(57)【要約】      （修正有）【課題】基板上の空間に供給される混合気体の酸素濃度を制御するのに有利な露光装置を提供する。【解決手段】基板６を露光する露光装置１００であって、乾燥空気を含む第１気体が供給される第１経路９１と、前記第１気体の酸素濃度とは異なる酸素濃度の第２気体が供給される第２経路９２と、前記第１経路９１及び前記第２経路９２が接続された容器９３と、を含み、前記第１経路９１から供給される前記第１気体と前記第２経路９２から供給される前記第２気体とを前記容器９３で混合して混合気体を生成する気体混合部９と、前記基板６上の空間に前記気体混合部９で生成された混合気体を供給する供給管１２と、前記第１気体の第１気体源と前記容器９３との間の前記第１経路９１に設けられ、前記第１気体源から供給される前記第１気体の酸素濃度の変動を緩和するためのバッファタンク５と、を有することを特徴とする露光装置１００を提供する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を露光する露光装置であって、
乾燥空気を含む第１気体が供給される第１経路と、前記第１気体の酸素濃度とは異なる酸素濃度の第２気体が供給される第２経路と、前記第１経路及び前記第２経路が接続された容器と、を含み、前記第１経路から供給される前記第１気体と前記第２経路から供給される前記第２気体とを前記容器で混合して混合気体を生成する気体混合部と、
前記基板上の空間に前記気体混合部で生成された混合気体を供給する供給管と、
前記第１気体の第１気体源と前記容器との間の前記第１経路に設けられ、前記第１気体源から供給される前記第１気体の酸素濃度の変動を緩和するためのバッファタンクと、
を有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記供給管は、弾性体で構成されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第１経路に設けられ、前記第１経路に供給される前記第１気体を減圧する減圧弁を更に有し、
前記バッファタンクは、前記減圧弁の１次側に設けられていることを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記バッファタンクは、前記第１経路に設けられた第１タンク及び第２タンクを含むことを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
マスクのパターンを前記基板に投影する投影光学系、前記気体混合部及び前記供給管を収容するチャンバを更に有し、
前記第１タンク及び前記第２タンクのうちの一方のタンクは、前記チャンバ外に配置されていることを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記一方のタンクの容積は、前記第１タンク及び前記第２タンクのうちの他方のタンクの容積よりも大きいことを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記バッファタンクの内部に設けられ、前記バッファタンクに蓄積された前記第１気体を撹拌するファンを更に有することを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記バッファタンクの容積Ｖ［Ｌ］は、前記第１気体源から供給される前記第１気体の流量をＱ［Ｌ／分］、前記第１気体の酸素濃度が変動許容値を超えて変動している時間をｔ［分］、前記第１気体の酸素濃度の変動量をΔｃ［％］、前記第１気体の酸素濃度の許容誤差をｅ［％］として、
Ｖ≧Ｑ×ｔ×Δｃ÷ｅ
を満たすことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項９】
前記バッファタンクの容積Ｖ［Ｌ］は、前記第１気体源から供給される前記第１気体の流量をＱ［Ｌ／分］、前記第１気体の酸素濃度が変動許容値を超えて変動している時間をｔ［分］、前記第１気体の酸素濃度の変動量をΔｃ［％］、前記第１気体の酸素濃度の許容誤差をｅ［％］、前記減圧弁の１次側の圧力をＰ１［ＭＰａ］、前記減圧弁の２次側の圧力をＰ２［ＭＰａ］として、
Ｖ≧Ｑ×ｔ×Δｃ÷ｅ×（Ｐ２／Ｐ１）
を満たすことを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記バッファタンクは、前記第１経路が接続する前記第１気体源の側の第１接続口と、前記第１経路が接続する前記容器の側の第２接続口とを含み、
前記第１接続口は、前記バッファタンクの上部及び下部のうちの一方に設けられ、
前記第２接続口は、前記バッファタンクの上部及び下部のうちの他方に設けられていることを特徴とする請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のうちいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光した前記基板を現像する工程と、
現像された前記基板から物品を製造する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置及び物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラーフィルタや液晶表示デバイスなどの製造では、マスクやレチクルなどの原版のパターンを、ガラスプレートやウエハなどの基板に露光して、基板上のレジストにパターン（潜像）を形成する露光装置が用いられている。
【０００３】
基板上に供給（塗布）されるレジストの１つとして、例えば、カラーレジストが存在する。カラーレジストは、露光光を照射すると、反応に寄与するラジカルを発生し、ポリマーを光重合させ、現像液に不溶となる。但し、カラーレジストに含まれる顔料の成分は、露光光を吸収しやすく、また、発生したラジカルは空気中に存在する酸素にトラップされてしまうため、光重合反応は妨げられる傾向にある。従って、所定のパターン寸法（形状）を得るためには、露光量（露光エネルギー）を増大する必要があり、スループットの低下を招いてしまう。
【０００４】
そこで、ポリビニルアルコールからなる膜（酸素を遮断する酸素遮断膜）をレジスト上に形成（塗布）する技術が知られている。但し、かかる技術は、酸素遮断膜のレジスト上への濡れ性の悪さからパターン欠陥を生じる可能性がある。また、酸素遮断膜を形成する工程が増えることによるコスト増加の問題もある。更に、酸素遮断膜を形成しても酸素濃度を制御することができないため、微細なパターンを形成する場合において、パターン寸法の精度制御に対するフレキシビリティーが低減してしまう。
【０００５】
一方、ポリビニルアルコールからなる酸素遮断膜をレジスト上に形成することなく、レジストに窒素（ガス）を吹き付けて低酸素状態で露光を行う技術も提案されている（特許文献１参照）。また、レジスト表面の横方向の重合広がりを抑制してパターン形状の改善を図るために、高酸素状態で露光を行う技術も提案されている（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１−１９５４４５号公報
【特許文献２】特開２００７−９４０６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１及び２に開示された技術を実現するために、例えば、乾燥空気（ＣＤＡ）に対して乾燥空気の酸素濃度とは異なる気体を混合して目標酸素濃度の混合気体を生成し、かかる混合気体を露光空間に供給することが考えられる。しかしながら、混合前の乾燥空気の酸素濃度が変動すると、露光空間に供給される混合気体の酸素濃度が一時的に変動するため、混合気体が供給される露光空間において所定の酸素濃度が得られなくなってしまう。
【０００８】
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、基板上の空間に供給される混合気体の酸素濃度を制御するのに有利な露光装置を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光装置は、基板を露光する露光装置であって、乾燥空気を含む第１気体が供給される第１経路と、前記第１気体の酸素濃度とは異なる酸素濃度の第２気体が供給される第２経路と、前記第１経路及び前記第２経路が接続された容器と、を含み、前記第１経路から供給される前記第１気体と前記第２経路から供給される前記第２気体とを前記容器で混合して混合気体を生成する気体混合部と、前記基板上の空間に前記気体混合部で生成された混合気体を供給する供給管と、前記第１気体の第１気体源と前記容器との間の前記第１経路に設けられ、前記第１気体源から供給される前記第１気体の酸素濃度の変動を緩和するためのバッファタンクと、を有することを特徴とする。
【００１０】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、例えば、基板上の空間に供給される混合気体の酸素濃度を制御するのに有利な露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一側面としての露光装置の構成を示す概略図である。
【図２】乾燥空気の酸素濃度の時間応答の一例を示す図である。
【図３】本発明の一側面としての露光装置の構成を示す概略図である。
【図４】本発明の一側面としての露光装置の構成を示す概略図である。
【図５】本発明の一側面としての露光装置の構成を示す概略図である。
【図６】本発明の一側面としての露光装置の構成を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００１４】
図１は、本発明の一側面としての露光装置１００の構成を示す概略図である。露光装置１００は、デバイスの製造工程であるフォトリソグラフィ工程に用いられ、基板６にパターンを形成するリソグラフィ装置である。露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式で、マスク１を介して基板６を露光し、マスク１のパターンを基板６に転写する。但し、露光装置１００は、ステップ・アンド・リピート方式やその他の露光方式を適用することも可能である。
【００１５】
露光装置１００は、図１に示すように、照明光学系２と、マスクステージ３と、投影光学系４と、基板ステージ７と、チャンバ８と、気体混合部９と、制御部１０と、記憶部１１と、供給管１２と、酸素濃度計１３とを有する。
【００１６】
照明光学系２は、水銀ランプやエキシマレーザーなどの光源（不図示）から射出した光を用いて、マスクステージ３に保持されたマスク１を照明する。マスクステージ３は、マスク１を保持して移動可能なステージである。投影光学系４は、マスク１のパターン（の像）を、基板ステージ７に保持された基板６（基板上のレジスト）に投影する。基板ステージ７は、基板６を保持して移動可能なステージである。
【００１７】
チャンバ８は、露光装置１００の各部（照明光学系２、マスクステージ３、投影光学系４、バッファタンク５、基板ステージ７、気体混合部９、制御部１０、記憶部１１、供給管１２、酸素濃度計１３など）を収容する。チャンバ８の内部（露光室）の雰囲気は、雰囲気維持部（不図示）によって、温度及び湿度が制御された空気雰囲気に維持されている。
【００１８】
気体混合部９は、乾燥空気（第１気体）が供給される第１経路９１と、不活性気体（乾燥空気の酸素濃度とは異なる酸素濃度の第２気体）が供給される第２経路９２と、第１経路９１及び第２経路９２が接続された容器９３とを含む。第１経路９１には、乾燥空気を製造する工場設備である乾燥空気源（第１気体源）ＣＤＳが接続され、乾燥空気源ＣＤＳで製造された乾燥空気が供給される。第２経路９２には、不活性気体を製造する工場設備である不活性気体源ＩＧＳが接続され、不活性気体源ＩＧＳで製造された不活性気体が供給される。気体混合部９は、第１経路９１から供給される乾燥空気と第２経路９２から供給される不活性気体とを容器９３で混合して混合気体を生成する。なお、不活性気体は、例えば、窒素を含む。
【００１９】
バッファタンク５は、乾燥空気供給系の経路、具体的には、乾燥空気源ＣＤＳと容器９３との間の第１経路９１に設けられ、乾燥空気源ＣＤＳから供給される乾燥空気の酸素濃度の変動を緩和するためのタンクである。乾燥空気源ＣＤＳから第１経路９１に供給される乾燥空気の酸素濃度が大きく変動した場合であっても、バッファタンク５に蓄積（充填）されている基準酸素濃度の乾燥空気と混合されることで、乾燥空気の酸素濃度がバッファタンク５で平均化される。従って、基準酸素濃度からの乖離（誤差）が小さい、比較的安定した酸素濃度の乾燥空気を、バッファタンク５から第１経路９１を介して容器９３に供給することができる。ここで、基準酸素濃度とは、乾燥空気の酸素濃度が安定しているときの酸素濃度であって、基準酸素濃度に関する情報は、例えば、露光レシピに設定されて記憶部１１に記憶されている。また、記憶部１１には、乾燥空気源ＣＤＳから供給される乾燥空気の酸素濃度に関する情報や不活性気体源ＩＧＳから供給される不活性気体の酸素濃度に関する情報も記憶されている。
【００２０】
バッファタンク５から第１経路９１を介して供給される乾燥空気と、不活性気体源ＩＧＳから第２経路９２を介して供給される不活性気体とは、容器９３で混合されて混合気体となる。かかる混合気体は、供給管１２を介して、基板上の空間、具体的には、投影光学系４の最終面と基板６との間の空間（局所空間）ＳＰに供給される。このように、供給管１２は、空間ＳＰに気体混合部９で生成された混合気体を供給する機能を有する。供給管１２は、気体混合部９の振動、具体的には、乾燥空気と不活性気体とを容器９３で混合する際に発生する振動が投影光学系４に伝達されることを抑制するために、本実施形態では、弾性体で構成されている。気体混合部９から供給管１２を介して供給される混合気体で置換（パージ）される空間ＳＰは、基板６を露光する際において、混合気体の拡散を防止し、空間ＳＰでの酸素濃度を効率的に維持するために、囲いなどを設けてある程度閉じた空間にしてもよい。
【００２１】
制御部１０は、例えば、ＣＰＵやメモリなどを含むコンピュータで構成され、記憶部に記憶されたプログラムに従って露光装置１００の各部を統括的に制御する。制御部１０は、マスク１のパターンを基板６に転写する、即ち、基板６を露光する露光処理を制御する。また、制御部１０は、本実施形態では、気体混合部９を介して、気体混合部９で生成される混合気体の酸素濃度を制御（調整）する。
【００２２】
制御部１０による気体混合部９の制御、具体的には、混合気体の酸素濃度を目標酸素濃度に制御（調整）する処理について説明する。まず、制御部１０は、露光処理に用いられる露光レシピを記憶部１１から取得し、かかる露光レシピに設定されている目標酸素濃度に関する情報を取得する。次いで、制御部１０は、乾燥空気源ＣＤＳから供給される乾燥空気の酸素濃度に関する情報及び不活性気体源ＩＧＳから供給される不活性気体の酸素濃度に関する情報を記憶部１１から取得する。
【００２３】
次に、制御部１０は、乾燥空気源ＣＤＳから供給される乾燥空気の酸素濃度及び不活性気体源ＩＧＳから供給される不活性気体の酸素濃度に基づいて、混合気体の酸素濃度が目標酸素濃度となるように、乾燥空気と不活性気体との流量比を算出する。次いで、制御部１０は、算出した乾燥空気と不活性気体との流量比に基づいて、乾燥空気源ＣＤＳからバッファタンク５を介して容器９３に供給される乾燥気体の流量と不活性気体源ＩＧＳから容器９３に供給される不活性気体の流量とを調整する。これにより、乾燥空気と不活性気体とが容器９３で混合されて混合気体となる（即ち、混合気体が生成される）。
【００２４】
次に、制御部１０は、気体混合部９（容器９３）で生成された混合気体を、供給管１２を介して空間ＳＰに供給する。そして、制御部１０は、供給管１２に設けられた酸素濃度計１３で混合気体の酸素濃度を計測し、酸素濃度計１３で計測された酸素濃度に基づいて、空間ＳＰに供給される酸素濃度が目標酸素濃度となるように、気体混合部９をフィードバック制御する。
【００２５】
なお、供給管１２において、酸素濃度計１３の２次側（下流）に、電磁弁（不図示）と、混合気体を露光装置１００の外部に排気する排気経路（不図示）とを設けてもよい。この場合、混合気体の酸素濃度が目標酸素濃度の許容範囲に達するまでは、排気経路を介して混合気体を露光装置１００の外部に排気し、混合気体の酸素濃度が目標酸素濃度に達したら混合気体を空間ＳＰに供給するように、電磁弁を切り替える。これにより、空間ＳＰに対して、安定した酸素濃度の混合気体を供給することができる。
【００２６】
図２を参照して、バッファタンク５に必要な容積について説明する。図２は、乾燥空気源ＣＤＳからバッファタンク５に供給される乾燥空気の酸素濃度の時間応答及びバッファタンク５の２次側（下流側）の乾燥空気の酸素濃度の時間応答の一例を示す図である。図２では、縦軸は酸素濃度［％］を示し、横軸は時間［分］を示している。図２に示すように、乾燥空気源ＣＤＳから供給される乾燥空気の流量をＱ［Ｌ／分］、乾燥空気の酸素濃度が変動許容値を超えて変動している時間をｔ［分］とする。また、基準酸素濃度ｃ［％］に対する乾燥空気の酸素濃度の変動量をΔｃ［％］、基準酸素濃度ｃ［％］に対する乾燥空気の酸素濃度の許容誤差をｅ［％］とする。この場合、バッファタンク５に必要な容積Ｖ［Ｌ］は、以下の式（１）で表される。
Ｖ≧Ｑ×ｔ×Δｃ÷ｅ    ・・・（１）
従って、バッファタンク５は、その容積Ｖ［Ｌ］が式（１）を満たすように構成されている。例えば、ｅ＝０．５［％］、Δｃ＝１［％］、ｔ＝１［分］、Ｑ＝２０［Ｌ／分］とすると、Ｖ≧４０［Ｌ］となる。
【００２７】
バッファタンク５は、任意の形状を有していてよい。バッファタンク５を直方体とするならば、幅×奥行×高さとして、例えば、２０ｃｍ×２０ｃｍ×１００ｃｍ以上が必要となる。また、バッファタンク５を円筒形とするならば、例えば、直径で２２．６ｃｍ、高さで１００ｃｍ以上が必要となる。
【００２８】
また、図３に示すように、バッファタンク５と容器９３との間の第１経路９１に、第１経路９１に供給される乾燥空気を減圧する減圧弁３０を設けてもよい。減圧弁３０の１次側（上流側）にバッファタンク５を配置することで、ボイルの法則からバッファタンク５に必要な容積を小さくすることができる。従って、バッファタンク５の配置に必要なスペースを節約することができる。
【００２９】
図３に示す露光装置１００において、バッファタンク５に必要な容積について説明する。減圧弁３０の１次側（上流側）の圧力をＰ１［ＭＰａ］とし、減圧弁３０の２次側（下流側）の圧力をＰ２［ＭＰａ］とする。この場合、バッファタンク５に必要な容積Ｖ［Ｌ］は、以下の式（２）で表される。
Ｖ≧Ｑ×ｔ×Δｃ÷ｅ×（Ｐ２／Ｐ１）    ・・・（２）
従って、バッファタンク５は、その容積Ｖ［Ｌ］が式（２）を満たすように構成されている。例えば、ｅ＝０．５［％］、Δｃ＝１［％］、ｔ＝１［分］、Ｑ＝２０［Ｌ／分］、Ｐ１＝０．４［ＭＰａ］、Ｐ２＝０．２［ＭＰａ］とすると、Ｐ２／Ｐ１＝０．５であるため、バッファタンク５に必要な容積Ｖ［Ｌ］は、２０［Ｌ］となる。
【００３０】
このように、本実施形態では、乾燥空気源ＣＤＳから供給される乾燥空気が一時的に変動した場合であっても、その変動をバッファタンク５で緩和し、バッファタンク５から供給される乾燥空気の酸素濃度の誤差を許容範囲に収めることができる。従って、気体混合部９で生成される混合気体の酸素濃度を目標酸素濃度に制御することが可能となり、空間ＳＰにおいて所定の酸素濃度を得ることができる。これにより、露光装置１００では、安定した酸素濃度の環境下で基板６を露光することができるため、基板上に形成されるパターンの寸法（形状）精度を向上させることができる。
【００３１】
露光装置１００では、チャンバ８の内部の空間的な配置制約から、バッファタンク５の大きさを十分に確保できない場合がある。このような場合には、図４に示すように、バッファタンク５を第１タンク５１及び第２タンク５２に分けて構成してもよい。そして、第１タンク５１及び第２タンク５２のうちの一方のタンク（例えば、第１タンク５１）をチャンバ外に配置し、第１タンク５１及び第２タンク５２のうちの他方のタンク（例えば、第２タンク５２）をチャンバ８の内部に配置してもよい。この際、チャンバ８の内部の空間的な配置制約の観点では、第１タンク５１及び第２タンク５２のうち、その容積が大きい方のタンクをチャンバ外に配置するとよい。なお、チャンバ外とは、例えば、露光装置１００が設けられる工場の天井部や地下部などが考えられる。また、第１タンク５１は、当然のことながら、チャンバ８の内部に配置してもよい。
【００３２】
ここで、バッファタンク５の一部、本実施形態では、第１タンク５１をチャンバ外に配置することで、空間ＳＰに供給される混合気体の温度の安定性に懸念が生じる。但し、供給管１２が十分な長さを有していれば、空間ＳＰに供給される混合気体は、供給管１２を通過している間にチャンバ８の内部の温度（雰囲気温度）になじむため、混合気体の温度の安定性を確保することができる。
【００３３】
また、バッファタンク５においては、図１に示すように、その内部に乾燥空気の流路が形成されるように、第１経路９１に対する１次側（乾燥空気源ＣＤＳの側）の第１接続口５ａと２次側（容器９３の側）の第２接続口５ｂとを遠ざけて設けるとよい。例えば、第１接続口５ａをバッファタンク５の上部及び下部のうちの一方に設け、第２接続口５ｂをバッファタンク５の上部及び下部のうちの他方に設ける。これにより、バッファタンク５において、バッファタンク５に蓄積されている基準酸素濃度の乾燥空気と、乾燥空気源ＣＤＳから供給される基準酸素濃度から乖離した酸素濃度を有する乾燥空気とを効率的に混合することができる。
【００３４】
また、図５に示すように、バッファタンク５に蓄積された乾燥気体を撹拌するファン４０をバッファタンク５の内部に設けてもよい。これにより、バッファタンク５に蓄積されている基準酸素濃度の乾燥空気と、乾燥空気源ＣＤＳから供給される基準酸素濃度から乖離した酸素濃度を有する乾燥空気とが混合する速度を向上させ、更に効率的な混合を実現することができる。なお、第１経路９１に対する１次側の第１接続口に近接するバッファタンク５の内部にファン４０を設けることで、バッファタンク５に蓄積されている基準酸素濃度の乾燥空気と乾燥空気源ＣＤＳから供給される乾燥空気とを最も効率的に混合させることができる。
【００３５】
バッファタンク５は、ユーザなどが乗ることに耐える強度を有する構造を有しているとよい。これにより、バッファタンク５をステップとして機能させることが可能となり、チャンバ８の内部のステップが必要な場所にバッファタンク５を配置することで、チャンバ８の内部のスペースを節約することができる。また、バッファタンク５を、例えば、チャンバ８のフレームに組み込むなどして、バッファタンク自身をフレームや露光装置１００の構造体の一部としてもよい。
【００３６】
また、気体混合部９には、乾燥空気及び不活性気体に加えて、乾燥空気の酸素濃度及び不活性気体の酸素濃度とは異なる酸素濃度の気体（第３気体）が供給されてもよい。この場合、気体混合部９は、図６に示すように、容器９３に接続された第３経路９４を含む。第３経路９４には、第３気体を製造する工場設備である気体源（第３気体源）ＧＳが接続され、気体源ＧＳで製造された第３気体が供給される。なお、第３気体は、例えば、酸素を含む。
【００３７】
気体混合部９は、第１経路９１から供給される乾燥空気と第２経路９２から供給される不活性気体と第３経路９４から供給される第３気体とを容器９３で混合して混合気体を生成してもよい。また、気体混合部９は、第１経路９１から供給される乾燥空気と、第２経路９２から供給される不活性気体及び第３経路９４から供給される第３気体のうちの一方とを容器９３で混合して混合気体を生成してもよい。
【００３８】
ここで、気体混合部９が第１経路９１から供給される乾燥空気と、第２経路９２から供給される不活性気体及び第３経路９４から供給される第３気体のうちの一方とを容器９３で混合して混合気体を生成する場合を考える。また、第３気体の酸素濃度は、乾燥空気の酸素濃度よりも高いものとする。不活性気体の酸素濃度は、乾燥空気の酸素濃度よりも小さい。
【００３９】
まず、空間ＳＰに供給する混合気体の目標酸素濃度が乾燥空気の酸素濃度よりも高い場合を考える。このような場合には、第１経路９１から供給される乾燥空気と第３経路９４から供給される第３気体とを容器９３で混合させて目標酸素濃度の混合気体を生成するように、気体混合部９を制御する。そして、気体混合部９で生成された混合気体を、供給管１２を介して空間ＳＰに供給する。
【００４０】
次に、空間ＳＰに供給する混合気体の目標酸素濃度が乾燥空気の酸素濃度よりも低い場合を考える。このような場合には、第１経路９１から供給される乾燥空気と第２経路９２から供給される不活性気体とを容器９３で混合させて目標酸素濃度の混合気体を生成するように、気体混合部９を制御する。そして、気体混合部９で生成された混合気体を、供給管１２を介して空間ＳＰに供給する。
【００４１】
このように、乾燥空気の酸素濃度よりも高い酸素濃度の第３気体を気体混合部９（容器９３）に供給可能に構成することで、混合気体の目標酸素濃度が乾燥空気の酸素濃度よりも高い場合にも対応することができる。
【００４２】
本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、デバイス（半導体素子、磁気記憶媒体、液晶表示素子など）、カラーフィルタ、光学部品、ＭＥＭＳなどの物品を製造するのに好適である。かかる製造方法は、露光装置１００を用いて、感光剤が塗布された基板を露光する工程と、露光された感光剤を現像する工程とを含む。また、現像された感光剤のパターンをマスクとして基板に対してエッチング工程やイオン注入工程などを行い、基板上に回路パターンが形成される。これらの露光、現像、エッチングなどの工程を繰り返して、基板上に複数の層からなる回路パターンを形成する。後工程で、回路パターンが形成された基板に対してダイシング（加工）を行い、チップのマウンティング、ボンディング、検査工程を行う。また、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、レジスト剥離など）を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００４３】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。例えば、本発明は、電子線で基板を描画する電子線露光装置などのリソグラフィ装置や基板上の感光剤を照射する装置にも適用することができる。
【符号の説明】
【００４４】
１００：露光装置    １：マスク    ４：投影光学系    ５：バッファタンク    ６：基板    ９：気体混合部    ９１：第１経路    ９２：第２経路    ９３：容器    １２：供給管
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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