(57)【要約】      （修正有）【課題】パドルの動作によるめっき液の液面の揺動を低減するめっき装置及びめっき方法の提供。【解決手段】基板にめっきをするめっき装置であって、めっき液を収容するように構成されるめっき槽と、前記めっき槽内に配置され、前記めっき液を撹拌するように構成されるパドル１６と、前記めっき槽内に配置され、前記めっき液が通過する流路を有し、前記流路を通過する前記めっき液の流速を上昇させて前記めっき液が形成する波のエネルギーを減衰させるように構成されたポリエチレンネットのような液面揺動低減部材６０と、を有する。【選択図】図６
2019073742.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板にめっきをするめっき装置であって、
めっき液を収容するように構成されるめっき槽と、
前記めっき槽内に配置され、前記めっき液を撹拌するように構成されるパドルと、
前記めっき槽内に配置され、前記めっき液が通過する流路を有し、前記流路を通過する前記めっき液の流速を上昇させて前記めっき液が形成する波のエネルギーを減衰させるように構成された液面揺動低減部材と、を有する、めっき装置。
【請求項２】
請求項１に記載されためっき装置において、
前記めっき槽は、前記基板とアノードとを互いに対向させて収容したときに、前記基板側に位置する第１側壁と、前記第１側壁と対向し、前記アノード側に位置する第２側壁と、を有し、
前記液面揺動低減部材は、前記パドルと前記第１側壁との間に配置される、めっき装置。
【請求項３】
請求項２に記載されためっき装置において、
前記めっき槽は、前記第１側壁と前記第２側壁とを接続する、第３側壁及び第４側壁を有し、
前記液面揺動低減部材の少なくとも一部は、前記第３側壁及び前記第４側壁から離間して配置される、めっき装置。
【請求項４】
請求項３に記載されためっき装置において、
前記液面揺動低減部材は、前記めっき槽内に配置される基板の前記第３側壁側及び前記第４側壁側の少なくとも一方に配置される、めっき装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一項に記載されためっき装置において、
前記パドルは、前記めっき槽内に配置される基板の被めっき面に沿って略水平に直線往復運動するように構成され、
前記液面揺動低減部材の鉛直方向長さは、前記パドルの前記めっき液に浸漬した部分の鉛直方向長さよりも長い、めっき装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか一項に記載されためっき装置において、
前記液面揺動低減部材は、複数の開口を有するネットである、めっき装置。
【請求項７】
請求項６に記載されためっき装置において、
前記液面揺動低減部材は、前記開口が互いにずれるように前記ネットが重なる部分を有する、めっき装置。
【請求項８】
基板にめっきをするめっき方法であって、
めっき槽に基板及びアノードを収容する工程と、
前記めっき槽に収容されためっき液を撹拌する工程と、
前記めっき槽内の前記めっき液に所定の流路を通過させ、前記流路を通過する前記めっき液の流速を上昇させて前記めっき液が形成する波のエネルギーを減衰させる液面揺動低減工程と、を有する、めっき方法。
【請求項９】
請求項８に記載されためっき方法において、
前記めっき槽は、前記基板と前記アノードとを互いに対向させて収容したときに、前記基板側に位置する第１側壁と、前記第１側壁と対向し、前記アノード側に位置する第２側壁と、を有し、
前記めっき液を撹拌する工程は、パドルを用いて前記めっき液を撹拌することを含み、
前記液面揺動低減工程は、前記パドルと前記第１側壁との間に配置された液面揺動低減部材が有する前記所定の流路に前記めっき液を通過させる工程を含む、めっき方法。
【請求項１０】
請求項９に記載されためっき方法において、
前記めっき槽は、前記第１側壁と前記第２側壁とを接続する、第３側壁及び第４側壁を有し、
前記液面揺動低減工程は、前記第３側壁及び前記第４側壁から離間して配置された前記液面揺動低減部材の少なくとも一部が有する前記所定の流路に前記めっき液を通過させる工程を含む、めっき方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載されためっき方法において、
前記液面揺動低減工程は、前記めっき槽内に配置される前記基板の前記第３側壁側及び前記第４側壁側の少なくとも一方に配置された前記液面揺動低減部材が有する前記所定の流路に前記めっき液を通過させる工程を含む、めっき方法。
【請求項１２】
請求項８から１１のいずれか一項に記載されためっき方法において、
前記めっき液を撹拌する工程は、前記めっき槽内に配置された前記基板の被めっき面に沿って略水平にパドルを直線往復運動させる工程を含み、
前記液面揺動低減工程は、前記パドルの前記めっき液に浸漬した部分の鉛直方向長さよりも長い鉛直方向長さを有する前記液面揺動低減部材が有する前記所定の流路に前記めっき液を通過させる工程を含む、めっき方法。
【請求項１３】
請求項８から１２のいずれか一項に記載されためっき方法において、
前記液面揺動低減部材は、複数の開口を有するネットである、めっき方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載されためっき方法において、
前記液面揺動低減工程は、前記開口が互いにずれるように前記ネットを重ねる工程を含む、めっき方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、めっき装置及びめっき方法に関する。
【０００２】
いわゆるディップ方式を採用した電解めっき装置として、内部にめっき液を収容するめっき槽と、めっき槽の内部に互いに対向するように配置される基板及びアノードと、アノードと基板との間に配置される調整板とを有する電解めっき装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。この電解めっき装置は、調整板と基板との間のめっき液を撹拌するためのパドルを有する。パドルは、基板の表面に沿って往復方向に移動することにより、基板表面付近のめっき液を撹拌する。
【０００３】
近年、めっき装置の生産性を向上させるため、所定の膜厚のめっき膜を成膜するのに要するめっき時間を短くすることが求められている。あるめっき面積に対して、より短時間で所定の膜厚のめっきを行うためには、より高い電流を流して高いめっき速度でめっきを行うこと、すなわち高電流密度でめっきを行うことが必要である。このような高電流密度でめっきを行うとき、パドルを高速で動かして、基板表面へのイオンの供給を促進することにより、めっきの品質を向上させている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開番号ＷＯ２００４／００９８７９
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年では、パドルの移動速度を一層高速にすることが求められている。しかしながら、パドルの移動速度を高速にすると、めっき液の液面の揺動が大きくなり、めっき槽からめっき液が飛び出てしまう虞がある。めっき液がめっき槽から飛び出ると、めっき液のロスが生じる。また、めっき槽から飛び出ためっき液がめっき装置の他の部分に付着した場合には、めっき装置の清掃等の手間がかかる。
【０００６】
本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、その目的の一つは、パドルの動作によるめっき液の液面の揺動を低減することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一形態によれば、基板にめっきをするめっき装置が提供される。このめっき装置は、めっき液を収容するように構成されるめっき槽と、前記めっき槽内に配置され、前記めっき液を撹拌するように構成されるパドルと、前記めっき槽内に配置され、前記めっき液が通過する流路を有し、前記流路を通過する前記めっき液の流速を上昇させて前記めっき液が形成する波のエネルギーを減衰させるように構成された液面揺動低減部材と、を有する。
【０００８】
本発明の他の一形態によれば、基板にめっきをするめっき方法が提供される。このめっき方法は、めっき槽に基板及びアノードを収容する工程と、前記めっき槽に収容されためっき液を撹拌する工程と、前記めっき槽内の前記めっき液に所定の流路を通過させ、前記流路を通過する前記めっき液の流速を上昇させて前記めっき液が形成する波のエネルギーを減衰させる液面揺動低減工程と、を有する。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本実施形態にかかるめっき装置の全体配置図である。
【図２】図１に示した基板ホルダの概略斜視図である。
【図３】図１に示しためっきユニットの１つのめっき槽を示す概略縦断図である。
【図４】めっき槽とパドルの駆動機構とを示す正面図である。
【図５】本実施形態に係る液面揺動低減部材の一例を示す斜視図である。
【図６】図４の矢視６−６における液面揺動低減部材が配置されためっき槽の概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。以下で説明する図面において、同一の又は相当する構成要素には、同一の符号を付して重複した説明を省略する。
【００１１】
図１は、本実施形態にかかるめっき装置の全体配置図である。図１に示すように、このめっき装置は、２台のカセットテーブル１０２と、基板のオリフラ（オリエンテーションフラット）やノッチなどの位置を所定の方向に合わせるアライナ１０４と、めっき処理後の基板を高速回転させて乾燥させるスピンリンスドライヤ１０６とを有する。カセットテーブル１０２は、半導体ウェハ等の基板を収納したカセット１００を搭載する。スピンリンスドライヤ１０６の近くには、基板ホルダ１１を載置して基板の着脱を行う基板着脱部１２０が設けられている。基板着脱部１２０は、レール１５０に沿って横方向にスライド自在な平板状の載置プレート１５２を備えている。２個の基板ホルダ１１は、この載置プレート１５２に水平状態で並列に載置され、一方の基板ホルダ１１と基板搬送装置１２２との間で基板の受渡しが行われた後、載置プレート１５２が横方向にスライドされ、他方の基板ホルダ１１と基板搬送装置１２２との間で基板の受渡しが行われる。これらのユニット１００，１０４，１０６，１２０の中央には、これらのユニット間で基板を搬送する搬送用ロボットからなる基板搬送装置１２２が配置されている。
【００１２】
めっき装置は、さらに、ストッカ１２４と、プリウェット槽１２６と、プリソーク槽１２８と、第１洗浄槽１３０ａと、ブロー槽１３２と、第２洗浄槽１３０ｂと、めっきユニット１０と、を有する。ストッカ１２４では、基板ホルダ１１の保管及び一時仮置きが行われる。プリウェット槽１２６では、基板が純水に浸漬される。プリソーク槽１２８では、基板の表面に形成したシード層等の導電層の表面の酸化膜がエッチング除去される。第１洗浄槽１３０ａでは、プリソーク後の基板が基板ホルダ１１と共に洗浄液（純水等）で洗浄される。ブロー槽１３２では、洗浄後の基板の液切りが行われる。第２洗浄槽１３０ｂでは、めっき後の基板が基板ホルダ１１と共に洗浄液で洗浄される。基板着脱部１２０、ストッカ１２４、プリウェット槽１２６、プリソーク槽１２８、第１洗浄槽１３０ａ、ブロー槽１３２、第２洗浄槽１３０ｂ、及びめっきユニット１０は、この順に配置されている。
【００１３】
めっきユニット１０は、例えば、隣接した複数のめっき槽１４の外周をオーバーフロー槽１３６が取り囲んで構成されている。各めっき槽１４は、内部に１つの基板を収納し、内部に保持しためっき液中に基板を浸漬させて基板表面に銅めっき等のめっきを施すように構成されている。
【００１４】
めっき装置は、これらの各機器の側方に位置して、これらの各機器の間で基板ホルダ１１を基板とともに搬送する、例えばリニアモータ方式を採用した基板ホルダ搬送装置１４０を有する。この基板ホルダ搬送装置１４０は、第１トランスポータ１４２と、第２トランスポータ１４４を有している。第１トランスポータ１４２は、基板着脱部１２０、ストッカ１２４、プリウェット槽１２６、プリソーク槽１２８、第１洗浄槽１３０ａ、及びブロー槽１３２との間で基板を搬送するように構成される。第２トランスポータ１４４は、第１洗浄槽１３０ａ、第２洗浄槽１３０ｂ、ブロー槽１３２、及びめっきユニット１０と
の間で基板を搬送するように構成される。めっき装置は、第２トランスポータ１４４を備えることなく、第１トランスポータ１４２のみを備えるようにしてもよい。
【００１５】
オーバーフロー槽１３６の両側には、各めっき槽１４の内部に位置してめっき槽１４内のめっき液を攪拌する掻き混ぜ棒としてのパドル１６（図３参照）を駆動する、パドル駆動部４２及びパドル従動部１６０が配置されている。
【００１６】
図２は、図１に示した基板ホルダ１１の概略斜視図である。図２に示すように、基板ホルダ１１は、例えば塩化ビニル製で矩形平板状の第１保持部材１１Ａと、この第１保持部材１１Ａにヒンジ部１１Ｂを介して開閉自在に取り付けた第２保持部材１１Ｃとを有している。第２保持部材１１Ｃは、ヒンジ部１１Ｂに接続される基部１１Ｄと、基板を第１保持部材１１Ａに押えつけるための押えリング１１Ｆと、リング状のシールホルダ１１Ｅと、を有する。シールホルダ１１Ｅは押えリング１１Ｆに対して摺動可能に構成される。このシールホルダ１１Ｅは、例えば塩化ビニルで構成され、これにより、押えリング１１Ｆとの滑りがよくなっている。本実施形態では、めっき装置はウェハ等の円形の基板を処理するものとして説明するが、これに限らず、矩形状の基板を処理することもできる。
【００１７】
図３は、図１に示しためっきユニット１０の１つのめっき槽１４を示す概略縦断図である。図中では、オーバーフロー槽１３６は省略されている。めっき槽１４は、内部にめっき液Ｑを保持し、オーバーフロー槽１３６との間でめっき液Ｑが循環するように構成される。
【００１８】
めっき槽１４には、基板Ｗを着脱自在に保持した基板ホルダ１１が収納される。基板ホルダ１１は、基板Ｗが鉛直状態でめっき液Ｑに浸漬されるように、めっき槽１４内に配置される。めっき槽１４内の基板Ｗに対向する位置には、アノードホルダ２８に保持されたアノード２６が配置される。アノード２６としては、例えば、含リン銅が使用され得る。基板Ｗとアノード２６は、めっき電源３０を介して電気的に接続され、基板Ｗとアノード２６との間に電流を流すことにより基板Ｗの表面にめっき膜（銅膜）が形成される。めっき槽１４は、基板Ｗとアノード２６とを対向配置したときに、基板Ｗ側に位置する第１側壁１４ａと、アノード２６側に位置する第２側壁１４ｂとを有する。
【００１９】
基板Ｗとアノード２６との間には、基板Ｗの表面と平行に往復移動してめっき液Ｑを攪拌するパドル１６が配置される。本実施形態では、パドル１６は略水平方向に往復移動するように構成されるが、これに限らず、鉛直方向に往復移動するように構成されてもよい。めっき液Ｑをパドル１６で攪拌することで、銅イオンを基板Ｗの表面に均一に供給することができる。また、パドル１６とアノード２６との間には、基板Ｗの全面に亘る電位分布をより均一にするための誘電体からなる調整板（レギュレーションプレート）３４が配置される。調整板３４は、開口を有する板状の本体部５２と、本体部５２の開口に沿って取り付けられる筒状部５０と、を有する。アノード２６と基板Ｗとの間の電位分布は、調整板３４の開口の大きさ、形状によって調整される。
【００２０】
図４は、めっき槽１４とパドル１６の駆動機構とを示す正面図である。図４に示すように、パドル１６は、全体として矩形板状部材で構成され、複数の長穴１６ａを平行に有し、これにより鉛直方向に延びる複数の格子部１６ｂを有する。パドル１６の材質は、例えばチタンにテフロン（登録商標）コートを施した材質である。
【００２１】
長穴１６ａの幅及び数は、格子部１６ｂが効率良くめっき液を攪拌し、めっき液が長穴１６ａを効率良く通り抜けるように、格子部１６ｂが必要な剛性を有しつつ可能な限り細くなるように決定することが好ましい。また、格子部１６ｂの断面形状は、矩形、三角形、ひし形等、任意の形状であり得る。
【００２２】
パドル１６は、パドル１６の上端に固着したクランプ３６によって、略水平方向に延びるシャフト３８に固定される。シャフト３８は、左右に摺動可能にシャフト保持部４０に保持される。シャフト３８の端部は、パドル１６を左右に直線往復運動させるパドル駆動部４２及びパドル従動部１６０に連結される。パドル駆動部４２は、モータ４４の回転をクランク機構やスコッチ・ヨーク機構等の運動変換機構４３によりシャフト３８の直線往復運動に変換する。この例では、パドル駆動部４２のモータ４４の回転速度及び位相を制御する制御部４６が備えられている。
【００２３】
めっき槽１４は、図３に示した第１側壁１４ａと第２側壁１４ｂとを接続する、第３側壁１４ｃ及び第４側壁１４ｄを有する。なお、図４においては１つのめっき槽１４のみが示されているが、図１に示したように、２つ以上のめっき槽１４が横方向に隣接して配置されてもよい。その場合は、一つのパドル駆動部４２及びパドル従動部１６０によって、２つ以上のパドル１６が往復運動するように、シャフト３８に２つ以上のパドルが固定される。
【００２４】
図３及び図４に示すめっき槽１４において、パドル１６が高速で往復移動すると、めっき液Ｑの液面が揺動し、めっき液Ｑがめっき槽１４から飛び出る虞がある。そこで、本実施形態では、パドル１６の動作によるめっき液Ｑの液面の揺動を低減するために、液面揺動低減部材をめっき槽１４内に配置して、めっき液Ｑに浸漬させる。液面揺動低減部材は、めっき槽１４内のめっき液Ｑが通過する流路を有し、この流路を通過するめっき液Ｑの流速を上昇させる。これにより、めっき液Ｑが形成する波のエネルギーを減衰させて、液面の揺動を低減する。
【００２５】
図５は、本実施形態に係る液面揺動低減部材の一例を示す斜視図である。図６は、図３の矢視６−６における液面揺動低減部材が配置されためっき槽１４の概略断面図である。図５に示すように、本実施形態の液面揺動低減部材は、複数の開口（流路に相当する）を有するネット６０から構成される。ネット６０は、例えば、ポリエチレン等の樹脂で形成することができる。本実施形態では、ネット６０の開口の形状は一例として、１．５ｍｍ×１．５ｍｍの矩形である。図５及び図６に示すように、ネット６０は略筒状に形成され、その端部がブラケット６１に、例えばエポキシ樹脂系接着剤等で接着される。ブラケット６１は、例えばチタンで形成することができる。
【００２６】
図６に示すように、ネット６０は、ブラケット６１をめっき槽１４の壁面に固定することにより、めっき槽１４内に配置される。このとき、ネット６０の鉛直方向の長さは、図３及び図４に示したパドル１６のめっき液Ｑに浸漬した部分の鉛直方向長さよりも長いことが好ましい。これにより、パドル１６のめっき液Ｑに浸漬した部分の全体によって形成されるめっき液Ｑの波（流れ）のエネルギーを減衰させることができる。
【００２７】
パドル１６が直線運動すると、パドル１６と第１側壁１４ａとの間のめっき液Ｑ、即ち基板ホルダ１１が収納される部分のめっき液Ｑが大きく揺動する。特に、めっき槽１４でめっき処理をしていないとき、即ちめっき槽１４に基板ホルダ１１が一時的に収納されていないときにパドル１６が動作し続けた場合に、この揺動が最も大きくなる。このため、図６に示すように、ネット６０は、パドル１６と、めっき槽１４の第１側壁１４ａとの間に配置されることが好ましい。なお、ネット６０を配置するための他のスペースがめっき槽１４内に存在する場合は、ネット６０を配置する場所は限られない。
【００２８】
また、図６に示すように、ネット６０の少なくとも一部が、第３側壁１４ｃ及び第４側壁１４ｄから離間して配置されることが好ましい。具体的には、ネット６０は、図６に示すようにめっき槽１４内に配置されたとき中央側に位置する第１部分６２と、側壁側に位
置する第２部分６３とを有する。即ち、本実施形態においては、第１部分６２が第３側壁１４ｃ及び第４側壁１４ｄから離間して配置される。これにより、ネット６０の第１部分６２と第３側壁１４ｃ又は第４隔壁との間に遊水部が形成され、第１部分６２の開口を通過しためっき液Ｑが遊水部に流れ込むときに、めっき液Ｑの波（流れ）のエネルギーを効率よく減衰させることができる。
【００２９】
図６に示すようにネット６０がめっき槽１４内に配置された場合、めっき液Ｑが主に通過するのは第１部分６２である。即ち、めっき液Ｑの波（流れ）のエネルギーを主に減衰させるのは、ネット６０の第１部分６２である。このため、本実施形態においては、ネット６０の第１部分６２及び第２部分６３を含む全体が網状物から構成されているが、少なくとも第３側壁１４ｃ又は第４側壁１４ｄから離間した第１部分６２が開口を有する部材から形成されていればよい。したがって、ネット６０の第１部分６２を除いた部分は、例えば第１部分６２を支持する任意の支持部材で形成されていてもよい。
【００３０】
また、基板ホルダ１１を収容する空間を確保するために、ネット６０は、基板ホルダ１１の収容を妨げない場所に配置されることが好ましい。具体的には、ネット６０は、基板Ｗを保持した基板ホルダ１１の第３側壁１４ｃ側及び第４側壁１４ｄ側の少なくとも一方に配置されることが好ましい。本実施形態では、図６に示されるように、ネット６０は基板ホルダ１１の第３側壁１４ｃ側及び第４側壁１４ｄ側にそれぞれ配置されている。
【００３１】
本実施形態においては、ネット６０はパドル１６の往復移動方向に対向する位置に配置されている。パドル１６の往復移動による波の進行方向に対向するようにネット６０を配置しているので、波のエネルギーを効率よく減衰させることができる。ただし、パドルの往復移動によって発生するめっき液Ｑの流れは複雑（例えば渦の発生）であり、ネット６０を配置する場所はこれに限られない。
【００３２】
本実施形態の液面揺動低減部材として、複数枚のネット６０を重ねて構成することもできる。その場合、液面揺動低減部材は、それぞれのネット６０の開口が互いにずれるように、ネット６０が重なる部分を有することが好ましい。本実施形態では、２枚のネット６０を開口が互いにずれるように重ねて略筒状に形成している。すなわち、ネット６０の第１部分６２は２枚のネットを重ねて構成されている。これにより、複数枚のネット６０により形成される開口の大きさが細かくなり、この開口を通過するめっき液Ｑの波（流れ）のエネルギーを効率よく減衰することができる。ネット６０の開口の大きさや配置は、パドルの移動速度、移動範囲、めっき槽の大きさに応じて、適宜選定される。
【００３３】
また、本実施形態では、液面揺動低減部材としてネット６０を採用しているが、これに限らず、めっき液Ｑが通過する流路を有する任意の部材を採用することができる。例えば、液面揺動低減部材は、小孔を有するスポンジ部材、開口を有するパンチングプレート、スリットプレート、及びめっき液Ｑが通過可能な布であってもよい。また、複数のブロックを積み上げてブロック間に開口を形成することで、液面揺動低減部材を構成することもできる。
【００３４】
次に、本実施形態に係るめっき装置におけるめっき方法を説明する。まず、図６に示すように、液面揺動低減部材としてネット６０をめっき槽１４内に予め配置しておく。具体的には、ネット６０は、パドル１６と第１側壁との間に配置され得る。また、ネット６０は、めっき槽１４内に配置される基板Ｗ（又は基板ホルダ１１）の第３側壁１４ｃ側及び第４側壁１４ｄ側の少なくとも一方に配置され得る。ネット６０の少なくとも一部は、第３側壁１４ｃ及び第４側壁１４ｄから離間して配置され得る。上述したように、液面揺動低減部材は、複数枚のネット６０を開口が互いにずれるように重ねて形成してもよい。
【００３５】
続いて、図３に示すように、めっき槽１４に基板Ｗ及びアノード２６を、それぞれ基板ホルダ１１及びアノードホルダ２８に保持させた状態で収容する。パドル１６を基板Ｗの被めっき面に沿って略水平に直線往復運動させて、めっき槽１４に収容されためっき液Ｑを撹拌しながら、基板Ｗとアノード２６との間に電圧を印加する。このとき、ネット６０は、めっき槽１４内のめっき液Ｑがネット６０の開口（流路）を通過することで、開口を通過するめっき液Ｑの流速を上昇させてめっき液Ｑが形成する波のエネルギーを減衰させることができる。
【００３６】
以上、本発明の実施形態について説明したが、上述した発明の実施の形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明にはその等価物が含まれることはもちろんである。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、特許請求の範囲及び明細書に記載された各構成要素の任意の組み合わせ、又は省略が可能である。
【００３７】
以下に本明細書が開示する形態のいくつかを記載しておく。
第１形態によれば、基板にめっきをするめっき装置が提供される。このめっき装置は、めっき液を収容するように構成されるめっき槽と、前記めっき槽内に配置され、前記めっき液を撹拌するように構成されるパドルと、前記めっき槽内に配置され、前記めっき液が通過する流路を有し、前記流路を通過する前記めっき液の流速を上昇させて前記めっき液が形成する波のエネルギーを減衰させるように構成された液面揺動低減部材と、を有する。
【００３８】
第１形態によれば、液面揺動低減部材により、パドルによって撹拌されためっき液が形成する波のエネルギーを減衰させることができる。それにより、パドルの動作によるめっき液の液面の揺動を低減することができる。
【００３９】
第２形態によれば、第１形態に記載されためっき装置において、前記めっき槽は、前記基板とアノードとを互いに対向させて収容したときに、前記基板側に位置する第１側壁と、前記第１側壁と対向し、前記アノード側に位置する第２側壁と、を有し、前記液面揺動低減部材は、前記パドルと前記第１側壁との間に配置される。
【００４０】
パドルが動作すると、パドルと第１側壁との間のめっき液、即ち基板が収納される部分のめっき液が大きく揺動する。特に、めっき槽でめっき処理をしていないとき、即ちめっき槽に基板が一時的に収納されていないときにパドルが動作し続けた場合に、この揺動が最も大きくなる。第２形態によれば、液面揺動低減部材がパドルと第１側壁との間に配置されるので、めっき液が大きく揺動するパドルと第１側壁との間の液面の揺動を効率よく低減することができる。
【００４１】
第３形態によれば、第２形態に記載されためっき装置において、前記めっき槽は、前記第１側壁と前記第２側壁とを接続する、第３側壁及び第４側壁を有し、前記液面揺動低減部材の少なくとも一部は、前記第３側壁及び前記第４側壁から離間して配置される。
【００４２】
第３形態によれば、液面揺動低減部材の少なくとも一部が、第３側壁及び第４側壁から離間して配置される。これにより、液面揺動低減部材の一部と第３側壁又は第４隔壁との間に遊水部が形成され、液面揺動低減部材の流路を通過しためっき液が遊水部に流れ込むときに、めっき液の波（流れ）のエネルギーを効率よく減衰させることができる。
【００４３】
第４形態によれば、第３形態に記載されためっき装置において、前記液面揺動低減部材は、前記めっき槽内に配置される基板の前記第３側壁側及び前記第４側壁側の少なくとも
一方に配置される。
【００４４】
第４形態によれば、液面揺動低減部材が、基板の収容を妨げることがない。
【００４５】
第５形態によれば、第１から第４形態のいずれかに記載されためっき装置において、前記パドルは、前記めっき槽内に配置される基板の被めっき面に沿って略水平に直線往復運動するように構成され、前記液面揺動低減部材の鉛直方向長さは、前記パドルの前記めっき液に浸漬した部分の鉛直方向長さよりも長い。
【００４６】
第５形態によれば、液面揺動低減部材が、パドルのめっき液に浸漬した部分の全体によって形成されるめっき液の波（流れ）のエネルギーを減衰させることができる。
【００４７】
第６形態によれば、第１から第５形態のいずれかに記載されためっき装置において、前記液面揺動低減部材は、複数の開口を有するネットである。
【００４８】
第６形態によれば、安価な材料で液面揺動低減部材を構成することができる。
【００４９】
第７形態によれば、第６形態に記載されためっき装置において、前記液面揺動低減部材は、前記開口が互いにずれるように前記ネットが重なる部分を有する。
【００５０】
第７形態によれば、ネットにより形成される開口の大きさが細かくなり、この開口を通過するめっき液の波（流れ）のエネルギーを効率よく減衰することができる。
【００５１】
第８形態によれば、基板にめっきをするめっき方法が提供される。このめっき方法は、めっき槽に基板及びアノードを収容する工程と、前記めっき槽に収容されためっき液を撹拌する工程と、前記めっき槽内の前記めっき液に所定の流路を通過させ、前記流路を通過する前記めっき液の流速を上昇させて前記めっき液が形成する波のエネルギーを減衰させる液面揺動低減工程と、を有する。
【００５２】
第８形態によれば、パドルによって撹拌されためっき液が形成する波のエネルギーを減衰させることができる。それにより、パドルの動作によるめっき液の液面の揺動を低減することができる。
【００５３】
第９形態によれば、第８形態に記載されためっき方法において、前記めっき槽は、前記基板と前記アノードとを互いに対向させて収容したときに、前記基板側に位置する第１側壁と、前記第１側壁と対向し、前記アノード側に位置する第２側壁と、を有し、前記めっき液を撹拌する工程は、パドルを用いて前記めっき液を撹拌することを含み、前記液面揺動低減工程は、前記パドルと前記第１側壁との間に配置された液面揺動低減部材が有する前記所定の流路に前記めっき液を通過させる工程を含む。
【００５４】
パドルが動作すると、パドルと第１側壁との間のめっき液、即ち基板が収納される部分のめっき液が大きく揺動する。特に、めっき槽でめっき処理をしていないとき、即ちめっき槽に基板が一時的に収納されていないときにパドルが動作し続けた場合に、この揺動が最も大きくなる。第９形態によれば、液面揺動低減部材がパドルと第１側壁との間に配置されるので、めっき液が大きく揺動するパドルと第１側壁との間の液面の揺動を効率よく低減することができる。
【００５５】
第１０形態によれば、第９形態に記載されためっき方法において、前記めっき槽は、前記第１側壁と前記第２側壁とを接続する、第３側壁及び第４側壁を有し、前記液面揺動低減工程は、前記第３側壁及び前記第４側壁から離間して配置された前記液面揺動低減部材
の少なくとも一部が有する前記所定の流路に前記めっき液を通過させる工程を含む。
【００５６】
第１０形態によれば、液面揺動低減部材の少なくとも一部が、第３側壁及び第４側壁から離間して配置される。これにより、液面揺動低減部材の一部と第３側壁又は第４隔壁との間に遊水部が形成され、液面揺動低減部材の流路を通過しためっき液が遊水部に流れ込むときに、めっき液の波（流れ）のエネルギーを効率よく減衰させることができる。
【００５７】
第１１形態によれば、第１０形態に記載されためっき方法において、前記液面揺動低減工程は、前記めっき槽内に配置される前記基板の前記第３側壁側及び前記第４側壁側の少なくとも一方に配置された前記液面揺動低減部材が有する前記所定の流路に前記めっき液を通過させる工程を含む。
【００５８】
第１１形態によれば、液面揺動低減部材が、基板の収容を妨げることがない。
【００５９】
第１２形態によれば、第８から第１１形態のいずれか一項に記載されためっき方法において、前記めっき液を撹拌する工程は、前記めっき槽内に配置された前記基板の被めっき面に沿って略水平にパドルを直線往復運動させる工程を含み、前記液面揺動低減工程は、前記パドルの前記めっき液に浸漬した部分の鉛直方向長さよりも長い鉛直方向長さを有する前記液面揺動低減部材が有する前記所定の流路に前記めっき液を通過させる工程を含む。
【００６０】
第１２形態によれば、液面揺動低減部材が、パドルのめっき液に浸漬した部分の全体によって形成されるめっき液の波（流れ）のエネルギーを減衰させることができる。
【００６１】
第１３形態によれば、第８から第１１形態のいずれか一項に記載されためっき方法において、前記液面揺動低減部材は、複数の開口を有するネットである。
【００６２】
第１３形態によれば、安価な材料で液面揺動低減部材を構成することができる。
【００６３】
第１４形態によれば、第１３形態に記載されためっき方法において、前記液面揺動低減工程は、前記開口が互いにずれるように前記ネットを重ねる工程を含む。
【００６４】
第１４形態によれば、ネットにより形成される開口の大きさが細かくなり、この開口を通過するめっき液の波（流れ）のエネルギーを効率よく減衰することができる。
【符号の説明】
【００６５】
１１…基板ホルダ
１４…めっき槽
１４ａ…第１側壁
１４ｂ…第２側壁
１４ｃ…第３側壁
１４ｄ…第４側壁
１６…パドル
２６…アノード
６０…ネット
６２…第１部分
６３…第２部分
Ｑ…めっき液
Ｗ…基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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