(57)【要約】      （修正有）【課題】配向膜や液晶層中のイオン性の不純物を低減させ、画像の表示品質を向上させた表示装置を提供する。【解決手段】偏光子を有するフィルムを含む偏光層２８と、波長変換層３０と、を備え、偏光子と波長変換層３０は紫外線硬化型の接着剤を含む接着層３６により接着されている表示装置とする。【選択図】図２
2019203911.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光子を有するフィルムを含む偏光層と、波長変換層と、を備え、
前記偏光子と前記波長変換層、又は、前記偏光子と前記フィルム、は紫外線硬化型の接着剤を含む接着層により接着されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の表示装置であって、
前記紫外線硬化型の接着剤は、３８０ｎｍ以下の波長領域の光に反応して硬化することを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の表示装置であって、
前記接着層は、前記紫外線硬化型の接着剤に加えて、熱硬化型の接着剤を含むことを特徴とする表示装置。
【請求項４】
偏光子を有するフィルムを含む偏光層と、波長変換層と、を備え、
前記偏光子と前記波長変換層、又は、前記偏光子と前記フィルム、はプラズマ接合層により接合されていることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の表示装置であって、
前記偏光子を有するフィルムは、二色性染料により染色されたポリビニルアルコールフィルムを延伸させたものであることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の表示装置であって、
前記偏光子は、反射偏光子を含むことを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項６に記載の表示装置であって、
前記反射偏光子は、コレステリック液晶層からなることを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項６に記載の表示装置であって、
前記反射偏光子は、ワイヤーグリッド偏光層からなることを特徴とする表示装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の表示装置であって、
前記波長変換層に対して光を照射するバックライトを備えることを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
偏光子を有する偏光フィルムと、
紫外線硬化型の接着剤を含む接着層と、
前記偏光フィルムの表面を覆う保護フィルムと、
前記偏光フィルムの裏面を覆う離型フィルムと、
前記偏光フィルムと前記離型フィルムとの間に設けられた接着層と、
を備え、
前記接着層は、紫外線硬化型の接着剤を含むことを特徴とする偏光部材。
【請求項１１】
請求項１０に記載の偏光部材であって、
前記接着層は、紫外線による硬化がされていないことを特徴とする偏光部材。
【請求項１２】
請求項１０又は１１に記載の偏光部材であって、
前記紫外線硬化型の接着剤は、３８０ｎｍ以下の波長領域の光に反応して硬化することを特徴とする偏光部材。
【請求項１３】
請求項１１に記載の偏光部材であって、
前記保護フィルムは、４６０ｎｍ以下の波長領域の光の少なくとも一部を吸収することを特徴とする偏光部材。
【請求項１４】
請求項１１又は１２に記載の偏光部材であって、
前記離型フィルムは、４６０ｎｍ以下の波長領域の光の少なくとも一部を吸収することを特徴とする偏光部材。
【請求項１５】
請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の偏光部材であって、
前記接着層は、５０ｍＰａ・ｓ以上２５０ｍＰａ・ｓ以下の粘性を有することを特徴とする偏光部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置及び偏光部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的な液晶表示装置は、非発光型表示装置であって、白色ＬＥＤ等を光源とするバックライトからの光を液晶層にて画素ごとに光変調し、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各カラーフィルター層を透過させてカラー表示を行う。白色ＬＥＤは、発光効率がよく、寿命が長い等の特長がある。一方、白色ＬＥＤは、発熱による蛍光体の発光効率の低下（いわゆる温度消光）による光損失が大きい。また、カラーフィルター層によって白色ＬＥＤからの光を赤、緑及び青に分離する構造のため、バックライトの１／３程度の光しか実際には使用されず、液晶表示装置全体での光利用効率が低い。
【０００３】
また、バックライトとして紫外光源を用い、この紫外光源を励起光として赤、緑及び青の各色の蛍光体層を発光させる形式の液晶表示装置が開示されている（特許文献１）。また、バックライトとして青色ＬＥＤを用い、青色ＬＥＤから出力される青色光を利用して赤色及び緑色の蛍光体層を発光させて赤色及び緑色の光を得ると共に、青色ＬＥＤからの青色光をそのまま透過させて青色の光を表示させる形式の液晶表示装置が開示されている（特許文献２）。
【０００４】
また、液晶層が挟持された一対の基板と、一対の基板の一方側の背面に配置されたピーク波長３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲の光を発する発光ダイオードと、一対の基板の他方側に形成された偏光板とを備え、一対の基板の他方側に形成された偏光板の液晶層と反対側には、単位ピクセル毎に、ピーク波長が３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの範囲の光を吸収して所定の色の光を発する蛍光体層を備えるサブピクセルを備え、蛍光体層の液晶層とは反対側の面には波長４２０ｎｍ以下の波長の光を反射又は吸収するフィルタ層が形成された液晶表示装置が開示されている（特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平０８−０３６１５８号公報
【特許文献２】特開２００３−００５１８２号公報
【特許文献３】特開２０１０−２５０２５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、液晶を用いた表示装置において、液晶部とカラーフィルター層との間に偏光層を形成するインセル型が採用される場合がある。インセル型の表示装置では、カラーフィルターが形成された基板に偏光子を形成後、その上に配向膜を形成し、さらに液晶層を形成しながらＴＦＴ基板（薄膜トランジスタ）と貼り合わせる工程が実施される。従来の製造方法では偏光板を基板上に形成する際に粘着剤を用いるが、一般的な粘着剤には不純物が多く含まれており、配向膜や液晶層に不純物が混入する可能性が高くなる。そして、配向膜や液晶層中にイオン性の不純物が存在すると画像の表示品質を著しく低下させるおそれがある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の１つの態様は、偏光子を有するフィルムを含む偏光層と、波長変換層と、を備え、前記偏光子と前記波長変換層、又は、前記偏光子と前記フィルム、は紫外線硬化型の接着剤を含む接着層により接着されていることを特徴とする表示装置である。
【０００８】
ここで、前記紫外線硬化型の接着剤は、３８０ｎｍ以下の波長領域の光に反応して硬化することが好適である。
【０００９】
また、前記接着層は、前記紫外線硬化型の接着剤に加えて、熱硬化型の接着剤を含むことが好適である。
【００１０】
本発明の別の態様は、偏光子を有するフィルムを含む偏光層と、波長変換層と、を備え、前記偏光子と前記波長変換層、又は、前記偏光子と前記フィルム、はプラズマ接合層により接合されていることを特徴とする表示装置である。
【００１１】
ここで、前記偏光子を有するフィルムは、二色性染料により染色されたポリビニルアルコールフィルムを延伸させたものであることが好適である。
【００１２】
また、前記偏光子は、反射偏光子を含むことが好適である。このとき、前記反射偏光子は、コレステリック液晶層からなることが好適である。また、前記反射偏光子は、ワイヤーグリッド偏光層からなることが好適である。
【００１３】
また、前記波長変換層に対して光を照射するバックライトを備えることが好適である。
【００１４】
本発明の別の態様は、偏光子を有する偏光フィルムと、紫外線硬化型の接着剤を含む接着層と、前記偏光フィルムの表面を覆う保護フィルムと、前記偏光フィルムの裏面を覆う離型フィルムと、前記偏光フィルムと前記離型フィルムとの間に設けられた接着層と、
を備え、前記接着層は、紫外線硬化型の接着剤を含むことを特徴とする偏光部材である。
【００１５】
ここで、前記接着層は、紫外線による硬化がされていないことが好適である。
【００１６】
また、前記紫外線硬化型の接着剤は、３８０ｎｍ以下の波長領域の光に反応して硬化することが好適である。
【００１７】
また、前記保護フィルムは、４６０ｎｍ以下の波長領域の光の少なくとも一部を吸収することが好適である。
【００１８】
また、前記離型フィルムは、４６０ｎｍ以下の波長領域の光の少なくとも一部を吸収することが好適である。
【００１９】
また、前記接着層は、５０ｍＰａ・ｓ以上２５０ｍＰａ・ｓ以下の粘性を有することが好適である。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、配向膜や液晶層中のイオン性の不純物を低減させ、画像の表示品質を向上させた表示装置及びそれに使用することができる偏光部材を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】第１の実施の形態における液晶表示装置の構成を示す図である。
【図２】第１の実施の形態における液晶表示装置の偏光層の構成を示す図である。
【図３】第２の実施の形態における液晶表示装置の偏光層の構成を示す図である。
【図４】第２の実施の形態における液晶表示装置の偏光層の別例の構成を示す図である。
【図５】第３の実施の形態における液晶表示装置の偏光層の構成を示す図である。
【図６】第４の実施の形態における液晶表示装置の偏光層の構成を示す図である。
【図７】第５の実施の形態における偏光部材の構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
＜第１の実施の形態＞
第１の実施の形態における液晶表示装置１００は、図１の断面模式図に示すように、偏光板１０、光学補償層１２、ＴＦＴ基板１４、層間絶縁膜１６、表示電極１８、第２の層間絶縁膜１６a、共通電極２６、配向膜２０、液晶層２２、配向膜２４、偏光層２８、波長変換層３０、対向基板３２及びバックライト３４を含んで構成される。
【００２３】
液晶表示装置１００は、矢印で示すように、バックライト３４から光を受けて、波長変換層３０で波長変換された光を偏光板１０側から出力して画像を表示する装置として機能する。また、液晶表示装置１００は、偏光板１０側から入射する外光を積極的に利用して、波長変換層３０において外光を波長変換して出力することもできる。なお、図１は模式図であり、各構成要素の大きさ及び厚さは実際の値を反映していない。
【００２４】
本実施の形態では、液晶表示装置１００としてアクティブマトリックス型液晶表示装置を例として説明するが、本発明の適用範囲はこれに限定されるものではなく、単純マトリックス型等の他の態様の液晶表示装置にも適用可能である。
【００２５】
また、液晶表示装置１００は、ＩＰＳ（横電界スイッチング）型液晶表示装置の構成としたが、本発明の適用範囲はこれに限定されるものではない。例えば、ＶＡ（垂直配向）型の液晶表示装置の構成等の他の方式の液晶表示装置にも適用することができる。
【００２６】
ＴＦＴ基板１４は、基板上にＴＦＴを画素毎に配置して構成される。基板は、ガラス等の透明な基板である。基板は、液晶表示装置１００を機械的に支持すると共に、光を透過して画像を表示するために用いられる。基板は、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等の樹脂からなるフレキシブル基板としてもよい。
【００２７】
図１では、ＴＦＴが２つ表されている。ＴＦＴのほぼ真ん中の下部（基板上）には、ゲートラインに接続されるゲート電極１４ａが配置される。ゲート電極１４ａを覆ってゲート絶縁膜１４ｂが形成され、このゲート絶縁膜１４ｂを覆って半導体層１４ｃが形成される。ゲート絶縁膜１４ｂは、例えばＳｉＯ２などの絶縁体で形成される。また、半導体層１４ｃは、アモルファスシリコンや、ポリシリコンで形成され、ゲート電極１４ａの直上部分が不純物のほとんどないチャネル領域とされ、両側が不純物ドープによって導電性が付与されたソース領域およびドレイン領域とされる。ＴＦＴのドレイン領域の上にはコンタクトホールが形成され、そこに金属（例えば、アルミニウム）のドレイン電極が配置（電気的に接続）され、ソース領域の上にはコンタクトホールが形成され、そこに金属（例えば、アルミニウム）のソース電極が配置（電気的に接続）される。ドレイン電極はデータ電圧が供給されるデータラインに接続される。
【００２８】
ＴＦＴ基板１４のＴＦＴが形成されていない側の表面には、偏光板１０が形成される。ＴＦＴ基板１４の基板の表面を覆うように偏光板１０が形成される。偏光板１０は、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）系樹脂にヨウ素系材料又は二色性染料によって染色がなされた染色系の偏光子を含むことが好適である。
【００２９】
ＴＦＴ基板１４のＴＦＴが形成された側の面には、層間絶縁膜１６を介して表示電極１８が設けられる。この表示電極１８は画素毎に分離された個別電極であり、例えばＩＴＯ（インジウム・チン・オキサイド）などによる透明電極である。表示電極１８は、ＴＦＴ基板１４に形成されたソース電極に接続される。
【００３０】
表示電極１８を覆って、第２の層間絶縁膜１６ａが形成される。第２の層間絶縁膜１６ａ上には、ＩＰＳ方式特有のストライプ状の共通電極２６が形成される。さらに、共通電極２６を覆って、液晶を配向させる配向膜２０が形成される。配向膜２０は、ポリイミド等の樹脂材料によって構成される。配向膜２０は、例えば、ポリイミド樹脂を溶解したＮ−メチル−２−ピロリジノンの５ｗｔ％溶液を第２の層間絶縁膜１６ａ及び共通電極２６上に印刷し、１６０℃から２８０℃程度の加熱により硬化させた後、ラビング布によってラビングを行うことにより配向処理して形成することができる。
【００３１】
次に、対向基板３２側の構成及び製造方法について説明する。対向基板３２は、ガラス等の透明な基板である。対向基板３２は、液晶表示装置１００を機械的に支持すると共に、バックライト３４からの光を透過して波長変換層３０等に入射させるために用いられる。対向基板３２は、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等の樹脂からなるフレキシブル基板としてもよい。
【００３２】
対向基板３２上には、波長変換層３０が形成される。波長変換層３０は、画素毎に対向基板３２の面内方向にマトリクス状に配置される。波長変換層３０として、後述するバックライト３４からの光を受けて特定の波長領域の光を放出する蛍光体、量子ドット、量子ロッドのいずれかを適用できる。
【００３３】
蛍光体は、画素毎に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれか一つの光を発する材料とすることが好適である。赤色蛍光体にはＥｕ付活硫化物系赤色蛍光体、緑色蛍光体にはＥｕ付活硫化物系緑色蛍光体、青色蛍光体にはＥｕ付活リン酸塩系青色蛍光体を使用することができる。波長変換層３０は、表示させたい色に応じて単一又は複数の蛍光体を含んでいるものとすることができる。
【００３４】
例えば、３８０ｎｍ以上４６０ｎｍ以下の範囲のバックライト３４からの光や外光を吸収して、青色光及び黄色光を発する２種の蛍光体を含んでいる場合には、擬似的に白色光を得ることができる。また、赤色光、緑色光及び青色光の発する３種の蛍光体を含んでいる場合にも同様に白色光を得ることができる。また、ピーク波長が３８０ｎｍ以上４６０ｎｍ以下の範囲のバックライト３４からの光や外光を吸収して任意の色の光を発する単一又は複数の蛍光体を適宜選択して用いることにより、任意の色の光を発することができる液晶表示装置が得られる。
【００３５】
また、例えば、３８０ｎｍ以下の紫外光の波長範囲のバックライト３４からの光を吸収して、所望の波長領域の光を発する青色光及び黄色光を発する２種の蛍光体を含んでいる場合には、擬似的に白色光を得ることができる。また、赤色光、緑色光及び青色光の発する３種の蛍光体を含んでいる場合にも同様に白色光を得ることができる。また、ピーク波長が３８０ｎｍ以下の範囲のバックライト３４からの光を吸収して任意の色の光を発する単一又は複数の蛍光体を適宜選択して用いることにより、任意の色の光を発することができる液晶表示装置が得られる。
【００３６】
また、波長変換層３０は、複数の異なる特性を有する半導体材料を３次元的に周期的に配置した量子ドット構造や２次元的に周期的に配置した量子ロッドによっても実現することができる。量子ドットや量子ロッドは、異なるバンドギャップを有する半導体材料をｎｍオーダーの周期で繰り返し配置することによって、所望のバンドギャップを有する材料として機能させるものであり、バックライト３４からの光を受けてバンドギャップに応じた波長領域の光を発する波長変換層３０として利用することができる。具体的には、バックライト３４の出力光の波長領域の光を吸収して、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれか一つの光を発する特性を有する量子ドット構造や量子ロッド構造を形成する。
【００３７】
量子ドットは、例えば、中心核（コア）を、セレン化カドミウム（ＣｄＳｅ）で形成し、その外側を硫化亜鉛（ＺｎＳ）の被覆層（シェル）が覆う構造とすることができる。この直径を変えることで発光色をコントロールすることができる。たとえば赤（Ｒ）を発光させる場合は直径８．３ｎｍ、緑（Ｇ）を発光させる場合は直径３ｎｍ、青（Ｂ）を発光させる場合はさらに直径を小さくするとよい。また、中心核材料としては、リン化インジウム（ＩｎＰ）、硫化インジウム銅（ＣｕＩｎＳ２）、カーボン、グラフェン等を用いてもよい。
【００３８】
波長変換層３０を、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）を発光する蛍光体又は量子ドット又は量子ロッドとし、表示電極に対応した箇所にパターニング処理により形成及び配置することでフルカラー表示が可能となる。パターニング処理は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）を発光する蛍光体材料又は量子ドット材料又は量子ロッド材料を感光性高分子に分散し、この分散液をコーターにより対向基板３２上に塗布形成し、露光、現像することにより実現される。各々の色の間には表示画素間の混色を防止するためにブラックマトリクスを形成してもよい。
【００３９】
波長変換層３０上には、偏光層２８が形成される。偏光層２８は、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）系樹脂に二色性色素によって染色がなされた偏光子を含むことが好適である。インセル型の表示装置おいて、偏光層２８の厚みは、好ましくは３０μｍ以下であり、表示装置の薄型化の観点から、好ましくは１２μｍ以下であり、より好ましくは３μｍである。ここで、偏光子は、通常、染色がなされた後に、乾式法または湿式法により延伸がなされたフィルムである。また、ＰＶＡフィルムが薄層である場合は、フィルムの手扱い性を向上させるため、ＰＶＡ樹脂と支持体フィルムとが一体に形成されたものを用いてもよい。例えば、ＰＶＡ樹脂を支持体フィルム上にキャスト法により製膜させて、直接染色及び延伸する方法、または、ＰＶＡ樹脂と二色性染料の混合液を支持体フィルムにキャスト法により製膜しその後延伸する方法（原着法）等を用いて形成されたフィルムを用いてもよい。
【００４０】
二色性色素として、アゾ系化合物、アントラキノン系化合物又はテトラジン系などの二色性染料を用いた場合には、高温条件下や、高温高湿条件下における光学特性の耐久性が優れ、また、色相調整が容易となる。
【００４１】
二色性染料としては、光学特性や耐久性の観点から、アゾ化合物系染料が好ましく、例えば、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ２８、  Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  ４４、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ２６、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｏｒａｎｇｅ  ３９、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｏｒａｎｇｅ  １０７、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ２、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ３１、Ｃ．Ｉ．Ｄｉｒｅｃｔ  Ｒｅｄ  ７９、特開２００３−２１５３３８号公報に記載の染料、ＷＯ２００７／１３８９８０号公報に記載の染料などが挙げられる。
【００４２】
市販染料ではＫａｙａｆｅｃｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  Ｐ  Ｌｉｑｕｉｄ（日本化薬社製）、ＫａｙａｆｅｃｔＹｅｌｌｏｗ  Ｙ及びＫａｙａｆｅｃｔ  Ｏｒａｎｇｅ  Ｇ、Ｋａｙａｆｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  ＫＷ及びＫａｙａｆｅｃｔ  Ｂｌｕｅ  Ｌｉｑｕｉｄ  ４００等を挙げることができる。
【００４３】
さらに、ＷＯ２０１５／１８６６８１号、ＷＯ２０１４／１６２６３４号等に記載の無彩色な偏光板の色相のために最適化された二色性染料を用いてもよい。
【００４４】
このとき、可視域の各波長における偏光特性を補うようにこれらの染料を２種又は３種以上配合しＰＶＡに染着することによって、ニュートラルグレーを呈する色相とすることが好ましい。
【００４５】
アゾ系化合物としては、化学式（１）で表される水溶性ジスアゾ化合物又はこの銅錯塩化合物を含むことが、耐久性の観点から特に好ましい。
【化１】
2019203911.tif 000003
ここで、Ｘは水素原子、メチル基、メトキシ基又はエトキシ基を表し、Ｙはメトキシ基又はエトキシ基を表す。Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子、メチル基、−Ｃ２Ｈ４ＯＨ基、置換又は無置換のフェニル基、カルボキシ基で置換されたフェニル基、スルホン基で置換されたフェニル基を表す。
【００４６】
当該化合物は、市販のものを使用してもよく、また公知の製法、例えば、特開昭５９−１４５２２５号公報に記載された製法により製造することができる。
【００４７】
さらに、アゾ系化合物として、化学式（２）で表される水溶性化合物又はその銅錯塩化合物を含むことが好ましい。
【化２】
2019203911.tif 000004
ここで、Ａはメチル基で置換されたフェニル基又はナフチル基を表し、Ｒはアミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基又はフェニルアミノ基を表す。
【００４８】
当該化合物は、市販のものを使用してもよく、公知の製造方法、例えば、特開平３−１２６０６号公報に記載された製法により製造することができる。
【００４９】
通常の偏光子は、樹脂にヨウ素およびヨウ素化合物によって染色した材料で形成されたヨウ素系の偏光子である。しかしながら、ヨウ素およびヨウ素化合物は熱に弱く、１００℃程度の加熱によって変質してしまう。一方、染料（二色性染料）を用いる偏光子は、比較的熱に強く、１３０℃程度の加熱であれば変質を防げる。そこで、後述する配向膜２４や共通電極２６の形成時の成膜温度の影響を受けることなく、対向基板３２と配向膜２４との間に偏光層２８を形成することが可能になる。すなわち、二色性色素として二色性染料を用いた場合、高温条件下や高温高湿条件下における光学特性の耐久性がヨウ素よりも優れる。また、成形時での色変化もヨウ素より少ない。したがって、色相調整が容易と共に、二色性色素としてヨウ素を用いた場合に比べて黄色味を低くすることができる。
【００５０】
図２は、図１の破線円で示した偏光層２８と波長変換層３０との界面近傍領域を拡大して示した拡大断面図である。図２に示すように、偏光層２８と波長変換層３０とは接着層３６を用いて接合される。ここで、接着層３６は、紫外線硬化型の接着剤を含む。紫外線硬化型の接着剤は、３８０ｎｍ以下の波長領域の光に反応して硬化する接着剤とすることが好適である。
【００５１】
紫外線硬化型の接着剤は、一般的な熱硬化型の接着剤等の他の接着剤に比べて配向膜２０，２４や液晶層２２へ悪影響を及ぼす不純物の含有量が少なく、それを用いることで液晶表示装置１００の表示品質の低下を抑制することができる。なお、接着層３６は、紫外線硬化型の接着剤以外の接着剤、例えば熱硬化型の接着剤を含んでいてもよい。熱硬化型の接着剤を含むことにより、例えば、紫外線照射により仮硬化（半硬化）させ、さらに熱硬化により完全硬化させることで、精密に接着することができる。または、先に熱をかけて仮硬化させ、紫外線照射により完全硬化させる態様も可能である。この場合、特に、後述する第５の実施形態において、接着層を仮硬化させることによって、容易に接着層の粘度や層形状を制御することができる。
【００５２】
紫外線硬化型の接着剤は、（メタ）アクリル系化合物と光ラジカル重合開始剤の混合物や、エポキシ化合物と光カチオン重合開始剤の混合物等であることができる。また、カチオン重合性のエポキシ化合物とラジカル重合性の（メタ）アクリル系化合物とを併用し、開始剤として光カチオン重合開始剤と光ラジカル重合開始剤を併用することもできる。市販の紫外線硬化型の接着剤としては、例えば、東亜合成（株）社製アロニックス（登録商標）ＵＣＸシリーズ等を用いることができる。
【００５３】
なお、偏光層２８と波長変換層３０と接着性を向上させるために、各貼合面に、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線照射、プライマー塗布処理などの表面処理を施してもよい。
【００５４】
また、紫外線硬化型の接着剤は、無溶剤系の紫外線硬化型接着剤を用いることが好適である。溶剤系の場合、基材表面を浸食し接着力が低下するといった課題があるのに対し、無溶剤系の接着剤を用いることにより、偏光層へのダメージを抑えることができる。紫外線硬化型の接着剤の場合は、アクリロイル基、あるいはエポキシ基を有するモノマーを複数混合した組成物を光重合開始剤の存在下で、紫外線を照射することにより硬化させて接着させることができる。短時間で硬化し生産性が高いという点において紫外線硬化型の接着剤が好ましい。
【００５５】
無溶剤系の紫外線硬化型の接着剤としては、（メタ）アクリレート系接着剤、エン／チオール系接着剤、不飽和ポリエステル系接着剤などの光ラジカル重合反応を利用する接着剤や、エポキシ系接着剤、オキセタン系接着剤、エポキシ／オキセタン系接着剤、ビニルエーテル系接着剤などの光カチオン重合反応を利用する接着剤などが挙げられる。これらは単独で使用してもよいし、混合して使用してもよい。とりわけ、透明性や耐候性も良好という点から（メタ）アクリレート系接着剤が好ましい。（メタ）アクリレート系接着剤は、分子中に１個以上の（メタ）アクリロイル基を有するモノマー又はオリゴマーと、光重合開始剤を必須成分として含む。該（メタ）アクリレート系接着剤は、さらに必要に応じて、適宜、添加剤等を含有することもできる。分子中に１個以上の（メタ）アクリロイル基を有するオリゴマーとしては、例えばエポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、及びウレタン（メタ）アクリレートが挙げられ、ウレタン（メタ）アクリレートが特に好ましい。
【００５６】
紫外線硬化型の接着剤の粘度を調整する場合、接着剤が十分に溶解する各種溶剤を用いればよい。ただし、基材表面を浸食し、接着力が低下する問題を避けるために、反応性希釈剤、例えば単官能アクリル系モノマーを使用することが好ましい。単官能アクリル系モノマーとしては、例えばイソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノール誘導体のアルキレンオキサイド変性物の（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルカルビトール（メタ）アクリレート、エトキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカン（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、ω−カルボキシポリカプロラクトン（メタ）アクリレート、フタル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸ダイマー等が挙げられる。
【００５７】
紫外線硬化型の接着剤は、紫外線の照射によって硬化される。使用する紫外線としては、種々のものが使用可能である。紫外線の光源は特に限定されないが、例えば、太陽光、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプなどを用いることができ、これらの中でも安価で汎用性に優れる点で、高圧水銀ランプ及びメタルハライドランプが好ましい。
【００５８】
接着層３６は、５０ｍＰａ・ｓ以上２５０ｍＰａ・ｓ以下の粘性を有することが好適である。このような粘性の範囲とすることによって、偏光層２８と波長変換層３０とを接合する加工工程において貼り合わせの処理が容易となり、貼り付け時におけるズレ等を避けて加工精度を高めることができる。
【００５９】
なお、接着剤の塗布方法は、接着剤の粘度や目的とする厚みによって適宜に選択すればよい。塗布方法は、例えば、リバースコーター、グラビアコーター（ダイレクト，リバースやオフセット）、バーリバースコーター、ロールコーター、ダイコーター、バーコーター、ロッドコーター等を用いる方法が挙げられる。
【００６０】
また、接着層３６は、数μｍ程度の厚さとすることが好適である。接着層３６は、例えば、３μｍとする。
【００６１】
偏光層２８上には配向膜２４が形成される。配向膜２４は、ポリイミド等の樹脂材料によって構成される。配向膜２４は、例えば、ポリイミド樹脂が溶解されたＮ−メチル−２−ピロリジノンの５ｗｔ％溶液を偏光層２８上に印刷し、１１０℃から２８０℃程度の加熱により硬化させた後、ラビング布によってラビングを行うことにより配向処理して形成することができる。
【００６２】
配向膜２０、２４は、対向基板３２に対して平行に近い方向で配向する配向膜であり、ラビング又は光配向で配向処理を行っている。配向方向は、配向膜２０、２４が各々平行になるように配向処理される。
【００６３】
このとき光配向膜を用いることも可能で、光配向膜を用いれば１３０℃以下の低温プロセスが容易になる。また光配向では、視野角特性を向上させるため、光の照射方向を変えることで１画素内の領域で配向方向を変えて画素分割させてもよい。光配向では、プレティルト角がなくなり、視野角特性が改善されるので、より好適である。
【００６４】
さらに、配向膜２０と配向膜２４とを向かい合わせるようにして、配向膜２０と配向膜２４との間に液晶層２２が封止される。配向膜２０と配向膜２４との間にスペーサ（図示しない）を挿入し、配向膜２０と配向膜２４との間に液晶を注入して周囲を封止材（図示しない）によって封止することにより液晶層２２が形成される。
【００６５】
液晶層２２は、配向膜２０と配向膜２４とによって配向が制御され、液晶層２２の液晶の初期（電界非印加時）の配向状態は配向膜２０と配向膜２４とによって決定される。そして、表示電極１８と共通電極２６とに電圧を印加することによって、液晶内に電界が生じて液晶層２２の配向が制御されて光の透過／不透過が制御される。
【００６６】
液晶層２２は、誘電率異方性が正、又は負とする。誘電率が正の場合、低温の応答特性がよく、水分の影響を受けにくいなどの長所がある。また、誘電率異方性が負の場合、電圧印加時に液晶層２２が対向基板３２に対してほぼ完全に平行に制御されるので透過率の向上が見込まれる。
【００６７】
ＩＰＳ型の液晶表示装置１００では、共通電極２６に対して電圧を印加することで液晶層２２の面内方向に向かう電界を発生させ、水平に寝かせた液晶分子を横方向に回転させることで光量を制御する。このとき、液晶分子の垂直方向の傾きが発生しないので、視野角による輝度変化や色変化を小さくすることができる。
【００６８】
バックライト３４は、光を出力する光源を含んで構成される。光源は、例えば、ＬＥＤとすることが好適である。バックライト３４から出力される光の波長は、波長変換層３０において波長変換に有効に利用され得る波長領域の光とすることが好適である。例えば、バックライト３４は、ピーク波長が３８０ｎｍ以上４６０ｎｍ以下の波長領域の光を出力する光源又は３８０ｎｍ以下の波長領域の光を出力する光源とすることが好適である。
【００６９】
液晶表示装置１００によれば、バックライト３４からの光を波長変換層３０にて波長変換して利用することによって、光の利用効率を高めることができる。これに伴って、液晶表示装置１００におけるエネルギー効率を向上させることができ、低消費電力の液晶表示装置１００を実現することができる。なお、波長変換層３０として、量子ドット構造の半導体層を適用することにより、蛍光体を利用する場合に比べてさらに低消費電力とすることができる。
【００７０】
また、対向基板３２と液晶層２２との間に偏光層２８を形成したインセル型の構造とすることによって、波長変換層３０も対向基板３２と液晶層２２との間に設けることが可能となり、発光体と表示電極１８及びＴＦＴ基板１４との距離を従来より近づけることができる。例えば、対向基板３２は５００μｍ程度の厚みがあり、対向基板３２とバックライト３４との間に偏光層２８を形成した場合に比べて、対向基板３２の厚みだけ波長変換層３０を表示電極１８に近づけることができる。これによって、画素間の混色を避けるための画素間の距離の余裕を小さくすることができる。したがって、高解像度の液晶表示装置１００を提供することができる。
【００７１】
＜第２の実施の形態＞
第１の実施の形態における液晶表示装置１００では、偏光層２８を二色性染料によって染色がなされた染色系の偏光子を含むものとしたが、これに限定されるものではない。
【００７２】
図３は、第２の実施の形態における配向膜２４、偏光層２８及び波長変換層３０の構成を示す拡大断面図である。本実施の形態では、偏光層２８は、反射偏光子を含む構成とする。
【００７３】
反射偏光子は、ワイヤーグリッド偏光子３０ａを備える。ワイヤーグリッド偏光子（ＷＧＰ）は、ガラスなどの透明基板の表面に配設された平行配線の配列である。通常、ワイヤーグリッド偏光子は、基板上のワイヤーの単一の周期的な配列である。そのワイヤーの周期が光の波長の概ね半分より大きいときには、グリッドは、回折格子として振る舞う。配線の周期が光の波長の概ね半分より小さいときには、グリッドは、偏光子として振る舞う。ワイヤーグリッド偏光子３０ａは、金属ナノワイヤーをグリッド状に配置した偏光子である。ワイヤーグリッドを構成する材料としては、例えば、アルミニウム、銀、銅、クロム、チタン、ニッケル、タングステン及び鉄などの金属又はこれらの合金が使用できる。ワイヤーグリッド偏光子３０ａは、例えば、高さ数１０〜数１００ｎｍのアルミニウムを１００ｎｍ程度のピッチで細線状に並べて配置した構成とすることができる。ワイヤーグリッド偏光子３０ａは、グリッドの長手方向と直交する方向に振動する光は透過し、グリッドの長手方向と平行な方向に振動する光は反射する。
【００７４】
偏光層２８は、例えば、波長変換層３０上に２０ｎｍの厚さのアルミニウム層を形成し、フォトリソグラフィ技術等を用いて１４０ｎｍのピッチのグリッド状に加工することで形成することができる。また、偏光層２８は、ナノインプリント技術を用いて形成することもできる。具体的には、基板にナノインプリントでネガ形状のレジストパターンを形成し、アッシングにより不要な個所のレジストを除去、その後、ＣＶＤにより、Ａｌを成膜し、レジストを除去するリフトオフと呼ばれる方法により作成できる。さらに、ワイヤーグリッド偏光子３０ａは、金属の自己組織化技術を用いて形成することもできる（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ，  Ｖｏｌ．２１７，  Ｎｏ．  ６  （２０１６）参照）。なお、波長変換層上に、例えば、前述したＰＭＭＡ等の保護層を形成し、その上に偏光層２８を形成してもよい。
【００７５】
また、反射偏光子は、ワイヤーグリッド偏光子に限定されるものではない。偏光層２８は、図４に示すように、コレステリック液晶層３０ｂを含む反射偏光子を備える構成としてもよい。
【００７６】
コレステリック液晶層３０ｂは、カイラルピッチが異なる複数のコレステリック液晶層を積層して構成することができる。コレステリック液晶とは、光軸が一定のピッチで捻れている液晶で、捻れのピッチに応じて選択反射と呼ばれる反射色を示す液晶である。コレステリック液晶は、ネマチック液晶にカイラル剤と呼ばれる添加剤を加え、旋光性を持たせて作成することができる。このとき、カイラル剤の添加率を調整することによって、所望のカイラルピッチを持たせることができる。
【００７７】
例えば、カイラルピッチが４２８ｎｍ以上４９０ｎｍ以下である第１のコレステリック液晶、カイラルピッチが５２０ｎｍ以上５８０ｎｍ以下である第２のコレステリック液晶、及び、カイラルピッチが６００ｎｍ以上６６０ｎｍ以下である第３のコレステリック液晶からなる複数の層を積層すればよい。具体例として、第１のコレステリック液晶２６ｅ−１はカイラルピッチが４６０ｎｍ、第２のコレステリック液晶２６ｅ−２はカイラルピッチが５５０ｎｍ、第３のコレステリック液晶２６ｅ−３はカイラルピッチが６３０ｎｍとすればよい。
【００７８】
またコレステリック液晶層３０ｂとして、１つの層内に複数の異なるカイラルピッチを持つタイプのものを使用してもよい。これは熱硬化型の高分子型コレステリック液晶で硬化させる際の温度プロファイルを調整することで作製することが可能になる。
【００７９】
本実施の形態においても、波長変換層３０と偏光層２８とは接着層３６によって接合される。この場合も、接着層３６は、紫外線硬化型の接着剤を含む。紫外線硬化型の接着剤は、３８０ｎｍ以下の波長領域の光に反応して硬化する接着剤とすることが好適である。接着層３６は、数μｍ程度の厚さとすることが好適である。接着層３６は、例えば、３μｍとする。紫外線硬化型の接着剤は、第１の実施の形態と同様のものを適用することができる。
【００８０】
紫外線硬化型の接着剤は、一般的な熱硬化型の接着剤等の他の接着剤に比べて配向膜２０，２４や液晶層２２へ悪影響を及ぼす不純物の含有量が少なく、それを用いることで液晶表示装置１００の表示品質の低下を抑制することができる。また、接着層３６は、ワイヤーグリッド偏光子３０ａの凹凸を平坦化させるための平坦化層としても機能する。なお、接着層３６は、紫外線硬化型の接着剤以外の接着剤、例えば熱硬化型の接着剤を含んでいてもよい。
【００８１】
＜第３の実施の形態＞
第１の実施の形態における液晶表示装置１００では紫外線硬化型の接着剤を含む接着層３６を用いて二色性染料によって染色がなされた染色系の偏光子を含む偏光層２８と波長変換層３０とを接合したが、プラズマ接合によって偏光層２８と波長変換層３０とを接合してもよい。
【００８２】
プラズマ接合は、プラズマ放電による表面改質工程と、当該表面同士を化学結合させるために水蒸気等の媒介材料を表面に吸着させる工程（プラズマ改質層３８を形成）と、熱を加えて圧着する工程とを、逐次行うことにより、２つの材料を接合する技術であり、公知の文献（ＷＯ２０１１／１０７３８号）に記載されている。
【００８３】
ＰＶＡを含む偏光層２８と波長変換層３０との界面の場合においても、プラズマ接合を施すことによって偏光層２８と波長変換層３０の界面を変質させて互いに接合させることができる。これによって、図５の拡大断面図に示すように、偏光層２８と波長変換層３０とがプラズマ改質層３８を介して接合される。
【００８４】
プラズマ接合では、プラズマ改質層３８を形成後、熱をかけて材料同士を圧着することが好適である。そのため、偏光層２８は薄膜状の延伸がなされたＰＶＡフィルムである場合、加熱温度によっては偏光層２８が収縮等の変形を起こすおそれがある。したがって、加熱温度は、７０℃以上１００℃以下とすることが好ましく、より好ましくは７０℃以上８０℃以下である。また、偏光層２８のＰＶＡフィルムが二色性染料によって染色がなされたものである場合、加熱処理による光学特性の劣化が抑制することができる。
【００８５】
プラズマ改質層３８を利用して偏光層２８と波長変換層３０とを接合することによって、一般的な熱硬化型の接着剤等の接着剤を用いる場合に比べて配向膜２０，２４や液晶層２２へ悪影響を及ぼす不純物を低減することができる。したがって、液晶表示装置１００の表示品質の低下を抑制することができる。
【００８６】
＜第４の実施の形態＞
第２の実施の形態における液晶表示装置１００では紫外線硬化型の接着剤を含む接着層３６を用いてワイヤーグリッド偏光子３０ａを含む偏光層２８と波長変換層３０とを接合したが、プラズマ接合によって偏光層２８と波長変換層３０とを接合してもよい。
【００８７】
プラズマ接合は、上記のように、ＰＶＡを含む偏光層２８と波長変換層３０との界面にプラズマ処理を施すことによって偏光層２８と波長変換層３０の界面を変質させて互いに接合させる技術である。これによって、図６の拡大断面図に示すように、ワイヤーグリッド偏光子３０ａを含む偏光層２８と波長変換層３０とがプラズマ改質層３８を介して接合される。
【００８８】
プラズマ改質層３８を利用して偏光層２８と波長変換層３０とを接合することによって、一般的な熱硬化型の接着剤等の接着剤を用いる場合に比べて配向膜２０，２４や液晶層２２へ悪影響を及ぼす不純物を低減することができる。したがって、液晶表示装置１００の表示品質の低下を抑制することができる。
【００８９】
＜第５の実施の形態＞
第１〜第４の実施の形態では、表示装置の態様について説明した。本第５の実施の形態では、偏光層２８を構成するために用いられる偏光子を備えた偏光部材２００について説明する。
【００９０】
本実施の形態における偏光部材２００は、図７に示すように、偏光フィルム４０、保護フィルム４２、離型フィルム４４及び接着層４６を含んで構成される。
【００９１】
偏光フィルム４０は、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）系樹脂に二色性染料によって染色がなされた染色系の偏光子を含むことが好適である。偏光フィルム４０は、第１の実施の形態における偏光層２８と同様に形成することができる。
【００９２】
保護フィルム４２は、偏光フィルム４０の一面を保護するためのフィルムである。保護フィルム４２は、通常、樹脂フィルムとそれに積層された粘着剤層とで構成される。樹脂フィルムは、熱可塑性樹脂、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；（メタ）アクリル系樹脂等で構成することができる。樹脂フィルムは、加工時の打痕や押し跡等の防止の観点から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）とすることが好ましい。粘着剤層は、保護フィルム４２を偏光フィルム４０に貼付するために用いられる。偏光部材２００を使用する際には保護フィルム４２は剥がして使用されるので、接着剤は保護フィルム４２を剥がした際に偏光フィルム４０の表面に残らないような材料とすることが好適である。なお、保護フィルム４２の厚みは、一般に、４０〜１００μｍであり、４０μｍ未満の場合では、打痕や押し跡に対する保護効果が得られず、また、偏光フィルム４０から剥離しにくくなる。
【００９３】
なお、保護フィルム４２は、剥離時の帯電を抑制または軽減する層を有していてもよい。これにより、静電気により部材やフィルム間が密着したり、異物を引き寄せたりすることを防止できる。
【００９４】
離型フィルム４４は、偏光フィルム４０の他面を保護するためのフィルムである。離型フィルム４４は、樹脂フィルムと剥離層から構成されることが好ましい。樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、およびポリエチレンナフタレート等のポリエステルやポリプロピレンなどのポリオレフィンが挙げられる。中でも、光学特性、品質の観点から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）であることが好ましく、さらに寸法安定性に優れることから二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。また、剥離層は、例えば剥離層形成用組成物から形成することができ、剥離層形成用組成物を構成する主な成分（樹脂）としては、特に限定されるもではないが、例えば、シリコーン樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、および長鎖アルキル樹脂等が挙げられる。中でも、シリコーン樹脂が好ましい。
【００９５】
離型フィルム４４の厚みは、樹脂フィルムの厚みと剥離層の厚みにより調整することができる。特に、樹脂フィルムの厚みが支配的であり、目標とする厚みを有するＰＥＴフィルムを選択することで調整できる。樹脂フィルムの厚みは、３８μｍ以上であることが好ましく、５０μｍ以上であることがより好ましい。樹脂フィルムの膜厚の上限は、特に限定されるものではないが、通常、２００μｍ以下であり、離型フィルム４４を剥離する際の引起しが容易になる点から、例えば１５０μｍ以下であることが好ましく、１００μｍ以下であることがより好ましい。剥離層の厚み（乾燥時）は、４０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることがより好ましく、８０nm以上１５０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。離型層の厚みが４０ｎｍ未満の場合、接着層４６と離型フィルム４４の密着が強くなり、離型フィルム４４を剥離しにくくなる。剥離層の厚みを４０ｎｍ以上とすることで、塗布量振れによる剥離力バラつきを抑制することができる。また、剥離層の厚みを３００ｎｍ以下とすることで、剥離層を有する離型フィルム４４同士で密着する現象（ブロッキング）を抑制することができる。
【００９６】
接着層４６は、偏光部材２００の使用時において偏光部材２００を他の部材に貼り合わせるために用いられる層である。接着層４６は、紫外線硬化型の接着剤を含む。紫外線硬化型の接着剤は、３８０ｎｍ以下の波長領域の光に反応して硬化する接着剤とすることが好適である。紫外線硬化型の接着剤は、第１の実施の形態と同様のものを適用することができる。
【００９７】
接着層４６に紫外線硬化型の接着剤を含有させることによって、偏光部材２００を表示装置に適用した際に配向膜や液晶層への不純物の影響を低減することができ、表示装置の表示品質の低下を抑制することができる。なお、接着層４６は、紫外線硬化型の接着剤以外の接着剤、例えば熱硬化型の接着剤を含んでいてもよい。
【００９８】
接着層４６は、偏光フィルム４０の表面に塗工し、その後、離型フィルム４４の剥離層を接着層４６に向けて貼り合せてもよいし、または、離型フィルム４４の剥離層の表面に接着層４６を塗工し、その後、偏光フィルム４０を接着層４６に向けて貼り合せてもよい。
【００９９】
接着層４６は、５０ｍＰａ・ｓ以上２５０ｍＰａ・ｓ以下の粘性を有することが好適である。このような粘性の範囲とすることによって、偏光部材２００を表示装置に適用する際に貼り合わせの加工が容易となり、貼り付け時におけるズレ等を避けて加工精度を高めることができる。
【０１００】
なお、接着層４６は、数μｍ程度の厚さとすることが好適である。接着層４６は、例えば、３μｍとする。
【０１０１】
本実施の形態では、保護フィルム４２は、４６０ｎｍ以下の短波長の光、とくに３８０ｎｍの光を透過しないことが好適である。３８０ｎｍ以下の波長領域の光を吸収する紫外線吸収特性を有することが好適である。例えば、保護フィルム４２に紫外線吸収剤を混入させることにより３８０ｎｍ以下の波長領域の光を吸収するようにすればよい。これにより、偏光部材２００を使用する際に保護フィルム４２を剥がす前に保護フィルム４２側から入射する光に含まれる紫外光によって接着層４６が硬化してしまうことを防ぐことができる。
【０１０２】
また、離型フィルム４４は、４６０ｎｍ以下の短波長の光、とくに３８０ｎｍの光を透過しないことが好適である。３８０ｎｍ以下の波長領域の光を吸収する紫外線吸収特性を有することが好適である。例えば、離型フィルム４４に紫外線吸収剤を混入させることにより３８０ｎｍ以下の波長領域の光を吸収するようにすればよい。これにより、偏光部材２００を使用する際に離型フィルム４４を剥がす前に離型フィルム４４側から入射する光に含まれる紫外光によって接着層４６が硬化してしまうことを防ぐことができる。
【０１０３】
紫外線吸収剤は、３８０ｎｍ以下の紫外線の吸収性能に優れるものが好ましい。具体的には、紫外線吸収剤を含む紫外線吸収層の３８０ｎｍでの光透過率が１０％以下であり、好ましくは５．０％以下であり、より好ましくは３．０％以下であり、特に好ましくは１．０％以下であることが好適である。３８０ｎｍの透過率が１．０％以下である場合、３８０ｎｍ以下の紫外線光は、ほぼ完全に吸収されるため、接着層の硬化をより効果的に防ぐことができる。
【０１０４】
紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等の有機系紫外線吸収剤等が挙げられる。これらの材料は、１種単独で用いても又は複数種添加してもよい。紫外線吸収剤の配合割合は、配合される樹脂フィルム等の材料により異なるが、０．１重量％以上２０重量％であることが好ましく、０．５重量％以上１０重量％以下であることがより好ましい。０．１重量％未満では、３８０ｎｍ以下の光を完全に吸収することができない。また、１０重量％を超える場合は、紫外線吸収能が高まるが、経時により紫外線吸収剤が接着層に移行しやすくなるおそれがある。
【符号の説明】
【０１０５】
１０  偏光板、１２  光学補償層、１４  ＴＦＴ基板、１４ａ  ゲート電極、１４ｂ  ゲート絶縁膜、１４ｃ  半導体層、１６，１６ａ  層間絶縁膜、１８  表示電極、２０  配向膜、２２  液晶層、２４  配向膜、２６  共通電極、２６ｅ  コレステリック液晶、２８  偏光層、３０  波長変換層、３０ａ  ワイヤーグリッド偏光子、３０ｂ  コレステリック液晶層、３２  対向基板、３４  バックライト、３６  接着層、３８  プラズマ改質層、４０  偏光フィルム、４２  保護フィルム、４４  離型フィルム、４６  接着層、１００  液晶表示装置、２００  偏光部材。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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