(57)【要約】【課題】本発明は、折り曲げやすい光学用電極積層体を提供することを目的とする。【解決手段】本発明の光学用電極積層体（１０２、１０４、１０６）は、位相差フィルム（３０）、位相差フィルムに支持されている配向制御層（２０）、配向制御層に支持されている固化液晶層（１０）を有する位相差積層体（８０）、並びに位相差積層体の固化液晶層側面及び位相差フィルム側面の少なくとも一方に支持されている透明導電層（４２、４４）を有する。固化液晶層は、配向制御層の配向規制力によって積層方向に配向固化しており、かつ面方向に対して略垂直な方向に遅相軸を有する。位相差フィルムは、逆波長分散性を有し、かつ層の面内方向に遅相軸を有する。【選択図】図１
2019032429.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
位相差フィルム、前記位相差フィルムに支持されている配向制御層、及び前記配向制御層に支持されている固化液晶層を有する位相差積層体、並びに
前記位相差積層体の前記固化液晶層側面及び前記位相差フィルム側面の少なくとも一方に支持されている透明導電層
を有し、
前記固化液晶層は、前記配向制御層の配向規制力によって積層方向に配向固化しており、かつ面方向に対して略垂直な方向に遅相軸を有し、
前記位相差フィルムは、逆波長分散性を有し、かつ面内方向に遅相軸を有する、
光学用電極積層体。
【請求項２】
下記式（Ｉ）を満たす、請求項１に記載の光学用電極積層体：
０．９５＜Ｒｅ０／Ｒｅ５０＜１．０５  （Ｉ）
ここで、式中、前記光学用電極積層体の面内方向の遅相軸をｘ軸、ｘ軸と直交する面内方向の軸をｙ軸、並びにｘ軸及びｙ軸との垂直方向をｚ軸としたときに、ｚ軸方向から測定した際の前記光学用電極積層体の面内方向の位相差をＲｅ０、ｙ軸と直交し、かつｚ軸に対して５０°の角度から測定した際の前記光学用電極積層体の面内方向の位相差をＲｅ５０とする。
【請求項３】
前記位相差フィルムが、下記の条件（ＩＩａ）及び（ＩＩｂ）を満たす複屈折率を有する、請求項１又は２に記載の光学用電極積層体：
ｎｙ＜ｎｘ                                    （ＩＩａ）
｜ｎｚ−ｎｙ｜≦０．１０                      （ＩＩｂ）
ここで、式中、ｎｘ、ｎｙ、及びｎｚは、前記位相差フィルムの面内方向の遅相軸をｘ軸、ｘ軸と直交する面内方向の軸をｙ軸、並びにｘ軸及びｙ軸との垂直方向をｚ軸としたときに、それぞれｘ軸方向、ｙ軸方向、及びｚ軸方向の前記位相差フィルムの複屈折率を示す。
【請求項４】
前記位相差フィルムが、前記位相差フィルムの面に対して垂直方向に透過する可視光に対して略１／４波長の位相差を与える、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学用電極積層体。
【請求項５】
前記位相差フィルムが、下記の式（ＩＩＩ）で表されるモノマー単位を有するポリカーボネートの一軸配向フィルムである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学用電極積層体：
【化１】
2019032429.tif 000008
ここで、式（ＩＩＩ）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、水素原子、芳香族基を含んでもよい炭素原子数１〜１０の炭化水素基、又はハロゲン基を示し、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して芳香族基を含んでもよい炭素原子数１〜１０の炭化水素基を示し、ｍ及びｎは、それぞれ独立して０〜４の整数を表し、ｐ及びｑは、それぞれ独立して０以上の整数を表す。
【請求項６】
前記固化液晶層が、下記の式（ＩＶａ）及び（ＩＶｂ）を満たす複屈折率を有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学用電極積層体：
ｎｙ＜ｎｚ                                          （ＩＶａ）
｜ｎｘ−ｎｙ｜≦０．１０        （ＩＶｂ）
ここで、式中、ｎｘ、ｎｙ、及びｎｚは、前記固化液晶層の面内方向の遅相軸をｘ軸、ｘ軸と直交する面内方向の軸をｙ軸、並びにｘ軸及びｙ軸との垂直方向をｚ軸としたときに、それぞれｘ軸方向、ｙ軸方向、及びｚ軸方向の前記固化液晶層の複屈折率を示す。
【請求項７】
前記配向制御層が、ポリイミド又はアクリルポリマーを有する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学用電極積層体。
【請求項８】
前記透明導電層が、ハードコート層、密着性改良層、又は屈折率整合層を介して位相差積層体の前記固化液晶層側面及び前記位相差フィルム側面の少なくとも一方に支持されている、請求項１〜７のいずれか一項に記載の光学用電極積層体。
【請求項９】
表面にオーバーコートを有する、請求項１〜８のいずれか一項に記載の光学用電極積層体。
【請求項１０】
前記透明導電層が、繊維状の導電性材料を有する、請求項１〜９のいずれか一項に記載の光学用電極積層体。
【請求項１１】
前記繊維状の導電性材料が、銀ナノワイヤーである、請求項１０に記載の光学用電極積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学用電極積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
コンピュータ、テレビジョン、携帯電話、携帯情報端末機器等の画像表示装置として、液晶表示装置及び有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置等が知られている。これらの画像表示装置の問題として、装置外部からの入射光が装置内部において反射し、画像の視認性が悪くなるということが知られている。
【０００３】
また、これらの装置において、画面上の表示に触れることによって機器を操作する機構を有する、タッチパネルが知られている。
【０００４】
特許文献１は、偏光板、位相差層、及び電極層をこの順に有する、反射防止層付きのタッチパネル用電極部を開示している。特許文献１では、電極層は、透明基板及び透明基板上の導電パターンで形成されている。ここで、特許文献１の位相差層は、１／４λ板、すなわちＡプレートの一種として機能するものである。
【０００５】
１／４λ板及び直線偏光板を有する反射防止層は、画像表示パネルのパネル面に向かう入射光を直線偏光板により直線偏光に変換し、続く１／４λ板により円偏光に変換する。ここでこの円偏光による入射光は、画像表示パネルの内部で反射し、この反射の際に円偏光面の回転方向が逆転する。その結果、この反射光は、１／４λ板より、直線偏光板により遮光される方向の直線偏光に変換され、続く直線偏光板により遮光され、その結果、外部への出射が抑制される。
【０００６】
１／４λ板を反射防止層に用いた場合の問題点として、表示画面の法線に対する斜め方向から表示画面を観察したときに、反射を十分に防止できないという問題があった。
【０００７】
これに対して、特許文献２では、直線偏光板、１／４λ板、及びＣプレートを重ねて用いることにより、表示画面の法線に対する斜め方向からの観察をしたときにも十分な反射防止機能をもたらす光学フィルムを提供している。
【０００８】
なお、Ｃプレートとしては、配向制御層上に液晶層を配向固化したものが知られている（特許文献３）。
【０００９】
さらに、位相差フィルムとして、例えば特許文献４に記載のカーボネート構成単位を有するポリマーのフィルムが知られている。この特許文献４は、そのようなフィルムを延伸することにより、逆波長分散性を有する位相差フィルムを得ることができるとしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２０１４−１４２４６２号公報
【特許文献２】特開２０１４−２２４８３８号公報
【特許文献３】特開２０１６−０４２１８５号公報
【特許文献４】特開２０１２−２５６０６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
タッチパネル等で使用される従来の光学用電極積層体は、反射防止等の光学的機能を追加するために、位相差フィルム等の追加の複数のフィルムを必要とする。そのため、積層体に含まれるフィルムの数が多くなり、それによって湾曲・屈曲させにくいという問題があった。
【００１２】
本発明は、タッチパネル等において用いることができる光学用電極積層体であって、タッチパネルに含まれるフィルムの数を少なくすることができる光学用電極積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決するための手段は、下記のとおりである：
〈１〉位相差フィルム、上記位相差フィルムに支持されている配向制御層、及び上記配向制御層に支持されている固化液晶層を有する位相差積層体、並びに
上記位相差積層体の上記固化液晶層側面及び上記位相差フィルム側面の少なくとも一方に支持されている透明導電層
を有し、
上記固化液晶層は、上記配向制御層の配向規制力によって積層方向に配向固化しており、かつ面方向に対して略垂直な方向に遅相軸を有し、
上記位相差フィルムは、逆波長分散性を有し、かつ面内方向に遅相軸を有する、
光学用電極積層体。
〈２〉下記式（Ｉ）を満たす、上記〈１〉項に記載の光学用電極積層体：
０．９５＜Ｒｅ０／Ｒｅ５０＜１．０５  （Ｉ）
ここで、式中、上記光学用電極積層体の面内方向の遅相軸をｘ軸、ｘ軸と直交する面内方向の軸をｙ軸、並びにｘ軸及びｙ軸との垂直方向をｚ軸としたときに、ｚ軸方向から測定した際の上記光学用電極積層体の面内方向の位相差をＲｅ０、ｙ軸と直交し、かつｚ軸に対して５０°の角度から測定した際の上記光学用電極積層体の面内方向の位相差をＲｅ５０とする。
〈３〉上記位相差フィルムが、下記の条件（ＩＩａ）及び（ＩＩｂ）を満たす複屈折率を有する、上記〈１〉又は〈２〉項に記載の光学用電極積層体：
ｎｙ＜ｎｘ                                    （ＩＩａ）
｜ｎｚ−ｎｙ｜≦０．１０                      （ＩＩｂ）
ここで、式中、ｎｘ、ｎｙ、及びｎｚは、上記位相差フィルムの面内方向の遅相軸をｘ軸、ｘ軸と直交する面内方向の軸をｙ軸、並びにｘ軸及びｙ軸との垂直方向をｚ軸としたときに、それぞれｘ軸方向、ｙ軸方向、及びｚ軸方向の上記位相差フィルムの複屈折率を示す。
〈４〉上記位相差フィルムが、上記位相差フィルムの面に対して垂直方向に透過する可視光に対して略１／４波長の位相差を与える、上記〈１〉〜〈３〉項のいずれか一項に記載の光学用電極積層体。
〈５〉上記位相差フィルムが、下記の式（ＩＩＩ）で表されるモノマー単位を有するポリカーボネートの一軸配向フィルムである、上記〈１〉〜〈４〉項のいずれか一項に記載の光学用電極積層体：
【化１】
2019032429.tif 000003
ここで、式（ＩＩＩ）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、水素原子、芳香族基を含んでもよい炭素原子数１〜１０の炭化水素基、又はハロゲン基を示し、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して芳香族基を含んでもよい炭素原子数１〜１０の炭化水素基を示し、ｍ及びｎは、それぞれ独立して０〜４の整数を表し、ｐ及びｑは、それぞれ独立して０以上の整数を表す。
〈６〉上記固化液晶層が、下記の式（ＩＶａ）及び（ＩＶｂ）を満たす複屈折率を有する、上記〈１〉〜〈５〉項のいずれか一項に記載の光学用電極積層体：
ｎｙ＜ｎｚ                                          （ＩＶａ）
｜ｎｘ−ｎｙ｜≦０．１０        （ＩＶｂ）
ここで、式中、ｎｘ、ｎｙ、及びｎｚは、上記固化液晶層の面内方向の遅相軸をｘ軸、ｘ軸と直交する面内方向の軸をｙ軸、並びにｘ軸及びｙ軸との垂直方向をｚ軸としたときに、それぞれｘ軸方向、ｙ軸方向、及びｚ軸方向の上記固化液晶層の複屈折率を示す。
〈７〉上記配向制御層が、ポリイミド又はアクリルポリマーを有する、上記〈１〉〜〈６〉項のいずれか一項に記載の光学用電極積層体。
〈８〉上記透明導電層が、ハードコート層、密着性改良層、又は屈折率整合層を介して位相差積層体の上記固化液晶層側面及び上記位相差フィルム側面の少なくとも一方に支持されている、上記〈１〉〜〈７〉項のいずれか一項に記載の光学用電極積層体。
〈９〉表面にオーバーコートを有する、上記〈１〉〜〈８〉項のいずれか一項に記載の光学用電極積層体。
〈１０〉上記透明導電層が、繊維状の導電性材料を有する、上記〈１〉〜〈９〉項のいずれか一項に記載の光学用電極積層体。
〈１１〉上記繊維状の導電性材料が、銀ナノワイヤーである、上記〈１０〉項に記載の光学用電極積層体。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、タッチパネル等において用いることができる光学用電極積層体であって、タッチパネルに含まれるフィルムの数を少なくすることができる光学用電極積層体を提供する。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の第１〜第３の実施形態の光学用電極積層体の模式図である。
【図２】本発明の第４及び第５の実施形態の光学用電極積層体の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
《光学用電極積層体》
本発明の光学用電極積層体は、位相差積層体、及び位相差積層体の２つの面の少なくとも一方に支持されている透明導電層を有する。
【００１７】
ここで、本発明において、透明導電層が位相差積層体によって「支持」されていることは、透明導電層が、基材としての位相差積層体に堆積していること、特に透明導電層が、基材としての位相差積層体に透明導電性材料を堆積させて形成されたものであることを意味している。
【００１８】
本発明の光学用電極積層体において、位相差積層体は、位相差フィルム、位相差フィルムに支持されている配向制御層、及び配向制御層に支持されている固化液晶層を有する。
【００１９】
ここで、透明導電層の場合と同様に、本発明において、配向制御層が位相差フィルムによって「支持」されていることは、配向制御層が、基材としての位相差フィルムに堆積していること、特に配向制御層が、基材としての位相差フィルムに配向制御層の材料を堆積させて形成されたものであることを意味している。また、同様に、本発明において、固化液晶層が配向制御層によって「支持」されていることは、固化液晶層が、基材としての配向制御層に堆積していること、特に固化液晶層が、基材としての配向制御層に液晶材料を堆積させ、そして固化させて形成されたものであることを意味している。
【００２０】
固化液晶層は、配向制御層の配向規制力によって配向固化しており、かつ面方向に対して略垂直な方向に遅相軸を有する。また、位相差フィルムは、逆波長分散性を有し、かつ面内方向に遅相軸を有する。
【００２１】
図１は、本発明の第１〜第３の実施形態に基づく光学用電極積層体の模式図である。図１（ａ）に示されるように、本発明の第１の実施形態に基づく光学用電極積層体１０２は、固化液晶層１０、配向制御層２０、位相差フィルム３０、及び透明導電層４４を、この順に有している。また、図１（ｂ）に示されるように、本発明の第２の実施形態に基づく光学用電極積層体１０４は、透明導電層４２、固化液晶層１０、配向制御層２０、及び位相差フィルム３０を、この順に有している。また、図１（ｃ）に示されるように、本発明の第３の実施形態に基づく光学用電極積層体１０４は、透明導電層４２、固化液晶層１０、配向制御層２０、位相差フィルム３０、及び透明導電層４４を、この順に有している。これらの実施態様では、固化液晶層１０、配向制御層２０、及び位相差フィルム３０が、位相差積層体８０を構成している。
【００２２】
本発明の光学用電極積層体は、位相差積層体８０の一方又は両表の表面に、ハードコート層を有してもよい。したがって、図２（ａ）に示されるように、本発明の第４の実施形態に基づく光学用電極積層体２０２は、ハードコート層５２、固化液晶層１０、配向制御層２０、位相差フィルム３０、ハードコート層５４、及び透明導電層４２を、この順に有している。
【００２３】
本発明の光学用電極積層体は、透明導電層４２又は４４の位相差積層体８０側に、屈折率整合層を有してもよい。したがって、図２（ｂ）に示されるように、本発明の第５の実施形態に基づく光学用電極積層体２０４は、固化液晶層１０、配向制御層２０、位相差フィルム３０、屈折率整合層６２、及び透明導電層４２を、この順に有している。
【００２４】
具体的には、本発明の光学用電極積層体の積層構成としては、下記（１ａ）〜（８ｄ）の構成を挙げることができる
（１ａ）（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＴＣ
（１ｂ）ＨＣ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＴＣ
（１ｃ）（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＨＣ／ＴＣ
（１ｄ）ＨＣ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＨＣ／ＴＣ
【００２５】
（２ａ）（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＩＭ／ＴＣ
（２ｂ）ＨＣ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＩＭ／ＴＣ
（２ｃ）（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＨＣ／ＩＭ／ＴＣ
（２ｄ）ＨＣ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＨＣ／ＩＭ／ＴＣ
【００２６】
（３ａ）ＴＣ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）
（３ｂ）ＴＣ／ＨＣ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）
（３ｃ）ＴＣ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＨＣ
（３ｄ）ＴＣ／ＨＣ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＨＣ
【００２７】
（４ａ）ＴＣ／ＩＭ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）
（４ｂ）ＴＣ／ＩＭ／ＨＣ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）
（４ｃ）ＴＣ／ＩＭ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＨＣ
（４ｄ）ＴＣ／ＩＭ／ＨＣ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＨＣ
【００２８】
（５ａ）ＴＣ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＴＣ
（５ｂ）ＴＣ／ＨＣ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＴＣ
（５ｃ）ＴＣ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＨＣ／ＴＣ
（５ｄ）ＴＣ／ＨＣ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＨＣ／ＴＣ
【００２９】
（６ａ）ＴＣ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＩＭ／ＴＣ
（６ｂ）ＴＣ／ＨＣ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＩＭ／ＴＣ
（６ｃ）ＴＣ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＨＣ／ＩＭ／ＴＣ
（６ｄ）ＴＣ／ＨＣ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＨＣ／ＩＭ／ＴＣ
【００３０】
（７ａ）ＴＣ／ＩＭ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＴＣ
（７ｂ）ＴＣ／ＩＭ／ＨＣ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＴＣ
（７ｃ）ＴＣ／ＩＭ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＨＣ／ＴＣ
（７ｄ）ＴＣ／ＩＭ／ＨＣ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＨＣ／ＴＣ
【００３１】
（８ａ）ＴＣ／ＩＭ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＩＭ／ＴＣ
（８ｂ）ＴＣ／ＩＭ／ＨＣ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＩＭ／ＴＣ
（８ｃ）ＴＣ／ＩＭ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＨＣ／ＩＭ／ＴＣ
（８ｄ）ＴＣ／ＩＭ／ＨＣ／（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）／ＨＣ／ＩＭ／ＴＣ
【００３２】
ここで、上記において用いられている略号はそれぞれ下記のとおりであり、したがって「（ＣＬＣ／ＯＣ／ＲＦ）」は、位相差積層体を示している：
ＣＬＣ（Ｃｕｒｅｄ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  ｌａｙｅｒ）：固化液晶層
ＯＣ（Ｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  ｌａｙｅｒ）：配向制御層
ＲＦ（Ｒｅｔａｒｄａｔｉｏｎ  Ｆｉｌｍ）：位相差フィルム
ＴＣ（Ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ  Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ  ｌａｙｅｒ）：透明導電層
ＨＣ（Ｈａｒｄ  Ｃｏａｔ  ｌａｙｅｒ）：ハードコート層
ＩＭ（Ｉｎｄｅｘ  Ｍａｔｃｈｉｎｇ  ｌａｙｅｒ）：屈折率整合層
【００３３】
上記の態様において、屈折率整合層に代えて、又は屈折率整合層に隣接させて、密着性改良層を用いることもできる。
【００３４】
本発明の光学用電極積層体では、透明導電層が一般的な無配向の透明フィルムではなく、位相差積層体によって支持されている。また、本発明の光学用電極積層体では、配向制御層が位相差フィルムによって支持されており、固化液晶層が配向制御層によって支持されている。これによれば、タッチパネルで用いるフィルムの数を全体として少なくなくすることができる。したがって例えば、所望の光学的機能を有しつつ、タッチパネルを湾曲させやすくすることができる。
【００３５】
本発明の光学用電極積層体は、例えば直線偏光板と組み合わせて用いることにより、特許文献１及び２でのようにして、反射防止機能を発揮させることができる。
【００３６】
特に、本発明の光学用電極積層体は、直線偏光板と組み合わせて、有機ＥＬ画像表示機器又は反射型液晶表示装置上のタッチパネルの電極積層体として用いることにより、タッチパネルを通して外部から表示機器に入射する光の反射を防止することができる。より特に、本発明の光学用電極積層体の透明導電層を、直線偏光板と組み合わせて、静電容量式タッチパネルの電極として使用する場合、位相差積層体の両側面に透明導電層を支持させることができる。
【００３７】
本発明の光学用電極積層体で用いられる位相差フィルムは、逆波長分散性を有し、かつ面内方向に遅相軸を有する。このような位相差フィルムは、例えば可視光に対して略１／４波長の面内位相差を有し、それによって直線偏光板を通して入射してきた直線偏光を円偏光にし、特許文献１及び２でのようにして反射を抑制するために用いることができる。
【００３８】
このような位相差フィルムが与える位相差は、入射光の入射角度によって変化する。これに対して、本発明の光学用電極積層体では、位相差フィルムを、配向制御層及び固化液晶層と組み合わせて位相差積層体とすることによって、光学補償を行い、角度依存性を抑制している。固化液晶層及び配向制御層の組合せは、例えばＣプレートを構成してよい。
【００３９】
このような構成としては、より具体的には、Ａプレートとしての機能を有する位相差フィルム上に、Ｃプレートとしての機能を有する固化液晶層及び配向制御層の組合せを積層した構成を挙げることができる。
【００４０】
本発明の光学用電極積層体では、位相差積層体以外の層が面内位相差を有していないこと、すなわち位相差積層体のみの面内方向の位相差と、光学用電極積層体全体の面内方向の位相差との差が小さいほうが好ましい。
【００４１】
すなわち例えば、本発明の光学用電極積層体では、
０．９０≦Ｒｅ（光学用電極積層体全体）／Ｒｅ（位相差積層体）≦１．１０
であり、
０．９５≦Ｒｅ（光学用電極積層体全体）／Ｒｅ（位相差積層体）≦１．０５
であることが好ましい。
【００４２】
ここで、Ｒｅ（光学用電極積層体全体）は、光学用電極積層体全体の面内方向の位相差である。また、Ｒｅ（位相差積層体）は、位相差積層体のみの面内方向の位相差である。
【００４３】
なお、本文において、「光学用電極積層体全体」とは、位相差積層体に透明導電層、及び随意に追加の層、例えばハードコート層及／又は屈折率整合層等を積層した構成を意味している。
【００４４】
本発明の光学用電極積層体では、本発明の光学用電極積層体全体の厚さ方向の位相差が小さいほうが好ましい。
【００４５】
すなわち例えば、本発明の光学用電極積層体では、
０．０ｎｍ≦Ｒｔｈ（光学用電極積層体全体）≦１５．０ｎｍ
であり、さらには、
０．０ｎｍ≦Ｒｔｈ（光学用電極積層体全体）≦１０．０ｎｍ
であることが好ましく、
０．０ｎｍ≦Ｒｔｈ（光学用電極積層体全体）≦５．０ｎｍ
であることがさらに好ましい。
【００４６】
ここで、Ｒｔｈ（光学用電極積層体全体）は、光学用電極積層体全体の厚さ方向の位相差である。
【００４７】
さらに、本発明の光学用電極積層体では、位相差積層体以外の層が厚さ方向の位相差を有していないこと、すなわち位相差積層体のみの厚さ方向の位相差と、光学用電極積層体全体の厚さ方向の位相差との差が小さいほうが好ましい。
【００４８】
すなわち例えば、本発明の光学用電極積層体では、
０．９０≦Ｒｔｈ（光学用電極積層体全体）／Ｒｔｈ（位相差積層体）≦１．１０
であり、
０．９５≦Ｒｔｈ（光学用電極積層体全体）／Ｒｔｈ（位相差積層体）≦１．０５
であることが好ましい。
【００４９】
ここで、Ｒｔｈ（光学用電極積層体全体）は、光学用電極積層体全体の厚さ方向の位相差である。また、Ｒｔｈ（位相差積層体）は、位相差積層体のみの厚さ方向の位相差である。
【００５０】
本発明の光学用電極積層体が入射光に対して与えることができる位相差の値は、入射光の光学用電極積層体への入射光の入射角度によって変化しうるが、この変化は、小さいことが好ましい。すなわち、本発明の光学用電極積層体が入射光に対して与える位相差の値は、角度依存性が小さいことが好ましい。
【００５１】
具体的には、本発明の光学用電極積層体は、例えば下記の式（Ｉ）を満たすことが好ましい。
０．９５＜Ｒｅ０／Ｒｅ５０＜１．０５  （Ｉ）
【００５２】
ここで、光学用電極積層体の面内方向の遅相軸をｘ軸、ｘ軸と直交する面内方向の軸をｙ軸、及びｘ軸とｙ軸との垂直方向をｚ軸としたときに、ｚ軸方向から測定した際の光学用電極積層体の面内方向の位相差をＲｅ０、ｙ軸と直交し、かつｚ軸から５０°の角度から測定した際の光学用電極積層体の面内方向の位相差をＲｅ５０とする。
【００５３】
また、この角度依存性は、位相差積層体と光学用電極積層体全体との間で、ほぼ等しいことが好ましい。
【００５４】
例えば、
０．９０≦Ｒ（光学用電極積層体全体）／Ｒ（位相差積層体）≦１．１０
であり、
０．９５≦Ｒ（光学用電極積層体全体）／Ｒ（位相差積層体）≦１．０５
であることが好ましい。
【００５５】
ここで、Ｒ（位相差積層体）は、ｚ軸方向から測定した際の位相差積層体の面内方向の位相差の値で、ｚ軸から５０°の角度から測定した際の位相差積層体の面内方向の位相差の値を除したものである。また、Ｒ（光学用電極積層体全体）は、ｚ軸方向から測定した際の光学用電極積層体全体の面内方向の位相差の値で、ｚ軸から５０°の角度から測定した際の光学用電極積層体全体の面内方向の位相差の値を除したものである。
【００５６】
《位相差積層体》
本発明の光学用電極積層体は、位相差積層体を有する。位相差積層体は、光学用電極積層体に入射する光に位相差を与えることができる。
【００５７】
位相差積層体は、位相差フィルム、配向制御層、及び固化液晶層をこの順に有する。
【００５８】
〈位相差フィルム〉
本発明において、位相差フィルムは、面内方向に遅相軸を有する。また、本発明において、位相差フィルムは、逆波長分散性を有する。
【００５９】
この位相差フィルムは、例えばＡプレートであってよく、より具体的には、１／４λ板、すなわち位相差フィルムの面に対して垂直方向に透過する可視光に対して、略１／４波長の面方向位相差を与えるＡプレートであってよい。具体的には例えば、この位相差フィルムは、位相差フィルムの面に対して垂直方向に透過する可視光（例えば３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長の光、特に５００ｎｍ〜６００ｎｍの波長の光、より特に５５０ｎｍの波長の光）に対して、略１／４波長の面方向位相差を与える位相差フィルム、すなわち例えば位相差フィルムの面に対して垂直方向に透過する５５０ｎｍの波長の光に対して、１００ｎｍ以上、１１０ｎｍ以上、１２０ｎｍ以上、１３０ｎｍ以上、又は１３５ｎｍ以上であって、１８０ｎｍ以下、１７０ｎｍ以下、１６０ｎｍ以下、１５０ｎｍ以下、又は１４０ｎｍ以下の面方向位相差を与える位相差フィルムであってよい。
【００６０】
この位相差フィルムは、逆波長分散性を有し、それによって位相差フィルムに入射する可視領域の波長を有する入射光全体について、ほぼ一定の面内方向の位相差を与えることが好ましい。
【００６１】
ここで、逆波長分散性とは、フィルムに入射する光の波長が小さいほどフィルムの面内の位相差が小さくなる性質である。すなわち例えば、逆波長分散性を有するフィルムは、
Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）＜Ｒｅ（６５０）
を満たす。
【００６２】
ここで、Ｒｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）、及びＲｅ（６５０）は、それぞれ波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、及び６５０ｎｍにおける、フィルムの面内方向の位相差である。
【００６３】
位相差フィルムは、正のＡプレートであることが好ましい。例えば、位相差フィルムは、下記の条件（ＩＩ）を満たすことが好ましい：
【００６４】
ｎｚ≒ｎｙ＜ｎｘ                              （ＩＩ）
【００６５】
具体的には、位相差フィルムは、下記の条件（ＩＩａ）及び（ＩＩｂ）を満たす複屈折率を有することが好ましい：
ｎｙ＜ｎｘ                                          （ＩＩａ）
｜ｎｚ−ｎｙ｜≦０．１０、好ましくは０．０５        （ＩＩｂ）
【００６６】
ここで、式中、ｎｘ、ｎｙ、及びｎｚは、光学用電極積層体の面内方向の遅相軸をｘ軸、ｘ軸と直交する面内方向の軸をｙ軸、並びにｘ軸及びｙ軸との垂直方向をｚ軸としたときに、それぞれｘ軸方向、ｙ軸方向、及びｚ軸方向の位相差フィルムの複屈折率を示す。
【００６７】
位相差フィルムは、複数の異方性フィルムを積層した構成であってよく、１つのフィルムからなる構成であってもよい。
【００６８】
位相差フィルムに用いられる材料は、位相差フィルムの面内方向に遅相軸を与えることができ、かつ位相差フィルムに逆波長分散性を与えることができるものであれば特に限定されない。
【００６９】
位相差フィルムは、特許文献４で示すように、側鎖にフルオレン構造を有する構造単位を含む熱可塑性樹脂を一軸延伸したフィルムであってよい。
【００７０】
側鎖にフルオレン構造を有するモノマー単位を含む熱可塑性樹脂は耐熱性に優れ、光弾性係数が小さく、高透明であるなど優れた光学特性を示す。また、側鎖にフルオレン構造を有する構造単位を含む熱可塑性樹脂は、フルオレン骨格が主鎖に対して垂直に配向するため、大きな負の分子分極率異方性を取りうる。そのため、側鎖にフルオレン構造を有する構造単位の含有量を特定の範囲に制御することで、当該熱可塑性樹脂を含む熱可塑性樹脂からなる位相差フィルムは、逆波長分散性を有し、一枚のフィルムで広帯域化でき、円偏光板として反射防止フィルムや光学補償フィルムとして好適に使用できる。
【００７１】
側鎖にフルオレン構造を有するモノマー単位を含む熱可塑性樹脂としては下記一般式（ＩＩＩ）のモノマー単位、並びに脂肪族ジオール化合物及び／又は脂環族ジオール化合物から誘導されるカーボネート構成単位を有することが好ましい。位相差フィルムは、下記の式（ＩＩＩ）で表されるモノマー単位を有するポリカーボネートの一軸配向フィルムであってよい。
【００７２】
【化２】
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【００７３】
式（ＩＩＩ）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して、水素原子、芳香族基を含んでもよい炭素原子数１〜１０の炭化水素基、又はハロゲン基を示す。炭化水素基として、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数５〜１０のシクロアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数７〜１０のアラルキル基、炭素数１〜１０のアルケニル基が挙げられる。ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。
【００７４】
式（ＩＩＩ）中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して芳香族基を含んでもよい炭素原子数１〜１０の炭化水素基を示す。炭化水素基は、好ましくは炭素数１〜１０のアルキレン基、さらに好ましくは炭素数１〜４のアルキレン基、より好ましくはエチレン基である。
【００７５】
ｍ及びｎは、それぞれ独立して０〜４の整数を表す。
【００７６】
ｐ及びｑは、それぞれ−（Ｒ３−Ｏ）−および−（Ｏ−Ｒ４）−の繰り返しの数を表す。
【００７７】
ｐ及びｑは、それぞれ独立して０以上の整数を表す。ｐ及びｑは、好ましくは１〜２０の整数、さらに好ましくは１〜１２の整数、さらにより好ましくは１〜８の整数、特に好ましくは１〜４の整数、最も好ましくは１である。
【００７８】
脂肪族ジオール化合物及び／又は脂環族ジオール化合物から誘導されるカーボネート構成単位は、例えば特許文献４及び５に記載のジオール化合物やジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコールなどのオキシアルキレングリコール類であってよい。
【００７９】
上記脂肪族ジオール化合物としては、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、１．９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−ドデカンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール、２，４−ジエチル−１，５−ペンタンジオール、１，２−ヘキサングリコール、１，２−オクチルグリコール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，３−ジイソブチル−１，３−プロパンジオール、２，２−ジイソアミル−１，３−プロパンジオール、２−メチル−２−プロピル−１，３−プロパンジオールなどが挙げられる。
【００８０】
上記脂環式ジオール化合物としては、シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジメタノール、アダマンタンジオール、ペンタシクロペンタデカンジメタノール、３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、イソソルビドなどが挙げられる。
【００８１】
位相差フィルムは、側差にフルオレン構造を有するモノマー単位と脂肪族ジオール化合物及び／又は脂環族ジオール化合物から誘導されるカーボネート構成単位で表される繰り返し単位とのモル比が、好ましくは１０／９０〜８０／２０である。より好ましくは１２／８８〜７０／３０、さらに好ましくは２０／８０〜６０／４０である。上記範囲外では波長分散性が理想直線からはずれ、好ましくない。また、上記モノマー単位（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位を含むことが好ましい。
【００８２】
このような上記式（ＩＩＩ）で表されるモノマー単位を有するポリカーボネートの一軸配向フィルムとして、例えば、帝人株式会社製ピュアエースＲＭ−１４７、ピュアエースＨＭ−１４５、ピュアエースＷ−１４２等が挙げられる。
【００８３】
位相差フィルムの厚みは、２００μｍ以下、１８０μｍ以下、１５０μｍ以下、１２０μｍ以下、１００μｍ以下、８０μｍ以下、６０μｍ以下、又は４０μｍ以下であってよい。位相差フィルムの厚みの下限は、所定の位相差特性を得ることができれば特にないが、例えば５μｍ以上、１０μｍ以上、又は１５μｍ以上であってよい。
【００８４】
また、位相差フィルムは透明性が高いことが好ましい。位相差フィルムの全光線透過率は、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上である。また本発明の位相差フィルムのヘイズ値は、好ましくは５％以下、より好ましくは３％以下である。
【００８５】
〈配向制御層〉
配向制御層は、位相差フィルムに支持されている。また、配向制御層は、配向規制力によって固化液晶層を積層方向に配向させる配向制御層、すなわち液晶層の液晶を層の面方向に対して垂直配向させる垂直配向制御層である。
【００８６】
配向制御層としては、重合性液晶組成物の塗布などにより溶解しない溶剤耐性を有し、また、溶剤の除去や重合性液晶の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。かかる配向制御層としては、配向性ポリマーを含む配向制御層、光配向制御層及び表面に凹凸パターンや複数の溝を形成し配向させる配向制御層等が挙げられる。
【００８７】
配向性ポリマーとしては、ポリイミド又はアクリルポリマーを用いることができる。配向性ポリマーとしては、例えば分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミドおよびその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸およびポリアクリル酸エステル類が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。２種以上の配向性ポリマーを組み合わせて用いてもよい。
【００８８】
ポリイミド系の配向性ポリマーは、電圧保持率等の電気特性に関して有利であり、その具体例としては、ＪＳＲ社製のＬＤシリーズ、日産化学工業社製のエンデバー  ＳＥ−４８１１等を用いることができる。また、アクリル系の配向性ポリマーは、コスト、液晶配向性等に関して有利なことがある。
【００８９】
配向性ポリマーを含む配向制御層は、通常、配向性ポリマーが溶剤に溶解した組成物（以下、配向性ポリマー組成物ということがある。）を基材に塗布し、溶剤を除去することによって得ることができる。また、使用する配向性ポリマーの種類によっては、配向性ポリマー組成物を基材に塗布し、溶剤を除去し、ラビングする（ラビング法）こと、又は光配向を行うこと（光配向法）によって得ることができる。
【００９０】
配向制御層の厚さは、小さいほうが好ましい。配向制御層の厚さは、例えば１μｍ以下、７００ｎｍ以下、５００ｎｍ以下、３００ｎｍ以下、２００ｎｍ以下、１００ｎｍ以下、又は９０ｎｍ以下であってよい。配向制御層の厚さは、１０ｎｍ以上、３０ｎｍ以上、又は５０ｎｍ以上であってよい。
【００９１】
〈固化液晶層〉
固化液晶層は、配向制御層に支持されている。固化液晶層は、配向制御層の配向規制力によって積層方向に配向固化している。さらに、固化液晶層は、層の面に対して略垂直な方向に遅相軸を有する。
【００９２】
固化液晶層は、配向制御層と合わせて正のＣプレートであることが好ましい。固化液晶層が層の面に対して略垂直な方向に遅相軸を有することは、下記の式（ＩＶ）を満たす複屈折率を有することを意味する：
【００９３】
ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚ                              （ＩＶ）
【００９４】
具体的には、固化液晶層は、下記の条件（ＩＶａ）及び（ＩＶｂ）を満たす複屈折率を有することが好ましい：
ｎｙ＜ｎｚ                                          （ＩＶａ）
｜ｎｘ−ｎｙ｜≦０．１０、好ましくは０．０５        （ＩＶｂ）
【００９５】
ここで、式中、ｎｘ、ｎｙ、及びｎｚは、固化液晶層の面内方向の遅相軸をｘ軸、ｘ軸と直交する面内方向の軸をｙ軸、並びにｘ軸及びｙ軸との垂直方向をｚ軸としたときに、それぞれｘ軸方向、ｙ軸方向、及びｚ軸方向の固化液晶層の複屈折率を示す。
【００９６】
正のＣプレートは、正のＡプレートと重ねることにより、正のＡプレートの角度依存性を低減することができる。
【００９７】
したがって、位相差フィルムが正のＡプレートであり、かつ固化液晶層及び配向制御層の組合せが正のＣプレートである場合、光学用電極積層体上に直線偏光板を重ねることにより、光学用電極積層体を組み込んだ装置に、角度依存性が低減された反射防止機能をもたらすことができる。
【００９８】
本発明においては、上記の条件（ＩＶ）、具体的には上記の条件（ＩＶａ）及び（ＩＶｂ）で示されるように、重合性液晶の光軸が配向制御層の面に対して略垂直に配向したものを垂直配向と定義する。光軸とは、重合性液晶の配向により形成される屈折率楕円体において、光軸に直交する方向で切り出した断面が円となる方向の軸として定義される。
【００９９】
重合性液晶としては、棒状の重合性液晶が挙げられる。
【０１００】
棒状の重合性液晶が配向制御層に対して垂直配向した場合は、該重合性液晶の光軸は、該重合性液晶の長軸方向、すなわち本発明の光学用電極積層体の積層方向と一致する。
【０１０１】
重合性液晶が棒状の場合は、重合性液晶の光軸を基材の面に対して略垂直に配向させることで厚み方向の位相差が発現する。棒状の重合性液晶の場合は、該重合性液晶の光軸が基材の面に対して略垂直であるため、位相差フィルムの厚みを調節することで面内方向の位相差Ｒｅを変化させることなく、厚さ方向の位相差Ｒｔｈを調節することができる。
【０１０２】
棒状の重合性液晶の光軸が、基材の面に対して略垂直に配向した場合、得られる位相差フィルムの屈折率関係は、ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚ（正のＣプレート）となり、屈折率楕円体におけるｎｚの方向の軸と遅相軸方向が一致する。
【０１０３】
重合性液晶とは、重合性基を有し、かつ、液晶性を有する化合物である。重合性基とは、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。ここで、光重合性基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。重合性液晶が有する液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック液晶でも良く、サーモトロピック液晶を秩序度で分類すると、ネマチック液晶でもスメクチック液晶でも良い。
【０１０４】
重合性液晶を重合させることにより形成される固化液晶層は、例えば、１以上の重合性液晶を含有する組成物（以下、重合性液晶組成物ということがある。）を、配向制御層の上に塗布し、得られた塗膜中の重合性液晶を重合させることにより形成される。
【０１０５】
重合性液晶組成物は、通常溶剤を含み、溶剤としては、重合性液晶を溶解し得る溶剤であって、且つ、重合性液晶の重合反応に不活性な溶剤がより好ましい。
【０１０６】
固化液晶層の厚みは、所望の位相差特性が得られるように決定することができ、例えば１μｍ以上、３μｍ以上、５μｍ以上、又は８μｍ以上であってよく、２０μｍ以下、１５μｍ以下、１２μｍ以下、又は１０μｍ以下であってよい。
【０１０７】
《透明導電層》
透明導電層は、透明であり、かつ導電性を有する材料から形成することができる。透明導電層は、位相差積層体の固化液晶層側面及び位相差フィルム側面の少なくとも一方に支持されている。透明導電層の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。
【０１０８】
透明導電層は、本発明の光学用電極積層体を例えばタッチパネル付きの画像表示装置の部品の一部として用いた際に、タッチパネルの電極体として用いることができる。この様な電極体は、例えば静電容量式タッチパネルのセンサーとすることができる。
【０１０９】
透明導電層、特にインジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）及びインジウム−スズ酸化物（ＩＺＯ）のような金属酸化物系の透明導電層の厚みは、透明導電層の視認性を向上させるという観点から小さい方が好ましく、具体的には４０ｎｍ以下が好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましく、２５ｎｍ以下が更に好ましく、特に２０ｎｍ以下が好ましい。透明導電層の厚みの下限は、低抵抗の透明導電層を確保するという観点から５ｎｍ以上が好ましく、７ｎｍ以上がより好ましく、１０ｎｍ以上が特に好ましい。
【０１１０】
透明導電層、金属酸化物系の透明導電層の表面抵抗値は、１０００Ω／□以下が好ましく、５００Ω／□以下が好ましい。
【０１１１】
透明導電層、特に金属酸化物系の透明導電層の屈折率は１．８１以上であることが好ましい。さらに透明導電層の屈折率は１．８５以上が好ましく、１．９０以上がより好ましい。上限は２．２０以下が好ましく、２．１０以下がより好ましい。
【０１１２】
透明導電層はパターン化されていることが好ましい。透明導電層のパターン化は、透明導電層が適用される用途に応じて、各種のパターンを形成することができる。なお、透明導電層のパターン化により、パターン部と非パターン部が形成されるが、パターン部のパターン形状としては、例えば、ストライプ状、格子状、あるいはこれらの組み合わせ等が挙げられる。
【０１１３】
透明導電層のパターン化は、一般的にはエッチングによって行われる。例えば、透明導電層上に所定パターンのエッチングレジスト膜を、フォトリソグラフィ法、レーザー露光法、あるいは印刷法により形成した後エッチン処理することにより、透明導電層がパターン化される。
【０１１４】
エッチング液としては、従来公知のものが用いられる。例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、酢酸等の有機酸、およびこれらの混合物、ならびにそれらの水溶液が用いられる。
【０１１５】
〈導電性金属酸化物〉
透明導電層の材料としては、例えば酸化スズ、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、若しくはＡＴＯ（酸化アンチモンスズ）等の導電性金属酸化物を挙げることができる。
【０１１６】
具体的には例えば、導電性金属酸化物を用いて透明等電膜を得る場合、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスを用いることができる。
【０１１７】
〈繊維状の導電性材料〉
透明導電層の材料としては、銀ナノワイヤー等の金属ワイヤー、カーボンナノチューブ等の繊維状の導電性材料を挙げることもできる。このような繊維状の導電性材料、特に金属ナノワイヤー、より特に銀ナノワイヤーは、将来実現すると思われるベンダブルディスプレイで必要とされる耐屈曲性が、ＩＴＯ等の導電性金属酸化物を用いて得られる透明導電層よりも優れている点で好ましい。また、このような繊維状の導電性材料は、光学特性、導電性等の他の性質に関しても優れていることが知られている。
【０１１８】
繊維状の導電性材料を用いて透明等電膜を得る場合、噴霧法、コーティング法等のウエットプロセスを用いることができる。
【０１１９】
透明導電層の材料として繊維状の導電性材料を使用する場合、繊維状の導電性材料を相互に結合して固定するバインダーとしての樹脂材料を併せて用いることが好ましい。この樹脂材料としては、熱可塑性樹脂又は硬化性樹脂を用いることができ、硬化性樹脂は、熱、光、電子線、又は放射線で硬化する硬化性樹脂であってよい。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。この樹脂材料としては、紫外線硬化性樹脂を用いることが特に好ましい。
【０１２０】
透明導電層の材料として繊維状の導電性材料を使用する場合、繊維状の導電性材料の光や熱による金属の劣化を防止することを目的とする添加剤を併せて用いることが好ましく、例えばＵＶ吸収材、酸化防止剤等を用いることができる。
【０１２１】
また、繊維状の導電性材料を用いる場合、繊維状の導電性材料が外部からの光を反射・散乱させることによる乳濁感・白濁感を抑制するために、繊維状の導電性材料を屈折率が異なる他の材料で被覆して反射率を低下させることや、オーバーコートに色材を添加することができる。このような被覆のための材料は、繊維状の導電性材料の導電性を損なわないように選択することができる。
【０１２２】
透明導電層の材料として繊維状の導電性材料を使用する場合、繊維状の導電性材料の層を形成した後で、この層にオーバーコートを提供することができる。このオーバーコートは、繊維状の導電性材料の層に含浸して硬化し、それによって繊維状の導電性材料の一部が表面から露出するようにするように提供することによって、透明導電層の表面抵抗を小さく維持しつつ、透明導電層の強度をより高くすることができる。
【０１２３】
本発明におけるオーバーコートとしては、ハードコート層として後述するものを用いることができる。
【０１２４】
また、本発明におけるオーバーコートは、熱硬化性樹脂よりなるもの、紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂よりなるもの、電子線（ＥＢ）硬化性樹脂よりなるもの等を挙げることができる。オーバーコート表面における表面抵抗値が比較的高くてもよい用途（例えば電磁波シールド材等）においては、これらのオーバーコートを適用することができる。かかるオーバーコートの厚みは、塗膜強度や耐溶剤性に優れるという観点から、好ましくは１０〜１５０ｎｍである。
【０１２５】
また、オーバーコート表面における表面抵抗値が低い方が好ましい用途においては、金属アルコキシドおよび金属アセトキシドからなる群より選ばれる少なくとも１種の加水分解後の縮合反応生成物から形成されるオーバーコートを適用することが好ましい。
【０１２６】
オーバーコートの厚みは、１０〜１５０ｎｍの範囲にあることが好ましい。厚みが下限未満だと、十分な塗膜強度が得られず、後加工工程で不利となる場合がある。また、耐溶剤性も低くなる傾向にある。他方、上限を超えると、表面抵抗が低下する傾向にある。より好ましいオーバーコートの厚みは、３０〜１２０ｎｍの範囲である。更に好ましくは５０〜１００ｎｍである。
【０１２７】
《その他の層》
本発明の光学用電極積層体において、透明導電層は、ハードコート層、密着性改良層、屈折率整合層等を介して、位相差積層体の固化液晶層側面及び位相差フィルム側面の少なくとも一方に支持されていることができる。
【０１２８】
〈ハードコート層〉
ハードコート層は、位相差積層体８０の一方又は両表の表面に存在することによって、位相差積層体８０の損傷を抑制する層であり、例えば熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂等の硬化性樹脂から形成することができる。
【０１２９】
ハードコート層を形成するための材料としては、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等のオルガノシラン系の熱硬化型樹脂やエーテル化メチロールメラミン等のメラミン系熱硬化型樹脂、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレートをモノマーとする樹脂、エポキシアクリレート等の多官能アクリレート系紫外線硬化型樹脂等があり、必要に応じて、ＳｉＯ２やＭｇＦ２等の超微粒子等を混合したものを用いることができる。
【０１３０】
ハードコート層の厚さは、可撓性、耐摩擦性の点から２〜５μｍが好ましいがこの限りではなく、付与させたい機能・性能に応じて、２μｍ未満であってもよい。また、ハードコート層の厚さは、可撓性、耐摩擦性以外の機能を発揮するように決定してもよい。
【０１３１】
例えばハードコート層の膜厚は、色調調整の機能を発揮するように決定してもよい。この場合、具体的には、ハードコート層の膜厚及び屈折率を調整して光学干渉によって色調調整を行うことができる。ハードコート層の屈折率を調整するためには、金属、金属酸化物、金属窒化物、金属フッ化物等の１次粒子径が１００ｎｍ未満の超微粒子を添加する方法が一般的である。
【０１３２】
当然に、ハードコート層による色調調整は、ハードコート層に色材を添加して行ってもよく、ハードコート層への色材の添加は、ハードコート層の膜厚及び屈折率の調整と組み合わせて行っても、単独で行ってもよい。
【０１３３】
使用する色材としては、一般的には染料や顔料が挙げられる。信頼性などを考慮した場合には無機系顔料が好ましい。色材を選定することにより、特定波長領域又は可視光領域全域に吸収を持たせ、色調調整を行うことができる。色材の添加量は、色材が有する吸収波長の波長領域の透過率の低下率が、色材添加前の透過率と比較して、例えば０．５％以上であってよく、また５．０％以下、３．０％以下、又は１．０％以下である量であってよい。
【０１３４】
ハードコート層は塗工法により形成することが出来る。実際の塗工法としては、上記化合物を各種有機溶剤に溶解して、濃度や粘度を調節した塗工液を用いて、位相差フィルム上に塗工後、放射線照射や加熱処理等により層を硬化させる。塗工方式としては例えば、マイクログラビヤコート法、マイヤーバーコート法、ダイレクトグラビヤコート法、リバースロールコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、コンマコート法、ダイコート法、ナイフコート法、スピンコート法等の各種塗工方法が用いられる。
【０１３５】
なお、ハードコート層は、位相差積層体上に直接、もしくは適当なアンカー層を介して積層されることができる。こうしたアンカー層としては例えば、ハードコート層と位相差積層体との密着性を向上させる機能を有する層や、屈折率が負の値となる三次元屈折率特性を有する層等の各種の位相補償層、水分や空気の透過を防止する機能もしくは水分や空気を吸収する機能を有する層、紫外線や赤外線を吸収する機能を有する層、基板の帯電性を低下させる機能を有する層等が好ましく挙げられる。
【０１３６】
〈密着性改良層〉
密着性改良層は、透明導電層の位相差積層体側に存在し、かつ後述のような金属酸化物の層とすることによって、各層間の密着性を改善することができる。
【０１３７】
密着性改良層を構成する成分としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫などの金属酸化物が挙げられる。例えば、透明導電層がインジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ）等の導電性金属酸化物層である場合、それとは異なる金属酸化物の層であってよい。このような金属酸化物層が存在することによって、積層体の耐久性などの性能が向上するという利点もある。
【０１３８】
この密着性改良層として、例えば、厚さ０．５〜５．０ｎｍである層が挙げられる。
【０１３９】
このような金属酸化物層からなる密着性改良層は、公知の手法により形成することができる。金属酸化物層の形成方法として、例えば、ＤＣマグネトロンスパッタリング法、ＲＦマグネトロンスパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、パルスレーザーデポジション法などの物理的形成法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、以下「ＰＶＤ法」と記載する。）などを用いることができる。これらの方法の中でも、均一な厚さの金属酸化物層を形成することができ、かつ工業生産に優れる方法である、ＤＣマグネトロンスパッタリング法が特に好ましい。なお、上記物理的形成法（ＰＶＤ法）のほかに、Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ（以下「ＣＶＤ法」と記載する。）、ゾルゲル法、などの化学的形成法を用いることもできる。
【０１４０】
スパッタリング法において用いられるターゲットは、金属ターゲットであるのが好ましい。またスパッタリング法として、反応性スパッタリング法が広く用いられている。これは、金属酸化物層として用いる元素の酸化物が絶縁体であることが多いため、金属酸化物ターゲットの場合は、ＤＣマグネトロンスパッタリング法を用いることが困難であるためである。なお、２つのカソードを同時に放電させることによって、ターゲットへの絶縁体の形成を抑制させた、擬似的なＲＦマグネトロンスパッタリング法なども用いることができる。
【０１４１】
〈屈折率整合層〉
屈折率整合層は、透明導電層の位相差積層体側に存在し、かつ透明導電層とそれが積層する層との中間の屈折率を有することによって、透明導電層とそれらが積層する層との界面での反射を抑制する層である。この屈折率整合層としては、密着性改良層に関して上記で説明した材料及び態様を用いることができ、またこの屈折率整合層は、上記の密着性改良層としても機能することができる。
【実施例】
【０１４２】
以下、実施例を挙げて本発明を詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。
【０１４３】
〈実施例１〉
下記の方法により、光学用電極積層体を作製し、その光学的特性を評価（位相差評価及びパターン見え評価）した。
【０１４４】
１．光学用電極積層体の作製
次のようにして実施例１の光学用電極積層体を作製した。
【０１４５】
位相差フィルムとして、ピュアエースＲＭ−１４７（帝人株式会社、基材厚さ：５３μｍ）を使用した。この位相差フィルムは、逆波長分散性を有し、かつ面内方向に遅相軸を有するものである。具体的には、この位相差フィルムは、正のＡプレートであり、ｎｚ≒ｎｙ＜ｎｘを満たし、ｎｙ＜ｎｘであり｜ｎｚ−ｎｙ|≦０．１０を満たすものであった。
【０１４６】
この位相差フィルム上に、アクリル系配向材料を塗布、１３０℃で乾燥による配向制御層（垂直配向）を形成した。乾燥後の配向制御層の膜厚は、８０ｎｍであった。
【０１４７】
その後、配向制御層上に固化液晶材料を塗布、８０℃で乾燥後、ＵＶ硬化により固化液晶層を形成した。硬化後の固化液晶層の膜厚は１．５μｍであった。このようにして得られた固化液晶層は、配向制御層の配向規制力によって積層方向に配向固化しており、かつ面方向に対して略垂直な方向に遅相軸を有していた。具体的には、この固化液晶層は、上記の配向制御層と合わせて正のＣプレートとなるものであり、ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚを満たし、ｎｙ＜ｎｚであり｜ｎｘ−ｎｙ｜≦０．１０を満たすものであった。
【０１４８】
得られた積層体の位相差フィルム側に対して酸化インジウム−酸化スズターゲットを用いるスパッタリング法を行い、透明導電層としてのＩＴＯ層を形成した。スパッタリング法は、酸化インジウムと酸化スズが重量比９５：５（酸化インジウム：酸化スズ）の組成で、充填密度９８％であった。形成されたＩＴＯ層の膜厚は、約２５ｎｍであった。成膜後の表面抵抗値は、約１５０Ω／ｓｑであった。得られた光学用電極積層体の積層構成を、下記の表１に示す。
【０１４９】
２．位相差評価
位相差測定装置（王子計測機器株式会社製、ＫＯＢＲＡ−ＷＦＤ）を使用して、入射角依存性測定モードで、実施例１の光学用電極積層体の位相差を測定した。
【０１５０】
面内遅相軸方向をｘ軸、面内における面内遅相との直交方向をｙ軸、及びｘ軸及びｙ軸との垂直方向をｚ軸として、ｚ軸から０°、１０°、２０°、３０°、４０°、及び５０°の角度について測定した。結果を下記の表３に示す。
【０１５１】
３．パターン見え（骨見え）評価
実施例１の光学用電極積層体を、強酸中に４０℃で３分間浸漬し、エッチング処理して、パターニングを施した。なお、用いた強酸は、塩酸、硝酸、及び純水を、質量比で３．３：１．０：７．６（塩酸（１２規定）：硝酸（１６規定）：純水）の割合で混合した溶液であった。
【０１５２】
パターニングを施した実施例１の光学用電極積層体の透明導電層側に、感圧接着剤を介して鏡を貼合し、固化液晶層側に、感圧接着剤を介して偏光板を貼合して、パターン見え評価用積層体を作製した。ここで、偏光板は、透過軸が位相差フィルムの面内遅相軸に対して４５°の角度となるように貼合した。得られたパターン見え評価用積層体の積層構成を、下記の表２に示す。
【０１５３】
スタンド式３波長蛍光灯（ＴＷＩＮＢＡＲＤ社製ＳＬＨ−３９９型）の蛍光管から垂直下１０ｃｍの距離の位置に評価用のサンプルを設置して、目視観察し、パターンの見え方を評価した。その後、評価用のサンプルを蛍光管に対して５０°傾けて配置し、同様の評価を行った。結果を下記の表３に示す。
【０１５４】
なお、「透明導電層パターン見え評価」についての評価基準は下記のとおりである：
Ａ：３波長蛍光灯下ではパターンと非パターン部の判別が困難
Ｂ：３波長蛍光灯下でパターンと非パターン部の判別がわずかに可能
Ｃ：３波長蛍光灯下でパターンと非パターン部の判別が容易に可能
【０１５５】
４．耐屈曲性評価
実施例１の光学用電極積層体の耐屈曲性評価用サンプルの両端におもりを付け、導電層が外側になるようにしてロッドにかけ、１８０°屈曲を実施し、この屈曲させる前後の抵抗率を評価した。このようにして測定された屈曲の前の抵抗率（Ｒ０）と屈曲させた後の抵抗率（Ｒ）との比（Ｒ／Ｒ０）が、１．５以下である場合に耐屈曲性ありとした。結果を下記の表３に示す。
【０１５６】
具体的な評価条件は下記のとおりである：
サンプル幅：１０ｍｍ、サンプル長さ：１４０ｍｍ
ロッド直径：８ｍｍ
おもり荷重：１００ｇ
屈曲時間：１分間
屈曲後に抵抗を測定するまでの放置時間：５分間
抵抗測定時の電極間の距離：１００ｍｍ
抵抗測定時の電極：ドータイト
屈曲方法：導電膜外曲げ
【０１５７】
〈実施例２〉
位相差フィルムとして、ピュアエースＨＭ−１４５（帝人株式会社、基材厚さ：５７μｍ）を使用した。この位相差フィルムは、逆波長分散性を有し、かつ面内方向に遅相軸を有するものであった。具体的には、この位相差フィルムは、正のＡプレートであり、ｎｚ≒ｎｙ＜ｎｘを満たし、ｎｙ＜ｎｘであり｜ｎｚ−ｎｙ|≦０．１０を満たすものであった。
【０１５８】
この位相差フィルム上に、実施例１と同様にして配向制御層（垂直配向）、及び固化液晶層を形成した。硬化後の配向制御層の膜厚は、８０ｎｍであった。また、硬化後の固化液晶層の膜厚は１．５μｍであった。
【０１５９】
このようにして得られた固化液晶層は、配向制御層の配向規制力によって積層方向に配向固化しており、かつ面方向に対して略垂直な方向に遅相軸を有していた。具体的には、この固化液晶層は、上記の配向制御層と合わせて正のＣプレートとなるものであり、ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚを満たし、ｎｙ＜ｎｚであり｜ｎｘ−ｎｙ｜≦０．１０を満たすものであった。
【０１６０】
得られた積層体の位相差フィルム側に対して酸化インジウム−酸化スズターゲットを用いるスパッタリング法を行い、透明導電層としてのＩＴＯ層を形成した。スパッタリング法は、酸化インジウムと酸化スズが重量比９５：５（酸化インジウム：酸化スズ）の組成で、充填密度９８％であった。形成されたＩＴＯ層の膜厚は、約２５ｎｍであった。製膜後の表面抵抗値は、約１５０Ω／ｓｑであった。得られた光学用電極積層体の積層構成を、下記の表１に示す。
【０１６１】
実施例１と同様にして、光学的特性を評価した。パターン見え評価用積層体の積層構成を、下記の表２に示す。また、光学的特性の評価結果を下記の表３に示す。
【０１６２】
〈実施例３〉
位相差フィルムとして逆波長分散位相差フィルムであるピュアエースＷ−１４２（帝人株式会社、基材厚さ：７５μｍ）を用いたことを除いて、実施例２と同様にして光学用電極積層体を作製した。この位相差フィルムは、逆波長分散性を有し、かつ面内方向に遅相軸を有するものである。具体的には、この位相差フィルムは、正のＡプレートであり、ｎｚ≒ｎｙ＜ｎｘを満たし、ｎｙ＜ｎｘであり｜ｎｚ−ｎｙ|≦０．１０を満たすものであった。
【０１６３】
得られた光学用電極積層体の積層構成を、下記の表１に示す。
【０１６４】
実施例１と同様にして、光学的特性を評価した。パターン見え評価用積層体の積層構成を、下記の表２に示す。また、光学的特性の評価結果を下記の表３に示す。
【０１６５】
〈実施例４〉
位相差フィルムとして逆波長分散位相差フィルムであるピュアエースＲＭ−１４７（帝人株式会社、基材厚さ：５３μｍ）を用いたこと、及び得られた位相差積層体の固化液晶層側面にハードコート層を形成したことを除いて、実施例２と同様にして光学用電極積層体を作製した。得られた光学用電極積層体の積層構成を、下記の表１に示す。
【０１６６】
なお、ハードコート層は、得られた積層体の固化液晶層側面に、荒川化学株式会社製ビームセット５７５を、塗布し、ＵＶ硬化させることにより形成した。硬化後のハードコート層の厚さは２μｍであった。
【０１６７】
実施例１と同様にして、光学的特性を評価した。パターン見え評価用積層体の積層構成を、下記の表２に示す。また、光学的特性の評価結果を下記の表３に示す。
【０１６８】
〈実施例５〉
位相差フィルムとして逆波長分散位相差フィルムであるピュアエースＲＭ−１４７（帝人株式会社、基材厚さ：５３μｍ）を用いたこと、及び得られた位相差積層体の固化液晶層側面にＩＴＯ層を形成したことを除いて、実施例２と同様にして光学用電極積層体を作製した。得られた光学用電極積層体の積層構成を、下記の表１に示す。
【０１６９】
実施例１と同様にして、光学的特性を評価した。パターン見え評価用積層体の積層構成を、下記の表２に示す。また、光学的特性の評価結果を下記の表３に示す。
【０１７０】
〈実施例６〉
位相差フィルムとして逆波長分散位相差フィルムであるピュアエースＲＭ−１４７（帝人株式会社、基材厚さ：５３μｍ）を用いたこと、及び得られた位相差積層体の位相差フィルム側面にハードコート層を形成したことを除いて、実施例２と同様にして光学用電極積層体を作製した。得られた光学用電極積層体の積層構成を、下記の表１に示す。
【０１７１】
実施例１と同様にして、光学的特性を評価した。パターン見え評価用積層体の積層構成を、下記の表２に示す。また、光学的特性の評価結果を下記の表３に示す。
【０１７２】
〈実施例７〉
実施例１と同様にしてピュアエースＲＭ−１４７（帝人株式会社、基材厚さ：５３μｍ）上に配向制御層及び固化液晶層を形成した後、繊維状の導電材料としての銀ナノワイヤーの分散液を、固化液晶層上にスリットダイを使用して塗布し、１３０℃で乾燥させて、銀ナノワイヤーの層を形成した。塗布後の表面抵抗値は、５３Ω／ｓｑ．であった（抵抗値測定は非接触式抵抗測定器を使用）。
【０１７３】
銀ナノワイヤーの層上に、スリットダイを用いてオーバーコート溶液を塗布して含浸させ、６０℃で乾燥させた後で、窒素パージ雰囲気下でＵＶ硬化させてオーバーコートを形成することによって、透明導電層を得た。ここで用いたオーバーコート溶液は、アクリル系ＵＶ硬化樹脂に銀ナノワイヤーの層を保護するための各種添加剤を含有していた。オーバーコートの膜厚は８０ｎｍであり、オーバーコートの表面からは銀ナノワイヤーの一部が露出しており、オーバーコート形成後の表面抵抗値は、５４Ω／ｓｑ．であった。得られた光学用電極積層体の積層構成を、下記の表１に示す。
【０１７４】
銀ナノワイヤーのパターニングは、市販されている銀ナノワイヤー用エッチャント（関東化学社製）を使用して実施した。
【０１７５】
実施例１と同様にして、光学的特性を評価した。パターン見え評価用積層体の積層構成を、下記の表２に示す。また、光学的特性の評価結果を下記の表３に示す。
【０１７６】
〈実施例８〉
位相差フィルムとして正波長分散位相差フィルムを使用したこと、及び位相差フィルム上ではなく固化液晶層上にＩＴＯ層を形成したことを除いて、実施例１と同様にして光学用電極積層体を作製した。得られた光学用電極積層体の積層構成を、下記の表１に示す。
【０１７７】
実施例１と同様にして、光学的特性を評価した。パターン見え評価用積層体の積層構成を、下記の表２に示す。また、光学的特性の評価結果を下記の表３に示す。
【０１７８】
〈比較例１〉
位相差フィルムとして、逆波長分散位相差フィルムであるピュアエースＨＭ−１４５（帝人株式会社、基材厚さ：５７μｍ）を使用した。位相差フィルム上に、酸化インジウム−酸化スズターゲットを用いるスパッタリング法を行い、透明導電層としてのＩＴＯ層を形成した。スパッタリング法は、酸化インジウムと酸化スズが重量比９５：５（酸化インジウム：酸化スズ）の組成で、充填密度９８％であった。形成されたＩＴＯ層の膜厚は、約２５ｎｍであった。製膜後の表面抵抗値は、約１５０Ω／ｓｑであった。得られた光学用電極積層体の積層構成を、下記の表１に示す。
【０１７９】
実施例１と同様にして、光学的特性を評価した。パターン見え評価用積層体の積層構成を、下記の表２に示す。また、光学的特性の評価結果を下記の表３に示す。
【０１８０】
〈比較例２〉
配向制御層と固化液晶層を逆に配置したこと、及び位相差フィルム上ではなく配向制御層上にＩＴＯ層を形成したことを除いて、実施例１と同様にして光学用電極積層体を作製した。得られた光学用電極積層体の積層構成を、下記の表１に示す。
【０１８１】
実施例１と同様にして、光学的特性を評価した。パターン見え評価用積層体の積層構成を、下記の表２に示す。また、光学的特性の評価結果を下記の表３に示す。
【０１８２】
〈比較例３〉
配向制御層（水平配向）を使用したこと、及び位相差フィルム上ではなく固化液晶層層上にＩＴＯ層を形成したことを除いて、実施例１と同様にして光学用電極積層体を作製した。得られた光学用電極積層体の積層構成を、下記の表１に示す。
【０１８３】
実施例１と同様にして、光学的特性を評価した。パターン見え評価用積層体の積層構成を、下記の表２に示す。また、光学的特性の評価結果を下記の表３に示す。
【０１８４】
〈比較例４〉
ＩＴＯターゲットをスパッタリングして透明導電層を形成する代わりに、ＩＴＯ導電層付ポリマーフィルム（帝人株式会社  ＰＦＣ１００−Ｄ１５０、基材厚さ：１０４μｍ）を位相差積層体の位相差フィルム側面に接着剤を用いて積層したことを除いて、実施例２と同様にして光学用電極積層体を作製した。得られた光学用電極積層体の積層構成を、下記の表１に示す。
【０１８５】
実施例１と同様にして、光学的特性を評価した。パターン見え評価用積層体の積層構成を、下記の表２に示す。また、光学的特性の評価結果を下記の表３に示す。
【０１８６】
〈比較例５〉
ＩＴＯターゲットをスパッタリングして透明導電層を形成する代わりに、ＩＴＯ導電層付ポリマーフィルム（帝人株式会社  ＰＦＣ１００−Ｄ１５０、基材厚さ：１０４μｍ）を位相差積層体の固化液晶層側面に接着剤を用いて積層したことを除いて、実施例５と同様にして光学用電極積層体を作製した。得られた光学用電極積層体の積層構成を、下記の表１に示す。
【０１８７】
実施例１と同様にして、光学的特性を評価した。パターン見え評価用積層体の積層構成を、下記の表２に示す。また、光学的特性の評価結果を下記の表３に示す。
【０１８８】
【表１】
2019032429.tif 000005
【表２】
2019032429.tif 000006
【表３】
2019032429.tif 000007
【符号の説明】
【０１８９】
１０  固化液晶層
２０  配向制御層
３０  位相差フィルム
４２、４４  透明導電層
５２、５４  ハードコート層
６２  屈折率整合層
８０  位相差積層体
１０２、１０４、１０６、２０２、２０４  本発明の光学用電極積層体
【図１】
2019032429.tif 000009
【図２】
2019032429.tif 000010