(57)【要約】【課題】洗浄装置において、端材等が洗浄装置の収容ケース外へと飛散することを防止するとともに、より効率よく汚れた噴霧を排気し続けることができるようにする。【解決手段】被洗浄物を保持するスピンナテーブル９０と、スピンナテーブル９０で保持された被洗浄物に洗浄液を噴射するノズル９１と、スピンナテーブル９０とノズル９１とを収容するとともにスピンナテーブル９０に対して被洗浄物を搬出入させる開口９２９を有した収容ケース９２と、被洗浄物の洗浄中に開口９２９を密閉する蓋部５６と、を備え、収容ケース９２には、吸引源９２８に接続された排気口９２０ａが形成され、蓋部５６には、外気の収容ケース９２への流入を許容するとともに収容ケース９２内で洗浄中の被洗浄物の端材が収容ケース９２外へ飛散することを防止するサイズの細孔を複数備える気体取り込み部５６３が形成された、洗浄装置９である。【選択図】図３
2019186497.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄装置であって、
被洗浄物を保持するスピンナテーブルと、
該スピンナテーブルで保持された被洗浄物に洗浄液を噴射する洗浄ノズルと、
該スピンナテーブルと該洗浄ノズルとを収容するとともに該スピンナテーブルに対して被洗浄物を搬出入させる開口を有した収容ケースと、
被洗浄物の洗浄中に該開口を密閉する蓋部と、を備え、
該収容ケースには、吸引源に接続された排気口が形成され、
該蓋部には、外気の該収容ケースへの流入を許容するとともに該収容ケース内で洗浄中の被洗浄物の端材が該収容ケース外へ飛散することを防止するサイズの細孔を複数備える気体取り込み部が形成された、洗浄装置。
【請求項２】
被洗浄物を前記スピンナテーブル上に搬入する搬入手段を更に備え、
前記蓋部は前記搬入手段を構成する、請求項１に記載の洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェーハ等の被洗浄物を洗浄するための洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
切削加工又は研削加工等が施されたウェーハは、例えば、枚葉式のスピンナー洗浄装置（例えば、特許文献１参照）により洗浄されることで、被加工面に残った切削屑等の異物が除去される。
そして、洗浄装置の収容ケースには吸引源に接続された排気口が形成されており、洗浄中に発生する汚染された噴霧（切削屑等を含む噴霧）を該排気口から吸引して排気している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−０９４６５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
被洗浄物が切削されたウェーハの場合、切削で形成された端材（例えば、外周部に形成された三角チップ）等が洗浄中に受ける水圧及び受ける遠心力により飛散する場合がある。そこで、飛散した端材が収容ケース外に散らばらないようにするために、収容ケースの開口を密閉することが考えられる。しかし、開口を密閉して収容ケース内に外気が全く取り込まれなくしてしまうと、収容ケース内が減圧されて上手く噴霧が排気されなくなるという問題がある。
【０００５】
よって、洗浄装置においては、端材等が洗浄装置の収容ケース外へと飛散することを防止するとともに、より効率よく汚れた噴霧を排気し続けることができるようにするという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するための本発明は、被洗浄物を保持するスピンナテーブルと、該スピンナテーブルで保持された被洗浄物に洗浄液を噴射する洗浄ノズルと、該スピンナテーブルと該洗浄ノズルとを収容するとともに該スピンナテーブルに対して被洗浄物を搬出入させる開口を有した収容ケースと、被洗浄物の洗浄中に該開口を密閉する蓋部と、を備え、該収容ケースには、吸引源に接続された排気口が形成され、該蓋部には、外気の該収容ケースへの流入を許容するとともに該収容ケース内で洗浄中の被洗浄物の端材が該収容ケース外へ飛散することを防止するサイズの細孔を複数備える気体取り込み部が形成された、洗浄装置である。
【０００７】
被洗浄物を前記スピンナテーブル上に搬入する搬入手段を更に備え、前記蓋部は前記搬入手段を構成すると好ましい。
【発明の効果】
【０００８】
本発明に係る洗浄装置は、収容ケースの開口を密閉する蓋部を備え、蓋部には、外気の収容ケースへの流入を許容するとともに収容ケース内で洗浄中の被洗浄物の端材が収容ケース外へ飛散することを防止するサイズの細孔を複数を備える気体取り込み部が形成されているため、被洗浄物を洗浄中に、端材等が洗浄装置の収容ケース外へと飛散することを防止しつつ、外気を収容ケース内に取り入れることで効率よく汚れた噴霧を排気し続けることが可能となる。
【０００９】
本発明に係る洗浄装置は、被洗浄物をスピンナテーブル上に搬入する搬入手段を更に備え、蓋部は搬入手段を構成するものとすることで、被洗浄物の洗浄装置の収容ケースへの搬入と、蓋部により収容ケースの開口を塞いだ状態での被洗浄物の洗浄の開始とをよりスムーズに行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】洗浄装置が組み込まれた切削装置の外観の一例を示す斜視図である。
【図２】洗浄装置が組み込まれた切削装置の内部の一例を示す斜視図である。
【図３】収容ケースの開口を密閉する蓋部、スピンナテーブル、及びスピンナーケーブルを収容する収容ケースを示す斜視図である。
【図４】収容ケースの開口を密閉する蓋部、スピンナテーブル、及びスピンナーケーブルを収容する収容ケースを示す断面図である。
【図５】被洗浄物を洗浄装置で洗浄している状態を示す断面図である。
【図６】収容ケースの開口部分の別例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
図１、２に示す加工装置１は、例えば、チャックテーブル３０に保持された被加工物Ｗに対して切削手段６によって切削加工を施す切削装置であり、本発明に係る洗浄装置９を備えている。なお、洗浄装置９は、レーザー照射によって被加工物Ｗに所望の加工を施すレーザー加工装置、回転する研削砥石で被加工物Ｗを研削して薄化する研削装置、又は研磨パッドで被加工物Ｗを研磨する研磨装置に配設されていてもよいし、洗浄装置９単体で使用可能となっていてもよい。
【００１２】
被加工物Ｗは、例えば、円形板状の半導体ウェーハであり、被加工物Ｗの表面Ｗａ上には、分割予定ラインＳによって区画された格子状の領域にデバイスＤが形成されている。例えば、被加工物Ｗの裏面ＷｂはダイシングテープＴの貼着面に貼着され、ダイシングテープＴの外周部は環状フレームＦに貼着されている。これにより、切削対象である被加工物Ｗは、ダイシングテープＴを介して環状フレームＦに支持され、環状フレームＦを用いたハンドリングが可能となっている。なお、被加工物Ｗは上記例に限定されるものではない。
【００１３】
加工装置１の基台１０上には、筐体１１及び装置カバー１５が配設されており、筐体１１内には加工室１２が画成されている。
加工室１２内には、チャックテーブル３０及び切削手段６が配設されており、チャックテーブル３０は、カバー３１によって周囲から囲まれ、カバー３１の下方に配設された図示しない回転手段によりＺ軸方向の軸心周りに回転可能に支持されている。カバー３１には、Ｘ軸方向に伸縮する蛇腹カバー３１１が連結しており、カバー３１及び蛇腹カバー３１１の下方には、チャックテーブル３０を切削送り方向（Ｘ軸方向）に往復移動させる図示しない切削送り手段が配設されている。切削送り手段は、モータによりボールネジを回動させることでチャックテーブル３０を切削送りするボールネジ機構である。
【００１４】
図１に示すチャックテーブル３０は、例えば、その外形が円形板状であり、図示しない吸引源に連通する保持面３０ａ上で被加工物Ｗを吸引保持する。また、チャックテーブル３０の周囲には、環状フレームＦを挟持固定する固定クランプ３２が例えば４つ周方向に等間隔を空けて均等に配設されている。
【００１５】
チャックテーブル３０のＸ軸方向の移動経路の上方に配設された切削手段６は、割り出し送り手段６９によってＹ軸方向へ移動可能となっており、また、切り込み送り手段６８によってＺ軸方向に移動可能となっている。切削手段６は、軸方向がＹ軸方向であるスピンドル６１と、スピンドル６１を回転可能に支持するスピンドルハウジング６２と、スピンドル６１を回転させる図示しないモータと、スピンドル６１に固定されている切削ブレード６３とを備えており、モータがスピンドル６１を回転駆動することに伴って切削ブレード６３も高速回転する。
【００１６】
例えば、スピンドルハウジング６２の側面には、被加工物Ｗの切削すべき分割予定ラインＳを撮像画像を用いたパターンマッチングを実施して検出するアライメント手段６７が配設されている。切削手段６とアライメント手段６７は連動してＹ軸方向及びＺ軸方向へと移動する。
【００１７】
筐体１１の正面側（−Ｘ方向側）には、切削加工が施されている最中の被加工物Ｗの状態を筐体１１外部から確認するためのガラス等の透明部材からなる覗き窓１１０が設けられている。
筐体１１の＋Ｙ方向側の側面には、作業者が加工装置１に対して加工条件等を入力するための操作画面が表示されるタッチパネル等を備える操作手段１１１が配設されている。
【００１８】
加工装置１の基台１０上の＋Ｙ方向側の一角には、カセット載置台１３が設置されており、カセット載置台１３は、その下方に配設された図示しない昇降エレベータによりＺ軸方向に上下動可能となっている。そして、環状フレームＦで支持された被加工物Ｗを収容した図示しないカセットがカセット載置台１３上に載置された状態で、昇降エレベータによりカセット載置台１３が昇降されることでカセットから被加工物Ｗを出し入れする際の高さ位置が調整される。
装置カバー１５の＋Ｙ方向側の側面には、図示しない被加工物搬入口が形成されており、カセットから引き出された被加工物Ｗは、該被加工物搬入口から装置カバー１５内部に搬入される。
【００１９】
図２に示すように、カセット載置台１３と隣接する位置において、チャックテーブル３０は、装置カバー１５（図２には不図示）の内部と筐体１１の内部との間を筐体１１の側面下部に設けられた搬入出口１１６を通りＸ軸方向に往復移動可能となっている。なお、チャックテーブル３０は、図１では筐体１１の内部に位置付けられており、図２では、装置カバー１５内部に位置付けられている。
【００２０】
加工装置１は、チャックテーブル３０に被加工物Ｗを搬入する搬送手段４を装置カバー１５の内部に備えており、搬送手段４は、被加工物Ｗを環状フレームＦを介して保持する搬送パッド４０と、搬送パッド４０をＹ軸方向に移動させる搬送パッド移動手段４１と、搬送パッド４０を昇降させるロアアーム４２とを具備している。
【００２１】
搬送パッド４０は、例えば平面視Ｈ形状の外形を有しており、その上面にロアアーム４２の下端側が取り付けられている。搬送パッド４０は、被加工物Ｗを支持する環状フレームＦを吸着する４個の吸着盤４０１をその下面に有している。各吸着盤４０１は、吸着力を生み出す図示しない吸引源に連通している。
【００２２】
搬送パッド移動手段４１は、例えば、筐体１１の＋Ｘ方向側面の中段部分に配設されており、Ｙ軸方向の軸心を有するボールネジ４１０と、ボールネジ４１０と平行に配設された一対のガイドレール４１１と、ボールネジ４１０の一端に連結されたモータ４１２と、ボールネジ４１０に螺合するナットを内部に備えロアアーム４２を支持する可動ブロック４１３とを備えている。
モータ４１２がボールネジ４１０を回動させると、これに伴い可動ブロック４１３が一対のガイドレール４１１にガイドされつつガイドレール４１１上をＹ軸方向に摺動し、ロアアーム４２の下端側に取り付けられた搬送パッド４０がＹ軸方向に移動する。
【００２３】
側面視Ｌ字状の外形を備えるロアアーム４２は、ボールネジ機構又は電動シリンダ等で構成されており、搬送パッド４０をＺ軸方向に昇降させる。
【００２４】
例えば、搬送パッド４０の下面中央部分には、カセット載置台１３に載置された図示しないカセットから環状フレームＦを上下方向から把持した状態で加工前の被加工物Ｗを引き出すクランプ４６が設けられている。クランプ４６は、搬送パッド移動手段４１及びロアアーム４２によって、搬送パッド４０と共にＹ軸方向及びＺ軸方向に移動可能となっている。
【００２５】
図２に示すように、装置カバー１５内に位置するチャックテーブル３０の上方には、クランプ４６によりカセットから引き出された被加工物Ｗを一定の位置に位置合わせする一対のガイドレールからなるセンタリングガイド３６が配設されている。断面がＬ字状に形成されＹ軸方向に延在する各ガイドレールは、Ｘ軸方向に相互に離間又は接近可能であり、段状のガイド面（内側面）が対向するように配置されている。チャックテーブル３０に被加工物Ｗが搬入される際には、クランプ４６によりカセット載置台１３に載置された図示しないカセットから被加工物Ｗが引き出されてセンタリングガイド３６に載置される。また、加工後の被加工物Ｗの洗浄が完了すると、搬送パッド４０によってセンタリングガイド３６に載置された被加工物Ｗが、クランプ４６によりカセットに押し入れられる。
センタリングガイド３６の一対のガイドレールは、被加工物Ｗの載置時には相互に接近して環状フレームＦの外周縁部を支持してチャックテーブル３０に対する位置決め（センタリング）をし、被加工物Ｗの非載置時にはチャックテーブル３０の保持面３０ａ上を空けるように相互に離間する。
【００２６】
図２に示すように加工装置１は、チャックテーブル３０から切削加工後の被加工物Ｗ（筐体１１内部の加工室１２から出てきた被洗浄物Ｗ）を搬出すると共に、該被洗浄物Ｗを後述するスピンナテーブル９０上に搬入する搬入手段５を備えている。搬入手段５は、例えば、チャックテーブル３０により保持されている被洗浄物Ｗを環状フレームＦを介して保持する搬入パッド５０と、搬入パッド５０をＹ軸方向に移動させる搬入パッド移動手段５１と、搬入パッド５０を昇降させるアッパーアーム５２と、を具備している。
【００２７】
搬入パッド５０は、例えば平面視Ｈ形状の外形を有しており、その下面側に被洗浄物Ｗを支持する環状フレームＦを吸着する４個の吸着盤５０１を備えている。各吸着盤５０１は、吸着力を生み出す図示しない吸引源に連通している。搬入パッド５０の上面には、アッパーアーム５２の下端側が固定されている。
【００２８】
搬入パッド移動手段５１は、例えば、筐体１１の＋Ｘ方向側面の上段部分に配設されており、Ｙ軸方向の軸心を有するボールネジ５１０と、ボールネジ５１０と平行に配設された一対のガイドレール５１１と、ボールネジ５１０の一端に連結されたモータ５１２と、ボールネジ５１０に螺合するナットを内部に備えアッパーアーム５２を支持する可動ブロック５１３とを備えている。
モータ５１２がボールネジ５１０を回動させると、これに伴い可動ブロック５１３が一対のガイドレール５１１にガイドされつつガイドレール５１１上をＹ軸方向に摺動し、アッパーアーム５２の下端側に取り付けられた搬入パッド５０がＹ軸方向に移動する。
【００２９】
アッパーアーム５２は、ボールネジ機構又は電動シリンダ等で構成されており、搬入パッド５０をＺ軸方向に昇降させる。
例えば、可動ブロック５１３は、搬送パッド移動手段４１の可動ブロック４１３に比べて、Ｘ軸方向における寸法が長く形成されており、このように長く形成された可動ブロック５１３の＋Ｘ方向側の下面にアッパーアーム５２は取り付けられている。そのため、アッパーアーム５２の下端側に接続されている搬入パッド５０の動線上から搬送手段４のロアアーム４２はＸ軸方向においてずれている。これにより、チャックテーブル３０から被加工物Ｗを搬出する際に、搬入手段５は搬送手段４に衝突することなく被加工物ＷをＹ軸方向に搬送できる。
【００３０】
搬入パッド５０の上面側には平面視円形の蓋部５６がアッパーアーム５２が挿通された状態で配設されている。蓋部５６は、本実施形態においてはアッパーアーム５２に対して固定されているが、図示しない軸受けを介してアッパーアーム５２に対して相対的に昇降自在に取り付けられていてもよい。
図３、４に示すように、ＳＵＳ等の金属又は硬質プラスチック等からなる蓋部５６は、例えば、円形板状の天板５６０と、天板５６０の下面の外周部分全周から−Ｚ方向に向かって垂下する側板５６１と、を備えている。蓋部５６の外径は、例えば、後述する洗浄装置９の収容ケース９２の外径と略同サイズとなっている。側板５６１の円環状の下端面は吸着盤５０１の下端面（吸着面）よりも上方に位置しているが、これに限定されるものではない。
【００３１】
なお、本実施形態においては、蓋部５６が搬入手段５の構成要素の１つとなっているが、蓋部５６を搬入手段５に組み込まない構成としてもよい。即ち、蓋部５６が搬入手段５とは別に独自に水平方向及び上下方向に移動して被洗浄物Ｗの洗浄時に収容ケース９２の開口９２９を密閉する構成としてもよい。
【００３２】
図２、３に示す本発明に係る洗浄装置９は、被洗浄物Ｗを保持するスピンナテーブル９０と、スピンナテーブル９０で保持された被洗浄物Ｗに洗浄液を噴射する洗浄ノズル９１と、スピンナテーブル９０と洗浄ノズル９１とを収容するとともにスピンナテーブル９０に対して被洗浄物Ｗを搬出入させる開口９２９を有した収容ケース９２と、被洗浄物Ｗの洗浄中に開口９２９を密閉する先述した蓋部５６と、を備えている。
図２に示すように、収容ケース９２は、例えば、搬入パッド５０の移動経路下における基台１０上の−Ｙ方向側の一角に形成された円形の開口内に配設されている。
【００３３】
図３、４に示すように、スピンナテーブル９０は、例えば、その外形が円形板状であり、ポーラス部材等からなり被洗浄物Ｗを吸着する吸着部９００と、吸着部９００を支持する枠体９０１とを備える。吸着部９００は図示しない吸引源に連通し、吸引源が吸引することで生み出された吸引力が、吸着部９００の露出面であり枠体９０１と面一に形成された保持面９００ａに伝達されることで、スピンナテーブル９０は保持面９００ａ上で被洗浄物Ｗを吸引保持することができる。また、枠体９０１の周囲には、環状フレームＦを固定する固定クランプ９０１ａが、例えば４つ周方向に均等間隔を空けて配設されている。
【００３４】
スピンナテーブル９０の下側には回転手段９４が配設されており、回転手段９４は、スピンナテーブル９０の底面側に上端が固定されＺ軸方向の軸心周りに回転可能なスピンドル９４０と、スピンドル９４０の下端側に連結する回転駆動源９４１とを少なくとも備えている。回転駆動源９４１がスピンドル９４０を回転させることで、スピンドル９４０に固定されたスピンナテーブル９０も回転する。
【００３５】
図３に示すように、回転駆動源９４１は、エアシリンダ又は電動シリンダ等からなる支持機構９５によって上下方向に移動可能に支持されている。支持機構９５は、回転駆動源９４１を上昇させることでスピンナテーブル９０を上昇させて、スピンナテーブル９０を被洗浄物Ｗの搬入・搬出高さ位置に位置付け、また、回転駆動源９４１を下降させることで被洗浄物Ｗを保持した状態のスピンナテーブル９０を下降させて、スピンナテーブル９０を収容ケース９２内における洗浄作業高さ位置に位置付ける。
【００３６】
図３においては、収容ケース９２の外側壁９２０等の一部を切欠いて内部が把握できるように示している。有底円筒形状の収容ケース９２は、スピンナテーブル９０を囲繞する外側壁９２０と、外側壁９２０の下部に一体的に形成され中央にスピンドル９４０が挿通される開口を有する底板９２１と、底板９２１の開口の内周縁から立設する内側壁９２２とから構成されている。収容ケース９２は、底板９２１に一端が固定された脚部９２３により支持されている。底板９２１には、洗浄液排出口９２１ａが厚み方向に貫通形成されており、洗浄液排出口９２１ａには、スピンナテーブル９０の保持面９００ａ上から底板９２１に流下した洗浄液を収容ケース９２の外部に排出するドレンホース９２１ｂが接続されている。
【００３７】
収容ケース９２の外側壁９２０には、排気口９２０ａが貫通形成されており、排気口９２０ａには、金属配管又は樹脂ホースからなる排気路９２６の一端が連通している。排気路９２６の他端は、真空発生装置等の吸引源９２８に連通している。また、排気路９２６上には、排気路９２６を吸引源９２８に連通する状態と大気に開放された状態とに切り換え可能なソレノイドバルブ９２８ａが配設されている。
【００３８】
例えば、図３、４に示すように、収容ケース９２の外側壁９２０の環状の上端面には、その全周に渡ってシール部材９２５（スポンジ又はゴム等）を配設するものとしてもよい。シール部材９２５によって、被洗浄物Ｗの洗浄時における収容ケース９２と蓋部５６との接触箇所における密閉性が向上し、端材が該接触箇所から飛散することがなくなる。なお、シール部材９２５を例えばウレタンのような多孔質材料とすることで通気性をもたせてもよい。
【００３９】
スピンナテーブル９０の下面と収容ケース９２の内側壁９２２の上端面との間には、スピンドル９４０に挿嵌された円形状のカバー部材９２４が配設されており、スピンナテーブル９０を収容ケース９２内における作業高さ位置に位置付けると、カバー部材９２４の外周縁から−Ｚ方向に向かって垂下するスカート部９２４ａが、内側壁９２２の周囲を囲んだ状態になる。これによって、スピンドル９４０と底板９２１の開口との隙間に、スピンナテーブル９０上から流下する洗浄液を入り込ませないようにしている。
【００４０】
図３に示すように、外形が側面視略Ｌ字状である洗浄ノズル９１は、例えば、収容ケース９２の底板９２１上に立設しており、その先端部分に形成された噴射口９１０がスピンナテーブル９０の保持面９００ａに向かって開口している。図４に示すように、洗浄ノズル９１は、モータ等からなる図４に示す回転手段９１１によりＺ軸方向の軸心周りに回転可能となっており、スピンナテーブル９０の上方から退避位置まで噴射口９１０を移動することができる。洗浄ノズル９１は、被洗浄物Ｗの表面Ｗａに洗浄液（例えば、純水）を供給する図示しない洗浄液供給手段に連通している。
【００４１】
例えば、洗浄装置９は、洗浄後の被洗浄物Ｗをエアブローにより乾燥させるエアノズル９６を備えている。外形が側面視略Ｌ字状であるエアノズル９６は、収容ケース９２の底板９２１上に立設しており、その先端部分に形成された噴射口９６０がスピンナテーブル９０の保持面９００ａに向かって開口している。図４に示すように、エアノズル９６は、モータ等からなる回転手段９６１によりＺ軸方向の軸心周りに回転可能となっており、スピンナテーブル９０の上方から退避位置まで噴射口９６０を移動することができる。エアノズル９６は、被洗浄物Ｗの表面Ｗａにエアを供給するコンプレッサー等からなる図示しないエア供給手段に連通している。
【００４２】
図３、４に示すように、蓋部５６には、被洗浄物Ｗの洗浄時において外気の収容ケース９２への流入を許容するとともに収容ケース９２内で洗浄中の被洗浄物Ｗの端材が収容ケース９２外へ飛散することを防止するサイズの細孔を複数備える気体取り込み部５６３が形成されている。
気体取り込み部５６３は、例えば、金網、又は金属板に複数の細孔がパンチングされたパンチングプレートであると好ましい。金網のメッシュサイズやパンチングプレートの細孔のサイズは、被洗浄物Ｗの端材が収容ケース９２外に飛散しないように端材サイズよりも小さくなっている。例えば、パンチングプレートに複数形成される細孔の形状やピッチ等は特に限定されない。
なお、被洗浄物Ｗの端材とは、例えば、円形状の被洗浄物Ｗの最外周に位置し切削後の外形が三角形状となっているチップ等であり、該三角チップのサイズは、基本的に通常のデバイスＤを備えるデバイスチップのサイズに比べて小さくなるため、デバイスＤを備えるチップのサイズを目安して、金網のメッシュサイズやパンチングプレートの細孔のサイズを定めてもよい。
また、気体取り込み部５６３は、例えば、気泡が互いに連通している構造を有する連泡スポンジを平板状に形成したものであってもよい。
【００４３】
気体取り込み部５６３は、例えば、平面視矩形状に形成されており、平面視Ｈ形状の搬入パッド５０が下方に位置しないようにして蓋部５６においてＹ軸方向に所定距離ずらして配設されているが、形状及び配設位置はこれに限定されるものではない。
また、気体取り込み部５６３として金網やパンチングプレートを使用する場合には、金網（又はパンチングプレート）を２枚上下方向に隙間を空け、かつ、水平方向に細孔がずれるようにして重ねた状態で気体取り込み部５６３を形成してもよい。この場合には、気体取り込み部５６３は、気体を取り込む機能を失わず、また、例えば、洗浄時に一枚目のパンチングプレートを通過してしまった洗浄液の飛沫を、二枚目のパンチングプレートでほぼ確実に止められるため、洗浄液の飛沫の収容ケース９２外への飛散もより確実に防ぐことが可能となる。
【００４４】
以下に、図１、２に示す加工装置１により被加工物Ｗを切削してから、洗浄装置９により被加工物Ｗを洗浄する場合について説明する。
まず、環状フレームＦに支持された被加工物Ｗを複数枚収容した図示しないカセットが、図２に示すカセット載置台１３に載置され、その後、昇降エレベータによりカセットの高さ調整が行われる。
【００４５】
次に、搬送パッド移動手段４１がクランプ４６を＋Ｙ方向に移動させてカセット内部に進入させる。さらに、クランプ４６により環状フレームＦが把持され、カセットから被加工物Ｗが１枚クランプ４６により引き出され、センタリングガイド３６上に環状フレームＦが載置される。そして、センタリングガイド３６の一対のガイドレールが、Ｘ軸方向において相互に接近し環状フレームＦの外周縁部を支持しつつ、被加工物Ｗのセンタリングを行う。
【００４６】
搬送パッド移動手段４１により搬送パッド４０がＹ軸方向に移動し、各吸着盤４０１がセンタリングガイド３６上の環状フレームＦの上方に位置付けられる。さらに、ロアアーム４２が搬送パッド４０を降下させ、吸着盤４０１が環状フレームＦに接触して吸着を行うことで、搬送パッド４０が被加工物Ｗをピックアップする。
【００４７】
被加工物Ｗがピックアップされると、センタリングガイド３６の一対のガイドレールは、相互に離間する方向に移動し、一対のガイドレールの間には被加工物Ｗの通る隙間ができる。そして、ロアアーム４２が搬送パッド４０を降下させ、被加工物Ｗをチャックテーブル３０の保持面３０ａ上に載置する。固定クランプ３２が環状フレームＦを挟持固定し、また、チャックテーブル３０が保持面３０ａ上で被加工物Ｗを吸引保持した後、搬送パッド４０による環状フレームＦの吸着が解除される。
【００４８】
次いで、被加工物Ｗを吸引保持するチャックテーブル３０は、図示しない切削送り手段により−Ｘ方向に切削送りされ筐体１１内部に移動する。
チャックテーブル３０に保持された被加工物Ｗが−Ｘ方向に送られるとともに、図１に示すアライメント手段６７によって切削すべき分割予定ラインＳの位置が検出される。分割予定ラインＳが検出されるのに伴って、切削手段６がＹ軸方向に割り出し送りされ、分割予定ラインＳと切削ブレード６３とのＹ軸方向における位置合わせがなされる。
切り込み送り手段６８が切削手段６を降下させ、例えば、切削ブレード６３が被加工物ＷをフルカットしてダイシングテープＴに切り込む高さ位置に切削手段６を位置付ける。
【００４９】
図示しない切削送り手段がチャックテーブル３０を−Ｘ方向に送り出すとともに、切削ブレード６３が高速回転をしながら被加工物Ｗに切り込み、分割予定ラインＳを切削する。
切削ブレード６３が分割予定ラインＳを切削し終えるＸ軸方向の所定の位置まで被加工物Ｗが−Ｘ方向に進行すると、図示しない切削送り手段が被加工物Ｗの切削送りを一度停止させ、切り込み送り手段６８が切削手段６を上昇させて切削ブレード６３を被加工物Ｗから離間させる。そして、図示しない切削送り手段がチャックテーブル３０を＋Ｘ方向へ送り出して元の位置に戻す。隣り合う分割予定ラインＳの間隔ずつ切削手段６がＹ軸方向に割り出し送りされて順次同様の切削が行われ、同方向の全ての分割予定ラインＳが切削される。さらに、チャックテーブル３０が９０度回転されてから同様の切削が行われることで、全ての分割予定ラインＳが縦横に全てカットされて被加工物ＷがデバイスＤを備えるチップへと分割される。また、被加工物Ｗの外周部分に端材となる三角チップが形成される。
【００５０】
図示しない切削送り手段によりチャックテーブル３０が＋Ｘ方向に送られて、チャックテーブル３０が筐体１１の内部から装置カバー１５内へと移動する。
次いで、搬入手段５がチャックテーブル３０から被加工物Ｗ（以下、被洗浄物Ｗとする）を搬出する。即ち、図２に示す搬入パッド移動手段５１により搬入パッド５０がＹ軸方向に移動し、各吸着盤５０１が被洗浄物Ｗを支持する環状フレームＦの上方に位置付けられる。さらに、アッパーアーム５２が搬入パッド５０を降下させ、吸着盤５０１が環状フレームＦに接触して吸着を行い、搬入パッド５０が被洗浄物Ｗをピックアップする。
【００５１】
チャックテーブル３０による被洗浄物Ｗの吸引保持及び固定クランプ３２による環状フレームＦの固定が解除される。そして、アッパーアーム５２が搬入パッド５０を上昇させ、次いで、搬入パッド移動手段５１が搬入パッド５０を−Ｙ方向に移動させて洗浄装置９へ被洗浄物Ｗを搬送する。
【００５２】
図４に示すように、搬入パッド移動手段５１によって、被洗浄物Ｗがスピンナテーブル９０の上方に搬送され、蓋部５６の中心と収容ケース９２の中心とが略合致するように、即ち、蓋部５６の側板５６１の環状の下端面が収容ケース９２の外側壁９２０の環状の上端面に配設されたシール部材９２５とＺ軸方向において凡そ対向するように、蓋部５６の位置の調整が行われる。そして、被洗浄物Ｗの中心がスピンナテーブル９０の保持面９００ａの中心におおよそ位置する状態になる。
【００５３】
次いで、アッパーアーム５２が搬入パッド５０及び蓋部５６を降下させる。例えば、まず、被洗浄物Ｗがスピンナテーブル９０の保持面９００ａ上に載置され、固定クランプ９０１ａが環状フレームＦを挟持固定し、また、図示しない吸引源が生み出す吸引力がスピンナテーブル９０の保持面９００ａ上に伝達されることでスピンナテーブル９０が被洗浄物Ｗを吸引保持する。そして、搬入パッド５０による環状フレームＦの吸着が解除される。
【００５４】
被洗浄物Ｗを吸引保持するスピンナテーブル９０が、図５に示すように、支持機構９５（図３参照）によって収容ケース９２内における洗浄作業高さ位置まで下降した後、アッパーアーム５２が蓋部５６をさらに降下させる。そして、蓋部５６の側板５６１の環状の下端面が収容ケース９２のシール部材９２５に上方から接触することで、蓋部５６によって収容ケース９２の開口９２９が密閉された状態になる。
【００５５】
洗浄ノズル９１が旋回移動し、洗浄ノズル９１の噴射口９１０がスピンナテーブル９０により吸引保持された被洗浄物Ｗの表面Ｗａの中央領域上方に位置付けられる。そして、洗浄ノズル９１の噴射口９１０から被洗浄物Ｗの表面Ｗａの中心部に向かって洗浄液（例えば、純水）が噴射される。さらに、洗浄液を噴射する洗浄ノズル９１が、被洗浄物Ｗの上方をＺ軸方向の軸心周りに所定角度で往復するように旋回移動する。さらに、回転手段９４がスピンナテーブル９０を所定の回転速度で回転させることによって、被洗浄物Ｗの表面Ｗａ全面に洗浄ノズル９１から洗浄液が噴射される。
【００５６】
これにより、被洗浄物Ｗが洗浄され、スピンナテーブル９０の回転により発生する遠心力によって、洗浄液が、被洗浄物Ｗの表面Ｗａ上を中心側から外周側に向けて流れていき、スピンナテーブル９０上から収容ケース９２の底板９２１へと流下する。
【００５７】
上記洗浄中においては、被洗浄物Ｗの表面Ｗａ上に残存していた切削屑等を含む噴霧が生成されて収容ケース９２内に飛散する。そのため、ソレノイドバルブ９２８ａが開かれた状態で吸引源９２８が作動して、吸引源９２８が収容ケース９２内から切削屑等の汚れを含んだ噴霧の吸引を行う。洗浄中において、収容ケース９２内には、気体取り込み部５６３から外気が絶えず取り込まれているため、収容ケース９２内が減圧されてしまい噴霧が排気されなくなるという事態は生じない。
【００５８】
一方、上記洗浄中においては、切削で被洗浄物Ｗに形成された端材（例えば、被洗浄物Ｗの外周部に形成された三角チップ）が飛散することがある。特に、該三角チップはダイシングテープＴとの接着面が狭くなっているため、洗浄液の圧力及びスピンナテーブル９０の回転により受ける遠心力等によって上下左右に飛散しやすい。
ここで、収容ケース９２の開口９２９は蓋部５６で密閉されているため、端材が収容ケース９２外へ飛散してしまうことが防がれる。また、気体取り込み部５６３の備える各細孔のサイズは、被洗浄物Ｗの端材のサイズよりも小さく設定されているため、気体取り込み部５６３に向かって飛散した端材は気体取り込み部５６３の細孔を通過できず、収容ケース９２外に飛散してしまうことはない。
【００５９】
洗浄液によって所定時間被洗浄物Ｗの洗浄が行われた後、洗浄ノズル９１からの洗浄液の噴射が止められ、また、洗浄ノズル９１が旋回してスピンナテーブル９０の上方から退避位置まで噴射口９１０が移動する。
エアノズル９６が旋回移動し、その噴射口９６０が洗浄後の被洗浄物Ｗの表面Ｗａの中央領域上方に位置付けられる。そして、エアノズル９６の噴射口９６０から被洗浄物Ｗの表面Ｗａの中心部に向かってエアが噴射される。さらに、エアを噴射するエアノズル９６が、被洗浄物Ｗの上方をＺ軸方向の軸心周りに所定角度で往復するように旋回移動する。さらに、回転手段９４がスピンナテーブル９０を所定の回転速度で回転させることによって、被洗浄物Ｗの表面Ｗａ全面がエアブローにより乾燥される。そして、被洗浄物Ｗの乾燥が完了すると、エアノズル９６がスピンナテーブル９０上から旋回移動して退避する。
【００６０】
次いで、アッパーアーム５２が蓋部５６を上昇させ、収容ケース９２の開口９２９が開かれた状態になる。また、スピンナテーブル９０が、支持機構９５によって上昇して被洗浄物Ｗが搬出可能な状態になる。
【００６１】
図２に示す搬送パッド移動手段４１により搬送パッド４０が−Ｙ方向に移動し、各吸着盤４０１がスピンナテーブル９０上の環状フレームＦの上方に位置付けられる。さらに、ロアアーム４２が搬送パッド４０を降下させ、吸着盤４０１が環状フレームＦに接触して吸着を行うことで、搬送パッド４０が被洗浄物Ｗをピックアップする。
【００６２】
そして、搬送パッド４０が＋Ｙ方向に移動して、センタリングガイド３６上に環状フレームＦが載置される。さらに、クランプ４６による環状フレームＦの把持が行われた後、クランプ４６によって被洗浄物Ｗがカセット載置台１３上の図示しないカセットに挿入される。
【００６３】
上記のように本発明に係る洗浄装置９は、収容ケース９２の開口９２９を密閉する蓋部５６を備え、蓋部５６には、外気の収容ケース９２への流入を許容するとともに収容ケース９２内で洗浄中の被洗浄物Ｗの端材が収容ケース９２外へ飛散することを防止するサイズの複数を備える気体取り込み部５６３が形成されているため、被洗浄物Ｗを洗浄中に、端材等が収容ケース９２外へと飛散することを防止しつつ、外気を収容ケース９２内に取り入れることで効率よく汚れた噴霧を排気し続けることが可能となる。
【００６４】
本発明に係る洗浄装置９は、被洗浄物Ｗをスピンナテーブル９０上に搬入する搬入手段５を更に備え、蓋部５６は搬入手段５を構成するものとすることで、被洗浄物Ｗの収容ケース９２への搬入と、蓋部５６により収容ケース９２の開口９２９を塞いだ状態での被洗浄物Ｗの洗浄の開始とをよりスムーズに行うことが可能となる
【００６５】
なお、本発明に係る洗浄装置９は上記実施形態に限定されるものではなく、また、添付図面に図示されている加工装置１及び洗浄装置９の各構成についても、図示の例に限定されず、本発明の効果を発揮できる範囲内で適宜変更可能である。
【００６６】
例えば、本実施形態においては、図３〜５に示すように、収容ケース９２の外径と蓋部５６の外径とが同サイズとなっているが、図６に示すように、収容ケース９２の開口９２９の外径を収容ケース９２の胴体部分の外径よりも小さく設定している場合には、被洗浄物Ｗの洗浄時において、収容ケース９２の上端側が蓋部５６内に嵌り込んだ状態となることで、開口９２９が蓋部５６で密閉されるものとしてもよい。
【符号の説明】
【００６７】
Ｗ：被洗浄物（被加工物）  Ｔ：ダイシングテープ  Ｆ：環状フレーム
１：加工装置  １０：基台  １１：筐体  １１０：覗き窓  １１１：操作手段  １１６：搬入出口
１２：  加工室  １５：装置カバー  １３：カセット載置台
３０：チャックテーブル  ３１：カバー  ３２：固定クランプ
３６：センタリングガイド
６：切削手段  ６１：スピンドル  ６２：スピンドルハウジング  ６３：切削ブレード
６９：割り出し送り手段  ６８：切り込み送り手段  ６７：アライメント手段
４：搬送手段  ４０：搬送パッド  ４０１：吸着盤  
４１：搬送パッド移動手段  ４１０：ボールネジ  ４１１：ガイドレール  ４１２：モータ  ４１３：可動ブロック  ４２：ロアアーム  ４６：クランプ
５：搬入手段  ５０：搬入パッド  ５０１：吸着盤  
５１：搬入パッド移動手段  ５１０：ボールネジ  ５１１：ガイドレール  ５１２：モータ  ５１３：可動ブロック  ５２：アッパーアーム  
５６：蓋部  ５６０：天板  ５６１：側板  ５６３：気体取り込み部
９：洗浄装置  ９０：スピンナテーブル  ９００：吸着部  ９００ａ：保持面  ９０１：枠体  ９０１ａ：固定クランプ
９１：洗浄ノズル  
９２：収容ケース  ９２０：外側壁  ９２０ａ：排気口  ９２１：底板  ９２２：内側壁  ９２５：シール部材  ９２６：排気路  ９２８：吸引源  ９２９：開口  
９４：回転手段  ９４０：スピンドル  ９４１：回転駆動源
９５：支持機構  ９６：エアノズル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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