(57)【要約】 【課題】  積層体の表面層の表面をテープ研磨することにより表面層の表面に付着する結着剤の影響を抑制する。【解決手段】（ｉ）水素化アモルファスカーボンで構成された表面層を形成する工程と、（ｉｉ）工程（ｉ）の後、前記表面層の表面を、砥粒が分散された結着剤を含む研磨テープによって研磨する工程と、（ｉｉｉ）工程（ｉｉ）の後、前記表面層の表面をコロナ放電によって暴露処理する工程とを有する積層体の形成方法。【選択図】  図１
2019066703.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）水素化アモルファスカーボンで構成された表面層を形成する工程と、
（ｉｉ）工程（ｉ）の後、前記表面層の表面を砥粒が分散された結着剤を含む研磨テープによって研磨する工程と、
（ｉｉｉ）工程（ｉｉ）の後、前記表面層の表面をコロナ放電によって暴露処理する工程とを有する積層体の形成方法。
【請求項２】
工程（ｉ）で形成された前記水素化アモルファスカーボンにおける炭素原子の原子数（Ｃ）と水素原子の原子数（Ｈ）との和に対する水素原子の原子数の比（Ｈ／（Ｃ＋Ｈ））は、４０％以下である請求項１に記載の積層体の形成方法。
【請求項３】
工程（ｉ）で形成された前記表面層は、構成原子の組成が異なる第一の層領域と第二の層領域とからなり、水素化アモルファスカーボンにおける炭素原子の原子数（Ｃ）と水素原子の原子数（Ｈ）との和に対する水素原子の原子数の比（Ｈ／（Ｃ＋Ｈ））は、
第一の層領域においては４０％以下であり、
最表面である第二の層領域においては４０％超である
請求項１に記載の積層体の形成方法。
【請求項４】
前記工程（ｉｉｉ）は、前記表面層を負極性に帯電させるコロナ放電である請求項１〜３のいずれか１項に記載の積層体の形成方法。
【請求項５】
積層体形成工程を有する電子写真感光体の製造方法であって、該積層体形成工程が、請求項１〜４のいずれか１項に記載の積層体形成方法を用いて行われることを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層体の形成方法および電子写真感光体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、基板上に成膜された積層体の表面突起欠陥を研磨するテープ研磨装置及び研磨方法の提案がなされている。
例えば、基板上に成膜された微細パターンに発生した突起欠陥を短時間で精度よくテープ研磨する技術が開示されている（特許文献１参照）。
また、電子写真感光体に関して、クリーニング性向上を目的とした電子写真感光体の表面の微細形状を規定した技術等の研磨技術を用いた電子写真感光体の製造方法の提案がなされている。
中でも、表面にアモルファスシリコンカーバイド層を有する電子写真感光体に研磨テープにより研磨する技術が開示されている（特許文献２参照）。
また、アモルファスシリコンカーバイド層を有する表面を酸素プラズマ処理を施した後に表面をテープ研磨する技術が開示されている（特許文献３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１４−２２３６８５号公報
【特許文献２】特開２００８−２１６３０７号公報
【特許文献３】特開２００６−２３４５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述した研磨テープを用いた積層体の研磨方法においては、以下のような課題があった。
まず、研磨テープを積層体の表面に圧接させて表面を研磨した場合、研磨テープと積層体との摺擦面での摩擦熱により、砥粒を研磨テープに固定するための結着剤が研磨テープから積層体に転写される場合があった。このような結着剤が積層体の表面に付着してしまうと表面抵抗率が変化してしまい所望の特性が得られなくなるという問題があった。
【０００５】
電子写真装置においては、高湿環境下で結着剤の影響により電子写真感光体の表面への水分の吸着による表面抵抗率の低下とそれに伴って発生する画像流れ（高湿画像流れ）が発生する場合があった。また、電子写真感光体の表面へ結着剤が転写される際に、研磨時に発生した研磨残渣が結着剤中に混入して付着する場合がある。そして、画像形成プロセス内において、電子写真感光体の表面とクリーニングブレードとの摩擦抵抗の増加によるトルク上昇及び研磨残渣によるクリーニングブレードの損傷のために、クリーニング不良を生じる場合があった。
そこで、本発明の目的は、研磨テープを用いて研磨を行うことにより生じる結着剤の付着の課題を解決することが可能な積層体の形成方法および電子写真感光体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
そこで本発明の一態様によれば、
（ｉ）水素化アモルファスカーボンで構成された表面層を形成する工程と、
（ｉｉ）工程（ｉ）の後、前記表面層の表面を、砥粒が分散された結着剤を含む研磨テープによって研磨する工程と、
（ｉｉｉ）工程（ｉｉ）の後、前記表面層の表面をコロナ放電によって暴露処理する工程とを有する積層体の形成方法が提供される。
【０００７】
また、本発明の他の態様によれば、積層体形成工程を有する電子写真感光体の製造方法であって、該積層体形成工程が、上記の積層体形成方法を用いて行われる電子写真感光体の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、電子写真装置において使用された場合に高湿画像流れが生じにくい電子写真感光体の製造方法及びそのような電子写真感光体に積層体を形成する方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の積層体の形成方法の手順について示したフローチャートである。
【図２】本発明において用いられる研磨テープを用いた研磨装置の一例を示す図である。
【図３】本発明において用いられるコロナ放電による暴露処理装置の一例を示す図である。
【図４】本発明によって形成された積層体の層構成の一例を示す模式的断面図である。
【図５】本発明において用いられる電子写真感光体を製造するための装置の一例を示す模式的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明者らは、テープ研磨を行うことにより生じる結着剤の付着の影響を無くすことを目的とし、鋭意検討を重ねた。その結果、水素化アモルファスカーボンで構成された表面層に対してテープ研磨処理を施した後、表面をコロナ放電による暴露処理することが効果的であることを見出した。
すなわち、水素化アモルファスカーボンで表面層が形成された積層体とコロナ放電の暴露処理を組み合わせることにより、研磨テープの結着剤の付着の影響を無くすことを見出した。
【００１１】
これは、水素化アモルファスカーボンによって構成された表面層中のカーボン原子と、コロナ放電の暴露処理を施した場合に生成する酸化性物質との化学反応によって二酸化炭素が形成されて表面層からカーボン原子が放出される現象を利用したものである。すなわち、表面層からカーボン原子が放出され、表面に付着していた結着剤の付着力が低下することで結着剤の除去が容易となり、結着剤の影響を無くすというものである。
本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
【００１２】
［水素化アモルファスカーボンで構成された表面層の形成および電子写真感光体］
本発明の一実施形態の電子写真感光体は、水素化アモルファスカーボンで構成された表面層を有することを特徴としている。図４に、本発明に好適な電子写真感光体の層構成の一例を表す模式的断面図を示す。
図４（ａ）に示す電子写真感光体は、基体４０１上に、基体側からの電荷の注入を阻止するための下部電荷注入阻止層４０４、光導電層４０２、表面側からの電荷の注入を阻止するための上部電荷注入阻止層４０５、表面層４０３を順次設けた層構成である。
【００１３】
表面層４０３は、図４（ｂ）に示すように最表面の構成原子の組成が異なる第一の層領域４０３ａと第二の層領域４０３ｂとからなる２層構成にすることが好ましい。
また、光導電層４０２と上部電荷注入阻止層４０５との界面、上部電荷注入阻止層４０５と表面層４０３との界面に関しては、組成を連続的に変化させる組成変化層を設けてもよい。
【００１４】
本発明において表面層４０３は、水素化アモルファスカーボン膜で形成される。原料ガスとしては炭化水素を用い、代表的にはプラズマＣＶＤ法により作製される。
水素化アモルファスカーボン膜の膜中に含まれる水素原子の含有量は（Ｈ／（Ｃ＋Ｈ））で４０原子％以下が適している。水素原子の含有量が４０原子％以下であれば、カーボン原子間の結合を増やすことが可能となり積層体としての耐久性向上の観点から好ましい。
【００１５】
また、水素原子の含有量が４０原子％を超える表面層は、コロナ放電で生成する酸化性物質との化学反応が促進され易く、カーボン原子の放出が容易となる。そのため、表面層に付着していた研磨テープの結着剤を容易に除去させるという観点から、図４（ｂ）示すような層構成においては、最表面の第二の層領域４０３ｂの水素原子の含有量が４０原子％を超えることがより好ましい。
【００１６】
表面層４０３の膜厚は、機械的強度の観点から２００ｎｍ以上、膜の密着性の観点から１０００ｎｍ以下が好ましい。また、図４（ｂ）に示すような最表面の第二層領域４０３ｂの膜厚は、研磨テープの結着剤の除去を容易にさせるだけの膜厚でよく、１０ｎｍ以下の膜厚が好ましい。
水素化アモルファスカーボン表面層の形成は、原料ガスとしては、たとえば、メタン（ＣＨ４）、アセチレン（Ｃ２Ｈ２）などのガスが好適に使用できる。
また、水素化アモルファスカーボン表面層の形成において（Ｈ／（Ｃ＋Ｈ））の値を調整するために、混合ガスとして水素（Ｈ２）ガスを用いることが有用な方法である。
【００１７】
［研磨テープによる研磨装置］
図２は、本発明の電子写真感光体をテープ研磨する研磨装置の一例を示した模式的な概略断面図である。
テープ研磨工程は、図１に示すフローチャートの中で工程（ｉｉ）に対応するもので、工程（ｉ）の水素化アモルファスカーボン表面層を形成した後に行われる。
【００１８】
研磨テープ２１０を用いた研磨ユニットは、内部に圧接部材としての加圧弾性ローラー２１１が接続されている加圧弾性ローラー容器２１２を有している。研磨テープ２１０は、不図示の回転機構に接続された定量送り出しローラー２１４とキャプスタンローラー２１５とによって送り出し量が制御されている。そして、送り出しロール２１６から送り出された研磨テープ２１０は、搬送経路支持棒２１３を経由して巻き取りロール２１７によって巻き取られる構成となっている。移動機構２０８と加圧弾性ローラー容器２１２とは設置台２０９の上に設置されている。加圧弾性ローラー容器２１２を、移動機構２０８によって電子写真感光体２０１の回転中心に向かって移動させることによって、電子写真感光体２０１の表面に研磨テープ２１０を押し当てて研磨を行うように構成されている。
【００１９】
研磨テープ２１０は、通常はラッピングテープと呼ばれるものが好ましく、それに含まれる砥粒としては炭化ケイ素（ＳｉＣ）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、α酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３）、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）、ダイヤモンド（Ｃ）、シリカ（ＳｉＯ２）、炭酸バリウム（ＢａＣＯ３）等が用いられる。また、砥粒の粒径（個数平均粒径）は、細かすぎると研磨レートが低下し、粗すぎると電子写真感光体２０１の表面への加工ダメージが大きくなることから、０．１〜１００μｍ、さらには１〜４０μｍが好適である。
【００２０】
研磨テープ２１０には、一般によく知られた塗布方法、例えばドクターブレード（ナイフエッジ）コート法、デップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、エクストルージョンコート法等により、砥粒を含む結着剤を塗布することが可能である。
結着剤としては、例えば塩化ビニル、アクリル系共重合樹脂、ウレタン系樹脂などが挙げられる。
研磨テープの送り速度は、研磨レート、研磨傷、処理コスト、摩擦による発熱等を考慮しながら適宜決定すれば良いが、１〜３００ｍｍ／ｍｉｎ、さらには１０〜１００ｍｍ／ｍｉｎにすることが好ましい。
【００２１】
加圧弾性ローラー２１１は、軸芯体（芯金）の上に可撓性部材としてのゴムを形成することにより作製される。このゴムに用いる材質としては、ネオプレン（登録商標）ゴム、シリコーンゴム等の材質が挙げられる。ＪＩＳゴム硬度が高くなると研磨レートは向上するが徐々に飽和していくため、加圧弾性ローラー２１１のゴムにはＪＩＳゴム硬度が２０〜９０程度のものを用いるのが好ましい。
【００２２】
また、加圧弾性ローラー２１１の形状は、感光体２０１の母線方向に均一な処理を行うために中央部の直径が両端部の直径より太いものが好ましく、具体的には直径差が０．０１〜０．６ｍｍが好ましく、さらには０．０２〜０．４ｍｍがより好ましい。
【００２３】
さらに、電子写真感光体２０１を研磨する際に、回転する電子写真感光体２０１への加圧弾性ローラー２１１の押し当て圧力を９．８×１０３〜２．０×１０６Ｎ／ｍ２にすることが好ましく、４．９×１０４〜９．８×１０５Ｎ／ｍ２にすることがより好ましい。押し当て圧力が低すぎると研磨レートの低下につながり、逆に、高すぎると研磨面での発熱により研磨テープ２１０の結着剤が多量に電子写真感光体２０１の表面へと転写されてしまうためである。
【００２４】
電子写真感光体２０１と研磨テープ２１０とが接する研磨面において、摩擦熱による研磨テープ２１０の結着剤の電子写真感光体２０１への転写及び研磨テープ２１０からの砥粒の脱落等を低減するために、研磨面を水や冷風等で冷却した方が好ましい。研磨面の冷却方法としては、研磨面を直接冷却しても良いし、加圧弾性ローラー表面に冷却手段を接触させても良いし、電子写真感光体２０１の内部を冷却しても良い。
【００２５】
［コロナ放電による暴露装置］
本発明の電子写真感光体をテープ研磨による研磨処理を行った後、例えば、図３に示されるコロナ放電による暴露処理装置３００を用いて処理される。
コロナ放電による暴露処理工程は、図１に示すフローチャートの中で工程（ｉｉｉ）に対応するもので、工程（ｉｉ）のテープ研磨処理を施した後に行われる。
【００２６】
図３は、コロナ放電による暴露処理装置３００と、テープ研磨後の水素化アモルファスカーボン膜で構成された表面層を有する電子写真感光体３０１とを示す。暴露処理装置３００は、コロナ放電させるコロナ帯電器が３０２を有している。電子写真感光体３０１の内径部には、フランジ３０４が嵌めこまれている。また、フランジ３０４は回転軸３０５に固定され、回転軸３０５が不図示の回転駆動系によって回転させられることによって、フランジ３０４と共に電子写真感光体３０１が回転させられる。
【００２７】
尚、電子写真感光体の内径部はアルミであり、ＳＵＳからなるフランジ３０４と電気的に接触し、フランジ３０４を通して電気的に接地されている。コロナ帯電器３０２は、ワイヤ３０７と、接地されているシールド３０６とを有し、ワイヤ３０７にマイナスの高電圧を印加することによって、電子および負イオンが電子写真感光体３０１の表面層の最表面に暴露される。コロナ帯電器３０２によって生成される負イオンには、オゾン化物イオン、硝酸イオン、炭酸イオンなどが含まれる。
【００２８】
電子写真感光体３０１の表面層中のカーボン原子は、負イオンのもつ強い酸化作用をもった酸化性物質の酸素原子と結合し、二酸化炭素を形成する化学反応を起こし、表面層中からカーボン原子が放出される。その結果、最表面のカーボン原子が放出され、最表面に付着していた結着剤の付着力が低下することで結着剤の除去が容易となる。上記コロナ放電による暴露処理後、電子写真感光体の表面の清浄化の観点からアルコールなどを浸み込ませた不織布などで手拭き処理しても構わない。
【００２９】
最表面に付着した結着剤の除去をより促進するためには、酸化性物質を増やし表面層中からカーボン原子の放出量を増やすことが効果的である。酸化性物質を増やすためには、コロナ帯電器によって生成する負イオンを増やすことであり、コロナ放電の表面層方向の放電電流密度と暴露時間との積算量を増やすことが好ましい。具体的には、放電電流密度を電子写真装置の一次帯電で通常使用される値の２倍以上（９μＡ／ｃｍ２以上）とすることが好ましい。
【００３０】
電子写真感光体３０１の表面は、コロナ放電により負帯電するが、回転方向に対してコロナ帯電器の直前に配置される前露光装置３０３によって、電子写真感光体３０１に光が照射されることによって、負帯電が除電される。
表面の負帯電電荷が除電された後、新たにコロナ帯電器３０２によって、酸化作用を有する酸化性物質を、電子写真感光体３０１の表面に照射することができ、最表面のカーボン原子の放出を続けることができる。
【００３１】
［電子写真感光体製造装置］
本発明の電子写真感光体を製造する製造装置の一例として、図５に示すＲＦプラズマＣＶＤ法を用いた堆積装置について説明する。この堆積装置は、大別すると、反応容器５１１０を有する堆積装置５１００、原料ガス供給装置５２００、および、反応容器５１１０内を減圧するための排気装置（図示せず）から構成されている。堆積装置５１００中の反応容器５１１０内にはアースに接続された基体５１１２、基体加熱用ヒーター５１１３、および、原料ガス導入管５１１４が設置されている。さらにカソード電極５１１１には高周波マッチングボックス５１１５を介して高周波電源５１２０が接続されている。
【００３２】
原料ガス供給装置５２００は、原料ガスボンベ５２２１〜５２２７、バルブ５２３１〜５２３７、圧力調整器５２６１〜５２６７、流入バルブ５２４１〜５２４７から構成されている。さらに流出バルブ５２５１〜５２５７およびマスフローコントローラー５２１１〜５２１７から構成されている。各原料ガスを封入したガスのボンベは、補助バルブ５２６０を介して反応容器５１１０内の原料ガス導入管５１１４に接続されている。５１１６はガス配管であり、５１１７はリークバルブであり、５１２１は絶縁材料である。
【００３３】
次に、この装置を使った堆積膜の形成方法について説明する。まず、あらかじめ脱脂洗浄した基体５１１２を反応容器５１１０に受け台５１２３を介して設置する。次に、排気装置（図示せず）を運転し、反応容器５１１０内を排気する。真空計５１１９の表示を見ながら、反応容器５１１０内の圧力が例えば１Ｐａ以下の所定の圧力になったところで、基体加熱用ヒーター５１１３に電力を供給し、基体５１１２を例えば５０℃以上３５０℃以下の所定の温度に加熱する。このとき、ガス供給装置５２００より、Ａｒ、Ｈｅなどの不活性ガスを反応容器５１１０に供給して、不活性ガス雰囲気中で加熱を行うこともできる。次に、ガス供給装置５２００より堆積膜形成に用いるガスを反応容器５１１０に供給する。
【００３４】
すなわち、必要に応じてバルブ５２３１〜５２３７、流入バルブ５２４１〜５２４７、流出バルブ５２５１〜５２５７を開き、マスフローコントローラー５２１１〜５２１７に流量設定を行う。各マスフローコントローラーの流量が安定したところで、真空計５１１９の表示を見ながらメインバルブ５１１８を操作し、反応容器５１１０内の圧力が所望の圧力になるように調整する。所望の圧力が得られたところで高周波電源５１２０より高周波電力を印加すると同時に高周波マッチングボックス５１１５を操作し、反応容器５１１０内にプラズマ放電を生起する。その後、速やかに高周波電力を所望の電力に調整し、堆積膜の形成を行う。所定の堆積膜の形成が終わったところで、高周波電力の印加を停止し、バルブ５２３１〜５２３７、流入バルブ５２４１〜５２４７、流出バルブ５２５１〜５２５７、および、補助バルブ５２６０を閉じ、原料ガスの供給を終える。同時に、メインバルブ５１１８を全開にし、反応容器５１１０内を例えば１Ｐａ以下の圧力まで排気する。
【００３５】
以上で、堆積膜の形成を終えるが、複数の堆積膜を形成する場合、再び上記の手順を繰り返してそれぞれの層を形成すればよい。原料ガスの流量や、圧力などを光導電層形成時の条件に向けて一定の時間で変化させて、接合領域の形成を行うこともできる。すべての堆積膜形成が終わった後、メインバルブ５１１８を閉じ、反応容器５１１０内に不活性ガスを導入し、大気圧に戻した後、基体５１１２を取り出す。
【実施例】
【００３６】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらによって何ら限定されるものではない。
【００３７】
〔実施例１〕
図５に示したプラズマＣＶＤ装置を用い、円筒状の基体(直径８４ｍｍ、長さ３８１ｍｍの鏡面加工を施した円筒状のアルミニウムシリンダー)上に、表１に示した条件で、図４（ａ）に示した層構成の電子写真感光体を実施例１として２本作製した。
【００３８】
＜テープ研磨＞
次に、図２に示す研磨テープによる研磨装置を用い、感光体の表面を幅３８０ｍｍの研磨テープであるレフライト社製マキシマラッピングフィルムＧＣ４０００（砥粒：炭化ケイ素（ＳｉＣ）、基材に砥粒を結着剤で固定）を介して弾性ローラーで加圧する。その後、テープスピードを３０ｍｍ／ｍｉｎ、感光体回転速度４０ｒｐｍにて５分間研磨加工した。
・砥粒の粒径（個数平均粒径）：３μｍ
・結着剤：ウレタン系樹脂            
・研磨テープの送り速度：３０ｍｍ／ｍｉｎ
・弾性ローラーによる押し当て圧力：１．０×１０５Ｎ／ｍ２
【００３９】
＜コロナ放電による暴露処理＞
その後、図３に示すコロナ放電による暴露装置を使って、表面層の最表面をコロナ帯電器から生成する酸化作用の強い負イオンに暴露処理を施した。具体的には、図３のように電子写真感光体３０１の周方向に対して幅２０ｍｍのコロナ帯電器３０２を使い、コロナ放電の放電電流密度が１０μＡ／ｃｍ２の条件で行った。ここでいう、コロナ放電の放電電流密度とは、コロナ放電器３０２から、電子写真感光体３０１に向かって流れる単位面積当たりの電流値のことを示している。また、コロナ放電中、電子写真感光体３０１を５００ｍｍ／ｓｅｃで回転させながら所定時間暴露処理を施した。
【００４０】
実施例１で作製した１本の電子写真感光体を用いて、最表面の（Ｈ／（Ｃ＋Ｈ））を後述の分析方法により求めた。一方、残りの１本の電子写真感光体を用い、後述の評価条件にて高湿画像流れの評価を行った。
実施例１の評価結果を表３に示す。
【００４１】
【表１】
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【００４２】
（最表面の（Ｈ／（Ｃ＋Ｈ））の算出）
まず、電子写真感光体の任意の周方向における長手方向の中央部を１５ｍｍ四方の正方形で切り出し、測定用試料を作製した。
測定用試料について、ＲＢＳ（ラザフォード後方散乱法）（日新ハイボルテージ（株）製：後方散乱測定装置  ＡＮ−２５００）を用いて、ＲＢＳの測定面積における表面層中の炭素原子の原子数を測定した。
【００４３】
ＲＢＳと同時に、上記測定用試料をＨＦＳ（水素前方散乱法）（日新ハイボルテージ（株）製：後方散乱測定装置  ＡＮ−２５００）を用いて、ＨＦＳの測定面積における表面層中の水素原子の原子数を測定した。
ＨＦＳの測定面積から求めた水素原子の原子数（Ｈ）と、ＲＢＳの測定面積から求めた炭素原子の原子数（Ｃ）とにより、最表面の（Ｈ／（Ｃ＋Ｈ））の分布を求めた。
ＲＢＳおよびＨＦＳの具体的な測定条件は、下記のとおりとした。
入射イオン：４Ｈｅ＋、入射エネルギー：２．３ＭｅＶ、入射角：７５°、
試料電流：３５ｎＡ、入射ビーム経：１ｍｍ。
ＲＢＳの検出器  散乱角：１６０°、アパーチャ径：８ｍｍ。
ＨＦＳの検出器  反跳角：  ３０°、アパーチャ径：８ｍｍ＋Ｓｌｉｔ。
【００４４】
（高湿画像流れ評価）
高湿画像流れの評価は、キヤノン（株）製のデジタル電子写真装置「ｉｍａｇｅ  ＲＵＮＮＥＲ  ＡＤＶＡＮＣＥ  Ｃ７０６５」（商品名）の改造機を用いた。具体的には、改造機は、一次帯電および現像バイアスを外部電源から印加できる構成とした。
上記電子写真装置に作製した電子写真感光体を設置し、温度２５℃、相対湿度７５％の高湿環境下で連続通紙試験前のＡ３文字チャート（４ｐｔ、印字率４％）の画像を出力した。このとき、感光体ヒーターをＯＮにする条件で実施した。
【００４５】
連続通紙試験前の画像出力後、連続通紙試験を実施した。連続通紙試験時は、電子写真装置を稼働して連続通紙試験を実施している間および電子写真装置を停止している間を通じて常に感光体ヒーターをＯＦＦにする条件で実施した。
具体的には、印字率１％のＡ４テストパターンを用いて、１日当たり２．５万枚の連続通紙試験を１０日間実施して２５万枚まで行った。連続通紙試験終了後、温度２５℃、相対湿度７５％の環境下で１５時間静置した。
【００４６】
１５時間静置した後、感光体ヒーターをＯＦＦのまま立ち上げ、Ａ３文字チャート（４ｐｔ、印字率４％）の画像を出力した。連続通紙試験前に出力した画像と、連続通紙試験後に出力した画像とを、それぞれキヤノン（株）製のデジタル電子写真装置「ｉＲＣ−５８７０」（商品名）を用いて、モノクロ３００ｄｐｉの２値の条件でＰＤＦファイルに電子化した。
電子化した画像をＡｄｏｂｅ製の画像編集ソフト「Ａｄｏｂｅ  Ｐｈｏｔｏｓｈｏｐ」（商品名）を用いて、電子写真感光体１周分の画像領域（２５１．３ｍｍ×２７３ｍｍ）の黒比率を測定した。
【００４７】
次に、連続通紙試験前に出力した画像の黒比率に対する連続通紙試験後に出力した画像の黒比率の値を求め、下記に示すように高湿画像流れの評価を行った。
高湿画像流れが発生した場合、画像全体で文字がぼける、または、文字が印字されずに白抜けするため、連続通紙試験前の正常な画像と比較した場合、出力された画像における黒比率が低下する。よって、連続通紙試験前の正常な画像の黒比率に対する連続通紙試験後に出力された画像の黒比率の値が１００％に近いほど高湿画像流れが良好となる。
【００４８】
Ａ…連続通紙試験前に出力した画像の黒比率に対する連続通紙試験後に出力した画像の黒比率の値が８５％以上１０５％以下。
Ｂ…連続通紙試験前に出力した画像の黒比率に対する連続通紙試験後に出力した画像の黒比率の値が８５％未満。
【００４９】
〔実施例２〕
表面層の膜形成条件を表２に示した条件とした以外は、実施例１と同様の条件で、図４（ｂ）に示した層構成の電子写真感光体を作製し、実施例１と同様の条件で電子写真感光体の処理を施して、電子写真感光体を得た。
得られた電子写真感光体について、実施例１と同様に高湿画像流れを評価し、評価結果を表３に示した。表３には下記の評価方法にて算出したコロナ放電による暴露処理時間も合わせて示す。
【００５０】
（暴露処理時間の算出）
実施例１においてコロナ放電による暴露処理を施した時間を１．０としたとき、実施例２においてコロナ放電による暴露処理を施した時間を相対評価値で算出した。
【００５１】
〔比較例１〕
コロナ放電による暴露処理を行わない以外は実施例１と同様の条件で電子写真感光体を得た。
得られた電子写真感光体について、実施例１と同様に高湿画像流れを評価し、評価結果を表３に示した。
【００５２】
【表２】
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【００５３】
上記処理を施した電子写真感光体について、実施例１と同様に高湿画像流れを評価した。実施例２の評価結果を表３に示す。
【００５４】
【表３】
2019066703.tif 000005
【００５５】
表３に示すように、コロナ放電による暴露処理を施した実施例１は、コロナ放電による暴露処理を施していない比較例１に比して、高湿画像流れの良化が確認された。研磨テープを用いて研磨を行うことで生じる結着剤の付着の影響が、コロナ放電による暴露処理によって無くなったと考えられる。
実施例２では、最表面の（Ｈ／（Ｃ＋Ｈ））を４５％にすることで、コロナ放電で生成する酸化性物質との化学反応が促進され易く、カーボン原子の放出が容易となる。その結果、表面層に付着していた研磨テープの結着剤を容易に除去させることが可能となり、コロナ放電による暴露時間の短縮に繋がった。
【符号の説明】
【００５６】
２０１、３０１‥‥電子写真感光体
２１０‥‥研磨テープ
２１１‥‥加圧弾性ローラー
３０２‥‥コロナ帯電器
３０３‥‥前露光装置
３０４‥‥フランジ
３０５‥‥回転軸
【図１】
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【図２】
2019066703.tif 000007
【図３】
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【図４】
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【図５】
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