(57)【要約】【課題】複数の濃縮装置が配置される場合において、複数の濃縮装置を均等に使用でき、システム全体としての性能の変動を抑制することができる排ガス処理システムを提供する。【解決手段】排ガスに含まれる有機成分を処理する排ガス処理システム９０であって、排ガスを濃縮処理する複数の濃縮装置３と、濃縮装置３で濃縮処理された排ガスを燃焼処理する燃焼処理装置８と、排ガス処理システム９０を制御する制御装置９と、を備え、濃縮装置３は、有機成分を吸着させる吸着体３１を備えており、吸着体３１は、外気が通過することによって冷却され、吸着体３１を冷却した外気が加熱されて再度吸着体３１を通過することによって、吸着体３１に吸着した有機成分を脱着し、有機成分を含む濃縮ガスとして燃焼処理装置８に供給するようになっており、制御装置９は、各濃縮装置３の吸着体３１における外気通過前後の差圧が同じとなるように、各濃縮装置３への外気供給量を制御するようになっていることを特徴とする。【選択図】図１
2019100626.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
排ガスに含まれる有機成分を処理する排ガス処理システムであって、
排ガスを濃縮処理する複数の濃縮装置と、
前記濃縮装置で濃縮処理された排ガスを燃焼処理する燃焼処理装置と、
前記排ガス処理システムを制御する制御装置と、を備え、
前記濃縮装置は、有機成分を吸着させる吸着体を備えており、前記吸着体は、外気が通過することによって冷却され、前記吸着体を冷却した外気が加熱されて再度前記吸着体を通過することによって、前記吸着体に吸着した有機成分を脱着し、有機成分を含む濃縮ガスとして前記燃焼処理装置に供給するようになっており、
前記制御装置は、前記各濃縮装置の前記吸着体における外気通過前後の差圧が同じとなるように、前記各濃縮装置への外気供給量を制御するようになっていることを特徴とする、排ガス処理システム。
【請求項２】
排ガスに含まれる有機成分を処理する排ガス処理システムであって、
排ガスを濃縮処理する複数の濃縮装置と、
前記濃縮装置で濃縮処理された排ガスを燃焼処理する燃焼処理装置と、
前記排ガス処理システムを制御する制御装置と、を備え、
前記濃縮装置は、排ガスが通過することによって、排ガス中の有機成分を吸着させる吸着体を備えており、
前記制御装置は、前記各濃縮装置の前記吸着体における排ガス通過前後の差圧が同じとなるように、前記各濃縮装置への排ガス供給量を制御するようになっていることを特徴とする、排ガス処理システム。
【請求項３】
排ガスに含まれる有機成分を処理する排ガス処理システムであって、
排ガスを濃縮処理する複数の濃縮装置と、
前記濃縮装置で濃縮処理された排ガスを燃焼処理する蓄熱式燃焼脱臭装置と、
前記排ガス処理システムを制御する制御装置と、を備え、
前記濃縮装置は、排ガスが通過することによって、排ガス中の有機成分を吸着させる吸着体を備えており、
前記吸着体は、外気が通過することによって冷却されるようになっており、
前記制御装置は、前記各濃縮装置の前記吸着体における排ガス通過前後の差圧が同じとなるように、前記各濃縮装置への排ガス供給量を制御し、
前記各濃縮装置の前記吸着体における外気通過前後の差圧が同じとなるように、前記各濃縮装置への外気供給量を制御するようになっていることを特徴とする、排ガス処理システム。
【請求項４】
前記濃縮装置には、前記吸着体における外気通過前後の差圧を測定する第１圧力センサと、前記吸着体における排ガス通過前後の差圧を測定する第２圧力センサと、前記吸着体を通過した外気を、前記吸着体の加熱のため、前記吸着体に供給する第１供給弁と、前記吸着体へ排ガスを供給する第２供給弁と、を備えており、
前記制御装置は、前記第１圧力センサの検知結果に基づき、前記第１供給弁の開度を設定し、前記第２圧力センサの検知結果に基づき、前記第２供給弁の開度を設定する、請求項３記載の排ガス処理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機成分を含有する排ガスを処理する排ガス処理システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
塗装工場等から排出される有機成分（Volative Organic Compounds：以下「ＶＯＣ」と称する）を含む排ガスは、蓄熱式燃焼脱臭装置（Regenerative Thermal Oxidizer：以下「ＲＴＯ」と称する）等の燃焼処理装置によって加熱分解処理される。基本的には、ＶＯＣは有機ガスであるので自己燃焼するが、工場の操業状態によっては、排ガス中のＶＯＣ濃度が小さくなり、自己燃焼しにくくなることがある。このような場合、バーナで追い焚きをすることが考えられるが、追い焚きによるバーナの燃料を削減するため、特許文献１に示されるように、排ガス中のＶＯＣを吸着体に吸着させ、ＶＯＣを濃縮させる濃縮装置が、ＲＴＯの排ガス上流側に配置されている。そして、排ガス量が多い場合は、特許文献２に示されるように、複数の濃縮装置が並列に配置されて使用されることがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−７２８９６号公報
【特許文献２】特開２００９−０１８３０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ここで、濃縮装置が複数配置される場合、たとえ濃縮装置の仕様が全く同じであっても、現場のレイアウトの都合等により、濃縮装置回りの配管の流路等を同じにすることは難しく、配管の長さや曲管の数等が異なり、流路抵抗が異なることになる。その結果、濃縮装置間で通過流量が異なり、負荷が偏って、性能が十分に発揮できなかったり、過負荷によって損傷したりするという問題が生じることが考えられる。
【０００５】
そこで本発明では、複数の濃縮装置が配置される場合において、複数の濃縮装置を均等に使用でき、システム全体としての性能の変動を抑制することができる排ガス処理システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の態様は、排ガスに含まれる有機成分を処理する排ガス処理システムであって、
排ガスを濃縮処理する複数の濃縮装置と、
前記濃縮装置で濃縮処理された排ガスを燃焼処理する燃焼処理装置と、
前記排ガス処理システムを制御する制御装置と、を備え、
前記濃縮装置は、有機成分を吸着させる吸着体を備えており、前記吸着体は、外気が通過することによって冷却され、前記吸着体を冷却した外気が加熱されて再度前記吸着体を通過することによって、前記吸着体に吸着した有機成分を脱着し、有機成分を含む濃縮ガスとして前記燃焼処理装置に供給するようになっており、
前記制御装置は、前記各濃縮装置の前記吸着体における外気通過前後の差圧が同じとなるように、前記各濃縮装置への外気供給量を制御するようになっていることを特徴とする。
【０００７】
前記構成によれば、濃縮装置間での外気の流路抵抗が同じとなるので、濃縮装置間での濃縮倍率の差を抑制することができ、複数の濃縮装置を均等に使用することで、排ガス処理システム全体としての性能の変動を抑制することができる。
【０００８】
本発明の第２の態様は、排ガスに含まれる有機成分を処理する排ガス処理システムであって、
排ガスを濃縮処理する複数の濃縮装置と、
前記濃縮装置で濃縮処理された排ガスを燃焼処理する燃焼処理装置と、
前記排ガス処理システムを制御する制御装置と、を備え、
前記濃縮装置は、排ガスが通過することによって、排ガス中の有機成分を吸着させる吸着体を備えており、
前記制御装置は、前記各濃縮装置の前記吸着体における排ガス通過前後の差圧が同じとなるように、前記各濃縮装置への排ガス供給量を制御するようになっていることを特徴とする。
【０００９】
前記構成によれば、濃縮装置間での排ガスの流路抵抗が同じとなるので、濃縮装置間での排ガスの通過量の差を抑制することができ、複数の濃縮装置を均等に使用することで、排ガス処理システム全体として性能の変動を抑制することができる。
【００１０】
本発明の第３の態様は、排ガスに含まれる有機成分を処理する排ガス処理システムであって、
排ガスを濃縮処理する複数の濃縮装置と、
前記濃縮装置で濃縮処理された排ガスを燃焼処理する蓄熱式燃焼脱臭装置と、
前記排ガス処理システムを制御する制御装置と、を備え、
前記濃縮装置は、排ガスが通過することによって、排ガス中の有機成分を吸着させる吸着体を備えており、
前記吸着体は、外気が通過することによって冷却されるようになっており、
前記制御装置は、前記各濃縮装置の前記吸着体における排ガス通過前後の差圧が同じとなるように、前記各濃縮装置への排ガス供給量を制御し、
前記各濃縮装置の前記吸着体における外気通過前後の差圧が同じとなるように、前記各濃縮装置への外気供給量を制御するようになっていることを特徴とする。
【００１１】
前記構成によれば、濃縮装置間で外気及び排ガスの流路抵抗がそれぞれ同じとなるので、濃縮装置間での濃縮倍率の差を抑制することができ、また、濃縮装置間での排ガスの通過量の差を抑制することができる。その結果、排ガス処理システム全体としての性能の変動をさらに抑制することができ、濃縮装置間の負荷の偏りから生じる問題を防ぐことができる。
【００１２】
前記第３の態様は、さらに、次のような構成を備えるのが好ましい。
【００１３】
（１）前記濃縮装置には、前記吸着体における外気通過前後の差圧を測定する第１圧力センサと、前記吸着体における排ガス通過前後の差圧を測定する第２圧力センサと、前記吸着体を通過した外気を、前記吸着体の加熱のため、前記吸着体に供給する第１供給弁と、前記吸着体へ排ガスを供給する第２供給弁と、を備えており、
前記制御装置は、前記第１圧力センサの検知結果に基づき、前記第１供給弁の開度を設定し、前記第２圧力センサの検知結果に基づき、前記第２供給弁の開度を設定する。
【００１４】
前記構成（１）によれば、第１供給弁の開度を調整することによって、吸着体における外気通過前後の差圧を濃縮装置間で同じにすることができる。また、第２供給弁の開度を調整することによって、吸着体における排ガス通過前後の差圧を濃縮装置間で同じにすることができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によると、複数の濃縮装置が配置される場合において、複数の濃縮装置を均等に使用でき、システム全体としての性能の変動を抑制することができる排ガス処理システムを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施形態に係る排ガス処理システムの概略図である。
【図２】濃縮装置の概略斜視図である。
【図３】吸着体の概略斜視図である。
【図４】ケーシングの概略断面図である。
【図５】別の実施形態に係る排ガス処理システムの概略図である。
【図６】別の実施形態に係る排ガス処理システムの概略図である。
【図７】別の実施形態に係る排ガス処理システムの部分概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
図１は、本発明の実施形態に係る排ガス処理システムの概略図である。図１に示されるように、排ガス処理システム９０は、塗装工場等から排出された排ガスを濃縮処理する濃縮装置３と、濃縮装置３で濃縮処理された排ガス（以降、濃縮ガスという）を燃焼処理する燃焼処理装置８と、排ガス処理システム９０を制御する制御装置９と、を備えている。
【００１８】
塗装工場等から排出された排ガスは、供給ファン等により、濃縮装置３に供給される。本実施形態では、濃縮装置３は並列に２台（３ａ、３ｂ）配置され、いずれかの濃縮装置３で濃縮処理された濃縮ガスは、供給ファン２１により、燃焼処理装置８に送られる。燃焼処理装置８は、ＲＴＯであり、濃縮ガスを燃焼処理する。具体的には、濃縮ガス中のＶＯＣは、燃焼反応により無害化処理される。燃焼処理装置８によって燃焼処理された処理済ガスは、排気筒４等を介して、外気に放出される。
【００１９】
濃縮装置３ａ、３ｂは、同じ構成を有している。図２は、濃縮装置３の概略斜視図である。図２に示されるように、濃縮装置３は、吸着体３１とケーシング１０とを備えている。図３は、吸着体３１の概略斜視図であり、図４は、ケーシング１０の概略断面図である。図２〜図４に示されるように、吸着体３１は、駆動手段により、軸Ｓを中心に一定速度又は間欠的に回転するようになっており、金属製のロータ本体３２と、ハニカム体３３とを有している。ロータ本体３２は、軸Ｓに固定される内筒３２１と、内筒３２１の外方にリブ３２２を介して同心円に配置された外筒３２３と、を有し、内筒３２１と外筒３２３との間に形成される空間に、疎水性ゼオライトからなる吸着材がハニカム状に加工され、軸方向に多数の通路Ｐを有するハニカム体３３が内蔵されている。
【００２０】
ケーシング１０は、基台等に固定されると共に、軸Ｓが貫通するカップ状の第１ケーシング１０Ａと、第２ケーシング１０Ｂと、を有し、第１ケーシング１０Ａ及び第２ケーシング１０Ｂで吸着体３１の両端面を被覆している。
【００２１】
第１ケーシング１０Ａの内部は、３枚の仕切板１１により３つの領域が形成され、大容積の第１区画室は排ガス供給部１２Ａ、第２区画室は濃縮ガス排気部１２Ｂ、第３区画室は冷却用ガス供給部１２Ｃを構成する。
【００２２】
一方、第２ケーシング１０Ｂにも、第１ケーシング１０Ａの各区画に対応する第１ないし第３区画室が形成され、第１区画室は浄化ガス排気部１３Ａ、第２区画室は再生用ガス供給部１３Ｂ、第３区画室は冷却用ガス排気部１３Ｃを構成する。
【００２３】
そして、吸着体３１の端面は、排ガス供給部１２Ａと対面するハニカム体３３の部分が吸着部、再生用ガス供給部１３Ｂと対面するハニカム体３３の部分が再生部、冷却用ガス供給部１２Ｃと対面するハニカム体３３の部分が冷却部となり、吸着体３１の回転によって、ハニカム体３３は、吸着部、再生部、冷却部を順次移動する。
【００２４】
なお、疎水性ゼオライトは、低温（５０℃以下）で吸着能力を発揮し、温度が上昇（１００〜２００℃）すると、吸着能力が低下して吸着物質を脱着させる性質を有する。
【００２５】
したがって、工場等からの排ガスは、排ガス供給部１２Ａから吸着体３１のハニカム体３３を通過することによって、排ガス中の有機成分が吸着除去され、有機成分が除去された浄化ガスは、浄化ガス排気部１３Ａから、排気ファン２２により、外気に放出される。
【００２６】
そして、吸着体３１の回転に伴い、ハニカム体３３の有機成分を吸着した部分が浄化ガス排気部１３Ａに隣接する再生用ガス供給部１３Ｂに移動する。再生用ガス供給部１３Ｂでは、ヒータ５によって加熱された排ガスの風量より小風量の高温再生用ガス（１８０〜２００℃）によって、ハニカム体３３に吸着された有機成分が脱着して濃縮ガスが生成される。
【００２７】
そして、吸着体３１の回転に伴い、再生用ガスの供給によって高温となったハニカム体３３は、濃縮ガス排気部１２Ｂに隣接する冷却用ガス供給部１２Ｃから供給される冷却用ガスで冷却され、吸着能力を回復する。ここで、本実施形態では、冷却用ガス供給部１２Ｃに供給される冷却ガスとして、外気が使用される。
【００２８】
すなわち、再生用ガスの供給によって高温となったハニカム体３３は、冷却用ガス供給部１２Ｃから供給される外気で冷却され、吸着力を回復する。
【００２９】
ハニカム体３３を冷却した外気は、冷却用ガス排気部１３Ｃからヒータ５（５ａ、５ｂ）に送られ加熱されて、高温再生用ガスとして、再生用ガス供給部１３Ｂに供給される。再生用ガスは、ハニカム体３３に吸着された有機成分を脱着し、有機成分を含む濃縮ガスとして、濃縮ガス排気部１２Ｂから排出される。排出された濃縮ガスは、供給ファン２５によって燃焼処理装置８に送られて、燃焼処理される。
【００３０】
図１に示されるように、濃縮装置３ａ、３ｂには、それぞれ、吸着体３１における外気通過前後の差圧を検知する圧力センサ９１ａ、９１ｂが設けられている。また、ヒータ５ａ、５ｂと再生用ガス供給部１３Ｂとの間の再生用ガス供給ラインには、再生ガス供給ラインを開閉する供給弁９２ａ、９２ｂ（第１供給弁）が設けられている。
【００３１】
制御装置９は、圧力センサ９１ａにおいて検知される圧力と圧力センサ９１ｂにおいて検知される圧力とが同じとなるように、供給弁９２ａ、９２ｂの開度を調整し、濃縮装置３ａ、３ｂへの外気供給量を制御するようになっている。
【００３２】
前記構成の排ガス処理システム９０によれば、次のような効果を発揮できる。
【００３３】
濃縮装置３ａ、３ｂ間での外気の流路抵抗が同じとなるので、濃縮装置３ａ、３ｂ間での濃縮倍率の差を抑制することができ、複数の濃縮装置３を均等に使用することで、排ガス処理システム９０全体としての性能の変動を抑制することができる。
【００３４】
吸着体３１の冷却には外気を用いるので、吸着体３１を冷却しても吸着体３１に有機成分が吸着されることはなく、吸着体３１の吸着効率を十分に回復させることができる。
【００３５】
濃縮装置３の冷却部において加熱された部分と熱交換して温度が上昇した外気が、濃縮装置３の再生部に供給される再生用ガスとして使用されるので、再生用ガスのための加熱手段の負荷を低減でき、すなわち、ヒータ５で必要とする熱量を少なくでき、システムの熱効率を向上させることができる。
【００３６】
（別の実施形態１）
上記実施形態では、制御装置９は、各濃縮装置３の吸着体３１における外気通過前後の差圧が同じとなるように、各濃縮装置３への外気供給量を制御するようになっているが、各濃縮装置３の吸着体３１における排ガス通過前後の差圧が同じとなるように、各濃縮装置３への排ガス供給量を制御するようになっていてもよい。
【００３７】
図５は、本発明の別の実施形態１に係る排ガス処理システムの概略図である。別の実施形態１は、制御装置９は、各濃縮装置３の吸着体３１における排ガス通過前後の差圧が同じとなるように、各濃縮装置３への排ガス供給量を制御するようになっている点で上記実施形態と異なっており、その他の構成は上記実施形態と同じである。このため、別の実施形態１の説明においては、上記実施形態と同じ部分には同じ符号を付し、それらの内容については詳しい説明を省略する。
【００３８】
図５に示されるように、濃縮装置３ａ、３ｂには、それぞれ、吸着体３１における排ガス通過前後の差圧を検知する圧力センサ９３ａ、９３ｂが設けられている。また、排ガス供給元の工場等と排ガス供給部１２Ａとの間の排ガス供給ラインには、排ガス供給ラインを開閉する供給弁９４ａ、９４ｂ（第２供給弁）が設けられている。
【００３９】
制御装置９は、圧力センサ９３ａにおいて検知される圧力と圧力センサ９３ｂにおいて検知される圧力とが同じとなるように、供給弁９４ａ、９４ｂの開度を調整し、濃縮装置３ａ、３ｂへの排ガス供給量を制御するようになっている。
【００４０】
前記構成によれば、濃縮装置３ａ、３ｂ間での排ガスの流路抵抗が同じとなるので、濃縮装置３ａ、３ｂ間での排ガスの通過量の差を抑制することができ、複数の濃縮装置３を均等に使用することで、排ガス処理システム９０全体として性能の変動を抑制することができる。
【００４１】
（別の実施形態２）
制御装置９は、各濃縮装置３の吸着体３１における外気通過前後の差圧が同じとなるように、各濃縮装置３への外気供給量を制御し、さらに、各濃縮装置３の吸着体３１における排ガス通過前後の差圧が同じとなるように、各濃縮装置３への排ガス供給量を制御するようになっていてもよい。
【００４２】
図６は、本発明の別の実施形態２に係る排ガス処理システムの概略図である。別の実施形態２は、制御装置９は、各濃縮装置３の吸着体３１における外気通過前後の差圧が同じとなるように、各濃縮装置３への外気供給量を制御し、さらに、各濃縮装置３の吸着体３１における排ガス通過前後の差圧が同じとなるように、各濃縮装置３への排ガス供給量を制御するようになっている点で上記実施形態、別の実施形態１と異なっており、その他の構成は上記形態と同じである。このため、別の実施形態２の説明においては、上記形態と同じ部分には同じ符号を付し、それらの内容については詳しい説明を省略する。
【００４３】
図６に示されるように、濃縮装置３ａ、３ｂには、それぞれ、吸着体３１における外気通過前後の差圧を検知する圧力センサ９１ａ、９１ｂと、吸着体３１における排ガス通過前後の差圧を検知する圧力センサ９３ａ、９３ｂが設けられている。また、ヒータ５と再生用ガス供給部１３Ｂとの間の再生用ガス供給ラインには、再生用ガス供給ラインを開閉する供給弁９２ａ、９２ｂが設けられ、排ガス供給元の工場等と排ガス供給部１２Ａとの間の排ガス供給ラインには、排ガス供給ラインを開閉する供給弁９４ａ、９４ｂが設けられている。なお、濃縮装置３ａ、３ｂの冷却部において加熱された部分と熱交換した外気が、濃縮装置３ａ、３ｂの再生部に供給される再生用ガスとして使用される際、再生用ガスのためのヒータ５は濃縮装置３ａ、３ｂ間で共通して使用される。
【００４４】
制御装置９は、圧力センサ９１ａにおいて検知される圧力と圧力センサ９１ｂにおいて検知される圧力とが同じとなるように、供給弁９２ａ、９２ｂの開度を調整し、濃縮装置３ａ、３ｂへの外気供給量を制御するようになっている。また、制御装置９は、圧力センサ９３ａにおいて検知される圧力と圧力センサ９３ｂにおいて検知される圧力とが同じとなるように、供給弁９４ａ、９４ｂの開度を調整し、濃縮装置３ａ、３ｂへの排ガス供給量を制御するようになっている。
【００４５】
前記構成によれば、濃縮装置３ａ、３ｂ間での外気の流路抵抗が同じとなるので、濃縮装置３ａ、３ｂ間での濃縮倍率の差を抑制することができ、複数の濃縮装置３を均等に使用することで、排ガス処理システム９０全体としての性能の変動を抑制することができる。さらに、濃縮装置３ａ、３ｂ間での排ガスの流路抵抗が同じとなるので、濃縮装置３ａ、３ｂ間での排ガスの通過量の差を抑制することができ、複数の濃縮装置３を均等に使用することで、排ガス処理システム９０全体として性能の変動をさらに抑制することができる。
【００４６】
再生用ガスのためのヒータ５は、濃縮装置３ａ、３ｂ間で共通して使用されるので、システムの熱効率を向上させることができ、システムの構成を簡素化することができる。
【００４７】
上記実施形態及び別の実施形態１、２では、燃焼処理装置は蓄熱式燃焼脱臭装置であるが、本発明の燃焼処理装置は蓄熱式脱臭装置に限定されず、有機成分を含む排ガスを燃焼処理する装置であればよい。
【００４８】
上記実施形態及び別の実施形態１、２では、濃縮装置３は２つ配置されているが、３以上配置されてもよく、また、配置については、すべての濃縮装置が並列に配置されてもよく、図７に示されるように、直列に複数配置され、それらの通過前後の差圧を検知するようにした濃縮装置が並列に配置されてもよい。直列に複数配置された濃縮装置が並列して配置される場合、直列に配置された濃縮装置の数は、並列間で同じ数であることが好ましい。
【００４９】
また、濃縮装置３間で、同じ構造の濃縮装置を使用してもよく、異なる構造の濃縮装置を使用してもよい。例えば、一方の濃縮装置の吸着体を活性炭で構成し、他方の濃縮装置の吸着体をゼオライトで構成してもよい。また、吸着体３１の構造はハニカム体３３としたが、それ以外の構造であってもよい。
【００５０】
特許請求の範囲に記載された本発明の精神及び範囲から逸脱することなく、各種変形及び変更を行うことも可能である。
【産業上の利用可能性】
【００５１】
本発明では、複数の濃縮装置が配置される場合において、複数の濃縮装置を均等に使用でき、システム全体としての性能の変動を抑制することができる排ガス処理システムを提供できるので、産業上の利用価値が大である。
【符号の説明】
【００５２】
２１  供給ファン  ２２  排気ファン  
３  濃縮装置  
３１  吸着体  
３２  ロータ本体  
３２１  内筒  ３２２  リブ  ３２３  外筒  
３３  ハニカム体  
４  排気筒  
５  ヒータ  
８  燃焼処理装置
１０  ケーシング  
１０Ａ  第１ケーシング  １０Ｂ  第２ケーシング  
１１  仕切板  
１２Ａ  排ガス供給部  １２Ｂ  濃縮ガス排気部  １２Ｃ  冷却用ガス供給部  
１３Ａ  浄化ガス排気部  １３Ｂ  再生用ガス供給部  １３Ｃ  冷却用ガス排気部  
９  制御装置  
９０  排ガス処理システム  
９１ａ  圧力センサ  ９１ｂ  圧力センサ  
９２ａ  供給弁  ９２ｂ  供給弁  
９３ａ  圧力センサ  ９３ｂ  圧力センサ  
９４ａ  供給弁  ９４ｂ  供給弁  
Ｓ  軸  
Ｐ  通路  
【図１】
2019100626.tif 000003
【図２】
2019100626.tif 000004
【図３】
2019100626.tif 000005
【図４】
2019100626.tif 000006
【図５】
2019100626.tif 000007
【図６】
2019100626.tif 000008
【図７】
2019100626.tif 000009