(57)【要約】【課題】  原料スラリーを高温高圧下で浸出処理することで得られる浸出液及び浸出残渣を含む浸出スラリーを降温降圧するフラッシュベッセルにおいて、内張りされているレンガが破損されるのを抑制可能な運転方法を提供する。【解決手段】  オートクレーブ１０内において好適にはニッケル酸化鉱石に水を添加して調製した原料スラリーを例えば温度２００〜２７０℃、圧力１.８〜５.８ＭＰａＧの高温高圧下で浸出処理して生成される浸出液及び浸出残渣を含む浸出スラリーを降温降圧するフラッシュベッセル２０の運転方法であって、立ち上げ時に該フラッシュベッセル２０の下部にあらかじめ浸出残渣又はその処理残渣を装入した後、該フラッシュベッセル２０への浸出スラリーの導入を開始する。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
オートクレーブ内において原料スラリーを高温高圧下で浸出処理して生成される浸出液及び浸出残渣を含む浸出スラリーを降温降圧するフラッシュベッセルの運転方法であって、立ち上げ時に前記フラッシュベッセルの下部にあらかじめ浸出残渣又はその処理残渣を装入した後、該フラッシュベッセルへの浸出スラリーの導入を開始することを特徴とするフラッシュベッセルの運転方法。
【請求項２】
前記処理残渣が前記浸出残渣を比重分離することで得たクロマイト鉱を主に含む残渣であることを特徴とする、請求項１記載のフラッシュベッセルの運転方法。
【請求項３】
前記原料スラリーがニッケル酸化鉱石に水を添加したスラリーであることを特徴とする、請求項１又は２に記載のフラッシュベッセルの運転方法。
【請求項４】
前記原料スラリーは前記オートクレーブ内においてスラリー温度２００〜２７０℃、スラリー圧力１.８〜５.８ＭＰａＧで浸出処理が施され、該浸出処理により生成される前記浸出スラリーは該オートクレーブのレベル制御用バルブで降圧降温されて前記フラッシュベッセルに導入されることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載のフラッシュベッセルの運転方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ニッケル酸化鉱石の湿式製錬方法に用いるフラッシュベッセルの運転方法に関し、より詳しくは、ニッケル酸化鉱石に水を加えて調製した鉱石スラリーに対して高圧酸浸出処理を施すことで得られる浸出スラリーを降温降圧する際に用いるフラッシュベッセルの運転方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、鉄を主成分とするニッケル酸化鉱石に対して高温加圧下で硫酸を添加して酸浸出を行うＨＰＡＬ（Ｈｉｇｈ  Ｐｒｅｓｓｕｒｅ  Ａｃｉｄ  Ｌｅａｃｈ）法とも称する高圧酸浸出法による湿式製錬プロセスが注目されている。この高圧酸浸出法は、一貫した湿式工程で処理を行うことで、ニッケル品位１〜２質量％程度の低ニッケル品位のニッケル酸化鉱石からニッケル及びコバルトを回収することができるうえ、従来の一般的なニッケル酸化鉱石の乾式製錬法とは異なり乾燥工程や焙焼工程等の乾式処理工程を含んでいないのでエネルギー的及びコスト的に有利な処理法である。
【０００３】
この高圧酸浸出法によるニッケル製錬方法は、例えばニッケル酸化鉱石に水を加えて鉱石スラリーを調製する鉱石スラリー調製工程と、該鉱石スラリーをオートクレーブと称する加圧浸出反応器内に導入し、高温高圧下で浸出処理を施して該鉱石中のニッケル及びコバルトを浸出する浸出工程と、該浸出工程で得たニッケル及びコバルトを含む浸出液を浸出残渣から固液分離して回収する固液分離工程と、該浸出液をｐＨ３〜４で中和処理することで該浸出液に含まれる鉄等の不純物元素を分離する中和工程と、該不純物元素の分離後の浸出液に硫化水素ガス等の硫化剤を供給してニッケルコバルト混合硫化物を生成する硫化工程とを有している。
【０００４】
上記の浸出工程においては、例えば特許文献１に示すようにオートクレーブに鉱石スラリーを装入し、更に硫酸及び高圧蒸気を供給して温度２２０〜２５０℃、圧力３,０００〜４,５００ｋＰａＧの高温高圧下でニッケルやコバルトの浸出処理を行う。この浸出工程の次工程の固液分離工程では、一般的にシックナー等を用いて重力沈降法により浸出残渣の分離を行うので、上記のオートクレーブから排出される浸出スラリーは、該シックナーに供給する前に該オートクレーブよりも低圧のフラッシュベッセルに導入され、ここで降圧することで蒸気を回収しながら該蒸気発生時の潜熱により浸出スラリーの温度を降温することが行われている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−０３１３４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記のフラッシュベッセルへの浸出スラリーの供給量は、一般的にオートクレーブの液面レベルに応じて増減する。すなわち、オートクレーブからフラッシュベッセルに至る浸出スラリーの移送配管系のうち、フラッシュベッセルの上部のスラリー入口ノズルにはオートクレーブの液面レベルを制御するバルブが設置されている。そのためフラッシュベッセル内では圧力変動が生じやすく、蒸気発生量の変動や発生した蒸気の減圧による体積膨張の変動によりフラッシュベッセルに内張りされているレンガが強い衝撃を受けて部分的に損傷することがあった。
【０００７】
フラッシュベッセルの内部は通常は２〜３層のレンガで内張りされているため、上記の浸出スラリーの導入により全ての層が破損することは稀であるが、破損した層は定期点検時などの運転休止時に補修を行うことが必要になるため、多くのレンガが破損したり破損がほぼ全層に及んだりする場合は運転休止期間が長期化することがあった。本発明は、かかる実情に鑑みてなされたものであり、オートクレーブ内において原料スラリーを高温高圧下で浸出処理することで得られる浸出液及び浸出残渣を含む浸出スラリーを降温降圧するフラッシュベッセルにおいて、内張りされているレンガが破損されるのを抑制可能な運転方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明者は、運転休止時に目視にてレンガの損傷状況について調べたところ、上部、側部及び底部等に損傷が認められるものの、操業開始後に浸出残渣が滞留するオーバーフローレベルよりも低い部分とそれ以外の部分とでは破損の程度が異なっていることを確認した。この理由としては、運転停止後にフラッシュベッセルの内部を点検したりレンガを補修したりする際、フラッシュベッセルの底部に堆積している浸出残渣を抜き出す必要があるため、この点検や補修後に運転を開始する際、浸出残渣が存在していない状態のフラッシュベッセルに浸出スラリーが流れ込むことになるうえ、減圧により発生する蒸気の体積膨張による強い衝撃が生じ、これらがフラッシュベッセル内のレンガに直接影響を及ぼすのでフラッシュベッセルの特に底部のレンガが損傷すると考えた。そこで、あらかじめ該フラッシュベッセル内に浸出残渣を装入してから運転を開始したところ、フラッシュベッセルの特に底部のレンガの損傷を効果的に抑制できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち、本発明に係るフラッシュベッセルの運転方法は、オートクレーブ内において原料スラリーを高温高圧下で浸出処理して生成される浸出液及び浸出残渣を含む浸出スラリーを降温降圧するフラッシュベッセルの運転方法であって、立ち上げ時に前記フラッシュベッセルの下部にあらかじめ浸出残渣又はその処理残渣を装入した後、該フラッシュベッセルへの浸出スラリーの導入を開始することを特徴としている。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、オートクレーブ内において原料スラリーを高温高圧下で浸出処理して得た浸出スラリーを降温降圧するフラッシュベッセルにおいて、底部のレンガの破損を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の運転方法の対象となるフラッシュベッセル及びその直ぐ上流のオートクレーブの模式的な構成図である。
【図２】本発明の運転方法の対象となるフラッシュベッセルの縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
先ず、本発明の実施形態のフラッシュベッセルの運転方法を好適に適用することが可能なニッケル酸化鉱石のＨＰＡＬ法による湿式製錬プロセスについて説明する。ＨＰＡＬ法は、高温高圧下でニッケル酸化鉱石のスラリーに対して酸浸出処理を行う浸出工程と、該浸出工程により生成される浸出スラリーを好適には複数段のフラッシュにより降圧降温した後、シックナー等の沈降分離設備によりニッケル等の有価金属を含む浸出液を浸出残渣から分離する固液分離工程と、該固液分離工程で得た浸出液に中和剤を添加して該浸出液に含まれる不純物元素を中和澱物として分離除去して中和終液を得る中和工程と、該中和工程で得た中和終液に硫化水素等の硫化剤を添加することによりニッケルを含む混合硫化物を生成する硫化工程とから一般的に構成されている。
【００１３】
上記の一連の湿式工程のうち浸出工程は、図１に示すような円筒形状の高温加圧容器を横向きにしたオートクレーブ１０が用いられる。このオートクレーブ１０内に原料のニッケル酸化鉱石のスラリー及び硫酸を装入し、更に蒸気供給ライン１１を介して高圧蒸気を導入することで、好適には液温２００〜２７０℃、雰囲気圧１.８〜５.８ＭＰaＧの高温加圧下でニッケル及びコバルトの酸処理が行われる。なお、上記の原料のニッケル酸化鉱石としては、主としてリモナイト鉱及びサプロライト鉱等のいわゆるラテライト鉱が用いられる。ラテライト鉱は通常はニッケル含有量が０.８〜２.５質量％であり、水酸化物又はケイ苦土（ケイ酸マグネシウム）鉱物として含有される。このニッケル酸化鉱石を必要に応じて粉砕した後、水を加えてスラリーとし、例えば３段のプレヒーターで所定の温度まで加熱してからオートクレーブ１０に導入する。
【００１４】
オートクレーブ１０内は堰によって複数の連続する貯留部に区切られており、これら複数の貯留部のうちの最も上流側に位置する貯留部に鉱石供給ライン１２及び硫酸供給ライン１３を介してそれぞれニッケル酸化鉱石スラリー及び硫酸が供給される。該鉱石スラリーは該貯留部に設けられている攪拌機によって撹拌されながら酸浸出処理が施された後、堰をオーバーフローして隣接する貯留部に移送されて同様に酸浸出処理が施される。このようにして順次隣接する貯留部に移送されて酸浸出処理が施された後、最も下流側に位置する貯留部においてオートクレーブ１０の上部から垂下するスラリー抜出管１０ａによって抜き出される。
【００１５】
スラリー抜出管１０ａによって抜き出された浸出スラリーは、次工程の固液分離工程において、先ず好適には２〜３基（図１では２基の場合が例示されている）の直列に接続されたフラッシュベッセル２０、３０に導入され、ほぼ大気圧になるまで段階的に降圧される。これら第１及び第２のフラッシュベッセル２０、３０は、いずれも縦型円筒形状の胴部と、その上下に位置する略半球状の頂部及び底部からなる圧力容器であり、一般的には胴部の直径は４〜６ｍ程度、最下部から最高部までの高さは１０〜１２ｍ程度である。このフラッシュベッセルの内側にＳＥＭＣＯ社製の‘Ｒ’  Ａｃｉｄ  Ｂｒｉｃｋなどのレンガが好ましくは２〜３層内張りされている。このフラッシュベッセルの頂部に、浸出スラリーの供給ライン及び降圧により発生する蒸気の回収ラインが接続しており、胴部には蒸気が発生することで降温した浸出スラリーをオーバーフローにより排出するオーバーフローラインが接続している。
【００１６】
より具体的に説明すると、前段の第１フラッシュベッセル２０の頂部には、前述したオートクレーブ１０のスラリー抜出管１０ａが一端部に接続する第１スラリー移送ライン１４の他端部が接続しており、この第１スラリー移送ライン１４を介してオートクレーブ１０から抜き出された浸出スラリーの導入が行われる。この第１スラリー移送ライン１４には、オートクレーブレベル制御用バルブ１５が設けられており、このレベル制御用バルブ１５の開度によってオートクレーブ１０の最下流側に位置する貯留部の液レベルが制御される。オートクレーブ１０から抜き出された浸出スラリーは、このレベル制御用バルブ１５によって圧力が降圧し、これにより蒸気が発生すると共にその潜熱により温度が降温した状態で第１フラッシュベッセル２０内に装入される。
【００１７】
第１フラッシュベッセル２０では、上記の降圧により発生した蒸気がスラリーから分離して頂部の第１蒸気回収ライン２１から排出される。一方、蒸気が分離した後のスラリーは、第１フラッシュベッセル２０の下部に一時的に滞留した後、当該第１フラッシュベッセル２０の胴部のオーバーフロー部からオーバーフローにより排出される。なお、第１フラッシュベッセル２０内の運転条件は、例えば温度１８０〜２２０℃、圧力１.６〜２.２ＭＰａＧである。
【００１８】
上記の第１フラッシュベッセル２０のオーバーフロー部から排出された浸出スラリーは、後段の第２フラッシュベッセル３０の頂部に接続する第２スラリー移送ライン２２を介して第２フラッシュベッセル３０内に導入される。この第２スラリー移送ライン２２にはスラリー排出バルブ２３が設置されており、このスラリー排出バルブ２３によって浸出スラリーの圧力がほぼ大気圧まで降圧される。この降圧によって浸出スラリーは蒸気が発生すると共にその潜熱により温度が降温した状態で第２フラッシュベッセル３０内に装入される。
【００１９】
第２フラッシュベッセル３０では、上記のスラリー排出バルブ２３での降圧により発生した蒸気がスラリーから分離して頂部の蒸気回収ライン３１から排出される。一方、蒸気が分離した後のスラリーは、第２フラッシュベッセル３０内の下部に一時的に滞留した後、当該第２フラッシュベッセル３０の胴部のオーバーフロー部からオーバーフローにより排出される。このオーバーフロー部から排出された浸出スラリーは、第３スラリー移送ライン３２を介して図示しないシックナーに供給される。
【００２０】
上記のシックナーでは、必要に応じて凝集剤が添加されて重力沈降により固液分離が行われ、主にヘマタイト（Ｆｅ２Ｏ３）からなる浸出残渣がシックナー底部から抜き出されると共に、上澄み液としてのニッケルやコバルト等を含む浸出液がオーバーフローにより回収される。上記固液分離工程において浸出残渣スラリーから分離された浸出液は、中和工程において炭酸カルシウム、消石灰、水酸化ナトリウム等の中和剤が添加されて好適にはｐＨ１〜４の範囲内に調整され、これにより浸出液に含まれる鉄やアルミニウム等の不純物元素が中和澱物として除去され、中和終液が得られる。
【００２１】
この中和終液は、次に硫化工程において硫化水素、硫化ナトリウム、水素化硫化ナトリウム等の硫化剤が添加され、該中和終液に含まれるニッケル及びコバルトの硫化物（ニッケルコバルト混合硫化物）が生成される。この硫化工程で生成されたニッケルコバルト混合硫化物を含むスラリーは、シックナー等の固液分離設備において不純物品位が低いニッケルコバルト混合硫化物と貧液とに分離される。なお、上記の中和終液に亜鉛が含まれる場合は、上記硫化工程でニッケルコバルト混合硫化物を生成する前に、脱亜鉛工程で処理するのが好ましい。
【００２２】
ところで、ＨＰＡＬプラントの定期点検・修理などの定期的な運転停止では、所定の手順に沿ってプラントの運転を停止した後、第１及び第２フラッシュベッセル２０、３０の各々が常温常圧になっているのを確認してから底抜き配管やマンホール等を開放し、内部に堆積した浸出残渣を排出した後、内部点検を行って損傷しているレンガを補修することが行われる。これらの点検及び補修が完了した後の立ち上げ時においては、上記の底抜き配管やマンホールが閉状態にあるのを確認した後、先ず水及び蒸気を導入して昇温昇圧することで運転開始の準備を行う。他の機器においても運転を開始できる条件が整ったのを確認した後、オートクレーブ１０に原料スラリーであるニッケル酸化鉱石に水を添加した鉱石スラリーを硫酸と共に供給してＨＰＡＬプロセスの運転を開始する。
【００２３】
本発明の実施形態のフラッシュベッセルの運転方法は、上記の底抜き配管及びマンホールの閉状態の確認後において、水及び蒸気を導入する前に、上記の運転停止後に排出した浸出残渣又はそれを選別処理して得た処理残渣をフラッシュベッセルの下部にあらかじめ装入する。この場合、直列に接続される複数のフラッシュベッセルの全てにあらかじめ残渣を装入してもよいが、これらの中では最上流に位置するフラッシュベッセルのレンガが最も顕著に損傷するので、この最上流に位置するフラッシュベッセルのみにあらかじめ上記残渣を装入し、その他のフラッシュベッセルには上記残渣を装入しなくてもよい。従って以下の説明では第１フラッシュベッセル２０にのみあらかじめ上記残渣を装入することを想定して説明を行う。
【００２４】
図２に示すように、内面に全面に亘ってレンガ２０ａが内張りされた第１フラッシュベッセル２０内への残渣Ｒの装入は、白矢印に示すように通常は定期点検のために取り外されているフラッシュベッセル２０の頂部のレベル制御用バルブ１５が接続するノズル２０ｂから投入してもよいし、残渣投入用として別途設けたハンドホールなどのノズル（図示せず）を介して投入してもよい。このようにしてフラッシュベッセル２０にあらかじめ装入する残渣Ｒは、フラッシュベッセル２０の通常運転時のスラリーレベルであるオーバーフローレベルＬ１まで装入してもよいが、この場合は運転開始時に該装入した残渣Ｒが一気に下流側の機器に向って流出し、オーバーフローラインを閉塞するおそれがある。これを防ぐため、装入により堆積した残渣Ｒの最上部レベルＬ２と、オーバーフローレベルＬ１との間隔Ｄは１.０ｍ以上確保するのが好ましく、１.５ｍ以上確保するのがより好ましい。この残渣Ｒの最上部レベルＬ２の位置は、例えば錘を付けた糸により確認することができる。
【００２５】
上記のようにフラッシュベッセルに装入する残渣は、運転停止時にフラッシュベッセルから抜き出した浸出残渣をそのまま用いてもよいが、この浸出残渣を選別処理することで得たクロマイト鉱を主に含む処理残渣を用いるのが好ましい。その理由は、浸出残渣は比重が３.０〜３.５程度であるのに対して、クロマイト鉱は比重が４.２〜４.８程度と高いので、このクロマイト鉱を主に含む残渣をフラッシュベッセル内に装入することにより、運転開始時のレンガの破損をより効果的に抑えることができるからである。
【００２６】
上記のクロマイト鉱を主に含む残渣は、運転停止時にフラッシュベッセルから抜き出した浸出残渣に対して例えばＳａｌｔｅｒ  Ｃｙｃｌｏｎｅｓ  Ｌｉｍｉｔｅｄ社製のサイクロン（型番ＳＣ２０１８、１８×２インチ、Ｈｙｄｒｏｃｙｃｌｏｎｅ  Ａｓｓｅｍｂｌｙ）、Ｃｌａｓｓｉｆｉｃａｔｉｏｎ＆Ｆｌｏａｔａｔｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍｓ  Ｉｎｃ社製のデンシティセパレーター（６’×６’）、Ｏｕｔｏｔｅｃ社製のスパイラル（Ｒｏｕｇｈｅｒ  Ｓｐｉｒａｌ、Ｍｉｄ  Ｓｃａｖｅｎｇｅｒ  Ｓｐｉｒａｌ）等を用いて比重分離を行うことで得られる。次に、本発明をその実施例及び比較例によって更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。
【実施例】
【００２７】
（実施例１）
図１に示すような直列に接続された２基の第１及び第２フラッシュベッセル２０、３０を２系列有するＨＰＡＬプラントのうちの１系列に対して、運転休止時に行った開放点検・修理後に、フラッシュベッセルの下部に浸出残渣を装入してから通常の手順で立ち上げた。その際、浸出残渣は、通常最も底部レンガの損傷が多い第１フラッシュベッセル２０のみに装入し、第２フラッシュベッセル３０には装入しなかった。具体的に説明すると、ＨＰＡＬプラントの運転を停止し、第１及び第２フラッシュベッセル内がほぼ常温常圧まで低下したのを確認した後、残留していた浸出残渣を抜き出してフレキシブルコンテナに入れて保管した。この抜き出した浸出残渣は比重が３.２であった。
【００２８】
開放点検後はレベル制御用バルブ１５が外された状態にある頂部ノズル２０ｂの上方まで上記のフレキシブルコンテナをクレーンを用いて吊り上げ、白矢印に示すように該頂部ノズル２０ｂから浸出残渣を投入した。その際、錘を付けた糸をフラッシュベッセル２０の頂部ノズル２０ｂから内部に垂らして浸出残渣Ｒの最上部レベルＬ２を確認しながら装入し、オーバーフローレベルＬ１と該最上部レベルＬ２との間隔Ｄが１.５ｍになるまで装入した。この浸出残渣の装入完了後はレベル制御用バルブ１５を復旧し、水及び蒸気を使用することで所定の温度圧力になるまで昇温昇圧し、その後鉱石スラリーを硫酸と共にオートクレーブ１０に導入して操業を開始した。
【００２９】
上記の定期的な開放点検・修理後はそのまま連続的に運転を継続し、６ヶ月経過後に再度運転を停止し、レンガの損傷の有無を目視にて確認したところ、損傷部が見当たらなかったので補修せずにそのままの状態で再度上記と同様に浸出残渣をあらかじめ装入してから通常の手順で立ち上げた。そして、そのまま連続的に運転を継続し、更に６ヶ月後に運転を停止して残留していた浸出残渣を抜き出してレンガの損傷の有無を目視にて確認した。その結果補修を要するほどの損傷は生じていなかったが、底部のレンガの表面に顕著にキズが発生していた。
【００３０】
（比較例）
実施例１との比較のため、上記ＨＰＡＬプラントの２系列のうちのもう１系列に対して６ヶ月ごとの定期的な運転停止後の立ち上げ時にこれまでと同様に浸出残渣を装入することなく立ち上げたこと以外は実施例１と同様にして６ヶ月ごとの定期的な運転停止を行った。その結果、６ヶ月後の１回目の開放点検時に第１フラッシュベッセル２０のレンガ２４０枚のうち２５枚のレンガに損傷が発生していたのでそれらの補修が必要であった。また、更に６ヶ月経過した後の２回目の開放点検時では第１フラッシュベッセル２０の２４０枚のレンガのうち５２枚に損傷が発生していた。
【００３１】
（実施例２）
定期的な運転停止時に第１フラッシュベッセル２０のから抜き出した浸出残渣に対してＳａｌｔｅｒ  Ｃｙｃｌｏｎｅｓ  Ｌｉｍｉｔｅｄ社製のサイクロン（型番ＳＣ２０１８、１８×２インチ、Ｈｙｄｒｏｃｙｃｌｏｎｅ  Ａｓｓｅｍｂｌｙ）を用いて比重分離を行うことでクロマイトを主に含む処理残渣を得た。この処理残渣はＣｒ２Ｏ３の含有量が４７.２質量％、比重が４.５であった。下記表１に使用したクロマイトを主に含む処理残渣の粒度分布を示す。なお、表１中において例えば＋３８μｍは目開き３８μｍのスクリーンを用いて篩別した篩上であり、−３８μｍは目開き３８μｍのスクリーンで篩別した篩下である。
【００３２】
【表１】
2019203161.tif 000003
【００３３】
浸出残渣に代えて上記の処理残渣をあらかじめ第１フラッシュベッセル２０に装入した以外は実施例１と同様にして６ヶ月ごとの定期的な運転停止を繰り返した。その結果、６ヶ月経過後の１回目の開放点検時及び更に６ヶ月経過後の２回目の開放点検時のいずれにおいても第１フラッシュベッセル２０のレンガに損傷は発生していなかった。特に、２回目の開放点検時に実施例１において生じていた底部のレンガ表面の顕著なキズは見当たらなかった。上記実施例１、２及び比較例の結果を下記表２に示す。
【００３４】
【表２】
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【００３５】
上記表２から分かるように、従来の立ち上げ法では２４０枚のレンガが内張りされているフラッシュベッセルにおいて延べ７７枚のレンガに張替えを要する程度の損傷が発生したが、実施例１及び２はいずれも張替えを要する損傷が生じておらず、よって運転開始時にあらかじめフラッシュベッセル内に残渣を装入することでレンガの損傷を抑制できることが分かる。
【符号の説明】
【００３６】
１０    オートクレーブ
１０ａ  スラリー抜出管
１１    蒸気供給ライン
１２    鉱石供給ライン
１３    硫酸供給ライン
１４    第１スラリー移送ライン
１５    レベル制御用バルブ
２０    第１フラッシュベッセル
２０ａ  レンガ
２０ｂ  頂部ノズル
２１    第１蒸気回収ライン
２２    第２スラリー移送ライン
２３    スラリー排出バルブ
３０    第２フラッシュベッセル
３１    第２蒸気回収ライン
３２    第３スラリー移送ライン
Ｌ１    オーバーフローレベル
Ｌ２    残渣最上部レベル
Ｄ      オーバーフローレベルと残渣最上部レベルとの間隔
Ｒ      残渣
【図１】
2019203161.tif 000005
【図２】
2019203161.tif 000006