(57)【要約】【課題】低温低湿環境下で長期間繰り返し使用した際の、帯電横スジの発生と黒点の発生を抑制した電子写真感光体を提供すること。【解決手段】支持体、下引き層、および、感光層をこの順に有し、該下引き層が、結着樹脂、粒径が２０〜４０ｎｍの範囲にある酸化亜鉛粒子（Ｐ１）および粒径が４５〜６５ｎｍの範囲にある酸化亜鉛粒子（Ｐ２）を含有し、該下引き層中の全酸化亜鉛粒子の含有量の合計が、該下引き層中の該結着樹脂に対して２００〜３５０質量％であり、該下引き層中の該Ｐ２および該Ｐ１の含有量の合計が、該下引き層中の酸化亜鉛粒子の全含有量に対して５０〜１００個数％であり、該下引き層中の該Ｐ１の含有量が、該下引き層中の該Ｐ２および該Ｐ１の含有量の合計に対して５〜６０個数％であり、該下引き層における該Ｐ２の粒径の最頻値と、該Ｐ１の粒径の最頻値との差が、１０ｎｍ以上である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体、下引き層、および、感光層をこの順に有する電子写真感光体において、
該下引き層が、
結着樹脂、
粒径が２０ｎｍ以上４０ｎｍ以下の範囲にある酸化亜鉛粒子（Ｐ１）、および、
粒径が４５ｎｍ以上６５ｎｍ以下の範囲にある酸化亜鉛粒子（Ｐ２）
を含有し、
該下引き層中の全酸化亜鉛粒子の含有量の合計が、該下引き層中の該結着樹脂に対して、２００質量％以上３５０質量％以下であり、
該下引き層中の該酸化亜鉛粒子（Ｐ２）および該酸化亜鉛粒子（Ｐ１）の含有量の合計が、該下引き層中の酸化亜鉛粒子の全含有量に対して、５０個数％以上１００個数％以下であり、
該下引き層中の該酸化亜鉛粒子（Ｐ１）の含有量が、該下引き層中の該酸化亜鉛粒子（Ｐ２）および該酸化亜鉛粒子（Ｐ１）の含有量の合計に対して、５個数％以上６０個数％以下であり、
該下引き層における該酸化亜鉛粒子（Ｐ２）の粒径の最頻値と、該酸化亜鉛粒子（Ｐ１）の粒径の最頻値との差が、１０ｎｍ以上である
ことを特徴とする電子写真感光体。
【請求項２】
前記下引き層中の前記酸化亜鉛粒子（Ｐ１）の含有量が、前記下引き層中の前記酸化亜鉛粒子（Ｐ２）および前記酸化亜鉛粒子（Ｐ１）の含有量の合計に対して、１０個数％以上５０個数％以下である請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
前記下引き層中の前記酸化亜鉛粒子（Ｐ２）および前記酸化亜鉛粒子（Ｐ１）の含有量の合計が、前記下引き層中の酸化亜鉛粒子の全含有量に対して、７５個数％以上１００個数％以下である請求項１又は２に記載の電子写真感光体。
【請求項４】
前記下引き層中の前記酸化亜鉛粒子（Ｐ２）および前記酸化亜鉛粒子（Ｐ１）が、どちらも、アミノ基を有するシランカップリング剤で処理されている請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項５】
前記下引き層が、ベンゾフェノン誘導体を含有する請求項１〜４のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項７】
前記帯電手段が帯電部材を有し、該帯電部材および前記電子写真感光体が接触している請求項６に記載のプロセスカートリッジ。
【請求項８】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の電子写真感光体、ならびに、帯電手段、露光手段、現像手段および転写手段を有することを特徴とする電子写真装置。
【請求項９】
前記帯電手段が帯電部材を有し、該帯電部材および前記電子写真感光体が接触している請求項８に記載の電子写真装置。
【請求項１０】
前記電子写真装置が、前記帯電部材に直流電圧のみの電圧を印加する電源を有する請求項９に記載の電子写真装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子写真装置には、高画質の印刷物を大量に生産することが求められている。
そこで、電子写真装置において繰り返し使用される電子写真感光体（以下「感光体」とも称する）には、繰り返し使用時の電気特性に優れ、出力される画像の画質が一定であることが求められる。
特許文献１には、電子写真感光体の下引き層に比表面積の異なる二種の酸化亜鉛粒子を含有させ、ハーフトーン画像の濃度ムラ及びゴーストの発生を抑制する技術が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１５−１８４４９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明者らの検討によると、特許文献１に記載の電子写真感光体では、低温低湿環境下で長期間繰り返し使用した際（２０００００枚程度印刷した際）に、低濃度のハーフトーン画像の出力において帯電ムラに起因する電子写真感光体の長手方向（周方向に直交する方向）のスジムラ状の画像欠陥（以下「帯電横スジ」という）が問題となる場合があった。
また、特許文献１に記載の電子写真感光体では、低温低湿環境下で長期間繰り返し使用した際（２０００００枚程度印刷した際）に、出力される画像に黒点状の画像欠陥（以下「黒点」という）が発生する場合があった。
【０００５】
したがって、本発明の目的は、低温低湿環境下で長期間繰り返し使用した際の、帯電横スジの発生と黒点の発生を抑制した電子写真感光体を提供することにある。
【０００６】
また、本発明の別の目的は、上記電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の目的は以下の本発明によって達成される。すなわち、本発明にかかる電子写真感光体は、支持体、下引き層、および、感光層をこの順に有し、該下引き層が、結着樹脂、粒径が２０ｎｍ以上４０ｎｍ以下の範囲にある酸化亜鉛粒子（Ｐ１）、および、粒径が４５ｎｍ以上６５ｎｍ以下の範囲にある酸化亜鉛粒子（Ｐ２）を含有し、該下引き層中の全酸化亜鉛粒子の含有量の合計が、該下引き層中の該結着樹脂に対して、２００質量％以上３５０質量％以下であり、該下引き層中の該酸化亜鉛粒子（Ｐ２）および該酸化亜鉛粒子（Ｐ１）の含有量の合計が、該下引き層中の酸化亜鉛粒子の全含有量に対して、５０個数％以上１００個数％以下であり、該下引き層中の該酸化亜鉛粒子（Ｐ１）の含有量が、該下引き層中の該酸化亜鉛粒子（Ｐ２）および該酸化亜鉛粒子（Ｐ１）の含有量の合計に対して、５個数％以上６０個数％以下であり、該下引き層における該酸化亜鉛粒子（Ｐ２）の粒径の最頻値と、該酸化亜鉛粒子（Ｐ１）の粒径の最頻値との差が、１０ｎｍ以上であることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、低温低湿環境下で長期間繰り返し使用した際の、帯電横スジの発生と黒点の発生とを抑制可能な電子写真感光体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の電子写真感光体の層構成の１例を示す図である。
【図２】本発明の電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の１例を示す図である。
【図３】研磨シートを用いた研磨機の１例を示す図である。
【図４】（ａ）：電子写真感光体の製造例で用いたモールドを示す上面図である。（ｂ）：図４（ａ）に示されたモールドにおける凸部のＢ−Ｂ断面図である。（ｃ）：図４（ａ）に示されたモールドにおける凸部のＣ−Ｃ断面図である。
【図５】電子写真感光体の周面に凹部を形成するための圧接形状転写加工装置の１例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、好適な実施の形態を挙げて、本発明を詳細に説明する。
本発明の電子写真感光体は、支持体、該支持体上に形成された下引き層、および、該下引き層上に形成された感光層を有する電子写真感光体である。
【００１１】
感光体ドラムの帯電プロセスでは、帯電部材と感光体の間の空隙で放電を発生させ、感光体に帯電させる方式が広く用いられているが、従来の技術では、低温低湿環境下で長期間繰り返し使用した際（２０００００枚程度印刷した際）、低濃度のハーフトーン画像の出力において、帯電横スジおよび、黒点の発生が問題となる場合があった。
特に、ローラー型帯電部材である帯電ローラーを用い、帯電ローラーを電子写真感光体の表面に接触させ、帯電させるローラー型接触帯電方式の場合、帯電横スジが発生しやすいことが分かった。
【００１２】
本発明者らが検討した結果、電子写真感光体の下引き層に結着樹脂と、特定の粒径の酸化亜鉛粒子を特定の比率で含有させることで、感光体を低温低湿環境下で長期間繰り返し使用した際における、帯電横スジおよび黒点の発生を抑制できることが分かった。
【００１３】
具体的には、下引き層が、粒径が２０ｎｍ以上４０ｎｍ以下の範囲にある酸化亜鉛粒子（Ｐ１）と、粒径が４５ｎｍ以上６５ｎｍ以下の範囲にある酸化亜鉛粒子（Ｐ２）とを含有し、下引き層中において、結着樹脂に対する全酸化亜鉛粒子の含有量の比率が２００質量％以上３５０質量％以下であり、かつ、下引き層中の酸化亜鉛粒子（Ｐ１）の含有量が、下引き層中の酸化亜鉛粒子（Ｐ２）および酸化亜鉛粒子（Ｐ１）の含有量の合計（Ｐ１＋Ｐ２）に対して、５個数％以上６０個数％以下の時に、上記の効果が得られることが分かった。
【００１４】
さらに、上記の効果を十分に得るためには、下引き層に含有する酸化亜鉛粒子の全含有量（Ｐｔｏｔａｌ）に対して、酸化亜鉛粒子（Ｐ１）と酸化亜鉛粒子（Ｐ２）の含有量の合計が、５０個数％以上１００個数％以下であり、酸化亜鉛粒子（Ｐ１）の粒径の最頻値と酸化亜鉛粒子（Ｐ２）の粒径の最頻値との差が１０ｎｍ以上であることが必要であることが分かった。
【００１５】
さらにまた、下引き層中の酸化亜鉛粒子（Ｐ１）の含有量が、下引き層中の酸化亜鉛粒子（Ｐ２）および酸化亜鉛粒子（Ｐ１）の含有量の合計に対して、１０個数％以上５０個数％以下であることが、より好ましい。
さらにまた、下引き層中の酸化亜鉛粒子（Ｐ２）および酸化亜鉛粒子（Ｐ１）の含有量の合計が、下引き層中の酸化亜鉛粒子の全含有量に対して、７５個数％以上１００個数％以下であることが、より好ましい。
【００１６】
下引き層に含有される、酸化亜鉛粒子の粒径と個数の情報は、ＦＩＢ−ＳＥＭを用いて測定した。
また、下引き層に含有される樹脂と酸化亜鉛粒子の比率は、下引き層を取り出し、熱処理を行った際の質量変化から算出した。
【００１７】
感光体を長期間繰り返し使用した際に、帯電横スジの発生が抑制されるメカニズムについて、本発明者らは以下のように推測している。電子写真感光体の帯電プロセスにおいて、帯電部材からの放電によって電子写真感光体の表面が帯電される領域のうち、感光体の回転方向に対して、帯電部材の手前側を帯電領域上流と呼び、反対側の領域を帯電領域下流と呼ぶことにする。このとき、帯電領域上流側の放電で電子写真感光体の表面に電荷の付与が行われた箇所が、帯電領域下流に到達した際に、放電が不均一に発生する場合がある。その結果、電子写真感光体の表面において、電位差が発生し（帯電ムラ）、これが電子写真感光体の表面の周方向に直交する方向のスジ状の画像不良（帯電横スジ）の原因となると考えている。
【００１８】
本発明者らは、下引き層が特定の粒径の酸化亜鉛粒子と、結着樹脂とを特定の比率で含有することにより、下引き層中の導電パスが適正化され、前記の帯電領域上流で帯電した電子写真感光体の表面の部位が、帯電領域下流に到達するまでに間に、従来の感光体と比較して、大きな電位の減衰を起こしていると考えている。その結果、帯電領域下流で全体的に均一な放電が発生することで、感光体は均一に帯電され、帯電横スジが抑制されると考えている。これにより、低温低湿環境下における長期間の繰り返し使用後も、帯電横スジの抑制効果が得られていると考えている。
【００１９】
また、本発明者らは、感光体を低温低湿環境下で長期間繰り返し使用した際の、黒点の発生が抑制されるメカニズムについて、以下のように推測している。下引き層中の導電パスの形成状態の違いによって、感光体への通電による劣化の影響は異なると考えられるが、本発明では、下引き層が特定の粒径の酸化亜鉛粒子と、結着樹脂とを特定の比率で含有することにより、下引き層中の導電パスが適正化されることにより、低温低湿環境下において長期間繰り返し使用した際に、通電による感光体の劣化が抑制され、黒点の発生が抑制されると考えている。
【００２０】
以上のメカニズムのように、電子写真感光体の下引き層における各構成が相乗的に効果を及ぼし合うことによって、本発明の効果を達成することが可能となると考えている。
【００２１】
［電子写真感光体］
本発明の電子写真感光体は、例えば、図１に示すように、支持体上に下引き層を有し、さらに下引き層上に感光層を有する。図１中、１−１は支持体であり、１−２は下引き層であり、１−３は感光層である。
【００２２】
本発明の電子写真感光体を製造する方法としては、後述する各層の塗布液を調製し、所望の層の順番に塗布して、乾燥させる方法が挙げられる。このとき、塗布液の塗布方法としては、浸漬塗布、スプレー塗布、インクジェット塗布、ロール塗布、ダイ塗布、ブレード塗布、カーテン塗布、ワイヤーバー塗布、リング塗布などが挙げられる。これらの中でも、効率性及び生産性の観点から、浸漬塗布が好ましい。
【００２３】
＜支持体＞
本発明の電子写真感光体は、支持体を有し、支持体は導電性を有する導電性支持体であることが好ましい。また、支持体の形状としては、円筒状、ベルト状、シート状などが挙げられる。中でも、円筒状支持体であることが好ましい。また、支持体の表面に、陽極酸化などの電気化学的な処理や、ブラスト処理、切削処理などを施してもよい。
【００２４】
支持体の材質としては、金属、樹脂、ガラスなどが好ましい。
金属としては、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、金、ステンレスや、これらの合金などが挙げられる。中でも、アルミニウムを用いたアルミニウム製支持体であることが好ましい。
また、樹脂やガラスには、導電性材料を混合又は被覆するなどの処理によって、導電性を付与してもよい。
【００２５】
＜下引き層＞
本発明において、支持体の上に、下引き層を設ける。
前記のとおり、本発明の電子写真感光体が有する下引き層は、結着樹脂と、特定の粒径の酸化亜鉛粒子を特定の比率で含有する。また、酸化亜鉛粒子の有するＢＥＴ比表面積に関しては、ＢＥＴ比表面積が１６ｍ２／ｇ以上２１ｍ２／ｇ以下である酸化亜鉛粒子と、ＢＥＴ比表面積が２７ｍ２／ｇ以上３８ｍ２／ｇ以下である酸化亜鉛粒子を混合して用いることが好ましい。本発明の下引き層で用いられる酸化亜鉛粒子は、必要に応じて表面処理を施してあってもよい。表面処理法としては種々の方法が知られているが、例えば表面処理剤を酸化亜鉛粒子の表面に吸着または反応させて表面処理する方法や、水蒸気雰囲気中に暴露して加湿処理を施す方法などを挙げることができる。これらの表面処理方法は、複数の方法を組み合わせて用いても良い。
【００２６】
表面処理剤を用いる場合には、シランカップリング剤は表面処理剤として好適に用いることができる。
シランカップリング剤の例としては、例えば、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、（フェニルアミノメチル）メチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノイソブチルメチルジメトキシシラン、Ｎ−エチルアミノイソブチルメチルジエトキシシラン、Ｎ−メチルアミノプロピルメチルジメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。これらの中でも、アミノ基を有するアミノシランカップリング剤は特に好適に用いることができる。
【００２７】
本発明で用いられる酸化亜鉛粒子（Ｐ１）と酸化亜鉛粒子（Ｐ２）は、それぞれ同一の表面処理剤で処理されていても良く、それぞれが異なる表面処理剤または表面処理方法で処理されていても良い。また、酸化亜鉛粒子（Ｐ１）と酸化亜鉛粒子（Ｐ２）の表面処理量は互いに同一であっても良く、それぞれ異なっていても良い。
【００２８】
本発明の酸化亜鉛粒子（Ｐ１）および酸化亜鉛粒子（Ｐ２）を加湿処理する場合、その方法は任意であるが、常温環境にて水蒸気を含有する雰囲気中に酸化亜鉛粒子を一定期間暴露放置する方法や、高温高湿度に調整した恒温槽中に酸化亜鉛粒子を暴露放置する方法などを挙げることができる。
【００２９】
酸化亜鉛粒子に対し、シランカップリング剤などによる表面処理と、加湿処理の両方を行う場合、どちらの処理を先に行っても良い。例えば、先に酸化亜鉛粒子の表面をアミノシランカップリング剤で表面処理した後、その表面処理済み酸化亜鉛粒子を温度４０℃以上６０℃以下、湿度８０％ＲＨ以上９５％ＲＨ以下の環境に２４時間以上３６０時間以下の期間暴露放置することにより加湿処理する方法などを挙げることができる。
【００３０】
本発明の下引き層に用いられる結着樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂、アルキッド樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリエチレンオキシド樹脂、ポリプロピレンオキシド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミド酸樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、セルロース樹脂などが挙げられる。また、重合性官能基を有するモノマーを含有する組成物を重合することで結着樹脂として用い、硬化膜として下引き層を形成してもよい。重合性官能基を有するモノマーが有する重合性官能基としては、イソシアネート基、ブロックイソシアネート基、メチロール基、アルキル化メチロール基、エポキシ基、金属アルコキシド基、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基、カルボン酸無水物基、炭素−炭素二重結合基などが挙げられる。
【００３１】
また、下引き層は、電気特性を高める目的で、電子輸送物質、導電性高分子などを更に含有してもよい。
【００３２】
電子輸送物質としては、キノン化合物、イミド化合物、ベンズイミダゾール化合物、シクロペンタジエニリデン化合物、フルオレノン化合物、キサントン化合物、ベンゾフェノン化合物、シアノビニル化合物、ハロゲン化アリール化合物、シロール化合物、含ホウ素化合物などが挙げられる。中でもベンゾフェノン化合物は好適に用いることができる。電子輸送物質として、重合性官能基を有する電子輸送物質を用い、上述の重合性官能基を有するモノマーと共重合させることで、硬化膜として下引き層を形成してもよい。
【００３３】
導電性高分子としては、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェンなどが挙げられる。
【００３４】
また、下引き層には、下引き層の表面粗さの調整、または下引き層のひび割れ軽減などを目的として、有機樹脂粒子や、レベリング剤を更に含有させてもよい。有機樹脂粒子としては、シリコーン粒子等の疎水性有機樹脂粒子や、架橋ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）粒子等の親水性有機樹脂粒子を用いることができる。特に、ＰＭＭＡ粒子を用いると、下引き層の上に形成する電荷発生層との密着性が改善し、感光体の繰り返し使用時の電位変動を抑制することができる。
レベリング剤としては、シリコーンオイルやフッ素系オイルなどが挙げられる。
【００３５】
下引き層の平均膜厚は、０．１μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、１５μｍ以上４０μｍ以下であることがより好ましい。
【００３６】
下引き層は、上述の各材料及び溶剤を含有する下引き層用塗布液を調製し、この塗膜を支持体上に形成し、乾燥及び／又は硬化させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。
【００３７】
＜感光層＞
本発明の電子写真感光体は、下引き層の上に、感光層を有する。
電子写真感光体の感光層は、主に、（１）積層型感光層と、（２）単層型感光層とに分類される。（１）積層型感光層は、電荷発生物質を含有する電荷発生層と、電荷輸送物質を含有する電荷輸送層と、を有する。（２）単層型感光層は、電荷発生物質と電荷輸送物質を共に含有する感光層である。
【００３８】
（１）積層型感光層
積層型感光層は、電荷発生層と、電荷輸送層と、を有する。
【００３９】
（１−１）電荷発生層
電荷発生層は、電荷発生物質と、樹脂と、を含有することが好ましい。
【００４０】
電荷発生物質としては、アゾ顔料、ペリレン顔料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、フタロシアニン顔料などが挙げられる。これらの中でも、アゾ顔料、フタロシアニン顔料が好ましい。フタロシアニン顔料の中でも、オキシチタニウムフタロシアニン顔料、クロロガリウムフタロシアニン顔料、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料が好ましい。
【００４１】
電荷発生層中の電荷発生物質の含有量は、電荷発生層の全質量に対して、４０質量％以上８５質量％以下であることが好ましく、６０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましい。
【００４２】
樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、セルロース樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリビニルブチラール樹脂がより好ましい。
【００４３】
また、電荷発生層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤などの添加剤を更に含有してもよい。具体的には、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、硫黄化合物、リン化合物、ベンゾフェノン化合物、などが挙げられる。
【００４４】
電荷発生層の平均膜厚は、０．１μｍ以上１μｍ以下であることが好ましく、０．１５μｍ以上０．４μｍ以下であることがより好ましい。
【００４５】
電荷発生層は、上述の各材料及び溶剤を含有する電荷発生層用塗布液を調製し、この塗膜を下引き層上に形成し、乾燥させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。
【００４６】
（１−２）電荷輸送層
電荷輸送層は、電荷輸送物質と、樹脂と、を含有することが好ましい。
【００４７】
電荷輸送物質としては、例えば、多環芳香族化合物、複素環化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、エナミン化合物、ベンジジン化合物、トリアリールアミン化合物や、これらの物質から誘導される基を有する樹脂などが挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン化合物、ベンジジン化合物が好ましい。
【００４８】
電荷輸送層中の電荷輸送物質の含有量は、電荷輸送層の全質量に対して、２５質量％以上７０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以上５５質量％以下であることがより好ましい。
【００４９】
樹脂としては、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂が好ましい。ポリエステル樹脂としては、特にポリアリレート樹脂が好ましい。
【００５０】
電荷輸送物質と樹脂との含有量比（質量比）は、４：１０〜２０：１０が好ましく、５：１０〜１２：１０がより好ましい。
【００５１】
また、電荷輸送層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、レベリング剤、滑り性付与剤、耐摩耗性向上剤などの添加剤を含有してもよい。具体的には、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、硫黄化合物、リン化合物、ベンゾフェノン化合物、シロキサン変性樹脂、シリコーンオイル、フッ素樹脂粒子、ポリスチレン樹脂粒子、ポリエチレン樹脂粒子、シリカ粒子、アルミナ粒子、窒化ホウ素粒子などが挙げられる。
【００５２】
電荷輸送層の平均膜厚は、５μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましく、８μｍ以上４０μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以上３０μｍ以下であることが特に好ましい。
【００５３】
電荷輸送層は、上述の各材料及び溶剤を含有する電荷輸送層用塗布液を調製し、この塗膜を電荷発生層上に形成し、乾燥させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤が挙げられる。これらの溶剤の中でも、エーテル系溶剤または芳香族炭化水素系溶剤が好ましい。
【００５４】
（２）単層型感光層
単層型感光層は、電荷発生物質、電荷輸送物質、樹脂及び溶剤を含有する感光層用塗布液を調製し、この塗膜を下引き層上に形成し、乾燥させることで形成することができる。電荷発生物質、電荷輸送物質、樹脂としては、上記「（１）積層型感光層」における材料の例示と同様である。
【００５５】
＜保護層＞
本発明において、感光層の上に、保護層を設けてもよい。保護層を設けることで、耐久性を向上することができる。
【００５６】
保護層は、導電性粒子及び／又は電荷輸送物質と、樹脂とを含有することが好ましい。
導電性粒子としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物の粒子が挙げられる。
電荷輸送物質としては、多環芳香族化合物、複素環化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、エナミン化合物、ベンジジン化合物、トリアリールアミン化合物や、これらの物質から誘導される基を有する樹脂などが挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン化合物、ベンジジン化合物が好ましい。
樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。中でも、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂が好ましい。
【００５７】
また、保護層は、重合性官能基を有するモノマーを含有する組成物を重合することで硬化膜として形成してもよい。その際の反応としては、熱重合反応、光重合反応、放射線重合反応などが挙げられる。重合性官能基を有するモノマーが有する重合性官能基としては、アクリル基、メタクリル基などが挙げられる。重合性官能基を有するモノマーとして、電荷輸送能を有する材料を用いてもよい。
【００５８】
保護層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、レベリング剤、滑り性付与剤、耐摩耗性向上剤、などの添加剤を含有してもよい。具体的には、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、硫黄化合物、リン化合物、ベンゾフェノン化合物、シロキサン変性樹脂、シリコーンオイル、フッ素樹脂粒子、ポリスチレン樹脂粒子、ポリエチレン樹脂粒子、シリカ粒子、アルミナ粒子、窒化ホウ素粒子などが挙げられる。
【００５９】
保護層の平均膜厚は、０．５μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上７μｍ以下であることが好ましい。
【００６０】
保護層は、上述の各材料及び溶剤を含有する保護層用塗布液を調製し、この塗膜を感光層上に形成し、乾燥及び／又は硬化させることで形成することができる。塗布液に用いる溶剤としては、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、スルホキシド系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤が挙げられる。
【００６１】
＜電子写真感光体の表面加工＞
本発明の電子写真感光体は、該電子写真感光体に接触させるクリーニング手段（クリーニングブレード）の挙動をより安定化させる目的で、電子写真感光体の表面層に凹部または凸部を設けることや、表面層を研磨し粗さを付与することができる。
【００６２】
凹部を形成する場合は、凹部に対応した凸部を有するモールドを電子写真感光体の表面に圧接し、形状転写を行うことにより、電子写真感光体の表面に凹部を形成することができる。
凸部を形成する場合は、凸部に対応した凹部を有するモールドを電子写真感光体の表面に圧接し、形状転写を行うことにより、電子写真感光体の表面に凸部を形成することができる。
【００６３】
電子写真感光体の表面層を研磨し粗さを付与する場合は、電子写真感光体に研磨具を当接させ、いずれか一方あるいは両方を相対的に移動させて電子写真感光体の表面を研磨することにより、粗さを付与することができる。研磨具としては、基材上に研磨砥粒が結着樹脂中に分散された層を設けてなる研磨部材などが挙げられる。
【００６４】
［プロセスカートリッジ、電子写真装置］
本発明のプロセスカートリッジは、これまで述べてきた電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段及びクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とする。
【００６５】
さらに、本発明のプロセスカートリッジは、帯電手段が帯電部材を有し、該帯電部材およびこれまで述べてきた電子写真感光体が接触していることを特徴とする。
【００６６】
また、本発明の電子写真装置は、これまで述べてきた電子写真感光体、帯電手段、露光手段、現像手段及び転写手段を有することを特徴とする。
【００６７】
さらにまた、本発明の電子写真装置は、前記帯電手段が帯電部材を有し、該帯電部材およびこれまで述べてきた電子写真感光体が接触し、前記帯電部材に直流電圧のみの電圧を印加する電源を有することを特徴とする。
【００６８】
図２に、電子写真感光体を備えたプロセスカートリッジを有する電子写真装置の概略構成の一例を示す。
１は円筒状の電子写真感光体であり、軸２を中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。電子写真感光体１の表面は、帯電手段３により、正又は負の所定電位に帯電される。尚、図においては、ローラー型帯電部材によるローラー帯電方式を示しているが、その他の帯電方式を採用してもよい。ローラー帯電方式の場合、ローラー型帯電部材に印加する電圧を直流電圧のみにしたＤＣ帯電方式と、直流電圧に交流電圧を重畳したＡＣ／ＤＣ帯電方式があるが、装置コスト削減、装置小型化などの観点からはＤＣ帯電方式が好ましい。帯電された電子写真感光体１の表面には、露光手段（不図示）から露光光４が照射され、目的の画像情報に対応した静電潜像が形成される。電子写真感光体１の表面に形成された静電潜像は、現像手段５内に収容されたトナーで現像され、電子写真感光体１の表面にはトナー像が形成される。電子写真感光体１の表面に形成されたトナー像は、転写手段６により、転写材７に転写される。トナー像が転写された転写材７は、定着手段８へ搬送され、トナー像の定着処理を受け、電子写真装置の外へプリントアウトされる。電子写真装置は、転写後の電子写真感光体１の表面に残ったトナーなどの付着物を除去するための、クリーニング手段９を有していてもよい。また、クリーニング手段を別途設けず、上記付着物を現像手段などで除去する、所謂、クリーナーレスシステムを用いてもよい。電子写真装置は、電子写真感光体１の表面を、前露光手段（不図示）からの前露光光１０により除電処理する除電機構を有していてもよい。また、本発明のプロセスカートリッジ１１を電子写真装置本体に着脱するために、レールなどの案内手段１２を設けてもよい。
【００６９】
本発明の電子写真感光体は、レーザービームプリンター、ＬＥＤプリンター、複写機、ファクシミリ、及び、これらの複合機などに用いることができる。
【００７０】
［実施例及び比較例］
以下、実施例及び比較例を用いて本発明を更に詳細に説明する。本発明は、その要旨を超えない限り、下記の実施例によって何ら限定されるものではない。尚、以下の実施例の記載において、「部」とあるのは特に断りのない限り質量基準である。
【００７１】
［表面処理された酸化亜鉛の粒子の製造例］
＜表面処理されたＺｎＯ（Ａ）の製造例＞
酸化亜鉛粒子（比表面積：３０ｍ２／ｇ）１００部をトルエン５００部と撹拌混合した。これにシランカップリング剤（化合物名：Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、商品名：ＫＢＭ６０２、信越化学工業（株）製）０．８部を添加し、６時間攪拌した。その後、トルエンを減圧留去して、６時間１３０℃で乾燥（加熱乾燥）させることによって、表面処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ａ）を得た。
【００７２】
＜表面処理されたＺｎＯ（Ｂ）の製造例＞
酸化亜鉛粒子（比表面積：１９ｍ２／ｇ）１００部をトルエン５００部と撹拌混合した。これにシランカップリング剤（化合物名：Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、商品名：ＫＢＭ６０２、信越化学工業（株）製）０．８部を添加し、６時間攪拌した。その後、トルエンを減圧留去して、６時間１３０℃で乾燥（加熱乾燥）させることによって、表面処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｂ）を得た。
【００７３】
＜表面処理されたＺｎＯ（Ｃ）の製造例＞
酸化亜鉛粒子（比表面積：５５ｍ２／ｇ）１００部をトルエン５００部と撹拌混合した。これにシランカップリング剤（化合物名：Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、商品名：ＫＢＭ６０２、信越化学工業（株）製）０．８部を添加し、６時間攪拌した。その後、トルエンを減圧留去して、６時間１３０℃で乾燥（加熱乾燥）させることによって、表面処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｃ）を得た。
【００７４】
＜表面処理されたＺｎＯ（Ｄ）の製造例＞
酸化亜鉛粒子（比表面積：１５ｍ２／ｇ）１００部をトルエン５００部と撹拌混合した。これにシランカップリング剤（化合物名：Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、商品名：ＫＢＭ６０２、信越化学工業（株）製）０．８部を添加し、６時間攪拌した。その後、トルエンを減圧留去して、６時間１３０℃で乾燥（加熱乾燥）させることによって、表面処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｄ）を得た。
【００７５】
＜表面処理されたＺｎＯ（Ｅ）の製造例＞
酸化亜鉛粒子（比表面積：２８ｍ２／ｇ）１００部をトルエン５００部と撹拌混合した。これにシランカップリング剤（化合物名：Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、商品名：ＫＢＭ６０２、信越化学工業（株）製）０．８部を添加し、６時間攪拌した。その後、トルエンを減圧留去して、６時間１３０℃で乾燥（加熱乾燥）させることによって、表面処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｅ）を得た。
【００７６】
＜表面処理されたＺｎＯ（Ｆ）の製造例＞
酸化亜鉛粒子（比表面積：２１ｍ２／ｇ）１００部をトルエン５００部と撹拌混合した。これにシランカップリング剤（化合物名：Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、商品名：ＫＢＭ６０２、信越化学工業（株）製）０．８部を添加し、６時間攪拌した。その後、トルエンを減圧留去して、６時間１３０℃で乾燥（加熱乾燥）させることによって、表面処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｆ）を得た。
【００７７】
＜表面処理されたＺｎＯ（Ｇ）の製造例＞
酸化亜鉛粒子（比表面積：２６ｍ２／ｇ）１００部をトルエン５００部と撹拌混合した。これにシランカップリング剤（化合物名：Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、商品名：ＫＢＭ６０２、信越化学工業（株）製）０．８部を添加し、６時間攪拌した。その後、トルエンを減圧留去して、６時間１３０℃で乾燥（加熱乾燥）させることによって、表面処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｇ）を得た。
【００７８】
＜表面処理されたＺｎＯ（Ｈ）の製造例＞
酸化亜鉛粒子（比表面積：２３ｍ２／ｇ）１００部をトルエン５００部と撹拌混合した。これにシランカップリング剤（化合物名：Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、商品名：ＫＢＭ６０２、信越化学工業（株）製）０．８部を添加し、６時間攪拌した。その後、トルエンを減圧留去して、６時間１３０℃で乾燥（加熱乾燥）させることによって、表面処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｈ）を得た。
【００７９】
＜表面処理されたＺｎＯ（Ｉ）の製造例＞
酸化亜鉛粒子（比表面積：７．５ｍ２／ｇ）１００部をトルエン５００部と撹拌混合した。これにシランカップリング剤（化合物名：Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、商品名：ＫＢＭ６０２、信越化学工業（株）製）０．８部を添加し、６時間攪拌した。その後、トルエンを減圧留去して、６時間１３０℃で乾燥（加熱乾燥）させることによって、表面処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｉ）を得た。
【００８０】
＜表面処理されたＺｎＯ（Ｊ）の製造例＞
酸化亜鉛粒子（比表面積：３２ｍ２／ｇ）１００部をトルエン５００部と撹拌混合した。これにシランカップリング剤（化合物名：Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、商品名：ＫＢＭ６０２、信越化学工業（株）製）０．８部を添加し、６時間攪拌した。その後、トルエンを減圧留去して、６時間１３０℃で乾燥（加熱乾燥）させることによって、表面処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｊ）を得た。
【００８１】
＜表面処理されたＺｎＯ（Ｋ）の製造例＞
酸化亜鉛粒子（比表面積：１８ｍ２／ｇ）１００部をトルエン５００部と撹拌混合した。これにシランカップリング剤（化合物名：Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、商品名：ＫＢＭ６０２、信越化学工業（株）製）０．８部を添加し、６時間攪拌した。その後、トルエンを減圧留去して、６時間１３０℃で乾燥（加熱乾燥）させることによって、表面処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｋ）を得た。
【００８２】
＜表面処理されたＺｎＯ（Ｌ）の製造例＞
酸化亜鉛粒子（比表面積：３５ｍ２／ｇ）１００部をトルエン５００ｇと撹拌混合した。これにシランカップリング剤（化合物名：Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルジメトキシシラン、商品名：ＫＢＭ６０２、信越化学工業（株）製）０．５部を添加し、６時間撹拌した。その後、トルエンを減圧留去して、６時間１３０℃で乾燥（加熱乾燥）させることによって、表面処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｌ）を得た。
【００８３】
＜表面処理されたＺｎＯ（Ｍ）の製造例＞
酸化亜鉛粒子（比表面積：１７ｍ２／ｇ）１００部をトルエン５００ｇと撹拌混合した。これにシランカップリング剤（化合物名：Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルジメトキシシラン、商品名：ＫＢＭ６０２、信越化学工業（株）製）１．３部を添加し、６時間撹拌した。その後、トルエンを減圧留去して、６時間１３０℃で乾燥（加熱乾燥）させることによって、表面処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｍ）を得た。
【００８４】
＜表面処理されたＺｎＯ（Ｎ）の製造例＞
酸化亜鉛粒子（比表面積：２７ｍ２／ｇ）１００部をトルエン５００ｇと撹拌混合した。これにシランカップリング剤（化合物名：Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルジメトキシシラン、商品名：ＫＢＭ６０２、信越化学工業（株）製）１．３部を添加し、６時間撹拌した。その後、トルエンを減圧留去して、６時間１３０℃で乾燥（加熱乾燥）させることによって、表面処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｎ）を得た。
【００８５】
＜表面処理されたＺｎＯ（Ｏ）の製造例＞
酸化亜鉛粒子（比表面積：２０ｍ２／ｇ）１００部をトルエン５００ｇと撹拌混合した。これにシランカップリング剤（化合物名：Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルジメトキシシラン、商品名：ＫＢＭ６０２、信越化学工業（株）製）０．８部を添加し、６時間撹拌した。その後、トルエンを減圧留去して、６時間１３０℃で乾燥（加熱乾燥）させることによって、表面処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｏ）を得た。
【００８６】
＜加湿処理されたＺｎＯ（Ｐ）の製造例＞
表面処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ａ）を、温度２３℃、湿度５０％ＲＨに設定した恒温槽中に１００日間暴露放置し、加湿処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｐ）を得た。
【００８７】
＜加湿処理されたＺｎＯ（Ｑ）の製造例＞
表面処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｂ）を、温度２３℃、湿度５０％ＲＨに設定した恒温槽中に１００日間暴露放置し、加湿処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｑ）を得た。
【００８８】
＜加湿処理されたＺｎＯ（Ｒ）の製造例＞
表面処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ａ）を、温度５０℃、湿度９５％ＲＨに設定した恒温槽中に７日間暴露放置し、加湿処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｒ）を得た。
【００８９】
＜加湿処理されたＺｎＯ（Ｓ）の製造例＞
表面処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｂ）を、温度５０℃、湿度９５％ＲＨに設定した恒温槽中に７日間暴露放置し、加湿処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｓ）を得た。
【００９０】
〈実施例１〉
支持体（導電性支持体）として、長さ３５７．５ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ、外径３０ｍｍのアルミニウムシリンダーを用意した。用意したアルミニウムシリンダーを、旋盤を用いて表面の切削加工を行った。
切削条件として、Ｒ０．１のバイトを用い、主軸回転数＝１００００ｒｐｍ、バイトの送り速度を０．０３〜０．０６ｍｍ／ｒｐｍの範囲で連続的に変化させて加工した。
【００９１】
次に、ブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−１、積水化学工業（株）製）１５部およびブロック化イソシアネート（商品名：スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製、不揮発成分７５％）２０部を、メチルエチルケトン６５部および１−ブタノール６５部の混合溶剤に溶解させることによって、溶液を得た。この溶液に、上記表面処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ａ）を１２部、上記表面処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｂ）を６９部、下記式（１）で示される化合物（ベンゾフェノン誘導体）０．４部（東京化成工業（株）製）を加え、これを直径０．８ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル装置に入れ、２３±３℃雰囲気下で３時間分散処理した。
【化１】
2019066818.tif 000003
分散処理後、シリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レダウコーニングシリコーン社製）０．０１部、架橋ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）粒子（商品名：ＴＥＣＨＰＯＬＹＭＥＲＳＳＸ−１０２、積水化成品工業（株）製、平均一次粒径：２．５μｍ）を５．６部加えて攪拌することによって、下引き層用塗布液を調製した。
この下引き層用塗布液を上記支持体上に浸漬塗布して塗膜を形成し、この塗膜を４０分間１６０℃で乾燥（加熱乾燥）させて、膜厚が３０μｍの下引き層を形成した。
【００９２】
次に、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角２θ±０．２°の７．４°および２８．２°に強いピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶（電荷発生物質）２０部、下記式（Ａ）で示されるカリックスアレーン化合物０．２部、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学工業（株）製）１０部、および、シクロヘキサノン６００部を、直径１ｍｍガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、４時間分散処理した後、酢酸エチル６００部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。
この電荷発生層用塗布液を前記下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を１５分間８０℃で乾燥させることによって、膜厚０．１９μｍの電荷発生層を形成した。
【化２】
2019066818.tif 000004
【００９３】
次に、下記式（Ｂ）で示される化合物（電荷輸送物質）６０部、下記式（Ｃ）で示される化合物（電荷輸送物質）３０部、下記式（Ｄ）で示される化合物１０部（Ｄ）、ポリカーボネート樹脂（商品名：ユーピロンＺ４００、三菱エンジニアリングプラスチックス（株）製、ビスフェノールＺ型のポリカーボネート）１００部、下記式（Ｅ）で示されるポリカーボネート（粘度平均分子量Ｍｖ：２００００）０．０２部を、ｏ−キシレン６００部およびジメトキシメタン２００部の混合溶剤に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。
この電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜を３０分間１００℃で乾燥させることによって、膜厚１８μｍの電荷輸送層を形成した。
【化３】
2019066818.tif 000005
【００９４】
次に、下記式（Ａ１）で示される繰り返し構造単位および下記式（Ａ２）で示される繰り返し構造単位を有する樹脂（重量平均分子量：１３０，０００、共重合比（Ａ１）／（Ａ２）＝１／１（モル比））１．６５部を、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（商品名：ゼオローラＨ、日本ゼオン（株）社製）４０部及び１−プロパノール５５部の混合溶剤に溶解した。その後、四フッ化エチレン樹脂粉体（商品名：ルブロンＬ−２、ダイキン工業（株）製）３０部を加えた液を、高圧分散機（商品名：マイクロフルイダイザーＭ−１１０ＥＨ、米Ｍｉｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃｓ（株）製）に通し、分散液を得た。
その後、下記式（Ｆ）で示される正孔輸送性化合物５２．０部、下記式（Ｇ）で示される化合物（アロニックスＭ−３１５、東亞合成（株）製）１６．０部、下記式（Ｈ）で示される化合物（シグマ−アルドリッチ製）２．０部、シロキサン変性アクリル化合物０．７５部（ＢＹＫ−３５５０、ビックケミー・ジャパン（株）製）、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン３５部及び１−プロパノール１５部を前記分散液に加え、ポリフロンフィルター（商品名：ＰＦ−０４０、アドバンテック東洋（株）製）で濾過を行い、保護層用塗布液を調製した。
【００９５】
この保護層用塗布液を上記電荷輸送層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を５分間４０℃で乾燥させた。乾燥後、窒素雰囲気下にて、加速電圧７０ＫＶ、吸収線量１５ｋＧｙの条件で１．６秒間電子線を塗膜に照射した。その後、窒素雰囲気下にて、塗膜の温度が１３５℃になる条件で１５秒間加熱処理を行った。なお、電子線の照射から１５秒間の加熱処理までの酸素濃度は１５ｐｐｍであった。次に、大気中において、塗膜が１０５℃になる条件で１時間加熱処理を行い、膜厚５μｍである保護層を形成した。このようにして、凹部形成前の電子写真感光体を作製した。
【化４】
2019066818.tif 000006
【化５】
2019066818.tif 000007
【化６】
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【化７】
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【００９６】
次に、圧接形状転写加工装置に型部材（モールド）を設置し、作製した凹部形成前の電子写真感光体に対して表面加工を行った。
具体的には、概ね図５に示す構成の圧接形状転写加工装置に、図４に示すモールドを設置し、作製した凹部形成前の電子写真感光体に対して表面加工を行った。図４は、実施例および比較例で用いたモールドを示す図である。図４（ａ）はモールドの概略を示す上面図、図４（ｂ）はモールドの凸部の電子写真感光体の軸方向の概略断面図（図４（ａ）のＢ−Ｂ断面における断面図）である。図４（ｃ）はモールドの凸部の電子写真感光体の周方向の断面図（図４（ａ）のＣ−Ｃ断面の断面図）である。図４に示されるモールドは、最大幅（モールド上の凸部を上から見たときの電子写真感光体の軸方向の最大幅のこと。）Ｘ：５０μｍ、最大長さ（モールド上の凸部を上から見たときの電子写真感光体の周方向の最大長さのこと。）Ｙ：７５μｍ、面積率５６％、高さＨ：４μｍの凸形状である。なお、面積率とは、モールドを上から見たときに表面全体に占める凸部の面積の比率である。加工時には、電子写真感光体の表面の温度が１２０℃になるように電子写真感光体およびモールドの温度を制御した。そして、７．０ＭＰａの圧力で電子写真感光体と加圧部材をモールドに押し付けながら、電子写真感光体を周方向に回転させて、電子写真感光体の表面層（周面）の全面に凹部を形成した。
以上のようにして、実施例１の電子写真感光体を作製した。
【００９７】
［評価］
（帯電横スジおよび黒点の評価）
電子写真感光体の帯電横スジおよび黒点の評価は以下のように行った。
評価は温度１５℃／湿度１０％ＲＨの環境下にて行った。
評価装置として、キヤノン（株）製の複写機（商品名：ｉＲ−ＡＤＶＣ５２５０）の帯電器を、帯電ローラーを用いた直流帯電方式に改造して用いた。そして、電子写真感光体の初期暗部電位（Ｖｄ０）が−９００［Ｖ］、初期明部電位（Ｖｌ０）が−２００［Ｖ］になるように、帯電ローラーに印加する直流電圧および露光光量の条件を設定した。
感光体ドラムをプロセスカートリッジに装着し、これを上記評価装置に装着した後、画像比率３％の画像をＡ４縦サイズ紙にて２０００００枚出力した。
【００９８】
帯電横スジの評価は以下のようにして行った。
２０００００枚の画像出力後、電子写真感光体の暗部電位をＶｄが−９００［Ｖ］、明部電位（Ｖｌ）を−２００［Ｖ］に調整した後、１ドット桂馬パターンのハーフトーン画像を出力した。
ハーフトーン画像の濃度は、分光濃度計（商品名：Ｘ−Ｒｉｔｅ５０４／５０８、Ｘ−Ｒｉｔｅ（株）製）を用いて、濃度が０．１００になるように調整した。出力したハーフトーン画像に対して、目視で評価を行った。
【００９９】
画像の評価基準は以下の通りである。
Ａ：帯電横スジが全くない
Ｂ：帯電横スジが僅かに観察されるが、実用上問題ないレベル
Ｃ：実用上問題となるレベルの帯電横スジが観察される
【０１００】
黒点の評価は以下のようにして行った。
２０００００枚の画像出力後、電子写真感光体の暗部電位をＶｄが−９００［Ｖ］に調整した後、ベタ白画像を出力した。
出力したベタ白画像に対して、目視で評価を行った。
【０１０１】
画像の評価基準は以下の通りである。
Ａ：黒点が全くない
Ｂ：黒点僅かに観察されるが、実用上問題ないレベル
Ｃ：実用上問題となるレベルの黒点が観察される
【０１０２】
（下引き層の構成物の評価）
本発明においては、下引き層中の酸化亜鉛粒子の粒径と個数に関する情報は、ＦＩＢ−ＳＥＭ（ＳＩＩ／Ｚｅｉｓｓ製  ＮＶｉｓｉｏｎ４０）のＳｌｉｃｅ＆Ｖｉｅｗモードを用いて、以下のようにして得た。
【０１０３】
まず、帯電横スジ及び黒点の評価が終了した実施例１に記載した感光体に対して、感光体の層の断面が露出するように感光体を切断し、観察面を作った。下引き層の断面の観察面に対し、下引き層表面から支持体（基体）に向けて、５μｍ毎に６か所の観察領域を設定した。下引き層の断面の観察面を１０ｎｍのスライス間隔で２μｍの厚み分、スライスし、各観察領域に対して縦２μｍ×横２μｍ×厚み２μｍの範囲で画像情報を記録した。各観察領域内で無作為に選んだ酸化亜鉛粒子５０個に対して、粒径を算出した。選んだ一次粒子の最長辺をａとし、最短辺をｂとしたときの（ａ＋ｂ）／２を粒子の粒径とした。各観察領域内の粒径算出の結果を合算して、下引き層中の酸化亜鉛粒子の粒径と個数の分布を求めた。
【０１０４】
次に、下引き層中の酸化亜鉛粒子の粒径と個数の分布から、粒子径が２０ｎｍ以上４０ｎｍ以下の範囲にある酸化亜鉛粒子（Ｐ１）と、粒径が４５ｎｍ以上６５ｎｍ以下の範囲にある酸化亜鉛粒子（Ｐ２）との合計個数の該下引き層中の酸化亜鉛粒子の全個数（Ｐｔｏｔａｌ）に対する比率（（Ｐ１＋Ｐ２）／Ｐｔｏｔａｌ）を算出した。さらに、該酸化亜鉛粒子（Ｐ１）および該酸化亜鉛粒子（Ｐ２）の合計個数に対する酸化亜鉛粒子（Ｐ１）の個数の比率（Ｐ１／（Ｐ１＋Ｐ２））を算出した。
【０１０５】
また、求めた下引き層中の酸化亜鉛粒子の粒径と個数の分布に対して、粒径を２．５ｎｍ毎に区切り階級分けをし、粒子径が２０ｎｍ以上４０ｎｍ以下の範囲にある酸化亜鉛粒子（Ｐ１）に対して、粒径の最頻値（Ｐ１ｍ）を算出し、同様に粒径が４５ｎｍ以上６５ｎｍ以下の範囲にある酸化亜鉛粒子（Ｐ２）に対して粒径の最頻値（Ｐ２ｍ）を算出し、その最頻値の差（Ｐ２ｍ−Ｐ１ｍ）を求めた。個数が同じ粒径の階級が複数あった場合、酸化亜鉛粒子（Ｐ１）の粒径範囲では、粒径が一番大きい階級を（Ｐ１ｍ）とし、酸化亜鉛粒子（Ｐ２）の粒径範囲では、粒径が一番小さい階級を（Ｐ２ｍ）とした。
【０１０６】
また、帯電横スジ及び黒点の評価が終了した感光体に対して、下引き層上に積層された層を除去した後、下引き層を固形物として取り出し、熱処理を与えながら質量変化を測定することで、下引き層中の結着樹脂（Ｂ）に対する、全酸化亜鉛粒子（Ｐ）の質量比率（Ｐ/Ｂ）を算出した。
【０１０７】
〈実施例２〉
実施例１において、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ａ）の使用量を１２部から２部に変更し、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｂ）の使用量を６９部から７９部に変更した。それ以外は、実施例１と同様にして、実施例２の下引き層用塗布液を調製した。
実施例２の下引き層用塗布液を用いて下引き層を支持体上に形成した以外は、実施例１と同様にして、実施例２の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１０８】
〈実施例３〉
実施例１において、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ａ）の使用量を１２部から４部に変更し、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｂ）の使用量を６９部から７７部に変更した。それ以外は、実施例１と同様にして、実施例３の下引き層用塗布液を調製した。
実施例３の下引き層用塗布液を用いて下引き層を支持体上に形成した以外は、実施例１と同様にして、実施例３の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１０９】
〈実施例４〉
実施例１において、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ａ）の使用量を１２部から２０部に変更し、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｂ）の使用量を６９部から６１部に変更した。それ以外は、実施例１と同様にして、実施例４の下引き層用塗布液を調製した。
実施例４の下引き層用塗布液を用いて下引き層を支持体上に形成した以外は、実施例１と同様にして、実施例４の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１１０】
〈実施例５〉
実施例１において、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ａ）の使用量を１２部から２４部に変更し、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｂ）の使用量を６９部から５７部に変更した。それ以外は、実施例１と同様にして、実施例５の下引き層用塗布液を調製した。
実施例５の下引き層用塗布液を用いて下引き層を支持体上に形成した以外は、実施例１と同様にして、実施例５の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１１１】
〈実施例６〉
実施例１において、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ａ）の使用量を１２部から１０部に変更し、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｂ）の使用量を６９部から６３部に変更した。さらに、ＺｎＯ（Ｃ）４部、ＺｎＯ（Ｄ）４部を加え、下引き層用塗布液を調製した。それ以外は、実施例１と同様にして、実施例６の下引き層用塗布液を調製した。
実施例６の下引き層用塗布液を用いて下引き層を支持体上に形成した以外は、実施例１と同様にして、実施例６の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１１２】
〈実施例７〉
実施例６において、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ａ）の使用量を１０部から８部に変更し、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｂ）の使用量を６３部から４５部に変更した。さらに、ＺｎＯ（Ｃ）の使用量を４部から６部に変更し、ＺｎＯ（Ｄ）の使用量を４部から２２部に変更した。それ以外は、実施例６と同様にして、実施例７の下引き層用塗布液を調製した。
実施例７の下引き層用塗布液を用いて下引き層を支持体上に形成した以外は、実施例６と同様にして、実施例７の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１１３】
〈実施例８〉
実施例１において、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ａ）の代わりに酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｊ）、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｂ）の代わりに酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｋ）を使用して、下引き層用塗布液を調製した。それ以外は、実施例１と同様にして、実施例８の下引き層用塗布液を調製した。
実施例８の下引き層用塗布液を用いて下引き層を支持体上に形成した以外は、実施例１と同様にして、実施例８の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１１４】
〈実施例９〉
実施例１において、ブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−１、積水化学工業（株）製）の使用量を１５部から２０部に変更した。また、ブロック化イソシアネート（商品名：スミジュール３１７５、住友バイエルウレタン社製、不揮発成分７５％）の使用量を２０部から２７部に変更した。それ以外は、実施例１と同様にして、実施例９の下引き層用塗布液を調製した。
実施例９の下引き層用塗布液を用いて下引き層を支持体上に形成した以外は、実施例１と同様にして、実施例９の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１１５】
〈実施例１０〉
実施例１において、ブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−１、積水化学工業（株）製）の使用量を１５部から１１．５部に変更した。また、ブロック化イソシアネート（商品名：スミジュール３１７５、住友バイエルウレタン社製、不揮発成分７５％）の使用量を２０部から１５．５部に変更した。それ以外は、実施例１と同様にして、実施例１０の下引き層用塗布液を調製した。
実施例１０の下引き層用塗布液を用いて下引き層を支持体上に形成した以外は、実施例１と同様にして、実施例１０の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１１６】
〈実施例１１〉
実施例１において、酸化亜鉛粒子としてＺｎＯ（Ａ）、ＺｎＯ（Ｂ）を使用せずに、ＺｎＯ（Ｅ）を１２部、ＺｎＯ（Ｆ）６９部を使用して、下引き層用塗布液を調製した。それ以外は、実施例１と同様にして、実施例１１の下引き層用塗布液を調製した。
実施例１１の下引き層用塗布液を用いて下引き層を支持体上に形成した以外は、実施例１と同様にして、実施例１１の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１１７】
〈実施例１２〉
実施例１において、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ａ）の代わりにシランカップリング処理をしていない酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ａ２）（比表面積：３０ｍ２／ｇ）、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｂ）の代わりにシランカップリング処理をしていない酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｂ２）（比表面積：１９ｍ２／ｇ）を使用して、下引き層用塗布液を調製した。それ以外は、実施例１と同様にして、実施例１２の下引き層用塗布液を調製した。
実施例１２の下引き層用塗布液を用いて下引き層を支持体上に形成した以外は、実施例１と同様にして、実施例１２の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１１８】
〈実施例１３〉
実施例１において、構造式（１）で示される化合物（ベンゾフェノン誘導体）（東京化成工業（株）製）を使用せずに下引き層用塗布液を調製した。
それ以外は、実施例１と同様にして、実施例１３の下引き層用塗布液を調製した。
実施例１３の下引き層用塗布液を用いて下引き層を支持体上に形成した以外は、実施例１と同様にして、実施例１３の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１１９】
〈実施例１４〉
実施例１２において、構造式（１）で示される化合物（ベンゾフェノン誘導体）（東京化成工業（株）製）を使用せずに下引き層用塗布液を調製した。
それ以外は、実施例１２と同様にして、実施例１４の下引き層用塗布液を調製した。
実施例１４の下引き層用塗布液を用いて下引き層を支持体上に形成した以外は、実施例１２と同様にして、実施例１４の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１２０】
〈実施例１５〉
ブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−１、積水化学工業（株）製）２０部およびブロック化イソシアネート（商品名：スミジュール３１７５、住友バイエルウレタン社製、不揮発成分７５％）２７部を、メチルエチルケトン６５部および１−ブタノール６５部の混合溶剤に溶解させることによって、溶液を得た。この溶液に、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｅ）３部、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｆ）５２部、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｃ）１部、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｄ）２５部を加え、これを直径０．８ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル装置に入れ、２３±３℃雰囲気下で３時間分散処理した。
分散処理後、シリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レダウコーニングシリコーン社製）０．０１部、架橋ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）粒子（商品名：ＴＥＣＨＰＯＬＹＭＥＲＳＳＸ−１０２、積水化成品工業（株）製、平均一次粒径：２．５μｍ）を５．６部加えて攪拌することによって、実施例１５の下引き層用塗布液を調製した。
実施例１５の下引き層用塗布液を用いて支持体上に下引き層を形成した以外は、実施例１と同様にして、実施例１５の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１２１】
〈実施例１６〉
実施例１において、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ａ）の使用量を１２部から２４部に変更し、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｂ）の使用量を６９部から５７部に変更した。また、ブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−１、積水化学工業（株）製）の使用量を１５部から１１．５部に変更し、ブロック化イソシアネート（商品名：スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製、不揮発成分７５％）の使用量を２０部から１５．５部に変更した。それ以外は、実施例１と同様にして、実施例１６の下引き層用塗布液を調製した。
実施例１６の下引き層用塗布液を用いて下引き層を支持体上に形成した以外は、実施例１と同様にして、実施例１６の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１２２】
〈実施例１７〉
実施例１において、下引き層の膜厚を３０μｍから１８μｍに変更し、その他は実施例１と同様に電荷輸送層の形成までを行った。
【０１２３】
次に、フッ素原子含有樹脂（商品名：ＧＦ−３００、東亞合成（株）社製）１．５部を、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（商品名：ゼオローラＨ、日本ゼオン（株）社製）４５部及び１−プロパノール４５部の混合溶剤に溶解した。
この液に、四フッ化エチレン樹脂粉体（商品名：ルブロンＬ−２、ダイキン工業（株）製）３０部を加え、この液を高圧分散機（商品名：マイクロフルイダイザーＭ−１１０ＥＨ、米Ｍｉｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃｓ（株）製）に通し、分散液を得た。その後、構造式（Ｆ）で示される正孔輸送性化合物７０部、および、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン３０部及び１−プロパノール３０部を前記分散液に加え、ポリフロンフィルター（商品名：ＰＦ−０４０、アドバンテック東洋（株）製）で濾過を行い、保護層用塗布液を調製した。
この保護層用塗布液を上記電荷輸送層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を５分間５０℃で乾燥させた。乾燥後、窒素雰囲気下にて、加速電圧７０ｋＶ、吸収線量５０００Ｇｙの条件で１．６秒間電子線を塗膜に照射した。その後、窒素雰囲気下にて、塗膜の温度が１２０℃になる条件で１時間加熱処理を行い、膜厚５μｍである保護層を形成した。
【０１２４】
その後、電子写真感光体の表面を研磨した。研磨は図３の研磨装置を用い、以下の条件で行った。
研磨シートの送りスピード；４００ｍｍ/ｍｉｎ
電子写真感光体の回転数；４５０ｒｐｍ
電子写真感光体のバックアップローラーへの押し込み；３．５ｍｍ
研磨シートと電子写真感光体の回転方向；ウィズ
バックアップローラー；外径１００ｍｍ、アスカーＣ硬度２５
研磨装置に装着する研磨シート１０１は、理研コランダム株式会社製のＧＣ３０００とＧＣ２０００に用いられている研磨砥粒を混合して作製した。
ＧＣ３０００（研磨シート表面粗さＲａ０．８３μｍ）
ＧＣ２０００（研磨シート表面粗さＲａ１．４５μｍ）
研磨シート１０１（研磨シート表面粗さＲａ１．１２μｍ）
研磨シート１０１を用いた研磨の時間は２０秒間とした。
製造した電子写真感光体に対して、実施例１と同様にして、評価を行った。
【０１２５】
図３中、研磨シート１０１は中空の軸１０６に巻かれており、軸１０６に研磨シート１０１が送られる方向と逆方向に、研磨シート１０１に張力が与えられるようモーター（不図示）が配置されている。研磨シート１０１は矢印方向に送られ、ガイドローラー１０２ａ、１０２ｂを介してバックアップローラー１０３を通り、研磨後の研磨シート１０１はガイドローラー１０２ｃ、１０２ｄを介してモーター（不図示）により巻き取り手段１０５に巻き取られる。研磨は、研磨シート１０１を被処理体（研磨を行う前の電子写真感光体）１０４に常時圧接して行われる。研磨シート１０１は絶縁性であることが多いため、研磨シート１０１の接する部位には、アースに接地されたものまたは導電性を有するものを用いることが好ましい。研磨シート１０１の送りスピードは１０〜１０００ｍｍ／ｍｉｎの範囲が好ましい。送り量が少ないと、研磨シート１０１表面への結着樹脂の付着、これに起因して被処理体１０４表面に深傷が生じる場合がある。被処理体１０４は、研磨シート１０１を介してバックアップローラー１０３と対向した位置に置かれる。バックアップローラー１０３は被処理体１０４の表面粗さの均一性を向上させる観点から、弾性体であることが好ましい。この際、研磨シート１０１を介して被処理体１０４とバックアップローラー１０３が所望の設定値で所定の時間押し当てられ、被処理体１０４の表面が研磨される。被処理体１０４の回転方向は、研磨シート１０１の送られる方向と同一であってもよいし、対向であってもよい。また、研磨の途中で回転方向を変更してもよい。被処理体１０４の表面粗さは、研磨シート１０１の送りスピード、バックアップローラー１０３の押し当て圧、研磨シートの砥粒種、研磨シートの結着樹脂の膜厚、基材の厚みなどを適宜選択することにより調整できる。
【０１２６】
<実施例１８>
実施例１において、下引層用塗布液の形成方法を以下のように変更した。
ブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−１、積水化学工業（株）製）１５部およびブロック化イソシアネート（商品名：デュラネートＴＰＡ−Ｂ８０Ｅ、不揮発分８０質量％、旭化成ケミカルズ（株）製）１５部を、メチルエチルケトン６５部および１−ブタノール６５部の混合溶剤に溶解させることによって、溶液を得た。この溶液に、上記表面処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｌ）１０部、上記表面処理された酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｍ）７１部、下記式（１）で示される化合物（ベンゾフェノン誘導体）０．４部（東京化成工業（株）製）を加え、これを直径０．８ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミル装置に入れ、２３±３℃雰囲気下で３時間分散処理した。
【化８】
2019066818.tif 000010
分散処理後、シリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レダウコーニングシリコーン社製）０．０１部、架橋ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）粒子（商品名：ＴＥＣＨＰＯＬＹＭＥＲ  ＳＳＸ−１０３、積水化成品工業（株）製、平均一次粒径：３μｍ）を５．６部加えて攪拌することによって、下引き層用塗布液を調製した。
この下引き層用塗布液を上記支持体上に浸漬塗布して塗膜を形成し、この塗膜を４０分間１６０℃で乾燥（加熱乾燥）させて、膜厚が３０μｍの下引き層を形成した。
それ以外は実施例１と同様にして、実施例１８の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１２７】
<実施例１９>
実施例１８において、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｌ）１０部を酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｎ）１０部に変更し、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｍ）７１部を酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｏ）７１部に変更した。それ以外は、実施例１８と同様にして、実施例１９の下引き層用塗布液を調製した。
実施例１９の下引き層用塗布液を用いて下引き層を支持体上に形成した以外は、実施例１８と同様にして、実施例１９の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１２８】
<実施例２０>
実施例１８において、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｌ）１０部を酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｐ）６部に変更し、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｍ）７１部を酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｑ）７５部に変更した。それ以外は、実施例１８と同様にして、実施例２０の下引き層用塗布液を調製した。
実施例２０の下引き層用塗布液を用いて下引き層を支持体上に形成した以外は、実施例１８と同様にして、実施例２０の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１２９】
<実施例２１>
実施例１８において、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｌ）１０部を酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｒ）６部に変更し、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（M）７１部を酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｓ）７５に変更した。それ以外は、実施例１８と同様にして、実施例２１の下引き層用塗布液を調製した。
実施例２１の下引き層用塗布液を用いて下引き層を支持体上に形成した以外は、実施例１８と同様にして、実施例２１の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１３０】
〈比較例１〉
実施例１において、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ａ）の使用量を１２部から１部に変更し、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｂ）の使用量を６９部から８０部に変更した。それ以外は、実施例１と同様にして、比較例１の下引き層用塗布液を調製した。
比較例１の下引き層用塗布液を用いて下引き層を支持体上に形成した以外は、実施例１と同様にして、比較例１の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１３１】
〈比較例２〉
実施例１において、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ａ）の使用量を１２部から２８部に変更し、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｂ）の使用量を６９部から５３部に変更した。それ以外は、実施例１と同様にして、比較例２の下引き層用塗布液を調製した。
比較例２の下引き層用塗布液を用いて下引き層を支持体上に形成した以外は、実施例１と同様にして、比較例２の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１３２】
〈比較例３〉
実施例６において、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ａ）の使用量を１０部から７部に変更し、酸化亜鉛粒子ＺｎＯ（Ｂ）の使用量を６３部から４３部に変更した。さらに、ＺｎＯ（Ｃ）の使用量を４部から６部に変更し、ＺｎＯ（Ｄ）の使用量を４部から２５部に変更して、下引き層用塗布液を調製した。それ以外は、実施例６と同様にして、比較例３の下引き層用塗布液を調製した。
比較例３の下引き層用塗布液を用いて下引き層を支持体上に形成した以外は、実施例６と同様にして、比較例３の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１３３】
〈比較例４〉
実施例１において、ブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−１、積水化学工業（株）製）の使用量を１５部から２２部に変更した。また、ブロック化イソシアネート（商品名：スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製、不揮発成分７５％）の使用量を２０部から２９部に変更した。それ以外は、実施例１と同様にして、比較例４の下引き層用塗布液を調製した。
比較例４の下引き層用塗布液を用いて下引き層を支持体上に形成した以外は、実施例１と同様にして、比較例４の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１３４】
〈比較例５〉
実施例１において、ブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−１、積水化学工業（株）製）の使用量を１５部から１０部に変更した。また、ブロック化イソシアネート（商品名：スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製、不揮発成分７５％）の使用量を２０部から１４部に変更した。それ以外は、実施例１と同様にして、比較例５の下引き層用塗布液を調製した。
比較例５の下引き層用塗布液を用いて下引き層を支持体上に形成した以外は、実施例１と同様にして、比較例５の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１３５】
〈比較例６〉
実施例１において、酸化亜鉛粒子としてＺｎＯ（Ａ）、ＺｎＯ（Ｂ）を使用せずに、ＺｎＯ（Ｇ）を１２部、ＺｎＯ（Ｈ）６９部を使用して、下引き層用塗布液を調製した。それ以外は、実施例１と同様にして、比較例６の下引き層用塗布液を調製した。
比較例６の下引き層用塗布液を用いて下引き層を支持体上に形成した以外は、実施例１と同様にして、比較例６の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１３６】
〈比較例７〉
実施例１において、酸化亜鉛粒子としてＺｎＯ（Ａ）を使用せずに、ＺｎＯ（Ｂ）を６９部から７２部に変更した。さらに、ＺｎＯ（Ｉ）を９部加えて、下引き層用塗布液を調製した。それ以外は、実施例１と同様にして、比較例７の下引き層用塗布液を調製した。
比較例７の下引き層用塗布液を用いて下引き層を支持体上に形成した以外は、実施例１と同様にして、比較例７の電子写真感光体を製造し、帯電横スジおよび黒点の評価、ならびに下引き層の構成物の評価を行った。
【０１３７】
（評価結果）
実施例１〜２１および、比較例１〜７について、下引き層の構成物の評価および、帯電横スジ・黒点の評価の結果を、表１に示す。
【０１３８】
【表１】
2019066818.tif 000011
【符号の説明】
【０１３９】
１−１  支持体
１−２  下引き層
１−３  感光層
１  電子写真感光体
２  軸
３  帯電手段
４  露光光
５  現像手段
６  転写手段
７  転写材
８  定着手段
９  クリーニング手段
１０  前露光光
１１  プロセスカートリッジ
１２  案内手段
１０１  研磨シート
１０２ａ  ガイドローラー
１０２ｂ  ガイドローラー
１０３  バックアップローラー
１０４  被処理体（研磨を行う前の電子写真感光体）
１０５  巻き取り手段
１０６  中空の軸
５−１  被処理体（加工を行う前の電子写真感光体）
５−２  モールド型
５−３  加圧部材
５−４  支持部材
【図１】
2019066818.tif 000012
【図２】
2019066818.tif 000013
【図３】
2019066818.tif 000014
【図４】
2019066818.tif 000015
【図５】
2019066818.tif 000016