(57)【要約】【課題】本発明は、十分な撥水性を有し、特に摩擦を繰り返し与えられた場合であっても、撥水性を維持できる基材を提供することを目的とする。【解決手段】表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された表面処理層を有する基材であって、２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、試験用布（リン酸三ナトリウム５．５ｇ、塩化ナトリウム１０ｇ、乳酸３．１ｇ、リシン５ｇおよび蒸留水１００ｍｌからなる人工汗を浸漬させた、ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）  ｓｔａｎｄａｒｄ  ｃｏｔｔｏｎ  ｓｏｉｌｉｎｇ  ｔｅｘｔｉｌｅ  ＦＩＮＥ）で覆われたシリコーンよりなる摩擦子に、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で表面上を往復する摩擦試験における、該摩擦子の往復回数０回、１０００回、２０００回、３０００回、および４０００回（ただし、該往復回数は、水の静的接触角の測定値が最初に８０度未満になった回数を最大とする。）での往復回数（回）に対する水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線の勾配が−０．００９６超である基材。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された表面処理層を有する基材であって、
２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、試験用布（リン酸三ナトリウム５．５ｇ、塩化ナトリウム１０ｇ、乳酸３．１ｇ、リシン５ｇおよび蒸留水１００ｍｌからなる人工汗を浸漬させた、ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）  ｓｔａｎｄａｒｄ  ｃｏｔｔｏｎ  ｓｏｉｌｉｎｇ  ｔｅｘｔｉｌｅ  ＦＩＮＥ）で覆われたシリコーンよりなる摩擦子に、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で表面上を往復する摩擦試験における、該摩擦子の往復回数０回、１０００回、２０００回、３０００回、および４０００回（ただし、該往復回数は、水の静的接触角の測定値が最初に８０度未満になった回数を最大とする。）での往復回数（回）に対する水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線の勾配が−０．００９６超である基材。
【請求項２】
表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された表面処理層を有する基材であって、
２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、試験用布（リン酸三ナトリウム５．５ｇ、塩化ナトリウム１０ｇ、乳酸３．１ｇ、リシン５ｇおよび蒸留水１００ｍｌからなる人工汗を浸漬させた、ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）  ｓｔａｎｄａｒｄ  ｃｏｔｔｏｎ  ｓｏｉｌｉｎｇ  ｔｅｘｔｉｌｅ  ＦＩＮＥ）で覆われたシリコーンよりなる摩擦子に、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で表面上を往復する摩擦試験における、該摩擦子の往復回数４０００回における水の静的接触角の測定値が、８０度以上である、基材。
【請求項３】
往復回数４０００回における水の静的接触角の測定値が、８０度以上である、請求項１に記載の基材。
【請求項４】
ＡＳＴＭ  Ｄ４９１７に準拠して測定される動摩擦係数が、０．０５０未満である、請求項１〜３のいずれかに記載の基材。
【請求項５】
ＡＳＴＭ  Ｄ４９１７に準拠して測定される動摩擦係数が、０．０３５未満である、請求項１〜４のいずれかに記載の基材。
【請求項６】
表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された表面処理層を有する基材であって、
波長３００ｎｍ〜４００ｎｍの紫外線が、放射照度６２Ｗ／ｍ２で３００時間照射された表面において、２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、試験用布（リン酸三ナトリウム５．５ｇ、塩化ナトリウム１０ｇ、乳酸３．１ｇ、リシン５ｇおよび蒸留水１００ｍｌからなる人工汗を浸漬させた、ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）  ｓｔａｎｄａｒｄ  ｃｏｔｔｏｎ  ｓｏｉｌｉｎｇ  ｔｅｘｔｉｌｅ  ＦＩＮＥ）で覆われたシリコーンよりなる摩擦子に、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で往復する摩擦試験における、該摩擦子の往復回数０回、１０００回、２０００回、および３０００回（ただし、該往復回数は、水の静的接触角の測定値が最初に測定値が５０度未満になった回数を最大とする。）での往復回数（回）に対する水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線の勾配が−０．０２２２超である基材。
【請求項７】
往復回数３０００回における水の静的接触角の測定値が、５０度以上である、請求項６に記載の基材。
【請求項８】
ＡＳＴＭ  Ｄ４９１７に準拠して測定される動摩擦係数が、０．０５０未満である、請求項６または７に記載の基材。
【請求項９】
ＡＳＴＭ  Ｄ４９１７に準拠して測定される動摩擦係数が、０．０３５未満である、請求項６〜８のいずれか１項に記載の基材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基材、特に表面における撥水性の良好な基材に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、表面における優れた撥水性を有する基材が、求められている。例えば、特許文献１には、表面における優れた撥水性を有する基材として、ある種のパーフルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シランで処理された基材が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１６−２０４６５６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に記載のような表面処理基材は、例えばタッチパネル、携帯電話もしくはスマートフォンの操作画面などの用途において用いられているが、これらの用途では摩擦耐久性が求められ、近年その要求は高まっている。しかしながら、特許文献１に記載のような表面処理基材は、次第に高まる摩擦耐久性向上の要求に応えるには、もはや必ずしも十分とは言えない。本発明は、十分な撥水性を有し、特に摩擦を繰り返し与えられた場合であっても、撥水性を維持できる基材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の第１の要旨によれば、本発明の基材は
表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された表面処理層を有する基材であって、
２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、試験用布（リン酸三ナトリウム５．５ｇ、塩化ナトリウム１０ｇ、乳酸３．１ｇ、リシン５ｇおよび蒸留水１００ｍｌからなる人工汗を浸漬させた、ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）  ｓｔａｎｄａｒｄ  ｃｏｔｔｏｎ  ｓｏｉｌｉｎｇ  ｔｅｘｔｉｌｅ  ＦＩＮＥ）で覆われたシリコーンよりなる摩擦子に、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で表面上を往復する摩擦試験における、該摩擦子の往復回数０回、１０００回、２０００回、３０００回、および４０００回（ただし、該往復回数は、水の静的接触角の測定値が最初に８０度未満になった回数を最大とする。）での往復回数（回）に対する水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線の勾配が−０．００９６超である。
【０００６】
本発明の第２の要旨によれば、本発明の基材は、
表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された表面処理層を有する基材であって、
２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、試験用布（リン酸三ナトリウム５．５ｇ、塩化ナトリウム１０ｇ、乳酸３．１ｇ、リシン５ｇおよび蒸留水１００ｍｌからなる人工汗を浸漬させた、ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）  ｓｔａｎｄａｒｄ  ｃｏｔｔｏｎ  ｓｏｉｌｉｎｇ  ｔｅｘｔｉｌｅ  ＦＩＮＥ）で覆われたシリコーンよりなる摩擦子に、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で表面上を往復する摩擦試験における、該摩擦子の往復回数４０００回における水の静的接触角の測定値が、８０度以上である。
【０００７】
本発明の第３の要旨によれば、本発明の基材は
表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された表面処理層を有する基材であって、
波長３００ｎｍ〜４００ｎｍの紫外線が、放射照度６２Ｗ／ｍ２で３００時間照射された表面において、２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、試験用布（リン酸三ナトリウム５．５ｇ、塩化ナトリウム１０ｇ、乳酸３．１ｇ、リシン５ｇおよび蒸留水１００ｍｌからなる人工汗を浸漬させた、ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）  ｓｔａｎｄａｒｄ  ｃｏｔｔｏｎ  ｓｏｉｌｉｎｇ  ｔｅｘｔｉｌｅ  ＦＩＮＥ）で覆われたシリコーンよりなる摩擦子に、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で往復する摩擦試験における、該摩擦子の往復回数０回、１０００回、２０００回、および３０００回（ただし、該往復回数は、水の静的接触角の測定値が最初に測定値が５０度未満になった回数を最大とする。）での往復回数（回）に対する水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線の勾配が−０．０２２２超である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、十分な撥水性を有し、特に摩擦を繰り返し与えられた場合であっても、撥水性を維持できる基材が提供される。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の基材について説明する。
【００１０】
（態様１）
本態様の基材は、
表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された表面処理層を有する基材であって、
２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、試験用布で覆われたシリコーンよりなる摩擦子に、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で表面上を往復する摩擦試験における、該摩擦子の往復回数０回、１０００回、２０００回、３０００回、および４０００回（ただし、該往復回数は、水の静的接触角の測定値が最初に８０度未満になった回数を最大とする。）での往復回数（回）に対する水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線の勾配が−０．００９６超である。
【００１１】
上記試験用布としては、リン酸三ナトリウム５．５ｇ、塩化ナトリウム１０ｇ、乳酸３．１ｇ、リシン５ｇおよび蒸留水１００ｍｌからなる人工汗を浸漬させた、ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）  ｓｔａｎｄａｒｄ  ｃｏｔｔｏｎ  ｓｏｉｌｉｎｇ  ｔｅｘｔｉｌｅ  ＦＩＮＥを用いる。上記試験用布は、一辺の長さが８ｃｍであり、該一辺に直交する他辺の長さが５ｃｍの矩形である。
【００１２】
上記ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）  ｓｔａｎｄａｒｄ  ｃｏｔｔｏｎ  ｓｏｉｌｉｎｇ  ｔｅｘｔｉｌｅ  ＦＩＮＥは、糸密度が、縦糸：２７０±１０本／ｄｍ、横糸：２７０±１０本／ｄｍ、かつ、糸番手が、縦糸：２９５±１０ｄｔｘ、横糸：２９５±１０ｄｔｘ、かつ、撚り数が、縦糸：２９５±１０Ｔ/ｍ、横糸：２９５±１０Ｔ/ｍ、かつ密度が１７０±１０ｇ／ｍ２のコットンからなり、ＩＥＣ規格６０４５６のＡ．３．１．２に記載の組成物により汚染された布である。
【００１３】
上記ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）  ｓｔａｎｄａｒｄ  ｃｏｔｔｏｎ  ｓｏｉｌｉｎｇ  ｔｅｘｔｉｌｅ  ＦＩＮＥの表面粗さ（Ｒａ）は、１４〜２１μｍであってもよく、１６〜１９μｍであってもよい。
【００１４】
上記試験用布は、上記布に上記組成の人工汗が十分に浸透した状態にある。このような試験用布は、例えば、上記組成の人工汗に上記布を浸漬することによって得られる。上記布は、例えば、１０秒〜１０分間上記人工汗に浸漬される。なお、上記試験用布は、上記組成の人工汗に浸漬後の布を用いることができ、試験用布に付着している余分の人工汗の除去などを行う必要はない。
【００１５】
上記試験用布は、辺の長さが８ｃｍおよび５ｃｍの矩形に切断したものを用いる。上記の大きさの試験用布には、約１ｍｌ（例えば、０．５〜２．０ｍｌ）の人工汗が含まれ得る。
【００１６】
上記シリコーンは、試験用布を介して基材と接触する。即ち、上記摩擦子の基材と接触する面には、試験用布が存在する。上記試験用布と上記シリコーンとは、例えば、通常行われ得る手段（例えば接着剤、紐や輪ゴム）を用いて固定されていてもよい。但し、上記試験用布および上記シリコーンは、摩擦子と基材との接触面において凹凸部（例えば、試験用布の偏在により生じ得るシワ、たわみなど）は存在しないように固定されている。
【００１７】
上記試験用布で覆われたシリコーンよりなる摩擦子としては、例えば、直径２．５ｃｍの半球状のものを用いることができる。この場合、試験において基材を摩擦するのは、上記半球状の突起部（凸部）である。
【００１８】
上記摩擦試験は、上記摩擦子を基材の表面に沿うように反復移動させて行う。具体的には、上記摩擦試験は、２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、基材の表面に、上記試験用布で覆われた摩擦子を設置し、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で、所定の距離（例えば２０ｍｍ）を往復させることによって行う。上記摩擦試験は、例えば、基材の表面が鉛直方向に沿って延在するように設置して行う。
【００１９】
上記摩擦試験に用いる機械としては、ＩＮＮＯＷＥＰ社製ＡＢＲＥＸ（登録商標）試験機（型式：ｓｔａｎｄａｒｄ  ＡＢＲＥＸ（登録商標））を挙げることができる。
【００２０】
以下において、上記摩擦試験をより具体的に説明する。
【００２１】
まず、摩擦試験前の基材について、その表面における水の静的接触角の測定値（往復回数０回における水の静的接触角の測定値）を得る。
【００２２】
その後、基材の該表面において、摩擦試験を実施する。摩擦子の往復回数（即ち摩擦回数）１０００回毎に、基材の表面における水の静的接触角を測定し、水の静的接触角の測定値が８０度未満となるまで、摩擦試験を続ける。
【００２３】
より具体的には、摩擦子の往復回数が１０００回となったときに、基材の表面における水の静的接触角の測定値を求める。上記１０００回の測定値が８０度未満である場合には、摩擦試験を中止する。上記１０００回の測定値が８０度以上である場合には、さらに摩擦試験を行い、摩擦子の往復回数がさらに１０００回（即ち、計２０００回）となったときに、基材の表面における水の静的接触角の測定値を求める。上記２０００回の測定値が８０度未満の場合には、摩擦試験を中止する。上記２０００回の測定値が８０度以上の場合には、さらに摩擦試験を行い、摩擦子の往復回数がさらに１０００回（即ち、計３０００回）の場合の水の静的接触角の測定値を求める。上記３０００回の測定が８０度未満の場合には、摩擦試験を中止する。上記３０００回の測定値が８０度以上の場合には、さらに摩擦試験を行い、摩擦子の往復回数が４０００回の場合の水の静的接触角の測定値を求める。以下、水の静的接触角が８０度未満となるまで摩擦試験を行い、摩擦子の往復回数１０００回毎に水の静的接触角の測定値を求める。
【００２４】
次いで、上記の摩擦試験において得られた水の静的接触角の測定値と、摩擦子の往復回数との関係を求める。
【００２５】
一の態様において、摩擦子の往復回数が最大４０００回における、摩擦子の往復回数ｘ（回）と水の静的接触角の測定値との関係を求める。具体的には、該摩擦子の往復回数０回、１０００回、２０００回、３０００回、および４０００回での往復回数に対する水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線Ｆｘ＝ηｘ＋θ（ηおよびθは定数）を求める。
【００２６】
ただし、該往復回数は、水の静的接触角の測定値が最初に８０度未満になった回数を最大とする。具体的には、摩擦子の往復回数１０００回における水の静的接触角の測定値が８０度未満である場合には、往復回数０回および１０００回における水の静的接触角の測定値を用いて線形近似直線を形成する。摩擦子の往復回数１０００回における水の静的接触角の測定値が８０度以上であり、往復回数２０００回における水の静的接触角の測定値が８０度未満である場合には、往復回数０回、１０００回、および２０００回における水の静的接触角の測定値を用いて線形近似直線を形成する。摩擦子の往復回数２０００回における水の静的接触角の測定値が８０度以上であり、往復回数３０００回における水の静的接触角の測定値が８０度未満である場合には、往復回数０回、１０００回、２０００回および３０００回の値を用いて線形近似直線を形成する。摩擦子の往復回数３０００回における水の静的接触角の測定値が８０度以上である場合には、往復回数０回、１０００回、２０００回、３０００回および４０００回における水の静的接触角の測定値を用いて線形近似直線を形成する。
【００２７】
本態様の基材においては、上記の線形近似直線の勾配ηが−０．００９６超であり、好ましくは−０．００８５以上であり、より好ましくは−０．００８０以上、さらに好ましくは−０．００７０以上、特に好ましくは−０．００６０以上である。本態様の基材は、上記摩擦試験を行った後においても、その表面における水の静的接触角の低下が少なく、撥水性が低下しにくい。上記勾配ηの上限は特に限定されないが、例えば−０．０００１未満であってもよい。
【００２８】
上記線形近似直線におけるθは、例えば８０以上であり、具体的には９０以上であり、より具体的には１００以上であり、さらに具体的には１１０以上であり、１１４以上であってもよい。
【００２９】
別の態様において、摩擦子の往復回数が最大１００００回における、摩擦子の往復回数ｘ（回）と水の静的接触角の測定値との関係を求める。具体的には、該摩擦子の往復回数ｘ（回）に対する水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線Ｆ”ｘ＝η”ｘ＋θ”（η”およびθ”は定数）を求める。ただし、該往復回数は、水の静的接触角の測定値が最初に８０度未満になった回数を最大とする。摩擦試験、水の静的接触角の測定値については、上記と同意義である。
【００３０】
本態様の基材においては、上記の線形近似直線の勾配η”が、好ましくは−０．００９６超であり、より好ましくは−０．００８５以上であり、さらに好ましくは−０．００８０以上であり、特に好ましくは−０．００７０以上であり、さらに好ましくは−０．００６０以上である。即ち、本態様の基材は、上記摩擦試験を行った後においても、その表面における水の静的接触角の低下が少なく、撥水性が低下しにくい。上記勾配η”の上限は特に限定されないが、例えば−０．０００１未満であってもよい。
【００３１】
上記線形近似直線におけるθ”は、例えば８０以上であり、具体的には９０以上であり、より具体的には１００以上であり、さらに具体的には１１０以上であり、１１４以上であってもよい。
【００３２】
本態様の基材は、摩擦試験前の静的接触角の測定値（即ち、往復回数０回の静的接触角の測定値）が高いことが好ましい。摩擦試験前の基材の接触角は、８０度以上であることが好ましく、１００度以上であることがより好ましく、１０５度以上であることが特に好ましく、１１０度以上であることがさらに好ましい。
【００３３】
本態様の基材は、摩擦試験において、摩擦子の往復回数４０００回における水の静的接触角の測定値が、好ましくは、８０度以上であり、より好ましくは、８４度以上であり、さらに好ましくは８５度以上であり、特に好ましくは、９０度以上である。このような基材では、基材の表面が摩擦された場合であっても、その表面における撥水性が良好である。すなわち、摩擦の生じ得る用途において、このような基材は特に有用であり得る。
【００３４】
摩擦子の往復回数０回の水の静的接触角の測定値に対する、摩擦子の往復回数４０００回における水の静的接触角の割合は、０．７０以上にあってもよく、０．８０以上にあってもよい。上記割合の上限値は、特に限定されないが、例えば１．００以下、具体的には０．９８以下であってもよい。このような基材では、基材の表面が摩擦された場合であっても、その表面における撥水性を良好に維持できる。すなわち、摩擦の生じ得る用途において、このような基材は特に有用であり得る。
【００３５】
本態様の基材は、摩擦試験において、摩擦子の往復回数５０００回における水の静的接触角の測定値が、好ましくは、７５度以上であり、より好ましくは、８０度以上であり、さらに好ましくは、８５度以上である。このような基材では、基材の表面が摩擦された場合であっても、その表面における撥水性を特に良好に維持できる。すなわち、摩擦の生じ得る用途において、このような基材は特に有用であり得る。
【００３６】
本態様の基材において、ＡＳＴＭ  Ｄ４９１７に準拠して測定される動摩擦係数が、０．０５０未満であることが好ましく、０．０３５未満であることがより好ましい。
【００３７】
好ましい態様において、本態様の基材は、さらに、
波長３００ｎｍ〜４００ｎｍの紫外線が、放射照度６２Ｗ／ｍ２で３００時間照射された表面において、２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、試験用布（ここで、試験用布は、リン酸三ナトリウム５．５ｇ、塩化ナトリウム１０ｇ、乳酸３．１ｇ、リシン５ｇおよび蒸留水１００ｍｌからなる人工汗を浸漬させた、ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）  ｓｔａｎｄａｒｄ  ｃｏｔｔｏｎ  ｓｏｉｌｉｎｇ  ｔｅｘｔｉｌｅ  ＦＩＮＥである。）で覆われたシリコーンよりなる摩擦子に、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で往復する摩擦試験における、該摩擦子の往復回数０回、１０００回、２０００回、および３０００回（ただし、該往復回数は、水の静的接触角の測定値が最初に測定値が５０度未満になった回数を最大とする。）での往復回数（回）に対する紫外線照射後の水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線の勾配が−０．０２２２超である。
【００３８】
紫外線（ＵＶ）の照射源としては、例えば、キセノンランプを用いることができる。上記ＵＶの照射は、より具体的には、基材のブラックパネル温度を５５度とし、ランプとＵＶの照射される基材の表面との距離を２９ｃｍとして行うことができる。
【００３９】
上記のようにＵＶを基材の表面に照射した後、摩擦試験前の該表面における水の静的接触角の測定値を求める。その後、該表面において摩擦試験を行い、摩擦子の往復回数１０００回毎に、基材の表面における水の静的接触角を測定し、水の静的接触角の測定値が５０度未満となるまで、摩擦試験を続ける。
【００４０】
具体的には、ＵＶ照射試験後の摩擦試験は、以下のように行う。
【００４１】
まず、ＵＶ照射試験後の基材で有り、かつ、摩擦試験前の基材について、その表面における水の静的接触角の測定値（即ち、往復回数０回のときの水の静的接触角の測定値）を得る。
【００４２】
その後、ＵＶ照射試験後の基材の表面に対して、摩擦試験を実施する。摩擦子の往復回数１０００回毎に、基材の表面における水の静的接触角を測定し、水の静的接触角の測定値が５０度未満となるまで、摩擦試験を続ける。
【００４３】
より具体的には、摩擦子の往復回数が１０００回となったときに、基材の表面における水の静的接触角の測定値を求める。上記１０００回の測定値が５０度未満である場合には、摩擦試験を中止する。上記１０００回の測定値が５０度以上である場合には、さらに摩擦試験を行い、摩擦子の往復回数がさらに１０００回（即ち、計２０００回）となったときに、基材の表面における水の静的接触角の測定値を求める。上記２０００回の測定値が５０度未満の場合には、摩擦試験を中止する。上記２０００回の測定値が５０度以上の場合には、さらに摩擦試験を行い、摩擦子の往復回数がさらに１０００回（即ち、計３０００回）の場合の水の静的接触角の測定値を求める。上記３０００回の測定値が５０度未満の場合には、摩擦試験を中止する。上記３０００回の測定値が５０度以上の場合には、さらに摩擦試験を行い、摩擦子の往復回数が４０００回の場合の水の静的接触角の測定値を求める。以下、水の静的接触角が５０度未満となるまで摩擦試験を行い、摩擦子の往復回数１０００回毎に水の静的接触角の測定値を求める。
【００４４】
次いで、上記の摩擦試験において得られたＵＶ照射後の水の静的接触角の測定値と、摩擦子の往復回数との関係を求める。
【００４５】
一の態様において、摩擦子の往復回数が最大３０００回における、摩擦子の往復回数ｘ’（回）と水の静的接触角の測定値との関係を求める。具体的には、該摩擦子の往復回数０回、１０００回、２０００回、および３０００回での往復回数（回）に対するＵＶ照射試験後の水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線Ｆ’ｘ’＝η’ｘ’＋θ’（η’およびθ’は定数）を求める。
【００４６】
ただし、該往復回数は、水の静的接触角の測定値が最初に測定値が５０度未満になった回数を最大とする。具体的には、摩擦子の往復回数１０００回における水の静的接触角の測定値が５０度未満である場合には、往復回数０回および１０００回における水の静的接触角の測定値を用いて線形近似直線を形成する。摩擦子の往復回数１０００回における水の静的接触角の測定値が５０度以上であり、２０００回における水の静的接触角の測定値が５０度未満である場合には、往復回数０回、１０００回、および２０００回の値を用いて線形近似直線を形成する。
【００４７】
本態様の基材においては、上記のＵＶ照射試験後の線形近似直線の勾配η’が好ましくは−０．０２２２超であり、より好ましくは−０．０２００以上であり、さらに好ましくは−０．０１８０以上である。このような基材は、上記摩擦試験を行った後においても、その表面における水の静的接触角の低下が少なく、撥水性が低下しにくい。上記勾配η’の上限は特に限定されないが、例えば−０．００１未満であってもよい。
【００４８】
上記θ’は、例えば、９８以上であり、より具体的には１００以上である。
【００４９】
一の態様において、摩擦子の往復回数が最大６０００回における、摩擦子の往復回数ｘ’（回）と水の静的接触角の測定値との関係を求める。該摩擦子の往復回数（回）に対するＵＶ照射試験後の水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線Ｆ'''ｘ'＝η'''ｘ'＋θ'''（η'''およびθ'''は定数）を求める。
【００５０】
上記線形近似直線においてη'''は、例えば、−０．０２２２超である。θ'''は、例えば、９８以上であり、より具体的には１００以上である。
【００５１】
本態様の基材は、上記ＵＶ照射試験後の摩擦試験において、摩擦子の往復回数３０００回における水の静的接触角の測定値が、５０度以上であることが好ましく、５５度以上であることがより好ましく、６０度以上であることがさらに好ましく、７０度以上であることが特に好ましく、７５度以上であることがさらに好ましい。
【００５２】
本態様の基材は、少なくとも１の表面において、表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された表面処理層を有する。即ち、本態様の基材は、表面処理剤層と、ベース層とを含むことが好ましい。
【００５３】
上記ベース層は、例えばガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属（アルミニウム、銅、鉄等の金属単体または合金等の複合体であってよい）、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。
【００５４】
例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、ベース層の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、ベース層の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＴｉＯ、Ｔｉ２Ｏ３、Ｔｉ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＣｅＯ２、ＭｇＯ、Ｙ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＭｇＦ２、ＷＯ３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、ベース層（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、ベース層は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。
【００５５】
好ましい態様において、ベース層はガラスを含む。
【００５６】
上記ガラスとしては、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが挙げられる。
【００５７】
一の態様において、上記ガラスは、化学強化ガラス、例えば化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、および化学強化したホウ珪酸ガラスであり得る。
【００５８】
好ましい態様において、上記化学強化ガラスは、ＳｉＯ２、およびＡｌ２Ｏ３、Ｎａ２Ｏ、ＭｇＯ、Ｋ２Ｏ、ＣａＯ、ＢａＯ、ＳｒＯ、およびＢ２Ｏ３からなる群から選択される１つまたはそれ以上の酸化物を含む化学強化用ガラスを化学強化処理（典型的には、イオン交換）して得られるガラスであり得る。
【００５９】
好ましい態様において、上記化学強化用ガラスは、上記酸化物を、下記の割合（酸化物基準の重量百分率）で含有する。
ＳｉＯ２：６０．０〜８０．０％
Ａｌ２Ｏ３：０．５〜１２．０％
Ｂ２Ｏ３：０〜３．０％
ＭｇＯ：０〜１２．０％
ＣａＯ：０〜５．０％
ＳｒＯ：０〜５．０％
ＢａＯ：０〜５．０％
Ｎａ２Ｏ：３．０〜２０．０％
Ｋ２Ｏ：０〜１０．０％
【００６０】
化学強化処理は、従来公知の方法によって行うことができる。例えば、化学強化処理においては、大きなイオン半径の金属イオン（典型的には、Ｋイオン）を含む金属塩（例えば、硝酸カリウム）の融液に、浸漬などによってガラス板を接触させることにより、ガラス板中の小さなイオン半径の金属イオン（典型的には、ＮａイオンまたはＬｉイオン）が大きなイオン半径の金属イオンと置換される。
【００６１】
一の態様において、上記化学強化ガラスの圧縮応力層の厚みは、好ましくは３５μｍ以上、より好ましくは４０μｍ以上、さらに好ましくは４５μｍ以上であり得る。
【００６２】
上記化学強化ガラスの圧縮応力層の厚みは、化学強化用ガラスを化学強化する際の条件、化学強化用ガラスの組成等を調整することにより、適宜調整することができる。
【００６３】
ここに、圧縮応力層の厚みとは、ガラス板最表面を基準として圧縮応力が形成されている領域の深さである。かかる圧縮応力層の厚みは、表面応力計により測定することができる。例えば、圧縮応力層の厚みは、室温２５℃、湿度６０％の環境下、５８９ｎｍのＮａ光源にて、折原製作所社製表面応力計ＦＳＭ−６０００を用いて測定することができる。
【００６４】
ベース層の形状は特に限定されない。また、表面処理剤からなる層（表面処理層）を形成すべきベース層の表面領域は、ベース層の表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。
【００６５】
かかるベース層としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、ベース層に何らかの前処理を施すことにより、ベース層の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、ベース層の表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、ベース層の表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素−炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、ベース層の表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。
【００６６】
またあるいは、かかるベース層としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。
【００６７】
上記表面処理剤は、パーフルオロポリエーテル基（以下、「ＰＦＰＥ基」ともいう）含有化合物を含み、ＰＦＰＥ基含有シラン化合物を含むことが好ましい。
【００６８】
上記ＰＦＰＥ含有シラン化合物は、例えば、（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）または（Ｄ２）で表される化合物である。
【化１】
2019089332.tif 000002
【００６９】
以下、上記式（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）および（Ｄ２）で表されるＰＦＰＥ含有シラン化合物について説明する。
【００７０】
本明細書において用いられる場合、「２〜１０価の有機基」とは、炭素を含有する２〜１０価の基を意味する。かかる２〜１０価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基からさらに１〜９個の水素原子を脱離させた２〜１０価の基が挙げられる。２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。
【００７１】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、分子から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数１〜２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。尚、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。
【００７２】
本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子；１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、Ｃ２−６アルキニル基、Ｃ３−１０シクロアルキル基、Ｃ３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ６−１０アリール基および５〜１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。
【００７３】
本明細書において、アルキル基およびフェニル基は、特記しない限り、非置換であっても、置換されていてもよい。かかる基の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。
【００７４】
式（Ａ１）および（Ａ２）：
【化２】
2019089332.tif 000003
【００７５】
上記式中、Ｒｆは、各出現において独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表す。
【００７６】
上記１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基における「炭素数１〜１６のアルキル基」は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のアルキル基である。
【００７７】
上記Ｒｆは、好ましくは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されている炭素数１〜１６のアルキル基であり、より好ましくはＣＦ２Ｈ−Ｃ１−１５フルオロアルキレン基またはＣ１−１６パーフルオロアルキル基であり、さらに好ましくはＣ１−１６パーフルオロアルキル基である。
【００７８】
該炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは、直鎖または分枝鎖の炭素数１〜６、特に炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基であり、より好ましくは直鎖の炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、具体的には−ＣＦ３、−ＣＦ２ＣＦ３、または−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３である。
【００７９】
上記式中、ＰＦＰＥは、各出現において独立して、
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｘ１０６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
で表される基である。式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して、０以上１００以下の整数である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は５以上であり、より好ましくは１０以上である。好ましくは、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は２００以下であり、より好ましくは１００以下であり、例えば１０以上２００以下であり、より具体的には１０以上１００以下である。また、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。Ｘ１０は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または塩素原子であり、好ましくは水素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。
【００８０】
これら繰り返し単位は、直鎖状であっても、分枝鎖状であってもよいが、好ましくは直鎖状である。例えば、−（ＯＣ６Ｆ１２）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ５Ｆ１０）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−等であってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ３Ｆ６）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。また、−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−である。
【００８１】
一の態様において、上記ＰＦＰＥは、−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。好ましくは、ＰＦＰＥは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）または−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。より好ましくは、ＰＦＰＥは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ−（式中、ｄは１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数である）である。
【００８２】
別の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して０以上３０以下の整数であり、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも５以上、好ましくは１０以上であり、添字ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）である。好ましくは、ＰＦＰＥは、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−である。一の態様において、ＰＦＰＥは、−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−（式中、ｅおよびｆは、それぞれ独立して１以上２００以下、好ましくは５以上２００以下、より好ましくは１０以上２００以下の整数であり、添字ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である）であってもよい。
【００８３】
さらに別の態様において、ＰＦＰＥは、−（Ｒ６−Ｒ７）ｊ−で表される基である。式中、Ｒ６は、ＯＣＦ２またはＯＣ２Ｆ４であり、好ましくはＯＣ２Ｆ４である。式中、Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。好ましくは、Ｒ７は、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から選択される基であるか、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される２または３つの基の組み合わせである。ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６およびＯＣ４Ｆ８から独立して選択される２または３つの基の組み合わせとしては、特に限定されないが、例えば−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ２Ｆ４ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４ＯＣ３Ｆ６−、−ＯＣ３Ｆ６ＯＣ３Ｆ６ＯＣ２Ｆ４−、および−ＯＣ４Ｆ８ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４−等が挙げられる。上記ｊは、２以上、好ましくは３以上、より好ましくは５以上であり、１００以下、好ましくは５０以下の整数である。上記式中、ＯＣ２Ｆ４、ＯＣ３Ｆ６、ＯＣ４Ｆ８、ＯＣ５Ｆ１０およびＯＣ６Ｆ１２は、直鎖または分枝鎖のいずれであってもよく、好ましくは直鎖である。この態様において、ＰＦＰＥは、好ましくは、−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ３Ｆ６）ｊ−または−（ＯＣ２Ｆ４−ＯＣ４Ｆ８）ｊ−である。
【００８４】
ＰＦＰＥにおいて、ｆに対するｅの比（以下、「ｅ／ｆ比」という）は、０．１以上１０以下であり、好ましくは０．２以上５以下であり、より好ましくは０．２以上２以下であり、さらに好ましくは０．２以上１．５以下であり、さらにより好ましくは０．２以上０．８５以下である。ｅ／ｆ比を１０以下にすることにより、この化合物から得られる層の滑り性、摩擦耐久性および耐ケミカル性（例えば、人工汗に対する耐久性）がより向上する。ｅ／ｆ比がより小さいほど、上記層の滑り性および摩擦耐久性はより向上する。一方、ｅ／ｆ比を０．１以上にすることにより、化合物の安定性をより高めることができる。ｅ／ｆ比がより大きいほど、化合物の安定性はより向上する。
【００８５】
上記ＰＦＰＥ含有シラン化合物において、−ＰＦＰＥ−部分の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、例えば５００〜３０，０００、好ましくは１，５００〜３０，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００である。上記数平均分子量は、１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。
【００８６】
別の態様において、−ＰＦＰＥ−部分の数平均分子量は、５００〜３０，０００、好ましくは１，０００〜２０，０００、より好ましくは２，０００〜１５，０００、さらにより好ましくは２，０００〜１０，０００、例えば３，０００〜６，０００であり得る。
【００８７】
別の態様において、−ＰＦＰＥ−部分の数平均分子量は、４，０００〜３０，０００、好ましくは５，０００〜１０，０００、より好ましくは６，０００〜１０，０００であり得る。
【００８８】
上記式中、Ｒ１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。
【００８９】
上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味し、すなわち、加水分解反応により、化合物の主骨格から脱離し得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝ＣＲ２、−ＮＲ２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ（即ち、アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。
【００９０】
上記式中、Ｒ１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基を表す。
【００９１】
上記式中、Ｒ１１は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表す。ハロゲン原子は、好ましくはヨウ素原子、塩素原子またはフッ素原子であり、より好ましくはフッ素原子である。
【００９２】
上記式中、Ｒ１２は、各出現において、それぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
【００９３】
上記式中、ｎ１は、（−ＳｉＲ１３ｎ１Ｒ１４３−ｎ１）単位毎に独立して、０〜３の整数であり、好ましくは１〜３であり、より好ましくは３である。式中、少なくとも１つのｎ１が１〜３の整数であり、即ち、すべてのｎ１が同時に０になることはない。換言すれば、式中、少なくとも１つはＲ１３が存在する。
【００９４】
一の態様において、式（Ａ１）および（Ａ２）において、水酸基または加水分解可能な基に結合したＳｉが少なくとも２つ存在する。即ち、式（Ａ１）および（Ａ２）において、ｎが１以上である−ＳｉＲ１３ｎ１Ｒ１４３−ｎ１構造（即ち、−ＳｉＲ１３部分）が少なくとも２つ存在する。
【００９５】
上記式中、Ｘ１は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ１は、式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（即ち、α１を付して括弧でくくられた基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ１は、式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。
【００９６】
別の態様において、Ｘ１は、Ｘｅであり得る。Ｘｅは、単結合または２〜１０価の有機基を表し、好ましくは、単結合または−Ｃ６Ｈ４−（すなわち−フェニレン−。以下、フェニレン基を示す。）、−ＣＯ−（カルボニル基）、−ＮＲ４−および−ＳＯ２−からなる群より選ばれる少なくとも１つを有する２〜１０価の有機基を表す。上記Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、またはＣ１〜６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、好ましくは水素原子、またはメチル基である。上記の−Ｃ６Ｈ４−、−ＣＯ−、−ＮＲ４−または−ＳＯ２−は、ＰＦＰＥ含有シラン化合物の分子主鎖中に含まれることが好ましい。ここで、分子主鎖とは、ＰＦＰＥ含有シラン化合物の分子中で相対的に最も長い結合鎖を表す。
【００９７】
Ｘｅは、より好ましくは、単結合または−Ｃ６Ｈ４−、−ＣＯＮＲ４−、−ＣＯＮＲ４−Ｃ６Ｈ４−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｃ６Ｈ４−、−ＳＯ２ＮＲ４−、−ＳＯ２ＮＲ４−Ｃ６Ｈ４−、−ＳＯ２−、および−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４−からなる群より選ばれる少なくとも１つを有する２〜１０価の有機基を表す。上記の−Ｃ６Ｈ４−、−ＣＯＮＲ４−、−ＣＯＮＲ４−Ｃ６Ｈ４−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｃ６Ｈ４−、−ＳＯ２ＮＲ４−、−ＳＯ２ＮＲ４−Ｃ６Ｈ４−、−ＳＯ２−、または−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４−は、ＰＦＰＥ含有シラン化合物の分子主鎖中に含まれることが好ましい。
【００９８】
上記式中、α１は１〜９の整数であり、α１’は１〜９の整数である。これらα１およびα１’は、Ｘ１の価数に応じて変化し得る。式（Ａ１）においては、α１およびα１’の和は、Ｘ１の価数と同じである。例えば、Ｘ１が１０価の有機基である場合、α１およびα１’の和は１０であり、例えばα１が９かつα１’が１、α１が５かつα１’が５、またはα１が１かつα１’が９となり得る。また、Ｘ１が２価の有機基である場合、α１およびα１’は１である。式（Ａ２）においては、α１はＸ１の価数から１を引いた値である。
【００９９】
上記Ｘ１は、好ましくは２〜７価であり、より好ましくは２〜４価であり、さらに好ましくは２価の有機基である。
【０１００】
一の態様において、Ｘ１は２〜４価の有機基であり、α１は１〜３であり、α１’は１である。
【０１０１】
別の態様において、Ｘ１は２価の有機基であり、α１は１であり、α１’は１である。この場合、式（Ａ１）および（Ａ２）は、下記式（Ａ１’）および（Ａ２’）で表される。
【化３】
2019089332.tif 000004
【０１０２】
上記Ｘ１の例としては、特に限定するものではないが、例えば、下記式：
−（Ｒ３１）ｐ’−（Ｘａ）ｑ’−
［式中：
Ｒ３１は、単結合、−（ＣＨ２）ｓ’−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ２）ｓ’−であり、
ｓ’は、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
Ｘａは、−（Ｘｂ）ｌ’−を表し、
Ｘｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、−ＣＯＮＲ３４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ３４−、−ＮＲ３４−および−（ＣＨ２）ｎ’−からなる群から選択される基を表し、
Ｒ３３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ１−６アルキル基またはＣ１−６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ１−６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数であり、
ｎ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｌ’は、１〜１０の整数、好ましくは１〜５の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｐ’は、０または１であり、
ｑ’は、０または１であり、
ここに、ｐ’およびｑ’の少なくとも一方は１であり、ｐ’またはｑ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の基が挙げられる。ここに、Ｒ３１およびＸａ（典型的にはＲ３１およびＸａの水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【０１０３】
好ましくは、上記Ｘ１は、−（Ｒ３１）ｐ’−（Ｘａ）ｑ’−Ｒ３２−である。Ｒ３２は、単結合、−（ＣＨ２）ｔ’−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ２）ｔ’−である。ｔ’は、１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。ここに、Ｒ３２（典型的にはＲ３２中の水素原子）は、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【０１０４】
好ましくは、上記Ｘ１は、
単結合、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−Ｒ３１−Ｘｃ−Ｒ３２−、または
−Ｘｄ−Ｒ３２−
［式中、Ｒ３１およびＲ３２は、上記と同意義である。］
であり得る。なお、アルキレン基とは、−（ＣδＨ２δ）−構造を有する基であり、置換または非置換であってよく、直鎖状または分枝鎖状であってもよい。
【０１０５】
さらに好ましくは、上記Ｘ１は、
−Ｘｆ−、
−Ｘｆ−Ｃ１−２０アルキレン基、
−Ｘｆ−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−、
−Ｘｆ−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−（ＣＨ２）ｔ’−
−Ｘｆ−Ｘｄ−、または
−Ｘｆ−Ｘｄ−（ＣＨ２）ｔ’−
である。式中、ｓ’およびｔ’は、上記と同意義である。
上記式中、Ｘｆは、炭素原子数１〜６、好ましくは炭素原子数１〜４、より好ましくは炭素原子数１〜２のアルキレン基、例えばメチレン基である。Ｘｆ中の水素原子は、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３フルオロアルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよく、好ましくは置換されている。Ｘｆは、直鎖状または分枝鎖状であってもよく、好ましくは直鎖状である。
【０１０６】
より好ましくは、上記Ｘ１は、
単結合、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−（ＣＨ２）ｔ’−
−Ｘｄ−、または
−Ｘｄ−（ＣＨ２）ｔ’−
［式中、ｓ’およびｔ’は、上記と同意義である。］
である。
【０１０７】
上記式中、Ｘｃは、
−Ｏ−、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ３４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ３４−、
−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−Ｏ−（ＣＨ２）u’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−Ｏ−（ＣＨ２）u’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ３３）２−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（Ｒ３３）２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−Ｏ−（ＣＨ２）u’−Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２−、
−ＣＯＮＲ３４−（ＣＨ２）u’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−ＣＯＮＲ３４−（ＣＨ２）u’−Ｎ（Ｒ３４）−、または
−ＣＯＮＲ３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ３３）２−
［式中、Ｒ３３、Ｒ３４およびｍ’は、上記と同意義であり、
ｕ’は１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］を表す。Ｘｃは、好ましくは−Ｏ−である。
【０１０８】
上記式中、Ｘｄは、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ３４−、
−ＣＯＮＲ３４−（ＣＨ２）u’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−、
−ＣＯＮＲ３４−（ＣＨ２）u’−Ｎ（Ｒ３４）−、または
−ＣＯＮＲ３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ３３）２−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
を表す。
【０１０９】
特に好ましくは、上記Ｘ１は、
−Ｘｆ−、
−Ｘｆ−Ｃ１−２０アルキレン基、
−Ｘｆ−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−、
−Ｘｆ−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−（ＣＨ２）ｔ’−
−Ｘｆ−Ｘｄ−、または
−Ｘｆ−Ｘｄ−（ＣＨ２）ｔ’−
［式中、Ｘｆ、ｓ’およびｔ’は、上記と同意義である。］
であり、
Ｘｃが、−Ｏ−、または−ＣＯＮＲ３４−、
Ｘｄが、−ＣＯＮＲ３４−、
Ｒ３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表す。］
で表される基である。
【０１１０】
一の態様において、上記Ｘ１は、
−Ｘｆ−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−、
−Ｘｆ−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−（ＣＨ２）ｔ’−
−Ｘｆ−Ｘｄ−、または
−Ｘｆ−Ｘｄ−（ＣＨ２）ｔ’−
［式中、Ｘｆ、ｓ’およびｔ’は、上記と同意義である。］
であり、
Ｘｃが、−ＣＯＮＲ３４−、
Ｘｄが、−ＣＯＮＲ３４−、
Ｒ３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表す。］
で表される基である。
【０１１１】
より好ましくは、上記Ｘ１は、
単結合、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｘｃ−（ＣＨ２）ｔ’−、または
−Ｘｄ−（ＣＨ２）ｔ’−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。
【０１１２】
さらにより好ましくは、上記Ｘ１は、
単結合、
Ｃ１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ’−、
−（ＣＨ２）ｓ’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−（ＣＨ２）ｔ’−、
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｏ−（ＣＨ２）u’−（Ｓｉ（Ｒ３３）２Ｏ）ｍ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−（ＣＨ２）ｔ’−、または
−（ＣＨ２）ｓ’−Ｏ−（ＣＨ２）ｔ’−Ｓｉ（Ｒ３３）２ −（ＣＨ２）u’−Ｓｉ（Ｒ３３）２−（ＣvＨ２v）−
［式中、Ｒ３３、ｍ’、ｓ’、ｔ’およびｕ’は、上記と同意義であり、ｖは１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］
である。
【０１１３】
上記式中、−（ＣvＨ２v）−は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ（ＣＨ３）−、−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−であり得る。
【０１１４】
上記Ｘ１基は、フッ素原子、Ｃ１−３アルキル基およびＣ１−３フルオロアルキル基（好ましくは、Ｃ１−３パーフルオロアルキル基）から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【０１１５】
一の態様において、Ｘ１基は、−Ｏ−Ｃ１−６アルキレン基以外であり得る。
【０１１６】
別の態様において、Ｘ１基としては、例えば下記の基が挙げられる：
【化４】
2019089332.tif 000005
【化５】
2019089332.tif 000006
［式中、Ｒ４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
Ｄは、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）4−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、および
【化６】
2019089332.tif 000007
（式中、Ｒ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１−６のアルキル基またはＣ１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。）
から選択される基であり、
Ｅは、−（ＣＨ２）ｎｅ−（ｎｅは２〜６の整数）であり、
Ｄは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合し、Ｅは、ＰＦＰＥと反対の基に結合する。］
【０１１７】
上記Ｘ１の具体的な例としては、例えば：
単結合
−ＣＨ２ＯＣＨ２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）５−、
−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−、
−（ＣＦ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）４−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）５−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯ−
−ＣＯＮＨ−
−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨＣＨ２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−Ｓ−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
−ＯＣＨ２−、
−Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＯＣＦＨＣＦ２−、
【化７】
2019089332.tif 000008
などが挙げられる。
【０１１８】
上記の中では、Ｘ１は、
−ＣＨ２ＯＣＨ２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＨ２−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）５−、
−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−、
−（ＣＦ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）４−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）５−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨＣＨ２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＯＣＨ２−、
−Ｏ（ＣＨ２）３−、または
−ＯＣＦＨＣＦ２−、
であることが好ましい。
【０１１９】
上記の中では、より好ましくは、Ｘ１は、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨＣＨ２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
である。
【０１２０】
より好ましい態様において、Ｘ１は、Ｘｅ’を表す。Ｘｅ’は、単結合、炭素数１〜６のアルキレン基、−Ｒ５１−Ｃ６Ｈ４−Ｒ５２−、−Ｒ５１−ＣＯＮＲ４−Ｒ５２−、−Ｒ５１−ＣＯＮＲ４−Ｃ６Ｈ４−Ｒ５２−、−Ｒ５１−ＣＯ−Ｒ５２−、−Ｒ５１−ＣＯ−Ｃ６Ｈ４−Ｒ５２−、−Ｒ５１−ＳＯ２ＮＲ４−Ｒ５２−、−Ｒ５１−ＳＯ２ＮＲ４−Ｃ６Ｈ４−Ｒ５２−、−Ｒ５１−ＳＯ２−Ｒ５２−、または−Ｒ５１−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４−Ｒ５２−である。Ｒ５１およびＲ５２は、それぞれ独立して、単結合または炭素数１〜６のアルキレン基を表し、好ましくは単結合または炭素数１〜３のアルキレン基である。Ｒ４は上記と同意義である。上記アルキレン基は、置換または非置換であり、好ましくは非置換である。上記アルキレン基の置換基としては、例えばハロゲン原子、好ましくはフッ素原子を挙げることができる。上記アルキレン基は、直鎖状または分枝鎖状であり、直鎖状であることが好ましい。
【０１２１】
さらに好ましい態様において、Ｘｅ’は、
単結合、
−Ｘｆ−、
炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３のアルキレン基
−Ｘｆ−Ｃ１−６アルキレン基、好ましくは−Ｘｆ−Ｃ１−３アルキレン基、より好ましくは−Ｘｆ−Ｃ１−２アルキレン基、
−Ｃ６Ｈ４−Ｒ５２’−、
−ＣＯＮＲ４’−Ｒ５２’−、
−ＣＯＮＲ４’−Ｃ６Ｈ４−Ｒ５２’−、
−Ｘｆ−ＣＯＮＲ４’−Ｒ５２’−、
−Ｘｆ−ＣＯＮＲ４’−Ｃ６Ｈ４−Ｒ５２’−、
−ＣＯ−Ｒ５２’−、
−ＣＯ−Ｃ６Ｈ４−Ｒ５２’−、
−ＳＯ２ＮＲ４’−Ｒ５２’−、
−ＳＯ２ＮＲ４’−Ｃ６Ｈ４−Ｒ５２’−、
−ＳＯ２−Ｒ５２’−、
−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４−Ｒ５２’−、
−Ｒ５１’−Ｃ６Ｈ４−、
−Ｒ５１’−ＣＯＮＲ４’−、
−Ｒ５１’−ＣＯＮＲ４’−Ｃ６Ｈ４−、
−Ｒ５１’−ＣＯ−、
−Ｒ５１’−ＣＯ−Ｃ６Ｈ４−、
−Ｒ５１’−ＳＯ２ＮＲ４’−、
−Ｒ５１’−ＳＯ２ＮＲ４’−Ｃ６Ｈ４−、
−Ｒ５１’−ＳＯ２−、
−Ｒ５１’−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４−、
−Ｃ６Ｈ４−
−ＣＯＮＲ４’−、
−ＣＯＮＲ４’−Ｃ６Ｈ４−、
−Ｘｆ−ＣＯＮＲ４’−、
−Ｘｆ−ＣＯＮＲ４’−Ｃ６Ｈ４−、
−ＣＯ−、
−ＣＯ−Ｃ６Ｈ４−、
−ＳＯ２ＮＲ４’−、
−ＳＯ２ＮＲ４’−Ｃ６Ｈ４−
−ＳＯ２−、または
−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４−
（式中、Ｒ５１’およびＲ５２’は、それぞれ独立して、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３の直鎖のアルキレン基であり、上記したように、上記アルキレン基は、置換または非置換であり、上記アルキレン基の置換基としては、例えばハロゲン原子、好ましくはフッ素原子を挙げることができる。
Ｒ４’は、水素原子またはメチルである。）
であり得る。
【０１２２】
上記の中で、Ｘｅ’は、好ましくは、
−Ｘｆ−、
炭素原子数１〜６、好ましくは炭素原子数１〜３のアルキレン基、
−Ｘｆ−Ｃ１−６アルキレン基、好ましくは−Ｘｆ−Ｃ１−３アルキレン基、より好ましくは−Ｘｆ−Ｃ１−２アルキレン基、
−ＣＯＮＲ４’−Ｒ５２’−、
−ＣＯＮＲ４’−Ｃ６Ｈ４−Ｒ５２’−、
−Ｘｆ−ＣＯＮＲ４’−Ｒ５２’−、
−Ｘｆ−ＣＯＮＲ４’−Ｃ６Ｈ４−Ｒ５２’−、
−Ｒ５１’−ＣＯＮＲ４’−、
−Ｒ５１’−ＣＯＮＲ４’−Ｃ６Ｈ４−、
−ＣＯＮＲ４’−、
−ＣＯＮＲ４’−Ｃ６Ｈ４−、
−Ｘｆ−ＣＯＮＲ４’−、
−Ｘｆ−ＣＯＮＲ４’−Ｃ６Ｈ４−、
−Ｒ５１’−ＣＯＮＲ４’−、または
−Ｒ５１’−ＣＯＮＲ４’−Ｃ６Ｈ４−、
であり得る。式中、Ｘｆ、Ｒ４’、Ｒ５１’およびＲ５２’は、それぞれ上記と同意義である。
【０１２３】
上記の中で、Ｘｅ’は、より好ましくは、
−ＣＯＮＲ４’−Ｒ５２’−、
−ＣＯＮＲ４’−Ｃ６Ｈ４−Ｒ５２’−、
−Ｘｆ−ＣＯＮＲ４’−Ｒ５２’−、
−Ｘｆ−ＣＯＮＲ４’−Ｃ６Ｈ４−Ｒ５２’−、
−Ｒ５１’−ＣＯＮＲ４’−、
−Ｒ５１’−ＣＯＮＲ４’−Ｃ６Ｈ４−、
−ＣＯＮＲ４’−、
−ＣＯＮＲ４’−Ｃ６Ｈ４−、
−Ｘｆ−ＣＯＮＲ４’−、または
−Ｘｆ−ＣＯＮＲ４’−Ｃ６Ｈ４−、
であり得る。
【０１２４】
本態様において、Ｘｅ’の具体例としては、例えば、
単結合、
炭素原子数１〜６のパーフルオロアルキレン基（例えば、−ＣＦ２−、−（ＣＦ２）２−等）、
炭素数１〜６のアルキレン基、
−ＣＦ２−Ｃ１−６アルキレン基、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨＣＨ２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）ＣＨ２−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−、
−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−Ｃ６Ｈ４−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−Ｃ６Ｈ４−、
−ＣＨ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
−ＣＨ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−Ｃ６Ｈ４−、
−ＣＦ２−ＣＯＮＨ−Ｃ６Ｈ４−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−Ｃ６Ｈ４−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−Ｃ６Ｈ４−、
−ＣＯ−、
−ＣＯ−Ｃ６Ｈ４−、
−Ｃ６Ｈ４−、
−ＳＯ２ＮＨ−、
−ＳＯ２ＮＨ−ＣＨ２−、
−ＳＯ２ＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＳＯ２ＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＳＯ２ＮＨ−Ｃ６Ｈ４−、
−ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）−、
−ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
−ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−、
−ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＳＯ２Ｎ（ＣＨ３）−Ｃ６Ｈ４−、
−ＳＯ２−、
−ＳＯ２−ＣＨ２−、
−ＳＯ２−（ＣＨ２）２−、
−ＳＯ２−（ＣＨ２）３−、または
−ＳＯ２−Ｃ６Ｈ４−
などが挙げられる。
【０１２５】
上記列挙の中で、好ましいＸｅ’としては、
炭素原子数１〜６のアルキレン基、
炭素原子数１〜６のパーフルオロアルキレン基（例えば、−ＣＦ２−、−（ＣＦ２）２−等）、
−ＣＦ２−Ｃ１−６アルキレン基、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨＣＨ２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）ＣＨ２−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−、
−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−Ｃ６Ｈ４−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−Ｃ６Ｈ４−、
−ＣＨ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
−ＣＨ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−Ｃ６Ｈ４−
−ＣＦ２−ＣＯＮＨ−Ｃ６Ｈ４−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−Ｃ６Ｈ４−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−Ｃ６Ｈ４−、
などが挙げられる。
【０１２６】
上記列挙の中で、より好ましいＸｅ’としては、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨＣＨ２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）ＣＨ２−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−、
−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−Ｃ６Ｈ４−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−Ｃ６Ｈ４−、
−ＣＨ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
−ＣＨ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−Ｃ６Ｈ４−
−ＣＦ２−ＣＯＮＨ−Ｃ６Ｈ４−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−Ｃ６Ｈ４−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、または
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−Ｃ６Ｈ４−、
などが挙げられる。
【０１２７】
一の態様において、Ｘｅ’は、単結合である。本態様において、ＰＦＰＥと基材との結合能を有する基（即ち、（Ａ１）および（Ａ２）においては、α１を付して括弧でくくられた基）とが直接結合している。
【０１２８】
さらに別の態様において、Ｘ１は、式：−（Ｒ１６）ｘ−（ＣＦＲ１７）ｙ−（ＣＨ２）ｚ−で表される基である。式中、ｘ、ｙおよびｚは、それぞれ独立して、０〜１０の整数であり、ｘ、ｙおよびｚの和は１以上であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。
【０１２９】
上記式中、Ｒ１６は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子、フェニレン、カルバゾリレン、−ＮＲ１８−（式中、Ｒ１８は、水素原子または有機基を表す）または２価の有機基である。好ましくは、Ｒ１６は、酸素原子または２価の極性基である。
【０１３０】
上記「２価の極性基」としては、特に限定されないが、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｃ（＝ＮＲ１９）−、および−Ｃ（Ｏ）ＮＲ１９−（これらの式中、Ｒ１９は、水素原子または低級アルキル基を表す）が挙げられる。当該「低級アルキル基」は、例えば、炭素数１〜６のアルキル基、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピルであり、これらは、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい。
【０１３１】
上記式中、Ｒ１７は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり、好ましくはフッ素原子である。当該「低級フルオロアルキル基」は、例えば、炭素数１〜６、好ましくは炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。
【０１３２】
この態様において、Ｘ１は、好ましくは、式：−（Ｏ）ｘ−（ＣＦ２）ｙ−（ＣＨ２）ｚ−（式中、ｘ、ｙおよびｚは、上記と同意義であり、括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である）で表される基である。
【０１３３】
上記式：−（Ｏ）ｘ−（ＣＦ２）ｙ−（ＣＨ２）ｚ−で表される基としては、例えば、−（Ｏ）ｘ’−（ＣＨ２）ｚ”−Ｏ−［（ＣＨ２）ｚ’’’−Ｏ−］ｚ””、および−（Ｏ）ｘ’−（ＣＦ２）ｙ”−（ＣＨ２）ｚ”−Ｏ−［（ＣＨ２）ｚ’’’−Ｏ−］ｚ””（式中、ｘ’は０または１であり、ｙ”、ｚ”およびｚ’’’は、それぞれ独立して、１〜１０の整数であり、ｚ””は、０または１である）で表される基が挙げられる。なお、これらの基は左端がＰＦＰＥ側に結合する。
【０１３４】
別の好ましい態様において、Ｘ１は、−Ｏ−ＣＦＲ２０−（ＣＦ２）ｅ’−である。
【０１３５】
上記Ｒ２０は、それぞれ独立して、フッ素原子または低級フルオロアルキル基を表す。ここで低級フルオロアルキル基は、例えば炭素数１〜３のフルオロアルキル基、好ましくは炭素数１〜３のパーフルオロアルキル基、より好ましくはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、更に好ましくはトリフルオロメチル基である。
【０１３６】
上記ｅ’は、それぞれ独立して、０または１である。
【０１３７】
一の具体例において、Ｒ２０はフッ素原子であり、ｅ’は１である。
【０１３８】
さらに別の態様において、Ｘ１基の例として、下記の基が挙げられる：
【化８】
2019089332.tif 000009
［式中、
Ｒ４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
各Ｘ１基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥに結合する以下の基：
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）4−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、または
【化９】
2019089332.tif 000010
［式中、Ｒ４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ１−６のアルキル基またはＣ１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。］
であり、別のＴのいくつかは、分子主鎖のＰＦＰＥと反対の基に結合する−（ＣＨ２）ｎ”−（ｎ”は２〜６の整数）であり、存在する場合、残りのＴは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基、Ｃ１−６アルコキシ基またはラジカル捕捉基もしくは紫外線吸収基であり得る。
【０１３９】
ラジカル捕捉基は、光照射で生じるラジカルを捕捉できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾフェノン類、ベンゾトリアゾール類、安息香酸エステル類、サリチル酸フェニル類、クロトン酸類、マロン酸エステル類、オルガノアクリレート類、ヒンダードアミン類、ヒンダードフェノール類、またはトリアジン類の残基が挙げられる。
【０１４０】
紫外線吸収基は、紫外線を吸収できるものであれば特に限定されないが、例えばベンゾトリアゾール類、ヒドロキシベンゾフェノン類、置換および未置換安息香酸もしくはサリチル酸化合物のエステル類、アクリレートまたはアルコキシシンナメート類、オキサミド類、オキサニリド類、ベンゾキサジノン類、ベンゾキサゾール類の残基が挙げられる。
【０１４１】
好ましい態様において、好ましいラジカル捕捉基または紫外線吸収基としては、
【化１０】
2019089332.tif 000011
が挙げられる。
【０１４２】
この態様において、Ｘ１（および、下記するＸ３、Ｘ５およびＸ７）は、３〜１０価の有機基であり得る。
【０１４３】
上記式中、Ｘ２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または２価の有機基を表す。Ｘ２は、好ましくは、炭素数１〜２０のアルキレン基であり、より好ましくは、−（ＣＨ２）ｕ−（式中、ｕは、０〜２の整数である）である。
【０１４４】
上記式中、ｔは、それぞれ独立して、１〜１０の整数である。好ましい態様において、ｔは１〜６の整数である。別の好ましい態様において、ｔは２〜１０の整数であり、好ましくは２〜６の整数である。
【０１４５】
好ましい式（Ａ１）および（Ａ２）で示される化合物は、下記式（Ａ１’）および（Ａ２’）：
【化１１】
2019089332.tif 000012
［式中：
ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
（式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり； 
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
Ｒ１１は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲン原子を表し；
Ｒ１２は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｎ１は、１〜３の整数であり、好ましくは３であり；
Ｘ１は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−ＣＦＲ２０−（ＣＦ２）ｅ’−であり；
Ｒ２０は、各出現においてそれぞれ独立して、フッ素原子または低級フルオロアルキル基であり；
ｅ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０または１であり；
Ｘ２は、−（ＣＨ２）ｕ−であり；
ｕは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２の整数であり；
ｔは、各出現においてそれぞれ独立して、２〜１０の整数である。］
で表される化合物である。
【０１４６】
上記式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物は、例えば、Ｒｆ−ＰＦＰＥ−部分に対応するパーフルオロポリエーテル誘導体を原料として、末端にヨウ素を導入した後、−ＣＨ２ＣＲ１２（Ｘ２−ＳｉＲ１３ｎ１Ｒ１４３−ｎ１）−に対応するビニルモノマーを反応させることにより得ることができる。
【０１４７】
式（Ｂ１）および（Ｂ２）：
【化１２】
2019089332.tif 000013
【０１４８】
上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）中、Ｒｆ、ＰＦＰＥ、Ｒ１３、Ｒ１４およびｎ１は、上記式（Ａ１）および（Ａ２）に関する記載と同意義である。
【０１４９】
上記式中、Ｘ３は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ３は、式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（具体的には、−ＳｉＲ１３ｎ１Ｒ１４３−ｎ１）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ３は、式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。
【０１５０】
別の態様において、Ｘ３は、Ｘｅを表す。Ｘｅは、上記と同意義である。
【０１５１】
上記式中のβ１は、１〜９の整数であり、β１’は、１〜９の整数である。これらβ１およびβ１’は、Ｘ３の価数に応じて変化し得る。式（Ｂ１）において、β１およびβ１’の和は、Ｘ３の価数と同じである。例えば、Ｘ３が１０価の有機基である場合、β１およびβ１’の和は１０であり、例えばβ１が９かつβ１’が１、β１が５かつβ１’が５、またはβ１が１かつβ１’が９となり得る。また、Ｘ３が２価の有機基である場合、β１およびβ１’は１である。式（Ｂ２）において、β１はＸ３の価数の値から１を引いた値である。
【０１５２】
上記Ｘ３は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。
【０１５３】
一の態様において、Ｘ３は２〜４価の有機基であり、β１は１〜３であり、β１’は１である。
【０１５４】
別の態様において、Ｘ３は２価の有機基であり、β１は１であり、β１’は１である。この場合、式（Ｂ１）および（Ｂ２）は、下記式（Ｂ１’）および（Ｂ２’）で表される。
【化１３】
2019089332.tif 000014
【０１５５】
［式中：
ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
（式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１である。添字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
ｎ１は、１〜３の整数であり、好ましくは３であり；
Ｘ３は、−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−または−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−である］
で表される化合物である。
【０１５６】
上記Ｘ３の例としては、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。
【０１５７】
中でも、好ましい具体的なＸ３は、
単結合、
−ＣＨ２ＯＣＨ２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）５−、
−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−、
−（ＣＦ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）４−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）５−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯ−
−ＣＯＮＨ−
−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨＣＨ２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−Ｓ−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
−ＯＣＨ２−、
−Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＯＣＦＨＣＦ２−、
【化１４】
2019089332.tif 000015
などが挙げられる。
【０１５８】
上記の中では、Ｘ３は、
−ＣＨ２ＯＣＨ２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＨ２−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）５−、
−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−、
−（ＣＦ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）４−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）５−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨＣＨ２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＯＣＨ２−、
−Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＯＣＦＨＣＦ２−、
であることが好ましい。
【０１５９】
上記の中では、より好ましくは、Ｘ３は、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨＣＨ２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
である。
【０１６０】
別の好ましい態様において、Ｘ３は、Ｘｅ’を表す。Ｘｅ’は、上記と同意義である。
【０１６１】
一の態様において、Ｘｅ’は、単結合である。本態様において、ＰＦＰＥと基材との結合能を有する基（即ち、（Ｂ１）および（Ｂ２）においては、β１を付して括弧でくくられた基）とが直接結合している。
【０１６２】
一の態様において、式（Ｂ１）および（Ｂ２）において、水酸基または加水分解可能な基に結合したＳｉが少なくとも２つ存在する。即ち、式（Ｂ１）および（Ｂ２）において、ＳｉＲ１３の構造が少なくとも２つ存在する。
【０１６３】
好ましい式（Ｂ１）および（Ｂ２）で示される化合物は、下記式（Ｂ１’）および（Ｂ２’）：
【化１５】
2019089332.tif 000016
［式中：
ＰＦＰＥは、それぞれ独立して、式：
−（ＯＣ６Ｆ１２）ａ−（ＯＣ５Ｆ１０）ｂ−（ＯＣ４Ｆ８）ｃ−（ＯＣ３Ｆ６）ｄ−（ＯＣ２Ｆ４）ｅ−（ＯＣＦ２）ｆ−
（式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆは、それぞれ独立して０以上２００以下の整数であって、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅおよびｆの和は少なくとも１である。添字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅまたはｆを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。）
で表される基であり；
Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６のアルキル基を表し；
Ｒ１３は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ１４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２２のアルキル基を表し；
ｎ１は、１〜３の整数であり、好ましくは３であり；
Ｘ３は、−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−または−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−である。］
で表される化合物である。
【０１６４】
上記式（Ｂ１）および（Ｂ２）で表される化合物は、公知の方法、例えば特開２０１３−１１７０１２号公報に記載の方法またはその改良方法により製造することができる。
【０１６５】
式（Ｃ１）および（Ｃ２）：
【化１６】
2019089332.tif 000017
【０１６６】
上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）中、ＲｆおよびＰＦＰＥは、上記式（Ａ１）および（Ａ２）に関する記載と同意義である。
【０１６７】
上記式中、Ｘ５は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ５は、式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（具体的には、−ＳｉＲａｋ１Ｒｂｌ１Ｒｃｍ１基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ５は、式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。
【０１６８】
別の態様において、Ｘ５は、Ｘｅを表す。Ｘｅは、上記と同意義である。
【０１６９】
上記式中のγ１は、１〜９の整数であり、γ１’は、１〜９の整数である。これらγ１およびγ１’は、Ｘ５の価数に応じて変化し得る。式（Ｃ１）において、γ１およびγ１’の和は、Ｘ５の価数と同じである。例えば、Ｘ５が１０価の有機基である場合、γ１およびγ１’の和は１０であり、例えばγ１が９かつγ１’が１、γ１が５かつγ１’が５、またはγ１が１かつγ１’が９となり得る。また、Ｘ５が２価の有機基である場合、γ１およびγ１’は１である。式（Ｃ２）において、γ１はＸ５の価数の値から１を引いた値である。
【０１７０】
上記Ｘ５は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。
【０１７１】
一の態様において、Ｘ５は２〜４価の有機基であり、γ１は１〜３であり、γ１’は１である。
【０１７２】
別の態様において、Ｘ５は２価の有機基であり、γ１は１であり、γ１’は１である。この場合、式（Ｃ１）および（Ｃ２）は、下記式（Ｃ１’）および（Ｃ２’）で表される。
【化１７】
2019089332.tif 000018
【０１７３】
上記Ｘ５の例としては、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。
【０１７４】
中でも、好ましい具体的なＸ５は、
単結合、
−ＣＨ２ＯＣＨ２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）５−、
−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−、
−（ＣＦ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）４−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）５−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯ−
−ＣＯＮＨ−
−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨＣＨ２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−Ｓ−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
−ＯＣＨ２−、
−Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＯＣＦＨＣＦ２−、
【化１８】
2019089332.tif 000019
などが挙げられる。
【０１７５】
上記の中では、Ｘ５は、好ましくは、
−ＣＨ２ＯＣＨ２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＨ２−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）５−、
−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−、
−（ＣＦ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）４−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）５−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨＣＨ２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＯＣＨ２−、
−Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＯＣＦＨＣＦ２−、
であることが好ましい。
【０１７６】
上記の中では、より好ましくは、Ｘ５は、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨＣＨ２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
である。
【０１７７】
別の好ましい態様において、Ｘ５は、Ｘｅ’を表す。Ｘｅ’は、上記と同意義である。
【０１７８】
一の態様において、Ｘｅ’は、単結合である。本態様において、ＰＦＰＥと基材との結合能を有する基（即ち、（Ｃ１）および（Ｃ２）においては、γ１を付して括弧でくくられた基）とが直接結合している。
【０１７９】
上記式中、Ｒａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ３−ＳｉＲ７１ｐ１Ｒ７２ｑ１Ｒ７３ｒ１を表す。
【０１８０】
式中、Ｚ３は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。
【０１８１】
上記Ｚ３は、好ましくは、２価の有機基であり、式（Ｃ１）または式（Ｃ２）における分子主鎖の末端のＳｉ原子（Ｒａが結合しているＳｉ原子）とシロキサン結合を形成するものを含まない。
【０１８２】
上記Ｚ３は、好ましくは、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｇ−Ｏ−（ＣＨ２）ｈ−（式中、ｇは、１〜６の整数であり、ｈは、１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ２）ｉ−（式中、ｉは、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。紫外線耐久性が特に良好な観点からは、上記Ｚ３は、より好ましくは、直鎖状または分枝鎖状のアルキレン基であり、さらに好ましくは直鎖状のアルキレン基である。上記Ｚ３のアルキレン基を構成する炭素数は、好ましくは１〜６の範囲にあり、より好ましくは１〜３の範囲にある。なお、アルキレン基については上記のとおりである。
【０１８３】
式中、Ｒ７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒａ’を表す。Ｒａ’は、Ｒａと同意義である。
【０１８４】
Ｒａ中、Ｚ３基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。即ち、上記Ｒａにおいて、Ｒ７１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒａ中にＺ３基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ３基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒａ中のＺ３基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒａ中において直鎖状に連結される−Ｚ３−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。
【０１８５】
例えば、下記にＲａ中においてＺ３基を介してＳｉ原子が連結された一例を示す。
【化１９】
2019089332.tif 000020
【０１８６】
上記式において、＊は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味し、…は、Ｚ３Ｓｉ以外の所定の基が結合していること、即ち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて…である場合、Ｚ３Ｓｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩の数字は、＊から数えたＺ３基を介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。即ち、Ｓｉ２でＺ３Ｓｉ繰り返しが終了している鎖は「Ｒａ中のＺ３基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり、同様に、Ｓｉ３、Ｓｉ４およびＳｉ５でＺ３Ｓｉ繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ｒａ中のＺ３基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４および５個である。なお、上記の式から明らかなように、Ｒａ中には、Ｚ３Ｓｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。
【０１８７】
好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒａ中のＺ３基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。
【化２０】
2019089332.tif 000021
【０１８８】
一の態様において、Ｒａ中のＺ３基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。
【０１８９】
式中、Ｒ７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。「加水分解可能な基」は、上記と同意義である。
【０１９０】
好ましくは、Ｒ７２は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。
【０１９１】
式中、Ｒ７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０１９２】
式中、ｐ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、（−Ｚ３−ＳｉＲ７１ｐ１Ｒ７２ｑ１Ｒ７３ｒ１）毎において、ｐ１、ｑ１およびｒ１の和は３である。
【０１９３】
好ましい態様において、Ｒａ中の末端のＲａ’（Ｒａ’が存在しない場合、Ｒａ）において、上記ｑ１は、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。
【０１９４】
好ましい態様において、Ｒａの末端部の少なくとも１つは、−Ｓｉ（−Ｚ３−ＳｉＲ７２ｑ１Ｒ７３ｒ１）２または−Ｓｉ（−Ｚ３−ＳｉＲ７２ｑ１Ｒ７３ｒ１）３、好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ３−ＳｉＲ７２ｑ１Ｒ７３ｒ１）３であり得る。式中、（−Ｚ３−ＳｉＲ７２ｑ１Ｒ７３ｒ１）の単位は、好ましくは（−Ｚ３−ＳｉＲ７２３）である。さらに好ましい態様において、Ｒａの末端部は、すべて−Ｓｉ（−Ｚ３−ＳｉＲ７２ｑ１Ｒ７３ｒ１）３、好ましくは−Ｓｉ（−Ｚ３−ＳｉＲ７２３）３であり得る。
【０１９５】
上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）においては、少なくとも１つのｑ１が１〜３の整数であり、すなわち、少なくとも１つのＲ７２が存在する。
【０１９６】
一の態様において、式（Ｃ１）および（Ｃ２）においては、水酸基または加水分解可能な基に結合したＳｉが少なくとも２つ存在する。即ち、ＳｉＲ７２および／またはＳｉＲｂの構造が少なくとも２つ存在する。
【０１９７】
上記式中、Ｒｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。
【０１９８】
上記Ｒｂは、好ましくは、水酸基、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）２、−Ｎ（Ｒ）２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）であり、より好ましくは−ＯＲである。Ｒは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。より好ましくは、Ｒｂは、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。
【０１９９】
上記式中、Ｒｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０２００】
式中、ｋ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｌ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｍ１は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、（ＳｉＲａｋ１Ｒｂｌ１Ｒｃｍ１）毎において、ｋ１、ｌ１およびｍ１の和は、３である。
【０２０１】
一の態様において、ｋ１は、１〜３であることが好ましく、３であることがより好ましい。
【０２０２】
上記式（Ｃ１）および（Ｃ２）で表される化合物は、例えば、Ｒｆ−ＰＦＰＥ−部分に対応するパーフルオロポリエーテル誘導体を原料として、末端に水酸基を導入した後、末端に不飽和結合を有する基を導入し、この不飽和結合を有する基とハロゲン原子を有するシリル誘導体とを反応させ、さらにこのシリル基に末端に水酸基、次いで不飽和結合を有する基を導入し、最後に導入した不飽和結合を有する基とシリル誘導体とを反応させることにより得ることができる。例えば、国際公開第２０１４／０６９５９２号に記載のように合成することができる。
【０２０３】
式（Ｄ１）および（Ｄ２）：
2019089332.tif 000022
【０２０４】
上記式（Ｄ１）および（Ｄ２）中、ＲｆおよびＰＦＰＥは、上記式（Ａ１）および（Ａ２）に関する記載と同意義である。
【０２０５】
上記式中、Ｘ７は、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘ７は、式（Ｄ１）および（Ｄ２）で表される化合物において、主に撥水性および表面滑り性等を提供するパーフルオロポリエーテル部（即ち、Ｒｆ−ＰＦＰＥ部または−ＰＦＰＥ−部）と、基材との結合能を提供する部（即ち、δ１を付して括弧でくくられた基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘ７は、式（Ｄ１）および（Ｄ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。
【０２０６】
別の態様において、Ｘ７は、Ｘｅを表す。Ｘｅは、上記と同意義である。
【０２０７】
上記式中、δ１は１〜９の整数であり、δ１’は１〜９の整数である。これらδ１およびδ１’は、Ｘ７の価数に応じて変化し得る。式（Ｄ１）においては、δ１およびδ１’の和は、Ｘ７の価数と同じである。例えば、Ｘ７が１０価の有機基である場合、δ１およびδ１’の和は１０であり、例えばδ１が９かつδ１’が１、δ１が５かつδ１’が５、またはδ１が１かつδ１’が９となり得る。また、Ｘ７が２価の有機基である場合、δ１およびδ１’は１である。式（Ｄ２）においては、δ１はＸ７の価数から１を引いた値である。
【０２０８】
上記Ｘ７は、好ましくは２〜７価、より好ましくは２〜４価、さらに好ましくは２価の有機基である。
【０２０９】
一の態様において、Ｘ７は２〜４価の有機基であり、δ１は１〜３であり、δ１’は１である。
【０２１０】
別の態様において、Ｘ７は２価の有機基であり、δ１は１であり、δ１’は１である。この場合、式（Ｄ１）および（Ｄ２）は、下記式（Ｄ１’）および（Ｄ２’）で表される。
【化２１】
2019089332.tif 000023
【０２１１】
上記Ｘ７の例としては、特に限定するものではないが、例えば、Ｘ１に関して記載したものと同様のものが挙げられる。
【０２１２】
中でも、好ましい具体的なＸ７は、
単結合、
−ＣＨ２ＯＣＨ２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２（ＣＨ２）７ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）５−、
−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−、
−（ＣＦ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）４−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）５−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯ−、
−ＣＯＮＨ−
−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨＣＨ２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−Ｓ−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）２Ｓ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２ＯＳｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）３Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）１０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）２０Ｓｉ（ＣＨ３）２（ＣＨ２）２−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−Ｓｉ（ＣＨ３）２−（ＣＨ２）２−Ｓｉ（ＣＨ３）２−ＣＨ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、
−ＯＣＨ２−、
−Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＯＣＦＨＣＦ２−、
【化２２】
2019089332.tif 000024
などが挙げられる。
【０２１３】
上記の中で、より好ましい具体的なＸ７は、
−ＣＨ２ＯＣＨ２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）２−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＨ２−、
−（ＣＨ２）２−、
−（ＣＨ２）３−、
−（ＣＨ２）４−、
−（ＣＨ２）５−、
−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−、
−（ＣＦ２）２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）４−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）５−、
−ＣＦ２−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨＣＨ２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＨ２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＯＣＨ２−、
−Ｏ（ＣＨ２）３−、
−ＯＣＦＨＣＦ２−、
であることが好ましい。
【０２１４】
上記の中では、より好ましくは、Ｘ７は、
−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＦ２−ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＯＮＨ−、
−ＣＯＮＨ−ＣＨ２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨＣＨ２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）２−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２ＣＯＮＨ（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）３−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（ＣＨ３）−（ＣＨ２）６−、
−ＣＦ２−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ２）６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）２ＮＨ（ＣＨ２）３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ２）６ＮＨ（ＣＨ２）３−、
である。
【０２１５】
より好ましい態様において、Ｘ７は、Ｘｅ’を表す。Ｘｅ’は、上記と同意義である。
【０２１６】
一の態様において、Ｘｅ’は、単結合である。本態様において、ＰＦＰＥと基材との結合能を有する基（即ち、（Ｄ１）および（Ｄ２）においては、δ１を付して括弧でくくられた基）とが直接結合している。このような構造を有することによって、ＰＦＰＥとδ１を付して括弧でくくられた基との結合力がより強くなると考えられる。また、ＰＦＰＥと直接結合する炭素原子（即ち、δ１を付して括弧でくくられた基においてＲｄ、ＲｅおよびＲｆと結合する炭素原子）は電荷の偏りが少なく、その結果、上記炭素原子において求核反応等が生じにくく、当該化合物は基材と安定に結合すると考えられる。このような構造は、ＰＦＰＥシラン化合物により形成される層の摩擦耐久性をより向上させることができｒので、有利である。
【０２１７】
上記式中、Ｒｄは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ４−ＣＲ８１ｐ２Ｒ８２ｑ２Ｒ８３ｒ２を表す。
【０２１８】
式中、Ｚ４は、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。
【０２１９】
上記Ｚ４は、好ましくは、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｇ−Ｏ−（ＣＨ２）ｈ−（式中、ｇは、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｈは、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ２）ｉ−（式中、ｉは、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【０２２０】
式中、Ｒ８１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒｄ’を表す。Ｒｄ’は、Ｒｄと同意義である。
【０２２１】
Ｒｄ中、Ｚ４基を介して直鎖状に連結されるＣは最大で５個である。即ち、上記Ｒｄにおいて、Ｒ８１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒｄ中にＺ４基を介して直鎖状に連結されるＣ原子が２個以上存在するが、かかるＺ４基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒｄ中のＺ４基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」とは、Ｒｄ中において直鎖状に連結される−Ｚ４−Ｃ−の繰り返し数と等しくなる。
【０２２２】
好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒｄ中のＺ４基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。
【化２３】
2019089332.tif 000025
【０２２３】
一の態様において、ＲｄのＺ４基を介して直鎖状に連結されるＣ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。
【０２２４】
式中、Ｒ８２は、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ−ＳｉＲ８５ｎ２Ｒ８６３−ｎ２を表す。
【０２２５】
Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、２価の有機基を表す。
【０２２６】
好ましい態様において、Ｙは、Ｃ１−６アルキレン基、−（ＣＨ２）ｇ’−Ｏ−（ＣＨ２）ｈ’−（式中、ｇ’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数であり、ｈ’は、０〜６の整数、例えば１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ２）ｉ’−（式中、ｉ’は、０〜６の整数である）である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ１−６アルキル基、Ｃ２−６アルケニル基、およびＣ２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
【０２２７】
一の態様において、Ｙは、Ｃ１−６アルキレン基または−フェニレン−（ＣＨ２）ｉ’−であり得る。Ｙが上記の基である場合、光耐性、特に紫外線耐性がより高くなり得る。
【０２２８】
上記Ｒ８５は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。
【０２２９】
上記「加水分解可能な基」とは、式（Ｃ１）および（Ｃ２）と同様のものが挙げられる。
【０２３０】
好ましくは、Ｒ８５は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ１−３アルキル基、より好ましくはエチル基またはメチル基、特にメチル基を表す）である。
【０２３１】
上記Ｒ８６は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０２３２】
ｎ２は、（−Ｙ−ＳｉＲ８５ｎ２Ｒ８６３−ｎ２）単位毎に独立して、０〜３の整数を表し、好ましくは１〜３の整数、より好ましくは２または３、特に好ましくは３である。
【０２３３】
上記Ｒ８３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０２３４】
式中、ｐ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、（−Ｚ４−ＣＲ８１ｐ２Ｒ８２ｑ２Ｒ８３ｒ２）毎において、ｐ２、ｑ２およびｒ２の和は３である。
【０２３５】
好ましい態様において、Ｒｄ中の末端のＲｄ’（Ｒｄ’が存在しない場合、Ｒｄ）において、上記ｑ２は、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。
【０２３６】
好ましい態様において、Ｒｄの末端部の少なくとも１つは、−Ｃ（−Ｙ−ＳｉＲ８５ｎ２Ｒ８６３−ｎ２）２または−Ｃ（−Ｙ−ＳｉＲ８５ｎ２Ｒ８６３−ｎ２）３、好ましくは−Ｃ（−Ｙ−ＳｉＲ８５ｎ２Ｒ８６３−ｎ２）３であり得る。式中、（−Ｙ−ＳｉＲ８５ｎ２Ｒ８６３−ｎ２）の単位は、好ましくは（−Ｙ−ＳｉＲ８５３）である。さらに好ましい態様において、Ｒｄ１の末端部は、すべて−Ｃ（−Ｙ−ＳｉＲ８５ｎ２Ｒ８６３−ｎ２）３、好ましくは−Ｃ（−Ｙ−ＳｉＲ８５３）３であり得る。
【０２３７】
上記式中、Ｒｅは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｙ−ＳｉＲ８５ｎ２Ｒ８６３−ｎ２を表す。ここに、Ｙ、Ｒ８５、Ｒ８６およびｎ２は、上記Ｒ８２における記載と同意義である。
【０２３８】
上記式中、Ｒｆは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、水酸基または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。
【０２３９】
式中、ｋ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｌ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｍ２は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｋ２、ｌ２およびｍ２の和は３である。
【０２４０】
一の態様において、少なくとも１つのｋ２は２または３であり、好ましくは３である。
【０２４１】
一の態様において、ｋ２は２または３であり、好ましくは３である。
【０２４２】
一の態様において、ｌ２は２または３であり、好ましくは３である。
【０２４３】
上記式（Ｄ１）および（Ｄ２）において、−Ｙ−ＳｉＲ８５で表される基が２以上存在する。より好ましくは、２以上の−Ｙ−ＳｉＲ８５に結合した炭素原子が１以上存在する。即ち、−Ｃ−（Ｙ−ＳｉＲ８５ｎ２Ｒ８６３−ｎ２）２で表される基が１以上存在することが好ましい（式中、ｎ２は１〜３の整数である。）。
【０２４４】
上記式（Ｄ１）および（Ｄ２）中、ｎ２は１〜３の整数であり、および、少なくとも１つのｑ２は２または３であるか、あるいは、少なくとも１つのｌ２は２または３である。即ち、式中、少なくとも２つの−Ｙ−ＳｉＲ８５ｎ２Ｒ８６３−ｎ２基が存在する。
【０２４５】
式（Ｄ１）または式（Ｄ２）で表されるＰＦＰＥ含有シラン化合物は、公知の方法を組み合わせることにより製造することができる。例えば、Ｘ７が２価である式（Ｄ１’）で表される化合物は、限定するものではないが、以下のようにして製造することができる。
【０２４６】
ＨＯ−Ｘ７−Ｃ（ＹＯＨ）３（式中、Ｘ７およびＹは、それぞれ独立して、２価の有機基である。）で表される多価アルコールに、二重結合を含有する基（好ましくはアリル）、およびハロゲン（好ましくはブロモ）を導入して、Ｈａｌ−Ｘ７−Ｃ（Ｙ−Ｏ−Ｒ−ＣＨ＝ＣＨ２）３（式中、Ｈａｌはハロゲン、例えばＢｒであり、Ｒは二価の有機基、例えばアルキレン基である。）で表される二重結合含有ハロゲン化物を得る。次いで、末端のハロゲンと、ＲＰＦＰＥ−ＯＨ（式中、ＲＰＦＰＥは、パーフルオロポリエーテル基含有基である。）で表されるパーフルオロポリエーテル基含有アルコールとを反応させて、ＲＰＦＰＥ−Ｏ−Ｘ７−Ｃ（Ｙ−Ｏ−Ｒ−ＣＨ＝ＣＨ２）３を得る。次いで、末端の−ＣＨ＝ＣＨ２と、ＨＳｉＣｌ３およびアルコールまたはＨＳｉＲ８５３と反応させて、ＲＰＦＰＥ−Ｏ−Ｘ７−Ｃ（Ｙ−Ｏ−Ｒ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＳｉＲ８５３）３を得ることができる。
【０２４７】
上記したＰＦＰＥ含有シラン化合物は、特に限定されるものではないが、５×１０２〜１×１０５の数平均分子量を有し得る。かかる範囲のなかでも、２，０００〜３０，０００、より好ましくは２，５００〜１２，０００、さらに好ましくは３，０００〜６，０００の数平均分子量を有することが、摩擦耐久性の観点から好ましい。なお、本発明において、数平均分子量は、１９Ｆ−ＮＭＲにより測定される値とする。
【０２４８】
好ましくは、上記ＰＦＰＥ含有シラン化合物は、上記式（Ｃ１）、（Ｃ２）、（Ｄ１）または（Ｄ２）のいずれかで表される化合物である。
【０２４９】
上記表面処理剤は、溶媒で希釈されていてもよい。このような溶媒としては、特に限定するものではないが、例えば：
パーフルオロヘキサン、ＣＦ３ＣＦ２ＣＨＣｌ２、ＣＦ３ＣＨ２ＣＦ２ＣＨ３、ＣＦ３ＣＨＦＣＨＦＣ２Ｆ５、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６−トリデカフルオロオクタン、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（（ゼオローラＨ（商品名）等）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５、ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＨＦ２、Ｃ６Ｆ１３ＣＨ＝ＣＨ２、キシレンヘキサフルオリド、パーフルオロベンゼン、メチルペンタデカフルオロヘプチルケトン、トリフルオロエタノール、ペンタフルオロプロパノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、ＨＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ、メチルトリフルオロメタンスルホネート、トリフルオロ酢酸およびＣＦ３Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ１（ＣＦ２Ｏ）ｎ１ＣＦ２ＣＦ３［式中、ｍ１およびｎ１は、それぞれ独立して０以上１０００以下の整数であり、ｍ１またはｎ１を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意であり、但しｍ１およびｎ１の和は１以上である。］、１，1−ジクロロ−２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン、１，２−ジクロロ−１，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペン、１，２−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１−ジクロロ−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１，２−トリクロロ―３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン、１，１，１，４，４，４−ヘキサフルオロ−２−ブテンからなる群から選択されるフッ素原子含有溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。
【０２５０】
上記溶媒中に含まれる水分含有量は、２０質量ｐｐｍ以下であることが好ましい。上記水分含有量は、カールフィッシャー法を用いて測定することができる。このような水分含有量であることによって、表面処理剤の保存安定性が向上し得る。
【０２５１】
上記表面処理剤は、上記ＰＦＰＥ含有シラン化合物に加え、他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、例えば、含フッ素オイルとして理解され得る（非反応性の）フルオロポリエーテル化合物、好ましくはパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物（以下、「含フッ素オイル」と言う）、シリコーンオイルとして理解され得る（非反応性の）シリコーン化合物（以下、「シリコーンオイル」と言う）、触媒、低級アルコール、遷移金属、ハロゲン化物イオン、分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物などが挙げられる。
【０２５２】
上記含フッ素オイルとしては、特に限定されるものではないが、例えば、以下の一般式（１）で表される化合物（パーフルオロ（ポリ）エーテル化合物）が挙げられる。
Ｒｆ５−（ＯＣ４Ｆ８）ａ’−（ＯＣ３Ｆ６）ｂ’−（ＯＣ２Ｆ４）ｃ’−（ＯＣＦ２）ｄ’−Ｒｆ６      ・・・（１）
式中、Ｒｆ５は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１―１６のパーフルオロアルキル基）を表し、Ｒｆ６は、１個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数１〜１６アルキル基（好ましくは、Ｃ１−１６パーフルオロアルキル基）、フッ素原子または水素原子を表し、Ｒｆ５およびＲｆ６は、より好ましくは、それぞれ独立して、Ｃ１−３パーフルオロアルキル基である。
ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ（ポリ）エーテルの４種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して０以上３００以下の整数であって、ａ’、ｂ’、ｃ’およびｄ’の和は少なくとも１、好ましくは１〜３００、より好ましくは２０〜３００である。添字ａ’、ｂ’、ｃ’またはｄ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、−（ＯＣ４Ｆ８）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣ（ＣＦ３）２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ２Ｃ（ＣＦ３）２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ（ＣＦ３））−、−（ＯＣＦ（Ｃ２Ｆ５）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（Ｃ２Ｆ５））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ３Ｆ６）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−、−（ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよく、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）−である。−（ＯＣ２Ｆ４）−は、−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−および−（ＯＣＦ（ＣＦ３））−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＯＣＦ２ＣＦ２）−である。
【０２５３】
上記一般式（１）で表されるパーフルオロ（ポリ）エーテル化合物の例として、以下の一般式（１ａ）および（１ｂ）のいずれかで示される化合物（１種または２種以上の混合物であってよい）が挙げられる。
Ｒｆ５−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ’’−Ｒｆ６                  ・・・（１ａ）
Ｒｆ５−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ａ’’−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｂ’’−（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ’’−（ＯＣＦ２）ｄ’’−Ｒｆ６              ・・・（１ｂ）
これら式中、Ｒｆ５およびＲｆ６は上記の通りであり；式（１ａ）において、ｂ’’は１以上１００以下の整数であり；式（１ｂ）において、ａ’’およびｂ’’は、それぞれ独立して１以上３０以下の整数であり、ｃ’’およびｄ’’はそれぞれ独立して１以上３００以下の整数である。添字ａ’’、ｂ’’、ｃ’’、ｄ’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
【０２５４】
上記含フッ素オイルは、１，０００〜３０，０００の数平均分子量を有していてよい。特に、式（１ａ）で表される化合物の数平均分子量は、２，０００〜８，０００であることが好ましい。かかる数平均分子量を有することにより、高い表面滑り性を得ることができる。一の態様において、式（１ｂ）で表される化合物の数平均分子量は、３，０００〜８，０００である。別の態様において、式（１ｂ）で表される化合物の数平均分子量は、８，０００〜３０，０００である。
【０２５５】
上記表面処理剤中、含フッ素オイルは、上記ＰＦＰＥ含有シラン化合物１００質量部に対して、例えば０〜５００質量部、好ましくは０〜１００質量部、より好ましくは１〜５０質量部、さらに好ましくは１〜５質量部で含まれ得る。
【０２５６】
また、別の観点から、含フッ素オイルは、一般式Ｒｆ’−Ｆ（式中、Ｒｆ’はＣ５−１６パーフルオロアルキル基である。）で表される化合物であってよい。また、クロロトリフルオロエチレンオリゴマーであってもよい。Ｒｆ’−Ｆで表される化合物およびクロロトリフルオロエチレンオリゴマーは、ＲｆがＣ１−１６パーフルオロアルキル基である上記パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と高い親和性が得られる点で好ましい。
【０２５７】
含フッ素オイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【０２５８】
上記シリコーンオイルとしては、例えばシロキサン結合が２，０００以下の直鎖状または環状のシリコーンオイルを用い得る。直鎖状のシリコーンオイルは、いわゆるストレートシリコーンオイルおよび変性シリコーンオイルであってよい。ストレートシリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルが挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイルを、アルキル、アラルキル、ポリエーテル、高級脂肪酸エステル、フルオロアルキル、アミノ、エポキシ、カルボキシル、アルコールなどにより変性したものが挙げられる。環状のシリコーンオイルは、例えば環状ジメチルシロキサンオイルなどが挙げられる。
【０２５９】
上記表面処理剤中、かかるシリコーンオイルは、上記ＰＦＰＥ含有シラン化合物１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜５０質量部、好ましくは０〜５質量部で含まれ得る。
【０２６０】
シリコーンオイルは、表面処理層の表面滑り性を向上させるのに寄与する。
【０２６１】
上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。
【０２６２】
触媒は、上記含フッ素シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。
【０２６３】
上記他の成分としての低級アルコールとしては、炭素数１〜６のアルコール化合物が挙げられる。
【０２６４】
上記遷移金属としては、白金、ルテニウム、ロジウム等が挙げられる。
【０２６５】
上記ハロゲン化物イオンとしては、塩化物イオン等が挙げられる。
【０２６６】
上記分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物しては、ジエチルアミン、トリエチルアミン、アニリン、ピリジン、ヘキサメチルホスホルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、テトラメチル尿素、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、テトラメチレンスルホキシド、メチルフェニルスルホキシド、ジフェニルスルホキシド等を挙げられる。これらの化合物の中で、ジメチルスルホキシド、またはテトラメチレンスルホキシドを用いることが好ましい。
【０２６７】
他の成分としては、上記以外に、例えば、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等も挙げられる。
【０２６８】
一の態様において、上記表面処理剤は、上記他の成分である含フッ素オイル、シリコーンオイル、触媒、低級アルコール、遷移金属、ハロゲン化物イオン、分子構造内に非共有電子対を有する原子を含む化合物を含まない。
【０２６９】
上記表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。
【０２７０】
上記表面処理剤からなる層とベース層とを含む基材の形成は、例えば以下のようにして製造できる。
【０２７１】
まず、ベース層を準備する。ベース層については上記のとおりである。
【０２７２】
ベース層の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成される場合、これらの層（または膜）は、これらの層（または膜）の形成される表面（本段落において、被処理層と称する）の表面をイオンクリーニング後に形成されることが好ましい。上記イオンクリーニングは、例えば、酸素ガス、および／または不活性ガス（例えば、アルゴン、キセノン、窒素など）を用いてイオンビームを被処理層の表面に照射することによって行い得る。上記照射にはイオン銃を用いることができる。イオンクリーニングすることにより、被処理層の表面から有機物などが除去され、反射防止層が被処理層に、より強固に接着し得る。
【０２７３】
上記イオンクリーニングは、例えば、酸素ガスとアルゴンガスの混合ガスを用いて行い得る。上記混合ガスとしては、酸素ガスを５〜１００ｃｃ／分、およびアルゴンガスを５〜１００ｃｃ／分含むガスを用いることが好ましく、酸素ガスを２０〜５０ｃｃ／分、およびアルゴンガスを１０〜４０ｃｃ／分含むガスを用いることがより好ましく、酸素ガスを３０〜４０ｃｃ／分、およびアルゴンガスを１０〜２０ｃｃ／分含むガスを用いることがさらに好ましい。
【０２７４】
上記イオンビームの照射は、１０〜６００秒間照射することが好ましく、５０〜４００秒間照射することがより好ましく、２００〜３００秒間照射することがさらに好ましい。
【０２７５】
好ましい態様において、上記イオンクリーニングは、酸素ガスを３０〜４０ｃｃ／分、およびアルゴンガスを１０〜２０ｃｃ／分含むガスを用いて、イオンビームを２００〜３００秒間照射する。
【０２７６】
ベース層の表面に反射防止層が形成される場合、反射防止層は（例えばガラスなどの表面に）蒸着（例えば、真空蒸着）により形成されたものであり得る。上記反射防止層（例えば二酸化ケイ素膜）の厚みは、例えば１０ｎｍ未満とすることができ、具体的には３〜８ｎｍ、より具体的には４．５ｎｍとすることができる。このような厚みとすることによって、より摩擦耐久性の良好な表面処理層を有する基材を形成し得る。
【０２７７】
その後、ベース層の表面をイオンクリーニングする。イオンクリーニングは、例えば、酸素ガス、および／または不活性ガス（例えば、アルゴン、キセノン、窒素など）を用いてイオンビームをベース層の表面に照射することによって行い得る。上記照射にはイオン銃を用いることができる。イオンクリーニングすることにより、ベース層の表面から有機物などが除去され、表面処理剤からなる層がベース層に、より強固に接着し得る。
【０２７８】
上記ベース層の表面のイオンクリーニングは、例えば、酸素ガスとアルゴンガスの混合ガスを用いて行い得る。上記混合ガスとしては、酸素ガスを５〜１００ｃｃ／分、およびアルゴンガスを５〜１００ｃｃ／分含むガスを用いることが好ましく、酸素ガスを２０〜５０ｃｃ／分、およびアルゴンガスを１０〜４０ｃｃ／分含むガスを用いることがより好ましく、酸素ガスを２５〜４０ｃｃ／分、およびアルゴンガスを１５〜３０ｃｃ／分含むガスを用いることがさらに好ましい。
【０２７９】
上記ベース層の表面のイオンクリーニングにおいて、上記イオンビームの照射は、１〜２００秒間照射することが好ましく、１〜１００秒間照射することがより好ましく、５〜４０秒間照射することがさらに好ましい。
【０２８０】
好ましい態様において、上記ベース層の表面のイオンクリーニングは、酸素ガスを２５〜４０ｃｃ／分、およびアルゴンガスを１５〜３０ｃｃ／分含むガスを用いて、イオンビームを５〜４０秒間照射する。
【０２８１】
イオンクリーニング後のベース層の表面に、上記表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、上記表面処理剤から表面処理層を形成する。
【０２８２】
上記表面処理剤の膜形成は、上記の表面処理剤をベース層の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。
【０２８３】
湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。
【０２８４】
乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。
【０２８５】
更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。
【０２８６】
その後、加熱処理を行う。
【０２８７】
上記加熱処理は、６０℃以上で行うことが好ましく、１００℃以上で行うことがより好ましく、１４０℃以上で行うことがさらに好ましい。上記加熱処理は、３００℃以下で行うことが好ましく、２５０℃以下で行うことがより好ましく、２００℃以下で行うことがさらに好ましい。
【０２８８】
上記加熱処理は、６０〜３００℃の範囲の温度で行うことが好ましく、８０〜２００℃の範囲の温度で行うことがより好ましく、１００〜１８０℃の範囲の温度で行うことがさらに好ましい。
【０２８９】
上記加熱処理は、５分以上行うことが好ましく、１５分以上行うことがより好ましく、３０分以上行うことがさらに好ましい。上記加熱処理は、６００分以下行うことが好ましく、３００分以下行うことがより好ましく、９０分以下行うことがさらに好ましく、７０分以下行ってもよい。
【０２９０】
上記加熱処理は、５〜３００分間行うことが好ましく、１５〜１２０分間行うことがより好ましく、３０〜９０分間行うことがさらに好ましい。
【０２９１】
上記加熱処理は、６０〜２００℃の範囲の温度において５〜２００分間行うことが好ましく、１００〜１８０℃の範囲の温度において１５〜９０分間行うことがより好ましい。
【０２９２】
好ましい態様においては、ベース層のイオンクリーニングを、酸素ガスを２０〜４０ｃｃ／分、およびアルゴンガスを１０〜３０ｃｃ／分含むガスを用いて、１０〜４０℃の範囲の温度で、イオンビームを１０〜３００秒間照射し、その後、表面処理剤からなる層を形成し、加熱処理を１００〜１８０℃の範囲の温度において１５〜９０分間行う。
【０２９３】
その後、形成された膜の表面処理を行うことが好ましい。表面処理は、エタノールを用いて行うことが好ましい。具体的には、キムワイプ（登録商標）ワイパーＳ−２００（日本製紙クレシア株式会社製）にエタノールをしみ混ませたもの（具体的には、キムワイプ１枚（１２０ｍｍ×２１５ｍｍ）あたりエタノールを１〜２ｍｌしみ混ませたもの）を用いて、形成された膜の表面を拭く。より具体的には、形成された膜の表面を、上記エタノールをしみ混ませたキムワイプを用いて２０往復させ拭く。その後、別途用意したキムワイプ（登録商標）ワイパーＳ−２００を用いて、膜の表面をから拭きする。このような処理を行うことにより、本発明の基材は、耐摩擦性の向上に寄与し得る。
【０２９４】
上記のようにして、ベース層の表面に、上記表面処理剤の膜に由来する表面処理層が形成される。これにより得られる表面処理層は、帯電性が低い。また、この表面処理層は、低帯電性であることに加えて、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）、摩擦耐久性、透明性などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。
【０２９５】
すなわち本態様の基材は、表面処理層を最外層に有する光学材料にも用い得る。
【０２９６】
光学材料としては、後記に例示するようなディスプレイ等に関する光学材料のほか、多種多様な光学材料が好ましく挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ；例えば、ＴＶ、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ；Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイ又はそれらのディスプレイの保護板、またはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの。
【０２９７】
本態様によって得られる表面処理層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材の例には、次のものが挙げられる：眼鏡などのレンズ；ＰＤＰ、ＬＣＤなどのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシートまたはそのカバーガラス；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。
【０２９８】
また、本態様によって得られる表面処理層を有する物品は、医療機器または医療材料であってもよい。
【０２９９】
表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、１〜５０ｎｍ、好ましくは１〜３０ｎｍ、より好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。
【０３００】
上記表面処理剤から形成される表面処理層を有する物品は、好ましくは１０１２Ω以下、より好ましくは１０１０Ω以下、さらに好ましくは１０９Ω以下、例えば１０８Ω以下の表面抵抗値を有し得る。表面抵抗値を低くすることにより、物品の帯電性を低減することができる。また、上記表面処理剤から形成される表面処理層を有する物品は、好ましくは１０６Ω以上、より好ましくは１０７Ω以上、さらに好ましくは１０８Ω以上の表面抵抗値を有し得る。表面抵抗値を大きくすることにより、例えば静電容量方式のタッチパネルなどにおいて、タッチパネルの動作を担保することができる。好ましい態様において、上記表面処理剤から形成される表面処理層を有する物品は、１０６Ω以上１０１２Ω以下、より好ましくは１０８Ω以上１０１０Ω以下の表面抵抗値を有し得る。
【０３０１】
（態様２）
本態様の基材は、
表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された表面処理層を有する基材であって、
２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、試験用布（ここで、試験用布は、リン酸三ナトリウム５．５ｇ、塩化ナトリウム１０ｇ、乳酸３．１ｇ、リシン５ｇおよび蒸留水１００ｍｌからなる人工汗を浸漬させた、ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）  ｓｔａｎｄａｒｄ  ｃｏｔｔｏｎ  ｓｏｉｌｉｎｇ  ｔｅｘｔｉｌｅ  ＦＩＮＥである。）で覆われたシリコーンよりなる摩擦子に、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で表面上を往復する摩擦試験における、該摩擦子の往復回数４０００回における水の静的接触角の測定値が、８０度以上である。
【０３０２】
本態様の説明において、摩擦試験、および水の静的接触角等、態様１の記載と重複する記載は省略することがある。
【０３０３】
本態様の基材は、摩擦子の往復回数４０００回における水の静的接触角の測定値が、好ましくは８４度以上であり、より好ましくは８５度以上であり、さらに好ましくは、９０度以上である。このような基材では、基材の表面が摩擦された場合であっても、その表面における撥水性が良好である。すなわち、摩擦の生じ得る用途において、このような基材は特に有用であり得る。
【０３０４】
本態様の基材は、摩擦試験前の接触角の測定値が高いことが好ましい。摩擦試験前の基材の接触角は、８０度以上であることが好ましく、１００度以上であることがより好ましく、１０５度以上であることが特に好ましく、１１０度以上であることがさらに好ましい。
【０３０５】
摩擦子の往復回数０回の水の静的接触角の測定値に対する、摩擦子の往復回数４０００回における水の静的接触角の割合は、０．７０以上にあってもよく、０．８０以上にあってもよい。上記割合の上限値は、特に限定されないが、例えば１．００以下、具体的には０．９８以下であってもよい。このような基材では、基材の表面が摩擦された場合であっても、その表面における撥水性を良好に維持できる。すなわち、摩擦の生じ得る用途において、このような基材は特に有用であり得る。
【０３０６】
本態様の基材において、ＡＳＴＭ  Ｄ４９１７に準拠して測定される動摩擦係数が、０．０５０未満であることが好ましく、０．０３５未満であることがより好ましい。
【０３０７】
好ましい態様において、本態様の基材は、さらに、
波長３００ｎｍ〜４００ｎｍの紫外線が、放射照度６２Ｗ／ｍ２で３００時間照射された表面において、２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、試験用布（ここで、試験用布は、リン酸三ナトリウム５．５ｇ、塩化ナトリウム１０ｇ、乳酸３．１ｇ、リシン５ｇおよび蒸留水１００ｍｌからなる人工汗を浸漬させた、ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）  ｓｔａｎｄａｒｄ  ｃｏｔｔｏｎ  ｓｏｉｌｉｎｇ  ｔｅｘｔｉｌｅ  ＦＩＮＥである。）で覆われたシリコーンよりなる摩擦子に、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で往復する摩擦試験における、該摩擦子の往復回数０回、１０００回、２０００回、および３０００回（ただし、該往復回数は、水の静的接触角の測定値が最初に測定値が５０度未満になった回数を最大とする。）での往復回数（回）に対する紫外線照射後の水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線の勾配が−０．０２２２超である。
【０３０８】
ＵＶの照射試験については、上記態様１に記載のとおりである。
【０３０９】
本態様の基材は、少なくとも１の表面において、表面処理剤からなる層を含み得る。即ち、本態様の基材は、表面処理剤からなる層と、ベース層とを含むことが好ましい。表面処理層、ベース層については、上記態様１に記載のとおりである。
【０３１０】
（態様３）
本態様の基材は、
表面にパーフルオロポリエーテル基含有化合物から形成された表面処理層を有する基材であって、
波長３００ｎｍ〜４００ｎｍの紫外線が、放射照度６２Ｗ／ｍ２で３００時間照射された表面において、２１℃および湿度６５％の雰囲気下において、試験用布（ここで、試験用布は、リン酸三ナトリウム５．５ｇ、塩化ナトリウム１０ｇ、乳酸３．１ｇ、リシン５ｇおよび蒸留水１００ｍｌからなる人工汗を浸漬させた、ＩＮＮＯＷＥＰ社製のＡＢＲＥＸ（登録商標）  ｓｔａｎｄａｒｄ  ｃｏｔｔｏｎ  ｓｏｉｌｉｎｇ  ｔｅｘｔｉｌｅ  ＦＩＮＥである。）で覆われたシリコーンよりなる摩擦子に、基材に対して５Ｎの荷重がかかるように、負荷をかけながら、該摩擦子を４０ｍｍ／秒の速度で往復する摩擦試験における、該摩擦子の往復回数０回、１０００回、２０００回、および３０００回（ただし、該往復回数は、水の静的接触角の測定値が最初に測定値が５０度未満になった回数を最大とする。）での往復回数（回）に対する紫外線照射後の水の静的接触角の測定値（度）に基づいて作成される線形近似直線の勾配が−０．０２２２超である。
【０３１１】
本態様の説明において、摩擦試験、および水の静的接触角等、態様１の記載と重複する記載は省略することがある。
【０３１２】
本態様の基材は、上記ＵＶ照射試験後の摩擦試験において、摩擦子の往復回数３０００回における水の静的接触角の測定値が、５０度以上であることが好ましい。
【０３１３】
本態様の基材は、摩擦試験前の接触角の測定値が高いことが好ましい。摩擦試験前の基材の接触角は、８０度以上であることが好ましく、１００度以上であることがより好ましく、１０５度以上であることが特に好ましく、１１０度以上であることがさらに好ましい。
【０３１４】
ＵＶ照射試験後の基材において、摩擦子の往復回数０回の水の静的接触角の測定値に対する、摩擦子の往復回数３０００回における水の静的接触角の割合は、０．３５以上にあってもよく、０．５０以上にあってもよい。上記割合の上限値は、特に限定されないが、例えば１．００以下、具体的には０．９８以下であってもよい。このような基材では、基材の表面が摩擦された場合であっても、その表面における撥水性を良好に維持できる。すなわち、摩擦の生じ得る用途において、このような基材は特に有用であり得る。
【０３１５】
本態様の基材において、ＡＳＴＭ  Ｄ４９１７に準拠して測定される動摩擦係数が、０．０５０未満であることが好ましく、０．０３５未満であることがより好ましい。
【０３１６】
本態様の基材は、少なくとも１の表面において、表面処理剤からなる層を含み得る。即ち、本態様の基材は、表面処理剤からなる層と、ベース層とを含むことが好ましい。表面処理層、ベース層については、上記態様１に記載のとおりである。
【実施例】
【０３１７】
本発明について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、パーフルオロポリエーテルを構成する繰り返し単位（ＣＦ２Ｏ）、および（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）の存在順序は任意である。また、以下に示される化学式はすべて平均組成を示す。
【０３１８】
実施例および比較例で用いるＰＦＰＥ含有シラン化合物は以下のとおりである。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ａ）：
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)28CF2CH2CH2CH2Si[CH2CH2Si(OCH3)3]3
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｂ）：
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si[CH2CH2Si(OCH3)3]3
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｃ）：
CF3O(CF2CF2O)19(CF2O)28CF2CONHCH2C[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｄ）：
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CONHCH2C[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（Ｅ）：
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2CH2CH2Si[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]3
【０３１９】
（実施例１）
化合物（Ａ）を、濃度２０ｗｔ％になるように、ハイドロフルオロエーテル（スリーエム社製、ノベックＨＦＥ７２００）に溶解させて、表面処理剤１を調製した。
【０３２０】
上記表面処理剤１を化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、まず、圧力７．０×１０−４Ｐａで、この化学強化ガラス表面を、２４０秒間イオンクリーニング（Ｏ２ガス／Ａｒガス＝３５／１５ｃｃ／分）処理し、続いて、圧力３．０×１０−３Ｐａとし、二酸化ケイ素を４．５ｎｍの厚さで、この化学強化ガラスの表面に蒸着させて二酸化ケイ素膜を形成した。次に、その表面を２０秒間イオンクリーニング（Ｏ２ガス／Ａｒガス＝３０／２０ｃｃ／分）処理し、その後、化学強化ガラス１枚（６８ｍｍ×１４２ｍｍ）あたり、表面処理剤１を４ｍｇ（即ち、化合物（Ａ）を０．８ｍｇ含有）蒸着させた。その後、蒸着膜付き化学強化ガラスを、温度１５０℃で６０分間加熱処理し、最後に、エタノールで表面処理することで、表面処理層を形成し、表面に表面処理層を有する基材を形成した。
【０３２１】
（実施例２〜５）
化合物（Ａ）に代えて、化合物（Ｂ）〜化合物（Ｅ）を用いた以外は、実施例１と同様にして、表面処理層を形成し、表面に表面処理層を有する基材を形成した。
【０３２２】
（比較例１）
上記表面処理剤１を化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着した。真空蒸着の処理条件は、まず、圧力７．０×１０−４Ｐａで、この化学強化ガラス表面を、２４０秒間イオンクリーニング（Ｏ２ガス／Ａｒガス＝３５／１５ｃｃ／分）処理し、続いて、圧力３．０×１０−３Ｐａとし、二酸化ケイ素を４．５ｎｍの厚さで、この化学強化ガラスの表面に蒸着させて二酸化ケイ素膜を形成した。次に、その表面に化学強化ガラス１枚（６８ｍｍ×１４２ｍｍ）あたり、表面処理剤１を４ｍｇ（即ち、化合物（Ａ）を０．８ｍｇ含有）蒸着させた。その後、蒸着膜付き化学強化ガラスを、温度２１℃および湿度６５％の雰囲気下で２４時間静置し、最後に、エタノールで表面処理することで、表面処理層を形成し、表面に表面処理層を有する基材を形成した。
【０３２３】
（比較例２〜５）
化合物（Ａ）に代えて、化合物（Ｂ）〜化合物（Ｅ）を用いた以外は、比較例１と同様にして、表面処理層を形成し、表面に表面処理層を有する基材を形成した。
【０３２４】
実施例および比較例で得られた表面処理層の評価は以下のように行った。
【０３２５】
・水の静的接触角の測定
水の静的接触角の測定は、接触角測定装置（協和界面科学社製）を用いて、水２μＬにて２１℃、６５％湿度の環境下で実施した。
【０３２６】
・摩擦耐久性試験
摩擦耐久性試験は以下のように行った。
【０３２７】
まず、初期評価として、表面処理層形成後、その表面に未だ何も触れていない状態で、表面処理層の水の静的接触角を測定した（摩擦回数０回）。
【０３２８】
次いで、ＩＮＮＯＷＥＰ社製ＡＢＲＥＸ（登録商標）試験機（型式：ｓｔａｎｄａｒｄ  ＡＢＲＥＸ（登録商標））に、上記の実施例または比較例にて得られた表面に表面処理層を有する基材を取り付けた。ＡＢＲＥＸ（登録商標）試験機に備え付けのシリコーン摩擦子の表面を試験用布で覆った。試験用布としては、ＩＮＮＯＷＥＰ社製  ＡＢＲＥＸ（登録商標）  ｓｔａｎｄａｒｄ  ｃｏｔｔｏｎ  ｓｏｉｌｉｎｇ  ｔｅｘｔｉｌｅ  ＦＩＮＥ）を、以下の組成の人工汗に浸漬したものを用いた。上記摩擦子に５Ｎの荷重を付与し、荷重を加えた状態で摩擦子を速度４０ｍｍ／秒、摩擦距離２０ｍｍで往復させた。摩擦子の往復回数（摩擦回数）１０００回毎に、水の静的接触角の測定値が８０度未満となるまで摩擦試験を行い、それぞれにおいて水の静的接触角の測定値を測定した。
・人工汗の組成
リン酸三ナトリウム：５．５ｇ
塩化ナトリウム：１０ｇ
乳酸：３．１ｇ
リシン：５ｇ
蒸留水：１００ｍｌ
【０３２９】
実施例および比較例で得られた静的接触角の測定結果を、表１に示す（表中、記号「−」は測定せず）。
【０３３０】
【表１】
2019089332.tif 000026
【０３３１】
表１の静的接触角の測定値および摩擦回数に基づいて、摩擦回数と水の静的接触角の測定値との関係を求めた。摩擦回数が最大４０００回のときの、摩擦子の往復回数ｘに対する、水の静的接触角の測定値Ｆｘの関係を表す線形近似直線（ηおよびθは定数）、および、摩擦回数が最大１００００回のときの、摩擦子の往復回数ｘに対する、水の静的接触角の測定値Ｆ”ｘの関係を表す線形近似直線Ｆ”ｘ＝η”ｘ＋θ”（η”およびθ”は定数）の式を表２にそれぞれ示す。
【０３３２】
【表２】
2019089332.tif 000027
【０３３３】
・表面滑り性評価（動摩擦係数の測定）
実施例にて形成された表面に表面処理層を有する基材について、表面性測定機（Ｌａｂｔｈｉｎｋ社製  ＦＰＴ−１）を用いて、摩擦子として紙を使用し、ＡＳＴＭ  Ｄ４９１７に準拠して、動摩擦係数（−）を測定した。具体的には、実施例および比較例で形成された基材を水平に配置し、摩擦子である紙（２ｃｍ×２ｃｍ）を基材の表面の露出上面に接触させ、その上に２００ｇｆの荷重を付与した。その後、荷重を加えた状態で、摩擦子である紙を２００ｍｍ／秒の速度で平行移動させて、動摩擦係数を測定した。結果を、表３に示す。
【０３３４】
【表３】
2019089332.tif 000028
【０３３５】
上記のように、実施例１〜５で形成された基材は、優れた滑り性を有することが分かった。
【０３３６】
・ＵＶ照射試験およびＵＶ照射後の摩耗耐久性試験
上記の実施例および比較例にて形成された表面に表面処理層を有する基材に、スーパーキセノンウェザーメーター  型式ＳＸ７５（スガ試験機株式会社）を用いて、７．５ｋｗの水冷式キセノンランプを３００時間照射した。照射条件は、波長３００ｎｍ〜４００ｎｍにおいて放射照度６２Ｗ／ｍ２、基材のブラックパネル温度は、５５度で、ランプと基材の表面との距離は、２９ｃｍとした。
【０３３７】
その後、ＵＶ照射後の基材について、その表面に未だ何も触れていない状態で、表面処理層の水の静的接触角を測定した（摩擦回数０回）。
【０３３８】
次いで、ＩＮＮＯＷＥＰ社製ＡＢＲＥＸ（登録商標）試験機（型式：ｓｔａｎｄａｒｄ  ＡＢＲＥＸ（登録商標））に、上記実施例および比較例にて得られた表面に表面処理層を有する基材であって、その後ＵＶ照射試験を行った基材を取り付けた。ＡＢＲＥＸ（登録商標）試験機に備え付けのシリコーン摩擦子の表面を、上記した組成の人工汗に浸漬した試験用布（ＩＮＮＯＷＥＰ社製  ＡＢＲＥＸ（登録商標）  ｓｔａｎｄａｒｄ  ｃｏｔｔｏｎ  ｓｏｉｌｉｎｇ  ｔｅｘｔｉｌｅ  ＦＩＮＥ）で覆った。上記摩擦子に５Ｎの荷重を付与し、荷重を加えた状態で摩擦子を速度４０ｍｍ／秒、摩擦距離２０ｍｍで往復させた。摩擦子の往復回数（摩擦回数）１０００回毎に、水の静的接触角の測定値が５０度未満となるまで摩擦試験を行い、それぞれにおいて水の静的接触角の測定値を測定した。結果を表４に示す（表中、記号「−」は測定せず）。
【０３３９】
【表４】
2019089332.tif 000029
【０３４０】
表４の静的接触角の測定値および摩擦回数に基づいて、摩擦回数最大３０００回のときの摩擦子の往復回数ｘに対する、水の静的接触角の測定値Ｆ’ｘの関係を表す線形近似直線Ｆ’ｘ＝η’ｘ＋θ’（η’およびθ’は定数）、および、摩擦回数最大６０００回のときの摩擦子の往復回数ｘに対する、水の静的接触角の測定値Ｆ'''ｘの関係を表す線形近似直線Ｆ'''ｘ＝η'''ｘ＋θ'''（η'''およびθ'''は定数）を求めた。線形近似直線の式を表５に示す。
【０３４１】
【表５】
2019089332.tif 000030
【産業上の利用可能性】
【０３４２】
本発明の基材は、基材の表面において撥水性が求められる様々な分野に用い得る。