(57)【要約】【課題】校正ガスから除去対象物質を容易に取り除く。【解決手段】スクラバ１０３は、入口Ｉｓと、ケース１０３１と、スクラバ物質１０３４と、出口Ｏｓと、を備える。入口Ｉｓは、校正ガスＧｃを排出する排出口Ｏｃに接続される。ケース１０３１は、入口Ｉｓから取り入れた校正ガスＧｃが通過する内部空間Ｓを有する。スクラバ物質１０３４は、ケース１０３１の内部空間Ｓに充填され、当該内部空間Ｓを通過する校正ガスＧｃに含まれる除去対象物質を除去する固形物である。出口Ｏｓは、除去対象物質を除去した校正ガスＧｃを排出する。【選択図】図１
2019002809.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス分析装置の校正時に用いられる校正ガスを処理するための部材であって、
前記校正ガスを排出する排出口に接続される入口と、
前記入口から取り入れた前記校正ガスが通過する内部空間を有するケースと、
前記内部空間に充填され、前記内部空間を通過する前記校正ガスに含まれる除去対象物質を除去する固形物であるスクラバ物質と、
前記除去対象物質を除去した前記校正ガスを排出する出口と、
を備える除去部材。
【請求項２】
前記スクラバ物質は、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化カリウム、炭酸カルシウム、炭酸カリウム、ゼオライト、活性炭の中から選択される少なくとも一つの物質を含む、請求項１に記載の除去部材。
【請求項３】
前記入口と前記スクラバ物質との間に配置されるフィルターをさらに備える、請求項１又は２に記載の除去部材。
【請求項４】
前記スクラバ物質には、前記スクラバ物質の前記除去対象物質の除去能力に応じて色が変化する着色剤が含浸されている、請求項１〜３のいずれかに記載の除去部材。
【請求項５】
ガス分析装置の校正時に用いられる校正ガスを前記ガス分析装置に導入する校正ガス導入部と、
前記ガス分析装置の前記校正ガスを排出する排出口に接続された、請求項１〜４のいずれかに記載の除去部材と、
を備える、校正装置。
【請求項６】
測定対象ガスが存在する測定空間に測定光を照射する光源と、
前記測定光の光路上に設けられ、内部に校正ガスを導入する導入口と前記内部の前記校正ガスを排出する排出口とを有する校正セルと、
前記測定空間又は前記校正セルを通過した前記測定光を受光する受光部と、
前記導入口に接続され、前記校正セルの内部に前記校正ガスを充填する校正ガス導入部と、
前記排出口に接続される請求項１〜４のいずれかに記載の除去部材と、
を備えるガス分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガス分析装置において用いられる除去部材、当該除去部材が用いられる校正装置、及び、当該校正装置が用いられるガス分析装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、煙道などを流れる排ガスなどに含まれる所定成分の濃度を分析する装置が知られている。例えば、特許文献１には、煙道内などに存在する試料ガスに光を照射し、当該試料ガスを通過した光の強度から、照射光を吸収する所定成分の濃度を分析する装置が開示されている。
【０００３】
この装置では、煙道を構成する壁の外側に配置されたリフレクタを照射光の光路上に配置し、当該リフレクタと照射光を照射する光源との間に形成された空間に、装置の校正に用いるガス（校正ガスと呼ばれる）を充填して当該空間に光を照射することで、装置のスパン校正及び／又はゼロ点校正を行っている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−５７６５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記の装置において、排ガスなどを測定対象とする場合、排ガスには除去して外部に排出すべき物質（除去対象物質）が含まれる場合がある。このような場合、装置の校正は、除去対象物質を含むガスを校正ガスとして用いて実行される。
上記の装置では、校正の実行後に校正ガスを上記の空間から排出する必要があるが、装置の校正を容易に実行するには、校正ガスの大気中への排出を容易にすることが求められる。
【０００６】
本発明の目的は、ガス分析装置の校正時において用いられる校正ガスから除去対象物質を容易に取り除くことにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
以下に、課題を解決するための手段として複数の態様を説明する。これら態様は、必要に応じて任意に組み合せることができる。
本発明の一見地に係る除去部材は、ガス分析装置の校正時に用いられる校正ガスを処理するための部材である。除去部材は、入口と、ケースと、スクラバ物質（除去物質、吸着物質）と、出口と、を備える。入口は、校正ガスを排出する排出口に接続される。ケースは、入口から取り入れた校正ガスが通過する内部空間を有する。スクラバ物質は、ケースの内部空間に充填され、当該内部空間を通過する校正ガスに含まれる除去対象物質を除去する固形物である。出口は、除去対象物質を除去した校正ガスを排出する。
上記の除去部材は、校正ガスから乾式にて除去対象物質を容易に取り除いて、除去対象物質をほとんど含まない校正ガスを排出できる。
【０００８】
スクラバ物質は、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化カリウム、炭酸カルシウム、炭酸カリウム、ゼオライト、活性炭の中から選択される少なくとも一つの物質を含んでいてもよい。これにより、校正ガスに含まれる除去対象物質を効率よく除去でき、かつ、安全性の高い除去部材を提供できる。
【０００９】
除去部材は、フィルターをさらに備えてもよい。フィルターは、入口とスクラバ物質との間に配置される。これにより、万一導入されるガスに水分が混入した場合であっても、スクラバ物質を保護することができる。
【００１０】
スクラバ物質には、スクラバ物質の除去対象物質の除去能力に応じて色が変化する着色剤が含浸されていてもよい。これにより、スクラバ物質の除去対象物質の除去能力を視覚的に確認できる。
【００１１】
本発明の他の見地に係る校正装置は、校正ガス導入部と、上記の除去部材と、を備える。校正ガス導入部は、ガス分析装置の校正時に用いられる校正ガスを、ガス分析装置に導入する。
これにより、上記の校正装置は、校正ガス導入部によりガス分析装置に導入された校正ガスを、除去対象物質を乾式にて容易に除去した上で排出できる。
【００１２】
本発明のさらに他の見地に係るガス分析装置は、光源と、校正セルと、受光部と、校正ガス導入部と、上記の除去部材と、を備える。
光源は、測定対象ガスが存在する測定空間に測定光を照射する。校正セルは、測定光の光路上に設けられ、内部に校正ガスを導入する導入口と内部の校正ガスを排出する排出口とを有する。受光部は、測定空間又は校正セルを通過した測定光を受光する。校正ガス導入部は、校正セルの導入口に接続され、校正セルの内部に校正ガスを充填する。上記の除去部材は、校正セルの排出口に接続される。
これにより、ガス分析装置の校正に用いた校正ガスを、除去対象物質を乾式にて容易に除去した上で排出できる。
【発明の効果】
【００１３】
上記の除去部材を用いることで、校正ガスから除去対象物質を乾式にて容易に取り除くことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】ガス分析装置の模式断面図。
【図２】スクラバの構成を示す図。
【図３】ガス分析装置の校正方法を示すフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
１．第１実施形態
（１）ガス分析装置全体の構成
図１を用いて、本発明の一実施形態に係るガス分析装置１００を説明する。図１は、ガス分析装置の模式断面図である。
本実施形態に係るガス分析装置１００は、例えば、ごみ焼却施設の煙道１から排出される排ガスＧｅに含まれる塩化水素（ＨＣｌ）を測定対象ガスＧｓとして分析するための装置である。その他、本実施形態に係るガス分析装置１００は、排ガスＧｅ中に含まれる、例えば、アンモニア（ＮＨ3）、フッ化水素（ＨＦ）、一酸化炭素（ＣＯ）を測定対象ガスＧｓとして分析できる。
【００１６】
他の実施形態において、ガス分析装置１００は、各種製造工程（例えば、半導体プロセス、石油化学プロセスなど）において発生し塩化水素を含むプロセスガスを分析するものであってもよい。
【００１７】
ガス分析装置１００は、煙道１の壁１ａにフランジｆを介して接続され、一部が煙道１中に挿入されたプローブ管２を備える。プローブ管２は、排ガスＧｅを拡散により内部に導入する導入孔２１が煙道１中に挿入された箇所に設けられた円筒状の部材である。プローブ管２の材質は、例えば、強酸性及び／又は強アルカリ性に対して耐久性を示す金属などとできる。
【００１８】
ガス分析装置１００は、プローブ管２の基端部の筐体Ｃ内部に配置された光源３を備える。光源３は、プローブ管２の内部空間に測定光Ｌｍを出力する、例えば、ＤＦＢレーザダイオードなどのレーザー、ＬＥＤ、ハロゲンランプ等である。
特に、光源３にレーザーを用いた原理的にドリフトが少ない光学系を採用することにより、ガス分析装置１００の校正を実行する頻度を低くできる（例えば、後述するように、半年〜１年毎に校正を実行する）。
【００１９】
ガス分析装置１００は、壁１ａの外側の光源３の近傍に配置された受光部４を備える。受光部４は、プローブ管２の内部空間（測定対象ガスＧｓが存在する測定空間又は後述する校正セルＳｃ）を通過した測定光Ｌｍの強度を測定する、例えば、フォトダイオード等の光電変換装置である。
【００２０】
本実施形態において、光源３及び受光部４は、測定光Ｌｍを透過可能な光学窓Ｗにより、プローブ管２の内部空間と隔離される。また、プローブ管２の内部空間の光学窓Ｗから所定の距離だけ離れた位置には、測定光Ｌｍを透過可能な他の光学窓Ｗ１が配置されている。プローブ管２の内部空間と上記の２つの光学窓Ｗ、Ｗ１は、校正セルＳｃを形成する。
すなわち、校正セルＳｃは、測定光Ｌｍの光路上に設けられ、ガス分析装置１００を校正する際には、その内部に当該校正に用いられる校正ガスＧｃが充填される。
【００２１】
プローブ管２の校正セルＳｃが形成されている箇所には、校正ガスＧｃを導入するための導入口Ｉｃと、校正セルＳｃから校正ガスを排出する排出口Ｏｃと、が設けられている。ガス分析装置１００において校正を行う際には、当該導入口Ｉｃと排出口Ｏｃには校正装置１０が接続される。
校正装置１０は、導入口Ｉｃから校正セルＳｃの内部に校正ガスＧｃを導入し、校正セルＳｃの内部から排出口Ｏｃを介して校正ガスＧｃを外部に排出する装置である。校正装置１０の詳細構成については、後ほど詳しく説明する。
【００２２】
ガス分析装置１００は、第１リフレクタ５を備える。第１リフレクタ５は、図示しない駆動機構により、校正セルＳｃの煙道１側に挿入又は当該箇所から取り出し可能となっている、例えば、コーナーキューブや可動式の平面ミラーである。図１に示すように、第１リフレクタ５がプローブ管２の内部空間に存在する時、校正セルＳｃを通過した測定光Ｌｍは、第１リフレクタ５において反射され、受光部４に入射される。
一方、第１リフレクタ５は、測定対象ガスＧｓの分析を実行する際には、上記の駆動機構により、プローブ管２の内部空間から取り除かれる。
【００２３】
ガス分析装置１００は、制御部６を備える。制御部６は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）と、ＲＡＭ、ＲＯＭなどの記憶装置と、表示部（例えば、液晶ディスプレイなど）と、各種インターフェースと、を有し、ガス分析装置１００を制御するコンピュータシステムである。
また、制御部６は、例えば、光源３から出力した測定光Ｌｍの強度と、プローブ管２の内部空間を通過して受光部４にて受光した測定光Ｌｍの強度との比に基づいて、測定対象ガスＧｓの濃度を算出する。
【００２４】
ガス分析装置１００は、プローブ管２の煙道１側の先端部に第２リフレクタ７を備える。第２リフレクタ７は、測定対象ガスＧｓの分析実行中に、プローブ管２の内部空間を伝搬してきた測定光Ｌｍを受光部４に向けて反射する、例えばコーナーキューブ又は平面ミラーである。
【００２５】
ガス分析装置１００は、パージガス導入部８を備える。パージガス導入部８は、プローブ管２の内部空間に、パージエアＰａを導入する。これにより、第２リフレクタ７などが排ガスＧｅ又はプロセスガスにより汚染されることを防止できる。
【００２６】
（２）校正装置の構成
以下、ガス分析装置１００に校正ガスＧｃを導入及び排出するための校正装置１０の詳細構成について、図１を用いて説明する。
校正装置１０は、導入口Ｉｃに接続され、校正ガスＧｃを校正セルＳｃに充填する校正ガス導入部１０１を有する。校正ガス導入部１０１は、例えば、バックグラウンドガスＧｂが充填された第１ガスボンベ１０１１と、スパンガスＧｓｐが充填された第２ガスボンベ１０１３と、三方弁１０１５とから構成される。
【００２７】
バックグラウンドガスＧｂは、排ガスＧｅなどに含まれる測定対象ガスＧｓではないガス成分であり、例えば、窒素、空気などである。すなわち、バックグラウンドガスＧｂは、測定対象ガスＧｓが含まれていないガス中を測定光Ｌｍが通過したときに、受光部４にて受光される測定光Ｌｍの強度を測定するためのガスである。従って、バックグラウンドガスＧｂは、ガス分析装置１００のゼロ点校正に用いられる校正ガスＧｃである。
【００２８】
一方、スパンガスＧｓｐは、例えば、ゼロ点校正に用いられるバックグラウンドガスＧｂと、所定濃度の測定対象ガスＧｓとを含むガスであり、例えば、窒素又は空気と、所定濃度の測定対象ガスＧｓ（本実施形態では塩化水素）と、の混合ガスである。すなわち、スパンガスＧｓｐは、ある特定の濃度の測定対象ガスＧｓが含まれるガス中を測定光Ｌｍが通過したときに、受光部４にて受光される測定光Ｌｍの強度を測定するためのガスである。従って、スパンガスＧｓｐは、ガス分析装置１００のスパン校正に用いられる校正ガスＧｃである。
【００２９】
ガス分析装置１００においてスパン校正を行う場合、三方弁１０１５を操作して、第２ガスボンベ１０１３と導入口Ｉｃとの間をガス流通可能とし、第２ガスボンベ１０１３からスパンガスＧｓｐを校正ガスＧｃとして校正セルＳｃに導入する。
【００３０】
一方、ガス分析装置１００においてゼロ点校正を行う場合、三方弁１０１５を操作して、第１ガスボンベ１０１１と導入口Ｉｃとの間をガス流通可能とし、第１ガスボンベ１０１１からバックグラウンドガスＧｂを校正ガスＧｃとして校正セルＳｃに導入する。
【００３１】
校正装置１０は、ガス分析装置１００の校正を実行する際に排出口Ｏｃに接続され、校正セルＳｃから排出される校正ガスＧｃから除去対象物質を除去するスクラバ１０３（除去部材の一例）を有する。スクラバ１０３の詳細構成については、後ほど説明する。
【００３２】
校正装置１０は、スクラバ１０３の出口Ｏｓに接続される流量計１０５を有する。流量計１０５は、校正セルＳｃに導入する校正ガスＧｃの流量を制御する、例えば、ニードルバルブである。
【００３３】
上記の構成を有することにより、校正装置１０は、校正ガス導入部１０１により校正セルＳｃに導入された校正ガスＧｃを、除去対象物質を容易に除去した上で排出できる。
特に、例えば、校正セルＳｃに導入した除去対象物質を含む校正ガスＧｃを排出するための特別な排気口（例えば、排ガスＧｅが流れる煙道１に接続された排気口）が設けられていないガス分析装置（例えば、直挿型のガス分析装置）に対しては、有用な装置である。なぜなら、上記の校正装置１０は、煙道１に接続された特別な排気口がなくとも、校正ガスＧｃを大気に排出するための排出口が存在してさえいれば、そこに接続して使用できるからである。
【００３４】
（３）スクラバの構成
以下、校正装置１０にて用いられるスクラバ１０３の構成について、図２を用いて説明する。図２は、スクラバの構成を示す図である。
スクラバ１０３は、ケース１０３１を有する。ケース１０３１は、例えば、透明又は半透明の筒状のプラスチック等の樹脂部材であり、腐食性ガスに強い素材が好ましい。スクラバ１０３は、ケース１０３１の一端においてネジ止めされており、その中心には校正ガスＧｃの入口Ｉｓが設けられている入口部材１０３２を有する。入口Ｉｓから取り入れられた校正ガスＧｃは、ケース１０３１の内部空間Ｓを通過できる。
【００３５】
入口部材１０３２がネジ止めされたケース１０３１の一端の内部には、フィルター１０３３が充填されている。フィルター１０３３は、入口Ｉｓから取り入れられた校正ガスＧｃの水分を除去する、例えば、ボンデン（登録商標）フィルターである。また、フィルター１０３３は、弾力性を有するので、ケース１０３１に固形のスクラバ物質１０３４を充填する際に、スクラバ物質１０３４が破損することを防止できる。
【００３６】
スクラバ１０３は、スクラバ物質１０３４を有する。スクラバ物質１０３４は、内部空間Ｓを通過する校正ガスＧｃに含まれる除去対象物質（本実施形態においては、測定対象ガスＧｓである塩化水素）を除去する固形物である。スクラバ物質１０３４は、ケース１０３１の内部空間Ｓに充填されている。
【００３７】
校正ガスＧｃに含まれる塩化水素を除去するスクラバ物質１０３４としては、例えば、アルカリ性の物質が主成分である物質を用いることができる。具体的には、例えば、多孔質の水酸化カルシウム（Ｃａ（ＯＨ）2）、水酸化マグネシウム（Ｍｇ（ＯＨ）2）を主成分としたスクラバ物質１０３４を用いることができる。本実施形態においては、多孔質の水酸化カルシウムを濃度比で８０〜９０％程度含んだスクラバ物質１０３４を用いる。
水酸化カルシウム及び水酸化マグネシウムを主成分とすることで、スクラバ物質１０３４の取り扱いを容易にしつつ、塩化水素などの酸性を有する除去対象物質を効率よく除去できる。
【００３８】
スクラバ物質１０３４が多孔質であることにより、表面積を大きくすることができ、校正ガスＧｃに含まれる塩化水素を効率よく除去できる。
【００３９】
フッ化水素が除去対象物質である場合には、例えば、水酸化カルシウム、水酸化カリウム（ＫＯＨ）を主成分とするスクラバ物質１０３４を用いることが好ましい。アンモニウムに対しては、例えば、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ3）、炭酸カリウム（Ｋ2ＣＯ3）、ゼオライト、活性炭を主成分とするスクラバ物質１０３４を用いることが好ましい。一酸化炭素に対しては、例えば、活性炭、ゼオライトを主成分とするスクラバ物質１０３４を用いることが好ましい。
これらの除去対象物質を吸着させるか又は反応させて別の安全な物質に変換できるものがスクラバ物質１０３４に主成分として含まれていれば、スクラバ物質１０３４は、上記に限られない。
【００４０】
また、スクラバ物質１０３４には、スクラバ物質１０３４の除去対象物質の除去能力に応じて色が変化する着色剤が含浸されている。このような着色剤としては、例えば、スクラバ物質１０３４のｐＨにより変色するか、又は、除去対象物質（塩化水素）と反応して変色するものを用いることができる。
【００４１】
スクラバ物質１０３４のｐＨにより変色する着色剤としては、例えば、エチルバイオレットを用いることができる。この場合、スクラバ物質１０３４が除去対象物質の除去に使用されると、スクラバ物質１０３４のｐＨ値が小さくなり、スクラバ物質１０３４の色が白色から青紫色に変色する。
【００４２】
一方、塩化水素と反応して変色する着色剤としては、例えば、硝酸銀（ＡｇＮＯ3）を用いることができる。この場合、スクラバ物質１０３４が除去対象物質の除去に使用されるに従って、塩化水素と硝酸銀が反応してより多くの塩化銀（ＡｇＣｌ）が生成されて、スクラバ物質１０３４の色が白色に変色する。
【００４３】
スクラバ１０３は、出口部材１０３５を有する。出口部材１０３５は、入口部材１０３２がネジ止めされた側とは反対側のケース１０３１の他端においてネジ止めされており、その中心には校正ガスＧｃの出口Ｏｓが設けられている。内部空間Ｓを通過して除去対象物質が除去された校正ガスＧｃは、出口Ｏｓから外部に排出される。
【００４４】
出口部材１０３５がネジ止めされたケース１０３１の他端の内部には、フィルター１０３６（例えば、ボンデン（登録商標）フィルター）が充填されている。また、出口部材１０３５とフィルター１０３６との間には、ケース１０３１と出口部材１０３５とをエアタイトとする部材１０３７（例えば、ゴム製のＯリングなど）が設けられている。
【００４５】
上記の構成を有するスクラバ１０３においては、入口Ｉｓから取り入れた校正ガスＧｃが内部空間Ｓを通過する間に、固形のスクラバ物質１０３４が当該校正ガスＧｃに含まれる除去対象物質（塩化水素）を校正ガスＧｃから除去し、除去対象物質をほとんど含まない校正ガスＧｃを出口Ｏｓから排出できる。
すなわち、上記のスクラバ１０３は、乾式にて容易に校正ガスＧｃに含まれる除去対象物質を除去して、除去対象物質をほとんど含まない校正ガスＧｃを排出できる。
【００４６】
実際に、上記の構成を有するスクラバ１０３を用いて除去対象物質である塩化水素をどの程度まで除去できるかの試験を実施した結果、当該スクラバ１０３の出口Ｏｓから排出される校正ガスＧｃには、０．２ｐｐｍ（又は、検出限界程度）の塩化水素しか含まれておらず、スクラバ１０３にて処理した後の校正ガスＧｃを大気に排出できることが分かった。
【００４７】
このように、本実施形態のスクラバ１０３は、ガス中に含まれる除去対象物質を人体や環境に対して十分に安全なレベルまで除去することができる。従って、上記のスクラバ１０３を校正セルＳｃの排出口Ｏｃに接続し、校正ガスＧｃをスクラバ１０３に通過させてから排出することにより、校正ガスＧｃに環境や人体に対して有害であるガス（例えば、塩化水素、アンモニア、フッ化水素、一酸化炭素など）が含まれている場合には、特に有効である。
【００４８】
（４）ガス分析装置の校正方法
以下、本実施形態に係るガス分析装置１００の校正方法について、図３を用いて説明する。図３は、ガス分析装置の校正方法を示すフローチャートである。以下においては、ガス分析装置１００のスパン校正方法を例にとって説明する。また、以下のスパン校正は、例えば、ガス分析装置１００のメンテナンス時（例えば、半年〜１年毎）に実行される。
ゼロ点校正も、バックグラウンドガスＧｂを第１ガスボンベ１０１１から校正セルＳｃに導入すること以外は、以下と同様にして実行できる。
【００４９】
スパン校正を開始するために、まず、校正ガスＧｃを導入するための校正装置１０を、ガス分析装置１００に接続する（ステップＳ１）。
【００５０】
具体的には、校正ガス導入部１０１を、ガス配管などを用いて、ガス分析装置１００の導入口Ｉｃに接続する。また、スクラバ１０３の入口Ｉｓとガス分析装置１００の排出口Ｏｃとを、ガス配管などを用いて接続する。さらに、スクラバ１０３の出口Ｏｓと流量計１０５（の入口）とを、ガス配管などを用いて接続する。
【００５１】
校正装置１０をガス分析装置１００に接続して、第１リフレクタ５をプローブ管２の内部空間に導入した後、流量計１０５にて流量を制御しつつ、校正ガス導入部１０１が、第２ガスボンベ１０１３からスパンガスＧｓｐを校正ガスＧｃとして校正セルＳｃに導入する（ステップＳ２）。本実施形態においては、スパン校正の実行中、校正ガス導入部１０１は、スパンガスＧｓｐを、校正セルＳｃの内部に所定の流量にて流通させたまま維持する。排出口Ｏｃにはスクラバ１０３が接続されているので、スパンガスＧｓｐを校正セルＳｃの内部に流通させる間に流量計１０５から排出されるスパンガスＧｓｐには、塩化水素（除去対象物資）がほとんど含まれない。
【００５２】
スパンガスＧｓｐを校正セルＳｃの内部にて流通させた状態にて、光源３が測定光Ｌｍを校正セルＳｃに向けて照射し、受光部４が校正セルＳｃを通過した測定光Ｌｍの強度を測定する（ステップＳ３）。その後、取得した測定光Ｌｍの強度の測定値を用いてスパン校正を実行し、スパン校正の結果を制御部６の表示部に表示する。
【００５３】
スパン校正の実行結果からスパン校正が適切に行われたと判断したら、校正セルＳｃへのスパンガスＧｓｐの流通を停止して（ステップＳ４）、スパン校正を終了する。
【００５４】
上記の校正方法では、スクラバ１０３を排出口Ｏｃに接続するとの簡単な方法により、外部に排出しようとしている校正ガスＧｃ（スパンガスＧｓｐ）から除去対象物質（塩化水素）を除去できる。また、使用後のスクラバ１０３は、スクラバ物質１０３４の変色具合に基づいて除去対象物質の除去能力が過剰に低下していると判断される場合には、廃棄することができる。
【００５５】
このように、上記の校正方法では、例えば、除去対象物質を溶解できる液体に校正ガスＧｃを通過させるために、当該液体を入れた容器を排出口Ｏｃの近くまで搬送するといった労力を必要とせず、また、除去対象物質を溶解した液体の処理が困難となるといった問題も発生することもなく、校正ガスＧｃに含まれる除去対象物質を容易、かつ、処理後の校正ガスＧｃを大気に排出できる程度まで除去できる。
【００５６】
２．他の実施形態
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。特に、本明細書に書かれた複数の実施形態及び変形例は必要に応じて任意に組み合せ可能である。
（Ａ）排ガスＧｅに含まれる測定対象ガスＧｓ以外のガスが、スクラバ１０３にて除去すべき除去対象物質であってもよい。この場合、ガス分析装置１００のゼロ点校正を行う際には、校正ガス導入部１０１は、例えば、窒素又は空気と除去対象物質とが含まれたガスをバックグラウンドガスＧｂとして校正セルＳｃに導入する。
【００５７】
上記のように、測定対象ガスＧｓ以外のガスが除去対象物質であった場合、すなわち、ゼロ点校正を行う際に用いられるバックグラウンドガスＧｂに除去対象物質が含まれる場合でも、校正装置１０がスクラバ１０３を有することにより、ゼロ点校正の実行時に、バックグラウンドガスＧｂに含まれる除去対象物質を除去した上で、バックグラウンドガスＧｂを外部に排出できる。
【００５８】
（Ｂ）第１実施形態において説明した校正装置１０及び／又はスクラバ１０３は、第１実施形態にて説明したプローブ管２の内部空間に排ガスＧｅなどを導入するタイプ（プローブ方式）のガス分析装置以外にも使用できる。
例えば、排ガスＧｅなどが含まれる煙道１などに直接測定光Ｌｍを照射し、煙道１を通過した測定光Ｌｍを受光するタイプ（クロススタック方式）のガス分析装置にも使用できる。
また、例えば、排ガスＧｅなどをサンプリングした測定セルの内部に測定光Ｌｍを照射し、当該測定セルの内部を通過した測定光Ｌｍを受光するタイプ（サンプリング方式）のガス分析装置にも使用できる。
【産業上の利用可能性】
【００５９】
本発明は、校正ガスから除去対象物質を除去して排出するガス分析装置において用いられるスクラバに広く適用できる。
【符号の説明】
【００６０】
１００ ガス分析装置
１     煙道
１ａ   壁
２     プローブ管
２１   導入孔
３     光源
４     受光部
５     第１リフレクタ
６     制御部
７     第２リフレクタ
８     パージガス導入部
１０   校正装置
１０１ 校正ガス導入部
１０１１      第１ガスボンベ
１０１３      第２ガスボンベ
１０１５      三方弁
１０３ スクラバ
１０３１      ケース
１０３２      入口部材
１０３３      フィルター
１０３４      スクラバ物質
１０３５      出口部材
１０３６      フィルター
１０３７      部材
１０５ 流量計
Ｉｃ   導入口
Ｏｃ   排出口
Ｉｓ   入口
Ｏｓ   出口
Ｓ     内部空間
Ｓｃ   校正セル
Ｗ、Ｗ１      光学窓
ｆ     フランジ
【図１】
2019002809.tif 000003
【図２】
2019002809.tif 000004
【図３】
2019002809.tif 000005