(57)【要約】【課題】  基板端部からのワレやクラック発生の抑制効果の高い基板用カセットを提供する。【解決手段】  基板用カセット１１は、エッチング槽１０内においてエッチング処理されるべき複数の基板を支持するように構成される。この基板用カセットの下面部は、基板の収納時の基板下辺２８の向きと直交する方向となるように配置された複数の下辺冶具１８の組み合わせから構成される。この下辺冶具１８は、基板下端部２９を下からのみ支持する平坦な載置面２０を有する受け冶具１９と、基板の搖動幅を抑制する抑制冶具２１とが有る。この抑制冶具２１は、収納された基板下辺２８の更に下方となるように配置された本体部２２から、上方に延在するように設けられた抑制部材２３であって、基板下端部２９を左右から挟むように所定の間隔で複数配列された抑制部材２３を有する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
エッチング装置内においてエッチング処理されるべき複数の基板を支持するように構成された基板用カセットであって、
前記基板用カセットの下面部は、基板の収納時の基板下辺の向きと直交する方向となるように配置された複数の下辺冶具の組み合わせから構成され、
前記下辺冶具は、基板下端部を下からのみ支持する平坦な載置面を有する受け冶具と、基板の左右への搖動幅を抑制する抑制冶具とが有り、
前記抑制冶具は、収納された基板下辺の更に下方となるように配置された本体部から、上方に延在するように設けられた抑制部材であって、基板下端部を左右から挟むように所定の間隔で複数配列された抑制部材を有すること、を特徴とする基板用カセット。
【請求項２】
前記抑制部材の先端部が、先細り形状を呈することを特徴とする請求項１に記載の基板用カセット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エッチング装置内においてエッチング処理されるべき複数の基板を支持するように構成された基板用カセットに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ガラス基板のケミカルエッチング方法の１つに、ディップ方法があり、このような基板用カセットは、ディップ方法のエッチング時に使用されることが多い。このディップ方法は、エッチング液を溜めたエッチング槽内に、複数のガラス基板を並列配置して収納した基板用カセットを浸漬し、基板用カセットの下方から基板用カセット内部に向けて、多数の気泡を連続的に放出してエッチング液の流れを作る。
【０００３】
しかしながら、ガラス基板は、板厚が薄くなるに従って可撓性が高まるので、エッチング液の液流に煽られてガラス基板が大きく撓みやすくなる。その結果、撓んだガラス基板にクラックが生じたり、隣接するガラス基板同士が接触してしまったりすることがあった。
【０００４】
撓み抑制の方法として、ガラス基板の側端部を支持するための溝部を基板用カセット内側の側面部に設けたり、ガラス基板の上端部および下端部を支持するための溝部を基板用カセット内側の上面部および下面部にそれぞれ設けたりすることがあった（例えば特許文献１および特許文献２）。このようにガラス基板の各端部を溝部によって支持することによって、一定の撓み抑制効果が得られてきた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１３−１５５０５７号公報
【特許文献２】特許第４６３４３３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、ガラス基板の薄型化が進むにつれて、上記支持方法では、ガラス基板の撓みを充分に抑制できないという問題が生じることがあった。ガラス基板の薄型化が進んだことにより、ガラス基板が従来よりもさらに撓みやすくなったからである。
【０００７】
また、ガラス基板が撓んだ状態で、その基板端部が溝のコーナーに引っ掛かると、引っ掛かった部分から、ワレやクラックが生じやすいとの問題があった。
【０００８】
本発明の目的は、基板端部からのワレやクラック発生の抑制効果の高い基板用カセットを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る基板用カセットは、エッチング装置内においてエッチング処理されるべき複数の基板を支持するように構成された基板用カセットである。この基板用カセットの下面部は、基板の収納時の基板下辺の向きと直交する方向となるように配置された複数の下辺冶具の組み合わせから構成される。
【００１０】
この下辺冶具は、基板の下端部を下からのみ支持する平坦な載置面を有する受け冶具と、基板の搖動幅を抑制する抑制冶具とが有る。
【００１１】
この抑制冶具は、収納された基板下辺の更に下方となるように設置された抑制冶具の本体部から、上方に延在するように設けられた抑制部材であって、基板下端部を左右から挟むように所定の間隔で複数配列された抑制部材を有する。
【００１２】
このように、下からの支持と、横からの支持と、用途を分けて冶具を形成することにより、基板の下端部と接触しうる冶具のコーナーが無くなるので、基板下端部が溝のコーナーに引っ掛ることを発生原因とした、ワレやクラックの発生が無くなる。したがって、基板端部からのワレやクラック発生を抑制することができる。
【００１３】
また、抑制部材の基板と接触しうる先端部への基板の貼り付きを抑制するために、抑制部材の先端部は、先細り形状を呈することが好ましい。
【発明の効果】
【００１４】
この発明によれば、基板端部からのワレやクラック発生を抑制することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板用カセットの使用態様の説明図
【図２】本発明の一実施形態に係る基板用カセットの構成図
【図３】基板用カセットの下面部に備えられた支持具の形状の一実施形態の説明図
【図４】図３に示す抑制冶具の実施形態の拡大斜視図
【図５】図３に示す受け冶具の実施形態の拡大斜視図
【図６】図２の基板カセットに基板を３枚いれた場合の図３の支持具での支持態様の例
【図７】図６の支持態様の拡大正面図
【図８】図６の支持態様の拡大側面図
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施の形態について図１ないし図５を参照しながら説明する。ただし同じ構成要素には同じ符号を付して、重複する説明を省略する場合もある。また、図面は理解しやすくするために、それぞれの構成要素を主体に模式的に示しており、図示された各構成要素の厚み，長さ，個数等は図面作成の都合上実際と異なる。また、便宜的に図面上での方向によって部材等の方向を上下左右と指称することがあるが、これらは本発明の実施あるいは使用の際の部材等の方向を限定するものではない。
【００１７】
（全体構成）
図１は、エッチング槽１０内に基板用カセット１１を設置した、使用態様を示す一例である。エッチング液は記載から省略している。エッチング槽１０内下部にはバブリングユニットが設置され、下方から上方に向けた液流を形成している。
【００１８】
図２は、本発明の一実施形態に係る基板用カセット１１の構成図である。基板用カセット１１にガラス基板１２を収納した状態を示す。ガラス基板１２との位置関係を示すため、ガラス基板１２収納後、上面部１６を取り付ける前の状態を示す。下面部１７は、基板収納時の基板下辺２８の向きと直交する方向となるように配置された複数の下辺冶具１８の組み合わせから構成される。
【００１９】
基板用カセット１１は、前板１３、後板１４、一対の側板１５、上面部１６、及び下面部１７から構成される（図２参照）。上面部１６と下面部１７とは、下方から上方に向けた液流を形成することができるような開口を有する。
【００２０】
（下面部構成）
図３は、図２に記載の下面部と、収納されている基板の一部を抜粋して、基板の下辺からの支持状態を示したものである。下面部は、複数の下辺冶具１８を所定の間隔で連結固定して構成される。下辺冶具１８の配置する際の所定の間隔は、ガラス基板１２の荷重に対する治具の耐荷重や、開口の確保、基板カセット搬送機構（不図示）との干渉等を考慮して、定められる。また、図６は、基板の下辺からの支持状態の拡大図を示す。
【００２１】
下辺冶具１８は、基板下端部２９を下からのみ支持する平坦な載置面２０を有する受け冶具１９（図５）と、基板下端部２９を横から支持して、基板の搖動幅を抑制する抑制冶具２１（図４）とが有る。
【００２２】
この抑制冶具２１は、収納された基板下辺２８の更に下方となるように配置された本体部２２から、上方に延在するように設けられた抑制部材２３であって、基板下端部２９を左右から挟むように所定の間隔で複数配列された抑制部材２３を有する。抑制部材２３を配列する際の所定の間隔は、基板の寸法、厚み、可撓性及び、収納時の基板間距離によるエッチング精度への影響を考慮して定められる。
【００２３】
図３に示す下面部１７は、下辺冶具１８の両端を嵌合するための溝を所定の間隔で設けた一対の枠２５の各溝に、受け冶具１９と抑制冶具２１とを交互に配列するように嵌合した後、固定板２６にて下辺冶具１８が枠２５から外れないように固定して、構成した例である。枠２５への固定板２６の固定はボルトを使った螺合等にて行うことができる（不図示）。枠２５は、基板用カセット１１と一体形成しても良いし、別途、枠２５を基板用カセット１１に固定しても良い。
【００２４】
図４に示す抑制冶具２１は、本体部２２と、本体部２２から延在する複数の抑制部材２３と、枠２５への嵌合部２７とを有する。枠２５への嵌合時の受け冶具１９との配列変更の自由度を確保するために、嵌合部２７の寸法は受け冶具１９の嵌合部２７寸法と同じとしている。また、嵌合時に本体部２２上面が基板下端部２９と接触しないように、嵌合部２７の上面よりも低い位置に本体部２２の上面を形成している。また、基板間のエッチング液の流量を均一に調整するための、ダミー基板固定用の溝３０を抑制冶具２１両端に設けている。
【００２５】
図５に示す受け冶具１９は、上面に基板下端部２９の載置面２０を有している。ゴム部材を設置している。受け冶具１９の嵌合部２７は、基板の載置部と一体形成されている例である。
【００２６】
（基板との位置関係）
以下、図６ないし図８を参照しながら、基板の支持態様について説明する。図６は、図３の基板下辺２８からの支持状態の拡大図である。図７は、図６の支持態様を更に拡大した正面図である。図８は、図６の支持態様を更に拡大した側面図である。
【００２７】
基板下端部２９は、図７で示すように、受け冶具１９の載置面２０で下から支持され、基板の左右への搖動は、図８で示すように、抑制冶具２１の抑制部材２３の先端部２４にて左右から支持され、抑制される。
【００２８】
（効果）
このように、基板下端部２９の下からの支持と、基板下端部２９の横からの支持と、用途を分けて冶具を形成することにより、基板下端部２９と接触しうる冶具のコーナーを無くすことができるので、基板下端部２９の溝のコーナーへの引っ掛りを原因とした、ワレやクラックの発生を無くすことができる。したがって、基板端部からのワレやクラック発生を抑制することができる。
【００２９】
（生産方法）
基板用カセット１１を構成する、受け冶具１９や、抑制冶具２１は、切り出しによって製造可能である。抑制部材２３は、抑制冶具２１本体部２２と一体形成しても良いし、本体部２２とは別に製造し、本体部２２に後から接着等により固定して形成しても良い。受け冶具１９は、本体部を形成後、載置面２０となるゴム等の部材を別途固定する等して製造することができる。この製造方法は一例であって、これに限定されるものではない。
【００３０】
また、図８のように、抑制部材２３の基板と接触しうる先端部２４への基板の貼り付きを抑制するために、抑制部材２３の先端部２４は、先細り形状を呈することが好ましい。
【符号の説明】
【００３１】
１０−エッチング槽
１１−基板用カセット
１２−ガラス基板
１３−前板
１４−後板
１５−側板
１６−上面部
１７−下面部
１８−下辺冶具
１９−受け冶具
２０−載置面
２１−抑制冶具
２２−本体部
２３−抑制部材
２４−先端部
２５−枠
２６−固定板
２７−嵌合部
２８−基板下辺
２９−基板下端部
３０−ダミー基板固定用の溝
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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