(57)【要約】      （修正有）【課題】自発的な離漿により着氷雪防止性能を発現でき、表面に微細凹凸構造を有する場合に優れた反射防止性能を発現できる成形体、微細凹凸構造体及びその製造方法を提供する。【解決手段】湿潤ゲル（Ｙ）からなる成形体であって、前記湿潤ゲル（Ｙ）が、硬化性シリコーン樹脂（Ａ）と化合物（Ｂ）を含む硬化性シリコーン樹脂組成物（Ｘ）の硬化物であり、前記硬化性シリコーン樹脂（Ａ）のみを硬化させた硬化物のデューロメータ硬さ（タイプＡ）が６８以上であり、前記化合物（Ｂ）が、特定の化合物群から選ばれる１種以上である、成形体。基材上１１に、湿潤ゲル（Ｙ）からなる前記成形体１２を備える、表面に微細凹凸を有する構造体１０。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
湿潤ゲル（Ｙ）からなる成形体であって、
前記湿潤ゲル（Ｙ）が、硬化性シリコーン樹脂（Ａ）と化合物（Ｂ）を含む硬化性シリコーン樹脂組成物（Ｘ）の硬化物であり、
前記硬化性シリコーン樹脂（Ａ）のみを硬化させた硬化物のデューロメータ硬さ（タイプＡ）が６８以上であり、
前記化合物（Ｂ）が、アルカン、シリコーンオイル、ポリメチルフェニルシロキサン、トルエン、テトラアルコキシシラン、ポリアルコキシシロキサン、トリステアリン、蓮の葉抽出物、ｎ−テトラデカン、ｎ−ヘキサデカン、トリクロロオクタデシルシラン、及びフェニルメチルシロキサン−ジメチルシロキサン共重合体からなる群から選ばれる１種以上である、成形体。
【請求項２】
前記硬化性シリコーン樹脂組成物（Ｘ）において、硬化性シリコーン樹脂（Ａ）１００質量部に対し、前記化合物（Ｂ）を２０〜１５０質量部含む、請求項１に記載の成形体。
【請求項３】
前記化合物（Ｂ）が、化合物（Ｂ−１）及び化合物（Ｂ−２）からなり、
前記化合物（Ｂ−１）が、アルカン、シリコーンオイル、ポリメチルフェニルシロキサン、トルエン、テトラアルコキシシラン、及びポリアルコキシシロキサンからなる群から選ばれる１種以上であり、
前記化合物（Ｂ−２）が、トリステアリン、蓮の葉抽出物、ｎ−テトラデカン、ｎ−ヘキサデカン、トリクロロオクタデシルシラン、及びフェニルメチルシロキサン−ジメチルシロキサン共重合体からなる群から選ばれる１種以上である、請求項１又は２に記載の成形体。
【請求項４】
前記硬化性シリコーン樹脂（Ａ）１００質量部に対し、前記化合物（Ｂ−１）を２０〜４０質量部含む、請求項３に記載の成形体。
【請求項５】
前記硬化性シリコーン樹脂（Ａ）１００質量部に対し、前記化合物（Ｂ−２）を３０〜６０質量部含む、請求項３に記載の成形体。
【請求項６】
前記成形体の表面に、隣り合う凸部同士の間隔が４００ｎｍ以下である微細凹凸構造を有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の成形体。
【請求項７】
基材上に、請求項６に記載の成形体を備える、微細凹凸構造体。
【請求項８】
請求項７に記載の微細凹凸構造体を製造する方法であって、
前記微細凹凸構造の反転構造が表面に形成されたアルミニウム基材を鋳型とし、前記成形体の表面に前記微細凹凸構造を転写する、微細凹凸構造体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、成形体、微細凹凸構造体及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
固体表面に氷や雪などが付着すると、付着した氷や雪によって種々の障害が生じる。例えば、その重さによって風車のブレードの回転が妨げられたり、輸送機の燃費が低下したり、家屋の破壊に繋がったりする場合がある。また、氷や雪の層によって遮光されたり視界が遮られたりすることから、太陽光発電の発電効率、輸送機の窓の視認性、信号機やディスプレイの視認性、照明類の機能などが低下する場合がある。そのため、着氷雪防止を目的とした様々なコーティング剤が開発されてきた。
【０００３】
特許文献１には、滑りやすい表面を有する成形体が開示されている。前記成形体は、一般式ＰｘＳｙで表される超分子ポリマー及び潤滑液を含む、少なくとも一つの表面を有する。ここで、Ｐは共有結合で架橋されたポリマーであり、Ｓはポリマーネットワーク内の超分子ブロックであり、ｘ＋ｙ＝１であり、ｙは０〜１である。超分子ポリマー及び潤滑液は、潤滑液により膨潤されている超分子ポリマーの表面に潤滑層を形成するのに十分な量で超分子内に吸収されるような親和性を互いに有する。
【０００４】
特許文献２には、微細凹凸構造を表面に有する成形体が開示されている。前記成形体は、表面にモスアイ構造と呼ばれるナノサイズの微細な凹凸が規則的に配置されている微細凹凸構造を持つ。このモスアイ構造によって連続的に屈折率を変化させ、優れた反射防止性能を発現することが知られている。また、モスアイ構造と呼ばれる微細凹凸構造体は、微細な凹凸構造を備えた蓮の葉が示す超撥水性能（ロータス効果）と同様の効果を発現することも知られている。微細凹凸構造体は多官能の（メタ）アクリレートを主成分とし、光重合開始剤を含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、優れた反射防止性能と耐擦傷性と防汚性を併せ持つ。
【０００５】
しかしながら、特許文献１の成形体では、潤滑液により膨潤されている超分子ポリマーの表面に滑りやすい潤滑層を形成するため、潤滑液は超分子ポリマーに対する所定の親和性を有する液体に限定される。また、特許文献１の成形体は、氷に対する付着力が高く、難付着性が不十分である。さらに、特許文献１の成形体では、自発的に潤滑層を形成することができないため、潤滑層を拭き取ると、潤滑層は再生されない。
また、特許文献２の成形体では、微細凹凸構造表面に付着した汚れを拭き取る必要があり、自発的に表面の汚れを落とすことができない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第２０１４／０１２０８０号
【特許文献２】特開２０１３−１７５７３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、自発的な離漿により着氷雪防止性能を発現でき、表面に微細凹凸構造を有する場合に優れた反射防止性能を発現できる成形体、微細凹凸構造体及びその製造方法を提供することを目的とする。ここで、自発的に離漿するとは、内部要因（例えば、親和性の低下、液体の揮発）により離漿する場合に限定されず、外部刺激（例えば、温度、化学反応）により離漿する場合も含む。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、以下の態様を有する。
［１］湿潤ゲル（Ｙ）からなる成形体であって、前記湿潤ゲル（Ｙ）が、硬化性シリコーン樹脂（Ａ）と化合物（Ｂ）を含む硬化性シリコーン樹脂組成物（Ｘ）の硬化物であり、前記硬化性シリコーン樹脂（Ａ）のみを硬化させた硬化物のデューロメータ硬さ（タイプＡ）が６８以上であり、前記化合物（Ｂ）が、アルカン、シリコーンオイル、ポリメチルフェニルシロキサン、トルエン、テトラアルコキシシラン、ポリアルコキシシロキサン、トリステアリン、蓮の葉抽出物、ｎ−テトラデカン、ｎ−ヘキサデカン、トリクロロオクタデシルシラン、及びフェニルメチルシロキサン−ジメチルシロキサン共重合体からなる群から選ばれる１種以上である、成形体。
［２］前記硬化性シリコーン樹脂組成物（Ｘ）において、硬化性シリコーン樹脂（Ａ）１００質量部に対し、前記化合物（Ｂ）を２０〜１５０質量部含む、［１］に記載の成形体。
［３］前記化合物（Ｂ）が、化合物（Ｂ−１）及び化合物（Ｂ−２）からなり、前記化合物（Ｂ−１）が、アルカン、シリコーンオイル、ポリメチルフェニルシロキサン、トルエン、テトラアルコキシシラン、及びポリアルコキシシロキサンからなる群から選ばれる１種以上であり、前記化合物（Ｂ−２）が、トリステアリン、蓮の葉抽出物、ｎ−テトラデカン、ｎ−ヘキサデカン、トリクロロオクタデシルシラン、及びフェニルメチルシロキサン−ジメチルシロキサン共重合体からなる群から選ばれる１種以上である、［１］又は［２］に記載の成形体。
［４］前記硬化性シリコーン樹脂（Ａ）１００質量部に対し、前記化合物（Ｂ−１）を２０〜４０質量部含む、［３］に記載の成形体。
［５］前記硬化性シリコーン樹脂（Ａ）１００質量部に対し、前記化合物（Ｂ−２）を３０〜６０質量部含む、［３］に記載の成形体。
［６］前記成形体の表面に、隣り合う凸部同士の間隔が４００ｎｍ以下である微細凹凸構造を有する、［１］〜［５］のいずれかに記載の成形体。
［７］基材上に、［６］に記載の成形体を備える、微細凹凸構造体。
［８］［７］に記載の微細凹凸構造体を製造する方法であって、前記微細凹凸構造の反転構造が表面に形成されたアルミニウム基材を鋳型とし、前記成形体の表面に前記微細凹凸構造を転写する、微細凹凸構造体の製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、自発的な離漿により着氷雪防止性能を発現でき、さらに表面に微細凹凸構造を有する場合には着氷雪防止性能と反射防止性を両立できる成形体、及び微細凹凸構造体を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の成形体を備える微細凹凸構造体の一例を示す断面図である。
【図２】本発明の成形体を備える微細凹凸構造体の他の例を示す断面図である。
【図３】表面に微細凹凸構造を有する成形体の製造に用いるスタンパの製造工程を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
［成形体］
本発明の成形体は、湿潤ゲル（Ｙ）からなる成形体である。
湿潤ゲル（Ｙ）は、硬化性シリコーン樹脂組成物（Ｘ）（以下、「樹脂組成物（Ｘ）」とも記す。）の硬化物である。
樹脂組成物（Ｘ）は、硬化性シリコーン樹脂（Ａ）と化合物（Ｂ）を含む。樹脂組成物（Ｘ）は、必要に応じて、硬化性シリコーン樹脂（Ａ）及び化合物（Ｂ）以外の他の成分（Ｃ）を含んでもよい。
【００１２】
（硬化性シリコーン樹脂（Ａ））
硬化性シリコーン樹脂（Ａ）は、湿潤ゲル（Ｙ）のマトリクスとして機能する。
硬化性シリコーン樹脂（Ａ）のみを硬化させた硬化物のデューロメータ硬さ（タイプＡ）は、６８以上であり、７５以上が好ましく、８２以上が特に好ましい。
樹脂組成物（Ｘ）を硬化させて表面に微細凹凸構造を有する成形体を形成する場合、硬化性シリコーン樹脂（Ａ）は高硬度であることで微細凹凸構造が維持されやすくなる。硬化性シリコーン樹脂（Ａ）の硬度が下限値以上であれば、微細凹凸構造を有する成形体としたときに優れた反射防止性能が発現される。また、樹脂組成物（Ｘ）に含まれる化合物（Ｂ）の含有量をより少なくできるため、原料コストが増大することを抑制できる。
【００１３】
硬化性シリコーン樹脂（Ａ）の化学構造は、熱や活性エネルギー線等によって硬化するシリコーン系の樹脂であれば特に限定されない。取り扱いが容易で、かつ材料の選択肢が多い点から、硬化性シリコーン樹脂（Ａ）として、ビニル基を有する化合物及びヒドロシリル基を有する化合物を含み、ヒドロシリル化反応によって架橋、硬化するシリコーン樹脂を用いることが好ましい。
【００１４】
ビニル基を有する化合物としては、例えば、ビニル基を有するシリコーン樹脂、ビニル基を有する金属アルコキシド等が挙げられる。
ビニル基を有するシリコーン樹脂としては、例えば、両末端にビニル基が導入されている変性ポリジメチルシロキサン、ポリメチルビニルシロキサン等が挙げられる。
ビニル基を有する金属アルコキシドとしては、例えば、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【００１５】
ヒドロシリル基を有する化合物としては、例えば、ヒドロシリル基を有するシリコーン樹脂、ヒドロシリル基を有する金属アルコキシド等が挙げられる。
ヒドロシリル基を有するシリコーン樹脂としては、例えば、ジメチルメチルハイドロジェンポリシロキサン等が挙げられる。
ヒドロシリル基を有する金属アルコキシドとしては、例えば、トリエトキシシラン、トリメトキシシラン等が挙げられる。
【００１６】
硬化性シリコーン樹脂（Ａ）としてビニル基を有する化合物及びヒドロシリル基を有する化合物の混合物を用いてヒドロシリル化反応させる際には、白金系触媒を用いてもよい。
白金系触媒としては、例えば、Ｋａｒｓｔｅｄｔ’ｓ  ｃａｔａｌｙｓｔ（Ｐｔ２［（Ｍｅ２ＳｉＣＨ＝ＣＨ２）２Ｏ］３）、Ｈ２ＰｔＣｌ６等が挙げられる。
【００１７】
硬化性シリコーン樹脂（Ａ）の具体例としては、例えば、ＭＳ−１００１（デューロメータ硬さ（タイプＡ）８７、東レ・ダウコーニング社製）、ＭＳ−１００２（デューロメータ硬さ（タイプＡ）７４、東レ・ダウコーニング社製）、ＭＳ−２００２（デューロメータ硬さ（タイプＡ）８４、東レ・ダウコーニング社製）、等が挙げられる。これらの中でも、透明性と硬さの点でＭＳ−１００１が特に好ましい。
【００１８】
（化合物（Ｂ））
化合物（Ｂ）は、アルカン、シリコーンオイル、ポリメチルフェニルシロキサン、トルエン、テトラアルコキシシラン、ポリアルコキシシロキサン、トリステアリン、蓮の葉抽出物、ｎ−テトラデカン、ｎ−ヘキサデカン、トリクロロオクタデシルシラン、及びフェニルメチルシロキサン−ジメチルシロキサン共重合体からなる群から選ばれる１種以上である。化合物（Ｂ）としては、１種のみを単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００１９】
化合物（Ｂ）は、樹脂組成物（Ｘ）を硬化させる際に硬化性シリコーン樹脂（Ａ）とは反応せず、樹脂組成物（Ｘ）の硬化物である湿潤ゲル（Ｙ）の分散媒となる。
【００２０】
化合物（Ｂ）は、化合物（Ｂ−１）及び化合物（Ｂ−２）からなることが好ましい。
化合物（Ｂ−１）は、アルカン、シリコーンオイル、ポリメチルフェニルシロキサン、トルエン、テトラアルコキシシラン、及びポリアルコキシシロキサンからなる群から選ばれる１種以上である。
【００２１】
化合物（Ｂ−１）の具体例としては、例えば、ｎ−デカン、ｎ−ドデカン、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、トルエン、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン等が挙げられる。化合物（Ｂ−１）としては、１種のみを単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２２】
化合物（Ｂ−２）は、トリステアリン、蓮の葉抽出物、ｎ−テトラデカン、ｎ−ヘキサデカン、トリクロロオクタデシルシラン、及びフェニルメチルシロキサン−ジメチルシロキサン共重合体からなる群から選ばれる１種以上である。
【００２３】
化合物（Ｂ−２）が固体の場合、化合物（Ｂ−２）は化合物（Ｂ−１）に溶解可能である。化合物（Ｂ−２）が液体の場合、化合物（Ｂ−１）と化合物（Ｂ−２）は任意の割合で混合して静置しても分離しない。トリステアリン及び蓮の葉抽出物は、固体の化合物（Ｂ−２）である。ｎ−テトラデカン、ｎ−ヘキサデカン、トリクロロオクタデシルシラン、及びフェニルメチルシロキサン−ジメチルシロキサン共重合体は、液状の化合物（Ｂ−２）である。
化合物（Ｂ−２）としては、１種のみを単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２４】
化合物（Ｂ−２）が液体の場合、硬化性シリコーン樹脂（Ａ）のみを硬化させた硬化物を化合物（Ｂ−２）に浸漬して膨潤させたときの硬化性シリコーン樹脂（Ａ）の膨潤度Ｓを求める。求めた膨潤度Ｓは、化合物（Ｂ−２）と硬化性シリコーン樹脂（Ａ）の硬化物との親和性を数値化する指標として用いることができる。具体的には、硬化性シリコーン樹脂（Ａ）のみを硬化させた硬化物を室温（２３℃）で、ＡＲ２０（シグマ・アルドリッチ社製、ポリメチルフェニルシロキサン）に浸漬した時の膨潤度Ｓを基準とし、その値未満である化合物を化合物（Ｂ−２）として用いることが好ましい。
【００２５】
膨潤度Ｓは、例えば、以下の方法で求められる。
硬化性シリコーン樹脂（Ａ）としてＭＳ−１００１（東レ・ダウコーニング社製）を１００℃で２時間の条件で硬化させ、得られた硬化性シリコーン樹脂（Ａ）の硬化物（架橋シリコーン樹脂）を液体に７４時間浸漬する。液体に浸漬する前の架橋シリコーン樹脂の体積をＶ０、液体に浸漬した後の架橋シリコーン樹脂の体積をＶ１とし、下記式から膨潤度Ｓを算出できる。
Ｓ＝Ｖ１／Ｖ０
【００２６】
膨潤度Ｓの測定例を表１に示す。
【００２７】
【表１】
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【００２８】
化合物（Ｂ−１）は、硬化性シリコーン樹脂（Ａ）と化学構造や極性、ＳＰ値（溶解パラメータ、Ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ  Ｐａｒａｍｅｔｅｒ）が近く、硬化性シリコーン樹脂（Ａ）の硬化物から離漿しにくい。一方、化合物（Ｂ−２）は、化合物（Ｂ−１）と相溶であり、かつ硬化性シリコーン樹脂（Ａ）の硬化物から離漿しやすい。
化合物（Ｂ−１）と化合物（Ｂ−２）の種類及び組成比を適宜調整することで、温度応答性を付与できる。温度応答性とは、特定の温度（離漿温度）よりも低温になると化合物（Ｂ）が離漿し、離漿温度以上で化合物（Ｂ）が湿潤ゲル（Ｙ）の内部に戻る現象である。具体的には、化合物（Ｂ）が含む化合物（Ｂ−１）の割合が増えると離漿する温度がより低温となり、化合物（Ｂ）が含む化合物（Ｂ−２）の割合が増えると、離漿する温度がより高温となる。
【００２９】
湿潤ゲル（Ｙ）を冷却して化合物（Ｂ）を離漿させる際に、冷却する温度が化合物（Ｂ）の融点以下である場合、化合物（Ｂ）を固体として析出させることも可能である。また、化合物（Ｂ）が含む化合物（Ｂ−１）を揮発させることで化合物（Ｂ）と硬化性シリコーン樹脂（Ａ）との親和性を低下させ、離漿を促進させることができる。
【００３０】
化合物（Ｂ−１）として、テトラアルコキシシランやポリアルコキシシロキサンを用いる場合は、酸や塩基の存在下で、アルコキシ基が加水分解し、硬化性シリコーン樹脂（Ａ）の硬化物（架橋シリコーン樹脂）との親和性が低下し、化合物（Ｂ−２）のように振る舞うこともある。
【００３１】
樹脂組成物（Ｘ）中の化合物（Ｂ）の含有量は、硬化性シリコーン樹脂（Ａ）１００質量部に対して、２０〜１５０質量部が好ましく、３０〜１００質量部がより好ましい。化合物（Ｂ）の含有量が前記範囲の上限値以下であれば、成形体の形状が保持されやすく、表面に微細凹凸構造を付与した場合でもその形状を維持することができる。化合物（Ｂ）の含有量が前記範囲の下限値以上であれば、成形体から化合物（Ｂ）が離漿する効果によって着氷雪防止性能を発現させやすい。
【００３２】
化合物（Ｂ）中の化合物（Ｂ−１）の割合は、化合物（Ｂ）の総質量に対して、１０〜９０質量％が好ましく、２０〜８０質量％がより好ましく、３０〜７０質量％が特に好ましい。化合物（Ｂ−１）の割合が前記範囲の下限値以上であれば、湿潤ゲル（Ｙ）に温度応答性を付与できる。化合物（Ｂ−１）の割合が前記範囲の上限値以下であれば、湿潤ゲル（Ｙ）から離漿する化合物（Ｂ）の量を十分に確保しやすく、より優れた着氷雪防止性能が発現する。
【００３３】
化合物（Ｂ）中の化合物（Ｂ−２）の割合は、化合物（Ｂ）の総質量に対して、１０〜９０質量％が好ましく、２０〜８０質量％がより好ましく、３０〜７０質量％が特に好ましい。化合物（Ｂ−２）の割合が前記範囲の下限値以上であれば、湿潤ゲル（Ｙ）から離漿する化合物（Ｂ）の量を十分に確保しやすく、より優れた着氷雪防止性能が発現する。化合物（Ｂ−２）の割合が前記範囲の上限値以下であれば、湿潤ゲル（Ｙ）に温度応答性を付与できる。
【００３４】
樹脂組成物（Ｘ）中の化合物（Ｂ−１）の含有量は、硬化性シリコーン樹脂（Ａ）１００質量部に対して、２０〜４０質量部が好ましく、２４〜４０質量部がより好ましい。化合物（Ｂ−１）の含有量が前記範囲内であれば、優れた着氷防止性能及び反射防止性能が得られやすい。
【００３５】
樹脂組成物（Ｘ）中の化合物（Ｂ−２）の含有量は、硬化性シリコーン樹脂（Ａ）１００質量部に対して、３０〜６０質量部が好ましく、３０〜５０質量部がより好ましい。化合物（Ｂ−２）の含有量が前記範囲内であれば、優れた着氷防止性能及び反射防止性能が得られやすい。
【００３６】
（化合物（Ｃ））
樹脂組成物（Ｘ）には、必要に応じて、他の成分（Ｃ）を加えることができる。他の成分（Ｃ）を加えることで、種々の機能性を湿潤ゲル（Ｙ）に付与することができる。
他の成分（Ｃ）としては、例えば、シリカ粒子、アルミナ粒子、銀粒子、金粒子、白金粒子、磁性粒子等が挙げられる。粒子は、ビニル基、ヒドロシリル基等が表面に導入されていてもよい。これにより、粒子を硬化性シリコーン樹脂（Ａ）の硬化物と化学結合させることができる。
【００３７】
本発明の成形体は、低温では化合物（Ｂ）の効果によって着氷雪防止性能を発揮できる。
着氷雪防止性能と反射防止性能を両立する点では、成形体の表面に、隣り合う凸部同士の間隔が４００ｎｍ以下である微細凹凸構造を有する成形体が極めて有効である。
【００３８】
［微細凹凸構造体］
以下、基材上に本発明の成形体を備える微細凹凸構造体の一例について、図面に基づいて説明する。
なお、図１においては、各層を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層ごとに縮尺を異ならせてある。また、図２において、図１と同じ構成要素には同一の符号を付して、その説明を省略する場合がある。
【００３９】
図１は、表面に微細凹凸構造を有する成形体を備える微細凹凸構造体の一例を示す断面図である。
本実施形態の微細凹凸構造体１０は、基材１１上に、成形体１２が積層されたものである。成形体１２は、樹脂組成物（Ｘ）を硬化させた湿潤ゲル（Ｙ）からなる硬化樹脂層（表層）である。成形体１２は、表面に微細凹凸構造を有する。
【００４０】
成形体１２は、湿潤ゲル（Ｙ）からなり、化合物（Ｂ）を含む。成形体１２は、低温（冬季）において化合物（Ｂ）が離漿することで着氷雪防止性能を発現する。そのため、成形体１２の厚さは、樹脂組成物（Ｘ）が含む化合物（Ｂ）の割合に応じて、着氷雪防止性能が発揮されるために最適な範囲に設定される。
【００４１】
成形体１２の厚さは、１μｍ〜５ｍｍが好ましく、２μｍ〜２ｍｍがより好ましく、５μｍ〜１ｍｍが特に好ましい。成形体１２の厚さが前記範囲の下限値以上であれば、冬季において化合物（Ｂ）の離漿による着氷雪防止性能が発揮されやすい。成形体１２の厚さが前記範囲の上限値以下であれば、春季から秋季において表面の微細凹凸構造による反射防止性能が発揮されやすく、また成形体１２を形成する湿潤ゲル（Ｙ）の原材料費が低く抑えられる。
【００４２】
低温において成形体１２から離漿する化合物（Ｂ）が形成する離漿層は、着氷雪防止性能発現のために十分な厚さを有することが好ましい。
成形体１２の表面に形成される離漿層の厚さは、１００ｎｍ〜２０μｍが好ましく、２００ｎｍ〜１０μｍがより好ましく、５００ｎｍ〜５μｍが特に好ましい。離漿層の厚さが前記範囲の下限値以上であれば、着氷雪防止性能が発現しやすい。離漿層の厚さが前記範囲の上限値以下であれば、温度応答性が付与されやすい。
【００４３】
微細凹凸構造としては、凸部間の間隔が可視光の波長以下であるモスアイ構造が好ましく、硬化物の表面のモスアイ構造は、空気の屈折率から硬化物の屈折率へと連続的に屈折率を増大させることにより、有効な反射防止手段となる。
微細凹凸構造としては、略円錐形状、角錐形状等の突起（凸部）が規則的に配列した構造が好ましい。凸部の形状は、垂直面（高さ方向に垂直な方向の断面）の断面積が基材表面から頂部に向かって連続的に減少する形状、すなわち、凸部の高さ方向の断面形状が、三角形、台形、釣鐘型等の形状が好ましい。これにより、屈折率を連続的に増大させることができ、波長による反射率の変動（波長依存性）を抑制し、可視光の散乱を抑制して低反射率にできる。
【００４４】
この例の成形体１２の表面の微細凹凸構造は、円錐状の凸部１３（凹部１４）がほぼ等間隔ｗ１で形成されている。凸部１３の形状は、垂直面における断面積が基材表面から頂部に向かって連続的に減少する形状である。
【００４５】
凸部（凹部）の間隔ｗ１は、可視光の波長（具体的には、４００〜７８０ｎｍ）以下の距離とする。ｗ１が４００ｎｍ以下であれば、可視光の散乱を抑制でき、反射防止膜として光学用途に好適に使用できる。ｗ１は、５０〜２５０ｎｍが好ましく、８０〜２００ｎｍが特に好ましい。
【００４６】
凸部の高さ（凹部の深さ）、すなわち、凹部の底点１４ａと凸部の頂部１３ａとの垂直距離ｄ１（以下、特に断らない限り「凸部の高さ」又は「ｄ１」という）は、波長により反射率が変動することを抑制できる深さとすることが好ましい。具体的には、ｄ１は、６０ｎｍ以上が好ましく、９０ｎｍ以上がより好ましく、１５０ｎｍ以上がさらに好ましく、１８０ｎｍ以上が特に好ましい。ｄ１が１５０ｎｍ近傍では、人が一番認識しやすい５５０ｎｍの波長域光の反射率を最も低くすることができる。ｄ１が１５０ｎｍ以上になると、ｄ１が高いほど、可視光域における最高反射率と最低反射率の差が小さくなる。このため、ｄ１が１５０ｎｍ以上であれば、反射光の波長依存性が小さくなり、目視での色味の相違は認識されなくなる。
【００４７】
ｗ１が１００ｎｍである場合、凸部の高さｄ１は、８０〜５００ｎｍが好ましく、１２０〜４００ｎｍがより好ましく、１５０〜３００ｎｍが特に好ましい。ｄ１が前記範囲の下限値以上であれば、反射率の充分に低減しやすく、波長による反射率の変動、すなわち反射率の波長依存性が少ない。ｄ１が前記範囲の上限値以下であれば、凸部の耐擦傷性が良好となる。
【００４８】
凸部のアスペクト比（凸部の高さｄ１／凸部間の平均間隔ｗ１）は、０．３〜６が好ましく、０．５〜４がより好ましく、０．７〜２が特に好ましい。凸部のアスペクト比が前記範囲の下限値以上であれば、反射率が充分に低くなる。凸部のアスペクト比が前記範囲の上限値以下であれば、凸部の耐擦傷性が良好となる。
【００４９】
凸部の間隔ｗ１及び高さｄ１は、電界放出形走査電子顕微鏡（ＪＳＭ−７４００Ｆ：日本電子（株）製）による加速電圧３．００ｋＶの画像における測定により得られる測定値の算術平均値を採用できる。間隔ｗ１は、電子顕微鏡画像において、隣接する凸部間の間隔（凸部の中心から隣接する凸部の中心までの距離）を５０点測定し、これらの測定値を算術平均して求めた値を採用する。高さｄ１は、電子顕微鏡の３００００倍画像において、凸部の最頂部と、凸部間に存在する凹部の最底部との間の垂直面上における距離を５０点測定し、これらの測定値を算術平均した値を採用する。
【００５０】
凸部１３は、図２に示すような、凸部の頂部１３ｂが丸みを帯びた釣鐘状であってもよく、その他、垂直面における断面積が、頂点側から基材側に、連続的に増大する形状、例えば円錐台状を採用することができる。
【００５１】
微細凹凸構造は、図１及び図２に示す実施形態には限定されない。微細凹凸構造は、微細凹凸構造体における成形体の表面に形成されていればよく、例えば、基材の片面又は両面、全面又は一部（透明性、超撥水性の必要な個所）に形成された成形体の表面に形成される。
【００５２】
基材としては、微細凹凸構造を有する成形体を支持可能なものであればよい。微細凹凸構造体を太陽光発電パネルやディスプレイ部材に適用する場合、基材としては、透明な、すなわち光を透過するものが好ましい。
透明な基材を構成する材料としては、例えば、メチルメタクリレート（共）重合体、ポリカーボネート、スチレン（共）重合体、メチルメタクリレート−スチレン共重合体等の合成高分子、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート等の半合成高分子、ポリエチレンテレフタレート、ポリ乳酸等のポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリウレタン、それら高分子の複合物（ポリメチルメタクリレートとポリ乳酸の複合物、ポリメチルメタクリレートとポリ塩化ビニルの複合物等）、ガラスが挙げられる。
【００５３】
成形体と基材の屈折率の差は、０．２以内が好ましく、０．１以内がより好ましく、０．０５以内が特に好ましい。屈折率差が０．２以内であれば、成形体と基材との界面における反射を抑制できる。
【００５４】
基材の形状は、特に限定されず、シート状、フィルム状等が挙げられる。
基材としては、射出成形、押し出し成形、キャスト成形等、いずれの製法により製造されたものでも使用できる。
基材の表面には、密着性、帯電防止性、耐擦傷性、耐候性等の特性の改良を目的として、コーティングやコロナ処理が施されていてもよい。
【００５５】
本発明の微細凹凸構造体は、成形体の表面に微細凹凸構造を有するため、連続的な屈折率の変化によって優れた反射防止性能を発現でき、かつ低温では化合物（Ｂ）の効果によって着氷雪防止性能を発揮できる。そのため、主に降雪地域における太陽光発電パネルの発電効率向上や、輸送機器の表示窓の視認性向上、信号機の表示機器の視認性向上等の用途に好適に用いられる。
【００５６】
［微細凹凸構造体の製造方法］
微細凹凸構造体の製造方法としては、例えば、以下の方法（１）及び方法（２）が挙げられる。
方法（１）は、微細凹凸構造の反転構造が形成されたスタンパと基材との間に樹脂組成物（Ｘ）を配し、加熱や活性エネルギー線の照射により樹脂組成物（Ｘ）を硬化して、スタンパの凹凸形状を転写した成形体を形成し、その後スタンパを剥離する方法である。
方法（２）は、基材上の樹脂組成物（Ｘ）にスタンパの凹凸形状を転写してからスタンパを剥離し、その後に加熱や活性エネルギー線の照射によって樹脂組成物（Ｘ）を硬化して成形体を形成する方法である。
【００５７】
微細凹凸構造体の製造方法としては、微細凹凸構造の転写性、表面組成の自由度の点から、方法（１）が特に好ましい。方法（１）は、連続生産が可能なベルト状、ロール状のスタンパを用いる場合に特に好適であり、生産性に優れた方法である。
【００５８】
方法（１）においてスタンパと基材間に樹脂組成物（Ｘ）を配置する方法は、特に限定されず、例えば、スタンパと基材間に樹脂組成物（Ｘ）を配置した状態でスタンパと基材とを押圧することで、成型キャビティーへ樹脂組成物（Ｘ）を注入する方法が挙げられる。
【００５９】
基材とスタンパ間の樹脂組成物（Ｘ）を加熱して重合硬化する方法としては、加熱炉を有するロール・ツー・ロールの製造装置を適用することが好ましい。そのような方法では、フィルムモールドをスタンパとして使用し、基材とスタンパ間に樹脂組成物（Ｘ）を配設した後、加熱炉で樹脂組成物（Ｘ）を硬化させ、表面に微細凹凸構造を有する成形体を基材上に形成する。
【００６０】
活性エネルギー線を照射して樹脂組成物（Ｘ）を重合硬化させる方法としては、紫外線照射による重合硬化が好ましい。紫外線を照射するランプとしては、例えば、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、無電極ランプであるフュージョンランプ、ＵＶ−ＬＥＤを用いることができる。
【００６１】
紫外線の照射量は、重合開始剤の吸収波長や含有量に応じて決定すればよい。紫外線照射の積算光量は、４００〜４０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、４００〜２０００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。積算光量が前記範囲の下限値以上であれば、樹脂組成物（Ｘ）を十分硬化させて硬化不足に因る耐擦傷性低下を抑制できる。積算光量が前記範囲の上限値以下であれば、硬化物の着色や基材の劣化を防止する点で意義が有る。
紫外線の照射強度も特に制限されないが、基材の劣化等を招かない程度の出力に抑えることが好ましい。
【００６２】
このようにして得られる微細凹凸構造体は、成形体の表面にスタンパの微細凹凸構造が鍵と鍵穴の関係で転写されるため、連続的な屈折率の変化によって優れた反射防止性能を発現でき、かつ低温では化合物（Ｂ）の効果によって着氷雪防止性能を発揮できる。そのため、主に降雪地域における太陽光発電パネルの発電効率向上や、輸送機器の視認性向上、信号機の表示機器の視認性向上等の用途に好適に用いられる。
【００６３】
スタンパの材料としては、金属（表面に酸化皮膜が形成されたものを含む。）、石英、ガラス、樹脂、セラミックス等が挙げられる。
スタンパの形状としては、ロール状、円管状、平板状、シート状等が挙げられる。特に、ベルト状やロール状にすれば、連続的に微細凹凸構造を転写でき、生産性をより高めることができる。
【００６４】
方法（１）においては、あらかじめフィルム状に成形したモールド（以下、「フィルムモールド」とも記す。）を用いてもよい。フィルムモールドは、微細凹凸構造の反転構造が形成されたスタンパの一種であり、微細凹凸構造を表面に有するフィルムを鋳型として使用し、フィルムモールド形成用樹脂組成物を用いて製造することができる。
【００６５】
スタンパに微細凹凸構造の反転構造を形成する方法は、特に限定されず、その具体例としては、電子ビームリソグラフィー法、レーザー光干渉法が挙げられる。例えば、適当な支持基板上に適当なフォトレジスト膜を塗布し、紫外線レーザー、電子線、Ｘ線等の光で露光し、現像することによって微細凹凸構造を形成した型を得て、この型をそのままスタンパとして使用することもできる。また、フォトレジスト膜を介して支持基板をドライエッチングにより選択的にエッチングして、フォトレジスト膜を除去することで支持基板そのものに直接微細凹凸構造を形成することも可能である。
【００６６】
また、陽極酸化ポーラスアルミナを、スタンパとして利用することも可能である。例えば、アルミニウムをシュウ酸、硫酸、リン酸等を電解液として所定の電圧にて陽極酸化することにより形成される２０〜２００ｎｍの細孔構造をスタンパとして利用してもよい。この方法によれば、高純度アルミニウムを定電圧で長時間陽極酸化した後、一旦酸化皮膜を除去し、再び陽極酸化することで非常に高規則性の細孔が自己組織化的に形成できる。さらに、二回目に陽極酸化する工程で、陽極酸化処理と孔径拡大処理を組み合わせることで、断面が矩形でなく三角形や釣鐘型である微細凹凸構造も形成可能となる。また、陽極酸化処理と孔径拡大処理の時間や条件を適宜調節することで、細孔最奥部の角度を鋭くすることも可能である。
さらに、微細凹凸構造を有する原型から電鋳法等で複製型を作製し、これをスタンパとして使用してもよい。
【００６７】
スタンパは陽極酸化ポーラスアルミナで作製されたものが微細凹凸形成に有用である。その一例として、アルミニウム基材の表面に所定形状の複数の微細細孔を陽極酸化にて形成し、本発明に有用なスタンパを作成する方法を、図３の工程図で説明する。
【００６８】
＜工程（ａ）＞
工程（ａ）は、アルミニウム基材４０を、定電圧下、電解液中で陽極酸化してアルミニウム基材の表面に酸化皮膜を形成する工程である。
アルミニウム基材は、純度９９％以上のアルミニウムを用いることが好ましく、より好ましくは純度９９．５％以上のアルミニウム、さらに好ましくは純度９９．８％以上のアルミニウムである。アルミニウムの純度が高いと、陽極酸化したとき、不純物の偏析による、可視光を散乱する大きさの凹凸構造が形成されにくい。また、陽極酸化で形成される細孔が規則的に形成される。アルミニウム基材の形状は、ロール状、円管状、平板状、シート状等の所望の形状でよく、微細凹凸構造体を連続的なフィルムやシートとして得る場合はロール状とすることが好ましい。
【００６９】
アルミニウム基材は、所定の形状に加工する際に用いた油が付着していることがあるため、予め脱脂処理をし、電解研磨処理（エッチング処理）により、表面を平滑にしておくことが好ましい。
【００７０】
このような表面処理を施したアルミニウム基材を陽極酸化すると、細孔４１を有する酸化皮膜４２が形成される。
【００７１】
電解液として、硫酸、シュウ酸、リン酸等を用いる。電解液としてシュウ酸を用いる場合、シュウ酸の濃度が０．８Ｍ以下であると、電流値を低く抑え、緻密な組織の酸化皮膜を形成できる。また、化成電圧が３０Ｖ〜１００Ｖであると、周期１００ｎｍ〜２００ｎｍ程度の規則性で細孔が形成された陽極酸化ポーラスアルミナ層が形成される。化成電圧がこの範囲より高くても低くても形成される細孔の規則性が低下する傾向がある。電解液の温度は、６０℃以下が好ましく、４５℃以下がより好ましい。電解液の温度が６０℃以下であれば、いわゆる「ヤケ」の発生が抑制され、細孔が壊れたり、表面が溶けたりして不規則な細孔が形成されることが抑制される。
【００７２】
また、電解液が硫酸である場合、硫酸の濃度は０．７Ｍ以下であると、電流値を低く抑え緻密な組織の酸化皮膜を形成できる。化成電圧が２５〜３０Ｖであると、周期が６３ｎｍ程度の規則性で細孔が形成された陽極酸化ポーラスアルミナ層が形成される。化成電圧がこの範囲より高くても低くても形成される細孔の規則性が低下する傾向がある。電解液の温度は、３０℃以下が好ましく、２０℃以下がより好ましい。電解液の温度が３０℃以下であれば、いわゆる「ヤケ」の発生が抑制され、細孔が壊れたり、表面が溶けたりして不規則な細孔が形成されることが抑制される。
【００７３】
＜工程（ｂ）＞
工程（ｂ）は、酸化皮膜４２を除去して、工程（ａ）において酸化皮膜４２に形成された細孔４１部分のアルミニウム基材４０の表面に陽極酸化の細孔発生点を形成する。すなわち、工程（ａ）で形成された酸化皮膜４２を除去すると、細孔４１部分のアルミニウム基材に凹部４３が形成されている。この凹部４３を陽極酸化の細孔発生点にすることにより規則的に配列した細孔を発生させることができる。酸化皮膜４２の除去には、アルミニウムを溶解せず、酸化皮膜を選択的に溶解する溶液を用いる。このような溶液としては、例えば、クロム酸／リン酸混合液等がある。
【００７４】
＜工程（ｃ）＞
工程（ｃ）は、アルミニウム基材４０を再度陽極酸化し、細孔発生点に酸化皮膜を形成することにより、細孔を形成する工程である。工程（ｂ）において酸化皮膜４２を除去したアルミニウム基材４０を再度陽極酸化して、円柱状の細孔４４を有する酸化皮膜４５を形成する。陽極酸化は、工程（ａ）と同様の条件で行うことができる。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。
【００７５】
＜工程（ｄ）＞
工程（ｄ）は、細孔４４の径を拡大させる工程である。細孔４４の径を拡大させる処理（以下、「細孔径拡大処理」という）は、酸化皮膜を溶解する溶液に浸漬して陽極酸化で形成された細孔の径を拡大させる。このような溶液として、例えば、５質量％程度のリン酸水溶液等を用いることができる。細孔径拡大処理の時間を長くするほど、細孔４４の径を拡大することができるので、目的とする形状に応じて、処理時間を設定する。
【００７６】
＜工程（ｅ）＞
工程（ｅ）は、細孔径拡大処理後のアルミニウム基材４０を再び陽極酸化する工程である。アルミニウム基材４０を再び陽極酸化すると、酸化皮膜４５が厚くなるのに伴い、細孔４４の深さが伸張される。なお、陽極酸化は工程（ａ）（工程（ｃ））と同様の条件で行うことができる。陽極酸化の時間を長くするほど細孔が深くなる。
【００７７】
＜工程（ｆ）＞
工程（ｄ）と工程（ｅ）を繰り返し行い、細孔４４の径拡大と伸張を反復する工程である。この工程により、直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔４４を有する酸化皮膜４５が形成され、陽極酸化アルミナの凸部がアルミニウム基材４０の表面に形成されたスタンパ２０を得ることができる。最後は工程（ｄ）で終わることが好ましい。
【００７８】
工程（ｄ）と工程（ｅ）の繰り返し回数は、合計で３回以上が好ましく、５回以上がより好ましい。繰り返し回数が３回以上であれば、連続的に直径が変化する細孔を形成することができ、このようなスタンパにより、反射率を低減させ得るモスアイ構造の表面を有する成形体を形成することができる。
【００７９】
細孔４４の形状としては、物品の表面に形成する微細凹凸形状の反転構造であって、具体的には、略円錐形状、角錐形状、円柱形状等が挙げられ、円錐形状、角錐形状等のように、深さ方向と直交する方向の細孔断面積が最表面から深さ方向に連続的に減少する形状が好ましい。
【００８０】
細孔４４間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち４００ｎｍ以下である。細孔４４間の平均間隔は２０〜３００ｎｍが好ましく、４０〜２６０ｎｍがより好ましく、６０〜２４０ｎｍがさらに好ましく、８０〜２００ｎｍが特に好ましい。細孔間の平均間隔は、電子顕微鏡画像における隣接する細孔間の間隔（細孔の中心から隣接する細孔の中心までの距離）を１０点測定し、これらの値の平均値を採用する。
【００８１】
細孔４４の深さは、８０〜５００ｎｍが好ましく、１２０〜４００ｎｍがより好ましく、１５０〜３００ｎｍがさらに好ましい。細孔の深さは、電子顕微鏡３００００倍画像における、細孔の最底部と頂部間の距離を１０点測定し、これらの値の平均値を採用する。
【００８２】
細孔４４のアスペクト比（深さ／平均間隔）は、０．５〜５．０が好ましく、０．７〜４．０がより好ましく、０．８〜３．０がさらに好ましい。
【００８３】
スタンパの微細凹凸構造が形成された側の表面は、離型剤で処理してもよい。
離型剤としては、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、フッ素化合物、リン酸エステル等が挙げられ、リン酸エステルが特に好ましい。リン酸エステルとしては、（ポリ）オキシアルキレンアルキルリン酸化合物が好ましく、市販品としては、城北化学社製の商品名：ＪＰ−５０６Ｈ、アクセル社製の商品名：モールドウイズＩＮＴ−１８５６、日光ケミカルズ社製の商品名：ＴＤＰ−１０、ＴＤＰ−８、ＴＤＰ−６、ＴＤＰ−２、ＤＤＰ−１０、ＤＤＰ−８、ＤＤＰ−６、ＤＤＰ−４、ＤＤＰ−２、ＴＬＰ−４、ＴＣＰ−５、ＤＬＰ−１０等が挙げられる。
【実施例】
【００８４】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の記載によっては限定されない。
［評価方法］
［１．着氷雪防止性能］
着氷雪防止性能は、低温において成形体の表面に化合物（Ｂ）が離漿していることを確認して評価した。
室温（２３℃）で成形体の表面をヘキサンで拭き取り、微細凹凸構造を露出させた。次に、成形体を−１５℃で１時間保持した後、表面にあぶらとり紙を置いて軽く指で押さえた。そのときに、あぶらとり紙に離漿した化合物（Ｂ）が染み込んだことが目視で確認できた場合に、着氷雪防止性能「あり」と判断した。
【００８５】
［２．反射防止性能］
室温（２３℃）で黒色アクリル板（三菱ケミカル株式会社製、アクリライトＥＸ５０２）の上に成形体を載せ、成形体の表面に付着した化合物（Ｂ）をヘキサンで拭き取って除去した際に、反射防止性能が目視で確認できた場合に、反射防止性能「あり」と判断した。
【００８６】
［３．スタンパの細孔の測定］
陽極酸化ポーラスアルミナからなるスタンパの一部の縦断面を１分間Ｐｔ蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡（日本電子社製、商品名ＪＳＭ−７４００Ｆ）により加速電圧３．００ｋＶで観察し、隣り合う細孔の間隔（周期）及び細孔の深さを測定した。具体的にはそれぞれ１０点ずつ測定し、その平均値を測定値とした。
【００８７】
［モスアイ構造転写用スタンパの作製］
純度９９．９９質量％、厚さ２ｍｍ、φ６５ｍｍの電解研磨されたアルミニウム円盤をアルミニウム基材として用いた。０．３Ｍシュウ酸水溶液を１５℃に調整し、前記アルミニウム基材を浸漬した。直流安定化装置の電源のＯＮ／ＯＦＦにより３０秒おきに８０Ｖの定電圧を５秒間印加する操作を６０回繰り返し、アルミニウム基材に間欠的に電流を流して陽極酸化した。これにより、アルミニウム基材に細孔を有する酸化皮膜を形成した。
次いで、酸化皮膜が形成されたアルミニウム基材を、６質量％のリン酸と１．８質量％クロム酸とを混合した７０℃の水溶液中に６時間浸漬し、酸化皮膜を溶解除去した。
【００８８】
酸化皮膜が溶解除去されたアルミニウム基材を、１６℃に調整した０．０５Ｍのシュウ酸水溶液に浸漬して、８０Ｖで７秒間陽極酸化を施した。続いて、３２℃に調整した５質量％リン酸水溶液中に２０分間浸漬して酸化皮膜の細孔を拡大する細孔径拡大処理を施した。このように陽極酸化と細孔径拡大処理とを交互に繰り返し、合計５回ずつ施した。以上の操作により、細孔の平均間隔（周期）が２００ｎｍ、平均深さが２００ｎｍの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化アルミナが表面に形成されたモスアイ構造転写用スタンパを得た。
得られたモスアイ構造転写用スタンパを、ＴＤＰ−８（商品名、日光ケミカルズ株式会社製）の０．１質量％水溶液に１０分間浸漬した。これを引き上げて一晩風乾することにより、モスアイ構造転写用スタンパに離型処理を施した。
【００８９】
［使用原料］
実施例、比較例及び参考例で用いた硬化性シリコーン樹脂を表２、化合物（Ｂ−１）及び化合物（Ｂ−２）を表３に示す。
【００９０】
【表２】
2019178285.tif 000004
【００９１】
【表３】
2019178285.tif 000005
【００９２】
［実施例１］
硬化性シリコーン樹脂（Ａ−１）（ＭＳ−１００１、東レ・ダウコーニング社製）１００質量部、化合物（Ｂ−１）としてＡＲ２０（シグマ・アルドリッチ社製）２０質量部、及び化合物（Ｂ−２）としてＴＳＦ４７（モメンティブ社製）３０質量部を、自転・公転ミキサー（シンキー社製、製品名ＡＲＶ−３１０）を用いて混練、脱泡して硬化性シリコーン樹脂組成物（Ｘ）を調製した。
得られた硬化性シリコーン樹脂組成物（Ｘ）をガラス板とモスアイ構造転写用スタンパで挟持し、０．５ｍｍ厚のテフロン（登録商標）製シートで作製した３ｃｍ角のスペーサーで厚みと大きさを制御した。硬化性シリコーン樹脂組成物（Ｘ）を１２０℃で１時間加熱して硬化させた後に離型し、凸部の平均間隔が２００ｎｍ、平均高さが２００ｎｍの微細凹凸構造を表面に有する、シート状の湿潤ゲル（Ｙ）からなる成形体を形成し、微細凹凸構造体を得た。
【００９３】
［実施例２、３］
硬化性シリコーン樹脂組成物（Ｘ）の組成を表４に示すとおりに変更した以外は、実施例１と同様にして微細凹凸構造体を作製した。
【００９４】
［比較例１、２及び参考例１］
表４に示す硬化性シリコーン樹脂を用い、化合物（Ｂ−１）及び化合物（Ｂ−２）を用いない以外は、実施例１と同様にして微細凹凸構造体を作製した。
【００９５】
各例の評価結果を表４に示す。
【００９６】
【表４】
2019178285.tif 000006
【００９７】
表４に示すように、実施例１〜３の微細凹凸構造体は、室温で反射防止性能があり、かつ低温にすることで化合物（Ｂ）が離漿し、着氷雪防止性能が発現した。
一方、デューロメータ硬さ（タイプＡ）が６８未満で柔らかすぎる硬化性シリコーン樹脂を用いた比較例１、２の微細凹凸構造体では、化合物（Ｂ）を含まない状態でも反射防止性能が発現しなかった。また、比較例１、２の微細凹凸構造体では、化合物（Ｂ）を含まないため、着氷雪防止性能も劣っていた。
硬化性シリコーン樹脂（Ａ）のみを用い、化合物（Ｂ）を用いない参考例１の微細凹凸構造体では、反射防止性能は発現したものの、着氷雪防止性能が発現しなかった。
【産業上の利用可能性】
【００９８】
本発明の湿潤ゲル（Ｙ）からなる成形体は、例えば、建材、信号機、車両、輸送機器、航空機、風車、レンズ、太陽電池、窓、画像表示装置、ショーウィンドウ、反射防止シート、反射防止膜、反射防止フィルム、などとしての用途展開が期待できる。本発明の成形体は、対象となる物品の表面に直接形成してもよく、フィルム状に形成した後に貼付してもよく、前面板として用いてもよい。
【符号の説明】
【００９９】
１０…微細凹凸構造体、１１…基材、１２…成形体、１３…凸部、１３ａ，１３ｂ…凸部の頂部、１４…凹部、１４ａ…凹部の底点、Ｗ１…隣り合う凸部の間隔ｄ１…凹部の底点から凸部の頂点までの垂直距離、４０…アルミニウム基材、４１，４４…細孔、４２，４５…酸化皮膜、４３…凹部。
【図１】
2019178285.tif 000007
【図２】
2019178285.tif 000008
【図３】
2019178285.tif 000009