(57)【要約】      （修正有）【課題】樹脂の重合成分などとして利用できる新規な化合物を提供する。【解決手段】式（１）で表される化合物。2019006685.tif 000017（Ｒ１及びＲ２は夫々独立して置換基、Ｒ３は夫々独立してヒドロキシル基、基［−ＯＲ４］又はハロゲン原子；Ｒ４は炭化水素基；ｍ１は夫々独立して０〜４の整数；ｍ２は０〜２の整数；ｎは１以上の整数）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で表される化合物。
【化１】
2019006685.tif 000012
［式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して置換基、Ｒ３はそれぞれ独立してヒドロキシル基、基［−ＯＲ４］（式中、Ｒ４は炭化水素基を示す）又はハロゲン原子、ｍ１はそれぞれ独立して０〜４の整数、ｍ２は０〜２の整数、ｎは１以上の整数を示す。］
【請求項２】
式（１）において、Ｒ１及びＲ２がそれぞれ独立して基［−Ｒ５］、基［−ＯＲ５］、基［−ＳＲ５］、基［−（Ｃ＝Ｏ）−Ｒ５］、基［−（Ｃ＝Ｏ）−ＯＲ５］（式中、Ｒ５はそれぞれ炭化水素基を示す）、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又は置換アミノ基、ｍ１がそれぞれ独立して０〜２の整数、ｍ２が０又は１、ｎが１〜６の整数である請求項１記載の化合物。
【請求項３】
下記式（２）で表される化合物と、下記式（３）で表される化合物とを、塩基の存在下で反応させて、請求項１又は２記載の化合物を製造する方法。
【化２】
2019006685.tif 000013
（式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、ｍ１、ｍ２及びｎは請求項１記載の式（１）に同じ。）
【請求項４】
ジカルボン酸単位（Ａ）とジオール単位（Ｂ）とで形成されたポリエステル樹脂であって、ジカルボン酸単位（Ａ）が、下記式（Ａ１）で表される第１のジカルボン酸単位（Ａ１）を少なくとも含むポリエステル樹脂。
【化３】
2019006685.tif 000014
（式中、Ｒ１、Ｒ２、ｍ１、ｍ２及びｎは請求項１記載の式（１）に同じ。）
【請求項５】
式（Ａ１）において、Ｒ１及びＲ２がそれぞれ独立して基［−Ｒ５］、基［−ＯＲ５］、基［−ＳＲ５］、基［−（Ｃ＝Ｏ）−Ｒ５］、基［−（Ｃ＝Ｏ）−ＯＲ５］（式中、Ｒ５はそれぞれ炭化水素基を示す）、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又は置換アミノ基、ｍ１がそれぞれ独立して０〜２の整数、ｍ２が０又は１、ｎが１〜６の整数である請求項４記載のポリエステル樹脂。
【請求項６】
ジオール単位（Ｂ）が、下記式（Ｂ１）で表される第１のジオール単位（Ｂ１）を含む請求項４又は５記載のポリエステル樹脂。
【化４】
2019006685.tif 000015
（式中、Ｚはそれぞれ独立してアレーン環、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立して置換基、Ａ１はそれぞれ独立して直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、ｐはそれぞれ独立して０〜４の整数、ｑはそれぞれ独立して０以上の整数、ｒはそれぞれ独立して０以上の整数を示す。）
【請求項７】
式（Ｂ１）において、Ｚがそれぞれ独立してＣ６−１４アレーン環、Ｒ６がそれぞれ独立して炭化水素基、シアノ基又はハロゲン原子、Ｒ７がそれぞれ独立して基［−Ｒ８］、基［−ＯＲ８］、基［−ＳＲ８］、基［−（Ｃ＝Ｏ）−Ｒ８］（式中、Ｒ８はそれぞれ炭化水素基を示す）、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又は置換アミノ基、Ａ１がそれぞれ独立して直鎖状又は分岐鎖状Ｃ２−６アルキレン基、ｐがそれぞれ独立して０〜２の整数、ｑがそれぞれ独立して０〜２の整数、ｒがそれぞれ独立して０〜１０の整数である請求項４〜６のいずれかに記載のポリエステル樹脂。
【請求項８】
ジオール単位（Ｂ）が、下記式（Ｂ２）で表される第２のジオール単位（Ｂ２）をさらに含み、第１のジオール単位（Ｂ１）及び第２のジオール単位（Ｂ２）との割合が、前者／後者（モル比）＝５０／５０〜９９／１である請求項６又は７記載のポリエステル樹脂。
【化５】
2019006685.tif 000016
（式中、Ａ２は直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、ｓは１以上の整数を示す。）
【請求項９】
請求項４〜８のいずれかに記載のポリエステル樹脂で成形された成形体。
【請求項１０】
光学フィルム又は光学レンズである請求項９記載の成形体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、トリプチセン骨格（９，１０−ジヒドロ−９，１０−ｏ−ベンゼノアントラセン骨格）を有する新規化合物及びその製造方法、並びに前記化合物を用いた新規なポリエステル樹脂及びその樹脂を含む成形体に関する。
【背景技術】
【０００２】
透明で機械的特性に優れている樹脂が光学用材料（光学部材又は透明部材）、例えば、コンパクトディスク、レンズ、自動車用ランプなどとして広く用いられている。このような透明樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、脂環式ポリオレフィン、ポリカーボネートなど汎用される。これらのうち、ポリメチルメタクリレートや脂環式ポリオレフィンは、高い透明性、低い複屈折を示し、色収差も少ない点では光学レンズなどに適しているものの、屈折率や耐熱性が低い傾向にある。また、ポリカーボネートは、透明性及び耐熱性に優れるものの、複屈折が大きいという欠点がある。従って、これらの透明樹脂では、高い耐熱性、高い屈折率及び低い複屈折を充足できず、光学部材としての用途が制限されるため、前記特性を高いレベルで充足できる樹脂材料の開発が進められている。
【０００３】
このような樹脂材料として、代表的には、ジオール成分としてビスフェニルフルオレン系化合物を主成分とした共重合ポリエステル樹脂などが提案されている。例えば、特開平７−１９８９０１号公報（特許文献１）には、芳香族ジカルボン酸成分と、所定割合の９，９−ビス（４−ヒドロキシＣ２−４アルコキシフェニル）フルオレン類及びＣ２−４脂肪族グリコールからなるジオール成分とを重合成分とする線状ポリエステル重合体が開示されている。このポリエステル樹脂は、屈折率が１．６０以上と高く、透明性及び耐熱性にも優れ、光学的異方性が小さいことなどが記載されている。この文献の実施例では、テレフタル酸及び／又はイソフタル酸成分と、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン及びエチレングリコールとを、所定割合で重合することにより、共重合ポリエステル樹脂を調製している。
【０００４】
この共重合ポリエステル樹脂では、高い耐熱性、高い屈折率及び低い複屈折をある程度達成できるものの、テレフタル酸成分などのジカルボン酸成分を重合成分に含むため、複屈折の低減には限界がある。
【０００５】
また、特許第３３３１１２１号公報（特許文献２）には、脂環族ジカルボン酸成分を含むジカルボン酸成分と、９，９−ビス（４−ヒドロキシＣ２−４アルコキシフェニル）フルオレン類を含むジオール成分とを重合成分とするポリエステル重合体が開示されている。
【０００６】
この文献の実施例では、２，６−デカリンジカルボン酸ジメチルを含むジカルボン酸成分と、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン及びエチレングリコールからなるジオール成分とを重合して、ポリエステル樹脂を調製している。
【０００７】
しかし、脂環族ジカルボン酸成分により、高い耐熱性と低い複屈折との両立は達成できるものの、屈折率が十分なものではなかった。
【０００８】
そのため、高い耐熱性、高い屈折率及び低い複屈折を充足するのは極めて困難であり、これらの特性をバランスよく改善できる新規な重合成分（モノマー）の開発が期待されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平７−１９８９０１号公報（特許請求の範囲、実施例、［００３５］）
【特許文献２】特許第３３３１１２１号公報（特許請求の範囲、実施例）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
従って、本発明の目的は、樹脂（ポリエステル樹脂など）の重合成分などとして利用できる新規な化合物及びその製造方法、並びに前記化合物を用いたポリエステル樹脂及び前記ポリエステル樹脂を含む成形体を提供することにある。
【００１１】
本発明の他の目的は、高い耐熱性、高い屈折率及び低い複屈折を充足した樹脂を形成できる新規な化合物及びその製造方法、並びに前記化合物を用いたポリエステル樹脂及び前記ポリエステル樹脂を含む成形体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、トリプチセン骨格を有する新規な化合物が、樹脂の重合成分などとして利用できることを見いだし、本発明を完成した。
【００１３】
すなわち、本発明の新規化合物は、下記式（１）で表される。
【００１４】
【化１】
2019006685.tif 000002
【００１５】
（式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して置換基、Ｒ３はそれぞれ独立してヒドロキシル基、基［−ＯＲ４］（式中、Ｒ４は炭化水素基を示す）又はハロゲン原子、ｍ１はそれぞれ独立して０〜４の整数、ｍ２は０〜２の整数、ｎは１以上の整数を示す）。
【００１６】
前記式（１）において、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して基［−Ｒ５］、基［−ＯＲ５］、基［−ＳＲ５］、基［−（Ｃ＝Ｏ）−Ｒ５］、基［−（Ｃ＝Ｏ）−ＯＲ５］（式中、Ｒ５はそれぞれ炭化水素基を示す）、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又は置換アミノ基、ｍ１はそれぞれ独立して０〜２程度の整数、ｍ２は０又は１、ｎは１〜６程度の整数であってもよい。
【００１７】
本発明は、下記式（２）で表される化合物と、下記式（３）で表される化合物とを、塩基の存在下で反応させて、前記式（１）で表される化合物を製造する方法を包含する。
【００１８】
【化２】
2019006685.tif 000003
【００１９】
（式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、ｍ１、ｍ２及びｎは前記式（１）に同じ）。
【００２０】
また、本発明は、ジカルボン酸単位（Ａ）とジオール単位（Ｂ）とで形成されたポリエステル樹脂であって、ジカルボン酸単位（Ａ）が、下記式（Ａ１）で表される第１のジカルボン酸単位（Ａ１）を少なくとも含むポリエステル樹脂も包含する。
【００２１】
【化３】
2019006685.tif 000004
【００２２】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、ｍ１、ｍ２及びｎは前記式（１）に同じ）。
【００２３】
前記式（Ａ１）において、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して基［−Ｒ５］、基［−ＯＲ５］、基［−ＳＲ５］、基［−（Ｃ＝Ｏ）−Ｒ５］、基［−（Ｃ＝Ｏ）−ＯＲ５］、（式中、Ｒ５はそれぞれ炭化水素基を示す）、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又は置換アミノ基、ｍ１はそれぞれ独立して０〜２程度の整数、ｍ２は０又は１、ｎは１〜６程度の整数であってもよい。
【００２４】
前記ジオール単位（Ｂ）は、下記式（Ｂ１）で表される第１のジオール単位（Ｂ１）を含んでいてもよい。
【００２５】
【化４】
2019006685.tif 000005
【００２６】
（式中、Ｚはそれぞれ独立してアレーン環、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立して置換基、Ａ１はそれぞれ独立して直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、ｐはそれぞれ独立して０〜４の整数、ｑはそれぞれ独立して０以上の整数、ｒはそれぞれ独立して０以上の整数を示す）。
【００２７】
前記式（Ｂ１）において、Ｚはそれぞれ独立してＣ６−１４アレーン環、Ｒ６はそれぞれ独立して炭化水素基、シアノ基又はハロゲン原子、Ｒ７はそれぞれ独立して基［−Ｒ８］、基［−ＯＲ８］、基［−ＳＲ８］、基［−（Ｃ＝Ｏ）−Ｒ８］（式中、Ｒ８はそれぞれ炭化水素基を示す）、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又は置換アミノ基、Ａ１はそれぞれ独立して直鎖状又は分岐鎖状Ｃ２−６アルキレン基、ｐはそれぞれ独立して０〜２程度の整数、ｑはそれぞれ独立して０〜２程度の整数、ｒはそれぞれ独立して０〜１０程度の整数であってもよい。
【００２８】
前記ジオール単位（Ｂ）は、下記式（Ｂ２）で表される第２のジオール単位（Ｂ２）をさらに含んでいてもよい。また、第１のジオール単位（Ｂ１）及び第２のジオール単位（Ｂ２）との割合は、例えば、前者／後者（モル比）＝５０／５０〜９９／１程度であってもよい。
【００２９】
【化５】
2019006685.tif 000006
【００３０】
（式中、Ａ２は直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、ｓは１以上の整数を示す）。
【００３１】
本発明は、前記ポリエステル樹脂で成形された成形体（例えば、光学フィルム又は光学レンズなど）も包含する。
【００３２】
なお、本明細書及び特許請求の範囲において、「ジカルボン酸単位」又は「ジカルボン酸成分由来の構成単位」は、対応するジカルボン酸の２つのカルボキシル基から、ＯＨ（ヒドロキシル基）を除いた単位（又は２価の基）を意味し、「ジカルボン酸成分」（ジカルボン酸成分として例示される化合物を含む）は、対応する「ジカルボン酸単位」と同義に用いる場合がある。また、同様に、「ジオール単位」又は「ジオール成分由来の構成単位」は、対応するジオール成分の２つのヒドロキシル基から、水素原子を除いた単位（又は２価の基）を意味し、「ジオール成分」（ジオール成分として例示される化合物を含む）は、対応する「ジオール単位」と同義に用いる場合がある。
【００３３】
また、本明細書及び特許請求の範囲において、「ジカルボン酸成分」とは、ジカルボン酸に加えて、そのエステル形成性誘導体［例えば、ジカルボン酸エステル（メチルエステル、エチルエステル、ｔ−ブチルエステルなどのＣ１−４アルキルエステル、好ましくはＣ１−２アルキルエステルなど）、ジカルボン酸ハライド（ジカルボン酸クロリドなど）、ジカルボン酸無水物など］を含む意味に用いる。なお、「エステル形成性誘導体」は、モノエステル（ハーフエステル）又はジエステルであってもよい。
【発明の効果】
【００３４】
本発明のトリプチセン骨格を有する新規な化合物は、樹脂（例えば、ポリエステル樹脂など）の重合成分などとして利用できる。前記化合物を重合成分とする樹脂は、高い耐熱性、高い屈折率及び低い複屈折を高いレベルで充足できる。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
［式（１）で表される化合物］
本発明のトリプチセン骨格（９，１０−ジヒドロ−９，１０−ｏ−ベンゼノアントラセン骨格）を有する新規化合物は、下記式（１）で表される。
【００３６】
【化６】
2019006685.tif 000007
【００３７】
（式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立して置換基、Ｒ３はそれぞれ独立してヒドロキシル基、基［−ＯＲ４］（式中、Ｒ４は炭化水素基を示す）又はハロゲン原子、ｍ１はそれぞれ独立して０〜４の整数、ｍ２は０〜２の整数、ｎは１以上の整数を示し、右側には、「有機化学・生化学命名法  上  改訂第２版」（訳著者：平山健三、平山和雄、発行所：株式会社南江堂）に記載の方法に従って付けたトリプチセン骨格の位置番号を示す）。
【００３８】
前記式（１）において、Ｒ１及びＲ２で表される置換基としては、例えば、基［−Ｒ５］（式中、Ｒは炭化水素基を示し、以下同じ）、基［−ＯＲ５］、基［−ＳＲ５］、基［−（Ｃ＝Ｏ）−Ｒ５］、基［−（Ｃ＝Ｏ）−ＯＲ５］、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又は置換アミノ基などが挙げられる。
【００３９】
Ｒ５（又は基［−Ｒ５］）で表される炭化水素基としては、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−デシル基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−１２アルキル基、好ましくは直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−８アルキル基など）；シクロアルキル基（例えば、シクロヘキシル基などのＣ５−１０シクロアルキル基、好ましくはＣ５−８シクロアルキル基など）；アリール基（例えば、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基等のＣ６−１４アリール基、好ましくはＣ６−１０アリール基など）；アルケニル基（例えば、エテニル基（ビニル基）、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−ブテニル基などのＣ２−１２アルケニル基、好ましくはＣ２−８アルケニル基など）；シクロアルケニル基（例えば、シクロヘキセニル基などのＣ５−１０シクロアルケニル基、好ましくはＣ５−８シクロアルケニル基など）；アルキニル基（例えば、エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基（プロパルギル基）、１−オクチニル基などのＣ２−１２アルキニル基、好ましくはＣ２−８アルキニル基など）；及びこれらを組み合わせた基［例えば、アルキルフェニル基（例えば、メチルフェニル基（トリル基）、ジメチルフェニル基（キシリル基）などのモノ乃至ペンタＣ１−４アルキル−Ｃ６−１０アリール基など）；アラルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基などのＣ６−１０アリール−Ｃ１−４アルキル基など）など］などが挙げられる。
【００４０】
基［−ＯＲ５］としては、例えば、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−１２アルコキシ基など）；シクロアルキルオキシ基（例えば、シクロヘキシルオキシ基などのＣ５−１０シクロアルキルオキシ基など）；アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基などのＣ６−１０アリールオキシ基など）；アラルキルオキシ基（例えば、ベンジルオキシ基などのＣ６−１０アリール−Ｃ１−４アルキルオキシ基など）などが挙げられる。
【００４１】
基［−ＳＲ５］としては、例えば、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基などのＣ１−１０アルキルチオ基など）；シクロアルキルチオ基（例えば、シクロヘキシルチオ基などのＣ５−１０シクロアルキルチオ基など）；アリールチオ基（例えば、チオフェノキシ基などのＣ６−１０アリールチオ基など）；アラルキルチオ基（例えば、ベンジルチオ基などのＣ６−１０アリール−Ｃ１−４アルキルチオ基など）などが挙げられる。
【００４２】
基［−（Ｃ＝Ｏ）−Ｒ５］としては、例えば、アシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基などのＣ１−８アシル基など）などが挙げられる。
【００４３】
基［−（Ｃ＝Ｏ）−ＯＲ５］としては、例えば、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基などのＣ１−１２アルコキシ−カルボニル基など）；シクロアルキルオキシキシカルボニル基（例えば、シクロヘキシルオキシカルボニル基などのＣ５−１０シクロアルキルオキシ−カルボニル基など）；アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基などのＣ６−１０アリールオキシ−カルボニル基など）などが挙げられる。
【００４４】
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。耐熱性の観点では、フッ素原子などが好ましい。
【００４５】
置換アミノ基としては、例えば、モノ置換アミノ基［例えば、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基などのＣ１−４アルキルアミノ基など）；アルキルカルボニルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基などのＣ１−４アルキル−カルボニルアミノ基など）など］；ジ置換アミノ基［例えば、ジアルキルアミノ基（例えば、ジメチルアミノ基などのジＣ１−４アルキルアミノ基など）；ビス（アルキルカルボニル）アミノ基（例えば、ジアセチルアミノ基などのビス（Ｃ１−４アルキル−カルボニル）アミノ基など）など］、好ましくはジアルキルアミノ基などのジ置換アミノ基などが挙げられる。
【００４６】
これらの基Ｒ１のうち、基［−Ｒ５］（例えば、メチル基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−４アルキル基、フェニル基などのＣ６−１０アルキル基など）、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など）が好ましい。
【００４７】
これらの基Ｒ２のうち、基［−Ｒ５］（例えば、メチル基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−４アルキル基など）、基［−ＯＲ５］（例えば、メトキシ基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−４アルコキシ基など）、ハロゲン原子（例えば、塩素原子など）が好ましい。
【００４８】
基Ｒ１の置換数ｍ１は、例えば、０〜３程度の整数、好ましくは０〜２程度の整数、さらに好ましくは０又は１、特に０である。トリプチセン骨格を構成する２つの異なるベンゼン環において、それぞれの置換数ｍ１は、互いに同一又は異なっていてもよい。また、前記異なるベンゼン環に置換する基Ｒ１の種類は、互いに異なっていてもよく、通常、同一である場合が多い。ｍ１が２以上である場合、同一のベンゼン環に置換する２以上の基Ｒ１の種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。また、基Ｒ１の置換位置は、特に制限されず、トリプチセン骨格の５−位乃至８−位、１３−位乃至１６−位のいずれの位置であってもよく、例えば、５−位、８−位、１３−位、１６−位などであってもよい。
【００４９】
基Ｒ２の置換数ｍ２は、例えば、０又は１であってもよく、好ましくは０である。ｍ２が２である場合、２つの基Ｒ２の種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。また、基Ｒ２の置換位置は、トリプチセン骨格の２−位及び／又は３−位である。
【００５０】
Ｒ３で表される基［−ＯＲ４］において、Ｒ４で表される炭化水素基は、前記Ｒ１及びＲ２の項に例示のＲ５で表される炭化水素基と同様のものが挙げられ、代表的な基［−ＯＲ４］も前記Ｒ１及びＲ２の項に例示の基［―ＯＲ５］と同様である。Ｒ３で表される基［−ＯＲ４］のうち、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−８アルコキシ基など）が好ましく、なかでも直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−６アルコキシ基（特に、メトキシ基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−４アルコキシ基）がさらに好ましい。
【００５１】
２つの基Ｒ３は、互いに異なっていてもよいが、通常、同一であることが多い。また、基Ｒ３のうち、調製が容易な点などから、通常、ヒドロキシル基、基［−ＯＲ４］（特に、基［−ＯＲ４］）である場合が多い。
【００５２】
メチレン基の繰り返し数ｎは、例えば、１〜１２（例えば、１〜１０）程度の整数から選択してもよく、例えば、１〜８（例えば、１〜６）程度の整数、好ましくは１〜４（例えば、１〜３）程度の整数、さらに好ましくは１又は２（特に、１）であってもよい。ｎが大きすぎると、重合成分として用いる場合などにおいて、得られる樹脂の耐熱性が低下するおそれがある。なお、２つのｎは、互いに異なっていてもよいが、通常、同一である場合が多い。
【００５３】
前記式（１）で表される化合物として、代表的には、基Ｒ３が基［−ＯＲ４］である化合物、例えば、１，４−ビス（メトキシカルボニルメトキシ）トリプチセン、１，４−ビス（エトキシカルボニルメトキシ）トリプチセン、１，４−ビス［２−（メトキシカルボニル）エトキシ］トリプチセンなどの１，４−ビス（Ｃ１−４アルコキシカルボニルＣ１−４アルコキシ）トリプチセンなど；基Ｒ３がヒドロキシル基である化合物、例えば、１，４−ビス（カルボキシメトキシ）トリプチセン、１，４−ビス（２−カルボキシエトキシ）トリプチセンなどの１，４−ビス（カルボキシＣ１−４アルコキシ）トリプチセンなど；基Ｒ３がハロゲン原子である化合物、例えば、１，４−ビス（クロロカルボニルメトキシ）トリプチセン、１，４−ビス（ブロモカルボニルメトキシ）トリプチセン、１，４−ビス［２−（クロロカルボニル）エトキシ］トリプチセンなどの１，４−ビス（ハロカルボニルＣ１−４アルコキシ）トリプチセンなどが挙げられる。
【００５４】
（式（１）で表される化合物の製造方法）
式（１）で表されるトリプチセン骨格を有する新規化合物は、例えば、下記反応式に従って調製できる。
【００５５】
【化７】
2019006685.tif 000008
【００５６】
（式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、ｍ１、ｍ２及びｎは前記式（１）と好ましい態様を含めて同じ）。
【００５７】
反応１（第１の反応）
第１の反応では、式（５）で表されるアントラセン類と、式（６）で表されるｐ−ベンゾキノン類とを反応させて、式（４）で表される化合物を合成する。式（５）で表されるアントラセン類としては、少なくとも９，１０−位が無置換であるアントラセン類、例えば、アントラセン、モノ乃至テトラアルキルアントラセン（例えば、２−ｔ−ブチルアントラセン、２，３−ジメチルアントラセンなどのモノ乃至ジＣ１−４アルキルアントラセンなど）などが挙げられる。式（６）で表されるｐ−ベンゾキノン類としては、少なくとも５，６−位が無置換であるｐ−ベンゾキノン類、例えば、ｐ−ベンゾキノン、アルキル−ｐ−ベンゾキノン（例えば、メチル−ｐ−ベンゾキノンなどのＣ１−４アルキル−ｐ−ベンゾキノンなど）、アルコキシ−ｐ−ベンゾキノン（例えば、メトキシ−ｐ−ベンゾキノンなどのＣ１−４アルコキシ−ｐ−ベンゾキノンなど）などが挙げられる。これらの式（５）で表されるアントラセン類及び式（６）で表されるｐ−ベンゾキノン類は、市販品を使用できる。
【００５８】
式（５）で表されるアントラセン類と、式（６）で表されるｐ−ベンゾキノン類との割合は、例えば、前者／後者（モル比）＝１／０．９〜１／１．５（例えば、１／０．９５〜１／１．３）、好ましくは１／０．９８〜１／１．２（例えば、１／１〜１／１．１）、さらに好ましくは１／１〜１／１．０５程度であってもよい。
【００５９】
反応は、通常、溶媒の存在下で行う場合が多い。溶媒としては、例えば、炭化水素類（例えば、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素類、シクロヘキサンなどの脂環族炭化水素類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類など）；ハロゲン化炭化水素類（例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化脂肪族炭化水素類、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼンなどのハロゲン化芳香族炭化水素類など）；エーテル類（例えば、ジイソプロピルエーテルなどの鎖状エーテル類、シクロペンチルメチルエーテルなどの脂環族エーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどの環状エーテル類など）；スルホキシド類（ジメチルスルホキシドなど）；アミド類（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなど）などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で又は２種以上組み合わせて使用することもできる。これらの溶媒のうち、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、クロロベンゼン、オルトジクロロベンゼンなどのハロゲン化芳香族炭化水素類（特にハロゲン化芳香族炭化水素類）が好ましい。
【００６０】
溶媒の割合は、前記アントラセン類及びｐ−ベンゾキノン類を溶解して、反応を効率よく進行できる程度であればよく、特に制限されない。そのため、溶媒の割合は、式（５）で表されるアントラセン類及び式（６）で表されるｐ−ベンゾキノン類の総量１００重量部に対して、例えば、１００〜１０００重量部程度であってもよい。
【００６１】
反応は、ルイス酸の存在下で行ってもよく、非存在下で行ってもよい。ルイス酸としては、例えば、ハロゲン化金属（例えば、ハロゲン化亜鉛、ハロゲン化鉄、ハロゲン化コバルト、ハロゲン化銅、ハロゲン化チタンなど）などが挙げられる。これらのルイス酸は、単独で又は２種以上組み合わせて使用することもできる。ルイス酸の割合は、式（５）で表されるアントラセン類１モルに対して、例えば、０．０１〜０．１モル、好ましくは０．０１〜０．０５モル程度であってもよい。
【００６２】
反応温度は、例えば、４０〜２００℃程度の範囲から選択でき、例えば、１００〜１８０℃、好ましくは１１０〜１５０℃、さらに好ましくは１２０〜１４０℃程度であってもよい。なお、反応は、溶媒の還流下で行ってもよい。また、反応時間は、例えば、１〜１２時間、好ましくは３〜６時間程度であってもよい。反応終了後、反応生成物は、洗浄、抽出、濃縮、ろ過、再沈殿、遠心分離、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの慣用の分離精製手段や、これらを組み合わせた方法により、分離精製してもよい。
【００６３】
反応２（第２の反応）
第２の反応では、第１の反応で得られた式（４）で表される化合物を、酸触媒の存在下で異性化させて、式（２）で表される化合物を合成する。
【００６４】
酸触媒としては、強酸であればよく、例えば、ハロゲン化水素、硫酸、リン酸などの無機酸、メタンスルホン酸などの有機酸などが挙げられる。これらの酸触媒は、単独で又は２種以上組み合わせて使用することもできる。これらの酸触媒のうち、ハロゲン化水素が好ましく、なかでも、塩化水素、臭化水素（特に臭化水素）などが好ましい。なお、酸は、水溶液の形態（例えば、塩化水素酸（塩酸）、臭化水素酸など）で用いてもよい。酸触媒の割合は、式（４）で表される化合物１モルに対して、例えば、０．０１〜０．２モル、好ましくは０．１〜０．２モル程度であってもよい。
【００６５】
反応は溶媒の存在下で行ってもよい。溶媒としては、例えば、酢酸、プロピオン酸などのカルボン酸類が使用できる。これらの溶媒は、単独で又は２種以上組み合わせて使用することもできる。これらの溶媒のうち、酢酸が好ましい。
【００６６】
溶媒の割合は、特に制限されず、式（４）で表される化合物１００重量部に対して、例えば、１００〜１０００重量部程度であってもよい。
【００６７】
反応温度は、例えば、４０〜２００℃（例えば、６０〜１８０℃）程度の範囲から選択でき、例えば、８０〜１５０℃、好ましくは１００〜１２０℃程度であってもよい。なお、反応は、溶媒の還流下で行ってもよい。また、反応時間は、例えば、０．２５〜３時間、好ましくは０．５〜１時間程度であってもよい。反応終了後、反応生成物は、洗浄、抽出、濃縮、ろ過、再沈殿、遠心分離、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの慣用の分離精製手段や、これらを組み合わせた方法により、分離精製してもよい。
【００６８】
反応３（第３の反応）
第３の反応では、第２の反応で得られた式（２）で表される化合物と、式（３）で表される化合物とを、塩基（捕捉剤又は酸捕捉剤）の存在下で反応させて、式（１）で表される化合物を合成する。
【００６９】
式（３）において、Ｘで表されるハロゲン原子としては、例えば、塩素原子、臭素原子などが挙げられ、特に、臭素原子が好ましい。また、基Ｒ３としては、通常、基[−ＯＲ４]（メトキシ基などのアルコキシ基（Ｃ１−４アルコキシ基など）など）などであることが多い。式（３）で表される化合物として代表的には、ハロアルカン酸アルキルエステル、例えば、ブロモ酢酸メチル、ブロモ酢酸エチル、３−ブロモプロピオン酸メチルなどのハロＣ２−７アルカン酸Ｃ１−６アルキルエステルなどが挙げられる。式（３）で表される化合物は、市販品などを使用できる。
【００７０】
式（２）で表される化合物と、式（３）で表される化合物との割合は、例えば、前者／後者（モル比）＝１／１．５〜１／５、好ましくは１／１．８〜１／３、さらに好ましくは１／２〜１／２．５程度であってもよい。
【００７１】
塩基としては、アミン類（例えば、トリエチルアミンなどのトリアルキルアミンなど）などの有機塩基であってもよいが、通常、無機塩基を用いることが多い。無機塩基としては、例えば、金属炭酸塩、金属重炭酸塩（又は金属炭酸水素塩）、金属水素化物などが挙げられる。これらの塩基は、単独で又は２種以上組み合わせて使用することもできる。これらの塩基のうち、無機塩基、なかでも、金属炭酸塩（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど）、金属重炭酸塩（例えば、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムなど）が好ましく、特に、炭酸カリウムなどの金属炭酸塩が好ましい。
【００７２】
塩基の割合は、式（２）で表される化合物１モルに対して、例えば、１．５〜５モル、好ましくは１．８〜３モル、さらに好ましくは２〜２．５モル程度であってもよい。
【００７３】
反応は、通常、溶媒の存在下で行うことが多い。溶媒としては、例えば、第１の反応において例示した溶媒と同様の溶媒などが挙げられる。これらの溶媒は、単独で又は２種以上組み合わせて使用することもできる。これらの溶媒のうち、エーテル類（テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテルなど）、スルホキシド類（ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（ＤＭＦ、ＤＭＡなど）などが好ましく、ＤＭＦなどのアミド類が汎用される。
【００７４】
溶媒の割合は、式（２）及び式（３）で表される化合物が溶解できれば特に制限されない。そのため、溶媒の割合は、式（２）で表される化合物及び式（３）で表される化合物の総量１００重量部に対して、例えば、１００〜１０００重量部程度であってもよい。
【００７５】
反応温度は、例えば、４０〜２００℃（例えば、５０〜１５０℃）程度の範囲から選択でき、例えば、６０〜１２０℃（例えば、６５〜１００℃）、好ましくは７０〜９０℃程度であってもよい。また、反応時間は、例えば、１〜１２時間、好ましくは４〜６時間程度であってもよい。反応終了後、反応生成物は、洗浄、抽出、濃縮、ろ過、再沈殿、遠心分離、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの慣用の分離精製手段や、これらを組み合わせた方法により、分離精製してもよい。
【００７６】
このようにして得られる式（１）で表される化合物は、種々の用途、例えば、樹脂（ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂など）の重合成分などとして有効に利用できる。
【００７７】
［ポリエステル樹脂］
前記式（１）で表される化合物は、樹脂の重合成分（単量体又はモノマ−）、例えば、ポリエステル樹脂の重合成分（例えば、ジカルボン酸単位を形成するためのジカルボン酸成分）として利用できる。
【００７８】
（ジカルボン酸単位（Ａ））
第１のジカルボン酸単位（Ａ１）
本発明のポリエステル樹脂は、ジカルボン酸単位（Ａ）とジオール単位（Ｂ）とで形成されたポリエステル樹脂であって、ジカルボン酸単位（Ａ）が、下記式（Ａ１）で表される第１のジカルボン酸単位（Ａ１）を少なくとも含んでいてもよい。
【００７９】
【化８】
2019006685.tif 000009
【００８０】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、ｍ１、ｍ２及びｎは、好ましい態様を含めて前記式（１）に同じ）。
【００８１】
前記式（Ａ１）において、基Ｒ１及びＲ２としては、通常、基［−Ｒ５］、基［−ＯＲ５］、基［−ＳＲ５］、基［−（Ｃ＝Ｏ）−Ｒ５］、基［−（Ｃ＝Ｏ）−ＯＲ５］、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又は置換アミノ基（例えば、基［−Ｒ５］、基［−ＯＲ５］、基［−ＳＲ５］、基［−（Ｃ＝Ｏ）−Ｒ５］、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又は置換アミノ基）である場合が多い。
【００８２】
代表的な第１のジカルボン酸単位（Ａ１）としては、前記式（１）の項に例示した代表的な化合物などの第１のジカルボン酸成分（Ａ１）に対応するジカルボン酸単位などが挙げられる。これらの第１のジカルボン酸単位（Ａ１）は、単独で又は２種以上組み合わせて使用することもできる。
【００８３】
このような第１のジカルボン酸単位（Ａ１）を含むことにより、屈折率及び耐熱性を向上しつつ（又は低下することなく）、複屈折を有効に低減できる。通常、芳香族骨格を樹脂に導入すると、屈折率や耐熱性を向上できるものの、複屈折も増加する傾向がある。しかし、本発明では、ベンゼン環骨格を３つも含む第１のジカルボン酸単位（Ａ１）を含むにもかかわらず、意外にも複屈折を有効に低減できるため、高い耐熱性、高い屈折率及び低い複屈折をバランスよく充足できる。
【００８４】
第１のジカルボン酸単位（Ａ１）の割合は、ジカルボン酸単位（Ａ）全体に対して、例えば、１〜１００モル％（例えば、１０〜１００モル％）程度の範囲から選択でき、例えば、２０モル％以上（例えば、３０〜９９モル％）、好ましくは４０モル％以上（例えば、５０〜９７モル％）、さらに好ましくは６０モル％以上（例えば、７０〜９５モル％）、特に８０モル％以上（例えば、９０モル％以上）であってもよく、実質的に１００モル％程度であってもよい。第１のジカルボン酸単位（Ａ１）の割合が少なすぎると、耐熱性や屈折率が低下したり、複屈折を低減できないおそれがある。
【００８５】
第２のジカルボン酸単位（Ａ２）
なお、ジカルボン酸単位（Ａ）は、本発明の効果を害しない範囲であれば、さらに他のジカルボン酸単位（第１のジカルボン酸単位の範囲に属さない第２のジカルボン酸単位（Ａ２））を含んでいてもよい。第２のジカルボン酸単位（Ａ２）を形成するための第２のジカルボン酸成分（Ａ２）としては、代表的には、例えば、脂肪族ジカルボン酸成分、脂環族ジカルボン酸成分、芳香族ジカルボン酸成分（ただし、第１のジカルボン酸成分を除く）などが挙げられる。
【００８６】
脂肪族ジカルボン酸成分としては、例えば、飽和脂肪族ジカルボン酸［シュウ酸、アルカンジカルボン酸（例えば、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、デカンジカルボン酸、ウンデカンジカルボン酸、ドデカンジカルボン酸、などのＣ１−１８アルカン−ジカルボン酸、好ましくはＣ１−１２アルカン−ジカルボン酸など）など］；不飽和脂肪族ジカルボン酸（例えば、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸などのＣ２−１０アルケン−ジカルボン酸など）；及びこれらのエステル形成性誘導体などが挙げられる。
【００８７】
脂環族ジカルボン酸成分としては、例えば、飽和脂環族ジカルボン酸［例えば、シクロアルカンジカルボン酸（例えば、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸などのＣ５−１０シクロアルカン−ジカルボン酸）、架橋環式シクロアルカンジカルボン酸（例えば、デカリンジカルボン酸、ノルボルナンジカルボン酸、アダマンタンジカルボン酸、トリシクロデカンジカルボン酸などのジ又はトリシクロアルカンジカルボン酸など）など］；不飽和脂環族ジカルボン酸成分［例えば、シクロアルケンジカルボン酸（例えば、シクロヘキセンジカルボン酸などのＣ５−１０シクロアルケン−ジカルボン酸）；架橋環式シクロアルケンジカルボン酸（例えば、ノルボルネンジカルボン酸などのジ又はトリシクロアルケンジカルボン酸など）など］；及びこれらのエステル形成性誘導体などが挙げられる。
【００８８】
芳香族ジカルボン酸（ただし、第１のジカルボン酸成分を除く）としては、例えば、アレーンジカルボン酸、ジアリール骨格を有するジカルボン酸、フルオレン骨格を有するジカルボン酸などに大別できる。
【００８９】
アレーンジカルボン酸としては、例えば、ベンゼンジカルボン酸類［例えば、ベンゼンジカルボン酸（例えば、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸）；アルキルベンゼンジカルボン酸（例えば、メチルテレフタル酸、４−メチルイソフタル酸、５−メチルイソフタル酸などのＣ１−４アルキル−ベンゼンジカルボン酸など）など］；多環式アレーンジカルボン酸類｛例えば、縮合多環式アレーンジカルボン酸［例えば、ナフタレンジカルボン酸（例えば、１，２−ナフタレンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、１，６−ナフタレンジカルボン酸、１，７−ナフタレンジカルボン酸、１，８−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸などの異なる環に２つのカルボキシル基を有するナフタレンジカルボン酸；１，２−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸などの同一の環に２つのカルボキシル基を有するナフタレンジカルボン酸）、アントラセンジカルボン酸、フェナントレンジカルボン酸などの縮合多環式Ｃ１０−１８アレーン−ジカルボン酸、好ましくは縮合多環式Ｃ１０−１４アレーン−ジカルボン酸など］；環集合アレーンジカルボン酸（例えば、２，２’−ビフェニルジカルボン酸、３，３’−ビフェニルジカルボン酸、４，４’−ビフェニルジカルボン酸などのビＣ６−１０アレーン−ジカルボン酸など）など｝；及びこれらのエステル形成性誘導体などが挙げられる。
【００９０】
ジアリール骨格を有するジカルボン酸としては、例えば、ジアリールアルカンジカルボン酸（例えば、４，４’−ジフェニルメタンジカルボン酸などのジＣ６−１０アリールＣ１−６アルカン−ジカルボン酸など）；ジアリールケトンジカルボン酸［例えば、４．４’−ジフェニルケトンジカルボン酸などのジ（Ｃ６−１０アリール）ケトン−ジカルボン酸など］；及びこれらのエステル形成性誘導体などが挙げられる。
【００９１】
フルオレン骨格を有するジカルボン酸としては、例えば、９，９−ビス（カルボキシアルキル）フルオレン［例えば、９，９−ビス（２−カルボキシエチル）フルオレン、９，９−ビス（２−カルボキシプロピル）フルオレンなどの９，９−ビス（カルボキシＣ２−６アルキル）フルオレンなど］；９−（ジカルボキシアルキル）フルオレン［例えば、９−（１，２−ジカルボキシエチル）フルオレン、９−（２，３−ジカルボキシプロピル）フルオレンなどの９−（ジカルボキシＣ２−８アルキル）フルオレンなど］；９，９−ビス（カルボキシアリール）フルオレン［例えば、９，９−ビス（４−カルボキシフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス（カルボキシＣ６−１０アリール）フルオレンなど］；ジカルボキシフルオレン（例えば、２，７−ジカルボキシフルオレンなど）；９，９−ジアルキル−ジカルボキシフルオレン（例えば、２，７−ジカルボキシ−９，９−ジメチルフルオレンなどの９，９−ジＣ１−１０アルキル−ジカルボキシフルオレンなど）；及びこれらのエステル形成性誘導体などが挙げられる。
【００９２】
これらの第２のジカルボン酸単位（Ａ２）は、単独で又は２種以上組み合わせてもよい。これらの第２のジカルボン酸単位（Ａ２）を用いることにより、耐熱性、屈折率、複屈折などの特性を用途に応じて調整できる。これらの第２のジカルボン酸単位（Ａ２）のうち、低い複屈折が重要な用途では、脂環族ジカルボン酸単位、フルオレン骨格を有するジカルボン酸単位［例えば、９，９−ビス（カルボキシアルキル）フルオレン、９，９−ビス（カルボキシアリール）フルオレンなどに由来する単位など］が好ましく、高い屈折率及び耐熱性が重要な用途では、芳香族ジカルボン酸単位を好ましい。なお、ジカルボン酸単位（Ａ）は、脂肪族ジカルボン酸単位を含んでいなくてもよい。
【００９３】
第２のジカルボン酸単位（Ａ２）の割合は、ジカルボン酸単位（Ａ）全体に対して、例えば、５０モル％以下（例えば、０．１〜５０モル％）であってもよく、好ましくは３０モル％以下、さらに好ましくは１０モル％以下（例えば、５モル％以下）程度であってもよい。
【００９４】
（ジオール単位（Ｂ））
第１のジオール単位（Ｂ１）
ジオール単位（Ｂ）は、例えば、下記式（Ｂ１）で表される第１のジオール単位（Ｂ１）を含んでいてもよい。
【００９５】
【化９】
2019006685.tif 000010
【００９６】
（式中、Ｚはそれぞれ独立してアレーン環、Ｒ６及びＲ７はそれぞれ独立して置換基、Ａ１はそれぞれ独立して直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、ｐはそれぞれ独立して０〜４の整数、ｑはそれぞれ独立して０以上の整数、ｒはそれぞれ独立して０以上の整数を示す）。
【００９７】
前記式（Ｂ１）において、環Ｚで表されるアレーン環（芳香族炭化水素環）としては、例えば、ベンゼン環などの単環式アレーン環、多環式アレーン環などが挙げられ、多環式アレーン環には、縮合多環式アレーン環（縮合多環式芳香族炭化水素環）、環集合アレーン環（環集合芳香族炭化水素環）などが含まれる。
【００９８】
縮合多環式アレーン環としては、例えば、縮合二環式アレーン環（例えば、ナフタレン環、インデン環などの縮合二環式Ｃ１０−１６アレーン環）、縮合三環式アレーン環（例えば、アントラセン環、フェナントレン環など）などの縮合二乃至四環式アレーン環などが挙げられる。好ましい環縮合多環式アレーン環としては、ナフタレン環、アントラセン環などの縮合多環式Ｃ１０−１６アレーン環（好ましくは縮合多環式Ｃ１０−１４アレーン環）が挙げられ、特に、ナフタレン環が好ましい。
【００９９】
環集合アレーン環としては、ビアレーン環（例えば、ビフェニル環、ビナフチル環、フェニルナフタレン環（１−フェニルナフタレン環、２−フェニルナフタレン環など）などのビＣ６−１２アレーン環など）、テルアレーン環（例えば、テルフェニレン環などのテルＣ６−１２アレーン環など）などが例示できる。好ましい環集合アレーン環は、ビＣ６−１０アレーン環などが挙げられ、特にビフェニル環が好ましい。
【０１００】
２つの環Ｚの種類は、互いに同一又は異なっていてもよく、通常、同一であることが多い。環Ｚのうち、ベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環などのＣ６−１２アレーン環などが好ましく、なかでも、ベンゼン環、ナフタレン環などのＣ６−１０アレーン環（特にベンゼン環）が好ましい。
【０１０１】
なお、フルオレン環の９−位に結合する環Ｚの置換位置は、特に限定されない。例えば、環Ｚがベンゼン環の場合、いずれの位置であってもよく、環Ｚがナフタレン環の場合、１−位又は２−位のいずれかの位置であってもよく、環Ｚがビフェニル環の場合、２−位、３−位、４−位のいずれかの位置であってもよい。
【０１０２】
Ｒ６で表される置換基としては、炭化水素基［例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−６アルキル基など）、アリール基（例えば、フェニル基などのＣ６−１０アリール基など）など］、シアノ基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子など）などが挙げられる。これらの基Ｒ１のうち、アルキル基（例えば、直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−４アルキル基）、シアノ基、ハロゲン原子が好ましく、特にアルキル基（特に、メチル基などのＣ１−４アルキル基）が好ましい。
【０１０３】
基Ｒ６の置換数ｐは、例えば、０〜３程度の整数、好ましくは０〜２程度の整数、さらに好ましくは０又は１、特に０である。なお、フルオレン環を構成する２つの異なるベンゼン環において、それぞれの置換数ｐは、互いに同一又は異なっていてもよい。また、前記異なるベンゼン環に置換する基Ｒ６の種類は、互いに異なっていてもよく、通常、同一である場合が多い。ｐが２以上である場合、同一のベンゼン環に置換する２以上の基Ｒ６の種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。また、基Ｒ６の置換位置は、特に制限されず、例えば、フルオレン環の２−位乃至７−位（２−位、３−位及び７−位など）であってもよい。
【０１０４】
Ｒ７で表される置換基としては、例えば、基［−Ｒ８］、基［−ＯＲ８］、基［−ＳＲ８］、基［−（Ｃ＝Ｏ）−Ｒ８］、基［−（Ｃ＝Ｏ）−ＯＲ８］（式中、Ｒ８はそれぞれ炭化水素基を示す）、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、置換アミノ基などが挙げられる。Ｒ８で表される炭化水素基としては、例えば、前記式（１）の項において、Ｒ５として例示した炭化水素基と同様の基などが挙げられる。Ｒ７で表される基［−Ｒ８］、基［−ＯＲ８］、基［−ＳＲ８］、基［−（Ｃ＝Ｏ）−Ｒ８］、基［−（Ｃ＝Ｏ）−ＯＲ８］、ハロゲン原子、置換アミノ基としては、例えば、前記式（１）の項において、Ｒ１及びＲ２で表される置換基として例示した基［−Ｒ５］、基［−ＯＲ５］、基［−ＳＲ５］、基［−（Ｃ＝Ｏ）−Ｒ５］、基［−（Ｃ＝Ｏ）−ＯＲ８］、ハロゲン原子、置換アミノ基と同様の基などがそれぞれ例示できる。
【０１０５】
これらの基Ｒ７のうち、代表的には、ハロゲン原子、炭化水素基（アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基）、アルコキシ基、アシル基、ニトロ基、シアノ基、置換アミノ基などが挙げられる。好ましい基Ｒ７としては、アルキル基（メチル基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−６アルキル基など）、アリール基（フェニル基などのＣ６−１２アリール基など）、アルコキシ基（メトキシ基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−４アルコキシ基など）、特に、アルキル基（特に、メチル基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−４アルキル基）、アリール基（フェニル基などのＣ６−１０アリール基など）が挙げられる。
【０１０６】
基Ｒ７の置換数ｑは、環Ｚの種類に応じて適宜選択でき、例えば、０〜８程度の整数であってもよく、好ましくは０〜４（例えば、０〜３）程度の整数、さらに好ましくは０〜２程度の整数（例えば、０又は１）、特に０であってもよい。なお、２つの異なる環Ｚにおいて、基Ｒ７の種類及び置換数ｑは、それぞれ互いに同一又は異なっていてもよい。また、置換数ｑが２以上である場合、同一の環Ｚに置換する２以上の基Ｒ７の種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。基Ｒ７の置換位置は、特に制限されず、環Ｚと、基［−Ｏ−（Ａ１Ｏ）ｒ−］及びフルオレン環の９−位との結合位置以外の位置に置換していればよい。
【０１０７】
Ａ１で表される直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基（１，２−プロパンジイル基）、トリメチレン基、１，２−ブタンジイル基、テトラメチレン基などの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ２−６アルキレン基、好ましくは直鎖状又は分岐鎖状Ｃ２−４アルキレン基、さらに好ましくは直鎖状又は分岐鎖状Ｃ２−３アルキレン基（特に、エチレン基）などが挙げられる。
【０１０８】
オキシアルキレン基（ＯＡ１）の繰り返し数（付加モル数）ｒは、０以上の整数であればよく、例えば、０〜１５（例えば、１〜１０）程度の整数、好ましくは０〜８（例えば、１〜６）程度の整数、さらに好ましくは０〜４（例えば、１〜２）程度の整数、特に０又は１であってもよく、重合反応性の観点から１であるのが好ましい。なお、本明細書及び特許請求の範囲において、「繰り返し数（付加モル数）ｒ」は、平均値（算術平均値、相加平均値）又は平均付加モル数であってもよく、好ましい態様は、好ましい整数の範囲と同様であってもよい。繰り返し数ｒが大きすぎると、屈折率や耐熱性が低下するおそれがある。また、２つの繰り返し数ｒは、それぞれ同一又は異なっていてもよく、ｒが２以上の場合、２以上のオキシアルキレン基（ＯＡ１）の種類は、互いに異なっていてもよく、通常、同一又は同程度である場合が多い。また、異なる環Ｚにエーテル結合（−Ｏ−）を介して結合するオキシアルキレン基（ＯＡ１）の種類は、互いに同一又は異なっていてもよいが、通常、同一である。
【０１０９】
基［−Ｏ−（Ａ１Ｏ）ｒ−］の置換位置は、環Ｚとフルオレン環との結合位置以外の位置であれば、特に限定されず、例えば、環Ｚがベンゼン環である場合、フルオレン環の９−位に結合するフェニル基の２〜６−位のいずれかの位置であればよい。環Ｚがナフタレン環である場合、通常、フルオレン環の９−位に対して、１−位又は２−位で結合するナフチル基の５〜８−位のいずれかの位置に置換している場合が多く、フルオレン環の９−位に対して、ナフタレン環の１−位又は２−位が置換し（１−ナフチル又は２−ナフチルの関係で置換し）、この置換位置に対して、１，５−位、２，６−位（特に、２，６−位）などの関係で置換しているのが好ましい。環Ｚがビフェニル環である場合、ビフェニル環の２〜６−位及び２’〜６’−位のいずれかの位置に置換していればよいが、例えば、ビフェニル環の３−位又は４−位がフルオレンの９−位に結合していてもよく、ビフェニル環の３−位がフルオレンの９−位に結合する場合、カルボニル基の置換位置は、例えば、ビフェニル環の２−位、４−位、５−位、６−位、２’−位、３’−位、４’−位のいずれの位置であってもよく、好ましくは６−位、４’−位のいずれかの位置（特に、６−位）などに置換していてもよい。ビフェニル環の４−位がフルオレンの９−位に結合している場合、カルボニル基の置換位置は、ビフェニル環の２−位、３−位、２’−位、３’−位、４’−位のいずれの位置であってもよく、好ましくは２−位、４’−位のいずれかの位置（特に、２−位）などに置換していてもよい。
【０１１０】
第１のジオール単位（Ｂ１）は、第１のジオール成分（Ｂ１）に由来（又は対応）する構成単位であり、代表的な第１のジオール成分（Ｂ１）としては、例えば、前記式（Ｂ１）において、ｒが１以上（例えば、１〜１０、好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜３程度）である単位に対応する９，９−ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシアリール］フルオレン類などが挙げられる。なお、本明細書及び特許請求の範囲において、特に断りのない限り、「（ポリ）アルコキシ」とは、アルコキシ基及びポリアルコキシ基の双方を含む意味に用いる。
【０１１１】
９，９−ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシアリール］フルオレン類としては、例えば、（B1-1）９，９−ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシフェニル］フルオレン｛例えば、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ）フェニル］フルオレンなどの９，９−ビス［ヒドロキシ（モノ乃至デカ）Ｃ２−４アルコキシ−フェニル］フルオレンなど｝；（B1-2）９，９−ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシ−アルキルフェニル］フルオレン｛例えば、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル］フルオレンなどの９，９−ビス［ヒドロキシ（モノ乃至デカ）Ｃ２−４アルコキシ−（モノ又はジ）Ｃ１−４アルキル−フェニル］フルオレンなど｝；（B1-3）９，９−ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシ−アリールフェニル］フルオレン｛例えば、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル）フルオレンなどの９，９−ビス［ヒドロキシ（モノ乃至デカ）Ｃ２−４アルコキシ−Ｃ６−１０アリール−フェニル］フルオレンなど｝；（B1-4）９，９−ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシナフチル］フルオレン｛例えば、９，９−ビス［６−（２−ヒドロキシエトキシ）−２−ナフチル］フルオレン、９，９−ビス［５−（２−ヒドロキシエトキシ）−１−ナフチル］フルオレンなどの９，９−ビス［ヒドロキシ（モノ乃至デカ）Ｃ２−４アルコキシ−ナフチル］フルオレンなど｝などが挙げられる。
【０１１２】
これらの第１のジオール単位（Ｂ１）は、単独で又は２種以上組み合わせて使用することもできる。これらの第１のジオール単位（Ｂ１）のうち、（B1-1）９，９−ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシフェニル］フルオレン、（B1-4）９，９−ビス［ヒドロキシ（ポリ）アルコキシナフチル］フルオレンなどが好ましく；なかでも、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンなどの９，９−ビス［ヒドロキシ（モノ乃至ヘキサ）Ｃ２−４アルコキシフェニル］フルオレン、９，９−ビス［６−（２−ヒドロキシエトキシ）−２−ナフチル］フルオレンなどの９，９−ビス［ヒドロキシ（モノ乃至ヘキサ）Ｃ２−４アルコキシ−ナフチル］フルオレン（特に、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンなどの９，９−ビス［ヒドロキシ（モノ乃至トリ）Ｃ２−３アルコキシフェニル］フルオレンなど）に由来する単位が好ましい。
【０１１３】
ジオール単位（Ｂ）は、このような第１のジオール単位（Ｂ１）を必ずしも含んでいなくてもよいが、ポリエステル樹脂の複屈折を大きく増加させることなく、屈折率及び耐熱性を向上できる点から、第１のジオール単位（Ｂ１）を含むのが好ましい。第１のジオール単位（Ｂ１）の割合は、ジオール単位（Ｂ）全体に対して、例えば、１０〜１００モル％（例えば、３０〜９９モル％）程度の範囲から選択でき、例えば、４０〜９５モル％（例えば、５０〜９０モル％）、好ましくは５５〜８５モル％（例えば、６０〜８０モル％）、さらに好ましくは６５〜７５モル％程度であってもよい。第１のジオール単位（Ｂ１）の割合が少なすぎると、屈折率や耐熱性が低下するおそれがある。
【０１１４】
本発明のポリエステル樹脂は、前記ジカルボン酸単位（Ａ１）とジオール単位（Ｂ１）とを適切に組み合わせることにより、高い耐熱性及び高い屈折率、並びに低い複屈折などの互いに相反する特性を高いレベルで充足できる。そのため、第１のジオール単位（Ｂ１）の割合は、第１のジカルボン酸単位（Ａ１）１モルに対して、例えば、０．１〜１０モル（例えば、０．２〜５モル）程度の範囲から選択でき、例えば、０．３〜３モル（例えば、０．４〜２モル）、好ましくは０．５〜１モル（例えば、０．５５〜０．９モル）、さらに好ましくは０．６〜０．８モル（例えば、０．６５〜０．７５モル）程度であってもよい。
【０１１５】
本発明のポリエステル樹脂は、前記ジカルボン酸単位（Ａ１）及びジオール単位（Ｂ１）のみで形成してもよいが、重合反応性や機械的特性をバランスよく向上（又は改善）する観点から、他の構成単位（又は重合成分）を含んでいてもよい。
【０１１６】
第２のジオール単位（Ｂ２）
ジオール単位（Ｂ）は、第１のジオール単位（Ｂ１）に加えて、下記式（Ｂ２）で表される第２のジオール単位（Ｂ２）を含んでいてもよい。
【０１１７】
【化１０】
2019006685.tif 000011
【０１１８】
（式中、Ａ２は直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基、ｓは１以上の整数を示す）。
【０１１９】
前記式（Ｂ２）において、アルキレン基Ａ２は、前記第１のジオール単位（Ｂ１）に記載の基Ａ１と好ましい態様を含めて同様であってもよい。
【０１２０】
オキシアルキレン基（ＯＡ２）の繰り返し数ｓは、例えば、１〜１０程度の整数であってもよく、例えば、１〜５（１〜３）程度の整数、好ましくは１又は２、さらに好ましくは１であってもよい。繰り返し数ｓが大きすぎると、屈折率や耐熱性が低下するおそれがある。
【０１２１】
第２のジオール単位（Ｂ２）として、具体的には、例えば、アルカンジオール（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール（１，３−プロパンジオール）、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、テトラメチレングリコール（１，４−ブタンジオール）、１，３−ペンタンジオール、１，４−ペンタンジオール、１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、１，１０−デカンジオールなどの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ２−１２アルカンジオールなど）；ポリアルキレングリコール（又はポリアルカンジオール）［例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコールなどのポリＣ２−６アルカンジオール、好ましくはジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコールなどのジ乃至テトラＣ２−４アルカンジオールなど］などの第２のジオール成分（Ｂ２）に由来する構成単位などが挙げられる。
【０１２２】
これらの第２のジオール単位（Ｂ２）は、単独で又は２種以上組み合わせて利用することもできる。これらの第２のジオール単位（Ｂ２）のうち、好ましくは直鎖状又は分岐鎖状Ｃ２−６アルカンジオール（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオールなど）、さらに好ましくは直鎖状又は分岐鎖状Ｃ２−４アルカンジオール、特に、エチレングリコール、プロピレングリコールなどの直鎖状又は分岐鎖状Ｃ２−３アルカンジオール（特に、エチレングリコール）に由来する単位が好ましい。
【０１２３】
このような第２のジオール単位（Ｂ２）を含むことにより、重合反応性を高めるとともに、ポリエステル樹脂の機械的特性（例えば、柔軟性）や成形性などの特性を向上できる。
【０１２４】
第１のジオール単位（Ｂ１）及び第２のジオール単位（Ｂ２）の総量の割合は、ジオール単位（Ｂ）全体に対して、例えば、１０モル％以上（例えば、３０〜１００モル％程度）の範囲から選択でき、例えば、５０モル％以上（例えば、６０〜９９.９モル％程度）、好ましくは７０モル％以上（例えば、８０〜９９モル％程度）、さらに好ましくは９０モル％以上（例えば、９０〜９５モル％程度）程度であってもよく、実質的に１００モル％［第１のジオール単位（Ｂ１）及び／又は第２のジオール単位（Ｂ２）のみ］であってもよい。
【０１２５】
ジオール単位（Ｂ）が第１のジオール単位（Ｂ１）及び第２のジオール単位（Ｂ２）の双方を含む場合、その割合は、例えば、前者／後者（モル比）＝１０／９０〜９９．９／０．１（例えば、２０／８０〜９９／１）程度の広い範囲から選択でき、例えば、３０／７０〜９７／３（例えば、４０／６０〜９５／５）、好ましくは５０／５０〜９０／１０（例えば、５５／４５〜８５／１５）、さらに好ましくは６０／４０〜８０／２０（例えば、６５／３５〜７５／２５）程度であってもよい。
【０１２６】
（第３のジオール単位（Ｂ３））
なお、ジオール単位（Ｂ）は、本発明の効果を害しない範囲であれば、さらに、他のジオール単位（第１及び第２のジオール単位の範囲に属さない第３のジオール単位（Ｂ３））を含んでいてもよい。第３のジオール単位（Ｂ３）としては、例えば、脂環族ジオール［例えば、シクロアルカンジオール（例えば、シクロヘキサンジオールなどのＣ５−１０シクロアルカンジオールなど）；ビス（ヒドロキシアルキル）シクロアルカン（例えば、シクロヘキサンジメタノールなどのビス（ヒドロキシＣ１−４アルキル）Ｃ５−１０シクロアルカンなど）；後述する芳香族ジオールの水添物（例えば、ビスフェノールＡの水添物など）など］；芳香族ジオール（ただし、第１のジオール成分は除く）［例えば、ジヒドロキシアレーン（例えば、ヒドロキノン、レゾルシノールなど）；芳香脂肪族ジオール（例えば、ベンゼンジメタノールなど）；ビスフェノール類（例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡＤ、ビスフェノールＣ、ビスフェノールＧ、ビスフェノールＳなど）；ビフェノール類（例えば、ｐ，ｐ’−ビフェノールなど）など］；及びこれらのジオール成分のＣ２−４アルキレンオキシド（又はアルキレンカーボネート、ハロアルカノール）付加体［例えば、ビスフェノールＡ  １モルに対して、２〜１０モル程度のエチレンオキシドが付加した付加体など］などの第３のジオール成分（Ｂ３）に由来する単位などが挙げられる。
【０１２７】
これらの第３のジオール単位（Ｂ３）は、単独で又は２種以上組み合わせて使用することもできる。第３のジオール単位（Ｂ３）の割合は、ジオール単位（Ｂ）全体に対して、例えば、５０モル％以下（例えば、０．１〜５０モル％）であってもよく、好ましくは３０モル％以下、さらに好ましくは１０モル％以下（例えば、５モル％以下）程度であってもよい。
【０１２８】
［ポリエステル樹脂の製造方法及び特性］
本発明のポリエステル樹脂の製造方法は、第１のジカルボン酸成分（Ａ１）を少なくとも含むジカルボン酸成分（Ａ）と、ジオール成分（Ｂ）とを反応させればよく、慣用の方法、例えば、エステル交換法、直接重合法などの溶融重合法、溶液重合法、界面重合法などで調製でき、溶融重合法が好ましい。なお、反応は、重合方法に応じて、溶媒の存在下又は非存在下で行ってもよい。
【０１２９】
ジカルボン酸成分（Ａ）とジオール成分（Ｂ）との使用割合（又は仕込み割合）は、通常、前者／後者（モル比）＝例えば、１／１．２〜１／０．８、好ましくは１／１．１〜１／０．９）程度であってもよい。なお、反応において、各ジカルボン酸成分（Ａ）及びジオール成分（Ｂ）の使用量（使用割合）は、前記各ジカルボン酸単位及びジオール単位の割合と好ましい態様を含めて同様であってもよく、必要に応じて、各成分などを過剰に用いて反応させてもよい。例えば、反応系から留出可能なエチレングリコールなどの第２のジオール成分（Ｂ２）は、ポリエステル樹脂中に導入される割合（又は導入割合）よりも過剰に使用してもよい。
【０１３０】
反応は、触媒の存在下で行ってもよい。触媒としては、慣用のエステル化触媒、例えば、金属触媒などが利用できる。金属触媒としては、例えば、アルカリ金属（ナトリウムなど）；アルカリ土類金属（マグネシウム、カルシウム、バリウムなど）、遷移金属（マンガン、亜鉛、カドミウム、鉛、コバルト、チタンなど）；周期表第１３族金属（アルミニウムなど）；周期表第１４族金属（ゲルマニウムなど）；周期表第１５族金属（アンチモンなど）などを含む金属化合物が用いられる。金属化合物としては、例えば、アルコキシド、有機酸塩（酢酸塩、プロピオン酸塩など）、無機酸塩（ホウ酸塩、炭酸塩など）、金属酸化物などであってもよく、これらの水和物であってもよい。代表的な金属化合物としては、例えば、ゲルマニウム化合物（例えば、二酸化ゲルマニウム、水酸化ゲルマニウム、シュウ酸ゲルマニウム、ゲルマニウムテトラエトキシド、ゲルマニウム−ｎ−ブトキシドなど）；アンチモン化合物（例えば、三酸化アンチモン、酢酸アンチモン、アンチモンエチレンリコレートなど）；チタン化合物（例えば、テトラ−ｎ−プロピルチタネート、テトライソプロピルチタネート、テトラ−ｎ−ブチルチタネート、シュウ酸チタン、シュウ酸チタンカリウムなど）；マンガン化合物（酢酸マンガン・４水和物など）；カルシウム化合物（酢酸カルシウム・１水和物など）などが例示できる。
【０１３１】
これらの触媒は単独で又は２種以上組み合わせて使用できる。複数の触媒を用いる場合、反応の進行に応じて、各触媒を添加することもできる。これらの触媒のうち、酢酸マンガン・４水和物、酢酸カルシウム・１水和物、二酸化ゲルマニウムなどが好ましい。触媒の使用量は、例えば、ジカルボン酸成分（Ａ）１モルに対して、０．０１×１０−４〜１００×１０−４モル、好ましくは０．１×１０−４〜４０×１０−４モル程度であってもよい。
【０１３２】
また、反応は、必要に応じて、熱安定剤（例えば、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、亜リン酸、トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイトなどのリン化合物など）や酸化防止剤などの安定剤の存在下で行ってもよい。熱安定剤の使用量は、例えば、ジカルボン酸成分（Ａ）１モルに対して、０．０１×１０−４〜１００×１０−４モル、好ましくは０．１×１０−４〜４０×１０−４モル程度であってもよい。
【０１３３】
反応は、空気中で行ってもよく、通常、不活性ガス（例えば、窒素；ヘリウム、アルゴンなどの希ガスなど）雰囲気中で行ってもよい。また、反応は、減圧下（例えば、１×１０２〜１×１０４Ｐａ程度）で行うこともできる。反応温度は、重合方法に応じて選択でき、例えば、溶融重合法における反応温度は、１５０〜３００℃、好ましくは１８０〜２９０℃、さらに好ましくは２００〜２８０℃程度であってもよい。
【０１３４】
本発明のポリエステル樹脂は、トリプチセン骨格を有する前記第１のジカルボン酸単位（Ａ１）を含むため、高い耐熱性及び高い屈折率を有するとともに、意外にも光学的異方性が少ないため、延伸処理（又は配向処理）しても低い複屈折を示す。そのため、高い耐熱性及び高い屈折率、並びに低い複屈折という互いに相反する特性をバランスよく向上できる。
【０１３５】
ポリエステル樹脂のガラス転移温度Ｔｇは、例えば、１００〜２５０℃（例えば、１２０〜２３０℃）程度の範囲から選択でき、例えば、１３０〜２００℃（例えば、１３５〜１９０℃程度）、好ましくは１４０〜１８０℃（例えば、１４５〜１７５℃）、さらに好ましくは１５０〜１７０℃（例えば、１５５〜１６５℃）程度であってもよい。ガラス転移温度Ｔｇが低すぎると、使用時に樹脂が変形したり、変色（又は着色）したりするおそれがあり、Ｔｇが高すぎると、成形体（例えば、光学レンズなど）表面を平滑に形成できなくなるおそれがある。
【０１３６】
ポリエステル樹脂の重量平均分子量Ｍｗは、ポリスチレン換算で、例えば、１００００〜２０００００程度の範囲から選択でき、例えば、１５０００〜１０００００、好ましくは２００００〜８００００、さらに好ましくは２５０００〜６００００（例えば、３００００〜４００００）程度であってもよく、通常、３５０００〜５００００（例えば、４００００〜４５０００）程度であってもよい。また、ポリエステル樹脂の数平均分子量Ｍｎは、ポリスチレン換算で、例えば、５０００〜５０００００（例えば、７０００〜３０００００）程度の範囲から選択でき、例えば、８０００〜２０００００（例えば、１００００〜１０００００）、好ましくは１５０００〜８００００（例えば、１８０００〜５００００）、さらに好ましくは２００００〜３００００程度であってもよい。ポリエステル樹脂の分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは、例えば、１〜５（例えば、１．１〜４）、好ましくは１．２〜３（例えば、１．３〜２．８）、さらに好ましくは１．５〜２．５（例えば、１．７〜２．３）程度であってもよい。なお、重量平均分子量Ｍｗ、数平均分子量Ｍｎ及び分子量分布Ｍｗ／Ｍｎは、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によりポリスチレン換算で測定できる。
【０１３７】
ポリエステル樹脂の屈折率は、温度２０℃、波長５８９ｎｍにおいて、例えば、１．５５〜１．８（例えば、１．５７〜１．７）、好ましくは１．５９〜１．６８（例えば、１．６〜１．６６）、さらに好ましくは１．６１〜１．６５（例えば、１．６２〜１．６４）程度であってもよい。
【０１３８】
ポリエステル樹脂のアッベ数は、温度２０℃において、例えば、３０以下（例えば、１７〜２８）、好ましくは２７以下（例えば、２０〜２６）、さらに好ましくは２５以下（例えば、２２〜２５）程度であってもよい。
【０１３９】
ポリエステル樹脂の複屈折は、ポリエステル単独で形成したフィルムを、延伸倍率３倍で一軸延伸した延伸フィルムの複屈折（３倍複屈折）により評価してもよい。複屈折（３倍複屈折）は、フィルム面内において、延伸方向における屈折率と、この方向に垂直な方向における屈折率との差の絶対値で表される。そのため、延伸温度（ガラス転移温度Ｔｇ＋１０）℃、延伸速度２５ｍｍ／分の延伸条件で調製した前記延伸フィルムの３倍複屈折は、測定温度２０℃、波長６００ｎｍにおいて、例えば、１００×１０−４以下（例えば、０．００１×１０−４〜５０×１０−４程度）の範囲から選択でき、例えば、３０×１０−４以下（例えば、１×１０−４〜２５×１０−４程度）、好ましくは２０×１０−４以下（例えば、５×１０−４〜１８×１０−４程度）、さらに好ましくは１５×１０−４以下（例えば、１０×１０−４〜１４×１０−４程度）であってもよい。
【０１４０】
なお、本明細書及び特許請求の範囲において、ガラス転移温度Ｔｇ、重量平均分子量Ｍｗ、数平均分子量Ｍｎ、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎ、屈折率、アッベ数及び３倍複屈折は、後述する実施例に記載の方法などにより測定できる。
【０１４１】
［成形体］
本発明の成形体は、前記ポリエステル樹脂を含み、優れた耐熱性及び光学的特性（高屈折率、低複屈折など）を有しているため、光学フィルム（又は光学シート）、光学レンズなどの光学用部材として利用できる。成形体の形状は、特に限定されず、例えば、一次元的構造（例えば、線状、繊維状など）、二次元的構造（例えば、フィルム状、シート状、板状など）、三次元的構造（例えば、凹又は凸レンズ状、棒状、中空状（管状）など）などが挙げられる。
【０１４２】
本発明の成形体は、各種添加剤［例えば、充填剤又は補強剤、着色剤（例えば、染顔料など）、導電剤、難燃剤、可塑剤、滑剤、安定剤（例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、熱安定剤など）、離型剤、帯電防止剤、分散剤、流動調整剤、レベリング剤、消泡剤、表面改質剤、低応力化剤（例えば、シリコーンオイル、シリコーンゴム、各種プラスチック粉末、各種エンジニアリングプラスチック粉末など）、耐熱性改良剤（例えば、硫黄化合物、ポリシランなど）、炭素材など］を含んでいてもよい。これらの添加剤は、単独で又は２種以上組み合わせて使用してもよい。
【０１４３】
成形体は、例えば、射出成形法、射出圧縮成形法、押出成形法、トランスファー成形法、ブロー成形法、加圧成形法、キャスティング成形法などを利用して製造することができる。
【０１４４】
特に、本発明のポリエステル樹脂は、種々の光学的特性に優れているため、フィルム（特に光学フィルム）を形成するのに有用である。そのため、本発明には、前記ポリエステル樹脂で形成されたフィルム（光学フィルム又は光学シート）も含まれる。
【０１４５】
このようなフィルムの厚み（平均厚み）は１〜１０００μｍ程度の範囲から用途に応じて選択でき、例えば１〜２００μｍ、好ましくは５〜１５０μｍ、さらに好ましくは１０〜１２０μｍ程度であってもよい。
【０１４６】
このようなフィルム（光学フィルム）は、前記ポリエステル樹脂を、慣用の成膜方法、キャスティング法（溶剤キャスト法）、溶融押出法、カレンダー法などを用いて成膜（又は成形）することにより製造できる。
【０１４７】
フィルムは、延伸フィルムであってもよい。本発明のフィルムは、延伸フィルムであっても、低複屈折を維持できる。なお、このような延伸フィルムは、一軸延伸フィルム又は二軸延伸フィルムのいずれであってもよい。
【０１４８】
延伸倍率は、一軸延伸又は二軸延伸において各方向にそれぞれ１．１〜１０倍（好ましくは１．２〜８倍、さらに好ましくは１．５〜６倍）程度であってもよく、通常１．１〜２．５倍（好ましくは１．２〜２．３倍、さらに好ましくは１．５〜２．２倍）程度であってもよい。なお、二軸延伸の場合、等延伸（例えば、縦横両方向に１．５〜５倍延伸）であっても、偏延伸（例えば、縦方向に１．１〜４倍、横方向に２〜６倍延伸）であってもよい。また、一軸延伸の場合、縦延伸（例えば、縦方向に２．５〜８倍延伸）であっても横延伸（例えば、横方向に１．２〜５倍延伸）であってもよい。
【０１４９】
延伸フィルムの厚み（平均厚み）は、例えば、１〜１５０μｍ、好ましくは３〜１２０μｍ、さらに好ましくは５〜１００μｍ程度であってもよい。
【０１５０】
なお、このような延伸フィルムは、成膜後のフィルム（又は未延伸フィルム）に、延伸処理を施すことにより得ることができる。延伸方法は、特に制限が無く、一軸延伸の場合、湿式延伸法又は乾式延伸法のいずれであってもよく、二軸延伸の場合、テンター法（フラット法ともいわれる）であってもチューブ法であってもよいが、延伸厚みの均一性に優れるテンター法が好ましい。
【実施例】
【０１５１】
以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。評価方法を以下に示す。
【０１５２】
［評価方法］
（ＮＭＲ）
ＮＭＲスペクトルは、Ｂｒｕｋｅｒ  ＢＩＯＳＰＩＮ社製「ＡＶＡＮＣＥ  ＩＩＩ  ＨＤ（３００ＭＨｚ）」を用いて測定した。
【０１５３】
（ガラス転移温度Ｔｇ）
示差走査熱量計（エスアイアイナノテクノロジー（株）製「ＥＸＳＴＡＲ６０００  ＤＳＣ６２２０  ＡＳＤ−２」）を用いて、窒素雰囲気下、１０℃／分の昇温速度で、２０〜２２０℃の範囲で測定した。
【０１５４】
（分子量）
ゲル浸透クロマトグラフィー（東ソー（株）製、「ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ」）を用い、試料をクロロホルムに溶解させ、ポリスチレン換算で、重量平均分子量Ｍｗ、分子量分布Ｍｗ／Ｍｎを測定した。
【０１５５】
（屈折率ｎＤ）
試料を２００〜２４０℃でプレス成形して、厚み２００〜３００μｍのフィルムを成形した。このフィルムを２０〜３０ｍｍ×１０ｍｍの短冊状に切り出し、試験片を得た。得られた試験片について、多波長アッベ屈折計（（株）アタゴ製「ＤＲ−Ｍ４（循環式恒温水槽６０−Ｃ３）」）を用いて、測定温度２０℃、測定波長５８９ｎｍ（ｄ線）の条件で測定した。
【０１５６】
（アッベ数）
屈折率の測定に用いた試験片について、多波長アッベ屈折計（（株）アタゴ製「ＤＲ−Ｍ４（循環式恒温水槽６０−Ｃ３）」）を用いて、測定温度２０℃で、接触液にジヨードメタンを使用して、測定波長４８６ｎｍ（Ｆ線）、５８９ｎｍ(Ｄ線)、６５６ｎｍ（Ｃ線）の屈折率ｎＦ、ｎＤ、ｎＣをそれぞれ測定し、以下の式によって算出した。
【０１５７】
アッベ数＝（ｎＤ−１）／（ｎＦ−ｎＣ）。
【０１５８】
（複屈折（又は３倍複屈折））
試料を２００〜２４０℃でプレス成型して、厚みが２００〜６００μｍのフィルムを成形した。このフィルムを１０ｍｍ×５０ｍｍの短冊状に切り出し、Ｔｇ＋１０℃の温度条件下、２５ｍｍ／分で延伸倍率が３倍となるように一軸延伸して試験片を得た。延伸した試験片を、大塚電子（株）製「ＲＥＴＳ−１００」を用いて、測定温度２０℃、測定波長６００ｎｍの条件下、平行ニコル回転法にてリタデーションを測定し、その値を測定部位の厚みで除することで算出した。
【０１５９】
［合成例１］１，４−ジヒドロキシトリプチセンの合成
アントラセン（８９．１ｇ、５０．０ｍｍｏｌ）及びｐ−ベンゾキノン（５４．６ｇ、５０．５ｍｍｏｌ）をクロロベンゼン（４００ｍＬ）中で加熱し、還流させて撹拌した。４時間の還流後、室温に冷却して固体をろ別し、５００ｍＬの温水で洗浄した。この固体を真空乾燥（８０℃、４時間）後に、酢酸（７１０ｇ）中で還流下、臭化水素酸（２０滴）を加えた。冷却後、固体をろ別して真空乾燥し、白色固体（１１６ｇ、３９ｍｍｏｌ、収率７８％）を得た。
【０１６０】
［実施例１］１，４−ビス（メトキシカルボニルメトキシ）トリプチセンの合成
１，４−ジヒドロキシトリプチセン（２８．６ｇ、１００ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ、２５０ｍＬ）溶液に、５５℃で炭酸カリウム（３０．４５ｇ、２２０ｍｍｏｌ）を加えて３０分間撹拌した。その後、ブロモ酢酸メチル（３３．７ｇ、２２０ｍｍｏｌ）を８０℃で滴下して５時間加熱撹拌し、冷却後に、反応物をろ過して水（１５００ｍＬ）に加えた。生じた沈殿をろ別して、トルエンで再結晶した（３０．６ｇ、収率 ７１％）。
【０１６１】
１Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）＝３．６８（ｓ、６Ｈ）、４．８１（ｓ、４Ｈ）、５．９４（ｓ、２Ｈ）、６．５７（ｓ、２Ｈ）、７．００（ｄｄ、Ｊ＝３．２、５．３Ｈｚ、４Ｈ）、７．４５（ｄｄ、Ｊ＝３．２、５．３Ｈｚ、４Ｈ）。
【０１６２】
［実施例２］ポリエステル樹脂の合成
反応器に、実施例１で得た１，４−ビス（メトキシカルボニルメトキシ）トリプチセン１９．３８ｇ、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＢＰＥＦ）１３．８ｇ、エチレングリコール（ＥＧ）６．４２ｇ、酢酸マンガン４水和物７．４ｍｇを加え、２４０℃まで徐々に加熱して撹拌し、エステル交換反応を行った。エステル交換反応により生成するメタノールを除去した後、リン酸トリメチル１５．８ｍｇ、酸化ゲルマニウム１４．１ｍｇを加え、２７０℃、１２０Ｐａまで徐々に昇温、減圧し、所定の撹拌トルクに達するまで重縮合を行った。
【０１６３】
得られたペレットを、１Ｈ−ＮＭＲにより分析したところ、ポリエステル樹脂に導入されたジカルボン酸単位の１００モル％が１，４−ビス（メトキシカルボニルメトキシ）トリプチセン由来であり、導入されたジオール単位の７０モル％がＢＰＥＦ由来、３０モル％がＥＧ由来であった。
【０１６４】
得られたポリエステル樹脂のＭｗは４２９００（Ｍｗ／Ｍｎ＝１．９）、Ｔｇは１６０．２℃、ｎＤ（２０℃）は１．６３２７、アッベ数は２５、３倍延伸時の複屈折は１３×１０−４であった。
【０１６５】
［比較例１］
１，４−ビス（メトキシカルボニルメトキシ）トリプチセンに代えて、等モル量のテレフタル酸ジメチル（ＤＭＴ）を用いる以外は、実施例２と同様にして重縮合を行った。
【０１６６】
得られたペレットを、１Ｈ−ＮＭＲにより分析したところ、ポリエステル樹脂に導入されたジカルボン酸単位の１００モル％がＤＭＴ由来であり、導入されたジオール単位の７０モル％がＢＰＥＦ由来、３０モル％がＥＧ由来であった。
【０１６７】
得られたポリエステル樹脂のＭｗは３６０００（Ｍｗ／Ｍｎ＝２．１）、Ｔｇは１４３．９℃、ｎＤ（２０℃）は１．６３３２、アッベ数は２３、３倍延伸時の複屈折は４５×１０−４であった。
【産業上の利用可能性】
【０１６８】
本発明のトリプチセン骨格を有する新規な化合物は、樹脂（例えば、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂など）の重合成分（単量体又はモノマー）などとして有用である。
【０１６９】
また、前記化合物を重合成分に含むポリエステル樹脂は、高屈折率、低複屈折性、高透明性などの優れた光学的特性のみならず、高い耐熱性をも有している。そのため、本発明のポリエステル樹脂（又はその樹脂組成物）は、例えば、塗料、インキ、接着剤、粘着剤、樹脂充填材、帯電防止剤、保護膜（電子機器などの保護膜など）、電気・電子材料（帯電トレイ、導電シート、キャリア輸送剤、発光体、有機感光体、感熱記録材料、ホログラム記録材料など）、電気・電子部品又は機器（インクジェットプリンタ、デジタルペーパ、有機半導体レーザ、色素増感型太陽電池、フォトクロミック材料、有機ＥＬ素子など）用の樹脂、機械部品又は機器（自動車、航空・宇宙材料、センサ、摺動部材など）用の樹脂、光学部材（光学フィルム（又は光学シート）、光学レンズ、光ファイバー、光ディスク、など）などに好適に利用できる。特に、本発明のポリエステル樹脂は、光学的特性に優れているため、光学用途の成形体（光学フィルム、光学レンズなどの光学部材）を構成（又は形成）するのに有用である。
【０１７０】
光学フィルムとしては、例えば、保護フィルム（液晶保護フィルムなど）、偏光フィルム（及びそれを構成する偏光素子と偏光板保護フィルム）、位相差フィルム、配向膜（配向フィルム）、視野角拡大（補償）フィルム、拡散板（フィルム）、プリズムシート、導光板、輝度向上フィルム、近赤外吸収フィルム、反射フィルム、反射防止（ＡＲ）フィルム、反射低減（ＬＲ）フィルム、アンチグレア（ＡＧ）フィルム、透明導電（ＩＴＯ）フィルム、異方導電性フィルム（ＡＣＦ）、電磁波遮蔽（ＥＭＩ）フィルム、電極基板用フィルム、カラーフィルタ基板用フィルム、バリアフィルム、カラーフィルタ層、ブラックマトリクス層、光学フィルム同士の接着層もしくは離型層などが挙げられ、とりわけ、機器のディスプレイ（液晶、有機ＥＬなど）に用いる光学フィルムとして有用である。このような光学フィルムを備えたディスプレイ用部材（又はディスプレイ）として具体的には、例えば、パーソナル・コンピュータのモニタ、テレビジョン、情報端末（例えば、スマートフォンなどの携帯電話、タブレット端末など）、ゲーム機、カー・ナビゲーションシステム、タッチパネルなどのＦＰＤ装置（例えば、ＬＣＤ、ＰＤＰなど）などが挙げられる。
【０１７１】
光学レンズとしては、例えば、眼鏡用レンズ、コンタクトレンズ、カメラ用レンズ、ＶＴＲズームレンズ、ピックアップレンズ、フレネルレンズ、太陽集光レンズ、対物レンズ、ロッドレンズアレイなどが挙げられ、なかでもカメラ用レンズなどの低アッベ数が要求されるレンズ［例えば、カメラ機能を有する小型機器（又はモバイル機器、例えば、携帯電話、デジタルカメラなど）に搭載されるレンズなど］などが挙げられる。特に、本発明のポリエステル樹脂は、高い耐熱性を有するため、高温環境下における使用が想定される用途（例えば、車載用レンズなど）であっても好適に利用できる。