２に示した保護フィルム１０２及び保護フィルム１０３、位相差フィルムなどである。
【０１５１】
欠陥検査装置３Ｉは、直線偏光フィルム（第１直線偏光フィルム）４０を備える点で第１実施形態の欠陥検査装置３Ａと相違する。この相違点を中心にして欠陥検査装置３Ｉを説明する。
【０１５２】
直線偏光フィルム４０は、直線偏光特性を有するフィルムであり、偏光軸ＰＡ４を有する。直線偏光フィルム４０は、光学フィルム１００Ａと撮像部２０Ａの間に、液晶フィルタ１２の直線偏光フィルム１２ａとクロスニコルを形成するように、配置されている。図１２では、Ｙ方向が偏光軸ＰＡ４の方向に一致するように、直線偏光フィルム４０は配置されている。
【０１５３】
欠陥検査装置３Ｉを利用して光学フィルム１００Ａの欠陥を検査する方法を説明する。欠陥検査を実施する際には、光照射部１０Ａから所定の偏光状態の検査光Ｌを光学フィルム１００Ａの検査領域に照射する（検査光照射工程）。検査光照射工程で光学フィルム１００Ａに検査光Ｌを照射した際に、撮像部２０Ａ（より具体的にはカメラ２１）で検査領域を撮像する（撮像工程）。
【０１５４】
検査光照射工程では、第１実施形態の場合と同様に、液晶フィルタ１２をＯＮ／ＯＦＦ制御することにより、検査光Ｌの所定の偏光状態を切り替える。撮像工程では、検査光Ｌの所定の偏光状態の切り替えに同期して、撮像部２０Ａで、光学フィルム１００Ａの検査領域を撮像する。
【０１５５】
光学フィルム１００Ａは直線偏光特性を有しないので、第１偏光光及び第２偏光光はどちらも光学フィルム１００Ａを透過する。光学フィルム１００Ａと撮像部２０Ａとの間に直線偏光フィルム４０が配置されており、第１偏光光は直線偏光フィルム４０を通過し、第２偏光光は直線偏光フィルム４０で遮断される。
【０１５６】
したがって、欠陥検査装置３Ｉにおいても、正透過検査光学系とクロスニコル透過検査光学系とが統合されており、それらの検査光学系の切り替えは、液晶フィルタ１２のＯＮ／ＯＦＦ制御で実施される。よって、欠陥検査装置３Ｉ及び欠陥検査装置３Ｉを用いた欠陥検査方法は、第１実施形態の場合と同様の作用効果を有する。
【０１５７】
欠陥検査装置３Ｉは、図１において搬送部２で搬送される検査対象を光学フィルム１００Ａとした場合に、図１の欠陥検査システム１の欠陥検査装置３Ａの代わりに適用できる。欠陥検査装置３Ｉ及び欠陥検査装置３Ｉを利用した欠陥検査方法を含む光学フィルムの製造方法は、第１実施形態の場合と同様の作用効果を有する。
【０１５８】
欠陥検査装置３Ｉ及び欠陥検査装置３Ｉを利用した光学フィルム１００Ａの欠陥検査方法は、光学フィルム１００Ａ自体を製造する場合に適用してもよいし、例えば、光学フィルム１００を製造する過程において、フィルム本体１０１に貼合するまでに搬送されている保護フィルム１０２及び保護フィルム１０３の欠陥検査に使用されてもよい。
【０１５９】
欠陥検査装置３Ｉを欠陥検査装置３Ａの変形例として説明した。しかしながら、第２実施形態、第４〜第８実施形態として説明した欠陥検査装置の構成においても第９実施形態で説明したように、直線偏光フィルム４０を更に備えることで、直線偏光特性を有さない光学フィルム１００Ａの欠陥検査を実施可能である。具体的には、第４〜第７実施形態で説明したように、光照射部が液晶フィルタ１２を有する場合は、直線偏光特性を有さない光学フィルム１００Ａと撮像部との間に直線偏光フィルム４０を、第９実施形態で説明したように、液晶フィルタ１２の直線偏光フィルム１２ａとクロスニコルを形成するように配置すればよい。第８実施形態で説明したように、光照射部が、直線偏光フィルム１６及び液晶フィルタ１２Ａを備える場合は、直線偏光特性を有さない光学フィルム１００Ａと撮像部との間に直線偏光フィルム４０を、直線偏光フィルム１６とクロスニコルを形成するように配置すればよい。なお、第６〜第８実施形態の欠陥検査装置が、光学フィルム１００Ａの欠陥検査を実施するために、直線偏光フィルム４０を備える場合、直線偏光フィルム４０が第１直線偏光フィルムに対応し、直線偏光フィルム１６が第２直線偏光フィルムに対応する。
【０１６０】
第２実施形態で説明したように、撮像部が液晶フィルタ１２を有する場合は、光学フィルムと光照射部との間に、直線偏光フィルム４０を、第９実施形態で説明したように、液晶フィルタ１２の直線偏光フィルム１２ａとクロスニコルを形成するように配置すればよい。
【０１６１】
第３実施形態で説明したように、光照射部及び撮像部がともに液晶フィルタを有する場合は、光照射部及び撮像部それぞれの液晶フィルタのＯＮ／ＯＦＦ制御の組み合わせで、光学フィルム１００Ａの欠陥検査が可能である。
【０１６２】
偏光特性を有しないフィルムとして光学フィルムを例示したが、偏光特性を有しないフィルムの例は、電池用セパレータフィルム等でもよい。
【０１６３】
以上、本発明の種々の実施形態を説明した。しかしながら、本発明は上述した種々の実施形態に限定されず、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能である。
【０１６４】
例示した種々の実施形態では、一つの制御装置が、液晶フィルタ及びカメラを制御していたが、液晶フィルタ及びカメラに対して別々の制御装置が設けられてもよい。上記種々の実施形態では、欠陥検査装置が制御装置を備える形態を主に説明したが、欠陥検査装置とは別の構成要素であってもよい。例えば欠陥検査システムの構成要素であってもよいし、欠陥検査装置のユーザが適宜準備する装置であってもよい。
【０１６５】
フィルタ部は、通すべき光の偏光方向を切り替え可能に構成されていれば、液晶フィルタに限定されない。
【０１６６】
検査対象が直線偏光特性を有するフィルムである場合、フィルタ部を通過した光が有する所定の偏光方向と、フィルムの偏光軸とは平行ニコル状態又はクロスニコル状態になるように、フィルムと液晶フィルタとが配置されている形態を説明した。しかしながら、検査対象によっては、フィルタ部を通過した光が有する所定の偏光方向と、フィルムの偏光軸とはハーフクロスニコル状態になるようにフィルタ部とフィルムとが配置されてもよい。或いは、フィルタ部が液晶フィルタである場合、フィルタ部を通過した光が有する所定の偏光方向と、フィルムの偏光軸とがハーフクロスニコル状態となるように、液晶フィルタに印加する電圧を調整して検査を実施してもよい。検査対象が直線偏光特性を有しないフィルムである場合、フィルタ部と対をなす直線偏光フィルムとの配置関係が、前述したようにハーフクロスニコル状態であってもよい。検査対象が直線偏光特性を有しないフィルムである場合であり且つフィルタ部が液晶フィルタである場合、フィルタ部を通過した光が有する所定の偏光方向と、フィルタ部と対をなす直線偏光フィルムの偏光軸との関係がハーフクロスニコル状態となるように液晶フィルタに印加する電圧を調整して検査を実施してもよい。
【０１６７】
これまで例示した種々の実施形態は適宜互いに組み合わされてもよい。例えば、一つの実施形態で説明した光照射部を他の実施形態の光照射部と置き換えてもよいし、一つの実施形態で説明した撮像部を他の実施形態の撮像部と置き換えてもよい。
【符号の説明】
【０１６８】
３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄ，３Ｅ，３Ｆ，３Ｇ，３Ｈ，３Ｉ…欠陥検査装置、１０Ａ，１０Ａ１，１０Ａ２，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄ…光照射部、１１…光源、１２…液晶フィルタ、１３…偏光分離素子、１４…光路合成部、１５Ａ…第１ミラー(光学系)、１５Ｂ…第２ミラー(光学系)、１６…直線偏光フィルム、２０Ａ，２０Ｂ…撮像部、２１…カメラ、４０…直線偏光フィルム（第１直線偏光フィルム）、１００，１００Ａ…光学フィルム(フィルム)、Ａ…検査領域、Ｌ…検査光。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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