(57)【要約】      （修正有）【課題】可撓性を有する表示装置において、曲げに起因した配線の損傷を防止する。【解決手段】表示装置は、可撓性の基体と、複数の画素ＳＰを含む表示領域と、前記表示領域において、第１方向に並ぶ複数の第１配線ＭＬと、前記複数の第１配線によって駆動される複数の画素電極ＰＥと、前記第１配線に接する無機絶縁層と、を備えている。前記表示領域は、前記第１配線が第１ピッチで前記第１方向に並ぶ第１領域と、前記第１方向において前記第１領域と前記基体の縁部の間に位置し、前記第１配線が前記第１ピッチより大きい第２ピッチで前記第１方向に並ぶ第２領域Ａ２と、を含む。前記第２領域において、前記無機絶縁層は、隣り合う前記第１配線の間で前記第１配線に沿って延びるスリット３０を有する。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性の基体と、
複数の画素を含む表示領域と、
前記表示領域において、第１方向に並ぶ複数の第１配線と、
前記複数の第１配線によって駆動される複数の画素電極と、
前記第１配線に接する無機絶縁層と、
を備え、
前記表示領域は、前記第１配線が第１ピッチで前記第１方向に並ぶ第１領域と、前記第１方向において前記第１領域と前記基体の縁部の間に位置し、前記第１配線が前記第１ピッチより大きい第２ピッチで前記第１方向に並ぶ第２領域と、を含み、
前記第２領域において、前記無機絶縁層は、隣り合う前記第１配線の間で前記第１配線に沿って延びる第１スリットを有する、
表示装置。
【請求項２】
前記基体は、前記第１領域において平坦であり、前記第２領域において曲がっている、
請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記複数の第１配線の各々と重畳し、前記複数の画素の各々において開口した遮光層をさらに備え、
前記第１スリットは、前記遮光層と重畳している、
請求項１または２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第２領域における前記遮光層の前記第１方向の幅は、前記第１領域における前記遮光層の前記第１方向の幅よりも大きい、
請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記第２領域における前記遮光層の前記第１方向の開口幅は、前記第１領域における前記遮光層の前記第１方向の開口幅よりも大きい、
請求項３または４に記載の表示装置。
【請求項６】
前記表示領域において、前記第１方向と交差する第２方向に並ぶ複数の第２配線をさらに備え、
前記第２配線は、前記第１スリットと重畳する位置で屈曲している、
請求項１ないし５のうちいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項７】
前記複数の第１配線と前記複数の画素電極との間に配置された有機絶縁層をさらに備え、
前記有機絶縁層は、前記第１スリットと重畳する第２スリットを有する、
請求項１ないし５のうちいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項８】
前記第２領域に配置された前記画素電極の前記第１方向の幅は、前記第１領域に配置された前記画素電極の前記第１方向の幅より大きく、
前記第２領域に配置された前記画素電極は、前記第１スリットと重畳している、
請求項１ないし６のうちいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項９】
前記基体、前記複数の第１配線、前記複数の画素電極および前記無機絶縁層を含む可撓性の第１基板と、
前記第１基板に対向する可撓性の第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板の間に配置された液晶層と、
前記第１基板に対向する導光体と、前記導光体に光を照射する光源と、を含むバックライトと、
をさらに備え、
前記第２領域において、前記第１基板および前記第２基板は、前記導光体の側面に沿って曲がっている、
請求項１ないし８のうちいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記複数の画素の各々に配置され、前記画素電極を介して印加される電圧により発光する複数の発光層と、
前記基体に対向するスペーサと、
をさらに備え、
前記第２領域において、前記基体は、前記スペーサの側面に沿って曲がっている、
請求項１ないし８のうちいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１１】
可撓性の基体と、
複数の画素を含む表示領域と、
第１方向に隣り合う前記画素の境界に配置された遮光層と、
を備え、
前記表示領域は、第１領域と、前記第１方向において前記第１領域と前記基体の縁部の間に位置する第２領域と、を含み、
前記第２領域における前記遮光層の前記第１方向の幅は、前記第１領域における前記遮光層の前記第１方向の幅よりも大きい、
表示装置。
【請求項１２】
前記基体は、前記第１領域において平坦であり、前記第２領域において曲がっている、
請求項１１に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置などの表示装置においては、表示パネルの基体にガラス基板が用いられている。近年では、当該基体に樹脂基板を用いることで、表示パネルに可撓性を与えた表示装置が開発されている。このような表示パネルにおいて、例えば画素が配列された表示領域の端部を曲げると、当該曲げられた領域にも画像を表示することができる。
【０００３】
表示領域を小さい曲率で曲げた場合には、各種配線が損傷する可能性がある。例えば、無機材料の絶縁層は、曲げに起因した応力によりクラックが生じやすい。このクラックにより、当該絶縁層に接する配線も損傷し得る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平６−２８９３７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本開示の目的の一つは、可撓性を有する表示装置において、曲げに起因した配線の損傷を防止することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
一実施形態に係る表示装置は、可撓性の基体と、複数の画素を含む表示領域と、前記表示領域において、第１方向に並ぶ複数の第１配線と、前記複数の第１配線によって駆動される複数の画素電極と、前記第１配線に接する無機絶縁層と、を備えている。前記表示領域は、前記第１配線が第１ピッチで前記第１方向に並ぶ第１領域と、前記第１方向において前記第１領域と前記基体の縁部の間に位置し、前記第１配線が前記第１ピッチより大きい第２ピッチで前記第１方向に並ぶ第２領域と、を含む。前記第２領域において、前記無機絶縁層は、隣り合う前記第１配線の間で前記第１配線に沿って延びる第１スリットを有する。
【０００７】
また、一実施形態に係る表示装置は、可撓性の基体と、複数の画素を含む表示領域と、第１方向に隣り合う前記画素の境界に配置された遮光層と、を備えている。前記表示領域は、第１領域と、前記第１方向において前記第１領域と前記基体の縁部の間に位置する第２領域と、を含む。前記第２領域における前記遮光層の前記第１方向の幅は、前記第１領域における前記遮光層の前記第１方向の幅よりも大きい。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】図１は、第１実施形態における表示装置の構成例を概略的に示す分解斜視図である。
【図２】図２は、第１実施形態における表示装置の概略的な平面図である。
【図３】図３は、第１実施形態における第１領域の概略的な構造を示す平面図である。
【図４】図４は、図３におけるIV−IV線に沿う表示パネルの概略的な断面図である。
【図５】図５は、スイッチング素子に着目した第１基板の概略的な断面図である。
【図６】図６は、図２に示した曲げ領域において表示パネルが曲げられた状態を示す概略的な断面図である。
【図７】図７は、第１実施形態における第２領域の概略的な構造を示す平面図である。
【図８】図８は、図７におけるVIII−VIII線に沿う表示パネルの概略的な断面図である。
【図９】図９は、第２実施形態における表示パネルの概略的な断面図である。
【図１０】図１０は、第３実施形態における第２領域の概略的な平面図である。
【図１１】図１１は、図１０におけるXI−XI線に沿う表示パネルの概略的な断面図である。
【図１２】図１２は、第４実施形態における表示装置の概略的な平面図である。
【図１３】図１３は、第４実施形態における第１領域の概略的な構造を示す平面図である。
【図１４】図１４は、第４実施形態における第２領域の概略的な構造を示す平面図である。
【図１５】図１５は、第５実施形態における表示装置の概略的な平面図である。
【図１６】図１６は、第５実施形態における第１領域の概略的な構造を示す平面図である。
【図１７】図１７は、図１６におけるXVII−XVII線に沿う表示パネルの概略的な断面図である。
【図１８】図１８は、スイッチング素子に着目した表示パネルの概略的な断面図である。
【図１９】図１９は、図１５に示した曲げ領域において表示パネルが曲げられた状態を示す概略的な断面図である。
【図２０】図２０は、第５実施形態における第２領域の概略的な構造を示す平面図である。
【図２１】図２１は、図２０におけるXXI−XXI線に沿う表示パネルの概略的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
いくつかの実施形態につき、図面を参照しながら説明する。  
なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有される。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。各図において、連続して配置される同一又は類似の要素については符号を省略することがある。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を省略することがある。
【００１０】
各実施形態においては、表示装置の一例として、液晶表示装置および有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置を開示する。ただし、各実施形態は、他種の表示装置に対する、本実施形態にて開示される個々の技術的思想の適用を妨げるものではない。他種の表示装置としては、例えば、電気泳動素子等を有する電子ペーパ型の表示装置、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical System）を応用した表示装置、或いはエレクトロクロミズムを応用した表示装置等が想定される。
【００１１】
［第１実施形態］  
図１は、表示装置１００の構成例を概略的に示す分解斜視図である。表示装置１００は、バックライトＢＬと、表示パネルＰＮＬとを備えた液晶表示装置である。図示したようにＸ方向、Ｙ方向およびＺ方向を定義する。Ｘ，Ｙ，Ｚ方向は、本実施形態においては互いに直交する方向であるが、垂直以外の角度で交わってもよい。本開示においては、Ｚ方向の矢印が示す方向を「上方」あるいは「上」と称し、この矢印の反対方向を「下方」あるいは「下」と称する。
【００１２】
図１の例において、バックライトＢＬは、光源ユニットＬＵと、導光体ＬＧと、反射材ＲＭとを備えたサイドエッジ型のバックライトである。但し、バックライトＢＬの構成は図１の例に限られず、画像表示に必要な光を供給する構成であればよい。
【００１３】
図１の例において、表示パネルＰＮＬおよび導光体ＬＧは、いずれもＸ方向に沿う短辺と、Ｙ方向に沿う長辺とを有する長方形状に形成されている。表示パネルＰＮＬおよび導光体ＬＧは、長方形状に限られず、他の形状であってもよい。
【００１４】
導光体ＬＧは、第１主面Ｆ１と、第１主面Ｆ１の反対側の第２主面Ｆ２とを有している。さらに、導光体ＬＧは、第１主面Ｆ１と第２主面Ｆ２を繋ぐ第１側面ＳＦ１、第２側面ＳＦ２、第３側面ＳＦ３および第４側面ＳＦ４を有している。第１側面ＳＦ１および第２側面ＳＦ２はＹ方向と平行であり、第３側面ＳＦ３および第４側面ＳＦ４はＸ方向と平行である。
【００１５】
光源ユニットＬＵは、第３側面ＳＦ３に沿ってＸ方向に並んだ複数の光源ＬＳを備えている。光源ＬＳは、例えば発光ダイオードであるが、有機エレクトロルミネッセンス素子などの他種の発光素子であってもよい。反射材ＲＭは、第２主面Ｆ２に面している。例えば、反射材ＲＭは、銀やアルミニウムなどの反射率に優れた金属材料で形成された層を有している。
【００１６】
光源ＬＳからの光は、第３側面ＳＦ３から導光体ＬＧに入射する。導光体ＬＧは、第３側面ＳＦ３から入射した光を導光し、主に第１主面Ｆ１から出射する。各側面ＳＦ１〜ＳＦ４および第２主面Ｆ２からも光が出射する。第２主面Ｆ２から出射した光は、反射材ＲＭで反射されて導光体ＬＧに戻される。
【００１７】
表示パネルＰＮＬは、透過型の液晶パネルであり、第１基板ＳＵＢ１と、第１基板ＳＵＢ１に対向する第２基板ＳＵＢ２と、これら基板ＳＵＢ１，ＳＵＢ２の間に封入された液晶層ＬＣとを備えている。表示パネルＰＮＬは、複数の画素ＰＸを含む表示領域ＤＡと、表示領域ＤＡの周りの周辺領域ＳＡとを有している。複数の画素ＰＸは、Ｘ方向およびＹ方向に沿ってマトリクス状に配列されている。
【００１８】
表示装置１００は、さらに、第１偏光板ＰＬ１と、第２偏光板ＰＬ２と、コントローラＣＴとを備えている。第１偏光板ＰＬ１は、導光体ＬＧと第１基板ＳＵＢ１の間に配置されている。第２偏光板ＰＬ２は、第２基板ＳＵＢ２の上方に配置されている。導光体ＬＧと第１偏光板ＰＬ１の間に、拡散シートやプリズムシートが配置されてもよい。
【００１９】
コントローラＣＴは、表示パネルＰＮＬおよび光源ユニットＬＵを制御する。例えばコントローラＣＴは、ＩＣや各種の回路素子によって構成することができる。表示パネルＰＮＬを制御するＩＣと、光源ユニットＬＵを制御するＩＣとでコントローラＣＴが構成されてもよい。
【００２０】
図２は、表示装置１００の概略的な平面図である。表示パネルＰＮＬは、第１側縁Ｅ１、第２側縁Ｅ２、第３側縁Ｅ３および第４側縁Ｅ４を有している。第１側縁Ｅ１および第２側縁Ｅ２はＹ方向と平行であり、第３側縁Ｅ３および第４側縁Ｅ４はＸ方向と平行である。
【００２１】
表示パネルＰＮＬは、第３側縁Ｅ３の近傍において、第１基板ＳＵＢ１が第２基板ＳＵＢ２から露出した端子領域ＴＡを有している。端子領域ＴＡには、外部接続用の端子Ｔが設けられている。図２の例においては、端子Ｔにフレキシブル回路基板ＦＰＣが接続され、このフレキシブル回路基板ＦＰＣにコントローラＣＴが実装されている。コントローラＣＴの実装態様はこの例に限定されない。
【００２２】
画素ＰＸは、異なる色に対応する複数の副画素ＳＰを含む。図２の例においては、１つの画素ＰＸが赤色の副画素ＳＰｒ、緑色の副画素ＳＰｇ、青色の副画素ＳＰｂを含んでいるが、この例に限定されない。例えば、画素ＰＸは、白色などの他の色の副画素ＳＰを含んでもよい。なお、本開示においては、副画素を単に画素と呼ぶことがある。
【００２３】
本実施形態において、表示パネルＰＮＬは可撓性を有しており、第１側縁Ｅ１および第２側縁Ｅ２に沿う曲げ領域ＢＡにおいて曲げられる（後述の図６参照）。なお、図２においては曲げ領域ＢＡにおいて表示パネルＰＮＬが曲げられていない状態を示している。曲げ領域ＢＡは、表示領域ＤＡと一部重畳している。すなわち、表示領域ＤＡは、平坦な第１領域Ａ１と、曲げられた２つの第２領域Ａ２とを有している。これら第２領域Ａ２は、第１領域Ａ１と第１側縁Ｅ１の間、および、第１領域Ａ１と第２側縁Ｅ２の間にそれぞれ位置している。
【００２４】
図３は、第１領域Ａ１における副画素ＳＰの概略的な構造を示す平面図である。表示領域ＤＡには、複数の走査線Ｇと、複数の信号線Ｓと、複数の金属配線ＭＬと、複数の画素電極ＰＥとが配置されている。複数の走査線Ｇは、Ｘ方向に延びるとともに、Ｙ方向に並んでいる。複数の信号線Ｓおよび複数の金属配線ＭＬは、Ｙ方向に延びるとともにＸ方向に第１ピッチｐｘ１１で並んでいる。金属配線ＭＬは、対応する信号線Ｓと重畳している。
【００２５】
隣り合う２本の走査線Ｇと、隣り合う２本の信号線Ｓとで囲われた領域が副画素ＳＰに相当する。画素電極ＰＥおよびスイッチング素子ＳＷは、副画素ＳＰの各々に対して配置されている。図３の例において、画素電極ＰＥは１本の電極スリットＰＳＬを有しているが、より多くの電極スリットＰＳＬを有してもよいし、電極スリットＰＳＬを有さなくてもよい。第１領域Ａ１における画素電極ＰＥのＸ方向の幅は、Ｗｐ１である。
【００２６】
スイッチング素子ＳＷは、半導体層ＳＣを備えている。半導体層ＳＣは、第１位置Ｐ１において信号線Ｓに接続され、第２位置Ｐ２において画素電極ＰＥに接続されている。第１位置Ｐ１と第２位置Ｐ２の間において、半導体層ＳＣは、走査線Ｇと１回交差している。すなわち、当該スイッチング素子ＳＷは、シングルゲート型であるが、走査線Ｇと２回交差するダブルゲート型であってもよい。
【００２７】
図３の例においては、信号線Ｓが隣り合う２本の走査線Ｇの間で屈曲している。さらに、画素電極ＰＥは、信号線Ｓと同様に屈曲している。この例に限られず、信号線Ｓおよび画素電極ＰＥは、屈曲していなくてもよい。
【００２８】
図４は、図３におけるIV−IV線に沿う表示パネルＰＮＬの概略的な断面図である。第１基板ＳＵＢ１は、第１絶縁基体１０と、第１バリア層１１と、第１絶縁層１２（層間絶縁層）と、第２絶縁層１３（平坦化層）と、第４絶縁層１４（容量絶縁層）と、第１配向膜１５と、共通電極ＣＥとを備えている。第１基板ＳＵＢ１は、上述の走査線Ｇ、信号線Ｓ、画素電極ＰＥおよびスイッチング素子ＳＷも備えている。
【００２９】
第１バリア層１１は、第１絶縁基体１０の上面を覆っている。第１絶縁層１２は、第１バリア層１１を覆っている。信号線Ｓは、第１絶縁層１２の上に配置されている。第２絶縁層１３は、信号線Ｓおよび第１絶縁層１２を覆っている。共通電極ＣＥは、第２絶縁層１３の上に配置されている。金属配線ＭＬは、共通電極ＣＥの上に配置されている。第３絶縁層１４は、金属配線ＭＬおよび共通電極ＣＥを覆っている。画素電極ＰＥは、第３絶縁層１４の上に配置されている。第１配向膜１５は、画素電極ＰＥおよび第３絶縁層１４を覆っている。
【００３０】
第２基板ＳＵＢ２は、第２絶縁基体２０と、第２バリア層２１と、遮光層２２と、カラーフィルタ２３と、オーバーコート層２４と、第２配向膜２５とを備えている。第２バリア層２１は、第２絶縁基体２０の下面を覆っている。遮光層２２およびカラーフィルタ２３は、第２バリア層２１の下に配置されている。各副画素ＳＰに対して、各副画素ＳＰに対応する色のカラーフィルタ２３が配置されている。オーバーコート層２４は、カラーフィルタ２３を覆っている。第２配向膜２５は、オーバーコート層２４を覆っている。
【００３１】
遮光層２２は、隣り合う副画素ＳＰの境界に配置され、平面視において信号線Ｓ、金属配線ＭＬ、走査線Ｇおよび半導体層ＳＣ等と重畳している。他の観点から言えば、遮光層２２は、各副画素ＳＰにおいて開口している。第１領域Ａ１において、遮光層２２のＸ方向の幅はＷ１１であり、副画素ＳＰにおける遮光層２２のＸ方向の開口幅はＷ１２である。幅Ｗ１２は、幅Ｗ１１よりも大きい（Ｗ１１＜Ｗ１２）。
【００３２】
液晶層ＬＣは、第１配向膜１５と第２配向膜２５の間に配置されている。第１配向膜１５と第２配向膜２５の間には、スペーサＰＳが配置されている。スペーサＰＳは、例えば平面視において金属配線ＭＬ、信号線Ｓおよび遮光層２２と重畳している。
【００３３】
図５は、スイッチング素子ＳＷに着目した第１基板ＳＵＢ１の概略的な断面図である。図４に示した第１絶縁層１２は、絶縁層１２ａ，１２ｂを含む。半導体層ＳＣは、第１バリア層１１の上に配置されている。絶縁層１２ａは、半導体層ＳＣおよび第１バリア層１１を覆っている。走査線Ｇは、絶縁層１２ａの上に配置されている。絶縁層１２ｂは、走査線Ｇおよび絶縁層１２ａを覆っている。
【００３４】
信号線Ｓは、絶縁層１２ｂの上に配置されている。絶縁層１２ｂの上には、中継電極ＲＥがさらに配置されている。第２絶縁層１３は、信号線Ｓ、中継電極ＲＥおよび絶縁層１２ｂを覆っている。第１位置Ｐ１において、信号線Ｓは、絶縁層１２ａ，１２ｂを貫通するコンタクトホールを通じて半導体層ＳＣに接触している。第２位置Ｐ２において、中継電極ＲＥは、絶縁層１２ａ，１２ｂを貫通するコンタクトホールを通じて半導体層ＳＣに接触している。さらに、第２位置Ｐ２において、画素電極ＰＥは、第２絶縁層１３を貫通するコンタクトホールを通じて中継電極ＲＥに接触している。
【００３５】
第１絶縁基体１０および第２絶縁基体２０は、例えばポリイミド、ポリエステルまたはポリカーボネートなどの樹脂材料で形成されている。これにより、第１絶縁基体１０および第２絶縁基体２０は、可撓性を有している。さらに、第１基板ＳＵＢ１、第２基板ＳＵＢ２および表示パネルＰＮＬも可撓性を有している。
【００３６】
画素電極ＰＥおよび共通電極ＣＥは、例えばインジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）などの透明導電材料で形成することができる。走査線Ｇ、信号線Ｓおよび金属配線ＭＬは、各種の金属材料で形成することができる。第２絶縁層１３は、例えば有機樹脂材料で形成することができる。すなわち、第２絶縁層１３は、本実施形態における有機絶縁層に相当する。第２絶縁層１３は、第１バリア層１１、第１絶縁層１２および第３絶縁層１４よりも厚く、スイッチング素子ＳＷ等により生じる段差を平坦化している。
【００３７】
第１絶縁層１２（絶縁層１２ａ，１２ｂ）、第３絶縁層１４、第１バリア層１１および第２バリア層２１は、例えば酸化シリコン（ＳｉＯｘ）や窒化シリコン（ＳｉＮｘ）などの無機材料で形成することができる。第１絶縁層１２（絶縁層１２ａ，１２ｂ）、第３絶縁層１４および第１バリア層１１は、本実施形態における無機絶縁層に相当する。第１バリア層１１および第２バリア層２１は、それぞれ第１絶縁基体１０および第２絶縁基体２０を介して水分等の異物が表示パネルＰＮＬの内部に浸入することを防ぐ役割を有する。
【００３８】
図４に示す表示パネルＰＮＬの構造は、In-Plane Switching（ＩＰＳ）モードの一種であるFringe Field Switching（ＦＦＳ）モードに相当する。表示パネルＰＮＬの構造はこれに限定されず、例えば共通電極ＣＥが画素電極ＰＥよりも液晶層ＬＣに近い位置に配置されてもよい。また、表示パネルＰＮＬは、Vertical Aligned（ＶＡ）モードやTwisted Nematic（ＴＮ）モードなどの他種のモードに相当する構造を備えてもよい。
【００３９】
図６は、図２に示した曲げ領域ＢＡにおいて表示パネルＰＮＬが曲げられた状態を示す概略的な断面図である。ここでは、導光体ＬＧの第１側面ＳＦ１近傍の様子を示し、第１基板ＳＵＢ１および第２基板ＳＵＢ２が備える要素の一部を省略している。導光体ＬＧの第２側面ＳＦ２近傍の構造は、図６と同様である。
【００４０】
表示パネルＰＮＬは、第１側縁Ｅ１に沿う周辺領域ＳＡが反射材ＲＭと対向するように、第１側面ＳＦ１に沿って１８０°曲げられている。第１偏光板ＰＬ１および第２偏光板ＰＬ２も表示パネルＰＮＬとともに曲げられている。反射材ＲＭと第１偏光板ＰＬ１の間には、接着層ＡＤが配置されている。この接着層ＡＤにより、第１偏光板ＰＬ１が反射材ＲＭに接着されている。周辺領域ＳＡにおいて、第１基板ＳＵＢ１と第２基板ＳＵＢ２の間には、これら基板を接着するシール材ＳＬが配置されている。なお、表示パネルＰＮＬ、第１偏光板ＰＬ１および第２偏光板ＰＬ２は、１８０°以外の角度で曲げられてもよい。
【００４１】
このように表示パネルＰＮＬを曲げると、第１基板ＳＵＢ１および第２基板ＳＵＢ２の各層に応力が働く。この応力に起因して、各層にクラックが生じる可能性がある。第１基板ＳＵＢ１においては、特に無機材料で形成された第１バリア層１１、第１絶縁層１２および第３絶縁層１４にクラックが生じやすい。これらの層にクラックが生じると、例えば走査線Ｇなどの配線が損傷し得る。
【００４２】
本実施形態では、上記クラックの対策として、第２領域Ａ２において少なくとも第１絶縁層１２にスリット３０を設ける。このような構造を踏まえ、以下に第２領域Ａ２の詳細について説明する。
【００４３】
図７は、第２領域Ａ２における副画素ＳＰの概略的な構造を示す平面図である。なお、当該平面図は、第２領域Ａ２が曲げられていない状態での構造を示している。第２領域Ａ２においては、信号線Ｓが第２ピッチｐｘ１２でＸ方向に並んでいる。第２ピッチｐｘ１２は、第１領域Ａ１における信号線Ｓの第１ピッチｐｘ１１よりも大きい（ｐｘ１１＜ｐｘ１２）。一例として、第２ピッチｐｘ１２は、第１ピッチｐｘ１１の２倍である。
【００４４】
例えば、第２領域Ａ２における画素電極ＰＥの形状は、第１領域Ａ１における画素電極ＰＥと同じである。すなわち、第２領域Ａ２における画素電極ＰＥのＸ方向の幅Ｗｐ２は、第１領域Ａ１における画素電極ＰＥのＸ方向の幅Ｗｐ１と等しい。他の例として、幅Ｗｐ１と幅Ｗｐ２が異なってもよい。
【００４５】
隣り合う信号線Ｓの間には、信号線Ｓのピッチが増した分のスペースが生じる。図７の例においては、このスペースに上述のスリット３０が設けられている。スリット３０は、信号線Ｓと画素電極ＰＥの間において、信号線Ｓに沿ってＹ方向に延びている。すなわち、スリット３０は、曲げ領域ＢＡの曲げ軸と平行に延びている。
【００４６】
スリット３０は、走査線Ｇと重畳する。走査線Ｇは、スリット３０と重畳する屈曲部分ＢＰ１を有している。屈曲部分ＢＰ１は、例えば図示したようにＶ字型とすることができる。図７の例においては、左の信号線Ｓと中央の信号線Ｓの間の屈曲部分ＢＰ１と、右の信号線Ｓと中央の信号線Ｓの間の屈曲部分ＢＰ１とがＸ方向に関して線対称の形状である。なお、屈曲部分ＢＰ１は、Ｘ方向およびＹ方向と交差する方向に延びるものであればよく、図示した形状に限定されない。
【００４７】
図８は、図７におけるVIII−VIII線に沿う表示パネルＰＮＬの概略的な断面図である。図８の例においては、第１絶縁層１２がスリット３０を有するだけでなく、第１バリア層１１がスリット３１を有し、第３絶縁層１４がスリット３２を有し、第２絶縁層１３がスリット３３を有し、共通電極ＣＥがスリット３４を有している。スリット３０〜３４は、互いに重畳している。スリット３０〜３４の端部は、図示したように互いに揃ってもよいし、少なくとも一部がずれてもよい。
【００４８】
遮光層２２は、スリット３０〜３４と重畳している。第２領域Ａ２において、遮光層２２のＸ方向の幅はＷ２１であり、副画素ＳＰにおける遮光層２２のＸ方向の開口幅はＷ２２である。幅Ｗ２１は、幅Ｗ１１よりも大きい（Ｗ１１＜Ｗ２１）。幅Ｗ２２は、例えば幅Ｗ１２と同じである（Ｗ１２＝Ｗ２２）。幅Ｗ２１は、例えば幅Ｗ２２よりも大きい（Ｗ２１＞Ｗ２２）。ただし、幅Ｗ２１は、幅Ｗ２２以下であってもよい（Ｗ２１≦Ｗ２２）。
【００４９】
スリット３０〜３４の位置においては、第１基板ＳＵＢ１の上面が溝状に凹んでいる。スペーサＰＳは、このような段差を避けるべく、スリット３０〜３４と重畳しない位置に配置されている。
【００５０】
本実施形態のように、無機絶縁層である第１絶縁層１２にスリット３０を設ければ、第２領域Ａ２が曲げられた際に第１絶縁層１２に加わる応力を緩和することができる。これにより、第１絶縁層１２のクラックや、第１絶縁層１２に接する走査線Ｇ等の配線の断線を防止できる。無機絶縁層である第１バリア層１１および第３絶縁層１４にもそれぞれスリット３１，３２を設けているために、第１バリア層１１および第３絶縁層１４のクラックも防止できる。
【００５１】
また、他の絶縁層よりも厚い第２絶縁層１３にもスリット３３を設けることで、第２領域Ａ２が曲げ易くなる。  
スリット３３により第１基板ＳＵＢ１の上面に比較的大きな段差が生じる。この段差により、液晶層ＬＣの液晶分子の配向が乱れる可能性がある。さらに、共通電極ＣＥがスリット３４を有するため、走査線Ｇのスリット３４と重畳する部分の電界は、共通電極ＣＥに遮られることなく液晶層ＬＣに作用する。これによっても液晶分子の配向が乱れ得る。しかしながら、スリット３０〜３４は遮光層２２と重畳しているため、配向の乱れの影響は表示画像に現れない。
【００５２】
走査線Ｇは、スリット３０〜３４と重畳する位置で屈曲部分ＢＰ１を有している。図６のように表示パネルＰＮＬを曲げる場合には、走査線Ｇの延在方向（Ｘ方向）に大きな応力が生じ得る。屈曲部分ＢＰ１を設ければ、走査線Ｇに加わるこのような応力が緩和され、走査線Ｇの断線をより確実に防ぐことができる。  
以上述べた他にも、本実施形態からは種々の好適な効果を得ることができる。
【００５３】
［第２実施形態］  
第２実施形態について説明する。特に言及しない構成および効果については、第１実施形態と同様である。  
図９は、第２実施形態における表示パネルＰＮＬの概略的な断面図である。この断面図は、図８と同じく、第２領域Ａ２における構造を示している。
【００５４】
本実施形態においては、第１絶縁層１２がスリット３０を有し、第１バリア層１１がスリット３１を有し、第３絶縁層１４がスリット３２を有している。一方で、第２絶縁層１３および共通電極ＣＥは、スリットを有していない。
【００５５】
図９の構成においては、第２絶縁層１３によってスリット３０，３１の段差が平坦化される。したがって、図８に比べて第１基板ＳＵＢ１の上面が平坦であり、液晶分子の配向乱れも生じにくい。さらに、スリット３０〜３２の近傍においても、共通電極ＣＥによって走査線Ｇなどの配線からの電界を遮ることができる。
【００５６】
このように、本実施形態では配向乱れが生じにくいことから、図９の例においては、スリット３０〜３２が遮光層２２と重畳していない。第２領域Ａ２における遮光層２２の幅Ｗ２１は、例えば第１領域Ａ１における遮光層２２の幅Ｗ１１と同じである（Ｗ１１＝Ｗ２１）。また、第２領域Ａ２の各副画素ＳＰにおける遮光層２２の開口幅Ｗ２２は、例えば第１領域Ａ１の各副画素ＳＰにおける遮光層２２の開口幅Ｗ１２よりも大きい（Ｗ１２＜Ｗ２２）。これにより、第２領域Ａ２における副画素ＳＰの輝度を高めることができる。
【００５７】
［第３実施形態］  
第３実施形態について説明する。特に言及しない構成および効果については、第１および第２実施形態と同様である。  
図１０は、第３実施形態における第２領域Ａ２の概略的な平面図である。この平面図は、図７と同じく、第２領域Ａ２が曲げられていない状態での構造を示している。
【００５８】
本実施形態においては、第２領域Ａ２の画素電極ＰＥが拡大部分ＥＸを有している。拡大部分ＥＸは、スリット３０と重畳している。図１０の例においては、画素電極ＰＥが全体で３つの電極スリットＰＳＬを有しているが、画素電極ＰＥの形状はこの例に限定されない。
【００５９】
第２領域Ａ２における画素電極ＰＥが拡大部分ＥＸを有するため、当該画素電極ＰＥのＸ方向の幅Ｗｐ２は、第１領域Ａ１における画素電極ＰＥのＸ方向の幅Ｗｐ１よりも大きい（Ｗｐ１＜Ｗｐ２）。
【００６０】
図１１は、図１０におけるXI−XI線に沿う表示パネルＰＮＬの概略的な断面図である。本実施形態においては、第１絶縁層１２がスリット３０を有し、第１バリア層１１がスリット３１を有している。第２絶縁層１３、共通電極ＣＥおよび第３絶縁層１４は、スリットを有していない。拡大部分ＥＸは、第３絶縁層１４を介して共通電極ＣＥと対向している。その他の構造は、図９と同様である。
【００６１】
本実施形態の構造であれば、スリット３０，３１のスペースを表示に活用することができる。したがって、第２領域Ａ２における副画素ＳＰの表示品位を向上させることが可能となる。
【００６２】
［第４実施形態］  
第４実施形態について説明する。特に言及しない構成および効果については、第１ないし第３実施形態と同様である。  
図１２は、第４実施形態における表示装置１００の概略的な平面図である。図示した例においては、曲げ領域ＢＡが第３側縁Ｅ３および第４側縁Ｅ４に沿って設定されている。これらの曲げ領域ＢＡは、図１に示した導光体ＬＧの第３側面ＳＦ３および第４側面ＳＦ４に沿って曲げられる。各第２領域Ａ２は、第１領域Ａ１と第３側縁Ｅ３の間、および、第１領域Ａ１と第４側縁Ｅ４の間にそれぞれ位置している。図１に示した光源ユニットＬＵは、例えば導光体ＬＧの第１側面ＳＦ１または第２側面ＳＦ２に沿って配置されている。
【００６３】
図１３は、第１領域Ａ１における副画素ＳＰの概略的な構造を示す平面図である。図示した例においては、半導体層ＳＣが第１位置Ｐ１と第２位置Ｐ２の間で走査線Ｇと２回交差している。すなわち、スイッチング素子ＳＷはダブルゲート型であるが、図３と同じくシングルゲート型であってもよい。複数の走査線Ｇは、Ｙ方向に第１ピッチｐｙ１１で並んでいる。
【００６４】
図１４は、第２領域Ａ２における副画素ＳＰの概略的な構造を示す平面図である。この平面図は、図７と同じく、第２領域Ａ２が曲げられていない状態での構造を示している。第２領域Ａ２においては、走査線Ｇが第２ピッチｐｙ１２でＹ方向に並んでいる。第２ピッチｐｙ１２は、第１領域Ａ１における走査線Ｇの第１ピッチｐｙ１１よりも大きい（ｐｙ１１＜ｐｙ１２）。一例として、第２ピッチｐｙ１２は、第１ピッチｐｙ１１の２倍である。
【００６５】
第２領域Ａ２における画素電極ＰＥの形状は、第１領域Ａ１における画素電極ＰＥと同じである。したがって、隣り合う走査線Ｇの間には、走査線Ｇのピッチが増した分のスペースが生じる。図１４の例においては、このスペースにスリット３０が設けられている。スリット３０は、走査線Ｇと画素電極ＰＥの間において、走査線Ｇに沿ってＸ方向に延びている。すなわち、スリット３０は、図１２に示した曲げ領域ＢＡの曲げ軸と平行に延びている。
【００６６】
スリット３０は、信号線Ｓと重畳する。信号線Ｓは、スリット３０と重畳する屈曲部分ＢＰ２を有している。屈曲部分ＢＰ２は、例えば図示したようにＶ字型であり、信号線Ｓの他の部分よりも大きい角度でＹ方向に対して傾いている。なお、屈曲部分ＢＰ２は、図示した形状に限定されない。
【００６７】
例えば第１実施形態と同じく、第１バリア層１１、第３絶縁層１４、第２絶縁層１３および共通電極ＣＥがスリット３０と重畳するスリット３１〜３４を有してもよい。遮光層２２は、スリット３０と重畳してもよい。この場合、第１実施形態における幅Ｗ１１，Ｗ２１の関係と同じく、第２領域Ａ２において走査線Ｇと重畳する遮光層２２のＹ方向における幅を、第１領域Ａ１において走査線Ｇと重畳する遮光層２２のＹ方向における幅より大きくしてもよい。
【００６８】
他の例として、第２実施形態と同じく、第１バリア層１１および第３絶縁層１４がスリット３０と重畳するスリット３１，３２を有し、第２絶縁層１３および共通電極ＣＥがスリットを有さなくてもよい。この場合、上述の開口幅Ｗ１２，Ｗ２２の関係と同じく、第２領域Ａ２の各副画素ＳＰにおける遮光層２２のＹ方向の開口幅を、第１領域Ａ１の各副画素ＳＰにおける遮光層２２のＹ方向の開口幅より大きくしてもよい。
【００６９】
さらに他の例として、第３実施形態と同じく、第１バリア層１１がスリット３０と重畳するスリット３１を有し、第２絶縁層１３、第３絶縁層１４および共通電極ＣＥがスリットを有さなくてもよい。この場合、第２領域Ａ２の画素電極ＰＥにスリット３０と重畳する拡大部分を設けてもよい。
【００７０】
本実施形態の構成であれば、図１２に示した２つの曲げ領域ＢＡをそれぞれＸ方向と平行な曲げ軸を中心に曲げる場合に、第１絶縁層１２等の無機絶縁層に加わる応力を緩和できる。これにより、各無機絶縁層のクラックや、当該クラックに起因した信号線Ｓ等の配線の断線を防止できる。また、屈曲部分ＢＰ２により、信号線Ｓに加わる応力を緩和できるので、信号線Ｓの断線をより確実に防ぐことができる。
【００７１】
［第５実施形態］  
第５実施形態について説明する。特に言及しない構成および効果については、第１ないし第４実施形態と同様である。  
第１ないし第４実施形態においては、表示装置の一例として液晶表示装置を開示した。本実施形態においては、表示装置の一例として有機ＥＬ表示装置を開示する。第１ないし第４実施形態の表示装置と同一または類似する要素には同一の符号を付す。
【００７２】
図１５は、第５実施形態における表示装置２００の概略的な平面図である。表示装置２００は、表示パネルＰＮＬと、コントローラＣＴと、フレキシブル回路基板ＦＰＣとを備えている。図１５においては、フレキシブル回路基板ＦＰＣにコントローラＣＴが実装されているが、この例に限られない。
【００７３】
表示パネルＰＮＬは、複数の画素ＰＸを含む表示領域ＤＡと、表示領域ＤＡの周りの周辺領域ＳＡとを備えている。複数の画素ＰＸは、Ｘ方向およびＹ方向に沿ってマトリクス状に配列されている。周辺領域ＳＡには端子Ｔが設けられ、この端子Ｔにフレキシブル回路基板ＦＰＣが接続されている。
【００７４】
図２の例においては、１つの画素ＰＸが赤色の副画素ＳＰｒ、緑色の副画素ＳＰｇ、青色の副画素ＳＰｂを含んでいる。副画素ＳＰｒ，ＳＰｇはＹ方向に並んでいる。副画素ＳＰｂは副画素ＳＰｒ，ＳＰｇよりもＹ方向に長く、副画素ＳＰｒ，ＳＰｇとＸ方向に並んでいる。画素ＰＸはこの例に限られず、同じ大きさの副画素ＳＰｒ，ＳＰｇ，ＳＰｂがＸ方向に並んでもよい。また、画素ＰＸは、白色などの他の色の副画素ＳＰを含んでもよい。
【００７５】
第１実施形態と同じく、表示パネルＰＮＬは、第１側縁Ｅ１および第２側縁Ｅ２に沿う曲げ領域ＢＡにおいて曲げられる。表示領域ＤＡは、平坦な第１領域Ａ１と、曲げ領域ＢＡと重畳する２つの第２領域Ａ２とを有している。これら第２領域Ａ２は、第１領域Ａ１と第１側縁Ｅ１の間、および、第１領域Ａ１と第２側縁Ｅ２の間にそれぞれ位置している。
【００７６】
図１６は、第１領域Ａ１における副画素ＳＰの概略的な構造を示す平面図である。表示領域ＤＡには、複数の走査線Ｇと、複数の信号線Ｓとが配置されている。複数の走査線Ｇは、Ｘ方向に延びるとともに、Ｙ方向に並んでいる。複数の信号線Ｓは、Ｙ方向に延びるとともにＸ方向に第１ピッチｐｘ１１で並んでいる。それぞれ対応する走査線Ｇおよび信号線Ｓにより、各副画素ＳＰが駆動される。
【００７７】
図１７は、図１６におけるXVII−XVII線に沿う表示パネルＰＮＬの概略的な断面図である。表示パネルＰＮＬは、絶縁基体４０と、バリア層４１と、第１絶縁層４２（層間絶縁層）と、第２絶縁層４３（平坦化層）と、第１パッシベーション層４４と、第２パッシベーション層４５と、封止層４６と、第３パッシベーション層４７とを備えている。さらに、表示パネルＰＮＬは、各副画素ＳＰ（ＳＰｒ，ＳＰｇ，ＳＰｂ）に配置された有機発光層５０および画素電極ＰＥと、副画素ＳＰの境界に配置されたバンク５１と、共通電極ＣＥとを備えている。
【００７８】
絶縁基体４０は、例えばポリイミド、ポリエステルまたはポリカーボネートなどの樹脂材料で形成されている。これにより、絶縁基体４０は、可撓性を有している。バリア層４１は、絶縁基体４０の上面を覆っている。第１絶縁層４２は、バリア層４１を覆っている。信号線Ｓは、第１絶縁層４２の上に配置されている。第２絶縁層４３は、信号線Ｓおよび第１絶縁層４２を覆っている。第１パッシベーション層４４は、第２絶縁層４３を覆っている。
【００７９】
画素電極ＰＥは、第１パッシベーション層４４の上に配置されている。有機発光層５０は、画素電極ＰＥの上に配置されている。バンク５１は、隣り合う副画素ＳＰの画素電極ＰＥおよび有機発光層５０の間に配置されている。共通電極ＣＥは、有機発光層５０およびバンク５１を覆っている。第２パッシベーション層４５は、共通電極ＣＥを覆っている。封止層４６は、第２パッシベーション層４５を覆っている。第３パッシベーション層４７は、封止層４６を覆っている。  
表示装置２００は、偏光板ＰＬをさらに備えている。偏光板ＰＬは、第３パッシベーション層４７の上に配置されている。
【００８０】
副画素ＳＰに対して少なくとも１つのスイッチング素子ＳＷが配置されている。図１８は、スイッチング素子ＳＷに着目した表示パネルＰＮＬの概略的な断面図である。図１７に示した第１絶縁層４２は、絶縁層４２ａ，３２ｂを含む。スイッチング素子ＳＷは、バリア層４１の上に配置された半導体層ＳＣを備えている。絶縁層４２ａは、半導体層ＳＣおよびバリア層４１を覆っている。走査線Ｇは、絶縁層４２ａの上に配置されている。絶縁層４２ｂは、走査線Ｇおよび絶縁層４２ａを覆っている。
【００８１】
信号線Ｓは、絶縁層４２ｂの上に配置されている。絶縁層４２ｂの上には、中継電極ＲＥがさらに配置されている。第２絶縁層４３は、信号線Ｓ、中継電極ＲＥおよび絶縁層４２ｂを覆っている。信号線Ｓは、絶縁層４２ａ，３２ｂを貫通するコンタクトホールを通じて半導体層ＳＣに接触している。中継電極ＲＥは、絶縁層４２ａ，３２ｂを貫通するコンタクトホールを通じて半導体層ＳＣに接触している。さらに、画素電極ＰＥは、第２絶縁層４３を貫通するコンタクトホールを通じて中継電極ＲＥに接触している。
【００８２】
このような構成のスイッチング素子ＳＷを複数組み合わせて１つの副画素ＳＰが駆動されてもよい。この場合において、第１絶縁層４２は、３つ以上の絶縁層を含んでもよい。
【００８３】
画素電極ＰＥおよび共通電極ＣＥは、例えばインジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）などの透明導電材料で形成することができる。この場合において、画素電極ＰＥの下方にアルミニウムや銀などの反射率の高い金属材料で形成された反射層を配置してもよい。また、画素電極ＰＥを反射率の高い金属材料で形成してもよい。走査線Ｇおよび信号線Ｓは、各種の金属材料で形成することができる。
【００８４】
画素電極ＰＥと共通電極ＣＥの間に電位差が生じると、有機発光層５０が発光する。例えば、副画素ＳＰｒの有機発光層５０が放つ色は赤色であり、副画素ＳＰｇの有機発光層５０が放つ色は緑色であり、副画素ＳＰｂの有機発光層５０が放つ色は青色である。各副画素ＳＰｒ，ＳＰｇ，ＳＰｂの有機発光層５０が放つ光をいずれも同一色（例えば白色）とし、有機発光層５０の上方に各副画素ＳＰｒ，ＳＰｇ，ＳＰｂの色に対応するカラーフィルタを配置してもよい。
【００８５】
第２絶縁層４３および封止層４６は、例えば有機樹脂材料で形成することができる。第２絶縁層４３および封止層４６は、例えばいずれもバリア層４１、第１絶縁層４２および各パッシベーション層４４，４５，４７より大きい厚さを有している。
【００８６】
第１絶縁層４２（絶縁層４２ａ，３２ｂ）、バリア層４１および各パッシベーション層４４，４５，４７は、例えばＳｉＯｘやＳｉＮｘなどの無機材料で形成することができ、本実施形態における無機絶縁層に相当する。バリア層４１は、絶縁基体４０を介して水分等の異物が表示パネルＰＮＬの内部に浸入することを防ぐ役割を有する。各パッシベーション層４４，４５，４７も同様に、水分等の異物の浸入を防ぐ役割を有する。
【００８７】
図１９は、図１５に示した曲げ領域ＢＡにおいて表示パネルＰＮＬが曲げられた状態を示す概略的な断面図である。ここでは、第１側縁Ｅ１近傍の様子を示し、表示パネルＰＮＬが備える要素の一部を省略している。第２側縁Ｅ２近傍の構造は、図１９と同様である。
【００８８】
表示装置２００は、絶縁基体４０に対向するスペーサ６０と、絶縁基体４０とスペーサ６０の間に配置されたリアフィルムＲＦとをさらに備えている。リアフィルムＲＦは、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などで形成され、絶縁基体４０の下面に貼り付けられている。スペーサ６０は、例えば第１実施形態における導光体ＬＧと同様の矩形状である。スペーサ６０は、曲げ領域ＢＡの近傍にのみ配置されてもよい。
【００８９】
表示パネルＰＮＬは、スペーサ６０の側面ＳＦに沿って１８０°曲げられている。偏光板ＰＬおよびリアフィルムＲＦも表示パネルＰＮＬとともに曲げられている。第１領域Ａ１において、リアフィルムＲＦとスペーサ６０の上面との間には、第１接着層ＡＤ１が配置されている。この第１接着層ＡＤ１により、リアフィルムＲＦがスペーサ６０の上面に接着されている。周辺領域ＳＡにおいて、リアフィルムＲＦとスペーサ６０の下面との間には、第２接着層ＡＤ２が配置されている。この第２接着層ＡＤ２により、リアフィルムＲＦがスペーサ６０の下面に接着されている。
【００９０】
このように表示パネルＰＮＬを曲げると、表示パネルＰＮＬの各層に応力が働く。本実施形態においても、無機絶縁層である第１絶縁層４２などに曲げに応じたクラックが生じ得る。このクラックの対策として、第２領域Ａ２において少なくとも第１絶縁層４２にスリット７０を設ける。このような構造を踏まえ、以下に第２領域Ａ２の詳細について説明する。
【００９１】
図２０は、第２領域Ａ２における副画素ＳＰ（ＳＰｒ，ＳＰｇ，ＳＰｂ）の概略的な構造を示す平面図である。なお、当該平面図は、第２領域Ａ２が曲げられていない状態での構造を示している。第２領域Ａ２では、画素ＰＸの境界において隣り合う２本の信号線Ｓが第２ピッチｐｘ１２でＸ方向に並んでいる。第２ピッチｐｘ１２は、第１領域Ａ１における信号線Ｓの第１ピッチｐｘ１１よりも大きい（ｐｘ１１＜ｐｘ１２）。一例として、第２ピッチｐｘ１２は、第１ピッチｐｘ１１の２倍である。
【００９２】
図２０の例においては、１つの画素ＰＸに対応する３本の信号線Ｓ（図中の左側の３本、または右側の３本）は、第１ピッチｐｘ１１で並んでいる。これらの信号線Ｓについても、第２ピッチｐｘ１２で並んでもよい。
【００９３】
スリット７０は、Ｘ方向に隣り合う画素ＰＸの間において、信号線Ｓに沿ってＹ方向に延びている。すなわち、スリット７０は、曲げ領域ＢＡの曲げ軸と平行に延びている。
【００９４】
スリット７０は、走査線Ｇと重畳する。走査線Ｇは、スリット７０と重畳する屈曲部分ＢＰ３を有している。屈曲部分ＢＰ３は、例えば図示したようにＶ字型とすることができるが、この形状に限定されない。
【００９５】
図２１は、図２０におけるXXI−XXI線に沿う表示パネルＰＮＬの概略的な断面図である。図２１の例においては、第１絶縁層４２がスリット７０を有するだけでなく、バリア層４１がスリット７１を有し、第１パッシベーション層４４がスリット７２を有し、第２パッシベーション層４５がスリット７３を有し、共通電極ＣＥがスリット７４を有している。スリット７０〜７４は、互いに重畳している。スリット７３の近傍において、第２パッシベーション層４５の縁部は、第１パッシベーション層４４に接触している。
【００９６】
本実施形態のように、無機絶縁層である第１絶縁層４２にスリット７０を設ければ、第２領域Ａ２が曲げられた際に第１絶縁層４２に加わる応力を緩和することができる。これにより、第１絶縁層４２のクラックや、第１絶縁層４２に接する走査線Ｇ等の配線の断線を防止できる。バリア層４１、第１パッシベーション層４４および第２パッシベーション層４５にもそれぞれスリット７１，７２，７３を設けているために、これらの無機絶縁層のクラックも防止できる。また、スリット７０〜７４を設けることで、第２領域Ａ２が曲げ易くなる。
【００９７】
走査線Ｇは、スリット７０〜７４と重畳する位置で屈曲部分ＢＰ３を有している。図１９のように表示パネルＰＮＬを曲げる場合には、走査線Ｇの延在方向に大きな応力が生じ得る。屈曲部分ＢＰ３を設ければ、走査線Ｇに加わるこのような応力が緩和され、走査線Ｇの断線をより確実に防ぐことができる。
【００９８】
なお、スリット７１〜７４は、設けなくてもよい。この場合であっても、スリット７０による第１絶縁層４２のクラックや走査線Ｇの断線を防止する効果を得ることができる。また、スリット７０と重畳する位置で、第２絶縁層４３および封止層４６の少なくとも一方にスリットを設けてもよい。この場合には、第２領域Ａ２がより曲げ易くなる。
【００９９】
第４実施形態において図１２に示した例と同様に、曲げ領域ＢＡが第３側縁Ｅ３および第４側縁Ｅ４に沿って設定され、Ｘ方向と平行な曲げ軸を中心に曲げ領域ＢＡが曲げられてもよい。この場合、図１３および図１４に示したように、第１領域Ａ１においては走査線Ｇを第１ピッチｐｙ１１でＹ方向に配列し、第２領域Ａ２においては走査線Ｇを第１ピッチｐｙ１１よりも大きい第２ピッチｐｙ１２でＹ方向に配列してもよい。スリット７０は、図１３に示したスリット３０と同じく、隣り合う走査線Ｇの間でＸ方向に沿って設けることができる。このスリット７０と重畳する位置で、信号線Ｓに屈曲部分を設けてもよい。
【０１００】
以上の第１ないし第５実施形態のいずれにおいても、表示領域ＤＡは、第１配線が第１ピッチで第１方向に並ぶ第１領域Ａ１と、第１方向において第１領域Ａ１と基体の縁部の間に位置し、第１配線が第１ピッチより大きい第２ピッチで第１方向に並ぶ第２領域Ａ２と、を含んでいる。第２領域Ａ２において、無機絶縁層は、隣り合う第１配線の間で第１配線に沿って延びる第１スリットを有している。さらに、第１方向と交差する第２方向に並ぶ複数の第２配線は、第１スリットと重畳する位置で屈曲している。
【０１０１】
図２および図１５に示したように、曲げ領域ＢＡがＹ方向に沿う場合には、信号線Ｓが上記第１配線に相当し、走査線Ｇが上記第２配線に相当し、Ｘ方向が上記第１方向に相当し、Ｙ方向が上記第２方向に相当する。図１２に示したように、曲げ領域ＢＡがＸ方向に沿う場合には、走査線Ｇが上記第１配線に相当し、信号線Ｓが上記第２配線に相当し、Ｙ方向が上記第１方向に相当し、Ｘ方向が上記第２方向に相当する。
【０１０２】
本発明の実施形態として説明した表示装置を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての表示装置も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。  
本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変形例に想到し得るものであり、それら変形例についても本発明の範囲に属するものと解される。例えば、上述の各実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除、若しくは設計変更を行ったもの、又は、工程の追加、省略若しくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。  
また、各実施形態において述べた態様によりもたらされる他の作用効果について、本明細書の記載から明らかなもの、又は当業者において適宜想到し得るものについては、当然に本発明によりもたらされるものと解される。
【符号の説明】
【０１０３】
１００，２００…表示装置、ＰＮＬ…表示パネル、ＳＵＢ１…第１基板、ＳＵＢ２…第２基板、ＬＣ…液晶層、ＰＸ…画素、ＳＰ…副画素、ＤＡ…表示領域、Ａ１…第１領域、Ａ２…第２領域、ＳＡ…周辺領域、ＢＡ…曲げ領域、Ｇ…走査線、Ｓ…信号線、ＰＥ…画素電極、ＣＥ…共通電極、ＳＷ…スイッチング素子、ＢＰ１〜ＢＰ３…屈曲部分、１２，４２…第１絶縁層（無機絶縁層）、３０，７０…第１絶縁層のスリット。
【図１】
2019066697.tif 000003
【図２】
2019066697.tif 000004
【図３】
2019066697.tif 000005
【図４】
2019066697.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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