(57)【要約】【課題】折り曲げによる断線の発生を抑制し、且つ、配線の抵抗を低減することができる表示装置を提供する。【解決手段】本実施形態によれば、折り曲げ領域を有する絶縁基板と、折り曲げ領域に位置する配線と、を備えた表示装置であって、折り曲げ領域は、第１方向を折り曲げ軸として折り曲げられており、配線は、折り曲げ領域において、第１方向に沿って延出した第１部分と、第１部分と交差する方向に延出し第１部分に接続された第２部分とを有し、第１部分と第２部分とがなす第１角度は、９０度より小さい、表示装置が提供される。【選択図】図３
2019003142.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
折り曲げ領域を有する絶縁基板と、
前記折り曲げ領域に位置する配線と、
を備えた表示装置であって、
前記折り曲げ領域は、第１方向を折り曲げ軸として折り曲げられており、
前記配線は、前記折り曲げ領域において、前記第１方向に沿って延出した第１部分と、前記第１部分と交差する方向に延出し前記第１部分に接続された第２部分とを有し、
前記第１部分と前記第２部分とがなす第１角度は、９０度より小さい、表示装置。
【請求項２】
前記配線は、前記第２部分と前記第１方向に沿って並び前記第１部分と接続された第３部分を有している、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記第３部分は、前記第２部分と接続されている、請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第３部分は、前記第２部分と平行に延出している、請求項２に記載の表示装置。
【請求項５】
前記第１部分の第１幅は、前記第２部分の第２幅より小さい、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項６】
前記配線と前記絶縁基板との間に位置する第１無機絶縁層をさらに備える、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項７】
前記第１無機絶縁層は、前記第２部分と重なる第４部分を有し、
前記第１部分と前記第４部分とがなす第２角度は、前記第１角度より小さい、請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
前記第４部分の第３幅は、前記第２部分の第２幅より大きい、請求項７に記載の表示装置。
【請求項９】
前記配線を覆い、前記第１無機絶縁層と接する第２無機絶縁層をさらに備える、請求項６乃至８のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１０】
折り曲げ領域を有する絶縁基板と、
前記折り曲げ領域に位置する配線と、
前記配線と前記絶縁基板との間に位置する第１無機絶縁層と、
を備えた表示装置であって、
前記折り曲げ領域は、第１方向を折り曲げ軸として折り曲げられており、
前記配線は、前記折り曲げ領域において、第１屈曲角度で屈曲された第１屈曲部を有し、
前記第１無機絶縁層は、第１屈曲部と重なり第２屈曲角度で屈曲された第２屈曲部を有し、
前記第１屈曲角度と前記第２屈曲角度とは、１８０度未満であり、
前記第２屈曲角度は、前記第１屈曲角度より小さい、表示装置。
【請求項１１】
前記配線は、前記第１屈曲部と前記第１方向に沿って並ぶ第３屈曲部と、前記第１屈曲部と前記第３屈曲部とを繋ぐ第１接続部を有し、
前記第１無機絶縁層は、前記第２屈曲部と前記第１方向に沿って並ぶ第４屈曲部と、前記第２屈曲部と前記第４屈曲部とを繋ぐ第２接続部を有し、
前記第１接続部及び前記第２接続部は、前記第１方向に沿って延出している、請求項１０に記載の表示装置。
【請求項１２】
前記配線を覆う樹脂層をさらに備え、
前記樹脂層は、前記配線を挟んだ両側で前記絶縁基板と接している、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１３】
前記絶縁基板は、有機材料によって形成されている、請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本実施形態は、表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話やＰＤＡ（ｐｅｒｓｏｎａｌ  ｄｉｇｉｔａｌ  ａｓｓｉｓｔａｎｔ）等に用いられる表示装置では、性能面や、デザイン性等の観点から、狭額縁化が要求されている。狭額縁化の一例として、他の配線基板などが実装される実装部が表示面の下側に位置するように、表示パネルの一部を折り曲げる方法が知られている。しかしながら、折り曲げ領域に設けられた配線は、折り曲げによる応力の影響を受けて断線する場合がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−１２８００６号公報
【特許文献２】米国特許出願公開第２０１４／０２３２９５６号明細書
【特許文献３】特開２００２−１３１７７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本実施形態の目的は、折り曲げによる断線の発生を抑制し、且つ、配線の抵抗を低減することができる表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
一実施形態によれば、  
折り曲げ領域を有する絶縁基板と、前記折り曲げ領域に位置する配線と、を備えた表示装置であって、前記折り曲げ領域は、第１方向を折り曲げ軸として折り曲げられており、前記配線は、前記折り曲げ領域において、前記第１方向に沿って延出した第１部分と、前記第１部分と交差する方向に延出し前記第１部分に接続された第２部分とを有し、前記第１部分と前記第２部分とがなす第１角度は、９０度より小さい、表示装置が提供される。
【０００６】
一実施形態によれば、  
折り曲げ領域を有する絶縁基板と、前記折り曲げ領域に位置する配線と、前記配線と前記絶縁基板との間に位置する第１無機絶縁層と、を備えた表示装置であって、前記折り曲げ領域は、第１方向を折り曲げ軸として折り曲げられており、前記配線は、前記折り曲げ領域において、第１屈曲角度で屈曲された第１屈曲部を有し、前記第１無機絶縁層は、第１屈曲部と重なり第２屈曲角度で屈曲された第２屈曲部を有し、前記第１屈曲角度と前記第２屈曲角度とは、１８０度未満であり、前記第２屈曲角度は、前記第１屈曲角度より小さい、表示装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】図１は、本実施形態に係る表示装置１の構成を示す平面図である。
【図２】図２は、図１に示す折り曲げ領域ＢＡが折り曲げられた状態を示す図である。
【図３】図３は、折り曲げ領域ＢＡにおける配線ＷＬの構成例を示す平面図である。
【図４】図４は、図３に示すＡ−Ｂ線に沿った断面図である。
【図５】図５は、配線ＷＬの他の構成例を示す平面図である。
【図６】図６は、配線ＷＬの他の構成例を示す平面図である。
【図７】図７は、配線ＷＬの他の構成例を示す平面図である。
【図８】図８は、配線ＷＬの他の構成例を示す平面図である。
【図９】図９は、配線ＷＬの他の構成例を示す平面図である。
【図１０】図１０は、配線ＷＬの他の構成例を示す平面図である。
【図１１】図１１は、配線ＷＬの他の構成例を示す平面図である。
【図１２】図１２は、図１０に示すＣ−Ｄ線に沿った断面図である。
【図１３】図１３は、配線ＷＬの他の構成例を示す平面図である。
【図１４】図１４は、配線ＷＬの他の構成例を示す断面図である。
【図１５】図１５は、図１に示す表示領域ＤＡの構成例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。
【０００９】
図１は、本実施形態に係る表示装置１の構成を示す平面図である。本実施形態において、表示装置１は、一例として、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子を有する有機ＥＬ表示装置である。しかしながら、表示装置１は、液晶層を有する液晶表示装置、あるいは電気泳動型素子等を有する電子ペーパー型表示装置等、他の表示装置であってもよい。
【００１０】
図１は、第１方向Ｘと、第１方向Ｘに垂直な第２方向Ｙと、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに垂直な第３方向Ｚによって規定される三次元空間を示している。なお、第１方向Ｘと第２方向Ｙとは、９０度以外の角度で交差していてもよい。また、本実施形態において、第３方向Ｚを上と定義し、第３方向Ｚと反対側の方向を下と定義する。「第１部材の上の第２部材」及び「第１部材の下の第２部材」とした場合、第２部材は、第１部材に接していてもよく、又は第１部材から離れて位置していてもよい。後者の場合、第１部材と第２部材との間に、第３の部材が介在していてもよい。
【００１１】
表示装置１は、表示パネル２、配線基板３などを備えている。
【００１２】
表示パネル２は、一例では矩形状である。図示した例では、表示パネル２の短辺ＥＸは、第１方向Ｘと平行であり、表示パネル２の長辺ＥＹは、第２方向Ｙと平行である。第３方向Ｚは、表示パネル２の厚さ方向に相当する。表示パネル２の主面は、第１方向Ｘと第２方向Ｙとにより規定されるＸ−Ｙ平面に平行である。
【００１３】
表示パネル２は、表示領域ＤＡと、非表示領域ＮＤＡと、実装部ＭＴとを有している。表示領域ＤＡは、画像を表示する領域であり、例えばマトリクス状に配置された複数の画素ＰＸを備えている。画素ＰＸは、後述する有機ＥＬ素子と、有機ＥＬ素子を駆動するためのスイッチング素子などを含んでいる。非表示領域ＮＤＡは、表示領域ＤＡの外側に位置し、表示領域ＤＡを囲んでいる。
【００１４】
実装部ＭＴは、表示パネル２の短辺ＥＸに沿って設けられ、表示パネル２を外部装置等と電気的に接続するための端子を含んでいる。
【００１５】
配線基板３は、実装部ＭＴに実装され、表示パネル２と電気的に接続されている。配線基板３は、例えばフレキシブルプリント回路基板である。配線基板３は、表示パネル２を駆動する駆動ＩＣチップ４などを備えている。図示した例では、配線基板３の第１方向Ｘに平行な側縁の長さは、短辺ＥＸの長さと比べて小さいが、同等であってもよい。
【００１６】
本実施形態において、表示パネル２は、可撓性を有している。すなわち、表示パネル２は、斜線を付して示したように、折り曲げ領域ＢＡ有している。折り曲げ領域ＢＡは、表示装置１が電子機器等の筐体に収容される際に折り曲げられる領域である。折り曲げ領域ＢＡは、非表示領域ＮＤＡのうち、実装部ＭＴ側に位置している。図示した例では、折り曲げ領域ＢＡには、配線ＷＬと電源線ＰＬとが設けられている。配線ＷＬ及び電源線ＰＬは、表示領域ＤＡから実装部ＭＴへ向かって延出し、配線基板３と電気的に接続されている。一例では、電源線ＰＬは、長辺ＥＹ側の両端に位置し、配線ＷＬは、電源線ＰＬの間に位置している。
【００１７】
図２は、図１に示す折り曲げ領域ＢＡが折り曲げられた状態を示す図である。図２は、Ｙ−Ｚ平面に平行な面を示している。ここでは、説明に必要な構成のみを示している。
【００１８】
表示装置１は、表示パネル２及び配線基板３に加え、保護部材ＰＰ及び支持部材５０を備えている。
【００１９】
保護部材ＰＰは、折り曲げ領域ＢＡを除いて、表示パネル２の表示面とは反対側の面に設けられている。保護部材ＰＰは、例えば表示領域ＤＡにおいて表示パネル２が湾曲するのを抑制する支持層として機能する。また、保護部材ＰＰは、表示パネル２への水分等の侵入を抑制する防湿性、及びガスの侵入を抑制するガス遮断性を有し、バリア層としても機能する。保護部材ＰＰは、一例では、ポリエチレンテレフタラートを用いて形成されたフィルムである。なお、保護部材ＰＰと表示パネル２との間に他の薄膜が介在していてもよい。
【００２０】
表示パネル２は、支持部材５０を挟み込むように折り曲げられ、接着剤５１によって支持部材５０と貼り付けられている。図示した例では、保護部材ＰＰと接着剤５１とが接している。配線基板３は、表示パネル２の下側に位置し、表示パネル２及び支持部材５０とほぼ平行に対向している。なお、支持部材５０は、省略されてもよい。
【００２１】
本実施形態において、折り曲げ領域ＢＡは、第１方向Ｘに沿った折り曲げ軸ＡＸを中心として折り曲げられている。折り曲げ領域ＢＡは、曲面状である。ここで、折り曲げ軸ＡＸは、折り曲げ領域ＢＡが形成する曲面の母線と平行である。すなわち、折り曲げ領域ＢＡの母線は、第１方向Ｘと平行である。図示した例では、折り曲げ領域ＢＡは、円周に沿って湾曲している。折り曲げ領域ＢＡの曲率半径Ｒ１は、例えば折り曲げ軸ＡＸから表示パネル２の内面までの距離として定義される。一例では、曲率半径Ｒ１は、０．３ｍｍである。
【００２２】
図３は、折り曲げ領域ＢＡにおける配線ＷＬの構成例を示す平面図である。図３は、Ｘ−Ｙ平面と平行な面を示している。ここでは、第１方向Ｘは、折り曲げ軸方向に相当し、第２方向Ｙは、折り曲げ方向に相当する。
【００２３】
配線ＷＬは、第２方向Ｙに沿って並んだ複数のユニットＵ（Ｕ１、Ｕ２、Ｕ３・・・）によって構成されている。以下では、ユニットＵ１を例としてその構成を説明する。一例では、ユニットＵ１は、略三角形であり、部分Ｍ１、Ｍ２、及びＭ３を有している。図示した例では、部分Ｍ１、Ｍ２、及びＭ３は、単一の部材によって形成されているが、複数の部材によって形成されていてもよい。
【００２４】
部分Ｍ１は、ほぼ一定の幅Ｗ１を有する帯状に形成されており、第１方向Ｘに沿って延出している。つまり、部分Ｍ１は、折り曲げ方向と直交している。部分Ｍ１は、直線状のエッジＥＭ１ａ及びＥＭ１ｂを有している。エッジＥＭ１ａは、部分Ｍ２及びＭ３と対向している。エッジＥＭ１ｂは、エッジＥＭ１ａと反対側に位置し、エッジＥＭ１ａとほぼ平行に延出している。幅Ｗ１は、エッジＥＭ１ａとエッジＥＭ１ｂとの第２方向Ｙに沿った間隔に相当する。
【００２５】
部分Ｍ２は、ほぼ一定の幅Ｗ２を有する帯状に形成され、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙと交差する方向に沿って延出している。ここで、幅Ｗ２とは、部分Ｍ２の延出方向と直交する方向に沿った長さに相当する。図示した例では、部分Ｍ２は、部分Ｍ１の一端から、部分Ｍ１に対して角度α２だけ傾いて延出している。角度α２は、第１方向Ｘと部分Ｍ２とがなす角のうち、９０度より小さい角度である。
【００２６】
部分Ｍ２は、直線状のエッジＥＭ２ａ及びＥＭ２ｂを有している。エッジＥＭ２ａは、部分Ｍ１及びＭ３と対向している。エッジＥＭ２ｂは、エッジＥＭ２ａと反対側に位置し、エッジＥＭ２ａとほぼ平行に延出している。図示した例では、角度α２は、エッジＥＭ１ａとエッジＥＭ２ａとがなす角度に相当する。図示した例では、エッジＥＭ１ａとエッジＥＭ２ａは直線で交差しているが、曲率Ｒを有しているのが一般的である。
【００２７】
部分Ｍ３は、部分Ｍ２と第１方向Ｘに沿って並んでいる。部分Ｍ３は、ほぼ一定の幅Ｗ３を有する帯状に形成され、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙと交差する方向に沿って延出している。ここで、幅Ｗ３とは、部分Ｍ３の延出方向と直交する方向に沿った長さに相当する。図示した例では、部分Ｍ１の他端から、部分Ｍ２に向かって延出し、部分Ｍ２と繋がっている。部分Ｍ３は、部分Ｍ１に対して角度α３だけ傾いている。ここでは、角度α３は、第１方向Ｘと部分Ｍ３とがなす角度のうち、９０度より小さい角度である。
【００２８】
部分Ｍ３は、直線状のエッジＥＭ３ａ及びエッジＥＭ３ｂを有している。エッジＥＭ３ａは、部分Ｍ１及びＭ２と対向している。エッジＥＭ３ｂは、エッジＥＭ３ａと反対側に位置し、エッジＥＭ３ａとほぼ平行に延出している。図示した例では、角度α３は、エッジＥＭ１ａとエッジＥＭ３ａとがなす角度に相当する。なお、図示した例では、エッジＥＭ１ａとエッジＥＭ３ａは直線で交差しているが、曲率Ｒを有して交差していても良い。
【００２９】
本実施形態において、角度α２及びα３は、３０度以上７０度以下、好ましくは、４５度以上６０度以下である。図示した例では、ユニットＵ１は、角度α２と角度α３とが等しい略二等辺三角形である。しかしながら、角度α２と角度α３とは、異なっていてもよい。また、図示した例では、幅Ｗ１、Ｗ２、及びＷ３は等しいが、後述するように、幅Ｗ１、Ｗ２、及びＷ３は、それぞれ異なっていてもよい。
【００３０】
第２方向Ｙ２に隣り合うユニットＵは、第２方向Ｙに反転して配置されている。例えば、ユニットＵ１とユニットＵ２とは、部分Ｍ１を共有している。ユニットＵ２とユニットＵ３とは、部分Ｍ２と部分Ｍ３とが交差する交差部Ｃを共有している。
【００３１】
図４は、図３に示すＡ−Ｂ線に沿った断面図である。図４は、Ｘ−Ｚ平面と平行な面を示している。
【００３２】
配線ＷＬは、折り曲げ領域ＢＡにおいて、絶縁基板１０の上に形成されている。絶縁基板１０は、例えばポリイミド等の有機絶縁材料によって形成されている。配線ＷＬは、モリブデン、タングステン、チタン、アルミニウムなどの金属材料によって形成され、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。図示した例では、配線ＷＬは、樹脂層２０によって覆われている。樹脂層２０は、配線ＷＬに接するとともに、配線ＷＬを挟んだ両側で絶縁基板１０にも接している。なお、配線ＷＬは、絶縁基板１０と接しているが、後述するように、配線ＷＬと絶縁基板１０との間に他の絶縁層が介在していてもよい。
【００３３】
本実施形態によれば、配線ＷＬは、第２方向Ｙに沿って並んだ複数のユニットＵによって構成されている。ユニットＵは、折り曲げ方向（第２方向Ｙ）から傾斜して延出した部分Ｍ２及びＭ３を含んでいる。部分Ｍ２及びＭ３の延出方向が第２方向Ｙに対して傾いているため、折り曲げ領域ＢＡが折り曲げられた際に、部分Ｍ２及びＭ３にかかる応力を低減することができ、配線ＷＬが破断することを抑制することができる。
【００３４】
さらに、部分Ｍ２と部分Ｍ３とは、部分Ｍ１によって接続されている。部分Ｍ２と部分Ｍ３とが電気的に接続され、配線ＷＬの実質的な太さが大きくなるため、配線ＷＬの抵抗を低減することができる。また、部分Ｍ１は、折り曲げ方向に対して直交しているため、折り曲げ領域ＢＡが折り曲げられた際に、ほとんど負荷がかからない。以上のように、本実施形態によれば、折り曲げによる断線の発生を抑制し、且つ、配線の抵抗を低減することができる。
【００３５】
図５は、配線ＷＬの他の構成例を示す平面図である。図５に示す構成例は、角度α２と角度α３とが異なっている点で、図３に示す構成例と相違している。図示した例では、角度α２は、角度α３より大きい。本構成例においても、図３に示した構成例と同様の効果を得ることができる。
【００３６】
図６は、配線ＷＬの他の構成例を示す平面図である。図６に示す構成例は、ユニットＵが第１方向Ｘに沿って並んでいる点で、図３に示す構成例と相違している。
【００３７】
すなわち、配線ＷＬは、ユニットＵ１、Ｕ２、及びＵ３とそれぞれ第１方向Ｘに隣り合うユニットＵ４、Ｕ５、Ｕ６とを有している。ユニットＵ４とユニットＵ５とは、交差部Ｃを共有している。ユニットＵ５とユニットＵ６とは、部分Ｍ１を共有している。また、ユニットＵ１とユニットＵ４とは、部分Ｍ３を共有している。
【００３８】
本構成例においても、図３に示す構成例と同様の効果を得ることができる。さらに、配線ＷＬの実質的な太さを大きくすることで、配線ＷＬの抵抗をさらに低減することができる。このような構成例は、比較的大きい電流が流れる電源線ＰＬなどに好適である。
【００３９】
図７は、配線ＷＬの他の構成例を示す平面図である。図７に示す構成例は、幅Ｗ２及びＷ３が幅Ｗ１と異なっている点で、図３に示す構成例と相違している。図示した例では、幅Ｗ２及びＷ３は、等しく、幅Ｗ１より大きい。
【００４０】
本構成例においても、図３に示す構成例と同様の効果を得ることができる。さらに、本実施形態によれば、幅Ｗ１は、幅Ｗ２及びＷ３よりも小さい。一般に、折り曲げ方向と平行に延伸した配線は、折り曲げによってかかる応力が大きく、折り曲げ方向と直交する方向に延伸した配線は、折り曲げによってかかる応力が小さい。したがって、例えば配線ＷＬの抵抗値が同じ場合、幅Ｗ１が幅Ｗ２及びＷ３より大きい配線ＷＬよりも、本構成例のように幅Ｗ１が幅Ｗ２及びＷ３より小さい配線ＷＬの方が、折り曲げに対する耐性が向上する。
【００４１】
図８は、配線ＷＬの他の構成例を示す平面図である。図８に示す構成例は、ユニットＵが略平行四辺形である点で、図３に示す構成例と相違している。
【００４２】
すなわち、ユニットＵは、部分Ｍ１、Ｍ２、及びＭ３に加え、部分Ｍ４を有している。部分Ｍ３は、部分Ｍ２と平行に延出している。部分Ｍ４は、部分Ｍ１と平行に、すなわち第１方向Ｘに沿って延出し、部分Ｍ２と部分Ｍ３とを繋いでいる。本構成例において、角度α３は、鈍角である。ここでは、角度α３と角度α２とは、α３＝１８０−α２の関係が成り立つ。
【００４３】
図示した例では、部分Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３及びＭ４の幅Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３、及びＷ４は等しい。なお、幅Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３、及びＷ４は、後述するように異なっていてもよい。
【００４４】
本構成例においても、図３に示す構成例と同様の効果を得ることができる。さらに、配線ＷＬの実質的な太さが大きくなるため、配線ＷＬの抵抗をさらに低減することができる。
【００４５】
図９は、配線ＷＬの他の構成例を示す平面図である。図９に示す構成例は、幅Ｗ１及びＷ４が幅Ｗ２及びＷ３と異なっている点で、図８に示す構成例と相違している。
【００４６】
一例では、幅Ｗ１及びＷ４は、幅Ｗ２及びＷ３より小さい。図示した例では、幅Ｗ１と幅Ｗ４とは等しいが、異なっていても良い。また、図示した例では、幅Ｗ２と幅Ｗ３とは等しいが、異なっていても良い。
【００４７】
本構成例においても、図８に示す構成例と同様の効果を得ることができる。さらに、幅Ｗ１及びＷ４が幅Ｗ２及びＷ３より小さいため、幅Ｗ１及びＷ４が幅Ｗ２及びＷ３より大きい場合よりも、折り曲げに対する耐性を向上することができる。
【００４８】
図１０は、配線ＷＬの他の構成例を示す平面図である。図１０に示す構成例は、配線ＷＬが２つのユニットＵ１（Ｕ１１、Ｕ１２、・・・）及びＵ２（Ｕ２１、Ｕ２２、・・・）を含んでいる点で、図３に示す構成例と相違している。
【００４９】
一例では、ユニットＵ１は、略平行四辺形であり、ユニットＵ２は、略三角形である。ユニットＵ１とユニットＵ２とは、第２方向Ｙに沿って交互に並んでいる。ユニットＵ１１とユニットＵ１２との間には、第１方向Ｘに沿って並んだユニットＵ２１及びＵ２２が配置されている。ユニットＵ１１とユニットＵ２１、及びユニットＵ２２とユニットＵ１２とは、部分Ｍ１を共有している。また、ユニットＵ２１とユニットＵ２２とは、三角形の辺を共有している。
【００５０】
本構成例においても、図３に示す構成例と同様の効果を得ることができる。さらに、配線ＷＬの実質的な太さが大きくなるため、配線ＷＬの抵抗をさらに低減することができる。
【００５１】
図１１は、配線ＷＬの他の構成例を示す平面図である。図１１に示す構成例は、折り曲げ領域ＢＡに無機絶縁層ＩＬ１が設けられている点で、図３に示す構成例と相違している。
【００５２】
無機絶縁層ＩＬ１は、配線ＷＬの直下に位置し、配線ＷＬとほぼ同形状に形成されている。配線ＷＬは、そのすべてが無機絶縁層ＩＬ１と重なっている。無機絶縁層ＩＬ１は、部分Ｍ１と重なる部分Ｉ１、部分Ｍ２と重なる部分Ｉ２、及び部分Ｍ３と重なる部分Ｉ３を有している。図示した例では、無機絶縁層ＩＬ１は、交差部Ｃと重なり第１方向Ｘに沿って延出した部分Ｉ４を有している。すなわち、部分Ｉ４は、配線ＷＬが設けられていない領域においても形成されている。このような部分Ｉ４が配置されることで、折り曲げの際に配線ＷＬの屈曲部に集中する無機絶縁層ＩＬ１の応力を分散することができる。また、無機絶縁層ＩＬ１と、配線ＷＬの上に設けられる樹脂層との接触面積が増加するため、密着性が向上する。なお、部分Ｉ４は、省略されてもよい。
【００５３】
部分Ｉ１、Ｉ２、及びＩ３は、ほぼ一定の幅ＷＩ１、ＷＩ２、及びＷＩ３を有する帯状に形成されている。ここで、幅とは、部分Ｉ１、Ｉ２、及びＩ３の延出方向と直交する方向に沿った長さに相当する。幅ＷＩ１は、幅Ｗ１より大きく、幅ＷＩ２は、幅Ｗ２より大きく、幅ＷＩ３は、幅Ｗ３より大きい。図示した例では、幅ＷＩ１は、幅ＷＩ２及びＷＩ３より小さいが、同等であってもよい。
【００５４】
部分Ｉ１は、第１方向Ｘに沿って延出している。図示した例では、部分Ｍ１は、第２方向Ｙにおいて部分Ｉ１の略中央に位置している。部分Ｉ１は、直線状のエッジＥＩ１ａ及びエッジＥＩ１ｂを有している。エッジＥＩ１ａは、部分Ｉ２及びＩ３と対向している。エッジＥＩ１ｂは、エッジＥＩ１ａと反対側に位置し、エッジＥＩ１ａとほぼ平行に延出している。図示した例では、部分Ｍ１が形成されていない領域においても、部分Ｉ１は、延出している。
【００５５】
部分Ｉ２は、部分Ｍ１の一端側から交差部Ｃに向かって延出している。部分Ｉ２は、直線状のエッジＥＩ２ａ及びエッジＥＩ２ｂを有している。エッジＥＩ２ａは、部分Ｉ１及びＩ３と対向している。エッジＥＩ２ｂは、エッジＥＩ２ａと反対側に位置し、エッジＥＩ２ａとほぼ平行に延出している。部分Ｉ２は、部分Ｍ１に対して角度β２だけ傾いている。角度β２は、第１方向Ｘと部分Ｉ２とがなす角度のうち、９０度より小さい角度である。図示した例では、角度β２は、エッジＥＭ１ａと、エッジＥＩ２ａとがなす角度に相当する。
【００５６】
本実施形態において、角度β２と角度α２とは、異なっている。一例では、角度β２は、角度α２より小さい。換言すると、部分Ｉ２は、部分Ｍ２よりも、折り曲げ方向に対して傾いている。つまり、折り曲げ方向と部分Ｉ２とがなす傾斜角度θ１は、折り曲げ方向と部分Ｍ２とがなす傾斜角度θ２より大きい。ここでは、傾斜角度θ１は、第２方向ＹとエッジＥＩ２ｂとがなす角度に相当し、傾斜角度θ２は、第２方向ＹとエッジＥＭ２ｂとがなす角度に相当する。
【００５７】
角度β２が角度α２より小さいため、エッジＥＩ２ａと部分Ｍ２との間隔Ｌ１、及びエッジＥＩ２ｂと部分Ｍ２との間隔Ｌ２は、第２方向Ｙに沿って変化している。交差部Ｃ側（すなわち表示領域ＤＡ側）における間隔Ｌ１は、部分Ｍ１側（すなわち表示領域ＤＡから離間する側）における間隔Ｌ１より大きい。一方、交差部Ｃ側の間隔Ｌ２は、部分Ｍ１側の間隔Ｌ２より小さい。
【００５８】
部分Ｉ３は、部分Ｍ１の他端側から交差部Ｃに向かって延出し、部分Ｉ２と繋がっている。部分Ｉ３は、部分Ｍ１に対して角度β３だけ傾いている。角度β３は、第１方向Ｘと部分Ｉ３とがなす角度のうち、９０度より小さい角度である。部分Ｉ３は、直線状のエッジＥＩ３ａ及びエッジＥＩ３ｂを有している。エッジＥＩ３ａは、部分Ｉ１及びＩ２と対向している。エッジＥＩ３ｂは、エッジＥＩ３ａと反対側に位置し、エッジＥＩ３ａとほぼ平行に延出している。図示した例では、角度β３は、エッジＥＭ１ａと、エッジＥＩ３ａとがなす角度に相当する。
【００５９】
部分Ｉ２と部分Ｍ２との関係と同様に、部分Ｉ３は、折り曲げ方向に対して、部分Ｍ３よりも傾斜している。すなわち、角度β３は、角度α３より小さい。したがって、エッジＥＩ３ａと部分Ｍ３との間隔Ｌ３、及びエッジＥＩ３ｂと部分Ｍ３との間隔Ｌ４は、第２方向Ｙに沿って変化している。交差部Ｃ側の間隔Ｌ３は、部分Ｍ１側の間隔Ｌ３より大きい。一方、交差部Ｃ側の間隔Ｌ４は、部分Ｍ１側の間隔Ｌ４より小さい。
【００６０】
さらに、配線ＷＬと無機絶縁層ＩＬ１との関係は、配線ＷＬが有する屈曲部Ｂ１と、無機絶縁層ＩＬ１が有する屈曲部Ｂ２を用いて、以下のように説明することもできる。
【００６１】
屈曲部Ｂ１は、部分Ｍ２と部分Ｍ５とを含み、屈曲角度γ１で屈曲している。部分Ｍ５は、部分Ｍ１の一端から部分Ｍ２と反対側に延出している。換言すると、部分Ｍ２と部分Ｍ５とは、部分Ｍ１を間に挟んでいる。屈曲角度γ１は、部分Ｍ２と部分Ｍ５とがなす角度のうち、１８０度より小さい角度である。図示した例では、屈曲角度γ１は、エッジＥＭ２ａと、部分Ｍ５の部分Ｍ１と対向するエッジＥＭ５ａとがなす角度に相当する。なお、一例では、部分Ｍ５と部分Ｍ１とがなす角度は、角度α２と等しいが、異なっていてもよい。
【００６２】
屈曲部Ｂ２は、部分Ｉ２と部分Ｉ５とを含み、屈曲角度γ２で屈曲している。部分Ｉ５は、部分Ｍ１の一端側から部分Ｉ２と反対側に延出している。換言すると、部分Ｉ２と部分Ｉ５とは、部分Ｍ１及びＩ１を間に挟んでいる。屈曲角度γ２は、部分Ｉ２と部分Ｉ５とがなす角度のうち、１８０度より小さい角度である。図示した例では、屈曲角度γ２は、エッジＥＩ２ａと、部分Ｉ５の部分Ｍ１と対向するエッジＥＩ５ａとがなす角度に相当する。なお、一例では、部分Ｉ５と部分Ｍ１とがなす角度は、角度β２と等しいが、異なっていてもよい。
【００６３】
本実施形態において、屈曲角度γ２は、屈曲角度γ１より小さい。図示した例では、エッジＥＩ２ｂは、エッジＥＭ２ａよりも部分Ｍ１に近接し、エッジＥＩ５ａは、エッジＥＭ５ａよりも部分Ｍ１に近接している。
【００６４】
また、配線ＷＬは、屈曲部Ｂ１と第１方向Ｘに沿って並ぶ屈曲部Ｂ３を有している。部分Ｍ１は、屈曲部Ｂ１と屈曲部Ｂ３とを接続する接続部とみなすことができる。同様に、無機絶縁層ＩＬ１は、屈曲部Ｂ２と第１方向Ｘに沿って並んだ屈曲部Ｂ４を有している。部分Ｉ１は、屈曲部Ｂ２と屈曲部Ｂ４とを接続する接続部とみなすことができる。
【００６５】
図１２は、図１０に示すＣ−Ｄ線に沿った断面図である。図１２は、Ｘ−Ｚ平面に平行な面を示している。
【００６６】
無機絶縁層ＩＬ１は、絶縁基板１０と配線ＷＬとの間に位置している。無機絶縁層ＩＬ１は、例えば酸化シリコン、窒化シリコン、酸窒化シリコン等の無機絶縁材料により形成されている。図示した例では、無機絶縁層ＩＬ１は、絶縁基板１０及び配線ＷＬの双方と接している。樹脂層２０は、配線ＷＬを挟んだ両側で無機絶縁層ＩＬ１と接している。また、樹脂層２０は、無機絶縁層ＩＬ１を挟んだ両側で絶縁基板１０と接している。すなわち、無機絶縁層ＩＬ１は、配線ＷＬとほぼ対応した領域に形成されている。
【００６７】
本構成例においても、図４に示す構成例と同様の効果を得ることができる。また、絶縁基板１０と配線ＷＬとの間に無機絶縁層ＩＬ１が設けられているため、絶縁基板１０に含まれる水分と配線ＷＬとの接触を抑制することができる。したがって、配線ＷＬの腐食を抑制することができる。また、絶縁基板１０と無機絶縁層ＩＬ１との密着性、及び配線ＷＬと無機絶縁層ＩＬ１との密着性が高いため、結果として、配線ＷＬと絶縁基板１０との密着性が向上する。
【００６８】
さらに、本実施形態によれば、無機絶縁層ＩＬ１は、ユニットＵと同様の形状であり、且つ、角度β２が角度α２より小さくなるように形成されている。すなわち、部分Ｉ２の折り曲げ方向に対する傾斜角度θ１は、部分Ｍ２の折り曲げ方向に対する傾斜角度θ２より大きい。したがって、部分Ｉ２にかかる応力を低減することができる。このため、無機絶縁層ＩＬ１の弾性率が配線ＷＬの弾性率より大きく、脆性が高い場合であっても、折り曲げによって無機絶縁層ＩＬ１にクラック等が発生することを抑制することができる。この結果、無機絶縁層ＩＬ１のクラックに起因した配線ＷＬの破断を抑制することができる。さらに、このような構成にすることで、部分Ｉ２の幅ＷＩ２を大きくすることができる。すなわち、幅ＷＩ２が大きくなることで部分Ｉ２の折り曲げ方向に対する実質的な傾斜角度が小さくなる場合であっても、傾斜角度θ１を傾斜角度θ２より大きくすることで、無機絶縁層ＩＬ１にかかる応力の増加を抑制することができる。
【００６９】
図１３は、配線ＷＬの他の構成例を示す平面図である。図１３に示す構成例は、ユニットＵが略平行四辺形である点で、図１１に示す構成例と相違している。ユニットＵは、図８に示す構成と同様であるため、説明を省略する。
【００７０】
無機絶縁層ＩＬ１は、配線ＷＬの直下に位置し、配線ＷＬとほぼ同形状に形成されている。すなわち、無機絶縁層ＩＬ１は、部分Ｉ１、Ｉ２、及びＩ３に加え、部分Ｍ４と重なる部分Ｉ４を有している。部分Ｉ４は、部分Ｉ１と平行に、すなわち第１方向Ｘに沿って延出し、部分Ｉ２と部分Ｉ３とを繋いでいる。部分Ｍ４は、すべてが部分Ｉ４と重なっている。部分Ｍ４は、第２方向Ｙにおいて、部分Ｉ４の略中央に位置している。図示した例では、部分Ｉ４は、部分Ｍ４が設けられていない領域にも延出している。
【００７１】
部分Ｉ３は、部分Ｉ２と平行に延出している。すなわち、本構成例において、角度β３は、鈍角である。角度β３は、角度α３より大きい。換言すると、部分Ｉ３は、部分Ｍ３よりも折り曲げ方向に対して傾斜している。また、間隔Ｌ３と間隔Ｌ４との関係は、間隔Ｌ２と間隔Ｌ１との関係と同様である。すなわち、部分Ｍ４側の間隔Ｌ３は、部分Ｍ１側の間隔Ｌ３より小さい。部分Ｍ４側の間隔Ｌ４は、部分Ｍ１側の間隔Ｌ４より大きい。本構成例においても、図１１に示す構成例と同様の効果を得ることができる。
【００７２】
図１４は、配線ＷＬの他の構成例を示す断面図である。図１４に示す構成例は、配線ＷＬの上に無機絶縁層ＩＬ２が設けられている点で、図１２に示す構成例と相違している。
【００７３】
無機絶縁層ＩＬ２は、配線ＷＬの上に設けられるとともに、配線ＷＬを挟んだ両側で無機絶縁層ＩＬ１とも接している。配線ＷＬは、無機絶縁層ＩＬ２及びＩＬ１に接している。無機絶縁層ＩＬ２は、図１０及び図１２に示すように、平面視で無機絶縁層ＩＬ１と同様の形状である。図示した例では、無機絶縁層ＩＬ２の幅は、無機絶縁層ＩＬ１の幅と等しい。無機絶縁層ＩＬ２は、無機絶縁層ＩＬ１と異なる材料によって形成されるが、同じ材料によって形成することも可能である。一例では、無機絶縁層ＩＬ１はシリコン酸化物によって形成され、無機絶縁層ＩＬ２はシリコン窒化物によって形成される。樹脂層２０は、無機絶縁層ＩＬ１及びＩＬ２を挟んだ両側で絶縁基板１０に接している。
【００７４】
一例では、樹脂層２０の厚さＴ２０は、絶縁基板１０の厚さＴ１０より大きい。配線ＷＬの厚さＴＷＬは、無機絶縁層ＩＬ１及びＩＬ２の厚さＴ１及びＴ２より大きい。また、図示した例では、厚さＴ１は、厚さＴ２より大きい。
【００７５】
本構成例においても、図１１に示す構成例と同様の効果を得ることができる。さらに、配線ＷＬの全面を無機絶縁材料によって覆うため、配線ＷＬの保護性が向上する。
【００７６】
図１５は、図１に示す表示領域ＤＡの構成例を示す断面図である。表示パネル２は、第１基板ＳＵＢ１と、第２基板ＳＵＢ２とによって構成されている。図示した例では、第１基板ＳＵＢ１の下に、保護部材ＰＰが設けられている。
【００７７】
第１基板ＳＵＢ１は、絶縁基板１０、スイッチング素子ＳＷ（ＳＷ１、ＳＷ２、ＳＷ３）、反射層ＲＬ、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ（ＯＬＥＤ１、ＯＬＥＤ２、ＯＬＥＤ３）、保護部材ＰＰ等を備えている。
【００７８】
絶縁基板１０は、有機絶縁材料を用いて形成され、例えば、ポリイミドを用いて形成される。第１絶縁層１１は、絶縁基板１０の上に形成されている。第１絶縁層１１は、絶縁基板１０から有機ＥＬ素子ＯＬＥＤへ向かう水分等の侵入を抑制するためのバリア層を含んでいてもよい。なお、第１絶縁層１１は、省略されてもよい。
【００７９】
スイッチング素子ＳＷは、第１絶縁層１１の上に形成されている。スイッチング素子ＳＷは、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ；thin-film-transistor）により構成されている。図示した例では、スイッチング素子ＳＷはトップゲート型であるが、ボトムゲート型であってもよい。以下では、スイッチング素子ＳＷ１を例として、その構成を説明する。
【００８０】
スイッチング素子ＳＷ１は、半導体層ＳＣ、ゲート電極ＧＥ、ソース電極ＳＥ、及び、ドレイン電極ＤＥを備えている。
【００８１】
半導体層ＳＣは、第１絶縁層１１の上に形成され、第２絶縁層１２により覆われている。ゲート電極ＧＥは、第２絶縁層１２の上に形成され、第３絶縁層１３により覆われている。ソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥは、それぞれ第３絶縁層１３の上に形成されている。ソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥは、第３絶縁層１３を半導体層ＳＣまで貫通するコンタクトホールにおいて、半導体層ＳＣにそれぞれ接触している。
【００８２】
ゲート電極ＧＥは、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、銀（Ａｇ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）、銅（Ｃｕ）、クロム（Ｃｒ）などの金属材料や、これらの金属材料を組み合わせた合金などによって形成され、単層構造であってもよいし、多層構造であってもよい。ソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥを形成する材料は、上記の金属材料が適用可能である。第１乃至第３絶縁層１１乃至１３は、酸化シリコン、窒化シリコン、酸窒化シリコン等の無機絶縁材料により形成されている。
【００８３】
スイッチング素子ＳＷ１は、第４絶縁層１４により覆われている。第４絶縁層は、例えば透明な樹脂等の有機絶縁材料により形成されている。
【００８４】
有機ＥＬ素子ＯＬＥＤは、第４絶縁層１４の上に形成されている。図示した例では、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤは、絶縁基板１０とは反対側に光を出射する所謂トップエミッションタイプであるが、この例に限らず、絶縁基板１０の側に光を出射する所謂ボトムエミッションタイプであってもよい。有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１はスイッチング素子ＳＷ１と電気的に接続され、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ２はスイッチング素子ＳＷ２と電気的に接続され、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ３はスイッチング素子ＳＷ３と電気的に接続されている。このような有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３は、いずれも同一構造である。以下では、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１を例として、その構成を説明する。
【００８５】
有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１は、画素電極ＰＥ１、共通電極ＣＥ、及び有機発光層ＯＲＧにより構成されている。
【００８６】
画素電極ＰＥ１は、第４絶縁層１４の上に設けられている。画素電極ＰＥ１は、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１の例えば陽極として機能する。画素電極ＰＥ１は、第４絶縁層１４内に設けられたコンタクトホールにおいて、スイッチング素子ＳＷ１のドレイン電極ＤＥと接触し、スイッチング素子ＳＷ１と電気的に接続されている。有機発光層ＯＲＧは、画素電極ＰＥ１の上に形成されている。有機発光層ＯＲＧは、発光効率を向上するために、電子注入層、正孔注入層、電子輸送層、正孔輸送層等をさらに含んでいてもよい。共通電極ＣＥは、有機発光層ＯＲＧの上に形成されている。共通電極ＣＥは、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１の例えば陰極として機能する。共通電極ＣＥと画素電極ＰＥとは、例えばインジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）やインジウム・ジンク・オキサイド（ＩＺＯ）等の透明な導電材料によって形成されている。以上のように構成された有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１は、画素電極ＰＥ１と共通電極ＣＥとの間に印加される電圧（あるいは電流）に応じた輝度で発光する。
【００８７】
各有機ＥＬ素子ＯＬＥＤは、有機絶縁材料からなる第５絶縁層（リブ）１５により、画素ＰＸごとに区画されている。すなわち、有機発光層ＯＲＧは、第５絶縁層１５と第５絶縁層１５との間において、画素電極ＰＥ１、ＰＥ２、及びＰＥ３と接している。なお、図示しないが、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤは、透明な封止膜によって封止されていることが望ましい。
【００８８】
なお、図１５に示すように、トップエミッションタイプの場合には、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１は、第４絶縁層１４と画素電極ＰＥ１との間に反射層ＲＬを含んでいることが望ましい。反射層ＲＬは、例えばアルミニウム、銀等の反射率の高い金属材料により形成されている。なお、反射層ＲＬの反射面、すなわち有機発光層ＯＲＧ側の面は、図示したように平坦であってもよいし、光散乱性を付与するために凹凸が形成されていてもよい。
【００８９】
第２基板ＳＵＢ２は、絶縁基板３０、カラーフィルタ層２２０等を備えている。絶縁基板３０は、例えば、ガラス基板や樹脂基板であってもよいし、光学フィルムや偏光板等を含んだ光学素子であってもよい。
【００９０】
カラーフィルタ層２２０は、絶縁基板３０の内面３０Ａ側に配置されている。カラーフィルタ層２２０は、カラーフィルタＣＦ１、カラーフィルタＣＦ２、及び、カラーフィルタＣＦ３を備えている。カラーフィルタＣＦ１、ＣＦ２、ＣＦ３は、互いに異なる色にそれぞれ着色された樹脂材料によって形成されている。一例では、カラーフィルタＣＦ１は青色カラーフィルタであり、カラーフィルタＣＦ２は緑色カラーフィルタであり、カラーフィルタＣＦ３は赤色カラーフィルタである。なお、カラーフィルタ層２２０は、さらに、白色あるいは透明のカラーフィルタを含んでいてもよい。カラーフィルタＣＦ１、ＣＦ２、ＣＦ３は、それぞれ有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１、ＯＬＥＤ２、ＯＬＥＤ３と対向している。
【００９１】
上記のような第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２とは、表示領域ＤＡにおいて、透明な接着剤４１によって接着されている。また、第１基板ＳＵＢ１及び第２基板ＳＵＢ２は、接着剤４１に加えて、非表示領域ＮＤＡにおいて、接着剤４１を囲むシール材によって接着されていてもよい。
【００９２】
このような表示装置においては、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３のそれぞれが発光した際、それぞれの放射光（白色光）は、カラーフィルタＣＦ１、カラーフィルタＣＦ２、カラーフィルタＣＦ３を介してそれぞれ外部に出射される。このとき、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１から放射された白色光のうち、青色波長の光がカラーフィルタＣＦ１を透過する。また、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ２から放射された白色光のうち、緑色波長の光がカラーフィルタＣＦ２を透過する。また、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ３から放射された白色光のうち、赤色波長の光がカラーフィルタＣＦ３を透過する。これにより、カラー表示が実現される。図１に示した画素ＰＸは、例えば、カラー画像を構成する最小単位であり、上記の有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３を備えている。
【００９３】
なお、上記の構成例では、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１乃至ＯＬＥＤ３が共通の有機発光層ＯＲＧを備えていたが、これに限定されるものではない。例えば、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ１が青色に発光する有機発光層を備え、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ２が緑色に発光する有機発光層を備え、有機ＥＬ素子ＯＬＥＤ３が赤色に発光する有機発光層を備えていてもよい。このような構成例においては、カラーフィルタ層２２０を省略してもよい。
【００９４】
上述の配線ＷＬは、例えばソース電極ＳＥ及びドレイン電極ＤＥと同時に形成することができる。この場合、無機絶縁層ＩＬ１は、第１絶縁層１１、第２絶縁層１２、及び第３絶縁層１３の少なくとも１つによって形成することができる。また、配線ＷＬは、例えばゲート電極ＧＥと同時に形成することもできる。この場合、無機絶縁層ＩＬ１は、第１絶縁層１１及び第２絶縁層１２の少なくとも１つによって形成することができ、無機絶縁層ＩＬ２は、例えば第３絶縁層１３によって形成することができる。
【００９５】
本実施形態において、第１無機絶縁層は、無機絶縁層ＩＬ１に相当し、第２無機絶縁層は、無機絶縁層ＩＬ２に相当する。第１部分は、部分Ｍ１に相当し、第２部分は、部分Ｍ２に相当し、第３部分は、部分Ｍ３に相当し、第４部分は、部分Ｉ２に相当する。第１角度は、角度α２に相当し、第２角度は、角度β２に相当する。第１幅は、幅Ｗ１に相当し、第２幅は、幅Ｗ２に相当し、第３幅は、幅ＷＩ２に相当する。また、第１屈曲部は、屈曲部Ｂ１に相当し、第２屈曲部は、屈曲部Ｂ２に相当し、第３屈曲部は、屈曲部Ｂ３に相当し、第４屈曲部は、屈曲部Ｂ４に相当する。第１屈曲角度は、屈曲角度γ１に相当し、第２屈曲角度は、屈曲角度γ２に相当する。第１接続部は、部分Ｍ１に相当し、第２接続部は、部分Ｉ１に相当する。
【００９６】
以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００９７】
１…表示装置、２…表示パネル、３…配線基板、４…駆動ＩＣチップ、１０…絶縁基板、１１…第１絶縁層、１２…第２絶縁層、１３…第３絶縁層、ＢＡ…折り曲げ領域、ＷＬ…配線、Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４，Ｍ５…部分、ＩＬ１，ＩＬ２…無機絶縁層、Ｉ１，Ｉ２，Ｉ３，Ｉ４，Ｉ５…部分、α２，β２…角度、Ｂ１，Ｂ２，Ｂ３，Ｂ４…屈曲部、γ１，γ２…屈曲角度。
【図１】
2019003142.tif 000003
【図２】
2019003142.tif 000004
【図３】
2019003142.tif 000005
【図４】
2019003142.tif 000006
【図５】
2019003142.tif 000007
【図６】
2019003142.tif 000008
【図７】
2019003142.tif 000009
【図８】
2019003142.tif 000010
【図９】
2019003142.tif 000011
【図１０】
2019003142.tif 000012
【図１１】
2019003142.tif 000013
【図１２】
2019003142.tif 000014
【図１３】
2019003142.tif 000015
【図１４】
2019003142.tif 000016
【図１５】
2019003142.tif 000017