(57)【要約】      （修正有）【課題】特定部位の他部位に対する熱処理度合いを細かくコントロールすることが可能な熱処理方法及び熱処理治具の提供。【解決手段】部位に応じて熱処理度合いが異なるように被処理物を熱処理する熱処理方法であって、被処理物の特定部位に浸炭抑制材Ｆを充填することにより特定部位の熱処理度合いを低くする。特定部位が環状面である場合、環状面を周面とする筒状空間に前記浸炭抑制材を充填する。筒状空間に前記特定部位と所定の隙間を空けて対峙する突部ｊ４を設け、突部と環状面との間の空間に浸炭抑制材を充填する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
部位に応じて熱処理度合いが異なるように被処理物を熱処理する熱処理方法であって、
前記被処理物の特定部位に浸炭抑制材を充填することにより前記特定部位の熱処理度合いを低くすることを特徴とする熱処理方法。
【請求項２】
前記特定部位が環状面である場合、当該環状面を周面とする筒状空間に前記浸炭抑制材を充填することを特徴とする請求項１に記載の熱処理方法。
【請求項３】
前記筒状空間に前記特定部位と所定の隙間を空けて対峙する突部を設け、当該突部と前記環状面との間の空間に前記浸炭抑制材を充填することを特徴とする請求項２に記載の熱処理方法。
【請求項４】
前記熱処理は、浸炭処理であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の熱処理方法。
【請求項５】
前記浸炭抑制材は、金属粉であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の熱処理方法。
【請求項６】
部位に応じて熱処理度合いが異なるように被処理物を熱処理する際に用いる熱処理治具であって、
前記被処理物が載置される底部と、
該底部から立設し、前記被処理物において前記熱処理の熱処理度合いを低くする特定部位に対峙する突部と、
前記特定部位と前記突部との間に充填される浸炭抑制材と
を備えることを特徴とする熱処理治具。
【請求項７】
浸炭処理に供されることを特徴とする請求項６に記載の熱処理治具。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、熱処理方法及び熱処理治具に関する。
【背景技術】
【０００２】
下記特許文献１には、浸炭方法及び該浸炭方法に使用する浸炭治具が開示されている。この浸炭方法は、機械部品が後に機械加工を必要とする部分によって構成された空間部を有し、防炭剤を塗布した空間部の防炭剤塗布部分を耐熱性のある鋼製等の剛体の浸炭治具により覆い且つ少なくとも機械部品の一部を支持して処理するものである。また、この浸炭治具は、機械部品が後に機械加工を必要とする部分によって構成された空間部を有し、該空間部の防炭剤塗布部分の少なくとも一部を覆い、同時に前記機械部品を支持するものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第３６０６５０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
すなわち、機械部品を浸炭処理する場合における従来の防炭手法は、機械加工を必要とする部分（防炭部位）に防炭剤を塗布することである。この防炭手法は、防炭部位の浸炭を防止するものであり、浸炭対象部位に対する浸炭度合いを微妙にコントロールするものではない。
【０００５】
しかしながら、浸炭処理が必要な機械部品の中には、防炭部位における防炭度合い、つまり防炭部位以外の部位の浸炭度に対する防炭部位の浸炭度の割合を微妙にコントロールすることを必要とするものがある。従来の防炭手法は、このような要求に対して十分な回答を与えるものではない。
【０００６】
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであり、特定部位の他部位に対する熱処理度合いを細かくコントロールすることが可能な熱処理方法及び熱処理治具の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明では、熱処理方法に係る第１の解決手段として、部位に応じて熱処理度合いが異なるように被処理物を熱処理する熱処理方法であって、前記被処理物の特定部位に浸炭抑制材を充填することにより前記特定部位の熱処理度合いを低くする、という手段を採用する。
【０００８】
本発明では、熱処理方法に係る第２の解決手段として、上記第１の解決手段において、前記特定部位が環状面である場合、当該環状面を周面とする筒状空間に前記浸炭抑制材を充填する、という手段を採用する。
【０００９】
本発明では、熱処理方法に係る第３の解決手段として、上記第２の解決手段において、前記筒状空間に前記特定部位と所定の隙間を空けて対峙する突部を設け、当該突部と前記環状面との間の空間に前記浸炭抑制材を充填する、という手段を採用する。
【００１０】
本発明では、熱処理方法に係る第４の解決手段として、上記第１〜３のいずれかの解決手段において、前記熱処理は浸炭処理である、という手段を採用する。
【００１１】
本発明では、熱処理方法に係る第５の解決手段として、上記第１〜第４のいずれかの解決手段において、前記浸炭抑制材は金属粉である、という手段を採用する。
【００１２】
さらに、本発明では、熱処理治具に係る第１の解決手段として、部位に応じて熱処理度合いが異なるように被処理物を熱処理する際に用いる熱処理治具であって、前記被処理物が載置される載置面と、該載置面から立設し、前記被処理物において前記熱処理の熱処理度合いを低くする特定部位に対峙する突部と、前記特定部位と前記突部との間に充填される浸炭抑制材とを備える、という手段を採用する。
【００１３】
さらに、本発明では、熱処理治具に係る第２の解決手段として、上記第１の解決手段において、浸炭処理に供される、という手段を採用する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、浸炭抑制材の充填状態によって特定部位の他部位に対する熱処理度合いを細かくコントロールすることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の一実施形態における浸炭装置の構成を示す縦断面図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る浸炭治具の全体構成示す模式図である。
【図３】本発明の一実施形態に係る浸炭治具の使用状態を示す模式図である。
【図４】本発明の一実施形態に係る浸炭方法を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、図面を参照して、本発明の一実施形態について説明する。
本実施形態における浸炭装置は、被処理物Ｘに対して所定の浸炭処理を施す装置である。浸炭処理は周知のように熱処理の一種であり、よって本実施形態における浸炭装置は、本発明に係る熱処理方法に供される。
【００１７】
本実施形態における浸炭装置は、図１に示すように、チャンバー１（炉体）、断熱容器２、炉床３、複数の浸炭ガス導入パイプ４、浸炭ガス供給源５、複数の加熱ヒータ６、排気管７、排気ポンプ８、一対の攪拌翼９及び一対の攪拌モータ１０を備えている。
【００１８】
チャンバー１は、図１に示すように、直方体形状の本体容器であり、一側面に断熱ドア１ａが設けられている。この断熱ドア１ａは、チャンバー１内に被処理物Ｘを出し入れするための開閉扉であり、鉛直姿勢で設けられていると共に鉛直方向（上下方向）にスライドすることによりチャンバー１内を外部に対して開放あるいは閉鎖する。また、この断熱ドア１ａは、内側に断熱材が設けられているため断熱性能を併せ持つ。
【００１９】
断熱容器２は、図１に示すように、上記チャンバー１内に設けられた直方体形状の容器であり、所定の断熱性能を有する断熱材（セラミックス材）から形成されている。このような断熱容器２の内部空間は、被処理物Ｘを収容しつ、浸炭処理を施す浸炭室Ｓである。浸炭室Ｓには、上記断熱ドア１ａを介して被処理物Ｘ（浸炭対象物）が搬入される。なお、本実施形態では、上記断熱ドア１ａに平行な水平方向をチャンバー１（浸炭室Ｓ）の幅方向とし、断熱ドア１ａに垂直な水平方向をチャンバー１（浸炭室Ｓ）の奥行き方向とする。
【００２０】
炉床３は、本実施形態に係る浸炭装置の最も特徴的な構成要素であり、図１に示すように、上記断熱容器２の内側かつ下部に備えられている。この炉床３は、上記断熱ドア１ａを介して外部から搬入された被処理物Ｘが載置される載置台であり、主要部品がアルミナ等のセラミックス材から形成されている。すなわち、炉床３の主要部品はセラミックス製の部材である。
【００２１】
複数の浸炭ガス導入パイプ４は、アセチレン等の浸炭ガスを浸炭室Ｓ内に導入するための管路であり、先端が浸炭室Ｓ内に開口すると共に後端が浸炭ガス供給源５に連通する。浸炭ガス供給源５は、所定流量の浸炭ガスを浸炭ガス導入パイプ４に吐出する。すなわち、浸炭室Ｓ内には、浸炭ガス供給源５によって流量設定された浸炭ガスが供給される。なお、上記浸炭ガスとしては、例えばアセチレン（Ｃ２Ｈ２）であり、またアセチレン（Ｃ２Ｈ２）の他にメタン（ＣＨ４）等の炭化水素が一般的に使用される。
【００２２】
複数の加熱ヒータ６は、水平方向に延在する棒状の熱源であり、断熱容器２の内側の上部及び下部に所定間隔で設けられている。これら複数の加熱ヒータ６は、セラミックス製の直管の内部に棒状の発熱体を収納したものであり、浸炭室Ｓ内の被処理物Ｘを所定温度（加熱温度）まで加熱する。なお、この加熱温度や加熱時間等の加熱条件は、浸炭処理の目的や被処理物Ｘの材質等に基づいて適宜設定される。
【００２３】
排気管７は、一端が浸炭室Ｓ内に開口する一方、他端が排気ポンプ８の吸引口に接続された管路である。排気ポンプ８は、上記排気管７を介して浸炭室Ｓ内のガス（浸炭ガスや当該浸炭ガスが熱分解した熱分解ガス等）を浸炭室Ｓ外に排気する。排気ポンプ８の排気量は、浸炭処理の目的や被処理物Ｘの材質等に応じて適宜設定される。
【００２４】
一対の攪拌翼９は、断熱容器２の内側の上部（加熱ヒータ６よりも被処理物Ｘに近い位置）に、回転軸方向が鉛直方向（上下方向）となるように設けられている。この攪拌翼９は、攪拌モータ１０によって駆動されることによって浸炭室Ｓ内のガスを攪拌する。一対の攪拌モータ１０は、出力軸が鉛直方向（上下方向）となるようにチャンバー１の上部に設けられた回転駆動源である。攪拌モータ１０の出力軸は、チャンバー１内に位置する攪拌翼９の回転軸に対して、チャンバー１の気密性（シール性）を損なわないように軸結合している。
【００２５】
図１には示されていないが、本実施形態に係る浸炭装置は、専用の制御盤（制御装置）を備えている。この制御盤は、ユーザーが浸炭処理における各種条件を設定入力する操作部と、内部に予め記憶された制御プログラムに基づいて上記浸炭ガス供給源５、加熱ヒータ６及び排気ポンプ８等の各駆動部を制御することにより、被処理物Ｘに対して上記設定情報及び熱電対１１の検出温度に基づいた浸炭処理を実行させる制御部と、を備えている。
【００２６】
本実施形態における被処理物Ｘは、円環状の金属部品である。この被処理物Ｘは、本実施形態における浸炭処理によって表面硬度が向上する。以下では、種々の形状を有する金属部品のうち、図３に示すようにリング状の形状を有する被処理物Ｘ（金属部品）の浸炭処理について、一例として説明する。このような被処理物Ｘは、円環状の内面ｘ１（環状面）と当該内周面ｘ１に同心かつ円環状の外周面ｘ２を備えている。すなわち、被処理物Ｘは、環状面である内周面ｘ１を特定部位として備える金属部品である。
【００２７】
上記内周面ｘ１（特定部位）は、被処理物Ｘにおいて、浸炭処理度合いを他の部位（表面）よりもを局所的に低くする必要のある部位（表面）である。本実施形態に係る浸炭処理方法（熱処理方法）は、部位に応じて熱処理度合いが異なるように被処理物Ｘを熱処理するものであるが、より具体的には特定部位（内周面ｘ１）の浸炭処理度合いが他の部位（表面）よりもを局所的に低くなるように浸炭処理するものである。このような被処理物Ｘにおいて、内面ｘ１（環状面）で囲まれた空間は、当該内面ｘ１（環状面）を周面とする筒状空間である。
【００２８】
続いて、本実施形態に係る浸炭治具Ｊについて、図２及び図３を参照して説明する。なお、この浸炭治具Ｊは、本発明に係る熱処理治具に相当する。
【００２９】
本実施形態に係る浸炭治具Ｊは、被処理物Ｘを所定姿勢で収容する容器の一種であり、図２に示すように方形の枠部ｊ１、底部ｊ２及び一対の把持部ｊ３を備えている。方形の枠部ｊ１は、４つの帯状平面部からなり、正面視で矩形（長方形）、かつ側面視で所定高さの帯状である。このような枠部ｊ１は、平行対峙する一対の開口面を備えている。
【００３０】
底部ｊ２は、枠部ｊ１における一方（下側）の開口面を塞ぐように設けられた矩形（長方形）の平板であり、上面が被処理物Ｘが載置される載置面である。この底部ｊ２は、通気性を確保する必要からパンチングメタルあるいは金属線を編んだ籠材によって構成されている。
【００３１】
このような底部ｊ２には、図２に示すように一定の間隔を空けて棒状突部ｊ４が複数立設されている。一対の把持部ｊ３は、枠部ｊ１を構成する４つの帯状平面部のうち、互いに平行対峙する一対の帯状平面部にそれぞれ設けられている。このような一対の把持部ｊ３は、浸炭治具Ｊを移動させる際に作業員が把持する部分である。
【００３２】
複数の棒状突部ｊ４は、図２に加えて図３にも示すように、所定高さ（長さ）及び所定太さを有する中実の円柱状部材であり、底部ｊ２において枠部ｊ１側（上側）に突出している。この棒状突部ｊ４の周面（円筒面）は、被処理物Ｘの内面ｘ１（特定部位）で形成された筒状空間において、内面ｘ１（特定部位）と所定の隙間を空けて対峙する突部である。
【００３３】
ここで、複数の棒状突部ｊ４は全て同一形状に形成されているが、これは浸炭治具Ｊでは上述した形状の被処理物Ｘのみを浸炭処理するためである。したがって、被処理物Ｘとは異なる形状の被処理物を浸炭治具Ｊで同時に浸炭処理する場合、複数の棒状突部ｊ４は、被処理物の形状に応じて異なる形状となる。
【００３４】
前後するが、上記底部ｊ２には、４つの位置決め突起ｊ５が各棒状突部ｊ４に対応して設けられている。４つの位置決め突起ｊ５は、底部ｊ２上において被処理物Ｘが棒状突部ｊ４と同軸状に載置されるように被処理物Ｘの位置決めを補助する部材である。すなわち、４つの位置決め突起ｊ５は、被処理物Ｘの外周面ｘ２が内接するように棒状突部ｊ４の周方向において９０°の角度ピッチで設けられている。
【００３５】
また、上述した底部ｊ２は、棒状突部ｊ４の軸心から所定半径の領域つまり被処理物Ｘの内周面ｘ１に対峙する円形領域が非通気部ｊ６として構成されており、また中実面ｊ６の外側領域つまり被処理物Ｘが対向する円環状領域が通気部ｊ７として構成されている。すなわち、上記非通気部ｊ６は、後述する浸炭抑制紛体Ｆの流通ができない領域であり、これに対して通気部ｊ７は、浸炭ガスの通気が自在な領域である。
【００３６】
上記浸炭抑制材Ｆは、被処理物Ｘの内周面ｘ１の浸炭を抑制するための紛体であり、被処理物Ｘの内周面ｘ１（特定部位）、棒状突部ｊ４の周面及び浸炭治具Ｊの非通気部ｊ６で囲まれた空間（充填空間Ｋ）に充填される。この浸炭抑制材Ｆは、浸炭温度に曝されても安定な材料から形成されており、例えば金属粉（鋼粉）、金属加工で発生する切粉、目が細かく柔軟性が高い金網である。
【００３７】
次に、このような浸炭装置を用いた浸炭処理方法について、図４に示すフローチャートに沿って詳しく説明する。
【００３８】
本実施形態に係る浸炭処理方法では、最初に複数の被処理物Ｘが浸炭治具Ｊに収納される（ステップＳ１）。すなわち、被処理物Ｘは、図３（ａ）に示したように、浸炭治具Ｊの棒状突部ｊ４に挿入される姿勢で底部ｊ２上に載置されるが、各棒状突部ｊ４には４つの位置決め突起ｊ５が設けられているので、中心軸が棒状突部ｊ４の軸心に対して同軸状となる状態で位置決めされる。
【００３９】
このようにして被処理物Ｘが浸炭治具Ｊの各棒状突部ｊ４に位置決めされると、各被処理物Ｘの充填空間Ｋに浸炭抑制材Ｆが順次充填される（ステップＳ２）。そして、全ての充填空間Ｋに浸炭抑制材Ｆが充填されると、浸炭治具Ｊつまり被処理物Ｘは、断熱ドア１ａが開放された状態で外部の搬送装置によって炉床３上に載置される。そして、断熱ドア１ａが閉鎖されることにより、被処理物Ｘは、浸炭室Ｓ内に密閉状態で収容される（ステップＳ３）。
【００４０】
そして、この状態において、浸炭装置の制御装置が作動を開始することによって被処理物Ｘを浸炭処理する（ステップＳ４）。すなわち、制御装置は、排気ポンプ８を作動させて浸炭室Ｓから空気を外部に排気させることによって、浸炭室Ｓ（被処理物Ｘの周囲雰囲気）を所定の真空状態（圧力状態）まで減圧させ、また加熱ヒータ６を作動させることによって被処理物Ｘの表面温度を所定温度（浸炭温度）まで加熱させる。
【００４１】
さらに、制御装置は、被処理物Ｘの表面温度が浸炭温度に安定した状態で、浸炭ガス供給源５を作動させることによって所定流量の浸炭ガスを各浸炭ガス導入パイプ４を介して浸炭室Ｓに連続的に導入させ、また排気ポンプ８を上記浸炭ガス供給源５の作動に呼応するように作動させることにより、浸炭室Ｓの内部ガスを排気管７を介して外部に排気させる。
【００４２】
このような浸炭ガス供給源５及び排気ポンプ８の同時作動によって浸炭室Ｓ内の真空度（圧力）は所定圧力（浸炭圧力）に維持される。すなわち、各浸炭ガス導入パイプ４から浸炭室Ｓ内に連続導入される浸炭ガスの導入量と各排気管７を介して浸炭室Ｓ内から外部に排気されるガスの排気量とのバランスが維持されることによって、浸炭室Ｓ内の圧力は所定の浸炭圧力を維持する。
【００４３】
そして、上記浸炭圧力の維持状態が所定の時間（浸炭時間）に亘って継続することによって、浸炭ガスが熱分解して発生した炭素原子（Ｃ）が被処理物Ｘの表面から被処理物Ｘ内に徐々に浸入し、この結果として被処理物Ｘの表面近傍に所定深さ（浸炭深さ）の浸炭層が形成される。すなわち、被処理物Ｘの浸炭深さは、浸炭時間によって主にコントロールされる。
【００４４】
ここで、浸炭室Ｓにおいて浸炭ガスが熱分解すると、炭素原子（Ｃ）と水素ガス（Ｈ２）とが生成される。そして、炭素原子（Ｃ）が被処理物Ｘの浸炭に寄与し、水素ガス（Ｈ２）は余剰ガスとして排気管７から浸炭室Ｓ外に排気される。すなわち、被処理物Ｘは、浸炭ガスが熱分解して発生する炭素原子（Ｃ）が表面から浸入することにより浸炭処理される。
【００４５】
このような被処理物Ｘの浸炭処理において、被処理物Ｘの内周面ｘ１（特定部位）は、浸炭抑制材Ｆが充填された状態で浸炭ガスの熱分解ガス雰囲気に曝されるので、外周面ｘ２等の他面よりも炭素原子（Ｃ）の浸入量が低下する。すなわち、本実施形態における浸炭処理によれば、被処理物Ｘの内周面ｘ１（特定部位）は他面よりも硬度つまり浸炭度合いが低下する。
【００４６】
このような内周面ｘ１（特定部位）の他面に対する硬度（浸炭度合い）の違いは、浸炭抑制材Ｆの充填量あるいは／及び粒径等、浸炭抑制材Ｆの充填状態によってコントロールされるので、浸炭抑制材Ｆの充填状態と浸炭処理度合いとの関係を実験等によって予め取得しておくことにより、所望の浸炭処理度合いを実現するように浸炭抑制材Ｆの充填状態を設定すればよい。
【００４７】
このような１回目の浸炭処理が終了すると、制御装置は、予め設定された浸炭回数（回数設定値）に亘る浸炭処理を行ったか否かを判断する（ステップＳ５）。なお、この回数設定値は、被処理物Ｘの開始前に作業員が制御盤を操作することにより設定されたものである。この回数設定値が例えば２回に設定されていた場合、制御装置は、ステップＳ４の浸炭処理を繰り返す。
【００４８】
そして、浸炭処理の回数が回数設定値に到達すると、浸炭治具Ｊ（被処理物Ｘ）は、浸炭室Ｓから外部に取り出される（ステップＳ６）。すなわち、作業員は、上記制御盤を確認することによって浸炭処理の終了を確認すると、断熱ドア１ａを開放することによって浸炭治具Ｊ（被処理物Ｘ）を浸炭装置の外部に取り出す。
【００４９】
そして、浸炭治具Ｊに収容された浸炭処理済みの被処理物Ｘは、浸炭治具Ｊから分別される（ステップＳ７）。すなわち、作業員は、浸炭治具Ｊ上から被処理物Ｘのみを回収して別途用意した収納容器に収納する。この結果、浸炭治具Ｊ上には浸炭抑制材Ｆのみが残留することになる。
【００５０】
そして、浸炭治具Ｊ上の浸炭抑制材Ｆが別途回収される（ステップＳ８）。すなわち、作業員は、浸炭治具Ｊ上の浸炭抑制材Ｆを専用の回収容器に収納し、次の浸炭処理に供する。このように、浸炭抑制材Ｆは複数の被処理物Ｘに対する浸炭処理に繰り返し使用される。
【００５１】
本実施形態によれば、被処理物Ｘの内周面ｘ１（特定部位）に浸炭抑制材Ｆを充填することにより内周面ｘ１（特定部位）の浸炭度合い（熱処理度合い）を低くするので、内周面ｘ１（特定部位）の他部位に対する浸炭度合いを細かくコントロールすることが可能である。
【００５２】
また、本実施形態によれば、浸炭治具Ｊに棒状突部ｊ４が設けられているので、被処理物Ｘの内周面ｘ１に充填する浸炭抑制材Ｆの総量を削減することが可能である。すなわち、棒状突部ｊ４が設けられていない場合、内周面ｘ１によって囲まれた円筒状の空間（被充填空間）を満たすように浸炭抑制材Ｆを充填する必要があるが、棒状突部ｊ４を設けた場合には、被充填空間の体積が棒状突部ｊ４の分だけ小さくなるので、つまり充填空間Ｋの体積を通作することができるので、浸炭抑制材Ｆの総量を削減することができる。
【００５３】
さらに、本実施形態によれば、浸炭治具Ｊに非通気部ｊ６が設けられているので、充填空間Ｋに充填された浸炭抑制材Ｆを安定保持することができる。すなわち、非通気部ｊ６が通気部ｊ７と同様に形成されていた場合、浸炭抑制材Ｆの一部が下方に脱落する虞があるが、本実施形態によれば、このような脱落の虞がない。
【００５４】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、例えば以下のような変形例が考えられる。
（１）上記実施形態では、浸炭処理について説明したが、本発明はこれに限定されない。本発明は他の熱処理、例えば被処理物Ｘの窒化処理等にも適用可能である。
【００５５】
（２）上記実施形態では、特定部位を被処理物Ｘの内周面ｘ１としたが、本発明はこれに限定されない。すなわち、内周面ｘ１以外の面を特定部位としてもよい。例えば外周面ｘ２を特定部位とした場合、上述した棒状突部ｊ４に代えて、外周面ｘ２（特定部位）と所定の隙間を空けて対峙する突部を有する円環状突部を複数備える浸炭治具を採用することが考えられる。
【００５６】
（３）上記実施形態では、複数の棒状突部ｊ４を備える浸炭治具Ｊを採用したが、本発明はこれに限定されない。浸炭抑制材Ｆの総量の削減が必要ない場合には、棒状突部ｊ４を省略してもよい。
【００５７】
（４）上記実施形態では、円環状の金属部品である被処理物Ｘの浸炭処理について説明したが、本発明はこれに限定されない。被処理物の形状は円環状に限定されず、本発明は様々な形状の被処理物に適用可能である。
【符号の説明】
【００５８】
１  チャンバー（炉体）
２  断熱容器
３  炉床
４  浸炭ガス導入パイプ
５  浸炭ガス供給源
６  加熱ヒータ
７  排気管
８  排気ポンプ
９  攪拌翼
１０  攪拌モータ
Ｊ  浸炭治具（熱処理治具）
ｊ１  枠部
ｊ２  底部
ｊ３  把持部
ｊ４  棒状突部（突部）
ｊ５  位置決め突起
ｊ６  非通気部
ｊ７  通気部
Ｆ  浸炭抑制材
Ｋ  充填空間
Ｍ  密閉空間
Ｘ  被処理物
ｘ１  内周面
ｘ２  外周面
【図１】
2019183225.tif 000003
【図２】
2019183225.tif 000004
【図３】
2019183225.tif 000005
【図４】
2019183225.tif 000006