(57)【要約】【課題】好適な光学特性を発揮させることを可能にしたカバー部材及びその製造方法を提供する。【解決手段】カバー部材１１は、光源を含む部品（部品Ｅ１等）を覆う用途に用いられる。カバー部材１１は、光透過性を有する基材１２と、基材１２に設けられた光学膜１３とを有する。カバー部材１１の光学膜１３は、Ｔｉ−Ｎｂ系複合酸化物成分を含有する。カバー部材１１の吸収係数は、波長３８０ｎｍ以上、７８０ｎｍ以下の可視光領域の全領域において、５μｍ−１以上、３０μｍ−１以下の範囲内である。カバー部材１１において、波長３８０ｎｍ以上、波長７８０ｎｍ以下の可視光領域における吸収係数の最大値と最小値との差は、７μｍ−１以下である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源を含む部品を覆う用途に用いられるカバー部材であって、
光透過性を有する基材と、前記基材に設けられた光学膜とを有し、
前記光学膜は、Ｔｉ−Ｎｂ系複合酸化物成分を含有し、
波長３８０ｎｍ以上、７８０ｎｍ以下の可視光領域の全領域において、吸収係数は５μｍ−１以上、３０μｍ−１以下の範囲内であり、かつ、波長３８０ｎｍ以上、波長７８０ｎｍ以下の可視光領域における吸収係数の最大値と最小値との差は、７μｍ−１以下であることを特徴とするカバー部材。
【請求項２】
前記光学膜中におけるＴｉ及びＮｂの合計量に対するＮｂの原子数比は、０．１以上、０．９以下の範囲内であることを特徴とする請求項１に記載のカバー部材。
【請求項３】
前記基材は、絶縁性を有し、前記光学膜は、絶縁性成分を含有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のカバー部材。
【請求項４】
前記絶縁性成分は、ＳｉＯ２を含むことを特徴とする請求項３に記載のカバー部材。
【請求項５】
前記光学膜中におけるＴｉ、Ｎｂ、及びＳｉの合計量に対するＳｉの原子数比は、０．０５以上であることを特徴とする請求項４に記載のカバー部材。
【請求項６】
前記基材は、ガラス基材であることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載のカバー部材。
【請求項７】
前記部品は、タッチセンサをさらに含むことを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか一項に記載のカバー部材。
【請求項８】
前記光源は、青色光源及び赤色光源を含むことを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか一項に記載のカバー部材。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれか一項に記載のカバー部材の製造方法であって、
前記光学膜を物理的堆積法により前記基材上に成膜する工程を備えることを特徴とするカバー部材の製造方法。
【請求項１０】
前記物理的堆積法は、パルスレーザー堆積法であることを特徴とする請求項９に記載のカバー部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カバー部材及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
機器の部品を覆うカバー部材には、部品を視認し難くするために遮光層が設けられる場合がある。特許文献１に開示される調理器用トッププレートは、遮光層として、チタン（Ｔｉ）又はニオブ（Ｎｂ）からなる金属膜を備えている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−１５９１７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記のようなカバー部材で覆われる部品としては、カバー部材を視認した際に機器の状態等を知らせるための光源が用いられる場合がある。この場合、カバー部材には、光源の非作動時に光源を視認し難くする光学特性と、光源からの照射光を透過させる光学特性との両者の光学特性が求められる。ここで、光源として、例えば、赤色光源、青色光源等の異なる色の光源が用いられる場合がある。この場合、カバー部材には、互いに色の異なる複数の照射光をより均一に透過させる光学特性が求められる。
【０００５】
本発明の目的は、好適な光学特性を発揮させることを可能にしたカバー部材及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するカバー部材は、光源を含む部品を覆う用途に用いられるカバー部材であって、光透過性を有する基材と、前記基材に設けられた光学膜とを有し、前記光学膜は、Ｔｉ−Ｎｂ系複合酸化物成分を含有し、波長３８０ｎｍ以上、７８０ｎｍ以下の可視光領域の全領域において、吸収係数は５μｍ−１以上、３０μｍ−１以下の範囲内であり、かつ、波長３８０ｎｍ以上、波長７８０ｎｍ以下の可視光領域における吸収係数の最大値と最小値との差は、７μｍ−１以下である。
【０００７】
上記カバー部材において、前記光学膜中におけるＴｉ及びＮｂの合計量に対するＮｂの原子数比は、０．１以上、０．９以下の範囲内であることが好ましい。
上記カバー部材において、前記基材は、絶縁性を有し、前記光学膜は、絶縁性成分を含有することが好ましい。
【０００８】
上記カバー部材において、前記絶縁性成分は、ＳｉＯ２を含むことが好ましい。
上記カバー部材において、前記光学膜中におけるＴｉ、Ｎｂ、及びＳｉの合計量に対するＳｉの原子数比は、０．０５以上であることが好ましい。
【０００９】
上記カバー部材において、前記基材は、ガラス基材であることが好ましい。
上記カバー部材において、前記部品は、タッチセンサをさらに含むことが好ましい。
上記カバー部材において、前記光源は、青色光源及び赤色光源を含むことが好ましい。
【００１０】
上記カバー部材の製造方法は、前記光学膜を物理的堆積法により前記基材上に成膜する工程を備えることが好ましい。
上記カバー部材の製造方法において、前記物理的堆積法は、パルスレーザー堆積法であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、好適な光学特性を発揮させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】実施形態におけるカバー部材の断面図である。
【図２】波長と吸収係数との関係を示すグラフである。
【図３】波長と吸収係数との関係を示すグラフである。
【図４】原子数比とシート抵抗との関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、カバー部材及びその製造方法の実施形態について図面を参照して説明する。
図１に示すように、カバー部材１１は、光透過性を有する基材１２と、基材１２に設けられた光学膜１３とを有している。カバー部材１１は、部品Ｅ１，Ｅ２，Ｅ３を覆う用途に用いられる。本実施形態の部品Ｅ１，Ｅ２は、光源であり、部品Ｅ３は、タッチセンサである。
【００１４】
部品Ｅ１，Ｅ２，Ｅ３が搭載される機器としては、例えば、表示機器、入力機器等が挙げられる。機器の用途としては、例えば、車両用途、家電用途、調理機器等が挙げられる。カバー部材１１は、例えば、車両用計器や表示機器用のカバー部材、加熱調理器（電磁加熱調理器、赤外線加熱調理器、又はガス調理器）用のカバー部材（トッププレート）として好適に用いることができる。
【００１５】
カバー部材１１の基材１２は、光透過性を有している。基材１２としては、例えば、樹脂基材、及びガラス基材が挙げられる。基材１２は、耐熱性や擦傷性に優れるという観点から、ガラス基材であることが好ましい。基材１２の形状は、平板状や曲板状等の板状に限らず、例えば、柱状等の形状であってもよい。
【００１６】
基材１２の光透過性は、例えば、３８０ｎｍ以上、７８０ｎｍ以下の波長の光の平均透過率が８０％以上であることが好ましい。
カバー部材１１を調理器用のトッププレートとして用いる場合、基材１２は、耐熱衝撃性を有するガラス基板であることが好ましい。このガラス基板は、例えば、３０〜５００℃における平均熱膨張係数が５０×１０−７／℃以下の熱膨張係数を有するガラス基板であることがより好ましく、３０〜５００℃における平均熱膨張係数が−１０×１０−７〜＋３０×１０−７／℃であるガラス基板であることがさらに好ましく、３０〜５００℃における平均熱膨張係数が−１０×１０−７〜＋２０×１０−７／℃であるガラス基板であることが特に好ましい。このような低熱膨張性を有するガラス基板としては、例えば、低熱膨張のホウケイ酸ガラス基板、石英ガラス基板、β−石英固溶体を主結晶とする低膨張結晶化ガラス基板が挙げられる。
【００１７】
カバー部材１１を表示機器又は入力機器に用いる場合、基材１２は、耐衝撃性を有するガラス基板であることが好ましい。このガラス基板は、例えば、化学強化したガラス基板が好ましい。このようなガラス基板としては、例えば、アルミノシリケートガラス基板が挙げられる。
【００１８】
基材１２として、ガラス基板を用いた場合、カバー部材１１の絶縁性も確保することが可能となる。
光学膜１３は、Ｔｉ−Ｎｂ系複合酸化物成分を含有する。
【００１９】
光学膜１３中のＴｉ−Ｎｂ系複合酸化物成分は、可視光を吸収する光学特性を有しているため、カバー部材１１で覆われる部品Ｅ１，Ｅ２，Ｅ３が視認され難くなる。また、光学膜１３中のＴｉ−Ｎｂ系複合酸化物成分は、可視光を適度に透過させる光学特性も有しているため、光源（部品Ｅ１，Ｅ２）からの照射光を透過させることが可能である。
【００２０】
Ｔｉ−Ｎｂ系複合酸化物成分を含む光学膜１３の有する光学特性は、ランベルト・ベールの法則に基づく吸収係数αで表すことができる。吸収係数α［μｍ−１］は、下記式（１）によって求められる。
【００２１】
α＝−ｌｎ（Ｔｉｎｔ）／ｔ・・・（１）
式（１）中、Ｔｉｎｔは、光学膜１３の内部透過率であり、ｔは、光学膜１３の膜厚（ｎｍ）である。
【００２２】
光学膜１３の吸収係数αは、３８０ｎｍ以上、７８０ｎｍ以下の可視光の全領域において、５μｍ−１以上、３０μｍ−１以下の範囲内である。光学膜１３の吸収係数αが大きすぎると、部品Ｅ１，Ｅ２，Ｅ３からの照射光が透過し難くなる。光学膜１３の吸収係数αが小さすぎると、部品Ｅ１，Ｅ２，Ｅ３が視認され易くなる。なお、光学膜１３の吸収係数αは、１ｎｍ毎に測定を行うものとする。
【００２３】
ここで、光学膜１３がＴｉ−Ｎｂ系複合酸化物成分を含有することで、可視光領域における短波長側から長波長側にわたって吸収係数の差を小さくすることができる。これにより、可視光領域における光学膜１３の光透過率をより均一に（波長による透過率の差を小さくする）することができる。光学膜１３において、波長３８０ｎｍ以上、７８０ｎｍ以下の可視光領域における吸収係数の最大値α１と最小値α２との差（α１−α２）は、７μｍ−１以下であり、好ましくは５μｍ−１以下であり、より好ましくは３μｍ−１以下である。
【００２４】
光学膜１３中におけるＴｉ及びＮｂの合計量に対するＮｂの原子数比Ｒ１（Ｒ１＝Ｎｂ／（Ｔｉ＋Ｎｂ））は、０．１以上、０．９以下の範囲内であることが好ましく、より好ましくは０．２以上、０．８以下の範囲内である。原子数比Ｒ１を高めることで、長波長側の可視光の吸収を抑えることができる。原子数比Ｒ１を低めることで、短波長側の可視光の吸収を抑えることができる。
【００２５】
光学膜１３は、絶縁性成分を含有してもよい。光学膜１３中の絶縁性成分としては、例えば、ＳｉＯ２（シリカ成分）又はＡｌ２Ｏ３（アルミナ成分）が挙げられる。絶縁性成分としては、複数の成分を併用してもよい。光学膜１３中の絶縁性成分は、光学膜１３のシート抵抗ＲＳが、例えば、２×１０３Ω・ｓｑ−１以上となるように含有されることが好ましく、５×１０３Ω・ｓｑ−１以上となるように含有されることがより好ましい。
【００２６】
光学膜１３の絶縁性成分としてＳｉＯ２を含む場合、光学膜１３中におけるＴｉ、Ｎｂ、及びＳｉの合計量に対するＳｉの原子数比Ｒ２（Ｒ２＝Ｓｉ／（Ｔｉ＋Ｎｂ＋Ｓｉ））は、０．０５以上であることが好ましく、より好ましくは０．１以上である。原子数比Ｒ２を高めることで、光学膜１３の絶縁性を高めることができる。原子数比Ｒ２は、０．７以下であることが好ましく、より好ましくは０．５以下である。原子数比Ｒ２を低めることで、光学膜１３の可視光の吸収率が高くなり、部品Ｅ１，Ｅ２，Ｅ３が視認され難くなる。
【００２７】
光学膜１３の厚さは、例えば、５〜１０００ｎｍの範囲内である。
カバー部材１１の光学膜１３は、基板の両主面に設けてもよいし、いずれか一方の主面に設けてもよい。本実施形態のように部品Ｅ１，Ｅ２，Ｅ３側の主面（カバー部材１１の内側となる基板の裏面）に設けることで、基材１２によって光学膜１３を保護することができる。なお、カバー部材１１は、上記光学膜１３からなる層以外の機能層（例えば、保護層、電極層、反射防止層等）をさらに有していてもよい。光学膜１３を部品Ｅ１，Ｅ２，Ｅ３とは反対側の主面（カバー部材１１の外側となる基板の表面）に設ける場合、光学膜１３を保護するという観点から、光学膜１３上に機能層をさらに設けることが好ましい。また、基板の上に機能層を設け、その上に光学膜１３を設けてもよい。さらに、基板の上に機能層を設け、その上に光学膜１３を設け、さらに光学膜１３の上に機能層を設けてもよい。なお、光学膜１３を部品Ｅ１，Ｅ２，Ｅ３とは反対側の主面（カバー部材１１の外側となる基板の表面）に設ける場合、光学膜１３上に機能層を設けなくてもよい。
【００２８】
次に、カバー部材１１の使用状態及び主な作用について説明する。
カバー部材１１は、機器の筐体に取り付けて用いることができる。部品Ｅ１，Ｅ２の光源としては、例えば、点光源、面光源、ライン光源等が挙げられる。光源は、ＬＥＤ光源であることが好ましい。光源は、機器の各種表示に用いられる。本実施形態の部品Ｅ１，Ｅ２は、互いに色の異なる光源（赤色光源及び青色光源）である。部品Ｅ３のタッチセンサは、例えば、静電容量方式タッチセンサである。
【００２９】
本実施形態のカバー部材１１では、光学膜１３がＴｉ−Ｎｂ系複合酸化物成分を含有することで、可視光領域における吸収係数の最大値α１と最小値α２との差を小さくすることができる。このため、カバー部材１１は、互いに色の異なる光源（赤色光源及び青色光源）からの照射光をより均一に透過させることが可能となる。
【００３０】
カバー部材１１の基材１２が絶縁性を有し、カバー部材１１の光学膜１３が絶縁性成分を含有する場合、部品Ｅ３であるタッチセンサの動作を保証する電気的な絶縁性を発揮させることが可能となる。
【００３１】
次に、カバー部材１１の製造方法について説明する。
カバー部材１１は、基材１２上に光学膜１３を物理的堆積法により成膜することで得られる。物理的堆積法は、例えば、基材１２の温度を５０℃以上、６５０℃以下の範囲内とし、酸素分圧を０．１Ｐａ以上、５．０Ｐａ以下の範囲内とした条件で行われる。物理的堆積法としては、例えば、パルスレーザー堆積法（ＰＬＤ法）、スパッタリング法、及び電子ビーム蒸着法が挙げられる。物理的堆積法の中でも、パルスレーザー堆積法が好適である。また、大きな面積に均一に成膜し易いという観点からは、スパッタリング法も好適である。
【００３２】
次に、光学膜１３の性能についての試験例を説明する。
＜Ｔｉ−Ｎｂ系複合酸化物成分の光学特性＞
ＴｉＯ２（株式会社高純度化学研究所製、純度９９．９％）とＮｂ２Ｏ５（株式会社高純度化学研究所製、純度９９．９５％）とを混合して酸化物粉末１０ｇを得た。酸化物粉末１０ｇと２−プロパノール３０ｃｃとを部分安定化ジルコニア製の容器に入れ、遊星型ボールミル装置を用いて１時間混合し、酸化物のスラリーを調製した。スラリーを乾燥し、８０ＭＰａで一軸プレスした後、２００ＭＰａの圧力で静水圧プレスし、１２５０℃、１２時間、大気雰囲気下の条件で焼成してターゲットＡ１を得た。
【００３３】
ターゲットＡ１は、Ｔｉ及びＮｂの合計量に対するＮｂの原子数比Ｒ１が０．２５（２５／（７５＋２５））となるように酸化物の混合比を設定したものである。
また、Ｔｉ及びＮｉの合計量に対するＮｂの原子数比Ｒ１が０．６７となるように酸化物の混合比を変更した以外は、ターゲットＡ１と同様にしてターゲットＡ２を得た。
【００３４】
次に、上記ターゲットＡ１を用いたパルスレーザー堆積（ＰＬＤ）法により、基材（無アルカリガラス基板、日本電気硝子株式会社製、ＯＡ−１０Ｇ、１５ｍｍ角、０．５ｍｍ厚）の上に光学膜を成膜することでサンプルＡ１を得た。また、上記ターゲットＡ１をターゲットＡ２に変更した以外は、サンプルＡ１と同様にしてサンプルＡ２を得た。
【００３５】
ＰＬＤ法の成膜条件を以下に示す。
雰囲気：高真空（８×１０−５Ｐａ以下）
ターゲットと基板との距離：５０ｍｍ
成膜時の基板の温度：６００℃
レーザー：波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー（レーザーパワー：３００ｍＪ／パルス、レーザーの周波数：５Ｈｚ）
成膜時間：３０分
上記の条件で得られたサンプルＡ１，Ａ２の各光学膜の膜厚は、それぞれ４４ｎｍ及び５９ｎｍであった。
【００３６】
サンプルＡ１，Ａ２の各光学膜の組成とターゲットＡ１，Ａ２の組成を、ＥＤＸ（エネルギー分散型Ｘ線分光法）により測定した。その結果、サンプルＡ１の光学膜及びターゲットＡ１では、Ｔｉ及びＮｂの合計量に対するＮｂの原子数比Ｒ１が０．２５であり、サンプルＡ２の光学膜及びターゲットＡ２では、Ｔｉに対するＮｂの原子数比Ｒ１が０．６７であった。
【００３７】
次に、サンプルＡ１，Ａ２の吸収係数αを１ｎｍ毎に測定した。
図２のグラフは、サンプルＡ１，Ａ２に照射した可視光の波長λと、吸収係数αとの関係を示す。なお、図２のグラフのサンプルＢ１は、ＴｉＯ２からなるターゲットＢ１を用いた以外は、サンプルＡ１と同様に基材に光学膜を成膜したものである。また、図２のグラフのサンプルＢ２は、Ｎｂ２Ｏ５からなるターゲットＢ２を用いた以外は、サンプルＡ１と同様に基材に光学膜を成膜したものである。
【００３８】
図２に示すように、サンプルＡ１，Ａ２の各光学膜では、サンプルＢ１，Ｂ２の各光学膜よりも、可視光領域における吸収係数の最大値と最小値との差が小さく、また、吸収係数は５μｍ−１以上、３０μｍ−１以下の範囲内であることが分かる。
【００３９】
以下に各サンプルの可視光領域における吸収係数の測定結果を示す。
・サンプルＡ１
３８０ｎｍ：１５．７μｍ−１
７８０ｎｍ：１５．２μｍ−１
最大値と最小値との差：２．４μｍ−１
・サンプルＡ２
３８０ｎｍ：１９．９μｍ−１
７８０ｎｍ：１５．３μｍ−１
最大値と最小値との差：４．６μｍ−１
・サンプルＢ１
３８０ｎｍ：４．８μｍ−１
７８０ｎｍ：１４．５μｍ−１
最大値と最小値との差：９．７μｍ−１
・サンプルＢ２
３８０ｎｍ：１７．２μｍ−１
７８０ｎｍ：９．９μｍ−１
最大値と最小値との差：７．３μｍ−１
＜光学膜の絶縁性＞
ＴｉＯ２（株式会社高純度化学研究所製、純度９９．９％）とＮｂ２Ｏ５（株式会社高純度化学研究所製、純度９９．９５％）とＳｉＯ２（アモルファス、株式会社高純度化学研究所製、純度９９．９％）と混合して酸化物粉末１０ｇを得た。酸化物粉末１０ｇと２−プロパノール３０ｃｃとを部分安定化ジルコニア製の容器に入れ、遊星型ボールミル装置を用いて１時間混合し、酸化物のスラリーを調製した。スラリーを乾燥し、８０ＭＰａで一軸プレスした後、２００ＭＰａの圧力で静水圧プレスし、１４００℃、１２時間、大気雰囲気下の条件で焼成してターゲットＡ１１を得た。
【００４０】
ターゲットＡ１１におけるＴｉ及びＮｂに対するＮｂの原子数比Ｒ１は０．２５であり、Ｔｉ、Ｎｂ、及びＳｉの合計量に対するＳｉの原子数比Ｒ２は０．１５である。
また、Ｔｉ、Ｎｂ、及びＳｉの合計量に対するＳｉの原子数比Ｒ２が０．３である以外は、ターゲットＡ１１と同様にしてターゲットＡ１２を得た。
【００４１】
次に、上記ターゲットＡ１１を用いたパルスレーザー堆積（ＰＬＤ）法により、基材（無アルカリガラス基板、日本電気硝子株式会社製、ＯＡ−１０Ｇ、１５ｍｍ角、０．７ｍｍ厚）の上に光学膜を成膜することでサンプルＡ１１を得た。
【００４２】
また、上記ターゲットＡ１１をターゲットＡ１２に変更した以外は、サンプルＡ１１と同様にしてサンプルＡ１２を得た。
ＰＬＤ法の成膜条件を以下に示す。
【００４３】
雰囲気：高真空（８×１０−５Ｐａ以下）
ターゲットと基板との距離：５０ｍｍ
成膜時の基板の温度：３００℃
レーザー：波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー（レーザーパワー：２００ｍＪ／パルス、レーザーの周波数：５Ｈｚ）
成膜時間：３０分
上記の条件で得られたサンプルＡ１１，Ａ１２の各光学膜の膜厚は、それぞれ４０ｎｍ、４８ｎｍであった。
【００４４】
次に、サンプルＡ１１，Ａ１２の各光学膜の組成とターゲットＡ１１，Ａ１２の組成を、ＥＤＸ（エネルギー分散型Ｘ線分光法）により測定した。その結果、サンプルＡ１１の光学膜及びターゲットＡ１１では、Ｔｉ及びＮｉの合計量に対するＮｂの原子数比Ｒ１が０．２５であり、Ｔｉ、Ｎｂ、及びＳｉの合計量に対するＳｉの原子数比Ｒ２が０．１５であった。また、サンプルＡ１２の光学膜及びターゲットＡ１２では、Ｔｉ及びＮｉの合計量に対するＮｂの原子数比Ｒ１が０．２５であり、Ｔｉ、Ｎｂ、及びＳｉの合計量に対するＳｉの原子数比Ｒ２が０．３であった。
【００４５】
次に、サンプルＡ１１，Ａ１２の吸収係数αを測定した。
図３のグラフは、サンプルＡ１１，Ａ１２に照射した可視光の波長λと、吸収係数αとの関係を示す。
【００４６】
図３に示すように、サンプルＡ１１，Ａ１２の各光学膜では、図２に示すサンプルＡ１の光学膜と同様に、可視光領域における吸収係数の最大値と最小値との差が小さく、また、吸収係数は５μｍ−１以上、３０μｍ−１以下の範囲内であることが分かる。
【００４７】
以下に各サンプルの可視光領域における吸収係数の測定結果を示す。
・サンプルＡ１１
３８０ｎｍ：１３．３μｍ−１
７８０ｎｍ：１０．５μｍ−１
最大値と最小値との差：２．８μｍ−１
・サンプルＡ１２
３８０ｎｍ：１３．７μｍ−１
７８０ｎｍ：７．９μｍ−１
最大値と最小値との差：５．８μｍ−１
次に、サンプルＡ１，Ａ１１，Ａ１２のシート抵抗ＲＳをサブフェムトアンペア・リモート・ソースメータ（ＭＯＤＥＬ６４３０、ＫＥＩＴＨＬＥＹ  ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴＳ  ＬＬＣ）を用いた定電圧直流４端子法により測定した。その結果を図４のグラフに示す。
【００４８】
図４に示すように、光学膜中におけるＴｉ、Ｎｂ、及びＳｉの合計量に対するＳｉの原子数比Ｒ２を高めることで、シート抵抗ＲＳの値を高めることができる。これにより、所望の絶縁性を発揮させることができることが分かる。
【００４９】
次に、本実施形態の効果について説明する。
（１）カバー部材１１は、部品Ｅ１，Ｅ２，Ｅ３を覆う用途に用いられる。カバー部材１１は、光透過性を有する基材１２と、基材１２に設けられた光学膜１３とを有している。カバー部材１１の光学膜１３は、Ｔｉ−Ｎｂ系複合酸化物成分を含有する。カバー部材１１の吸収係数は、波長３８０ｎｍ以上、７８０ｎｍ以下の可視光領域の全領域において、５μｍ−１以上、３０μｍ−１以下の範囲内である。また、カバー部材１１において、波長３８０ｎｍ以上、波長７８０ｎｍ以下の可視光領域における吸収係数の最大値と最小値との差は、７μｍ−１以下である。
【００５０】
この構成によれば、光学膜１３に含有されるＴｉ−Ｎｂ系複合酸化物成分は、光学膜１３に可視光を吸収する光学特性を付与する。こうしたＴｉ−Ｎｂ系複合酸化物成分を含有する光学膜１３では、可視光領域における吸収係数の最大値と最小値との差が比較的小さい。従って、好適な光学特性を発揮させることが可能となる。
【００５１】
（２）カバー部材１１において、光学膜１３中におけるＴｉ及びＮｂの合計量に対するＮｂの原子数比Ｒ１は、０．１以上、０．９以下の範囲内であることが好ましい。この場合、光学膜１３において、可視光領域における短波長側の吸収係数と長波長側の吸収係数との差をより小さくすることができる。従って、より好適な光学特性を発揮させることができる。
【００５２】
（３）カバー部材１１において、基材１２は、絶縁性を有し、光学膜１３は、絶縁性成分を含有することが好ましい。この場合、カバー部材１１の絶縁性を確保することができる。
【００５３】
（４）カバー部材１１の光学膜１３における絶縁性成分は、ＳｉＯ２を含むことが好ましい。この場合、カバー部材１１の絶縁性を容易に高めることができる。
（５）カバー部材１１の光学膜１３における絶縁性成分は、ＳｉＯ２を含み、光学膜１３中におけるＴｉ、Ｎｂ、及びＳｉの合計量に対するＳｉの原子数比Ｒ２は、０．０５以上であることが好ましい。この場合、カバー部材１１の絶縁性をより高めることができる。
【００５４】
（６）カバー部材１１の基材１２は、ガラス基材であることが好ましい。この場合、例えば、カバー部材１１の耐熱性を高めることが容易となる。
（７）カバー部材１１は、光源及びタッチセンサを含む部品Ｅ１，Ｅ２，Ｅ３を覆う用途に好適に用いることができる。この場合、光源（部品Ｅ１，Ｅ２）からの照射光の視認性と、タッチセンサ(部品Ｅ３)の動作の安定性とのいずれも確保することができる。
【００５５】
（８）カバー部材１１で覆われる光源が青色光源及び赤色光源を含む場合であっても、カバー部材１１は、青色光源から照射される青色光及び赤色光源から照射される赤色光をバランスよく透過させることが可能となる。
【００５６】
（９）カバー部材１１は、光学膜１３を物理的堆積法により基材１２上に成膜する工程によって容易に得ることができる。さらに、物理的堆積法の中でも、パルスレーザー堆積法を用いることで、安定した組成の光学膜１３を有するカバー部材１１を得ることが容易となる。
【００５７】
（変更例）
本実施形態は、以下のように変更して実施することができる。
・カバー部材１１で覆われる部品Ｅ１，Ｅ２，Ｅ３は、それぞれ単数であってもよいし、複数であってもよい。
【００５８】
・カバー部材１１で覆われる部品Ｅ１，Ｅ２を赤色光源と青色光源との組み合わせ以外の異なる色の組み合わせに変更してもよい。また、カバー部材１１は、三種以上の異なる色の光源を覆う用途に用いてもよい。
【００５９】
・カバー部材１１で覆われる部品は、バックライト（光源）を備えた液晶表示部であってもよい。上記実施形態のカバー部材１１は、液晶表示部が複数の表示色を有する場合、これら複数の表示色をより均一に透過させることが可能となる。
【００６０】
・カバー部材１１が適用される機器は、例えば、部品Ｅ１，Ｅ３を備える第１の機器であってもよいし、部品Ｅ２，Ｅ３を備える第２の機器であってもよい。この場合、カバー部材１１は、第１の電子機器において好適な光学特性を発揮させることができ、また第２の電子機器においても好適な光学特性を発揮させることもできる。
【００６１】
・カバー部材１１は、部品Ｅ３（タッチセンサ）以外の電気的な絶縁性が要求される部品（各種スイッチ類や電極等）を覆う用途に好適に用いることもできる。
・カバー部材１１は、電気的な絶縁性が要求されない部品を覆う用途に用いることもできる。
【００６２】
・カバー部材１１の光学膜１３は、基材１２の一主面の全体に設けてもよいし、部品Ｅ１，Ｅ２，Ｅ３に対応して基材１２の一主面に部分的に設けてもよい。
【符号の説明】
【００６３】
１１…カバー部材、１２…基材、１３…光学膜、Ｅ１，Ｅ２，Ｅ３…部品。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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