(57)【要約】【課題】本発明は、蒸着対象物である成形品の任意の形状と色彩を維持し、酸素や水蒸気等のガスに対するバリア性を発揮する、薄く均一なＡＬＤ無機蒸着膜層を含むガスバリア層を有する、ガスバリア性成形体を提供することを課題とする。【解決手段】成形品の表面にガスバリア層を設けた、ガスバリア性成形体であって、前記成形品は、立体的な構造物であり、前記ガスバリア層は、原子体積蒸着法（ＡＬＤ法）によるＡＬＤ無機蒸着膜層を含み、前記ＡＬＤ無機蒸着膜層は、前記成形品の表面のプラズマ処理層上に設けられており、ＡｌＯx、ＳｉＯx、Ｓｉ3Ｎ4、ＴｉＯx、ＮｂＯx、Ｔａ2Ｏ、ＴｉＮ、ＨｆＯ2、ＺｒＯx、ＺｎＯなる群から選択される１種または２種以上を含む、１層または２層以上からなり、前記プラズマ処理層は、前記成形品の表面を、酸素が１０体積％〜１００体積％含有されたガスを用いたプラズマ処理によって形成されたものである、前記ガスバリア性成形体。【選択図】図１
2019178349.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成形品の表面にガスバリア層を設けた、ガスバリア性成形体の製造方法であって、
前記ガスバリア層は、原子体積蒸着法（ＡＬＤ法）によるＡＬＤ無機蒸着膜層を含み、
前記ＡＬＤ無機蒸着膜層は、
前記成形品の表面のプラズマ処理層上に設けられ、
ＡｌＯx、ＳｉＯx、Ｓｉ3Ｎ4、ＴｉＯx、ＮｂＯx、Ｔａ2Ｏ、ＴｉＮ、ＨｆＯ2、ＺｒＯx、ＺｎＯなる群から選択される１種または２種以上を含む、１層または２層以上からなり、
前記製造方法は、
先ず下記の工程Ａを実施し、
次いで、下記の工程Ｂと工程Ｃとを交互に、前記ＡＬＤ無機蒸着膜層厚が、２ｎｍ以上、１０ｎｍ以下になるまで繰り返し行う、ガスバリア性成形体の製造方法。
工程Ａ）前記成形品の表面を、酸素が１０体積％〜１００体積％含有されたガスを用いてプラズマ処理し、前記プラズマ処理層を形成する工程
酸素を含むガスを用いて、プラズマ処理する工程。
工程Ｂ）１×１０-2Ｐａ以上、１×１０-1Ｐａ以下の気圧下で有機金属ガスを導入して、前記成形品の表面に有機金属基を付加し、次いで、不活性ガスでパージする工程。
工程Ｃ）１×１０-2Ｐａ以上、１×１０-1Ｐａ以下の気圧下で、水蒸気を導入して、前記成形品の表面に水酸基を付加し、次いで、不活性ガスでパージする工程。
【請求項２】
前記ＡＬＤ無機蒸着膜層が、プラズマ処理層に近い第１の層と、プラズマ処理層から遠い第２の層を含み、
前記第１の層は、ＡｌＯxを含む層であり、
前記第２の層は、ＳｉＯx、Ｓｉ3Ｎ4、ＴｉＯx、ＮｂＯx、Ｔａ2Ｏ、ＴｉＮ、ＨｆＯ2、ＺｒＯx、ＺｎＯなる群から選択される１種または２種以上を含む、１層または２層以上からなる、
請求項１に記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
【請求項３】
前記工程Ｂと前記工程Ｃとが、交互に、５分間以上、６０分間以下の時間内に、１０回以上、１５０回以下繰り返される、
請求項１または２に記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
【請求項４】
前記有機金属ガスが、トリメチルアルミニウム、なるトリジメチルアミノシラン、テトラキスジメチルアミノチタン、テトラキスエチルメチルアミノハフニウム、テトラキスエチルメチルアミノジルコニウム群から選ばれる、１種または２種以上である、請求項１〜３の何れか１項に記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
【請求項５】
前記不活性ガスが、アルゴンまたは窒素である、
請求項１〜４の何れか１項に記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
【請求項６】
前記成形品は、凹部を有し、
前記凹部の表面は、前記表面処理層と前記蒸着層とを有し
前記凹部の開口部の直径は、１ｍｍ以上、１０００ｍｍ以下であり
前記凹部の奥行き深さは、１０ｍｍ以上、１００００ｍｍ以下である
請求項１〜５の何れか１項に記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
【請求項７】
前記ＡＬＤ無機蒸着膜層の厚みが、２ｎｍ以上、５０ｎｍ以下である、
請求項１〜６の何れか１項に記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
【請求項８】
前記ＡＬＤ無機蒸着膜層の各部分の厚さが、厚み平均値±１５％以内である、
請求項１〜７の何れか１項に記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
【請求項９】
前記成形品は、樹脂、金属、ガラス、セラミックスから選ばれる、１種または２種以上を含む成型部品からなる、請求項１〜８の何れか１項に記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
【請求項１０】
更に、下記の工程Ｄ、工程Ｅ、工程Ｆを含む方法によって、前記ＡＬＤ無機蒸着膜層上に、パラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層を形成する、請求項１〜９の何れか１項に記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
工程Ｄ）前記パラキシリレン系化合物を気化室内に導入し、１００〜１６０℃で気化する工程。
工程Ｅ）気化した前記パラキシリレン系化合物を、熱分解室内で、６００〜６９０℃でラジカル化する工程。
工程Ｆ）５〜１５μｂａｒに減圧された蒸着室内に、ラジカル化した前記パラキシリレン系化合物を１０〜４００μｂａｒで導入し、前記蒸着室内に別途導入された前記成形品の前記ＡＬＤ無機蒸着膜層上に、前記パラキシリレン系化合物を蒸着させると共に重合させて、前記パラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層を形成する工程。
【請求項１１】
前記パラキシリレン系化合物が下記式で表される化合物を含む、請求項１０に記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
【化１】
2019178349.tif 000011
（式中、Ｒは水素原子またはフッ素原子であり、Ｘはハロゲン原子であり、ｎは平均値が０〜４の数である。）
【請求項１２】
前記パラキシリレン系化合物が下記式で表される化合物を含む、請求項１０に記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
【化２】
2019178349.tif 000012
【請求項１３】
前記パラキシリレン系化合物が下記式で表される化合物を含む、請求項１０に記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
【化３】
2019178349.tif 000013
【請求項１４】
前記パラキシリレン系化合物の重合体蒸着層の厚みは、１０ｎｍ以上、５μｍ以下である、
請求項１０〜１３の何れか１項に記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
【請求項１５】
前記パラキシリレン系化合物の重合体蒸着層の各部分の厚さが、厚み平均値±１５％以内である、
請求項１０〜１４の何れか１項に記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
【請求項１６】
水蒸気透過率度が、１×１０-5ｇ／個／日以上、１ｇ／個／日以下であり、
酸素透過率度が、１×１０-5ｃｃ／個／日／ａｔｍ以上、１ｃｃ／個／日／ａｔｍ以下である、
請求項１〜１５の何れか１項に記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
【請求項１７】
前記成形品が、ラミネートチューブ前駆体である、
請求項１〜１６の何れか１項に記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
【請求項１８】
前記成形品が、医療用シリンジである、
請求項１〜１６の何れか１項に記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、酸素や水蒸気等のガスに対するバリア性を付与する為の原子体積蒸着法（ＡＬＤ法）によるＡＬＤ無機蒸着膜層を含むガスバリア層を有する、ガスバリア性成形体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、有形物の防水・防湿性を高める為には、有形物表面に液状樹脂組成物を塗布したり（特許文献１）、金属または金属酸化物をコーティングしたり蒸着したりして、防水・防湿層を積層する手法が採られていた。
しかしながら、液状樹脂組成物を塗布する手法では、防水・防湿層が不均一で厚くなり、未積層部分が残ったり、狭い隙間全体が液状樹脂組成物で埋まってしまったり、更には、積層体全体としての物性にも影響を与えてしまうものであった。
金属コーティング層、金属酸化物コーティング層、金属蒸着層、金属酸化物蒸着層は、硬く脆いために、積層対象物が変形した場合に、割れたり剥がれたりする為に、用途が限定されていた。
【０００３】
医療用材料等において、各種樹脂フィルムや、シリンジ用ガスケット等の成形品、シリコーンチューブ等の基材表面に、ポリパラキシリレン被膜を積層したものが知られている（特許文献２）が、これはポリパラキシリレン被膜によって生体適合性を高めることのみが目的であり、更には、ポリパラキシリレン被膜の基材への密着が悪く、剥離し易いという問題があり、使用に耐え得る十分な密着性が得られにくい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１７−１０９３１２
【特許文献２】特表２００１−５２２６５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、蒸着対象物である成形品の任意の形状と色彩を維持し、酸素や水蒸気等のガスに対するバリア性を発揮する、薄く均一なＡＬＤ無機蒸着膜層を含むガスバリア層を有する、ガスバリア性成形体の製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、種々研究の結果、ＡＬＤ無機蒸着膜層を含むガスバリア層を有する成形体の製造方法が、上記課題を解決し得ることを見出したものである。
【０００７】
そして、本発明は、以下の点を特徴とする。
１．成形品の表面にガスバリア層を設けた、ガスバリア性成形体の製造方法であって、
前記ガスバリア層は、原子体積蒸着法（ＡＬＤ法）によるＡＬＤ無機蒸着膜層を含み、
前記ＡＬＤ無機蒸着膜層は、
前記成形品の表面のプラズマ処理層上に設けられ、
ＡｌＯx、ＳｉＯx、Ｓｉ3Ｎ4、ＴｉＯx、ＮｂＯx、Ｔａ2Ｏ、ＴｉＮ、ＨｆＯ2、ＺｒＯx、ＺｎＯなる群から選択される１種または２種以上を含む、１層または２層以上からなり、
前記製造方法は、
先ず下記の工程Ａを実施し、
次いで、下記の工程Ｂと工程Ｃとを交互に、前記ＡＬＤ無機蒸着膜層厚が、２ｎｍ以上、１０ｎｍ以下になるまで繰り返し行う、ガスバリア性成形体の製造方法、
工程Ａ）前記成形品の表面を、酸素が１０体積％〜１００体積％含有されたガスを用いてプラズマ処理し、前記プラズマ処理層を形成する工程。
酸素を含むガスを用いて、プラズマ処理する工程、
工程Ｂ）１×１０-2Ｐａ以上、１×１０-1Ｐａ以下の気圧下で有機金属ガスを導入して、前記成形品の表面に有機金属基を付加し、次いで、不活性ガスでパージする工程。
工程Ｃ）１×１０-2Ｐａ以上、１×１０-1Ｐａ以下の気圧下で、水蒸気を導入して、前記成形品の表面に水酸基を付加し、次いで、不活性ガスでパージする工程。
２．前記ＡＬＤ無機蒸着膜層が、プラズマ処理層に近い第１の層と、プラズマ処理層から遠い第２の層を含み、
前記第１の層は、ＡｌＯxを含む層であり、
前記第２の層は、ＳｉＯx、Ｓｉ3Ｎ4、ＴｉＯx、ＮｂＯx、Ｔａ2Ｏ、ＴｉＮ、ＨｆＯ2、ＺｒＯx、ＺｎＯなる群から選択される１種または２種以上を含む、１層または２層以上からなる、
上記１に記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
３．前記工程Ｂと前記工程Ｃとが、交互に、５分間以上、６０分間以下の時間内に、１０回以上、１５０回以下繰り返される、
上記１または２に記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
４．前記有機金属ガスが、トリメチルアルミニウム、なるトリジメチルアミノシラン、テトラキスジメチルアミノチタン、テトラキスエチルメチルアミノハフニウム、テトラキスエチルメチルアミノジルコニウム群から選ばれる、１種または２種以上である、上記１〜３の何れかに記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
５．前記不活性ガスが、アルゴンまたは窒素である、
上記１〜４の何れかに記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
６．前記成形品は、凹部を有し、
前記凹部の表面は、前記表面処理層と前記蒸着層とを有し
前記凹部の開口部の直径は、１ｍｍ以上、１０００ｍｍ以下であり
前記凹部の奥行き深さは、１０ｍｍ以上、１００００ｍｍ以下である
上記１〜５の何れかに記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
７．前記ＡＬＤ無機蒸着膜層の厚みが、２ｎｍ以上、５０ｎｍ以下である、
上記１〜６の何れかに記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
８．前記ＡＬＤ無機蒸着膜層の各部分の厚さが、厚み平均値±１５％以内である、
上記１〜７の何れかに記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
【０００８】
９．前記成形品は、樹脂、金属、ガラス、セラミックスから選ばれる、１種または２種以上を含む成型部品からなる、上記１〜８の何れかに記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
１０．更に、下記の工程Ｄ、工程Ｅ、工程Ｆを含む方法によって、前記ＡＬＤ無機蒸着膜層上に、パラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層を形成する、上記１〜９の何れかに記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
工程Ｄ）前記パラキシリレン系化合物を気化室内に導入し、１００〜１６０℃で気化する工程。
工程Ｅ）気化した前記パラキシリレン系化合物を、熱分解室内で、６００〜６９０℃でラジカル化する工程。
工程Ｆ）５〜１５μｂａｒに減圧された蒸着室内に、ラジカル化した前記パラキシリレン系化合物を１０〜４００μｂａｒで導入し、前記蒸着室内に別途導入された前記成形品の前記ＡＬＤ無機蒸着膜層上に、前記パラキシリレン系化合物を蒸着させると共に重合させて、前記パラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層を形成する工程。
【０００９】
１１．前記パラキシリレン系化合物が下記式で表される化合物を含む、上記１０に記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
【化１】
2019178349.tif 000003
（式中、Ｒは水素原子またはフッ素原子であり、Ｘはハロゲン原子であり、ｎは平均値が０〜４の数である。）
１２．前記パラキシリレン系化合物が下記式で表される化合物を含む、上記１０に記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
【化２】
2019178349.tif 000004
１３．前記パラキシリレン系化合物が下記式で表される化合物を含む、上記１０に記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
【化３】
2019178349.tif 000005
【００１０】
１４．前記パラキシリレン系化合物の重合体蒸着層の厚みは、１０ｎｍ以上、５μｍ以下である、上記１０〜１３の何れかに記載の、バリア成形体の製造方法。
１５．前記パラキシリレン系化合物の重合体蒸着層の各部分の厚さが、厚み平均値±１５％以内である、上記１０〜１４の何れかに記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
１６．水蒸気透過率度が、１×１０-5ｇ／個／日以上、１ｇ／個／日以下であり、
酸素透過率度が、１×１０-5ｃｃ／個／日／ａｔｍ以上、１ｃｃ／個／日／ａｔｍ以下である、上記１〜１５の何れかに記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
１７．前記成形品が、ラミネートチューブ前駆体である、上記１〜１６の何れかに記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
１８．前記成形品が、医療用シリンジである、上記１〜１６の何れかに記載の、ガスバリア性成形体の製造方法。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、略無色透明の、ＡＬＤ無機蒸着膜層が、蒸着によって、細部にまで、非常に薄く、均一に形成されて積層されることにより、蒸着対象物である成形品の任意の形状と色彩を略維持したまま、酸素や水蒸気等のガスバリア性を有するガスバリア性を付
与することができる。
上記ガスバリア性を付与し得たことによって、ガスバリア成形体に充填された内容物は、成形体を浸透して散逸したり、外部からの酸素や水蒸気の浸透によって劣化したりすることが抑制される。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明におけるガスバリア性成形体の形状と層構成の１例を示す断面図。
【図２】本発明におけるガスバリア性成形体の形状と層構成の別態様の１例を示す断面図。
【図３】本発明におけるガスバリア性成形体の形状と層構成の更に別態様の１例を示す断面図。
【図４】本発明におけるガスバリア性成形体の形状と層構成の更に別態様の１例を示す断面図。
【００１３】
各図においては、解り易くする為に、部材の大きさや比率を変更または誇張して記載することがある。また、見易さの為に説明上不要な部分や繰り返しとなる符号は省略することがある。
更に、各図において、凹凸部は明確な角を有するパターンとして例示されているが、角が丸まった形状でもよい。
【００１４】
図１において、ＡＬＤ無機蒸着膜層は、蒸着対象物全体を覆って積層され、凹部に対しても、該凹部の表面形状に沿って積層されている。
図２において、ＡＬＤ無機蒸着膜層は、高アスペクト比の凹部に対しても、奥部にまで、該凹部の表面形状に沿って、積層されている。
図３は、ＡＬＤ無機蒸着膜層が組成の異なる２層で構成されている場合である。
図４は、ＡＬＤ無機蒸着膜層の外側を、パラキシリレン系化合物の重合体蒸着層が覆って積層されている場合である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。また、本発明は、以降の列記された諸々の具体例や図に限定されるものでは無い。
本発明は、ガスバリア性を付与する為の、原子体積蒸着法（ＡＬＤ法）によるＡＬＤ無機蒸着膜層を含むガスバリア層を有する、ガスバリア性成形体の製造方法である。
すなわち、ガスバリア性を付与する為のＡＬＤ無機蒸着膜層を含むガスバリア層が、蒸着対象物上に、蒸着によって積層された構造を有する、ガスバリア性成形体の製造方法である。
【００１６】
＜成形品＞
［形状］
本発明における成形品は、薄いフィルムではなく、立体的な構造物であり、板状であってもブロック状であってもよく、高アスペクト比の凹部を有する筒状の形状や、開放口が小さく中が広い徳利型の形状であってもよく、表面に大きな凹凸や微細な凹凸を有していてもよく、また、狭い開放された隙間を有していてもよい。
なお、該凹部や該狭い隙間の奥部の表面にも、プラズマ処理層とＡＬＤ無機蒸着膜層とを有することができるものである。
またさらには、ＡＬＤ無機蒸着膜層上に、パラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層を有することもできる。
【００１７】
前記凹部のアスペクト比は、１以上、５０００以下が好ましく、１以上、５００以下がより好ましい。
また、前記凹部の開口部の直径は、１ｍｍ以上、１０００ｍｍ以下が好ましく、５ｍｍ以上、５００ｍｍ以下がより好ましい。前記凹部の奥行き深さは、１０ｍｍ以上、１００００ｍｍ以下が好ましく、１０ｍｍ以上、５０００ｍｍ以下が好ましい。
凸部に関しては特に制限が無く、本願発明は、ごく微細な孔を有するものや、複雑な形状を有する成形体に対しても対応することが出来る。
凹部を有する成形品としては、例えば、封止前のラミネートチューブ前駆体、カップ、医療用シリンジ等が挙げられる。
【００１８】
［素材］
蒸着対象物である成形品の素材は、本発明におけるプラズマ表面処理とＡＬＤ無機蒸着膜層の積層処理に耐え得るものならば特に制限は無く、例えば、樹脂、皮革、紙、布、繊維、金属、金属酸化物、木材、等の様々な素材を含むことが出来る。前記成形品が、樹脂、金属、ガラス、セラミックスから選ばれる、１種または２種以上を含む成形部品からなることが好ましい。またさらには、パラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層の積層処理に耐え得るものが好ましい。
【００１９】
蒸着対象物に含まれる樹脂は、特に限定されるものでは無く、各種の、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂及びその硬化物、エラストマー、シリコーン系樹脂等が挙げられ、これらの１種または２種以上を含有することもできる。
【００２０】
成形品に樹脂組成物が用いられている場合、該樹脂組成物は、用途に応じて、様々な樹脂原料やエラストマー原料を含有し、更には、有機充填剤、無機充填剤、ラジカル重合開始剤、加硫剤、加硫活性剤、離型剤、老化防止、その他各種添加剤を含むことも出来る。
【００２１】
熱可塑性樹脂に特に制限は無く、一般的な熱可塑性樹脂を含むことができる。具体的には、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリスチレン系樹脂等が挙げられる。
【００２２】
ポリエチレン系樹脂とは、主にエチレンを重合原料として用いた樹脂であり、他の重合原料を併用した共重合体も含まれる。具体的には、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、直鎖状（線状）低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−プロピレン共重合体等及びこれらの樹脂の混合物が挙げられるが、これらには限定されない。
【００２３】
ポリプロピレン系樹脂とは、主にプロピレンを重合原料として用いた樹脂であり、他の重合原料を併用した共重合体も含まれる。具体的には、プロピレンホモポリマー、プロピレン−エチレン共重合体、プロピレン−ブテン−１共重合体、プロピレン−エチレン−ブテン−１共重合体及びこれらの樹脂の混合物等が挙げられるが、これらには限定されない。
ポリスチレン系樹脂とは、スチレンを重合原料として用いた樹脂であり、他の重合原料を併用した共重合体や、それらの水素添加品も含まれる。
熱硬化性樹脂を含む場合には、該熱硬化性樹脂が未硬化状態であっても、Ｂステージ状態であっても、硬化物であってもよい。
エラストマーに特に制限は無く、例えば、上記の熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂においてゴム弾性を有するものが該当する。
また、各樹脂とエラストマーには、加硫品も含まれる。
【００２４】
［色彩模様］
本発明におけるＡＬＤ無機蒸着膜層は略無色透明である為、成形品の色彩模様を維持で
きる。更には、微細な凹凸模様によるプリズム効果を用いた回折光沢による虹色も維持できる。パラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層に関しても同様である。
【００２５】
＜ガスバリア層＞
本発明におけるガスバリア層は、原子体積蒸着法（ＡＬＤ法）によるＡＬＤ無機蒸着膜層を含む。更に、本発明におけるガスバリア層は、必要に応じて、パラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層や、塗布等によるガスバリア層を含むことも可能である。
【００２６】
［ＡＬＤ無機蒸着膜層］
本発明において、ＡＬＤ無機蒸着膜層は、蒸着対象物である成形品に、酸素遮断性や水蒸気遮断性等のガスバリア性を付与する層であり、成形品の表面のプラズマ処理層上に設けられている層である。
従って、本発明のガスバリア性成形体は、防水性と防湿性の両方において優れた性能を発揮し、更には電気絶縁性を有する。
成形体内部への水、水蒸気、酸素、その他液体成分の浸透を抑えることが出来る為、成形体容器内の充填物が外部に散逸したり、該充填物に外部から異物が混入して汚染又は変質したりすることを抑えることが出来る。
【００２７】
尚、成形品表面のプラズマ表面処理やＡＬＤ無機蒸着膜層を積層したくない部分に対しては、マスクをして、プラズマ表面処理とＡＬＤ無機蒸着膜層が積層されないようにすることができる。
【００２８】
ＡＬＤ無機蒸着膜層は、ＡｌＯx、ＳｉＯx、Ｓｉ3Ｎ4、ＴｉＯx、ＮｂＯx、Ｔａ2Ｏ、ＴｉＮ、ＨｆＯ2、ＺｒＯx、ＺｎＯなる群から選択される１種または２種以上を含むことが好ましく、１層または２層以上からなることが好ましい。
【００２９】
また、ＡＬＤ無機蒸着膜層は、プラズマ処理層に近い第１の層と、プラズマ処理層から遠い第２の層を含み、第１の層はＡｌＯxを含む層であり、第２の層は、ＳｉＯx、Ｓｉ3Ｎ4、ＴｉＯx、ＮｂＯx、Ｔａ2Ｏ、ＴｉＮ、ＨｆＯ2、ＺｒＯx、ＺｎＯなる群から選択される１種または２種以上を含む、１層または２層以上からなる層にすることもできる。
【００３０】
ＡＬＤ無機蒸着膜層の厚みは、好ましくは２ｎｍ以上、５０ｎｍ以下であり、より好ましくは５ｎｍ以上、３０μｍ以下である。第１の層の厚みは、好ましくは２ｎｍ以上、５０ｎｍ以下であり、より好ましくは５ｎｍ以上、１５ｎｍ以下である。第２の層の厚みは、好ましくは１０ｎｍ以上、５μｍ以下であり、より好ましくは５０ｎｍ以上、１μｍ以下である。
【００３１】
ＡＬＤ無機蒸着膜層は、厚みが上記範囲であることによって成形品に強固に接着することができ、且つ、十分なガスバリア性を発揮することが出来る。
上記範囲よりも薄いとガスバリア効果が発揮され難く、上記範囲よりも厚いと、またＡＬＤ無機蒸着膜層形成に長時間を要する為に生産コストが増大する。
【００３２】
また、ＡＬＤ無機蒸着膜層の厚みは均一であり、各部分の厚みは、厚み平均値±１５％以内であることが好ましく、厚み平均値±１０％以内であることがより好ましく、厚み平均値±５％以内であることが更に好ましい。上記範囲よりも小さいと、ＡＬＤ無機蒸着膜層形成のコントロールが困難であり、上記範囲よりも大きいと、微細な隙間へのＡＬＤ無機蒸着膜層形成が困難になり易い。
【００３３】
［パラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層］
本発明において、パラキシリレン系化合物の重合体蒸着層は、蒸着対象物である成形品
に、酸素遮断性や水蒸気遮断性等のガスバリア性と電気絶縁性を付与する層であり、成形品の表面のＡＬＤ無機蒸着膜層上に設けられている層である。
従って、本発明のガスバリア性成形体は、防水性と防湿性の両方において優れた性能を発揮し、更には電気絶縁性を有する。
【００３４】
成形体内部への水、水蒸気、酸素、その他液体成分の浸透を抑えることが出来る為、成形体容器内の充填物が外部に散逸したり、該充填物に外部から異物が混入して汚染又は変質したりすることを抑えることが出来る。
【００３５】
蒸着対象物である成形品が、剥き出しの半導体装置や電気・電子部品のリードや配線部分等の、電気的ショートを生じる可能性のある部分を表面に有している場合には、パラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層によって、導電体である水が付着した場合、水中に浸漬した場合であっても、電気的ショートを防止することが可能である。更には、埃等によるトラッキング現象を防止することも可能である。
【００３６】
また、蒸着対象物内部への水の浸透を防止することも出来る為、蒸着対象物内部の配線間のショートを防止することが可能であり、更には、蒸着対象物及び内蔵部品の劣化や腐食をも防止することが可能であり、本発明のガスバリア性成形体は長い可使用寿命を発揮することが出来る。
【００３７】
パラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層の厚みは、好ましくは１０ｎｍ以上、５μｍ以下であり、より好ましくは２０ｎｍ以上、２μｍ以下であり、更に好ましくは、５０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下である。
パラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層は、厚みが上記範囲であることによって蒸着対象物に強固に接着することができ、且つ、十分なガスバリア性を発揮することが出来る。
上記範囲よりもよりも薄いとガスバリア性が発揮され難く、上記範囲よりも厚いとパラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層自体が硬くなるため扱い難く、またパラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層形成に長時間を要する為に生産コストも増大する。
【００３８】
また、パラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層の厚みは均一であり、各部分の厚みは、厚み平均値±１５％以内であることが好ましく、厚み平均値±１０％以内であることがより好ましく、厚み平均値±５％以内であることが更に好ましい。上記範囲よりも小さいと、パラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層形成のコントロールが困難であり、上記範囲よりも大きいと、微細な隙間へのパラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層形成が困難になり易い。
【００３９】
パラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層は、伸縮性に優れており、蒸着対象物が伸縮や折り曲げによって変形された場合であっても、伸縮や折り曲げに追随して、剥離や亀裂を生じること無く変形することが可能であり、ガスバリア性を維持できる。
【００４０】
パラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層の水蒸気透過率度は、１０ｇ／ｍ2／日以下であることが好ましく、０．０１ｇ／ｍ2／日以上、１０ｇ／ｍ2／日以下であることがより好ましい。上記範囲よりも大きいと防湿性が不十分になり易い。また、０．０１ｇ／ｍ2／日よりも小さい性能を得ることは蒸着膜形成の調節が煩雑になり易く、生産性に劣ることになり易い。
【００４１】
［パラキシリレン系化合物］
本発明において用いられるパラキシリレン系化合物は、好ましくは、下記式（１）、（２）、（３）で示されるパラキシリレン系化合物である。これらのパラキシリレン系化合物は、１種又は２種以上の混合物を用いることができる
これらパラキシリレン系化合物の市販品としては、非置換パラキシリレンダイマー（ＳＣＳ（株）製、パリレンＮ）、モノクロロパラキシリレンダイマー（ＳＣＳ（株）製、パリレンＣ）、ジクロロパラキシリレンダイマー（ＳＣＳ（株）製、パリレンＤ）、テトラフルオロパラキシリレンダイマー（ＳＣＳ（株）製、パリレンＦＶＴ４）、α，α，α’，α’−テトラフルオロパラキシリレンダイマー（ＳＣＳ（株）製、パリレンＡＦ４）等が挙げられる。
【００４２】
これらパラキシリレン系化合物は、重合して、パリレンと呼ばれるパラキシリレン系ポリマーを生成する。
【化４】
2019178349.tif 000006
（式中、Ｒは水素原子またはフッ素原子であり、Ｘはハロゲン原子であり、ｎは平均値が０〜４の数である。）
【化５】
2019178349.tif 000007
【化６】
2019178349.tif 000008
【００４３】
＜ガスバリア層の積層＞
［成形品表面のプラズマ処理］
本発明において、ＡＬＤ無機蒸着膜層を積層する成形品の表面は、予め、プラズマ処理によって表面処理することができる。
プラズマ処理としては、ＲＦプラズマ放電処理、リアクティブイオンエッチング方式プラズマ処理や、ダイレクトプラズマ方式プラズマ処理を用いることができる。更には、コロナ処理を併用することもできる。
プラズマ処理で表面処理されることによって、成形品表面の添加剤や汚染が除去されたり、ＯＨ基等の酸素原子を含む極性基や官能基が付加して極性が付与されたり、適切な表
面粗さが得られ、成形品表面とＡＬＤ無機蒸着膜層との接着性を向上させることができる。
【００４４】
プラズマ処理を行う場合には、例えば、酸素／アルゴン混合ガス雰囲気で行うことができる。
酸素／アルゴン混合ガスの酸素の割合は１０体積％〜１００体積％が好ましい。上記範囲よりも少ないと、成形品表面に酸素原子含有する極性基や官能基を付加させる効率が悪化して、次工程のＡＬＤ無機蒸着膜層の積層性が悪化する。
【００４５】
コロナ処理を行う場合には、電極距離は３〜６ｍｍ、電圧は１〜２０ｋＶ、処理時間は１〜６０秒が好ましい。電圧と処理時間が上記よりも小さいと処理効果が発揮され難く、上記範囲よりも大きいと蒸着対象物が劣化し易い。
【００４６】
［ＡＬＤ無機蒸着膜層の形成］
ＡＬＤ無機蒸着膜層の形成は、成形品表面の再汚染を防止するために、成形品を外気に触れさせずに、装置内で上記のプラズマ処理と連続して、行うことが好ましい。これにより、ＡＬＤ無機蒸着膜層は更に強固に成形品表面に接着することができる。
【００４７】
先ず、有機金属ガスを前記水酸基に反応させることで、成形品表面に有機金属基を付加させることができる。具体的には、例えば、１×１０-2Ｐａ以上、１×１０3Ｐａ以下の気圧下で有機金属ガスを導入と反応を行い、次いで、不活性ガスでパージして未反応有機金属ガスと副生成物の有機ガスとを除去することで達成できる。
【００４８】
次に、ＡＬＤ無機蒸着膜層を形成する際は、先ず、水蒸気によって成形品表面に水酸基を付加させる。具体的には、例えば、１×１０-2Ｐａ以上、１×１０3Ｐａ以下の気圧下で、水蒸気を導入して、成形体表面にＯＨ基を生成させ、次いで、不活性ガスでパージして未反応水蒸気を除去することで達成できる。
【００４９】
そして、更に、上記水蒸気導入と不活性ガスパージによる処理で、付加している有機金属を金属酸化物および／または金属水酸化物に変え、また更に、上記有機金属ガス導入と不活性ガスパージによる処理で、有機金属基を付加し、これらの処理を交互に何度も繰り返すことによって、ＡＬＤ無機蒸着膜を成長させていく。
【００５０】
上記の繰り返し処理は、ＡＬＤ無機蒸着膜層が目標厚みに達するまで繰り返される。
また、水蒸気に過酸化水素を加えたり、ＡｒやＮ２をキャリアガスとして用いて高周波プラズマ化したりして、反応を促進することもできる。
ＡＬＤ無機蒸着膜層を多層で構成する場合には、有機金属ガス臭を変更して、上記を繰り返す。
【００５１】
［パラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層の形成］
パラキシリレン系化合物の重合体蒸着層は、例えば、下記の工程１〜３を含む方法によって積層して形成することができる。
工程１）前記パラキシリレン系化合物を気化室内に導入し、１００〜１６０℃で気化する工程。
工程２）気化した前記パラキシリレン系化合物を、熱分解室内で、６００〜６９０℃でラジカル化する工程。
工程３）５〜１５μｂａｒに減圧された蒸着室内に、ラジカル化した前記パラキシリレン系化合物を１０〜４００μｂａｒで導入し、前記蒸着室内に別途導入された蒸着対象物の表面に、前記パラキシリレン系化合物を蒸着させると共に重合させて、前記重合体蒸着層を形成する工程。
【００５２】
パラキシリレン系化合物の重合体蒸着層は、先ず、パラキシリレン系化合物を気化し、次いでラジカル化して、蒸着対象物に接触させることによって、形成される。
【００５３】
工程１において、気化室、蒸着室の容積に応じた適切な量のパラキシリレン系化合物が気化される。パラキシリレン系化合物の量が少な過ぎると、蒸着室内の気圧が低く、ラジカルモノマーの密度が小さくなり、蒸着層の形成速度が遅くなるため好ましくない。
パラキシリレン系化合物の量が多過ぎると、ラジカルモノマーの密度が高くなりすぎて、蒸着対象物表面に到達する前にポリマー化が進行し易く、形成される蒸着層の膜質が低下し、蒸着対象物と蒸着層との密着性が低下するため好ましくない。
パラキシリレン系化合物を気化室内で気化する際の温度は、１００〜１６０℃が好ましい。１００℃よりも低温の場合には気化が不十分になり易い。１６０℃よりも高温の場合には、気化したパラキシリレン系化合物が化学的不安定になり易く、炭化し易い。
【００５４】
工程２において、気化したパラキシリレン系化合物を熱分解室内でラジカル化する際の温度は、６００〜６９０℃が好ましい。６００℃よりも低温の場合には、ラジカル化が不十分になり易い。６９０℃よりも高温の場合には、気化したパラキシリレン系化合物が炭化し易く、ラジカル化したパラキシリレン系化合物が化学的不安定になり易い。
【００５５】
工程３において、ラジカル化したパラキシリレン系化合物を導入する前の蒸着室内は、良質で高密着な蒸着層を得るためには、気圧が５〜１５μｂａｒの範囲に保たれていることが好ましい。
【００５６】
気圧が５μｂａｒよりも低い場合には、ラジカルモノマーの密度が小さくなることで、蒸着層形成速度が遅くなり、生産効率が低下する。１５μｂａｒよりも高い場合には、ラジカルモノマーの密度が高くなりすぎて、蒸着対象物表面に到達する前にポリマー化が進行し易く、形成される蒸着層の膜質が低下し、蒸着対象物と蒸着層との密着性が低下するため、好ましくない。
【００５７】
蒸着室内に導入される際のラジカル化した前記パラキシリレン系化合物の気圧は１０〜４００μｂａｒが好ましい。１０μｂａｒよりも低い場合には、ラジカルモノマーの密度が小さくなり、蒸着層の形成速度が遅くなり、生産効率が低下する。気圧が４００μｂａｒよりも高い場合には、ラジカルモノマーの密度が高くなりすぎて、蒸着対象物表面に到達する前にポリマー化が進行し易く、形成される蒸着層の膜質が低下し、蒸着対象物と蒸着層との密着性が低下するため好ましくない。
ここで、上記の工程１〜３は、バッチ処理することが可能である。
【００５８】
＜ガスバリア成形体＞
本発明のガスバリア成形体は、成形品の表面にガスバリア層を設けた、ガスバリア性成形体であって、前記成形品は、立体的な構造物であり、前記ガスバリア層は、原子体積蒸着法（ＡＬＤ法）によるＡＬＤ無機蒸着膜層を含み、前記ＡＬＤ無機蒸着膜層は、前記成形品の表面のプラズマ処理層上に設けられている。
【００５９】
さらには、前記ＡＬＤ無機蒸着膜層上にパラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層を
設けることもできる。
本発明のガスバリア成形体は、成形品の表面に極薄い厚みガスバリア層を有するだけであるため、元になった成形品と略同形、同サイズ、同色であり、元の成形品の特性を損なうこと無しに、ガスバリア性が付与されている。
例えば本発明のガスバリア成形体が医療用シリンジである場合は、シリンジの内径はガスバリア層を形成する前と略同一で有る為に、ピストンの外径を変更することなくそのま
ま組み合わせて用いることが可能である。
例えば本発明のガスバリア成形体がラミネートチューブ前駆体である場合は、ガスバリア層を設けられていても折り曲げや折り畳みは可能であり、通常の方法通りに開放口を封止することでラミネートチューブを作製することが可能である。
【００６０】
本発明のガスバリア成形体の水蒸気透過率度は、１×１０-5ｇ／個／日以上、１ｇ／個／日以下が好ましく、１×１０-4ｇ／個／日以上、１ｇ／個／日以下がより好ましい。
上記範囲よりも大きいと水蒸気バリア性が不十分になり易い。また、上記範囲よりも小さい性能を得る為にはＡＬＤ無機蒸着膜層またはパラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層の形成の調節が煩雑になり易く、生産性に劣ることになり易い。
【００６１】
本発明のガスバリア成形体の酸素透過率度は、１×１０-5ｃｃ／個／日／ａｔｍ以上、１ｃｃ／個／日／ａｔｍ以下であることが好ましく、１×１０-4ｃｃ／個／日／ａｔｍ以上、１ｃｃ／ｍ2／日／ａｔｍ以下であることがより好ましい。
上記範囲よりも大きいと水蒸気バリア性が不十分になり易い。また、上記範囲よりも小さい性能を得る為にはＡＬＤ無機蒸着膜層またはパラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層の形成の調節が煩雑になり易く、生産性に劣ることになり易い。
【実施例】
【００６２】
実施例において、下記のパラキシリレン系化合物を用いた。
パラキシリレン系化合物１：ＳＣＳ（株）社製パリレンＣ。モノクロロパラキシリレンダイマー。粉末状。
パラキシリレン系化合物２：ＳＣＳ（株）社製パリレンＮ。非置換パラキシリレンダイマー。粉末状。
【００６３】
［実施例１］
直径１００ｍｍ容量１５０ｃｃのポリプロピレン（ＰＰ）製カップを成形品として用いた。
【００６４】
（プラズマ表面処理）
先ず成形体を蒸着釜へ設置し、蒸着釜内の圧力を５．２×１０-4Ｐａに減圧した。
次いで、酸素／アルゴン＝５０／５０体積比の混合ガスの０．３７Ｐａの環境下で、１３．５６ＭＨｚ、５００Ｗのプラズマ励起用電源を用いて、６０秒間のＲＦプラズマ放電を実施した。
【００６５】
（ＡＬＤ無機蒸着膜層形成）
プラズマ表面処理と連続して、下記ａ）〜ｄ）の処理を順に連続実施して１サイクルとして、２３０秒／サイクルで実施し、合計１５０サイクルを合計５７５分間で実施して、厚み１８ｎｍのＡＬＤアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）蒸着膜を成形体表面に形成した。
ａ）蒸着釜内の圧力を５．８×１０-4Ｐａに減圧して、原料ガスとしてトリメチルアルミニウム（ＴＭＡ）を３０秒間供給。
ｂ）パージガスとしてアルゴン（Ａｒ）ガスを５０秒間パージ。
ｃ）反応ガスとして水蒸気（Ｈ2Ｏ）を１００秒間供給。
ｄ）パージガスとしてアルゴン（Ａｒ）ガスを５０秒間パージ。
【００６６】
得られたＡＬＤ無機蒸着膜層を有するガスバリア性成形体と、未処理成形体の両方について、酸素透過度と水蒸気透過度を評価した。結果を表１にまとめた。
【００６７】
［実施例２〜８］
表１に記載されたように、成形品、プラズマ表面処理条件、ＡＬＤ無機蒸着膜層形成処
理条件、を変更して、実施例１と同様にして、各種ＡＬＤ無機蒸着膜層を形成して、ガスバリア性成形体を得て、実施例１と同様に評価した。結果を表１、２にまとめた。
【００６８】
（パラキシリレン系化合物の重合体（パリレン）蒸着膜層形成）
ＡＬＤ無機蒸着膜層形成処理と連続して、下記ｅ）〜ｇ）の処理を順に連続実施して、ＡＬＤ無機蒸着膜層上に、厚み１μｍのパラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層を形成して、ガスバリア性成形体を得た。
ｅ）２ｇのパラキシリレン系化合物１を気化室内に導入し、１６０℃で気化。
ｆ）気化したパラキシリレン系化合物１を、熱分解室内で、６６０℃に加熱してラジカル化。
ｇ）ラジカル化したパラキシリレン系化合物１を４０μｂａｒで蒸着室内に導入し、ＡＬＤ無機蒸着膜層形成済みの成形品に衝突させ、重合し、堆積。
【００６９】
得られたＡＬＤ無機蒸着膜層とパラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層とを有するガスバリア性成形体と、未処理成形体の両方について、酸素透過度と水蒸気透過度を評価した。結果を表１にまとめた。
【００７０】
表１中の各種略号の意味は下記の通り。
ＰＰ：ポリプロピレン
ＰＳ：ポリスチレン
ＰＥ：ポリエチレン
ＴＭＡ：トリメチルアルミニウム
ＴＤＭＡＳ：トリスジメチルアミノシラン
Ａｌ2Ｏ3：アルミナ
ＳｉＯ2：シリカ
【００７１】
［比較例１］
成形品にプラズマ表面処理を行わなかったこと以外は、実施例１と同様に操作して、ＡＬＤ無機蒸着膜層とパラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層の形成を行い、ガスバリア性成形体を得て、同様に評価した。
【００７２】
［比較例２］
成形品にプラズマ表面処理を行う際のガスの酸素含有率を０体積％にしたこと以外は、実施例１と同様に操作して、ＡＬＤ無機蒸着膜層とパラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層の形成を行い、ガスバリア性成形体を得て、同様に評価した。
【００７３】
［比較例３］
成形品にＡＬＤ無機蒸着膜層ではなく、プラズマＣＶＤ（ｃｈｅｍｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、化学蒸着）法によるＤＬＣ（Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｌｉｋｅ  Ｃａｒｂｏｎ）膜を形成し、同様に評価した。
【００７４】
［結果まとめ］
本発明に係る実施例１〜９のＡＬＤ無機蒸着膜層とパラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層とを有するガスバリア性成形体は全て、良好な酸素遮断性と水蒸気遮断性を示した。
一方、が、プラズマ表面処理を行わなかった比較例１と、プラズマ表面処理時に酸素を含まないガスを用いた比較例２は、劣った酸素遮断性と水蒸気遮断性を示した。
更に、従来のＣＶＤ法によるＤＬＣ膜層を有する比較例３は、１方向面しか蒸着されず、凹部奥部の膜厚が薄く、膜厚が均一ではなく、劣った酸素遮断性と水蒸気遮断性を示した。
【００７５】
＜評価方法＞
［ＡＬＤ無機蒸着膜層厚さ測定］
大塚電子（株）製  反射分光膜厚計  ＦＥ−３０００を用いて、得られた重合体蒸着層の厚みを測定した。
ＡＬＤ無機蒸着膜層が積層された成形品の外周部、凹部開口部、凹部奥部のＡＬＤ無機蒸着膜層厚みを数点ずつ測定して厚み平均値を算出し、各部各点の厚みの、厚み平均値との最大差（％）を求めた。
なお、測定には、各水準と同条件でＡＬＤ無機蒸着膜層を形成し、パラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜を形成しなかった試験片を用いた。
【００７６】
［パラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層厚さ測定］
浜松ホトニクス社製の膜厚測定器Ｏｐｔｉｃａｌ  ＮａｎｏＧａｕｇｅ膜厚計Ｃ１０１７８−０２を用いて、得られた重合体蒸着層の厚みを測定した。
パラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層が積層された成形品の外周部、凹部開口部、凹部奥部のパラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層厚みを数点ずつ測定して厚み平均値を算出し、各部各点の厚みの、厚み平均値との最大差（％）を求めた。
なお、測定には、ＡＬＤ無機蒸着膜層を形成せず、各水準と同条件でパラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜を形成した試験片を用いた。
【００７７】
［ガスバリア性］
（酸素透過度）
酸素透過度測定装置（米国ＭＯＣＯＮ社製  ＯＸ−ＴＲＡＮ  ２／２２）を用いて、２３℃、９０％ＲＨの条件下で、ＪＩＳ  Ｋ７１２６に準拠して、試験片の酸素透過度を測定した。
（水蒸気透過度）
水蒸気透過度測定装置（米国ＭＯＣＯＮ社製ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ３／３１）を用いて、４０℃、９０％ＲＨの条件下で、ＪＩＳ  Ｋ７１２６に準拠して、試験片の水蒸気透過度を測定した。
【００７８】
【表１】
2019178349.tif 000009
【００７９】
【表２】
2019178349.tif 000010
【産業上の利用可能性】
【００８０】
本発明によれば、蒸着対象物である成形品の任意の形状と色彩を略維持したままのＡＬＤ無機蒸着膜層を含むガスバリア層を表面に有するガスバリア性成形体を得られ、酸素遮断性と水蒸気遮断性を発揮し得ることから、各種有形物への適用が可能である。
【符号の説明】
【００８１】
１  ガスバリア性成形体
２  成形品
３  プラズマ処理層
４  ＡＬＤ無機蒸着膜層
５  パラキシリレン系化合物の重合体蒸着膜層
【図１】
2019178349.tif 000014
【図２】
2019178349.tif 000015
【図３】
2019178349.tif 000016
【図４】
2019178349.tif 000017