(57)【要約】【課題】複数種類のガスを均一に混合した後にガスを均一に供給するという目的を達成する。【解決手段】本発明は、半導体の技術分野に関し、特に、吸気管路、排気管路及び制御部材を含み、吸気管路及び／又は排気管路は複数本であり、吸気管路の一端が吸気口で、他端が各排気管路と連通し、各吸気管路には、いずれも電位モニタリング素子が設けられ、制御部材は電位モニタリング素子に接続されて、吸気管路及び排気管路のガス流量を制御するマスフローコントローラに関する。本発明では、複数本の吸気管路及び複数本の排気管路を設け、制御部材で各本の吸気管路及び排気管路のガス流量を制御することにより、ガスを均一に混合し均一に供給する要件を達成する。これにより、本発明は、複数本の吸気管路と複数本の排気管路とを組み合わせることにより、相当なガス分配管路の設計費用、デバイス購入費用を節約し、ガス分配ボックスの空間を減少させ、別個の複数の一般的なマスフローコントローラに代えて使用することができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸気管路、排気管路及び制御部材を含み、前記吸気管路及び／又は前記排気管路は複数本であり、前記吸気管路の一端が吸気口で、他端が各前記排気管路と連通し、各前記吸気管路には、いずれも電位モニタリング素子が設けられ、前記制御部材は前記電位モニタリング素子に接続されて、前記吸気管路及び前記排気管路のガス流量を制御することを特徴とする、マスフローコントローラ。
【請求項２】
前記排気管路が複数本であると、各前記排気管路には、いずれも第１の制御バルブが設けられ、前記第１の制御バルブが前記制御部材に接続されることを特徴とする、請求項１に記載のマスフローコントローラ。
【請求項３】
前記吸気管路が複数本であると、各前記吸気管路には、いずれも第２の制御バルブが設けられ、前記第２の制御バルブが前記制御部材に接続されることを特徴とする、請求項２に記載のマスフローコントローラ。
【請求項４】
前記電位モニタリング素子は、ガスバイパス及び感熱電位差素子を含み、前記ガスバイパスの両端がいずれも前記吸気管路と連通し、前記感熱電位差素子は前記ガスバイパスに設けられ、かつ前記制御部材に接続されることを特徴とする、請求項１に記載のマスフローコントローラ。
【請求項５】
前記感熱電位差素子は、電位計、加熱器及び２つの熱電対を含み、前記加熱器及び前記熱電対がいずれも前記ガスバイパスに設けられ、かつ前記加熱器が２つの前記熱電対の間に位置し、前記電位計はそれぞれ２つの前記熱電対に接続されて、２つの前記熱電対の間の電位差を測定し、かつ前記電位計は前記制御部材に接続されて、前記電位差を前記制御部材に出力することを特徴とする、請求項４に記載のマスフローコントローラ。
【請求項６】
複数本の前記吸気管路は主管路及び副管路を含み、前記主管路と前記副管路は末端に合流し、かつ前記排気管路に接続されることを特徴とする、請求項１に記載のマスフローコントローラ。
【請求項７】
複数本の前記吸気管路の末端合流点の管路構造はベンチュリ管であることを特徴とする、請求項６に記載のマスフローコントローラ。
【請求項８】
前記制御部材は、計算制御ユニット及びデータ交換モジュールを含み、前記計算制御ユニットが前記データ交換モジュールに接続され、前記電位モニタリング素子、前記第１の制御バルブ及び前記第２の制御バルブはいずれも前記計算制御ユニットに接続されることを特徴とする、請求項３に記載のマスフローコントローラ。
【請求項９】
前記第１の制御バルブは圧電セラミックバルブであることを特徴とする、請求項２に記載のマスフローコントローラ。
【請求項１０】
前記第２の制御バルブは圧電セラミックバルブであることを特徴とする、請求項３に記載のマスフローコントローラ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体の技術分野に関し、特に、マスフローコントローラに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体産業が急速に発展している今日では、チップ製造用の基板材料のサイズはますます大きくなり、チップ製造用の反応チャンバの内部容積もますます大きくなっているため、どのように反応チャンバに入る反応ガス流れ場、ガス濃度及びガス圧力を均一にすることを保証するかは、半導体デバイス製造企業がますます注目すべき重要な課題となっている。
【０００３】
現在、多数のマスフローコントローラは、１つの入口及び１つの出口のみを有して、反応チャンバに入る１種のガスの物質量又は質量を精確に制御できるが、反応チャンバの容積が大きいと、反応チャンバの入口に非常に大きなガス均一混合装置を設ける必要がある。しかし、１つのガス入口により、ガスが反応基板の表面に同時かつ均一に到達することを保証しにくいか、又はガスが反応基板の表面に残った他の反応ガスを同時かつ均一に除去することを保証しにくい。現在の大きなチャンバの吸気の解決手段は２つある。
【０００４】
解決手段Ａ：同一のマスフローコントローラの後端管路に複数のマニホールドを直接的に増設し、反応チャンバの吸気点を増設することにより、ガスを均一に混合するという目的を達成する。しかしながら、各管路のコンダクタンス、管路の長さ及び吸気位置を完全に同じにすることは難しいため、吸気の均一性を保証しにくく、特に、吸気が不均一になる現象を見出さば原因を探して修正しにくい。
【０００５】
解決手段Ｂ：まず、同一種類のガスを複数のマニホールドに配分し、各マニホールドにマスフローコントローラを設け、次に、反応チャンバに接続することにより、解決手段Ａの欠点を補い、それぞれ各マニホールド上のマスフローコントローラを調整してガスを均一に混合するという目的を達成することができる。しかしながら、該解決手段は複数台のマスフローコントローラを購入する必要があり、デバイスのコストを増加させるだけでなく、複雑な管路システム及び制御システムを設計する必要がある。
【０００６】
また、１種のガスが他の１種又は複数種のガスと比率に応じて均一に混合された後に反応チャンバに入る必要があると、複数のマスフローコントローラと構造が複雑なガス混合装置を設ける必要があり、ガスの均一な混合及びガス流の安定性を保証するために、さらに複雑な背圧及び過圧排気管路を設計する必要がある。ガスを均一に混合するという目的を達成するために、多くの高価な高純度の特殊材料ガスを浪費する必要がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
（一）発明が解決しようとする課題
本発明が解決しようとする課題は、従来のマスフローコントローラが大容積の反応チャンバにガスを均一に供給しにくく、複数種のガスを均一に混合し供給することを実現しにくいという問題を解決することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
（二）課題を解決するための手段
上記課題を解決するために、本発明は、吸気管路、排気管路及び制御部材を含み、前記吸気管路及び／又は前記排気管路は複数本であり、前記吸気管路の一端が吸気口で、他端が各前記排気管路と連通し、各前記吸気管路には、いずれも電位モニタリング素子が設けられ、前記制御部材は前記電位モニタリング素子に接続されて、前記吸気管路及び前記排気管路のガス流量を制御するマスフローコントローラを提供する。
【０００９】
前記排気管路が複数本であると、各前記排気管路には、いずれも第１の制御バルブが設けられ、前記第１の制御バルブが前記制御部材に接続される。
【００１０】
前記吸気管路が複数本であると、各前記吸気管路には、いずれも第２の制御バルブが設けられ、前記第２の制御バルブが前記制御部材に接続される。
【００１１】
前記電位モニタリング素子は、ガスバイパス及び感熱電位差素子を含み、前記ガスバイパスの両端がいずれも前記吸気管路と連通し、前記感熱電位差素子は前記ガスバイパスに設けられ、かつ前記制御部材に接続される。
【００１２】
前記感熱電位差素子は、電位計、加熱器及び２つの熱電対を含み、前記加熱器及び前記熱電対がいずれも前記ガスバイパスに設けられ、かつ前記加熱器が２つの前記熱電対の間に位置し、前記電位計はそれぞれ２つの前記熱電対に接続されて、２つの前記熱電対の間の電位差を測定し、かつ前記電位計は前記制御部材に接続されて、前記電位差を前記制御部材に出力する。
【００１３】
複数本の前記吸気管路は主管路及び副管路を含み、前記主管路と前記副管路は末端に合流し、かつ前記排気管路に接続される。
【００１４】
複数本の前記吸気管路の末端合流点の管路構造はベンチュリ管である。
前記制御部材は、計算制御ユニット及びデータ交換モジュールを含み、前記計算制御ユニットが前記データ交換モジュールに接続され、前記電位モニタリング素子、前記第１の制御バルブ及び前記第２の制御バルブはいずれも前記計算制御ユニットに接続される。
【００１５】
前記第１の制御バルブは圧電セラミックバルブである。
前記第２の制御バルブは圧電セラミックバルブである。
【発明の効果】
【００１６】
（三）発明の効果
本発明の上記技術手段は以下のような利点を有する。本発明のマスフローコントローラでは、ガスが吸気管路の吸気口から入り、電位モニタリング素子は、吸気管路内のガス流れによる電位差を制御部材に伝送し、制御部材は、電位差に基づいてガス流量を換算し、かつ換算されたデータに基づいて、それぞれ吸気管路の吸気量と排気管路の排気量を制御する。大容積の反応チャンバにガスを均一に供給するという目的を達成するために、本発明では、複数本の排気管路を設けて反応チャンバ内にガスを供給し、制御部材で各本の排気管路のガス流量を制御することにより、大量のガスを均一に供給する要件を達成する。複数種のガスを均一に混合した後に反応チャンバに供給するという目的を達成するために、本発明では、複数本の吸気管路を設け、制御部材で各本の吸気管路のガス流量を制御し、各種のガスの含有量要件に応じて吸気管路内にガスを混合した後に反応チャンバに供給することにより、ガスを均一に混合する要件を達成する。複数種のガスを均一に混合した後にガスを均一に供給するという目的を達成するために、本発明では、複数本の吸気管路及び複数本の排気管路を設け、制御部材で各本の吸気管路及び排気管路のガス流量を制御することにより、ガスを均一に混合し均一に供給する要件を達成する。これにより、本発明は、複数本の吸気管路と複数本の排気管路とを組み合わせることにより、相当なガス分配管路の設計費用、デバイス購入費用を節約し、ガス分配ボックスの空間を減少させ、別個の複数の一般的なマスフローコントローラに代えて使用することができる。
【００１７】
上述した本発明が解決しようとする課題、技術手段を構成した技術的特徴、及びこれらの技術手段の技術的特徴の利点以外、本発明の他の技術的特徴及びこれらの技術的特徴の利点については、図面を参照しながらさらに説明する。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の実施例１のマスフローコントローラの概略構成図である。
【図２】本発明の実施例２のマスフローコントローラの概略構成図である。
【図３】本発明の実施例３のマスフローコントローラの概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明の実施例の目的、技術手段及び利点をより明確にするために、以下、本発明の実施例の図面を参照しながら、本発明の実施例の技術手段を明確かつ完全に説明し、明らかに、説明される実施例は、本発明の一部の実施例に過ぎず、全ての実施例ではない。本発明の実施例に基づいて、当業者が創造的な労働をしない前提で取得した全ての他の実施例は、いずれも本発明の保護範囲に属する。
【００２０】
本発明の説明において、説明すべきことは、別に明確な規定及び限定を有しない限り、用語「取付」、「連結」、「接続」を広義に理解すべきであり、例えば、固定接続であっても、着脱可能な接続であっても、一体的な接続であってもよく、機械的接続であっても、電気的接続であってもよく、直接接続であっても、中間媒体による間接的接続であっても、２つの素子内部の連通であってもよい。当業者にとって、具体的な状況に基づいて上記用語の本発明での具体的な意味を理解することができる。
【００２１】
また、本発明の説明において、別に記載されない限り、「複数」、「複数本」、「複数グループ」の意味は２つ又は２つ以上であり、「いくつか」、「いくつの本」「いくつのグループ」の意味は１つ又は１つ以上である。
【００２２】
実施例１
図１に示すように、本発明の実施例に係るマスフローコントローラは、吸気管路１、排気管路２及び制御部材３を含み、吸気管路１及び／又は排気管路２は複数本であり、吸気管路１の一端が吸気口で、他端が各排気管路２と連通し、各吸気管路１には、いずれも電位モニタリング素子４が設けられ、制御部材３は電位モニタリング素子４に接続されて、吸気管路１及び排気管路２のガス流量を制御する。
【００２３】
本発明のマスフローコントローラでは、ガスが吸気管路１の吸気口から入り、電位モニタリング素子４は、吸気管路１内のガス流れによる電位差を制御部材３に伝送し、制御部材３は、電位差に基づいてガス流量を換算し、かつ換算されたデータに基づいて、それぞれ吸気管路１の吸気量と排気管路２の排気量を制御する。大容積の反応チャンバにガスを均一に供給するという目的を達成するために、本発明では、複数本の排気管路２を設けて反応チャンバ内にガスを供給し、制御部材３で各本の排気管路２のガス流量を制御することにより、大量のガスを均一に供給する要件を達成する。複数種のガスを均一に混合した後に反応チャンバに供給するという目的を達成するために、本発明では、複数本の吸気管路１を設け、制御部材３で各本の吸気管路１のガス流量を制御し、各種のガスの含有量要件に応じて吸気管路１内にガスを混合した後に反応チャンバに供給することにより、ガスを均一に混合する要件を達成する。複数種のガスを均一に混合した後にガスを均一に供給するという目的を達成するために、本発明では複数本の吸気管路１及び複数本の排気管路２を設け、制御部材３で各本の吸気管路１及び排気管路２のガス流量を制御することにより、ガスを均一に混合し均一に供給する要件を達成する。これにより、本発明は、複数本の吸気管路１と複数本の排気管路２とを組み合わせることにより、相当なガス分配管路の設計費用、デバイス購入費用を節約し、ガス分配ボックスの空間を減少させ、別個の複数の一般的なマスフローコントローラに代えて使用することができる。
【００２４】
本実施例では、吸気管路が１本で、排気管路２が複数本であり、各排気管路２には、いずれも第１の制御バルブ５が設けられ、第１の制御バルブ５が制御部材３に接続される。第１の制御バルブ５は圧電セラミックバルブである。第１の制御バルブ５は同じタイプであってもよく、任意の流量タイプのバルブであってもよく、本実施例では、圧電セラミックバルブを選択する。各圧電セラミックバルブと制御部材３について、数理モデルを別個に確立し、同時に複数の圧電セラミックバルブと制御部材３について、全体的な数理モデルをさらに確立する必要がある。複数の圧電セラミックバルブは、同時に開度を増大させるか又は減少させるように全体的に制御されて流量を調整し、マスフローコントローラの排気管路２のガス流量の全体的な制御を達成し、さらに各圧電セラミックバルブの個別制御を達成し、そのうちの一つ又は複数の圧電セラミックバルブを調整することにより流量の調整を達成するか、又は全体的な流量を一定に保持する場合に同時にいくつかの排気管路２の流量を小さくし、いくつかの排気管路２の流量を一定にし、他のいくつかの排気管路２の流量を大きくし、数理モデルに応じて各排気管路２の流量を調整することを容易に達成でき、大容積の反応チャンバにガスを均一に供給するという目的を達成する。
【００２５】
電位モニタリング素子４は、ガスバイパス４１及び感熱電位差素子４２を含み、ガスバイパス４１の両端がいずれも吸気管路１と連通し、感熱電位差素子４２がガスバイパス４１に設けられ、かつ制御部材３に接続される。ガスバイパス４１が吸気管路１に設けられ、ガスが吸気管路１に入った後、小さな部分のガスがガスバイパス４１を通って、吸気管路１に合流し、ガスバイパス４１に感熱電位差素子４２が設けられ、ガスバイパス４１内のガスが流れないと、感熱電位差素子４２は電位差信号を生成しない。ガスバイパス４１内のガスが流れると、感熱電位差素子４２は電位差信号を生成し、かつこの電位差を制御部材３に入力して、制御部材３が複数本の排気管路２の流量に対して対応する制御を行う。
【００２６】
感熱電位差素子４２は、電位計４２１、加熱器４２２及び２つの熱電対４２３を含み、加熱器４２２及び熱電対４２３がいずれもガスバイパス４１に設けられ、かつ加熱器４２２が２つの熱電対４２３の間に位置し、電位計４２１はそれぞれ２つの熱電対４２３に接続されて、２つの熱電対４２３の間の電位差を測定し、かつ電位計４２１は制御部材３に接続されて、電位差を制御部材３に出力する。ガスバイパス４１には、順に前端熱電対、加熱器４２２及び後端熱電対が設けられ、ガスバイパス４１内のガスが流れないと、加熱器４２２で発生する熱量がガスに後端熱電対に搬送されず、前端熱電対と後端熱電対の温度が同じである。ガスバイパス４１内のガスが流れると、加熱器４２２で発生する熱量を後端熱電対に絶えず搬送し、後端熱電対と前端熱電対の温度が異なると、電位差を生成し、電位計４２１は電位差を検出した後、電位差を制御部材３に入力する。
【００２７】
制御部材３は、計算制御ユニット３１及びデータ交換モジュール３２を含み、計算制御ユニット３１がデータ交換モジュール３２に接続され、電位モニタリング素子４、第１の制御バルブ５及び第２の制御バルブ６はいずれも計算制御ユニット３１に接続される。電位計４２１は、電位差を計算制御ユニット３１に入力し、対応する数理モデルに基づいて、マスフローコントローラ全体内のガスの総流量を計算し、さらに、データ交換モジュール３２により計算結果を外部に出力し、計算結果とデータ交換モジュール３２によって予め設定される流量データとの間に差異がある場合、計算制御ユニット３１が第１の制御バルブ５を起動し、バルブの開度を調整して、マスフローコントローラの排気管路２の出口での流量とデータ交換モジュール３２によって設定される流量が同じであることを保持する。
【００２８】
実施例２
図２に示すように、本発明の実施例２に係るマスフローコントローラは、上記実施例１とほぼ同じであり、本実施例では、吸気管路１が複数本で、排気管路２が１本であることが異なる。各吸気管路１には、いずれも第２の制御バルブ６が設けられ、第２の制御バルブ６が制御部材３に接続される。第２の制御バルブ６は圧電セラミックバルブで、かつ計算制御ユニット３１に接続される。第２の制御バルブ６は同じタイプであってもよく、任意の流量タイプのバルブであってもよく、本実施例では、圧電セラミックバルブを選択する。各圧電セラミックバルブと制御部材３について、数理モデルを別個に確立し、同時に複数の圧電セラミックバルブと制御部材３について、全体的な数理モデルをさらに確立する必要がある。複数の圧電セラミックバルブは、同時に開度を増大させるか又は減少させるように全体的に制御されて流量を調整し、マスフローコントローラの吸気管路１のガス流量の全体的な制御を達成する。各種の混合する必要があるガスは、いずれも吸気管路１に入った後に別個の第２の制御バルブ６により流量を制御する必要があり、排気管路２で均一に混合し比率が適切なプロセスガスを取得でき、１つのマスフローコントローラにより複数種のガスを均一に混合するという目的を達成し、かつプロセス要件以外の余分な待機状態、例えば、複数種のガスの予混合を必要としない。
【００２９】
複数本の吸気管路１は主管路１１及び副管路１２を含み、主管路１１と副管路１２は末端に合流し、かつ排気管路２に接続される。主管路１１と副管路１２上の第２の制御バルブ６は、比率に応じてガスを混合するように全体的に制御されてもよく、１種のガスの流量を一定に保持し、他のガスの流量を調整してもよく、さらに任意の比率でガスを混合するか又はあるガスを任意に閉じることにより個別のガス供給を達成してもよい。
【００３０】
複数本の吸気管路１の末端合流点の管路構造はベンチュリ管１３である。本実施例では、第２の制御バルブ６を電位モニタリング素子４の前端に設計し、複数本の吸気管路１の末端合流点が複数種のガスの合流点であり、ベンチュリ管１３の構造がガスの均一な混合を保証でき、特に、２つのガスの流量差が大きいか又は吸気圧力がほぼ同じである状況に適合する。
【００３１】
実施例３
図３に示すように、本発明の実施例３に係るマスフローコントローラは、上記実施例１とほぼ同じであり、本実施例では、吸気管路１が複数本で、各吸気管路１にいずれも第２の制御バルブ６が設けられ、第２の制御バルブ６が制御部材３に接続されることが異なる。第２の制御バルブ６は圧電セラミックバルブで、かつ計算制御ユニット３１に接続される。第２の制御バルブ６は同じタイプであってもよく、任意の流量タイプのバルブであってもよく、本実施例では、圧電セラミックバルブを選択する。各圧電セラミックバルブと制御部材３について、数理モデルを別個に確立し、同時に複数の圧電セラミックバルブと制御部材３について、全体的な数理モデルをさらに確立する必要がある。複数の圧電セラミックバルブは、同時に開度を増大させるか又は減少させるように全体的に制御されて流量を調整し、マスフローコントローラの吸気管路１のガス流量の全体的な制御を達成し、第１の制御バルブ５と第２の制御バルブ６は制御部材３の全体的な制御下で、吸気管路１と排気管路２のガス流量を調整し、複数種のガスを均一に混合するという目的を達成するだけでなく、大量のガスを均一に供給するという目的を達成する。
【００３２】
複数本の吸気管路１の末端合流点の管路構造はベンチュリ管１３である。本実施例では、第２の制御バルブ６を電位モニタリング素子４の前端に設計し、複数本の吸気管路１の末端合流点が複数種のガスの合流点であり、ベンチュリ管１３の構造がガスの均一な混合を保証でき、特に、２つのガスの流量差が大きいか又は吸気圧力がほぼ同じである状況に適合する。
【００３３】
好ましくは、複数本の吸気管路１は主管路１１及び副管路１２を含み、主管路１１と副管路１２は末端に合流し、かつ排気管路２に接続される。主管路１１と副管路１２上の第２の制御バルブ６は、比率に応じてガスを混合するように全体的に制御されてもよく、１種のガスの流量を一定に保持し、他のガスの流量を調整してもよく、さらに任意の比率でガスを混合するか又はあるガスを任意に閉じることにより個別のガス供給を達成してもよい。
【００３４】
以上の内容は、本発明では、１本の吸気管路が設けられると、複数本の排気管路が設けられ、複数本の吸気管路が設けられると、１本又は複数本の排気管路が設けられる例示的な実施例であり、この３つの状況範囲内のマスフローコントローラ構造を保護することを意図する。
【００３５】
前記のように、本発明のマスフローコントローラでは、ガスが吸気管路の吸気口から入り、電位モニタリング素子は、吸気管路内のガス流れによる電位差を制御部材に伝送し、制御部材は、電位差に基づいてガス流量を換算し、かつ換算されたデータに基づいて、それぞれ吸気管路の吸気量と排気管路の排気量を制御する。大容積の反応チャンバにガスを均一に供給するという目的を達成するために、本発明では、複数本の排気管路を設けて反応チャンバ内にガスを供給し、制御部材で各本の排気管路のガス流量を制御することにより、大量のガスを均一に供給する要件を達成する。複数種のガスを均一に混合した後に反応チャンバに供給するという目的を達成するために、本発明では、複数本の吸気管路を設け、制御部材で各本の吸気管路のガス流量を制御し、各種のガスの含有量要件に応じて吸気管路内にガスを混合した後に反応チャンバに供給することにより、ガスを均一に混合する要件を達成する。複数種のガスを均一に混合した後にガスを均一に供給するという目的を達成するために、本発明では、複数本の吸気管路及び複数本の排気管路を設け、制御部材で各本の吸気管路及び排気管路のガス流量を制御することにより、ガスを均一に混合し均一に供給する要件を達成する。これにより、本発明は、複数本の吸気管路と複数本の排気管路とを組み合わせることにより、相当なガス分配管路の設計費用、デバイス購入費用を節約し、ガス分配ボックスの空間を減少させ、別個の複数の一般的なマスフローコントローラに代えて使用することができる。
【００３６】
なお、以上の実施例は、本発明の技術手段を説明するものに過ぎず、それを限定するものではなく、上記実施例を参照して本発明について詳細に説明したが、当業者にとっては、依然として前述の各実施例に記載の技術手段を修正し、又はその中の一部の技術的特徴に同等置換を行うことができると共に、これらの修正又は置換は、対応する技術手段の本質を本発明の各実施例の技術手段の主旨及び範囲から逸脱させることができないことを理解すべきである。
【符号の説明】
【００３７】
図面において：１  吸気管路、２  排気管路、３  制御部材、４  電位モニタリング素子、５  第１の制御バルブ、６  第２の制御バルブ、１１  主管路、１２  副管路、１３  ベンチュリ管、３１  計算制御ユニット、３２  データ交換モジュール、４１  ガスバイパス、４２  感熱電位差素子、４２１  電位計、４２１  加熱器、４２３  熱電対。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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