(57)【要約】【課題】Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体の表面に、耐食性に優れ、且つ磁性体の熱減磁への影響が非常に小さいめっき層を形成する。【解決手段】Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体の表面に形成する複合めっき層であって、Ｚｎめっき層、Ｚｎ−Ｎｉ合金めっき層、Ｃｕめっき層及びＮｉめっき層から構成される「Ｚｎ＋Ｚｎ−Ｎｉ合金＋Ｃｕ＋Ｎｉ」の複合めっき層である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体の表面に形成する複合めっき層であって、
前記複合めっき層は、下層から上層に向けて、Ｚｎめっき層、Ｚｎ−Ｎｉ合金めっき層、Ｃｕめっき層及びＮｉめっき層の順で構成され、
前記Ｚｎめっき層の厚さは０．１〜１０μｍであり、
前記Ｚｎ−Ｎｉ合金めっき層の厚さは０．１〜１０μｍで、且つＮｉの含有量は５〜２５質量％であり、
前記Ｃｕめっき層の厚さは０．１〜１０μｍであり、
前記Ｎｉめっき層の厚さは０．１〜１０μｍである、
ことを特徴とするＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体表面に形成する複合めっき層。
【請求項２】
請求項１に記載の前記複合めっき層を有するＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体の製造方法であって、
ａ：前記複合めっき層を形成する前のＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系からなる磁性体に対し、遠心バレル研磨機または振動バレル研磨機を用いて１〜１０時間研磨し、面取りする研磨面取工程と、
ｂ：熱浸漬脱脂剤溶液を用いて前記磁性体の表面の油汚れを除去する脱脂工程と、
ｃ：水を用いて前記磁性体の表面を十分に洗浄する第一洗浄工程と、
ｄ：１〜１０質量％の硝酸を用いて前記磁性体の表面の錆汚れと酸化層を洗浄する酸洗工程と、
ｅ：超音波発生装置を用いて前記磁性体の表面の塵を洗浄する超音波洗浄工程と、
ｆ：体積濃度０．１〜１％の酸を用いて前記磁性体の表面を軽く腐食させる活性化工程と、
ｇ：水道水と純水を用いて前記磁性体の表面を洗浄する第二洗浄工程と、
ｈ：バレル式めっき法又はラック式めっき法を用い、前記磁性体の表面にＺｎめっき溶液によってＺｎを電気めっきし、Ｚｎめっき層の厚さを０．１〜１０μｍとするＺｎ電気めっき工程と、
ｉ：Ｚｎを電気めっきした後、体積濃度０．１〜３％の希硝酸を用いて前記磁性体の表面を均等に光沢処理し、その後再度洗浄する光沢工程と、
ｊ：バレル式めっき法又はラック式めっき法を用い、Ｚｎ−Ｎｉ合金めっき溶液によって前記磁性体の表面にＺｎ−Ｎｉ合金を電気めっきし、当該Ｚｎ−Ｎｉ合金の厚さを０．１〜１０μｍとし、且つＮｉの含有量を５〜２５％とするＺｎ−Ｎｉ合金電気めっき工程と、
ｋ：前記磁性体の表面に前記Ｚｎ−Ｎｉ合金を電気めっきした後、水を用いて前記磁性体の表面を洗浄する第三洗浄工程と、
ｌ：バレル式めっき法又はラック式めっき法を用い、Ｃｕ電気めっき溶液によって前記磁性体の表面に０．１〜１０μｍのＣｕ層を電気めっきするＣｕ電気めっき工程と、
ｍ：体積濃度１〜５％の塩酸または硫酸を用いて前記磁性体の表面を軽く腐食させ、その後水を用いて前記磁性体の表面を洗浄する活性化工程と、
ｎ：バレル式めっき法又はラック式めっき法を用い、Ｎｉめっき溶液によって前記磁性体の表面に０．１〜１０μｍのＮｉ層を電気めっきするＮｉ電気めっき工程と、
ｏ：前記Ｎｉ電気めっき工程の後、水道水と純水をそれぞれ用いて前記磁性体の表面を洗浄し、その後、前記磁性体の表面を乾燥する乾燥工程を含む、
ことを特徴とする複合めっき層を有するＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体の製造方法。
【請求項３】
前記Ｚｎめっき溶液は、２０〜１２０ｇ／Ｌの塩化亜鉛、１２０〜３２０ｇ／Ｌの塩化カリウム、１０〜１００ｇ／Ｌのホウ酸及び０．１〜５０ｇ／ＬのＨＴ−ＭＢ酸性亜鉛添加剤及び酸性亜鉛光沢剤を含み、ｐＨは３．０〜６．０である、
ことを特徴とする請求項２に記載の複合めっき層を有するＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体の製造方法。
【請求項４】
前記Ｚｎ−Ｎｉ合金めっき溶液は、２〜２０ｇ／ＬのＺｎイオン、１〜１０ｇ／ＬのＮｉイオン、５０〜２００ｇ／Ｌの金属イオン錯化剤及び２０〜２００ｇ／Ｌの水酸化ナトリウムを含む、
ことを特徴とする請求項２に記載の複合めっき層を有するＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体の製造方法。
【請求項５】
前記Ｃｕめっき溶液は、２０〜１２０ｇ／Ｌのピロリン酸銅、１００〜３００ｇ／Ｌのピロリン酸カリウム、０．１〜５０ｇ／ＬのＰＬピロリン酸銅めっき浴剤及びピロリン酸銅光沢剤を含み、ｐＨは７．０〜１０である、
ことを特徴とする請求項２に記載の複合めっき層を有するＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体の製造方法。
【請求項６】
前記Ｎｉめっき溶液は、１５０〜３５０ｇ／Ｌの硫酸ニッケル、１０〜１００ｇ／Ｌの塩化ニッケル、１０〜１００ｇ／Ｌのホウ酸、０．１〜５０ｇ／ＬのＮｉ系光沢剤及び柔軟剤を含み、ｐＨは３．０〜５．０である、
ことを特徴とする請求項２に記載の複合めっき層を有するＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体の表面処理技術分野に関し、具体的にはＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体の表面に形成する複合めっき層及び当該複合めっき層を有するＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体は第三世代の希土類磁性体であり、通常はＮｄ２Ｆｅ１４Ｂ主相及び粒界にあるＮｄリッチ相からなる磁性体の一つであるが、耐食性に劣り、且つ温度の影響を受けやすいと言う欠点を有する。そのため、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体の表面に、耐食性に優れ、且つ磁性体の熱減磁への影響が非常に小さいめっき層を形成することが求められている。
【０００３】
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体の表面に形成する従来のめっき層としては、一般的にＺｉめっき、二層Ｎｉめっき、Ｎｉ−Ｃｕ−Ｎｉめっき、Ａｌめっき、エポキシめっき等であり、各々優れた点を有するが、欠点も存在する。例えば、二層Ｎｉめっき及びＮｉ−Ｃｕ−Ｎｉめっきは、磁性体の熱減磁率への影響が大きく（特に携帯電話の部品、規格サイズの小さな製品）、Ｚｉめっき、Ａｌめっき及びエポキシのめっき層は柔らかく耐摩耗性で劣っている。製品に良好な耐摩耗性や低熱減磁率が要求される場合、従来のめっき層ではその要求を満たすことができなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１６−０８２１４２号公報
【特許文献２】特開２０１５−１８５８５０号公報
【特許文献３】特開２０１４−１６５２１２号公報
【特許文献４】特開２００９−０９９８５３号公報
【特許文献５】特開２００６−０７０２８０号公報
【特許文献６】特開平０５−３３５１２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、上記した従来技術が有する課題を解決するため、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体の表面に形成する新たな複合めっき層を提供することにある。
【０００６】
本発明のもう一つの目的は、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体の表面に、上記の新たな複合めっき層を形成する製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体の表面に形成する従来のめっきが有する、磁性体の熱減磁への影響が大きく、また磁性体との結合力が相対的に弱いと言う課題を解決することを目的とするものである。
【０００８】
本発明は、上記目的を達成するため、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体の表面に形成する複合めっき層であって、前記複合めっき層は下層から上層に向けて、Ｚｎめっき層、Ｚｎ−Ｎｉ合金めっき層、Ｃｕめっき層及びＮｉめっき層の順で構成され、前記Ｚｎめっき層の厚さは０．１〜１０μｍであり、前記Ｚｎ−Ｎｉ合金めっき層の厚さは０．１〜１０μｍで、且つＮｉの含有量は５〜２５質量％であり、前記Ｃｕめっき層の厚さは０．１〜１０μｍであり、前記Ｎｉめっき層の厚さは０．１〜１０μｍである、ことを特徴とする。
【０００９】
また本発明の複合めっき層を有するＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体の製造方法は、
ａ：複合めっき層を形成する前のＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系からなる磁性体に対し、遠心バレル研磨機または振動バレル研磨機を用いて１〜１０時間研磨し、面取りする研磨面取工程と、
ｂ：熱浸漬脱脂剤溶液を用いて前記磁性体の表面の油汚れを除去する脱脂工程と、
ｃ：水を用いて前記磁性体の表面を十分に洗浄する第一洗浄工程と、
ｄ：１〜１０質量％の硝酸を用いて前記磁性体の表面の錆汚れと酸化層を洗浄する酸洗工程と、
ｅ：超音波発生装置を用いて前記磁性体の表面の塵を洗浄する超音波洗浄工程と、
ｆ：体積濃度０．１〜１％の酸を用いて前記磁性体の表面を軽く腐食させる活性化工程と、
ｇ：水道水と純水を用いて前記磁性体の表面を洗浄する第二洗浄工程と、
ｈ：バレル式めっき法又はラック式めっき法を用い、前記磁性体の表面にＺｎめっき溶液によってＺｎを電気めっきし、Ｚｎめっき層の厚さを０．１〜１０μｍとするＺｎ電気めっき工程と、
ｉ：Ｚｎを電気めっきした後、体積濃度０．１〜３％の希硝酸を用いて前記磁性体の表面を均等に光沢処理し、その後再度洗浄する光沢工程と、
ｊ：バレル式めっき法又はラック式めっき法を用い、Ｚｎ−Ｎｉ合金めっき溶液によって前記磁性体の表面にＺｎ−Ｎｉ合金を電気めっきし、当該Ｚｎ−Ｎｉ合金の厚さを０．１〜１０μｍとし、且つＮｉの含有量を５〜２５％とするＺｎ−Ｎｉ合金電気めっき工程と、
ｋ：前記磁性体の表面に前記Ｚｎ−Ｎｉ合金を電気めっきした後、水を用いて前記磁性体の表面を洗浄する第三洗浄工程と、
ｌ：バレル式めっき法又はラック式めっき法を用い、Ｃｕめっき溶液によって前記磁性体の表面に０．１〜１０μｍのＣｕ層を電気めっきするＣｕ電気めっき工程と、
ｍ：体積濃度１〜５％の塩酸または硫酸を用いて前記磁性体の表面を軽く腐食させ、その後水を用いて前記磁性体の表面を洗浄する活性化工程と、
ｎ：バレル式めっき法又はラック式めっき法を用い、Ｎｉめっき溶液によって前記磁性体の表面に０．１〜１０μｍのＮｉ層を電気めっきするＮｉ電気めっき工程と、
ｏ：前記Ｎｉ電気めっき工程の後、水道水と純水をそれぞれ用いて前記磁性体の表面を洗浄し、その後、前記磁性体の表面を乾燥する乾燥工程を含む、
ことを特徴とする。
【００１０】
さらに、前記Ｚｎめっき溶液は、２０〜１２０ｇ／Ｌの塩化亜鉛、１２０〜３２０ｇ／Ｌの塩化カリウム、１０〜１００ｇ／Ｌのホウ酸及び０．１〜５０ｇ／ＬのＨＴ−ＭＢ酸性亜鉛添加剤及び酸性亜鉛光沢剤を含み、ｐＨは３．０〜６．０である、ことを特徴とする。
【００１１】
さらに、前記Ｚｎ−Ｎｉ合金めっき溶液は、２〜２０ｇ／ＬのＺｎイオン、１〜１０ｇ／ＬのＮｉイオン、５０〜２００ｇ／Ｌの金属イオン錯化剤及び２０〜２００ｇ／Ｌの水酸化ナトリウムを含む、ことを特徴とする。
【００１２】
さらに、前記Ｃｕめっき溶液は、２０〜１２０ｇ／Ｌのピロリン酸銅、１００〜３００ｇ／Ｌのピロリン酸カリウム、０．１〜５０ｇ／ＬのＰＬピロリン酸銅めっき浴剤及びピロリン酸銅光沢剤を含み、ｐＨは７．０〜１０である、ことを特徴とする。
【００１３】
さらに、前記Ｎｉめっき溶液は、１５０〜３５０ｇ／Ｌの硫酸ニッケル、１０〜１００ｇ／Ｌの塩化ニッケル、１０〜１００ｇ／Ｌのホウ酸、０．１〜５０ｇ／ＬのＮｉ系光沢剤及び柔軟剤を含み、ｐＨは３．０〜５．０である、ことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の複合めっき層によれば、従来技術と対比して、磁性体の熱減磁率に対してほとんど影響を及ぼさず、磁性体との結合力が非常に強く、その耐食性が極めて高い、と言う効果を奏する。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。列挙した各実施形態は本発明の解釈のみに用いられ、本発明の範囲を限定するものではない。
【００１６】
本発明はＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体の表面に形成する複合めっき層及び当該複合めっき層を有するＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体の製造方法であって、基本原理は、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体を金属塩の溶液に浸して陰極とし、めっきが施される金属を陽極とし、直流電源に接続することにより、陰極の磁性体上に金属めっき層が析出するものである。
【００１７】
（第一実施形態）
本発明に係る第一実施形態につき、バレル式めっき法を例として説明する。
【００１８】
（ａ：研磨面取工程）
まず、遠心バレル研磨機を用い、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体（以下、磁性体と言う）の角部をＲ＝０．２〜０．３ｍｍになるまで３時間研磨し、面取りする。
【００１９】
（ｂ：脱脂工程、ｃ：第一洗浄工程）
面取りが完了した後、体積濃度４０ｇ／Ｌの熱浸漬脱脂剤溶液を用いて磁性体の表面の油汚れを除去し、水を用いて１〜２分間磁性体を洗浄する。
【００２０】
（ｄ：酸洗工程）
その後、３質量％の硝酸を用いて６０秒間酸洗し、磁性体の表面の酸化層及び腐食層を除去する。
【００２１】
（ｅ：超音波洗浄工程）
その後、超音波発生装置を用いて磁性体の表面を３分間洗浄し、磁性体の表面の塵を完全に除去する。
【００２２】
（ｆ：活性化工程、ｇ：第二洗浄工程）
続いて、１質量％の硝酸を用いて１５秒間活性化し、水道水と純水を用いて磁性体をそれぞれ６０秒間洗浄する。
【００２３】
（ｈ：Ｚｎ電気めっき工程）
その後、処理完了後の磁性体を六角バレルに入れ、Ｚｎ電気めっきを行う。当該Ｚｎ電気めっき工程で使用する溶液は、２０〜１２０ｇ／Ｌの塩化亜鉛、１２０〜３２０ｇ／Ｌの塩化カリウム、１０〜１００ｇ／Ｌのホウ酸及び０．１〜５０ｇ／ＬのＨＴ−ＭＢ酸性亜鉛添加剤及び酸性亜鉛光沢剤を含み、ｐＨが３．０〜６．０のＺｎめっき溶液である。磁性体の数量及びサイズによって異なる規格のバレルを用いることができ、Ｚｎめっき層の厚さが０．１〜１０μｍとなるように制御する。
【００２４】
（ｉ：光沢工程）
Ｚｎめっきが完了した後、体積濃度１％の硝酸を用いて磁性体の表面に光沢を有するＺｎ層が露出するまで光沢処理を行い、水道水と純水を用いて洗浄する。
【００２５】
（ｊ：Ｚｎ−Ｎｉ合金電気めっき工程、ｋ：第三洗浄工程）
その後、Ｚｎ−Ｎｉ合金溶液槽へ浸し、Ｚｎ−Ｎｉ合金を電気めっきする。当該Ｚｎ−Ｎｉ合金電気めっき工程で使用する溶液は、２〜２０ｇ／ＬのＺｎイオン、１〜１０ｇ／ＬのＮｉイオン、５０〜２００ｇ／Ｌの金属イオン錯化剤及び２０〜２００ｇ／Ｌの水酸化ナトリウムを含むＺｎ−Ｎｉ合金めっき溶液であり、Ｚｎ−Ｎｉ合金めっき層の厚さが０．１〜１０μｍとなるよう制御する。また、当該めっき層におけるＮｉの含有量は５〜２５％である。Ｚｎ−Ｎｉ合金を電気めっきした後、水で洗浄する。
【００２６】
（ｌ：Ｃｕ電気めっき工程）
続いて、Ｃｕを電気めっきする。当該Ｃｕ電気めっき工程で使用する溶液は、２０〜１２０ｇ／Ｌのピロリン酸銅、１００〜３００ｇ／Ｌのピロリン酸カリウム、０．１〜５０ｇ／ＬのＰＬピロリン酸銅めっき浴剤及びピロリン酸銅光沢剤を含み、ｐＨが７．０〜１０のＣｕ電気めっき溶液である。Ｃｕ電気めっき工程における置換反応の発生を防ぐため、磁性体を帯電させてから槽に入れ、Ｃｕめっき層の厚さが０．１〜１０μｍとなるように制御する。
【００２７】
（ｍ：活性化工程）
Ｃｕ電気めっき工程後、体積濃度３％の塩酸または硫酸を用いて３５秒間活性化し、その後、水で洗浄する。
【００２８】
（ｎ：Ｎｉ電気めっき工程）
最後に、Ｎｉを電気めっきする。当該Ｎｉ電気めっき工程で使用する溶液は、１５０〜３５０ｇ／Ｌの硫酸ニッケル、１０〜１００ｇ／Ｌの塩化ニッケル、１０〜１００ｇ／Ｌのホウ酸、０．１〜５０ｇ／ＬのＮｉ系光沢剤及び柔軟剤を含み、ｐＨが３．０〜５．０のＮｉめっき溶液であり、Ｎｉめっき層の厚さが０．１〜１０μｍとなるように制御する。
【００２９】
（ｏ：乾燥工程）
Ｎｉを電気めっきした後の磁性体を水で洗浄し、遠心脱水又は温風によって乾燥を行い、複合めっき層の形成が完成する。
【００３０】
以上の各工程を経て形成された複合めっき層の構造は、下層から上層に向けて、順にＺｎ＋Ｚｎ−Ｎｉ合金＋Ｃｕ＋Ｎｉである。
【００３１】
第一実施形態によって製造した複合めっき層を有するＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体に対し、中性塩水噴霧試験を９６時間実施したが、その表面に何ら変化は生じず、また１２０℃での熱減磁は２％未満であり、応力値は３００Ｎ／ｍ２以上であった。
【００３２】
これに対し、比較例として作成したＮｉ−Ｃｕ−Ｎｉの複合めっき層を有するＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体に中性塩水噴霧試験を行ったとろ、７２時間の時点で錆が出現し、１２０℃での熱減磁は平均８％であり、応力値は平均で２００Ｎ／ｍ２であった。この結果から明らかなとおり、本願発明による複合めっきは、従来のめっき層に比較して、耐食性が高く、磁性体の熱減磁率に対してほとんど影響を及ぼさず、磁性体との結合力が非常に強いことが分かる。
【００３３】
（第二実施形態）
本第二実施形態は、サイズの大きな磁性体に対しては、ラック式めっき法を採用するものである。以下、ラック式めっき法による複合めっき層を形成する実施形態について説明する。
【００３４】
（ａ：研磨面取工程）
まず、振動バレル研磨機を用い、磁性体をＲ＝０．４〜０．５ｍｍになるまで１０時間研磨し、面取りする。
【００３５】
（ｂ：脱脂工程、ｃ：第一洗浄工程）
面取りした後、体積濃度４０ｇ／Ｌの熱浸漬脱脂剤溶液を用いて磁性体の表面の油汚れを除去し、噴射水を用いて１〜２分間磁性体を洗浄する。
【００３６】
（ｄ：酸洗工程）
その後、１〜１０質量％の硝酸を用いて９０秒間酸洗し、磁性体の表面の酸化層及び腐食層を除去する。
【００３７】
（ｅ：超音波洗浄工程）
その後、超音波発生装置を用いて磁性体の表面を５分間洗浄し、磁性体の表面の塵を完全に除去する。
【００３８】
（ｆ：活性化工程、ｇ：第二洗浄工程）
続いて、０．１〜１質量％の硝酸を用いて３０秒間活性化し、水道水と純水を用いて磁性体をそれぞれ６０秒間洗浄する。
【００３９】
（ｈ：Ｚｎ電気めっき工程）
その後、処理完了後の磁性体をラックに掛けてＺｎ電気めっきを行う。当該Ｚｎ電気めっき工程で使用する溶液は、２０〜１２０ｇ／Ｌの塩化亜鉛、１２０〜３２０ｇ／Ｌの塩化カリウム、１０〜１００ｇ／Ｌのホウ酸及び０．１〜５０ｇ／ＬのＨＴ−ＭＢ酸性亜鉛添加剤及び酸性亜鉛光沢剤を含み、ｐＨが３．０〜６．０のＺｎめっき溶液であり、Ｚｎめっき層の厚さが０．１〜１０μｍとなるように制御する。
【００４０】
（ｉ：光沢工程）
Ｚｎ電気めっき後に、体積濃度０．１〜３％の硝酸を用いて磁性体の表面に光沢を有するＺｎ層が露出するまで光沢処理を行い、その後再度洗浄する。
【００４１】
（ｊ：Ｚｎ−Ｎｉ合金電気めっき工程、ｋ：第三洗浄工程）
その後、Ｚｎ−Ｎｉ合金槽へ浸し、Ｚｎ−Ｎｉ合金を電気めっきする。当該Ｚｎ−Ｎｉ合金電気めっき工程で使用する溶液は、２〜２０ｇ／ＬのＺｎイオン、１〜１０ｇ／ＬのＮｉイオン、５０〜２００ｇ／Ｌの金属イオン錯化剤及び２０〜２００ｇ／Ｌの水酸化ナトリウムを含むＺｎ−Ｎｉ合金めっき溶液であり、Ｚｎ−Ｎｉ合金めっき層の厚さが０．１〜１０μｍとなるように制御する。まためっき層におけるＮｉの含有量は５〜２５％である。Ｚｎ−Ｎｉ合金を電気めっきした後、水で洗浄する。
【００４２】
（ｌ：Ｃｕ電気めっき工程）
続いて、Ｃｕを電気めっきする。当該Ｃｕ電気めっき工程で使用する溶液は、２０〜１２０ｇ／Ｌのピロリン酸銅、１００〜３００ｇ／Ｌのピロリン酸カリウム、０．１〜５０ｇ／ＬのＰＬピロリン酸銅めっき浴剤及びピロリン酸銅光沢剤を含み、ｐＨが７．０〜１０のＣｕめっき溶液である。Ｃｕ電気めっき工程における置換反応の発生を防ぐため、磁性体を帯電させてから槽に入れ、Ｃｕめっき層の厚さが０．１〜１０μｍとなるように制御する。
【００４３】
（ｍ：活性化工程）
Ｃｕ電気めっき後、体積濃度１〜５％の塩酸または硫酸を用いて６０秒間活性化し、その後、水で洗浄する。
【００４４】
（ｎ：Ｎｉ電気めっき工程）
最後に、Ｎｉを電気めっきする。当該Ｎｉ電気めっき工程で使用する溶液は、Ｎｉめっきには１５０〜３５０ｇ／Ｌの硫酸ニッケル、１０〜１００ｇ／Ｌの塩化ニッケル、１０〜１００ｇ／Ｌのホウ酸、０．１〜５０ｇ／ＬのＮｉ系光沢剤及び柔軟剤を含み、ｐＨが３．０〜５．０のＮｉめっき溶液であり、Ｎｉめっき層の厚さが０．１〜１０μｍとなるように制御する。
【００４５】
（ｏ：乾燥工程）
Ｎｉを電気めっきした後の磁性体を水で洗浄し、遠心脱水又は温風によって乾燥を行う。
【００４６】
以上の各行程によって、サイズの大きなＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体の表面に複合めっき層が形成される。複合めっき層の構造は、第一実施形態と同様に、下層から上層に向けて、順にＺｎ＋Ｚｎ−Ｎｉ合金＋Ｃｕ＋Ｎｉである。
【００４７】
（第三実施形態）
以下、本発明の第三実施形態について説明する。本実施形態は、基本的な方法は第一実施形態と同じであるが、以下の点で異なる。
（ａ：研磨面取工程）
研磨・面取り時間が１時間であること、
（ｄ：酸洗工程）
３０秒間の酸洗で磁性体の表面の酸化層及び腐食層を除去すること、
（ｅ：超音波洗浄工程）
超音波発生装置を用いて磁性体の表面を１分間洗浄し、磁性体の表面の塵を完全に除去すること、
（ｆ：活性化工程、ｇ：第二洗浄工程）
体積濃度０．１〜１％の硝酸を用いて５秒間活性化し、水道水と純水を用いて磁性体をそれぞれ６０秒間洗浄すること、
（ｍ：活性化工程）
Ｃｕ電気めっき後に、体積濃度１〜５％の塩酸または硫酸を用いて１０秒間活性化すること、である。
【００４８】
本発明に係るＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体の表面に形成する複合めっき層及び当該複合めっき層を有するＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体の製造方法によれば、形成される複合めっき層は下層から上層に向けて、順にＺｎ＋Ｚｎ−Ｎｉ合金＋Ｃｕ＋Ｎｉであり、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性体との結合が非常に強固で、且つ磁性体に対する熱減磁の影響が少なく、耐摩耗性及び耐食性に優れている。