(57)【要約】【課題】基材の上に形成されたパターンが意図せず見えてしまうことを抑制できる入力装置を提供すること。【解決手段】本発明の入力装置は、基材の上に設けられ、複数の検出電極を有する位置検出部と、位置検出部の上に設けられた光学層と、光学層の上に設けられた光学透明粘着層と、光学透明粘着層の上に設けられた保護部材と、を備える。複数の検出電極は、互いに交差する方向に延びる第１電極および第２電極と、第１電極と第２電極との交差位置に設けられたブリッジ配線部と、基材とブリッジ配線部との間に設けられた絶縁層と、を有する。この入力装置において、光学層の屈折率は、絶縁層の屈折率よりも高く、第１電極および第２電極の屈折率よりも低い。【選択図】図２
2019023773.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の上に設けられ、複数の検出電極を有する位置検出部と、
前記位置検出部の上に設けられた光学層と、
前記光学層の上に設けられた光学透明粘着層と、
前記光学透明粘着層の上に設けられた保護部材と、
を備え、
前記複数の検出電極は、
互いに交差する方向に延びる第１電極および第２電極と、
前記第１電極と前記第２電極との交差位置に設けられたブリッジ配線部と、
前記基材と前記ブリッジ配線部との間に設けられた絶縁層と、を有し、
前記光学層の屈折率は、前記絶縁層の屈折率よりも高く、前記第１電極および前記第２電極の屈折率よりも低い、ことを特徴とする入力装置。
【請求項２】
前記光学層は、前記第１電極、前記第２電極、前記ブリッジ配線部および前記絶縁層と接する、請求項１記載の入力装置。
【請求項３】
前記光学層の厚さは１μｍ以上である、請求項１または２に記載の入力装置。
【請求項４】
前記光学層と前記光学透明粘着層との間に設けられた中間層をさらに備え、
前記中間層の屈折率は、前記光学層の屈折率よりも低い、請求項１〜３のいずれか１項に記載の入力装置。
【請求項５】
前記中間層は、前記光学透明粘着層の屈折率よりも高い、請求項４に記載の入力装置。
【請求項６】
前記中間層の厚さは１μｍ以上である、請求項４または５に記載の入力装置。
【請求項７】
前記光学層と前記光学透明粘着層との間に設けられた反射調整層をさらに備え、
前記反射調整層の屈折率は、前記反射調整層の前記光学透明粘着層側の面に接する層の屈折率よりも高い、請求項１〜３のいずれか１項に記載の入力装置。
【請求項８】
前記反射調整層の屈折率は、前記反射調整層の前記光学透明粘着層側の面に接する層の屈折率よりも０．２５以上高い、請求項７に記載の入力装置。
【請求項９】
前記反射調整層の前記光学透明粘着層側の面に接する層の厚さは１μｍ以上である、請求項７または８に記載の入力装置。
【請求項１０】
前記反射調整層に接する基材フィルムをさらに備える、請求項７〜９のいずれか１項に記載の入力装置。
【請求項１１】
前記基材フィルムは、前記反射調整層と前記光学層との間に位置する、請求項１０に記載の入力装置。
【請求項１２】
前記基材フィルムは、前記反射調整層と前記光学透明粘着層との間に位置する、請求項１０に記載の入力装置。
【請求項１３】
前記基材フィルムは、透光性フィルムを備える、請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の入力装置。
【請求項１４】
前記透光性フィルムは、ポリエチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマーおよびポリカーボネートからなる群から選ばれる１種または２種以上を含む、請求項１３に記載の入力装置。
【請求項１５】
前記基材フィルムは、前記透光性フィルムと前記透光性フィルムの上に設けられたアクリル系樹脂を含む層とを備える、請求項１３または１４に記載の入力装置。
【請求項１６】
前記反射調整層は積層構造を有する、請求項７〜１５のいずれか１項に記載の入力装置。
【請求項１７】
前記反射調整層は、酸化物または無機物を含む樹脂層を備える、請求項７〜１６のいずれか１項に記載の入力装置。
【請求項１８】
前記反射調整層は、酸化物層または無機物層を備える、請求項７〜１７のいずれか１項に記載の入力装置。
【請求項１９】
前記光学層と前記反射調整層との間に設けられた中間層をさらに備え、
前記中間層の屈折率は、前記光学層の屈折率よりも低い、請求項７〜１８のいずれか１項に記載の入力装置。
【請求項２０】
前記中間層の屈折率は、前記反射調整層の屈折率よりも低い、請求項１９に記載の入力装置。
【請求項２１】
前記中間層の厚さは１μｍ以上である、請求項１９または２０に記載の入力装置。
【請求項２２】
前記光学層は、ノボラック樹脂およびアクリル樹脂の少なくともいずれかを含む、請求項１〜２１のいずれか１項に記載の入力装置。
【請求項２３】
前記保護部材は、前記光学層とは反対側の面に曲面を有する、請求項１〜２２のいずれか１項に記載の入力装置。
【請求項２４】
前記位置検出部と前記保護部材との間に介在する複数の層のうち、隣接する２つの層における前記位置検出部側の層に対して、前記保護部材側の層の屈折率が０．２５以上低い、請求項１〜２３のいずれか１項に記載の入力装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、入力装置に関し、特に基材の上に形成されたパターンが意図せず見えてしまうことを抑制できる入力装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
各種情報処理装置では、カラー液晶表示パネルの前方に透光性の入力装置が配置されている。この入力装置はタッチパネルと称される。タッチパネルでは電極間に静電容量が形成され、人の指が接近したときの電荷の移動の変化から指の接近位置の座標を判定している。この電荷の移動の変化を検出するには、静電容量式センサが用いられる。
【０００３】
ここで、表示パネルに画像が表示されていない場合、外から進入する光の反射によってタッチパネルの配線パターンが見えてしまうことがある。特許文献１には、透明基板の少なくとも一方面にパターニングされた透明導電膜を有し、透明基板を介して透明導電膜が形成されているパターン形成領域を透過した光の透過スペクトルと、透明基板を介して透明導電膜が形成されていない非パターン形成領域を透過した光の透過スペクトルとを近似させる透過率調節層を備えている透明面状体および透明タッチスイッチが開示される。この透過率調節層によって、透明面状体および透明タッチスイッチの視認性を向上させることができる。
【０００４】
特許文献２には、タッチセンシング要素としての透明導体のパターンを含み、その透明導体パターンの可視性を抑制するような層構成を有するタッチスクリーンが開示されている。このタッチスクリーンには、基板を覆うコーティング、そのコーティングの上に配置された透明導体パターン、およびその透明導体パターンと透明導体パターンによって覆われていないコーティングの領域とを覆い、それらに接触する充填材料が含まれる。この充填材料の屈折率としては、基板の屈折率より低く、かつ透明導体パターンの屈折率より低くなっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開ＷＯ２００６／１２６６０４
【特許文献２】特表２００７−５０８６３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、このような入力装置において、検出電極等のパターンのうちで交差する部分に設けられた絶縁層など、特に凹凸が出やすい部分での反射によってパターンが見えてしまう現象（以下、「パターン見え」とも言う。）が生じやすい。入力装置においては、様々な形態において確実なパターン見えの抑制が望まれている。
【０００７】
本発明は、基材の上に形成されたパターンが意図せず見えてしまうことを抑制できる入力装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明の入力装置は、基材の上に設けられ、複数の検出電極を有する位置検出部と、位置検出部の上に設けられた光学層と、光学層の上に設けられた光学透明粘着層と、光学透明粘着層の上に設けられた保護部材と、を備える。複数の検出電極は、互いに交差する方向に延びる第１電極および第２電極と、第１電極と第２電極との交差位置に設けられたブリッジ配線部と、基材とブリッジ配線部との間に設けられた絶縁層と、を有する。この入力装置において、光学層の屈折率は、絶縁層の屈折率よりも高く、第１電極および第２電極の屈折率よりも低い。
【０００９】
このような構成によれば、位置検出部と光学層との境界よりも保護部材側の層の境界で反射光が発生し、位置検出部と光学層との境界での反射光の強度が相対的に弱められる。これにより、位置検出部における複数の検出電極のパターン見えを抑制することができる。
【００１０】
本発明の入力装置において、光学層は、第１電極、第２電極、ブリッジ配線部および絶縁層と接していてもよい。また、光学層の厚さは１μｍ以上であってもよい。これにより、位置検出部におけるパターンの凹凸に起因するパターン見えを抑制することができる。
【００１１】
本発明の入力装置において、光学層と光学透明粘着層との間に設けられた中間層をさらに備え、中間層の屈折率は、光学層の屈折率よりも低くなっていてもよい。これにより、光学層と中間層との境界での反射光によって、位置検出部と光学層との境界での反射光の強度が相対的に弱められ、位置検出部における複数の検出電極のパターン見えを抑制することができる。
【００１２】
本発明の入力装置において、中間層は、光学透明粘着層の屈折率よりも高くてもよい。また、中間層の厚さは１μｍ以上であってもよい。これにより、中間層と光学透明粘着層との境界での反射光によって、位置検出部と光学層との境界での反射光の強度が相対的に弱められ、位置検出部における複数の検出電極のパターン見えを抑制することができる。
【００１３】
本発明の入力装置において、光学層と光学透明粘着層との間に設けられた反射調整層をさらに備え、反射調整層の屈折率は、反射調整層の光学透明粘着層側の面に接する層の屈折率よりも高くなっていてもよい。これにより、反射調整層と光学透明粘着層との境界での反射光によって、位置検出部と光学層との境界での反射光の強度が相対的に弱められ、位置検出部における複数の検出電極のパターン見えを抑制することができる。
【００１４】
反射調整層の屈折率は、反射調整層の光学透明粘着層側の面に接する層の屈折率よりも０．２５以上高くなっていてもよい。また、反射調整層の前記光学透明粘着層側の面に接する層の厚さは１μｍ以上であってもよい。
【００１５】
本発明の入力装置において、反射調整層に接する基材フィルムをさらに備えていてもよい。基材フィルムは、反射調整層と光学層との間に位置するようになっていてもよい。基材フィルムは、反射調整層と光学透明粘着層との間に位置するようになっていてもよい。
【００１６】
この基材フィルムとして、透光性フィルムを備えていてもよい。この透光性フィルムは、ポリエチレンテレフタレート、シクロオレフィンポリマーおよびポリカーボネートからなる群から選ばれる１種または２種以上を含んでいてもよい。基材フィルムは、透光性フィルムと、透光性フィルムの上に設けられたアクリル系樹脂を含む層とを備えていてもよい。
【００１７】
本発明の入力装置において、反射調整層は積層構造を有していてもよい。反射調整層は、酸化物または無機物を含む樹脂層を備えていてもよい。反射調整層は、酸化物層または無機物層を備えていてもよい。
【００１８】
本発明の入力装置において、光学層と反射調整層との間に設けられた中間層をさらに備え、中間層の屈折率は、光学層の屈折率よりも低くなっていてもよい。これにより、中間層と反射調整層との境界での反射光によって、位置検出部と光学層との境界での反射光の強度が相対的に弱められ、位置検出部における複数の検出電極のパターン見えを抑制することができる。
【００１９】
中間層の屈折率は、反射調整層の屈折率よりも低くなっていてもよい。また、中間層の厚さは１μｍ以上であってもよい。
【００２０】
本発明の入力装置において、光学層は、ノボラック樹脂およびアクリル樹脂の少なくともいずれかを含んでいてもよい。
【００２１】
本発明の入力装置において、保護部材は、前記光学層とは反対側の面に曲面を有していてもよい。保護部材が曲面を有していると、曲面での反射光の強度が、位置検出部と光学層との境界での反射光の強度よりも相対的に低くなり、パターン見えが発生しやすくなる。このような曲面を入力装置であっても、位置検出部と光学層との境界よりも上の層の境界での反射光の発生によって、位置検出部と光学層との境界での反射光の強度が相対的に弱められ、パターン見えを効果的に抑制することができる。
【００２２】
本発明の入力装置において、位置検出部と保護部材との間に介在する複数の層のうち、隣接する２つの層における位置検出部側の層に対して、保護部材側の層の屈折率が０．２５以上低くなっていてもよい。このような屈折率差によって、パターン見えの抑制効果が高まる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、基材の上に形成されたパターンが意図せず見えてしまうことを抑制することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】（ａ）および（ｂ）は、第１実施形態に係る静電容量式センサを例示する平面図である。
【図２】（ａ）および（ｂ）は、静電容量式センサの一部の断面図である。
【図３】静電容量式センサにおける光の反射について例示する断面図である。
【図４】（ａ）および（ｂ）は、他の層構成を示す断面図である。
【図５】他の層構成を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、以下の説明では、同一の部材には同一の符号を付し、一度説明した部材については適宜その説明を省略する。
【００２６】
（入力装置の構成）
図１（ａ）および（ｂ）は、第１実施形態に係る静電容量式センサを例示する平面図である。図１（ａ）には静電容量式センサ１の全体図が表され、図１（ｂ）には図１（ａ）のＡ部の拡大図が表される。本実施形態において、静電容量式センサ１は、入力装置の一例である。なお、この明細書において、「透明」「透光性」とは可視光線透過率が５０％以上（好ましくは８０％以上）の状態を指す。さらにヘイズ値が６以下であることが好適である。
【００２７】
図１（ａ）に表したように、本実施形態に係る静電容量式センサ１は、基材１０の位置検出部Ｓに設けられた第１電極１１および第２電極１２を備える。基材１０は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のフィルム状の透明基材やガラス基材等で形成される。第１電極１１および第２電極１２は位置検出部Ｓ内において指が接触（接近）した位置を検出する検出電極である。第１電極１１および第２電極１２は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電材料でスパッタや蒸着等により成膜される。
【００２８】
第１電極１１は基材１０の表面に沿ったＸ方向に延在し、第２電極１２は基材１０の表面に沿いＸ方向と直交するＹ方向に延在する。第１電極１１および第２電極１２は互い絶縁される。本実施形態では、Ｙ方向に所定のピッチで複数の第１電極１１が配置され、Ｘ方向に所定のピッチで複数の第２電極１２が配置される。
【００２９】
第１電極１１は複数の第１島状電極部１１１を有する。本実施形態では、複数の第１島状電極部１１１は菱形に近い形状を有し、Ｘ方向に並んで配置される。また、第２電極１２は複数の第２島状電極部１２１を有する。複数の第２島状電極部１２１も菱形に近い形状を有し、Ｙ方向に並んで配置される。
【００３０】
複数の第１電極１１のそれぞれには位置検出部Ｓの外側へ引き出される引き出し配線１１ａが接続される。また、複数の第２電極１２のそれぞれにも位置検出部Ｓの外側へ引き出される引き出し配線１２ａが接続される。静電容量式センサ１では、各引き出し配線１１ａおよび１２ａを流れる電流の変化を図示しない検出回路で検出する。例えば、第１電極１１および第２電極１２に所定の電位を与えた状態で、位置検出部Ｓに指を近づけると、第１電極１１および第２電極１２のそれぞれと指との間に静電容量変化が生じる。この静電容量変化によって生じる電位低下を検出することで、指が接近した位置検出部Ｓ内でのＸ，Ｙ座標を判定する。
【００３１】
図１（ｂ）に表したように、第１電極１１と第２電極１２とは、隣り合う２つの第１島状電極部１１１の連結位置と、隣り合う２つの第２島状電極部１２１の連結位置とで交差している。この交差部分に島状絶縁部３０を介してブリッジ配線部２０が設けられ、交差部分において第１電極１１と第２電極１２とが接触しないようになっている。
【００３２】
本実施形態において、ブリッジ配線部２０は、隣り合う２つの第２島状電極部１２１の間を跨ぐように設けられる。ブリッジ配線部２０はＹ方向に並ぶ各第２島状電極部１２１の間に設けられる。これにより複数の第２島状電極部１２１が導通状態になる。島状絶縁部３０は、ブリッジ配線部２０と第１電極１１との間に設けられ、交差部分において第１電極１１と第２電極１２とを絶縁する役目を果たす。
【００３３】
図２（ａ）および（ｂ）は、静電容量式センサの一部の断面図である。図２（ａ）には図１（ｂ）のＹ１−Ｙ１断面が表され、図２（ｂ）には図１（ｂ）のＸ１−Ｘ１断面が表される。
【００３４】
基材１０の面１０ａの上には第１電極１１の第１島状電極部１１１および第２電極１２の第２島状電極部１２１が配置される。隣り合う第２島状電極部１２１の間には、島状絶縁部３０を介してブリッジ配線部２０が設けられる。すなわち、島状絶縁部３０は、第１島状電極部１１１の連結部１１１ａの上に設けられ、この島状絶縁部３０の上にブリッジ配線部２０が設けられる。このように連結部１１１ａとブリッジ配線部２０との間には島状絶縁部３０が介在し、第１電極１１と第２電極１２とは電気的に絶縁された状態となっている。
【００３５】
島状絶縁部３０には、例えばノボラック樹脂が用いられる。島状絶縁部３０の厚さは、約１．５μｍである。ブリッジ配線部２０には、例えばアモルファスＩＴＯ／金／アモルファスＩＴＯの積層体が用いられる。ブリッジ配線部２０の厚さは、約５０ｎｍである。
【００３６】
第１電極１１、第２電極１２およびブリッジ配線部２０の上には光学層４０が設けられる。光学層４０は、例えばノボラック樹脂およびアクリル樹脂の少なくともいずれかを含む。光学層４０を構成する樹脂の組成によって種々の屈折率を持たせることができる。光学層４０の厚さは１μｍ以上であってもよい。本実施形態では、光学層４０の厚さは約１．５μｍである。これにより、位置検出部のパターンである第１電極１１、第２電極１２、島状絶縁部３０およびブリッジ配線部２０の凹凸があっても、その凹凸に影響を受けることなく光学層４０の表面の平坦性を得ることができる。
【００３７】
光学層４０の上には光学透明粘着層４３が設けられる。保護部材５０が設けられる。光学透明粘着層４３には、例えばＯＣＡ（Optical Clear Adhesive）が用いられる。ＯＣＡは、アクリル系粘着剤や両面粘着テープ等である。
【００３８】
保護部材５０は、光学透明粘着層４３の上に設けられる。保護部材５０は、特に材料を限定するものではないが、ガラス基材やプラスチック基材が好ましく適用される。保護部材５０の光学層４０とは反対側の面５０ａは、一般的に平面で構成されているが、曲面が構成されていてもよい。ここで、曲面としては、ＳＲ（球の半径）＝５００ｍｍ以下のものである。
【００３９】
（静電容量式センサの製造方法）
本実施形態に係る静電容量式センサ１を製造するには、先ず、基材１０の面１０ａの上に第１電極１１の第１島状電極部１１１と、第２電極１２の第２島状電極部１２１とを形成する。
【００４０】
基材１０には、例えばガラスやアクリル樹脂、樹脂シートが用いられる。第１電極１１および第２電極１２は、フォトリソグラフィおよびエッチングやスクリーン印刷によって形成される。例えば、フォトリソグラフィおよびエッチングで形成する場合、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）層をスパッタによって基材１０上に形成し、その上にレジストを形成する。レジストを露光および現像してパターニングした後、ＩＴＯ層をエッチングする。その後、レジストを剥離する。これにより、基材１０上にパターニングされたＩＴＯ層からなる第１電極１１および第２電極１２が形成される。
【００４１】
次に、第１電極１１と第２電極１２との交差位置にある連結部１１１ａの上に島状絶縁部３０を形成する。島状絶縁部３０は、スクリーン印刷、ドライフィルムレジストや液状レジストによって形成される。スクリーン印刷で形成する場合、例えば高い透光性を有する絶縁材料（光学材料）をスクリーン印刷によって塗布し、アニールを施す。ドライフィルムレジストで形成する場合、例えば透光性を有するドライフィルムレジストを貼り付けた後、露光および現像を行う。液状レジストで形成する場合、例えば透光性を有する液状レジストを塗布した後、露光および現像を行う。
【００４２】
次に、島状絶縁部３０の上を跨ぐようにブリッジ配線部２０を形成する。ブリッジ配線部２０は、フォトリソグラフィおよびエッチングやスクリーン印刷によって形成される。ブリッジ配線部２０をフォトリソグラフィおよびエッチングで形成する場合、例えばＩＴＯ層、金属層およびＩＴＯ層の積層体をスパッタによって形成し、その上にレジストを形成する。レジストを露光および現像してパターニングした後、積層体をエッチングする。その後、レジストを剥離する。これにより、島状絶縁部３０の上を跨ぎ、両端が隣り合う２つの第２島状電極部１２１と導通するブリッジ配線部２０が形成される。
【００４３】
ブリッジ配線部２０をスクリーン印刷によって形成する場合、例えば銀ナノワイヤを含む導電膜を島状絶縁部３０の上にスクリーン印刷する。次いで、銀ナノワイヤの導電膜をアニールおよびロールプレスする。ここではフラッシュランプアニールを行ってもよい。これにより、島状絶縁部３０の上にブリッジ配線部２０が形成される。
【００４４】
次に、第１電極１１、第２電極１２、島状絶縁部３０およびブリッジ配線部２０の上の全面を覆うように、光学層４０を形成する。光学層４０としてノボラック樹脂を用いる場合、光学層４０は印刷ややスピンコートによって形成される。そして、この光学層４０の上に光学透明粘着層４３を形成し、その上に保護部材５０を貼り付ける。これにより、静電容量式センサ１が完成する。
【００４５】
図３は、静電容量式センサにおける光の反射について例示する断面図である。
図３に示す例では、光学層４０としてノボラック樹脂、光学透明粘着層４３としてＯＣＡが用いられている。この例において、光学層４０におけるノボラック樹脂の屈折率は、例えば１．５４以上、ＯＣＡの屈折率は、例えば１．４５である。なお、本明細書において、屈折率は可視光領域における値を意味する。また、第１電極１１および第２電極１２にはＩＴＯが用いられる。ＩＴＯの屈折率は、約１．９である。島状絶縁部３０にはノボラック樹脂が用いられる。島状絶縁部３０におけるノボラック樹脂の屈折率は、例えば１．６である。ブリッジ配線部２０には、アモルファスＩＴＯ／金／アモルファスＩＴＯの積層体が用いられる。
【００４６】
この例において、外部から静電容量式センサ１に光が入射した場合、位置検出部（第１電極１１、第２電極１２など）と光学層４０との境界で反射する光を反射光Ｒ１、光学層４０と光学透明粘着層４３との境界で反射する反射光Ｒ２、保護部材５０の表面で反射する光を反射光Ｒ３とする。
【００４７】
ここで、静電容量式センサ１に対して垂直な軸ＡＸ１に対する反射光を考えた場合、保護部材５０の面５０ａが曲面になっていると、反射光Ｒ３の反射角度は、反射光Ｒ１および反射光Ｒ２の反射角度とは異なる。したがって、保護部材５０の上から特定の角度で静電容量式センサ１を見た場合、反射光Ｒ３よりも反射光Ｒ１およびＲ２のほうが強く感じることになる。つまり、保護部材５０の表面での反射光Ｒ３よりも、静電容量式センサ１の内部からの反射光Ｒ１およびＲ２のほうが目立つことになる。
【００４８】
本実施形態では、検出電極の上に光学層４０が設けられ、この光学層４０の屈折率を、島状絶縁部３０の屈折率よりも高く、第１電極１１および第２電極１２の屈折率よりも低くしている。これにより、光学層４０と光学透明粘着層４３との境界での反射光Ｒ２が発生し、反射光Ｒ１の強度を相対的に弱めることができる。したがって、位置検出部における複数の検出電極のパターン見えを抑制することができる。
【００４９】
特に、保護部材５０の面５０ａが曲面になっている場合、面５０ａでの反射光Ｒ３よりも位置検出部での反射光Ｒ１が相対的に強くなり、パターン見えが発生しやすい。しかし、光学層４０を設けることで反射光Ｒ２が発生することになり、反射光Ｒ１の相対的な強度が弱められる。これにより、パターン見えが抑制されることになる。このパターン見えの抑制効果は、保護部材５０の面５０ａが曲面の場合、顕著に現れることになる。
【００５０】
（他の層構成）
図４（ａ）〜図５は、光学層の他の構成例を示す断面図である。
図４（ａ）に示す例では、光学層４０と光学透明粘着層４３との間に中間層４５が設けられた構成である。中間層４５には、例えばノボラック樹脂が用いられる。中間層４５の屈折率は光学層４０の屈折率とは相違する。すなわち、中間層４５の屈折率は、光学層４０の屈折率よりも高い場合および低い場合の両方が適用される。また、中間層４５の屈折率は、光学透明粘着層４３の屈折率よりも高い。
【００５１】
中間層４５の厚さは１μｍ以上あってもよい。これにより、中間層４５の光学透明粘着層４３側の面で反射する光と、その反対側の面で反射する光とが干渉することに起因する不具合（色ムラなど）が生じにくくなる。
【００５２】
図４（ｂ）に示す例では、光学層４０と光学透明粘着層４３との間に中間層４５が設けられ、中間層４５と光学透明粘着層４３との間に反射調整層４１３が設けられる。図４（ｂ）に示す層構成において、中間層４５は第１中間層４１を含む。第１中間層４１は、複数層によって構成される。すなわち、第１中間層４１は、光学層４０の上に設けられた光学透明粘着層４１０、シクロオレフィンポリマー層４１１およびアクリル系樹脂層４１２を有する。反射調整層４１３は、酸化物または無機物を含む樹脂層である。酸化物としては、酸化ジルコニウム、酸化ニオブが挙げられ、無機物としては、ジルコニウムが挙げられる。反射調整層４１３は、酸化物層または無機物層を備えていてもよい。
【００５３】
反射調整層４１３は、酸化物または無機物を含むことで高屈折率材料となる。反射調整層４１３の屈折率は、反射調整層４１３の光学透明粘着層４３側の面に接する層の屈折率よりも０．２５以上高くなっていてもよい。これにより、反射調整層４１３と光学透明粘着層４３との境界での反射光によって、位置検出部と光学層４０との境界での反射光の強度が相対的に弱められ、位置検出部における複数の検出電極のパターン見えを抑制することができる。
【００５４】
また、反射調整層４１３の光学透明粘着層４３側の面に接する層の厚さは１μｍ以上あってもよい。これにより、この層の光学透明粘着層４３側の面で反射する光と、その反対側の面で反射する光とが干渉することに起因する不具合（色ムラなど）が生じにくくなる。
【００５５】
なお、反射調整層４１３は複数の層による積層構造を有していてもよい。また、反射調整層４１３は基材フィルムに接して設けられていてもよい。この基材フィルムは、反射調整層４１３と光学層４０との間に位置していたり、反射調整層４１３と光学透明粘着層４３との間に位置していたりする。
【００５６】
基材フィルムとしては、透光性フィルムを備えていることが望ましい。透光性フィルムには、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）およびポリカーボネート（ＰＣ）からなる群から選ばれる１種または２種以上を含んでいる。また、基材フィルムは、透光性フィルムと、透光性フィルムの上に設けられたアクリル系樹脂を含む層と、を備えていてもよい。図４（ｂ）に示す例では、シクロオレフィンポリマー層４１１およびアクリル系樹脂層４１２を基材フィルムとして構成してもよい。
【００５７】
図５に示す例では、光学層４０と光学透明粘着層４３との間に中間層４５が設けられ、中間層４５と光学透明粘着層４３との間に反射調整層４１３が設けられる。図５に示す層構成において、中間層４５は、第１中間層４１と第２中間層４２とを含む。第２中間層４２は、光学層４０と第１中間層４１との間に設けられ、第１中間層４１は、第２中間層４２と反射調整層４１３との間に設けられる。第１中間層４１は、複数層によって構成される。すなわち、第１中間層４１は、第２中間層４２の上に設けられた光学透明粘着層４１０、シクロオレフィンポリマー層４１１およびアクリル系樹脂層４１２を有する。第１中間層４１および反射調整層４１３の構成は、図４（ｂ）に示す第１中間層４１および反射調整層４１３と同様である。
【００５８】
第２中間層４２の屈折率は、反射調整層４１３の屈折率よりも低く、光学透明粘着層４１０の屈折率よりも高い。このような層構成によって、第２中間層４２の厚さは１μｍ以上であってもよい。これにより、第２中間層４２の第１中間層４１側の面で反射する光と、その反対側の面で反射する光とが干渉することに起因する不具合（色ムラなど）が生じにくくなる。
【００５９】
なお、上記の層構成以外にも、位置検出部と保護部材５０との間に介在する複数の層のうち、隣接する２つの層における位置検出部側の層に対して、保護部材５０側の層の屈折率が０．２５以上低くなる層構成を備えることが望ましい。
【００６０】
（官能検査）
各種の層構成の静電容量式センサ１について、パターン見えの官能検査を行った。官能検査は、以下の比較例、第１実施例〜第６実施例の静電容量式センサ１で行った。
比較例は、図２に示す層構成において、以下の材料が用いられている。
光学層４０…レジン（ノボラック樹脂、屈折率（以下、「ｎ」と称する。）＝１．５４、厚さ（以下、「ｔ」と称する。）＝１．５μｍ）
光学透明粘着層４３…ＯＣＡ（ｎ＝１．４５、ｔ＝７５μｍ）
保護部材５０…面５０ａが曲面
【００６１】
第１実施例は、第１実施例に対して光学層４０の屈折率が異なる。
光学層４０…レジン（ノボラック樹脂、ｎ＝１．７０、ｔ＝１．５μｍ）
光学透明粘着層４３…ＯＣＡ（ｎ＝１．４５、ｔ＝７５μｍ）
保護部材５０…面５０ａが曲面
【００６２】
第２実施例は、第１実施例および第２実施例に対して光学層４０の屈折率が異なる。
光学層４０…レジン（ノボラック樹脂、ｎ＝１．８２、ｔ＝１．５μｍ）
光学透明粘着層４３…ＯＣＡ（ｎ＝１．４５、ｔ＝７５μｍ）
保護部材５０…面５０ａが曲面
【００６３】
第３実施例は、図４（ｂ）に示す構成例において、以下の材料が用いられている。
光学層４０…レジン（ノボラック樹脂、ｎ＝１．８２、ｔ＝１．５μｍ）
第１中間層４１…
光学透明粘着層４１０（ｎ＝１．４５、ｔ＝７５μｍ）
シクロオレフィンポリマー層４１１（ｎ＝１．５４、ｔ＝５０μｍ）
アクリル系樹脂層４１２（ｎ＝１．４３、ｔ＝１μｍ）
反射調整層４１３（酸化ジルコニウム含有、ｎ＝１．８、ｔ＝６０ｎｍ）
光学透明粘着層４３…ＯＣＡ（ｎ＝１．４５、ｔ＝７５μｍ）
保護部材５０…面５０ａが曲面
【００６４】
第４実施例は、図４（ａ）に示す構成例において、以下の材料が用いられている。
光学層４０…レジン（ノボラック樹脂、ｎ＝１．５４、ｔ＝１．５μｍ）
第１中間層４１…レジン（ノボラック樹脂、ｎ＝１．８２、ｔ＝１．５μｍ）
光学透明粘着層４３…ＯＣＡ（ｎ＝１．４５、ｔ＝７５μｍ）
保護部材５０…面５０ａが曲面
【００６５】
第５実施例は、図４（ａ）に示す構成例において、以下の材料が用いられている。
光学層４０…レジン（ノボラック樹脂、ｎ＝１．８２、ｔ＝１．５μｍ）
第１中間層４１…レジン（ノボラック樹脂、ｎ＝１．５４、ｔ＝１．５μｍ）
光学透明粘着層４３…ＯＣＡ（ｎ＝１．４５、ｔ＝７５μｍ）
保護部材５０…面５０ａが曲面
【００６６】
第６実施例は、図５に示す構成例において、以下の材料が用いられている。
光学層４０…レジン（ノボラック樹脂、ｎ＝１．８２、ｔ＝１．５μｍ）
第２中間層４２…レジン（ノボラック樹脂、ｎ＝１．５４、ｔ＝１．５μｍ）
第１中間層４１…
光学透明粘着層４１０（ｎ＝１．４５、ｔ＝７５μｍ）
シクロオレフィンポリマー層４１１（ｎ＝１．５４、ｔ＝５０μｍ）
アクリル系樹脂層４１２（ｎ＝１．４３、ｔ＝１μｍ）
反射調整層４１３（酸化ジルコニウム含有、ｎ＝１．８、ｔ＝６０ｎｍ）
光学透明粘着層４３…ＯＣＡ（ｎ＝１．４５、ｔ＝７５μｍ）
保護部材５０…面５０ａが曲面
【００６７】
表１に、比較例、第１実施例および第２実施例の官能検査の結果を示す。
表２に、第３実施例〜第５実施例の官能検査の結果を示す。
表３に、第６実施例の官能検査の結果を示す。
【００６８】
【表１】
2019023773.tif 000003
【００６９】
【表２】
2019023773.tif 000004
【００７０】
【表３】
2019023773.tif 000005
【００７１】
官能検査においては、保護部材５０の上から静電容量式センサ１を見た場合の、検出電極（第１電極１１および第２電極１２）の見え具合、および絶縁部（島状絶縁部３０）の見え具合を数値によって評価した。数値が小さいほど見えやすく、大きいほど見えにくいことを示している。数値の横に「＋」が付されているものは、その数値と次の数値との間であることを示している。また、全体的な見え具合を示す総合評価も示している。
【００７２】
表１に示すように、第１実施例および第２実施例においては、光学層４０の屈折率が高いほど検出電極のパターン見えが抑制される。一方、絶縁部のパターン見えについては、光学層４０の屈折率が１．７０（第２実施例）のときに効果的に抑制される。第１実施例および第２実施例における総合的な評価では、第２実施例の構成が最もパターン見えの抑制効果がみられる。
【００７３】
表２および表３に示すように、第３実施例〜第６実施例においては、第３実施例、第５実施例および第６実施例の構成において、検出電極のパターン見えの抑制効果が高い。また、第３実施例および第６実施例の構成において、絶縁部のパターン見えの抑制効果が高い。第３実施例〜第６実施例における総合的な評価では、第６実施例の構成が最もパターン見えの抑制効果がみられる。
【００７４】
以上説明したように、本実施形態によれば、基材１０の上に形成された検出電極等（第１電極１１、第２電極１２など）のパターンが意図せず見えてしまうことを抑制することができる。特に、保護部材５０の面５０ａが曲面になっている場合に、パターン見えが発生しやすいが、本実施形態では保護部材５０の面５０ａが曲面であっても、効果的にパターン見えを抑制することが可能になる。
【００７５】
なお、上記に本実施形態を説明したが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。例えば、第１中間層４１が積層構造を有している場合、積層順を反対にしてもよい。この場合であっても、反射調整層の上に、屈折率が０．２５以上低い層が設けられていればよい。具体的には、第１中間層４１におけるアクリル系樹脂層４１２の屈折率が、反射調整層４１３の屈折率よりも０．２５以上低ければよい。また、上記の説明では、反射調整層は、無機物を含む樹脂層から構成されているが、ＩＴＯなどの酸化物層や無機物層から構成されていてもよい。さらに、前述の各実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除、設計変更を行ったものや、各実施形態の特徴を適宜組み合わせたものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に包含される。
【符号の説明】
【００７６】
１…静電容量式センサ
１０…基材
１０ａ…面
１１…第１電極
１１ａ…引き出し配線
１２…第２電極
１２ａ…引き出し配線
２０…ブリッジ配線部
３０…島状絶縁部
４０…光学層
４１…第１中間層
４２…第２中間層
４５…中間層
４３…光学透明粘着層
５０…保護部材
５０ａ…面
１１１…第１島状電極部
１１１ａ…連結部
１２１…第２島状電極部
４１０…光学透明粘着層
４１１…シクロオレフィンポリマー層
４１２…アクリル系樹脂層
４１３…反射調整層
ＡＸ１…軸
Ｒ１…反射光
Ｒ２…反射光
Ｒ３…反射光
Ｓ…位置検出部
【図１】
2019023773.tif 000006
【図２】
2019023773.tif 000007
【図３】
2019023773.tif 000008
【図４】
2019023773.tif 000009
【図５】
2019023773.tif 000010