(57)【要約】      （修正有）【課題】表示領域内に、カメラ、センサー等のために貫通領域を持つ有機発光表示装置の信頼性を向上させる。【解決手段】貫通領域ＴＡを囲み、発光素子アレイを含む表示領域、及び貫通領域ＴＡと表示領域との間に配置される周辺領域ＰＡを含む有機発光表示装置は、周辺領域ＰＡに配置され、貫通領域ＴＡを囲む形状を有する第１ダム構造物ＤＭ１、第１ダム構造物ＤＭ１の上に配置され、第１ダム構造物ＤＭ１から少なくとも表示領域に向けて突出してアンダーカットを形成する第１突出パターン１７２、及び表示領域から周辺領域ＰＡに連続的に延びて、少なくとも１つの有機層１９４を含む薄膜封止層１９０を含む。薄膜封止層１９０の有機層１９４は、第１ダム構造物ＤＭ１と表示領域から延びた境界部の間の第１収容空間の少なくとも一部を充填し、第１ダム構造物ＤＭ１に向けて突出してアンダーカットと噛み合わされる充填部１９４ａを含む。【選択図】図５
2019140097.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
貫通領域、前記貫通領域を囲み、発光素子アレイを含む表示領域、及び前記貫通領域と前記表示領域との間に配置される周辺領域を含む有機発光表示装置であって、
前記有機発光表示装置は、
前記周辺領域に配置され、前記貫通領域を囲む形状を有する第１ダム構造物と、
前記第１ダム構造物の上に配置され、前記第１ダム構造物から少なくとも前記表示領域に向けて突出してアンダーカットを形成する第１突出パターンと、
前記表示領域から前記周辺領域にわたって連続的に延びて、少なくとも１つの有機層を含む薄膜封止層とを含み、
前記薄膜封止層の有機層は、前記第１ダム構造物と、前記表示領域から延びた境界部との間にある第１収容空間の少なくとも一部を充填し、前記第１ダム構造物に向けて突出して前記アンダーカットと噛み合わされる第１充填部を含む、有機発光表示装置。
【請求項２】
前記境界部の上に配置され、前記境界部から前記貫通領域に向けて突出してアンダーカットを形成する第２突出パターンをさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の有機発光表示装置。
【請求項３】
前記第１ダム構造物と前記貫通領域との間に配置され、前記貫通領域を囲む形状を有する第２ダム構造物と、
前記第２ダム構造物の上に配置され、少なくとも前記第１ダム構造物に向けて突出してアンダーカットを形成する第３突出パターンをさらに含むことを特徴とする、請求項２に記載の有機発光表示装置。
【請求項４】
前記第２ダム構造物は、前記第１ダム構造物より大きい高さを有することを特徴とする、請求項３に記載の有機発光表示装置。
【請求項５】
前記表示領域から連続的に延びて、前記周辺領域内に配置される共通層をさらに含み、
前記共通層は、少なくとも前記第１ダム構造物と前記第１収容空間との間で断線されていることを特徴とする、請求項１に記載の有機発光表示装置。
【請求項６】
前記共通層は、金属、リチウム化合物、及び有機発光物質からなるグループから選ばれる少なくとも１つを含むことを特徴とする、請求項５に記載の有機発光表示装置。
【請求項７】
前記第１ダム構造物と前記貫通領域との間に配置され、前記貫通領域を囲む形状を有する第２ダム構造物をさらに含み、
前記第１突出パターンは、前記第１ダム構造物の上から前記第２ダム構造物の上にわたって連続するように配置されて、前記第１ダム構造物と前記第２ダム構造物との間の第２収容空間をカバーすることを特徴とする、請求項１に記載の有機発光表示装置。
【請求項８】
前記第１突出パターンは、平面図上で、外郭境界から内部に陥入した凹部を有することを特徴とする、請求項７に記載の有機発光表示装置。
【請求項９】
前記第１ダム構造物は、前記第１収容空間と前記第２収容空間とを連結する流入口を有することを特徴とする、請求項８に記載の有機発光表示装置。
【請求項１０】
前記薄膜封止層の有機層は、前記第２収容空間の少なくとも一部を充填する第２充填部をさらに含むことを特徴とする、請求項７に記載の有機発光表示装置。
【請求項１１】
前記第１突出パターンは無機物質を含むことを特徴とする、請求項１に記載の有機発光表示装置。
【請求項１２】
貫通領域と表示領域との間に配置された周辺領域上に、前記表示領域から延びた境界部、及び、前記境界部と離隔したダム構造物を形成するステップと、
前記ダム構造物に隣接する犠牲パターンを形成するステップと、
前記犠牲パターンの少なくとも一部の領域の上から前記ダム構造物の上にわたって連続するように配置される突出パターンを形成するステップと、
前記犠牲パターンを除去して収容空間を形成し、前記突出パターンの下方にアンダーカットを形成するステップと、
前記表示領域から前記周辺領域にわたって連続的に延びて、少なくとも１つの有機層を含む薄膜封止層を形成するステップとを含み、
前記薄膜封止層の有機層は、前記収容空間の少なくとも一部を充填し、前記ダム構造物に向けて突出して前記アンダーカットと噛み合わされる充填部を含む、有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記ダム構造物は、
前記貫通領域を囲む形状を有する第１ダム構造物と、
前記貫通領域を囲む形状を有し、前記第１ダム構造物と前記貫通領域との間に配置される第２ダム構造物を含むことを特徴とする、請求項１２に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１４】
前記犠牲パターンは、
前記第１ダム構造物と前記境界部との間に配置される第１犠牲パターンと、
前記第１ダム構造物と前記第２ダム構造物との間に配置される第２犠牲パターンを含むことを特徴とする、請求項１３に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１５】
前記突出パターンは、
前記第１ダム構造物の上に配置され、少なくとも前記境界部に向けて突出する第１突出パターンと、
前記境界部の上に配置され、前記第１ダム構造物に向けて突出する第２突出パターンと、
前記第２ダム構造物の上に配置され、少なくとも前記第１ダム構造物に向けて突出する第３突出パターンを含むことを特徴とする、請求項１３に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１６】
前記突出パターンは、
前記第１ダム構造物及び前記第２ダム構造物の上に連続的に配置され、少なくとも前記境界部に向けて突出する第１突出パターンと、
前記境界部の上に配置され、前記第１ダム構造物に向けて突出する第２突出パターンを含むことを特徴とする、請求項１３に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１７】
前記第１ダム構造物は、前記第１ダム構造物と前記境界部との間の第１収容空間と、前記第１ダム構造物と前記第２ダム構造物との間の第２収容空間とを連結する流入口を有することを特徴とする、請求項１６に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１８】
前記薄膜封止層の有機層は、
前記第１収容空間の少なくとも一部を充填する第１充填部と、
前記第２収容空間の少なくとも一部を充填する第２充填部とを含むことを特徴とする、請求項１７に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項１９】
前記薄膜封止層を形成するステップは、
第１無機層を形成するステップと、
前記第１無機層の上にモノマー組成物を提供するステップと、
前記モノマー組成物を硬化するステップとを含むことを特徴とする、請求項１２に記載の有機発光表示装置の製造方法。
【請求項２０】
貫通領域、前記貫通領域を囲み、発光素子アレイを含む表示領域及び前記貫通領域と前記表示領域との間に配置される周辺領域を含む有機発光表示装置であって、
前記有機発光表示装置は、
前記周辺領域に配置され、前記貫通領域を囲む形状を有するアンダーカット構造物と、
前記表示領域から前記周辺領域に連続的に延びて、少なくとも１つの有機層を含む薄膜封止層を含み、
前記薄膜封止層の有機層は、前記アンダーカット構造物と前記表示領域との間の収容空間の少なくとも一部を充填し、前記アンダーカット構造物のアンダーカットと噛み合わされる充填部を含む、有機発光表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示装置に関し、より詳しくは、本発明は有機発光表示装置及び有機発光表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置は映像を表示する装置であって、最近、有機発光表示（organic light-emitting display）装置が注目されている。このような有機発光表示装置は自発光特性を有し、別途の光源を必要としないので、厚さと重さを縮小することができる。また、有機発光表示装置は、低い消費電力、高い輝度、及び高い反応速度などの有利な特性を有する。
【０００３】
有機発光表示装置は、性能及び寿命を向上させるために、外部からの水分及び酸素の影響を最小化するために、気密な密封がなされることが求められ、一般的に、薄膜封止層により密封できる。
【０００４】
しかしながら、前記有機発光表示装置の表示領域内に、カメラ、センサーなどのために貫通領域を形成する場合、前記貫通領域からの透湿が発生するか、または前記有機発光表示装置の保護のために臨時に付着された保護テープを除去する過程で、薄膜封止層または共通層の界面で剥離が発生することがある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の一目的は、信頼性が向上した有機発光表示装置を提供することにある。
【０００６】
本発明の一目的は、前記有機発光表示装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前述した本発明の一目的を達成するために、一実施形態に係る有機発光表示装置は、(i)貫通領域、(ii)前記貫通領域を囲み、発光素子アレイを含む表示領域、及び、(iii)前記貫通領域と前記表示領域との間に配置される周辺領域を含む。前記有機発光表示装置は、(a)前記周辺領域に配置され、前記貫通領域を囲む形状を有する第１ダム構造物、(b)前記第１ダム構造物の上に配置され、前記第１ダム構造物から少なくとも前記表示領域に向けて突出してアンダーカットを形成する第１突出パターン、及び、(c)前記表示領域から前記周辺領域に連続的に延びて、少なくとも１つの有機層を含む薄膜封止層を含む。前記薄膜封止層の有機層は、前記第１ダム構造物と、前記表示領域から延びた境界部（特には、表示領域の内部から延びる厚い絶縁層がなす縁部）との間にある第１収容空間の少なくとも一部を充填し、前記第１ダム構造物に向けて突出して前記アンダーカットと噛み合わされる第１充填部を含む。
【０００８】
一実施形態によれば、前記有機発光表示装置は、前記境界部の上に配置され、前記境界部から前記貫通領域に向けて突出してアンダーカットを形成する第２突出パターンをさらに含む。
【０００９】
一実施形態によれば、前記有機発光表示装置は、前記第１ダム構造物と前記貫通領域との間に配置され、前記貫通領域を囲む形状を有する第２ダム構造物、及び前記第２ダム構造物の上に配置され、少なくとも前記第１ダム構造物に向けて突出してアンダーカットを形成する第３突出パターンをさらに含む。
【００１０】
一実施形態によれば、前記第２ダム構造物は前記第１ダム構造物より大きい高さを有する。
【００１１】
一実施形態によれば、前記有機発光表示装置は、前記表示領域から連続的に延びて、前記周辺領域内に配置される共通層をさらに含む。前記共通層は、少なくとも前記第１ダム構造物と、前記第１収容空間との間で断線（open-circuit）されている。すなわち、第１ダム構造物を覆う箇所と、第１収容空間の底面を覆う箇所との間が、互いに非導通となっている。
【００１２】
一実施形態によれば、前記共通層は、金属、リチウム化合物、及び有機発光物質からなるグループからの少なくとも１つを含む。
【００１３】
一実施形態によれば、前記第１ダム構造物と前記貫通領域との間に配置され、前記貫通領域を囲む形状を有する第２ダム構造物をさらに含む。前記第１突出パターンは、前記第１ダム構造物の上から前記第２ダム構造物の上にわたって、平面図で見て連続的に配置されて、前記第１ダム構造物と前記第２ダム構造物との間の第２収容空間の底面をカバーする。
【００１４】
一実施形態によれば、前記第１突出パターンは、平面図上で外郭境界から内部に陥入した凹部を有する。
【００１５】
一実施形態によれば、前記第１ダム構造物は、前記第１収容空間と前記第２収容空間を互いに連結する流入口を有する。
【００１６】
一実施形態によれば、前記薄膜封止層の有機層は、前記第２収容空間の少なくとも一部を充填する第２充填部をさらに含む。
【００１７】
一実施形態によれば、前記第１突出パターンは無機物質を含む。
【００１８】
本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法は、貫通領域と表示領域との間に配置された周辺領域上に、前記表示領域から延びた境界部及び前記境界部と離隔したダム構造物を形成するステップ、前記ダム構造物に隣接する犠牲パターンを形成するステップ、前記犠牲パターンと前記ダム構造物の上に連続的に配置される突出パターンを形成するステップ、前記犠牲パターンを除去して収容空間を形成し、前記突出パターンの下方にアンダーカットを形成するステップ、及び前記表示領域から前記周辺領域に連続的に延びて、少なくとも１つの有機層を含む薄膜封止層を形成するステップを含む。前記薄膜封止層の有機層は、前記収容空間の少なくとも一部を充填し、前記ダム構造物に向けて突出して前記アンダーカットと噛み合わされる充填部を含む。
【００１９】
本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置は、貫通領域、前記貫通領域を囲み、発光素子アレイを含む表示領域、及び前記貫通領域と前記表示領域との間に配置される周辺領域を含む。前記有機発光表示装置は、前記周辺領域に配置され、前記貫通領域を囲む形状を有するアンダーカット構造物、及び前記表示領域から前記周辺領域に連続的に延びて、少なくとも１つの有機層を含む薄膜封止層を含む。前記薄膜封止層の有機層は、前記アンダーカット構造物と前記表示領域との間の収容空間の少なくとも一部を充填し、前記アンダーカット構造物のアンダーカットと噛み合わされる充填部を含む。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の一実施形態によれば、貫通領域と表示領域との間の周辺領域にアンダーカットを有するダム構造物を形成することによって、共通層をアンダーカットの箇所で断線させることができ、薄膜封止層の有機層を形成するためのモノマーのリフロー（加熱時などに流れて広がること）を効果的に抑制することができる。また、前記アンダーカットと前記有機層のアライン結合を形成して前記有機層の剥離を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１ａ】本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置を概略的に示す平面図(1)である。円形状を有する有機発光表示装置を図示する。
【図１ｂ】本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置を概略的に示す平面図(2)である。四角形状を有する有機発光表示装置を図示する。
【図２】図１ａの表示領域を図示した断面図(1)である。貫通孔ＴＨが形成され他ままのものを示す。
【図３】図２のＡ領域を拡大図示した断面図(2)である。貫通孔ＴＨの形成後に、支持基板が取り付けられたものを示す。
【図４】図１ａの貫通領域及び周辺領域を拡大図示した平面図である。
【図５】図４のＩ−Ｉ’線に沿って切断した断面図(1)である。
【図６】図４のＩ−Ｉ’線に沿って切断した断面図(2)である。
【図７ａ】本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法を図示した断面図である。
【図７ｂ】本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法を図示した断面図(1)である。
【図７ｃ】本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法を図示した断面図(2)である。
【図７ｄ】本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法を図示した断面図(3)である。
【図７ｅ】本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法を図示した断面図(4)である。
【図７ｆ】本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法を図示した断面図(5)である。
【図７ｇ】本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法を図示した断面図(6)である。
【図８ａ】本発明の一変形実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法における犠牲パターン及び突出パターンを拡大図示した断面図(1)である。
【図８ｂ】本発明の一変形実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法における犠牲パターン及び突出パターンを拡大図示した断面図(2)である。
【図９】本発明の他の一実施形態に係る有機発光表示装置の貫通領域及び周辺領域を拡大図示した平面図である。
【図１０】本発明の他の一実施形態に係る有機発光表示装置の突出パターンを拡大図示した平面図である。
【図１１ａ】本発明の他の一実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法を図９のＩＩ−ＩＩ’線に沿って図示した断面図(1)である。
【図１１ｂ】本発明の他の一実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法を図９のＩＩ−ＩＩ’線に沿って図示した断面図(2)である。
【図１１ｃ】本発明の他の一実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法を図９のＩＩ−ＩＩ’線に沿って図示した断面図(3)である。
【図１１ｄ】本発明の他の一実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法を図９のＩＩ−ＩＩ’線に沿って図示した断面図(4)である。
【図１１ｅ】本発明の他の一実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法を図９のＩＩ−ＩＩ’線に沿って図示した断面図(5)である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、添付した図面を参照して、本発明の例示的な実施形態に係る有機発光表示装置及び有機発光表示装置の製造方法をより詳細に説明する。添付した図面上の同一な構成要素に対しては同一または類似の参照符号を使用する。
【００２３】
以下、本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置の概略的な平面構造を図１ａ及び図１ｂを参照して説明する。
【００２４】
図１ａ及び図１ｂは、本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置を概略的に示す平面図である。図１ａは円形状を有する有機発光表示装置を図示したものであり、図１ｂは四角形状を有する有機発光表示装置を図示したものであるが、本発明の実施形態はこれに限定されず、多様な形状の有機発光表示装置を含むことができる。
【００２５】
図１ａ及び図１ｂを参照すると、本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置１００は、表示領域ＤＡ、貫通領域ＴＡ、及び周辺領域ＰＡを含むことができる。前記表示領域ＤＡには、各々光を放出する複数の画素が配置されて、映像が表示されうる。例えば、前記表示領域ＤＡは有機発光素子のアレイを含むことができる。
【００２６】
前記貫通領域ＴＡは、前記有機発光表示装置に含まれるカメラ、センサー、スピーカーなどが配置されるための領域でありうる。例えば、基板及び前記基板の上に形成される構造物に貫通孔を形成して、前記貫通孔に対応する貫通領域ＴＡを形成することができる。このような貫通孔を形成する方法に対しては以下で詳細に説明する。
【００２７】
図１ａ及び図１ｂには前記貫通領域ＴＡが実質的に円形状を有するものとして例示されているが、本発明の実施形態はこれに限定されず、前記貫通領域ＴＡは四角形、三角形などを含む多角形の形状を有することもできる。
【００２８】
前記周辺領域ＰＡは、前記表示領域ＤＡと前記貫通領域ＴＡとの間に位置することができる。したがって、前記周辺領域ＰＡは前記貫通領域ＴＡを囲み、前記表示領域ＤＡは前記周辺領域ＰＡを囲むことができる。また、前記周辺領域ＰＡには前記画素に駆動信号（例えば、データ信号、ゲート信号など）を供給するための駆動回路などが配置できる。
【００２９】
図２は、図１ａの表示領域を図示した断面図である。図３は、図２のＡ領域を拡大して図示した断面図である。
【００３０】
図２及び図３を参照すると、表示領域ＤＡに配置される画素は、ベース基板１１０の上に配置される駆動トランジスタ、前記駆動トランジスタと電気的に連結される有機発光素子及び前記有機発光素子をカバーする薄膜封止層１９０を含む。前記駆動トランジスタは、アクティブパターンＡＰ、前記アクティブパターンＡＰと重なるゲート電極ＧＥ、及び前記アクティブパターンＡＰと電気的に連結され、互いに離隔されたソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥを含むことができる。
【００３１】
例えば、前記ベース基板１１０は、ガラス、クォーツ、シリコン、高分子樹脂などを含むことができる。例えば、前記高分子樹脂はポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリイミドなどを含むことができる。
【００３２】
前記ベース基板１１０の上にはバッファ層１２０が配置されうる。前記バッファ層１２０は、前記ベース基板１１０の下部からの異物、水分、または外気の侵入を減少または遮断することができ、前記ベース基板１１０の上面を平坦化することができる。例えば、前記バッファ層１２０は、酸化物または窒化物などの無機物質を含むことができる。
【００３３】
前記バッファ層１２０の上にはアクティブパターンＡＰが配置されうる。前記アクティブパターンＡＰはゲート電極ＧＥと重畳する。
【００３４】
例えば、前記アクティブパターンＡＰは、非晶質シリコン、多結晶シリコン、酸化物半導体などの半導体物質を含むことができる。例えば、前記アクティブパターンＡＰが多結晶シリコンを含む場合、前記アクティブパターンＡＰの少なくとも一部は、ｎ型不純物またはｐ型不純物などの不純物でドーピングできる。
【００３５】
前記アクティブパターンＡＰの上には第１絶縁層１３０が配置されうる。例えば、前記第１絶縁層１３０は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン炭化物、またはこれらの組合せを含むことができ、アルミニウム酸化物、タンタル酸化物、ハフニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、チタニウム（チタン）酸化物などの絶縁性金属酸化物を含むこともできる。例えば、前記第１絶縁層１３０はシリコン窒化物またはシリコン酸化物の単一層または積層構造を有することができる。
【００３６】
前記第１絶縁層１３０の上にはゲート電極ＧＥが配置されうる。例えば、前記ゲート電極ＧＥは、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、白金（Ｐｔ）、マグネシウム（Ｍｇ）、クロム（Ｃｒ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、チタニウム（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、またはこれらの合金を含むことができ、単一層または互いに異なる金属層を含む積層構造を有することができる。
【００３７】
前記ゲート電極ＧＥ及び前記第１絶縁層１３０の上には第２絶縁層１４０が配置されうる。例えば、前記第２絶縁層１４０は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン炭化物、またはこれらの組合せを含むことができ、アルミニウム酸化物、タンタル酸化物、ハフニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、チタニウム酸化物などの絶縁性金属酸化物を含むこともできる。
【００３８】
前記第２絶縁層１４０の上には、ソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥを含むデータ金属パターンが配置できる。前記ソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥは各々前記第１絶縁層１３０及び第２絶縁層１４０を貫通して、前記アクティブパターンＡＰと接触することができる。例えば、前記ソース電極ＳＥ及び前記ドレイン電極ＤＥは、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、白金（Ｐｔ）、マグネシウム（Ｍｇ）、クロム（Ｃｒ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、チタニウム（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、またはこれらの合金を含むことができ、単一層または互いに異なる金属層を含む積層構造を有することができる。
【００３９】
前記データ金属パターン及び前記第２絶縁層１４０の上には第３絶縁層１５０が配置できる。例えば、前記第３絶縁層１５０は無機絶縁物質、有機絶縁物質、またはこれらの組合せを含むことができる。前記有機絶縁物質は、ポリイミド、ポリアミド、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ベンゾシクロブテン（ＢＣＢ）などを含むことができる。
【００４０】
前記第３絶縁層１５０の上には、有機発光ダイオードの第１電極ＥＬ１が配置されうる。一実施形態によれば、前記第１電極ＥＬ１はアノードとして作動することができる。例えば、前記第１電極ＥＬ１は、発光タイプによって透過電極に形成されるか、または反射電極に形成されうる。前記第１電極ＥＬ１が透過電極として形成される場合、前記第１電極ＥＬ１はインジウムスズ酸化物、インジウム亜鉛酸化物、亜鉛スズ酸化物、インジウム酸化物、亜鉛酸化物、スズ酸化物などを含むことができる。前記第１電極ＥＬ１が反射電極として形成される場合、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、白金（Ｐｔ）、マグネシウム（Ｍｇ）、クロム（Ｃｒ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、チタニウム（Ｔｉ）などを含むことができ、このような物質を含む層と、前記透過電極に使われた物質との積層構造を有することもできる。
【００４１】
前記第３絶縁層１５０の上には画素定義層１６０が配置されうる。前記画素定義層１６０は、前記第１電極ＥＬ１の少なくとも一部を露出する開口部を有することができる。例えば、前記画素定義層１６０は有機絶縁物質を含むことができる。例えば、前記画素定義層１６０及び前記第３絶縁層１５０は、有機絶縁物質を含むフォトレジスト組成物を塗布してから、露光−現像工程などを用いてコーティング膜をパターニングすることで得られうる。
【００４２】
前記画素定義層（画素区画バンプ）１６０及び前記第１電極ＥＬ１の上には、共通層１８０が配置されうる。前記共通層１８０は、複数の画素に亘って、前記表示領域ＤＡ上に連続して延びる少なくとも１つの層を含む。したがって、前記共通層１８０は、実質的に前記表示領域ＤＡの全体に形成されうる。
【００４３】
例えば、図３を参照すると、前記共通層１８０は、有機発光層１８２、第２電極ＥＬ２、キャッピング層１８４、及び遮断層１８６を含むことができる。
【００４４】
前記有機発光層１８２は、前記第１電極ＥＬ１の上に配置されうる。前記有機発光層１８２は少なくとも発光層１８２ａを含み、前記発光層１８２ａと接触する機能層１８２ｂ、１８２ｃを含むことができる。例えば、前記有機発光層１８２は、前記発光層１８２ａと前記第１電極ＥＬ１との間に配置される第１機能層１８２ｂ、及び、前記発光層１８２ａと前記第２電極ＥＬ２との間に配置される第２機能層１８２ｃのうち、少なくとも１つをさらに含むことができる。例えば、前記第１機能層１８２ｂは、正孔注入層（hole injection layer：ＨＩＬ）及び／又は正孔輸送層（hole transporting layer：ＨＴＬ）を含むことができる。前記第２機能層１８２ｃは、電子輸送層（electron transporting layer：ＥＴＬ）及び／又は電子注入層（electron injection layer：ＥＩＬ）を含むことができる。例えば、前記有機発光層１８２は、低分子有機化合物または高分子有機化合物を含むことができる。
【００４５】
一実施形態において、前記有機発光層１８２は赤色、緑色、または青色光を発光することができる。他の実施形態において、前記有機発光層１８２が白色を発光する場合、前記有機発光層１８２は赤色発光層、緑色発光層、及び青色発光層を含む積層構造を含むか、または赤色、緑色及び青色の発光物質を含有する混合層を含むことができる。
【００４６】
前記第２電極ＥＬ２は、前記有機発光層１８２の上に配置されうる。一実施形態によれば、前記第２電極ＥＬ２はカソードとして作動することができる。例えば、前記第２電極ＥＬ２は、発光タイプによって透過電極として形成されるか、または反射電極として形成されうる。例えば、前記第２電極ＥＬ２が透明電極に形成される場合、リチウム（Ｌｉ）、カルシウム（Ｃａ）、リチウムフッ化物（ＬｉＦ）、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、またはこれらの組合せを含むことができ、インジウムスズ酸化物、インジウム亜鉛酸化物、亜鉛スズ酸化物、インジウム酸化物、亜鉛酸化物、スズ酸化物などを含む補助電極またはバス電極ラインをさらに含むことができる。
【００４７】
前記キャッピング層１８４は、前記第２電極ＥＬ２の上に配置できる。前記キャッピング層１８４は、有機発光素子を保護し、前記有機発光素子により発生した光が外部に放出できるように助ける役割をすることができる。
【００４８】
例えば、前記キャッピング層１８４は、無機物質及び／又は有機物質を含むことができる。例えば、前記無機物質は、亜鉛酸化物、タンタル酸化物、ジルコニウム酸化物、チタニウム酸化物などを含むことができ、前記有機物質は、ポリ（３，４−エチレンデオキシチオフェン（Poly（3,4-ethylenedioxythiophene）、ＰＥＤＯＴ）、４，４'−ビス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル（ＴＰＤ）、４，４'，４”−トリス［（３−メチルフェニル）フェニルアミノ］トリフェニルアミン（ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）、１，３，５−トリス［Ｎ，Ｎ−ビス（２−メチルフェニル）−アミノ］−ベンゼン（ｏ−ＭＴＤＡＢ）、１，３，５−トリス［Ｎ，Ｎ−ビス（３−メチルフェニル）−アミノ］−ベンゼン（ｍ−ＭＴＤＡＢ）などを含むことができる。
【００４９】
前記遮断層１８６は、前記キャッピング層１８４の上に配置できる。前記遮断層１８６は、以後の工程でプラズマなどが前記有機発光素子を損傷させることを防止することができる。例えば、前記遮断層１８６は、リチウムフッ化物、マグネシウムフッ化物、カルシウムフッ化物などを含むことができる。
【００５０】
前記共通層１８０は、前記有機発光層１８２、前記第２電極ＥＬ２、前記キャッピング層１８４、及び前記遮断層１８６のうちの一部を含むこともできる。例えば、前記有機発光層１８２は、インクジェット方式などにより各画素に対応するパターンに形成され、前記第２電極ＥＬ２、前記キャッピング層１８４、及び前記遮断層１８６は、複数の画素に亘って連続的に形成できる。
【００５１】
前記薄膜封止層１９０は、前記共通層１８０の上に配置されうる。前記薄膜封止層１９０は、無機層及び有機層の積層構造を有することができる。例えば、前記薄膜封止層１９０は、第１無機層１９２、第２無機層１９６、及び前記第１無機層１９２と前記第２無機層１９６との間に配置された有機層１９４を含むことができる。
【００５２】
例えば、前記有機層１９４は、ポリアクリレートなどの高分子硬化物を含むことができる。例えば、前記高分子硬化物は、モノマーの架橋反応により形成できる。
【００５３】
例えば、前記第１無機層１９２と前記第２無機層１９６は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン炭化物、アルミニウム酸化物、タンタル酸化物、ハフニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、チタニウム酸化物などを含むことができる。
【００５４】
前記薄膜封止層１９０の構成は例示的なものであり、本発明の実施形態はこれに限定されない。例えば、前記薄膜封止層１９０は２つ以上の有機層を含むこともできる。
【００５５】
図４は図１ａの貫通領域及び周辺領域を拡大図示した平面図であり、図５は、図４のＩ−Ｉ’線に沿って切断した断面図である。
【００５６】
図４及び図５を参照すると、周辺領域ＰＡには貫通領域ＴＡを囲むダム構造物が配置される。例えば、前記周辺領域ＰＡには、第１ダム構造物ＤＭ１及び第２ダム構造物ＤＭ２が配置されうる。前記第２ダム構造物ＤＭ２は、前記第１ダム構造物ＤＭ１と前記貫通領域ＴＡとの間に配置されうる。他の実施形態において、前記ダム構造物は、前記貫通領域ＴＡを部分的に囲む形状を有することもできる。
【００５７】
前記周辺領域ＰＡには、ベース基板１１０の上に、前記表示領域ＤＡから延びた、前記バッファ層１２０、前記第１絶縁層１３０、及び前記第２絶縁層１４０が配置されうるのであり、前記第１ダム構造物ＤＭ１及び第２ダム構造物ＤＭ２は、前記第２絶縁層１４０の上に配置されうる。また、前記周辺領域ＰＡには、前記表示領域ＤＡから延びた境界部１６６が配置できる。前記境界部１６６は、前記表示領域ＤＡに形成される画素部から延びた絶縁層の縁部でありうる。
【００５８】
前記第１ダム構造物ＤＭ１及び第２ダム構造物ＤＭ２は、薄膜封止層の有機層１９４を形成する過程で、モノマーが前記貫通領域ＴＡの側に移動することを防止する役割をすることができる。
【００５９】
一実施形態によれば、前記第２ダム構造物ＤＭ２の高さは前記第１ダム構造物ＤＭ１の高さより大きい。前記第２ダム構造物ＤＭ２の高さが前記第１ダム構造物ＤＭ１の高さより大きい場合、前記第１ダム構造物ＤＭ１を越えてきたモノマーが前記貫通領域ＴＡの側にさらに移動することを安定的に防止することができる。しかしながら、本発明の実施形態はこれに限定されず、他の実施形態において、前記第２ダム構造物ＤＭ２の高さは前記第１ダム構造物ＤＭ１の高さと実質的に同一であるか、またはこれより小さいこともありうる。
【００６０】
前記第１ダム構造物ＤＭ１より大きい高さを有するために、前記第２ダム構造物ＤＭ２は積層構造を有することができる。例えば、前記第２ダム構造物ＤＭ２は、第１支持部１５２、及び、前記第１支持部１５２の上に配置される第２支持部１６４を含むことができる。
【００６１】
前記境界部１６６、前記第１ダム構造物ＤＭ１、及び前記第２ダム構造物ＤＭ２は、前記表示領域ＤＡに配置される層構造物の一部であるか、またはこれから形成できる。例えば、前記境界部１６６、前記第１ダム構造物ＤＭ１、及び前記第２ダム構造物ＤＭ２の第２支持部１６４は、前記画素定義層１６０と同一の層から形成できる。また、前記第２ダム構造物ＤＭ２の第１支持部１５２は、前記表示領域ＤＡの第３絶縁層１５０と同一の層から形成できる。一実施形態によれば、前記境界部１６６、前記第１ダム構造物ＤＭ１、及び前記第２ダム構造物ＤＭ２は、有機物質を含むことができる。しかしながら、本発明の一実施形態はこれに限定されず、境界部及びダム構造物は多様な物質及び多様な構造の組合せにより形成できる。
【００６２】
前記ダム構造物ＤＭ１、ＤＭ２の上には突出パターンが配置できる。前記突出パターンは、下部に配置される前記ダム構造物ＤＭ１、ＤＭ２の側面から水平に向けて突出して下部にアンダーカットを形成することができる。
【００６３】
例えば、前記第１ダム構造物ＤＭ１の上部には第１突出パターン１７２が配置できる。前記第１突出パターン１７２は、少なくとも前記表示領域ＤＡまたは前記境界部１６６に向けて突出してアンダーカットを形成することができる。また、前記第１突出パターン１７２は、前記貫通領域ＴＡに向けて突出することができ、前記第１ダム構造物ＤＭ１の両側にアンダーカットを形成することができる。
【００６４】
前記境界部１６６の上部には第２突出パターン１７６が配置されうる。前記第２突出パターン１７２は、前記貫通領域ＴＡまたは前記第１ダム構造物ＤＭ１に向けて突出してアンダーカットを形成する。
【００６５】
また、前記第２ダム構造物ＤＭ２の上部には第３突出パターン１７４が配置されうる。例えば、前記第３突出パターン１７４は、少なくとも前記表示領域ＤＡまたは第１ダム構造物ＤＭ１に向けて突出してアンダーカットを形成することができる。
【００６６】
前記周辺領域ＰＡには共通層１８０が配置されうる。前記共通層１８０は、前記周辺領域ＰＡに、全体に配置されうる。例えば、前記共通層１８０は、前記各突出パターン１７２、１７４、１７６の上面に配置されうるのであり、一部は前記第２絶縁層１４０の上面に配置されうる。好ましくは、前記共通層１８０は連続的に繋がらないで、短絡される。例えば、前記前記突出パターン１７２、１７４、１７６の上面に配置された部分と、前記第２絶縁層１４０の上面に配置された部分は互いに短絡されうる。
【００６７】
前記周辺領域ＰＡには、前記表示領域ＤＡから延びた薄膜封止層１９０が配置されうる。一実施形態によれば、前記薄膜封止層１９０の有機層１９４は、前記周辺領域ＰＡの一部に配置されうるのであり、前記薄膜封止層１９０の第１無機層１９２及び第２無機層１９６は、前記周辺領域ＰＡの全体にわたって配置されうる。
【００６８】
例えば、前記薄膜封止層１９０の第１無機層１９２は、前記共通層１８０の上面及び前記ダム構造物ＤＭ１、ＤＭ２の側面に沿って連続して延長されうる。
【００６９】
前記薄膜封止層１９０の有機層１９４は、前記境界部１６６と前記第１ダム構造物ＤＭ１との間にある第１収容空間の少なくとも一部を充填する充填部１９４ａを有することができる。前記第１ダム構造物ＤＭ１の上部には、この縁よりオーバーハング状に突き出す部分を有する第１突出パターン１７２が配置されて、アンダーカットを形成するので、前記充填部１９４ａは、前記アンダーカットの形状にしたがって、下端部の幅が上部より大きいアンカー状の断面形状を有することができる。例えば、前記充填部１９４ａの下端部は、前記アンダーカットの奥へと向けて水平方向に突出する形状を有することができ、これによって、前記充填部１９４ａは、前記第１ダム構造物ＤＭ１のアンダーカットと噛み合うことができる。
【００７０】
前記薄膜封止層１９０の第２無機層１９６は、前記有機層１９４及び前記第１無機層１９２の上面に沿って連続するように延長されうる。
【００７１】
前記のような、薄膜封止層１９０の有機層１９４と、前記第１ダム構造物ＤＭ１との結合は、アンカーのような役割をすることができる。したがって、前記薄膜封止層１９０に外力が加えられた際、前記有機層１９４が前記第１無機層１９２から容易に剥離することを防止することができる。また、上記の構造は前記有機層１９４を形成する工程でリフローを防止して表示装置の信頼性を改善することができる。このような工程上の利点に対しては後述する。
【００７２】
また、本発明の一実施形態によれば、前記境界部１６６の上に、この縁よりオーバーハング状に突き出す部分を有する第２突出パターン１７６が配置されて、アンダーカットを形成することができる。したがって、前記有機層１９４の充填部１９４ａは前記境界部１６６のアンダーカットに向けて突出する形状を有することができる。例えば、アンダーカットと充填部１９４ａによる結合力増加の効果は、外力が加えられる方向、例えば、保護テープを剥離する方向によって変わりうる。前記実施形態によれば、貫通領域ＴＡの縁に沿って延びる充填部１９４ａの両側で、アンダーカットと充填部１９４ａとの噛み合い結合を形成することにより、剥離方向によって結合力が弱くなることを防止することができる。
【００７３】
また、前記有機層１９４は、前記第１ダム構造物ＤＭ１を越えて、前記第１ダム構造物ＤＭ１と前記第２ダム構造物ＤＭ２との間の第２収容空間にまで延長されうる。このような場合、前記第２収容空間に有機層１９４の充填部が追加的に形成されうるのであり、前記第２収容空間に配置された充填部は、前記第１突出パターン１７２または前記第３突出パターン１７４により形成されるアンダーカットと噛み合うことで前記有機層１９４と、その下方の層との間の結合力（耐剥離性）を増加させることができる。
【００７４】
前記有機発光表示装置には貫通孔ＴＨが形成されて、この貫通孔ＴＨにより前記貫通領域ＴＡが画定されるのでありうる。一実施形態によれば、前記貫通領域ＴＡにてベース基板１１０を含めた全ての構造物が除去されうる。しかしながら、本発明の実施形態はこれに限定されない。例えば、前記貫通孔ＴＨを形成して、この箇所にて前記ベース基板１１０をも除去した後、支持基板１１２を取り付けるならば、図６に図示したように、前記貫通領域ＴＡには前記支持基板１１２が配置されうる。
【００７５】
以下、本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法を、図面を参照して具体的に説明する。図７ａから図７ｇは、本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法を図示した断面図である。図８ａ及び図８ｂは、本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法における犠牲パターン及び突出パターンを拡大して図示した断面図である。
【００７６】
図７ａを参照すると、表示領域、貫通領域ＴＡ、及び、前記表示領域と前記貫通領域ＴＡとの間に配置される周辺領域ＰＡを含むベース基板１１０の上に、第１ダム構造物ＤＭ１及び第２ダム構造物ＤＭ２を形成する。
【００７７】
前記ベース基板１１０の上には、表示領域から延びた絶縁層１２０、１３０、１４０が配置されうるのであり、前記第１ダム構造物ＤＭ１及び前記第２ダム構造物ＤＭ２は前記絶縁層の上に配置されうる。前記第２ダム構造物ＤＭ２は、第１支持部１５２及び前記第１支持部１５２の上に配置される第２支持部１６４を含むことができる。
【００７８】
一実施形態によれば、平面図上で、前記第２ダム構造物ＤＭ２は前記貫通領域ＴＡを取り囲む形状を有することができ、前記第１ダム構造物ＤＭ１は前記第２ダム構造物ＤＭ２を取り囲む形状を有することができる。例えば、前記第１ダム構造物ＤＭ１及び前記第２ダム構造物ＤＭ２は、各々が貫通領域ＴＡの周縁に沿って連続して延び、互いに組み合わさった二重ループ（loop）の形状を有することができる。
【００７９】
前記第１ダム構造物ＤＭ１及び前記第２ダム構造物ＤＭ２は、前記表示領域ＤＡに配置される層構造物の一部であるか、またはこれから形成されうる。例えば、前記第１ダム構造物ＤＭ１及び前記第２ダム構造物ＤＭ２の第２支持部１６４は、前記画素定義層１６０と同一の層から形成できる。また、前記第２ダム構造物ＤＭ２の第１支持部１５２は、前記表示領域ＤＡの第３絶縁層１５０と同一の層から形成されうる。
【００８０】
前記周辺領域ＰＡには、前記表示領域ＤＡから延びた境界部１６６が配置されうる。例えば、前記境界部１６６は、前記表示領域ＤＡの画素定義層１６０及び／又は第３絶縁層１５０から延びるか、またはこれと同一の層から形成されうる。一実施形態によれば、前記境界部１６６は前記画素定義層１６０から延長されうる。
【００８１】
例えば、前記境界部１６６、前記第１ダム構造物ＤＭ１、及び前記第２ダム構造物ＤＭ２は、感光性組成物を塗布し現像して形成されうる。
【００８２】
図７ｂを参照すると、前記境界部１６６と前記第１ダム構造物ＤＭ１との間に第１犠牲パターンＳＬ１を形成し、前記第１ダム構造物ＤＭ１と前記第２ダム構造物ＤＭ２との間に第２犠牲パターンＳＬ２を形成する。
【００８３】
例えば、前記第１犠牲パターンＳＬ１及び前記第２犠牲パターンＳＬ２はインクジェットといった印刷方式により形成されうる。例えば、ポジティブタイプまたはネガティブタイプのフォトレジスト組成物を提供して、前記第１犠牲パターンＳＬ１及び前記第２犠牲パターンＳＬ２を形成することができる。
【００８４】
図７ｃを参照すると、前記第１ダム構造物ＤＭ１、前記境界部１６６、及び前記第２ダム構造物ＤＭ２の上に突出パターンを形成する。例えば、前記突出パターンは、前記第１ダム構造物ＤＭ１の上に配置される第１突出パターン１７２、前記境界部１６６の上に配置される第２突出パターン１７６、及び前記第２ダム構造物ＤＭ２の上に配置される第３突出パターン１７４を含むことができる。
【００８５】
前記突出パターンの少なくとも一部は、隣接する犠牲パターンの上に配置されうる。したがって、前記突出パターンは前記犠牲パターンの上面の少なくとも一部をカバーすることができる。例えば、前記第１突出パターン１７２の第１端部は前記第１犠牲パターンＳＬ１の上に配置され、前記第１突出パターン１７２の第２端部は前記第２犠牲パターンＳＬ２の上に配置されうる。前記第２突出パターン１７６の端部は、前記第１犠牲パターンＳＬ１の上に配置されうる。前記第３突出パターン１７４の端部は、前記第２犠牲パターンＳＬ２の上に配置されうる。
【００８６】
前記突出パターン１７２、１７４、１７６はアンダーカットを形成するためのものであり、多様な物質を含むことができる。例えば、前記突出パターン１７２、１７４、１７６は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン炭化物、アルミニウム酸化物、タンタル酸化物、ハフニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、チタニウム酸化物などの無機物質を含むことができる。
【００８７】
前記突出パターン１７２、１７４、１７６を形成する間、表示領域の構造物が保護されることが好ましい。例えば、前記突出パターンは、前記突出パターンが形成される領域に対応する開口を有するマスクを用いた蒸着工程などにより形成できる。
【００８８】
図７ｄを参照すると、前記第１犠牲パターンＳＬ１及び前記第２犠牲パターンＳＬ２を除去する。例えば、前記第１犠牲パターンＳＬ１及び前記第２犠牲パターンＳＬ２を除去するために、現像液、ストリッパーなどが提供できる。
【００８９】
前記突出パターン１７２、１７４、１７６は、前記第１犠牲パターンＳＬ１及び／又は前記第２犠牲パターンＳＬ２の上面の少なくとも一部をカバーする。したがって、前記第１犠牲パターンＳＬ１及び前記第２犠牲パターンＳＬ２を除去することによって、前記突出パターン１７２、１７４、１７６の下部に、アンダーカットが形成できる。
【００９０】
前記第１ダム構造物ＤＭ１と前記境界部１６６との間の空間は第１収容空間ＲＣ１と呼ぶこととし、前記第１ダム構造物ＤＭ１と前記第２ダム構造物ＤＭ２との間の空間は第２収容空間ＲＣ２と呼ぶことにする。
【００９１】
図７ｅを参照すると、前記周辺領域ＰＡに共通層１８０が形成されうる。前記共通層１８０は、前記表示領域ＤＡ及び前記周辺領域ＰＡに共に形成される。
【００９２】
前記共通層１８０は、図３に図示したように、有機発光層１８２、第２電極ＥＬ２、キャッピング層１８４、及び遮断層１８６のうち、少なくとも１つを含むことができる。
【００９３】
前記共通層１８０は、インクジェット印刷、スクリーン印刷、蒸着などの方法により形成されうるのであり、互いに異なる方法の組合せによっても形成されうる。一実施形態によれば、前記共通層１８０は真空蒸着により形成されうる。
【００９４】
前記共通層１８０は、前記周辺領域ＰＡの全体にわたって形成されうる。例えば、前記共通層１８０は、前記突出パターン１７２、１７４、１７６の上に形成されうるのであり、前記第１収容空間ＲＣ１及び前記第２収容空間ＲＣ２の内部、特には底面上に形成されうる。前記共通層１８０は、前記周辺領域ＰＡにてアンダーカット構造により断線されうる。すなわち、非連続となりうる。例えば、突出パターン１７２、１７４、１７６の上に配置された部分と、前記第１収容空間ＲＣ１及び前記第２収容空間ＲＣ２の内に配置された部分とは、互いに、非連続で非導通でありうる。
【００９５】
前記共通層１８０が断線されない場合、前記共通層１８０の縁から水分などが侵入するか、または、積層膜である場合の前記共通層１８０内の層間界面で、または前記共通層１８０と他の層の界面で剥離が容易に起こりうる。しかしながら、本実施形態によれば、アンダーカット構造を用いて、前記周辺領域ＰＡで、前記共通層１８０の短絡を形成することによって、剥離の伝播または水分の侵入を防止することができる。したがって、表示装置の信頼性が低下することを防止することができる。
【００９６】
図７ｆ及び図７ｇを参照すると、前記周辺領域ＰＡに薄膜封止層１９０を形成する。前記薄膜封止層１９０は、有機層と無機層が交互に積層された構造を有することができる。前記薄膜封止層１９０は、前記表示領域ＤＡ及び前記周辺領域ＰＡに共に配置できる。
【００９７】
例えば、前記薄膜封止層１９０は、第１無機層１９２、第２無機層１９６、及び前記第１無機層１９２と前記第２無機層１９６との間に配置された有機層１９４を含むことができる。
【００９８】
例えば、前記第１無機層１９２は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン炭化物、アルミニウム酸化物、タンタル酸化物、ハフニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、チタニウム酸化物などの無機物質を含むことができ、化学気相蒸着（ＣＶＤ）により形成されうる。例えば、前記第１無機層１９２は、前記周辺領域ＰＡに配置された構造物の上面及び側面に沿って形成されうる。
【００９９】
前記第１無機層１９２の上には前記有機層１９４が形成されうる。例えば、前記有機層１９４を形成するために、前記第１無機層１９２の上面にモノマー組成物が提供できる。
【０１００】
前記モノマー組成物は、硬化性モノマーを含むことができる。例えば、前記硬化性モノマーは少なくとも１つ以上の硬化性作用基を含むことができる。例えば、前記硬化性作用基はビニル基、（メタ）アクリレート基、エポキシ基などを含むことができる。
【０１０１】
例えば、前記硬化性モノマーは、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘプタンジオールジ（メタ）アクリレート、オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、デカンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチルプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヘクサ（メタ）アクリレートなどを含むことができる。
【０１０２】
前記モノマー組成物は、光開始剤などの開始剤をさらに含むことができる。
【０１０３】
前記モノマー組成物は、インクジェット印刷、スクリーン印刷などにより前記第１無機層１９２の上に提供できる。前記モノマー組成物の一部は流れて前記第１収容空間ＲＣ１の内部に入る。したがって、前記モノマー組成物により形成された有機層１９４は、前記第１ダム構造物ＤＭ１と前記境界部１６６との間の第１収容空間ＲＣ１を充填する充填部１９４ａを含むことができる。
【０１０４】
前記有機層１９４は湿気などに弱い。したがって、前記有機層１９４の端部が前記貫通領域などで露出しないようにするべく、前記有機層１９４は、その境界が、前記周辺領域ＰＡ内に配置されるように制御される必要がある。本実施形態では、前記有機層１９４を形成する過程で、モノマー組成物のリフローを防止するためのダム構造物を提供し、前記ダム構造物のアンダーカットを形成する。このようなアンダーカット構造は、モノマー組成物と接触する界面の長さ、または濡れ（wetting）長さを増加させることで、前記モノマー組成物が前記ダム構造物を越えることを効果的に防止することができる。
【０１０５】
前記モノマー組成物は、前記第１ダム構造物ＤＭ１を越えないように制御されることが好ましい。前記モノマー組成物が前記第１ダム構造物ＤＭ１を越える場合、前記第２ダム構造物ＤＭ２及び前記第３突出パターン１７４により形成されたアンダーカットにより、貫通領域ＴＡに流入することが防止できる。また、前記薄膜封止層１９０が２つ以上の有機層を含むようにするために、前記第２無機層１９６の上に、さらにモノマー組成物が提供される場合にも、前記第２ダム構造物ＤＭ２によりリフローが防止されうる。
【０１０６】
また、前述したように、前記有機層１９４は無機層との界面接着力が弱くて、外力による剥離の原因になりうるが、本実施形態によれば、前記有機層１９４は、前記第１ダム構造物ＤＭ１と前記境界部１６６との間に配置され、前記第１ダム構造物ＤＭ１のアンダーカットと噛み合わされた形の充填部１９４ａを含むことによって、外力による剥離を防止することができる。
【０１０７】
前記モノマー組成物は、以後の工程で硬化されて、高分子硬化物を形成することができる。
【０１０８】
前記第２無機層１９６は前記有機層１９４の上に形成できる。前記第２無機層１９６は、前記第１無機層１９２と同一の物質を含むことができ、同一の工程により形成できる。
【０１０９】
前記貫通領域ＴＡを形成するために、前記貫通領域ＴＡに対応する貫通ホールＴＨが形成されうる。例えば、図５に図示したように、前記貫通領域ＴＡで、前記ベース基板１１０と、前記ベース基板１１０の上に配置された層構造物とが除去されうる。例えば、前記貫通ホールＴＨはレーザーなどにより形成されうる。
【０１１０】
本発明の一実施形態によれば、貫通領域と表示領域との間の周辺領域にアンダーカット構造物を形成することによって、共通層を断線させることができ、薄膜封止層の有機層を形成するためのモノマーのリフローを効果的に抑制することができる。また、前記アンダーカット構造物と前記有機層の一部との間の噛み合い結合を形成して前記有機層の剥離を防止することができる。
【０１１１】
前記実施形態において、単一の有機層が前記第１収容空間ＲＣ１内に配置されるが、本発明の実施形態はこれに限定されず、前記薄膜封止層１９０が２つ以上の有機層を含む場合、前記有機層の各々の少なくとも一部が前記第１収容空間ＲＣ１内に配置されるようにすることもできる。
【０１１２】
図７ａから図７ｇに図示した実施形態において、犠牲パターンはダム構造物と同一の高さを有するものとして図示されたが、本発明の実施形態はこれに限定されず、前記犠牲パターンは多様な高さと多様な組合せを有することができる。これによって、前記ダム構造物と前記犠牲パターンの表面に沿って形成される突出パターンの形状も多様に変わりうる。
【０１１３】
例えば、図８ａに図示したように、第１犠牲パターンＳＬ１及び第２犠牲パターンＳＬ２は第１ダム構造物ＤＭ１より小さな高さを有することができる。この場合、突出パターン１７２は前記第１ダム構造物ＤＭ１の側面を部分的にカバーすることができる。
【０１１４】
また、図８ｂに図示したように、第１犠牲パターンＳＬ１は第１ダム構造物ＤＭ１より小さな高さを有し、第２犠牲パターンＳＬ２は第１ダム構造物ＤＭ１より大きい高さを有することができる。
【０１１５】
前記突出パターン１７２により形成されるアンダーカットの長さ（突出パターンの突出長さ）は、パターン形状、及び以後の工程に及ぼす影響などを考慮して適切に調節できる。
【０１１６】
図９は、本発明の他の一実施形態に係る、有機発光表示装置の貫通領域及び周辺領域を拡大図示した平面図である。図１０は、本発明の他の一実施形態に係る、有機発光表示装置の突出パターンを拡大図示した平面図である。図１１ａから図１１ｅは、本発明の他の一実施形態に係る、有機発光表示装置の製造方法を、図９のＩＩ−ＩＩ’線に沿って図示した断面図である。
【０１１７】
図９、図１０、及び図１１ａを参照すると、ベース基板１１０の周辺領域ＰＡ上に境界部１６６、第１ダム構造物ＤＭ１、及び第２ダム構造物ＤＭ２を形成する。
【０１１８】
これらの図に示されるように、一実施形態によれば、平面図上で、前記第２ダム構造物ＤＭ２は前記貫通領域ＴＡを取り囲む形状を有することができ、前記第１ダム構造物ＤＭ１は前記第２ダム構造物ＤＭ２を取り囲む形状を有することができる。
【０１１９】
また、この一実施形態によれば、前記第１ダム構造物ＤＭ１は、貫通領域ＴＡの縁に沿って、不連続的に形成される。例えば、前記第１ダム構造物ＤＭ１は互いに離隔する複数のパターンからなりうるのであり、それぞれ円弧状などをなす、隣接するパターンは、互いに離隔して流入口ＩＬを形成することができる。一方、前記第２ダム構造物ＤＭ２は連続的に延びることで各部分が互いに連結されている閉じたループ（loop）の形状を有することができる。
【０１２０】
次に、前記境界部１６６と第１ダム構造物ＤＭ１との間に第１犠牲パターンＳＬ１を形成し、前記第１ダム構造物ＤＭ１と第２ダム構造物ＤＭ２との間に第２犠牲パターンＳＬ２を形成する。前記第１犠牲パターンＳＬ１及び前記第２犠牲パターンＳＬ２は、前記第１ダム構造物ＤＭ１の流入口ＩＬを通じて互いに連結されうる。
【０１２１】
次に、前記第１ダム構造物ＤＭ１、前記境界部１６６、及び前記第２ダム構造物ＤＭ２の上に突出パターンを形成する。
【０１２２】
一実施形態によれば、前記突出パターンは、前記第１ダム構造物ＤＭ１の上から前記第２ダム構造物ＤＭの上にわたって連続的に配置される第１突出パターン１７３、及び、前記境界部１６６の上に配置される第２突出パターン１７６を含むことができる。前記第１突出パターン１７３は、前記第１ダム構造物ＤＭ１の上面、前記第２犠牲パターンＳＬ２の上面、及び前記第２ダム構造物ＤＭ２の上面を連続的にカバーすることができる。また、前記第１突出パターン１７３は前記第１犠牲パターンＳＬ１の上面を部分的にカバーすることができる。
【０１２３】
図１０を参照すると、前記第１突出パターン１７３は、平面図上で外郭境界から内部に陥入する凹部１７５を有する。前記凹部１７５は、前記第１ダム構造物ＤＭ１の流入口ＩＬと重なり合うことができる。
【０１２４】
図１１ｂを参照すると、前記第１犠牲パターンＳＬ１及び前記第２犠牲パターンＳＬ２を除去する。前記第１犠牲パターンＳＬ１及び前記第２犠牲パターンＳＬ２を除去することによって、前記突出パターンの下方にアンダーカットが形成されうる。
【０１２５】
前記第１突出パターン１７３は前記第１ダム構造物ＤＭ１から前記表示領域ＤＡに向けて突出して下部にアンダーカットを形成することができ、前記第２突出パターン１７６は前記境界部１６６から前記貫通領域ＴＡに向けて突出して下部にアンダーカットを形成することができる。前記第１ダム構造物ＤＭ１と前記境界部１６６との間の空間は第１収容空間ＲＣ１として定義され、前記第１ダム構造物ＤＭ１と前記第２ダム構造物ＤＭ２との間の空間は第２収容空間ＲＣ２として定義できる。前記第１突出パターン１７３は、前記第１ダム構造物ＤＭ１と前記第２ダム構造物ＤＭ２の上に連続的に配置されるので、前記第２収容空間ＲＣ２をカバーすることができる。
【０１２６】
図１１ｃを参照すると、前記周辺領域ＰＡに共通層１８０が形成できる。前記共通層１８０は、前記表示領域ＤＡ及び前記周辺領域ＰＡに共に形成される。
【０１２７】
前記共通層１８０は、図３に図示したように、有機発光層１８２、第２電極ＥＬ２、キャッピング層１８４、及び遮断層１８６のうち、少なくとも１つを含むことができる。
【０１２８】
前記共通層１８０は、前記周辺領域ＰＡでアンダーカット構造により短絡されうる。例えば、突出パターン１７３、１７６の上に配置された部分と、前記第１収容空間ＲＣ１の内に配置された部分とは、互いに断線されうる。
【０１２９】
図１１ｄ及び図１１ｅを参照すると、前記周辺領域ＰＡに薄膜封止層１９０を形成する。前記薄膜封止層１９０は、有機層と無機層が交互に積層された構造を有することができる。前記薄膜封止層１９０は、前記表示領域ＤＡ及び前記周辺領域ＰＡに共に配置できる。
【０１３０】
例えば、前記薄膜封止層１９０は、第１無機層１９２、第２無機層１９６、及び、前記第１無機層１９２と前記第２無機層１９６との間に配置された有機層１９４を含むことができる。
【０１３１】
前記第１無機層１９２の上には前記有機層１９４が形成できる。例えば、前記有機層１９４を形成するために、前記第１無機層１９２の上面にモノマー組成物が提供できる。
【０１３２】
前記モノマー組成物は、インクジェット印刷、スクリーン印刷などにより前記第１無機層１９２の上に提供できる。前記モノマー組成物の一部は流れて前記第１収容空間ＲＣ１の内部に入る。また、前記モノマー組成物は、前記第１ダム構造物ＤＭ１の流入口ＩＬ及び前記第１突出パターン１７３の凹部１７５を通じて、前記第２収容空間ＲＣ２の内部に入ることができる。
【０１３３】
したがって、前記モノマー組成物により形成された有機層１９４は、前記第１ダム構造物ＤＭ１と前記境界部１６６との間の第１収容空間ＲＣ１を充填する第１充填部１９４ａ、及び、前記第１ダム構造物ＤＭ１と前記第２ダム構造物ＤＭ２との間の第２収容空間ＲＣ１を充填する第２充填部１９４ｂを含むことができる。
【０１３４】
図示したように、前記第２充填部１９４ｂは前記第２収容空間ＲＣ１の一部を充填することもできる。
【０１３５】
前記のような構造は、リフローされるモノマー組成物を第１収容空間ＲＣ１及び第２収容空間ＲＣ２を通じて連続的に収容することができるので、モノマー組成物の制御が容易である。また、有機層１９４の一部が第１突出パターン１７３により全体的にカバーされることによって、より大きい剥離防止効果を提供することができる。
【０１３６】
以上、本発明の例示的な実施形態に対して図面を参照して説明したが、説示した実施形態は例示的なものであって、以下の請求範囲に記載された本発明の技術的思想を逸脱しない範囲で、該当技術分野における通常の知識を有する者により、修正及び変更できるものである。
【０１３７】
好ましい具体的な一実施形態においては、次のとおりである。
【０１３８】
カメラ、センサーなどを設置するために、表示領域内に貫通領域を形成した有機発光表示装置において、貫通領域THから発光層への透湿が発生したり、保護テープを除去する際に共通電極層が剥離してしまったりするのを防止すべく、次のＡ〜Ｂの特徴を有する。
【０１３９】
Ａ  表示領域内の厚い絶縁層から延びる絶縁層からなる縁部（境界部166）より内側に、間隔を置いて、リング状などの第１ダム構造物DM1を配置する。
この厚い絶縁層は、例えば厚みが0.5〜３μｍであり、特には、画素定義層160及び／または画素平坦化膜(第３絶縁層)からなる。
これにより、膜封止層190に含まれる有機層194を設けるために、モノマー層を塗布し、加熱などを行う際、モノマーは、第１ダム構造物DM1と境界部166との間（「第１収容空間RC1」）に充填されて第１充填部194aを形成する。
【０１４０】
Ｂ  境界部166と、第１ダム構造物DM1との上に、第1収容空間RC1内へと突き出すオーバーハング部を有するパターン層（第１突出パターン176）を形成する。
これにより、第１充填部194aは、アンダーカット部と噛み合う形のアンカー部を形成する。
【０１４１】
さらに好ましい具体的な実施形態では、次のＣのとおりである。
Ｃ  第１ダム構造物DM1の内側に、さらに、リング状の第２ダム構造物DM2を形成することで、これらの間の間隙（「第２収容空間RC2」）が形成されるようにする。
また、第２ダム構造物DM2の上にも、「第２収容空間RC2」へと突き出すオーバーハング部を有するパターン層（第２突出パターン174）を形成する。
これにより、膜封止層190を構成する有機層194の端面が、貫通領域THに露出するのを、さらに確実に防止する。
【０１４２】
さらなる好ましい実施形態では、さらにＤのとおりとなっている。
Ｄ  第１ダム構造物DM1に断続部（図９の流入部IL）を設け、有機層194が「第２収容空間RC2」内に第２充填部194bを有するようにする。特には、第１充填部194aと同様に、アンダーカット部と噛み合う形のアンカー部を形成するようにする。
【０１４３】
また、アンダーカットを有する、第１突出パターン176、第２突出パターン174などを形成するためには、第１ダム構造物DM1などの形成後、
E  犠牲パターンSL1，SL2（図７ｃ、図１１ａ）を形成し、第１突出パターン176、第２突出パターン174などを形成した後、除去する。
【産業上の利用可能性】
【０１４４】
本発明の例示的な実施形態に係る有機発光表示装置は、コンピュータ、ノートブック、携帯電話、スマートフォン、スマートパッド、ＰＤＡ、ＭＰ３プレーヤー、自動車、家電製品などに含まれる表示装置に適用できる。
【図１ａ】
2019140097.tif 000003
【図１ｂ】
2019140097.tif 000004
【図２】
2019140097.tif 000005
【図３】
2019140097.tif 000006
【図４】
2019140097.tif 000007
【図５】
2019140097.tif 000008
【図６】
2019140097.tif 000009
【図７ａ】
2019140097.tif 000010
【図７ｂ】
2019140097.tif 000011
【図７ｃ】
2019140097.tif 000012
【図７ｄ】
2019140097.tif 000013
【図７ｅ】
2019140097.tif 000014
【図７ｆ】
2019140097.tif 000015
【図７ｇ】
2019140097.tif 000016
【図８ａ】
2019140097.tif 000017
【図８ｂ】
2019140097.tif 000018
【図９】
2019140097.tif 000019
【図１０】
2019140097.tif 000020
【図１１ａ】
2019140097.tif 000021
【図１１ｂ】
2019140097.tif 000022
【図１１ｃ】
2019140097.tif 000023
【図１１ｄ】
2019140097.tif 000024
【図１１ｅ】
2019140097.tif 000025