(57)【要約】      （修正有）【課題】供給された液滴の体積、サイズ、または速度（ドロップの配置に影響を与える）などの物理的属性の変動を減らすことによって均一な残膜厚を提供する供給システム(dispensing_system)を制御する技術を提供する。【解決手段】性能モニタは、１つ以上のリザーバから流体を受け取る複数のディスペンサの性能特性を特定する。複数のディスペンサのそれぞれは、作動時に各ディスペンサに流体の液滴を発生させるアクチュエータを有する。ドライバは、性能基準を満たすように性能特性に基づいて液滴の物理的属性を調整するための、アクチュエータの駆動指令を生成する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
リザーバから流体を受け取る複数のディスペンサの性能特性を特定する性能モニタと、ここで、前記複数のディスペンサのそれぞれは、作動時に各ディスペンサに前記流体の液滴を生成させるアクチュエータを有し、
性能基準を満たすように前記性能特性に基づいて前記液滴の物理的属性を調整するための、前記アクチュエータの駆動指令を生成するドライバと、
を有することを特徴とする装置。
【請求項２】
前記性能特性は、前記複数のディスペンサのサブセットの利用率および前記物理的属性の変動のうちの１つを含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記性能モニタは、
前記複数のディスペンサの使用を記憶するメモリと、
前記使用に基づいて、前記複数のディスペンサのサブセットの利用率を計算する利用率計算部と、
を有することを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記性能モニタは、
ユーザインタフェースと、前記液滴を検査する検査部とのうちの少なくとも１つからの入力を前記物理的属性に変換する属性変換部と、
前記物理的属性の前記変動を計算する変動計算部と、
を有することを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項５】
前記性能モニタは、前記変動を性能しきい値と比較する比較部を更に有することを特徴とする請求項４に記載の装置。
【請求項６】
前記物理的属性は、サイズ、直径、体積、速度のうちの１つを含むことを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項７】
前記ドライバは、
前記駆動指令を調整するための調整スケジュールを記憶する調整スケジューラと、
前記性能特性と前記調整スケジュールとに基づいて前記駆動指令を生成するコマンド生成部と、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記駆動指令は、前記アクチュエータを作動させる制御回路への制御電圧または電流を指定することを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項９】
リザーバから流体を受け取る複数のディスペンサの性能特性を特定する工程と、ここで、前記複数のディスペンサのそれぞれは、作動時に各ディスペンサに前記流体の液滴を生成させるアクチュエータを有し、
性能基準を満たすように前記性能特性に基づいて前記液滴の物理的属性を調整するための、前記アクチュエータへの駆動指令を生成する工程と、
を有することを特徴とする方法。
【請求項１０】
前記性能特性は、前記複数のディスペンサのサブセットの利用率および前記物理的属性の変動のうちの１つを含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記性能特性を特定する工程は、前記複数のディスペンサの使用に基づいて前記複数のディスペンサのサブセットの利用率を計算する工程を含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記性能特性を特定する工程は、
ユーザインタフェースと前記液滴を検査する検査部とのうちの少なくとも１つからの入力を前記物理的属性に変換する工程と、
前記物理的属性の前記変動を計算する工程と、
を含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記性能特性を特定する工程は、前記変動を性能しきい値と比較する工程を更に含むことを特徴とする請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記物理的属性は、サイズ、直径、体積、速度のうちの１つを含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
前記駆動指令を生成する工程は、前記性能特性と調整スケジュールとに基づいて前記駆動指令を生成する工程を含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１６】
前記駆動指令は、前記アクチュエータを作動させる制御回路への制御電圧または電流を指定することを特徴とする請求項９に記載の方法。
【請求項１７】
複数のディスペンサを用いてパターンに従って液体レジストの液滴を基板の上に供給する工程と、ここで、前記複数のディスペンサは、作動時に前記ディスペンサに前記液滴を発生させるアクチュエータを有し、
テンプレートまたはスーパーストレートを前記基板の上の前記液滴に対して位置合わせする工程と、
前記テンプレートまたはスーパーストレートを前記液滴と接触させて該液滴を合体させ前記テンプレートのレリーフパターンまたは前記基板のトポグラフィ変動部に液体レジストを充填させる工程と、
前記レジストを硬化させて層を形成する工程と、
前記テンプレートを前記基板から分離する工程と、を有し、
前記液滴を供給する工程は、性能基準を満たすように前記液滴の物理的属性の調整を制御するための前記アクチュエータの駆動指令を生成する工程を更に含む、
ことを特徴とする方法。
【請求項１８】
前記物理的属性は、サイズ、直径、体積、速度のうちの１つを含むことを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記性能基準は、前記複数のディスペンサのサブセットの利用率および前記物理的属性の変動のうちの１つに関係することを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
前記駆動指令は、前記アクチュエータを作動させる制御回路への制御電圧または電流を指定することを特徴とする請求項１７に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
実施形態の１つの開示された態様は半導体製造用途に関する。特に、実施形態の開示された一態様は、液滴の物理的属性の変動を低減するための技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
ナノインプリントリソグラフィ（ＮＬ）は半導体製造における重要な技術となっている。ＮＬは、フォトリソグラフィや極端紫外線（ＥＵＶ）リソグラフィなどの他の技術を超える多くの有望な利点を提供する。
【０００３】
いくつかのＮＬプロセスの中でもインクジェットインプリントリソグラフィは、優れた解像度と高いスループットを提供する。典型的なインクジェットインプリントリソグラフィプロセスは、インクジェット技術を使用して低粘度の紫外線（ＵＶ）硬化性レジストを、ピコリットルオーダーで少量ずつ供給する。レジスト液滴のインクジェット吐出は、典型的には、テンプレートレリーフパターンおよび／または基板トポグラフィ変動と相関する材料を堆積するためのインプリントプロセスの最初のステップである。ここで、「テンプレート (template)」という用語は、ＮＬ文献におけるナノインプリントのマスターまたはレプリカを指し、「モールド」または「インプリントマスク」という用語と同様の意味を有する。供給されたＵＶ硬化性レジストの液滴量および液滴パターンは、テンプレートレリーフパターンおよび／または基板トポグラフィ自体に依存するだけでなく、テンプレートパターンまたは基板トポグラフィタイプの関数としての流体流の性質にも依存する。スーパーストレート (superstrate) およびドロップディスペンスされた材料を用いて存在する基板トポグラフィの上にパターンのない層を形成する場合にも、同様の考察が適用される。
【０００４】
残膜層は、テンプレートのレリーフパターンの下に残るか、またはスーパーストレートと基板またはウエハトポグラフィとの間に配置されたままにされる、供給された材料の層である。この層は、下にある基板との直接の接触およびテンプレートまたはスーパーストレートの損傷を防ぐための緩衝材として作用する。正確なパターン転写プロセスを維持するために、残膜層は薄くかつ均一である必要がある。
【発明の概要】
【０００５】
性能モニタは、１つ以上のリザーバから流体を受け取る複数のディスペンサの性能特性を特定する。複数のディスペンサのそれぞれは、作動時に各ディスペンサに流体の液滴を発生させるアクチュエータを有する。ドライバは、性能基準を満たすように性能特性に基づいて液滴の物理的属性を調整するための、アクチュエータの駆動指令を生成する。
【０００６】
本開示のさらなる特徴は、添付の図面を用いた以下の例示的な実施形態の説明から明らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】ナノインプリントリソグラフィのためのシステムを示す図。
【図２】ナノインプリントリソグラフィの処理を示す図。
【図３】供給・検査システムを示す図。
【図４】処理・制御システムの機能を示す図。
【図５】第１実施形態に係る性能モニタを示す図。
【図６】第２実施形態に係る性能モニタを示す図。
【図７】ドライバを示す図。
【図８】残膜層を示す図。
【図９】レジストの液滴を供給する処理を説明する図。
【図１０】処理・制御システムを示す図。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
実施形態の開示される一態様は、供給された液滴の体積、サイズ、または速度（ドロップの配置に影響を与える）などの物理的属性の変動を減らすことによって均一な残膜厚 (residual layer thickness: RLT) を提供する供給システム (dispensing system) を制御する技術を含む。性能モニタは、リザーバから流体を受け取る複数のディスペンサの性能特性を特定する。複数のディスペンサのそれぞれは、作動時に、対応するディスペンサに流体の液滴を発生させるアクチュエータを有する。ドライバは、性能基準を満たすように性能特性に基づいて液滴の物理的属性を調整するための、アクチュエータへの駆動指令を生成する。性能特性は、ディスペンサのサブセットの利用率または液滴の物理的属性の変動でありうる。
【０００９】
図１は、インプリントリソグラフィのためのシステム１００を示す図である。システム１００は、インプリントリソグラフィ制御部１１０と、テンプレートパターン１２５を有するテンプレート１２０と、基板１３０と、基板チャック１４０と、ステージ１５０と、供給・検査システム (dispense and inspection system) １６０と、処理・制御システム (processing and control system) １７０とを含む。システム１００は、上記の構成要素以外の構成要素を有していてもよいし、上記より少ない要素で構成されていてもよい。システム１００は、基板１３０上にレリーフパターンを形成する。
【００１０】
インプリントリソグラフィ制御部１１０は、テンプレート１２０の位置決めおよび移動を制御する。インプリントリソグラフィ制御部１１０は、エネルギー源と、テンプレート１２０の移動を助けるインプリントヘッドと（図示せず）、関連する制御回路とを含みうる。インプリントリソグラフィ制御部１１０は、処理制御システム１７０によっても制御されうる。
【００１１】
テンプレート１２０は、石英、シリコン、有機ポリマー、またはその他の適切な材料などの材料から作製されうる。テンプレートパターン１２５は、基板１３０の上に形成されるべきパターンに対応する凹凸を有するフィーチャを含む。
【００１２】
硬化後のレジストへの接着を助けるために、基板１３０は薄い接着層で被覆されてもよい。基板１３０は基板チャック１４０によって保持され、共にステージ１５０上で位置決めされる。ステージ１５０は、処理・制御システム１７０によって制御されて、基板および基板チャックアセンブリを移動させることができる。
【００１３】
供給・検査システム１６０は、液体レジストを基板１３０上の液滴１３５に供給する。これについては図３で更に説明する。処理・制御システム１７０は、ユーザにユーザインタフェースを提供し、システム１００における他の構成要素に対して各種の制御機能を実行する。これについては、図４および図１０で更に説明する。
【００１４】
図２は、インプリントリソグラフィの処理２００を示す図である。処理２００は、インクジェットインプリントリソグラフィの典型的な処理を表す。処理２００は、開始すると、テンプレートレリーフパターンに応じた所望のパターンで基板上にレジスト液滴を供給する（ブロック２１０）。供給は、得られる残膜厚が所定の基準に従って均一になるように行われる。次に、処理２００は、基板上の液滴に対してテンプレートまたはスーパーストレートを位置合わせする（ブロック２２０）。次に、処理２００は、テンプレートを液滴に接触させる（ブロック２３０）。テンプレートまたはスーパーストレートが液滴と接触すると、液滴は合体してテンプレートレリーフパターンのフィーチャまたは基板のトポグラフィ変動部が液体レジストで充填される。次に、処理２００は、紫外線（ＵＶ）によってレジストを硬化させてパターン化層を形成する（ブロック２４０）。次に、処理２００は、基板からテンプレートを分離し、硬化したパターン化レジスト層を基板上に残す（ブロック２５０）。その後、処理２００は終了する。代替として、処理は、スーパーストレートおよび滴下された材料を用いて、存在する基板トポグラフィ上にパターンのない層を形成してもよい。
【００１５】
図３は、図１に示した供給・検査システム１６０を示す図である。供給・検査システム１６０は、処理・制御システム１７０と通信して、処理・制御システム１７０内のプロセッサからコマンドを受信し、計測情報をプロセッサに送信するなどのタスクを実行する。供給・検査システム１６０は、ディスペンサ３０５と検査部３５５とを含む。ディスペンサ３０５は、制御装置３１０と、マイクロアクチュエータ３２０と、Ｍ個のディスペンサまたはノズル３３０ｊ（ｊ＝１，…，M）とを含む。検査部３５５は、マイクロスコープ３５０とイメージセンサ３６０とを含む。供給・検査システム１６０は、上記の構成要素以外の構成要素を含んでいてもよいし、上記より少ない要素で構成されていてもよい。例えば、ユーザによる目視検査によって、記載される検査システムの機能が達成されてもよい。
【００１６】
Ｍ個のディスペンサまたはノズル３３０ｊは、適切な配管およびコネクタを介して１つまたは複数のリザーバ（図示せず）から液体レジストまたは流体を受け取る。マイクロアクチュエータ３２０は、ノズル３３０ｊに液体レジストの液滴１３５を供給させるための、ノズル３３０ｊに取り付けられるいくつかのアクチュエータを含みうる。各アクチュエータは、制御装置３１０によって提供される制御電圧または電流に従って、対応するノズルに力を生成または印加することができる。制御装置３１０は、制御または調整電圧または電流に対応する駆動指令を受信すると、ノズルに時間の経過とともに適切な力を発生させるように設計されたいくつかの回路または特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）を含みうる。Ｍ個のディスペンサまたはノズル３３０ｊは、ノズルのサブセットを含み、各サブセットが同じ駆動指令を受けるように形成されうる。
【００１７】
供給された液滴の物理的属性（例えば、サイズ、体積、速度）は、経時的に印加される制御電圧または電流の量に依存する。したがって、駆動指令を調整することにより、すなわち制御電圧を調整することにより、液滴のサイズ、体積、または速度が調整されうる。駆動指令の調整が液滴の物理的属性が均一になるようなものである場合、結果として生じるＲＬＴもまた均一になる。一様な物理的属性を達成するための１つの方法は、物理的属性の変動を減らすことである。したがって、均一なＲＬＴを達成するための１つの方法は、液滴の物理的属性の変動を減らすことである。これは、以下で論じるように、ディスペンサまたはノズル３３０ｊの性能特性を使用することによって実行することができる。
【００１８】
検査部３５５は、液滴１３５の計測および／または検出と、液滴１３５の基板１３０上への形成を提供する。具体的には、検査部３５５は、各液滴の１つまたは複数の物理的属性を得ることができるように、供給された液滴１３５に関する計測値または定量的情報を提供することができる。計測は、肉眼での目視検査により手動で実施してもよいし、マシンビジョンおよび／または画像解析の技術を通して自動的に実施してもよい。マイクロスコープ３５０は、検査する対象物（すなわち液滴１３５）の画像を拡大する。イメージセンサ３６０は、液滴１３５の画像を取り込む装置（例えば、電荷結合素子、カメラ）である。画像はその後デジタル化され、分析のために処理・制御システム１７０に送られる。
【００１９】
図４は、図１に示した処理・制御システム１７０の機能を説明する図である。処理・制御システム１７０は、制御・ユーザインタフェース (control and user interface) ４１０と、ディスペンサ制御部４２０とを含む。ディスペンサ制御部４２０は、性能モニタ４３０とドライバ４４０とを含む。これらの機能は、１つ以上のハードウェア回路、または、図１０に示されるようなプログラマブルプロセッサによって実行される１つ以上の機能によって実施されうる。
【００２０】
制御・ユーザインタフェース４１０は、ディスペンサ３０５および／またはインプリントリソグラフィ制御部１１０に対する各種の制御機能を実行する。これらの機能の例は、ノズルが所望の物理的属性（例えば、サイズ、体積、直径、速度）を有する液滴を供給するようにノズルを作動させるためのディスペンサ３０５への駆動指令の生成を含みうる。また、これらの機能は、基板１３０上の液滴に関して検査部３５５によって提供された画像の画像解析を実行する機能も含みうる。例えば、検査部３５５により得られた画像に基づいて、液滴の体積またはサイズが算出される。また、これらの機能は、ユーザが観察された液滴に基づいて駆動指令を手動で生成することを可能にするためのユーザインタフェースを提供してもよい。
【００２１】
性能モニタ４３０は、ディスペンサ３０５、またはより具体的にはノズル３３０ｊの性能特性を特定する。性能特性は、ノズル３３０ｊのサブセットの利用率または液滴の物理的属性の変動でありうる。性能モニタ４３０については、図５および図６で説明する。
【００２２】
ドライバ４４０は、性能基準を満たすように性能特性に基づいて液滴の物理的属性を調整するための、ノズル３３０ｊに取り付けられたアクチュエータへの駆動指令を生成する。一実施形態において、駆動指令は、ノズルに対してアクチュエータを駆動する調整電圧に対応しうる。性能基準は、得られる残膜層の厚さの均一性に関連している。ＲＬＴの均一性は、液滴の物理的属性の変動と相関する。変動が少ないほど、ＲＬＴはより均一になる。したがって、物理的属性の変動を特定し、それを駆動指令を指示するためのフィードバック情報として使用することによって、結果として得られるＲＬＴのより良好な均一性を達成することができる。一実施形態において、性能基準は、物理的属性の変動の上限を定める性能しきい値として表現される。
【００２３】
図５は、第１実施形態に係る、図４に示した性能モニタ４３０を説明する図である。性能モニタ４３０は、使用特性５１０を格納するメモリ１５０と、利用率計算部５２０とを含む。
【００２４】
この実施形態では、性能モニタ４３０は、開ループ方式でノズルに対する駆動指令を生成するための情報を提供する。すなわち、駆動指令は、利用率と液滴の物理的属性の値との間の所定の関係に基づく。この関係は、オフライン実験またはキャリブレーションを通して得ることができる。
【００２５】
利用率または使用率は、供給経路に基づいて決定される。供給経路は、供給動作において基板が供給ヘッドの配向に対して典型的には垂直な方向に移動される経路である。所望のドロップパターンを得るためには１回以上の経路を要するかもしれない。利用率は、所与の供給率にわたる別のグループ内のノズルの利用率と比較した、あるグループ内のノズル（またはディスペンサ）の相対的利用率（図８に示す層に関連するものなど）として定義することができる。「利用 (utilization) 」という用語は、グループ内のノズルが所与の期間内に使用される程度、またはどれだけの量を指すことができる。使用特性５１０は、各グループに対するこの利用を表す。利用率計算部５２０は、上で定義されたような利用率を計算する。計算された利用率は、適切な制御電圧または調整電圧などの適切な駆動指令をノズルに対して生成するようにドライバ４４０を制御するために使用されうる。
【００２６】
図６は、図４に示した性能モニタ４３０の第２の実施の形態を説明する図である。性能モニタ４３０は、属性変換部６１０と、変動量計算部６２０と、比較部６３０と、性能しきい値６４０を含む。性能モニタ４３０は、上記の構成要素以外の構成要素を含んでいてもよいし、上記より少ない要素で構成されていてもよい。
【００２７】
この実施形態において、性能モニタ４３０は、閉ループ方式でノズルに対する駆動指令を生成するための情報を提供する。すなわち、駆動指令はディスペンサの性能に関するフィードバック情報に基づいている。このフィードバック情報は、制御・ユーザインタフェース４１０を介してインタラクティブな方法でユーザによって提供されうる。また、フィードバック情報は、検査部３５５によって提供されてもよく、この場合、検査部３５５は、上述したように、マシンビジョンまたは画像解析における技術を通じて液滴の物理的属性を自動的に判定する。
【００２８】
属性変換部６１０は、検査部３５５もしくは制御・ユーザインタフェース４１０、あるいはその両方からの入力を液滴の物理的属性を表す値に変換する。物理的属性は、サイズ、直径、体積、または速度のうちの１つでありうる。
【００２９】
変動計算部６２０は、液滴の物理的属性の変動を計算する。変動は、液滴の物理的属性を表す値の分散として表すことができる。例えば、液滴１３５の直径が取得されうる。直径の変動は、これらの液滴の分散として計算される。
【００３０】
比較部６３０は、計算された変動を性能しきい値６４０と比較し、その結果をドライバ４１０に対して生成する。性能しきい値６４０は、キャリブレーション処理中にオフラインで決定されてもよいし、あるいは、何らかの発見的学習アルゴリズムに基づいてオンラインで動的に更新されてもよい。
【００３１】
図７は、図４に示したドライバ４４０を説明する図である。ドライバ４４０は、コマンド生成部７１０と調整スケジューラ７２０とを含む。ドライバ４４０は、性能モニタ４３０および／または制御・ユーザインタフェース４１０から入力を受け取り、制御装置３１０に対する駆動指令を生成する。
【００３２】
コマンド生成部７１０は、性能モニタ４３０からの性能特性および調整スケジューラ７２０からの調整スケジュールに基づいて制御装置３１０に対する駆動指令を生成する。調整スケジューラ７２０の調整スケジュールは、制御・ユーザインタフェース４１０によって提供される。調整スケジューラ７２０の調整スケジュールは、性能特性を駆動指令に対応する値に変換するルックアップテーブルでありうる。例えば、ルックアップテーブルは利用率を制御電圧に変換することができる。ルックアップテーブルは、性能基準が満たされるまで駆動指令が増分的または反復的に調整されうるように、利用率の値に対応する制御電圧の値の範囲を含みうる。
【００３３】
図８は、基板上に形成された残膜層を示す図である。残膜層は領域８２０を形成する。それはＮ個の層８２０ｊ（ｊ＝１，…，Ｎ）を含みうる。典型的には、層に関連するノズルが一様に使用されず、そのため残膜層の厚さの不均一性が現れる。例えば、８２０ｊから８２０ｋまでの中間層に関連するノズルは、８２０１から８２０ｊ-１までおよび８２０ｋ+１から８２０Ｎまでの外側層よりもより頻繁に使用されうる。
【００３４】
層８２０ｉは、制御装置３１０の制御下でノズル３３０ｊによって吐出または供給されたときの液滴の結果である。制御装置３１０は、アクチュエータを制御するために使用されるいくつかの専用回路８１０ｊ（ｊ＝１，…，Ｎ）を有しうる。これらの回路８１０ｊは、ノズル３３０ｊに対応するように設計されたＡＳＩＣでありうる。対応関係は、図８に示すように一対一でもよいし、一対多でもよい。一対多の対応においては、回路８１０ｊは、層８２０ｉのサブセットに対応するノズル３３０ｊのサブセットに対応してもよい。
【００３５】
図９は、レジストの液滴を供給する処理９００を示す図である。開始すると、処理９００はディスペンサの性能特性を判定する（ブロック９１０）。次に、処理９００は、性能特性に基づいて液滴の物理的属性を調整するための駆動指令を生成する（ブロック９２０）。駆動指令は、ノズルに対するアクチュエータを駆動するための調整電圧を供給する、図８の８１０ｊのような回路に対応しうる。次に、処理９００は、性能基準が満たされるかどうかを判定する（ブロック９３）。例えば、変動が変動しきい値と比較される。それがしきい値より小さければ、性能基準は満たされている。そうである場合、処理９００は終了する。そうでなければ、処理９００は調整スケジュールに従って駆動指令を調整する（ブロック９４０）。調整スケジュールは、性能特性の特定の値に対する駆動指令の増分値を提供するルックアップテーブルでありうる。その後、処理９００は、必要に応じてブロック９１０またはブロック９２０に戻る。次に、性能基準が満たされるまで処理９００が繰り返される。あるいは、処理９００は、所定の反復回数に達した後に終了してもよい。
【００３６】
図１０は、図１に示した処理・制御システム１７０を説明する図である。
【００３７】
処理・制御システム１７０は、中央処理装置（ＣＰＵ）またはプロセッサ１０１０と、プラットフォームコントローラハブ（ＰＣＨ）１０３０と、バス１０２０とを含む。ＰＣＨ１０３０は、グラフィック表示コントローラ（ＧＤＣ）１０４０と、メモリコントローラ１０５０と、入出力（Ｉ／Ｏ）コントローラ１０６０と、大容量ストレージコントローラ１０５４を含み得る。処理・制御システム１７０は、上記の構成要素以外の構成要素を含んでいてもよいし、上記より少ない要素で構成されていてもよい。また、構成要素は他の構成要素に統合されてもよい。図１０に示すように、全てのコントローラ１０４０、１０５０、１０６０はＰＣＨ１０３０に統合されている。統合は部分的および／または重複してもよい。例えば、ＧＤＣ１０４０はＣＰＵ１０１０に統合されてもよく、Ｉ／Ｏコントローラ１０６０およびメモリコントローラ１０５０は単一のコントローラなどに統合されてもよい。
【００３８】
ＣＰＵまたはプロセッサ１０１０は、プログラムまたは一連の命令を実行してタスクを実行することができるプログラム可能な装置である。それは、汎用プロセッサ、デジタル信号プロセッサ、マイクロコントローラ、または特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）からの１つの設計などの専用設計されたプロセッサでありうる。それはシングルコアまたはマルチコアを含みうる。各コアは、マルチウェイ・マルチスレッディングを有しうる。ＣＰＵ１０１０は、複数のコアにわたる複数のスレッドによる並列性をさらに利用するための同時マルチスレッド機能を有しうる。さらに、ＣＰＵ１０１０は、複数レベルの内部キャッシュを有しうる。
【００３９】
バス１０２０は、ＰＣＨ１０３０を含む他の装置にＣＰＵ１０１０を接続する任意の適切なバスでありうる。例えば、バス１０２０はダイレクトメディアインタフェース（ＤＭＩ）でありうる。
【００４０】
ＰＣＨ１０３０は、高集積化されたチップセットであり、メモリ装置、入力／出力装置、ストレージ装置、ネットワーク装置などのいくつかの装置へのインタフェースを提供するための多くの機能を含む。
【００４１】
Ｉ／Ｏコントローラ９６０は、入力装置（例えば、スタイラス、キーボード、マウス、マイクロホン、イメージセンサ）および出力装置（例えば、オーディオ装置、スピーカ、スキャナ、プリンタ）を制御する。また、Ｉ／Ｏコントローラ９６０は、専用の入出力装置を含むユーザとのインタフェースを提供するユーザインタフェース１０６８に対するインタフェースと、ネットワークおよび無線コントローラとのインタフェースを提供するネットワークインタフェースカードとを有する（図示せず）。
【００４２】
メモリコントローラ１０５０は、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）および／または読み出し専用メモリ（ＲＯＭ）１０５２などのメモリ装置、ならびに、キャッシュメモリおよびフラッシュメモリなどの他のタイプのメモリを制御する。ＲＡＭ１０５２は、大容量ストレージからロードされた命令またはプログラムを記憶することができ、それは、ＣＰＵ１０１０によって実行されると、ＣＰＵ１０１０に上述のような動作を実行させる。ＲＡＭ１０５２は、演算で使用されるデータも記憶することができる。ＲＯＭ１０５２は、それが電力を供給されているか否かにかかわらず維持される命令、プログラム、定数、またはデータを含みうる。命令またはプログラムは、性能モニタ４３０およびドライバ４４０などの上述の機能に対応しうる。
【００４３】
ＧＤＣ１０４０は、表示装置１０４５を制御し、グラフィック処理を提供する。ＧＤＣ１０４０はＣＰＵ１０１０の内部に統合されていてもよい。ＧＤＣ１０４０は通常、コマンドを送信したり機能を起動したりする可能性があるユーザとの対話を可能にするためのグラフィカルユーザインタフェース（ＧＵＩ）を備える。ＧＤＣ１０４０は、人体内のサンプルから収集された色光の画像を表示装置上に表示することができる。
【００４４】
大容量ストレージコントローラ１０５４は、ＣＤ−ＲＯＭやハードディスクなどの大容量ストレージを制御する。
【００４５】
Ｉ／Ｏコントローラ１０６０は、ディスペンサ制御部１０６２および検査制御部１０６４を含みうる。ディスペンサ制御部１０６２は、ディスペンサのアクチュエータに対する制御電圧または電流を生成するためのスイッチング回路、駆動回路、または調整電圧発生器を含みうる。検査制御部１０６４は、画像の撮影の開始および停止など、マイクロスコープ３５０およびイメージセンサ３６０に関連する制御機能を実行する。
【００４６】
相互接続および／または拡張のために追加の装置またはバスインタフェースが利用可能である。いくつかの例は、ＰＣＩ Express (Peripheral Component Interconnect Express) バス、ＵＳＢ (Universal Serial Bus) などを含みうる。
【００４７】
実施形態の全部または一部は、特定の特徴、機能に従って用途に応じて様々な手段によって実施されうる。これらの手段は、ハードウェア、ソフトウェア、もしくはファームウェア、またはそれらの任意の組み合わせを含みうる。ハードウェア、ソフトウェア、またはファームウェア要素は、互いに結合されたいくつかのモジュールを有しうる。ハードウェアモジュールは、機械的、電気的、光学的、電磁気的、または任意の物理的接続によって他のモジュールに結合される。ソフトウェアモジュールは、機能、手順、方法、サブプログラム、またはサブルーチンコール、ジャンプ、リンク、パラメータ、変数、および引数の受け渡し、機能リターンなどによって他のモジュールと結合される。ソフトウェアモジュールは、他のモジュールと結合されて、変数、パラメータ、引数、ポインタなどを受け取り、および／または、結果、更新後の変数、ポインタなどを生成または渡す。ファームウェアモジュールは、上記のハードウェアおよびソフトウェアの結合方法の任意の組み合わせによって他のモジュールと結合される。ハードウェア、ソフトウェア、またはファームウェアモジュールは、その他のハードウェア、ソフトウェア、またはファームウェアモジュールのうちいずれか１つに結合されうる。モジュールは、プラットフォーム上で実行されているオペレーティングシステムと対話するためのソフトウェアドライバまたはインタフェースでもありうる。モジュールは、ハードウェアデバイスとの間でデータを構成、設定、初期化、送信および受信するためのハードウェアドライバでもありうる。装置は、ハードウェア、ソフトウェア、およびファームウェアモジュールの任意の組み合わせを含みうる。
【００４８】
本開示を例示的な実施形態を参照して説明してきたが、本開示はここに開示された例示的な実施形態に限定されないことを理解されたい。添付の特許請求の範囲は、そのような全ての改変ならびに同等の構造および機能を包含するように、最も広い解釈を与えられるべきである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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