(57)【要約】【課題】不必要な部位へのＸ線照射を抑制しつつ、側面頭部Ｘ線規格撮影を行えるようにすることを目的とする。【解決手段】Ｘ線撮影装置は、側面頭部Ｘ線規格撮影を行う。Ｘ線撮影装置は、Ｘ線発生器を含むＸ線発生部と、Ｘ線検出器を含むＸ線検出部と、Ｘ線発生器とＸ線検出器とを対向状態で支持する支持部とを備える。側面頭部Ｘ線規格撮影中においてＸ線発生器から照射されて頭部を通過してＸ線検出器に入射するＸ線の照射領域Ｈの下側縁ＨＥの頭部後方側ＨＥ１が、下側縁ＨＥの頭部前方側ＨＥ２よりも高く配置される。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
側面頭部Ｘ線規格撮影を行うＸ線撮影装置であって、
Ｘ線発生器を含むＸ線発生部と、
Ｘ線検出器を含むＸ線検出部と、
前記Ｘ線発生器と前記Ｘ線検出器とを対向状態で支持する支持部と、
を備え、
側面頭部Ｘ線規格撮影中において前記Ｘ線発生器から照射されて頭部を通過して前記Ｘ線検出器に入射するＸ線の照射領域の下側縁の頭部後方側が、前記下側縁の頭部前方側よりも高く配置される、Ｘ線撮影装置。
【請求項２】
請求項１に記載のＸ線撮影装置であって、
前記Ｘ線検出器に入射するＸ線の照射領域の前記下側縁が水平方向に対して傾斜している、Ｘ線撮影装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載のＸ線撮影装置であって、
前記Ｘ線検出部は、前記Ｘ線検出器が組込まれた外装を含み、
前記支持部は、前記Ｘ線検出器が前記Ｘ線発生部に対して対向し、かつ、側面頭部Ｘ線規格撮影中における前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁の頭部後方側が、前記下側縁の頭部前方側よりも高く位置するように、前記Ｘ線検出部を支持するＸ線検出器側支持部を含む、Ｘ線撮影装置。
【請求項４】
請求項３に記載のＸ線撮影装置であって、
前記Ｘ線検出器側支持部が、前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁が水平方向に対して傾斜するように前記Ｘ線検出部を支持する、Ｘ線撮影装置。
【請求項５】
請求項４記載のＸ線撮影装置であって、
被写体の頭部を保持する頭部保持具をさらに備え、
側面頭部Ｘ線規格撮影中における前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁が、前記頭部保持具によって保持される前記頭部の姿勢を基準として前記頭部の前方に向けて下向き傾斜する、Ｘ線撮影装置。
【請求項６】
請求項５記載のＸ線撮影装置であって、
側面頭部Ｘ線規格撮影中における前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁が、前記頭部が前記頭部保持具によって保持される前記被写体の肩上を通過し、かつ、側面頭部Ｘ線規格撮影中における前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁の最下端部が、前記頭部の前方側で前記肩の最上部よりも下方に配設される、Ｘ線撮影装置。
【請求項７】
請求項４から請求項６のいずれか１つに記載のＸ線撮影装置であって、
側面頭部Ｘ線規格撮影中における前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁の傾斜角度及び前記Ｘ線検出器の出力に基づいて、前記頭部の下顎底が水平方向に対して傾斜した状態で写り込んだ側面頭部Ｘ線規格画像を生成する画像処理部をさらに備える、Ｘ線撮影装置。
【請求項８】
請求項７に記載のＸ線撮影装置であって、
前記画像処理部が、下側縁が前記下顎底に沿った側面頭部Ｘ線規格画像を前記側面頭部Ｘ線規格画像として生成する、Ｘ線撮影装置。
【請求項９】
請求項４から請求項８のいずれか１つに記載のＸ線撮影装置であって、
前記Ｘ線検出器が長尺状のＸ線検出面を有し、
前記Ｘ線検出器側支持部は、側面頭部Ｘ線規格撮影中における前記Ｘ線検出部の移動領域の下側縁が水平方向に対して傾斜するように、前記Ｘ線検出面の延在方向に対して交差する方向に前記Ｘ線検出部を移動させるＸ線検出部側移動機構を含む、Ｘ線撮影装置。
【請求項１０】
請求項９に記載のＸ線撮影装置であって、
長尺状のスリットが形成され、前記Ｘ線発生器と前記Ｘ線検出器との間であって前記Ｘ線検出器に対して前記頭部を挟んで反対側の位置で前記Ｘ線発生器から照射されるＸ線の形状を規制する照射野規制部をさらに備え、
前記Ｘ線検出部側移動機構は、前記照射野規制部を前記Ｘ線検出部の移動方向と同方向に移動させる、Ｘ線撮影装置。
【請求項１１】
請求項９又は請求項１０に記載のＸ線撮影装置であって、
前記Ｘ線検出部側移動機構は、前記Ｘ線検出部を前記Ｘ線検出面の延在方向に対して直交する方向に移動させる走査方向移動機構と、前記走査方向移動機構を水平方向に対して傾けた姿勢で支持することで前記Ｘ線検出部を傾斜支持する傾斜支持部とを含む、Ｘ線撮影装置。
【請求項１２】
請求項９又は請求項１０に記載のＸ線撮影装置であって、
前記Ｘ線検出部側移動機構は、前記Ｘ線検出部を前記Ｘ線検出面の延在方向に対して直交する方向に移動させる走査方向移動機構と、前記走査方向移動機構による前記Ｘ線検出部の移動と同期して前記Ｘ線検出部を前記Ｘ線検出面の延在方向に沿った方向に移動させる傾斜用移動機構とを含む、Ｘ線撮影装置。
【請求項１３】
請求項４から請求項８のいずれか１つに記載のＸ線撮影装置であって、
前記Ｘ線検出器が矩形状のＸ線検出面を有し、
前記Ｘ線検出器側支持部は、側面頭部Ｘ線規格撮影中における前記Ｘ線検出部の下側縁が水平方向に対して傾斜するように、前記Ｘ線検出部を支持する傾斜支持部を含む、Ｘ線撮影装置。
【請求項１４】
請求項４から請求項１３のいずれか１つに記載のＸ線撮影装置であって、
前記Ｘ線検出器側支持部は、前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁が水平方向に沿う水平状態と、前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁が水平方向に対して傾斜する傾斜状態との間で、状態変更可能に前記Ｘ線検出部を支持する、Ｘ線撮影装置。
【請求項１５】
請求項１１又は請求項１３に記載のＸ線撮影装置であって、
前記傾斜支持部は、前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁が水平方向に沿う水平状態と、前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁が水平方向に対して傾斜する傾斜状態との間で、状態変更可能に前記Ｘ線検出部を支持し、
頭部保持具が、前記Ｘ線検出器側支持部に対して、姿勢変更可能に支持されている、Ｘ線撮影装置。
【請求項１６】
請求項１４又は請求項１５に記載のＸ線撮影装置であって、
前記Ｘ線検出器側支持部は、前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁が水平方向に対して傾斜する角度が異なる複数の傾斜状態の間でも、状態変更可能に前記Ｘ線検出部を支持する、Ｘ線撮影装置。
【請求項１７】
請求項１から請求項１６に記載のＸ線撮影装置であって、
前記Ｘ線発生部は、前記Ｘ線発生器から照射されるＸ線ビームの形状を調整するＸ線ビーム形状調整部を含み、
前記Ｘ線ビーム形状調整部のうちＸ線ビームの通過を規制する下側縁が、側面頭部Ｘ線規格撮影中において水平方向に対して傾斜する、Ｘ線撮影装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、被写体の頭部をＸ線撮影する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１は、扇形ビームを、上から下へ、あるいは、左から右へ走査して、セファロ撮影を行う技術を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−９７８４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、扇形ビームを、上から下へ、あるいは、左から右へ走査して、セファロ撮影を行うと、セファロ画像において不必要な部位にもＸ線が照射してしまう。
【０００５】
例えば、側面頭部Ｘ線規格撮影を行う場合、側面頭部Ｘ線規格画像には、頭部の下顎（オトガイ）が含まれていることが好ましい。この下顎は、頭部において、前側下方に位置する。このため、扇形ビームを、上から下へ、あるいは、左から右へ走査して、下顎を含むようにセファロ撮影を行うと、側面頭部Ｘ線規格撮影において不必要な部分、例えば、甲状腺等にもＸ線が照射されてしまう。
【０００６】
そこで、本発明は、不必要な部位へのＸ線照射を抑制しつつ、側面頭部Ｘ線規格撮影を行えるようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため、第１の態様は、側面頭部Ｘ線規格撮影を行うＸ線撮影装置であって、Ｘ線発生器を含むＸ線発生部と、Ｘ線検出器を含むＸ線検出部と、前記Ｘ線発生器と前記Ｘ線検出器とを対向状態で支持する支持部と、を備え、側面頭部Ｘ線規格撮影中において前記Ｘ線発生器から照射されて頭部を通過して前記Ｘ線検出器に入射するＸ線の照射領域の下側縁の頭部後方側が、前記下側縁の頭部前方側よりも高く配置されている。
【０００８】
第２の態様は、第１の態様に係るＸ線撮影装置であって、前記Ｘ線検出器に入射するＸ線の照射領域の下側縁が水平方向に対して傾斜しているものである。
【０００９】
第３の態様は、第１又は第２の態様に係るＸ線撮影装置であって、前記Ｘ線検出部は、前記Ｘ線検出器が組込まれた外装を含み、前記支持部は、前記Ｘ線検出器が前記Ｘ線発生部に対して対向し、かつ、側面頭部Ｘ線規格撮影中における前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁の頭部後方側が、前記下側縁の頭部前方側よりも高く位置するように、前記Ｘ線検出部を支持するＸ線検出器側支持部を含む。
【００１０】
第４の態様は、第３の態様に係るＸ線撮影装置であって、前記Ｘ線検出器側支持部が、前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁が水平方向に対して傾斜するように前記Ｘ線検出部を支持するものである。
【００１１】
第５の態様は、第４の態様に係るＸ線撮影装置であって、被写体の頭部を保持する頭部保持具をさらに備え、側面頭部Ｘ線規格撮影中における前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁が、前記頭部保持具によって保持される前記頭部の姿勢を基準として前記頭部の前方に向けて下向き傾斜するものである。
【００１２】
第６の態様は、第５の態様に係るＸ線撮影装置であって、側面頭部Ｘ線規格撮影中における前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁が、前記頭部が前記頭部保持具によって保持される前記被写体の肩上を通過し、かつ、側面頭部Ｘ線規格撮影中における前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁の最下端部が、前記頭部の前方側で前記肩の最上部よりも下方に配設されるものである。
【００１３】
第７の態様は、第４から第６のいずれか１つの態様に係るＸ線撮影装置であって、側面頭部Ｘ線規格撮影中における前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁の傾斜角度及び前記Ｘ線検出器の出力に基づいて、前記頭部の下顎底が水平方向に対して傾斜した状態で写り込んだ側面頭部Ｘ線規格画像を生成する画像処理部をさらに備える。
【００１４】
第８の態様は、第７の態様に係るＸ線撮影装置であって、前記画像処理部が、下側縁が前記下顎底に沿った側面頭部Ｘ線規格画像を前記側面頭部Ｘ線規格画像として生成するものである。
【００１５】
第９の態様は、第４から第８のいずれか１つの態様に係るＸ線撮影装置であって、前記Ｘ線検出器が長尺状のＸ線検出面を有し、前記Ｘ線検出器側支持部は、側面頭部Ｘ線規格撮影中における前記Ｘ線検出部の移動領域の下側縁が水平方向に対して傾斜するように、前記Ｘ線検出面の延在方向に対して交差する方向に前記Ｘ線検出部を移動させるＸ線検出部側移動機構を含む。
【００１６】
第１０の態様は、第９の態様に係るＸ線撮影装置であって、長尺状のスリットが形成され、前記Ｘ線発生器と前記Ｘ線検出器との間であって前記Ｘ線検出器に対して前記頭部を挟んで反対側の位置で前記Ｘ線発生器から照射されるＸ線の形状を規制する照射野規制部をさらに備え、前記Ｘ線検出部側移動機構は、前記照射野規制部を前記Ｘ線検出部の移動方向と同方向に移動させるものである。
【００１７】
第１１の態様は、第９又は第１０の態様に係るＸ線撮影装置であって、前記Ｘ線検出部側移動機構は、前記Ｘ線検出部を前記Ｘ線検出面の延在方向に対して直交する方向に移動させる走査方向移動機構と、前記走査方向移動機構を水平方向に対して傾けた姿勢で支持することで前記Ｘ線検出部を傾斜支持する傾斜支持部とを含む。
【００１８】
第１２の態様は、第９又は第１０の態様に係るＸ線撮影装置であって、前記Ｘ線検出部側移動機構は、前記Ｘ線検出部を前記Ｘ線検出面の延在方向に対して直交する方向に移動させる走査方向移動機構と、前記走査方向移動機構による前記Ｘ線検出部の移動と同期して前記Ｘ線検出部を前記Ｘ線検出面の延在方向に沿った方向に移動させる傾斜用移動機構とを含む。
【００１９】
第１３の態様は、第４から第８のいずれか１つの態様に係るＸ線撮影装置であって、前記Ｘ線検出器が矩形状のＸ線検出面を有し、前記Ｘ線検出器側支持部は、側面頭部Ｘ線規格撮影中における前記Ｘ線検出部の下側縁が水平方向に対して傾斜するように、前記Ｘ線検出部を支持する傾斜支持部を含む。
【００２０】
第１４の態様は、第４から第１３のいずれか１つの態様に係るＸ線撮影装置であって、前記Ｘ線検出器側支持部は、前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁が水平方向に沿う水平状態と、前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁が水平方向に対して傾斜する傾斜状態との間で、状態変更可能に前記Ｘ線検出部を支持するものである。
【００２１】
第１５の態様は、第１１又は第１３の態様に係るＸ線撮影装置であって、前記傾斜支持部は、前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁が水平方向に沿う水平状態と、前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁が水平方向に対して傾斜する傾斜状態との間で、状態変更可能に前記Ｘ線検出部を支持し、頭部保持具が、前記Ｘ線検出器側支持部に対して、姿勢変更可能に支持されているものである。
【００２２】
第１６の態様は、第１４又は第１５の態様に係るＸ線撮影装置であって、前記Ｘ線検出器側支持部は、前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁が水平方向に対して傾斜する角度が異なる複数の傾斜状態の間でも、状態変更可能に前記Ｘ線検出部を支持するものである。
【００２３】
第１７の態様は、第１から第１６の態様に係るＸ線撮影装置であって、前記Ｘ線発生部は、前記Ｘ線発生器から照射されるＸ線ビームの形状を調整するＸ線ビーム形状調整部を含み、前記Ｘ線ビーム形状調整部のうちＸ線ビームの通過を規制する下側縁が、側面頭部Ｘ線規格撮影中において水平方向に対して傾斜するものである。
【発明の効果】
【００２４】
第１の態様によると、Ｘ線発生器から照射されて頭部を通過してＸ線検出器に入射するＸ線の照射領域の下側縁の頭部後方側が、前記下側縁の頭部前方側よりも高く配置されるため、不必要な部位へのＸ線照射を抑制しつつ、側面頭部Ｘ線規格撮影を行える。
【００２５】
第２の態様によると、Ｘ線の照射領域の下側縁を、頭部の下顎底に沿って傾斜させ易い。
【００２６】
第３の態様によると、側面頭部Ｘ線規格撮影中におけるＸ線検出部の存在領域の下側縁の頭部後方側が、前記下側縁の頭部前方側よりも高く位置している。このため、下顎については側面頭部Ｘ線規格撮影中におけるＸ線検出部の存在領域のうち下寄りの部分でＸ線撮影を行うことができる。また、側面頭部Ｘ線規格撮影中におけるＸ線検出部の存在領域の下側縁のうち最下端部よりも上側に位置する部分を患者の肩の上側に配置することで、患者の肩とＸ線検出部との接触を回避することができる。これにより、患者の肩とＸ線検出部との接触を回避しつつ、下顎を含む撮影領域をなるべく全体的に撮影できるようにすることを目的とする。
【００２７】
第４の態様によると、前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁を、頭部の下顎底に沿って傾斜させ易い。
【００２８】
第５の態様によると、側面頭部Ｘ線規格撮影中におけるＸ線検出部の存在領域の下側縁が、頭部保持具によって保持される頭部を基準として前方に向けて下向き傾斜するため、頭部保持具によって保持される頭部の下顎の撮影に適する。
【００２９】
第６の態様によると、側面頭部Ｘ線規格撮影中におけるＸ線検出部の存在領域の下側縁が、頭部が頭部保持具によって保持される前記被写体の肩上を通過するため、患者の肩とＸ線検出部との接触を回避することができる。また、側面頭部Ｘ線規格撮影中におけるＸ線検出部の存在領域の下側縁の最下端部が、頭部の前方側で肩の最上部よりも下方に配設されるため、下顎を撮影するのに適する。
【００３０】
第７の態様によると、画像処理部は、下顎底が傾斜する画像を生成するため、下顎を含む側面頭部Ｘ線規格画像を観察し易い。
【００３１】
第８の態様によると、側面頭部Ｘ線規格撮影中における前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁が水平方向に対して傾斜する条件下で側面頭部Ｘ線規格撮影を行うことによって、下顎を含む側面頭部Ｘ線規格画像を容易に得ることができる。
【００３２】
第９の態様によると、長尺状のＸ線検出面を有するＸ線検出器によって、側面頭部Ｘ線規格画像を得ることができる。
【００３３】
第１０の態様によると、照射野規制部によって頭部近くでＸ線の照射範囲を規制することができる。
【００３４】
第１１の態様によると、Ｘ線検出部をＸ線検出面の延在方向に対して直交する方向に移動させる走査方向移動機構を、水平方向に傾けた姿勢で支持することで、側面頭部Ｘ線規格撮影中における前記Ｘ線検出部の移動領域の下側縁が水平方向に対して傾斜するようにすることができる。
【００３５】
第１２の態様によると、走査方向移動機構によるＸ線検出部の移動と同期してＸ線検出部をＸ線検出面の延在方向に沿った方向に移動させることで、側面頭部Ｘ線規格撮影中における前記Ｘ線検出部の移動領域の下側縁が水平方向に対して傾斜するようにすることができる。
【００３６】
第１３の態様によると、Ｘ線検出器が矩形状のＸ線検出面を有しているため、Ｘ線検出器を移動させず、Ｘ線検出器を姿勢させた状態で、ワンショットで、側面頭部Ｘ線規格撮影を実施できる。この際、側面頭部Ｘ線規格撮影中におけるＸ線検出部の下側縁が水平方向に対して傾斜するように、Ｘ線検出部を支持することで、側面頭部Ｘ線規格撮影中における前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁が水平方向に対して傾斜するようにすることができる。
【００３７】
第１４の態様によると、水平状態では、正面撮影等に適し、傾斜状態では、側面頭部Ｘ線規格撮影等に適する。
【００３８】
第１５の態様によると、頭部保持具が、前記Ｘ線検出器側支持部に対して、姿勢変更可能に支持されているため、Ｘ線検出器を水平姿勢にしても、Ｘ線検出器を傾斜姿勢にしても、頭部保持具を所定の姿勢に保ち易い。
【００３９】
第１６の態様によると、患者の体格等に応じて、前記Ｘ線検出部の存在領域の下側縁が水平方向に対して傾斜する角度を調整することができる。
【００４０】
第１７の態様によると、Ｘ線発生部において、Ｘ線ビームの下側縁が水平方向に対して傾斜するように規制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】第１実施形態に係るＸ線撮影装置を示す概略図である。
【図２】Ｘ線の照射領域を示す説明図である。
【図３】第２実施形態に係るＸ線撮影装置を示す正面図である。
【図４】同上のＸ線撮影装置を斜め上方から見たときの斜視図である。
【図５】Ｘ線コーンビーム形状調整部の概略正面図である。
【図６】Ｘ線コーンビーム形状調整部の概略正面図である。
【図７】他の例に係るＸ線ビーム形状調整部を示す説明図である。
【図８】Ｘ線撮影装置がセファロ撮影を行う状態を示す平面図である。
【図９】セファロ撮影ユニットを示す概略正面図である。
【図１０】セファロ撮影ユニットを示す概略平面図である。
【図１１】セファロ撮影ユニットを示す概略側面図である。
【図１２】走査方向移動機構の一例を示す概略側面図である。
【図１３】図１２のＸＩＩＩ−ＸＩＩＩ線概略断面図である。
【図１４】側面頭部セファロ撮影中におけるＸ線撮影装置の動作を示す説明図である。
【図１５】側面頭部セファロ撮影中におけるＸ線撮影装置の動作を示す説明図である。
【図１６】Ｘ線撮影装置のブロック図である。
【図１７】本体制御部の電気的構成を示すブロック図である。
【図１８】画像処理装置の電気的構成を示すブロック図である。
【図１９】Ｘ線撮影装置の動作を示すフローチャートである。
【図２０】側面頭部セファロ画像の生成処理を示すフローチャートである。
【図２１】Ｘ線ビーム形状調整部による開口の形状及び位置制御例を示す説明図である。
【図２２】Ｘ線の照射領域を示す説明図である。
【図２３】初期側面頭部セファロ画像の一例を示す図である。
【図２４】側面頭部セファロ画像の一例を示す図である。
【図２５】側面頭部セファロ画像の他の例を示す図である。
【図２６】Ｘ線検出部の存在領域と肩との位置関係を示す説明図である。
【図２７】変形例に係るセファロ撮影ユニットを示す概略側面図である。
【図２８】同上のセファロ撮影ユニットを示す概略正面図である。
【図２９】同上のセファロ撮影ユニットにおいてＸ線検出部を傾けた状態を示す説明図である。
【図３０】他の変形例に係るセファロ撮影ユニットを示す概略正面図である。
【図３１】同上のセファロ撮影ユニットを示す概略平面図である。
【図３２】同上のセファロ撮影ユニットを示す概略側面図である。
【図３３】側面頭部セファロ撮影中におけるＸ線撮影装置の動作を示す説明図である。
【図３４】側面頭部セファロ撮影中におけるＸ線撮影装置の動作を示す説明図である。
【図３５】Ｘ線ビーム形状調整部による開口の形状及び位置制御例を示す説明図である。
【図３６】第３実施形態に係るセファロ撮影ユニットを示す概略正面図である。
【図３７】セファロ撮影ユニットを示す概略側面図である。
【図３８】傾斜用移動機構を示す概略斜視図である。
【図３９】Ｘ線撮影装置のブロック図である。
【図４０】Ｘ線撮影装置の動作を示すフローチャートである。
【図４１】側面頭部セファロ撮影中におけるＸ線撮影装置の動作を示す説明図である。
【図４２】側面頭部セファロ撮影中におけるＸ線撮影装置の動作を示す説明図である。
【図４３】Ｘ線の照射領域を示す説明図である。
【図４４】側面頭部セファロ画像の生成処理を示すフローチャートである。
【図４５】側面頭部セファロ画像の一例を示す図である。
【図４６】第４実施形態に係るセファロ撮影ユニットを示す概略正面図である。
【図４７】セファロ撮影ユニットを示す概略平面図である。
【図４８】セファロ撮影ユニットを示す概略側面図である。
【図４９】Ｘ線ビーム形状調整部を示す概略正面図である。
【図５０】図４９のＬ−Ｌ線における概略断面図である。
【図５１】Ｘ線ビーム形状調整部の開口が傾いた状態を示す概略正面図である。
【図５２】Ｘ線撮影装置のブロック図である。
【図５３】Ｘ線撮影装置の動作を示すフローチャートである。
【図５４】変形例に係るセファロ撮影ユニット５００を示す概略正面図である。
【図５５】セファロ撮影ユニットを示す概略側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４２】
｛第１実施形態｝
以下、第１実施形態に係るＸ線撮影装置について説明する。図１はＸ線撮影装置１０を示す概略図である。
【００４３】
Ｘ線撮影装置１０は、側面頭部Ｘ線規格撮影を行う装置である。側面頭部Ｘ線規格撮影は、頭部の一部（例えば耳）等を一定位置に固定した状態で、頭部の側方からＸ線撮影を行う撮影法であり、側面からのセファロ撮影法であるともいえる。以下では、側面頭部Ｘ線規格撮影を側面頭部セファロ撮影、この撮影による側面頭部Ｘ線規格画像を側面頭部セファロ画像という場合がある。また、同様に、正面頭部Ｘ線規格撮影を正面頭部セファロ撮影、この撮影による正面頭部Ｘ線規格画像を正面頭部セファロ画像という場合がある。
【００４４】
Ｘ線撮影装置１０は、Ｘ線発生部２０と、Ｘ線検出部３０と、支持部４０とを含む。
【００４５】
Ｘ線発生部２０は、Ｘ線発生器２２を含む。Ｘ線発生器２２は、Ｘ線を発生させる。
【００４６】
Ｘ線検出部３０は、Ｘ線検出器３２を含む。Ｘ線検出器３２は、Ｘ線発生器２２から出射されたＸ線を検出する。
【００４７】
支持部４０は、Ｘ線発生器２２とＸ線検出器３２とを対向状態で支持する。Ｘ線発生器２２及びＸ線検出器３２が支持部４０によって支持された状態で、それらの間に被写体である頭部Ｐを配設可能な間隔が設けられる。そして、Ｘ線発生器２２から照射されたＸ線は、頭部Ｐを通って、Ｘ線検出器３２に入射する。Ｘ線検出器３２に入射したＸ線は、単位画素毎にＸ線の強度に応じた電気信号に変換される。この各電気信号に基づいて側面頭部セファロ画像が生成される。
【００４８】
図２は側面頭部セファロ撮影中においてＸ線検出器３２に入射するＸ線の照射領域Ｈを示している。図２では参考のため照射領域Ｈに投影される頭部ＰのＸ線透過画像Ｐｘが描かれている。
【００４９】
上記照射領域Ｈは、側面頭部セファロ撮影中において、Ｘ線発生器２２から照射されたＸ線がＸ線検出器３２に入射する全領域によって定義される。この照射領域Ｈは、Ｘ線発生器２２から照射されたＸ線が、頭部Ｐのうち側面頭部セファロ撮影を行うために必要な撮影部位、例えば、頭部Ｐのうち頭蓋を含む顎顔面領域を通ってＸ線検出器３２に投影可能な程度の広がりを有している。
【００５０】
ここで、Ｘ線発生器２２から照射されるＸ線としては、スリット状である場合と、方形状に広がる場合とが想定される。
【００５１】
Ｘ線発生器２２から照射されるＸ線がスリット状である場合、例えば、Ｘ線発生器２２から照射されるＸ線は、長尺状のスリットが形成された照射野規制部等によってスリット状のＸ線に規制されて、頭部Ｐを通ってＸ線検出器３２に入射することが想定される。この場合、スリット状のＸ線を、頭部Ｐに対して前後方向又は上下方向に走査することで、頭部Ｐのセファロ撮影部位が投影されたＸ線の照射領域Ｈとすることができる。この場合、照射領域Ｈは、スリット状のＸ線がＸ線検出器３２に入射するスリット状の入射領域の移動跡によって定義される。この場合、Ｘ線検出器３２としては上記スリット状の検出面を有するものを用い、当該Ｘ線検出器を、スリット状のＸ線に同期して移動させる構成を採用することができる。Ｘ線発生器２２から照射されるＸ線がスリット状である場合については、第２実施形態及び第３実施形態においてより具体的に説明する。
【００５２】
Ｘ線発生器２２から照射されるＸ線が方形状に広がる場合、Ｘ線発生器２２から照射されるＸ線は、頭部Ｐのセファロ撮影部位を通過できる程度に広がって、Ｘ線検出器３２に入射する。この場合の照射領域Ｈは、Ｘ線発生器２２から照射されるＸ線が１つのタイミングでＸ線検出器３２に入射する全領域によって定義される。この場合、Ｘ線検出器３２としては、照射領域Ｈと同じ又はこれよりも大きい検出面を有するものを用いることができる。Ｘ線発生器２２から照射されるＸ線が方形状に広がる場合については、第４実施形態においてより具体的に説明する。
【００５３】
上記照射領域Ｈの下側縁ＨＥの頭部後方側ＨＥ１は、下側縁ＨＥの頭部前方側ＨＥ２よりも高く配置されている。
【００５４】
例えば、下側縁ＨＥは、頭部後方側ＨＥ１が頭部前方側ＨＥ２よりも高くなるように、水平方向に対して傾斜している。なお、水平方向は、重力方向である鉛直方向に対して直交する方向、ここでは、頭部Ｐの前後方向である。
【００５５】
好ましくは、下側縁ＨＥは、頭部Ｐの頭部骨格Ｂの下顎底Ｂａに沿うように傾斜している。このため、照射領域Ｈには、頭部の下顎Ｂｂが含まれている。また、下顎Ｂｂの後ろ側にある頸椎Ｂｃが存在する箇所では、下側縁ＨＥは、頸椎Ｂｃに対してなるべく上側の位置を通過しており、照射領域Ｈになるべく頸椎が含まれないようになっている。
【００５６】
また、下側縁の形状は直線的なものとは限らない。例えば、下側縁ＨＥｂの頭部後方側ＨＥｂ１が頭部前方側ＨＥｂ２よりも高くなるように、段差ＨＥｂＳを介して連続している形状であってもよい。
【００５７】
この場合、下側縁ＨＥｂの頭部前方側ＨＥｂ２は、下顎底Ｂａよりも下側（僅かに下側）に位置する。また、下側縁ＨＥｂの頭部後方側ＨＥｂ１は、頭部前方側ＨＥｂ２よりも上側に位置し、頸椎Ｂｃに対してなるべく上側の位置を通過している。段差ＨＥｂＳは、下顎Ｂｂと頸椎Ｂｃとの間に位置している。
【００５８】
上記のような照射領域Ｈの下側縁ＨＥ、ＨＥｂの設定は、例えば、Ｘ線発生器２２から照射されるスリット状のＸ線を走査する際の経路を調整すること、或は、Ｘ線発生器２２から照射されるＸ線の規制形状を調整すること等によって行うことができる。
【００５９】
図２では比較のため下側縁ＨＥｃが水平方向に沿った直線を示している。側面頭部セファロ撮影を行うためには、下側縁ＨＥｃが下顎底Ｂａよりも下側を通過する必要がある。このため、下側縁ＨＥｃは、頭部Ｐの後部において、頸椎Ｂｃの中間部を横切るように通過することになる。
【００６０】
これに対して、本実施形態に係るＸ線撮影装置１０のように、Ｘ線発生器２２から照射されて頭部Ｐを通過してＸ線検出器３２に入射するＸ線の照射領域Ｈの下側縁ＨＥ、ＨＥｂの頭部後方側ＨＥ１、ＨＥｂ１が、下側縁ＨＥ、ＨＥｂの頭部前方側ＨＥ２、ＨＥｂ２よりも高く配置されるようにすると、不必要な部位へのＸ線照射を抑制しつつ、側面頭部セファロ撮影を行える。
【００６１】
つまり、下顎Ｂｂについては、照射領域Ｈの下側縁ＨＥ、ＨＥｂのうち下寄りの頭部前方側ＨＥ２、ＨＥｂ２の内側領域でＸ線撮影を行うことができる。また、照射領域Ｈの下側縁ＨＥ、ＨＥｂのうち上寄りの頭部後方側ＨＥ１、ＨＥｂ１を頸椎Ｂｃのなるべく上側に配設することで、不要な部位（甲状腺等）へのＸ線照射を抑制できる。
【００６２】
また、照射領域Ｈの下側縁ＨＥが水平方向に対して傾斜すれば、当該下側縁ＨＥを頭部Ｐの下顎底Ｂａに沿って傾斜させ易いため、必要部位の撮影を行い易い。
【００６３】
｛第２実施形態｝
第２実施形態に係るＸ線撮影装置について説明する。
【００６４】
＜全体構成について＞
図３は、第２実施形態に係るＸ線撮影装置１１０の構成を示す全体図であり、図４は第２実施形態に係るＸ線撮影装置１１０を斜め上方から見たときの斜視図である。なお、各図において、説明の便宜上、Ｘ線撮影装置１１０が存在する全体の空間においてＸＹＺ座標系を設定することがある。本ＸＹＺ座標系において、ＣＴ撮影又はパノラマ撮影を行う場合にＸ線撮影装置１１０において支持される頭部Ｐ（図３において右側に示される頭部Ｐ参照）を基準とすると、右方向をＸ（＋）方向、左方向をＸ（−）方向、前方をＹ（＋）方向、後方をＹ（−）方向、上方をＺ（＋）方向、下方をＺ（−）方向とする。本ＸＹＺ座標系において、セファロ撮影を行う場合にＸ線撮影装置１１０において支持される頭部Ｐ（図３において左側に示される頭部Ｐ参照）を基準とすると、前方向をＸ（−）方向、後方向をＸ（＋）方向、右方をＹ（＋）方向、左方をＹ（−）方向、上方をＺ（＋）方向、下方をＺ（−）方向とすることになる。セファロ撮影を行う場合にＸ線撮影装置１１０において支持される頭部Ｐの向きは、前後及び左右が逆になることもあり得る。
【００６５】
Ｘ線撮影装置１１０は、撮影本体部１２０と画像処理装置１８０とを備えている。撮影本体部１２０は、被写体の頭部ＰについてＸ線撮影を行うことにより、Ｘ線投影データを収集する装置である。撮影本体部１２０は、例えば、防Ｘ線室１４６に収容されて使用される。画像処理装置１８０は、撮影本体部１２０により収集されたＸ線投影データを処理して、各種Ｘ線画像（具体的には、パノラマ画像、ＣＴ画像、頭部Ｘ線規格画像（セファロ画像）等）を生成する。
【００６６】
もっとも、撮影本体部１２０は、頭部Ｐについて頭部Ｘ線規格撮影（頭部セファロ撮影）、特に、側面頭部セファロ撮影を行えればよく、また、画像処理装置１８０は、撮影本体部１２０により収集されたＸ線投影データを処理して、頭部Ｘ線規格画像（セファロ画像）、特に、側面頭部Ｘ線規格画像（側面頭部セファロ画像）を生成するものであればよい。以下では、Ｘ線撮影装置１１０が側面頭部セファロ撮影を行う構成を中心に説明する。
【００６７】
撮影本体部１２０は、Ｘ線発生器１２６ａを含むＸ線発生部１２６と、Ｘ線検出器１２８と、旋回支持部１２４と、本体制御部１５０とを備える。
【００６８】
Ｘ線発生器１２６ａは、例えば、Ｘ線を発生させるＸ線源であるＸ線管である。Ｘ線発生器１２６ａからはＸ線コーンビームが出射される。
【００６９】
Ｘ線発生部１２６は、Ｘ線発生器１２６ａから照射されるＸ線ビームの形状を調整するＸ線ビーム形状調整部１２７を含む。Ｘ線ビーム形状調整部１２７は、Ｘ線発生器１２６ａに対してＸ線コーンビームが照射される側に設けられている。Ｘ線発生器１２６ａ及びＸ線ビーム形状調整部１２７は、旋回支持部１２４の一端部に支持される。
【００７０】
図５及び図６は、Ｘ線ビーム形状調整部１２７の概略正面図である。Ｘ線ビーム形状調整部１２７は、Ｘ線発生器１２６ａから出射されるＸ線コーンビームの広がりを規制し、撮影目的に応じた形状となるように、また、撮影目的に応じた位置に照射されるように、Ｘ線コーンビームを調整する。
【００７１】
より具体的な一例として、Ｘ線ビーム形状調整部１２７は、４枚の遮蔽部材１２７Ａ、１２７Ｂと、遮蔽部材１２７Ａを開閉駆動する遮蔽部材駆動部１２７Ｃと、遮蔽部材１２７Ｂを開閉駆動する遮蔽部材駆動部１２７Ｄとを備える。なお、図５においては、遮蔽部材１２７Ａ、１２７Ｂ及び遮蔽部材１２７Ａ、１２７Ｂを駆動する部分（モータ、シャフト等）については実線又は隠れ線（破線）で示し、ガイド１２７Ｃ１、１２７Ｄ１については仮想線（２点鎖線）で示している。
【００７２】
遮蔽部材１２７Ａ、１２７Ｂは、Ｘ線を吸収する材料（鉛等）で構成されており、長方形の板状に形成されている。
【００７３】
４枚の遮蔽部材１２７Ａ、１２７Ｂのうち２つの遮蔽部材１２７Ａは、Ｘ線発生器１２６ａの出射口の正面視上下位置に設けられている。２つの遮蔽部材１２７Ａのうち対向する側の辺は、水平方向に沿っている。
【００７４】
遮蔽部材駆動部１２７Ｃは、２つの遮蔽部材１２７Ａを上下方向に移動駆動する。すなわち、遮蔽部材駆動部１２７Ｃは、一対のガイド１２７Ｃ１と、シャフト１２７Ｃ２、１２７Ｃ３と、シャフト１２７Ｃ２を駆動するモータ１２７Ｃ４、シャフト１２７Ｃ３を駆動するモータ１２７Ｃ５とを備える。
【００７５】
一対のガイド１２７Ｃ１は、２つの遮蔽部材１２７Ａのそれぞれの両端を上下方向に移動可能に支持している。
【００７６】
一方のシャフト１２７Ｃ２の外周にはねじ溝が形成されており、２つの遮蔽部材１２７Ａのうちの一方のねじ部が当該シャフト１２７Ｃ２に螺合している。そして、一方のモータ１２７Ｃ４の正逆両方向の回転駆動によって、シャフト１２７Ｃ２が正逆両方向に回転する。このシャフト１２７Ｃ２の回転方向に応じて、一方の遮蔽部材１２７Ａが一対のガイド１２７Ｃ１によりガイドされた状態で、上方向又は下方向に移動する。
【００７７】
他方のシャフト１２７Ｃ３の外周にはねじ溝が形成されており、２つの遮蔽部材１２７Ａのうちの他方のねじ部が当該シャフト１２７Ｃ３に螺合している。そして、他方のモータ１２７Ｃ５の正逆両方向の回転駆動によって、シャフト１２７Ｃ３が正逆両方向に回転する。このシャフト１２７Ｃ３の回転方向に応じて、他方の遮蔽部材１２７Ａが上方向又は下方向に移動する。
【００７８】
これにより、２つの遮蔽部材１２７Ａが個別に上下方向に移動駆動される。
【００７９】
４枚の遮蔽部材１２７Ａ、１２７Ｂのうち他の２つの遮蔽部材１２７Ｂは、Ｘ線発生器１２６ａからのＸ線の射出方向において上記２つの遮蔽部材１２７Ａとは異なる位置で、Ｘ線発生器１２６ａの出射口の正面視左右位置に設けられている。２つの遮蔽部材１２７Ｂのうち対向する側の辺は、上下方向に沿っている。
【００８０】
遮蔽部材駆動部１２７Ｄは、２つの遮蔽部材１２７Ｂを左右方向に移動駆動する。すなわち、遮蔽部材駆動部１２７Ｄは、一対のガイド１２７Ｄ１と、シャフト１２７Ｄ２、１２７Ｄ３と、シャフト１２７Ｄ２を駆動するモータ１２７Ｄ４、シャフト１２７Ｄ３を駆動するモータ１２７Ｄ５とを備える。
【００８１】
一対のガイド１２７Ｄ１は、２つの遮蔽部材１２７Ｂのそれぞれの両端を左右方向に移動可能に支持している。
【００８２】
一方のシャフト１２７Ｄ２の外周にはねじ溝が形成されており、２つの遮蔽部材１２７Ｂのうちの一方のねじ部が当該シャフト１２７Ｄ２に螺合している。そして、一方のモータ１２７Ｄ４の正逆両方向の回転駆動によって、シャフト１２７Ｄ２が正逆両方向に回転する。このシャフト１２７Ｄ２の回転方向に応じて、一方の遮蔽部材１２７Ｂが一対のガイド１２７Ｄ１によりガイドされた状態で、左方向又は右方向に移動する。
【００８３】
他方のシャフト１２７Ｄ３の外周にはねじ溝が形成されており、２つの遮蔽部材１２７Ｂのうちの他方のねじ部が当該シャフト１２７Ｄ３に螺合している。そして、他方のモータ１２７Ｄ５の正逆両方向の回転駆動によって、シャフト１２７Ｄ３が正逆両方向に回転する。このシャフト１２７Ｄ３の回転方向に応じて、他方の遮蔽部材１２７Ｂが左方向又は右方向に移動する。
【００８４】
これにより、２つの遮蔽部材１２７Ｂが個別に左右方向に移動駆動される。
【００８５】
遮蔽部材駆動部１２７Ｃ、１２７Ｄとしては、その他、リニアモータ機構、ラックアンドピニオン機構等が用いられてもよい。
【００８６】
本例では、２つの遮蔽部材１２７Ａのうち対向する上下２つの内側の辺及び２つの遮蔽部材１２７Ｂのうち対向する左右２つの内側の辺によって形成される開口１２７Ｅに応じて、Ｘ線コーンビームの形状、照射先となる位置等が調整される。
【００８７】
例えば、２つの遮蔽部材１２７Ａのうち対向する上下２つの内側の辺が大きく開き、かつ、２つの遮蔽部材１２７Ｂのうち対向する左右２つの内側の辺が大きく開いた状態では、方形状の開口１２７Ｅが形成される（図５参照）。Ｘ線発生器１２６ａから出射されたＸ線ビームは、この方形状、例えば、正方形状の開口１２７Ｅを通過することにより、正四角錐台状に広がるＸ線コーンビームに形成される。
【００８８】
また、例えば、２つの遮蔽部材１２７Ａのうち対向する上下２つの内側の辺が大きく開き、かつ、２つの遮蔽部材１２７Ｂのうち対向する左右２つの内側の辺が小さく開いた状態では、細長い開口１２７Ｅが形成される（図６参照、図６においてはＸ線を遮蔽、遮蔽駆動する要素のみ図示して一部を略している）。Ｘ線発生器１２６ａから出射されたＸ線ビームは、上下に細長いスリット状の開口１２７Ｅを通過することにより、上下に長い角錐台状に広がるＸ線細隙ビームに形成される。この開口１２７Ｅの形状を保ったまま、２つの遮蔽部材１２７Ｂを同方向、例えば、右方向に移動させることで、Ｘ線細隙ビームの照射先を左方向から右方向に走査することができる。また、この開口１２７Ｅの形状を保ったまま、２つの遮蔽部材１２７Ａを同方向、例えば、上方向に移動させることで、Ｘ線細隙ビームの照射先を下方向から上方向に移動させることができる。
【００８９】
Ｘ線発生器１２６ａからＸ線細隙ビームを照射する際には、上記２つの遮蔽部材１２７Ａ及び２つの遮蔽部材１２７Ｂの移動制御を行うことで、Ｘ線検出器１２８、Ｘ線検出器２２２におけるＸ線の照射範囲を調整することができる。
【００９０】
図７は、他の例に係るＸ線ビーム形状調整部３２７を示す説明図である。Ｘ線ビーム形状調整部３２７は、２つの遮蔽部材３２７Ａ、３２７Ｂを備える。遮蔽部材３２７Ａ、３２７Ｂは、Ｌ字状の板状に形成されており、これらの内角部を構成する縁部３２７Ａ１、３２７Ｂ１が組み合わさることにより、開口３２７Ｅを形成する。遮蔽部材各々は、ＸＹテーブル機構等によって、上下方向及び左右方向に移動可能とされている。遮蔽部材３２７Ａ、３２７Ｂがこの移動機構によって調整されることにより、開口３２７Ｅの形状が調整される。
【００９１】
上記例では、Ｘ線ビーム形状調整部１２７が複数の遮蔽部材及び移動機構により構成されている。しかしながら、Ｘ線ビーム形状調整部は、所定形状の開口が形成された単一の遮蔽部材と、移動機構とによっても構成され得る。
【００９２】
図３及び図４に示すように、Ｘ線検出器１２８は、Ｘ線発生器１２６ａから出射されたＸ線コーンビームを検出する。Ｘ線検出器１２８は、平面状に広がる検出面を有するフラットパネルディテクタ（ＦＰＤ）又はＸ線蛍光増倍管（I. I.：Image Intensifier）等により構成され得る。
【００９３】
Ｘ線検出器１２８の検出面に配された複数の検出素子は、入射したＸ線の強度を電気信号に変換する。そして、その電気信号は、出力信号として本体制御部１５０又は画像処理装置１８０に入力され、その信号に基づいてＸ線投影画像が生成される。
【００９４】
Ｘ線検出器１２８は、旋回支持部１２４の他端部に、Ｘ線発生器１２６ａと間隔をあけて対向するように支持されている。Ｘ線検出器１２８の検出面に対して、Ｘ線発生器１２６ａから出射されたＸ線コーンビーム、Ｘ線細隙ビームなどのＸ線ビームが照射される。
【００９５】
このＸ線検出器１２８は、Ｘ線ＣＴ撮影又はパノラマ撮影を行うためのものである。
【００９６】
旋回支持部１２４は、回転軸部１２５を介して水平アーム１２３に吊り下げ状に支持されている。旋回支持部１２４は、吊り下げ状に支持された状態で水平方向に沿って延在している。旋回支持部１２４の一端部には筐体１２４ａが取り付けられており、旋回支持部１２４の他端部には筐体１２４ｂが取り付けられている。筐体１２４ａ内には、Ｘ線発生器１２６ａ及びＸ線ビーム形状調整部１２７が収容された状態で支持されている。
【００９７】
Ｘ線発生器１２６ａは、旋回支持部１２４の一端部から他端部に向けてＸ線コーンビーム、Ｘ線細隙ビームなどのＸ線ビームを照射する。筐体１２４ｂ内には、Ｘ線検出面をＸ線発生器１２６ａ側に向けた姿勢でＸ線検出器１２８が収容されている。これにより、旋回支持部１２４は、その一端側にＸ線発生器１２６ａを支持し、その他端側にＸ線検出器１２８を支持する。
【００９８】
上記筐体１２４ａは、内部のＸ線発生器１２６ａ及びＸ線ビーム形状調整部１２７と共に旋回支持部１２４の中間部１２４ｃに対して上下方向に沿った軸周りに回転可能である。例えば、筐体１２４ａは旋回支持部１２４のＸ線発生器側基端部に対して上下方向に沿った軸周りに回転可能である。筐体１２４ａの回転は手動によってなされてもよいし、モータ等を含む回転機構の駆動によってなされてもよい。筐体１２４ａを回転させることによって、Ｘ線発生器１２６ａから照射されたＸ線がＸ線検出器１２８に向う姿勢とする状態と、Ｘ線発生器１２６ａから照射されたＸ線が筐体１２４ｂの側方を通過して後述するセファロ撮影用のＸ線検出器２２２に向う姿勢とする状態とを切替えることができる。筐体１２４ａの回転は手動によってなされてもよいし、モータ等を含む回転機構の駆動によってなされてもよい。
【００９９】
上記旋回支持部１２４は、支柱１２１及び水平アーム１２３を介して支持されている。
【０１００】
支柱１２１は、床面等に載置されるベース１２１Ｂ上に垂直姿勢で支持されている。この支柱１２１に、昇降部１２２が昇降駆動可能に設けられている。昇降部１２２は、昇降駆動機構によって昇降駆動される。昇降駆動機構としては、ボールねじ機構及びモータ等を含む移動機構、リニアモータ等のリニアアクチュエータが用いられ、支柱１２１内に組込まれて昇降部１２２を昇降駆動する。昇降部１２２には、水平方向に延びるように水平アーム１２３が支持されている。この水平アーム１２３の先端部に旋回駆動機構１３０が組込まれている。
【０１０１】
旋回駆動機構１３０は、旋回支持部１２４を旋回させる機構である。本実施形態においては、旋回駆動機構は、旋回軸移動機構１３４と、当該旋回軸移動機構１３４によって移動可能に支持された旋回機構１３２とを備える。
【０１０２】
旋回軸移動機構１３４は、上記回転軸部１２５を旋回機構１３２と共に、回転軸部１２５の旋回軸Ｘ１に交差する方向（ここでは、水平方向）に移動させる機構である。旋回軸移動機構１３４としては、例えば、２つのリニアアクチュエータを互いに直交する方向に組合わせたＸＹテーブル機構を採用することができる。そして、旋回軸移動機構１３４が回転軸部１２５を旋回機構１３２と共に水平方向に沿って移動させることで、回転軸部１２５を所望の位置に配設することができ、Ｘ線発生器１２６ａ及びＸ線検出器１２８の旋回軸を任意の位置に設定することができる。
【０１０３】
旋回機構１３２は、旋回駆動部としてのモータを備えており、上記旋回軸移動機構１３４によって水平方向に移動可能に支持されている。上記旋回支持部１２４の延在方向中間部より上方に突出する回転軸部１２５の上端部が、旋回機構１３２によって回転駆動可能に支持される。旋回機構１３２に備えられたモータの回転運動が回転軸部１２５に伝達されることで、旋回支持部１２４及び当該旋回支持部１２４に支持されたＸ線発生器１２６ａ及びＸ線検出器１２８が旋回する。旋回機構１３２に備えられたモータの回転運動は、必要に応じて、ギヤ、プーリ等の伝達機構を介して回転軸部１２５に伝達される。
【０１０４】
上記旋回支持部１２４は、頭部Ｐの高さに合せて昇降部１２２によって昇降することができる。また、旋回駆動機構１３０は、Ｘ線発生器１２６ａ及びＸ線検出器１２８が頭部Ｐの周りを旋回するように、旋回支持部１２４を旋回させることができる。
【０１０５】
また、支柱１２１に頭部固定装置用昇降部１４１Ａが昇降駆動可能に設けられている。頭部固定装置用昇降部１４１Ａは、上記昇降部１２２よりも下側に設けられている。頭部固定装置用昇降部１４１Ａから頭部固定装置用アーム１４１が水平アーム１２３と同じ方向に延在するように設けられている。頭部固定装置用アーム１４１は、水平アーム１２３の下側を通って、Ｘ線発生器１２６ａとＸ線検出器１２８との間の下方位置に向けて延在する。この頭部固定装置用アーム１４１の先端部に頭部固定装置１４２が設けられている。頭部固定装置１４２は、Ｘ線発生器１２６ａとＸ線検出器１２８との間に位置している。頭部固定装置１４２は、被写体である頭部Ｐの顎を載置支持可能なチンレスト１４２ａと、被写体である頭部Ｐをその両外側から挟んで保持する保持部１４２ｂとを含む。そして、頭部Ｐの顎がチンレスト１４２ａ上に支持されると共に、頭部Ｐが保持部１４２ｂによって挟込まれることで、頭部ＰがＸ線発生器１２６ａとＸ線検出器１２８との間の一定位置に保持される。頭部固定装置１４２を、少なくともチンレスト１４２ａ、保持部１４２ｂの一方で構成するようにしてもよい。
【０１０６】
Ｘ線ＣＴ撮影又はパノラマ撮影を行う際には、頭部固定装置１４２によって被写体である頭部Ｐを固定した状態で、所望の撮影モードに応じて、旋回支持部１２４を回転させた状態でＸ線撮影を行う。特に、旋回支持部１２４を回転させて、被写体Ｐ周りにＸ線発生器１２６ａ及びＸ線検出器１２８を旋回させることで、Ｘ線ＣＴ画像等を生成するのに必要なＸ線画像データを得ることができる。また、旋回支持部１２４を一定範囲回転させた状態でＸ線撮影を行うことで、パノラマ撮影画像を得ることができる。対象領域の透視画像の撮影をする撮影モードにおいては、旋回支持部１２４を停止させた状態でＸ線撮影を行う。
【０１０７】
Ｘ線撮影装置１１０は、セファロ撮影ユニット２００を備える。セファロ撮影ユニット２００は、頭部Ｘ線規格写真を取得するために使用されるユニットである。このセファロ撮影ユニット２００については後述する。
【０１０８】
頭部固定装置用アーム１４１の延在方向中間部には、操作パネル装置１５８を含む本体制御部１５０が設けられている。
【０１０９】
本体制御部１５０は、コンピュータ等によって構成されており、撮影本体部１２０に対する各指示を受付け可能に構成されると共に、撮影本体部１２０の各動作を制御可能に構成されている。本体制御部１５０は、前記支柱１２１から水平方向に延びるセファロ撮影用アーム１４３に固定されている。この本体制御部１５０には、前記本体制御部１５０からの各種情報を表示すると共に本体制御部１５０に対する各種指令を受付けるための操作パネル装置１５８が設けられている。ここでは、操作パネル装置１５８は、液晶表示パネル等の表示装置と、表示装置の表示画面に配設されたタッチ検出部とを備えるタッチパネルである。表示画面に対する操作者のタッチ操作をタッチ検出部にて検出することで、本Ｘ線撮影装置１１０に対する操作を受付け可能に構成されている。操作パネル装置１５８の近く等に、押しボタン等が設けられていてもよい。また、表示装置と、操作者の操作を受付ける入力装置とは別々に設けられていてもよい。
【０１１０】
この撮影本体部１２０を収容する防Ｘ線室１４６の壁の外側には、前記本体制御部１５０のＸ線照射制御用の照射制御部１５０ｓが設けられ、照射制御部１５０ｓにデッドマンスイッチと呼ばれる押しボタンスイッチ１４７が設けられている。操作者がデッドマンスイッチを押している間だけ、Ｘ線照射がなされる。照射制御部１５０ｓはＸ線照射の制御に用いられるが、照射制御部１５０ｓの機能の全部又は一部が制御部１５０によって実現されてもよい。
【０１１１】
画像処理装置１８０は、例えばコンピュータやワークステーション等で構成された情報処理本体部１８３を備えており、通信ケーブルによって前記撮影本体部１２０との間で各種データを送受信可能に接続されている。但し、撮影本体部１２０と画像処理装置１８０との間で、無線通信でデータの送受が行われてもよい。この情報処理本体部１８３は、撮影本体部１２０から送信されたデータに基づいて各種画像処理等を実行することができる。
【０１１２】
画像処理装置１８０には、例えば液晶モニタ等のディスプレイ装置で構成される表示部１８４ａ、および、キーボードやマウス等で構成される操作部１８４ｂが接続されている。オペレータは、表示部１８４ａに表示された文字や画像の上で、マウス等を介したポインタ操作等によって、情報処理本体部１８３に対して各種指令を与えることができる。なお、表示部１８４ａは、タッチパネルで構成されていてもよい。
【０１１３】
本画像処理装置１８０の処理の一部又は全部が、本体制御部１５０によって実行されてもよい。あるいは、本体制御部１５０の処理の一部又は全部が画像処理装置１８０によって実行されてもよい。つまり、本体制御部１５０及び画像処理装置１８０の各処理は、いずれかの場所に設けられた単一のコンピュータによって実行されてもよいし、いずれかの場所に設けられた複数のプロセッサによって分散して処理されてもよい。
【０１１４】
＜セファロ撮影ユニットについて＞
図８はＸ線撮影装置１１０がセファロ撮影を行う状態を示す平面図である。図３、図４及び図８に示すように、Ｘ線撮影装置１１０は、セファロ撮影ユニット２００を備える。セファロ撮影ユニット２００は、頭部Ｘ線規格写真を取得するために使用されるユニットである。
【０１１５】
支柱１２１から水平アーム１２３が延びる側とは反対側に水平方向に延びるようにセファロ撮影用アーム１４３が設けられ、このセファロ撮影用アーム１４３の先端部分にセファロ撮影ユニット２００が設けられている。より厳密に述べれば、水平アーム１２３は概ね−Ｘと−Ｙとの２つのベクトルを加算したベクトルの方向に、セファロ撮影用アーム１４３は概ね−Ｘと＋Ｙとの２つのベクトルを加算したベクトルの方向に延在している。
【０１１６】
セファロ撮影ユニット２００は、頭部保持具２１０と、Ｘ線検出部（セファロ撮影Ｘ線検出部）２２０と、照射野規制部２３０とを備える。
【０１１７】
頭部保持具２１０は、被写体である頭部Ｐを保持する。ここでは、頭部保持具２１０は、一対のイヤロッド２１２及び額ロッド２１４を含む（後出の図９から図１１参照）。一対のイヤロッド２１２は、セファロ撮影用アーム１４３の先端部において一定位置に支持されたセファロベース２０２から垂下状に支持されているロッドベース２１５からさらに垂下状に支持されている。一対のイヤロッド２１２の先端部が頭部Ｐの両側の耳内に挿入されることにより両耳部が位置付けされる。また、額ロッド２１４は、ロッドベース２１５において一対のイヤロッド２１２の中央部から当該一対のイヤロッド２１２を結ぶ方向に対して直交する方向にずれた位置で、ロッドベース２１５から垂下状に支持されている。額ロッド２１４の先端部が頭部Ｐの額等に当接することにより、頭部Ｐが位置付けられる。頭部保持具２１０は頭部Ｐを一定位置及び一定姿勢で支持するものであればよく、上記構成に限定される必要は無い。頭部保持具は、額ロッド２１４及び一対のイヤロッド２１２の少なくとも一方を備える構成であってもよい。
【０１１８】
ロッドベース２１５はセファロベース２０２に対して鉛直方向の回動軸２１０ＡＸを回動中心として回動可能に構成されている。この回動はモータなどで電動駆動するなど、機械的なアクチュエータで駆動してもよいし、手動で回動可能として、正面、側面で係止可能なように構成してもよい。本頭部保持具２１０によって、頭部Ｐは、側面セファロ撮影のときに、その前方が−Ｘ側を向くように一定位置及び一定姿勢で保持される。以下、側面頭部セファロ撮影中における前後、左右、上下方向は、本頭部保持具２１０によって保持された頭部Ｐに対する前後、左右、上下を基準とする。正面頭部セファロ撮影のときは、頭部Ｐの前方が−Ｙ側を向くように頭部Ｐが保持される。
【０１１９】
なお、側面頭部セファロ撮影は、日本を含む世界の多くの国で頭部の左側からＸ線が入射し、頭部の右側で検出するように撮影するのが主流であるが、頭部の右側からＸ線が入射し、頭部の左側で検出するように撮影する場合もありうる。そこで、頭部保持具２１０のロッドベース２１５は、図８に示す状態から１８０°回動して、頭部の前方が＋Ｘ側を向くように位置付けすることもできるようになっている。
【０１２０】
Ｘ線検出部２２０は、Ｘ線検出器２２２を含む。Ｘ線検出部２２０は、Ｘ線発生器１２６ａから出射されたＸ線を検出するものであり、フラットパネルディテクタ（ＦＰＤ）又はＸ線蛍光増倍管（I. I.：Image Intensifier）等により構成される。フラットパネルディテクタとしては、ＣＣＤセンサやＭＯＳセンサ、ＣＭＯＳセンサなどを利用可能である。長尺形状のＸ線検出面を有するＸ線検出器を用いてもよく、これについてもＣＣＤセンサやＭＯＳセンサ、ＣＭＯＳセンサなどを利用可能である。図示のＸ線検出部２２０は、長尺状のＸ線検出面２２２ａを有している。初期姿勢では、Ｘ線検出面２２２ａは上下方向に沿って延在している。
【０１２１】
Ｘ線検出器２２２は、樹脂等で形成された外装ケース２２４に組込まれている。外装ケース２２４は、Ｘ線検出器２２２のうち少なくとも下部及び背面側を覆っているので、Ｘ線検出部２２０の外形は、Ｘ線検出器２２２の外形よりも大きい。Ｘ線検出器２２２のＸ線検出面２２２ａは、頭部保持具２１０側を向いている。
【０１２２】
照射野規制部２３０は、Ｘ線を吸収する材料（鉛等）で構成されており、長方形の板状に形成されている。照射野規制部２３０には、長尺状のスリット２３２が形成されている。照射野規制部２３０は、Ｘ線発生器１２６ａとＸ線検出器２２２との間であって、Ｘ線検出器２２２に対して頭部保持具２１０（つまり、頭部保持具２１０に保持される頭部Ｐ）を挟んで反対側の位置に配設される。そして、Ｘ線発生器１２６ａから照射されるＸ線の形状をスリット２３２によって規制する。スリット２３２によって形状規制されたＸ線が頭部Ｐを通過してＸ線検出面２２２ａに入射する。従って、スリット２３２の大きさは、Ｘ線検出面２２２ａと同程度であるかこれよりも小さい。Ｘ線ビームの形状は、前述のＸ線ビーム形状調整部１２７によってある程度規制するのであるが、スリット２３２によってさらに高い精度で規制する。
【０１２３】
セファロ撮影を行う際には、Ｘ線発生器１２６ａがＸ線検出器２２２に対して頭部保持具２１０及び照射野規制部２３０を介して対向し、かつ、Ｘ線検出器１２８を収容した筐体１２４ｂがＸ線発生器１２６ａとＸ線検出器２２２とを結ぶラインから外れた位置に配設されるように、旋回支持部１２４を旋回させる（図８参照）。また、Ｘ線発生器１２６ａの照射方向がＸ線検出器２２２側を向くように、筐体１２４ａを回転させる。これにより、Ｘ線発生器１２６ａから照射されたＸ線が筐体１２４ｂによって遮られることなく、頭部保持具２１０及び照射野規制部２３０を介してＸ線検出器２２２に入射するようにする。かかる位置関係で、Ｘ線発生器１２６ａからＸ線が出射されることにより、セファロ撮影が実行される。
【０１２４】
本実施形態では、旋回支持部１２４、水平アーム１２３、セファロ撮影用アーム１４３及び後述するＸ線検出器側支持部が、Ｘ線発生器１２６ａとＸ線検出器２２２とを対向状態で支持する支持部（セファロ撮影支持部）である。
【０１２５】
この支持部は、Ｘ線検出器２２２がＸ線発生器１２６ａに対して対向し、かつ、側面頭部セファロ撮影中におけるＸ線検出部２２０の存在領域の下側縁の頭部後方側が、下側縁の頭部前方側よりも高く位置するように、Ｘ線検出部２２０を支持するＸ線検出器側支持部を含む。
【０１２６】
本実施形態では、このＸ線検出器側支持部は、側面頭部セファロ撮影中におけるＸ線検出部２２０の移動領域の下側縁が水平方向に対して傾斜するように、Ｘ線検出面２２２ａの延在方向に対して交差する方向にＸ線検出部２２０を移動させるＸ線検出部側移動機構２４０を含む例を説明する。Ｘ線検出器側支持部の他の例については、別の実施形態で説明する。
【０１２７】
図９はセファロ撮影ユニット２００を示す概略正面図であり、図１０はセファロ撮影ユニット２００を示す概略平面図であり、図１１はセファロ撮影ユニット２００を示す概略側面図である。セファロ撮影ユニット２００のうち、少なくともＸ線検出器２２２を支持する機械的要素がＸ線検出器側支持部である。Ｘ線検出器側支持部が照射野規制部２３０を支持してもよく、さらに、頭部保持具２１０を支持してもよい。
【０１２８】
Ｘ線検出部側移動機構２４０は、走査方向移動機構２４２と、傾斜支持部２５０とを含む。
【０１２９】
走査方向移動機構２４２は、Ｘ線検出部２２０をＸ線検出面２２２ａの延在方向に対して直交する方向に移動させる。
【０１３０】
図１２及び図１３は走査方向移動機構２４２の一例を示す図である。
【０１３１】
走査方向移動機構２４２は、長尺ベース２４３と、レール２４４と、走査方向駆動部２４６とを含む。
【０１３２】
長尺ベース２４３は、金属板等で形成された長尺状の部材である。レール２４４は、Ｘ線検出部２２０を直線的に移動可能に支持する部材である。ここでは、レール２４４は、細長い板状の部材であり、長尺ベース２４３に対して間隔をあけた位置で当該長尺ベース２４３に固定されている。レール２４４は、長尺ベース２４３の長手方向に沿っている。
【０１３３】
Ｘ線検出部２２０の上端部には、複数組（ここでは２組）の従動輪２２６が回転可能に設けられている。複数組の従動輪２２６は、レール２４４を厚み方向両側である上下方向で挟んでいる。この状態で、Ｘ線検出部２２０のＸ線検出面２２２ａの延在方向は、長尺ベース２４３に対して直交している。複数組の従動輪２２６がレール２４４の上下両面を従動回転することで、Ｘ線検出面２２２ａを長尺ベース２４３に対して直交させた姿勢のままで、Ｘ線検出部２２０がレール２４４の延在方向に沿って往復移動可能に支持される。
【０１３４】
走査方向駆動部２４６は、Ｘ線検出部２２０を往復駆動する。ここでは、走査方向駆動部２４６は、モータ２４７と、一対のプーリ２４８と、一対のプーリ２４８に巻掛けられた循環ベルト２４９とを含む。
【０１３５】
一対のプーリ２４８の一方は、長尺ベース２４３の一端部に回転可能に支持されている。長尺ベース２４３の他端部にモータ２４７が固定されている。一対のプーリ２４８の他方は、長尺ベース２４３の他端部に、モータ２４７から回転駆動力が伝達可能な態様で、回転可能に支持されている。
【０１３６】
上記Ｘ線検出部２２０は、一対のプーリ２４８の間において、ブラケット２２９を介して循環ベルト２４９に連結されている。
【０１３７】
そして、モータ２４７の正方向又は逆方向の回転に応じて、循環ベルト２４９が正方向又は逆方向に回転し、循環ベルト２４９の回転方向に応じてＸ線検出部２２０が往復移動する。
【０１３８】
走査方向移動機構２４２としては、上記構成の他、モータによって正逆両方向に回転可能なネジ軸部に、Ｘ線検出器側に設けられたねじ部を螺合させた構成、ラックアンドピニオン機構、リニアモータ機構等の各種構成を採用することができる。
【０１３９】
傾斜支持部２５０は、走査方向移動機構２４２を水平方向に対して傾けた姿勢で支持することでＸ線検出部２２０を傾斜支持する（後出の図１４参照）。
【０１４０】
ここでは、傾斜支持部２５０は、モータ２５２を含む。モータ２５２としては、回転方向及び回転量の調整が可能なモータ、例えば、ステッピングモータ等を用いることができる。モータ２５２は、セファロベース２０２の一側部に固定されている。モータ２５２の駆動シャフト２５３は、セファロベース２０２の一側部から外方に突出しており、駆動シャフト２５３の端部に上記走査方向移動機構２４２の延在方向（Ｘ線検出部２２０の移動方向）の一部である端部又は中間部が連結されている。ここでは、走査方向移動機構２４２の延在方向の一端部に近い部分が駆動シャフト２５３に連結されている。
【０１４１】
そして、モータ２５２の駆動によって駆動シャフト２５３を正方向又は逆方向に回転させることで、走査方向移動機構２４２を水平方向に対して傾けた姿勢で支持することができる。モータ２５２の回転方向及び回転量の調整により、走査方向移動機構２４２は水平姿勢と当該水平姿勢から傾いた姿勢との間で姿勢変更可能とされる。特に、モータ２５２の回転量を微調整することで、走査方向移動機構２４２は水平姿勢から傾いた複数度合の傾斜姿勢で姿勢変更可能とされる。
【０１４２】
上記例では、駆動シャフト２５３が直接的に走査方向移動機構２４２に連結されているが、駆動シャフトと走査方向移動機構２４２を回転可能に支持する支持シャフトとが複数のギヤを含むギヤ機構を介して連結されており、駆動シャフトの回転駆動力が当該ギヤ機構を介して支持シャフトに伝達されてもよい。ギヤ機構は、回転駆動力を大きくして支持シャフトに伝達する減速ギヤ機構を用いることができる。例えば、ギヤ機構としては、駆動シャフトに第１ギヤが固定され、支持シャフトに第１ギヤと噛合い可能でかつ第１ギヤよりも歯数が大きい第２ギヤが固定された構成とすることができる。駆動シャフトの回転駆動力は、その他、プーリ機構等を介して支持シャフトに伝達されてもよい。
【０１４３】
本実施形態では、傾斜支持部２５０は、モータの駆動によって走査方向移動機構２４２を傾斜駆動する構成であるが、傾斜支持部は、走査方向移動機構２４２に対する手動操作によって走査方向移動機構２４２を傾斜可能に支持する構成であってもよい。例えば、傾斜支持部２５０は、走査方向移動機構２４２を傾斜可能に支持するシャフトを有する構成であってもよい。走査方向移動機構２４２を一定傾斜姿勢に支持する構成としては、シャフト周りにラチェット構造を設けること、走査方向移動機構２４２にネジを設け、そのネジの締付、弛緩に応じてシャフトに対する走査方向移動機構２４２の傾斜止、傾斜許容状態を切替えること、シャフトから離れた位置で走査方向移動機構２４２を所定傾き姿勢で保持するロック構造等を設けることで実現可能である。
【０１４４】
走査方向移動機構２４２が水平姿勢とされた状態では、Ｘ線検出面２２２ａが走査方向移動機構２４２の延在方向すなわち水平方向に対して直交する姿勢で、Ｘ線検出部２２０が走査方向移動機構２４２に対して垂下状に移動可能に支持されている。
【０１４５】
図１４及び図１５は側面頭部セファロ撮影中におけるＸ線撮影装置１１０の動作を示す説明図である。
【０１４６】
走査方向移動機構２４２が水平方向に対して角度θ傾くと、Ｘ線検出面２２２ａが鉛直方向に対して角度θ傾いた姿勢で、Ｘ線検出部２２０が走査方向移動機構２４２に対して移動可能に支持されている。この状態で、走査方向移動機構２４２の駆動によってＸ線検出部２２０を走査方向移動機構２４２の延在方向に沿って移動させるとする。この際のＸ線検出部２２０の移動跡の下側縁は、水平方向に対して角度θ傾く。同様に、Ｘ線検出面２２２ａの移動軌跡の下側縁は、水平方向に対して角度θ傾く。
【０１４７】
上記モータ２５２の回転角度を調整することで、走査方向移動機構２４２が水平方向に対して傾く角度θを多段階に調整可能である（図１４で２点鎖線参照で示す走査方向移動機構２４２参照）。
【０１４８】
また、Ｘ線検出部側移動機構２４０は、照射野規制部２３０をＸ線検出部２２０の移動方向と同方向に移動させる。ここでは、Ｘ線検出部側移動機構２４０は、走査方向移動機構２４２と、傾斜支持部２５０とを２組備えている。
【０１４９】
一組の走査方向移動機構２４２と傾斜支持部２５０とは、上記したように、Ｘ線検出部２２０を傾斜可能かつ移動可能に支持している。
【０１５０】
他の組の走査方向移動機構２４２と傾斜支持部２５０とは、セファロベース２０２の他側に設けられており、上記と同様構成によって、照射野規制部２３０を傾斜可能かつ移動可能に支持している。
【０１５１】
このため、他の組の走査方向移動機構２４２と傾斜支持部２５０とによって、照射野規制部２３０を、Ｘ線検出部２２０と同様に傾斜させた状態で、当該Ｘ線検出部２２０と同方向に移動させることができる。
【０１５２】
＜Ｘ線撮影装置のブロック図について＞
図１６はＸ線撮影装置１１０のブロック図であり、図１７は本体制御部１５０の電気的構成を示すブロック図であり、図１８は画像処理装置１８０の電気的構成を示すブロック図である。
【０１５３】
本体制御部１５０は、撮影本体部１２０のＸ線撮影動作を制御するものであり、プロセッサの一例としてのＣＰＵ（Central Processing Unit）１５０ａ、ＲＡＭ（Random Access Memory）１５０ｂ、記憶部１５０ｃ、入出力部１５０ｄ、操作入力部１５０ｅ、画像出力部１５０ｆ等が、バスライン１５０ｇを介して相互接続されたコンピュータによって構成されている（図１７参照）。記憶部１５０ｃは、フラッシュメモリ、あるいは、ハードディスク装置等の不揮発性の記憶装置によって構成されており、操作パネル装置１５８等を通じてＸ線撮影に関する諸指示を受付けると共に、当該諸指示に従って撮影本体部がＸ線撮影を行う際の動作を制御する撮影プログラム１５１等を格納している。撮影プログラム１５１には、セファロ撮影を行うためのセファロ撮影プログラム１５１ａが含まれている。
【０１５４】
ＲＡＭ１５０ｂは、ＣＰＵ１５０ａが所定の処理を行う際の作業領域として供される。入出力部１５０ｄは、本撮影本体部１２０のＸ線検出部側移動機構２４０に含まれるモータ、前記Ｘ線発生器１２６ａ及び前記Ｘ線検出器１２８、２２２、Ｘ線ビーム形状調整部１２７等と接続されている。また、操作入力部１５０ｅは操作パネル装置１５８のタッチ検出部に接続されており、画像出力部１５０ｆは操作パネル装置１５８の表示部に接続されている。
【０１５５】
この本体制御部１５０では、撮影プログラム１５１に記述された手順及び操作パネル装置１５８等を通じて受付けられた指示に従って、ＣＰＵ１５０ａが演算処理を行うことにより、操作パネル装置１５８における表示を制御しつつ、撮影に関する諸設定を受付ける。また、撮影プログラム１５１に記述された手順及び受付けられた撮影に関する諸指示に従って、ＣＰＵ１５０ａが演算処理を行うことにより、Ｘ線検出部側移動機構２４０、Ｘ線発生器１２６ａ及びＸ線検出器１２８、２２２、Ｘ線ビーム形状調整部１２７等を駆動制御する。特に、本実施形態においては、本体制御部１５０が側面頭部セファロ撮影中においてＸ線検出部側移動機構２４０、Ｘ線ビーム形状調整部１２７を制御することによって、Ｘ線発生器１２６ａから照射されて頭部Ｐを通過してＸ線検出器２２２に入射するＸ線の照射領域の下側縁の頭部後方側が、当該下側縁の頭部前方側よりも高く配置されるようにする。そして、Ｘ線検出器２２２で検出されたデータに基づいて、Ｘ線ＣＴ画像を生成することができる。
【０１５６】
図１６に示すように、本体制御部１５０は、支持部駆動制御部１５２ａ、モード設定受付部１５２ｂ、傾斜角度設定部１５２ｃ、傾斜制御部１５２ｄ、走査方向制御部１５２ｅ、Ｘ線検出部駆動制御部１５２ｆ、Ｘ線ビーム形状制御部１５２ｇ、Ｘ線発生器駆動制御部１５２ｈを備えている。これらの各制御部は、ＣＰＵ１５０ａが撮影プログラム１５１に従って動作することにより実現される機能である。なお、これらの機能のうち一部又は全部を、専用の回路などで構成することにより、ハードウェア的に実現してもよい。また、上記各機能は、複数のコンピュータによって分散されて処理されてもよい。
【０１５７】
支持部駆動制御部１５２ａは、旋回駆動機構１３０を制御することにより、旋回支持部１２４の旋回を制御する。
【０１５８】
モード設定受付部１５２ｂは、操作パネル装置１５８を通じてセファロ撮影、特に、側面頭部セファロ撮影モードとする設定を受付ける。すなわち、本Ｘ線撮影装置１１０は、Ｘ線ＣＴ撮影、パノラマ撮影、セファロ撮影を実行可能な装置であるため、いずれの撮影を行うかのモード設定を受付ける。また、セファロ撮影については、正面頭部セファロ撮影と、側面頭部セファロ撮影とが想定されるため、いずれのセファロ撮影を行うかのモード設定を受付ける。
【０１５９】
傾斜角度設定部１５２ｃは、側面頭部セファロ撮影を行う際に、照射領域の下側縁の傾斜角度（ここでは、走査方向移動機構２４２の傾斜角度）の設定を行う。傾斜角度の設定は、いくつかの構成が考えられる。例えば、操作パネル装置１５８に角度入力画面を表示させる等して当該操作パネル装置１５８に傾斜角度設定操作部１５８ａとしての機能を持たせることが考えられる。この場合、操作者が操作パネル装置１５８を通じて傾斜角度を操作入力すると、その操作入力に応じた傾斜角度が設定される。また、身長、体重等の体格に関する情報と傾斜角度とを対応付けた参照テーブルが事前に登録されており、被写体である頭部Ｐを有する患者の体格情報が設定されると、当該体格情報から参照テーブルを参照して傾斜角度を設定するようにしてもよい。また、撮影を行おうとする患者に適した傾斜角度が過去の側面頭部セファロ撮影時等において判明しており、その傾斜角度が患者の履歴情報として登録されている場合、当該履歴情報を参照して傾斜角度を設定してもよい。また、過去に撮影された患者の側面頭部セファロ画像又は側面頭部セファロ画像が存在する場合、当該画像から下顎底又は顎下ラインの境界を画像認識し、その境界の傾斜角度によって傾斜角度を設定してもよい。傾斜角度は、患者の体格等に拘らず、予め一定の値として設定されていてもよい。
【０１６０】
傾斜制御部１５２ｄは、傾斜角度設定部１５２ｃで設定された傾斜角度に応じて傾斜支持部２５０の動作を制御する。
【０１６１】
走査方向制御部１５２ｅは、走査方向移動機構２４２によるＸ線検出部２２０及び照射野規制部２３０の走査方向の移動を制御する。これらの移動速度は、体格に拘らず一定であってもよいし、体格に応じて変更されてもよい。
【０１６２】
Ｘ線検出部駆動制御部１５２ｆは、Ｘ線検出器１２８のオンオフ制御、出力信号読出等を行う。
【０１６３】
Ｘ線ビーム形状制御部１５２ｇは、Ｘ線ビーム形状調整部１２７を制御し、開口１２７Ｅの形状調整、開口１２７Ｅの位置制御等を行う。特に、セファロ撮影中において、Ｘ線の照射先が頭部Ｐを走査するように、かつ、走査方向に移動するにつれてＸ線の照射先が上方に移動するように、開口１２７Ｅの位置を制御する。
【０１６４】
Ｘ線発生器駆動制御部１５２ｈは、Ｘ線発生器１２６ａの管電圧、管電圧の制御、オンオフ制御等を行う。
【０１６５】
また、本体制御部１５０は、上記各処理を実行する際、操作パネル装置１５８における表示内容を制御すると共に、操作パネル装置１５８に対するタッチ操作を受付ける。特に、操作パネル装置１５８を通じて傾斜角度の設定操作を受付けることとした場合、操作パネル装置１５８は、傾斜角度設定操作部１５８ａとして機能することができる。
【０１６６】
本体制御部１５０は、通信Ｉ／Ｆ（インターフェース）１５４を介して画像処理装置１８０と通信可能に接続されている。
【０１６７】
画像処理装置１８０は、コンピュータ又はワークステーション等により構成される。画像処理装置１８０は、画像処理部１８２としての機能を実行可能な制御部１８１を備えている。
【０１６８】
制御部１８１は、各種演算処理を行うプロセッサの一例としてのＣＰＵ１８１ａ、ＲＡＭ（Random Access Memory）１８１ｂ、記憶部１８１ｃ、通信Ｉ／Ｆ１８５、操作入力部１８１ｅ、画像出力部１８１ｆ等が、バスライン１８１ｇを介して相互接続されたコンピュータによって構成されている（図１８参照）。記憶部１８１ｃは、フラッシュメモリ、あるいは、ハードディスク装置等の不揮発性の記憶装置によって構成されており、Ｘ線検出器１２８、２２２からの出力に基づいてＸ線撮影画像（特に、側面頭部セファロ画像）を生成する画像処理プログラム１８２ｐを格納している。画像処理プログラム１８２ｐは、側面頭部セファロ撮影中におけるＸ線検出部２２０の存在領域の下側縁の傾斜角度θ及びＸ線検出器２２２の出力に基づいて、頭部Ｐの下顎底が水平方向に対して傾斜した状態で写り込んだ側面頭部セファロ画像を生成する処理を実行する。
【０１６９】
記憶部１８１ｃには、生成されたＸ線撮影画像等を記憶する。上記画像処理部１８２は、制御部１８１のＣＰＵ１８１ａが画像処理プログラム１８２ｐに従って動作することにより実現される機能である。
【０１７０】
制御部１８１には、画像出力部１８１ｆを介して各種情報を示す画像を表示する表示部１８４ａが接続され、操作入力部１８１ｅを介して操作者が操作入力を行う操作部１８４ｂが接続されている。また、画像処理装置１８０は、通信Ｉ／Ｆ１８５を介して本体制御部１５０に情報通信可能に接続されている。
【０１７１】
＜動作について＞
Ｘ線撮影装置１１０の動作について、図１９を参照して、側面頭部セファロ撮影動作を中心に説明する。
【０１７２】
まず、操作パネル装置１５８等を通じて操作者による撮影モードの設定が受付けられる。撮影モードは、パノラマ撮影モード、セファロ撮影モード、ＣＴ撮影モードのいずれかである。ＣＴ撮影モードの設定が受付けられると、ステップＳ９に進み、ＣＴ撮影処理が実行され、パノラマ撮影モードの設定が受付けられると、ステップＳ１０に進み、パノラマ撮影処理が実行される。セファロ撮影モードの設定が受付けられると、ステップＳ２に進む。
【０１７３】
ステップＳ２では、セファロ撮影を行うモードであることが決定される。この場合、旋回支持部１２４及び筐体１２４ａがセファロ撮影を行うのに適した状態となるように旋回される（図８参照）。
【０１７４】
次ステップＳ３では、操作パネル装置１５８等を通じて操作者によるセファロ方向の設定が受付けられる。セファロ方向としては、頭部Ｐを側面から撮影する方向（側面頭部セファロ）と、頭部Ｐを正面から撮影する方向（正面頭部セファロ）とが含まれる。セファロ方向としては、頭部Ｐを正面から撮影する方向（正面頭部セファロ）の設定が受付けられると、ステップＳ１１に進み、正面頭部セファロ撮影処理が実行される。
【０１７５】
正面頭部セファロ撮影処理は、走査方向移動機構２４２を水平姿勢にした状態で実行される（図９〜図１１参照）。ロッドベース２１５をセファロベース２０２に対して電動駆動で回動する構成とした場合は、頭部Ｐが−Ｙ側を向くようにロッドベース２１５を回動させる。走査方向移動機構２４２を水平姿勢にした状態では、Ｘ線検出器２２２のＸ線検出面２２２ａの延在方向は鉛直方向に沿った姿勢であり、この姿勢のまま、Ｘ線検出部２２０が水平移動して正面頭部セファロ撮影処理を実行する。Ｘ線発生器１２６ａから照射されるＸ線は、Ｘ線ビーム形状調整部１２７及び照射野規制部２３０により、Ｘ線検出面２２２ａの移動位置に追従して当該Ｘ線検出面２２２ａに照射されるように、照射範囲及び照射位置が調整される。この点において、正面頭部セファロ撮影処理は、一般的な正面頭部セファロ撮影処理と同様とすることができる。走査方向移動機構２４２は、傾斜支持部２５０によって水平姿勢と傾斜姿勢とで姿勢変更可能であり、また、Ｘ線発生器１２６ａから照射されるＸ線は、Ｘ線ビーム形状調整部１２７及び照射野規制部２３０により、照射範囲及び照射位置を調整可能であるため、上記正面頭部セファロ撮影及び側面頭部セファロ撮影の両方を実行できる。
【０１７６】
照射領域の下側縁の頭部後方側が頭部前方側よりも高く配置されるセファロ撮影を傾斜セファロ撮影と呼ぶこととし、照射領域の下側縁の頭部後方側と頭部前方側が同じ高さに配置されるセファロ撮影を非傾斜セファロ撮影と呼ぶこととする。図２に示す段差ＨＥｂＳを介した撮影も、総合的には頭部後方側が頭部前方側より高くなっており、これも傾斜セファロ撮影の一種と考えてよい。
【０１７７】
図１５に示すように、照射野規制部２３０は傾斜支持部２５０、走査方向移動機構２４２及び駆動用の機械的要素によって傾斜した状態で移動できる。この構成により、傾斜セファロ撮影においてセファロ撮影のために形成される照射領域は、下側縁の頭部後方側が、下側縁の頭部前方側よりも高く配置されたものとなる。このような配置の照射領域を実現する傾斜支持部２５０、走査方向移動機構２４２及び駆動用の機械的要素のような要素を傾斜照射機構と呼ぶこととする。
【０１７８】
下側縁の頭部後方側が、下側縁の頭部前方側よりも高く配置された照射領域を形成する要素は、必ずしも動くことによって当該照射領域を形成するものとは限らない。例えば、後述のワンショットセファロ撮影に、傾斜した充分な広さの開口を備える照射野規制部を用いることも考えられ（第４実施形態参照）、この場合の照射野規制部も傾斜照射機構の一例である。照射野規制部は、Ｘ線発生器近くで照射野を規制する必要は無く、セファロ用の頭部保持具近くで照射野を規制してもよい。
【０１７９】
セファロ撮影中において、動くことによって当該照射領域を形成する機構を駆動型傾斜照射機構と呼ぶこととし、動かなくとも当該照射領域を形成する機構を非駆動型傾斜照射機構と呼ぶこととする。
【０１８０】
また、図１５に示すように、Ｘ線検出部２２０は傾斜支持部２５０、走査方向移動機構２４２及び駆動用の機械的要素によって傾斜した状態で移動できる。この構成により、傾斜セファロ撮影においてセファロ撮影のために形成されるＸ線検出部２２０の存在領域は、下側縁の頭部後方側が、下側縁の頭部前方側よりも高く配置されたものとなる。このような配置の照射領域を実現する傾斜支持部２５０、走査方向移動機構２４２及び駆動用の機械的要素のような要素を傾斜検出機構と呼ぶこととする。
【０１８１】
下側縁の頭部後方側が、下側縁の頭部前方側よりも高く配置された存在領域を形成する要素は、必ずしも動くことによって当該存在領域を形成するものとは限らない。例えば、後述のワンショットセファロ撮影に、充分な広さのＸ線検出面を備える傾斜したＸ線検出部を用いることも考えられ（第４実施形態参照）、この場合のＸ線検出部も傾斜検出機構の一例である。
【０１８２】
セファロ撮影中に、動くことによって当該存在領域を形成する機構を駆動型傾斜検出機構と呼ぶこととし、動かなくとも当該存在領域を形成する機構を非駆動型傾斜検出機構と呼ぶこととする。
【０１８３】
ステップＳ４では、側面頭部セファロ撮影を行うことが決定される。
【０１８４】
次ステップＳ５では、傾斜角度θを設定する。上記したように、傾斜角度は、操作者による操作入力を受付けて設定されるものであってもよいし、身長、体重等の体格に基づいて設定されるものであってもよいし、過去の患者の履歴情報等に基づいて設定されるものであってもよいし、予め決定された一定値として設定されるものであってもよい。ここで設定される傾斜角度θとしては、水平方向に対して９０度よりも小さく角度を想定することができる。
【０１８５】
傾斜角度θはゼロでもよい。すなわち、被験者によっては肩ＰＳが頭部Ｐに対して充分低いところにあり、セファロ撮影の履歴が少なく、将来的にも撮影回数が少なく見積もれるなどの事情があって、側面頭部セファロ撮影において非傾斜セファロ撮影を行っても差し支えない場合も考えうる。その場合は傾斜角度θをゼロと定めてもよい。
【０１８６】
次ステップＳ６では、設定された傾斜角度に応じて傾斜支持部２５０を駆動し、走査方向移動機構２４２が水平方向に対して傾斜角度θ傾くようにする（図１４参照）。
【０１８７】
なお、走査方向移動機構２４２が手動で傾斜される場合には、ステップＳ６は、利用者によって走査されるステップとなる。この場合、ステップＳ５も省略され、代りにステップＳ５に続いて、走査方向移動機構２４２の傾斜角度を取得するステップが実行される。このステップは、例えば、走査方向移動機構２４２の傾きを検出するポテンショメータ等の角度センサを設けておき、当該角度センサからの出力に基づいて傾斜角度を取得するステップとすることができる。走査方向移動機構２４２の傾斜角度設定が物理構造的に１つのみである場合には、角度センサを設ける必要は無い。この場合、傾斜角度θは、予め決定された一定値として処理されればよい。
【０１８８】
次ステップＳ７において、撮影開始指示を行う前に、操作者は、被写体である患者の頭部Ｐを頭部保持具２１０によって一定位置及び一定姿勢で保持する。ロッドベース２１５をセファロベース２０２に対して電動駆動で回動する構成とした場合は、頭部Ｐが−Ｘ側を向くようにロッドベース２１５を回動させる。この回動処理はステップＳ４の次に行ってもよい。
【０１８９】
ステップＳ７において、操作者が操作パネル装置１５８等を利用して撮影開始指示を行う。
【０１９０】
ステップＳ８では、Ｘ線照射制御、Ｘ線発生器側制御及びＸ線検出器側制御を行う。
【０１９１】
Ｘ線照射制御には、側面頭部セファロ撮影を行うために、所定のタイミングでのＸ線発生器１２６ａのオンオフ、管電圧、管電流等を制御することが含まれる。
【０１９２】
Ｘ線発生器側制御は、Ｘ線発生器１２６ａから照射されるＸ線が頭部Ｐを前後方向（Ｘ方向）に走査するように照射範囲及び位置を調整するように、Ｘ線ビーム形状調整部１２７を制御することが含まれる。
【０１９３】
図２１はＸ線ビーム形状調整部１２７による開口１２７Ｅの形状及び位置制御処理例を示す説明図である。図２１の円Ｃは、Ｘ線ビーム形状調整部１２７に照射されるＸ線すなわち規制前のＸ線の範囲を示している。同図に示すように、Ｘ線ビーム形状調整部１２７は、上下方向に長いスリット状の開口１２７Ｅを形成するように、遮蔽部材１２７Ａ、１２７Ｂ（図５及び図６参照）の位置を調整する。そして、側面頭部セファロ撮影が開始されると、スリット状の開口１２７Ｅを一定のスリット状の形状に保ったまま、頭部Ｐの前後方向（Ｘ方向）及び上下方向（Ｚ方向）に移動させるように、遮蔽部材１２７Ａ、１２７Ｂを移動させる。
【０１９４】
開口１２７Ｅは、Ｘ線検出器２２２のＸ線検出面２２２ａの移動跡を含む面に平行な面（ＸＺ平面）において、頭部Ｐの後方側が頭部Ｐの前方側よりも高く配置されるように移動される。ここでは、開口１２７ＥをＸ方向に沿って頭部Ｐの前方から後方に移動させるのに伴って、開口１２７ＥをＺ方向に沿って徐々に上方向に移動させる。
【０１９５】
この際、設定された傾斜角度θとし、開口１２７Ｅの初期位置に対するＸ方向の移動量をＸａとし、開口１２７Ｅの初期位置に対するＺ方向の移動量をＺａとすると、（ｔａｎθ＝Ｚａ／Ｘａ）を満たすように、開口１２７Ｅの位置を制御する。
【０１９６】
Ｘ線検出器側制御としては、Ｘ線検出部２２０及び照射野規制部２３０を、頭部Ｐの前後方向（Ｘ方向）に移動させるように、走査方向移動機構２４２を制御することが含まれる。
【０１９７】
初期位置では、Ｘ線検出部２２０及び照射野規制部２３０は、頭部Ｐに対して前方側に位置している。そして、各走査方向移動機構２４２を制御して、Ｘ線検出部２２０及び照射野規制部２３０を頭部Ｐの後方に向けて移動させる。ここで、Ｘ線検出部２２０を支持する走査方向移動機構２４２と、照射野規制部２３０を支持する走査方向移動機構２４２は、水平方向に対して傾斜角度θ傾いている。このため、Ｘ線検出部２２０及び照射野規制部２３０は、頭部Ｐの後方に向うに従って、徐々に上方に移動する（図１４及び図１５参照）。Ｘ線検出部２２０及び照射野規制部２３０の頭部Ｐの後方への移動速度は、開口１２７Ｅによって照射範囲及び位置が調整されたＸ線が、Ｘ線検出部２２０のＸ線検出面２２２ａ及び照射野規制部２３０のスリット２３２に照射し得る範囲に設定されている。
【０１９８】
このため、Ｘ線発生器１２６ａから照射されたＸ線が頭部Ｐを前方から後方に向けて走査する。この際、Ｘ線は、Ｘ線ビーム形状調整部１２７によって形状調整された後、照射野規制部２３０のスリット２３２によって頭部Ｐ近くでより細いスリット形状に調整される。そして、頭部Ｐを通ってＸ線検出面２２２ａに入射する。
【０１９９】
Ｘ線ビーム形状調整部１２７によって形状調整されたＸ線は、照射野規制部２３０に対しては上下方向に延在する細長い形状で入射する（図１４及び図１５の範囲Ｆ参照）。照射野規制部２３０のスリット２３２は、鉛直方向に対して傾斜角度θ傾いているため、範囲Ｆに入射したＸ線は、鉛直方向に対して傾斜角度θ傾くスリット状に調整された後、頭部Ｐを通過して、Ｘ線検出面２２２ａに入射する。スリット２３２は、当該スリット２３２を通過したＸ線がＸ線検出面２２２ａ内に収って入射する程度の大きさに設定されている。Ｘ線検出面２２２ａも鉛直方向に対して傾斜角度θ傾いているため、照射野規制部２３０のスリット２３２によって形状調整されたＸ線は、無駄なくＸ線検出面２２２ａに入射することができる。開口１２７Ｅ、スリット２３２、Ｘ線検出面２２２ａが同方向に同期移動するよう、円滑な制御がなされてもよい。
【０２００】
図２２に頭部Ｐに対するＸ線の照射領域Ｇ及びＸ線検出面２２２ａが通過する跡を含む面（ＸＺ平面）におけるＸ線の照射領域Ｈを示す。検出位置において、Ｘ線はＨの範囲の広がりがあるのであるが、被写体はそれよりＸ線発生器寄りに存するので、Ｘ線管の焦点からの広がりを考慮すると、被写体の映像として写る範囲はＨの範囲よりも若干狭く、Ｇの範囲の広がりとなることを図２２によって示している。
【０２０１】
同図に示すように、側面頭部セファロ撮影中においてＸ線発生器１２６ａから照射されて頭部Ｐを通過してＸ線検出器２２２に入射するＸ線の照射領域Ｈの下側縁ＨＥの頭部後方側ＨＥ１は、下側縁ＨＥの頭部前方側ＨＥ２よりも高く配置されている。
【０２０２】
ここでは、照射領域Ｈの下側縁ＨＥは、頭部保持具２１０によって保持される頭部Ｐの姿勢を基準として前方側に向けて下向きとなるように、水平方向に対して傾斜している。
【０２０３】
また、Ｘ線検出部２２０は、Ｘ線検出器２２２と、当該Ｘ線検出器２２２が組込まれた外装ケース２２４とを含んでいる。このＸ線検出部２２０を側面頭部Ｘ線撮影中に上記のように移動させることを想定すると、この場合のＸ線検出部２２０の存在領域Ｉは、下側縁ＩＥが頭部Ｐの前方から後方に向けて上向き傾斜する方形状を描く（図１５参照）。このため、当該下側縁ＩＥの頭部後方側ＩＥ１が、下側縁ＩＥの頭部前方側ＩＥ２よりも高く位置するように、Ｘ線検出部２２０がＸ線検出器側支持部によって支持されている。
【０２０４】
ここでは、下側縁ＩＥの頭部後方側ＩＥ１は、頭部保持具２１０によって保持される頭部Ｐの姿勢を基準として前方側に向けて下向きとなるように、水平方向に対して傾斜している。
【０２０５】
また、頭部保持具２１０によって保持される頭部Ｐ及び当該頭部Ｐを含む患者ＰＷを基準とすると、上記下側縁ＩＥは、患者ＰＷの肩ＰＳ上を通過している（図１５参照）。また、下側縁ＩＥの最下端部ＩＥＬは、頭部Ｐの前方側で肩ＰＳの最上部（図１５のラインＬ１の位置参照）よりも下方に配設される。患者ＰＷは、標準的な成人の体型を基準として考える。
【０２０６】
傾斜支持部２５０が走査方向移動機構２４２を水平姿勢と傾斜姿勢との間で傾斜可能に支持する構成をもって、Ｘ線検出器側支持部が、Ｘ線検出部２２０の存在領域Ｊの下側縁ＪＥが水平方向に沿う水平状態（図１１参照）と、Ｘ線検出部２２０の存在領域Ｉの下側縁ＩＥが水平方向に対して傾斜する傾斜状態（図１５参照）との間で、状態変更可能に前記Ｘ線検出部を支持する構成とされる。なお、傾斜支持部２５０は、走査方向移動機構２４２を複数の傾斜角度で傾斜させることができるため、この構成は、Ｘ線検出部２２０の存在領域Ｉの下側縁ＩＥが水平方向に対して傾斜する角度が異なる複数の傾斜状態の間でも状態変更可能にＸ線検出部２２０を支持する構成であると捉えることができる。
【０２０７】
なお、側面頭部Ｘ線撮影中において、照射野規制部２３０も上記Ｘ線検出部２２０と同様に移動する。照射野規制部２３０の下端部は、Ｘ線検出部２２０の下端部と同程度の高さ位置又はこれよりも上方の高さ位置に存在する。このため、側面頭部Ｘ線撮影中において、照射野規制部２３０の存在領域Ｋの下側縁ＫＥも、上記Ｘ線検出部２２０の存在領域Ｉの下側縁ＩＥと平行で、当該下側縁ＩＥと同じ位置又はこれよりも上方に位置する（図１５参照）。
【０２０８】
＜側面頭部セファロ画像の生成について＞
画像処理装置１８０における、Ｘ線検出器２２２の出力に基づく側面頭部セファロ画像の生成処理について、図２０を参照して説明する。
【０２０９】
上記Ｘ線検出器２２２から出力されたＸ線撮影データは、画像処理装置１８０に送信される。上記側面頭部セファロ撮影時における傾斜角度θも画像処理装置１８０に送信される。
【０２１０】
ステップＳ２１において、Ｘ線撮影データに基づいて初期側面頭部セファロ画像２６０が生成される。Ｘ線撮影データは、Ｘ線検出器２２２が傾斜角度θで傾斜する方向に走査することによって得られるデータであるため、初期側面頭部セファロ画像２６０は図２３に示すように、方形状の画像領域内において、頭部骨格Ｂが角度θ傾いた状態となっている。初期側面頭部セファロ画像において、頭部骨格Ｂの下顎底Ｂａは、画像領域の下側縁Ｅに沿っており、下顎Ｂｂが当該下側縁Ｅの内側で全体的に写り込んだ状態となっている。
【０２１１】
次ステップＳ２２において、傾斜角度θに基づいて、初期側面頭部セファロ画像２６０を角度θ分傾けて、側面頭部セファロ画像２６２を生成する。図２４に示すように、側面頭部セファロ画像２６２は、液晶表示装置等の表示画面において、全体的に角度θ傾いた状態で表示され、したがって、表示画面において、頭部骨格Ｂの下顎底Ｂａが水平方向に対して傾斜した状態で写り込んでいる。このため、頭部保持具２１０によって保持された頭部Ｐの姿勢に応じた状態で、頭部骨格Ｂが写り込んだ側面頭部セファロ画像２６２を生成することができる。
【０２１２】
図２５に示すように、液晶表示装置等の表示画面において、方形状の表示領域２６４内に側面頭部セファロ画像２６２が映り込んだ修正側面頭部セファロ画像２６２Ａが生成されて表示される。修正側面頭部セファロ画像２６２Ａにおいて、当該方形状の表示領域２６４と側面頭部セファロ画像２６２との間の領域２６６が背景色（例えば黒）等で埋められていてもよい。
【０２１３】
＜まとめ＞
以上のように構成されたＸ線撮影装置１１０によると、側面頭部セファロ撮影中においてＸ線発生器１２６ａから照射されて頭部Ｐを通過してＸ線検出器２２２に入射するＸ線の照射領域Ｈの下側縁ＨＥの頭部後方側ＨＥ１が、下側縁ＨＥの頭部前方側ＨＥ２よりも高く配置されている。このため、下側縁ＨＥの頭部後方側ＨＥ１を脊椎の上方又は甲状腺部位の上方に設定することで、不必要な部位へのＸ線照射を抑制しつつＸ線撮影を行える。また、下側縁ＨＥの頭部前方側ＨＥ２を下顎Ｂｂの下顎底Ｂａより下方に設定することによって下顎の画像に欠落部分を生じさせない等で、側面頭部セファロ画像として必要な部位をＸ線撮影することができる。
【０２１４】
また、上記照射領域Ｈの下側縁ＨＥを水平方向に対して傾斜させることで、当該下側縁ＨＥを下顎底Ｂａに沿って傾斜させ易い。これにより、側面頭部セファロ画像として必要な下顎Ｂｂ部位等を含み、かつ、不必要部位へのＸ線照射を可及的に抑制して側面頭部セファロ撮影を行うことができる。
【０２１５】
また、Ｘ線検出部２２０は、Ｘ線検出器２２２が含まれた外装ケース２２４を含んでおり、Ｘ線検出部２２０は、側面頭部セファロ撮影中におけるＸ線検出部２２０の存在領域Ｉの下側縁ＩＥの頭部後方側ＩＥ１が、下側縁ＩＥの頭部前方側ＩＥ２よりも高く位置するように、支持されている。
【０２１６】
このため、下顎Ｂｂについては、側面頭部セファロ撮影中におけるＸ線検出部２２０の存在領域のうち下寄りの部分でＸ線撮影を行える。また、側面頭部セファロ撮影中におけるＸ線検出部２２０の存在領域Ｉの下側縁ＩＥのうち最下端部よりも上側に位置する部分を患者ＰＷの肩ＰＳの上側に配置することで、患者ＰＷの肩ＰＳとＸ線検出部２２０との接触を回避することができる。これにより、患者ＰＷの肩ＰＳとＸ線検出部２２０との接触を回避しつつ、下顎Ｂｂを含む撮影領域をなるべく全体的に撮影できる。
【０２１７】
特に、Ｘ線検出部２２０の存在領域Ｉの下側縁ＩＥが水平方向に対して傾斜していれば、当該ＩＥを下顎底Ｂａに沿って移動させ易くなり、下側縁が下顎底Ｂａに沿った側面頭部セファロ画像を撮像し易い。
【０２１８】
頭部Ｐを保持する頭部保持具２１０を備える構成を前提とすると、側面頭部セファロ撮影中におけるＸ線検出部２２０の存在領域Ｉの下側縁ＩＥが、頭部保持具２１０によって保持される頭部Ｐの姿勢を基準として頭部Ｐの前方に向けて下向き傾斜するようにすると、頭部保持具２１０によって保持される頭部Ｐの下顎Ｂｂを撮影するのに適する。
【０２１９】
上記傾斜構成を前提とすると、側面頭部セファロ撮影中におけるＸ線検出部２２０の存在領域Ｉの下側縁ＩＥが、頭部Ｐが頭部保持具２１０によって保持される患者ＰＷの肩ＰＳ上を通過し、かつ、側面頭部セファロ撮影中におけるＸ線検出部２２０の存在領域Ｉの下側縁ＩＥの最下端部が、頭部Ｐの前方側で肩ＰＳの最上部よりも下方に配設されるようにすると、Ｘ線検出部２２０と肩ＰＳとの接触を回避しつつ、下顎Ｂｂを撮影するのに適する。
【０２２０】
例えば、図２６に示すように、患者ＰＷ１の肩ＰＳ１が通常体格よりも上方に位置し、顎ＰＣ１の先端部が通常よりも下方に位置しているとする。この場合に、Ｘ線検出部２２０を水平に移動させて、側面頭部セファロ撮影を行おうとすると、Ｘ線検出部２２０の存在領域の下側縁は、顎ＰＣ１の先端部よりも下側の水平ラインＬ２上を移動させる必要が生じる。しかしながら、この場合、Ｘ線検出部２２０が頭部Ｐの後方に向けて移動する途中で、肩ＰＳ１に接触してしまう。
【０２２１】
上記のように、側面頭部セファロ撮影中におけるＸ線検出部２２０の存在領域Ｉの下側縁ＩＥの頭部後方側ＩＥ１が、下側縁ＩＥの頭部前方側ＩＥ２よりも高く位置するように支持することで、Ｘ線検出部２２０が顎ＰＣ１を撮像可能な条件で移動する際に、肩ＰＳに接触することを抑制できる。
【０２２２】
また、上記のような照射領域Ｈに照射されるＸ線を検出するための構成として、Ｘ線検出器２２２が長尺状のＸ線検出面２２２ａを有し、Ｘ線検出部側移動機構２４０によって、側面頭部セファロ撮影中におけるＸ線検出部２２０の存在領域（移動領域）Ｉの下側縁ＩＥが水平方向に対して傾斜するように、Ｘ線検出面２２２ａの延在方向に対して交差する方向にＸ線検出部２２０を移動させるため、長尺状のＸ線検出面２２２ａを有するＸ線検出器２２２によって、側面頭部セファロ画像を得ることができる。長尺状のＸ線検出面２２２ａを有するＸ線検出器２２２は、上記照射領域Ｈ全体に広がるＸ線検出面を有するＸ線検出器と比較して安価である。
【０２２３】
また、照射野規制部２３０により頭部Ｐ近くでＸ線の照射範囲を規制することができ、被曝量低減により貢献する。
【０２２４】
また、Ｘ線検出部側移動機構２４０は、Ｘ線検出部２２０を走査移動させる走査方向移動機構２４２と、走査方向移動機構２４２を傾斜させる傾斜支持部２５０とを含む。このため、走査方向移動機構２４２を水平方向に傾けた姿勢で支持することで、側面頭部セファロ撮影中におけるＸ線検出部２２０の存在領域（移動領域）Ｉの下側縁ＩＥが水平方向に対して傾斜するようにすることができる。
【０２２５】
また、走査方向移動機構２４２の傾斜角度を調整することで、Ｘ線検出部２２０の存在領域Ｉの下側縁ＩＥは、水平状態と傾斜状態との間で状態変更可能とされている。このため、水平状態では、頭部を正面から撮像する正面頭部セファロ撮影を実行するのに適し、傾斜状態では、側面頭部セファロ撮影等に適する。
【０２２６】
なお、正面頭部セファロ撮影を実行する際には、走査方向移動機構２４２を水平姿勢に保てばよい。また、Ｘ線ビーム形状調整部１２７に形成された開口１２７Ｅについては、上下方向（Ｚ方向）において一定位置に保ちつつ、頭部Ｐの前後方向（Ｘ方向）に移動させればよい。
【０２２７】
また、Ｘ線検出部２２０の存在領域Ｉの下側縁ＩＥが水平方向に対して傾斜する角度が異なる複数の傾斜状態の間でも状態変更可能とされている。これは、傾斜支持部２５０による走査方向移動機構２４２の傾斜角度を調整することで実現される。
【０２２８】
このため、走査方向移動機構２４２の延在方向を下顎底Ｂａに沿った状態にする等して、患者の体格等に応じて、Ｘ線検出部２２０の存在領域Ｉの下側縁ＩＥが水平方向に対して傾斜する角度を調整することができる。
【０２２９】
また、側面頭部セファロ画像２６２において、頭部Ｐの下顎底Ｂａが水平方向に対して傾斜状態で写り込んでいるため、頭部Ｐが通常姿勢又はそれに近い姿勢で写り込んだ側面頭部セファロ画像２６２を容易に観察することができる。
【０２３０】
また、側面頭部セファロ画像２６２において、その下側縁が下顎底Ｂａに沿っており、下顎はその内側に写り込んでいる。かかる側面頭部セファロ画像２６２は、側面頭部セファロ撮影中におけるＸ線検出部２２０の存在領域Ｉの下側縁ＩＥが水平方向に対して傾斜する条件下で側面頭部セファロ撮影を行うことによって、容易に得ることができる。
【０２３１】
＜変形例＞
第２実施形態を前提として各種変形例について説明する。
【０２３２】
＜変形例１＞
図２７は変形例１に係るセファロ撮影ユニット２００Ａを示す概略側面図であり、図２８はセファロ撮影ユニット２００Ａを示す概略正面図である。
【０２３３】
セファロ撮影ユニット２００に対応するセファロ撮影ユニット２００Ａは、Ｘ線検出部側移動機構２４０に対応するＸ線検出部側移動機構２４０Ａを備えており、このＸ線検出部側移動機構２４０Ａは、走査方向移動機構２４２Ａと、傾斜支持部２５０Ａとを備えている。
【０２３４】
傾斜支持部２５０Ａは、Ｘ線検出部２２０の存在領域Ｉの下側縁ＩＥが水平方向に沿う水平状態と、当該下側縁ＩＥが水平方向に対して傾斜する傾斜状態との間で、状態変更可能にＸ線検出部２２０を支持している。ここでは、走査方向移動機構２４２Ａは２つ設けられ、一方の走査方向移動機構２４２ＡはＸ線検出部２２０を移動可能に支持し、他方の走査方向移動機構２４２Ａは、照射野規制部２３０を移動可能に支持している。
【０２３５】
より具体的には、セファロ撮影用アーム１４３の先端部に傾斜支持部２５０Ａを介してセファロベース２０２に対応するセファロベース２０２Ａが傾斜可能に支持されている。傾斜支持部２５０Ａとしては、傾斜支持部２５０と同様に、モータ２５２Ａを含み、当該モータ２５２Ａの駆動力によってセファロベース２０２Ａを水平姿勢と傾斜姿勢との間で姿勢変更駆動する構成を採用することができる。傾斜支持部には、モータ等の駆動機構が組込まれず、手動によって姿勢変更される構成であってもよい。
【０２３６】
セファロベース２０２Ａの両側に一対の走査方向移動機構２４２Ａが固定されており、一対の走査方向移動機構２４２Ａの一方にＸ線検出部２２０が垂下状に支持され、他方に照射野規制部２３０が垂下状に支持されている。走査方向移動機構２４２Ａは、上記走査方向移動機構２４２と同様構成を採用することができる。
【０２３７】
この変形例１では、セファロベース２０２Ａを姿勢変更することで、一対の走査方向移動機構２４２Ａを一括して姿勢変更することができる。
【０２３８】
頭部保持具２１０がＸ線検出部側移動機構２４０Ａに対して姿勢変更可能に支持されている。ここでは、セファロベース２０２Ａの中央部から姿勢変更支持部２１１Ａを介して頭部保持具２１０が垂下状に支持されている。姿勢変更支持部２１１Ａは、頭部保持具２１０を上記傾斜支持部２５０Ａの支持軸と同一方向に沿う軸周りに姿勢変更可能に支持する。ここでは、姿勢変更支持部２１１Ａは、セファロベース２０２Ａの中央部から垂設された固定片２０３Ａと頭部保持具２１０を構成する要素であるロッドベース２１５から上方に延びる支持片２１２Ａとにシャフト２１３Ａが挿通されており、そのシャフト２１３Ａを中心にして頭部保持具２１０が姿勢変更できるようになっている。固定片２０３Ａはセファロベース２０２Ａに対して回動可能となっていて、頭部Ｐの向きを変えられるようになっている。
【０２３９】
この変形例によると、上記第２実施形態による作用効果に加えて、セファロベース２０２Ａを姿勢変更することによって、上記傾斜支持部２５０によりＸ線検出器２２２及び照射野規制部２３０の両方を姿勢変更することができる。そして、頭部保持具２１０については、セファロベース２０２Ａに対して姿勢変更させて、頭部Ｐを鉛直姿勢で保持できるように、セファロベース２０２Ａに対して傾ける（図２９参照）。そして、側面頭部セファロ撮影を実行することができる。つまり、Ｘ線検出器２２２を水平姿勢にしても傾斜姿勢にしても、また、これらの姿勢変更をセファロベース２０２Ａ全体として行っても、頭部保持具２１０をセファロ撮影に適した所定の姿勢に保ち易い。
【０２４０】
なお、上記シャフト２１３Ａに回転駆動力を伝達するモータ等を設け、頭部保持具２１０を当該モータ等の駆動によって傾斜駆動させるようにしてもよい。
【０２４１】
このように頭部保持具２１０をＸ線検出部側移動機構２４０Ａに対して姿勢変更可能に支持する構成は、後述する第４実施形態に対しても適用することができる。
【０２４２】
＜変形例２＞
図３０は変形例２に係るセファロ撮影ユニット２００Ｂを示す概略正面図であり、図３１はセファロ撮影ユニット２００Ｂを示す概略平面図であり、図３２はセファロ撮影ユニット２００Ｂを示す概略側面図である。
【０２４３】
上記実施形態では、Ｘ線、Ｘ線検出部２２０及び照射野規制部２３０の延在方向を水平方向に近い状態で傾斜させて頭部Ｐの前後方向に走査する構成であったが、変形例２のように、Ｘ線、Ｘ線検出部２２０、照射野規制部２３０の延在方向を上下方向に近い状態で傾斜させて頭部Ｐの上下方向に走査してもよい。
【０２４４】
すなわち、セファロ撮影ユニット２００に対応するセファロ撮影ユニット２００Ｂは、Ｘ線検出部側移動機構２４０に対応するＸ線検出部側移動機構２４０Ｂを備えており、Ｘ線検出部側移動機構２４０Ｂは、走査方向移動機構２４２と、傾斜支持部２５０Ｂとを含む。
【０２４５】
変形例２に係るセファロ撮影ユニット２００Ｂにて特徴的なのは、長尺状のＸ線検出器２２２、Ｘ線検出面２２２ａの延在方向が非傾斜セファロ撮影において水平方向であることである。これに合わせてスリット２３２も水平方向に長く延在する。非傾斜セファロ撮影におけるＸ線検出器２２２、照射野規制部２３０の移動（走査）方向は、垂直方向である。傾斜セファロ撮影においては、この走査方向を垂直方向に対して角度θ分傾斜させる（図３２、図３３参照）。
【０２４６】
走査方向移動機構２４２は、上記第２実施形態で説明した走査方向移動機構２４２と設置の方向は異なるが同様の機械的構成である。
【０２４７】
傾斜支持部２５０Ｂは、走査方向移動機構２４２を鉛直方向に対して傾けた姿勢で支持することでＸ線検出部２２０を傾斜支持することが可能となっている。
【０２４８】
すなわち、傾斜支持部２５０Ｂとしては、走査方向移動機構２４２を傾斜可能に支持する構成として上記傾斜支持部２５０と同様構成を採用することができるが、当該走査方向移動機構２４２の支持姿勢が異なっている。
【０２４９】
より具体的には、傾斜支持部２５０Ｂは、セファロベース２０２に対して頭部Ｐの後方側部分に固定されている。傾斜支持部２５０Ｂの駆動シャフト２５３Ｂの端部には、走査方向移動機構２４２のうち頭部Ｐの後方側の端部が連結されている。そして、モータ等の駆動によって駆動シャフト２５３Ｂを回転させることによって、走査方向移動機構２４２を鉛直姿勢と当該鉛直姿勢から傾けた姿勢との間で姿勢変更可能に支持する。
【０２５０】
ここでは、上記実施形態と同様に、セファロベース２０２の両側に傾斜支持部２５０Ｂ及び走査方向移動機構２４２が設けられている。２つの走査方向移動機構２４２の一方に当該走査方向移動機構２４２と直交する姿勢でＸ線検出部２２０が移動可能に支持され、他方に照射野規制部２３０が当該走査方向移動機構２４２と直交する姿勢で移動可能に支持されている。
【０２５１】
もちろん、上記実施形態で説明したように、走査方向移動機構２４２は、手動によって姿勢変更される構成であってもよい。
【０２５２】
走査方向移動機構２４２が鉛直姿勢とされた状態では、Ｘ線検出面２２２ａが走査方向移動機構２４２の延在方向に対して直交する水平姿勢で、Ｘ線検出部２２０が鉛直方向に移動可能とされる。同様に、照射野規制部２３０は、その延在方向を走査方向移動機構２４２の延在方向に対して直交させた水平姿勢で、鉛直方向に移動可能とされる（図３２参照）。
【０２５３】
この際のＸ線検出器２２２のＸ線検出面２２２ａの移動軌跡は、横縁が水平方向に沿い、縦縁が鉛直方向に沿う方形状となる。このため、正面頭部セファロ撮影等に適する。
【０２５４】
また、走査方向移動機構２４２を鉛直方向に対して角度θ傾けると、Ｘ線検出面２２２ａが水平方向に対して角度θ傾いた姿勢で、Ｘ線検出部２２０が走査方向移動機構２４２に対して移動可能に支持されている（図３３及び図３４参照）。この状態で、走査方向移動機構２４２の駆動によってＸ線検出部２２０を走査方向移動機構２４２の延在方向に沿って移動させるとする。この際のＸ線検出部２２０の移動跡の下側縁は、水平方向に対して角度θ傾く。同様に、Ｘ線検出面２２２ａの移動軌跡の下側縁は、水平方向に対して角度θ傾く。なお、Ｘ線発生器１２６ａから照射されＸ線ビーム形状調整部１２７によって形状調整されたＸ線は、水平方向に沿うスリット状となって、照射野規制部２３０に達する。ここで、Ｘ線が照射野規制部２３０に達する領域Ｆ（図３３及び図３４参照）は、スリット２３２よりも大きく、従って、Ｘ線は、角度θ傾くスリット２３２によって角度θ傾斜するスリット状に規制されて頭部Ｐを通過してＸ線検出器２２２のＸ線検出面２２２ａに入射する。
【０２５５】
このため、側面頭部セファロ撮影中における、Ｘ線検出部２２０の移動跡の下側縁及びＸ線検出面２２２ａの移動軌跡の下側縁を、上記第２実施形態と同様に設定することができる。
【０２５６】
なお、この変形例の場合、Ｘ線ビーム形状調整部１２７による開口１２７Ｅの形状及び位置制御処理は、照射野規制部２３０のスリット２３２及びＸ線検出面２２２ａの動きに追従させて、図３５に示すようにするとよい。
【０２５７】
すなわち、Ｘ線ビーム形状調整部１２７は、水平方向（頭部Ｐの前後方向）に長いスリット状の開口１２７Ｅを形成するように、遮蔽部材１２７Ａ、１２７Ｂ（図５及び図６参照）の位置を調整する。そして、側面頭部セファロ撮影が開始されると、スリット状の開口１２７Ｅを一定のスリット状の形状に保ったまま、頭部Ｐの上下方向（Ｚ方向）及び前後方向（Ｘ方向）に移動させるように、遮蔽部材１２７Ａ、１２７Ｂを移動させる。
【０２５８】
ここでは、開口１２７ＥをＺ方向に沿って頭部Ｐの下方から上方に移動させるのに伴って、開口１２７ＥをＺ方向に沿って徐々に頭部Ｐの前方向に移動させる。この動きは、上記照射野規制部２３０のスリット２３２の移動に追従した動きである。
【０２５９】
走査方向移動機構２４２の傾斜角度θとし、開口１２７Ｅの初期位置に対するＺ方向の移動量をＺｂとし、開口１２７Ｅの初期位置に対するＸ方向の移動量をＸｂとすると、（ｔａｎθ＝Ｘｂ／Ｚｂ）を満たすように、開口１２７Ｅの位置を制御する。
【０２６０】
これにより、Ｘ線、Ｘ線検出部２２０及び照射野規制部２３０の延在方向及び走査方向が異なる点を除いて、上記第２実施形態と同様に（図２２参照）、側面頭部セファロ撮影中においてＸ線発生器１２６ａから照射されて頭部Ｐを通過してＸ線検出器２２２に入射するＸ線の照射領域Ｈの下側縁ＨＥの頭部後方側ＨＥ１が、下側縁の頭部前方側ＨＥ２よりも高く配置されるように、Ｘ線撮影を行うことが可能となり（図３４参照）、当該第２実施形態と同様の作用効果を得ることが可能となる。また、側面頭部セファロ撮影中においてＸ線検出部２２０の存在領域も上記第２実施形態と同様となる。
【０２６１】
なお、Ｘ線検出部２２０は下方から上方に移動させた方が、肩への当たりが無いことが確認できてからのＸ線検出部２２０の移動となるので、肩への当りを効果的に抑制でき好適である。
【０２６２】
なお、正面頭部セファロ撮影を行う場合には、走査方向移動機構２４２を鉛直姿勢とし、Ｘ線ビーム形状調整部１２７によるＸ線の走査方向を上下方向とする。この場合のＸ線検出器２２２におけるＸ線の照射領域Ｈは、図３２に示すように、上下辺が水平な方形状となり、正面頭部セファロ撮影を行うのに適する。
【０２６３】
＜その他の変形例＞
本実施形態及びその変形例においては、Ｘ線ビーム形状調整部１２７における開口１２７Ｅの形状及び位置制御と、照射野規制部２３０の制御によって、Ｘ線の照射領域Ｈの下側縁ＨＥを調整している。もっとも、照射野規制部２３０を省略し、Ｘ線ビーム形状調整部１２７における開口１２７Ｅの形状及び位置を制御することによっても、Ｘ線の照射領域Ｈの下側縁ＨＥの上記のような構成に調整することができる。この場合において、Ｘ線ビーム形状調整部１２７における開口１２７Ｅの延在方向を傾ける構成としては、第４実施形態で説明するように、Ｘ線ビーム形状調整部１２７の遮蔽部材１２７Ａ、１２７Ｂの全体を傾ける構成を採用することができる。また、Ｘ線ビーム形状調整部１２７を省略し、照射野規制部２３０の位置を制御することによっても、Ｘ線の照射領域Ｈの下側縁ＨＥの上記のような構成に調整することができる。この場合、照射野規制部２３０をより大きくして、Ｘ線発生器１２６ａから照射されるＸ線の範囲をより大きな範囲で制限できるようにしてもよい。
【０２６４】
｛第３実施形態｝
第３実施形態に係るＸ線撮影装置３１０について説明する。なお、本実施の形態の説明において、第２実施形態で説明したものと同様構成要素については同一符号を付してその説明を省略する。
【０２６５】
図３６はセファロ撮影ユニット２００に対応するセファロ撮影ユニット３００を示す概略正面図であり、図３７はセファロ撮影ユニット３００を示す概略側面図である。
【０２６６】
上記第２実施形態では、走査方向移動機構２４２自体を傾け、Ｘ線検出部２２０及び照射野規制部２３０を走査方向移動機構２４２の傾斜方向に沿って移動させる構成について説明したが、第３実施形態では、Ｘ線検出部２２０及び照射野規制部２３０を昇降可能に支持し、Ｘ線検出部２２０及び照射野規制部２３０を頭部Ｐの前後方向に移動させるときにＸ線検出部２２０及び照射野規制部２３０を昇降移動させている。前後方向の移動と昇降移動とを同期させてもよい。これにより、側面頭部セファロ撮影中においてＸ線発生器１２６ａから照射されて頭部Ｐを通過してＸ線検出器２２２に入射するＸ線の照射領域の下側縁の頭部後方側が、前記下側縁の頭部前方側よりも高く配置される。また、側面頭部セファロ撮影中におけるＸ線検出部２２０の存在領域の下側縁の頭部後方側が、前記下側縁の頭部前方側よりも高く位置するようにしている。
【０２６７】
より具体的には、図３６及び図３７に示すように、セファロ撮影ユニット３００は、Ｘ線検出部側移動機構２４０に対応するＸ線検出部側移動機構３４０を備えており、このＸ線検出部側移動機構３４０は、走査方向移動機構３４２と、傾斜用移動機構３５１とを備える。
【０２６８】
走査方向移動機構３４２は、上記第２実施形態で説明した走査方向移動機構２４２と同様の構成を備える。走査方向移動機構３４２は、セファロベース２０２の側部に頭部Ｐの前後方向（水平方向）に沿って支持されている。この走査方向移動機構３４２によって、可動部３４３が頭部Ｐの前後方向に沿って移動駆動可能に支持されている。
【０２６９】
可動部３４３に、傾斜用移動機構３５１を介してＸ線検出部２２０が移動可能に支持されている。Ｘ線検出部２２０の支持姿勢は、当該Ｘ線検出部２２０に組込まれたＸ線検出器２２２のＸ線検出面２２２ａの延在方向が走査方向移動機構３４２の延在方向に対して直交する一定姿勢である。このため、走査方向移動機構３４２は、Ｘ線検出部２２０をＸ線検出面２２２ａの延在方向に対して直交する方向に往復移動させる。
【０２７０】
傾斜用移動機構３５１は、走査方向移動機構３４２によるＸ線検出部２２０の移動と同期してＸ線検出部２２０をＸ線検出面２２２ａの延在方向に沿った方向に移動させる。
【０２７１】
図３８は傾斜用移動機構３５１を示す概略斜視図である。図３６〜図３８に示すように、傾斜用移動機構３５１は、昇降駆動部３５２と、昇降駆動シャフト３５３と、ガイドシャフト３５４とを備える。
【０２７２】
昇降駆動部３５２は、モータ等であり、上記可動部３４３に固定されている。昇降駆動部３５２の昇降駆動シャフト３５３は、可動部３４３から走査方向移動機構３４２の延在方向に対して直交する下向けに突出している。この昇降駆動シャフト３５３にはねじ溝が形成されている。また、Ｘ線検出部２２０の外装ケース２２４には、昇降駆動シャフト３５３に螺合可能なネジ孔を有するねじ部３２５が形成されている。そして、昇降駆動シャフト３５３が昇降駆動部３５２の駆動によって正逆両方向に回転駆動されると、その回転方向及び回転速度に応じてＸ線検出部２２０が昇降駆動する。
【０２７３】
また、ガイドシャフト３５４は、可動部３４３から走査方向移動機構３４２の延在方向に対して直交する下向けに突出している。Ｘ線検出部２２０の外装ケース２２４には、ガイドシャフト３５４が移動可能に挿通されるガイド孔３２６が形成されている。そして、ガイドシャフト３５４がガイド孔３２６に挿通された状態で、当該ガイドシャフト３５４によるガイド下、Ｘ線検出部２２０が昇降移動する。照射野規制部２３０についても上記と同様構成にて昇降駆動される。
【０２７４】
セファロベース２０２の他側にも、上記と同様構成の走査方向移動機構３４２及び傾斜用移動機構３５１が設けられている。
【０２７５】
セファロベース２０２の他側において、走査方向移動機構３４２及び傾斜用移動機構３５１によって、照射野規制部２３０が上記Ｘ線検出部２２０と同様に走査方向移動機構３４２の延在方向に沿って移動可能、かつ、その移動方向に対して直交する方向に移動可能に支持されている。
【０２７６】
図３９はＸ線撮影装置３１０のブロック図である。本Ｘ線撮影装置３１０のブロック図が第２実施形態のＸ線撮影装置１１０のブロック図（図１６参照）と異なるのは、傾斜制御部１５２ｄが省略され、その代りに、本体制御部３５０が昇降方向制御部３５２ｄを備える点である。
【０２７７】
昇降方向制御部３５２ｄは、傾斜角度設定部１５２ｃで設定された傾斜角度に応じて、Ｘ線検出部２２０が走査方向移動機構３４２によって走査移動されるのに同期して、傾斜用移動機構３５１によってＸ線検出部２２０を昇降移動させるように制御する。
【０２７８】
Ｘ線撮影装置３１０の動作について、図４０を参照して、側面頭部セファロ撮影動作を中心に説明する。
【０２７９】
本Ｘ線撮影装置３１０の動作が、第２実施形態のＸ線撮影装置１１０の動作（図１９参照）と異なるのは、ステップＳ６（走査方向移動機構を傾けるステップ）が省略されること、及び、ステップＳ８に代るステップＳ３１において、Ｘ線照射制御、Ｘ線発生器側制御及びＸ線検出器側制御を行う際、当該Ｘ線検出器側制御として、走査方向移動機構３４２による走査方向の制御に加えて、傾斜用移動機構３５１による昇降方向の制御を行うことである。
【０２８０】
すなわち、上記したようにステップＳ１〜Ｓ７が処理された後、ステップＳ３１においては、上記第２実施形態で説明したのと同様に、Ｘ線照射制御及びＸ線発生器側制御がなされる。
【０２８１】
Ｘ線検出器側制御としては、Ｘ線検出部２２０及び照射野規制部２３０を、頭部Ｐの前後方向（Ｘ方向）に移動させるように、走査方向移動機構３４２を制御すると共に、この移動に同期してＸ線検出部２２０及び照射野規制部２３０を、頭部Ｐの上下方向（Ｚ方向）に昇降移動させるように、傾斜用移動機構３５１を制御することが含まれる。ステップＳ５において、傾斜角度θをゼロに設定する（Ｘ線検出部２２０及び照射野規制部２３０の上下の移動量がゼロである）場合もありうることは、第２実施形態のＸ線撮影装置１１０の動作の場合と同様である。
【０２８２】
初期位置では、Ｘ線検出部２２０及び照射野規制部２３０は、頭部Ｐに対して前方側でかつ下寄りに位置している（図３７参照）。そして、各走査方向移動機構３４２を制御して、Ｘ線検出部２２０及び照射野規制部２３０を頭部Ｐの後方に向けて移動させる。
【０２８３】
これに同期して、傾斜用移動機構３５１を制御して、Ｘ線検出部２２０及び照射野規制部２３０を頭部Ｐの上方に向けて移動させる（図４１及び図４２参照）。
【０２８４】
ここで、設定された傾斜角度θ、Ｘ線検出部２２０及び照射野規制部２３０の初期位置に対するＸ方向の移動量をＸｃ、Ｘ線検出部２２０及び照射野規制部２３０の初期位置に対するＺ方向の移動量をＺｃとすると、（ｔａｎθ＝Ｚｃ／Ｘｃ）を満たすように、走査方向移動機構３４２による移動距離に対する傾斜用移動機構３５１による昇降距離を制御する。
【０２８５】
なお、本実施形態においては、走査方向移動機構３４２による移動速度に対して、傾斜用移動機構３５１によるＸ線検出部２２０及び照射野規制部２３０の移動速度を変更すれば、上記複数段階又は可変の傾斜角度θに対応することが可能となる。
【０２８６】
Ｘ線検出部２２０及び照射野規制部２３０は、頭部Ｐの後方に向うに従って、傾斜角度θで徐々に上方に移動する。Ｘ線検出部２２０及び照射野規制部２３０の頭部Ｐの後方への移動速度は、開口１２７Ｅによって照射範囲及び位置が調整されたＸ線が、Ｘ線検出部２２０のＸ線検出面２２２ａ及び照射野規制部２３０のスリット２３２に照射し得る範囲に設定されている。
【０２８７】
このため、Ｘ線発生器１２６ａから照射されたＸ線が頭部Ｐを前方から後方に向けて走査する。この際、Ｘ線は、Ｘ線ビーム形状調整部１２７によって形状調整された後、照射野規制部２３０のスリット２３２によって頭部Ｐ近くでより細いスリット形状に調整される。そして、頭部Ｐを通ってＸ線検出面２２２ａに入射する。
【０２８８】
Ｘ線ビーム形状調整部１２７によって形状調整されたＸ線は、照射野規制部２３０に対しては上下方向に延在する細長い形状で入射する（図４２の範囲Ｆ参照）。Ｘ線は、照射野規制部２３０のスリット２３２によってさらに細いＸ線ビームとなるように規制された後、頭部Ｐを通過して、Ｘ線検出面２２２ａに入射する。スリット２３２は、当該スリット２３２を通過したＸ線がＸ線検出面２２２ａ内に収って入射する程度の大きさに設定されている。Ｘ線検出面２２２ａも鉛直方向に沿っているため、照射野規制部２３０のスリット２３２によって形状調整されたＸ線は、無駄なくＸ線検出面２２２ａに入射することができる。
【０２８９】
図４３に頭部Ｐに対するＸ線の照射領域Ｇ及びＸ線検出面２２２ａが通過する跡を含む面（ＸＺ平面）におけるＸ線の照射領域Ｈを示す。
【０２９０】
同図に示すように、側面頭部セファロ撮影中においてＸ線発生器１２６ａから照射されて頭部Ｐを通過してＸ線検出器２２２に入射するＸ線の照射領域Ｈの下側縁ＨＥの頭部後方側ＨＥ１は、下側縁ＨＥの頭部前方側ＨＥ２よりも高く配置されている。
【０２９１】
ここでは、照射領域Ｈの下側縁ＨＥは、頭部保持具２１０によって保持される頭部Ｐの姿勢を基準として前方側に向けて下向きとなるように、水平方向に対して傾斜している。
【０２９２】
また、Ｘ線検出部２２０は、Ｘ線検出器２２２と、当該Ｘ線検出器２２２が組込まれた外装ケース２２４とを含んでいる。このＸ線検出部２２０を側面頭部Ｘ線撮影中に上記のように移動させることを想定すると、この場合のＸ線検出部２２０の存在領域Ｉは、下側縁ＩＥが頭部Ｐの前方から後方に向けて上向き傾斜する平行四辺形状を描く（図４２参照）。このため、当該下側縁ＩＥの頭部後方側ＩＥ１が、下側縁ＩＥの頭部前方側ＩＥ２よりも高く位置するように、Ｘ線検出部２２０がＸ線検出器側支持部によって支持されている。
【０２９３】
ここでは、下側縁ＩＥの頭部後方側ＩＥ１は、頭部保持具２１０によって保持される頭部Ｐの姿勢を基準として前方側に向けて下向きとなるように、水平方向に対して傾斜している。
【０２９４】
つまり、頭部Ｐに対するＸ線の照射領域Ｇ及びＸ線検出面２２２ａが通過する跡を含む面（ＸＺ平面）におけるＸ線の照射領域Ｈ、Ｘ線検出部２２０の存在領域Ｉの各下側縁部は、上記第２実施形態と同様に設定される。
【０２９５】
頭部Ｐに対するＸ線の照射領域Ｇ及びＸ線検出面２２２ａが通過する跡を含む面（ＸＺ平面）におけるＸ線の照射領域Ｈ、Ｘ線検出部２２０の存在領域Ｉが上記第２実施形態と異なるのは、その前側縁及び後側縁が傾斜せず、鉛直方向に沿っている点である。
【０２９６】
なお、正面頭部セファロ撮影を行う場合には、Ｘ線検出部２２０及び照射野規制部２３０を、頭部Ｐの前後方向（Ｘ方向）に移動させる際に、Ｘ線検出部２２０及び照射野規制部２３０を、頭部Ｐの上下方向（Ｚ方向）において一定位置に保てばよい。また、Ｘ線ビーム形状調整部１２７に形成された開口１２７Ｅについては、頭部Ｐの上下方向（Ｚ方向）において一定位置に保った状態で、頭部Ｐの前後方向（Ｘ方向）に移動させるとよい。
【０２９７】
図４４は画像処理装置１８０に対応する画像処理装置３８０における、Ｘ線検出器２２２の出力に基づく側面頭部セファロ画像の生成処理について、図２０を参照して説明する。
【０２９８】
上記Ｘ線検出器２２２から出力されたＸ線撮影データは、画像処理装置３８０に送信される。上記側面頭部セファロ撮影時における傾斜角度θも画像処理装置３８０に送信される。
【０２９９】
ステップＳ４１において、傾斜角度θに基づく画素データのズレ量が演算される。すなわち、上記のように走査してＸ線撮影を行うと、水平方向において隣合う画素が上記傾斜角度θ分、上下にずれる。傾斜角度θに基づいて、水平方向における画素データのズレ量を演算する。傾斜角度θが一定である場合等には、ズレ量は、当該傾斜角度θに対して予め設定された値であることもあり得る。
【０３００】
次ステップＳ４２において、Ｘ線撮影データに基づいて、上記ズレ量を補正して側面頭部セファロ画像を生成する。側面頭部セファロ画像３６２は、図４５に示すように、液晶表示装置等の表示画面において、下側縁が角度θ傾いた状態で表示され、したがって、表示画面において、頭部骨格Ｂの下顎底Ｂａが水平方向に対して傾斜した状態で写り込んでいる。このため、頭部保持具２１０によって保持された頭部Ｐの姿勢に応じた状態で、頭部骨格Ｂが写り込んだ側面頭部セファロ画像３６２が写り込んだ修正側面頭部セファロ画像３６２Ａを生成することができる。
【０３０１】
液晶表示装置等の表示画面において、方形状の表示領域３６４内に修正側面頭部セファロ画像３６２Ａを表示するに際して、側面頭部セファロ画像３６２が映り込み、当該方形状の表示領域３６４と側面頭部セファロ画像３６２との間の領域３６６が背景色（例えば黒）等で埋められていてもよい。
【０３０２】
第２実施形態における変形例２のように、第３実施形態を長尺状のＸ線検出器２２２、Ｘ線検出面２２２ａの延在方向が非傾斜セファロ撮影において水平方向であるように変形させられることは、容易に想起できるので、詳細説明は省略する。
【０３０３】
＜まとめ＞
第３実施形態に係るＸ線撮影装置３１０によると、走査方向移動機構２４２を傾けることによる作用効果を除いて、上記第２実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
【０３０４】
つまり、走査方向移動機構３４２によるＸ線検出部２２０の移動と同期してＸ線検出部２２０をＸ線検出面２２２ａの延在方向に沿った方向に移動させることで、側面頭部セファロ撮影中におけるＸ線検出部２２０の移動領域の下側縁が水平方向に対して傾斜するようにすることができる。
【０３０５】
特に、本実施形態においては、Ｘ線検出部２２０及び照射野規制部２３０を昇降移動させる構成であるため、Ｘ線検出部２２０及び照射野規制部２３０の存在領域、特に、下側縁の形状を自由に設定し易い。このため、例えば、Ｘ線を頭部Ｐの前方から後方に走査する途中で、Ｘ線ビーム形状調整部１２７によるＸ線の照射範囲を、段差を設けるように上下に変位させると共に、Ｘ線検出部２２０及び照射野規制部２３０を、段差を設けるように上下に昇降移動させることで、図２に示す下側縁ＨＥｂのように、頭部後方側ＨＥｂ１が頭部前方側ＨＥｂ２よりも高くなるように、段差ＨＥｂＳを介して連続する構成とすることもできる。
【０３０６】
｛第４実施形態｝
第４実施形態に係るＸ線撮影装置４１０について説明する。なお、本実施の形態の説明において、第２実施形態で説明したものと同様構成要素については同一符号を付してその説明を省略する。
【０３０７】
図４６はセファロ撮影ユニット４００を示す概略正面図であり、図４７はセファロ撮影ユニット４００を示す概略平面図であり、図４８はセファロ撮影ユニット４００を示す概略側面図であり、図４８ではＸ線検出部４２０が傾いた状態を示している。
【０３０８】
上記第２実施形態及び第３実施形態では、Ｘ線発生器１２６ａから出射されるＸ線をＸ線ビーム形状調整部１２７によって形状調整して頭部Ｐを走査し、また、Ｘ線検出器側支持部によってＸ線検出部２２０を走査する例で説明した。第４実施形態では、Ｘ線発生器１２６ａから出射されるＸ線が頭部Ｐの所望撮像領域全体を通過するようにし、かつ、Ｘ線検出部４２０のＸ線検出器４２２のＸ線検出面４２２ａが当該Ｘ線の照射領域全体を検出できるようにし、１度のＸ線の照射によってセファロ撮影（ワンショットセファロ撮影）を可能する構成について説明する。すなわち、Ｘ線撮影装置４１０では、Ｘ線発生器１２６ａから照射されるＸ線が方形状に広がって頭部Ｐのセファロ撮影部位を通過し、１つのタイミングでＸ線検出器４２２に入射する例について説明する。
【０３０９】
すなわち、Ｘ線撮影装置４１０では、Ｘ線発生器１２６ａとＸ線ビーム形状調整部４２６とを含むＸ線発生部１２６と、Ｘ線検出器４２２を含むＸ線検出部（セファロ撮影Ｘ線検出部）４２０とが対向して配設される。
【０３１０】
Ｘ線発生器１２６ａは上記第２実施形態において説明したものと同様構成である。
【０３１１】
図４９はＸ線ビーム形状調整部４２６を示す概略正面図であり、図５０は図４９のＬ−Ｌ線における概略断面図であり、図５１はＸ線ビーム形状調整部４２６の開口１２７Ｅが傾いた状態を示す概略正面図である。
【０３１２】
Ｘ線ビーム形状調整部４２６は、Ｘ線発生器１２６ａに対してＸ線の照射方向側に設けられており、Ｘ線発生器１２６ａから照射されるＸ線の形状を調整する。
【０３１３】
Ｘ線ビーム形状調整部４２６は、Ｘ線ビーム形状調整機構４２７と、傾動機構４３０とを備える。
【０３１４】
Ｘ線ビーム形状調整機構４２７の構成は、上記第２実施形態で説明したＸ線ビーム形状調整部１２７と同様構成であり、Ｘ線発生器１２６ａから照射されるＸ線の形状を４枚の遮蔽部材１２７Ａ、１２７Ｂによって形成される開口１２７Ｅによって方形状に調整する。４枚の遮蔽部材１２７Ａ、１２７Ｂのそれぞれを、遮蔽部材駆動部１２７Ｃ、１２７Ｄによって開閉駆動することによって、開口１２７Ｅの幅及び高さが調整され、また、その位置も調整される。
【０３１５】
傾動機構４３０は、Ｘ線ビーム形状調整機構４２７を、上記開口１２７Ｅの中央周りに傾ける機構である。
【０３１６】
傾動機構４３０は、環状支持部４３２と、回転プレート４３４と、傾動駆動部４３６とを備える。
【０３１７】
Ｘ線発生器１２６ａの照射方向側にベース板４３１が設けられており、上記環状支持部４３２がベース板４３１に回転可能に支持されている。環状支持部４３２は、細長い部分が環状に連続する環状部材であり、その内部に後述するベース板４３１の開口４３１ｈよりも大きい環状の孔が形成されている。この回転支持構造としては、例えば、円環状の環状支持部４３２をベース板４３１の一方主面に沿って配設し、環状支持部４３２の周り３箇所以上（図４９では４箇所）に、回転支持ローラ４３３を設けた構成を採用することができる。回転支持ローラ４３３は、ベース板４３１の一方主面に突出状態で回転可能に支持されている。そして、各回転支持ローラ４３３が環状支持部４３２に外周に複数箇所で接触することにより、環状支持部４３２を一定位置に支持している。この状態で、環状支持部４３２は、回転支持ローラ４３３を従動回転させつつ、一定位置の中心軸周りに回転する。なお、図４９の吹出し内に描かれるように、回転支持ローラ４３３の軸方向中間部の円状胴部が環状支持部４３２の外周面に接触している。また、回転支持ローラ４３３の頭部分は、他の部分よりも太くなっており、この頭部分が環状支持部４３２に対してベース板４３１の反対側から接触し、環状支持部４３２をベース板４３１の一方主面側に接触させた状態に支持している。
【０３１８】
回転プレート４３４は、環状支持部４３２に対してピン部材４３４ｂを介してベース板４３１の反対側に支持されており、環状支持部４３２と共に回転可能に支持されている。
【０３１９】
なお、ベース板４３１及び回転プレート４３４のうち環状支持部４３２の中央側の領域には、Ｘ線ビーム形状調整機構４２７によって形状調整されたＸ線の通過を許容する開口４３１ｈ、４３４ｈが形成されている。
【０３２０】
回転プレート４３４の一側部には、弧状のラインに沿って部分歯車４３４Ｔが形成されている。部分歯車４３４Ｔが沿う弧状のラインの曲率中心は、環状支持部４３２の中心と一致している。
【０３２１】
傾動駆動部４３６は、モータを含んでおり、その駆動シャフトに歯車４３６Ｔが固定されている。傾動駆動部４３６は、歯車４３６Ｔを部分歯車４３４Ｔに噛合わせた位置及び姿勢で、ブラケット等を介してベース板４３１に固定されている。そして、傾動駆動部４３６の駆動により歯車４３６Ｔを正逆両方向に回転させることで、回転プレート４３４が環状支持部４３２の中心軸周りに正逆両方向に回転駆動される。傾動駆動部４３６に含まれるモータは、ステッピングモータ等、回転方向及び回転量を制御可能モータであり、傾動駆動部４３６の駆動による回転方向及び回転量を制御することによって、回転プレート４３４の回転方向及び回転量（傾き角度）が制御される。
【０３２２】
Ｘ線ビーム形状調整機構４２７は、遮蔽部材１２７Ａ、１２７Ｂによって形成される開口１２７Ｅを、上記開口４３１ｈ、４３４ｈに対応する位置に配設した状態で、回転プレート４３４に固定されている。このため、回転プレート４３４の回転方向及び回転量（傾き角度）を制御することによって、Ｘ線ビーム形状調整機構４２７に形成される開口１２７Ｅの傾斜の向き及び角度が制御される。
【０３２３】
Ｘ線発生器１２６ａから照射されるＸ線が、Ｘ線検出器４２２において方形状の照射領域に照射し、かつ、その下側縁が水平姿勢に沿う状態を保つようにしたい場合、開口１２７Ｅを方形状に形成すると共に、その開口１２７Ｅの下側縁を水平方向に沿わせるように、回転プレート４３４及びＸ線ビーム形状調整機構４２７の回転角度を制御する（図４９参照）。
【０３２４】
また、Ｘ線発生器１２６ａから照射されるＸ線が、Ｘ線検出器４２２において方形状の照射領域に照射し、かつ、その下側縁が水平姿勢に対して傾斜角度θ傾く状態を保つようにしたい場合、開口１２７Ｅを方形状に形成すると共に、その開口１２７Ｅの下側縁を傾斜角度θ傾けるように、回転プレート４３４及びＸ線ビーム形状調整機構４２７の回転角度を制御する（図５１参照）。これにより、Ｘ線ビーム形状調整部４２６のうちＸ線ビームの通過を規制する下側縁が、側面頭部Ｘ線規格撮影中において水平方向に対して傾斜するようにすることができる。
【０３２５】
また、Ｘ線検出器側支持部４４０は、傾斜支持部４５０を備える（図４６〜図４９参照）。
【０３２６】
セファロベース２０２の一側部に、傾斜支持部４５０を介してＸ線検出部４２０が傾動可能に支持されている。
【０３２７】
ここでは、傾斜支持部４５０は、モータ４５２を含む。モータ４５２としては、回転方向及び回転量の調整が可能なモータ、例えば、ステッピングモータ等を用いることができる。モータ４５２は、セファロベース２０２の一側部に固定されている。モータ４５２の駆動シャフト４５３は、セファロベース２０２の一側部から外方に突出しており、駆動シャフト４５３の端部に支持ロッド４５６の延在方向の一端部が連結されている。
【０３２８】
そして、モータ４５２の駆動によって駆動シャフト４５３を正方向又は逆方向に回転させることで、支持ロッド４５６を水平方向に対して傾けた姿勢で支持することができる。モータ４５２の回転方向及び回転量の調整により、支持ロッド４５６は、水平姿勢と当該水平姿勢から傾いた姿勢との間で姿勢変更可能とされる。特に、モータ４５２の回転量を微調整することで、支持ロッド４５６は、水平姿勢から傾いた複数度合の傾斜姿勢で姿勢変更可能とされる。
【０３２９】
上記例では、駆動シャフト４５３が直接的に支持ロッド４５６に連結されているが、駆動シャフトと支持ロッドを回転可能に支持する支持シャフトとが複数のギヤを含むギヤ機構を介して連結されており、駆動シャフトの回転駆動力が当該ギヤ機構を介して支持シャフトに伝達されてもよい。その他、駆動シャフトの回転駆動力は、その他、プーリ機構等を介して支持シャフトに伝達されてもよい。
【０３３０】
本実施形態では、傾斜支持部４５０は、モータの駆動によって支持ロッド４５６を傾斜駆動する構成であるが、傾斜支持部は、支持ロッド４５６又はＸ線検出部４２０に対する手動操作によって支持ロッド４５６を傾斜可能に支持する構成であってもよい。例えば、傾斜支持部４５０は、支持ロッド４５６を傾斜可能に支持するシャフトを有する構成であってもよい。支持ロッド４５６を一定傾斜姿勢に支持する構成としては、シャフト周りにラチェット構造を設けること、支持ロッド４５６にネジを設け、そのネジの締付、弛緩に応じてシャフトに対する支持ロッド４５６の傾斜止、傾斜許容状態を切替えること、シャフトから離れた位置で支持ロッド４５６を所定傾き姿勢で保持するロック構造等を設けることで実現可能である。
【０３３１】
Ｘ線検出部４２０の上端部が直接的に上記駆動シャフト４５３に固定されていてもよい。
【０３３２】
Ｘ線検出部４２０は、Ｘ線検出器４２２を含む。Ｘ線検出器４２２は、Ｘ線発生器１２６ａから出射されたＸ線を検出するものであり、フラットパネルディテクタ（ＦＰＤ）又はＸ線蛍光増倍管（I. I.：Image Intensifier）等により構成される。Ｘ線検出器４２２は、方形状のＸ線検出面４２２ａを有している。ここで、Ｘ線発生器１２６ａから照射されたＸ線は、Ｘ線ビーム形状調整機構４２７によって方形状に調整された後、角錐状に広がって、Ｘ線検出面４２２ａを含む平面に照射される。Ｘ線検出面４２２ａは、このＸ線を照射領域と同じかこれよりも大きく設定されている。
【０３３３】
Ｘ線検出器４２２は、樹脂等で形成された外装ケース４２４に組込まれている。外装ケース４２４は、Ｘ線検出器４２２のうち少なくとも下部及び背面側を覆っているので、Ｘ線検出部４２０の外形は、Ｘ線検出器４２２の外形よりも大きい。Ｘ線検出器４２２のＸ線検出面４２２ａは、頭部保持具２１０側を向いている。
【０３３４】
傾斜支持部４５０によるＸ線検出部４２０の支持姿勢を傾けることによって、側面頭部セファロ撮影中におけるＸ線検出部４２０の下側縁が水平方向に対して傾斜する。
【０３３５】
本実施形態では、照射野規制部は設けられていない。もっとも、Ｘ線検出部４２０に対して頭部保持具２１０の反対側の位置に照射野規制部が設けられてもよい。この場合、照射野規制部としては、セファロ撮影部位に向けてＸ線を通過させることができる程度の大きさの方形状の開口が形成されたものを用いるとよい。また、照射野規制部は、上記傾斜支持部４５０と同様構成によって、Ｘ線検出部４２０と同じ角度傾けることができる構成とするとよい。
【０３３６】
Ｘ線検出部４２０に対して頭部保持具２１０の反対側の位置に照射野規制部を設け、上記傾斜支持部４５０と同様構成によって、Ｘ線検出部４２０と同じ角度傾けることができる構成とした場合に、後述の変形例３に示すように、Ｘ線検出部４２０を傾ける機構を省略し、一定姿勢で支持するようにして、照射野規制部を傾けることにより、照射野規制部で規制されたＸ線が方形状に広がると共に傾斜した状態で、Ｘ線検出器４２２のＸ線検出面４２２ａに入射するようにしてもよい。
【０３３７】
図５２はＸ線撮影装置４１０のブロック図である。本Ｘ線撮影装置４１０のブロック図が第２実施形態のＸ線撮影装置１１０のブロック図（図１６参照）と異なるのは、本体制御部４４９において走査方向制御部１５２ｅが省略されている点である。
【０３３８】
つまり、本実施形態では、側面頭部セファロ撮影を行う際に、Ｘ線検出部４２０を移動させず静止させた状態とするため、その操作制御は不要となる。
【０３３９】
Ｘ線撮影装置４１０の動作について、図５３を参照して、側面頭部セファロ撮影動作を中心に説明する。
【０３４０】
本Ｘ線撮影装置４１０の動作が、第２実施形態のＸ線撮影装置１１０の動作（図１９参照）と異なるのは、ステップＳ８に代るステップＳ４１において、Ｘ線照射制御、Ｘ線発生器側制御を行う際、Ｘ線検出部４２０の移動制御を行わないことである。
【０３４１】
すなわち、上記したようにステップＳ１〜Ｓ５が処理された後、ステップＳ６においてＸ線検出部４２０の傾動の制御が行われ、ステップＳ４１においては、上記第２実施形態で説明したのと同様に、Ｘ線照射制御及びＸ線発生器側制御がなされる。
【０３４２】
Ｘ線発生器側制御としては、Ｘ線発生器１２６ａから照射されるＸ線が頭部Ｐのうちセファロ撮影対象部位となる領域を通過できる程度の所定形状及び所定の大きさとなるように、Ｘ線ビーム形状調整機構４２７の開口１２７Ｅの形状を制御すると共に、傾動機構４３０を制御してＸ線ビーム形状調整機構４２７の開口１２７Ｅの下縁部が傾斜角度θ傾斜するように傾動機構４３０を制御することが含まれる。
【０３４３】
そして、Ｘ線発生器１２６ａからＸ線を照射する。Ｘ線は、開口１２７Ｅの形状及び傾きに応じて所定の方形状に調整された後、頭部Ｐのうち側面頭部セファロ撮影部位を通って、Ｘ線検出部４２０のＸ線検出器４２２のＸ線検出面４２２ａに入射する。頭部ＰにおけるＸ線の照射領域Ｇ及びＸ線検出面４２２ａにおけるＸ線の照射領域Ｈは、図４８に示すようになる。
【０３４４】
同図に示すように、側面頭部セファロ撮影中においてＸ線発生器１２６ａから照射されて頭部Ｐを通過してＸ線検出器４２２に入射するＸ線の照射領域Ｈの下側縁ＨＥの頭部後方側ＨＥ１は、下側縁ＨＥの頭部前方側ＨＥ２よりも高く配置されている。
【０３４５】
ここでは、照射領域Ｈの下側縁ＨＥは、頭部保持具２１０によって保持される頭部Ｐの姿勢を基準として前方側に向けて下向きとなるように、水平方向に対して傾斜している。
【０３４６】
また、Ｘ線検出部４２０は、Ｘ線検出器４２２と、当該Ｘ線検出器４２２が組込まれた外装ケース４２４とを含んでいる。側面頭部Ｘ線撮影中におけるＸ線検出部４２０の存在領域Ｉは、当該Ｘ線検出部４２０の外形縁に沿った方形状を描く（図４８参照）。このため、当該下側縁ＩＥの頭部後方側ＩＥ１が、下側縁ＩＥの頭部前方側ＩＥ２よりも高く位置するように、Ｘ線検出部４２０がＸ線検出器側支持部によって支持されている。
【０３４７】
ここでは、下側縁ＩＥの頭部後方側ＩＥ１は、頭部保持具２１０によって保持される頭部Ｐの姿勢を基準として前方側に向けて下向きとなるように、水平方向に対して傾斜している。
【０３４８】
つまり、頭部Ｐに対するＸ線の照射領域Ｇ及びＸ線検出面４２２ａにおけるＸ線の照射領域Ｈ、Ｘ線検出部４２０の存在領域Ｉの各下側縁部は、上記第２実施形態と同様に設定される。
【０３４９】
本画像処理装置１８０における、Ｘ線検出器４２２の出力に基づく側面頭部セファロ画像の生成処理は、第２実施形態の場合と同様に実施することができる。
【０３５０】
なお、正面頭部セファロ撮影を行う場合には、支持ロッド４５６を水平姿勢として、Ｘ線検出器４２２のＸ線検出面４２２ａの上下辺を水平方向に沿わせると共に、左右辺を上下方向に沿わせた姿勢とする。また、Ｘ線ビーム形状調整機構４２７の開口１２７Ｅの形状を方形状にするよう制御すると共に、傾動機構４３０を制御してＸ線ビーム形状調整機構４２７の開口１２７Ｅの下縁部が水平姿勢となるように、傾動機構４３０を制御する。この状態で、上記と同様にすれば、正面頭部セファロ撮影を行うことができる。
【０３５１】
＜まとめ＞
第４実施形態に係るＸ線撮影装置４１０によると、Ｘ線検出部２２０を走査方向に移動させる構成による作用効果を除いて、上記第２実施形態と同様の作用効果を得ることができる。
【０３５２】
つまり、Ｘ線発生器１２６ａから照射されるＸ線を、Ｘ線ビーム形状調整部４２６によって所定形状に形状調整することによって、側面頭部セファロ撮影中においてＸ線発生器１２６ａから照射されて頭部Ｐを通過してＸ線検出器４２２に入射するＸ線の照射領域Ｈの下側縁ＨＥの頭部後方側ＨＥ１が、下側縁ＨＥの頭部前方側ＨＥ２よりも高く配置されるようにすることができる。
【０３５３】
また、方形状に広がるＸ線検出部４２０を傾けた姿勢とすることによって、側面頭部セファロ撮影中におけるＸ線検出部４２０の移動領域の下側縁が水平方向に対して傾斜するようにすることができる。
【０３５４】
特に、本実施形態においては、方形状のＸ線検出面４２２ａを有するＸ線検出器４２２を用い、Ｘ線発生器１２６ａから照射されるＸ線が１つのタイミングで頭部Ｐを通りＸ線検出器４２２に入射して側面頭部セファロ撮影を行う構成であるため、ワンショットで側面頭部セファロ撮影を実施できる。
【０３５５】
第２実施形態のような走査タイプのセファロ撮影の利点はセファロ撮影中に走査の速度が変えられることにもある。例えば、軟組織の比率の大きな領域は走査速度を高くし、硬組織の比率の大きな領域は走査速度を低くするような制御である。第４実施形態のようなワンショットタイプのセファロ撮影の利点は、撮影にかかる時間が短いことにもある。
【０３５６】
＜変形例３＞
図５４は変形例３に係るセファロ撮影ユニット５００を示す概略正面図であり、図５５はセファロ撮影ユニット５００を示す概略側面図である。
【０３５７】
第４実施形態では、Ｘ線検出部４２０を傾斜支持部４５０によって傾ける例を説明したが、本変形例のように、Ｘ線検出部４２０を傾けずに一定姿勢で支持してもよい。
【０３５８】
すなわち、セファロ撮影ユニット４００に対応するセファロ撮影ユニット５００は、Ｘ線検出器側支持部４４０に対応するＸ線検出器側支持部５４０を備えている。
【０３５９】
この変形例では、Ｘ線検出器側支持部５４０は、セファロベース２０２の一側部にブラケット５４１を介してＸ線検出部４２０を一定姿勢で支持した構成とされている。Ｘ線検出部４２０の上下辺は、水平方向に沿っており、Ｘ線検出部４２０の左右辺は上下方向に沿っている。
【０３６０】
Ｘ線発生器１２６ａから照射されたＸ線は、上記第４実施形態で説明したのと同様に、方形状に広がると共に傾斜した状態で、Ｘ線検出器４２２のＸ線検出面４２２ａに入射する。このため、Ｘ線検出面４２２ａは、そのように傾斜しつつ方形状に入射するＸ線の照射領域Ｈよりも大きく設定されている。
【０３６１】
この変形例によると、第４実施形態と同様に、側面頭部セファロ撮影中においてＸ線発生器１２６ａから照射されて頭部Ｐを通過してＸ線検出器４２２に入射するＸ線の照射領域Ｈの下側縁ＨＥの頭部後方側ＨＥ１が、下側縁ＨＥの頭部前方側ＨＥ２よりも高く配置されるようにすることができる。なお、頭部Ｐの位置でＸ線が透過する領域Ｉは、上記照射領域Ｈよりも一回り小さい。
【０３６２】
もっとも、Ｘ線検出部４２０の存在領域の下側縁は、水平方向に沿った状態となっている。
【０３６３】
このため、本変形例によると、Ｘ線検出部４２０の存在領域の下側縁が水平方向に対して傾斜していることによる作用効果を除き、上記第４実施形態と同様の作用効果を奏することができる。
【０３６４】
｛変形例｝
なお、上記各実施形態及び各変形例で説明した各構成は、相互に矛盾しない限り適宜組合わせることができる。
【０３６５】
例えば、第４実施形態における傾動機構４３０を第２実施形態に組込み、Ｘ線発生器１２６ａから照射され、Ｘ線ビーム形状調整部１２７によって形状調整されるスリット形状の延在方向を、Ｘ線検出面２２２ａの延在方向に沿わせるようにしてもよい。
【０３６６】
また、第２実施形態の変形例１で説明した構成を第４実施形態に適用し、セファロベース２０２及びＸ線検出部４２０の全体が傾動可能に支持され、また、頭部保持具２１０がセファロベース２０２に対して姿勢変更支持部２１１Ａを介して姿勢変更可能に支持された構成としてもよい。
【０３６７】
以上のようにこの発明は詳細に説明されたが、上記した説明は、すべての局面において、例示であって、この発明がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この発明の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。
【符号の説明】
【０３６８】
１０、１１０、３１０、４１０    Ｘ線撮影装置
２０、１２６    Ｘ線発生部
２２、１２６ａ    Ｘ線発生器
３０、２２０、４２０    Ｘ線検出部
３２、２２２、４２２    Ｘ線検出器
４０    支持部
１２０    撮影本体部
１２１    支柱
１２３    水平アーム
１２４    旋回支持部
１２４ａ    筐体
１２５    回転軸部
１２７、３２７、４２６    Ｘ線ビーム形状調整部
１２７Ａ、１２７Ｂ    遮蔽部材
１２７Ｃ、１２７Ｄ    遮蔽部材駆動部
１２７Ｅ    開口
１４３    セファロ撮影用アーム
１５０、３５０    本体制御部
１５０ａ    ＣＰＵ
１５０ｃ    記憶部
１５１    撮影プログラム
１５１ａ    セファロ撮影プログラム
１５２ｃ    傾斜角度設定部
１５２ｄ    傾斜制御部
１５２ｅ    走査方向制御部
１５２ｇ    Ｘ線ビーム形状制御部
１５８ａ    傾斜角度設定操作部
１８０、３８０    画像処理装置
１８１ａ    ＣＰＵ
１８２ｐ    画像処理プログラム
２００、２００Ａ、２００Ｂ、３００、４００、５００    セファロ撮影ユニット
２０２、２０２Ａ    セファロベース
２１０    頭部保持具
２１１Ａ    姿勢変更支持部
２２２ａ、４２２ａ    Ｘ線検出面
２２４、４２４    外装ケース
２３０    照射野規制部
２３２    スリット
２４０、２４０Ａ、２４０Ｂ、３４０、４４０、５４０    Ｘ線検出部側移動機構
２４２、２４２Ａ、３４２    走査方向移動機構
２５０、２５０Ａ、２５０Ｂ、４５０    傾斜支持部
２６２、３６２    側面頭部セファロ画像
３５１    傾斜用移動機構
３５２    昇降駆動部
３５２ｄ    昇降方向制御部
４２７    Ｘ線ビーム形状調整機構
４３０    傾動機構
Ｂ    頭部骨格
Ｂａ    下顎底
Ｂｂ    下顎
Ｂｃ    頸椎
Ｈ    照射領域
ＨＥ、ＨＥｂ    下側縁
ＨＥ１、ＨＥｂ１    頭部後方側
ＨＥ２、ＨＥｂ２    頭部前方側
ＨＥｂＳ    段差
Ｉ    存在領域
ＩＥ    下側縁
ＩＥ１    頭部後方側
ＩＥ２    頭部前方側
ＩＥＬ    最下端部
Ｋ    存在領域
ＫＥ    下側縁
Ｐ    頭部
ＰＳ、ＰＳ１    肩
ＰＷ、ＰＷ１    患者
θ    傾斜角度
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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【図４３】
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【図４４】
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【図４５】
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【図４６】
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【図４７】
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【図４８】
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【図４９】
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【図５０】
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【図５１】
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【図５２】
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【図５３】
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【図５４】
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【図５５】
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