(57)【要約】      （修正有）【課題】高い透磁率を有する磁性体膜を提供する。【解決手段】バインダーと、バインダー中に分散している、粒子径が１μｍ以上の磁性マイクロ粒子１及び粒子径が１μｍ未満の磁性ナノ粒子２からなる磁性粒子を含有し、基材４上に形成されている磁性体膜７であって、磁性体膜７の厚み方向の中心面より基材４側の第一の層５とその反対側の第二の層６のうち、一方の層における磁性粒子中の磁性マイクロ粒子１の含有率が６０〜９０体積％であり、磁性ナノ粒子２の含有率が１０〜４０体積％であり、かつ、他方の層における磁性粒子中の磁性マイクロ粒子１の含有率が１０〜６０体積％であり、磁性ナノ粒子２の含有率が４０〜９０体積％であり、一方の層における磁性ナノ粒子２の含有率と他方の層における磁性ナノ粒子２の含有率の差の絶対値が１０〜５０体積％である。【選択図】図１
2019003988.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バインダーと、該バインダー中に分散している、粒子径が１μｍ以上の磁性マイクロ粒子及び粒子径が１μｍ未満の磁性ナノ粒子からなる磁性粒子とを含有し、基材上に形成されている磁性体膜であって、
前記磁性体膜の厚み方向の中心面より前記基材側の第一の層とその反対側の第二の層のうち、一方の層における前記磁性粒子中の磁性マイクロ粒子の含有率が６０〜９０体積％であり、磁性ナノ粒子の含有率が１０〜４０体積％であり、かつ、他方の層における前記磁性粒子中の磁性マイクロ粒子の含有率が１０〜６０体積％であり、磁性ナノ粒子の含有率が４０〜９０体積％であり、
前記一方の層における磁性ナノ粒子の含有率と前記他方の層における磁性ナノ粒子の含有率の差の絶対値が１０〜５０体積％である、
ことを特徴とする磁性体膜。
【請求項２】
前記バインダーの含有量が前記磁性粒子１００質量部に対して０．１〜１０質量部であることを特徴とする請求項１に記載の磁性体膜。
【請求項３】
前記磁性粒子が、フェライト系磁性粒子、鉄粒子、ニッケル粒子、鉄合金粒子、及びニッケル合金粒子からなる群から選択される少なくとも１種であることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁性体膜。
【請求項４】
粒子径が１μｍ以上の磁性マイクロ粒子及び粒子径が１μｍ未満の磁性ナノ粒子からなる磁性粒子とバインダーと溶媒とを含有する塗工用ペーストを調製する工程と、
前記塗工用ペーストを基材上に塗工して塗膜を形成する工程と、
前記塗膜に１Ｈｚ〜１００ｋＨｚの周波数で振動を印加する工程と、
前記バインダーを固化させて請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載の磁性体膜を形成する工程と、
を含むことを特徴とする磁性体膜の製造方法。
【請求項５】
前記振動の振幅が０．００１〜１０ｍｍであることを特徴とする請求項４に記載の磁性体膜の製造方法。
【請求項６】
前記塗膜の厚み方向に前記振動を印加することを特徴とする請求項４又は５に記載の磁性体膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁性体膜及びその製造方法に関し、より詳しくは、磁性ナノ粒子と磁性マイクロ粒子とを含有する磁性体膜及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
インダクタやトランスのコア材や電磁ノイズ吸収体等には、磁性粒子をバインダーに分散させた磁性体膜が用いられている。このような磁性体膜においては、平均粒径が異なる磁性粒子を混合して充填密度を高めることによって透磁率が向上すると考えられており、ナノメートルオーダーの磁性粒子（磁性ナノ粒子）とマイクロメートルオーダーの磁性粒子（磁性マイクロ粒子）とをバインダーに分散させた磁性体膜は特に高い透磁率を有する磁性体膜として期待されている。また、バインダー樹脂の含有量を低減することによって、磁性粒子同士が近接するため、透磁率が更に向上すると考えられている。
【０００３】
このような磁性ナノ粒子と磁性マイクロ粒子とをバインダーに分散させた磁性体膜は、溶媒に、磁性ナノ粒子と磁性マイクロ粒子と分散させ、バインダーを溶解させた塗工液を、塗布や印刷（例えば、スクリーン印刷）等によって塗工し、得られた塗膜を乾燥させることによって形成することができる。しかしながら、このような磁性体膜においては、磁性粒子の充填率が同じものであっても透磁率が大きく異なったり、磁性粒子の充填率から想定される値に比べて透磁率が低くなったりするという問題があった。
【０００４】
一方、磁性ナノ粒子と磁性マイクロ粒子とを含有する磁性材料としては、例えば、平均粒径が１〜３０μｍの第１の軟磁性体粒子及び平均粒径が５０〜２００ｎｍの第２の軟磁性体粒子からなる磁性粒子混合体と、前記磁性粒子混合体を分散させる分散媒とを含有し、前記磁性粒子混合体中の前記第２の軟磁性体粒子の割合が１０〜４０質量％である磁気粘性流体が知られている（特開２０１５−１８５５５５号公報（特許文献１））。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１５−１８５５５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、高い透磁率を有する磁性体膜を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、磁性マイクロ粒子及び磁性ナノ粒子からなる磁性粒子とバインダーと溶媒とを含有する塗膜に振動を印加することによって、膜の厚み方向の中心面を境界として磁性マイクロ粒子と磁性ナノ粒子の構成比率が異なる２つの層を備える磁性体膜が得られ、さらに、この磁性体膜が高い透磁率を示すことを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
すなわち、本発明の磁性体膜は、バインダーと、該バインダー中に分散している、粒子径が１μｍ以上の磁性マイクロ粒子及び粒子径が１μｍ未満の磁性ナノ粒子からなる磁性粒子とを含有し、基材上に形成されている磁性体膜であって、
前記磁性体膜の厚み方向の中心面より前記基材側の第一の層とその反対側の第二の層のうち、一方の層における前記磁性粒子中の磁性マイクロ粒子の含有率が６０〜９０体積％であり、磁性ナノ粒子の含有率が１０〜４０体積％であり、かつ、他方の層における前記磁性粒子中の磁性マイクロ粒子の含有率が１０〜６０体積％であり、磁性ナノ粒子の含有率が４０〜９０体積％であり、
前記一方の層における磁性ナノ粒子の含有率と前記他方の層における磁性ナノ粒子の含有率の差の絶対値が１０〜５０体積％である、
ことを特徴とするものである。
【０００９】
本発明の磁性体膜において、前記バインダーの含有量は前記磁性粒子１００質量部に対して０．１〜１０質量部であることが好ましい。また、前記磁性粒子は、フェライト系磁性粒子、鉄粒子、ニッケル粒子、鉄合金粒子、及びニッケル合金粒子からなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【００１０】
本発明の磁性体膜の製造方法は、粒子径が１μｍ以上の磁性マイクロ粒子及び粒子径が１μｍ未満の磁性ナノ粒子からなる磁性粒子とバインダーと溶媒とを含有する塗工用ペーストを調製する工程と、
前記塗工用ペーストを基材上に塗工して塗膜を形成する工程と、
前記塗膜に１Ｈｚ〜１００ｋＨｚの周波数で振動を印加する工程と、
前記バインダーを固化させて請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載の磁性体膜を形成する工程と、
を含むことを特徴とする。
【００１１】
本発明の磁性体膜の製造方法において、前記振動の振幅は０．００１〜１０ｍｍであることが好ましい。また、前記塗膜の厚み方向に前記振動を印加することが好ましい。
【００１２】
なお、本発明の磁性体膜の製造方法によって、膜の厚み方向の中心面を境界として磁性マイクロ粒子と磁性ナノ粒子の構成比率が異なる２つの層を備える磁性体膜が得られる理由は必ずしも定かではないが、本発明者らは以下のように推察する。すなわち、本発明の磁性体膜の製造方法においては、図１に示すように、磁性マイクロ粒子１及び磁性ナノ粒子２からなる磁性粒子とバインダーと溶媒を含有する塗膜３に振動を印加することによって、膜の厚み方向の中心面を境界として、磁性マイクロ粒子１と磁性ナノ粒子２の構成比率が異なる２つの層が形成される。これは、以下のような原理によるものと推察される。すなわち、図１に示すように、振動を印加する前の塗膜３には、磁性ナノ粒子２とバインダーと溶媒とからなる混合領域と、磁性マイクロ粒子１からなる領域とが存在する。このような塗膜３に振動（すなわち、せん断力）を印加すると、前記混合領域では、チクソ性により粘度が低下するのに対して、磁性マイクロ粒子１からなる領域では、構成成分が固体であるため、粘度は変化しない。このため、粘度が低下した混合領域は上昇し、粘度が変化しない磁性マイクロ粒子１からなる領域は下降し、磁性マイクロ粒子１と磁性ナノ粒子２の構成比率が異なる２つの層が形成される。例えば、基材４を下側、前記塗膜３を上側にして振動を印加すると、基材側に磁性マイクロ粒子１が沈降した層（第一の層）５、基材と反対側に磁性ナノ粒子２とバインダーと溶媒とが上昇した層（第二の層）６が形成される。その結果、第一の層５における磁性マイクロ粒子１の含有率は第二の層６に比べて高くなり、第二の層６における磁性ナノ粒子２の含有率は第一の層５に比べて高くなるため、磁性マイクロ粒子１と磁性ナノ粒子２の構成比率が異なる２つの層を備える磁性体膜７が形成される。
【００１３】
また、本発明の磁性体膜が高い透磁率を示す理由は必ずしも定かではないが、本発明者らは以下のように推察する。すなわち、磁性ナノ粒子及び磁性マイクロ粒子からなる磁性粒子とバインダーとを含有する従来の磁性体膜においては、前記磁性粒子が一様に分散している。このような磁性体膜において、透磁率を向上させるためには、前記磁性粒子（特に、磁性マイクロ粒子）の体積充填率を増大させることが有効である。しかしながら、磁性マイクロ粒子の体積充填率を増大させると、溶媒除去による膜の収縮時に、磁性マイクロ粒子同士が阻害しあうため、密にならず、磁性マイクロ粒子間の空隙を磁性ナノ粒子で十分に充填することができず、磁性体膜内に空孔が生成し、磁性体膜の透磁率が低下する。
【００１４】
これに対して、本発明の磁性体膜は、第一及び第二の層のうち、一方の層における前記磁性粒子中の磁性マイクロ粒子の含有率が６０〜９０体積％であり、磁性ナノ粒子の含有率が１０〜４０体積％であり、かつ、他方の層における前記磁性粒子中の磁性マイクロ粒子の含有率が１０〜６０体積％であり、磁性ナノ粒子の含有率が４０〜９０体積％である。磁性マイクロ粒子及び磁性ナノ粒子がこのような割合で含有する層を備える磁性体膜は、空孔が非常に少ない。また、本発明にかかる、前記磁性粒子中の磁性マイクロ粒子の含有率が６０〜９０体積％であり、磁性ナノ粒子の含有率が１０〜４０体積％である層は、磁性マイクロ粒子の体積充填率が高く、高い透磁率を示す。したがって、本発明の磁性体膜は、空孔が非常に少なく、また、磁性マイクロ粒子の体積充填率が高く、高い透磁率を有する層が存在するため、高い透磁率を示す。
【００１５】
また、本発明にかかる、前記磁性粒子中の磁性マイクロ粒子の含有率が１０〜６０体積％であり、磁性ナノ粒子の含有率が４０〜９０体積％である層のうち、磁性マイクロ粒子の含有率が低い層（例えば、磁性マイクロ粒子の含有率が１０体積％以上５０体積％未満の層）は、磁性マイクロ粒子の体積充填率が低く、透磁率も低くなる。この場合、本発明の磁性体膜には、透磁率が高い層と低い層が存在する。このような磁性体膜は、磁気異方性を示すが、磁束の方向が磁性体膜の表面に対して平行となるように配置して使用することによって、磁束が透磁率の高い層を優先的に通過し、高い透磁率が得られる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、高い透磁率を有する磁性体膜を得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の磁性体膜の製造方法において、振動を印加する前後の塗膜の断面を模式的に示す図である。
【図２】実施例１で得られた磁性体膜の断面を示す走査型電子顕微鏡写真である。
【図３】比較例１で得られた磁性体膜の断面を示す走査型電子顕微鏡写真である。
【図４】実施例１及び比較例１で得られた磁性体膜の比誘電率を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明をその好適な実施形態に即して詳細に説明する。
【００１９】
〔磁性体膜〕
先ず、本発明の磁性体膜について説明する。本発明の磁性体膜は、バインダーと、該バインダー中に分散している、粒子径が１μｍ以上の磁性マイクロ粒子及び粒子径が１μｍ未満の磁性ナノ粒子からなる磁性粒子とを含有し、基材上に形成されている磁性体膜である。このような本発明の磁性体膜において、
前記磁性体膜の厚み方向の中心面より前記基材側の第一の層とその反対側の第二の層のうち、一方の層における前記磁性粒子中の磁性マイクロ粒子の含有率が６０〜９０体積％であり、磁性ナノ粒子の含有率が１０〜４０体積％であり、かつ、他方の層における前記磁性粒子中の磁性マイクロ粒子の含有率が１０〜６０体積％であり、磁性ナノ粒子の含有率が４０〜９０体積％であり、
前記一方の層における磁性ナノ粒子の含有率と前記他方の層における磁性ナノ粒子の含有率の差の絶対値が１０〜５０体積％である。
【００２０】
本発明に用いられる前記磁性粒子は、磁性マイクロ粒子と磁性ナノ粒子との混合粒子である。このような磁性粒子（磁性マイクロ粒子及び磁性ナノ粒子）としては、保磁力が低く、透磁率が高い軟磁性粒子であれば特に制限はないが、例えば、フェライト系磁性粒子、鉄粒子、ニッケル粒子、鉄合金粒子、ニッケル合金粒子等が挙げられる。これらの磁性粒子は１種を単独で使用しても２種以上を併用してもよい。前記フェライト系磁性粒子としては、ＭｎＺｎフェライト粒子、ＭｎＣｕフェライト粒子、ＭｎＭｇフェライト粒子、ＭｎＺｎＣｕフェライト粒子、ＭｎＺｎＭｇフェライト粒子、ＭｎＺｎＮｉフェライト粒子、ＮｉＺｎフェライト粒子、ＮｉＣｕフェライト粒子、ＮｉＣｕＺｎフェライト粒子、ＮｉＺｎＭｇフェライト粒子、Ｃｏフェライト粒子、ＣｕＺｎフェライト粒子等が挙げられる。前記鉄合金粒子及びニッケル合金粒子としては、ＦｅＳｉ合金粒子、ＦｅＮｉ合金粒子、ＦｅＣｏ合金粒子等が挙げられる。このような磁性粒子の中でも、透磁率が高く、ナノ粒子のコストが比較的低いという観点から、ＭｎＺｎフェライト粒子、ＮｉＺｎフェライト粒子、ＮｉＣｕＺｎフェライト粒子、ＦｅＮｉ粒子が好ましい。
【００２１】
本発明において、磁性マイクロ粒子の粒子径は１μｍ以上である。また、磁性マイクロ粒子の粒子径の上限としては特に制限はないが、平坦な磁性体膜を形成するという観点から、１００μｍ以下が好ましく、３０μｍ以下がより好ましく、１５μｍ以下が特に好ましい。
【００２２】
また、本発明において、磁性ナノ粒子の粒子径は１μｍ未満である。このような磁性ナノ粒子の粒子径の上限としては、磁性ナノ粒子が小さいほど、磁性マイクロ粒子間の空隙を高密度で充填することが可能であり、磁性体膜の透磁率が向上するという観点から、３００ｎｍ以下が好ましい。また、磁性ナノ粒子の粒子径の下限としては、粒子表面の影響を小さくして粒子自体の磁気特性を保持するという観点から、１ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましい。
【００２３】
本発明の磁性体膜は、このような磁性マイクロ粒子及び磁性ナノ粒子からなる磁性粒子がバインダー中に分散したものであって、基材上に形成されたものである。前記バインダーとしては特に制限はないが、樹脂バインダーが好ましい。前記樹脂バインダーとしては、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、ユリア樹脂、シリコーン樹脂、ピロリドン樹脂、セルロース樹脂、ゼラチンが挙げられる。これらの樹脂バインダーは１種を単独で使用しても２種以上を併用してもよい。このようなバインダーを添加することによって、空孔の少ない、高い透磁率を有する磁性体膜を形成することが可能となる。また、前記基材としては特に制限はなく、例えば、シリコン基板等が挙げられる。
【００２４】
本発明の磁性体膜においては、磁性体膜の厚み方向の中心面、すなわち、磁性体膜を厚み方向にその表面に平行な面で２等分した境界面より前記基材側の層を第一の層、その反対側の層を第二の層とすると、これら第一の層と第二の層のうちの一方の層における前記磁性粒子中の磁性マイクロ粒子の含有率が６０〜９０体積％であり、磁性ナノ粒子の含有率が１０〜４０体積％である。磁性マイクロ粒子の含有率が前記下限未満になる（磁性ナノ粒子の含有率が前記上限を超える）と、この層（前記一方の層）における磁性マイクロ粒子の体積充填率が低くなるため、磁性体膜の透磁率も低くなる。他方、磁性マイクロ粒子の含有率が前記上限を超える（磁性ナノ粒子の含有率が前記下限未満になる）と、この層（前記一方の層）において、磁性ナノ粒子が不足し、磁性マイクロ粒子間の空隙を十分に充填できないため、磁性体膜の透磁率が低くなる。また、磁性マイクロ粒子の体積充填率が高くなり、かつ、磁性マイクロ粒子間の空隙が磁性ナノ粒子によって高密度で充填されるため、磁性体膜の透磁率が更に向上するという観点から、この層（前記一方の層）における磁性マイクロ粒子の含有率としては７０〜９０体積％が好ましく、７５〜９０体積％がより好ましく、また、磁性ナノ粒子の含有率としては１０〜３０体積％が好ましく、１０〜２５体積％がより好ましい。
【００２５】
さらに、前記一方の層においては、前記磁性粒子（磁性マイクロ粒子及び磁性ナノ粒子）の体積充填率が８０体積％以上であることが好ましく、８５体積％以上であることがより好ましい。前記磁性粒子の体積充填率が前記下限未満になると、前記磁性粒子間の距離が長くなるため、粒子間静磁的相互作用が弱くなり、磁性体膜の透磁率が著しく低下する傾向にある。なお、前記一方の層における前記磁性粒子の体積充填率の上限としては９８体積％以下が好ましい。
【００２６】
また、本発明の磁性体膜においては、前記第一の層と第二の層のうちの他方の層における前記磁性粒子中の磁性マイクロ粒子の含有率が１０〜６０体積％であり、磁性ナノ粒子の含有率が４０〜９０体積％である。磁性マイクロ粒子の含有率が前記下限未満になる（磁性ナノ粒子の含有率が前記上限を超える）と、この層（前記他方の層）において、磁性ナノ粒子が過剰に存在するため、得られる磁性体膜にクラックが発生する。他方、磁性マイクロ粒子の含有率が前記上限を超える（磁性ナノ粒子の含有率が前記下限未満になる）と、後述する磁性体膜の製造方法において振動を印加する前の塗膜に、過剰の磁性マイクロ粒子が含まれるため、得られる磁性体膜に空孔が生成し、磁性体膜の透磁率が低くなる。また、得られる磁性体膜におけるクラックの発生及び空孔の生成が抑制されるという観点から、この層（前記他方の層）における磁性マイクロ粒子の含有率としては３０〜６０体積％が好ましく、４０〜６０体積％がより好ましく、５０〜６０体積％が更に好ましく、また、磁性ナノ粒子の含有率としては４０〜７０体積％が好ましく、４０〜６０体積％がより好ましく、４０〜５０体積％が更に好ましい。
【００２７】
さらに、前記他方の層においては、前記磁性粒子（磁性マイクロ粒子及び磁性ナノ粒子）の体積充填率が８０体積％以上であることが好ましく、８５体積％以上であることがより好ましい。前記磁性粒子の体積充填率が前記下限未満になると、前記磁性粒子間の距離が長くなるため、粒子間静磁的相互作用が弱くなり、磁性体膜の透磁率が著しく低下する傾向にある。なお、前記一方の層における前記磁性粒子の体積充填率の上限としては９８体積％以下が好ましい。
【００２８】
また、本発明の磁性体膜においては、前記一方の層における磁性ナノ粒子の含有率と前記他方の層における磁性ナノ粒子の含有率との差の絶対値が１０〜５０体積％である。磁性ナノ粒子の含有率の差の絶対値が前記下限未満になると、磁性ナノ粒子の含有率が低い場合には、後述する磁性体膜の製造方法において振動を印加する前の塗膜に、過剰の磁性マイクロ粒子が含まれるため、得られる磁性体膜に空孔が生成し、磁性体膜の透磁率が低くなり、磁性ナノ粒子の含有率が高い場合には、磁性マイクロ粒子の体積充填率が高い層が存在せず、磁性体膜の透磁率が低くなる。他方、磁性ナノ粒子の含有率の差の絶対値が前記上限を超えると、第一の層と第二の層の乾燥・焼成時の収縮率の差が大きくなるため、クラックや剥離が発生する恐れがある。
【００２９】
さらに、本発明の磁性体膜において、前記バインダーの含有量は、適用する塗工方法（例えば、スクリーン印刷法、マスク印刷法、バーコート法、フレキソ印刷法、グラビア印刷法）において塗工用ペーストの粘度やレオロジー特性が最適となるように、また、振動を印加した際に所望の層分離が効率的に起こるように、さらに、焼成後の膜の強度が十分なものとなるように、塗工条件、振動条件、焼成条件等に応じて適宜設定することが可能であるが、磁性体膜における前記磁性粒子の体積充填率が向上することによって、磁性体膜の透磁率も向上するという観点から、前記磁性粒子１００質量部に対して０．１〜１０質量部であることが好ましく、１〜８質量部がより好ましい。バインダーの含有量が前記下限未満になると、磁性体膜の強度が低下してクラックや剥離が発生しやすくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、樹脂成分が多くなりすぎて磁性体膜の磁性特性が低下する傾向にあり、また、振動を印加する際に塗膜の粘度が高くなりすぎて所望の層分離が十分に起こらない傾向にある。
【００３０】
また、本発明の磁性体膜においては、第一及び第二の各層における空孔部の総体積が、第一及び第二の各層の全体積に対して５体積％以下であることが好ましく、２体積％以下であることがより好ましく、１．５体積％以下であることが更に好ましい。第一及び第二の各層において、空孔部の割合が前記上限を超えると、磁性体膜の透磁率が低下する傾向にある。
【００３１】
さらに、本発明の磁性体膜には、本発明の効果を損なわない範囲において、界面活性剤、消泡剤、レベリング剤、分散剤、湿潤剤等の各種添加剤が含まれていてもよい。
【００３２】
〔磁性体膜の製造方法〕
次に、本発明の磁性体膜の製造方法について説明する。本発明の磁性体膜の製造方法は、粒子径が１μｍ以上の磁性マイクロ粒子及び粒子径が１μｍ未満の磁性ナノ粒子からなる磁性粒子とバインダーと溶媒とを含有する塗工用ペーストを調製する工程（塗工用ペースト調製工程）と、
前記塗工用ペーストを基材上に塗工して塗膜を形成する工程（塗膜形成工程）と、
前記塗膜に１Ｈｚ〜１００ｋＨｚの周波数で振動を印加する工程（振動印加工程）と、
前記バインダーを固化させて前記本発明の磁性体膜を形成する工程（焼成工程）と、
を含む方法である。
【００３３】
（塗工用ペースト調製工程）
本発明の磁性体膜の製造方法においては、先ず、溶媒（塗工ペースト用溶媒）に、磁性マイクロ粒子及び磁性ナノ粒子からなる磁性粒子が分散し、前記バインダーが溶解している塗工用ペーストを調製する。
【００３４】
前記塗工ペースト用溶媒としては、前記磁性粒子が均一に分散し、前記バインダーが十分に溶解するものであれば特に制限はないが、前記磁性粒子との濡れ性が良好であり、前記磁性粒子の凝集が抑制され、低コストであるという観点から、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−（２−メトキシエトキシ）エタノール、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−［２−（２−メトキシエトキシ）エトキシ］エタノール、２−［２−（２−エトキシエトキシ）エトキシ］エタノールが好ましい。このような溶媒は１種を単独で使用しても２種以上を併用してもよい。
【００３５】
また、前記塗工用ペーストにおいて、前記塗工ペースト用溶媒の含有量としては特に制限はないが、塗工用ペースト全量に対して、１〜３５質量％が好ましく、４〜３０質量％がより好ましい。前記塗工ペースト用溶媒の含有量が前記下限未満になると、塗工用ペーストの粘度が高くなり、塗工や振動印加が困難となる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、製膜後に前記塗工ペースト用溶媒を除去するための乾燥時間が長くなり、また、所望の厚さの磁性体膜を形成するためには、塗工と乾燥を数多く繰り返す必要があり、製造コストが高くなる傾向にある。
【００３６】
前記塗工用ペーストの調製方法としては、前記塗工ペースト用溶媒に前記磁性粒子が均一に分散し、前記バインダーが十分に溶解する方法であれば、特に制限はないが、例えば、先ず、前記塗工ペースト用溶媒に磁性ナノ粒子が分散しているスラリーを調製し、次いで、このスラリーに前記バインダーを添加して溶解させ、その後、前記バインダーを含有するスラリーに磁性マイクロ粒子を添加して分散させる方法が好ましい。
【００３７】
前記スラリーの調製方法としては、前記塗工ペースト用溶媒に磁性ナノ粒子が均一に分散する方法であれば特に制限はなく、例えば、前記塗工ペースト用溶媒に磁性ナノ粒子を添加した後、超音波処理等の公知の分散処理を施す方法が挙げられるが、磁性ナノ粒子が凝集しやすいことから、磁性ナノ粒子が高度に分散したスラリーを得るためには、例えば、先ず、磁性ナノ粒子を、高分散させることが可能な溶媒（以下、「高分散用溶媒」という。）に添加して分散液を調製し、その後、前記高分散用溶媒を前記塗工ペースト用溶媒で置換する方法が好ましい。また、磁性ナノ粒子は凝集体を形成しやすく、そのまま使用すると、磁性ナノ粒子が高度に分散したスラリーが得られないため、前記分散液を調製する際には、磁性ナノ粒子の凝集体（粉末）を解砕することが好ましい。
【００３８】
磁性ナノ粒子を高分散させることが可能な溶媒（高分散用溶媒）としては、例えば、イソプロパノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ジエチルエーテル、酢酸エチル、アセトン、メチルエチルケトンが挙げられる。また、磁性ナノ粒子の凝集体（粉末）を解砕する方法としては、磁性ナノ粒子の凝集体（粉末）を所定の平均粒子径に解砕できる方法であれば特に制限はなく、例えば、ボールミル、ジェットミル、又は超音波等を用いる方法が挙げられる。
【００３９】
また、前記高分散用溶媒を前記塗工ペースト用溶媒で置換する方法としては特に制限はなく、例えば、磁性ナノ粒子が前記高分散用溶媒に分散している分散液に、前記塗工ペースト用溶媒を添加した後、ロータリーエバポレーターを用いて前記高分散用溶媒を留去する方法が挙げられる。このとき、前記塗工ペースト用溶媒が残存し、前記高分散用溶媒が除去されるように、操作条件（温度、圧力等）を設定する。
【００４０】
次に、このようにして調製したスラリーに前記バインダーを添加して溶解させる。このとき、前記バインダーの配合量は、適用する塗工方法において塗工用ペーストの粘度やレオロジー特性が最適となるように、また、振動を印加した際に所望の層分離が効率的に起こるように、さらに、焼成後の膜の強度が十分なものとなるように、塗工条件、振動条件、焼成条件等に応じて適宜設定することが可能であるが、磁性体膜における前記磁性粒子の体積充填率が向上することによって、空孔の生成が抑制され、磁性体膜の透磁率が向上するという観点から、得られる塗工用ペースト中の前記磁性粒子１００質量部に対して０．１〜１０質量部であることが好ましく、１〜８質量部であることがより好ましい。これにより、前記塗工ペースト用溶媒を用いることによって前記磁性粒子の凝集が抑制されるという効果が発揮される。また、バインダーの含有量が前記下限未満になると、磁性体膜の強度が低下してクラックや剥離が発生しやすくなる傾向にあり、他方、前記上限を超えると、樹脂成分が多くなりすぎて磁性体膜の磁性特性が低下する傾向にあり、また、振動を印加する際に塗膜の粘度が高くなりすぎて所望の層分離が十分に起こらない傾向にある。
【００４１】
次に、このようにして調製した前記バインダーを含有するスラリーに磁性マイクロ粒子を添加して分散させる。このとき、磁性マイクロ粒子の配合量は、磁性マイクロ粒子間の空隙が磁性ナノ粒子で高密度に充填されることによって、得られる磁性体膜において前記磁性粒子の体積充填率が向上して空孔の生成が抑制されるように、適宜設定することが可能であるが、例えば、得られる塗工用ペースト中の前記磁性粒子の総配合量（磁性マイクロ粒子と磁性ナノ粒子の合計量）に対する磁性マイクロ粒子の配合量が５５〜９０質量％（より好ましくは、６５〜９０質量％）、磁性ナノ粒子の配合量が１０〜４５質量％（より好ましくは、１０〜３５質量％）となるように配合することが好ましい。これにより、空孔の生成が抑制され、高い透磁率を有する磁性体膜を得ることが可能となる。
【００４２】
（塗膜形成工程）
次に、本発明の磁性体膜の製造方法においては、このようにして調製した塗工用ペーストを基材上に塗工することによって塗膜を形成する。塗工方法としては特に制限はなく、例えば、塗布、スクリーン印刷、マスク印刷法、バーコート法、フレキソ印刷法、グラビア印刷法等の公知の方法を採用することができる。また、本発明の磁性体膜の製造方法においては、基材上に形成された塗膜に溶媒が含まれている必要がある。これにより、後述する振動印加工程において、塗膜に所定の振動を印加することによって所望の層分離を効率的に行うことができる。一方、基材上に形成された塗膜に溶媒が残存していない場合には、振動を印加しても磁性粒子の移動、すなわち、所望の層分離が十分に起こりにくく、所望の層構造の磁性体膜を得られない傾向にある。
【００４３】
（振動印加工程）
次に、溶媒を含有する前記塗膜に振動を印加する。このとき、印加する振動の周波数は１Ｈｚ〜１００ｋＨｚである。振動の周波数が前記下限未満になると、塗膜に与えられるせん断力が弱く、所望の層分離が十分に起こらない。他方、振動の周波数が前記上限を超えると、塗膜に与えられるせん断力が強くなりすぎ、得られる磁性体膜に皺が発生したり、成分の一部が飛散したりする。
【００４４】
また、印加する振動の周波数としては、より適切なせん断力を塗膜に与えて所望の層分離を十分に行うとともに、皺の発生や成分の飛散を抑制するという観点から、１０Ｈｚ〜１ｋＨｚが好ましい。また、印加する振動の振幅としては、より適切なせん断力を塗膜に与えて所望の層分離を十分に行ない、皺の発生や成分の飛散を抑制するという観点から、０．００１〜１０ｍｍが好ましく、０．０１〜１ｍｍがより好ましい。
【００４５】
このような振動を印加する方向としては特に制限はなく、塗膜の厚み方向（すなわち、塗膜の表面に垂直な方向）であっても、塗膜の表面に平行な方向（すなわち、塗膜の厚み方向に垂直な方向）であってもよいが、塗膜の厚み方向（すなわち、塗膜の表面に垂直な方向）が好ましい。
【００４６】
さらに、本発明の磁性体膜の製造方法においては、振動を印加する際の塗膜の粘度が１０〜５０００Ｐａ・ｓであることが好ましく、５０〜１０００Ｐａ・ｓであることがより好ましい。振動を印加する際の塗膜の粘度が前記下限未満になると、振動の印加により塗工パターンのエッジにおいてインクだれが発生し、パターン精度が低下する傾向にあり、他方、前記上限を超えると、振動を印加しても磁性粒子の移動、すなわち、所望の層分離が十分に起こらず、所望の層構造の磁性体膜が得られない傾向にある。
【００４７】
（焼成工程）
次に、得られた塗膜を乾燥して溶媒を除去した後、焼成してバインダーを固化させることによって、所望の層構造を有する本発明の磁性体膜が得られる。塗膜の乾燥条件としては溶媒を除去できる条件であれば特に制限はないが、例えば、乾燥温度としては５０〜１００℃が好ましく、乾燥時間としては１０分間〜１時間が好ましい。また、塗膜の焼成条件についてもバインダーが十分に固化する条件であれば特に制限はないが、例えば、焼成温度としては１００〜３００℃が好ましく、焼成時間としては１０分間〜１０時間が好ましい。
【実施例】
【００４８】
以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、振動印加時の塗膜粘度及び得られた磁性体膜の特性は以下の方法により測定した。
【００４９】
＜振動印加時の塗膜粘度＞
本実施例においては、塗工用ペーストを塗工した後すぐに、塗膜に振動を印加しているため、塗膜に印加した振動の周波数に対応するせん断速度下での塗工用ペーストの粘度を振動印加時の塗膜の粘度とみなすことができる。そこで、先ず、回転式レオメーター（ティー・エー・インスツルメント社製「ＡＲＥＳ−Ｇ２」を用い、コーンプレート型測定子にて、塗工用ペーストの粘度を、２３℃、種々のせん断速度下において測定し、せん断速度と粘度との関係（検量線）を求めた。そして、得られた検量線に基づいて、塗膜に印加した振動の周波数に対応するせん断速度下での塗工用ペーストの粘度を求め、これを振動印加時の塗膜の粘度とした。
【００５０】
＜第一及び第二の各層における磁性マイクロ粒子及び磁性ナノ粒子の含有率、並びに第一及び第二の各層の全体積に対する空孔部の総体積の割合＞
本発明にかかる第一及び第二の各層においては、前記磁性粒子が一様に分散しているため、各層における前記磁性粒子中の磁性マイクロ粒子（又は磁性ナノ粒子）の体積基準の含有率は、各層中の前記磁性粒子の総断面積に対する磁性マイクロ粒子（又は磁性ナノ粒子）の総断面積の割合と等しくなる。そこで、磁性体膜の断面を、走査型電子顕微鏡を用いて観察し、得られたＳＥＭ像に基づいて、磁性体膜の第一及び第二の各層における前記磁性粒子の総断面積（磁性マイクロ粒子の総断面積と磁性ナノ粒子の総断面積との合計）に対する磁性マイクロ粒子の総断面積の割合及び磁性ナノ粒子の総断面積の割合をそれぞれ求めた。
【００５１】
すなわち、先ず、磁性体膜を形成した基材を、クリアカップ内に二液混合型エポキシ樹脂を用いて埋め込み、磁性体膜の断面が露出するまで研磨した後、必要に応じて、イオンミリングによる加工を行なった。なお、磁性体膜の断面は、集束イオンビーム又はミクロトームを用いた切削により露出させてもよい。次いで、露出した磁性体膜の断面を、走査型電子顕微鏡を用いて観察した。観察倍率は、５００倍又は１０００倍に設定したが、磁性体膜の厚みにより適宜設定してもよい。
【００５２】
次に、市販の画像解析ソフト（例えば、旭化成エンジニアリング株式会社製「Ａ像くん」）を用いて、得られたＳＥＭ像をグレースケールに変換した後、磁性体膜の断面を磁性体膜の表面に平行な方向に２等分し、磁性体膜の厚み方向の中心面（すなわち、２等分した境界面）より基材側の層を第一の層、その反対側の層を第二の層とした。これら各層の断面のＳＥＭ像において、前記画像解析ソフトを用いて画像処理を行い、粒径（円相当径）が１μｍ以上の粒子を磁性マイクロ粒子として抽出した。抽出した各磁性マイクロ粒子の断面積を求め、前記ＳＥＭ像内の第一及び第二の各層における磁性マイクロ粒子の断面積の合計値Ｓｍ１及びＳｍ２をそれぞれ算出した。
【００５３】
また、第一及び第二の各層の断面のＳＥＭ像において、前記画像解析ソフトを用いて、空孔部が白色系、前記磁性粒子が黒色系となるように白黒反転処理を行なった後、画像処理を行い、空孔部を粒子として認識させて抽出した。抽出した各粒子（すなわち、各空孔部）の断面積を求め、前記ＳＥＭ像内の第一及び第二の各層における空孔部の断面積の合計値Ｓｖ１及びＳｖ２をそれぞれ算出した。
【００５４】
次に、以下の手順で、前記ＳＥＭ像内の第一及び第二の各層における前記磁性粒子の総断面積（磁性マイクロ粒子の総断面積と磁性ナノ粒子の総断面積との合計）に対する磁性マイクロ粒子の総断面積の割合及び磁性ナノ粒子の総断面積の割合をそれぞれ求めた。すなわち、前記ＳＥＭ像内の第一及び第二の各層における前記磁性粒子の総断面積に対する磁性マイクロ粒子の総断面積の割合及び磁性ナノ粒子の総断面積の割合は下記式：
磁性マイクロ粒子の総断面積の割合（％）＝Ｓｍｋ／（Ｓｎｋ＋Ｓｍｋ）×１００
磁性ナノ粒子の総断面積の割合（％）＝Ｓｎｋ／（Ｓｎｋ＋Ｓｍｋ）×１００
〔式中、Ｓｍｋ：磁性マイクロ粒子の断面積の合計値、Ｓｎｋ：磁性ナノ粒子の断面積の合計値、ｋ：１（第一の層）又は２（第二の層）〕
で表される。また、前記ＳＥＭ像内における第一及び第二の各層の断面積は下記式：
Ｓｋ＝Ｓｍｋ＋Ｓｎｋ＋Ｓｂｋ＋Ｓｖｋ
〔式中、Ｓｍｋ：磁性マイクロ粒子の断面積の合計値、Ｓｎｋ：磁性ナノ粒子の断面積の合計値、Ｓｂｋ：バインダーの断面積の合計値、Ｓｖｋ：空孔部の断面積の合計値、Ｓｋ：層の断面積、ｋ：１（第一の層）又は２（第二の層）〕
で表される。ここで、第一及び第二の各層の断面における磁性ナノ粒子とバインダーの断面積の合計値に対する磁性ナノ粒子の断面積の合計値の割合をＲｓｋ（＝Ｓｎｋ／（Ｓｎｋ＋Ｓｂｋ））〔ｋ：１（第一の層）又は２（第二の層）〕とすると、前記ＳＥＭ像内の第一及び第二の各層における磁性ナノ粒子の断面積の合計値Ｓｎｋは下記式：
Ｓｎｋ＝Ｒｓｋ×（Ｓｎｋ＋Ｓｂｋ）＝Ｒｓｋ×（Ｓｋ−Ｓｍｋ−Ｓｖｋ）
〔式中、Ｓｍｋ：磁性マイクロ粒子の断面積の合計値、Ｓｎｋ：磁性ナノ粒子の断面積の合計値、Ｓｂｋ：バインダーの断面積の合計値、Ｓｖｋ：空孔部の断面積の合計値、Ｓｋ：層の断面積、ｋ：１（第一の層）又は２（第二の層）〕
で表される。なお、第一及び第二の各層においては、前記磁性粒子が一様に分散しているため、前記Ｒｓｋは、各層中の磁性ナノ粒子とバインダーの総体積に対する磁性ナノ粒子の全体積の割合Ｒｖｋ〔ｋ：１（第一の層）又は２（第二の層）〕と等しくなる。また、塗膜に振動を印加すると、磁性ナノ粒子はその周囲に存在するバインダー及び溶媒とともに一体となって移動（上昇）すると考えられることから、各層中の磁性ナノ粒子とバインダーの総体積に対する磁性ナノ粒子の全体積の割合Ｒｖｋ〔ｋ：１（第一の層）又は２（第二の層）〕は、塗工用ペースト中の磁性ナノ粒子とバインダーとの含有比率から求められる、磁性体膜全体における磁性ナノ粒子とバインダーの総体積に対する磁性ナノ粒子の全体積の割合Ｒｖに等しいと仮定することができる。
【００５５】
したがって、前記ＳＥＭ像内の第一及び第二の各層における前記磁性粒子の総断面積に対する磁性マイクロ粒子の総断面積の割合及び磁性ナノ粒子の総断面積の割合は下記式：
磁性マイクロ粒子の総断面積の割合（％）＝Ｓｍｋ／（Ｒｖ×（Ｓｋ−Ｓｍｋ−Ｓｖｋ）＋Ｓｍｋ）×１００
磁性ナノ粒子の総断面積の割合（％）＝Ｒｖ×（Ｓｋ−Ｓｍｋ−Ｓｖｋ）／（Ｒｖ×（Ｓｋ−Ｓｍｋ−Ｓｖｋ）＋Ｓｍｋ）×１００
〔式中、Ｓｍｋ：磁性マイクロ粒子の断面積の合計値、Ｓｖｋ：空孔部の断面積の合計値、Ｓｋ：層の断面積、Ｒｖ：磁性体膜全体における磁性ナノ粒子とバインダーの総体積に対する磁性ナノ粒子の全体積の割合、ｋ：１（第一の層）又は２（第二の層）〕
によりそれぞれ求めることができる。
【００５６】
そこで、前記ＳＥＭ像において算出したＳｋ、Ｓｍｋ及びＳｖｋ〔ｋ：１（第一の層）又は２（第二の層）〕、塗工用ペースト中の磁性ナノ粒子とバインダーとの含有比率から求めたＲｖを用いて、前記式に従って、前記ＳＥＭ像内の第一及び第二の各層における前記磁性粒子の総断面積に対する磁性マイクロ粒子の総断面積の割合及び磁性ナノ粒子の総断面積の割合をそれぞれ求めた。
【００５７】
また、前記ＳＥＭ像において算出したＳｋ及びＳｖｋ〔ｋ：１（第一の層）又は２（第二の層）〕を用いて、前記ＳＥＭ像内における第一及び第二の各層の断面積に対する空孔部の総断面積の割合Ｓｖｋ／Ｓｋ〔ｋ：１（第一の層）又は２（第二の層）〕を求めた。
【００５８】
これらの測定を無作為に抽出した１０箇所の観察点について行い、その平均値をそれぞれ求め、これらを磁性体膜の第一及び第二の各層における前記磁性粒子中の磁性マイクロ粒子及び磁性ナノ粒子の含有率、並びに、磁性体膜の第一及び第二の各層の全体積に対する空孔部の総体積の割合とした。
【００５９】
＜磁性体膜の比透磁率＞
先ず、シリコン基板上に形成した磁性体膜の膜厚を、触針式段差計を用いて測定した。次に、磁性体膜を形成したシリコン基板から１ｃｍ角の測定用試験片を切出した。また、磁性体膜が形成されていない１ｃｍ角のシリコン基板を準備した。透磁率測定装置（凌和電子株式会社製「ＰＭＦ−００１」）を用い、室温（２３℃）環境下、周波数：０．１〜１０ＭＨｚの条件で、磁束の方向が試験片等の表面に対して平行となるようにして、前記測定用試験片及び前記シリコン基板の比透磁率を測定し、前記測定用試験片と前記シリコン基板の比透磁率の差及び前記磁性体膜の膜厚から、磁性体膜の比透磁率を求めた。
【００６０】
（実施例１）
Ｎｉ０．４Ｚｎ０．６Ｆｅ２Ｏ４磁性ナノ粒子を含む粉末（戸田工業株式会社製、平均粒径：３００ｎｍ）４０ｇをイソプロパノール１７０ｇ中でボールミルを用いて解砕した。得られた分散液に２−（２−エトキシエトキシ）エタノール４０ｇを添加し、ロータリーエバポレーターを用いて４０℃、５０ｍＴｏｒｒ（６．７Ｐａ）の条件でイソプロパノールを留去し、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール中に前記Ｎｉ０．４Ｚｎ０．６Ｆｅ２Ｏ４磁性ナノ粒子が分散したスラリーを得た。このスラリーにバインダーとしてフェノール樹脂（セメダイン株式会社製「熱硬化型フェノール樹脂１１０」）を樹脂成分が４．８ｇとなるように添加し、自転・公転ミキサー（株式会社シンキー製「あわとり練太郎ＡＲ−１００）を用いて撹拌して前記フェノール樹脂を完全に溶解した。その後、Ｎｉ０．４Ｚｎ０．６Ｆｅ２Ｏ４磁性マイクロ粒子を含む粉末（戸田工業株式会社製、平均粒径：７μｍ）８０ｇを添加し、前記自転・公転ミキサーを用いて撹拌して塗工用ペーストを得た。
【００６１】
この塗工用ペーストをスクリーン印刷法によりシリコン基板上に塗工した後すぐに、振とう器（アズワン株式会社製卓上振とう器強力振動タイプ）を用いて、基板上の塗膜に周波数６０Ｈｚ、振幅０．０８ｍｍの条件で上下振動（塗膜の厚み方向の振動）を１０分間印加した。なお、振動印加時の前記塗膜の粘度は１２０Ｐａ・ｓであった。その後、７０℃に設定したホットプレート上で塗膜を加熱して２−（２−エトキシエトキシ）エタノールを除去し、さらに、窒素雰囲気下、２００℃で１時間焼成して磁性体膜を得た。
【００６２】
（比較例１）
塗膜に振動を印加しなかった以外は実施例１と同様にして磁性体膜を得た。
【００６３】
＜走査型電子顕微鏡観察＞
実施例１及び比較例１で得られた磁性体膜の断面を走査型電子顕微鏡により観察した。その結果を図２及び図３に示す。図２に示した結果から明らかなように、塗膜に上下振動を印加した磁性体膜（実施例１）は、断面を磁性体膜の表面に平行な方向に２等分するように、磁性マイクロ粒子と磁性ナノ粒子の構成比率が明らかに異なる２層に分かれていることが確認された。一方、図３に示した結果から明らかなように、塗膜に振動を印加しなかった磁性体膜（比較例１）の断面には、磁性体膜の表面に平行な方向に分割するような明確な境界は観察されなかった。
【００６４】
図２及び図３に示したＳＥＭ像に基づいて、実施例１及び比較例１で得られた磁性体膜の第一及び第二の各層における前記磁性粒子中の磁性マイクロ粒子及び磁性ナノ粒子の含有率、並びに、前記磁性体膜の第一及び第二の各層の全体積に対する空孔部の総体積の割合を求めた。これらの結果を表１に示す。表１に示した結果から明らかなように、塗膜に上下振動を印加することによって、磁性マイクロ粒子の含有率が６０〜９０体積％の範囲内にあり、磁性ナノ粒子の含有率が１０〜４０体積％の範囲内にある第一の層と、磁性マイクロ粒子の含有率が１０〜６０体積％の範囲内にあり、磁性ナノ粒子の含有率が４０〜９０体積％の範囲内にある第二の層とが形成されることが確認された（実施例１）。一方、塗膜に振動を印加しなかった場合（比較例１）には、第一の層と第二の層における前記磁性粒子中の磁性マイクロ粒子及び磁性ナノ粒子の含有率に大きな差はなかった。
【００６５】
＜比透磁率測定＞
実施例１及び比較例１で得られた磁性体膜の比透磁率を測定した。その結果を図４及び表１に示す。図４に示した結果から明らかなように、塗膜に振動を印加して得られた磁性体膜（実施例１）は、振動を印加していない磁性体膜（比較例１）に比べて、比透磁率が高くなることがわかった。
【００６６】
（実施例２）
前記Ｎｉ０．４Ｚｎ０．６Ｆｅ２Ｏ４磁性マイクロ粒子を含む粉末の量を１２０ｇに変更した以外は実施例１と同様にして磁性体膜を得た。なお、振動印加時の前記塗膜の粘度は７８Ｐａ・ｓであった。得られた磁性体膜の第一及び第二の各層における前記磁性粒子中の磁性マイクロ粒子及び磁性ナノ粒子の含有率、前記磁性体膜の第一及び第二の各層の全体積に対する空孔部の総体積の割合、並びに比透磁率を求めた。これらの結果を表１に示す。
【００６７】
（比較例２）
塗膜に振動を印加しなかった以外は実施例２と同様にして磁性体膜を得た。この磁性体膜の断面を走査型電子顕微鏡により観察したところ、実施例２に比べて空孔部が多いことがわかった。また、この磁性体膜の第一及び第二の各層における前記磁性粒子中の磁性マイクロ粒子及び磁性ナノ粒子の含有率、前記磁性体膜の第一及び第二の各層の全体積に対する空孔部の総体積の割合、並びに比透磁率を求めた。これらの結果を表１に示す。
【００６８】
（比較例３）
前記Ｎｉ０．４Ｚｎ０．６Ｆｅ２Ｏ４磁性マイクロ粒子を含む粉末の量を４０ｇに変更した以外は実施例１と同様にして磁性体膜を得た。なお、振動印加時の前記塗膜の粘度は１３５Ｐａ・ｓであった。得られた磁性体膜の第一及び第二の各層における前記磁性粒子中の磁性マイクロ粒子及び磁性ナノ粒子の含有率、前記磁性体膜の第一及び第二の各層の全体積に対する空孔部の総体積の割合、並びに比透磁率を求めた。これらの結果を表１に示す。
【００６９】
（実施例３）
磁性ナノ粒子を含む粉末としてＦｅＮｉ磁性ナノ粒子を含む粉末（アルドリッチ社製、平均粒径：１００ｎｍ）４０ｇを用い、磁性マイクロ粒子を含む粉末としてＦｅＮｉ磁性マイクロ粒子を含む粉末（エプソンアトミックス株式会社製、平均粒径：１０μｍ）８０ｇを用いた以外は実施例１と同様にして磁性体膜を得た。なお、振動印加時の前記塗膜の粘度は１３５Ｐａ・ｓであった。得られた磁性体膜の第一及び第二の各層における前記磁性粒子中の磁性マイクロ粒子及び磁性ナノ粒子の含有率、前記磁性体膜の第一及び第二の各層の全体積に対する空孔部の総体積の割合、並びに比透磁率を求めた。これらの結果を表１に示す。
【００７０】
【表１】
2019003988.tif 000003
【００７１】
表１に示した結果から明らかなように、塗膜に振動を印加して、磁性マイクロ粒子の含有率が６０〜９０体積％の範囲内にあり、磁性ナノ粒子の含有率が１０〜４０体積％の範囲内にある第一の層と、磁性マイクロ粒子の含有率が１０〜６０体積％の範囲内にあり、磁性ナノ粒子の含有率が４０〜９０体積％の範囲内にある第二の層とを備え、第一の層と第二の層における磁性ナノ粒子の含有率の差の絶対値が１０〜５０体積％の範囲内にある磁性体膜を形成することによって、高い比透磁率を有する磁性体膜が得られることが確認された（実施例１〜３）。
【００７２】
一方、塗膜に振動を印加しなかった場合（比較例１及び２）には、第一の層と第二の層における前記磁性粒子中の磁性マイクロ粒子及び磁性ナノ粒子の含有率に大きな差はなく、さらに、比較例１で得られた磁性体膜においては、磁性マイクロ粒子の含有率が６０〜９０体積％の範囲内にあり、磁性ナノ粒子の含有量が１０〜４０体積％の範囲内にある層が存在しないため、また、比較例２で得られた磁性体膜においては、第一及び第二の層のいずれにおいても、磁性マイクロ粒子の含有率が６０〜９０体積％の範囲内にあり、磁性ナノ粒子の含有量が１０〜４０体積％の範囲内にあるものの、膜内に空孔が存在したため、高い比透磁率を有する磁性体膜は得られなかった。
【００７３】
また、塗膜に振動を印加して形成した磁性体膜であっても、磁性マイクロ粒子の含有率が６０〜９０体積％の範囲内にあり、磁性ナノ粒子の含有量が１０〜４０体積％の範囲内にある層が存在しない場合には、高い比透磁率を有する磁性体膜は得られなかった（比較例３）。
【００７４】
以上の結果から、第一及び第二の各層における磁性マイクロ粒子及び磁性ナノ粒子の含有率が所定の範囲内となり、かつ、第一の層と第二の層における磁性ナノ粒子の含有率の差の絶対値が所定の範囲内となるように、磁性マイクロ粒子及び磁性ナノ粒子からなる磁性粒子とバインダーと溶媒とを含有する塗工用ペーストを調製し、かつ、この塗工用ペーストを用いて形成した塗膜に振動を印加することによって、高い比透磁率を有する磁性体膜が得られることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【００７５】
以上説明したように、本発明によれば、高い透磁率を有する磁性体膜を、振動を印加するという比較的容易な手段で製造することが可能となる。また、本発明においては、基材上に形成された塗膜に振動を印加するため、本発明の磁性体膜は、例えば、基板上に形成した磁性体膜によって構成される、インダクタ、トランス、電磁ノイズ吸収体、磁気センサー等に用いられる磁性体材料として有用である。
【符号の説明】
【００７６】
１：磁性マイクロ粒子、２：磁性ナノ粒子、３：塗膜、４：基材、５：第一の層、６：第二の層、７：磁性体膜。
【図１】
2019003988.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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