(57)【要約】【課題】リソグラフィ装置の稼働停止時間の短縮に有利な制御プログラムの更新に関する技術を提供する。【解決手段】リソグラフィシステムは、基板の上にパターンを形成するリソグラフィ装置と、前記リソグラフィ装置の動作のシミュレーションを行うシミュレーション装置と、前記リソグラフィ装置および前記シミュレーション装置のうちの一方を制御する第１制御装置と、前記リソグラフィ装置および前記シミュレーション装置のうちの他方を制御する、前記第１制御装置とは異なる第２制御装置とを含み、前記第１制御装置および前記第２制御装置は、前記第１制御装置および前記第２制御装置の制御対象を、前記リソグラフィ装置と前記シミュレーション装置との間で相互に切り替えが可能に構成されている。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上にパターンを形成するリソグラフィ装置と、
前記リソグラフィ装置の動作のシミュレーションを行うシミュレーション装置と、
前記リソグラフィ装置および前記シミュレーション装置のうちの一方を制御する第１制御装置と、
前記リソグラフィ装置および前記シミュレーション装置のうちの他方を制御する、前記第１制御装置とは異なる第２制御装置と、
を含み、
前記第１制御装置および前記第２制御装置は、前記第１制御装置および前記第２制御装置の制御対象を、前記リソグラフィ装置と前記シミュレーション装置との間で相互に切り替えが可能に構成されている
ことを特徴とするリソグラフィシステム。
【請求項２】
前記第１制御装置が前記リソグラフィ装置を制御し、前記第２制御装置が前記シミュレーション装置を制御している状態で、前記第２制御装置は、
更新用の制御プログラムを取得してインストールし、
前記インストールされた制御プログラムに基づいて前記シミュレーション装置によるシミュレーションを実行し、該シミュレーションの結果に基づいて該制御プログラムを修正し、
前記第１制御装置および前記第２制御装置は、前記修正された制御プログラムによって前記リソグラフィ装置が制御されるよう前記切り替えを行う
ことを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィシステム。
【請求項３】
前記第１制御装置は、前記リソグラフィ装置の制御パラメータを前記第２制御装置に転送することにより、前記第１制御装置と前記第２制御装置との間で制御パラメータと同期させることを特徴とする請求項２に記載のリソグラフィシステム。
【請求項４】
前記第２制御装置は、前記シミュレーションを実行する前に前記同期を行うことを特徴とする請求項３に記載のリソグラフィシステム。
【請求項５】
前記リソグラフィ装置は、原版を介して前記基板を露光する露光装置であることを特徴とする請求項３または４に記載のリソグラフィシステム。
【請求項６】
前記制御パラメータは、前記基板に露光を行う領域であるショット領域の配置を規定するレイアウト情報および露光量に関する情報を含むことを特徴とする請求項５に記載のリソグラフィシステム。
【請求項７】
前記第２制御装置による前記制御プログラムのインストールおよび修正は、前記リソグラフィ装置の稼働中に実行されることを特徴とする請求項２乃至６のいずれか１項に記載のリソグラフィシステム。
【請求項８】
前記リソグラフィ装置のキャリブレーションを行うために、前記リソグラフィ装置における処理結果と前記シミュレーション装置における演算結果とを比較する分析装置を更に含むことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のリソグラフィシステム。
【請求項９】
基板の上にパターンを形成するリソグラフィ装置を制御するための制御プログラムを更新する方法であって、
第１制御装置にインストールされている制御プログラムに基づいて前記リソグラフィ装置が制御されている状態で、前記リソグラフィ装置の動作のシミュレーションを行うシミュレーション装置を制御する第２制御装置により、更新用の制御プログラムを取得するステップと、
前記第２制御装置にインストールされている制御プログラムを、前記取得した制御プログラムで更新するステップと、
前記第２制御装置における前記更新された制御プログラムに基づいて前記シミュレーション装置によるシミュレーションを実行し、該シミュレーションの結果に基づいて該制御プログラムを修正するステップと、
前記修正された制御プログラムによって前記リソグラフィ装置が制御されるように、前記第２制御装置の制御対象を前記シミュレーション装置から前記リソグラフィ装置に切り替えるステップと、
を有することを特徴とする方法。
【請求項１０】
コンピュータに、請求項９に記載の方法の各ステップを実行させるためのプログラム。
【請求項１１】
物品を製造する物品製造方法であって、
請求項１乃至８のいずれか１項に記載のリソグラフィシステムを用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記パターンが形成された基板を加工する工程と、
を有し、前記加工された基板から前記物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィシステム、制御プログラムを更新する方法、プログラム、および物品製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
露光装置やインプリント装置等のリソグラフィ装置の高精度化や高機能化が進む中、リソグラフィ装置の制御を行うためのソフトウェアも高精度化や高機能化のために随時改良されている。このようなソフトウェアの改良は、新規開発のリソグラフィ装置だけでなく、既に稼動中のリソグラフィ装置のハードウェアの性能を引き出す目的で、稼動中のリソグラフィ装置に対するソフトウェアの更新が頻繁に行われる。
【０００３】
従来のリソグラフィ装置の制御プログラムの更新手順は、概ね次のようなものである。
【０００４】
事前に、ユーザが要望する機能の追加、及び、改良すべき機能を調査し、リソグラフィ装置のハードウェア構成に対して更新すべき制御プログラムの内容（バージョン）が決定される。
リソグラフィ装置の制御プログラムの更新を行う際には、稼働中の装置を停止する必要があるため、生産計画・人員計画を考慮して更新時期が決定される。
次に、更新用の制御プログラム（更新プログラム）を取得する。更新プログラムは、光／磁気ディスクのような可搬メディアに記録した形態で、リソグラフィ装置の製造ベンダから提供されるのが一般的である。
次に、リソグラフィ装置での基板処理を終了させて、更新プログラムのインストールを実施することで制御プログラムの更新を実施する。
更新が完了したら、リソグラフィ装置でテストを行い、テストの結果を判断する。
テストの結果に基づき更新成功と判断され次第、停止していたリソグラフィ装置での基板処理を開始する。
このような流れで制御プログラムの更新が完了する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平２−１７７３１２号公報
【特許文献２】特開２００７−２８８０９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
リソグラフィ装置において、装置の制御に用いる制御プログラムは、インストール前にユーザ先のさまざまな運用環境を想定したテストに合格したとしても、インストールした後になって問題が明らかになることも多い。装置の複雑な設定とユーザの運用環境の全てを事前に把握して網羅的なテストを実施することは困難なためである。このように、ソフトウェアの新機能がユーザ先の運用環境（例えば、装置毎に調整されたパラメータ、基板、原版）で適正な効果が出せるかを十分検証することはできず、制御プログラムのインストール後に重大な問題が発覚するリスクが残ってしまう。
【０００７】
従来、テスト内容の網羅度を高め高品質な制御プログラムを提供するためには、更新用の制御プログラム（更新プログラム）をインストールした後で、制御プログラムの更新に伴うデータ検証及び精度検証を大量に実施することが必要であった。しかしこの方法では、長時間の稼働停止が必要であり、また、更新するソフトウェアの変更規模の大小にかかわらずインストール及び検証に必要とする全体の時間を短縮することができない。したがって、装置の稼働停止期間を十分に確保できずソフトウェアを更新すること自体が困難である。
【０００８】
本発明は、リソグラフィ装置の稼働停止時間の短縮に有利な制御プログラムの更新に関する技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一側面によれば、基板の上にパターンを形成するリソグラフィ装置と、前記リソグラフィ装置の動作のシミュレーションを行うシミュレーション装置と、前記リソグラフィ装置および前記シミュレーション装置のうちの一方を制御する第１制御装置と、前記リソグラフィ装置および前記シミュレーション装置のうちの他方を制御する、前記第１制御装置とは異なる第２制御装置とを含み、前記第１制御装置および前記第２制御装置は、前記第１制御装置および前記第２制御装置の制御対象を、前記リソグラフィ装置と前記シミュレーション装置との間で相互に切り替えが可能に構成されていることを特徴とするリソグラフィシステムが提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、リソグラフィ装置の稼働停止時間の短縮に有利な制御プログラムの更新に関する技術が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】実施形態におけるリソグラフィシステムの構成図。
【図２】実施形態におけるシミュレーション装置のハードウェア構成図。
【図３】実施形態における第１制御装置のハードウェア構成図。
【図４】実施形態における第２制御装置のハードウェア構成図。
【図５】実施形態における制御対象の切り替え処理のフローチャート。
【図６】第２実施形態に係るリソグラフィシステムの構成図。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、以下の実施形態は本発明の実施の具体例を示すにすぎないものであり、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。また、以下の実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが本発明の課題解決のために必須のものであるとは限らない。
【００１３】
＜第１実施形態＞
図１は本実施形態に係るリソグラフィシステム１００の構成を示す図である。本実施形態では、基板の上にパターンを形成するリソグラフィ装置として、原版を介して基板を露光する露光装置を使用する例を説明する。図１において、リソグラフィシステム１００は、露光装置１０と、露光装置１０の動作を模擬するシミュレーション装置２０とを含む。また、リソグラフィシステム１００は、露光装置１０およびシミュレーション装置２０のうちの一方を制御する第１制御装置３０と、露光装置１０およびシミュレーション装置２０のうちの他方を制御する第２制御装置４０とを含む。露光装置１０、シミュレーション装置２０、第１制御装置３０、および第２制御装置４０は、例えばネットワーク５０を介して相互に通信可能に構成されている。
【００１４】
露光装置１０は、例えば、半導体デバイスの製造工程に使用され、ステップ・アンド・リピート方式またはステップ・アンド・スキャン方式により原版Ｒに形成されているパターンを基板Ｗ上に露光（転写）する投影型露光装置である。露光装置１０は、照明系１１と、原版Ｒを保持する原版ステージ１２と、投影光学系１３と、基板Ｗを保持する基板ステージ１４と、制御部１５とを備える。なお、図１では、投影光学系１３の光軸（本実施形態では鉛直方向）と平行な方向をＺ方向、Ｚ方向に垂直な平面内で露光時の基板Ｗの走査方向をＹ方向、Ｙ方向に直交する非走査方向をＸ方向としている。
【００１５】
照明系１１は、不図示の光源から照射された光を調整し、原版Ｒを照明する。原版Ｒには、基板Ｗ上に転写されるべきパターン（例えば回路パターン）が形成されている。原版Ｒは、例えば石英ガラス製である。原版ステージ１２は、原版Ｒを保持しつつ、ＸＹの各方向に移動可能である。投影光学系１３は、照明系１１からの光で照明された原版Ｒ上のパターンの像を所定の倍率（例えば１／２〜１／５）で基板Ｗ上に投影する。基板Ｗは、表面上にレジスト（感光剤）が塗布された、例えば単結晶シリコンからなる基板である。基板ステージ１４は、基板Ｗを不図示のチャックを介して保持しつつＸＹＺの各方向に移動可能である。
【００１６】
原版搬送部１６は、露光装置外部から原版を受け取り、異物の検査および位置合わせを行った後に原版ステージ１２上に搬送する。基板搬送部１７は、露光装置外部の感光体塗布機から基板を受け取り、温度調節および位置合わせを行った後に基板ステージ１４上に搬送する。制御部１５は、第１位置検出部１８を用いて原版ステージ１２の位置を検出し、駆動指令値と位置の観測値とに基づいて原版ステージ１２の駆動を制御する。また、制御部１５は、第２位置検出部１９を用いて基板ステージ１４の位置を検出し、駆動指令値と位置の観測値とに基づいて基板ステージ１４の駆動も制御する。制御部１５は、露光装置１０のその他の各部も制御して、露光動作を統括している。
【００１７】
なお、本実施形態ではこのように、リソグラフィ装置として露光装置の例を示すが、他のリソグラフィ装置であってもよい。例えば、リソグラフィ装置は、荷電粒子線で基板（上の感光剤）に描画を行う描画装置であってもよい。あるいは、リソグラフィ装置は、型を用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であってもよい。
【００１８】
露光装置１０の動作を模擬するシミュレーション装置２０は、露光装置１０とは独立して動作が可能であり、第２制御装置４０から提供される制御パラメータに応じて、露光装置１０の振る舞いを演算して出力する。図２にシミュレーション装置２０のハードウェア構成図を示す。シミュレーション装置２０は、パーソナルコンピュータやワークステーション等のコンピュータ装置によって構成されうる。ＣＰＵ２１は、装置全体の制御を司る中央処理装置である。ＲＡＭ２２は、主記憶装置として機能するメモリである。ＲＯＭ２３は、起動プログラムやデータを記憶しているメモリである。通信部２５は、ネットワーク５０と接続するためのインタフェースを含み、ネットワーク５０を介した通信を実行する。ＨＤＤ２４はハードディスク装置であって、そこには、オペレーティングシステム２４１（ＯＳ）、シミュレーションプログラム２４２、制御パラメータ２４３がインストールされている。制御パラメータは、例えば、基板上に露光を行う領域であるショット領域の配置を規定するレイアウト情報を含みうる。また、制御パラメータは、露光量に関する情報として、照明系１１の出力や、原版ステージ１２及び基板ステージ１４の走査速度（駆動プロファイル）を含みうる。このような制御パラメータはレシピデータとも呼ばれている。シミュレーション装置２０は、第１制御装置３０または第２制御装置４０から提供された制御パラメータを、制御パラメータ２４３としてＨＤＤ２４に格納しうる。
【００１９】
第１制御装置３０は、露光装置１０およびシミュレーション装置２０のうちの一方を制御する。図３に第１制御装置３０のハードウェア構成例を示す。第１制御装置３０も、パーソナルコンピュータやワークステーション等のコンピュータ装置によって構成されうるものであり、したがって、その構成は図２のシミュレーション装置２０のそれと同様である。ＣＰＵ３１は、装置全体の制御を司る中央処理装置である。ＲＡＭ３２は、主記憶装置として機能するメモリである。ＲＯＭ３３は、起動プログラムやデータを記憶しているメモリである。通信部３５は、ネットワーク５０と接続するためのインタフェースを含み、ネットワーク５０を介した通信を実行する。ＨＤＤ３４はハードディスク装置であって、そこには、オペレーティングシステム３４１（ＯＳ）、制御プログラム３４２、制御パラメータ３４３（レシピデータ）がインストールされている。
【００２０】
第１制御装置３０が露光装置１０を制御する場合、第１制御装置３０は、オペレーティングシステム３４１の上で動作する制御プログラム３４２により、露光装置１０に対して制御処理の指示を行う。制御プログラム３４２には、制御パラメータ３４３に応じた振る舞いがプログラミングされている。この制御プログラム３４２は、露光装置１０の性能（制御精度、スループット等）を向上させるために更新されうる。また、制御パラメータ３４３を変更することで、アライメント精度重視、スループット重視といった露光装置の使用目的に応じ動作を変更することも可能である。
【００２１】
第２制御装置４０は、第１制御装置３０に対して、露光装置１０およびシミュレーション装置２０のうちの他方を制御する。図４に第２制御装置４０のハードウェア構成例を示す。第２制御装置４０も、パーソナルコンピュータやワークステーション等のコンピュータ装置によって構成されうるものであり、したがって、その構成は図３の第１制御装置３０のそれと同様である。ＣＰＵ４１は、装置全体の制御を司る中央処理装置である。ＲＡＭ４２は、主記憶装置として機能するメモリである。ＲＯＭ４３は、起動プログラムやデータを記憶しているメモリである。通信部４５は、ネットワーク５０と接続するためのインタフェースを含み、ネットワーク５０を介した通信を実行する。ＨＤＤ４４はハードディスク装置であって、そこには、オペレーティングシステム４４１（ＯＳ）、制御プログラム４４２、制御パラメータ４４３（レシピデータ）がインストールされている。
【００２２】
第２制御装置４０は、第１制御装置３０とは独立して動作する。第２制御装置４０がシミュレーション装置２０を制御する場合、第２制御装置４０は、オペレーティングシステム４４１の上で動作する制御プログラム４４２により、シミュレーション装置２０に対して制御処理の指示を行う。なお、第２制御装置４０がシミュレーション装置２０を制御することが前提とされている場合には、第２制御装置４０とシミュレーション装置２０とは一体のコンピュータ装置で構成されていてもよい。あるいは、第２制御装置４０とシミュレーション装置２０とは別体で構成されていても、図１に示されるように、第２制御装置４０とシミュレーション装置２０はネットワーク５０を介さずにデータ通信が可能なように直接接続されていてもよい。
【００２３】
第１制御装置３０の制御パラメータ３４３と、第２制御装置４０の制御パラメータ４４３とは、それぞれの通信部およびネットワーク５０を介して同期させることが可能である。また、前述したように、第１制御装置３０は、露光装置１０およびシミュレーション装置２０のうちの一方を制御し、第２制御装置４０は、露光装置１０およびシミュレーション装置２０のうちの他方を制御する。ここで、第１制御装置３０と第２制御装置４０との間で、制御対象（露光装置１０／シミュレーション装置２０）を相互に置き換える（切り替える）ことが可能である。
【００２４】
図５は、制御対象の切り替え処理のフローチャートである。ここでは、当初、第１制御装置３０が露光装置１０を制御し、第２制御装置４０がシミュレーション装置２０を制御しているものとする。また、このフローチャートに係る処理は、露光装置１０およびシミュレーション装置２０の稼働中に実施されうる。図５に示される制御対象の切り替え処理は、環境準備フェーズ、検証フェーズ、および更新フェーズの順に進行する。
【００２５】
まず、環境準備フェーズについて説明する。まずＳ１０１で、制御パラメータの同期が行われる。例えば、第２制御装置４０は、第１制御装置３０に対し、制御パラメータの転送要求を発行する。第１制御装置３０は、この転送要求に応答して、制御パラメータ３４３を第２制御装置４０に転送する。第２制御装置４０は、受信した制御パラメータ３４３を制御パラメータ４４３に対して上書き保存する。これにより、第１制御装置３０と第２制御装置４０との間で制御パラメータが同期される。これにより、第１制御装置３０と第２制御装置４０との間では、同じ演算結果が得られる制御プログラムと、同じ制御パラメータを有する状態になるため、同じ制御を行わせた場合には同じ制御結果を得ることができる。
【００２６】
次に、Ｓ１０２で、第２制御装置４０では、露光装置１０のハードウェア構成や、露光装置１０の機能の追加及び改良に関するユーザの要望に基づいて、更新すべき制御プログラムのバージョンが決定される。その後、Ｓ１０３で、第２制御装置４０は、決定されたバージョンの更新用の制御プログラム（更新プログラム）を装置外部から取得する。更新プログラムは、露光装置の製造ベンダにより光磁気ディスク等の記録媒体に格納した形で提供されることが一般的である。ただし、物理的な記録媒体は必ずしも必要ではなく、ネットワーク５０を介して制御プログラムを取得してもよい。例えば、第２制御装置４０は、情報暗号化技術を含む情報圧縮伝送技術を用いて、リポジトリと呼ばれる貯蔵庫から暗号化された制御プログラムの電子データをネットワーク５０を介してダウンロードする。その後、第２制御装置４０は、暗号を復元した後、ＭＤ５やＳＨＡなどのハッシュ値でデータの欠損が無いことを確認する。記録媒体をマスタからコピー生成して輸送する時間やコピーの失敗リスクを考慮した場合、このようなダウンロードの方が記録媒体を用いる方法より無駄がなく能率的である。
【００２７】
次に、処理は検証フェーズに移行する。Ｓ１０４で、第２制御装置４０は、Ｓ１０３で取得した更新プログラムをインストールすることにより、制御プログラム４４２を更新する。なお、シミュレーション装置２０において、例えば、露光装置１０の各部と第１制御装置３０または第２制御装置４０との間のインタフェースの変更が必要になる場合がある。その場合、Ｓ１０４で、制御プログラム４４２の更新と同時に、シミュレーション装置２０のアップグレードを行うこともできる。
【００２８】
次に、Ｓ１０５で、第２制御装置４０は、更新後の制御プログラム４４２によりシミュレーション装置２０を動作させ、テスト（シミュレーション）を実行する。テストは、インストール前後のパラメータのチェック、装置上のコマンド命令を網羅的に実行するテスト、エラーを前提とした異常系のテスト、露光ジョブの実行によるスループットのテスト、制御精度のテスト等を含みうる。Ｓ１０１で制御パラメータ４４３は露光装置側の制御パラメータ３４３と同期されているため、シミュレーション装置２０において、露光装置１０でテストした場合と同じ結果を得ることができる。また、テストにおいては、更新された制御プログラム４４２で全てのレシピが問題なく処理できるかどうかも判定されうる。
【００２９】
ここで、一例として、制御プログラム４４２の更新に伴い、基板ステージ１４の駆動プロファイルが変更された場合を考える。Ｓ１０１で同期された制御パラメータを適用して制御プログラム４４２により露光装置１０を稼働させた場合、更新前の制御プログラムでは正しく動作していた制御パラメータが、更新後の制御プログラムでは正しく動作しない可能性がある。また、変更された駆動プロファイルと制御パラメータとの組み合わせによっては、更新後の制御プログラムが期待通りに動作しない可能性もある。
【００３０】
例えば、変更された駆動プロファイルを適用すると基板ステージ１４の加速度等が変更される。これにより、露光装置１０で露光ジョブを実行すると基板ステージ１４の速度が許容範囲に収まらず、基板ステージ１４の駆動のやり直しが発生してスループットが低下することがある。また、基板ステージ１４の振動が許容範囲に収まらずエラーが発生することもある。
【００３１】
また、例えば、最大画角のショット領域に最小画角のショット領域が配置されているようなレイアウト情報の場合に露光装置１０で露光ジョブを実行すると、投影光学系１３の画角調整機構（不図示）の駆動が基板ステージ１４の駆動に対して遅延する。そのため、期待されたスループットにならないことがある。
【００３２】
Ｓ１０５では、更新後の制御プログラムによりシミュレーション装置２０で上記内容を網羅するテストを行い、Ｓ１０６で、その結果が期待通りかを判定する。実施形態において、テストの各項目が連続的に実行される。このように、Ｓ１０１で第１制御装置３０と同期された制御パラメータを適用し、更新後の制御プログラム４４２でシミュレーション装置２０によるテストを行うことにより、更新後の制御プログラム４４２の検証を行うことができる。
【００３３】
Ｓ１０６でテストの結果が期待通りでないと判定された場合は（Ｓ１０６でＮＯ）、Ｓ１０７で、制御プログラム４４２および制御パラメータ４４３の少なくともいずれかの修正を行う。例えば、基板ステージの速度や振動等の動的特性が許容範囲に収まらず、エラーが発生したりスループットが低下したりするとのシミュレーション結果が出た場合、基板ステージ１４の駆動プロファイルを修正する。また、投影光学系１３の画角調整機構の駆動が基板ステージ１４の駆動に対して遅延することで期待されたスループットにならないとのシミュレーション結果が出た場合には、投影光学系１３の画角調整機構の駆動プロファイルを修正する。その後、Ｓ１０４に戻って処理を繰り返す。
【００３４】
Ｓ１０５でのテストの結果が期待通りである場合は（Ｓ１０６でＹＥＳ）、処理は更新フェーズに移行する。具体的には、Ｓ１０８で、露光装置１０の稼働を停止し、その後、第１制御装置３０と第２制御装置４０の制御対象の切り替えが行われる。この切り替えにより、露光装置１０は、第２制御装置４０における更新後の制御プログラム４４２で制御されることになる。この切り替え時において、不要な初期化処理は無駄な時間となりうる。そのため、切り替えは、露光装置１０に対して、原版ステージ１２および基板ステージ１４の初期位置への駆動や原点出し駆動、キャリブレーションなどの工程を行わない方法で実現される。一例として、切り替えは、ネットワーク接続しているＬＡＮケーブルを差し替えて、ネットワークだけ再起動させることにより行われる。あるいは、ソフトウェア技術を用いて切り替えを行うことも可能である。例えば、ネットワーク仮想化や、ネットワーク接続の間に転送ポートを設けるポートフォワード等を用いて切り替えを行ってもよい。このような方法を用いれば物理的な接続に縛られない通信先の切り替えが実現可能である。第１制御装置３０と第２制御装置４０の切り替えが完了すると、露光装置１０の稼働を再開する。
【００３５】
なお、図１には一対のシミュレーション装置２０と第２制御装置４０が示されているが、複数対のシミュレーション装置２０と第２制御装置４０が設けられていてもよい。シミュレーション装置２０および第２制御装置４０は複数同時に起動することが可能であり、これによりＳ１０５では、異なる複数の制御プログラム４４２によるテストを並列で実行することができる。あるいは、それぞれに同じ制御プログラム４４２をインストールして、それぞれ互いに少なくとも一部が異なる複数の制御パラメータを適用してテストを並列で実行することもできる。この場合、Ｓ１０８では、複数の第２制御装置４０の中から選択した１つの第２情報処理装置に対して第１制御装置３０との切り替えを行う。
【００３６】
＜第２実施形態＞
次に、図６を参照して、第２実施形態を説明する。図１〜５と同じ構成要素には同じ参照符号を付しその説明を省略する。図６において、露光装置１０とシミュレーション装置２０が、第１制御装置３０に接続されている。第１制御装置３０は、同じ制御プログラム３４２および制御パラメータ３４３を用いて、露光装置１０およびシミュレーション装置２０を制御する。
【００３７】
また、露光装置１０およびシミュレーション装置２０は、分析装置６０に接続されている。分析装置６０は、露光装置１０の処理結果６１およびシミュレーション装置２０の演算結果６２を受信し、処理結果６１と演算結果６２との比較による分析を行う。シミュレーション装置２０は、経時劣化や計測騙されが無い理想的な装置モデルとして稼働させることができる。したがって、分析装置６０は、露光装置１０の処理結果６１を、シミュレーション装置２０の演算結果６２と比較し、その比較結果に基づいて、露光装置１０の経時劣化や計測騙され等による露光装置１０の状態の異常を検知する。これにより、露光不良が発生する前に再調整などのメンテナンスを行うことができる。
【００３８】
一例として、露光装置１０のキャリブレーション計測を行う場合を考える。制御パラメータ３４３には、露光装置１０のキャリブレーション計測の結果として得た、ハードウェアユニットのオフセットパラメータが含まれている。露光装置１０の各種精度性能を維持するために、個々のパラメータの経時劣化モデルの許容時間や許容露光パルス数に応じて、露光装置１０のリセット中や露光ジョブ中にキャリブレーション計測を行うことで、それらのオフセットパラメータが更新されうる。
【００３９】
例えば、露光装置１０においては、レンズや原版のガラス硝材の熱による膨張、ハードウェアの気圧変動による変形、振動による共振等の物理現象によって、経時劣化や計測騙されが発生しうる。実験的に得られたデータに基づいて、経時劣化モデルが定義されうるが、装置内全てのユニット及びその相互関係の変動に関して非線形成分を含んだ経時劣化モデルを定義し更新することは困難である。
【００４０】
本実施形態では、露光装置１０の第１位置検出部１８および第２位置検出部１９等を用いた実測により得られた処理結果６１と、シミュレーション装置２０による演算結果６２との差、及び、その差の分散値を常時監視する。これにより、複雑な非線形モデル式を持たずとも、装置の経時劣化による状態の異常を検知することが可能となり、露光不良が発生する前に再調整などのメンテナンスを行うことが可能となる。
【００４１】
＜物品製造方法の実施形態＞
本発明の実施形態における物品製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品製造方法は、上記のリソグラフィシステムを用いて基板に原版のパターンを転写する工程と、かかる工程でパターンが転写された基板を加工する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００４２】
（他の実施形態）
本発明は、上述の実施形態の１以上の機能を実現するプログラムを、ネットワーク又は記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける１つ以上のプロセッサーがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能である。また、１以上の機能を実現する回路（例えば、ＡＳＩＣ）によっても実現可能である。
【符号の説明】
【００４３】
１０：露光装置、２０：シミュレーション装置、３０：第１制御装置、４０：第２制御装置、５０：ネットワーク
【図１】
2019066692.tif 000003
【図２】
2019066692.tif 000004
【図３】
2019066692.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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