(57)【要約】【課題】位置調整を容易とし、且つ、可動部の位置の特定に有利な案内軸受を提供する。【解決手段】可動部を案内する案内軸受であって、前記可動部の案内方向に沿って、導電性を有する第１部分と、絶縁性を有する第２部分とが配置された転動面を含み、前記転動面を転がる複数の転動体を介して前記可動部を支持するレール部材と、前記レール部材と前記可動部との間のインピーダンスに関する特性を検出する検出部と、前記検出部で検出された前記特性に基づいて、前記レール部材における前記可動部の前記案内方向の位置を求める処理部と、を有することを特徴とする案内軸受を提供する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
可動部を案内する案内軸受であって、
前記可動部の案内方向に沿って、導電性を有する第１部分と、絶縁性を有する第２部分とが配置された転動面を含み、前記転動面を転がる複数の転動体を介して前記可動部を支持するレール部材と、
前記レール部材と前記可動部との間のインピーダンスに関する特性を検出する検出部と、
前記検出部で検出された前記特性に基づいて、前記レール部材における前記可動部の前記案内方向の位置を求める処理部と、
を有することを特徴とする案内軸受。
【請求項２】
前記レール部材が配置された面と前記可動部との間に電圧を印加する印加部を更に有することを特徴とする請求項１に記載の案内軸受。
【請求項３】
前記検出部は、前記特性として、前記レール部材が配置された面と前記可動部との間の電圧値を検出することを特徴とする請求項１又は２に記載の案内軸受。
【請求項４】
前記検出部は、前記特性として、前記第１部分と前記可動部との間に存在する前記転動体の数に応じて変化する前記第１部分と前記可動部との間の抵抗値を検出することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の案内軸受。
【請求項５】
前記検出部は、前記特性として、前記第２部分と前記可動部との間に存在する前記転動体の数に応じて変化する前記第２部分と前記可動部との間の静電容量を検出することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の案内軸受。
【請求項６】
前記第１部分と前記第２部分とは、前記案内方向に沿って交互に配置されていることを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の案内軸受。
【請求項７】
前記第１部分と前記第２部分とは、前記案内方向に沿って交互に配置され、
前記可動部が前記第２部分に隣接する２つの前記第１部分に重ならないように、前記第１部分のそれぞれの前記案内方向の長さ、及び、前記第２部分のそれぞれの前記案内方向の長さが設定されていることを特徴とする請求項４に記載の案内軸受。
【請求項８】
前記第１部分と前記第２部分とは、前記案内方向に沿って交互に配置され、
前記可動部が前記第１部分に隣接する２つの前記第２部分に重ならないように、前記第１部分のそれぞれの前記案内方向の長さ、及び、前記第２部分のそれぞれの前記案内方向の長さが設定されていることを特徴とする請求項５に記載の案内軸受。
【請求項９】
前記案内方向に沿って、前記第２部分が対向するように離間して配置された２つの前記レール部材を有することを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の案内軸受。
【請求項１０】
２つの前記レール部材のそれぞれが支持する可動部が干渉しないように、当該可動部の移動を制御する制御部を更に有することを特徴とする請求項９に記載の案内軸受。
【請求項１１】
前記制御部は、２つの前記レール部材のそれぞれが支持する可動部の間の距離が予め定められた距離を維持するように、当該可動部の移動を制御することを特徴とする請求項１０に記載の案内軸受。
【請求項１２】
前記案内方向に直交する方向の位置が異なるように、且つ、互いに平行して配置された２つの前記レール部材を有することを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の案内軸受。
【請求項１３】
２つの前記レール部材のそれぞれの前記第２部分は、前記案内方向に互いに異なる長さを有することを特徴とする請求項１２に記載の案内軸受。
【請求項１４】
前記レール部材は、円弧形状を有することを特徴とする請求項１乃至１３のうちいずれか１項に記載の案内軸受。
【請求項１５】
絶縁性を有し、前記複数の転動体を保持する保持器を更に有することを特徴とする請求項１乃至１４のうちいずれか１項に記載の案内軸受。
【請求項１６】
基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板を保持するステージと、
前記ステージを駆動する駆動部と、を有し、
前記駆動部は、請求項１乃至１５のうちいずれか１項に記載の案内軸受を含むことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１７】
基板にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
前記基板に設けられたマークを検出するスコープと、
前記スコープを駆動する駆動部と、を有し、
前記駆動部は、請求項１乃至１５のうちいずれか１項に記載の案内軸受を含むことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１８】
請求項１６又は１７に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、
処理された前記基板から物品を製造する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、案内軸受、リソグラフィ装置及び物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスや液晶表示素子などのデバイスを製造するリソグラフィ装置では、ステージやアライメントスコープを駆動するために、直動案内軸受が用いられている。このような直動案内軸受では、直動案内軸受における可動部の位置を計測する必要があり、それに関連する技術が従来から提案されている（特許文献１参照）。特許文献１では、全拘束エアベアリングの直動案内軸受の内部に、可動部の位置を計測するための差動トランス型のセンサを組み込んでいる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−９２８８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に開示された直動案内軸受は、サブミクロンオーダーの位置決め精度を対象としている。従って、かかる直動案内軸受をステージやアライメントスコープの駆動に適用する場合、具体的には、サブミリオーダーからミリオーダーの位置決め精度が要求される場合にはオーバースペックとなってしまう。また、かかる直動案内軸受は全拘束エアベアリングを用いているため、複数の直動案内軸受を平行に配置する場合、サブミリオーダーからミリオーダーの位置決め精度にもかかわらず、可動部の水平及び垂直方向に数十ミクロンオーダーでの位置調整が必要となる。
【０００５】
フォトセンサなどの物体検知センサを用いて、直動案内軸受における可動部の位置を計測することも考えられる。但し、物体検知センサは、一般的には、外付けであるため、装置の小型化を阻害してしまう。また、物体検知センサは、エンコーダや測長器と異なり、可動部が直動案内軸受における所定位置に存在しているか否かしか検知することができない。
【０００６】
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、位置調整を容易とし、且つ、可動部の位置の特定に有利な案内軸受を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての案内軸受は、可動部を案内する案内軸受であって、前記可動部の案内方向に沿って、導電性を有する第１部分と、絶縁性を有する第２部分とが配置された転動面を含み、前記転動面を転がる複数の転動体を介して前記可動部を支持するレール部材と、前記レール部材と前記可動部との間のインピーダンスに関する特性を検出する検出部と、前記検出部で検出された前記特性に基づいて、前記レール部材における前記可動部の前記案内方向の位置を求める処理部と、を有することを特徴とする。
【０００８】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、例えば、位置調整を容易とし、且つ、可動部の位置の特定に有利な案内軸受を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の一側面としての案内軸受の構成を示す概略図である。
【図２】可動部の移動の制御を説明するための図である。
【図３】本発明の一側面としての案内軸受の構成を説明するための図である。
【図４】本発明の一側面としての案内軸受の構成を示す概略図である。
【図５】図４に示す可動部の移動の制御を説明するための図である。
【図６】本発明の一側面としての案内軸受の構成を示す概略図である。
【図７】本発明の一側面としての案内軸受の構成を説明するための図である。
【図８】本発明の一側面としての案内軸受の構成を説明するための図である。
【図９】本発明の一側面としての案内軸受の別の構成を示す概略図である。
【図１０】本発明の一側面としての露光装置の構成を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００１２】
図１（ａ）及び図１（ｂ）は、本発明の一側面としての案内軸受５の構成を示す概略図である。図１（ａ）は、案内軸受５の斜視図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）に示す案内軸受５のＡ−Ａ断面図である。案内軸受５は、Ｘ軸方向（案内方向）に沿って可動部１を案内する機能を有し、図１（ａ）及び図１（ｂ）に示すように、レール部材２と、複数の転動体３と、リテーナ４と、印加部９と、検出部１１と、制御部１５とを有する。
【００１３】
可動部１は、導電性を有する導体で構成されている。可動部１は、案内軸受５に案内されて、レール部材２においてＸ軸方向に移動する。
【００１４】
レール部材２は、例えば、可動部１の案内方向であるＸ軸方向に延在する部材である。レール部材２は、Ｘ軸方向に沿って導体部２ａと絶縁部２ｂとが配置された転動面ＲＳを含み、転動面ＲＳを転がる転動体３を介して可動部１を支持する。導体部２ａは、導電性を有する部分（第１部分）であり、絶縁部２ｂは、絶縁性を有する部分（第２部分）である。導体部２ａ及び絶縁部２ｂは、鉄やステンレスなどの金属に対して、アルミナなどのセラミックを溶射、蒸着及びスパッタなどの表面処理技術によって堆積し、研削及び研磨などの精度加工を施すことで形成される。
【００１５】
転動体３は、例えば、電気抵抗体で構成されたボール部材である。リテーナ４は、絶縁性を有する材料で構成され、複数の転動体３を保持（収容）する保持器である。なお、リテーナ４において、複数の転動体３は互いに離間して保持されている。
【００１６】
印加部９は、本実施形態では、電圧源を含む。印加部９は、案内軸受５、具体的には、レール部材２が配置された面（取付面）６と可動部１との間に電圧を印加する。
【００１７】
検出部１１は、レール部材２と可動部１との間のインピーダンスに関する特性を検出する。検出部１１は、本実施形態では、電圧計を含み、面６と可動部１との間の電圧値Ｖを検出する。また、検出部１１は、面６と可動部１との間の電圧値Ｖを検出し、かかる電圧値Ｖから、レール部材２と可動部１との間のインピーダンスに関する特性として、転動面ＲＳの導体部２ａと可動部１との間の電気抵抗値Ｒを検出してもよい。
【００１８】
レール部材２に支持された可動部１が移動して絶縁部２ｂに進入すると、導体部２ａと可動部１との間に存在する転動体３の数が変化する。導体部２ａと可動部１との間に存在する転動体３の数が変化すると、導体部２ａと可動部１との間の電気抵抗値Ｒが変化する。電気抵抗値Ｒの変化量は、絶縁部２ｂと接触する転動体３の数の変化量、即ち、可動部１のＸ軸方向の移動量に応じて変化する。従って、電圧値Ｖを検出することで、レール部材２における可動部１のＸ軸方向の位置を一意に特定することが可能となる。本実施形態では、検出部１１が電圧値Ｖを検出する場合を例に説明するが、検出部１１は、上述したように、電気抵抗値Ｒを検出してもよい。電気抵抗値Ｒは、検出部１１が検出する電圧値Ｖに対応しているため、電気抵抗値Ｒから、レール部材２における可動部１のＸ軸方向の位置を一意に特定することも可能である。
【００１９】
制御部１５は、ＣＰＵやメモリなどを含む情報処理装置（コンピュータ）で構成されている。制御部１５は、本実施形態では、検出部１１で検出された電圧値Ｖ（電気抵抗値Ｒ）に基づいて、レール部材２における可動部１のＸ軸方向の位置を特定する処理部として機能する。また、制御部１５は、本実施形態では、レール部材２における可動部１の移動（位置）も制御する。
【００２０】
図２を参照して、レール部材２における可動部１の移動の制御について説明する。制御部１５は、図２に示すように、取得部１５ａと、処理部１５ｂと、記憶部１５ｃとを含む。取得部１５ａは、検出部１１で検出された面６と可動部１との間の電圧値Ｖを取得する。記憶部１５ｃには、電圧値Ｖとレール部材２における可動部１のＸ軸方向の位置との対応関係を示す情報、即ち、面６と可動部１との間の電圧値Ｖを可動部１のＸ軸方向の位置に変換するための情報が記憶（格納）されている。処理部１５ｂは、取得部１５ａで取得された電圧値Ｖと、記憶部１５ｃに記憶された情報とを比較することで、レール部材２における可動部１のＸ軸方向の位置を特定する。
【００２１】
また、処理部１５ｂは、電圧値Ｖから求めた可動部１のＸ軸方向の位置に応じて、可動部１を目標位置に移動させるために必要な駆動指令値を生成する。そして、処理部１５ｂは、駆動指令値を、可動部１を駆動する駆動部１４、具体的には、駆動部１４の駆動制御部１４ａに提供する。駆動制御部１４ａは、処理部１５ｂから提供された駆動指令値に応じて、アクチュエータ１４ｂを駆動して、可動部１をＸ軸方向に移動させる。アクチュエータ１４ｂは、パルスモータ及びボールねじを含む直動機構、サーボモータ及びボールねじを含む直動機構、リニアモータなどを含む。
【００２２】
このように、本実施形態では、案内軸受５に検出部１１を設ける（内蔵する）ことで、物体検知センサなどの外付けが不要となるとともに、レール部材２における可動部１のＸ軸方向の位置を特定することができる。更に、本実施形態では、全拘束エアベアリングを用いていないため、案内軸受５の高精度な位置調整が不要となる。
【００２３】
また、案内軸受５は、図３（ａ）に示すように、Ｘ軸方向に沿って、絶縁部２ｂが対向するように離間して配置された２つのレール部材２を有してもよい。この場合、制御部１５は、２つのレール部材２のそれぞれが支持する可動部１が干渉しないように、可動部１の移動を制御する。例えば、制御部１５は、２つの可動部１の間の距離（間隔）ｇを、２つのレール部材２のそれぞれの検出部１１で検出される電圧値Ｖの総量Ｓで制御する。電圧値Ｖの総量Ｓは、図３（ｂ）に示すように、２つの可動部１のそれぞれが絶縁部２ｂに進入するほど大きくなる。換言すれば、２つの可動部１の間隔ｇが小さくなるほど、電圧値Ｖの総量Ｓが大きくなる。
【００２４】
制御部１５（記憶部１５ｃ）は、２つの可動部１が干渉しない最小の間隔ｇｍｉｎに対応する電圧値Ｖの総量、即ち、最大総量Ｓｍａｘを予め記憶している。これにより、制御部１５（処理部１５ｂ）は、電圧値Ｖの総量Ｓが最大総量Ｓｍａｘを超えたときに、２つの可動部１のそれぞれを逆方向に強制退避させるような駆動指令値を駆動部１４に提供することが可能となる。このような構成は、可動部１の干渉のみを回避すればよい場合、即ち、可動部１の位置を高精度に特定することが不要である場合に有効である。
【００２５】
また、図４に示すように、絶縁部２ｂが対向するように離間して配置された２つのレール部材２のそれぞれに支持された可動部１のうち、一方の可動部１をマスター７とし、他方の可動部１をスレイブ８としてもよい。図５を参照して、マスター側の可動部１及びスレイブ側の可動部１のそれぞれの移動の制御について説明する。制御部１５において、取得部１５ａは、マスター側の検出部１１からマスター側の電圧値Ｖを取得し、スレイブ側の検出部１１からスレイブ側の電圧値Ｖを取得して、マスター側の電圧値Ｖ及びスレイブ側の電圧値Ｖの総量Ｓを処理部１５ｂに提供する。ここで、マスター側の電圧値Ｖ及びスレイブ側の電圧値Ｖの総量Ｓは、マスター側の可動部１とスレイブ側の可動部１の間隔ｇが一定であれば、マスター側の可動部１の位置やスレイブ側の可動部１の位置にかかわらず、一定である。そこで、マスター側の可動部１が移動したときに、処理部１５ｂは、マスター側の電圧値Ｖ及びスレイブ側の電圧値Ｖの総量Ｓが一定となるように、スレイブ側の駆動部１４（駆動制御部１４ａ）に駆動指令値を提供する。これにより、マスター側の可動部１とスレイブ側の可動部１の間隔ｇを一定に維持することができる。このように、制御部１５は、２つのレール部材２のそれぞれが支持する可動部１の間の距離が予め定められた距離を維持するように、可動部１の移動を制御してもよい。
【００２６】
また、レール部材２は、可動部１の案内方向であるＸ軸方向に延在する部材に限定されるものではない。例えば、レール部材２は、図６に示すように、円弧形状を有していてもよい。
【００２７】
また、図７（ａ）に示すように、レール部材２（転動面ＲＳ）において、導体部２ａと絶縁部２ｂとは、Ｘ軸方向に沿って交互に配置されていてもよい。レール部材２に導体部２ａと絶縁部２ｂとを交互に配置することによって、検出部１１では、図７（ｂ）に示すように、可動部１のＸ軸方向の位置に応じて、鋸歯形状の電圧値Ｖ（電圧波形）が検出される。図７（ｂ）は、可動部１のＸ軸方向の移動量と、検出部１１で検出される電圧値Ｖとの関係を示している。図７（ｂ）では、横軸が可動部１のＸ軸方向の位置を示し、縦軸が電圧値を示している。図７（ｂ）に示す電圧波形のピーク到達回数ｎ、及び、検出部１１で検出された現在の電圧値Ｖから可動部１のＸ軸方向の位置を特定することで、可動部１の位置検出領域を拡張することが可能となる。
【００２８】
なお、導体部２ａと絶縁部２ｂとを交互に配置する場合、可動部１が絶縁部２ｂに隣接する２つの導体部２ａに重なると、電圧値Ｖから可動部１のＸ軸方向の位置を一意に特定することができない。従って、可動部１が絶縁部２ｂに隣接する２つの導体部２ａに重ならないように、導体部２ａのそれぞれのＸ軸方向の長さ及び絶縁部２ｂのそれぞれのＸ軸方向の長さを設定する必要がある。
【００２９】
また、案内軸受５は、図８（ａ）に示すように、Ｘ軸方向に直交する方向の位置が異なるように、且つ、互いに平行して配置された２つのレール部材２を有してもよい。この場合、導体部２ａ及び絶縁部２ｂの配列が異なる２つのレール部材２を平行に配置する。換言すれば、２つのレール部材２のそれぞれの絶縁部２ｂは、Ｘ軸方向に互いに異なる長さを有する。導体部２ａ及び絶縁部２ｂの配列がずれているため、可動部１のＸ軸方向の位置に応じて、図８（ｂ）に示すように、一方の検出部１１では電圧値Ｖ’が検出され、他方の検出部１１では電圧値Ｖ’から位相がずれた電圧値Ｖ’’が検出される。図８（ｂ）は、可動部１のＸ軸方向の移動量と、検出部１１のそれぞれで検出される電圧値Ｖ’及びＶ’’との関係を示している。図８（ｂ）では、横軸が可動部１のＸ軸方向の位置を示し、縦軸が電圧値を示している。図８（ｂ）に示す電圧値Ｖ’及びＶ’’から可動部１のＸ軸方向の位置を特定することで、電圧値Ｖ’と電圧値Ｖ’’との位相差の分だけ可動部１の位置検出領域を拡張することが可能となる。
【００３０】
図９（ａ）及び図９（ｂ）は、本発明の一側面としての案内軸受５の別の構成を示す概略図である。図９（ａ）は、案内軸受５の斜視図であり、図９（ｂ）は、図９（ａ）に示す案内軸受５のＡ−Ａ断面図である。図９（ａ）及び図９（ｂ）に示す案内軸受５は、図１（ａ）及び図１（ｂ）に示す案内軸受５と比較して、転動体３’の構成が異なる。転動体３’は、誘電体で構成されたボール部材である。
【００３１】
レール部材２に支持された可動部１が移動して、転動体３’が絶縁部２ｂに接触すると、絶縁部２ｂと可動部１との間の静電容量Ｃが変化する。静電容量Ｃの変化量は、絶縁部２ｂと接触する転動体３’の数の変化、即ち、可動部１のＸ軸方向の移動量に比例する。従って、面６と可動部１との間の電圧値Ｖを検出部１１で検出することで、レール部材２における可動部１のＸ軸方向の位置を一意に特定することが可能となる。なお、検出部１１は、インピーダンスに関する特性として、絶縁部２ｂと可動部１との間の静電容量Ｃを検出してもよい。換言すれば、検出部１１は、絶縁部２ｂと接触する転動体３’、即ち、絶縁部２ｂと可動部１との間に存在する転動体３’の数に応じて変化する絶縁部２ｂと可動部１との間の静電容量Ｃを検出してもよい。静電容量Ｃは、検出部１１が検出する電圧値Ｖに対応しているため、静電容量Ｃから、レール部材２における可動部１のＸ軸方向の位置を一意に特定することも可能である。
【００３２】
図９（ａ）及び図９（ｂ）に示す案内軸受５についても、上述した様々な形態を適用することができる。例えば、図７（ａ）に示したように、レール部材２（転動面ＲＳ）において、導体部２ａと絶縁部２ｂとを、Ｘ軸方向に沿って交互に配置してもよい。但し、この場合、可動部１が導体部２ａに隣接する２つの絶縁部２ｂに重なると、電圧値Ｖから可動部１のＸ軸方向の位置を一意に特定することができない。従って、可動部１が導体部２ａに隣接する２つの絶縁部２ｂに重ならないように、導体部２ａのそれぞれのＸ軸方向の長さ及び絶縁部２ｂのそれぞれのＸ軸方向の長さを設定する必要がある。
【００３３】
上述した案内軸受５は、露光装置やインプリント装置などのリソグラフィ装置において、基板を保持するステージや基板に設けられたマークを検出するスコープなどを駆動する駆動部に適用することができる。以下では、上述した案内軸受５を露光装置に適用する場合を例に説明するが、インプリント装置にも適用可能である。なお、インプリント装置は、基板上に供給されたインプリント材とモールドとを接触させ、インプリント材に硬化用のエネルギーを与えることにより、モールドのパターンが転写された硬化物のパターンを形成する。
【００３４】
図１０は、本発明の一側面としての露光装置１００の構成を示す概略図である。露光装置１００は、基板１０４にパターンを形成するリソグラフィ装置である。露光装置１００は、レチクル１０２のパターンを投影光学系１０３を介して基板１０４に投影して基板１０４を露光する。露光装置１００は、レチクル１０２に形成されたパターンを投影（縮小投影）する投影光学系１０３と、前工程で下地パターン及びアライメントマークが形成された基板１０４を保持するチャック１０５とを有する。また、露光装置１００は、チャック１０５を保持して基板１０４を所定の位置に位置決めする基板ステージ１０６と、基板１０４に設けられたアライメントマークを検出するスコープ１０７とを有する。
【００３５】
露光装置１００には、上述したように、基板１０４を所定の位置に位置決めするために、基板ステージ１０６を駆動するステージ駆動部１１０が設けられている。ステージ駆動部１１０は、基板ステージ１０６を少なくともＸＹ面内で駆動する。この際、基板ステージ１０６をＸＹ面内で案内する軸受として案内軸受５が好適である。例えば、基板ステージ１０６は、案内軸受５のレール部材２に支持された可動部１に載置される。なお、露光装置１００がツインステージの構成を有する場合には、ステージが互いに干渉することを防止するために、図３（ａ）や図４に示す案内軸受５が特に有利となる。
【００３６】
また、基板１０４に設けられたアライメントマークをスコープ１０７で検出する際には、アライメントマークを検出可能な位置にスコープ１０７を駆動する必要があるため、露光装置１００には、スコープ１０７を駆動するスコープ駆動部１２０が設けられている。スコープ駆動部１２０は、スコープ１０７を少なくともＸＹ面内で駆動する。この際、スコープ１０７をＸＹ面内で案内する軸受として案内軸受５が好適である。例えば、スコープ１０７は、案内軸受５のレール部材２に支持された可動部１に載置される。
【００３７】
本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、デバイス（半導体素子、磁気記憶媒体、液晶表示素子など）などの物品を製造するのに好適である。かかる製造方法は、露光装置１００を用いて、基板にパターンを形成する工程と、パターンが形成された基板を処理する工程と、処理された基板から物品を製造する工程とを含む。また、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど）を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００３８】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
【符号の説明】
【００３９】
１：可動部    ２：レール部材    ２ａ：導体部    ２ｂ：絶縁部    ３：転動体    ４：リテーナ    ５：案内軸受    １１：検出部    １５：制御部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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