(57)【要約】【課題】可視光領域の光線透過率を高く維持しつつ、近赤外領域の光を広範囲にわたってカットすることができる吸収層を備えた光選択透過フィルターを提供する。【解決手段】近赤外線吸収色素を含有する吸収層を有する光選択透過フィルターであって、前記吸収層が、（ａ）波長７００ｎｍにおける透過率が２％以下、（ｂ）波長７００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲の平均透過率が２％以下、（ｃ）波長５００ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲の平均透過率が８０％以上、との特性を満たす。【選択図】図１
2019049586.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
近赤外線吸収色素を含有し、下記（ａ）〜（ｃ）を満たす吸収層を有することを特徴とする光選択透過フィルター。
（ａ）波長７００ｎｍにおける透過率が２％以下
（ｂ）波長７００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲の平均透過率が２％以下
（ｃ）波長５００ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲の平均透過率が８０％以上
【請求項２】
前記吸収層がさらに紫外線吸収色素を含有し、下記（ｄ）を満たす請求項１に記載の光選択透過フィルター。
（ｄ）波長３５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の平均透過率が２％以下
【請求項３】
紫外線吸収色素を含有し、下記（ｄ）を満たす第２の吸収層をさらに有する請求項１に記載の光選択透過フィルター。
（ｄ）波長３５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の平均透過率が２％以下
【請求項４】
前記吸収層および／または前記第２の吸収層が樹脂を含有する請求項１〜３のいずれか一項に記載の光選択透過フィルター。
【請求項５】
前記吸収層が、前記近赤外線吸収色素として、波長６７０ｎｍ〜７３０ｎｍの範囲に吸収極大を有する化合物Ａと、前記化合物Ａよりも長波長側であって波長７１０ｎｍ〜７９５ｎｍの範囲に吸収極大を有する化合物Ｂを含有する請求項１〜４のいずれか一項に記載の光選択透過フィルター。
【請求項６】
前記吸収層が、波長８００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲に吸収極大を有する化合物Ｃを含有する請求項１〜５のいずれか一項に記載の光選択透過フィルター。
【請求項７】
前記吸収層が、前記近赤外線吸収色素として、下記式（１）で表されるスクアリリウム化合物と、下記式（２）で表されるスクアリリウム化合物を含有する請求項１〜６のいずれか一項に記載の光選択透過フィルター。
【化１】
2019049586.tif 000019
［式（１）中、
Ｒ11〜Ｒ16はそれぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表し、
環Ａ1および環Ａ2はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭化水素環、または置換基を有していてもよい複素環を表す。］
【化２】
2019049586.tif 000020
［式（２）中、
Ｒ21〜Ｒ26はそれぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表すか、Ｒ22とＲ23は互いに連結して環を形成してもよく、Ｒ25とＲ26は互いに連結して環を形成してもよく、
環Ｂ1および環Ｂ2はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、またはこれらの環構造を含む置換基を有していてもよい縮合環を表す。］
【請求項８】
さらに反射防止層を有する請求項１〜７のいずれか一項に記載の光選択透過フィルター。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の光選択透過フィルターを備えることを特徴とするセンサー。
【請求項１０】
下記式（１）で表されるスクアリリウム化合物と、下記式（２）で表されるスクアリリウム化合物と、樹脂成分とを含有することを特徴とする樹脂組成物。
【化３】
2019049586.tif 000021
［式（１）中、
Ｒ11〜Ｒ16はそれぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表し、
環Ａ1および環Ａ2はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭化水素環、または置換基を有していてもよい複素環を表す。］
【化４】
2019049586.tif 000022
［式（２）中、
Ｒ21〜Ｒ26はそれぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表し、Ｒ22とＲ23は互いに連結して環を形成してもよく、Ｒ25とＲ26は互いに連結して環を形成してもよく、
環Ｂ1および環Ｂ2はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、またはこれらの環構造を含む置換基を有していてもよい縮合環を表す。］
【請求項１１】
さらに紫外線吸収色素を含有する請求項１０に記載の樹脂組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光選択透過フィルターに関し、特に近赤外領域の光をカットすることができる光選択透過フィルターに関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話用カメラ、デジタルカメラ、車載用カメラ、ビデオカメラ、表示素子（ＬＥＤ等）等の撮像装置には、被写体の光を電気信号等に変換して出力する撮像素子が通常使用されている。このような撮像素子は、例えばＣＣＤ（Charge Coupled Device）やＣＭＯＳ（Complementary Metal-Oxide Semiconductor）等の検出素子（センサー）およびレンズを備えるとともに、高性能化のため、画像処理等の妨げとなる光学ノイズ（例えばゴーストやフレア）を除去するための近赤外線カットフィルターを備える場合がある。このような近赤外線カットフィルターには通常、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜が設けられており、誘電体多層膜は、高屈折率材料層と低屈折率材料層の各層の厚みや層数を調整することにより、所望の波長領域の光の入射をカットすることができる。
【０００３】
ところで、誘電体多層膜は入射角によってカット波長域あるいは透過波長域が変化し、入射角が垂直方向から斜め方向に変化すると、カット波長域あるいは透過波長域が短波長側にシフトする。そのため誘電体多層膜では、斜め方向の入射光に対しては、近赤外領域の光を十分にカットできなかったり、あるいは可視光領域の光もカットして色味が変化する事態が生じうる。そこで、光学特性の入射角依存性を低減するために、近赤外線カットフィルターに近赤外線吸収色素を含有する吸収層を設けることがなされている。例えば、特許文献１，２には、７００ｎｍ前後の波長域に吸収極大を有するスクアリリウム化合物を含有する吸収層を備えた近赤外線カットフィルター（光選択透過フィルター）が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１４−１４８５６７号公報
【特許文献２】特開２０１２−００８５３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記のように、従来、近赤外線吸収色素を含有する吸収層を備えた光選択透過フィルターが様々検討されているが、吸収層の高機能化が求められている。具体的には、吸収層がより広範囲の近赤外領域の光を選択的に吸収できるようにして、光学特性の角度依存性を低減できる光選択透過フィルターが求められている。本発明は、前記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、可視光領域の光線透過率を高く維持しつつ、近赤外領域の光を広範囲にわたってカットすることができる吸収層を備えた光選択透過フィルターを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、以下の発明を含む。
［１］ 近赤外線吸収色素を含有し、下記（ａ）〜（ｃ）を満たす吸収層を有することを特徴とする光選択透過フィルター。
（ａ）波長７００ｎｍにおける透過率が２％以下
（ｂ）波長７００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲の平均透過率が２％以下
（ｃ）波長５００ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲の平均透過率が８０％以上
［２］ 前記吸収層がさらに紫外線吸収色素を含有し、下記（ｄ）を満たす［１］に記載の光選択透過フィルター。
（ｄ）波長３５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の平均透過率が２％以下
［３］ 紫外線吸収色素を含有し、下記（ｄ）を満たす第２の吸収層をさらに有する［１］に記載の光選択透過フィルター。
（ｄ）波長３５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の平均透過率が２％以下
［４］ 前記吸収層および／または前記第２の吸収層が樹脂を含有する［１］〜［３］のいずれかに記載の光選択透過フィルター。
［５］ 前記吸収層が、前記近赤外線吸収色素として、波長６７０ｎｍ〜７３０ｎｍの範囲に吸収極大を有する化合物Ａと、前記化合物Ａよりも長波長側であって波長７１０ｎｍ〜７９５ｎｍの範囲に吸収極大を有する化合物Ｂを含有する［１］〜［４］のいずれかに記載の光選択透過フィルター。
［６］ 前記吸収層が、波長８００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲に吸収極大を有する化合物Ｃを含有する［１］〜［５］のいずれかに記載の光選択透過フィルター。
［７］ 前記吸収層が、前記近赤外線吸収色素として、下記式（１）で表されるスクアリリウム化合物と、下記式（２）で表されるスクアリリウム化合物を含有する［１］〜［６］のいずれかに記載の光選択透過フィルター。
【化１】
2019049586.tif 000003
［式（１）中、
Ｒ11〜Ｒ16はそれぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表し、
環Ａ1および環Ａ2はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭化水素環、または置換基を有していてもよい複素環を表す。］
【化２】
2019049586.tif 000004
［式（２）中、
Ｒ21〜Ｒ26はそれぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表すか、Ｒ22とＲ23は互いに連結して環を形成してもよく、Ｒ25とＲ26は互いに連結して環を形成してもよく、
環Ｂ1および環Ｂ2はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、またはこれらの環構造を含む置換基を有していてもよい縮合環を表す。］
［８］ さらに反射防止層を有する［１］〜［７］のいずれかに記載の光選択透過フィルター。
［９］ ［１］〜［８］のいずれかに記載の光選択透過フィルターを備えることを特徴とするセンサー。
［１０］ 下記式（１）で表されるスクアリリウム化合物と、下記式（２）で表されるスクアリリウム化合物と、樹脂成分とを含有することを特徴とする樹脂組成物。
【０００７】
【化３】
2019049586.tif 000005
［式（１）中、
Ｒ11〜Ｒ16はそれぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表し、
環Ａ1および環Ａ2はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭化水素環、または置換基を有していてもよい複素環を表す。］
【０００８】
【化４】
2019049586.tif 000006
［式（２）中、
Ｒ21〜Ｒ26はそれぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表し、Ｒ22とＲ23は互いに連結して環を形成してもよく、Ｒ25とＲ26は互いに連結して環を形成してもよく、
環Ｂ1および環Ｂ2はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、またはこれらの環構造を含む置換基を有していてもよい縮合環を表す。］
［１１］ さらに紫外線吸収色素を含有する［１０］に記載の樹脂組成物。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の光選択透過フィルターは、可視光領域の光の透過率を高く維持しつつ、近赤外領域の光を広範囲にわたって効果的にカットすることができ、光学特性の入射角依存性を大きく低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】実施例１で得られた光選択透過フィルターと吸収層の透過スペクトルを表す。
【図２】実施例２で得られた光選択透過フィルターと吸収層の透過スペクトルを表す。
【図３】実施例３で得られた光選択透過フィルターと吸収層の透過スペクトルを表す。
【図４】実施例４で得られた光選択透過フィルターと吸収層の透過スペクトルを表す。
【図５】実施例５で得られた光選択透過フィルターと吸収層の透過スペクトルを表す。
【図６】比較例１で得られた光選択透過フィルターと吸収層の透過スペクトルを表す。
【図７】比較例２で得られた光選択透過フィルターと吸収層の透過スペクトルを表す。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の光選択透過フィルターは、近赤外線吸収色素を含有する吸収層を有し、吸収層が、（ａ）波長７００ｎｍにおける透過率が２％以下、（ｂ）波長７００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲の平均透過率が２％以下、（ｃ）波長５００ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲の平均透過率が８０％以上、との特性を満たすものである。なお本明細書において、「ａ〜ｂ」との記載は、「ａ以上ｂ以下」を意味する。
【００１２】
本発明の光選択透過フィルターは、波長７００ｎｍにおける透過率が２％以下であり、かつ波長７００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲の平均透過率が２％以下となる吸収層を有するため、近赤外領域の光を効果的にカットすることができ、撮像素子において画像処理の妨げとなる光学ノイズを好適に除去することができる。特に、波長７００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲の平均透過率が２％以下と、広い波長範囲にわたって近赤外領域の光をカットすることができるため、吸収層上に誘電体多層膜を設けた場合の光学特性の入射角依存性、具体的には、可視光領域の長波長側における入射角依存性を大きく低減することができる。例えば、従来よりも大きい入射角に対しても、所望の波長範囲の近赤外線をカットしたり、あるいは透過光の色味の変化を抑えることができる。あるいは、誘電体多層膜を設けなくても、近赤外領域の光を広い波長範囲にわたってカットすることができ、この場合は、可視光領域の長波長側における入射角依存性をほぼなくすことができる。吸収層の波長７００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲の平均透過率は、１．８％以下がより好ましく、１．５％以下がさらに好ましく、１％以下がさらにより好ましい。また、波長６９７ｎｍにおける透過率が２％以下であることが好ましく、波長６９５ｎｍにおける透過率が２％以下であることがより好ましい。
【００１３】
一方、吸収層は、波長５００ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲の平均透過率が８０％以上となるため、可視光領域の光を高い透過率で透過させるものとなる。吸収層の波長５００ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲の平均透過率は、８３％以上がより好ましく、８５％以上がさらに好ましい。
【００１４】
本発明の光選択透過フィルターはこのような特性を満たす吸収層を備えているため、可視光領域の光の透過率を高く維持しつつ、近赤外領域の光を広範囲にわたって効果的にカットすることができ、光学特性の入射角依存性を大きく低減することができる。
【００１５】
吸収層の波長７００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲の吸収特性について、吸収層は、波長７００ｎｍ〜７１０ｎｍ、波長７１０ｎｍ〜７２０ｎｍ、波長７２０ｎｍ〜７３０ｎｍ、波長７３０ｎｍ〜７４０ｎｍ、波長７４０ｎｍ〜７５０ｎｍのそれぞれの範囲において、平均透過率が２％以下となることが好ましく、１．５％以下となることがより好ましく、１％以下がさらに好ましい。吸収層はまた、波長７５０ｎｍにおける透過率が２％以下であることが好ましく、１．８％以下がより好ましく、１．５％以下がさらに好ましく、１％以下がさらにより好ましい。これにより、吸収層上に誘電体多層膜を設けた場合の光学特性の入射角依存性（特に、入射角４０°以上の大きい角度における入射角依存性）を効果的に低減することができる。吸収層はさらに、波長７００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲の透過率が連続して２％以下となることが好ましく、１．５％以下がより好ましく、１％以下がさらに好ましい。
【００１６】
吸収層は、より広範囲の可視光領域の光を透過させるようにする点から、透過率５０％となる波長λ50が６２５ｎｍ〜６６０ｎｍの範囲にあることが好ましく、６３０ｎｍ〜６６０ｎｍの範囲にあることがより好ましい。吸収層の波長λ50が６２５ｎｍ〜６６０ｎｍの範囲にあれば、近赤外領域の光をカットしつつ、赤色領域の可視光を高い透過率で透過させることができ、透過光の色味を実際のものに近付けることができる。
【００１７】
吸収層は、波長λ50およびその前後では吸収層の透過率（透過スペクトル）は基本的に単調減少に推移することが好ましい。例えば波長６００ｎｍ〜６７０ｎｍの範囲において、吸収層の透過率（透過スペクトル）は単調減少に推移するか、ショルダーピークが認められる場合でも、透過率の増加は２％以下に収まることが好ましく、１％以下に収まることがより好ましい。
【００１８】
吸収層は、波長７５０ｎｍよりも長波長側では透過率が高くなるように形成されていてもよく、これとは逆に、波長７５０ｎｍより長波長側においても透過率が低く形成されていてもよい。あるいは、吸収層は、波長７５０ｎｍより長波長側にさらに別の吸収波長域を有するように形成されていてもよく、この場合、当該別の吸収波長域と上記に説明した波長７００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲を含む吸収波長域の間に、近赤外領域の光を透過させる透過波長域が形成されることとなる。
【００１９】
例えば、撮像素子には、監視カメラ等、暗視下での撮影機能が求められるものがある。暗視下での撮影は、人の目では見えない状態での撮影となるので、近赤外領域の光を照射して、その反射光を撮像素子で受光することにより行う。そのため、暗視用の撮像素子では、近赤外領域に透過波長域を有する光選択透過フィルターが求められる。この場合、上記に説明した波長７００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲を含む吸収波長域を第１の吸収波長域としたとき、吸収層は、波長８００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲に第２の吸収波長域を有することが好ましい。第２の吸収波長域は、波長８００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲の少なくとも一部の波長域の光を吸収するものであればよく、第１の吸収波長域と第２の吸収波長域の間には、近赤外領域の光を透過させるための透過波長域が形成される。このように吸収層が近赤外領域に第２の吸収波長域を有していれば、近赤外領域の透過波長域の長波長側における入射角依存性を低減することができる。
【００２０】
吸収層はさらに紫外線吸収色素を含有し、近紫外（ＵＶＡ）〜紫色領域に吸収波長域を有するものであってもよい。あるいは、光選択透過フィルターは、上記に説明した吸収層に加えて第２の吸収層をさらに有し、第２の吸収層が紫外線吸収色素を含有するものであってもよい。この場合、吸収層あるいは第２の吸収層は、波長３５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の平均透過率が２％以下、との特性を満たすことが好ましい。このように構成された光選択透過フィルターは、近赤外領域と近紫外領域の光をカットし、可視光領域の光を選択的に透過するものとなるため、透過光を人間の視感度により近付けることができる。また、可視光領域の長波長側における入射角依存性とともに、可視光領域の短波長側における入射角依存性も低減することができる。この場合の吸収層または第２の吸収層の波長３５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の平均透過率は、１．５％以下がより好ましく、１％以下がさらに好ましい。
【００２１】
本発明の光選択透過フィルターは、例えば赤色〜近赤外領域における入射角依存性を、入射角０°のときに透過率５０％となる波長と入射角７０°のときに透過率５０％となる波長の差を３０ｎｍ以下、あるいは２０ｎｍ以下にすることができる。吸収層がさらに紫外線吸収色素を含有する場合、あるいは紫外線吸収色素を含有する第２の吸収層が設けられる場合は、光選択透過フィルターの紫外〜紫色領域における入射角依存性を、入射角０°のときに透過率５０％となる波長と入射角７０°のときに透過率５０％となる波長の差を１５ｎｍ以下、あるいは１０ｎｍ以下にすることができる。
【００２２】
吸収層の透過スペクトルは、波長３００ｎｍ〜１１００ｎｍの範囲で測定ピッチ１ｎｍごとに透過率を測定することにより求める。測定ピッチ（１ｎｍ）未満における波長の透過率の値は、１ｎｍピッチの透過率の測定値から線形補間することにより算出する。
【００２３】
吸収層に含まれる近赤外線吸収色素は、吸収層に上記（ａ）〜（ｃ）の特性を付与できるものであれば、有機色素であっても、無機色素であっても、有機無機複合色素（例えば、金属原子またはイオンが配位した有機化合物）であっても、特に限定されない。なお、上記（ａ）〜（ｃ）の特性は、近赤外線吸収色素の種類や濃度あるいは吸収層の厚みを適切に設定することにより実現することができるが、これを１種類の近赤外線吸収色素を用いて行う場合、可視光領域の光の透過率を高めつつ、近赤外領域に幅広い吸収波長域を形成することは難しい。例えば、可視光領域の透過率をある程度高くする場合は、近赤外領域の吸収波長域を幅広く形成することは難しく、逆に近赤外領域の吸収波長域を幅広く形成する場合は、可視光領域の透過率が低下しやすくなるためである。従って、吸収層は、近赤外線吸収色素として、近赤外領域に異なる吸収極大を有する２種類以上の化合物を含有することが好ましい。
【００２４】
吸収層は、近赤外線吸収色素として、波長６７０ｎｍ〜７３０ｎｍの範囲に吸収極大を有する化合物Ａと、化合物Ａよりも長波長側であって波長７１０ｎｍ〜７９５ｎｍの範囲に吸収極大を有する化合物Ｂを少なくとも含有することが好ましい。このように吸収層に２種類以上の近赤外線吸収色素が含まれることにより、可視光領域の光の透過率を高く維持しつつ、波長７００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲を含む近赤外領域に幅広い吸収波長域を形成することが容易になる。吸収層は、化合物Ａを１種のみ含有していてもよく、２種以上を含有していてもよく、また化合物Ｂを１種のみ含有していてもよく、２種以上を含有していてもよい。化合物Ａの吸収極大波長は、好ましくは６７５ｎｍ以上であり、より好ましくは６８０ｎｍ以上であり、また７２０ｎｍ未満が好ましく、７１５ｎｍ未満がより好ましい。化合物Ｂの吸収極大波長は、好ましくは７１５ｎｍ以上であり、７２０ｎｍ以上がより好ましく、また７７０ｎｍ以下が好ましく、７５０ｎｍ以下がより好ましい。また、化合物Ａの吸収極大波長と化合物Ｂの吸収極大波長の差は、１０ｎｍ以上が好ましく、２０ｎｍ以上がより好ましく、３０ｎｍ以上がさらに好ましく、１００ｎｍ以下が好ましく、８０ｎｍ以下がより好ましく、６０ｎｍ以下がさらに好ましい。なお、化合物Ａと化合物Ｂの吸収極大波長は、トルエン中で測定される波長４００ｎｍ〜１１００ｎｍの範囲における最大吸収ピークの吸収極大波長を意味する。その他の化合物（近赤外線吸収色素）についても同様である。
【００２５】
吸収層は、化合物Ａと化合物Ｂに加え、波長８００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲に吸収極大を有する化合物Ｃをさらに含有していてもよい。吸収層が化合物Ｃを含有していれば、近赤外領域にさらに幅広い吸収波長域を形成したり、あるいは波長８００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲に上記に説明した第２の吸収波長域を形成することができる。吸収層は、化合物Ｃを１種のみ含有していてもよく、２種以上を含有していてもよい。例えば、吸収層は、化合物Ｃとして、波長８００ｎｍ〜９００ｎｍの範囲に吸収極大を有する化合物Ｃ１と、波長９０１ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲に吸収極大を有する化合物Ｃ２を含有するものであってもよい。
【００２６】
吸収層に含まれる近赤外線吸収色素としては、所望の光学特性が発揮されるように分子設計することが容易な点から、有機色素または有機無機複合色素を用いることが好ましく、近赤外領域の光を効果的に吸収し、可視光透過率を高めることが容易な点から、オキソカーボン系化合物を用いることが好ましい。オキソカーボン系化合物は、炭素酸化物を基本骨格として含む化合物であれば特に限定されないが、波長７００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲の光を選択的に吸収し、可視光領域の光を高い透過率で透過させることが可能な化合物として、スクアリリウム化合物を用いることが好ましい。
【００２７】
スクアリリウム化合物は、スクアリリウム骨格を有する化合物であれば特に制限なく用いることができるが、吸収層には、下記式（１）で表されるスクアリリウム化合物と、下記式（２）で表されるスクアリリウム化合物が含まれることが好ましい。なお、下記式（１）で表されるスクアリリウム化合物を「スクアリリウム化合物（１）」と称し、下記式（２）で表されるスクアリリウム化合物を「スクアリリウム化合物（２）」と称する。
【００２８】
【化５】
2019049586.tif 000007
【００２９】
上記式（１）において、Ｒ11〜Ｒ16はそれぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表し、環Ａ1および環Ａ2はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭化水素環、または置換基を有していてもよい複素環を表す。
【００３０】
【化６】
2019049586.tif 000008
【００３１】
上記式（２）において、Ｒ21〜Ｒ26はそれぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表すか、Ｒ22とＲ23は互いに連結して環を形成してもよく、Ｒ25とＲ26は互いに連結して環を形成してもよく、環Ｂ1および環Ｂ2はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、またはこれらの環構造を含む置換基を有していてもよい縮合環を表す。
【００３２】
吸収層が、近赤外線吸収色素として、スクアリリウム化合物（１）とスクアリリウム化合物（２）を含有していれば、吸収層に上記（ａ）〜（ｃ）の特性を付与することが容易になる。すなわち、波長７００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲に幅広い吸収波長域を形成しつつ、可視光領域の光の透過率を高めることが容易になる。
【００３３】
スクアリリウム化合物（１）は、赤色〜近赤外領域の吸収ピークがシャープに形成されるため、この吸収ピークに対応した波長域の光を選択的にカットすることが可能となる。一方、スクアリリウム化合物（２）は、赤色〜近赤外領域の吸収ピークが比較的幅広に形成することができる。なお、スクアリリウム化合物（２）は赤色〜近赤外領域の吸収ピークの短波長側にショルダーピークが認められる傾向があるため、スクアリリウム化合物（１）とスクアリリウム化合物（２）を用いる場合、赤色〜近赤外領域の吸収極大は、スクアリリウム化合物（１）の方がスクアリリウム化合物（２）よりも短波長側にあることが好ましい。これにより、波長７００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲に幅広い吸収波長域を形成しつつ、当該吸収波長域の短波長側では、吸収波長域と透過波長域との境目をシャープに形成して、近赤外領域の光を選択的にカットすることが可能となる。より好ましくは、スクアリリウム化合物（１）は上記に説明した化合物Ａに対応し、スクアリリウム化合物（２）は上記に説明した化合物Ｂに対応する。
【００３４】
なお、スクアリリウム化合物は共鳴関係にある化合物が存在している場合があるが、上記式（１）で表されるスクアリリウム化合物と上記式（２）で表されるスクアリリウム化合物には、これらの共鳴関係にある化合物も含まれる。
【００３５】
上記式（１）および式（２）において、スクアリリウム骨格の一方側と他方側に結合した基は、互いに同一であっても異なっていてもよい。すなわち、式（１）においては、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13および環Ａ1はそれぞれＲ14、Ｒ15、Ｒ16および環Ａ2と同一または異なっていてもよい。式（２）においては、Ｒ21、Ｒ22、Ｒ23および環Ｂ1はそれぞれＲ24、Ｒ25、Ｒ26および環Ｂ2と同一または異なっていてもよい。スクアリリウム骨格の一方側と他方側に結合した基が同一の場合は、スクアリリウム化合物の熱や光に対する耐久性の向上が期待できる。スクアリリウム骨格の一方側と他方側に結合した基が互いに異なる場合は、スクアリリウム化合物の分子どうしの会合や凝集が抑制され、溶剤や樹脂に対する溶解性の向上が期待できる。
【００３６】
上記式（１）のスクアリリウム化合物（１）について、詳しく説明する。式（１）中、Ｒ11〜Ｒ16はそれぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表す。Ｒ11〜Ｒ16の有機基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリール基、アラルキル基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールオキシカルボニル基、アリールスルホニル基、アリールスルフィニル基、ヘテロアリール基、アミノ基、アミド基、スルホンアミド基、カルボキシ基（カルボン酸基）、シアノ基等が挙げられる。Ｒ11〜Ｒ16の極性官能基としては、ハロゲノ基、水酸基、ニトロ基、スルホ基（スルホン酸基）等が挙げられる。
【００３７】
Ｒ11〜Ｒ16のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基等の直鎖状または分岐状のアルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基等の環状（脂環式）アルキル基等が挙げられる。アルキル基は置換基を有していてもよく、アルキル基が有する置換基としては、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲノ基、水酸基、カルボキシ基、アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、スルホ基等が挙げられる。ハロゲノ基を有するアルキル基としては、モノハロゲノアルキル基、ジハロゲノアルキル基、トリハロメチル単位を有するアルキル基、パーハロゲノアルキル基等が挙げられる。ハロゲノ基としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましく、特にフッ素原子が好ましい。アルキル基の炭素数（置換基を除く炭素数）は１〜２０が好ましく、具体的には、直鎖状または分岐状のアルキル基であれば炭素数１〜２０が好ましく、より好ましくは１〜１０であり、さらに好ましくは１〜５であり、環状のアルキル基であれば炭素数４〜１０が好ましく、５〜８がより好ましい。
【００３８】
Ｒ11〜Ｒ16のアルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、アルキルスルフィニル基に含まれるアルキル基の具体例は、上記のアルキル基に関する説明が参照される。
【００３９】
Ｒ11〜Ｒ16のアリール基としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ピレニル基、インデニル基等が挙げられる。アリール基は置換基を有していてもよく、アリール基が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ヘテロアリール基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、チオシアネート基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基等が挙げられる。アリール基の炭素数（置換基を除く炭素数）は、６〜２０が好ましく、より好ましくは６〜１２である。
【００４０】
Ｒ11〜Ｒ16のアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、フェニルペンチル基、ナフチルメチル基等が挙げられる。アラルキル基は置換基を有していてもよく、アラルキル基が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、シアノ基、ニトロ基、チオシアネート基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基等が挙げられる。アラルキル基の炭素数（置換基を除く炭素数）は、７〜２５が好ましく、より好ましくは７〜１５である。
【００４１】
Ｒ11〜Ｒ16のアリールオキシ基、アリールチオ基、アリールオキシカルボニル基、アリールスルホニル基、アリールスルフィニル基に含まれるアリール基の具体例は、上記のアリール基に関する説明が参照される。
【００４２】
Ｒ11〜Ｒ16のヘテロアリール基としては、例えば、チエニル基、チオピラニル基、イソチオクロメニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラリジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、フラニル基、ピラニル基等が挙げられる。ヘテロアリール基は置換基を有していてもよく、ヘテロアリール基が有する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、水酸基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、チオシアネート基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基等が挙げられる。ヘテロアリール基の炭素数（置換基を除く炭素数）は、２〜２０が好ましく、より好ましくは３〜１５である。
【００４３】
Ｒ11〜Ｒ16のアミノ基としては、式：−ＮＲa1Ｒa2で表され、Ｒa1およびＲa2がそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基であるものが挙げられる。アルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基の具体例は、上記のこれらの基の説明が参照され、アルケニル基とアルキニル基としては、上記に例示したアルキル基の炭素−炭素単結合の一部が二重結合または三重結合に置き換わった基が挙げられる。Ｒa1とＲa2は互いに連結して環形成していてもよい。
【００４４】
Ｒ11〜Ｒ16のアミド基としては、式：−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒa3で表され、Ｒa3がアルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基であるものが挙げられる。アルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基の具体例は、上記のこれらの基の説明が参照される。
【００４５】
Ｒ11〜Ｒ16のスルホンアミド基としては、式：−ＮＨ−ＳＯ2−Ｒa4で表され、Ｒa4がアルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基であるものが挙げられる。アルキル基、アリール基、アラルキル基、ヘテロアリール基の具体例は、上記のこれらの基の説明が参照される。
【００４６】
Ｒ11〜Ｒ16のハロゲノ基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基等が挙げられる。
【００４７】
式（１）のＲ11〜Ｒ16はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、アミド基、または水酸基であることが好ましい。Ｒ11〜Ｒ16を適宜選択することで、スクアリリウム化合物（１）の吸収極大波長を所望の値に制御することが可能となる。なかでも、スクアリリウム化合物の安定性や製造容易性の点から、Ｒ11〜Ｒ16はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、またはアミド基であることが好ましい。この場合のアルキル基は、直鎖状または分岐状であることが好ましく、またその炭素数は１〜６が好ましく、１〜４がより好ましく、１〜３がさらに好ましい。
【００４８】
式（１）の環Ａ1および環Ａ2は、炭化水素環または複素環を表し、これらの環構造は芳香族性を有していても有していなくてもよいが、非芳香族炭化水素環または非芳香族複素環であることが好ましい。非芳香族炭化水素環としては、例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン等のシクロアルカン；シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン（例えば、１，３−シクロヘキサジエン）、シクロヘプテン、シクロヘプタジエン等のシクロアルケン等が挙げられる。非芳香族複素環としては、前記に説明したような炭化水素環の環を構成する炭素原子の１個以上が、Ｎ（窒素原子）、Ｓ（硫黄原子）およびＯ（酸素原子）から選ばれる少なくとも１種以上の原子に置き換わった環が挙げられる。非芳香族複素環としては、例えば、ピロリジン環、テトラヒドロフラン環、テトラヒドロチオフェン環、ピペリジン環、テトラヒドロピラン環、テトラヒドロチオピラン環、モルホリン環、ヘキサメチレンイミン環、ヘキサメチレンオキシド環、ヘキサメチレンスルフィド環、ヘプタメチレンイミン環等が挙げられる。
【００４９】
環Ａ1と環Ａ2の環員数は５以上が好ましく、６以上がより好ましく、また１２以下が好ましく、１０以下がより好ましく、８以下がさらに好ましい。特に環Ａ1と環Ａ2の環員数が６以上であれば、スクアリリウム化合物（１）の赤色〜近赤外領域の吸収ピークをとりわけシャープなものにすることができ、当該吸収ピークの短波長側の吸収波形の傾きを急峻なものとすることができる。そのため、吸収波長域と透過波長域との境目がよりシャープに形成され、近赤外領域の光を選択的にカットすることが可能となる。
【００５０】
環Ａ1と環Ａ2は置換基を有していてもよく、そのような置換基としては上記に説明した有機基や極性官能基が挙げられる。環Ａ1と環Ａ2には、２種以上の置換基が結合していてもよい。なかでも、環Ａ1と環Ａ2が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、水酸基が好ましく、アルキル基、アルコキシ基、アリール基がより好ましい。この場合のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲノアルキル基の炭素数は１〜８が好ましく、より好ましくは１〜５であり、さらに好ましくは１〜３であり、アリール基の炭素数は６〜１２が好ましく、６〜１０がより好ましい。なお、環Ａ1と環Ａ2は置換基を有さなくてもよい。
【００５１】
環Ａ1および環Ａ2は複素環であることが好ましく、含窒素複素環であることがより好ましい。特に、環Ａ1または環Ａ2が結合（縮環）するベンゼン環のスクアリリウム骨格の結合位置のパラ位の炭素原子に窒素原子が結合した複素環であることが好ましい。環Ａ1および環Ａ2がこのような複素環から形成されていれば、スクアリリウム化合物の吸収極大波長が長波長側（例えば６８５ｎｍ前後やそれ以上）にシフトして、赤色領域の光の透過率を高めて、透過光の色味を実際のものに近付けることができる。このようなスクアリリウム化合物（１）としては、下記式（１Ａ）で表されるスクアリリウム化合物が挙げられる。
【００５２】
【化７】
2019049586.tif 000009
【００５３】
式（１Ａ）中、Ｒ11〜Ｒ16は上記に説明した通りであり、Ｒ17およびＲ18はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、またはハロゲノアルキル基を表し、環Ａ1および環Ａ2はそれぞれ独立して含窒素複素環を表す。Ｒ17とＲ18は、水素原子またはアルキル基が好ましく、アルキル基であることがさらに好ましい。この場合のアルキル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、１〜１２がより好ましく、１〜８がさらに好ましく、１〜６が特に好ましい。
【００５４】
Ｒ17とＲ18のアルキル基としては、スクアリリウム化合物（１）の有機溶媒や樹脂への溶解性を高める点から、分岐状アルキルであることが好ましい。このような分岐状アルキル基としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、１−エチルプロピル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基等が挙げられる。
【００５５】
環Ａ1と環Ａ2の含窒素複素環は、環構成原子として、ヘテロ原子を窒素原子１つのみを有していてもよく、ヘテロ原子を２つ以上有していてもよい。ヘテロ原子を２つ以上有する場合は、少なくとも１つの窒素原子を必須的に有し、さらにＮ（窒素原子）、Ｓ（硫黄原子）およびＯ（酸素原子）から選ばれる少なくとも１種以上の原子を１つ以上有するものとなる。なお、環Ａ1と環Ａ2の含窒素複素環は、環を構成するヘテロ原子として窒素原子を１つのみ有することが好ましい。また、環Ａ1と環Ａ2は、非芳香族含窒素複素環であることが好ましく、ベンゼン環と縮環した炭素−炭素結合以外は、単結合により炭素原子と窒素原子または炭素原子どうしが結合して環形成していることが好ましい。
【００５６】
式（１Ａ）において、環Ａ1と環Ａ2の含窒素複素環は、Ｒ17とＲ18以外に置換基を有していてもよい。すなわち、環Ａ1と環Ａ2の含窒素複素環は、窒素原子以外の環構成原子に置換基が結合してもよく、そのような置換基としては、上記に説明した有機基や極性官能基が挙げられる。なかでも、環Ａ1と環Ａ2が有していてもよいＲ17とＲ18以外の置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、水酸基が好ましく、アルキル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲノアルキル基がより好ましい。この場合のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲノアルキル基の炭素数は１〜８が好ましく、より好ましくは１〜５であり、さらに好ましくは１〜３であり、アリール基の炭素数は６〜１２が好ましく、６〜１０がより好ましく、アラルキル基の炭素数は７〜１３が好ましく、７〜１１がより好ましい。アルキル基は、直鎖状であっても分岐状であってもよい。なお、環Ａ1と環Ａ2は、Ｒ17とＲ18以外に置換基を有していなくてもよい。
【００５７】
スクアリリウム化合物（１）は、有機溶媒や樹脂への溶解性に優れ、製造が容易なものとして、下記式（１Ｂ）で表されるスクアリリウム化合物であることが好ましい。式（１Ｂ）中、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ15〜Ｒ18、環Ａ1および環Ａ2は上記に説明した通りであり、Ｒ19およびＲ20はそれぞれ独立して、炭素数４以上のアルキル基を表す。
【００５８】
【化８】
2019049586.tif 000010
【００５９】
式（１Ｂ）において、Ｒ19とＲ20のアルキル基の炭素数は、５以上が好ましく、７以上がより好ましく、８以上がさらに好ましい。Ｒ19とＲ20のアルキル基の炭素数の上限は特に限定されないが、３０以下が好ましく、２５以下がより好ましく、２０以下がさらに好ましく、１８以下がさらにより好ましい。Ｒ19とＲ20のアルキル基としては、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基等が挙げられる。
【００６０】
Ｒ19とＲ20のアルキル基は直鎖状であることが好ましい。Ｒ19とＲ20が直鎖状アルキル基であれば、スクアリリウム化合物（１）の耐熱性が高まる傾向となり、スクアリリウム化合物（１）を樹脂に配合して加熱成形したり加熱硬化する際など、スクアリリウム化合物（１）の分解を抑えることができる。
【００６１】
上記式（２）のスクアリリウム化合物（２）について、詳しく説明する。式（２）中、Ｒ21〜Ｒ26はそれぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表すか、Ｒ22とＲ23は互いに連結して環を形成してもよく、Ｒ25とＲ26は互いに連結して環を形成してもよい。Ｒ21〜Ｒ26の有機基と極性官能基の詳細は、上記のＲ11〜Ｒ16の有機基と極性官能基の説明が参照される。
【００６２】
式（２）において、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ25、Ｒ26が独立した基である場合、Ｒ21〜Ｒ26はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、またはアラルキル基であることが好ましく、水素原子、アルキル基、またはアリール基がより好ましい。この場合、アルキル基の炭素数は、直鎖状または分岐状のアルキル基であれば１〜６が好ましく、より好ましくは１〜４であり、環状（脂環式）のアルキル基であれば４〜７が好ましく、より好ましくは５〜６である。アルコキシ基またはアルコキシカルボニル基に含まれるアルキル基も同様である。アリール基の炭素数は６〜１０が好ましく、より好ましくは６〜８である。アラルキル基の炭素数は７〜１４が好ましく、より好ましくは７〜１２である。Ｒ21〜Ｒ26がアルキル基またはアリール基である場合、メチル基、エチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基等が好ましく挙げられる。
【００６３】
式（２）において、Ｒ22とＲ23が互いに連結して環を形成する場合、あるいはＲ25とＲ26が互いに連結して環を形成する場合、Ｒ22とＲ23から形成される環構造、およびＲ25とＲ26から形成される環構造としては、炭化水素環や複素環が挙げられる。当該環構造の環員数（式（２）のＲ22とＲ23またはＲ25とＲ26の間にあるピロール環の一部や炭素−炭素二重結合を構成する炭素数３を含めた環員数）は、４以上が好ましく、５以上がより好ましく、６以上がさらに好ましく、また１２以下が好ましく、１０以下がより好ましく、９以下がさらに好ましい。Ｒ22とＲ23から形成される環構造またはＲ25とＲ26から形成される環構造は置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、上記に説明した有機基や極性官能基が挙げられる。Ｒ22とＲ23から形成される環構造およびＲ25とＲ26から形成される環構造は、不飽和炭化水素環が好ましく、このような環構造を有するスクアリリウム化合物（２）については、後で詳しく説明する。
【００６４】
式（２）の環Ｂ1および環Ｂ2は、芳香族炭化水素環、芳香族複素環、またはこれらの環構造を含む縮合環を表し、これらの環構造は置換基を有していてもよい。環Ｂ1および環Ｂ2のπ共役系を適宜設定することにより、スクアリリウム化合物（２）の赤色〜近赤外領域の吸収極大波長を容易に調整することができる。環Ｂ1および環Ｂ2のπ電子数を増加させる（π共役系を広げる）ことにより、スクアリリウム化合物（２）の吸収ピークを長波長シフトさせて、例えば吸収極大波長を８５０ｎｍ程度まで調整することが可能となる。
【００６５】
式（２）の環Ｂ1と環Ｂ2の芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環、アントラセン環、フルオランテン環、シクロテトラデカヘプタエン環等が挙げられる。芳香族炭化水素環は、環構造を１個のみ有するものであってもよく、２個以上の環構造が縮合したものであってもよい。環Ｂ1と環Ｂの芳香族複素環は、Ｎ（窒素原子）、Ｏ（酸素原子）およびＳ（硫黄原子）から選ばれる１種以上の原子を環構造に含み、芳香族性を有するものであり、例えば、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、プリン環、プテリジン環等が挙げられる。芳香族複素環は、環構造を１個のみ有するものであってもよく、２個以上の環構造が縮合したものであってもよい。環Ｂ1と環Ｂのこれらの環構造を含む縮合環は、芳香族炭化水素環と芳香族複素環とが縮環した構造を有するものであり、例えば、インドール環、イソインドール環、ベンゾイミダゾール環、キノリン環、ベンゾピラン環、アクリジン環、キサンテン環、カルバゾール環等が挙げられる。
【００６６】
環Ｂ1と環Ｂ2は置換基を有していてもよく、そのような置換基としては上記に説明した有機基や極性官能基が挙げられる。環Ｂ1または環Ｂ2に結合する置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４の直鎖状または分岐状アルキル基）、アリール基、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４のアルコキシ基）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２のアルキルチオ基）、ヘテロアリール基、アミノ基、アミド基、スルホンアミド基、水酸基、チオール基、ベンゾチアゾール基、インドリニル基等の電子供与性基や；ハロゲノ基（好ましくは、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基）、ハロゲノアルキル基（好ましくは炭素数１〜３のパーハロゲノアルキル基）、シアノ基、アルコキシカルボニル基（エステル基）、カルボキシ基、カルボン酸エステル基、カルボン酸アミド基、スルホニル基、スルホン酸エステル基、ニトロ基等の電子吸引性基が好ましい。これらの中でも、電子吸引性基がより好ましく、ハロゲノ基が特に好ましい。環Ｂ1または環Ｂ2が置換基を有する場合、その数は１〜３が好ましく、１〜２がより好ましく、さらに好ましくは１である。環Ｂ1または環Ｂ2が複数の置換基を有する場合、複数の置換基は同一であっても異なっていてもよい。なお、環Ｂ1および環Ｂ2は置換基を有しなくてもよい。
【００６７】
スクアリリウム化合物（２）としては、下記式（２Ａ）で表されるスクアリリウム化合物が好適に示される。下記式（２Ａ）のスクアリリウム化合物は、式（２）のスクアリリウム化合物において、Ｒ22とＲ23が互いに連結して環を形成し、Ｒ25とＲ26が互いに連結して環を形成したものである。
【００６８】
【化９】
2019049586.tif 000011
【００６９】
式（２Ａ）中、Ｒ21とＲ24および環Ｂ1と環Ｂ2は上記に説明した通りであり、環Ｃ1および環Ｃ2はそれぞれ独立して、４〜１２員の置換基を有していてもよい不飽和炭化水素環を表す。環Ｃ1と環Ｃ2は、スクアリリウム骨格に結合する炭素原子とピロール環のα位の炭素原子との間に二重結合を有するとともに、ピロール環のα位の炭素とβ位の炭素を含んで構成される不飽和炭化水素環である。環Ｃ1と環Ｃ2は、前記二重結合以外にも不飽和結合（好ましくは二重結合）を有していてもよく、好ましくは不飽和結合（二重結合）を１個のみ有する。環Ｃ1と環Ｃ2の環員数は、好ましくは５以上であり、６以上がより好ましく、また１０以下が好ましく、９以下がより好ましく、８以下がさらに好ましい。スクアリリウム化合物（２）が環Ｃ1と環Ｃ2を有していれば、赤色〜近赤外領域の吸収ピークの短波長側の吸収波形のショルダーピークを低減することができ、光学特性を改善することができる。また、環Ｃ1と環Ｃ2を有することにより、分子歪みによってπ−π*遷移のバンドギャップが狭くなり、かつ環Ｂ1と環Ｂ2によってπ電子系が広範囲に広がることができるため、吸収ピークの長波長化を容易に達成することができる。
【００７０】
環Ｃ1と環Ｃ2の構造としては、例えば、シクロブテン、シクロペンテン、シクロペンタジエン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、シクロヘプテン、シクロヘプタジエン、シクロヘプタトリエン、シクロオクテン、シクロオクタジエン、シクロオクタトリエン、シクロノネン、シクロノナジエン、シクロノナトリエン、シクロノナテトラエン等のシクロアルケンが挙げられる。なかでも、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等のシクロアルカンモノエンが好ましい。
【００７１】
環Ｃ1と環Ｃ2は置換基を有していてもよく、そのような置換基としては上記に説明した有機基や極性官能基が挙げられる。なかでも、環Ｃ1または環Ｃ2に結合する置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲノ基、アリール基、アルコキシカルボニル基（エステル基）、アミド基、スルホンアミド基、または水酸基が好ましく、アルキル基または水酸基がより好ましく、これにより、スクアリリウム化合物（２）の有機溶媒への溶解性を高めやすくなる。この場合、アルキル基の炭素数は１〜５が好ましく、より好ましくは１〜３であり、さらに好ましくは１〜２である。環Ｃ1または環Ｃ2が置換基を有する場合、その数は１〜６が好ましく、１〜３がより好ましく、１〜２がさらに好ましい。ただし、環Ａの置換基の数は、環Ｃ1または環Ｃ2の構成員数から３を引いた値以下であることが好ましい。環Ｃ1または環Ｃ2が複数の置換基を有する場合、複数の置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数の置換基は各々別の炭素原子に結合していてもよく、１つの炭素原子に結合していてもよい。なお、環Ｃ1および環Ｃ2は置換基を有しなくてもよい。
【００７２】
スクアリリウム化合物は公知の方法を適宜採用することにより合成することができる。スクアリリウム化合物（１）の合成は、例えば米国特許第５，５４３，０８６号明細書等を参考にすることができ、スクアリリウム化合物（２）の合成は、例えば特開２０１６−７４６４９号公報等を参考にすることができる。
【００７３】
吸収層は、上記（ａ）〜（ｃ）の特性を満たす限り、上記に説明したスクアリリウム化合物（１）とスクアリリウム化合物（２）以外の近赤外線吸収色素を含有していてもよい。吸収層中に含まれていてもよい近赤外線吸収色素としては、上記のスクアリリウム化合物（１）とスクアリリウム化合物（２）以外のスクアリリウム系色素、クロコニウム系色素、中心金属イオンとして銅（例えば、Ｃｕ（ＩＩ））や亜鉛（例えば、Ｚｎ（ＩＩ））等を有していてもよい環状テトラピロール系色素（ポルフィリン類、クロリン類、フタロシアニン類、ナフタロシアニン類、コリン類等）、シアニン系色素、クアテリレン系色素、ジイモニウム系色素、ニッケル錯体系色素、銅イオン系色素等が挙げられる。これらの色素は、１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。
【００７４】
吸収層が、波長７５０ｎｍを超える範囲、あるいは波長８００ｎｍ以上の範囲にも吸収波長域を有するものとする場合は、吸収層は、近赤外線吸収色素（特に上記に説明した化合物Ｃ）として、クロコニウム化合物やフタロシアニン化合物をさらに含有することが好ましい。特に、クロコニウム化合物を用いれば、スクアリリウム化合物よりも長波長側の近赤外領域の光を吸収しつつ、可視光領域の光を高い透過率で透過させることが可能となる。
【００７５】
クロコニウム化合物としては、クロコニウム骨格を有する化合物であれば特に制限なく用いることができるが、近赤外領域の吸収ピークの吸収極大波長を任意に調整することが容易な点から、下記式（３）で表されるクロコニウム化合物を用いることが好ましい。
【００７６】
【化１０】
2019049586.tif 000012
【００７７】
上記式（３）において、Ｒ31〜Ｒ36はそれぞれ独立して、水素原子、有機基または極性官能基を表すか、Ｒ31とＲ32は互いに連結して環を形成してもよく、Ｒ34とＲ35は互いに連結して環を形成してもよく、環Ｄ1および環Ｄ2はそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、またはこれらの環構造を含む置換基を有していてもよい縮合環を表す。
【００７８】
環Ｄ1と環Ｄ2の詳細は、上記のスクアリリウム化合物（２）の環Ｂ1と環Ｂ2の説明が参照される。式（３）のクロコニウム化合物は、環Ｄ1と環Ｄ2のπ共役系を適宜設定することにより、クロコニウム化合物の近赤外領域の吸収極大波長を容易に調整することができる。例えば環Ｄ1と環Ｄ2がベンゼン環である場合は、式（３）のクロコニウム化合物の吸収極大波長は７６０ｎｍ程度となり、環Ｄ1と環Ｄ2のπ電子数を増加させる（π共役系を広げる）ことにより、当該吸収極大波長を１０００ｎｍ程度まで調整することが可能となる。
【００７９】
Ｒ31〜Ｒ36の有機基と極性官能基の詳細は、上記のＲ11〜Ｒ16の有機基と極性官能基の説明が参照される。Ｒ31とＲ32から形成される環構造およびＲ34とＲ35から形成される環構造としては、炭化水素環や複素環が挙げられ、これらの環構造は芳香族性を有していても有していなくてもよい。
【００８０】
式（３）において、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ34、Ｒ35が独立した基である場合、Ｒ31〜Ｒ36はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリール基、アラルキル基、またはアリールオキシカルボニル基であることが好ましい。この場合、アルキル基の炭素数は、直鎖状または分岐状のアルキル基であれば１〜６が好ましく、より好ましくは１〜４であり、環状（脂環式）のアルキル基であれば４〜７が好ましく、より好ましくは５〜６である。アルコキシ基またはアルコキシカルボニル基に含まれるアルキル基も同様である。アリール基の炭素数は６〜１０が好ましく、より好ましくは６〜８である。アリールオキシカルボニル基に含まれるアリール基も同様である。アラルキル基の炭素数は７〜１４が好ましく、より好ましくは７〜１２である。Ｒ31〜Ｒ36がこのような基であれば、クロコニウム化合物の溶剤溶解性を高めたり、吸収極大波長をより細かく制御することが容易になる。
【００８１】
式（３）において、Ｒ31とＲ32が互いに連結して環を形成する場合、あるいはＲ34とＲ35が互いに連結して環を形成する場合、Ｒ31とＲ32から形成される環構造、およびＲ34とＲ35から形成される環構造としては、置換基および／または縮合環構造を有していてもよい炭化水素環、または、置換基および／または縮合環構造を有していてもよい複素環であることが好ましい。
【００８２】
Ｒ31とＲ32またはＲ34とＲ35から形成される炭化水素環としては、例えば、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン等の炭素数３〜１０の単環のシクロアルカン；シクロペンテン、シクロペンタジエン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン（例えば、１，３−シクロヘキサジエン）、シクロヘプテン、シクロヘプタジエン、等の炭素数３〜１０の単環のシクロアルケン等が挙げられる。Ｒ31とＲ32またはＲ34とＲ35から形成される複素環としては、前記に説明したような炭化水素環の環を構成する炭素原子の１個以上が、Ｎ（窒素原子）、Ｓ（硫黄原子）およびＯ（酸素原子）から選ばれる少なくとも１種以上の原子に置き換わった環構造等が挙げられ、例えば、フラン環、テトラヒドロフラン環、チオフェン環、テトラヒドロチオフェン環、ピロール環、ピロリジン環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピリジン環、ピペリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピラン環、テトラヒドロピラン環等が挙げられる。これらの炭化水素環や複素環は他の環と縮環した縮合環構造を有していてもよく、そのような環構造としては、例えば、インデン環、ナフタレン環、アントラセン環、フルオレン環、ベンゾフルオレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾイミダゾール環、キノリン環、ベンゾピラン環、アクリジン環、キサンテン環、カルバゾール環、プリン環、プテリジン環等が挙げられる。
【００８３】
クロコニウム化合物の吸収ピークの長波長化の観点からは、Ｒ31とＲ32またはＲ34とＲ35から形成される環構造はπ電子を含むことが好ましく、そのような環構造としては、例えば、シクロヘキサジエン環、ピロール環、ピラン環、インデン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾピラン環、フルオレン環、キサンテン環等が好ましく挙げられる。
【００８４】
Ｒ31とＲ32またはＲ34とＲ35から形成される炭化水素環や複素環は置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、チオアルコキシ基、アリールオキシ基、チオアリールオキシ基、アルキルアミド基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等が挙げられる。なかでも、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲノ基、ハロゲノアルキル基、およびシアノ基から選ばれる少なくとも１種が好ましい。
【００８５】
クロコニウム化合物は公知の方法を用いて合成することができ、例えば、特開２００２−２８６９３１号公報、特開２００７−３１６４４号公報、特開２００７−３１６４５号公報、特開２００７−１６９３１５号公報等を参考にすることができる。
【００８６】
フタロシアニン化合物は、フタロシアニン骨格（すなわち４つのフタル酸イミドが窒素原子で架橋された構造）を有する化合物であれば特に制限なく用いることができ、例えば下記式（４）で表されるフタロシアニン化合物を用いることが好ましい。
【００８７】
【化１１】
2019049586.tif 000013
【００８８】
上記式（４）において、Ｍは、金属原子、金属酸化物または金属ハロゲン化物を表し、Ｒ41a〜Ｒ41d、Ｒ42a〜Ｒ42d、Ｒ43a〜Ｒ43dおよびＲ44a〜Ｒ44dは、同一または異なって、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、または置換基を有していてもよいアミノ基を表す。Ｍを構成する金属元素は、酸素やハロゲン等の他の元素と結合していても配位していてもよい。
【００８９】
式（４）中、Ｍを構成する金属元素としては、銅、亜鉛、インジウム、コバルト、バナジウム、鉄、ニッケル、スズ、銀、マグネシウム、ナトリウム、リチウム、鉛等が挙げられる。これらの金属元素の中でも、可視光透過性や耐光性の点から、銅、バナジウム、および亜鉛が好ましく、銅および亜鉛がより好ましい。銅フタロシアニン（フタロシアニンの銅錯体）は、光による劣化が少なく、優れた耐光性を有する。亜鉛フタロシアニン（フタロシアニンの亜鉛錯体）は、光選択透過性の高いフィルターを得る場合に特に有用である。
【００９０】
Ｒ41a〜Ｒ41d、Ｒ42a〜Ｒ42d、Ｒ43a〜Ｒ43dおよびＲ44a〜Ｒ44dのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子および塩素原子が好ましい。
【００９１】
Ｒ41a〜Ｒ41d、Ｒ42a〜Ｒ42d、Ｒ43a〜Ｒ43dおよびＲ44a〜Ｒ44dの置換基を有していてもよいアルコキシ基の詳細は、上記のＲ11〜Ｒ16のアルコキシ基の説明が参照される。Ｒ41a〜Ｒ41d、Ｒ42a〜Ｒ42d、Ｒ43a〜Ｒ43dおよびＲ44a〜Ｒ44dのアルコキシ基の炭素数は、１〜１０であることが好ましく、１〜６がより好ましく、１〜３がさらに好ましい。また、アルコキシ基が有していても置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、アリールオキシ基が好ましく挙げられる。
【００９２】
Ｒ41a〜Ｒ41d、Ｒ42a〜Ｒ42d、Ｒ43a〜Ｒ43dおよびＲ44a〜Ｒ44dの置換基を有していてもよいアリールオキシ基の詳細は、上記のＲ11〜Ｒ16のアリールオキシ基の説明が参照される。Ｒ41a〜Ｒ41d、Ｒ42a〜Ｒ42d、Ｒ43a〜Ｒ43dおよびＲ44a〜Ｒ44dのアリールオキシ基の炭素数は、６〜１５であることが好ましく、６〜１２がより好ましく、６〜１０がさらに好ましい。また、アリールオキシ基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基が好ましく挙げられる。
【００９３】
Ｒ41a〜Ｒ41d、Ｒ42a〜Ｒ42d、Ｒ43a〜Ｒ43dおよびＲ44a〜Ｒ44dの置換基を有していてもよいアミノ基の詳細は、上記のＲ11〜Ｒ16のアミノ基の説明が参照される。Ｒ41a〜Ｒ41d、Ｒ42a〜Ｒ42d、Ｒ43a〜Ｒ43dおよびＲ44a〜Ｒ44dのアミノ基は置換基を有することが好ましく、当該置換基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基が好ましく挙げられる。
【００９４】
式（４）で表される化合物は、フタロシアニン骨格にハロゲン原子または電子供与性基が結合していることが好ましい。従って、Ｒ41a〜Ｒ41d、Ｒ42a〜Ｒ42d、Ｒ43a〜Ｒ43dおよびＲ44a〜Ｒ44dのうちの１つ以上は、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基、または置換基を有していてもよいアミノ基であることが好ましい。フタロシアニン骨格にこれらの置換基が結合していれば、フタロシアニン化合物の吸収波長が長波長側にシフトし、例えば波長８００ｎｍ以上の近赤外領域の光の透過をカットしやすくなる。
【００９５】
フタロシアニン化合物は公知の方法を用いて合成することができ、例えば、特公平０６−０３１２３９号公報、特許第３７２１２９８号公報、特許第３２２６５０４号公報、特開２０１０−０７７４０８号公報等を参考にすることができる。
【００９６】
吸収層はさらに紫外線吸収色素を含有し、近紫外（ＵＶＡ）〜紫色領域に吸収波長域を有するものであってもよい。あるいは、光選択透過フィルターは、上記に説明した吸収層に加えて第２の吸収層をさらに有し、第２の吸収層が紫外線吸収色素を含有するものであってもよい。紫外線吸収色素としては、ベンゾフェノン系化合物、サリシレート系化合物、ベンゾエート系化合物、トリアゾール系化合物、トリアジン系化合物等を用いることができる。紫外線吸収色素は、１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。
【００９７】
ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、２−ヒドロキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、４−ｎ−オクチルオキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン等が挙げられる。
【００９８】
サリシレート系化合物としては、例えば、フェニルサリシレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート等が挙げられる。
【００９９】
ベンゾエート系化合物としては、例えば、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３'，５'−ジ−ｔ−ブチル−４'−ヒドロキシベンゾエートなどが挙げられる。
【０１００】
トリアゾール系化合物としては、例えば、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ｐ−クレゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−ベンゾトリアゾール−２−イル−４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、２−［５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチル−６−（ｔ−ブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミジルメチル）フェノール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【０１０１】
トリアジン系化合物は、例えば、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシエトキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−６−（２，４−ジブトキシフェニル）−１，３−５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ−３−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。
【０１０２】
紫外線吸収色素は、市販の物質を用いてもよく、例えば、ＡＤＥＫＡ社製のアデカスタブ（登録商標）シリーズや、ＢＡＳＦ社製のチヌビン（登録商標）シリーズ等を用いてもよい。
【０１０３】
紫外線吸収色素としては、下記式（５）で表されるスチレン系化合物を用いることも好ましい。下記式（５）で表されるスチレン系化合物は、波長３５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲に吸収波長域を形成するとともに、当該吸収波長域の長波長側では、吸収波長域と透過波長域との境目をシャープに形成することができる。
【０１０４】
【化１２】
2019049586.tif 000014
【０１０５】
上記式（５）において、Ｒ51はシアノ基、アシル基、カルボン酸エステル基またはアミド基を表し、Ｒ52は水素原子、シアノ基、アシル基、カルボン酸エステル基、アミド基、炭化水素基またはヘテロアリール基を表し、Ｒ51とＲ52がともにアシル基、カルボン酸エステル基またはアミドである場合、Ｒ51とＲ52は互いに連結して環を形成していてもよく、Ｒ53は水素原子またはアルキル基を表し、Ｒ54は水素原子、有機基または極性官能基を表し、複数のＲ54は互いに同一または異なっていてもよく、Ｘは硫黄原子または酸素原子を表し、Ｌは水素原子または２価以上の連結基を表し、ａは１以上の整数を表し、ａが２以上である場合、Ｌに結合する複数の基は互いに同一または異なっていてもよい。式（５）中、Ｒ51（またはＲ52）はＲ53に対して、シス位にあってもよく、トランス位にあってもよい。
【０１０６】
Ｒ51とＲ52のアシル基（アルカノイル基）としては、メタノイル基、エタノイル基、プロパノイル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、ウンデカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ペンタデカノイル基、ヘキサデカノイル基、ヘプタデカノイル基、オクタデカノイル基、ノナデカノイル基、エイコサノイル基等が挙げられる。アシル基は、水素原子の一部が、アリール基、アルコキシ基、ハロゲノ基、水酸基等で置換されていてもよい。前記アシル基中のアルキル基は、直鎖状であってもよく分岐状であってもよい。アシル基の炭素数（置換基を除く炭素数）は、２〜２１が好ましく、より好ましくは２〜１１であり、さらに好ましくは２〜６である。
【０１０７】
Ｒ51とＲ52のカルボン酸エステル基としては、式：−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒb1で表され、Ｒb1がアルキル基、アリール基、アラルキル基であるものが挙げられる。アルキル基、アリール基、アラルキル基の具体例は、上記のＲ11〜Ｒ16のこれらの基の説明が参照される。
【０１０８】
Ｒ51とＲ52のアミド基としては、式：−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲb2Ｒb3で表され、Ｒb2が水素原子またはアルキル基であり、Ｒb3がアルキル基、アシル基、アリール基またはアラルキル基であるものが挙げられる。Ｒb2とＲb3のアルキル基、アリール基、アラルキル基の具体例は、上記のＲ11〜Ｒ16のこれらの基の説明が参照され、Ｒb3のアシル基の具体例は、上記のＲ51とＲ52のアシル基の説明が参照される。
【０１０９】
Ｒ51とＲ52がともにアシル基であって、互いに連結して環を形成する場合のＲ51とＲ52から形成される基としては、式：−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒb4−Ｃ（＝Ｏ）−で表される基が示される。Ｒ51とＲ52がともにカルボン酸エステル基であって、互いに連結して環を形成する場合のＲ51とＲ52から形成される基としては、式：−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｒb5−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−で表される基が示される。Ｒ51とＲ52がともにアミド基であって、互いに連結して環を形成する場合のＲ51とＲ52から形成される基としては、式：−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲb6−Ｒb7−ＮＲb8−Ｃ（＝Ｏ）−で表される基が示される。これらの式中、Ｒb4、Ｒb5およびＲb7はそれぞれ独立して、直鎖状または分岐状のアルキレン基を表し、Ｒb6とＲb8はそれぞれ独立して、水素原子または炭化水素基を表し、これらの式に示された構造の両末端のカルボニル基の炭素原子は式（５）のエチレン二重結合の炭素原子に結合する。Ｒb4、Ｒb5およびＲb7のアルキレン基は、水素原子の一部が、アリール基、アルコキシ基、シアノ基、ハロゲノ基、水酸基、ニトロ基等で置換されていてもよい。Ｒb4、Ｒb5およびＲb7のアルキレン基の炭素数（置換基を除く炭素数）は、２〜１０が好ましく、３〜８がより好ましい。Ｒb6とＲb8の炭化水素基としては、アルキル基、アリール基またはアラルキル基が好ましく挙げられ、これらの基の具体例は、上記のＲ11〜Ｒ16のアルキル基、アリール基およびアラルキル基の説明が参照される。
【０１１０】
式（５）のＲ53は水素原子またはアルキル基を表し、アルキル基の具体例は、上記のＲ11〜Ｒ16のアルキル基に関する説明が参照される。Ｒ53のアルキル基は、好ましくは炭素数１〜３であり、より好ましくは炭素数１〜２である。Ｒ53としては水素原子が特に好ましい。
【０１１１】
式（５）のＲ54の有機基と極性官能基の詳細は、上記のＲ11〜Ｒ16の有機基と極性官能基の説明が参照される。Ｒ54としては、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アラルキル基、アリールオキシ基およびアリールチオ基から選ばれる１種以上であることが好ましく、水素原子またはアルキル基であることが好ましい。当該アルキル基の炭素数は、１〜４が好ましく、１〜３がより好ましい。なかでも、式（５）のベンゼン環に結合する４つのＲ54のうち、２以上が水素原子であることが好ましく、３以上が水素原子であることがより好ましく、４つ全てが水素原子であることが特に好ましい。
【０１１２】
式（５）において、Ｘは、Ｒ51〜Ｒ53を含むエチレン構造部に対して、オルト位に結合していてもよく、メタ位に結合していてもよく、パラ位に結合していてもよい。なお、スチレン系化合物の製造容易性の観点からは、Ｘはエチレン構造部に対してパラ位に結合していることが好ましい。
【０１１３】
式（５）において、Ｌが２価以上の連結基である場合、当該連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロアリーレン基、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−等の２価の連結基；アルキル基を有していてもよいメチン基（−Ｃ＜）、−Ｎ＜等の３価の連結基；＞Ｃ＜等の４価の連結基；およびこれらを組み合わせた連結基が挙げられる。アルキレン基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよい。また、アルキレン基とアリーレン基は、水酸基および／またはチオール基を有していてもよい。
【０１１４】
スチレン系化合物の耐熱性を高める観点からは、ａは２以上の整数であり、Ｌは２価以上の連結基を表すことが好ましい。また、連結基Ｌは、水素原子の一部が水酸基および／またはチオール基で置き換えられていてもよいアルキレン基、水素原子の一部が水酸基および／またはチオール基で置き換えられていてもよいアリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、およびこれらの基を組み合わせた連結基が好ましい（ただし、エーテル結合およびチオエーテル結合は連続しない）。直鎖状または分岐状のアルキレン基の炭素数（連続する炭素数）は６以下が好ましく、４以下がより好ましく、３以下がさらに好ましい。環状のアルキレン基であれば、炭素数は４以上が好ましく、５以上がより好ましく、また１０以下が好ましく、８以下がより好ましい。アリーレン基の炭素数は、５以上が好ましく、６以上がより好ましく、また１０以下が好ましく、８以下がより好ましい。
【０１１５】
吸収層は近赤外線吸収色素のみから構成されていてもよく、樹脂等のマトリックスに近赤外線吸収色素が配合されて形成されてもよい。なかでも、吸収層の透過スペクトルが上記（ａ）〜（ｃ）を満たすように調整することが容易な点から、吸収層は後者のように構成されることが好ましく、具体的には吸収層は近赤外線吸収色素と樹脂を含有することが好ましい。吸収層が紫外線吸収色素をも含有する場合は、吸収層は近赤外線吸収色素と紫外線吸収色素と樹脂とを含有することが好ましい。光選択透過フィルターが紫外線吸収色素を含有する第２の吸収層を有する場合は、第２の吸収層は紫外線吸収色素と樹脂とを含有することが好ましい。
【０１１６】
吸収層中の近赤外線吸収色素の含有量は、所望の光学性能に応じて適宜調整すればよいが、吸収層が上記（ａ）〜（ｃ）の特性を満足するように形成することが容易な点から、吸収層１００質量％中、近赤外線吸収色素の含有量は０．０５質量％以上であることが好ましく、０．１質量％以上がより好ましく、０．５質量％以上がさらに好ましく、また２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下がさらに好ましい。このように吸収層中の近赤外線吸収色素の含有量を調整することにより、近赤外領域に幅広い吸収波長域を形成しつつ、可視光領域の光の透過率を高めることが容易になる。なお後述するように、吸収層を透明基板上に形成するような場合は、樹脂層を薄く形成することができるため、吸収層中の近赤外線吸収色素の含有量をある程度高くすることが好ましく、例えば、吸収層中の近赤外線吸収色素の含有量を１質量％以上とすることが好ましく、２質量％以上がより好ましく、３質量％以上がさらに好ましい。吸収層中に紫外線吸収色素が含まれる場合、あるいは紫外線吸収色素を含有する第２の吸収層を設ける場合、吸収層または第２の吸収層中の紫外線吸収色素の含有量も上記の範囲にあることが好ましい。
【０１１７】
吸収層に上記に説明したスクアリリウム化合物（１）とスクアリリウム化合物（２）が含まれる場合は、吸収層中のスクアリリウム化合物（１）／スクアリリウム化合物（２）の質量比は、１０／９０以上が好ましく、２０／８０以上がより好ましく、また８０／２０以下が好ましく、７０／３０以下がより好ましく、６０／４０以下がさらに好ましい。
【０１１８】
吸収層に、上記に説明した波長８００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲に吸収極大を有する化合物Ｃが含まれる場合は、吸収層が上記（ａ）〜（ｃ）の特性を満足する限り、吸収層中の化合物Ｃの含有量は特に制限されない。吸収層の波長８００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲における所望の透過スペクトルに応じて、化合物Ｃの種類や量を適宜設定することができる。
【０１１９】
吸収層に含まれる樹脂は、公知の樹脂を用いることができる。なお以下の吸収層の樹脂に関する説明には、特に断りのない限り、第２の吸収層の樹脂に関する説明も含まれる。吸収層を構成する樹脂としては、透明性が高い樹脂であることが好ましく、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、（メタ）アクリルウレタン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹脂（例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂）、シクロオレフィン系樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、スチレン系樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド樹脂（例えば、ナイロン）、アラミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、アルキド樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂（例えば、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂、ポリアリレート樹脂等）、ポリスルホン樹脂、ブチラール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル系樹脂、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂）、ＡＳ樹脂（アクリロニトリル−スチレン共重合体）、シリコーン樹脂、変性シリコーン樹脂（例えば、（メタ）アクリルシリコーン系樹脂、アルキルポリシロキサン系樹脂、シリコーンウレタン樹脂、シリコーンポリエステル樹脂、シリコーンアクリル樹脂等）、フッ素系樹脂（例えば、フッ素化芳香族ポリマー、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、パーフルオロアルコキシフッ素樹脂（ＰＦＡ）、フッ素化ポリアリールエーテルケトン（ＦＰＥＫ）、フッ素化ポリイミド（ＦＰＩ）、フッ素化ポリアミド酸（ＦＰＡＡ）、フッ素化ポリエーテルニトリル（ＦＰＥＮ）等）等が挙げられる。これらの中でも、透明性や耐熱性に優れる観点から、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、フッ素化芳香族ポリマーが好ましい。
【０１２０】
ポリイミド樹脂は、主鎖の繰り返し単位にイミド結合を含む重合体であり、例えば、テトラカルボン酸２無水物とジアミンとを縮重合させてポリアミド酸を得て、これを脱水・環化（イミド化）させることにより製造することができる。ポリイミド樹脂としては、芳香族環がイミド結合で連結された芳香族ポリイミドを用いることが好ましい。ポリイミド樹脂は、例えば、三菱ガス化学社製のネオプリム（登録商標）、デュポン社製のカプトン（登録商標）、三井化学社製のオーラム（登録商標）、サンゴバン社製のメルディン（登録商標）、東レプラスチック精工社製のＴＰＳ（登録商標）ＴＩ３０００シリーズ等を用いることができる。
【０１２１】
ポリアミドイミド樹脂は、主鎖の繰り返し単位にアミド結合とイミド結合を含む重合体である。ポリアミドイミド樹脂は、例えば、ソルベイアドバンストポリマーズ社製のトーロン（登録商標）、東洋紡社製のバイロマックス（登録商標）、東レプラスチック精工社製のＴＰＳ（登録商標）ＴＩ５０００シリーズ等を用いることができる。
【０１２２】
（メタ）アクリル系樹脂は、（メタ）アクリル酸またはその誘導体由来の繰り返し単位を有する重合体であり、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸エステル樹脂等の（メタ）アクリル酸エステル由来の繰り返し単位を有する樹脂が好ましく用いられる。（メタ）アクリル系樹脂は主鎖に環構造を有するものも好ましく、例えば、ラクトン環構造、無水グルタル酸構造、グルタルイミド構造、無水マレイン酸構造、マレイミド環構造等のカルボニル基含有環構造；オキセタン環構造、アゼチジン環構造、テトラヒドロフラン環構造、ピロリジン環構造、テトラヒドロピラン環構造、ピペリジン環構造等のカルボニル基非含有環構造が挙げられる。なお、カルボニル基含有環構造には、イミド基などのカルボニル基誘導体基を含有する構造も含む。カルボニル基含有環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂は、例えば、特開２００４−１６８８８２号公報、特開２００８−１７９６７７号公報、国際公開第２００５／５４３１１号、特開２００７−３１５３７号公報等に記載されたものを用いることができる。
【０１２３】
シクロオレフィン系樹脂は、モノマー成分の少なくとも一部としてシクロオレフィンを用い、これを重合して得られる重合体であり、主鎖の一部に脂環構造を有するものであれば特に限定されない。シクロオレフィン系樹脂としては、例えば、ポリプラスチック社製のトパス（登録商標）、三井化学社製のアペル（登録商標）、日本ゼオン社製のゼオネックス（登録商標）およびゼオノア（登録商標）、ＪＳＲ社製のアートン（登録商標）等を用いることができる。
【０１２４】
エポキシ樹脂は、エポキシ化合物（プレポリマー）を硬化剤や硬化触媒の存在下で架橋化することで硬化させることができる樹脂である。エポキシ化合物としては、芳香族エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物、水添エポキシ化合物等が挙げられ、例えば、大阪ガスケミカル社製のフルオレンエポキシ（オグソール（登録商標）ＰＧ−１００）、三菱化学社製のビスフェノールＡ型エポキシ化合物（ＪＥＲ（登録商標）８２８ＥＬ）や水添ビスフェノールＡ型エポキシ化合物（ＪＥＲ（登録商標）ＹＸ８０００）、ダイセル社製の脂環式液状エポキシ化合物（セロキサイド（登録商標）２０２１Ｐ）等を用いることができる。
【０１２５】
ポリエステル樹脂は、主鎖の繰り返し単位にエステル結合を含む重合体であり、例えば、多価カルボン酸（ジカルボン酸）とポリアルコール（ジオール）とを縮重合させることにより得ることができる。ポリエステル樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート等が挙げられ、例えば、大阪ガスケミカル社製のＯＫＰシリーズ、帝人社製のＴＲＮシリーズ、テオネックス（登録商標）、デュポン社製のライナイト（登録商標）、三菱化学社製のノバペックス（登録商標）、三菱エンジニアリングプラスチックス社製のノバデュラン（登録商標）、東レ社製のルミラー（登録商標）、トレコン（登録商標）、ユニチカ社製のエリーテル（登録商標）等を用いることができる。
【０１２６】
ポリアリレート樹脂は、２価フェノール化合物と２塩基酸（例えば、フタル酸等の芳香族ジカルボン酸）とを重縮合して得られる重合体であり、主鎖の繰り返し単位に芳香族環とエステル結合とを含む繰り返し単位を有する。ポリアリレート樹脂は、例えば、クラレ社製のベクトラン（登録商標）、ユニチカ社製のＵポリマー（登録商標）やユニファイナー（登録商標）等を用いることができる。
【０１２７】
ポリアミド樹脂は、主鎖の繰り返し単位にアミド結合を含む重合体であり、例えば、ジアミンとジカルボン酸とを縮重合させることにより得ることができる。ポリアミド樹脂は主鎖に脂肪族骨格を有するものであってもよく、このようなアミド樹脂として、例えばナイロンを用いることができる。ポリアミド樹脂は芳香族骨格を有するものであってもよく、このようなポリアミド樹脂としてアラミド樹脂が知られている。アラミド樹脂は、耐熱性に優れ、強い機械強度を有する点から好ましく用いられ、例えば、帝人社製のトワロン（登録商標）、コーネックス（登録商標）、デュポン社製のケブラー（登録商標）、ノーメックス（登録商標）等を用いることができる。
【０１２８】
ポリカーボネート樹脂は、主鎖の繰り返し単位にカーボネート基（−Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ−）を含む重合体である。ポリカーボネート樹脂としては、帝人社製のパンライト（登録商標）、三菱エンジニアリングプラスチック社製のユーピロン（登録商標）、ノバレックス（登録商標）、ザンター（登録商標）、住化スタイロンポリカーボネート社製のＳＤポリカ（登録商標）等を用いることができる。
【０１２９】
ポリスルホン樹脂は、芳香族環とスルホニル基（−ＳＯ2−）と酸素原子とを含む繰り返し単位を有する重合体である。ポリスルホン樹脂は、例えば、住友化学社製のスミカエクセル（登録商標）ＰＥＳ３６００ＰやＰＥＳ４１００Ｐ、ソルベイスペシャルティポリマーズ社製のＵＤＥＬ（登録商標）Ｐ−１７００等を用いることができる。
【０１３０】
フッ素化芳香族ポリマーは、１以上のフッ素原子を有する芳香族環と、エーテル結合、ケトン結合、スルホン結合、アミド結合、イミド結合およびエステル結合よりなる群から選ばれる少なくとも１つの結合とを含む繰り返し単位を有する重合体であり、これらの中でも、１以上のフッ素原子を有する芳香族環とエーテル結合とを含む繰り返し単位を必須的に含む重合体であることが好ましい。フッ素化芳香族ポリマーは、例えば、特開２００８−１８１１２１号公報に記載されたものを用いることができる。
【０１３１】
なお、近赤外線吸収色素と樹脂との組み合わせによっては、近赤外線吸収色素は、樹脂中での透過スペクトルが溶液中での透過スペクトルから大きく変化する場合がある。例えば、色素と樹脂との組み合わせによって、色素が樹脂硬化物中で会合体を形成して吸収波形がブロードになったり、ショルダーが発現したり、また樹脂の極性や反応性、あるいは樹脂中の不純物や添加剤の影響によって吸収極大波長が移動したり、色素の分解が促進されたりすることが起こりうる。従って、吸収層の透過スペクトルの設計が容易になるという観点から、樹脂としては、ポリイミド樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、フッ素化芳香族ポリマーが好ましい。
【０１３２】
吸収層を構成する樹脂はガラス転移温度（Ｔｇ）が高いことが好ましく、これにより、吸収層の耐熱性を高めることができる。樹脂のガラス転移温度は、例えば、１１０℃以上が好ましく、１２０℃以上がより好ましく、１３０℃以上がさらに好ましい。前記樹脂のガラス転移温度の上限は特に限定されないが、吸収層を形成する際の成形加工性を高める点から、例えば３８０℃以下が好ましい。
【０１３３】
吸収層を構成する樹脂は透明性が高いことが好ましく、樹脂は、例えば厚さ０．１ｍｍでの全光線透過率が７５％以上であることが好ましく、８０％以上がより好ましく、８５％以上がさらに好ましい。樹脂の全光線透過率の上限は特に限定されず、全光線透過率は１００％以下であればよいが、例えば９５％以下であってもよい。全光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５に基づき測定する。
【０１３４】
吸収層には、任意の有機微粒子または無機微粒子が含有されていてもよい。有機微粒子または無機微粒子は、例えば、吸収層に屈折率や導電性等に関する機能を付与するために用いられる。吸収層の高屈折率化や導電性付与に有用な微粒子の具体例として、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化スズ、スズドープ酸化インジウム、アンチモンドープ酸化スズ、インジウムドープ酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化アンチモン等が挙げられる。一方、吸収層の低屈折率化に有用な微粒子の具体例として、フッ化マグネシウム、シリカ、中空シリカ等が挙げられる。防眩性付与に有用な微粒子の具体例としては、上記の微粒子に加え、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン等の無機微粒子：シリコーン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂およびこれらの共重合樹脂等の有機微粒子が挙げられる。吸収層には、これらの微粒子が１種のみ含まれていてもよく、２種以上含まれていてもよい。
【０１３５】
樹脂を含有する吸収層は、少なくとも樹脂成分と近赤外線吸収色素とを含有する樹脂組成物から形成することができる。本発明では特に、上記に説明したスクアリリウム化合物（１）とスクアリリウム化合物（２）と樹脂成分とを含有する樹脂組成物を用いることが好ましく、このような樹脂組成物は、上記に説明した吸収層を形成するのに好適に用いられる。吸収層が紫外線吸収色素をも含有する場合は、樹脂組成物は、少なくとも樹脂成分と近赤外線吸収色素と紫外線吸収色素とを含有することが好ましい。樹脂成分の詳細は、上記の樹脂の説明が参照される。
【０１３６】
樹脂組成物は、加熱（軟化）および冷却することによって硬化するものであってもよく、樹脂成分の反応（例えば、重合反応や架橋反応）によって硬化するものであってもよく、樹脂組成物に含まれる溶媒が除去されて硬化するものであってもよい。樹脂組成物としては、例えば、射出成形や押出成形等により成形することができる熱可塑性樹脂組成物や、スピンコート法、溶媒キャスト法、ロールコート法、スプレーコート法、バーコート法、ディップコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット法等により塗工できるよう塗料化された樹脂組成物を用いることができる。
【０１３７】
樹脂組成物が熱可塑性樹脂組成物である場合は、当該樹脂組成物を、射出成形、押出成形、真空成形、圧縮成形、ブロー成形等をすることにより吸収層を形成することができる。この方法では、熱可塑性樹脂に近赤外線吸収色素等を配合し、加熱成形することにより吸収層を形成することができる。例えば、ベース樹脂の粉体またはペレットに近赤外線吸収色素等を添加し、１５０℃〜３５０℃程度に加熱し、溶解させた後、成形するとよい。
【０１３８】
樹脂組成物が塗料化された樹脂組成物である場合は、液状またはペースト状の樹脂組成物を基板（例えば、樹脂板、フィルム、ガラス板等）上に塗工することで、厚さ２００μｍ以下のフィルム状や、厚さ２００μｍ超のシート状の吸収層を形成することができる。このようにして得られた吸収層は、基材から剥離してフィルムやシートとして取り扱うこともできるし、基材と一体化して取り扱うこともできる。
【０１３９】
樹脂組成物は、溶媒を含有するものであってもよい。塗料化された樹脂組成物は、溶媒を含むことにより樹脂組成物の塗工が容易になる。塗料化された樹脂組成物は、例えば、近赤外線吸収色素を、樹脂成分を含む溶媒に溶解させたり、近赤外線吸収色素を、樹脂成分を含む溶媒（分散媒）に分散させることにより得ることができる。溶媒は、近赤外線吸収色素の溶媒（溶剤）として機能するものであっても、分散媒として機能するものであってもよい。溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；ＰＧＭＥＡ（２−アセトキシ−１−メトキシプロパン）、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート等のグリコール誘導体類（エーテル化合物、エステル化合物、エーテルエステル化合物等）；Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル類；Ｎ−メチル−ピロリドン（具体的には、１−メチル−２−ピロリドン等）等のピロリドン類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；シクロヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル等のエーテル類；等が挙げられる。これらの溶媒は、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【０１４０】
溶媒の含有量としては、樹脂組成物１００質量％中、例えば５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上がより好ましく、また１００質量％未満が好ましく、９５質量％以下がより好ましい。溶媒の含有量をこのような範囲内に調整することにより、近赤外線吸収色素濃度の高い樹脂組成物を得ることが容易になる。
【０１４１】
樹脂組成物中の近赤外線吸収色素の含有量は、樹脂組成物の固形分１００質量％中、０．０５質量％以上であることが好ましく、０．１質量％以上がより好ましく、０．５質量％以上がさらに好ましく、また２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下がさらに好ましい。樹脂組成物が紫外線吸収色素を含有する場合は、紫外線吸収色素の含有量も上記範囲にあることが好ましい。なお、樹脂組成物の固形分１００質量％とは、樹脂組成物から溶媒を除いた質量を意味する。
【０１４２】
樹脂組成物に含まれるスクアリリウム化合物（１）／スクアリリウム化合物（２）の質量比は、１０／９０以上が好ましく、２０／８０以上がより好ましく、また８０／２０以下が好ましく、７０／３０以下がより好ましく、６０／４０以下がさらに好ましい。
【０１４３】
樹脂組成物に上記に説明した波長８００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲に吸収極大を有する化合物Ｃが含まれる場合は、樹脂組成物から形成される吸収層が上記（ａ）〜（ｃ）の特性を満たすものとなる限り、樹脂組成物中の化合物Ｃの含有量は特に制限されない。樹脂組成物から形成される吸収層の波長８００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲における所望の透過スペクトルに応じて、樹脂組成物中の化合物Ｃの種類や量を適宜設定することができる。
【０１４４】
樹脂組成物は表面調整剤を含んでいてもよく、これにより、樹脂組成物を硬化して樹脂層を形成した際に、樹脂層にストライエーションや凹み等の外観上の欠陥を生じることを抑制することができる。表面調整剤の種類は特に限定されず、シロキサン系界面活性剤、アセチレングリコール系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、アクリル系レベリング剤などを用いることができる。表面調整剤としては、例えば、ビックケミー社製のＢＹＫ（登録商標）シリーズや信越化学工業社製のＫＦシリーズ等を用いることができる。
【０１４５】
樹脂組成物は分散剤を含んでいてもよく、これにより、樹脂組成物中での近赤外線吸収色素の一部が分散状態で存在しても、分散性を安定化され、近赤外線吸収色素の再凝集を抑制することができる。分散剤の種類は特に限定されず、エフカアディティブズ社製のＥＦＫＡシリーズ、ビックケミー社製のＢＹＫ（登録商標）シリーズ、日本ルーブリゾール社製のソルスパース（登録商標）シリーズ、楠本化成社製のディスパロン（登録商標）シリーズ、味の素ファインテクノ社製のアジスパー（登録商標）シリーズ、信越化学工業社製のＫＰシリーズ、共栄社化学社製のポリフローシリーズ、ＤＩＣ社製のメガファック（登録商標）シリーズ、サンノプコ社製のディスパーエイドシリーズ等を用いることができる。
【０１４６】
樹脂組成物は、シランカップリング剤やその加水分解物あるいは加水分解縮合物を含んでいてもよく、これにより樹脂組成物を基板上で硬化させて樹脂層を形成した場合に、樹脂層の基板への密着性を高めることができる。また同様の観点から、樹脂組成物は、低ガラス転移温度樹脂（例えば、Ｔｇが１０℃〜７０℃の樹脂）を含有していてもよい。
【０１４７】
樹脂組成物には、必要に応じて、可塑剤、界面活性剤、粘度調整剤、増粘・ゲル化抑制剤、脱水剤、消泡剤、防腐剤、比抵抗調整剤等の各種添加剤が含まれていてもよい。また樹脂成分を硬化させるための硬化触媒や硬化速度調整剤が含まれていてもよい。
【０１４８】
樹脂組成物は、厚みの薄い吸収層を形成することが容易な点から、塗料化されたものが好ましい。また、薄くて高強度の光選択透過フィルターを得ることが容易な点から、吸収層は透明基板上に設けられることが好ましい。このような光選択透過フィルターは、樹脂組成物を透明基板上（または、透明基板と吸収層との間にバインダー層等の他の層を有する場合は、当該他の層上）にスピンコート法や溶媒キャスト法により塗布し、乾燥または硬化することにより形成することができる。
【０１４９】
吸収層の厚さは特に限定されないが、所望の光学特性を確保する点から、例えば０．５μｍ以上が好ましく、１μｍ以上がより好ましく、２μｍ以上がさらに好ましく、また１ｍｍ以下が好ましく、５００μｍ以下がより好ましく、２００μｍ以下がさらに好ましい。透明基板上に塗料化された樹脂組成物を塗工するなどして吸収層を形成する場合は、基板によってフィルターの強度を確保することができるため、吸収層の厚さをさらに薄くすることができる。基板上に吸収層を形成する場合の吸収層の厚さは、例えば、５０μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以下がさらに好ましく、５μｍ以下が特に好ましい。
【０１５０】
透明基板は、可視光線透過性を有するものであれば制限なく用いることができる。透明基板は、例えば波長４００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲の平均透過率が８５％以上であることが好ましく、８８％以上がより好ましく、９０％以上がさらに好ましい。また、当該波長範囲は、下限が３７０ｎｍ以上であることがより好ましく、３５０ｎｍ以上がさらに好ましく、上限は８５０ｎｍ以下がより好ましく、１０００ｎｍ以下がさらに好ましい。
【０１５１】
透明基板としては、樹脂板、樹脂フィルム、ガラス板等が好ましく用いられる。透明基板に用いられる樹脂板または樹脂フィルムは、例えば、上記に説明した樹脂成分から形成されたものが好ましく用いられる。光選択透過フィルターの耐熱性を高める観点からは、透明基板としてガラス基板を用いることが好ましく、このように形成された光選択透過フィルターは、例えば、半田リフローにより電子部品に実装することが可能となり、電子部品の小型化を図ることができる。またガラス基板は、高温にさらされても割れや反りが起こりにくいため、吸収層との密着性を確保しやすくなる。
【０１５２】
ガラス基板に用いられるガラスは、ケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、ホウ酸ガラス、リン酸ガラス等の公知のガラスを用いることができる。これらのガラスは、ケイ素原子、ホウ素原子またはリン原子が、酸素原子と網目構造を形成してガラスの主骨格を形成しており、ガラス中には、これらの原子以外にナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、バリウム、アルミニウム、鉄、銀、銅、コバルト、ニッケル、鉛、亜鉛、フッ素等の原子またはイオンが存在していてもよい。ガラスは無色透明であってもよく、用途によってはブルーガラスのような着色ガラスを用いてもよい。
【０１５３】
透明基板の厚みは、例えば、強度を確保する点から、０．０５ｍｍ以上が好ましく、０．１ｍｍ以上がより好ましく、また薄型化の点から、０．４ｍｍ以下が好ましく、０．３ｍｍ以下がより好ましい。
【０１５４】
吸収層が透明基板上に形成される場合、吸収層は、透明基板の片面のみに設けられていてもよく、両面に設けられていてもよい。また、透明基板の一方面に近赤外線吸収色素を含有する吸収層を設け、他方面に紫外線吸収色素を含有する第２の吸収層を設けてもよく、透明基板の一方面に、近赤外線吸収色素を含有する吸収層と紫外線吸収色素を含有する第２の吸収層を積層して設けてもよい。
【０１５５】
透明基板と吸収層の間には別の層が設けられていてもよく、当該別の層としては、吸収層と透明基板との密着性を高めるためのバインダー層等が挙げられる。透明基板としてガラス基板を用いる場合は、バインダー層がケイ素化合物（例えば、シランカップリング剤やその加水分解物、酸化ケイ素等）を含有することが好ましく、これによりガラス基板と吸収層を構成する樹脂との密着性を高めることができる。特にリン酸ガラス（例えば、ブルーガラス）は、ケイ酸ガラスやホウケイ酸ガラスと比較して、樹脂との密着性や耐湿熱性が低下する傾向を示すため、ガラス基板と吸収層の間にこのようなバインダー層を設けることが好ましい。
【０１５６】
吸収層が透明基板上に設けられる場合、吸収層の透過率は、吸収層単体の透過スペクトルを測定することにより求めてもよいし、透明基板上に吸収層を形成した吸収層積層基板の透過スペクトルと透明基板の透過スペクトルをそれぞれ測り、吸収層積層基板の透過スペクトルを透明基板の透過スペクトルで補正することにより、吸収層の正味の透過スペクトルを求めてもよい。後者の場合、吸収層積層基板の透過スペクトルと透明基板の透過スペクトルをそれぞれ対数（ｌｏｇ10）変換し、その差分を指数変換することにより、吸収層の正味の透過スペクトルを求めることができ、具体的には次式に基づき吸収層の透過率を求めることができる：吸収層の透過率（％）＝１０＾［ｌｏｇ10（吸収層積層透明基板の透過率）−ｌｏｇ10（透明基板の透過率）］×１００。
【０１５７】
光選択透過フィルターは、反射防止層を有することが好ましい。光選択透過フィルターに反射防止層を設けることにより、蛍光灯等の映り込みを低減する反射防止性や防眩性を付与することができる。特に吸収層に屈折率が高い樹脂を用いた場合は、空気との屈折率差により可視光透過性が低下するので、吸収層の表面（吸収層と空気の界面）に反射防止層を設けることが好ましい。
【０１５８】
光選択透過フィルターは、近赤外線反射層（例えば、７００ｎｍ〜１２００ｎｍの波長域の反射膜層）を有していてもよい。光選択透過フィルターに近赤外線反射層が設けられていれば、光選択透過フィルターの透過光から近赤外領域の光をよりカットすることができる。なお、近赤外線反射層は、紫外線反射機能を兼ね備えるものであってもよい。
【０１５９】
このような反射防止層や近赤外線反射層や紫外線反射層を吸収層の上に設けることで、吸収層と空気との屈折率差で生じる反射による透過率の低下を抑えることができる。例えば吸収層の屈折率が１．６である場合、吸収層と空気との界面で約５％の反射が生じ、可視光透過率が低下するところ、反射防止層等を設けることにより、透過率を例えば５％程度高めることができる。吸収層の裏面あるいは透明基板と空気との界面にも反射防止層等を設置することで、可視光透過率をさらに４〜５％高めることができる。光選択透過フィルターの空気との両界面（すなわち光選択透過フィルターの一方面と他方面の両面）に反射防止層等を設けた場合は、当該層の光学設計を最適化することにより、約１０％の反射を排除し、光選択透過フィルターの波長５００ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲の平均透過率を限りなく１００％に近づけることも可能である。屈折率の高い樹脂からなる吸収層をガラス基板上に形成した場合は、吸収層とガラス基板の反射光の相互作用で生じるリップル（吸収波形の波うち）を低減することも可能となる。このような光学設計については、小檜山光信著、「光学薄膜フィルターデザイン」、オプトロニクス社（２００６年）に記載されている方法や、薄膜理論計算プログラムソフト（例えば、Ｅｓｓｅｎｔｉａｌ  ｍａｃｌｅｏｄ）を用いることで実施できる。好適な蒸着条件や膜特性については、特開２０１７−１２９７９１号公報、国際公開第２０１１／１５８６３５号、特開２００９−２１７１３８号等を参照することができる。
【０１６０】
近赤外線反射層や反射防止層（可視光反射防止層）は、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜から構成することができる。従って、このような機能を光選択透過フィルターに付与する場合は、光選択透過フィルターは誘電体多層膜を有することが好ましい。誘電体多層膜は、例えば、透明基板と吸収層の間に設けられてもよく、透明基板の吸収層とは反対側の面に設けられてもよく、吸収層の透明基板とは反対側の面に設けられてもよい。
【０１６１】
高屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．７以上の材料を用いることができ、屈折率の範囲が通常１．７〜２．５の材料が選択される。高屈折率材料層を構成する材料としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化インジウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化錫、酸化ビスマス等の酸化物；窒化ケイ素等の窒化物；前記酸化物や前記窒化物の混合物やそれらにアルミニウムや銅等の金属や炭素をドープしたもの（例えば、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ））等が挙げられる。低屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．６以下の材料を用いることができ、屈折率の範囲が通常１．２〜１．６の材料が選択される。低屈折率材料層を構成する材料としては、例えば、二酸化ケイ素（シリカ）、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウム、六フッ化アルミニウムナトリウム等が挙げられる。
【０１６２】
このような材料からなる誘電体多層膜は、真空蒸着法、ＣＶＤ法、スパッタリング法等によって形成することができる。これらの方法により誘電体多層膜を形成する場合、高温であるほど緻密で硬い膜を形成することができるが、温度が高すぎると吸収層が劣化するおそれがあることから、誘電体多層膜を形成する際の温度は、８０℃以上が好ましく、１２０℃以上がより好ましく、また１８０℃以下が好ましく、１６０℃以下がより好ましい。
【０１６３】
蒸着法の一種としてイオンアシスト法（ＩＡＤ法）を用いた場合は、より緻密で硬く、酸素遮断性の高い膜を形成することができる。例えば、吸収層に近赤外線吸収色素としてスクアリリウム化合物が含まれる場合は、吸収層上に酸素遮断性の高い膜を形成することにより、色素や樹脂の分解が抑えられ、吸収層の耐久性を向上させることができる。そのため、このように形成された光選択透過フィルターは、高温高湿度下や太陽光照射下でも、光学特性の変化が高度に抑えられるものになるとともに、表面硬度が高く、耐傷性にも優れるものとなる。一方、このように高緻密な誘電体膜は吸収層との密着性に劣ることがあることから、吸収層との密着性を高めるためには、吸収層に接する誘電体膜の緻密性を緩和することが好ましい。例えば、吸収層側から数えて１〜２層目の誘電体膜は、２００Ｖ〜５００Ｖの弱いＩＡＤ条件で蒸着して密着性を高め、その上（例えば、吸収層側から数えて３層目以上）には５００Ｖ〜１０００Ｖの強いＩＡＤ条件で蒸着して酸素遮断性を高めて耐久性を付与することで、好ましい光選択透過フィルターを製造することができる。
【０１６４】
光選択透過フィルターは、アルミ蒸着膜、貴金属薄膜、酸化インジウムを主成分とし酸化スズを少量含有させた金属酸化物微粒子を分散させた樹脂層や、傷付き防止性能を有する層等を有していてもよい。
【０１６５】
光選択透過フィルターの厚みは、例えば、１ｍｍ以下であることが好ましい。これにより、例えば、撮像素子の小型化への要請に十分に応えることができる。光選択透過フィルターの厚みは、より好ましくは５００μｍ以下、さらに好ましくは３００μｍ以下、さらにより好ましくは１５０μｍ以下であり、また３０μｍ以上が好ましく、５０μｍ以上がさらに好ましい。
【０１６６】
光選択透過フィルターは、イメージセンサー（撮像素子）、照度センサー、近接センサー等のセンサーの構成部材の一つとして用いることができる。例えばイメージセンサーは、被写体の光を電気信号等に変換して出力する電子部品として用いられ、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）やＣＭＯＳ（Complementary Metal-Oxide Semiconductor）等が挙げられる。イメージセンサーは、携帯電話用カメラ、デジタルカメラ、車載用カメラ、監視カメラ、表示素子（ＬＥＤ等）、近赤外〜赤外領域の特定波長を感知するセンサー等に用いることができる。センサーは、上記の光選択透過フィルターを１または２以上含み、必要に応じて、さらに他のフィルター（例えば、可視光線カットフィルター、赤外線カットフィルター、紫外線カットフィルター等）やレンズを有していてもよい。
【実施例】
【０１６７】
以下に、実施例を示すことにより本発明を更に詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
【０１６８】
（１）近赤外線吸収色素の合成
（１−１）スクアリリウム化合物Ａの合成
３００ｍＬの４口フラスコに、クロロホルム１１０ｇ、酢酸１．８ｇ、７−ニトロ−１，２，３，４−テトラヒドロキノリン５．４ｇ（０．０３０３ｍｏｌ）、ナトリウムトリアセトキシボロヒドリド１２．８４ｇ（０．０６０６ｍｏｌ）を入れ、窒素流通下（１０ｍＬ／ｍｉｎ）、撹拌羽を用いて撹拌しながらイソブチルアルデヒド４．３７ｇ（０．０６０６ｍｏｌ）を１０分間かけて滴下した。滴下終了後、得られた反応液を水３００ｇに加え、塩酸を用いて中和した。そこに酢酸エチル３００ｇを加え、分液ロートにて有機相を抽出し、抽出した有機相に硫酸マグネシウム（無水）を加えて脱水した。この有機相から固形物（無機分）をろ別した後、エバポレーターを用いて溶媒を濃縮後、適宜シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム）を用い、また濃縮および真空乾燥を行うことにより、１−イソブチル−７−ニトロ−１，２，３，４−テトラヒドロキノリンを得た。
【０１６９】
次いで、１−イソブチル−７−ニトロ−１，２，３，４−テトラヒドロキノリンを２．８ｇ（０．０１２ｍｏｌ）、濃塩酸（塩酸濃度３６重量％）を９．０ｇ入れ、窒素流通下（５ｍＬ／ｍｉｎ）、マグネチックスターラーを用いて撹拌しながら、塩化スズ・２水和物９．１ｇと濃塩酸（塩酸濃度３６重量％）９．１ｇの入った溶液を、反応熱に注意しながら少しずつ添加した。添加後、３時間ほど室温にて撹拌した。その後、純水１００ｇと酢酸エチル１００ｇの入ったビーカーに、得られた反応液を撹拌させながら加えた。そこに水酸化カリウム溶液を少しずつ添加し、水溶液のｐＨが１０付近になったところでしばらく撹拌した後、分液ロートにて有機相を抽出し、抽出した有機相に硫酸マグネシウム（無水）を加えて脱水した。この有機相から固形物（無機分）をろ別した後、エバポレーターを用いて溶媒を濃縮後、適宜シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム）を用い、また濃縮および真空乾燥を行うことにより、１−イソブチル−７−アミノ−１，２，３，４−テトラヒドロキノリンを得た。
【０１７０】
次いで、１００ｍＬの３口フラスコに、１−イソブチル−７−アミノ−１，２，３，４−テトラヒドロキノリンを２．８６ｇ（０．０１４３ｍｏｌ）、超脱水クロロホルムを５０ｇ入れ、窒素流通下（５ｍＬ／ｍｉｎ）、マグネチックスターラーを用いて撹拌しながら、トリエチルアミンを４．３４ｇ（０．０４２９ｍｏｌ）、パルミトイルクロリド（ｎ−ヘキサデカノイルクロリド）を７．８６ｇ（０．０２８６ｍｏｌ）加え、室温にて１２時間反応させた。反応終了後、得られた反応液をイオン交換水に加えて酢酸エチルで抽出を行った。抽出した有機相に硫酸マグネシウム（無水）を加えて脱水した。この有機相から固形物（無機分）をろ別した後、エバポレーターを用いて溶媒を濃縮後、適宜シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム）を用い、また濃縮および真空乾燥を行うことにより、１−イソブチル−７−（Ｎ−パルミトイルアミノ）−１，２，３，４−テトラヒドロキノリンを得た。
【０１７１】
次いで、３００ｍＬの２口フラスコに、１−イソブチル−７−（Ｎ−パルミトイルアミノ）−１，２，３，４−テトラヒドロキノリンを６．３ｇ（０．０１４３ｍｏｌ）、スクアリン酸０．８２ｇ（０．００７２ｍｍｏｌ）、１−ブタノール３０ｇ、トルエン３０ｇを入れ、窒素流通下（１０ｍＬ／ｍｉｎ）、マグネチックスターラーを用いて撹拌し、かつディーンスターク装置を用いて溶出してくる水を取り除きながら、還流条件にて３時間反応させた。反応終了後室温まで冷却させ、析出物をろ別した。ろ別した析出物をメタノールで洗浄し、再び析出物のみをろ過して、得られたケーキ（固形物）をアルミナによるカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム）によって精製を行った。得られた精製物を真空乾燥機を用いて６０℃で１２時間乾燥し、表１に示すスクアリリウム化合物Ａを得た。スクアリリウム化合物Ａのトルエン中の透過スペクトルを測定したところ、吸収極大波長は７００ｎｍであった。
【０１７２】
（１−２）スクアリリウム化合物Ｂの合成
米国特許第５，５４３，０８６号明細書のＦｏｒｍｕｌａ １７に開示されるスクアリリウム化合物を参考に、表１に示すスクアリリウム化合物Ｂを合成した。スクアリリウム化合物Ｂのトルエン中の透過スペクトルを測定したところ、吸収極大波長は７００ｎｍであった。
【０１７３】
（１−３）スクアリリウム化合物Ｃの合成
特開２０１６−７４６４９号公報の実施例１−１８に記載の方法に従い、表１に示すスクアリリウム化合物Ｃを合成した。スクアリリウム化合物Ｃのトルエン中の透過スペクトルを測定したところ、吸収極大波長は７３７ｎｍであった。
【０１７４】
（１−４）クロコニウム化合物Ａの合成
The Journal of Organic Chemistry, vol.69, p.987-990 (2004) に記載の手法を用いて２−シアノ−９Ｈ−フルオレンを合成した。次いで、水浴中に設置した３００ｍＬの４口フラスコに、窒素流通下、発熱に注意しながらカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド６．７３ｇ（０．０６０ｍｏｌ）、超脱水テトラヒドロフラン３５ｇ、２−シアノ−９Ｈ−フルオレン３．８２ｇ（０．０２０ｍｏｌ）、酢酸エチル３．５２ｇ（０．０４０ｍｏｌ）を順に加えた後、湯浴で加熱しながら還流条件にて３時間撹拌した。得られた反応液を冷却後、希塩酸でクエンチした後、酢酸エチルで抽出し、ブラインにて３回洗浄した。得られた有機相を硫酸ナトリウムで脱水し、エバポレーターで濃縮した後、得られた固形物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム）により精製して、２−シアノ−９−アセチル−９Ｈ−フルオレンを４．１ｇ得た。
【０１７５】
これとは別に、３００ｍＬの４口フラスコに塩酸６０ｍＬを入れ、フラスコ内の温度を−１０℃以下に冷却し、フラスコ内の温度が０℃を超えないようにしながら、３−アミノフルオランテン５．１３ｇ（０．０２４ｍｏｌ）を加えて溶解させた。発熱が収まった後に、フラスコ内の温度を−１０℃以下に維持したまま、亜硝酸ナトリウム１．６３ｇ（０．０２４ｍｏｌ）を蒸留水１１ｇに溶かした溶液を１時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに塩化スズ・２水和物２６．６３ｇ（０．１１８ｍｏｌ）を塩酸２７ｍＬに溶かした溶液を、フラスコ内の温度が０℃を超えないように１時間かけて滴下し、反応を進行させた。反応終了後、ろ別して得たケーキを真空乾燥機を用いて６０℃で１２時間乾燥し、フルオランテン−３−ヒドラジン塩酸塩を得た。
【０１７６】
次いで、５０ｍＬの４口フラスコに、フルオランテン−３−ヒドラジン塩酸塩を３．０１ｇ（０．０１１ｍｏｌ）、上記で得られた２−シアノ−９−アセチル−９Ｈ−フルオレンを２．５８ｇ（０．０１１ｍｏｌ）、溶媒として１−ブタノール２０ｇを仕込み、窒素流通下（５ｍＬ／ｍｉｎ）、マグネチックスターラーを用いて撹拌しながら、６０℃にて４時間反応させて、縮合複素環化合物を得た。反応終了後、縮合複素環化合物を含む溶液を室温まで冷却し、ろ過した後、得られたろ液を２００ｍＬの４口フラスコに移した。そこへクロコン酸０．７８ｇ（０．００６ｍｏｌ）とトルエン２０ｇを加えて、窒素流通下（５ｍＬ／ｍｉｎ）、マグネチックスターラーを用いて撹拌し、かつディーンスターク装置を用いて溶出してくる水を取り除きながら、還流条件にて６時間反応させた。反応終了後、得られた反応液をエバポレーターで濃縮し、得られた固形物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム）により精製し、精製された単離物をさらにメタノール中で再結晶して、表１に示すクロコニウム化合物Ａを得た。クロコニウム化合物Ａのトルエン中の透過スペクトルを測定したところ、近赤外領域に波長９３０ｎｍに第１の吸収極大と波長８３７ｎｍに第２の吸収極大を示した。
【０１７７】
（１−５）フタロシアニン化合物Ａの合成
特開２００１−１０６６８９の実施例７に記載の方法に従い、表１に示すフタロシアニン化合物Ａを合成した。フタロシアニン化合物Ａのトルエン中の透過スペクトルを測定したところ、吸収極大波長は８２４ｎｍであった。
【０１７８】
【表１】
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【０１７９】
（２）紫外線吸収色素の合成
（２−１）紫外線吸収色素Ａの合成
２００ｍＬの４口フラスコに、４−フルオロベンズアルデヒド４．９８ｇ（０．０３９ｍｏｌ）、エチレングリコールビス（２−メルカプトエチル）エーテル３．５７ｇ（０．０２０ｍｏｌ）、炭酸カリウム１０．８６ｇ（０．０７９ｍｏｌ）、アセトニトリル７４ｇを仕込み、窒素流通下（１０ｍＬ／ｍｉｎ）、撹拌羽を用いて撹拌しながら６０℃で１２時間反応させた。反応終了後、減圧ろ過によって不溶分をろ別した後、エバポレーターを用いて溶媒を留去した。得られた濃縮物を２００ｍＬの４口フラスコに入れ、そこにシアノ酢酸イソブチル１１．０９ｇ（０．０７９ｍｏｌ）、ピペリジン３．３２ｇ（０．０３９ｍｏｌ）、メタノール６８ｇを加え、還流条件下で４時間反応させた。反応終了後、エバポレーターを用いて溶媒を留去し、得られた濃縮物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム）によって精製を行い、表２に示す紫外線吸収色素Ａを得た。紫外線吸収色素Ａのトルエン中の透過スペクトルを測定したところ、吸収極大波長は３６４ｎｍであった。
【０１８０】
（２−２）紫外線吸収色素Ｂの合成
エチレングリコールビス（２−メルカプトエチル）エーテルの代わりにビス（２−メルカプトエチル）エーテルを用い、シアノ酢酸イソブチルの代わりにマロン酸ジメチルを用いたたこと以外は、紫外線吸収色素Ａの合成と同様の手順により表２に示す紫外線吸収色素Ｂを得た。紫外線吸収色素Ｂのトルエン中の透過スペクトルを測定したところ、吸収極大波長は３２８ｎｍであった。
【０１８１】
【表２】
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【０１８２】
（３）樹脂組成物の調製
（３−１）樹脂組成物１の調製
シクロオレフィン系樹脂として、ＪＳＲ社製ＡＲＴＯＮ（登録商標）樹脂１００質量部をトルエン２８３質量部とｏ−キシレン２８３質量部の混合溶媒に加え、そこに近赤外線吸収色素としてスクアリリウム化合物Ａを１．２質量部とスクアリリウム化合物Ｃを３．７質量部、表面調整剤としてビックケミー社製ＢＹＫ−３３０（ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン）を０．５２質量部加えて均一に混合し、樹脂組成物１を得た。樹脂組成物１は、実施例１のフィルターの製造に用いた。
【０１８３】
（３−２）樹脂組成物２の調製
撹拌翼を備えた容量２Ｌの反応容器に、２，２’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１０．０１ｇ（０．０４４ｍｏｌ）、水酸化ナトリウム３．５９ｇ（０．０９０ｍｏｌ）、イオン交換水３００ｇを仕込み、溶解させた後、そこにトリエチルアミン０．８９ｇ（０．００９ｍｏｌ）を加えて溶解させた。テレフタル酸ジクロリド３．５７ｇ（０．０２１ｍｏｌ）とイソフタル酸ジクロリド３．５７ｇ（０．０２１ｍｏｌ）を５００ｇの塩化メチレンに溶解させた溶液を滴下ロートに入れ、これを前記反応容器に取り付けた。反応容器中の溶液を２０℃に保ちながら撹拌し、滴下ロートから塩化メチレン溶液を６０分間かけて滴下した。さらにそこに、塩化ベンゾイル０．７１ｇ（０．００５ｍｏｌ）を１０ｇの塩化メチレンに溶解させた溶液を添加し、６０分間撹拌した。得られた反応液に酢酸水溶液を加えて中和して、水相のｐＨを７にしてから分液ロートを用いて油相と水相を分離した。得られた油相を、撹拌下、メタノールに滴下してポリマーを再沈させ、沈殿をろ過により回収し、８０℃オーブンで乾燥して白色固体のポリアリレート樹脂を得た。得られたポリアリレート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は３３，７８０、数平均分子量（Ｍｎ）は８，１３０であった。ポリアリレート樹脂の重量平均分子量と数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー測定により求めたポリスチレン換算の値である。
【０１８４】
上記で得られたポリアリレート樹脂１００質量部をトルエン２８３質量部とｏ−キシレン２８３質量部の混合溶媒に加え、そこに近赤外線吸収色素としてスクアリリウム化合物Ａを１．２質量部とスクアリリウム化合物Ｃを３．７質量部、紫外線吸収色素Ａを９質量部、表面調整剤としてビックケミー社製ＢＹＫ−３３０（ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン）を０．５２質量部加えて均一に混合し、樹脂組成物２を得た。樹脂組成物２は、実施例２と実施例５のフィルターの製造に用いた。
【０１８５】
（３−３）樹脂組成物３の調製
樹脂組成物２に紫外線吸収色素Ｂを５質量部加えて均一に混合し、樹脂組成物３を得た。樹脂組成物３は、実施例３のフィルターの製造に用いた。
【０１８６】
（３−４）樹脂組成物４の調製
樹脂組成物２に、クロコニウム色素Ａを２質量部とフタロシアニン色素Ａを１．２質量部加えて均一に混合し、樹脂組成物４を得た。樹脂組成物４は、実施例４のフィルターの製造に用いた。
【０１８７】
（３−５）樹脂組成物５の調製
シクロオレフィン系樹脂として、ＪＳＲ社製ＡＲＴＯＮ（登録商標）樹脂１００質量部をトルエン２８３質量部とｏ−キシレン２８３質量部の混合溶媒に加え、そこに近赤外線吸収色素としてスクアリリウム化合物Ｂを４質量部、表面調整剤としてビックケミー社製ＢＹＫ−３３０（ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン）を０．５２質量部加えて均一に混合し、樹脂組成物５を得た。樹脂組成物５は、比較例１のフィルターの製造に用いた。
【０１８８】
（３−６）樹脂組成物６の調製
上記の（３−２）項で得られたポリアリレート樹脂１００質量部をトルエン２８３質量部とｏ−キシレン２８３質量部の混合溶媒に加え、そこに近赤外線吸収色素としてスクアリリウム化合物Ｃを３．７質量部、紫外線吸収色素Ａを９質量部、表面調整剤としてビックケミー社製ＢＹＫ−３３０（ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン）を０．５２質量部加えて均一に混合し、樹脂組成物６を得た。樹脂組成物６は、比較例２のフィルターの製造に用いた。
【０１８９】
（４）光選択透過フィルターの製造例
（４−１）実施例１
樹脂組成物１をガラス基板（Ｓｃｈｏｔｔ社製、Ｄ２６３Ｔｅｃｏ）上に２ｃｃ垂らした後、スピンコーター（ミカサ社製、１Ｈ−Ｄ７）を用い、０．２秒間かけて１６００回転にし、２０秒間その回転数で保持し、その後０．２秒間かけて０回転になるようにして、ガラス基板上に成膜した。樹脂組成物を成膜したガラス基板を、精密恒温器（ヤマト科学社製、ＤＨ６１１）を用いて１００℃で３分間初期乾燥した後、イナートオーブン（ヤマト科学社製、ＤＮ６１０Ｉ）を用いて５０℃で３０分間窒素置換し、その後１５分程度で１９０℃に昇温し、窒素雰囲気下で１９０℃で３０分間乾燥することにより、ガラス基板上に吸収層を形成したフィルターを得た。ガラス基板上に形成した吸収層の厚みは３μｍであった。なお、吸収層の厚みは、吸収層を形成したガラス基板の厚みとガラス基板単独の厚みをそれぞれマイクロメーターにより測定し、両者の差から求めた。実施例１で得られたフィルターと吸収層の透過スペクトルを図１に示す。
【０１９０】
（４−２）実施例２
樹脂組成物１の代わりに樹脂組成物２を用いたこと以外は、実施例１と同様にしてフィルターを得た。吸収層の厚みは２．５μｍであった。実施例２で得られたフィルターと吸収層の透過スペクトルを図２に示す。
【０１９１】
（４−３）実施例３
樹脂組成物１の代わりに樹脂組成物３を用いたこと以外は、実施例１と同様にしてフィルターを得た。吸収層の厚みは３μｍであった。実施例３で得られたフィルターと吸収層の透過スペクトルを図３に示す。
【０１９２】
（４−４）実施例４
樹脂組成物１の代わりに樹脂組成物４を用いたこと以外は、実施例１と同様にしてフィルターを得た。吸収層の厚みは３μｍであった。実施例４で得られたフィルターと吸収層の透過スペクトルを図４に示す。
【０１９３】
（４−５）実施例５
ガラス基板（Ｓｃｈｏｔｔ社製、Ｄ２６３Ｔｅｃｏ）の一方面に、蒸着法によりＴｉＯ2膜とＳｉＯ2膜を交互に積層して、６０層からなる誘電体多層膜を形成した。この誘電体多層膜を形成したガラス基板は可視光領域に透過領域を有するものであり、波長５５０ｎｍにおける透過率が９４％、可視光領域の短波長側で透過率５０％となる波長が３８０ｎｍ、可視光領域の長波長側で透過率５０％となる波長が７４３ｎｍであった。このガラス基板の他方面（誘電体多層膜を蒸着していない面）に、実施例２と同様にして、樹脂組成物２による吸収層を形成した。吸収層の厚みは２．５μｍであった。実施例５で得られたフィルターと吸収層の透過スペクトルを図５に示す。
【０１９４】
（４−６）比較例１
樹脂組成物１の代わりに樹脂組成物５を用いたこと以外は、実施例１と同様にしてフィルターを得た。吸収層の厚みは３μｍであった。比較例１で得られたフィルターと吸収層の透過スペクトルを図６に示す。
【０１９５】
（４−７）比較例２
樹脂組成物１の代わりに樹脂組成物６を用いたこと以外は、実施例１と同様にしてフィルターを得た。吸収層の厚みは２．５μｍであった。比較例２で得られたフィルターと吸収層の透過スペクトルを図７に示す。
【０１９６】
（４−８）参考例１
ガラス基板（Ｓｃｈｏｔｔ社製、Ｄ２６３Ｔｅｃｏ）の片面に、蒸着法によりＴｉＯ2膜とＳｉＯ2膜を交互に合計２８層積層し、近赤外線吸収色素含有吸収層を有しないフィルターを作製した。
【０１９７】
（４−９）参考例２
ガラス基板（Ｓｃｈｏｔｔ社製、Ｄ２６３Ｔｅｃｏ）の片面に、蒸着法によりＴｉＯ2膜とＳｉＯ2膜を交互に合計４２層積層し、近赤外線吸収色素含有吸収層を有しないフィルターを作製した。
【０１９８】
（５）各フィルターの評価
（５−１）フィルターと吸収層の透過率の測定方法
実施例１〜５、比較例１〜２および参考例１〜２で作製した各フィルターについて、分光光度計（島津製作所社製、ＵＶ−１８００）を用いて、波長３００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける透過率を測定ピッチ１ｎｍで測定した。この測定結果から、波長７００ｎｍ〜７５０ｎｍにおいて測定ピッチ１ｎｍごとに測定した５１個の透過率の平均値から、フィルターの波長７００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲における平均透過率（Ｔave ７００−７５０ｎｍ）を求めた。同様にして、フィルターの波長５００〜５５０ｎｍの範囲の平均透過率（Ｔave ５００−５５０ｎｍ）と波長３５０〜３９５ｎｍの範囲の平均透過率（Ｔave ３５０−３９５ｎｍ）を求めた。これとは別に、ガラス基板（あるいは誘電体多層膜を蒸着したガラス基板）の波長３００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける透過率を測定し、フィルターの透過率との差分から（具体的にはフィルターとガラス基板の透過率の値をそれぞれ対数（ｌｏｇ10）変換し、その差分を指数変換することにより）、吸収層の波長３００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける透過率を求めた。このようにして得られた透過率の値から、吸収層の波長７００ｎｍと波長７５０ｎｍの透過率、波長７００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲の平均透過率（Ｔave ７００−７５０ｎｍ、）、波長５００〜５５０ｎｍの範囲の平均透過率（Ｔave ５００−５５０ｎｍ）、波長３５０〜３９５ｎｍの範囲の平均透過率（Ｔave ３５０−３９５ｎｍ）をそれぞれ求めた。
【０１９９】
（５−２）フィルターの入射角依存性の測定方法
実施例２および参考例１〜２で作製した各フィルターについて、分光光度計（島津製作所社製、ＵＶ−１８００）を用いて、波長３００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける透過率を測定ピッチ１ｎｍで測定した。分光光度計の発光部と受光部の間にフィルターを設置し、発光部から出た光に対してフィルターを垂直または傾斜して設置して光の入射角を変化させて、可視光領域の短波長側で透過率５０％となる波長λ50／ＵＶと可視光領域の長波長側で透過率５０％となる波長λ50／ＩＲを測定した。フィルターの測定角度は、発光部から出た光の進行方向に対してフィルター面の法線ベクトルの角度が０°〜７０°の範囲で１０°刻みとなるように設定した。
【０２００】
（５−３）結果
実施例１〜５、比較例１〜２および参考例１〜２で作製した各フィルターと吸収層の製造条件と透過率の測定結果を表３に示し、実施例１〜５と比較例１〜２で作製した各フィルターと吸収層の透過スペクトルを図１〜図７に示した。また、実施例２および参考例１〜２で作製したフィルターの入射角依存性の測定結果を表４に示した。表３において、吸収層中の樹脂と色素の配合量は質量基準で表記している。
【０２０１】
実施例１〜５で作製したフィルターはいずれも、吸収層の波長７００ｎｍにおける透過率（Ｔ（７００ｎｍ））が２％以下、波長７００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲の平均透過率が２％以下、波長５００ｎｍ〜５５０ｎｍの範囲の平均透過率が８０％以上となった。実施例１〜５のフィルターは、可視光領域の光の透過率を高く維持しつつ、近赤外領域の光を広範囲にわたって効果的にカットするものとなった。さらに、実施例２〜５のフィルターは、吸収層に紫外線吸収色素も含まれていたため、紫外（ＵＶＡ）領域の光も効果的にカットするものとなった。また表４に示すように、実施例２で作製したフィルターは、可視光領域の短波長側で透過率５０％となる波長λ50／ＵＶと可視光領域の長波長側で透過率５０％となる波長λ50／ＩＲのいずれも、入射角０°〜７０°の範囲において角度依存性が小さいものとなり、同様の傾向は誘電体多層膜を備えた実施例５で作製したフィルターにおいても確認された。
【０２０２】
一方、比較例１で作製したフィルターは、吸収層の波長７００ｎｍ〜７５０ｎｍの範囲の平均透過率が高く、比較例２で作製したフィルターは、吸収層の波長７００ｎｍにおける透過率が高いものとなった。比較例１〜２では、吸収層中の近赤外線吸収色素の濃度や吸収層の厚みを変更しても、上記（ａ）〜（ｃ）の特性を同時に満たすことはできなかった。参考例１〜２で作製したフィルターは、近赤外線吸収色素を含有する吸収層を有さず、誘電体多層膜を備えるものであったため、入射角０°〜７０°の範囲における角度依存性が大きいものとなった。
【０２０３】
【表３】
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【０２０４】
【表４】
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【産業上の利用可能性】
【０２０５】
本発明の光選択透過フィルターは、表示素子や撮像素子等の光学デバイス等、種々の分野において用いることが可能である。例えば、携帯電話用カメラ、デジタルカメラ、車載用カメラ、監視カメラ、表示素子（ＬＥＤ等）等の電子部品に使用できる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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