(57)【要約】【課題】乾燥槽の上流側に配される貯留槽内における粉粒体材料の吸湿を抑制し得る乾燥システム及び乾燥方法を提供する。【解決手段】乾燥システム１は、粉粒体材料を貯留する貯留槽１０と、該貯留槽から輸送された粉粒体材料を貯留し乾燥する乾燥槽３０と、不活性ガス供給部３から供給される不活性ガスを前記乾燥槽内に導入するガス導入部４０と、前記乾燥槽に設けられ余剰ガスを排気する排気口３３と前記貯留槽に設けられ該貯留槽内にガスを導入するガス受入口１９とを接続するガス管路８と、を備えている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
粉粒体材料を貯留する貯留槽と、該貯留槽から輸送された粉粒体材料を貯留し乾燥する乾燥槽と、不活性ガス供給部から供給される不活性ガスを前記乾燥槽内に導入するガス導入部と、前記乾燥槽に設けられ余剰ガスを排気する排気口と前記貯留槽に設けられ該貯留槽内にガスを導入するガス受入口とを接続するガス管路と、を備えていることを特徴とする乾燥システム。
【請求項２】
粉粒体材料を貯留する貯留槽と、該貯留槽から材料輸送管路を介して輸送された粉粒体材料を貯留し乾燥する乾燥槽と、不活性ガス供給部から供給される不活性ガスを、前記材料輸送管路に連通される前記貯留槽の排出部に輸送気体として供給する輸送ガス供給部と、前記乾燥槽に設けられ余剰ガスを排気する排気口と前記貯留槽に設けられ該貯留槽内にガスを導入するガス受入口とを接続するガス管路と、を備えていることを特徴とする乾燥システム。
【請求項３】
請求項１において、
前記貯留槽から前記乾燥槽に粉粒体材料を輸送する材料輸送管路に連通される前記貯留槽の排出部に、不活性ガス供給部から供給される不活性ガスを輸送気体として導入する輸送ガス導入部を備えていることを特徴とする乾燥システム。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項において、
前記乾燥槽内にガスを導入するガス導入部は、不活性ガス供給部から供給される不活性ガスの導入を伴って、該乾燥槽内の粉粒体材料層を通過したガスの一部を循環させるように取り込み、導入された不活性ガスに混合して下流側に向けて供給する混合部を備えていることを特徴とする乾燥システム。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項において、
前記ガス受入口は、前記貯留槽の下端側部位に設けられていることを特徴とする乾燥システム。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１項において、
前記貯留槽には、該貯留槽内を陽圧に保ちながら余剰ガスを漏出させる漏出機構が設けられていることを特徴とする乾燥システム。
【請求項７】
粉粒体材料を貯留する貯留槽から輸送された粉粒体材料を乾燥槽において貯留し、その貯留された粉粒体材料を、不活性ガスを該乾燥槽内に導入して乾燥しながら、該乾燥槽から排気される余剰ガスをガス管路を介して前記貯留槽に向けて送気し該貯留槽内に導入することを特徴とする乾燥方法。
【請求項８】
粉粒体材料を貯留する貯留槽の排出部に、輸送気体として不活性ガスを供給して材料輸送管路を介して粉粒体材料を乾燥槽に向けて輸送しながら、該乾燥槽から排気される余剰ガスをガス管路を介して前記貯留槽に向けて送気し該貯留槽内に導入することを特徴とする乾燥方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、粉粒体材料を乾燥する乾燥システム及び乾燥方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、成形機等の供給先に向けて供給される粉粒体材料を供給先の上流側において乾燥する乾燥システムが知られている。このような乾燥システムにおいては、粉粒体材料を貯留する材料タンクなどの貯留槽と、この貯留槽から輸送（補給）された粉粒体材料を貯留して乾燥するホッパー状の乾燥槽と、を備えたものが知られている。このような乾燥システムにおいては、乾燥槽においては加熱や除湿された乾燥用ガス等によって粉粒体材料の乾燥がなされるが、貯留槽においては、外気の侵入等によって乾燥前の粉粒体材料の水分率が上昇する懸念があった。
例えば、下記特許文献１には、粉粒体を貯留する第１貯留槽内に不活性ガスを導入する第１ガス導入部と、第１貯留槽から搬送された粉粒体を貯留し乾燥する第２貯留槽の下端に設けられた排出管内に不活性ガスを導入する第２ガス導入部と、を設けた粉粒体処理装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１５−３０１９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記特許文献１に記載された粉粒体処理装置では、第１貯留槽及び第２貯留槽のそれぞれに不活性ガスを導入する第１ガス導入部及び第２ガス導入部を設ける必要があり、更なる改善が望まれる。
【０００５】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、乾燥槽の上流側に配される貯留槽内における粉粒体材料の吸湿を抑制し得る乾燥システム及び乾燥方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記目的を達成するために、本発明に係る乾燥システムは、粉粒体材料を貯留する貯留槽と、該貯留槽から輸送された粉粒体材料を貯留し乾燥する乾燥槽と、不活性ガス供給部から供給される不活性ガスを前記乾燥槽内に導入するガス導入部と、前記乾燥槽に設けられ余剰ガスを排気する排気口と前記貯留槽に設けられ該貯留槽内にガスを導入するガス受入口とを接続するガス管路と、を備えていることを特徴とする。
また、前記目的を達成するために、本発明に係る乾燥システムは、粉粒体材料を貯留する貯留槽と、該貯留槽から材料輸送管路を介して輸送された粉粒体材料を貯留し乾燥する乾燥槽と、不活性ガス供給部から供給される不活性ガスを、前記材料輸送管路に連通される前記貯留槽の排出部に輸送気体として供給する輸送ガス供給部と、前記乾燥槽に設けられ余剰ガスを排気する排気口と前記貯留槽に設けられ該貯留槽内にガスを導入するガス受入口とを接続するガス管路と、を備えていることを特徴とする。
【０００７】
また、前記目的を達成するために、本発明に係る乾燥方法は、粉粒体材料を貯留する貯留槽から輸送された粉粒体材料を乾燥槽において貯留し、その貯留された粉粒体材料を、不活性ガスを該乾燥槽内に導入して乾燥しながら、該乾燥槽から排気される余剰ガスをガス管路を介して前記貯留槽に向けて送気し該貯留槽内に導入することを特徴とする。
また、前記目的を達成するために、本発明に係る乾燥方法は、粉粒体材料を貯留する貯留槽の排出部に、輸送気体として不活性ガスを供給して材料輸送管路を介して粉粒体材料を乾燥槽に向けて輸送しながら、該乾燥槽から排気される余剰ガスをガス管路を介して前記貯留槽に向けて送気し該貯留槽内に導入することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明に係る乾燥システム及び乾燥方法は、上述のような構成としたことで、乾燥槽の上流側に配される貯留槽内における粉粒体材料の吸湿を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の一実施形態に係る粉粒体材料の乾燥方法に用いられる本発明の一実施形態に係る粉粒体材料の乾燥システムの一例を模式的に示す一部破断概略システム図である。
【図２】同乾燥システムが備えるガス導入部の一例を模式的に示す一部破断概略縦断面図である。
【図３】（ａ）は、図１におけるＸ部に対応させた一部破断概略縦断面図、（ｂ）は、同乾燥システムにおいて実行される基本動作の一例を模式的に示す概略タイムチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下に、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
なお、一部の図では、他図に付している符号の一部を省略している。
また、図１及び図２では、粉粒体材料やガス等が通過する経路となる管路（配管）の一部を、二点鎖線にて模式的に示している。
また、図３（ｂ）における概略タイムチャートでは、各機器の検出や開閉、ＯＮ／ＯＦＦ等を模式的に示している。
【００１１】
図１〜図３は、本実施形態に係る乾燥システムの一例及びこの乾燥システムを用いて実行される乾燥方法の一例を模式的に示す図である。
本実施形態に係る乾燥システム１は、図１に示すように、粉粒体材料を貯留する貯留槽１０と、この貯留槽１０から材料輸送管路７を介して輸送された粉粒体材料を貯留し乾燥する乾燥槽３０と、を備えている。また、乾燥システム１は、不活性ガス供給部３から供給される不活性ガスを乾燥槽３０内に導入するガス導入部４０と、乾燥槽１０に設けられ余剰ガスを排気する排気口３３と貯留槽１０に設けられ貯留槽１０内にガスを導入するガス受入口１９（図３（ａ）参照）とを接続するガス管路８と、を備えている。
【００１２】
上記のような構成とすれば、不活性ガスを乾燥槽３０内に導入して貯留された粉粒体材料を乾燥しながら、乾燥槽３０から排気される余剰ガスを、ガス管路８を介して貯留槽１０に向けて送気し貯留槽１０内に導入することができる。これにより、外気を乾燥槽３０内に導入して粉粒体材料を乾燥するものと比べて、効率的に乾燥することができ、乾燥槽３０内が不活性ガス雰囲気下となり粉粒体材料の酸化を抑制することができる。また、このように粉粒体材料の乾燥に使用された余剰ガスを乾燥槽３０の供給元となる貯留槽１０に導入することができる。つまり、粉粒体材料の乾燥用に乾燥槽３０に導入される不活性ガスを貯留槽１０にも導入させることができ、乾燥槽３０及び貯留槽１０のそれぞれに個別に不活性ガスを導入する導入部を設けたものと比べて、不活性ガスの必要量を低減することができる。また、これにより、貯留槽１０内が不活性ガス雰囲気下となり、また、陽圧になるので、貯留槽１０内への外気の流入を抑制することができ、貯留槽１０内における粉粒体材料の吸湿を抑制することができる。
また、本実施形態では、ガス導入部４０は、不活性ガス供給部３から供給される不活性ガスを加熱して乾燥槽３０内に導入する構成とされている。つまり、本実施形態では、ガス導入部４０は、加熱ガス導入部を構成する。このような構成とすれば、加熱された不活性ガスによって乾燥槽３０内の粉粒体材料を効率的に乾燥することができる。また、乾燥槽３０から排気された余剰ガスが外気に比べて高温となるので、貯留槽１０内の粉粒体材料を予備的に昇温させることもできる。なお、粉粒体材料の種類や乾燥槽３０の供給先等によっては、除湿された不活性ガスを加熱することなく乾燥槽３０内に導入し、粉粒体材料を乾燥する構成としてもよい。この場合は、ガス導入部４０に、後記する加熱部５０を設けていない構成としてもよい。
【００１３】
また、乾燥システム１は、不活性ガス供給部３から供給される不活性ガスを、材料輸送管路７に連通される貯留槽１０の排出部２８に輸送気体として供給する輸送ガス供給部６を備えている。つまり、本実施形態では、乾燥システム１は、供給元としての貯留槽１０から乾燥槽３０に粉粒体材料を気力輸送する構成とされている。このような構成とすれば、粉粒体材料を貯留する貯留槽１０の排出部２８に、輸送気体として不活性ガスを導入して材料輸送管路７を介して粉粒体材料を乾燥槽３０に向けて輸送しながら、乾燥槽３０から排気される余剰ガスを、ガス管路８を介して貯留槽１０に向けて送気し貯留槽１０内に導入することができる。これにより、外気を輸送気体とするものと比べて、輸送時における粉粒体材料の吸湿を抑制することができる。また、このように粉粒体材料の輸送に使用された余剰ガスを乾燥槽３０の供給元となる貯留槽１０に導入することができるので、上記同様、貯留槽１０内における粉粒体材料の吸湿を抑制することができる。つまり、粉粒体材料の輸送に用いられた不活性ガスを貯留槽１０に導入させることができ、材料輸送管路７及び貯留槽１０のそれぞれに個別に不活性ガスを導入する導入部を設けたものと比べて、不活性ガスの必要量を低減することができる。つまりは、当該乾燥システム１においては、貯留槽１０に直接的に不活性ガスを導入する導入部を設けることなく、貯留槽１０内を不活性ガス雰囲気下にすることができる。
【００１４】
また、乾燥システム１は、各部を制御し、後記する各種モードを実行させる制御部を有した制御盤６６を備えている。この制御盤６６は、ＣＰＵ等からなる制御部と、この制御部に信号線等を介してそれぞれ接続された、各種設定などを設定、入力したり、表示したりするための表示部及び操作部を構成する表示操作部と、この表示操作部の操作により設定、入力された設定条件や入力値、後記する各動作等を実行するための制御プログラムなどの各種プログラム、予め設定された各種動作条件、各種データテーブル等が格納され、各種メモリ等から構成された記憶部と、を備えている。
【００１５】
ここに、上記粉粒体材料は、粉体・粒体状の材料を指すが、微小薄片状や短繊維片状、スライバー状の材料等を含む。
また、上記材料としては、樹脂ペレットや樹脂繊維片等の合成樹脂材料、金属材料、半導体材料、木質材料、薬品材料、食品材料等どのようなものでもよい。
また、粉粒体材料としては、例えば、合成樹脂成形品を成形する場合には、ナチュラル材（バージン材）や粉砕材、マスターバッチ材、各種添加材等が挙げられる。また、ガラス繊維や炭素繊維等の強化繊維を含んだ構成としてもよい。
【００１６】
また、乾燥槽３０の供給先２としては、例えば、射出成形機等の成形機としてもよい。本実施形態では、乾燥槽３０を、供給先２としての成形機上に直接的に設置した例を示している。なお、供給先２としての成形機は、合成樹脂成形品を成形する射出成形機に限られず、他の材料用の射出成形機でもよく、または種々の材料用の押出成形機や圧縮成形機等の他の成形機を供給先としてもよい。また、乾燥槽３０の供給先２としては、成形機に限られず、成形機上のチャージホッパーや配合装置等でもよい。また、乾燥槽３０の供給先２としては、単一の供給先に限られず、複数の供給先でもよい。
【００１７】
また、不活性ガス供給部３から供給される不活性ガスとしては、酸素濃度が低いガスであればよく、アルゴンガス（アルゴン富化ガス（アルゴンリッチガス））等でもよいが、窒素ガス（窒素富化ガス（窒素リッチガス））が好ましい。
このような不活性ガスを生成する不活性ガス供給部３としては、中空糸膜分離式や圧力スイング吸着式（ＰＳＡ式）のガス発生装置が例示される。高濃度の窒素ガスが効率的に得られることからＰＳＡ式のガス発生装置が好ましい。なお、この不活性ガス供給部３は、当該乾燥システム１が備えたものでもよく、当該乾燥システム１とは別途に工場内等に設けられ、当該乾燥システム１に接続されるものでもよい。また、この不活性ガス供給部３から供給される不活性ガスは、除湿されたガスでもよく、比較的に高圧に圧縮された高圧不活性ガスでもよい。また、この不活性ガス供給部３は、不活性ガスと圧縮ガス（コンプレッサーエアー）とを選択的に供給可能な構成とされたものでもよい。
【００１８】
また、この不活性ガス供給部３には、ガス導入部４０に下流側供給管路４Ａを介して不活性ガスを供給する乾燥ガス供給部５と、貯留槽１０の排出部２８に下流側供給管路４Ｂを介して不活性ガスを供給する輸送ガス供給部６と、が上流側供給管路４を介して接続されている。これら乾燥ガス供給部５及び輸送ガス供給部６には、不活性ガスを供給する状態と不活性ガスの供給を遮断する状態とに切り替えられるガス供給弁が設けられている。また、これら乾燥ガス供給部５及び輸送ガス供給部６に、圧力を調整するレギュレータや、塵埃等を捕捉するフィルター、ミスト状のオイル等を捕捉するマイクロミストセパレータ（オイルミストフィルター）等を備えた調質ユニットを設けた構成としてもよい。
【００１９】
また、輸送ガス供給部６には、コンプレッサー等の圧縮ガス源から供給される圧縮ガスの供給と不活性ガス供給部３からの不活性ガスの供給とを切り替える切替弁が設けられている。つまり、本実施形態では、貯留槽１０の排出部２８に、輸送気体として、酸素濃度の低い不活性ガスと、酸素濃度が大気と同程度の圧縮ガスと、を選択的に供給可能な構成としている。
なお、図例では、乾燥ガス供給部５を、乾燥槽３０から離間させて設けた例を示しているが、乾燥槽３０または貯留槽１０に付設状に設けた構成としてもよい。また、図例では、輸送ガス供給部６を、貯留槽１０を保持するフレーム状の基台２９に付設状に設けた例を示しているが、貯留槽１０及び基台２９から離間させて設けたり、乾燥槽３０に付設状に設けたりした態様としてもよい。また、図例では、不活性ガス供給部３に接続された上流側供給管路４を分岐させて乾燥ガス供給部５及び輸送ガス供給部６に接続した例を示しているが、このような態様に限られない。
【００２０】
乾燥槽３０は、材料輸送管路７を介して気力輸送される粉粒体材料を捕集する捕集部３１と、この捕集部３１の下方側に設けられた乾燥本体３５と、を備えている。
捕集部３１は、乾燥本体３５内に連通される筒状とされている。この捕集部３１には、材料輸送管路７に連通される投入口３２と、輸送気体から粉粒体材料を分離させる分離部３４と、この分離部３４において分離された輸送気体を排気する排気口３３と、が設けられている。
分離部３４としては、粉粒体材料と輸送気体とを分離可能なものであればどのようなものでもよいが、輸送気体に加えて粉塵を通過させる一方、原料となる粉粒体材料の通過を阻止するパンチングメタルや網状（メッシュ状）の多孔板状体等からなるものでもよい。
【００２１】
投入口３２は、捕集部３１の天面において下方側に向けて開口するように設けられている。分離部３４は、捕集部３１の内周面との間に隙間が形成されるように配され、かつ投入口３２を囲むように筒状とされている。排気口３３は、この分離部３４の外周側の捕集部３１の側周壁において開口されている。本実施形態では、この排気口３３が乾燥槽３０の余剰ガスを排気する排気口３３を構成する。つまり、この排気口３３にガス管路８が連通するように接続されている。
この捕集部３１において捕集された粉粒体材料は、自重によって乾燥本体３５内に落下し、貯留される。なお、捕集部３１としては、上記のような構成とされたものに限られない。例えば、捕集部３１の側周壁において開口するように投入口３２を設け、天面に沿うように分離部３４を設け、天面において排気口３３を開口させたような構成とされたものとしてもよい。また、上記のような分離部３４を設けずに、いわゆるサイクロン式にて輸送気体から粉粒体材料を分離させる構造とされたものとしてもよい。
【００２２】
乾燥本体３５は、ホッパー部３７と、このホッパー部３７の上方開口を開閉自在に覆う蓋体３６と、を備えている。また、この乾燥本体３５には、材料要求信号（材料無）を出力する材料センサ６７（図３（ｂ）参照）が設けられている。このような材料センサ６７としては、例えば、粉粒体材料の貯留レベルの低下に伴い揺動されるアーム部によってＯＮ／ＯＦＦされるリミットスイッチ等を有した接触式のものでもよく、静電容量式等の非接触式のものでもよい。
【００２３】
蓋体３６は、ファスナー金具等の締結具によってホッパー部３７に対して緊締されている。上記した捕集部３１は、この蓋体３６上に設置されている。蓋体３６には、捕集部３１の下端開口とホッパー部３７とを連通させる開口が設けられている。
ホッパー部３７は、筒状部の下端側に逆錐台状部を設けたホッパー状とされている。図例では、このホッパー部３７を上下方向に細長状とした例を示している。このホッパー部３７は、比較的に小径（例えば、内径が２００ｍｍ以下）で小容量とされたものでもよい。例えば、当該乾燥システム１は、レンズ等の光学素子を成形する供給先２に粉粒体材料としての光学樹脂ペレットを乾燥して供給するものでもよい。
【００２４】
また、ホッパー部３７には、後記するガス導入部４０において加熱された加熱ガスを導入する導入口６０ａと、ガス導入部４０に向けてガスの一部を戻す戻し口３８と、が設けられている。戻し口３８は、ホッパー部３７の上端側部位の側周壁において開口するように設けられている。この戻し口３８は、ガス導入部４０に接続された戻し管４２の上流側開口とされている。
導入口６０ａは、ホッパー部３７の下端側部位において開口するように設けられている。本実施形態では、この導入口６０ａを、ホッパー部３７内において上下方向に延びるように設置されたガス導入管６０の下端において開口させた構成としている。このガス導入管６０の下端部には、下向きに拡開する形状とされた整流部が設けられている。また、この整流部の上方側には、ガス導入管６０の少なくとも下端側部位の軸心がホッパー部３７の軸心に一致した位置となるようにホッパー部３７の内周壁に当接されて当該ガス導入管６０の下端側を規制する複数の規制片部が放射状に突出するように設けられている。
【００２５】
また、本実施形態では、このガス導入管６０を、ホッパー部３７に対して着脱自在に設けた構成としている。このような構成とすれば、上記のようにホッパー部３７を小径とした場合にも、ガス導入管６０を取り外すことでホッパー部３７内の清掃性を向上させることができる。図例では、ホッパー部３７の上端部内周壁に、ガス導入管６０の上端部が引っ掛け保持される保持部を設けた例を示している。このホッパー部３７の上端部内周壁には、後記するガス導入部４０に接続された導入管５８の下流側開口としての接続口３９が開口するように設けられている。ガス導入管６０の上端部は、上端部の開口がこの接続口３９に接続されるようにホッパー部３７の内周壁に向けて屈曲されている。また、ガス導入管６０の上端部に、把持部を設けた例を示している。なお、ガス導入管６０をホッパー部３７に対して着脱自在とする態様としては、上記したような態様に限られず、その他、種々の変形が可能である。また、ガス導入管６０をホッパー部３７に対して着脱不能に固定的に設けた態様としてもよい。また、このようなガス導入管６０を設けた態様に代えて、ホッパー部３７の下端部やホッパー部３７の下端側に設けられた投入管６４の内周壁において乾燥用ガス（本実施形態では、加熱ガス）をホッパー部３７内に導入する導入口６０ａを開口させた態様等としてもよい。
【００２６】
また、図例では、乾燥本体３５の下方側（排出側）に、手動で開閉される開閉弁６３を介して投入管６４を設けた例を示している。このような開閉弁６３としては、乾燥本体３５の下端側に設けられた保持部６２に、投入管６４の軸方向に対して略直交状にスライド可能に保持され、乾燥本体３５の下端の排出口と投入管６４とを連通させる開口と、排出口と投入管６４とを遮断する閉鎖部と、が設けられたスライドシャッターでもよい。なお、この開閉弁６３をスライド自在に保持する保持部６２に、後記する貯留槽１０の保持部２０と同様なシール部材２２，２３（図３（ａ）参照）を設けた構成としてもよい。また、図例では、投入管６４の側周壁から突出させるように残材抜き管６５を設けた例を示している。
また、図例では、ホッパー部３７の外周側を囲むように覆う外周筒部６１を設けた例を示している。つまり、乾燥本体３５は、外周筒部６１とホッパー部３７とによって言わば二重筒構造とされている。この外周筒部６１の内周面とホッパー部３７の外周面との間に適宜の断熱材を充填したり、バンドヒーターを設けたりした構成としてもよい。また、図例では、上記した制御盤６６を、外周筒部６１に付設状に設けた例を示しているが、後記する貯留槽１０側に設けた構成としてもよく、また、これら乾燥槽３０及び貯留槽１０から離間した箇所に設置されるものとしてもよい。
【００２７】
ガス導入部４０は、図２に示すように、本実施形態では、不活性ガス供給部３から供給される不活性ガスの導入を伴って、乾燥槽３０内の粉粒体材料層を通過したガスの一部を循環させるように取り込み、導入された不活性ガスに混合して下流側に向けて供給する混合部４５を備えている。このような構成とすれば、不活性ガスを導入させれば、混合部４５において乾燥槽３０内の粉粒体材料層を通過したガスの一部を取り込み、導入された不活性ガスとともに乾燥槽３０内に向けて供給することができる。つまり、不活性ガスを導入させることで、乾燥槽３０内のガスの一部を循環させながら粉粒体材料を乾燥することができる。これにより、例えば、乾燥槽３０に導入されたガスを循環させることなく排気するものと比べて、乾燥に要する不活性ガスの必要量を低減することができる。また、ブロワ等によって乾燥槽３０内のガスを循環させるものと比べて、外気の侵入を抑制することができる。
【００２８】
また、本実施形態では、混合部４５の上流側に、集塵部４１を設けた構成としている。図例では、混合部４５の上方側に集塵部４１を設けた例を示している。
集塵部４１は、ホッパー部３７の上端側部位に接続された戻し管４２が側周壁に接続された筒状体４３内に、フィルター部４４を設けた構成とされている。フィルター部４４は、筒状体４３の内周面との間に隙間を設けて同軸状に設けられた筒状とされている。このフィルター部４４としては、金属フィルターとしてもよい。このような構成とすれば、溶剤等を用いて容易に洗浄することができる。このような金属フィルターとしては、例えば、複数層のメッシュを焼結一体化して筒状にしたものや、金属粉末を焼結して筒状にしたものが挙げられる。また、このフィルター部４４は、筒状体４３に対して着脱自在に設けられている。図例では、筒状体４３に、フィルター部４４を出入自在とする上方開口を設け、この上方開口を開閉自在に覆う蓋体を設けた例を示している。
また、筒状体４３の底側には、フィルター部４４の内周側において混合部４５に向けて開口する開口部が設けられている。
【００２９】
混合部４５は、集塵部４１の筒状体４３の開口部に整合される開口が天面側に設けられた筒状体４６を備えている。この筒状体４６には、乾燥ガス供給部５に接続された下流側供給管路４Ａが接続される接続部４８が設けられている。また、筒状体４６内には、この接続部４８に連通され、筒状に形成された混合ノズル４７が設けられている。この混合ノズル４７には、上流側開口が接続部４８に連通され、下流側開口が後記する加熱部５０に接続された接続管４９に向けて開口したガス通路４７ａが設けられている。また、このガス通路４７ａの途中部位には、小径状に絞られた絞り部４７ｂが設けられている。また、混合ノズル４７には、外周側部において開口する複数のガス取込口４７ｃと絞り部４７ｂとを連通させる取込通路が設けられている。
【００３０】
上記構成とされた混合部４５においては、乾燥ガス供給部５から高圧の不活性ガスをガス通路４７ａに導入すれば、絞り部４７ｂにおける流速の増大に伴う当該部位における圧力低下（負圧作用）により、混合ノズル４７の外周のガス（つまりは、筒状体４６内のガス）がガス取込口４７ｃを介してガス通路４７ａに取り込まれ、導入された不活性ガスとともに下流側開口から接続管４９に向けて吐出される。つまり、混合部４５は、高圧の不活性ガスの導入に伴う絞り部４７ｂにおける、いわゆるベンチュリー作用によって筒状体４６内のガスを取り込んで下流側に向けて吐出する構成とされている。このようなベンチュリー作用によって乾燥本体３５内の余剰ガスの一部が戻し管４２及び集塵部４１を介して混合部４５に取り込まれ、不活性ガスと混合される構成とされている。なお、乾燥ガス供給部５を介して混合ノズル４７に導入される不活性ガスと、混合ノズル４７の下流側開口から吐出されるガス（つまりは不活性ガスに、乾燥本体３５から戻されるガスを加えたガス）と、の流量比（体積流量比）は、１：１．５〜１：５程度としてもよく、好ましくは、１：２〜１：４程度としてもよい。
【００３１】
また、本実施形態では、ガス導入部４０は、混合部４５において混合されたガスを加熱する加熱部５０を備えている。
加熱部５０は、混合部４５からのガスが導入される本体ケース５１を備えている。本体ケース５１は、一方向（図例では、上下方向）に長尺な筒状とされ、長手方向一端側部位に接続管４９及び導入管５８が接続されている。接続管４９は、本体ケース５１の側周壁を貫通するように接続され、本体ケース５１内において開口する下流側開口が本体ケース５１内にガスを導入するガス導入口５２を構成する。
また、本体ケース５１には、当該本体ケース５１の長手方向と同方向となる一方向に長尺な内筒５５と、この内筒５５の外周面に沿って巻回された線状ヒーター５７と、この線状ヒーター５７が巻回された内筒５５を収容する外筒５６と、が収容されている。内筒５５の長手方向一端部の開口は、本体ケース５１の長手方向一端部に設けられたガス導出口５３に連通接続されている。また、この内筒５５の長手方向他端部の開口は、本体ケース５１内の長手方向他端部側において開口している。また、上記したガス導入口５２は、外筒５６の外周側空間において開口している。
【００３２】
上記のような構成とすれば、内筒５５の外周面と外筒５６の内周面との間に形成されるリング状の収容空間に線状ヒーター５７が配設され、その内筒５５の内周側及び外筒５６の外周側をガスが通過することとなるので、ガスに含まれる異物が線状ヒーター５７に付着したり、堆積したりすることを抑制することができる。また、本体ケース５１の長手方向一端部側部位に設けられたガス導入口５２から導入され、長手方向他端部側において開口する内筒５５の開口に向かうガスを、外筒５６の外周側空間において予備的に加熱することができる。また、この予備的に加熱されたガスを、内筒５５の内周側空間において加熱し、本体ケース５１の長手方向一端部側部位に設けられたガス導出口５３から導出させることができる。つまり、本体ケース５１内に導入されたガスを、外筒５６の外周側及び内筒５５の内周側において効率的に加熱することができる。
【００３３】
内筒５５及び外筒５６は、本実施形態では、長手方向に貫通する形状とされ、互いに略同長さ寸法とされている。これら内筒５５、外筒５６及び本体ケース５１は、同軸状に設けられている。本体ケース５１の長手方向両端部には、内筒５５及び外筒５６を保持する適宜の保持部が設けられている。
本実施形態では、内筒５５の長手方向一端部の開口を、本体ケース５１の長手方向一端部に長手方向に貫通して設けられたガス導出口５３に整合させた構成としている。また、本体ケース５１内の長手方向他端部側に、内筒５５の長手方向他端部の開口が本体ケース５１の長手方向他端部内面に向けて開口するように、内筒５５の長手方向他端部との間に介在されるスペーサ部５４を設けた構成としている。
【００３４】
線状ヒーター５７は、細長い金属パイプ内に挿入されたニクロム線などの発熱線をマグネシアなどの粉末で金属パイプと絶縁したいわゆるシーズヒーターでもよい。この線状ヒーター５７は、内筒５５に組み付ける前の状態で、螺旋状に巻回された状態の内径（コイル内径）が内筒５５の外径よりも僅かに小とされたものでもよい。このような構成とすれば、線状ヒーター５７を内筒５５の外周面に効果的に接触させることができる。また、このような線状ヒーター５７を加熱源とすれば、加熱源の小型化を図ることができ、また、線状ヒーター５７の長さを異ならせることで、ヒーター容量を異ならせることができる。この線状ヒーター５７の長さは、必要となるヒーター容量に応じて適宜の長さとしてもよいが、例えば、８００ｍｍ〜４０００ｍｍ程度としてもよい。また、図例では、内筒５５の長手方向他端側から長手方向一端側の途中部位まで線状ヒーター５７を設けた例を示しているが、内筒５５の長手方向の概ね全体に亘って設けた構成としてもよい。
【００３５】
また、この線状ヒーター５７の径（金属パイプの外径）は、当該加熱部５０の小型化を図る観点等から、適宜の径としてもよく、例えば、２ｍｍ〜１０ｍｍ程度でもよく、好ましくは、５ｍｍ以下でもよい。また、外筒５６の内径は、線状ヒーター５７が巻回された内筒５５を収容させた状態で、外筒５６の内周面に線状ヒーター５７が当接または近接するように適宜の径としてもよい。また、これら内筒５５及び外筒５６の厚さは、強度上の観点や伝熱性の観点等から適宜の厚さとしてもよく、例えば、０．５ｍｍ〜２ｍｍ程度としてもよい。
また、本体ケース５１の長手方向他端部には、線状ヒーター５７のヒーター端子を保持する保持部が設けられている。
なお、内筒５５、線状ヒーター５７及び外筒５６は、本体ケース５１に対して出し入れ自在とされたものでもよい。このような構成とすれば、清掃性やメンテナンス性を向上させることができる。また、図１において二点鎖線にて示すように、当該加熱部５０を覆うカバー５９を設けた構成としてもよい。
【００３６】
また、内筒５５の出口側となる長手方向一端部の開口近傍部位には、当該加熱部５０において加熱されたガスの温度を検出する温度センサが設けられている（図１参照）。図例では、導入管５８に温度センサを設けた例を示している。この温度センサの検出温度に基いて、加熱されたガスが所定の温度となるように、発熱体（線状ヒーター５７）への通電制御が上記した制御盤６６の制御部によってなされる。
上記のような構成とされた乾燥槽３０においては、乾燥ガス供給部５のガス供給弁を開とし、線状ヒーター５７を起動（ＯＮ）すれば、上記のように不活性ガス供給部３からの不活性ガスの導入に伴って、乾燥本体３５内のガスの一部が戻し管４２及び集塵部４１を介して混合部４５において取り込まれて混合され、加熱部５０に向けて送気される。そして、加熱部５０において加熱されて乾燥本体３５内に供給される。また、不活性ガスの導入によって乾燥本体３５内において余剰となる余剰ガスは、排気口３３から排気され、ガス管路８を介して貯留槽１０に向けて送気される。つまり、本実施形態では、不活性ガスの導入によって乾燥本体３５内の一部のガスが循環され、残余のガスが排気口３３を介して排気される構成とされている。このように乾燥本体３５内に不活性ガスを導入させて一部のガスを循環させながら余剰ガスを排気することで、乾燥本体３５内のガスが不活性ガスに略置換される。また、排気口３３を介して排気されるガスも略不活性ガスとなる。
【００３７】
また、乾燥本体３５は、排気口３３及び下端の排出口を除いて略気密的に封止され、また、排出口は、供給先２となる成形機に接続されて実質的に封止されている。また、排気口３３の下流側となるガス管路８及び貯留槽１０は、後記する漏出機構１１，１２によってガスの漏出が規制されている。そのため、乾燥本体３５内は、不活性ガスの導入によって陽圧（正圧）となる。
なお、乾燥槽３０の乾燥本体３５や集塵部４１、混合部４５及び加熱部５０は、上記したような構成に限られず、適宜の構成とされたものでもよい。例えば、ブロワ等によって乾燥本体３５内のガスを循環させながら加熱するヒーターボックスを設け、乾燥本体３５内の適宜の箇所に不活性ガスを導入させるような態様等としてもよく、その他、種々の変形が可能である。
【００３８】
乾燥槽３０の供給元としての貯留槽１０は、図１に示すように、粉粒体材料を貯留する貯留本体１３と、この貯留本体１３の投入口１５を開閉自在に覆う蓋体１１と、を備えている。この貯留槽１０の容量は、上記した乾燥本体３５の容量よりも大とされている。この貯留槽１０の容量は、乾燥本体３５の容量の３倍以上としてもよく、好ましくは、５倍以上としてもよい。
また、本実施形態では、この貯留槽１０を、フレーム状の基台２９に保持させた構成としている。図例では、基台２９に床上を走行自在とされたキャスター等の転動体を設けた例を示している。
また、本実施形態では、貯留槽１０に、当該貯留槽１０内を陽圧に保ちながら余剰ガスを漏出させる漏出機構１１，１２を設けた構成としている。このような構成とすれば、貯留槽１０が大気開放されたものと比べて、貯留槽１０内への外気の流入をより効果的に抑制することができ、貯留槽１０内における粉粒体材料の吸湿を抑制することができる。
また、漏出機構１１，１２を、貯留槽１０の上端側部位に設けた構成としている。このような構成とすれば、不活性ガスとしての窒素ガスは、酸素や外気よりも軽いので、貯留槽１０の下端側部位に漏出機構１１，１２を設けたものと比べて、貯留槽１０内により効果的に不活性ガスを拡散させることができる。
【００３９】
貯留本体１３は、材料排出側となる下方側に向かうに従い先細り状のホッパー状とされている。この貯留本体１３の平面視した形状は、略方形状とされたものでもよく、略円形状とされたものでもよい。また、図例では、貯留本体１３を、筒状部、逆錐台状部、筒状部及び逆錐台状部を上側から下側に向けてこの順に設けた段付ホッパー状とした例を示しているが、このような態様に限られない。
投入口１５は、この貯留本体１３の上端部において上方側に向けて開口するように設けられている。また、貯留本体１３の上端部には、投入口１５の開口周縁部を構成する蓋体載置部１４が設けられている。この蓋体載置部１４は、内径側（平面視における中心側）に向けて突出するように環状に全周に亘って設けられている。
【００４０】
この投入口１５を覆う蓋体１１は、貯留本体１３の上方側を覆うように上方側に配される平板状部と、貯留本体１３の上端部外周側に位置するように、この平板状部の周縁部から垂れ下がるように設けられた垂下部と、を備えている。本実施形態では、この蓋体１１は、ファスナー金具等の締結具によって貯留本体１３に対して締結される構成とされておらず、貯留本体１３の蓋体載置部１４に載せ置かれる構成とされている。つまり、蓋体１１は、自重によって貯留本体１３の投入口１５を閉鎖する構成とされている。また、この蓋体１１を、貯留本体１３に対して脱離可能な構成としている。なお、当該貯留槽１０を保持する基台２９に、脱離された蓋体１１を引っ掛け保持可能な保持部を設けた構成としてもよい。また、このような態様に代えて、蓋体１１と貯留本体１３とを適宜の蝶番等の回転連結部材によって連結した態様等としてもよい。
【００４１】
また、本実施形態では、この蓋体載置部１４の上面と蓋体１１の平板状部の外周側端部の下面との間に、シール部材１２を設けた構成としている。このシール部材１２は、投入口１５の開口周縁部に沿って全周に亘って環状に設けられている。また、このシール部材１２は、蓋体１１の自重によって圧縮変形される発泡シリコン等の発泡樹脂系材料やゴム等から形成されたものでもよい。また、このシール部材１２は、蓋体１１の平板状部の下面に貼着されたものでもよく、蓋体載置部１４の上面に貼着されたものでもよい。
本実施形態では、上記のように自重によって閉鎖される蓋体１１及びシール部材１２が漏出機構として機能する。つまり、ガス管路８を介してガスが導入されて貯留槽１０内の圧力が過度に上昇すれば、蓋体１１の外周側端部の一部が自重に抗して浮くように上昇してシール部材１２と被シール部（例えば、蓋体載置部１４の上面）との間に貯留槽１０内のガスを漏出させる隙間が形成される構成とされている。また、このように隙間が形成された場合にも、貯留槽１０にはガス管路８を介してガスが継続的に導入されているので、蓋体１１の自重及びシール部材１２による他の部位のシールによって貯留槽１０内は陽圧に保たれる。また、ガスの導入が停止された場合にもシール部材１２を設けているので、外気の流入を低減することができる。
【００４２】
なお、貯留槽１０内を含む当該乾燥システム１の系内が適度な圧力となるように、蓋体１１の質量やシール部材１２のシール性を調整するようにしてもよい。
また、貯留槽１０に設けられる漏出機構としては、上記のような態様に限られない。例えば、図１において二点鎖線にて示すように、蓋体１１に設けられた圧力調整弁１２Ａや貯留本体１３に設けられた圧力調整弁１２Ｂであってもよく、また、圧力調整弁１２Ａ，１２Ｂに代えて、微量のガスを漏出させるオリフィス等を設けた構成としてもよい。このような圧力調整弁１２Ａ，１２Ｂやオリフィスを設けた場合には、蓋体１１が貯留本体１３の投入口１５を気密的に封止可能なように蓋体１１を貯留本体１３に対して締結する適宜の締結機構を設けた構成としてもよい。貯留槽１０に設けられる漏出機構としては、その他、種々の構成とされたものの採用が可能である。また、貯留槽１０に漏出機構を設けた態様に代えて、ガス管路８や材料輸送管路７、乾燥槽３０等に漏出機構を設けた構成としてもよい。つまり、略閉ループ状に接続される貯留槽１０、材料輸送管路７、乾燥槽３０及びガス管路８のうちの少なくとも一箇所に余剰ガスを漏出させる漏出機構を設けた態様としてもよい。また、当該乾燥システム１の系内の圧力を測定する圧力計を適宜の箇所に設け、予め設定された監視圧力を超えれば、ランプやアラーム等によって異常を報知可能な構成としてもよい。
【００４３】
ガス管路８には、管路集塵部９が設けられている。この管路集塵部９内に設けられるフィルターとしては、上記した集塵部４１と同様、金属フィルターとしてもよい。
このガス管路８の末端は、貯留槽１０に接続されている。本実施形態では、このガス管路８に連通するように接続されるガス受入口１９を、図３（ａ）に示すように、貯留槽１０の下端側部位に設けた構成としている。このような構成とすれば、貯留槽１０の下端側部位から導入された不活性ガスとしての窒素ガスを、貯留槽１０内に効果的に拡散させることができる。
また、貯留本体１３の下端側部位の逆錐台状部よりも下方側において開口するようにガス受入口１９を設けた構成としている。また、本実施形態では、貯留本体１３の逆錐台状部の下端から下方側に向けて突出する排出管１６を受け入れる外筒１８を設け、この外筒１８の内周面においてガス受入口１９を開口させた構成としている。このような構成とすれば、ガス受入口１９が粉粒体材料によって閉塞されるようなことを抑制することができ、ガス受入口１９から導入されるガスを貯留槽１０内に円滑に導入させることができる。
【００４４】
また、排出管１６の下端面１７を、ガス受入口１９側の縁部よりもガス受入口１９から離れた側の縁部が上方側となる傾斜面としている。また、排出管１６は、ガス受入口１９側の周壁下端がガス受入口１９よりも下方側に位置し、ガス受入口１９から離れた側の周壁下端がガス受入口１９よりも上方側に位置するように設けられている。このような構成とすれば、粉粒体材料のガス受入口１９側への侵入を抑制可能でありながらも、排出管１６の開口面積を大きくすることができ、ガス受入口１９から導入されるガスをより円滑に貯留槽１０内に導入させることができる。
なお、ガス受入口１９としては、上記のような構成とされたものに限られず、貯留槽１０の排出管１６や、逆錐台状部、筒状部等の内周面において開口されたものでもよい。また、例えば、ガス管路８の下流側部位を貯留槽１０内に収容し、その末端開口をガス受入口１９として貯留槽１０内の上下方向途中部位や好ましくは下端側部位において開口させた構成等としてもよく、その他、種々の変形が可能である。
【００４５】
また、本実施形態では、図３（ａ）に示すように、外筒１８と排出部２８に連通された下端排出管２７との間に、手動で開閉される開閉弁２４を設けた構成としている。この開閉弁２４は、外筒１８の下方側に設けられた保持部２０に、排出管１６の軸方向に対して略直交状にスライド可能に保持されたスライドシャッターとされている。保持部２０には、この開閉弁２４をスライド可能に受け入れるスライド凹所２０ａと、排出管１６と下端排出管２７とを連通させる開口２１と、が設けられている。開閉弁２４には、保持部２０の開口２１に整合される開口２５と、保持部２０の開口２１を閉鎖する閉鎖部２６と、がスライド方向に並設されている。
【００４６】
また、保持部２０に、開口２１の周縁近傍に沿ってシール部材２２，２３を設けた構成としている。このシール部材２２，２３は、開口２１と同心状のリング状（環状）とされており、開閉弁２４の上面に摺るように接するシールリング２３と、このシールリング２３を開閉弁２４側に向けて付勢する弾性部材２２と、を含んだ構成とされている。
これら弾性部材２２及びシールリング２３は、保持部２０のスライド凹所２０ａの下方側に向く天壁面に、開口２１を囲むようにリング状に形成された収容溝２０ｂに収容されている。
弾性部材２２は、シリコンゴム等の弾性材料から形成されており、図例では、断面略円形状で中空のリング状とされたものを示している。なお、この弾性部材２２は、シールリング２３を僅かに開閉弁２４側に向けて付勢するものでもよく、中空円筒状とされたものに限られず、略倒Ｖ字状とされたものや、その他、種々の形状とされたものでもよい。また、ゴム等からなるものに限られず、皿ばねやスプリング等のばね部材からなるものとしてもよい。
【００４７】
シールリング２３は、開閉弁２４の上面に摺るように接する下面が平滑な平坦面とされている。このシールリング２３としては、ＵＨＭＷＰＥ（超高分子量ポリエチレン）やテフロン（登録商標）、ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）、フッ素系樹脂等の合成樹脂材料や、青銅やりん青銅等の金属材料など、耐摩耗性や摺動性に優れた材料からなるものとしてもよい。
このようなシール部材２２，２３を設けた構成とすれば、開閉弁２４を比較的に円滑に開閉可能としながらも、この開閉弁２４をスライド自在に保持する保持部２０における気密性を向上させることができる。
【００４８】
貯留槽１０の排出部２８は、輸送ガス供給部６を介して供給される圧縮ガスまたは不活性ガスによって材料輸送管路７を介して粉粒体材料を乾燥槽３０の捕集部３１に向けて圧送する構成とされている。この排出部２８は、非輸送時には弁体によって略気密的に封止され、輸送時には、圧縮ガスまたは不活性ガスが供給されるので外気からは実質的に略密閉された状態とされている。
また、この排出部２８には、詳細な図示は省略しているが、輸送ガス供給部６にそれぞれ接続された３本の下流側供給管路４Ｂ，４Ｂ，４Ｂが接続されている。この排出部２８においては、これら下流側供給管路４Ｂ，４Ｂ，４Ｂのそれぞれに高圧のガス（圧縮ガスまたは不活性ガス）を切り替えて供給することで、排出部２８に設けられた弁体の開閉と、排出部２８側に自重落下する粉粒体材料の輸送と、弁体閉鎖後の材料輸送管路７内の粉粒体材料のパージ（送り切り）と、がなされるものでもよい。
【００４９】
この排出部２８から輸送気体としての圧縮ガスまたは不活性ガスとともに材料輸送管路７を介して乾燥槽３０側に輸送された粉粒体材料は、捕集部３１において輸送気体と分離されて捕集され、乾燥本体３５内に投入される。また、捕集部３１において分離された輸送気体は、排気口３３から排気され、ガス管路８を介して貯留槽１０に戻される。
つまり、本実施形態では、乾燥槽３０に乾燥用に供給されたガスのうちの余剰ガスと、輸送用に供給されたガスの略全量と、が、ガス管路８を経て貯留槽１０内に導入される。なお、上記したように貯留槽１０以外の箇所に漏出機構を設けた場合には、一部が漏出機構において漏出し、残余のガスが貯留槽１０内に導入されることとなる。
また、貯留槽１０の下部に設けられる排出部２８としては、上記したようなものに限られず、その他、種々の構成とされたものでもよい。例えば、排出部２８に上記のような弁体を設けていない構成としてもよい。このようなものでも、当該乾燥システム１の系内は、上記した漏出機構１１，１２を除いて略密閉されて陽圧に保たれているので、外気が流入し難い構成となっている。
【００５０】
上記のような構成とされた乾燥システム１においては、粉粒体材料を貯留する貯留槽１０から輸送された粉粒体材料を乾燥槽３０において貯留し、その貯留された粉粒体材料を、加熱した不活性ガスを乾燥槽３０内に導入して乾燥しながら、この乾燥槽３０から排気される余剰ガスをガス管路８を介して貯留槽１０に向けて送気し貯留槽１０内に導入する乾燥方法の実行が可能とされている。
また、同乾燥システム１においては、粉粒体材料を貯留する貯留槽１０の排出部２８に、輸送気体として不活性ガスを導入して材料輸送管路７を介して粉粒体材料を乾燥槽３０に向けて輸送しながら、この乾燥槽３０から排気される余剰ガスをガス管路８を介して貯留槽１０に向けて送気し貯留槽１０内に導入する乾燥方法の実行が可能とされている。
【００５１】
このような乾燥方法は、上記した制御盤６６の制御部によって当該乾燥システム１の各機器が制御されて実行される。
つまり、図３（ｂ）に示す基本動作のように、乾燥システム１が起動されれば、乾燥ガス供給部５のガス供給弁が開とされ、線状ヒーター５７がＯＮとされ、乾燥槽３０の乾燥本体３５内に加熱したガスが供給される。また、この際、乾燥本体３５内に粉粒体材料が貯留されていなければ、つまり、乾燥本体３５の材料センサ６７から材料要求信号が出力されていれば、輸送ガス供給部６のガス供給弁を開とし、上記のように貯留槽１０の排出部２８に高圧のガス（図例では、圧縮ガス）を供給し、乾燥本体３５に粉粒体材料を輸送する。この乾燥本体３５への粉粒体材料の輸送は、所定時間が経過するまで行うようにしてもよく、乾燥本体３５に設けられた上限レベル計等から満信号が出力されるまで行うようにしてもよい。なお、当該乾燥システム１を起動させる前に、貯留槽１０の蓋体１１を開放させて粉粒体材料を投入し、貯留槽１０内に粉粒体材料を貯留させておくようにしてもよい。
【００５２】
また、上記のように輸送する際には、未乾燥の粉粒体材料が供給先２に向けて供給されないように、乾燥槽３０の下部の開閉弁６３を閉鎖させておくようにしてもよい。
また、粉粒体材料が乾燥本体３５に貯留されれば、乾燥本体３５内において所定の水分率となるように粉粒体材料を乾燥する初期乾燥モードが実行される。また、このように乾燥に用いられるガスの一部の余剰ガスを上記のように貯留槽１０に導入して漏出機構１１，１２から漏出させながら、貯留槽１０を含む系内の圧力が陽圧に保たれた状態となる。
そして、乾燥本体３５内の粉粒体材料の乾燥がなされれば、開閉弁６３を必要に応じて開放させて、乾燥本体３５内の粉粒体材料を供給先２に向けて供給する。供給先２としての成形機においては、適宜、捨て打ちや試し打ち等がなされた後、逐次、成形品を成形する定常運転モードの実行がなされる。
【００５３】
このように供給先２において粉粒体材料が消費されれば、乾燥本体３５内の粉粒体材料の貯留レベルが低下する。そして、材料センサ６７から材料要求信号が出力されれば、輸送ガス供給部６のガス供給弁を開とし、上記のように貯留槽１０の排出部２８に高圧のガス（図例では、不活性ガス）を供給し、乾燥本体３５に粉粒体材料を輸送する。つまり、本実施形態では、稼働初期の初期輸送モードにおいては、圧縮ガスを用いて粉粒体材料を輸送し、定常運転時の輸送モードにおいては、不活性ガスを用いて粉粒体材料を輸送する構成としている。なお、このような態様に代えて、初期輸送モードにおいても不活性ガスを用いて粉粒体材料を輸送する構成としてもよい。
また、上記した基本動作は、一例に過ぎず、その他、種々の動作の実行が可能である。
【００５４】
また、上記した乾燥システム１の各部の構成も上記した例に限られず、その他、種々の変形が可能である。例えば、本実施形態では、不活性ガス供給部３から供給される不活性ガスを乾燥槽３０内に導入するガス導入部４０と、不活性ガス供給部３から供給される不活性ガスを、材料輸送管路７に連通される貯留槽１０の排出部２８に輸送気体として供給する輸送ガス供給部６と、を設けた例を示しているが、いずれか一方のみを設けた構成としてもよい。例えば、乾燥槽３０内に不活性ガスに代えて、圧縮ガスや除湿調整されたガスを導入したり、外気を加熱して導入したりするような態様としてもよい。または、排出部２８に輸送気体として圧縮ガスのみを導入可能な構成としたり、また、圧送に代えて、捕集部３１に吸引路を介して吸引ブロワを接続して吸引輸送するような態様等としてもよい。更には、このように貯留槽１０から乾燥槽３０に粉粒体材料を気力輸送する態様に代えて、粉粒体材料の自重によって貯留槽１０から乾燥槽３０に向けて落下させて供給するような態様等としてもよい。
【符号の説明】
【００５５】
１              乾燥システム
６              輸送ガス供給部
７              材料輸送管路
８              ガス管路
１０            貯留槽
１１            蓋体（漏出機構）
１２            シール部材（漏出機構）
１２Ａ，１２Ｂ  圧力調整弁（漏出機構）
１８            外筒（下端側部位）
１９            ガス受入口
２８            排出部
３０            乾燥槽
３３            排気口
４０            ガス導入部
４５            混合部
３              不活性ガス供給部
【図１】
2019184108.tif 000003
【図２】
2019184108.tif 000004
【図３】
2019184108.tif 000005