(57)【要約】【課題】ガラス物品の表面にある粒子数を少なくすることができるガラス物品の乾燥方法を提供する。【解決手段】ガラス物品の乾燥方法は、ガラス物品を、Ｖ字状溝を有した板に、前記Ｖ字状溝の底部および前記底部から下方に伸びる受け溝が形成された保持カセットに載置した状態で前記処理液に浸漬する工程と、前記ガラス物品が載置された状態で前記保持カセットを、前記処理液からイソプロピルアルコールの蒸気を含むガス雰囲気中に移動しながら前記ガラス物品の表面に付着している前記処理液を除去する工程と、を含む。【選択図】図４
2019186376.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス物品を、Ｖ字状溝を有した板に、前記Ｖ字状溝の底部および前記底部から下方に伸びる受け溝が形成された保持カセットに載置した状態で処理液に浸漬する工程と、
前記ガラス物品が載置された状態で前記保持カセットを、前記処理液からイソプロピルアルコールの蒸気を含むガス雰囲気中に移動しながら前記ガラス物品の表面に付着している前記処理液を除去する工程と、
を含むことを特徴とするガラス物品の乾燥方法。
【請求項２】
前記ガス雰囲気を、前記イソプロピルアルコールの蒸気と不活性ガスとを含む混合ガスを用いて形成し、
前記混合ガスを、前記処理液と前記ガス雰囲気との界面付近に吹き付ける請求項１に記載のガラス物品の乾燥方法。
【請求項３】
前記ガス雰囲気を、前記イソプロピルアルコールの蒸気と不活性ガスとを含む混合ガスを用いて形成し、
前記ガス雰囲気中に前記ガラス物品が移動した後、前記保持カセットと接触している前記ガラス物品の接触部近傍に前記混合ガスを複数個所から挟むように吹き付ける請求項１または２に記載のガラス物品の乾燥方法。
【請求項４】
前記ガラス物品の全体を前記処理液から前記ガス雰囲気中に移動した後も、前記混合ガスを用いて前記ガス雰囲気を維持する請求項２または３に記載のガラス物品の乾燥方法。
【請求項５】
前記保持カセットと接触している前記ガラス物品の表面の接触部の近傍を前記処理液から前記ガス雰囲気中に移動する時の前記ガラス物品の移動速度を、前記ガラス物品の他の部分を前記処理液から前記ガス雰囲気中に移動する時の移動速度よりも遅くする請求項１〜４の何れか一項に記載のガラス物品の乾燥方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス物品の乾燥方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話、携帯情報端末、またはノート型コンピュータなどに使用される半導体部品を製造する際に、ガラス基板、ガラスパネル、またはガラスレンズなど種々のガラス物品が使用されている。
【０００３】
こうしたガラス物品は、その製造工程において、基板保持カセットの溝にガラス基板の一部を挟持させた状態で保持される。基板保持カセットに保持された基板は、純水や水系洗浄剤などで洗浄された後、基板を乾燥して、基板の表面の純水など処理液を除去している（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−３１８２５６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来の技術のように、基板保持カセットの溝に基板の一部を挟持させる場合、基板保持カセットの溝と基板との間の狭い間隙に処理液が残り易い傾向にある。そのため、基板保持カセットの溝に基板の一部を挟持させた状態で基板を乾燥させると、基板保持カセットの溝と基板との間に残った処理液が基板の主面に拡散して、水シミ（ウォーターマーク）が発生してしまう可能性があった。基板表面に水シミが発生することで、洗浄後の基板の粒子（パーティクル）が多くなる可能性があった。
【０００６】
本発明の一態様は、ガラス物品の表面にある粒子数を少なくすることができるガラス物品の乾燥方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様に係るガラス物品の乾燥方法は、ガラス物品を、Ｖ字状溝を有した板に、前記Ｖ字状溝の底部および前記底部から下方に伸びる受け溝が形成された保持カセットに載置した状態で前記処理液に浸漬する工程と、前記ガラス物品が載置された状態で前記保持カセットを、前記処理液からイソプロピルアルコールの蒸気を含むガス雰囲気中に移動しながら前記ガラス物品の表面に付着している前記処理液を除去する工程とを含む。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の一態様に係るガラス物品の乾燥方法は、ガラス物品の表面にある粒子数を少なくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法に用いられる乾燥装置の一例を示す概略構成図である。
【図２】保持カセットの構成の一例を示す外観斜視図である。
【図３】保持カセットに形成される溝の部分拡大図である。
【図４】一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法の工程を示すフローチャートである。
【図５】ガラス物品の乾燥方法の一部を説明する図である。
【図６】ガラス物品の乾燥方法の一部を説明する図である。
【図７】ガラス物品の乾燥方法の一部を説明する図である。
【図８】ガラス物品の乾燥方法の一部を説明する図である。
【図９】一実施形態に係る乾燥方法が用いられる乾燥装置を備えた洗浄乾燥装置の一例を示す概略構成図である。
【図１０】洗浄乾燥方法の工程を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。なお、理解の容易のため、図面における各部材の縮尺は実際とは異なる場合がある。また、以下の説明において、乾燥装置の高さ方向の一方を上または上方といい、乾燥装置の高さ方向の他方を下または下方という場合がある。
【００１１】
＜乾燥装置＞
一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法に用いられる乾燥装置について説明する。図１は、一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法に用いられる乾燥装置の一例を示す概略構成図である。図１に示すように、乾燥装置１０は、処理槽２０、処理液揮発部３０、およびガス供給部４０を有している。また、乾燥装置１０は、処理槽２０および処理液揮発部３０を囲う処理室５０を有する。処理室５０の下方に処理槽２０が設置され、処理槽２０の上方が処理液揮発部３０となる。なお、図１では、処理室５０の上部が開放されているが、乾燥装置１０自体は閉空間となっており、大気開放されているわけではない。
【００１２】
処理槽２０は、ガラス物品Ｐを洗浄すると共に乾燥の前段階としてガラス物品を液体に浸漬させるものであり、槽本体２１と、外槽２２とを有する。
【００１３】
ガラス物品Ｐとしては、例えば、ガラスウェハ（ガラス基板）、ガラスパネル、またはガラスレンズなどが挙げられる。ガラス基板の用途として、支持ガラスやカバーガラスなどが挙げられる。
【００１４】
槽本体２１は、ガラス物品Ｐを収容するのに充分な大きさを有すればよく、例えば箱型であってもよい。槽本体２１には、純水Ｗが供給される。槽本体２１内に供給された純水Ｗは、適宜外部に排出される。
【００１５】
外槽２２は、槽本体２１からオーバーフローした純水Ｗを回収でき、且つ後述の処理液揮発部３０の不活性ガス雰囲気を形成できれば、その構成は特に限定されない。例えば、図１では、外槽２２は、槽本体２１の外周に、槽本体２１と入れ子のような状態で槽本体２１を囲うように設けられている。外槽２２内の純水Ｗは、適宜外部に排出される。
【００１６】
ガラス物品Ｐは、ガラス物品Ｐを保持する保持カセット６０を用いて、槽本体２１内の純水Ｗ中に浸漬される。図２は、保持カセット６０の構成の一例を示す外観斜視図であり、図３は、保持カセット６０の部分拡大図である。図２および図３に示すように、保持カセット６０は、長手方向に伸びる支持部６１を短手方向に所定間隔で３つ有する。保持カセット６０は、支持部６１に、それぞれ、ガラス物品Ｐを保持することが可能な溝６２を複数有する。
【００１７】
溝６２は、保持カセット６０の長手端面を短手方向に見たとき、略Ｖ字状に形成されたＶ字状溝６２１と、Ｖ字状溝６２１の底部から支持部６１の長手側の端面に沿って下方に伸びた受け溝６２２とを有する。
【００１８】
ガラス物品Ｐが溝６２に挿入されると、Ｖ字状溝６２１の隙間がガラス物品Ｐの厚みと略同等の位置で、ガラス物品Ｐの両主面は、Ｖ字状溝６２１に挟み込まれる。これにより、ガラス物品Ｐは、Ｖ字状溝６２１に挟持された状態で支持される。よって、ガラス物品Ｐは、３つの支持部６１の溝６２によって支持された状態で、保持カセット６０に載置される。なお、Ｖ字状溝６２１の傾斜角度は、ガラス物品Ｐを挟み込んで支持できれば、特に限定されない。また、Ｖ字状溝６２１は、略Ｖ字状に形成されていれば、底部側から上面側に向けて末広がりになるように形成されていてもよい。また、支持部６１の個数と位置は、ガラス物品Ｐが支持できれば、特に限定されない。
【００１９】
受け溝６２２は、保持カセット６０の長手端面を短手方向に見たとき、略Ｕ状に形成されている。受け溝６２２は、ガラス物品ＰからＶ字状溝６２１を介して落ちてくる純水Ｗを回収し、下方に伸びた受け溝６２２を介して、下方へ落とす。なお、受け溝６２２は、支持部６１の両面に形成されている。
【００２０】
槽本体２１の上部は開放されているので、ガラス物品Ｐの乾燥時に、後述する混合ガスＧなどの供給が停止した後、槽本体２１内へ外気が流れ込んでくるため、空気の流れの変化などが生じ易い。ガラス物品Ｐの端面とＶ字状溝６２１の底部との間、またはガラス物品Ｐの主面とＶ字状溝６２１との間に純水Ｗが残る場合がある。混合ガスＧによって純水Ｗがガラス物品Pの主面に広がることが防止できるが、外気が流れ込んできて、残った純水Ｗが完全に乾燥しきるまでに長い時間を要する。その間に混合ガスＧの供給を断ってしまうと、残っている純水Ｗがガラス物品Ｐの主面に広がり易い傾向にある。溝６２が受け溝６２２を有することで、これらの残っている純水Ｗを受け溝６２２に排出することができる。
【００２１】
なお、受け溝６２２の前記開口部の大きさは、ガラス物品Ｐが入らなければ、特に限定されない。また、受け溝６２２は、純水Ｗが下に抜けていくように、支持部６１の下方まで伸びている。また、受け溝６２２は、支持部６１の表裏両面側に形成されているのが好ましい。
【００２２】
本実施形態では、支持部６１同士の間隔、または溝６２の大きさや数は、特に限定されるものではなく、ガラス物品Ｐの大きさ、厚みなどに応じて、これらは設定可能である。
【００２３】
また、図２では、溝６２が保持カセット６０に一体化されている構成を示しているが、特に限定されない。例えば、溝６２を含む支持部６１が保持カセット６０と一体化されておらず、支持部と、支持部が設けられるカセット部とが別々の構成であってもよい。
【００２４】
処理液揮発部３０は、処理室５０の上方に形成される混合ガス雰囲気の空間である。混合ガス雰囲気は、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）の蒸気（以下、ＩＰＡ蒸気ともいう）と不活性ガス（例えば、窒素（Ｎ2）ガスやアルゴン（Ａｒ）ガスなど）とを含む雰囲気である。槽本体２１で処理されたガラス物品Ｐは、槽本体２１から処理液揮発部３０に移動され、処理液揮発部３０で保持される。
【００２５】
処理液揮発部３０では、ＩＰＡ蒸気の濃度は、純水Ｗの表面側の方が純水Ｗの表面から遠い側（上方）よりも高い。Ｎ２ガス濃度は、純水Ｗの表面側の方が純水Ｗの表面から遠い側（上方）よりも低い。
【００２６】
ガス供給部４０は、ＩＰＡ蒸気を不活性ガスに含んだ混合ガスＧを外槽２２内に供給する。
【００２７】
ＩＰＡ蒸気の供給方法としては、特に限定はされないが、例えば、ＩＰＡ溶液が溜まった容器にＮ2ガスなどの不活性ガスをバブリングすることにより発生させる方法、または超音波によりＩＰＡ蒸気を発生させる方法を適用してもよい。
【００２８】
Ｎ2ガスをバブリングする際は、気泡サイズを小さくしてＩＰＡ溶液と接触する表面積を大きくすることが好ましい。その方法として、例えば、多孔質体にＮ2ガスを通してバブリングする方法がある。
【００２９】
なお、供給するＩＰＡ蒸気の量が多い場合、ＩＰＡ蒸気を発生させるための容器の数を複数にすることが好ましい。これは、容器当りで発生させるＩＰＡ蒸気の必要量が多いと、必要とするＮ2ガスの量が多くなり、容器からＩＰＡ溶液が噴きこぼれてしまうおそれがあるからである。
【００３０】
ＩＰＡ蒸気供給ノズル４３は、外槽２２の側壁に複数設けられている。ＩＰＡ蒸気供給ノズル４３は、ＩＰＡ蒸気とＮ2ガスと含む混合ガスＧを吹き出している。これにより、ＩＰＡ蒸気供給ノズル４３から、槽本体２１内の純水Ｗから引き上げられるガラス物品Ｐに混合ガスＧが吹き付けられる。外槽２２の上部は開放されているので、ＩＰＡ蒸気供給ノズル４３から外槽２２内に供給された混合ガスＧは、外槽２２の上部から放出される。
【００３１】
本実施形態では、ＩＰＡ蒸気供給ノズル４３は、処理槽２０の外槽２２の側壁の純水Ｗの表面近傍と、保持カセット６０が処理液揮発部３０に移動したときに、保持カセット６０よりも上にある位置に、それぞれ、保持カセット６０を挟むように対向して設けられている。これにより、混合ガスＧは、ＩＰＡ蒸気供給ノズル４３により、純水Ｗと処理液揮発部３０である不活性ガス雰囲気との界面付近に供給されると共に、保持カセット６０が処理液揮発部３０に移動した時に、保持カセット６０が混合ガスＧの雰囲気で包まれる。混合ガスＧ中のＩＰＡ蒸気の一部は、純水Ｗの表面から純水Ｗへ溶け込んでいく。一方、処理液揮発部３０の上方は、大気開放されているために、混合ガスＧは拡散し、ＩＰＡ蒸気の濃度が低くなる。
【００３２】
よって、保持カセット６０を処理槽２０内の純水Ｗから処理液揮発部３０に引き上げ、ＩＰＡ蒸気を含むガス雰囲気中に移動させる際、ガラス物品Ｐを、マランゴニ効果を用いた乾燥（マランゴニ乾燥）により、乾燥させることができる。これにより、ガラス物品Ｐの表面から純水Ｗを除去することができる。なお、純水Ｗは不純物濃度が低いが、少なからず純水Ｗ中に粒子などが分散している状態である。乾燥時に水シミが発生すると、これらの粒子がガラス表面に残ってしまう場合がある。また、水シミが発生した場合、ガラスのアルカリ成分やアルカリ土類成分など溶出しやすい成分が水シミに溶出するため、この水シミが乾燥した際に、溶出した成分がガラス表面に付着する現象が起こることがある。本実施形態では、水シミの発生を低減できるので、基板上に残る粒子を、従来方法と比較して少なくすることができる。このマランゴニ乾燥を用いたガラス物品Ｐの乾燥の詳細については、後述する。
【００３３】
乾燥装置１０は、ガラス物品Ｐが載置される保持カセット６０を保持して処理室５０内を昇降させる不図示のガイド手段を備えている。
【００３４】
処理室５０の上端は、処理室５０内に保持カセット６０を出し入れするための搬入口となる。
【００３５】
乾燥装置１０は、保持カセット６０を用いて、保持カセット６０にガラス物品Ｐを載置した状態で、ガラス物品Ｐを槽本体２１の純水Ｗ内に浸漬したり、ガラス物品Ｐを純水Ｗ中から処理液揮発部３０に引き上げている。保持カセット６０は、ガラス物品Ｐの主面とＶ字状溝６２１との間に残る純水Ｗを受け溝６２２に排出するので、ガラス物品ＰとＶ字状溝６２１との間に純水Ｗが溜まることを抑制することができる。これにより、ガラス物品ＰとＶ字状溝６２１との間に溜まった純水Ｗが、乾燥後にガラス物品Ｐの表面に広がることを抑制することができる。よって、乾燥装置１０は、保持カセット６０を用いることで、乾燥後のガラス物品Ｐの表面に水シミなどが発生することを抑制することができる。
【００３６】
また、乾燥装置１０は、ＩＰＡ蒸気供給ノズル４３により、純水Ｗの表面近傍に混合ガスＧを吹き付け、純水Ｗの表面近傍にＩＰＡ蒸気の濃度が高い層を形成している。これにより、ガラス物品Ｐを純水Ｗ中から処理液揮発部３０に移動させる際、マランゴニ乾燥により、ガラス物品Ｐの表面に付着している純水Ｗを除去することができるので、乾燥後のガラス物品Ｐの表面に水シミなどが残ることを抑制することができる。
【００３７】
なお、本実施形態では、処理液として、純水Ｗを使用しているが、これに限定されず他の溶媒を用いてもよい。
【００３８】
本実施形態では、マランゴニ効果を発生させる有機溶剤として、ＩＰＡを使用しているが、これに限定されず、表面張力を低下させる効果があり、水に対する溶解性の高い有機溶媒であればよい。
【００３９】
＜ガラス物品の乾燥方法＞
次に、上記のような構成を有する乾燥装置１０を用いて、一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法について、以下に説明する。
【００４０】
図４は、一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法の工程を示すフローチャートである。図４に示すように、一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法は、ガラス物品Ｐを処理槽２０内の純水Ｗ中に浸漬する工程（ステップＳ１１）と、ガラス物品Ｐを純水Ｗから処理液揮発部３０に移動して乾燥させる工程（ステップＳ１２）とを含む。
【００４１】
以下、各工程について図５〜図８に基づいて説明する。図５〜図８は、一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法の一部を説明する図である。
【００４２】
ステップＳ１１では、図５に示すように、処理槽２０の槽本体２１内が純水Ｗで予め満たされている状態で、ガラス物品Ｐを載置した保持カセット６０を、槽本体２１内の純水Ｗ中に浸漬する。
【００４３】
保持カセット６０を槽本体２１内の純水Ｗ中に浸漬した後、ＩＰＡ蒸気供給ノズル４３から槽本体２１内の純水Ｗの表面近傍と、外槽２２の上部付近とに、ＩＰＡ蒸気とＮ2ガスとを含む混合ガスＧを供給する。これにより、純水Ｗの上方に処理液揮発部３０が形成される。
【００４４】
処理液揮発部３０では、純水Ｗの表面近傍に向けて供給された混合ガスＧ中のＩＰＡ蒸気の一部は、純水Ｗの表面から純水Ｗへ溶け込んでいく。一方、外槽２２の上部付近に供給された混合ガスＧは、処理液揮発部３０の上方から大気中に拡散する。
【００４５】
本実施形態では、ＩＰＡ蒸気供給ノズル４３から外槽２２内に供給される混合ガスＧのＩＰＡ濃度は、環境温度での飽和蒸気圧に近いことがより好ましい。混合ガスＧのＩＰＡ濃度が、環境温度での飽和蒸気圧に近いと、後述するように、ガラス物品Ｐを純水Ｗから引き上げる際、ガラス物品Ｐの表面近くの純水ＷにＩＰＡが吸収されても、純水Ｗの表面近傍にＩＰＡ蒸気の濃い層を安定して形成することができる。
【００４６】
ステップＳ１２では、図６に示すように、保持カセット６０を槽本体２１の純水Ｗから処理液揮発部３０に移動させる。ステップＳ１２では、ガラス物品Ｐをマランゴニ乾燥により乾燥させる。
【００４７】
処理液揮発部３０では、ＩＰＡ蒸気供給ノズル４３により、混合ガスＧを純水Ｗの表面近傍と処理液揮発部３０の上部とに吹き付けることで、下方（純水Ｗの表面付近）から上方（移動した後のカセットが保持される位置）にＩＰＡ蒸気の濃い層が形成される。そのため、槽本体２１内の純水Ｗからガラス物品ＰがＩＰＡ蒸気を含むガス雰囲気中に引き上げられると、ガラス物品Ｐは引き上げ後、すぐにＩＰＡ蒸気の濃い層を通過することになる。そして、ガラス物品Ｐが純水Ｗから引き上げられる際、純水Ｗのガラス物品Ｐの表面における表面張力により、図７に示すように、ガラス物品Ｐの表面近くに薄い水膜ＷＭが形成される。
【００４８】
ＩＰＡは、純水Ｗに溶解し易いが、基板に向かって吹きつけたＩＰＡを含む蒸気が、基板に当たって下に向かうため、水膜ＷＭ付近のＩＰＡ濃度が特に濃くなる。そのため、図７に示すように、ガラス物品Ｐに近い純水Ｗの界面IのＩＰＡ濃度ＣIは、ガラス物品Ｐから遠い純水Ｗの界面IIのＩＰＡ濃度ＣIIよりも大きくなる（ＩＰＡ濃度ＣI＞ＩＰＡ濃度ＣII）ので、界面Iの表面張力ｒIは、界面IIの表面張力ｒIIよりも小さくなる（表面張力ｒI＜表面張力ｒII）。この表面張力の差により、ガラス物品Ｐが純水Ｗから引き上げられる際、純水Ｗの表面付近にはマランゴニ対流ＭＧが発生する。
【００４９】
ガラス物品Ｐが純水Ｗから引き上げられる際に、ガラス物品Ｐの表面近くに形成される薄い水膜ＷＭの表面にマランゴニ対流が発生することにより、ガラス物品Ｐの表面の純水Ｗはガラス物品Ｐの表面から離れ易くなる。なお、純度の低い純水を使用した場合、上述の通り、乾燥時に発生する水シミに起因して、純水Ｗ中に少なからず分散していた粒子がガラス物品Ｐの表面に残る場合などがある。本実施形態では、水シミの発生が抑えられるので、ガラス物品Ｐ上に残る粒子を少なくすることができる。
【００５０】
また、本実施形態では、混合ガスＧを、ＩＰＡ蒸気供給ノズル４３により、純水Ｗの表面近傍に供給して、純水Ｗの表面近傍にＩＰＡ蒸気の濃い層を形成しているので、ＩＰＡの使用量を抑えることができる。
【００５１】
本実施形態では、保持カセット６０を純水Ｗから引き上げて、純水Ｗからガス雰囲気である処理液揮発部３０に移動する時の保持カセット６０の引き上げ速度（移動速度）Ｖ１は、０．１〜１０ｍｍ／秒が好ましく、２．０〜６．０ｍｍ／秒がより好ましく、２．０〜２．５ｍｍ／秒がさらに好ましい。引き上げ速度Ｖ１が上記範囲内であれば、ガラス物品Ｐの表面近くに形成される薄い水膜の表面にマランゴニ対流を安定して発生させることができる。これにより、ガラス物品Ｐから純水Ｗを除去して、ガラス物品Ｐの乾燥を安定して行なうことができるので、ガラス物品Ｐの表面に水シミなどが発生することを抑えることができる。
【００５２】
また、本実施形態では、保持カセット６０のＶ字状溝６２１と接触しているガラス物品Ｐの表面の接触部の近傍を純水Ｗから引き上げる時の保持カセット６０の引き上げ速度（移動速度）Ｖ２は、上記引き上げ速度Ｖ１よりも遅くすることが好ましい。引き上げ速度Ｖ２としては、例えば、０．１〜５．０ｍｍ／秒が好ましく、０．５〜０．６ｍｍ／秒がより好ましい。引き上げ速度Ｖ２が上記範囲内であれば、ガラス物品Ｐの表面とＶ字状溝６２１との接触部に純水Ｗが残って、乾燥時に分散してしまうのをより確実に抑えることができる。これにより、ガラス物品Ｐの主面に水シミが発生することをより安定して抑えることができる。なお、接触部の近傍とは、ガラス物品ＰがＶ字状溝６２１と接触している表面とその周辺領域をいい、ガラス物品Ｐの大きさや、ガラス物品ＰがＶ字状溝６２１と接触している面積に応じて異なる。
【００５３】
ガラス物品Ｐを、図８に示すように、純水Ｗから完全に引き上げた後、ガラス物品Ｐをさらに乾燥させてもよい。ガラス物品Ｐの乾燥は、自然乾燥でもよいし、加熱装置を用いて行なってもよい。ガラス物品Ｐの乾燥は、槽本体２１の外側であれば、処理室５０内でもよいし、処理室５０の外側でもよい。ガラス物品Ｐの乾燥後、ガス供給部４０の運転を停止する。
【００５４】
また、本実施形態では、ガラス物品Ｐの全体を純水Ｗから完全に引き上げた後に、処理液揮発部３０に保持した状態で、混合ガスＧをＩＰＡ蒸気供給ノズル４３から外槽２２に所定時間（例えば、数分間）供給して、ガス雰囲気を維持することが好ましい。これにより、ガラス物品Ｐの表面とＶ字状溝６２１との接触部の近傍に残った純水Ｗが前記接触部からガラス物品Ｐの主面に広がることを抑制しながら、僅かに残った純水Ｗを受け溝６２２に落とすことができる。その結果、前記接触部から純水Ｗを除去することができる。そのため、処理液揮発部３０からガラス物品Ｐと保持カセット６０が外槽２２の上方まで引き上げられても純水Ｗがガラス物品Ｐの主面に広がることがなくなる。
【００５５】
混合ガスＧをＩＰＡ蒸気供給ノズル４３から外槽２２に供給して、ガス雰囲気を維持する際、混合ガスＧは、対向する２つのＩＰＡ蒸気供給ノズル４３により、ガラス物品Ｐの表面と保持カセット６０のＶ字状溝６２１との接触部の近傍を挟むように吹き付けられることが好ましい。これにより、前記接触部から純水Ｗをより確実に除去することができる。
【００５６】
前記接触部から純水Ｗを除去した後、乾燥されたガラス物品Ｐは、外槽２２の上方まで引き上げられ、外部に搬送される。これにより、ガラス物品Ｐの乾燥処理は終了する。
【００５７】
このようにして得られたガラス物品Ｐは、その表面に付着して残る粒子の数（粒子数）を減少させることができる。得られたガラス物品Ｐの表面に残る粒子数は、例えば、１μｍ以上の粒子の数を約１個／ｃｍ2以下に減少させることができる。
【００５８】
このように、一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法は、純水Ｗの表面近傍にＩＰＡ蒸気を吹き付け、ガラス物品Ｐが載置された保持カセット６０を純水Ｗ中から処理液揮発部３０に引き上げる際、ガラス物品Ｐの表面近くの純水Ｗの表面にマランゴニ対流を生じさせている。これにより、純水Ｗがガラス物品Ｐの表面に広がることを抑制することができる。
【００５９】
よって、一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法によれば、残留した純水Ｗに起因して、ガラス物品Ｐの表面に水シミが発生することを抑制することができ、結果として純水Ｗ中に分散している粒子がガラス物品Ｐの表面に付着することを防ぐことができる。
【００６０】
また、一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法は、所定の形状で構成された溝６２を有する保持カセット６０を用いて、ガラス物品Ｐを純水Ｗ中から処理液揮発部３０に移動させている。そのため、上記の通り、ガラス物品ＰとＶ字状溝６２１との間に純水Ｗが溜まることを抑制することができるので、ガラス物品ＰとＶ字状溝６２１との間に溜まった純水Ｗに起因して、乾燥後のガラス物品Ｐの表面に水シミなどが発生することを抑制することができる。
【００６１】
また、ガラス物品の乾燥方法として、マランゴニ乾燥やＩＰＡ蒸気乾燥法などがある。通常マランゴニ乾燥では、処理室５０は密閉空間とし、槽本体２１の上方を全てＩＰＡ濃度が高い層にする必要がある。そのため、装置は大型化し、装置構成は複雑となる。また、ＩＰＡ蒸気乾燥法を用いる場合、槽本体２１の外側からＩＰＡ蒸気を槽本体２１内に供給している。また、槽本体２１の外周に加熱装置を設け、槽本体２１の上方にＩＰＡの漏洩防止用の冷却管を設けている。そのため、ＩＰＡの使用量も多く、装置構成は複雑となり、コスト負担も大きい。これに対し、一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法は、処理液揮発部３０のみにＩＰＡ濃度が高い層を形成しており、処理室５０内の全体をＩＰＡ濃度が高い層とする必要はない。よって、一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法によれば、ＩＰＡの使用量を、例えば、ＩＰＡ蒸気乾燥法の場合の半分以下程度にまで低減することができるので、製造コストを低減することができる。
【００６２】
したがって、一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法によれば、ガラス物品Ｐの表面に水シミや粒子などを殆ど残さずに乾燥させることができる。そのため、一実施形態に係るガラス物品の乾燥方法により得られるガラス物品Ｐは、カメラレンズやプリズムなどの光学部品、フォトマスク用ガラス基板などの半導体製造装置用のガラス部材、ハードディスク用ガラス基板、半導体製造プロセス用の支持ガラス基板、ウェハレベルパッケージによる素子の小型化が有効なＭＥＭＳなどのカバーガラス、ＣＩＳなどのイメージセンサ用のカバーガラス、ガラスインターポーザ（ＧＩＰ）の穴開け基板、または半導体バックグラインド用の支持ガラスなどとして好適に利用することができる。
【００６３】
なお、本実施形態では、ガラス物品Ｐを保持カセット６０に載置した状態で、ガラス物品Ｐの純水Ｗへの浸漬および純水Ｗからの取出しを行なっているが、これに限定されない。例えば、保持カセット６０が、支持部６１と、支持部６１が載置されるカセット部とが別々に構成されている場合、保持カセット６０のカセット部を予め槽本体２１内の純水Ｗ中に浸漬しておく。そして、ガラス物品Ｐを純水Ｗ中に浸漬する際、支持部６１に支持されたガラス物品Ｐを純水Ｗ中に浸漬しておいた保持カセット６０のカセット部に載置する。そして、ガラス物品Ｐを純水Ｗから取り出す際、ガラス物品Ｐを保持カセット６０のカセット部に載置した状態で純水Ｗから引き上げるようにしてもよい。
【００６４】
＜洗浄乾燥装置＞
次に、一実施形態に係る乾燥方法が用いられる乾燥装置を備えた洗浄乾燥装置について説明する。図９は、一実施形態に係る乾燥方法が用いられる乾燥装置を備えた洗浄乾燥装置の一例を示す概略構成図である。図９に示すように、洗浄乾燥装置１００は、洗浄部１１０と、リンス部１２０、乾燥部１３０とを有する。なお、乾燥部１３０は、上記の乾燥装置１０が用いられる。また、図９では、ガラス物品Ｐは保持カセット６０に載置した状態で洗浄部１１０および乾燥部１３０に搬送アーム１４０で搬送される。
【００６５】
（洗浄部）
洗浄部１１０は、ガラス物品Ｐを保持カセット６０に載置した状態で洗浄する装置である。洗浄部１１０は、従来より公知の洗浄方法を用いてガラス物品Ｐを洗浄することができる。洗浄方法として、例えば、シャワー洗浄、浸漬洗浄、スクラブ洗浄、蒸気洗浄、またはスピン洗浄などを用いることができる。これらの洗浄は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６６】
シャワー洗浄としては、例えば、高圧スプレー洗浄、超音波シャワー洗浄などを用いることができる。
【００６７】
浸漬洗浄としては、例えば、超音波洗浄、噴流洗浄、バブリング洗浄、または流水洗浄などを用いることができる。これらのうち、本実施形態においては、浸漬洗浄を用いることが好ましい。浸漬洗浄の中でも、洗浄したガラス基板の生産性の観点から、超音波洗浄を用いることが好ましい。
【００６８】
超音波洗浄は、公知の超音波装置を用いて行われる。超音波洗浄を行う場合、溶液中にガラス物品Ｐを浸漬した状態で、前記超音波装置を作動させて、溶液に超音波を照射する。溶液に超音波を照射して溶液を振動させることで、ガラス物品Ｐに付着しているゴミなどが除去される。
【００６９】
溶液は、アルカリ系洗剤を含む溶液などが用いられるが、特に限定されない。溶液を用いる場合、アルカリ系洗剤を含む溶液中でガラス物品Ｐを超音波振動子１１２により超音波洗浄することが好ましい。
【００７０】
超音波洗浄を行う場合、超音波の周波数は、２０ｋＨｚ〜３ＭＨｚであることが好ましく、２８ｋＨｚ〜８００ｋＨｚであることがより好ましく、３８ｋＨｚ〜７８ｋＨｚが特に好ましい。超音波の周波数が上記範囲内であれば、ガラス物品Ｐの表面に付着している粒子などを除去することができる。
【００７１】
また、超音波の出力は、適切な範囲内に抑える必要がある。超音波の出力が強すぎるとガラスにダメージを与え、欠陥の原因となる。一方、超音波の出力が弱すぎると、付着している粒子を取り除くことができない。出力の適正な範囲はガラスによっても異なるが、例えば音圧計を用いて測定を行った際に、５〜１００％程度が好ましい場合がある。超音波の出力が適切な範囲内であれば、ガラス物品Ｐの表面にキズなど損傷が生じることを抑制することができると共に、ガラス物品Ｐの表面に付着している粒子などを除去することができる。
【００７２】
（リンス部）
リンス部１２０は、洗浄部１１０で、溶液としてアルカリ系洗剤を含む溶液を用いた場合、リンス部１２０でガラス物品Ｐに残っているアルカリ系洗剤を純水などでリンスする装置である。これにより、ガラス物品Ｐに残っているアルカリ系洗剤を洗い流すことができるので、ガラス物品Ｐがガラス物品Ｐに付着して残っているアルカリ系洗剤の残渣により損傷することを抑えることができる。
【００７３】
（乾燥部）
乾燥部１３０は、リンス部１２０で、リンスしたガラス物品Ｐを乾燥する。乾燥部１３０は、上記の乾燥装置１０が用いられるため、説明は省略する。
【００７４】
洗浄乾燥装置１００は、洗浄部１１０と、乾燥部１３０とを別々に設けた装置でもよいし、洗浄部１１０と乾燥部１３０とを一体化した装置でもよい。洗浄乾燥装置１００が、洗浄部１１０と乾燥部１３０とを一体化した装置である場合、洗浄乾燥装置１００は、例えば、１つの閉空間内に、洗浄部１１０と乾燥部１３０とを有した構成としてもよい。洗浄部１１０および乾燥部１３０は、例えば、上方が開放されつつ、全体としては閉空間とすると共に、開放された上方部を保持カセットが移動する構成としてもよい。
【００７５】
＜洗浄乾燥方法＞
次に、上記のような構成を有する洗浄乾燥装置１００を用いたガラス物品Ｐの洗浄乾燥方法について、以下に説明する。
【００７６】
図１０は、洗浄乾燥方法の工程を示すフローチャートである。図１０に示すように、洗浄乾燥方法は、ガラス物品Ｐを洗浄する工程（ステップＳ２１）と、ガラス物品Ｐのリンスを行う工程（ステップＳ２２）と、ガラス物品Ｐを乾燥する工程（ステップＳ２３）とを含む。以下、各工程について説明する。
【００７７】
ステップＳ２１では、上記の洗浄部１１０で説明した通り、従来より公知の洗浄方法を用いてガラス物品Ｐを洗浄することができる。
【００７８】
ステップＳ２２では、上記のリンス部１２０で説明した通り、従来より公知のリンス方法を用いて洗浄したガラス物品Ｐをすすぐことができる。リンス方法として、例えば、シャワー洗浄、浸漬洗浄、スクラブ洗浄、蒸気洗浄、または、スピン洗浄などを用いることができる。これらのリンス方法は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７９】
特に、ステップＳ２１の洗浄で、溶液としてアルカリ系洗剤を含む溶液を用いた場合、ガラス物品Ｐに残っているアルカリ系洗剤を洗い流すことができるので、ガラス物品Ｐに付着して残っているアルカリ系洗剤の残渣により、ガラス物品Ｐが損傷することを抑えることができる。また、ステップＳ２１で除去しきれなかった、ガラス物品Ｐの表面に付着している粒子などを除去することができる。
【００８０】
ステップＳ２３では、洗浄したガラス物品Ｐを乾燥させる。ステップＳ２３では、図４に示す一実施形態に係る乾燥方法が用いられるので、ここでは、説明は省略する。
【００８１】
乾燥されたガラス物品Ｐは、外槽２２の上方まで引き上げて、外部に取り出す。これにより、ガラス物品Ｐの洗浄乾燥処理は、終了する。
【００８２】
一実施形態に係るガラス物品Ｐの乾燥方法は、特に、ガラス物品Ｐの洗浄後（例えば、ガラス物品Ｐを純水Ｗ中に浸漬させてガラス物品Ｐの表面の汚れを除去する工程の後）の乾燥方法として好適に用いることができる。上述した洗浄乾燥装置１００は、乾燥装置１０を備えているので、洗浄したガラス物品Ｐを乾燥装置１０において一実施形態に係る乾燥方法を用いて乾燥することで、水シミや粒子などの残っていないガラス物品を得ることができる。また、洗浄部１１０において、ガラス物品Ｐを洗浄する際、超音波洗浄を所定の条件で行うことで、ガラス物品Ｐにキズなどの損傷が生じることをより抑制することができるので、より信頼性の高いガラス物品を提供することができる。
【００８３】
以上の通り、実施形態を説明したが、上記実施形態は、例として提示したものであり、上記実施形態により本発明が限定されるものではない。上記実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の組み合わせ、省略、置き換え、変更などを行うことが可能である。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると共に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【実施例】
【００８４】
（例１）
ガラス物品として、直径２００ｍｍ、板厚０．５ｍｍの円形のガラス基板を用いた。ガラス物品は、図２および図３に示すようなＶ字状溝６２１および受け溝６２２を備えた溝６２を有する保持カセット６０に載置した。保持カセット６０に載置したガラス物品を処理液（スピードファムクリーンシステム株式会社製  ＣＳＣ−１０２Ｂ  １％  水溶液）に浸漬した状態で、ガラス物品に超音波を照射し、ガラス物品に付着していた汚れを除去した。その後、ガラス物品を、複数回、異なる純水槽内の純水に浸漬して引き上げる操作を繰り返し行い、処理液に含まれる洗剤を除去した。その後、ガラス物品を、再度、純水に浸漬した。そして、ガラス物品を純水の中から引き上げた際、ＩＰＡ蒸気と窒素ガスの混合ガスを用いて、ガラス物品を乾燥させた。このとき、ガラス物品を純水から引き上げて、純水からガス雰囲気に移動する時のガラス物品の引き上げ速度Ｖ１を約５．０ｍｍ／秒とした。保持カセット６０のＶ字状溝６２１と接触しているガラス物品Ｐの表面の接触部の近傍を純水から引き上げた時のガラス物品の引き上げ速度Ｖ２を約０．６ｍｍ／秒とした。乾燥後のガラス物品に、暗室で集光灯に当てて目視で観察したところ、ガラス物品上に粒子はほとんど確認されなかった。
【００８５】
（例２）
例１において、ＩＰＡ蒸気は用いなかったこと以外、例１と同様にして行った。乾燥後のガラス物品を目視で観察したところ、ガラス物品上に粒子が多数確認された。
【００８６】
（例３）
例１において、ガラス物品として、直径６５ｍｍの円形のガラス基板を用いたこと以外、例１と同様にして行った。乾燥後のガラス物品を目視で観察したところ、ガラス物品上に粒子は確認されなかった。また、高感度外観検査機を用いて乾燥後のガラス物品を観察したところ、欠点個数は１３個／枚（０．４個／ｃｍ2）であった。
【００８７】
（例４）
例３において、ＩＰＡ蒸気は用いず、受け溝６２２（図２および図３参照）を有さない保持カセットを使用したこと以外、例３と同様にして行った。乾燥後のガラス物品を目視で観察したところ、ガラス物品上に多数の水シミが確認された。また、高感度外観検査機を用いて乾燥後のガラス物品を観察したところ、欠点個数は７４個／枚（２．５個／ｃｍ2）であった。
【００８８】
（例５）
例３において、受け溝６２２（図２および図３参照）を有さない保持カセットを使用したこと以外、例３と同様にして行った。乾燥後のガラス物品を目視で観察したところ、多数の水シミが確認された。
【符号の説明】
【００８９】
１０  乾燥装置
２０  処理槽
２１  槽本体
２２  外槽
３０  処理液揮発部
４０  ガス供給部
５０  処理室
６０  保持カセット
６１  支持部
６２  溝
６２１  Ｖ字状溝
６２２  受け溝
１００  洗浄乾燥装置
１１０  洗浄部
１３０  乾燥部
Ｗ  純水
Ｐ  ガラス物品
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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