(57)【要約】【課題】出力特性に優れた磁気記録媒体を提供する。【解決手段】磁気記録媒体１０は、非磁性支持体１１と、磁性粉末を含む磁性層１３とを備え、前記磁性粉末はε酸化鉄粉末からなり、前記磁性粉末の平均粒子径が８ｎｍ以上２０ｎｍ以下であり、磁性層１３の厚さ方向の角形比が０．６５以上であり、磁性層１３の厚さ方向の保磁力が３０００エルステッド〔Ｏｅ〕以上であり、磁性層１３の厚さ方向のヒステリシス曲線を微分して得られる微分曲線において、０エルステッド〔Ｏｅ〕以上、＋１００００エルステッド〔Ｏｅ〕以下の磁界の範囲における前記微分曲線の積分値をＡ、＋５０００エルステッド〔Ｏｅ〕以上、＋１００００エルステッド〔Ｏｅ〕以下の磁界の範囲における前記微分曲線の積分値をＢ、積分値Ａと積分値Ｂとの比率Ｂ／ＡをＲとすると、Ｒ≦０．１５の関係が成立する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体と、磁性粉末を含む磁性層とを備える磁気記録媒体であって、
前記磁性粉末は、ε酸化鉄粉末からなり、
前記磁性粉末の平均粒子径が、８ｎｍ以上２０ｎｍ以下であり、
前記磁性層の厚さ方向の角形比が、０．６５以上であり、
前記磁性層の厚さ方向の保磁力が、３０００エルステッド〔Ｏｅ〕以上であり、
前記磁性層の厚さ方向のヒステリシス曲線において、前記磁性層に正方向の磁場を印加して正方向の飽和磁化に達した後、前記正方向に対して逆方向の磁場を印加して逆方向の飽和磁化に達した点をＡ点とし、Ａ点から更に正方向の磁場を印加して正方向の飽和磁化に達した点をＢ点とした場合、Ａ点からＢ点へ向かうヒステリシス曲線を微分して得られる微分曲線において、
０エルステッド〔Ｏｅ〕以上、＋１００００エルステッド〔Ｏｅ〕以下の磁界の範囲における前記微分曲線の積分値をＡ、＋５０００エルステッド〔Ｏｅ〕以上、＋１００００エルステッド〔Ｏｅ〕以下の磁界の範囲における前記微分曲線の積分値をＢ、積分値Ａと積分値Ｂとの比率Ｂ／ＡをＲとすると、Ｒ≦０．１５の関係が成立することを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
前記磁性層の表面をｎ−ヘキサンで洗浄した後の前記磁性層の表面のスペーシングをＴＳＡ（Ｔａｐｅ  Ｓｐａｃｉｎｇ  Ａｎａｌｙｚｅｒ）で測定したとき、前記スペーシングの値は、５ｎｍ以上１５ｎｍ以下である請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
Ｒ≦０．１０である請求項１又は２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
前記磁性層の表面に、フッ素系潤滑剤又はシリコーン系潤滑剤を含む潤滑剤層を更に備える請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項５】
前記磁性層の厚さは、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である請求項１〜４のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、出力特性に優れた磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
非磁性支持体上に磁性粉末と結合剤とを含有する磁性層が形成された塗布型の磁気記録媒体は、アナログ方式からデジタル方式への記録再生方式の移行に伴い、一層の記録密度の向上が要求されている。特に、高密度デジタルビデオテープやコンピュータバックアップテープ等においては、この要求が年々高まってきている。
【０００３】
このような記録密度の向上に伴い、記録波長が短波長化され、この短波長記録に対応するため、年々磁性粉末の微粒子化が図られており、現在では平均粒子径が２０ｎｍ程度の強磁性六方晶フェライト粉末を実現し、この磁性粉末を用いた磁気記録媒体が実用化されている(例えば、特許文献１)。
【０００４】
そして、上記強磁性六方晶フェライト粉末を用いた磁気記録媒体の記録密度を更に向上させるためには、強磁性六方晶フェライト粉末を更に微粒子化する必要がある。しかし、強磁性六方晶フェライト粉末を更に微細化することで、磁性粉末の粒子体積が小さくなり、熱揺らぎの影響を受けやすくなる問題がある。このため、微粒子化しても保磁力が高く、異方性エネルギーが大きい磁性体を用いて熱揺らぎを抑制することが必要となる。
【０００５】
このような状況において近年、磁気記録媒体用の新しい磁性材料として、ε−Ｆｅ2Ｏ3の研究が行われており、１５ｎｍ以下、好ましくは１０ｎｍ以下の平均粒子径でも強磁性の特性を有するε−Ｆｅ2Ｏ3の単相からなる酸化鉄ナノ磁性粒子粉が提案されている(例えば、特許文献２)。また、ε−Ｆｅ2Ｏ3を磁性粉末として用いた磁気記録媒体も提案されている(例えば、特許文献３、４)。
【０００６】
また、本発明に関連する先行技術文献として、後述するスペーシングの測定方法及び制御方法に関する特許文献５がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１５−９１７４７号公報
【特許文献２】特開２０１４−２２４０２７号公報
【特許文献３】特開２０１５−８２３２９号公報
【特許文献４】特開２０１４−１４９８８６号公報
【特許文献５】特開２０１２−４３４９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
通常知られているＦｅ2Ｏ3の結晶構造は、ガンマ（γ）相、又はアルファ（α）相であるが、ε−Ｆｅ2Ｏ3の結晶構造であるイプシロン（ε）相は、γ相及びα相の中間に存在する結晶構造であり、結晶異方性に基づく磁気異方性を示すため、粒子径を１０ｎｍ以下に小さくしても高保磁力を示すことが特徴となっている。
【０００９】
しかし、ε−Ｆｅ2Ｏ3のヒステリシス曲線を微分して得られる微分曲線を見ると、＋５００エルステッド〔Ｏｅ〕以上の磁界の範囲にピーク（Ｐ１）が生じると共に、＋５００エルステッド〔Ｏｅ〕より小さい磁界の範囲にもピーク（Ｐ２）が生じることが分かっている。これは、ε−Ｆｅ2Ｏ3磁性粉末には、高保磁力成分の他に、異なる保磁力、特に低保磁力成分の磁性粉末が混ざっているために、＋５００エルステッド〔Ｏｅ〕より小さい磁界の範囲にもピークが現れると考えられている。
【００１０】
更に、上記微分曲線では、＋４０００エルステッド〔Ｏｅ〕以上の磁界の範囲において、ピーク（Ｐ１）を超えた下降曲線部分の傾きが緩くなっている部分が見られる。これは、＋５００エルステッド〔Ｏｅ〕以上＋５０００エルステッド〔Ｏｅ〕未満の保磁力を有する通常の高保磁力成分に加えて、＋５０００エルステッド〔Ｏｅ〕以上の特に高い保磁力を有する成分（超高保磁力成分）の磁性粉末が混ざっているためと考えられる。この超高保磁力成分が磁気記録媒体の磁性層中に存在した場合、磁気ヘッドで磁気信号を記録しようとしても、磁気ヘッドから発生する記録磁界の強度が不足して、磁気信号を記録することができないため、高密度記録用の磁気記録媒体に用いる磁性材料としては好ましくない。
【００１１】
本発明は上記問題を解決するためになされたものであり、磁性層の厚さ方向のヒステリシス曲線を微分して得られる微分曲線において示される、＋５０００エルステッド〔Ｏｅ〕以上の保磁力を有する超高保磁力成分の比率を特定の範囲とすることで、出力特性に優れた磁気記録媒体を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体と、磁性粉末を含む磁性層とを備える磁気記録媒体であって、前記磁性粉末は、ε酸化鉄粉末からなり、前記磁性粉末の平均粒子径が、８ｎｍ以上２０ｎｍ以下であり、前記磁性層の厚さ方向の角形比が、０．６５以上であり、前記磁性層の厚さ方向の保磁力が、３０００エルステッド〔Ｏｅ〕以上であり、前記磁性層の厚さ方向のヒステリシス曲線において、前記磁性層に正方向の磁場を印加して正方向の飽和磁化に達した後、前記正方向に対して逆方向の磁場を印加して逆方向の飽和磁化に達した点をＡ点とし、Ａ点から更に正方向の磁場を印加して正方向の飽和磁化に達した点をＢ点とした場合、Ａ点からＢ点へ向かうヒステリシス曲線を微分して得られる微分曲線において、０エルステッド〔Ｏｅ〕以上、＋１００００エルステッド〔Ｏｅ〕以下の磁界の範囲における前記微分曲線の積分値をＡ、＋５０００エルステッド〔Ｏｅ〕以上、＋１００００エルステッド〔Ｏｅ〕以下の磁界の範囲における前記微分曲線の積分値をＢ、積分値Ａと積分値Ｂとの比率Ｂ／ＡをＲとすると、Ｒ≦０．１５の関係が成立する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の磁気記録媒体によれば、磁性層の厚さ方向に測定したヒステリシス曲線を微分して得られる微分曲線において示される、＋５０００エルステッド〔Ｏｅ〕以上の保磁力を有する超高保磁力成分の比率を特定の範囲とすることで、出力特性に優れた磁気記録媒体を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１は、実施形態の磁気記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【図２】図２は、実施形態の磁性層の厚さ方向のヒステリシス曲線の一例を示す図である。
【図３】図３は、図２におけるＡ点からＢ点へ向かうヒステリシス曲線を微分して得られる微分曲線の一部を示す図である。
【図４】図４は、実施例１、比較例１及び比較例２のそれぞれで求めた厚さ方向のヒステリシス曲線の微分曲線の一部を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明の磁気記録媒体の実施形態について説明する。本発明の磁気記録媒体の実施形態は、非磁性支持体と、磁性粉末を含む磁性層とを備えている。また、上記磁性粉末は、ε酸化鉄粉末からなり、上記磁性粉末の平均粒子径は、８ｎｍ以上２０ｎｍ以下であり、上記磁性層の厚さ方向の角形比は、０．６５以上であり、上記磁性層の厚さ方向の保磁力は、３０００エルステッド〔Ｏｅ〕以上である。また、上記磁性層の厚さ方向のヒステリシス曲線において、上記磁性層に正方向の磁場を印加して正方向の飽和磁化に達した後、上記正方向に対して逆方向の磁場を印加して逆方向の飽和磁化に達した点をＡ点とし、Ａ点から更に正方向の磁場を印加して正方向の飽和磁化に達した点をＢ点とした場合、Ａ点からＢ点へ向かうヒステリシス曲線を微分して得られる微分曲線において、０エルステッド〔Ｏｅ〕以上、＋１００００エルステッド〔Ｏｅ〕以下の磁界の範囲における前記微分曲線の積分値をＡ、＋５０００エルステッド〔Ｏｅ〕以上、＋１００００エルステッド〔Ｏｅ〕以下の磁界の範囲における前記微分曲線の積分値をＢ、積分値Ａと積分値Ｂとの比率Ｂ／ＡをＲとすると、Ｒ≦０．１５の関係が成立する。
【００１６】
上記磁性粉末として、ε酸化鉄粉末を用いることにより、上記磁性粉末の平均粒子径を８ｎｍ以上２０ｎｍ以下として短波長記録に対応しても、磁性粉末の保磁力が低下しない。また、上記磁性層の厚さ方向の角形比を０．６５以上とすることで、出力特性を向上できる。更に、上記磁性層の厚さ方向の保磁力を３０００エルステッド〔Ｏｅ〕以上とすることで、高記録密度化における短波長記録領域においても、自己減磁損失が少なく高い再生出力が得られる。
【００１７】
一方、上記ε酸化鉄粉末の平均粒子径を８ｎｍ以上２０ｎｍ以下として、上記ε酸化鉄粉末を微粒子化すると一般に粒度分布が広がる傾向にあり、粒子径が２０ｎｍを超える粒子の割合が増加する。ここで、ε酸化鉄粉末は結晶磁気異方性を示すため、ε酸化鉄粉末の保磁力は粒子径の影響を受けやすく、一般に粒子径が小さいと保磁力は小さくなり、粒子径が大きいと保磁力は大きくなる傾向がある。このため、上記ε酸化鉄粉末の平均粒子径を８ｎｍ以上２０ｎｍ以下とすると、上記ε酸化鉄粉末において＋５０００エルステッド〔Ｏｅ〕以上の保磁力を有する超高保磁力成分が増加することになる。また、上記磁性層の厚さ方向の保磁力を３０００エルステッド〔Ｏｅ〕以上とすると、更に上記超高保磁力成分が増加することになる。この超高保磁力成分は、前述のとおり、磁気信号を記録することができないため、高密度記録用の磁気記録媒体に用いる磁性材料としては好ましくない。
【００１８】
そこで、本実施形態では、Ｒ≦０．１５として、上記超高保磁力成分の割合を減少させることにより、本実施形態の磁気記録媒体の出力特性の向上を実現した。即ち、上記微分曲線において、０エルステッド〔Ｏｅ〕以上、＋１００００エルステッド〔Ｏｅ〕以下の磁界の範囲における上記微分曲線の積分値をＡ、＋５０００エルステッド〔Ｏｅ〕以上、＋１００００エルステッド〔Ｏｅ〕以下の磁界の範囲における上記微分曲線の積分値をＢ、積分値Ａと積分値Ｂとの比率Ｂ／ＡをＲとすると、Ｒ≦０．１５の関係を成立せることにより、本実施形態の磁気記録媒体の出力特性を向上できる。
【００１９】
上記比率Ｒは、０．１０以下がより好ましく、０．０７以下が最も好ましい。上記比率Ｒの下限値は、小さいほど好ましいが、磁性粉末の粒度分布等の影響を受け、上記超高保磁力成分を完全に除去することはできないため、上記比率Ｒの下限値は０．０３程度である。
【００２０】
本実施形態の磁気記録媒体は、上記比率Ｒを特定の範囲とすることで、磁性層の出力特性を向上できる。従って、上記比率Ｒの測定対象は、完成した磁気記録媒体の磁性層であり、ε酸化鉄粉末が測定対象ではない。このため、仮にε酸化鉄粉末の上記比率Ｒを測定した値と、ε酸化鉄粉末を含む磁性層の上記比率Ｒを測定した値とが異なっていても、上記磁性層の上記比率ＲがＲ≦０．１５の範囲内にあればよい。
【００２１】
上記比率Ｒを０．１５以下に制御する方法としては特に限定されないが、例えば、磁性粉末に電磁石で１５０００エルステッド〔Ｏｅ〕以上の直流磁界をかけて引き寄せた後で、磁界を徐々に下げながらエアーで引き寄せた磁性粉末を吸引して、保磁力が＋５０００エルステッド〔Ｏｅ〕未満の成分だけ抽出する方法がある。また、前述のように、ε酸化鉄粉末は結晶磁気異方性を示すため、ε酸化鉄粉末の保磁力は粒子径の影響を受けやすく、一般に粒子径が小さいと保磁力は小さくなり、粒子径が大きいと保磁力は大きくなる傾向がある。そこで、ε酸化鉄粉末を溶剤に分散させてスラリーを作製し、そのスラリーを、超遠心分離法を用いて大きい粒子を沈降させた後に上澄み部分を取り出しで保磁力が＋５０００エルステッド〔Ｏｅ〕未満の成分だけを抽出する方法がある。これらの方法で、保磁力が＋５０００エルステッド〔Ｏｅ〕以上の超高保磁力成分を低減したε酸化鉄粉末を用いて磁性層を作製することにより、上記比率Ｒを０．１５以下に制御することができる。
【００２２】
更に、磁性層形成時に、磁場配向の強度を変えて、ヒステリシス曲線を変化させる方法によっても上記比率Ｒを制御することができ、特に配向磁場を適度に強くして磁性粉末を配向させることにより、ヒステリシス曲線の微分曲線に生じるピークの形状をシャープにすることができるため上記比率Ｒを小さくすることができる。
【００２３】
また、上記磁性層の厚さ方向の角形比を０．６５以上とすることで、出力特性を向上できるが、上記磁性層の厚さ方向の角形比を０．７５以上とすることで、更に出力特性を向上できる。上記角形比を０．６５以上に制御する方法は特に限定されないが、例えば、磁場配向の強度を変更して制御する方法等が採用できる。
【００２４】
また、上記磁性層の表面をｎ−ヘキサンで洗浄した後の上記磁性層の表面のスペーシングをＴＳＡ（Ｔａｐｅ  Ｓｐａｃｉｎｇ  Ａｎａｌｙｚｅｒ）で測定したとき、上記スペーシングの値は、５ｎｍ以上１５ｎｍ以下であることが好ましい。上記スペーシングの値が５ｎｍを下回ると、磁性層の表面が平滑になりすぎて、磁気ヘッドと磁性層との接触面積が大きくなり、摩擦係数が増大して、磁性層の耐久性が低下する傾向がある。一方、上記スペーシングの値が１５ｎｍを超えると、磁気ヘッドと磁性層表面との距離が大きくなりすぎて、記録再生特性が低下する傾向がある。上記スペーシングの値は、７ｎｍ以上１３ｎｍ以下がより好ましく、８ｎｍ以上１１ｎｍ以下が最も好ましい。
【００２５】
上記スペーシングの値の測定方法及びその制御方法は特に限定されないが、例えば、特開２０１２−４３４９５号公報（特許文献５）に記載の方法により行うことができる。
【００２６】
上記磁性層の表面には、フッ素系潤滑剤又はシリコーン系潤滑剤を含む潤滑剤層を備えることが好ましい。上記潤滑剤層を備えることにより、磁性層の摩擦係数が低減し、磁性層の耐久性がより向上する。
【００２７】
上記磁性層の厚さは、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。上記磁性層の厚さを２００ｎｍ以下とすることにより、短波長記録特性を向上でき、上記磁性層の厚さを３０ｎｍ以上とすることにより、サーボ信号を記録することができる。本実施形態で用いるε酸化鉄粉末の飽和磁化量は、従来の強磁性六方晶フェライト粉末の飽和磁化量に比べて、１／２〜１／３と小さいため、記録波長が長いサーボ信号を記録する場合には、磁性層の厚さは３０ｎｍ以上とする必要がある。
【００２８】
上記サーボ信号を磁性層に記録しない場合には、上記磁性層の厚さは、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下が好ましい。上記磁性層の厚さを１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下としても、トンネル型磁気抵抗効果型ヘッド（ＴＭＲヘッド）等の高感度の磁気ヘッドを用いれば、データ信号の記録再生が可能である。
【００２９】
以下、本実施形態を図面に基づき説明する。図１は、本実施形態の磁気記録媒体の一例を示す概略断面図である。
【００３０】
図１において、本実施形態の磁気記録媒体１０は、非磁性支持体１１と、非磁性支持体１１の一方の主面（ここでは、上面）に形成された下塗層１２と、下塗層１２の非磁性支持体１１側とは反対側の主面（ここでは、上面）に形成された磁性層１３とを有する磁気テープである。また、非磁性支持体１１の下塗層１２が形成されていない側の主面（ここでは、下面）には、バックコート層１４が形成されている。
【００３１】
＜磁性層＞
磁性層１３は、ε酸化鉄粉末と結合剤とを含むものである。
【００３２】
上記ε酸化鉄粉末は、一般組成式ε−Ｆｅ2Ｏ3で表される単相で形成されていることが好ましい。α酸化鉄やγ酸化鉄が混入すると、磁性層の保磁力が低下するからである。但し、磁性層の保磁力が低下しない水準であれば、不純物としてα酸化鉄やγ酸化鉄を含んでいてもよい。
【００３３】
上記ε酸化鉄粉末の保磁力は、３０００エルステッド〔Ｏｅ〕以上が好ましい。また、一般組成式ε−Ｆｅ2Ｏ3で表されるε酸化鉄粉末に不純物が含まれると、ε酸化鉄粉末の保磁力が低下するので、不純物が含まれないことが好ましい。但し、上記ε酸化鉄粉末は、その結晶中のＦｅサイトの一部をアルミニウム（Ａｌ）、ガリウム（Ｇａ）、ロジウム（Ｒｈ）、インジウム（Ｉｎ）等の３価の金属元素で置換することで、保磁力をコントロールすることができる。このため、上記ε酸化鉄粉末は、保磁力が３０００エルステッド〔Ｏｅ〕以上を維持できれば、不純物として鉄以外の金属元素を含んでいてもよい。
【００３４】
前述のとおり、上記磁性層に含まれる上記ε酸化鉄粉末の平均粒子径は、８ｎｍ以上２０ｎｍ以下に設定されている。上記ε酸化鉄粉末の平均粒子径が２０ｎｍを超えると、超高保磁力成分が増えるため、磁気ヘッドからの磁気信号を記録し難くなり、特に短波長記録では磁気記録媒体のノイズが上昇するため、高い電磁変換特性が得られない傾向がある。
【００３５】
本実施形態において磁性層に含まれるε酸化鉄粉末の平均粒子径は、ε酸化鉄粉末を用いた磁性層の表面を、日立製作所製の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）“Ｓ−４８００”を用い、加速電圧：２ｋＶ、倍率：１００００倍、観察条件：Ｕ−ＬＡ１００で撮影した写真より、１視野中のε酸化鉄粉末の粒子１００個を用いて、次のように測定する。
【００３６】
上記粒子が針状の場合は１００個の粒子の平均長軸径を、上記粒子が板状の場合は１００個の粒子の平均最大板径を、上記粒子が長軸長と短軸長の比が１〜３．５である球状ないし楕円体状の場合は１００個の粒子の平均最大差し渡し径をそれぞれ算出して決定する。
【００３７】
また、本実施形態において、ε酸化鉄と、それ以外のγ酸化鉄及びα酸化鉄とは、Ｘ線回折によりそれらの結晶構造を解析することにより、識別できる。
【００３８】
磁性層１３に含まれる結合剤としては、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等を用いることができる。上記熱可塑性樹脂としては、具体的には、例えば、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、塩化ビニル−ビニルアルコール共重合樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合樹脂、塩化ビニル−水酸基含有アルキルアクリレート共重合樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂等が挙げられる。また、上記熱硬化性樹脂としては、具体的には、例えば、フェノール系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂、尿素系樹脂、メラミン系樹脂、アルキド系樹脂等が挙げられる。
【００３９】
磁性層１３中の上記結合剤の含有量は、ε酸化鉄粉末１００質量部に対して、好ましくは７〜５０質量部であり、より好ましく１０〜３５質量部である。
【００４０】
また、上記結合剤とともに、結合剤中に含まれる官能基等と結合し架橋構造を形成する熱硬化性の架橋剤を併用することが好ましい。上記架橋剤としては、具体的には、例えば、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等のイソシアネート化合物；イソシアネート化合物とトリメチロールプロパン等の水酸基を複数個有する化合物との反応生成物；イソシアネート化合物の縮合生成物等の各種のポリイソシアネートが挙げられる。上記架橋剤の含有量は、結合剤１００質量部に対して、好ましくは１０〜５０質量部である。
【００４１】
磁性層１３は、上述したε酸化鉄粉末及び結合剤を含有していれば、研磨剤、潤滑剤、分散剤等の添加剤を更に含有してもよい。特に、耐久性の観点から、研磨剤及び潤滑剤が好ましく用いられる。
【００４２】
上記研磨剤としては、具体的には、例えば、αアルミナ、βアルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α酸化鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素等が挙げられ、これらの中でも、モース硬度６以上の研磨剤がより好ましい。これらは、単独で又は複数使用してもよい。上記研磨剤の平均粒子径は、使用する研磨剤の種類にもよるが、好ましくは１０〜２００ｎｍである。上記研磨剤の含有量は、磁性粉末１００質量部に対して、好ましくは５〜２０質量部であり、より好ましくは８〜１８質量部である。
【００４３】
上記潤滑剤としては、脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪酸アミドが挙げられる。上記脂肪酸は、直鎖型、分岐型、シス・トランス異性体のいずれであってもよいが、潤滑性能に優れる直鎖型が好ましい。このような脂肪酸としては、具体的には、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノール酸等が挙げられる。上記脂肪酸エステルとしては、具体的には、例えば、オレイン酸ｎ−ブチル、オレイン酸ヘキシル、オレイン酸ｎ−オクチル、オレイン酸２−エチルヘキシル、オレイン酸オレイル、ラウリン酸ｎ−ブチル、ラウリン酸ヘプチル、ミリスチン酸ｎ−ブチル、オレイン酸ｎ−ブトキシエチル、トリメチロールプロパントリオレエート、ステアリン酸ｎ−ブチル、ステアリン酸ｓ−ブチル、ステアリン酸イソアミル、ステアリン酸ブチルセロソルブ等が挙げられる。上記脂肪酸アミドとしては、具体的には、例えば、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド等が挙げられる。これらの潤滑剤は、単独で使用してもよく、また、複数を併用してもよい。
【００４４】
これらの中でも、脂肪酸エステルと脂肪酸アミドとを併用することが好ましい。特に、磁性層１３中の磁性粉末、研磨剤等の全粉末の総量１００質量部に対して、脂肪酸エステルを０．２〜３質量部、脂肪酸アミドを０．５〜５質量部使用することが好ましい。上記脂肪酸エステルの含有量が０．２質量部未満であると、摩擦係数低減効果が小さく、３．０質量部を超えると、磁性層１３がヘッドに貼り付く等の副作用を生じる虞があるからである。また、上記脂肪酸アミドの含有量が０．５質量部未満であると、磁気ヘッドと磁性層１３とが相互接触することにより生じる焼き付きを防止する効果が小さくなるからであり、５質量部を超えると脂肪酸アミドがブリードアウトしてしまう虞があるからである。
【００４５】
また、磁性層１３は、導電性及び表面潤滑性の向上を目的として、カーボンブラックを含有してもよい。このようなカーボンブラックとしては、具体的には、例えば、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック等が挙げられる。カーボンブラックの平均粒子径は、好ましくは０．０１〜０．１μｍである。上記平均粒子径が０．０１μｍ以上であれば、カーボンブラックが良好に分散された磁性層１３を形成することができる。一方、上記平均粒子径が０．１μｍ以下であれば、表面平滑性に優れた磁性層１３を形成することができる。また、必要に応じて、平均粒子径の異なるカーボンブラックを２種以上用いてもよい。上記カーボンブラックの含有量は、磁性粉末１００質量部に対して、好ましくは０．２〜５質量部であり、より好ましくは０．５〜４質量部である。
【００４６】
磁性層１３の表面粗さは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１で定義されている中心線平均粗さＲａとして、２．０ｎｍ未満であることが好ましい。磁性層１３の表面平滑性が向上するほど、高出力が得られるが、余りに磁性層１３の表面が平滑化しすぎると、摩擦係数が高くなり、走行安定性が低下する。このため、Ｒａは１．０ｎｍ以上であることが好ましい。
【００４７】
次に、磁性層１３の特性について説明する。図２は、磁性層１３の厚さ方向のヒステリシス曲線の一例を示す図である。図２に示すように、磁界が０の状態から磁性層１３に正方向の磁場を印加すると正方向の飽和磁化Ｍｓに達する。その後、上記正方向に対して逆方向の磁場を印加すると逆方向の飽和磁化−Ｍｓに達する。その飽和磁化が−Ｍｓとなるヒステリシス曲線上の端点をＡ点とする。また、Ａ点から更に正方向の磁場を印加すると正方向の飽和磁化Ｍｓに達する。その飽和磁化がＭｓとなるヒステリシス曲線上の端点をＢ点とする。また、図２において、Ｍｒは磁界０における磁化である残留磁化を示し、Ｈｃは磁化が負から正の値に反転するときの磁化０における磁界の強さである保磁力を示す。
【００４８】
磁性層１３は、図２において、Ｍｒ／Ｍｓで示される厚さ方向の角形比は、０．６５以上に設定されている。
【００４９】
図３は、図２におけるＡ点からＢ点へ向かうヒステリシス曲線を微分して得られる微分曲線の一部を示す。図３では、０エルステッド〔Ｏｅ〕以上、＋１００００エルステッド〔Ｏｅ〕以下の磁界の範囲における上記微分曲線の積分値をＡ、＋５０００エルステッド〔Ｏｅ〕以上、＋１００００エルステッド〔Ｏｅ〕以下の磁界の範囲における上記微分曲線の積分値をＢ、積分値Ａと積分値Ｂとの比率Ｂ／ＡをＲとすると、Ｒ≦０．１５の関係が成立している。ここで、積分値Ａは、図３において、０エルステッド〔Ｏｅ〕以上、＋１００００エルステッド〔Ｏｅ〕以下の磁界の範囲におけるＸ軸と上記微分曲線により囲まれた面積値に該当し、積分値Ｂは、図３において、＋５０００エルステッド〔Ｏｅ〕以上、＋１００００エルステッド〔Ｏｅ〕以下の磁界の範囲におけるＸ軸と上記微分曲線により囲まれた面積値に該当する。
【００５０】
また、図３では、２つ以上のピークが存在し、上記ピークの内、＋５００エルステッド〔Ｏｅ〕以上の磁界の範囲における最大のピークの極大値をＰ１とし、−５００エルステッド〔Ｏｅ〕以上、＋５００エルステッド〔Ｏｅ〕未満の磁界の範囲における最大のピークの極大値をＰ２としている。
【００５１】
上記極大値Ｐ１は、高保磁力成分である粒子径が８ｎｍ以上２０ｎｍ以下の磁性粉末の割合を表し、上記極大値Ｐ２は、低保磁力成分である粒子径が８ｎｍ未満の磁性粉末の割合を表すと考えられる。即ち、前述のとおり、ε酸化鉄粉末は結晶磁気異方性を示すため、ε酸化鉄粉末の保磁力は粒子径の影響を受けやすく、一般に粒子径が小さいと保磁力は小さくなり、粒子径が大きいと保磁力は大きくなる。特に、ε酸化鉄粉末の粒子径がより小さくなると急激に保磁力が小さくなり、保磁力に対する影響が大きくなると考えられる。
【００５２】
図３において、Ｐ２／Ｐ１は、０．２５≦Ｐ２／Ｐ１≦０．６０の範囲に設定されていることが好ましい。このように、低保磁力成分である粒子径が８ｎｍ未満の磁性粉末の割合を低く設定し、高保磁力成分である粒子径が８ｎｍ以上２０ｎｍ以下の磁性粉末の割合を高く設定することにより、出力特性がより優れた磁気記録媒体を提供できる。
【００５３】
上記Ｐ２／Ｐ１を０．２５以上０．６０以下に制御する方法としては特に限定されないが、例えば、高保磁力成分のε酸化鉄粉末と、低保磁力成分のε酸化鉄粉末との混合比率を変える方法、磁場配向の強度を変えて、厚さ方向のヒステリシス曲線を変化させる方法等を採用できる。より具体的には、磁性層１３に含まれる上記磁性粉末の平均粒子径を８ｎｍ以上２０ｎｍ以下とすることにより、Ｐ２／Ｐ１を０．２５≦Ｐ２／Ｐ１≦０．６０の範囲に設定できる。
【００５４】
＜潤滑剤層＞
図１には示していないが、前述したように、磁性層１３の摩擦係数を低減し、磁性層１３の耐久性をより向上させるため、磁性層１３の上には、フッ素系潤滑剤又はシリコーン系潤滑剤を含む潤滑剤層を設けることが好ましい。上記フッ素系潤滑剤として、トリクロロフルオロエチレン、パーフルオロポリエーテル、パーフルオロアルキルポリエーテル、パーフルオロアルキルカルボン酸等が挙げられる。上記シリコーン系潤滑剤として、シリコーンオイル、変性シリコーンオイル等が挙げられる。これらの潤滑剤は、単独で使用してもよく、また、複数を併用してもよい。より具体的には、上記フッ素系潤滑剤としては、例えば、３Ｍ社製の“Ｎｏｖｅｃ７１００”、“Ｎｏｖｅｃ１７２０”（商品名）を用いることができ、上記シリコーン系潤滑剤としては、例えば、信越化学工業株式会社製の“ＫＦ−９６Ｌ”、“ＫＦ−９６Ａ”、“ＫＦ−９６”、“ＫＦ−９６Ｈ”、“ＫＦ−９９”、“ＫＦ−５０”、“ＫＦ−５４”、“ＫＦ−９６５”、“ＫＦ−９６８”、“ＨＩＶＡＣ  Ｆ−４”、“ＨＩＶＡＣ  Ｆ−５”、“ＫＦ−５６Ａ”、“ＫＦ９９５”、“ＫＦ−６９”、“ＫＦ−４１０”、“ＫＦ−４１２”、“ＫＦ−４１４”、“ＦＬ”（商品名）、東レダウコーニング株式会社製の“ＢＹ１６−８４６”、“ＳＦ８４１６”、“ＳＨ２００”、“ＳＨ２０３”、“ＳＨ２３０”、“ＳＦ８４１９”、“ＦＳ１２６５”、“ＳＨ５１０”、“ＳＨ５５０”、“ＳＨ７１０”、“ＦＺ−２１１０”、“ＦＺ−２２０３”（商品名）を用いることができる。
【００５５】
上記潤滑剤層の厚さは特に限定されず、例えば、３〜５ｎｍとすればよい。上記潤滑剤層の厚さは、前述の特開２０１２−４３４９５号公報（特許文献５）に記載のＴＳＡを用いる方法により、上記潤滑剤層を有機溶剤で洗い流す前後の磁気記録媒体と透明体とのスペーシングの差から潤滑剤層の厚みを測定することができる。
【００５６】
上記潤滑剤層は、磁性層１３の上に上記潤滑剤をトップコートすれば形成できる。磁性層１３は、前述のように、粒子径が比較的大きな高保磁力成分の磁性粉末と、粒子径が比較的小さな低保磁力成分の磁性粉末とが、緻密に充填されているため、磁性層１３中に含まれる潤滑剤は、磁性層１３の表面に移動しにくいが、潤滑剤を磁性層の表面に塗布するトップコートにより、確実に磁性層１３の表面に潤滑剤層を形成できる。
【００５７】
＜下塗層＞
磁性層１３の下には、潤滑剤の保持機能と、外部応力（例えば、磁気ヘッドによる加圧力）の緩衝機能とを有する下塗層１２を設けることが好ましい。また、下塗層１２を設けることにより、磁気記録媒体１０の強度が高まるため、磁気記録媒体１０を形成する際に、カレンダ処理を可能とし、磁性層１３の充填性を向上できる。下塗層１２は、非磁性粉末と結合剤と潤滑剤とを含むものである。
【００５８】
下塗層１２に含まれる非磁性粉末としては、カーボンブラック、酸化チタン、酸化鉄、酸化アルミニウム等が挙げられ、通常は、カーボンブラックが単独で用いられるか、カーボンブラックと、酸化チタン、酸化鉄、酸化アルミニウム等の他の非磁性粉末とが混合して用いられる。厚さムラの少ない塗膜を形成して平滑な下塗層１２を形成するためには、粒度分布がシャープな非磁性粉末を用いることが好ましい。上記非磁性粉末の平均粒子径は、下塗層１２の均一性、表面平滑性、剛性の確保、及び導電性確保の観点から、例えば１０〜１０００ｎｍであることが好ましく、１０〜５００ｎｍであることがより好ましい。
【００５９】
下塗層１２に含まれる非磁性粉末の粒子形状は、球状、板状、針状、紡錘状のいずれでもあってもよい。針状又は紡錘状の非磁性粉末の平均粒子径は、平均長軸径で１０〜３００ｎｍが好ましく、平均短軸径で５〜２００ｎｍが好ましい。球状の非磁性粉末の平均粒子径は、５〜２００ｎｍが好ましく、５〜１００ｎｍがより好ましい。板状の非磁性粉末の平均粒子径は、最も大きな板径で１０〜２００ｎｍが好ましい。
【００６０】
下塗層１２に含まれる結合剤及び潤滑剤としては、前述の磁性層１３に用いられる結合剤及び潤滑剤と同様のものが使用できる。上記結合剤の含有量は、上記非磁性粉末１００質量部に対して、好ましくは７〜５０質量部であり、より好ましくは１０〜３５質量部である。また、上記潤滑剤の含有量は、上記非磁性粉末１００質量部に対して、好ましくは２〜６質量部であり、より好ましくは２．５〜４質量部である。
【００６１】
前述の磁性層１３に用いるε酸化鉄粉末の飽和磁化量は、従来の強磁性六方晶フェライト粉末の飽和磁化量に比べて、１／２〜１／３と小さいため、記録波長が長いサーボ信号を記録する場合には、下塗層１２に磁性粉末を含有させる。上記磁性粉末としては、例えば、針状の金属鉄系磁性粉末、板状の六方晶フェライト磁性粉末、粒状の窒化鉄系磁性粉末等を用いることができる。
【００６２】
下塗層１２の厚さは、好ましくは０．１〜３μｍであり、より好ましくは０．３〜２μｍである。この厚さ範囲とすることにより、磁気記録媒体１０の全厚を不要に大きくせずに、潤滑剤の保持機能と、外部応力の緩衝機能を維持できる。
【００６３】
＜非磁性支持体＞
非磁性支持体１１としては、従来から使用されている磁気記録媒体用の非磁性支持体を使用できる。具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルローストリアセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフオン、アラミド等からなるフィルム等が挙げられる。
【００６４】
非磁性支持体１１の厚さは、用途によって異なるが、好ましくは１．５〜１１μｍであり、より好ましくは２〜７μｍである。非磁性支持体１１の厚さが１．５μｍ以上であれば、成膜性が向上するとともに、高い強度を得ることができる。一方、非磁性支持体１１の厚さが１１μｍ以下であれば、全厚が不要に厚くならず、例えば、磁気テープの場合１巻当たりの記録容量を大きくすることができる。
【００６５】
非磁性支持体１１の長手方向のヤング率は、好ましくは５．８ＧＰａ以上であり、より好ましくは７．１ＧＰａ以上である。非磁性支持体１１の長手方向のヤング率が５．８ＧＰａ以上であれば、走行性を向上させることができる。また、ヘリキャルスキャン方式に用いられる磁気記録媒体では、長手方向のヤング率（ＭＤ）と幅方向のヤング率（ＴＤ）との比（ＭＤ／ＴＤ）は、好ましくは０．６〜０．８であり、より好ましくは０．６５〜０．７５であり、更に好ましくは０．７である。上記比の範囲内であれば、磁気ヘッドのトラックの入側から出側間の出力のばらつき（フラットネス）を抑えることができる。リニアレコーディング方式に用いられる磁気記録媒体では、長手方向のヤング率（ＭＤ）と幅方向のヤング率（ＴＤ）との比（ＭＤ／ＴＤ）は、好ましくは０．７〜１．３である。
【００６６】
＜バックコート層＞
非磁性支持体１１の下塗層１２が形成されている主面とは反対側の主面（ここでは、下面）には、走行性の向上等を目的としてバックコート層１４を設けることが好ましい。バックコート層１４の厚さは、好ましくは０．２〜０．８μｍであり、より好ましくは０．３〜０．８μｍである。バックコート層１４の厚さが薄すぎると、走行性向上効果が不十分となり、厚すぎると磁気記録媒体１０の全厚が厚くなり、磁気テープ１巻当たりの記録容量が小さくなる。
【００６７】
バックコート層１４は、例えば、アセチレンブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック等のカーボンブラックを含有することが好ましい。通常、粒子径が相対的に異なる、小粒径カーボンブラックと大粒径カーボンブラックとが併用される。併用する理由は、走行性向上効果が大きくなるからである。
【００６８】
また、バックコート層１４は結合剤を含み、結合剤としては、磁性層１３及び下塗層１２に用いられる結合剤と同様のものを用いることができる。これら中でも、摩擦係数を低減させ磁気ヘッドの走行性を向上させるためには、セルロース系樹脂とポリウレタン系樹脂とを併用することが好ましい。
【００６９】
バックコート層１４は、強度向上を目的として、酸化鉄、アルミナ等を更に含有することが好ましい。
【００７０】
次に、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法について説明する。本実施形態の磁気記録媒体の製造方法は、例えば、各層形成成分と溶媒とを混合して、磁性層形成用塗料、下塗層形成用塗料及びバックコート層形成用塗料をそれぞれ作製し、非磁性支持体の片面に下塗層形成用塗料を塗布して乾燥させて下塗層を形成した後に、その下塗層の上に磁性層形成用塗料を塗布して乾燥させる逐次重層塗布方式で磁性層を形成し、更に非磁性支持体の他方の片面にバックコート層形成用塗料を塗布して乾燥してバックコート層を形成する。その後に全体をカレンダ処理して磁気記録媒体を得る。
【００７１】
また、上記逐次重層塗布方式に代えて、非磁性支持体の片面に下塗層形成用塗料を塗布した後、下塗層形成用塗料が乾燥する前に、下塗層形成用塗料の上に磁性層形成用塗料を塗布して乾燥させる同時重層塗布方式を採用することもできる。
【００７２】
上記各塗料の塗布方法は特に限定されず、例えば、グラビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗布等を用いることができる。
【実施例】
【００７３】
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。また、以下の説明において、「部」とあるのは「質量部」を意味する。
【００７４】
（実施例１）
［磁性塗料の調製］
表１に示す磁性塗料成分（１）を高速攪拌混合機で高速混合して混合物を調製した。次に、得られた混合物をサンドミルで２５０分間分散処理した後、表２に示す磁性塗料成分（２）を加えて分散液を調製した。次に、得られた分散液と、表３に示す磁性塗料成分（３）とをディスパを用いて撹拌し、これをフィルタでろ過して、磁性塗料を調製した。
【００７５】
上記磁性塗料成分（１）のε−Ｆｅ2Ｏ3磁性粉末（Ａ）は、下記のように超遠心分離法により粒子径の大きな粒子を除去して準備した。先ず、ε−Ｆｅ2Ｏ3磁性粉末（１００部）に、溶剤としてシクロヘキサノン（４００部）、分散剤としてステアリン酸（３部）を加えて、ホモジナイザーを用いて３時間分散させた後に、高圧式メディアレス分散機を用いて、圧力１１０ＭＰａ、吐出径０．１８ｍｍで３パスの分散処理を行ってスラリーを作製した。次に、そのスラリーを日立工機社製の超遠心機“ＣＰ１００ＮＸ”（製品名）を用いて、２８，５００ｒｐｍで１０分間の超遠心分離処理を行って大きい粒子を沈降させた後に、上澄み部分を取り出して、溶剤を乾燥除去して、ε−Ｆｅ2Ｏ3磁性粉末（Ａ）とした。
【００７６】
【表１】
2019023950.tif 000003
【００７７】
【表２】
2019023950.tif 000004
【００７８】
【表３】
2019023950.tif 000005
【００７９】
［下塗塗料の調製］
表４に示す下塗塗料成分（１）を回分式ニーダで混練することにより混練物を調製した。次に、得られた混練物と、表５に示す下塗塗料成分（２）とをディスパを用いて撹拌して、混合液を調製した。次に、得られた混合液をサンドミルで１００分間分散して分散液を調製した後、この分散液と、表６に示す下塗塗料成分（３）とをディスパを用いて撹拌し、これをフィルタでろ過して、下塗塗料を調製した。
【００８０】
【表４】
2019023950.tif 000006
【００８１】
【表５】
2019023950.tif 000007
【００８２】
【表６】
2019023950.tif 000008
【００８３】
［バックコート層用塗料の調製］
表７に示すバックコート層用塗料成分を混合した混合液を、サンドミルで５０分間分散して分散液を調製した。得られた分散液にポリイソシアネートを１５部加えて撹拌し、これをフィルタでろ過して、バックコート層用塗料を調製した。
【００８４】
【表７】
2019023950.tif 000009
【００８５】
［評価用磁気テープの作製］
非磁性支持体（ポリエチレンナフタレートフィルム、厚さ：５μｍ）の上に、上記下塗塗料をカレンダ処理後の下塗層の厚さが１．１μｍとなるように塗布し、１００℃で乾燥して下塗層を形成した。次に、上記下塗層の上に、上記磁性塗料をカレンダ処理後の磁性層の厚さが５５ｎｍとなるように塗布し、Ｎ−Ｓ対抗磁石を用いて配向磁界（４５０ｋＡ／ｍ）を印加して垂直配向処理を行いながら、１００℃で乾燥して磁性層を形成した。
【００８６】
次に、上記バックコート層用塗料を、非磁性支持体の上記下塗層及び上記磁性層が形成された面とは反対側の面上に、カレンダ処理後の厚さが０．５μｍとなるように塗布し、１００℃で乾燥してバックコート層を形成した。
【００８７】
その後、上記非磁性支持体の上面側に下塗層及び磁性層が形成され、下面側にバックコート層が形成された原反ロールを、７段の金属ロールを有するカレンダ装置で温度１００℃、線圧３００ｋｇ／ｃｍでカレンダ処理した。
【００８８】
最後に、得られた原反ロールを６０℃で４８時間硬化処理し、磁気シートを作製した。この磁気シートを１／２インチ幅に裁断して評価用磁気テープを作製した。
【００８９】
（実施例２）
磁性塗料成分（１）において、ε−Ｆｅ2Ｏ3磁性粉末（Ａ）の添加量を７５部に変更し、ε−Ｆｅ2Ｏ3磁性粉末（Ｂ）の添加量を２５部に変更した以外は、実施例１と同様にして評価用磁気テープを作製した。
【００９０】
（実施例３）
磁性塗料成分（１）において、ε−Ｆｅ2Ｏ3磁性粉末（Ａ）の添加量を８５部に変更し、ε−Ｆｅ2Ｏ3磁性粉末（Ｂ）の添加量を１５部に変更した以外は、実施例１と同様にして評価用磁気テープを作製した。
【００９１】
（実施例４）
磁性塗料成分（１）において、ε−Ｆｅ2Ｏ3磁性粉末（Ａ）の添加量を８５部に変更し、ε−Ｆｅ2Ｏ3磁性粉末（Ｂ）の添加量を１５部に変更し、カーボンブラックの添加量を２．５部に変更した以外は、実施例１と同様にして評価用磁気テープを作製した。
【００９２】
（実施例５）
磁性塗料成分（１）において、ε−Ｆｅ2Ｏ3磁性粉末（Ａ）の添加量を７５部に変更し、ε−Ｆｅ2Ｏ3磁性粉末（Ｂ）の添加量を２５部に変更し、垂直配向処理の配向磁界を２５０ｋＡ／ｍに変更した以外は、実施例１と同様にして評価用磁気テープを作製した。
【００９３】
（実施例６）
磁性塗料成分（１）において、ε−Ｆｅ2Ｏ3磁性粉末（Ａ）の添加量を８５部に変更し、ε−Ｆｅ2Ｏ3磁性粉末（Ｂ）の添加量を１５部に変更し、磁性層の厚さを３０ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様にして評価用磁気テープを作製した。
【００９４】
（実施例７）
磁性塗料成分（１）において、ε−Ｆｅ2Ｏ3磁性粉末（Ａ）の添加量を８５部に変更し、ε−Ｆｅ2Ｏ3磁性粉末（Ｂ）の添加量を１５部に変更し、磁性層の厚さを２００ｎｍに変更した以外は、実施例１と同様にして評価用磁気テープを作製した。
【００９５】
（実施例８）
磁性塗料成分（１）において、カーボンブラックの添加量を３部に変更した以外は、実施例１と同様にして評価用磁気テープを作製した。
【００９６】
（比較例１）
磁性塗料成分（１）において、ε−Ｆｅ2Ｏ3磁性粉末（Ａ）の添加量を５０部に変更し、ε−Ｆｅ2Ｏ3磁性粉末（Ｂ）の添加量を５０部に変更した以外は、実施例１と同様にして評価用磁気テープを作製した。
【００９７】
（比較例２）
磁性塗料成分（１）において、ε−Ｆｅ2Ｏ3磁性粉末（Ａ）の添加量を０部に変更し、ε−Ｆｅ2Ｏ3磁性粉末（Ｂ）の添加量を１００部に変更した以外は、実施例１と同様にして評価用磁気テープを作製した。
【００９８】
（比較例３）
磁性塗料成分（１）において、ε−Ｆｅ2Ｏ3磁性粉末（Ａ）の添加量を７５部に変更し、ε−Ｆｅ2Ｏ3磁性粉末（Ｂ）の添加量を２５部に変更し、垂直配向処理の配向磁界を１００ｋＡ／ｍに変更した以外は、実施例１と同様にして評価用磁気テープを作製した。
【００９９】
次に、作製した評価用磁気テープを用いて以下の評価を行った。
【０１００】
＜磁性特性＞
東英工業社製の振動試料型磁力計“ＶＳＭ−Ｐ７型”（製品名）を用いて、評価用磁気テープの磁性層の厚さ方向のヒステリシス曲線を求めた。具体的には、評価用磁気テープを直径８ｍｍの円形に切断して切断サンプルとし、その切断サンプルを、磁気テープの厚さ方向を外部磁場の印加方向に揃えて２０枚積層して測定サンプルとした。振動試料型磁力計からのデータのプロットモードとしては、印加磁界を−１６ｋＯｅ〜１６ｋＯｅとし、時定数ＴＣを０．０３ｓｅｃ、描画ステップを６ビット、ウエイトタイムを０．３ｓｅｃと設定した。
【０１０１】
上記厚さ方向のヒステリシス曲線から、磁性層の厚さ方向の角形比及び磁性層の厚さ方向の保磁力を求めた。
【０１０２】
また、この厚さ方向のヒステリシス曲線において、磁性層に正方向の磁場を印加して正方向の飽和磁化に達した後、正方向に対して逆方向の磁場を印加して逆方向の飽和磁化に達した点をＡ点とし、Ａ点から更に正方向の磁場を印加して正方向の飽和磁化に達した点をＢ点とした場合、Ａ点からＢ点へ向かうヒステリシス曲線について、２７５９点に分割して出力した測定データの各測定点に対して、１８点目から２７４２点目までの中の一つの測定点と、その測定点を中心とした前後１７点との合計３５点の範囲において、線形最小二乗近似を行い、得られた近似式の傾きをその測定点における微分値とした。この方法で求めた、１８点目から２７４２点目までの各測定点における微分値から、微分曲線を求めた。
【０１０３】
得られた微分曲線から、０エルステッド〔Ｏｅ〕以上、＋１００００エルステッド〔Ｏｅ〕以下の磁界の範囲における上記微分曲線の積分値Ａと、＋５０００エルステッド〔Ｏｅ〕以上、＋１００００エルステッド〔Ｏｅ〕以下の磁界の範囲における上記微分曲線の積分値Ｂとを求め、積分値Ａと積分値Ｂとの比率Ｒ＝Ｂ／Ａを算出した。
【０１０４】
ここで、図４に実施例１、比較例１及び比較例２のそれぞれで求めた厚さ方向のヒステリシス曲線の微分曲線の一部を示す。
【０１０５】
＜磁性層のスペーシング＞
Ｍｉｃｒｏ  Ｐｈｙｓｉｃｓ社製のＴＳＡ（Ｔａｐｅ  Ｓｐａｃｉｎｇ  Ａｎａｌｙｚｅｒ）を用いて、磁性層の表面をｎ−ヘキサンで洗浄した後のスペーシングＳｐを測定した。
【０１０６】
具体的には、ウレタン製の半球で磁性層をガラス板に押し付ける圧力は０．５ａｔｍ（５．０５×１０4Ｎ／ｍ）とした。この状態でストロボスコープから白色光を、ガラス板を通して評価用磁気テープの磁性層側表面の一定領域（２４００００〜２８００００μｍ2）に照射し、そこからの反射光を、ＩＦフィルタ(６３３ｎｍ)及びＩＦフィルタ(５４６ｎｍ)を通してＣＣＤで受光することで、この領域の凹凸で生じた干渉縞画像を得た。
【０１０７】
次に、この画像を６６０００ポイントに分割して各ポイントのガラス板から磁性層表面までの距離を求めこれをヒストグラム（度数分布曲線）とし、更にローパスフィルタ（ＬＰＦ）処理によって滑らかな曲線として、そのピーク位置のガラス板から磁性層表面までの距離をスペーシングＳｐとした。
【０１０８】
また、上記スペーシングの計算に用いた磁性層表面の光学定数（位相、反射率）は、大塚電子社製の反射分光膜厚計“ＦＥ−３０００”を用いて測定し、波長５４６ｎｍ付近の値を用いた。
【０１０９】
ｎ−ヘキサンによる洗浄は、評価用磁気テープをｎ−ヘキサンに浸漬して室温で３０分間超音波洗浄することにより行った。
【０１１０】
＜出力特性＞
Ｍｉｃｒｏ  Ｐｈｙｓｉｃｓ社製のループテスター（動的ＴＳＡ装置）を用い、これに書込みトラック幅１１μｍ、読出しトラック幅３．８μｍの誘導型／ＧＭＲ複合ヘッドを取り付け、テープ速度１．５ｍ／ｓｅｃで、記録波長２００ｎｍの信号を評価用磁気テープに記録し、再生した信号を市販のＭＲヘッド用Ｒｅａｄアンプで増幅した後、キーサイト・テクノロジー社製のスペクトラムアナライザー“Ｎ９０２０Ａ”を用いて信号の基本波成分出力（Ｓ）と、その２倍の周波数までの積分ノイズ（Ｎ）とを測定した。そして、
比較例１のＳ／Ｎ比を基準（０ｄＢ）として、他のＳ／Ｎ比を比較例１のＳ／Ｎ比に対する相対値（ｄＢ）で出力特性を評価した。
【０１１１】
以上の評価結果を表８に示す。また、表８には、用いた磁性粉末全体の平均粒子径を、磁性粉末（Ａ）及び（Ｂ）の平均粒子径を配合比率で重み付けして計算した値として示すとともに、磁性層の厚さも示した。
【０１１２】
【表８】
2019023950.tif 000010
【０１１３】
表８から、実施例１〜８は、比較例１〜３に比べて、全て出力特性が優れていることが分かる。一方、超高保磁力成分の比率Ｒが０．１５を上回った比較例１〜２、及び角形比が０．６５を下回った比較例３では、全て出力特性が劣った。
【産業上の利用可能性】
【０１１４】
本発明の磁気記録媒体は、出力特性に優れた磁気記録媒体として利用可能である。
【符号の説明】
【０１１５】
１０  磁気記録媒体（磁気テープ）
１１  非磁性支持体
１２  下塗層
１３  磁性層
１４  バックコート層
【図１】
2019023950.tif 000011
【図２】
2019023950.tif 000012
【図３】
2019023950.tif 000013
【図４】
2019023950.tif 000014