(57)【要約】【課題】基板接合時の不要な圧力分布を低減する。【解決手段】波長可変光フィルタ（１０）は、第１基板（１００）と、第１基板に対向する第２基板（２００）と、第１基板に設けられた第１反射膜（１３０）と、第２基板に設けられ、第１反射膜と反射膜間ギャップ（Ｇ）を介して対向する第２反射膜（２１０）と、第１基板及び第２基板を接合する接合部（４００）とを備える。第１基板は、第１反射膜が設けられる面とは反対側の荷重面において、接合部と重なる部分の全部又は一部が、荷重面における他の部分よりも基板面に交わる方向に突出した突出部（１５０）として形成されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、
前記第１基板に対向する第２基板と、
前記第１基板に設けられた第１反射膜と、
前記第２基板に設けられ、前記第１反射膜と反射膜間ギャップを介して対向する第２反射膜と、
前記第１基板及び前記第２基板を接合する接合部と
を備え、
前記第１基板は、前記第１反射膜が設けられる面とは反対側の荷重面において、前記接合部と重なる部分の全部又は一部が、前記荷重面における他の部分よりも基板面に交わる方向に突出した突出部として形成されている
ことを特徴とする波長可変光フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光の干渉効果を利用した波長可変光フィルタ及び波長可変光フィルタの製造方法の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の光フィルタとして、ファブリ・ペロー干渉計の原理を利用したものが知られている。ファブリ・ペロー干渉計は、多重反射光の干渉効果を用いたシンプルな干渉計であり、対向する２枚の反射膜の間で入射光が多重反射を繰り返すことで、その光路長に応じた波長帯の光を選択的に取り出すことができる。
【０００３】
特許文献１では、光学膜を有する２枚の基板を接合して構成される光フィルタが提案されている。このような構成の光フィルタでは、波長分解能を高めるために、光学膜間のギャップを高精度に制御することが要求される。具体的には、例えば２枚の基板を接合する際に、各基板を傾斜させず、平行度を確保することが重要であるとされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１２−１４５６７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載されている技術では、２枚の基板を貼り合わせた状態での荷重印加により、基板の接合が実現される。しかしながら、平坦基板に荷重印加しようとする場合、不要な圧力分布が生ずるおそれがある。不要な圧力分布は、例えば基板にたわみや傾きを生じさせる原因となり、結果として光フィルタの性能を低下させてしまうという技術的問題点が生ずる。
【０００６】
不要な圧力分布に対しては、例えば治具等により接合装置側で対策を講じることも考えられるが、治具等に高い加工精度が求められるだけでなく、荷重印加時の治具と基板との位置合わせも容易ではない。
【０００７】
本発明が解決しようとする課題には上記のようなものが一例として挙げられる。本発明は、基板接合時の不要な圧力分布を低減することが可能な波長可変光フィルタ及び波長可変光フィルタの製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決する波長可変光フィルタは、第１基板と、前記第１基板に対向する第２基板と、前記第１基板に設けられた第１反射膜と、前記第２基板に設けられ、前記第１反射膜と反射膜間ギャップを介して対向する第２反射膜と、前記第１基板及び前記第２基板を接合する接合部とを備え、前記第１基板は、前記第１反射膜が設けられる面とは反対側の荷重面において、前記接合部と重なる部分の全部又は一部が、前記荷重面における他の部分よりも基板面に交わる方向に突出した突出部として形成されている。
【０００９】
上記課題を解決する波長可変光フィルタの製造方法は、第１基板に第１反射膜を形成する第１反射膜形成工程と、第２基板に第２反射膜を形成する第２反射膜形成工程と、前記第１基板の前記第１反射膜が設けられる面とは反対側の荷重面において、前記第２基板との接合部と重なる部分の全部又は一部を、前記荷重面における他の部分よりも基板面に交わる方向に突出した突出部として形成する突出部形成工程と、前記第１基板及び前記第２基板を、前記第１反射膜と前記第２反射膜とが反射膜間ギャップを介して対向するように接合する接合工程とを備える。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】実施例に係る波長可変光フィルタの構成を示す断面図である。
【図２】実施例に係る波長可変光フィルタの上面部及び下面部の構成を示す平面図である。
【図３】比較例に係る波長可変光フィルタの構成を示す断面図である。
【図４】比較例に係る波長可変光フィルタの上面部及び下面部の構成を示す平面図である。
【図５】比較例に係る波長可変光フィルタの接合方法を示す断面図である。
【図６】比較例に係る波長可変光フィルタの接合時の圧力分布を示す平面図である。
【図７】実施例に係る波長可変光フィルタの接合方法を示す断面図である。
【図８】実施例に係る波長可変光フィルタのサイズ上のメリットを示す比較図である。
【図９】第１変形例に係る波長可変光フィルタの構成を示す断面図である。
【図１０】第２変形例に係る波長可変光フィルタの構成を示す上面図及び断面図である。
【図１１】第３変形例に係る波長可変光フィルタの構成を示す上面図及び断面図である。
【図１２】第４変形例に係る波長可変光フィルタの構成を示す上面図及び断面図である。
【図１３】第５変形例に係る波長可変光フィルタの構成を示す上面図及び断面図である。
【図１４】第６変形例に係る波長可変光フィルタの構成を示す上面図及び断面図である。
【図１５】第７変形例に係る波長可変光フィルタの構成を示す断面図（その１）である。
【図１６】第７変形例に係る波長可変光フィルタの構成を示す断面図（その２）である。
【図１７】第７変形例に係る波長可変光フィルタの構成を示す断面図（その３）である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
＜１＞
本実施形態に係る波長可変光フィルタは、第１基板と、前記第１基板に対向する第２基板と、前記第１基板に設けられた第１反射膜と、前記第２基板に設けられ、前記第１反射膜と反射膜間ギャップを介して対向する第２反射膜と、前記第１基板及び前記第２基板を接合する接合部とを備え、前記第１基板は、前記第１反射膜が設けられる面とは反対側の荷重面において、前記接合部と重なる部分の全部又は一部が、前記荷重面における他の部分よりも基板面に交わる方向に突出した突出部として形成されている。
【００１２】
本実施形態に係る波長可変光フィルタは、第１反射膜が設けられた第１基板と、第２反射膜が設けられた第２基板とを備えて構成されている。第１反射膜及び第２反射膜は、所望の周波数帯の光に対して高い反射率を有する材料（例えば、Ａｇ等）を含んで構成されており、スパッタリング等の手法を用いて形成される。第１基板及び第２基板は、接合部において、例えば樹脂による接着や活性化接合等により接合される。第１基板及び第２基板は、第１反射膜と第２反射膜とが、反射膜間ギャップを介して対向して配置されるように接合される。反射膜間ギャップは、取り出そうとする光の波長帯に応じて適宜設定すればよい。
【００１３】
第１基板及び第２基板の接合の際には、例えば接合機による荷重印加が行われる。具体的には、重ね合わされた第１基板及び第２基板を挟みこむようにして設置された接合機によって、第１基板及び第２基板の第１反射膜及び第２反射膜が設けられる面とは反対側の荷重面に対して荷重が印加される。この際、ただ荷重を印加するだけでは、荷重面に不要な圧力分布が生ずるおそれがある。不要な圧力分布は、例えば基板にたわみや傾きを生じさせる原因となり、第１反射膜と第２反射膜との平行度が損なわれてしまう結果、光フィルタの性能を低下させてしまう。
【００１４】
しかるに本実施形態では、第１基板に不要な圧力分布を低減するための突出部が形成されている。具体的には、荷重面の接合部と重なる部分の全部又は一部が、荷重面における他の部分よりも基板面に交わる方向（即ち、荷重印加方向）に突出するように形成されている。なお、ここでの「接合部と重なる部分」とは、第１基板を平面的に見て、接合部と重なる領域を意味しており、接合部への荷重に大きく寄与する部分である。
【００１５】
上述した構成によれば、突出部が他の部分より相対的に荷重印加方向に押し出されている（言い換えれば、他の部分が突出部より相対的に荷重印加方向に押し下げられている）ため、荷重印加による不要な圧力分布を低減することができる。また本実施形態では特に、接合機側の調整を必要としないため、治具加工精度や治具と基板の位置合わせの精度等が要求されず、極めて容易に不要な圧力分布を低減できる。
【００１６】
なお、第１基板と第２基板との間に、第３の基板を配置するような場合でも同様の効果を得ることができる。即ち、接合する基板の数が増加した場合であっても、本実施形態に係る効果は相応に得られる。
【００１７】
以上説明したように、本実施形態に係る波長可変光フィルタによれば、接合時の荷重印加による基板のたわみや傾きを低減することで、品質の低下を防止することが可能である。
【００１８】
＜２＞
本実施形態に係る波長可変光フィルタの一態様では、前記第２基板は、前記第２反射膜が設けられる面とは反対側の荷重面において、前記接合部と重なる部分の全部又は一部が、前記荷重面における他の部分よりも基板面に交わる方向に突出した突出部として形成されている。
【００１９】
この態様によれば、第１基板に加えて、第２基板の荷重面にも突出部が形成されている。よって、第１基板及び第２基板の両側からの荷重印加について、不要な圧力分布を低減できる。従って、より効果的に基板のたわみや傾きを低減できる。
【００２０】
＜３＞
上述した第２基板にも突出部が形成されている態様では、前記第１基板の突出部及び前記第２基板の突出部は、基板面に交わる方向で平面的に見て、互いに同一の形状であってもよい。
【００２１】
この態様によれば、第１基板の突出部と第２基板の突出部とが同一の形状（即ち、荷重面の同一の領域が突出されている）ため、不要な圧力分布の低減を図りつつ、効率的な荷重印加を実現できる。なお、本実施形態における「同一の形状」とは、完全に形状が一致する場合だけを意味するのではなく、同一と呼べるまでに近い形状も含むものとする。即ち、第１基板の突出部と第２基板の突出部との形状が完全に同一ではなくとも、近い形状であれば、上述した本実施形態の効果は相応に発揮される。
【００２２】
＜４＞
本実施形態に係る波長可変光フィルタの他の態様では、前記突出部は、基板面に交わる方向で平面的に見て、円形又は円環状である。
【００２３】
この態様によれば、突出部が円形又は円環状であるため、基板にかかる圧力を効果的に分散することができる。従って、不要な圧力分布を効果的に低減できる。
【００２４】
＜５＞
本実施形態に係る波長可変光フィルタの他の態様では、前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方は、前記第１反射膜又は前記第２反射膜を可動とする可動部を有しており、前記可動部は、前記突出部よりも、基板面に交わる方向に低くなるように形成されている。
【００２５】
この態様によれば、第１反射膜又は第２反射膜は、可動部によって位置調整等が可能とされている。そして、可動部（具体的には、可動機構が設けられた基板部分）は、突出部よりも基板面に交わる方向に低くなるように形成されている。言い換えれば、可動部は突出部のように荷重印加方向に突出しないように形成されている。
【００２６】
上述した構成によれば、荷重印加時においても、可動部には圧力は殆ど或いは全くかからない。よって、高い精度での調整等が要求される可動部が、荷重印加時の圧力によって悪影響を受けてしまうことを防止できる。また、可動部上の異物等に起因して、荷重印加時に可動部が予期せぬダメージを受けてしまうことを防止できる。
【００２７】
＜６＞
本実施形態に係る波長可変光フィルタの他の態様では、前記第１基板及び前記第２基板は、基板面に交わる方向で平面的に見て互いに同一の形状であり、所定角度回転された状態で接合されている。
【００２８】
この態様によれば、第１基板及び第２基板が同一の形状であるものの、所定角度回転された状態で接合されるため、互いにぴったりと重なるような状態では接合されず、他の部位に比べて相対的に荷重変形しやすい部位が生じる。具体的には、第１基板及び第２基板の端部や角部等であるが、第１基板及び第２基板に突出部を設けることで、前記相対的に荷重変形しやすい部位への荷重の印加を低減し、不要な圧力分布を低減できる。従って、接合時の荷重印加による基板のたわみや傾きを低減することでき、品質の低下を防止することが可能である。
【００２９】
＜７＞
本実施形態に係る波長可変光フィルタの他の態様では、前記第１基板及び前記第２基板は、基板面に交わる方向で平面的に見て互いに異なる形状である。
【００３０】
この態様によれば、第１基板及び第２基板が異なる形状であるため、互いにぴったりと重なるような状態では接合されず、他の部位に比べて相対的に荷重変形しやすい部位が生じる。具体的には、第１基板及び第２基板の端部や角部等であるが、第１基板及び第２基板に突出部を設けることで、前記相対的に荷重変形しやすい部位への荷重の印加を低減し、不要な圧力分布を低減できる。従って、接合時の荷重印加による基板のたわみや傾きを低減することでき、品質の低下を防止することが可能である。
【００３１】
＜８＞
本実施形態に係る波長可変光フィルタの他の態様では、前記突出部の位置は、前記第１基板及び前記第２基板間の内部構造に基づいて決定されている。
【００３２】
この態様によれば、第１基板及び第２基板間の内部構造に基づいて突出部の位置（言い換えれば、形状）が決定されているため、不要な圧力分布を効果的に低減することができる。具体的には、例えば内部構造を再現した事前のシミュレーション等により、圧力のかかりやすい場所、かかりにくい場所等を判別すれば、内部構造に応じた最適な荷重印加パターンを決定できる。そして、最適な荷重印加パターンを実現できるように突出部の位置を決定すれば、極めて効果的に不要な圧力分布を低減できる。
【００３３】
＜９＞
本実施形態に係る波長可変光フィルタの製造方法は、第１基板に第１反射膜を形成する第１反射膜形成工程と、第２基板に第２反射膜を形成する第２反射膜形成工程と、前記第１基板の前記第１反射膜が設けられる面とは反対側の荷重面において、前記第２基板との接合部と重なる部分の全部又は一部を、前記荷重面における他の部分よりも基板面に交わる方向に突出した突出部として形成する突出部形成工程と、前記第１基板及び前記第２基板を、前記第１反射膜と前記第２反射膜とが反射膜間ギャップを介して対向するように接合する接合工程とを備える。
【００３４】
本実施形態に係る波長可変光フィルタの製造方法によれば、上述した波長可変光フィルタと同様に、第１基板に突出部を設けることで、荷重印加時の不要な圧力分布を低減できる。従って、接合時の荷重印加による基板のたわみや傾きが低減され、品質の低下を防止することが可能である。
【００３５】
本実施形態の各工程が実行される順序は特に限定されるものではなく、各工程は相前後して或いは並行して実行されてもよい。よって、例えば第１反射膜形成工程及び第２反射膜形成工程が実行される前に、突出部形成工程が実行されても構わない。
【００３６】
なお、本実施形態に係る波長可変光フィルタの製造方法においても、上述した本実施形態に係る波長可変光フィルタにおける各種態様と同様の各種態様を採ることが可能である。
【００３７】
＜１０＞
本実施形態に係る波長可変光フィルタの製造方法の一態様では、前記突出部形成工程では、前記第１基板がエッチングされることにより前記突出部が形成される。
【００３８】
この態様によれば、エッチングにより基板表面を加工することで、所望の形状の突出部を比較的容易に形成できる。
【００３９】
＜１１＞
本実施形態に係る波長可変光フィルタの製造方法の他の態様では、前記突出部形成工程では、前記第１基板に感光性樹脂材料を一体成型することで前記突出部が形成される。
【００４０】
この態様によれば、感光性樹脂材料の一体成型により、基板表面を直接加工することなく突出部を形成できる。
【００４１】
本実施形態に係る波長可変光フィルタ及び波長可変光フィルタの製造方法の作用及び他の利得については、以下に示す実施例において、より詳細に説明する。
【実施例】
【００４２】
以下では、図面を参照して本発明の実施例について詳細に説明する。
【００４３】
＜装置構成＞
初めに、実施例に係る波長可変光フィルタの装置構成について、図１から図４を参照して説明する。ここに図１は、実施例に係る波長可変光フィルタの構成を示す断面図であり、図２は、実施例に係る波長可変光フィルタの上面部及び下面部の構成を示す平面図である。また図３は、比較例に係る波長可変光フィルタの構成を示す断面図であり、図４は、比較例に係る波長可変光フィルタの上面部及び下面部の構成を示す平面図である。
【００４４】
図１及び図２において、本実施例に係る波長可変光フィルタ１０は、第１基板１００と、第２基板２００とを備えて構成されている。
【００４５】
第１基板１００は、可動部１１０を有している。可動部１１０は、その周辺に位置するメンブレン部１２０によって支持されている。可動部１１０の第２基板２００側には、第１反射膜１３０及び第１駆動電極１４０が設けられている。また、本実施例では特に、第１基板１００の荷重面におけるメンブレン部１２０の周囲に、第１基板の突出部１５０が設けられている。
【００４６】
第２基板２００は、接合部４００において第１基板１００と接合されている。第２基板２００の可動部１００と対向する位置には、第２反射膜２１０及び第２駆動電極２２０が設けられている。また、第１基板１００と同様に、第２基板２００の荷重面には第２基板の突出部２３０が設けられている。
【００４７】
第１反射膜１３０及び第２反射膜２１０は、例えばＡｇ（銀）等の反射率の高い材料を含んで構成されており、例えばスパッタリング等の手法を用いて第１基板１００及び第２基板２００上に形成される。第１反射膜１３０及び第２反射膜２１０は、所定のギャップＧを隔てて互いに対向するように配置されている。なお、ギャップＧは、波長可変光フィルタの対象となる光の波長帯に応じて適宜設定すればよい。
【００４８】
第１駆動電極１４０及び下側電極２２０は、電圧を印加することにより静電アクチュエータとして機能する。よって、第１駆動電極１４０及び下側電極２２０に印加する電力を変化させることで、第１反射膜１３０及び第２反射膜２１０間のギャップＧを微調整することができる。
【００４９】
第１基板の突出部１５０及び第２基板の突出部２３０は、荷重面の他の部分（具体的には、基板の４角周辺部分）よりも突出した構造となっている。以下では、第１基板の突出部１５０及び第２基板の突出部２３０を有しない比較例を用いて、第１基板の突出部１５０及び第２基板の突出部２３０の構成をより詳細に説明する。
【００５０】
図３及び図４において、比較例に係る波長可変光フィルタ２０では、第１基板１００及び第２基板２００の荷重面は、メンブレン部１２０を除き平面とされている。即ち、第１基板１００の高さは、メンブレン部１２０以外はどこも同じである。また、第２基板２００にはメンブレン部１２０が存在しないため、第２基板２００の高さはどこも同じである。
【００５１】
図１及び図２に戻り、本実施例に係る波長可変光フィルタ１０は、上述した比較例と比べると、基板の４角周辺の高さが低くなるように構成されている。言い換えれば、基板の中心付近の高さが、基板の４角周辺の高さよりも高くなるように構成されている。このように、本実施例に係る波長可変光フィルタ１０は、第１基板１００及び第２基板２００に、第１基板の突出部１５０及び第２基板の突出部２３０を設けることで、荷重面の一部が、他部と比べて突出するように構成されている。
【００５２】
なお、第１基板の突出部１５０及び第２基板の突出部２３０は、例えば第１基板１００及び第２基板２００の表面をエッチング等により加工することで形成することができる。或いは、感光性樹脂材料を第１基板１００及び第２基板２００と一体的に成型することで形成してもよい。
【００５３】
＜接合時の問題点＞
次に、比較例に係る波長可変光フィルタの接合方法及び接合時に発生し得る問題点について、図５及び図６を参照して説明する。ここに図５は、比較例に係る波長可変光フィルタの接合方法を示す断面図である。また図６は、比較例に係る波長可変光フィルタの接合時の圧力分布を示す平面図である。
【００５４】
図５において、一般的な波長可変光フィルタの製造時には、第１基板１００と第２基板２００とが、接合部４００において重ね合わされた状態で、接合機５００による荷重印加が行われる。この際、第１基板１００及び第２基板２００には、第１反射膜１３０及び第２反射膜２１０の平行度を維持するためにも均等に圧力がかかることが望ましい。しかしながら、比較例に係る波長可変光フィルタ２０のような基板形状では、圧力を均等にかけることは極めて難しく、圧力が集中してかかる部分（図中の破線で囲んだ部分）が多少なりとも生じてしまう。不要な圧力分布は、基板にたわみや傾きを生じさせる原因となり、結果として光フィルタとしての性能を低下させてしまう。
【００５５】
図６に示すように、本願発明者の研究するところによれば、荷重印加時の圧力は基板の４角周辺に集中してかかる傾向があることが判明している。本実施例では、このような不要な圧力分布を低減するために、第１基板の突出部１５０及び第２基板の突出部２３０を設けている。
【００５６】
＜本実施例の効果＞
次に、実施例に係る波長可変光フィルタにより発揮される効果について、図７及び図８を参照して説明する。ここに図７は、実施例に係る波長可変光フィルタの接合方法を示す断面図である。また図８は、実施例に係る波長可変光フィルタのサイズ上のメリットを示す比較図である。
【００５７】
図７において、本実施例に係る波長可変光フィルタ１０によれば、荷重印加時には主に第１基板の突出部１５０及び第２基板の突出部２３０に対応する部分（即ち、図中の破線で囲んだ部分に）圧力がかかる。即ち、本実施例は、基板の４角周辺に圧力がかかり易い比較例と比べて、基板の４角周辺に圧力がかかり難い構造となっている。これにより、荷重印加時の不要な圧力分布を低減できる。よって、基板のたわみや傾きに起因して、第１反射膜１３０及び第２反射膜２１０の平行度が維持できなくなる状況を回避できる。
【００５８】
なお、不要な圧力分布を低減するための方法としては、接合機５００側の構成を変更することも考えられる。具体的には、例えば接合機５００の荷重印加面を凸型にするような例が考えられる。しかしながら、接合機５００側の構成を変更する場合、接合機５００に高い加工精度が求められるだけでなく、接合機５００と基板との位置合わせが非常に難しくなるという技術的問題点が生ずる。本実施例は、このような不都合を回避しつつ、好適に不要な圧力分布を回避できるという効果を有している。
【００５９】
図８において、不要な圧力分布を低減するための他の方法として、例えば基板全体の形状を円形にする方法（図中の第２比較例参照）も考えられる。しかしながら、基板全体を円形にしようとすると、図を見ても分かるように、基板のサイズが大型化してしまう。このように本実施例は、基板（ひいては接合後の素子）の小型化においても有利であるという効果を有している。
【００６０】
＜変形例＞
次に、実施例に係る波長可変光フィルタの変形例について、図９から図１７を参照して説明する。ここに図９は、第１変形例に係る波長可変光フィルタの構成を示す断面図であり、図１０は、第２変形例に係る波長可変光フィルタの構成を示す上面図及び断面図である。また図１１は、第３変形例に係る波長可変光フィルタの構成を示す上面図及び断面図であり、図１２は、第４変形例に係る波長可変光フィルタの構成を示す上面図及び断面図である。更に図１３は、第５変形例に係る波長可変光フィルタの構成を示す上面図及び断面図であり、図１４は、第６変形例に係る波長可変光フィルタの構成を示す上面図及び断面図である。図１５から図１７は夫々、第７変形例に係る波長可変光フィルタの構成を示す断面図である。
【００６１】
図９において、第１変形例に係る波長可変光フィルタでは、第１基板１００における可動部１１０の高さが、第１基板の突出部１５０よりも低くなるように構成されている。このように構成すれば、可動部１１０上に異物が存在しているような場合であっても、荷重印加によって可動部１１０がダメージを受けてしまうことを防止できる。
【００６２】
図１０において、第２変形例に係る波長可変光フィルタでは、同一の形状である第１基板１００及び第２基板２００が所定角度（例えば４５度）回転された状態で接合される。接合する際に第１基板１００及び第２基板２００が重なり合わず、他の部位に比べて相対的に荷重変形しやすい部位（即ち、図中の丸で囲んだ部分）が生じるが、本構成によれば、相対的に荷重変形しやすい部位に印加される荷重を低減し、不要な圧力分布を低減できる。  図１１において、第３変形例に係る波長可変光フィルタでは、互いに異なる形状である第１基板１００及び第２基板２００が接合される。接合する際に第１基板１００及び第２基板２００が重なり合わず、他の部位に比べて相対的に荷重変形しやすい部位（即ち、図中の丸で囲んだ部分）が生じるが、本構成によれば、第２変形例と同様に、相対的に荷重変形しやすい部位に印加される荷重を低減し、不要な圧力分布を低減できる。
【００６３】
図１２において、第４変形例に係る波長可変光フィルタでは、内部構造に応じて第１基板の突出部１５０の形状が決定されている。内部構造によって、予め圧力がかかり易い或いはかかり難い場所が分かっている場合には、最適な荷重印加パターンを実現できるように第１基板の突出部１５０の形状を決定し、より好適に不要な圧力分布を低減させることができる。
【００６４】
図１３において、第５変形例に係る波長可変光フィルタでは、第２基板２００に第２基板の突出部２３０が設けられているのみで、第１基板１００には第１基板の突出部１５０は設けられていない。このように、いずれか一方の基板にのみ突出部を設ける場合であっても、上述した本実施例の効果は相応に発揮される。
【００６５】
図１４において、第６変形例に係る波長可変光フィルタでは、第１基板１００と第２基板２００との間に第３の基板３００が配置されている。このように、３枚以上の基板を荷重印加によって接合する場合であっても、第１基板１００及び第２基板２００の荷重面に第１基板の突出部１５０及び第２基板の突出部２３０を設ければ、上述した本実施例の効果は相応に発揮される。
【００６６】
図１５から図１７において、第７変形例に係る波長可変光フィルタでは、第１基板の突出部１５０の形状と、第２基板の突出部２３０の形状が同一とされている。即ち、第１基板１００及び第２基板２００の同一部分（即ち、重なり合う領域）が突出するように構成されている。このように構成すれば、荷重印加時において、より好適に圧力をかけることができる。
【００６７】
なお、図１５に示す例では、第１基板の突出部１５０及び第２基板の突出部２３０の大きさと、接合部４００の大きさとがイコールになっている。また、図１６に示す例では、第１基板の突出部１５０及び第２基板の突出部２３０の大きさが、接合部４００の大きさより小さくなっている。図１７に示す例では、第１基板の突出部１５０及び第２基板の突出部２３０の大きさが、接合部４００の大きさより大きくなっている。これらいずれの場合であっても、上述した本実施例の効果は相応に発揮される。
【００６８】
以上説明したように、実施例に係る波長可変光フィルタによれば、荷重面の一部を突出させることにより、荷重印加時の不要な圧力分布を低減することができる。従って、基板のたわみや傾きに起因する品質の低下を好適に防止できる。
【００６９】
本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う波長可変光フィルタ及び波長可変光フィルタの製造方法もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【符号の説明】
【００７０】
１０  波長可変光フィルタ
１００  第１基板
１１０  可動部
１２０  メンブレン部
１３０  第１反射膜
１４０  第１駆動電極
１５０  第１基板の突出部
２００  第２基板
２１０  第２反射膜
２２０  第２駆動電極
２３０  第２基板の突出部
３００  第３の基板
４００  接合部
５００  接合機
６００  異物
Ｇ  ギャップ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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