(57)【要約】【課題】物質表面の濡れ性の不均一性（濡れ性の分布）を評価可能な方法を提供する。【解決手段】物質の表面を覆う液体に対して気体を噴射すること、前記気体の噴射中に、前記気体の噴射によって前記液体が前記物質の表面から除去される領域（液体除去領域）の画像情報を得ること、及び前記画像情報に基づき、物質の濡れ性分布を評価することを含む、物質の濡れ性分布を評価する方法。【選択図】図１１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
物質の濡れ性分布を評価する方法であって、
物質の表面を覆う液体に対して気体を噴射すること、
前記気体の噴射によって前記液体が前記物質の表面から除去される領域（液体除去領域）の画像情報を、前記気体の噴射中に得ること、及び
前記画像情報に基づき、物質の濡れ性分布を評価することを含む、評価方法。
【請求項２】
前記濡れ性分布の評価は、前記画像情報の前記液体除去領域の立体形状又は平面形状から抽出される形状情報を検出することを含む、請求項１記載の評価方法。
【請求項３】
前記形状情報が、前記立体形状の外周曲面又は前記平面形状の外周曲線から求められる１又は２つ以上の曲率である、請求項２記載の評価方法。
【請求項４】
前記画像情報は、前記物質における前記液体除去領域を含む領域を撮像した動画、又は１若しくは２以上の静止画である、請求項１から３のいずれかに記載の評価方法。
【請求項５】
前記濡れ性分布の評価は、前記画像情報から前記液体除去領域の時間的変化を計測することを含む、請求項１から４のいずれかに記載の評価方法。
【請求項６】
前記画像情報の取得は、前記物質に光を照射した状態で前記物質を撮像することを含み、
前記光を照射する照明の光軸は、前記撮像を行う撮像手段の光軸又は前記気体を噴射するノズルの軸と一致する、請求項１から５のいずれかに記載の評価方法。
【請求項７】
請求項１から６のいずれかに記載の評価方法によって、物質の濡れ性分布を評価することを含む、物質を製造する方法。
【請求項８】
液体に覆われた物質の表面に気体を噴射することを用いて物質の濡れ性分布を評価するための装置であって、
前記気体を噴射する手段、
前記気体の噴射によって、前記液体が前記物質の表面から除去される領域を検出する手段、及び
照明を備え、
前記照明の光軸が、前記検出手段の光軸又は前記ノズルの軸と一致する、評価装置。
【請求項９】
前記検出手段により検出された液体除去領域の外周の１又は２つ以上の曲率を測定する手段をさらに備える、請求項８記載の評価装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、物質の濡れ性分布の評価方法、及び物質の濡れ性分布を評価可能な装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
工業製品の開発や品質管理において、物質表面や界面の特性を定量的に評価することは非常に重要である。物質表面の特性評価法のうち、接触する液体と物質表面との物理化学的相互作用を調べる手法において、濡れ性は親/疎水性だけでなく、接着性、離型性、防汚性などにも密接に関連しており、設計上・品質管理上極めて大きなファクターとなる。
【０００３】
物質の濡れ性評価法としては、例えば、評価したい物質（対象物）の表面上に液滴を形成し、液滴と対象物表面との接触角により評価する接触角法、対象物表面を下に向けて液体中に浸漬させ、下方より空気等を供給して物質表面に付着させ、接触角の計測を行うキャプティブバブル法、或いは固体・液体・気体の界面における表面張力そのものを計測するWilhelmy法などが知られている。
また、本発明者らは、評価したい物質（対象物）の表面を液体で覆い、そこに気体を噴射して液体を排除した後、液体が排除された領域の寸法を測定することによって、従来評価が困難であった細胞シート等の濡れ性が非常に高い対象物について、非接触で評価する方法を提案している（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】ＷＯ２０１３／１７６２６４
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
工業、医療及び生化学等といった様々な分野において物質の表面の濡れ性を制御することが行われており、また、濡れ性を制御した表面に対して上記の様々な方法により濡れ性の評価が行われている。一方で、濡れ性を制御したことにより均一と考えられていたが実際には均一ではないものや、濡れ性の制御の有無にかかわらず濡れ性が不均一であるもの等がある。しかしながら、物質の濡れ性の評価においては、通常、例えば、特許文献１の方法のように、対象となる物質の表面の濡れ性が均一であることを前提にして測定が行われている。
【０００６】
そこで、本開示は、物質表面の濡れ性の不均一性（濡れ性の分布）を評価可能な方法、及びそれに用いる装置に関する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示は、一態様において、物質の濡れ性分布を評価する方法であって、物質の表面を覆う液体に対して気体を噴射すること、前記気体の噴射によって前記液体が前記物質の表面から除去される領域（液体除去領域）の画像情報を、前記気体の噴射中に得ること、及び前記画像情報に基づき、物質の濡れ性分布を評価することを含む、評価方法に関する。
【０００８】
本開示は、一態様において、液体に覆われた物質の表面に気体を噴射することを用いて物質の濡れ性分布を評価するための装置であって、前記気体を噴射する手段、前記気体の噴射によって、前記液体が前記物質の表面から除去される領域を検出する手段、及び照明を備え、前記照明の光軸が、前記検出手段の光軸又は前記ノズルの軸と一致する、評価装置に関する。
【発明の効果】
【０００９】
本開示によれば、一態様において、物質表面の濡れ性の分布（不均一性）を評価することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、本開示の評価方法の一実施形態における動作例の一例を示すフローチャートである。
【図２】図２は、本開示の評価方法のその他の実施形態における動作例の一例を示すフローチャートである。
【図３】図３は、実施例１で使用したディッシュの画像の一例である。
【図４】図４は、実施例１で使用した測定装置の画像の一例である。
【図５】図５は、実施例１において濡れ性分布の評価を行った結果を示す画像の一例である（印加圧：５ｋＰａ）。
【図６】図６は、実施例１において濡れ性分布の評価を行った結果を示す画像の一例である（印加圧：１０ｋＰａ）。
【図７】図７は、実施例１において濡れ性分布の評価を行った結果を示す画像の一例である（印加圧：２０ｋＰａ）。
【図８】図８は、実施例２で使用したディッシュの疎水性表面及び親水性表面の位置を示す概略図である。
【図９】図９は、実施例２において濡れ性分布の評価を行った結果を示す画像の一例である。
【図１０】図１０は、実施例３で使用したディッシュの疎水性表面及び親水性表面の位置を示す概略図である。
【図１１】図１１は、実施例３において濡れ性分布の評価を行った結果を示す画像の一例である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本開示は、物質の表面を覆う液体に対して気体を噴射することによって液体が除去される領域（液体除去領域）の検出を、気体の噴射中に行うことによって、物質表面の濡れ性の分布を評価できるという新たな知見に基づく。また、本開示は、気体の噴射によって液体が除去される又は再び表面を覆う挙動が、濡れ性の分布に応じて変動することから、液体除去領域を経時的に測定し、それに基づき液体除去領域の形状変化を検出（例えば、外周の曲率分布の時間変化率を算出）することによって、物質表面の濡れ性の分布を評価できるという新たな知見に基づく。
【００１２】
本開示の方法により、濡れ性の分布を評価できるメカニズムには明らかではないが、以下のように推測される。
液体で覆われた物質の表面に気体を噴射すると、噴射直後は噴流が直接当たった液体部分（噴流衝突部）が放射状に吹き飛ばされ、時間経過とともに物質表面の濡れ性（液体と物質間の物理化学的相互作用や液体の表面張力）に応じて、液体が移動し、前記相互作用や表面張力と噴流圧が釣り合うところで平衡状態に達する。また、平衡状態になるまでの間に液体が除去される領域の挙動は、表面の濡れ性によって依存している。具体的には、本発明者らは、気体の噴射によって液体が除去される領域形状の半径（液体除去領域の一部が円の一部をなす形状の場合における該円の半径）と接触角とが相関性を有することを見出している。このため、気体の噴射中（特に、平衡状態になるまでの過程）において液体が除去される領域形状を経時的に検出し、その検出結果に基づいて、例えば領域形状の曲率等を算出する。表面の濡れ性が不均一であれば、除去領域形状に違いが生じることから、除去される液体の挙動を画像情報として取得する、更に除去領域形状の曲率を算出することによって、表面全体の濡れ性の分布を評価することができる。一方、表面の濡れ性が均一であれば、実質的に１つの曲率が導き出され、その結果、表面全体の濡れ性が均一であると評価することができる。ただし、本開示はこれらのメカニズムに限定して解釈されなくてもよい。
【００１３】
［濡れ性分布の評価方法］
本開示は、一態様において、物質の濡れ性分布を評価する方法であって、物質の表面を覆う液体に対して気体を噴射すること、前記気体の噴射によって前記液体が前記物質の表面から除去される領域（液体除去領域）の画像情報を、前記気体の噴射中に得ること、及び前記画像情報に基づき、物質の濡れ性分布を評価することを含む、評価方法（本開示の評価方法）に関する。本開示の評価方法によれば、一又は複数の実施形態において、評価対象となる物質の濡れ性分布を非接触評価することができる。
【００１４】
本開示において「濡れ性分布を評価する」こととしては、一又は複数の実施形態において、物質表面における濡れ性分布の有無（濡れ性が均一か否か）を評価すること、物質表面における親水性表面及び疎水性表面の分布を観察すること、物質表面における接触角の分布を得ること又はパターニングすること等が挙げられる。
【００１５】
〔気体の噴射〕
本開示の評価方法は、物質の表面を覆う液体に対して気体を噴射することを含む。
【００１６】
物質の表面を覆う液体の種類は、特に限定されない。液体としては、一又は複数の実施形態において、水性媒体が挙げられる。水性媒体は、一又は複数の実施形態において、水からなるものであってもよく、その他の成分を含んでいてもよい。水性媒体としては、一又は複数の実施形態において、水、緩衝液、及び液体培養培地が挙げられる。水としては、一又は複数の実施形態において、蒸留水、イオン交換水、又は超純水等が挙げられる。液体は、特に限定されないその他の一又は複数の実施形態において、有機溶媒であってもよい。有機溶媒としては、一又は複数の実施形態において、ジヨードメタン又はｎ−ヘキサデカン等が挙げられる。
【００１７】
液体は、一又は複数の実施形態において、評価対象となる物質の表面全体を覆うように配置されている。物質の表面を覆う液層の厚さは、特に制限されず、評価対象となる物質に応じて適宜決定することができる。液層の厚さは、一又は複数の実施形態において、０．５ｍｍ〜５ｍｍである。
【００１８】
本開示の評価方法は、一又は複数の実施形態において、物質表面が液体で覆われるように、評価を行う物質の表面に液体を配置することを含んでもよいし、予め表面が液体で覆われた物質を使用してもよい。
【００１９】
物質に噴射する気体の種類は特に制限されず、評価対象となる物質の材質及び物質を覆う液体の種類等の諸条件に応じて適宜設定できる。気体としては、一又は複数の実施形態において、物質に悪影響を与えないものが好ましい。気体としては、一又は複数の実施形態において、空気、及び不活性ガスが挙げられる。不活性ガスとしては、一又は複数の実施形態において、窒素、アルゴン等が挙げられる。気体は、滅菌してから用いてもよいし、滅菌することなく使用してもよい。
【００２０】
気体の噴射量（噴流印加圧）は、評価対象となる物質の材質、物質を覆う液体の種類、液体の厚さ等の諸条件に応じて適宜設定できる。気体の噴流印加圧は、一又は複数の実施形態において、１ｋＰａ〜５０ｋＰａである。気体は、一又は複数の実施形態において、気体を噴射直後に除去される液体の領域の直径が、２ｍｍ〜１０ｍｍとなるように噴射してもよい。
【００２１】
気体の噴射温度は、評価対象となる物質の材質、物質を覆う液体の種類、液体の厚さ等の諸条件に応じて適宜設定できる。気体の噴射温度は、特に限定されない一又は複数の実施形態において、室温が挙げられる。
【００２２】
気体は、一又は複数の実施形態において、評価対象となる物質の上部から噴射される。気体は、一又は複数の実施形態において、物質の鉛直上方から噴射されてもよいし、物質の斜め上方から噴射されてもよい。気体は、濡れ性の分布をより正確に評価する点から、一又は複数の実施形態において、物質の略鉛直上方から噴射されることが好ましい。
【００２３】
気体の噴射は、一又は複数の実施形態において、評価対象となる物質の略中央部で行ってもよいし、中央部以外であってもよい。
【００２４】
気体の噴射は、一又は複数の実施形態において、一箇所のみで行ってもよいし、スキャニングするように複数箇所で行ってもよい。
【００２５】
気体の噴射は、一又は複数の実施形態において、１回であってもよいし、２回又はそれ以上であってもよい。気体の噴射は、一又は複数の実施形態において、連続的に行われてもよく、間欠的に行われてもよい。気体の噴射時間は、一又は複数の実施形態において、０．１秒〜５秒である。
【００２６】
気体を噴射する方法は、特に制限されず、一又は複数の実施形態において、適当な気体噴射手段を利用して行うことができる。気体噴射手段としては、一又は複数の実施形態において、気体の噴射部と気体の供給部を適宜組み合わせて用いることができる。気体の噴射部としては、気体用ノズルが挙げられる。気体の供給部としては、コンプレッサーやガスボンベが挙げられる。気体の噴射部と気体の供給部とを適当な気体の流路を介して接続し、気体の噴射部から気体を噴射することができる。噴射する気体中に含まれるパーティクルを除去し、評価対象となる物質へのコンタミネーションを低減する点から、気体の噴射部と気体の供給部との間に、パーティクルフィルター等のフィルターを配置してもよい。気体用ノズルの内径は、気体の噴射量等の諸条件に応じて適宜設定できる。気体用ノズルの内径は、一又は複数の実施形態において、１０μｍ〜１００μｍである。気体の噴射距離（液層の表面から気体の噴射部先端（例えば、ノズルの先端）までの距離）は、気体の噴射量等の諸条件に応じて適宜設定できる。気体の噴射距離は、一又は複数の実施形態において、０．５ｍｍ〜５ｍｍである。
【００２７】
気体の噴射は、気体の流れを制御する適当な手段により制御でき、一又は複数の実施形態において、電空レギュレータや電磁弁を適宜組み合わせて気体の噴射を制御することができる。気体の噴射の制御は、自動で行われてもよく、手動で行われてもよい。例えば、コンピュータからレギュレータや電磁弁を制御することにより、自動的に気体の噴射を制御することができる。
【００２８】
〔除去領域の検出〕
本開示の評価方法は、気体の噴射によって、物質の表面から液体が除去される領域（液体除去領域）の画像情報を得ることを含む。本開示の評価方法において、該画像情報の取得は、気体の噴射中に少なくとも行われる。本開示の評価方法によれば、液体除去領域の画像情報を、少なくとも気体の噴射中に得ることから、物質表面の濡れ性分布の評価を行うことができる。
【００２９】
本開示において「液体が除去される領域（液体除去領域）」としては、一又は複数の実施形態において、液体に覆われた物質の表面に気体を噴射することによって、物質の表面から液体が除去された範囲、液面が低下した範囲、又は液体から物質が露出した部分等が挙げられる。
【００３０】
本開示の評価方法において検出される液体の除去領域としては、一又は複数の実施形態において、液体の除去領域の形状、面積等が挙げられる。
【００３１】
本開示において「液体除去領域の画像情報」としては、一又は複数の実施形態において、液体除去領域を含む領域を撮像した動画、又は静止画等が挙げられる。画像情報が静止画である場合、画像情報の取得は、一又は複数の実施形態において、連続して行ってもよいし、断続的に行ってもよい。画像情報の取得は、一又は複数の実施形態において、１回であってもよいし、２回以上の複数回であってもよい。画像情報の取得は、一又は複数の実施形態において、自動的に行ってもよいし、手動で行ってもよい。
【００３２】
液体除去領域の画像情報の取得は、少なくとも気体の噴射中に行えばよく、一又は複数の実施形態において、噴射開始前から噴射終了後までの間行ってもよいし、噴射開始直後から噴射終了後までの間行ってもよい。また、液体除去領域の画像情報の取得は、さらに、噴射終了した後であっても継続して行ってもよいし、平衡状態で行ってもよい。
【００３３】
液体除去領域の画像情報の取得は、一又は複数の実施形態において、可視光、赤外線、及び紫外線等といった光を検出するものを用いて行うことができる。画像情報の取得は、一又は複数の実施形態において、ＣＣＤカメラ、ＣＭＯＳカメラ及び３Ｄスキャナ等が挙げられる。より精度の高い濡れ性分布の評価を行う点からは、高解像度のカメラを使用することが好ましい。
【００３４】
より精度の高い濡れ性分布の評価を行う点からは、液体除去領域の画像情報の取得は、評価対象となる物質に光を照射した状態で行うことが好ましい。より精度の高い濡れ性分布の評価を行う点からは、光を照射する照明の光軸が、検出を行う撮像手段の光軸又は前記気体を噴射するノズルの軸と一致するようにすることが好ましい。照明としては、特に制限されるものではなく、より精度の高い濡れ性分布の評価を行う点からは、ＬＥＤが好ましい。
【００３５】
〔濡れ性分布の評価〕
本開示の評価方法は、取得した画像情報に基づき、物質の濡れ性分布を評価することを含む。
【００３６】
濡れ性分布の評価は、一又は複数の実施形態において、画像情報から、液体除去領域の立体形状及び平面形状の少なくとも一方から抽出される形状情報を検出することを含む。形状情報としては、一又は複数の実施形態において、立体形状の外周曲面及び平面形状の外周曲線の少なくとも一方から求められる１又は２つ以上の曲率が挙げられる。濡れ性分布の評価は、一又は複数の実施形態において、液体除去領域の立体形状又は平面形状から、立体形状の外周曲面又は平面形状の外周曲線から求められる１又は２つ以上の曲率を抽出することを含んでいてもよい。
【００３７】
濡れ性分布の評価は、一又は複数の実施形態において、画像情報から液体除去領域の時間的変化又は時間変化率等を計測することを含んでいてもよい。画像情報が静止画である場合、時間的変化の計測は、一又は複数の実施形態において、検出開始時からの経過時間が異なる複数の画像情報から形状情報を検出し、検出された形状情報間の時間的変化を計測することにより行うことができる。画像情報が動画である場合、時間的変化の計測は、一又は複数の実施形態において、画像情報から検出開始時からの経過時間が異なる複数の形状情報を検出し、検出された形状情報間の時間的変化又は時間変化率等を計測することにより行うことができる。
【００３８】
検出した領域に基づいた物質の濡れ性分布の評価は、一又は複数の実施形態において、市販の画像処理ソフトウエア等を用いて行うことができる。
【００３９】
本開示の評価方法において評価対象となる物質は特に制限されず、濡れ性の評価が必要な物質が挙げられる。物質としては、一又は複数の実施形態において、化学、生物学及び創薬等における基礎研究、及び再生医療等を含む医療に用いられる器具及び素材、ならびに工業製品等が挙げられる。中でも、物質としては、一又は複数の実施形態において、ハイドロゲル又は培養細胞等といった、もともと表面が濡れている物質等が好ましい。本開示の評価方法によって上記物質の濡れ性分布を評価することによって、より濡れ性の均一な物質を用いた実験研究が可能になり、その結果さらなる研究成果の向上が見込まれる。
【００４０】
本開示の評価方法は、一又は複数の実施形態において、細胞シート等の表面の濡れ性分布の評価に用いることができる。また、本開示の評価方法は、物質の濡れ性分布を評価できることから、一又は複数の実施形態において、細胞集団における個々の濡れ性を評価することができる。
【００４１】
［濡れ性分布の評価を含む製造方法］
本開示の評価方法は、一又は複数の実施形態において、物質の表面処理ムラの検出に用いることができる。本開示の評価方法によって物質の濡れ性分布を評価することにより、より均一性に優れる表面処理が行われた物質を製造することができる。よって、本開示は、その他の態様において、本開示の評価方法によって、物質の濡れ性分布を評価することを含む物質を製造する方法に関する。また、本開示の製造方法は、本開示の評価方法に基づく濡れ性分布の評価に基づき、物質の表面の濡れ性分布を均一にすることをさらに含んでいてもよい。
【００４２】
［評価装置］
本開示は、一態様において、液体に覆われた物質の表面に気体を噴射することを用いて物質の濡れ性分布を評価するための装置であって、前記気体を噴射する手段、前記気体の噴射によって、前記液体が前記物質の表面から除去される領域を検出する手段、及び照明を備え、前記照明の光軸が、前記検出手段の光軸又は前記ノズルの軸と一致する評価装置（本開示の評価装置）に関する。
【００４３】
本開示の評価装置は、一又は複数の実施形態において、前記検出手段で検出された情報に基づいて、評価対象である物質の表面の濡れ性分布を算出する手段を含んでいてもよい。
【００４４】
以下に、本開示の評価方法について、限定されない一実施形態を説明する。
図１は、本開示の評価方法の一実施形態の動作例を示すフローチャートである。図１に示す例では、まず、物質の表面の動画の撮像を開始し、画像情報の取得を開始する（Ｓ０１）。ついで、画像情報の取得を継続した状態で、物質表面を覆う液体に気体の噴射を開始する（Ｓ０２）。気体の噴射を停止する（Ｓ０３）とともに、画像情報の取得を終了する（Ｓ０４）。得られた画像情報から、液体除去領域の立体形状、平面形状又はこれらの双方を抽出し、これらの形状から抽出される形状情報を検出する（Ｓ０５）。検出した形状情報から、物質の濡れ性分布を評価する（Ｓ０６）。
【００４５】
また、本開示の評価方法は、図２に示すように、複数の形状情報から濡れ性分布を評価してもよい。図２は、本開示の評価方法のその他の実施形態の動作例を示すフローチャートである。まず、図１と同様に画像情報の取得開始（Ｓ０１）、気体の噴射開始（Ｓ０２）、噴射停止（Ｓ０３）、画像情報の取得終了（Ｓ０４）、及び画像情報から形状情報の検出（Ｓ０５）を行う。ついで、検出した形状情報に基づき、濡れ性分布の評価可能かを判断し（ＳＳ０６）、可能であると判断した場合は、濡れ性分布の評価を行う（Ｓ０７）。一方、検出した形状情報のみでは濡れ性分布の評価が難しいと判断した場合は、画像情報から経過時間が異なる形状情報を検出し（Ｓ０８）、経過時間が異なる形状情報から液体除去領域の時間的変化を計測する（Ｓ０９）。得られた時間的変化に基づき、濡れ性分布の評価可能かを判断し（ＳＳ０６）、可能であると判断した場合は、濡れ性分布の評価を行う（Ｓ０７）。一方、濡れ性分布の評価が難しいと判断した場合は、画像情報から経過時間が異なる形状情報の検出（Ｓ０８）及び経過時間が異なる形状情報からの液体除去領域の時間的変化の計測（Ｓ０９）を繰り返し行う。
【００４６】
図１又は図２の処理を使い分けることによって、大まかな濡れ性分布の評価（濡れ性の分布の有無）から、より詳細な濡れ性分布の評価まで行うことができる。
【００４７】
本開示はさらに以下の限定されない一又は複数の実施形態に関する。
〔１〕  物質の濡れ性分布を評価する方法であって、
物質の表面を覆う液体に対して気体を噴射すること、
前記気体の噴射によって前記液体が前記物質の表面から除去される領域（液体除去領域）の画像情報を、前記気体の噴射中に得ること、及び
前記画像情報に基づき、物質の濡れ性分布を評価することを含む、評価方法。
〔２〕  前記濡れ性分布の評価は、前記画像情報の前記液体除去領域の立体形状及び平面形状の少なくとも一方から抽出される形状情報を検出することを含む、〔１〕記載の評価方法。
〔３〕  前記形状情報が、前記立体形状の外周曲面又は前記平面形状の外周曲線から求められる１又は２つ以上の曲率である、〔２〕記載の評価方法。
〔４〕  前記画像情報は、前記物質における前記液体除去領域を含む領域を撮像した動画、又は１若しくは２以上の静止画である、〔１〕から〔３〕のいずれかに記載の評価方法。
〔５〕  前記濡れ性分布の評価は、前記画像情報から前記液体除去領域の時間的変化を計測することを含む、〔１〕から〔４〕のいずれかに記載の評価方法。
〔６〕  前記画像情報の取得は、前記物質に光を照射した状態で前記物質を撮像することを含み、
前記光を照射する照明の光軸は、前記撮像を行う撮像手段の光軸又は前記気体を噴射するノズルの軸と一致する、〔１〕から〔５〕のいずれかに記載の評価方法。
〔７〕  〔１〕から〔６〕のいずれかに記載の評価方法によって、物質の濡れ性分布を評価することを含む、物質を製造する方法。
〔８〕  液体に覆われた物質の表面に気体を噴射することを用いて物質の濡れ性分布を評価するための装置であって、
前記気体を噴射する手段、
前記気体の噴射によって、前記液体が前記物質の表面から除去される領域を検出する手段、及び
照明を備え、
前記照明の光軸が、前記検出手段の光軸又は前記ノズルの軸と一致する、評価装置。
〔９〕  前記検出手段により検出された液体除去領域の外周の１又は２つ以上の曲率を測定する手段をさらに備える、〔８〕記載の評価装置。
【実施例】
【００４８】
以下、実施例により本開示をさらに詳細に説明するが、これらは例示的なものであって、本開示はこれら実施例に制限されるものではない。
【００４９】
（実施例１）
［濡れ性分布の評価１］
下記装置を使用し、下記のディッシュ表面の濡れ性分布を評価した。
＜ディッシュ＞
ディッシュ（Ｐｒｏｄｕｃｔ＃４３０５８９、Ｂｅｃｔｏｎ，Ｄｉｃｉｎｓｏｎ  ａｎｄ  Ｃｏｍｐａｎｙ）（φ６０ｍｍ，Ｍａｔｅｒｉａｌ：Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ，Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｔｒｅａｔｍｅｎｔ：Ｎｏｔ  Ｔｒｅａｔｅｄ）の表面に、半円状のシリコーンゴムを貼り付けた後、ディッシュ表面に窒素ガスプラズマをまんべんなく吹き付けて親水化処理を行った。その後、シリコーンゴムを除去することにより、親水化処理された表面（親水性表面、接触角：７３．８°）と親水化処理していない表面（疎水性表面、接触角：８９．１°）とを有するディッシュ（図３）を準備した。
＜測定装置＞
図４に示す構成の測定装置を準備した。カメラは、産業用カメラ（画素数：４Ｍピクセル、素子：１”ＣＭＯＳ）を使用し、照明はＬＥＤ照明を使用し、ノズルは、内径５００μｍのノズルを使用した。また、本実施例で使用した装置は、カメラの光軸と照明の光軸とが同軸になるように設定した。
【００５０】
＜濡れ性分布の測定＞
ディッシュ内に３．３ｍｌのｍｉｌｌｉＱを配置した（液厚：１．５ｍｍ）。ディッシュ表面とノズルの先端との距離が１５ｍｍとなるように、ノズルをディッシュ中央の上部に配置し、ノズルからディッシュに対して空気を１秒間印加した。ノズルの印加圧は、５、１０又は２０ｋＰａとした。その結果を図５〜７に示す。
【００５１】
図５〜７は、噴射開始直後から噴射開始終了直前までの５．６ミリ秒間隔の画像の一例であって、それぞれのノズル印加圧は、順に、５ｋＰａ、１０ｋＰａ及び２０ｋＰａである。図５及び７は、親水化処理された表面が左側半分となるようにディッシュを配置し、図６では、親水化処理された表面が右側半分となるようにディッシュを配置した。図５〜７の各画像の左上には、撮像した時系列に沿って番号を付けている。
図５〜７に示すように、いずれの印加圧であっても、異なる濡れ性を有する表面を有する場合、濡れ性の低い表面（親水化処理されていない表面）では、空気の印加に伴い、液体の除去領域の拡大が確認された。一方で、濡れ性の良い表面（親水化処理された表面）では、除去領域の拡大はほとんどみられず、最終的には濡れ性の良い表面すべてに液体がとどまる結果となった。つまり、物質の表面を覆う液体に対する気体の噴射中における、液体除去領域の変化を確認することにより、ディッシュ表面の濡れ性の違い（分布）を、液体が除去された領域（除去面積）によって可視化できることができた。
【００５２】
（実施例２）
［濡れ性分布の評価２］
図８に示す親水性表面を局所的に有するディッシュを用い、ノズル印加圧を１０ｋＰａとした以外は、実施例１と同様に行った。その結果を図９に示す。
＜ディッシュ＞
φ１６ｍｍの円周上において９０°おきにφ２ｍｍ、φ８ｍｍ、φ６ｍｍ及びφ４ｍｍの円が切り抜かれたシリコーンゴムを、ディッシュ（Ｐｒｏｄｕｃｔ＃３５１００８、Ｂｅｃｔｏｎ，Ｄｉｃｉｎｓｏｎ  ａｎｄ  Ｃｏｍｐａｎｙ）（φ３５ｍｍ，Ｍａｔｅｒｉａｌ：Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ，Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｔｒｅａｔｍｅｎｔ：Ｎｏｔ  Ｔｒｅａｔｅｄ）に張り付けた後、ディッシュ表面に窒素ガスプラズマをまんべんなく吹き付けて親水化処理を行った。その後、シリコーンゴムを除去することにより、親水化処理された表面（親水性表面）を局所的に有するディッシュ（図８）を準備した。図８において灰色で塗りつぶされた部分が、親水化処理を行った部分である。
【００５３】
図９は、左から順に噴射印加直後の画像（Ａ）、噴射印加６０ミリ秒後の画像（Ｂ）、及び噴射印加終了から５００ミリ秒後の画像（Ｃ）の一例を示す。図９の下段の画像では、上段の画像に、親水化処理を行った領域の位置を示した。
図９に示すように、噴射印加直後（Ａ）では液体は円形に除去されているが、時間の経過に伴い、濡れ性の良い領域に液体がとどまり、噴射終了から５００ミリ秒後（Ｃ）では、親水化処理された表面（濡れ性の良い表面、下段の破線）に液体がとどまることが確認できた。これにより、局所的に濡れ性の異なる領域が存在する表面であっても、本開示の方法により、対象表面の濡れ性の違い（分布）を評価できた。
【００５４】
（実施例３）
［濡れ性分布の評価３］
図１０に示すように疎水性表面を局所的に有するディッシュを用い、ノズル印加圧を２０ｋＰａとした以外は、実施例２と同様に行った。その結果を図１１に示す。
＜ディッシュ＞
φ２ｍｍ、φ８ｍｍ、φ６ｍｍ及びφ４ｍｍの円形のシリコーンゴムを、ディッシュ（Ｐｒｏｄｕｃｔ＃３５１００８、Ｂｅｃｔｏｎ，Ｄｉｃｉｎｓｏｎ  ａｎｄ  Ｃｏｍｐａｎｙ）（φ３５ｍｍ，Ｍａｔｅｒｉａｌ：Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ，Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｔｒｅａｔｍｅｎｔ：ＮＯＴ  Ｔｒｅａｔｅｄ）の中心からφ１６ｍｍの円周上（図１０の破線）に９０°おきに張り付けた後、ディッシュ表面に窒素ガスプラズマをまんべんなく吹き付けて親水化処理を行った。その後、シリコーンゴムを除去することにより、親水化処理されていない表面（疎水性表面）を局所的に有するディッシュ（図１０）を準備した。図１０における灰色で塗りつぶされた部分が、親水化処理を行った部分である。
【００５５】
図１１は、左から順に噴射印加直後の画像（Ａ）、噴射印加１５０ミリ秒後の画像（Ｂ）、及び噴射印加終了から３８０ミリ秒後の画像（Ｃ）の一例を示す。図９の下段の画像では、上段の画像に、親水化処理を行っていない領域の位置を示した。
図１１に示すように、噴射印加直後（Ａ）では液体は円形に除去されているが、時間の経過に伴い、親水化処理されていない表面（濡れ性の悪い表面、図中の破線）から液体が除去され、その他の領域（親水化処理された表面）には液体がとどまることが確認できた。これにより、局所的に濡れ性の異なる領域が存在する表面であっても、本開示の方法により、対象表面の濡れ性の違い（分布）を評価できた。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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