(57)【要約】【課題】高温高湿環境下においても映り込み防止層の剥がれおよびシワが抑制された映り込み防止層付偏光板を提供すること。【解決手段】本発明の映り込み防止層付偏光板は、偏光子および該偏光子の一方の側に設けられた保護層を有する偏光板と、該保護層に貼り合わせられた液晶化合物の配向固化層である映り込み防止層と、映り込み防止層用基材と、該偏光板と該映り込み防止層との間に設けられた粘着剤層とを備える。この粘着剤層のクリープ値は４０μｍ／ｈ以上である。【選択図】図１
2019200354.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光子および該偏光子の一方の側に設けられた保護層を有する偏光板と、
該保護層に貼り合わせられた液晶化合物の配向固化層である映り込み防止層と、
映り込み防止層用基材と、
該偏光板と該映り込み防止層との間に設けられた粘着剤層とを備える映り込み防止層付偏光板であって、
該粘着剤層のクリープ値が４０μｍ／ｈ以上である、映り込み防止層付偏光板。
【請求項２】
前記映り込み防止層と前記映り込み防止層用基材との間に配向膜をさらに備え、該配向膜がポリビニルアルコール系樹脂を含む、請求項１に記載の映り込み防止層付偏光板。
【請求項３】
前記粘着剤層の厚みが１０μｍ〜４０μｍである、請求項１または２に記載の映り込み防止層付偏光板。
【請求項４】
反射防止層、および、反射防止層用基材が前記映り込み防止層用基材にさらに積層された、請求項１から３のいずれかに記載の映り込み防止層付偏光板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、映り込み防止層付偏光板に関する。
【背景技術】
【０００２】
画像表示装置（例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、量子ドット表示装置）には、その画像形成方式に起因して、多くの場合、表示セルの少なくとも一方の側に偏光板が配置されている。画像表示装置の視認側に配置される偏光板には、表示画面への外光の映り込みを防止するため、その視認側に反射防止層が設けられる（反射防止処理が施される）こと、および／または、映り込み防止層が設けられることが広く知られている。映り込み防止層は、代表的には、樹脂または粘着剤のマトリクスと当該マトリクス中に分散された微粒子とを含む。ところで、近年、画像表示装置の薄型化の要請に伴い、偏光板の薄型化も強く要請されており、それに付随して映り込み防止層の薄型化も求められている。その結果、液晶化合物の配向固化層である映り込み防止層が検討されている。しかし、このような映り込み防止層は、高温高湿環境下において剥がれやすく、またシワが発生しやすいという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−１９１４２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、高温高湿環境下においても映り込み防止層の剥がれおよびシワが抑制された映り込み防止層付偏光板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の映り込み防止層付偏光板は、偏光子および該偏光子の一方の側に設けられた保護層を有する偏光板と、該保護層に貼り合わせられた液晶化合物の配向固化層である映り込み防止層と、映り込み防止層用基材と、該偏光板と該映り込み防止層との間に設けられた粘着剤層とを備える。本発明の映り込み防止層付偏光板において、上記粘着剤層のクリープ値は４０μｍ／ｈ以上である。
１つの実施形態においては、上記映り込み防止層と上記映り込み防止層用基材との間に配向膜がさらに備えられる。この配向膜はポリビニルアルコール系樹脂を含む。
１つの実施形態においては、上記粘着剤層の厚みは１０μｍ〜４０μｍである。
１つの実施形態においては、本発明の映り込み防止層付偏光板は、反射防止層、および、反射防止層用基材が前記映り込み防止層用基材にさらに積層されている。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、映り込み防止層付偏光板において、偏光板と映り込み防止層との間に設けられた粘着剤層のクリープ値を４０μｍ／ｈ以上とすることにより、高温高湿環境下においても映り込み防止層の剥がれおよびシワが抑制された映り込み防止層付偏光板を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明の１つの実施形態による映り込み防止層付偏光板の概略断面図である。
【０００８】
以下、本発明の実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。
【０００９】
Ａ．映り込み防止層付偏光板の全体構成
図１は本発明の１つの実施形態による映り込み防止層付偏光板の概略断面図である。映り込み防止層付偏光板１００は、偏光子１１および偏光子１１の一方の側に設けられた保護層１２を有する偏光板１０と、映り込み防止層２０と、映り込み防止層用基材３０とをこの順に備える。偏光板１０の保護層１２と映り込み防止層２０とは粘着剤層４０を介して貼り合わせられている。映り込み防止層２０は、液晶化合物の配向固化層である。本発明の映り込み防止層付偏光板において、粘着剤層４０のクリープ値は４０μｍ／ｈ以上である。このような粘着剤層を介して、偏光板１０と映り込み防止層２０とを貼り合わせることにより、高温高湿環境下においても映り込み防止層の剥がれおよびシワの発生を抑制することができる。本明細書において「配向固化層」とは、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。なお、「配向固化層」は、液晶モノマーを硬化させて得られる配向硬化層を包含する概念である。映り込み防止層２０は、代表的には、映り込み防止層用基材３０に形成された配向膜（図示せず）の表面に液晶化合物を含む組成物を塗布し、当該塗布層を固化および／または硬化させることにより
【００１０】
本発明の別の実施形態においては、映り込み防止層付偏光板は、反射防止層および反射防止層用基材（図示しない）をさらに備える。この実施形態では、映り込み防止層基材３０の映り込み防止層２０と接していない側に、反射防止層用基材が積層され、該反射防止層用基材に反射防止層が積層され得る。反射防止層は、反射防止層用基材に直接形成され得る。本明細書において「直接」とは接着層が介在しないことを意味する。１つの実施形態においては、反射防止層用基材は、反射防止層側の表面にハードコート層および／または密着層（いずれも図示せず）を有していてもよい。この構成も、「反射防止層が基材に直接形成されている」形態に包含される。反射防止層の表面には、必要に応じて防汚層（図示せず）がさらに設けられてもよい。
【００１１】
図示例では、偏光子１１の一方の側のみに保護層１２が設けられているが、目的に応じて偏光子１１の保護層１２と反対側に別の保護層が設けられてもよい。この場合、偏光子の両側に保護層が設けられてもよく、保護層１２が省略されて別の保護層のみが設けられてもよい。別の保護層のみが設けられる場合、映り込み防止層用基材３０が視認側保護層として機能し得る。さらに、目的に応じて任意の適切な機能層が設けられてもよい。機能層の代表例としては、位相差層、および、導電層が挙げられる。機能層の種類、数、組み合わせ、配置位置、特性（例えば、屈折率特性、面内位相差、厚み方向位相差、Ｎｚ係数のような光学特性）は、目的に応じて適切に設定され得る。１つの実施形態においては、偏光子１１の保護層１２と反対側に、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を有する第１の位相差層（図示せず）が設けられ得る。この場合、好ましくは、第１の位相差層の偏光子と反対側に、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙの屈折率特性を有する第２の位相差層がさらに設けられ得る。第１の位相差層が、偏光子の視認側と反対側の保護層を兼ねてもよい。さらに、偏光子１１の保護層１２と反対側に導電層が設けられてもよい。このような位置に導電層を設けることにより、映り込み防止層付偏光板は、インナータッチパネル型入力表示装置に好適に用いられ得る。この場合、位相差層は存在してもよく、存在しなくてもよい。以下、各構成要素について説明する。
【００１２】
Ｂ．偏光板
偏光板１０は、偏光子１１およびその一方の面に備えられた保護層１２を含む。偏光板１０の水分率は、例えば、０．５重量％以上であり、好ましくは０．６重量％以上であり、より好ましくは０．８重量％以上であり、さらに好ましくは１．０重量％以上である。偏光板の水分率は、例えば、２．０重量％以下である。偏光板がこのような高い水分率を有することにより、偏光板の吸湿膨張が顕著に抑制され得る。その結果、高温高湿環境下における偏光板の寸法変化（特に、偏光子の吸収軸方向の寸法変化）が顕著に抑制され得る。映り込み防止層付偏光板がさらに反射防止層を備える場合、反射防止層の水分率を調整することで相乗的な効果により、映り込み防止層付偏光板においては、高温高湿環境下における映り込み防止層（液晶化合物の配向固化層）の剥がれおよびシワがさらに抑制され得る。さらに、偏光板がこのような高い水分率を有することにより、本発明の実施形態による映り込み防止層付偏光板は、高温高湿環境下において仮にカールが発生するとしても、当該カールの向きが通常と逆方向となる。その結果、本発明の実施形態による映り込み防止層付偏光板は、仮にカールが発生したとしても、画像表示装置に与える悪影響が小さくなり得る。以上のように、偏光板が高い水分率を有することによる寸法変化の抑制とカールの向きとの相乗的な効果により、映り込み防止層付偏光板は、画像表示装置に適用された場合に、高温高湿環境下における反り、剥がれ、および／または表示特性の低下を顕著に抑制し得る。
【００１３】
Ｂ−１．偏光子
偏光子１１は、代表的には、二色性物質を含む樹脂フィルムで構成される。
【００１４】
樹脂フィルムとしては、偏光子として用いられ得る任意の適切な樹脂フィルムを採用することができる。樹脂フィルムは、代表的には、ポリビニルアルコール系樹脂（以下、「ＰＶＡ系樹脂」と称する）フィルムである。
【００１５】
上記ＰＶＡ系樹脂フィルムを形成するＰＶＡ系樹脂としては、任意の適切な樹脂が用いられ得る。例えば、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体が挙げられる。ポリビニルアルコールは、ポリ酢酸ビニルをケン化することにより得られる。エチレン−ビニルアルコール共重合体は、エチレン−酢酸ビニル共重合体をケン化することにより得られる。ＰＶＡ系樹脂のケン化度は、通常８５モル％〜１００モル％であり、好ましくは９５．０モル％〜９９．９５モル％、さらに好ましくは９９．０モル％〜９９．９３モル％である。ケン化度は、ＪＩＳ  Ｋ  ６７２６−１９９４に準じて求めることができる。このようなケン化度のＰＶＡ系樹脂を用いることによって、耐久性に優れた偏光子を得ることができる。ケン化度が高すぎる場合には、ゲル化してしまうおそれがある。
【００１６】
ＰＶＡ系樹脂の平均重合度は、目的に応じて適切に選択され得る。平均重合度は、通常１０００〜１００００であり、好ましくは１２００〜４５００、さらに好ましくは１５００〜４３００である。なお、平均重合度は、ＪＩＳ  Ｋ  ６７２６−１９９４に準じて求めることができる。
【００１７】
樹脂フィルムに含まれる二色性物質としては、例えば、ヨウ素、有機染料等が挙げられる。これらは、単独で、または、二種以上組み合わせて用いられ得る。好ましくは、ヨウ素が用いられる。
【００１８】
樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層体であってもよい。
【００１９】
単層の樹脂フィルムから構成される偏光子の具体例としては、ＰＶＡ系樹脂フィルムにヨウ素による染色処理および延伸処理（代表的には、一軸延伸）が施されたものが挙げられる。上記ヨウ素による染色は、例えば、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素水溶液に浸漬することにより行われる。上記一軸延伸の延伸倍率は、好ましくは３〜７倍である。延伸は、染色処理後に行ってもよいし、染色しながら行ってもよい。また、延伸してから染色してもよい。必要に応じて、ＰＶＡ系樹脂フィルムに、膨潤処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理等が施される。例えば、染色の前にＰＶＡ系樹脂フィルムを水に浸漬して水洗することで、ＰＶＡ系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ＰＶＡ系樹脂フィルムを膨潤させて染色ムラなどを防止することができる。
【００２０】
積層体を用いて得られる偏光子の具体例としては、樹脂基材と当該樹脂基材に積層されたＰＶＡ系樹脂層（ＰＶＡ系樹脂フィルム）との積層体、あるいは、樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子が挙げられる。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子は、例えば、ＰＶＡ系樹脂溶液を樹脂基材に塗布し、乾燥させて樹脂基材上にＰＶＡ系樹脂層を形成して、樹脂基材とＰＶＡ系樹脂層との積層体を得ること；当該積層体を延伸および染色してＰＶＡ系樹脂層を偏光子とすること；により作製され得る。本実施形態においては、延伸は、代表的には積層体をホウ酸水溶液中に浸漬させて延伸することを含む。さらに、延伸は、必要に応じて、ホウ酸水溶液中での延伸の前に積層体を高温（例えば、９５℃以上）で空中延伸することをさらに含み得る。得られた樹脂基材／偏光子の積層体はそのまま用いてもよく（すなわち、樹脂基材を偏光子の保護層としてもよく）、樹脂基材／偏光子の積層体から樹脂基材を剥離し、当該剥離面に目的に応じた任意の適切な保護層を積層して用いてもよい。このような偏光子の製造方法の詳細は、例えば特開２０１２−７３５８０号公報に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。
【００２１】
偏光子の厚みは、好ましくは１５μｍ以下であり、より好ましくは１μｍ〜１２μｍであり、さらに好ましくは３μｍ〜１０μｍであり、特に好ましくは３μｍ〜８μｍである。偏光子の厚みがこのような範囲であれば、加熱時のカールを良好に抑制することができ、良好な加熱時の外観耐久性が得られる。さらに、偏光子の厚みがこのような範囲であれば、映り込み防止層付偏光板（結果として、画像表示装置）の薄型化に貢献し得る。
【００２２】
偏光子は、好ましくは、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍのいずれかの波長で吸収二色性を示す。偏光子の単体透過率は、好ましくは４３．０％〜４６．０％であり、より好ましくは４４．５％〜４６．０％である。偏光子の偏光度は、好ましくは９７．０％以上であり、より好ましくは９９．０％以上であり、さらに好ましくは９９．９％以上である。
【００２３】
Ｂ−２．保護層
保護層１２としては、任意の適切な樹脂フィルムが用いられる。樹脂フィルムの形成材料としては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ノルボルネン系樹脂等のシクロオレフィン系樹脂、ポリプロピレン等のオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂等のエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、これらの共重合体樹脂等が挙げられる。なお、「（メタ）アクリル系樹脂」とは、アクリル系樹脂および／またはメタクリル系樹脂をいう。
【００２４】
１つの実施形態においては、上記（メタ）アクリル系樹脂として、グルタルイミド構造を有する（メタ）アクリル系樹脂が用いられる。グルタルイミド構造を有する（メタ）アクリル系樹脂（以下、グルタルイミド樹脂とも称する）は、例えば、特開２００６−３０９０３３号公報、特開２００６−３１７５６０号公報、特開２００６−３２８３２９号公報、特開２００６−３２８３３４号公報、特開２００６−３３７４９１号公報、特開２００６−３３７４９２号公報、特開２００６−３３７４９３号公報、特開２００６−３３７５６９号公報、特開２００７−００９１８２号公報、特開２００９−１６１７４４号公報、特開２０１０−２８４８４０号公報に記載されている。これらの記載は、本明細書に参考として援用される。
【００２５】
保護層１２の透湿度は、好ましくは１．０ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下であり、より好ましくは０．８ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下であり、さらに好ましくは０．６ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下であり、特に好ましくは０．４ｇ／ｍ２／２４ｈｒ以下である。保護層の透湿度がこのような範囲であれば、高温高湿環境下における寸法変化をさらに抑制することができ、結果として、映り込み防止層の剥がれおよびシワをさらに抑制することができる。
【００２６】
保護層の厚みは、代表的には１０μｍ〜１００μｍであり、好ましくは２０μｍ〜４０μｍである。保護層は、代表的には、接着層（具体的には、接着剤層、粘着剤層）を介して偏光子に積層される。接着剤層は、代表的にはＰＶＡ系接着剤や活性化エネルギー線硬化型接着剤で形成される。粘着剤層は、代表的にはアクリル系粘着剤で形成される。このアクリル系粘着剤は、後述する粘着剤層４０を構成する粘着剤とは同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００２７】
Ｃ．映り込み防止層
映り込み防止層は、画像表示装置の使用者の顔、画像表示装置のキーボード、外光（例えば、蛍光灯）等の映り込みを防止するために設けられる。本発明の実施形態においては、映り込み防止層２０は、液晶化合物の配向固化層である。本明細書において「配向固化層」とは、液晶化合物が層内で所定の方向に配向し、その配向状態が固定されている層をいう。なお、「配向固化層」は、液晶モノマーを硬化させて得られる配向硬化層を包含する概念である。液晶化合物は、棒状液晶化合物であってもよく、ディスコティック（円盤状）液晶化合物であってもよく、それらの組み合わせであってもよい。
【００２８】
１つの実施形態においては、映り込み防止層は、ディスコティック液晶化合物を含む。より詳細には、映り込み防止層は、ディスコティック液晶化合物を所定の方向に配向させた状態で固定化した層である。ディスコティック液晶化合物とは、一般的には、ベンゼン、１，３，５−トリアジン、カリックスアレーンなどのような環状母核を分子の中心に配し、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその側鎖として放射状に置換された円盤状の分子構造を有する液晶化合物をいう。ディスコティック液晶の代表例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されている、ベンゼン誘導体、トリフェニレン誘導体、トルキセン誘導体、フタロシアニン誘導体や、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されているシクロヘキサン誘導体、および、Ｊ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系のマクロサイクルが挙げられる。ディスコティック液晶化合物のさらなる具体例として、例えば特開２００６−１３３６５２号公報、特開２００７−１０８７３２号公報、特開２０１０−２４４０３８号公報、特開２０１４−２１４１７７号公報に記載の化合物が挙げられる。上記文献および公報の記載は、本明細書に参考として援用される。ディスコティック液晶化合物を含む映り込み防止層は、代表的には、ｎｘ＝ｎｚ＞ｎｙの屈折率特性を有するいわゆるネガティブＡプレートであり得る。
【００２９】
別の実施形態においては、映り込み防止層は、棒状液晶化合物を含む。より詳細には、映り込み防止層は、棒状液晶化合物が所定の方向（代表的には、遅相軸方向）に並んだ状態で配向している（ホモジニアス配向）。棒状液晶化合物としては、例えば、液晶相がネマチック相である液晶化合物（ネマチック液晶）が挙げられる。このような液晶化合物として、例えば、液晶ポリマーや液晶モノマーが使用可能である。液晶化合物の液晶性の発現機構は、リオトロピックでもサーモトロピックでもどちらでもよい。液晶ポリマーおよび液晶モノマーは、それぞれ単独で用いてもよく、組み合わせてもよい。液晶モノマーとしては、任意の適切な液晶モノマーが採用され得る。例えば、特表２００２−５３３７４２（ＷＯ００／３７５８５）、ＥＰ３５８２０８（ＵＳ５２１１８７７）、ＥＰ６６１３７（ＵＳ４３８８４５３）、ＷＯ９３／２２３９７、ＥＰ０２６１７１２、ＤＥ１９５０４２２４、ＤＥ４４０８１７１、およびＧＢ２２８０４４５等に記載の重合性メソゲン化合物等が使用できる。このような重合性メソゲン化合物の具体例としては、例えば、ＢＡＳＦ社の商品名ＬＣ２４２、Ｍｅｒｃｋ社の商品名Ｅ７、Ｗａｃｋｅｒ−Ｃｈｅｍ社の商品名ＬＣ−Ｓｉｌｌｉｃｏｎ−ＣＣ３７６７が挙げられる。液晶モノマーとしては、例えばネマチック性液晶モノマーが好ましい。液晶化合物の具体例は、例えば特開２００６−１６３３４３号公報に記載されている。当該公報の記載は本明細書に参考として援用される。棒状液晶化合物を含む映り込み防止層は、代表的には、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を有するいわゆるポジティブＡプレートであり得る。
【００３０】
映り込み防止層は、代表的にはλ／２板として機能し得る。映り込み防止層がλ／２板として機能する場合、その配向角（または遅相軸方向）を制御することにより、映り込みを良好に防止することができる。このような映り込み防止層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は２２０ｎｍ〜３２０ｎｍであり、より好ましくは２４０ｎｍ〜３００ｎｍであり、さらに好ましくは２５０ｎｍ〜２８０ｎｍである。ここで、Ｒｅ（５５０）は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（５５０）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、Ｒｅ（５５０）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。ｎｘは面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、ｎｙは面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率である。
【００３１】
映り込み防止層２０の遅相軸と偏光子１１の吸収軸とがなす角度は、好ましくは３５°〜５５°であり、より好ましくは４０°〜５０°であり、さらに好ましくは約４５°である。λ／２板として機能する映り込み防止層をこのような軸角度で配置することにより、映り込みを良好に防止することができる。
【００３２】
映り込み防止層の厚みは、好ましくは１μｍ〜５μｍであり、より好ましくは１μｍ〜３μｍである。本発明の実施形態によれば、このような薄い映り込み防止層であっても、高温高湿環境下における剥がれおよびシワを良好に抑制することができる。
【００３３】
液晶化合物の配向に配向膜を用いる場合、映り込み防止層付偏光板は、映り込み防止層２０と映り込み防止層用基材３０との間に配向膜をさらに備える。配向膜は、一般的には、ポリマー材料を主成分として含む。ポリマー材料の代表例としては、ポリビニルアルコール、ポリイミド、および、それらの誘導体が挙げられる。本発明の実施形態においては、変性または未変性のポリビニルアルコールが好ましい。配向膜として、例えば、ＷＯ０１／８８５７４Ａ１、特許第３９０７７３５号に記載の変性ポリビニルアルコールを用いることができる。配向膜には、代表的には配向処理が施される。配向処理の代表例としては、ラビング処理、光配向処理が挙げられる。ラビング処理は業界で周知であるので、詳細な説明は省略する。光配向処理された配向膜（光配向膜）としては、例えば、ＷＯ２００５／０９６０４１に記載のもの、Ｒｏｌｉｃ ｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製の商品名ＬＰＰ−ＪＰ２６５ＣＰなどを用いることができる。配向膜の厚みは、例えば０．０１μｍ〜１０μｍであり、好ましくは０．０１μｍ〜１μｍであり、より好ましくは０．０１μｍ〜０．５μｍである。
【００３４】
映り込み防止層は、例えば、以下の手順で形成され得る。まず、映り込み防止層用基材上に配向膜形成用塗布液を塗布し、乾燥させて塗布膜を形成する。当該塗布膜に所定の方向にラビング処理を施し、映り込み防止層用基材上に配向膜を形成する。当該所定の方向は、得られる映り込み防止層の遅相軸方向に対応し得る。次に、形成された配向膜上に映り込み防止層形成用塗布液（例えば、液晶化合物と必要に応じて架橋性モノマーとを含む溶液）を塗布し加熱する。加熱により、塗布液の溶媒を除去するとともに液晶化合物の配向を進める。加熱は１段階で行ってもよく、温度を変えて多段階で行ってもよい。次いで、紫外線照射により架橋性（または重合性）モノマーを架橋（または重合）させて、液晶化合物の配向を固定化する。このようにして、映り込み防止層用基材上（実質的には、配向膜上）に映り込み防止層が形成される。なお、ディスコティック液晶化合物を配向させる方法は、例えば特開２０１４−２１４１７７号公報に記載され、棒状液晶化合物を配向させる方法は、例えば特開２００６−１６３３４３号公報に記載されている。これらの公報の記載は、本明細書に参考として援用される。なお、配向膜は、所望の配向状態および液晶化合物の種類等によっては省略され得る。
【００３５】
Ｄ．映り込み防止層用基材
映り込み防止層用基材３０は、映り込み防止層２０を形成するために用いられる。映り込み防止層用基材としては、任意の適切な樹脂フィルムが用いられる。樹脂フィルムの形成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル系樹脂、ノルボルネン系樹脂等のシクロオレフィン系樹脂、シクロオレフィン（例えば、ノルボルネン）とα−オレフィン（例えば、エチレン）との付加重合により得られる樹脂（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂、アクリル系樹脂等が挙げられる。
【００３６】
映り込み防止層用基材の厚みは、目的に応じて適切に設定され得る。映り込み防止層用基材の厚みは、代表的には２０μｍ〜２００μｍであり、好ましくは２５μｍ〜１００μｍである。
【００３７】
Ｅ．粘着剤層
粘着剤層４０は偏光板１０と映り込み防止層２０との間に設けられる。図示例では、偏光板１０と映り込み防止層２０とは保護層１２と映り込み防止層２０とが粘着剤層４０を介して積層されているが、偏光板１０が保護層１２と反対側に設けられた別の保護層のみを有する場合、偏光子１０と映り込み防止層２０とが粘着剤層４０を介して積層されていてもよい。
【００３８】
本発明の映り込み防止層付偏光板において、粘着剤層４０のクリープ値は４０μｍ／ｈ以上である。このような粘着剤層を介して、偏光板１０と映り込み防止層２０とを貼り合わせることにより、高温高湿環境下においても映り込み防止層の剥がれおよびシワの発生を抑制することができる。粘着剤層４０のクリープ値は好ましくは５０μｍ／ｈ以上であり、より好ましくは６０μｍ／ｈ以上である。粘着剤層のクリープ値が４０μｍ／ｈ未満の場合、映り込み防止層の剥がれおよびシワの発生を十分に抑制できない場合がある。また、粘着剤層のクリープ値は、例えば、２００μｍ／ｈ以下である。
【００３９】
粘着剤層のクリープ値は以下のようにして測定することができる。保護層および偏光子を含む偏光板の保護層に粘着剤組成物を塗布して粘着剤層を形成し、粘着剤層付偏光板を作製する。作製した偏光板を幅１０ｍｍ×長さ５０ｍｍに切断する。切断した粘着剤層付偏光板のうち、幅１０ｍｍ×長さ１０ｍｍの部分を粘着剤層を介してステンレス板に貼着し、次いで、オートクレーブ（５０℃、５気圧）で１５分間処理した後、１時間室温で放置する。放置した後、粘着剤層付偏光板のステンレス板に貼着しなかった側の端部に、２３℃下で５００ｇの荷重（引張荷重）を１時間負荷し、負荷をかけた後の粘着剤層のズレ量（変形量）をレーザー式クリープ試験機を用いて測定することにより、粘着剤層のクリープ値を測定することができる。
【００４０】
粘着剤層のクリープ値は任意の適切な方法により調整され得る。例えば、粘着剤層を形成する粘着剤中のベースポリマーの分子量、該粘着剤中の架橋剤の添加量等により調整することができる。より具体的には、該ベースポリマーとして分子量の高いポリマーを用いることおよび／または該架橋剤の添加量を多くすることにより粘着剤層のクリープ値を減少させることができる。また、該ベースポリマーとして分子量の低いポリマーを用いることおよび／または該架橋剤の添加量を少なくすることにより、粘着剤層のクリープ値を増加させることができる。
【００４１】
粘着剤層の厚みは、好ましくは１μｍ〜５０μｍであり、より好ましくは１０μｍ〜４０μｍである。
【００４２】
粘着剤層を形成する粘着剤としては、任意の適切な粘着剤を用いることができる。粘着剤としては、例えば、アクリル系粘着剤、アクリルウレタン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤、有機無機ハイブリッド系粘着剤等が挙げられる。好ましくは、透明性および耐久性の観点からアクリル系粘着剤である。
【００４３】
アクリル系粘着剤は、例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステルの１種または２種以上を単量体成分として用いたアクリル系ポリマー、すなわち、（メタ）アクリル酸アルキルエステル由来の構成単位を有するポリマー（ホモポリマーまたはコポリマー）をベースポリマーとするアクリル系粘着剤等が挙げられる。（メタ）アクリル酸アルキルエステルの具体例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｓ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸イソデシル、（メタ）アクリル酸ウンデシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸トリデシル、（メタ）アクリル酸テトラデシル、（メタ）アクリル酸ペンタデシル、（メタ）アクリル酸ヘキサデシル、（メタ）アクリル酸ヘプタデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸ノナデシル、（メタ）アクリル酸エイコシル等の（メタ）アクリル酸Ｃ１−Ｃ２０アルキルエステルが挙げられる。なかでも、炭素数が４〜１８の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルが好ましく用いられ得る。（メタ）アクリル酸アルキルエステル由来の構成単位の含有割合は、ベースポリマー１００重量部に対して、好ましくは６０重量部以上であり、より好ましくは８０重量部以上である。
【００４４】
上記アクリル系ポリマーは、凝集力、耐熱性、架橋性等の改質を目的として、必要に応じて、上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルと共重合可能な他の単量体成分に由来する構成単位を含んでいてもよい。このような単量体成分として、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、カルボキシエチルアクリレート、カルボキシペンチルアクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等のカルボキシル基含有モノマー；無水マレイン酸、無水イコタン酸等の酸無水物モノマー；スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、（メタ）アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸等のスルホン酸基含有モノマー等が挙げられる。
【００４５】
１つの実施形態においては、上記単量体成分として、ヒドロキシル基含有モノマーが用いられる。ヒドロキシル基含有モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシヘキシル、（メタ）アクリル酸８−ヒドロキシオクチル、（メタ）アクリル酸１０−ヒドロキシデシル、（メタ）アクリル酸１２−ヒドロキシラウリルや（４−ヒドロキシメチルシクロヘキシル）−メチルアクリレート等が挙げられる。架橋剤として、イソシアネート系架橋剤を用いる場合には、イソシアネート基との架橋点を効率よく確保する観点から、これらのなかでもアクリル酸４−ヒドロキシブチルが好適である。ヒドロキシル基含有モノマー由来の構成単位の含有割合は、ベースポリマー１００重量部に対して、好ましくは０．１重量部〜１０重量部であり、より好ましくは０．５重量部〜２重量部である。
【００４６】
架橋剤としては、例えば、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、過酸化物系架橋剤、メラミン系架橋剤、尿素系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属塩系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、アミン系架橋剤などが挙げられる。なかでも、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤および／または過酸化物系架橋剤が好ましく用いられる。架橋剤は、単独で用いてもよく、２種以上組み合わせて用いてもよい。
【００４７】
上記イソシアネート系架橋剤としては、任意の適切な架橋剤が用いられ得る。イソシアネート系架橋剤としては、例えば、トリレンジイソシアネート、クロルフェニレンジイソシアナート、テトラメチレンジイソシアナート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水添されたジフェニルメタンジイソシアネート等のイソシアネートモノマー；これらイソシアネートモノマーにトリメチロールプロパン等のポリオールを付加して得られるイソシアネート化合物等が挙げられる。
【００４８】
上記エポキシ系架橋剤としては、任意の適切な架橋剤が用いられ得る。エポキシ系架橋剤としては、例えば、分子内にエポキシ基を２つ以上有するエポキシ系樹脂が用いられ、具体的には、ジグリシジルアニリン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−グリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル等が挙げられる。
【００４９】
上記過酸化物系架橋剤としては、任意の適切な架橋剤が用いられ得る。過酸化物系架橋剤としては、例えば、ジベンゾイルパーオキシド、ジ（２−エチルヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ−ｓｅｃ−ブチルパーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート等が挙げられる。
【００５０】
上記架橋剤の添加量は、ベースポリマー１００重量部に対して、好ましくは０．０１重量部〜５重量部であり、より好ましくは０．０２重量部〜３重量部であり、さらに好ましくは０．１重量部〜２．５重量部であり、特に好ましくは０．４重量部〜１重量部である。このような範囲であれば、適切なクリープ値を有する粘着剤層を形成することができる。
【００５１】
１つの実施形態においては、上記粘着剤層を形成する粘着剤は、シランカップリング剤をさらに含み得る。シランカップリング剤としては、例えば、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等のエポキシ基含有シランカップリング剤；３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ基含有シランカップリング剤；（メタ）アクリル基含有シランカップリング剤；イソシアネート基含有シランカップリング剤等が挙げられる。
【００５２】
上記シランカップリング剤の添加量は、ベースポリマー１００重量部に対して、好ましくは０．０１重量部〜１重量部であり、より好ましくは０．０５重量部〜０．５重量部である。
【００５３】
上記粘着剤は、必要に応じて、任意の適切な添加剤をさらに含み得る。該添加剤としては、例えば、粘着付与剤、可塑剤、顔料、染料、充填剤、老化防止剤、導電材、紫外線吸収剤、光安定剤、剥離調整剤、軟化剤、界面活性剤、難燃剤等が挙げられる。
【００５４】
Ｆ．反射防止層用基材
Ｆ−１．反射防止層用基材本体
反射防止層用基材は、反射防止層を形成するために用いられる。後述するように、反射防止層用基材に反射防止層を形成し、反射防止層用基材／反射防止層の積層体を偏光板に貼り合わせることにより、偏光板を反射防止層形成プロセス（代表的には、スパッタリング）に供する必要がなくなる。
【００５５】
反射防止層用基材の形成材料および厚みは、上記の映り込み防止層用基材と同様である。
【００５６】
１つの実施形態においては、反射防止層用基材の水分率は、例えば、２．０重量％以上であり、好ましくは２．４重量％以上であり、より好ましくは２．７重量％以上であり、さらに好ましくは３．０重量％以上であり、特に好ましくは３．５重量％以上である。反射防止層用基材の水分率は、例えば５．０重量％以下である。反射防止層用基材がこのような高い水分率を有することにより、高温高湿環境下における映り込み防止層（液晶化合物の配向固化層）の剥がれおよびシワが抑制され得る。本明細書において「反射防止層用基材の水分率」とは、Ｊ項で後述する製造方法において反射防止積層体を貼り合わせる際の反射防止層用基材の水分率をいう。
【００５７】
Ｆ−２．ハードコート層
反射防止層用基材の反射防止層側の表面には、ハードコート層が形成されていてもよい。ハードコート層を形成することにより、鉛筆硬度の向上という利点がある。さらに、ハードコート層と反射防止層との屈折率差を適切に調整することにより、反射率をさらに低下させることができる。
【００５８】
ハードコート層は、好ましくは、十分な表面硬度、優れた機械的強度、および優れた光透過性を有する。ハードコート層は、このような所望の特性を有する限り、任意の適切な樹脂から形成され得る。樹脂の具体例としては、熱硬化型樹脂、熱可塑型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、二液混合型樹脂が挙げられる。紫外線硬化型樹脂が好ましい。簡便な操作および高効率でハードコート層を形成することができるからである。
【００５９】
紫外線硬化型樹脂の具体例としては、ポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アミド系、シリコーン系、エポキシ系の紫外線硬化型樹脂が挙げられる。紫外線硬化型樹脂には、紫外線硬化型のモノマー、オリゴマー、ポリマーが含まれる。好ましい紫外線硬化型樹脂としては、紫外線重合性の官能基を好ましくは２個以上、より好ましくは３〜６個有するアクリル系のモノマー成分またはオリゴマー成分を含む樹脂組成物が挙げられる。代表的には、紫外線硬化型樹脂には、光重合開始剤が配合されている。
【００６０】
ハードコート層は、任意の適切な方法により形成され得る。例えば、ハードコート層は、反射防止層用基材上にハードコート層形成用樹脂組成物を塗工し、乾燥させ、乾燥した塗工膜に紫外線を照射して硬化させることにより形成され得る。
【００６１】
ハードコート層の厚みは、例えば０．５μｍ〜２０μｍ、好ましくは１μｍ〜１５μｍである。
【００６２】
ハードコート層、ならびに、ハードコート層と反射防止層との密着構造についての詳細は、例えば特開２０１６−２２４４４３号公報に記載されている。当該公報の記載は、本明細書に参考として援用される。
【００６３】
Ｇ．反射防止層
反射防止層の構成としては、任意の適切な構成が採用され得る。反射防止層の代表的な構成としては、（１）光学膜厚が１２０ｎｍ〜１４０ｎｍである、屈折率１．３５〜１．５５程度の低屈折率層の単一層；（２）反射防止層用基材側から順に中屈折率層と高屈折率層と低屈折率層とを有する積層体；（３）高屈折率層と低屈折率層との交互多層積層体；が挙げられる。
【００６４】
低屈折率層を形成し得る材料としては、例えば、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）が挙げられる。低屈折率層の屈折率は、代表的には１．３５〜１．５５程度である。高屈折率層を形成し得る材料としては、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ３またはＮｂ２Ｏ５）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、ＺｒＯ２−ＴｉＯ２が挙げられる。高屈折率層の屈折率は、代表的には１．６０〜２．２０程度である。中屈折率層を形成し得る材料としては、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２）、低屈折率層を形成し得る材料と高屈折率層を形成し得る材料との混合物（例えば、酸化チタンと酸化ケイ素との混合物）が挙げられる。中屈折率層の屈折率は、代表的には１．５０〜１．８５程度である。低屈折率層、中屈折率層および高屈折率層の厚みは、反射防止層の層構造、所望の反射防止性能等に応じた適切な光学膜厚が実現されるように設定され得る。
【００６５】
反射防止層は、代表的にはドライプロセスにより形成される。ドライプロセスの具体例としては、ＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法が挙げられる。ＰＶＤ法としては、真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビームアシスト法、スパッタリング法、イオンプレーティング法が挙げられる。ＣＶＤ法としては、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。好ましくは、スパッタリング法である。
【００６６】
反射防止層の厚みは、例えば２０ｎｍ〜３００ｎｍ程度である。
【００６７】
反射防止層は、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲における最大反射率と最小反射率の差が、好ましくは２．０％以下であり、より好ましくは１．９％以下であり、さらに好ましくは１．８％以下である。最大反射率と最小反射率の差がこのような範囲であれば、反射光の色づきが良好に防止され得る。
【００６８】
必要に応じて、反射防止層の表面には、防汚層が設けられ得る。防汚層は、例えば、フッ素基含有のシラン系化合物（例えば、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物）またはフッ素基含有の有機化合物を含む。防汚層は、好ましくは、水接触角が１１０度以上の撥水性を示す。
【００６９】
Ｈ．第１の位相差層
第１の位相差層は、目的に応じて任意の適切な光学的特性および／または機械的特性を有する位相差フィルムで構成され得る。１つの実施形態においては、第１の位相差層は、λ／２板として機能し得る。第１の位相差層がλ／２板として機能することにより、λ／４板として機能する第２の位相差層との積層後の波長分散特性（特に、位相差がλ／４を外れる波長範囲）について、位相差が適切に調節され得る。このような第１の位相差層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは２２０ｎｍ〜３２０ｎｍであり、より好ましくは２４０ｎｍ〜３００ｎｍであり、さらに好ましくは２５０ｎｍ〜２８０ｎｍである。
【００７０】
第１の位相差層の厚みは、λ／２板として最も適切に機能し得るように設定され得る。言い換えれば、厚みは、所望の面内位相差が得られるように設定され得る。具体的には、厚みは、好ましくは１０μｍ〜６０μｍであり、より好ましくは３０μｍ〜５０μｍである。
【００７１】
第１の位相差層は、好ましくは屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの関係を示す。第１の位相差層のＮｚ係数は、好ましくは１．１〜３．０であり、より好ましくは１．３〜２．７である。Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。Ｒｔｈは厚み方向の位相差であり、例えば、Ｒｔｈ（５５０）は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（５５０）は、Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。ｎｚは厚み方向の屈折率である。
【００７２】
第１の位相差層は、その遅相軸が偏光子の吸収軸と好ましくは１０°〜２０°、より好ましくは１２°〜１８°、さらに好ましくは約１５°の角度をなすようにして配置され得る。なお、本明細書において角度に言及するときは、時計回りおよび反時計回りの両方を包含する。
【００７３】
第１の位相差層は、光弾性係数の絶対値が好ましくは２×１０−１１ｍ２／Ｎ以下、より好ましくは２．０×１０−１３ｍ２／Ｎ〜１．５×１０−１１ｍ２／Ｎ、さらに好ましくは１．０×１０−１２ｍ２／Ｎ〜１．２×１０−１１ｍ２／Ｎの樹脂を含む。光弾性係数の絶対値がこのような範囲であれば、加熱時の収縮応力が発生した場合に位相差変化が生じにくい。したがって、このような光弾性係数の絶対値を有する樹脂を用いて第１の位相差層を形成することにより、映り込み防止層付偏光板を画像表示装置に適用した場合に熱ムラが良好に防止され得る。
【００７４】
第１の位相差層は、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなる逆分散波長特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長に応じて小さくなる正の波長分散特性を示してもよく、位相差値が測定光の波長によってもほとんど変化しないフラットな波長分散特性を示してもよい。フラットな波長分散特性を示すことが好ましい。具体的には、第１の位相差層のＲｅ（４５０）/Ｒｅ（５５０）は好ましくは０.９９〜１.０３であり、Ｒｅ（６５０）/Ｒｅ（５５０）は好ましくは０.９８〜１.０２である。フラットな波長分散特性を有するλ／２板（第１の位相差層）とλ／４板（第２の位相差層）とを所定の軸角度で配置することにより、理想的な逆波長分散特性に近い特性を得ることが可能であり、結果として、非常に優れた反射防止特性を実現することができる。
【００７５】
第１の位相差層は、上記のような特性を満足し得る任意の適切な樹脂フィルムで構成され得る。そのような樹脂の代表例としては、環状オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、セルロース系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリル系樹脂が挙げられる。中でも、環状オレフィン系樹脂が好適に用いられ得る。第１の位相差層は、例えば、上記樹脂から形成されたフィルムを延伸することにより得られる。環状オレフィン系樹脂および樹脂フィルムの延伸方法（位相差フィルムの形成方法）の詳細については、例えば、特開２０１５−２１０４５９号公報、特開２０１６−１０５１６６号公報に記載されている。この公報の記載は、本明細書に参考として援用される。
【００７６】
Ｉ．第２の位相差層
第２の位相差層は、目的に応じて任意の適切な光学的特性および／または機械的特性を有する位相差フィルムで構成され得る。第１の位相差層がλ／２板として機能する場合、第２の位相差層は、代表的にはλ／４板として機能し得る。λ／４板として機能する第２の位相差層の波長分散特性を、上記λ／２板として機能する第１の位相差層の光学特性によって補正することによって、広い波長範囲での円偏光機能を発揮することができる。このような第２の位相差層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは１００ｎｍ〜１８０ｎｍであり、より好ましくは１１０ｎｍ〜１７０ｎｍであり、さらに好ましくは１２０ｎｍ〜１６０ｎｍである。
【００７７】
第２の位相差層の厚みは、λ／４板として最も適切に機能し得るように設定され得る。言い換えれば、厚みは、所望の面内位相差が得られるように設定され得る。具体的には、厚みは、好ましくは１０μｍ〜５０μｍであり、より好ましくは２０μｍ〜４０μｍである。
【００７８】
第２の位相差層は、好ましくは屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙの関係を示す。第２の位相差層のＮｚ係数は、好ましくは−１０〜−０．１であり、より好ましくは−５〜−１である。
【００７９】
第２の位相差層は、その遅相軸が偏光子の吸収軸と好ましくは７０°〜８０°、より好ましくは７２°〜７８°、さらに好ましくは約７５°の角度をなすようにして配置され得る。
【００８０】
第２の位相差層は、上記のような特性を満足し得る任意の適切な樹脂フィルムで構成され得る。そのような樹脂は、代表的には、負の固有複屈折を有するポリマーであり得る。負の固有複屈折を有するポリマーとは、ポリマーを延伸等により配向させた場合に、その配向方向の屈折率が相対的に小さくなるものを指す。負の固有複屈折を有するポリマーとしては、例えば、芳香族基やカルボニル基などの分極異方性の大きい化学結合や官能基がポリマーの側鎖に導入されているものが挙げられる。具体例としては、変性ポリオレフィン系樹脂（例えば、変性ポリエチレン系樹脂）、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、マレイミド系樹脂、フマル酸エステル系樹脂等が挙げられる。第２の位相差層は、例えば、上記樹脂から形成されたフィルムを適切に延伸することにより得られ得る。
【００８１】
Ｊ．映り込み防止層付偏光板の製造方法
本発明の１つの実施形態による映り込み防止層付偏光板の製造方法は、偏光子および保護層を含む偏光子積層体（偏光板）を作製すること、映り込み防止層用基材に映り込み防止層を形成し、映り込み防止積層体を作製すること、および、該偏光子積層体、および、該映り込み防止積層体を貼り合わせることを含む。映り込み防止層付偏光板が反射防止層および反射防止層用基材をさらに含む場合、映り込み防止層付偏光板の製造方法は、反射防止層用基材に反射防止層を形成し、反射防止積層体を作製すること、および、上記偏光子積層体および映り込み防止積層体と、該反射防止積層体とを貼り合わせる工程をさらに含む。
【００８２】
偏光子積層体は、任意の適切な方法により作製され得る。単層の樹脂フィルムから構成される偏光子を用いる場合には、偏光子と保護層を構成する樹脂フィルムとを任意の適切な接着層（接着剤層または粘着剤層）を介して貼り合わせればよい。樹脂基材と当該樹脂基材に積層されたＰＶＡ系樹脂層（ＰＶＡ系樹脂フィルム）との積層体を用いる場合には、当該積層体を染色および延伸処理に供してＰＶＡ系樹脂層を偏光子とし、この積層体をそのまま偏光子積層体として用いてもよい。あるいは、この積層体の偏光子表面に保護層を構成する樹脂フィルムを貼り合わせて用いてもよい。この場合、樹脂基材は剥離してもよく、剥離しなくてもよい。樹脂基材と当該樹脂基材に塗布形成されたＰＶＡ系樹脂層との積層体を用いて得られる偏光子を用いる場合には、上記Ｂ−１項に記載のようにして（例えば、特開２０１２−７３５８０号公報に記載のようにして）樹脂基材／偏光子の積層体を作製し、この積層体をそのまま偏光子積層体として用いてもよい。あるいは、この積層体の偏光子表面に保護層を構成する樹脂フィルムを貼り合わせて用いてもよい。この場合、樹脂基材は剥離してもよく、剥離しなくてもよい。
【００８３】
映り込み防止積層体は、映り込み防止層用基材に映り込み防止層を形成することにより作製される。映り込み防止層の形成手順は、上記Ｃ項に記載のとおりである。
【００８４】
反射防止積層体は、反射防止層用基材に反射防止層を形成することにより作製される。反射防止層を形成する際、必要に応じて、反射防止層用基材にあらかじめ表面処理を施しておいてもよい。表面処理としては、例えば、低圧プラズマ処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理が挙げられる。あるいは、反射防止層用基材表面に例えばＳｉＯｘからなる密着層を形成してもよい。反射防止層は、上記のとおり、代表的にはドライプロセス（例えば、スパッタリング）により形成される。例えば、反射防止層が高屈折率層と低屈折率層との交互多層積層体である場合、反射防止層用基材表面にスパッタリングにより例えばＮｂ２Ｏ５膜（高屈折率層）、ＳｉＯ２膜（低屈折率層）、Ｎｂ２Ｏ５膜（高屈折率層）、およびＳｉＯ２膜（低屈折率層）を順次製膜することにより、反射防止層が形成され得る。
【００８５】
最後に、偏光子積層体、映り込み防止積層体、必要に応じて反射防止積層体を貼り合わせることにより、映り込み防止層付偏光板が得られ得る。映り込み防止層付偏光板が反射防止層および反射防止層用基材をさらに含む場合、反射防止積層体を、映り込み防止積層体／偏光子積層体の積層体に貼り合わせてもよく、反射防止積層体／映り込み防止積層体の積層体を偏光子積層体に貼り合わせてもよい。映り込み防止層付偏光板は、例えば、偏光子積層体の保護層表面に、上記粘着剤層を介して映り込み防止積層体の映り込み防止層を貼り合わせることにより得られ得る。また、映り込み防止層付偏光板がさらに反射防止層を備える場合、偏光子積層体と映り込み防止層積層体とを貼り合わせた後、次いで、映り込み防止層用基材の表面に、任意の適切な接着層（例えば、接着剤層、粘着剤層）を介して反射防止積層体の反射防止層用基材を貼り合わせることにより得られ得る。
【００８６】
Ｋ．画像表示装置
本発明の実施形態による映り込み防止層付偏光板は、画像表示装置に適用され得る。代表的には、映り込み防止層が視認側となるようにして画像表示装置の視認側に配置され得る。また、映り込み防止層付偏光板が反射防止層をさらに備える場合、映り込み防止層付偏光板は、反射防止層が視認側となるようにして画像表示装置の視認側に配置され得る。画像表示装置の代表例としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ）表示装置、量子ドット表示装置が挙げられる。
【実施例】
【００８７】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。なお、各特性の測定方法は以下の通りである。
【００８８】
（１）粘着剤層のクリープ値
幅１０ｍｍ×長さ５０ｍｍに切断した測定試料の端部（幅１０ｍｍ×長さ１０ｍｍ）をステンレス板に、粘着剤層を介して貼着し、５０℃、５気圧、１５分のオートクレーブ処理後、室温で１時間放置した後、ステンレス板に貼着した端部とは反対側の端部に、２３℃下で、５００ｇの荷重（引っ張り加重）を１時間負荷したとき粘着剤層のズレ量（変形量）を測定し、これを粘着剤層のクリープ値とした(レーザー式クリープ試験機)。
【００８９】
（２）剥がれおよびシワ
実施例および比較例で得られた映り込み防止層付偏光板を、偏光子の吸収軸方向が短辺となるように３００ｍｍ×１８０ｍｍに切り出し、ガラス板に貼り合わせて測定試料とした。この測定試料を加湿条件下（６５℃および９０％ＲＨのオーブン）に７２時間置き、各試料の四隅の剥がれおよびシワの有無を目視で確認した。剥がれおよびシワが発生している場合には、各隅の頂点から剥がれおよびシワまでの距離（Ｒ）を定規により測定した。四隅で測定した距離（Ｒ）の平均値を偏光板の距離（Ｒ）とした。距離（Ｒ）が５ｍｍ以下である場合、実用に耐え得る。
【００９０】
＜合成例１＞粘着剤１の合成
冷却管、窒素導入管、温度計および撹拌装置を備えた反応容器に、アクリル酸ブチル１００部、アクリル酸５部、アクリル酸２−ヒドロキシエチル０．０７５部および２，２´−アゾビスイソブチロニトリル０．３部を酢酸エチルと共に加えて溶液を調製した。次いで、この溶液に窒素ガスを吹き込みながら撹拌して、６０℃で４時間反応させて、重量平均分子量２２０万のアクリル系ポリマーを含有する溶液を得た。さらに、このアクリル系ポリマーを含有する溶液に、酢酸エチルを加えて固形分濃度を３０％に調整したアクリル系ポリマー溶液（Ａ１）を得た。
得られたアクリル系ポリマー溶液（Ａ１）の固形分１００部に対して、架橋剤として、０．６部のイソシアネート基を有する化合物を主成分とする架橋剤（日本ポリウレタン（株）製，商品名「コロネートＬ」）と、シランカップリング剤として、０．０７５部のγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名「ＫＭＢ−４０３」）とをこの順に配合して、粘着剤１を調製した。
【００９１】
＜合成例２＞粘着剤２の合成
冷却管、窒素導入管、温度計及び撹拌装置を備えた反応容器に、アクリル酸ブチル９９部、アクリル酸４−ヒドロキシブチル１．０部および２，２´−アゾビスイソブチロニトリル０．３部を酢酸エチルと共に加えて窒素ガス気流下、６０℃で４時間反応させた。次いで、反応液に酢酸エチルを加えて、重量平均分子量１６５万のアクリル系ポリマーを含有する溶液（固形分濃度３０％）を得た。
得られたアクリル系ポリマー溶液の固形分１００部あたり０．１５部のジベンゾイルパーオキシド（日本油脂製（株）製、商品名：ナイパーＢＯ−Ｙ）、０．０８部のトリメチロールプロパンキシレンジイソシアネート（三井武田ケミカル（株）製、商品名：タケネートＤ１１０Ｎ）および０．２部のシランカップリング剤（綜研化学株式会社製、商品名：Ａ−１００、アセトアセチル基含有シランカップリング剤）をアクリル系ポリマー溶液に添加して、粘着剤２を調製した。
【００９２】
＜合成例３＞粘着剤３の合成
アクリル系ポリマー溶液の固形分１００部あたり０．１５部のジベンゾイルパーオキシド（日本油脂（株）製、商品名：ナイパーＢＯ−Ｙ）、０．０２部のトリメチロールプロパンキシレンジイソシアネート（三井武田ケミカル（株）製、商品名：タケネートＤ１１０Ｎ）および０．２部のシランカップリング剤（綜研化学株式会社製、商品名：Ａ−１００、アセトアセチル基含有シランカップリング剤）をアクリル系ポリマー溶液に添加したこと以外は合成例２と同様にして、粘着剤３を調製した。
【００９３】
＜合成例４＞粘着剤組成物４の合成
冷却管、窒素導入管、温度計および撹拌装置を備えた反応容器に、ブチルアクリレート８１．９部、ベンジルアクリレート１３部、アクリル酸５部、４−ヒドロキシブチルアクリレート０．１部および重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．１部を酢酸エチル１００部と共に仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入して窒素置換した。次いで、フラスコ内の液温を５５℃付近に保って８時間重合反応を行い、アクリル系ポリマー溶液を調製した。
得られたアクリル系ポリマー溶液の固形分１００部に対して、０．４５部のイソシアネート架橋剤（日本ポリウレタン工業社製、商品名：コロネートＬ、トリメチロールプロパンのトリレンジイソシアネートのアダクト体）、０．１部のベンゾイルパーオキシサイド(日本油脂社製、商品名：ナイパーＢＭＴ)、および、０．１部のシランカップリング剤（信越化学工業（株）製、商品名：ＫＢＭ４０３）をアクリル系ポリマー溶液に添加して、粘着剤４を調製した。
【００９４】
［実施例１］
１．偏光板（偏光子積層体）の作製
樹脂基材として、長尺状で、吸水率０．７５％、Ｔｇ７５℃の非晶質のイソフタル酸共重合ポリエチレンテレフタレート（ＩＰＡ共重合ＰＥＴ）フィルム（厚み：１００μｍ）を用いた。基材の片面に、コロナ処理を施し、このコロナ処理面に、ポリビニルアルコール（重合度４２００、ケン化度９９．２モル％）およびアセトアセチル変性ＰＶＡ（重合度１２００、アセトアセチル変性度４．６％、ケン化度９９．０モル％以上、日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマーＺ２００」）を９：１の比で含む水溶液を２５℃で塗布および乾燥して、厚み１１μｍのＰＶＡ系樹脂層を形成し、積層体を作製した。
得られた積層体を、１２０℃のオーブン内で周速の異なるロール間で縦方向（長手方向）に２．０倍に自由端一軸延伸した（空中補助延伸）。
次いで、積層体を、液温３０℃の不溶化浴（水１００重量部に対して、ホウ酸を４重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（不溶化処理）。
次いで、液温３０℃の染色浴に、偏光板が所定の透過率となるようにヨウ素濃度、浸漬時間を調整しながら浸漬させた。本実施例では、水１００重量部に対して、ヨウ素を０．２重量部配合し、ヨウ化カリウムを１．５重量部配合して得られたヨウ素水溶液に６０秒間浸漬させた（染色処理）。
次いで、液温３０℃の架橋浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを３重量部配合し、ホウ酸を３重量部配合して得られたホウ酸水溶液）に３０秒間浸漬させた（架橋処理）。
その後、積層体を、液温７０℃のホウ酸水溶液（水１００重量部に対して、ホウ酸を４重量部配合し、ヨウ化カリウムを５重量部配合して得られた水溶液）に浸漬させながら、周速の異なるロール間で縦方向（長手方向）に総延伸倍率が５．５倍となるように一軸延伸を行った（水中延伸）。
その後、積層体を液温３０℃の洗浄浴（水１００重量部に対して、ヨウ化カリウムを４重量部配合して得られた水溶液）に浸漬させた（洗浄処理）。
続いて、積層体のＰＶＡ系樹脂層（偏光子）表面に、ＰＶＡ系樹脂水溶液（日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマー（登録商標）Ｚ−２００」、樹脂濃度：３重量％）を塗布して、保護層を構成するメタクリル樹脂フィルム（厚み：２５μｍ、グルタルイミド構造を有する）を貼り合わせ、これを６０℃に維持したオーブンで５分間加熱した。その後、樹脂基材をＰＶＡ系樹脂層から剥離した。続いて，積層体のＰＶＡ系樹脂層表面（樹脂基材剥離面）に、ＰＶＡ系樹脂水溶液（日本合成化学工業社製、商品名「ゴーセファイマー（登録商標）Ｚ−２００」、樹脂濃度：３重量％）を塗布して、保護層を構成するメタクリル樹脂フィルム（厚み：４０μｍ、グルタルイミド構造を有する）を貼り合わせ、これを６０℃に維持したオーブンで５分間加熱した。このようにして、偏光子積層体（保護層／偏光子／保護層の構成を有する偏光板）を得た。なお、偏光子の厚みは５μｍ、単体透過率は４２．３％であった。
【００９５】
２．映り込み防止積層体
映り込み防止層用基材としてのコニカミノルタ株式会社製のＴＡＣフィルム（製品名：ＫＣ４ＵＹ、厚み：４０μｍ）の片面に、特開２０１４−２１４１７７号公報の＜実施例１＞に記載の方法に準じて配向膜および液晶化合物の配向固化層（映り込み防止層）を形成し、映り込み防止積層体を作製した。なお、映り込み防止層は、面内位相差Ｒｅ（５５０）が２７０ｎｍであり、その遅相軸が偏光子の吸収軸に対して４５°の角度をなすように形成した。
【００９６】
３．反射防止積層体の作製
コニカミノルタ株式会社製のＴＡＣフィルム（製品名：ＫＣ２ＵＡ、厚み：２５μｍ）の片面にハードコート処理によりハードコート（ＨＣ）層（厚み：７μｍ）を形成することにより、ＨＣ−ＴＡＣフィルム（厚み：３２μｍ）を得た。このＨＣ−ＴＡＣフィルムを反射防止層用基材として用いた。反射防止層用基材のＨＣ層表面に、ＳｉＯｘからなる密着層（厚み：１０ｎｍ）をスパッタリングにより形成し、さらに、当該密着層上にＮｂ２Ｏ５膜（高屈折率層）、ＳｉＯ２膜（低屈折率層）、Ｎｂ２Ｏ５膜（高屈折率層）、およびＳｉＯ２膜（低屈折率層）を順次製膜することにより、反射防止層（厚みまたは光学膜厚：２００ｎｍ）を形成した。さらに、反射防止層上にパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物からなる防汚層（厚み：１０ｎｍ）を形成し、反射防止積層体を作製した。
【００９７】
４．映り込み防止層付偏光板の作製
偏光子積層体（偏光板）の４０μｍ保護層面に、合成例１で得られた粘着剤１を乾燥後の厚みが２０μｍとなるよう塗布し、映り込み防止積層体の映り込み防止層を貼り合わせた。得られた積層体の映り込み防止層用基材の表面に、粘着剤１を乾燥後の厚みが２０μｍとなるよう塗布して、反射防止積層体のＨＣ−ＴＡＣフィルムを貼り合わせ、反射防止層をさらに含む映り込み防止層付偏光板を得た。得られた映り込み防止層付偏光板を上記（１）および（２）の評価に供した。結果を表１に示す。
【００９８】
［実施例２］
映り込み防止層積層体と偏光子積層体の貼り合わせに合成例２で得られた粘着剤２を用いた以外は実施例１と同様にして映り込み防止層付偏光板を作製した。得られた偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。
【００９９】
［実施例３］
映り込み防止層積層体と偏光子積層体の貼り合わせに合成例３で得られた粘着剤３を用いた以外は実施例１と同様にして映り込み防止層付偏光板を作製した。得られた偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。
【０１００】
［実施例４］
映り込み防止用基材として、ＴＡＣフィルムに代えてアクリル系樹脂フィルム（厚み：４０μｍ）を用いた以外は実施例１と同様にして映り込み防止層付偏光板を作製した。
【０１０１】
［実施例５］
映り込み防止用基材として、ＴＡＣフィルムに代えてシクロオレフィン系樹脂フィルム（厚み：４０μｍ）を用いた以外は実施例１と同様にして映り込み防止層付偏光板を作製した。
【０１０２】
（比較例１）
映り込み防止層積層体と偏光子積層体の貼り合わせに合成例４で得られた粘着剤４を用いた以外は実施例１と同様にして映り込み防止層付偏光板を作製した。得られた偏光板を実施例１と同様の評価に供した。結果を表１に示す。
【０１０３】
【表１】
2019200354.tif 000003
【０１０４】
表１から明らかなように、本発明の実施例の映り込み防止層付偏光板は、高温高湿環境下における映り込み防止層の剥がれおよびシワの発生率も平均長さも、比較例に比べて顕著に抑制されていた。
【産業上の利用可能性】
【０１０５】
本発明の映り込み防止層付偏光板は、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、量子ドット表示装置のような画像表示装置に好適に用いられる。
【符号の説明】
【０１０６】
１０      偏光板
１１      偏光子
１２      保護層
２０      映り込み防止層
３０      映り込み防止層用基材
４０      粘着剤層
１００      映り込み防止層付偏光板
【図１】
2019200354.tif 000004