(57)【要約】      （修正有）【課題】高出力動作時においても高い戻り光耐性を有しており、光波形品質と伝送特性の劣化を抑制することが可能な光送信機を提供する。【解決手段】電流を注入し光利得を生じる活性領域４４０およびその両端に形成された２つのＤＢＲ領域４４１、４４２からなるＤＢＲレーザ４４と、ＤＢＲレーザからのレーザ光を光変調するＥＡ変調器４２と、ＥＡ変調器からの変調光を導波するパッシブ光導波路４９と、パッシブ光導波路からの変調光を光増幅するＳＯＡ４３とを、同一基板上にモノリシック集積された光送信機とした。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電流を注入し光利得を生じる活性領域および前記活性領域の両端に形成された２つのＤＢＲ領域を含むＤＢＲレーザと、
前記ＤＢＲレーザからのレーザ光を光変調するＥＡ変調器と、
前記ＥＡ変調器からの変調光を光増幅するＳＯＡとが、
同一基板上にモノリシック集積された
ことを特徴とする光送信機。
【請求項２】
前記ＥＡ変調器と前記ＳＯＡの間に、前記ＥＡ変調器からの変調光を導波するパッシブ光導波路を設けた
ことを特徴とする請求項１に記載の光送信機。
【請求項３】
前記パッシブ光導波路の上に、前記パッシブ光導波路を導波する前記変調光をモニタするための電極が形成された
ことを特徴とする請求項２に記載の光送信機。
【請求項４】
前記ＤＢＲレーザの活性領域と前記ＳＯＡとは同一の制御端子によって電流を注入される
ことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の光送信機。
【請求項５】
前記２つのＤＢＲ領域に電極が形成され、前記電極が接地されている
ことを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の光送信機。
【請求項６】
発振波長が異なる複数の前記請求項１ないし５のいずれか１項に記載された光送信機と、
ぞれぞれの光送信機からの出力光を合波する合波器を備えた多波長光送信機であって、
前記複数の光送信機の短波長側の少なくとも一つにおいて、前記活性領域または前記ＳＯＡの少なくとも一方の長さが他の光送信機よりも長く構成されていることにより全ての光送信機の出力光の強度が揃えられている
ことを特徴とする多波長光送信機。
【請求項７】
発振波長が異なる複数の前記請求項１ないし５のいずれか１項に記載された光送信機と、
ぞれぞれの光送信機からの出力光を合波する合波器を備えた多波長光送信機であって、
前記複数の光送信機の短波長側の少なくとも一つにおいて、前記２つのＤＢＲ領域の長さの前後比が他の光送信機よりも小さく構成されている、ことにより全ての光送信機の出力光の強度が揃えられている
ことを特徴とする多波長光送信機。
【請求項８】
請求項１ないし５のいずれか１項に記載の光送信機であって、
前記ＤＢＲレーザに含まれる前記２つのＤＢＲ領域の回折格子周期が異なる
ことを特徴とする光送信機。
【請求項９】
請求項８に記載の光送信機であって、
前記ＤＢＲレーザに含まれる前記２つのＤＢＲ領域の回折格子が同じ屈折率結合係数を有し、
前記屈折率結合係数が４０〜１００ｃｍ-1の範囲の値である
ことを特徴とする光送信機。
【請求項１０】
請求項９に記載の光送信機であって、
前記２つのＤＢＲ領域のＤＢＲにおいて、前記ＤＢＲレーザの前記活性領域と前記ＥＡ変調器との間に位置するＤＢＲを第１のＤＢＲ、他方のＤＢＲを第２のＤＢＲとしたとき、
前記第１のＤＢＲのブラッグ波長と、前記第２のＤＢＲのブラッグ波長との波長差が、前記第１のＤＢＲのストップバンドの帯域幅の１／２以下である
ことを特徴とする光送信機。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光変調器を集積した半導体レーザ素子を用いた光送信機および多波長光送信機に関する。より詳細には、例えばＩｎＰ基板上に電界吸収型（ＥＡ）光変調器、半導体光増幅器（ＳＯＡ）および分布ブラッグ反射器（Distributed Bragg Reflector：ＤＢＲ）レーザを集積した半導体レーザ素子を用いた光送信機および多波長光送信機に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の動画配信サービスの普及やモバイルトラフィック需要の増大に伴い、ネットワークトラフィックが爆発的に増大しており、特にアクセス系と呼ばれるネットワーク領域において次世代ネットワークに関する議論が活発化している。これら次世代のアクセス系ネットワークのトレンドとしては伝送距離の長延化・多分岐化が求められており、ここで用いられる半導体変調光源にも分岐比の増加を補うために光出力の高出力化への要求が高まっている。
【０００３】
（従来のＥＡＤＦＢレーザ）
従来より、分布帰還型（Distributed Feedback：ＤＦＢ）レーザに電界吸収型（ＥＡ）光変調器を集積した電界吸収型変調器集積型ＤＦＢ（ＥＡＤＦＢ）レーザは、直接変調型のレーザと比較し高い消光特性とすぐれたチャープ特性を有することから、これまでにアクセス系ネットワーク用光源を含め幅広い用途で用いられてきた。
【０００４】
図１に、従来の一般的なＥＡＤＦＢレーザ１０の光軸に沿った基板断面の概略図を示す。図１のＥＡＤＦＢレーザ１０は、光軸となる光導波路に沿ってＤＦＢレーザ１１およびＥＡ変調器１２が同一チップ内に集積された構造を有する。ＤＦＢレーザ１１は多重量子井戸（ＭＱＷ）からなる活性層１４を有し、共振器内の活性層１４に形成された回折格子１７によって単一波長で発振する。また、ＥＡ変調器１２はＤＦＢレーザとは異なる組成の多重量子井戸（ＭＱＷ）からなる光吸収層１５を有し、電圧制御により光吸収量を変化させることができる。ＤＦＢレーザ１１からの出力光を透過・吸収する条件で、ＥＡ変調器１２を変調電気信号で駆動することで光を明滅させ、電気信号を光信号に変換して右端より出射する。
【０００５】
このＥＡＤＦＢレーザの課題として、光変調にＥＡ変調器における光吸収を用いるため、原理的に十分な消光特性と高光出力化はトレードオフの関係にあることが挙げられる。
【０００６】
図２に、従来の一般的なＥＡＤＦＢレーザの消光曲線と強度変調原理の概略図を示す。従来の一般的なＥＡＤＦＢレーザにおいて、ＥＡ変調器への逆方向印加電圧の絶対値を大きくしてゆくと消光比は減少し、所定のＥＡ逆方向印加電圧（バイアス電圧）Ｖｄｃに所定の振幅Ｖｐｐの変調電圧を重畳して印加すると所定の動的消光比ＤＥＲが得られる。
【０００７】
一般的なＥＡＤＦＢレーザにおいて、高出力化を達成するための一つの手法は、ＥＡ変調器への逆方向印加電圧の絶対値を小さくしＥＡ変調器での光吸収を抑えることが挙げられる。しかし、この場合ＥＡ変調器の消光曲線の急峻性が低下するため、変調特性すなわち動的消光比（ＤＥＲ）が劣化してしまう。
【０００８】
もう一つの高出力化の手法として、ＤＦＢレーザの駆動電流を増大させ、ＤＦＢレーザからＥＡ変調器に入射する光強度を増やす方法が挙げられる。しかし、この方法ではＤＦＢレーザの消費電力が増大するとともに、ＥＡ変調器における光吸収とそれに伴うフォトカレントの増加から消光特性が劣化し、チップ全体の消費電力が増大してしまう。以上から、従来のＥＡＤＦＢレーザでは、十分な光出力と変調特性（動的消光比）とを両立させるためには、過剰な消費電力の増大が避けられなかった。
【０００９】
この課題に対して、ＥＡＤＦＢレーザの光出射端にさらに半導体光増幅器（ＳＯＡ）を集積したＳＯＡ集積ＥＡＤＦＢレーザが提案されている（非特許文献１）。
【００１０】
（従来のＳＯＡ集積ＥＡＤＦＢレーザ）
図３に、従来のＳＯＡ集積ＥＡＤＦＢレーザ３０の光軸に沿った基板断面の概略図を示す。図３のＳＯＡ集積ＥＡＤＦＢレーザ３０は、光軸となる光導波路に沿ってＤＦＢレーザ３１、ＥＡ変調器３２、ＳＯＡ領域３３が、この順に同一チップ内に集積された構造を有する。
【００１１】
ＤＦＢレーザ３１は図1と同様な回折格子を備えた活性層３４を、ＥＡ変調器３２は活性層３５を、ＳＯＡ領域３３は活性層３６を備えており、通常、活性層３４と３６は同一のＭＱＷで構成され、ＥＡ変調器３２の活性層３５は別構造のＭＱＷで構成される。
【００１２】
ＳＯＡ集積ＥＡＤＦＢレーザ３０においては、ＤＦＢレーザ３１からのレーザ光がＥＡ変調器３２によって変調された信号光が、集積されたＳＯＡ領域３３によってＥＡ変調器３２とは独立して増幅されるため、光信号波形の品質を劣化させることなく、光出力の増大が可能となる。
【００１３】
また、従来のＥＡＤＦＢレーザと比べてＳＯＡ集積ＥＡＤＦＢレーザ３０では、ＤＦＢレーザ３１の駆動電流やＥＡ変調器３２のフォトカレントを過剰に増大させることなく高出力化が可能である。さらに、ＳＯＡ集積ＥＡＤＦＢレーザでは、ＳＯＡ３３の活性層３６にＤＦＢレーザ３１の活性層３４と同一のＭＱＷ構造を用いている。従って、素子作製の際にＳＯＡ領域３３の集積のための再成長プロセスを追加することなく、従来のＥＡＤＦＢレーザと同一の製造工程でデバイス作製が可能である。
【００１４】
このようなＳＯＡ集積ＥＡＤＦＢレーザは、大容量化のために同時に異なる複数の波長の光を通信に使用する、波長多重技術（ＷＤＭ）のための多波長光送信機で必要となるアレイ化多波長光源にも用いることができる。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【００１５】
【非特許文献１】W Kobayashi et al．， “Novel approach for chirp and output power compensation applied to a 40-Gbit/s EADFB laser integrated with a short SOA，” Opt． Express， Vol． 23， No． 7， pp． 9533-9542， Apr． 2015
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
従来のＳＯＡ集積ＥＡＤＦＢレーザでは、高出力動作時に出射端面や素子外部の反射点から素子内部に戻る反射戻り光が、ＤＦＢレーザの動作を不安定にすることが課題として挙げられる。一般的なＥＡＤＦＢレーザにおいては、出射端面での光反射を抑制するために無反射（ＡＲ）コーティングが施されており、端面からチップ内部への反射戻り光は一般的に0．1%以下に抑制されている。加えて、光送信機としてＥＡＤＦＢレーザを用いる場合には、光出力側に光アイソレータを用いることで、光ファイバを通して遠距離から伝搬される反射戻り光についても大幅に抑制されている。
【００１７】
しかし、ＳＯＡ集積ＥＡＤＦＢレーザの場合には、その高出力特性によって、わずかな反射戻り光でも動作特性に大きな影響を与える。仮に、従来のＥＡＤＦＢレーザに対してＳＯＡ集積ＥＡＤＦＢレーザのＳＯＡによる光増幅効果が＋３ｄＢである場合、平均光出力が＋３ｄＢ高出力化すると同時に、反射戻り光強度も３ｄＢ増加することになる。加えて、端面での反射戻り光は再びＳＯＡ内で増幅されるため、ＥＡＤＦＢレーザと比較してＤＦＢレーザ部に達する反射戻り光強度は＋６ｄＢ増加することになる。
【００１８】
一般に半導体レーザは、内部反射による光の正帰還現象と、活性層での誘導放出による光の増幅現象を利用してレーザ発振する。ここで、素子外部から戻り光が入射すると、誘導放出により戻り光が増幅され発振状態が大きく乱れ、レーザ発振光において雑音が大きく増加する。一般的にこの雑音は、戻り光誘起雑音と呼ばれる。
【００１９】
また、ＳＯＡ集積ＥＡＤＦＢレーザの場合、素子の端面から素子内部に戻る光はＥＡ変調器において強度変調が加えられた信号光の一部である。従って、反射戻り光は信号光と同じビットレートで強度が変動している。この戻り光はＥＡ変調器で再び強度変調をくわえられた後、ＤＦＢレーザに到達する。したがって、ＤＦＢレーザに到達した戻り光の強度は複雑な変動を伴っており、これに伴いＤＦＢレーザの発振状態も時間的に大きく変動することになる。
【００２０】
ＤＦＢレーザの動作が不安定化した場合は、ＥＡ変調器で変調された光信号波形の品質および伝送特性は低下する。前述した通り、戻り光強度はＳＯＡ集積ＥＡＤＦＢレーザの光出力強度に依存して増加するため、特にＳＯＡ集積ＥＡＤＦＢレーザの高出力動作時には伝送特性の低下が顕著に発生する。
【００２１】
この様な事情から、ＷＤＭ用の多波長光送信機に用いられるアレイ化多波長光源においては、波長に応じて戻り光の状況も異なり、素子の特性も変化するため、異なる複数の波長の光を光出力強度を揃えて生成するのが困難であるという課題もあった。
【００２２】
本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、高出力動作時においても高い戻り光耐性を有しており、光波形品質と伝送特性の劣化を抑制することができる光送信機を提供すること、および多波長光送信機のアレイ化多波長光源において光出力強度を揃えることにある。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
上記問題を解決するために、本発明の実施形態ではＳＯＡ集積ＥＡＤＦＢレーザのＤＦＢレーザの代わりにＤＢＲ（Distributed Bragg Reflector：分布ブラッグ反射器）レーザを導入する。ＤＢＲレーザは、電流注入により光利得を得る活性領域と、活性領域の光軸上両端に配置され反射ミラーの役割をする２つのブラッグ反射器（ＤＢＲ）から構成される。ＤＢＲレーザでは、活性領域には回折格子は設けられていない。ＳＯＡ集積ＥＡＤＦＢレーザと同様に、ＤＢＲレーザ光源からの出力光はＥＡ変調器で変調され、ＳＯＡで増幅された後出射端面から出射される。しかし、戻り光は出射側のＤＢＲ領域において反射されＤＢＲレーザの活性領域に達する戻り光が低減されるため、戻り光がＤＢＲレーザの活性領域に与える影響は抑えられる。したがって、本発明の実施形態にかかるＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザでは、光軸上にＤＢＲ、活性領域、ＤＢＲ、ＥＡ変調器、ＳＯＡの順に各領域がモノリシック集積された光送信機となり、高い戻り光耐性を有する。
【００２４】
本発明は、以下のような構成を備えることを特徴とする。
【００２５】
（構成１）
電流を注入し光利得を生じる活性領域および前記活性領域の両端に形成された２つのＤＢＲ領域を含むＤＢＲレーザと、
前記ＤＢＲレーザからのレーザ光を光変調するＥＡ変調器と、
前記ＥＡ変調器からの変調光を光増幅するＳＯＡとが、
同一基板上にモノリシック集積された
ことを特徴とする光送信機。
【００２６】
（構成２）
前記ＥＡ変調器と前記ＳＯＡの間に、前記ＥＡ変調器からの変調光を導波するパッシブ光導波路を設けた
ことを特徴とする構成１に記載の光送信機。
【００２７】
（構成３）
前記パッシブ光導波路の上に、前記パッシブ光導波路を導波する前記変調光をモニタするための電極が形成された
ことを特徴とする構成２に記載の光送信機。
【００２８】
（構成４）
前記ＤＢＲレーザの活性領域と前記ＳＯＡとは同一の制御端子によって電流を注入される
ことを特徴とする構成１ないし３のいずれか１項に記載の光送信機。
【００２９】
（構成５）
前記２つのＤＢＲ領域に電極が形成され、前記電極が接地されている
ことを特徴とする構成１ないし４のいずれか１項に記載の光送信機。
【００３０】
（構成６）
発振波長が異なる複数の前記構成１ないし５のいずれか１項に記載された光送信機と、
ぞれぞれの光送信機からの出力光を合波する合波器を備えた多波長光送信機であって、
前記複数の光送信機の短波長側の少なくとも一つにおいて、前記活性領域または前記ＳＯＡの少なくとも一方の長さが他の光送信機よりも長く構成されていることにより全ての光送信機の出力光の強度が揃えられている
ことを特徴とする多波長光送信機。
【００３１】
（構成７）
発振波長が異なる複数の前記構成１ないし５のいずれか１項に記載された光送信機と、
ぞれぞれの光送信機からの出力光を合波する合波器を備えた多波長光送信機であって、
前記複数の光送信機の短波長側の少なくとも一つにおいて、前記２つのＤＢＲ領域の長さの前後比が他の光送信機よりも小さく構成されている、ことにより全ての光送信機の出力光の強度が揃えられている
ことを特徴とする多波長光送信機。
【００３２】
（構成８）
構成１ないし５のいずれか１項に記載の光送信機であって、
前記ＤＢＲレーザに含まれる前記２つのＤＢＲ領域の回折格子周期が異なる
ことを特徴とする光送信機。
【００３３】
（構成９）
構成８に記載の光送信機であって、
前記ＤＢＲレーザに含まれる前記２つのＤＢＲ領域の回折格子が同じ屈折率結合係数を有し、
前記屈折率結合係数が４０〜１００ｃｍ-1の範囲の値である
ことを特徴とする光送信機。
【００３４】
（構成１０）
構成９に記載の光送信機であって、
前記２つのＤＢＲ領域のＤＢＲにおいて、前記ＤＢＲレーザの前記活性領域と前記ＥＡ変調器との間に位置するＤＢＲを第１のＤＢＲ、他方のＤＢＲを第２のＤＢＲとしたとき、
前記第１のＤＢＲのブラッグ波長と、前記第２のＤＢＲのブラッグ波長との波長差が、前記第１のＤＢＲのストップバンドの帯域幅の１／２以下である
ことを特徴とする光送信機。
【発明の効果】
【００３５】
以上記載したように、本発明によれば、高出力動作時においても高い戻り光耐性を有しており、光波形品質と伝送特性の劣化を抑制することができる光送信機を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】従来のＥＡＤＦＢレーザの光軸に沿った基板断面の概略図である。
【図２】従来のＥＡＤＦＢレーザの消光曲線と強度変調原理の概略図である。
【図３】従来のＳＯＡ集積ＥＡＤＦＢレーザの基板断面の概略図である。
【図４】本発明の実施例１に係る光送信機のＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザの基板断面図である。
【図５】（ａ）は、本発明に係るＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザのアイ波形を示す図であり、（ｂ）は、従来型のＳＯＡ集積ＥＡＤＦＢレーザのアイ波形を示す図である。
【図６】本発明の実施例１の変形例１の基板断面図である。
【図７】本発明の実施例１の変形例２の基板断面図である。
【図８】本発明の実施例１の変形例３の基板断面図である。
【図９】本発明の実施例２に係るＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザを複数設けた多波長光源の概略平面図である。
【図１０】本発明の実施例２の変形例１の概略平面図である。
【図１１】本発明の実施例２の変形例２の概略平面図である。
【図１２】本発明の実施例３の課題を説明するための図である。
【図１３】本発明の実施例３の課題を説明するための図である。
【図１４】本発明の実施例３の課題を説明するための図である。
【図１５】本発明の実施例３の課題を説明するための図である。
【図１６】本発明の実施例３を説明するための図である。
【図１７】本発明の実施例３を説明するための図である。
【図１８】本発明の実施例３を説明するための図である。
【図１９】本発明の実施例３を説明するための基板断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について詳細に説明する。
【００３８】
最初に、本発明で用いるＤＢＲレーザの発振原理について説明する。ＤＢＲレーザは、活性領域の両端に回折格子を形成したＤＢＲ領域を有する。ＤＢＲレーザではＤＦＢレーザとは異なり、活性領域内には回折格子が形成されていない。ＤＢＲ領域は、回折格子の周期に対応した特定の波長のみを選択的に反射する。これによって、活性領域の両端のＤＢＲ領域で光共振器を形成し光正帰還することにより、特定波長のみで発振することができる。
【００３９】
ＤＢＲレーザは、誘導放出による光増幅効果を有する活性領域が、光軸上の前後２つのＤＢＲ領域で挟まれた構成を有する。従って、出射端面から素子内部に戻る反射戻り光は、活性領域に到達する前にＤＢＲ領域を透過することになる。反射戻り光は、ＤＢＲレーザからの発振光を起源とするため、ＤＢＲの反射帯域と必ず一致する波長である。従って、ＤＢＲの反射率に応じて戻り光が反射されるため、活性領域に到達する戻り光の強度を低下させることができる。
【００４０】
これに対して、従来のＳＯＡ集積ＥＡＤＦＢレーザで用いられているＤＦＢレーザは、活性領域内に回折格子が形成されている。ＤＦＢレーザでも回折格子によって戻り光は反射されるが、レーザに入射すると同時に増幅されながら伝搬するため、レーザ特性に与える影響が大きくなる。以上の理由から、ＤＢＲレーザはＤＦＢレーザに比べて高い戻り光耐性を有しており、光波形品質と伝送特性の劣化を抑制することができる。
【実施例１】
【００４１】
図４に、本発明の実施例１に係る光送信機の、ＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザ４００の光軸に沿った基板断面図を示す。図４の本実施例１の光送信機のＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザ４００は、レーザ光の光軸となる光導波路に沿って、左からＤＢＲレーザ４４、ＥＡ変調器４２、パッシブ導波路４９、ＳＯＡ４３がこの順に、同一のｎ−ＩｎＰ基板４０１上にモノリシック集積されている。ＤＢＲレーザ４４、ＥＡ変調器４２、ＳＯＡ４３はそれぞれ、ｐ−ＩｎＰクラッド層４０２上に設けられた電極４４５、４２１、４３１を介して駆動され、右端より変調されたレーザ光を出射する。
【００４２】
ＤＢＲレーザ４４は、活性領域４４０と、活性領域４４０の左右両端に回折格子４７１、４７２を有するＤＢＲ領域４４１、４４２を備えている。活性領域４４０の長さは300μｍであり、ＤＢＲ領域４４２（右端出射側、ＥＡ変調器４２側）の長さは200μｍ、ＤＢＲ領域４４１（左端反射側）の長さは400μｍである。
【００４３】
また、ＤＢＲレーザ４４の右端出射側に長さ150μｍのＥＡ変調器４２と、長さ50μｍのパッシブ導波路４９、長さ100μｍのＳＯＡ４３が集積されて、モノリシック集積素子を構成している。
【００４４】
（本発明の素子の作製プロセス）
ここで、本実施例１の光送信機のＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザ４００の、素子作製プロセスを説明する。素子作製にはｎ−ＩｎＰ基板４０１上に、下部ＳＣＨ（Separated Confinement Heterostructure）層、多重量子井戸層の活性層（ＭＱＷ１）、上部ＳＣＨ層を順次成長した初期基板を用いた。上記多重量子井戸層（ＭＱＷ１）は、発振波長1．3μｍ帯に光利得を有する。ｎ−ＩｎＰ基板４０１はクラッド層としても機能する。
【００４５】
初めに、ＤＢＲレーザ４４の活性領域４４０、およびＳＯＡ領域４３となる部分を残し、その他の活性層（ＭＱＷ１）を選択的にエッチングし、バットジョイント再成長によりＥＡ変調器４２のための多重量子井戸層（ＭＱＷ２）を成長した。続いて、上記、ＤＢＲレーザの活性領域４４０、ＥＡ変調器領域４２、ＳＯＡ領域４３となる部分を残し、再び選択エッチングとバットジョイント再成長を行うことでパッシブ導波路４９ほかの光導波路のコア層を形成した。
【００４６】
次に、形成した光導波路のコア層のうちＤＢＲ領域４４１，４４２となる部分の上に、発振波長1．3μｍ帯で動作するような回折格子４７１，４７２を形成した。その後、再び再成長により素子全面にｐ−ＩｎＰクラッド層４０２を成長した。ｐ−ＩｎＰクラッド層４０２の厚さは電極領域に光のフィールドがかからないように設計し、本実施例１では2．0μｍとした。
【００４７】
加えて次に、メサ構造をエッチングによって形成し、再び埋め込み再成長によってメサの両脇にＦｅをドーピングした半絶縁性ＩｎＰ層を形成した（不図示）。次に半導体基板上部表面にｐ側の電極４４５，４２１，４３１を形成した。その後、ｎ−ＩｎＰ基板４０１を150μｍ程度まで研磨し、基板裏面に電極（不図示）を形成して半導体ウエハ上程での工程は完了となる。なお、基板の左右両端面には、無反射コーティング（ＡＲ）を施している。
【００４８】
本実施例の導波路構造は、共振器の垂直方向については、多重量子井戸層の活性層（ＭＱＷ１、２）と上下のＳＣＨ層からなるコア層（層厚の合計２００ｎｍ）と、コア層を上下から挟み込むＩｎＰクラッド層４０１，４０２からなる積層構造を持っている。水平方向については、メサ両脇にＩｎＰ層が形成された埋め込みヘテロ構造を持っている。また、ストライプ幅は１．５μｍとし、ＤＢＲ領域に形成した回折格子に起因する単一波長で動作する。
【００４９】
またＳＯＡ４３の部分では、初期成長基板で形成されたコア層構造がそのまま残存し、ＤＢＲレーザ４４の活性領域４４０と同一の層構造（ＭＱＷ１）を有する。加えて、ＤＢＲ領域４４１，４４２とパッシブ導波路領域４９も、バットジョイント成長で形成した同一のコア層を有し、これらの領域の層構造の差異は回折格子４７１，４７２の有無のみである。これにより、複数領域を集積した構造でありながら、再成長回数を抑制し低コストでの製造が可能である。
【００５０】
ＥＡ変調器４２とＳＯＡ４３との間にパッシブ導波路４９を設けることで、順方向バイアスを印加するＳＯＡと、逆方向バイアスを印加するＥＡとの間の絶縁性を高めることができる。パッシブ導波路４９がない場合は、ＥＡ変調器４２とＳＯＡ４３それぞれの上部電極間の分離抵抗は1ｋΩ以下であるのに対し、長さ50μｍのパッシブ導波路４９を挿入することで分離抵抗を約５０kΩ程度に向上させ、領域間の電気的なクロストークを低減できる。
【００５１】
（本発明の素子の変調特性評価）
作製した本発明の素子を用いて、２５Ｇｂｉｔ／ｓの変調特性評価を行った。同一基板上に作製した従来のＳＯＡ集積ＥＡＤＦＢレーザについても同一条件で評価を行い、本発明の効果を検証した。変調信号はＮＲＺ、２31−１段周期の疑似ランダム信号（ＰＲＢＳ）を用い、ＥＡ変調器へのバイアス電圧は1．5Ｖ、振幅電圧は2．0Ｖとした。また、チップ温度は45℃に設定している。初めに変調時光出力特性を比較したところ、ファイバ結合時の光強度がＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザで６．０ｄＢｍ、ＳＯＡ集積ＥＡＤＦＢレーザで６．１ｄＢｍとなりほぼ同等の光出力強度が得られた。ここでどちらの素子にもレーザ部およびＳＯＡ部にそれぞれ90ｍＡ、30ｍＡの電流を注入した。
【００５２】
図５には、本発明の実施例に係るＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザのアイ波形（ａ）と、従来型のＳＯＡ集積ＥＡＤＦＢレーザのアイ波形（ｂ）を対比のために示す。いずれも25Ｇｂｉｔ／ｓのビットレートで、ＮＲＺ無変調時のBack to back（ＢＴＢ）でのアイ波形を示す。図５（ｂ）の従来のＳＯＡ集積ＥＡＤＦＢレーザでは光波形が歪み、十分なアイ開口が得られていないのに対し、図５（ａ）の本発明の実施例のＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザにおいては、高光出力時においてもアイ波形品質の劣化が抑制され明瞭なアイの開口が得られた。
【００５３】
図６に示す本発明の実施例１の変形例１のＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザ６００のように、ＥＡ変調器４２とＳＯＡ領域４３の間に設けられたパッシブ導波路部分４９に電極４９１を設け、その電流値をモニタすることで、出力光の強度をモニタすることが可能である。
【００５４】
また、図７に示す本発明の実施例１の変形例２のＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザ７００のように、バイアス方向が同じＤＢＲレーザ４４の活性領域４４０とＳＯＡ領域４３を共通駆動することで、端子の数を減らすことが可能である。
【００５５】
さらに、図８に示す本発明の実施例１の変形例３のＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザ８００のように、ＤＢＲレーザ４４のＤＢＲ領域４４１，４４２を電極４４３、４４４を介して接地することで、活性領域４４０からの電流リークによるＤＢＲ領域のブラッグ波長のシフトが抑制でき、戻り光抑制効果の低下を防ぐことが可能である。
【実施例２】
【００５６】
図９に、本発明の実施例２の多波長光送信機に於いて、ＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザを複数設けたアレイ化多波長光源の概略平面図を示す。図９では、それぞれの波長λ0、λ1、λ2、λ3対応のＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザが、実施例１と同様な構成で設けられている。それぞれの波長のレーザ光がＥＡ変調器で変調され、ＳＯＡで光増幅されて出力される。出力光の発振波長λ0、λ1、λ2、λ3は、λ0＜λ1＜λ2＜λ3となっており、右端の合波器９１で合波されて出力されている。
【００５７】
このようなアレイ化多波長光源では、最も短波長の波長λ0のＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザは、ＥＡ変調器がＯＮの状態の時も光を吸収してしまい光出力が低下する。そこで本発明の実施例２のアレイ化多波長光源では、それを補うように、図９に示すように波長λ0のＳＯＡ長を150μｍと他の波長よりも長くした。（他の波長ではＳＯＡ長は100μｍである）その結果、波長λ0の光出力強度を1ｄＢ増加させることができ、すべての波長で合波器９１からの出力光の強度を揃えることができた。
【００５８】
図１０に示す本発明の実施例２の変形例１では、同じ目的でλ0を発振するＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザのみ活性領域（Ａｃｔｉｖｅ）の長さを400μｍとして、他の波長よりも長くした。（他の波長では300μｍである）その結果、波長λ0の光出力強度を1ｄＢ増加させることができ、すべての波長で合波器９１からの出力光の強度を揃えることができた。
【００５９】
図１１に示す本発明の実施例２の変形例２では、λ0を発振するＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザのみ２つのＤＢＲ領域の長さを、後（左端反射側）：500μｍ、および前（右端出射側）：100μｍとして、２つのＤＢＲの長さの前後比（前／後の値）を他の波長より小さくした。（他の波長では後：400μｍ および 前：200μｍ）その結果、ＤＢＲレーザの前方への光出力強度を1ｄＢ増加させることができ、すべての波長で合波器からの出力光の強度を揃えることができた。
【実施例３】
【００６０】
（実施例３に係る課題の説明）
前述したＳＯＡ集積型ＥＡＤＢＲレーザにおいて、反射戻り光耐性をさらに向上させるためにはＤＢＲレーザの活性領域とＥＡ変調器との間にあるＤＢＲ領域（前方ＤＢＲ）の反射率を増加させる必要がある。前方ＤＢＲの反射率を増加させ、入射端面から活性領域に侵入する戻り光強度を低下させることで、戻り光耐性を向上させることができる。
【００６１】
しかし、単純にＤＢＲレーザのＤＢＲ反射率を増加させると、ＤＢＲレーザの単一モード性を低下させマルチモードで発振しやすくなることが懸念される。一般的にＤＢＲの反射率を向上させるには、回折格子の屈折率結合係数κを増加させるか、ＤＢＲ領域長を長くする手法がある。回折格子の屈折率結合係数とは、回折格子内での進行波と反射によって生じた後進波の結合の影響を示すパラメータの一つであり、一般に回折格子深さを大きくし屈折率の変動を大きくするほど結合係数も増加する。また一般に屈折率結合係数が大きいほどＤＢＲ領域の最大反射率と反射帯域が増大するため、広帯域かつ高反射な反射ミラーを実現できる。
【００６２】
図１２（ａ）、（ｂ）では、図１２（ｃ）に示すような同一構造のＤＢＲレーザにおいて、屈折率結合係数κだけを変えて、図１２（ａ）ではκ＝40 ｃｍ-1、図１２（ｂ）ではκ＝80 ｃｍ-1とした場合の、ＤＢＲレーザのミラー損失（縦軸のｍｉｒｒｏｒ  ｌｏｓｓ）の波長依存性を比較している。
【００６３】
一般的にＤＢＲレーザの前後のＤＢＲ領域の回折格子は、同一プロセスで一括に作製されるため、屈折率結合係数κは前後のＤＢＲで同じ値となる。ここでは図１２（ｃ）の基板断面図に示すように、前（右、光出射側）のＤＢＲ領域４４２の長さを150μｍ、後（左、光反射側）のＤＢＲ領域４４１の長さを300μｍとし、活性領域４４０の長さを400μｍ、位相調整領域４４６の長さを150μｍとしている。なお、位相調整領域４４６は、後述のＦＰレーザとしての発振スペクトルのリップル（共振ピーク）を、波長軸上で平行移動するため光の位相を調整する領域であり、位相調整電極４４７に印加される電圧で位相制御を行う。
【００６４】
ＤＢＲレーザは前後のＤＢＲが反射ミラーの役割を果たし、ＤＢＲ間を往復する光が活性領域で利得を得ることによって発振に至る。したがって、ＤＢＲレーザの発振モードを検討する場合、基本的には両端に通常の反射ミラーを持つファブリ・ペロー（ＦＰ）レーザとみなして考えることができる。
【００６５】
ＦＰレーザにおいては、両端のミラー間を往復する光のうちミラー間の往復距離が波長の整数倍を満たす波長のみが発振する。そのためＦＰレーザの発振スペクトルは、等間隔にリップル（共振ピーク）がならぶ形状となる。ＤＢＲレーザでは、ＤＢＲをある浸透長Ｌをもつ反射ミラーとみなせるので、ＤＢＲレーザの場合もＦＰレーザと同じくミラー間の往復距離が波長の整数倍となるモードでのみ発振し、発振モードはスペクトル上で等間隔にならぶ。
【００６６】
図１２（ａ）、（ｂ）それぞれのグラフ下部には、両端の共振器両端のＤＢＲミラーが波長依存性を持たない場合の、上述のＦＰレーザとしての透過強度のリップル（共振ピーク）を、横軸の波長を上のＤＢＲレーザのミラー損失のグラフとそろえて模式的に示している。
【００６７】
ＤＢＲレーザがＦＰレーザと異なるのは、反射ミラーの役割を果たすＤＢＲが波長選択性をもつ点である。このＤＢＲの波長選択性は、図１２（ａ）、（ｂ）の上のグラフ中にＤＢＲのミラー損失の波長依存性として表されており、ミラー損失が小さいほど共振器内に光が閉じこもっている状態となり発振しやすい条件となる。
【００６８】
したがって、ＤＢＲレーザの発振モードは、ＦＰ共振器内の位相整合条件と、ＤＢＲのミラー損失の波長選択性の両方を満たす条件で決まることになる。すなわち、ＤＢＲレーザではＦＰ共振器としての位相整合条件を満たすモードのうち、ＤＢＲミラーの損失の小さいモードから発振することになる。
【００６９】
図１２（ａ）、（ｂ）の上のグラフ内には、縦軸のミラー損失（ｍｉｒｒｏｒ  ｌｏｓｓ）が50ｃｍ-1以下の条件を満たす発振モードを、黒丸●のポイントで図示している。
【００７０】
図１２（ａ）の屈折率結合係数κ＝40ｃｍ-1の場合では、３つの黒丸が示されており、中央の波長1550ｎｍの発振モードが、ミラー損失ath1が最低で最も発振しやすい（１次モード）条件となる。
【００７１】
また、図１２（ａ）で次に発振しやすい２次モードは、１次モードの長波長側、短波長側にそれぞれ約0．5 ｎｍ離れた黒丸●で示す２つの波長に存在しており、ともにミラー損失ath2を有する。１次モードのミラー損失ath1と２次モードのミラー損失ath2との差分は4．2ｃｍ-1程度であり、この１次モードと２次モードとミラー損失差が大きいほど、安定したシングルモード（単一モード）で動作する。
【００７２】
これに対して、図１２（ｂ）の屈折率結合係数κ＝80 ｃｍ-1の場合には、ＤＢＲのブラッグ波長反射率が大きくなるためミラー損失が低下し、共振器内部に光が強く閉じこもり、低しきい値で発振しやすい条件となる。このため、図１２（ｂ）の上のグラフには中央の１次モード、両脇の２つの２次モードに加えて、３次モードまで含めた、５つの黒丸●が示されている。
【００７３】
しかし、同時にミラー損失の波長帯域幅がブロードに拡大しており、１次モードのミラー損失だけでなく、２次モードのミラー損失も低下する傾向にある。図１２（ｂ）の場合の１次モードと２次モードのミラー損失差は1．2ｃｍ-1程度となり、安定した単一モード動作を得るためには不十分なミラー損失差となってしまっている。
【００７４】
このように、高屈折率結合のＤＢＲを採用した場合、１次モードと２次モードのミラー損失差が低下する原因について説明する。図１３（ａ）は前方ＤＢＲ長150μｍ、後方ＤＢＲ長300μｍを有するＤＢＲレーザにおいて、一般的な屈折率結合係数であるκ＝40 ｃｍ-1のときの、前方および後方ＤＢＲのそれぞれの反射スペクトルを示す。
【００７５】
前方ＤＢＲに後方ＤＢＲよりも短いＤＢＲ長を採用し、前方ＤＢＲを後方ＤＢＲよりも低反射率に設計してあるのは、前方からの光出力を後方よりも相対的に増加させるためである。ＤＢＲレーザの発振は前後のＤＢＲによって共振器内に光が閉じ込められることに起因するため、前方ＤＢＲと後方ＤＢＲの反射率の積で表される合計反射スペクトルで考える必要がある。
【００７６】
図１３（ｂ）は、図１３（ａ）の前後のＤＢＲの反射スペクトルから算出した合計反射スペクトルである。このときの合計反射スペクトルの最大反射率は0．14、反射率が最大値の１／２以上である帯域幅（半値全幅）は0．87ｎｍである。
【００７７】
図１２（ａ）、（ｂ）で示したＤＢＲレーザのミラー損失スペクトルは、このような前後のＤＢＲの合計反射スペクトルから導かれている。すなわち、ＤＢＲレーザを単一モードで安定動作させるためには、図１３（ｂ）で示した前後のＤＢＲの合計反射スペクトルを狭帯域化させ、１次の発振モードと２次の発振モードのミラー損失差を大きくする必要がある。
【００７８】
図１４（ａ）は、前方150μｍ、後方300μｍのＤＢＲを採用したＤＢＲレーザにおいて、屈折率結合係数κを40、60、80、100ｃｍ-1の４通りに変えた際の合計反射スペクトルの変化を示した４本のグラフである。
【００７９】
また、図１４（ｂ）には、図１４（ａ）の合計反射スペクトルの４本のグラフから、それぞれの屈折率結合係数κを横軸にとり、最大反射率と反射スペクトル帯域幅（反射率が最大値の１／２以上を満たす波長幅）を縦軸にとった、２組のプロットを示す。黒の菱形◆が最大反射率のプロットで、目盛りは左の縦軸にとり、黒四角■が反射スペクトル帯域幅（半値全幅：ｎｍ）のプロットで、目盛りは右の縦軸にとっている。
【００８０】
前述したとおり、高い戻り光耐性を得るためには合計反射スペクトルにおいて最大反射率を大きくする必要があり、さらに同時にＤＢＲレーザのマルチモード発振を抑制するためには、反射スペクトル帯域が急峻で狭帯域であることが望ましい。
【００８１】
しかし、図１４（ａ）、（ｂ）から、ＤＢＲの屈折率結合係数が大きいとブラッグ波長における最大反射率が増加するだけでなく、反射スペクトル帯域幅も拡大する傾向が確認できる。図１４（ｂ）に示す通り、例えばκ＝40ｃｍ-1の場合、最大反射率が約14％、反射帯域幅（半値全幅）が0．87ｎｍであるのに対して、κ＝60ｃｍ-1の場合、最大反射率35％、半値全幅は1．13ｎｍとなり、反射率とともに反射スペクトル帯域も増加してしまっている。
【００８２】
図１５には、ＤＢＲレーザのＤＢＲ領域の屈折率結合係数κ（横軸）を図１４と同様に40〜100ｃｍ-1の４通りに変化させた場合の、１次モードと２次モードのミラー損失差（縦軸）を示す。この結果からも明らかなように、屈折率結合係数κが大きくなるほど１次モードと２次モードのミラー損失差が小さくなり、不安定な単一モード動作となる傾向が確認できる。これは前述したとおり、屈折率結合係数κの増加に伴いＤＢＲの反射スペクトルの帯域幅が増大し、複数の発振モードが反射帯域に含まれ発振しやすい条件となるためである。
【００８３】
以上の結果から、ＤＢＲレーザにおいて高出力動作時においても高い戻り光耐性を持たせるためＤＢＲ反射率を増加する場合、反射スペクトル帯域の増加を避けられず、マルチモード動作の可能性が増す問題があるため、ＳＯＡ集積型ＥＡＤＢＲレーザの戻り光耐性の増加には限界があった。
【００８４】
（実施例３のＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザの構造と動作）
このような課題を解決するための、本実施例３に係る光送信機の構造と動作を、以下の図１６〜１８に説明する。本実施例３ではＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザにおいて、ＤＢＲレーザの前方ＤＢＲと後方ＤＢＲに異なる周期の回折格子を導入する。これにより、前方ＤＢＲと後方ＤＢＲの反射帯域の中心波長（ブラッグ波長）をずらす（異ならせる）ことができ、前方ＤＢＲの高反射率化による戻り光耐性の向上と同時に、前後のＤＢＲの合計の反射スペクトルを狭帯域化することができ、シングルモード安定性を向上させることができる。
【００８５】
図１６（ａ）、（ｂ）には、ＤＢＲレーザの前後２つのＤＢＲのブラッグ波長が、前後のＤＢＲで同一である場合（図１６（ａ）、比較例）と、前後のＤＢＲで異なる場合（図１６（ｂ）、本実施例３）のそれぞれについて、前後２つのＤＢＲのそれぞれの反射スペクトルを示している。図１６（ｃ）、（ｄ）には、図１６（ａ）、（ｂ）に対応する合計反射スペクトルを示している。
【００８６】
図１６の２つのＤＢＲレーザでは、前後のＤＢＲの屈折率結合係数κを同じ80ｃｍ-1とし、前後のＤＢＲの領域長をそれぞれ150μｍと300μｍとしている。一方、前後の２つのＤＢＲの回折格子周期については、比較例の図１６（ａ）では同じ回折格子周期としているが、本実施例３の図１６（ｂ）では、後方ＤＢＲの回折格子周期を前方ＤＢＲのそれよりも大きくしてある。逆に、後方ＤＢＲの回折格子周期を、前方ＤＢＲの回折格子周期よりも小さくして異ならせてもよい。
【００８７】
その結果、図１６（ｂ）に示されるように、後方ＤＢＲのブラッグ波長（点線のピーク波長、約1550．75ｎｍ）は、前方ＤＢＲのブラッグ波長（実線のピーク波長、約1550ｎｍ）よりも0．75 ｎｍ長い波長になるように調整されている。ＤＢＲの回折格子周期の大小が逆の場合には、後方ＤＢＲのブラッグ波長は、前方ＤＢＲのブラッグ波長よりも短い波長になる。
【００８８】
また、後方ＤＢＲのブラッグ波長（約1550．75ｎｍ）は、前方ＤＢＲのストップバンド（実線のスペクトルの両矢印で示す帯域幅、約1548．5〜1551．5ｎｍ）の帯域内になるように調整されている。
【００８９】
図１６（ｃ）、（ｄ）に示される、比較例と本実施例３の合計反射スペクトルを比較する。比較例の図１６（ｃ）に示す、前後のＤＢＲの回折格子周期を同一周期としたＤＢＲレーザの場合では、最大反射率0．53、反射帯域（半値全幅）1．41ｎｍである。これに対し、本実施例３の図１６（ｄ）に示す、前後のＤＢＲの回折格子周期にブラッグ波長差0．75ｎｍに相当する差を設けたＤＢＲレーザの場合では、最大反射率0．48、反射帯域（半値全幅）1．08ｎｍである。
【００９０】
比較例、図１６（ｃ）の同一回折格子周期ＤＢＲの場合に対して、本実施例３、図１６（ｄ）の前後のＤＢＲの回折格子周期に差を設けた場合の方が、最大反射率は低下しているものの、反射スペクトルが狭帯域化し急峻なスペクトルとなっている。
【００９１】
図１７には、本実施例３のκ＝80ｃｍ-1のＤＢＲレーザにおいて、前後のＤＢＲの回折格子周期を変えて、前後のＤＢＲのブラッグ波長差を変えた場合のモード間ミラー損失差を示す。図１７横軸に示すブラッグ波長差ΔλBの４通りの値に対して、１次モードと２次モードのミラー損失差（図１７縦軸）を、４つの黒四角■で示している。ブラッグ波長差を大きくすることで１次モードと２次モードのミラー損失差を拡大でき、安定した単一モード動作が実現できることがわかる。
【００９２】
特に図１７において、κ＝80 ｃｍ-1としてブラッグ波長差を1．1ｎｍ程度（図１７のグラフの右端の黒四角■）まで拡大すると、１次−２次モード間のミラー損失差を40ｃｍ-1近くまで増加させることができる。これは、図１５に示した通り、一般的なＤＢＲレーザで採用される屈折率結合係数κ＝40ｃｍ-1の場合と同程度のミラー損失差であり、実用上十分な単一モード安定性が獲得できる。
【００９３】
図1８（ａ）は、本実施例３において屈折率結合係数κ＝80 ｃｍ-1の場合、図1８（ｂ）はκ＝100 ｃｍ-1の場合の、前後の２つのＤＢＲの合計スペクトルを示す。図1８（ａ）、（ｂ）のそれぞれの図には、前後の２つのＤＢＲの間のブラッグ波長差を0．15〜1．1 ｎｍの４通りに変えた場合の、合計反射スペクトルの４本のグラフを示している。
【００９４】
図１４（ａ）からも明らかなように、本発明の効果発揮のためには屈折率結合係数が最低でも40ｃｍ-1以上は必要であり、より屈折率結合係数κの大きいほうが、急峻で高反射率な反射スペクトルが得られる。しかし、図1８（ｂ）に  は、屈折率結合係数κが大きいほど、ストップバンド外側のリップルの反射率も高くなる傾向が示されている。これは、ブラッグ波長シフトによって、後方ＤＢＲの短波側のリップルが前方ＤＢＲのブラッグ波長に近づき、リップルの反射率が増加してしまうためであり、前方ＤＢＲの反射率が大きいほど顕著に表れる。屈折率結合係数が高すぎる場合はストップバンド外側のリップル反射率が高くなるため、単一モード性が劣化することが懸念される。したがって、本発明の効果は屈折率結合係数が40〜100 ｃｍ-1のときに最も発揮される。
【００９５】
また、図１６（ｂ）、（ｄ）からも理解されるとおり、前後のＤＢＲのブラッグ波長差が拡大し、前後の反射スペクトルの重なりがなくなってしまうと、ＤＢＲレーザの共振器閉じ込め効果が失われ発振動作ができなくなる。前後のＤＢＲでブラッグ波長に差を設けた場合には、合計反射率は前後のＤＢＲのブラッグ波長差が前方ＤＢＲのストップバンドの帯域幅の１／２に達した点、すなわち後方ＤＢＲのブラッグ波長が前方ＤＢＲのストップバンド端に達した点から急速に合計スペクトルの最大反射率が低下してしまう。したがって、前後２つのＤＢＲのブラッグ波長差は前方ＤＢＲのストップバンドの帯域幅の１／２以下とした場合、本発明の効果が最も発揮される。
【００９６】
以上の点を踏まえ、ＳＯＡ集積型ＥＡＤＢＲレーザの試作を行った。
【００９７】
（実施例３のＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザの試作と評価）
図１９には、本実施例３に係るＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザ１９００の、光軸に沿った基板断面図を示す。
【００９８】
本実施例３のＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザ１９００は、長さ300μｍの活性領域４４０と、長さ150μｍ（前）および300μｍ（後）の２つのＤＢＲ領域４４２，４４１で構成されるＤＢＲレーザ４４を有する。活性領域４４０とＥＡ変調器４２との間に位置する長さの短いＤＢＲ領域４４２のＤＢＲが、前方（第１の）ＤＢＲであり、左端の反射端面側に位置する長さのより長いＤＢＲ領域４４１のＤＢＲが、後方（第２の）ＤＢＲである。
【００９９】
ここで、本発明のように戻り光耐性を向上させるため、前後のＤＢＲの反射率を増加させた場合には、前後のＤＢＲにより光が強く共振器内部に閉じ込められるため、前方ＤＢＲからの光出力が低下してしまう。そこで前方と後方のＤＢＲ領域長を調整し、前後からの光出力比を調整することで前方からの光出力の低下を抑制することができる。また、前方からの光出力低下を抑制するために活性領域長を大きくし高出力特性を維持することも可能である。図１２（ｃ）においても説明したように、実施例３のＤＢＲレーザ４４にも位相調整領域４４６、位相調整電極４４７を設けてよい。
【０１００】
また、ＤＢＲレーザ４４の前方には、実施例１（図４〜８）と同じく、長さ150μｍのＥＡ変調器４２と、長さ50μｍのパッシブ導波路４９、長さ200μｍのＳＯＡ４３が集積されて、全体としてモノリシック集積素子を構成している。
【０１０１】
本実施例３では、前方ＤＢＲ４４２の回折格子は周期240．000ｎｍ、後方ＤＢＲ４４１の回折格子周期を240．183ｎｍとし、前後のＤＢＲのブラッグ波長の差が約1．2ｎｍとなるように設計した。これにより、前後２つのＤＢＲの合計の反射スペクトルを狭帯域化することができ、シングルモード安定性を向上させることができる。また、前後のＤＢＲの屈折率結合係数は80ｃｍ-1としている。
【０１０２】
本実施例３のＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザ１９００の作製プロセスについては、実施例１で示したプロセスと同一である。ただし、各領域のバットジョイント成長後に行うＤＢＲの回折格子構造の形成時に、前述したような前後異なる回折格子周期のＤＢＲパターンを形成している。
【０１０３】
一般的にＤＢＲレーザの回折格子は半導体層をエッチングして形成され、前後のＤＢＲの回折格子は同一プロセスで一括形成されるため、回折格子の深さは前後で別々に調整することはできない。したがって、屈折率結合係数κも前後のＤＢＲで同一の値となる。
【０１０４】
これに対して回折格子周期は、回折格子のパターン描画で任意の周期を形成できるため、前後のＤＢＲで独立した異なる回折格子周期の導入は容易に可能である。本実施例３で試作した素子においても、描画パターンを変更するだけで回折格子周期の異なる２つのＤＢＲの作製が可能であり、作製の工程やコストは一切変更を必要としない。
【０１０５】
また、本実施例の効果を確認するための比較例１として、前後のＤＢＲで回折格子周期を同一にしたＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザも同一基板上に作製した。各領域長や屈折率結合係数等は、本実施例３に係るデバイスと同一である。
【０１０６】
このように作製した二つのＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザについて、その発振スペクトルを確認した。ＤＢＲレーザの活性領域とＳＯＡ領域に駆動電流80ｍＡ、40ｍＡをそれぞれ注入している。
【０１０７】
本実施例３に係る前後のＤＢＲにブラッグ波長差を設けた素子では、安定した単一モード動作が得られており、１次モードと２次モードのＳＭＳＲは45ｄＢが確認された。一方、前後のＤＢＲの回折格子周期を同一とした比較例１の素子では、マルチモードでの発振が確認され、光ファイバ伝送用の光源としての適用が困難であった。このことから、前後のＤＢＲで同一周期の回折格子を用いた場合は、比較的小さい屈折率結合係数を採用しない限り単一モードでの安定動作が困難であることが確認された。
【０１０８】
また、同じく本実施例３の優位性を確認するために、一般的な屈折率結合係数である40ｃｍ-1を採用し、前後のＤＢＲで同一の回折格子周期のＤＢＲを採用したＳＯＡ集積型ＥＡＤＢＲレーザを比較例２として作成し、これを用いて伝送特性の比較を行った。
【０１０９】
ここで比較例２のκ＝40ｃｍ-1の素子においても、前後のＤＢＲ長、活性領域長、ＥＡ変調器長、ＳＯＡ長はすべて本実施例３の素子と同一の長さである。いずれのデバイスもＤＢＲレーザ駆動電流を120ｍＡ、ＳＯＡ駆動電流を80ｍＡとしたときの光出力強度を比較した。
【０１１０】
すると、比較例２のκ＝40ｃｍ-1の素子では、光出力強度13．5 ｄＢｍであったのに対し、本実施例３のブラッグ波長差を設けたκ＝80ｃｍ-1の素子では、光出力強度12ｄＢｍであることが確認された。本実施例３に係る素子のほうが出力がやや小さいのは、回折格子の反射率増加により前方からの光出力が低下したためである。
【０１１１】
この動作条件において、１０Ｇｂｉｔ／ｓの変調特性評価を行った。アイ波形から10 Ｇｂｉｔ／ｓのマスクテストを行ったところ、比較例２のκ＝40ｃｍ-1の素子ではマスクテストをクリアできなかったのに対して、本実施例３のκ＝80ｃｍ-1でブラッグ波長差を設けた素子では明瞭なアイ開口が確認され、マスクマージン10％でマスクテストをクリアすることが確認された。このことから、10 ｄＢｍを超える高出力動作時には戻り光も大きく増加し、ＤＦＢレーザよりも高い戻り光耐性を有するＤＢＲレーザにおいても動作が不安定化しやすい。これに対してＤＢＲレーザのκを増加させることで戻り光耐性をさらに向上させることができる。
【０１１２】
最後に１０Ｇｂｉｔ／ｓの光ファイバ伝送特性評価を行った。変調信号はＮＲＺ、２31−１段周期の疑似ランダム信号（ＰＲＢＳ）を用い、ＥＡ変調器へのバイアス電圧は1．5 Ｖ、振幅電圧は2.0 Ｖとした。40ｋｍ伝送時のビットエラーレート評価を行ったところ、比較例２のκ＝40ｃｍ-1の素子ではエラーフリー動作に達することができなかった。これに対して、本実施例３のκ＝80ｃｍ-1で前後ＤＢＲにブラッグ波長差を設けた素子では、ビット誤り率１０-12に達するエラーフリー動作が確認され、光ファイバ伝送用光源として十分な特性が得られた。
【産業上の利用可能性】
【０１１３】
以上述べたように本発明では、高出力動作時においても高い戻り光耐性を有しており、光波形品質と伝送特性の劣化を抑制することが可能な光送信機を提供することができ、またアレイ化多波長光源においても光出力強度を揃えることが可能な光送信機を提供することができる。
【符号の説明】
【０１１４】
１０  ＥＡＤＦＢレーザ
１１、３１  ＤＦＢレーザ
１２、３２、４２  ＥＡ変調器
１４、３４、３６、４４０  活性層（活性領域）
１５、３５  光吸収層
１７、４７１、４７２  回折格子
３０  ＳＯＡ集積ＥＡＤＦＢレーザ
３３、４３  ＳＯＡ
４００、６００、７００、８００、１９００  ＳＯＡ集積ＥＡＤＢＲレーザ
４０１  ｎ−ＩｎＰ基板
４０２  ｐ−ＩｎＰクラッド層
４４  ＤＢＲレーザ
４４１、４４２  ＤＢＲ領域
４４６  位相調整領域
４２１、４３１、４４３、４４４、４４５、４４７、４９１  電極
４９  パッシブ導波路
９１  合波器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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