(57)【要約】      （修正有）【課題】ウェハー収納容器のガス注入領域、ウェハー実装領域、ガス排出領域が独立した空間が形成できないため、ガスの流動が均一でない。【解決手段】ウェハー収納容器１００を収納室１１０、ガス注入室およびガス排気室１４０として独立した個別の空間を形成し、ウェハー収納容器がロードポートに移送されてロードポートと結合するとき、収納室内部の分離壁１６０を通じてパージガスを注入／排気することによって、ウェハーの表面に残存するフュームを効率的に除去する。【選択図】図３
2019216258.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウェハーを挿入されるための前面が開放され、かつ左側面を形成する第１分離壁、右側面を形成する第２分離壁、背面を形成する第３分離壁を含み、内部に複数のウェハーが収納される収納室と、
前記収納室へガスを注入するために、水平方向と垂直方向に沿って前記第１分離壁に形成される複数の第１孔と、
前記収納室からガスを排気させるために、水平方向と垂直方向に沿って前記第３分離壁に形成される複数の第３孔と、
前記収納室の外部の前記第１分離壁の側面に設けられ、前記複数の第１孔を通じて前記収納室に連通されるガス注入室と、
前記収納室の外部の前記第３分離壁の側面に設けられ、前記複数の第３孔を通じて前記収納室に連通されるガス排気室と、
前記ウェハーをそれぞれ支持するように前記第１分離壁及び前記第２分離壁に上、下に分離して設けられる複数のプレートと、を含み、
前記ガス注入室は該ガス注入室へガスを注入する第１ガス導入孔を含み、
前記ガス排気室は前記ガス排気室からガスを排出するガス排気孔を含み、
前記収納室、前記ガス注入室、前記ガス排気室は互いに独立した個別の空間に形成され、
前記複数の第１孔を通じて前記収納室に注入されるガスは前記複数の第３孔により前記収納室から排出される、ことを特徴とするウェハー収納容器。
【請求項２】
前記複数の第１孔または前記複数の第３孔は上部に行くほど開口面積が大きくなる、ことを特徴とする請求項１に記載のウェハー収納容器。
【請求項３】
前記複数の第１孔のそれぞれには長さを有するパイプが設けられる、ことを特徴とする請求項１に記載のウェハー収納容器。
【請求項４】
前記パイプは、一端が前記複数の第１孔に設けられ、他端が前記ガス注入室側に突出される、ことを特徴とする請求項３に記載のウェハー収納容器。
【請求項５】
前記パイプは前記第１分離壁の上部に行くほど長さが短くなる、ことを特徴とする請求項４に記載のウェハー収納容器。
【請求項６】
ウェハーを挿入するための前面が開放され、かつ左側面を形成する第１分離壁、右側面を形成する第２分離壁、背面を形成する第３分離壁を含み、内部に複数のウェハーが収納される収納室と、
前記収納室へガスを注入するために、水平方向と垂直方向に沿って前記第１分離壁に形成される複数の第１孔と、
前記収納室からガスを排気させるために、水平方向と垂直方向に沿って前記第２分離壁に形成される複数の第３孔と、
前記収納室の外部の前記第１分離壁の側面に設けられ、前記複数の第１孔を通じて前記収納室に連通される第１ガス注入室と、
前記収納室の外部の前記第２分離壁の側面に設けられ、前記複数の第３孔を通じて前記収納室に連通されるガス排気室と、
前記収納室の内部両側で前記ウェハーをそれぞれ支持するように前記第１分離壁及び前記第２分離壁に上、下に分離して設けられる複数のプレートと、を含み、
前記第１ガス注入室は該第１ガス注入室へガスを注入する第１ガス導入孔を含み、
前記ガス排気室は該ガス排気室からガスを排出するガス排気孔を含む、ことを特徴とするウェハー収納容器。
【請求項７】
ウェハーを挿入するための前面が開放され、かつ左側面を形成する第１分離壁、右側面を形成する第２分離壁、背面を形成する第３分離壁を含み、内部に複数のウェハーが収納される収納室と、
前記収納室へガスを注入するために、水平方向と垂直方向に沿って前記第１分離壁に形成される複数の第１孔と、
前記収納室へガスを注入するために、水平方向と垂直方向に沿って前記第２分離壁に形成される複数の第２孔と、
前記収納室からガスを排気するために、水平方向と垂直方向に沿って前記第３分離壁に形成される複数の第３孔と、
前記収納室の外部の前記第１分離壁の側面に設けられ、前記複数の第１孔を通じて前記収納室に連通される第１ガス注入室と、
前記収納室の外部の前記第２分離壁の側面に設けられ、前記複数の第２孔を通じて前記収納室に連通される第２ガス注入室と、
前記収納室の外部の前記第３分離壁の側面に設けられ、前記複数の第３孔を通じて前記収納室に連通するガス排気室と、
前記ウェハーをそれぞれ支持するように前記第１分離壁及び前記第２分離壁のそれぞれに上、下に分離して設けられる複数のプレートと、を含み、
前記第１ガス注入室は前記第１ガス注入室へガスを供給する第１ガス導入孔を含み、
前記第２ガス注入室は前記第２ガス注入室へガスを供給する第２ガス導入孔を含み、
前記ガス排気室は前記ガス排気室からガスを排気するガス排気孔を含み、
前記複数の第１孔と前記複数の第２孔により前記収納室に注入されるガスは前記複数の第３孔を通じて前記収納室から排出される、ことを特徴とするウェハー収納容器。
【請求項８】
ウェハーを挿入するための前面が開放され、かつ左側面を形成する第１分離壁、右側面を形成する第２分離壁、背面を形成する第３分離壁を含み、内部に複数のウェハーが収納される収納室と、
前記収納室へガスを注入するために、水平方向と垂直方向に沿って前記第１分離壁に形成される複数の第１孔と、
前記収納室へガスを注入するために、水平方向と垂直方向に沿って前記第２分離壁に形成される複数の第２孔と、
前記収納室からガスを排気するために、水平方向と垂直方向に沿って前記第２分離壁に形成される複数の第３孔と、
前記収納室の外部の前記第１分離壁の側面に設けられ、前記複数の第１孔を通じて前記収納室に連通される第１ガス注入室と、
前記収納室の外部の前記第２分離壁の側面に設けられ、前記複数の第２孔を通じて前記収納室に連通される第２ガス注入室と、
前記収納室の外部の前記第２分離壁の側面に設けられ、前記複数の第３孔を通じて前記収納室に連通されるガス排気室と、
前記収納室の内部両側で前記ウェハーをそれぞれ支持するように前記第１分離壁及び前記第２分離壁のそれぞれに上、下に分離して設けられる複数のプレートと、を含み、
前記第１ガス注入室は前記第１ガス注入室へガスを供給する第１ガス導入孔を含み、
前記第２ガス注入室は前記第２ガス注入室へガスを供給する第２ガス導入孔を含み、
前記ガス排気室は前記ガス排気室からガスを排気するガス排気孔を含む、ことを特徴とするウェハー収納容器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はウェハー収納容器に関し、具体的には、パージガスを注入して効率的にウェハーの表面に残存するフュームを除去することができるウェハー収納容器に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に半導体素子は、ウェハー上に蒸着工程、研磨工程、フォトリソグラフィー工程、エッチング工程、イオン注入工程、洗浄工程、検査工程、熱処理工程などを選択的に繰り返し実行して製造されており、このように半導体素子を形成するためにウェハーは各工程で要求される所定位置へ運搬される必要がある。
【０００３】
半導体を製造する工程において、加工されるウェハーは高精密度の物品として保パイプされ、運搬される時は外部の汚染物質と衝突して汚染または損傷されないようにフープ（Ｆｒｏｎｔ  Ｏｐｅｎｉｎｇ  Ｕｎｉｆｉｅｄ  Ｐｏｄ、ＦＯＵＰ）のようなウェハー収納容器に収納して搬送される。
【０００４】
この場合、工程で使用される工程ガスおよび工程での副産物であるフュームなどが除去されずウェハーの表面に残存したままウェハー収納容器に収納される。
【０００５】
しかし、このように残存物がウェハーの表面に付着した状態で工程を進める場合、半導体製造装置の汚染およびエッチングパターン（ｅｔｃｈ  ｐａｔｔｅｒｎ）の不良などを起こす恐れがあって、結局、製品の信頼性が低下するため、これを除去するためのさまざまな技術が開発されている。
【０００６】
上述したように、ウェハー表面に残存するフュームを除去するウェハー収納容器は韓国特許公開番号第２０１０−０１３４０３３号に記載された技術が開示されている。
【０００７】
図１及び図２に示されるように、容器部（６４）はシェル（ｓｈｅｌｌ）（６５）及び閉鎖された上部、閉鎖された底面、閉鎖された左面、閉鎖された右面、開放された前面、閉鎖された後面（６７）を含む。
【０００８】
開放された前面において、ドア（２４）を用いて容器部（６４）を密封することができる。
【０００９】
容器部（６４）の内部は複数のウェハーが収納されるウェハー棚を有する。
【００１０】
キネマティックカップリング板（ｋｉｎｅｍａｔｉｃ  ｃｏｕｐｌｉｎｇ  ｐｌａｔｅ）（７４）は、容器部の底部に位置し、後方のポート（５４）は前面グロメット及び後面グロメット（７７）を収容する適切な開口を含む。前記開口はシェル（６５）を通じて延伸される。
【００１１】
容器部はウェハー容器の内部から外部へ延伸する二つの後方間隙（ｒｅａｒｗａｒｄ  ａｐｅｒｔｕｒｅｓ）（８０）を含む。
【００１２】
タワー素子に構成されるパイプ形環境制御素子（７８）は容器部（６４）の内部から間隙（８０）へ挿入される。
【００１３】
パイプ形素子は収容部（ｃｏｎｔａｉｎｍｅｎｔ  ｐｏｒｔｉｏｎ）（８１）、オフセット部（ｏｆｆｓｅｔ  ｐｏｒｔｉｏｎ）（８３）、ポート部（ｐｏｒｔ  ｐｏｒｔｉｏｎ）（８５）を含む。
【００１４】
エラストマーグロメット（７７）はパイプ形素子の下部領域に密封して位置し、逆止弁（６２）がその部位に位置されてもよい。
【００１５】
シリンダー（ｃｙｌｉｎｄｒｉｃａｌ）形状のフィルターおよび／またはゲッターメディア材料（１０）は収容部に収容されてもよく、パイプ形素子の内部に適切して構成されてもよい。
【００１６】
前記パイプ形素子は露出された水平スロットから構成される複数の軸方向に延伸する（ａｘｉａｌｌｙ−ｅｘｔｅｎｄｉｎｇ）間隙（１１）を含む。
【００１７】
また、前記パイプ形素子は各ウェハーのためのスリット（ｓｌｉｔ）を含み、スリットポジションから各ウェハーの表面にパージガスを放出することができる。
【００１８】
しかし、従来のウェハー収納容器はガスが注入される領域、ウェハーが実装される領域、ガスが排出される領域が互いに独立した空間を形成できないため、ウェハーが実装された領域ではガスの流動が均一でないという問題点があった。
【００１９】
また、前記ウェハー収納容器内に収納されるウェハーにパージガスが噴射されない死領域（ｄｅａｄ  ｚｏｎｅ）が生じる恐れがあり、また、垂直に設けられる前記パイプ形素子によってパージガスが噴射されるため、所定領域にパージガスが集中的に噴射されるという問題点があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００２０】
【特許文献１】韓国特許公開第２０１０−０１３４０３３号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２１】
本発明は前記問題点を解決するために、ウェハー収納容器は収納室とガス注入室及びガス排気室として独立した個別の空間に形成されて、前記収納室の内部の分離壁によりパージガスを注入／排出し、効率的にウェハーの表面に残存するフュームを除去するウェハー収納容器を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
本発明の１つ実施例によるウェハー収納容器は、内部にウェハーが収納される収納室と、底面にガス導入孔が形成され、前記収納室の側面に沿って前記収納室と連通するガス注入室と、底面にガス排気孔が形成され、前記収納室の側面に沿って前記収納室と連通するガス排気室と、を含み、前記収納室、前記ガス注入室、前記ガス排気室は互いに独立した個別の空間に形成される。
【００２３】
また、前記収納室の両側にはガス注入室がそれぞれ位置し、前記収納室の背面側にはガス排気室が位置する。
【００２４】
また、前記収納室の片側にはガス注入室が位置し、前記ガス注入室の反対側にはガス排気室が位置する。
【００２５】
また、前記収納室の片側には第１ガス注入室が位置し、
前記収納室の反対側には第２ガス注入室とガス排気室が位置する。
また、前記収納室と前記ガス注入室は分離壁により独立した個別の空間に形成され、前記分離壁にはガスが連通する孔が形成される。
【００２６】
また、前記分離壁には複数の孔が形成され、前記孔は上部に行くほど開口面積が大きくなる。
【００２７】
また、前記分離壁には複数の孔が形成され、前記孔には長さを有するパイプが設けられている。
【００２８】
また、前記パイプは、一端が前記分離壁の孔に設けられ、他端が前記ガス注入室に突出される。
【００２９】
また、前記パイプは前記分離壁の上部に行くほどその長さが短くなる。
また、前記収納室の側面には前記ガス注入室と連通されて前記ガスを収納室に噴射するプレートが設けられる。
また、前記プレートには複数の噴射口が形成される。
【００３０】
また、前記プレートは収納室の前面に行くほどウェハーに突出する突出部を有する。
本発明の他の特徴によるウェハー収納容器は、内部にウェハーが収納される収納室と、底面にガス導入孔が形成されて前記収納室の側面に沿って前記収納室に連通されるガス注入室と、前記収納室と前記ガス注入室を互いに独立した個別の空間に分離し、かつガスを通させるための第１孔が形成される第１分離壁と、底面にガス排気孔が形成され、前記ガス注入室の反対側面に沿って前記収納室と連通するガス排気室と、前記収納室と前記ガス排気室を互いに独立した個別の空間に分離し、ガスを通させるための第２孔が形成される第２分離壁と、を含む。
【００３１】
本発明の他の特徴によるウェハー収納容器は、内部にウェハーが収納される収納室と、底面にガス導入孔が形成され、前記収納室の両側面に沿って前記収納室に連通する一組のガス注入室と、前記収納室と前記ガス注入室を互いに独立した個別の空間で分離し、ガスを通させるための第１孔が形成される一組の第１分離壁と、底面にガス排気孔が形成され、前記収納室の背面側に沿って前記収納室に連通するガス排気室と、前記収納室と前記ガス排気室を互いに独立した個別の空間に分離し、ガスを通させるための第２孔が形成される第２分離壁と、を含む。
【００３２】
本発明の更なる他の特徴によるウェハー収納容器は、内部にウェハーが収納される収納室と、底面にガス導入孔が形成され、前記収納室の側面に沿って前記収納室に連通する第１ガス注入室と、前記収納室と前記第１ガス注入室を互いに独立した個別の空間に分離し、ガスを通させるための第１孔が形成される第１分離壁と、底面にガス導入孔が形成され、前記第１ガス注入室の反対側面に沿って前記収納室に連通する第２ガス注入室と、前記収納室と前記第２ガス注入室を互いに独立した個別の空間に分離し、ガスを通させるための第２孔が形成される第２分離壁と、底面にガス排気孔が形成され、前記第１ガス注入室の反対側面に沿って前記収納室に連通するガス排気室と、前記収納室と前記ガス排気室を互いに独立した個別の空間に分離し、ガスを通させるための第３孔が形成される第３分離壁と、を含む。
【００３３】
上述したように本発明のウェハー収納容器は下記のような効果を有する。
前記ガス注入室と前記収納室の間に位置する孔を有する分離壁により、パージガスを注入することで、従来のウェハー収納容器とは異なり所定の領域に前記パージガスが集中的に噴射されず、死領域を有せずに効率的にウェハーの表面に残存するフュームを除去することができる。
【００３４】
前記収納室の両側にはガス注入室がそれぞれ位置し、前記収納室の背面側にガス排気室が位置するため、前記収納室の両側壁面からパージガスが注入されてウェハーのフュームを除去し、前記収納室の背面側に位置する前記ガス排気室を通じて前記パージガスが排気されることにより、ウェハー収納容器の前面両側から注入されるパージガスが後面方向へ流れ、死領域を有せずに効率的にウェハーのフュームを除去することができる。
【００３５】
前記収納室の片側にはガス注入室が位置し、前記ガス注入室の反対側にはガス排気室が位置することにより、一方向にパージガスが流れるため、ウェハーの表面に残存するフュームとパージガスが前記ガス排気室へ柔軟に排気される。
【００３６】
前記収納室の片側には第１ガス注入室が位置し、前記収納室の反対側には第２ガス注入室とガス排気室が位置することによって、前記収納室へ注入されるパージガス量を増大して、効率的にウェハーの表面に残存するフュームを除去することができる。
前記分離壁には複数の孔が形成され、前記孔は上部に行くほど開口面積が大きくなることで、前記ガス注入室の底面に位置するガス導入孔を通じて導入されるパージガスは上部に行くほど更に多くの量が収納室に注入されて、下部のみにパージガスが注入されることを防止し、これにより、上部、下部にパージガスが均一に注入される。
【００３７】
前記分離壁には複数の孔が形成され、前記孔に長さを有するパイプが設けられることにより、前記ガス注入室から前記収納室へ注入されるパージガスは前記パイプを通じて注入され、前記パイプは長さ方向で直進性を有するため、パージガスが小圧力によりガス導入孔を通じてガス注入室へ供給されても前記収納室へパージガスをさらに遠く注入することができる。
【００３８】
前記パイプは、その長さが前記分離壁の上部に行くほど短くなって前記孔に設けられることで、前記収納室の下部のみにパージガスが注入されることを防止して、上部と下部にパージガスが均一に注入されることができる。
【００３９】
前記収納室の側面には前記ガス注入室に連通されて前記ガスを収納室へ噴射するプレートが設けられ、前記プレートには複数の噴射口が形成されることにより、前記収納室に収納されているウェハーによりパージガスを更に近く噴射して、ウェハーの表面に残存するフュームを効率的に除去することができる。
前記プレートは前記収納室の前面に行くほどウェハー側に突出する突出部を有し、前記突出部に噴射口を形成することにより、複数の角度からパージガスが噴射されるため、死領域を有せずにウェハーに残存するフュームを効率的に除去することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】図１は、従来のウェハー収納容器の平面図である。
【図２】図２は、図１の１３−１３線に沿う断面図である。
【図３】図３は、本発明の第１実施例におけるウェハー収納容器の斜視図である。
【図４】図４は、図３の平面図である。
【図５】図５は、本発明の第２実施例におけるウェハー収納容器の平面図である。
【図６】図６は、本発明の第３実施例におけるウェハー収納容器の平面図である。
【図７】図７は、図３乃至図６の孔の開口面積の変化を示す拡大図である。
【図８】図８は、図３における孔の他の形態を示す斜視図である。
【図９】図９は、図８における孔の長さ変化を示す拡大図である。
【図１０】図１０は、分離壁の孔にパイプが設置された状態を示す拡大図である。
【図１１】図１１は、図３乃至図６のプレートの第１−１実施例を示す斜視図である。
【図１２】図１２は、図３乃至図６のプレートの第１−２実施例を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００４１】
以下、図面を用いて本発明の好ましい実施例を説明する。
図３は本発明の第１実施例におけるウェハー収納容器の斜視図であり、図４は図３の平面図であり、図５は本発明の第２実施例によるウェハー収納容器の平面図であり、図６は本発明の第３実施例におけるウェハー収納容器の平面図であり、図７は図３乃至図６の孔の開口面積の変化を示す拡大図であり、図８は図３の孔の他の形態を示す斜視図であり、図９は図８の孔の長さ変化を示す拡大図であり、図１０は分離壁の孔にパイプを設置したことを示す拡大図であり、図１１は図３乃至図６のプレートの第１−１実施例を示す斜視図であり、図１２は図３乃至図６のプレートの第１−２実施例を示す斜視図である。
【００４２】
図３と図４に示されたように、本発明の第１実施例におけるウェハー収納容器（１００）は、内部にウェハー（ｗ）が収納される収納室（１１０）、収納室（１１０）の左側に位置する第１ガス注入室（１２０）、収納室（１１０）の右側に位置する第２ガス注入室（１３０）、収納室（１１０）の背面側に位置するガス排気室（１４０）を含んで構成される。
【００４３】
収納室（１１０）は上部と下部が閉鎖され、前面が開放可能な形態になり、左側面には第１分離壁（１５０）が形成され、右側面には第２分離壁（１６０）が形成され、背面には第３分離壁（１７０）が形成されている。
【００４４】
すなわち、収納室（１１０）の左側、右側にはそれぞれ第１、２ガス注入室（１２０、１３０）が位置し、背面側にはガス排気室（１４０）が位置し、第１、２ガス注入室（１２０、１３０）とガス排気室（１４０）、収納室（１１０）の間には第１乃至第３分離壁（１５０、１６０、１７０）がそれぞれ形成され、収納室（１１０）と第１、２ガス注入室（１２０、１３０）、およびガス排気室（１４０）は互いに独立した個別の空間を形成する。
【００４５】
収納室（１１０）にはウェハー（ｗ）が収納されている。この場合、収納室（１１０）の内部両側面には支持部材が設置されてウェハー（ｗ）を支持してもよく、図３と図４に示されるように、収納室（１１０）の内部両側面には複数の積層されたプレート（２００）が設置されてウェハー（ｗ）を支持してもよい。
【００４６】
また、収納室（１１０）にプレート（２００）が設けられる場合、プレート（２００）を通じてパージガスが噴射されてもよく、これに対する詳細な説明は後述する。
【００４７】
第１ガス注入室（１２０）は収納室（１１０）の左側に位置し、その上部と下部及び前面と背面、左側面は閉鎖され、右側面には第１分離壁（１５０）が形成されている。
【００４８】
また、第１ガス注入室（１２０）内部の前面底面には、ウェハー収納容器（１００）がロードポート（未図示）と結合する際に、前記ロードポートの供給部から供給されるパージガスを導入させる第１ガス導入孔（１２１）が形成されている。
【００４９】
第２ガス注入室（１３０）は収納室（１１０）の右側に位置し、その上部と下部、及び前面と背面、右側面が閉鎖され、左側面には第２分離壁（１６０）が形成されている。
【００５０】
また、第２ガス注入室（１３０）内部の前面底面には、ウェハー収納容器（１００）が前記ロードポートと結合する際に、前記ロードポートの供給部から供給されるパージガスを導入させる第２ガス導入孔（１３１）が形成されている。
【００５１】
ガス排気室（１４０）は収納室（１１０）の背面側に位置し、その上部と下部、及び後面と左側面、右側面が閉鎖され、前面には第３分離壁（１７０）が形成されている。
【００５２】
ガス排気室（１４０）内部の左、右側底面には、ウェハー収納容器（１００）がロードポートと結合する際に、収納室（１１０）に収納されるウェハー（ｗ）のフュームとパージガスを排気する第１、２ガス排気孔（１４１、１４２）がそれぞれ形成されている。
【００５３】
また、前記第１、２ガス導入孔（１２１、１３１）、及び第１、２ガス排気孔（１４１、１４２）の位置と個数は、ウェハー収納容器（１００）が結合するロードポートの供給部と排気部の形態により変更されてもよい。
【００５４】
第１乃至第３分離壁（１５０、１６０、１６０）にはそれぞれ第１乃至第３孔（１５１、１６１、１７１）が形成される。
第１、２孔（１５１、１６１）は第１、２ガス注入室（１２０、１３０）から収納室（１１０）内部へパージガスを注入するために用いられる。
【００５５】
第３孔（１７１）はプレート（２００）から収納室（１１０）内部に噴射されるパージガスとフューム  ガスを後述のガス排気室（１４０）へ排気するために用いられる。
第１乃至第３孔（１５１、１６１、１７１）は複数の孔形態に形成されてもよい。
【００５６】
すなわち、第１、２孔（１５１、１６１）は水平方向に複数形成されてもよく、収納室（１１０）に収納されるウェハー（ｗ）の個数により垂直方向に複数形成されてもよい。
【００５７】
また、第３孔（１７１）は収納室（１１０）内部へ注入されるパージガスとフュームの量により、第１、２孔（１５１、１６１）のように水平方向と垂直方向に複数形成されてもよい。
【００５８】
第１乃至第３孔（１５１、１６１、１７１）は図７に図示されるように、第１乃至第３分離壁（１５０、１６０、１７０）において、上部に行くほど開口面積が大きくなるように形成されてもよい。
【００５９】
すなわち、垂直方向に複数形成される第１、２孔（１５１、１６１）の開口面積の大きさは第１、２分離壁（１５０、１６０）の上部に行くほど大きくなることによって、後述する第１、２ガス注入室（１２０、１３０）の底面に形成される第１、２ガス導入孔（１２１、１３１）からパージガスが導入されて、第１、２孔（１５１、１６１）を通じて収納室（１１０）の内部へ注入されるとき、第１、２分離壁（１５０、１６０）の上部と下部にパージガスが均一に注入されることができる。
【００６０】
また、収納室（１１０）に存在する前記パージガスとフュームが第３孔（１７１）を通じて後述するガス排気室（１４０）の底面に形成される第１、２ガス排気孔（１４１、１４２）から排気されるとき、第１、２ガス排気孔（１４１、１４２）が位置する底面、すなわち、第３分離壁（１７０）の下部のみに前記パージガスとフュームが排気され、垂直方向に複数形成される第３孔（１７１）の開口面積の大きさは第３分離壁（１７０）の上部に行くほど大きくなることによって、第３分離壁（１７０）の下部のみに前記パージガスとフュームが排気されることを防止する。
【００６１】
第１乃至第３孔（１５１、１６１、１７１）は図８に示すように、複数の孔を有せずに水平方向に長く形成されるスリット形態の第１孔（図８に未図示）と第２、３孔（１６１’、１７１’）から構成されてもよい。
【００６２】
また、図９に示すように、スリット形態の第１乃至第３孔（１５１’、１６１’、１７１’）もそれぞれ第１乃至第３分離壁（１５０、１６０、１７０）の上部に行くほど水平方向の長さが長く形成されてもよく、その効果は前述した図７に示されるように、複数の孔を有する形態の第１乃至第３孔（１５１、１６１、１７１）の場合と同様である。
【００６３】
第１乃至第３孔（１５１、１６１、１７１）には長さを有するパイプ（１８１）が設けられてもよい。
パイプ（１８１）はその一端が第１乃至第３分離壁（１５０、１６０、１７０）にそれぞれ形成される第１乃至第３孔（１５１、１６１、１７１）に設けられ、他端はそれぞれ第１、２ガス注入室（１２０、１３０）とガス排気室（１４０）側に突出されている。
【００６４】
第１、２孔（１５１、１６１）に長さを有するパイプ（１８１）を設けることによって、第１、２ガス注入室（１２０、１３０）から収納室（１１０）へ注入されるパージガスがパイプ（１８１）を通じて注入され、パイプ（１８１）の長さ方向で直進性を有することで、パージガスは小さい圧力で後述する第１、２ガス導入孔（１２１、１３１）を通じて第１、２ガス注入室（１２０、１３０）へ供給されても、収納室（１１０）の内部へ前記パージガスをさらに遠く注入することができる。第３孔（１７１）に長さを有するパイプ（１８１）を設けることによって、前述したような同じ効果を有して、ガス排気室（１４０）へパージガスとフュームを円滑に排気することができる。
【００６５】
また、パイプ（１８１）はその長さが第１乃至第３分離壁（１５０、１６０、１７０）の上部に行くほど短くなるように形成されてもよい。
【００６６】
すなわち、第１乃至第３孔（１５１、１６１、１７１）に垂直方向に複数設けられるパイプ（１８１）はその長さが上部に行くほど短くなることによって、パイプ（１８１）を通じてパージガスが注入され、またはパージガスと排気ガスが排気されるとき、パイプ（１８１）の長さが短い上部には多い量のパージガスが流され、パイプ（１８１）の長さが長い下部には相対的に少ない量のパージガスが流されて、第１乃至第３分離壁（１５０、１６０、１７０）の上部と下部に均一にパージガスが流されることができる。
【００６７】
また、パイプ（１８１）は前述したスリット形態の第１乃至第３孔（１５１’、１６１’、１７１’）にも使用され、その効果は前述したことと同様である。
【００６８】
図３及び図８に示されるように、ウェハー収納容器（１００）の第１乃至第３分離壁（１５０、１６０、１７０）にそれぞれ形成される第１乃至第３孔は、複数の孔形態の第１乃至第３孔（１５１、１６１、１７１）のみに形成され、またはスリット形態の第１乃至第３孔（１５１’、１６１’、１７１’）のみに形成され、または第１、２分離壁（１５０、１６０）はスリット形態の第１、２孔（１５１’、１６１’）に形成され、第３分離壁（１７０）は複数の孔形態の第３孔（１７１）に形成されるなどの組み合わせをして使用することができる。
【００６９】
以下、前述した構成により本発明の第１実施例によるウェハー収納容器（１００）に収納されるウェハー（ｗ）の表面に残存するフュームを除去する過程をパージガスの流れにより説明する。
【００７０】
先にウェハー収納容器（１００）がロードポート（未図示）と結合すれば、前記ロードポートの供給部から供給されるパージガスは第１、２ガス注入室（１２０、１３０）の内部底面にそれぞれ形成される第１、２ガス導入孔（１２１、１３１）を通じて第１、２ガス注入室（１２０、１３０）へ導入する。
【００７１】
第１、２ガス注入室（１２０、１３０）へ導入される前記パージガスは第１、２分離壁（１５０、１６０）にそれぞれ形成される複数の第１、２孔（１５１、１６１）を通じて収納室（１１０）の内部へ注入される。
【００７２】
すなわち、収納室（１１０）の左、右側面からパージガスが注入され、このように注入される前記パージガスはウェハー（ｗ）の表面に残存するフュームと共に第３分離壁（１７０）の第３孔（１７１）を通じてガス排気室（１４０）に排気される。
【００７３】
ガス排気室（１４０）へ排気される前記パージガスとフュームはガス排気室（１４０）内部の左、右側底面に形成される第１、２ガス排気孔（１４１、１４２）を通じて前記ロードポートの排気部へ排出される。
【００７４】
また、前記ロードポートからウェハー収納容器（１００）が分離されて、他の工程へウェハー収納容器（１００）が移送される時、ウェハー収納容器（１００）に収納されるウェハー（ｗ）の汚染を防止するためにドア（未図示）を用いてウェハー収納容器（１００）の開放された前面部に合わせてウェハー収納容器（１００）を密封することが好ましい。
【００７５】
もちろん、前記ウェハー（ｗ）の表面に残存するフュームを除去する過程でウェハー収納容器（１００）の開放された前面部に前記ドアを合わせて、密封された状態でウェハー（ｗ）の表面に残存するフュームを除去してもよい。
【００７６】
以下、上述したプレートについて説明する。
前述したように、収納室（１１０）の内部の両側面にプレート（２００）が設けられる場合、プレート（２００）はウェハー（ｗ）を支持してもよく、プレート（２００）の内部に流路構造を形成して第１、２ガス注入室（１２０、１３０）から注入されるパージガスをプレート（２００）内部の流路構造を通じて噴射してもよい。
【００７７】
従って、パージガスを噴射するように内部に流路構造が形成されるプレートについて第１−１実施例および第１−２実施例を用いて説明する。
【００７８】
本発明の第１−１実施例によるプレート（２００）は図１１に示されるように、本体部（２１０）とプレート（２００）の前面に行くほどウェハーに対向する側に突出する突出部（２２０）を含んで構成される。
【００７９】
すなわち、プレート（２００）の形状は本体部（２１０）と突出部（２２０）が「Ｌ」字形態を成して構成されてもよい。
【００８０】
本体部（２１０）の片側前面には突出部（２２０）が形成され、突出部（２２０）を除いた本体部（２１０）の片側の残り面には後述する第３、４噴射口（２５３、２５４）が形成される。
【００８１】
また、共有チャンバー（２７１）は本体部（２１０）の内部に形成され、共有チャンバー（２７１）の一端は本体部（２１０）の他側面に長さ方向に長く形成されるスリット形態の溝を形成し、共有チャンバー（２７１）の他端には後述する第１乃至第４流路（２６１、２６２、２６３、２６４）が連通される。
【００８２】
突出部（２２０）は突出された円弧形状を成す第１突出面（２２１）と第２突出面（２２２）から構成される。
【００８３】
また、第１突出面（２２１）には後述する第１噴射口（２５１）が形成され、第２突出面（２２２）には後述する第２噴射口（２５２）が形成される。
【００８４】
プレート（２００）の突出部（２２０）と本体部（２１０）の片側には複数の支持棒（２３０）が設置されてもよく、支持棒（２３０）にはウェハー（ｗ）が装着される。
【００８５】
支持棒（２３０）はウェハー（ｗ）が当接する接触面積を最小化することによって、ウェハー（ｗ）の損傷を防止することができる。
【００８６】
また、プレート（２００）上面の一部分にウェハー（ｗ）を装着して支持してもよく、この場合、支持棒（２３０）のような他の部材を設置しなくてもウェハー（ｗ）を支持することができるという利点を有する。
【００８７】
共有チャンバー（２７１）は第１、２分離壁（１５０、１６０）の第１、２孔（１５１、１６１）に連通されて、第１、２ガス注入室（１２０、１３０）から注入されるパージガスを導入させる役割をする。
【００８８】
第１乃至第４流路（２６１、２６２、２６３、２６４）はその一端が共有チャンバー（２７１）に連通され、他端が第１乃至第４噴射口（２５１、２５２、２５３、２５４）にそれぞれ連通される。
【００８９】
第１、２噴射口（２５１、２５２）はそれぞれ突出部（２２０）の第１、２突出面（２２１、２２２）にそれぞれ形成され、第３、４噴射口（２５３、２５４）は本体部（２１０）の片側面に形成されることで、複数方向にパージガスが噴射されて、ウェハー（ｗ）の表面に残存するフュームが除去されない死領域を最小化することができる。
【００９０】
この場合、第２突出面（２２２）に形成される第２噴射口（２５２）と第２流路（２６２）を容易に連通させるように、第２流路（２６２）は折られた形状になってもよい。
【００９１】
パージガスはプレート（２００）の第１乃至第４導入口（２４１、２４２、２４３、２４４）へ導入されて、共有チャンバー（２７１）と第１乃至第４流路（２６１、２６２、２６３、２６４）を経て第１乃至第４噴射口（２５１、２５２、２５３、２５４）を通じて収納室（１１０）内部へ噴射される。
【００９２】
この場合、共有チャンバー（２７１）へ導入された前記パージガスは第１乃至第４流路（２６１、２６２、２６３、２６４）へそれぞれ流れることにより、均一な圧力を用いて第１乃至第４噴射口（２５１、２５２、２５３、２５４）を通じて収納室（１１０）の内部へ噴射される。
【００９３】
また、プレートは上述の第１−１実施例によるプレート（２００）とは異なって、内部に共有チャンバー（２７１）を有しない第２実施例によるプレート（２００’）から構成されてもよい。
【００９４】
本発明の第１−２実施例によるプレート（２００’）は図１２に示されるように、本体部（２１０）とプレート（２００’）の前面に行くほどウェハー（ｗ）に対向する側に突出する突出部（２２０）を含んで構成される。
【００９５】
すなわち、プレート（２００’）の形状は本体部（２１０）と突出部（２２０）が「Ｌ」字形態を成して構成されてもよい。
【００９６】
本体部（２１０）の片側前面には突出部（２２０）が形成され、突出部（２２０）を除いた本体部（２１０）の片側の残り面には第３、４噴射口（２５３、２５４）が形成され、本体部（２１０）の他側には第１乃至第４導入口（２４１、２４２、２４３、２４４）が形成される。
【００９７】
突出部（２２０）は突出された円弧形状を成す第１突出面（２２１）と第２突出面（２２２）から構成される。
また、第１突出面（２２１）には第１噴射口（２５１）が形成され、第２突出面（２２２）には第２噴射口（２５２）が形成される。
【００９８】
プレート（２００’）の突出部（２２０）と本体部（２１０）の片側には複数の支持棒（２３０）が設けられてもよく、支持棒（２３０）にはウェハー（ｗ）が装着される。
【００９９】
支持棒（２３０）はウェハー（ｗ）が当接する接触面積を最小化させることによって、ウェハー（ｗ）の損傷を防止することができる。
【０１００】
また、プレート（２００’）の上面の一部分にウェハー（ｗ）を装着して支持してもよく、この場合、支持棒（２３０）のような別途の部材を設置しなくてもウェハー（ｗ）を支持することができるという利点を有する。
【０１０１】
第１乃至第４導入口（２４１、２４２、２４３、２４４）は、一端が第１、２分離壁（１５０、１６０）の複数の第１、２孔（１５１、１６１）に連通され、他端がそれぞれ第１乃至第４流路（２６１、２６２、２６３、２６４）を通じて第１乃至第４噴射口（２５１、２５２、２５３、２５４）に直接連通される。
【０１０２】
第１、２噴射口（２５１、２５２）はそれぞれ突出部（２２０）の第１、２突出面（２２１、２２２）にそれぞれ形成され、第３、４噴射口（２５３、２５４）は本体部（２１０）の片側面に形成されることにより、複数方向にパージガスが噴射されて、ウェハー（ｗ）の表面に残存するフュームが除去されない死領域を最小化することができる。
【０１０３】
この場合、第２突出面（２２２）に形成される第２噴射口（２５２）と第２流路（２６２）を容易に連通させるために、第２流路（２６２）は折られた形状に形成されてもよい。
【０１０４】
このように、本発明の第１−２実施例によるプレート（２００’）は第１−１実施例によるプレート（２００）とは異なって共有チャンバー（２７１）を有しないため、第１乃至第４導入口（２４１、２４２、２４３、２４４）へ導入されるパージガスは直接第１乃至第４噴射口（２５１、２５２、２５３、２５４）を通じて噴射されるため、第１−１実施例によるプレート（２００）に比べて前記パージガスを更に遠くに噴射することができる。
【０１０５】
上述により、第１乃至第４噴射口（２５１、２５２、２５３、２５４）等、４つの噴射口を有するプレート（２００、２００’）を例示して説明したが、噴射口の個数は第１、２分離壁（１５０、１６０）に形成される孔の形態と個数により変更されてもよい。
【０１０６】
また、上述したように、第１、２分離壁（１５０、１６０）には、複数の孔形態の第１、２孔（１５１、１６１）が形成されたり、スリット形態の第１、２孔（１５１’、１６１’）が形成されても、第１実施例のプレート（２００）の共有チャンバー（２７１）と第２実施例のプレート（２００’）の第１乃至第４導入口（２４１、２４２、２４３、２４４）が前記孔と連通されることはもちろんである。
【０１０７】
本発明の第２実施例によるウェハー収納容器（１００’）は図５に示されるように、収納室（１１０’）の左側に第１ガス注入室（１２０’）が位置し、収納室（１１０’）の右側にガス排気室（１４０’）が位置してもよい。
【０１０８】
すなわち、収納室（１１０’）の左側面には第１分離壁（１５０）が形成され、右側面には第３分離壁（１７０）が形成され、収納室（１１０’）と第１ガス注入室（１２０’）、およびガス排気室（１４０’）は互い独立された個別の空間を形成する。
【０１０９】
第１ガス注入室（１２０’）の内部底面の前面と後面にはそれぞれ第１ガス導入孔（１２１）と第３ガス導入孔（１２２）が形成され、ガス排気室（１４０’）の内部底面の前面と後面にはそれぞれ第１ガス排気孔（１４１）と第２ガス排気孔（１４２）が形成される。
【０１１０】
第１、３分離壁（１５０、１７０）にはそれぞれ第１、３孔（１５１、１７１）が形成される。
【０１１１】
第１、３孔（１５１、１７１）は第１実施例により説明したとおり、複数の孔形態またはスリット形態に構成されてもよく、これに対する説明は省略する。
【０１１２】
上述の構成により本発明の第２実施例によるウェハー収納容器（１００’）において、収納室（１１０’）の左側に位置する第１ガス注入室（１２０’）から収納室（１１０’）へパージガスが注入され、注入された前記パージガスとウェハー（ｗ）の表面に残存するフュームは収納室（１１０’）の右側に位置するガス排気室（１４０’）を通じてロードポート（未図示）の排気部へ排出される。
【０１１３】
もちろん、本発明の第２実施例によるウェハー収納容器（１００’）の第１ガス注入室（１２０’）は収納室（１１０’）の右側に位置し、第２ガス注入室（１３０’）は収納室（１１０’）の左側に位置してもよい。
【０１１４】
また、本発明の第２実施例によるウェハー収納容器（１００’）の収納室（１１０’）には前記第１−１、１−２実施例によるプレート（２００、２００’）が複数積層して設けられ、それによる効果は第１実施例によるウェハー収納容器（１００）と同じ効果を有する。
【０１１５】
本発明の第３実施例によるウェハー収納容器（１００”）は図６に示されるように、収納室（１１０”）の左側には第１ガス注入室（１２０”）が位置し、収納室（１１０”）の右側には第２ガス注入室（１３０”）とガス排気室（１４０”）が位置する。
【０１１６】
すなわち、収納室（１１０”）の左側面には第１分離壁（１５０）が形成され、右側前面には第２分離壁（１６０）が形成され、右側後面には第３分離壁（１７０）が形成され、収納室（１１０）と第１、２ガス注入室（１２０”、１３０”）及びガス排気室（１４０”）は互い独立された個別の空間を形成する。
【０１１７】
第１ガス注入室（１２０”）内部底面の前面と後面にはそれぞれ第１ガス導入孔（１２１）と第３ガス導入孔（１２２）が形成されて、第２ガス注入室（１３０”）内部底面の前面には第２ガス導入孔（１３１）が形成されて、ガス排気室（１４０”）内部底面の後面には第１ガス排気孔（１４１）が形成される。
【０１１８】
また、第２ガス注入室（１３０”）とガス排気室（１４０”）の間には第４分離壁（１８０）が形成されて、第２ガス注入室（１３０”）とガス排気室（１４０”）が互いに独立された個別の空間を形成するための役割をする。
【０１１９】
第１乃至第３分離壁（１５０、１６０、１７０）にはそれぞれ第１乃至第３孔（１５１、１６１、１７１）が形成される。
【０１２０】
第１乃至第３孔（１５１、１６１、１７１）は第１実施例により説明したように複数の孔形態またはスリット形態に構成されてもよく、これに対する説明は省略する。
【０１２１】
上述した構成により本発明の第３実施例によるウェハー収納容器（１００”）において、収納室（１１０”）の左側に位置する第１ガス注入室（１２０”）と右側前面に位置する第２ガス注入室（１３０”）から収納室（１１０”）へパージガスが注入され、注入された前記パージガスとウェハー（ｗ）のフュームは収納室（１１０”）の右側後面に位置するガス排気室（１４０”）を通じてロードポート（未図示）の排気部へ排出される。
【０１２２】
もちろん、本発明の第３実施例によるウェハー収納容器（１００”）の第１ガス注入室（１２０”）は収納室（１１０”）の右側に位置し、第２ガス注入室（１３０”）とガス排気室（１４０”）は収納室（１１０”）の左側に位置してもよく、第２ガス注入室（１３０”）は収納室（１１０”）の後面に位置し、ガス排気室（１４０”）は収納室（１１０”）の前面に位置してもよい。
【０１２３】
また、本発明の第３実施例によるウェハー収納容器（１００”）の収納室（１１０”）には前記第１−１、１−２実施例によるプレート（２００、２００’）が複数積層して設けられてもよく、それによる効果は第１実施例によるウェハー収納容器（１００）と同じ効果を有する。
【０１２４】
上述したように、本発明の好ましい実施例を用いて説明したが、当業者は下記の特許請求範囲に記載された本発明の思想と領域から離れない範囲内で本発明を多様に修正または変形して実施することができる。
【符号の説明】
【０１２５】
１００、１００’、１００”  ウェハー収納容器
１１０、１１０’、１１０”  収納室
１２０、１２０’、１２０”  第１ガス注入室
１２１  第１ガス導入孔
１２２  第３ガス導入孔
１３０、１３０’、１３０”  第２ガス注入室
１３１  第２ガス導入孔
１４０、１４０’、１４０”  ガス排気室
１４１  第１ガス排気孔
１４２  第２ガス排気孔
１５０  第１分離壁
１５１、１５１’  第１孔
１６０  第２分離壁
１６１、１６１’  第２孔
１７０  第３分離壁
１７１、１７１’  第３孔
１８０  第４分離壁
１８１  パイプ
２００、２００’  プレート
２１０  本体部
２２０  突出部
２２１  第１突出面
２２２  第２突出面
２３０  支持棒
２４１  第１導入口
２４２  第２導入口
２４３  第３導入口
２４４  第４導入口
２５１  第１噴射口
２５２  第２噴射口
２５３  第３噴射口
２５４  第４噴射口
２６１  第１流路
２６２  第２流路
２６３  第３流路
２６４  第４流路
２７１  共有チャンバー
【図１】
2019216258.tif 000003
【図２】
2019216258.tif 000004
【図３】
2019216258.tif 000005
【図４】
2019216258.tif 000006
【図５】
2019216258.tif 000007
【図６】
2019216258.tif 000008
【図７】
2019216258.tif 000009
【図８】
2019216258.tif 000010
【図９】
2019216258.tif 000011
【図１０】
2019216258.tif 000012
【図１１】
2019216258.tif 000013
【図１２】
2019216258.tif 000014