(57)【要約】      （修正有）【課題】防塵性能を向上させることができる光走査装置を提供する。【解決手段】レーザ光を出射する光源と、前記光源を保持する保持部材２Ｍと、前記光源から出射されたレーザ光を偏向する偏向部と、前記偏向部を収容する枠体９であって、前記保持部材２Ｍと係合させて前記保持部材２Ｍを前記枠体９に対して位置決めする位置決め部を有する枠体９と、を備える光走査装置であって、前記保持部材２Ｍは、前記枠体９に対して前記保持部材２Ｍを固定するための固定部７１Ｍと、前記位置決め部で位置決めされた状態で前記保持部材２Ｍと前記枠体９との間の隙間を覆うカバー部７２Ｍと、を有し、前記隙間は、前記レーザ光の光軸方向と直交する方向における前記保持部材２Ｍと前記枠体９との間に形成される隙間であり、前記カバー部７２Ｍと前記固定部７１Ｍとは、前記レーザ光の光軸方向において前記位置決め部を挟み込むように配置されている。【選択図】図４
2019200374.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光を出射する光源と、
前記光源を保持する保持部材と、
前記光源から出射されたレーザ光を偏向する偏向部と、
前記偏向部を収容する枠体であって、前記保持部材と係合させて前記保持部材を前記枠体に対して位置決めする位置決め部を有する枠体と、
を備える光走査装置であって、
前記保持部材は、前記枠体に対して前記保持部材を固定するための固定部と、前記位置決め部で位置決めされた状態で前記保持部材と前記枠体との間の隙間を覆うカバー部と、を有し、
前記隙間は、前記レーザ光の光軸方向と直交する方向における前記保持部材と前記枠体との間に形成される隙間であり、
前記カバー部と前記固定部とは、前記レーザ光の光軸方向において前記位置決め部を挟み込むように配置されていることを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記固定部は、前記カバー部と同じ形状の平面部を有することを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記枠体は、前記位置決め部が形成され、上面に開口を有する光学箱と、前記光学箱の前記開口を覆う蓋部を有し、
前記固定部と前記カバー部との間には、前記蓋部と接するように設けられ、前記隙間を前記光軸方向と直交する方向から覆う弾性部材が設けられることを特徴とする請求項１又は２に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記位置決め部を第１位置決め部、前記保持部材において前記第１位置決め部と係合する部分を第１係合部、前記カバー部を第１カバー部とした場合に、
前記枠体は、前記光軸方向において前記第１位置決め部よりも前記偏向部に近接した位置に、前記保持部材を位置決めするための第２位置決め部を備え、
前記保持部材は、前記第２位置決め部に係合して位置決めされる第２係合部と、前記第２位置決め部に対して前記光軸方向の一方側に隣接して配置され、前記第２係合部が前記第２位置決め部に係合する際に生じる隙間を前記光軸方向の一方側から覆う第２カバー部と、前記第２位置決め部に対して前記光軸方向の他方側に隣接して配置され、前記第２係合部が前記第２位置決め部に係合する際に生じる隙間を他方側から覆う第３カバー部と、を備えることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項５】
前記光源から出射されるレーザ光の光軸は、前記偏向部の偏向面に直交する方向に対して副走査方向に傾いていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項６】
前記光軸方向と直交する高さ方向に関して、前記カバー部の幅は、前記保持部材において前記位置決め部と係合する部分の幅よりも大きいことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項７】
前記固定部は、前記枠体と当接して前記保持部材の前記光軸方向の位置を決める当接部を備えることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項８】
前記保持部材の前記位置決め部と係合する部分は円筒状であり、前記枠体の前記位置決め部はテーパ状の溝であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項９】
前記保持部材は、前記光源から出射されたレーザ光が透過するコリメータレンズをさらに保持することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項１０】
感光体と、
前記感光体の表面でレーザ光を走査して静電潜像を形成する請求項１乃至９のいずれか１項に記載の光走査装置と、を備えることを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真複写機、電子写真プリンタなどの画像形成装置に好適な光走査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式の画像形成装置においては、複数のレーザ光を用いて各々対応する感光体に静電潜像を形成し、イエロー、マゼンタ、シアン、ブラックのトナーにより可視像化して、それらを重ね合わせてカラー画像を形成する構成が知られている。このように感光体の表面でレーザ光を走査して静電潜像を形成する装置として光走査装置が用いられる。
【０００３】
ここで特許文献１に記載の光走査装置においては、レーザ光を出射する光源を高精度に位置決めするための構成が記載されている。図１０は、特許文献１に記載の光走査装置１００の分解斜視図（図１０（ａ））と断面概略図（図１０（ｂ））である。図１０に示す様に、光走査装置１００は、光源である４つの半導体レーザ１０１を保持する４つの保持部材１０２を備える。また光走査装置１００の枠体である光学箱１０９には、４つの保持部材１０２をそれぞれ位置決めするためのテーパ状の溝である４つの位置決め部１３１を有する。４つの保持部材１０２は、それぞれの位置決め部１３１に対して、それぞれの保持部材１０２に形成された円筒部１０２ａを係合させて位置決めされる。さらに保持部材１０２は、光学箱１０９に対して保持部材１０２を固定するための固定部１７１を有し、固定部１７１が光学箱１０９に対して接着剤等で固定されることで、保持部材１０２は光学箱１０９に対して固定される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１４−１３４７８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし特許文献１に記載の構成では、保持部材１０２の円筒部１０２ａと位置決め部１３１との間に隙間１７７（１７７ａ、１７７ｂ、１７７ｃ）が生じる。また光学箱１０９の上側の開口を覆う不図示の蓋部に荷重がかかった際に、保持部材１０２の姿勢が変化することを抑制するために、固定部１７１と光学箱１０９の不図示の蓋部との間には不図示の隙間がある。このような隙間がある場合、これらの隙間から外気とともに塵埃が光学箱１０９の内部に侵入する懸念がある。この場合、光学箱１０９の内部の回転多面鏡やレンズなどの光学部材に塵埃が付着して、感光体に照射されるレーザ光の光量が低下し、画像の白抜けなど、画像品質の低下に繋がる。
【０００６】
そこで本発明はこのような現状に鑑みてなされたものであり、防塵性能を向上させることができる光走査装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するための本発明に係る光走査装置の代表的な構成は、レーザ光を出射する光源と、前記光源を保持する保持部材と、前記光源から出射されたレーザ光を偏向する偏向部と、前記偏向部を収容する枠体であって、前記保持部材と係合させて前記保持部材を前記枠体に対して位置決めする位置決め部を有する枠体と、を備える光走査装置であって、前記保持部材は、前記枠体に対して前記保持部材を固定するための固定部と、前記位置決め部で位置決めされた状態で前記保持部材と前記枠体との間の隙間を覆うカバー部と、を有し、前記隙間は、前記レーザ光の光軸方向と直交する方向における前記保持部材と前記枠体との間に形成される隙間であり、前記カバー部と前記固定部とは、前記レーザ光の光軸方向において前記位置決め部を挟み込むように配置されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、光走査装置において、防塵性能を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】画像形成装置の断面概略図である。
【図２】光走査装置の斜視概略図である。
【図３】半導体レーザによるレーザ光の出射角度を説明するための模式図である。
【図４】光源ユニット周囲の拡大斜視図である。
【図５】光源ユニット周囲の拡大斜視図である。
【図６】光源ユニット周囲の断面概略図である。
【図７】光源ユニット周囲の拡大斜視図である。
【図８】光源ユニット周囲の拡大斜視図である。
【図９】光源ユニット周囲の断面概略図である。
【図１０】従来技術の構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
（第１実施形態）
＜画像形成装置＞
以下、本発明の第１実施形態に係る光走査装置を備える画像形成装置の全体構成を画像形成時の動作とともに図面を参照しながら説明する。なお、以下に記載されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などは、特に特定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。
【００１１】
本実施形態に係る画像形成装置Ａは、イエローＹ、マゼンダＭ、シアンＣ、ブラックＫの４色のトナーを中間転写ベルトに転写した後、シートに画像を転写して画像を形成する電子写真方式の画像形成装置である。なお、以下の説明において、上記各色のトナーを使用する部材には添え字としてＹ、Ｍ、Ｃ、Ｋを付するものの、各部材の構成や動作は使用するトナーの色が異なることを除いて実質的に同じであるため、区別を要する場合以外は添え字を適宜省略する。
【００１２】
図１に示す様に、画像形成装置Ａは、シートにトナー像を転写する画像形成部と、画像形成部に向けてシートを供給するシート給送部と、シートにトナー像を定着させる定着部とを備える。
【００１３】
画像形成部は、感光ドラム５１（５１Ｙ、５１Ｍ、５１Ｃ、５１Ｋ）、感光ドラム５１を帯電させる帯電ローラ５２（５２Ｙ、５２Ｍ、５２Ｃ、５２Ｋ）、現像装置５４（５４Ｙ、５４Ｍ、５４Ｃ、５４Ｋ）、光走査装置１０を備える。また一次転写ローラ５７（５７Ｙ、５７Ｍ、５７Ｃ、５７Ｋ）、二次転写ローラ５３、二次転写対向ローラ５６、中間転写ベルト５８、駆動ローラ５０などを備える中間転写ユニットを備える。中間転写ベルト５８は、駆動ローラ５０の回転に伴って周回移動する。
【００１４】
次に、画像形成動作について説明する。まず不図示の制御部が画像形成ジョブ信号を受信すると、シート積載部５９に積載収納されたシートＳが給送ローラ６１、搬送ローラ６２によって画像形成部に搬送される。
【００１５】
一方、画像形成部においては、まず感光体としての感光ドラム５１が帯電ローラ５２によって表面を帯電させられる。その後、不図示の外部機器から送信された画像データ等に応じて光走査装置１０が各々の感光ドラム５１表面にレーザ光Ｌ（ＬＹ、ＬＭ、ＬＣ、ＬＫ）を照射して感光ドラム５１表面に静電潜像を形成する。
【００１６】
その後、現像装置５４により感光体としての感光ドラム５１表面に形成された静電潜像に各色のトナーを付着させ、感光ドラム５１表面にトナー像を形成する。感光体としての感光ドラム５１表面に形成されたトナー像は、一次転写ローラ５７に一次転写バイアスが印加されることで、中間転写ベルト５８にそれぞれ一次転写される。これにより中間転写ベルト５８表面にフルカラーのトナー像が形成される。
【００１７】
次に、中間転写ベルト５８が周回移動することでトナー像が二次転写ローラ５３と二次転写対向ローラ５６から形成される二次転写部に送られる。そして二次転写部において二次転写ローラ５３に二次転写バイアスが印加されることで、中間転写ベルト５８上のトナー像がシートＳに転写される。
【００１８】
次に、トナー像が転写されたシートＳは、定着装置６５において加熱、加圧処理が施され、これによりシートＳ上のトナー像がシートＳに定着される。その後、トナー像が定着されたシートＳは、排出ローラ６６によって画像形成装置Ａの外側に排出される。
【００１９】
＜光走査装置＞
次に、光走査装置１０の構成について説明する。
【００２０】
図２は、光走査装置１０の斜視概略図である。なお、図２は、光走査装置１０の内部構成を説明するために、光走査装置１０の枠体の上面に相当する蓋部９０（図４参照）を取り外した状態の図である。蓋部９０は、光学箱９の上方に形成された開口を覆う部材である。つまり光走査装置１０の枠体は、光学箱９と蓋部９０から構成される。
【００２１】
図２に示す様に、光走査装置１０は、光源としての半導体レーザ１（１Ｙ、１Ｍ、１Ｃ、１Ｋ）、コリメータレンズ３（３Ｙ、３Ｍ、３Ｃ、３Ｋ）、シリンドリカルレンズ４を備える。また回転多面鏡５と、回転多面鏡５を回転させる駆動モータ６から構成される偏向部、第１走査レンズ１４（１４ａ、１４ｂ）、第２走査レンズ１５（１５ａ〜１５ｄ）、ミラー８（８ａ〜８ｆ）を備える。コリメータレンズ３は、光源としての半導体レーザ１から出射されたレーザ光Ｌを平行光に変換するためのレンズである。
【００２２】
半導体レーザ１Ｙ、１Ｍ、及び、半導体レーザ１Ｃ、１Ｋは、それぞれ副走査方向の異なる位置に隣り合って配置されている。また各々の半導体レーザ１とコリメータレンズ３は、保持部材２（２Ｙ、２Ｍ、２Ｃ、２Ｋ）により保持されている。具体的には、保持部材２に対して、半導体レーザ１は圧入により固定され、コリメータレンズ３は接着により固定されている。これらの光学部材は光学箱９に収容されている。
【００２３】
次に、光走査装置１０の基本動作について説明する。まず光源としての半導体レーザ１から出射されたレーザ光Ｌは、コリメータレンズ３、シリンドリカルレンズ４を透過した後、偏向部の回転多面鏡５の反射面５ａに集光される。
【００２４】
ここで本実施形態では、図３に示す様に、半導体レーザ１Ｙ、１Ｍから出射されたレーザ光ＬＹ、ＬＭは、回転多面鏡５の反射面５ａに直交する基準線Ｘに対して副走査方向に所定の角度θ１をもって同一の反射面５ａに入射する。つまり半導体レーザ１Ｙ、１Ｍは、レーザ光ＬＹ、ＬＭを、基準線Ｘに対するなす角である角度θ１方向に出射させる。その後、レーザ光ＬＹ、ＬＭは、後述する通り、異なる感光ドラム５１Ｙ、５１Ｍの表面でそれぞれ走査される。なお、半導体レーザ１Ｃ、１Ｋについても同様の構成である。
【００２５】
次に、偏向部の回転多面鏡５の反射面５ａに入射した各々のレーザ光Ｌは、回転多面鏡５が駆動モータ６によって回転駆動されることで偏向面である反射面５ａに反射されて偏向される。その後、偏向されたレーザ光Ｌは、次のように各々の感光ドラム５１表面に集光されて走査される。
【００２６】
すなわち、レーザ光ＬＹに関しては、第１走査レンズ１４ａ、第２走査レンズ１５ａを透過後、ミラー８ａで反射されて感光ドラム５１Ｙの表面に集光される。またレーザ光ＬＭは、第１走査レンズ１４ａを透過後、ミラー８ｂで反射され、第２走査レンズ１５ｂを透過し、ミラー８ｃで反射された後に感光ドラム５１Ｍの表面に集光される。またレーザ光ＬＣは、第１走査レンズ１４ｂを透過後、ミラー８ｅで反射され、第２走査レンズ１５ｃを透過し、ミラー８ｄで反射された後に感光ドラム５１Ｃの表面に集光される。またレーザ光ＬＫは、第１走査レンズ１４ｂ、第２走査レンズ１５ｄを透過後、ミラー８ｆで反射されて感光ドラム５１Ｋの表面に集光される。
【００２７】
このようにして光走査装置１０は、レーザ光Ｌを感光ドラム５１上に走査して静電潜像を形成する。具体的には、偏向部の回転多面鏡５の回転によりレーザ光Ｌの偏向される角度が変化してレーザ光Ｌが結像したスポット像が主走査方向に走査される。また感光ドラム５１が回転することによりレーザ光Ｌが結像したスポット像が副走査方向に走査される。なお、副走査方向は主走査方向と直交する方向であり、主走査方向は感光ドラム５１の回転軸線方向と同じ方向である。
【００２８】
＜半導体レーザの位置決め構成＞
次に、半導体レーザ１を枠体としての光学箱９に位置決めする構成について説明する。なお、以下の説明では、説明の便宜上、半導体レーザ１とコリメータレンズ３を保持した状態の保持部材２を光源ユニット２１（２１Ｙ、２１Ｍ、２１Ｃ、２１Ｋ）という。
【００２９】
図４、図５は、光源ユニット２１の周囲の拡大斜視図と正面図である。ここで図４は光源ユニット２１が枠体としての光学箱９に取り付けられた状態を示し、図５は光源ユニット２１が枠体としての光学箱９から取り外された状態を示す。また図４（ａ）は、蓋部９０が取り外された状態の図であり、図４（ｂ）は蓋部９０が取り付けられた状態の図である。
【００３０】
図４、図５に示す様に、枠体としての光学箱９には、光源ユニット２１を位置決めするための位置決め部３１（３１Ｙ、３１Ｍ、３１Ｃ、３１Ｋ）、３２（３２Ｙ、３２Ｍ、３２Ｃ、３２Ｋ）、位置決め部１１（１１ａ、１１ｂ）が形成されている。第１位置決め部としての位置決め部３１、第２位置決め部としての位置決め部３２は、テーパ状、より具体的にはＶ字の頂点部分がカットされた形状の溝であり、光学箱９に一体成形で形成される。また第１位置決め部としての位置決め部３１は光学箱９の外周部に形成されており、第２位置決め部としての位置決め部３２は位置決め部３１よりも回転多面鏡５側に形成されている。
【００３１】
また光源ユニット２１の保持部材２には、係合部、第１係合部としての円筒状の円筒部７５と、第２係合部としての円筒状の円筒部７６が形成されている。第２係合部としての円筒部７６は、係合部、第１係合部としての円筒部７５よりも回転多面鏡５に近接した位置に配置されている。また光源ユニット２１の保持部材２には、保持部材２を光学箱９に固定するための固定部としての固定壁７１（７１Ｙ、７１Ｍ、７１Ｃ、７１Ｋ）が形成されている。固定部としての固定壁７１は、保持部材２に一体的に形成された部材であり、光学箱９に対して接着剤により固定され、これにより保持部材２は光学箱９に対して固定される。また固定部としての固定壁７１は、後述する通り、光学箱９内に外部からの塵埃が侵入することを抑制する機能を有する。
【００３２】
光源ユニット２１は、その円筒部７５、７６が光学箱９の第１位置決め部、第２位置決め部としての位置決め部３１、３２に係合（嵌合）するとともに、不図示のバネによって位置決め部３１、３２に対して付勢される。これにより光源ユニット２１は、レーザ光Ｌの光軸方向（図４、５、７に示す一点鎖線Ｒの方向）と直交する方向の光学箱９に対する位置が位置決めされる。つまり第１位置決め部としての位置決め部３１、第２位置決め部としての位置決め部３２は、テーパ状に切られた溝の表面部分であり、ここに円筒部７５、７６が嵌まり込むことで位置決めが行われる。また光源ユニット２１は、保持部材２の固定壁７１に形成された当接部７８（７８Ｙ、７８Ｍ、７８Ｃ、７８Ｋ）を光学箱９の外周面である位置決め部１１に当接させることで、レーザ光Ｌの光軸方向の光学箱９に対する位置が位置決めされる。また半導体レーザ１が光源を複数備えるマルチレーザの場合、光源ユニット２１をレーザ光Ｌの光軸を中心に回転させて感光ドラム５１上のレーザ光Ｌの副走査方向の間隔を調整した後に、光学箱９に設けられた接着部１１ａに接着剤により固定される。
【００３３】
なお、レーザ光Ｌの光軸方向において位置決め部３１と位置決め部３２との間の距離を長くすることで、位置決め部３１に対する位置決め部３２の相対的な高さのズレに対して光源ユニット２１の光学箱９に対する位置決め精度を良好にすることができる。これにより図２に示す角度θ１の角度ズレを小さくすることができる。また位置決め部３１、３２のテーパ角度θ２を６０°〜８０°とすることで、光源ユニット２１の中心軸を求心し易くすることができる。
【００３４】
図６は、光源ユニット２１の周囲の断面概略図である。図６に示す様に、光源ユニット２１の円筒部７５と位置決め部３１との間には、隙間７７（７７ａ、７７ｂ、７７ｃ）が生じる。また光学箱９の蓋部９０に荷重がかかった際に光源ユニット２１の姿勢が変化することを抑制するために、固定壁７１と光学箱９の蓋部９０との間には隙間７９（図４（ｂ））がある。このように隙間７７や隙間７９がある場合、駆動モータ６の回転により生成される気流Ｅ（図４（ｂ））の影響等によって外気とともに塵埃がこれらの隙間から光学箱９の内部に侵入し、光学性能や画像品質が劣化するおそれがある。特に、気流Ｅによって隙間７９から光学箱９内に侵入した塵埃の多くは、レーザ光Ｌの光軸方向及び鉛直方向と直交する方向における円筒部７５と位置決め部３１の間の隙間７７ａを通って光学箱９のさらに内部へと侵入する。
【００３５】
そこで隙間７７を覆うために、本実施形態では、図４、図５に示す様に、光源ユニット２１にカバー部としての防塵壁７２（７２Ｙ、７２Ｍ、７２Ｃ、７２Ｋ）を設けている。カバー部としての防塵壁７２は、固定壁７１よりも光学箱９の内側に位置し、保持部材２に一体的に形成された部材であり、副走査方向、つまりレーザ光Ｌの光軸方向に直交する高さ方向を長尺とした形状をしている。また固定壁７１は、防塵壁７２と同じ四角形状の平面部を有する。
【００３６】
光源ユニット２１が光学箱９に対して位置決めされると、カバー部として固定壁７１よりも光学箱９の内側に位置する防塵壁７２は、固定部としての固定壁７１とともにレーザ光Ｌの光軸方向において位置決め部３１を挟み込むように配置される。そして固定部としての固定壁７１と、カバー部としての防塵壁７２は、光源ユニット２１の係合部としての円筒部７５を位置決め部３１に係合させた際に生じる隙間７７をレーザ光Ｌの光軸方向であって光学箱９の内側から覆う。具体的には、固定部としての固定壁７１は光学箱９の外側において位置決め部３１に隣接して配置され、第２カバー部としての防塵壁７２は光学箱９の内側において位置決め部３１に隣接して配置され、両者によって隙間７７をレーザ光Ｌの光軸方向から覆う。また隙間７７を全体的に覆うために、固定壁７１、防塵壁７２のレーザ光Ｌの光軸方向に直交する高さ方向の幅は、円筒部７５の同方向の幅よりも大きく構成されている。
【００３７】
これにより隙間７７から光学箱９の内部に塵埃が侵入することを抑制することができる。特に、固定壁７１と防塵壁７２は、塵埃が一番入り易い隙間７７ａをレーザ光Ｌの光軸方向から覆うため、隙間７７ａから光学箱９の内部に塵埃が侵入することを効果的に抑制することができる。なお、固定壁７１、防塵壁７２により隙間７７を完全に塞ぐことができなくても、隙間７７を小さくすることで防塵性能は向上する。また固定壁７１、防塵壁７２をレーザ光Ｌの光軸方向において近接させる程、防塵性能は向上する。このように本実施形態の構成によれば、光走査装置１０は、半導体レーザ１を高精度に位置決めするとともに、防塵性能を向上させることができる。
【００３８】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る光走査装置を備える画像形成装置の構成について説明する。上記第１実施形態と説明の重複する部分については、同一の符号を付して説明を省略する。
【００３９】
図７は、本実施形態に係る光源ユニット２１の周囲の斜視図である。図７に示す様に、本実施形態に係る光源ユニット２１は、固定壁７１、防塵壁７２の他に、第２カバー部、第３カバー部としての２つの防塵壁７３、７４を備える。その他の構成は、第１実施形態と同様の構成である。
【００４０】
第２カバー部としての防塵壁７３と、第３カバー部としての防塵壁７４は、防塵壁７２と同様の形状である。すなわち、第２カバー部、第３カバー部としての防塵壁７３、７４は、保持部材２に一体的に形成されており、レーザ光Ｌの光軸方向に直交する方向に延在した形状をしている。
【００４１】
光源ユニット２１が光学箱９に対して位置決めされると、第２カバー部、第３カバー部としての防塵壁７３、７４は、レーザ光Ｌの光軸方向において位置決め部３２を挟み込むように配置される。そして防塵壁７３、７４は、光源ユニット２１の円筒部７６を位置決め部３２に係合させた際に生じる隙間をレーザ光Ｌの光軸方向から覆う。具体的には、第２カバー部としての防塵壁７３は位置決め部３２に対して光軸方向の一方側に隣接して配置され、第３カバー部としての防塵壁７４は他方側に隣接して配置され、両者によって隙間をレーザ光Ｌの光軸方向から覆う。またこの隙間を全体的に覆うために、防塵壁７３、７４のレーザ光Ｌの光軸方向に直交する方向の幅は、円筒部７６の同方向の幅よりも大きく構成されている。
【００４２】
このような構成により、光学箱９の内部に塵埃が侵入した場合であっても、防塵壁７３、７４により回転多面鏡５側に塵埃が侵入することを抑制することができ、防塵性能をさらに向上させることができる。
【００４３】
（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態に係る光走査装置を備える画像形成装置の構成について説明する。上記第１、第２実施形態と説明の重複する部分については、同一の符号を付して説明を省略する。
【００４４】
図８、図９は、本実施形態に係る光源ユニット２１の周囲の斜視図と断面概略図である。図８、図９に示す様に、本実施形態の構成は、第２実施形態の構成に対して、弾性部材８０を追加した構成である。
【００４５】
弾性部材８０は、固定壁７１Ｍ、７１Ｋと防塵壁７２Ｍ、７２Ｋの間の位置で、蓋部９０と接するように設けられ、位置決め部３１Ｍ、３１Ｋに円筒部７５Ｍ、７５Ｋを係合させた際に生じる隙間７７をレーザ光Ｌの光軸方向と直交する方向から覆う。弾性部材８０の材質としては、光源ユニット２１の姿勢が維持されやすいように、例えばウレタンフォーム、ホットメルト接着剤、紫外線硬化型接着剤などの柔らかい材質を用いることができる。
【００４６】
このように弾性部材８０を設けることで、保持部材２Ｍ、２Ｋの円筒部７５Ｍ、７５Ｋを位置決め部３１Ｍ、３１Ｋに係合させた際に位置決め部３１Ｍ、３１Ｋの鉛直方向の上側に生じる隙間７７を無くすことができる。従って、防塵性能をさらに向上させることができる。
【００４７】
また落下時の衝撃等によって蓋部９０が加圧された場合でも、弾性部材８０の圧縮により圧力が吸収され、光源ユニット２１Ｍ、２１Ｋに伝わる圧力が低減される。従って、光源ユニット２１Ｍ、２１Ｋの姿勢を維持しやすくなる。
【００４８】
なお、本実施形態では、固定壁７１Ｍ、７１Ｋと防塵壁７２Ｍ、７２Ｋとの間に弾性部材８０を設ける構成について説明したものの、本発明はこれに限られない。即ち、固定壁７１Ｙ、７１Ｃと防塵壁７２Ｙ、７２Ｃとの間に弾性部材８０を設ける構成としてもよい。この場合、弾性部材８０が脱落しないように、例えば板ばねで弾性部材８０を保持部材２Ｙ、２Ｃに押し付ける構成とする。また防塵壁７３と防塵壁７４の間の位置に、他の弾性部材をさらに設ける構成としてもよい。これにより防塵性能をさらに向上させることができる。
【００４９】
また第１〜３実施形態では、４つの光源ユニット２１を１つの光学箱９に取り付けた構成について説明したものの、本発明はこれに限られず、光源ユニット２１の数は任意の数にすることができる。
【符号の説明】
【００５０】
１…半導体レーザ（光源）
２…保持部材
３…コリメータレンズ（レンズ）
５…回転多面鏡（偏向部）
６…駆動モータ（偏向部）
９…光学箱（枠体）
１０…光走査装置
３１…位置決め部（第１位置決め部）
３２…位置決め部（第２位置決め部）
５１…感光ドラム（感光体）
７１…固定壁（固定部）
７２…防塵壁（カバー部、第１カバー部）
７３…防塵壁（第２カバー部）
７４…防塵壁（第３カバー部）
７５…円筒部（係合部、第１係合部）
７６…円筒部（第２係合部）
７８…当接部
８０…弾性部材
９０…蓋部（枠体）
Ａ…画像形成装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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