(57)【要約】【課題】ガスバリア性の低下が抑制されたフレキシブルディスプレイ用ガスバリア性カットシート、およびそのガスバリア性カットシートを備えたフレキシブルディスプレイを提供する。【解決手段】フレキシブルディスプレイに使用されるガスバリア性カットシートであって、基材フィルム上に少なくとも酸化亜鉛および酸化ケイ素を含有する無機膜を有する、フレキシブルディスプレイ用ガスバリア性カットシート、およびそのガスバリア性カットシートを備えたフレキシブルディスプレイ。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレキシブルディスプレイに使用されるガスバリア性カットシートであって、基材フィルム上に少なくとも酸化亜鉛および酸化ケイ素を含有する無機膜を有することを特徴とする、フレキシブルディスプレイ用ガスバリア性カットシート。
【請求項２】
前記無機膜が、酸化亜鉛、酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含有する、請求項１に記載のフレキシブルディスプレイ用ガスバリア性カットシート。
【請求項３】
前記無機膜のＸ線光電子分光法（ＸＰＳ法）により測定される、Ｚｎ原子濃度が２０〜４０ａｔｏｍ％、Ｓｉ原子濃度が５〜２０ａｔｏｍ％、Ａｌ原子濃度が０．５〜５ａｔｏｍ％、Ｏ原子濃度が３５〜７０ａｔｏｍ％の範囲にある、請求項２に記載のフレキシブルディスプレイ用ガスバリア性カットシート。
【請求項４】
前記基材フィルムが環状オレフィン樹脂フィルムである、請求項１〜３のいずれかに記載のフレキシブルディスプレイ用ガスバリア性カットシート。
【請求項５】
前記フレキシブルディスプレイがフォルダブルディスプレイまたはベンダブルディスプレイである、請求項１〜４のいずれかに記載のフレキシブルディスプレイ用ガスバリア性カットシート。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載のフレキシブルディスプレイ用ガスバリア性カットシートを備えたフレキシブルディスプレイ。
【請求項７】
フォルダブルディスプレイまたはベンダブルディスプレイである、請求項６に記載のフレキシブルディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガスバリア性カットシート、とくにフレキシブルディスプレイに使用されるガスバリア性カットシート、およびそれを備えたフレキシブルディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
ガスバリア性フィルムは、通常、基材フィルム上にガスバリア層が積層された構成となっている。ガスバリア層としては、無機膜が一般的に知られており、例えば、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、窒化珪素、酸化マグネシウム等の蒸着膜が一般的に知られている。
【０００３】
基材フィルム上に無機膜が積層されたガスバリア性フィルムは、高いガスバリア性、例えば、水蒸気透過率が１０−１（ｇ／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ））以下のガスバリア性が実現できる。
【０００４】
ガスバリア性フィルムは、基材フィルム上に真空蒸着やスパッタリングにより無機膜を成膜することによって製造される。この無機膜の成膜方法としては、所定サイズのシート状基材フィルムに無機膜を成膜する方法、あるいはロール・ツー・ロール（Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ)方式により長尺基材フィルムに無機膜を成膜する方法が挙げられる。生産性の観点から、ロール・ツー・ロール方式が広く採用されている。
【０００５】
ロール・ツー・ロール方式によって無機膜（ガスバリア層）が積層された長尺のガスバリア性フィルムは、所定サイズのカットシートに切断（裁断加工）される（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１２−４０６２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ガスバリア性無機膜は、相対的に硬く脆い膜であるため、ガスバリア性フィルムを所定サイズに切断したときに切断部に微小クラックが発生することがある。所定サイズに切断されたガスバリア性カットシートの切断部のみに微小クラックが発生していても、ガスバリア性能は、通常、問題とはならない。
【０００８】
近年、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）を搭載したフレキシブルディスプレイが開発されている。フレキシブルディスプレイとしては、例えば、フォルダブルディスプレイ（折り畳み可能なディスプレイ）、ベンダブルディスプレイ（折り曲げ可能なディスプレイ）、あるいはローラブルディスプレイ（巻き取り可能なディスプレイ）が提案されている。とくにこれらのフレキシブルディスプレイに従来のガスバリア性カットシートを使用すると、ガスバリア性が低下することがある。
【０００９】
そこで、本発明の課題は、上述の問題点に鑑み、ガスバリア性の低下が抑制されたフレキシブルディスプレイ用ガスバリア性カットシートを提供することにある。また、本発明の他の目的は、本発明のガスバリア性カットシートを備えたフレキシブルディスプレイを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題は、以下の本発明によって達成される。
［１］フレキシブルディスプレイに使用されるガスバリア性カットシートであって、基材フィルム上に少なくとも酸化亜鉛および酸化ケイ素を含有する無機膜を有することを特徴とする、フレキシブルディスプレイ用ガスバリア性カットシート。
［２］前記無機膜が、酸化亜鉛、酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含有する、［１］に記載のフレキシブルディスプレイ用ガスバリア性カットシート。
［３］前記無機膜のＸ線光電子分光法（ＸＰＳ法）により測定される、Ｚｎ原子濃度が２０〜４０ａｔｏｍ％、Ｓｉ原子濃度が５〜２０ａｔｏｍ％、Ａｌ原子濃度が０．５〜５ａｔｏｍ％、Ｏ原子濃度が３５〜７０ａｔｏｍ％の範囲にある、［２］に記載のフレキシブルディスプレイ用ガスバリア性カットシート。
［４］前記基材フィルムが環状オレフィン樹脂フィルムである、［１］〜［３］のいずれかに記載のフレキシブルディスプレイ用ガスバリア性カットシート。
［５］前記フレキシブルディスプレイがフォルダブルディスプレイまたはベンダブルディスプレイである、［１］〜［４］のいずれかに記載のフレキシブルディスプレイ用ガスバリア性カットシート。
［６］［１］〜［５］のいずれかに記載のフレキシブルディスプレイ用ガスバリア性カットシートを備えたフレキシブルディスプレイ。
［７］フォルダブルディスプレイまたはベンダブルディスプレイである、［６］に記載のフレキシブルディスプレイ。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、ガスバリア性の低下が抑制されたフレキシブルディスプレイ用ガスバリア性カットシートを提供することができる。また、本発明によれば、そのガスバリア性カットシートを備えた、ガスバリア性の低下が抑制されたフレキシブルディスプレイを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明のガスバリア性シートを備えたフレキシブルディスプレイの一例の模式断面図である。
【図２】本発明のガスバリア性カットシートを得るためのガスバリア性フィルムを製造する巻き取り式スパッタリング装置を模式的に示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下に、本発明について、実施の形態とともに詳細に説明する。
本発明のフレキシブルディスプレイ用ガスバリア性カットシートは、ガスバリア性フィルムをフレキシブルディスプレイの形状やサイズに合わせてカットされたものである。カッティング方法としては、従来から一般的に行われている方法、例えば、切断刃による打ち抜き方法やレーザーによるアブレーション法が挙げられる。
【００１４】
ガスバリア性カットシートの平面形状は、正方形や長方形などの矩形が一般的であるが、円形、楕円形、三角形、四角形、五角形以上の多角形、およびこれらを組み合わせた形状を採り得る。
【００１５】
なお、以下の説明において、フレキシブルディスプレイ用ガスバリア性カットシートを「ガスバリア性カットシート」あるいは「カットシート」ということもある。
【００１６】
本発明のガスバリア性カットシートは、基材フィルム上に少なくとも酸化亜鉛および酸化ケイ素を含有する無機膜を有する。この無機膜はガスバリア性膜として機能する。
【００１７】
フレキシブルディスプレイに使用されたときのガスバリア性カットシートのガスバリア性の低下は、カットシートの無機膜の切断部に生じた微小クラックが起因していると推測される。つまり、フレキシブルディスプレイを折り曲げたり折り畳んだりしたときに、カットシートの無機膜の切断部に存在する微小クラックが中央方向に伝播することによって、ガスバリア性が低下していると考えられる。
【００１８】
上記ガスバリア性の低下は、基材フィルム上に設けられる無機膜が少なくとも酸化亜鉛および酸化ケイ素を含有する無機膜であることによって抑制される。つまり、酸化亜鉛および酸化ケイ素を含有する無機膜は、切断時にクラックが発生しないか、またはクラックが発生しても極微小であるかまたは極少数である。
【００１９】
［無機膜］
本発明における無機膜はガスバリア性膜として機能する。無機膜は、酸化亜鉛および酸化ケイ素を含有する。酸化ケイ素としては二酸化ケイ素が好ましい。この無機膜は、さらに酸化アルミニウムを含有することが好ましい。つまり、本発明における無機膜は、酸化亜鉛、酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含有することが好ましい。
【００２０】
酸化亜鉛、酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含有する無機膜において、その組成としては、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ法）により測定される、Ｚｎ原子濃度が２０〜４０ａｔｏｍ％、Ｓｉ原子濃度が５〜２０ａｔｏｍ％、Ａｌ原子濃度が０．５〜５ａｔｏｍ％、Ｏ原子濃度が３５〜７０ａｔｏｍ％の範囲にあることが好ましい。
【００２１】
Ｚｎ原子濃度が４０ａｔｏｍ％より大きくなると、またはＳｉ原子濃度が５ａｔｏｍ％より小さくなると、酸化亜鉛の結晶成長を抑制する酸化物が不足するため、無機膜が脆くなり易く、切断時に微小クラックが発生しやすくなる。Ｚｎ原子濃度が２０ａｔｏｍ％より小さくなると、またはＳｉ原子濃度が２０ａｔｏｍ％より大きくなると、無機膜内部の酸化ケイ素の非晶質成分が増加して無機膜の柔軟性が低下し、切断時に微小クラックが発生しやすくなる。
【００２２】
Ａｌ原子濃度が５ａｔｏｍ％より大きくなると、酸化亜鉛と酸化ケイ素の親和性が過剰に高くなるため無機膜の硬度が上昇し、切断時に微小クラックが発生しやすくなる。Ａｌ原子濃度が０．５ａｔｏｍ％より小さくなると、酸化亜鉛と酸化ケイ素の親和性が不十分となり、無機膜を形成する粒子間の結合力が上がらないため、柔軟性が低下し、切断時に微小クラックが発生しやすくなる。
【００２３】
Ｏ原子濃度が７０ａｔｏｍ％より大きくなると、無機膜内部の欠陥量が増加するため、高いガスバリア性が得られない場合がある。Ｏ原子濃度が３５ａｔｏｍ％より小さくなると、亜鉛、ケイ素、アルミニウムの酸化状態が不十分となり、酸化亜鉛の結晶成長が抑制できず粒子径が大きくなるため、ガスバリア性が悪化する場合がある。
【００２４】
上記観点からは、Ｚｎ原子濃度が２５〜３５ａｔｏｍ％、Ｓｉ原子濃度が１０〜１５ａｔｏｍ％、Ａｌ原子濃度が１〜３ａｔｏｍ％、Ｏ原子濃度が５０〜６４ａｔｏｍ％の範囲にあることが、特に好ましい。
【００２５】
また、切断時における微小クラックの発生を抑制するという観点から、無機膜中における亜鉛（Ｚｎ）原子とケイ素（Ｓｉ）原子との原子濃度比（Ｚｎ／Ｓｉ）は、１．０以上であることが好ましく、１．３以上がより好ましく、１．５以上が特に好ましい。一方、上記原子濃度比（Ｚｎ／Ｓｉ）が高くなり過ぎるとガスバリア性が低下するので、上記原子濃度比（Ｚｎ／Ｓｉ）は、４．０以下が好ましく、３．５以下がより好ましく、３．０以下が特に好ましい。
【００２６】
無機膜を形成する方法は特に限定されず、酸化亜鉛および酸化ケイ素を含む混合焼結材料を使用して、好ましくは、酸化亜鉛、酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含む混合焼結材料を使用して、気相成膜法、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等によって形成することができる。上記成膜法の中でもスパッタリング法が好ましい。
【００２７】
無機膜は、他の金属、例えば、チタン、錫、銅、インジウム、ガリウム、ジルコニウム、二オブ、モリブデン、タンタルなどの金属、あるいはこれらの金属の酸化物、窒化物、硫化物を、本発明の効果（ガスバリア性や切断時のクラック抑制）を阻害しない範囲で含むことができる。
【００２８】
無機膜の厚みは、切断時の微小クラックの発生を抑制するという観点から、１５０ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以下がより好ましく、７０ｎｍ以下がさらに好ましい。上記厚みは、良好なガスバリア性を得るという観点から、１０ｎｍ以上が好ましく、２０ｎｍ以上がより好ましく、３０ｎｍ以上が特に好ましい。
【００２９】
また、後述するように、基材フィルムの厚みは比較的薄膜であることが好ましく、薄膜の基材フィルムに無機膜を積層するとカールが発生しやすくなるが、無機膜の厚みを１００ｎｍ以下、好ましくは７０ｎｍ以下にすることにより、カールの発生が抑制される。
【００３０】
本発明における無機膜、すなわち、酸化亜鉛および酸化ケイ素を含有する無機膜、好ましくは酸化亜鉛、酸化ケイ素および酸化アルミニウムを含有する無機膜では、厚みが１００ｎｍ以下、さらには７０ｎｍ以下であっても高いガスバリア性が得られる。
【００３１】
［基材フィルム］
本発明における基材フィルムとしては、ポリエステル樹脂フィルム、アクリル樹脂フィルム、ポリカーボネート樹脂フィルム、セルロースエステル樹脂フィルム、オレフィン樹脂フィルム、環状オレフィン樹脂フィルムなどが挙げられる。
【００３２】
本発明のガスバリア性カットシートを、有機ＥＬ素子を搭載したフレキシブルディスプレイに使用する場合は、基材フィルムは低リターデーション（複屈折率が小さい）であることが好ましい。このような低リターデーションである基材フィルムを用いたカットシートは、有機ＥＬ素子の発光色の視野角依存性が小さいという利点を備えている。
【００３３】
基材フィルムのリターデーションは、具体的には、波長５５０ｎｍの光に対する面内方向のリターデーション（Ｒｅ５５０）が３００ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下がより好ましく、５０ｎｍ以下がさらに好ましく、３０ｎｍ以下が特に好ましい。下限は０ｎｍである。
【００３４】
また、ガスバリア性カットシートに位相差機能（λ／４位相差機能）を付与する場合は、基材フィルムのリターデーション（Ｒｅ５５０）は、１１０〜１７０ｎｍの範囲が好ましく、１２０〜１５０ｎｍの範囲がより好ましく、１３０〜１４５ｎｍの範囲が特に好ましい。
【００３５】
基材フィルムの波長５５０ｎｍの光に対する面内方向のリターデーション（Ｒｅ５５０）は、下記式で表される値である。
｜ｎｘ−ｎｙ｜×ｄ
（式中、ｎｘは基材フィルムの面内の遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは基材フィルムの面内の進相軸方向の屈折率を表し、ｄは膜厚を表す。）
【００３６】
ここで、面内とは、基材フィルム面内を指し、該フィルムの厚み方向に垂直な面内を指す。リターデーションは、実施例で使用したような複屈折計を用いて平行ニコル回転法により測定できる。
【００３７】
上記の低リターデーションの基材フィルムとしては、アクリル樹脂フィルム、ポリカーボネート樹脂フィルム、セルロースエステル樹脂フィルム（トリアセチルセルロース樹脂フィルム）、環状オレフィン樹脂フィルムが好ましく、環状オレフィン樹脂フィルムが特に好ましい。
【００３８】
基材フィルムの厚みは、フレキシブルディスプレイの折り曲げ性や折り畳み性を阻害しないように薄膜にすることが好ましい。上記観点から、基材フィルムの厚みは、具体的には、７０μｍ未満が好ましく、５０μｍ未満がより好ましく、３０μｍ未満が特に好ましい。上記厚みは１０μｍ以上が好ましく、１２μｍ以上がより好ましい。また、基材フィルムの厚みを薄膜にすることによって、切断時の微小クラック発生が抑制される。
【００３９】
［環状オレフィン樹脂フィルム］
前述したように、本発明における基材フィルムとしては、環状オレフィン樹脂フィルムが特に好ましい。以下、環状オレフィン樹脂フィルムについて詳細に説明する。
【００４０】
環状オレフィン樹脂フィルムは、リターデーション（Ｒｅ５５０）が小さく、透明性が高いという利点がある。また、環状オレフィン樹脂フィルムは、従来から広く用いられているポリエステルフィルム（例えばポリエチレンテレフタレートフィルム）に比べて相対的に透湿性が小さい（水蒸気透過率が小さい）という特長がある。また、環状オレフィン樹脂フィルムは、十分なフレキシブル性を有する。
【００４１】
環状オレフィン樹脂フィルムは、環状オレフィン樹脂（ＣＯＰ）あるいは環状オレフィン共重合樹脂（ＣＯＣ）を主成分とする樹脂フィルムである。ここで、主成分とするとは、樹脂フィルムを構成する樹脂成分のうち、ＣＯＰあるいはＣＯＣの構成比率が５０質量％以上であることを意味するものであり、好ましくは６０質量％以上であり、より好ましくは８０質量％以上であり、さらに好ましくは９０質量％以上であり、特に好ましくは９５質量％以上である。
【００４２】
環状オレフィン樹脂（ＣＯＰ）とは、「主鎖に環状オレフィンを含有した繰り返し単位」のみを重合させた樹脂を意味する。環状オレフィン共重合樹脂（ＣＯＣ）とは、少なくとも「主鎖に環状オレフィンを含有した繰り返し単位」と「主鎖に環状オレフィンを含有しないオレフィンからなる繰り返し単位」を共重合させた樹脂を意味する。
【００４３】
ＣＯＰ、ＣＯＣを構成する環状オレフィンとしては、例えば、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロヘキセン、シクロオクテン、シクロペンタジエン、１，３−シクロヘキサジエン、３，４−ジメチルシクロペンテン、３−メチルシクロヘキセン、２−（２−メチルブチル）−１−シクロヘキセン、３ａ，５，６，７ａ−テトラヒドロ−４，７−メタノ−１Ｈ−インデンなどの単環式オレフィン、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、エチルテトラシクロドデセン、エチリデンテトラシクロドデセン、テトラシクロ〔７．４．０．１１０，１３．０２，７〕トリデカ−２，４，６，１１−テトラエンなどの多環式オレフィン、などが挙げられる。これらの環状オレフィンは、それぞれ単独であるいは２種以上組合せて用いることができる。
【００４４】
環状オレフィン共重合樹脂（ＣＯＣ）を構成する環状オレフィン以外の他のモノマーとしては、例えば、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、３−メチル−１−ブテン、３−メチル−１−ペンテン、３−エチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ヘキセン、４，４−ジメチル−１−ヘキセン、４，４−ジメチル−１−ペンテン、４−エチル−１−ヘキセン、３−エチル−１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン等が挙げられる。
【００４５】
環状オレフィン樹脂フィルムは、市販品として入手することもできる。市販品としては、例えば、日本ゼオン（株）製の「ゼオネックス」、「ゼオノア」（登録商標）、積水化学工業（株）の「エッシーナ」、ＪＳＲ（株）の「アートン」（登録商標）、日立化成（株）の「オプトレッツ」、三井化学（株）の「アペル」（登録商標）などがある。
【００４６】
［バックコート層］
基材フィルムの無機膜が設けられた面とは反対面に、バックコート層が設けられていることが好ましい。バックコート層を設けることにより、切断時における無機膜の微小クラックの発生が抑制される。また、上記バックコート層を設けることによりカットシートの耐擦傷性が向上する。この観点から、バックコート層の鉛筆硬度（ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度）は、Ｆ以上であることが好ましく、Ｈ以上であることがより好ましい。バックコート層の鉛筆硬度が高くなり過ぎると、折り曲げあるいは折り畳んだときにクラックが発生しやすくなるので、３Ｈ以下が好ましく、２Ｈ以下が特に好ましい。
【００４７】
バックコート層の厚みは、折り曲げ性および折り畳み性を確保するという観点およびガスバリア性カットシートのカールを抑制するという観点から、４μｍ未満が好ましく、３μｍ未満がより好ましく、２μｍ未満が特に好ましい。また、耐擦傷性を付与するという観点から、バックコート層の厚みは０．３μｍ以上が好ましく、０．５μｍ以上がより好ましく、０．７μｍ以上が特に好ましい。
【００４８】
バックコート層は、熱硬化性組成物からなる硬化性樹脂層（熱硬化性樹脂層）または活性エネルギー線硬化性組成物からなる硬化性樹脂層（活性エネルギー線硬化性樹脂層）であることが好ましく、特に活性エネルギー線硬化性組成物からなる硬化性樹脂層（活性エネルギー線硬化性樹脂層）であることが好ましい。ここで、活性エネルギー線として、紫外線、可視光線、赤外線、電子線、α線、β線、γ線などが挙げられる。これらの活性エネルギー線の中でも、紫外線および電子線が好ましく、特に紫外線が好ましく用いられる。
【００４９】
バックコート層が積層されたガスバリア性カットシートの折り曲げ性を確保するという観点から、円筒形マンドレル法（ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−１：１９９９）に準拠し、ガスバリア性カットシートを、バックコート層が外側となるように直径２ｍｍの円筒マンドレルに巻き付けたとき（ガスバリア性カットシートの無機膜が円筒形マンドレルと接するように巻き付けたとき）、その巻き付け部分のバックコート層にクラックが発生しないことが好ましい。
【００５０】
上記したように、バックコート層に折り曲げ性および折り畳み性を付与するという観点から、バックコート層のナノインデンテーション法により測定される押し込み硬さは、２００〜６００Ｎ／ｍｍ２の範囲が好ましく、２５０〜５５０Ｎ／ｍｍ２の範囲がより好ましく、３００〜５００Ｎ／ｍｍ２の範囲が特に好ましい。
【００５１】
上記観点から、バックコート層はウレタン系樹脂を含有することが好ましい。バックコート層が熱硬化性組成物からなる場合、熱硬化性組成物はウレタン系樹脂と架橋剤を含有することが好ましい。架橋剤としては、例えば、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤が挙げられる。
【００５２】
バックコート層が、活性エネルギー線硬化性組成物からなる場合、活性エネルギー線硬化性組成物は、ウレタン（メタ）アクリレートあるいはウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを含有することが好ましい。以下、ウレタン（メタ）アクリレートおよびウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを総称してウレタン化合物という。上記ウレタン化合物は、１〜５官能が好ましく、１〜４官能がより好ましく、１〜３官能が特に好ましい。
【００５３】
なお、以下の説明において、「・・・（メタ）アクリレート」なる表現は、「・・・アクリレート」と「・・・メタクリレート」との２つの化合物を含む。
【００５４】
ウレタン化合物としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。
ａ）１分子中に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと、１〜５官能のポリカプロラクトン変性アルキル（メタ）アクリレートとを反応させて得られる化合物、
ｂ）１分子中に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと、１〜５官能のポリアルキレングリコール（メタ）アクリレートとを反応させて得られる化合物、
ｃ）１分子中に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと、ポリカーボネートジオールおよび１〜５官能のヒドロキシ変性（メタ）アクリレートとを反応させて得られる化合物、
ｄ）１分子中に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと、１〜５官能のヒドロキシ変性エポキシ（メタ）アクリレートとを反応させて得られる化合物。
ｅ）ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンオリゴマー、
ｆ）ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートトルエンジイソシアネートウレタンオリゴマー、
ｇ）ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンオリゴマー、
ｈ）１分子中に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと、ビスフェノールジグリシジルエーテルアクリル酸付加物とを反応させて得られる化合物、
などが挙げられる。
【００５５】
上記ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、メチレンジフェニルジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリジンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、α，α，α’，α’−テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香環を有する脂肪族ジイソシアネート、メチレンジイソシアネート、プロピレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソプロピリデンジシクロヘキシルジイソシアネート等の脂環族ジイソシアネート等が挙げられる。
【００５６】
また、ウレタン化合物あるいはウレタン化合物を含む組成物は、市販されており用いることができる。例えば、共栄社化学社製のＡＴ−６００、ＵＡ−１０１ｌ、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６ｌ、ＵＦ−８００１、ＵＦ−８００３等、日本合成化学社製のＵＶ７５５０Ｂ、ＵＶ−７６５０Ｂ、ＵＶ−６３００Ｂ等、新中村化学社製のＵ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、ＵＡ−１００Ｈ、Ｕ−６ＬＰＡ、Ｕ−１５ＨＡ、ＵＡ−３２Ｐ、Ｕ−３２４Ａ、Ｕ−２ＰＰＡ、ＵＡ−ＮＤＰ等、ダイセルユーシービー社製のＥｂｅｃｒｙｌ−２７０、Ｅｂｅｃｒｙｌ−２８４、Ｅｂｅｃｒｙｌ−２６４、Ｅｂｅｃｒｙｌ−９２６０、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０、Ｅｂｅｃｒｙｌ−１２９０Ｋ、Ｅｂｅｃｒｙｌ−５１２９等、根上工業社製のＵＮ−３２２０ＨＡ、ＵＮ−３２２０ＨＢ、ＵＮ−３２２０ＨＣ、ＵＮ−３２２０ＨＳ等、三菱レイヨン社製のＲＱシリーズ、荒川化学工業社製のビームセットシリーズ、大日精化工業（株）製のセイカビームシリーズ、アイカ工業（株）製のアイカアイトロンシリーズ、ＤＩＣ（株）製のユニディックシリーズ、大成ファインケミカル（株）の８ＫＸシリーズ等が挙げられる。
【００５７】
活性エネルギー線硬化性組成物におけるウレタン化合物の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量（溶媒を除く）１００質量％に対して２０〜９０質量％の範囲が好ましく、３０〜８５質量％の範囲がより好ましく、４０〜８０質量％の範囲が特に好ましい。
【００５８】
活性エネルギー線硬化性組成物は、上記したウレタン化合物に加えて、さらにウレタン化合物以外の重合性化合物（モノマー）を含有することが好ましい。上記ウレタン化合物以外の重合性化合物は、２〜８官能であることが好ましい。ウレタン化合物以外の重合性化合物の含有量は、ウレタン化合物１００質量部に対して１〜８０質量部の範囲が好ましく、３〜７０質量部の範囲がより好ましく、５〜６０質量部の範囲が特に好ましい。
【００５９】
ウレタン化合物以外の重合性化合物としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセリンプロポキシトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００６０】
活性エネルギー線硬化性組成物は、さらに光重合開始剤を含むことが好ましい。かかる光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。
【００６１】
また、光重合開始剤は一般に市販されており、それらを使用することができる。例えば、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア（登録商標）１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア３７９、イルガキュア８１９、イルガキュア１２７、イルガキュア５００、イルガキュア７５４、イルガキュア２５０、イルガキュア１８００、イルガキュア１８７０、イルガキュアＯＸＥ０１、ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３等、日本シイベルヘグナー（株）製のＳｐｅｅｄｃｕｒｅＭＢＢ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＰＢＺ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＩＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＣＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＥＤＢ、Ｅｓａｃｕｒｅ ＯＮＥ、Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＩＰ１５０、Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＴＯ４６等、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＣＴＸ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＭＢＩ等が挙げられる。
【００６２】
バックコート層は、粒子を含有することが好ましく、さらにバックコート層の表面に前記粒子による微小突起を有することが好ましい。これによって、ガスバリア性カットシートの滑り性や耐ブロッキング性が向上する。
【００６３】
ガスバリア性カットシートに、高い透明性を確保しながら滑り性を付与するという観点から、粒子を含有するバックコート層を設ける場合は、バックコート層の厚みより平均粒子径が十分に小さい粒子を含有し、バックコート層表面に該粒子による突起が形成されていることが好ましい。例えば、バックコート層に含有される粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）とバックコート層の厚み（ｄ：μｍ）との比率（ｒ／ｄ）は、０．７以下が好ましく、０．５以下がより好ましく、０．３以下が特に好ましい。下限の比率は、小さくなり過ぎると良好な滑り性が得られないことから、０．０１以上が好ましく、０．０２以上がより好ましく、０．０３以上が特に好ましい。
【００６４】
バックコート層に含有させる粒子の平均粒子径（ｒ）は０．０２〜０．５μｍの範囲が好ましく、０．０３〜０．４μｍの範囲がより好ましく、０．０４〜０．２μｍの範囲が特に好ましい。
【００６５】
バックコート層に含有させる粒子の平均粒子径（ｒ）が０．０２μｍ未満であると良好な滑り性が得られなくなることがあり、一方、平均粒子径（ｒ）が０．５μｍより大きくなるとヘイズ値が大きくなり透明性が低下することがある。
【００６６】
バックコート層に含有させる粒子の含有量は、高い透明性を確保しながら滑り性を向上させるという観点から、バックコート層の固形分総量１００質量％に対して２〜４０質量％の範囲が好ましく、３〜３０質量％の範囲がより好ましく、５〜２０質量％の範囲が特に好ましい。
【００６７】
バックコート層に含有させる粒子としては、有機粒子や無機粒子が挙げられる。
有機粒子を構成する樹脂としては、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、あるいは上記樹脂の合成に用いられる２種以上のモノマーの共重合樹脂が挙げられる。これらの中でもアクリル系樹脂粒子が好ましく用いられる。
【００６８】
アクリル系樹脂粒子としては、アクリル樹脂粒子、メタクリル樹脂粒子、アクリルモノマーあるいはメタクリルモノマーと他のモノマー、例えば、スチレン、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエステルメタクリレート、シリコーンアクリレート、シリコーンメタクリレート等との共重合樹脂粒子が挙げられる。
【００６９】
これらの有機粒子は乳化重合法により合成されることが好ましく、乳化重合法で合成されることによって平均粒子径が０．５μｍ以下の有機粒子を得ることができる。
【００７０】
無機粒子としては、シリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、ゼオライトなどの無機粒子が挙げられる。これらの中でもシリカ粒子が好ましく、特にコロイダルシリカや気相法シリカ（乾式シリカやヒュームドシリカとも言う）が好ましい。
【００７１】
無機粒子、例えば、シリカ粒子は、有機化合物で変性（表面処理）することが好ましい。無機粒子を有機化合物で表面処理することにより、バックコート層の表面側（基材フィルムとは反対側）に粒子を多く局在（浮上）させることができる。これによって、比較的少ない粒子含有量で高い滑り性を付与することができる。
【００７２】
無機粒子の変性（表面処理）に使用する有機化合物としては、下記の一般式（１）〜（３）が挙げられ、これらの有機化合物を単独もしくは組み合わせて用いることができる。
ＣｎＦ２ｎ＋１−（ＣＨ２）ｍ−Ｓｉ（Ｑ）３    ・・・・一般式（１）
（一般式（１）において、ｎは１〜１０の整数、ｍは１〜５の整数を表す。Ｑは炭素数１〜５のアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。）
Ｂ−Ｒ４−ＳｉＲ５ｎ（ＯＲ６）３−ｎ    ・・・・一般式（２）
Ｄ−Ｒ７−Ｒｆ２    ・・・・一般式（３）
（一般式（２）および（３）において、ＢおよびＤはそれぞれ独立に反応性部位を表し、Ｒ４およびＲ７はそれぞれ独立に炭素数１から３のアルキル基、あるいは前記アルキル基から導出されるエステル構造を表し、Ｒ５およびＲ６はそれぞれ独立に水素あるいは炭素数が１から４のアルキル基を表し、Ｒｆ２はフルオロアルキル基を表し、ｎは０から２の整数を表す。）。
【００７３】
一般式（１）の化合物として、具体的には下記の化合物を例示することができる。
Ｃ４Ｆ９ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｃ８Ｆ１７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｃ８Ｆ１７ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＢｒ３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３
Ｃ６Ｆ１３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）Ｃｌ２。
【００７４】
一般式（２）の具体例としては、アクリロキシエチルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシブチルトリメトキシシラン、アクリロキシペンチルトリメトキシシラン、アクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、アクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシエチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシブチルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン及びこれら化合物中のメトキシ基が他のアルコキシル基及び水酸基に置換された化合物を含むものなどが挙げられる。
【００７５】
一般式（３）の具体例としては、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフロオロプロピルアクリレート、２−パーフルオロブチルエチルアクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロヘキシルエチルアクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロデシルエチルアクリレート、２−パーフルオロ−３−メチルブチルエチルアクリレート、３−パーフルオロ−３−メトキシブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロ−５−メチルヘキシルエチルアクリレート、３−パーフルオロ−５−メチルヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロ−７−メチルオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ドデカフルオロヘプチルアクリレート、ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、ヘキサフルオロブチルアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、２−パーフルオロブチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロデシルエチルメタクリレート、２−パーフルオロ−３−メチルブチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−３−メチルブチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロ−５−メチルヘキシルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−５−メチルヘキシル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロ−７−メチルオクチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−７−メチルオクチルエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、１−トリフルオロメチルトリフルオロエチルメタクリレート、ヘキサフルオロブチルメタクリレートなどが挙げられる。
【００７６】
バックコート層が熱硬化性組成物からなる場合は、熱硬化性組成物が上記粒子を含有することが好ましく、また、バックコート層が活性エネルギー線硬化性組成物からなる場合は、活性エネルギー線硬化性組成物が上記粒子を含有することが好ましい。
【００７７】
バックコート層は、高い透明性を確保しながら滑り性を向上させるという観点から、バックコート層表面の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定される表面粗さ（Ｒａ）は、２．０ｎｍ以上１０．０ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。バックコート層（Ｂ）の表面粗さ（Ｒａ）が２．０ｎｍ未満となると、滑り性が低下することがある。また、表面粗さ（Ｒａ）が１０．０ｎｍを超えると、透明性が低下することがある。上記観点から、さらに、バックコート層表面の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）で測定される表面粗さ（Ｒａ）は、２．５ｎｍ以上７．０ｎｍ以下の範囲であることがより好ましく、３．０ｎｍ以上６．０ｎｍ以下の範囲であることが特に好ましい。
【００７８】
バックコート層は、帯電防止剤を含有することができる。帯電防止剤としては、例えば、導電性金属酸化物、イオン性高分子化合物、共役系高分子化合物が挙げられる。
【００７９】
[アンダーコート層]
基材フィルムと無機膜との間に、アンダーコート層を配置することが好ましい。アンダーコート層を配置することによって、基材フィルムと無機膜との密着力を向上させることができる。上記密着力の向上によって切断時の微小クラックの発生が抑制される。
【００８０】
上記観点から、アンダーコート層は、硬化樹脂層であることが好ましい。特に、アンダーコート層は、活性エネルギー線硬化性組成物からなる硬化樹脂層（活性エネルギー線硬化性樹脂層）であることが好ましい。
【００８１】
アンダーコート層が、活性エネルギー線硬化性組成物からなる硬化樹脂層である場合、活性エネルギー線硬化性組成物は、前述のバックコート層における活性エネルギー線硬化性組成物に含有されるウレタン化合物と同様の化合物を含有することが好ましく、さらに前述のウレタン化合物以外の重合性化合物と同様の化合物を含有することが好ましく、またさらに前述の光重合性化合物と同様の化合物を含有することが好ましい。
【００８２】
アンダーコート層は、折り曲げ性および折り畳み性の観点から、反応性シリカ粒子を含有することが好ましい。反応性シリカ粒子は、粒子表面に重合性二重結合基を有するシリカ粒子である。ここで、重合性二重結合基としては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基等が挙げられる。
【００８３】
粒子表面に重合性二重結合基を有するシリカ粒子は、重合性二重結合基を有する化合物で表面修飾することによって得ることができる。重合性二重結合基を有する化合物としては、重合性二重結合基を有するシランカップリング剤が好ましく用いられる。
【００８４】
重合性二重結合基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、ビニルフェニレントリメトキシシラン、ビニルフェニレントリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等が挙げられ、これらの化合物の１種もしくは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００８５】
アンダーコート層が活性エネルギー線硬化性組成物からなる硬化樹脂層である場合は、活性エネルギー線硬化性組成物が上記した反応性シリカ粒子を含有することが好ましい。
【００８６】
アンダーコート層の厚みは、折り曲げ性および折り畳み性を確保するという観点およびガスバリア性カットシートのカールを抑制するという観点から、比較的薄膜であることが好ましい。具体的には、４μｍ未満が好ましく、３μｍ未満がより好ましく、２μｍ未満が特に好ましい。上記厚みは、良好な密着性やガスバリア性を得るという観点から、０．３μｍ以上が好ましく、０．５μｍ以上がより好ましく、０．７μｍ以上が特に好ましい。
【００８７】
［封止粘着剤層］
ガスバリア性カットシートは、封止粘着剤層を設けることができる。封止粘着剤層は、無機膜の上、すなわち、無機膜の基材フィルムとは反対面に設けることが好ましい。この封止粘着剤層は、カットシートを有機ＥＬ素子に密着させるための機能を有する。
【００８８】
封止粘着剤層は封止樹脂を含有する。かかる封止樹脂は、ポリイソブチレン、ブチルゴム、ポリイソプレン、スチレン−イソブチレン変性樹脂、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレンゴム、ポリブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、およびポリブテンからなる群から選択される少なくとも１種の樹脂を含有することが好ましい。これらの中でもポリイソブチレンやブチルゴムを含むことがより好ましい。
【００８９】
封止粘着剤層は、さらに粘着付与樹脂を含有することが好ましい。かかる粘着付与樹脂としては、例えば、脂環族系石油樹脂、脂環族系水添石油樹脂、芳香族系石油樹脂、およびロジン系樹脂が挙げられる。これらの粘着付与樹脂の中でも脂環族系石油樹脂が好ましく、さらに脂環族系水添石油樹脂の中でも、水素添加テルペン系樹脂、水素添加エステル系樹脂、Ｃ５系石油樹脂の水素添加樹脂、Ｃ９系石油樹脂の水素添加樹脂が好ましい。
【００９０】
封止樹脂と粘着付与樹脂との質量比（主剤樹脂／粘着付与樹脂）は、１０／９０〜１００／０であることが好ましく、２０／８０〜９０／１０であることがより好ましい。
【００９１】
また、封止粘着剤層は、さらに、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤、可塑剤、充填剤、難燃剤、架橋剤、および防錆剤等を含有することができる。
【００９２】
封止粘着剤層の厚みは、折り曲げ性および折り畳み性を確保するという観点から、比較的薄膜であることが好ましい。具体的には、５〜１００μｍが好ましく、１０〜７０μｍがより好ましく、２０〜５０ｎｍの範囲が特に好ましい。また、封止粘着剤層は、水蒸気透過率が、４０（ｇ／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ））以下であることが好ましく、３０（ｇ／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ））以下であることがより好ましく、２０（ｇ／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ））以下であることが特に好ましい。
【００９３】
［ガスバリア性カットシート］
本発明のガスバリア性カットシートは、水蒸気透過率が１．０×１０−２（ｇ／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ））未満が好ましく、５．０×１０−３（ｇ／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ））未満がより好ましく、１．０×１０−３（ｇ／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ））未満が特に好ましい。また、後述の折り畳み試験後の水蒸気透過率も、上記数値を満足することが好ましい。
【００９４】
本発明のガスバリア性カットシートは、切断部に微小クラックが実質的に存在しないことが好ましい。ここで、微小クラックは、長さが３０μｍ以上のクラックを指す。また、切断部に微小クラックが実質的に存在しないとは、デジタルマイクロスコープ（キーエンス（株）製の「ＶＨＸ−１０００」）を用いて倍率２００倍にて、カットシートの切断部（例えば、カットシートが４角形の場合、その４辺）について、概略１０ｍｍの間隔で観察し、切断部長さ２００ｍｍ当たりの微小クラックの個数が５０個未満であることを意味する。上記微小クラックの測定方法における微小クラックの個数は、３０（個／切断部長さ２００ｍｍ）以下が好ましく、１０（個／切断部長さ２００ｍｍ）以下がより好ましく、０（個／切断部長さ２００ｍｍ）が特に好ましい。
【００９５】
［フレキシブルディスプレイ］
本発明のガスバリア性カットシートは、フレキシブルディスプレイに用いられる。つまり、本発明は、本発明のガスバリア性シートを備えたフレキシブルディスプレイを提供する。
【００９６】
フレキシブルディスプレイは、有機ＥＬ（有機エレクトロルミネッセンス）素子を搭載していることが好ましい。本発明のガスバリア性カットシートは、フレキシブルディスプレイの有機ＥＬ素子の表示側の封止フィルムとして、あるいは背面基板側の封止フィルムとして適用することができる。
【００９７】
フレキシブルディスプレイとしては、例えば、フォルダブルディスプレイ（折り畳み可能なディスプレイ）、ベンダブルディスプレイ（折り曲げ可能なディスプレイ）およびローラブルディスプレイ（巻き取り可能なディスプレイ）が挙げられる。本発明のガスバリア性カットシートは、折り曲げ角度（折り曲げたときの内径）が小さい、フォルダブルディスプレイおよびベンダブルディスプレイに用いることによって高い効果を発現する。特に、折り曲げ角度の小さい折り畳み式のフォルダブルディスプレイに好適である。
【００９８】
フォルダブルディスプレイは、例えば、内径（直径）が１０ｍｍ以下で折り畳み可能であることが好ましく、内径７ｍｍ以下で折り畳み可能であることがより好ましく、内径５ｍｍ以下で折り畳み可能であることが特に好ましい。
【００９９】
つまり、本発明のガスバリア性カットシートは、内径１０ｍｍ以下に折り畳み可能なフォルダブルディスプレイに用いられることが好ましく、内径７ｍｍ以下に折り畳み可能なフォルダブルディスプレイに用いられることがより好ましく、内径５ｍｍ以下に折り畳み可能なフォルダブルディスプレイに用いられることが特に好ましい。
【０１００】
また、ベンダブルディスプレイは、例えば、内径（直径）が２０ｍｍ以下で折り曲げ可能であることが好ましく、内径１０ｍｍ以下で折り曲げ可能であることがより好ましく、内径５ｍｍ以下で折り曲げ可能であることが特に好ましい。
【０１０１】
つまり、本発明のガスバリア性カットシートは、内径２０ｍｍ以下に折り曲げ可能なベンダブルディスプレイに用いられることが好ましく、内径１０ｍｍ以下に折り曲げ可能なベンダブルディスプレイに用いられることがより好ましく、内径５ｍｍ以下に折り曲げ可能なベンダブルディスプレイに用いられることが特に好ましい。
【０１０２】
図１は、本発明のガスバリア性シートを備えたフレキシブルディスプレイの一例の模式断面図である。但し、本発明はこれに限定されない。フレキシブルディスプレイ１００は、背面基板（ポリイミド基板）１０１に有機ＥＬ素子１０２を有し、有機ＥＬ素子１０２は封止粘着剤層１０３を介してガスバリア性カットシート１０４で被覆されている。封止粘着剤層１０３は、ガスバリア性カットシート１０４に一体的に積層されていてもよいし、有機ＥＬ素子１０２に予め積層されていてもよい。
【０１０３】
ガスバリア性カットシート１０４上には、光学フィルム（偏光フィルム、位相差フィルム、タッチパネルなど）１０５が積層され、さらにその上に表面保護フィルム（ハードコートフィルム、反射防止フィルムなど）１０６が積層されている。光学フィルム１０５が表面保護機能を兼ねる場合は、表面保護フィルムを省略することができる。
【実施例】
【０１０４】
以下に、本発明を実施例に基づき、より具体的に説明する。ただし、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
【０１０５】
［評価方法］
各実施例および比較例における測定方法および評価方法を以下に示す。
【０１０６】
（１）ガスバリア性カットシートの作製
実施例および比較例で得られたガスバリア性フィルムを下記切断方法にて４辺を切断して、幅１２０ｍｍ×長さ２００ｍｍの長方形のカットシートを作製した。
【０１０７】
＜切断方法＞
カッティングマット（コクヨ（株）製「マ−４４Ｎ」）上に、ガスバリア性フィルムを無機膜面が上を向くように置き、ガスバリア性フィルムの無機膜上に金属製定規を置いて左手で金属製定規を固定し、金属製定規に沿って、カッターナイフ（エヌティー（株）製の「ＮＴカッター」（登録商標）Ａ−３００）を用いて右手で切断して、右手側をサンプルとして残した。上記のようにして、４辺を切断して、カットシートを得た。なお、１回の切断毎に、刃（替え刃「ＢＡ−１６０ｅ」）を取り換えた。
【０１０８】
（２）ガスバリア性カットシートの水蒸気透過率の測定
温度４０℃、湿度９０％ＲＨ、測定面積５０ｃｍ２の条件で、英国、テクノロックス（Ｔｅｃｈｎｏｌｏｘ）社製の水蒸気透過率測定装置（機種名：ＤＥＬＴＡＰＥＲＭ（登録商標） ）を使用して測定した。水蒸気透過度を測定するためのサンプル数は水準当たり５検体とし、測定回数は各検体について１回とし、得られた５点の平均値を水蒸気透過度（ｇ／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ））とした。
【０１０９】
（３）ガスバリア性カットシート切断部の微小クラックの観察
カットシートの４辺の切断部をデジタルマイクロスコープ（キーエンス（株）製の「ＶＨＸ−１０００」）を用いて倍率２００倍にて観察し、長さが３０μｍ以上の微小クラックの個数を計測した。４辺の切断部についてそれぞれ概略１０ｍｍ間隔で観察し、微小クラックの合計個数を求め、下記式にて切断部長さ２００ｍｍ当たりの個数に換算し、以下の基準で評価した。
切断部２００ｍｍ当たりの個数＝合計個数／（２００ｍｍ／切断部の合計長さ）・・・式１
（尚、本実施例における切断部の合計長さは、６４０ｍｍである）
Ｓ；微小クラックの切断部２００ｍｍ当たりの個数が０個である。
Ａ；微小クラックの切断部２００ｍｍ当たりの個数が１個以上１０個未満である。
Ｂ；微小クラックの切断部２００ｍｍ当たりの個数が１０個以上３０個未満である。
Ｃ；微小クラックの切断部２００ｍｍ当たりの個数が３０個以上５０個未満である。
Ｄ；微小クラックの切断部２００ｍｍ当たりの個数が５０個以上１００個未満である。
Ｅ；微小クラックの切断部２００ｍｍ当たりの個数が１００個以上である。
【０１１０】
（４）カットシートの折り畳み試験および折り畳み試験後の水蒸気透過率の測定
ＡＳＴＭ−Ｄ５２２に準拠したガードナー式マンドレル屈曲試験機（（株）安田精機製の「Ｎｏ．５５０ ガードナー式マンドレル屈曲試験機」）を用いて、直径３ｍｍのロッドに、カットシートの無機膜が外側になるように巻き付け、約１秒かけて１８０度に折り畳んだ。この操作を１０回繰り返した。上記屈曲試験でロッドに当接した箇所が略中央になるように水蒸気透過率測定用サンプルを作製し、上記（２）と同様にして水蒸気透過率を測定した。
【０１１１】
（５）各層の厚み
ガスバリア性フィルムの断面観察用サンプルをマイクロサンプリングシステム（日立社製ＦＢ−２０００Ａ）を使用してＦＩＢ法により（具体的には「高分子表面加工学」（岩森暁著）ｐ．１１８〜１１９に記載の方法に基づいて）作製した。透過型電子顕微鏡（日立社製Ｈ−９０００ＵＨＲII）により、加速電圧３００ｋＶとして、断面観察用サンプルの断面を観察し、ガスバリア層、硬化樹脂層の厚みを測定した。
【０１１２】
（６）無機膜の組成分析
無機膜の組成分析（無機膜が酸化亜鉛、二酸化ケイ素、酸化アルミニウムを含むかどうか、および各元素の含有比率）は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ法）により行った。無機膜の最表層は一般に過剰に酸化されており、無機膜内部の組成とは異なるため、前処理としてアルゴンイオンを用いたスパッタエッチングにより、最表層を５ｎｍ程度エッチングして除去した後、各元素の含有比率を測定した。ＸＰＳ法の測定条件は下記の通りである。
・装置                      ：ＥＳＣＡ  ５８００（アルバックファイ社製）
・励起Ｘ線                  ：ｍｏｎｏｃｈｒｏｍａｔｉｃ  ＡｌＫα
・Ｘ線出力                  ：３００Ｗ
・Ｘ線径                    ：８００μｍ
・光電子脱出角度            ：４５°
・Ａｒイオンエッチング      ：２．０ｋＶ、１０ｍＰａ。
【０１１３】
（７）基材フィルムのリターデーション（Ｒｅ５５０）の測定
基材フィルムの波長５５０ｎｍに光に対する面内方向のリターデーション（Ｒｅ５５０）について、王子計測器社製複屈折計ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用いて、平行ニコル回転法により測定した。
【０１１４】
（８）バックコート層に含有される粒子の平均粒子径の測定
バックコート層の断面をＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で観察（倍率：約１万〜３０万倍）し、その断面写真の幅（バックコート層の厚み方向に直交する長さ）１μｍに存在する全ての粒子の最大長さを計測し、それらを平均した値を粒子の平均粒子径とした。
【０１１５】
（９）バックコート層の原子間力顕微鏡で測定される表面粗さ（Ｒａ）の測定
バックコート層の表面粗さ（Ｒａ）を、日立ハイテクサイエンス社製の原子間力顕微鏡「ＡＦＭ５１００Ｎ」を用い、下記条件により測定した。
・走査モード：ＤＦＭ
・走査範囲：１μｍ×１μｍ
・データ数：２５６×２５６
・測定環境：２５℃、大気中。
【０１１６】
（１０）バックコート層の鉛筆硬度の測定
鉛筆硬度試験機ＨＥＩＤＯＮ−１４（新東科学（株）製）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）に従って測定した。
【０１１７】
（１１）バックコート層表面における粒子による突起の有無の判断
バックコート層表面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて約１万〜１０万倍の倍率で観察し、粒子による突起の有無を確認した。
【０１１８】
（１２）バックコート層のナノインデンテーション法による押し込み硬さの測定
（株）エリオニクス製のナノインデンター「ＥＮＴ−２１００」を用いて測定した。カットシートのバックコート層とは反対面を接着剤（東亞合成（株）製「“アロンアルファ”（登録商標）」を介して専用のサンプル固定台に固定し、バックコート層の押し込み硬さ（ＨＩＴ（Ｎ／ｍｍ２））を、稜間角１１５°の三角錐ダイヤモンド圧子（Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ圧子）を用いて下記条件にて測定した。測定データは「ＥＮＴ−２１００」の専用解析ソフト（ｖｅｒｓｉｏｎ  ６．１８）により処理した。
＜測定条件＞
・測定モード：負荷−除荷試験
・最大荷重：１００ｍＮ
・最大荷重に達した時の保持時間：１秒
・荷重速度、除荷速度：１０ｍＮ／ｓｅｃ
・押し込み深さ：膜厚の１／１０
【０１１９】
［実施例１］
厚みが２３μｍの環状オレフィン樹脂フィルム（日本ゼオン（株）製の「ＺｅｏｎｏｒＦｉｌｍ」（登録商標）ＺＦ１４−０２３：リターデーションＲｅ５５０＝３ｎｍ）の一方の面に、下記の無機膜を積層してガスバリア性フィルムを作製した。無機膜の厚みは５０ｎｍとなるように調整した。このガスバリア性フィルムを前述の方法で切断して長方形のカットシートを得た。
【０１２０】
＜無機膜の積層＞
図２に示す構造の巻き取り式のスパッタリング・ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）装置１を使用し、酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムで形成された混合焼結材であるスパッタターゲットをスパッタ電極９に設置してアルゴンガスおよび酸素ガスによるスパッタリングを実施し、基材フィルム（環状オレフィン樹脂フィルム）２の一方の面上に無機膜を積層した。
【０１２１】
具体的な操作は以下の通りである。まず、スパッタ電極９に酸化亜鉛／二酸化ケイ素／酸化アルミニウムの組成質量比が７７／２０／３で焼結されたスパッタターゲットを設置した巻き取り式スパッタリング・ＣＶＤ装置１の巻き取り室３の中で、巻き出し軸４に基材フィルム（環状ポリオレフィン樹脂フィルム）２の無機膜を設ける側の面がスパッタ電極９に対向するようにセットし、巻き出し、巻き出し側ガイドロール５，６，７を介して、１０℃に制御されたメインドラム８に通した。減圧度２×１０−１Ｐａとなるように酸素ガス分圧１０％としてアルゴンガスおよび酸素ガスを導入し、直流電源により投入電力４０００Ｗを印加することにより、アルゴン・酸素ガスプラズマを発生させ、無機膜を形成した。１４はＣＶＤ電極を示している。厚みは、フィルム搬送速度により調整した。その後、巻き取り側ガイドロール１０，１１，１２を介して巻き取り軸１３に巻き取った。
【０１２２】
この無機膜の組成は、Ｚｎ原子濃度が２７．５ａｔｏｍ％、Ｓｉ原子濃度が１３．１ａｔｏｍ％、Ａｌ原子濃度が２．３ａｔｏｍ％、Ｏ原子濃度が５７．１ａｔｏｍ％であった。無機膜のＺｎ／Ｓｉ原子濃度比は２．１であった。
【０１２３】
［実施例２］
厚みが１３μｍの環状オレフィン樹脂フィルム（日本ゼオン（株）製の「ＺｅｏｎｏｒＦｉｌｍ」（登録商標）ＺＦ１４−０１３：リターデーションＲｅ５５０＝３ｎｍ）に変更する以外は、実施例１と同様にしてガスバリア性フィルムを作製した。このガスバリア性フィルムを前述の方法で切断して長方形のカットシートを得た。
【０１２４】
［実施例３］
厚みが５０μｍの環状オレフィン樹脂フィルム（日本ゼオン（株）製の「ＺｅｏｎｏｒＦｉｌｍ」（登録商標）ＺＦ１４−０５０：リターデーションＲｅ５５０＝３ｎｍ）に変更し、かつ無機膜の厚みを１５０ｎｍに変更する以外は、実施例１と同様にしてガスバリア性フィルムを作製した。このガスバリア性フィルムを前述の方法で切断して長方形のカットシートを得た。
【０１２５】
［実施例４］
位相差機能を有するガスバリア性フィルム（λ／４板）を作製した。すなわち、厚みが２８μｍ、リターデーションＲｅ５５０が１４０ｎｍである環状オレフィン樹脂フィルム（日本ゼオン（株）製の「ＺｅｏｎｏｒＦｉｌｍ」（登録商標）ＺＭ１４−１４０）の一方の面に、実施例１と同様にして無機膜を積層してガスバリア性フィルムを作製した。このガスバリア性フィルムを前述の方法で切断して長方形のカットシートを得た。
【０１２６】
[実施例５]
厚みが２３μｍの環状オレフィン樹脂フィルム（日本ゼオン（株）製の「ＺｅｏｎｏｒＦｉｌｍ」（登録商標）ＺＦ１４−０２３：リターデーションＲｅ５５０＝３ｎｍ）の一方の面に、コロナ処理を施し、アンダーコート層として下記の活性エネルギー線硬化性組成物１をグラビアコーターで塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させてアンダーコート層を形成した。このアンダーコート層の厚みは１μｍであった。  
【０１２７】
＜活性エネルギー線硬化性組成物１＞  
下記のウレタン化合物（ＵＡ１）を１００質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（共栄社化学社製、商品名：ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ）を４０質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア」（登録商標）１８４）を５質量部、下記の反応性シリカ粒子を固形分質量比（当該塗布液の全固形分に対する比率）で５質量％を混合し、有機溶剤（メチルエチルケトン）で希釈して、固形分濃度が２０質量％になるように調製した。
【０１２８】
＜ウレタン化合物（ＵＡ１）＞
４つ口フラスコに、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルアクリル酸付加物（共栄社化学社製、商品名：エポキシエステル３０００Ａ）を３００質量部、酢酸エチル７１０質量部を入れ、内温６０℃になるよう加温した。合成触媒としてジラウリン酸ジ−ｎ−ブチル錫０．２質量部を添加し、攪拌しながらジシクロヘキシルメタン４，４’−ジイソシアネート（東京化成工業社製）２００質量部を１時間かけて滴下した。滴下終了後２時間反応を続行し、続いてジエチレングリコール（和光純薬工業社製）２５質量部を１時間かけて滴下した。滴下後５時間反応を続行し、質量平均分子量２０，０００の環状骨格（芳香族環）を有するウレタン化合物（ＵＡ１）を得た。
【０１２９】
＜反応性シリカ粒子＞
コロイダルシリカ（日産化学工業（株）製のオルガノシリカゾル「ＭＥＫ−ＳＴ」、固形分３０質量％、メチルエチルケトン７０質量％）１５０質量部に、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（信越シリコン社製、商品名：ＫＢＭ−５０３）１３．７質量部と、１０質量％蟻酸水溶液１．７質量部を混合し、７０℃にて１時間撹拌して、反応性シリカ粒子を得た。
【０１３０】
＜ガスバリア層の積層＞
上記で形成したアンダーコート層の面に、実施例１と同様にして無機膜を形成してガスバリア性フィルムを作製した。このガスバリア性フィルムを前述の方法で切断して長方形のカットシートを得た。
【０１３１】
［実施例６］
実施例５において、環状オレフィン樹脂フィルムにアンダーコート層を積層する前に、環状オレフィン樹脂フィルムにバックコート層を積層する以外は、実施例５と同様にしてガスバリア性フィルムを作製した。このガスバリア性フィルムを前述の方法で切断して長方形のカットシートを得た。
【０１３２】
＜バックコート層の積層＞
下記の活性エネルギー線硬化性組成物２をグラビアコーターで塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させてバックコート層を形成した。このバックコート層の厚みは１μｍであった。
【０１３３】
＜活性エネルギー線硬化性組成物２＞
３官能のウレタンアクリレートオリゴマーを含有する紫外線硬化性樹脂塗料（日本合成化学（株）製の「ＵＶ−７５５０Ｂ」）に、下記のシリカ粒子分散液を固形分換算で組成物の全固形分に対して８質量％となるように添加し、有機溶剤（ＭＥＫ）で希釈して固形分濃度が２０質量％になるように調製した。
【０１３４】
＜シリカ粒子分散液＞
コロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製の「オルガノシリカゾル  ＭＥＫ−ＳＴ−ＺＬ」）１５０質量部に、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１３．７質量部と１０質量％蟻酸水溶液１．７質量部を混合し、７０℃にて１時間撹拌した。次いで、フッ素化合物（Ｈ２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ２−（ＣＦ２）８Ｆ）１３．８質量部および２,２−アゾビスイソブチロニトリル０．５７質量部を加えた後、６０分間９０℃にて加熱撹拌して表面処理されたシリカ粒子の分散液を得た。
【０１３５】
＜バックコート層の物性＞
上記で得られたカットシートのバックコート層は、厚みが１μｍ、粒子の平均粒子径は０．１３μｍ、粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）とバックコート層の厚み（ｄ：μｍ）との比率（ｒ／ｄ）は０．０９であった。また、バックコート層の表面には粒子による突起が確認された。バックコート層の原子間力顕微鏡による表面粗さ（Ｒａ）は４．５ｎｍ、ナノインデンテーション法による押し込み硬さは（ＨＩＴ）は３４０Ｎ／ｍｍ２であった。また、バックコート層の鉛筆硬度はＦであった。
【０１３６】
［比較例１］
厚みが５０μｍの環状オレフィン樹脂フィルム（日本ゼオン（株）製の「ＺｅｏｎｏｒＦｉｌｍ」（登録商標）ＺＦ１４−０５０：リターデーションＲｅ５５０＝３ｎｍ）の一方の面に、図２に示す構造の巻き取り式のスパッタリング・ＣＶＤ装置のスパッタ電極９に二酸化ケイ素が焼結されたスパッタターゲットを設置する以外は、実施例１と同様にしてＳｉＯ２膜を積層した。このＳｉＯ２膜の厚み２００ｎｍであった。
【０１３７】
［比較例２］
厚みが５０μｍの環状オレフィン樹脂フィルム（日本ゼオン（株）製の「ＺｅｏｎｏｒＦｉｌｍ」（登録商標）ＺＦ１４−０５０：リターデーションＲｅ５５０＝３ｎｍ）の一方の面に、図２に示す構造の巻き取り式のスパッタリング・ＣＶＤ装置を使用し、厚みが２００ｎｍの窒化ケイ素膜（ＳｉＮ）を積層した。窒化ケイ素膜の製膜は、ＳｉＨ４、ＮＨ３、Ｎ２からなる混合ガス中にてプラズマを発生させて行った。
【０１３８】
［比較例３］
比較例１において、基材フィルムを厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製の「ルミラー」（登録商標）Ｕ４８：リターデーションＲｅ５５０＝１０００ｎｍ）に変更した以外は、比較例１と同様にしてガスバリア性フィルムを作製した。
【０１３９】
［評価］
上記の実施例および比較例で得られたガスバリア性カットシートについて、前述の測定および評価を行った。その結果を表１に示す。
【０１４０】
【表１】
2019064185.tif 000003
【符号の説明】
【０１４１】
１  巻き取り式スパッタリング・ＣＶＤ装置
２  基材フィルム
３  巻き取り室
４  巻き出し軸
５、６、７  巻き出し側ガイドロール
８  メインドラム
９  スパッタ電極
１０、１１、１２  巻き取り側ガイドロール
１３  巻き取り軸
１４  ＣＶＤ電極
１００  フレキシブルディスプレイ
１０１  背面基板
１０２  有機ＥＬ素子
１０３  封止粘着剤層
１０４  ガスバリア性カットシート
１０５  光学フィルム
１０６  表面保護フィルム
【図１】
2019064185.tif 000004
【図２】
2019064185.tif 000005