(57)【要約】      （修正有）【課題】大型のワークに対して一度で露光処理を行うことができる偏光光照射装置を提供する。【解決手段】長手方向が対象物の搬送方向に対して略直交する第１ランプ１１及び第２ランプ１２は、搬送方向及び搬送方向と略直交する方向である直交方向にずらして配置され、直交方向において、第１ランプ１１の第１端が第２ランプ１２と重なり、第２ランプ１２の第２端が第１ランプ１１と重なる。平面視において、第１ランプ１１からの光が照射される直交方向に長い帯状の領域の一部である第１領域と重なるように第１遮光部が設けられ、第２ランプからの光が照射される直交方向に長い帯状の領域の一部である第２領域と重なるように第２遮光部が設けられ、第１領域と第２領域とは直交方向の位置が略同一である。また、第１遮光部の面積と第２遮光部の面積との和は、第１領域及び第２領域の面積と略同一である。【選択図】図２
2019035930.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光光が照射される対象物が載置されるステージと、
長手方向が前記対象物の搬送方向に対して略直交するように設けられた第１ランプ及び第２ランプと、
前記第１ランプ及び前記第２ランプと前記ステージとの間に設けられ、前記第１ランプ及び前記第２ランプから照射された光を偏光する偏光部材と、
前記第１ランプと前記ステージとの間に設けられ、前記第１ランプから照射された光を遮る第１遮光部と、
前記第２ランプと前記ステージとの間に設けられ、前記第２ランプから照射された光を遮る第２遮光部と、
を備え、
前記第１ランプと前記第２ランプとは、前記搬送方向及び前記搬送方向と略直交する方向である直交方向にずらして配置され、
前記直交方向において、前記第１ランプの第１端が前記第２ランプと重なり、前記第２ランプの第２端が前記第１ランプと重なり、
平面視において、前記第１遮光部は、前記第１ランプからの光が照射される前記直交方向に長い帯状の領域の一部である第１領域と重なるように設けられ、
平面視において、前記第２遮光部は、前記第２ランプからの光が照射される前記直交方向に長い帯状の領域の一部である第２領域と重なるように設けられ、
前記第１領域と前記第２領域とは、前記直交方向の位置が略同一であり、
前記第１遮光部の面積と前記第２遮光部の面積との和は、前記第１領域及び前記第２領域の面積と略同一である
ことを特徴とする偏光光照射装置。
【請求項２】
平面視において、前記第１遮光部は前記搬送方向に対して斜めの第１辺を有し、前記第２遮光部は前記搬送方向に対して斜めの第２辺を有し、
前記第１辺と前記第２辺とを略一致させて前記第１遮光部及び前記第２遮光部を並べた形状は略矩形形状である
ことを特徴とする請求項１に記載の偏光光照射装置。
【請求項３】
平面視における前記第１ランプの照度分布は、前記第１ランプの長手方向に沿って略平行な第３領域と、前記第１ランプの長手方向に沿って略平行でない第４領域と、を有し、
平面視における前記第２ランプの照度分布は、前記第２ランプの長手方向に沿って略平行な第５領域と、前記第１ランプの長手方向に沿って略平行でない第６領域と、を有し、
前記第１ランプの真下と略同一の照度で光が照射される領域において、前記第１辺の前記第１端側の端は、前記第３領域と前記第４領域との境界線上にあり、
前記第２ランプの真下と略同一の照度で光が照射される領域において、前記第２辺の前記第２端側の端は、前記第５領域と前記第６領域との境界線上にある
ことを特徴とする請求項２に記載の偏光光照射装置。
【請求項４】
前記搬送方向から見て、前記第１ランプ及び前記第２ランプの照度分布は、それぞれ、中心部分が高く、端に行くにしたがって低くなる略台形形状であり、
前記略台形形状の上底部分の高さを１００としたときの、前記略台形形状の底と略平行であり、略９０〜略９９の高さに存在する線と、前記照度分布を示す線とが交差する点の前記直交方向における位置は、前記第１辺の前記第１端側の端及び前記第２辺の前記第２端側の端と略一致する
ことを特徴とする請求項２に記載の偏光光照射装置。
【請求項５】
前記第１ランプと前記ステージとの間に、前記第１ランプからの光が照射される領域を覆うように設けられた第１アパーチャと、
前記第２ランプと前記ステージとの間に、前記第２ランプからの光が照射される領域を覆うように設けられた第２アパーチャと、
を備え、
前記第１遮光部及び前記第２遮光部は、複数のドットを含むドットパターンであり、
前記第１アパーチャは、略板状の第１透光部材と、前記第１透光部材に形成された前記第１遮光部とを有し、
前記第２アパーチャは、略板状の第２透光部材と、前記第２透光部材に形成された前記第２遮光部とを有し、
前記第１領域においては、前記第１端に近づくほど単位面積当たりの前記ドットの数が多くなり、前記第１端から遠ざかるほど単位面積当たりの前記ドットの数が少なくなるように、単位面積当たりの前記ドットの数が徐々に変化し、
前記第２領域においては、前記第２端に近づくほど単位面積当たりの前記ドットの数が多くなり、前記第２端から遠ざかるほど単位面積当たりの前記ドットの数が少なくなるように、単位面積当たりの前記ドットの数が徐々に変化する
ことを特徴とする請求項１に記載の偏光光照射装置。
【請求項６】
前記第１ランプと前記対象物との距離が略１５０ｍｍ〜略１６０ｍｍの場合に、前記第１領域の長さは前記第１ランプの長手方向の長さの略８％〜略１５％であり、
前記第２ランプと前記対象物との距離が略１５０ｍｍ〜略１６０ｍｍの場合に、前記第２領域の長さは前記第２ランプの長手方向の長さの略８％〜略１５％である
ことを特徴とする請求項１、２又は５に記載の偏光光照射装置。
【請求項７】
平面視において、前記第１遮光部の形状は、前記第２辺と前記第２ランプの中心軸とが交差する点である第２点を中心として前記第２遮光部を略１８０度回転させた形状であり、前記第２遮光部の形状は、前記第１辺と前記第１ランプの中心軸とが交差する点である第１点を中心として前記第１遮光部を略１８０度回転させた形状である
ことを特徴とする請求項２から４のいずれか一項に記載の偏光光照射装置。
【請求項８】
前記第１ランプ又は前記第２ランプを前記搬送方向と略直交する方向に移動させる移動部を有する
ことを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の偏光光照射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光光照射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、光配向膜の搬送方向に対して直交する方向に伸びる線状のランプが光配向膜の搬送方向に沿って多段に配置され、光源の伸びる方向に沿って複数のワイヤーグリッド偏光素子が並べられている光配向用偏光光照射装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第４８１５９９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年、液晶等の表示パネルの大型化に伴い、幅が３ｍを越える大型のワークに対して露光処理を行いたいという要請が強くなっている。しかしながら、ランプの製造上における撓み等の問題から、３ｍ程度の長いランプを製造することは困難である。
【０００５】
特許文献１に記載の発明では、ワークの幅（搬送方向に対して直交する方向の長さ）がランプの幅より狭くなるため、大型のワークに露光処理を行いたいという要請に対応することができない。
【０００６】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、大型のワークに対して一度で露光処理を行うことができる偏光光照射装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明に係る偏光光照射装置は、例えば、偏光光が照射される対象物が載置されるステージと、長手方向が前記対象物の搬送方向に対して略直交するように設けられた第１ランプ及び第２ランプと、前記第１ランプ及び前記第２ランプと前記ステージとの間に設けられ、前記第１ランプ及び前記第２ランプから照射された光を偏光する偏光部材と、前記第１ランプと前記ステージとの間に設けられ、前記第１ランプから照射された光を遮る第１遮光部と、前記第２ランプと前記ステージとの間に設けられ、前記第２ランプから照射された光を遮る第２遮光部と、を備え、前記第１ランプと前記第２ランプとは、前記搬送方向及び前記搬送方向と略直交する方向である直交方向にずらして配置され、前記直交方向において、前記第１ランプの第１端が前記第２ランプと重なり、前記第２ランプの第２端が前記第１ランプと重なり、平面視において、前記第１遮光部は、前記第１ランプからの光が照射される前記直交方向に長い帯状の領域の一部である第１領域と重なるように設けられ、平面視において、前記第２遮光部は、前記第２ランプからの光が照射される前記直交方向に長い帯状の領域の一部である第２領域と重なるように設けられ、前記第１領域と前記第２領域とは、前記直交方向の位置が略同一であり、前記第１遮光部の面積と前記第２遮光部の面積との和は、前記第１領域及び前記第２領域の面積と略同一であることを特徴とする。
【０００８】
本発明に係る偏光光照射装置によれば、長手方向が対象物の搬送方向に対して略直交する第１ランプ及び第２ランプは、搬送方向及び搬送方向と略直交する方向である直交方向にずらして配置され、直交方向において、第１ランプの第１端が第２ランプと重なり、第２ランプの第２端が第１ランプと重なる。平面視において、第１ランプからの光が照射される直交方向に長い帯状の領域の一部である第１領域と重なるように第１遮光部が設けられ、第２ランプからの光が照射される直交方向に長い帯状の領域の一部である第２領域と重なるように第２遮光部が設けられ、第１領域と第２領域とは直交方向の位置が略同一である。このように、第１ランプと第２ランプとを搬送方向及び直交方向に沿って並べ、第１領域及び第２領域（継ぎ部領域）に第１遮光部、第２遮光部を設けることで、２本のランプを継ぐことができる。また、第１遮光部の面積と第２遮光部の面積との和は、第１領域及び第２領域の面積と略同一である。これにより、継ぎ部領域における第１ランプから照射された光の積算光量と第２ランプから照射された光の積算光量との和は、継ぎ部領域以外の領域における第１ランプから照射された光の積算光量及び第２ランプから照射された光の積算光量と略同一とすることができ、継ぎ部領域における露光量ムラをなくすことができる。したがって、第１ランプ、第２ランプの長さより幅が広い大型のワークに対して一度で露光処理を行うことができる。
【０００９】
ここで、平面視において、前記第１遮光部は前記搬送方向に対して斜めの第１辺を有し、前記第２遮光部は前記搬送方向に対して斜めの第２辺を有し、前記第１辺と前記第２辺とを略一致させて前記第１遮光部及び前記第２遮光部を並べた形状は略矩形形状であってもよい。これにより、第１遮光部や第２遮光部の位置が回転方向にずれたり平行方向にずれたりした場合でも、露光量や光学特性に与える影響を少なくすることができる。
【００１０】
ここで、平面視における前記第１ランプの照度分布は、前記第１ランプの長手方向に沿って略平行な第３領域と、前記第１ランプの長手方向に沿って略平行でない第４領域と、を有し、平面視における前記第２ランプの照度分布は、前記第２ランプの長手方向に沿って略平行な第５領域と、前記第１ランプの長手方向に沿って略平行でない第６領域と、を有し、前記第１ランプの真下と略同一の照度で光が照射される領域において、前記第１辺の前記第１端側の端は、前記第３領域と前記第４領域との境界線上にあり、前記第２ランプの真下と略同一の照度で光が照射される領域において、前記第２辺の前記第２端側の端は、前記第５領域と前記第６領域との境界線上にあってもよい。これにより、対象物に照射される光の露光量の分布を、１本の長いランプから光が照射された場合の露光量の分布と略同一とすることができる。
【００１１】
ここで、前記搬送方向から見て、前記第１ランプ及び前記第２ランプの照度分布は、それぞれ、中心部分が高く、端に行くにしたがって低くなる略台形形状であり、前記略台形形状の上底部分の高さを１００としたときの、前記略台形形状の底と略平行であり、略９０〜略９９の高さに存在する線と、前記照度分布を示す線とが交差する点の前記直交方向における位置は、前記第１辺の前記第１端側の端及び前記第２辺の前記第２端側の端と略一致していてもよい。これにより、対象物に照射される光の露光量の分布を、１本の長いランプから光が照射された場合の露光量の分布と略同一とすることができる。
【００１２】
ここで、前記第１ランプと前記ステージとの間に、前記第１ランプからの光が照射される領域を覆うように設けられた第１アパーチャと、前記第２ランプと前記ステージとの間に、前記第２ランプからの光が照射される領域を覆うように設けられた第２アパーチャと、を備え、前記第１遮光部及び前記第２遮光部は、複数のドットを含むドットパターンであり、前記第１アパーチャは、略板状の第１透光部材と、前記第１透光部材に形成された前記第１遮光部とを有し、前記第２アパーチャは、略板状の第２透光部材と、前記第２透光部材に形成された前記第２遮光部とを有し、前記第１領域においては、前記第１端に近づくほど単位面積当たりの前記ドットの数が多くなり、前記第１端から遠ざかるほど単位面積当たりの前記ドットの数が少なくなるように、単位面積当たりの前記ドットの数が徐々に変化し、前記第２領域においては、前記第２端に近づくほど単位面積当たりの前記ドットの数が多くなり、前記第２端から遠ざかるほど単位面積当たりの前記ドットの数が少なくなるように、単位面積当たりの前記ドットの数が徐々に変化してもよい。これにより、継ぎ部領域における露光量ムラをなくすことができる。
【００１３】
ここで、前記第１ランプと前記対象物との距離が略１５０ｍｍ〜略１６０ｍｍの場合に、前記第１領域の長さは前記第１ランプの長手方向の長さの略８％〜略１５％であり、前記第２ランプと前記対象物との距離が略１５０ｍｍ〜略１６０ｍｍの場合に、前記第２領域の長さは前記第２ランプの長手方向の長さの略８％〜略１５％であってもよい。このように、第１ランプや第２ランプが劣化した場合に黒くなって露光量が低下する領域を第１遮光部や第２遮光部で覆うことで、第１ランプや第２ランプの劣化による露光量の低下が露光に影響を及ぼさないようにすることから、露光量ムラをなくすことができる。
【００１４】
ここで、平面視において、前記第１遮光部の形状は、前記第２辺と前記第２ランプの中心軸とが交差する点である第２点を中心として前記第２遮光部を略１８０度回転させた形状であり、前記第２遮光部の形状は、前記第１辺と前記第１ランプの中心軸とが交差する点である第１点を中心として前記第１遮光部を略１８０度回転させた形状であってもよい。これにより、対象物に照射される偏光の偏光軸のばらつき、すなわち光学特性ムラをなくすことができる。
【００１５】
ここで、前記第１ランプ又は前記第２ランプを前記搬送方向と略直交する方向に移動させる移動部を有してもよい。これにより、第１ランプや第２ランプが劣化した場合に黒くなって露光量が低下する領域を使用する必要がなくなる。したがって、第１ランプや第２ランプの劣化による露光量の低下が露光に影響しないようにすることで、露光量ムラをなくすことができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、大型のワークに対して一度で露光処理を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】第１の実施の形態に係る偏光光照射装置１の概略を示す正面図である。
【図２】第１の実施の形態に係る偏光光照射装置１の概略を示す平面図である。
【図３】偏光照射部１０及びワークＷを側面から見たときの概略を示す要部透視図である。
【図４】偏光光照射装置１の平面視におけるアパーチャ１７、１８の配置を示す図である。
【図５】アパーチャ１７、１８と、ワークＷへ照射される光の積算光量との関係を示す図であり、（Ａ）は平面視におけるアパーチャ１７、１８の配置を示し、（Ｂ）はランプ１１、１２毎の積算光量を示し、（Ｃ）はランプ１１、１２の積算光量の合計を示す。
【図６】光の偏光軸と、アパーチャ１７、１８の位置との関係を示す図である。
【図７】平面視におけるランプ１１、１２の照度分布の一例である。
【図８】偏光光照射装置２の平面視におけるアパーチャ１７Ａ、１８Ａと照度分布との関係を模式的に示す図である。
【図９】変形例にかかる偏光光照射装置２Ａの平面視におけるアパーチャ１７Ｂ、１８Ｂと照度分布との関係を模式的に示す図である。
【図１０】（Ａ）は、ランプ１１、１２の長手方向の位置と照度分布との関係を示し、（Ｂ）は照度分布とアパーチャ１７Ｃとの関係を示し、（Ｃ）は照度分布とアパーチャ１８Ｃとの関係を示す。
【図１１】偏光光照射装置３の平面視におけるアパーチャ１７Ｃ、１８Ｃの配置を示す図である。
【図１２】偏光光照射装置４の平面視における偏光照射部１０Ａの配置を示す図である。
【図１３】アパーチャ１７Ｅ、１８Ｅの概略を示す平面図である。
【図１４】アパーチャ１７Ｅ、１８Ｅと、ワークＷへ照射される光の積算光量との関係を示す図であり、（Ａ）は平面視におけるアパーチャ１７Ｅ、１８Ｅの配置を示し、（Ｂ）はランプ１１、１２毎の積算光量を示し、（Ｃ）はランプ１１、１２の積算光量の合計を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態を、図面を参照して詳細に説明する。本発明の偏光光照射装置は、例えば、光源からの光を偏光膜を通過させて偏光を得、この偏光をガラス基板等（以下、ワークＷという）の被露光面に照射して、液晶パネル用の配向膜等を生成するものである。
【００１９】
＜第１の実施の形態＞
図１は、第１の実施の形態に係る偏光光照射装置１の概略を示す正面図である。図２は、第１の実施の形態に係る偏光光照射装置１の概略を示す平面図である。ここで、ワークＷの搬送方向をｙ方向とし、搬送方向に直交する方向をｘ方向とし、鉛直方向をｚ方向とする。
【００２０】
偏光光照射装置１は、主として、偏光照射部１０と、ステージ２０と、ステージ駆動部３０と、を有する。
【００２１】
偏光照射部１０は、ワークＷに偏光を照射する。偏光照射部１０は、２本のランプ１１、１２を有する。ランプ１１、１２は、発光長が略１５００ｍｍ〜２０００ｍｍと長い棒状のランプであり、偏光していない光（例えば、紫外光）を照射する。ランプ１１、１２には、光配向処理に必要な短波長紫外光（例えば、２５４ｎｍ波長光）を効率よく発光するロングアークランプを用いることができる。ランプ１１、１２の両端には、それぞれ電極１１ａ、１１ｂ、１２ａ、１２ｂが設けられる。
【００２２】
ランプ１１、１２は、長手方向がワークＷの搬送方向（ｙ方向）に対して略直交するように（ｘ方向に略沿って）設けられる。また、ランプ１１、１２はｘ方向及びｙ方向にずらして配置される。
【００２３】
図３は、偏光照射部１０及びワークＷを側面から見たときの概略を示す要部透視図である。偏光照射部１０は、主として、ランプ１１、１２と、リフレクタ１３と、特定波長透過フィルタ１４と、偏光部材１５と、カバーガラス１６と、アパーチャ１７、１８と、を有する。
【００２４】
ランプ１１、１２の下側（−ｚ側）、すなわちランプ１１、１２とステージ２０との間には、それぞれ、特定波長透過フィルタ１４、偏光部材１５及びカバーガラス１６が設けられる。ランプ１１、１２から照射された光は、それぞれリフレクタ１３で反射され、特定波長透過フィルタ１４、偏光部材１５等を通過して、ワークＷに照射される。
【００２５】
リフレクタ１３は、側面視が略椀形状であり、平面視が略矩形形状である。リフレクタ１３は、ランプ１１、１２からの光が照射領域に集中するように、ランプ１１、１２からの光を反射する。
【００２６】
特定波長透過フィルタ１４は、特定の波長範囲の光だけを透過し、他の波長の光を吸収するように作られたフィルタである。特定波長透過フィルタ１４は、板状のガラス（石英ガラス等）である透明基板上に、特定の波長範囲の光だけを透過させるバンドパスフィルタのフィルタ層が形成されている。ただし、透明基板上に形成されるフィルタはバンドパスフィルタに限られず、例えばローカットフィルタや反射フィルタであってもよい。
【００２７】
偏光部材１５は、入射角度依存性の少ないワイヤーグリッド偏光子をｘ方向に沿って複数並べることで形成される。ワイヤーグリッド偏光子とは、透明基板の表面に金属線が形成されたものであり、金属線のピッチを入射する光の波長以下にすることで、金属線の長手方向に略平行な偏光成分を反射し、金属線の長手方向と略直交する偏光成分を通過させる。なお、偏光部材１５はワイヤーグリッド偏光子に限られない。
【００２８】
偏光部材１５の下側には、カバーガラス１６が設けられる。ただし、カバーガラス１６は必須ではない。
【００２９】
カバーガラス１６の下側、すなわちカバーガラス１６とステージ２０との間には、アパーチャ１７、１８が設けられる。アパーチャ１７はランプ１１の下側に設けられ、アパーチャ１８はランプ１２の下側に設けられる。アパーチャ１７、１８については、後に詳述する。また、アパーチャ１７、１８は、カバーガラス１６とステージ２０との間ではなく、例えば特定波長透過フィルタ１４と偏光部材１５との間に設けられてもよい。
【００３０】
図１、２の説明に戻る。ステージ２０は、ｙ方向に移動可能に設けられる。ステージ２０の上面には、偏光光が照射されるワークＷが載置される。
【００３１】
ステージ駆動部３０は、ｙ方向に延設されたステージガイドレール３１と、ステージスキャン軸３２と、アクチュエータ等を有する駆動部３３と、を有する。
【００３２】
ステージ２０は、図示しない駆動手段により、ステージガイドレール３１に沿って移動可能に設けられる（図１、２の太矢印参照）。駆動部３３は、ステージガイドレール３１（すなわち、搬送方向）に沿ってステージ２０を移動させる（図１の太矢印参照）。
【００３３】
ステージ２０がステージガイドレール３１に沿ってｙ方向に移動する際には、図示しない位置検出部によりステージスキャン軸３２におけるステージ２０の位置が検出される。これにより、ステージ２０のｙ方向の位置が調整できる。なお、ステージ２０の移動及び位置決めは、すでに公知の技術であるため、説明を省略する。
【００３４】
ロボット４０は、ワークＷをステージ２０へ移動させたり、ワークＷをステージ２０から移動させたりする移動手段である。ロボット４０は、すでに公知であるため、説明を省略する。なお、ロボット４０の位置は、図１、２等に示す位置に限られない。また、ワークＷをステージ２０へ移動させたり、ワークＷをステージ２０から移動させたりする移動手段は、ロボット４０に限定されない。
【００３５】
偏光照射部１０と、ステージ２０と、ステージ駆動部３０とは、装置枠５０の内部に設けられる。装置枠５０には、作業者が出入りしたり、ロボット４０がワークＷをステージ２０に対して移動させたりするための開口部（図示せず）が設けられる。
【００３６】
次に、アパーチャ１７、１８について詳細に説明する。図４は、平面視（＋ｚ方向から見たとき）におけるアパーチャ１７、１８の配置を示す図である。図４において、ランプ１１、１２を二点鎖線で示す。また、図４においては、説明のため、遮光部１７ａ、１８ａを網掛け表示している。
【００３７】
アパーチャ１７、１８は、それぞれ、遮光部１７ａ、１８ａと、開口部１７ｂ、１８ｂと、を有する。アパーチャ１７、１８は、平面視において、ランプ１１、１２からの光が照射される領域を覆うように設けられる。
【００３８】
遮光部１７ａは、開口部１７ｂのランプ１２側（＋ｘ側）に設けられ、遮光部１８ａは、開口部１８ｂのランプ１１側（−ｘ側）に設けられる。
【００３９】
ここで、ランプ１１、１２からの光が照射される領域は、平面視において、それぞれ、ｘ方向に長い帯状の領域である。ランプ１１からの光が照射される領域は、図４における遮光部１７ａ及び開口部１７ｂが配置された領域と略一致する。また、ランプ１２からの光が照射される領域は、図４における遮光部１８ａ及び開口部１８ｂが配置された領域と略一致する。
【００４０】
ｘ方向において、ランプ１１の端１１ｃ（＋ｘ側の端）は、ランプ１２と重なる位置にあり、この位置をｘ＝Ｘ１とする。また、ｘ方向において、ランプ１２の端１２ｃ（−ｘ側の端）は、ランプ１１と重なる位置にあり、この位置をｘ＝Ｘ２とする。
【００４１】
平面視において、遮光部１７ａは、ランプ１１からの光が照射されるｘ方向に長い帯状の領域のうち、＋ｘ側の領域Ａ１と重なるように設けられる。また、平面視において、遮光部１８ａは、ランプ１２からの光が照射されるｘ方向に長い帯状の領域のうち、−ｘ側の領域Ａ２と重なるように設けられる。領域Ａ１、Ａ２は、それぞれランプ１１、１２からの光が照射されるｘ方向に長い帯状の領域の一部である。領域Ａ１、Ａ２は視認できないが、説明のため、図４では領域Ａ１、Ａ２の端を点線で表示する。領域Ａ１と領域Ａ２とは、ｘ方向の位置が略同一であり、領域Ａ１、Ａ２を継ぎ部領域と定義する。
【００４２】
遮光部１７ａ、１８ａは、ｘ方向及びｙ方向に対して斜めの辺１７ｍ、１８ｍを有する。辺１７ｍ、１８ｍは、ｘ方向及びｙ方向に対してそれぞれ略４５度傾いている。ただし、辺１７ｍ、１８ｍの傾きは略４５度に限られない。
【００４３】
遮光部１７ａ、１８ａは、それぞれ、略矩形形状の板状部材をｙ方向に対して斜めに切断したような形状である。言い換えれば、辺１７ｍと辺１８ｍとを略一致させて遮光部１７ａと遮光部１８ａとを並べた形状は、略矩形形状である。遮光部１７ａの面積と遮光部１８ａの面積との和は、領域Ａ１、Ａ２の面積と略同一である。
【００４４】
辺１７ｍの＋ｘ側の端の位置をｘ＝Ｘ４とし、辺１８ｍの−ｘ側の端の位置をｘ＝Ｘ３とする。ランプ１１、１２とワークＷとの距離Ｈ（図３参照）が略１５０ｍｍ〜略１６０ｍｍの場合に、位置Ｘ２と位置Ｘ３との距離ｄ及び位置Ｘ１と位置Ｘ４との距離ｄは、ランプ１１、１２の長手方向（ここではｘ方向）の長さの略８％〜略１５％である。例えばランプ１１、１２の長さが略２５００ｍｍの場合は、距離ｄは、略２００ｍｍであり、ランプ１１、１２の長さの略８％である。また、例えばランプ１１、１２の長さが略２２５０ｍｍの場合は、距離ｄは、略２２５ｍｍであり、ランプ１１、１２の長さの略１０％である。また、例えばランプ１１、１２の長さが略１５００ｍｍの場合は、距離ｄは、略２００ｍｍであり、ランプ１１、１２の長さの略１３．３％である。
【００４５】
ランプ１１、１２の端から、ランプ１１、１２の長手方向の長さの略８％〜略１５％の領域とは、ランプ１１、１２が劣化した場合にランプが黒くなり、露光量が低下する領域である。遮光部１７ａ、１８ａを用いてこの領域を覆うことで、ランプ１１、１２の劣化による露光量の低下がワークＷの露光に影響しないため、露光量ムラをなくすことができる。
【００４６】
偏光光照射装置１の作用について説明する。偏光照射部１０から光を照射させつつ、駆動部３３を介してステージ２０（すなわち、ワークＷ）を搬送方向であるｙ方向に移動（一往復）させながら偏光照射部１０から照射された光をワークＷの被露光面に照射して、配向膜等を生成する露光処理を行う。
【００４７】
図５は、アパーチャ１７、１８と、ワークＷへ照射される光の積算光量との関係を示す図であり、（Ａ）は平面視におけるアパーチャ１７、１８の配置を示し、（Ｂ）はランプ１１、１２毎の積算光量を示し、（Ｃ）はランプ１１、１２の積算光量の合計を示す。ランプ１１から照射された光はアパーチャ１７の開口部１７ｂを通過してワークＷに照射されるが、遮光部１７ａにより遮られるため、領域Ａ１において＋ｘ側にいくにつれて積算光量が徐々に小さくなる。また、ランプ１２から照射された光はアパーチャ１８の開口部１８ｂを通過してワークＷに照射されるが、遮光部１８ａにより遮られるため、領域Ａ２において−ｘ側にいくにつれて積算光量が徐々に小さくなる。
【００４８】
遮光部１７ａの面積と遮光部１８ａの面積との和は、領域Ａ１、Ａ２の面積と略同一であるため、継ぎ部領域におけるランプ１１から照射された光の積算光量とランプ１２から照射された光の積算光量との和は、継ぎ部領域以外の領域におけるランプ１１から照射された光の積算光量及びランプ１２から照射された光の積算光量と略同一である。これにより、継ぎ部領域における露光量ムラをなくすことができる。
【００４９】
図６は、ランプ１１、１２から照射され、偏光部材１５で偏光された光の偏光軸と、アパーチャ１７、１８の位置との関係を示す図である。平面視における遮光部１７ａの形状は、ランプ１２の中心軸ａｘ２と辺１８ｍとが交差する点１８ｓを中心として遮光部１８ａを略１８０度回転させた形状であり、平面視における遮光部１８ａの形状は、ランプ１１の中心軸ａｘ１と辺１７ｍとが交差する点１７ｓを中心として遮光部１７ａを略１８０度回転させた形状であるため、遮光部１７ａ、１８ａは、図６において右肩下がりで表示された偏光軸を有する偏光光を主に遮光し、ワークＷには図６において右肩上がりで表示された偏光軸を有する偏光光が主に照射される。したがって、ワークＷに照射される偏光の偏光軸のばらつき、すなわち光学特性ムラをなくすことができる。
【００５０】
本実施の形態によれば、ランプ１１、１２をｘ方向及びｙ方向に沿って複数（ここでは、２つ）並べ、継ぎ部領域に遮光部１７ａ、１８ａを設けることで、露光量ムラや光学特性ムラがない状態で２本のランプを継ぐことができる。したがって、大型のワークに対して一度で（一往復で）露光処理を行うことができる。
【００５１】
また、本実施の形態によれば、ランプ１１、１２が劣化した場合にランプが黒くなり、露光量が低下する領域（本実施の形態では、ランプ１１、１２の端から、ランプ１１、１２の長手方向の長さの略８％〜略１５％の領域）を遮光部１７ａ、１８ａにより覆うため、ランプ１１、１２の劣化により露光量が低下したとしても影響なく露光処理を行うことができる。
【００５２】
また、本実施の形態によれば、遮光部１７ａ、１８ａは、ｘ方向及びｙ方向に対して斜めの辺１７ｍ、１８ｍを有するため、アパーチャ１７、１８の位置が回転方向にずれたりｙ方向にずれたりした場合でも、露光量や光学特性に与える影響を少なくすることができる。
【００５３】
なお、本実施の形態では、遮光部１７ａ、１８ａと開口部１７ｂ、１８ｂとを有するアパーチャ１７、１８を設けることでランプ１１、１２からの光を部分的に覆ったが、ランプ１１、１２からの光を遮りたい部分に遮光部１７ａ、１８ａのみ（開口部１７ｂ、１８ｂはなくてもよい）を設けてもよい。
【００５４】
＜第２の実施の形態＞
本発明の第１の実施の形態は、ランプ１１、１２の端から、ランプ１１、１２の長手方向の長さの略８％〜略１５％の領域を遮光部１７ａ、１８ａで覆ったが、遮光部１７ａ、１８ａの配置はこれに限られない。
【００５５】
第２の実施の形態は、ランプ１１、１２の照度分布に基づいて遮光部１７ａ、１８ａで覆う領域を定める形態である。以下、第２の実施の形態の偏光光照射装置２について説明する。第１の実施の形態の偏光光照射装置１と、第２の実施の形態の偏光光照射装置２との差異は、アパーチャのみであるため、以下、第２の実施の形態の偏光光照射装置２におけるアパーチャ１７Ａ、１８Ａについて主に説明する。また、第１の実施の形態と同一の部分については、同一の符号を付し、説明を省略する。
【００５６】
まず、ランプ１１、１２から照射される光の照度分布について説明する。図７は、平面視におけるランプ１１、１２の照度分布の一例である。ランプ１１、１２の照度分布は、ランプ１１、１２の長手方向に沿って略平行な領域Ｉと、ランプ１１、１２の長手方向に沿って略平行でない領域ＩＩと、を有する。なお、照度分布の図６における上下端は、リフレクタ１３（図６では図示省略）の両端面により遮光される。
【００５７】
図８は、平面視におけるアパーチャ１７Ａ、１８Ａと照度分布との関係を模式的に示す図である。図８では、説明のため、照度分布を二点鎖線で図示している。アパーチャ１７Ａ、１８Ａは、アパーチャ１７、１８と同様、それぞれ、ランプ１１、１２の下側に設けられ、ランプ１１、１２からの光が照射される領域を覆うように設けられる。アパーチャ１７Ａ、１８Ａは、それぞれ、遮光部１７ｃ、１８ｃと、開口部１７ｄ、１８ｄと、を有する。
【００５８】
遮光部１７ｃは、開口部１７ｄの＋ｘ側に設けられ、遮光部１８ｃは、開口部１８ｄの−ｘ側に設けられる。遮光部１７ｃ、１８ｃは、ｘ方向及びｙ方向に対して斜めの辺１７ｎ、１８ｎを有する。辺１７ｎと辺１８ｎとを略一致させて遮光部１７ｃと遮光部１８ｃとを並べた形状は、略矩形形状である。遮光部１７ｃの面積と遮光部１８ｃの面積との和は、継ぎ部領域Ａ３の面積と略同一である。
【００５９】
平面視における遮光部１７ｃの形状は、ランプ１２の中心軸ａｘ２と辺１８ｎとが交差する点１８ｔを中心として遮光部１８ｃを略１８０度回転させた形状であり、平面視における遮光部１８ｃの形状は、ランプ１１の中心軸ａｘ１と辺１７ｎとが交差する点１７ｔを中心として遮光部１７ｃを略１８０度回転させた形状である。
【００６０】
辺１７ｎの＋ｘ側の端は、領域Ｉと領域ＩＩとの境界線上にあり、辺１８ｍの−ｘ側の端は、領域Ｉと領域ＩＩとの境界線上にある。したがって、継ぎ部領域Ａ３におけるランプ１１から照射された光の積算光量とランプ１２から照射された光の積算光量との和は、継ぎ部領域Ａ３以外の領域におけるランプ１１から照射された光の積算光量及びランプ１２から照射された光の積算光量と略同一となる。
【００６１】
本実施の形態によれば、ワークＷに照射される光の露光量の分布が、１本の長いランプから光が照射された場合の露光量の分布と略同一となるため、大型のワークに対して適切な露光処理を行うことができる。
【００６２】
なお、本実施の形態では、辺１７ｎの＋ｘ側の端は、領域Ｉと領域ＩＩとの境界線上にあり、辺１８ｎの−ｘ側の端は、領域Ｉと領域ＩＩとの境界線上にあったが、例えば図９に示すように、ランプ１１の中心軸ａｘ１と辺１７ｏとが交差する点１７ｕが領域Ｉと領域ＩＩとの境界線上にある遮光部１７ｅを有するアパーチャ１７Ｂと、ランプ１２の中心軸ａｘ２と辺１８ｏとが交差する点１８ｕが領域Ｉと領域ＩＩとの境界線上にある遮光部１８ｅを有するアパーチャ１８Ｂと、を用いてもよい。
【００６３】
アパーチャ１７Ｂ、１８Ｂは、遮光部１７ｅ、１８ｅと、開口部１７ｆ、１８ｆと、を有する。遮光部１７ｅ、１８ｅは平面視略三角形状である。平面視における遮光部１７ｅの形状は、点１８ｕを中心として遮光部１８ｅを略１８０度回転させた形状であり、平面視における遮光部１８ｅの形状は、点１７ｕを中心として遮光部１７ｅを略１８０度回転させた形状である。この場合には、継ぎ目領域においてワークＷに照射される光の露光量が少し低下するが、ワークＷに照射される光の露光量の分布を１本の長いランプから光が照射された場合の露光量の分布と略同一とした状態で、より広い範囲でランプ１１、１２を使用することができる。
【００６４】
＜第３の実施の形態＞
本発明の第２の実施の形態は、平面視におけるランプ１１、１２の照度分布に基づいてアパーチャ１７Ａ、１８Ａの形状を決めたが、アパーチャの形態はこれに限られない。
【００６５】
第３の実施の形態は、搬送方向に略沿ってみたときのランプ１１、１２の照度分布に基づいてアパーチャの形状を決める形態である。以下、第３の実施の形態の偏光光照射装置３について説明する。第１の実施の形態の偏光光照射装置１と、第３の実施の形態の偏光光照射装置３との差異は、アパーチャのみであるため、以下、第３の実施の形態の偏光光照射装置３におけるアパーチャ１７Ｃ、１８Ｃについて主に説明する。また、第１の実施の形態と同一の部分については、同一の符号を付し、説明を省略する。
【００６６】
図１０（Ａ）は、ランプ１１、１２の長手方向の位置と照度分布との関係を示し、図１０（Ｂ）は照度分布とアパーチャ１７Ｃとの関係を示し、図１０（Ｃ）は照度分布とアパーチャ１８Ｃとの関係を示す。図１０では、ランプ１１、１２のある点からの放射角が３０度である場合を例示している。
【００６７】
図１０（Ａ）の二点鎖線は、ランプ１１、１２の発光領域の端から放射される光の様子を示す。図１０（Ａ）内側の二点鎖線より外側の領域は、内側から放射される光のみであり、外側から放射される光がない。したがって、ｙ方向から見て、ランプ１１、１２の照度分布は、中心部分が高く、端に行くにしたがって低くなる略台形形状である。なお、照度分布の図１０（Ａ）における左右端は、リフレクタ１３（図１０では図示省略）の両端面により遮光される。
【００６８】
アパーチャ１７Ｃ、１８Ｃは、それぞれ、遮光部１７ｇ、１８ｇと、開口部１７ｈ、１８ｈと、を有する。遮光部１７ｇは、開口部１７ｈの＋ｘ側に設けられ、遮光部１８ｇは、開口部１８ｈの−ｘ側に設けられる。遮光部１７ｇ、１８ｇは、ｘ方向及びｙ方向に対して斜めの辺１７ｐ、１８ｐを有する。辺１７ｐと辺１８ｐとを略一致させて遮光部１７ｇと遮光部１８ｇとを並べた形状は、略矩形形状である。
【００６９】
線ｌ１は、略台形形状の底と略平行な線であり、ランプ１１、１２の照度分布を示す略台形形状の上底部分の高さを１００としたとき、略９０〜略９９の高さに存在する。線ｌ１と、照度分布を示す線が交差する点Ｐ１、Ｐ２のｘ方向の位置は、辺１７ｐの＋ｘ側の端及び辺１８ｐの−ｘ側の端と略一致する。
【００７０】
図１１は、平面視におけるアパーチャ１７Ｃ、１８Ｃの配置を示す図である。遮光部１７ｇは領域Ａ４と重なるように設けられ、遮光部１８ｇは領域Ａ５と重なるように設けられる。領域Ａ４と領域Ａ５とは、ｘ方向の位置が略同一であり、領域Ａ４、Ａ５を継ぎ部領域と定義する。遮光部１７ｇの面積と遮光部１８ｇの面積との和は、領域Ａ４、Ａ５の面積と略同一である。
【００７１】
平面視における遮光部１７ｇの形状は、ランプ１２の中心軸ａｘ２と辺１８ｐとが交差する点１８ｖを中心として遮光部１８ｇを略１８０度回転させた形状であり、平面視における遮光部１８ｇの形状は、ランプ１１の中心軸ａｘ１と辺１７ｐとが交差する点１７ｖを中心として遮光部１７ｇを略１８０度回転させた形状である。
【００７２】
本実施の形態によれば、ランプ１１、１２の中央部分の照度を１００としたときに略９０〜略９９の照度となる領域を用いるため、２本のランプ１１、１２から照射される光により露光量の分布を、１本の長いランプから光が照射された場合の露光量の分布と略同一とすることができる。したがって、大型のワークに対して適切な露光処理を行うことができる。
【００７３】
＜第４の実施の形態＞
本発明の第１の実施の形態は、ランプ１１、１２が劣化したときに露光量が低下する領域を遮光部１７ａ、１８ａにより覆うことで使わないようにしたが、ランプ１１、１２が劣化したときに露光量が低下する領域を使わないようにする形態はこれに限られない。
【００７４】
第４の実施の形態は、ランプ１１、１２を移動させて劣化部分を使わないようにする形態である。以下、第４の実施の形態の偏光光照射装置４について説明する。
【００７５】
第１の実施の形態の偏光光照射装置１と、第４の実施の形態の偏光光照射装置４との差異は、偏光照射部の構成のみであるため、以下、第４の実施の形態の偏光光照射装置４における偏光照射部１０Ａについてのみ説明し、他については図示及び説明を省略する。また、第１の実施の形態と同一の部分については、同一の符号を付し、説明を省略する。
【００７６】
図１２は、平面視における偏光照射部１０Ａの配置を示す図である。偏光照射部１０Ａは、主として、ランプ１１、１２と、リフレクタ１３（図示省略）と、特定波長透過フィルタ１４（図示省略）と、偏光部材１５（図示省略）と、カバーガラス１６（図示省略）と、アパーチャ１７Ｄ、１８Ｄと、ランプ移動部（図示省略）と、を有する。
【００７７】
アパーチャ１７Ｄ、１８Ｄは、それぞれ、遮光部１７ｉ、１８ｉと、開口部１７ｊ、１８ｊと、を有する。遮光部１７ｉは、開口部１７ｊの＋ｘ側に設けられ、遮光部１８ｉは、開口部１８ｊの−ｘ側に設けられる。遮光部１７ｉ、１８ｉは、平面視略三角形状であり、遮光部１７ｉ、１８ｉのｘ方向及びｙ方向に対して斜めの辺を略一致させて遮光部１７ｉと遮光部１８ｉとを並べた形状は、略矩形形状である。
【００７８】
ランプ移動部は、ランプ１１、１２をｘ方向に移動させる。ランプ移動部は、既に公知の技術を用いることができるため、説明を省略する。
【００７９】
ランプ１１、１２は、最初はアパーチャ１７Ｄ、１８Ｄと重なる位置（図１２では点線で表示）にある。ランプ１１、１２が劣化して、ランプ１１、１２の端が黒くなると、ランプ移動部は、ランプ１１を＋ｘ方向に移動させ、ランプ１２を−ｘ方向に移動させる（図１２では実線で表示）。このとき、遮光部１７ｉ、１８ｉがそれぞれランプ１１、１２の黒くなった部分を覆うように、ランプ１１、１２を配置する。
【００８０】
本実施の形態によれば、ランプ１１、１２が劣化したときに露光量が低下する領域を、ランプ１１、１２をｘ方向に移動させることで使用しないようにするため、ランプ１１、１２の劣化による露光量の低下がワークＷの露光に影響せず、露光量ムラをなくすことができる。
【００８１】
＜第５の実施の形態＞
本発明の第１の実施の形態は、アパーチャ１７、１８はそれぞれｘ方向及びｙ方向に対して斜めの辺１７ｍ、１８ｍを有する略板状の遮光部１７ａ、１８ａを有したが、アパーチャの形態はこれに限られない。
【００８２】
第５の実施の形態は、略板状の遮光部を用いない形態である。以下、第５の実施の形態の偏光光照射装置５について説明する。第１の実施の形態の偏光光照射装置１と、第５の実施の形態の偏光光照射装置５との差異は、アパーチャのみであるため、以下、第５の実施の形態の偏光光照射装置５におけるアパーチャ１７Ｅ、１８Ｅについて主に説明する。また、第１の実施の形態と同一の部分については、同一の符号を付し、説明を省略する。
【００８３】
図１３は、アパーチャ１７Ｅ、１８Ｅの概略を示す平面図である。アパーチャ１７Ｅは、ランプ１１の下側に、平面視においてランプ１１からの光が照射される領域を覆うように設けられる。アパーチャ１８Ｅは、ランプ１２の下側に、平面視においてランプ１２からの光が照射される領域を覆うように設けられる。
【００８４】
アパーチャ１７Ｅ、１８Ｅは、それぞれ、遮光部１７ｋ、１８ｋと、略板状の透光部材１７ｌ、１８ｌと、を有する。遮光部１７ｋは領域Ａ１と重なるように設けられ、遮光部１８ｋは領域Ａ２と重なるように設けられる。
【００８５】
遮光部１７ｋ、１８ｋは、複数のドットを含むドットパターンである。遮光部１７ｋは透光部材１７ｌに形成されており、遮光部１８ｋは透光部材１８ｌに形成されている。
【００８６】
領域Ａ１においては、端１１ｃに近づくほど単位面積当たりのドットの数が多くなり、端１１ｃから遠ざかるほど単位面積当たりのドットの数が少なくなるように、単位面積当たりのドットの数が徐々に変化する。これにより、領域Ａ１では、端１１ｃに隣接する位置におけるドットパターンが最も濃く、端１１ｃから遠ざかるにつれてドットパターンが徐々に薄くなる。
【００８７】
また、領域Ａ２においては、端１２ｃに近づくほど単位面積当たりのドットの数が多くなり、端１２ｃから遠ざかるほど単位面積当たりのドットの数が少なくなるように、単位面積当たりのドットの数が徐々に変化する。図１３においては、端１２ｃに近い領域Ｆ１におけるドットの数は、端１２ｃから遠い領域Ｆ２のドットの数より多い。これにより、領域Ａ２では、端１２ｃに隣接する位置におけるドットパターンが最も濃く、端１２ｃから遠ざかるにつれてドットパターンが徐々に薄くなる。
【００８８】
なお図１３では、図示の都合上、ドットパターンの濃さが段階的に変化しているが、実際にはドットパターンの濃さは連続的に変化している。なお、ドットパターンの濃さを段階的に変化させることも可能であるが、遮光量のムラをなくすためにはドットパターンの濃さを連続的に変化させることが望ましい。
【００８９】
図１４は、アパーチャ１７Ｅ、１８Ｅと、ワークＷへ照射される光の積算光量との関係を示す図であり、（Ａ）は平面視におけるアパーチャ１７Ｅ、１８Ｅの配置を示し、（Ｂ）はランプ１１、１２毎の積算光量を示し、（Ｃ）はランプ１１、１２の積算光量の合計を示す。ランプ１１から照射された光は遮光部１７ｋにより遮られるため、領域Ａ１では＋ｘ側にいくにつれて積算光量が徐々に小さくなる。また、ランプ１２から照射された光は遮光部１８ｋにより遮られるため、領域Ａ２では−ｘ側にいくにつれて積算光量が徐々に小さくなる。
【００９０】
遮光部１７ｋの面積と遮光部１８ｋの面積との和は、領域Ａ１、Ａ２の面積と略同一であるため、継ぎ部領域におけるランプ１１から照射された光の積算光量とランプ１２から照射された光の積算光量との和は、継ぎ部領域以外の領域におけるランプ１１から照射された光の積算光量及びランプ１２から照射された光の積算光量と略同一である。これにより、継ぎ部領域における露光量ムラをなくすことができる。
【００９１】
本実施の形態によれば、露光量ムラや光学特性ムラがない状態で２本のランプを継ぐことができる。したがって、大型のワークに対して一度で露光処理を行うことができる。
【００９２】
以上、この発明の実施形態を図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。また、上述した各実施形態や変形例として説明した構成を適宜組み合わせた構成を採用することが可能である。例えば、第１の実施形態の構成に第４の実施形態の構成を適宜組み合わせることができる。
【００９３】
また、本発明において、「略」とは、厳密に同一である場合のみでなく、同一性を失わない程度の誤差や変形を含む概念である。例えば、略平行とは、厳密に平行の場合には限られない。また、例えば、単に平行、直交等と表現する場合において、厳密に平行、直交等の場合のみでなく、略平行、略直交等の場合を含むものとする。
【符号の説明】
【００９４】
１、２、２Ａ、３、４：偏光光照射装置
１０、１０Ａ        ：偏光照射部
１１、１２          ：ランプ
１１ａ、１１ｂ、１２ａ、１２ｂ：電極
１１ｃ、１２ｃ      ：端
１３                ：リフレクタ
１４                ：特定波長透過フィルタ
１５                ：偏光部材
１６                ：カバーガラス
１７、１７Ａ、１７Ｂ、１７Ｃ、１７Ｄ：アパーチャ
１７ａ、１７ｃ、１７ｅ、１７ｇ、１７ｉ：遮光部
１７ｂ、１７ｄ、１７ｆ、１７ｈ、１７ｊ：開口部
１７ｍ、１７ｎ、１７ｏ、１７ｐ、：辺
１８、１８Ａ、１８Ｂ、１８Ｃ、１８Ｄ：アパーチャ
１８ａ、１８ｃ、１８ｅ、１８ｇ、１８ｉ：遮光部
１８ｂ、１８ｄ、１８ｆ、１８ｈ、１８ｊ：開口部
１８ｍ、１８ｎ、１８ｏ、１８ｐ：辺
２０                ：ステージ
３０                ：ステージ駆動部
３１                ：ステージガイドレール
３２                ：ステージスキャン軸
３３                ：駆動部
４０                ：ロボット
５０                ：装置枠
【図１】
2019035930.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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