(57)【要約】【課題】巻回体の形態で製造や使用をした場合においても、破損が生じ難い、透明導電膜付きガラスシートを提供する。【解決手段】ガラスシート２と、ガラスシート２の主面２ａ上に設けられた非晶質の透明導電膜３と、を備える、透明導電膜付きガラスシート１。【選択図】図１
2019094235.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラスシートと、
前記ガラスシートの主面上に設けられた非晶質の透明導電膜と、
を備える、透明導電膜付きガラスシート。
【請求項２】
前記透明導電膜が、酸化インジウムスズにより構成されている、請求項１に記載の透明導電膜付きガラスシート。
【請求項３】
前記透明導電膜が、酸化インジウム亜鉛により構成されている、請求項１又は２に記載の透明導電膜付きガラスシート。
【請求項４】
前記透明導電膜の厚みが、３０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の透明導電膜付きガラスシート。
【請求項５】
前記ガラスシートの厚みが、１０μｍ以上、２００μｍ以下である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の透明導電膜付きガラスシート。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の透明導電膜付きガラスシートが巻き取られてなる、透明導電膜付きガラスロール。
【請求項７】
ガラスロールからガラスシートを引き出す工程と、
引き出された前記ガラスシートの主面上に、透明導電膜を成膜する工程と、
前記透明導電膜が成膜されたガラスシートを巻き取る工程と、
を備え、
前記透明導電膜を成膜するときに、前記ガラスシートにおける前記透明導電膜の成膜部の温度を、−３０℃以上、３０℃以下となるように保持する、透明導電膜付きガラスロールの製造方法。
【請求項８】
前記透明導電膜の成膜処理が、スパッタリング法により行われる、請求項７に記載の透明導電膜付きガラスロールの製造方法。
【請求項９】
前記透明導電膜の成膜処理が、少なくとも１回以上行われる、請求項７又は８に記載の透明導電膜付きガラスロールの製造方法。
【請求項１０】
請求項７〜９のいずれか１項に記載の透明導電膜付きガラスロールの製造方法により得られた透明導電膜付きガラスロールから、前記透明導電膜が成膜されたガラスシートを引き出し、所定の大きさに切断する工程と、
前記切断されたガラスシート上の前記透明導電膜を結晶化させる工程と、
を備える、透明導電膜付きガラスシートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明導電膜付きガラスシート、透明導電膜付きガラスロール、及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示デバイス、有機ＥＬ表示デバイス等の表示デバイス、有機ＥＬ照明機器、太陽電池等の用途において、ガラス基板上に酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの透明導電膜が設けられてなる膜付きガラス基板が用いられている。このような膜付きガラス基板の製造方法としては、例えば、スパッタリング法等を用いて、ガラス基板上に透明導電膜を成膜する方法が知られている。
【０００３】
下記の特許文献１には、巻き出しロールから引き出したフレキシブル基板を蒸着部に搬送して、フレキシブル基板上に膜を成膜した後、巻き取りロールに巻き取るロールトゥロール（Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ）スパッタリング法が開示されている。特許文献１では、ＩＴＯ等のターゲット物質を高温でスパッタリングすることにより、ターゲット物質が結晶化され、低い比抵抗と高い透過率を有する膜が得られる旨が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１４−１０９０７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１のように、ＩＴＯなどのターゲット物質をスパッタリングによりフレキシブル基板上に成膜する場合、フレキシブル基板に曲げ応力が生じた際などに、容易に導電膜やフレキシブル基板が容易に破損するという問題がある。そのため、このような導電膜が形成されたフレキシブル基板の保管やハンドリングの際には、高い破損のリスクを伴うこととなる。特に、特許文献１のように、巻回体（ロール）の形態で製造や使用をする場合には、その傾向が顕著であった。
【０００６】
本発明の目的は、巻回体の形態で製造や使用をした場合においても、破損が生じ難い、透明導電膜付きガラスシート、透明導電膜付きガラスロール、及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の透明導電膜付きガラスシートは、ガラスシートと、前記ガラスシートの主面上に設けられた非晶質の透明導電膜と、を備えることを特徴としている。
【０００８】
本発明の透明導電膜付きガラスシートでは、前記透明導電膜が、酸化インジウムスズにより構成されていることが好ましい。
【０００９】
本発明の透明導電膜付きガラスシートでは、前記透明導電膜が、酸化インジウム亜鉛により構成されていることが好ましい。
【００１０】
本発明の透明導電膜付きガラスシートでは、前記透明導電膜の厚みが、３０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００１１】
本発明の透明導電膜付きガラスシートでは、前記ガラスシートの厚みが、１０μｍ以上、２００μｍ以下であることが好ましい。
【００１２】
本発明の透明導電膜付きガラスロールは、本発明に従って構成される透明導電膜付きガラスシートが巻き取られてなることを特徴としている。
【００１３】
本発明の透明導電膜付きガラスロールの製造方法は、ガラスロールからガラスシートを引き出す工程と、引き出された前記ガラスシートの主面上に、透明導電膜を成膜する工程と、前記透明導電膜が成膜されたガラスシートを巻き取る工程と、を備え、前記透明導電膜を成膜するときに、前記ガラスシートにおける前記透明導電膜の成膜部の温度を、−３０℃以上、３０℃以下となるように保持することを特徴としている。
【００１４】
本発明の透明導電膜付きガラスロールの製造方法では、前記透明導電膜の成膜処理が、スパッタリング法により行われることが好ましい。
【００１５】
本発明の透明導電膜付きガラスロールの製造方法では、前記透明導電膜の成膜処理が、少なくとも１回以上行われることが好ましい。
【００１６】
本発明の透明導電膜付きガラスシートの製造方法は、本発明に従って構成される透明導電膜付きガラスロールの製造方法により得られた透明導電膜付きガラスロールから、前記透明導電膜が成膜されたガラスシートを引き出し、所定の大きさに切断する工程と、前記切断されたガラスシート上の前記透明導電膜を結晶化させる工程と、を備えることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、巻回体の形態で製造や使用をした場合においても、破損が生じ難い、透明導電膜付きガラスシートを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の一実施形態に係る透明導電膜付きガラスシートを示す模式的断面図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る透明導電膜付きガラスロールを示す模式図である。
【図３】本発明の一実施形態に係る透明導電膜付きガラスロールの製造方法を説明するための模式図である。
【図４】本発明の一実施形態に係る透明導電膜付きガラスシートの製造方法を説明するための模式図である。
【図５】反りの評価方法を説明するための模式図である。
【図６】実施例７の分光透過率曲線を示す図である。
【図７】リング・オン・クランプドリング試験の方法を説明するための模式的断面図である。
【図８】リング・オン・クランプドリング試験の結果を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、好ましい実施形態について説明する。但し、以下の実施形態は単なる例示であり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。また、各図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照する場合がある。
【００２０】
（透明導電膜付きガラスシート）
図１は、本発明の一実施形態に係る透明導電膜付きガラスシートを示す模式的断面図である。図１に示すように、透明導電膜付きガラスシート１は、ガラスシート２と、透明導電膜３とを備える。ガラスシート２は、対向する第１の主面２ａ及び第２の主面２ｂを有する。ガラスシート２の第１の主面２ａ上に、透明導電膜３が設けられている。透明導電膜３は、非晶質である。なお、本発明において、非晶質の透明導電膜３とは、結晶構造を持たない原子が不規則に配列した構造の膜で、Ｘ線回折プロファイルではピークが実質的に観測されない。
【００２１】
ガラスシート２の形状は、特に限定されず、例えば、矩形のシート形状である。ガラスシート２の材料としては、特に限定されず、例えば、ケイ酸塩ガラス、シリカガラス、ホウ珪酸ガラス、ソーダライムガラス、アルミノ珪酸塩ガラス、化学強化ガラス、無アルカリガラス等を用いることができる。ガラスシート２の材料としては、好ましくはホウ珪酸ガラス、ソーダライムガラス、アルミノ珪酸塩ガラス、化学強化ガラス、無アルカリガラスを用いることができ、より好ましくは無アルカリガラスを用いることができる。ガラスシート２の材料として無アルカリガラスを用いる場合、より一層化学的に安定なガラスとすることができる。なお、無アルカリガラスとは、アルカリ成分（アルカリ金属酸化物）が実質的に含まれていないガラスのことをいう。具体的には、アルカリ成分の重量比が３０００ｐｐｍ以下のガラスのことである。アルカリ成分の重量比は、好ましくは１０００ｐｐｍ以下であり、より好ましくは５００ｐｐｍ以下であり、さらに好ましくは３００ｐｐｍ以下である。
【００２２】
ガラスシート２は、例えば、従来公知のフロート法、ロールアウト法、スロットダウンドロー法、リドロー法等により成形して得ることができる。なかでも、オーバーフローダウンドロー法によって成形されていることが望ましい。
【００２３】
ガラスシート２の厚みは、特に限定されないが、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは３０μｍ以上、好ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１５０μｍ以下である。ガラスシート２の厚みが上記範囲内にある場合、より一層容易に巻き取ることができ、より一層容易にガラスロール（ガラスシート２の巻回体）とすることができる。また、薄型の電子デバイス基板として好適に用いることができる。
【００２４】
透明導電膜３の材料としては、透光性及び導電性を有するものであれば、特に限定されない。透明導電膜３は、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、アルミニウムドープ亜鉛酸化物（ＡＺＯ）などにより構成することができる。
【００２５】
透明導電膜３の厚みは、特に限定されないが、好ましくは３０ｎｍ以上、より好ましくは５０ｎｍ以上、好ましくは５００ｎｍ以下、より好ましくは３００ｎｍ以下、さらに好ましくは２００ｎｍ以下である。透明導電膜３の厚みが上記下限以上である場合、透明導電膜３の割れがより一層生じ難く、割れによる導電性の低下がより一層生じ難い。透明導電膜３の厚みが上記上限以下である場合、より一層容易に巻き取ることができ、より一層容易に透明導電膜付きガラスロール（透明導電膜付きガラスシート１の巻回体）とすることができる。
【００２６】
なお、透明導電膜３が、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）により構成される場合は、透明導電膜３の厚みは、好ましくは５０ｎｍ以上、より好ましくは７０ｎｍ以上、好ましくは５００ｎｍ以下、より好ましくは４００ｎｍ以下である。この場合、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）を結晶化しないが、透明導電膜３の透明性は良い。
【００２７】
透明導電膜３が酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）の場合は、結晶化して用いることが好ましい。酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）を結晶化して用いる場合、導電性と透明性をより一層高めることができる。なお、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）は、通常、約１７０℃以上の熱処理で結晶化させることができる。
【００２８】
また、透明導電膜３のシート抵抗は、好ましくは３０Ω／□以下、より好ましくは１５Ω／□以下である。この場合、透明導電膜３の導電性をより一層高めることができる。
【００２９】
透明導電膜付きガラスシート１は、透光性及び導電性に優れることから、液晶表示デバイス、有機ＥＬ表示デバイス等の表示デバイス、有機ＥＬ照明機器、太陽電池等の用途に好適に用いることができる。
【００３０】
図２は、本発明の一実施形態に係る透明導電膜付きガラスロールを示す模式図である。図２に示すように、透明導電膜付きガラスロール１０は、巻芯１０ａに透明導電膜付きガラスシート１が好ましくは保護フィルム１０ｂと共に巻き取られてなる透明導電膜付きガラスシート１の巻回体である。このように、透明導電膜付きガラスシート１は、透明導電膜付きガラスロール１０の形態で使用してもよい。保護フィルム１０ｂの材料としては、特に限定されず、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の樹脂を用いることができる。
【００３１】
透明導電膜付きガラスシート１は、非晶質の透明導電膜３を備えるので、透明導電膜付きガラスロール１０の形態で製造や使用をした場合においても、破損が生じ難い。この点については、以下に示す製造方法の欄で詳細に説明するものとする。
【００３２】
（透明導電膜付きガラスロールの製造方法）
以下、図３を参照して、透明導電膜付きガラスロール１０の製造方法の一例について説明する。
【００３３】
図３は、本発明の一実施形態に係る透明導電膜付きガラスロールの製造方法を説明するための模式図である。本実施形態の製造方法では、図３に示す成膜装置２０を用いることができる。成膜装置２０は、ガラスロール２１、スパッタ源２２、冷却ローラ２３、透明導電膜付きガラスロール１０、及び真空チャンバ２４を備える。ガラスロール２１、スパッタ源２２、冷却ローラ２３、及び透明導電膜付きガラスロール１０は、真空チャンバ２４内に設けられている。なお、真空チャンバ２４内は、図示しない真空ポンプによって所定の真空度に設定されているとともに、アルゴンガス等の不活性ガスと少量の酸素が供給されている。
【００３４】
本実施形態の製造方法では、まず、図３に示すガラスロール２１を用意する。ガラスロール２１は、帯状のガラスシート２が巻芯２１ａに巻き取られてなるガラスシート２の巻回体である。なお、ガラスロール２１を構成するガラスシート２には、保護フィルム２１ｂが重ねられている。保護フィルム２１ｂの材料としては、特に限定されず、例えば、ＰＥＴ等の樹脂を用いることができる。
【００３５】
次に、用意したガラスロール２１からガラスシート２を引き出し、保護フィルム２１ｂを剥離しつつ、冷却ローラ２３に搬送する。そして、スパッタ源２２から、例えばＩＴＯ粒子などのスパッタ粒子を飛散させ、ガラスシート２の第１の主面２ａに付着させる。それによって、ガラスシート２の第１の主面２ａ上に、透明導電膜３を成膜することができる。
【００３６】
スパッタ源２２は、ターゲットから飛散するスパッタ粒子（ＩＴＯ粒子）が、ガラスシート２の第１の主面２ａに付着するように、冷却ローラ２３から一定の間隔をおいて配置される。冷却ローラ２３は、ガラスシート２を支持する円筒状のローラ本体２３ａと、このローラ本体２３ａを冷却する図示しない温調機本体とを備える。ローラ本体２３ａは、例えば、金属又はセラミックスにより構成することができる。ローラ本体２３ａは、軸部２３ａ１により回転自在に支持される。温調機本体は、成膜装置２０の外部に設置され、ローラ本体２３ａを冷却するために、ローラ本体２３ａの内側に熱媒体を循環する為の配管２３ｂが配置される。なお、温調機本体から熱媒体を循環することでローラ本体２３ａの温度が制御される。
【００３７】
冷却ローラ２３のローラ本体２３ａは、図示しない駆動源により軸部２３ａ１を駆動させることで、ガラスシート２の搬送方向に沿うように所定の方向（図３における矢印Ｘの方向）に回転する。ローラ本体２３ａの一部は、ガラスシート２の第２の主面２ｂに接触している。ローラ本体２３ａは、その回転により、ガラスシート２を下流側へ搬送する。
【００３８】
なお、本実施形態では、冷却ローラ２３により、ガラスシート２の成膜部２ａ１の温度が、−３０℃以上、３０℃以下となるように保持されている。成膜部２ａ１は、ガラスシート２の第１の主面２ａのうち透明導電膜３が成膜される部分である。本実施形態の製造方法においては、少なくとも成膜部２ａ１の温度が上記範囲に保持されていればよく、第１の主面２ａのうち成膜部２ａ１以外の部分も上記範囲に保持されていてもよい。
【００３９】
次に、透明導電膜３が成膜されたガラスシート２を巻芯１０ａに巻き取り透明導電膜付きガラスロール１０を得る。透明導電膜３が成膜されたガラスシート２を巻き取る際には、保護フィルム１０ｂを重ねて巻き取る。続いて、透明導電膜付きガラスロール１０を真空チャンバ２４から取り出す。なお、保護フィルム１０ｂとしては、例えば、ＰＥＴ等の樹脂を用いることができる。
【００４０】
図４は、本発明の一実施形態に係る透明導電膜付きガラスシートの製造方法を説明するための模式図である。
【００４１】
図４に示すように、得られた透明導電膜付きガラスロール１０から透明導電膜３が成膜されたガラスシート２を引き出し、透明導電膜３が成膜されたガラスシート２を切断する。透明導電膜３が成膜されたガラスシート２を引き出す際には、同時に保護フィルム１０ｂを分離する。そして、引き出されたガラスシート２は、搬送装置３０により搬送しつつ、切断装置４０により、枚葉状に切断する。それによって、透明導電膜付きガラスシート１を得ることができる。搬送装置３０としては、例えば、ローラコンベアが用いられる。切断装置４０としては、例えば、図４に示すように、レーザー光Ｌを照射することによって溶断又は切断する装置を用いることができる。もっとも、スクライブカッタ等の切断具を用いてもよく、切断方法は特に限定されない。
【００４２】
本実施形態の製造方法では、上記のように、ガラスシート２の成膜部２ａ１の温度を、−３０℃以上、３０℃以下となるように保持した状態で透明導電膜３の成膜が行われる。そのため、透明導電膜３の成膜温度を低くすることができ、非晶質の透明導電膜３を得ることができる。従って、本実施形態の製造方法で得られた透明導電膜付きガラスシート１は、透明導電膜付きガラスロール１０のような巻回体の形態で製造や使用をした場合においても、破損が生じ難い。以下、この理由について、従来の透明導電膜付きガラスシートと比較して説明する。
【００４３】
従来の製造方法では、スパッタリング法等により高温で透明導電膜を成膜することにより、結晶性の透明導電膜を得ていた。従来の製造方法では、このように結晶化を伴う高温で成膜処理することによって、低い比抵抗と高い透過率を有する膜を得ていた。
【００４４】
しかしながら、このように結晶化を伴う高温で成膜処理する場合、結晶化による膜の収縮によって膜面に膜応力が生じたり、結晶粒界が生成したりすることが多い。なお、結晶粒界はＯＬＥＤデバイスの電流のリークやショート欠陥の原因となる。このような膜応力や結晶粒界が存在する場合、基体となるガラスシートに曲げ応力による反りで、取扱いにて容易に破損することとなる。特に、図３に示すように、ガラスロールから引き出されたガラスシートに透明導電膜を成膜し、透明導電膜付きガラスロールを得るロールトゥロールの形態で取り扱う場合、ガラスシートに曲げ応力が作用し反ることから、高い破損のリスクを伴っていた。
【００４５】
これに対して、本実施形態の製造方法では、低温で成膜することにより非晶質の透明導電膜３を形成しており、透明導電膜３が結晶化されていない。そのため、膜応力は低減され、しかも結晶粒界が不明瞭となる。従って、ロールトゥロールでの製造時や使用時において、膜起因の破損が生じ難くなる。
【００４６】
また、本実施形態では、ガラスシート２における成膜部２ａ１の温度を、−３０℃以上、３０℃以下と低温に保持した状態で行われるため、反りを大きく低減することができる。加熱されて飛来してくるスパッタ粒子の付着による温度上昇を考慮すると、より一層反りを低減する観点から、成膜部２ａ１の温度を−３０℃以上、０℃以下に保持することがより好ましい。特に、透明導電膜３が酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）により構成される場合、成膜時の結晶化がより一層生じ難く、膜の収縮がより一層生じ難いため好ましい。
【００４７】
このように、本実施形態の製造方法で得られた透明導電膜付きガラスシート１は、巻回体の形態で製造や使用をした場合においても、破損が生じ難く、しかも反りが生じ難いことから取り扱い性に優れている。
【００４８】
透明導電膜３の成膜処理は、１回のみ行ってもよく、複数回行ってもよい。成膜処理を１回で行う場合、製造工程をより一層簡略化することができる。また、成膜処理を複数回行うことにより１回で成膜する膜厚を小さくする場合、成膜によるガラスシート２面への応力負荷をより一層低減することができ、より一層反りが生じ難くなる。
【００４９】
透明導電膜３の成膜方法は、スパッタリング法に限定されない。透明導電膜３は、例えば、蒸着法やＣＶＤ法により成膜してもよい。
【００５０】
なお、得られた枚葉状の透明導電膜付きガラスシート１は、後工程で曲げ応力等の付与が小さい場合については、結晶化して用いてもよい。特に、透明導電膜３がＩＴＯの場合、より一層抵抗値を低める観点から、結晶化して用いることが望ましい。透明導電膜３の結晶化する方法は、特に限定されず、例えば熱処理が挙げられる。この場合、熱処理の温度は、例えば、２００℃〜２５０℃とすることができる。熱処理の時間は、熱処理方法によりかなり異なるが例えば、０．５分〜３０分とすることができる。
【実施例】
【００５１】
以下、本発明について、具体的な実施例に基づいて、さらに詳細に説明する。本発明は、以下の実施例に何ら限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変更して実施することが可能である。
【００５２】
（実施例１）
図３に示す成膜装置２０を用いて、ガラスシート２上に透明導電膜３を成膜した。具体的には、ガラスロール２１から引き出したガラスシート２（日本電気硝子株式会社製、無アルカリガラス「ＯＡ−１０Ｇ」、１００μｍ厚）に、以下の条件でスパッタリングにより透明導電膜３を成膜し、透明導電膜付きガラスロール１０を得た。得られた透明導電膜付きガラスロール１０は、図４に示すようにレーザー光Ｌにより枚葉シートに切断し、透明導電膜付きガラスシート１とした。
【００５３】
透明導電膜３の成膜条件
膜材：ＩＴＯ
成膜温度（成膜部２ａ１の温度）：−２０℃
成膜印加電圧：３ｋＷ
成膜スピード：０．３ｍ／分
処理回数：１回
【００５４】
得られた透明導電膜３の膜厚は、１００ｎｍであり、シート抵抗は、３０Ω／□であった。また、反りの評価においては、１００ｍｍ角のシートで０．６ｍｍの浮きが観察された。このように、実施例１では、面強度を低下させることなく、反りを１ｍｍ未満に低減することができ、取り扱い時の破損が生じ難いことが確認できた。
【００５５】
さらに得られた透明導電膜付きシート１に、クリーンオーブン内にて２５０℃で３０分、結晶化処理を行ったところシート抵抗値を１５Ω／□に低下させることができた。なお、シート抵抗の測定には、抵抗率計（三菱ケミカルアナリテック社製、ロレスタ）を用いた。
【００５６】
また、反りの評価は、ＳＥＭＩ  Ｄ０７４−０１１６（Ｇｕｉｄｅ  ｆｏｒ  Ｍｅａｓｕｒｉｎｇ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎｓ  ｆｏｒ  Ｐｌａｓｔｉｃ  Ｆｉｌｍｓ／Ｓｕｂｓｔｒａｔｅｓ）に準拠して測定した。具体的には、図５に示すように、透明導電膜付きガラスシートサンプル１ａを１００ｍｍ角（１００ｍｍ×１００ｍｍ）に切り出して、平板５０上に載置した。そして、透明導電膜付きガラスシートサンプル１ａの４つの端部から平板５０までのそれぞれの距離ｘ１〜ｘ４を測定し、その平均（（ｘ１＋ｘ２＋ｘ３＋ｘ４）／４）を反り量とした。
【００５７】
（実施例２）
透明導電膜３の成膜条件を下記のように変更したこと以外は、実施例１と同様にして透明導電膜付きガラスシート１を得た。
【００５８】
透明導電膜３の成膜条件
膜材：ＩＴＯ
成膜温度（成膜部２ａ１の温度）：−２０℃
成膜印加電圧：３ｋＷ
成膜スピード：１ｍ／分
処理回数：３回
【００５９】
得られた透明導電膜３の膜厚は、１００ｎｍであり、シート抵抗は、３０Ω／□であった。また、反りの評価においては、１００ｍｍ角のシートで浮きはほぼ生じず、反りを１ｍｍ未満に低減することができた。なお、実施例２では、実施例１に対して１回の成膜の厚みを約１／３とし、３回の処理で必要なシート抵抗値（膜厚）を得ている。成膜を分割したことにより、ガラスシート２面への応力が低減され、反りの発生をより一層抑制することができ、取り扱い時の破損が生じ難いことが確認できた。
【００６０】
（実施例３）
透明導電膜３の成膜条件を下記のように変更したこと以外は、実施例１と同様にして透明導電膜付きガラスシート１を得た。
【００６１】
透明導電膜３の成膜条件
膜材：ＩＴＯ
成膜温度（成膜部２ａ１の温度）：−２０℃
成膜印加電圧：１ｋＷ
成膜スピード：０．１ｍ／分
処理回数：１回
【００６２】
得られた透明導電膜３の膜厚は、１２５ｎｍであり、シート抵抗は、３０Ω／□であった。また、反りの評価においては、１００ｍｍ角のシートで浮きはほぼ生じず、反りを１ｍｍ未満に低減することができた。なお、実施例３では、実施例１に対して印加電圧を１／３とする代わりに、成膜スピードを１／３にし、シート抵抗値（膜厚）を得ている。実施例３でも、ガラスシート面への応力が低減され、反りの発生は０でありより一層抑制することができ、取り扱い時の破損が生じ難いことが確認できた。
【００６３】
（実施例４）
ガラスシート２の厚みを５０μｍ（日本電気硝子株式会社製、無アルカリガラス「ＯＡ−１０Ｇ」）とし、透明導電膜３の成膜条件を下記のように変更したこと以外は、実施例１と同様にして透明導電膜付きガラスシート１を得た。
【００６４】
透明導電膜３の成膜条件
膜材：ＩＺＯ
成膜温度（成膜部２ａ１の温度）：−２０℃
成膜印加電圧：１ｋＷ
成膜スピード：０．１ｍ／分
処理回数：１回
【００６５】
得られた透明導電膜３の膜厚は、１００ｎｍであり、シート抵抗は、３０Ω／□であった。また、反りの評価においては、１００ｍｍ角のシートで浮きはほぼ生じず、反りを１ｍｍ未満に低減することができた。実施例４でも、面強度を低下させることなく、反りをより一層低減することができ、取り扱い時の破損が生じ難いことが確認できた。
【００６６】
（実施例５）
ガラスシート２の厚みを５０μｍ（日本電気硝子株式会社製、無アルカリガラス「ＯＡ−１０Ｇ」）とし、透明導電膜３の成膜条件を下記のように変更したこと以外は、実施例１と同様にして透明導電膜付きガラスシート１を得た。
【００６７】
透明導電膜３の成膜条件
膜材：ＩＺＯ
成膜温度（成膜部２ａ１の温度）：２０℃（常温）
成膜印加電圧：１ｋＷ
成膜スピード：０．１ｍ／分
処理回数：１回
【００６８】
得られた透明導電膜３の膜厚は、１００ｎｍであり、シート抵抗は、３０Ω／□であった。また、反りの評価においては、１００ｍｍ角のシートで浮きはほぼ生じず、反りを１ｍｍ未満に低減することができた。このように、面強度を低下させることなく、反りを低減することができた。実施例４の低温成膜に対して、ほぼ室温の２０℃で成膜を行ったが、シート抵抗値に違いはなかった。また、反りも発生せず、取り扱い時の破損が生じ難いことが確認できた。
【００６９】
（実施例６）
ガラスシート２の厚みを５０μｍ（日本電気硝子株式会社製、無アルカリガラス「ＯＡ−１０Ｇ」）とし、透明導電膜３の成膜条件を下記のように変更したこと以外は、実施例１と同様にして透明導電膜付きガラスシート１を得た。
【００７０】
透明導電膜３の成膜条件
膜材：ＩＺＯ
成膜温度（成膜部２ａ１の温度）：−２０℃
成膜印加電圧：１ｋＷ
成膜スピード：０．１３ｍ／分
処理回数：３回
【００７１】
得られた透明導電膜３の膜厚は、２５０ｎｍであり、シート抵抗は、１５Ω／□であった。また、反りの評価においては、１００ｍｍ角のシートで浮きはほぼ生じず、反りを１ｍｍ未満に低減することができた。このように、面強度を低下させることなく、反りを低減することができ、取り扱い時の破損が生じ難いことが確認できた。
【００７２】
また、実施例４の成膜条件で３回成膜処理することにより、膜厚２５０ｎｍを得て、シート抵抗が１５Ω／□となった。このシート抵抗値はＩＴＯ膜の結晶化後のものと同等であった。
【００７３】
（実施例７）
ガラスシート２の厚みを５０μｍ（日本電気硝子株式会社製、無アルカリガラス「ＯＡ−１０Ｇ」）とし、透明導電膜３の成膜条件を下記のように変更したこと以外は、実施例１と同様にして透明導電膜付きガラスシート１を得た。
【００７４】
透明導電膜３の成膜条件
膜材：ＩＺＯ
成膜温度（成膜部２ａ１の温度）：−２０℃
成膜印加電圧：１ｋＷ
成膜スピード：０．１ｍ／分
処理回数：１回
【００７５】
得られた透明導電膜３の膜厚は、１００ｎｍであり、シート抵抗は、３０Ω／□であった。また、反りの評価においては、１００ｍｍ角のシートで浮きはほぼ生じず、反りは１ｍｍ未満に低減することができた。このように、面強度を低下させることなく、反りを低減することができ、取り扱い時の破損が生じ難いことが確認できた。
【００７６】
また、実施例７では、成膜後に１００ｍｍ角に切断し、非加熱品と事後の加熱処理品での可視光透過率の変化の有無を観察した。加熱条件は、１５０℃で１時間（１５０℃処理）、及び２５０℃で１時間（２５０℃処理）とした。すなわち、熱処理無し、１５０℃処理、２５０℃処理で可視光線波長域に相当する４００ｎｍ〜７００ｎｍでの分光透過率曲線の比較を行なった。結果を、図６に示す。図６に示すように、熱処理により、可視光透過率に顕著な変化は見られなかった。なお、分光透過率曲線の測定には、分光透過率計（日本分光社製、商品名「紫外可視分光光度計  Ｖ−５７０」）を用いた。
【００７７】
（比較例１）
透明導電膜の成膜条件を下記のように変更したこと以外は、実施例１と同様にして透明導電膜付きガラスシートを得た。
【００７８】
透明導電膜の成膜条件
膜材：ＩＴＯ
成膜温度（成膜部２ａ１の温度）：２５０℃
成膜印加電圧：３ｋＷ
成膜スピード：０．３ｍ／分
処理回数：１回
【００７９】
得られた透明導電膜３の膜厚は、１２５ｎｍであり、ＩＴＯの結晶化温度である約１７０℃を超える２５０℃で成膜されているため部分的に結晶化を生じている。完全に結晶化させるためにクリーンオーブン内にて２５０℃で３０分間熱処理し、シート抵抗が１５Ω／□のものを得た。また、反りの評価においては、１００ｍｍ角のシートで６ｍｍの浮きが生じた。反りが大きく、また面強度も著しく低下していたため、取り扱い時に破損が生じ易く、枚葉であってもガラスシートのハンドリングが困難であった。
【００８０】
＜面強度比較試験＞
実施例１のＩＴＯ−２０℃成膜品（未結晶化）、実施例４のＩＺＯ−２０℃成膜品、及び比較例１のＩＴＯ２５０℃成膜品（結晶化）について、面強度の比較を行った。面強度は、リング・オン・クランプドリング試験（Ｒｉｎｇ  ｏｎ  Ｃｌａｍｐｅｄ  Ｒｉｎｇ試験）により評価した。リング・オン・クランプドリング試験では、図７に示すように、５０ｍｍ×５０ｍｍのサイズに切り取った透明導電膜付きガラスシートサンプル１ａを、樹脂からなる上円板６２と金属からなる下円板６３とで挟み込んだ。そして、透明導電膜付きガラスシートサンプル１ａを上円板６２（貫通孔の内径：２５ｍｍ）及び下円板６３（貫通孔の内径：２５ｍｍ）で挟み込んだ状態で、上側リング６１（直径：１２.５ｍｍ）を速度０．５ｍｍ／分で押圧することにより試験を行った。なお、下円板６３は下側リングを兼ねている。また、透明導電膜付きガラスシートサンプル１ａは、成膜側が下円板６３側となるように載置した。なお、面強度の試験においては、成膜されていない素ガラスの平均破壊荷重値を１００として各サンプルとの比較を行った。結果を図８に示す。図８に示すように、非晶質状態の膜を持つ実施例１（ＩＴＯ成膜）と実施例４（ＩＺＯ成膜）は、素ガラスと比較して約８０％の強度を維持していたが、比較例１のＩＴＯ膜が結晶化したものでは約３０％へと著しく強度が低下した。
【符号の説明】
【００８１】
１…透明導電膜付きガラスシート
１ａ…透明導電膜付きガラスシートサンプル
２…ガラスシート
２ａ…第１の主面
２ａ１…成膜部
２ｂ…第２の主面
３…透明導電膜
１０…透明導電膜付きガラスロール
１０ａ，２１ａ…巻芯
１０ｂ，２１ｂ…保護フィルム
２０…成膜装置
２１…ガラスロール
２２…スパッタ源
２３…冷却ローラ
２３ａ…ローラ本体
２３ａ１…軸部
２３ｂ…配管
２４…真空チャンバ
３０…搬送装置
４０…切断装置
５０…平板
６１…上側リング
６２…上円板
６３…下円板
【図１】
2019094235.tif 000003
【図２】
2019094235.tif 000004
【図３】
2019094235.tif 000005
【図４】
2019094235.tif 000006
【図５】
2019094235.tif 000007
【図６】
2019094235.tif 000008
【図７】
2019094235.tif 000009
【図８】
2019094235.tif 000010