(57)【要約】【課題】生産効率の高い液晶表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】本開示の液晶表示装置の製造方法は、複数のソース線と複数のゲート線を含む第１の基板を準備する第１基板準備工程と、カラーフィルタを含む第２の基板を準備する第２基板準備工程と、前記第１の基板と前記第２の基板とを第１のシール部材により貼り合わせ貼り合わせる基板貼り合わせ工程と、を含み、前記基板貼り合わせにおいて、前記第１のシール部材の少なくとも一部が、平面視において前記カラーフィルタと重畳されるように、前記第１のシール部材を配置する。【選択図】図１
2019124734.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のソース線と複数のゲート線を含む第１の基板を準備する第１基板準備工程と、
カラーフィルタを含む第２の基板を準備する第２基板準備工程と、
前記第１の基板と前記第２の基板とを第１のシール部材により貼り合わせ貼り合わせる基板貼り合わせ工程と、
を含み、
前記基板貼り合わせにおいて、前記第１のシール部材の少なくとも一部が、平面視において前記カラーフィルタと重畳されるように、前記第１のシール部材を配置する、
液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記基板貼り合わせ工程において、前記液晶表示装置の外形の少なくとも一部を構成する第１の辺に沿う領域で、前記第１のシール部材と、前記カラーフィルタとが、平面視で重畳されるように、前記第１のシール部材を配置する、
請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記カラーフィルタと平面視で重畳する第１の切断線に沿って前記第２の基板を切断する第１切断工程を更に含む、
請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記複数のソース線と前記複数のゲート線の少なくとも一方と平面視で重畳する第２の切断線に沿って前記第１の基板を分断する第２切断工程を更に含む、
請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記第１基板準備工程において、第１の表示パネル領域と、前記第１の表示パネル領域と隣り合うよう配置された第２の表示パネル領域と、を含む前記第１の基板を準備し、
前記第２の基板における、前記第１の表示パネル領域の駆動回路が搭載される辺を切断すると共に、前記第２の表示パネル領域の駆動回路が搭載されない辺を切断する第３切断工程を更に含む、
請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記基板貼り合わせ工程において、前記第２の基板における１つの前記カラーフィルタの形成領域が、前記第１の基板における相互に電気的に絶縁された複数のＴＦＴアレイの形成領域と対向する、
請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記第１の辺に沿う領域において、前記第２の基板の表示面側に遮光テープを配置する遮光テープ貼り付け工程を更に含む、
請求項２に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記第１のシール部材とは異なる第２のシール部材を、平面視において前記カラーフィルタと重畳されない、前記第１の辺に沿う領域とは異なる領域に配置する第２シール部材配置工程を更に含む、
請求項２に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記第１のシール部材が、第１の樹脂材と、前記第１の樹脂材に含有された第１の含有材と、を含み、
前記第２のシール部材が、第２の樹脂材と、前記第２の樹脂材に含有された第２の含有材と、を含み、
前記第１の含有材の平均粒径が、前記第２の含有材の平均粒径よりも小さい、
請求項８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記第１のカラーフィルタが形成された領域において、前記第１のシール部材と並走する第３のシール部材を配置する第３シール部材配置を更に含む、
請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１１】
前記第１の辺において、前記第２の基板の端面を覆う樹脂膜を形成する樹脂膜形成工程を更に含む、
請求項２に記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、液晶表示装置の製造方法は、薄膜トランジスタ基板を製造する工程と、カラーフィルタを含むカラーフィルタ基板を製造する工程と、シール部材を用いて両基板を貼り合せる工程と、両基板を貼り合せた後に、表示パネルのサイズに切断する工程とを含んでいる。カラーフィルタ基板を製造する工程では、一般的に、予め表示パネルの外形に合わせて準備されたマスクを用いてカラーフィルタを形成している（例えば特許文献１を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１３−１５２３１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記従来の製造方法では、生産効率の更なる向上が課題となっていた。即ち、上記従来の製造方法においては、それぞれサイズの異なる表示パネルの外形に合わせて、カラーフィルタ形成用のマスクを個別に準備する必要があるため、生産効率の更なる向上が課題となっていた。
【０００５】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、生産効率の高い液晶表示装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本開示に係る液晶表示装置の製造方法は、複数のソース線と複数のゲート線を含む第１の基板を準備する第１基板準備工程と、カラーフィルタを含む第２の基板を準備する第２基板準備工程と、前記第１の基板と前記第２の基板とを第１のシール部材により貼り合わせ貼り合わせる基板貼り合わせ工程と、を含み、前記基板貼り合わせにおいて、前記第１のシール部材の少なくとも一部が、平面視において前記カラーフィルタと重畳されるように、前記第１のシール部材を配置する。
【０００７】
本開示に係る液晶表示装置の製造方法は、前記基板貼り合わせ工程において、前記液晶表示装置の外形の少なくとも一部を構成する第１の辺に沿う領域で、前記第１のシール部材と、前記カラーフィルタとが、平面視で重畳されるように、前記第１のシール部材を配置してもよい。
【０００８】
本開示に係る液晶表示装置の製造方法は、前記カラーフィルタと平面視で重畳する第１の切断線に沿って前記第２の基板を切断する第１切断工程を更に含む製造方法としてもよい。
【０００９】
本開示に係る液晶表示装置の製造方法は、前記複数のソース線と前記複数のゲート線の少なくとも一方と平面視で重畳する第２の切断線に沿って前記第１の基板を分断する第２切断工程を更に含む製造方法としてもよい。
【００１０】
本開示に係る液晶表示装置の製造方法は、前記第１基板準備工程において、第１の表示パネル領域と、前記第１の表示パネル領域と隣り合うよう配置された第２の表示パネル領域と、を含む前記第１の基板を準備し、前記第２の基板における、前記第１の表示パネル領域の駆動回路が搭載される辺を切断すると共に、前記第２の表示パネル領域の駆動回路が搭載されない辺を切断する第３切断工程を更に含む製造方法としてもよい。
【００１１】
本開示に係る液晶表示装置の製造方法は、前記基板貼り合わせ工程において、前記第２の基板における１つの前記カラーフィルタの形成領域が、前記第１の基板における相互に電気的に絶縁された複数のＴＦＴアレイの形成領域と対向する製造方法としてもよい。
【００１２】
本開示に係る液晶表示装置の製造方法は、前記第１の辺に沿う領域において、前記第２の基板の表示面側に遮光テープを配置する遮光テープ配置工程を更に含む製造方法としてもよい。
【００１３】
本開示に係る液晶表示装置の製造方法は、前記第１のシール部材とは異なる第２のシール部材を、平面視において前記カラーフィルタと重畳されない、前記第１の辺に沿う領域とは異なる領域に配置する第２シール部材配置工程を更に含む製造方法としてもよい。
【００１４】
本開示に係る液晶表示装置の製造方法は、前記第１のシール部材が、第１の樹脂材と、前記第１の樹脂材に含有された第１の含有材と、を含み、前記第２のシール部材が、第２の樹脂材と、前記第２の樹脂材に含有された第２の含有材と、を含み、前記第１の含有材の平均粒径が、前記第２の含有材の平均粒径よりも小さい製造方法としてもよい。
【００１５】
本開示に係る液晶表示装置の製造方法は、前記第１のカラーフィルタが形成された領域において、前記第１のシール部材と並走する第３のシール部材を配置する第３シール部材配置を更に含む製造方法としてもよい。
【００１６】
本開示に係る液晶表示装置の製造方法は、前記第１の辺において、前記第２の基板の端面を覆う樹脂膜を形成する樹脂膜形成工程を更に含む製造方法としてもよい。
【発明の効果】
【００１７】
本開示に係る液晶表示装置の製造方法によれば、生産効率の更なる向上を図ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】図１は第１の実施形態に係る液晶表示装置の概略構成を示す模式的な平面図である。
【図２】図２は第１の実施形態に係る表示パネルのＴＦＴアレイの概略構成を示す模式的な平面図である。
【図３】図３は第１の実施形態に係る表示パネルの画素の構成を示す模式的な平面図である。
【図４】図４は図３のＢ−Ｂ´線における断面を示す断面図である。
【図５】図５は図３のＣ−Ｃ´線における断面を示す断面図である。
【図６】図６は第１の実施形態に係る液晶表示装置の製造方法における基板貼り合せ工程後の状態を示す平面図である。
【図７】図７は図１のVII−VII線における断面を示す断面図である。
【図８】図８は図１のVIII−VIII線における断面を示す断面図である。
【図９】図９は図１のIX−IX線における断面を示す断面図である。
【図１０】図１０は第１の実施形態に係る液晶表示装置の製造方法における樹脂膜形成工程後の状態を示す断面図である。
【図１１】図１１は図６のXI−XI線における断面を示す断面図である。
【図１２】図１２は図６のXII−XII線における断面を示す断面図である。
【図１３】図１３は図６のXIII−XIII線における断面を示す断面図である。
【図１４】図１４は第１の実施形態に係る液晶表示装置の製造方法における第３切断工程を説明するための図である。
【図１５】図１５は第１の実施形態に係る液晶表示装置の製造方法における剥離工程を説明するための図である。
【図１６】図１６は本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法の他の実施例における基板貼り合せ工程後の状態を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
［第１の実施形態］
以下、第１の実施形態について、図面を用いて説明する。
【００２０】
［液晶表示装置］
本開示の第１の実施形態における液晶表示装置について、図面を用いて以下に説明する。本実施形態では、ＣＯＧ（Chip On Glass）方式の液晶表示装置を例に挙げるが、これに限定されず、例えばＣＯＦ（Chip On Film）方式又はＴＣＰ（Tape Carrier Package）方式の液晶表示装置であってもよい。
【００２１】
図１は、本実施形態に係る液晶表示装置１の概略構成を示す平面図である。液晶表示装置１は、表示パネル１０、ソースドライバＩＣ（Integrated Circuit）２０、ゲートドライバＩＣ３０、及び、バックライト（図示せず）を含んで構成されている。表示パネル１０は、複数のソース線と複数のゲート線を含む薄膜トランジスタ基板１００（第１の基板）、カラーフィルタを含むカラーフィルタ基板２００（第２の基板）、及び、両基板間に挟持された液晶層（図示せず）を含んでいる。
【００２２】
薄膜トランジスタ基板１００におけるソース辺（第２の辺）に沿った領域には、ソースドライバＩＣ２０が複数搭載され、ゲート辺（第３の辺）に沿った領域には、ゲートドライバＩＣ３０が複数搭載される。ソースドライバＩＣ２０及びゲートドライバＩＣ３０の数は限定されない。なお、本実施形態において、ソース辺に対向する辺を反ソース辺（第１の辺）とし、ゲート辺に対向する辺を反ゲート辺（第４の辺）とする。
【００２３】
本実施形態においては、ゲートドライバＩＣ３０が搭載されるゲート辺のみならず、ゲートドライバＩＣ３０が搭載されない反ゲート辺においても、薄膜トランジスタ基板１００とカラーフィルタ基板２００とが、平面視で重畳されない構成としている。より具体的には、カラーフィルタ基板２００側から見た平面視において、薄膜トランジスタ基板１００が、ゲート辺、及び反ゲート辺において露出する構成としている。
【００２４】
表示パネル１０は、ブラックマトリクス額縁領域４０と、平面視でブラックマトリクス額縁領域４０の外周側に配置されたカラーフィルタ素子層非形成領域４１と、平面視でブラックマトリクス額縁領域４０の内周側に配置された表示領域４２と、平面視で表示領域４２よりも反ソース辺側（反ソース辺に沿う領域）に配置された黒画像表示領域４３と、平面視で黒画像表示領域４３よりも更に反ソース辺側（反ソース辺に沿う領域）に配置されたＴＦＴ（thin film transistor）アレイ非形成領域４４と、を含む。
【００２５】
ブラックマトリクス額縁領域４０とは、カラーフィルタ基板２００において、ガラス基板とオーバコート層とに挟持されたブラックマトリクス２２２（図７、８を参照）が額縁形状に形成された３次元の領域である。本実施形態においては、ブラックマトリクス額縁領域４０が、ゲート辺、ソース辺、及び反ゲート辺に沿うように配置されているが、反ソース辺に沿うようには配置されておらず、反ソース辺においては、その両端部のみに配置されている。
【００２６】
カラーフィルタ素子層非形成領域４１とは、カラーフィルタ基板２００において、カラーフィルタ２０６及びブラックマトリクス２２２を含むカラーフィルタ素子層２２０（図７、８を参照）が形成されていない３次元の領域であり、画像を表示することができない領域である。本実施形態においては、カラーフィルタ素子層非形成領域４１が、ゲート辺、ソース辺、及び反ゲート辺に沿うように配置されているが、反ソース辺に沿うようには配置されておらず、反ソース辺においては、その両端部のみに配置されている。
【００２７】
本実施形態においては、このカラーフィルタ素子層非形成領域４１における、薄膜トランジスタ基板１００とカラーフィルタ基板２００との間に、第２のシール部材３１０Ｂを配置し、両基板を貼り合わせる構成としている。従って、ソース辺、ゲート辺、及び反ゲート辺においては、第２のシール部材３１０Ｂとカラーフィルタ２０６とが平面視で重畳されない。
【００２８】
表示領域４２とは、カラーフィルタ基板２００において、カラーフィルタ２０６及びブラックマトリクス２２２を含むカラーフィルタ素子層２２０が形成された３次元の領域であり、ソースドライバＩＣ２０からデータ信号、及びゲートドライバＩＣ３０からゲート信号を制御することにより、所望の映像を表示することが可能な領域である。
【００２９】
ＴＦＴアレイ非形成領域４４とは、薄膜トランジスタ基板１００において、図２を用いて後述するＴＦＴアレイ２２が形成されていない３次元の領域であり、画像を表示することができない領域である。なお、ＴＦＴアレイ非形成領域の一部において、ソース線やゲート線の一部が含まれている構成としても構わない。
【００３０】
本実施形態においては、このＴＦＴアレイ非形成領域４４における、薄膜トランジスタ基板１００とカラーフィルタ基板２００との間に、第１のシール部材３１０Ａを配置し、両基板を貼り合わせる構成としている。ＴＦＴアレイ非形成領域４４においても、カラーフィルタ基板２００においてはカラーフィルタ２０６（図９を参照）が存在するため、第１のシール部材３１０Ａとカラーフィルタ２０６とが平面視で重畳される。なお、図１に示すように、反ソース辺に沿う領域において、第１のシール部材３１０Ａは、ＴＦＴアレイ非形成領域４４から、カラーフィルタ素子層非形成領域４１の端部にまで延伸し、第２のシール部材３１０Ｂと接触している。
【００３１】
更に、本実施形態においては、反ソース辺に沿う領域において、第１のシール部材３１０Ａと並走する第３のシール部材３１０Ｃを設ける構成としている。この第３のシール部材３１０Ｃについても、ＴＦＴアレイ非形成領域４４から、カラーフィルタ素子層非形成領域４１の端部にまで延伸し、第２のシール部材３１０Ｂと接触する構成としている。
【００３２】
なお、シール部材が配置された領域においては、配向膜を形成することができないため、このＴＦＴアレイ非形成領域４４においては、バックライトの光が、ＴＦＴアレイ非形成領域４４から抜け出やすい構成となっている。そのため、ＴＦＴアレイ非形成領域４４の表示面側には、例えば黒色の遮光テープ４０２（図９を参照）などを貼り付けることにより、バックライトの光が、ＴＦＴアレイ非形成領域４４から漏れ出ない構成とすることが望ましい。
【００３３】
黒画像表示領域４３とは、カラーフィルタ基板２００において、カラーフィルタ２０６及びブラックマトリクス２２２を含むカラーフィルタ素子層２２０（図９を参照）が形成され、且つ薄膜トランジスタ基板１００において、ＴＦＴアレイ２２が形成された３次元の領域であり、常に黒色の画像を表示する領域である。黒画像表示領域４３が、常に黒色の画像を表示することにより、上述したＴＦＴアレイ非形成領域４４における、遮光テープ４０２（図９を参照）の貼り付け精度の高低によらず、例えばきれいな直線状に、黒色を表示することが可能となる。また、表示領域４２側とＴＦＴアレイ非形成領域４４の間に、黒画像表示領域４３を設けることにより、バックライトの光が、ＴＦＴアレイ非形成領域４４から漏れ出るのを抑制することができる。
【００３４】
なお、本実施形態においては、黒画像表示領域４３の幅と、ＴＦＴアレイ非形成領域４４の幅との和が、ブラックマトリクス額縁領域４０の幅よりも大きい構成としている。なお、黒画像表示領域４３の幅とは、平面視で、反ソース辺に直交する方向の黒画像表示領域４３の長さを意味する。ＴＦＴアレイ非形成領域４４の幅とは、平面視で、反ソース辺に直交する方向のＴＦＴアレイ非形成領域４４の長さを意味する。また、ブラックマトリクス額縁領域４０の幅とは、例えば、ソース辺に沿う領域におけるブラックマトリクス額縁領域４０において、平面視で、ソース辺に直交する方向のブラックマトリクス額縁領域４０の長さを意味する。
【００３５】
なお、図１においては図示していないが、ゲート辺、ソース辺、及び反ゲート辺に沿う領域において、例えばブラックマトリクス額縁領域４０と表示領域４２との間においても、黒画像表示領域４３を設ける構成としてもよい。ただし、その場合であっても、本実施形態においては、平面視における、ゲート辺、ソース辺、及び反ゲート辺に沿う領域の黒画像表示領域４３の幅よりも、反ソース辺に沿う領域における黒画像表示領域４３の幅が大きい構成としている。ここで、ソース辺に沿う領域の黒画像表示領域４３の幅とは、平面視で、ソース辺に直交する方向の黒画像表示領域４３の長さを意味する。反ソース辺に沿う領域の黒画像表示領域４３の幅とは、平面視で、反ソース辺に直交する方向の黒画像表示領域４３の長さを意味する。ゲート辺に沿う領域の黒画像表示領域４３の幅とは、平面視で、ゲート辺に直交する方向の黒画像表示領域４３の長さを意味する。反ゲート辺に沿う領域の黒画像表示領域４３の幅とは、平面視で、反ゲート辺に直交する方向の黒画像表示領域４３の長さを意味する。
【００３６】
図１に示すように、本実施形態においては、反ソース辺において、薄膜トランジスタ基板１００の端面と、カラーフィルタ基板２００の端面とが、平面視で重畳されない構成としている。より具体的には、反ソース辺において、薄膜トランジスタ基板１００の端面が、カラーフィルタ基板２００の端面よりも外側に配置されており、カラーフィルタ基板２００側からの平面視で、薄膜トランジスタ基板１００の表面が露出する構成としている。
【００３７】
なお、反ソース辺において、薄膜トランジスタ基板１００の端面が、カラーフィルタ基板２００の端面よりも内側に配置されており、薄膜トランジスタ基板１００側からの平面視で、カラーフィルタ基板２００の表面が露出する構成としてもよい。また、反ソース辺において、薄膜トランジスタ基板１００の端面が、カラーフィルタ基板２００の端面と平面視で重畳する構成としてもよい。
【００３８】
図７は、図１のVII−VII線における断面を示す断面図であり、ゲート辺近傍における断面を示す。図８は、図１のVIII−VIII線における断面を示す断面図であり、ソース辺近傍における断面を示す。図９は、図１のIX−IX線における断面を示す断面図であり、反ソース辺近傍における断面を示す。
【００３９】
図７、８、９に示すように、薄膜トランジスタ基板１００は、フレキシブル材料により形成された第１のフレキシブル基板１０３と、第１のフレキシブル基板１０３の表示面側に形成された薄膜トランジスタ素子層１２０と、第１のフレキシブル基板１０３の背面側に形成された第１の偏光板１３０と、を含んでいる。
【００４０】
図７に示すように、ゲート辺に沿う領域における、カラーフィルタ素子層非形成領域４１よりもゲート辺に近い領域において、薄膜トランジスタ素子層１２０の表示面側に第１の端子部３１Ａが設けられている。第１の端子部３１ＡはゲートドライバＩＣ３０に電気的に接続されている。図８に示すように、ソース辺に沿う領域における、カラーフィルタ素子層非形成領域４１よりもソース辺に近い領域において、薄膜トランジスタ素子層１２０の表示面側に第２の端子部３１Ｂが設けられている。第２の端子部３１ＢはソースドライバＩＣ２０に電気的に接続されている。
【００４１】
図９に示すように、反ソース辺に沿う領域においては、カラーフィルタ基板２００の端面から、カラーフィルタ２０６の一部が露出している。即ち、平面視で、カラーフィルタ基板２００の端面が、カラーフィルタ２０６の端面と重畳する構成としている。
【００４２】
図７、８、９に示すように、カラーフィルタ基板２００は、フレキシブル材料により形成された第２のフレキシブル基板２０３と、第２のフレキシブル基板２０３の背面側に形成されたカラーフィルタ素子層２２０と、カラーフィルタ素子層２２０の背面側に形成されたオーバコート層２２３と、第２のフレキシブル基板２０３の表示面側に形成された第２の偏光板２３０と、を含んでいる。カラーフィルタ素子層２２０は、カラーフィルタ２０６とブラックマトリクス２２２とを含む。
【００４３】
図７、８、９に示すように、薄膜トランジスタ基板１００とカラーフィルタ基板２００との間には液晶層３００が配置されており、液晶層３００の周囲には第１のシール部材３１０Ａ、第２のシール部材３１０Ｂ、第３のシール部材３１０Ｃが形成されている。具体的には、図７、８、及び図１において示したように、ゲート辺、ソース辺、及び反ゲート辺に沿う領域においては、液晶層３００の周囲に第２のシール部材３１０Ｂが形成されており、図９、及び図１において示したように、反ソース辺に沿う領域においては、液晶層３００の周囲に第１のシール部材３１０Ａと、第１のシール部材３１０Ａに沿うように配置された第３のシール部材３１０Ｃとが形成されている。
【００４４】
図７、８に示すように、ゲート辺、ソース辺に沿う領域においては、カラーフィルタ基板２００の端辺がカラーフィルタ素子層非形成領域４１となっている。これに対して、図９に示すように、反ソース辺に沿う領域においては、カラーフィルタ基板２００の端辺においても、カラーフィルタ素子層２２０が形成されている。そのため、反ソース辺に沿う領域における薄膜トランジスタ基板１００とカラーフィルタ基板２００との距離ｄ１（図９を参照）は、ソース辺、ゲート辺に沿う領域における薄膜トランジスタ基板１００とカラーフィルタ基板２００との距離ｄ２（図７、８を参照）よりも、カラーフィルタ素子層２２０の膜厚に応じて、小さくなっている。なお、反ゲート辺に沿う領域においても、ゲート辺、ソース辺と同様にカラーフィルタ基板２００の端辺がカラーフィルタ素子層非形成領域４１となっている。そのため、反ゲート辺に沿う領域における薄膜トランジスタ基板１００とカラーフィルタ基板２００との距離は、ゲート辺、ソース辺と同様に距離ｄ２となる。
【００４５】
第１のシール部材３１０Ａは、例えばエポキシ樹脂などからなる第１の樹脂材と、この第１の樹脂材に含有された第１の含有材とを含む。同様に第２のシール部材３１０Ｂは、例えばエポキシ樹脂などからなる第２の樹脂材と、この第２の樹脂材に含有された第２の含有材とを含む。第１の含有材、第２の含有材とは、例えばガラスファイバーや、ガラスビーズなどである。上記距離ｄ１、ｄ２の関係から、反ソース辺に沿って配置する第１のシール部材３１０Ａの厚みを、ゲート辺、ソース辺、及び反ゲート辺に沿って配置する第２のシール部材３１０Ｂの厚みよりも薄く形成する必要がある。本実施形態においては、第１の含有材の粒径を、第２の含有材の粒径よりも小さくしている。そのため、反ソース辺に沿って配置する第１のシール部材３１０Ａの厚みを、ゲート辺、ソース辺、及び反ゲート辺に沿って配置する第２のシール部材３１０Ｂの厚みよりも薄く形成することが容易となる。なお、第１の樹脂材を構成する材料と第２の樹脂材を構成する材料とが同じであるか否かは問わない。
【００４６】
なお、本実施形態においては、第１のシール部材３１０Ａと第２のシール部材３１０Ｂとを別に構成する例を示したが、全ての辺に用いるシール部材として第１のシール部材３１０Ａを用いる構成としてもよい。その場合においても、上述の理由から、カラーフィルタ基板２００の端面にカラーフィルタ２０６が含まれる反ソース辺において含まれる含有材の粒径を、カラーフィルタ基板２００の端面にカラーフィルタ素子層２２０が含まれない他の辺において含まれる含有材の粒径よりも小さくすることが望ましい。
【００４７】
なお、第３のシール部材３１０Ｃに含有させる第３の含有材の粒径については、第３のシール部材３１０Ｃを形成する領域におけるカラーフィルタ基板２００と、薄膜トランジスタ基板１００との距離に応じて決めればよい。例えば、第３のシール部材３１０Ｃを形成する領域における、カラーフィルタ基板２００と薄膜トランジスタ基板１００との距離が、上述した距離ｄ１よりも小さくなる場合には、第３の含有材の平均粒径を、第１の含有材の平均粒径よりも小さくするか、あるいは、第３のシール部材３１０Ｃに含有材を含有させない構成としてもよい。
【００４８】
また、本実施形態においては、図９に示すように、薄膜トランジスタ素子層１２０に含まれるソース線１１の端部が、薄膜トランジスタ基板１００の端面から露出しない構成としているが、薄膜トランジスタ基板１００の端面から、ソース線１１の端部が露出する構成としてもよい。その場合、反ソース辺において、薄膜トランジスタ基板１００の端面が、ソース線１１の端面と平面視で重畳することとなる。
【００４９】
更に、本実施形態においては、図９に示すように、薄膜トランジスタ基板１００内にＴＦＴアレイ２２（図２を参照）が形成されていないＴＦＴアレイ非形成領域４４において、カラーフィルタ基板２００の表示面側に、例えば黒色の遮光テープ４０２を貼り付けている。遮光テープ４０２が、ＴＦＴアレイ非形成領域４４の表示面側に配置された構成とすることにより、バックライトの光が、ＴＦＴアレイ非形成領域４４の表示面側から漏れ出るのを抑制することができる。
【００５０】
更に、図１０に示す例においては、カラーフィルタ基板２００の端面を覆う樹脂膜４０１を設けている。カラーフィルタ基板２００の端面から、カラーフィルタ素子層２２０が露出されてしまう構成とした場合、液晶表示装置１外からの水分の浸入により、カラーフィルタ素子層２２０に含まれるブラックマトリクス２２２が膨潤してしまう可能性がある。しかし、本実施形態においては、樹脂膜４０１が、カラーフィルタ基板２００の端面を覆う構成とすることにより、水分等が、カラーフィルタ素子層２２０に浸入するのを抑制することができる。その結果として、カラーフィルタ素子層２２０に含まれるブラックマトリクス２２２が膨潤することを抑制し、カラーフィルタ基板２００から第１のシール部材３１０Ａが剥がれる可能性を低減することができる。なお、樹脂膜４０１が、カラーフィルタ基板２００の端面のみならず、薄膜トランジスタ素子層１２０の端面も覆う構成としてもよい。
【００５１】
なお、図１を用いて上述したように、本実施形態においては、反ソース辺において、薄膜トランジスタ基板１００の端面と、カラーフィルタ基板２００の端面とが、平面視で重畳されない構成としている。このような構成とすることにより、樹脂膜４０１を塗布しやすく、且つ樹脂膜４０１の留まりを良くすることができる。
【００５２】
図２は、表示パネル１０におけるＴＦＴアレイ２２の概略構成を示す平面図（等価回路図）である。ＴＦＴアレイ２２は、第１方向（例えば列方向）に延在する複数のソース線１１と、第２方向（例えば行方向）に延在する複数のゲート線１２とを含む。各ソース線１１と各ゲート線１２との各交差部には、薄膜トランジスタ１３が設けられている。各ソース線１１はソースドライバＩＣ２０（図１を参照）に電気的に接続されており、各ゲート線１２はゲートドライバＩＣ３０（図１を参照）に電気的に接続されている。また、ＴＦＴアレイ２２は、各ソース線１１と各ゲート線１２との各交差部に対応して、マトリクス状（行方向及び列方向）に配置された複数の画素１４と、画素１４ごとに配置された複数の画素電極１５と、複数の画素１４に共通する共通電極１６とを含む。
【００５３】
各ソース線１１には、ソースドライバＩＣ２０からデータ信号（データ電圧）が供給され、各ゲート線１２には、ゲートドライバＩＣ３０からゲート信号（ゲートオン電圧、ゲートオフ電圧）が供給される。共通電極１６には、コモンドライバ（図示せず）から共通電圧Ｖｃｏｍが供給される。ゲート信号のオン電圧（ゲートオン電圧）がゲート線１２に供給されると、ゲート線１２に接続された薄膜トランジスタ１３がオンし、薄膜トランジスタ１３に接続されたソース線１１を介して、データ電圧が画素電極１５に供給される。画素電極１５に供給されたデータ電圧と、共通電極１６に供給された共通電圧Ｖｃｏｍとの差により電界が生じる。この電界により液晶を駆動してバックライトの光の透過率を制御することによって画像表示を行う。なお、カラー表示を行う場合は、例えばストライプ状に配置された赤色、緑色、青色のカラーフィルタを、各画素１４に対応するように配置し、画素電極１５に接続されたソース線１１に、所望のデータ電圧を供給することによりカラー画像表示を実現する。
【００５４】
図３は、画素１４の構成を示す平面図である。図４は、図３のＢ−Ｂ´線における断面を示す断面図であり、図５は、図３のＣ−Ｃ´線における断面を示す断面図である。図３、４、５を参照しつつ、表示パネル１０の具体的な構成について説明する。
【００５５】
図３において、隣り合う２本のソース線１１と、隣り合う２本のゲート線１２とで区画された領域が１つの画素１４に相当する。各画素１４には、薄膜トランジスタ１３が設けられている。図３に示すように、薄膜トランジスタ１３は、絶縁膜１２１（図４を参照）上に形成された半導体層１７と、半導体層１７上に形成されたドレイン電極１８及びソース電極１９とを含んで構成されている。ドレイン電極１８はソース線１１に電気的に接続されており、ソース電極１９はスルーホール２１を介して画素電極１５に電気的に接続されている。
【００５６】
各画素１４には、ＩＴＯ等の透明導電膜からなる画素電極１５が形成されている。画素電極１５は、複数の開口部（スリット）を有しており、ストライプ状に形成されている。各画素１４に共通して、表示領域全体にＩＴＯ等の透明導電膜からなる１つの共通電極１６が形成されている。なお、共通電極１６における、スルーホール２１及び薄膜トランジスタ１３のソース電極１９に重なる領域には、画素電極１５とソース電極１９とを電気的に接続させるための開口部が形成されている。
【００５７】
図４及び図５に示すように、表示パネル１０は、背面側に配置された薄膜トランジスタ基板１００と、表示面側に配置されたカラーフィルタ基板２００と、薄膜トランジスタ基板１００及びカラーフィルタ基板２００の間に介在する液晶層３００と、を含んでいる。
【００５８】
図５に示すように、薄膜トランジスタ基板１００では、第１のフレキシブル基板１０３の表示面側に第１の拡散防止層１０４を介してゲート線１２が形成され、ゲート線１２を覆うように絶縁膜１２１が形成されている。また、図４に示すように、絶縁膜１２１の表示面側にはソース線１１が形成されており、ソース線１１を覆うように絶縁膜１２２が形成されている。絶縁膜１２２の表示面側には共通電極１６が形成され、共通電極１６を覆うように絶縁膜１２３が形成されている。絶縁膜１２３の表示面側には画素電極１５が形成され、画素電極１５を覆うように第１の配向膜１２４が形成されている。第１のフレキシブル基板１０３の背面側には、第１の偏光板１３０が形成されている。
【００５９】
カラーフィルタ基板２００では、第２のフレキシブル基板２０３の背面側に第２の拡散防止層２０４を介してカラーフィルタ素子層２２０が形成されている。カラーフィルタ素子層２２０は、ブラックマトリクス２２２及びカラーフィルタ２０６（例えば、赤色カラーフィルタ２０６ｒ、緑色カラーフィルタ２０６ｇ、青色カラーフィルタ２０６ｂ）を含む。そして、カラーフィルタ素子層２２０の背面側を覆うようにオーバコート層２２３が形成されている。オーバコート層２２３の背面側には第２の配向膜２２４が形成されている。第２のフレキシブル基板２０３の表示面側には、第２の偏光板２３０が形成されている。
【００６０】
液晶層３００には、液晶３０１が封入されている。液晶３０１は、誘電率異方性が負のネガ型液晶であってもよいし、誘電率異方性が正のポジ型液晶であってもよい。
【００６１】
第１の配向膜１２４、第２の配向膜２２４は、ラビング配向処理が施された配向膜であってもよいし、光配向処理が施された光配向膜であってもよい。
【００６２】
画素１４を構成する各部の積層構造は、図４及び図５の構成に限定されるものではなく、周知の構成を適用することができる。また本実施形態においては、液晶表示装置１が、ＩＰＳ（In Plane Switching）方式の構成を有する例を示したが、液晶表示装置１の構成は、上記構成に限定されない。
【００６３】
［液晶表示装置の製造方法］
次に、本実施形態に係る液晶表示装置１の製造方法について説明する。液晶表示装置１の製造方法は、複数のソース線と複数のゲート線を含む薄膜トランジスタ基板１００（第１の基板）を準備する薄膜トランジスタ基板準備工程（第１基板準備工程）と、カラーフィルタを含むカラーフィルタ基板２００（第２の基板）を準備するカラーフィルタ基板準備工程（第２基板準備工程）と、薄膜トランジスタ基板１００及びカラーフィルタ基板２００を、第１のシール部材３１０Ａを用いて貼り合せる基板貼り合わせ工程と、カラーフィルタ基板２００を表示パネル１０ごとに切断する第１切断工程と、薄膜トランジスタ基板１００を表示パネル１０ごとに切断する第２切断工程と、端子部（第１の端子部３１Ａ、第２の端子部３１Ｂ）を露出させる第３切断工程と、下地のガラス基板（第１のガラス基板１０１、第２のガラス基板２０１）を剥離する剥離工程等を含んでいる。
【００６４】
図６は、基板貼り合せ工程後の状態を示す平面図である。図１１は、図６のXI−XI線における断面を示す断面図であり、ゲート辺に沿った領域の断面を示す。図１２は、図６のXII−XII線における断面を示す断面図であり、ソース辺に沿った領域の断面を示す。図１３は、図６のXIII−XIII線における断面を示す断面図であり、反ソース辺に沿った領域の断面を示す。図６に示す例では、第１の切断線ＣＬ１においてカラーフィルタ基板２００を切断し、第２の切断線ＣＬ２において薄膜トランジスタ基板１００を切断することにより、２枚の表示パネル１０（第１の表示パネル１０Ａ、第２の表示パネル１０Ｂ）を製造する工程を示している。
【００６５】
図１１、１２に示すように、薄膜トランジスタ基板準備工程では、先ず、第１のガラス基板１０１（マザーガラス）の表示面側全面に、レーザ光を吸収する吸収膜を成膜し、剥離層（図示せず）を形成する。次に、剥離層の表示面側全面に、ポリイミド系樹脂等を主成分とするフレキシブル材料を塗布し、その後焼成して、第１のフレキシブル基板１０３を形成する。次に、第１のフレキシブル基板１０３の表示面側に薄膜トランジスタ素子層１２０を形成する。薄膜トランジスタ素子層１２０には、図４及び図５等に示した、各構成部材（ソース線１１、ゲート線１２、薄膜トランジスタ１３、画素電極１５、共通電極１６、絶縁膜１２１、絶縁膜１２３等）が含まれる。次に、薄膜トランジスタ素子層１２０の表示面側において第１の端子部３１Ａ、第２の端子部３１Ｂを形成する。第１の端子部３１Ａ、第２の端子部３１Ｂは、後述する基板貼り合わせ工程で、第２のシール部材３１０Ｂを形成する領域よりも端辺側に形成する。以上の工程により、薄膜トランジスタ基板１００が製造される。なお、薄膜トランジスタ基板１００において、剥離層は、省略されてもよい。
【００６６】
なお、薄膜トランジスタ基板準備工程において、薄膜トランジスタ基板１００のＴＦＴアレイ２２は、第１の表示パネル１０Ａ、第２の表示パネル１０Ｂに応じた形状に形成し、２つのＴＦＴアレイ２２が互いに電気的に絶縁された構成としてもよく、第１の表示パネル１０Ａ、第２の表示パネル１０Ｂの双方を覆う一枚のＴＦＴアレイ２２を形成してもよい。本実施形態においては、ＴＦＴアレイ２２を、第１の表示パネル１０Ａ、第２の表示パネル１０Ｂに応じた形状に形成するため、図１３に示すように、薄膜トランジスタ基板１００内においてＴＦＴアレイ２２が形成されないＴＦＴアレイ非形成領域４４が設けられる。なお、このＴＦＴアレイ非形成領域４４においても、一部のソース線１１やゲート線１２が含まれる構成としてもよい。
【００６７】
カラーフィルタ基板準備工程では、先ず、第２のガラス基板２０１（マザーガラス）の背面側全面に、レーザ光を吸収する吸収膜を成膜し、剥離層（図示せず）を形成する。次に、剥離層の背面側にポリイミド系樹脂等を主成分とするフレキシブル材料を塗布し、その後焼成して、第２のフレキシブル基板２０３を形成する。なお、第２のフレキシブル基板２０３は、薄膜トランジスタ基板１００を貼り合せたときに平面視で第１の端子部３１Ａ、第２の端子部３１Ｂを形成する領域を除いた領域のみに形成することが望ましい。フレキシブル材料の塗布方法としては、例えば、インクジェット方式またはリニアコータを用いる。次に、第２のフレキシブル基板２０３の背面側にカラーフィルタ素子層２２０を形成する。カラーフィルタ素子層２２０には、図４及び図５等に示した、各構成部材（カラーフィルタ２０６、ブラックマトリクス２２２等）が含まれる。
【００６８】
ここで、本実施形態においては、カラーフィルタ素子層２２０を、表示パネル１０の形状によらず、図６に示したカラーフィルタ素子層形成領域４５にカラーフィルタ素子層２２０を形成している。そのため、各表示パネル１０（第１の表示パネル１０Ａ、第２の表示パネル１０Ｂ）の形状に合わせて、個別にマスクを準備する必要がなく、予め作成した１枚のマスクを用いて、カラーフィルタ素子層２２０を形成することが可能となる。なお、本実施形態においては、図６に示すように、表示パネル１０の数に合わせて、２つのカラーフィルタ素子層形成領域４５を設ける例を説明するが、図１６に示すように、第１の表示パネル１０Ａ、第２の表示パネル１０Ｂに跨る１つのカラーフィルタ素子層形成領域４５を設ける方法としてもよい。更には、カラーフィルタ基板２００全面に、カラーフィルタ素子形成領域４５を設ける方法としてもよい。
【００６９】
その後、図１１、１２に示すように、カラーフィルタ素子層２２０の背面側を覆うように、オーバコート層２２３を形成する。以上の工程により、カラーフィルタ基板２００が製造される。尚、カラーフィルタ基板２００において、剥離層は省略されてもよい。
【００７０】
基板貼り合わせ工程では、先ず、図１１、１２に示すように、カラーフィルタ基板準備工程を経て製造されたカラーフィルタ基板２００のオーバコート層２２３の背面側に第２のシール部材３１０Ｂを塗布するとともに、図１３に示すように、第１のシール部材３１０Ａを塗布する。ここで、図６、１１、１２に示すように、第１の表示パネル１０Ａ、第２の表示パネル１０Ｂにおける、ソース辺、ゲート辺、及び反ゲート辺に沿う領域においては、第２のシール部材３１０Ｂをカラーフィルタ素子層非形成領域４１に塗布する、第２シール部材配置工程を行う。そのため、第２のシール部材３１０Ｂは、カラーフィルタ２０６と平面視で重畳されない。一方、図６、１３に示すように、第１の切断線ＣＬ１にて切断された後に反ソース辺となる領域においては、第１のシール部材３１０Ａを平面視でカラーフィルタ素子層２２０と重畳するように塗布する。即ち、後述する切断工程でカラーフィルタ基板２００を切断する第１の切断線ＣＬ１に沿って、カラーフィルタ素子層２２０に含まれるカラーフィルタ２０６と、平面視で重畳されるよう、第１のシール部材３１０Ａを塗布する。また、その際、図１１、１２、１３に示すように、カラーフィルタ基板２００と薄膜トランジスタ基板１００との間隔を調整する複数のスペーサ３０２を、カラーフィルタ基板２００と薄膜トランジスタ基板１００との間に配置しておく。
【００７１】
その後、カラーフィルタ基板２００のオーバコート層２２３の背面側に液晶３０１を滴下する。次に、薄膜トランジスタ基板１００とカラーフィルタ基板２００とを貼り合わせ、紫外線を照射し第１のシール部材３１０Ａ、第２のシール部材３１０Ｂを硬化させる。なお、薄膜トランジスタ基板１００とカラーフィルタ基板２００を貼り合わせた後、液晶３０１を第１のシール部材３１０Ａ、第２のシール部材３１０Ｂに囲われた領域内に注入する方法としても構わない。
【００７２】
本実施形態においては、上述したとおり、ＴＦＴアレイ２２を、第１の表示パネル１０Ａ、第２の表示パネル１０Ｂに応じた形状に、電気的に絶縁された状態で形成する。そのため、図１６に示すように、２つの表示パネル１０（第１の表示パネル１０Ａ、第２の表示パネル１０Ｂ）に跨る１つのカラーフィルタ素子層形成領域４５を設ける方法とした場合、一つのカラーフィルタ素子層形成領域４５が、薄膜トランジスタ基板１００において相互に電気的に絶縁された複数のＴＦＴアレイ２２の形成領域と対向することとなる。即ち、基板貼り合わせ工程において、一つのカラーフィルタ素子層２２０形成領域が、第１の表示パネル１０ＡにおけるＴＦＴアレイ２２、及び第２の表示パネル１０ＢにおけるＴＦＴアレイ２２と対向することとなる。
【００７３】
なお、本実施形態においては、反ソース辺に沿う領域に、第１のシール部材３１０Ａを塗布し、ソース辺、ゲート辺、及び反ゲート辺に沿う領域に、第２のシール部材３１０Ｂを塗布する方法を示したが、全ての辺に、第１のシール部材３１０Ａを塗布する方法としてもよい。ただし、本実施形態に示すように、第１の切断線ＣＬ１にて切断される際に形成される反ソース辺に沿う領域に塗布する第１のシール部材３１０Ａを、他の辺に沿った領域に塗布する第２のシール部材３１０Ｂと異ならせ、第１のシール部材３１０Ａが含む第１の含有材の平均粒径を、第２のシール部材３１０Ｂが含む第２の含有材の平均粒径よりも小さくすることが望ましい。本実施形態においては、第１の含有材、及び第２の含有材は、例えばガラスファイバーやガラスビーズであり、カラーフィルタ素子層２２０の膜厚が例えば１．５μｍの場合には、第１の含有材の平均粒径を例えば２．５μｍ〜６．５μｍとし、第２の含有材の平均粒径を４．０μｍ〜８．０μｍとする。
【００７４】
更に、本実施形態においては、図６に示すように、反ソース辺に沿う領域に、第１のシール部材３１０Ａと並走する第３のシール部材３１０Ｃを塗布する第３シール部材配置工程を行う。第３のシール部材３１０Ｃは、第１の表示パネル１０Ａにおいて、第１のシール部材３１０Ａよりも内側に形成する。
【００７５】
第１切断工程では、上述した基板貼り合せ工程後に、カラーフィルタ基板２００を第１の表示パネル１０Ａと第２の表示パネル１０Ｂとに分離し、第２切断工程では、薄膜トランジスタ基板１００を第１の表示パネル１０Ａ、及び第２の表示パネル１０Ｂの形状に合わせて切断する。
【００７６】
本実施形態においては、カラーフィルタ基板２００を、図６に示す第１の切断線ＣＬ１で切断する第１切断工程を行い、カラーフィルタ素子層２２０の形状を、予め形成していたカラーフィルタ素子層形成領域４５よりも、ゲート辺の長さが短い矩形状とする。ここで、図６に示すように、第１の切断線ＣＬ１は、カラーフィルタ素子層２２０と平面視で重畳している。
【００７７】
また、薄膜トランジスタ基板１００を、図６に示す第２の切断線ＣＬ２で切断する第２切断工程を行う。なお、第１切断工程と第２切断工程は同時に行ってもよく、別工程としてもよい。切断方法としては、例えば、図６に示した第１の切断線ＣＬ１、第２の切断線ＣＬ２に沿って、赤外線レーザ、赤外ランプなどを用いた赤外線照射を行う、あるいは第１の切断線ＣＬ１、第２の切断線ＣＬ２に沿ってカッター等により切断する。
【００７８】
図１３は、図６のXIII−XIII断面図であり、反ソース辺に沿った領域の断面を示す。図１３に示すように、第１の切断線ＣＬ１を面内に含む第１の切断面ＣＳ１において、カラーフィルタ基板２００からカラーフィルタ２０６が露出される。
【００７９】
また、本実施形態においては、ＴＦＴアレイ２２を、第１の表示パネル１０Ａ、第２の表示パネル１０Ｂに応じた形状に形成しているため、図１３に示すように、薄膜トランジスタ素子層１２０に含まれるソース線１１、ゲート線１２が、第２の切断線ＣＬ２から露出されない構成としている。なお、薄膜トランジスタ基板１００がＴＦＴアレイ２２を有さないＴＦＴアレイ非形成領域４４においても、ソース線、ゲート線１２の一部が含まれる構成としても構わない。
【００８０】
なお、上述した薄膜トランジスタ基板準備工程において、ＴＦＴアレイ２２を第１の表示パネル１０Ａ、第２の表示パネル１０Ｂ双方を覆う一枚のＴＦＴアレイとして形成した場合、第２の切断線ＣＬ２と、ソース線１１、ゲート線１２の少なくとも一部とが、平面視で重畳し、第２の切断線ＣＬ２を含む第２の切断面ＣＳ２から、薄膜トランジスタ素子層１２０に含まれるソース線１１、ゲート線１２の内の少なくとも一方が露出される構成となる。
【００８１】
なお、図１３に示す例においては、カラーフィルタ基板２００を切断する第１の切断面ＣＳ１と、薄膜トランジスタ基板１００を切断する第２の切断面ＣＳ２とが異なる切断面である例を示しているが、第１の切断面ＣＳ１と第２の切断面ＣＳ２とを同一の切断面とする製造方法としてもよい。ただし、後述する樹脂膜形成工程を行うことを考慮すると、第１の切断面ＣＳ１と第２の切断面ＣＳ２とは、異なる切断面とすることが望ましい。
【００８２】
なお、図１１、１２に示すように、ゲート辺、ソース辺、及び反ゲート辺における第２のシール部材３１０Ｂ塗布領域においては、カラーフィルタ素子層２２０が形成されていないのに対し、図１３に示すように、反ソース辺における第１のシール部材３１０Ａ塗布領域においては、カラーフィルタ素子層２２０が形成されている。そのため、カラーフィルタ素子層２２０の厚みの分、第１のシール部材３１０Ａを第２のシール部材３１０Ｂよりも薄く形成する必要がある。これについては、基板貼り合わせ工程にて上述した通り、本実施形態においては、第１のシール部材３１０Ａが含む第１の含有材の平均粒径を、第２のシール部材３１０Ｂが含む第２の含有材の平均粒径よりも小さくしている。その結果、第１のシール部材３１０Ａを第２のシール部材３１０Ｂよりも薄く形成することが容易となる。
【００８３】
なお、図１３に示すように、第１の切断面ＣＳ１からは、カラーフィルタ素子層２２０が露出されてしまう構成となってしまうため、液晶表示装置１外からの水分の浸入により、カラーフィルタ素子層２２０に含まれるブラックマトリクス２２２が膨潤してしまう可能性がある。しかし、基板貼り合わせ工程にて上述した通り、本実施形態においては、第１のシール部材３１０Ａと並走する第３のシール部材３１０Ｃを塗布しており、この第３のシール部材３１０Ｃを、第１の表示パネル１０Ａにおいて、第１のシール部材３１０Ａより内側に形成している。そのため、ブラックマトリクス２２２の膨潤により、第１のシール部材３１０Ａが剥がれる可能性を低減することができる。また、仮に第１のシール部材３１０Ａが剥がれたとしても、第３のシール部材３１０Ｃ自体が、図９に示した液晶層３００に水分が浸入するのを抑制する。
【００８４】
なお、第３のシール部材３１０Ｃに含有させる第３の含有材の粒径については、第３のシール部材３１０Ｃを形成する領域におけるカラーフィルタ基板２００と、薄膜トランジスタ基板１００との距離に応じて決めればよい。例えば、第３のシール部材３１０Ｃを形成する領域における、カラーフィルタ基板２００と薄膜トランジスタ基板１００との距離が、上述した距離ｄ１よりも小さくなる場合には、第３の含有材の平均粒径を、第１の含有材の平均粒径よりも小さくするか、あるいは、第３のシール部材３１０Ｃが含有材を含まない構成としてもよい。
【００８５】
図１４は、カラーフィルタ基板２００を第１の切断線ＣＬ１で切断する第１切断工程を行った後、薄膜トランジスタ基板１００を第２の切断線ＣＬ２で切断する第２切断工程を行う前の状態を示す平面図である。図１４を用いて、第３切断工程について説明する。第３切断工程では、図１４に示すように、カラーフィルタ基板２００における平面視で第１の端子部３１Ａ、第２の端子部３１Ｂに重なる部分を除去する。具体的には、ゲート辺に沿った第３の切断線ＣＬ３においてカラーフィルタ基板２００を切断することにより、ゲートドライバＩＣ３０が搭載される第１の端子部３１Ａを露出させる。また、ソース辺に沿った第４の切断線ＣＬ４おいてカラーフィルタ基板２００を切断することにより、ソースドライバＩＣ２０が搭載される第２の端子部３１Ｂを露出させる。
【００８６】
ここで、図１４に示すように、第１の表示パネル１０Ａと第２の表示パネル１０Ｂとは隣り合い、且つ第１の表示パネル１０Ａのゲート辺が配置される側に、第２の表示パネル１０Ｂの反ゲート辺が配置され、第１の表示パネル１０Ａの反ゲート辺が配置される側に、第２の表示パネル１０Ｂのゲート辺が配置される構成となっている。そのため、第３の切断線ＣＬ３でカラーフィルタ基板２００を切断する際に、ゲートドライバＩＣ３０が搭載されない、第１の表示パネル１０Ａの反ゲート辺、及び第２の表示パネル１０Ｂの反ゲート辺についても切断することとなる。その結果として、図１において示したように、ゲートドライバＩＣ３０が搭載されない反ゲート辺においても、カラーフィルタ基板２００の端面と薄膜トランジスタ基板１００の端面とが、平面視で重畳されない構成となる。
【００８７】
なお、第３切断工程は、薄膜トランジスタ基板１００を第２の切断線ＣＬ２で切断する第２切断工程の後に行ってもよい。
【００８８】
図１５は、剥離工程を説明するための図である。剥離工程では、図１５に示すように、第２のガラス基板２０１と第２のフレキシブル基板２０３との間の剥離層にレーザ光（エキシマレーザ）を照射して、剥離層を結晶化させる。結晶化の際の構造変化により、第２のフレキシブル基板２０３が剥離層から剥離される。同様に、第１のガラス基板１０１と第１のフレキシブル基板１０３との間の剥離層にレーザ光を照射して、剥離層を結晶化させる。結晶化の際の構造変化により、第１のフレキシブル基板１０３が剥離層から剥離される。第１のガラス基板１０１、第２のガラス基板２０１を剥離した後に、図７、８、９に示すように、第１の偏光板１３０、第２の偏光板２３０を貼り付ける。また、剥離層が無い場合でも、レーザ照射条件を最適化することにより、ガラス基板とフレキシブル基板の温度変化による体積膨張差により、フレキシブル基板からガラス基板を剥離することも可能である。
【００８９】
図９は、遮光テープ配置工程がなされた状態を示す断面図である。遮光テープ配置工程では、図９に示すように、ＴＦＴアレイが形成されていないＴＦＴアレイ非形成領域４４における、カラーフィルタ基板２００の表示面側に、例えば黒色の遮光テープ４０２を貼り付ける。遮光テープ４０２をＴＦＴアレイ非形成領域４４におけるカラーフィルタ基板２００の表示面側に貼り付けることにより、バックライトの光が、ＴＦＴアレイ非形成領域４４の表示面側に漏れ出るのを抑制することができる。
【００９０】
図１０は、樹脂膜形成工程がなされた状態を示す断面図である。樹脂膜形成工程では、図１０に示したように、カラーフィルタ基板２００の切断面である第１の切断面ＣＳ１を覆う樹脂膜４０１を塗布する。樹脂膜４０１が、第１の切断面ＣＳ１を覆うことにより、水分がカラーフィルタ素子層２２０に浸入するのを抑制することができる。なお、樹脂膜４０１が、カラーフィルタ基板２００の端面のみならず、薄膜トランジスタ素子層１２０の端面も覆う構成としてもよい。
【００９１】
この樹脂材塗布工程を行う場合を考慮すると、第１切断工程、及び第２切断工程において上述した通り、第１の切断面ＣＳ１と、薄膜トランジスタ基板１００の切断面である第２の切断面ＣＳ２とは、異なる切断面とすることが望ましい。第１の切断面ＣＳ１と第２の切断面ＣＳ２とが異なる切断面であるほうが、樹脂膜４０１を塗布しやすく、且つ樹脂膜４０１の留まりが良いためである。
【００９２】
以上の工程を経て、液晶表示装置１が製造される。上記製造方法によれば、カラーフィルタ基板準備工程において、表示パネル１０（第１の表示パネル１０Ａ、第２の表示パネル１０Ｂ）の形状によらず、予め準備した１枚のマスクを用いてカラーフィルタ素子層２２０を形成することができるため、各表示パネル１０の形状に合わせてマスクを個別に準備することなく、カラーフィルタ素子層２２０を形成することが可能となる。その結果として、生産効率の更なる向上が可能となる。
【００９３】
なお、本実施形態においては、矩形状の表示パネル１０を形成する例を用いて説明したが、表示パネル１０の形状は矩形状に限定されず、例えば湾曲状の辺を有する形状としても構わない。
【００９４】
以上、第１の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で上記実施形態から当業者が適宜変更した形態も本発明の技術的範囲に含まれることは言うまでもない。また、上述した製造工程は、適宜その順序を変えてもよく、本実施形態において説明した順序に限定される必要はない。
【符号の説明】
【００９５】
１  液晶表示装置、１０  表示パネル、１０Ａ  第１の表示パネル、１０Ｂ  第２の表示パネル、１１  ソース線、１２  ゲート線、１３  薄膜トランジスタ、１４  画素、１５  画素電極、１６  共通電極、１７  半導体層、１８  ドレイン電極、１９  ソース電極、２０  ソースドライバＩＣ、２１  スルーホール、２２  ＴＦＴアレイ、３０  ゲートドライバＩＣ、３１Ａ  第１の端子部、３１Ｂ  第２の端子部、４０  ブラックマトリクス額縁領域、４１  カラーフィルタ素子層非形成領域、４２  表示領域、４３  黒画像表示領域、４４  ＴＦＴアレイ非形成領域、４５  カラーフィルタ素子層形成領域、１００  薄膜トランジスタ基板、１０１  第１のガラス基板、１０３  第１のフレキシブル基板、１０４  第１の拡散防止層、１２０  薄膜トランジスタ素子層、１２１  絶縁膜、１２２  絶縁膜、１２３  絶縁膜、１２４  第１の配向膜、１３０ 第１の偏光板、２００  カラーフィルタ基板、２０１  第２のガラス基板、２０３  第２のフレキシブル基板、２０４  第２の拡散防止層、２０６  カラーフィルタ、２０６ｒ  赤色カラーフィルタ、２０６ｇ  緑色カラーフィルタ、２０６ｂ  青色カラーフィルタ、２２０  カラーフィルタ素子層、２２２  ブラックマトリクス、２２３  オーバコート層、２２４  第２の配向膜、２３０  第２の偏光板、３００  液晶層、３０１  液晶、３０２  スペーサ、３１０Ａ  第１のシール部材、３１０Ｂ  第２のシール部材、３１０Ｃ  第３のシール部材、４０１  樹脂膜、４０２  遮光テープ、ＣＬ１  第１の切断線、ＣＬ２  第２の切断線、ＣＬ３  第３の切断線、ＣＬ４  第４の切断線、ＣＳ１  第１の切断面、ＣＳ２  第２の切断面、ｄ１  距離、ｄ２  距離。
【図１】
2019124734.tif 000003
【図２】
2019124734.tif 000004
【図３】
2019124734.tif 000005
【図４】
2019124734.tif 000006
【図５】
2019124734.tif 000007
【図６】
2019124734.tif 000008
【図７】
2019124734.tif 000009
【図８】
2019124734.tif 000010
【図９】
2019124734.tif 000011
【図１０】
2019124734.tif 000012
【図１１】
2019124734.tif 000013
【図１２】
2019124734.tif 000014
【図１３】
2019124734.tif 000015
【図１４】
2019124734.tif 000016
【図１５】
2019124734.tif 000017
【図１６】
2019124734.tif 000018