(57)【要約】【課題】重合性液晶組成液中での重合性液晶化合物に由来する微細な異物の発生および析出を抑制し、液晶硬化層を作製する場合に配向欠陥を生じ難い重合性液晶組成液を提供すること。【解決手段】溶媒と、前記溶媒に溶解した重合性液晶化合物とを含む重合性液晶組成液を、孔径０．４μｍ以下のフィルターにより濾過することを含む、重合性液晶組成液の濾過方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶媒と、前記溶媒に溶解した重合性液晶化合物とを含む重合性液晶組成液を、孔径０．４μｍ以下のフィルターにより濾過することを含む、重合性液晶組成液の濾過方法。
【請求項２】
重合性液晶組成液が重合開始剤を含有する、請求項１に記載の濾過方法。
【請求項３】
重合性液晶化合物が、下記（１）〜（４）：
（１）ネマチック相を形成し得る化合物である；
（２）該重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）上にπ電子を有する；
（３）長軸方向（ａ）に対して交差する方向（ｂ）上にπ電子を有する；および
（４）長軸方向（ａ）に存在するπ電子の合計をＮ（πａ）、長軸方向に存在する分子量の合計をＮ（Ａａ）として下記式（ｉ）で定義される重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）のπ電子密度：
Ｄ（πａ）＝Ｎ（πａ）／Ｎ（Ａａ）    （ｉ）
と、交差方向（ｂ）に存在するπ電子の合計をＮ（πｂ）、交差方向（ｂ）に存在する分子量の合計をＮ（Ａｂ）として下記式（ｉｉ）で定義される重合性液晶化合物の交差方向（ｂ）のπ電子密度：
Ｄ（πｂ）＝Ｎ（πｂ）／Ｎ（Ａｂ）    （ｉｉ）
とが、
０≦〔Ｄ（πａ）／Ｄ（πｂ）〕≦１
の関係にある、
を全て満たす化合物である、請求項１または２に記載の濾過方法。
【請求項４】
重合性液晶組成液における重合性液晶化合物の含有量が、該重合性液晶化合物を溶解する溶媒の２５℃における該重合性液晶化合物の飽和濃度に対して０．５倍以上である、請求項１〜３のいずれかに記載の濾過方法。
【請求項５】
溶媒と、前記溶媒に溶解した重合性液晶化合物とを含む重合性液晶組成液を、孔径０．４μｍ以下のフィルターにより濾過した後、保管することを含む、重合性液晶組成液の保管方法。
【請求項６】
重合性液晶組成液が重合開始剤を含有する、請求項５に記載の保管方法。
【請求項７】
濾過後の重合性液晶組成液を２０℃以上の温度で保管する、請求項５または６に記載の保管方法。
【請求項８】
濾過後の重合性液晶組成液を暗所で保管する、請求項５〜７のいずれかに記載の保管方法。
【請求項９】
重合性液晶化合物が、下記（１）〜（４）：
（１）ネマチック相を形成し得る化合物である；
（２）該重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）上にπ電子を有する；
（３）長軸方向（ａ）に対して交差する方向（ｂ）上にπ電子を有する；および
（４）長軸方向（ａ）に存在するπ電子の合計をＮ（πａ）、長軸方向に存在する分子量の合計をＮ（Ａａ）として下記式（ｉ）で定義される重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）のπ電子密度：
Ｄ（πａ）＝Ｎ（πａ）／Ｎ（Ａａ）    （ｉ）
と、交差方向（ｂ）に存在するπ電子の合計をＮ（πｂ）、交差方向（ｂ）に存在する分子量の合計をＮ（Ａｂ）として下記式（ｉｉ）で定義される重合性液晶化合物の交差方向（ｂ）のπ電子密度：
Ｄ（πｂ）＝Ｎ（πｂ）／Ｎ（Ａｂ）    （ｉｉ）
とが、
０≦〔Ｄ（πａ）／Ｄ（πｂ）〕≦１
の関係にある、
を全て満たす化合物である、請求項５〜８のいずれかに記載の保管方法。
【請求項１０】
重合性液晶組成液における重合性液晶化合物の含有量が、該重合性液晶化合物を溶解する溶媒の２５℃における該重合性液晶化合物の飽和濃度に対して０．５倍以上である、請求項５〜９のいずれかに記載の保管方法。
【請求項１１】
溶媒と、前記溶媒に溶解した重合性液晶化合物とを含む重合性液晶組成液を、孔径０．４μｍ以下のフィルターにより濾過する工程、
濾過後の重合性液晶組成液を基材上に塗布して塗布層を得る工程、
得られた前記塗布層から溶媒を除去して重合性液晶化合物を配向させる工程、および
配向させた重合性液晶化合物を重合することにより重合性液晶層を硬化させて液晶硬化層を得る工程
を含む、液晶硬化層の製造方法。
【請求項１２】
重合性液晶組成液が重合開始剤を含有する、請求項１１に記載の製造方法。
【請求項１３】
濾過後の重合性液晶組成液を２０℃以上の温度で保管することを含む、請求項１１または１２に記載の製造方法。
【請求項１４】
濾過後の重合性液晶組成液を暗所で保管することを含む、請求項１１〜１３のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１５】
重合性液晶化合物が、下記（１）〜（４）：
（１）ネマチック相を形成し得る化合物である；
（２）該重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）上にπ電子を有する；
（３）長軸方向（ａ）に対して交差する方向（ｂ）上にπ電子を有する；および
（４）長軸方向（ａ）に存在するπ電子の合計をＮ（πａ）、長軸方向に存在する分子量の合計をＮ（Ａａ）として下記式（ｉ）で定義される重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）のπ電子密度：
Ｄ（πａ）＝Ｎ（πａ）／Ｎ（Ａａ）    （ｉ）
と、交差方向（ｂ）に存在するπ電子の合計をＮ（πｂ）、交差方向（ｂ）に存在する分子量の合計をＮ（Ａｂ）として下記式（ｉｉ）で定義される重合性液晶化合物の交差方向（ｂ）のπ電子密度：
Ｄ（πｂ）＝Ｎ（πｂ）／Ｎ（Ａｂ）    （ｉｉ）
とが、
０≦〔Ｄ（πａ）／Ｄ（πｂ）〕≦１
の関係にある、
を全て満たす化合物である、請求項１１〜１４のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１６】
前記基材上に配向膜が形成されている請求項１１〜１５のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１７】
重合性液晶組成液における重合性液晶化合物の含有量が、該重合性液晶化合物を溶解する溶媒の２５℃における該重合性液晶化合物の飽和濃度に対して０．５倍以上である、請求項１１〜１６のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１８】
溶媒と、前記溶媒に溶解した重合性液晶化合物とを含み、孔径０．４μｍ以下のフィルターにより濾過されてなる重合性液晶組成液。
【請求項１９】
重合開始剤を含有する、請求項１８に記載の重合性液晶組成液。
【請求項２０】
重合性液晶化合物が、下記（１）〜（４）：
（１）ネマチック相を形成し得る化合物である；
（２）該重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）上にπ電子を有する；
（３）長軸方向（ａ）に対して交差する方向（ｂ）上にπ電子を有する；および
（４）長軸方向（ａ）に存在するπ電子の合計をＮ（πａ）、長軸方向に存在する分子量の合計をＮ（Ａａ）として下記式（ｉ）で定義される重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）のπ電子密度：
Ｄ（πａ）＝Ｎ（πａ）／Ｎ（Ａａ）    （ｉ）
と、交差方向（ｂ）に存在するπ電子の合計をＮ（πｂ）、交差方向（ｂ）に存在する分子量の合計をＮ（Ａｂ）として下記式（ｉｉ）で定義される重合性液晶化合物の交差方向（ｂ）のπ電子密度：
Ｄ（πｂ）＝Ｎ（πｂ）／Ｎ（Ａｂ）    （ｉｉ）
とが、
０≦〔Ｄ（πａ）／Ｄ（πｂ）〕≦１
の関係にある、
を全て満たす化合物である、請求項１８または１９に記載の重合性液晶組成液。
【請求項２１】
重合性液晶組成液における重合性液晶化合物の含有量が、該重合性液晶化合物を溶解する溶媒の２５℃における該重合性液晶化合物の飽和濃度に対して０．５倍以上である、請求項１８〜２０のいずれかに記載の重合性液晶組成液。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、溶媒に溶解した重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成液の濾過方法および保管方法に関する。また、本発明は、特定の濾過方法により濾過した重合性液晶組成液を用いる液晶硬化層の製造方法にも関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、画像表示装置の薄型化に伴い、重合性液晶化合物を基材や配向膜上に塗布し、配向状態で硬化させることにより得られる液晶硬化層（膜）からなる位相差フィルム等の光学フィルムが開発されている。このような光学フィルムの製造において、成膜性や取扱性等の観点から、通常、重合性液晶化合物は、該重合性液晶化合物を溶媒に溶かして得られる溶液として基材や配向膜上に塗布される（例えば、特許文献１および２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第６０５５５６９号公報
【特許文献２】特開２０１６−０１４８６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
光学フィルムの製造現場においては、重合性液晶化合物を溶媒に溶解することにより調製した重合性液晶組成液を、液晶硬化層の製造に用いる前に一時的または長期的に保管することがある。その際、重合性液晶化合物に由来する微細な異物が重合性液晶組成液中に析出してくることがある。このような微細な異物は、重合性液晶組成液から液晶硬化層を得る際に、重合性液晶化合物の分子配向を乱す原因となり、光学フィルムの配向欠陥を生じる可能性があることがわかった。
【０００５】
そこで、本発明は、重合性液晶組成液中での重合性液晶化合物に由来する微細な異物の発生および析出を抑制し、液晶硬化層を作製する場合に配向欠陥を生じ難い重合性液晶組成液を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、以下の好適な態様を提供するものである。
［１］溶媒と、前記溶媒に溶解した重合性液晶化合物とを含む重合性液晶組成液を、孔径０．４μｍ以下のフィルターにより濾過することを含む、重合性液晶組成液の濾過方法。
［２］重合性液晶組成液が重合開始剤を含有する、前記［１］に記載の濾過方法。
［３］重合性液晶化合物が、下記（１）〜（４）：
（１）ネマチック相を形成し得る化合物である；
（２）該重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）上にπ電子を有する；
（３）長軸方向（ａ）に対して交差する方向（ｂ）上にπ電子を有する；および
（４）長軸方向（ａ）に存在するπ電子の合計をＮ（πａ）、長軸方向に存在する分子量の合計をＮ（Ａａ）として下記式（ｉ）で定義される重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）のπ電子密度：
Ｄ（πａ）＝Ｎ（πａ）／Ｎ（Ａａ）    （ｉ）
と、交差方向（ｂ）に存在するπ電子の合計をＮ（πｂ）、交差方向（ｂ）に存在する分子量の合計をＮ（Ａｂ）として下記式（ｉｉ）で定義される重合性液晶化合物の交差方向（ｂ）のπ電子密度：
Ｄ（πｂ）＝Ｎ（πｂ）／Ｎ（Ａｂ）    （ｉｉ）
とが、
０≦〔Ｄ（πａ）／Ｄ（πｂ）〕≦１
の関係にある、
を全て満たす化合物である、前記［１］または［２］に記載の濾過方法。
［４］重合性液晶組成液における重合性液晶化合物の含有量が、該重合性液晶化合物を溶解する溶媒の２５℃における該重合性液晶化合物の飽和濃度に対して０．５倍以上である、前記［１］〜［３］に記載の濾過方法。
［５］溶媒と、前記溶媒に溶解した重合性液晶化合物とを含む重合性液晶組成液を、孔径０．４μｍ以下のフィルターにより濾過した後、保管することを含む、重合性液晶組成液の保管方法。
［６］重合性液晶組成液が重合開始剤を含有する、前記［５］に記載の保管方法。
［７］濾過後の重合性液晶組成液を２０℃以上の温度で保管する、前記［５］または［６］に記載の保管方法。
［８］濾過後の重合性液晶組成液を暗所で保管する、前記［５］〜［７］のいずれかに記載の保管方法。
［９］重合性液晶化合物が、下記（１）〜（４）：
（１）ネマチック相を形成し得る化合物である；
（２）該重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）上にπ電子を有する；
（３）長軸方向（ａ）に対して交差する方向（ｂ）上にπ電子を有する；および
（４）長軸方向（ａ）に存在するπ電子の合計をＮ（πａ）、長軸方向に存在する分子量の合計をＮ（Ａａ）として下記式（ｉ）で定義される重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）のπ電子密度：
Ｄ（πａ）＝Ｎ（πａ）／Ｎ（Ａａ）    （ｉ）
と、交差方向（ｂ）に存在するπ電子の合計をＮ（πｂ）、交差方向（ｂ）に存在する分子量の合計をＮ（Ａｂ）として下記式（ｉｉ）で定義される重合性液晶化合物の交差方向（ｂ）のπ電子密度：
Ｄ（πｂ）＝Ｎ（πｂ）／Ｎ（Ａｂ）    （ｉｉ）
とが、
０≦〔Ｄ（πａ）／Ｄ（πｂ）〕≦１
の関係にある、
を全て満たす化合物である、前記［５］〜［８］のいずれかに記載の保管方法。
［１０］重合性液晶組成液における重合性液晶化合物の含有量が、該重合性液晶化合物を溶解する溶媒の２５℃における該重合性液晶化合物の飽和濃度に対して０．５倍以上である、前記［５］〜［９］のいずれかに記載の保管方法。
［１１］溶媒と、前記溶媒に溶解した重合性液晶化合物とを含む重合性液晶組成液を、孔径０．４μｍ以下のフィルターにより濾過する工程、
濾過後の重合性液晶組成液を基材上に塗布して塗布層を得る工程、
得られた前記塗布層から溶媒を除去して重合性液晶化合物を配向させる工程、および
配向させた重合性液晶化合物を重合することにより重合性液晶層を硬化させて液晶硬化層を得る工程
を含む、液晶硬化層の製造方法。
［１２］重合性液晶組成液が重合開始剤を含有する、前記［１１］に記載の製造方法。
［１３］濾過後の重合性液晶組成液を２０℃以上の温度で保管することを含む、前記［１１］または［１２］に記載の製造方法。
［１４］濾過後の重合性液晶組成液を暗所で保管することを含む、前記［１１］〜［１３］のいずれかに記載の製造方法。
［１５］重合性液晶化合物が、下記（１）〜（４）：
（１）ネマチック相を形成し得る化合物である；
（２）該重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）上にπ電子を有する；
（３）長軸方向（ａ）に対して交差する方向（ｂ）上にπ電子を有する；および
（４）長軸方向（ａ）に存在するπ電子の合計をＮ（πａ）、長軸方向に存在する分子量の合計をＮ（Ａａ）として下記式（ｉ）で定義される重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）のπ電子密度：
Ｄ（πａ）＝Ｎ（πａ）／Ｎ（Ａａ）    （ｉ）
と、交差方向（ｂ）に存在するπ電子の合計をＮ（πｂ）、交差方向（ｂ）に存在する分子量の合計をＮ（Ａｂ）として下記式（ｉｉ）で定義される重合性液晶化合物の交差方向（ｂ）のπ電子密度：
Ｄ（πｂ）＝Ｎ（πｂ）／Ｎ（Ａｂ）    （ｉｉ）
とが、
０≦〔Ｄ（πａ）／Ｄ（πｂ）〕≦１
の関係にある、
を全て満たす化合物である、前記［１１］〜［１４］のいずれかに記載の製造方法。
［１６］前記基材上に配向膜が形成されている前記［１１］〜［１５］のいずれかに記載の製造方法。
［１７］重合性液晶組成液における重合性液晶化合物の含有量が、該重合性液晶化合物を溶解する溶媒の２５℃における該重合性液晶化合物の飽和濃度に対して０．５倍以上である、前記［１１］〜［１６］のいずれかに記載の製造方法。
［１８］溶媒と、前記溶媒に溶解した重合性液晶化合物とを含み、孔径０．４μｍ以下のフィルターにより濾過されてなる重合性液晶組成液。
［１９］重合開始剤を含有する、前記［１８］に記載の重合性液晶組成液。
［２０］重合性液晶化合物が、下記（１）〜（４）：
（１）ネマチック相を形成し得る化合物である；
（２）該重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）上にπ電子を有する；
（３）長軸方向（ａ）に対して交差する方向（ｂ）上にπ電子を有する；および
（４）長軸方向（ａ）に存在するπ電子の合計をＮ（πａ）、長軸方向に存在する分子量の合計をＮ（Ａａ）として下記式（ｉ）で定義される重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）のπ電子密度：
Ｄ（πａ）＝Ｎ（πａ）／Ｎ（Ａａ）    （ｉ）
と、交差方向（ｂ）に存在するπ電子の合計をＮ（πｂ）、交差方向（ｂ）に存在する分子量の合計をＮ（Ａｂ）として下記式（ｉｉ）で定義される重合性液晶化合物の交差方向（ｂ）のπ電子密度：
Ｄ（πｂ）＝Ｎ（πｂ）／Ｎ（Ａｂ）    （ｉｉ）
とが、
０≦〔Ｄ（πａ）／Ｄ（πｂ）〕≦１
の関係にある、
を全て満たす化合物である、前記［１８］または［１９］に記載の重合性液晶組成液。
［２１］重合性液晶組成液における重合性液晶化合物の含有量が、該重合性液晶化合物を溶解する溶媒の２５℃における該重合性液晶化合物の飽和濃度に対して０．５倍以上である、前記［１８］〜［２０］のいずれかに記載の重合性液晶組成液。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、重合性液晶組成液中での重合性液晶化合物に由来する微細な異物の発生および析出を抑制し、液晶硬化層を作製する場合に配向欠陥を生じ難い重合性液晶組成液を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を損なわない範囲で種々の変更をすることができる。
【０００９】
＜濾過方法＞
本発明の重合性液晶組成液の濾過方法は、溶媒と、前記溶媒に溶解した重合性液晶化合物とを含む重合性液晶組成液を、孔径０．４μｍ以下のフィルターで濾過することを含む。本発明において重合性液晶組成液とは、その構成成分として少なくとも、重合性液晶化合物と、該重合性液晶化合物を溶解し得る溶媒とを含む溶液を意味する。
【００１０】
溶媒に重合性液晶化合物を溶解させることにより調製した重合性液晶組成液を一時的または長期的に保管する場合、重合性液晶組成液中に重合性液晶化合物に由来する微細な異物が発生し、析出してくることがある。その実態や原因は明らかではないが、重合性液晶化合物の分子同士が会合することにより重合性液晶化合物の微細な集合体が形成され、それらが微細な異物として析出してくるものと考えられる。このような重合性液晶化合物の会合は、重合性液晶化合物を溶媒に溶解して重合性液晶組成液を調製した段階ですでに生じている可能性が高く、調製直後に存在する微細な集合体が核となり、重合性液晶組成液を一時的または長期的に保管する場合に経時的に成長することにより微細な異物として析出してくると考えられる。
本発明の濾過方法は、重合性液晶組成液を微細な孔径のフィルターで濾過することにより、重合性液晶組成液を保管した場合であっても、重合性液晶化合物に由来する微細な異物の発生や析出を抑制することができ、光学フィルムの作製に用いた場合に配向欠陥の少ない重合性液晶組成液を提供することができる。
【００１１】
本発明の濾過方法において、重合性液晶組成液を濾過するために用いるフィルターの孔径は０．４μｍ以下であり、好ましくは０．３μｍ以下、より好ましくは０．２μｍ以下であり、さらに好ましくは０．１５μｍ以下である。フィルターの孔径が上記上限値以下であると、重合性液晶組成液中に存在する重合性液晶化合物の分子会合を十分に切り離すことができる。フィルターの孔径の下限値は特に限定されるものではないが、濾過効率の観点から、通常、０．０３μｍ以上である。また、フィルターの膜厚は、通常１〜１０００μｍであり、１０〜１００μｍが好ましい。
【００１２】
フィルターの材質は、特に限定されるものではなく、用いる溶媒の種類等に応じて適宜選択すればよい。例えば、セルロース、ニトロセルロース、セルロース混合エステル、セルロースアセテート、ポリプロピレン、ナイロン、ポリ四フッ化エチレン（ＰＴＦＥ）、親水性ＰＴＦＥ、フッ化ポリビニリデン、ポリエーテルスルホン、ガラス繊維、紙、布、不織布等が挙げられ、耐溶媒性の観点からは、ＰＴＦＥが好ましい。
【００１３】
本発明の濾過方法において、重合性液晶組成液の濾過は、自然濾過、減圧濾過または加圧濾過などにより行うことができる。濾過速度の観点から、減圧濾過または加圧濾過が好ましい。
【００１４】
重合性液晶組成液の濾過は、１回のみ行ってもよく、複数回行ってもよい。濾過を複数回行う場合は、全ての濾過において孔径０．４μｍ以下のフィルターを用いてもよいし、複数回の中の少なくとも１回の濾過において孔径０．４μｍ以下のフィルターを用いてもよい。初めに０．４μｍより大きな孔径のフィルターにより濾過を行うことにより、重合性液晶組成液に外部から取り込まれた一般的な異物（ゴミ等）等の比較的大きな異物を取り除いた後、０．４μｍ以下の小さな孔径のフィルターにより濾過を行うことで、より効率的に濾過を行うことができる。
【００１５】
また、本発明の濾過方法は、重合性液晶組成液の調製後、液晶硬化層を得るために重合性液晶組成液を用いる（例えば、基材等に塗布する）前に行うことにより、重合性液晶化合物に由来する微細な異物を除去することができるため、配向欠陥の少ない光学フィルムを得ることができる。このため、本発明の濾過方法は、重合性液晶組成液の調製後、液晶硬化層を得るために重合性液晶組成液を用いる前のいずれの時点で行うこともできるが、重合性液晶組成液の調製後に組成液を保管する場合には、保管前に行うことにより、重合性液晶化合物の分子会合を切り離し、重合性液晶化合物に由来する微細な異物の成長を抑制させることにより重合性液晶組成液中の微細な異物の発生、析出を効果的に抑制することができ、本発明の効果をより有利に得ることができる。
【００１６】
重合性液晶化合物を溶解する溶媒における該重合性液晶化合物の飽和濃度に対して、重合性液晶化合物の量が比較的多い場合、重合性液晶組成液中で重合性液晶化合物に由来する微細な異物の発生、成長および／または析出が促進されやすい傾向にある。本発明の濾過方法は、微細な孔径のフィルターで重合性液晶組成液を濾過することにより、微細な異物の成長を抑制することができるため、重合性液晶化合物の含有量が比較的多い重合性液晶組成液、具体的には、該重合性液晶化合物を溶解する溶媒の２５℃における該重合性液晶化合物の飽和濃度に対して０．５倍以上である重合性液晶組成液に好適に用いることができ、重合性液晶化合物に由来する微細な異物の発生、成長および析出に対する高い抑制効果が期待できる。本発明において、重合性液晶化合物の含有量は、前記飽和濃度に対して０．８倍以上であることがより好ましく、０．９倍以上であることがさらに好ましい。本発明の濾過方法において、重合性液晶化合物の含有量の上限は特に限定されるものではなく、過飽和状態であっても適用することが可能であり、本発明の濾過方法はより効果的である。
【００１７】
本発明の濾過方法は、光学フィルムの分野において従来公知の重合性液晶化合物を用いる重合性液晶組成液に対して広く適用することができる。本発明において重合性液晶化合物は、重合性官能基、特に光重合性官能基を有する液晶化合物を意味する。光重合性官能基とは、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。光重合性官能基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基およびオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよく、相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。重合性液晶化合物として、１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１８】
種々の重合性液晶化合物の中でも、比較的大きな分子構造を有する、剛直である、π電子密度の高い構造を含む等の特徴を有する化合物は、溶媒に対する溶解性が低く、重合性液晶組成基中で分子同士の会合が生じやすい傾向にある。一般的にはこのような会合はディスコチック液晶で起こる事が多いが、以下に挙げるような化合物は前記の通りπ電子密度の高い構造であり、ネマチック液晶化合物であるにも関わらず会合が生じやすくなっている。本発明の濾過方法は、微細な孔径のフィルターで重合性液晶組成液を濾過することにより、微細な異物の成長を抑制することができるため、このような分子構造上の特徴を有する重合性液晶化合物を用いる重合性液晶組成液に、特に好適に適用できる。
【００１９】
上記分子構造を有する重合性液晶化合物としては、下記（１）〜（４）を全て満たす化合物が挙げられる。
（１）ネマチック相を形成し得る化合物である；
（２）該重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）上にπ電子を有する。
（３）長軸方向（ａ）に対して交差する方向〔交差方向（ｂ）〕上にπ電子を有する。
（４）長軸方向（ａ）に存在するπ電子の合計をＮ（πａ）、長軸方向に存在する分子量の合計をＮ（Ａａ）として下記式（ｉ）で定義される重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）のπ電子密度：
Ｄ（πａ）＝Ｎ（πａ）／Ｎ（Ａａ）    （ｉ）
と、交差方向（ｂ）に存在するπ電子の合計をＮ（πｂ）、交差方向（ｂ）に存在する分子量の合計をＮ（Ａｂ）として下記式（ｉｉ）で定義される重合性液晶化合物の交差方向（ｂ）のπ電子密度：
Ｄ（πｂ）＝Ｎ（πｂ）／Ｎ（Ａｂ）    （ｉｉ）
とが、
０≦〔Ｄ（πａ）／Ｄ（πｂ）〕≦１
の関係にある〔すなわち、交差方向（ｂ）のπ電子密度が、長軸方向（ａ）のπ電子密度よりも大きい〕。
なお、上記（１）〜（４）を全て満たす重合性液晶化合物は、ラビング処理により形成した配向膜上に塗布し、相転移温度以上に加熱することにより、ネマチック相を形成することが可能である。この重合性液晶化合物が配向して形成されたネマチック相では通常、重合性液晶化合物の長軸方向が互いに平行になるように配向しており、この長軸方向がネマチック相の配向方向となる。
【００２０】
上記特性を有する重合性液晶化合物は、一般に逆波長分散性を示すものであることが多い。上記（１）〜（４）の特性を満たす化合物として、具体的には、例えば、下記式（Ｉ）：
【化１】
2019043995.tif 000002
で表される化合物が挙げられる。
【００２１】
式（Ｉ）中、Ａｒは置換基を有していてもよい二価の芳香族基を表す。ここでいう芳香族基とは、平面性を有する環状構造の基であり、該環構造が有するπ電子数がヒュッケル則に従い［４ｎ＋２］個であるものをいう。ここで、ｎは整数を表す。−Ｎ＝や−Ｓ−等のヘテロ原子を含んで環構造を形成している場合、これらヘテロ原子上の非共有結合電子対を含めてヒュッケル則を満たし、芳香族性を有する場合も含む。該二価の芳香族基中には窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも１つ以上が含まれることが好ましい。
【００２２】
Ｇ１およびＧ２はそれぞれ独立に、二価の芳香族基または二価の脂環式炭化水素基を表す。ここで、該二価の芳香族基または二価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のフルオロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基またはニトロ基に置換されていてもよく、該二価の芳香族基または二価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子または窒素原子に置換されていてもよい。
【００２３】
Ｌ１、Ｌ２、Ｂ１およびＢ２はそれぞれ独立に、単結合または二価の連結基である。
【００２４】
ｋ、ｌは、それぞれ独立に０〜３の整数を表し、１≦ｋ＋ｌの関係を満たす。ここで、２≦ｋ＋ｌである場合、Ｂ１およびＢ２、Ｇ１およびＧ２は、それぞれ互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００２５】
Ｅ１およびＥ２はそれぞれ独立に、炭素数１〜１７のアルカンジイル基を表し、ここで、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓｉ−で置換されていてもよい。Ｐ１およびＰ２は互いに独立に、重合性基または水素原子を表し、少なくとも１つは重合性基である。
【００２６】
Ｇ１およびＧ２は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子および炭素数１〜４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４−フェニレンジイル基、ハロゲン原子および炭素数１〜４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４−シクロヘキサンジイル基であり、より好ましくはメチル基で置換された１，４−フェニレンジイル基、無置換の１，４−フェニレンジイル基、または無置換の１，４−ｔｒａｎｓ−シクロヘキサンジイル基であり、特に好ましくは無置換の１，４−フェニレンジイル基、または無置換の１，４−ｔｒａｎｓ−シクロへキサンジイル基である。また、複数存在するＧ１およびＧ２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、また、Ｌ１またはＬ２に結合するＧ１およびＧ２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることがより好ましい。
【００２７】
Ｌ１およびＬ２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１〜４のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｒａ１ＯＲａ２−、−Ｒａ３ＣＯＯＲａ４−、−Ｒａ５ＯＣＯＲａ６−、Ｒａ７ＯＣ＝ＯＯＲａ８−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲｃ＝ＣＲｄ−、またはＣ≡Ｃ−である。ここで、Ｒａ１〜Ｒａ８はそれぞれ独立に単結合、または炭素数１〜４のアルキレン基を表し、ＲｃおよびＲｄは炭素数１〜４のアルキル基または水素原子を表す。Ｌ１およびＬ２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、−ＯＲａ２−１−、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯＲａ４−１−、またはＯＣＯＲａ６−１−である。ここで、Ｒａ２−１、Ｒａ４−１、Ｒａ６−１はそれぞれ独立に単結合、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−のいずれかを表す。Ｌ１およびＬ２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２−、またはＯＣＯ−である。
【００２８】
本発明の好適な一実施態様において、式（Ｉ）中のＧ１およびＧ２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であり、該二価の脂環式炭化水素基が、置換基を有していてもよい二価の芳香族基Ａｒと−ＣＯＯ−であるＬ１および／またはＬ２により結合している重合性液晶化合物が用いられる。
【００２９】
Ｂ１およびＢ２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１〜４のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｒａ９ＯＲａ１０−、−Ｒａ１１ＣＯＯＲａ１２−、−Ｒａ１３ＯＣＯＲａ１４−、またはＲａ１５ＯＣ＝ＯＯＲａ１６−である。ここで、Ｒａ９〜Ｒａ１６はそれぞれ独立に単結合、または炭素数１〜４のアルキレン基を表す。Ｂ１およびＢ２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、−ＯＲａ１０−１−、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯＲａ１２−１−、またはＯＣＯＲａ１４−１−である。ここで、Ｒａ１０−１、Ｒａ１２−１、Ｒａ１４−１はそれぞれ独立に単結合、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−のいずれかを表す。Ｂ１およびＢ２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、−Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−、またはＯＣＯＣＨ２ＣＨ２−である。
【００３０】
ｋおよびｌは、逆波長分散性発現の観点から２≦ｋ＋ｌ≦６の範囲が好ましく、ｋ＋ｌ＝４であることが好ましく、ｋ＝２かつｌ＝２であることがより好ましい。ｋ＝２かつｌ＝２であると対称構造となるためさらに好ましい。
【００３１】
Ｅ１およびＥ２はそれぞれ独立に、炭素数１〜１７のアルカンジイル基が好ましく、炭素数４〜１２のアルカンジイル基がより好ましい。
【００３２】
Ｐ１またはＰ２で表される重合性基としては、例えばエポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、およびオキセタニル基等が挙げられる。これらの中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基およびオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。
【００３３】
Ａｒは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、および電子吸引性基から選ばれる少なくとも１つを有することが好ましい。当該芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられ、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。当該芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアゾール環、トリアジン環、ピロリン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チエノチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、およびフェナンスロリン環等が挙げられる。これらの中でも、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、またはベンゾフラン環を有することが好ましく、ベンゾチアゾール基を有することがさらに好ましい。また、Ａｒに窒素原子が含まれる場合、当該窒素原子はπ電子を有することが好ましい。
【００３４】
式（Ｉ）中、Ａｒで表される２価の芳香族基に含まれるπ電子の合計数Ｎπは８以上が好ましく、より好ましくは１０以上であり、さらに好ましくは１４以上であり、特に好ましくは１６以上である。また、好ましくは３０以下であり、より好ましくは２６以下であり、さらに好ましくは２４以下である。
【００３５】
Ａｒで表される芳香族基としては、例えば以下の基が挙げられる。
【００３６】
【化２】
2019043995.tif 000003
【００３７】
式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−２２）中、＊印は連結部を表し、Ｚ０、Ｚ１およびＺ２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜１２のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基、炭素数１〜１２のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のＮ−アルキルスルファモイル基または炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。
【００３８】
Ｑ１およびＱ２は、それぞれ独立に、−ＣＲ２’Ｒ３’−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ２’−、−ＣＯ−またはＯ−を表し、Ｒ２’およびＲ３’は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。
【００３９】
Ｊ１およびＪ２は、それぞれ独立に、炭素原子、または窒素原子を表す。
【００４０】
Ｙ１、Ｙ２およびＹ３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基または芳香族複素環基を表す。
【００４１】
Ｗ１およびＷ２は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基またはハロゲン原子を表し、ｍは０〜６の整数を表す。
【００４２】
Ｙ１、Ｙ２およびＹ３における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも１つ含む炭素数４〜２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。
【００４３】
Ｙ１およびＹ２は、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基または多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、または芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、または芳香環集合に由来する基をいう。
【００４４】
Ｚ０、Ｚ１およびＺ２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基であることが好ましく、Ｚ０は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基がさらに好ましく、Ｚ１およびＺ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、シアノ基がさらに好ましい。
【００４５】
Ｑ１およびＱ２は、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＮＲ２’−、−Ｏ−が好ましく、Ｒ２’は水素原子が好ましい。中でも−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＨ−が特に好ましい。
【００４６】
式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−２２）の中でも、式（Ａｒ−６）および式（Ａｒ−７）が分子の安定性の観点から好ましい。
【００４７】
式（Ａｒ−１６）〜（Ａｒ−２２）において、Ｙ１は、これが結合する窒素原子およびＺ０と共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。芳香族複素環基としては、Ａｒが有していてもよい芳香族複素環として前記したものが挙げられるが、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Ｙ１は、これが結合する窒素原子およびＺ０と共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基または多環系芳香族複素環基であってもよい。例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等が挙げられる。なお、前記式（Ｉ）で表される化合物は、例えば、特開２０１０−３１２２３号公報に記載の方法に準じて製造することができる。
【００４８】
本発明において、重合性液晶組成液に用いる溶媒は、用いる重合性液晶化合物を溶解することができ、かつ、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶媒であることが好ましく、用いる重合性液晶化合物に応じて適宜選択すればよい。
具体的には、例えば、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、フェノール等のアルコール溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン等のケトン溶媒；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の非塩素化脂肪族炭化水素溶媒；トルエン、キシレン等の非塩素化芳香族炭化水素溶媒；アセトニトリル等のニトリル溶媒；プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶媒；およびクロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶媒等が挙げられる。より好ましくは酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶媒、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン等のケトン溶媒、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の非塩素化脂肪族炭化水素溶媒；トルエン、キシレン等の非塩素化芳香族炭化水素溶媒、プロピレングリコールモノメチルエーテル、およびクロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶媒である。これらの溶剤は、単独で用いてもよいし、組み合わせてもよい。
【００４９】
本発明において、重合性液晶組成液における溶媒の含有量は、用いる重合性液晶化合物との関係において適宜決定すればよいが、通常、重合性液晶組成液の固形分１００質量部に対して、１０質量部〜１００００質量部であり、好ましくは５０質量部〜５０００質量部、より好ましくは５００質量部〜３０００質量部である。
【００５０】
本発明において、重合性液晶組成液は重合性液晶化合物と溶媒に加えて、重合性液晶化合物の重合反応を開始するための重合開始剤を含んでいてよい。重合性液晶組成液中に重合開始剤が含まれていると、重合性液晶化合物の分子間における会合のみでなく、重合性液晶化合物の重合が生じやすくなり、組成液の保管中に重合性液晶化合物に由来する微量のダイマー、トリマー、その他のオリゴマー等が生成し、重合性液晶組成液中の微細な異物の析出がより生じやすくなる傾向にあると考えられる。本発明の濾過方法は、重合開始剤を含む重合性液晶組成液に対して好適に用いることができ、重合性液晶化合物に由来する微細な異物の発生や析出を効果的に抑制することができる。
【００５１】
重合開始剤は、用いる重合性液晶化合物に応じて適宜選択すればよい。例えば、上述した光重合性官能基を有する重合性液晶化合物を用いる場合には光重合開始剤を用いることができる。光重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩およびスルホニウム塩が挙げられる。重合開始剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５２】
ベンゾイン化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルおよびベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。
【００５３】
ベンゾフェノン化合物としては、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノンおよび２，４，６−トリメチルベンゾフェノン等が挙げられる。
【００５４】
アルキルフェノン化合物としては、ジエトキシアセトフェノン、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１，２−ジフェニル−２，２−ジメトキシエタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンおよび２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１−オンのオリゴマー等が挙げられる。
【００５５】
アシルホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドおよびビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイドが挙げられる。
【００５６】
トリアジン化合物としては、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシスチリル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジンおよび２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジンが挙げられる。
【００５７】
重合開始剤として市販のものを用いることができる。市販の重合開始剤としては、例えば、「イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）（登録商標）９０７」、「イルガキュア（登録商標）１８４」、「イルガキュア（登録商標）６５１」、「イルガキュア（登録商標）８１９」、「イルガキュア（登録商標）２５０」、「イルガキュア（登録商標）３６９」（チバ・ジャパン（株））；「セイクオール（登録商標）ＢＺ」、「セイクオール（登録商標）Ｚ」、「セイクオール（登録商標）ＢＥＥ」（精工化学（株））；「カヤキュアー（ｋａｙａｃｕｒｅ）（登録商標）ＢＰ１００」（日本化薬（株））；「カヤキュアー（登録商標）ＵＶＩ−６９９２」（ダウ社製）；「アデカオプトマーＳＰ−１５２」、「アデカオプトマーＳＰ−１７０」（（株）ＡＤＥＫＡ）；「ＴＡＺ−Ａ」、「ＴＡＺ−ＰＰ」（日本シイベルヘグナー社）；および「ＴＡＺ−１０４」（三和ケミカル社）等が挙げられる。
【００５８】
重合性液晶組成液が重合開始剤を含有する場合、その含有量は、該組成液に含有される重合性液晶化合物の種類およびその量に応じて適宜調節できるが、重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．１〜３０質量部が好ましく、０．５〜１０質量部がより好ましい。重合性開始剤の含有量が、上記範囲内であれば、重合性基の反応が十分に進行し、また、重合性液晶化合物の配向を乱し難い。
【００５９】
さらに、重合性液晶組成液は、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤等の添加剤を含んでいてよい。これらの添加剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６０】
重合禁止剤を用いることにより、重合性液晶化合物の重合反応の進行度合いを制御し易くなる。重合禁止剤としては、ハイドロキノンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類；ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類；ピロガロール類、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補捉剤；チオフェノール類；β−ナフチルアミン類およびβ−ナフトール類が挙げられる。重合禁止剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部であり、好ましくは０．１〜５質量部であり、さらに好ましくは０．１〜３質量部である。重合禁止剤は、単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。
【００６１】
光増感剤を用いることにより、光重合開始剤を高感度化することができる。光増感剤としては、例えば、キサントン、チオキサントン等のキサントン類；アントラセンおよびアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類；フェノチアジン；ルブレンが挙げられる。光増感剤は、単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。光増感剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部であり、好ましくは０．０５〜５質量部であり、さらに好ましくは０．１〜３質量部である。
【００６２】
レベリング剤とは、重合性液晶組成液の流動性を調整し、組成液を塗布して得られる液晶硬化層をより平坦にする機能を有する添加剤であり、例えば、シランカップリング剤等のシリコーン系、ポリアクリレート系およびパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。具体的には、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１、ＫＢＭ−１００３、ＫＢＥ−１００３、ＫＢＭ−３０３、ＫＢＭ−４０２、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＥ−４０２、ＫＢＥ−４０３、ＫＢＭ−１４０３、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＥ−５０２、ＫＢＥ−５０３、ＫＢＭ−５１０３、ＫＢＭ−６０２、ＫＢＭ−６０３、ＫＢＭ−９０３、ＫＢＥ−９０３、ＫＢＥ−９１０３、ＫＢＭ−５７３、ＫＢＭ−５７５、ＫＢＥ−５８５、ＫＢＭ−８０２、ＫＢＭ−８０２、ＫＢＭ−８０３、ＫＢＥ−８４６、ＫＢＥ−９００７（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ  パフォーマンス  マテリアルズ  ジャパン合同会社製）、フロリナート（ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ）（登録商標）ＦＣ−７２、同ＦＣ−４０、同ＦＣ−４３、同ＦＣ−３２８３（以上、全て住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−９０、同Ｆ−４１０、同Ｆ−４１１、同Ｆ−４４３、同Ｆ−４４５、同Ｆ−４７０、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４７９、同Ｆ−４８２、同Ｆ−４８３（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８１、同Ｓ−３８２、同Ｓ−３８３、同Ｓ−３９３、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０５、ＫＨ−４０、ＳＡ−１００（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５３およびＢＹＫ−３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ  Ｃｈｅｍｉｅ社製）等が挙げられる。レベリング剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。レベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．０１〜５質量部が好ましく、０．０５〜３質量部がより好ましい。
【００６３】
本発明の濾過方法に用いる重合性液晶組成液は、重合性液晶化合物と溶媒、必要に応じて、重合開始剤およびその他の添加剤を、公知の方法により撹拌・混合することにより調製することができる。
【００６４】
＜保管方法＞
本発明の重合性液晶組成液の保管方法は、溶媒と、前記溶媒に溶解した重合性液晶化合物とを含む重合性液晶組成液を、孔径０．４μｍ以下のフィルターにより濾過した後、保管することを含む。
【００６５】
本発明の保管方法において、孔径０．４μｍ以下のフィルターによる重合性液晶組成液の濾過は、本発明の濾過方法として先に説明したものと同様の方法および条件等を採用することができる。また、本発明の保管方法において用いる重合性液晶組成液を構成する重合性液晶化合物、溶媒、重合開始剤およびその他の添加剤としては、先に説明した本発明の濾過方法において例示したものと同様のものを用いることができる。
【００６６】
重合性液晶組成液を低温（例えば１５℃以下）で保管する場合と比較して、室温で保管するなど、２０℃以上の温度になり得る環境で保管する場合、重合性液晶化合物に由来する微細な異物の成長や析出が促進されやすくなるが、保管前に微細な孔径のフィルターで重合性液晶組成液を濾過することにより、微細な異物の成長を抑制することができ、長期間にわたり保管する場合であっても、微細な異物の析出が生じ難くなる。したがって、本発明の保管方法は、濾過後の重合性液晶組成液を２０℃以上の温度で保管する場合に特に有利に本発明の効果を得ることができる。本発明の保管方法によれば、重合性液晶組成液を２５℃以上の温度で保管する場合や、３０℃以上の温度で保管する場合であっても、微細な異物の成長を抑制する効果を得ることができる。なお、本発明の保管方法において「２０℃以上の温度で保管する」とは、常に２０℃以上の特定温度に管理された環境下で保管される場合に加えて、室温下で保管することにより２０℃以上の温度下で保管される期間を含む場合が含まれる。
【００６７】
また、濾過後の重合性液晶組成液を暗所で保管することにより、重合性液晶化合物に由来する微細な異物の成長や析出をより効果的に抑制することができる。暗所での保管としては、日光等の光を遮断した室内での保管や、遮光性の容器内における保管等が挙げられる。
【００６８】
＜液晶硬化層の製造方法＞
さらに、本発明は、
溶媒と、前記溶媒に溶解した重合性液晶化合物とを含む重合性液晶組成液を、孔径０．４μｍ以下のフィルターにより濾過する工程（以下、「濾過工程」ともいう）、
濾過後の重合性液晶組成液を基材上に塗布して塗布層を得る工程（以下、「塗布工程」ともいう）、
得られた前記塗布層から溶媒を除去して重合性液晶化合物を配向させる工程（以下、「乾燥工程」ともいう）、および
配向させた重合性液晶化合物を重合することにより重合性液晶層を硬化させて液晶硬化層を得る工程（以下、「硬化工程」ともいう）
を含む、液晶硬化層の製造方法にも関する。
重合性液晶組成液を０．４μｍ以下の微細な孔径のフィルターで濾過することにより、重合性液晶組成液中の重合性液晶化合物に由来する微細な異物の発生、成長および析出等を抑制することができるため、このような重合性液晶組成液から得られる液晶硬化層は、配向欠陥を生じ難く、光学特性に優れる光学フィルムを作製することができる。
【００６９】
本発明の液晶硬化層の製造方法において、濾過工程は、本発明の濾過方法として先に説明したものと同様の方法および条件等を採用することができる。また、重合性液晶組成液を構成する重合性液晶化合物、溶媒、重合開始剤およびその他の添加剤としては、先に説明した本発明の濾過方法において例示したものと同様のものを用いることができる。
【００７０】
本発明の液晶硬化層の製造方法において、濾過後の重合性液晶組成液を基材上に塗布する方法としては、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、スリットコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法等も挙げられる。中でも、Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ形式で連続的に塗布できる点で、ＣＡＰコーティング法、インクジェット法、ディップコーティング法、スリットコーティング法、ダイコーティング法およびバーコーターによる塗布方法が好ましい。Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ形式で塗布する場合、基材に光配向膜形成用組成物等を塗布して配向膜を形成し、さらに得られた配向膜上に重合性液晶組成液を連続的に塗布することもできる。
【００７１】
基材は、樹脂基材であることが好ましい。基材を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；セルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルフォン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド；およびポリフェニレンオキシド等が挙げられる。中でも、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィンからなる基材が好ましい。
【００７２】
基材上の重合性液晶組成液が塗布される面には、配向膜が形成されていてもよい。配向膜とは、重合性液晶化合物を所望の方向に配向させる配向規制力を有するものである。
配向膜としては、重合性液晶組成液の塗布等により溶解しない溶媒耐性を有し、また、後述する溶媒の除去や重合性液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。配向膜としては、配向性ポリマーを含む配向膜、光配向膜および、表面に凹凸パターンや複数の溝を有するグルブ配向膜等が挙げられる。
【００７３】
配向性ポリマーを含む場合、配向性ポリマーとしては、例えば、アミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、イミド結合を有するポリイミドおよびその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸およびポリアクリル酸エステル類が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。２種以上の配向性ポリマーを組み合わせてもよい。
【００７４】
配向性ポリマーを含む配向膜は、通常、配向性ポリマーが溶媒に溶解した配向性ポリマー組成物を基材に塗布し、溶剤を除去して塗布膜を形成する、または配向性ポリマー組成物を基材に塗布し、溶媒を除去して塗布膜を形成し、該塗布膜をラビングすることで得られる。
【００７５】
配向性ポリマー組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマーが溶媒に完溶する範囲であればよい。配向性ポリマー組成物に対する配向性ポリマーの含有量は、好ましくは０．１〜２０質量％であり、より好ましくは０．１〜１０質量％である。
【００７６】
配向性ポリマー組成物として、市販の配向膜材料をそのまま使用してもよい。市販の配向膜材料としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）等が挙げられる。
【００７７】
配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法としては、スピンコ−ティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、スリットコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法などの塗布法、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法が挙げられる。配向性ポリマー組成物に含まれる溶媒を除去する方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥および減圧乾燥法等が挙げられる。
【００７８】
配向性ポリマー組成物から形成された塗布膜には、ラビング処理を施してもよい。ラビング処理を施すことにより、前記塗布膜に配向規制力を付与することができる。
【００７９】
ラビング処理の方法としては、例えば、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、前記塗布膜を接触させる方法が挙げられる。ラビング処理を行う時に、マスキングを行えば、配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を配向膜に形成することもできる。
【００８０】
光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマーまたはモノマーと溶媒とを含む光配向膜形成用組成物を基材に塗布し、溶媒を除去後に偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することで得られる。光配向膜は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御することができる。
【００８１】
光反応性基とは、光照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起反応、異性化反応、光二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素−窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素−窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）および炭素−酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも１つを有する基が特に好ましい。
【００８２】
Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾール基、スチルバゾリウム基、カルコン基およびシンナモイル基が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、および、アゾキシベンゼン構造を有する基が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、例えば、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基およびマレイミド基が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。
【００８３】
光二量化反応または光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ熱安定性や経時安定性に優れる光配向膜が得られやすいという点で、シンナモイル基およびカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。
【００８４】
光配向膜形成用組成物中の光反応性基を有するポリマーまたはモノマーの含有量は、ポリマーまたはモノマーの種類や目的とする光配向膜の厚さによって調節でき、少なくとも０．２質量％以上とすることが好ましく、０．３〜１０質量％の範囲がより好ましい。光配向膜の特性が著しく損なわれない範囲で、光配向膜形成用組成物は、ポリビニルアルコールやポリイミド等の高分子材料や光増感剤を含んでいてもよい。
【００８５】
光配向膜形成用組成物を基材に塗布する方法としては、上述した配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法と同様の方法が挙げられる。塗布された光配向膜形成用組成物から、溶媒を除去する方法としては、配向性ポリマー組成物から溶媒を除去する方法と同じ方法が挙げられる。
【００８６】
偏光を照射するには、基材上に塗布された光配向膜形成用組成物から、溶媒を除去したものに直接、偏光を照射する形式でも、基材側から偏光を照射し、偏光を基材に透過させて照射する形式でもよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であると好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマーまたはモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長域のものがよい。具体的には、波長２５０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外線）が特に好ましい。当該偏光を照射する光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦ等の紫外光レーザー等が挙げられる。中でも、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプおよびメタルハライドランプが、波長３１３ｎｍの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光層を通過して照射することにより、偏光ＵＶを照射することができる。偏光層としては、偏光フィルター、グラントムソン、およびグランテーラー等の偏光プリズム、ならびにワイヤーグリッドタイプの偏光層が挙げられる。
【００８７】
なお、ラビングまたは偏光照射を行うときに、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を形成することもできる。
【００８８】
グルブ（ｇｒｏｏｖｅ）配向層は、膜表面に凹凸パターンまたは複数のグルブ（溝）を有する膜である。等間隔に並んだ複数の直線状のグルブを有する膜に重合性液晶化合物を塗布した場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向する。
【００８９】
グルブ配向層を得る方法としては、感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光後、現像およびリンス処理を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、硬化前のＵＶ硬化樹脂の層を形成し、形成された樹脂層を基材へ移してから硬化する方法、および、基材に形成した硬化前のＵＶ硬化樹脂の膜に、複数の溝を有するロール状の原盤を押し当てて凹凸を形成し、その後硬化する方法等が挙げられる。
【００９０】
乾燥工程において、塗布工程で得られた塗布層から溶媒を除去する方法としては、例えば、自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥およびこれらを組み合わせた方法が挙げられる。中でも、自然乾燥または加熱乾燥が好ましい。乾燥温度は、０〜２００℃の範囲が好ましく、２０〜１５０℃の範囲がより好ましく、５０〜１３０℃の範囲がさらに好ましい。乾燥時間は、１０秒間〜２０分間が好ましく、より好ましくは３０秒間〜１０分間である。
【００９１】
硬化工程において、乾燥工程により配向させた重合性液晶化合物の重合は、重合性官能基を有する化合物を重合させるための公知の方法により行うことができ、例えば活性エネルギー線の照射による光重合を採用することができる。
【００９２】
照射する活性エネルギー線としては、重合性液晶化合物の種類、光重合開始剤を含む場合には光重合開始剤の種類、およびそれらの量に応じて適宜選択される。具体的には、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線、およびγ線からなる群より選択される１種以上の光が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点、および光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって光重合可能なように、重合性液晶化合物の種類を選択することが好ましい。
【００９３】
前記活性エネルギー線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０〜４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。
【００９４】
紫外線照射強度は、通常、１０〜３，０００ｍＷ／ｃｍ２である。紫外線照射強度は、好ましくは光重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。光を照射する時間は、通常０．１秒〜１０分であり、好ましくは０．１秒〜５分、より好ましくは０．１秒〜３分、さらに好ましくは０．１秒〜１分である。このような紫外線照射強度で１回または複数回照射すると、その積算光量は、１０〜３，０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは５０〜２，０００ｍＪ／ｃｍ２、より好ましくは１００〜１，０００ｍＪ／ｃｍ２である。
【００９５】
本発明の液晶硬化層の製造方法において、濾過後の重合性液晶組成液をそのまま塗布工程に用いてもよいが、０．４μｍ以下の微細なフィルターで濾過した後の重合性液晶組成液では、一時的または長期的に保管した場合であっても重合性液晶化合物に由来する微細な異物の発生、成長および析出を抑えることができる。このため、好適な一実施態様において、本発明の液晶硬化層の製造方法は、濾過後の重合性液晶組成液を一定期間保管する工程（以下、「保管工程」ともいう）を含む。
【００９６】
保管工程は、通常、濾過工程と塗布工程との間に設けられる。保管工程として、本発明の保管方法として先に説明したものと同様の方法および条件等を採用することができる。
【００９７】
＜重合性液晶組成液＞
上述したように、重合性液晶組成液を０．４μｍ以下の微細な孔径のフィルターで濾過することにより、一時的または長期的に保管した場合であっても重合性液晶組成液中の重合性液晶化合物に由来する微細な異物の発生、成長および析出等を抑制することができる。このような重合性液晶組成液を用いることにより、配向欠陥を生じ難く、光学特性に優れる光学フィルムを作製することができる。したがって、本発明は、溶媒と、前記溶媒に溶解した重合性液晶化合物とを含み、孔径０．４μｍ以下のフィルターにより濾過されてなる重合性液晶組成液にも関する。
【００９８】
本発明の重合性液晶組成液は、例えば、重合性液晶化合物と溶媒、必要に応じて、重合開始剤およびその他の添加剤を、公知の方法により撹拌・混合して溶媒に重合性液晶化合物を溶解させることにより重合性液晶組成液を得た後、先に説明した本発明の濾過方法に従って、得られた重合性液晶組成液を０．４μｍ以下のフィルターで濾過することにより調製することができる。本発明の重合性液晶組成液を構成する重合性液晶化合物、溶媒、重合開始剤およびその他の添加剤としては、本発明の濾過方法の説明において先に記載したものと同様のものを用いることができる。
【実施例】
【００９９】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部である。
【０１００】
［実施例１］
［光配向膜形成用組成物の調製］
下記構造の光配向性材料５部とシクロペンタノン（溶媒）９５部とを成分として混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、光配向膜形成用組成物（１）を得た。
【化３】
2019043995.tif 000004
【０１０１】
［重合性液晶組成液の調製］
下記構造の重合性液晶化合物Ａ１００部と、ポリアクリレート化合物（レベリング剤）（ＢＹＫ−３６１Ｎ；ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ社製）０．０１部と、イルガキュアＯＸＥ−０３（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）７．５部と、２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（イルガキュア３６９（Ｉｒｇ３６９）；ＢＡＳＦジャパン株式会社製）３部とを成分として混合し、固形分濃度が１３％となるようにＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）を添加し、８０℃で１時間攪拌することにより、重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成液を得た。前記重合性液晶組成液中の重合性液晶化合物の含有量は、溶媒（ＮＭＰ）の２５℃における重合性液晶化合物Ａの飽和濃度に対して２．４倍であった。なお、飽和濃度は以下の方法に従い測定・算出した。
【０１０２】
＜飽和濃度の測定方法＞
サンプル管に溶媒（ＮＭＰ）１ｇと重合性液晶化合物を１ｇ秤量し、２３℃に設定したウォーターバス中で２４時間撹拌することで飽和濃度溶液を調製した。この上ずみ液をサンプリングし、標準液１０ｍＬと共にテトラヒドロフラン中に溶解して測定溶液を調製した。この測定溶液を液体クロマトグラフ（島津製作所製；ＬＣ−１０ＡＴ）に注入し、それぞれのピーク面積値の比率と別途作成した検量線から、２３℃での所定の溶剤への重合性液晶化合物の飽和濃度を計算した。尚、標準液にはヘキシルベンゼン７．５ｇとテトラヒドロフラン１０００ｍｌから調製したものを用いた。
液体クロマトグラフ（ＬＣ）測定は以下に示す条件で行った。 
測定条件：
カラム（Ｌ−Ｃｏｌｕｍｎ  ＯＤＳ、内径３．０ｍｍ、長さ１５０ｍｍ、粒径３μｍ）
温度；４０℃
移動相Ａ；０．１％（ｖ／ｖ）−ＴＦＡ／水
移動相Ｂ；０．１％（ｖ／ｖ）−ＴＦＡ／アセトニトリル
グラジエント；０ｍｉｎ  ７０％−Ｂ
３０ｍｉｎ  １００％−Ｂ
６０ｍｉｎ  １００％−Ｂ
６０．０１ｍｉｎ  ７０％−Ｂ
７５ｍｉｎ  ７０％−Ｂ
流速；０．５ｍＬ／ｍｉｎ
注入量；５μＬ
検出波長；２５４ｎｍ
【０１０３】
得られた重合性液晶組成液に対して、０．２μｍのメンブランフィルター（材質：ＰＴＦＥ系、アドバンテック社製）にて濾過を行った。濾過後の重合性液晶組成液を重合性液晶組成液（１）とした。なお、重合性液晶化合物Ａは、特開２０１０−３１２２３号公報に記載の方法で合成した。
【０１０４】
重合性液晶化合物Ａ：
【化４】
2019043995.tif 000005
【０１０５】
[重合性液晶組成液の経時安定性評価]
濾過後の重合性液晶組成液を１か月間室温（２５℃）暗所で静置した。基材としてのシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）フィルムを、コロナ処理装置を用いてコロナ処理した。次いで、コロナ処理を施したＣＯＰフィルム（基材）の表面に、バーコーターを用いて上述した光配向膜形成用組成物（１）を塗布し、８０℃で１分間乾燥した後、偏光ＵＶ照射装置を用いて１００ｍＪ／ｃｍ２の積算光量で偏光ＵＶ露光を実施して配向膜を得た。
続いて、上記配向膜上にバーコーターを用いて、濾過後、１か月間保管した重合性液晶組成液（１）を塗布し、１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプを用いて、重合性液晶組成液（１）の塗布面側から紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長：３１３ｎｍ、波長３１３ｎｍにおける積算光量は５００ｍＪ／ｃｍ２）することにより、液晶硬化層を形成した。得られた液晶硬化層を、偏光顕微鏡（ＢＸ５１、オリンパス株式会社製）を用いて４００倍の倍率で観察した。表面に配向欠陥が認められなかったものを「○」、配向欠陥がわずかに認められたものを「△」、配向欠陥が認められたものを「×」とした。結果を表１に示す。
【０１０６】
［実施例２］
メンブランフィルターの孔径を０．０５μｍに変更した以外は、実施例１と同様にして重合性液晶組成液（２）を調製し、同様の条件下で保管した後、経時安定性評価を行った。結果を表１に示す。
【０１０７】
［実施例３］
重合性液晶化合物Ａを、下記構造の重合性液晶化合物Ｂに変更した以外は、実施例１と同様にして重合性液晶組成液（３）を調製し、同様の条件下で保管した後、経時安定性評価を行った。前記重合性液晶組成液中の重合性液晶化合物の含有量は、溶媒（ＮＭＰ）の２５℃における重合性液晶化合物Ｂの飽和濃度に対して０．５２倍であった。結果を表１に示す。なお、重合性液晶化合物Ｂは、特開２０１０−３１２２３号公報に記載の方法で合成した。
【０１０８】
重合性液晶化合物Ｂ：
【化５】
2019043995.tif 000006
【０１０９】
［比較例１］
メンブランフィルターの孔径を０．４５μｍに変更した以外は、実施例１と同様にして重合性液晶組成液（４）を調製し、同様の条件下で保管した後、経時安定性評価を行った。結果を表１に示す。
【０１１０】
［比較例２］
メンブランフィルターによる濾過を行わなかった以外は、実施例１と同様にして重合性液晶組成液（５）を調製し、同様の条件下で保管した後、経時安定性評価を行った。結果を表１に示す。
【０１１１】
［参考例１］
重合性液晶化合物ＡをＬＣ２４２（ＢＡＳＦ社より市販されている液晶化合物）に変更した以外は、比較例２と同様にして重合性液晶組成液（６）を調製し、同様の条件下で保管した後、経時安定性評価を行った。前記重合性液晶組成液中の重合性液晶化合物の含有量は、溶媒（ＮＭＰ）の２５℃におけるＬＣ２４２の飽和濃度に対して０．２５倍だった。結果を表１に示す。
【０１１２】
【表１】
2019043995.tif 000007