(57)【要約】【課題】本発明は、三次元曲面を有する形状に成形することができ、蛍光二色性色素化合物が高い配向度を持つ偏光放射性膜形成用組成物、偏光放射性膜、光学積層体、表示装置、加飾部材および立体加飾部材を提供することを課題とする。【解決手段】蛍光二色性色素化合物と、高分子液晶化合物とを含有する偏光放射性膜形成用組成物であって、前記高分子液晶化合物が、サーモトロピック性液晶、且つ、結晶性高分子である偏光放射性膜形成用組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
蛍光二色性色素化合物と、高分子液晶化合物とを含有する偏光放射性膜形成用組成物であって、
前記高分子液晶化合物が、サーモトロピック性液晶、且つ、結晶性高分子である、偏光放射性膜形成用組成物。
【請求項２】
前記高分子液晶化合物に対する前記蛍光二色性色素化合物の含有比率が０．１％以上２５％以下である、請求項１に記載の偏光放射性膜形成用組成物。
【請求項３】
蛍光二色性色素化合物と液晶化合物を含む偏光放射性膜形成用組成物から形成される偏光放射性膜であって、前記蛍光二色性色素化合物の配向度が０．７以上である、偏光放射性膜。
【請求項４】
蛍光二色性色素化合物と、下記式（２）で表される液晶化合物を含み、前記液晶化合物がスメクチック相を示す、請求項３に記載の偏光放射性膜。
Ｕ１−Ｖ１−Ｗ１−Ｘ１−Ｙ１−Ｘ２−Ｙ２−Ｘ３−Ｗ２−Ｖ２−Ｕ２ （２）
［式（２）中、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は、互いに独立に、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基または置換基を有していてもよいシクロヘキサン−１，４−ジイル基を表わす。ただし、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３のうち少なくとも１つは、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基である。シクロへキサン−１，４−ジイル基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ−に置き換わっていてもよい。Ｒは、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基を表す。
Ｙ１およびＹ２は、互いに独立に、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＯ−、単結合、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲａ＝ＣＲｂ−、−Ｃ≡Ｃ−またはＣＲａ＝Ｎ−を表わす。ＲａおよびＲｂは、互いに独立に、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表わす。
Ｕ１は、水素原子または重合性基を表わす。
Ｕ２は、重合性基を表わす。
Ｗ１およびＷ２は、互いに独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−またはＯＣＯＯ−を表わす。
Ｖ１およびＶ２は、互いに独立に、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−またはＮＨ−に置き換わっていてもよい。］
【請求項５】
請求項１または２に記載の組成物を用いて形成される、請求項３に記載の偏光放射性膜。
【請求項６】
蛍光二色性色素化合物が膜の水平方向に一つの配向軸を有する、請求項３〜５のいずれか一項に記載の偏光放射性膜。
【請求項７】
光配向膜上に、請求項３〜６のいずれか一項に記載の偏光放射性膜を有する、光学積層体。
【請求項８】
請求項３〜６のいずれか一項に記載の偏光放射性膜または請求項７に記載の光学積層体に加えて、少なくともλ／４層を有する、光学積層体。
【請求項９】
請求項３〜６のいずれか一項に記載の偏光放射性膜または請求項７もしくは８に記載の光学積層体を有する、表示装置。
【請求項１０】
請求項３〜６のいずれか一項に記載の偏光放射性膜または請求項７もしくは８に記載の光学積層体を有する、加飾部材。
【請求項１１】
３次元曲面を有する立体加飾部材であって、請求項３〜６のいずれか一項に記載の偏光放射性膜または請求項７もしくは８に記載の光学積層体を３次元曲面に有する、立体加飾部材。
【請求項１２】
３次元曲面を有する表示装置であって、請求項３〜６のいずれか一項に記載の偏光放射性膜または請求項７もしくは８に記載の光学積層体を３次元曲面に有する、表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光放射性膜形成用組成物、偏光放射性膜、光学積層体、画像表示装置、加飾部材および立体加飾部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置をはじめ、様々な光学表示装置において、偏光光学部材が活用されている。最も一般的には、偏光板で入射光の約５０％を吸収することで透過光として直線偏光を得ることができるが、このような方法は単に光を偏光フィルターでカットしているだけである。発光体から放射される光が偏光であれば、上記のような偏光フィルターは不要である。特許文献１では、蛍光物質を含有させた高分子フィルムを３０倍に延伸して配向させることで、偏光発光を得ることが記載されている。この方法では、延伸することで得られたフィルムは脆性が弱く、クラックが入り易い等の弱点を有している。特許文献２では、ＵＶ硬化性の液晶モノマーと蛍光二色性色素化合物を混ぜることで、蛍光二色性色素化合物が配向軸を有し、偏光発光を得ることができることが記載されている。液晶を用いた配向方法は、薄層化や３次元曲面を持つ物体に対する膜形成が可能になる等のメリットを有する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−１７４８０９号公報
【特許文献２】特開２０１４−１６２２００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明者らは、配向膜上に、ＵＶ硬化性の液晶モノマーと蛍光二色性色素化合物を含有する組成物を積層して、偏光放射性膜を作成する検討を行った。その結果、蛍光二色性色素化合物の配向度が低く、得られる偏光強度が弱いことを見出した。
【０００５】
そこで、本発明は、三次元曲面を有する形状に成形することができ、蛍光二色性色素化合物が高い配向度を持つ偏光放射性膜形成用組成物、偏光放射性膜、光学積層体、表示装置、加飾部材および立体加飾部材を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。
【０００７】
［１］  蛍光二色性色素化合物と、高分子液晶化合物とを含有する偏光放射性膜形成用組成物であって、
高分子液晶化合物が、サーモトロピック性液晶、且つ、結晶性高分子である、偏光放射性膜形成用組成物。
［２］高分子液晶化合物に対する蛍光二色性色素化合物の含有比率が０．１％以上２５％以下である、［１］に記載の偏光放射性膜形成用組成物。
［３］  蛍光二色性色素化合物と液晶化合物を含む偏光放射性膜形成用組成物から形成される偏光放射性膜であって、蛍光二色性色素化合物の配向度が０．７以上である、偏光放射性膜。
［４］  蛍光二色性色素化合物と、下記式（２）で表される液晶化合物を含み、液晶化合物がスメクチック相を示す、［３］に記載の偏光放射性膜。
Ｕ１−Ｖ１−Ｗ１−Ｘ１−Ｙ１−Ｘ２−Ｙ２−Ｘ３−Ｗ２−Ｖ２−Ｕ２ （２）
［式（２）中、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は、互いに独立に、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基または置換基を有していてもよいシクロヘキサン−１，４−ジイル基を表わす。ただし、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３のうち少なくとも１つは、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基である。シクロへキサン−１，４−ジイル基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ−に置き換わっていてもよい。Ｒは、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基を表す。
Ｙ１およびＹ２は、互いに独立に、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＯ−、単結合、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲａ＝ＣＲｂ−、−Ｃ≡Ｃ−またはＣＲａ＝Ｎ−を表わす。ＲａおよびＲｂは、互いに独立に、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表わす。
Ｕ１は、水素原子または重合性基を表わす。
Ｕ２は、重合性基を表わす。
Ｗ１およびＷ２は、互いに独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−またはＯＣＯＯ−を表わす。
Ｖ１およびＶ２は、互いに独立に、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−またはＮＨ−に置き換わっていてもよい。］
［５］  ［１］または［２］に記載の組成物を用いて形成される、［３］に記載の偏光放射性膜。
［６］  蛍光二色性色素化合物が膜の水平方向に一つの配向軸を有する、［３］〜［５］のいずれかに記載の偏光放射性膜。
［７］  光配向膜上に、［３］〜［６］のいずれかに記載の偏光放射性膜を有する、光学積層体。
［８］  ［３］〜［６］のいずれかに記載の偏光放射性膜または［７］に記載の光学積層体に加えて、少なくともλ／４層を有する、光学積層体。
［９］  ［３］〜［６］のいずれかに記載の偏光放射性膜または［７］もしくは［８］に記載の光学積層体を有する、表示装置。
［１０］  ［３］〜［６］のいずれかに記載の偏光放射性膜または［７］もしくは［８］に記載の光学積層体を有する、加飾部材。
［１１］  ３次元曲面を有する立体加飾部材であって、［３］〜［６］のいずれかに記載の偏光放射性膜または［７］もしくは［８］に記載の光学積層体を３次元曲面に有する、立体加飾部材。
［１２］  ３次元曲面を有する表示装置であって、［３］〜［６］のいずれかに記載の偏光放射性膜または［７］もしくは［８］に記載の光学積層体を３次元曲面に有する、表示装置。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、三次元曲面を有する形状に成形することができ、蛍光二色性色素化合物が高い配向度を持つ偏光放射性膜形成用組成物、偏光放射性膜、光学積層体、表示装置、加飾部材および立体加飾部材を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１Ａ】図１Ａは、本発明の光学積層体の一例を示す模式的な断面図である。
【図１Ｂ】図１Ｂは、本発明の光学積層体の一例を示す模式的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００１１】
＜偏光放射性膜形成用組成物＞
本発明の偏光放射性膜形成用組成物（以下、単に「本発明の組成物」とも言う）は、蛍光二色性色素化合物と高分子液晶化合物とを含有する偏光放射性膜形成用組成物であって、前記高分子液晶化合物が、サーモトロピック性液晶、且つ、結晶性高分子である偏光放射性膜形成用組成物である。
本発明の組成物に含まれる高分子液晶化合物は、結晶層への転移に伴い高い配向度を示し、蛍光二色性色素化合物の配向度が向上すると推測される。その結果、得られる偏光放射性膜の配向度が高くなったと考えられる。
【００１２】
［高分子液晶化合物］
上述のとおり、本発明の組成物には、サーモトロピック性液晶、且つ、結晶性高分子である高分子液晶化合物（以下、「特定液晶高分子化合物」とも言う）が含有される。
【００１３】
（サーモトロピック液晶）
サーモトロピック液晶とは、温度変化によって液晶相への転移を示す液晶である。
特定液晶高分子化合物は、サーモトロピック液晶であり、ネマチック相及びスメクチック相のいずれを示してもよいが、偏光子の配向度がより高くなり、且つ、ヘイズがより観察され難くなる（ヘイズがより良好になる）理由から、少なくともネマチック相を示すことが好ましい。なお、以下、「偏光子の配向度がより高くなり、且つ、ヘイズがより観察され難くなる」ことを「本発明の効果がより優れる」とも言う。
ネマチック相を示す温度範囲は、本発明の効果がより優れる理由から、室温（２３℃）〜４５０℃であることが好ましく、取り扱いや製造適性の観点から、５０℃〜４００℃であることがより好ましい。
【００１４】
（結晶性高分子）
結晶性高分子とは、温度変化によって結晶層への転移を示す高分子である。結晶性高分子は結晶層への転移の他にガラス転移を示すものであってもよい。
特定液晶高分子化合物は、本発明の効果がより優れる理由から、加熱した時に結晶相から液晶相への転移を持つ（途中にガラス転移があってもよい）高分子液晶化合物、又は、加熱により液晶状態した後で温度を下降させた時に結晶相への転移（途中にガラス転移があってもよい）を持つ高分子液晶化合物であることが好ましい。
【００１５】
なお、高分子液晶化合物の結晶性の有無は以下のように評価する。
光学顕微鏡（Ｎｉｋｏｎ社製ＥＣＬＩＰＳＥ  Ｅ６００  ＰＯＬ）の二枚の偏光子を互いに直交するように配置し、二枚の偏光子の間にサンプル台をセットする。そして、高分子液晶化合物をスライドガラスに少量乗せ、サンプル台上に置いたホットステージ上にスライドガラスをセットする。サンプルの状態を観察しながら、高分子液晶化合物が液晶性を示す温度までホットステージの温度を上げ、高分子液晶化合物を液晶状態にする。高分子液晶化合物が液晶状態になった後、ホットステージの温度を徐々に降下させながら液晶相転移の挙動を観察し、液晶相転移の温度を記録する。なお、高分子液晶化合物が複数の液晶相（例えばネマチック相とスメクチック相）を示す場合、その転移温度も全て記録する。
次に、高分子液晶化合物のサンプル約５ｍｇをアルミパンに入れて蓋をし、示差走査熱量計（ＤＳＣ）にセットする（リファレンスとして空のアルミパンを使用）。上記で測定した高分子液晶化合物が液晶相を示す温度まで加熱し、その後、温度を１分保持した。その後、１０℃／分の速度で降温させながら、熱量測定を行う。得られた熱量のスペクトルから発熱ピークを確認する。
その結果、液晶相転移の温度以外の温度で発熱ピークが観測された場合は、その発熱ピークが結晶化によるピークであり、高分子液晶化合物は結晶性を有すると言える。
一方、液晶相転移の温度以外の温度で発熱ピークが観測されなかった場合は、高分子液晶化合物は結晶性を有さないと言える。
【００１６】
結晶性高分子を得る方法は特に制限されないが、具体例としては、後述する繰り返し単位（１）を含む高分子液晶化合物を用いる方法が好ましく、なかでも、後述する繰り返し単位（１）を含む高分子液晶化合物の中の好適な態様を用いる方法がより好ましい。
【００１７】
（結晶化温度）
上述のとおり、特定液晶高分子化合物は、結晶化高分子である。
特定液晶高分子化合物の結晶化温度は、本発明の効果がより優れる理由から、０℃以上１５０℃未満であることが好ましく、なかでも１２０℃以下であることがより好ましく、１５℃以上１２０℃未満であることがさらに好ましく、なかでも９５℃以下であることが特に好ましい。上記高分子液晶化合物の結晶化温度は、ヘイズを減らす観点から、１５０℃未満であることが好ましい。
なお、結晶化温度は、上述したＤＳＣにおける結晶化による発熱ピークの温度である。
【００１８】
（好適な態様）
特定液晶高分子化合物は、本発明の効果がより優れる理由から、下記式（１）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（１）」とも言う）を含む高分子液晶化合物であることが好ましい。
【００１９】
【化１】
2019203933.tif 000002
【００２０】
上記式（１）中、Ｐ１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ１は単結合または２価の連結基を表し、ＳＰ１はスペーサー基を表し、Ｍ１はメソゲン基を表し、Ｔ１は末端基を表す。
【００２１】
Ｐ１が表す繰り返し単位の主鎖としては、具体的には、例えば、下記式（Ｐ１−Ａ）〜（Ｐ１−Ｄ）で表される基が挙げられ、なかでも、原料となる単量体の多様性および取り扱いが容易である観点から、下記式（Ｐ１−Ａ）で表される基が好ましい。
【００２２】
【化２】
2019203933.tif 000003
【００２３】
式（Ｐ１−Ａ）〜（Ｐ１−Ｄ）において、「＊」は、式（１）におけるＬ１との結合位置を表す。式（Ｐ１−Ａ）において、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表す。式（Ｐ１−Ｄ）において、Ｒ２はアルキル基を表す。
式（Ｐ１−Ａ）で表される基は、本発明の効果がより優れる理由から、（メタ）アクリル酸エステルの重合によって得られるポリ（メタ）アクリル酸エステルの部分構造の一単位であることが好ましい。
式（Ｐ１−Ｂ）で表される基は、本発明の効果がより優れる理由から、エチレングリコールを重合して得られるポリエチレングリコールにおけるエチレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１−Ｃ）で表される基は、本発明の効果がより優れる理由から、プロピレングリコールを重合して得られるプロピレングリコール単位であることが好ましい。
式（Ｐ１−Ｄ）で表される基は、本発明の効果がより優れる理由から、シラノールの縮重合によって得られるポリシロキサンのシロキサン単位であることが好ましい。
【００２４】
Ｌ１は、単結合または２価の連結基である。
Ｌ１が表す２価の連結基としては、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（Ｏ）ＮＲ３−、−ＮＲ３Ｃ（Ｏ）−、−ＳＯ２−、および、−ＮＲ３Ｒ４−などが挙げられる。式中、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、置換基（例えば、後述する置換基Ｗ）を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表わす。
Ｐ１が式（Ｐ１−Ａ）で表される基である場合には、本発明の効果がより優れる理由から、Ｌ１は−Ｃ（Ｏ）Ｏ−で表される基が好ましい。
Ｐ１が式（Ｐ１−Ｂ）〜（Ｐ１−Ｄ）で表される基である場合には、本発明の効果がより優れる理由から、Ｌ１は単結合が好ましい。
【００２５】
ＳＰ１が表すスペーサー基は、液晶性を発現しやすいことや、原材料の入手性などの理由から、オキシエチレン構造、オキシプロピレン構造、ポリシロキサン構造およびフッ化アルキレン構造からなる群より選択される少なくとも１種の構造を含むことが好ましい。
ここで、ＳＰ１が表すオキシエチレン構造は、＊−（ＣＨ２−ＣＨ２Ｏ）ｎ１−＊で表される基が好ましい。式中、ｎ１は１〜２０の整数を表し、＊は、上記式（１）中のＬ１またはＭ１との結合位置を表す。ｎ１は、本発明の効果がより優れる理由から、２〜１０の整数であることが好ましく、２〜４の整数であることがより好ましく、３であることが最も好ましい。
また、ＳＰ１が表すオキシプロピレン構造は、本発明の効果がより優れる理由から、＊−（ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２Ｏ）ｎ２−＊で表される基が好ましい。式中、ｎ２は１〜３の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すポリシロキサン構造は、本発明の効果がより優れる理由から、＊−（Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ）ｎ３−＊で表される基が好ましい。式中、ｎ３は６〜１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
また、ＳＰ１が表すフッ化アルキレン構造は、本発明の効果がより優れる理由から、＊−（ＣＦ２−ＣＦ２）ｎ４−＊で表される基が好ましい。式中、ｎ４は６〜１０の整数を表し、＊はＬ１またはＭ１との結合位置を表す。
【００２６】
Ｍ１が表すメソゲン基とは、液晶形成に寄与する液晶分子の主要骨格を示す基である。液晶分子は、結晶状態と等方性液体状態の中間の状態（メソフェーズ）である液晶性を示す。メソゲン基については特に制限はなく、例えば、「Ｆｌｕｓｓｉｇｅ Ｋｒｉｓｔａｌｌｅ ｉｎ Ｔａｂｅｌｌｅｎ ＩＩ」（ＶＥＢ Ｄｅｕｔｓｃｈｅ Ｖｅｒｌａｇ ｆｕｒ Ｇｒｕｎｄｓｔｏｆｆ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ，Ｌｅｉｐｚｉｇ、１９８４年刊）、特に第７頁〜第１６頁の記載、および、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧（丸善、２０００年刊）、特に第３章の記載、を参照することができる。
メソゲン基としては、例えば、芳香族炭化水素基、複素環基、および脂環式基からなる群より選択される少なくとも１種の環状構造を有する基が好ましい。
メソゲン基は、本発明の効果がより優れる理由から、芳香族炭化水素基を有するのが好ましく、２〜４個の芳香族炭化水素基を有するのがより好ましく、３個の芳香族炭化水素基を有するのがさらに好ましい。
【００２７】
メソゲン基としては、液晶性の発現、液晶相転移温度の調整、原料入手性および合成適性という観点、並びに、本発明の効果がより優れるから、下記式（Ｍ１−Ａ）または下記式（Ｍ１−Ｂ）で表される基が好ましく、式（Ｍ１−Ｂ）で表される基がより好ましい。
【００２８】
【化３】
2019203933.tif 000004
【００２９】
式（Ｍ１−Ａ）中、Ａ１は、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。これらの基は、アルキル基、フッ化アルキル基、アルコキシ基又は後述する置換基Ｗなどの置換基で置換されていてもよい。
Ａ１で表される２価の基は、４〜６員環であることが好ましい。また、Ａ１で表される２価の基は、単環でも、縮環であってもよい。
＊は、ＳＰ１またはＴ１との結合位置を表す。
【００３０】
Ａ１が表す２価の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基、ナフチレン基、フルオレン−ジイル基、アントラセン−ジイル基およびテトラセン−ジイル基などが挙げられ、メソゲン骨格の設計の多様性や原材料の入手性などの観点から、フェニレン基またはナフチレン基が好ましく、フェニレン基がより好ましい。
【００３１】
Ａ１が表す２価の複素環基としては、芳香族または非芳香族のいずれであってもよいが、配向度がより向上するという観点から、２価の芳香族複素環基であることが好ましい。
２価の芳香族複素環基を構成する炭素以外の原子としては、窒素原子、硫黄原子および酸素原子が挙げられる。芳香族複素環基が炭素以外の環を構成する原子を複数有する場合、これらは同一であっても異なっていてもよい。
２価の芳香族複素環基の具体例としては、例えば、ピリジレン基（ピリジン−ジイル基）、ピリダジン−ジイル基、イミダゾール−ジイル基、チエニレン（チオフェン−ジイル基）、キノリレン基（キノリン−ジイル基）、イソキノリレン基（イソキノリン−ジイル基）、オキサゾール−ジイル基、チアゾール−ジイル基、オキサジアゾール−ジイル基、ベンゾチアゾール−ジイル基、ベンゾチアジアゾール−ジイル基、フタルイミド−ジイル基、チエノチアゾール−ジイル基、チアゾロチアゾール−ジイル基、チエノチオフェン−ジイル基、および、チエノオキサゾール−ジイル基などが挙げられる。
【００３２】
Ａ１が表す２価の脂環式基の具体例としては、シクロペンチレン基およびシクロへキシレン基などが挙げられる。
【００３３】
式（Ｍ１−Ａ）中、ａ１は１〜１０の整数を表す。ａ１が２以上である場合には、複数のＡ１は同一でも異なっていてもよい。
【００３４】
式（Ｍ１−Ｂ）中、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に、芳香族炭化水素基、複素環基および脂環式基からなる群より選択される２価の基である。Ａ２およびＡ３の具体例および好適態様は、式（Ｍ１−Ａ）のＡ１と同様であるので、その説明を省略する。
式（Ｍ１−Ｂ）中、ａ２は１〜１０の整数を表し、ａ２が２以上である場合には、複数のＡ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＡ３は同一でも異なっていてもよく、複数のＬＡ１は同一でも異なっていてもよい。ａ２は、本発明の効果がより優れる理由から、２以上の整数であることが好ましく、２であることがより好ましい。
式（Ｍ１−Ｂ）中、ａ２が１である場合には、ＬＡ１は２価の連結基である。ａ２が２以上である場合には、複数のＬＡ１はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基であり、複数のＬＡ１のうち少なくとも１つが２価の連結基である。ａ２が２である場合、本発明の効果がより優れる理由から、２つのＬＡ１のうち、一方が２価の連結基であり、他方が単結合であることが好ましい。
【００３５】
式（Ｍ１−Ｂ）中、ＬＡ１が表す２価の連結基としては、−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｇ−、−（ＣＦ２）ｇ−、−Ｓｉ（ＣＨ３）２−、−（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）ｇ−、−（ＯＳｉ（ＣＨ３）２）ｇ−（ｇは１〜１０の整数を表す。）、−Ｎ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）２−Ｃ（Ｚ’）２−、−Ｃ（Ｏ）−、−ＯＣ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｎ（Ｚ）Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ（Ｚ）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｚ”）−、−Ｎ（Ｚ”）−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−Ｃ（Ｏ）−Ｓ−、−Ｓ−Ｃ（Ｏ）−Ｃ（Ｚ）＝Ｃ（Ｚ’）−、−Ｃ（Ｚ）＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ（Ｚ’）−（Ｚ、Ｚ’、Ｚ”は独立に、水素、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、シアノ基、または、ハロゲン原子を表す。）、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）（Ｏ）−、−（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ−、−Ｏ（Ｏ）Ｓ（Ｏ）Ｏ−、−ＳＣ（Ｏ）−、および、−Ｃ（Ｏ）Ｓ−などが挙げられる。なかでも、本発明の効果がより優れる理由から、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−が好ましい。ＬＡ１は、これらの基を２つ以上組み合わせた基であってもよい。なお、ＬＡ１が表す２価の連結基としてアゾ基を含むと可視光領域での吸収が高くなり、黄色着色が問題になる場合は好ましくない。
【００３６】
Ｍ１の具体例としては、例えば以下の構造が挙げられる。なお、下記具体例において、「Ａｃ」は、アセチル基を表す。
【００３７】
【化４】
2019203933.tif 000005
【００３８】
【化５】
2019203933.tif 000006
【００３９】
Ｔ１が表す末端基としては、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアルキルチオ基、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニル基（ＲＯＣ（Ｏ）−：Ｒはアルキル基）、炭素数１〜１０のアシルオキシ基、炭素数１〜１０のアシルアミノ基、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１〜１０のスルホニルアミノ基、炭素数１〜１０のスルファモイル基、炭素数１〜１０のカルバモイル基、炭素数１〜１０のスルフィニル基、および、炭素数１〜１０のウレイド基、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基などが挙げられる。上記（メタ）アクリロイルオキシ基含有基としては、例えば、−Ｌ−Ａ（Ｌは単結合又は連結基を表す。連結基の具体例は上述したＬ１及びＳＰ１と同じである。Ａは（メタ）アクリロイルオキシ基を表す）で表される基が挙げられる。
Ｔ１は、本発明の効果がより優れる理由から、炭素数１〜１０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜５のアルコキシがより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。これらの末端基は、これらの基、または、特開２０１０−２４４０３８号公報に記載の重合性基によって、さらに置換されていてもよい。
Ｔ１の主鎖の原子数は、本発明の効果がより優れる理由から、１〜２０が好ましく、１〜１５がより好ましく、１〜１０がさらに好ましく、１〜７が特に好ましい。Ｔ１の主鎖の原子数が２０以下であることで、偏光子の配向度がより向上する。ここで、Ｔ１おける「主鎖」とは、Ｍ１と結合する最も長い分子鎖を意味し、水素原子はＴ１の主鎖の原子数にカウントしない。例えば、Ｔ１がｎ−ブチル基である場合には主鎖の原子数は４であり、Ｔ１がｓｅｃ−ブチル基である場合の主鎖の原子数は３である。
【００４０】
繰り返し単位（１）の含有量は、本発明の効果がより優れる理由から、特定液晶高分子化合物が有する全繰り返し単位１００質量％に対して、２０〜１００質量％が好ましく、３０〜９９．９質量％がより好ましく、４０〜９９．０質量％がさらに好ましい。
本発明において、高分子液晶化合物に含まれる各繰り返し単位の含有量は、各繰り返し単位を得るために使用される各単量体の仕込み量（質量）に基づいて算出される。
繰り返し単位（１）は、特定液晶高分子化合物中において、１種単独で含まれていてもよいし、２種以上含まれていてもよい。なかでも、本発明の効果がより優れる理由から、繰り返し単位（１）が特定液晶高分子化合物中に２種含まれているのがよい。
【００４１】
特定液晶高分子化合物が繰り返し単位（１）を２種含む場合、本発明の効果がより優れる理由から、一方（繰り返し単位Ａ）においてＴ１が表す末端基がアルコキシ基であり、他方（繰り返し単位Ｂ）においてＴ１が表す末端基がアルコキシ基以外の基であることが好ましい。
上記繰り返し単位ＢにおいてＴ１が表す末端基は、本発明の効果がより優れる理由から、アルコキシカルボニル基、シアノ基、又は、（メタ）アクリロイルオキシ基含有基であることが好ましく、アルコキシカルボニル基、又は、シアノ基であることがより好ましい。
特定液晶高分子化合物中の上記繰り返し単位Ａの含有量と特定液晶高分子化合物中の上記繰り返し単位Ｂの含有量との割合（Ａ／Ｂ）は、本発明の効果がより優れる理由から、５０／５０〜９５／５であることが好ましく、６０／４０〜９３／７であることがより好ましく、７０／３０〜９０／１０であることがさらに好ましい。
【００４２】
以下に、特定液晶高分子化合物の好ましい具体例を示す。
【００４３】
【化６】
2019203933.tif 000007
【００４４】
（重量平均分子量）
特定液晶高分子化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、本発明の効果がより優れる理由から、１０００〜５０００００が好ましく、２０００〜３０００００がより好ましい。特定液晶高分子化合物のＭｗが上記範囲内にあれば、特定液晶高分子化合物の取り扱いが容易になる。
特に、塗布時のクラック抑制の観点から、特定液晶高分子化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００以上が好ましく、１００００〜３０００００がより好ましい。
また、配向度の温度ラチチュードの観点から、特定液晶高分子化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００００未満が好ましく、２０００以上１００００未満が好ましい。
ここで、本発明における重量平均分子量および数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）法により測定された値である。
・溶媒（溶離液）：Ｎ−メチルピロリドン
・装置名：ＴＯＳＯＨ ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ
・カラム：ＴＯＳＯＨ  ＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＡＷＭ−Ｈ（６ｍｍ×１５ｃｍ）を３本接続して使用
・カラム温度：２５℃
・試料濃度：０．１質量％
・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
・校正曲線：ＴＯＳＯＨ製ＴＳＫ標準ポリスチレン  Ｍｗ＝２８０００００〜１０５０（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．０３〜１．０６）までの７サンプルによる校正曲線を使用
【００４５】
〔蛍光二色性色素化合物〕
本発明の組成物が含有する蛍光二色性色素化合物は、特に限定されず、従来公知の蛍光二色性色素を使用することができる。
二色性色素とは、入射光の吸収に関し、色素分子の長軸方向に振動する光と、短軸方向に振動する光に対する吸光度が異なる性質を持つ色素である。本発明の組成物が含有する蛍光二色性色素化合物は、勿論上記のような入射光（励起光）に対する異方性を有するが、加えて入射光に対して長波長側に波長のずれた蛍光を発光し、その蛍光発光に関して、色素分子の長軸方向に振動する発光強度と、短軸方向に振動する発光強度が異なる性質を持つ色素である。本発明の組成物が含有する蛍光二色性色素化合物においては、吸収と発光ともに長軸方向と短軸方向の異方性が高いことが好ましく、理想的には、吸収も発光も長軸方向のみで発生することが最も好ましい。
励起光および蛍光の波長は、特に限定されないが、例えば励起光が紫外波長領域で蛍光が可視光波長領域にあることも好ましい態様の一つである。この場合、入射する紫外偏光の異方性制御により、蛍光二色性色素化合物を含有する透明な（可視光吸収を持たない）偏光放射性膜の可視偏光発光を制御することが可能となる。
本発明の組成物が含有する蛍光２色性色素化合物の具体例としては、クマリン色素、シアニン色素、ピリジン色素、ローダミン色素、スチリル色素などの、公知の蛍光色素を用いることができる。
【００４６】
本発明で用いられる二色性蛍光色素の具体例を下記に示すが、本発明は何ら以下のものに限定されるものではない。
【００４７】
（蛍光二色性色素Ｄ１）
1,4-ビス[4-(ジ-p-トリルアミノ)スチリル]ベンゼン  (東京化成社製)
【化７】
2019203933.tif 000008
【００４８】
（蛍光二色性色素Ｄ２）
4,4'-ビス[4-(ジ-p-トリルアミノ)スチリル]ビフェニル(東京化成社製)
【化８】
2019203933.tif 000009
【００４９】
（蛍光二色性色素Ｄ３）
9,10-ビス[N,N-ジ(p-トリル)アミノ]アントラセン(東京化成社製)
【化９】
2019203933.tif 000010
【００５０】
（蛍光二色性色素Ｄ４）
Coumarin 545(東京化成社製)
【化１０】
2019203933.tif 000011
【００５１】
（蛍光二色性色素Ｄ５）
1,4-ビス[2-(9-エチルカルバゾール-3-イル)ビニル]ベンゼン(東京化成社製)
【化１１】
2019203933.tif 000012
【００５２】
（蛍光二色性色素Ｄ６）
4-スチリルトリフェニルアミン
【化１２】
2019203933.tif 000013
【００５３】
（蛍光二色性色素Ｄ7）
1,4-ビス(2-メチルスチリル)ベンゼン
【化１３】
2019203933.tif 000014
【００５４】
（蛍光二色性色素Ｄ8）
1,4-ビス[2-(5-フェニルオキサゾリル)]ベンゼン
【化１４】
2019203933.tif 000015
【００５５】
本発明においては、前述の特定高分子液晶の配向度が高いことで、蛍光二色性色素化合物の長軸方向を特定の方向に高配向度で配向させることが可能となり、蛍光発光の偏光度を高めることができる。すなわち、偏光放射光強度を高めることができる。 
【００５６】
また、蛍光二色性色素化合物の長軸方向を高配向度で特定の方向に配向させた場合、このような蛍光二色性色素に対して直線偏光紫外線を照射したとき、紫外線の偏光方向が蛍光二色性色素の分子長軸方向に平行な場合と、分子長軸方向に垂直な場合とが存在するが、前者のほうが紫外線を大きく吸収するため蛍光発光強度が大きくなる。 
【００５７】
本発明においては、２種以上の蛍光二色性色素化合物を併用してもよく、例えば、放射偏光を白色に近づける観点から、波長３７０〜５５０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物（第１の二色性色素）と、波長５００〜７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する少なくとも１種の色素化合物（第２の二色性色素）とを併用することも好ましい。
【００５８】
本発明においては、耐押圧性がより良好となる理由から、蛍光二色性色素化合物が架橋性基を有していることが好ましい。
架橋性基としては、具体的には、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、オキセタニル基、スチリル基などが挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【００５９】
本発明においては、蛍光二色性色素化合物の含有量は、偏光放射性膜の配向度および均一性のバランスが良好となる観点から、固形分比率として０．１〜２５質量％であることが好ましく、０．５〜２０質量％であることがより好ましく、１〜１０質量％であることがさらに好ましい。
【００６０】
〔その他の二色性色素化合物〕
本発明の組成物には、放射する光の波長スペクトルを調整するため、従来公知の蛍光を発しない二色性色素化合物を蛍光二色性色素化合物に加えて使用することができる。
具体的には、例えば、特開２０１３−２２８７０６号公報の［００６７］〜［００７１］段落、特開２０１３−２２７５３２号公報の［０００８］〜［００２６］段落、特開２０１３−２０９３６７号公報の［０００８］〜［００１５］段落、特開２０１３−１４８８３号公報の［００４５］〜［００５８］段落、特開２０１３−１０９０９０号公報の［００１２］〜［００２９］段落、特開２０１３−１０１３２８号公報の［０００９］〜［００１７］段落、特開２０１３−３７３５３号公報の［００５１］〜［００６５］段落、特開２０１２−６３３８７号公報の［００４９］〜［００７３］段落、特開平１１−３０５０３６号公報の［００１６］〜［００１８］段落、特開２００１−１３３６３０号公報の［０００９］〜［００１１］段落、特開２０１１−２１５３３７号公報の［００３０］〜［０１６９］、特開２０１０−１０６２４２号公報の［００２１］〜［００７５］段落、特開２０１０−２１５８４６号公報の［００１１］〜［００２５］段落、特開２０１１−０４８３１１号公報の［００１７］〜［００６９］段落、特開２０１１−２１３６１０号公報の［００１３］〜［０１３３］段落、特開２０１１−２３７５１３号公報の［００７４］〜［０２４６］段落、特願２０１５−００１４２５号公報の［００２２］〜［００８０］段落、特願２０１６−００６５０２号公報の［０００５］〜［００５１段落］、ＷＯ２０１６／０６０１７３号公報の［０００５］〜［００４１］段落、ＷＯ２０１６／１３６５６１号公報の［０００８］〜［００６２］段落、特願２０１６−０４４９０９号公報の［００１４］〜［００３３］段落、特願２０１６−０４４９１０号公報の［００１４］〜［００３３］段落、特願２０１６−０９５９０７号公報の［００１３］〜［００３７］段落、特願２０１７−０４５２９６号公報の［００１４］〜［００３４］段落などに記載された二色性色素が挙げられる。
【００６１】
［界面改良剤］
本発明の組成物は、界面改良剤を含むことが好ましい。界面改良剤を含むことにより、塗布表面の平滑性が向上し、配向度の向上や、ハジキおよびムラを抑制して、面内の均一性の向上が見込まれる。
界面改良剤としては、液晶性化合物を塗布表面側で水平にさせるものが好ましく、特開２０１１−２３７５１３号公報の［０２５３］〜［０２９３］段落に記載の化合物（水平配向剤）を用いることができる。
着色組成物が界面改良剤を含有する場合、界面改良剤の含有量は、着色組成物中の上記二色性色素化合物と上記液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．００１〜５質量部が好ましく、０．０１〜３質量部が好ましい。
【００６２】
［重合開始剤］
本発明の組成物は、重合開始剤を含有してもよい。
重合開始剤としては特に制限はないが、感光性を有する化合物、すなわち光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤としては、各種の化合物を特に制限なく使用できる。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号および同２９５１７５８号の各明細書）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報および米国特許第４２３９８５０号明細書）、オキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書）、および、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３−４０７９９号公報、特公平５−２９２３４号公報、特開平１０−９５７８８号公報および特開平１０−２９９９７号公報）等が挙げられる。
このような光重合開始剤としては、市販品も用いることができ、ＢＡＳＦ社製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９およびイルガキュアＯＸＥ−０１等が挙げられる。
本発明の着色組成物が重合開始剤を含有する場合、重合開始剤の含有量は、組成物中の上記蛍光二色性色素化合物と上記液晶性化合物との合計１００質量部に対し、０．０１〜３０質量部が好ましく、０．１〜１５質量部が好ましい。重合開始剤の含有量が０．０１質量部以上であることで、偏光放射性膜の硬化性が良好となり、３０質量部以下であることで、偏光放射性膜の液晶の配向が良好となる。
【００６３】
［溶媒］
本発明の組成物は、作業性等の観点から、溶媒を含有するのが好ましい。
溶媒としては、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、１，２−ジメトキシエタンなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）、および、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）などの有機溶媒、ならびに、水が挙げられる。これの溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの溶媒のうち、有機溶媒を用いることが好ましく、ハロゲン化炭素類またはケトン類を用いることがより好ましい。
本発明の組成物が溶媒を含有する場合において、溶媒の含有量は、本発明の組成物の全質量に対して、８０〜９９質量％であることが好ましく、８３〜９７質量％であることがより好ましく、８５〜９５質量％であることが更に好ましい。
【００６４】
［増感剤］
本発明の組成物は増感剤を含有してもよい。増感剤としては、光増感剤が好ましい。該増感剤としては、例えば、キサントンおよびチオキサントン等のキサントン化合物（例えば、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン等）；アントラセンおよびアルコキシ基含有アントラセン(例えば、ジブトキシアントラセン等)等のアントラセン化合物；フェノチアジンおよびルブレン等が挙げられる。
【００６５】
本発明の組成物が増感剤を含有する場合、組成物に含有される重合性化合物の重合反応をより促進することができる。かかる増感剤の使用量は、重合性化合物の含有量１００質量部に対して、０．１〜３０質量部が好ましく、０．５〜１０質量部がより好ましく、０．５〜８質量部がさらに好ましい。
【００６６】
［重合禁止剤］
重合反応を安定的に進行させる観点から、本発明の組成物は重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤により、重合性化合物の重合反応の進行度合いをコントロールすることができる。
【００６７】
前記重合禁止剤としては、例えばハイドロキノン、アルコキシ基含有ハイドロキノン、アルコキシ基含有カテコール（例えば、ブチルカテコール等）、ピロガロール、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル捕捉剤；チオフェノール類；β−ナフチルアミン類およびβ−ナフトール類等が挙げられる。
【００６８】
本発明の組成物が重合禁止剤を含有する場合、重合禁止剤の含有量は、重合性化合物の含有量１００質量部に対して、好ましくは０．１〜３０質量部、より好ましくは０．５〜１０質量部、さらに好ましくは０．５〜８質量部である。重合禁止剤の含有量が、上記範囲内であると、液晶の配向を大きく乱すことなく重合を行うことができる。  
【００６９】
［その他成分］
本発明の組成物に非液晶性の多官能重合性化合物を加えることができる。非液晶性の多官能重合性化合物を加えることにより膜の熱耐久性が向上する。
一方で、液晶配向の乱れをもたらす可能性があり、アクリル当量が低い化合物が好ましい。１２０以下が好ましく、１００以下がさらに好ましく、９０以下が特に好ましい。ここで、アクリル当量とは、分子量をアクリル官能基の数で割ったものである。
【００７０】
この様な非液晶性の多官能重合性化合物としては、
多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼン及びその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）及びメタクリルアミドが含まれる。
ただし、非液晶性の多官能重合性化合物の添加量が増えることによって液晶配向が阻害されるため、添加する場合の固形分濃度は、０．１〜２０質量％であることが好ましく、０．１〜１０質量％であることがより好ましく、０．１〜５質量％であることが特に好ましく、又は、１〜２０質量％であることが好ましく、１〜１０質量％であることがより好ましく、１〜５質量％であることが特に好ましい。
【００７１】
＜偏光放射性膜＞
本発明の偏光放射性膜は、蛍光二色性色素化合物と液晶化合物を含む偏光放射性膜形成用組成物から形成される偏光放射性膜であって、前記蛍光二色性色素化合物の配向度が０．７以上である偏光放射性膜である。
用いる液晶は、前記蛍光二色性色素化合物の配向度が上記範囲にあれば、特に限定されない。
蛍光二色性色素を含有させた高分子フイルムを延伸して配向させる方法では、高い配向度が得られるが延伸させたフイルムの脆性が弱いことから、耐久性試験でクラックが生じたり、三次元曲面では使用し難いという弱点がある。一方、液晶を用いて高配向度の偏光放射性膜を実現することで、５μ以下の非常に薄い膜で偏光放射性膜を作成でき、延伸しないので脆性も強く、曲面に貼りつけることも比較的容易である。あるいはスプレー塗布やインクジェットにて立体造形物の表面に膜を形成するなど、デザインの自由度を高めることも可能となる。
最も好ましい態様は、上述した本発明の組成物を用いて形成される偏光放射性膜である。
本発明の偏光放射性膜の別の好ましい態様としては、
蛍光二色性色素化合物と、後述する式（２）で表される液晶化合物（以下、「低分子液晶化合物」ともいう）を含み、前記液晶化合物がスメクチック相を示す偏光放射性膜である。この態様によれば、液晶化合物を配向度の高いスメクチック相として用いることができるので、蛍光二色性色素化合物の配向度も高い値が得られる。
以下、低分子液晶化合物について記載する。
【００７２】
［低分子液晶性化合物］
本発明の偏光放射性膜形成用の着色組成物に含まれる低分子液晶性化合物は下記式（２）であらわされるものが好ましい。
Ｕ１−Ｖ１−Ｗ１−Ｘ１−Ｙ１−Ｘ２−Ｙ２−Ｘ３−Ｗ２−Ｖ２−Ｕ２ （２）
［式（２）中、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は、互いに独立に、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基または置換基を有していてもよいシクロヘキサン−１，４−ジイル基を表わす。ただし、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３のうち少なくとも１つは、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基である。シクロへキサン−１，４−ジイル基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ−に置き換わっていてもよい。Ｒは、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基を表す。
Ｙ１およびＹ２は、互いに独立に、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＯ−、単結合、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲａ＝ＣＲｂ−、−Ｃ≡Ｃ−またはＣＲａ＝Ｎ−を表わす。ＲａおよびＲｂは、互いに独立に、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表わす。
Ｕ１は、水素原子または重合性基を表わす。
Ｕ２は、重合性基を表わす。
Ｗ１およびＷ２は、互いに独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−またはＯＣＯＯ−を表わす。
Ｖ１およびＶ２は、互いに独立に、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−またはＮＨ−に置き換わっていてもよい。］
【００７３】
Ｘ１、Ｘ２およびＸ３のうち少なくとも２つが、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基であると好ましい。
【００７４】
置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基は、無置換であることが好ましい。置換基を有していてもよいシクロへキサン−１，４−ジイル基は、置換基を有していてもよいトランス−シクロへキサン−１，４−ジイル基であることが好ましく、置換基を有していてもよいトランス−シクロへキサン−１，４−ジイル基は無置換であることが好ましい。
【００７５】
置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基または置換基を有していてもよいシクロへキサン−１，４−ジイル基が任意に有する置換基としては、メチル基、エチル基、ブチル基などの炭素数１〜４のアルキル基、シアノ基およびハロゲン原子が挙げられる。
【００７６】
Ｙ１は、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯ−または単結合であることが好ましく、Ｙ２は、−ＣＨ２ＣＨ２−またはＣＨ２Ｏ−であることが好ましい。
【００７７】
Ｕ２は、重合性基である。Ｕ１は、水素原子または重合性基であり、好ましくは重合性基である。Ｕ１およびＵ２がともに重合性基であることが好ましく、ともに光重合性基であることが好ましい。”光重合性基”とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことを意味する。
【００７８】
Ｕ１で示される光重合性基とＵ２で示される重合性基とは、互いに異なっていてもよいが、同じ種類の基であることが好ましい。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基およびオキセタニル基が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基およびオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。
【００７９】
Ｖ１およびＶ２で表されるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基、デカン−１，１０−ジイル基、テトラデカン−１，１４−ジイル基およびイコサン−１，２０−ジイル基が挙げられる。Ｖ１およびＶ２は、好ましくは炭素数２〜１２のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数６〜１２のアルカンジイル基である。
【００８０】
該アルカンジイル基が任意に有する置換基としては、シアノ基およびハロゲン原子が挙げられるが、該アルカンジイル基は、無置換であることが好ましく、無置換且つ直鎖状のアルカンジイル基であることがより好ましい。
【００８１】
Ｗ１およびＷ２は、互いに独立に、好ましくは単結合またはＯ−である。
【００８２】
低分子液晶性化合物の具体例としては、式（Ｂ−１）〜式（Ｂ−２５）で表される化合物が挙げられる。低分子液晶性化合物がシクロヘキサン−１，４−ジイル基を有する場合、そのシクロヘキサン−１，４−ジイル基は、トランス体であることが好ましい。
【化１５】
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【００８３】
中でも、式（Ｂ−２）、式（Ｂ−３）、式（Ｂ−４）、式（Ｂ−５）、式（Ｂ−６）、式（Ｂ−７）、式（Ｂ−８）、式（Ｂ−１３）、式（Ｂ−１４）、式（Ｂ−１５）、式（Ｂ−１６）および式（Ｂ−１７）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましい。
【００８４】
例示した低分子液晶性化合物は、単独又は組み合わせて、使用することができる。また、２種以上の低分子液晶性化合物を組み合わせる場合には、少なくとも１種が低分子液晶性化合物であると好ましく、２種以上が低分子液晶性化合物であるとより好ましい。組み合わせることにより、液晶−結晶相転移温度以下の温度でも一時的に液晶性を保持することができる場合がある。２種類の低分子液晶性化合物を組み合わせる場合の混合比としては、通常、１：９９〜５０：５０であり、好ましくは５：９５〜５０：５０であり、より好ましくは１０：９０〜５０：５０である。
【００８５】
低分子液晶性化合物が示す液晶状態は、スメクチック相であることが必要で、配向秩序度のより高い偏光放射性膜を製造することができるという点で、高次スメクチック相であることがより好ましい。”高次スメクチック相”とは、スメクチックＢ相、スメクチックＤ相、スメクチックＥ相、スメクチックＦ相、スメクチックＧ相、スメクチックＨ相、スメクチックＩ相、スメクチックＪ相、スメクチックＫ相およびスメクチックＬ相を意味し、中でも、スメクチックＢ相、スメクチックＦ相およびスメクチックＩ相がより好ましい。配向秩序度の高い偏光放射性膜は、Ｘ線回折測定においてヘキサチック相やクリスタル相といった高次構造由来のブラッグピークが得られる。”ブラッグピーク”とは、分子配向の面周期構造に由来するピークを意味し、周期間隔が３．０〜５．０Åである偏光放射性膜が好ましい。
【００８６】
低分子液晶性化合物は、例えば、Ｌｕｂ eｔ aｌ. Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ−Ｂａｓ，１１５, ３２１−３２８（１９９６）、又は特許第４７１９１５６号などに記載の公知方法で製造される。
【００８７】
［偏光放射性膜の形成方法］
本発明の偏光放射性膜の形成方法は特に限定されないが、好ましい態様として、上記組成物を配向膜上に塗布して塗布膜を形成する工程（以下、「塗布膜形成工程」ともいう。）と、塗布膜に含まれる蛍光二色性色素化合物を配向させる工程（以下、「配向工程」ともいう。）と、をこの順に含む方法が挙げられる。
以下、本発明の偏光放射性膜を作製する製造方法の各工程について説明する。
【００８８】
［塗布膜形成工程］
塗布膜形成工程は、配向膜上に上述した本組成物を塗布して塗布膜を形成する工程である。塗布膜中の液晶性化合物は配向膜と（本組成物が界面改良剤を含有する場合には）界面改良剤との相互作用により水平配向する。
上述した溶媒を含有する組成物を用いたり、組成物を加熱などによって溶融液などの液状物としたものを用いたりすることにより、透明支持体上に本発明の組成物を塗布することが容易になる。
本発明の組成物の塗布方法としては、具体的には、例えば、ロールコーティング法、グラビア印刷法、スピンコート法、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スプレー法、および、インクジェット法などの公知の方法が挙げられる。
【００８９】
（配向膜）
配向膜は、本組成物に含有される高分子液晶化合物を水平配向させる膜であれば、どのような膜でもよい。
有機化合物（好ましくはポリマー）の膜表面へのラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュアブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。なかでも、本発明では、配向膜のプレチルト角の制御し易さの点からはラビング処理により形成する配向膜が好ましく、配向の均一性からは光照射により形成する光配向膜も好ましい。また、光配向膜においては、ラビング不要のため３次元曲面等でも配向可能であり、デザイン性の自由度向上メリットが大きい。
【００９０】
（１）ラビング処理配向膜
ラビング処理により形成される配向膜に用いられるポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明においては、ポリビニルアルコールまたはポリイミド、およびその誘導体が好ましく用いられる。配向膜については国際公開第２００１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行の記載を参照することができる。配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０１〜１μｍであることがさらに好ましい。
【００９１】
（２）光配向膜
光配向膜とは、光反応性基を有する化合物と、溶剤とを含む組成物（以下、場合により「光配向層形成用組成物」という）を基材に塗布し、偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することによって配向規制力を付与した配向層のことをいう。光反応性基とは、光を照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光を照射することで生じる分子（光活性化合物と呼ぶ）の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応、あるいは光分解反応のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じるものである。光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有するものが好ましく、炭素−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素−窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素−窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）及び炭素−酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基がより好ましい。
【００９２】
Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ−ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、芳香族シッフ塩基及び芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、例えば、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基が挙げられる。
Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基及びホルマザン基などや、アゾキシベンゼンを基本構造とする基が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ−ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基又はハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。中でも、シンナモイル基やアゾベンゼン基は、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向層が得られやすいため好ましい。
【００９３】
光照射により形成される配向膜に用いられる光配向材料としては、多数の文献などに記載がある。本発明においては、例えば、特開２００６−２８５１９７号公報、特開２００７−７６８３９号公報、特開２００７−１３８１３８号公報、特開２００７−９４０７１号公報、特開２００７−１２１７２１号公報、特開２００７−１４０４６５号公報、特開２００７−１５６４３９号公報、特開２００７−１３３１８４号公報、特開２００９−１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２−２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２−２６５５４１号公報、特開２００２−３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミドおよび／またはアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３−５２０８７８号公報、特表２００４−５２９２２０号公報、または、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミドもしくはエステルが好ましい例として挙げられる。
【００９４】
上記材料から形成した光配向膜に、直線偏光または非偏光照射を施し、光配向膜を製造する。
本明細書において、「直線偏光照射」「非偏光照射」とは、光配向材料に光反応を生じせしめるための操作である。用いる光の波長は、用いる光配向材料により異なり、その光反応に必要な波長であれば特に限定されるものではない。光照射に用いる光のピーク波長は、２００ｎｍ〜７００ｎｍが好ましく、光のピーク波長が４００ｎｍ以下の紫外光がより好ましい。
【００９５】
光照射に用いる光源は、通常使われる光源、例えばタングステンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノンフラッシュランプ、水銀ランプ、水銀キセノンランプおよびカーボンアークランプなどのランプ、各種のレーザー［例、半導体レーザー、ヘリウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザーおよびＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザー］、発光ダイオード、ならびに、陰極線管などを挙げることができる。
【００９６】
直線偏光を得る手段としては、偏光板（例えば、ヨウ素偏光板、二色性物質偏光板、および、ワイヤーグリッド偏光板）を用いる方法、プリズム系素子（例えば、グラントムソンプリズム）もしくはブリュースター角を利用した反射型偏光子を用いる方法、または、偏光を有するレーザー光源から出射される光を用いる方法が採用できる。また、フィルタまたは波長変換素子などを用いて必要とする波長の光のみを選択的に照射してもよい。
【００９７】
照射する光は、直線偏光の場合には、配向膜に対して上面、または裏面から配向膜表面に対して垂直、または斜めから光を照射する方法が採用される。光の入射角度は、光配向材料によって異なるが、０〜９０°（垂直）が好ましく、４０〜９０°が好ましい。
非偏光の場合には、配向膜に対して、斜めから非偏光を照射する。その入射角度は、１０〜８０°が好ましく、２０〜６０°がより好ましく、３０〜５０°がさらに好ましい。
照射時間は、１分〜６０分が好ましく、１分〜１０分がより好ましい。
【００９８】
パターン化が必要な場合には、フォトマスクを用いた光照射をパターン作製に必要な回数施す方法、または、レーザー光走査によるパターンの書き込みによる方法を採用できる。
【００９９】
［配向工程］
配向工程は、塗布膜に含有される蛍光二色性色素化合物を配向させる工程である。これにより、本発明の偏光放射性膜が得られる。配向工程では、配向膜によって配向した高分子液晶性化合物に沿って、蛍光二色性色素化合物が配向するものと考えられる。
配向工程は、乾燥処理を有していてもよい。乾燥処理によって、溶媒などの成分を塗布膜から除去することができる。乾燥処理は、塗布膜を室温下において所定時間放置する方法（例えば、自然乾燥）によって行われてもよいし、加熱および／または送風する方法によって行われてもよい。
ここで、本組成物に含有される蛍光二色性色素化合物は、上述した塗布膜形成工程または乾燥処理によって、配向する場合がある。例えば、本組成物が溶媒を含む塗布液として調製されている態様では、塗布膜を乾燥して、塗布膜から溶媒を除去することで、塗布膜に含有される蛍光二色性色素化合物が配向して、本発明の偏光放射性膜が得られる場合がある。
【０１００】
配向工程は、加熱処理を有することが好ましい。これにより、塗布膜に含まれる蛍光二色性色素化合物がより配向し、得られる偏光放射性膜の配向度がより高くなる。
加熱処理は、製造適性などの面から１０〜２５０℃が好ましく、２５〜１９０℃がより好ましい。また、加熱時間は、１〜３００秒が好ましく、１〜６０秒がより好ましい。
【０１０１】
配向工程は、加熱処理後に実施される冷却処理を有していてもよい。冷却処理は、加熱後の塗布膜を室温（２０〜２５℃）程度まで冷却する処理である。これにより、塗布膜に含有される蛍光二色性色素化合物の配向がより固定され、得られる偏光子の配向度がより高くなる。冷却手段としては、特に限定されず、公知の方法により実施できる。
以上の工程によって、本発明の偏光放射性膜を得ることができる。
【０１０２】
〔他の工程〕
本製造方法は、上記配向工程後に、偏光放射性膜を硬化させる工程（以下、「硬化工程」ともいう。）を有していてもよい。
硬化工程は、例えば、加熱および／または光照射（露光）によって実施される。このなかでも、硬化工程は光照射によって実施されることが好ましい。
硬化に用いる光源は、赤外線、可視光または紫外線など、種々の光源を用いることが可能であるが、紫外線であることが好ましい。また、硬化時に加熱しながら紫外線を照射してもよいし、特定の波長のみを透過するフィルタを介して紫外線を照射してもよい。
また、露光は、窒素雰囲気下で行われてもよい。ラジカル重合によって偏光子の硬化が進行する場合において、酸素による重合の阻害が低減されるため、窒素雰囲気下で露光することが好ましい。
【０１０３】
＜光学積層体＞
本発明の光学積層体は、本発明の偏光放射性膜を含む多様な態様があり得る。
好ましいひとつの態様は、基材と、上記基材上に設けられた配向膜と、上記配向膜上に設けられた上述した本発明の偏光放射性膜とを有する。
基材は、平面的なフイルムには限定されず、３次元曲面を有する構造体に対して、スプレー塗布やインクジェット等の方法により、配向膜、偏光放射性膜、λ／４層などを形成することも好ましい。
また、本発明の積層体は、上記本発明の偏光放射性膜上に、λ／４層を有していてもよい。
さらに、本発明の積層体は、上記本発明の偏光放射性膜とλ／４層との間に、バリア層を有していてもよい。
最終使用形態においては、基材と光配向膜もしくは光配向膜と偏光放射性膜の界面で剥離して用いることも好ましい。さらに使用用途に応じて、耐湿性、耐熱性、耐折り曲げ性等の機能に合わせた膜を選択し、接着剤や粘着剤で張り合わせて用いることも好ましい。
以下、本発明の積層体を構成する各層について説明する。
【０１０４】
〔基材〕
基材としては、適宜選択することができ、例えば、ガラスおよびポリマーフィルムが挙げられる。基材の光透過率は、８０％以上であるのが好ましい。
基材としてポリマーフィルムを用いる場合には、光学的等方性のポリマーフィルムを用いるのが好ましい。ポリマーの具体例および好ましい態様は、特開２００２−２２９４２号公報の［００１３］段落の記載を適用できる。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても国際公開第２０００／２６７０５号公報に記載の分子を修飾することで発現性を低下させたものを用いることもできる。
【０１０５】
〔配向膜〕
配向膜については、上述したとおりであるので、その説明を省略する。
【０１０６】
〔偏光放射性膜〕
本発明の偏光放射性膜については、上述したとおりであるので、その説明を省略する。
【０１０７】
〔λ／４層〕
「λ／４層」とは、λ／４機能を有する層であり、具体的には、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する層である。例えば、特定波長λ１ｎｍの直線偏光に対しては、λ１ｎｍにおける面内のレタデーションがλ１／４ｎｍのポジティブＡプレートは、λ／４機能を有しており、好ましく使用できる。本発明の偏光放射性膜において、例えば励起波長が３６０ｎｍの蛍光二色性色素化合物を用いる場合は、上記λ／４層の３６０ｎｍにおける面内レタデーションは、７０ｎｍ〜１１０ｎｍが好ましい。
本発明の偏光放射性膜に対してλ／４層を加えた光学積層体は、励起光に関して右回り円偏光と左回り円偏光に対する吸光度が大きく異なっており、かつ蛍光発光強度も右回り円偏光と左回り円偏光の強度が大きく異なるという特徴を有する。
例えば、λ／４層が単層構造である態様としては、具体的には、延伸ポリマーフィルムや、支持体上にλ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムなどが挙げられ、また、λ／４層が複層構造である態様としては、具体的には、λ／４層とλ／２層とを積層してなる広帯域λ／４層が挙げられる。
本発明においては、吸収波長（励起波長）と発光波長が異なっており、広い範囲の波長でλ／４の条件を満たすことのできる広帯域λ／４層を用いることが好ましい。上記のλ／４層とλ／２層とを積層してなるものや、後述するような逆波長分散性を持つものが挙げられる。
λ／４機能を有する光学異方性層を設けた位相差フィルムは、ネマチック液晶層またはスメクチック液晶層を発現する液晶モノマーを重合して形成した液晶化合物（円盤状液晶、棒状液晶化合物など）の少なくともひとつを含む１層以上の位相差層であることがより好ましい。
また、光学性能に優れたλ／４層として、逆波長分散性の液晶化合物を用いることもさらに好ましい。具体的には、国際公開番号ＷＯ２０１７／０４３４３８に記載の一般式（ＩＩ）の液晶化合物が好ましく用いられる。逆波長分散性の液晶化合物を用いたλ／４層の作成方法についても、ＷＯ２０１７／０４３４３８の実施例１〜１０や特開２０１６−９１０２２の実施例１の記載を参考にできる。
λ／４層と本発明の偏光放射性膜とは、接して設けられていてもよいし、λ／４層と本発明の偏光放射性膜との間に、他の層が設けられていてもよい。このような層としては、密着性担保のための粘着層または接着層、およびバリア層が挙げられる。
【０１０８】
〔バリア層〕
本発明の積層体がバリア層を備える場合、バリア層は、本発明の偏光子とλ／４層との間に設けられる。なお、本発明の偏光子とλ／４層との間に、バリア層以外の他の層（例えば、粘着層または接着層）を備える場合には、バリア層は、例えば、本発明の偏光子と他の層との間に設けることができる。
バリア層は、ガス遮断層（酸素遮断層）とも呼ばれ、大気中の酸素等のガス、水分、または、隣接する層に含まれる化合物等から本発明の偏光子を保護する機能を有する。
バリア層については、例えば、特開２０１４−１５９１２４号公報の［００１４］〜［００５４］段落、特開２０１７−１２１７２１号公報の［００４２］〜［００７５］段落、特開２０１７−１１５０７６号公報の［００４５］〜［００５４］段落、特開２０１２−２１３９３８号公報の［００１０］〜［００６１］段落、特開２００５−１６９９９４号公報の［００２１］〜［００３１］段落の記載を参照できる。特開２０１６−１５５２５５号公報に記載されているような、アルミニウム化合物とリン化合物の反応生成物からなる層も好ましい。
【０１０９】
［接着剤層］
本発明の光学積層体を構成する各層の積層には、任意の適切な接着剤層または後述する粘着剤層を用いることが可能である。
【０１１０】
接着剤層を構成する接着剤としては、任意の適切な形態の接着剤が採用され得る。具体例としては、水性接着剤、溶剤型接着剤、エマルション系接着剤、無溶剤型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、熱硬化型接着剤が挙げられる。活性エネルギー線硬化型接着剤としては、電子線硬化型接着剤、紫外線硬化型接着剤、可視光線硬化型接着剤が挙げられる。水性接着剤および活性エネルギー線硬化型接着剤が好適に用いられ得る。水性接着剤の具体例としては、イソシアネート系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤（ＰＶＡ系接着剤）、ゼラチン系接着剤、ビニル系ラテックス系、水系ポリウレタン、水系ポリエステルが挙げられる。活性エネルギー線硬化型接着剤の具体例としては、（メタ）アクリレート系接着剤が挙げられる。なお、（メタ）アクリレートとは、アクリレートおよび／またはメタクリレートを意味する。（メタ）アクリレート系接着剤における硬化性成分としては、例えば、（メタ）アクリロイル基を有する化合物、ビニル基を有する化合物が挙げられる。また、カチオン重合硬化型接着剤としてエポキシ基やオキセタニル基を有する化合物も使用することができる。エポキシ基を有する化合物は、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有するものであれば特に限定されず、一般に知られている各種の硬化性エポキシ化合物を用いることができる。好ましいエポキシ化合物として、分子内に少なくとも２個のエポキシ基と少なくとも１個の芳香環を有する化合物（芳香族系エポキシ化合物）や、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有し、そのうちの少なくとも１個は脂環式環を構成する隣り合う２個の炭素原子との間で形成されている化合物（脂環式エポキシ化合物）等が例として挙げられる。
【０１１１】
接着剤層の貯蔵弾性率は、７０℃以下の領域で好ましくは１．０×１０６Ｐａ以上であり、より好ましくは１．０×１０７Ｐａ以上である。接着剤層の貯蔵弾性率の上限は、例えば１．０×１０１０Ｐａである。
【０１１２】
接着剤層の厚みは、代表的には０．０１μｍ〜７μｍであり、好ましくは０．０１μｍ〜５μｍである。
【０１１３】
活性エネルギー線硬化型接着剤では、開始剤や光増感剤の選択も重要であり、具体例としては、（メタ）アクリレート系接着剤は特開２０１８−１７９９６号公報の実施例に記載されており、カチオン重合硬化型接着剤としては、特開２０１８−３５３６１号公報、特開２０１８−４１０７９号公報の記載を参考に作成することができる。
【０１１４】
本発明の態様の一つである表示装置においては、内部反射を抑制することも重要であり、接着剤層でインデックスマッチングを行うことも好ましい。例えば、特開２０１８−１７９９６号公報においては、屈折率が１．５２〜１．６４の接着剤の具体例が記載されている。
【０１１５】
〔粘着層〕
本発明の光学積層体では、各層の積層のために、粘着層を有していてもよい。
粘着層に含まれる粘着剤としては、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤等が挙げられる。
これらのうち、透明性、耐候性、耐熱性などの観点から、アクリル系粘着剤（感圧粘着剤）であるのが好ましい。
【０１１６】
前記アクリル系粘着剤としては、エステル部分のアルキル基がメチル基、エチル基またはブチル基等の炭素数が２０以下のアルキル基である（メタ）アクリレート（以下、アクリレート、メタクリレートを総称して（メタ）アクリレート、アクリル酸とメタクリル酸とを総称して（メタ）アクリル酸ということがある。）と、（メタ）アクリル酸やヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の官能基を有する（メタ）アクリル系モノマーとの共重合体が好ましい。
このような共重合体を含む粘着剤は、粘着性に優れており、また、表示装置に貼合した後に、剥離する際も、表示装置に糊残り等を生じさせることなく、比較的容易に剥離することが可能であるため好ましい。当該アクリル系ポリマーのガラス転移温度は、２５℃以下が好ましく、０℃以下がより好ましい。このようなアクリル系ポリマーの重量平均分子量は、１０万以上であることが好ましい。
【０１１７】
本発明においては、任意の粘着層の厚みは特に限定されないが、３μｍ〜５０μｍであることが好ましく、４μｍ〜４０μｍであることがより好ましく、５μｍ〜３０μｍであることが更に好ましい。
【０１１８】
粘着剤層の貯蔵弾性率（Ｇ’）は、２５℃において、好ましくは０．０１ＭＰａ〜１．００ＭＰａであり、より好ましくは０．０５ＭＰａ〜０．５０ＭＰａである。粘着剤層の貯蔵弾性率がこのような範囲であれば、非常に優れた屈曲性を有する光学積層体が得られ得る。結果として、屈曲可能または折りたたみ可能な表示装置を実現することができる。
【０１１９】
粘着剤の作成方法については、特許第６１２３５６３号公報の実施例１や特開２０１７−１６５９４１号公報の比較例３等が挙げられる。また、特開２０１７−１６５９４１号公報の実施例１のように、粘着剤層に色素化合物を添加することも可能であり、劣化防止や発光素子の色相調整を行うこともできる。また、特開２０１６−１０５１６６号公報のように粘着剤に水分や酸素に対するバリア機能を付与することも好ましい。
【０１２０】
［その他機能層］
機能層としては、反射防止層、防眩層、およびハードコート層からなる群から選択される少なくとも１つが挙げられる。これらは公知の層材料が使用される。なお、これらの層は、複数層が積層してもよい。
【０１２１】
反射防止層は、上述の本発明の光学フィルムと偏光板から構成されるいわゆる円偏光板の反射防止板とは異なり、光の干渉を用いた構造により反射を低下させる構造体を指す。反射防止層は、最も単純な構成として、低屈折率層のみからなる構成であってもよい。更に反射率を低下させるには、屈折率の高い高屈折率層と、屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて反射防止層を構成することが好ましい。構成例としては、下側から順に、高屈折率層／低屈折率層の２層のものや、屈折率の異なる３層を、中屈折率層（下層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層上に、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順に有することが好ましく、例えば、特開平８−１２２５０４号公報、特開平８−１１０４０１号公報、特開平１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等に記載の構成が挙げられる。また、膜厚変動に対するロバスト性に優れる３層構成の反射防止フィルムは特開２００８−２６２１８７号公報記載されている。上記３層構成の反射防止フィルムは、画像表示装置の表面に設置した場合、反射率の平均値を０．５％以下とすることができ、映り込みを著しく低減することができ、立体感に優れる画像を得ることができる。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層、帯電防止性のハードコート層、防眩性のハードコート層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２００７−２６４１１３号公報等）等が挙げられる。
また、ＷＯ２０１８／０２５８１８号公報に記載のように、いわゆるモスアイ構造を有する反射防止フイルムも好ましく用いられる。
【０１２２】
［表示装置］
本発明の表示装置は、上述した本発明の偏光放射性膜および光学積層体を有するものであれば、特に限定されない。
好ましい態様の一つは、車内のフロントガラスや室内のガラスを透明表示体とするものである。励起光が紫外波長領域で蛍光が可視光波長領域にある蛍光二色性色素化合物を含有する偏光放射性膜にλ／４層を加えた本発明の光学積層体を透明なガラス等に貼りつけた表示体に対し、マッピングされた紫外の円偏光を照射することで可視光の円偏光発光で表示をする表示装置を作成できる。発光強度が強く視認性が高いこと、表示体が可視光吸収を持たないため非常に透明度が高いこと、入射光が円偏光なので入射光の制御が容易であること、発光が円偏光なので偏光サングラス適性があること等の特徴のある表示装置となる。
【０１２３】
［加飾部材］
本発明の加飾部材は、上述した本発明の偏光放射性膜および光学積層体を有するものであれば、特に限定されない。
好ましい態様の一つは、特殊な視覚効果の得られる加飾部材である。蛍光二色性色素化合物を含有する偏光放射性膜にλ／４層を加えた本発明の光学積層体を基材に貼りつけた加飾部材に対し、マッピングされた紫外の円偏光を照射することで可視光の円偏光発光を制御できる。この加飾部材を円偏光メガネで観察することでさらに特殊な視覚効果が得られる。発光強度が高く視認性が高いこと、入射光が円偏光なので入射光の制御が容易であること等の特徴のある加飾部材となる。
【０１２４】
［３次元曲面を有する立体表示装置もしくは立体加飾部材］
本発明の３次元曲面を有する立体表示装置もしくは立体加飾部材は、上述した本発明の偏光放射性膜および光学積層体を有するものであれば、特に限定されない。また、作成方法についても限定されない。フイルム基材に積層した本発明の光学積層体をフイルムごと立体部材表面に貼りつける方法や転写する方法も形状によっては好ましいが、光配向膜、本発明の偏光放射性膜、λ／４層などをスプレー塗布やインクジェットにて立体部材表面に積層させる方法がさらに好ましい。
好ましい態様の一つは、半球状の透明部材に対して、光配向膜、本発明の偏光放射性膜、光配向膜、λ／４層の順にスプレー塗布にて立体部材表面に積層させて作成した表示体に対し、紫外の円偏光を照射することで可視光の円偏光発光で表示する立体表示装置を作成できる。デザインの自由度が高いことは大きな特徴となる。
【実施例】
【０１２５】
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０１２６】
［作成例１］
＜透明支持体１の作製＞
厚み４０μｍのＴＡＣ基材（ＴＧ４０、富士フイルム社製）上に、下記の組成の配向膜塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。その後、１００℃の温風で２分間乾燥することにより、ＴＡＣ基材上に厚み０．８μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）配向膜が形成された透明支持体１が得られた。
なお、変性ポリビニルアルコールは、固形分濃度が４ｗｔ％となるように配向膜塗布液中に加えた。
――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール
水  ７０質量部
メタノール  ３０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１２７】
変性ポリビニルアルコール
【化１６】
2019203933.tif 000021
【０１２８】
＜光配向膜１の形成＞
下記構造の光配向材料Ｅ−１の１質量部に、ブトキシエタノール４１．６質量部、ジプロピレングリコールモノメチル４１．６質量部、および、純水１５．８質量部を加え、得られた溶液を０．４５μｍメンブレンフィルターで加圧ろ過することで配向膜形成用組成物１を調製した。
次いで、得られた配向膜形成用組成物１を透明支持体１上に塗布し、６０℃で１分間乾燥した。その後、得られた塗布膜に、偏光紫外線露光装置を用いて直線偏光紫外線（照度４．５ｍＷ、照射量５００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、厚み０．０３μｍの光配向膜１（下記表１中、アゾ（Ｅ−１）と記した。）を作製した。
【０１２９】
【化１７】
2019203933.tif 000022
【０１３０】
＜偏光放射性膜１の形成＞
得られた光配向膜１上に、下記の液晶組成物１（下記表１においては「組成物１」と略す。）を＃４のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜１を形成した。
次いで、塗布膜１を１４０℃で９０秒間加熱し、塗布膜１を室温（２３℃）になるまで冷却した。次いで、７０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却して、光配向膜１上に偏光放射性膜１を作製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
蛍光二色性色素Ｄ１
1,4-ビス[4-(ジ-p-トリルアミノ)スチリル]ベンゼン         ６質量部
下記高分子液晶性化合物Ｐ−１                          ９３質量部
下記界面改良剤Ｆ−１                                    １質量部
シクロペンタノン                                    ７８３質量部
テトラヒドロフラン                                    ７８３量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１３１】
（蛍光二色性色素Ｄ１）
1,4-ビス[4-(ジ-p-トリルアミノ)スチリル]ベンゼン  （東京化成社製）
【化１８】
2019203933.tif 000023
【０１３２】
高分子液晶性化合物Ｐ−１（重量平均分子量１３０００、結晶化温度７０℃）
【化１９】
2019203933.tif 000024
【０１３３】
界面改良剤Ｆ−１
【化２０】
2019203933.tif 000025
【０１３４】
前記偏光放射性膜上に、下記酸素遮断層形成用組成物２を＃５のワイヤーバーで連続的に塗布し、６０℃で５分間乾燥を行うことで、偏光放射性膜上に酸素遮断層が形成された光学積層体１を作製した。
【０１３５】
―――――――――――――――――――――――――――――――――
酸素遮断層形成用組成物１
―――――――――――――――――――――――――――――――――
化合物ＢＡ−１（下記）                                  ２９質量部
重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）          １質量部
エタノール                                              ７０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１３６】
（化合物ＢＡ−１）
【化２１】
2019203933.tif 000026
【０１３７】
［作成例２］
＜偏光放射性膜２の形成＞
作成例１と同様にして得られた光配向膜１上に、下記の液晶組成物２（下記表１においては「組成物２」と略す。）を＃４のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜２を形成した。
次いで、塗布膜２を１４０℃で９０秒間加熱し、塗布膜２を室温（２３℃）になるまで冷却した。次いで、７０℃で６０秒間加熱し、再び室温になるまで冷却した。
その後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ２の照射条件で６０秒間照射することにより、光配向膜１上に厚み０．６μｍの偏光放射性膜２を作製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物２の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
蛍光二色性色素
1,4-ビス[4-(ジ-p-トリルアミノ)スチリル]ベンゼン         ６質量部
下記高分子液晶性化合物Ｐ−２                      ９２．２質量部
重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）    ０．８質量部
前記界面改良剤Ｆ−１                                    １質量部
シクロペンタノン                                    ７８３質量部
テトラヒドロフラン                                    ７８３量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１３８】
高分子液晶性化合物Ｐ−２（重量平均分子量１７０００、結晶化温度６３℃）
【化２２】
2019203933.tif 000027
【０１３９】
前記偏光放射性膜上に、作成例１と同様にして、前記酸素遮断層形成用組成物１を＃５のワイヤーバーで連続的に塗布し、６０℃で５分間乾燥を行うことで、偏光放射性膜上に酸素遮断層が形成された光学積層体２を作製した。この光学積層体２の吸収波長（励起波長）中心は４００ｎｍであり、蛍光発光中心は５００ｎｍであった。
【０１４０】
［作成例３］
＜光配向膜２の形成＞
下記の光配向膜用塗布液Ｅ２を作成例１の透明支持体１上に塗布し、６０℃で２分間乾燥した。その後、得られた塗布膜に、偏光紫外線露光装置を用いて直線偏光紫外線（照度４．５ｍＷ、照射量５００ｍＪ／ｃｍ２）を照射し、厚み０．０３μｍの光配向層２を作製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向膜形成用組成液Ｅ２
――――――――――――――――――――――――――――――――
・光配向材料Ｅ−２  （下記）                        ２．０質量部
・１，１，２−トリクロロエタン                    ９８．０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１４１】
光配向材料Ｅ−２（平均分子量；４８０００）
【化２３】
2019203933.tif 000028
【０１４２】
＜偏光放射性膜３の形成＞
光配向膜２上に、下記の液晶組成物３（下記表１においては「組成物３」と略す。）を＃４のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜３を形成した。
次いで、塗布膜３を１４０℃で９０秒間加熱し、塗布膜３を４０℃になるまで冷却した後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ2の照射条件で６０秒間照射することにより、光配向膜２上に偏光放射性膜３を作製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物３の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
蛍光二色性色素
1,4-ビス[4-(ジ-p-トリルアミノ)スチリル]ベンゼン         ３質量部
下記低分子液晶化合物Ｐ−３                        ９５．２質量部
重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）    ０．８質量部
前記界面改良剤Ｆ−１                                    １質量部
シクロペンタノン                                    ７８３質量部
テトラヒドロフラン                                    ７８３量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１４３】
低分子液晶化合物Ｐ−３（化合物Ａ／化合物Ｂ＝７５／２５で混合）
【０１４４】
化合物Ａ
【化２４】
2019203933.tif 000029
【０１４５】
化合物Ｂ
【化２５】
2019203933.tif 000030
【０１４６】
＜相転移温度＞
ここで、低分子液晶化合物Ｐ−３の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって確認した。
１４０℃まで昇温後、降温時において、１０８℃でネマチック相に相転移し、１０1℃でスメクチックＡ相に相転移し、７６℃でスメクチックＢ相へ相転移し、４０℃でもスメクチックＢ相で配向していることを確認した。つまり、偏光放射性膜３は、スメクチックＢ相を示すことが分かった。
【０１４７】
前記偏光放射性膜上に、作成例１と同様にして、前記酸素遮断層形成用組成物１を＃５のワイヤーバーで連続的に塗布し、６０℃で５分間乾燥を行うことで、偏光放射性膜上に酸素遮断層が形成された光学積層体２を作製した。
【０１４８】
［作成例４］
＜偏光放射性膜４の形成＞
作成例３と同様にして得られた光配向膜２上に、下記の液晶組成物４（下記表１においては「組成物４」と略す。）を＃４のワイヤーバーで連続的に塗布し、塗布膜４を形成した。
次いで、塗布膜４を１４０℃で９０秒間加熱し、塗布膜３を４０℃になるまで冷却した後、高圧水銀灯を用いて照度２８ｍＷ／ｃｍ2の照射条件で６０秒間照射することにより、光配向膜２上に偏光放射性膜４を作製した。
【０１４９】
――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶組成物４の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――
蛍光二色性色素
1,4-ビス[4-(ジ-p-トリルアミノ)スチリル]ベンゼン         ３質量部
低分子液晶化合物  ＬＣ２４２（ＢＡＳＦ社製）      ９５．２質量部
重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９（ＢＡＳＦ社製）    ０．８質量部
前記界面改良剤Ｆ−１                                    １質量部
シクロペンタノン                                    ７８３質量部
テトラヒドロフラン                                    ７８３量部
――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１５０】
低分子液晶化合物ＬＣ２４２（ＢＡＳＦ社製）
【化２６】
2019203933.tif 000031
【０１５１】
＜相転移温度＞
ここで、液晶化合物ＬＣ２４２の相転移温度を偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって確認した。
１４０℃まで昇温後、降温時において、１１８℃でネマチック相に相転移し、４０℃においてもネマチック相で配向していることを確認した。つまり、偏光放射性膜４は、ネマチック相を示すことが分かった。
【０１５２】
前記偏光放射性膜４上に、作成例１と同様にして、前記酸素遮断層形成用組成物１を＃５のワイヤーバーで連続的に塗布し、６０℃で５分間乾燥を行うことで、偏光放射性膜４上に酸素遮断層が形成された光学積層体４を作製した。
【０１５３】
［作成例５〜１１］
作成例１〜４と同様にして、下記の表１に示すように液晶に対する蛍光二色性色素の重量比の異なる作成例５〜１１を作製した。なお、色素塗布量は合わせるように調整した。
【０１５４】
［作成例１〜１１の評価］
＜配向度の評価＞
光学顕微鏡（株式会社ニコン製、製品名「ＥＣＬＩＰＳＥ  Ｅ６００  ＰＯＬ」）の光源側に直線偏光子を挿入した状態で、サンプル台に作成例１〜４の各光学積層体をセットし、マルチチャンネル分光器（Ｏｃｅａｎ Ｏｐｔｉｃｓ社製、製品名「ＱＥ６５０００」）を用いて、３８０〜７００ｎｍの波長域における各光学積層体の吸光度を測定し、以下の式により配向度を算出した。結果を下記表１に示す。
配向度：Ｓ＝［（Ａｚ０／Ａｙ０）−１］／［（Ａｚ０／Ａｙ０）＋２］
Ａｚ０：光学積層体の吸収軸方向の偏光に対する吸光度
Ａｙ０：光学積層体の偏光軸方向の偏光に対する吸光度
【０１５５】
評価基準
Ａ：配向度０．８０以上
Ｂ：配向度０．７０以上０．８０未満
Ｃ：配向度０．７０未満
【０１５６】
評価結果を、表１に示す。
【表１】
2019203933.tif 000032
【０１５７】
本発明の作成例１〜３および５〜１１は、比較の作成例４に対して配向度が高いことがわかった。また、４００ｎｍの紫外偏光を積層体の吸収軸に入射したときの発光強度が比較の作成例４に対して高いことを確認した。
【０１５８】
＜作成例１２の作成と評価＞
作成例２と同様にして、蛍光二色性色素Ｄ１を下記のＤ２、Ｄ４、Ｄ７に変更して配向度を確認したが、全て０．７以上になることを確認した。
【０１５９】
（蛍光二色性色素Ｄ２）
4,4'-ビス[4-(ジ-p-トリルアミノ)スチリル]ビフェニル(東京化成社製)
【化２７】
2019203933.tif 000033
【０１６０】
（蛍光二色性色素Ｄ7）
1,4-ビス(2-メチルスチリル)ベンゼン
【化２８】
2019203933.tif 000034
【０１６１】
（蛍光二色性色素Ｄ４）
Coumarin 545
【化２９】
2019203933.tif 000035
【０１６２】
［作成例１２］
〔λ/４位相差フィルム１の作製〕
＜光配向層用組成物３の調製＞
（重合体Ｊ−１の合成）
撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン１００．０質量部、メチルイソブチルケトン５００質量部、および、トリエチルアミン１０．０質量部を仕込み、室温で混合物を撹拌した。次に、脱イオン水１００質量部を滴下漏斗より３０分かけて得られた混合物に滴下した後、還流下で混合物を混合しつつ、８０℃で６時間反応させた。反応終了後、有機相を取り出し、０．２質量％硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで有機相を洗浄した。その後、得られた有機相から減圧下で溶媒および水を留去し、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。
このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンについて、１Ｈ−ＮＭＲ（Nuclear Magnetic Resonance）分析を行ったところ、化学シフト（δ）＝３．２ｐｐｍ付近にオキシラニル基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Ｍｗは２，２００、エポキシ当量は１８６ｇ／モルであった。
次に、１００ｍＬの三口フラスコに、上記で得たエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン１０．１質量部、アクリル基含有カルボン酸（東亜合成株式会社、商品名「アロニックスＭ−５３００」、アクリル酸ω−カルボキシポリカプロラクトン（重合度ｎ≒２））０．５質量部、酢酸ブチル２０質量部、特開２０１５−２６０５０号公報の合成例１の方法で得られた桂皮酸誘導体１．５質量部、および、テトラブチルアンモニウムブロミド０．３質量部を仕込み、得られた混合物を９０℃で１２時間撹拌した。撹拌後、得られた混合物と等量（質量）の酢酸ブチルで混合物を希釈し、さらに希釈された混合物を３回水洗した。得られた混合物を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を２回繰り返し、最終的に、光配向性基を有するポリオルガノシロキサン（下記重合体Ｅ−２）を含む溶液を得た。この重合体Ｊ−１の重量平均分子量Ｍｗは９，０００であった。また、１Ｈ−ＮＭＲ分析の結果、重合体Ｊ−１中のシンナメート基を有する成分は２３．７質量％であった。
【０１６３】
重合体J−１
【化３０】
2019203933.tif 000036
【０１６４】
（光配向層形成用組成物３の調製）
以下の成分を混合して、配向層形成用組成物３を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記重合体J−１                                １０．６７質量部
・下記低分子化合物Ｒ−１                            ５．１７質量部
・下記添加剤（Ｂ−１）                              ０．５３質量部
・酢酸ブチル                                  ８２８７．３７質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
２０７１．８５質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１６５】
【化３１】
2019203933.tif 000037
【０１６６】
添加剤（Ｂ−１）：サンアプロ社製ＴＡ−６０Ｂ（以下、構造式参照）
【化３２】
2019203933.tif 000038
【０１６７】
＜光学異方性層用塗布液の調製＞
下記組成の光学異方性層用塗布液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶性化合物Ｌ−３                          ４２．００質量部
・下記液晶性化合物Ｌ−４                          ４２．００質量部
・下記重合性化合物Ａ−１                          １６．００質量部
・下記低分子化合物Ｂ−２                            ６．００質量部
・下記重合開始剤Ｓ−１（オキシム型）                ０．５０質量部
・下記レベリング剤Ｇ−１                            ０．２０質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製）            ２．００質量部
・ＮＫエステルＡ−２００（新中村化学工業社製）      １．００質量部
・メチルエチルケトン                              ４２４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
なお、下記液晶性化合物Ｌ−３およびＬ−４のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、下記液晶性化合物Ｌ−３およびＬ−４は、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。
【０１６８】
【化３３】
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【０１６９】
〔セルロースアシレートフィルム１の作製〕
（コア層セルロースアシレートドープの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、撹拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
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コア層セルロースアシレートドープ
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・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート        １００質量部
・特開２０１５−２２７９５５号公報の実施例に
記載されたポリエステル化合物Ｂ                          １２質量部
・下記化合物Ｆ                                            ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                      ４３０質量部
・メタノール（第２溶剤）                                ６４質量部
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【０１７０】
化合物Ｆ
【化３４】
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【０１７１】
（外層セルロースアシレートドープの作製）
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
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マット剤溶液
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・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）       ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                        ７６質量部
・メタノール（第２溶剤）                                １１質量部
・上記のコア層セルロースアシレートドープ                  １質量部
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【０１７２】
（セルロースアシレートフィルム１の作製）
上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープを平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した（バンド流延機）。
次いで、溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、厚み４０μｍの光学フィルムを作製し、これをセルロースアシレートフィルム１とした。得られたセルロースアシレートフィルム１の４００ｎｍ〜５５０ｎｍにおける面内レターデーションはほぼ０ｎｍであった。
【０１７３】
〔λ/４位相差フィルム１の作製〕
作製したセルロースアシレートフィルム１の片側の面に、先に調製した光配向層用組成物３をバーコーターで塗布した。
塗布後、１２０℃のホットプレート上で１分間乾燥して溶剤を除去し、厚さ０．３μｍの光異性化組成物層を形成した。
得られた光異性化組成物層を偏光紫外線照射（１０ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向層を形成した。
次いで、光配向層上に、先に調製した光学異方性層用塗布液をバーコーターで塗布し、組成物層を形成した。
形成した組成物層をホットプレート上でいったん１１０℃まで加熱した後、６０℃に冷却させて配向を安定化させた。
その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（５００ｍＪ／ｃｍ２、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ２．１μｍの光学異方性層を形成し、λ／４位相差フィルム１を作製した。得られた光学積層体の４００ｎｍにおける面内レターデーションは１０３ｎｍであった。また、５００ｎｍにおける面内レターデーションは１２０ｎｍであった。
【０１７４】
〔作成例１２の積層体の作成と評価〕
作成例２の積層体のバリア層上に、上記λ/４位相差フィルム１を粘着剤で貼りつけて作成例１２の積層体を作製した。
ここで、左右の円偏光を判別するために、右円偏光フィルターと左円偏光フィルターからなる３Ｄ観察用のパッシブ方式３Ｄメガネを準備した。
左あるいは右どちらかの円偏光（４００ｎｍ）を照射した場合のみ、前記メガネの片側で強い発光が観察できることを確認した。
【符号の説明】
【０１７５】
１０、２０光学積層体
１２  基材
１４  光配向膜
１６  偏光放射性膜
１８  λ／４層
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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