(57)【要約】【課題】カフサを有しないステータにおいて、当該ステータ全体にワニスをムラなく処理することができるワニス処理方法を提供すること。【解決手段】カフサを有しないステータのワニス処理方法であって、ステータを横向きに配置した状態で、当該ステータのコイルエンドにワニスを滴下する工程と、前記ステータの周方向に回転する工程と、前記ステータを平置きに配置した状態で静置する工程と、を有する、ワニス処理方法。【選択図】図１
2019097259.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カフサを有しないステータのワニス処理方法であって、
ステータを横向きに配置した状態で、当該ステータのコイルエンドにワニスを滴下する工程と、
前記ステータの周方向に回転する工程と、
前記ステータを平置きに配置した状態で静置する工程と、
を有する、ワニス処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワニス処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ステータのワニス処理方法について種々検討されている。
例えば特許文献１には、平置きしたコイルを横回転させながら、コイルの処理要部にワニスを塗布含浸させ、ワニス含浸済みのコイルを縦置きにして、縦回転させて、ワニスを硬化乾燥させるワニス処理方法が開示されている。
【０００３】
特許文献２には、コイルを縦置きにし、回転しながらコイルエンドにワニスを滴下する技術が開示されている。
【０００４】
また特許文献３には、特定のステータにワニスを塗布含浸するワニス処理方法であって、平置きしたステータのコイルエンドに、滴下位置を変えながらワニスを滴下する工程を備えたワニス処理方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−０６２０３６号公報
【特許文献２】特開２０１５−０１９４７２号公報
【特許文献３】特開２０１６−１５８３６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
図４の例に示されるように現行のステータ３０には、カフサ３４が広く用いられている。カフサは、ステータコア３１の端面の保護などを目的とする絶縁性の部材であり、スロット３３が貫通する空隙部を有する円形状で、ステータコアの軸方向端面と接触し、コイル３２と外周側及び内周側で接触する。
ステータをワニス処理する場合、周方向には断続しているコイルエンドではワニスは周方向に広がらず、カフサを介してワニスが周方向に広がる。そのため、カフサを有するステータでは、特許文献１や特許文献３のようにステータを平置きしてもワニス処理を行うことが可能であった。
【０００７】
一方、カフサを有しないステータが検討されている。一例として図５に示されるようなコイルエンドの一端を樹脂１５でコーティングする手法などが挙げられる。カフサを有しないステータを平置きしてワニス処理した場合には、周方向にワニスを浸透させることができなかった。
【０００８】
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、カフサを有しないステータにおいて、当該ステータ全体にワニスをムラなく処理することができるワニス処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係るワニス処理方法は、カフサを有しないステータのワニス処理方法であって、
ステータを横向きに配置した状態で、当該ステータのコイルエンドにワニスを滴下する工程と、
前記ステータの周方向に回転する工程と、
前記ステータを平置きに配置した状態で静置する工程と、
を有する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、カフサを有しないステータにおいて、当該ステータの全体にワニスをムラなく処理することができるワニス処理方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、本発明のワニス処理方法の一実施形態を示すフローチャートである。
【図２】図２は、本発明のワニス処理方法の一実施形態を示す概略図である。
【図３】図３は、カフサを有しないステータの一例を示す概略的な斜視図である。
【図４】図４は、カフサを有するステータの一例を示す概略的な斜視図である。
【図５】図５（ａ）は、カフサを有しないステータの使用態様一例を示す概略的な斜視図であり、図５（ｂ）は、図５（ａ）の上下を反転した概略的な正面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
まず、図１と図２を参照して、本発明に係るワニス処理方法の一実施形態を説明する。図１は、本発明のワニス処理方法の一実施形態を示すフローチャートである。また図２は、本発明のワニス処理方法の一実施形態を示す概略図であって、図２（ａ）はステータを横向きに配置した状態、図２（ｂ）はステータを平置きに配置した状態を示す。
なお、本実施形態において、ステータを横向きに配置した状態とは、ステータの軸が水平方向を向くように配置した状態をいい、ステータを平置きに配置した状態とは、ステータの軸が鉛直方向を向くように配置した状態をいう。
【００１３】
本実施形態のワニス処理方法は、まず、カフサを有しないステータを横置きに配置する（Ｓ１）。カフサを有しないステータの一例を図３に示す。図３は、カフサを有しないステータの一例を示す概略的な斜視図である。図３の例に示されるステータ１は、ステータコア１１とコイル１２とスロット１３とを有し、コイルの一端であるコイルエンド１４が露出している。当該ステータを横置きに配置した状態（図２（ａ））で、コイルエンド１４にワニスを滴下２１する（Ｓ２）。ワニスを滴下するコイルエンド１４は、ステータを平置きに配置したときに上端となる一端のコイルエンドである。ワニスの滴下方法は、公知の方法を適宜選択することができる。一例として、ノズルを用いてワニスを滴下２１する（図２（ａ））。ワニスの滴下はコイルエンドの内径側及び外径側の両側から行うことが好ましい。ワニスの滴下は、コイル及びスロット全体に浸透させるために十分な量のワニスがコイルエンドに溜まるまで行う。
【００１４】
ワニスの滴下後、又はワニスの滴下中、若しくはその両方で、ステータを周方向に回転する（Ｓ３）。ステータを周方向に回転することにより、ワニスをコイルエンドの周方向に浸透させる。回転速度は、ワニスが重力により下方向に集まることを抑制する程度の速度であればよく、例えば、１０ｒｐｍ以上であればよく、２０ｒｐｍ以上であることが好ましい。
【００１５】
次いで、ステータを平置きに配置する（Ｓ４及び図２（ｂ））。このとき、周方向の回転を維持しながら、ステータを横向きから平置きに変化することが好ましい。ステータを平置きに配置した後、回転を止めて静置する（Ｓ５）。静置することでコイルエンドに溜まっていたワニスが重力の作用によりスロット内に浸透する。ワニスはコイルエンドの周方向全体に浸透しているため、予め設定した所定時間以上静置することでコイル全体にワニスを浸透させることができる。当該所定時間は、ステータの大きさやワニスの粘度等によって適宜調整すればよく、特に限定されないが、一例として、３０秒以上とすることができる。浸透後のワニスは必要に応じて乾燥してもよい。このようにして、カフサを有しないステータであってもステータ全体にワニスをムラなく処理することができる。
【符号の説明】
【００１６】
１    ステータ
１１  ステータコア
１２  コイル
１３  スロット
１４  コイルエンド
１５  樹脂
２１  滴下
２２  浸透
３０  ステータ
３１  ステータコア
３２  コイル
３３  スロット
３４  カフサ
【図１】
2019097259.tif 000003
【図２】
2019097259.tif 000004
【図３】
2019097259.tif 000005
【図４】
2019097259.tif 000006
【図５】
2019097259.tif 000007