(57)【要約】【課題】高い信頼性で液晶層等の光制御流体層を封止することができる光学デバイス等を提供する。【解決手段】光学デバイス１は、第一基材１１及び第一電極１２を有する第一基板１０と、第一基板１０に対向して配置され、第二基材２１及び第二電極２２を有する第二基板２０と、第一基板１０及び第二基板２０の間に配置され、凹凸層３１及び光制御流体（液晶層３２）を有する光制御層３０とを備える。第一電極１２及び第二電極２２の少なくとも一方は、第二固定領域１００ｂを超えて第一基材１１又は第二基材２１の端部に引き出された端子部を有する。第一基板１０と第二基板２０とは、第一固定領域１００ａでは第一基材１１及び第二基材２１が溶着することで固定され、第二固定領域１００ｂでは熱硬化性樹脂又は紫外線硬化性樹脂からなる樹脂部材４０によって固定される。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一基材及び第一電極を有する透光性の第一基板と、
前記第一基板に対向して配置され、第二基材及び第二電極を有する透光性の第二基板と、
前記第一基板及び前記第二基板の間に配置され、凹凸層及び光制御流体層を有する光制御層とを備え、
前記第一基板と前記第二基板とは、第一固定領域及び第二固定領域において固定されており、
前記第一電極及び前記第二電極の少なくも一方は、前記第二固定領域を超えて前記第一基材又は前記第二基材の端部に引き出された端子部を有し、
前記第一固定領域において、前記第一基板と前記第二基板とは、前記第一基材及び前記第二基材の少なくとも一方が溶着することで固定され、
前記第二固定領域において、前記第一基板と前記第二基板とは、熱硬化性樹脂又は紫外線硬化性樹脂によって構成された接着部材によって固定される、
光学デバイス。
【請求項２】
前記接着部材は、前記第一基板と前記第二基板との間に配置されている、
請求項１に記載の光学デバイス。
【請求項３】
前記接着部材は、前記端子部が設けられた部分の前記第一基板の端面又は前記第二基板の端面から所定の距離をあけて後退した位置に配置されている、
請求項２に記載の光学デバイス。
【請求項４】
前記第一基板と前記第二基板とは、前記第一固定領域において前記第一基材及び前記第二基材の両方が溶融することで固定されている、
請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学デバイス。
【請求項５】
前記第一基板と前記第二基板とは、さらに、第三固定領域において固定されており、
前記第三固定領域は、前記第一固定領域及び前記第二固定領域よりも内側に位置する領域であり、
前記第三固定領域において、前記凹凸層の凸部の少なくとも一部は、前記第一基板に接合されている、
請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学デバイス。
【請求項６】
平面視において、前記第三固定領域の面積は、０．２ｍｍ２以上１ｍｍ２以下である、
請求項５に記載の光学デバイス。
【請求項７】
前記第一基板と前記第二基板とは、さらに、スペーサが存在する第三固定領域において固定されており、
前記第三固定領域は、前記第一固定領域及び前記第二固定領域よりも内側に位置する領域であり、
前記第三固定領域において、前記第一基板と前記第二基板とは、前記スペーサの一部が溶着することで固定されている、
請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学デバイス。
【請求項８】
前記光学デバイスは、前記第一固定領域によって配光制御領域が複数に分割されている、
請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学デバイス。
【請求項９】
第一基材に第一電極が形成された透光性の第一基板を準備し、
第二基材に第二電極及び凹凸層が形成された透光性の第二基板を、光制御流体を介して前記第一基板に重ね合わせ、
第一固定領域においては、レーザ光を照射して前記第一基材及び前記第二基材の少なくとも一方を溶着させることで前記第一基板と前記第二基板とを固定し、
第二固定領域においては、熱硬化性樹脂又は紫外線硬化性樹脂からなる接着部材によって前記第一基板と前記第二基板とを固定する、
光学デバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学デバイス及び光学デバイスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
入射する光の配光を制御することができる光学デバイスが提案されている。このような光学デバイスは、建物又は車等の窓に用いられる。例えば、光学デバイスを建物の窓に設置することで、室外から入射する太陽光等の外光の進行方向を変更して当該外光を室内の天井に向けて導入することができる。
【０００３】
この種の光学デバイスとして、特許文献１には、一対の透明基板と、一対の透明基板の内側に配置された一対の透明電極と、一対の透明基板の一方の上方に形成されたプリズム層と、プリズム層と接する光制御流体層として液晶層とを備える液晶光学素子が開示されている。特許文献１に開示された液晶光学素子では、一対の透明電極に印加する電圧を変化させることで液晶層の屈折率を変化させて、プリズム層と液晶層との界面を通過する光の屈折角を変化させている。これにより、光学デバイスに入射する光の進行方向を変化させることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１２−１７３５３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来の光学デバイスでは、高い信頼性で液晶層等の光制御流体層を封止することが難しいという課題がある。特に、液晶層から液晶材料が漏れた場合、一対の基板同士の接着力が低下する。
【０００６】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであり、高い信頼性で液晶層等の光制御流体層を封止することができる光学デバイス及び光学デバイスの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明に係る光学デバイスの一態様は、第一基材及び第一電極を有する透光性の第一基板と、前記第一基板に対向して配置され、第二基材及び第二電極を有する透光性の第二基板と、前記第一基板及び前記第二基板の間に配置され、凹凸層及び光制御流体層を有する光制御層とを備え、前記第一基板と前記第二基板とは、第一固定領域及び第二固定領域において固定されており、前記第一電極及び前記第二電極の少なくも一方は、前記第二固定領域を超えて前記第一基材又は前記第二基材の端部に引き出された端子部を有し、前記第一固定領域において、前記第一基板と前記第二基板とは、前記第一基材及び前記第二基材の少なくとも一方が溶着することで固定され、前記第二固定領域において、前記第一基板と前記第二基板とは、熱硬化性樹脂又は紫外線硬化性樹脂によって構成された接着部材によって固定される。
【０００８】
また、本発明に係る光学デバイスの製造方法の一態様は、第一基材に第一電極が形成された透光性の第一基板を準備し、第二基材に第二電極及び凹凸層が形成された透光性の第二基板を、光制御流体を介して前記第一基板に重ね合わせ、第一固定領域においては、レーザ光を照射して前記第一基材及び前記第二基材の少なくとも一方を溶着させることで前記第一基板と前記第二基板とを固定し、第二固定領域においては、熱硬化性樹脂又は紫外線硬化性樹脂からなる接着部材によって前記第一基板と前記第二基板とを固定する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、高い信頼性で液晶層等の光制御流体層を封止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】実施の形態１に係る光学デバイスの平面図である。
【図２】図１のII−II線における実施の形態１に係る光学デバイスの断面図である。
【図３】図１のIII−III線における実施の形態１に係る光学デバイスの断面図である。
【図４】実施の形態１に係る光学デバイスの第一固定領域における第１基板と第２基板との他の接合状態を示す断面図である。
【図５】実施の形態１に係る光学デバイスの他の給電構造を示す平面図である。
【図６Ａ】実施の形態１に係る光学デバイスの第一光学作用を説明するための図である。
【図６Ｂ】実施の形態１に係る光学デバイスの第二光学作用を説明するための図である。
【図７Ａ】実施の形態１に係る光学デバイスを窓に設置したときに、光学デバイスが第１モードである場合の作用を説明するための図である。
【図７Ｂ】実施の形態１に係る光学デバイスを窓に設置したときに、光学デバイスが第２モードである場合の作用を説明するための図である。
【図８】実施の形態１に係る光学デバイスの製造方法を説明するための工程断面図である。
【図９】実施の形態１に係る光学デバイスの製造方法における第一固定領域を形成するときの工程を説明するための図である。
【図１０】実施の形態１に係る光学デバイスの製造方法における第二固定領域を形成するときの工程を説明するための図である。
【図１１】実施の形態２に係る光学デバイスの平面図である。
【図１２】図１１のXII−XII線における実施の形態２に係る光学デバイスの断面図である。
【図１３】実施の形態２の変形例に係る光学デバイスの断面図である。
【図１４】実施の形態３に係る光学デバイスの断面図である。
【図１５】実施の形態３の変形例に係る光学デバイスの構成を示す図である。
【図１６】実施の形態４に係る光学デバイスの平面図である。
【図１７】図１６のXVII−XVII線における実施の形態４に係る光学デバイスの断面図である。
【図１８】実施の形態５に係る光学デバイスの平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下に説明する実施の形態は、いずれも本発明の好ましい一具体例を示すものである。したがって、以下の実施の形態で示される、数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態などは、一例であって本発明を限定する主旨ではない。よって、以下の実施の形態における構成要素のうち、本発明の最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。
【００１２】
各図は、模式図であり、必ずしも厳密に図示されたものではない。したがって、各図において縮尺等は必ずしも一致していない。各図において、実質的に同一の構成に対しては同一の符号を付しており、重複する説明は省略又は簡略化する。
【００１３】
また、本明細書及び図面において、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸は、三次元直交座標系の三軸を表しており、本実施の形態では、Ｚ軸方向を鉛直方向とし、Ｚ軸に垂直な方向（ＸＹ平面に平行な方向）を水平方向としている。Ｘ軸及びＹ軸は、互いに直交し、かつ、いずれもＺ軸に直交する軸である。なお、Ｚ軸方向のプラス方向を鉛直下方としている。また、本明細書において、「平面視」とは、第一基板１０又は第二基板２０の主面に対して垂直な方向から見たときのことをいう。
【００１４】
（実施の形態１）
まず、実施の形態１に係る光学デバイス１の構成について、図１〜図３を用いて説明する。図１は、実施の形態１に係る光学デバイス１の平面図である。図２は、図１のII−II線における同光学デバイス１の断面図である。図３は、図１のIII−III線における同光学デバイス１の断面図である。
【００１５】
光学デバイス１は、入射する光を透過するように構成されており、光学デバイス１に入射する光を制御する光制御デバイスである。具体的には、光学デバイス１は、光学デバイス１に入射する光の進行方向を変更して（つまり配光して）出射させることができる配光制御素子である。
【００１６】
図１〜図３に示すように、光学デバイス１は、透光性の第一基板１０と、第一基板１０に対向して配置された透光性の第二基板２０と、第一基板１０及び第二基板２０の間に配置された光制御層３０と、接着部材４０と、封止部材５０とを備える。
【００１７】
図１〜図３に示すように、第一基板１０と第二基板２０とは、第一固定領域１００ａ及び第二固定領域１００ｂにおいて固定されている。本実施の形態では、第一固定領域１００ａ及び第二固定領域１００ｂは、光学デバイス１の外周端部の領域である。
【００１８】
具体的には、図１に示すように、第一固定領域１００ａは、平面視形状が矩形状である光学デバイス１の４辺のうちの３辺の各々に沿って形成されたライン状の領域である。また、第二固定領域１００ｂは、光学デバイス１の４辺のうちの１辺に沿って形成されたライン状の領域である。つまり、第一基板１０と第二基板２０とは、３本の第一固定領域１００ａと１本の第二固定領域１００ｂとで構成される矩形枠状の固定領域において互いに固定されている。
【００１９】
ただし、第一固定領域１００ａと第二固定領域１００ｂとにおいては、異なる態様で第一基板１０及び第二基板２０が固定されている。
【００２０】
具体的には、第一固定領域１００ａにおいては、図２及び図３に示すように、第一基板１０と第二基板２０とは、接着部材を用いることなく固定されている。本実施の形態では、第一基板１０と第二基板２０とは、第一基板１０の第一基材１１が溶着することで固定されている。例えば、第一固定領域１００ａでは、第一基板１０側からレーザ光を照射することで第一基材１１の一部が溶融し、この溶融した第一基材１１が、第二基板２０に形成された光制御層３０の凹凸層３１の凹部に入り込むことで、第一基板１０と第二基板２０とが固着される。つまり、第一基板１０と第二基板２０とはレーザ溶着によって固定されている。
【００２１】
一方、図２に示すように、第二固定領域１００ｂにおいては、第一基板１０と第二基板２０とは、直接接触して固定されるのではなく接着部材４０を介して固定されている。
【００２２】
なお、本実施の形態では、第一固定領域１００ａにおいては、第一基材１１のみを溶融させて第一基板１０と第二基板２０とを固着したが、図４に示される光学デバイス１Ａのように、第一基材１１及び第二基材２１の両方を溶融させて第一基材１１と第二基材２１とが互いに溶着することで第一基板１０と第二基板２０とを固定してもよい。
【００２３】
この場合、例えば、図２のように第一基板１０と第二基板２０とを固定するときのレーザ照射よりも高出力のレーザ照射を行うことで、第一基材１１及び第二基材２１の両方を溶融させることができる。具体的には、第一固定領域１００ａにおいて、第一基板１０側又は第二基板２０側からレーザ光を照射することで第一基材１１と第二基材２１とがレーザ溶着によって直接接触して接合される。つまり、第一基材１１及び第二基材２１にレーザ光を照射して第一基材１１及び第二基材２１の一部を溶融して互いに接合させることで、第一基板１０と第二基板２０とを直接接触させて固定してもよい。
【００２４】
このように、第一基材１１及び第二基材２１の両方を溶融させて第一基板１０と第二基板２０とを固定することで、第一基板１０と第二基板２０の接合強度を向上させることができる。なお、この場合、凹凸層３１、第一電極１２及び第二電極２２は、レーザ照射によって溶融して粉砕される。
【００２５】
また、本実施の形態では、第一基材１１のみ又は第一基材１１及び第二基材２１の両方を溶融させて第一基板１０と第二基板２０とを固着するのではなく、第二基材２１のみを溶融させて第一基板１０と第二基板２０とを固着してもよい。この場合、第二基板２０側からレーザ光を照射するとよい。
【００２６】
以下、光学デバイス１を構成する各構成部材について、さらに詳細に説明する。
【００２７】
［第一基板、第二基板］
図２及び図３に示すように、第一基板１０は、第一基材１１、第一電極１２及び配向膜１３を有する。具体的には、第一基板１０は、第一基材１１の一方の面に第一電極１２及び配向膜１３が形成された構成である。配向膜１３は、光制御層３０の液晶層３２に接するように第一電極１２の表面に形成されている。配向膜１３は、液晶層３２の液晶分子を一定の方向に配向させる。配向膜１３は、無機材料で構成されていてもよいし、ポリイミド等の有機材料で構成されていてもよい。
【００２８】
一方、第二基板２０は、第二基材２１及び第二電極２２を有する。具体的には、第二基板２０は、第二基材２１の一方の面に第二電極２２が形成された構成である。
【００２９】
第一基板１０と第二基板２０とは、所定の間隔をあけて互いに対向して配置されている。つまり、第一基板１０及び第二基板２０は、互いに一方が他方に対向して配置された対向基板である。
【００３０】
第一基材１１及び第二基材２１は、透光性を有する透光性基板である。具体的には、第一基材１１及び第二基材２１としては、透明基板を用いることができる。
【００３１】
第一基材１１及び第二基材２１は、レーザ光で溶着する材料で構成されており、例えば、樹脂材料からなる樹脂基板である。樹脂基板の樹脂材料としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、アクリル（ＰＭＭＡ）又はエポキシ等の樹脂材料が挙げられる。
【００３２】
第一基材１１及び第二基材２１は、シート状のリジッド基板に限るものではなく、可撓性を有するフィルム状のフレキシブル基板であってもよい。リジッド基板の材料としては、例えば、ＰＣ又はＰＭＭＡ等が挙げられ、また、フレキシブル基板としては、ＰＥＴ、ＰＥＮ、ＰＳ、ＰＶＡ、ＴＡＣ等が挙げられる。なお、第一基材１１と第二基材２１は、同じ材料で構成されていてもよいし、異なる材料で構成されていてもよい。
【００３３】
なお、第一基材１１及び第二基材２１の平面視形状は、例えば、正方形や長方形の矩形状であるが、これに限るものではなく、円形又は四角形以外の多角形であってもよく、任意の形状が採用され得る。本実施の形態において、第一基材１１及び第二基材２１は、ＰＥＴからなる平面視が矩形状のＰＥＴ基板である。ＰＥＴ基板は、レーザ光によって容易に溶融させることができる。
【００３４】
第一電極１２は、第一基材１１と光制御層３０との間に配置されている。具体的には、第一電極１２は、第一基材１１の光制御層３０側の面に形成されている。第一電極１２は、べた電極であり、第一基材１１のほぼ全面に薄膜状に形成されているが、第一固定領域１００ａには形成されていない。
【００３５】
図１に示すように、第一電極１２は、第一端子部１２ａを有する。第一端子部１２ａは、第二固定領域１００ｂを超えて第一基材１１の端部に向かって引き出された引き出し電極（取り出し電極）ある。本実施の形態において、第一端子部１２ａは、第一電極１２のうち第一基材１１の外周端部に位置する部分である。つまり、第二固定領域１００ｂにおいては、第一電極１２の一部が存在し、第一端子部１２ａは、第一電極１２の光制御層３０に対向する部分（配光制御領域）から第二固定領域１００ｂを超えて第一基材１１の外周端部にまで引き出されている。第一端子部１２ａは、第一電極１２に供給するための電圧が印加される給電部であり、ワイヤ等又はリード線等によって外部電源と電気的に接続される。
【００３６】
一方、第二電極２２は、光制御層３０と第二基材２１との間に配置されている。具体的には、第二電極２２は、第二基材２１の光制御層３０側の面に形成されている。第二電極２２は、べた電極であり、第二基材２１のほぼ全面に薄膜状に形成されているが、第一固定領域１００ａには形成されていない。
【００３７】
図１及び図２に示すように、第二電極２２は、第二端子部２２ａを有する。第二端子部２２ａも、第二固定領域１００ｂを超えて第二基材２１の端部に向かって引き出された引き出し電極（取り出し電極）ある。本実施の形態において、第二端子部２２ａは、第二電極２２のうち第二基材２１の外周端部に位置する部分である。つまり、第二固定領域１００ｂにおいては、第二電極２２の一部が存在し、第二端子部２２ａは、第二電極２２の光制御層３０に対向する部分（配光制御領域）から第二固定領域１００ｂを超えて第二基材２１の外周端部にまで引き出されている。第二端子部２２ａは、第二電極２２に供給するための電圧が印加される給電部であり、ワイヤ等又はリード線等によって外部電源と電気的に接続される。
【００３８】
なお、第一電極１２の第一端子部１２ａは、第一基材１１に形成されるのではなく、第二基材２１に形成されていてもよい。この場合、第一端子部１２ａは、第二電極２２（第二端子部２２ａ）と同層、かつ、第二電極２２（第二端子部２２ａ）と分離して形成されており、第一電極１２と電気的に接続されている。
【００３９】
同様に、第二電極２２の第二端子部２２ａは、第二基材２１に形成されるのではなく、第一基材１１に形成されていてもよい。この場合、第二端子部２２ａは、第一電極１２（第一端子部１２ａ）と同層、かつ、第一電極１２（第一端子部１２ａ）と分離して形成されており、第二電極２２と電気的に接続されている。
【００４０】
また、図１に示すように、本実施の形態では、第一端子部１２ａ及び第二端子部２２ａは、平面視が矩形状の光学デバイス１（例えば第一基材１１）の同じ辺の外周端部に形成されているが、これに限るものではない。例えば、図４に示される光学デバイス１Ａのように、第一端子部１２ａ及び第二端子部２２ａは、第一基材１１（又は第二基材２１）の対向する辺の各々の外周端部に形成されていてもよい。つまり、図１の光学デバイス１のように片側給電タイプであってもよいし、図５に示す光学デバイス１Ｂのように両側給電タイプであってもよい。
【００４１】
図２及び図３に示すように、第一電極１２及び第二電極２２は、電気的に対となっており、光制御層３０に電界を与えることができるように構成されている。第一電極１２及び第二電極２２に印加する電圧を変化することで光制御層３０を制御することができる。具体的には、第一電極１２及び第二電極２２の少なくとも一方に印加する電圧を変化することで光制御層３０の液晶層３２に含まれる液晶分子３２ａの配向状態を変化させることができる。これにより、液晶層３２の屈折率を変化させることができる。
【００４２】
また、第一電極１２と第二電極２２とは、電気的だけではなく配置的にも対になっており、第一基材１１及び第二基材２１の間において、互いに対向するように配置されている。具体的には、第一電極１２及び第二電極２２は、光制御層３０を挟むように配置されている。
【００４３】
第一電極１２及び第二電極２２は、光透過性を有し、入射した光を透過する。第一電極１２及び第二電極２２は、例えば透明導電層である。透明導電層の材料としては、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）やＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、ＺｎＯ（Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、ＺｎＯにＧａをドープしたＧＺＯ、ＺｎＯにＡｌをドープしたＡＺＯ等の透明金属酸化物、銀ナノワイヤや導電性粒子等の導電体を含有する樹脂からなる導電体含有樹脂、又は、銀薄膜等の金属薄膜等を用いることができる。なお、第一電極１２及び第二電極２２は、これらの単層構造であってもよいし、これらの積層構造（例えば透明金属酸化物と金属薄膜との積層構造）であってもよい。
【００４４】
なお、光制御層３０の液晶層３２に接する第二電極２２の表面には、液晶層３２の液晶分子を配向するために配向膜が形成されていてもよい。配向膜は、ラビング処理又は光処理等によって配向処理を施したものであってもよいし、配向処理が不要なＳｉＯ２膜からなる無機配向膜であってもよい。また、このような配向膜は、第二基板２０側に形成することに限らず、第一基板１０側に形成してもよい。例えば、凹凸層３１の表面に配向膜を形成してもよい。この場合、凹凸層３１が劣化したり凹凸層３１を傷つけたりすることがないように、配向膜は、光処理による光配向膜又はスパッタ等のドライコートで形成する無機配向膜であるとよい。
【００４５】
［光制御層］
光制御層３０は、透光性を有しており、入射した光を透過させる。また、光制御層３０は、入射した光を配光することができる配光層として機能する。つまり、光制御層３０は、光制御層３０を通過する際の光の進行方向を変更することができる。
【００４６】
図２及び図３に示すように、光制御層３０は、凹凸層３１及び液晶層３２を有する。凹凸層３１と液晶層３２とは接している。
【００４７】
凹凸層３１は、光制御層３０における光制御凹凸構造層の一例である。凹凸層３１は、マイクロオーダサイズ又はナノオーダサイズの複数の凸部を有する凹凸構造体である。各凸部の高さは、例えば１００ｎｍ〜１００μｍであるが、これに限るものではない。また、隣り合う凸部の間隔は、例えば０〜１００μｍである。つまり、隣り合う２つの凸部は、接触することなく所定の間隔をあけて配置されていてもよいし、接触して配置されていてもよい。なお、隣り合う凸部の間隔は、０〜１００μｍに限定されるものではない。
【００４８】
凹凸層３１の複数の凸部の各々は、一対の側面を有する。本実施の形態において、各凸部の断面形状は、第二基板２０から第一基板１０に向かう方向（厚み方向）に沿って先細りのテーパ形状である。したがって、各凸部の一対の側面の各々は、厚み方向に対して所定の傾斜角で傾斜する傾斜面であり、一対の側面の間隔（凸部の幅）は、第二基板２０から第一基板１０に向かって漸次小さくなっている。
【００４９】
凹凸層３１の各凸部の側面は、凸部と液晶層３２との界面となっている。第二基板２０側から凹凸層３１に入射した光は、凸部の側面（凸部と液晶層３２との界面）において、凹凸層３１と液晶層３２との屈折率差に応じて反射及び屈折したり反射及び屈折せずにそのまま透過したりする。
【００５０】
本実施の形態において、凹凸層３１を構成する複数の凸部は、ストライプ状に形成されている。具体的には、各凸部は、断面形状が台形でＸ軸方向に延在する長尺状の略四角柱形状であり、Ｚ軸方向に沿って等間隔に配列されている。各凸部は、同じ形状であるが、これに限るものではない。
【００５１】
なお、凹凸層３１は、複数の凸部がベース部に設けられた構成であって、隣り合う凸部が根元部分で互いに連結されているが、これに限るものではなく、複数の凸部は互いに分離して形成されていてもよい。
【００５２】
凹凸層３１（凸部）の材料としては、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂又はシリコーン樹脂等の光透過性を有する樹脂材料を用いることができる。凹凸層３１は、例えばモールド成形又はナノインプリント等によって形成することができる。本実施の形態において、凹凸層３１（凸部）は、屈折率が１．５のアクリル樹脂によって構成されている。
【００５３】
液晶層３２は、光制御層３０における光制御流体層の一例であり、液状の光制御流体によって構成されている。液晶層３２は、液晶分子を含む液晶材料（光制御流体）によって構成されている。液晶材料としては、例えば、液晶分子が棒状分子からなるネマティック液晶又はコレステリック液晶等を用いることができる。液晶層３２の液晶分子は、複屈折性を有する。本実施の形態では、凹凸層３１の屈折率が１．５であるので、液晶層３２には、常光屈折率（ｎｏ）が１．５で、異常光屈折率（ｎｅ）が１．７であるポジ型の液晶材料を用いている。
【００５４】
液晶層３２は、電界が与えられることによって可視光領域での屈折率が調整可能な屈折率調整層として機能する。具体的には、液晶層３２は、電界応答性を有する液晶分子を有する液晶によって構成されているので、液晶層３２に電界が与えられることで液晶分子の配向状態が変化して液晶層３２の屈折率が変化する。
【００５５】
本実施の形態において、光制御層３０（液晶層３２）には、第一電極１２及び第二電極２２に電圧が印加されることによって電界が与えられる。したがって、第一電極１２及び第二電極２２に印加する電圧を制御することによって光制御層３０（液晶層３２）に与えられる電界が変化し、これにより、液晶層３２の液晶分子の配向状態が変化して液晶層３２の屈折率が変化する。つまり、液晶層３２は、第一電極１２及び第二電極２２に電圧が印加されることで屈折率が変化する。
【００５６】
なお、光制御層３０（液晶層３２）は、交流電力によって電界が与えられてもよいし、直流電力によって電界が与えられてもよい。交流電力の場合には、電圧波形は、正弦波でもよいし矩形波でもよい。交流電力及び直流電力は、第一端子部１２ａ及び第二端子部２２ａによって第一電極１２及び第二電極２２に供給される。
【００５７】
このように構成される光制御層３０は、第一基板１０及び第二基板２０の各々が第一基材１１及び第二基材２１の外周端部に沿って第一固定領域１００ａ及び第二固定領域１００ｂのみで固定されることで封止されている。具体的には、光制御層３０の液晶層３２が第一固定領域１００ａ及び第二固定領域１００ｂで囲まれるようにして第一基板１０及び第二基板２０の間に封止されている。
【００５８】
［接着部材］
接着部材４０は、熱硬化性樹脂又は紫外線硬化性樹脂によって構成されている。熱硬化性樹脂からなる接着部材４０を用いる場合、例えば、熱硬化性樹脂からなる粘度の高い液状の接着剤を塗布し、その後、加熱して硬化すればよい。また、紫外線硬化性樹脂からなる接着部材４０を用いる場合、紫外線硬化性樹脂からなる粘度の高い液状の接着剤を塗布し、その後、紫外線を照射して硬化すればよい。なお、紫外線硬化性樹脂は、熱を加えなくても硬化させることができるため、熱硬化性樹脂と比べて凹凸層３１等にダメージを与えにくい。
【００５９】
図２に示すように、接着部材４０は、第一基板１０と第二基板２０とを接着している。具体的には、接着部材４０は、第一基板１０と第二基板２０とに挟持されるように第一基板１０と第二基板２０との間に配置されている。
【００６０】
また、接着部材４０は、図１に示される第二固定領域１００ｂに対応する位置に設けられている。つまり、第一基板１０と第二基板２０とは、第二固定領域１００ｂにおいて接着部材４０によって固定されている。具体的には、接着部材４０は、矩形状の第一基板１０（第二基板２０）の１辺の外周端部に沿って、当該一辺の一方端から他方端にわたってライン状に形成されている。
【００６１】
接着部材４０は、第一端子部１２ａが設けられた部分の第一基板１０の端面、及び、第二端子部２２ａが設けられた部分の第二基板２０の端面から、所定の距離をあけて後退した位置に配置されている。つまり、接着部材４０は、第一端子部１２ａが設けられた部分の第一基材１１の端面、及び、第二端子部２２ａが設けられた部分の第二基材２１の端面から外側にははみ出しておらず、第一端子部１２ａが設けられた部分の第一基材１１の端面（側面）そのもの、及び、第二端子部２２ａが設けられた部分の第二基材２１の端面（側面）そのものには、接着部材４０が設けられていない。
【００６２】
具体的には、第一電極１２及び第二電極は、第二固定領域１００ｂの内側から第二固定領域１００ｂの外側に向かって引き出されて、第二固定領域１００ｂの外側において、第一端子部１２ａ及び第二端子部２２ａとなっている。これにより、第二固定領域１００ｂは、第一基板１０の端面及び第二基板２０の端面から所定の距離をあけて後退した位置に配置されることになる。したがって、第二固定領域１００ｂに配置される接着部材４０は、第一端子部１２ａが設けられた部分の第一基板１０の端面、及び、第二端子部２２ａが設けられた部分の第二基板２０の端面から、所定の距離をあけて後退した位置に配置される。
【００６３】
なお、接着部材４０には、第一基板１０と第二基板２０とのギャップを一定の間隔に維持するための粒状のスペーサが分散されていてもよい。スペーサとしては、樹脂ビーズ、ガラスビーズ又はシリカ粒子等の粒状スペーサ等を用いることができる。
【００６４】
［封止部材］
封止部材５０は、接着剤等のシール樹脂であり、第一基板１０及び第二基板２０の端部に沿って、第一基板１０及び第二基板２０を囲むように第一基板１０及び第二基板２０の全周に形成される。具体的には、封止部材５０は、断面視において、第一基板１０のはみ出し部の表面から第二基板２０の端縁を覆うように形成されている。
【００６５】
封止部材５０は、第一固定領域１００ａ及び第二固定領域１００ｂよりも外側の領域に形成されている。液晶層３２は、第一固定領域１００ａ及び第二固定領域１００ｂにおいて第一基板１０と第二基板２０とが固定されることで封止されているが、さらに封止部材５０を形成することによって液晶層３２の封止性能を補強することができる。つまり、封止部材５０は補強用シール部材であり、封止部材５０を形成することで液晶層３２を二重に封止することができる。また、封止部材５０で二重に封止することで、外部から光制御層３０内に水分等が侵入することを一層抑制することもできる。このように封止部材５０を形成することで、封止性能が向上し、信頼性を向上させることができる。
【００６６】
［光学デバイスの光学作用］
次に、実施の形態１に係る光学デバイス１の光学作用について、図６Ａ及び図６Ｂを用いて説明する。図６Ａは、実施の形態１に係る光学デバイス１の第一光学作用を説明するための図であり、図６Ｂは、同光学デバイス１の第二光学作用を説明するための図である。
【００６７】
光学デバイス１は、光を透過させることができる。本実施の形態では、第二基板２０を光入射側の基板としているので、光学デバイス１は、第二基板２０から入射した光を透過して第一基板１０から出射させる。
【００６８】
光学デバイス１に入射した光は、光制御層３０を透過する際に光学デバイス１から光学作用を受ける。光学デバイス１は、光制御層３０の液晶層３２の屈折率の変化によって光学作用が変化する。このため、光学デバイス１に入射した光は、液晶層３２の屈折率に応じて異なる光学作用を受けることになる。
【００６９】
具体的には、図６Ａに示すように、光学デバイス１は、光制御層３０における凹凸層３１と液晶層３２との屈折率差が生じる場合には第一モードとなり、入射した光に対して第一光学作用を与える。本実施の形態では、第一電極１２及び第二電極２２に電圧が印加されていない状態（電圧無印加状態）の場合に第一モードとなるように設定されている。
【００７０】
また、本実施の形態において、液晶層３２の液晶材料は、異常光屈折率が１．７で、常光屈折率が１．５のポジ型である。また、凹凸層３１の屈折率は１．５である。したがって、第一電極１２及び第二電極２２に電圧が印加されていない状態（第一モード）では、液晶層３２の液晶分子３２ａは、第一基板１０及び第二基板２０に対して水平に配向する水平配向のままで配向状態が変化せず、液晶層３２の屈折率は、１．７である。この場合、凹凸層３１と液晶層３２との間には屈折率差が生じる。
【００７１】
したがって、図６Ａに示すように、第一モードでは、光学デバイス１に対して斜め方向から入射する入射光（例えば太陽光）は、凹凸層３１と液晶層３２との界面（凹凸層３１の凸部の上側の側面）で全反射して跳ね返る方向に進行方向が曲げられて光学デバイス１から外部に出射する。
【００７２】
一方、図６Ｂに示すように、光学デバイス１は、第一電極１２及び第二電極２２に電圧が印加されている状態（電圧印加状態）の場合に第二モードとなり、入射した光に対して第二光学作用を与える。第二モードでは、液晶層３２の液晶分子３２ａの配向状態が変化して、液晶分子３２ａは、第一基板１０及び第二基板２０に対して垂直に配向する垂直配向となる。この場合、液晶層３２の屈折率は、１．７から１．５になるので、凹凸層３１と液晶層３２との間の屈折率差がなくなる。
【００７３】
したがって、図６Ｂに示すように、第二モードでは、光学デバイス１に対して斜め方向から入射する入射光は、凹凸層３１と液晶層３２との界面で屈折及び反射することなく直線的に進行して光学デバイス１から外部に出射する。
【００７４】
このように、光学デバイス１は、凹凸層３１と液晶層３２との屈折率マッチングを電界によって制御することで光学作用を変化させることができるアクティブ型の光制御デバイスである。つまり、第一電極１２及び第二電極２２に印加する電圧を制御することによって、光学デバイス１を第一モード（図６Ａ）と第二モード（図６Ｂ）とに切り替えることができる。
【００７５】
なお、第一固定領域１００ａ及び第二固定領域１００ｂで囲まれた領域は、第一電極１２及び第二電極２２の電圧を制御することで光学デバイス１に入射する入射光の進行方向を制御できるアクティブ領域（配光制御領域）である。
【００７６】
［光学デバイスの使用例］
次に、実施の形態１に係る光学デバイス１の使用例について、図６Ａ及び図６Ｂを参照しながら、図７Ａ及び図７Ｂを用いて説明する。図７Ａ及び図７Ｂは、実施の形態１に係る光学デバイス１を窓９１に設置したときの使用例を示す図である。図７Ａは、同光学デバイス１が第一モード（図６Ａ）である場合を示しており、図７Ｂは、同光学デバイス１が第二モード（図６Ｂ）である場合を示している。
【００７７】
図７Ａ及び図７Ｂに示すように、光学デバイス１は、建物９０の窓９１に設置することで、配光機能付き窓として実現することができる。光学デバイス１は、例えば、粘着層を介して窓９１に貼り合わされる。この場合、光学デバイス１は、第一基板１０及び第二基板２０の主面が鉛直方向（Ｚ軸方向）と平行となるような姿勢（つまり立設する姿勢）で窓９１に設置される。
【００７８】
また、図７Ａ及び図７Ｂでは光学デバイス１の詳細な構造が図示されていないが、光学デバイス１は、第二基板２０が室外側で第一基板１０が室内側となるように配置されている。つまり、図７Ａ及び図７Ｂにおいて、光学デバイス１は、第二基板２０が光入射側で、第一基板１０が光出射側となるように配置されている。
【００７９】
図７Ａに示すように、光学デバイス１が第一モードの場合、凹凸層３１と液晶層３２との間の屈折率差が生じる。したがって、この場合、光学デバイス１に対して斜め方向から入射する太陽光については、図６Ａに示すように、凹凸層３１と液晶層３２との界面で全反射して、跳ね返る方向に進行方向が曲げられて光学デバイス１から外部に出射する。これにより、図７Ａに示すように、太陽光は、建物９０の室内の天井に照射される。
【００８０】
一方、図７Ｂに示すように、光学デバイス１が第二モードの場合、凹凸層３１と液晶層３２との間には屈折率差が生じない。したがって、この場合、光学デバイス１に対して斜め方向から入射する太陽光については、図６Ａに示すように、凹凸層３１と液晶層３２との界面では屈折及び反射されずに進行方向が変わることなく光学デバイス１から外部に出射する。これにより、図７Ｂに示すように、太陽光は、建物９０の室内の床面に照射される。
【００８１】
［光学デバイスの製造方法］
次に、実施の形態１に係る光学デバイス１の製造方法について、図８を用いて説明する。図８は、実施の形態１に係る光学デバイス１の製造方法を説明するための工程断面図である。なお、図８では、図５に示される両側給電タイプの光学デバイスを製造する場合について説明する。
【００８２】
まず、第一基材１１に第一電極１２が形成された透光性の第一基板１０を準備し、第一固定領域１００ａにおいて、第一基板１０に接着部材４０を塗布する。
【００８３】
具体的には、図８の（ａ）及び（ｂ）に示すように、ラビング処理済みの配向膜１３（不図示）が形成されたロール状の第一基板１０を引き出しながら、ディスペンサ２００によって、第一基板１０の幅方向の両端部の各々に接着部材４０（接着剤）を第一基板１０の引き出し方向に沿ってライン状に塗布する。
【００８４】
例えば、図９（ａ）に示すように、第一基板１０の第二固定領域１００ｂに対応する領域に、接着部材４０を塗布する。具体的には、接着部材４０として、熱硬化性樹脂又は紫外線硬化性樹脂からなる接着剤を塗布する。
【００８５】
次に、第一基板１０に液晶材料を滴下し、第二基材２１に第二電極２２及び凹凸層３１が形成された第二基板２０を、液晶材料を介して第一基板１０に重ね合わせて、塗布した接着部材４０によって第一基板１０と第二基板２０とを固定する。
【００８６】
具体手的には、液晶材料を滴下した第一基板１０に対して、図８の（ｃ）に示すように、予め凹凸層３１（不図示）を形成しておいたロール状の第二基板２０（凹凸基板）を、凹凸層３１が第一基板１０に向くようにして第一基板１０に重ね合わせて、ラミネートローラ４００によって第一基板１０と第二基板２０とをラミネートするとともに、塗布済みの接着部材４０（接着剤）を硬化させることで第一基板１０と第二基板２０とを固定する。
【００８７】
例えば、図９（ａ）に示される接着部材４０が塗布された第一基板１０対してに、図９（ｂ）に示すように、液晶材料を滴下し、凹凸層３１が第一基板１０に向くようにして第二基板２０を第一基板１０に重ね合わせて、所定の処理によって接着部材４０を硬化させる。例えば、接着部材４０が熱硬化性樹脂によって構成されている場合は、加熱処理を行うことで接着部材４０を硬化させる。また、接着部材４０が紫外線硬化性樹脂によって構成されている場合は、紫外線を照射することで接着部材４０を硬化させる。これにより、図９（ｃ）に示すように、第一基板１０と第二基板２０との間に液晶材料を封止した状態で第一基板１０と第二基板２０と接着部材４０で固定することができる。
【００８８】
このように、第二固定領域１００ｂでは、レーザ光を照射することなく第一基板１０と第二基板２０とを固定しているので、第二固定領域１００ｂの周辺では、第一電極１２、第二電極２２及び凹凸層３１の機能が失われない。つまり、第一電極１２及び第二電極２２はレーザ光によって溶融破壊されずに断線することがない。
【００８９】
なお、接着部材４０を硬化させて第一基板１０と第二基板２０とを固定する際、第一基板１０及び第二基板２０を加圧した状態で接着部材４０を硬化させるとよい。これにより、第一基板１０と第二基板２０とを接着部材４０により容易かつ強固に接着することができる。
【００９０】
次に、第一固定領域１００ａにおいて、レーザ光を照射して第一基材１１と第二基材２１と溶着させることで第一基板１０と第二基板２０とを固定する。
【００９１】
具体的には、矩形状に切断した第一基板１０及び第二基板２０の積層体を反転させた後、図８（ｄ）に示すように、レーザヘッド１００によって第一基板１０及び第二基板２０の幅方向（ロールから引き出される方向と直交する方向）に沿って所定の出力でレーザ光を第一基板１０及び第二基板２０にライン状に照射することで、第一基板１０と第二基板２０とをレーザ溶着によってライン状に固定する。これにより、第一基板１０及び第二基板２０の幅方向の端部が幅方向に沿ったライン状に固定される。
【００９２】
この場合、図１０（ａ）に示すように、例えばビーム径が数ｍｍ程度（例えば１ｍｍ）のレーザ光を第一基板１０の上方から照射することで、図１０（ｂ）に示すように、第一基材１１の一部が溶融して、溶融した第一基材１１が光制御層３０の凹凸層３１の凹部に充填される。これにより、第一基材１１と凹凸層３１とが固着して、第一基板１０と第二基板２０とが固定される。このようにして第一固定領域１００ａが形成される。つまり、第一固定領域１００ａでは、レーザ溶着によって第一基板１０及び第二基板２０が固定されている。
【００９３】
なお、第一基材１１が溶融して凹凸層３１に接合する際、レーザ光が照射された領域周辺の構成部材（第一電極１２、第二電極２２、凹凸層３１等）は、第一基材１１及び第二基材２１とともに溶融する。したがって、第一固定領域１００ａの周辺では、第一電極１２、第二電極２２及び凹凸層３１の機能が失われる。
【００９４】
また、レーザ照射によって第一基板１０と第二基板２０とを固定する際、第一基板１０及び第二基板２０を加圧した状態でレーザ光を照射するとよい。これにより、第一基材１１と第二基材２１とをレーザ溶着して第一基板１０と第二基板２０とを容易にかつ強固に固定することができる。
【００９５】
次に、第二電極２２のうち接着部材４０よりも外側の領域を露出させることで第二端子部２２ａを形成する。具体的には、図８（ｅ）に示すように、第一基板１０の外周端部の全周を切断する。これにより、第二固定領域１００ｂ（接着部材４０が形成されている領域）よりも外側の領域に位置する第一基板１０が部分的に切断されるので、第二基板２０の第二電極２２の端部を露出させることができる。本実施の形態では、２つの第二固定領域１００ｂの各々について第二電極２２が露出しており、そのうちの一方が第二端子部２２ａとなる。
【００９６】
その後、図８（ｅ）に示すように、ディスペンサ３００によって第一基板１０及び第二基板２０の周囲に封止部材材料を塗布して硬化させることで封止部材５０を形成する。
【００９７】
以上のようにして、光学デバイスを作製することができる。
【００９８】
［作用効果等］
次に、本実施の形態に係る光学デバイス１の作用効果について、本発明を得るに至った経緯も含めて説明する。
【００９９】
従来の光学デバイスでは、対向する一対の基板の外周端部の全周（例えば４辺）にシール樹脂を形成することによって液晶層を封止していたが、シール樹脂は塗布して硬化させる必要があるのでタクトタイムが長い。また、樹脂材料からなるシール樹脂は、封止性能が劣るという課題もある。
【０１００】
そこで、レーザ光を照射することで一対の基板の全周をレーザ溶着して直接接合させることで液晶層を封止することが検討されている。これにより、高い信頼性で液晶層が封止された光学デバイスを短いタクトタイムで製造することが可能となる。
【０１０１】
しかしながら、一対の基板の端部には、配光制御領域の電極に給電するための端子部（電極端子）を形成する必要がある。端子部は、例えば、配光制御領域内の電極から基板の外周端部に引き出された部分である。このため、一対の基板の全周をレーザ溶着によって固定すると、基板だけではなく電極も溶融してしまい、レーザ光を照射した部分で電極が断線する。つまり、レーザ溶着によって固定された領域よりも外側の領域では、電極の端子部を形成することが困難である。
【０１０２】
そこで、本願発明者らが鋭意検討した結果、端子部を形成した場合であっても高い信頼性で液晶層が封止された光学デバイスを短いタクトタイムで製造することができる技術を見出した。具体的には、レーザ光を用いて一対の基板の一部を溶着固定して液晶層を封止するような場合であっても、電極を切断することなく電極から引き出された端子を形成することができる技術を見出した。
【０１０３】
本発明は、このような知見に基づいてなされたものである。具体的には、本実施の形態に係る光学デバイス１は、第一基材１１及び第一電極１２を有する透光性の第一基板１０と、第一基板１０に対向して配置され、第二基材２１及び第二電極２２を有する透光性の第二基板２０と、第一基板１０及び第二基板２０の間に配置され、凹凸層３１及び液晶層３２を有する光制御層３０とを備える。第一基板１０と第二基板２０とは、第一固定領域１００ａ及び第二固定領域１００ｂにおいて固定されており、第一電極１２及び第二電極２２の少なくとも一方は、第二固定領域１００ｂを超えて第一基材１１又は第二基材２１の端部に引き出された端子部を有する。そして、第一固定領域１００ａにおいて、第一基板１０と第二基板２０とは、第一基材１１及び第二基材２１の少なくとも一方が溶着することで固定され、第二固定領域１００ｂにおいて、第一基板１０と第二基板２０とは、熱硬化性樹脂又は紫外線硬化性樹脂によって構成された接着部材４０によって固定されている。
【０１０４】
このように、本実施の形態に係る光学デバイス１は、第一固定領域１００ａでは、第一基材１１及び第二基材２１の少なくとも一方が溶着することで第一基板１０及び第二基板２０が固定されている。これにより、例えばレーザ光照射によるレーザ溶着等によって第一基板１０及び第二基板２０を固定することができる。
【０１０５】
一方、第二固定領域１００ｂでは、第一基材１１及び第二基材２１を溶着して第一基板１０及び第二基板２０が固定されているのではなく、熱硬化性樹脂又は紫外線硬化性樹脂によって構成された接着部材４０によって第一基板１０及び第二基板２０が固定されている。これにより、第二固定領域１００ｂにおいて第一基板１０と第二基板２０とを固定する際に、第一電極１２及び第二電極２２が断線することがない。したがって、第一電極１２又は第二電極２２から第二固定領域１００ｂを超えて第一基材１１又は第二基材２１の端部に引き出された端子部を容易に形成することができる。
【０１０６】
以上、本実施の形態に係る光学デバイス１によれば、第一基材１１及び第二基材２１の少なくとも一方の溶着による直接的な接合と接着部材４０による間接的な接合とによって第一基板１０及び第二基板２０を固定して液晶層３２を封止することができる。これにより、第一基板１０及び第二基板２０の全周に接着部材４０を形成して第一基板１０と第二基板２０とを固定する場合と比べてタクトタイムを短くできるとともに、高い信頼性で液晶層３２を封止することができる。
【０１０７】
また、本実施の形態に係る光学デバイス１において、接着部材４０は、第一基板１０と第二基板２０との間に配置されている。具体的には、接着部材４０は、第一端子部１２ａが設けられた部分の第一基板１０の端面又は第二端子部２２ａが設けられた第二基板２０の端面から所定の距離をあけて後退した位置に配置されている。
【０１０８】
このように、本実施の形態では、接着部材４０を第一基板１０の端面又は第二基板２０の端面そのものには設けずに、第一基板１０の端面又は第二基板２０の端面から内側に入った箇所に設けている。これにより、第二固定領域１００ｂの外側に第一端子部１２ａ及び第二端子部２２ａが形成される領域を確保することができる。
【０１０９】
また、本実施の形態に係る光学デバイス１では、第一基板１０と第二基板２０とは、第一固定領域１００ａにおいて第一基材１１及び第二基材２１の両方が溶融することで固定されている。
【０１１０】
この構成により、第一基板１０と第二基板２０との接合強度を向上させることができるので、さらに高い信頼性で液晶層３２を封止することができる。
【０１１１】
また、本実施の形態における光学デバイス１の製造方法は、第一基材１１に第一電極１２が形成された透光性の第一基板１０を準備し、第二基材２１に第二電極２２及び凹凸層３１が形成された第二基板２０を、液晶材料を介して第一基板１０に重ね合わせ、第一固定領域１００ａにおいては、レーザ光を照射して第一基材１１及び第二基材２１の少なくとも一方を溶着させることで第一基板１０と第二基板２０とを固定し、第二固定領域１００ｂにおいては、熱硬化性樹脂又は紫外線硬化性樹脂からなる接着部材４０によって第一基板１０と第二基板２０とを固定する。
【０１１２】
これにより、第一固定領域１００ａでは、第一基材１１及び第二基材２１の少なくとも一方がレーザ光によって溶着することで第一基板１０及び第二基板２０が固定され、第二固定領域１００ｂでは、熱硬化性樹脂又は紫外線硬化性樹脂によって構成された接着部材４０によって第一基板１０及び第二基板２０が固定される。したがって、高い信頼性で液晶層３２を封止しつつ、第一電極１２又は第二電極２２の端子部が形成された光学デバイスを容易に製造することができる。
【０１１３】
（実施の形態２）
次に、実施の形態２に係る光学デバイス２について、図１１及び図１２を用いて説明する。図１１は、実施の形態２に係る光学デバイス２の平面図である。図１２は、図１１のXII−XII線における同光学デバイス２の断面図である。
【０１１４】
図１１及び図１２に示すように、本実施の形態に係る光学デバイス２は、上記実施の形態１における光学デバイス１に対して、第一基板１０と第二基板２０とがさらに第三固定領域１００ｃにおいて固定されている。第三固定領域１００ｃは、第一固定領域１００ａ及び第二固定領域１００ｂよりも内側に位置する領域である。
【０１１５】
図１１に示すように、本実施の形態では、第三固定領域１００ｃは、第一固定領域１００ａ及び第二固定領域１００ｂで囲まれる領域（アクティブ領域）内において等間隔に複数形成されている。具体的には、複数の第三固定領域１００ｃは、各々が平面視で円形のドット状であり、マトリクス状に形成されている。
【０１１６】
また、図１２に示すように、第三固定領域１００ｃにおいて、凹凸層３１の凸部の少なくとも一部は、第一基板１０に接合されている。具体的には、第三固定領域１００ｃにおいて、凹凸層３１の凸部は、第一基板１０側からレーザ光を照射することで第一基材１１の一部が溶融し、この溶融した第一基材１１が凹凸層３１の凹部に入り込むことで第一基板１０に接合されている。
【０１１７】
第三固定領域１００ｃは、光学デバイス２にレーザ光をスポット的に照射することで形成することができる。このように、第一基板１０と凹凸層３１との間に隙間が存在していても、光学デバイス２にレーザ光を照射することで、第一基板１０と凹凸層３１とを接合することができる。この場合、第一電極１２又は第二電極２２を、ＩＴＯやＡＺＯ、ＩＺＯ等のキャリア密度の高い導電性材料で形成しておくことで、第一電極１２又は第二電極２２でレーザ光を吸収させて第一基板１０及び凹凸層３１を溶融させて効率良く接合させることができる。
【０１１８】
各第三固定領域１００ｃの面積は、平面視において、０．２ｍｍ２以上１ｍｍ２以下である。つまり、第三固定領域１００ｃにおいて、凹凸層３１の凸部と第一基板１０とが接している部分の面積は、０．２ｍｍ２以上１ｍｍ２以下である。例えば、４０Ｗのパワーでφ１．６ｍｍのビーム径のレーザ光をスポット的に照射することで、φ１ｍｍ程度の第三固定領域１００ｃを形成することができた。
【０１１９】
なお、図１２では、第一基材１１が溶融することで凹凸層３１の凸部が第一基板１０に接合されているが、これに限るものではなく、図１３に示すように、レーザ照射した場合であっても、第一基材１１が溶融することなく凹凸層３１の凸部が第一基板１０に接合されていてもよい。
【０１２０】
また、図１２及び図１３では、第三固定領域１００ｃにおける凹凸層３１は変形していないように図示されているが、レーザ光の照射によって凹凸層３１の凸部が変形する場合がある。例えば、図４に示すように、第一基材１１及び第二基材２１の両方を溶融させて第一基板１０と第二基板２０とを固定する場合である。この場合、第三固定領域１００ｃにおける光制御層３０の部分は、光を配光する機能が失われており、この部分（第三固定領域１００ｃ）を透過する光は、散乱して白濁して見えたり透過率が他の部分よりも低下した状態で見えたりする。
【０１２１】
このように、本実施の形態に係る光学デバイス２によれば、上記実施の形態１と同様の効果が得られる。すなわち、短いタクトタイム及び高い信頼性で液晶層３２を封止することができる。
【０１２２】
さらに、本実施の形態に係る光学デバイス２では、レーザ光を照射することで、凹凸層３１の凸部の少なくとも一部が第一基板１０に接合された第三固定領域１００ｃが形成されている。
【０１２３】
これにより、レーザ光を照射する前に第一基板１０と凹凸層３１との間に隙間が存在していても、レーザ光を照射することで、レーザ光を照射した部分においては、第一基板１０と凹凸層３１との間の隙間を無くして第一基板１０と凹凸層３１とを接合することができる。
【０１２４】
この結果、第一基板１０と第二基板２０との間のギャップを長期にわたって一定の間隔に維持することができる。すなわち、第一基板１０及び第二基板２０がフィルム状であるような場合、第一基板１０と凹凸層３１との間に隙間が存在すると、電圧印加等による熱の負荷によって第一基板１０及び第二基板２０等が熱膨張したり熱収縮したりして光学デバイスにうねり等が生じて変形する場合がある。この場合、第一基板１０と第二基板２０との間のギャップが不均一になり、光学デバイス全体として所望の配光性能を維持させることができなくなることがある。
【０１２５】
これに対して、本実施の形態のように、第一基板１０と凹凸層３１とを部分的に接合しておくことで、第一基板１０及び第二基板２０等が熱膨張及び熱収縮によって変形しにくくなるので、第一基板１０と第二基板２０との間のギャップ全体を長期にわたって均一に保つことができる。これにより、光学デバイスにおける所望の配光性能を長期間維持させることができる。
【０１２６】
しかも、第一基板１０と凹凸層３１とを接合することで、図７Ａ及び図７Ｂに示すように光学デバイスを立設する姿勢で配置した場合に液晶層３２内の液晶が鉛直下方に移動してしまうことを抑制することもできる。これにより、液晶層３２内の液晶の不均一等によって光学デバイスの所望の配光性能が得られなくなることを抑制できる。
【０１２７】
なお、本実施の形態に係る光学デバイス２は、上記実施の形態１と同様の方法で製造することができる。この場合、第三固定領域１００ｃは、光学デバイス１を作製した後に、所望の位置にレーザ光を照射することで形成することができる。
【０１２８】
また、本実施の形態は、実施の形態１だけではなく、他の実施の形態にも適用することができる。さらに、本実施の形態は、第一固定領域１００ａ及び第二固定領域１００ｂが形成されていない光学デバイスにも適用することができる。
【０１２９】
（実施の形態３）
次に、実施の形態３に係る光学デバイス３について、図１４を用いて説明する。図１４は、実施の形態３に係る光学デバイス３の断面図である。
【０１３０】
図１４に示すように、本実施の形態に係る光学デバイス３は、上記実施の形態２における光学デバイス２と同様に、第一基板１０と第二基板２０とがさらに第三固定領域１００ｄにおいて固定されている。また、本実施の形態においても、第三固定領域１００ｄは、第一固定領域１００ａ及び第二固定領域１００ｂよりも内側に位置する領域である。
【０１３１】
図１４に示すように、本実施の形態では、第三固定領域１００ｄにおいて、第一基板１０と第二基板２０とは、スペーサ６０の一部が溶着することで固定されている。
【０１３２】
スペーサ６０は、第一基板１０と第二基板２０との間に分散されている。スペーサ６０を分散させることで、第一基板１０又は第二基板２０の自重によって第一基板１０又は第二基板２０が撓むことを抑制することができ、第一基板１０と第二基板２０とのギャップを全体にわたって一定の間隔に維持することができる。スペーサ６０としては、例えば、樹脂ビーズ等の粒状の樹脂粒子を用いることができる。また、スペーサ６０の粒子径は、一例として、１５μｍ〜２０μｍである。
【０１３３】
そして、本実施の形態では、第三固定領域１００ｄにおいて、第一基板１０側からスペーサ６０に向かってレーザ光を照射することで、第一基材１１及び第二基材２１を溶融させるとともに、スペーサ６０の一部を溶融させる。これにより、第一基材１１及び第二基材２１とスペーサ６０とが溶着するので、第一基板１０と第二基板２０とを接合することができる。このように、本実施の形態では、レーザ光によってスペーサ６０を溶融させるので、スペーサ６０は、粒子表面又は粒子内部に熱可塑性の接着樹脂が含まれているとよい。
【０１３４】
以上、本実施の形態に係る光学デバイス３によれば、上記実施の形態１と同様の効果が得られる。すなわち、短いタクトタイム及び高い信頼性で液晶層３２を封止することができる。
【０１３５】
さらに、本実施の形態に係る光学デバイス３では、レーザ光を照射してスペーサ６０の一部を溶融させることで、第一基板１０と第二基板２０とが接合された第三固定領域１００ｄを形成している。
【０１３６】
これにより、上記実施の形態２と同様に、第一基板１０と第二基板２０との間のギャップを長期にわたって一定の間隔に維持することができるとともに、光学デバイス３を立設する姿勢で配置した場合に液晶層３２内の液晶が鉛直下方に移動してしまうことを抑制することができる。
【０１３７】
また、スペーサ６０を利用して第一基板１０と第二基板２０とを固定することで、接合構造を複雑化させることなく、また、比較的簡易なプロセスによって、光学デバイスを製造することができる。
【０１３８】
しかも、スペーサ６０と第一基板１０及び第二基板２０との接触部分での溶着となるため、外観上あまり目立たせることなく第三固定領域１００ｄを形成することができる。
【０１３９】
なお、本実施の形態に係る光学デバイス３は、上記実施の形態１と同様の方法で製造することができる。この場合、第三固定領域１００ｄは、光学デバイス１を作製した後に、所望の位置にレーザ光を照射することで形成することができる。
【０１４０】
また、本実施の形態では、粒状のスペーサ６０を用いたが、これに限らない。例えば、図１５の（ａ）及び（ｂ）に示される光学デバイス３Ａのように、四角柱状のスペーサ６０Ａを用いてもよい。図１５の（ａ）は、実施の形態３の変形例に係る光学デバイス３Ａの断面図であり、図１５の（ｂ）は、同光学デバイス３Ａの平面図である。なお、図１５の（ｂ）において、便宜上、スペーサ部分をハッチングで示している。
【０１４１】
本変形例における光学デバイス３Ａでも、上記実施の形態３における光学デバイス３と同様の効果が得られる。さらに、本変形例におけるスペーサ６０Ａは、図１４に示すスペーサ６０と比べて、第一基板１０及び第二基板２０との接触部分が多いため、第一基板１０及び第二基板２０の自重による撓みを抑制する効果が高い。
【０１４２】
スペーサ６０Ａの材質としては、図１４に示されるスペーサ６０と同様に、レーザ光によって溶融するものであればよく、例えばアクリル樹脂等を用いることができる。また、レーザ光が吸収しやくなるように、スペーサ６０Ａには、レーザ光を吸収するレーザ光吸収材が分散されていてもよい。
【０１４３】
なお、変形例も含めて本実施の形態は、実施の形態１だけではなく、他の実施の形態にも適用することができる。この場合、第三固定領域１００ｃを有する実施の形態２に本実施の形態を適用する場合、実施の形態２における第三固定領域１００ｃを第三固定領域とし、本実施の形態における第三固定領域１００ｄを第四固定領域として形成すればよい。さらに、本実施の形態は、第一固定領域１００ａ及び第二固定領域１００ｂが形成されていない光学デバイスにも適用することができる。
【０１４４】
（実施の形態４）
次に、実施の形態４に係る光学デバイス４について、図１６及び図１７を用いて説明する。図１６は、実施の形態４に係る光学デバイス４の平面図である。図１７は、図１６のXVII−XVII線における同光学デバイス４の断面図である。
【０１４５】
図１６及び図１７に示すように、本実施の形態に係る光学デバイス４は、上記実施の形態２に係る光学デバイス２と同様に、第一基板１０と第二基板２０とがさらに第三固定領域１００ｅにおいて固定されている。第三固定領域１００ｅは、第一固定領域１００ａ及び第二固定領域１００ｂよりも内側に位置する領域である。
【０１４６】
図１６に示すように、第三固定領域１００ｅは、第一固定領域１００ａ及び第二固定領域１００ｂで囲まれる領域（アクティブ領域）内において複数形成されている。具体的には、複数の第三固定領域１００ｅは、各々が平面視で矩形のドット状であり、マトリクス状に配置されている。なお、各第三固定領域１００ｅの平面視形状は、矩形に限るものではなく、円形等であってもよい。
【０１４７】
本実施の形態では、第三固定領域１００ｅにおいて、第一基板１０と第二基板２０とは、上記実施の形態２のように直接固定されているのではなく、図１７に示すように、接着層７０を介して固定されている。つまり、第三固定領域１００ｅでは、第二固定領域１００ｂにおける接着部材４０（第一接着部材）と同様に、接着材による接着層７０（第二接着部材）によって、第一基板１０と第二基板２０とが固定されている。
【０１４８】
接着層７０は、第一基板１０と第二基板２０とに挟持されるように第一基板１０と第二基板２０との間に配置されている。具体的には、接着層７０は、第一基板１０と第二基板２０に形成された凹凸層３１との間に配置されている。
【０１４９】
接着層７０は、レーザ光を吸収するレーザ光吸収材を含有していてもよい。例えば、接着層７０は、レーザ光吸収材を含有する透明樹脂材料によって構成されている。接着層７０のレーザ光吸収材としては、レーザ光の照射により透明に変化する材料を用いるとよい。つまり、接着層７０に含有するレーザ光吸収材は、レーザ光が照射されることで無色に変化するものであるとよい。
【０１５０】
このように構成される接着層７０は、レーザ光が照射されることによって溶融する。つまり、接着層７０にレーザ光が照射されると、接着層７０に含まれるレーザ光吸収材にレーザ光が吸収されるので、そのレーザ光の吸収熱によって接着層７０が溶融する。これにより、溶融させた接着層７０によって第一基板１０と第二基板２０とが接着する。また、接着層７０に含有するレーザ光吸収材は、レーザ光の照射により透明に変化するので、レーザ光の照射によって接着層７０は透明化する。
【０１５１】
なお、接着層７０には、第一基板１０と第二基板２０とのギャップを一定の間隔に維持するための粒状のスペーサが分散されていてもよい。スペーサとしては、樹脂ビーズ、ガラスビーズ又はシリカ粒子等の粒状スペーサ等を用いることができる。
【０１５２】
このように、本実施の形態に係る光学デバイス３によれば、上記実施の形態１と同様の効果が得られる。すなわち、短いタクトタイム及び高い信頼性で液晶層３２を封止することができる。
【０１５３】
さらに、本実施の形態に係る光学デバイス４では、第一固定領域１００ａ及び第二固定領域１００ｂよりも内側の領域において、第一基板１０と第二基板２０とを接着する接着層６０を有している。
【０１５４】
これにより、レーザ光を照射する前に第一基板１０と凹凸層３１との間に隙間が存在していても、第一基板１０と凹凸層３１との間の隙間を無くして第一基板１０と凹凸層３１とを接着層７０で接合することができる。
【０１５５】
この結果、第一基板１０及び第二基板２０等が熱膨張及び熱収縮によって変形しにくくなるので、第一基板１０と第二基板２０との間のギャップ全体を長期にわたって均一に保つことができる。したがって、光学デバイスにおける所望の配光性能を長期間維持させることができる。
【０１５６】
なお、本実施の形態に係る光学デバイス４は、上記実施の形態１と同様の方法で製造することができる。この場合、接着層７０による第三固定領域１００ｅは、例えば、接着部材４０による第二固定領域１００ｂと同時に形成してもよい。本実施の形態において、接着層７０にレーザ光吸収材を含有させたが、これに限らず、接着層７０は、接着部材４０と同様に、レーザ光吸収材を含まない熱硬化性樹脂又は紫外線硬化性樹脂によって構成されていてもよい。
【０１５７】
また、本実施の形態は、実施の形態１だけではなく、他の実施の形態にも適用することができる。この場合、第三固定領域１００ｃ、１００ｄを有する実施の形態２、３に本実施の形態を適用する場合、実施の形態２、３における第三固定領域１００ｃ、１００ｄを、第三固定領域とし、本実施の形態における第三固定領域１００ｅを第四固定領域として形成すればよい。さらに、本実施の形態は、第一固定領域１００ａ及び第二固定領域１００ｂが形成されていない光学デバイスにも適用することができる。
【０１５８】
（実施の形態５）
次に、実施の形態５に係る光学デバイス５について、図１８を用いて説明する。図１８は、実施の形態５に係る光学デバイス５の平面図である。
【０１５９】
図１８に示すように、本実施の形態に係る光学デバイス５は、図５に示される両側給電タイプの光学デバイス１Ｂに対して、第一固定領域１００ａによって配光制御領域が複数設けられた構成となっている。
【０１６０】
具体的には、本実施の形態における光学デバイス５では、第一固定領域１００ａが、第一基板１０及び第二基板２０の外周端部だけではなく、配光制御領域を複数に分割するように配光制御領域を跨ぐように複数形成されている。図１８では、図５に示される光学デバイス１Ｂに対して、２本の第一固定領域１００ａが追加されている。これにより、本実施の形態では、配光制御領域が３つに分割され、光学デバイス５は、第一配光制御領域５Ａ、第二配光制御領域５Ｂ及び第三配光制御領域５Ｃの３つの配光制御領域を有する。
【０１６１】
第一固定領域１００ａは、上記のとおり、レーザ光を照射することで第一基材１１及び第二基材２１の少なくとも一方を溶融することで形成することができるが、第一固定領域１００ａを形成する際、レーザ光が照射された第一電極１２及び第二電極２２は溶解して破壊され、第一固定領域１００ａには電極として機能するものが存在しなくなる。
【０１６２】
したがって、第一配光制御領域５Ａ、第二配光制御領域５Ｂ及び第三配光制御領域５
Ｃについては、第一固定領域１００ａによって互いの第一電極１２及び第二電極２２が分離されるので、互いに独立して配光を制御することができる。これにより、第一配光制御領域５Ａ、第二配光制御領域５Ｂ及び第三配光制御領域５Ｃについては、配光状態（図６Ａ）及び透明状態（図６Ｂ）のいずれかの状態に任意に設定することができる。例えば、第一配光制御領域５Ａを配光状態とし、第二配光制御領域５Ｂを透明状態とし、第三配光制御領域５Ｃを配光状態にすることができる。
【０１６３】
このように、本実施の形態に係る光学デバイス５によれば、上記実施の形態１と同様の効果が得られる。すなわち、短いタクトタイム及び高い信頼性で液晶層３２をすることができる。
【０１６４】
さらに、本実施の形態に係る光学デバイス５では、第一固定領域１００ａによって配光制御領域が複数に分割されている。
【０１６５】
これにより、互いに独立して制御することができる複数の配光制御領域を容易に形成することができる。
【０１６６】
なお、本実施の形態に係る光学デバイス５は、上記実施の形態１と同様の方法で製造することができる。この場合、必要な配光制御領域の数に応じて第一固定領域１００ａを形成すればよい。
【０１６７】
また、本実施の形態は、実施の形態１だけではなく、他の実施の形態にも適用することができる。
【０１６８】
（その他変形例等）
以上、本発明に係る光学デバイス及び光学デバイスの製造方法について、実施の形態及び変形例に基づいて説明したが、本発明は、上記実施の形態及び変形例に限定されるものではない。
【０１６９】
例えば、上記の各実施の形態及び各変形例において、第一基板１０及び第二基板２０は、ロール状のロール基板を用いてラミネートした後に所定のサイズに切断したが、これに限るものではない。具体的には、凹凸層３１が形成された平面状の第一基板１０と平面状の第二基板２０とを重ね合わせて光学デバイスを製造してもよい。この場合、平面状の１つの光学デバイスを割断して複数の光学デバイスに分割することで所定のサイズに切り出してもよい。この際、第一固定領域１００ａを割断する位置に一対の割断線として形成しておくことで、液晶層３２の液晶が漏れることなく、複数の光学デバイスに分割することができる。
【０１７０】
また、上記の各実施の形態及び各変形例において、第一基材１１及び第二基材２１として、樹脂基板を用いたが、ソーダガラス、無アルカリガラス又は高屈折率ガラス等のガラス材料からなるガラス基板を用いることも可能である。
【０１７１】
また、上記の各実施の形態及び各変形例において、凹凸層３１を構成する複数の凸部の各々は、長尺状であったが、これに限るものではない。例えば、各凸部は、マトリクス状等に点在するように配置されていてもよい。つまり、各凸部を、ドット状に点在するように配置してもよい。
【０１７２】
また、上記の各実施の形態及び各変形例において、凹凸層３１を構成する複数の凸部の各々は、同じ形状としたが、これに限るものではなく、例えば、面内において異なる形状であってもよい。例えば、光学デバイスにおけるＺ軸方向の上半分と下半分とで複数の凸部の側面の傾斜角を異ならせてもよい。
【０１７３】
また、上記の各実施の形態及び各変形例において、凹凸層３１を構成する複数の凸部の高さは、一定としたが、これに限るものではない。例えば、複数の凸部の高さは、ランダムに異なっていてもよい。このようにすることで、光学デバイスを透過する光が虹色に見えてしまうことを抑制できる。つまり、複数の凸部の高さをランダムに異ならせることで、凹凸界面での微小な回折光や散乱光が波長で平均化されて出射光の色付きが抑制される。
【０１７４】
また、上記の各実施の形態及び各変形例において、液晶層３２の液晶材料は、上記の材料に限るものではなく、ツイストネマティック液晶（ＴＮ液晶）等を用いてもよい。
【０１７５】
また、上記の各実施の形態及び各変形例において、液晶層３２は、液晶材料以外にポリマー構造等の高分子を含むものを用いてもよい。ポリマー構造は、例えば、網目状の構造であり、ポリマー構造（網目）の間に液晶分子が配置されることによって屈折率の調整が可能となる。高分子を含む液晶材料としては、例えば高分子分散型液晶（ＰＤＬＣ：Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）又はポリマーネットワーク型液晶（ＰＮＬＣ：Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｎｅｔｗｏｒｋ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）を用いることができる。
【０１７６】
また、上記の各実施の形態及び各変形例において、液晶層３２ではポジ型の液晶を用いたが、ネガ型の液晶を用いてもよい。
【０１７７】
また、上記の各実施の形態及び各変形例において、光制御層３０の光制御流体層（泳動層）として液晶層３２を例示したが、これに限らない。光制御流体層としては、付与される電界に応じて異なる光作用を有する光制御流体を有するものであればよい。
【０１７８】
また、上記の各実施の形態及び各変形例において、光学デバイスに入射する光として太陽光を例示したが、これに限るものではない。例えば、光学デバイスに入射する光は、照明装置等の発光装置が発する光であってもよい。
【０１７９】
また、上記の各実施の形態及び各変形例において、光学デバイスは、窓９１の室内側の面に貼り付けたが、窓９１の屋外側の面に貼り付けてもよい。ただし、光学素子の劣化を抑制するには、光学デバイスは、窓９１の室内側の面に貼り付けた方がよい。また、光学デバイスを窓に貼り付けたが、光学デバイスを建物９０の窓そのものとして用いてもよい。また、光学デバイスは、建物の窓に設置する場合に限るものではなく、例えば車の窓等に設置してもよい。
【０１８０】
その他、上記実施の形態及び変形例に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態、又は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で上記の各実施の形態及び変形例における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本発明に含まれる。
【符号の説明】
【０１８１】
１、１Ａ、１Ｂ、２、３、３Ａ、４、５  光学デバイス
１０  第一基板
１１  第一基材
１２  第一電極
１２ａ  第一端子部（端子部）
２０  第二基板
２１  第二基材
２２  第二電極
２２ａ  第二端子部（端子部）
３０  光制御層
３１  凹凸層
３２  液晶層（光制御流体層）
４０  接着部材
６０、６０Ａ  スペーサ
１００ａ  第一固定領域
１００ｂ  第二固定領域
１００ｃ、１００ｄ、１００ｅ  第三固定領域
【図１】
2019028282.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
2019028282.tif 000011
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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