(57)【要約】【課題】除染処理を均質に行うことができるとともに、除染処理時間を短縮させることができる容器連結装置を提供する。【解決手段】本発明による容器連結装置は、放射線透過性を有するキャップが先端に取り付けられたニードルと、キャップ取外部と、第１アクチュエータと、を備えている。キャップ取外部およびキャップは、ニードルが前進する際、ヘッドが第１外部から貫通孔を通過して第２外部に達することができ、ニードルが後退する際、第２外部に位置付けられたヘッドを含むキャップを係止して、キャップからニードルを引き抜くことができる、ように構成されている。第１アクチュエータは、ヘッドが第２外部に達するまでニードルを前進させ、その後にニードルを後退させる。【選択図】図９
2019033710.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
容器に液体を供給するとともに前記容器から液体を排出する液給排装置を前記容器に連結する、無菌チャンバ内に設けられた容器連結装置であって、
前記液給排装置に連結され、ヘッドを含むキャップであって放射線透過性を有するキャップが先端に取り付けられたニードルと、
中心軸線を含む貫通孔を有し、前記キャップを前記ニードルから取り外すキャップ取外部と、
前記ニードルを、前記キャップ取外部の前記中心軸線に沿う方向に前進および後退させる第１アクチュエータと、を備え、
前記中心軸線に沿う方向において、前記キャップ取外部に対する一方の外部を第１外部とし、他方の外部を第２外部とし、
前記キャップ取外部および前記キャップは、前記ニードルが前進する際、前記ヘッドが前記第１外部から前記貫通孔を通過して前記第２外部に達することができ、前記ニードルが後退する際、前記第２外部に位置付けられた前記ヘッドを含む前記キャップを係止して、前記キャップから前記ニードルを引き抜くことができる、ように構成され、
前記第１アクチュエータは、前記ヘッドが前記第２外部に達するまで前記ニードルを前進させ、その後に前記ニードルを後退させる、容器連結装置。
【請求項２】
前記キャップ取外部は、前記ニードルが前進する際、前記ヘッドが通過可能となるように、前記中心軸線に対して直交する方向において外側に弾性変形可能に構成されている、請求項１に記載の容器連結装置。
【請求項３】
前記キャップ取外部は、前記第２外部の側の端部から前記第１外部に向かって延びる複数のスリットを有している、請求項２に記載の容器連結装置。
【請求項４】
前記キャップ取外部の前記第２外部の側の端部は、前記ニードルが後退する際に前記キャップの前記ヘッドが当接するように構成されている、請求項２または３に記載の容器連結装置。
【請求項５】
前記キャップの前記ヘッドは、先端面と側面とを接続した面取部を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の容器連結装置。
【請求項６】
前記容器を保持する容器保持部と、
前記ニードルを回動させる第２アクチュエータと、を更に備え、
前記キャップ取外部は、前記容器保持部に対して、前記ニードルの回動方向において異なる位置に配置され、
前記ニードルは、前記第２アクチュエータによって、前記ニードルが前記容器保持部に保持される前記容器に対向する容器対向位置と、前記ニードルが前記キャップ取外部に対向する取外対向位置と、に位置付け可能である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の容器連結装置。
【請求項７】
前記ニードルが進退可能に設けられ、前記ニードルを洗浄する洗浄部を更に備え、
前記キャップ取外部は、前記洗浄部に取り付けられている、請求項６に記載の容器連結装置。
【請求項８】
前記容器を取り外し可能に保持する容器保持部と、
前記容器保持部に取り外し可能に保持される取外プレートと、を更に備え、
前記キャップ取外部は、前記取外プレートに設けられている、請求項１〜５のいずれか一項に記載の容器連結装置。
【請求項９】
前記取外プレートは、前記キャップ取外部が設けられた、前記ニードルから取り外された前記キャップを収容する収容孔を有している、請求項８に記載の容器連結装置。
【請求項１０】
前記収容孔は、前記ニードルの側の第１孔端部と、前記第１孔端部とは反対側の第２孔端部と、を含み、
前記第１孔端部に、前記キャップ取外部が設けられ、
前記第２孔端部は、前記取外プレートの外部に連通し、
前記第２孔端部に、前記収容孔に収容された前記キャップを係止するストッパが、脱着可能に設けられている、請求項９に記載の容器連結装置。
【請求項１１】
前記取外プレートの上面に、前記収容孔に連通する通気口が設けられている、請求項９または１０に記載の容器連結装置。
【請求項１２】
前記キャップは、前記ニードルが前進する際、前記ヘッドが通過可能となるように、前記中心軸線に対して直交する方向において内側に弾性変形可能に構成されている、請求項１に記載の容器連結装置。
【請求項１３】
容器に液体を供給するとともに前記容器から液体を排出する液給排装置を前記容器に連結する容器連結装置を組み立てる容器連結装置の組立方法であって、
ヘッドを含むキャップであって、放射線透過性を有するキャップが先端に取り付けられたニードルを、前記液給排装置に連結する連結工程と、
前記連結工程の後、前記ニードルおよび前記液給排装置を放射線滅菌する放射線滅菌工程と、
前記放射線滅菌工程の後、前記ニードルを、無菌チャンバ内に設置する設置工程と、
前記設置工程の後、前記無菌チャンバ内をガス除染するガス除染工程と、
前記ガス除染工程の後、前記キャップをキャップ取外部によって前記ニードルから取り外すキャップ取外工程と、
を備え、
前記キャップ取外部は、中心軸線を含む貫通孔を有し、
前記中心軸線に沿う方向において、前記キャップ取外部に対する一方の外部を第１外部とし、他方の外部を第２外部とし、
前記キャップ取外工程において、前記ヘッドが前記第１外部から前記貫通孔を通過して前記第２外部に達するまで前記ニードルを前進させ、前記ヘッドが前記第２外部に達した後、前記ニードルを後退させ、
前記ニードルを後退させる際、前記第２外部に位置付けられた前記ヘッドを含む前記キャップが前記キャップ取外部に係止されて、前記キャップから前記ニードルが引き抜かれる、容器連結装置の組立方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、容器連結装置および容器連結装置の組立方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、細胞培養により、目的とする組織や臓器を人工的に作成する再生医療の研究開発が進められている。細胞の培養操作等を行うためには、所定の基準、例えばＧＭＰ（Ｇｏｏｄ  Ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ  Ｐｒａｃｔｉｃｅ）を充足した培養処理システムが用いられている。
【０００３】
培養処理システムでは、培養容器に細胞を播種する工程や、培養容器で培養された細胞を継代する工程が行われる。このうち播種する工程では、培養容器で培養された細胞が分散された細胞懸濁液が液給排装置に排出されて、排出された細胞懸濁液を液給排装置から他の培養容器に供給する。このことにより、当該他の培養容器に細胞が播種される。また、継代工程では、培養容器に対して、液給排装置から、ＰＢＳ（リン酸緩衝生理食塩水）、剥離剤（Ｅｎｚｙｍｅ）および培地などが供給されたり、培養容器からこれらの液体が液給排装置に排出されたりする。このようにして、培養容器に対して液給排装置から種々の液体が供給されたり排出されたりする（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
閉鎖系培養容器への液給排のために、液給排装置に連結されたニードルが培養容器に差し込まれて、液給排装置がニードルを介して培養容器に連結される場合がある。この場合、ニードルは、培養容器が保持される容器保持部とともに無菌チャンバ内に設置されている。液給排装置は、無菌チャンバに隣接して設けられた別のチャンバ内に設置されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特表２０１６-５０５２７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
このような培養処理システムの組立時では、各部の組立後に、コンタミネーション防止のために除染処理が行われる。例えば、液給排装置のうち液体が通過する流路（ニードルの内部流路や、液給排装置のタンク、弁およびラインの内部流路など）を除染液で除染し、その後に、ニードルが設置されたチャンバ内を過酸化水素ガスで除染するという方法が行われる。
【０００７】
しかしながら、液体が通過する流路に除染液を充填する場合、ラインを構成するチューブと、チューブをニードルに連結する継手とによって形成される段差に気体が付着しやすくなっており、これによりチューブと継手との接触界面が除染液に触れなくなるため、接触界面の除染が困難であるという問題が考えられる。また、除染液による除染を確実にさせるためには、除染液を長い時間充填させておくことが要求されるため、除染処理に多くの時間が費やされるという問題もある。
【０００８】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、除染処理を均質に行うことができるとともに、除染処理時間を短縮させることができる容器連結装置および容器連結装置の組立方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、
容器に液体を供給するとともに前記容器から液体を排出する液給排装置を前記容器に連結する、無菌チャンバ内に設けられた容器連結装置であって、
前記液給排装置に連結され、ヘッドを含むキャップであって放射線透過性を有するキャップが先端に取り付けられたニードルと、
中心軸線を含む貫通孔を有し、前記キャップを前記ニードルから取り外すキャップ取外部と、
前記ニードルを、前記キャップ取外部の前記中心軸線に沿う方向に前進および後退させる第１アクチュエータと、を備え、
前記中心軸線に沿う方向において、前記キャップ取外部に対する一方の外部を第１外部とし、他方の外部を第２外部とし、
前記キャップ取外部および前記キャップは、前記ニードルが前進する際、前記ヘッドが前記第１外部から前記貫通孔を通過して前記第２外部に達することができ、前記ニードルが後退する際、前記第２外部に位置付けられた前記ヘッドを含む前記キャップを係止して、前記キャップから前記ニードルを引き抜くことができる、ように構成され、
前記第１アクチュエータは、前記ヘッドが前記第２外部に達するまで前記ニードルを前進させ、その後に前記ニードルを後退させる、容器連結装置、
を提供する。
【００１０】
上述した容器連結装置において、
前記キャップ取外部は、前記ニードルが前進する際、前記ヘッドが通過可能となるように、前記中心軸線に対して直交する方向において外側に弾性変形可能に構成されている、
ようにしてもよい。
【００１１】
上述した容器連結装置において、
前記キャップ取外部は、前記第２外部の側の端部から前記第１外部に向かって延びる複数のスリットを有している、
ようにしてもよい。
【００１２】
上述した容器連結装置において、
前記キャップ取外部の前記第２外部の側の端部は、前記ニードルが後退する際に前記キャップの前記ヘッドが当接するように構成されている、
ようにしてもよい。
【００１３】
上述した容器連結装置において、
前記キャップの前記ヘッドは、先端面と側面とを接続した面取部を含む、
ようにしてもよい。
【００１４】
上述した容器連結装置において、
前記容器を保持する容器保持部と、
前記ニードルを回動させる第２アクチュエータと、を更に備え、
前記キャップ取外部は、前記容器保持部に対して、前記ニードルの回動方向において異なる位置に配置され、
前記ニードルは、前記第２アクチュエータによって、前記ニードルが前記容器保持部に保持される前記容器に対向する容器対向位置と、前記ニードルが前記キャップ取外部に対向する取外対向位置と、に位置付け可能である、
ようにしてもよい。
【００１５】
上述した容器連結装置において、
前記ニードルが進退可能に設けられ、前記ニードルを洗浄する洗浄部を更に備え、
前記キャップ取外部は、前記洗浄部に取り付けられている、
ようにしてもよい。
【００１６】
上述した容器連結装置において、
前記容器を取り外し可能に保持する容器保持部と、
前記容器保持部に取り外し可能に保持される取外プレートと、を更に備え、
前記キャップ取外部は、前記取外プレートに設けられている、
ようにしてもよい。
【００１７】
上述した容器連結装置において、
前記取外プレートは、前記キャップ取外部が設けられた、前記ニードルから取り外された前記キャップを収容する収容孔を有している、
ようにしてもよい。
【００１８】
上述した容器連結装置において、
前記収容孔は、前記ニードルの側の第１孔端部と、前記第１端部とは反対側の第２孔端部と、を含み、
前記第１孔端部に、前記キャップ取外部が設けられ、
前記第２孔端部は、前記取外プレートの外部に連通し、
前記第２孔端部に、前記収容孔に収容された前記キャップを係止するストッパが、脱着可能に設けられている、
ようにしてもよい。
【００１９】
上述した容器連結装置において、
前記取外プレートの上面に、前記収容孔に連通する通気口が設けられている、
ようにしてもよい。
【００２０】
上述した容器連結装置において、
前記キャップは、前記ニードルが前進する際、前記ヘッドが通過可能となるように、前記中心軸線に対して直交する方向において内側に弾性変形可能に構成されている、
ようにしてもよい。
【００２１】
また、本発明は、
容器に液体を供給するとともに前記容器から液体を排出する液給排装置を前記容器に連結する容器連結装置を組み立てる容器連結装置の組立方法であって、
ヘッドを含むキャップであって、放射線透過性を有するキャップが先端に取り付けられたニードルを、前記液給排装置に連結する連結工程と、
前記連結工程の後、前記ニードルおよび前記液給排装置を放射線滅菌する放射線滅菌工程と、
前記放射線滅菌工程の後、前記ニードルを、無菌チャンバ内に設置する設置工程と、
前記設置工程の後、前記無菌チャンバ内をガス除染するガス除染工程と、
前記ガス除染工程の後、前記キャップをキャップ取外部によって前記ニードルから取り外すキャップ取外工程と、
を備え、
前記キャップ取外部は、中心軸線を含む貫通孔を有し、
前記中心軸線に沿う方向において、前記キャップ取外部に対する一方の外部を第１外部とし、他方の外部を第２外部とし、
前記キャップ取外工程において、前記ヘッドが前記第１外部から前記貫通孔を通過して前記第２外部に達するまで前記ニードルを前進させ、前記ヘッドが前記第２外部に達した後、前記ニードルを後退させ、
前記ニードルを後退させる際、前記第２外部に位置付けられた前記ヘッドを含む前記キャップが前記キャップ取外部に係止されて、前記キャップから前記ニードルが引き抜かれる、容器連結装置の組立方法、
を提供する。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、除染処理を均質に行うことができるとともに、除染処理時間を短縮させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】図１は、本発明の第１の実施の形態による培養処理システムの概略構成を示す図である。
【図２】図２は、図１に示す培養容器を示す平面図である。
【図３】図３は、図２に示す培養容器を示す縦断面図である。
【図４】図４は、図１に示す培養容器連結装置を示す概略構成図である。
【図５】図５は、図４に示す培養容器連結装置を示す概略平面図である。
【図６】図６は、図４に示す培養容器連結装置のニードル装置を示す概略平面断面図である。
【図７】図７は、図１に示す無菌チャンバの側壁のうちチューブが貫通する部分を示す拡大断面図である。
【図８】図８は、図４の培養容器連結装置の洗浄ブロックを示す縦断面図である。
【図９】図９は、図８のデキャッパおよびキャップを示す縦断面図である。
【図１０】図１０は、図９のデキャッパを示す斜視図である。
【図１１】図１１は、第１の実施の形態による培養容器連結装置の組立方法において、ニードルを液給排装置の部分組立体に連結する連結工程を説明するための図である。
【図１２】図１２は、第１の実施の形態による培養容器連結装置の組立方法において、放射線滅菌工程を説明するための図である。
【図１３】図１３は、第１の実施の形態による培養容器連結装置の組立方法において、ニードルの設置工程を説明するための図である。
【図１４】図１４は、第１の実施の形態による培養容器連結装置の組立方法において、ガス除染工程を説明するための図である。
【図１５】図１５は、第１の実施の形態による培養容器連結装置の組立方法において、キャップ取外工程を説明するための図である。
【図１６Ａ】図１６Ａは、図１５に示すキャップ取外工程において、ニードルを第１外部からデキャッパの貫通孔に挿入する工程を説明するための図である。
【図１６Ｂ】図１６Ｂは、図１６Ａに続いて、キャップのヘッドをデキャッパ本体の内面を摺動させながら前進させる工程を説明するための図である。
【図１６Ｃ】図１６Ｃは、図１６Ｂに続いて、ヘッドが第２外部に達する工程を説明するための図である。
【図１６Ｄ】図１６Ｄは、図１６Ｃに続いて、キャップがデキャッパを係止する工程を説明するための図である。
【図１６Ｅ】図１６Ｅは、図１６Ｄに続いて、キャップからニードルを引き抜く工程を説明するための図である。
【図１７】図１７は、図４の培養容器連結装置のニードルの内部洗浄工程を説明するための図である。
【図１８】図１８は、図４の培養容器連結装置のニードルの外部洗浄工程を説明するための図である。
【図１９】図１９は、図４の培養容器連結装置のニードルの除染工程を説明するための図である。
【図２０】図２０は、図９に示すデキャッパおよびキャップの変形例を示す縦断面図である。
【図２１】図２１は、図２０に示すキャップのヘッドをデキャッパ本体の内面を摺動させながら前進させる状態を示す図である。
【図２２】図２２は、本発明の第２の実施の形態において、デキャッパプレートを示す平面図である。
【図２３】図２３は、図２１に示すデキャッパプレートを示す縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、図面を参照しながら、培養処理システムを例にとって本発明の実施の形態による容器連結装置について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示の理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
【００２５】
各実施の形態による培養処理システムおよび培養処理方法は、あらゆる細胞を培養するために用いることができ、（ヒト）ｉＰＳ細胞、（ヒト）ＥＳ細胞等の多能性幹細胞、骨髄間質細胞（ＭＳＣ）等の軟骨細胞、樹状細胞等、あるいは血液細胞等の浮遊性細胞等の様々な細胞を培養する際に用いることができる。各実施の形態では、以下、ｉＰＳ細胞を培養する用途を主に想定して説明するが、これはあくまでも一例である。
【００２６】
（第１の実施の形態）
まず、図１〜図２１を参照して、本発明の第１の実施の形態における容器連結装置および容器連結装置の組立方法について説明する。ここでは、まず、容器連結装置としての培養容器連結装置を備える培養処理システムの概略構成を説明する。培養処理システムは、例えば図２および図３に示す閉鎖系の培養容器に対して細胞懸濁液を自動で供給および排出させるためのシステムである。
【００２７】
図１に示すように、培養処理システム１は、細胞を培養するための培養容器１００が連結される培養容器連結装置２と、培養容器１００に各種の液体を供給するとともに培養容器１００から各種の液体を排出する液給排装置３２と、を備えている。このうち培養容器連結装置２は、液給排装置３２を培養容器１００に連結するためのものである。本実施の形態では、液給排装置３２は、押出流体供給源３と、培地供給源４と、ドレンタンク５と、ＰＢＳ供給源６と、剥離剤供給源７と、を備えている。液給排装置３２は、種々の液体を供給および排出するように構成されている。そのような液体の例としては、例えば、以下に説明する細胞懸濁液、ＰＢＳ、剥離剤、培地などが挙げられる。
【００２８】
培養容器連結装置２は、培養容器１００を取り外し可能に保持する容器保持部４０と、容器保持部４０に保持される培養容器１００にそれぞれ連結可能な３つのニードル装置４１Ｘ、４１Ｙ、４１Ｚと、を有している。このうち容器保持部４０は、培養容器１００が載置されるように構成されており、培養容器１００が後述するニードルの進退方向や、進退方向に直交する方向への移動が規制されるように構成されている。３つのニードル装置は、第１ニードル装置４１Ｘと、第２ニードル装置４１Ｙと、第３ニードル装置４１Ｚにより構成されている。各ニードル装置４１Ｘ、４１Ｙ、４１Ｚは、上方から見たときに直線状に整列して配置されている。
【００２９】
本実施の形態では、容器保持部４０は、第１ニードル装置４１Ｘに対向する第１ニードル対向位置Ｎ１と、第２ニードル装置４１Ｙに対向する第２ニードル対向位置Ｎ２と、第３ニードル装置４１Ｚに対向する第３ニードル対向位置Ｎ３とに、移動可能になっている。容器保持部４０は、移動機構部４３（図４参照）によって各位置Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３に移動可能になっている。移動機構部４３の詳細については、後述する。
【００３０】
第１ニードル装置４１Ｘは、第１ニードル対向位置Ｎ１に位置付けられた容器保持部４０に保持される培養容器１００に進退可能な第１入口ニードル４１Ｘａおよび第１出口ニードル４１Ｘｂを有している。第２ニードル装置４１Ｙは、第２ニードル対向位置Ｎ２に位置付けられた容器保持部４０に保持される培養容器１００に進退可能な第２入口ニードル４１Ｙａおよび第２出口ニードル４１Ｙｂを有している。第３ニードル装置４１Ｚは、第３ニードル対向位置Ｎ３に位置付けられた容器保持部４０に保持される培養容器１００に進退可能な第３入口ニードル４１Ｚａおよび第３出口ニードル４１Ｚｂを有している。
【００３１】
第１ニードル装置４１Ｘの第１入口ニードル４１Ｘａおよび第１出口ニードル４１Ｘｂは、第１ニードル対向位置Ｎ１に位置付けられた培養容器１００に進退可能になっている。第１入口ニードル４１Ｘａが培養容器１００の流入口１０３（図２参照）に挿入されるとともに、第１出口ニードル４１Ｘｂが培養容器１００の流出口１０５（図２参照）に挿入れると、第１ニードル装置４１Ｘが培養容器１００に連結される。同様に、第２ニードル装置４１Ｙの第２入口ニードル４１Ｙａおよび第２出口ニードル４１Ｙｂは、第２ニードル対向位置Ｎ２に位置付けられた培養容器１００に進退可能になっている。第２入口ニードル４１Ｙａが培養容器１００の流入口１０３に挿入されるとともに、第２出口ニードル４１Ｙｂが培養容器１００の流出口１０５に挿入されると、第２ニードル装置４１Ｙが培養容器１００に連結される。第３ニードル装置４１Ｚの第３入口ニードル４１Ｚａおよび第３出口ニードル４１Ｚｂは、第３ニードル対向位置Ｎ３に位置付けられた培養容器１００に進退可能になっている。第３入口ニードル４１Ｚａが培養容器１００の流入口１０３に挿入されるとともに、第３出口ニードル４１Ｚｂが培養容器１００の流出口１０５に挿入されると、第３ニードル装置４１Ｚが培養容器１００に連結される。
【００３２】
まず、第１ニードル装置４１Ｘに連結された系統について説明する。第１ニードル装置４１Ｘは、主として、培養容器１００内の細胞懸濁液を排出するために用いられる。
【００３３】
第１ニードル装置４１Ｘの第１入口ニードル４１Ｘａには、上述した押出流体供給源３が連結されている。この押出流体供給源３は、培養容器１００内の細胞懸濁液を押し出して流出させるための押出流体を培養容器１００内に供給するためのものである。押出流体としては、例えば、後述するサーマルチャンバ２８内の空気などの気体を用いることが好適である。以下の説明では、押出流体供給源３は、当該空気を供給するものとして説明するが、押出流体は、このような空気に限られることはなく、さらには気体ではなくて液体であってもよい。
【００３４】
第１入口ニードル４１Ｘａと押出流体供給源３との間には、第１三方弁８が介在されている。第１三方弁８には、押出用バッファタンク９が連結されている。押出用バッファタンク９には、上述した培地供給源４が連結されている。この培地供給源４は、培地ポンプ１０が駆動されることによって、押出用バッファタンク９に培地を供給し、押出用バッファタンク９は、供給された培地を貯留する。
【００３５】
第１入口ニードル４１Ｘａと第１三方弁８とは、第１入口ライン１１によって連結されている。この第１入口ライン１１に、押出ポンプ１２（供給駆動部）が設けられている。第１三方弁８によって第１入口ライン１１と押出流体供給源３とが連通するとともに押出ポンプ１２が駆動されることによって、押出流体供給源３から第１入口ニードル４１Ｘａを介して培養容器１００内に空気が供給されるようになっている。一方、第１三方弁８によって第１入口ライン１１と押出用バッファタンク９とが連通するとともに押出ポンプ１２が駆動されることによって、押出用バッファタンク９から第１入口ニードル４１Ｘａを介して培養容器１００内に培地が供給されるようになっている。
【００３６】
第１出口ニードル４１Ｘｂには、第１出口ライン１３を介して懸濁液用バッファタンク１４が連結されている。この懸濁液用バッファタンク１４は、第１ニードル装置４１Ｘに連結された培養容器１００内の細胞懸濁液を貯留するためのものである。懸濁液用バッファタンク１４には、上述した培地供給源４が連結されている。培地ポンプ１０が駆動されることによって、培地供給源４から懸濁液用バッファタンク１４にも培地が供給されるようになっている。なお、懸濁液用バッファタンク１４は、貯留した細胞懸濁液を撹拌可能に構成されている。撹拌するための構成は、コンタミネーションを抑制可能であれば特に限られることはない。
【００３７】
ところで、押出流体供給源３と第１三方弁８との間には、押出流体開閉弁Ｖ１が介在されている。この押出流体開閉弁Ｖ１は、押出流体供給源３から第１三方弁８への押出流体の供給を制御している。押出用バッファタンク９と第１三方弁８との間には、第１培地開閉弁Ｖ２が介在されている。この第１培地開閉弁Ｖ２は、押出用バッファタンク９から第１三方弁８への培地の供給を制御している。第１出口ライン１３には、第１懸濁液開閉弁Ｖ３が設けられている。この第１懸濁液開閉弁Ｖ３は、第１出口ニードル４１Ｘｂから懸濁液用バッファタンク１４への細胞懸濁液の排出を制御している。
【００３８】
このような構成により、第１ニードル対向位置Ｎ１に位置付けられた容器保持部４０に保持された培養容器１００に第１ニードル装置４１Ｘが連結されると、培養容器１００内の細胞懸濁液が、第１出口ニードル４１Ｘｂを介して懸濁液用バッファタンク１４に排出される。この場合、第１三方弁８が、押出流体供給源３を第１入口ライン１１に連通させ、押出ポンプ１２が駆動される。そして、押出流体開閉弁Ｖ１および第１懸濁液開閉弁Ｖ３が開く。押出ポンプ１２の駆動によって、押出流体供給源３から第１入口ライン１１を介して第１入口ニードル４１Ｘａに押出流体が供給され、供給された押出流体が培養容器１００内に流入される。この流入した押出流体によって培養容器１００内の細胞懸濁液が押し出されて流出し、第１出口ニードル４１Ｘｂから第１出口ライン１３を介して懸濁液用バッファタンク１４に排出される。
【００３９】
次に、第２ニードル装置４１Ｙに連結された系統について説明する。第２ニードル装置４１Ｙは、主として、培養容器１００内に細胞懸濁液を供給するために用いられる。
【００４０】
第２入口ニードル４１Ｙａには、第２入口ライン１５を介して上述した懸濁液用バッファタンク１４が連結されている。この懸濁液用バッファタンク１４に貯留された細胞懸濁液が、第２入口ニードル４１Ｙａに供給されるようになっている。
【００４１】
第２出口ニードル４１Ｙｂには、第２出口ライン１６を介して、上述したドレンタンク５（ドレン部）が連結されている。より具体的には、第２出口ライン１６とドレンタンク５との間には、第２三方弁１７が介在されており、第２出口ライン１６は、第２出口ニードル４１Ｙｂと第２三方弁１７とを連結している。第３三方弁２３には、後述する第３出口ニードル４１Ｚｂも連結されている。
【００４２】
第２三方弁１７とドレンタンク５とは、ドレンライン１８によって連結されている。このドレンライン１８に、ドレンポンプ１９（排出駆動部）が設けられている。第２三方弁１７によって第２出口ライン１６とドレンライン１８とが連通するとともにドレンポンプ１９が駆動されることによって、第２出口ニードル４１Ｙｂを介して培養容器１００内の流体がドレンタンク５に排出されるようになっている。
【００４３】
ところで、第２入口ライン１５には、第２懸濁液開閉弁Ｖ４が設けられている。この第２懸濁液開閉弁Ｖ４は、懸濁液用バッファタンク１４から第２入口ニードル４１Ｙａへの細胞懸濁液の供給を制御している。ドレンライン１８に、ドレン開閉弁Ｖ５が設けられている。このドレン開閉弁Ｖ５は、第２三方弁１７からドレンタンク５への流体の排出を制御している。
【００４４】
このような構成により、第２ニードル対向位置Ｎ２に位置付けられた容器保持部４０に保持された培養容器１００に第２ニードル装置４１Ｙが連結されると、懸濁液用バッファタンク１４内の細胞懸濁液が、第２入口ニードル４１Ｙａを介して培養容器１００に供給される。この場合、第２三方弁１７が、第２出口ライン１６をドレンライン１８に連通させ、ドレンポンプ１９が駆動される。そして、第２懸濁液開閉弁Ｖ４およびドレン開閉弁Ｖ５が開く。ドレンポンプ１９の駆動によって、培養容器１００内の流体が流出され、第２出口ニードル４１Ｙｂから第２出口ライン１６およびドレンライン１８を介してドレンタンク５に排出される。この排出された流体によって、懸濁液用バッファタンク１４内の細胞懸濁液が、培養容器１００内に引き込まれる。すなわち、懸濁液用バッファタンク１４内の細胞懸濁液が、第２入口ライン１５を介して第２入口ニードル４１Ｙａに供給され、培養容器１００内に流入される。
【００４５】
次に、第３ニードル装置４１Ｚに連結された系統について説明する。第３ニードル装置４１Ｚは、主として、培養容器１００内に各種処理液を供給するために用いられる。ここでは、処理液の例として、ＰＢＳ（リン酸緩衝生理食塩水）、剥離剤（Ｅｎｚｙｍｅ）および培地が、第３ニードル装置４１Ｚを介して培養容器１００に供給される例について説明する。
【００４６】
第３入口ニードル４１Ｚａには、第３入口ライン２０を介して処理液用バッファタンク２１が連結されている。この処理液用バッファタンク２１は、第３ニードル装置４１Ｚに連結された培養容器１００に供給される各種処理液を貯留させるためのものである。
【００４７】
処理液用バッファタンク２１には、上述したＰＢＳ供給源６が連結されている。処理液ポンプ２２によって、ＰＢＳ供給源６から処理液用バッファタンク２１にＰＢＳが供給されるようになっている。また、処理液用バッファタンク２１には、上述した剥離剤供給源７が連結されており、処理液ポンプ２２が駆動されることによって、剥離剤供給源７から処理液用バッファタンク２１に剥離剤が供給されるようにもなっている。さらに、処理液用バッファタンク２１には、上述した培地供給源４が連結されており、培地ポンプ１０が駆動されることによって、培地供給源４から処理液用バッファタンク２１に培地が供給されるようになっている。
【００４８】
これらのＰＢＳ供給源６、剥離剤供給源７および培地供給源４は、第３三方弁２３および第４三方弁２４によって処理液用バッファタンク２１に選択的に連結されるようになっている。すなわち、処理液用バッファタンク２１と、ＰＢＳ供給源６との間に、第３三方弁２３および第４三方弁２４が介在されている。第３三方弁２３が、ＰＢＳ供給源６の側に設けられ、第４三方弁２４が、処理液用バッファタンク２１の側に設けられている。第３三方弁２３には、剥離剤供給源７が連結されており、この第３三方弁２３によって、ＰＢＳと剥離剤とが、第４三方弁２４に選択的に供給されるようになっている。処理液ポンプ２２は、第３三方弁２３と第４三方弁２４との間に介在されている。
【００４９】
培地供給源４は、第３三方弁２３を介在することなく、第４三方弁２４に連結されている。この第４三方弁２４によって、第３三方弁２３から供給される処理液（ＰＢＳまたは剥離剤）と、培地とが、処理液用バッファタンク２１に選択的に供給されるようになっている。なお、培地供給源４と第４三方弁２４との間には、培地切替弁２５が設けられている。この培地切替弁２５は、培地の供給先を、第４三方弁２４と、押出用バッファタンク９と、懸濁液用バッファタンク１４とに、切り替え可能に構成されている。
【００５０】
第３出口ニードル４１Ｚｂには、第３出口ライン２６を介して、上述したドレンタンク５が連結されている。より具体的には、第３出口ライン２６は、第３出口ニードル４１Ｚｂと、上述した第２三方弁１７とを連結している。第２三方弁１７によって第３出口ライン２６とドレンライン１８とが連通するとともにドレンライン１８に設けられたドレンポンプ１９が駆動されることによって、第３出口ニードル４１Ｚｂを介して培養容器１００内の流体がドレンタンク５に排出されるようになっている。
【００５１】
ところで、第３ラインには、処理液開閉弁Ｖ６が設けられている。この処理液開閉弁Ｖ６は、処理液用バッファタンク２１から第３入口ニードル４１Ｚａへの処理液の供給を制御している。
【００５２】
このような構成により、第３ニードル対向位置Ｎ３に位置付けられた容器保持部４０に保持された培養容器１００に第３ニードル装置４１Ｚが連結されると、処理液用バッファタンク２１内の処理液が、第３入口ニードル４１Ｚａを介して培養容器１００に供給される。この場合、第２三方弁１７が、第３出口ライン２６をドレンライン１８に連通させ、ドレンポンプ１９が駆動される。そして、処理液開閉弁Ｖ６が開く。ドレンポンプ１９の駆動によって、培養容器１００内の流体が第３出口ニードル４１Ｚｂ、第３出口ライン２６およびドレンライン１８を介してドレンタンク５に排出される。この排出された流体によって、処理液用バッファタンク２１内の処理液が、培養容器１００内に引き込まれる。すなわち、処理液用バッファタンク２１内の処理液が、第３入口ライン２０を介して第３入口ニードル４１Ｚａに供給され、培養容器１００内に流入される。
【００５３】
本実施の形態による培養処理システム１においては、例えば、細胞が播種されている培養容器１００に、第３ニードル装置４１Ｚを介して、ＰＢＳ、剥離剤、培地をこの順に供給して超音波振動を付与することができる。このことにより、培養容器１００の内壁に付着していた細胞を剥離させることができる。続いて、細胞が剥離された細胞懸濁液を、この培養容器１００から第１ニードル装置４１Ｘを介して懸濁液用バッファタンク１４に排出して培地で希釈することができる。その後、この希釈された細胞懸濁液を、第２ニードル装置４１Ｙを介して新たな他の培養容器１００に供給することができる。このことにより、この新たな培養容器１００に細胞を播種させることができる。
【００５４】
本実施の形態では、上述した各三方弁８、１７、２３、２４は、ロータリーバルブとして構成されている。ロータリーバルブは、回転式の弁体を含んでおり、この弁体に、連通路が設けられている。弁体が回転することにより、この連通路が、３つのポートのうちの２つのポートを連通させるように構成されている。上述した培地切替弁２５は、４つのポートが設けられているが、三方弁８、１７、２３、２４と同様に構成されている。
【００５５】
また、上述した各開閉弁Ｖ１〜Ｖ６は、ピンチバルブとして構成されている。このピンチバルブは、流体が通流するチューブを外側から閉塞可能に構成されている。閉じる際には、チューブを押圧して閉塞し、流体の通流を遮断する。一方、開く際には、チューブを開放する。このことにより、チューブ内の流体が開閉弁の構成部品に触れることを回避でき、コンタミネーションの防止を図っている。
【００５６】
また、上述した各ポンプ１０、１２、１９、２２は、チューブポンプとして構成されている。このチューブポンプは、流体が通流するチューブを外側から送液方向に押圧して、チューブ内の流体を供給先に送るように動作する。このことにより、チューブ内の流体がポンプの構成部品に触れることを回避でき、コンタミネーションの防止を図っている。
【００５７】
なお、このようなピンチバルブおよびチューブポンプを適用することができるチューブとしては、柔軟性を有していれば特に限られることはないが、柔軟な樹脂材料により形成されていることが好適である。例えば、シリコーンチューブやオレフィン系エラストマーチューブを好適に用いることができる。
【００５８】
培養容器連結装置２は、無菌チャンバ２７内に設けられており、無菌環境下に置かれている。無菌チャンバ２７内には、清浄な空気が充満しているとともに、無菌チャンバ２７内の温度が、高温（例えば、約３７℃）に維持されている。液給排装置３２を構成する押出用バッファタンク９、懸濁液用バッファタンク１４および処理液用バッファタンク２１などは、清浄な空気が充満しているサーマルチャンバ２８内に設けられている。サーマルチャンバ２８内の温度は、無菌チャンバ２７内の温度と同一の温度に維持されている。ＰＢＳ供給源６は、温度管理されていない室温保管庫（図示せず）に設けられている。無菌チャンバ２７の内部空間は、無菌操作を行うニードルが配置されており、無菌状態が維持されている。ここで、無菌という用語は、完全に菌が無い状態のみならず、作業に差し支えのない程度にわずかな菌が存在する状態を許容する用語として用いている。
【００５９】
無菌チャンバ２７には、過酸化水素ガス供給源３３が連結されている。この過酸化水素ガス供給源３３は、無菌チャンバ２７のガス除染工程（後述）において、無菌チャンバ２７に過酸化水素ガス（Ｈ２Ｏ２）を供給する。この過酸化水素ガスによって、無菌チャンバ２７内がガス除染される。ここで、除染という用語は、空間や作業室を含む構造設備に生存する菌をあらかじめ指定された菌数レベルまで減少させることを意味する用語として用いている。
【００６０】
培地供給源４および剥離剤供給源７は、低温（例えば、約４℃）に温度管理された低温保管庫（図示せず）に設けられている。このため、培地供給源４の培地は、培地ポンプ１０と培地切替弁２５との間に設けられた第１インレットヒータ２９によって加熱されてから、押出用バッファタンク９、懸濁液用バッファタンク１４および処理液用バッファタンク２１に供給されるようになっている。より具体的には、第１インレットヒータ２９によって、培地は、低温（約４℃）から高温（約３７℃）になるまで加熱されてから、各バッファタンクに供給される。同様に、剥離剤供給源７の剥離剤は、処理液ポンプ２２と第４三方弁２４との間に設けられた第２インレットヒータ３０によって加熱されてから、処理液用バッファタンク２１に供給されるようになっている。
【００６１】
また、図１に示すように、培養処理システム１は、制御部３１を更に備えている。この制御部３１は、上述したポンプ１０、１２、１９、２２、各三方弁８、１７、２３、２４および各開閉弁Ｖ１〜Ｖ６を制御するように構成されている。
【００６２】
次に、図２および図３を用いて、本実施の形態による培養容器１００について説明する。ここでは、カルチャープレート型の培養容器１００を例にとって説明する。
【００６３】
図２および図３に示すように、培養容器１００は、容器本体１０１と、容器本体１０１の一面に貼り付けられた平板１０２と、を備えている。容器本体１０１は、流体（細胞懸濁液や培地、各種処理液、空気）が流入される流入口１０３と、流入口１０３から流入した流体が通過する通路１０４と、通路１０４を通過した流体が流出される流出口１０５と、を有している。
【００６４】
容器本体１０１の通路１０４は、容器本体１０１の平板１０２が貼り付けられた一面側に溝状に形成されている。通路１０４の口径（すなわち溝の深さ及び幅）は、一例として、２ｍｍ〜４ｍｍである。また、容器本体１０１の通路１０４は、平面視において蛇行する部分、すなわち直線部と折り返し部とが交互に接続された部分を有している。これにより、容器本体１０１を大型化させることなく、通路１０４の全長を延伸させて、細長状の通路１０４が形成されている。
【００６５】
図２および図３に示すように、通路１０４の通路底面１０４ａには、通路１０４を通過する細胞が播種される複数の細胞播種領域１０６が、当該通路１０４に沿って並んで設けられている。本実施の形態では、通路１０４の通路底面１０４ａには、細胞播種領域１０６と同心状に窪み１０７が凹設されている。
【００６６】
流入口１０３に流入口ゴム栓１０８が挿入され、流出口１０５に流出口ゴム栓１０９が挿入されており、流入口１０３および流出口１０５が閉塞されている。流入口ゴム栓１０８には、上述した各入口ニードル４１Ｘａ、４１Ｙａ、４１Ｚａが貫通可能であり、流出口ゴム栓１０９には、上述した各出口ニードル４１Ｘｂ、４１Ｙｂ、４１Ｚｂが貫通可能になっている。
【００６７】
次に、図４乃至図６を用いて、本発明の実施の形態による培養容器連結装置２についてより詳細に説明する。
【００６８】
図４および図５に示すように、培養容器連結装置２は、ベース４２と、ベース４２から上方に延びる４つのサポート部４２ａと、を更に有している。４つのサポート部４２ａは、互いに離間するとともに直線状に整列されて配置されており、互いに隣り合うサポート部４２ａの間に、上述した第１ニードル装置４１Ｘ、第２ニードル装置４１Ｙ、および第３ニードル装置４１Ｚが取り付けられている。各ニードル装置４１Ｘ、４１Ｙ、４１Ｚは、対応するサポート部４２ａに対して回動可能に取り付けられている。
【００６９】
本実施の形態では、容器保持部４０には、移動機構部４３が連結されている。この移動機構部４３は、容器保持部４０を、上述した第１ニードル対向位置Ｎ１と、第２ニードル対向位置Ｎ２と、第３ニードル対向位置Ｎ３とに、直線状に移動させるように構成されている。また、本実施の形態では、容器保持部４０は、容器保持部４０に対する培養容器１００の受け渡しを行う受渡位置Ｎ４と、培養容器１００に超音波振動を付与する超音波位置Ｎ５にも、移動可能になっている。第１ニードル対向位置Ｎ１、第２ニードル対向位置Ｎ２、第３ニードル対向位置Ｎ３、受渡位置Ｎ４、および超音波位置Ｎ５は、直線状に整列されており、この順に配置されている。
【００７０】
図４に示すように、移動機構部４３は、リニアシャフトモータ４４を有している。このリニアシャフトモータ４４は、容器保持部４０に連結されたモータコイル４４ａと、磁性を帯びたモータシャフト４４ｂと、を含んでいる。このうちモータシャフト４４ｂは、モータコイル４４ａを、微少な隙間を介在させて（非接触式に）貫通している。モータシャフト４４ｂは、ベース４２に固定されているとともに、容器保持部４０の移動方向に延びている。このような構成により、モータコイル４４ａに電流が供給されてリニアシャフトモータ４４が駆動されると、モータシャフト４４ｂの延びる方向に沿って、モータコイル４４ａが直線移動する。本実施の形態では、リニアシャフトモータ４４は、ベース４２の下方に配置されており、保持部サポート４５を介して、容器保持部４０に連結されている。リニアシャフトモータ４４は、モータコイル４４ａとモータシャフト４４ｂとが非接触式であることから、コンタミネーションの防止に効果的である。しかしながら、コンタミネーションの防止を図ることができれば、これに限られることない。
【００７１】
ベース４２の上面には、リニアガイド４６が設けられている。このリニアガイド４６は、容器保持部４０の移動方向に沿って、すなわちモータシャフト４４ｂと平行に延びている。上述した保持部サポート４５には、ガイドブロック４７が設けられている。ガイドブロック４７は、リニアガイド４６に対して、リニアガイド４６の延びる方向に直交する方向に嵌合しているとともに、リニアガイド４６の延びる方向に摺動可能になっている。このような構成により、リニアガイド４６は、容器保持部４０の直線移動を案内している。なお、リニアガイド４６の摺動面およびガイドブロック４７の摺動面のうちの少なくとも一方には、削り屑などが発生することを防止するために、テフロン（登録商標）がコーティングされていることが好ましい。この場合、これらの摺動面にはグリスなどの潤滑剤を塗布することを不要にでき、無菌チャンバ２７内の汚染を防止できる。
【００７２】
リニアシャフトモータ４４は、上述した制御部３１によって制御されている。すなわち、リニアシャフトモータ４４が制御部３１によって制御されることにより、容器保持部４０は、各ニードル対向位置Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３、受渡位置Ｎ４および超音波位置Ｎ５に、位置付けられるようになっている。
【００７３】
次に、各ニードル装置４１Ｘ、４１Ｙ、４１Ｚの構成について説明する。各ニードル装置４１Ｘ、４１Ｙ、４１Ｚの構成は同一であるため、ここでは代表的に第１ニードル装置４１Ｘについて説明し、第２ニードル装置４１Ｙおよび第３ニードル装置４１Ｚについての詳細な説明は省略する。
【００７４】
図６に示すように、第１ニードル装置４１Ｘは、サポート部４２ａに回動可能に設けられた装置ケース５０と、第１入口ニードル４１Ｘａおよび第１出口ニードル４１Ｘｂを直線移動させる第１アクチュエータ５１（直動アクチュエータ）と、装置ケース５０を回動させる第２アクチュエータ５２（回動アクチュエータ）と、を有している。第１アクチュエータ５１および第２アクチュエータ５２は、装置ケース５０内に収容されて保持されている。第１入口ニードル４１Ｘａおよび第１出口ニードル４１Ｘｂは、装置ケース５０の上方に配置されて、後述するようにニードル保持部５３で保持されている。
【００７５】
第１アクチュエータ５１は、ニードル保持部５３を介して、第１入口ニードル４１Ｘａおよび第１出口ニードル４１Ｘｂを直線移動させる。すなわち、第１アクチュエータ５１は、２つのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂを同時に直線移動可能になっている。
【００７６】
第１アクチュエータ５１は、回転軸５４を有しており、この回転軸５４を回転駆動するように構成されている。第１アクチュエータ５１には、例えば、ステッピングモータを好適に用いることができる。一方、ニードル保持部５３には、ナット５５が連結されている。このナット５５は、外周面におねじが形成されたねじ軸５６（例えば、すべりねじ、ボールねじなど）に螺合している。ねじ軸５６は、装置ケース５０内に回転可能に保持されている。第１アクチュエータ５１の回転軸５４とねじ軸５６は、互いに平行に配置されている。また、ねじ軸５６の両側には、ねじ軸５６に平行に延びるガイドロッド５７が設けられている。これらのガイドロッド５７は、ナット５５の直線移動を案内し、ねじ軸５６の回転によってナット５５が直線移動可能になっている。
【００７７】
回転軸５４の端部には、第１プーリ５８が設けられている。一方、ねじ軸５６の端部には、第２プーリ５９が設けられている。第１プーリ５８と第２プーリ５９に、タイミングベルト６０が巻き掛けられており、第１プーリ５８の回転は、タイミングベルト６０を介して第２プーリ５９に伝達される。このようにして、第１アクチュエータ５１の回転駆動力が、ねじ軸５６に伝達され、ニードル保持部５３に保持された２つのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが、直線移動するように構成されている。
【００７８】
このような構成により、第１入口ニードル４１Ｘａおよび第１出口ニードル４１Ｘｂは、第１アクチュエータ５１によって直線移動可能になっており、培養容器１００に対して進退可能になっている。
【００７９】
すなわち、容器保持部４０に保持された培養容器１００の流入口１０３（図２参照）および流出口１０５は、水平方向（後述する第１ニードル装置４１Ｘの回動軸６１の軸方向に）に並んで離間して配置されている。２つのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、培養容器１００の流入口１０３および流出口１０５と同様の間隔で配置され、培養容器１００に第１ニードル装置４１Ｘが連結される場合には、流入口１０３および流出口１０５と同様に水平方向に並んで配置される。このことにより、第１入口ニードル４１Ｘａが、培養容器１００の流入口１０３に挿入された流入口ゴム栓１０８を貫通して流入口１０３に差し込まれ、流入口１０３が第１入口ニードル４１Ｘａを介して第１入口ライン１１（図１参照）に連結される。一方、第１出口ニードル４１Ｘｂが、流出口１０５に挿入された流出口ゴム栓１０９を貫通して流出口１０５に差し込まれ、流出口１０５が、第１出口ニードル４１Ｘｂを介して第１出口ライン１３に連結される。
【００８０】
図６に示すように、第２アクチュエータ５２は、サポート部４２ａに回動不能に固定された回動軸６１を有している。回動軸６１は、第２アクチュエータ５２の本体を貫通するように形成されている。第２アクチュエータ５２には、例えば、ステッピングモータを好適に用いることができる。
【００８１】
第２アクチュエータ５２は、装置ケース５０をサポート部４２ａに対する反力で回動することにより、装置ケース５０を介してニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂを回動可能に構成されている。すなわち、回動軸６１がサポート部４２ａに回動不能に固定されているため、第２アクチュエータ５２が駆動されると、回動軸６１が回動するのではなく、第２アクチュエータ５２自体が回動軸６１に対して反力で回動する。この場合、第２アクチュエータ５２を保持している装置ケース５０がサポート部４２ａに対して回動し、これにより、２つのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが回動するようになる。
【００８２】
このような構成により、２つのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、装置ケース５０を介して、第２アクチュエータ５２によって回動可能になっている。そして、後述する洗浄ブロック７０および除染ブロック９０に対して進退可能になる。
【００８３】
ところで、図４および図５に示すように、第１入口ニードル４１Ｘａの基端部に入口固定継手６２ａが固定されており、この入口固定継手６２ａがニードル保持部５３で保持されている。同様に、第１出口ニードル４１Ｘｂの基端部に出口固定継手６２ｂが固定されており、この出口固定継手６２ｂがニードル保持部５３で保持されている。第１入口ニードル４１Ｘａは、入口固定継手６２ａを介して、液給排装置３２の第１入口ライン１１に連結されており、第１出口ニードル４１Ｘｂは、出口固定継手６２ｂを介して、液給排装置３２の第１出口ライン１３に連結されている。第１入口ライン１１を構成する第１入口ラインチューブ１１ｔおよび第１出口ライン１３を構成する第１出口ラインチューブ１３ｔは、図５に示すように、装置ケース５０の側面に設けられたチューブ保持部６３で保持されている。図５には、第２ニードル装置４１Ｙの第２入口ニードル４１Ｙａに入口固定継手６２ａを介して連結された、第２入口ライン１５を構成する第２入口ラインチューブ１５ｔと、第２出口ニードル４１Ｙｂに出口固定継手６２ｂを介して連結された第２出口ライン１６を構成する第２出口ラインチューブ１６ｔとが示されている。同様に、第３ニードル装置４１Ｚの第３入口ニードル４１Ｚａに入口固定継手６２ａを介して連結された、第３入口ライン２０を構成する第３入口ラインチューブ２０ｔと、第３出口ニードル４１Ｚｂに出口固定継手６２ｂを介して連結された第３出口ライン２６を構成する第３出口ラインチューブ２６ｔとが示されている。
【００８４】
入口固定継手６２ａおよび出口固定継手６２ｂは、放射線（ガンマ線）耐性を有するとともに放射線（ガンマ線）透過性を有していることが好適である。この場合、第１入口ニードル４１Ｘａと入口固定継手６２ａとの接触界面、および入口固定継手６２ａと第１入口ラインチューブ１１ｔとの接触界面を滅菌処理することができる。また、第１出口ニードル４１Ｘｂと出口固定継手６２ｂとの接触界面、および出口固定継手６２ｂと第１出口ラインチューブ１３ｔとの接触界面を滅菌処理することができる。ここで、滅菌という用語は、完全に菌を死滅させることのみならず、作業に差し支えのない程度にわずかな菌が残存していることを許容する用語として用いている。
【００８５】
第１入口ラインチューブ１１ｔは、上述した無菌チャンバ２７内に配置された入口固定継手６２ａから無菌チャンバ２７の側壁２７ａを貫通して、サーマルチャンバ２８内に配置された第１三方弁８に延びている。無菌チャンバ２７の側壁２７ａにおいては、図７に示すように、第１入口ラインチューブ１１ｔは、側壁２７ａに設けられた側壁開口部２７ｂを貫通している。より具体的には、側壁開口部２７ｂには、アダプタ６５が挿入されており、アダプタ６５は、シール部材６６によって側壁２７ａに気密に取り付けられている。また、アダプタ６５には押圧部材６７がねじ込まれており、押圧部材６７とアダプタ６５との間にフェルール６８が配置されている。第１入口ラインチューブ１１ｔは、アダプタ６５、押圧部材６７およびフェルール６８を貫通している。フェルール６８は、テトラフルオロエチレン・エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）等の弾力性を有する材料によって形成されており、押圧部材６７に向かって先細状に形成されている。押圧部材６７は、フェルール６８の先細形状に沿って形成された受容部を含んでおり、この受容部にフェルール６８の先細状の部分が入り込んでいる。これにより、押圧部材６７がアダプタ６５にねじ込まれると、フェルール６８が押圧部材６７から圧力を受けて、くさび効果により、フェルール６８が第１入口ラインチューブ１１ｔを押圧する。このようにして、第１入口ラインチューブ１１ｔは、気密態様で無菌チャンバ２７の側壁２７ａを貫通しており、無菌チャンバ２７とサーマルチャンバ２８とが気体連通することを防止している。
【００８６】
第１出口ラインチューブ１３ｔは、上述した無菌チャンバ２７内に配置された出口固定継手６２ｂから無菌チャンバ２７の側壁２７ａを貫通して、サーマルチャンバ２８内に配置された懸濁液用バッファタンク１４に延びている。第１入口ラインチューブ１１ｔと同様に、アダプタ６５によって気密態様で無菌チャンバ２７の側壁２７ａを貫通している。なお、図示しないが、第１出口ラインチューブ１３ｔが側壁２７ａを貫通する側壁開口部は、第１入口ラインチューブ１１ｔが貫通する側壁開口部２７ｂとは別個に形成されている。
【００８７】
次に、各ニードル装置４１Ｘ、４１Ｙ、４１Ｚの各ニードルを洗浄する洗浄ブロック７０および除染ブロック９０について図８を用いて説明する。ここでは、代表的に第１ニードル装置４１Ｘのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂを例にとって説明する。なお、図８においては、図面を明瞭にするために、第１入口ニードル４１Ｘａを示し、第１出口ニードル４１Ｘｂは省略している。
【００８８】
図４に示すように、本実施の形態による培養容器連結装置２は、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂを洗浄する洗浄ブロック７０（洗浄部）と、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂを除染する除染ブロック９０（除染部）と、を更に備えている。洗浄ブロック７０および除染ブロック９０には、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂがそれぞれ進退可能になっている。洗浄ブロック７０および除染ブロック９０は、いずれもベース４２に取り付けられている。なお、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの洗浄は、図示しない洗浄液供給源から各ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂに供給される洗浄液によって行われる。
【００８９】
図８に示すように、洗浄ブロック７０は、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの内部洗浄を行う２つの内部洗浄孔７１と、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの外部洗浄を行う２つの外部洗浄孔７２と、を有している。内部洗浄孔７１および外部洗浄孔７２は、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが進退可能に形成されており、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの少なくとも一部が挿入される。このうち外部洗浄孔７２は、垂直方向に延びるように形成されている。
【００９０】
２つの内部洗浄孔７１には、第１排出ライン７３が連結されており、２つの内部洗浄孔７１内の洗浄液は、第１排出ライン７３に排出されるようになっている。２つの外部洗浄孔７２には、第２排出ライン７４が連結されており、２つの外部洗浄孔７２内の洗浄液は、第２排出ライン７４に排出されるようになっている。第１排出ライン７３には第１排出弁７５が設けられ、第２排出ライン７４には第２排出弁７６が設けられている。第１排出ライン７３および第２排出ライン７４は、下流側で第３排出ライン７７に合流している。第３排出ライン７７には、排出ポンプ７８（例えば、真空ポンプ）が設けられており、排出ポンプ７８が駆動されることにより、洗浄液が排出可能になっている。
【００９１】
２つの内部洗浄孔７１は、第１ニードル装置４１Ｘの回動軸６１の軸方向に並んで配置されており、培養容器１００の流入口１０３および流出口１０５と同様の間隔で配置されている。２つの外部洗浄孔７２の配置も同様である。このことにより、２つのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが、２つの内部洗浄孔７１に同時に挿入可能であるとともに、２つの外部洗浄孔７２に同時に挿入可能になっている。図８においては、２つの内部洗浄孔７１のうちの一方の内部洗浄孔７１を示すとともに、２つの外部洗浄孔７２のうちの一方の外部洗浄孔７２を示しており、他方の内部洗浄孔７１および他方の外部洗浄孔７２の図示は省略している。
【００９２】
洗浄ブロック７０の上面には、２つの凹状の連通路７９が設けられている。各連通路７９は、一方の内部洗浄孔７１と、これに対応する（内部洗浄孔７１に挿入されるニードルが挿入される）外部洗浄孔７２とを連通しており、外部洗浄孔７２からオーバーフローする洗浄液を内部洗浄孔７１に案内する。洗浄液をオーバーフローさせる際には、第２排出弁７６は閉じられるが、洗浄終了時には第２排出弁７６は開き、外部洗浄孔７２内の洗浄液を排出する。
【００９３】
図４に示すように、除染ブロック９０は、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの除染を行う２つの除染孔９１を有している。除染孔９１は、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが進退可能に形成されており、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの少なくとも一部が挿入される。除染ブロック９０は、除染孔９１に挿入されたニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂを加熱するヒータ（図示せず）を有している。除染時には、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは２００℃程度まで加熱される。２つの除染孔９１の配置は、上述した２つの内部洗浄孔７１の配置と同様になっており、２つのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが２つの除染孔９１に同時に挿入可能になっている。図４においては、一方の除染孔９１の図示は省略している。
【００９４】
図４に示すように、上述した容器保持部４０、洗浄ブロック７０および除染ブロック９０は、第１ニードル装置４１Ｘの回動中心Ｏに対してニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの先端の回動軌跡Ｌよりも外周側であって、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの回動方向に互いに異なる位置に配置されている。本実施の形態では、容器保持部４０の移動方向に沿って見たときに、容器保持部４０、除染ブロック９０および洗浄ブロック７０が、この順に、取り付け高さが低くなるように配置されている。
【００９５】
洗浄ブロック７０においては、内部洗浄孔７１および外部洗浄孔７２が、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの回動方向に互いに異なる位置に配置されている。本実施の形態では、容器保持部４０の移動方向に沿って見たときに、内部洗浄孔７１および外部洗浄孔７２が、この順に、容器保持部４０および除染ブロック９０から遠ざかるように配置されている。
【００９６】
ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、第２アクチュエータ５２によって、容器保持部４０に保持された培養容器１００の流入口１０３および流出口１０５に対向する容器対向位置Ｐ１と、洗浄ブロック７０に対向する洗浄対向位置（Ｐ２、Ｐ３）と、に位置付け可能になっている。ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが容器対向位置Ｐ１に位置付けられた場合、２つのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、その長手方向において、培養容器１００の流入口１０３および流出口１０５にそれぞれ整列される。図４に示す形態では、容器対向位置Ｐ１においてニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは水平に配置される。そして、第１アクチュエータ５１によって前進して（流入口１０３および流出口１０５に向かって直線移動して）、２つのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、流入口ゴム栓１０８および流出口ゴム栓１０９を同時に貫通して、培養容器１００内に差し込まれる。
【００９７】
洗浄対向位置は、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが内部洗浄孔７１に対向する内部洗浄対向位置Ｐ２と、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが外部洗浄孔７２に対向する外部洗浄対向位置Ｐ３と、を有している。すなわち、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、内部洗浄対向位置Ｐ２と、外部洗浄対向位置Ｐ３と、に位置付け可能になっている。ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが内部洗浄対向位置Ｐ２に位置付けられた場合、２つのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、その長手方向において、対応する内部洗浄孔７１にそれぞれ整列される。そして、第１アクチュエータ５１によって前進して、２つのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、２つの内部洗浄孔７１に同時に挿入される。ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが外部洗浄対向位置Ｐ３に位置付けられた場合、２つのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、その長手方向において、対応する外部洗浄孔７２にそれぞれ整列される。図４に示す形態では、外部洗浄対向位置Ｐ３においてニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの長手方向は垂直になる。そして、第１アクチュエータ５１よって前進して、２つのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、２つの外部洗浄孔７２に同時に挿入される。
【００９８】
また、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、第２アクチュエータ５２によって、除染ブロック９０の除染孔９１に対向する除染対向位置Ｐ４に位置付け可能になっている。ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが除染対向位置Ｐ４に位置付けられた場合、２つのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、その長手方向において、除染ブロック９０の対応する除染孔９１にそれぞれ整列される。そして、第１アクチュエータ５１よって前進して、２つのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、２つの除染孔９１に同時に挿入される。
【００９９】
第１アクチュエータ５１および第２アクチュエータ５２は、上述した制御部３１に接続されている。制御部３１は、第１アクチュエータ５１および第２アクチュエータ５２を制御するように構成されている。
【０１００】
本実施の形態では、上述のような洗浄ブロック７０および除染ブロック９０は、ニードル装置４１Ｘ、４１Ｙ、４１Ｚ毎に設けられている。すなわち、図示しないが、洗浄ブロック７０および除染ブロック９０はそれぞれ３つ設けられており、各洗浄ブロック７０が、対応するニードル装置に対向するように配置されており、各除染ブロック９０が、対応するニードル装置に対向するように配置されている。洗浄ブロック７０および除染ブロック９０は、ベース４２に取り付けられている。
【０１０１】
本実施の形態による培養容器連結装置２は、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの先端に取り付けられているキャップ３００を取り外すデキャッパ４００（キャップ取外部）を更に備えている。以下に、デキャッパ４００について、図８〜図１０を用いて説明する。本実施の形態によるデキャッパ４００は、上述した洗浄ブロック７０に設けられている。また、以下の説明においても、代表的に第１ニードル装置４１Ｘのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂを例にとって説明する。
【０１０２】
図８および図９に示すように、本実施の形態によるデキャッパ４００は、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの先端に取り付けられているキャップ３００を、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂから取り外すように構成されている。
【０１０３】
ここではまず、図９を用いてキャップ３００について説明する。キャップ３００は、培養容器連結装置２の組立時に、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの先端に取り付けられている。このキャップ３００は、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの先端において内部流路の開口を閉塞して、後述する放射線滅菌後のニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの内部流路の無菌状態を維持するためのものである。ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、キャップ３００が取り付けられた状態で、放射線（ガンマ線）滅菌処理される。キャップ３００は放射線透過性を有しているため、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂとキャップ３００との接触界面も滅菌処理される。
【０１０４】
キャップ３００は、円筒状に形成されたキャップ本体３０１と、キャップ本体３０１の先端に設けられたヘッド３０２と、を含んでいる。このうちヘッド３０２は、キャップ本体３０１の外径よりも大きい外径を有しており、半径方向外側に突出している。ヘッド３０２は、先端面（図８における上面）と側面とを接続した面取部３０３を含んでいる。
【０１０５】
キャップ本体３０１からヘッド３０２にわたって、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの先端が挿入される挿入孔３０４が延びている。この挿入孔３０４は、ヘッド３０２を貫通しておらず、有底の孔になっている。挿入孔３０４の直径は、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの外径よりも若干小さいことが好適である。この場合、キャップ３００はニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂに軽圧入されるため、培養容器連結装置２の組立時におけるニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの内部流路の気密性を確保することができる。
【０１０６】
キャップ３００は、放射線耐性および放射線透過性を有することができれば、任意の材料を用いることができる。例えば、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、テトラフルオロエチレン・エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）などを好適に用いることができる。
【０１０７】
図９に示すように、デキャッパ４００は、直線状に延びる中心軸線ＣＬを含む貫通孔４０１と、貫通孔４０１を画定するデキャッパ本体４０２（取外部本体）と、を有している。この中心軸線ＣＬに沿う方向において、デキャッパ４００に対する一方の外部（図９においては下側の外部）を第１外部４０３とし、デキャッパ４００に対する他方の外部（図９においては上側の外部）を第２外部４０４として、以下説明する。ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、上述したニードル装置４１Ｘの第１アクチュエータ５１によって、デキャッパ４００の中心軸線ＣＬに沿う方向に前進および後退するようになっている。第１外部４０３から第２外部４０４に向かう方向が前進方向であり、第２外部４０４から第１外部４０３に向かう方向が後退方向になる。
【０１０８】
キャップ３００およびデキャッパ４００は、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが第１外部４０３から第２外部４０４に向けて前進する際、ヘッド３０２が第１外部４０３から貫通孔４０１を通過して第２外部４０４に達することができる、ように構成されている。また、キャップ３００およびデキャッパ４００は、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが第１外部４０３に向けて後退する際、ヘッド３０２が第２外部４０４に位置付けられたキャップ３００がデキャッパ４００に係止されて、キャップ３００からニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが引き抜かれる、ように構成されている。本実施の形態では、デキャッパ４００のデキャッパ本体４０２は、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが前進する際、ヘッド３０２が通過可能となるように、中心軸線ＣＬに対して直交する方向において外側に（半径方向外側に）弾性変形可能に構成されている。キャップ３００は、デキャッパ本体４０２が半径方向外側に弾性変形する際には、デキャッパ本体４０２を半径方向外側に押圧しながら前進することができるように構成されているが、キャップ本体３０１自体は、実質的には変形しないようになっている。
【０１０９】
デキャッパ本体４０２は、第１外部４０３から第２外部４０４に向かって先細状に形成されており、概略的には円錐台筒状に形成されている。このような構成により、デキャッパ本体４０２は、前進するヘッド３０２によって半径方向外側に弾性変形するが、後退するキャップ３００を、係止しやすくなっている。
【０１１０】
デキャッパ本体４０２によって画定される貫通孔４０１も、第１外部４０３から第２外部４０４に向かって先細状に形成されており、円錐台状に形成されている。このような構成により、キャップ３００のヘッド３０２が、貫通孔４０１内をスムースに前進可能になっている。
【０１１１】
より具体的には、デキャッパ本体４０２は、第１外部４０３の側の第１端部４０５と、第２外部４０４の側の第２端部４０６と、を含んでいる。このうち第２端部４０６に、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの後退時にキャップ３００のヘッド３０２が当接するようになっている。第１端部４０５における貫通孔４０１の内径は、ヘッド３０２の外径よりも大きくなっている。第２端部４０６における貫通孔４０１の内径は、弾性変形していない状態では、ヘッド３０２の外径よりも小さくなっている。このことにより、後退するヘッド３０２が当接するようになっている。しかしながら、貫通孔４０１内を前進するヘッド３０２によって半径方向外側に押圧されると、デキャッパ本体４０２が半径方向外側に弾性変形し、この状態では、貫通孔４０１のうち第２端部４０６の側の部分は、ヘッド３０２が通過可能となるように拡大する。
【０１１２】
図１０に示すように、デキャッパ本体４０２に、４つのスリット４０７が設けられている。各スリット４０７は、デキャッパ本体４０２の第２端部４０６から第１端部４０５に向かって延びているが、第１端部４０５において終端しており、デキャッパ本体４０２を貫通していない。すなわち、デキャッパ本体４０２は、第１端部４０５において、周方向に一体に連続状に形成されている。スリット４０７は、中心軸線ＣＬに沿って見たときに、中心軸線ＣＬ（中心点）を基準に対称に配置されていることが好適である。この場合には、デキャッパ本体４０２の半径方向外側への弾性変形を、周方向で均等化させることができる。
【０１１３】
図９および図１０に示すように、デキャッパ本体４０２の第１端部４０５に、フランジ４０８が設けられている。このフランジ４０８は、デキャッパ本体４０２の外径よりも大きい外径を有している。
【０１１４】
デキャッパ４００に用いる材料は、過酸化水素耐性を有するとともに弾力性を有する材料であれば特に限られることはないが、キャップ３００と同様の材料を用いてもよい。
【０１１５】
本実施の形態では、上述のようなデキャッパ４００は、ニードル装置４１Ｘ、４１Ｙ、４１Ｚ毎に設けられている。すなわち、デキャッパ４００は、対応する洗浄ブロック７０にそれぞれ一対ずつ設けられており、各デキャッパ４００が、対応するニードル装置４１Ｘ、４１Ｙ、４１Ｚに対向するように配置されている。図８に示すように、デキャッパ４００は、洗浄ブロック７０に設けられたデキャッパ取付孔４０９内に、止め具４１０（例えば、Ｃ字状の止め輪）によって取り付けられている。このことにより、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの後退時に、デキャッパ４００が、デキャッパ取付孔４０９から後退方向に移動することを防止している。一方、デキャッパ４００のフランジ４０８は、デキャッパ取付孔４０９に設けられた段部４１１に当接しており、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの前進時に、デキャッパ４００が前進方向に移動することを防止している。
【０１１６】
また、デキャッパ４００は、容器保持部４０に対してニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの回動方向において異なる位置に配置されている。本実施の形態では、デキャッパ４００は、上述した洗浄ブロック７０に設けられている。そして、デキャッパ４００が取り付けられるデキャッパ取付孔４０９は、洗浄ブロック７０の内部洗浄孔７１および外部洗浄孔７２に対しても、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの回動方向において異なる位置に配置されている。本実施の形態では、容器保持部４０の移動方向に沿って見たときに、内部洗浄孔７１、外部洗浄孔７２およびデキャッパ取付孔４０９が、この順に、容器保持部４０および除染ブロック９０から遠ざかるように配置されているが、これに限られることはない。
【０１１７】
図８に示すように、洗浄ブロック７０には、デキャッパ４００によって取り外されたキャップ３００を収容する収容ケース４１２が取り付けられている。この収容ケース４１２は、洗浄ブロック７０から取り外し可能になっており、取り外されたキャップ３００が容易に回収可能になっている。また、収容ケース４１２は、一方のデキャッパ取付孔４０９の出口から他方のデキャッパ取付孔４０９の出口まで延びており、両方のデキャッパ４００によって取り外されたキャップ３００を収容可能になっている。
【０１１８】
ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、第２アクチュエータ５２によって、デキャッパ４００に対向するデキャッパ対向位置Ｐ５（取外対向位置）に位置付け可能になっている。ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂがデキャッパ対向位置Ｐ５に位置付けられた場合、２つのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、その長手方向において、対応するデキャッパ４００の貫通孔４０１にそれぞれ整列される。そして、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、第１アクチュエータ５１によって、ヘッド３０２が第２外部４０４に達するまで前進し、その後に後退するようになっている。この際、２つのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、同時に前進および後退する。
【０１１９】
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。
【０１２０】
［培養容器連結装置の組立方法］
まず、本実施の形態による培養容器連結装置の組立方法について、代表的に第１ニードル装置４１Ｘを例にとって説明する。第２ニードル装置４１Ｙおよび第３ニードル装置４１Ｚについての詳細な説明は省略する。
【０１２１】
まず、ステップＳ１（連結工程）として、図１１に示すように、キャップ３００が取り付けられたニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが、液給排装置３２に連結される。
【０１２２】
この場合、まず、液給排装置３２が部分的にユニット化されて部分組立（サブアセンブリ）され、部分組立体３４が形成される。図１１に示す部分組立体３４は、例えば、図１に示す第１三方弁８と、押出用バッファタンク９と、押出ポンプ１２と、懸濁液用バッファタンク１４と、押出流体開閉弁Ｖ１、第１培地開閉弁Ｖ２、第１懸濁液開閉弁Ｖ３とを含むようにしてもよい。部分組立体３４の構成は、液給排装置３２の構成や各部品の配置等に応じて任意とすることができる。
【０１２３】
続いて、図示しないチューブによって第１三方弁８等の部品が連結され、第１三方弁８と第１入口ニードル４１Ｘａが、第１入口ライン１１を構成する第１入口ラインチューブ１１ｔによって連結される。この際、第１入口ニードル４１Ｘａに入口固定継手６２ａが固定されて、この入口固定継手６２ａに、第１入口ラインチューブ１１ｔが固定される。第１入口ラインチューブ１１ｔには予めアダプタ６５、シール部材６６、押圧部材６７およびフェルール６８を貫通させておく。同様に、懸濁液用バッファタンク１４と第１出口ニードル４１Ｘｂが、第１出口ライン１３を構成する第１出口ラインチューブ１３ｔによって連結される。この際、第１出口ニードル４１Ｘｂに出口固定継手６２ｂが固定されて、この出口固定継手６２ｂに、第１出口ラインチューブ１３ｔが固定される。第１出口ラインチューブ１３ｔには予めアダプタ６５、シール部材６６、押圧部材６７およびフェルール６８を貫通させておく。
【０１２４】
その後、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの先端に、放射線透過性を有するキャップ３００がそれぞれ取り付けられる。キャップ３００は、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂに、軽圧入されることが好適である。また、固定継手６２ａ、６２ｂに、放射線透過性を有する保護キャップ３０５が取り付けられる。保護キャップ３０５は、キャップ３００が取り付けられたニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂを覆い、組立作業時にニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂを保護する。保護キャップ３０５は、組立作業時に不意に取り外されることを防止するために、固定継手６２ａ、６２ｂに軽圧入されることが好適である。
【０１２５】
ステップＳ１の後、ステップＳ２（放射線滅菌工程）として、図１２に示すように、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂ、第１入口ラインチューブ１１ｔ、部分組立体３４、アダプタ６５などが放射線滅菌される。この際、キャップ３００は放射線透過性を有しているため、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂとキャップ３００との接触界面にも放射線（ガンマ線）が照射されて、この接触界面が滅菌される。また、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂと固定継手６２ａ、６２ｂとの接触界面、および固定継手６２ａ、６２ｂとラインチューブ１１ｔ、１３ｔとの接触界面にも放射線が照射されて、これらの接触界面が滅菌される。また、このようにして放射線滅菌を行う場合、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂや部分組立体３４の各部品、各チューブを、均質に滅菌処理することができる。すなわち、各部品の流路に除染液を充填して除染処理する場合には、流路内に気泡が残り、除染液に触れない部分が生じて均質な除染が困難になる場合があり得る。これに対して本実施の形態では、全体的に放射線滅菌を行うことができるため、均質な除染処理を行うことができる。さらに、除染液を用いた場合には除染後に純水洗浄が行われるが、そのような純水洗浄工程を不要にできるため、除染処理の時間短縮を図ることができる。
【０１２６】
ステップＳ２の後、ステップＳ３（設置工程）として、図１３に示すように、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが、無菌チャンバ２７内に設けられたニードル装置４１Ｘに設置される。
【０１２７】
この場合、まず、液給排装置３２の部分組立体３４が、サーマルチャンバ２８内に配置され、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが、サーマルチャンバ２８から無菌チャンバ２７の側壁２７ａに設けられた側壁開口部２７ｂを通過して、無菌チャンバ２７内に引き込まれる。
【０１２８】
続いて、第１入口ラインチューブ１１ｔに予め貫通させていたアダプタ６５が、シール部材６６とともに対応する側壁開口部２７ｂに挿入されて、側壁２７ａに固定される。そして、押圧部材６７がアダプタ６５にねじ込まれる。このことにより、第１入口ラインチューブ１１ｔが、気密態様で無菌チャンバ２７の側壁２７ａを貫通し、当該側壁開口部２７ｂが閉塞される。第１出口ラインチューブ１３ｔも同様にして、対応する側壁開口部２７ｂに挿入されて、当該側壁開口部２７ｂが閉塞される。
【０１２９】
次に、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂを固定している固定継手６２ａ、６２ｂが、ニードル装置４１Ｘのニードル保持部５３に取り付けられる。これにより、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが、ニードル保持部５３に保持される。また、第１入口ラインチューブ１１ｔおよび第１出口ラインチューブ１３ｔは、ニードル装置４１Ｘの装置ケース５０の側面に設けられたチューブ保持部６３に保持される。ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂがニードル保持部５３に取り付けられた後、保護キャップ３０５が固定継手６２ａ、６２ｂからそれぞれ取り外される。
【０１３０】
ステップＳ３の後、ステップＳ４（ガス除染工程）として、図１４に示すように、無菌チャンバ２７内がガス除染される。この際、無菌チャンバ２７内に、過酸化水素ガス供給源３３から無菌チャンバ２７に過酸化水素ガスが供給されて無菌チャンバ２７内に充填される。これにより、無菌チャンバ２７の内壁や、各部品の外面、無菌チャンバ２７内の空気が除染される。
【０１３１】
ステップＳ４の後、ステップＳ５（キャップ取外工程）として、図１５に示すように、キャップ３００がニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂから取り外される。
【０１３２】
この場合、まず、第２アクチュエータ５２が駆動されて、２つのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、デキャッパ対向位置Ｐ５に位置付けられる。このことにより、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、対応するデキャッパ４００の貫通孔４０１にそれぞれ整列される。
【０１３３】
続いて、第１アクチュエータ５１が駆動されて、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、デキャッパ対向位置Ｐ５から対応するデキャッパ４００の貫通孔４０１に向かって前進する。すなわち、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、図１６Ａに示すように、デキャッパ４００の第１外部４０３から第２外部４０４に向けて前進し、キャップ３００のヘッド３０２が第１外部４０３から貫通孔４０１内に挿入される。
【０１３４】
貫通孔４０１内に挿入されたヘッド３０２は、図１６Ｂに示すように、デキャッパ本体４０２のうち第２端部４０６およびその近傍の部分で、デキャッパ本体４０２の内面を摺動しながら前進する。この際、ヘッド３０２は、デキャッパ本体４０２を半径方向外側に押圧して弾性変形させる。このことにより、貫通孔４０１のうち第２端部４０６の側の部分が拡大され、ヘッド３０２が更に前進する。
【０１３５】
やがて、ヘッド３０２は、図１６Ｃに示すように、デキャッパ４００の貫通孔４０１から抜け出て（貫通孔４０１を通過して）、デキャッパ４００の第２外部４０４に達する。この時点で、第１アクチュエータ５１の駆動を止めて、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂを停止させる。ヘッド３０２がデキャッパ４００の貫通孔４０１から抜け出ると、デキャッパ本体４０２は、弾性作用によって、拡大していた部分が半径方向内側に変位して、図１６Ａ等に示すような元の状態に戻る。
【０１３６】
次に、第１アクチュエータ５１が逆方向に駆動されて、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、第１外部４０３に向けて後退する。すると、ヘッド３０２は、図１６Ｄに示すように、元の状態に戻ったデキャッパ本体４０２の第２端部４０６に当接し、キャップ３００がデキャッパ４００に係止される。ヘッド３０２が第２端部４０６に当接した後にも、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、連続的に後退する。このことにより、図１６Ｅに示すように、デキャッパ４００に係止されたキャップ３００からニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが引き抜かれて、キャップ３００がニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂから取り外される。取り外されたキャップ３００は、図１５に示すように、収容ケース４１２に収容される。
【０１３７】
その後、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、デキャッパ４００の貫通孔４０１から後退して引き出される。このことにより、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、再びデキャッパ対向位置Ｐ５に位置付けられる。
【０１３８】
以上により、除染処理を伴う培養容器連結装置の組立方法が終了する。その後、図１に示す培養処理システム１の培養容器連結装置２と、液給排装置３２とを動作させることにより、細胞の播種工程、継代工程および回収工程などの培養処理を行うことができる。ここでは、培養処理方法の詳細な説明は省略する。
【０１３９】
［ニードル洗浄・除染方法］
ところで、細胞の播種工程、継代工程、回収工程などの間、必要に応じて、各ニードル装置４１Ｘ、４１Ｙ、４１Ｚのニードルは洗浄および除染されることが好適である。例えば、上述したステップＳ３において培養容器１００から細胞懸濁液を排出した場合や、ステップＳ９において培養容器１００に細胞懸濁液を供給した場合などには、コンタミネーションを防止するために、これらのステップの後にニードルは洗浄および除染されることが好ましい。そこで、ニードルの洗浄方法および除染方法について、代表的に第１ニードル装置４１Ｘを例にとって以下に説明する。第２ニードル装置４１Ｙおよび第３ニードル装置４１Ｚについての詳細な説明は省略する。
【０１４０】
（ニードルの内部洗浄工程）
まず、容器対向位置Ｐ１に第１入口ニードル４１Ｘａおよび第１出口ニードル４１Ｘｂが位置付けられた第１ニードル装置４１Ｘが回動し、洗浄ブロック７０においてニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが内部洗浄される。
【０１４１】
この場合、まず、図１７に示すように、第２アクチュエータ５２が駆動されて、２つのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、容器対向位置Ｐ１（図４参照）から回動して内部洗浄対向位置Ｐ２に位置づけられる。このことにより、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、洗浄ブロック７０の対応する内部洗浄孔７１にそれぞれ整列される。
【０１４２】
続いて、第１アクチュエータ５１が駆動されて、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、内部洗浄対向位置Ｐ２から対応する内部洗浄孔７１に向かって前進し、内部洗浄孔７１に挿入される。
【０１４３】
次に、図示しない洗浄液供給源から第１入口ニードル４１Ｘａおよび第１出口ニードル４１Ｘｂに洗浄液が供給される。この場合、第１出口ライン１３では、洗浄液は、上述した細胞懸濁液が流れる方向とは反対方向に流れる。
【０１４４】
ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの内部洗浄の間、排出ポンプ７８が駆動され、第１排出ライン７３に設けられた第１排出弁７５は開く。このことにより、各ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂに供給された洗浄液は、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの内部流路を通って、各ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの先端から吐出される。吐出された洗浄液は、第１排出ライン７３を介して第３排出ライン７７に排出される。この間、洗浄液は、各ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの内部流路を通り、内部流路が洗浄液で洗浄される（ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが内部洗浄される）。
【０１４５】
内部洗浄の後、第１アクチュエータ５１が駆動されて、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは内部洗浄孔７１から後退し、内部洗浄孔７１から引き出される。このことにより、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、再び内部洗浄対向位置Ｐ２に位置づけられる。
【０１４６】
（ニードルの外部洗浄工程）
ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが内部洗浄対向位置Ｐ２に位置づけられた後、第１ニードル装置４１Ｘが回動し、洗浄ブロック７０においてニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが外部洗浄される。
【０１４７】
この場合、まず、図１８に示すように、第２アクチュエータ５２が駆動されて、２つのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、内部洗浄対向位置Ｐ２から回動して外部洗浄対向位置Ｐ３に位置づけられる。このことにより、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、洗浄ブロック７０の対応する外部洗浄孔７２にそれぞれ整列される。
【０１４８】
続いて、第１アクチュエータ５１が駆動されて、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、外部洗浄対向位置Ｐ３から対応する外部洗浄孔７２に向かって前進し、外部洗浄孔７２に挿入される。この際、外部洗浄孔７２へのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの挿入深さは、内部洗浄孔７１への挿入深さよりも深いことが好ましい。また、外部洗浄孔７２へのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの挿入深さは、上述した細胞の播種工程や継代工程、回収工程時に培養容器１００の流入口１０３および流出口１０５に差し込まれるニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの差込深さよりも深いことが好ましい。
【０１４９】
次に、図示しない洗浄液供給源から第１入口ニードル４１Ｘａおよび第１出口ニードル４１Ｘｂに洗浄液が供給される。
【０１５０】
ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの外部洗浄の間、排出ポンプ７８が駆動され、第１排出弁７５は開くとともに第２排出弁７６は閉じる。このことにより、各ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂに供給された洗浄液は、先端から吐出されて外部洗浄孔７２に溜まり、外部洗浄孔７２が洗浄液で満たされて、各ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの外面が洗浄液で洗浄される（ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが外部洗浄される）。
【０１５１】
外部洗浄孔７２からオーバーフローした洗浄液は、洗浄ブロック７０の上面に設けられた連通路７９を通って対応する内部洗浄孔７１に流れる。内部洗浄孔７１に達した洗浄液は、第１排出ライン７３を介して第３排出ライン７７に排出される。外部洗浄の間、第２排出弁７６が閉じられているため、外部洗浄孔７２内に、下流側から（排出ポンプ７８の側から）菌が進入することを防止でき、外部洗浄孔７２の清潔性を向上させることができる。また、外部洗浄の間、外部洗浄孔７２自体を洗浄することにもなる。一方、第１排出弁７５を閉じるとともに第２排出弁７６を開いて、排出ポンプ７８を駆動して内部洗浄孔７１にニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂを挿入して洗浄液を吐出させると、内部洗浄孔７１から洗浄液をオーバーフローさせることができ、内部洗浄孔７１自体を洗浄することもできる。
【０１５２】
外部洗浄の後、第１アクチュエータ５１が駆動されて、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは外部洗浄孔７２から後退し、外部洗浄孔７２から引き出される。このことにより、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、再び外部洗浄対向位置Ｐ３に位置づけられる。
【０１５３】
（ニードルの除染工程）
ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが外部洗浄対向位置Ｐ３に位置づけられた後、第１ニードル装置４１Ｘが回動し、除染ブロック９０においてニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが除染される。
【０１５４】
この場合、まず、図１９に示すように、第２アクチュエータ５２が駆動されて、２つのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、外部洗浄対向位置Ｐ３から回動して除染対向位置Ｐ４に位置づけられる。このことにより、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、除染ブロック９０の対応する除染孔９１にそれぞれ整列される。
【０１５５】
続いて、第１アクチュエータ５１が駆動されて、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、除染対向位置Ｐ４から対応する除染孔９１に向かって前進し、除染孔９１に挿入される。この際、除染孔９１へのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの挿入深さは、上述した細胞の播種工程や継代工程、回収工程時に培養容器１００の流入口１０３および流出口１０５に差し込まれるニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの差込深さよりも深いことが好ましい。
【０１５６】
次に、除染ブロック９０のヒータが駆動されて、除染孔９１に挿入されたニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが加熱され、除染される。
【０１５７】
除染の後、ヒータを停止する。また、第１アクチュエータ５１が駆動されて、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、除染孔９１から後退し、除染孔９１から引き出される。このことにより、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、再び除染対向位置Ｐ４に位置づけられる。
【０１５８】
このようにして、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂを、洗浄ブロック７０で洗浄させることができるとともに、除染ブロック９０で除染させることができる。このため、コンタミネーションを防止できるとともに、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの交換を不要にすることができる。
【０１５９】
その後、上述した細胞の播種工程や、継代工程、回収工程を行う場合には、第２アクチュエータ５２が駆動されて、第１ニードル装置４１Ｘが回動する。このことにより、２つのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、容器対向位置Ｐ１に位置付けられる。
【０１６０】
このように本実施の形態によれば、デキャッパ４００は、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが前進する際、キャップ３００のヘッド３０２が第１外部４０３から貫通孔４０１を通過して第２外部４０４に達することができ、ニードルが後退する際、ヘッド３０２が第２外部４０４に位置付けられたキャップ３００を係止する、ように構成されている。そして、第１アクチュエータ５１は、ヘッド３０２が第２外部４０４に達するまでニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂを前進させ、その後にニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂを後退させる。このことにより、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂに取り付けられていたキャップ３００を、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂから自動的に取り外すことができる。すなわち、無菌チャンバ２７内をガス除染した後には、無菌チャンバ２７を開放することなく、キャップ３００をニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂから取り外すことができる。このため、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂを無菌チャンバ２７内に設置する前に、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの内部流路を放射線滅菌することができ、内部流路を短時間で均一に除染処理することができる。この結果、除染処理を均質に行うことができるとともに、除染処理時間を短縮させることができる。除染処理時間を短縮させることができる。
【０１６１】
また、本実施の形態によれば、デキャッパ本体４０２は、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが前進する際、半径方向外側に弾性変形する。このことにより、前進するキャップ３００のヘッド３０２がデキャッパ本体４０２の貫通孔４０１を通過することができ、第２外部４０４に達することができる。ヘッド３０２が第２外部４０４に達した後には、デキャッパ本体４０２は、弾性作用によって、弾性変形していた部分が半径方向内側に変位して元の状態に戻ることができる。このため、後退するヘッド３０２をデキャッパ４００に係止することができ、キャップ３００からニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂを引き抜くことができる。
【０１６２】
また、本実施の形態によれば、デキャッパ本体４０２に、スリット４０７が設けられている。このことにより、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが前進する際、デキャッパ本体４０２の半径方向外側への弾性変形を容易化させることができる。このため、第１アクチュエータ５１の駆動力の増大を抑制できる。
【０１６３】
また、本実施の形態によれば、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが後退する際、デキャッパ本体４０２の第２端部４０６にキャップ３００のヘッド３０２が当接する。このことにより、キャップ３００を安定した姿勢で係止させることができ、キャップ３００からニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂをより一層確実に引き抜くことができる。
【０１６４】
さらに、本実施の形態によれば、キャップ３００のヘッド３０２は、先端面と側面とを接続した面取部３０３を含んでいる。このことにより、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが前進する際、ヘッド３０２は、デキャッパ本体４０２を半径方向外側に押圧しながら、スムースに前進することができる。このため、第１アクチュエータ５１の駆動力の増大を抑制できる。
【０１６５】
なお、上述した本実施の形態においては、デキャッパ４００のデキャッパ本体４０２が、円錐台筒状に形成されて、４つのスリット４０７が設けられている例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、スリット４０７の個数は、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが前進する際、デキャッパ本体４０２の半径方向外側へ弾性変形させることができれば、任意である。また、スリット４０７は、デキャッパ本体４０２を貫通していない例を示したが、デキャッパ本体４０２の第１端部４０５が、実質的に変位不能に固定できれば、デキャッパ本体４０２を貫通させていてもよい。
【０１６６】
また、上述した本実施の形態においては、デキャッパ４００のデキャッパ本体４０２は、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが前進する際、ヘッド３０２が通過可能となるように、中心軸線ＣＬに対して直交する方向において外側に（半径方向外側に）弾性変形可能に構成されているとともに、キャップ本体３０１自体は、実質的には変形しない例について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、図２０および図２１に示すように、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが前進する際、ヘッド３０２が貫通孔４０１を通過可能となるように、キャップ３００が、中心軸線ＣＬに対して直交する方向において内側に（半径方向内側に）弾性変形可能に構成されるようにしてもよい。この場合、デキャッパ本体４０２自体は、実質的には変形しないようになっている。この場合においても、前進するキャップ３００のヘッド３０２がデキャッパ本体４０２の貫通孔４０１を通過することができ、第２外部４０４に達することができる。ヘッド３０２が第２外部４０４に達した後には、キャップ３００は、弾性作用によって、半径方向外側に変位して元の状態に戻ることができる。このため、後退するヘッド３０２をデキャッパ４００の第２端部４０６に当接させることができ、キャップ３００からニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂを引き抜くことができる。図２０、図２１においては、キャップ３００のヘッド３０２が湾曲状に形成されている例が示されているが、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの前進時に、半径方向内側に弾性変形することができれば、このような形状に限られることはない。また、デキャッパ本体４０２は、円筒状に形成されているが、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの後退時に、ヘッド３０２を第２端部４０６に当接させることができれば、このような形状に限られることはない。
【０１６７】
（第２の実施の形態）
次に、図２２および図２３を用いて、本発明の第２の実施の形態における容器連結装置および容器連結装置の組立方法について説明する。
【０１６８】
図２２および図２３に示す第２の実施の形態においては、容器連結装置が、容器保持部に取り外し可能に保持される取外プレートを備え、キャップ取外部が、取外プレートに設けられている点が主に異なり、他の構成は、図１〜図２１に示す第１の実施の形態と略同一である。なお、図２２および図２３において、図１〜図２１に示す第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【０１６９】
本実施の形態においては、図２２および図２３に示すように、培養容器連結装置２は、容器保持部４０（図１参照）に取り外し可能に保持されるデキャッパプレート５００（取外プレート）を更に備えている。このデキャッパプレート５００に、デキャッパ４００が設けられている。
【０１７０】
より具体的には、デキャッパプレート５００は、プレート本体５０１と、プレート本体５０１に設けられた一対の収容孔５０２と、を有している。このうちプレート本体５０１は、図２および図３に示す培養容器１００と同一の外形を有しており、容器保持部４０に取り外し可能に保持されるようになっている。収容孔５０２は、プレート本体５０１の長手方向（図２２における左右方向）に沿って延びており、プレート本体５０１を貫通している。
【０１７１】
収容孔５０２には、第１の実施の形態と同様の構成を有するデキャッパ４００が取り付けられている。収容孔５０２は、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの側の第１孔端部５０２ａと、第１孔端部５０２ａとは反対側の第２孔端部５０２ｂと、を含んでいる。このうち第１孔端部５０２ａに、デキャッパ４００が取り付けられている。デキャッパ４００の取付け構造は、第１の実施の形態と同様とすることができる。第２孔端部５０２ｂは、デキャッパプレート５００の外部に開口し連通している。
【０１７２】
収容孔５０２には、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂから取り外されたキャップ３００を収容して回収するように構成されている。すなわち、収容孔５０２は、円形状の断面を有しており、キャップ３００のヘッド３０２の外径よりも大きい直径を有している。
【０１７３】
収容孔５０２の第２孔端部５０２ｂには、収容孔５０２に収容されたキャップ３００を係止するストッパ５０３が脱着可能に設けられている。このストッパ５０３は、収容孔５０２に直交する方向（上方）に延びるねじ孔にねじ込まれたボルトによって構成されている。
【０１７４】
また、図２２および図２３に示すように、デキャッパプレート５００の上面に、収容孔５０２に連通する通気口５０４が設けられている。本実施の形態では、通気口５０４は、収容孔５０２が延びる方向（図２２における左右方向）に沿って細長状に延びており、スリット状に形成されている。この通気口５０４の第１孔端部５０２ａの側の端部は、デキャッパ４００よりも内側に配置され、第２孔端部５０２ｂの側の端部は、ストッパ５０３よりも内側に配置されている。
【０１７５】
本実施の形態における培養容器連結装置２は、第１の実施の形態で説明した手順と同様にして除染処理を伴う組み立てを行うことができる。ここでは、ステップＳ５（キャップ取外工程）について説明する。
【０１７６】
まず、容器保持部４０に、デキャッパプレート５００が保持される。この場合、まず、移動機構部４３のリニアシャフトモータ４４が駆動されて、容器保持部４０が、受渡位置Ｎ４に位置付けられる。続いて、この受渡位置Ｎ４において、図示しない受渡装置によってデキャッパプレート５００が容器保持部４０に保持される。次に、移動機構部４３のリニアシャフトモータ４４が駆動されて、容器保持部４０が、キャップ３００を取り外す対象となっているニードル装置のニードル対向位置に位置付けられる。ここでは、第１ニードル装置４１Ｘを対象として説明するため、容器保持部４０は、第１ニードル対向位置Ｎ１に位置付けられる。
【０１７７】
続いて、第２アクチュエータ５２が駆動されて、２つのニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが、容器対向位置Ｐ１に位置付けられる。このことにより、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、第１ニードル対向位置Ｎ１に位置付けられたデキャッパプレート５００の対応するデキャッパ４００の貫通孔４０１にそれぞれ整列される。
【０１７８】
続いて、第１アクチュエータ５１が駆動されて、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、容器対向位置Ｐ１から対応するデキャッパ４００の貫通孔４０１に向かって前進し、ヘッド３０２は、デキャッパ４００の貫通孔４０１から抜け出て（貫通孔４０１を通過して）、デキャッパ４００の第２外部４０４に達する。この時点で、第１アクチュエータ５１の駆動を止めて、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂを停止させる。
【０１７９】
次に、第１アクチュエータ５１が逆方向に駆動されて、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、第１外部４０３に向けて後退する。すると、ヘッド３０２は、デキャッパ本体４０２の第２端部４０６に当接し、キャップ３００がデキャッパ４００に係止される。このようにして、デキャッパ４００に係止されたキャップ３００からニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂが引き抜かれて、キャップ３００がニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂから取り外される。取り外されたキャップ３００は、収容孔５０２のうちデキャッパ４００の近傍に置かれる。
【０１８０】
その後、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、デキャッパ４００の貫通孔４０１から後退して引き出される。このことにより、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂは、再び容器対向位置Ｐ１に位置付けられる。
【０１８１】
培養処理を行う場合には、移動機構部４３のリニアシャフトモータ４４が駆動されて、容器保持部４０が、受渡位置Ｎ４に位置付けられる。続いて、この受渡位置Ｎ４において、図示しない受渡装置によって、容器保持部４０からデキャッパプレート５００が取り出されるとともに、この容器保持部４０に、培養容器１００が保持される。その後、移動機構部４３のリニアシャフトモータ４４が駆動されて、容器保持部４０が、第１ニードル装置４１Ｘに対向する第１ニードル対向位置Ｎ１に位置付けられる。
【０１８２】
ところで、次にニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂからキャップ３００を取り外す場合には、上述した手順と同様の手順が繰り返される。このうち、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂを前進させてヘッド３０２が第２端部４０６に達した際には、収容孔５０２で既に収容されている１つめのキャップ３００が、前進する２つめのキャップ３００によって押圧される。このことにより、１つめのキャップ３００は、第２端部４０６の側に移動し、１つめのキャップ３００が存在していた位置（デキャッパ４００の近傍）に、２つめのキャップ３００が置かれる。このようにして、収容孔５０２には、１つめのキャップ３００がストッパ５０３に係止されるまで、複数のキャップ３００が順々に積み重ねられるようにして収容することができる。
【０１８３】
収容されたキャップ３００は、ストッパ５０３を取り外すことによって、収容孔５０２から取り出すことができ、取り外されたキャップ３００が容易に回収可能になっている。
【０１８４】
このように本実施の形態によれば、容器保持部４０に取り外し可能に保持されたデキャッパプレート５００に、デキャッパ４００が取り付けられている。このことにより、キャップ３００が取り付けられたニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂを、デキャッパプレート５００のデキャッパ４００の貫通孔４０１に前進および後退させることで、キャップ３００をニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂから自動的に取り外すことができる。すなわち、無菌チャンバ２７内をガス除染した後には、無菌チャンバ２７を開放することなく、キャップ３００をニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂから取り外すことができる。このため、無菌チャンバ２７内に設置する前に、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂの内部流路を放射線滅菌することができ、内部流路を短時間で均一に除染処理することができる。この結果、除染処理を均質に行うことができるとともに、除染処理時間を短縮させることができる。
【０１８５】
また、本実施の形態によれば、デキャッパ４００が、容器保持部４０に取り外し可能に保持されたデキャッパプレート５００に取り付けられているため、容器保持部４０に保持される培養容器１００のスペースを有効利用して、デキャッパ４００を配置することができる。この場合、デキャッパ４００を取り付けるための取り付けスペースを不要にできる。また、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂがデキャッパ対向位置Ｐ５（図４参照）に位置付けられることを不要にでき、第２アクチュエータ５２の制御を簡素化させることができる。このため、培養容器連結装置２の構成が複雑化することを防止できる。
【０１８６】
また、本実施の形態によれば、デキャッパプレート５００は、ニードル４１Ｘａ、４１Ｘｂから取り外されたキャップ３００を収容する収容孔５０２を有している。このことにより、取り外されたキャップ３００を収容孔５０２に収容することができ、キャップ３００を容易に回収することができる。
【０１８７】
また、本実施の形態によれば、収容孔５０２の第２孔端部５０２ｂに、収容孔５０２に収容されたキャップ３００を係止するストッパ５０３が脱着可能に設けられている。このことにより、収容孔５０２に収容されたキャップ３００が収容孔５０２から外部にあふれ出すことを防止でき、キャップ３００を収容孔５０２に収容させることができる。
【０１８８】
また、本実施の形態によれば、デキャッパプレート５００の上面に、収容孔５０２に連通する通気口５０４が設けられている。このことにより、容器保持部４０にデキャッパプレート５００を保持してガス除染工程を行う場合に、通気口５０４から収容孔５０２に過酸化水素ガスを供給することができる。このため、収容孔５０２を均一にガス除染することができる。
【０１８９】
本発明は上記実施の形態および変形例そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施の形態および変形例に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。実施の形態および変形例に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施の形態および変形例にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【０１９０】
上記各実施の形態では、培養処理システムを例にとって本発明による容器連結装置および容器連結装置の組立方法について説明した。しかしながら、このことに限られることはなく、例えば、医薬製造システムや各種の分析システムなどのシステムにおいても、液給排装置を容器に連結する無菌チャンバ内に設けられた容器連結装置を含むシステムであれば、本発明による容器連結装置および容器連結装置の組立方法を適用することができる。
【符号の説明】
【０１９１】
１      培養処理システム
２      培養容器連結装置
２７    無菌チャンバ
３２    液給排装置
４０    容器保持部
４１Ｘａ  第１入口ニードル
４１Ｘｂ  第１出口ニードル
４１Ｙａ  第２入口ニードル
４１Ｙｂ  第２出口ニードル
４１Ｚａ  第３入口ニードル
４１Ｚｂ  第３出口ニードル
５１    第１アクチュエータ
５２    第２アクチュエータ
７０    洗浄ブロック
１００  培養容器
３００  キャップ
３０２  ヘッド
３０３  面取部
４００  デキャッパ
４０１  貫通孔
４０３  第１外部
４０４  第２外部
４０５  第１端部
４０６  第２端部
４０７  スリット
５００  デキャッパプレート
５０２  収容孔
５０２ａ  第１孔端部
５０２ｂ  第２孔端部
５０３  ストッパ
５０４  通気口
ＣＬ    中心軸線
Ｐ１    容器対向位置
Ｐ５    デキャッパ対向位置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６Ａ】
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【図１６Ｂ】
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【図１６Ｃ】
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【図１６Ｄ】
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【図１６Ｅ】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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