(57)【要約】【課題】高コントラストが得られる液晶表示装置において、表示信頼性の向上を図る。【解決手段】一対の基板１０，２０と、前記一対の基板１０，２０の間に配され、液晶材料３０を含有する液晶層３１と、液晶層３１を形成する液晶組成物５０中に添加された重合性モノマー４０が重合することによって液晶層３１に接するように形成され、液晶材料３０を両基板１０，２０に対して所定の角度に配向制御する配向制御層４１，４２と、を備える液晶表示装置において、一対の基板１０，２０のうち、一方の基板、例えば対向基板２０は、配向制御層４２に接するように塗布形成された配向膜２９を有し、他方の基板、例えばアレイ基板１０は、配向膜を有しないものとする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板と、
前記一対の基板の間に配され、液晶材料を含有する液晶層と、
前記液晶層を形成する液晶組成物中に添加された重合性モノマーが重合することによって前記液晶層に接するように形成され、前記液晶材料を前記基板に対して所定の角度に配向制御する配向制御層と、を備え、
前記一対の基板のうち、一の基板は前記配向制御層に接するように塗布形成された配向膜を有し、他の基板は配向膜を有しない液晶表示装置。
【請求項２】
前記他の基板は、ナフトキノンジアジドを含む絶縁膜を有する請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記他の基板は、セル内位相差層を有する請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記液晶材料は、前記液晶層の前記一の基板側において、プレチルト角が０°より大きく１０°以下、もしくは、９０°より小さく８０°以上となるように配向制御される請求項１から請求項３の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記一の基板に形成された配向膜は、液晶材料を異なる方向に配向させる複数のエリアを有している請求項１から請求項４の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記配向制御層は、カルコン基もしくはアゾベンゼン基を有するラジカル重合性モノマーが重合することによって形成されたものである請求項１から請求項５の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記配向制御層は、炭素数が８以上２４以下の直鎖アルキル基を有するラジカル重合性モノマーが重合することによって形成されたものである請求項１から請求項５の何れか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
一の基板の一方の板面に配向膜形成樹脂を塗布し、高温処理を行って、配向膜を形成させる配向膜形成工程と、
前記一の基板の前記一方の板面側に、板面同士が対向するように他の基板を配し、両基板の間に、液晶材料及び重合性モノマーを含有する液晶組成物を配置する配置工程と、
前記配置工程後に前記液晶組成物中の前記重合性モノマーを重合させて、前記液晶材料を含有する液晶層、並びに、前記液晶層に接して前記液晶材料を前記両基板に対して所定の角度に配向制御する配向制御層、を前記両基板の間に形成させる重合工程と、を含む液晶表示装置の製造方法であって、
前記配向制御層は、前記重合性モノマーが重合することによって形成された重合体からなり、
前記他の基板は、配向膜を有しない液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本明細書により開示される技術は、液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、画像等の情報を表示する液晶パネルを備えており、液晶パネルは、大まかには一対のガラス基板間に液晶層が封止された構成とされる。一対の基板は、アレイ状（配列状）にスイッチング素子（例えばＴＦＴ）及び画素電極等が設けられたアレイ基板（画素電極基板、アクティブマトリクス基板、素子基板）と、これに対向配置される対向基板と、からなり、アレイ基板に設けられた共通電極もしくは対向基板に設けられた対向電極と、画素電極との間に電圧を印加することで、液晶層を形成する液晶材料（液晶分子）の配向を変化させ、液晶層を通る光の量を調整して、液晶パネルに画像を表示させる。
【０００３】
電圧無印加の状態における液晶材料の配向を制御するには、従来、各基板の最も液晶層側にポリイミド（ＰＩ）等からなる配向膜形成樹脂を塗布後、高温処理（焼成）を行って配向膜を形成し、この配向膜のメモリー性によって液晶材料を配向させることが行われてきた。このような従来型の配向膜を備える構成では、配向膜形成樹脂の材料設計を適正化し、さらに必要に応じてラビングや光照射等による配向処理を施すことで、液晶層中における液晶材料の配向度（配向秩序度）を高めて高いコントラストを得るとともに、配向角度を比較的任意に調整できる。しかしながら、配向膜の形成には多くの工程を要するだけでなく、塗布ムラやラビング配向処理による発塵等の問題が生じていた。そこで、液晶組成物中に重合性モノマー等を添加し、基板間に封入した後に重合させて、液晶層と基板との界面に選択的にポリマー層を形成させ、このポリマー層の表面から配向発現性官能基を派生させて液晶材料を配向させることで、従来型の配向膜を不要とする技術（以下、「配向膜レス液晶配向技術」と称する）が提案されている。
【０００４】
他方、表示画面の大型化等の要求に伴い、比較的高いコントラストと広い視野角が得られる水平配向モードや垂直配向モードの開発が進められてきた。中でも、マルチドメイン垂直配向（ＭＶＡ：Multi-domain Vertical Alignment）モードは、透明電極上に配向規制用構造物等を設けて画面のエリアごとに液晶の配向を変えるものであり、広視野角化が可能となることが知られている。反面、配向規制用構造物によって開口率の低下や光漏れが生じるが、これらの不具合を抑制すべく配向規制用構造物を減らすと、液晶の応答速度が低下してしまう。そこで、重合性モノマー等を添加した液晶組成物を基板間に封入し、液晶材料を配向させた状態で重合性モノマーを重合させる方法が提案されている（下記特許文献１）。これは、従来型の配向膜上にポリマー配向維持（ＰＳＡ：Polymer Sustained Alignment）層を形成させて液晶にプレチルト角（事前傾斜角）を付与し、配向規制用構造物を減らしつつ液晶材料の応答速度の遅れを軽減するものであり、「ＰＳＡ技術」と称される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第２０１０／１１６５５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記した配向膜レス液晶配向技術では、ラビング等による配向処理を行うことができず、液晶組成物の材料設計のみによって液晶の配向を制御する必要があるため、液晶を十分に配向させることが難しく、コントラストの向上が課題となっている。
【０００７】
他方、従来のＰＳＡ技術のように両基板に従来型の配向膜を備える構成では、高コントラストの発現が可能であるものの、配向膜形成に起因する種々の不具合が避けられない。配向膜形成に起因する不具合としては、アレイ基板においては、配向膜形成領域を精確に制御困難であることから生じる電気的接続不良や配向ムラの発生、絶縁膜構成材料の熱変性に基づく吸湿性の増加等、対向基板においては、カラーフィルタ層の色材の熱分解及び溶出、セル内位相差層のリターデーション（位相差）の熱変移等が挙げられ、何れも液晶表示装置の表示信頼性を低下させる。
【０００８】
本技術は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、配向膜形成に起因する表示信頼性の低下を抑制しつつ、高いコントラストが得られる液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本技術に係る液晶表示装置は、一対の基板と、前記一対の基板の間に配され、液晶材料を含有する液晶層と、前記液晶層を形成する液晶組成物中に添加された重合性モノマーが重合することによって前記液晶層に接するように形成され、前記液晶材料を前記基板に対して所定の角度に配向制御する配向制御層と、を備え、前記一対の基板のうち、一の基板は前記配向制御層に接するように塗布形成された配向膜を有し、他の基板は配向膜を有しない液晶表示装置である。
【００１０】
上記構成において、「配向膜」は、基板上に塗布した配向膜形成樹脂の塗膜を高温処理して形成させた、いわゆる従来型の配向膜をいう。高コントラスト化等の観点から、配向膜には、ラビングや光照射等の配向処理を施していることが好ましい。
上記構成によれば、一の基板が配向膜を有していることで、従来型の配向膜を全く備えない配向膜レス液晶配向技術と比較して、液晶層の配向度を高くできる。他の基板は配向膜を有していないが、液晶層に接するように形成された配向制御層を備えていることでこれが補完され、全体として液晶材料を十分に配向させて高コントラスト化を図ることができる。一方で、他方の基板は配向膜を有しないものとすることで、当該他方の基板について配向膜形成等に伴う種々の不具合を回避可能となる。すなわち、配向膜形成に伴って不具合が生じ易い基板を他の基板として上記構成を適用することにより、高コントラストと優れた表示信頼性とを両立できる。
【００１１】
上記のような液晶表示装置は、一の基板の一方の板面に配向膜形成樹脂を塗布し、高温処理を行って、配向膜を形成させる配向膜形成工程と、前記一の基板の前記一方の板面側に、板面同士が対向するように他の基板を配し、両基板の間に、液晶材料及び重合性モノマーを含有する液晶組成物を配置する配置工程と、前記配置工程後に前記液晶組成物中の前記重合性モノマーを重合させて、前記液晶材料を含有する液晶層、並びに、前記液晶層に接して前記液晶材料を前記両基板に対して所定の角度に配向制御する配向制御層、を前記両基板の間に形成させる重合工程と、を含む液晶表示装置の製造方法であって、前記配向制御層は、前記重合性モノマーが重合することによって形成された重合体からなり、前記他の基板は、配向膜を有しない液晶表示装置の製造方法によって製造できる。
【００１２】
上記構成によれば、一の基板に形成された従来型の配向膜と、液晶層に接するように形成された配向制御層により、液晶材料を十分に配向させて高コントラスト化を図るとともに、他の基板については配向膜形成に伴う不具合の発生を回避して、表示信頼性に優れた液晶表示装置を製造できる。
【発明の効果】
【００１３】
本技術によれば、高いコントラストで画像を表示可能で、かつ表示信頼性に優れた液晶表示装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】実施形態１に係る液晶表示装置に含まれる液晶セルの（Ａ）重合工程前、（Ｂ）重合工程後、の断面構成を示す模式図
【図２】実施形態２に係る液晶表示装置に含まれる液晶セルの（Ａ）重合工程前、（Ｂ）重合工程後、の断面構成を示す模式図
【図３】実施形態３に係る液晶表示装置に含まれる液晶セルの（Ａ）重合工程前、（Ｂ）重合工程後、の断面構成を示す模式図
【図４】実施形態４に係る液晶表示装置に含まれる液晶セルの（Ａ）重合工程前、（Ｂ）重合工程後、の断面構成を示す模式図
【図５】有機絶縁膜に含まれるナフトキノンアジドの加熱により、カルボン酸が生じる機構を示す説明図
【図６】実施例１及び比較例１と同様の構成の液晶セルにより作製した狭額縁液晶表示セルの模式図
【発明を実施するための形態】
【００１５】
＜実施形態１：ＮＱＤ含有有機絶縁膜を有し配向膜を有しないアレイ基板と、配向膜を有する対向基板と、を備えた液晶表示装置＞
実施形態１を、図１によって説明する。本実施形態１では、ＮＱＤを含む有機絶縁膜１２を有するアレイ基板１０を備えた液晶表示装置について例示する。本実施形態１では、対向基板２０が従来型の配向膜２９を有する一方、アレイ基板１０は配向膜を有していない。
【００１６】
［液晶表示装置］
本実施形態１に係る液晶表示装置は、テレビ受像装置を始め、パソコン、タブレット端末、携帯電話のディスプレイやモニター等に用いることができる。
液晶表示装置は、パネル状の液晶セル１を備える。液晶表示装置は、透過型、反射型等の何れの型であってもよく、透過型の場合は、液晶セル１の背面側（後述するアレイ基板１０側）に配されて液晶セル１に光を供給する図示しないバックライト装置をさらに備える。反射型の場合は、液晶セル１の背面側に配されて液晶セル１に向けて外向を反射するための反射板をさらに備える。また、液晶セル１の外側には、図示しない偏光板や位相差板等が積層される。
【００１７】
［液晶セル］
図１に示すように、液晶セル１は、板面を互いに向かわせた状態で配置される一対の基板１０，２０と、両基板１０，２０間に介在し、電圧印加に伴って光学特性が変化する液晶材料３０を含有する液晶層３１と、を備える。
両基板１０，２０は、それぞれ無アルカリガラスや石英ガラス等からなる透光性に優れたガラス基板１１，２１を備えており、それぞれのガラス基板上に既知のフォトリソグラフィ法等によって複数の膜が積層形成されてなる。
【００１８】
（アレイ基板）
一対の基板１０，２０のうち一方の基板は、アレイ基板１０である。図には示していないが、ガラス基板１１上には、互いに直交するソース配線とゲート配線に接続されたスイッチング素子（例えばＴＦＴ）がアレイ状に設けられている。液晶セル１において、アレイ基板１０の方が対向基板２０よりも大きな板面積を有するように設定されており、アレイ基板１０における対向基板非重畳領域に、スイッチング素子に接続されたゲート配線やソース配線が引き出され、信号伝送基板やドライバ、電源等の外部端子と接続するための端子部ＴＲが設けられる（図６参照）。
【００１９】
図１（Ａ）に示すように、アレイ基板１０には、ガラス基板１１側から順に、有機絶縁膜１２、共通電極１３、無機絶縁膜１４、及び画素電極１５が積層形成されている。図には示していないが、最も液晶層３１側に配設された画素電極１５は、有機絶縁膜１２及び無機絶縁膜１４等に形成された図示しないコンタクトホールにおいて、既述したスイッチング素子と電気的に接続されている。
共通電極１３及び画素電極１５としては、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ：Indium Zinc Oxide）等の透明導電材料が利用される。無機絶縁膜１４の材料は特に限定されないが、例えば、無機材料である酸化珪素（ＳｉＯ２）、窒化珪素（ＳｉＮｘ）、酸化窒化珪素（ＳｉＯｘＮｙ；ｘ＞ｙ）、窒化酸化珪素（ＳｉＮｘＯｙ；ｘ＞ｙ）等から形成されたものを適宜用いることができる。
なお、本実施形態１では、アレイ基板１０に画素電極１５及び共通電極１３が形成されている構成としたが、共通電極１３の代わりに、後記する対向基板２０に対向電極が形成された構成としてもよい。
【００２０】
（有機絶縁膜）
本実施形態１に係る有機絶縁膜１２は、主として、重合体、光酸発生剤、感光剤等を含有する有機絶縁膜材料から構成される。重合体としては、例えばポリメタクリル酸メチル等の高分子重合体を用いることができる。光酸発生剤は、光を照射することにより酸を発生するものであって、これを有機絶縁膜材料に加えて化学増幅型材料とすることで、有機絶縁膜塗布形成後のエッチングによる表面の荒れを抑制して、スイッチング素子と画素電極１５との接続部の径を好適に微細化したり、コンタクトホールのテーパー角を大きくしてホール径（最大径）を縮小したりすることが可能となる。
本実施形態１に係る有機絶縁膜１２は、感光剤として、解像度の高いポジ型レジスト材料であるナフトキノンアジド（ＮＱＤ：Naphthoquinone Azide）を含有している。ＮＱＤは、高温に曝されると、図５に示す反応により、ＮＱＤ（ａ−１）から化合物（ａ−２）を経て、吸湿性の高いカルボン酸化合物（ａ−３）を形成する。
【００２１】
（対向基板）
一対の基板１０，２０のうち他方の基板は、対向基板２０である。図１（Ａ）に示すように、本実施形態１では、対向基板２０の最も液晶層３１側に、液晶材料３０を配向させるための従来型の配向膜２９が形成されている。
【００２２】
（配向膜）
配向膜２９は、対向基板２０の最も液晶層３１側に配向膜形成樹脂を塗布し、高温処理して形成させたものである。配向膜２９の厚みは、本発明の目的を損なわない限り特に制限はなく、例えば１０ｎｍ〜３００ｎｍとすることが好ましい。配向膜形成樹脂としては、既知のものを使用できるが、熱安定性や成膜性の観点から、ポリアミック酸を適宜イミド化したものが好ましい。ポリアミック酸は、適宜、有機溶剤に溶解されて、流動性を備えた液状又はゾル状の組成物（配向剤）として調製される。ポリアミック酸のイミド化は、ポリアミック酸を高温（例えば、２００〜２５０℃）で処理することによって行うことができる。ポリアミック酸の重合方法に特に制限はなく、既知の方法で行うことができる。
配向膜２９を形成させるには、例えば、まずポリアミック酸を含有する未硬化状態の配向膜形成樹脂（配向剤）を、既知の方法、例えばスピンコータやロールコータ等の塗工機を用いた方法により、対向基板２０の最も液晶層側に塗布する。続いて、この塗膜を、仮焼成（例えば、７０℃〜１００℃で１分間〜１０分間の加熱処理）して有機溶剤を除去した後、本焼成（例えば、２００℃〜２５０℃で８分間〜４０分間の加熱処理）してポリアミック酸をイミド化またはコンフォーメーションを最適化させる。仮焼成、及び本焼成における加熱時間、及び加熱温度は、それぞれ目的に応じて適宜設定できる。
【００２３】
配向膜２９には、目的に応じて、液晶材料を基板に対して垂直に配向させる垂直配向膜や、液晶材料を基板に対して水平に配向させる水平配向膜等が適宜選択される。これらの配向膜は、液晶層３１の配向度を高める観点等から、適宜、ラビング処理、光配向処理等の配向処理が施されて利用される。なお、図１には、配向膜２９として水平配向膜を用いた場合について例示している。
配向膜２９に配向処理を施す場合には、光配向処理によることが好ましい。光配向処理によれば、ラビング配向処理と比較して、塵の発生や構造物の破損を軽減できる。
光配向処理を可能とするために、配向膜２９は、光配向性基を有していることが好ましい。光配向性基は、所定の光（偏光ＵＶ等）を照射されると反応（例えば、光異性化反応）して、構造が変化する官能基である。側鎖に光配向性基を導入すれば、主鎖の構造を維持しつつ、配向膜に光配向性を付与できる。光配向性基は、側鎖への官能基の導入性や反応性の観点から、例えばアゾベンゼン基、シクロブタン環、シンナメート基、クマリン基からなる群から選ばれる少なくとも１種とすることが好ましい。
【００２４】
（シール剤）
両基板１０，２０の間には、液晶層３１の厚さ分のセルギャップを維持した状態で、液晶層３１を取り囲んでこれを封止するように、シール剤ＳＬが配される（図６参照）。このシール剤によって、両基板１０，２０が貼り合わせられている。
シール剤には既知のものを使用でき、例えばエポキシ系やアクリル系の樹脂等からなる、熱硬化型、紫外線硬化型、紫外線熱併用型のシール剤が好ましく用いられる。
【００２５】
（液晶層）
液晶層３１は、後記する液晶材料３０を含んで形成されている。液晶材料３０は、特定の方向に配向する特性を有し、閾値以上の電圧を印加することで、その配向性が制御される。電圧無印加の状態における液晶配向モードは、電圧を無印加の状態で、液晶を液晶層３１の厚み方向に捩じれるように配向させた捩れネマティック（ＴＮ：Twisted Nematic）モード、液晶を基板面に対して水平配向させ横方向に回転させる面内スイッチング（ＩＰＳ：In-Plane Switching）モード、液晶を基板面に対して垂直配向させ垂直電界でスイッチングする垂直配向（ＶＡ：Vertical Alignment）モード等の既知のモードの中から適宜選択できる。高コントラスト化や広視野角化等の観点から、ＶＡモードやＩＰＳモードとすることが好ましい。なお、図１（Ｂ）は、液晶層３１中で液晶材料３０が両基板１０，２０に対して水平に配向されるＩＰＳモードの液晶セル１を表している。
【００２６】
（配向制御層）
図１（Ｂ）に示すように、液晶セル１において、液晶層３１の両面、すなわちアレイ基板１０及び対向基板２０の両基板側には、配向制御層４１，４２が形成される。
配向制御層４１，４２は、後記する液晶組成物５０中に含まれる重合性モノマー４０（図１（Ａ）参照）が重合して、液晶層３１と両基板１０，２０との界面に選択的に形成された重合体層である。なお、「液晶層３１と両基板１０，２０との界面」とは、両ガラス基板１１，２１上に形成された構造物のうち最も液晶層３１側に配される構造物と、液晶層３１との境界面を意味し、配向制御層４１，４２は、液晶層３１に直に接するように形成される。
本実施形態１では、アレイ基板１０側には従来型の配向膜が形成されていないため、電圧無印加の状態における液晶層３１中の液晶材料３０の配向は、アレイ基板１０側では配向制御層４１によって規定される。他方、対向基板２０側では、配向膜２９のメモリー性と、配向制御層４２によって、液晶材料３０の配向が規定される。
【００２７】
［液晶組成物］
本技術に係る液晶組成物５０は、液晶材料３０と、重合性モノマー４０と、を少なくとも含む。
【００２８】
（液晶材料）
液晶材料３０には、既知のものを使用できる。例えばネマティック型液晶やスメクティック型液晶等を用いることができるが、ネマティック型液晶の使用が好ましい。液晶材料３０は、複屈折率が高く大きな光学異方性（Δｎ）を有することが好ましく、また、液晶配向モード等に併せて所望の誘電率異方性（Δε）を有するように選択できる。
正の誘電異方性を有するポジ型のネマティック型液晶としては、例えばビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶、エステル系液晶、ターフェニル系液晶、ビフェニルシクロヘキサン系液晶、ピリミジン系液晶、ジオキサン系液晶、ビシクロオクタン系液晶、キュバン系液晶等を用いることができる。
負の誘電異方性を有するネガ型のネマティック型液晶としては、例えば（ジ）フッ素系液晶、ジシアノベンゼン系液晶、ピリダジン系液晶、シッフベース系液晶、アゾキシ系液晶、ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶等が挙げられる。
これら液晶に、カイラル剤、強誘電性液晶等を、さらに添加して使用してもよい。
液晶材料３０は、ポジ型液晶であってもネガ型液晶であっても、特に制約なく使用できる。
【００２９】
（重合性モノマー）
本実施形態１に係る液晶組成物５０には、上記した液晶材料３０に加えて、重合可能なモノマー（重合性モノマー４０）が含まれる。これにより、液晶組成物５０を両基板１０，２０間に封入した後に重合性モノマー４０を重合させて、これらの重合体からなる配向制御層４１，４２を形成させることができる。重合性モノマー４０は、ラジカル重合性モノマーであることが好ましく、光の照射によって重合可能な光重合性モノマーであることがより好ましい。重合性モノマー４０自体が重合開始剤として機能するようなものであってもよく、或いは、液晶組成物５０中に光重合開始剤等の重合開始剤を含有させてもよい。また、重合性モノマー４０として、異なる２種類以上のモノマーを含んでいてもよい。配向制御層４１，４２を、２種類以上のモノマー単位を含む共重合体で形成した場合、プレチルト角の変化及び残留ＤＣ電圧の発生が何れも抑制されて、焼き付きが生じにくくなることが知られている。
【００３０】
重合性モノマー４０には、重合すると、配向性発現基の側鎖を有する重合体を形成するようなモノマーを用いることが好ましい。なお、配向性発現基とは、配向制御層４１，４２を形成する重合体の主鎖から派生する比較的嵩高い側鎖であって、両層４１，４２の界面から、これに接する液晶層３１側に延出することで、液晶材料３０を一定の角度に配向させる機能を有する基をいう。よって、本実施形態１に係る液晶セル１のように、従来型の配向膜を片方の基板側（対向基板２０側）にしか備えていない構成であっても、配向性発現基を有する重合体で形成された配向制御層４１，４２を備えることで、液晶層３１中の液晶材料３０を十分に配向させることが可能となる。配向性発現基は、液晶材料３０を配向させる角度により、垂直配向発現性基、水平配向発現性基等に分類できる。重合性モノマー４０の構造を適宜選択することで、配向発現性基の構造を変え、液晶材料３０の配向角度を制御できる。
【００３１】
重合性モノマー４０は、水平配向発現性基として、例えばカルコン基もしくはアゾベンゼン基を有するものとすることができる。より具体的には、下記化学式（１）又は（２）で表されるものが好ましい。このような重合性モノマー４０を用いれば、液晶材料３０を水平配向させる配向制御層４１，４２が形成される。このような配向制御層４１，４２は、配向膜２９として水平配向膜を用いた場合、これと協働して液晶材料３０を両基板１０，２０に対して水平に配向させ、液晶層３１の配向度を高めることができる。
【００３２】
【化１】
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【００３３】
【化２】
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【００３４】
或いは、重合性モノマー４０は、垂直配向性発現基として、炭素数が８以上２４以下の直鎖アルキル基を有するものとしてもよい。より具体的には、下記化学式（３）で表されるものが好ましい。このような重合性モノマー４０を用いれば、液晶材料３０を垂直配向させる配向制御層４１，４２が形成される。このような配向制御層４１，４２は、配向膜２９として垂直配向膜を用いた場合、これと協働して液晶材料３０を両基板１０，２０に対して垂直に配向させ、液晶層３１の配向度を高めることができる。
【００３５】
【化３】
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【００３６】
以上のように、本実施形態１に係る液晶セル１では、対向基板２０が従来型の配向膜２９を有する一方、アレイ基板１０は配向膜を備えておらず、配向発現性基を有する配向制御層４１，４２が液晶層３１に接するように両基板１０，２０側に形成されている。
【００３７】
本実施形態１の構成によれば、対向基板（一の基板）２０が配向膜２９を有していることで、従来型の配向膜を全く備えない配向膜レス液晶配向技術と比較して、液晶層３１の配向度を高くできる。アレイ基板（他の基板）１０は配向膜を有していないが、液晶層３１に接するように形成された配向制御層４１，４２によってこれが補完され、十分に液晶材料を配向させて高コントラスト化を図ることが可能とされる。一方で、アレイ基板１０は配向膜を有しないものとすることで、アレイ基板１０については配向膜形成等に伴う種々の不具合を回避できる。
【００３８】
近年は、液晶表示装置の狭額縁化の要請によって、額縁幅が２ｍｍ以下とされる等、対向基板非重畳領域の狭小化が進んでおり、アレイ基板１０側に従来型の配向膜を設けると、配向膜形成樹脂が端子部ＴＲにまで容易に到達してしまう。端子部ＴＲが配向膜で覆われると、配向膜は絶縁性であるために、外部端子との電気的な接続に支障が生じる。また配向膜は硬度が高いために、一旦形成された配向膜を除去することが難しく、無理に削り取ろうとすると配線や端子構造等が破壊されて断線する虞がある。しかし、基板重畳領域に形成された画像表示領域内に限定してその全域に配向膜を形成することは困難であり、端子形成部に配向膜を形成しないようにしようとすると、画像表示領域内にも配向膜が形成されない領域ができて配向ムラが生じ、表示信頼性の低下を招く虞がある。
本実施形態１のように、アレイ基板１０を、配向膜を有しない他の基板として本技術を適用すれば、対向基板２０側の画像表示領域全域に亘って配向膜２９を形成しつつ、アレイ基板１０における対向基板非重畳領域には配向膜が形成されないようにすることができ、上記不具合の発生が回避されて表示信頼性の低下が抑制される。
【００３９】
また、本実施形態１に係るアレイ基板１０は、ＮＱＤ含有有機絶縁膜１２を有しており、このようなアレイ基板１０に従来型の配向膜を形成すると、配向膜形成時の高温処理等によってＮＱＤがカルボン酸に変化し（図５参照）、生成したカルボン酸の存在によって液晶セル１内への水分取り込みが加速されて、表示信頼性の低下を招く虞がある。
本実施形態１のように、ＮＱＤ含有有機絶縁膜１２を有するアレイ基板１０を、配向膜を有しない他の基板として本技術を適用すれば、十分な配向度を発現させつつ上記不具合の発生が回避されて、高コントラストと優れた表示信頼性とが両立された液晶表示装置を得ることができる。
【００４０】
本実施形態１の液晶表示装置は、対向基板（一の基板）２０の一方の板面に配向膜形成樹脂を塗布し、高温処理を行って、配向膜２９を形成させる配向膜形成工程と、対向基板２０の配向膜２９が形成された板面側に、板面同士が対向するようにアレイ基板（他の基板）１０を配し、両基板１０，２０の間に、液晶材料３０及び重合性モノマー４０を含有する液晶組成物５０を配置する配置工程と、前記配置工程後に液晶組成物５０中の重合性モノマー４０を重合させて、液晶材料３０を含有する液晶層３１、並びに、液晶層３１に接して液晶材料３０を両基板１０，２０に対し所定の角度に配向制御する配向制御層４１，４２を両基板１０，２０の間に形成させる重合工程と、を含む液晶表示装置の製造方法によって製造できる。
配向制御層４１，４２は、図１（Ａ）に示す液晶組成物５０中に含まれていた重合性モノマー４０が、光や熱等により重合して形成された重合体からなり、図１（Ｂ）に示すように、両基板１０，２０と液晶層３１との界面に選択的に形成される。
重合工程は、構成材料の熱劣化等を抑制する観点から、光の照射によって行われることが好ましく、そのために、重合性モノマー４０は光重合性モノマーであることが好ましい。また、配向制御層４１，４２と同時に形成される液晶層３１の配向度を高めるため、重合工程は、液晶組成物５０のネマティック−等方相転移温度Ｔｎｉ以上の温度で、偏光光を照射して行うことが好ましい。或いは、重合工程は、液晶組成物５０のＴｎｉ以上の温度で、無偏光光を照射して行ってもよい。液晶層３１の配向度を高める観点から、重合性モノマー４０には、配向発現性基を備えたラジカル重合性モノマーを使用することが好ましい。
【００４１】
本実施形態１の構成によれば、対向基板（一の基板）２０に形成された従来型の配向膜２９と、液晶層３１に接するように形成された配向制御層４１，４２により、液晶層３１の配向度を向上させて高コントラストを発現可能としながらも、アレイ基板（他の基板）１０が高温に曝される事態を回避して、これに起因する不具合の発生を抑制し、表示信頼性に優れた液晶表示装置を製造できる。
【００４２】
＜実施形態２：配向膜を有するアレイ基板と、カラーフィルタ層及びセル内位相差層を有し配向膜を有しない対向基板と、を備えた液晶表示装置＞
実施形態２を、図２によって説明する。本実施形態２では、カラーフィルタ層２２及びセル内位相差層２４を有する対向基板２２０を備えた液晶表示装置について例示する。また、本実施形態２では、実施形態１とは異なり、アレイ基板２１０が従来型の配向膜１９を有し、対向基板２２０は配向膜を有していない。以下、上記した実施形態１と同様の構成については同じ符号を付し、重複する説明は省略する（実施形態３及び実施形態４についても、同様とする）。なお、図２（Ｂ）は、液晶層３１中で液晶材料３０が両基板２１０，２２０に対して水平に配向されるＩＰＳモードの液晶セル２０１を表している。
【００４３】
（対向基板）
本実施形態２に係る液晶セル２０１は、カラー画像を表示可能に形成されており、図２（Ａ）に示すように、対向基板２２０において、ガラス基板２１側から順に、カラーフィルタ層２２及びセル内位相差層２４が積層形成されている。
【００４４】
（カラーフィルタ層）
カラーフィルタ層２２は、Ｒ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）等の各着色部が、対向基板２２０に対向配置されるアレイ基板２１０の各画素電極１５と平面に視て重畳するよう多数個マトリクス状に並列して配置されてなる。なお、図には示していないが、カラーフィルタ層２２を構成する各着色部間には、混色を防ぐための略格子状の遮光層（ブラックマトリクス）が形成されており、遮光層は、上記したゲート配線及びソース配線と平面に視て重畳する配置とされる。Ｒの着色部を有する赤色画素、Ｇの着色部を有する緑色画素、及びＢの着色部を有する青色画素は、液晶セル１の板面の一の方向に沿って繰り返し並べて配されて画素群を構成しており、この画素群が一の方向に垂直な方向に沿って多数並んで配されている。
【００４５】
（セル内位相差層）
セル内位相差層２４は、復屈折率を有する異方性媒質からなる液晶層３１中を進行する光の位相差を補償するための光学機能層の一種であって、透光性を有し、透過光に所定の波長の位相差を付与する。位相差の調整は、液晶セル外に偏光板とともに積層配置した位相差板によって行われることも多いが、液晶セル２０１内にセル内位相差層２４として形成することで、表面を損傷等から保護し、光学機能の低下等を抑制できる。セル内位相差層２４は、例えば特定の配向性が付与された状態で固化された液晶性高分子層と、液晶性高分子に配向性を付与する下地層からなるものとすることができる。
【００４６】
（アレイ基板）
図２（Ａ）に示すように、本実施形態２に係るアレイ基板２１０には、ガラス基板１１側から順に、共通電極１３、無機絶縁膜１４、及び画素電極１５が積層形成され、最も液晶層３１側の表面を被覆するように、液晶材料を配向させるための従来型の配向膜１９が形成されている。
（配向膜）
【００４７】
配向膜１９は、実施形態１において対向基板２０に形成された配向膜２９と同様のものとすることができる。すなわち、アレイ基板２１０の最も液晶層３１側に配向膜形成樹脂を塗布し、高温処理して形成される。配向膜形成樹脂としては、配向膜２９と同様のものを用いることができ、配向膜２９と同様の工程によって成膜形成できる。配向膜１９には、目的に応じて、垂直配向膜や水平配向膜等が適宜選択され、配向処理を適宜施されて利用される。図２には、配向膜１９として水平配向膜を用いた場合について例示している。
【００４８】
以上のように、本実施形態２に係る液晶セル２０１では、アレイ基板２１０が従来型の配向膜１９を有する一方、カラーフィルタ層２２及びセル内位相差層を有する対向基板２０は配向膜を備えていない。
【００４９】
カラーフィルタ層２２を有する対向基板２２０に高温処理（焼成プロセス等）を経て形成される従来型の配向膜を設けると、カラーフィルタ層２２が高温に曝されることによってフィルタ内の色材が分解し、分解した色材が液晶層３１に溶出して、表示信頼性の低下を引き起こす虞がある。
本実施形態２のように、対向基板２２０を、配向膜を有しない他の基板として本技術を適用すれば、上記不具合の発生が回避され、表示信頼性の低下が抑制される。
【００５０】
また、セル内位相差層２４を有する対向基板２２０に配向膜を形成すると、配向膜形成時の高温処理によってリタデーションが変化してバラツキが生じ、表示面における視認性やコントラストが不均質となって表示品位が低下する虞がある。
本実施形態２のように、セル内位相差層２４を有する対向基板２２０を、配向膜を有しない他の基板として本技術を適用すれば、上記不具合の発生が回避されて、高コントラストと優れた表示信頼性とが両立された液晶表示装置を得ることができる。
【００５１】
本実施形態２の液晶表示装置は、アレイ基板（一の基板）２１０の一方の板面に配向膜形成樹脂を塗布し、高温処理を行って、配向膜１９を形成させる配向膜形成工程と、アレイ基板２１０の配向膜１９が形成された板面側に、板面同士が対向するように対向基板（他の基板）２２０を配し、両基板２１０，２２０の間に、液晶材料３０及び重合性モノマー４０を含有する液晶組成物を配置する配置工程と、前記配置工程後に液晶組成物中の重合性モノマー４０を重合させて、液晶材料３０を含有する液晶層３１、並びに、液晶層３１に接して液晶材料３０を両基板２１０，２２０に対し所定の角度に配向制御する配向制御層４１，４２を両基板１０，２０の間に形成させる重合工程と、を含む液晶表示装置の製造方法によって製造できる。
【００５２】
＜実施形態３：ＮＱＤ含有有機絶縁膜を有し配向膜を有しないアレイ基板と、液晶材料のプレチルト角を所定範囲に制御可能な配向膜を有する対向基板と、を備えた配向分割制御構造を有する液晶表示装置＞
実施形態３を、図３によって説明する。本実施形態３は、従来型の配向膜３２９を有する対向基板３２０側において液晶材料に所定範囲のプレチルト角が付与され、かつ配向分割制御構造を有している点において、実施形態１と相違している。また、実施形態１では、アレイ基板１０に画素電極１５及び共通電極１３が形成された構成について記したが、本実施形態３では、アレイ基板３１０には共通電極が形成されておらず、替わりに、対向基板３２０に対向電極２３が形成された構成について記載する。なお、図３（Ｂ）は、対向基板３２０側において液晶材料３０に所定範囲のプチルト角が付与された、２分割制御構造を有するＶＡモードの液晶セル３０１を表している。
【００５３】
（アレイ基板）
図３（Ａ）に示すように、アレイ基板３１０には、ガラス基板１１側から、有機絶縁膜１２及び画素電極１５が積層形成されている。本実施形態３では、画素電極１５と、後記する対向基板３２０に形成された対向電極２３との間に電圧が印加されるようになっている。
【００５４】
（対向基板）
図３（Ａ）に示すように、対向基板３２０のガラス基板２１上には対向電極２３が形成されており、対向電極２３の液晶層３１側の面に、従来型の配向膜３２９が積層形成される。
【００５５】
（配向膜）
配向膜３２９は、実施形態１に係る配向膜２９と同様、対向基板２２０の最も液晶層３１側に配向膜形成樹脂を塗布し、高温処理することによって形成させたものである。配向膜形成樹脂としては、配向膜２９に使用されるのと同様の樹脂を用い、配向膜２９と同様の方法によって形成させることができる。図３には、配向膜３２９として水平配向膜を用いた場合について例示している。
【００５６】
（プレチルト角の制御）
本実施形態３に係る配向膜３２９は、液晶材料３０のプレチルト角を所定範囲に制御可能なものとされる。
液晶材料３０のプレチルト角は、配向膜３２９として液晶材料を基板に対して水平に配向させる水平配向膜を用いる場合には、応答速度を速くする観点から、０°より大きく１０°以下に制御されることが好ましく、そのうえで、大きな容量変調を得る観点から、０°より大きく５°以下に制御されることがより好ましい。或いは、配向膜３２９として液晶材料を基板に対して垂直に配向させる垂直配向膜を用いる場合には、応答速度を速くする観点から、９０°より小さく８０°以上に制御されることが好ましく、そのうえで、大きな容量変調を得る観点から、９０°より小さく８５°以下に制御されることがより好ましい。図３は、配向膜３２９が９０°より小さく８０°以上のプレチルト角を付与するように処理された場合について例示している。
【００５７】
配向膜３２９には、ラビングや光照射等の配向処理が施されることが好ましい。適切な条件下で配向膜３２９を配向処理することにより、液晶材料３０のプレチルト角を上記範囲に制御可能となる。
配向処理の条件は、予備実験等によって選定できる。例えば、光配向性基を有する光配向膜３２９に光配向処理を施す際の光配向処理条件、すなわち偏光ＵＶの波長や強度、基板に対する照射角度について、これらのパラメータを漸次変化させて処理した基板を用いて一連の評価用液晶セルを作製し、クリスタル・ローテーション法等の既知の測定方法によって液晶材料のプレチルト角を測定し、得られた結果に基づいて選定できる。或いは、ラビングにより配向処理が施される場合の処理条件は、ラビング配向処理条件、すなわちラビング布種、強度、速度、回数等のパラメータを変えて作製した一連の評価用液晶セルについて液晶材料のプレチルト角等を測定し、選定できる。
【００５８】
（配向分割制御構造）
また、本実施形態３に係る液晶セル３０１は、液晶材料３０がエリア毎に異なる方向に配向された分割配向制御構造を有する。
配向膜３２９に配向処理を施す際、エリア毎に条件を変えて処理を行うことで、分割配向制御構造を有するものとすることができる。例えば、光配向性基を有する光配向膜３２９に対し、マスク等で基板を部分的に被覆した状態で第１回目の光照射を行い、マスクを変更もしくは移動させ第１回目の光照射の際とは異なるエリアが露光されるようにして、第１回目の光照射とは異なる条件で第２回目の光照射を行うことで、液晶材料３０をエリア毎に異なる方向や角度に配向させる配向膜３２９が得られ、分割配向制御構造を有する液晶セル３０１が得られる。この際の分割照射回数を変えれば、表示領域を任意のエリア数に分割できる。なお、対向基板３２０のガラス基板２１として、微細な線状突起（土手状構造物）や電極部に形成したスリット（溝状構造物）からなる凹凸による配向規制用構造物を設けたものを使用し、配向分割制御構造を得ることも可能である。
【００５９】
図３（Ｂ）には、基板の左右半分ずつをマスク被覆し、基板の板面に対し異なる方向からの偏光ＵＶ照射を行って２分割型としたＶＡモードの液晶セル３０１を例示している。図３（Ｂ）において、液晶層３１を構成する液晶材料のうち、対向基板３２０近傍に配される液晶材料３０Ａ，３０Ｂには、配向膜３２９によって９０°より小さく８０°以上のプレチルト角が付与される。このうち左側に配される液晶材料３０Ａには、左側の配向膜３２９Ａによってプレチルト角が付与され、図３において、対向基板３２０に対して時計回りに９０°より小さく８０°以上の角度で立ち上がるように配向される。他方、液晶層３１の右側に配される液晶材料３０Ｂには、右側の配向膜３２９Ｂによってプレチルト角が付与され、図３において、対向基板３２０に対して反時計回りに９０°より小さく８０°以上の角度で立ち上がるように配向される。このように、エリア毎に、液晶材料３０Ａと液晶材料３０Ｂの配向方向や角度を変えることができる。なお、液晶層３１を構成する液晶材料のうち、アレイ基板１０側に配される液晶材料３０Ｃは、配向制御層４１等によって配向が規定され、基板３１０，３２０に対して略垂直（９０°）に配向するものとされている。
なお、配向分割制御構造は、図３に示した２分割型に限定されるものではなく、例えば、基板の３／４をマスク被覆した偏光ＵＶ照射を４回に分けて行って４分割型の液晶セルとしてもよい。
【００６０】
配向膜を全く有しない配向膜レス液晶配向技術では、液晶組成物の材料設計のみによって液晶の配向を制御する必要があり、液晶層３１中における液晶材料３０の配向角度（プレチルト角）を細かく制御することは困難である。
本実施形態３の構成によれば、アレイ基板（他の基板）３１０には配向膜を形成せずこれに伴う不具合の発生を回避しながら、対向基板（一の基板）３２０に形成された配向膜３２９を適切な条件下で配向処理することで、対向基板３２０側において液晶材料のプレチルト角を比較的任意に制御できる。プレチルト角が０°より大きく１０°以下、もしくは、９０°より小さく８０°以上となるように液晶材料３０の配向を制御することで、水平配向モードもしくは垂直配向モードの液晶表示装置において、液晶材料の電界反応を起こり易くして、応答速度を高速化できる。
【００６１】
配向膜レス液晶配向技術において液晶の配向をエリア毎に変えるためには、配向制御層の性質が部分的に相違するように制御する必要があり、配向分割制御を行うことは難しい。
本実施形態３の構成によれば、アレイ基板（他の基板）３１０には配向膜を形成せずこれに伴う不具合の発生を回避しながら、配向膜３２９を有する対向基板（一の基板）３２０において液晶材料３０を異なる方向や角度に配向させる複数のエリアを形成することにより、液晶セル３０１の配向分割制御を行い、駆動電圧の低減及び広視野角化を図ることができる。
【００６２】
＜実施形態４：液晶材料のプレチルト角を所定範囲に制御可能な配向膜を有するアレイ基板と、カラーフィルタ層及びセル内位相差層を有し配向膜を有しない対向基板と、を備えた液晶表示装置＞
実施形態４を、図４によって説明する。本実施形態４は、従来型の配向膜４１９を有するアレイ基板４１０側において液晶材料に所定範囲のプレチルトが付与される点において、実施形態２と相違している。また、実施形態２では、アレイ基板２１０に画素電極１５及び共通電極１３が形成された構成について記したが、本実施形態４では、アレイ基板４１０には共通電極が形成されておらず、替わりに、対向基板４２０に対向電極２３が形成された構成について記載する。なお、図４（Ｂ）は、アレイ基板４１０側において液晶材料３０に所定範囲のプチルト角が付与されたＥＣＢモードの液晶セル４０１を表している。
【００６３】
（対向基板）
図４（Ａ）に示すように、対向基板４２０には、ガラス基板２１側から順に、カラーフィルタ層２２及びセル内位相差層２４、対向電極２３が形成されている。
【００６４】
（アレイ基板）
図４（Ａ）に示すように、アレイ基板４１０のガラス基板１１上には、画素電極１５が形成されており、画素電極１５の液晶層３１側に、従来型の配向膜４１９が積層形成される。
【００６５】
（配向膜）
配向膜４１９は、実施形態２に係る配向膜１９と同様、対向基板４２０の最も液晶層３１側に配向膜形成樹脂を塗布し、高温処理して形成させたものである。配向膜形成樹脂としては、配向膜１９に使用されるのと同様の樹脂を用い、配向膜１９と同様の方法によって形成させることができる。図４には、配向膜４１９として水平配向膜を用いた場合について例示している。
【００６６】
（プレチルト角の制御）
本実施形態４に係る配向膜４１９は、実施形態３に係る配向膜３２９と同様、液晶材料３０のプレチルト角を所定範囲に制御可能なものとされる。配向膜４１９は、配向膜３２９と同じく、水平配向膜を用いる場合には、応答速度を速くする観点から、０°より大きく１０°以下に制御されることが好ましく、そのうえで大きな容量変調を得る観点から、０°より大きく５°以下に制御されることがより好ましい。或いは、配向膜４１９として垂直配向膜を用いる場合には、応答速度を速くする観点から、９０°より小さく８０°以上に制御されることが好ましく、そのうえで大きな容量変調を得る観点から、９０°より小さく８５°以下に制御されることがより好ましい。
【００６７】
図４（Ｂ）には、アレイ基板４１０近傍に配された液晶材料３０Ｄに所定範囲のプレチルト角が付与されたＥＣＢモードの液晶セル４０１を例示している。図４（Ｂ）において、液晶層３１を構成する液晶材料のうち、アレイ基板４１０近傍に配される液晶材料３０Ｄには、０°より大きく１０°以下のプレチルト角が配向膜４１９によって付与される一方、対向基板４２０側に配される液晶材料３０Ｅは、配向制御層４２等によって配向が規定され、基板４１０，４２０に対して略水平（０°）に配向するものとされている。
【実施例】
【００６８】
以下、実施例に基づいて本技術をさらに詳細に説明する。なお、本技術はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。
【００６９】
＜実施例１＞
（液晶組成物の調製）
ネガ型液晶材料中に、水平配向性発現基としてカルコン基を有する下記化学式（１）のラジカル重合性モノマー１．２ｗｔ％を含有させて、ネガ型の液晶組成物（ネマティック−等方相転移温度Ｔｎｉ：８５℃、誘電率異方性Δε：−３．５、光学異方性Δｎ：０．０９５）を調製した。
【００７０】
【化４】
2019049605.tif 000006
【００７１】
（液晶セルの作製）
上記によって調製したネガ型の液晶組成物を用い、以下のようにして、図１に示す実施形態１に係る液晶セル１を作製した。
ガラス基板１１の一方の板面上に、ポジ型レジストとしてＮＱＤを含む有機絶縁膜１２と、ＩＴＯからなる共通電極１３と、ＳｉＮからなる無機絶縁膜１４と、ＩＴＯからなる画素電極１５と、が順次積層形成されたアレイ基板１０を用意した。
他方、電極を有しないガラス基板２１を用意し、この一方の板面に、液晶を水平配向させる光配向基としてアゾベンゼン基を含有するポリアミック酸配向剤を塗布し、９０℃５分間の仮焼成、１２０℃２０分間の一次本焼成、法線方向からの偏光ＵＶ照射（２Ｊ／ｃｍ２、３６５ｎｍ）による光配向処理、２３０℃４０分間の二次本焼成、を順次行って、液晶を水平に配向させる配向膜２９を形成させ（配向膜形成工程）、対向基板２０とした。
次に、アレイ基板１０の画素電極１５が形成された側の板面に、ディスペンサを使用して紫外線硬化型シール剤を描画し、対向基板２０の配向膜２９が形成された側の板面の所定位置に、上記によって調製したネガ型液晶組成物を滴下した。続いて、真空下にて両基板１０，２０を貼り合わせ、シール剤を紫外光にて硬化させた（配置工程）。
続いて、９５℃の加温状態で、アレイ基板１０側（ポリアミック酸光配向膜を形成していない基板側）から偏光ＵＶを照射（５Ｊ／ｃｍ２、３６５ｎｍ）して、液晶組成物５０中の重合性モノマー４０を重合させ、液晶層３１と両基板１０，２０との界面に、液晶を水平に配向させる配向制御層４１，４２を形成させた（重合工程）。
以上のようにして、ＮＱＤ含有有機絶縁膜１２を有し配向膜を有しないアレイ基板１０と、配向膜２９を有する対向基板２０と、を備えた実施例１の水平配向液晶セル１を完成させた。
【００７２】
＜比較例１＞
一対のガラス基板の双方の対向配置される板面の最表層に、実施例１と同様の工程によってポリアミック酸系水平光配向膜を形成し、偏光ＵＶ照射による光配向処理を施したほかは、実施例１と同様にして、比較例１の液晶セルを作製した。
これにより、ＮＱＤ含有有機絶縁膜及び配向膜を有するアレイ基板と、配向膜を有する対向基板と、を備えた比較例１の水平配向液晶セルを得た。
【００７３】
＜比較例２＞
一対のガラス基板の何れの基板上にも、ポリアミック酸系水平光配向膜を形成しなかったほかは、実施例１と同様にして、比較例２の液晶セルを作製した。
これにより、ＮＱＤ含有有機絶縁膜を有し配向膜を有しないアレイ基板と、配向膜を有しない対向基板と、を備えた比較例２の水平配向液晶セルを得た。
【００７４】
＜比較例３＞
ＮＱＤ含有有機絶縁膜と、ＩＴＯから成る共通電極と、ＳｉＮ無機絶縁膜と、ＩＴＯからなる画素電極と、が順次積層形成されたガラス基板の板面の最表層に、実施例１と同様の工程によってポリアミック酸系水平光配向膜を形成し、偏光ＵＶ照射による光配向処理を施した。他方、電極を有しないガラス基板には、ポリアミック酸系水平光配向膜を形成しなかった。そのほかは、実施例１と同様にして、比較例３の液晶セルを作製した。
これにより、ＮＱＤ含有有機絶縁膜及び配向膜を有するアレイ基板と、配向膜を有しない対向基板と、を備えた比較例３の水平配向液晶セルを得た。
【００７５】
〔実施例１、及び比較例１から比較例３の液晶セルの評価〕
［コントラストの評価（高温ＢＬ暴露試験）］
評価対象とする各液晶セルについて、トプコン社製ＵＬ−１を用い、２５℃環境下で、黒表示時の照度と白表示時の照度を測定し、コントラストを求めた（初期）。その後、８０℃環境下におけるバックライト（ＢＬ：Back Light）暴露（エージング）を１０００時間行う高温ＢＬ暴露試験を行い、高温ＢＬ暴露試験後の各液晶セルについても、試験前と同様の測定条件でＶＨＲを測定した（高温ＢＬ１０００ｈ暴露試験後）。結果を、表１に示す。
【００７６】
［電圧保持率（ＶＨＲ：Voltage Holding Ratio）の測定（高温ＢＬ暴露試験）］
評価対象とする各液晶セルについて、東陽テクニカ社製６２５４型ＶＨＲ測定システムを用いて、１Ｖ、７０℃の条件で、ＶＨＲを測定した（初期）。その後、８０℃環境下で１０００時間ＢＬ暴露する高温ＢＬ暴露試験を行い、高温ＢＬ暴露試験後の各液晶セルについても、試験前と同様の測定条件でＶＨＲを測定した（高温ＢＬ１０００ｈ暴露試験後）。結果を、表１に示す。
【表１】
2019049605.tif 000007
【００７７】
表１に示すように、ＮＱＤ含有有機絶縁膜を有する基板には従来型の配向膜を形成せず、他方の基板のみに配向膜を形成した実施例１の液晶セルは、１０００時間の高温ＢＬ曝露試験前後で高いコントラストとＶＨＲを示した。
一方、両基板に従来型の配向膜を形成した比較例１の液晶セルでは、初期のＶＨＲが９７％台と低く、１０００時間の高温ＢＬ曝露試験後には、コントラストとＶＨＲがさらに低下した。従来型の配向膜を形成する工程において、ＮＱＤ含有有機絶縁膜を有する基板を２３０℃に加熱したため、図５に示す反応によってＮＱＤからカルボン酸が形成され、それが液晶層にわずかに溶出したこと、さらには高温ＢＬ曝露中にカルボン酸が水分を取り込んだことが原因と考えられる。
両基板に従来型の配向膜を形成しなかった比較例２の液晶セルでは、高温ＢＬ曝露試験前後でのコントラスト及びＶＨＲの変化はゼロもしくは比較的小さかったものの、高温ＢＬ曝露試験前後でのコントラストが何れも１２００台と低かった。比較例２の液晶セルは従来型の配向膜を全く有していないため、液晶配向性（液晶層の配向度）自体が低かったこと、もしくは配向制御層が均一に形成されておらず、部分的に液晶配向が不十分な箇所があったこと等が原因と考えられる。
実施例１とは逆に、ＮＱＤ含有有機絶縁膜を有する基板のみに従来型の配向膜を形成し、他方の基板には配向膜を形成しなかった比較例３の液晶セルでは、比較例１と同様、ＶＨＲが初期から既に低く、高温ＢＬ曝露試験後にはさらに低下した。原因は比較例１と同じと考えられる。
【００７８】
［表示信頼性の評価］
実施例１で作製したのと同様の構成の液晶セル１により、図６に示す評価用の狭額縁液晶表示パネルを作製した。図６に示すように、アレイ基板１０の対向基板非重畳領域の幅は１．２ｍｍとし、この領域に形成した端子部ＴＲに、電線Ｗ等を介して外部電源と接続した。
比較例１で作製したのと同様の構成の液晶セルによっても、図６と同じ評価用の狭額縁液晶表示パネルを作成し、各液晶表示パネルについて、目視により表示ムラの有無を確認した。
【００７９】
実施例１の液晶セルと同じく、ＮＱＤ含有有機絶縁膜を有するアレイ基板には従来型の配向膜を形成せず、対向基板のみに従来型の配向膜を形成した構成の液晶表示パネルでは、表示ムラは確認されなかった。
一方、比較例１の液晶セルと同じく、ＮＱＤ含有有機絶縁膜を有するアレイ基板と、対向基板の両基板に従来型の配向膜を形成した構成の液晶表示パネルでは、端子部ＴＲ（配線取り出し部）にも配向膜が形成されたため、電圧印加が不安定となり、表示ムラが確認された。
【００８０】
＜実施例２＞
（液晶組成物の調製）
実施例１と同様にして、上記化学式（１）を含有するネガ型液晶組成物を調製した。
【００８１】
（液晶セルの作製）
上記によって調製したネガ型の液晶組成物を用い、以下のようにして、図２に示す実施形態２に係る液晶セル２０１を作製した。
ガラス基板２１の一方の板面上に、カラーフィルタ層２２と、セル内位相差層２４と、が順次積層形成された電極を有しない対向基板２２０を用意した。
他方、ＩＴＯからなる共通電極１３と、ＳｉＮからなる無機絶縁膜１４と、ＩＴＯからなる画素電極１５と、が一方の板面上に順次積層形成されたガラス基板１１を用意し、当該板面の最表層に、液晶を水平配向させる光配向基としてシクロブタン環を含有するポリアミック酸配向剤を塗布し、９０℃２分間の仮焼成、２００℃２０分間の一次本焼成、法線方向からの深紫外偏光ＵＶ照射（２００ｍＪ／ｃｍ２、２５０ｎｍ）による光配向処理、２３０℃４０分間の二次本焼成、を順次行って、液晶を水平に配向させる配向膜１９を形成させ（配向膜形成工程）、アレイ基板２１０とした。
次に、両基板２１０，２２０のうちの一方の基板上に、ディスペンサを使用して紫外線硬化性シール剤を描画し、もう一方の基板上の所定の位置に、上記によって調製したネガ型液晶組成物を滴下した。続いて、真空下にて両基板２１０，２２０を貼り合わせ、シール剤を紫外光にて硬化させた（配置工程）。
続いて、９５℃の加温状態で、アレイ基板２１０側（ポリアミック酸光配向膜が形成されている基板側）から偏光ＵＶを照射（５Ｊ／ｃｍ２、３６５ｎｍ）して、液晶組成物５０中の重合性モノマー４０を重合させ、液晶層３１と両基板１０，２０との界面に、液晶を水平に配向させる配向制御層４１，４２を形成させた（重合工程）。
以上のようにして、配向膜１９を有するアレイ基板２１０と、カラーフィルタ層２２及びセル内位相差層２４を有し配向膜を有しない対向基板２２０と、を備えた実施例２の水平配向液晶セル２０１を完成させた。
【００８２】
＜比較例４＞
一対のガラス基板の双方の対向配置される板面の最表層に、実施例２と同様の工程によってポリアミック酸系水平光配向膜を形成し、偏光ＵＶ照射による光配向処理を施したほかは、実施例２と同様にして、比較例４の液晶セルを作製した。
これにより、配向膜を有するアレイ基板と、カラーフィルタ層、セル内位相差層、及び配向膜を有する対向基板と、を備えた比較例４の水平配向液晶セルを得た。
【００８３】
＜比較例５＞
一対のガラス基板の何れの基板上にも、ポリアミック酸系水平光配向膜を形成しなかったほかは、実施例２と同様にして、比較例５の液晶セルを作製した。
これにより、配向膜を有しないアレイ基板と、カラーフィルタ層及びセル内位相差層を有し、配向膜を有しない対向基板と、を備えた比較例５の水平配向液晶セルを得た。
【００８４】
＜比較例６＞
カラーフィルタ層及びセル内位相差層が順次積層形成された電極を有しないガラス基板の板面の最表層に、実施例２と同様の工程によってポリアミック酸系水平光配向膜を形成し、偏光ＵＶ照射による光配向処理を施した。他方、ＩＴＯから成る共通電極と、ＳｉＮからなる無機絶縁膜と、ＩＴＯからなる画素電極と、が一方の板面上に順次積層形成されたガラス基板には、ポリアミック酸系水平配向膜を形成しなかった。そのほかは、実施例２と同様にして、比較例６の液晶セルを作製した。
これにより、配向膜を有しないアレイ基板と、カラーフィルタ層、セル内位相差層及び配向膜を有する対向基板と、を備えた比較例６の水平配向液晶セルを得た。
【００８５】
〔実施例２、及び比較例４から比較例６の液晶セルの評価〕
［コントラストの評価（高温ＢＬ暴露試験）及びＶＨＲの測定（高温ＢＬ暴露試験）］
評価対象とする各液晶セルについて、実施例１等と同様の条件で、高温ＢＬ暴露試験前後のコントラストを求め、高温ＢＬ暴露試験前後のＶＨＲを測定した。結果を、表２に示す。
【００８６】
【表２】
2019049605.tif 000008
【００８７】
表２に示すように、セル内位相差層を有する基板には従来型の配向膜を形成せず、他方の基板のみに配向膜を形成した実施例２の液晶セルは、１０００時間の高温ＢＬ曝露試験前後で高いコントラストとＶＨＲを示した。
一方、両基板に従来型の配向膜を形成した比較例４の液晶セルでは、初期のＶＨＲが９７％台と低く、初期のコントラストも実施例２と比べて低かった。そして、１０００時間の高温ＢＬ曝露試験後には、ＶＨＲのさらなる低下が確認された。従来型の配向膜を形成する工程において、セル内位相差層を有する基板を２３０℃に加熱したため、セル内位相差層の配向度が熱によって低下し、リタデーション（位相差）が変化したことが原因と考えられる。また、初期の低ＶＨＲについては、セル内位相差層の材料の一部が配向膜形成工程における高温によって分解し、液晶層に溶出したことが要因と推測される。
両基板に従来型の配向膜を形成しなかった比較例５の液晶セルでは、高温ＢＬ曝露試験前後でのコントラストおよびＶＨＲの変化は比較的小さかったものの、高温ＢＬ曝露試験前後でのコントラストが１１００台と実施例２に比べて低かった。比較例５の液晶セルは従来型の配向膜を全く有していないため、液晶配向性自体が低かったこと、もしくは配向制御層が均一に形成されておらず、部分的に液晶配向が不十分な場所があったこと等が原因と考えられる。
実施例２とは逆に、セル内位相差層を有する基板のみに従来型の配向膜を形成し、他方の基板には配向膜を形成しなかった比較例６の液晶セルでは、比較例４と同様、コントラストおよびＶＨＲが初期で既に低く、高温ＢＬ曝露によってさらに低下した。原因は比較例４と同じと考えられる。
【００８８】
＜実施例３＞
（液晶組成物の調製）
ネガ型液晶材料中に、垂直配向性発現基として直鎖アルキル基を有する下記化学式（３）のラジカル重合性モノマー１．２ｗｔ％と、下記化学式（４）のラジカル重合性モノマー０．３ｗｔ％と、を含有させて、ネガ型の液晶組成物（Ｔｎｉ：７５℃、Δε：−２．８、Δｎ：０．０９５）を調製した。
【００８９】
【化５】
2019049605.tif 000009
【００９０】
【化６】
2019049605.tif 000010
【００９１】
（液晶セルの作製）
上記によって作成したネガ型の液晶組成物を用い、以下のようにして、図３に示す実施形態３に係る液晶セル３０１を作製した。
ガラス基板３１１の一方の板面上に、ポジ型レジストとしてＮＱＤを含む有機絶縁膜１２と、ＩＴＯからなる画素電極１５と、が積層形成されたアレイ基板３１０を用意した。
他方、ＩＴＯからなる対向電極２３を有するガラス基板２１を用意し、この対向電極２３が形成された側の板面に、液晶を垂直配向させる光配向基としてシンナメート基を含有するポリアミック酸配向剤を塗布し、９０℃５分間の仮焼成、２３０℃４０分間の本焼成を順次行って、液晶を垂直に配向させる配向膜２９を形成させ（配向膜形成工程）、対向基板３２０とした。続いて、マスクを介して基板の半分のエリアに斜め４０°方向から偏光ＵＶを照射（２０ｍＪ／ｃｍ２、３１３ｎｍ）照射し、さらに残り半分のエリアに斜め−４０°方向から偏光ＵＶを照射（２０ｍＪ／ｃｍ２、３１３ｎｍ）照射する光配向処理を行った。なお、この処理条件は、プレチルト角が８７°になることを予備実験によって確認した条件である。
次に、両基板３１０，３２０のうち一方の基板に、ディスペンサを使用して紫外線硬化性シール剤を描画し、もう一方の基板上の所定の位置に、上記によって調製したネガ型液晶組成物を滴下した。続いて、真空下にて両基板３１０，３２０を貼り合わせ、シール剤を紫外光にて硬化させた（配置工程）。
続いて、９０℃の加温状態で、アレイ基板３１０側（ポリアミック酸光配向膜を形成していない基板側）から、無偏光ＵＶを照射（５Ｊ／ｃｍ２、３６５ｎｍ）して、液晶組成物５０中の重合性モノマー４０を重合させ、液晶層３１と両基板１０，２０との界面に、液晶を垂直に配向させる配向制御層４１，４２を形成させた（重合工程）。
以上のようにして、ＮＱＤを含む有機絶縁膜３１２を有し配向膜を有しないアレイ基板３１０と、配向膜３２９を有する対向基板３２０と、を備えた実施例３の２分割垂直配向液晶セル３０１を完成させた。
【００９２】
＜比較例７＞
一対のガラス基板の双方の対向配置される板面の最表層に、実施例３と同様の工程によってポリアミック酸系垂直光配向膜を形成し、２分割偏光ＵＶ照射による光配向処理を施したほかは、実施例３と同様にして、比較例７の液晶セルを作製した。
これにより、ＮＱＤを含む有機絶縁膜及び配向膜を有するアレイ基板と、配向膜を有する対向基板と、を備えた比較例７の２分割垂直配向液晶セルを得た。
【００９３】
＜比較例８＞
一対のガラス基板の何れの基板上にも、ポリアミック酸系垂直光配向膜を形成しなかったほかは、実施例３と同様にして、比較例８の液晶セルを作製した。
これにより、ＮＱＤを含む有機絶縁膜を有し配向膜を有しないアレイ基板と、配向膜を有しない対向基板と、を備えた比較例８の垂直配向液晶セルを得た。
【００９４】
＜比較例９＞
ＮＱＤ含有有機絶縁膜と、ＩＴＯから成る画素電極と、が順次積層形成されたガラス基板の板面の最表層に、実施例３と同様の工程によってポリアミック酸系垂直光配向膜を形成し、２分割偏光ＵＶ照射による光配向処理を施した。他方、ＩＴＯからなる対向電極が形成されたガラス基板には、ポリアミック酸系垂直光配向膜を形成しなかった。そのほかは、実施例３と同様にして、比較例９の液晶セルを作製した。
これにより、ＮＱＤ含有有機絶縁膜及び配向膜を有するアレイ基板と、配向膜を有しない対向基板と、を備えた比較例９の２分割垂直配向液晶セルを得た。
【００９５】
〔実施例３、及び比較例７から比較例９の液晶セルの評価〕
［応答特性の評価］
評価対象とする各液晶セルの応答特性（立ち上がりｔｒおよび立下りｔｄ）を、Ｐｈｏｔａｌ５２００（大塚電子社製）を用いて評価した。応答特性の評価は、２．５Ｖ〜７．５Ｖ間の応答時間を、２５℃オーブン中で測定することにより行った。結果を、表３に示す。
【００９６】
［コントラストの評価（多角度）］
評価対象とする各液晶セルについて、トプコン社製ＵＬ−１を用い、２５℃環境下で、正面、斜め２０°、及び−２０°の方向から黒表示時の照度と白表示時の照度を測定し、コントラストを求めた。結果を、表３に示す。
【００９７】
［ＶＨＲの測定（高温ＢＬ暴露試験）］
評価対象とする各液晶セルについて、実施例１等と同様の条件で、高温ＢＬ暴露試験前後のＶＨＲを測定した。結果を、表３に示す。
【００９８】
【表３】
2019049605.tif 000011
【００９９】
表３に示すように、ＮＱＤ含有有機絶縁膜を有する基板には従来型の配向膜を形成せず、他方の基板のみに配向膜を形成し、分割配向処理を施した実施例３の液晶セルは、応答が速く、正面、斜め方向とも高コントラストが得られ、さらにＶＨＲも高かった。
一方、両基板に従来型の配向膜を形成した比較例７の液晶セルでは、高速応答、高コントラストが得られたものの、ＶＨＲが１０００時間の高温ＢＬ曝露試験前後とも低かった。従来型の配向膜を形成する工程において、ＮＱＤ含有有機絶縁膜を有する基板を２３０℃に加熱したため、有機絶縁膜中のＮＱＤの図５に示すカルボン酸化と液晶層への溶出、さらには水分取り込みが起こったためと考えられる。
両基板に従来型の配向膜を形成しなかった比較例８の液晶セルでは、応答特性（特に立ち上がりｔｒ）が極端に遅くなった。配向制御層のみではプレチルト角を９０°より小さく８０°以上となるように調整することが難しく、この液晶セル中の液晶材料はほとんどが電圧無印加の状態で垂直に配向（チルト角が９０°）しており、電圧印加によって液晶材料が倒れる方向を規定できていないためと考えられる。
実施例３とは逆に、ＮＱＤ含有有機絶縁膜を有する基板のみに従来型の配向膜を形成し、他方の基板には配向膜を形成しなかった比較例９の液晶セルでは、比較例７と同様、ＶＨＲが初期で既に低く、高温ＢＬ曝露によってさらに低下した。原因は比較例７と同じと考えられる。
比較例８では、両基板ともプレチルト角が９０°であることから、黒表示時に光漏れが非常に小さくコントラストは高いが、その分応答速度が非常に遅くなった。
【０１００】
＜実施例４＞
（液晶組成物の調製）
ポジ型液晶材料中に、水平配向性発現基としてアゾベンゼン基を有する下記化学式（４）のラジカル重合性モノマー１．２ｗｔ％を含有させて、ポジ型の液晶組成物（Ｔｎｉ：７０℃、Δε：２．２、Δｎ：０．１２）を調製した。
【０１０１】
【化７】
2019049605.tif 000012
【０１０２】
（液晶セルの作製）
上記によって調製したポジ型の液晶組成物を用い、以下のようにして、図４に示す実施形態４に係る液晶セル４０１を作製した。
ガラス基板２１の一方の板面上に、カラーフィルタ層２２と、セル内位相差層２４と、ＩＴＯからなる対向電極２３と、が順次積層形成された対向基板４２０を用意した。
他方、ＩＴＯからなる画素電極１５が一方の板面上に形成されたガラス基板１１を用意し、画素電極１５側の面に、液晶を水平配向させるラビング型ポリアミック酸配向剤を塗布し、９０℃２分間の仮焼成、２００℃４０分の本焼成を順次行って、液晶を水平に配向させる配向膜４１９を形成させ（配向膜形成工程）アレイ基板４１０とした。続いて、プレチルト角が４°になる条件でラビング配向処理を施した。なお、ラビング配向処理の条件は、予備実験によって選定した。
次に、両基板４１０，４２０のうち一方の基板に、ディスペンサを使用して紫外線硬化性シール剤を描画し、もう一方の基板上の所定の位置に、上記によって調製したポジ型液晶組成物を滴下した。続いて、真空下にて両基板４１０，４２０を貼り合わせ、シール剤を紫外光にて硬化させた（配置工程）。
続いて、８５℃の加温状態で、アレイ基板４１０側（ポリアミック酸配向膜が形成されている基板側）から、偏光ＵＶを照射（５Ｊ／ｃｍ２、３６５ｎｍ）して、液晶組成物５０中の重合性モノマー４０を重合させ、液晶層３１と両基板１０，２０との界面に、液晶を水平に配向させる配向制御層４１，４２を形成させた（重合工程）。
以上のようにして、配向膜４１９を有するアレイ基板４１０と、カラーフィルタ層２２及びセル内位相差層２４を有し配向膜を有しない対向基板４２０と、を備えた液晶セル４０１を完成させた。
【０１０３】
＜比較例１０＞
一対のガラス基板の双方の対向配置される板面の最表層に、実施例３と同様の工程によってポリアミック酸系水平光配向膜を形成し、ラビング配向処理を施したほかは、実施例４と同様にして、比較例１０の液晶セルを作製した。
これにより、配向膜を有するアレイ基板と、カラーフィルタ層、セル内位相差層、及び配向膜を有する対向基板と、を備えた比較例１０の水平配向液晶セルを得た。
【０１０４】
＜比較例１１＞
一対のガラス基板の何れの基板上にも、ポリアミック酸系水平光配向膜を形成しなかったほかは、実施例４と同様にして、比較例１１の液晶セルを作製した。
これにより、配向膜を有しないアレイ基板と、カラーフィルタ層及びセル内位相差層を有し、配向膜を有しない対向基板と、を備えた比較例１１の水平配向液晶セルを得た。
【０１０５】
＜比較例１２＞
カラーフィルタ層、セル内位相差層、ＩＴＯからなる対向電極、が順次積層形成されたガラス基板の板面の最表層に、実施例４と同様の工程によってポリアミック酸系水平光配向膜を形成し、ラビング配向処理を施した。他方、ＩＴＯからなる画素電極が一方の板面上に形成されたガラス基板には、ポリアミック酸系水平配向膜を形成しなかった。そのほかは、実施例４と同様にして、比較例１２の液晶セルを作製した。
これにより、配向膜を有しないアレイ基板と、カラーフィルタ層、セル内位相差層及び配向膜を有する対向基板と、を備えた比較例１２の水平配向液晶セルを得た。
【０１０６】
〔実施例４、及び比較例１０から比較例１２の液晶セルの評価〕
［応答特性の評価、コントラストの評価、及びＶＨＲの測定（高温ＢＬ暴露試験）］
評価対象とする各液晶セルについて、測定電圧範囲を０．５Ｖ〜６．５Ｖとした以外は実施例３等と同様の条件で、応答特性を評価した。
コントラストについては、実施例３等と同様の条件で、正面からのみ評価した。
ＶＨＲについては、実施例１等と同様の条件で、高温ＢＬ暴露試験前後のＶＨＲを測定した。
結果を、表４に示す。
【０１０７】
【表４】
2019049605.tif 000013
【０１０８】
表４に示すように、セル内位相差層を有する基板には従来型の配向膜を形成せず、他方の基板のみに配向膜を形成した実施例４の液晶セルは、高速応答、高コントラスト、高ＶＨＲを示した。
一方、両基板に従来型の配向膜を形成した比較例１０の液晶セルは、コントラストが低く、ＶＨＲも実施例４と比較して若干低い値を示した。従来型の配向膜を形成する工程において、セル内位相差層を有する基板を２００℃に加熱したため、セル内位相差層の配向度が熱によって低下しリタデーションが変化したことが原因と考えられる。また、初期ＶＨＲの低下については、セル内位相差層材料の一部が配向膜形成工程における高温によって分解し、液晶層にわずかに溶出したことが要因と推測される。
両基板に従来配向膜を形成しなかった比較例１１の液晶セルでは、応答特性（特に立ち上がりｔｒ）が極端に遅くなった。配向制御層のみではプレチルト角を０°より大きく５°以下となるように調整することが難しく、この液晶セル中の液晶材料はほとんどが電圧無印加の状態で水平に配向（チルト角が０°）しており、電圧印加によって液晶材料が動く方向を規定できていないためと考えられる。
実施例４とは逆に、セル内位相差層を有する基板のみに従来型の配向膜を形成し、他方の基板には配向膜を形成しなかった比較例１２の液晶セルでは、比較例１０と同様、コントラスト及びＶＨＲが低かった。原因は比較例１０と同じと考えられる。
比較例１１では、両基板ともプレチルト角がほぼ０°であることから、黒表示時に光漏れが非常に小さくコントラストは高いが、その分応答速度が非常に遅くなった。
【符号の説明】
【０１０９】
１，２０１，３０１，４０１…液晶セル、１１，２１…ガラス基板、１０，２１０，３１０，４１０…アレイ基板、２０，２２０，３２０，４２０…対向基板、１９，２９，３１９，４１９…（従来型）配向膜、３０…液晶材料、３１…液晶層、４０…重合性モノマー、４１，４２…配向制御層、５０…液晶組成物
【図１】
2019049605.tif 000014
【図２】
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【図３】
2019049605.tif 000016
【図４】
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【図５】
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【図６】
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