(57)【要約】【課題】厚み方向のレターデーションであるＲｔｈを適切な範囲に調整されていて、波長によるレターデーションの変化が小さい、または低波長におけるレターデーションが小さい積層光学フィルム、及び、そのような積層光学フィルムを有する位相差補償板を提供することにある。【解決手段】上記課題は、固有複屈折値が正の樹脂Ａと、固有複屈折値が負の樹脂Ｂとを含有する樹脂組成物を含む基材フィルム層（Ａ）と、フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂を含む層（Ｂ）とを含み、Ｒｔｈが−３０〜＋８０ｎｍである積層光学フィルムにより、解決された。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
固有複屈折値が正の樹脂Ａと、固有複屈折値が負の樹脂Ｂとを含有する樹脂組成物を含む基材フィルム層（Ａ）と、フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂を含む層（Ｂ）とを含み、Ｒｔｈが−３０〜＋８０ｎｍである、積層光学フィルム。
【請求項２】
前記フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂が、フェノールまたはアルキルフェノール変性キシレン樹脂を含む、請求項１に記載の積層光学フィルム。
【請求項３】
前記フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂の軟化点が７０℃以上である、請求項１または２に記載の積層光学フィルム。
【請求項４】
前記基材フィルム層（Ａ）の厚さが５μｍ〜２，０００μｍである、請求項１〜３のいずれかに記載の積層光学フィルム。
【請求項５】
前記層（Ｂ）の厚さが１〜１００μｍである、請求項１〜４のいずれかに記載の積層光学フィルム。
【請求項６】
前記層（Ｂ）がネガティブＣプレートである、請求項１〜５のいずれかに記載の積層光学フィルム。
【請求項７】
前記積層光学フィルムにおける、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍの波長の面内レターデーションの値をそれぞれＲｅ４５０、Ｒｅ５５０、Ｒｅ６５０としたときに、Ｒｅ４５０＜Ｒｅ５５０＜Ｒｅ６５０の関係を満たす、請求項１〜６のいずれかに記載の積層光学フィルム。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の積層光学フィルムを有する位相差補償板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学用途やフラットパネルディスプレイ用途などに用いられる光学フィルムに関し、より詳細には、基材フィルムに特定の樹脂層を積層させることにより得られる、面内レターデーションＲｅが小さく厚み方向レターデーションＲｔｈが特定の範囲内である積層光学フィルム等に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光学用途や液晶ディスプレイ用途においては、透明性に優れ、且つ、面内レターデーションＲｅの小さい光学フィルムが求められている。ＶＡモードの液晶セルにおいては、画面に垂直な方向（厚さ方向）の屈折率が、面内方向の屈折率よりも大きい。このため、ＶＡモードにおける視野角の改善には、厚さ方向の屈折率が面内方向の屈折率よりも小さいレターデーションを有するフィルムが必要となる。
【０００３】
前記のようなフィルムを得るために、溶液流涎にてポリカーボネートフィルムを製膜して、ある程度の溶媒を含有する状態で逐次二軸延伸し、位相差フィルムを得る方法が提案されている（例えば、特許文献１）。
【０００４】
そのほかの製膜方法として、金属弾性ロールを用いたタッチロール成形にて面内レターデーションが小さいフィルムを得る方法が用いられている。
【０００５】
特許文献１に記載されている方法では、薄いフィルムを作製した際に、タッチロールが接触しない部分ができ、外観の良好なものを得ることが困難であった。また、上述の金属弾性ロールを用いたタッチロール成形によっても、面内レターデーションが十分に小さいフィルムを製造することは困難であった。
【０００６】
また、最近の液晶テレビに代表される薄型ディスプレイ市場の拡大に伴い、より鮮明な画像をより低価格で得たいという要求が高まっている。これを実現するために重要となるのが、各種光学フィルムであり、位相差フィルムはその代表である。
最近、色再現性の要求が特に高まりつつあり、液晶表示装置用の偏光板保護フィルム及び位相差フィルムに関して、その位相差の光の波長による変化が小さいものが求められている。これまでに利用されている位相差フィルムのうち、固有複屈折値が正のポリマーフィルムとしては、ポリカーボネートフィルムなど、固有複屈折値が負のフィルムとしては、光学用にスチレン系のフィルムなどが開発されている（特許文献２）。
しかしながら、従来のフィルムにおいては、レターデーションの波長による変化について十分な考慮がなされていなかった。また設計時の厚み方向のレターデーションＲｔｈの考慮もされていなかった。
【０００７】
特許文献３には、液晶表示装置の画質を向上させる目的で、波長が長くなるにつれてその位相差値が大きくなる、いわゆる逆波長分散型のフィルムを作成するにあたり、積層フィルムを用いることが開示されている。すなわち、ポリフェニレンオキサイドとポリスチレンとからなる１枚の高分子ブレンドフィルムからなり、波長４００〜７００ｎｍにおいて、位相差値（面内のレターデーションＲｅ）が正になる波長帯域と、位相差値が負になる波長帯域とを有する位相差板と、波長４００〜７００ｎｍにおいて位相差値が正または負である例えばポリカーボネート製の位相差フィルムとを積層した積層フィルムである。
しかしながら、特許文献３においても、厚み方向レターデーションＲｔｈについては考慮されていなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】：特開２００４−１４９６３９号公報
【特許文献２】：特開平３−２４５０２号公報
【特許文献３】：特開２００１−４２１２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、厚み方向のレターデーションであるＲｔｈが適切な範囲に調整されているとともに、波長によるレターデーションの変化が小さい、または低波長におけるレターデーションが小さい積層光学フィルム、及び、そのような積層光学フィルムを有する位相差補償板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、積層フィルムに関する上記の課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、固有複屈折値が正の樹脂と固有複屈折値が負の樹脂を含む樹脂組成物を含有する光学フィルムに、フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂により形成される、面内レターデーションが低く厚み方向のレターデーションが高い層を積層させることにより、視野角による位相差変化の少ない位相差板を得ることができて、かつ生産性を向上できることを見いだし、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【００１１】
すなわち、本発明によれば、以下のように、固有複屈折値が正の樹脂Ａと負の樹脂Ｂを含有する樹脂組成物により形成される基材フィルム層と、フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂により形成される層を有し、Ｒｔｈが−３０〜＋８０ｎｍである積層光学フィルム等を提供することができる。  
【００１２】
本発明によれば、以下の積層光学フィルム、及び位相差補償板が提供される。
（１）固有複屈折値が正の樹脂Ａと、固有複屈折値が負の樹脂Ｂとを含有する樹脂組成物を含む基材フィルム層（Ａ）と、フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂を含む層（Ｂ）とを含み、Ｒｔｈが−３０〜＋８０ｎｍである、積層光学フィルム。
（２）前記フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂が、フェノールまたはアルキルフェノール変性キシレン樹脂を含む、上記（１）に記載の積層光学フィルム。
（３）前記フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂の軟化点が７０℃以上である、上記（１）または（２）に記載の積層光学フィルム。
（４）前記基材フィルム層（Ａ）の厚さが５μｍ〜２，０００μｍである、上記（１）〜（３）のいずれかに記載の積層光学フィルム。
（５）前記層（Ｂ）の厚さが１〜１００μｍである、上記（１）〜（４）のいずれかに記載の積層光学フィルム。
（６）前記層（Ｂ）がネガティブＣプレートである、上記（１）〜（５）のいずれかに記載の積層光学フィルム。
（７）前記積層光学フィルムにおける、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍの波長の面内レターデーションの値をそれぞれＲｅ４５０、Ｒｅ５５０、Ｒｅ６５０としたときに、Ｒｅ４５０＜Ｒｅ５５０＜Ｒｅ６５０の関係を満たす、上記（１）〜（６）のいずれかに記載の積層光学フィルム。
（８）上記（１）〜（７）のいずれかに記載の積層光学フィルムを有する位相差補償板。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、厚み方向のレターデーションが適切な範囲に調整されているとともに、波長による面内レターデーションの変化が小さく、または低波長における面内レターデーションが小さくなる積層光学フィルムを得られる。このような積層光学フィルムは、液晶テレビに代表される薄型ディスプレイに特に有用である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の積層光学フィルム等について詳細に説明する。
本発明の積層光学フィルムは、固有複屈折値が正の樹脂Ａおよび固有複屈折値が負の樹脂Ｂを含む樹脂組成物を含有する基材フィルム（Ａ）と、フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂を含む層（Ｂ）とを積層させたものである。
【００１５】
［フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂を含む層（Ｂ）］
積層光学フィルムを構成する層（Ｂ）は、上述のように、主としてフェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂により形成される。
【００１６】
＜フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂＞
フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂としては、複屈折を発現しやすい芳香環を多く含み、軟化点が７０℃以上のものが好ましい。フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂の軟化点は、より好ましくは１０５℃以上であり、さらに好ましくは１２５℃以上である。
【００１７】
フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂は、例えば、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂とフェノール類を酸触媒の存在下で反応させることにより製造できる。そして芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂は、芳香族炭化水素とホルムアルデヒドを酸触媒の存在下で反応させることにより製造できる。また、他の方法として、芳香族炭化水素、フェノール類、及びホルムアルデヒドを酸触媒の存在下で反応させることにより、フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂を製造できる。
具体的には、特開２００３−１８３３４２、特開２００８−２３１３７４、特開２０１５−０００９６９に記載の方法等により、フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂を製造できる。
【００１８】
まず、フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂の原料の芳香族炭化水素としては、メシチレン、キシレン、トルエン、エチルベンゼン、ベンゼン、プソイドキュメン、炭素数が１０以上の単環芳香族炭化水素化合物、ならびにナフタレン、メチルナフタレン等の多環芳香族炭化水素化合物が挙げられ、これらのうちの一種、或いはこれらの二種以上の混合物を原料とすることができる。
これらの中でキシレンまたはメチシレンが好ましく、キシレンがより好ましく、さらにこの中でｍ−キシレンが特に好ましい。
このようにキシレンを用いて製造すると、フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂において、フェノール変性キシレン樹脂、又は、アルキルフェノール変性キシレン樹脂が含まれることとなるので好ましい。
【００１９】
また、フェノール類としては、フェノール、アルキルフェノール、クレゾール、キシレノール、ブチルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフェノール、レゾルシノールなどが挙げられる。これらの中では、フェノールまたはアルキルフェノールが好ましい。
ホルムアルデヒドとしては、ホルマリンやパラホルムアルデヒドやトリオキサンのように反応条件下でホルムアルデヒドを発生するものであれば使用可能である。
【００２０】
フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂の数平均分子量は、６００〜３，０００、好ましくは８００〜２，０００であり、フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂の重量平均分子量は、２，０００〜１５，０００、好ましくは２，５００〜１０，０００である。また、フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂のガラス転移温度は、２０〜１００℃であることが好ましく、より好ましくは、３０〜８０℃である。
【００２１】
［基材フィルム（基材フィルム層（Ａ））］
積層光学フィルムを構成する基材フィルムは、上述のように、主として、固有複屈折値が正の値である樹脂Ａと、固有複屈折値が負の値である樹脂Ｂとにより、形成される。
【００２２】
＜固有複屈折値が正の樹脂Ａ＞
基材フィルムに用いられる固有複屈折値が正の樹脂Ａとしては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのオレフィン樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル樹脂；ポリフェニレンサルファイドなどのポリアリーレンサルファイド樹脂；ポリビニルアルコール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、セルロースエステル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアリルサルホン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ノルボルネン樹脂、棒状液晶ポリマー、ポリフェニレンエーテル樹脂などのポリアリーレンエーテル樹脂などが挙げられる。これらは、一種単独でまたは二種以上を組合わせて使用してもよい。本発明においては、これらの中でも、位相差発現性の観点からポリカーボネート樹脂、ノルボルネン樹脂、及びポリフェニレンエーテル樹脂が好ましく、ポリフェニレンエーテル樹脂が特に好ましい。
【００２３】
本発明で用いるポリフェニレンエーテル樹脂としては、次に示す一般式［１］を繰り返し単位とし、構成単位が一般式［１］の［ａ］及び［ｂ］からなる単独重合体、あるいはこれらの構成単位を含む共重合体が使用できる。
【化１】
2019032401.tif 000002
【００２４】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６は、それぞれ独立して、炭素数１〜４のアルキル基、アリール基、ハロゲン、水素等の一価の残基であり、Ｒ５、Ｒ６は同時に水素ではない）
【００２５】
ポリフェニレンエーテル樹脂の単独重合体の具体例としては、ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２−メチル−６−エチル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２，６−ジフェニル−１，４−フェニレンオキシド）、ポリ（２−メチル−６−フェニル−１，４−フェニレンオキシド）、ポリ（２，６−ジクロロ−１，４−フェニレンオキシド）、ポリ（２，６−ジエチル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２−エチル−６−ｎ−プロピル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２，６−ジ−ｎ−プロピル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２−メチル−６−ｎ−ブチル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２−エチル−６−イソプロピル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２−メチル−６−クロロエチル−１，４−フェニレン）エーテル、ポリ（２−メチル−６−ヒドロキシエチル−１，４−フェニレン）エーテル等のホモポリマーが挙げられる。
【００２６】
ポリフェニレンエーテル共重合体は、２，６−ジメチルフェノールと２，３，６−トリメチルフェノールとの共重合体、あるいは２，６−ジメチルフェノールとｏ−クレゾールとの共重合体、あるいは２，３，６−トリメチルフェノールとｏ−クレゾールとの共重合体等、ポリフェニレンエーテル構造を主体としてなるポリフェニレンエーテル共重合体を含む。
特に、ポリスチレン樹脂と相溶性が高いポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレン）エーテルが最も好ましく用いられる。
【００２７】
＜固有複屈折値が負の樹脂Ｂ＞
基材フィルムに用いられる固有複屈折値が負の樹脂Ｂとしては、スチレン系樹脂が挙げられる。スチレン系樹脂とは、少なくともスチレン系単量体を単量体成分として含む重合体をいう。ここで、スチレン系単量体とは、その構造中にスチレン骨格を有する単量体をいう。
【００２８】
スチレン系単量体の具体例としては、スチレンの他に、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、エチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレンなどの核アルキル置換スチレン、α−メチルスチレン、α−メチル−ｐ−メチルスチレンなどのα−アルキル置換スチレンなどのビニル芳香族化合物単量体などが挙げられる。固有複屈折値が負の樹脂Ｂとしては、置換基を有しないスチレンの単独重合体が好ましい。
スチレン系樹脂は、スチレン系単量体成分に他の単量体成分を共重合したものであってもよい。共重合可能な単量体としては、メチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、メチルフェニルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート等のアルキルメタクリレート；メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート等のアルキルアクリレートなどの不飽和カルボン酸アルキルエステル単量体；メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、桂皮酸等の不飽和カルボン酸単量体；無水マレイン酸、イタコン酸、エチルマレイン酸、メチルイタコン酸、クロルマレイン酸などの無水物である不飽和ジカルボン酸無水物単量体；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等の不飽和ニトリル単量体；１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ブタジエン（イソプレン）、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエン、１，３−ヘキサジエン等の共役ジエンなどが挙げられ、これらの２種以上を共重合してもよい。
このような他の単量体成分の共重合割合は、スチレン系単量体成分に対して、５０質量％以下であることが好ましい。
【００２９】
スチレン系樹脂として、組成、分子量など異なる複数種類のスチレン系樹脂を併用することもできる。
スチレン系樹脂は、公知のアニオン、塊状、懸濁、乳化または溶液重合方法により得ることができる。
【００３０】
本発明において、樹脂組成物における樹脂Ａと樹脂Ｂの混合比（重量比）は、混合する樹脂の波長分散特性に応じて適宜選択すればよいが、樹脂Ａ／樹脂Ｂ＝１／９〜３／７であることが好ましく、樹脂Ａ／樹脂Ｂ＝２／８〜２．５／７．５であることがより好ましい。
【００３１】
なお、樹脂Ａにポリフェニレンエーテルを用いる場合、市販品として、ポリフェニレンエーテル系樹脂に少量のポリスチレン系樹脂が配合されている変性ポリフェニレンエーテル系樹脂があるが、所望の配合比率でない場合、別途ポリスチレン系樹脂を配合して前記配合割合になるように調整してもよい。
【００３２】
基材フィルムに用いられる樹脂組成物は、その荷重たわみ温度Ｔｓが、好ましくは８０℃以上であり、より好ましくは９０℃以上であり、特に好ましくは１００℃以上である。荷重たわみ温度を上記範囲内とすることにより、配向緩和を低減でき、後述する延伸による製造方法により、本発明で用いられる第一の光学フィルムを容易に得ることができる。また、温度Ｔｓにおける樹脂組成物Ｐの破断伸度は、５０％以上であることが好ましく、８０％以上であることが特に好ましい。破断伸度がこの範囲にある樹脂組成物であれば、延伸により安定的に位相差フィルムを作製できる。破断伸度は、ＪＩＳＫ７１２７記載の試験片タイプ１Ｂの試験片を用いて、引っ張り速度１００ｍｍ／分によって求めることができる。
【００３３】
＜添加剤＞
基材フィルムを形成する樹脂組成物には、必要に応じて添加剤を添加することができる。添加する添加剤は、特に限定されず、例えば、滑剤；層状結晶化合物；無機微粒子；酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、近赤外線吸収剤などの安定剤；可塑剤：染料や顔料などの着色剤；帯電防止剤；などを挙げることができる。添加剤の量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜定めることができる。添加剤としては、可撓性や耐候性を向上させることができる点で、滑剤や紫外線吸収剤を添加することが好ましい。添加剤の添加量は、例えば得られる基材フィルムの全光線透過率の値を８５％以上に、およびヘーズの値を１．０％程度以下に維持できる範囲とすることができる。
【００３４】
基材フィルムを形成する樹脂組成物に添加する滑剤としては、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、硫酸ストロンチウムなどの無機粒子；ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニトリル、ポリスチレン、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネートなどの有機粒子が挙げられる。本発明では、滑剤としては有機粒子が好ましい。
【００３５】
基材フィルムを形成する樹脂組成物に添加する紫外線吸収剤としては、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、アクリロニトリル系紫外線吸収剤、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体などが挙げられる。好適な紫外線吸収剤としては、２，２’−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（５−クロロベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンが挙げられ、特に好適なものとしては、２，２’−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノールが挙げられる。
【００３６】
さらに、フェニルサリチル酸、２−ヒドロキシベンゾフェノン、トリフェニルフォスフェート等の紫外線吸収剤や、色味を変えるためのブルーイング剤、酸化防止剤等を添加してもよい。
【００３７】
本発明で用いられる基材フィルムは、光学フィルムに適する観点から、その全光線透過率の値が８５％以上であり、ヘーズの値が１．０％程度を超えないことが好ましい。
前記全光線透過率の値は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１に準拠して、村上色彩研究所製ヘーズメーターＨＭ１５０を用いて測定した値である。また、前記ヘーズの値は、ＪＩＳ  Ｋ７１３６に準拠して、上記ヘーズメーターＨＭ１５０を用いて測定した値である。基材フィルムの全光線透過率は、好ましくは８７％以上であり、より好ましくは９０％以上である。また、基材フィルムのヘーズは、好ましくは０．５％以下であり、より好ましくは０．２％以下であり、さらに好ましくは０．１５％以下であり、特に好ましくは０．１％以下である。
【００３８】
本発明で用いられる基材フィルムは、樹脂組成物からなる延伸前フィルムを得た後に延伸したフィルム（延伸フィルム）であることが好ましい。延伸前の基材フィルムの厚さは、好ましくは１０〜４０００μｍ（４ｍｍ）であり、より好ましくは２０〜２０００μｍ（２ｍｍ）であり、さらに好ましくは３０〜８００μｍであり、特に好ましくは５０〜６００μｍである。延伸前のフィルムの厚さを１０μｍ以上とすることにより、十分な位相差及び機械的強度を得ることができ、４０００μｍ以下とすることにより、柔軟性、及びハンドリング性を良好なものとすることができる。
【００３９】
そして、積層体を構成する際の基材フィルムの厚さ、すなわち延伸後の基材フィルムの厚さは、５μｍ〜２，０００μｍ（２ｍｍ）であることが好ましく、１０μｍ〜１，０００μｍ（１ｍｍ）であることがより好ましく、６０〜１００μｍであることがさらに好ましい。また、延伸後の基材フィルムの厚さのさらなる好ましい範囲としては、７０〜９０μｍであり、特に好ましい範囲としては７５〜８５μｍである。
【００４０】
なお、上述の延伸前フィルムの調製方法としては、押出Ｔダイ法、押出インフレーション法等の押出成形法などの公知の方法が挙げられる。
【００４１】
本発明で用いられる基材フィルムは、上記構成の延伸前フィルムを１または２回以上延伸処理することにより得ることができる。すなわち、上記構成の延伸前フィルムを延伸処理すると、位相差が発現する。そして、樹脂Ａよりも樹脂Ｂが多く含まれるように混合したことにより、４００〜７００ｎｍの全範囲において、屈折率に関して樹脂Ａよりも樹脂Ｂの影響が大きく現れることから、フィルムの厚み方向の屈折率ｎｚが、面内の各屈折率ｎｘ及びｎｙの値の平均値よりも大きくなり、基材フィルムの厚み方向のレターデーションＲｔｈは負の値となる。また、このように、長波長側に向かうにつれて、樹脂Ｂの影響が大きくなるように調整したので、逆波長分散性の光学フィルムを得ることができる。延伸処理の操作としては、例えば、ロール間の周速の差を利用して縦方向に一軸延伸する方法（縦一軸延伸）や、テンターを用いて横方向に一軸延伸する方法（横一軸延伸）、縦一軸延伸と横一軸延伸とを順に行う方法（逐次二軸延伸）等とすることができる。
【００４２】
＜積層光学フィルムの製造方法＞
本発明の積層光学フィルムは、基材フィルムに、前記フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂を直接塗布し、溶剤を除去することにより作製できる。また、基材フィルム以外のシート、フィルムなどに塗布し、溶剤を除去した後、基材フィルムに積層することによっても、積層光学フィルムを作製できる。
【００４３】
本発明の硬化性樹脂組成物を塗布する方法は特に限定されず、例えば、グラビアコート方式、リバースコート方式、ダイコート方式、バーコーター方式、リップコート方式、ブレードコート方式、ロールコート方式、ロールコート方式、ナイフコート方式、カーテンコート方式、スロットオリフィス方式、スプレーコート方式、インクジェット方式等が挙げられる。
【００４４】
＜積層光学フィルムの各層の機能・性状＞
本発明の積層光学フィルムにおいては、積層させた層（Ｂ）、すなわち、フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂の層の厚みが通常１〜１００μｍであり、好ましくは２μｍ〜５０μｍ、より好ましくは２μｍ〜２０μｍである。これより薄いと表面硬度が発現しにくくなり、これより厚いと黄色味が強くなる。
【００４５】
本発明の積層光学フィルムにおける層（Ｂ）、すなわち、フェノール類変性芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂層はネガティブＣプレートとして作用する。
本願明細書において、Ｎｘ≒Ｎｙ＞Ｎｚ、またはＮｘ≒Ｎｙ＜Ｎｚの屈折率をもつフィルムをＣプレートという。Ｃプレートの平面は光学的に均一なため、正面からの偏光は変化しない。
ポジティブＣプレートとは、フィルムの面方向で最も屈折率が大きい方向の屈折率（Ｎｘ）、フィルムの面方向でＮｘ方向の垂直方向の屈折率（Ｎｙ）、厚さ方向の屈折率（Ｎｚ）がＮｘ≒Ｎｙ＜Ｎｚの関係を満たすものを意味する。
ネガティブＣプレートとは、フィルムの面方向で最も屈折率が大きい方向の屈折率（Ｎｘ）、フィルムの面方向でＮｘ方向の垂直方向の屈折率（Ｎｙ）、厚さ方向の屈折率（Ｎｚ）がＮｘ≒Ｎｙ＞Ｎｚの関係を満たすものを意味する。
ネガティブＣプレートとして用いられる層（Ｂ）は、波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈの値が、好ましくは＋３０ｎｍ以上であり、より好ましくは３５ｎｍ以上であり、さらに好ましくは４０ｎｍ以上である。
【００４６】
一方、上記Ｃプレートとして用いられる層（Ｂ）の面内の位相差値Ｒｅは、本発明の作用効果を得られる範囲であれば必ずしも０ｎｍである必要はなく、１０ｎｍ（より好適には５ｎｍ）以下であることが好ましい。１０ｎｍを超えると、正面コントラストが低下することがある。
【００４７】
積層光学フィルムにおいては、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、および６５０ｎｍの面内レターデーションの値をそれぞれＲｅ４５０、Ｒｅ５５０、およびＲｅ６５０とすると、Ｒｅ４５０＜Ｒｅ５５０＜Ｒｅ６５０の関係を満たすことが好ましい。
また、積層光学フィルムにおいては、波長５５０ｎｍにおける厚み方向レターデーションＲｔｈの値が、−３０ｎｍ以上であり８０ｎｍ以下、好ましくは−２５ｎｍ以上であり６０ｎｍ以下、より好ましくは−２０ｎｍ以上であり４０ｎｍ以下、特に好ましくは−１８ｎｍ以上であり２０ｎｍ以下である。
【００４８】
このように、ネガティブＣプレートとしての層（Ｂ）と、基材フィルムとが積層された本発明の積層光学フィルムは、位相差補償板として好適に用いられる。また、積層光学フィルムにおいて、層（Ｂ）と基材フィルムとをそれぞれ複数、積層させることも可能である。
【実施例】
【００４９】
＜レターデーションの測定＞
面内レターデーションＲｅおよび厚み方向レターデーションＲｔｈの測定には大塚電子株式会社製 位相差フィルム・光学材料検査装置RETS100を用いることができる。具体的には、以下の通り、下記式（１）〜（４）により算出される。すなわち、
【数１】
2019032401.tif 000003
Ｒｅ（０）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ…式（２）、および
Ｎ＝（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３  …式（３）
の３式の連立方程式（ただし、式中、Ｒｅ（０）はフィルム法線方向入射の時のレターデーション（ｎｍ）、ｄはフィルム厚み（ｎｍ）、Ｎは平均屈折率）より、算出したＲｅ（θ）と実測したＲｅ（θ）が一致するｎｘ，ｎｙ，ｎｚを算出し、さらに、下記式（４）から、Ｒｔｈ（ｎｍ）が算出される。
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ…式（４）
【００５０】
＜光学特性の測定＞
作製した光学フィルムのフィルム面の法線方向を０°とし、測定機（大塚電子株式会社製 位相差フィルム・光学材料検査装置RETS100）を用いて、５５０ｎｍの光を０°から入射して、入射光の位相差値を測定した。その後、進相軸および遅相軸を中心にして、５°刻みでサンプルを傾斜させて、−５０°から５０°の範囲で位相差値を測定した。得られた面内の位相差値Ｒ０、遅相軸を傾斜軸として傾斜させて測定した位相差値Ｒθ、フィルムの厚みｄ、及びフィルムの平均屈折率ｎ０を１．５９と仮定した値を用い、数値計算により、面内方向のｎｘ、ｎｘとは垂直方向の面内の屈折率ｎｙ、及び垂直方向の屈折率ｎｚの値をそれぞれ求めた。
【００５１】
＜色味の評価＞
作製した光学フィルムを鏡面金属板上に置き、その上に当該光学フィルムの光軸に対して４５°の角度に偏光軸を合わせて偏光板を設置して、正面及び極角４５°から蛍光灯を映しこんだときの反射光を観察した。正面と比較して、極角４５°の色味を比較し、色味の差が少ない場合に良好とした。
【００５２】
実施例１〜３
正の複屈折材料として三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社製ポリフェニレンエーテル系樹脂（ＰＰＥ）商品名：ＰＸ１００Ｌを２８重量部と、負の複屈折材料としてＰＳジャパン株式会社製汎用ポリスチレン（ＧＰＰＳ）商品名：ＨＨ１０５を７２重量部の計１００重量部を混合し、Ｔダイを備えたフィルム試作装置を用いて２９０℃設定にて２００μｍ厚のフィルムを作製した。作製したフィルムを１２５℃に加熱して２．３倍にて一軸延伸し、厚さが約８５μｍのフィルムを得た。
続いて、三菱ガス化学製ニカノールＨＰ（フェノール変性キシレン樹脂）、メチルエチルケトン（溶剤）、ＢＹＫ−３４２（消泡剤）を表１に示すように配合し、基材フィルムの表面上にバーコーターで塗装し、６０℃で２分間乾燥させ、積層光学フィルムを得た。
これらの積層光学フィルムの４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍのレターデーションの値を測定した結果、その結果、Ｒ４５０＜Ｒ５５０＜Ｒ６５０の関係を満たし、厚み方向レターデーションＲｔｈが−３０ｎｍ以上であり８０ｎｍ以下である、積層光学フィルムが製造された。
【００５３】
【表１】
2019032401.tif 000004
【００５４】
【表２】
2019032401.tif 000005
【００５５】
比較例１
基材フィルムにフェノール変性キシレンホルムアルデヒド樹脂を積層しないとき、すなわち、基材フィルムのみのＲｔｈの値は、−４１ｎｍであった。色味は不良であった。