(57)【要約】【課題】  透明電極パターンの骨見え現象を充分に低減することができる硬化膜パターンを現像残渣の発生を充分抑制しつつ形成することができる転写型感光性フィルム、並びに、それを用いる硬化膜パターンの形成方法、積層体及びタッチパネルを提供すること。【解決手段】  転写型感光性フィルム１は、仮支持体１０と、該仮支持体上に設けられた、感光性樹脂組成物からなる第一の層２０と、金属酸化物粒子を含む第二の層３０と、をこの順に備え、金属酸化物粒子が、粒子径が１５〜３０ｎｍである第一の金属酸化物粒子と、粒子径が３．３〜６．６ｎｍである第二の金属酸化物粒子とを含み、第二の層における金属酸化物粒子の含有量が、２５〜５０体積％である。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
仮支持体と、該仮支持体上に設けられた、感光性樹脂組成物からなる第一の層と、金属酸化物粒子を含む第二の層と、をこの順に備え、
前記金属酸化物粒子が、粒子径が１５〜３０ｎｍである第一の金属酸化物粒子と、粒子径が３．３〜６．６ｎｍである第二の金属酸化物粒子と、を含み、
前記第二の層における前記金属酸化物粒子の含有量が、２５〜５０体積％である、転写型感光性フィルム。
【請求項２】
前記第一の金属酸化物粒子の平均粒子径Ｍ１に対する前記第二の金属酸化物粒子の平均粒子径Ｍ２の比Ｍ２／Ｍ１が、０．１０〜０．４４である、請求項１に記載の転写型感光性フィルム。
【請求項３】
前記第二の層が感光性樹脂組成物を含む、請求項１又は２に記載の転写型感光性フィルム。
【請求項４】
前記第二の層における前記第一の金属酸化物粒子の含有量が、１５〜４０体積％であり、
前記第二の層における前記第二の金属酸化物粒子の含有量が、２〜１０体積％である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の転写型感光性フィルム。
【請求項５】
電極パターンを有する基材上に、請求項１〜４のいずれか一項に記載の転写型感光性フィルムの前記第一の層及び前記第二の層を、前記基材の前記電極パターンが設けられている側と前記第二の層とが密着するようにラミネートする工程と、
前記基材上の前記第一の層及び前記第二の層の所定部分を露光後、前記所定部分以外を除去し、前記電極パターンの一部又は全部を被覆する硬化膜パターンを形成する工程と、
を備える、硬化膜パターンの形成方法。
【請求項６】
電極パターンを有する基材と、前記電極パターン上に設けられた硬化膜と、を有する積層体であって、
前記硬化膜は、前記基材側に金属酸化物粒子を含有する領域を有し、
前記金属酸化物粒子が、粒子径が１５〜３０ｎｍである第一の金属酸化物粒子と、粒子径が３．３〜６．６ｎｍである第二の金属酸化物粒子と、を含み、
前記領域における前記金属酸化物粒子の含有量が、２５〜５０体積％である、積層体。
【請求項７】
前記第一の金属酸化物粒子の平均粒子径Ｍ１に対する前記第二の金属酸化物粒子の平均粒子径Ｍ２の比Ｍ２／Ｍ１が、０．１０〜０．４４である、請求項６に記載の積層体。
【請求項８】
前記領域における前記第一の金属酸化物粒子の含有量が、１５〜４０体積％であり、
前記領域における前記第二の金属酸化物粒子の含有量が、２〜１０体積％である、請求項６又は７に記載の積層体。
【請求項９】
請求項６〜８のいずれか一項に記載の積層体を備え、
前記基材がタッチパネル用基材である、タッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、転写型感光性フィルム、硬化膜パターンの形成方法、積層体及びタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
パソコン及びテレビ等の大型電子機器、カーナビゲーション、携帯電話、スマートフォン、電子辞書等の小型電子機器、ＯＡ（Ｏｆｆｉｃｅ  Ａｕｔｏｍａｔｉｏｎ、オフィスオートメーション）・ＦＡ（Ｆａｃｔｏｒｙ  Ａｕｔｏｍａｔｉｏｎ、ファクトリーオートメーション）機器等の表示機器などには液晶表示素子及びタッチパネル（タッチセンサー）が用いられている。
【０００３】
タッチパネルは各種の方式が実用化されているが、近年、投影型静電容量方式のタッチパネルの利用が進んでいる。一般に、投影型静電容量方式のタッチパネルでは、Ｘ軸とＹ軸による２次元座標を表現するために、複数のＸ電極と、該Ｘ電極に直交する複数のＹ電極とが、２層構造を形成している。これらの電極の材料として、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ、酸化インジウムスズ）が主流である。
【０００４】
ところで、タッチパネルの額縁領域はタッチ位置を検出できない領域であるから、その額縁領域の面積を狭くすることが製品価値を向上させるための重要な要素である。一般的に額縁領域には、タッチ位置の検出信号を伝えるために銅等の金属配線が形成されている。タッチパネルにおいては、指先に接触される際に水分又は塩分等の腐食成分がセンシング領域から内部に侵入することがある。タッチパネルの内部に腐食成分が侵入すると、上記金属配線が腐食し、電極と駆動用回路間の電気抵抗の増加、又は断線の恐れがある。
【０００５】
金属配線の腐食を防ぐために、タッチパネル用基材上に、ジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有するジ（メタ）アクリレート化合物を含有する感光性樹脂組成物層を設け、この感光性樹脂組成物層の所定部分を活性光線の照射により硬化させた後に、所定部分以外を除去し、基材の一部又は全部を被覆する感光性樹脂組物の硬化膜を形成する方法が提案されている（下記特許文献１を参照）。この手法によれば、タッチパネル用基材上に充分な低透湿性を有する硬化膜を形成することができる。
【０００６】
他方で、投影型静電容量方式のタッチパネルには、透明電極パターンが形成された部分と、形成されていない部分との光学的な反射特性の違いにより色差が大きくなり、モジュール化した際に透明電極パターンが画面上に映りこむ、いわゆる「骨見え現象」の問題がある。また、基材と透明電極との間、又はモジュール化する際に使用するカバーガラスと透明電極パターンとを接着する視認性向上フィルム（ＯＣＡ：Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｌｅａｒ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ）と透明電極パターンとの間で、反射光強度が増加し、画面の透過率を低下させるという問題もある。
【０００７】
これに対し、例えば下記特許文献２には、基材と透明電極パターンとの間にインデックスマッチング層（光学調整層）（以下、「ＩＭ層」という）を設けることで、透明電極パターンが形成された部分と形成されていない部分との色差を低減し、骨見え現象と、画面の透過率低下を防ぐ透明導電樹脂基板が開示されている。
【０００８】
また、例えば下記特許文献３には、透明電極パターンが視認されることを防ぐ手法として、特定の屈折率の範囲に調整された低屈折率の第一の硬化性透明樹脂層及び高屈折率の第二の硬化性透明樹脂層とを隣接して有する転写フィルムが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０１５−１２１９２９号公報
【特許文献２】特開平８−２４０８００号公報
【特許文献３】国際公開第２０１４／０８４１１２号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ところで、タッチパネルの額縁領域にある銅配線上に保護膜を設ける場合、例えば外部接続端子部の一部には保護膜を形成しないことがある。感光性樹脂組成物を用いて必要な箇所に硬化膜を設ける場合、通常、露光及び現像を含む工程によりパターニングが行われる。このときの現像手段としては、作業環境の安全性の観点から、水系のアルカリ現像液が好適に用いられる。
【００１１】
そこで、本発明者らは、現像可能な感光性樹脂組成物層と、高屈折率層とが積層された転写型感光性フィルムによる硬化膜パターンの形成について検討を行った。そして、この検討の中で、骨見え現象を充分に低減するために金属酸化物粒子を高配合した高屈折率層を設けると現像残渣が生じやすくなることが判明した。
【００１２】
本発明は、透明電極パターンの骨見え現象を充分に低減することができる硬化膜パターンを現像残渣の発生を充分抑制しつつ形成することができる転写型感光性フィルム、並びに、それを用いる硬化膜パターンの形成方法、積層体及びタッチパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決するために本発明者らは鋭意検討した結果、感光性樹脂組成物層に積層される層に、粒径の範囲が異なる金属酸化物粒子を２種類組み合わせて配合し、その層における金属酸化物粒子の体積割合を調整することにより、骨見え現象の低減効果と現像性との両立が可能になることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１４】
本発明は、仮支持体と、該仮支持体上に設けられた、感光性樹脂組成物からなる第一の層と、金属酸化物粒子を含む第二の層と、をこの順に備え、金属酸化物粒子が、粒子径が１５〜３０ｎｍである第一の金属酸化物粒子と、粒子径が３．３〜６．６ｎｍである第二の金属酸化物粒子とを含み、第二の層における金属酸化物粒子の含有量が、２５〜５０体積％である転写型感光性フィルムを提供する。
【００１５】
本発明の転写型感光性フィルムによれば、上記構成を有することにより、透明電極パターンの骨見え現象を充分に低減することができる硬化膜パターンを現像残渣の発生を充分抑制しつつ形成することができる。
【００１６】
本発明によって上記の効果が奏される理由を本発明らは以下のとおり考えている。まず、透明電極パターンが設けられた基材上に感光性樹脂層及び高屈折率層を備える転写型感光性フィルムを用いて硬化膜パターンを形成する場合、高屈折率層側からのラミネートにより基材／高屈折率層／感光性樹脂層の積層構造が形成され、この積層構造に対して露光及び感光性樹脂層側からの現像が行われる。ここで、高屈折率層に金属酸化物粒子を高配合した場合に現像残渣が生じやすくなる理由については、高屈折率層に含まれる感光性樹脂の多くが金属酸化物粒子の間隙に存在するようになり、現像液による感光性樹脂の溶解が妨げられるためと考えられる。これに対し、本発明の転写型感光性フィルムでは、第二の層に、上記特定の粒径を有する第一の金属酸化物粒子と第一の金属酸化物粒子の粒径よりも小さい上記特定の粒径を有する第二の金属酸化物粒子とが配合されていることにより、第二の層中では第一の金属酸化物粒子間に第二の金属酸化物粒子が存在する粒子充填構造が形成されやすくなる。第二の層がこのような粒子充填構造を有していることにより、骨見え現象を充分に低減できる水準まで金属酸化物粒子を充填した場合であっても、金属酸化物粒子が高密度にパッキングされることで粒子の間隙が減少し、感光性樹脂が第二の層の表面側に存在する割合を高めることができ、現像性が良好になったものと本発明者らは推察する。
【００１７】
本発明の転写型感光性フィルムにおいて、現像性を更に向上させる観点から、第一の金属酸化物粒子の平均粒子径Ｍ１に対する第二の金属酸化物粒子の平均粒子径Ｍ２の比Ｍ２／Ｍ１が、０．１０〜０．４４であることが好ましい。
【００１８】
本発明の転写型感光性フィルムにおいて、第二の層が感光性樹脂組成物を含んでいてもよい。
【００１９】
本発明の転写型感光性フィルムは、現像性を更に向上させつつ骨見え現象を抑制する観点から、第二の層における第一の金属酸化物粒子の含有量が、１５〜４０体積％であり、第二の層における第二の金属酸化物粒子の含有量が、２〜１０体積％であることが好ましい。
【００２０】
本発明はまた、電極パターンを有する基材上に、上記本発明に係る転写型感光性フィルムの第一の層及び第二の層を、基材の電極パターンが設けられている側と第二の層とが密着するようにラミネートする工程と、基材上の第一の層及び第二の層の所定部分を露光後、所定部分以外を除去し、電極パターンの一部又は全部を被覆する硬化膜パターンを形成する工程とを備える硬化膜パターンの形成方法を提供する。
【００２１】
本発明の硬化膜パターンの形成方法によれば、本発明に係る転写型感光性フィルムを用いることにより、電極が透明電極である場合にその骨見え現象を充分に低減することができる硬化膜パターンを現像残渣の発生を充分抑制しつつ形成することができる。
【００２２】
本発明はまた、電極パターンを有する基材と、電極パターン上に設けられた硬化膜と、を有する積層体であって、硬化膜は、基材側に金属酸化物粒子を含有する領域を有し、金属酸化物粒子が、粒子径が１５〜３０ｎｍである第一の金属酸化物粒子と、粒子径が３．３〜６．６ｎｍである第二の金属酸化物粒子とを含み、上記領域における金属酸化物粒子の含有量が２５〜５０体積％である積層体を提供する。
【００２３】
本発明の積層体は、電極が透明電極である場合にその骨見え現象を充分に低減することができる硬化膜を有する。また、本発明の積層体は、硬化膜が本発明に係る転写型感光性フィルムによって形成できるものであることから、現像残渣に起因する問題が発生しにくいものになり得る。
【００２４】
本発明の積層体において、第一の金属酸化物粒子の平均粒子径Ｍ１に対する第二の金属酸化物粒子の平均粒子径Ｍ２の比Ｍ２／Ｍ１が、０．１０〜０．４４であってもよい。
【００２５】
また、上記領域における第一の金属酸化物粒子の含有量が、１５〜４０体積％であり、上記領域における第二の金属酸化物粒子の含有量が、２〜１０体積％であってもよい。
【００２６】
本発明はまた、上記本発明に係る積層体を備え、基材がタッチパネル用基材であるタッチパネルを提供する。本発明のタッチパネルは、本発明に係る積層体を備えることにより、透明電極パターンの骨見え現象が充分に抑制され、視認性に優れたものになり得る。また、本発明のタッチパネルは、硬化膜が本発明に係る転写型感光性フィルムによって形成できるものであることから、外部接続端子における接続不良などの現像残渣に起因する問題が発生しにくいものになり得る。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、透明電極パターンの骨見え現象を充分に低減することができる硬化膜パターンを現像残渣の発生を充分抑制しつつ形成することができる転写型感光性フィルム、並びに、それを用いる硬化膜パターンの形成方法、積層体及びタッチパネルを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の一実施形態に係る転写型感光性フィルムを示す模式断面図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る転写型感光性フィルムを用いて形成した硬化膜パターンを透明電極パターン付き基材上に備える積層体を示す模式断面図である。
【図３】本発明の一実施形態に係るタッチパネルを示す模式上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、場合により図面を参照しつつ、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。なお、本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味する。「Ａ又はＢ」とは、ＡとＢのどちらか一方を含んでいればよく、両方とも含んでいてもよい。
【００３０】
また、本明細書において「層」との語は、平面図として観察したときに、全面に形成されている形状の構造に加え、一部に形成されている形状の構造も包含される。また、本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。また、「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
【００３１】
さらに、本明細書において組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。また、例示材料は特に断らない限り単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３２】
また、本明細書中に段階的に記載されている数値範囲において、ある段階の数値範囲の上限値又は下限値は、他の段階の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本明細書中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
【００３３】
［転写型感光性フィルム］
本実施形態の転写型感光性フィルムは、仮支持体と、該仮支持体上に設けられた、感光性樹脂組成物からなる第一の層と、金属酸化物粒子を含む第二の層と、をこの順に備えるものである。転写型感光性フィルムは、第二の層上に設けられた保護フィルムを更に備えていてもよい。
【００３４】
図１は、本発明の一実施形態に係る転写型感光性フィルムを示す模式断面図である。図１に示される転写型感光性フィルム１は、仮支持体としての支持フィルム１０と、支持フィルム１０上に設けられた第一の層２０と、第一の層２０上に設けられた第二の層３０と、第二の層３０上に設けられた保護フィルム４０とを備える。
【００３５】
（支持フィルム）
支持フィルム１０としては、重合体フィルムを用いることができる。重合体フィルムの材質としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー等が挙げられる。
【００３６】
支持フィルム１０の厚みは、被覆性の確保と、支持フィルム１０を介して活性光線を照射する際の解像度の低下を抑制する観点から、５〜１００μｍであることが好ましく、１０〜７０μｍであることがより好ましく、１５〜４０μｍであることがさらに好ましく、１５〜３５μｍであることが特に好ましい。
【００３７】
（第一の層）
第一の層２０は、バインダーポリマー（以下、（Ａ）成分ともいう）と、光重合性化合物（以下、（Ｂ）成分ともいう）と、光重合開始剤（以下、（Ｃ）成分ともいう）と、を含有する感光性樹脂組成物から形成されることが好ましい。
【００３８】
＜バインダーポリマー＞
（Ａ）成分としては、アルカリ現像によりパターニングを可能とする観点から、カルボキシル基を有するポリマーを用いることが好ましい。
【００３９】
（Ａ）成分は、（メタ）アクリル酸、及び（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位を含有する共重合体が好適である。上記共重合体は、上記（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエステルと共重合し得るその他のモノマーを構成単位に含有していてもよい。その他のモノマーとして具体的には、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、（メタ）アクリル酸シクロヘキシルエステル等が挙げられる。
【００４０】
上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシルエステル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシルエチルエステル等が挙げられる。
【００４１】
バインダーポリマーは、アルカリ現像性（特に無機アルカリ水溶液に対する現像性）、パターニング性、透明性の観点から、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシルエステル、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシルマレイミド、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート及びヒドロキシブチル（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも一種の化合物に由来する構造単位を有するバインダーポリマーが好ましく、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル及び（メタ）アクリル酸シクロヘキシルエステルからなる群より選択される少なくとも一種の化合物に由来する構造単位を有するバインダーポリマーがより好ましく、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル及び（メタ）アクリル酸シクロヘキシルエステルに由来する構造単位を有するバインダーポリマーが特に好ましい。また、バインダーポリマーは、上記構造単位として少なくともヒドロキシエチル（メタ）アクリレート又はヒドロキシブチル（メタ）アクリレートを含む共重合体のヒドロキシエチル（メタ）アクリレート又はヒドロキシブチル（メタ）アクリレートに、イソシアネートエチル（メタ）アクリレート又はグリシジル（メタ）アクリレートを付加反応させたものであってもよい。
【００４２】
本実施形態においては、硬化膜の透湿度を低減する観点から、側鎖に分岐構造及び／又は脂環構造を有する基、側鎖に酸性基を有する基、並びに、側鎖にエチレン性不飽和基を有する基を含有するバインダーポリマーを用いることができる。側鎖に分岐構造及び／又は脂環構造を有する基は、側鎖に分岐構造を有する基を含有するモノマー、又は側鎖に脂環構造を有する基を含有するモノマーによって導入することができる。側鎖に酸性基を有する基は、側鎖に酸性基を有する基を含有するモノマーによって導入することができる。
【００４３】
側鎖に分岐構造を有する基を含有するモノマーとしては、例えば（メタ）アクリル酸ｉ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｓ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｉ−アミル、（メタ）アクリル酸ｔ−アミル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ−ｉｓｏ−アミル、（メタ）アクリル酸２−オクチル、（メタ）アクリル酸３−オクチル、（メタ）アクリル酸ｔ−オクチル等が挙げられる。これらの中でも、（メタ）アクリル酸ｉ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチルが好ましく、さらに好ましくは、メタクリル酸ｉ−プロピル、メタクリル酸ｔ−ブチルである。
【００４４】
側鎖に脂環構造を有する基を含有するモノマーとしては、例えば炭素原子数５〜２０個の脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリレートが挙げられる。より具体的な例としては、例えば（メタ）アクリル酸（ビシクロ〔２．２．１］ヘプチル−２）、（メタ）アクリル酸−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸−２−アダマンチル、（メタ）アクリル酸−３−メチル−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸−３，５−ジメチル−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸−３−エチルアダマンチル、（メタ）アクリル酸−３−メチル−５−エチル−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸−３，５，８−トリエチル−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸−３，５−ジメチル−８−エチル−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸２−メチル−２−アダマンチル、（メタ）アクリル酸２−エチル−２−アダマンチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシ−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸オクタヒドロ−４，７−メンタノインデン−５−イル、（メタ）アクリル酸オクタヒドロ−４，７−メンタノインデン−１−イルメチル、（メタ）アクリル酸−１−メンチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸−３−ヒドロキシ−２，６，６−トリメチル−ビシクロ〔３．１．１〕ヘプチル、（メタ）アクリル酸−３，７，７−トリメチル−４−ヒドロキシ−ビシクロ〔４．１．０〕ヘプチル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸フェンチル、（メタ）アクリル酸−２，２，５−トリメチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル等が挙げられる。これら（メタ）アクリル酸エステルの中でも、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸−１−アダマンチル、（メタ）アクリル酸−２−アダマンチル、（メタ）アクリル酸フェンチル、（メタ）アクリル酸１−メンチル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルが好ましく、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸−２−アダマンチルが特に好ましい。
【００４５】
（Ａ）成分が側鎖に分岐構造及び／又は脂環構造を有する基を含有することにより、基材に対する良好な密着性、特にインデックスマッチング層を有する基材に対する良好な密着性を得ることができる。また、側鎖に脂環構造を有する基を有すことにより、硬化膜の透湿度を低減することができる。
【００４６】
側鎖に酸性基を有する基を含有するモノマーの具体例としては、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、（メタ）アクリル酸、ビニル安息香酸、マレイン酸、マレイン酸モノアルキルエステル、フマル酸、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、ソルビン酸、α−シアノ桂皮酸、アクリル酸ダイマー、水酸基を有するモノマーと環状酸無水物との付加反応物、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは、適宜製造したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。
【００４７】
（Ａ）成分が側鎖に酸性基を有する基を含有することにより、アルカリ現像によるパターニングを可能とすることができる。
【００４８】
側鎖にエチレン性不飽和基を有する基としては、特に制限はなく、エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基が好ましい。また、エチレン性不飽和基とモノマーとの連結はエステル基、アミド基、カルバモイル基などの２価の連結基であれば特に制限はない。側鎖にエチレン性不飽和基を導入する方法は公知の方法の中から適宜選択することができ、例えば、酸性基を持つ基にエポキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法、ヒドロキシ基を持つ基にイソシアネート基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法、イソシアネート基を持つ基にヒドロキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法などが挙げられる。その中でも、酸性基を持つ基にエポキシ基を持つ（メタ）アクリレートを付加する方法が最も製造が容易であり、低コストである点で好ましい。
【００４９】
（Ａ）成分が側鎖にエチレン性不飽和基を有する基を含有することにより、基材に対する良好な密着性、特にインデックスマッチング層を有する基材に対する良好な密着性を得ることができる。また、硬化膜の透湿度を低減することができる。
【００５０】
（Ａ）成分を構成するモノマー全量を基準として、側鎖に分岐構造及び／又は脂環構造を有する基を構成するモノマーの割合は、１０〜７０モル％であることが好ましく、１５〜６５モル％であることがより好ましく、２０〜６０モル％であることがさらに好ましい。また、（Ａ）成分を構成するモノマー全量を基準として、側鎖に酸性基を有する基を構成するモノマーの割合は、５〜７０モル％であることが好ましく、１０〜６０モル％であることがより好ましく、２０〜５０モル％がさらに好ましい。更に、（Ａ）成分を構成するモノマー全量を基準として、側鎖にエチレン性不飽和基を有する基を構成するモノマーの割合は、５〜７０モル％であることが好ましく、１０〜６０モル％であることがより好ましく、２０〜５０モル％がさらに好ましい。上記モノマーの割合を満たすことで、アルカリ現像によるパターニング性、基材へのラミネート性、及び、インデックスマッチング層を有していてもよい基材に対する良好な密着性をバランス良く向上させることができる。
【００５１】
（Ａ）成分の重量平均分子量は、解像度の観点から、１０，０００〜２００，０００であることが好ましく、１５，０００〜１５０，０００であることがより好ましく、３０，０００〜１５０，０００であることがさらに好ましく、３０，０００〜１００，０００であることが特に好ましく、４０，０００〜１００，０００であることが極めて好ましい。なお、重量平均分子量は、本明細書の実施例に記載したゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定することができる。
【００５２】
（Ａ）成分の酸価は、所望の形状を有する硬化膜（硬化膜パターン）をアルカリ現像で容易に形成する観点から、７５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上とすることが好ましい。また、硬化膜形状の制御容易性と硬化膜の防錆性との両立を図る観点から、（Ａ）成分の酸価は、７５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、７５〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、７５〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましい。なお、酸価は、本明細書の実施例に記載した方法で測定することができる。
【００５３】
なお、第一の層２０は、上述した（Ａ）バインダーポリマー以外の他のバインダーポリマーを更に含有していてもよい。
【００５４】
＜光重合性化合物＞
（Ｂ）成分である光重合性化合物としては、エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物を用いることができる。
【００５５】
エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物としては、例えば、一官能ビニルモノマー、二官能ビニルモノマー、少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーが挙げられる。
【００５６】
上記一官能ビニルモノマーとしては、例えば、上記（Ａ）成分の好適な例である共重合体の合成に用いられるモノマーとして例示した（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエステル及びそれらと共重合可能なモノマーが挙げられる。
【００５７】
上記二官能ビニルモノマーとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡポリオキシエチレンポリオキシプロピレンジ（メタ）アクリレート（２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシフェニル）プロパン）、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、水酸基及びエチレン性不飽和基を有する化合物（例えば、β−ヒドロキシエチルアクリレート、β−ヒドロキシエチルメタクリレート等）と多価カルボン酸（例えば、無水フタル酸等）とのエステル化物等が挙げられる。
【００５８】
本実施形態の感光性樹脂組成物は、電極に対する密着性向上の観点から、トリシクロデカン骨格又はトリシクロデセン骨格を有する化合物を含むことが好ましい。また、金属配線及び透明電極パターンの腐食抑制の観点から、トリシクロデカン骨格又はトリシクロデセン骨格を有する化合物として、下記一般式（Ｂ−１）で表されるジ（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましい。
【００５９】
【化１】
2019215395.tif 000003
［一般式（Ｂ−１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｘは、トリシクロデカン骨格又はトリシクロデセン骨格を有する２価の基を示し、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に炭素数１〜４のアルキレン基を示し、ｎ及びｍは、それぞれ独立に０〜２の整数を示し、ｐ及びｑは、それぞれ独立に０以上の整数を示し、ｐ＋ｑ＝０〜１０となるように選択される。］
【００６０】
上記一般式（Ｂ−１）において、Ｒ３及びＲ４は、エチレン基又はプロピレン基であることが好ましく、エチレン基であることがより好ましい。また、プロピレン基はｎ−イソプロピレン基及びイソプロピレン基のいずれであってもよい。
【００６１】
上記一般式（Ｂ−１）で表される化合物によれば、Ｘに含まれるトリシクロデカン骨格又はトリシクロデセン骨格を有する２価の基が、嵩高い構造を有することで、硬化膜の低透湿性を実現し、金属配線及び透明電極の腐食抑制性を向上させることができる。ここで、本明細書中における「トリシクロデカン骨格」及び「トリシクロデセン骨格」とは、それぞれ以下の構造（それぞれ、結合手は任意の箇所である）をいう。
【００６２】
【化２】
2019215395.tif 000004
【００６３】
トリシクロデカン骨格又はトリシクロデセン骨格を有する化合物としては、得られる硬化膜パターンの低透湿性の観点から、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートなどのトリシクロデカン骨格を有する化合物が好ましい。これらは、ＤＣＰ及びＡ−ＤＣＰ（いずれも新中村化学工業株式会社製）として入手可能である。
【００６４】
（Ｂ）成分における、トリシクロデカン骨格又はトリシクロデセン骨格を有する化合物の割合は、金属配線の腐食防止の観点から、感光性樹脂組成物に含まれる光重合性化合物の合計量１００質量部のうち、５０質量部以上であることが好ましく、７０質量部以上であることがより好ましく、８０質量部以上であることがさらに好ましい。
【００６５】
上記少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーとしては、ペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物及びトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
【００６６】
ここで、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレートとは、ジペンタエリスリトールと、（メタ）アクリル酸とのエステル化物を意味し、当該エステル化物には、アルキレンオキシ基で変性された化合物も包含される。上記のエステル化物は、一分子中におけるエステル結合の数が６であることが好ましいが、エステル結合の数が１〜５の化合物が混在していてもよい。また、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物とは、トリメチロールプロパンと、（メタ）アクリル酸とのエステル化物を意味し、当該エステル化物には、アルキレンオキシ基で変性された化合物も包含される。上記のエステル化物は、一分子中におけるエステル結合の数が３であることが好ましいが、エステル結合の数が１〜２の化合物が混在していてもよい。また、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物は、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート化合物が２量化した化合物を用いてもよい。
【００６７】
具体的には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート等の多価アルコールとα，β−不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタアクリル酸等）とを反応させて得られる化合物；トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリ（メタ）アクリレート等のグリシジル基含有化合物とα，β−不飽和カルボン酸とを付加反応して得られる化合物；ジグリセリン（メタ）アクリレート等のジグリセリンとα，β−不飽和カルボン酸とを付加して得られる化合物などが挙げられる。
【００６８】
上記の化合物は、１種を単独で又は２種以上組み合わせて用いることができる。
【００６９】
（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、（Ａ）成分が３５〜８５質量部であることが好ましく、４０〜８０質量部であることがより好ましく、５０〜７０質量部であることがさらに好ましく、５５〜６５質量部であることが特に好ましい。
【００７０】
硬化膜パターンの低透湿化及び密着性向上の観点からは、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、トリシクロデカン骨格又はトリシクロデセン骨格を有する化合物が、５質量部以上であることが好ましく、１０質量部以上であることがより好ましく、２０質量部以上であることがさらに好ましく、２５質量部以上であることが特に好ましい。
【００７１】
＜光重合開始剤＞
（Ｃ）成分としては、活性光線の照射によって第一の層を硬化させることができるものであれば、特に制限されない。透明性、金属配線の腐食防止の観点から、アシルフォスフィンオキシド系光重合開始剤、オキシムエステル系光重合開始剤が好ましい。
【００７２】
アシルフォスフィンオキシド系光重合開始剤としては、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ホスフィネートが挙げられる。アシルフォスフィンオキシド系光重合開始剤は、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯ、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ８１９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯ−Ｌ（以上、ＢＡＳＦ株式会社製、製品名）として入手可能である。アシルフォスフィンオキシド系光重合開始剤を用いることにより、硬化膜において充分な重合反応率を得ることができ、パターン見えを抑制することができる。
【００７３】
オキシムエステル系光重合開始剤としては、下記一般式（１）で表される化合物、下記一般式（２）で表される化合物、又は下記一般式（３）で表される化合物が挙げられる。
【００７４】
【化３】
2019215395.tif 000005
【００７５】
式（１）中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基を示し、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数４〜６のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数４〜６のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基であることがより好ましく、メチル基、シクロペンチル基、フェニル基又はトリル基であることがさらに好ましい。Ｒ１３は、−Ｈ、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−Ｏ（ＣＨ２）ＯＨ、−Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、−ＣＯＯ（ＣＨ２）ＯＨ又は−ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨを示し、−Ｈ、−Ｏ（ＣＨ２）ＯＨ、−Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、−ＣＯＯ（ＣＨ２）ＯＨ、又は−ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨであることが好ましく、−Ｈ、−Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、又は−ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨであることがより好ましい。
【００７６】
【化４】
2019215395.tif 000006
【００７７】
式（２）中、２つのＲ１４は、それぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基を示し、プロピル基であることが好ましい。Ｒ１５は、ＮＯ２又はＡｒＣＯ（ここで、Ａｒはアリール基を示す。）を示し、Ａｒとしては、トリル基が好ましい。Ｒ１６及びＲ１７は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基、又はトリル基を示し、メチル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましい。
【００７８】
【化５】
2019215395.tif 000007
【００７９】
式（３）中、Ｒ１８は、炭素数１〜６のアルキル基を示し、エチル基であることが好ましい。Ｒ１９はアセタール結合を有する有機基であり、後述する式（３−１）に示す化合物が有するＲ１９に対応する置換基であることが好ましい。Ｒ２０及びＲ２１は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基又はトリル基を示し、メチル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。Ｒ２２は、水素原子又はアルキル基を示す。
【００８０】
上記一般式（１）で表される化合物は、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０１（ＢＡＳＦ株式会社製、製品名）として入手可能である。
【００８１】
上記一般式（２）で表される化合物は、ＤＦＩ−０９１（ダイトーケミックス株式会社製、製品名）として入手可能である。
【００８２】
上記一般式（３）で表される化合物は、アデカオプトマーＮ−１９１９（株式会社ＡＤＥＫＡ製、製品名）として入手可能である。
【００８３】
本実施形態においては、アシルフォスフィンオキシド系光重合開始剤とオキシムエステル系光重合開始剤とを併用することが好ましい。アシルフォスフィンオキシド系光重合開始剤とオキシムエステル系光重合開始剤とを併用することで、形成される樹脂硬化膜の透湿度をさらに低減することができる。
【００８４】
この場合、骨見え現象の低減、金属配線の腐食防止の観点から、アシルフォスフィンオキシド系光重合開始剤とオキシムエステル化合物との質量比が８：１〜０．５：１であることが好ましく、４：１〜２：１であることがより好ましい。
【００８５】
（Ｃ）成分の含有量は、光感度及び解像度に優れる点では、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．１〜１０質量部であることが好ましく、１〜５質量部であることがより好ましく、１〜３質量部であることがさらに好ましく、１〜２質量部であることが特に好ましい。
【００８６】
＜防錆剤＞
本実施形態に係る感光性樹脂組成物は、硬化膜の防錆性をより向上させる観点から、メルカプト基を有するトリアゾール化合物、メルカプト基を有するテトラゾール化合物、メルカプト基を有するチアジアゾール化合物、アミノ基を有するトリアゾール化合物及びアミノ基を有するテトラゾール化合物からなる群より選択される少なくとも一種の化合物（以下、（Ｄ）成分ともいう）をさらに含有することが好ましい。メルカプト基を有するトリアゾール化合物としては、例えば、３−メルカプト−トリアゾール（和光純薬株式会社製、製品名：３ＭＴ）が挙げられる。また、メルカプト基を有するチアジアゾール化合物としては、例えば、２−アミノ−５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール（和光純薬株式会社製、製品名：ＡＴＴ）が挙げられる。
【００８７】
上記アミノ基を有するトリアゾール化合物としては、例えばベンゾトリアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−アセトニトリル、ベンゾトリアゾール−５−カルボン酸、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−メタノール、カルボキシベンゾトリアゾール等にアミノ基が置換した化合物、３−メルカプトトリアゾール、５−メルカプトトリアゾール等のメルカプト基を含むトリアゾール化合物にアミノ基が置換した化合物などが挙げられる。
【００８８】
上記アミノ基を有するテトラゾール化合物としては、例えば５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール（千代田ケミカル株式会社製、製品名：Ｂ６０３０）、１−メチル−５−アミノ−テトラゾール、１−メチル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、１−カルボキシメチル−５−アミノ−テトラゾール等が挙げられる。これらのテトラゾール化合物は、その水溶性塩であってもよい。具体例としては、１−メチル−５−アミノ−テトラゾールのナトリウム、カリウム、リチウム等のアルカリ金属塩などが挙げられる。
【００８９】
感光性樹脂組成物が（Ｄ）成分を含有する場合、その含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．０５〜５．０質量部が好ましく、０．１〜２．０質量部がより好ましく、０．２〜１．０質量部がさらに好ましく、０．３〜０．８質量部が特に好ましい。
【００９０】
本実施形態に係る第一の層を形成する感光性樹脂組成物には、その他の添加剤として、必要に応じて、エチレン性不飽和基を有するリン酸エステル、シランカップリング剤等の密着性付与剤、防錆剤、レベリング剤、可塑剤、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、酸化防止剤、香料、熱架橋剤、重合禁止剤などを（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、各々０．０１〜２０質量部程度含有させることができる。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用できる。
【００９１】
第一の層の厚みは１〜１５μｍであってもよく、２〜１０μｍであることが好ましく、３〜８μｍであることがより好ましく、４〜６μｍであることがさらに好ましく、５〜６μｍであることが特に好ましい。厚みが１〜１５μｍであることにより、塗布時の欠陥が少なく、透明性に優れた成膜が可能となる。また、硬化後における第一の層の厚みも上記範囲内であることが好ましい。
【００９２】
（第二の層）
第二の層３０は、金属酸化物粒子を含有する層である。第二の層３０は、金属酸化物粒子を含有することにより、第一の層２０よりも相対的に高い屈折率を有することができる。第二の層３０は、６３３ｎｍにおける屈折率が１．４０〜１．９０の範囲内であることが好ましく、１．５０〜１．９０であることがより好ましく、１．５３〜１．８５であることが更に好ましく、１．５５〜１．７５であることが特に好ましい。また、第二の層が硬化性成分を含む場合、硬化後における第二の層の６３３ｎｍにおける屈折率も上記範囲内であることが好ましい。
【００９３】
第二の層３０の６３３ｎｍにおける屈折率が上記範囲内であると、硬化膜パターンをＩＴＯ等の透明電極パターン上に設けた場合に、硬化膜パターン上に使用される各種部材（例えば、モジュール化する際に使用するカバーガラスと透明電極パターンとを接着するＯＣＡ）との屈折率の中間値となり、ＩＴＯ等の透明電極パターンが形成されている部分と形成されていない部分での光学的な反射による色差を小さくすることが可能となり、骨見え現象を防止できる。また、画面全体の反射光強度を低減することが可能となり、画面上の透過率低下を抑制することが可能となる。
【００９４】
ＩＴＯ等の透明電極の屈折率は、１．８０〜２．１０であることが好ましく、１．８５〜２．０５であることがより好ましく、１．９０〜２．００であることがさらに好ましい。また、ＯＣＡ等の部材の屈折率は１．４５〜１．５５であることが好ましく、１．４７〜１．５３であることがより好ましく、１．４８〜１．５１であることがさらに好ましい。
【００９５】
第二の層３０は、４５０〜６５０ｎｍの波長域における最小光透過率が８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。また、第二の樹脂層が硬化性成分を含む場合、硬化後における第二の樹脂層の４５０〜６５０ｎｍの波長域における最小光透過率も上記範囲内であることが好ましい。
【００９６】
第二の層３０は、上記の（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を含有することができ、必要に応じて、上記（Ｄ）成分を更に含有することができる。第二の層３０は（Ｂ）成分、（Ｃ）成分等の光重合成分を必ずしも含有する必要はなく、層形成により隣接する樹脂層から移行する光重合成分を利用して第二の層を光硬化させることもできる。
【００９７】
第二の層３０は、金属酸化物粒子（以下、（Ｅ）成分ともいう）を含有する。金属酸化物粒子としては、特に波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．５０以上である、金属酸化物粒子を含有することが好ましい。これにより、転写型感光性フィルムを調製した際、第二の層の透明性及び波長６３３ｎｍにおける屈折率を向上させることが可能となる。また基材への吸着を抑制しつつ、現像性を向上させることができる。
【００９８】
金属酸化物粒子としては、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウムスズ、酸化インジウム、酸化アルミウム、酸化イットリウム等の金属酸化物からなる粒子が挙げられる。これらの中でも、骨見え現象抑制の観点から、酸化ジルコニウム又は酸化チタンの粒子が好ましい。
【００９９】
酸化ジルコニウム粒子としては、透明電極の材料がＩＴＯの場合、屈折率向上と、ＩＴＯ及び透明基材との密着性の観点から、酸化ジルコニウムナノ粒子を用いることが好ましい。酸化ジルコニウムナノ粒子の中でも、粒度分布Ｄｍａｘが４０ｎｍ以下であることが好ましい。
【０１００】
酸化ジルコニウムナノ粒子は、ＯＺ−Ｓ３０Ｋ（日産化学工業株式会社製、製品名）、ＯＺ−Ｓ４０Ｋ−ＡＣ（日産化学工業株式会社製、製品名）、ＳＺＲ−Ｋ（酸化ジルコニウムメチルエチルケトン分散液、堺化学工業株式会社製、製品名）、ＳＺＲ−Ｍ（酸化ジルコニウムメタノール分散液、堺化学工業株式会社製、製品名）として商業的に入手可能である。
【０１０１】
第二の層３０には、（Ｅ）成分として酸化チタンナノ粒子を含有させることも可能である。また、酸化チタンナノ粒子の中でも、粒度分布Ｄｍａｘが５０ｎｍ以下であることが好ましく、１０〜５０ｎｍがより好ましい。
【０１０２】
（Ｅ）成分として、上記金属酸化物粒子のほかに、例えばＭｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｂａ等の原子を含む酸化物粒子または硫化物粒子を用いることもできる。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用できる。
【０１０３】
本実施形態においては、粒子径が１５〜３０ｎｍである第一の金属酸化物粒子（以下、（Ｅ−１）成分ともいう）と、粒子径が３．３〜６．６ｎｍである第二の金属酸化物粒子（以下、（Ｅ−２）成分ともいう）とを含むことが好ましい。第二の層に、（Ｅ−１）成分及び（Ｅ−２）成分が配合されていることにより、第二の層中では粒子径が多きい（Ｅ−１）成分間に粒子径が小さい（Ｅ−２）成分が存在する粒子充填構造が形成されやすくなる。
【０１０４】
なお、金属酸化物粒子の粒子径は、レーザー回折式粒度分布計等によって測定することができる。
【０１０５】
本実施形態において、現像性を更に向上させる観点から、第一の金属酸化物粒子の平均粒子径Ｍ１に対する第二の金属酸化物粒子の平均粒子径Ｍ２の比Ｍ２／Ｍ１が、０．１０〜０．４４であることが好ましく、０．１５〜０．４０であることがより好ましく、０．２０〜０．３５であることが更に好ましい。
【０１０６】
なお、粒子の平均粒子径は、レーザー回折式粒度分布計等の粒度分布測定装置によって測定することができる。
【０１０７】
本実施形態において、第二の層における金属酸化物粒子の含有量は、骨見え現象の低減と、現像性との両立の観点から、２５〜５０体積％であることが好ましく、３０〜５０体積％であることがより好ましく、３５〜５０体積％であることが更に好ましい。
【０１０８】
第二の層における金属酸化物粒子の体積％は、以下のようにして求めることができる。例えば、第二の層に含まれる金属酸化物粒子が１種類の組成のみ（例えば、酸化ジルコニウムのみ）の場合、第二の層における金属酸化物粒子以外の成分（例えば、樹脂等の有機成分）の質量及び密度をそれぞれＭｏ及びＤｏとし、金属酸化物粒子の質量及び密度をそれぞれＭ１及びＤ１とすると、下記の式から金属酸化物粒子の体積％が求められる。
金属酸化物粒子の体積％＝（Ｍ１／Ｄ１）×１００／［（Ｍｏ／Ｄｏ）＋（Ｍ１／Ｄ１）］
なお、金属酸化物粒子の密度は、理科年表等の物性値を用いることができる。
また、第二の層に含まれる金属酸化物粒子が（Ｅ−１）成分及び（Ｅ−２）成分のみであり、（Ｅ−１）成分と（Ｅ−２）成分とが異なる金属酸化物である場合は、以下のようにして第二の層における金属酸化物粒子の体積％を求めることができる。
金属酸化物粒子の体積％＝［（Ｍ１／Ｄ１）＋（Ｍ２／Ｄ２）］×１００／［（Ｍｏ／Ｄｏ）＋（Ｍ１／Ｄ１）＋（Ｍ２／Ｄ２）］
式中、Ｍ１及びＤ１は、第二の層における金属酸化物粒子以外の成分（例えば、樹脂等の有機成分）の質量及び密度を示し、Ｍ１及びＤ１は、（Ｅ−１）成分の質量及び密度を示し、Ｍ２及びＤ２は、（Ｅ−２）成分の質量及び密度を示す。
【０１０９】
現像性を向上させる観点から、第二の層における上記（Ｅ−１）成分の含有量が、１５〜４０体積％であることが好ましく、１６〜３９体積％であることがより好ましく、１７〜３８体積％であることが更に好ましい。
【０１１０】
現像性を向上させる観点から、第二の層における上記（Ｅ−２）成分の含有量が、２〜１０体積％であることが好ましく、２〜８体積％であることがより好ましく、２〜６体積％であることが更に好ましい。
【０１１１】
現像性を更に向上させつつ骨見え現象を抑制する観点から、第二の層における上記（Ｅ−１）成分に対する上記（Ｅ−２）成分の体積比［（Ｅ−２）／（Ｅ−１）］が０．０５〜０．４０であることが好ましく、０．１０〜０．４０であることがより好ましく、０．１０〜０．３０であることが更に好ましい。
【０１１２】
第二の層には、上記金属酸化物粒子の他に、例えばトリアジン環を有する化合物、イソシアヌル酸骨格を有する化合物、フルオレン骨格を有する化合物等の有機化合物を用いることも可能である。これにより波長６３３ｎｍにおける屈折率を向上させることができる。
【０１１３】
上記第二の層３０の厚みは、０．０１〜１μｍであってもよく、０．０３〜０．５μｍであることが好ましく、０．０４〜０．３μｍであることがより好ましく、０．０７〜０．２５μｍであることがさらに好ましく、０．０５〜０．２μｍであることが特に好ましい。厚みが０．０１〜１μｍであることにより、上述の画面全体の反射光強度をより低減することが可能となる。また、硬化後における第二の層の厚みも上記範囲内であることが好ましい。
【０１１４】
第二の層３０の屈折率は、第二の層が単層で、膜厚が膜厚方向で均一な場合、ＥＴＡ−ＴＣＭ（ＡｕｄｉｏＤｅｖ株式会社製、製品名）を用いて以下のように求めることができる。また、以下の測定は、２５℃の条件下で行う。
（１）第二の層を形成するための塗布液を、厚み０．７ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍのガラス基材上にスピンコーターで均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、第二の層を形成する。
（２）次いで、１４０℃に加熱した箱型乾燥機（三菱電機株式会社製、型番：ＮＶ５０−ＣＡ）内に３０分間静置し、第二の層を有する屈折率測定用試料を得る。
（３）次いで、得られた屈折率測定用試料について、ＥＴＡ−ＴＣＭ（ＡｕｄｉｏＤｅｖ株式会社製、製品名）にて波長６３３ｎｍにおける屈折率を測定する。
【０１１５】
単層の第一の層における屈折率も同様の方法で測定することができる。なお、転写型感光性フィルムの形態では、第二の層単層の屈折率を測定することは難しいため、第二の層の保護フィルム側の最表面層の値とする。
【０１１６】
（他の層）
本発明の転写型感光性フィルムは、本発明の効果が得られる範囲で、適宜選択した他の層を設けてもよい。前記他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、クッション層、酸素遮蔽層、剥離層、接着層等が挙げられる。転写型感光性フィルムは、これらの層を１種単独で有していてもよく、２種以上を有してもよい。また、同種の層を２以上有していてもよい。
【０１１７】
（保護フィルム）
保護フィルム４０としては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体のフィルム、及び、これらのフィルムとポリエチレンの積層フィルム等が挙げられる。
【０１１８】
保護フィルム４０の厚みは、５〜１００μｍが好ましいが、転写型感光性フィルム１をロール状に巻いて保管する観点から、７０μｍ以下であることが好ましく、６０μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以下であることがさらに好ましく、４０μｍ以下であることが特に好ましい。
【０１１９】
転写型感光性フィルム１における第一の層２０及び第二の層３０を硬化させた硬化膜部分（支持フィルム１０及び保護フィルム４０を除く）の、波長４００〜７００ｎｍの可視光領域における全光線透過率（Ｔｔ）の最小値は、９０．００％以上であることが好ましく、９０．５０％以上であることがより好ましく、９０．７０％以上であることがさらに好ましい。一般的な可視光波長域である４００〜７００ｎｍにおける全光線透過率が９０．００％以上であれば、タッチパネル（タッチセンサー）のセンシング領域の透明電極を保護する場合において、センシング領域での画像表示品質、色合い、輝度が低下することを充分抑制することができる。
【０１２０】
転写型感光性フィルム１の第一の層２０、第二の層３０は、例えば、第一の層形成用塗布液、及び第二の層形成用塗布液を調製し、これを各々支持フィルム１０、保護フィルム４０上に塗布、乾燥することで形成できる。そして、転写型感光性フィルム１は、第一の層２０が形成された支持フィルム１０と、第二の層３０が形成された保護フィルム４０とを、第一の層２０と第二の層３０とが対向した状態で貼り合わせることにより形成できる。また、転写型感光性フィルム１は、支持フィルム１０上に第一の層形成用塗布液を含有する塗布液を塗布、乾燥し、その後、第一の層２０上に、第二の形成用塗布液を塗布、乾燥し、保護フィルム４０を貼り付けることにより形成することもできる。
【０１２１】
塗布液は、上述した本実施形態に係る感光性樹脂組成物、第二の層を構成する各成分を溶剤に均一に溶解又は分散することにより得ることができる。
【０１２２】
塗布液として用いる溶剤は、特に制限は無く、公知のものが使用できる。具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチレングリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、クロロホルム、塩化メチレン等が挙げられる。
【０１２３】
塗布方法としては、ドクターブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。
【０１２４】
乾燥条件に特に制限は無いが、乾燥温度は、６０〜１３０℃とすることが好ましく、乾燥時間は、０．５〜３０分とすることが好ましい。
【０１２５】
本実施形態に係る転写型感光性フィルムは、各種電子部品における保護膜の形成に適用することができる。本実施形態に係る電子部品は、転写型感光性フィルムを用いて形成した硬化膜パターンを備えている。電子部品としては、タッチセンサー、タッチパネル、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッサンス、太陽電池モジュール、プリント配線板、電子ペーパ等が挙げられる。
【０１２６】
［硬化膜パターンの形成方法］
本実施形態の硬化膜パターンの形成方法は、電極パターンを有する基材上に、上述した本実施形態の転写型感光性フィルムの第一の層及び第二の層を、基材の電極パターンが設けられている側と第二の層とが密着するようにラミネートする工程と、基材上の第一の層及び第二の層の所定部分を露光後、所定部分以外を除去し、電極パターンの一部又は全部を被覆する硬化膜パターンを形成する工程とを備える。
【０１２７】
図２は、本発明の一実施形態に係る転写型感光性フィルムを用いて形成した硬化膜を透明電極パターン付き基材上に備える積層体を示す模式断面図である。図２に示される積層体１００は、透明電極パターン５０ａを有する透明電極パターン付き基材５０と、透明電極パターン付き基材５０の透明電極パターン５０ａ上に設けられた硬化膜６０とを備える。硬化膜６０は、硬化した第一の層２２及び硬化した第二の層３２からなる樹脂硬化膜であり、本実施形態の転写型感光性フィルム１を用いて形成されている。硬化膜６０は、透明電極パターン５０ａの保護機能と、透明電極パターン５０ａの不可視化又はタッチ画面の視認性向上の両機能を満たす。以下、透明電極パターン付き基材上に硬化膜が形成された積層体の製造方法の一実施形態について説明する。
【０１２８】
−ラミネート工程−
まず、転写型感光性フィルム１の保護フィルム４０を除去した後、第二の層３０、第一の層２０及び支持フィルム１０を、透明電極パターン付き基材５０表面に第二の層３０側から圧着することによりラミネート（転写）する。圧着手段としては、圧着ロールが挙げられる。圧着ロールは、加熱圧着できるように加熱手段を備えたものであってもよい。
【０１２９】
加熱圧着する場合の加熱温度は、第二の層３０と透明電極パターン付き基材５０との密着性の観点、及び、第一の層２０又は第二の層３０の構成成分が熱硬化又は熱分解されにくいようにする観点から、１０〜１６０℃とすることが好ましく、２０〜１５０℃とすることがより好ましく、３０〜１５０℃とすることがさらに好ましい。
【０１３０】
また、加熱圧着時の圧着圧力は、第二の層３０と透明電極パターン付き基材５０との密着性を充分確保しながら、透明電極パターン付き基材５０の変形を抑制する観点から、線圧で５０〜１×１０５Ｎ／ｍとすることが好ましく、２．５×１０２〜５×１０４Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５×１０２〜４×１０４Ｎ／ｍとすることがさらに好ましい。
【０１３１】
転写型感光性フィルム１を上記のように加熱圧着すれば、透明電極パターン付き基材５０の予熱処理は必ずしも必要ではないが、第二の層３０と透明電極パターン付き基材５０との密着性をさらに向上させる点から、透明電極パターン付き基材５０を予熱処理してもよい。このときの処理温度は、３０〜１５０℃とすることが好ましい。
【０１３２】
（基材）
透明電極パターン付き基材５０を構成する基材としては、例えばタッチパネル（タッチセンサー）に用いられる、ガラス板、プラスチック板、セラミック板等の基材が挙げられる。本実施形態の電極パターンを有する基材の基材としては、上記材質からなるタッチパネル用基材を用いることができる。
【０１３３】
（透明電極及び金属配線）
透明電極は、例えばＩＴＯ及びＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ、酸化インジウム−酸化亜鉛）等の導電性金属酸化膜を用いて、形成することができる。また透明電極は、銀繊維及びカーボンナノチューブなどの導電性繊維を用いた光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて、形成することもできる。金属配線は、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｏ、Ｃなどの導電性材料を用いて、スクリーン印刷、蒸着などの方法により形成することができる。また、基材上には、基材と電極との間に絶縁層又はインデックスマッチング層が設けられていてもよい。インデックスマッチング層は、上述した第二の層３０と同様の組成を有していてもよい。
【０１３４】
−露光工程−
次に、転写後の第一の層及び第二の層の所定部分に、フォトマスクを介して、活性光線をパターン状に照射する。活性光線を照射する際、第一の層及び第二の層上の支持フィルム１０が透明の場合には、そのまま活性光線を照射することができ、不透明の場合には除去してから活性光線を照射する。活性光線の光源としては、公知の活性光源を用いることができる。なお、本明細書においてパターンとは、回路を形成する微細配線の形状にとどまらず、他基材との接続部のみを矩形に除去した形状及び基材の額縁部のみを除去した形状等も含まれる。
【０１３５】
活性光線の照射量は、１×１０２〜１×１０４Ｊ／ｍ２であり、照射の際に、加熱を伴うこともできる。この活性光線の照射量が、１×１０２Ｊ／ｍ２以上であれば、第一の層及び第二の層の光硬化を充分に進行させることが可能となり、１×１０４Ｊ／ｍ２以下であれば第一の層及び第二の層が変色することを抑制できる傾向がある。
【０１３６】
続いて、活性光線照射後の第一の層及び第二の層の未露光部を現像液で除去して、透明電極の一部又は全部を被覆する硬化膜（屈折率調整パターン）６０を形成する。なお、活性光線の照射後、第一の層及び第二の層に支持フィルム１０が積層されている場合にはそれを除去した後、現像工程が行われる。
【０１３７】
現像工程は、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶剤等の公知の現像液を用いて、スプレー、シャワー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッビング等の公知の方法により行うことができる。中でも、環境、安全性の観点からアルカリ水溶液を用いて、スプレー現像することが好ましい。なお、現像温度及び時間は従来公知の範囲で調整することができる。
【０１３８】
［積層体］
本実施形態の積層体は、電極パターンを有する基材と、電極パターン上に設けられた硬化膜とを有する積層体であって、硬化膜は、基材側に金属酸化物粒子を含有する領域を有し、金属酸化物粒子が、粒子径が１５〜３０ｎｍである第一の金属酸化物粒子と、粒子径が３．３〜６．６ｎｍである第二の金属酸化物粒子とを含み、上記領域における金属酸化物粒子の含有量が２５〜５０体積％であってもよい。
【０１３９】
上記の積層体は、上述した本実施形態の転写型感光性フィルムを用いる積層体の製造方法によって得ることができる。金属酸化物粒子を含有する領域は、例えば、図２に示される硬化した第二の層３２によって形成され得る。
【０１４０】
本実施形態の積層体において、第一の金属酸化物粒子の平均粒子径Ｍ１に対する第二の金属酸化物粒子の平均粒子径Ｍ２の比Ｍ２／Ｍ１は、０．１０〜０．４４であってもよく、０．１５〜０．４０であってもよく、０．２０〜０．３５であってもよい。
【０１４１】
また、金属酸化物粒子を含有する領域における金属酸化物粒子の含有量は、２５〜５０体積％であってもよく、３０〜５０体積％であってもよく、３５〜５０体積％であってもよい。
【０１４２】
金属酸化物粒子を含有する領域における上記（Ｅ−１）成分の含有量は、１５〜４０体積％であってもよく、１６〜３９体積％であってもよく、１７〜３８体積％であってもよい。
【０１４３】
金属酸化物粒子を含有する領域における上記（Ｅ−２）成分の含有量は、２〜１０体積％であってもよく、２〜８体積％であってもよく、２〜６体積％であってもよい。
【０１４４】
金属酸化物粒子を含有する領域における上記（Ｅ−１）成分に対する上記（Ｅ−２）成分の体積比［（Ｅ−２）／（Ｅ−１）］は、０．０５〜０．４０であってもよく、０．１０〜０．４０であってもよく、０．１０〜０．３０であってもよく。
【０１４５】
［タッチパネル］
本実施形態のタッチパネルは、本実施形態の転写型感光性フィルムを用いて得られる積層体又は上記の本実施形態に係る積層体を備え、基材がタッチパネル用基材である。本実施形態のタッチパネルは、例えば、図２に示される積層体１００を有するタッチセンサーを備えることができる。タッチセンサーをタッチパネル等のモジュールにする際には、カバーガラスと積層体１００を接着するＯＣＡを用いることができる。
【０１４６】
図３は、本発明の一実施形態に係るタッチパネルを示す模式上面図である。図３には、静電容量式のタッチパネルの一例を示す。図３に示されるタッチパネルは、透明基材１０１の片面にタッチ位置座標を検出するためのタッチ画面１０２があり、この領域の静電容量変化を検出するための透明電極１０３及び透明電極１０４が透明基材１０１上に設けられている。
【０１４７】
透明電極１０３及び透明電極１０４はそれぞれタッチ位置のＸ位置座標及びＹ位置座標を検出する。
【０１４８】
透明基材１０１上には、透明電極１０３及び透明電極１０４からタッチ位置の検出信号を外部回路に伝えるための引き出し配線１０５が設けられている。また、引き出し配線１０５と、透明電極１０３及び透明電極１０４とは、透明電極１０３及び透明電極１０４上に設けられた接続電極１０６により接続されている。また、引き出し配線１０５の透明電極１０３及び透明電極１０４との接続部と反対側の端部には、外部回路との接続端子１０７が設けられている。
【０１４９】
図３に示すように、本実施形態に係るタッチパネルにおいては、本実施形態の転写型感光性フィルムを用いて、透明電極パターンが形成された部分と、形成されていない部分にまたがって硬化膜パターン１２３が形成されている。硬化膜パターン１２３は、硬化した第一の層及び硬化した第二の層からなる。この硬化膜パターン１２３によれば、透明電極１０３、透明電極１０４、引き出し配線１０５、接続電極１０６及び接続端子１０７を保護する機能と、透明電極パターンから形成されるセンシング領域（タッチ画面）１０２の骨見え現象防止機能とを同時に奏することができる。本実施形態に係るタッチパネルは、本実施形態の転写型感光性フィルムが用いられることにより、接続端子１０７上には現像残渣の発生が充分に低減され、接続端子における接続不良などの問題が発生しにくいものになり得る。
【実施例】
【０１５０】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１５１】
＜バインダーポリマー溶液の作製＞
（バインダーポリマーＡ）
反応容器中に１−メトキシ−２−プロパノール（ダイセル化学工業株式会社製）８５．７質量部を加えて８０℃に昇温した。また、別途、メタクリル酸１７．５質量部、メタクリル酸エチル５０．５質量部、アクリル酸エチル３２．０質量部及びアゾ系重合開始剤（和光純薬工業株式会社製、商品名：Ｖ−６０１）０．６質量部を混合して混合溶液を得た。窒素ガス雰囲気下、８０℃で前記反応容器中にこの混合溶液を２時間かけて滴下した。滴下後４時間反応させて樹脂溶液を得た。
【０１５２】
次いで、上記で得られた樹脂溶液にハイドロキノンモノメチルエーテル２．５質量部及びテトエチルアンモニウムブロマイド８．４質量部を加えた後、空気を吹き込みながら８０℃で４時間反応させた。そして、固形分濃度が４５質量％になるように、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを添加して、バインダーポリマーＡを含むバインダーポリマー溶液を得た。バインダーポリマーＡの重量平均分子量及び酸価を下記方法で求めた結果、重量平均分子量は６４０００であり、酸価は１１７ｍｇＫＯＨであった。
【０１５３】
［重量平均分子量の測定方法］
重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより導出した。ＧＰＣの測定条件を以下に示す。
｛ＧＰＣ測定条件｝
ポンプ：日立  Ｌ−６０００型（株式会社日立製作所製、商品名）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４２０、Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４３０、Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４４０（以上、日立化成株式会社製、商品名）
溶離液：テトラヒドロフラン
測定温度：４０℃
流量：２．０５ｍＬ／分
検出器：日立  Ｌ−３３００型ＲＩ（株式会社日立製作所製、商品名）
【０１５４】
［酸価の測定方法］
酸価は、下記のとおり、ＪＩＳ  Ｋ００７０に基づいた中和滴定法により測定した。まず、バインダーポリマー溶液を１３０℃で１時間加熱して揮発分を除去することにより固形分（不揮発分）を得た。そして、当該固形分のバインダーポリマー１ｇを精秤した後、このバインダーポリマーにアセトンを３０ｇ添加して均一に溶解することにより樹脂溶液を得た。次いで、指示薬であるフェノールフタレインを樹脂溶液に適量添加した後、０．１ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウム水溶液を用いて中和滴定を行った。そして、次式により酸価を算出した。
酸価＝０．１×Ｖ×ｆ１×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ／１００）
［式中、Ｖは、滴定に用いた０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウム水溶液の滴定量（ｍＬ）を示し、ｆ１は、０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウム水溶液のファクター（濃度換算係数）を示し、Ｗｐは、樹脂溶液の質量（ｇ）を示し、Ｉは、樹脂溶液中の固形分の割合（質量％）を示す。］
【０１５５】
＜第１の層形成用塗布液の調製＞
溶剤と、表１の各成分（配合量の単位：質量部）とを混合した後、攪拌機を用いて１５分間混合して第１の層形成用塗布液を調製した。溶剤は、バインダーポリマー及び光重合性化合物の合計１００質量部に対して、メチルエチルケトン１００質量部を用いた。
【０１５６】
＜第２の層形成用塗布液の調製＞
溶剤と、表１に示す成分（配合量の単位：質量部）を混合した後、攪拌機を用いて１５分間混合して第２の層形成用塗布液を調製した。溶剤は、金属酸化物粒子の合計１２０質量部に対して、プロピレングリコールモノメチルエーテル２００質量部を用いた。
【０１５７】
【表１】
2019215395.tif 000008
【０１５８】
表１中の成分の記号は以下の意味を示す。
【０１５９】
［（Ａ）成分：バインダーポリマー］
バインダーポリマーＡ：上述の方法で作製したバインダーポリマーＡ
【０１６０】
［（Ｂ）成分：光重合性化合物］
Ａ−ＤＣＰ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名）
【０１６１】
［（Ｃ）成分：光重合開始剤］
ＯＸＥ−０１：１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）フェニル−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦ株式会社製、商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ−０１」）
Ｉｒｇ−ＴＰＯ：２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド（ＢＡＳＦ株式会社製、商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＴＰＯ」）
【０１６２】
［（Ｄ）成分：防錆剤］
Ｂ６０３０：５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール（千代田ケミカル株式会社製、商品名）
【０１６３】
［（Ｅ）成分：金属酸化物粒子］
（Ｅ−１）成分
ＺｒＯ２−１：酸化ジルコニウム粒子（平均粒径１８ｎｍ）、粒子径が１５〜３０ｎｍの粒子含有量：９８（質量％）
ＴｉＯ２−１：酸化チタン粒子（平均粒径１９ｎｍ）、粒子径が１５〜３０ｎｍの粒子含有量：９８（質量％）
（Ｅ−２）成分
ＺｒＯ２−２：酸化ジルコニウム粒子（平均粒径３．８ｎｍ）、粒子径が３．３〜６．６ｎｍの粒子含有量：８６（質量％）
ＴｉＯ２−２：酸化チタン粒子（平均粒径４．４ｎｍ）、粒子径が３．３〜６．６ｎｍの粒子含有量：８９（質量％）
【０１６４】
［その他の成分］
（密着助剤）
ＰＭ−２１：エチレン性不飽和基を有するリン酸エステル（日本化薬株式会社製、商品名）
（レベリング剤）ＡＤＤＩＴＩＶＥ８０３２：オクタメチルシクロテトラシロキサン（東レ・ダウコーニング株式会社製、商品名）
（重合禁止剤）ＡＷ５００：２，２’−メチレン−ビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）（川口化学株式会社製、商品名）
【０１６５】
＜転写型感光性フィルムの作製＞
支持フィルムとして厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ株式会社製、商品名：ＦＢ４０）を準備した。コンマコーターを用いて第１の層形成用塗布液を支持フィルム上に均一に塗布した後、１００℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去することにより、厚さ８μｍの第１の層を備える積層体１を得た。
【０１６６】
保護フィルムとして厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（王子エフテックス株式会社製、商品名：ＥＳ−２０１）を準備した。ダイコーターを用いて第２の層形成用塗布液を保護フィルム上に均一に塗布した後、１１０℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去することにより、厚さ０．１μｍの第２の層を備える積層体２を得た。
【０１６７】
次いで、ラミネータ（日立化成株式会社製、商品名：ＨＬＭ−３０００型）を用いて、積層体１の第１の層と積層体２の第２の層とを２３℃で貼り合わせて、支持フィルム、第１の層、第２の層、及び保護フィルムがこの順で積層された転写型感光性フィルムを作製した。
【０１６８】
＜第２の層の特性＞
第２の層に含まれる各成分の体積量について、各成分の配合量及び密度の情報に基づき算出した。
【０１６９】
具体的には、金属酸化物粒子の密度は下記の値を用いた。
酸化ジルコニウム：５．６８
酸化チタン：４．２３
また、第２の層に含まれる溶剤を除く有機成分の密度をアルキメデス法により測定したところ、密度は１．１であった。この密度の値Ｄｏと、金属酸化物粒子の密度とを用いて、第２の層に含まれる有機成分の質量Ｍｏ及び第２の層に含まれる金属酸化物粒子の質量Ｍｍを体積量（体積部）に換算した。これらの値から、第２の層に含まれる金属酸化物粒子の体積割合（％）を算出した。
【０１７０】
【表２】
2019215395.tif 000009
【０１７１】
＜現像残渣の評価＞
実施例及び比較例で得られた転写型感光性フィルムを、ＣｕスパッタＰＥＴフィルム（尾池工業（株）社製）上に真空ラミネートした後、１％Ｎａ２ＣＯ３を３０℃で４０秒間スプレーすることにより現像を行った。
【０１７２】
次いで、目視で現像残渣による基材表面上の変色の有無を下記の５段階で評価した。観察結果を表２に示す。
５：変色が見られない。
４：部分的に薄い変色部分がある
３：全面に変色部分がある
２：現像残りがあり、全体の２０％以下
１：現像残りがあり、全体の２０％以上
【０１７３】
＜骨見え現象の評価＞
評価用の基材（ＩＴＯ基材）を用意した。この基材上に、実施例及び比較例で得られた転写型感光性フィルムの保護フィルムを剥離しながら、第二の層を基材に対向させ、１１０℃、０．４ｍ／ｍｉｎ、０．４ＭＰａの条件でラミネートした。
【０１７４】
ラミネート後、基材を冷却し、基材の温度が２３℃になった時点で、支持フィルム側から高圧水銀灯を有する露光機（株式会社オーク製作所製、商品名：ＥＸＭ−１２０１）を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で光照射した。次に、支持フィルムを除去し、１４０℃で３０分間加熱するアニーリングを行った。
【０１７５】
上記で得られたアニーリング後のサンプルをブラックボード上に固定し、光を斜めから当てて、目視にて観察し、下記の基準で評価した。
Ａ：パターンが見えない又は見にくい。
Ｆ：パターンが見える。
【符号の説明】
【０１７６】
１…転写型感光性フィルム、１０…支持フィルム（仮支持体）、２０…第一の層、２２…硬化した第一の層、３０…第二の層、３２…硬化した第二の層、４０…保護フィルム、５０…透明電極パターン付き基材、５０ａ…透明電極パターン、６０…硬化膜、１００…積層体、１０１…透明基材、１０２…センシング領域、１０３，１０４…透明電極、１０５…引き出し配線、１０６…接続電極、１０７…接続端子、１２３…硬化膜パターン。
【図１】
2019215395.tif 000010
【図２】
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【図３】
2019215395.tif 000012