(57)【要約】【課題】複数の構成機器により構成された装置において所定の構成機器を容易に単独制御することが可能な制御機構を提供する。【解決手段】数の構成機器から構成される装置における制御機構であって、ホストコンピュータ３０と、構成機器の動作を制御する制御基板と、ホストコンピュータ３０内に設けられ、全ての構成機器に対して命令を出力することが可能なアプリケーションであるメインアプリケーション３２と、を備え、ホストコンピュータ３０と制御基板を有する構成機器とは、その制御基板を介して電気的に接続され、少なくとも一つの制御基板は、メインアプリケーション３２と通信可能な上位インターフェースである第１の上位インターフェース５１に加え、コンピュータのオペレーションシステムに付随するＣＯＭ通信機能と通信可能な上位インターフェースである第２の上位インターフェース３２をさらに有している。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の構成機器から構成される装置における制御機構であって、
ホストコンピュータと、
前記構成機器の動作を制御する制御基板と、
前記ホストコンピュータ内に設けられ、全ての前記構成機器に対して命令を出力することが可能なアプリケーションであるメインアプリケーションと、
を備え、
前記ホストコンピュータと前記制御基板を有する前記構成機器とは、その前記制御基板を介して電気的に接続され、
少なくとも一つの前記制御基板は、前記メインアプリケーションと通信可能な上位インターフェースである第１の上位インターフェースに加え、コンピュータのオペレーションシステムに付随するＣＯＭ通信機能と通信可能な上位インターフェースである第２の上位インターフェースをさらに有していることを特徴とする、制御機構。
【請求項２】
前記ホストコンピュータは、前記第２の上位インターフェースを有する前記制御基板と前記メインアプリケーションとを通信可能とするためのデバイスドライバが組み込まれており、当該デバイスドライバおよび前記第１の上位インターフェースを介して、前記第２の上位インターフェースを有する前記制御基板と前記メインアプリケーションとが通信可能であることを特徴とする、請求項１に記載の制御機構。
【請求項３】
前記第２の上位インターフェースを有する前記制御基板は、前記第２の上位インターフェースを介してテキストコマンドを用いて通信可能であることを特徴とする、請求項１もしくは２のいずれかに記載の制御機構。
【請求項４】
請求項１〜３の制御機構を用いて前記制御基板を制御する制御ステップを実行するためのプログラムを記憶していることを特徴とする、記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一つの装置を構成する各構成機器を制御する制御機構に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
たとえばインクジェット塗布装置は、特許文献１にも示す通り、インクジェット法により塗布液の微小液滴を吐出する塗布ヘッド、この塗布ヘッドや基板などを搬送する駆動装置など多数の構成機器から構成される。
【０００３】
それぞれの構成機器を動作させるための命令は、塗布装置のホストコンピュータが備える１つのメインアプリケーションから行われる。メインアプリケーションにあらかじめ保存されているプログラムが実行されることによって、このプラグラムに従ってメインアプリケーションは各構成機器に命令を出し、たとえば塗布ヘッドが基板の上方を移動しながら塗布液を吐出するといった、塗布装置全体の動作が実行される。
【０００４】
ここで、これら構成機器をたとえば高速、高精度に動作させるために、各構成機器の動作を制御する制御基板をカスタムで製作することが従来から一般的に行われている。図５のブロック図は、塗布装置の制御機構を簡略的に表したものであり、この図５において二重枠で囲う部材は、カスタムで製作する必要がある部材を示しているが、たとえば塗布ヘッドを形成する複数の吐出ユニット９２の動作を制御する制御基板９３がカスタムで製作された場合、ホストコンピュータ９０のメインアプリケーション９１からこの制御基板９３への命令を行うためには、その制御基板９３向けにカスタムで製作されたデバイスドライバ９４が必要であり、このデバイスドライバ９４を介してメインアプリケーション９１から制御基板９３への命令が行われる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１７−０５１９１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記の通り、カスタムで製作された制御基板を装置が１つまたは複数個備える場合、装置を動作させるメインアプリケーションを製作するだけでなく、デバイスドライバもカスタムで製作する必要がある。図４に示す制御機構では、制御基板９３を完成させてもデバイスドライバ９４、メインアプリケーション９１が完成するまでは吐出ユニット９２を動作させることができない。
【０００７】
したがって、各構成機器の動作確認を開始するのはデバイスドライバ９４、メインアプリケーション９１が完成した後となるが、デバイスドライバ９４、メインアプリケーション９１といったソフトの作成には、ソフト開発者が関数とその動作内容を幅広く理解しておく必要があり、作成難度が高く、完成までに時間を要することが多い。そのため、各構成機器の動作検証まで完了させるまでに時間がかかり、装置の稼働開始が遅くなるといった問題があった。
【０００８】
本発明は上記問題を鑑みてなされたものであり、複数の構成機器により構成された装置において所定の構成機器を容易に単独制御できる制御機構を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために本発明の制御機構は、複数の構成機器から構成される装置における制御機構であって、ホストコンピュータと、前記構成機器の動作を制御する制御基板と、前記ホストコンピュータ内に設けられ、全ての前記構成機器に対して命令を出力することが可能なアプリケーションであるメインアプリケーションと、を備え、前記ホストコンピュータと前記制御基板を有する前記構成機器とは、その前記制御基板を介して電気的に接続され、少なくとも一つの前記制御基板は、前記メインアプリケーションと通信可能な上位インターフェースである第１の上位インターフェースに加え、コンピュータのオペレーションシステムに付随するＣＯＭ通信機能と通信可能な上位インターフェースである第２の上位インターフェースをさらに有していることを特徴としている。
【００１０】
上記制御機構によれば、制御基板は、メインアプリケーションと通信可能な上位インターフェースである第１の上位インターフェースに加え、コンピュータのオペレーションシステムに付随するＣＯＭ通信機能と通信可能な上位インターフェースである第２の上位インターフェースをさらに有していることによって、メインアプリケーションの有無に関わらずコンピュータのオペレーションシステムに付随するＣＯＭ通信機能を用いて制御基板の制御が可能であり、その構成機器を容易に単独制御できる。
【００１１】
また、前記ホストコンピュータは、前記第２の上位インターフェースを有する前記制御基板と前記メインアプリケーションとを通信可能とするためのデバイスドライバが組み込まれており、当該デバイスドライバおよび前記第１の上位インターフェースを介して、前記第２の上位インターフェースを有する前記制御基板と前記メインアプリケーションとが通信可能であると良い。
【００１２】
こうすることにより、メインアプリケーションだけでなくデバイスドライバの完成を待たずに制御基板の制御が可能であり、構成機器を容易に単独制御できる効果がさらに大きい。
【００１３】
また、前記第２の上位インターフェースを有する前記制御基板は、前記第２の上位インターフェースを介してテキストコマンドを用いて通信可能であると良い。
【００１４】
こうすることにより、オペレータが理解容易な言語を用いてオペレータが制御基板を動作させることが可能である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の制御機構によれば、複数の構成機器により構成された装置において所定の構成機器を容易に単独制御することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の制御機構を備える塗布装置を示す概略図である。
【図２】駆動隔壁の動作により液滴が吐出される過程を示す模式図である。
【図３】本発明の一実施形態における制御機構を示すブロック図である。
【図４】本発明の他の実施形態における制御機構を示すブロック図である。
【図５】従来の制御機構を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明に係る実施の形態を図面を用いて説明する。
【００１８】
図１は、本発明にかかる制御機構を備える塗布装置の概略図である。塗布装置１は、塗布部２、塗布ステージ３、親液性調節部４、および制御部５を備えており、塗布部２が塗布ステージ３上の基板Ｗの上方を移動しながら塗布部２内のノズルから塗布液の液滴を吐出することにより、基板Ｗへの塗布動作が行われる。そして、基板Ｗ上に塗布液が着弾し、基板Ｗ上に塗布パターンＰが形成される。また、塗布部２が基板Ｗへ液滴を吐出する前に、親液性調節部４が基板Ｗ表面などの親液性を調節し、塗布液が基板Ｗに着弾した後の塗布液の塗れ広がりの挙動をあらかじめ制御する。また、これら塗布部２、塗布ステージ３、親液性調節部４の動作を制御部５が制御する。
【００１９】
塗布部２は、塗布ヘッド１０、および塗布ヘッド移動装置１２を有している。塗布ヘッド１０は塗布ヘッド移動装置１２によって塗布ステージ３上の基板Ｗの任意の位置まで移動することが可能であり、塗布ヘッド１０が連続して移動する最中、あらかじめプログラムされた吐出位置に到達するたびに、塗布ヘッド１０はノズル１１から各吐出対象に対してインクジェット法により液滴の吐出を行う。
【００２０】
塗布ヘッド１０は、略直方体の形状を有し、複数の吐出ユニット１３が組み込まれている。吐出ユニット１３には、複数のノズル１１が設けられており、吐出ユニット１３が塗布ヘッド１０に組み込まれることにより、ノズル１１が塗布ヘッド１０の下面に配列される形態をとる。メインタンク１５から塗布ヘッド１０へ供給された塗布液は、塗布ヘッド１０内で分岐され、各吐出ユニット１３の全てのノズル１１へ供給される。
【００２１】
各ノズル１１はそれぞれ駆動隔壁１４を有し、制御部５からそれぞれのノズル１１に対する吐出のオン、オフの制御を行うことにより、任意のノズル１１の駆動隔壁１４が変形し、液滴を吐出する。
【００２２】
なお、本実施形態では、駆動隔壁１４としてピエゾアクチュエータが用いられており、本説明では駆動波形と呼ぶ電圧波形が駆動隔壁１４へ印加されることにより駆動隔壁１４の変形が生じる。
【００２３】
個々の駆動隔壁１４の動作によりノズル１１から液滴が吐出される過程を、図２に示す。図２（ａ）は、駆動隔壁１４へ印加される電圧の推移を示す線図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）の印加電圧の推移による駆動隔壁１４の形状の変化を示す模式図である。
【００２４】
時刻ｔ１までは、駆動隔壁１４には電圧はかけられておらず、駆動隔壁１４は基本状態（（１）の状態）である。
【００２５】
時刻ｔ１からｔ２の間は、正の電圧（Ｖａ）がかけられ、ノズル１１を挟む両側の駆動隔壁１４が広がる方向に変形し（（２）の状態）、ノズル１１の容積が大きくなり、塗布液をメインタンク１５の方からノズル１１内に引き込む。
【００２６】
時刻ｔ２からｔ３の間は、逆に負の電圧（−Ｖｂ）がかけられ、両側の駆動隔壁１４が狭まる方向に変形し（（３）の状態）、ノズル１１の容積が小さくなる。このとき、（２）の状態において引き込まれていた塗布液はノズル１１の外部へ押し出される。これが、液滴の吐出となる。
【００２７】
時刻ｔ３以降は、電圧はかけられていない状態となり、駆動隔壁１４は基本状態（（１）の状態）に戻る。これらの一連の動作を任意のタイミングで行うことにより、任意のタイミングでノズル１１から液滴を吐出する。また、このように液滴を吐出させるための印加電圧の変化の一連の波形を本説明では駆動波形と呼ぶ。
【００２８】
また、駆動隔壁１４へ印加する電圧値を調節することにより駆動隔壁１４の変形具合を調節することができ、これにより１回の吐出動作によってノズル１１から吐出される液滴の体積を調節することができる。
【００２９】
塗布ヘッド移動装置１２は塗布ヘッド１０を図１に示すＸ軸方向およびＹ軸方向に移動させ、また、Ｚ軸方向を回転軸として回転させることにより、基板Ｗの上方の任意の位置に塗布ヘッドを移動させ、また、基板に対する塗布ヘッド１０の傾きを調節する。
【００３０】
塗布ステージ３は、基板Ｗを固定する機構を有し、基板Ｗへの塗布動作はこの塗布ステージ３の上に基板Ｗを載置し、固定した状態で行われる。本実施形態では、塗布ステージ３は吸着機構を有しており、図示しない真空ポンプなどを動作させることにより、基板Ｗと当接する面に吸引力を発生させ、基板Ｗを吸着固定している。
【００３１】
また、塗布ステージ３は図示しない駆動装置によりＸ軸方向およびＹ軸方向に移動し、また、Ｚ軸方向を回転軸として回転することが可能であり、塗布ステージ３の上に載置された基板Ｗが有するアライメントマークの位置を図示しないアライメント装置が確認した後、この確認結果に基づいて基板Ｗの載置のずれを修正する際、塗布ステージ３が移動し、また、回転する。
【００３２】
また、塗布ステージ３上の基板Ｗは、親液性調節部４の直下にまで移動可能であり、基板Ｗは親液性調節部４の直下において親液性調節部４によって親液性が調節された後、塗布部２の直下まで移動して塗布部２により塗布パターンＰが形成される。
【００３３】
親液性調節部４は、本実施形態では露光装置１６であり、紫外線を基板Ｗに向かって照射する。
【００３４】
ここで本発明における基板Ｗは、たとえばガラス基板、シリコンウェハ、樹脂フィルムなどであり、紫外線の照射により表面が改質されて親液性が変化する。また、基板Ｗの表面の親液性の度合いは紫外線の照射時間によって変化するため、本実施形態では、制御部５によって基板Ｗの各位置への親液性調節部４からの紫外線照射時間が制御され、基板Ｗの各位置の親液性の度合いが調節される。
【００３５】
また、照射時間は同じであっても紫外線の波長や強度によっても親液性の度合いは調節可能である。
【００３６】
また、親液性調節部４は移動装置によってＸ軸方向およびＹ軸方向に移動することが可能であり、基板Ｗの任意の位置に露光を行うことが可能である。
【００３７】
制御部５は、後述するホストコンピュータ３０、シーケンサなどを有し、塗布ヘッド１０への送液、駆動隔壁１４を駆動させることによるノズル１１からの液滴の吐出および吐出量の調節、親液性調節部４の動作の制御などを行う。
【００３８】
また、制御部５のホストコンピュータ３０は、ハードディスクやＲＡＭまたはＲＯＭなどのメモリからなる、各種情報を記憶する記憶装置を有しており、液滴の吐出位置の座標データなどの塗布データがこの記憶装置に保存される。
【００３９】
次に、本実施形態の制御機構の構成を表すブロック図を、図３に簡略的に示す。この図３では特に吐出ユニット１３と制御部５との間のブロック図を示している。
【００４０】
制御部５は、複数の吐出ユニット１３の動作を制御する駆動波形制御基板２１と、ホストコンピュータ３０とを有している。
【００４１】
制御部５によって動作が制御される吐出ユニット１３には多数の駆動隔壁１４と電気的に接続される駆動波形生成基板２２が設けられており、駆動波形生成基板２２から所定の駆動隔壁１４へ駆動波形が印加される。駆動隔壁１４へ駆動波形が印加されたときに、図２（ａ）および（ｂ）に示した通り駆動隔壁１４が動作し、ノズル１１から塗布液が吐出される。
【００４２】
ここで、本実施形態では、駆動波形生成基板２２はホストコンピュータ３０によって直接制御されるのではなく、カスタムで製作された駆動波形制御基板２１が設けられており、駆動波形制御基板２１の上位インターフェース５１とホストコンピュータ３０の下位インターフェース４１とがＰＣＩｅバスによって接続され、また、駆動波形制御基板２１と駆動波形生成基板２２とがＬＶＤＳケーブルによって接続されている。そして、シリアル通信により駆動波形制御基板２１とホストコンピュータ３０との間、および駆動波形制御基板２１と駆動波形生成基板２２との間で通信が行われる。
【００４３】
このように駆動波形制御基板２１が設けられることにより、本実施形態では複数の駆動波形生成基板２２を同時に制御し、多くの吐出ユニット１３で同時に基板Ｗへ塗布液を塗布することを可能としている。具体的には、１つの駆動波形制御基板２１が５つの駆動波形生成基板２２を制御するようにしている。
【００４４】
なお、本実施形態では、駆動波形制御基板２１から駆動波形生成基板２２へ通信されるデータは、駆動波形の印加の開始信号、駆動波形を印加する駆動隔壁１４の番号のほかに、図２に電圧Ｖａおよび電圧Ｖｂで示すような印加電圧の大きさ、および時刻ｔ１―ｔ２間や時刻ｔ２―ｔ３間で示すような電圧を印加する時間の情報などがある。
【００４５】
ここで、本実施形態では駆動波形制御基板２１はホストコンピュータ３０の外部に設けているが、それに限らずホストコンピュータ３０の筐体内に収納されていても良い。また、本実施形態では駆動波形制御基板２１とホストコンピュータ３０との間、および駆動波形制御基板２１と駆動波形生成基板２２との間のＩ／Ｏ通信を行う方式としてそれぞれＰＣＩｅバス、ＬＶＤＳを採用しているが、それに限らずたとえばＩ２Ｃ、ＲＳ−４８５など他の通信方式を採用しても良い。また、インターフェース間の接続は、有線に限らずたとえば光通信のように無線であっても構わない。
【００４６】
ホストコンピュータ３０は、吐出ユニット１３の動作を制御する駆動波形制御基板２１を始めとする、塗布装置１を構成する各構成機器の動作を制御する各制御基板とシリアル通信可能に電気的に接続されている。ここでいう各基板とは、駆動波形制御基板２１のように構成機器の外側に設けられたカスタムで製作された制御基板も含み、また、構成機器に内蔵された制御基板も含む。構成機器の外側に制御基板が設けられている場合、外観上その制御基板を介してホストコンピュータ３０と構成機器が接続されており、また、構成機器に内蔵された制御基板と直接接続された場合は、外観上ホストコンピュータ３０と構成機器とが直接接続されている。こうすることにより、ホストコンピュータ３０と各制御基板との間にはシリアルバスが形成されている。
【００４７】
ホストコンピュータ３０には、これら構成機器の全てに対して通信可能なアプリケーションであるメインアプリケーション３２が準備されており、メインアプリケーション３２から出力された各構成機器への命令として共通の仕様である所定の関数からなる命令がバイナリデータの形式でシリアル通信によって各制御基板に入力され、その命令にしたがって制御基板は構成機器の動作を制御する。すなわち、メインアプリケーション３２が全ての構成機器の動作を制御し、塗布装置１としての動作を実施させる。塗布装置１のオペレータは、液滴の吐出位置の座標データなどの塗布データをあらかじめホストコンピュータ３０の記憶装置に保存しておき、この塗布データにしたがってメインアプリケーション３２は各制御基板に命令を出力する。
【００４８】
ここで、特に本実施形態における駆動波形制御基板２１のようにカスタムで製作された制御基板に対しては、メインアプリケーション３２がその制御基板を制御することができるようにするための専用のデバイスドライバもカスタムで製作され、ホストコンピュータ３０に組み込まれている。すなわち、本実施形態では、メインアプリケーション３２によって吐出ユニット１３を動作させるためには、図３において二重枠で示す通り、装置製作者およびソフト開発者は駆動波形制御基板２１、デバイスドライバ３３ａ、そしてメインアプリケーション３２そのものを製作し、準備する必要がある。
【００４９】
また、カスタムで製作される制御基板が複数であれば、図３に示すデバイスドライバ３３ｂ、デバイスドライバ３３ｃのように複数のデバイスドライバを製作する必要があり、メインアプリケーション３２は全てのデバイスドライバに対して命令可能な仕様である必要があるため、一般的に全てのデバイスドライバの仕様が決定した後、メインアプリケーション３２の仕様が決定する。
【００５０】
一方、ホストコンピュータ３０は下位インターフェース４１とは別に下位インターフェース４２を有しており、本実施形態ではＣＯＭポートがこの下位インターフェース４２にあたる。
【００５１】
ここで、本発明では、駆動波形制御基板２１は下位インターフェース４１と接続される上位インターフェース５１に加え、この下位インターフェース４２と接続可能な上位インターフェース５２を有している。そして、下位インターフェース４２および上位インターフェース５２を介して、ホストコンピュータ３０のオペレーションシステム３１に付随するＣＯＭ通信機能（本説明では標準ＡＰＩ３４）と駆動波形制御基板２１はシリアル通信することが可能となっている。
【００５２】
ここで、本説明では、下位インターフェース４１と接続されてメインアプリケーション３１との通信が可能である上位インターフェース５１を第１の上位インターフェース５１とも呼び、また、下位インターフェース４２と接続されてオペレーションシステム３１に付随するＣＯＭ通信機能と通信可能な上位インターフェース５２を第２の上位インターフェース５２とも呼ぶ。
【００５３】
このように下位インターフェース４２と第２の上位インターフェース５２とを介した標準ＡＰＩ３４と駆動波形制御基板２１との通信は、ＯＳ準拠のＣＯＭポートアクセスである。すなわち、専用のデバイスドライバはもちろんマスストレージをも必要とせずコンピュータ３０内のレジスタ（メモリ）にデータを書き込むことによって簡易な構成で制御出力がなされ、また、データを読み込むことができる。
【００５４】
なお、メインアプリケーション３２が全ての構成機器と通信可能であるのに対し、下位インターフェース４２と第２の上位インターフェース５２とを介した標準ＡＰＩ３４と駆動波形制御基板２１との通信は、１対１の通信となる。
【００５５】
そして、本実施形態では、この第２の上位インターフェース５２を用いた通信は、「０」と「１」の数字からのみ形成されるバイナリデータでなく、たとえばＡＳＣＩＩコマンドのようなテキストコマンドを用いて行っている。こうすることより、標準ＡＰＩ３４から駆動波形制御基板２１への通信にオペレータが介在する場合であっても、オペレータが理解容易なヒューマンインターフェースを用いてオペレータが駆動波形制御基板２１を動作させることが可能である。
【００５６】
なお、第２の上位インターフェース５２を用いた通信は、ＣＯＭポートを介したものに限らない。たとえば、ＵＳＢ、イーサネット（登録商標）、Ｗｉｆｉ、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標）を介したものであっても構わない。
【００５７】
次に、本発明の制御機構の効果を図３を用いて以下に説明する。
【００５８】
本発明の制御機構は、複数の構成機器から構成される装置における制御機構であって、ホストコンピュータ３０と、構成機器の動作を制御する制御基板と、ホストコンピュータ内に設けられ、全ての構成機器に対して命令を出力することが可能なアプリケーションであるメインアプリケーション３２と、を備え、ホストコンピュータ３０と制御基板を有する構成機器とは、その制御基板を介して電気的に接続され、少なくとも一つの制御基板（本実施形態における駆動波形制御基板２１）は、メインアプリケーション３２と通信可能な上位インターフェースである第１の上位インターフェース５１に加え、コンピュータのオペレーションシステムに付随するＣＯＭ通信機能（本実施形態における標準ＡＰＩ３４）と通信可能な上位インターフェースである第２の上位インターフェース５２をさらに有していることを特徴としている。
【００５９】
この制御機構によれば、駆動波形制御基板２１は、メインアプリケーション３２と通信可能な上位インターフェースである第１の上位インターフェース５１に加え、コンピュータのオペレーションシステムに付随するＣＯＭ通信機能と通信可能な上位インターフェースである第２の上位インターフェース５２をさらに有していることによって、メインアプリケーション３２の有無、すなわちメインアプリケーション３２が完成しているか否かに関わらず標準ＡＰＩ３４を用いて駆動波形制御基板２１の制御が可能であり、その構成機器を容易に単独制御できる。したがって、メインアプリケーション３２が完成する前から構成機器の動作検証を実施することが可能となるため、塗布装置１の完成を早めることが可能である。
【００６０】
それに加え、メインアプリケーション３２の完成後でも、仮に装置の稼働中に構成機器が正常に動作しなくなった場合に、標準ＡＰＩ３４からの制御による構成機器の操作を試みることによって、それでも構成機器が正常に動作しなければ構成機器自身に原因があり、それで構成機器が正常に動作するようになればメインアプリケーション３２もしくはデバイスドライバ３３ａといったソフトの方に原因がある、といった原因の切り分けを行うことが可能である。また、メインアプリケーション３２がハングアップした場合であってもデバッグを行うことも可能である。
【００６１】
また、ホストコンピュータ３２は、第２の上位インターフェース５２を有する駆動波形制御基板２１とメインアプリケーション３２とを通信可能とするためのデバイスドライバ３３ａが組み込まれており、デバイスドライバ３３ａおよび第１の上位インターフェース５１を介して、第２の上位インターフェース５２を有する駆動波形制御基板２１とメインアプリケーション３２とが通信可能であると良い。
【００６２】
この場合、メインアプリケーション３２だけでなくデバイスドライバ３３ａも製作が必要であるが、これらの完成を待たずに駆動波形制御基板２１を動作させることが可能であり、構成機器を容易に単独制御できる効果がさらに大きい。
【００６３】
また、第２の上位インターフェース５２を有する駆動波形制御基板２１は、第２の上位インターフェース５２を介してテキストコマンドを用いて通信可能である。
【００６４】
こうすることにより、標準ＡＰＩ３４から駆動波形制御基板２１への通信にオペレータが介在する場合であっても、オペレータが理解容易なヒューマンインターフェースを用いてオペレータが駆動波形制御基板を動作させることが可能である。
【００６５】
なお、上記の制御機構を用いて前記制御基板を制御する制御ステップを実行するためのプログラムはホストコンピュータ３０に記憶されているが、他のコンピュータでも使用可能なようにこのプログラムがＣＤ−ＲＯＭなどの記憶媒体に記憶された形態であっても良い。
【００６６】
以上の制御機構により、複数の構成機器により構成された装置において所定の構成機器を容易に単独制御することが可能である。
【００６７】
ここで、本発明の制御機構は、以上で説明した形態に限らず本発明の範囲内において他の形態のものであってもよい。たとえば、上記の説明では本発明の制御機構が塗布ヘッドに設けられているが、その他の構成機器にも設けられていても良い。すなわち、１つの装置内の複数の構成機器が本発明の制御機構を有していても良い。その場合、配線をつなぎ替えることによって、ホストコンピュータのＣＯＭポートと第２の上位インターフェースとを接続させる制御基板を適宜交替させることにより、任意の構成機器を容易に単独制御させることができる。
【００６８】
また、本発明の制御機構が設けられていない構成機器が装置内に存在していても良い。
【００６９】
また、制御基板の第２の上位インターフェースと電気的に接続される下位インターフェースを有するコンピュータは必ずしも装置のホストコンピュータである必要は無く、図４に示すようにホストコンピュータ３０とは別のコンピュータ５０と制御基板とが接続される形態であっても良い。
【００７０】
また、本発明の制御機構の用途は、上記の塗布装置に限らず、複数の構成機器により構成されたあらゆる装置に用いることができる。
【符号の説明】
【００７１】
１  塗布装置
２  塗布部
３  塗布ステージ
４  親液性調節部
５  制御部
１０  塗布ヘッド
１１  ノズル
１２  塗布ヘッド移動装置
１３  吐出ユニット
１４  駆動隔壁
１５  メインタンク
１６  露光装置
２１  駆動波形制御基板
２２  駆動波形生成基板
３０  ホストコンピュータ
３１  オペレーションシステム
３２  メインアプリケーション
３３ａ  デバイスドライバ
３３ｂ  デバイスドライバ
３３ｃ  デバイスドライバ
３４  標準ＡＰＩ
４１  下位インターフェース
４２  下位インターフェース
５０  コンピュータ
５１  （第１の）上位インターフェース
５２  （第２の）上位インターフェース
９０  ホストコンピュータ
９１  メインアプリケーション
９２  吐出ユニット
９３  制御基板
９４  デバイスドライバ
Ｐ  塗布パターン
Ｗ  基板
【図１】
2019220011.tif 000003
【図２】
2019220011.tif 000004
【図３】
2019220011.tif 000005
【図４】
2019220011.tif 000006
【図５】
2019220011.tif 000007