(57)【要約】【課題】  エッチング処理において、支持冶具の下流側に在する基板に、生じるスジ状の模様の抑制効果の高い基板用カセットを提供する。【解決手段】  基板用カセット１１は、エッチング槽１０内においてエッチング処理されるべき複数の基板を支持するように構成される。この基板用カセット１１の下面部１７は、基板の収納時の基板下辺２８の向きと直交する方向となるように配置された複数の下辺冶具１８の組み合わせから構成される。この下辺冶具１８は、本体部２２が円柱状であって、軸方向から見て本体部２２の左右に板状部３１を有する。この板状部３１は、板状部３１の下面が水平であって上面が傾斜を成す先細り形状であり、本体部２２の長手方向に沿って形成される【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
エッチング装置内においてエッチング処理されるべき複数の基板を支持するように構成された基板用カセットであって、
前記基板用カセットの下面部は、基板の収納時の基板下辺の向きと直交する方向となるように配置された複数の下辺冶具の組み合わせから構成され、
前記下辺冶具は、柱状を呈する本体部と、軸方向から見て本体部の左右に配置されるとともに液流を受けるように構成された板状部と、を有し、
前記板状部は、下面が水平であって上面が傾斜を成す先細り形状であり、本体部の長手方向に沿って配置されていることを特徴とする基板用カセット。
【請求項２】
前記板状部が、下辺冶具を軸方向から見て、本体部の高さ方向における下寄りに形成されていることを特徴とする請求項１に記載の基板用カセット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エッチング装置内においてエッチング処理されるべき複数の基板を支持するように構成された基板用カセットに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ガラス基板のケミカルエッチング方法の１つに、ディップ方法があり、このような基板用カセットは、ディップ方法のエッチング時に使用されることが多い。このディップ方法は、エッチング液を溜めたエッチング槽内に、複数のガラス基板を並列配置して収納した基板用カセットを浸漬し、基板用カセットの下方から基板用カセット内部に向けて、多数の気泡を連続的に放出してエッチング液の流れを作る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１３−１５５０５７号公報
【特許文献２】特許第４６３４３３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述のような従来技術においては、ガラス基板を下から支持治具がエッチング液の流れを阻害することが考えられる。ガラス基板を支えるには、ある程度の強度を有する冶具を使用する必要があるため、ある程度の幅を有する治具であることが必要である。一方で、流体力学上、下方から上方にかけて一様に流れるエッチング液の中に置かれた冶具の上方の領域（下流側）は、エッチング液の流れが阻害され、乱流が生じ、滞留する。
【０００５】
そのため、支持冶具によって支持されているガラス基板下端部の、液が滞留している領域と一様に流れている領域との境界に相当する部分に、下方から上方に向けてスジ状模様が生じてしまうという不都合があった。
【０００６】
本発明の目的は、エッチング処理において、支持冶具の下流側に在する基板に、生じるスジ状の模様の抑制効果の高い基板用カセットを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る基板用カセットは、エッチング装置内においてエッチング処理されるべき複数の基板を支持するように構成された基板用カセットである。この基板用カセットの下面部は、基板の収納時の基板下辺の向きと直交する方向となるように配置された複数の下辺冶具の組み合わせから構成される。
【０００８】
この下辺冶具は、本体部が柱状（例えば、円柱状や多角柱状等）であって、軸方向から見て本体部の左右に板状部を有する。この板状部は、板状部の下面が水平であって上面が傾斜を成す先細り形状であり、本体部の長手方向に沿って形成される。
【０００９】
また、この板状部は、下辺冶具を軸方向から見て、本体部の左右両端よりも下寄りに形成されていることが好ましい。
【００１０】
液流の上流から下流、すなわち基板下辺端付近に生じる下方から上方に向けてスジ状の模様は、液流の速度差に起因すると考えられる。
【００１１】
下辺冶具の本体部の左右に板状部を有することにより、下方からの液流は、下辺冶具下部に衝突し、板状部下面に沿って、横方向に逸れ、下辺冶具の板状部と隣接する下辺冶具の板状部との隙間から上方に押し出される。
【００１２】
板状部があるために、下辺冶具に衝突した液流は冶具本体部に沿って上方に流れることができず、これにより下辺冶具の上下において、板状部が無い場合よりも大きい圧力差が生じる。
【００１３】
かつ、板状部が、板状部上面に傾斜を有する先細り形状となっていることにより、板状部により横に逸れた液流が、圧力の低くなっている下辺冶具上方に収束されやすくなっていると考えられる。
【００１４】
また、板状部を下辺冶具の下寄りに形成することにより、液流が収束されるまでの上記圧力差が基板に与える影響を小さくすることができると考えられる。
【発明の効果】
【００１５】
この発明によれば、エッチング処理において、支持冶具の下流側に在する基板に、生じるスジ状模様の抑制効果の高い基板用カセットを提供することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板用カセットの使用態様の説明図
【図２】本発明の一実施形態に係る基板用カセットの構成図
【図３】基板用カセットの下面部の形状の一実施形態の説明図
【図４】図３に示す下辺冶具（抑制冶具）の実施形態の拡大斜視図
【図５】図３に示す下辺冶具（受け冶具）の実施形態の拡大斜視図
【図６】下辺冶具（図４及び図５）の正面図
【図７】下辺冶具周りの液流の模式図
【図８】羽根が無い場合の下辺冶具周りの液流の参考模式図
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態について図１ないし図７を参照しながら説明する。ただし同じ構成要素には同じ符号を付して、重複する説明を省略する場合もある。また、図面は理解しやすくするために、それぞれの構成要素を主体に模式的に示しており、図示された各構成要素の厚み，長さ，個数等は図面作成の都合上実際と異なる。また下記実施の形態においては、「板状部」を「羽根」と称する。
【００１８】
（全体構成）
図１は、エッチング槽１０内に基板用カセット１１を設置した、使用態様を示す一例である。エッチング液は記載から省略している。エッチング槽１０内下部にはバブリングユニットが設置され、下方から上方に向けた液流を形成している。
【００１９】
図２は、本発明の一実施形態に係る基板用カセット１１の構成図である。基板用カセット１１にガラス基板１２を収納した状態を示す。ガラス基板１２との位置関係を示すため、ガラス基板１２収納後、上面部１６を取り付ける前の状態を示す。下面部１７は、基板収納時の基板下辺２８の向きと直交する方向となるように配置された複数の下辺冶具１８の組み合わせから構成される。
【００２０】
基板用カセット１１は、前板１３、後板１４、一対の側板１５、上面部１６、及び下面部１７から構成される（図２参照）。上面部１６と下面部１７とは、下方から上方に向けた液流を形成することができるような開口を有する。
【００２１】
（下面部構成）
図３は、図２に記載の下面部１７と、収納されている基板の一部とを抜粋して、基板の下辺からの支持状態を示したものである。下面部１７は、複数の下辺冶具１８を所定の間隔で連結固定して構成される。下辺冶具１８の配置する際の所定の間隔は、ガラス基板１２の荷重に対する治具の耐荷重や、開口の確保、基板カセット搬送機構（不図示）との干渉等を考慮して、定められる。
【００２２】
下辺冶具１８は、基板下端部２９を下からのみ支持する平坦な載置面２０を有する受け冶具１９（図５）と、基板下端部２９を横から支持して、基板の搖動幅を抑制する抑制冶具２１（図４）とが有る。
【００２３】
この抑制冶具２１は、収納された基板下辺２８の更に下方となるように配置された本体部２２から、上方に延在するように設けられた抑制部材２３を有する。この抑制部材２３は、基板下端部２９を左右から挟むように所定の間隔で複数配列される。抑制部材２３を配列する際の所定の間隔は、基板の寸法、厚み、可撓性及び、収納時の基板間距離によるエッチング精度への影響を考慮して定められる。
【００２４】
図３に示す下面部１７は、下辺冶具１８の両端を嵌合するための溝を所定の間隔で設けた一対の枠２５の各溝に、受け冶具１９と抑制冶具２１とを交互に配列するように嵌合した後、固定板２６にて下辺冶具１８が枠２５から外れないように固定して、構成した例である。枠２５への固定板２６の固定はボルトを使った螺合等にて行うことができる（不図示）。枠２５は、基板用カセット１１と一体形成しても良いし、別途、枠２５を基板用カセット１１に固定しても良い。
【００２５】
図４に示す抑制冶具２１は、円柱状の本体部２２と、軸方向から見て本体部２２の左右に延びる羽根３１と、本体部２２の上に延在する複数の抑制部材２３と、枠２５への嵌合部２７と、を有する。
【００２６】
羽根３１は、羽根３１の下面が水平であって上面が傾斜を成す先細り形状であり、本体部２２の長手方向に沿って形成されている。
【００２７】
枠２５への嵌合時の受け冶具１９との配列変更の自由度を確保するために、嵌合部２７の寸法は受け冶具１９の嵌合部２７寸法と同じとしている。嵌合時に本体部２２上面が基板下端部２９と接触しないように、嵌合部２７の上面よりも低い位置に本体部２２の上面を形成している。また、基板間のエッチング液の流量を均一に調整するための、ダミー基板固定用の溝３０を抑制冶具２１両端に設けている。
【００２８】
図５に示す受け冶具１９は、円柱状の本体部２２と、軸方向から見て本体部２２の左右に延びる羽根３１と、本体部２２の上面に基板の載置面２０と、を有している。載置面２０にはゴム部材を設置している。受け冶具１９の嵌合部２７は、基板の載置部と一体形成されている例である。
【００２９】
以下、図６を参照しながら、下辺冶具１８の形状、及び基板の支持態様について説明する。図６は、図３の拡大正面図である。
【００３０】
基板下端部２９は、受け冶具１９の載置面２０で下から支持され、基板の左右への搖動は、抑制冶具２１の抑制部材２３の先端部２４にて支持され、抑制される。そしてそれぞれの下辺冶具１８本体部２２の左右下部に羽根３１を有する。羽根３１の下面は水平であり、上面は傾斜を成す。
【００３１】
図７は、下辺冶具１８周りの液の流れを模式した図である。液は下方から上方に向かって流れている。下方からの液流は、下辺冶具１８下部に衝突し、羽根３１下面に沿って、横方向に逸れ、下辺冶具１８の羽根３１と隣接する下辺冶具１８羽根３１との隙間から上方に押し出される。
【００３２】
下辺冶具１８が羽根３１を有するために、下辺冶具１８に衝突した液流は冶具本体部２２に沿って上方に流れることができず、これにより下辺冶具１８の上下において、羽根３１が無い場合よりも大きい圧力差が生じる。
【００３３】
かつ、羽根３１が、羽根３１上面に傾斜を有する先細り形状となっていることにより、羽根３１により横に逸れた液流が、圧力の低くなっている下辺冶具１８上方に収束されやすくなっていると考えられる。
【００３４】
また、羽根３１を下辺冶具１８の下寄りに形成することにより、液流が収束されるまでの上記圧力差が基板に与える影響を小さくすることができると考えられる。
【００３５】
（効果）
これにより、エッチング液の流れの相違に起因して、基板端に生じるスジ状模様３２を抑制することができる。
【００３６】
（生産方法）
基板用カセット１１を構成する、受け冶具１９や、抑制冶具２１は、切り出しによって製造可能である。羽根３１は、本体部２２とは別に製造し、本体部２２に後から接着等により固定して形成しても良い。抑制部材２３は、抑制冶具２１本体部２２と一体形成しても良いし、本体部２２とは別に製造し、本体部２２に後から接着等により固定して形成しても良い。受け冶具１９は、本体部２２を形成後、載置面２０となるゴム等の部材を別途固定する等して製造することができる。この製造方法は一例であって、これに限定されるものではない。
【符号の説明】
【００３７】
１０−エッチング槽
１１−基板用カセット
１２−ガラス基板
１３−前板
１４−後板
１５−側板
１６−上面部
１７−下面部
１８−下辺冶具
１９−受け冶具
２０−載置面
２１−抑制冶具
２２−本体部
２３−抑制部材
２４−先端部
２５−枠
２６−固定板
２７−嵌合部
２８−基板下辺
２９−基板下端部
３０−ダミー基板固定用の溝
３１−羽根
３２−スジ状模様
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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