(57)【要約】【課題】  印刷方式を用いずに、基材表面に対して垂直方向から観察しても画像は確認できないが、観察角度を異ならせることで潜像画像を視認することが可能な偽造防止形成体を提供する。【解決手段】  本発明は、基材上の少なくとも一部に、凸画線が万線状に配列された凸画線群により形成された潜像模様を備えた模様形成領域を備え、模様形成領域は、白色層、レーザー発色層及び透明層が順に積層されて成り、凸画線は、レーザー発色層が凸形状を有し、凸形状の頂点を境に、少なくとも一方の側面に波形状を有する第１の要素が底面を備えて形成され、第１の要素が複数配列されて第一の潜像模様が形成された偽造防止形成体である。【選択図】  図３
2019089255.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上の少なくとも一部に、凸画線が万線状に配列された凸画線群により形成された潜像模様を備えた模様形成領域を備え、
前記模様形成領域は、白色層、レーザー発色層及び透明層が順に積層されて成り、
前記凸画線は、前記レーザー発色層が凸形状を有し、前記凸形状の頂点を境に、少なくとも一方の側面に波形状を有する第１の要素が底面を備えて形成され、
前記第１の要素が複数配列されて第一の潜像模様が形成され、
前記模様形成領域を前記基材に対して垂直方向から観察すると、前記第１の要素と前記底面とが区分けできないことから前記第一の潜像模様は確認できないが、前記基材を傾けて観察すると、前記第一の潜像模様のみが視認できることを特徴とする偽造防止形成体。
【請求項２】
前記模様形成領域は、前記凸形状の頂点を境として他方の側面に、前記第１の要素とは異なる波形状の第２の要素が前記底面を備えて形成され、
前記第２の要素が複数配列されて第二の潜像模様が形成され、
前記第一の潜像模様が視認できた前記基材の観察位置から、前記頂点を境に逆方向に傾けて観察すると、前記第二の潜像模様のみが視認できることを特徴とする請求項１記載の偽造防止形成体。
【請求項３】
前記第一の潜像模様及び前記第二の潜像模様は、少なくとも一部が重なって形成され、
前記第一の潜像模様及び前記第二の潜像模様の両方の潜像模様を共通に形成する前記凸画線は、同じ１本の前記凸画線において、前記頂点を境にして隣り合う両側面に前記第１の要素及び前記第２の要素を有する重複領域を備えて成ることを特徴とする請求項２記載の偽造防止形成体。
【請求項４】
白色層、レーザー発色層及び透明層が順に積層されて成る基材上の少なくとも一部に、頂点を境に少なくとも一方の側面に波形状の要素を備えた凸画線が万線状に配列された凸画線群により形成された潜像模様を備えた模様形成領域を備え、前記基材の観察角度を異ならせることにより、前記潜像模様が視認可能な偽造防止形成体の作製方法であって、
前記凸画線の基となる基準の凸画線を万線状に配列する基準凸画線群設計工程と、
前記潜像模様の基となる第一の潜像模様を設計する潜像模様設計工程と、
前記模様形成領域において、前記基準の凸画線と前記第一の潜像模様を合成する模様合成工程と、
前記凸画線に前記第一の潜像模様を形成するための第１の要素を形成するために、前記レーザー発色層に対して照射するレーザー照射強度を設計するレーザー照射強度設計工程と、
前記レーザー照射強度設計工程により設計されたレーザー照射強度に基づき、前記基材に対してレーザー照射を行って、前記波形状の第１の要素を有する前記凸画線を形成する加工工程を備えた偽造防止形成体の作製方法。
【請求項５】
前記凸形状の頂点を境として他方の側面に、前記第１の要素とは異なる波形状の第２の要素により第二の潜像模様が形成され、前記基材の観察角度を異ならせることにより、二つの潜像模様がチェンジして視認可能な偽造防止形成体の製造方法であって、
前記潜像模様設計工程は、前記潜像模様の基となる前記第二の潜像模様を更に設計し、
前記模様合成工程は、更に前記第二の潜像模様を同じ前記潜像模様領域内に合成し、
前記レーザー照射強度設計工程は、前記第二の潜像模様を形成するための第２の要素を形成するために、前記レーザー発色層に対して照射するレーザー照射強度を設計し、
前記加工工程は、前記レーザー照射強度設計工程により設計されたレーザー照射強度に基づき、前記基材に対してレーザー照射を行って、前記第１の要素が形成された前記凸画線の一方の側面とは反対側の他方の側面に前記第２の要素を形成することを特徴とする請求項４記載の偽造防止形成体の作製方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偽造や複製を防止する必要のあるセキュリティ性を有するプラスティック製品及び意匠性を伴うプラスティック製品において、観察角度を変えることによって出現する潜像模様が、更に異なる画像に変化する効果を付与した偽造防止形成体及びその作製方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
銀行券、旅券、有価証券等のセキュリティ印刷物は、その性質上、偽造や複製がされにくいことが要求される。また、偽造や複製がされたか否かを目視により簡易に判別可能とするため、基材自体に加工した凹凸又はインキの盛りによる凹凸を利用して潜像画像を形成することで、観察角度の変化により画像が視認できる偽造防止技術が公知である。
【０００３】
このような観察角度の変化により視認できる画像を施した偽造防止技術として、本出願人は、部分的に角度を異ならせることによって図柄を表した各種万線模様、レリーフ模様又は双方の模様のいずれかのエンボス、すき入れ又はインキによって形成された凹凸形状を有する素材に、素材の色及び無色透明以外の異なった他の色のインキによって、一定の間隔を持つ各種万線、網点による画線又は双方の画線のいずれかを前述の凹凸形状の図柄以外の部分を構成する部分に対して平行又は傾斜を持たせて印刷する特殊潜像模様形成体を出願している（特許文献１又は特許文献２参照）。
【０００４】
前述の特許文献１又は特許文献２に記載の技術は、正面から観察すると、一定の間隔の直線で構成された各種万線、網点による画線又は双方の画線のいずれかのみが確認でき、斜めの方向から観察すると、凹凸形状と一定の間隔を持つ印刷画線との間に生じる一定でない位置関係によって、凹凸形状によって形成された図柄が容易に確認でき、逆の斜めの方向から観察すると、図柄の明暗が反転して確認できることを特徴としている。
【０００５】
また、本出願人は、一定のピッチをもって配置した光沢凸形状の画線又は画素の集合体に、光沢凸形状の画線又は画素と同一のピッチで配置された画線又は画素によって光の反射率の異なる領域を設け、一定の角度に傾けた場合に光を強く正反射した光沢凸形状の画線又は画素によるポジ画像領域と、光を低反射したネガ画像領域の、二つの領域の相対的な光沢差によって光沢画線をより鮮明に認識させることを可能とする特許を出願している（特許文献３参照）。
【０００６】
また、本出願人は、複数の凸状画線は、背景画像部とメッセージ画像部に区分けされ、背景画像部とメッセージ画像部は複数の凸状画線で構成され、背景画像部の凸状画線とメッセージ画像部の凸状画線の底部に当たるインキ転移部の幅方向の画線幅が一定で、凸状画線の高さ方向のインキの盛りが高くなるに従い、幅方向の画線幅が狭くなり、長さ方向の形状は波状に変化する凸状画線で構成され、かつ、背景画像部の波状に変化する凸状画線とメッセージ画像部の波状に変化する凸状画線は、周期、振幅、位相及び凸状画線の凸表面の幅方向の画線幅の少なくとも一つ以上が異なるように構成した印刷物を出願している（特許文献４参照）。
【０００７】
さらに、本出願人は、入射する光の角度の変化に応じて、二つの異なる潜像画像がチェンジする効果を有する潜像印刷物であり、二つの潜像画像は、１本の画線の右側面に施された切れ込みで一つの潜像画像、左側面に施された切れ込みでもう一つの潜像画像が形成されて成る潜像印刷物を出願している（特許文献５参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特許第２６１５４０１号公報
【特許文献２】特許第２６０００９４号公報
【特許文献３】特許第４６８２２８３号公報
【特許文献４】特許第３６７３９７１号公報
【特許文献５】特許第５８２８１８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
特許文献１及び特許文献２については、凹凸形状のレリーフ万線とその上に有色の万線模様を積層することで、基材に対して垂直となる真上から視認しても潜像画像は確認できないが、基材を傾けて視認すると初めて潜像として図柄を確認できるという高度な偽造防止技術ではあるが、基材を傾けた際に確認できる図柄は、傾ける角度を９０°反転しても明暗が反転するものの、一つの図柄しか形成することができなかったため、更なる偽造防止効果の付与が望まれていた。
【００１０】
また、特許文献３については、光沢凸形状画線の側面に段差を設けることで、低光沢の箇所を形成し、両側面で異なる形状とすることで異なる角度により二つの画像を形成したものであり、一度の印刷、かつ、１色のインキで二つの画像を形成できる点は、効率的で低コストでもあり、偽造防止効果も高い技術ではあるが、スクリーン版面に、焼付けフィルムにより二つの異なる画像を形成するため、鮮明な画像を印刷することが困難であったことから、鮮明な二つの画像の形成を可能な技術が望まれていた。
【００１１】
また、特許文献４については、凹版版面を微細加工し、凹版印刷で凸画線を形成するため、微細加工のための高度な技術及び装置を要することから、簡単には偽造することができず、偽造防止効果は高かったが、微細加工された画線から全てのインキを完全に基材に転移させるには、インキの特性及び印刷条件等によるインキの転移状態に左右され、望んだ凸画線を形成することが困難であり、製造安定性のある技術への更なる向上が望まれていた。
【００１２】
さらに、特許文献５については、特許文献３と同様、一度の印刷、かつ、１色での形成が可能であるとともに、観察角度により異なる画像がチェンジするという高度な偽造防止技術ではあるが、盛り上がりのある画線において、背景画線と潜像画線の底部の幅方向の画線幅が一定ではないため、本来確認できない観察角度においても有意情報が見えてしまう危険性があり、潜像模様の完全なチェンジ効果が望まれていた。
【００１３】
なお、特許文献１〜５に記載の技術については、いずれも模様を形成するための版面を作製する必要があり、微細な画線構成の版面を作製するための高度な画線設計技術や加工技術を要するとともに、工程及び人員配置等のコストも掛かるという課題があった。
【００１４】
本発明は、前述した課題の解決を目的とするものであり、印刷方式を用いずに、基材表面に対して垂直方向から観察しても画像は確認できないが、観察角度を異ならせることで潜像模様を視認することが可能な偽造防止形成体を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、基材上の少なくとも一部に、凸画線が万線状に配列された凸画線群により形成された潜像模様を備えた模様形成領域を備え、模様形成領域は、白色層、レーザー発色層及び透明層が順に積層されて成り、凸画線は、レーザー発色層が凸形状を有し、凸形状の頂点を境に、少なくとも一方の側面に波形状を有する第１の要素が底面を備えて形成され、第１の要素が複数配列されて第一の潜像模様が形成され、模様形成領域を基材に対して垂直方向から観察すると、第１の要素と底面とが区分けできないことから第一の潜像模様は確認できないが、基材を傾けて観察すると、第一の潜像模様のみが視認できる偽造防止形成体である。
【００１６】
また、本発明の偽造防止形成体における模様形成領域は、凸形状の頂点を境として他方の側面に、第１の要素とは異なる波形状の第２の要素が底面を備えて形成され、第２の要素が複数配列されて第二の潜像模様が形成され、第一の潜像模様が視認できた基材の観察位置から、頂点を境に逆方向に傾けて観察すると、第二の潜像模様のみが視認できることを特徴とする。
【００１７】
また、本発明の偽造防止形成体における第一の潜像模様及び前記第二の潜像模様は、少なくとも一部が重なって形成され、第一の潜像模様及び第二の潜像模様の両方の潜像模様を共通に形成する凸画線は、同じ１本の凸画線において、頂点を境にして隣り合う両側面に第１の要素及び第２の要素を有する重複領域を備えて成ることを特徴とする。
【００１８】
また、本発明は、白色層、レーザー発色層及び透明層が順に積層されて成る基材上の少なくとも一部に、頂点を境に少なくとも一方の側面に波形状の要素を備えた凸画線が万線状に配列された凸画線群により形成された潜像模様を備えた模様形成領域を備え、基材の観察角度を異ならせることにより、潜像模様が視認可能な偽造防止形成体の作製方法であって、凸画線の基となる基準の凸画線を万線状に配列する基準凸画線群設計工程と、潜像模様の基となる第一の潜像模様を設計する潜像模様設計工程と、模様形成領域において、基準の凸画線と第一の潜像模様を合成する模様合成工程と、凸画線に第一の潜像模様を形成するための第１の要素を形成するために、レーザー発色層に対して照射するレーザー照射強度を設計するレーザー照射強度設計工程と、レーザー照射強度設計工程により設計されたレーザー照射強度に基づき、基材に対してレーザー照射を行って、波形状の第１の要素を有する凸画線を形成する加工工程を備えた偽造防止形成体の作製方法である。
【００１９】
さらに、本発明の偽造防止形成体の作製方法は、凸形状の頂点を境として他方の側面に、第１の要素とは異なる波形状の第２の要素により第二の潜像模様が形成され、基材の観察角度を異ならせることにより、二つの潜像模様がチェンジして視認可能な偽造防止形成体の製造方法であって、潜像模様設計工程は、潜像模様の基となる第二の潜像模様を更に設計し、模様合成工程は、更に第二の潜像模様を同じ潜像模様領域内に合成し、レーザー照射強度設計工程は、第二の潜像模様を形成するための第２の要素を形成するために、レーザー発色層に対して照射するレーザー照射強度を設計し、加工工程は、レーザー照射強度設計工程により設計されたレーザー照射強度に基づき、基材に対してレーザー照射を行って、第１の要素が形成された凸画線の一方の側面とは反対側の他方の側面に第２の要素を形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の偽造防止形成体は、一つの凸画線の両側面に異なる形状を付与することで、複数の凸画線により異なる二つの模様を形成でき、観察角度を異ならせることで、二つの潜像模様がチェンジして視認することができる。
【００２１】
また、本発明の偽造防止形成体は、凸画線を露光や腐食により形成した印刷版面を用いず、更にはその版面からインキを転移させるものではないため、インキの転移状態に起因する画線再現性のあばれもなく、レーザー加工により、基材に直接画線を形成するため、鮮明な画像を出現させることができる。
【００２２】
また、本発明の偽造防止形成体は、潜像模様を形成する要素が凸画線の底面を残した状態で凸画線の側面に形成されているため、凸画線における底面と潜像模様を形成する各要素とが同じ色であり、基材に対して真上から見ても潜像模様は視認できず、潜像効果が高い。
【００２３】
さらに、本発明の偽造防止形成体は、レーザー加工により、直接基材に凸画線及び各要素を形成するため、潜像模様を形成するために従来使用されていた印刷用の版面を作製する必要がないため、工程及び人員の削減に伴いコストも低く抑えることができ、潜像模様の基となる画像データを偽造防止形成体１枚ごとに異ならせることもできるため、可変の情報を付与できる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の偽造防止形成体の例を示す。
【図２】偽造防止形成体の模様形成領域に形成されている第一の潜像模様を示す。
【図３】模様形成領域に形成されている凸画線群の構成を示す。
【図４】凸画線群を構成する基本の凸画線を示す。
【図５】第一の潜像模様を形成するための第１の要素を備えた凸画線を示す。
【図６】本発明の偽造防止形成体において第一の潜像模様が視認できる効果を示す。
【図７】本発明の別の実施の形態において、模様形成領域に形成されている二つの潜像模様を示す。
【図８】本発明の別の実施の形態において、模様形成領域に形成されている凸画線群の構成を示す。
【図９】本発明の別の実施の形態において、模様形成領域に形成されている二つの潜像模様の別の配置を示す。
【図１０】第二の潜像模様を形成するための第２の要素を備えた凸画線を示す。
【図１１】第一の潜像模様及び第二の潜像模様の両方を形成するための重複領域に配置されている凸画線を示す。
【図１２】本発明の別の実施の形態において二つの潜像模様が視認できる効果を示す。
【図１３】本発明の偽造防止形成体の作製方法を説明するフローチャートを示す。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
本発明を実施するための形態について、図面を参照して説明する。しかしながら、本発明は、以下に述べる実施するための形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲記載における技術的思想の範囲内であれば、その他の様々な実施の形態が含まれる。
【００２６】
図１に、本発明の偽造防止形成体（１）を示す。偽造防止形成体（１）は、基材（２）上の少なくとも一部に本発明の特徴となる潜像模様が形成されている模様形成領域（３）を備えている。なお、図１では、偽造防止形成体（１）の例としてパスポートを挙げて説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、潜像模様が形成可能な製品であればよい。
【００２７】
模様形成領域（３）が形成されている基材は、平滑性の高い材質、例えば、プラスティックが好ましい。ただし、平滑性は高くても、紙については潜像模様を形成するためのレーザー照射光が透過してしまい、潜像模様が形成できず、また、金属はアプレーションされてしまうため、凸画線ではなく凹画線が形成されてしまうため好ましくない。さらに、平滑性の低い基材を使用した場合、基材の凹凸に影響されて盛り上がりを有する画線の高さが安定せず、正反射光下における観察時の潜像出現の効果が低くなり得るため、注意が必要である。基材は、上から透明層、レーザー発色層及び白色層から構成されて成る。各基材の詳細は後述する。
【００２８】
模様形成領域（３）は、図２に示すように、少なくとも第一の潜像模様（４）を有している。本実施の形態において、第一の潜像模様（４）は、後述する第１の要素（８）から形成される第一の有意情報である漢字の「日本」の文字を有する。
【００２９】
模様形成領域（３）は、図３に示すように、凸形状の画線の凸画線（７）が万線状に形成された凸画線群（６）によって形成される。第一の潜像模様（４）は、第一の有意情報である漢字の「日本」の文字を形成するための波形状の第１の要素（８）が、凸画線（７）の一方の側面に形成されて成る。したがって、模様形成領域（３）に形成されている凸画線群（６）は、少なくとも二つの形状を有する凸画線（７）によって形成されていることとなる。各画線の詳細は後述する。なお、凸画線（７）の頂点（１５）とは、１本の凸画線（７）において、最も高い点を連続して結んだ線のことをいい、１点のみを示すものではない。また、本発明における「万線状」とは、直線、曲線等の画線が同一方向に複数連続的に配置されている状態をいい、規則的なピッチで配置されている場合だけではなく、ピッチが若干異なっていてもよい。肉眼において画線が同一方向に複数並列されていることが認識可能であれば特に制限はない。
【００３０】
凸画線群（６）は、図４の（ａ）に示すように、凸画線幅（Ｗ）が２７０μｍ〜３７０μｍの凸画線（７）が、第１の方向（Ｓ１）に凸画線ピッチ（Ｐ）が６００μｍ〜７００μｍで連続して配置されて成る。
【００３１】
本発明における凸画線（７）は、図４（ｂ）に示すように、凸画線（７）の断面はかまぼこ型の形状を有しているが、凸形状が形成できれば特に限定はなく、形状は四角や台形でもよい。
【００３２】
図４（ｃ）は、図４（ａ）のＸ−Ｘ’における断面図を示す。少なくとも模様形成領域（３）が形成されている基材（２）は、前述したように、上から透明層（１１）、レーザー発色層（１２）及び白色層（１３）から構成されて成る。例えば、透明層（１１）は、透明色のポリカーボネート、レーザー発色層（１２）は、レーザー発色剤を含有したポリカーボネート、更に白色層（１３）は、白色のポリカーボネートを用いることができる。
【００３３】
図４（ｃ）に示すように、本発明における凸画線（７）は、前述した三つの層構成から成る基材（２）に対して、形成したい模様に対応して設計した基準の凸画線群（６）のデータに基づきレーザー照射を行うことで、中間層に位置するレーザー発色層（１２）が反応し、照射されたところのみ盛り上がりを有し、凸形状となる。なお、図４（ｃ）の断面図に示すように、中間層であるレーザー発色層（１２）が反応して凸形状とはなるが、上層の透明層（１１）は反応しない。
【００３４】
凸画線（７）に対して、第一の潜像模様（４）を形成するための第１の要素（８）について以下説明する。
【００３５】
図５（ａ）は、第１の要素（８）を備えた凸画線（７）の平面図であり、図５（ｂ）は、その斜視図である。図５（ａ）に示すように、凸画線（７）の頂点（１５）を境にして、一方（図中、頂点に対して左側）に、第一の有意情報である漢字の「日本」の文字を形成するための第１の要素（８）が第１の要素幅（Ｗ１）及び第１の要素ピッチ（Ｐ１）で連続して配置されて成る。
【００３６】
第１の要素（８）の第１の要素幅（Ｗ１）は、２３０μｍ〜３３０μｍで、第１の要素（８）の第１の要素ピッチ（Ｐ１）は、５００μｍ〜６００μｍの範囲で形成する。この際、第一の潜像模様（４）の視認性を考慮すると、規則的に形成されることが好ましいため、第１の要素（８）の第１の要素幅（Ｗ１）及び第１の要素ピッチ（Ｐ１）については、それぞれ等しく形成する。ただし、第一の潜像模様（４）が形成されれば、必ずしも規則的に形成しなくてもよい。なお、本発明において「規則的」とは、凸画線群（６）、複数の第１の要素（８）及び後述する複数の第２の要素（９）において、幅（Ｗ、Ｗ１、Ｗ２）及びピッチ（Ｐ、Ｐ１、Ｐ２）が、それぞれにおいて等しいことを示す。
【００３７】
第１の要素（８）について更に詳細に説明する。図５（ｃ）は、図５（ａ）の点線による四角囲いの拡大図であり、図５（ｄ）は、図５（ｃ）のＹ−Ｙ’による断面図を示す。第１の要素（８）は、レーザー発色層（１２）がレーザー照射に反応して凸形状となるが、図５（ｄ）に示すように、レーザー発色層（１２）全てが変形して凸形状となるものではなく、底面（１４）を残すように上部が変形して凸形状となる。したがって、凸形状となったところが第１の要素（８）となるが、第１の要素（８）と底面（１４）は同色であることから、真上から見ても第１の要素（８）と底面（１４）との区分けができず、第一の潜像模様（４）は視認できない。なお、図５（ｃ）及び図５（ｄ）では、第１の要素（８）を分かりやすくするため、斜線にて示している。後述する第２の要素（９）についても同様である。
【００３８】
前述したように、第１の要素（８）が形成されている箇所の凸画線（７）は、底面（１４）を有していることから、第１の要素（８）が形成されている箇所についても、凸画線（７）の画線幅（Ｗ）及びピッチ（Ｐ）は、第１の要素（８）が形成されていない凸画線（７）と、画線幅（Ｗ）及びピッチ（Ｐ）については変わらない。後述する第２の要素（９）のみが形成されている凸画線（７）及び第１の要素（８）と第２の要素（９）の両方が形成されている重複領域（１０）における凸画線（７）についても同様である。
【００３９】
第１の要素（８）の要素幅（Ｗ１）については、照射するレーザー光の強度を調整することで所望の要素幅とすることが可能である。このレーザー光の照射強度については、例えば、ＩＮＮＯＬＡＳ社製のｎａｎｉｏ１０６４−１６−Ｖ−ＧＲという装置を用いて、出力１６Ｗで０％〜１００％の範囲内で適宜設定することにより、第１の要素（８）の第１の要素幅（Ｗ１）を決定することができる。なお、使用するレーザー照射装置は、前述したＩＮＮＯＬＡＳ社製に限定せず、一般的に市販されている装置でよく、例えば、ＫＥＹＥＮＣＥ社製のＭＤ−Ｘ１０００という装置がある。
【００４０】
続いて、本発明の効果について図６を用いて説明する。図６（ａ）に、観察者の視点を示す観察角度を示す。図６（ａ）は、凸画線群（６）に対して垂直となる第１の方向（Ｓ１）の断面図である。本発明の偽造防止形成体（１）において、形成された潜像模様を視認するためには、凸画線（７）の一方の側面に形成された第１の要素（８）を視認する必要がある。したがって、凸画線（７）の一方の側面の接線（Ｙ１−Ｙ１’）に対してほぼ直角となる角度から視認する。
【００４１】
まず、基材（２）に対して垂直方向の第１の観察角度（Ｌ１）から模様形成領域（３）を観察すると、前述のとおり、第１の要素（８）は底面（１４）を備えているため、第１の要素（８）は視認できず、単一の凸画線（７）の集合によって形成された凸画線群（６）により、フラットな階調を構成し、有意情報は何も確認できない。
【００４２】
図６（ａ）において、凸画線（７）の一方の側面（図中、凸画線（７）の左側）に対する接線（Ｙ１−Ｙ１’）とほぼ直角を成す第２の観察角度（Ｌ２）から模様形成領域（３）を観察すると、図６（ｂ）に示す第一の潜像模様（４）を視認することができる。
【００４３】
次に、本発明の別の実施の形態について説明するが、前述した第一の潜像模様（４）については同様のため説明は省略し、異なる構成のみを説明する。本発明の別の実施の形態では、模様形成領域（３）に異なる二つの潜像模様を備えて成る。
【００４４】
図７に示すように、模様形成領域（３）は、前述した第一の潜像模様（４）と、第一の潜像模様（４）とは異なる情報の第二の潜像模様（５）を有している。第二の潜像模様（５）は、第２の要素（９）から構成される第二の有意情報であるアルファベットの「ＮＰＢ」の文字を有する。したがって、本発明の別の実施の形態では、観察角度の変化により、異なる画像へと変化する、いわゆるチェンジング効果を奏することを特徴としている。
【００４５】
図８に、第一の潜像模様（４）及び第二の潜像模様（５）の異なる二つの潜像模様を形成している凸画線群（６）を示す。図８に示すように、模様形成領域（３）には、潜像模様の背景となる、何も潜像模様を構成していない基本となる凸画線（７）が万線状に配列されている箇所と、前述した第一の有意情報である漢字の「日本」の文字を形成するための波形状の第１の要素（８）が凸画線（７）の一方の側面に形成されて成る箇所と、第二の有意情報であるアルファベットの「ＮＰＢ」の文字を形成するための波形状の第２の要素（９）が凸画線（７）の他方の側面に形成されて成る箇所と、更に模様形成領域（３）内で二つの有意情報（「日本」及び「ＮＰＢ」）が重なっている部分（重複領域（１０））を構成するため、１本の凸画線（７）の頂点（１５）を境とした両側面に第１の要素（８）と第２の要素（９）が配置された箇所を備えて成る。したがって、本発明の別の実施の形態における模様形成領域（３）は、四つの形状を有する凸画線（７）が複数配列された凸画線群（６）により形成されていることとなる。
【００４６】
なお、図９に示すように、模様形成領域（３）内において、二つの有意情報が重なっていない状態で配置されていてもよい。この場合には、図８に示した１本の凸画線（７）において、頂点（１５）を境に隣り合って第１の要素（８）及び第２の要素（９）が配置されておらず、いわゆる重複領域（１０）を有してはいない。したがって、同じ１本の凸画線（７）ではあるが、別々の箇所に形成すればよい。このような構成も本発明の技術的な範囲内ではあるが、模様形成領域（３）が比較的大きくなるため、あまり好ましくはない。
【００４７】
次に、第２の要素（９）について説明する。図１０（ａ）は、第２の要素（９）を備えた凸画線（７）の平面図であり、図１０（ｂ）は、その斜視図である。図１０に示すように、凸画線（７）の他方の側面（図中、頂点（１５）に対して右側）に、第二の有意情報であるアルファベットの「ＮＰＢ」の文字を形成するための第２の要素（９）が第２の要素幅（Ｗ２）及び第２の要素ピッチ（Ｐ２）で連続して配置されて成る。
【００４８】
第２の要素（９）については、前述した第１の要素幅（Ｗ１）及び第１の要素ピッチ（Ｐ１）と等しく、第２の要素幅（Ｗ２）が２３０μｍ〜３３０μｍで、第２の要素ピッチ（Ｐ２）が５００μｍ〜６００μｍの範囲で形成する。
【００４９】
図１１（ａ）は、第一の有意情報と第二の有意情報が重なって配置されている重複領域（１０）を示す凸画線群（６）の平面図であり、図１１（ｂ）はその斜視図である。図１１（ａ）に示すように、重複領域（１０）は、凸画線（７）の頂点（１５）を境に隣り合って、一方の側面に第１の要素（８）、他方の側面に第２の要素（９）が連続して配置されて成る。
【００５０】
第１の要素（８）の第１の要素幅（Ｗ１）及び第１の要素ピッチ（Ｐ１）と、第２の要素（９）の第２の要素幅（Ｗ２）及び第２の要素ピッチ（Ｐ２）は、同じでも、異なっていてもよい。図１１では、要素幅（Ｗ１、Ｗ２）及び要素ピッチ（Ｐ１、Ｐ２）のいずれも異なっている状態を示している。
【００５１】
次に、本発明の別の実施の形態の効果について図１２を用いて説明する。図１２（ａ）に、観察者の視点を示す観察角度を示す。図１２（ａ）は、凸画線群（６）に対して垂直となる第１の方向（Ｓ１）の断面図である。前述した第一の潜像模様（４）のみを形成した場合と同様、本発明の別の実施の形態でも、形成された第二の潜像模様（５）を視認するためには、凸画線（７）の他方の側面の接線（Ｙ２−Ｙ２’）に対してほぼ直角となる角度から視認する。
【００５２】
まず、基材（２）に対して垂直方向の第１の観察角度（Ｌ１）から模様形成領域（３）を観察すると、第１の要素（８）及び第２の要素（９）は、共に底面（１４）を備えているため、第１の要素（８）及び第２の要素（９）は視認できず、単一の凸画線（７）の集合によって形成された凸画線群（６）により、フラットな階調を構成し、有意情報は何も視認できない。
【００５３】
前述したように、図１２（ａ）において、凸画線（７）の一方の側面（図中、凸画線（７）の左側）に対する接線（Ｙ１−Ｙ１’）と直角を成す第２の観察角度（Ｌ２）から模様形成領域（３）を観察すると、図１２（ｂ）に示す第一の潜像模様（４）を視認することができる。
【００５４】
また、図１２（ａ）において、凸画線（７）の頂点を境にして観察角度を変え、凸画線（７）の他方の側面（図中、凸画線（７）の右側）に対する接線（Ｙ２−Ｙ２’）とほぼ直角を成す第３の観察角度（Ｌ３）から模様形成領域（３）を観察すると、図１２（ｃ）に示す第二の潜像模様（５）を視認することができる。当然、逆も同様であり、本発明は、凸画線（７）の頂点を境に、観察角度を第２の観察角度（Ｌ２）と第３の観察角度（Ｌ３）の間で変化させると、第一の潜像模様（４）と第二の潜像模様（５）がチェンジして視認することができる。なお、一方の潜像模様が視認されている時には、他方の潜像模様は消失して視認することはできない。
【００５５】
次に、本発明の偽造防止形成体（１）の作製方法について図１３のフローチャートを用いて説明する。図１３に偽造防止形成体の作製方法を示す。本発明の偽造防止形成体（１）の作製方法は、図１３に示すように、基準凸画線群設計工程と、潜像模様設計工程と、レーザー照射強度設計工程と、模様合成工程と、加工工程から成る。
【００５６】
まず、基準凸画線群設計工程は、図４（ａ）に示した凸形状の画線の凸画線（７）が万線状に形成された、基準となる凸画線群のデータを、ＡｄｏｂｅのＰｈｏｔｏＳｈｏｐなど一般的な画像作成ソフトを用いて設計する。
【００５７】
次に、潜像模様設計工程は、第一の有意情報である漢字の「日本」の文字を形成するための波形状の第１の要素（８）が、凸画線（７）の頂点（１５）を境にした一方の側面に形成される第一の潜像模様（４）のデータを設計する。なお、このとき、前述した本発明の別の実施の形態のように、第二の潜像模様（５）も形成する場合には、併せて第二の有意情報であるアルファベットの「ＮＰＢ」の文字を形成するための波形状の第２の要素（９）が、凸画線（７）の頂点（１５）を境にした他方の側面に形成される第二の潜像模様（５）のデータも設計する。
【００５８】
次に、模様合成工程は、基準凸画線群設計工程で設計した基準凸画線群のデータと、潜像模様設計工程で作製した第一の潜像模様（４）のデータを合成し、図３に示すような二つの形状を有する凸画線群（６）のデータを作製する。なお、このとき、前述した本発明の別の実施の形態のように、第二の潜像模様（５）も形成する場合には、第二の潜像模様（５）のデータも合成し、図８に示すような四つの形状を有する凸画線群（６）のデータを作製する。
【００５９】
レーザー照射強度設計工程は、レーザー光の照射強度及びレーザーの走査方向を設定する。本実施の形態では、前述のとおり、出力１６Ｗで０％から１００％までの範囲内で、模様合成工程で作成した画像データを基に設定し、レーザーの走査方向を基準の凸画線群（６）に対して垂直に照射する方向に設定した。
【００６０】
最後に、加工工程は、設定したレーザー照射強度で、合成した潜像模様のデータを、模様形成領域（３）が形成されている基材（２）に出力する。加工された基材（２）に対して観察角度を変化させながら模様形成領域（３）を観察し、第一の潜像模様（４）のみを形成した場合には、第一の潜像模様が視認できることを目視で確認し、第二の潜像模様（５）も併せて二つの潜像模様を形成した場合には、第一の潜像模様（４）及び第二の潜像模様（５）が視認できることを目視で確認する。
【００６１】
以下、前述の発明を実施するための形態に従って、具体的に作成した偽造防止形成体（１）の実施例について詳細に説明するが、本発明は、この実施例に限定されるものではない。
【実施例】
【００６２】
実施例については、本発明の別の実施の形態で説明した二つの潜像模様（４、５）が形成された偽造防止形成体（１）の例で、図１から図１２までを用いて説明する。図１に、実施例の偽造防止形成体（１）を示す。なお、本実施例の偽造防止形成体（１）は、具体的には図１に示すように、パスポートとなっている。偽造防止形成体（１）は、基材（２）上の一部に模様形成領域（３）を有している。
【００６３】
この基材（２）は、図４（ｃ）に示すように、白色のポリカーボネートから成る白色層、レーザー発色剤を含有したポリカーボネートから成るレーザー発色層及び透明なポリカーボネートから成る透明層が順次積層したＴＲＵＢ社製のポリカーボネートカードを用いた。
【００６４】
模様形成領域（３）に形成した第一の潜像模様（４）と第二の潜像模様（５）は、図７に示すように、第一の有意情報の「日本」の文字と、第二の有意情報のアルファベット「ＮＰＢ」の文字とした。
【００６５】
模様形成領域（３）は、図８に示すように、基準の凸画線（７）、第一の潜像模様（４）を形成するための第１の要素（８）、第二の潜像模様（５）を形成するための第２の要素（９）、及び第一の潜像模様（４）と第二の潜像模様（５）の両方を形成するための第１の要素（８）と第２の要素（９）を備えた重複領域（１０）を有して成る。
【００６６】
図４に示す基準の凸画線群（６）は、画線幅（Ｗ）が３１７．５μｍの凸画線（７）がピッチ６３５μｍで連続して配置されて成る。この凸画線群（６）は、有意情報を有さず、単一の画線の集合によって、フラットな階調を構成して成る。
【００６７】
次に、第一の有意情報のみを有する模様形成領域（３）は、図５に示すように、基準の凸画線（７）の頂点（１５）を境とした一方の側面を凹凸形状とした第１の要素（８）を、第１の要素幅（Ｗ１）２８０μｍで第１の要素ピッチ（Ｐ１）を５６０μｍで形成した。
【００６８】
次に、第二の有意情報のみを有する模様形成領域（３）は、図１０に示すように、基準の凸画線（７）の頂点（１５）を境とした他方の側面を凹凸形状とした第２の要素（９）を、第２の要素幅（Ｗ２）２４０μｍで第２の要素ピッチ（Ｐ２）を５００μｍで形成した。
【００６９】
さらに、第一の有意情報及び第二の有意情報の両方を有する重複領域（１０）は、図１１に示すように、基準の凸画線（７）の頂点（１５）を境とした両側面に対し、前述のとおり一方の側面に第１の要素（８）を、第１の要素幅（Ｗ１）２８０μｍで第１の要素ピッチ（Ｐ１）を５６０μｍで形成し、他方の側面に第２の要素（９）を、第２の要素幅（Ｗ２）２４０μｍで第２の要素ピッチ（Ｐ２）を５００μｍで形成した。
【００７０】
得られた偽造防止形成体（１）の効果を確認した。図１２は、本発明の効果を表した図である。図１２（ａ）において、第１の観察角度（Ｌ１）から模様形成領域（３）を観察すると、単一の凸画線（７）の集合によって形成された凸画線群（６）により、フラットな階調を構成し、有意情報は何も確認できなかった。凸画線（７）の一方の側面（図中、凸画線（７）の左側）に対する接線（Ｙ１−Ｙ１’）とほぼ直角を成す第２の観察角度（Ｌ２）から模様形成領域（３）を観察すると、図１２（ｂ）に示す第一の潜像模様（４）である「日本」を視認することができた。凸画線（７）の他方の側面（図中、凸画線（７）の右側）に対する接線（Ｙ２−Ｙ２’）とほぼ直角を成す第３の観察角度（Ｌ３）から模様形成領域（３）を観察すると、図１２（ｃ）に示す第二の潜像模様（５）である「ＮＰＢ」を視認することができた。
【符号の説明】
【００７１】
１    偽造防止形成体
２    基材
３    模様形成領域
４    第一の潜像模様
５    第二の潜像模様
６    凸画線群
７    凸画線
８    第１の要素
９    第２の要素
１０  重複領域
１１  透明層
１２  レーザー発色層
１３  白色層
１４  底面
１５  頂点
Ｗ    凸画線幅
Ｗ１  第１の要素幅
Ｗ２  第２の要素幅
Ｐ    凸画線ピッチ
Ｐ１  第１の要素ピッチ
Ｐ２  第２の要素ピッチ
Ｌ１  第１の観察角度
Ｌ２  第２の観察角度
Ｌ３  第３の観察角度
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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