(57)【要約】【課題】ノイズ抑制のための要素を設けるにあたり検出領域に影響を与えず、コストアップを抑制できる入力装置を提供すること。【解決手段】本発明の一態様は、基材の検出領域に設けられた複数の電極部と、複数の電極部と導通し検出領域の外側へ延びる配線部と、を備えた入力装置であって、抵抗部および容量部を有するローパスフィルタを備えている。このローパスフィルタにおいて、抵抗部は前記配線部の途中に設けられ、容量部は配線部と接地部との間に設けられたことを特徴とする。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の検出領域に設けられた複数の電極部と、前記複数の電極部と導通し前記検出領域の外側へ延びる配線部と、を備えた入力装置であって、
抵抗部および容量部を有するローパスフィルタを備え、
前記抵抗部は前記配線部の途中に設けられ、前記容量部は前記配線部と接地部との間に設けられたことを特徴とする入力装置。
【請求項２】
前記配線部は、透光性導電材料で形成された第１配線層と、金属材料で形成された第２配線層とを備えた積層構造を有し、
前記抵抗部は、前記第１配線層を備え、前記第２配線層を備えていない構造を有する、請求項１に記載の入力装置。
【請求項３】
前記抵抗部は、前記配線部の一部において線幅を細くした部分に設けられた、請求項１に記載の入力装置。
【請求項４】
前記配線部と前記接地部とは、前記基材の平面視において並置され、
前記配線部と前記接地部とを覆うように前記容量部を構成する誘電体層が設けられた、請求項１から３のいずれか一項に記載の入力装置。
【請求項５】
前記配線部と前記接地部とは互いに同層に設けられた、請求項４に記載の入力装置。
【請求項６】
複数の前記配線部と、複数の前記接地部とを有し、
前記複数の配線部のそれぞれと、前記複数の接地部のそれぞれとが前記基材の平面視において交互に配置された、請求項４または５に記載の入力装置。
【請求項７】
前記配線部と前記接地部とは互いに異なる層に設けられ、
前記配線部と前記接地部との間の層に前記容量部を構成する誘電体層が設けられた、
請求項１から３のいずれか一項に記載の入力装置。
【請求項８】
複数の前記配線部が前記基材の平面視において並置され、前記複数の配線部を覆うように前記誘電体層が設けられた、請求項７に記載の入力装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は入力装置に関し、特に指などが接近した位置を検出するタッチセンサを備えた入力装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
入力装置として多く利用されるタッチパネルは、検出領域に指などが接近（以下、接近には接触を含むものとする。）した位置を検出するタッチセンサを備えている。例えば、相互容量方式のタッチパネルにおいては、駆動側の電極と出力側の電極とが設けられており、駆動側の電極にドライブパルスを与え、指などの接近による容量変化を出力側の電極で検出している。タッチパネルでは、静電容量の変化によって位置を検出するため、電極および電極と導通する配線にノイズが混入すると誤検出の原因となる。
【０００３】
特許文献１には、高周波干渉信号の影響を低減するタッチスクリーンが開示されている。このタッチスクリーンでは、タッチパネルのメタルトレース経路内に透明導電体抵抗器を挿入してローパスフィルタを構成している。
【０００４】
特許文献２には、回路規模および消費電力の増大を伴わずに低ノイズ特性を実現し、Ｓ／Ｎ比の高い正確な容量検出が可能な静電容量検出回路が開示されている。この静電容量検出回路は、タッチパネルに含まれる容量型タッチセンサの容量変化を電圧信号に変換する連続時間型ＣＶ変換回路と、連続時間型ＣＶ変換回路からの出力信号を同期検波信号により検波する同期検波回路と、同期検波回路からの出力信号の帯域制限を行うローパスフィルタ回路と、同期検波信号を生成する制御部とを備えている。
【０００５】
特許文献３には、センサ付近のディスプレイデバイスなど、外部からの迷走電磁放射線の影響を抑制する静電容量センサが開示される。この静電容量センサでは、受動回路要素を静電容量センサと一体化している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−３１０８１８号公報
【特許文献２】特開２０１５−０７５９８４号公報
【特許文献３】特表２０１３−５２５９１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
タッチパネルのような入力装置において、ノイズ抑制のための抵抗やコンデンサなどの素子要素を配線に接続する場合、素子要素の設置場所や大きさなど、検出領域の面積に影響を与えないようにすることが望まれる。また、ノイズ抑制のための素子要素を設けることでレイアウトの制約を受けたり、製造工数の増加などでコストアップになったりすることも避けたい。
【０００８】
本発明は、ノイズ抑制のための素子要素を設けるにあたり検出領域に影響を与えず、レイアウトの制約やコストアップを抑制できる入力装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明の一態様は、基材の検出領域に設けられた複数の電極部と、複数の電極部と導通し検出領域の外側へ延びる配線部と、を備えた入力装置であって、抵抗部および容量部を有するローパスフィルタを備えている。このローパスフィルタの抵抗部は配線部の途中に設けられ、容量部は配線部と接地部との間に設けられたことを特徴とする。
【００１０】
このような構成によれば、抵抗部および容量部によって構成されるローパスフィルタを備えた入力装置において、抵抗部が配線部の途中に設けられることで配線部の一部を抵抗部として利用することができる。ここで、容量部は、電極部からみて抵抗部よりも下流側に配置される。例えば、容量部は、配線部の途中に設けられた抵抗部と、配線部の端部（パッド部など）との間に設けられる。
【００１１】
上記入力装置において、配線部は、透光性導電材料で形成された第１配線層と、金属材料で形成された第２配線層とを備えた積層構造を有し、抵抗部は、第１配線層を備え、第２配線層を備えていない構造を有していてもよい。これにより、配線部は、第１配線層と第２配線層との積層構造によって低抵抗化され、抵抗部は、配線部の積層構造のうち第２配線層を備えていない構造によって、配線部の他の部分よりも高抵抗化される。また、抵抗部は、配線部に含まれる第１配線層を備えているため、配線部の一部として構成される。
【００１２】
上記入力装置において、抵抗部は、配線部の一部において線幅を細くした部分に設けられていてもよい。これにより、配線部の一部において線幅を細くすることで、配線部の他の部分よりも高抵抗化した抵抗部を構成することができる。
【００１３】
上記入力装置において、配線部と接地部とは基材の平面視において並置され、配線部と接地部とを覆うように容量部を構成する誘電体層が設けられていてもよい。このように配線部と設置部とが基材上に並置されている場合には、これらの配線部と設置部との間に誘電体層を設けることにより、容量部を容易に構成することができる。この場合において、配線部と設置部とが互いに同層に設けられている場合には、容量部を構成することがより容易となる。
【００１４】
上記入力装置において、複数の配線部と、複数の接地部とを有し、複数の配線部のそれぞれと、複数の接地部のそれぞれとが基材の平面視において交互に配置されていてもよい。これにより、複数の配線部のそれぞれの間に容量部が構成される。
【００１５】
上記入力装置において、配線部と接地部とは互いに異なる層に設けられ、配線部と接地部との間の層に容量部を構成する誘電体層が設けられていてもよい。これにより、配線部と接地部との間に誘電体層を挟んだ積層構造の容量部が構成される。この場合において、複数の配線部が基材の平面視において並置され、複数の配線部を覆うように誘電体層が設けられていてもよい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、ノイズ抑制のための要素を設けるにあたり検出領域に影響を与えず、レイアウトの制約やコストアップを抑制できる入力装置を提供することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】（ａ）および（ｂ）は、本実施形態に係る入力装置を例示する図である。
【図２】本実施形態に係る入力装置の使用例を示す模式図である。
【図３】ローパスフィルタの配置例を示す模式平面図である。
【図４】抵抗部の例（その１）を示す模式平面図である。
【図５】（ａ）および（ｂ）は、抵抗部の例（その２）を示す模式図である。
【図６】容量部の例（その１）を例示する模式断面図である。
【図７】（ａ）および（ｂ）は、容量部の例（その２）を例示する模式図である。
【図８】（ａ）および（ｂ）は、容量部の例（その３）を例示する模式図である。
【図９】容量部の例（その４）を例示する模式平面図である。
【図１０】容量部の例（その５）を例示する模式平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、以下の説明では、同一の部材には同一の符号を付し、一度説明した部材については適宜その説明を省略する。
【００１９】
（入力装置の構成）
図１（ａ）および（ｂ）は、本実施形態に係る入力装置を例示する図で、（ａ）は平面図、（ｂ）はローパスフィルタの一例を示す回路図である。
図２は、本実施形態に係る入力装置の使用例を示す模式図である。
【００２０】
図１（ａ）に示すように、本実施形態に係る入力装置１は、例えば静電容量式のタッチセンサを備えたタッチパネルである。タッチセンサは、検出領域Ｓに指などが接近した場合の静電容量の変化によって位置検出を行う。本実施形態に係る入力装置１は、基材１０の検出領域Ｓに設けられた第１電極１１および第２電極１２を備える。基材１０は、ＰＥＴ（Polyethylene Terephthalate）、ＣＯＰ(cycloolefin polymer)などの透光性を有する可撓性フィルム、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂などの硬質の透光性板材、ガラス板などで形成されている。
【００２１】
第１電極１１は基材１０の表面に沿ったＸ方向に延在し、第２電極１２は基材１０の表面に沿いＸ方向と直交するＹ方向に延在する。第１電極１１および第２電極１２は互い絶縁される。本実施形態では、Ｙ方向に所定のピッチで複数の第１電極１１が配置され、Ｘ方向に所定のピッチで複数の第２電極１２が配置される。
【００２２】
第１電極１１および第２電極１２を構成する電極のパターンは各種あるが、本実施形態では、第１電極１１および第２電極１２のそれぞれは複数の島状電極部を有する。各島状電極部は例えば菱形に近い形状を有している。
【００２３】
複数の第１電極１１のそれぞれには検出領域Ｓの外側へ引き出される配線部として引き出し配線１１ａが接続される。また、複数の第２電極１２のそれぞれにも検出領域Ｓの外側へ引き出される配線部として引き出し配線１２ａが接続される。すなわち、複数の第１電極１１と引き出し配線１１ａとが導通し、複数の第２電極１２と引き出し配線１２ａとが導通する。
【００２４】
静電容量式のタッチセンサでは、各引き出し配線１１ａおよび１２ａを流れる電流の変化を図示しない検出回路で検出する。すなわち、第１電極１１および第２電極１２に所定の電位を与えた状態で、検出領域Ｓに指を近づけると、第１電極１１および第２電極１２のそれぞれと指との間に静電容量が生じる。この静電容量によって生じる電位低下を検出することで、指が接近した検出領域Ｓ内でのＸ，Ｙ座標を判定する。
【００２５】
また、本実施形態に係る入力装置１では、配線部である引き出し配線１１ａおよび１２ａの途中に抵抗部２１が設けられる。抵抗部２１は、引き出し配線１１ａおよび１２ａよりも高抵抗な部分である。
【００２６】
さらに、本実施形態に係る入力装置１では、引き出し配線１１ａおよび１２ａと接地部（接地された配線）１５との間に容量部２２が設けられる。この抵抗部２１および容量部２２によって図１（ｂ）に示すローパスフィルタ２０が構成される。配線部にローパスフィルタ２０を構成するため、容量部２２は、配線部（引き出し配線１１ａおよび１２ａ）の途中に設けられた抵抗部２１よりも電極（第１電極１１、第２電極１２）からみて下流側において接地部１５との間に設けられる。
ローパスフィルタ２０は、基材１０における検出領域Ｓの外側に設けられていることが好ましい。これにより、検出領域Ｓの面積や透光性に与える影響を抑制することができる。
【００２７】
引き出し配線１１ａおよび１２ａにローパスフィルタ２０が設けられることで、引き出し配線１１ａおよび１２ａに混入するノイズ（高周波成分）を除去することができ、ノイズによる誤検出を抑制することが可能となる。
【００２８】
図２に示すように、入力装置１であるタッチパネルは、液晶などの表示装置１００の上に取り付けられる。したがって、タッチパネルの検出領域Ｓは、位置検出機能を備えるとともに、表示装置１００によって表示される画像を透過できるように透光性を有している。このため、第１電極１１および第２電極１２には透光性導電材料（ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、導電性ナノ材料、網目状に形成された金属材料など）が用いられる。
【００２９】
一方、引き出し配線１１ａおよび１２ａは検出領域Ｓの外側に引き出される。検出領域Ｓの外側では透光性は必要ないため、引き出し配線１１ａおよび１２ａの検出領域Ｓの外側の部分では第１電極１１および第２電極１２よりも比抵抗の低い材料を用いることができる。
【００３０】
本実施形態では、この引き出し配線１１ａおよび１２ａの途中において、引き出し配線１１ａおよび１２ａよりも高抵抗な部分を設けて抵抗部２１を構成している。これにより、配線部（引き出し配線１１ａおよび１２ａ）の一部を抵抗部２１として利用することができる。また、検出領域Ｓの外側において、引き出し配線１１ａおよび１２ａにローパスフィルタ２０を設けることで、ノイズ抑制のための要素（抵抗部２１および容量部２２）を設けるにあたり検出領域Ｓに与える影響（面積減少や配線レイアウトの制約など）を抑制することができる。
【００３１】
図３は、ローパスフィルタの配置例を示す模式平面図である。
図３に示すように、ローパスフィルタ２０は、検出領域Ｓの外側において引き出し配線１１ａおよび１２ａの途中に設けられる。この例では、複数の引き出し配線１１ａおよび１２ａのそれぞれと隣り合うように接地部１５が設けられる。すなわち、複数の引き出し配線１１ａおよび１２ａのそれぞれと、複数の接地部１５のそれぞれとが基材１０の平面視において交互に配置されている。
【００３２】
これらの引き出し配線１１ａおよび１２ａと、接地部１５との間には誘電体層２２０が設けられており、これによって各引き出し配線１１ａおよび１２ａのそれぞれと、隣接する接地部１５との間に容量部２２が構成される。図３に示す例では、容量部２２は、各引き出し配線１１ａおよび１２ａの端部に設けられたパッド部Ｐに近位な場所に配置され、引き出し線１１ａおよび接地部１５や引き出し線１２ａおよび接地部１５を覆うように誘電体層２２０が設けられて、容量部２２が構成されている。また、抵抗部２１は、各引き出し配線１１ａおよび１２ａの途中に設けられる。抵抗部２１は、容量部２２よりもパッド部Ｐから遠位な場所に配置されている。
【００３３】
抵抗部２１および容量部２２が検出領域Ｓの外側に設けられていることで、検出領域Ｓの面積に影響を与えることなくローパスフィルタ２０を構成することができる。また、引き出し配線１１ａおよび１２ａの一部を抵抗部２１として利用しているため、別途に抵抗部２１を設ける場合に比べて設置面積の増加を抑制できるとともに、引き出し配線１１ａおよび１２ａの製造工程に組み込んで抵抗部２１を形成することができる。
【００３４】
図４は、抵抗部の例（その１）を示す模式平面図である。
図４に示す抵抗部２１は、配線部である引き出し配線１１ａおよび１２ａの一部において線幅を細くした部分に設けられている。線幅を細くした部分は細くしていない部分に比べて高抵抗化される。この部分を抵抗部２１として利用する。これにより、引き出し配線１１ａおよび１２ａを形成する工程と同じ工程で抵抗部２１を形成することができる。また、引き出し配線１１ａおよび１２ａの途中に抵抗部２１が設けられるため、別個に抵抗部２１を形成する場合に比べて設置面積の増加を抑制することができる。
【００３５】
また、引き出し配線１１ａおよび１２ａを例えばフォトリソグラフィおよびエッチングによって形成する場合、露光パターンの設定で線幅を細くして抵抗部２１を形成することができ、抵抗部２１を形成するための製造工程の追加は不要である。
【００３６】
一例として、引き出し配線１１ａおよび１２ａの線幅は例えば５μｍ〜５０μｍ程度であり、これに対して抵抗部２１の線幅はその１／５０〜１／２程度（例えば１μｍ〜２５μｍ程度）である。引き出し配線１１ａおよび１２ａの材料、線幅および長さによって抵抗部２１の抵抗値を設定することができる。
【００３７】
図５（ａ）および（ｂ）は、抵抗部の例（その２）を示す模式図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
図５に示す抵抗部２１では、配線部である引き出し配線１１ａおよび１２ａと層構造が相違する。
すなわち、引き出し配線１１ａおよび１２ａは、透光性導電材料で形成された第１配線層Ｌ１と、金属材料で形成された第２配線層Ｌ２とを備えた積層構造を有する。透光性導電材料で形成された第１配線層Ｌ１は、例えば第１電極１１および第２電極１２と同じ透光性導電材料の電極層から延出したものである。引き出し配線１１ａおよび１２ａにおいて、検出領域Ｓの外側では低抵抗化を図るために第１配線層Ｌ１に金属材料の第２配線層Ｌ２が積層されている。
【００３８】
抵抗部２１は、第１配線層Ｌ１を備え、第２配線層Ｌ２を備えていない構造となっている。図５に示す例では、抵抗部２１は引き出し配線１１ａおよび１２ａの一部において積層構造の第２配線層Ｌ２を備えていない構造となっている。例えば、抵抗部２１は第１配線層Ｌ１のみの構造となっている。
【００３９】
これにより、抵抗部２１は、引き出し配線１１ａおよび１２ａの一部において第２配線層Ｌ２を備えていない部分に構成されることになる。例えば、抵抗部２１を形成するには、配線部である引き出し配線１１ａおよび１２ａの積層構造（第１配線層Ｌ１および第２配線層Ｌ２）を形成した後、積層構造の一部の第２配線層Ｌ２を除去する。この第２配線層Ｌ２が除去された部分が抵抗部２１となる。
【００４０】
なお、抵抗部２１は、第１配線層Ｌ１と他の層（図示せず）を含む構造でもよい。例えば、引き出し配線１１ａおよび１２ａの一部において、第２配線層Ｌ２よりも高抵抗な材料を用いた配線層と第１配線層Ｌ１とを積層した構造でもよい。いずれの構造でも、引き出し配線１１ａおよび１２ａの積層構造よりも高抵抗な部分を設けて抵抗部２１を構成すればよい。
【００４１】
図４および図５のいずれの例に示す抵抗部２１でも、配線部である引き出し配線１１ａおよび１２ａの一部が抵抗部２１として構成されるため、別途の抵抗部２１を設ける必要はない。これにより、ノイズ抑制のための素子要素を設けるにあたり検出領域Ｓの面積に影響を与えず、レイアウトの制約やコストアップを抑制することができる。
【００４２】
図６は、容量部の例（その１）を例示する模式断面図である。
図６には、図３に示す容量部２２の断面構造が示される。
この容量部２２では、基材１０上の同層に、配線部（引き出し配線１１ａおよび１２ａ）と接地部１５とが並置され、具体的には、複数の配線部（引き出し配線１１ａおよび１２ａ）と複数の接地部１５とが交互に配置されている。そして、これらの配線部と接地部１５との間およびこれらの上を覆うように誘電体層２２０が設けられている。誘電体層２２０としては、ポリフッ化ビニリデンなどが用いられる。これにより、互いに隣り合う配線部（引き出し配線１１ａおよび１２ａ）と接地部１５との間に容量部２２が形成されることになる。この例では、互いに隣り合う配線部（引き出し配線１１ａおよび１２ａ）と接地部１５との間隔や、誘電体層２２０を構成する材料の誘電率によって容量を設定することができる。
【００４３】
図７（ａ）および（ｂ）は、容量部の例（その２）を例示する模式図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線断面図である。
図７に示す容量部２２では、互いに異なる層に配線部（引き出し配線１１ａおよび１２ａ）と接地部１５とが設けられ、この配線部と接地部１５との間に誘電体層２２０が設けられている。例えば、配線部（引き出し配線１１ａおよび１２ａ）と接地部１５とが互いに異なる層に設けられ、配線部（引き出し配線１１ａおよび１２ａ）の一部に幅広となったパターン部ＷＰ１が設けられている。また、接地部１５の一部に幅広となったパターン部ＷＰ２が設けられ、このパターン部ＷＰ２がパターン部ＷＰ１に対向するように配置される。そして、パターン部ＷＰ１とパターン部ＷＰ２との間に誘電体層２２０が設けられる。この積層構造によって容量部２２が構成される。
【００４４】
図７に示す容量部２２では、誘電体層２２０の材料の選択のほか、パターン部ＷＰ１およびパターン部ＷＰ２の大きさ（平面視面積）によって容量値を設定することができる。
【００４５】
図８（ａ）および（ｂ）は、容量部の例（その３）を例示する模式図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＣ−Ｃ線断面図である。
図８に示す容量部２２は、図７に示す容量部２２と同様に、互いに異なる層に設けられた配線部（引き出し配線１１ａおよび１２ａ）と接地部１５との間に誘電体層２２０を設けることで構成されている。一方、図８に示す容量部２２では、複数の引き出し配線１１ａおよび１２ａが並置するように設けられ、これらの配線（複数の引き出し配線１１ａおよび１２ａ）に対して一つのパターン部ＷＰ２が対向して設けられている。したがって、複数の引き出し配線１１ａおよび１２ａと一つのパターン部ＷＰ２との間に誘電体層２２０が設けられることにより、容量部２２が構成されている。
【００４６】
図８に示す容量部２２では、複数の引き出し配線１１ａおよび１２ａのそれぞれに対応した容量部２２を構成するにあたり、複数の引き出し配線１１ａおよび１２ａの上に一括して配置される一つのパターン部ＷＰ２を形成することで対応可能となる。
【００４７】
図９は、容量部の例（その４）を例示する模式平面図である。
図９に示す容量部２２は、容量部２２を構成するために１つの接地部１５を２本の配線部（引き出し配線１１ａおよび１２ａ）で共用した構成となっている。すなわち、隣り合う２本の配線部（引き出し配線１１ａおよび１２ａ）と、これらの間に配置された１つの接地部１５との間で容量部２２を構成している。
【００４８】
図９に示す例では、基材１０の平面視において配線部（引き出し配線１１ａおよび１２ａ）と接地部１５とが並置されており、隣り合う２本の配線部（引き出し配線１１ａおよび１２ａ）の間に１つの接地部１５が設けられている。そして、これら２本の配線部（引き出し配線１１ａおよび１２ａ）と１つの接地部１５との間に誘電体層２２０が設けられる。例えば、誘電体層２２０は、２本の配線部（引き出し配線１１ａおよび１２ａ）と１つの接地部１５とを覆うように設けられる。これにより、２本の配線部（引き出し配線１１ａおよび１２ａ）に対応して容量部２２が２つ形成される。なお、誘電体層２２０は、複数の配線部（引き出し配線１１ａおよび１２ａ）および複数の接地部１５を一括して覆うように設けられていてもよい。
【００４９】
１つの接地部１５を２本の配線部（引き出し配線１１ａおよび１２ａ）で共用することにより、各配線部（引き出し配線１１ａおよび１２ａ）に１対１で接地部１５が設けられている場合に比べて接地部１５の本数を減らすことができる。
【００５０】
図１０は、容量部の例（その５）を例示する模式平面図である。
図１０に示す例では、引き出し配線１１ａおよび１２ａのうち、引き出し配線１２ａのみに容量部２２が設けられている。引き出し配線１１ａは第１電極１１と導通し、引き出し配線１２ａは第２電極１２と導通している。例えば、第１電極１１を駆動電極、第２電極１２を受信電極とした相互容量型検出式の入力装置１では、受信電極である第２電極１２と導通した引き出し配線１２ａに抵抗部２１を設け、２つの引き出し配線１２ａの間に接地線１５を設け、引き出し配線１２ａと接地線１５との間に誘電体層２２０を設けて容量部２２を構成すればよい。
【００５１】
このように、引き出し配線１２ａのみに容量部２２を構成する例では、第１電極１１に接続された引き出し配線１１ａには抵抗部２１や誘電体層２２０を設ける必要がなく、それゆえ、隣り合う２つの引き出し配線１１ａの間に接地部１５を設ける必要もない。このため、配線部の小型化を図ることが可能となる。
【００５２】
以上説明したように、本実施形態によれば、ノイズ抑制のための素子要素（抵抗部２１および容量部２２）を設けるにあたり検出領域Ｓの面積や配線等のレイアウトに影響を与えないようにすることができる。また、引き出し配線１１ａおよび１２ａの一部に抵抗部２１を設けることで、別途に抵抗部２１を設ける場合に比べて製造工数の増加およびコストアップを抑制することができる。
【００５３】
なお、上記に本実施形態を説明したが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。例えば、抵抗部２１や容量部２２の配置や材料、形状等は一例であり、これに限定されるものではない。また、前述の各実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除、設計変更を行ったものや、各実施形態の特徴を適宜組み合わせたものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に包含される。
【符号の説明】
【００５４】
１…入力装置
１０…基材
１１…第１電極
１１ａ…引き出し配線
１２…第２電極
１２ａ…引き出し配線
１５…接地部
２０…ローパスフィルタ
２１…抵抗部
２２…容量部
１００…表示装置
２２０…誘電体層
Ｌ１…第１配線層
Ｌ２…第２配線層
Ｐ…パッド部
Ｓ…検出領域
ＷＰ１…パターン部
ＷＰ２…パターン部
【図１】
2019032687.tif 000003
【図２】
2019032687.tif 000004
【図３】
2019032687.tif 000005
【図４】
2019032687.tif 000006
【図５】
2019032687.tif 000007
【図６】
2019032687.tif 000008
【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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