(57)【要約】【課題】部品点数の低減を実現しつつタッチパネル機能を発揮できる有機ＥＬ表示装置を提供する。【解決手段】有機ＥＬ表示装置は、互いに交差する第１方向及び第２方向に沿って延在する主面を有する基板と、基板上に位置し、第１方向に沿って延在する第１電極層及び第２電極層と、第１電極層上に位置する第１有機ＥＬ層と、第２電極層上に位置する第２有機ＥＬ層と、第１有機ＥＬ層上に位置し、第２方向に沿って延在する第３電極層と、第２有機ＥＬ層上に位置し、第２方向に沿って延在する第４電極層と、を備える。第１電極層と第２電極層とは、第１方向において互いに対向し、且つ、互いに分離しており、第１電極層は、第１タッチ電極としても機能し、第２電極層は、第１タッチ電極とは異なる第２タッチ電極としても機能する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに交差する第１方向及び第２方向に沿って延在する主面を有する基板と、
前記基板上に位置し、前記第１方向に沿って延在する第１電極層及び第２電極層と、
前記第１電極層上に位置する第１有機ＥＬ層と、
前記第２電極層上に位置する第２有機ＥＬ層と、
前記第１有機ＥＬ層上に位置し、前記第２方向に沿って延在する第３電極層と、
前記第２有機ＥＬ層上に位置し、前記第２方向に沿って延在する第４電極層と、
を備え、
前記第１電極層と前記第２電極層とは、前記第１方向において互いに対向し、且つ、互いに分離しており、
前記第１電極層は、第１タッチ電極としても機能し、
前記第２電極層は、前記第１タッチ電極とは異なる第２タッチ電極としても機能する、有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
前記第１電極層及び前記第２電極層は、前記第１方向に沿って延在する直線上に位置する、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
前記第１方向における前記第１電極層と前記第２電極層との隙間を埋める絶縁膜をさらに備える、請求項１又は２に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項４】
前記絶縁膜上に位置し、前記第１有機ＥＬ層と前記第２有機ＥＬ層とを隔てる隔壁をさらに備え、
前記第１方向に沿った前記隔壁の幅は、前記第１方向に沿った前記隙間の幅よりも長い、請求項３に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項５】
前記第１電極層と、前記第２電極層と、前記第３電極層と、前記第４電極層とに接続される駆動回路をさらに備え、
前記駆動回路は、
第１タイミングにおいて、前記第１有機ＥＬ層と前記第２有機ＥＬ層とのそれぞれの発光を制御する信号を前記第１電極層と、前記第２電極層と、前記第３電極層と、前記第４電極層とに送信し、
第２タイミングにおいて、前記基板の前記主面と反対側の面に接触する物体の有無を、前記第１電極層と前記第２電極層とを介して検知する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項６】
前記第２タイミングでは、前記第１電極層と前記第２電極層とのそれぞれの容量の変化の有無を検知する、請求項５に記載の有機ＥＬ表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置の一つとして、有機ＥＬ材料（ＥＬ：Electro-Luminescence）を発光物質として用いた有機ＥＬ表示装置が挙げられる。この有機ＥＬ表示装置は、タッチパネルを有することがある。例えば下記特許文献１には、２枚のガラスパネル材の貼り合せ方法が開示されている。下記特許文献１では、一方のガラスパネル材には、ＬＣＤ素子、ＥＬ素子等の表示素子がガラス基板に設けられる。また、他方のガラスパネル材には、タッチパネルがガラス基板に設けられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−１３６６２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記特許文献１では、表示素子とタッチパネルとが異なるガラス基板に設けられ、且つ、当該ガラス基板同士が一体化されている。この場合の最終製品の部品点数は、タッチパネルを有さない製品と比較して増加してしまう。
【０００５】
本発明は、部品点数の低減を実現しつつタッチパネル機能を発揮できる有機ＥＬ表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示装置は、互いに交差する第１方向及び第２方向に沿って延在する主面を有する基板と、基板上に位置し、第１方向に沿って延在する第１電極層及び第２電極層と、第１電極層上に位置する第１有機ＥＬ層と、第２電極層上に位置する第２有機ＥＬ層と、第１有機ＥＬ層上に位置し、第２方向に沿って延在する第３電極層と、第２有機ＥＬ層上に位置し、第２方向に沿って延在する第４電極層と、を備え、第１電極層と第２電極層とは、第１方向において互いに対向し、且つ、互いに分離しており、第１電極層は、第１タッチ電極としても機能し、第２電極層は、第１タッチ電極とは異なる第２タッチ電極としても機能する。
【０００７】
この有機ＥＬ表示装置によれば、第１電極層は、第１タッチ電極としても機能し、第２電極層は、第１タッチ電極とは異なる第２タッチ電極としても機能する。このため、上記有機ＥＬ表示装置にタッチパネルが形成された基板を貼り付けなくとも、タッチパネル機能が発揮できる。したがって、部品点数の低減を実現しつつタッチパネル機能を発揮できる。加えて、第１電極層と第２電極層とは、第１方向において互いに対向し、且つ、互いに分離している。このため、第１方向におけるセンシング領域を２つに分離できる。これにより、センシング領域の数を増加できる。ここで、第１電極層及び第２電極層は、第１方向に沿って延在する直線上に位置してもよい。
【０００８】
上記有機ＥＬ表示装置は、第１方向における第１電極層と第２電極層との隙間を埋める絶縁膜をさらに備えてもよい。この場合、第１電極層と第２電極層とを確実に絶縁できるので、歩留まりを向上できる。
【０００９】
上記有機ＥＬ表示装置は、絶縁膜上に位置し、第１有機ＥＬ層と第２有機ＥＬ層とを隔てる隔壁をさらに備え、第１方向に沿った隔壁の幅は、第１方向に沿った隙間の幅よりも長くてもよい。この場合、第１電極層と第２電極層との間における隙間が、有機ＥＬ表示装置の表示に影響を与えることを防止できる。
【００１０】
上記有機ＥＬ表示装置は、第１電極層と、第２電極層と、第３電極層と、第４電極層とに接続される駆動回路をさらに備え、駆動回路は、第１タイミングにおいて、第１有機ＥＬ層と第２有機ＥＬ層とのそれぞれの発光を制御する信号を第１電極層と、第２電極層と、第３電極層と、第４電極層とに送信し、第２タイミングにおいて、基板の主面と反対側の面に接触する物体の有無を、第１電極層と第２電極層とを介して検知してもよい。この場合、各有機ＥＬ層の発光制御と、基板に接触する物体の検知とを、単一の駆動回路にて実現できる。これにより、部品点数をさらに低減できる。ここで、駆動回路は、第２タイミングにおいて、第１電極層と第２電極層とのそれぞれの容量の変化の有無を検知してもよい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、部品点数の低減を実現しつつタッチパネル機能を発揮できる有機ＥＬ表示装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の模式平面図である。
【図２】図２は、図１のＡ−Ａ線に沿った概略断面図である。
【図３】図３は、有機ＥＬ表示装置の駆動方法を説明するためのフローチャートである。
【図４】図４は、変形例に係る有機ＥＬ表示装置の概略斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。
【００１４】
まず、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の構成について、図１及び図２を参照しつつ説明する。図１は、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の模式平面図である。図２は、図１のＡ−Ａ線に沿った概略断面図である。
【００１５】
図１及び図２に示されるように、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置１は、パッシブマトリックス型の表示装置である。有機ＥＬ表示装置１は、基板２と、表示部３と、配線部４〜７と、集積回路８と、ＦＰＣ９（フレキシブルプリント基板）とを備える。
【００１６】
基板２は、表示部３及び配線部４〜７が設けられる素子基板である。基板２は、例えばガラス基板、又は可撓性を有する基板（例えば、プラスチック基板等）であり、透光性を有している。基板２の主面２ａは、例えば略長方形状を呈している。主面２ａ上には、透光性及び絶縁性を示す保護膜等が形成されてもよい。基板２を介したタッチセンシングの精度の観点から、保護膜の厚さは、例えば１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。以下では、主面２ａの短辺方向を方向Ｘ（第１方向）とし、主面２ａの長辺方向を方向Ｙ（第２方向）とする。方向Ｘ，Ｙは、互いに交差している。また、方向Ｘ，Ｙに直交する方向を方向Ｚとする。方向Ｚは、基板２の厚さ方向に相当する。
【００１７】
表示部３は、電流が供給されることによって光を発生する部分であって、基板２の主面２ａ上に設けられる。表示部３は、マトリクス状に配置された複数の有機ＥＬ素子１１と、絶縁膜１２と、複数の隔壁１３とを有する。本実施形態では、配線部４に接続される有機ＥＬ素子１１を有機ＥＬ素子１１ａとし、配線部５に接続される有機ＥＬ素子１１を有機ＥＬ素子１１ｂとする。なお、本明細書における「接続」は、物理的接続だけでなく、電気的接続及び機能的接続も包含する。
【００１８】
有機ＥＬ素子１１ａは、陽極層（第１電極層）２１、有機ＥＬ層（第１有機ＥＬ層）２２、及び陰極層（第３電極層）２３を有する。本実施形態では、陽極層２１、有機ＥＬ層２２、及び陰極層２３は、基板２側から順に積層されている。
【００１９】
陽極層２１は、基板２の主面２ａ上に位置し、方向Ｘに沿って延在する透明導電層である。図１においては、陽極層２１の一部は破線にて示されている。陽極層２１は、例えば、方向Ｘにおける基板２の中心よりも配線部４側に位置している。方向Ｘにおける基板２の中心よりも配線部４側において、複数の陽極層２１は、方向Ｙに沿って間隔を空けて配置されている。方向Ｙに沿って隣り合う陽極層２１同士の間隔は、例えば１０μｍ以上３０μｍ以下である。陽極層２１を構成する材料としては、例えばＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等の透光性を示す導電材料が用いられる。陽極層２１の厚さは、例えば５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下である。陽極層２１は、例えば真空蒸着法、スパッタリング法等のＰＶＤ法（物理気相成長法）によって、主面２ａ上に成膜した透明導電膜をパターニングすることによって形成される。
【００２０】
有機ＥＬ層２２は、陽極層２１上に位置し、発光材料を含む有機発光層を少なくとも備える。有機ＥＬ層２２は、有機発光層に加えて、電子注入層、電子輸送層、正孔輸送層、及び正孔注入層等を有してもよい。発光材料は、低分子有機化合物でもよく、高分子有機化合物でもよい。発光材料として、蛍光材料が用いられてもよく、リン光材料が用いられてもよい。電子注入層、電子輸送層、正孔輸送層、及び正孔注入層は、それぞれ有機材料を含む。例えば、正孔輸送層には正孔輸送性を示す低分子有機化合物であるα−ＮＰＤが含まれ、電子輸送層には電子輸送性を示す低分子有機化合物であるＡｌｑ３が含まれる。有機ＥＬ層２２の厚さは、例えば１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下である。有機ＥＬ層２２は、例えばＰＶＤ法によって形成される。
【００２１】
陰極層２３は、有機ＥＬ層２２上に位置し、方向Ｙに沿って延在する導電層である。陰極層２３は、例えば、方向Ｘにおける基板２の中心よりも配線部４側に位置している。方向Ｘにおける基板２の中心よりも配線部４側において、複数の陰極層２３は、方向Ｘに沿って間隔を空けて配置されている。方向Ｘに沿って隣り合う陰極層２３同士の間隔は、例えば１０μｍ以上３０μｍ以下である。陰極層２３を構成する材料（導電材料）は、例えばアルミニウム、銀等の金属である。当該導電材料には、アルカリ土類金属（マグネシウム、カルシウム等）が含まれてもよいし、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）等の透光性を有する材料が含まれてもよい。導電材料には、複数の導電材料が含まれてもよい。陰極層２３の厚さは、例えば５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下である。陰極層２３は、例えばＰＶＤ法によって形成される。
【００２２】
有機ＥＬ素子１１ｂは、有機ＥＬ素子１１ａと同様の構成を備える。具体的には、有機ＥＬ素子１１ｂは、陽極層（第２電極層）３１、有機ＥＬ層（第２有機ＥＬ層）３２、及び陰極層（第４電極層）３３を有する。
【００２３】
陽極層３１は、陽極層２１と同時に形成される透明導電層であり、基板２の主面２ａ上に位置すると共に方向Ｘに沿って延在する。図１においては、陽極層３１の一部は破線にて示されている。陽極層３１は、例えば、方向Ｘにおける基板２の中心よりも配線部５側に位置している。方向Ｘにおける基板２の中心よりも配線部５側において、複数の陽極層３１は、方向Ｙに沿って間隔を空けて配置されている。方向Ｙに沿って隣り合う陽極層３１同士の間隔は、例えば１０μｍ以上３０μｍ以下である。
【００２４】
陽極層２１と陽極層３１とは、方向Ｙに沿っては互いに配列されていない。陽極層３１は、対応する陽極層２１に対して、方向Ｘにおいて互いに対向し、且つ、互いに分離している。このため、方向Ｘにおいて互いに対向する陽極層２１と陽極層３１とは、方向Ｘに沿って延在する１つの直線上に位置する。本実施形態では、これらの陽極層２１，３１における方向Ｘに沿った中心軸は、互いに重なり、且つ、上記直線上に位置する。方向Ｘにおける陽極層２１と陽極層３１との間には、隙間Ｓが設けられる。具体的には、方向Ｘにおける陽極層２１の中心側の端部と、方向Ｘにおける陽極層３１の中心側の端部との間には、隙間Ｓが設けられる。この隙間Ｓの存在によって、陽極層２１，３１は、電気的に分離している。方向Ｘに沿った隙間Ｓの幅Ｗは、例えば１０μｍ以上３０μｍ以下である。方向Ｘに沿った陽極層３１の長さは、方向Ｘに沿った陽極層２１の長さと略同一でもよいし、異なってもよい。方向Ｙに沿った陽極層３１の長さ（幅）は、方向Ｙに沿った陽極層２１の長さ（幅）と略同一である。なお、本実施形態における「略同一」は、完全同一だけを示すのではなく、多少の誤差（例えば、最大数％程度）を包含する概念である。
【００２５】
有機ＥＬ層３２は、有機ＥＬ層２２と同時に形成される層であり、陽極層３１上に位置する。このため有機ＥＬ層３２は、有機ＥＬ層２２と同一の層構造を備える。陰極層３３は、陰極層２３と同時に形成される導電層であり、有機ＥＬ層３２上に位置すると共に方向Ｙに沿って延在する。陰極層３３は、例えば、方向Ｘにおける基板２の中心よりも配線部５側に位置している。方向Ｘにおける基板２の中心よりも配線部５側において、複数の陰極層３３は、方向Ｘに沿って間隔を空けて配置されている。方向Ｘに沿って隣り合う陰極層３３同士の間隔は、例えば１０μｍ以上３０μｍ以下である。なお、方向Ｘに沿って隣り合う陰極層２３，３３同士の間隔もまた、例えば１０μｍ以上３０μｍ以下である。
【００２６】
絶縁膜１２は、表示部３に設けられる各有機ＥＬ素子１１の望ましくない（意図しない）短絡を防ぐ絶縁部材である。絶縁膜１２は、例えば、酸化シリコン膜、窒化シリコン膜等の無機絶縁膜でもよく、ポリイミド樹脂膜、シクロオレフィン樹脂膜、アクリル樹脂膜等の有機絶縁膜でもよい。絶縁膜１２の厚さは、例えば５０ｎｍ以上３０００ｎｍ（３μｍ）以下である。絶縁膜１２は、陽極層２１，３１の隙間Ｓを埋めるように設けられる。このため、絶縁膜１２は、陽極層２１，３１の形成後であって、有機ＥＬ層２２，３２の形成前に設けられる。
【００２７】
隔壁１３は、表示部３内の各陰極層２３及び各陰極層３３を分離する素子分離体であり、絶縁性を示す。隔壁１３は、絶縁膜１２上に位置すると共に方向Ｙに沿って延在しており、断面逆テーパー形状を呈する。本実施形態では、方向Ｘに沿った隔壁１３の幅は、例えば、１０μｍ以上３０μｍ以下であり、陽極層２１，３１の隙間Ｓの幅Ｗよりも長い。この場合、方向Ｘに沿った隣り合う有機ＥＬ層２２，３２の間隔を、隣り合う有機ＥＬ層２２同士の方向Ｘに沿った間隔、並びに、隣り合う有機ＥＬ層３２同士の方向Ｘに沿った間隔と同一にできる。このため、隙間Ｓが有機ＥＬ表示装置１の表示に影響を与えることを防止できる。具体例としては、隙間Ｓが形成されることによって、方向Ｘにおいて表示部３内の画面が２つに分割されたように視認されてしまうことを防止できる。隔壁１３は、絶縁膜１２の形成後であって、有機ＥＬ層２２，３２の形成前に設けられる。このため、隔壁１３の形成後に有機ＥＬ層２２，３２及び陰極層２３，３３をＰＶＤ法により形成することによって、有機ＥＬ層２２，３２及び陰極層２３，３３は、隔壁１３によって所望の形状にパターニングされる。隔壁１３は、例えばネガ型の感光性樹脂を含む。
【００２８】
表示部３は、基板２に接触する導電性物体（例えば、指等）を検知するタッチパネル部としても機能する。表示部３がタッチパネル部として機能するとき、陽極層２１，３１のそれぞれは、タッチ電極として機能する。すなわち、陽極層２１は、第１タッチ電極としても機能し、陽極層３１は、上記第１タッチ電極とは異なる第２タッチ電極としても機能する。表示部３には、方向Ｘにおいて配線部４側に位置する複数の第１センシング領域Ｔ１と、方向Ｘにおいて配線部５側に位置する複数の第２センシング領域Ｔ２とが設定される。各第１センシング領域Ｔ１は、方向Ｙに沿って配列されており、複数の陽極層２１を含む。各第１センシング領域Ｔ１は、例えば１本以上２５６本以下の陽極層２１を含む。各第２センシング領域Ｔ２は、方向Ｙに沿って配列されており、複数の陽極層３１を含む。各第２センシング領域Ｔ２は、例えば１本以上２５６本以下の陽極層３１を含む。上述したように、陽極層２１，３１は電気的に分離されている。このため、第１センシング領域Ｔ１と第２センシング領域Ｔ２とは、互いに独立したタッチセンシング領域として機能する。
【００２９】
第１センシング領域Ｔ１及び第２センシング領域Ｔ２のそれぞれは、１つでもよいし、例えば２つ以上１００つ以下に分割されてもよい。第１センシング領域Ｔ１及び第２センシング領域Ｔ２の数は、互いに同一でもよいし、互いに異なってもよい。第１センシング領域Ｔ１及び第２センシング領域Ｔ２の少なくとも一方は、可変であってもよい。例えば、第１センシング領域Ｔ１及び第２センシング領域Ｔ２の少なくとも一方は、表示部３によって表示される画像に対応した数または大きさに変化してもよい。
【００３０】
配線部４〜７のそれぞれは、複数の引き回し配線を含む部分である。配線部４は、有機ＥＬ素子１１ａの陽極層２１と、集積回路８とを接続する引き回し配線を含む。配線部５は、有機ＥＬ素子１１ｂの陽極層３１と、集積回路８とを接続する引き回し配線を含む。配線部６は、有機ＥＬ素子１１の陰極層２３，３３と、集積回路８とを接続する引き回し配線を含む。配線部７は、集積回路８とＦＰＣ９とを接続する引き回し配線を含む。配線部４〜７における各引き回し配線は、例えば、順に積層されたモリブデン合金層、アルミニウム合金層、及びモリブデン合金層を含む。配線部４〜７における各引き回し配線は、同時に形成されてもよいし、異なるタイミングにて形成されてもよい。引き回し配線の少なくとも一部は、バリア膜によって覆われてもよい。
【００３１】
集積回路８は、各有機ＥＬ素子１１の発光及び非発光を制御する駆動回路であって、第１センシング領域Ｔ１及び第２センシング領域Ｔ２に位置する物体の検知を処理する駆動回路である。集積回路８は、基板２の主面２ａにおいて表示部３とは異なる領域に搭載され、陽極層２１，３１と陰極層２３，３３とに接続される。集積回路８は、例えばＩＣチップ等である。
【００３２】
ＦＰＣ９は、有機ＥＬ表示装置１と外部装置とを接続する配線であり、配線部７の引き回し配線を介して集積回路８に接続される。ＦＰＣ９は、例えば可撓性を有するプラスチック基板を用いて形成される。ＦＰＣ９に接続される外部装置は、例えば電源及び電流制御回路等である。
【００３３】
次に、図３を参照しながら本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置１の駆動方法の一例について説明する。図３は、有機ＥＬ表示装置１の駆動方法を説明するためのフローチャートである。
【００３４】
図３に示されるように、まず、表示部３にて画像を表示する（ステップＳＴ１）。ステップＳＴ１では、集積回路８が各有機ＥＬ素子１１の発光及び非発光を制御するための信号を送信する。本実施形態では、有機ＥＬ層２２と有機ＥＬ層３２とのそれぞれの発光を制御する信号を、陽極層２１，３１と陰極層２３，３３とに送信する。これにより、各有機ＥＬ素子１１が発光もしくは非発光し、表示部３に画像が表示される。ステップＳＴ１では、表示部３に表示される画像は、変化してもよい。すなわち、ステップＳＴ１では、表示部３にて動画が表示されてもよい。
【００３５】
次に、表示部３にてタッチセンシングを実施する（ステップＳＴ２）。ステップＳＴ２では、集積回路８は、基板２の主面２ａと反対側の面に接触する物体の有無を、陽極層２１，３１とを介して検知する。本実施形態では、集積回路８は、陽極層２１，３１の容量の変化の有無を検知する。集積回路８は、容量の変化を検知した陽極層２１，３１の場所に応じた機能を実施する。
【００３６】
上記ステップＳＴ１，ＳＴ２は、所定の期間（例えば１秒間）における任意のタイミングで順に実施される。例えば、１秒間を６０フレームに分割した場合、ステップＳＴ１は最初の４０フレーム（第１タイミング）にて実施され、ステップＳＴ２は残る２０フレーム（第２タイミング）にて実施される。上記第１及び第２タイミングの期間等は、任意に設定可能である。
【００３７】
以上に説明した本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置１によれば、陽極層２１は、第１タッチ電極としても機能し、陽極層３１は、第１タッチ電極とは異なる第２タッチ電極としても機能する。このため、有機ＥＬ表示装置１にタッチパネルが形成された基板を貼り付けなくとも、タッチパネル機能が発揮できる。したがって、部品点数の低減を実現しつつタッチパネル機能を発揮できる。加えて、陽極層２１，３１は、方向Ｘにおいて互いに対向し、且つ、互いに分離している。このため、方向Ｘにおけるセンシング領域を２つに分離できる。これにより、陽極層２１，３１が分断されない場合よりも、センシング領域の数を増加できる。ここで本実施形態では、陽極層２１，３１は、方向Ｘに沿って延在する直線上に位置している。より具体的には、陽極層２１，３１の方向Ｘに沿った中心軸は、互いに重なっている。
【００３８】
本実施形態では、有機ＥＬ表示装置１は、方向Ｘにおける陽極層２１，３１の隙間Ｓを埋める絶縁膜１２を備える。このため、陽極層２１，３１を確実に絶縁できるので、有機ＥＬ表示装置１の歩留まりを向上できる。
【００３９】
本実施形態では、有機ＥＬ表示装置１は、絶縁膜１２上に位置し、方向Ｘにおいて隣り合う有機ＥＬ層２２，３２を隔てる隔壁１３を備え、方向Ｘに沿った隔壁１３の幅は、方向Ｘに沿った隙間Ｓの幅Ｗよりも長くてもよい。この場合、陽極層２１，３１の間における隙間Ｓが、有機ＥＬ表示装置１の表示に影響を与えることを防止できる。
【００４０】
本実施形態では、有機ＥＬ表示装置１は、陽極層２１，３１と、陰極層２３，３３とに接続される駆動回路である集積回路８を備え、集積回路８は、第１タイミングにおいて、有機ＥＬ層２２，３２のそれぞれの発光を制御する信号を陽極層２１，３１と、陰極層２３，３３とに送信し、第２タイミングにおいて、基板２の主面２ａと反対側の面に接触する物体の有無を、陽極層２１，３１とを介して検知してもよい。この場合、有機ＥＬ層２２，３２の発光制御と、第１及び第２センシング領域Ｔ１，Ｔ２の検知とを、単一の駆動回路にて実現できる。これにより、部品点数をさらに低減できる。ここで、集積回路８は、第２タイミングにおいて、陽極層２１，３１のそれぞれの容量の変化の有無を検知してもよい。
【００４１】
本発明による有機ＥＬ表示装置は、上述した実施形態に限られるものではなく、他に様々な変形が可能である。図４は、変形例に係る有機ＥＬ表示装置の概略斜視図である。図４に示される有機ＥＬ表示装置１Ａは、上記実施形態の有機ＥＬ表示装置１の構成と、封止基板５０とを備える。封止基板５０は、基板２に対向するように設けられており、例えばガラス基板、セラミックス基板、金属基板、又はプラスチック基板等である。封止基板５０は、可撓性を示してもよいし、透光性を示してもよい。基板２と封止基板５０とは、例えば紫外線硬化性樹脂等によって封止される。このとき、基板２と封止基板５０との間の空間は、乾燥剤を含む充填材が充填されてもよい。もしくは、上記空間には乾燥剤が設けられてもよい。また、封止基板５０から露出する集積回路などは、保護樹脂６０によって覆われる。保護樹脂６０は、例えば種々の硬化性樹脂である。
【００４２】
上記実施形態において、ステップＳＴ１，ＳＴ２の順は限定されない。ステップＳＴ２が実施された後、ステップＳＴ１が実施されてもよい。また、ステップＳＴ１，ＳＴ２の少なくとも一方は、１秒間において複数回実施されてもよい。例えば、１秒間を６０フレームに分割した場合、ステップＳＴ１は最初の２０フレームにて実施され、ステップＳＴ２は続く１０フレームにて実施され、残り３０フレームにてステップＳＴ１が再度実施されてもよい。
【００４３】
上記実施形態において、基板の主面は略長方形状を呈しているが、これに限られない。基板の主面は、多角形状を呈してもよいし、略円形状を呈してもよい。また、上記実施形態において、方向Ｘに沿った隔壁の幅は、方向Ｘにおいて互いに対向する２つの陽極層の隙間の幅よりも長いが、これに限られない。方向Ｘに沿った隔壁の幅は、上記２つの陽極層の隙間の幅以下でもよい。
【００４４】
上記実施形態において、陽極層２１、有機ＥＬ層２２、及び陰極層２３は、基板２側から順に積層されているが、これに限られない。例えば、陰極層２３、有機ＥＬ層２２、及び陽極層２１が基板２側から順に積層されてもよい。このため、上記第１及び第２電極層は陰極層であってもよく、上記第３及び第４電極層は陽極層であってもよい。この場合、各陰極層がタッチ電極としても機能する。
【符号の説明】
【００４５】
１…有機ＥＬ表示装置、２…基板、２ａ…主面、３…表示部、４〜７…配線部、８…集積回路（駆動回路）、９…ＦＰＣ、１１，１１ａ，１１ｂ…有機ＥＬ素子、１２…絶縁膜、１３…隔壁、２１…陽極層（第１電極層）、２２…有機ＥＬ層（第１有機ＥＬ層）、２３…陰極層（第３電極層）、３１…陽極層（第２電極層）、３２…有機ＥＬ層（第２有機ＥＬ層）、３３…陰極層（第４電極層）、Ｓ…隙間、Ｗ…幅。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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