(57)【要約】【課題】容易にかつ安価に補修可能な基板支持台を提供する。【解決手段】(a)基台１０ａと、(b)表面から突出して基板ＰＯを支持するための複数の凸部１１を有する板状の部材であって、表示パネルに用いられる材料、例えば、ガラス基板ＧＳおよび絶縁膜に用いられる有機材料１０ｂ１からなり、基台１０ａ上に交換可能に取り付けられた支持板１０ｂとで構成する。【選択図】図６
2019186240.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示パネルを構成する基板を支持するための基板支持台であって、
基台と、
表面から突出して形成されて前記基板を支持するための複数の凸部を有する板状の部材であって、前記表示パネルに用いられる材料からなり、前記基台上に交換可能に取り付けられた支持板と、
を含んで構成された基板支持台。
【請求項２】
前記表示パネルを構成する前記基板が、ガラス基板上に複数の膜が積層されるものであり、
前記支持板が、
前記ガラス基板に、前記複数の膜の少なくとも１つに用いられる材料によって前記複数の凸部が形成されたものである請求項１に記載の基板支持台。
【請求項３】
前記複数の凸部が、前記複数の膜を形成する際に使用されるフォトマスクを用いて前記ガラス基板上にパターニングされた請求項２に記載の基板支持台。
【請求項４】
前記表示パネルを構成する前記基板が、前記ガラス基板上に前記複数の膜が積層されることによって複数のスイッチング素子が形成されるものであり、
前記複数の凸部が、前記複数のスイッチング素子を形成する際に使用されるフォトマスクを用いて前記ガラス基板上にパターニングされた請求項３に記載の基板支持台。
【請求項５】
前記複数の凸部が、前記複数の膜のうち絶縁膜に用いられる有機材料によって形成された請求項２から請求項４のいずれか一項に記載の基板支持台。
【請求項６】
前記支持板が、
ガラス基板上に、レジスト材を露光・現像することにより、そのレジスト材によって前記複数の凸部が形成されたものである請求項１に記載の基板支持台。
【請求項７】
前記基板支持台が、
前記基台に上下方向に移動可能に設けられた複数のリフトピンを有し、そのリフトピンを上下方向に移動させることで前記支持板上において前記基板を昇降させる基板昇降装置を含んで構成され、
前記支持板が、
複数に分断されており、その複数に分断された各々が前記複数のリフトピンを避けて前記基台上に取り付けられた請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の基板支持台。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示パネルの製造に用いられる種々の装置に設けられてその表示パネルを構成する基板を支持するための基板支持台に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネルや有機ＥＬパネル等の表示パネルを製造する工程においては、その表示パネルを構成する基板に対して種々の処理を行う。その種々の処理を行う装置には、基板を支持するための基板支持台が設けられるものがある。例えば、下記特許文献１に記載されている基板支持台は、基板の裏面への異物の付着を回避する目的で、板状部材の表面に複数の凸部が設けられ、それら複数の凸部の先端で基板を支持するように構成されている。なお、下記特許文献１に記載の基板支持台は、基板を支持させる面に複数の樹脂突起物を貼着することで、複数の凸部が形成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−２８６２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記特許文献１に記載された基板支持台のように、複数の凸部で基板を支持するような構成のものである場合、それら複数の凸部が、基板との接触による摩耗や、プラズマ・薬液等が原因で経年劣化し、例えば、基板の貼り付き、剥離帯電、露光不良、基板裏面への傷等が生じる虞がある。そこで、複数の凸部が経年劣化した場合には、基板支持台を補修する必要がある。上記特許文献１に記載の基板支持台は、複数の樹脂突起物を剥がして、新たな複数の樹脂突起物を貼着することで、複数の凸部を補修することが可能である。しかしながら、上記特許文献１に記載の基板支持台は、複数の樹脂突起物を製造して用意しなければならず、また、それら樹脂突起物を貼着するという特別な作業が必要となってしまう。
【０００５】
本発明は、そのような実情に鑑みてなされたものであり、複数の凸部が経年劣化した場合等において容易にかつ安価に補修可能な基板支持台を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために本発明の基板支持台は、
表示パネルを構成する基板を支持するための基板支持台であって、
基台と、
表面から突出して前記基板を支持するための複数の凸部を有する板状の部材であって、前記表示パネルに用いられる材料からなり、前記基台上に交換可能に取り付けられた支持板と、
を含んで構成されたことを特徴とする。
【０００７】
このような構成とされた基板支持台によれば、支持板が表示パネルに用いられる材料で形成されるため、その支持板を製作するために新たな材料が必要なく、補修にかかるコストを抑えることができる。また、その表示パネルに用いられる材料で形成された支持板を交換するだけで、基板支持台の補修が完了するため、補修に要する時間を短縮すること、換言すれば、表示パネルの製造を停止している時間を短縮することが可能である。また、この構成の基板支持台において、支持板の複数の凸部は、表示パネルの製造に用いられる種々の装置や手法を用いることによって、例えば、フォトリソグラフィ法によりガラス基板上に構造物をパターニングする手法等によって、容易に形成することが可能である。
【０００８】
なお、この構成の基板支持台において、支持板に使用する材料は特に限定されないが、複数の凸部は、基板の裏面に傷をつけないような材料、例えば樹脂系の材料等、基板より柔らかい材料で形成されることが望ましい。また、支持板に使用する材料には、複数の凸部の劣化を軽減できる材料であること、複数の凸部の摩耗によって塵等が生じにくい材料であること等、種々の観点を考慮にいれて選定することができる。さらに、支持板は、単一の材料によって形成されたものであってもよく、２以上の材料によって形成されたものであってもよい。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、複数の凸部が経年劣化した場合等において容易にかつ安価に補修可能な基板支持台を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の実施形態の基板支持台を備える基板処理装置を概略的に示す図である。
【図２】本発明の実施形態の基板支持台が支持する基板を含んで構成される表示パネルの平面図である。
【図３】図２に示す表示パネルの画素配列を示す平面図である
【図４】図２に示す表示パネルの断面図（図３におけるＡ−Ａ断面）である。
【図５】本発明の実施形態の基板支持台の斜視図である。
【図６】本発明の実施形態の基板支持台を拡大して示す断面図である。
【図７】図１に示す支持板の製造過程を説明するための図である。
【図８】図１に示す支持板の基台への取り付けを説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の実施形態である基板支持台１０は、液晶パネルの製造工程においてその液晶パネルを構成する基板に対する処理を行う種々の基板処理装置に設けられる。図１は、その基板処理装置の１つで、絶縁膜の成膜を行うＣＶＤ装置１２であり、そのＣＶＤ装置１２を例に、本実施形態の基板支持台１０について説明することとする。
【００１２】
＜基板処理装置の構成＞
後に詳しく説明するが、液晶パネルを構成する基板は、既知のフォトリソグラフィ法を用いてガラス基板上に各種配線などを構成する各導電膜および各絶縁膜が順次に成膜されてパターニングされることで製造されている。そして、ＣＶＤ装置１２は、これら導電膜や絶縁膜などの成膜に際して、化学蒸着（Chemical Vapor Deposition）法によって成膜処理を行うものである。ＣＶＤ装置１２は、ガラス基板等の処理対象物ＰＯを収容する処理室１４と、その処理室１４内を減圧する減圧部１６と、その減圧部１６に接続されていて処理室１４内の圧力を調整する圧力調整弁１８と、膜の材料を供給する膜材料供給部２０と、処理室１４内に配されるとともに処理対象物ＰＯ上に膜の材料を化学蒸着させるＣＶＤ成膜部２２とを含んで構成される。
【００１３】
詳しくは、処理室１４における底側には、処理対象物ＰＯを支持する本実施形態の基板支持台１０が設けられている。処理室１４における天井側には、本基板支持台１０と対向する形で配されるとともに膜材料供給部２０から供給される膜の材料を処理室１４内に噴出するシャワーヘッド２４が設けられている。このシャワーヘッド２４には、交流電源ＡＣに接続された上部電極が一体的に設けられている。膜材料供給部２０は、配管２０ａを介してシャワーヘッド２４に対してそれぞれ混合気体および絶縁膜材料を供給可能な状態に接続されている。また、膜材料供給部２０の配管２０ａの途中には、膜の材料の供給量を調整するための膜材料供給量調整弁２０ｂが設けられており、その開度が電気的に制御されることで、処理室１４内に供給する材料の供給量を微調整できるものとされる。一方、本基板支持台１０は、後に詳しく説明するが、基台１０ａと、その基台１０ａ上に固定されて処理対象物ＰＯを支持するための板状の部材である支持板１０ｂとを含んで構成される。その基台１０ａには、グランドＧＮＤに接続される下部電極が一体的に設けられており、この下部電極とシャワーヘッド２４に設けられた上部電極との間に電界を形成することで、処理対象物ＰＯに対する膜の材料の蒸着を促進することができる。ちなみに、本基板支持台１０およびシャワーヘッド２４を含んで、ＣＶＤ成膜部２２が構成されている。減圧部１６は、排気配管１６ａを介して処理室１４に接続されており、処理室１４内の空気を吸引する真空ポンプを有している。圧力調整弁１８は、排気配管１６ａの途中に設けられており、その開度が電気的に制御されることで、処理室１４内の圧力を微調整できるものとされる。
【００１４】
また、本基板支持台１０の基台１０ａには、支持板１０ｂ上にて処理対象物ＰＯを昇降させる基板昇降装置２６が内蔵されている。その基板昇降装置２６は、複数のリフトピン２６ａと、それら複数のリフトピン２６ａを上下方向に移動させるモータ（図示省略）とを含んで構成される。基台１０ａには、リフトピン２６ａを収容するピン収容凹部１０ａ１が形成されており、リフトピン２６ａは、通常、基台１０ａにおける上面から引っ込んだ位置（待機位置）に待機させられている。基板昇降装置２６は、リフトピン２６ａを、その待機位置から支持板１０ｂ上に突き出した所定の高さ位置（受け渡し位置）に移動させることで、処理対象物ＰＯを支持板１０ｂから持ち上げた状態で支持することができる。それにより外部のロボットアーム（図示せず）との間で処理対象物ＰＯの受け渡しを図ることが可能とされている。具体的には、処理対象物ＰＯを処理室１４内に収容する際には、ロボットアームにより処理室１４内に処理対象物ＰＯを搬入すると、その処理対象物ＰＯを受け渡し位置までせり上がったリフトピン２６ａ上に載せることで基板支持台１０側に受け渡し、リフトピン２６ａを下降させて待機位置に位置させることで基板支持台１０の支持板１０ｂ上に処理対象物ＰＯを載置させる。一方、処理対象物ＰＯを処理室１４外に取り出す際には、リフトピン２６ａを上昇させて処理対象物ＰＯを基板支持台１０から持ち上げて受け渡し位置に位置させ、ロボットアームがその処理対象物ＰＯを受け取って処理室１４外へと搬出する。
【００１５】
＜表示パネルの構成＞
次に、本基板支持台１０が支持する基板を含んで構成される表示パネルとしての液晶パネル３０について、図２〜図４を参照しつつ説明する。なお、本実施形態の基板支持台１０の支持の対象となるものは、液晶パネルの基板に限定されず、有機ＥＬパネル等の基板であってもよい。
【００１６】
液晶パネル３０は、図２に示すように、全体としては横長の方形状をなしている。液晶パネル３０の表示面は、画像が表示される表示領域（アクティブエリア）ＡＡと、表示領域ＡＡを取り囲む額縁状（枠状）をなすとともに画像が表示されない非表示領域（ノンアクティブエリア）ＮＡＡとに区分される。ちなみに、図２においては、内側の一点鎖線が表示領域ＡＡの外形を表しており、その内側の一点鎖線よりも外側の領域が非表示領域ＮＡＡとなっている。なお、各図面の一部にはＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸を示しており、各軸方向が各図面で共通な方向となるように描かれている。液晶パネル３０における長辺方向が各図面のＸ軸方向と一致し、短辺方向が各図面のＹ軸方向と一致している。また、上下方向（表裏方向）については、図４を基準としており、同図上側を表側、同図下側を裏側と呼ぶ場合もある。
【００１７】
本液晶パネル３０は、図４に示すように、ほぼ透明で優れた透光性を有する一対の基板３０ａ，３０ｂと、両基板３０ａ，３０ｂの間に介在して電界印加に伴って光学特性が変化する物質である液晶分子を含む液晶層３０ｃとを備え、両基板３０ａ，３０ｂが液晶層３０ｃの厚さ分のセルギャップを維持した状態で図示しないシール剤によって貼り合わされている。液晶パネル３０を構成する一対の基板３０ａ，３０ｂのうち表側（正面側）のものがＣＦ基板（対向基板）３０ａとされ、裏側（背面側）のものがアレイ基板（表示基板、アクティブマトリクス基板、ＴＦＴ基板）３０ｂとされる。ＣＦ基板３０ａおよびアレイ基板３０ｂは、いずれもガラス基板ＧＳの内面側に各種の膜が積層形成されてなる。このうちのアレイ基板３０ｂは、図２に示すように、ＣＦ基板３０ａよりも大型となっていてその一部がＣＦ基板３０ａに対して延び出しており、その延び出した部分（非表示領域ＮＡＡを構成する）には、各種信号を供給するための部品としてドライバ（パネル駆動部品）３２およびフレキシブル基板（信号伝送部材）３４が実装される。
【００１８】
次に、液晶パネル３０の内部構造について説明する。アレイ基板３０ｂの表示領域ＡＡにおける内面側には、図３に示すように、スイッチング素子であるＴＦＴ（薄膜トランジスタ）４０および画素電極４２が多数個ずつＸ軸方向およびＹ軸方向に沿って並んでマトリクス状（行列状）に設けられるとともに、これらＴＦＴ４０および画素電極４２の周りには、略格子状をなすゲート配線（走査配線）４４およびソース配線（信号配線、データ配線）４６が取り囲むようにして配設されている。ゲート配線４４は、Ｘ軸方向に沿ってほぼ真っ直ぐに延在しているのに対し、ソース配線４６は、概ねＹ軸方向に沿って延在しており、その一部がＸ軸方向およびＹ軸方向に対する斜め方向に沿って延在する斜め延在部４６ａとされる。ゲート配線４４とソース配線４６とがそれぞれＴＦＴ４０のゲート電極４０ａとソース電極４０ｂとに接続され、画素電極４２がＴＦＴ４０のドレイン電極４０ｃに接続されている。そして、ＴＦＴ４０は、ゲート配線４４およびソース配線４６にそれぞれ供給される各種信号に基づいて駆動され、その駆動に伴って画素電極４２への電位の供給が制御されるようになっている。画素電極４２は、平面形状が縦長の略平行四辺形とされており、その短辺方向（Ｘ軸方向）について隣り合う画素電極４２との間にソース配線４６が、長辺方向（Ｙ軸方向）について隣り合う画素電極４２との間にゲート配線４４が、それぞれ介在している。画素電極４２は、その長辺がソース配線４６の斜め延在部４６ａに並行している。
【００１９】
アレイ基板３０ｂの表示領域ＡＡにおける内面側には、図３および図４に示すように、全ての画素電極４２と重畳する形で共通電極４８が画素電極４２よりも上層側（液晶層３０ｃに近い側）に形成されている。共通電極４８は、常にほぼ一定の基準電位が供給されるものであり、表示領域ＡＡのほぼ全域にわたって延在しており、各画素電極４２と重畳する部分には、縦長形状の画素重畳開口部（画素重畳スリット、配向制御スリット）４８ａが複数（図３では２本）ずつ開口形成されている。画素重畳開口部４８ａは、ソース配線４６の斜め延在部４６ａに沿って延在している。画素電極４２が充電されるのに伴って、互いに重畳する画素電極４２と共通電極４８との間に電位差が生じると、画素重畳開口部４８ａの開口縁と画素電極４２との間には、アレイ基板３０ｂの板面に沿う成分に加えて、アレイ基板３０ｂの板面に対する法線方向の成分を含むフリンジ電界（斜め電界）が生じるので、そのフリンジ電界を利用して液晶層３０ｃに含まれる液晶分子の配向状態を制御することができる。つまり、本実施形態に係る液晶パネル３０は、動作モードがＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードとされている。
【００２０】
一方、ＣＦ基板３０ａの内面側における表示領域ＡＡには、図４に示すように、赤色（Ｒ），緑色（Ｇ），青色（Ｂ）を呈する３色のカラーフィルタ５０が設けられている。カラーフィルタ５０は、互いに異なる色を呈するものがゲート配線４４（Ｘ軸方向）に沿って繰り返し多数並ぶとともに、それらがソース配線４６（概ねＹ軸方向）に沿って延在することで、全体としてストライプ状に配列されている。これらのカラーフィルタ５０は、アレイ基板３０ｂ側の各画素電極４２と平面に視て重畳する配置とされている。Ｘ軸方向について隣り合って互いに異なる色を呈するカラーフィルタ５０は、その境界（色境界）がソース配線４６および後述する遮光部５２と重畳する配置とされる。この液晶パネル３０においては、Ｘ軸方向に沿って並ぶＲ，Ｇ，Ｂのカラーフィルタ５０と、各カラーフィルタ５０と対向する３つの画素電極４２と、が３色の画素部ＰＸをそれぞれ構成している。そして、この液晶パネル３０においては、Ｘ軸方向に沿って隣り合うＲ，Ｇ，Ｂの３色の画素部ＰＸによって所定の階調のカラー表示を可能な表示画素が構成されている。画素部ＰＸにおけるＸ軸方向についての配列ピッチは、例えば数十μｍ程度とされる。
【００２１】
ＣＦ基板３０ａの内面側における表示領域ＡＡには、図３および図４に示すように、光を遮る遮光部（画素間遮光部、ブラックマトリクス）５２が形成されている。遮光部５２は、隣り合う画素部ＰＸ（画素電極４２）の間を仕切るよう平面形状が略格子状をなしており、平面に視てアレイ基板３０ｂ側の画素電極４２の大部分と重畳する位置に光を透過する画素開口部５２ａを有している。画素開口部５２ａは、ＣＦ基板３０ａの板面内において画素電極４２と同様にＸ軸方向およびＹ軸方向に沿って多数個ずつマトリクス状に並んで配されている。遮光部５２は、隣り合う画素部ＰＸの間を光が行き交うのを防いで各画素部ＰＸの階調の独立性を担保するのに機能しており、特にソース配線４６に沿って延在する部分は、異なる色を呈する画素部ＰＸ間の混色を防いでいる。遮光部５２は、アレイ基板３０ｂ側のゲート配線４４およびソース配線４６と平面に視て重畳する配置とされる。
【００２２】
表示領域ＡＡにおける両基板３０ａ，３０ｂの間には、図４に示すように、液晶層３０ｃの厚み（セルギャップ、間隔）を一定に保持するためのスペーサ部材５４が介在する形で配されている。スペーサ部材５４は、アレイ基板３０ｂにおける共通電極４８の上層側に液晶層３０ｃを貫く形で設けられて、ＣＦ基板３０ａのカラーフィルタ５０に当接される。また、スペーサ部材５４は、カラーフィルタ５０の色境界に配されている。そして、両基板３０ａ，３０ｂのうち液晶層３０ｃに接する最内面には、液晶層３０ｃに含まれる液晶分子を配向させるための配向膜５６ａ，５６ｂがそれぞれ形成されている。両配向膜５６ａ，５６ｂは、それぞれ例えばポリイミドからなるものとされており、少なくとも各基板３０ａ，３０ｂにおける表示領域ＡＡのほぼ全域にわたってベタ状に形成されている。両配向膜５６ａ，５６ｂは、特定の波長領域の光（例えば紫外線など）が照射されることで、その光の照射方向に沿って液晶分子を配向させることが可能な光配向膜とされる。また、ＣＦ基板３０ａにおいては、配向膜５６ａとカラーフィルタ５０との間に平坦化膜が介在する形で形成されていてもよい。
【００２３】
ここで、アレイ基板３０ｂの内面側に積層形成された各種の膜について説明する。アレイ基板３０ｂを構成するガラス基板ＧＳには、図４に示すように、下層側（ガラス基板ＧＳ側）から順に第１金属膜（ゲート金属膜、導電膜）３０ｂ１、ゲート絶縁膜３０ｂ２、半導体膜３０ｂ３、第２金属膜（ソース金属膜、導電膜）３０ｂ４、平坦化膜（絶縁膜、有機絶縁膜）３０ｂ５、第１透明電極膜（導電膜）３０ｂ６、層間絶縁膜（絶縁膜、無機絶縁膜）３０ｂ７、第２透明電極膜（導電膜）３０ｂ８、有機絶縁膜３０ｂ９が積層形成されている。
【００２４】
第１金属膜３０ｂ１および第２金属膜３０ｂ４は、それぞれＡｇ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｔｉ，Ｍｏなどの中から選択される１種類の金属材料からなる単層膜または異なる種類の金属材料からなる積層膜や合金とされることで導電性および遮光性を有しており、それぞれ表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡＡとに跨る形で配される。このうち、第１金属膜３０ｂ１は、ゲート配線４４やＴＦＴ４０のゲート電極４０ａなどを構成する。第２金属膜３０ｂ４は、ソース配線４６やＴＦＴ４０のソース電極４０ｂおよびドレイン電極４０ｃなどを構成する。ゲート絶縁膜３０ｂ２および層間絶縁膜３０ｂ７は、それぞれ窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）等の無機材料からなり、上層側の第２金属膜３０ｂ４や第２透明電極膜３０ｂ８と、下層側の第１金属膜３０ｂ１や第１透明電極膜３０ｂ６とを絶縁状態に保つ。無機材料からなる各絶縁膜３０ｂ２，３０ｂ７は、それぞれ表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡＡとに跨る形で配される。無機材料からなる各絶縁膜３０ｂ２，３０ｂ７は、後述する平坦化膜３０ｂ５および有機絶縁膜３０ｂ９よりも膜厚が小さい。平坦化膜３０ｂ５および有機絶縁膜３０ｂ９は、アクリル樹脂（例えばＰＭＭＡ等）等の有機材料からなる。平坦化膜３０ｂ５は、自身よりも下層側に生じた段差を平坦化するのに機能する。有機絶縁膜３０ｂ９は、スペーサ部材５４などを構成する。半導体膜３０ｂ３は、材料として例えばアモルファスシリコンや酸化物半導体などを用いた薄膜からなり、ＴＦＴ４０においてソース電極４０ｂとドレイン電極４０ｃとに接続されるチャネル部（半導体部）４０ｄなどを構成する。第１透明電極膜３０ｂ６および第２透明電極膜３０ｂ８は、透明電極材料（例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）等）からなり、それぞれ表示領域ＡＡと非表示領域ＮＡＡとに跨る形で配される。このうち、第１透明電極膜３０ｂ６が画素電極４２などを、第２透明電極膜３０ｂ８が共通電極４８などを、それぞれ構成する。
【００２５】
次に、ＴＦＴ４０および画素電極４２の構成について詳しく説明する。図３に示すように、ドレイン電極４０ｃは、平面に視て略Ｌ字型をなしており、その一端側がソース電極４０ｂと対向状をなしてチャネル部４０ｄに接続されるのに対し、他端側が画素電極４２に接続される。第１透明電極膜３０ｂ６からなる画素電極４２は、遮光部５２の画素開口部５２ａと重畳する略平行四辺形状の電極本体部４２ａと、電極本体部４２ａからＹ軸方向に沿ってＴＦＴ４０側に突出するコンタクト部４２ｂと、からなり、このうちのコンタクト部４２ｂがドレイン電極４０ｃに接続されている。第１透明電極膜３０ｂ６からなるコンタクト部４２ｂと第２金属膜３０ｂ４からなるドレイン電極４０ｃとは、一部同士が互いに重畳しており、その重畳箇所同士は、間に介在する平坦化膜３０ｂ５に開口形成されたコンタクトホール５８を通して相互に接続されている。そして、ＴＦＴ４０は、ゲート配線４４からゲート電極４０ａに供給される走査信号に基づいて駆動されると、ソース配線４６に供給された画像信号に係る電位を、ソース電極４０ｂからチャネル部４０ｄを介してドレイン電極４０ｃへと供給し、それにより画素電極４２を充電する。
【００２６】
＜基板支持台の構成＞
上述した液晶パネル３０の一対の基板３０ａ，３０ｂを製造する工程においては、それらに対する処理を行う種々の基板処理装置が用いられる。例えば、アレイ基板３０ｂの第１金属膜３０ｂ１および第２金属膜３０ｂ４の成膜を行うスパッタリング装置、アレイ基板３０ｂの各電極膜３０ｂ６，３０ｂ８と各絶縁膜３０ｂ２，３０ｂ５，３０ｂ７，３０ｂ９と半導体膜３０ｂ３の成膜を行うＣＶＤ装置、基板上に塗布したレジスト材にフォトマスクを使用して回路パターン形状等を露光する露光装置、基板上に形成されたパターンに欠陥がないか否かを検査する検査装置、膜の露出している部分（レジスト材で覆われてないところ）をエッチングで除去するエッチング装置、基板上の素子の性能を向上させるべく膜に熱処理を加えるアニール装置や、大きなサイズで製造した液晶パネルを所定のサイズに分断する分断装置等である。
【００２７】
本実施形態の基板支持台１０は、それら種々の基板処理装置のうちの少なくとも１つに設けられている。以下、本実施形態の基板支持台１０について、図５から図８を参照しつつ詳しく説明する。本基板支持台１０は、先にも説明したように、基台１０ａと、その基台１０ａ上に固定されて処理対象物を支持するための支持板１０ｂと、基板昇降装置２６とを含んで構成される。その支持板１０ｂは、図６に示すように、表面に複数の凸部１１有するものとなっており、それら複数の凸部１１の先端で処理対象物ＰＯを支持するようになっている。
【００２８】
複数の凸部１１によって処理対象物ＰＯを支持する場合、フラットな面で処理対象物ＰＯを支持する場合に比較して、処理対象物ＰＯへの裏面への異物の付着を抑えることができる。しかしながら、それら複数の凸部１１は、処理対象物ＰＯとの接触による摩耗や、プラズマ・薬液等が原因で経年劣化し、例えば、基板の貼り付き、剥離帯電、露光不良、基板裏面への傷等が生じる虞がある。そのため、複数の凸部によって処理対象物ＰＯを支持するような構成の基板支持台は、上記のような場合に補修する必要があるのである。本実施形態の基板支持台１０は、そのことを鑑み、容易に補修することができるような構成、詳しく言えば、基台１０ａに対して支持板１０ｂを交換可能な構成となっているのである。以下に、支持板１０ｂの構造と、その支持板１０ｂの基台１０ａの取り付けについて、詳しく説明する。
【００２９】
支持板１０ｂは、図６および図７（Ｄ）に示すように、液晶パネル３０の一対の基板３０ａ，３０ｂに用いられるガラス基板ＧＳがベース材料として使用され、そのガラス基板ＧＳの表面に複数の凸部１１が形成されたものとなっている。そして、それら複数の凸部１１は、液晶パネル３０の一対の基板３０ａ，３０ｂを製造する手法および装置を用いて、詳しく言えば、上述した種々の基板処理装置を用い、フォトリソグラフィ法によって、パターニングされるようになっている。
【００３０】
具体的には、図７（Ａ）に示すように、まず、ガラス基板ＧＳ上に、ＣＶＤ装置を用いて、平坦化膜３０ｂ５および有機絶縁膜３０ｂ９に用いられるアクリル樹脂等の有機材料によって、有機膜１０ｂ１が成膜される。なお、有機材料は、比較的膜厚なものとなるため、複数の凸部１１を形成するのに好適である。次に、その有機膜１０ｂ１上にレジスト材Ｒｅが塗布され、図７（Ｂ）に示すように、フォトマスクＦＭを使用して露光、現像が行われ、複数の凸部１１に対応する位置のレジスト材Ｒｅが残される。続いて、図７（Ｃ）に示すように、エッチングが行われ、有機膜１０ｂ１のレジスト材Ｒｅが残された箇所以外の個所が所定の厚み分だけ削られる。そして、最後に、レジスト材Ｒｅの剥離が行われ、有機膜１０ｂ１により、複数の凸部１１が形成されるのである。
【００３１】
本実施形態において、複数の凸部１１をパターニングする際に使用されるフォトマスクＦＭは、アレイ基板３０ｂにＴＦＴ４０を形成する際に使用されるフォトマスク、より詳しく言えば、平坦化膜３０ｂ５にコンタクトホール５８をパターニングする際に使用されるフォトマスクである。ちなみに、平坦化膜３０ｂ５にコンタクトホール５８をパターニングする際は、ポジ型のフォトリソグラフィ法が用いられるのに対し、複数の凸部１１をパターニングする際は、ネガ型のフォトリソグラフィ法が用いられる。
【００３２】
なお、フォトマスクＦＭは、複数の凸部１１の形成するための専用のものを準備しても構わないが、液晶パネル３０の製造時に使用されるものを用いれば、支持板１０ｂの補修費用を抑えることができる。複数の凸部１１をパターニングする際に使用されるフォトマスクＦＭは、平坦化膜３０ｂ５にコンタクトホール５８のパターニングに用いるものの他にも、例えば、有機絶縁膜３０ｂ９にスペーサ部材５４をパターニングする際に用いるものを採用することもできる。コンタクトホール５８やスペーサ部材５４は、ガラス基板ＧＳ上に規則的に配置されるものであるたため、これらのフォトマスクを用いることで、複数の凸部１１をガラス基板ＧＳ上に規則的に形成することができる。詳しい説明は省略するが、その他にも、ＣＦ基板３０ａを製造する際に用いられるものを使用してもよい。
【００３３】
また、本実施形態においては、複数の凸部１１が、１つの膜である有機膜１０ｂ１のみから形成されていたが、２以上の膜を積層して形成してもよい。例えば、複数の凸部１１の摩耗を抑制する目的で、図７（Ｄ）に示したものに対して、比較的硬度が高めなゲート絶縁膜３０ｂ２および層間絶縁膜３０ｂ７に用いられる窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）を積層して、複数の凸部１１を形成することができる。
【００３４】
さらに言えば、図７（Ｂ）に示したように、露光・現像によって複数の凸部１１に対応する位置のレジスト材Ｒｅが残された状態のものを、支持板１０ｂとして用いることもできる。つまり、レジスト材Ｒｅを複数の凸部１１として用いる構成のものとすることができる。この構成の支持板は、先に述べたエッチングおよびレジスト材の剥離の工程が不要なため、支持板の製造時間を短縮し、ひいては、基板支持台の補修時間を短縮することができる。
【００３５】
図５および図８に示すように、基台１０ａには、基板昇降装置２６の複数のリフトピン２６ａが十字状に配設されている。支持板１０ｂの製造工程においては、基台１０ａとほぼ同じサイズのガラス基板ＧＳに対して、複数の凸部１１のパターニングが行われる。そして、支持板１０ｂは、図８に示すように、上記の複数のリフトピン２６ａを避けるために、４つのパーツ１０ｂｐに分断され、それら４つのパーツ１０ｂｐが基台１０ａに取り付けられる。液晶パネル３０は、製造工程において、大きなサイズで製造した液晶パネルを分断装置によって分断して所定のサイズとされるようになっており、その分断装置を用いて、支持板１０ｂは、四分割されるのである。ちなみに、本基板支持台１０は、複数のリフトピン２６ａが十字状に配設されていたため、支持板１０ｂを四分割していたが、複数のリフトピン２６ａの配設位置に応じて、支持板１０ｂを、分断装置によって適切な形状や大きさに分断することができる。
【００３６】
本実施形態の基板支持台１０においては、図６に示すように、支持板１０ｂは、基台１０ａに対して樹脂系やシリコン系等の接着材１０ｃによって固定されている。その支持板１０ｂの基台１０ａに対して固定する方法は、それに限定されず、例えば、基台に静電チャックを設けて電気的に固定する方法であってもよい。また、基板処理装置の種類によっては、支持板を基台に固定せずに、基台の表面および支持板の裏面を鏡面加工して載置するのみであってもよい。
【００３７】
以上のような構造の支持板１０ｂは、液晶パネル３０の製造のために多くの在庫を持つガラス基板と成膜材料を用いて製造され、かつ、液晶パネル３０を製造するための装置のみを用いて製造されている。したがって、本基板支持台１０によれば、支持板１０ｂを製作するために材料や新たな設備が必要なく、補修にかかるコストを抑えることができる。また、支持板１０ｂが液晶パネル３０に用いられる材料のみで形成されているため、すぐに支持板１０ｂの製造に取り掛かることができ、その製造された支持板１０ｂを交換するだけで、基板支持台１０の補修が完了するため、補修に要する時間を短縮すること、換言すれば、液晶パネルの製造を停止している時間を短縮することが可能である。
【符号の説明】
【００３８】
１０…基板支持台、１０ａ…基台、１０ｂ…支持板、１０ｂ１…有機膜、１１…凸部、１２…ＣＶＤ装置（基板処理装置）、２６…基板昇降装置、２６ａ…リフトピン、３０：液晶パネル、３０ａ…ＣＦ基板、３０ｂ…アレイ基板、４０…ＴＦＴ〔スイッチング素子〕、５４…スペーサ部材、５８…コンタクトホール、ＧＳ…ガラス基板、ＰＯ…処理対象物（基板）、ＦＭ…フォトマスク、Ｒｅ…レジスト材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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