(57)【要約】【課題】ホットスタンプ（感熱転写）による被転写体へのホログラム画像形成時に、ホログラム転写箔の基材であるＰＥＴフィルムの降伏点を超える強さで加圧せざるを得ない加工条件においても、転写層（ホログラム画像）の伸び量の制御によるホログラム画像のサイズの調整が容易となるホログラム転写箔の改良。【解決手段】基材の一方の面上に、少なくとも剥離層と、ホログラム形成層と、反射層と、接着層と、を、この順で積層してなるホログラム転写箔であって、ＰＥＴフィルムからなる基材の表面に、平均分子量（Ｍｗ）が１，０００，０００〜２，０００，０００のアクリル樹脂層が形成されてなる構成。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の一方の面上に、少なくとも剥離層と、ホログラム形成層と、反射層と、接着層と、を、この順で積層してなるホログラム転写箔であって、
ＰＥＴフィルムからなる基材の表面に、平均分子量（Ｍｗ）が１，０００，０００〜２，０００，０００のアクリル樹脂層が形成されてなることを特徴とするホログラム転写箔。
【請求項２】
前記アクリル樹脂層が剥離層を兼ねる構成であることを特徴とする請求項１記載のホログラム転写箔。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ホログラム転写箔の改良に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、被転写体にホログラム画像（レリーフタイプの回折格子パターン，ＯＶＤ（Optical Variable Device）パターンを含めた総称として、以後「ホログラム」と称する）をホットスタンプにより転写形成して、装飾効果，偽造防止効果を付加することを目的としたホログラム転写箔が多用されている。（例えば、特許文献１，２，３参照）
ホログラム転写箔１０は、一般的には、基材１１，剥離層１２，ホログラム形成層１３，反射層１４（保護層１５），接着層１６からなる層構成（図２参照）であり、基材１１と剥離層１２の界面で剥離して剥離層１２以降の層（１２，１３，１４，１５，１６）が転写層２０として被転写体（図示せず）に転移して転写形成が行なわれ、剥離層１２は転写層２０の保護層として機能することになる場合が多い。基材１１としては、ＰＥＴに代表されるプラスチックフィルムが用いられる。
【０００３】
転写形成にあたってのサーマルヘッドによる加熱エンボスの際、基材に降伏点以上の力がかかった場合、基材の伸び量が図３に示すグラフの様に不安定（外力に対して比例しない）となる。金属材料が弾性変形領域を超えて塑性変形する挙動を示す場合と類似した現象を呈する。
【０００４】
熱可塑性樹脂では試験温度の上昇に伴って降伏応力と引張強度が極端に低下し、反対に伸びが極端に増大することが確認されている。同図のグラフでは、曲線ａ→ｂ→ｃと試験温度が高くなるに従い、降伏点が下がり、応力（試験力：縦軸）の増加に伴う伸び量（横軸）の増大が顕著となる。
【０００５】
被転写体への転写層形成の際、密着性向上，被転写体と転写層との間での段差の解消などを主目的として、貼付機と呼ばれる装置により転写層の加圧処理が行なわれる場合がある。加圧処理においては、転写層のホログラム画像を延ばしてサイズを微調整する意味合いもある。
【０００６】
ホログラム転写箔の基材としてＰＥＴフィルムを採用した場合、ＰＥＴフィルムの降伏点を超える強さで加圧されると、転写層の伸び量の制御が不安定となり、ホログラム画像のサイズが安定せず、被転写体上での配置位置，ピッチでのムラに起因する現象が確認されている。（図４参照）
図４は、左側の転写層２１には基材に降伏点程度の強度での加圧により転写形成され、右側の転写層２２には基材に降伏点を超える強度での加圧により転写形成された状態を示している。右側の転写層２２の上下方向での伸びが大きく、ハート模様で示されるホログラム画像の伸びも大きくなっており、転写状態が不揃いであることが図示される。
【０００７】
貼付機による加圧処理時の強度には誤差があり、作業条件（環境温度）や加熱温度の変更に伴い、都度の厳格な制御は困難な現状となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００３−２５５１１５号公報
【特許文献２】特開２０１５−６６８８３号公報
【特許文献３】特開昭６１−２０８０７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、ホットスタンプ（感熱転写）による被転写体へのホログラム画像形成時に、ホログラム転写箔の基材であるＰＥＴフィルムの降伏点を超える強さで加圧せざるを得ない加工条件においても、転写層（ホログラム画像）の伸び量の制御によるホログラム画像のサイズの調整が容易となり、被転写体上での配置位置，ピッチでのムラを解消する上で有効なホログラム転写箔の改良策を提案することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明によるホログラム転写箔は、
基材の一方の面上に、少なくとも剥離層と、ホログラム形成層と、反射層と、接着層と、を、この順で積層してなるホログラム転写箔であって、
ＰＥＴフィルムからなる基材の表面に、平均分子量（Ｍｗ）が１，０００，０００〜２，０００，０００のアクリル樹脂層が形成されてなることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明のホログラム転写箔を用いたホットスタンプによる被転写体へのホログラム画像形成時に、ホログラム転写箔の基材であるＰＥＴフィルムの降伏点を超える強さで加圧した場合であっても、転写層（ホログラム画像）の伸び量の制御によるホログラム画像のサイズの調整が容易となり、被転写体上でのホログラム画像の配置位置，ピッチでのムラが解消されることになる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明によるホログラム転写箔の一例を示す断面説明図。
【図２】従来のホログラム転写箔を示す断面説明図。
【図３】ホログラム転写箔の基材（熱可塑性樹脂）にかかる応力（試験力：縦軸）の増加に伴う伸び量（横軸），降伏点の関係を示すグラフ。（従来技術）
【図４】従来のホログラム転写箔で転写形成されるホログラム画像のサイズが不安定な状態を示す説明図。
【図５】本発明によるホログラム転写箔の他例を示す断面説明図。
【図６】ホログラム転写箔の基材（熱可塑性樹脂）にかかる応力（試験力：縦軸）の増加に伴う伸び量（横軸），降伏点の関係を示すグラフ。（本発明）
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ説明する。なお、各図において、同様または類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。また、説明の便宜上、実際の縮尺とは異なるサイズで誇張して図示する場合もある。各図面は本発明の実施形態の一例を示すもので、本発明は以下の説明・図示によって限定されるものではない。
【００１４】
図１は、本発明によるホログラム転写箔の一例を示す断面説明図である。
図１は、ＰＥＴフィルムからなる基材１１に塗布形成されるアクリル樹脂層１８が（図２の従来構成に示す）剥離層１２を兼ねる構成に係る図示であるが、図５に示す他例の様に、アクリル樹脂層１８と剥離層１２は別々の層構成であっても良い。
【００１５】
＜基材１１＞
基材１１は厚み１０〜５０μｍ程度のものが好ましく、ＰＥＴフィルムは耐熱性，物理的強度，平滑性，フィッシュアイが少ないなどの点で好適に用いられる。
【００１６】
ＰＥＴフィルムは、製造メーカーやグレードに応じて異なる引張り降伏応力が４８〜７３（ＭＰａ）の範囲である。
＜アクリル樹脂層１８＞
アクリル樹脂層１８は、製造メーカーやグレードに応じて異なる引張り降伏応力が６５〜７７（ＭＰａ）の範囲である。
【００１７】
アクリルアクリレート樹脂の場合、高分子量化により、感光性レジスト，コーティング材，接着剤等の種々の分野において、溶剤を揮発させた後の粘着性が低く、硬化時の体積収縮率が小さくなり、表面硬度，耐擦傷性，耐磨耗性，可とう性，耐熱性，機械的強度，基材との密着力，接着強度，初期接着性，耐薬品性，耐水性，耐侯性に優れた硬化性樹脂を提供する上で優位性があるとされている。
保護膜としての硬化塗膜では、低分子量化合物の含有量が多くなると、紫外線による硬化速度が遅くなる傾向が高くなり、硬化塗膜全体としての強靭性が減少することが確認されている。強靭で伸びにくい硬化塗膜のアクリル樹脂層を形成する上での指標として、本発明では平均分子量（Ｍｗ）が１，０００，０００〜２，０００，０００のものを選定する。
【００１８】
＜剥離層１２＞
剥離層１２はホログラム形成層が効率的に被転写体に転移するために設けられるもので、ホットスタンプ時の加熱に応じて活性化し、基材１１（アクリル樹脂層１８を含む）との界面で剥離して、転移後のホログラム画像を含む転写層２０を保護する役割も果たす。
【００１９】
剥離層１２の材質としては、熱可塑性アクリル樹脂，塩化ゴム系樹脂およびそれら樹脂と併用し得る樹脂としてニトロセルロース，アセチルセルロース，セルロースアセテートブチレート，ポリスチレン，塩化ビニル，塩酢ビ系樹脂などが使用できる。さらにはメラミン樹脂，アルキド樹脂，エポキシ樹脂，尿素樹脂，アクリル樹脂などの熱硬化型樹脂の単独または混合系での使用も可能であり、シリコーン樹脂，パラフィンワツクス，反応型フツ素樹脂などの使用も可能である。
剥離層１２は、選択された材料をグラビア法，マイクログラビア法など既知のコーティング手段により、０．１〜１０μｍ程度の厚さで基材１１（アクリル樹脂層１８）上に塗布形成される。
【００２０】
＜ホログラム形成層１３＞
ホログラム形成層１３は、光硬化性樹脂または熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂を用い、所望の微細な凹凸パターンを賦型して光硬化させることで形成する。すなわち、ホログラム形成層１３は、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂の硬化物，熱可塑性樹脂の塑性成形物よりなり、ホログラム（回折格子，ＯＶＤを含む）を構成する微細凹凸パターンを形成してなる。
【００２１】
ホログラム（光の干渉を利用して、レーザーなどのコヒーレント光により立体画像を記録・再生），回折格子（光の回折を利用して、機械的あるいは電子線などのビーム描画による高精細で多彩な画像表現），ＯＶＤ（干渉，回折の原理以外も含む光学的な画像表現）は、ホログラム形成層１３表面にレリーフ（凹凸）の形態で複製用スタンパにより形成され、レリーフ表面には視覚性を向上するための反射層１４が追従して成膜される。
【００２２】
ホログラム形成層１３に光硬化性樹脂を用いた場合、硬化した樹脂の屈折率は１．５程度を示す。また、このような光硬化性樹脂をホログラム形成層１３に用いると、ホログラム転写箔１０を被転写体へ熱転写する際に加わる熱と圧力による、ホログラム形成層１３に形成した微細な凹凸パターン形状の変形が起き難くなり、ホログラム画像の視認性も良くなる。
【００２３】
ホログラム形成層１３の膜厚としては、０．８μｍ以上１．５μｍ以下の範囲内であることが好適である。
【００２４】
これは、ホログラム形成層１３の膜厚が０．８μｍ未満であると、ホログラム形成層１３の耐熱性が劣り、微細な凹凸パターンが崩れてしまうなどの問題が生じるためである。また、ホログラム形成層１３の膜厚が１．５μｍより厚いと、転写時の箔切れ性や転写性が劣化し、正確な転写ができなくなってしまうなどの問題が生じるためである。
【００２５】
また、ホログラム転写箔１０は、部分的かつ正確に熱転写させるため、ホログラム形成層１３には、剥離層１２と同様、箔キレ性が求められる。そのため、上記した材料にシリカ等の無機微粒子を加えることが、さらに好適である。
【００２６】
光硬化性樹脂は、単官能、または、多官能アクリレートなどの反応性希釈剤と、エポキシアクリレート，ウレタンアクリレート，ポリエステルアクリレートなどのオリゴマーと、ベンゾフェノン系，アセトフェノン系，チオチサントン系などの光重合開始剤と、３級アミン系などの光重合促進剤を主成分とする。
【００２７】
光硬化性樹脂の未硬化塗膜面に光を照射すると、末端のメタクリロイル基がラジカル重合反応を起こし、架橋して硬化する。また、分子内の水酸基の水素結合による強い分子間力が作用し、光照射後は硬く、耐熱性に優れた硬化物が出来上がる。これは、分子内の水酸基が多ければ多いほど効果的である。
【００２８】
熱硬化性樹脂としては、エポキシ基を有するエポキシ樹脂や、グリシジル基を有する（メタ）アクリレートにポリアミドを添加して架橋させたエポキシ樹脂やアクリル樹脂、反応性水酸基を有するアクリルポリオールやポリエステルポリオール等にポリイソシアネートやポリアミドを添加して架橋させたウレタン樹脂，メラミン樹脂，フェノール樹脂などを用いることが可能である。
熱可塑性樹脂としては、アクリル系樹脂，エポキシ系樹脂，セルロース系樹脂，ビニル系樹脂などが好適であり、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ），ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ），ポリカーボネート（ＰＣ），酢酸セルロース，酢酸酪酸セルロース，酢酸プロピオン酸セルロース，ニトロセルロース，ポリエチレン（ＰＥ），ポリプロピレン（ＰＰ），アクリルスチレン共重合体（ＡＳ），塩化ビニル，ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）などが挙げられる。
【００２９】
＜反射層１４＞
反射層１４は、材料として、透明被膜材料、または、金属被膜材料等を用いることが可能である。
【００３０】
反射層１４の材料として半透過性の透明皮膜材料を用いる場合、ホログラム形成層１３と反射層１４の屈折率差が必要となる。
【００３１】
ホログラム形成層１３と反射層１４の屈折率差は、０．５より小さいと、ホログラム形成層１３に形成した微細な凹凸パターンによる回折光の視覚効果が弱まってしまう。そのため、ホログラム形成層１３と反射層１４の屈折率差は、０．５以上であることが好適であり、透明材料の屈折率が２．０以上である、ＺｎＳ、ＴｉＯ２、ＰｂＴｉＯ２、ＺｒＯ、ＺｎＴｅ、ＰｂＣｒＯ４等を用いることがより好ましい。
【００３２】
また、反射層１４の膜厚は、５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲内とすることが好適である。
【００３３】
これは、反射層１４の膜厚が５０ｎｍ未満であると、光の反射にムラが生じてしまい十分な視覚効果を発揮することができなくなってしまうためである。また、反射層１４の膜厚が１００ｎｍよりも大きいと、転写時の箔キレ性が劣化してしまい、正確な転写ができなくなってしまうためである。
【００３４】
また、反射層１４の材料として金属皮膜材料を用いる場合は、クロム，ニッケル，アルミニウム，鉄，チタン，銀，金，銅の中から選択される、単体、または、それらの混合物、合金等を用いることが可能である。
【００３５】
この場合も、反射層１４の膜厚は、５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲内とすることが好適である。
【００３６】
これは、反射層１４の膜厚が５０ｎｍ未満であると、光の反射にムラが生じてしまい十分な視覚効果を発揮することができなくなってしまうためである。また、反射層１４の膜厚が１００ｎｍよりも大きいと、転写時の箔キレ性が劣化してしまい、正確な転写ができなくなってしまうなどの問題が生じるためである。
【００３７】
反射層１４の形成にあたっては、真空蒸着法，スパッタリング法などの真空製膜手段が好適に採用される。
【００３８】
反射層１４は、ホログラム形成層１３のレリーフ形成面の全面に形成する以外に、意図的にパターニングして形成する構成も採用され得る。
【００３９】
ホログラム画像上の反射層（一般に、銀色に光って見える）を部分的に除外したパターン状とすることにより、銀色部分の有無を確認することでも真贋判定が可能となるなど、更なるセキュリティ性の向上に寄与することになる。
【００４０】
反射層１４のパターニングにあたっては、パターンに応じた開口を有するマスク越しに蒸着する手法以外に、以下に例示する公知技術の採用が可能である。
（１）水洗インキを基材上にネガパターン（パターン状に反射層を形成する以外の箇所）で印刷しておき、その上から全面に蒸着，スパッタリングにより反射層を形成し、印刷されてある水洗インキを水で洗い流す際に水洗インキ上に成膜された反射層を同調して除去する水洗シーライト加工。
（２）全面に蒸着，スパッタリングにより形成した反射層上に、マスク剤をポジパターン（パターン状に反射層を形成する箇所）で印刷し、マスク剤で印刷されていない部分を腐食剤により腐食させて除去することによるパターニング。（エッチング加工）
（３）全面に蒸着，スパッタリングにより形成した反射層のうち、除去したい部分に強いレーザを当てて、反射層を選択的に破壊することによるパターニング。（レーザ加工）
【００４１】
＜保護層１５＞
保護層１５としては、耐熱性，耐引掻き性，耐薬品性，透明性に優れているポリエステル樹脂，エポキシ樹脂，ウレタン樹脂，塩化樹脂等の熱硬化性樹脂や熱硬化性樹脂が使用できる。その厚さとしては、１〜５μｍが適当である。
【００４２】
＜接着層１６＞
接着層１６は、材料として、プロプロピレン樹脂，ポリエチレンテレフタラート樹脂，ポリアセタール樹脂，ポリエステル樹脂等の熱可塑性樹脂等を用いることが可能である。
また、接着層１６の材料としては、透明被膜材料や、その他の樹脂との密着力、加刷性のあるものであれば、特に限定はしない。また、接着層１６の材料には、熱転写の際の箔キレ性も無ければならないので、上記の樹脂に、シリカ等の無機材料を含めるとなお良い。
【００４３】
接着層１６の膜厚は、特に限定は無いが、０．５μｍ以上１．５μｍ以下の範囲内程度であると好適である。
これは、接着層１６の膜厚が０．５μｍよりも小さいと、被転写体の表面が粗い場合に、被転写体と十分な接着強度を保つことができないなどの問題が生じる可能性があるためである。また、接着層１６の膜厚が１．５μｍよりも大きいと、転写時の熱伝導が均一にならず、転写不良を起こしたり、転写時の箔キレ性が悪くなったり、正確な転写ができないなどの問題が生じてしまうためである。
【００４４】
＜ホログラム転写箔１０＞
以下、ホログラム転写箔１０の製造方法について説明する。
まず、基材１１上に、アクリル樹脂層１８，剥離層１２，ホログラム形成層１３を順に、公知の湿式コーティング方法により塗工した後、溶媒成分を乾燥除去する。ただし、ホログラム形成層１３は次工程の凹凸パターン形成と同時に作製することも可能である。
【００４５】
ここで、湿式コーティング方法としては、ロールコート，グラビアコート，リバースコート，ダイコート，スクリーン印刷，スプレーコートなどを用いることが可能である。これらの湿式コーティング方法を用いて、基材１１の片面に、アクリル樹脂層１８の材料，剥離層１２の材料，レリーフ層１３の材料を塗布する。溶媒成分を乾燥させる方法としては、熱風乾燥、熱ロール乾燥、赤外線照射など、公知の乾燥法を用いることが可能である。
【００４６】
次に、エンボスロールに巻きつけた所望の凹凸パターンを有する金属版を用いて、ホログラム画像を構成するレリーフパターン成形を行なう。
【００４７】
ここで、ホログラム形成層１３に熱硬化性樹脂を用いる場合は、加熱した金属版をホログラム形成層１３に押圧することで、ホログラム形成層１３に凹凸パターンを形成する。
【００４８】
一方、ホログラム形成層１３に光硬化性樹脂を用いる場合は、金属版の押圧と同時に光照射を行い、樹脂を硬化させて、ホログラム形成層１３にパターンを形成する。
【００４９】
次に、凹凸パターン成形したホログラム形成層１３に反射層１４を積層させる。
【００５０】
ここで、反射層１４を設ける方法としては、例えば、真空蒸着，スパッタリング等の気相堆積法を用いることが可能である。この際、ホログラム形成層１３と反射層１４との密着性を上げるため、ホログラム形成層１３上にコロナ処理をしておくとより好適である。
【００５１】
次に、反射層１４上に、上記と同様に公知の湿式コーティング方法を用いて、保護層１５，接着層１６の材料を塗工した後、溶媒成分を乾燥除去する。このとき、接着層１６を所望の巾にスリットすることで、ホログラム転写箔１０を製造する。
【実施例】
【００５２】
基材として、ＰＥＴフィルム（３８μｍ）を使用した。
【００５３】
ＰＥＴフィルムの片面に、剥離層をグラビアコーティングにより厚さ０．５μｍで塗布形成した。
【００５４】
剥離層の主材料には、アクリル系樹脂（三菱レイヨン（現・三菱ケミカル）製  ＢＲ−８８：平均分子量（Ｍｗ）＝１５０，０００）を用いた。
【００５５】
剥離層上に、ホログラム形成層としてウレタン系二液硬化樹脂をグラビアコーティングにより塗布し、その表面に回折格子の凹凸パターンを有する金型（スタンパ）を押圧（加熱条件：２００℃）して、凹凸パターンの逆型を転写形成した後、ウレタン系二液硬化樹脂層を硬化させて、回折格子パターンを形成した。
【００５６】
回折格子パターンの凹凸面の全面に反射層となるアルミニウムを５０ｎｍ厚で蒸着形成した。
【００５７】
反射層上にマスク剤を特定ポジパターンで印刷形成し、マスク剤の形成されていない部分の反射層を腐食剤により腐食除去することにより、反射層を特定パターニングするエッチング処理を行なった。
【００５８】
反射層上に、保護層，接着剤層を順次塗布形成した。
【００５９】
使用した接着剤は、アクリル樹脂を主成分として、中にシリカフィラーを分散したものであり、グラビアコーティングにより２〜６μｍの厚さで塗布形成される。
【００６０】
以上の様にして得られたホログラム転写箔について、恒温槽が付属している引張試験機を用いて、応力−伸び量を計測した。
【００６１】
ホログラム転写形成時の条件に近づけるため、槽内を90℃に保った条件で測定した結果、図６のグラフに示す様に、降伏点を超える引張応力に対する伸び量が抑制されるプロファイルのグラフ曲線（右上がりの勾配が大きくなる）となった。
【００６２】
ＰＥＴフィルムにアクリル系樹脂を含有する剥離層を塗布していない従来構成のグラフ曲線（点線）に比べて、引張応力による伸び量の制御が容易となる。
【００６３】
ホログラム転写箔を１２ｍｍ幅にスリットし、ホログラム転写（貼付機による加圧）を行なったところ、ホログラム画像の伸びにばらつきが見られず、転写層のサイズ，配置ピッチが安定した転写形成が可能であった。
【符号の説明】
【００６４】
１０  ホログラム転写箔
１１  基材
１２  剥離層
１３  ホログラム形成層
１４  反射層
１５  保護層
１６  接着層
１８  アクリル樹脂層
２０，２１，２２  転写層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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