(57)【要約】【課題】接触する部材や用紙が成分の移行によって汚染されるのを抑制して、画質の良好な画像を形成できる、ローラ本体等の非多孔質体のもとになるゴム組成物、当該ゴム組成物を架橋させた非多孔質体からなるローラ本体を含むゴムローラ、および当該ゴムローラを含む画像形成装置を提供する。【解決手段】ゴム組成物は、ジエン系ゴム、およびエチレンプロピレン系ゴムからなる群より選ばれた少なくとも１種、ならびにイオン導電性ゴムを含むゴムに、架橋成分とともに、ゼオライト、活性炭、およびケイソウ土からなる群より選ばれた少なくとも１種の微細多孔質粒子を配合した。ゴムローラ１は、上記ゴム組成物を筒状に押出成形し、架橋させて形成したローラ本体２を備える。画像形成装置は、上記ゴムローラ１を組み込んだ。【選択図】図１
2019203075.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子写真法を利用した画像形成装置に用いる非多孔質体を形成するためのゴム組成物であって、
ジエン系ゴム、およびエチレンプロピレン系ゴムからなる群より選ばれた少なくとも１種、ならびにイオン導電性ゴムを含むゴム、
前記ゴムを架橋させるための架橋成分、ならびに
ゼオライト、活性炭、およびケイソウ土からなる群より選ばれた少なくとも１種の微細多孔質粒子
を含み、前記ゴムの総量１００質量部あたりの、前記３種の微細多孔質粒子の合計の配合割合Ｐは、式(1)：
Ｐ≦Ｚ×３５＋Ｃ×２０＋Ｄ×３５      (1)
〔式中、Ｚはゼオライト、Ｃは活性炭、Ｄはケイソウ土の、それぞれ当該３種の微細多孔質粒子の総量を１としたときの質量比を示す。〕
を満足するゴム組成物。
【請求項２】
前記ゴムは、ジエン系ゴム、およびエチレンプロピレン系ゴムからなる群より選ばれた少なくとも１種、ならびにイオン導電性ゴムのみを含む請求項１に記載のゴム組成物。
【請求項３】
前記請求項１または２に記載のゴム組成物からなる、非多孔質のローラ本体を含むゴムローラ。
【請求項４】
前記請求項３に記載のゴムローラを含む画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ゴム組成物、当該ゴム組成物を成形し、架橋させて形成された非多孔質体からなるローラ本体を含むゴムローラ、および当該ゴムローラを含む画像形成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
たとえば、レーザープリンタ、静電式複写機、普通紙ファクシミリ装置、あるいはこれらの複合機等の、電子写真法を利用した画像形成装置においては、近年の市場の成熟化に伴って、形成画像の高画質化や、画像形成速度の高速化が求められる傾向にある。
画像形成装置の部品の一つである転写ローラ等としては、たとえば、ゴムや架橋成分等を含み、かつ導電性が付与されたゴム組成物を筒状に成形したのち架橋させて形成された、導電性のローラ本体を含むゴムローラが用いられる（特許文献１）。
【０００３】
ローラ本体は、画像形成装置内で、その外周面を、感光体やベルト等の部材と直接に接触させて配設されるのが一般的である。
また、転写ローラの場合、ローラ本体の外周面は、画像形成用の用紙とも直接に接触する。
ローラ本体中には、たとえば、圧接力が加わったりした際に、当該ローラ本体の外周面に滲出する成分が含まれていることがある。
【０００４】
かかる成分が外周面に滲出すると、当該外周面と直接に接触する感光体等の部材や用紙に移行し、これらの部材や用紙を汚染して、形成画像の画質を低下させる原因となる場合がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１３−０６７７２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、接触する部材や用紙が成分の移行によって汚染されるのを抑制して、画質の良好な画像を形成できる、ローラ本体等の非多孔質体のもとになるゴム組成物を提供することにある。
また、本発明の目的は、かかるゴム組成物を架橋させた非多孔質体からなるローラ本体を含むゴムローラと、当該ゴムローラを含む画像形成装置とを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、電子写真法を利用した画像形成装置に用いる非多孔質体を形成するためのゴム組成物であって、
ジエン系ゴム、およびエチレンプロピレン系ゴムからなる群より選ばれた少なくとも１種、ならびにイオン導電性ゴムを含むゴム、
前記ゴムを架橋させるための架橋成分、ならびに
ゼオライト、活性炭、およびケイソウ土からなる群より選ばれた少なくとも１種の微細多孔質粒子
を含み、前記ゴムの総量１００質量部あたりの、前記３種の微細多孔質粒子の合計の配合割合Ｐは、式(1)：
Ｐ≦Ｚ×３５＋Ｃ×２０＋Ｄ×３５      (1)
〔式中、Ｚはゼオライト、Ｃは活性炭、Ｄはケイソウ土の、それぞれ当該３種の微細多孔質粒子の総量を１としたときの質量比を示す。〕
を満足するゴム組成物である。
【０００８】
また本発明は、上記ゴム組成物からなる、非多孔質のローラ本体を含むゴムローラである。
さらに本発明は、上記ゴムローラを含む画像形成装置である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、接触する部材や用紙が成分の移行によって汚染されるのを抑制して、画質の良好な画像を形成できる、ローラ本体等の非多孔質体のもとになるゴム組成物を提供することができる。
また、本発明によれば、かかるゴム組成物を架橋させた非多孔質体からなるローラ本体を含むゴムローラと、当該ゴムローラを含む画像形成装置とを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明のゴムローラの、実施の形態の一例を示す斜視図である。
【図２】ゴムローラのローラ抵抗値を測定する方法を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
《ゴム組成物》
上述したように、本発明は、電子写真法を利用した画像形成装置に用いる非多孔質体を形成するためのゴム組成物であって、
ジエン系ゴム、およびエチレンプロピレン系ゴムからなる群より選ばれた少なくとも１種、ならびにイオン導電性ゴムを含むゴム、
前記ゴムを架橋させるための架橋成分、ならびに
ゼオライト、活性炭、およびケイソウ土からなる群より選ばれた少なくとも１種の微細多孔質粒子
を含み、前記ゴムの総量１００質量部あたりの、前記３種の微細多孔質粒子の合計の配合割合Ｐは、式(1)：
Ｐ≦Ｚ×３５＋Ｃ×２０＋Ｄ×３５      (1)
〔式中、Ｚはゼオライト、Ｃは活性炭、Ｄはケイソウ土の、それぞれ当該３種の微細多孔質粒子の総量を１としたときの質量比を示す。〕
を満足することを特徴とするものである。
【００１２】
接触する部材や用紙に移行して汚染のもとになる成分は、たとえば、
・  ゴム等を混練してゴム組成物を調製する際に発生する等してゴム組成物中に含まれていたり、
・  ゴム組成物を非多孔質体の形状に成形して架橋させる際に発生したり、
・  その後の非多孔質体の使用によって発生したり
する。
【００１３】
本発明によれば、いずれも微細な多孔質構造を有する微細多孔質粒子であるゼオライト、活性炭、もしくはケイソウ土が、上記ゴム組成物の調製以降、継続的に、発生した成分を多孔質構造中に吸着して、当該成分が非多孔質体の表面に滲出するのを抑制する。
そのため、たとえば、非多孔質体としてゴムローラのローラ本体を形成する場合は、当該ローラ本体の外周面に上記成分が浸出するのを抑制して、画像形成装置内で当該外周面と直接に接触する部材や用紙が成分の移行によって汚染されるのを抑制できる。
【００１４】
そして、上記ローラ本体を備えたゴムローラを、たとえば転写ローラとして用いた際に、形成画像の画質を向上することができる。
汚染のもとになる成分としては、たとえば、架橋成分等の残滓などが挙げられる。
また、たとえば、架橋反応時に発生する、ポリマーに由来するものなどの比較的低分子量の成分や、ゴムとしてエピクロルヒドリンゴムやクロロプレンゴムを使用する場合は架橋時にこれらのゴムから発生する塩素系ガスなども、汚染のもとになる成分の一つとなる。
【００１５】
ハイドロタルサイト類等の受酸剤を配合すると、当該受酸剤が、陰イオン交換能によって、塩素系ガス中の塩素を捕捉する働きをする。
そのため、架橋されたゴムローラ内に、塩素系ガスが遊離状態のままで残留したり、残留した塩素系ガスが、接触する部材や用紙へ移行したりするのを、ある程度は抑制することができる。
【００１６】
しかし、それ以外の成分は、受酸剤を配合しても、移行を抑制することはできない。
とくに、ゴムローラを転写ローラとして使用して、感光体と所定の圧接力で圧接させた状態で、たとえば、高温高湿環境下、一定期間に亘って静置すると、上記の成分がローラ本体の外周面に滲出し、感光体等に移行して、形成画像の画像不良を生じやすくなる。
これに対し、本発明によれば、微細多孔質粒子として配合したゼオライト、活性炭、ケイソウ土の機能により、たとえ上述した条件下で一定期間静置しても、汚染のもとになる成分がローラ本体の外周面に滲出して感光体等に移行するのを抑制することができる。
【００１７】
そのため、形成画像の画質を向上することができる。
このことは、後述する実施例、比較例の結果からも明らかである。
〈微細多孔質粒子〉
微細多孔質粒子としては、粉体状、粉粒体状、ないしは粒子状等の任意の形状を有する、上述したゼオライト、活性炭、およびケイソウ土からなる群より選ばれた少なくとも１種を用いることができる。
【００１８】
（ゼオライト）
ゼオライトとしては、上述したように、汚染のもとになる成分を吸着する機能を有する種々のゼオライトを用いることができる。
詳しくは、ゼオライトとしては、たとえば、粘土鉱物の１種である結晶性アルミノケイ酸塩の含水アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等からなり、分子レベルの微細な細孔を含む三次元網目状構造を有する、天然物由来の種々の天然ゼオライトが挙げられる。
【００１９】
また、ゼオライトとしては、たとえば、種々の化学物質を出発原料として合成される合成ゼオライト、あるいは石炭灰や製紙スラッジ焼却灰等から再生される人工ゼオライト等を用いることもできる。
ゼオライトの具体例としては、たとえば、方沸石、ホージャサイト、アシュクロフチン、菱沸石、グメリン沸石、レビーナイト、毛沸石、トムソン沸石、ソーダ沸石、モルデン沸石、ギスモンダイト、エジングトナイト、ゴンナルダイト、エピデスミン、濁沸石、束沸石、輝沸石、ヒル沸石、ラウバナイト、パベナイト、ブリューステライト、エピスチルバイト、ウェルサイト、メソ沸石、カイリョク石、ゼオライトＰ、ゼオライトＸ、ゼオライトＹ、ゼオライトＴ、ゼオライトＡ、ゼオライトＬ等が挙げられる。
【００２０】
これらゼオライトの１種または２種以上を用いることができる。
（活性炭）
活性炭としては、種々の製造方法によって製造された、汚染のもとになる成分を吸着する機能を有する各種の活性炭を用いることができる。
活性炭の製造方法としては、たとえば、原料を、水蒸気、二酸化炭素、空気、燃焼ガスなどの活性化ガスと高温で接触させて活性化するガス賦活法や、原料に塩化亜鉛溶液を含浸させて、不活性ガス気流中で加熱して炭化、活性化する薬品賦活法等が挙げられる。
【００２１】
このうち、ガス賦活法によって活性炭を製造する原料としては、たとえば、木材、果実殻（ヤシ殻等）、竹、合成樹脂などの炭化物、褐炭、泥炭、瀝青炭、亜炭、石炭チャーなどの石炭類、石油残渣その他の炭化物が挙げられる。
また、薬品賦活法によって活性炭を製造する原料としては、たとえば、のこ屑などが挙げられる。
【００２２】
これら活性炭の１種または２種以上を用いることができる。
（ケイソウ土）
ケイソウ土としては、単細胞性藻類であるケイソウの遺骸を主な成分とする堆積物であるケイソウ土を任意の粒度に粉砕し、必要に応じて精製して得られた、汚染のもとになる成分を吸着する機能を有する各種のケイソウ土を用いることができる。
【００２３】
これらケイソウ土の１種または２種以上を用いることができる。
（配合割合）
ゼオライト、活性炭、およびケイソウ土の３種の微細多孔質粒子の、ゴムの総量１００質量部あたりの合計の配合割合Ｐは、前述したように、式(1)：
Ｐ≦Ｚ×３５＋Ｃ×２０＋Ｄ×３５      (1)
〔式中、Ｚはゼオライト、Ｃは活性炭、Ｄはケイソウ土の、それぞれ当該３種の微細多孔質粒子の総量を１としたときの質量比を示す。〕
を満足している必要がある。
【００２４】
たとえば、微細多孔質粒子がゼオライトのみ（２種以上のゼオライトを併用する場合を含む、以下同様。）である場合には、式(1)のＺ＝１、Ｃ＝０、Ｄ＝０であるため、ゼオライトの配合割合Ｐは、ゴムの総量１００質量部あたり３５質量部以下に限定される。
また、微細多孔質粒子が活性炭のみである場合は、式(1)のＺ＝０、Ｃ＝１、Ｄ＝０であるため、活性炭の配合割合Ｐは、ゴムの総量１００質量部あたり２０質量部以下に限定される。
【００２５】
微細多孔質粒子がケイソウ土のみである場合は、式(1)のＺ＝０、Ｃ＝０、Ｄ＝１であるため、ケイソウ土の配合割合Ｐは、ゴムの総量１００質量部あたり３５質量部以下に限定される。
さらに、微細多孔質粒子がゼオライト、活性炭、およびケイソウ土を、それぞれ同量ずつ含む場合は、式(1)のＺ＝１／３、Ｃ＝１／３、Ｄ＝１／３となるため、当該３種の微細多孔質粒子の合計の配合割合Ｐは、ゴムの総量１００質量部あたり３０質量部以下に限定される。
【００２６】
上述したそれぞれの範囲より微細多孔質粒子の合計の配合割合Ｐが多い場合には、架橋後のローラ本体が硬くなりすぎて、たとえば、転写ローラとしての使用に適した適度の柔軟性が得られない場合がある。
また、架橋前のゴム組成物の、加熱溶融時の粘度が上昇して、当該ゴム組成物の加工性が低下する場合もある。
【００２７】
これに対し、微細多孔質粒子の配合割合Ｐを上記の範囲とすることにより、ローラ本体の良好な柔軟性、あるいはゴム組成物の良好な加工性を維持することができる。
ただし、微細多孔質粒子が少なすぎる場合には、当該微細多孔質粒子を配合することによる、前述した汚染のもとになる成分を吸着して、当該成分の移行による汚染と、それによる画質の低下とを抑制する効果が十分に得られない場合がある。
【００２８】
そのため、微細多孔質粒子の配合割合は、上記の範囲でも１質量部以上であるのが好ましく、５質量部以上であるのが好ましい。
かかる下限値は、微細多孔質粒子として、ゼオライト、活性炭、またはケイソウ土のうちの１種のみを用いる場合は、その微細多孔質粒子の配合割合の下限値である。
また、２種以上の微細多孔質粒子を併用する場合は、その合計の配合割合の下限値である。
【００２９】
なお、活性炭の配合割合の上限が、他の２種の微細多孔質粒子の場合よりも少ないのは、活性炭が、ゴムの補強剤としても機能して、他の２種より少量の配合でも、架橋後のローラ本体を硬くしてしまう傾向があるためである。
また、活性炭が電子導電性を有し、多量に配合すると、架橋後のゴムローラのローラ抵抗値が、たとえば、転写ローラとして適した範囲より低くなりすぎる場合があるためでもある。
【００３０】
なお、前述した特許文献１には、ゴム組成物に配合してもよい充填剤の一例として、ゼオライトが記載されている。
しかし、特許文献１に記載の発明では、ゼオライトは、カーボンブラックその他、各種充填剤の１種として単に例示されているに過ぎず、実際にゼオライトを配合して効果を検証した実施例は、特許文献１には含まれていない。
【００３１】
また、特許文献１には、ゼオライトを配合すると、汚染のもとになる成分を吸着し、当該成分の移行によって部材や用紙が汚染されるのを抑制して、画質の良好な画像を形成できるという、本発明に特有の効果が得られることについても、一切記載されていない。
〈ゴム〉
ゴムとしては、前述したように、少なくとも、ジエン系ゴムおよび／またはエチレンプロピレン系ゴムと、イオン導電性ゴムとが併用される。
【００３２】
とくに、シリコーンゴム等の他のゴムを含まない（除く）状態で、ジエン系ゴムおよび／またはエチレンプロピレンゴム、ならびにイオン導電性ゴムのみを、ゴムとして併用するのが好ましい。
このうち、ジエン系ゴムおよび／またはエチレンプロピレン系ゴムは、とくにローラ本体に、ゴムとしての良好な特性、すなわち柔軟で、しかも圧縮永久ひずみが小さくヘタリを生じにくい特性を付与するために機能する。
【００３３】
また、イオン導電性ゴムは、ローラ本体に適度のイオン導電性を付与して、ゴムローラのローラ抵抗値を、たとえば、転写ローラとして適した範囲に調整するために機能する。
（ジエン系ゴム）
ジエン系ゴムとしては、たとえば、天然ゴム、イソプレンゴム（ＩＲ）、アクリロニトリルブタジエンゴム（ＮＢＲ）、スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）等が挙げられる。
【００３４】
とくに、ジエン系ゴムとしては、ＮＢＲ、ＳＢＲ、およびＢＲの３種のうちの少なくとも１種が好ましい。
・  ＮＢＲ
ＮＢＲとしては、アクリロニトリル含量が２４％以下である低ニトリルＮＢＲ、２５〜３０％である中ニトリルＮＢＲ、３１〜３５％である中高ニトリルＮＢＲ、３６〜４２％である高ニトリルＮＢＲ、４３％以上である極高ニトリルＮＢＲが、いずれも使用可能である。
【００３５】
また、ＮＢＲとしては、伸展油を加えて柔軟性を調整した油展タイプのものと、加えない非油展タイプのものとがあるが、本発明では、感光体等の汚染を防止するために、ブリード物質となりうる伸展油を含まない非油展タイプのＮＢＲを用いるのが好ましい。
これらＮＢＲの１種または２種以上を用いることができる。
・  ＳＢＲ
ＳＢＲとしては、スチレンと１，３−ブタジエンとを、乳化重合法、溶液重合法等の種々の重合法によって共重合させて合成される種々のＳＢＲが、いずれも使用可能である。
【００３６】
また、ＳＢＲとしては、スチレン含量によって分類される高スチレンタイプ、中スチレンタイプ、および低スチレンタイプのＳＢＲがあるが、このいずれも使用可能である。
さらに、ＳＢＲとしては、伸展油を加えて柔軟性を調整した油展タイプのものと、加えない非油展タイプのものとがあるが、本発明では、やはり感光体等の汚染を防止するために、ブリード物質となりうる伸展油を含まない非油展タイプのＳＢＲを用いるのが好ましい。
【００３７】
これらＳＢＲの１種または２種以上を用いることができる。
・  ＢＲ
ＢＲとしては、分子中にポリブタジエン構造を備え、架橋性を有する種々のＢＲが、いずれも使用可能である。
とくに、低温から高温までの広い温度範囲でゴムとしての良好な特性を発現しうる、シス−１，４結合の含量が９５％以上の高シスＢＲが好ましい。
【００３８】
また、ＢＲとしては、伸展油を加えて柔軟性を調整した油展タイプのものと、加えない非油展タイプのものとがあるが、本発明では、やはり感光体等の汚染を防止するために、ブリード物質となりうる伸展油を含まない非油展タイプのＢＲを用いるのが好ましい。
これらＢＲの１種または２種以上を用いることができる。
（エチレンプロピレン系ゴム）
エチレンプロピレン系ゴムとしては、エチレンとプロピレンの共重合体であるエチレンプロピレンゴム（ＥＰＭ）、およびエチレンとプロピレンとジエンの共重合体であるエチレンプロピレンジエンゴム（ＥＰＤＭ）が挙げられ、とくにＥＰＤＭが好ましい。
【００３９】
ＥＰＤＭとしては、エチレン、プロピレン、およびジエンを共重合させた種々の共重合体を用いることができる。
ジエンとしては、エチリデンノルボルネン（ＥＮＢ）、ジシクロペンタジエン（ＤＣＰＤ）等が挙げられる。
また、ＥＰＤＭとしては、伸展油を加えて柔軟性を調整した油展タイプのものと、加えない非油展タイプのものとがあるが、本発明では、やはり感光体等の汚染を防止するために、ブリード物質となりうる伸展油を含まない非油展タイプのＥＰＤＭを用いるのが好ましい。
【００４０】
これらＥＰＤＭの１種または２種以上を用いることができる。
（イオン導電性ゴム）
イオン導電性ゴムとしては、たとえば、エピクロルヒドリンゴム、ポリエーテルゴム等が挙げられる。
このうちエピクロルヒドリンゴムとしては、たとえば、エピクロルヒドリン単独重合体、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド二元共重合体（ＥＣＯ）、エピクロルヒドリン−プロピレンオキサイド二元共重合体、エピクロルヒドリン−アリルグリシジルエーテル二元共重合体、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル三元共重合体（ＧＥＣＯ）、エピクロルヒドリン−プロピレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル三元共重合体、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド−プロピレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル四元共重合体等が挙げられる。
【００４１】
またポリエーテルゴムとしては、たとえば、エチレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル二元共重合体、エチレンオキサイド−プロピレンオキサイド−アリルグリシジルエーテル三元共重合体等が挙げられる。
中でも、エチレンオキサイドを含む共重合体、とくにＥＣＯおよび／またはＧＥＣＯが好ましい。
【００４２】
ＥＣＯおよび／またはＧＥＣＯにおけるエチレンオキサイド含量は、いずれも３０モル％以上、とくに５０モル％以上であるのが好ましく、８０モル％以下であるのが好ましい。
エチレンオキサイドは、ゴムローラのローラ抵抗値を下げる働きをする。
しかし、エチレンオキサイド含量がこの範囲未満では、かかる働きが十分に得られないため、ゴムローラのローラ抵抗値を十分に低下できない場合がある。
【００４３】
一方、エチレンオキサイド含量が上記の範囲を超える場合には、エチレンオキサイドの結晶化が起こり、分子鎖のセグメント運動が妨げられるため、却ってゴムローラのローラ抵抗値が上昇する傾向がある。
また、架橋後のローラ本体が硬くなりすぎたり、架橋前のゴム組成物の、加熱溶融時の粘度が上昇して、当該ゴム組成物の加工性が低下したりする場合もある。
【００４４】
ＥＣＯにおけるエピクロルヒドリン含量は、エチレンオキサイド含量の残量である。
すなわち、エピクロルヒドリン含量は２０モル％以上であるのが好ましく、７０モル％以下、とくに５０モル％以下であるのが好ましい。
また、ＧＥＣＯにおけるアリルグリシジルエーテル含量は０．５モル％以上、とくに２モル％以上であるのが好ましく、１０モル％以下、とくに５モル％以下であるのが好ましい。
【００４５】
アリルグリシジルエーテルは、それ自体が側鎖として、自由体積を確保するために機能することにより、エチレンオキサイドの結晶化を抑制して、ゴムローラのローラ抵抗値を低下させる働きをする。
しかし、アリルグリシジルエーテル含量がこの範囲未満では、かかる働きが十分に得られないため、ゴムローラのローラ抵抗値を十分に低下できない場合がある。
【００４６】
一方、アリルグリシジルエーテルは、ＧＥＣＯの架橋時に架橋点として機能する。
そのため、アリルグリシジルエーテル含量が上記の範囲を超える場合には、ＧＥＣＯの架橋密度が高くなりすぎることによって分子鎖のセグメント運動が妨げられて、却ってゴムローラのローラ抵抗値が上昇する傾向がある。
ＧＥＣＯにおけるエピクロルヒドリン含量は、エチレンオキサイド含量、およびアリルグリシジルエーテル含量の残量である。
【００４７】
すなわち、エピクロルヒドリン含量は１０モル％以上、とくに１９．５モル％以上であるのが好ましく、６９．５モル％以下、とくに６０モル％以下であるのが好ましい。
なおＧＥＣＯとしては、先に説明した３種の単量体を共重合させた狭義の意味での共重合体の他に、エピクロルヒドリン−エチレンオキサイド共重合体（ＥＣＯ）をアリルグリシジルエーテルで変性した変性物も知られている。
【００４８】
本発明では、このいずれのＧＥＣＯも使用可能である。
これらイオン導電性ゴムの１種または２種以上を用いることができる。
（配合割合）
イオン導電性ゴムの配合割合は、ゴムの総量１００質量部中の４０質量部以上、とくに４５質量部以上であるのが好ましく、６０質量部以下、とくに５５質量部以下であるのが好ましい。
【００４９】
ジエン系ゴムおよび／またはエチレンプロピレン系ゴムの配合割合は、イオン導電性ゴムの残量である。
すなわち、イオン導電性ゴムの配合割合を上記範囲内の所定値に設定した際にゴムの総量が１００質量部となるように、ジエン系ゴムおよび／またはエチレンプロピレン系ゴムの配合割合を設定すればよい。
【００５０】
イオン導電性ゴムの配合割合が上記の範囲未満、または上記の範囲を超える場合には、このいずれにおいても、ゴムローラのローラ抵抗値を、たとえば、転写ローラとして適した範囲に調整できない場合がある。
また、イオン導電性ゴムの配合割合が上記の範囲を超える場合には、相対的に、ジエン系ゴムおよび／またはエチレンプロピレン系ゴムの割合が少なくなって、ローラ本体に、前述したゴムとしての良好な特性を付与できない場合もある。
【００５１】
これに対し、イオン導電性ゴムの配合割合を上記の範囲とすることにより、ゴムローラのローラ抵抗値を、たとえば、転写ローラとして適した範囲に調整することができる。
また、ローラ本体に、ゴムとしての良好な特性を付与することもできる。
〈架橋成分〉
架橋成分としては、ゴムを架橋させるための架橋剤と、当該架橋剤によるゴムの架橋を促進するための架橋促進剤とを併用するのが好ましい。
【００５２】
このうち架橋剤としては、たとえば、硫黄系架橋剤、チオウレア系架橋剤、トリアジン誘導体系架橋剤、過酸化物系架橋剤、各種モノマー等が挙げられる。
架橋剤は、組み合わせるゴムの種類に応じて、適宜選択することができる。
たとえば、ゴムが、いずれも硫黄架橋性を有するジエン系ゴムおよび／またはＥＰＤＭと、ＧＥＣＯとの組み合わせである場合、架橋剤としては、硫黄系架橋剤を用いればよい。
【００５３】
また、たとえば、イオン導電性ゴムが硫黄架橋性を有しないＥＣＯである場合、架橋剤としては、ジエン系ゴムおよび／またはＥＰＤＭを架橋するための硫黄系架橋剤と、ＥＣＯを架橋するためのチオウレア系架橋剤とを併用すればよい。
（硫黄系架橋剤）
硫黄系架橋剤としては、たとえば、粉末硫黄、オイル処理粉末硫黄、沈降硫黄、コロイド硫黄、分散性硫黄等の硫黄や、あるいはテトラメチルチウラムジスルフィド、Ｎ，Ｎ−ジチオビスモルホリン等の有機含硫黄化合物などが挙げられ、とくに硫黄が好ましい。
【００５４】
硫黄の配合割合は、ローラ本体に、前述したゴムとしての良好な特性を付与すること等を考慮すると、ゴムの総量１００質量部あたり０．５質量部以上であるのが好ましく、２質量部以下であるのが好ましい。
なお、たとえば、硫黄としてオイル処理粉末硫黄、分散性硫黄等を使用する場合、上記配合割合は、それぞれの中に含まれる有効成分としての硫黄自体の割合とする。
【００５５】
また、架橋剤として有機含硫黄化合物を使用する場合、その配合割合は、分子中に含まれる硫黄の、ゴムの総量１００質量部あたりの割合が上記の範囲となるように調整するのが好ましい。
（架橋促進剤）
硫黄系架橋剤によるゴムの架橋を促進するための架橋促進剤としては、たとえば、チアゾール系促進剤、チウラム系促進剤、スルフェンアミド系促進剤、ジチオカルバミン酸塩系促進剤等の１種または２種以上が挙げられる。
【００５６】
このうち、チウラム系促進剤とチアゾール系促進剤とを併用するのが好ましい。
チウラム系促進剤としては、たとえば、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチルチウラムジスルフィド、ジペンタメチレンチウラムテトラスルフィド等の１種または２種以上が挙げられる。
【００５７】
またチアゾール系促進剤としては、たとえば、２−メルカプトベンゾチアゾール、ジ−２−ベンゾチアゾリルジスルフィド、２−メルカプトベンゾチアゾールの亜鉛塩、２−メルカプトベンゾチアゾールのシクロヘキシルアミン塩、２−（４′−モルホリノジチオ）ベンゾチアゾール等の１種または２種以上が挙げられる。
上記２種の架橋促進剤の併用系において、硫黄系架橋剤によるゴムの架橋を促進する効果を十分に発現させることを考慮すると、チウラム系促進剤の配合割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．３質量部以上、３質量部以下であるのが好ましい。
【００５８】
また、チアゾール系促進剤の配合割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．３質量部以上、２質量部以下であるのが好ましい。
（チオウレア系架橋剤）
チオウレア系架橋剤としては、分子中にチオウレア構造を有し、ＥＣＯの架橋剤として機能しうる種々のチオウレア化合物が使用可能である。
【００５９】
チオウレア系架橋剤としては、たとえば、エチレンチオウレア、Ｎ,Ｎ′−ジフェニルチオウレア、トリメチルチオウレア、式(2)：
（ＣｎＨ２ｎ＋１ＮＨ）２Ｃ＝Ｓ      (2)
〔式中、ｎは１〜１２の整数を示す。〕で表されるチオウレア、テトラメチルチオウレア等の１種または２種以上が挙げられ、とくにエチレンチオウレアが好ましい。
【００６０】
チオウレア系架橋剤の配合割合は、ローラ本体に、前述したゴムとしての良好な特性を付与すること等を考慮すると、ゴムの総量１００質量部あたり０．３質量部以上であるのが好ましく、１質量部以下であるのが好ましい。
（架橋促進剤）
チオウレア系架橋剤には、当該チオウレア系架橋剤によるＥＣＯの架橋反応を促進する種々の架橋促進剤を併用してもよい。
【００６１】
架橋促進剤としては、たとえば、１,３−ジフェニルグアニジン、１，３−ジ−ｏ−トリルグアニジン、１−ｏ−トリルビグアニド等のグアニジン系促進剤などの１種または２種以上が挙げられ、とくに１，３−ジ−ｏ−トリルグアニジンが好ましい。
架橋促進剤の配合割合は、架橋反応を促進する効果を十分に発現させることを考慮すると、ゴムの総量１００質量部あたり０．３質量部以上であるのが好ましく、１質量部以下であるのが好ましい。
【００６２】
〈その他〉
ゴム組成物には、さらに必要に応じて、各種の添加剤を配合してもよい。
添加剤としては、たとえば、受酸剤等が挙げられる。
受酸剤は、前述したように、架橋時にエピクロルヒドリンゴム等から発生した塩素系ガス中の塩素を捕捉して、塩素系ガスが遊離状態でゴムローラ内に残留したり、それによって架橋阻害や感光体の汚染等が生じたりするのを抑制するために機能する。
【００６３】
受酸剤としては、酸受容体として作用する種々の物質を用いることができるが、中でも分散性に優れたハイドロタルサイト類またはマグサラットが好ましく、とくにハイドロタルサイト類が好ましい。
またハイドロタルサイト類等を酸化マグネシウムや酸化カリウムと併用すると、より高い受酸効果を得ることができ、感光体等の汚染をより一層確実に防止できる。
【００６４】
受酸剤の配合割合は、ゴムの総量１００質量部あたり０．２質量部以上、とくに０．５質量部以上であるのが好ましく、５質量部以下、とくに２質量部以下であるのが好ましい。
また添加剤としては、さらに充填剤、架橋助剤、劣化防止剤、スコーチ防止剤、可塑剤、滑剤、顔料、帯電防止剤、難燃剤、中和剤、造核剤、共架橋剤等の各種添加剤を、任意の割合で配合してもよい。
【００６５】
ただし、本発明のゴム組成物は、非多孔質体を形成するためのものであるため、発泡剤、発泡助剤等の発泡成分は、添加剤として配合しない（除く）こととする。
《ゴムローラ》
図１は、本発明のゴムローラの、実施の形態の一例を示す斜視図である。
図１を参照して、この例のゴムローラ１は、上記各成分を含むゴム組成物からなる、非多孔質でかつ単層の筒状に形成されたローラ本体２を備えるとともに、ローラ本体２の中心の通孔３にシャフト４が挿通されて固定されたものである。
【００６６】
シャフト４は、良導電性の材料、たとえば、鉄、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼等の金属などによって一体に形成されている。
シャフト４は、たとえば、導電性を有する接着剤を介してローラ本体２と電気的に接合され、かつ機械的に固定されるか、あるいは通孔３の内径よりも外径の大きいものを通孔３に圧入することで、ローラ本体２と電気的に接合され、かつ機械的に固定される。
【００６７】
また、この両法を併用して、シャフト４を、ローラ本体２と電気的に接合し、かつ機械的に固定してもよい。
ゴムローラ１のローラ抵抗値Ｒ（Ω）は、当該ゴムローラの用途に応じて、その用途に適した範囲に設定することができる。
たとえば、転写ローラの場合は、温度２３±１℃、相対湿度５５±１％の常温常湿環境下、下記の測定方法によって測定したローラ抵抗値Ｒ（Ω）が、常用対数値ｌｏｇＲで表して６．５以上であるのが好ましく、７．５以下であるのが好ましい。
【００６８】
〈ローラ抵抗値の測定〉
図２は、ゴムローラのローラ抵抗値を測定する方法を説明する図である。
図１、図２を参照して、この測定方法では、一定の回転速度で回転させることができるアルミニウムドラム６を用意し、用意したアルミニウムドラム６の外周面７に、上方から、ローラ抵抗値を測定するゴムローラ１の、ローラ本体２の外周面５を接触させる。
【００６９】
また、ゴムローラ１のシャフト４とアルミニウムドラム６との間に直流電源８、および抵抗９を直列に接続して計測回路１０を構成する。
直流電源８は、(−)側をシャフト４、（＋）側を抵抗９と接続する。
抵抗９の抵抗値ｒは１００Ωとする。
次いでシャフト４の両端部にそれぞれ４．９Ｎ（≒５００ｇｆ）の荷重Ｆをかけてローラ本体２をアルミニウムドラム６に圧接させた状態で、アルミニウムドラム６を３０ｒｐｍで回転させる。
【００７０】
そして、回転を続けながら、ゴムローラ１とアルミニウムドラム６との間に、直流電源８から直流１０００Ｖの印加電圧Ｅを印加して３０秒後に、抵抗９にかかる検出電圧Ｖを計測する。
計測した検出電圧Ｖと印加電圧Ｅ（＝１０００Ｖ）とから、ゴムローラ１のローラ抵抗値Ｒは、基本的に式(i′)：
Ｒ＝ｒ×Ｅ／Ｖ−ｒ      (ｉ′)
によって求められる。
【００７１】
ただし式(i′)中の−ｒの項は微小とみなすことができるため、本発明では式(i)：
Ｒ＝ｒ×Ｅ／Ｖ      (i)
によって求めた値でもって、ゴムローラ１のローラ抵抗値とすることとする。
また、転写ローラの場合、ローラ本体２のゴム硬さは、アスカーＣ型硬さで表して６５°以上であるのが好ましく、８５°以下であるのが好ましい。
【００７２】
アスカーＣ型硬さがこの範囲未満では、ローラ本体２の強度が不足してヘタリ等を生じやすくなる場合がある。
一方、アスカーＣ型硬さが上記の範囲を超える場合には、ローラ本体２が硬くなりすぎて、転写ローラとしての使用に適した適度の柔軟性が得られない場合がある。
ローラ本体２のアスカーＣ型硬さは、温度２３±１℃、相対湿度５５±１％の常温常湿環境下、日本工業規格ＪＩＳ  Ｋ７３１２−１９９６「熱硬化性ポリウレタンエラストマー成形物の物理試験方法」の付属書２において援用する(社)日本ゴム協会標準規格ＳＲＩＳ０１０１「膨張ゴムの物理試験方法」に準拠したタイプＣ硬さ試験機（例えば高分子計器(株)製のアスカーゴム硬度計Ｃ型等）を用いて、下記の方法で測定した値でもって表すこととする。
【００７３】
〈アスカーＣ型硬さの測定〉
ローラ本体２に挿通して固定したシャフト４の両端を支持台に固定した状態で、当該ローラ本体２の中央部に上記タイプＣ硬さ試験機の押針を押し当て、さらに４．９Ｎ（≒５００ｇｆ）の荷重を付加してアスカーＣ型硬さを測定する。
〈ゴムローラの製造〉
本発明のゴムローラ１を製造するには、まず、前述した各成分からなるゴム組成物を、押出成形機を用いて筒状に押出成形し、次いで所定の長さにカットして、加硫缶内で加圧水蒸気によって加圧、加熱して架橋させる。
【００７４】
次いで、架橋させた筒状体を、オーブン等を用いて加熱して二次架橋させたのち冷却し、さらに所定の外径となるように研磨してローラ本体２を形成する。
シャフト４は、筒状体のカット後から研磨後までの任意の時点で通孔３に挿通して固定できる。
ただし、カット後、まず通孔３にシャフト４を挿通した状態で、二次架橋および研磨をするのが好ましい。
【００７５】
これにより、二次架橋時の膨張収縮による筒状体の反りや変形等を抑制できる。
また、シャフト４を中心として回転させながら研磨することで当該研磨の作業性を向上し、なおかつ外周面５のフレを抑制できる。
シャフト４は、先に説明したように、導電性を有する接着剤、特に導電性の熱硬化性接着剤を介して二次架橋前の筒状体の通孔３に挿通したのち二次架橋させるか、あるいは通孔３の内径より外径の大きいものを通孔３に圧入すればよい。
【００７６】
前者の場合は、オーブン中での加熱によって筒状体が二次架橋されるのと同時に熱硬化性接着剤が硬化して、当該シャフト４がローラ本体２に電気的に接合されるとともに機械的に固定される。
また後者の場合は、圧入と同時に電気的な接合と機械的な固定が完了する。
また、前述したように、この両法を併用して、シャフト４を、ローラ本体２と電気的に接合し、かつ機械的に固定してもよい。
【００７７】
本発明のゴムローラ１は、たとえば、レーザープリンタ、静電式複写機、普通紙ファクシミリ装置、およびこれらの複合機等の、電子写真法を利用した画像形成装置において、前述したように転写ローラとして好適に使用できる。
ただし、本発明のゴムローラ１は、たとえば、帯電ローラ、現像ローラ、クリーニングローラ等として用いることもできる。
【００７８】
《画像形成装置》
本発明の画像形成装置は、本発明のゴムローラ１を組み込んだことを特徴とするものである。
かかる本発明の画像形成装置としては、上述したように、レーザープリンタ、静電式複写機、普通紙ファクシミリ装置、あるいはこれらの複合機等の、電子写真法を利用した種々の画像形成装置が挙げられる。
【実施例】
【００７９】
以下に、本発明を、実施例、比較例、従来例に基づいてさらに説明するが、本発明の構成は、必ずしもこれらの実施例、比較例に限定されるものではない。
〈実施例１〉
（ゴム組成物）
ゴムとしては、
・  ＮＢＲ〔ＪＳＲ（株）製のＪＳＲ（登録商標）Ｎ２５０ＳＬ、低ニトリルＮＢＲ、アクリロニトリル含量２０％、非油展〕１０質量部、
・  ＳＢＲ〔住友化学(株)製の住友ＳＢＲ１５０２、スチレン含量２３．５％、非油展〕２０質量部、
・  ＢＲ〔ＪＳＲ(株)製のＪＳＲ  ＢＲ０１、高シスＢＲ、シス−１，４結合含量９５％、非油展〕１０質量部、
・  ＥＰＤＭ〔住友化学(株)製のエスプレンＥＰＤＭ  ５０５Ａ、エチレン含量：５０％、ジエン含量：９．５％、非油展〕１０質量部、および
・  ＧＥＣＯ〔日本ゼオン(株)製のＨＹＤＲＩＮ（登録商標）Ｔ３１０８〕５０質量部
を配合した。
【００８０】
そして上記ゴムの総量１００質量部を、バンバリミキサを用いて素練りしながら、まず下記表１に示す各成分のうち架橋成分以外の成分を加えて混練し、さらに架橋成分を加えて混練してゴム組成物を調製した。
【００８１】
【表１】
2019203075.tif 000003
【００８２】
表１中の各成分は下記のとおり。なお表１中の質量部は、ゴムの総量１００質量部あたりの質量部である。
ゼオライト：天然ゼオライト〔日東粉化工業(株)製のＳＰ＃２３００〕
受酸剤：ハイドロタルサイト類〔協和化学工業(株)製のＤＨＴ−４Ａ−２〕
架橋剤：粉末硫黄〔鶴見化学工業(株)製〕
架橋促進剤ＤＭ：ジ−２−ベンゾチアゾリルジスルフィド〔Ｓｈａｎｄｏｎｇ  Ｓｈａｎｘｉａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏ．  Ｌｔｄ．製の商品名ＳＵＮＳＩＮＥ  ＭＢＴＳ〕
架橋促進剤ＴＳ：テトラメチルチウラムジスルフィド〔三新化学工業(株)製のサンセラー（登録商標）ＴＳ〕
（ゴムローラ）
調製したゴム組成物を押出成形機に供給して外径φ１５ｍｍ、内径φ４．５ｍｍの筒状に押出成形した後、所定の長さにカットして外径φ３．５ｍｍの架橋用の仮のシャフトに装着した。
【００８３】
次いで、加硫缶内で、加圧水蒸気によって１２０℃×１０分間、次いで１６０℃×２０分間の加圧、加熱をしてゴムを架橋させた。
次いで、架橋させた筒状体を、外周面に導電性の熱硬化性接着剤を塗布した外径φ６ｍｍのシャフト４に装着し直して、オーブン中で１６０℃×６０分間加熱して二次架橋させるとともに、熱硬化性接着剤を硬化させてシャフト４と電気的に接合し、かつ機械的に固定した。
【００８４】
そして、筒状体の両端を整形したのち、その外周面５を、円筒研削盤を用いてトラバース研削することで外径をφ１３ｍｍ（公差±０．１ｍｍ）に仕上げてローラ本体２を形成し、ゴムローラ１を製造した。
〈実施例２〉
ゼオライトに代えて、同量の活性炭〔(株)クラレ製のクラレコール（登録商標）ＰＫ−Ｄ〕を配合したこと以外は実施例１と同様にしてゴム組成物を調製し、ゴムローラ１を製造した。
【００８５】
〈実施例３〉
ゼオライトに代えて、同量のケイソウ土〔昭和化学工業(株)製のトプコ（登録商標）Ｎｏ．５４〕を配合したこと以外は実施例１と同様にしてゴム組成物を調製し、ゴムローラ１を製造した。
〈実施例４〉
ゴムの総量１００質量部あたり、実施例１〜３で使用したのと同じゼオライト２．０質量部、活性炭２．０質量部、およびケイソウ土２．０質量部を配合したこと以外は実施例１と同様にしてゴム組成物を調製し、ゴムローラ１を製造した。
【００８６】
〈実施例５、比較例１〉
ゼオライトの配合割合を、ゴムの総量１００質量部あたり３５．０質量部（実施例５）、４０．０質量部（比較例１）としたこと以外は実施例１と同様にしてゴム組成物を調製し、ゴムローラ１を製造した。
〈実施例６、比較例２〉
活性炭の配合割合を、ゴムの総量１００質量部あたり２０．０質量部（実施例６）、２５．０質量部（比較例２）としたこと以外は実施例２と同様にしてゴム組成物を調製し、ゴムローラ１を製造した。
【００８７】
〈実施例７、比較例３〉
ケイソウ土の配合割合を、ゴムの総量１００質量部あたり３５．０質量部（実施例７）、４０．０質量部（比較例３）としたこと以外は実施例３と同様にしてゴム組成物を調製し、ゴムローラ１を製造した。
〈従来例１〉
ゼオライトを配合しなかったこと以外は実施例１と同様にしてゴム組成物を調製し、ゴムローラ１を製造した。
【００８８】
〈汚染の有無評価〉
（試験１）
実施例、比較例、従来例で製造したゴムローラ１のローラ本体２を、レーザープリンタ〔(株)日本ＨＰ製のＨＰ  ＬａｓｅｒＪｅｔ（登録商標）Ｐ１６０６  ｄｎ〕のカートリッジから取り出した感光体に圧接させた状態で、温度４０℃、相対湿度９０％の高温高湿環境下で静置した。
【００８９】
圧接の荷重は、シャフト４の片側あたり４．９Ｎ（≒５００ｇｆ）、両側で９．８Ｎ（≒１ｋｇｆ）とした。
そして、１週間経過後に圧接を解除した感光体を再びカートリッジに組み込んでレーザープリンタにセットし、黒ベタの画像を１０枚連続して画像形成して、画像不良の有無を確認した。
【００９０】
（試験２）
実施例、比較例、従来例で製造したゴムローラ１のローラ本体２を、アルミホイルの表面に圧接させた状態で、温度４０℃、相対湿度９０％の高温高湿環境下で静置した。
圧接の荷重は、シャフト４の片側あたり４．９Ｎ（≒５００ｇｆ）、両側で９．８Ｎ（≒１ｋｇｆ）とした。
【００９１】
そして、１週間経過後に圧接を解除したアルミホイルの表面を、顕微鏡で観察して、圧接痕の有無を確認した。
（評価）
試験１で形成した１０枚の画像に全く画像不良が見られず、しかも試験２で圧接痕が確認されなかったものを汚染なし良好（○）と評価した。
【００９２】
一方、試験１で形成した１０枚の画像に１枚でも画像不良が見られたもの、および／または試験２で圧接痕が確認されたものを汚染あり不良（×）と評価した。
〈ゴム硬さ評価〉
実施例、比較例、従来例で製造したゴムローラ１のローラ本体２の、温度２３℃、相対湿度５５％の常温常湿環境下でのアスカーＣ型硬さを、先に説明した測定方法に則って測定した。
【００９３】
そして、アスカーＣ型硬さが６５°以上、８５°以下のものを良好（○）、６５°未満のもの、および８５°を超えるものを不良（×）と評価した。
〈ローラ抵抗値の評価〉
実施例、比較例、従来例で製造したゴムローラ１の、温度２３℃、相対湿度５５％の常温常湿環境下でのローラ抵抗値Ｒ（Ω）を、先に説明した測定方法に則って測定した。
【００９４】
そして、測定したローラ抵抗値Ｒ（Ω）が、常用対数値ｌｏｇＲで表して６．５以上、７．５以下であるものを良好（○）、６．５未満のもの、および７．５を超えるものを不良（×）と評価した。
以上の結果を表２、表３に示す。
【００９５】
【表２】
2019203075.tif 000004
【００９６】
【表３】
2019203075.tif 000005
【００９７】
表２、表３の実施例１〜７、従来例１の結果より、ゼオライト、活性炭、およびケイソウ土からなる群より選ばれた少なくとも１種の微細多孔質粒子を配合したゴム組成物によってローラ本体を形成することにより、転写ローラ等として使用した際に、感光体等の汚染を抑制して画質の良好な画像を形成できるゴムローラが得られることが判った。
ただし、実施例１、５、比較例１の結果より、微細多孔質粒子としてゼオライトを用いた系では、上記の効果を維持しながら、なおかつローラ本体のゴム硬さやローラ抵抗値を転写ローラ等として適した範囲とするために、当該ゼオライトの配合割合を、ゴムの総量１００質量部あたり３５質量部以下とする必要があることが判った。
【００９８】
また、これらの効果をさらに向上することを考慮すると、ゼオライトの配合割合は、上記の範囲でも１質量部以上、とくに５質量部以上であるのが好ましいことが判った。
また、実施例２、６、比較例２の結果より、微細多孔質粒子として活性炭を用いた系では、上記の効果を維持しながら、なおかつローラ本体のゴム硬さやローラ抵抗値を転写ローラ等として適した範囲とするために、当該活性炭の配合割合を、ゴムの総量１００質量部あたり２０質量部以下とする必要があることが判った。
【００９９】
また、これらの効果をさらに向上することを考慮すると、活性炭の配合割合は、上記の範囲でも１質量部以上、とくに５質量部以上であるのが好ましいことが判った。
実施例３、７、比較例３の結果より、微細多孔質粒子としてケイソウ土を用いた系では、上記の効果を維持しながら、なおかつローラ本体のゴム硬さやローラ抵抗値を転写ローラ等として適した範囲とするために、当該ケイソウ土の配合割合を、ゴムの総量１００質量部あたり３５質量部以下とする必要があることが判った。
【０１００】
また、これらの効果をさらに向上することを考慮すると、ケイソウ土の配合割合は、上記の範囲でも１質量部以上、とくに５質量部以上であるのが好ましいことが判った。
さらに実施例４の結果より、微細多孔質粒子としては、ゼオライト、活性炭、およびケイソウ土の３種のうちの２種以上を併用してもよいことが判った。
【符号の説明】
【０１０１】
１     ゴムローラ
２     ローラ本体
３     通孔
４     シャフト
５     外周面
６     アルミニウムドラム
７     外周面
８     直流電源
９     抵抗
１０   計測回路
Ｆ     荷重
Ｖ     検出電圧
【図１】
2019203075.tif 000006
【図２】
2019203075.tif 000007