(57)【要約】【課題】化粧料として必要な加圧力範囲において滑り性に優れた六方晶窒化ホウ素粉末、並びに該六方晶窒化ホウ素粉末を含む化粧料を提供する。【解決手段】平均粒子径が３μｍ以上２０μｍ以下である六方晶窒化ホウ素粉末において、パウダーレオメーターで測定された加圧力１．５ｋＰａ以上３．０ｋＰａ以下の範囲におけるせん断応力Ｓと、加圧力Ｐの比の値ｒが０．７０以下であり、黒鉛化指数が２．０以下であることを特徴とする六方晶窒化ホウ素粉末。また加圧力２．０ｋＰａにおけるせん断応力が１．４ｋＰａ以下である六方晶窒化ホウ素粉末。更には加圧力３．０ｋＰａにおけるせん断応力が２．１ｋＰａ以下である六方晶窒化ホウ素粉末。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
平均粒子径が３μｍ以上２０μｍ以下である六方晶窒化ホウ素粉末において、パウダーレオメーターで測定された加圧力１．５ｋＰａ以上３．０ｋＰａ以下の範囲におけるせん断応力Ｓと、加圧力Ｐの比の値ｒ（［数１］）が０．７０以下であり、黒鉛化指数（［数２］）が２．０以下であることを特徴とする六方晶窒化ホウ素粉末。
［数１］  r＝Ｓ／Ｐ
［数２］  黒鉛化指数＝（Ｓ１＋Ｓ２）／Ｓ３
Ｓ１：Ｘ線回折スペクトルにおける（１００）面のピーク面積
Ｓ２：Ｘ線回折スペクトルにおける（１０１）面のピーク面積
Ｓ３：Ｘ線回折スペクトルにおける（１０２）面のピーク面積
【請求項２】
パウダーレオメーターで測定された加圧力２．０ｋＰａにおけるせん断応力が１．４ｋＰａ以下であることを特徴とする請求項１記載の六方晶窒化ホウ素粉末。
【請求項３】
パウダーレオメーターで測定された加圧力３．０ｋＰａにおけるせん断応力が２．１ｋＰａ以下であることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の六方晶窒化ホウ素粉末。
【請求項４】
ホウ素を含む化合物の粉末及び窒素を含む化合物の粉末の合計１００質量部を、最高温度６００〜１３００℃の第一焼成条件で焼成することにより低結晶性六方晶窒化ホウ素を得る工程と、低結晶性六方晶窒化ホウ素を粉砕して１００μｍ以上の粗粉量が４０体積％以下である低結晶性六方晶窒化ホウ素の粉末を得る工程と、低結晶性六方晶窒化ホウ素の粉末と、０．９質量部以上２０質量部以下の焼結助剤粉末とを含む混合粉末を得る工程と、低結晶性六方晶窒化ホウ素の粉末と０．９質量部以上２０質量部以下の焼結助剤とを含む粉末混合粉末を最高温度１６００〜２２００℃の第二焼成条件で焼成することにより高結晶性六方晶窒化ホウ素を得る工程と、前記工程で得られた高結晶性六方晶窒化ホウ素を洗浄液で洗浄し、次いで乾燥する工程と、を含む請求項１〜３のいずれか一項記載の六方晶窒化ホウ素粉末の製造方法。
【請求項５】
ホウ素を含む化合物がホウ酸であり、窒素を含む化合物がメラミンであり、焼結助剤が炭酸ナトリウム及び／又は炭酸カルシウムである請求項４記載の六方晶窒化ホウ素粉末の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜３のいずれか一項記載の六方晶窒化ホウ素粉末を含む化粧料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、化粧料として必要な加圧力範囲において滑り性に優れた六方晶窒化ホウ素粉末、並びに該六方晶窒化ホウ素粉末を含む化粧料に関する。
【背景技術】
【０００２】
六方晶窒化ホウ素は黒鉛類似の層状構造を有し、滑り性、熱伝導性、絶縁性、化学的安定性、耐熱衝撃性などの特性に優れ、これらの特性を活かして化粧料（化粧品ともいう）原料、固体潤滑剤や離型剤、樹脂やゴムの充填材、耐熱性を有する絶縁性焼結体などに応用されている。
【０００３】
化粧料原料用の六方晶窒化ホウ素粉末については、これまでは安全性、衛生性の観点から開発をなされてきた。特に溶出ホウ素量については、医薬部外品原料規格２００６で規格が定められており、所定の手順で六方晶窒化ホウ素粉末を水に接触させた際に、許容できるホウ素量（以降、「溶出ホウ素量」という）は窒化ホウ素１ｇに対して２０μｇ以下（すなわち２０ｐｐｍ以下）と規定されており、該規定を超える六方晶窒化ホウ素粉末は、これを原料として配合した化粧料の肌への刺激性を高める可能性があった。そのため、水溶性ホウ素化合物を低減する手段が様々に開示されてきた。
【０００４】
特許文献１には、六方晶窒化ホウ素を低級アルコールやアセトン等の水可溶性有機溶媒若しくはその水溶液、または界面活性剤水溶液中で攪拌洗浄し、低温かつ低酸素雰囲気下で乾燥する方法が、特許文献２には、六方晶窒化ホウ素粉末を水または熱水に分散させて水可溶性ホウ素化合物を洗浄除去し、乾燥させた後、アルコールを配合若しくはアルコール中に浸漬し、然る後再度乾燥させる方法が、さらに特許文献３には、六方晶窒化ホウ素粉末を、酸水溶液中で洗浄し、乾燥した後、炭素と接触させないようにして窒素雰囲気下１８００〜１９５０℃で１〜５時間熱処理する方法が開示されている。
【０００５】
一方で、化粧料原料用に六方晶窒化ホウ素粉末を配合する目的として、滑り性、伸び性、及び光沢性等の付与がある。特に、六方晶窒化ホウ素粉末の滑り性は、同様の機能を有するタルク粉末やマイカ粉末に比べて優れており、滑り性の改善は化粧料にとって重要な因子である。しかし特許文献１〜３に開示される六方晶窒化ホウ素粉末では滑り性の改善はなされておらず、結果として滑り性において十分に満足のいくものではなかった。
【０００６】
滑り性を数値化する方法として摩擦力がある。摩擦力は、材料自体の滑り性に加え、相手材への加圧力によって変化する。化粧料の場合、相手材は皮膚であり、加圧力はクリーム状化粧料では２．０ｋＰａ程度、パウダーファンデーションでは２．５ｋＰａ程度と、化粧料の種類によって異なっているため、化粧料として必要な加圧力範囲において滑り性に優れた六方晶窒化ホウ素粉末が必要とされていた。
【０００７】
滑り性に優れた化粧料用窒化ホウ素粉末として、特許文献４が開示されている。しかし特許文献４は扁平形状の一次粒子が積層した板状の凝集体であるため、上記記載の方法では満足のいく滑り性が得られなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開昭６３−３３３１２号公報
【特許文献２】特開平１−１５７４０９1号公報
【特許文献３】特開２００４−３５２７３号公報
【特許文献４】特開２０１２−１７６９１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、化粧料として必要な加圧力範囲において滑り性に優れた六方晶窒化ホウ素粉末、並びに該六方晶窒化ホウ素粉末を含む化粧料を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
すなわち本発明は、平均粒子径が３μｍ以上２０μｍ以下である六方晶窒化ホウ素粉末において、パウダーレオメーターで測定された加圧力１．５ｋＰａ以上３．０ｋＰａ以下の範囲におけるせん断応力Ｓと加圧力Ｐの比の値ｒ（［数１］）が０．７０以下であり、黒鉛化指数（［数２］）が２．０以下であることを特徴とする六方晶窒化ホウ素粉末である。更に本発明においては、加圧力２．０ｋＰａにおけるせん断応力が１．４ｋＰａ以下、及び／又は加圧力３．０ｋＰａにおけるせん断応力が２．１ｋＰａ以下であることを特徴とする六方晶窒化ホウ素粉末を得ることができる。
【００１１】
［数１］  r＝Ｓ／Ｐ
［数２］  黒鉛化指数＝（Ｓ１＋Ｓ２）／Ｓ３
Ｓ１：Ｘ線回折スペクトルにおける（１００）面のピーク面積
Ｓ２：Ｘ線回折スペクトルにおける（１０１）面のピーク面積
Ｓ３：Ｘ線回折スペクトルにおける（１０２）面のピーク面積
【発明の効果】
【００１２】
本発明により、化粧料として必要な加圧力範囲において優れた滑り性を示す六方晶窒化ホウ素を提供することができ、更に該六方晶窒化ホウ素粉末を含む滑り性に優れた化粧料を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
＜六方晶窒化ホウ素粉末＞
本発明の一側面に係る六方晶窒化ホウ素粉末は、平均粒子径が３μｍ以上２０μｍ以下、パウダーレオメーターで測定された加圧力１．５ｋＰａ以上３．０ｋＰａ以下の範囲におけるせん断応力Ｓと加圧力Ｐの比の値ｒが０．７０以下、黒鉛化指数が２．０以下である。
【００１４】
以下に、本発明に係る六方晶窒化ホウ素粉末を実施するためのより詳しい説明を示す。
【００１５】
＜平均粒子径＞
本発明の六方晶窒化ホウ素粉末の平均粒子径は３μｍ以上２０μｍ以下、好ましくは４μｍ以上１８μｍ以下、更に好ましくは５μｍ以上１５μｍ以下である。３μｍ未満では滑り性が不十分となる。２０μｍを超えると、例えばこれを用いた化粧料の肌への感触にざらつきが発生したり、外観上のぎらつきが強くなるため、化粧料原料としては好ましくなくなる。なお本発明における平均粒子径は、レーザー回折散乱法による粒度分布測定において、体積基準の累積粒度分布の累積値５０％の粒子径である。一般に平均粒子径は測定方法により変わる可能性があり、本発明では、水２００ｍｌに、六方晶窒化ホウ素粉末６０ｍｇ及び２０質量％ヘキサメタリン酸水溶液２ｍｌを加え、ホモジナイザーにより３００Ｗの出力で１８０秒間分散処理させた後の分散液を用いて、粒度分布測定器により計測した値である。
【００１６】
＜せん断応力及び加圧力とせん断応力の比＞
本発明の六方晶窒化ホウ素粉末において［数１］で示される加圧力Ｐとせん断応力Ｓの比の値ｒは、加圧力１．５ｋＰａ以上３．０ｋＰａ以下の範囲において０．７０以下、好ましくは０．６５以下である。
加圧力１．５ｋＰａ以上３．０ｋＰａ以下は、上述の通り化粧料として必要な加圧力範囲であり、クリーム状化粧料では２．０ｋＰａ、パウダーファンデーションでは２．５ｋＰａと言われている。加圧力とせん断応力の比ｒが小さい程、幅広い加圧力範囲で滑り易く、化粧料として好適であると言える。逆にｒが０．７０を超えると滑り性が不十分であり、化粧料として好適ではない。
【００１７】
また本発明の六方晶窒化ホウ素粉末は、パウダーレオメーターで測定された加圧力２．０ｋＰａにおけるせん断応力が１．４ｋＰａ以下、好ましくは１．３ｋＰａ以下であり、更に加圧力３．０ｋＰａ以下におけるせん断応力が２．１ｋＰａ以下、好ましくは２．０ｋＰａ以下である。これらのせん断応力を超えると滑り性が不十分であり、化粧料として好適ではない。なお加圧力とせん断応力の関係の測定は、「パウダーレオメーター（マルバーン製）」を用いた「壁面摩擦試験」により行った。この試験においては表面粗さが規定された円形ディスク（直径４８ｍｍ）を用いて試料粉体と円形ディスクとの摩擦力をせん断応力として測定するが、より肌の状態に近づけるべく円形ディスクに人工皮革（出光テクノファイン製、サプラーレ）を貼り付けて測定を行った。
【００１８】
＜黒鉛化指数＞
六方晶窒化ホウ素粉末は、黒鉛と類似の結晶構造を有しており、粉末Ｘ線回折測定を利用し、黒鉛と同様の方法で、その黒鉛化指数を算出することができる。即ち、黒鉛化指数は、Ｘ線回折スペクトルの（１００）面に由来するピークの面積Ｓ１、（１０１）面に由来するピークの面積Ｓ２、及び（１０２）面に由来するピークの面積Ｓ３の各値を、［数２］に代入することによって算出できることが示されており（Ｊ．Ｔｈｏｍａｓ，ｅｔ．ａｌ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．８４，４６１９（１９６２））、これを六方晶窒化ホウ素に適用したものである。
【００１９】
なお、本発明では、Ｓ１は六方晶窒化ホウ素の（１００）面のＸ線回折スペクトルに相当するピークの面積（積分強度比）であり、具体的には２θ＝４０°以上４２．５°以下のピークの面積である。同様にＳ２は六方晶窒化ホウ素の（１０１）面のＸ線回折スペクトルに相当するピークの面積（積分強度比）であり、具体的には２θ＝４３°以上４５°以下のピーク面積である。Ｓ３は六方晶窒化ホウ素の（１０２）面のＸ線回折スペクトルに相当するピークの面積（積分強度比）であり、具体的には２θ＝４８°以上５２°以下のピークの面積である。なお、各ピークの面積を求めるにあたり、２θ＝３８°及び５４°における各値を直線で結んでベースラインを作成し、ベースラインを基準として各ピーク面積を算出した。
【００２０】
黒鉛化指数は六方晶窒化ホウ素の結晶性の指標となり、化粧料として用いた場合の滑り性に影響する。本発明の六方晶窒化ホウ素の黒鉛化指数は２．０以下、好ましくは１．８以下、更に好ましくは１．４以下である。黒鉛化指数が２．０を超えると、六方晶窒化ホウ素の結晶性が不十分となり、ひいては滑り性が不十分になる。
【００２１】
＜六方晶窒化ホウ素の製造方法＞
本発明の六方晶窒化ホウ素粉末の製造方法の例としては、ホウ素を含む化合物の粉末及び窒素を含む化合物の粉末（以下、ホウ素を含む化合物と窒素を含む化合物とを併せて出発原料ということもある）と、アルカリ金属化合物及び／又はアルカリ土類金属などの焼成時における出発原料の六方晶窒化ホウ素への変換を促進する焼結助剤の粉末と、本発明の目的を逸脱しない範囲において、必要に応じて出発原料や焼結助剤以外の、単体や化合物を含む混合粉末を、第一焼成条件として窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性雰囲気下、及び又はアンモニア雰囲気下で６００〜１３００℃で焼成して低結晶性六方晶窒化ホウ素となし、これを更に第二焼成条件として窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性雰囲気下、及び又はアンモニア雰囲気下で１６００〜２２００℃で焼成して高結晶性六方晶窒化ホウ素となし、これを洗浄液で洗浄することによる不純物除去処理を加えてから乾燥する工程を含む製造方法が挙げられる。ここで、焼結助剤の配合は、出発原料に配合しても良いし、低結晶性六方晶窒化ホウ素に配合しても良い。
【００２２】
ここでホウ素を含む化合物としては、ホウ酸、酸化ホウ素、ホウ砂などが好ましく、特にホウ酸を好ましく用いることができる。また、窒素を含む化合物としては、シアンジアミド、メラミン、尿素などが好ましく、特にメラミンを好ましく選択することができる。出発原料中に含まれるホウ素原子と窒素原子のモル比率は、必ずしも５：５に固定する必要はなく、反応性や収率に応じて、ホウ素原子と窒素原子のモル比率を、好ましくは２：８〜８：２の範囲で、さらに好ましくは３：７〜７：３の範囲で適宜変えることが可能である。なお、低結晶性六方晶窒化ホウ素を製造するための出発原料として用いる各種化合物等は一種類に限定する必要はなく、複数種類の化合物等を同時に使用することもできる。
【００２３】
焼結助剤の好ましい具体例としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属の酸化物又は炭酸塩、カルシウム、ストロンチウム等のアルカリ土類金属の酸化物又は炭酸塩を挙げることができる。焼結助剤の好ましい配合割合としては、出発原料１００重量部に対して焼結助剤０．９質量部以上２０質量部以下が好ましい。なお、焼結助剤として用いる各種化合物等は一種類に限定する必要はなく、複数種類の化合物等を同時に使用することもできる。また、出発原料や焼結助剤以外に配合できる単体や化合物の例としては、炭素などの還元性物質を挙げることができる。
【００２４】
さらに黒鉛化指数、すなわち六方晶窒化ホウ素の結晶性は、焼結助剤の配合量、及び焼成温度によって変化する。出発原料の１００質量部に対する焼結助剤の配合割合は少なくとも０．９質量部以上、好ましくは１．０質量部以上、さらに好ましくは２．０質量部以上であることが望ましい。また、化粧料への適用を考慮すると、出発原料の１００質量部に対する焼結助剤の配合割合は多くとも２０質量部以下、好ましくは１５質量部以下、さらに好ましくは１２質量部以下であることが望ましい。焼結助剤の配合割合が上記の範囲未満であると、焼結に伴って進行するべき出発原料から六方晶窒化ホウ素への変換反応が進まずに、黒鉛化指数が２．０を超える値となりやすく、化粧料としての塗り伸び性が不十分となる。逆に、焼結助剤の配合割合が上記の範囲を超えると六方晶窒化ホウ素の結晶成長が進みすぎて微粉砕が困難になり、該粉末の平均粒子径が２０μｍを超える可能性が高く、このような六方晶窒化ホウ素粉末を原料として用いた化粧料では、外観上のぎらつきが強くなり、化粧料用原料として相応しくない。
【００２５】
本発明の発明者らは、化粧料における皮膚への必要な加圧力範囲において優れた滑り性を示す六方晶窒化ホウ素粉末を合成する方法について鋭意検討した結果、これを実現するためには、低結晶性六方晶窒化ホウ素の粉末に含まれる１００μｍ以上の粗粉量を特定量以下とすることが必要であることを見出し、本発明を完成させた。低結晶性六方晶窒化ホウ素の粉末に含まれる１００μｍ以上の粗粉量としては、多くとも４０体積％以下、好ましくは３０体積％以下、さらに好ましくは２０体積％以下であることが望ましい。低結晶性六方晶窒化ホウ素の粉末に含まれる１００μｍ以上の粗粉量が４０体積％を超えると、高結晶性六方晶窒化ホウ素合成時の結晶成長が不均一化するため、加圧力Ｐとせん断応力Ｓの比の値ｒが６．５を超えるため、化粧料用原料として相応しくない。なお本発明における１００μｍ以上の粗粉量は、レーザー回折散乱法による粒度分布測定において、体積基準の累積粒度分布の粒子径１００μｍを超える体積割合である。本発明では、水２００ｍｌに、低結晶性六方晶窒化ホウ素の粉末６０ｍｇ及び２０質量％ヘキサメタリン酸水溶液２ｍｌを加えた混合液を、超音波分散処理を実施することなく、粒度分布測定器により計測した値である。ここで、超音波分散処理を実施しない理由は、超音波分散処理を行うと、低結晶性六方晶窒化ホウ素の粉末に含まれる粗粉が超音波によって粉砕され、粗粉量が正確に測定できなくなるためである。
【００２６】
第一焼成条件で得られる低結晶性六方晶窒化ホウ素は、一般的にはブロック状の固形物の状態で取り出されるため、これを粉砕又は分級することにより、１００μｍ以上の粗粉量が４０体積％以下である低結晶性六方晶窒化ホウ素の粉末を得ることができる。粉砕機の一例を挙げれば、ボールミル、ハンマーミル、カッターミル、リングミル、ピンミル、振動ミル、ジェットミル、ビーズミルがある。分級機の一例を挙げれば、振動篩、沈降分級、気流式分級機がある。また、低結晶性六方晶窒化ホウ素粉末の生産性を高めるために、これらの粉砕機及び分級機を、第一焼成条件の焼成炉の出口に設置することもできる。
【００２７】
該混合粉末を焼成するときの最高温度としては、第一焼成条件では、６００℃以上１３００℃以下の範囲の温度が好ましく、８００℃以上１２００℃以下の範囲の温度がより好ましく設定される。焼成温度の最高値が６００℃未満であると低結晶六方晶窒化ホウ素への変換が進み難くなり、原料であるホウ素を含む化合物の残留量が増加するため、結果として平均粒子径が３．０μｍ未満の値となりやすく、加圧力Ｐとせん断応力Ｓの比の値ｒが６．５を超えるため、化粧料用原料として相応しくない。焼成温度の最高値が１３００℃を超えると、高結晶六方晶窒化ホウ素を合成するのに必要なＢ２Ｏ３等の酸化物が減少し、結果として黒鉛化指数が２．０を超える値となりやすく、化粧料としての塗り伸び性が不十分となるため好ましくない。第二焼成条件では、１６００℃以上２２００℃以下の範囲の温度が好ましく、１６５０℃以上１９００℃以下の範囲の温度がより好ましく設定される。焼成温度の最高値が１６００℃未満であると六方晶窒化ホウ素への変換が進み難くなるため黒鉛化指数が２．０を超える値となりやすく、加圧力Ｐとせん断応力Ｓの比の値ｒが６．５を超えるため、化粧料用原料として相応しくない。焼成温度の最高値が２２００℃を超えると、六方晶窒化ホウ素の結晶成長が進みすぎ、化粧料用原材料として使用した場合に外観のぎらつきが強まるため、実用上好ましくない。
【００２８】
六方晶窒化ホウ素粉末の焼成温度は一定に保持しても、連続的または不連続的に変化させても良く、昇温冷却時の速度にも制限はないが、第一焼成条件では、焼成時間が短すぎると、低結晶六方晶窒化ホウ素への変換が進み難くなり、原料であるホウ素を含む化合物の残留量が増加するため、結果として平均粒子径が３．０μｍ未満の値となりやすいため、０．５時間以上が好ましく、１時間以上がより好ましい。第二焼成条件では、焼成時間が短すぎると焼成が不十分となり、黒鉛化指数が２．０を超える可能性があるため、２時間以上が好ましく、４時間以上がより好ましい。また、該粉末混合物を焼成する装置類については特に制限はないが、該粉末混合物を収納する容器には、例えば六方晶窒化ホウ素製の容器を用いることができ、加熱装置には、例えば電気ヒータを用いた焼成炉を用いることができる。
【００２９】
また、出発原料を混合して粉末混合物となしてから焼成が終了するまでの間に、本発明の目的を逸脱しない範囲内で、さらに加熱、冷却、加湿、乾燥、及び洗浄の操作を加えることも可能である。
【００３０】
焼成が終了して得られた高結晶性六方晶窒化ホウ素を粉砕する装置に特に規定はないが、粉砕条件によっては得られた六方晶窒化ホウ素が微細化してしまい、上述の溶出ホウ素量が２０ｐｐｍを超えてしまう恐れがある。
【００３１】
粉砕した高結晶性六方晶窒化ホウ素粉末中には、六方晶窒化ホウ素以外の不純物や水溶性ホウ素化合物（以降、まとめて不純物等という）が含まれている可能性があるため、洗浄液を用いた洗浄により不純物等を除去してから固液分離して乾燥し、最終的に本発明の六方晶窒化ホウ素粉末を得ることができる。ここでいう洗浄液とは、水、酸性物質を含む水溶液、有機溶媒、有機溶媒と水との混合液のいずれかであることが望ましい。水は、例えば５〜９５℃の冷水、温水または熱水を用いることができ、この場合、不純物の二次的な混入を避ける観点から、電気伝導度が１ｍＳ／ｍ以下の水を使用することができる。酸性物質としては、例えば塩酸、硝酸等の無機酸を挙げることができる。有機溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコールやアセトン等の水溶性の有機溶媒を好ましく使用することができる。高結晶性六方晶窒化ホウ素粉末と洗浄液とを接触させる方法にも特に制限はないが、高結晶性六方晶窒化ホウ素粉末を、洗浄液中に浸漬して撹拌したり、高結晶性六方晶窒化ホウ素粉末に、洗浄液をスプレーしたりして洗浄する方法等がある。
【００３２】
洗浄終了後、固液分離してから乾燥する場合、固液分離の方法にも特に限定はなく、例えばデカンテーション、吸引ろ過機、加圧ろ過機、回転式ろ過機、沈降分離機またはそれらの組み合わせた装置を用いることができる。
【００３３】
さらに固液分離後の高結晶性六方晶窒化ホウ素粉末の乾燥方法にも特に制限はないが、使用できる乾燥装置の一例を示せば、棚式乾燥機、流動層乾燥機、噴霧乾燥機、回転型乾燥機、ベルト式乾燥機またはそれらの組み合わせであり、乾燥機内の雰囲気温度は３０℃以上３００℃以下、好ましくは２００℃以下、乾燥機内の絶対圧力は１０−６ｋＰａＡ以上１０１．３ｋＰａＡ以下である。
【００３４】
洗浄、固液分離、乾燥はそれぞれ１回でも良いし、同じ方法または異なる方法を組み合わせて複数回実施しても構わない。
【００３５】
＜本発明の六方晶窒化ホウ素粉末を用いた化粧料＞
本発明は別の一側面において、本発明の六方晶窒化ホウ素粉末を含む化粧料である。化粧料の一例を示せば、ファンデーション（パウダーファンデーション、リキッドファンデーション、クリームファンデーション）、フェイスパウダー、ポイントメイク、アイシャドー、アイライナー、マニュキュア、口紅、頬紅、マスカラであるが、中でもファンデーション、アイシャドーに本発明の六方晶窒化ホウ素粉末が特に良く適合する。本発明の六方晶窒化ホウ素粉末の化粧料への好適な配合割合量は０．１質量％以上７０質量％以下である。
【実施例】
【００３６】
以下、本発明を実施例、比較例をあげて更に具体的に説明する。
＜実施例１＞
ホウ酸粉末（関東化学社製、純度９９．８質量％以上）２００ｇ、及びメラミン粉末（和光純薬社製、純度９９．０質量％以上）１８０ｇの各出発原料をそれぞれ秤量し、アルミナ製乳鉢を用いて１０分間混合した。作製した粉末混合物を恒温恒湿機（ＡＤＶＡＮＴＥＣ社製、ＡＧＸ−２２５）に入れ、８０℃、相対湿度９５％で１時間加湿し、その後、１２０℃で１時間乾燥した。
【００３７】
これを六方晶窒化ホウ素製の容器（内容積１．４Ｌ）に入れ、炉室内容積が１６Ｌの電気炉（東海高熱工業社製、ＴＶ−２００）内に配し、炉室内への窒素ガス流量を１６Ｌ（２５℃における体積）／分として、１０℃／分の割合で室温から昇温し、１０００℃で２時間保持したのち、加熱を止めて自然冷却させ、温度が１００℃以下まで下がった時点で電気炉を開放して、低結晶性窒化ホウ素（粉砕前）を回収した。
【００３８】
得られた低結晶性窒化ホウ素（粉砕前）を、ボールミルを用いて２４時間粉砕し、低結晶性六方晶窒化ホウ素の粉末となした。ボールミルは、内容積１Ｌの樹脂容器に、φ１５ｍｍのアルミナボール０．７ｋｇ及び低結晶性窒化ホウ素（粉砕前）を充填し、回転速度７５ｒｐｍで粉砕を行った。この低結晶性六方晶窒化ホウ素の粉末１００重量部に、炭酸ナトリウム（和光純薬社製、純度９９．５質量％以上）１０重量部を配合してアルミナ製乳鉢を用いて１０分間混合し、さらに上述の電気炉内に配し、炉室内への窒素ガス流量を１６Ｌ（２５℃における体積）／分として、１０℃／分の割合で昇温し、焼成温度の最高値である１８５０℃まで到達させてから４時間温度を保持した。その後、加熱を止めて自然冷却させ、温度が１００℃以下まで下がった時点で電気炉を開放して、高結晶性六方晶窒化ホウ素（粉砕前）を回収した。これをアルミナ製乳鉢で３分間粉砕し、高結晶性六方晶窒化ホウ素の粉末となした。
【００３９】
さらに該高結晶性六方晶窒化ホウ素の粉末中に含まれる不純物を除くため、５質量％希硝酸５００ｇあたり３０ｇの割合で該粉末を投入し、室温で６０分攪拌した後、吸引ろ過により固液分離し、ろ液が中性になるまで水（電気伝導度１ｍＳ／ｍ）を入れ替えて洗浄した。洗浄後の粉末は乾燥機で１７０℃で１２時間乾燥し、実施例１の六方晶窒化ホウ素粉末を得た。
【００４０】
＜１００μｍ以上の粗粉量＞
実施例１で作製した低結晶性六方晶窒化ホウ素粉末の分散液を上述した方法で作製し、粒度分布測定機（日機装社製、ＭＴ３３００ＥＸ型）で六方晶窒化ホウ素粉末の平均粒子径を測定した。水の屈折率には１．３３を用い、窒化ホウ素粉末の屈折率は１．８０として、一回当たりの測定時間は３０秒とした。
【００４１】
＜平均粒子径＞
実施例１で作製した六方晶窒化ホウ素粉末の分散液を上述した方法で作製し、粒度分布測定機（日機装社製、ＭＴ３３００ＥＸ型）で六方晶窒化ホウ素粉末の平均粒子径を測定した。水の屈折率には１．３３を用い、窒化ホウ素粉末の屈折率は１．８０として、一回当たりの測定時間は３０秒とした。
【００４２】
＜せん断応力＞
実施例１で作製した六方晶窒化ホウ素粉末のせん断応力を「パウダーレオメーター（マルバーン製、ＦＴ−４型」を用いて測定した。測定は「壁面摩擦試験」に基づき行い、円形ディスクに人工皮革（出光テクノファイン製、サプラーレ）を貼り付け、加圧１．５ｋＰａ（Ｐ１）、２．０ｋＰａ（Ｐ２）、３．０ｋＰａ（Ｐ３）の各加圧力においてせん断応力（Ｓ１〜Ｓ３）を測定、各加圧力における加圧力とせん断応力との比率（ｒ１〜ｒ３）を求めた。
【００４３】
＜黒鉛化指数＞
実施例１で作製した六方晶窒化ホウ素粉末の黒鉛化指数を、高出力粉末Ｘ線回折装置（ブルカー・エイエックスエス社製、Ｄ８ＡＤＶＡＮＣＥ  Ｓｕｐｅｒ  Ｓｐｅｅｄ）を用いて測定した。六方晶窒化ホウ素粉末を１００ｋＮでプレス成形し、１０×１５×３ｍｍのサンプルを被検体とし、Ｘ線源はＣｕＫα線を用い、管電圧は４５ｋＶ、管電流は３６０ｍＡの条件とした。
【００４４】
＜実施例２〜１１、比較例１〜７＞
実施例１の焼結助剤の出発原料に対する質量割合、第一焼成条件の焼成温度の最高値、焼成時間、ボールミルによる粉砕時間、第二焼成条件の焼成温度の最高値、焼成時間を変更して、実施例２〜１１、比較例１〜７の六方晶窒化ホウ素粉末を作製した。
【００４５】
＜実施例１２＞
焼結助剤に炭酸カルシウム（関東化学社製、純度９９．５質量％以上）を用いた以外は、実施例１と同じ条件で行い、実施例１２の六方晶窒化ホウ素粉末を作製した。
【００４６】
＜比較例８＞
焼結助剤を配合割合しなかった以外は、実施例１と同じ条件で行い、比較例８の六方晶窒化ホウ素粉末を作製した。
【００４７】
【表１】
2019043792.tif 000002
【００４８】
【表２】
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【００４９】
【表３】
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【００５０】
【表４】
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【産業上の利用可能性】
【００５１】
本発明の実施により、従来に比べて化粧料として必要な加圧力範囲において滑り性に優れた六方晶窒化ホウ素粉末、並びに該六方晶窒化ホウ素粉末を含む化粧料を提供することが出来るので、ファンデーション、アイシャドー等の化粧料の原料として好適に用いられる。