(57)【要約】      （修正有）【課題】コイル導体間の結合が改善された磁気結合型コイル部品を提供する。【解決手段】磁気結合型コイル部品１は、第１の領域３０、第１の領域３０の上側に配された第２の領域４０ａ、及び第１の領域３０の下側に配された第３の領域４０ｂを有する本体１０と、本体１０の第２の領域４０ａ内に設けられ、上下方向に延伸するコイル軸Ａの周りに巻回された上側コイル導体２５ａと、本体１０の第３の領域４０ｂ内に設けられ、コイル軸Ａの周りに巻回された下側コイル導体２５ｂと、を備える。上側コイル導体２５ａは、複数の上側導体パターンを有し、複数の上側導体パターンのうち、第１の領域３０の最も近くに配された第１上側導体パターンのターン数が、複数の上側導体パターンのターン数の平均よりも大きい。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の領域、前記第１の領域の上側に配された第２の領域、及び前記第１の領域の下側に配された第３の領域を有する本体と、
前記本体の前記第２の領域内に設けられ、上下方向に延伸するコイル軸の周りに巻回された上側コイル導体と、
前記本体の前記第３の領域内に設けられ、前記コイル軸の周りに巻回された下側コイル導体と、
を備え、
前記上側コイル導体は、複数の上側導体パターンを有し、
前記複数の上側導体パターンのうち前記第１の領域の最も近くに配された第１上側導体パターンのターン数が、前記複数の上側導体パターンのターン数の平均よりも大きい、
磁気結合型コイル部品。
【請求項２】
前記複数の上側導体パターンのうち前記第１の領域の最も近くに配された第１上側導体パターンのターン数が、前記複数の上側導体パターンのうち前記第１上側導体パターンよりも前記第１の領域から遠位に配された第２上側導体パターンのターン数よりも大きい、
請求項１に記載の磁気結合型コイル部品。
【請求項３】
前記第２上側導体パターンのターン数が、前記複数の上側導体パターンのうち前記第２上側導体パターンより前記第１の領域から遠位に配された第３上側導体パターンのターン数よりも大きい、
請求項２に記載の磁気結合型コイル部品。
【請求項４】
前記第１上側導体パターンは、前記コイル軸の周方向に沿って延伸する周回部と、前記周回部の一方の端と外部電極とを接続する引出導体と、を備える、請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の磁気結合型コイル部品。
【請求項５】
前記本体は、前記第１上側導体パターンの一端と他端との間に延在する第１上側開放領域と、前記複数の上側導体パターンのうち前記第１上側導体パターンよりも前記第１の領域から遠位に配された第２上側導体パターンの一端と他端との間に延在する第２上側開放領域と、を有し、
前記第２上側開放領域は、前記コイル軸の方向から見た場合に、第１上側開放領域と重複しない、
請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の磁気結合型コイル部品。
【請求項６】
前記下側コイル導体は、複数の下側導体パターンを有し、
前記複数の下側導体パターンのうち前記第１の領域の最も近くに配された第１下側導体パターンのターン数が、前記複数の下側導体パターンのターン数の平均よりも大きい、
請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の磁気結合型コイル部品。
【請求項７】
前記複数の下側導体パターンのうち前記第１の領域の最も近くに配された第１下側導体パターンのターン数が、前記複数の下側導体パターンのうち前記第１下側導体パターンよりも前記第１の領域から遠位に配された第２下側導体パターンのターン数よりも大きい、
請求項６に記載の磁気結合型コイル部品。
【請求項８】
前記第２下側導体パターンのターン数が、前記複数の下側導体パターンのうち前記第２下側導体パターンよりも前記第１の領域から遠位に配された第３下側導体パターンのターン数よりも大きい、
請求項７に記載の磁気結合型コイル部品。
【請求項９】
前記第１下側導体パターンは、前記コイル軸の周方向に沿って延伸する周回部と、前記周回部の一方の端と外部電極とを接続する引出導体と、を備える、請求項６から請求項８のいずれか１項に記載の磁気結合型コイル部品。
【請求項１０】
前記本体は、前記第１下側導体パターンの一端と他端との間に延在する第１下側開放領域と、前記複数の下側導体パターンのうち前記第１下側導体パターンよりも前記第１の領域から遠位に配された第２下側導体パターンの一端と他端との間に延在する第２下側開放領域と、を有し、
前記第２下側開放領域は、前記コイル軸の方向から見た場合に、前記第１下側開放領域と重複しない、
請求項６から請求項９のいずれか１項に記載の磁気結合型コイル部品。
【請求項１１】
第１の領域、前記第１の領域の上側に配された第２の領域、及び前記第１の領域の下側に配された第３の領域を有する本体と、
前記本体の前記第２の領域内に設けられ、上下方向に延伸するコイル軸の周りに巻回された上側コイル導体と、
前記本体の前記第３の領域内に設けられ、前記コイル軸の周りに巻回された下側コイル導体と、
を備え、
前記下側コイル導体は、複数の下側導体パターンを有し、
前記複数の下側導体パターンのうち前記第１の領域の最も近くに配された第１下側導体パターンのターン数が、前記複数の下側導体パターンのターン数の平均よりも大きい、
磁気結合型コイル部品。
【請求項１２】
前記複数の下側導体パターンのうち前記第１の領域の最も近くに配された第１下側導体パターンのターン数が、前記複数の下側導体パターンのうち前記第１下側導体パターンよりも前記第１の領域から遠位に配された第２下側導体パターンのターン数よりも大きい、
請求項１１に記載の磁気結合型コイル部品。
【請求項１３】
前記第２下側導体パターンのターン数が、前記複数の下側導体パターンのうち前記第２下側導体パターンよりも前記第１の領域から遠位に配された第３下側導体パターンのターン数よりも大きい、
請求項１２に記載の磁気結合型コイル部品。
【請求項１４】
前記第１下側導体パターンは、前記コイル軸の周方向に沿って延伸する周回部と、前記周回部の一方の端と外部電極とを接続する引出導体と、を備える、請求項１１から請求項１３のいずれか１項に記載の磁気結合型コイル部品。
【請求項１５】
前記本体は、前記第１下側導体パターンの一端と他端との間に延在する第１下側開放領域と、前記複数の下側導体パターンのうち前記第１下側導体パターンよりも前記第１の領域から遠位に配された第２下側導体パターンの一端と他端との間に延在する第２下側開放領域と、を有し、
前記第２下側開放領域は、前記コイル軸の方向から見た場合に、前記第１下側開放領域と重複しない、
請求項１１から請求項１４のいずれか１項に記載の磁気結合型コイル部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気結合型コイル部品に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気結合型コイル部品は、通常、互いに磁気結合する一組のコイル導体を有する。代表的な磁気結合型コイル部品として、コモンモードチョークコイル、トランス及びカップルドインダクタがある。磁気結合型コイル部品においては、一般に、一組のコイル導体間の結合が高いことが望ましい。
【０００３】
積層プロセスによって作製される従来の磁気結合型コイル部品が特開２０１６−１３１２０８号公報（特許文献１）に記載されている。この磁気結合型コイル部品は、絶縁材料からなる絶縁本体に埋め込まれた一組のコイルユニットを有している。この一組のコイルユニットは、各ユニットのコイル導体の巻回軸が略一致するとともに当該コイルユニット同士が密着するように互いに接合されており、これにより当該一組コイル導体間の結合が高められるとされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１６−１３１２０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従来の磁気結合型コイル部品においては、絶縁本体のうち一組のコイル導体の間にあるコイル間領域を通過する磁束が存在する。このコイル間領域を通過する磁束は、当該一組のコイル導体間の結合に寄与しない漏れ磁束となる。このような漏れ磁束は、当該一組のコイル導体間の結合を悪化させる原因となる。
【０００６】
磁気結合型コイル部品においては、積層された複数の絶縁膜の各々に導体パターンが形成されており、この導体パターン同士をビアで電気的に接続することによりコイル導体が形成される。当該複数の絶縁膜のうち、積層方向の両端にある絶縁膜に形成される導体パターンは、引出導体を介して外部電極に接続される。このため、積層方向の両端にある絶縁膜に形成される導体パターンは、他の導体パターンに比べてターン数が少ない。例えば、上記特許文献１において、積層方向両端にある導体パターン（上記特許文献１の図３において符号１１ｃ１及び１１ｃ６で指し示されている。）は、コイル軸の周りに３／５ターン程度巻回されているのに対し、その間にある他の導体パターン（同図において符号１１ｃ２〜１１ｃ５で指し示されている。）は７／８ターン程度巻回されている。
【０００７】
積層方向の一方の端にある導体パターンは、漏れ磁束が通過するコイル間領域に隣接している。このコイル間領域に隣接する導体パターンのターン数が小さいと、当該コイル間領域の磁気抵抗が低下するため、漏れ磁束が多く生じてしまう。よって、磁気結合型コイル部品において、２つのコイル導体の間のコイル間領域に隣接する導体パターンのターン数が小さいと、当該２つのコイル導体の間の結合が悪化する。
【０００８】
本発明の目的の一つは、コイル導体間の結合が改善された磁気結合型コイル部品を提供することである。本発明のこれ以外の目的は、明細書全体の記載を通じて明らかにされる。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一実施形態における磁気結合型コイル部品は、第１の領域、前記第１の領域の上側に配された第２の領域、及び前記第１の領域の下側に配された第３の領域を有する本体と、前記本体の前記第２の領域内に設けられ、上下方向に延伸するコイル軸の周りに巻回された上側コイル導体と、前記本体の前記第３の領域内に設けられ、前記コイル軸の周りに巻回された下側コイル導体と、を備える。当該実施形態において、前記上側コイル導体は、複数の上側導体パターンを有し、前記複数の上側導体パターンのうち前記第１の領域の最も近くに配された第１上側導体パターンのターン数が、前記複数の上側導体パターンのターン数の平均よりも大きい。本発明の一実施形態においては、前記第１上側導体パターンよりも前記第１の領域から遠位に配された第２上側導体パターンのターン数よりも大きい。本発明の一実施形態においては、前記第２上側導体パターンのターン数が、前記複数の上側導体パターンのうち前記第２上側導体パターンより前記第１の領域から遠位に配された第３上側導体パターンのターン数よりも大きい。本発明の一実施形態において、前記第１上側導体パターンは、前記コイル軸の周方向に沿って延伸する周回部と、前記周回部の一方の端と外部電極とを接続する引出導体と、を備える。
【００１０】
上記の各該実施形態によれば、複数の上側導体パターンのうち上側コイル導体と下側コイル導体との間にある第１の領域の最も近くに配された第１上側導体パターンにより、上側コイル導体と下側コイル導体との間の領域における磁気抵抗を大きくすることができる。これにより、上側コイル導体と下側コイル導体との間の領域を通過する漏れ磁束をより効果的に抑制することができる。
【００１１】
本発明の一実施形態において、前記本体は、前記第１上側導体パターンの一端と他端との間に延在する第１上側開放領域と、前記複数の上側導体パターンのうち前記第１上側導体パターンよりも前記第１の領域から遠位に配された第２上側導体パターンの一端と他端との間に延在する第２上側開放領域と、を有し、前記第２上側開放領域は、前記コイル軸の方向から見た場合に、第１上側開放領域と重複しない。
【００１２】
当該実施形態によれば、第１上側開放領域と第２上側開放領域とが重複することによる磁気抵抗の低下を防止することができる。これにより、上側コイル導体と下側コイル導体との間の領域を通過する漏れ磁束をより効果的に抑制することができる。
【００１３】
本発明の一実施形態においては、前記下側コイル導体は、複数の下側導体パターンを有し、前記複数の下側導体パターンのうち前記第１の領域の最も近くに配された第１下側導体パターンのターン数が、前記複数の下側導体パターンのターン数の平均よりも大きい。本発明の一実施形態においては、前記複数の下側導体パターンのうち前記第１の領域の最も近くに配された第１下側導体パターンのターン数が、前記複数の下側導体パターンのうち前記第１下側導体パターンよりも前記第１の領域から遠位に配された第２下側導体パターンのターン数よりも大きい。本発明の一実施形態においては、前記第２下側導体パターンのターン数が、前記複数の下側導体パターンのうち前記第２下側導体パターンよりも前記第１の領域から遠位に配された第３下側導体パターンのターン数よりも大きい。本発明の一実施形態において、前記第１下側導体パターンは、前記コイル軸の周方向に沿って延伸する周回部と、前記周回部の一方の端と外部電極とを接続する引出導体と、を備える。
【００１４】
上記の各該実施形態によれば、複数の下側導体パターンのうち上側コイル導体と下側コイル導体との間にある第１の領域の最も近くに配された第１下側導体パターンにより、上側コイル導体と下側コイル導体との間の領域における磁気抵抗を大きくすることができる。これにより、上側コイル導体と下側コイル導体との間の領域を通過する漏れ磁束をより効果的に抑制することができる。
【００１５】
本発明の一実施形態において、前記本体は、前記第１下側導体パターンの一端と他端との間に延在する第１下側開放領域と、前記複数の下側導体パターンのうち前記第１下側導体パターンよりも前記第１の領域から遠位に配された第２下側導体パターンの一端と他端との間に延在する第２下側開放領域と、を有し、前記第２下側開放領域は、前記コイル軸の方向から見た場合に、前記第１下側開放領域と重複しない。
【００１６】
当該実施形態によれば、第１下側開放領域と第２下側開放領域とが重複することによる磁気抵抗の低下を防止することができる。これにより、上側コイル導体と下側コイル導体との間の領域を通過する漏れ磁束をより効果的に抑制することができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の一実施形態によれば、結合係数が改善された磁気結合型コイル部品が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の一実施形態に係るコイル部品の斜視図である。
【図２】図１のコイル部品に含まれる２つのコイルユニットのうち一方の分解斜視図である。
【図３】図１のコイル部品に含まれる２つのコイルユニットのうち他方の分解斜視図である。
【図４】図１のコイル部品をＩ−Ｉ線で切断した断面を模式的に示す図である。
【図５ａ】図２の絶縁膜２０ａ５及び上側導体パターン２５ａ５を示す平面図である。
【図５ｂ】図２の絶縁膜２０ａ４及び上側導体パターン２５ａ４を示す平面図である。
【図５ｃ】図２の絶縁膜２０ａ３及び上側導体パターン２５ａ３を示す平面図である。
【図５ｄ】図２の絶縁膜２０ａ２及び上側導体パターン２５ａ２を示す平面図である。
【図５ｅ】図２の絶縁膜２０ａ１及び上側導体パターン２５ａ１を示す平面図である。
【図６ａ】図３の絶縁膜２０ｂ１及び下側導体パターン２５ｂ１を示す平面図である。
【図６ｂ】図３の絶縁膜２ｂ２及び下側導体パターン２５ｂ２を示す平面図である。
【図６ｃ】図３の絶縁膜２０ｂ３及び下側導体パターン２５ｂ３を示す平面図である。
【図６ｄ】図３の絶縁膜２０ｂ４及び下側導体パターン２５ｂ４を示す平面図である。
【図６ｅ】図３の絶縁膜２０ｂ５及び下側導体パターン２５ｂ５を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、適宜図面を参照し、本発明の様々な実施形態を説明する。なお、複数の図面において共通する構成要素には当該複数の図面を通じて同一の参照符号が付されている。各図面は、説明の便宜上、必ずしも正確な縮尺で記載されているとは限らない点に留意されたい。
【００２０】
図１から図３を参照して本発明の一実施形態に係るコイル部品１について説明する。図１は、本発明の一実施形態に係るコイル部品１の斜視図であり、図２は、図１のコイル部品１に含まれるコイルユニット１ａの分解斜視図であり、図３は、図１のコイル部品１に含まれるコイルユニット１ｂの分解斜視図であり、図４は、図１のコイル部品をＩ−Ｉ線で切断した断面を模式的に示す図である。図２ないし図４においては、説明の便宜のために、外部電極の図示が省略されている。
【００２１】
これらの図には、コイル部品１の一例として、差動信号を伝送する差動伝送回路からコモンモードノイズを除去するためのコモンモードチョークコイルが示されている。コモンモードチョークコイルは、本発明を適用可能な磁気結合型コイル部品の一例である。コモンモードチョークコイルは、後述するように積層プロセス、薄膜プロセス、又はこれら以外の公知の方法によって作製される。本発明は、コモンモードチョークコイル以外にも、トランス、カップルドインダクタ及びこれら以外の様々なコイル部品に適用することができる。
【００２２】
図示のように、本発明の一実施形態におけるコイル部品１は、上側コイルユニット１ａと下側コイルユニット１ｂとを備える。
【００２３】
上側コイルユニット１ａは、絶縁性に優れた絶縁材料から成る上側本体１１ａと、この上側本体１１ａに埋設された上側コイル導体２５ａと、当該上側コイル導体２５ａの一端と電気的に接続された外部電極２１ａと、当該上側コイル導体２５ａの他端と電気的に接続された外部電極２１ｂと、を備える。上側本体１１ａは、直方体形状を有する。
【００２４】
下側コイルユニット１ｂは、上側コイルユニット１ａと同様に構成される。具体的には、下側コイルユニット１ｂは、絶縁材料から成る下側本体１１ｂと、この下側本体１１ｂに埋設された下側コイル導体２５ｂと、当該下側コイル導体２５ｂの一端と電気的に接続された外部電極２１ｃと、当該下側コイル導体２５ｂの他端と電気的に接続された外部電極２１ｄと、を備える。下側本体１１ｂは、直方体形状を有する。
【００２５】
上側コイル導体２５ａは、上側本体１１ａ内においてコイル軸Ａの周りに巻回されている。下側コイル導体２５ｂは、上側本体１１ｂ内においてコイル軸Ａの周りに巻回されている。コイル軸Ａは、図１のＴ軸と平行に延伸していてもよい。本明細書においてコイル部品１の上下方向に言及する際には、コイル軸Ａに沿う方向をコイル部品１の上下方向とすることがある。コイル軸ＡがＴ軸と平行に延伸する場合には、Ｔ軸方向において負側から正側に向かう方向が上方向とされ、Ｔ軸方向において正側から負側に向かう方向が下方向とされてもよい。本明細書では、可能な限り、この用法に従って、Ｔ軸方向において負側から正側に向かう方向を上方向とし、Ｔ軸方向において正側から負側に向かう方向を下方向として説明を行う。例えば、コイル部品１を構成する一組のコイルユニットのうち、Ｔ軸方向の正側にあるコイルユニットを上側コイルユニット１ａと呼び、Ｔ軸方向の正側にあるコイルユニットを下側コイルユニット１ｂと呼ぶのは、上下についての上記の用法に従ったものである。コイル軸Ａは、Ｔ軸と垂直な方向、例えばＬ軸方向に沿って延伸しても良い。この場合もコイル軸Ａに沿う方向をコイル部品１の上下方向とすることができる。したがって、コイル部品１の上下方向は、図示の実施形態のようにＴ軸と平行な方向であってもよく、他の実施形態においてはＴ軸と垂直な方向であってもよい。
【００２６】
本明細書においては、コイル部品１の「長さ」方向、「幅」方向、及び「厚さ」方向はそれぞれ、図１の「Ｌ」方向、「Ｗ」方向、及び「Ｔ」方向とする。
【００２７】
上側本体１１ａは、その下面において下側本体１１ｂの上面と接合されている。上側本体１１ａ及び下側本体１１ｂは、互いに接合されることにより、本体１０を構成する。よって、本体１０は、上側本体１１ａと、この上側本体１１ａに接合された下側本体１１ｂと、を有する。
【００２８】
本体１０は、第１の主面１０ａ、第２の主面１０ｂ、第１の端面１０ｃ、第２の端面１０ｄ、第１の側面１０ｅ、及び第２の側面１０ｆを有する。本体１０は、これらの６つの面によってその外面が画定される。第１の主面１０ａと第２の主面１０ｂとは互いに対向し、第１の端面１０ｃと第２の端面１０ｄとは互いに対向し、第１の側面１０ｅと第２の側面１０ｆとは互いに対向している。図１において第１の主面１０ａは本体１０の上側にあるため、第１の主面１０ａを「上面」と呼ぶことがある。同様に、第２の主面１０ｂを「下面」と呼ぶことがある。コイル部品１は、第２の主面１０ｂが回路基板（不図示）と対向するように配置されるので、第２の主面１０ｂを「実装面」と呼ぶこともある。
【００２９】
外部電極２１ａ及び外部電極２１ｃは、本体１０の第１の端面１０ｃに設けられる。外部電極２１ｂ及び外部電極２１ｄは、本体１０の第２の端面１０ｄに設けられる。各外部電極は、図示のように、本体１０の上面及び下面まで延伸する。各外部電極の形状及び配置は、図示された例には限定されない。例えば、外部電極２１ａ〜２１ｄはすべて本体１０の下面１０ｂに設けられてもよい。この場合、上側コイル導体２５ａ及び下側コイル導体２５ｂは、ビアを介して、本体１０の下面１０ｂに設けられた外部電極２１ａ〜２１ｄと接続される。
【００３０】
図２を参照して上側本体１１ａ及び当該上側本体１１ａ内に設けられる上側コイル導体２５ａについてさらに説明する。図示のように、上側本体１１ａは、上側コイル層２０ａ、当該上側コイル層２０ａの上面に設けられた上側第１カバー層１８ａ、及び当該上側コイル層２０ａの下面に設けられた上側第２カバー層１９ａを備える。
【００３１】
上側コイル層２０ａは、積層された絶縁膜２０ａ１〜２０ａ５を備える。上側本体１１ａにおいては、Ｔ軸方向の負側から正側に向かって、上側第２カバー層１９ａ、絶縁膜２０ａ１、絶縁膜２０ａ２、絶縁膜２０ａ３、絶縁膜２０ａ４、絶縁膜２０ａ５、上側第１カバー層１８ａの順に積層されている。上側コイル層２０ａと上側第１カバー層１８ａとの境界、上側コイル層２０ａと上側第２カバー層１９ａとの境界、絶縁膜２０ａ１〜２０ａ５同士の境界は、コイルユニット１ａの製法によっては明瞭に確認できないことがある。
【００３２】
絶縁膜２０ａ１〜２０ａ５は、絶縁性に優れた絶縁材料からなる。絶縁膜２０ａ１〜２０ａ５用の材料は、磁性材料であってもよいし、非磁性材料であってもよい。絶縁膜２０ａ１〜２０ａ５用の磁性材料として、フェライト材料、軟磁性合金、樹脂に多数のフィラー粒子を分散させた複合材料、又はこれら以外の任意の公知の磁性材料を用いることができる。絶縁膜２０ａ１〜２０ａ５用の非磁性材料として、ＳｉＯ２やＡｌ２Ｏ３などの無機材料粒子（ガラス系粒子）、樹脂にＳｉＯ２やＡｌ２Ｏ３などの無機材料粒子（ガラス系粒子）、を分散させた複合材料、樹脂、又はガラス材料を用いることができる。
【００３３】
絶縁膜２０ａ１〜２０ａ５用の材料となるフェライトには、Ｎｉ−Ｚｎ系フェライト、Ｎｉ−Ｚｎ−Ｃｕ系フェライト、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライト、又はこれら以外の任意のフェライトが含まれる。
【００３４】
絶縁膜２０ａ１〜２０ａ５用の材料となる軟磁性合金には、Ｆｅ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ系合金、Ｆｅ−Ｃｒ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ−Ｃｒ系合金、又はこれら以外の任意の軟磁性合金が含まれる。
【００３５】
絶縁膜２０ａ１〜２０ａ５が樹脂に多数のフィラー粒子を分散させた複合材料からなる場合、当該樹脂として、絶縁性に優れた熱硬化性樹脂、例えばエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスチレン（ＰＳ）樹脂、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）樹脂、ポリオキシメチレン（ＰＯＭ）樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリフッ化ビニルデン（ＰＶＤＦ）樹脂、フェノール（Ｐｈｅｎｏｌｉｃ）樹脂、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）樹脂、又はポリベンゾオキサゾール（ＰＢＯ）樹脂を用いることができる。当該フィラー粒子として、フェライト材料の粒子、金属磁性粒子、ＳｉＯ２やＡｌ２Ｏ３などの無機材料粒子、ガラス系粒子、又はこれら以外の任意の公知のフィラー粒子を用いることができる。本発明に適用可能なフェライト材料の粒子は、例えば、Ｎｉ−Ｚｎフェライトの粒子またはＮｉ−Ｚｎ−Ｃｕフェライトの粒子である。本発明に適用可能な金属磁性粒子は、例えば、（１）金属系のＦｅもしくはＮｉ、（２）合金系のＦｅ−Ｓｉ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ、もしくはＦｅ−Ｎｉ、（３）非晶質のＦｅ―Ｓｉ−Ｃｒ−Ｂ−Ｃ、もしくはＦｅ−Ｓｉ−Ｂ−Ｃｒ、またはこれらの混合材料の粒子である。
【００３６】
絶縁膜２０ａ１〜２０ａ５の各々の上面には、上側導体パターン２５ａ１〜２５ａ５が形成される。上側導体パターン２５ａ１〜２５ａ５は、導電性に優れた金属又は合金から成る導電ペーストを、スクリーン印刷法により印刷することにより形成される。この導電ペーストの材料としては、Ａｇ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ａｌ又はこれらの合金を用いることができる。上側導体パターン２５ａ１〜２５ａ５は、これ以外の材料及び方法により形成されてもよい。上側導体パターン２５ａ１〜２５ａ５は、例えば、スパッタ法、インクジェット法、又はこれら以外の公知の方法で形成されてもよい。
【００３７】
絶縁膜２０ａ２〜絶縁膜２０ａ５の所定の位置には、上側ビアＶａ１〜Ｖａ４がそれぞれ形成される。上側ビアＶａ１〜Ｖａ４は、絶縁膜２０ａ２〜絶縁膜２０ａ５の所定の位置に、絶縁膜２０ａ２〜絶縁膜２０ａ５をＴ軸方向に貫く貫通孔を形成し、当該貫通孔に導電ペーストを埋め込むことにより形成される。
【００３８】
上側導体パターン２５ａ１〜２５ａ５の各々は、隣接する導体パターンと上側ビアＶａ１〜Ｖａ４を介して電気的に接続される。このようにして接続された上側導体パターン２５ａ１〜２５ａ５が、スパイラル状の上側コイル導体２５ａを形成する。すなわち、上側コイル導体２５ａは、上側導体パターン２５ａ１〜２５ａ５及び上側ビアＶａ１〜Ｖａ４を有する。
【００３９】
上側導体パターン２５ａ１の上側ビアＶａ１に接続されている端部と反対側の端部は、外部電極２１ａに接続される。上側導体パターン２５ａ５の上側ビアＶａ４に接続されている端部と反対側の端部は、外部電極２１ｂに接続される。
【００４０】
上側コイル導体２５ａは、Ｔ軸方向の一方の端部であるコイル面２６ａと、Ｔ軸方向の他方の端部であるコイル面２７ａと、を有する。
【００４１】
上側第１カバー層１８ａ及び上側第２カバー層１９ａは、複数の絶縁膜が積層された積層体であってもよい。上側第１カバー層１８ａを構成する絶縁膜は、絶縁膜２０ａ１〜２０ａ５と同様に、様々な磁性材料又は非磁性材料から形成される。上側第１カバー層１８ａ及び上側第２カバー層１９ａを構成する絶縁膜に用いられる磁性材料には、フェライト、樹脂に多数のフィラー粒子を分散させた複合材料、又はこれら以外の任意の公知の磁性材料が含まれる。上側第１カバー層１８ａ及び上側第２カバー層１９ａを構成する絶縁膜に用いられる非磁性材料には、ＳｉＯ２やＡｌ２Ｏ３などの無機材料粒子（ガラス系粒子）、樹脂にＳｉＯ２やＡｌ２Ｏ３などの無機材料粒子（ガラス系粒子）、を分散させた複合材料、樹脂、又はガラス材料が含まれる。
【００４２】
上側第１カバー層１８ａは、上側コイル層２０ａの上面に、上側コイル導体２５ａのコイル面２６ａと対向するように設けられる。上側第２カバー層１９ａは、上側コイル層２０ａの下面に、上側コイル導体２５ａのコイル面２７ａと対向するように設けられる。
【００４３】
図３を参照して下側本体１１ｂ及び当該下側本体１１ｂ内に設けられる下側コイル導体２５ｂについてさらに説明する。図示のように、下側本体１１ｂは、下側コイル層２０ｂ、当該下側コイル層２０ｂの上面に設けられた下側第１カバー層１８ｂ、及び当該下側コイル層２０ｂの下面に設けられた下側カバー層１９ｂを備える。
【００４４】
下側コイル層２０ｂは、積層された絶縁膜２０ｂ１〜２０ｂ５を備える。下側本体１１ｂにおいては、Ｔ軸方向の正側から負側に向かって、下側第１カバー層１８ｂ、絶縁膜２０ｂ１、絶縁膜２０ｂ２、絶縁膜２０ｂ３、絶縁膜２０ｂ４、絶縁膜２０ｂ５、下側第２カバー層１９ｂの順に積層されている。下側コイル層２０ｂと下側第１カバー層１８ｂとの境界、下側コイル層２０ｂと下側第２カバー層１９ｂとの境界、絶縁膜２０ｂ１〜２０ｂ５同士の境界は、コイルユニット１ｂの製法によっては明瞭に確認できないことがある。
【００４５】
絶縁膜２０ｂ１〜２０ｂ５の各々の上面には、下側導体パターン２５ｂ１〜２５ｂ５が形成される。下側導体パターン２５ｂ１〜２５ｂ５は、上側導体パターン２５ａ１〜２５ａ５と同様の方法で形成され得る。
【００４６】
絶縁膜２０ｂ１〜絶縁膜２０ｂ４の所定の位置には、下側ビアＶｂ１〜Ｖｂ４がそれぞれ形成される。下側ビアＶｂ１〜Ｖｂ４は、絶縁膜２０ｂ１〜絶縁膜２０ｂ４の所定の位置に、絶縁膜２０ｂ１〜絶縁膜２０ｂ４をＴ軸方向に貫く貫通孔を形成し、当該貫通孔に導電材料を埋め込むことにより形成される。
【００４７】
下側導体パターン２５ｂ１〜２５ｂ５の各々は、隣接する導体パターンと下側ビアＶｂ１〜Ｖｂ４を介して電気的に接続される。このようにして接続された下側導体パターン２５ｂ１〜２５ｂ５が、スパイラル状の下側コイル導体２５ｂを形成する。すなわち、下側コイル導体２５ｂは、下側導体パターン２５ｂ１〜２５ｂ５及び下側ビアＶｂ１〜Ｖｂ４を有する。
【００４８】
下側導体パターン２５ｂ１の下側ビアＶｂ１に接続されている端部と反対側の端部は、外部電極２１ｄに接続される。下側導体パターン２５ｂ５の下側ビアＶｂ４に接続されている端部と反対側の端部は、外部電極２１ｃに接続される。
【００４９】
下側コイル導体２５ｂは、Ｔ軸方向の一方の端部であるコイル面２６ｂと、Ｔ軸方向の他方の端部であるコイル面２６ｂと、を有する。
【００５０】
下側第１カバー層１８ｂ及び下側第２カバー層１９ｂは、複数の絶縁膜が積層された積層体であってもよい。
【００５１】
下側第１カバー層１８ｂは、下側コイル層２０ｂの上面に、下側コイル導体２５ｂのコイル面２６ｂと対向するように設けられる。下側第２カバー層１９ｂは、下側コイル層２０ｂの下面に、下側コイル導体２５ｂのコイル面２７ｂと対向するように設けられる。
【００５２】
絶縁膜２０ｂ１〜絶縁膜２０ｂ５、下側第１カバー層１８ｂ、及び下側第２カバー層１９ｂを構成する絶縁膜は、絶縁膜２０ａ１〜２０ａ５と同様に、様々な磁性材料又は非磁性材料から形成される。絶縁膜２０ｂ１〜絶縁膜２０ｂ５、下側第１カバー層１８ｂ、及び下側第２カバー層１９ｂを構成する絶縁膜を構成する絶縁膜に用いられる磁性材料には、フェライト、軟磁性合金、樹脂に多数のフィラー粒子を分散させた複合材料、又はこれら以外の任意の公知の磁性材料が含まれる。これらの絶縁膜に用いられる非磁性材料には、ＳｉＯ２やＡｌ２Ｏ３などの無機材料粒子（ガラス系粒子）、樹脂にＳｉＯ２やＡｌ２Ｏ３などの無機材料粒子（ガラス系粒子）、を分散させた複合材料、樹脂、又はガラス材料が含まれる。
【００５３】
絶縁膜２０ａ１〜絶縁膜２０ａ５、上側第１カバー層１８ａを構成する絶縁膜、上側第２カバー層１９ａを構成する絶縁膜、絶縁膜２０ｂ１〜絶縁膜２０ｂ５、下側第１カバー層１８ｂを構成する絶縁膜、及び下側第２カバー層１９ｂを構成する絶縁膜は、その全てがフェライト材料から形成されてもよく、その全てが軟磁性合金材料から形成されてもよく、その全てが樹脂に多数のフィラー粒子を分散させた複合材料から形成されてもよい。絶縁膜２０ａ１〜絶縁膜２０ａ５、上側第１カバー層１８ａを構成する絶縁膜、上側第２カバー層１９ａを構成する絶縁膜、絶縁膜２０ｂ１〜絶縁膜２０ｂ５、下側第１カバー層１８ｂを構成する絶縁膜、及び下側第２カバー層１９ｂを構成する絶縁膜においては、その一部の絶縁膜がそれ以外の絶縁膜と異なる材料から形成されてもよい。
【００５４】
コイル部品１は、上記のコイルユニット１ａとコイルユニット１ｂとを接合することにより得られる。このコイル部品１は、外部電極２１ａと外部電極２１ｂとの間に配されている上側コイル導体２５ａと、外部電極２１ｃと外部電極２１ｄとの間に配されている下側コイル導体２５ｂと、を有する。この２つのコイルの各々は、例えば、差動伝送回路における２本の信号線とそれぞれ接続される。このようにして、コイル部品１は、コモンモードチョークコイルとして動作することができる。
【００５５】
コイル部品１は、第３のコイル（不図示）を含むことができる。第３のコイルを備えるコイル部品１は、上側コイルユニット１ａと同様に構成されたもう１つのコイルユニットを追加的に備える。当該追加のコイルユニットには、上側コイルユニット１ａ及び下側コイルユニット１ｂと同様にコイル導体が設けられ、当該コイル導体が追加的な外部電極と接続される。このような３つのコイルを含むコイル部品は、例えば、３本の信号線を有する差動伝送回路用のコモンモードチョークコイルとして用いられる。
【００５６】
コイル部品１の断面が図４に示されている。図４は、図１のコイル部品をＩ−Ｉ線で切断した断面を模式的に示す図である。図４においては、コイル導体から発生する磁束（磁力線）が矢印で記載されている。図４においては、説明の便宜のために、外部電極２１ａ〜２１ｄ及び個別の絶縁膜間の境界の図示は省略されている。
【００５７】
図示のように、本体１０は、上側コイル導体２５ａのコイル面２７ａと下側コイル導体２５ｂのコイル面２６ｂとの間に配された第１の領域３０と、当該第１の領域３０と上側第１カバー層１８ａとの間に配された第２の領域４０ａと、当該第１の領域３０と下側第２カバー層１９ｂとの間に配された第３の領域４０ｂと、を有する。
【００５８】
本発明の一実施形態において、第１の領域３０は、上側第２カバー層１９ａ及び下側第１カバー層１８ｂを含む。第１の領域３０は、上側第２カバー層１９ａ及び下側第１カバー層１８ｂのみから構成されてもよい。第１の領域３０は、上側第２カバー層１９ａ及び下側第１カバー層１８ｂに加えて、追加的な絶縁膜又はその一部を含んでもよい。第１の領域３０は、上側コイル導体２５ａの下面２７ａに直接に接していても良く、上側コイル導体２５ａの下面２７ａと他の絶縁膜を介して間接的に接していても良い。第１の領域３０は、下側コイル導体２５ｂの上面２６ｂに直接に接していても良く、下側コイル導体２５ｂの上面２６ｂと他の絶縁膜を介して間接的に接していても良い。
【００５９】
本発明の一実施形態において、第２の領域４０ａは、絶縁膜２０ａ１〜絶縁膜２０ａ５を含む。第２の領域４０ａは、絶縁膜２０ａ１〜絶縁膜２０ａ５のみから構成されてもよい。第２の領域４０ａは、絶縁膜２０ａ１〜絶縁膜２０ａ５に加えて、絶縁材料からなる追加的な絶縁膜を含んでもよい。
【００６０】
本発明の一実施形態において、第３の領域４０ｂは、絶縁膜２０ｂ１〜絶縁膜２０ｂ５を含む。第３の領域４０ｂは、絶縁膜２０ｂ１〜絶縁膜２０ｂ５のみから構成されてもよい。第３の領域４０ｂは、絶縁膜２０ｂ１〜絶縁膜２０ｂ５に加えて、絶縁材料からなる追加的な絶縁膜を含んでもよい。
【００６１】
第２の領域４０ａは、第１の領域３０と直接に接していてもよい。第３の領域４０ｂは、第１の領域３０と直接に接していてもよい。
【００６２】
上側コイル導体２５ａは、本体１０の第２の領域４０ａ内に設けられている。図示の実施形態において、上側コイル導体２５ａは、コイル面２６ａが第２の領域４０ａから上側第１カバー層１８ａ側に露出し、また、コイル面２７ａが第２の領域４０ａから第１の領域３０側に露出するように設けられている。
【００６３】
下側コイル導体２５ｂは、本体１０の第３の領域４０ｂ内に設けられている。図示の実施形態において、下側コイル導体２５ｂは、コイル面２６ｂが第３の領域４０ａから第１の領域３０側に露出し、また、コイル面２７ｂが第２の領域４０ａから下側第２カバー層１９ｂ側に露出するように設けられている。
【００６４】
下側コイル導体２５ｂは、上側本体１１ａと同様にコイル軸Ａの周りに巻回されている。本明細書において、上側本体１１ａのうち上側コイル導体２５ａの内側の領域を上側コア３５ａと呼び、下側本体１１ｂのうち下側コイル導体２５ｂの内側の領域を下側コア３５ｂと呼ぶことがある。
【００６５】
次に、図５ａないし図５ｅ及び図６ａないし図６ｅを参照して、上側コイル導体２５ａ及び下側コイル導体２５ｂについてさらに説明する。図５ａないし図５ｅはそれぞれ絶縁膜２０ａ５〜絶縁膜２０ａ１及びこれらの絶縁膜に形成されている導体パターン２５ａ５〜導体パターン２５ａ１を示す平面図であり、図６ａないし図６ｅはそれぞれ絶縁膜２０ｂ１〜絶縁膜２０ｂ５及びこれらの絶縁膜に形成されている導体パターン２５ｂ１〜導体パターン２５ｂ５を示す平面図である。これらの図においては、説明の便宜のために、外部電極の図示が省略されている。
【００６６】
図５ａに示されているように、絶縁膜２０ａ５には、導体パターン２５ａ５が形成されている。導体パターン２５ａ５は、周回部２５ａ５ａと、引出導体２２ｂと、を有する。引出導体２２ｂは、周回部２５ａ５ａの一端から外部電極２１ｂまで概ね直線状に延伸している。周回部２５ａ５ａは、引出導体２２ｂとの接続点からコイル軸Ａの周方向に沿って時計回り方向にビアＶａ４との接続点まで延伸している。
【００６７】
図５ｂに示されているように、絶縁膜２０ａ４には、導体パターン２５ａ４が形成されている。導体パターン２５ａ４は、ビアＶａ４を介して導体パターン２５ａ５と電気的に接続されている。導体パターン２５ａ４は、ビアＶａ４との接続点からコイル軸Ａの周方向に沿って時計回り方向にビアＶａ３との接続点まで延伸している。
【００６８】
図５ｃに示されているように、絶縁膜２０ａ３には、導体パターン２５ａ３が形成されている。導体パターン２５ａ３は、ビアＶａ３を介して導体パターン２５ａ４と電気的に接続されている。導体パターン２５ａ３は、ビアＶａ３との接続点からコイル軸Ａの周方向に沿って時計回り方向にビアＶａ２との接続点まで延伸している。
【００６９】
図５ｄに示されているように、絶縁膜２０ａ２には、導体パターン２５ａ２が形成されている。導体パターン２５ａ２は、ビアＶａ２を介して導体パターン２５ａ３と電気的に接続されている。導体パターン２５ａ２は、ビアＶａ２との接続点からコイル軸Ａの周方向に沿って時計回り方向にビアＶａ１との接続点まで延伸している。
【００７０】
図５ｅに示されているように、絶縁膜２０ａ１には、導体パターン２５ａ１が形成されている。上側導体パターン２５ａ１は、周回部２５ａ１ａと、引出導体２２ａと、を有する。周回部２５ａ１ａは、ビアＶａ１を介して導体パターン２５ａ２と電気的に接続されている。周回部２５ａ１ａは、ビアＶａ１との接続点からコイル軸Ａの周方向に沿って時計回り方向に延伸している。引出導体２２ａは、周回部２５ａ１ａのビアＶａ１との接続点とは反対側の端から外部電極２１ａまで概ね直線状に延伸している。
【００７１】
上述したように、上側導体パターン２５ａ１〜２５ａ５の各々が隣接する導体パターンと上側ビアＶａ１〜Ｖａ４を介して接続されることにより、スパイラル状の上側コイル導体２５ａが形成される。図示の実施形態において、上側コア３５ａは、平面視で概ね楕円形の外縁を有する。上側コア３５ａの平面視における外縁は、楕円形以外の様々な形状を取り得る。上側コア３５ａの平面視における外縁は、例えば、円、矩形その他の多角形、またはこれら以外の様々な形状を取ることができる。
【００７２】
図５ａ〜図５ｅには、平面視で上側コア３５ａの外縁に外接する長方形形状の仮想線３６ａが描かれている。本明細書においては、この仮想的な仮想線を外接長方形３６ａと呼ぶことがある。コイル軸Ａは、この外接長方形３６ａの対角線の交点を通ってもよい。
【００７３】
図６ａに示されているように、絶縁膜２０ｂ１には、導体パターン２５ｂ１が形成されている。導体パターン２５ｂ１は、周回部２５ｂ１ａと、引出導体２２ｄと、を有する。引出導体２２ｄは、周回部２５ｂ１ａの一端から外部電極２１ｄまで概ね直線状に延伸している。周回部２５ｂ１ａは、引出導体２２ｄとの接続点からコイル軸Ａの周方向に沿って反時計回り方向にビアＶｂ１との接続点まで延伸している。
【００７４】
図６ｂに示されているように、絶縁膜２０ｂ２には、導体パターン２５ｂ２が形成されている。導体パターン２５ｂ２は、ビアＶｂ１を介して導体パターン２５ｂ１と電気的に接続されている。導体パターン２５ｂ２は、ビアＶｂ１との接続点からコイル軸Ａの周方向に沿って反時計回り方向にビアＶｂ２との接続点まで延伸している。
【００７５】
図６ｃに示されているように、絶縁膜２０ｂ３には、導体パターン２５ｂ３が形成されている。導体パターン２５ｂ３は、ビアＶａ２を介して導体パターン２５ｂ２と電気的に接続されている。導体パターン２５ｂ３は、ビアＶｂ２との接続点からコイル軸Ａの周方向に沿って反時計回り方向にビアＶｂ３との接続点まで延伸している。
【００７６】
図６ｄに示されているように、絶縁膜２０ｂ４には、導体パターン２５ｂ４が形成されている。導体パターン２５ｂ４は、ビアＶｂ３を介して導体パターン２５ｂ３と電気的に接続されている。導体パターン２５ｂ４は、ビアＶｂ３との接続点からコイル軸Ａの周方向に沿って反時計回り方向にビアＶｂ４との接続点まで延伸している。
【００７７】
図６ｅに示されているように、絶縁膜２０ｂ５には、導体パターン２５ｂ５が形成されている。下側導体パターン２５ｂ５は、周回部２５ｂ５ａと、引出導体２２ｃと、を有する。周回部２５ｂ５ａは、ビアＶｂ４を介して導体パターン２５ｂ４と電気的に接続されている。周回部２５ｂ５ａは、ビアＶｂ４との接続点からコイル軸Ａの周方向に沿って反時計回り方向に延伸している。引出導体２２ｃは、周回部２５ｂ５ａのビアＶｂ４との接続点とは反対側の端から外部電極２１ｃまで概ね直線状に延伸している。
【００７８】
上述したように、下側導体パターン２５ｂ１〜２５ｂ５の各々が隣接する導体パターンと下側ビアＶｂ１〜Ｖｂ４を介して接続されることにより、スパイラル状の下側コイル導体２５ｂが形成される。コイル層２０ｂにおいて、下側コイル導体２５ｂの内側の領域を下側コア３５ｂと呼ぶことがある。図示の実施形態において、下側コア３５ｂは、平面視で概ね楕円形の外縁を有する。下側コア３５ｂの平面視における外縁は、楕円形以外の様々な形状を取り得る。下側コア３５ｂの平面視における外縁は、例えば、円、矩形その他の多角形、またはこれら以外の様々な形状を取ることができる。
【００７９】
図６ａ〜図６ｅには、平面視で下側コア３５ｂの外縁に外接する長方形形状の仮想線３６ｂが描かれている。本明細書においては、この仮想的な仮想線を外接長方形３６ｂと呼ぶことがある。外接長方形３６ｂは、外接長方形３６ａと同形状に形成され、また、平面視において外接長方形３６ａと重複する位置に配されても良い。この場合、コイル軸Ａは、この外接長方形３６ｂの対角線の交点も通る。
【００８０】
上記の本体１０、上側導体パターン２５ａ１〜２５ａ５、下側導体パターン２５ｂ１〜２５ｂ５、引出導体２２ａ〜２２ｄ、及び外部電極２１ａ〜２１ｄの形状及び配置は例示であり、これらの構成要素に様々な変形を行ったものも本発明に適用され得る。例えば、外部電極２１ａ〜２１ｄはいずれも、本体１０の下面１０ｂに設けられても良い。この場合、引出導体２２ａ〜２２ｄは、絶縁膜上に形成されるのではなく、絶縁膜を貫くビア導体として形成される。よって、上側導体パターン２５ａ５は、引出導体２２ｂを含まず、周回部２５ａ５ａのみから構成されてもよい。同様に、上側導体パターン２５ａ１は、引出導体２２ａを含まずに周回部２５ａ１ａのみから構成されてもよく、下側導体パターン２５ｂ１は、引出導体２２ｄを含まずに周回部２５ｂ１ａのみから構成されてもよく、下側導体パターン２５ｂ５は、引出導体２２ｃを含まずに周回部２５ｂ５ａのみから構成されてもよい。本発明に適用可能な上側導体パターン、下側導体パターン、及び引出導体は、本明細書及び添付の図面に例示されたものには限られない。
【００８１】
図示のように、上側導体パターン２５ａ１〜２５ａ５の各々について、コイル軸Ａの周方向において、その一端と他端との間には、導体パターンが形成されていない開放領域が存在する。例えば、図５ａに示されているように、上側本体１１ａにおいて、コイル軸Ａの周方向における導体パターン２５ａ５の両端の間には、上側導体パターン２５ａ５が形成されていない開放領域２８ａ５が存在する。開放領域２８ａ５は、導体パターン２５ａ５の両端の各々とコイル軸Ａとを結ぶ２つの線分がなす中心角α５の範囲に延在している。開放領域２８ａ５は、平面視において（すなわち、コイル軸Ａの方向から見た場合に）、導体パターン２５ａ５の両端の各々とコイル軸Ａとを結ぶ２つの線分と、仮想線３６ａと、によって画される領域であってもよい。導体パターン２５ａ５は、コイル軸Ａの周囲において、開放領域２８ａ５と重複しない領域に延在している。すなわち、導体パターン２５ａ５は、コイル軸Ａの周囲において、開放領域２８ａ５と重複しない中心角（３６０°−α５）の範囲に延在している。
【００８２】
以下で説明するように、上側導体パターン２５ａ２〜２５ａ５についても、同様にして開放領域を定めることができる。例えば、図５ｂに示されているように、上側本体１１ａにおいて、コイル軸Ａの周方向における上側導体パターン２５ａ４の両端の間には、上側導体パターン２５ａ４が形成されていない開放領域２８ａ４が存在する。開放領域２８ａ４は、導体パターン２５ａ４の両端の各々とコイル軸Ａとを結ぶ２つの線分がなす中心角α４の範囲に延在している。開放領域２８ａ４は、平面視において、導体パターン２５ａ４の両端の各々とコイル軸Ａとを結ぶ２つの線分と、仮想線３６ａと、によって画される領域であってもよい。導体パターン２５ａ４は、コイル軸Ａの周囲において、開放領域２８ａ４と重複しない領域に延在している。すなわち、導体パターン２５ａ４は、コイル軸Ａの周囲において、開放領域２８ａ４と重複しない中心角（３６０°−α４）の範囲に延在している。
【００８３】
図５ｃに示されているように、上側本体１１ａにおいて、コイル軸Ａの周方向における上側導体パターン２５ａ３の両端の間には、上側導体パターン２５ａ３が形成されていない開放領域２８ａ３が存在する。開放領域２８ａ３は、導体パターン２５ａ３の両端の各々とコイル軸Ａとを結ぶ２つの線分がなす中心角α３の範囲に延在している。開放領域２８ａ３は、平面視において、導体パターン２５ａ３の両端の各々とコイル軸Ａとを結ぶ２つの線分と、仮想線３６ａと、によって画される領域であってもよい。導体パターン２５ａ３は、コイル軸Ａの周囲において、開放領域２８ａ３と重複しない領域に延在している。すなわち、導体パターン２５ａ３は、コイル軸Ａの周囲において、開放領域２８ａ３と重複しない中心角（３６０°−α３）の範囲に延在している。
【００８４】
図５ｄに示されているように、上側本体１１ａにおいて、コイル軸Ａの周方向における上側導体パターン２５ａ２の両端の間には、上側導体パターン２５ａ２が形成されていない開放領域２８ａ２が存在する。開放領域２８ａ２は、導体パターン２５ａ２の両端の各々とコイル軸Ａとを結ぶ２つの線分がなす中心角α２の範囲に延在している。開放領域２８ａ２は、平面視において、導体パターン２５ａ２の両端の各々とコイル軸Ａとを結ぶ２つの線分と、仮想線３６ａと、によって画される領域であってもよい。導体パターン２５ａ２は、コイル軸Ａの周囲において、開放領域２８ａ２と重複しない領域に延在している。すなわち、導体パターン２５ａ２は、コイル軸Ａの周囲において、開放領域２８ａ２と重複しない中心角（３６０°−α２）の範囲に延在している。
【００８５】
図５ｅに示されているように、上側本体１１ａにおいて、コイル軸Ａの周方向における上側導体パターン２５ａ１の両端の間には、上側導体パターン２５ａ１が形成されていない開放領域２８ａ１が存在する。開放領域２８ａ１は、導体パターン２５ａ１の両端の各々とコイル軸Ａとを結ぶ２つの線分がなす中心角α１の範囲に延在している。開放領域２８ａ１は、平面視において、導体パターン２５ａ１の両端の各々とコイル軸Ａとを結ぶ２つの線分と、仮想線３６ａと、によって画される領域であってもよい。導体パターン２５ａ１は、コイル軸Ａの周囲において、開放領域２８ａ１と重複しない領域に延在している。すなわち、導体パターン２５ａ１は、コイル軸Ａの周囲において、開放領域２８ａ１と重複しない中心角（３６０°−α１）の範囲に延在している。
【００８６】
下側導体パターン２５ｂ１〜２５ｂ５についても、上側導体パターン２５ａ１〜２５ａ５と同様にして開放領域を定めることができる。具体的には、図６ａに示されているように、下側本体１１ｂにおいて、コイル軸Ａの周方向における下側導体パターン２５ｂ１の両端の間には、下側導体パターン２５ｂ１が形成されていない開放領域２８ｂ１が存在する。開放領域２８ｂ１は、導体パターン２５ｂ１の両端の各々とコイル軸Ａとを結ぶ２つの線分がなす中心角β１の範囲に延在している。開放領域２８ｂ１は、平面視において（すなわち、コイル軸Ａの方向から見た場合に）、導体パターン２５ｂ１の両端の各々とコイル軸Ａとを結ぶ２つの線分と、仮想線３６ｂと、によって画される領域であってもよい。導体パターン２５ｂ１は、コイル軸Ａの周囲において、開放領域２８ｂ１と重複しない領域に延在している。すなわち、導体パターン２５ｂ１は、コイル軸Ａの周囲において、開放領域２８ｂ１と重複しない中心角（３６０°−β１）の範囲に延在している。
【００８７】
図６ｂに示されているように、下側本体１１ｂにおいて、コイル軸Ａの周方向における下側導体パターン２５ｂ２の両端の間には、下側導体パターン２５ｂ２が形成されていない開放領域２８ｂ２が存在する。開放領域２８ｂ２は、導体パターン２５ｂ２の両端の各々とコイル軸Ａとを結ぶ２つの線分がなす中心角β２の範囲に延在している。開放領域２８ｂ２は、平面視において（すなわち、コイル軸Ａの方向から見た場合に）、導体パターン２５ｂ２の両端の各々とコイル軸Ａとを結ぶ２つの線分と、仮想線３６ｂと、によって画される領域であってもよい。導体パターン２５ｂ２は、コイル軸Ａの周囲において、開放領域２８ｂ２と重複しない領域に延在している。すなわち、導体パターン２５ｂ２は、コイル軸Ａの周囲において、開放領域２８ｂ２と重複しない中心角（３６０°−β２）の範囲に延在している。
【００８８】
図６ｃに示されているように、下側本体１１ｂにおいて、コイル軸Ａの周方向における下側導体パターン２５ｂ３の両端の間には、下側導体パターン２５ｂ３が形成されていない開放領域２８ｂ３が存在する。開放領域２８ｂ３は、導体パターン２５ｂ３の両端の各々とコイル軸Ａとを結ぶ２つの線分がなす中心角β３の範囲に延在している。開放領域２８ｂ３は、平面視において（すなわち、コイル軸Ａの方向から見た場合に）、導体パターン２５ｂ３の両端の各々とコイル軸Ａとを結ぶ２つの線分と、仮想線３６ｂと、によって画される領域であってもよい。導体パターン２５ｂ３は、コイル軸Ａの周囲において、開放領域２８ｂ３と重複しない領域に延在している。すなわち、導体パターン２５ｂ３は、コイル軸Ａの周囲において、開放領域２８ｂ３と重複しない中心角（３６０°−β３）の範囲に延在している。
【００８９】
図６ｄに示されているように、下側本体１１ｂにおいて、コイル軸Ａの周方向における下側導体パターン２５ｂ４の両端の間には、下側導体パターン２５ｂ４が形成されていない開放領域２８ｂ４が存在する。開放領域２８ｂ４は、導体パターン２５ｂ４の両端の各々とコイル軸Ａとを結ぶ２つの線分がなす中心角β４の範囲に延在している。開放領域２８ｂ４は、平面視において（すなわち、コイル軸Ａの方向から見た場合に）、導体パターン２５ｂ４の両端の各々とコイル軸Ａとを結ぶ２つの線分と、仮想線３６ｂと、によって画される領域であってもよい。導体パターン２５ｂ４は、コイル軸Ａの周囲において、開放領域２８ｂ４と重複しない領域に延在している。すなわち、導体パターン２５ｂ４は、コイル軸Ａの周囲において、開放領域２８ｂ４と重複しない中心角（３６０°−β４）の範囲に延在している。
【００９０】
図６ｅに示されているように、下側本体１１ｂにおいて、コイル軸Ａの周方向における下側導体パターン２５ｂ５の両端の間には、下側導体パターン２５ｂ５が形成されていない開放領域２８ｂ５が存在する。開放領域２８ｂ５は、導体パターン２５ｂ５の両端の各々とコイル軸Ａとを結ぶ２つの線分がなす中心角β４の範囲に延在している。開放領域２８ｂ５は、平面視において（すなわち、コイル軸Ａの方向から見た場合に）、導体パターン２５ｂ５の両端の各々とコイル軸Ａとを結ぶ２つの線分と、仮想線３６ｂと、によって画される領域であってもよい。導体パターン２５ｂ５は、コイル軸Ａの周囲において、開放領域２８ｂ５と重複しない領域に延在している。すなわち、導体パターン２５ｂ５は、コイル軸Ａの周囲において、開放領域２８ｂ５と重複しない中心角（３６０°−β５）の範囲に延在している。
【００９１】
本発明の一実施形態においては、上側コイル導体２５ａは、当該上側コイル導体２５ａを構成する複数の上側導体パターンのうち本体１０の第１の領域３０の最も近くに配されたもののターン数が当該複数の上側導体パターンのターン数の平均よりも大きくなるように構成される。図示の実施形態においては、上側コイル導体２５ａは、上側導体パターン２５ａ１〜上側導体パターン２５ａ５で構成されており、このうち上側導体パターン２５ａ１が第１の領域３０の最も近くに配されている。よって、上側導体パターン２５ａ１のターン数が、上側コイル導体２５ａを構成する上側導体パターン２５ａ１〜上側導体パターン２５ａ５のターン数の平均よりも大きい。
【００９２】
本明細書において、コイル軸の周りに巻回されている導体パターンのターン数は、当該コイル軸の周りの周方向において当該導体パターンが形成されている領域の割合を示す。所定の導体パターンのターン数は、当該導体パターンが延在する領域の中心角を用いて表すことができる。例えば、図示の実施形態において、導体パターン２５ａ１は、コイル軸Ａの周方向において中心角（３６０°−α１）の範囲に延在している。よって、導体パターン２５ａ１は、コイル軸Ａの周りの周方向に（３６０°−α１）／３６０°（＝１−α１／３６０）ターンだけ巻回されている。つまり、導体パターン２５ａ１のターン数は、（１−α１／３６０）ターンである。α１が正の値を取る場合には、導体パターン２５ａ１のターン数は１未満となる。α１は、０又は負の値も取り得る。例えば、図５ｅの実施形態において、周回部２５ａ１ａをコイル軸Ａの周方向へさらに延伸させると、α１は負の値となる。以上と同様に、導体パターン２５ａ２のターン数は（１−α２／３６０）ターンであり、導体パターン２５ａ３のターン数は（１−α３／３６０）ターンであり、導体パターン２５ａ４のターン数は（１−α４／３６０）ターンであり、導体パターン２５ａ５のターン数は（１−α５／３６０）ターンである。α２〜α５も正、０、又は負の値を取り得る。また、上側導体パターン２５ａ１〜上側導体パターン２５ａ５のターン数の平均は、１−３６０×（α１＋α２＋α３＋α４＋α５）／５ターンである。
【００９３】
よって、上側導体パターン２５ａ１のターン数が、上側コイル導体２５ａを構成する上側導体パターン２５ａ１〜上側導体パターン２５ａ５のターン数の平均よりも大きい場合には、
（１−α１／３６０）＞１−３６０×（α１＋α２＋α３＋α４＋α５）／５  （式１）
が成立する。この式１を整理すると以下の式２となる。
α１＜（α２＋α３＋α４＋α５）／４  （式２）
この式２から分かるように、本発明の一実施形態においては、絶縁膜２０ａ１〜２０ａ５の各々の開放領域２８ａ１〜２８ａ５の中心角α１〜α５の大きさを対比すると、第１の領域３０の最も近くに配されている絶縁膜２０ａ１における開放領域２８ａ１の中心角α１が、他の絶縁膜２０ａ２〜２０ａ５のそれぞれにおける開放領域２８ａ２〜２８ａ５のそれぞれの中心角α２〜α５の平均（すなわち、（α２＋α３＋α４＋α５）／４）よりも小さくなっている。このように開放領域２８ａ１を小さくすることにより、上側コイル導体２５ａと下側コイル導体２５ｂとの間の領域（第１の領域３０と開放領域２８ａ１とを含む領域）における磁気抵抗を大きくすることができる。これにより、上側コイル導体２５ａと下側コイル導体２５ｂとの間の領域からの漏れ磁束が抑制される。
【００９４】
本発明の一実施形態においては、上側コイル導体２５ａを構成する複数の上側導体パターンのうち前記第１の領域３０の最も近くに配された上側導体パターン２５ａ１のターン数が、当該上側導体パターン２５ａ１よりも第１の領域３０から遠位に配された上側導体パターン２５ａ２のターン数よりも大きい。この場合、以下の式が成り立つ。
１−α１／３６０＞１−α２／３６０  （式３）
式３の左辺は、上側導体パターン２５ａ１のターン数を表し、式３の右辺は、上側導体パターン２５ａ２のターン数を表している。
式３を整理すると、
α１＜α２  （式４）
となる。
【００９５】
当該実施形態によれば、式４から明らかなように、開放領域２８ａ１が小さくなるため、上側コイル導体２５ａと下側コイル導体２５ｂとの間の領域（第１の領域３０と開放領域２８ａ１とを含む領域）における磁気抵抗を大きくすることができる。よって、上側コイル導体２５ａと下側コイル導体２５ｂとの間の領域からの漏れ磁束が抑制される。
【００９６】
上側導体パターン２５ａ２のターン数は、当該上側導体パターン２５ａ２よりも第１の領域３０から遠位に配された上側導体パターン２５ａ３のターン数より大きくてもよい。上側導体パターン２５ａ３のターン数は、当該上側導体パターン２５ａ３よりも第１の領域３０から遠位に配された上側導体パターン２５ａ４のターン数より大きくてもよい。上側導体パターン２５ａ４のターン数は、当該上側導体パターン２５ａ４よりも第１の領域３０から遠位に配された上側導体パターン２５ａ５のターン数より大きくてもよい。このように、上側コイル導体２５ａは、当該上側コイル導体２５ａを構成する上側導体パターンのターン数は、第１の領域３０から遠ざかるほど小さくなるように構成されてもよい。
【００９７】
図示の実施形態では、上側導体パターン２５ａ１のターン数は概ね５／６ターンであり（中心角α１が概ね６０°であり）、上側導体パターン２５ａ２のターン数は概ね３／４ターンであり（中心角α２が概ね９０°であり）、上側導体パターン２５ａ３のターン数は概ね２／３ターンであり（中心角α３が概ね１２０°であり）、上側導体パターン２５ａ４のターン数は概ね７／１２ターンであり（中心角α４が概ね１５０°であり）、上側導体パターン２５ａ５のターン数は概ね１／２ターンである（中心角α５が概ね１８０°である）。
【００９８】
次に、下側コイル導体２５を構成する下側導体パターンの各々のターン数について説明する。本発明の一実施形態においては、下側コイル導体２５ｂは、当該下側コイル導体２５ｂを構成する複数の下側導体パターンのうち本体１０の第１の領域３０の最も近くに配されたもののターン数が当該複数の下側導体パターンのターン数の平均よりも大きくなるように構成される。図示の実施形態においては、下側コイル導体２５ｂは、下側導体パターン２５ｂ１〜下側導体パターン２５ｂ５で構成されており、このうち下側導体パターン２５ｂ１が第１の領域３０の最も近くに配されている。よって、下側導体パターン２５ｂ１のターン数が、下側コイル導体２５ｂを構成する下側導体パターン２５ｂ１〜下側導体パターン２５ｂ５のターン数の平均よりも大きい。
【００９９】
下側導体パターン２５ｂ１〜下側導体パターン２５ｂ５のターン数について説明する。当該導体パターンの各々が延在する領域の中心角を用いて表すと次のようになる。導体パターン２５ｂ１は、コイル軸Ａの周方向において中心角（３６０°−β１）の範囲に延在している。よって、導体パターン２５ｂ１は、コイル軸Ａの周りの周方向に（３６０°−β１）／３６０°ターン（＝（１−β１／３６０）ターン）だけ巻回されている。つまり、導体パターン２５ｂ１のターン数は、（１−β１／３６０）ターンである。これと同様に、導体パターン２５ｂ２のターン数は（１−β２／３６０）ターンであり、導体パターン２５ｂ３のターン数は（１−β３／３６０）ターンであり、導体パターン２５ｂ４のターン数は（１−β４／３６０）ターンであり、導体パターン２５ｂ５のターン数は（１−β５／３６０）ターンである。また、下側導体パターン２５ｂ１〜下側導体パターン２５ｂ５のターン数の平均は、１−３６０×（β１＋β２＋β３＋β４＋β５）／５ターンである。α１が正の値を取る場合には、導体パターン２５ａ１のターン数は１未満となる。β１〜β５は、正、０又は負の値を取り得る。
【０１００】
よって、下側導体パターン２５ｂ１のターン数が、下側コイル導体２５ｂを構成する下側導体パターン２５ｂ１〜下側導体パターン２５ｂ５のターン数の平均よりも大きい場合には、
（１−β１／３６０）＞１−３６０×（β１＋β２＋β３＋β４＋β５）／５  （式５）
が成立する。この式１を整理すると以下の式２となる。
β１＜（β２＋β３＋β４＋β５）／４  （式６）
この式２から分かるように、本発明の一実施形態においては、絶縁膜２０ｂ１〜２０ｂ５の各々の開放領域２８ｂ１〜２８ｂ５の中心角β１〜β５の大きさを対比すると、第１の領域の最も近くに配されている絶縁膜２０ｂ１における開放領域２８ｂ１の中心角β１が、他の絶縁膜２０ｂ２〜２０ｂ５のそれぞれにおける開放領域２８ｂ２〜２８ｂ５のそれぞれの中心角β２〜β５の平均（すなわち、（β２＋β３＋β４＋β５）／４）よりも小さくなっている。このように開放領域２８ｂ１を小さくすることにより、下側コイル導体２５ｂと下側コイル導体２５ｂとの間の領域（第１の領域３０と開放領域２８ｂ１とを含む領域）における磁気抵抗を大きくすることができる。これにより、下側コイル導体２５ｂと下側コイル導体２５ｂとの間の領域からの漏れ磁束が抑制される。
【０１０１】
本発明の一実施形態においては、下側コイル導体２５ｂを構成する複数の下側導体パターンのうち前記第１の領域３０の最も近くに配された下側導体パターン２５ｂ１のターン数が、当該下側導体パターン２５ｂ１よりも第１の領域３０から遠位に配された下側導体パターン２５ｂ２のターン数よりも大きい。この場合、以下の式が成り立つ。
１−β１／３６０＞１−β２／３６０  （式７）
式３の左辺は、下側導体パターン２５ｂ１のターン数を表し、式３の右辺は、下側導体パターン２５ｂ２のターン数を表している。
式３を整理すると、
β１＜β２  （式８）
となる。
【０１０２】
当該実施形態によれば、式４から明らかなように、開放領域２８ｂ１が小さくなるため、下側コイル導体２５ｂと下側コイル導体２５ｂとの間の領域（第１の領域３０と開放領域２８ｂ１とを含む領域）における磁気抵抗を大きくすることができる。よって、下側コイル導体２５ｂと下側コイル導体２５ｂとの間の領域からの漏れ磁束が抑制される。
【０１０３】
下側導体パターン２５ｂ２のターン数は、当該下側導体パターン２５ｂ２よりも第１の領域３０から遠位に配された下側導体パターン２５ｂ３のターン数より大きくてもよい。下側導体パターン２５ｂ３のターン数は、当該下側導体パターン２５ｂ３よりも第１の領域３０から遠位に配された下側導体パターン２５ｂ４のターン数より大きくてもよい。下側導体パターン２５ｂ４のターン数は、当該下側導体パターン２５ｂ４よりも第１の領域３０から遠位に配された下側導体パターン２５ｂ５のターン数より大きくてもよい。このように、下側コイル導体２５ｂは、当該下側コイル導体２５ｂを構成する下側導体パターンのターン数は、第１の領域３０から遠ざかるほど小さくなるように構成されてもよい。
【０１０４】
図示の実施形態では、下側導体パターン２５ｂ１のターン数は概ね５／６ターンであり（中心角β１が概ね６０°であり）、下側導体パターン２５ｂ２のターン数は概ね３／４ターンであり（中心角β２が概ね９０°であり）、下側導体パターン２５ｂ３のターン数は概ね２／３ターンであり（中心角β３が概ね１２０°であり）、下側導体パターン２５ｂ４のターン数は概ね７／１２ターンであり（中心角β４が概ね１５０°であり）、下側導体パターン２５ｂ５のターン数は概ね１／２ターンである（中心角β５が概ね１８０°である）。
【０１０５】
本発明の一実施形態において、開放領域２８ａ２は、コイル軸Ａの方向から見た場合に（平面視において）、開放領域２８ａ１と重複しないように配される。図５ｄ及び図５ｅに示されているように、図示の実施形態においては、開放領域２８ａ１と開放領域２８ａ２とは、コイル軸Ａの方向から見た場合に互いと重複しない位置に配されている。当該実施形態によれば、開放領域２８ａ１と開放領域２８ａ２とが重複することによる磁気抵抗の低下を防止することができる。これにより、上側コイル導体２５ａと下側コイル導体２５ｂとの間の領域を通過する漏れ磁束をより効果的に抑制することができる。開放領域２８ａ３は、コイル軸Ａの方向から見た場合に（平面視において）開放領域２８ａ２と重複しないように配されてもよい。開放領域２８ａ４は、コイル軸Ａの方向から見た場合に（平面視において）開放領域２８ａ３と重複しないように配されてもよい。開放領域２８ａ５は、コイル軸Ａの方向から見た場合に（平面視において）開放領域２８ａ４と重複しないように配されてもよい。
【０１０６】
本発明の一実施形態において、開放領域２８ｂ２は、コイル軸Ａの方向から見た場合に（平面視において）、開放領域２８ｂ１と重複しないように配される。図６ａ及び図６ｂに示されているように、図示の実施形態においては、開放領域２８ｂ１と開放領域２８ｂ２とは、コイル軸Ａの方向から見た場合に互いと重複しない位置に配されている。当該実施形態によれば、開放領域２８ｂ１と開放領域２８ｂ２とが重複することによる磁気抵抗の低下を防止することができる。これにより、上側コイル導体２５ｂと下側コイル導体２５ｂとの間の領域を通過する漏れ磁束をより効果的に抑制することができる。開放領域２８ｂ３は、コイル軸Ａの方向から見た場合に（平面視において）開放領域２８ｂ２と重複しないように配されてもよい。開放領域２８ｂ４は、コイル軸Ａの方向から見た場合に（平面視において）開放領域２８ｂ３と重複しないように配されてもよい。開放領域２８ｂ５は、コイル軸Ａの方向から見た場合に（平面視において）開放領域２８ｂ４と重複しないように配されてもよい。
【０１０７】
上記の実施形態は、適宜組み合わせ可能である。例えば、上側導体パターン２５ａ１のターン数が上側コイル導体２５ａを構成する上側導体パターン２５ａ１〜上側導体パターン２５ａ５のターン数の平均よりも大きく、且つ、下側導体パターン２５ｂ１のターン数が下側コイル導体２５ｂを構成する下側導体パターン２５ｂ１〜下側導体パターン２５ｂ５のターン数の平均よりも大きくてもよいし、上側コイル導体２５ａ及び下側コイル導体２５ｂの一方についてのみ当該ターン数の条件が満たされていても良い。また、上側導体パターン２５ａ１のターン数が上側コイル導体２５ａを構成する上側導体パターン２５ａ１〜上側導体パターン２５ａ５のターン数の平均よりも大きく、且つ、上側導体パターン２５ａ１のターン数が上側導体パターン２５ａ２のターン数より大きくても良く、このターン数に関する条件のうち一方のみが成り立っていてもよい。下側導体パターン２５ｂ１のターン数が下側コイル導体２５ｂを構成する下側導体パターン２５ｂ１〜下側導体パターン２５ｂ５のターン数の平均よりも大きく、且つ、下側導体パターン２５ｂ１のターン数が下側導体パターン２５ｂ２のターン数より大きくても良く、このターン数に関する条件のうち一方のみが成り立っていてもよい。
【０１０８】
次に、コイル部品１の製造方法の一例を説明する。コイル部品１は、例えば積層プロセスによって製造することができる。以下では、積層プロセスを用いたコイル部品１の製造方法について説明する。
【０１０９】
まず、絶縁膜２０ａ１〜絶縁膜２０ａ５、絶縁膜２０ｂ１〜絶縁膜２０ｂ５、上側第１カバー層１８ａを構成する各絶縁膜、下側第１カバー層１８ｂを構成する各絶縁膜、上側第２カバー層１９ａを構成する各絶縁膜、及び下側第２カバー層１９ｂを構成する各絶縁膜となるグリーンシートを作成する。これらのグリーンシートは、例えば、フェライト、軟磁性合金、フィラー粒子を分散させた樹脂、又はこれら以外の絶縁材料から形成される。以下では、グリーンシートは、軟磁性合金から形成されるものとする。Ｆｅ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ系合金、Ｆｅ−Ｃｒ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ａｌ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ−Ｃｒ系合金、又はこれら以外の任意の軟磁性合金から成る軟磁性金属粒子にバインダ樹脂及び溶剤を加えてスラリーを作成し、このスラリーをプラスチック製のベースフィルムの表面に塗布する。この塗布されたスラリーを乾燥させることでグリーンシートが作成される。
【０１１０】
次に、絶縁膜２０ａ２〜絶縁膜２０ａ５となる各グリーンシート及び絶縁膜２０ｂ１〜絶縁膜２０ｂ４となる各グリーンシートの所定の位置に、各グリーンシートをＴ軸方向に貫く貫通孔を形成する。
【０１１１】
次に、絶縁膜２０ａ１〜絶縁膜２０ａ５となる各グリーンシートの上面及び絶縁膜２０ｂ１〜絶縁膜２０ｂ５となる各グリーンシートの上面の各々に、導電ペーストをスクリーン印刷法により印刷することで、当該各グリーンシートに導体パターンを形成する。また、各グリーンシートに形成された各貫通孔に導電ペーストを埋め込む。このようにして絶縁膜２０ａ１〜絶縁膜２０ａ５となるグリーンシートに形成された導体パターンは、それぞれ上側導体パターン２５ａ１〜上側導体パターン２５ａ５となり、各貫通孔に埋め込まれた金属が上側ビアＶａ１〜Ｖａ４となる。また、絶縁膜２０ｂ１〜絶縁膜２０ｂ５となるグリーンシートに形成された導体パターンは、それぞれ下側導体パターン２５ｂ１〜下側導体パターン２５ｂ５となり、各貫通孔に埋め込まれた金属が下側ビアＶｂ１〜Ｖｂ４となる。各導体パターン及び各ビアは、スクリーン印刷法以外にも公知の様々な方法で形成され得る。
【０１１２】
次に、絶縁膜２０ａ１〜絶縁膜２０ａ５となる各グリーンシートを積層して上側コイル積層体を得る。絶縁膜２０ａ１〜絶縁膜２０ａ５となる各グリーンシートは、当該各グリーンシートに形成されている上側導体パターン２５ａ１〜２５ａ５の各々が隣接する導体パターンと上側ビアＶａ１〜Ｖａ４を介して電気的に接続されるように積層される。同様に、絶縁膜２０ｂ１〜絶縁膜２０ｂ５となる各グリーンシートを積層して下側コイル積層体を得る。絶縁膜２０ｂ１〜絶縁膜２０ｂ５となる各グリーンシートは、当該各グリーンシートに形成されている下側導体パターン２５ｂ１〜２５ｂ５の各々が隣接する導体パターンと下側ビアＶｂ１〜Ｖｂ４を介して電気的に接続されるように積層される。
【０１１３】
次に、上側第１カバー層１８ａ用の各グリーンシートを積層して上側第１積層体を形成し、上側第２カバー層１９ａ用の各グリーンシートを積層して上側第２積層体を形成し、下側第１カバー層１８ｂ用の各グリーンシートを積層して下側第１積層体を形成し、下側第２カバー層１９ｂ用の各グリーンシートを積層して下側第２積層体を形成する。
【０１１４】
次に、下側第２積層体、下側コイル積層体、下側第１積層体、上側第２積層体、上側コイル積層体、及び上側第１積層体をＴ軸方向の負方向側から正方向側に向かってこの順序で積層し、この積層された各積層体をプレス機により熱圧着することで本体積層体が得られる。本体積層体は、下側第２積層体、下側コイル積層体、下側第１積層体、上側第２積層体、上側コイル積層体、及び上側第１積層体を形成せずに、準備したグリーンシート全てを順番に積層して、この積層されたグリーンシートを一括して熱圧着することにより形成しても良い。
【０１１５】
次に、ダイシング機やレーザ加工機等の切断機を用いて上記本体積層体を所望のサイズに個片化することで、チップ積層体が得られる。次に、このチップ積層体を脱脂し、脱脂されたチップ積層体を加熱処理する。このチップ積層体の端部に対して、必要に応じて、バレル研磨等の研磨処理を行う。
【０１１６】
次に、このチップ積層体の両端部に導体ペーストを塗布することにより、外部電極２１ａ〜外部電極２１ｄを形成する。外部電極２１ａ〜外部電極２１ｄには、必要に応じて、半田バリア層及び半田濡れ層の少なくとも一方が形成されてもよい。以上により、コイル部品１が得られる。
【０１１７】
上記の製造方法に含まれる工程の一部は、適宜省略可能である。コイル部品１の製造方法においては、本明細書において明示的に説明されていない工程が必要に応じて実行され得る。上記のコイル部品１の製造方法に含まれる各工程の一部は、本発明の趣旨から逸脱しない限り、随時順番を入れ替えて実行され得る。上記のコイル部品１の製造方法に含まれる各工程の一部は、可能であれば、同時に又は並行して実行され得る。
【０１１８】
各絶縁膜となるグリーンシートは、フェライト又はフィラー粒子を分散させた樹脂から形成されてもよい。コイル部品１は、公知の方法を用いることにより、フェライト又はフィラー粒子を分散させた樹脂から形成されたグリーンシートを用いて製造されてもよい。
【０１１９】
コイル部品１に含まれる各絶縁膜は、各種のフィラー粒子を分散させた樹脂を仮硬化させた絶縁シートから形成されてもよい。かかる絶縁シートについては、脱脂を行う必要がない。
【０１２０】
コイル部品１は、スラリービルド法又はこれ以外の任意の公知の方法により製造されてもよい。
【０１２１】
コイル部品１は、積層プロセスによって形成されるので、従来の組立型のカップルドインダクタよりも小型化が容易である。
【０１２２】
本明細書で説明された各構成要素の寸法、材料、及び配置は、実施形態中で明示的に説明されたものに限定されず、この各構成要素は、本発明の範囲に含まれうる任意の寸法、材料、及び配置を有するように変形することができる。また、本明細書において明示的に説明していない構成要素を、説明した実施形態に付加することもできるし、各実施形態において説明した構成要素の一部を省略することもできる。
【符号の説明】
【０１２３】
１  コイル部品
１０  本体
２５ａ  上側コイル導体
２５ｂ  下側コイル導体
２８ａ１〜２８ａ５，２８ｂ１〜２８ｂ５  開放領域
３０  第１の領域
４０ａ  第２の領域
４０ｂ  第３の領域
【図１】
2019091812.tif 000003
【図２】
2019091812.tif 000004
【図３】
2019091812.tif 000005
【図４】
2019091812.tif 000006
【図５ａ】
2019091812.tif 000007
【図５ｂ】
2019091812.tif 000008
【図５ｃ】
2019091812.tif 000009
【図５ｄ】
2019091812.tif 000010
【図５ｅ】
2019091812.tif 000011
【図６ａ】
2019091812.tif 000012
【図６ｂ】
2019091812.tif 000013
【図６ｃ】
2019091812.tif 000014
【図６ｄ】
2019091812.tif 000015
【図６ｅ】
2019091812.tif 000016
【手続補正書】
【提出日】平成30年10月24日(2018.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の一実施形態における磁気結合型コイル部品は、第１の領域、前記第１の領域の上側に配された第２の領域、及び前記第１の領域の下側に配された第３の領域を有する本体と、前記本体の前記第２の領域内に設けられ、上下方向に延伸するコイル軸の周りに巻回された上側コイル導体と、前記本体の前記第３の領域内に設けられ、前記コイル軸の周りに巻回された下側コイル導体と、を備える。当該実施形態において、前記上側コイル導体は、複数の上側導体パターンを有し、前記複数の上側導体パターンのうち前記第１の領域の最も近くに配された第１上側導体パターンのターン数が、前記複数の上側導体パターンのターン数の平均よりも大きい。本発明の一実施形態においては、前記複数の上側導体パターンのうち前記第１の領域の最も近くに配された第１上側導体パターンのターン数が、前記複数の上側導体パターンのうち前記第１上側導体パターンよりも前記第１の領域から遠位に配された第２上側導体パターンのターン数よりも大きい。本発明の一実施形態においては、前記第２上側導体パターンのターン数が、前記複数の上側導体パターンのうち前記第２上側導体パターンより前記第１の領域から遠位に配された第３上側導体パターンのターン数よりも大きい。本発明の一実施形態において、前記第１上側導体パターンは、前記コイル軸の周方向に沿って延伸する周回部と、前記周回部の一方の端と外部電極とを接続する引出導体と、を備える。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
上側コイル導体２５ａは、上側本体１１ａ内においてコイル軸Ａの周りに巻回されている。下側コイル導体２５ｂは、下側本体 １１ｂ内においてコイル軸Ａの周りに巻回されている。コイル軸Ａは、図１のＴ軸と平行に延伸していてもよい。本明細書においてコイル部品１の上下方向に言及する際には、コイル軸Ａに沿う方向をコイル部品１の上下方向とすることがある。コイル軸ＡがＴ軸と平行に延伸する場合には、Ｔ軸方向において負側から正側に向かう方向が上方向とされ、Ｔ軸方向において正側から負側に向かう方向が下方向とされてもよい。本明細書では、可能な限り、この用法に従って、Ｔ軸方向において負側から正側に向かう方向を上方向とし、Ｔ軸方向において正側から負側に向かう方向を下方向として説明を行う。例えば、コイル部品１を構成する一組のコイルユニットのうち、Ｔ軸方向の正側にあるコイルユニットを上側コイルユニット１ａと呼び、Ｔ軸方向の負側にあるコイルユニットを下側コイルユニット１ｂと呼ぶのは、上下についての上記の用法に従ったものである。コイル軸Ａは、Ｔ軸と垂直な方向、例えばＬ軸方向に沿って延伸しても良い。この場合もコイル軸Ａに沿う方向をコイル部品１の上下方向とすることができる。したがって、コイル部品１の上下方向は、図示の実施形態のようにＴ軸と平行な方向であってもよく、他の実施形態においてはＴ軸と垂直な方向であってもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
図３を参照して下側本体１１ｂ及び当該下側本体１１ｂ内に設けられる下側コイル導体２５ｂについてさらに説明する。図示のように、下側本体１１ｂは、下側コイル層２０ｂ、当該下側コイル層２０ｂの上面に設けられた下側第１カバー層１８ｂ、及び当該下側コイル層２０ｂの下面に設けられた下側第２カバー層１９ｂを備える。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
下側コイル導体２５ｂは、Ｔ軸方向の一方の端部であるコイル面２６ｂと、Ｔ軸方向の他方の端部であるコイル面２７ｂと、を有する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
下側コイル導体２５ｂは、本体１０の第３の領域４０ｂ内に設けられている。図示の実施形態において、下側コイル導体２５ｂは、コイル面２６ｂが第３の領域４０ｂから第１の領域３０側に露出し、また、コイル面２７ｂが第３の領域４０ｂから下側第２カバー層１９ｂ側に露出するように設けられている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
図６ｃに示されているように、絶縁膜２０ｂ３には、導体パターン２５ｂ３が形成されている。導体パターン２５ｂ３は、ビアＶｂ２を介して導体パターン２５ｂ２と電気的に接続されている。導体パターン２５ｂ３は、ビアＶｂ２との接続点からコイル軸Ａの周方向に沿って反時計回り方向にビアＶｂ３との接続点まで延伸している。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９０】
図６ｅに示されているように、下側本体１１ｂにおいて、コイル軸Ａの周方向における下側導体パターン２５ｂ５の両端の間には、下側導体パターン２５ｂ５が形成されていない開放領域２８ｂ５が存在する。開放領域２８ｂ５は、導体パターン２５ｂ５の両端の各々とコイル軸Ａとを結ぶ２つの線分がなす中心角β５の範囲に延在している。開放領域２８ｂ５は、平面視において（すなわち、コイル軸Ａの方向から見た場合に）、導体パターン２５ｂ５の両端の各々とコイル軸Ａとを結ぶ２つの線分と、仮想線３６ｂと、によって画される領域であってもよい。導体パターン２５ｂ５は、コイル軸Ａの周囲において、開放領域２８ｂ５と重複しない領域に延在している。すなわち、導体パターン２５ｂ５は、コイル軸Ａの周囲において、開放領域２８ｂ５と重複しない中心角（３６０°−β５）の範囲に延在している。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９２】
本明細書において、コイル軸の周りに巻回されている導体パターンのターン数は、当該コイル軸の周りの周方向において当該導体パターンが形成されている領域の割合を示す。
所定の導体パターンのターン数は、当該導体パターンが延在する領域の中心角を用いて表すことができる。例えば、図示の実施形態において、導体パターン２５ａ１は、コイル軸Ａの周方向において中心角（３６０°−α１）の範囲に延在している。よって、導体パターン２５ａ１は、コイル軸Ａの周りの周方向に（３６０°−α１）／３６０°（＝１−α１／３６０）ターンだけ巻回されている。つまり、導体パターン２５ａ１のターン数は、（１−α１／３６０）ターンである。α１が正の値を取る場合には、導体パターン２５ａ１のターン数は１未満となる。α１は、０又は負の値も取り得る。例えば、図５ｅの実施形態において、周回部２５ａ１ａをコイル軸Ａの周方向へさらに延伸させると、α１は負の値となる。以上と同様に、導体パターン２５ａ２のターン数は（１−α２／３６０）ターンであり、導体パターン２５ａ３のターン数は（１−α３／３６０）ターンであり、導体パターン２５ａ４のターン数は（１−α４／３６０）ターンであり、導体パターン２５ａ５のターン数は（１−α５／３６０）ターンである。α２〜α５も正、０、又は負の値を取り得る。また、上側導体パターン２５ａ１〜上側導体パターン２５ａ５のターン数の平均は、１−（（α１＋α２＋α３＋α４＋α５）／５）／３６０ターンである。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９３】
よって、上側導体パターン２５ａ１のターン数が、上側コイル導体２５ａを構成する上側導体パターン２５ａ１〜上側導体パターン２５ａ５のターン数の平均よりも大きい場合には、
（１−α１／３６０）＞１−（（α１＋α２＋α３＋α４＋α５）／５）／３６０  （式１）
が成立する。この式１を整理すると以下の式２となる。
α１＜（α２＋α３＋α４＋α５）／４  （式２）
この式２から分かるように、本発明の一実施形態においては、絶縁膜２０ａ１〜２０ａ５の各々の開放領域２８ａ１〜２８ａ５の中心角α１〜α５の大きさを対比すると、第１の領域３０の最も近くに配されている絶縁膜２０ａ１における開放領域２８ａ１の中心角α１が、他の絶縁膜２０ａ２〜２０ａ５のそれぞれにおける開放領域２８ａ２〜２８ａ５のそれぞれの中心角α２〜α５の平均（すなわち、（α２＋α３＋α４＋α５）／４）よりも小さくなっている。このように開放領域２８ａ１を小さくすることにより、上側コイル導体２５ａと下側コイル導体２５ｂとの間の領域（第１の領域３０と開放領域２８ａ１とを含む領域）における磁気抵抗を大きくすることができる。これにより、上側コイル導体２５ａと下側コイル導体２５ｂとの間の領域からの漏れ磁束が抑制される。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
次に、下側コイル導体２５ｂを構成する下側導体パターンの各々のターン数について説明する。本発明の一実施形態においては、下側コイル導体２５ｂは、当該下側コイル導体２５ｂを構成する複数の下側導体パターンのうち本体１０の第１の領域３０の最も近くに配されたもののターン数が当該複数の下側導体パターンのターン数の平均よりも大きくなるように構成される。図示の実施形態においては、下側コイル導体２５ｂは、下側導体パターン２５ｂ１〜下側導体パターン２５ｂ５で構成されており、このうち下側導体パターン２５ｂ１が第１の領域３０の最も近くに配されている。よって、下側導体パターン２５ｂ１のターン数が、下側コイル導体２５ｂを構成する下側導体パターン２５ｂ１〜下側導体パターン２５ｂ５のターン数の平均よりも大きい。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
下側導体パターン２５ｂ１〜下側導体パターン２５ｂ５のターン数について説明する。
当該導体パターンの各々が延在する領域の中心角を用いて表すと次のようになる。導体パターン２５ｂ１は、コイル軸Ａの周方向において中心角（３６０°−β１）の範囲に延在している。よって、導体パターン２５ｂ１は、コイル軸Ａの周りの周方向に（３６０°−β１）／３６０°ターン（＝（１−β１／３６０）ターン）だけ巻回されている。つまり、導体パターン２５ｂ１のターン数は、（１−β１／３６０）ターンである。これと同様に、導体パターン２５ｂ２のターン数は（１−β２／３６０）ターンであり、導体パターン２５ｂ３のターン数は（１−β３／３６０）ターンであり、導体パターン２５ｂ４のターン数は（１−β４／３６０）ターンであり、導体パターン２５ｂ５のターン数は（１−β５／３６０）ターンである。また、下側導体パターン２５ｂ１〜下側導体パターン２５ｂ５のターン数の平均は、１−（（β１＋β２＋β３＋β４＋β５）／５）／３６０ターンである。β１が正の値を取る場合には、導体パターン２５ｂ１のターン数は１未満となる。
β１〜β５は、正、０又は負の値を取り得る。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１００】
よって、下側導体パターン２５ｂ１のターン数が、下側コイル導体２５ｂを構成する下側導体パターン２５ｂ１〜下側導体パターン２５ｂ５のターン数の平均よりも大きい場合には、
（１−β１／３６０）＞１−（（β１＋β２＋β３＋β４＋β５）／５）／３６０  （式５）
が成立する。この式５を整理すると以下の式６となる。
β１＜（β２＋β３＋β４＋β５）／４  （式６）
この式６から分かるように、本発明の一実施形態においては、絶縁膜２０ｂ１〜２０ｂ５の各々の開放領域２８ｂ１〜２８ｂ５の中心角β１〜β５の大きさを対比すると、第１の領域の最も近くに配されている絶縁膜２０ｂ１における開放領域２８ｂ１の中心角β１が、他の絶縁膜２０ｂ２〜２０ｂ５のそれぞれにおける開放領域２８ｂ２〜２８ｂ５のそれぞれの中心角β２〜β５の平均（すなわち、（β２＋β３＋β４＋β５）／４）よりも小さくなっている。このように開放領域２８ｂ１を小さくすることにより、上側コイル導体２５ａと下側コイル導体２５ｂとの間の領域（第１の領域３０と開放領域２８ｂ１とを含む領域）における磁気抵抗を大きくすることができる。これにより、上側コイル導体２５ａと下側コイル導体２５ｂとの間の領域からの漏れ磁束が抑制される。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０１】
本発明の一実施形態においては、下側コイル導体２５ｂを構成する複数の下側導体パターンのうち前記第１の領域３０の最も近くに配された下側導体パターン２５ｂ１のターン数が、当該下側導体パターン２５ｂ１よりも第１の領域３０から遠位に配された下側導体パターン２５ｂ２のターン数よりも大きい。この場合、以下の式が成り立つ。
１−β１／３６０＞１−β２／３６０  （式７）
式７の左辺は、下側導体パターン２５ｂ１のターン数を表し、式７の右辺は、下側導体パターン２５ｂ２のターン数を表している。
式７を整理すると、
β１＜β２  （式８）
となる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０２】
当該実施形態によれば、式８から明らかなように、開放領域２８ｂ１が小さくなるため、上側コイル導体２５ａと下側コイル導体２５ｂとの間の領域（第１の領域３０と開放領域２８ｂ１とを含む領域）における磁気抵抗を大きくすることができる。よって、上側コイル導体２５ａと下側コイル導体２５ｂとの間の領域からの漏れ磁束が抑制される。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０６】
本発明の一実施形態において、開放領域２８ｂ２は、コイル軸Ａの方向から見た場合に（平面視において）、開放領域２８ｂ１と重複しないように配される。図６ａ及び図６ｂに示されているように、図示の実施形態においては、開放領域２８ｂ１と開放領域２８ｂ２とは、コイル軸Ａの方向から見た場合に互いと重複しない位置に配されている。当該実施形態によれば、開放領域２８ｂ１と開放領域２８ｂ２とが重複することによる磁気抵抗の低下を防止することができる。これにより、上側コイル導体２５ａと下側コイル導体２５ｂとの間の領域を通過する漏れ磁束をより効果的に抑制することができる。開放領域２８ｂ３は、コイル軸Ａの方向から見た場合に（平面視において）開放領域２８ｂ２と重複しないように配されてもよい。開放領域２８ｂ４は、コイル軸Ａの方向から見た場合に（平面視において）開放領域２８ｂ３と重複しないように配されてもよい。開放領域２８ｂ５は、コイル軸Ａの方向から見た場合に（平面視において）開放領域２８ｂ４と重複しないように配されてもよい。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
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