(57)【要約】      （修正有）【課題】単位モールドの転写により形成される単位パターン領域の繋ぎ目部分が目視できないように凹凸パターンが繋がれているワイヤグリッド偏光子及び、当該ワイヤグリッド偏光子を備えた表示装置を提供する。【解決手段】ワイヤ層は、互いに同一又は異なる線状凹凸パターンをそれぞれ有する２以上の完全領域と、隣り合う２つの完全領域を接続する境界部を形成し且つ電子顕微鏡で認識することができる一又は二以上の不完全領域を含んでおり、不完全領域は、下記条件（ｉ）又は（ｉｉ）のうち、少なくとも一つを満たす、ワイヤグリッド偏光子。条件（ｉ）：当該境界部の両側に存在するどちらの完全領域が有する線状凹凸パターンの平面視形状とも異なる平面視形状を有する。条件（ｉｉ）：当該不完全領域が有する表面凹凸形状の凸部の平均高さが、当該境界部の両側に存在するどちらの完全領域が有する線状凹凸パターンの凸部の成す面の高さよりも低い。【選択図】図２
2019207292.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性材料により形成されたワイヤ層を基材上に備えたワイヤグリッド偏光子であって、
前記ワイヤ層は、互いに同一又は異なる線状凹凸パターンをそれぞれ有する２以上の完全領域と、隣り合う２つの完全領域を接続する境界部を形成し且つ電子顕微鏡で認識することができる一又は二以上の不完全領域を含んでおり、
前記不完全領域の幅は、２μｍ以下であり、
前記不完全領域は、下記条件（ｉ）又は（ｉｉ）のうち、少なくとも一つを満たす、ワイヤグリッド偏光子。
条件（ｉ）：
当該境界部の両側に存在するどちらの完全領域が有する線状凹凸パターンの平面視形状とも異なる平面視形状を有する。
条件（ｉｉ）：
当該不完全領域が有する表面凹凸形状の凸部の平均高さが、当該境界部の両側に存在するどちらの完全領域が有する線状凹凸パターンの凸部の成す面の高さよりも低い。
【請求項２】
一方の完全領域と、他方の完全領域とは、完全領域の線状凹凸パターンの凸部が成す平面の高さが同じである、請求項１に記載のワイヤグリッド偏光子。
【請求項３】
前記不完全領域の幅が変動している、請求項１又は２に記載のワイヤグリッド偏光子。
【請求項４】
前記請求項３において、前記不完全領域の幅の変動に周期性がない、請求項３に記載のワイヤグリッド偏光子。
【請求項５】
前記不完全領域の少なくとも一部の延在方向が、当該不完全領域により形成される境界部の両側に存在する完全領域のうちの少なくとも一方に含まれる線状凸部の延在方向に対して傾いている、請求項１乃至４のいずれか一項に記載のワイヤグリッド偏光子。
【請求項６】
前記不完全領域の少なくとも一部の延在方向が、当該不完全領域により形成される境界部の両側に存在する完全領域のうちの一方に含まれる第一の線状凸部の延在方向及び他方に含まれる第二の線状凸部の延在方向の双方に対して傾いている、請求項５に記載のワイヤグリッド偏光子。
【請求項７】
多角形状の完全領域を含み、当該多角形状の完全領域の少なくとも一つの頂点に、前記不完全領域により形成される境界部が３本集合し連結している連結部を有する、請求項１乃至６のいずれか一項に記載のワイヤグリッド偏光子。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載のワイヤグリッド偏光子を備えた表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示の実施形態は、ワイヤグリッド偏光子及び表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ワイヤグリッド偏光子は、金属などの導電性材料からなる直線状細線をガラスやプラスチックなどの基材上に規則的な凹凸パターン状に配置した偏光素子である。
ワイヤグリッド偏光子は、インプリントの手法を応用して製造することができる。
インプリント技術は、転写すべきパターンが予め形成された原版の型（モールド）を、基材上の液状樹脂等の被転写材料へ押し付け、熱又は光を加えながら硬化させたり、加熱状態の熱可塑性の被転写材料に押し付けることによってモールドのパターンを被転写材料に転写する方法である。
【０００３】
一例として、特許文献１（特開２００６−８４７７６号公報）の図４Ａから図４Ｈには、以下の手順を含む製造方法が記載されている：
（１）ガラス基板３００上に金属薄膜３１０ａを堆積させる；
（２）金属薄膜３１０ａ上にポリマー３２０ａをコーティングする；
（３）型３３０をポリマー３２０ａに押し付け、型のパターンをポリマー３２０ａに転写させた後、型３３０をポリマー３２０ａから分離する；
（４）凹凸パターンを転写したポリマー３２０ａを乾式エッチングすることにより、金属薄膜３１０ａの表面を部分的に露出させる：
（５）表面に一部が露出した金属薄膜３１０ａを乾式又は湿式エッチングすることにより金属格子パターン３１０ｂを形成する。
しかし、インプリント用モールドは、モールド内面に１０ｎｍレベルのナノスケールから１００μｍ程度のスケールの範囲で微細な凹凸パターンを有しており、そのような微細凹凸パターン形成に時間がかかるため非常に高価である上、製造方法や装置の制約上、小面積の原版しか作製できない場合が多い。
例えば、石英などのシリコン系材料で得られる微細凹凸を有する原版の大きさは、現状のフォトリソグラフィー技術では、大きいものでも直径１２インチのウエハサイズが汎用的なサイズであり、これより大面積の原版を作製する場合には、大型の光学系や高精度な駆動系を備えた設備が必要となるため、生産コストの観点から、産業上の利用価値としては低いものとなる。従って、基板材料の調達や、加工精度、製造コストを考慮した場合、微細凹凸を有する原版の大きさには限度があり、インプリントの手法により大面積のワイヤグリッド偏光子を製造することは困難であった。
【０００４】
特許文献２（特開２０１１−２２１４１２号公報）の図１には、特定方向に延在する格子状凹凸部を有する基材１０１と、前記格子状凹凸部の格子状凸部の一方向側の側面に接し前記格子状凸部頂部より上方に伸びるように設けられた金属ワイヤ１０２とを具備するワイヤグリッド偏光板が記載されている。
特許文献２には、ワイヤグリッド偏光板を製造した実施例（段落００５５から００６０）として、以下の手順が記載されている：（１）微細凹凸格子形状のモールド面を有するニッケルスタンパを２枚作製し、これらを溶接により円形に接合することにより、微細凹凸格子の長手方向とロールスタンパの円周方向が直行する向きをとるロールスタンパを準備し、；（２）トリアセチルセルロースフィルムのロールに紫外線硬化性樹脂を連続的に塗布し、塗布面を前記ロールスタンパと接触させ紫外線硬化させることにより、微細凹凸格子を連続的に転写した後、一旦巻き取り、原反ロールとし、；（３）原反ロールの格子状凸部転写面にアルミニウムを斜め方向から蒸着することにより、格子状凸部の一方向側の側面に接し当該格子状凸部頂部より上方に伸びるように金属ワイヤ１０２を形成した。
特許文献２に記載された方法は、金属ワイヤをロール状基材上に連続形成できるため大面積化が容易である。しかし特許文献２の方法により製造されるワイヤグリッド偏光板は、樹脂を硬化させてなる格子状凸部を含むため耐熱性に劣る。
【０００５】
そこで、小面積の単位モールドを用いたインプリントを、加工領域が重ならないようにモールドの位置をずらしながら繰り返し行うことによって大面積のインプリント用モールドを可能にする方法が提案されている（ステップアンドリピート法）。
しかしながら、従来の加工領域が重ならないように単位モールドの位置をずらしながら繰り返し行う方法によれば、転写されたパターンの間にパターンが形成されていない部分が目視できる大きさで発生してしまっていた。
このような、パターンが形成されていない繋ぎ目部分が発生した樹脂製モールドを、後に詳述するようにエッチングのレジスト膜へのインプリントパターニングに適用すると、被転写材料のレジストには、前記樹脂製モールドのパターン形成されていない繋ぎ目部分の凸面が、一様に転写されてしまうため、当該領域においては、パターン形成されることなくその略全域にわたりレジスト膜の膜厚が薄くなり、深くエッチングされてしまい、凹凸パターンを有しない繋ぎ目部分が目視できる大きさとなって、ワイヤグリッド偏光子として所望の性能を満たさない場合が生じるという課題があった。
【０００６】
特許文献３（ＵＳ２０１６／０２９９４２３Ａ１公報）には、インプリントリソグラフィーに用いられる大面積のマスターテンプレートを、小面積のインプリント用モールドを単位モールドとして用いて製造する方法が開示されている。特許文献３には、概ね以下の手順を含むインプリントリソグラフィー法が記載されている：
（１）基材上に第１エリアＡ１と第２エリアＡ２を設定し、；
（２）基材の第１エリアＡ１上に小面積のインプリントモールドを用いてワイヤグリッドパターンに対応する形状を有する第１インプリントパターン２００をインプリントし、エッチングし、平坦化し、；
（３）次に、基材上の第２エリアＡ２上に小面積のインプリントモールドを用いてワイヤグリッドパターンに対応する形状を有する第２インプリントパターン２１０をインプリントし、エッチングし、平坦化し、；
（４）この段階で第１及び第２エリア上に残っているマスクパターン１２０ａを介して下層側に存在する第一層１１０をエッチングすることにより、インプリントモールドよりも大面積のパターンを第１及び第２エリアの全体に亘り有するマスターテンプレートを作成する。
特許文献３には、小面積のインプリントモールドを用いて形成した第１領域Ａ１と第２領域Ａ２のつなぎ目（境界部）に存在するエラー（位置ずれ）を、ワイヤグリッドパターンのワイヤー幅とワイヤー間インターバルの合計を１ピッチとしたときに２分の１ピッチ未満とすることにより、ワイヤグリッド上のラインアンドスペースパターンのつなぎ目が視覚的に目立たなくなることが記載されている（クレーム２０、段落００７２）。
【０００７】
特許文献４（特開２０１３−１６１９９７号公報）では、パターンが形成されていない繋ぎ目部分をなくすために、複数の基本微細構造パターンを高い精度で繋ぎ合わせることができる微細構造パターン集合体の製造方法として、平坦な基材の上に光硬化性樹脂を滴下で供給する第１ステップと、前記光硬化性樹脂に単位モールドである微細構造型を押し付けて広げる第２ステップと、前記光硬化性樹脂に光を照射し露光させて固めることによって、円形の基本微細構造パターンを形成する第３ステップと、前記微細構造型を前記基本微細構造パターンから離型して上昇させる離型移動第４ステップとで構成される、基本微細構造パターン形成単位ステップを複数回繰り返すことによって、微細構造パターン集合体を製造する方法であって、既に形成されている前記基本微細構造パターンに隣接する新たな前記基本微細構造パターンを形成する際に、既に形成されている基本微細構造パターンの外周部分に、新たな基本微細構造パターンの外周部分が一部重なるように、形成することを特徴とする、微細構造パターン集合体の製造方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００６−８４７７６号公報
【特許文献２】特開２０１１−２２１４１２号公報
【特許文献３】ＵＳ２０１６／０２９９４２３Ａ１公報
【特許文献４】特開２０１３−１６１９９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献３に記載の技術により、大面積のマスターテンプレートを作製するには、上記したように、インプリント、エッチング及び平坦化を含むサイクルを、複数回繰り返し行う必要があるため、インプリントの際の光照射やエッチングを、各回毎に正確に位置合わせして行う必要があり、そのためには、高精度な光学系や駆動系を備えた大規模な設備が必要となる。当該技術を実現する設備を製造することは、現状の技術では困難であり、また、仮に当該設備を製造できたとしても、その製造コストが高くなるため、産業上の利用価値としては低いものとなり、商用生産には適していない。
【００１０】
また、特許文献４の技術によれば、特許文献４の図５に記載されているように（本明細書の図３２）、既に転写された凹凸パターン部分５０１に次に転写された凹凸パターン５０２が乗り上げるため、５０１と５０２との繋ぎ目に、凹凸パターンの凸部の高さ程度かそれ以上の段差ができてしまう。
このような繋ぎ目に凸部の高さ程度かそれ以上の段差がある樹脂製モールド５００を、後に詳述するようにエッチングのレジスト膜へのインプリントパターニングに適用すると、図３３に示すように、レジスト膜５０４にも、樹脂製モールド５００の凹凸パターンに対応して繋ぎ目に段差がある凹凸パターンが転写される。そして、レジストの凹部の残膜をエッチングする際に、例えば、モールド繋ぎ時に乗り上げられてレジストインプリント面が高くなっている部分５０５の凹部の残膜をエッチングしようとすると、モールド繋ぎ時に乗り上げてレジストインプリント面が低くなっている部分５０６においてはレジスト膜の凹凸パターン自体がエッチングされて平坦化してしまうという問題が生じる。特許文献４の図５（本明細書の図２３）では模式的に、パターンの１つの凸部が乗り上げているように記載されているが、特許文献４の技術を用いた場合、実際には繋ぎ目で乗り上げる幅を１０μｍ以下に調整することは困難である。従って、特許文献４の技術では、樹脂製モールドの凹凸パターンの繋ぎ目に存在する上記の段差に起因して、レジスト膜上の繋ぎ目部分が目視できる大きさの平坦な凹部になってしまうことがある。このため、当該レジスト膜をマスクパターンとして用い、下層のワイヤ層をエッチングすると、ワイヤグリッドの凹凸パターン内にも、ワイヤ層が存在しない繋ぎ目部分が目視できる大きさに形成されるため、偏光子としての性能（諸性能）に悪影響を与えてしまう。
【００１１】
また、図３２に示す樹脂製モールド５００を、後に詳述するようにエッチングのレジスト膜へのインプリントパターニングに適用すると、その段差部分がレジスト膜５０４に密着しないことがある。この場合、密着しなかった部分の樹脂製モールドの凹凸パターンは、レジスト膜に転写されないため、レジストの凹部の残膜をエッチングする際に、当該凹凸パターンが転写されていない部分においては、レジスト膜が殆どエッチングされることなく残存してしまうという問題が生じる。従って、特許文献４の技術では、樹脂製モールドの凹凸パターンの繋ぎ目に存在する上記の段差に起因して、レジスト膜上の繋ぎ目部分が目視できる大きさの幅広の凸面になってしまうことがある。
このため、当該レジスト膜をマスクパターンとして用い、下層のワイヤ層をエッチングすると、ワイヤグリッドの凹凸パターン内にも、凹凸パターンが形成されていないワイヤ層が広い幅で存在する繋ぎ目部分が、目視できる大きさに形成されるため、偏光子としての性能（諸性能）に悪影響を与えてしまう。
【００１２】
そのため、小面積の単位モールドの転写により形成される単位パターン領域の繋ぎ目部分が目視できないように凹凸パターンが繋がれている大面積のワイヤグリッド偏光子が求められていた。
【００１３】
本開示は、上記実情に鑑みてなされたものであり、単位モールドの転写により形成される単位パターン領域の繋ぎ目部分が目視できないように凹凸パターンが繋がれているワイヤグリッド偏光子及び、当該ワイヤグリッド偏光子を備えた表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本開示の１実施形態は、導電性材料により形成されたワイヤ層を基材上に備えたワイヤグリッド偏光子であって、前記ワイヤ層は、互いに同一又は異なる線状凹凸パターンをそれぞれ有する２以上の完全領域と、隣り合う２つの完全領域を接続する境界部を形成し且つ電子顕微鏡で認識することができる一又は二以上の不完全領域を含んでおり、前記不完全領域の幅は、２μｍ以下であり、  前記不完全領域は、下記条件（ｉ）又は（ｉｉ）のうち、少なくとも一つを満たす、ワイヤグリッド偏光子を提供する。
条件（ｉ）：
当該境界部の両側に存在するどちらの完全領域が有する線状凹凸パターンの平面視形状とも異なる平面視形状を有する。
条件（ｉｉ）：
当該不完全領域が有する表面凹凸形状の凸部の平均高さが、当該境界部の両側に存在するどちらの完全領域が有する線状凹凸パターンの凸部の成す面の高さよりも低い。
【００１５】
本開示の１実施形態においては、一方の完全領域と、他方の完全領域とは、完全領域の線状凹凸パターンの凸部が成す平面の高さが同じである、ワイヤグリッド偏光子を提供する。
【００１６】
本開示の１実施形態においては、前記不完全領域の幅が変動している、ワイヤグリッド偏光子を提供する。
【００１７】
本開示の１実施形態においては、前記本開示の１実施形態における前記不完全領域の幅の変動に周期性がない、ワイヤグリッド偏光子を提供する。
【００１８】
本開示の１実施形態においては、前記不完全領域の少なくとも一部の延在方向が、当該不完全領域により形成される境界部の両側に存在する完全領域のうちの少なくとも一方に含まれる線状凸部の延在方向に対して傾いている、ワイヤグリッド偏光子を提供する。
【００１９】
本開示の１実施形態においては、前記不完全領域の少なくとも一部の延在方向が、当該不完全領域により形成される境界部の両側に存在する完全領域のうちの一方に含まれる第一の線状凸部の延在方向及び他方に含まれる第二の線状凸部の延在方向の双方に対して傾いている、ワイヤグリッド偏光子を提供する。
【００２０】
本開示の１実施形態においては、多角形状の完全領域を含み、当該多角形状の完全領域の少なくとも一つの頂点に、前記不完全領域により形成される境界部が３本集合し連結している連結部を有する、ワイヤグリッド偏光子を提供する。
【００２１】
本開示の１実施形態においては、前記本開示の１実施形態のワイヤグリッド偏光子を備えた表示装置を提供する。
【発明の効果】
【００２２】
本開示の実施形態は、単位モールドの転写により形成される単位パターン領域の繋ぎ目部分が目視できないように凹凸パターンが繋がれているワイヤグリッド偏光子及び、当該ワイヤグリッド偏光子を備えた表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】図１（Ａ）は、ワイヤグリッド偏光子の一例を模式的に示す概略平面図であり、図１（Ｂ）は、図１（Ａ）の一部拡大平面図である。
【図２】図２（Ａ）は図１（Ｂ）のＡ−Ａ’線方向の概略断面図であり、図２（Ｂ）は図２（Ａ）の一部拡大断面図である。
【図３】図３は、図２（Ｂ）において断面を示した領域及びその近傍の領域の拡大平面図である。
【図４】図４（Ａ）は図１（Ｂ）のＡ−Ａ’線方向の概略断面図であり、図４（Ｂ）は図４（Ａ）の一部拡大断面図である。
【図５】図５は、図４（Ｂ）において断面を示した領域及びその近傍の領域の拡大平面図である。
【図６】図６（Ａ）は図１（Ｂ）のＡ−Ａ’線方向の概略断面図であり、図６（Ｂ）は図６（Ａ）の一部拡大断面図である。
【図７】図７（Ａ）は図１（Ｂ）のＡ−Ａ’線方向の概略断面図であり、図７（Ｂ）は図７（Ａ）の一部拡大断面図である。
【図８】図８（Ａ）は図１（Ｂ）のＡ−Ａ’線方向の概略断面図であり、図８（Ｂ）は図８（Ａ）の一部拡大断面図である。
【図９】図９（Ａ）は、本開示のワイヤグリッド偏光子の一部を拡大して示す概略平面図であり、図９（Ｂ）及び図９（Ｃ）は、図９（Ａ）の一部を拡大して示す図である。
【図１０】図１０（Ａ）は、本開示のワイヤグリッド偏光子の一部を拡大して示す概略平面図であり、図１０（Ｂ）は、図１０（Ａ）の一部を拡大して示す図である。
【図１１】図１１（Ａ）は、本開示のワイヤグリッド偏光子の一部を拡大して示す概略平面図であり、図１１（Ｂ）は、図１１（Ａ）の一部を拡大して示す図である。
【図１２】図１２（Ａ）は、本開示のワイヤグリッド偏光子の一部を拡大して示す概略平面図であり、図１２（Ｂ）は、図１２（Ａ）の一部を拡大して示す図である。
【図１３】図１３（Ａ）は、本開示のワイヤグリッド偏光子の一部を拡大して示す概略平面図であり、図１３（Ｂ）は、図１３（Ａ）の一部を拡大して示す図である。
【図１４】図１４は、本開示のワイヤグリッド偏光子の一部を拡大して示す概略平面図である。
【図１５】図１５は、本開示のワイヤグリッド偏光子の一部を拡大して示す概略平面図である。
【図１６】図１６は、本開示のワイヤグリッド偏光子の一部を拡大して示す概略平面図である。
【図１７】図１７は、本開示のワイヤグリッド偏光子の一部を拡大して示す概略平面図である。
【図１８】図１８は、本開示のワイヤグリッド偏光子の一部を拡大して示す概略平面図である。
【図１９】図１９は、本開示のワイヤグリッド偏光子の一部を拡大して示す概略平面図である。
【図２０】図２０は、本開示のワイヤグリッド偏光子の製造に用いる樹脂製モールドを製造する工程の一例を模式的に示した図である。
【図２１】図２１は、本開示のワイヤグリッド偏光子の製造に用いる樹脂製モールドを製造する工程の一例を模式的に示した図である。
【図２２】図２２は、本開示のワイヤグリッド偏光子を製造する工程の一例を模式的に示した図である。
【図２３】図２３は、本開示のワイヤグリッド偏光子の製造に用いる樹脂製モールドを製造する工程の一例を模式的に示した図である。
【図２４】図２４は、本開示のワイヤグリッド偏光子を製造する工程の一例を模式的に示した図である。
【図２５】図２５は、本開示のワイヤグリッド偏光子の製造に用いる樹脂製モールドを製造する工程の一例を模式的に示した図である。
【図２６】図２６は、本開示のワイヤグリッド偏光子を製造する工程の一例を模式的に示した図である。
【図２７】図２７は、本開示のワイヤグリッド偏光子の製造に用いる樹脂製モールドを製造する工程の一例を模式的に示した図である。
【図２８】図２８は、本開示のワイヤグリッド偏光子を製造する工程の一例を模式的に示した図である。
【図２９】図２９（Ａ）は図１（Ｂ）のＡ−Ａ’線方向の概略断面図であり、図２９（Ｂ）は図２９（Ａ）の一部拡大断面図である。
【図３０】図３０は、図２９（Ｂ）において断面を示した領域及びその近傍の領域の拡大平面図である。
【図３１】図３１は、本開示の画像表示装置を示す断面図である。
【図３２】図３２は、従来技術（特許文献４）の実施の形態により得られる基本微細構造パターンの重ねあわせの状態を示す図である。
【図３３】図３２に示す基本微細構造パターンのネガパターンが転写されたレジスト層を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本開示に係るワイヤグリッド偏光子及び表示装置について詳細に説明する。
また、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。
また、本明細書において（メタ）アクリルとは、アクリル及びメタアクリルの各々を表す。
また、本明細書において「光」とは、活性光線又は放射線を意味し、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等が包含されるものである。
【００２５】
Ｉ．ワイヤグリッド偏光子
本開示の第一の実施形態のワイヤグリッド偏光子は、導電性材料により形成されたワイヤ層を基材上に備えたワイヤグリッド偏光子であって、前記ワイヤ層は、互いに同一又は異なる線状凹凸パターンをそれぞれ有する２以上の完全領域と、隣り合う２つの完全領域を接続する境界部を形成し且つ電子顕微鏡で認識することができる一又は二以上の不完全領域を含んでおり、前記不完全領域の幅は、２μｍ以下であり、前記不完全領域は、下記条件（ｉ）又は（ｉｉ）のうち、少なくとも一つを満たす、ワイヤグリッド偏光子である。
条件（ｉ）：当該境界部の両側に存在するどちらの完全領域が有する線状凹凸パターンの平面視形状とも異なる平面視形状を有する。
条件（ｉｉ）：当該不完全領域が有する表面凹凸形状の凸部の平均高さが、当該境界部の両側に存在するどちらの完全領域が有する線状凹凸パターンの凸部の成す面の高さよりも低い。
【００２６】
以下、図面を参照して本開示の一実施形態について説明する。
なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある場合がある。
図１（Ａ）は、ワイヤグリッド偏光子の一例を模式的に示す概略平面図であり、図１（Ｂ）は、図１（Ａ）の一部拡大平面図である。
【００２７】
［ワイヤグリッド偏光子］
本開示のワイヤグリッド偏光子１００は、図１（Ａ）に示すように、基材５０上に、導電材料により形成されたワイヤ層１０を備えている。
図１に示す例では、ワイヤ層１０は、互いに同一の線状凹凸パターンを有する２以上の完全領域１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄ…が繰り返し配列されて構成されている。
本開示において、ワイヤグリッド偏光子の完全領域とは、単位モールドの凹凸パターンの転写により、当該単位モールドに対応する凹凸パターンのネガパターンが形成された領域である。
【００２８】
図１（Ｂ）に示す例においては、各完全領域１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄ…は、それぞれ所定の方向に延在する複数の線状凸部１３が平行に繰り返し配列されたパターン形状を有しており、これらの完全領域１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄ…が、基材５０の面方向に連設されて構成されている。以下、各完全領域１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄ…において、各線状凸部１３の間に形成された凹部を線状凹部１４という。
【００２９】
図２（Ａ）は図１（Ｂ）のＡ−Ａ’線方向の概略断面図であり、図２（Ｂ）は図２（Ａ）の一部拡大断面図である。図３は、図２（Ｂ）において断面を示した領域及びその近傍の領域の拡大平面図である。
なお、図２（Ａ）、並びに後述する図４（Ａ）、図６（Ａ）〜図８（Ａ）及び図２９（Ａ）は、それぞれ異なるワイヤグリッド偏光子における、図１（Ｂ）のＡ−Ａ’線に相当する位置に設定される断面線方向の概略断面図を示すものであるが、便宜的に、図２（Ａ）、図４（Ａ）、図６（Ａ）〜図８（Ａ）及び図２９（Ａ）をいずれも、図１（Ｂ）のＡ−Ａ’線方向の概略断面図として示す。
即ち、図１（Ａ）は、図２（Ａ）、並びに後述する図４（Ａ）、図６（Ａ）〜図８（Ａ）及び図２９（Ａ）に概略断面図を示す各々のワイヤグリッド偏光子についての、各々の概略平面図として示したものである。
本開示のワイヤグリッド偏光子１００において、一方の完全領域１０Ａと、他方の完全領域１０Ｂとは、それぞれの完全領域の凸部が成す平面（１１Ａと１１Ｂ）の高さが同じであることが好ましい。ここで、凸部が成す面乃至平面とは、各凸部の頂部を結んだ仮想面乃至仮想平面をいう。
なお、本開示において、完全領域の各凸部の頂部を結んだ仮想面を仮想平面とする際、或いは、前記完全領域の凸部が成す平面の高さが同じという範囲には、各々の完全領域に含まれる凸部の平均高さの１０％以内の誤差範囲は包含されるものとする。
【００３０】
本開示のワイヤグリッド偏光子１００は、隣り合う任意の２つの完全領域のうちの一方の完全領域を１０Ａ、当該完全領域１０Ａと隣り合う他方の完全領域を１０Ｂしたときに、これらの完全領域１０Ａ、１０Ｂを接続する境界部を形成する不完全領域２０を有している。即ち、不完全領域は、単位モールドの転写により形成される単位パターン領域に対応する領域の繋ぎ目部分に該当する領域である。
【００３１】
なお、本開示のワイヤグリッド偏光子において、「完全領域を接続する境界部（すなわち「つなぎ目」）」とは、線状凹凸パターンの規則性を中断する部分であり、例えば、異なる線状凹凸パターンを接続している部分、同じ線状凹凸パターンが接続しているが、パターン周期の連続性が途切れており新しい周期が開始されたと認識される部分、同じ線状凹凸パターンが接続しパターン周期の連続性も維持されているが、パターン周期の連続性が中断された空白領域を形成していると認識される部分などを例示することができる。
【００３２】
なお、図２においては、ワイヤグリッド偏光子１００に含まれる完全領域のうち、隣り合う２つの完全領域１０Ａと完全領域１０Ｂとは、完全領域１０Ａの線状凹凸パターンに含まれる線状凸部１３の延在方向と、完全領域１０Ｂの線状凹凸パターンに含まれる線状凸部１３の延在方向とが、平行をなしており、完全領域１０Ａに含まれる線状凸部１３と線状凹部１４が交互に配列する方向に、完全領域１０Ｂに含まれる線状凸部１３と線状凹部１４が交互に配列する方向が接続するように、完全領域１０Ａ及び完全領域１０Ｂが配列されており、当該完全領域１０Ａと完全領域１０Ｂとを接続する境界部を形成する不完全領域２０は、完全領域１０Ａ及び１０Ｂに含まれる線状凸部の延在方向と同じ方向に延在している。
一方、図１において、隣り合う２つの完全領域１０Ｂと完全領域１０Ｄとは、完全領域１０Ｂの線状凹凸パターンに含まれる線状凸部１３の延在方向と、完全領域１０Ｄの線状凹凸パターンに含まれる線状凸部１３の延在方向とが、同じ方向であり、完全領域１０Ｂに含まれる線状凸部の延在方向に、完全領域１０Ｄに含まれる線状凸部の延在方向が接続するように、完全領域１０Ｂ及び完全領域１０Ｄが配列されており、当該完全領域１０Ｂと完全領域１０Ｄとを接続する境界部を形成する不完全領域２０は、完全領域１０Ｂ及び１０Ｄに含まれる線状凸部１３の延在方向に対し、直角の方向に延在している。
本開示において、完全領域に含まれる線状凹凸パターンの延在方向と、当該完全領域の境界部を形成する不完全領域とは、任意の角度をなしていてもよい。
【００３３】
本開示のワイヤグリッド偏光子１００において、前記不完全領域２０は、少なくとも、当該ワイヤグリッド偏光子１００の線状凹凸パターン表面を電子顕微鏡を用いて観察したときに、隣り合う任意の２つの完全領域を接続する境界部であることを認識することができる領域をいう。
電子顕微鏡としては、例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ、例えば、株式会社日立ハイテクノロジーズ製：走査電子顕微鏡ＳＵ−８０００）を用いることができる。また、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）の観察は、例えば、加速電圧１５ｋＶ、撮像倍率２５０００倍で行うことができる。
【００３４】
不完全領域２０の幅が７５ｎｍ未満である場合には、当該不完全領域２０を電子顕微鏡の観察で認識し難くなるが、単位モールドの転写により、一つの不完全領域２０の全長にわたって、当該不完全領域２０の幅が７５ｎｍ未満となるように凹凸パターンを繋ぐことは、現実的には困難であり、量産には適しない。
【００３５】
本開示のワイヤグリッド偏光子は、前記した不完全領域２０を少なくとも一つ有していればよいが、図１に示すように、不完全領域２０を二以上有していてもよい。
例えば、図１（Ｂ）においては、完全領域１０Ａと完全領域１０Ｂとの間、完全領域１０Ｂと完全領域１０Ｄとの間、完全領域１０Ｄと完全領域１０Ｃとの間、完全領域１０Ａと完全領域１０Ｃとの間にそれぞれ、不完全領域２０を有しており、合計４つの不完全領域２０が存在する。
図１（Ｂ）においては、完全領域１０Ａと完全領域１０Ｂとの間の不完全領域２０と、完全領域１０Ｃと完全領域１０Ｄとの間の不完全領域２０とが、互いに延在方向が同じであり、これらが互いの一端側において接続して連続的に延在している形態を示しているが、本開示においては、互いに隣り合う２つの完全領域を接続する境界部を形成する領域を、１つの不完全領域２０として数えるため、上記のような形態であっても、完全領域１０Ａと完全領域１０Ｂとの間の不完全領域２０と、完全領域１０Ｃと完全領域１０Ｄとの間の不完全領域２０とは、それぞれ別個の不完全領域とみなし、２つの不完全領域として数える。
【００３６】
本開示のワイヤグリッド偏光子１００において、不完全領域２０は、下記条件（ｉ）又は（ｉｉ）のうち少なくとも一つを満たす領域である。
【００３７】
（条件（ｉ））
境界部の両側に存在するどちらの完全領域が有する線状凹凸パターンの平面視形状とも異なる平面視形状を有する。
【００３８】
（条件（ｉｉ））
不完全領域が有する表面凹凸形状の凸部の平均高さが、境界部の両側に存在するどちらの完全領域が有する線状凹凸パターンの凸部の成す面の高さよりも低い。
【００３９】
不完全領域２０が、境界部の両側に存在するどちらの完全領域が有する線状凹凸パターンの平面視形状とも異なる平面視形状を有する場合の例としては、例えば、ワイヤグリッド偏光子１００の表面を平面視したときに、
（ａ）図２（Ａ）、（Ｂ）及び図３に示すように、完全領域１０Ａが有する線状凹凸パターンの線状凸部１３ａの幅１３１ａ及び完全領域１０Ｂが有する線状凹凸パターンの線状凸部１３ｂの幅１３１ｂのいずれよりも大きい幅を有する凸部２２を有する場合や、
（ｂ）図４（Ａ）、（Ｂ）及び図５に示すように、完全領域１０Ａが有する線状凹凸パターンの線状凹部１４ａの幅１４１ａ及び完全領域１０Ｂが有する線状凹凸パターンの線状凹部１４ｂの幅１４１ｂのいずれよりも大きい幅を有する凹部２３を有する場合が、典型的に挙げられる。
【００４０】
不完全領域２０が、境界部の両側に存在するどちらの完全領域が有する線状凹凸パターンの平面視形状とも異なる平面視形状を有する場合の例としては、図２（Ａ）、（Ｂ）及び図４（Ａ）、（Ｂ）において示した、上記（ａ）、（ｂ）の例に限られない。
例えば、図示しないが、ワイヤグリッド偏光子の表面を平面視したときに、
（ｃ）完全領域１０Ａが有する線状凹凸パターンの線状凸部１３ａの幅１３１ａ及び完全領域１０Ｂが有する線状凹凸パターンの線状凸部１３ｂの幅１３１ｂのいずれの幅よりも小さい幅を有する凸部を有する場合や、
（ｄ）完全領域１０Ａが有する線状凹凸パターンの線状凹部１４ａの幅１４１ａ及び完全領域１０Ｂが有する線状凹凸パターンの線状凹部１４ｂの幅１４１ｂのいずれの幅よりも小さい幅を有する凹部を有する場合、
（ｅ）線状凹凸パターンの幅が延在方向で変動する場合も、
不完全領域２０が、境界部の両側に存在するどちらの完全領域が有する線状凹凸パターンの平面視形状とも異なる平面視形状を有する場合の例として挙げられる。
【００４１】
不完全領域２０が上記（ｉ）の条件を満たす例としては、上記した（ａ）〜（ｅ）に示した例に限られず、例えば、図６に示すように、不完全領域２０の略全域において線状凸部が欠落し、凹凸形状が略無くなって、完全領域１０Ａ、１０Ｂの線状凹凸パターンの凹部が成す面（各凹部の底点を結んだ仮想面乃至仮想平面）と略同じ高さの面により不完全領域２０が形成されている場合や、図７に示すように、不完全領域２０の略全域において凹凸形状が略無くなって、完全領域１０Ａ、１０Ｂの線状凹凸パターンの凸部が成す面（各凸部の頂点を結んだ仮想面乃至仮想平面）と略同じ高さの面により不完全領域２０が形成されている場合も、上記（ｉ）の条件を満たす例として挙げられる。
なお、後述する製造方法による場合には、不完全領域２０が有する表面凹凸形状の凸部の平均高さは、当該不完全領域２０により形成される境界部の両側に存在する完全領域１０Ａが有する線状凹凸パターンの凸部の成す面の高さ及び完全領域１０Ｂが有する線状凹凸パターンの凸部の成す面の高さよりも低いか、又は完全領域１０Ａが有する線状凹凸パターンの凸部の成す面の高さ又は完全領域１０Ｂが有する線状凹凸パターンの凸部の成す面の高さと同じである。
【００４２】
なお、図１〜図７においては、完全領域１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄ…が有する線状凹凸パターンを構成する線状凸部１３が、各完全領域１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄ…内において同一の幅で形成されている場合の例を示しており、このような場合における、各完全領域１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄ…内における各線状凸部の幅を、便宜的に、「完全領域が有する線状凹凸パターンの線状凸部の幅」と示している。
また、図１〜図７においては、完全領域１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄ…が有する線状凹凸パターンを構成する線状凹部１４が、各完全領域１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄ…内において同一の幅で形成されている場合の例を示しており、このような場合における、各完全領域１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄ…内における各線状凹部の幅を、便宜的に、「完全領域が有する線状凹凸パターンの線状凹部の幅」と示している。
【００４３】
また、図１〜図７においては、各完全領域１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄ…が同一の線状凹凸パターンを有する場合の例について説明したが、隣り合う２つの完全領域が、互いに異なる線状凹凸パターンを有する場合には、不完全領域２０が、その両側に存在する完全領域が有する線状凹凸パターンの平面視形状のいずれとも異なる平面視形状を有していれば、当該不完全領域２０は、上記条件（ｉ）を満たし得る。
【００４４】
（条件（ｉｉ））
また、図８に示すように、不完全領域２０が有する表面凹凸形状の凸部の平均高さが、完全領域１０Ａが有する線状凹凸パターンの凸部の成す面１１Ａの高さ、及び完全領域１０Ｂが有する線状凹凸パターンの凸部の成す面１１Ｂの高さのいずれの高さよりも低い場合には、不完全領域２０の平面視形状が、完全領域１０Ａ又は完全領域１０Ｂの平面視形状と同じであっても、前記条件（ｉｉ）を満たし得る。
【００４５】
本開示において、「不完全領域２０が有する表面凹凸形状の凸部の平均高さ」は、前記不完全領域２０に含まれる全ての凸部の高さを測定し、測定された高さの平均値を算出して求める。
なお、本開示において、凸部の高さは、基材５０の表面から凸部の頂点までの高さを測定する。
【００４６】
本開示のワイヤグリッドの偏光子において、不完全領域２０は、前述したように、上記条件（ｉ）又は上記条件（ｉｉ）のうち、少なくとも一つを満たしていればよい。
例えば、不完全領域の平面視形状が、完全領域１０Ａが有する線状凹凸パターンの平面視形状、又は完全領域１０Ｂが有する線状凹凸パターンの平面視形状と同じであっても、不完全領域２０が有する表面凹凸形状の凸部の平均高さが、完全領域１０Ａが有する線状凹凸パターンの凸部の成す面１１Ａの高さ、及び完全領域１０Ｂが有する線状凹凸パターンの凸部の成す面１１Ｂの高さのいずれの高さよりも低い場合には、本開示のワイヤグリッド偏光子における不完全領域としての条件を満たし得る。
また、例えば、不完全領域２０が有する表面凹凸形状の凸部の平均高さが、完全領域１０Ａが有する線状凹凸パターンの凸部の成す面の高さ、又は完全領域１０Ｂが有する線状凹凸パターンの凸部の成す面の高さと同じ高さである場合でも、不完全領域２０が、完全領域１０Ａが有する線状凹凸パターンの平面視形状、及び完全領域１０Ｂが有する線状凹凸パターンの平面視形状のいずれとも異なる平面視形状を有している場合には、本開示のワイヤグリッド偏光子における不完全領域としての条件を満たし得る。
【００４７】
本開示のワイヤグリッド偏光子１００において、前記不完全領域２０の幅２１は、２μｍ以下である。
ここで、前記不完全領域２０の幅２１とは、前記一方の完全領域１０Ａの端部のある点２４と、隣接する前記他方の完全領域１０Ｂの端部のうち最短距離にある点２５との間の距離をいう。
前記不完全領域２０の幅２１は、電子顕微鏡で認識することができる範囲において、小さい方が好ましく、１．５μｍ以内であることが更に好ましく、１μｍ以内であることがより更に好ましい。
【００４８】
従来技術では、一方の完全領域と、当該一方の完全領域と隣り合う他方の完全領域とを接続する境界部を形成する不完全領域２０の幅が大きく、目視できてしまい、当該不完全領域の両側に存在する完全領域が有する線状凹凸パターンと比較して、線状凸部が欠落したり、線状凸部が幅広に残存したりする領域が、線状凹凸パターンの欠陥として目視できる大きさとなってしまったり、当該不完全領域の両側に存在する完全領域が有する線状凹凸パターンと比較して、当該線状凹凸パターンの凸部の成す面の高さよりも、表面凹凸形状の凸部の平均高さが低い領域が、線状凹凸パターンの欠陥として目視できる大きさとなってしまったりしてしまうため、線状凹凸パターンにより発揮される偏光子としての性能に悪影響を与えてしまっていた。
本開示のワイヤグリッド偏光子１００は、このように、前記不完全領域２０の幅２１が２μｍ以下であることにより、当該不完全領域２０を目視できない又は目視が困難であることから、線状凹凸パターンの欠陥も目視できない又は目視が困難である大きさとなって、線状凹凸パターンにより発揮される偏光子としての性能への悪影響を抑制することができる。
【００４９】
なお、図１〜８に示す例では、典型例として、不完全領域２０の両側に存在する、完全領域１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄ…の線状凹凸パターンに含まれる線状凸部１３の延在方向が、互いに平行をなす例について示したが、本開示のワイヤグリッド偏光子は、このような形態には限られず、不完全領域２０の両側に存在する、隣り合う２つの完全領域のうち、一方の完全領域の線状凹凸パターンに含まれる線状凸部の延在方向と、他方の完全領域の線状凹凸パターンに含まれる線状凸部の延在方向とが、例えば直角になるように、各々の線状凹凸パターンが形成されていてもよいし、一方の完全領域の線状凹凸パターンに含まれる線状凸部の延在方向に対し、他方の完全領域の線状凹凸パターンに含まれる線状凸部の延在方向が、１８０°未満の所定の角度をもって斜めに進行するように、各々の線状凹凸パターンが形成されていてもよい。
また、図１〜８に示す例では、典型例として、不完全領域２０の両側に存在する、完全領域１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄ…の線状凹凸パターンの周期が、互いに同じである例について示したが、本開示のワイヤグリッド偏光子は、このような形態には限られず、不完全領域２０の両側に存在する、隣り合う２つの完全領域のうち、一方の完全領域の線状凹凸パターンの周期や線幅と、他方の完全領域の線状凹凸パターンの周期や線幅とが、互いに異なっていてもよい。
なお、本開示において、「線状凹凸パターンの周期」とは、ピッチサイズを表し、具体的には、隣り合う線状凸部１３の中心間の間隔をいい、線幅とは一本の線状凸部１３の幅をいう。
【００５０】
前記不完全領域２０の幅は、必ずしも、図９（Ｂ）に示すような一定の幅でなくてもよく、当該不完全領域２０の延在方向に沿って変動していてもよい。
不完全領域２０は、例えば図９（Ｃ）に示すように、当該不完全領域２０の幅が漸次拡大して幅広となり、次いで漸次縮小して幅狭となる領域２０１を、一又は二以上含んでいてもよい。
不完全領域２０の幅が変動する場合、変動の態様に周期性があると、回折現象等が生じ易くなり、不完全領域２０を境界部として目視し易くなる傾向がある。このため、不完全領域２０の幅が変動する場合、図１０に示すように、その変動の態様には周期性が無いことが好ましい。
【００５１】
本開示において、不完全領域２０は、典型的には略直線状に延在するが、例えば図１１に示すように、曲線状に延在していてもよい。
【００５２】
また、図１２に示すように、不完全領域２０の少なくとも一部は、その延在方向が、当該不完全領域２０により形成される境界部の両側に存在する完全領域１０Ａ、１０Ｂのうちの少なくとも一方に含まれる線状凸部１３の延在方向に対して、傾いていることが好ましい。
言い換えると、不完全領域２０の少なくとも一部の延在方向と、当該不完全領域２０により形成される境界部の両側に存在する完全領域１０Ａ、１０Ｂのうちの少なくとも一方に含まれる線状凸部１３の延在方向とのなす角度θが、θ≠０°、θ≠１８０°であることが好ましい。
この場合、不完全領域２０において、線状凸部１３の側面部が連続して露出する領域の割合が減少するため、境界部としての不完全領域２０を目視し難くなる利点がある。
【００５３】
また、図１３に示すように、不完全領域２０の少なくとも一部は、その延在方向が、当該不完全領域２０により形成される境界部の両側に存在する完全領域１０Ａ及び完全領域１０Ｂのうち、完全領域１０Ａに含まれる線状凸部１３の延在方向及び完全領域１０Ｂに含まれる線状凸部１３の延在方向の両方に対して、傾いていることが、より好ましい。
言い換えると、不完全領域２０の少なくとも一部の延在方向は、当該不完全領域２０により形成される境界部の両側に存在する完全領域１０Ａ及び完全領域１０Ｂのうち完全領域１０Ａに含まれる線状凸部１３の延在方向とのなす角度θＡが、θＡ≠０°、θＡ≠１８０°であり、かつ完全領域１０Ｂに含まれる線状凸部１３の延在方向とのなす角度θＢが、θＢ≠０°、θＢ≠１８０°であることが好ましい。
この場合、図１２に示す形態と比較して、不完全領域２０において、線状凸部１３の側面部が連続して露出する領域の割合がより減少するため、境界部としての不完全領域２０を、より目視し難くなる利点がある。
【００５４】
また、本開示のワイヤグリッド偏光子において、完全領域の平面視形状、即ちワイヤ層を上から見下ろしたときの二次元形状は、長方形や正方形等の矩形形状には限定されず、他の多角形形状や任意の曲線で構成される形状であってもよい。完全領域の形状としては、例えば、ひし形、平行四辺形、正六角形、正三角形等が挙げられる。
例えば図１４に示すワイヤグリッド偏光子は、正六角形状を有する複数の完全領域６０を有しており、各完全領域６０の間に存在する不完全領域２０により形成される境界部により、これらの完全領域６０が接続されて構成されている。
即ち、ワイヤグリッド偏光子は、図１４に示すように、正六角形状の完全領域６０を含み、当該正六角形状の完全領域６０の少なくとも一つの頂点に、前記不完全領域２０により形成される境界部が３本集合し連結している連結部６１を有する。言い換えると、図１４に示すワイヤグリッド偏光子は、３つの正六角形状の完全領域６０が、１つの頂点を共有する状態で隣接し合っている。
従って、図１４に示すワイヤグリッド偏光子は、例えば図１に示すワイヤグリッド偏光子１００のように、四角形状の完全領域１０の頂点に、前記不完全領域２０により形成される境界部が４本集合して連結している構造と比較して、完全領域の凹凸パターンを形成する単位モールドの、繋ぎ目部分におけるアライメントのズレが生じにくくなるため、不完全領域２０が目立たないワイヤグリッドを形成できる。
なお、前記不完全領域２０により形成される境界部が、多角形状の頂点に集まる数は、例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ、例えば、株式会社日立ハイテクノロジーズ製：走査電子顕微鏡ＳＵ−８０００）により、加速電圧１５ｋＶ、撮像倍率１０００倍で観察したときに確認される本数とすることができる。
【００５５】
また、本開示のワイヤグリッド偏光子は、当該ワイヤグリッド偏光子に含まれる完全領域の全てが、隣り合う完全領域と、その全ての頂点を共有するように配置されたものには限定されず、例えば図１５に示すように、各完全領域が、隣り合う完全領域と、その頂点の一部を共有しないように配置されたものであってもよい。
即ち、図１５に示すワイヤグリッド偏光子は、正方形状の完全領域７０Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、…を含んでおり、このうち、完全領域７０Ａは、完全領域７０Ａに含まれる線状凸部１３と線状凹部１４とが交互に配列する方向に隣り合って配置された完全領域７０Ｂとは、互いにその頂点を共有しているが、完全領域７０Ａに含まれる線状凸部１３の延在方向に隣り合って配置された完全領域７０Ｃとは、互いにその頂点を共有していない。
即ち、互いに隣り合う完全領域７０Ａ及び完全領域７０Ｂの境界部を形成する不完全領域２０１と、互いに隣り合う完全領域７０Ｃ及び完全領域７０Ｄの境界部を形成する不完全領域２０２とが、互いにずれた位置に配置されている。
従って、図１５に示すワイヤグリッド偏光子は、正方形状の完全領域７０Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、…を含み、当該正方形状の完全領域７０の少なくとも一つの頂点に、各不完全領域２０により形成される境界部が３本集合し連結している連結部７１を有する構造を有している。
従って、図１５に示すワイヤグリッド偏光子は、例えば図１に示すワイヤグリッド偏光子１００のように、四角形状の完全領域１０の頂点に、前記不完全領域２０により形成される境界部が４本集合して連結している構造と比較して、完全領域の凹凸パターンを形成する単位モールドの、繋ぎ目部分におけるアライメントのズレが生じにくくなるため、不完全領域２０が目立たないワイヤグリッドを形成できる。
【００５６】
また、本開示のワイヤグリッド偏光子は、当該ワイヤグリッド偏光子に含まれる全ての完全領域が、互いに同一の大きさを有するものには限定されず、例えば、図１６に示すように、大サイズの正方形状を有する完全領域８０Ａ〜８０Ｈと、小サイズの正方形状を有する８０Ｉ〜８０Ｌとが、隣り合って配置された構成であってもよい。
即ち、図１６に示すワイヤグリッド偏光子は、ように、大サイズの正方形形状を有する完全領域８０Ａと完全領域８０Ｂとが、互いにその頂点を共有することなく、完全領域８０Ａに含まれる線状凸部１３と線状凹部１４とが交互に配列する方向に隣り合って配置されている。さらに、ワイヤグリッド偏光子は、完全領域８０Ａと完全領域８０Ｂとの境界部の延長線上において、小サイズの完全領域８０Ｉが、前記完全領域８０Ａに含まれる線状凸部１３と線状凹部１４とが交互に配列する方向に、当該完全領域Ａと、その頂点の一部を共有して隣り合うように配置されている。
図１６に示すワイヤグリッド偏光子は、上記した大サイズの正方形状を有する完全領域８０Ａ〜８０Ｈと、小サイズの正方形状を有する完全領域８０Ｉ〜８０Ｌとが、全体的にモザイク状に配列されて構成されている。
従って、図１６に示すワイヤグリッド偏光子は、大サイズの正方形状を有する完全領域８０Ａ〜８０Ｈと、小サイズの正方形状を有する８０Ｉ〜８０Ｌとを含み、当該正方形状の完全領域８０Ａ〜８０Ｈ及び完全領域８０Ｉ〜８０Ｌの少なくとも一つの頂点に、各不完全領域２０により形成される境界部が３本集合し連結している連結部８１を有する構造を有している。
従って、図１６に示すワイヤグリッド偏光子は、例えば図１に示すワイヤグリッド偏光子１００のように、四角形状の完全領域１０の頂点に、前記不完全領域２０により形成される境界部が４本集合して連結している構造と比較して、完全領域の凹凸パターンを形成する単位モールドの、繋ぎ目部分におけるアライメントのズレが生じにくくなるため、不完全領域２０が目立たないワイヤグリッドを形成できる。
【００５７】
また、本開示のワイヤグリッド偏光子は、当該ワイヤグリッド偏光子に含まれる全ての完全領域が、互いに同一の形状を有するものには限定されず、互いに異なる形状を有する完全領域が、隣り合って配置された構造を有していても良い。
【００５８】
また、図１４においては、不完全領域２０４〜２１２の延在方向が、当該不完全領域２０４〜２１２により形成される境界部の両側に存在する完全領域６０に含まれる線状凸部１３の延在方向に平行である例を示したが、正六角形状の完全領域６０Ａ〜６０Ｍを含む形態において、前記不完全領域２０の少なくとも一部の延在方向が、当該不完全領域２０により形成される境界部の両側に存在する完全領域６０のうちの少なくとも一方に含まれる線状凸部１３の延在方向に対して、傾いていることが好ましく、図１７に示すように、前記不完全領域２０の少なくとも一部の延在方向が、当該不完全領域２０により形成される境界部の両側に存在する完全領域６０に含まれる線状凸部１３の延在方向に対して、傾いていることが好ましい。
図１７に示す例では、完全領域６０Ａに含まれる線状凸部１３の延在方向は、完全領域６０Ａの正六角形状の対向する頂点６０Ａ１と頂点６０Ａ２とを結ぶ線分の延在方向に対して、所定の角度θをなして傾いており、完全領域６０Ｄに含まれる線状凸部１３の延在方向は、完全領域６０Ｄの正六角形状の対向する頂点６０Ｄ１と頂点６０Ｄ２とを結ぶ線分の延在方向に対して、所定の角度θをなして傾いている。これにより、完全領域６０Ａと完全領域６０Ｄとの境界部を形成する不完全領域２０４の延在方向が、完全領域６０Ａに含まれる線状凸部１３の延在方向及び完全領域６０Ｄに含まれる線状凸部１３の延在方向の双方に対して、それぞれ所定の角度θをなして傾いている。
図１７に示す例では、不完全領域２０４以外の不完全領域２０５〜２１２も、不完全領域２０４と同様に、各不完全領域２０５〜２１２によりそれぞれ形成される境界部の両側に存在する各完全領域６０に含まれる線状凸部１３の延在方向が、各完全領域６０の正六角形状の対向する頂点を結ぶ線分の延在方向に対して、所定の角度θをなして傾いており、これにより、不完全領域２０５〜２１２の延在方向が、当該不完全領域２０５〜２１２により形成される境界部の両側に存在する完全領域６０に含まれる線状凸部１３の延在方向に対して、所定の角度θをなして傾いている。
また、図１７に示す例では、例えば完全領域６０Ａと完全領域６０Ｂとの境界部を形成する不完全領域２１３も、その延在方向が、完全領域６０Ａに含まれる線状凸部１３の延在方向及び完全領域６０Ｂに含まれる線状凸部１３の延在方向の双方に対して、それぞれ所定の角度をなして傾いている。またさらに、不完全領域２１３の延在方向と平行な方向に延在する不完全領域（例えば不完全領域２１４）も同様に、その延在方向が、当該不完全領域により形成される境界部の両側に存在する完全領域６０に含まれる線状凸部１３の延在方向に対して、所定の角度をなして傾いている。
また、図１７に示す例では、例えば完全領域６０Ａと完全領域６０Ｅとの境界部を形成する不完全領域２１５も、その延在方向が、完全領域６０Ａに含まれる線状凸部１３の延在方向及び完全領域６０Ｅに含まれる線状凸部１３の延在方向の双方に対して、それぞれ所定の角度をなして傾いている。またさらに、不完全領域２１５の延在方向と平行な方向に延在する不完全領域（例えば不完全領域２１６）も同様に、その延在方向が、当該不完全領域により形成される境界部の両側に存在する完全領域６０に含まれる線状凸部１３の延在方向に対して、所定の角度をなして傾いている。
図１７に示す形態は、図１４に示す形態と比較して、不完全領域２０４〜２１２、２１３〜２１４及びこれに平行な不完全領域２０並びに２１５〜２１６及びこれに平行な不完全領域２０において、線状凸部１３の側面部が連続して露出する領域の割合がより減少するため、境界部としての不完全領域２０を、より目視し難くなる利点がある。
【００５９】
また、図１５においては、不完全領域２０１〜２０３の延在方向が、当該不完全領域２０１〜２０３により形成される境界部の両側に存在する完全領域７０に含まれる線状凸部１３の延在方向に平行である例を示したが、正方形状の完全領域７０Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ、…を含む形態において、前記不完全領域２０１〜２０３の少なくとも一部の延在方向が、当該不完全領域２０１〜２０３により形成される境界部の両側に存在する完全領域７０のうちの少なくとも一方に含まれる線状凸部１３の延在方向に対して、傾いていることが好ましく、図１８に示すように、前記不完全領域２０１〜２０３の少なくとも一部の延在方向が、当該不完全領域２０１〜２０３により形成される境界部の両側に存在する完全領域７０に含まれる線状凸部１３の延在方向に対して、傾いていることが好ましい。
図１８に示す例では、完全領域７０Ａに含まれる線状凸部１３の延在方向は、完全領域７０Ａの正方形状の対向する辺７０Ａ１及び７０Ａ２に対する垂線の延在方向に対して、所定の角度θをなして傾いており、完全領域７０Ｂに含まれる線状凸部１３の延在方向は、完全領域７０Ｂの正方形状の対向する辺７０Ｂ１及び７０Ｂ２に対する垂線の延在方向に対して、所定の角度θをなして傾いている。これにより、完全領域７０Ａと完全領域７０Ｂとの境界部を形成する不完全領域２０１の延在方向が、完全領域７０Ａに含まれる線状凸部１３の延在方向及び完全領域７０Ｂに含まれる線状凸部１３の延在方向の双方に対して、それぞれ所定の角度θをなして傾いている。
図１８に示す例では、不完全領域２０１以外の不完全領域２０２〜２０３も、不完全領域２０１と同様に、各不完全領域２０２〜２０３によりそれぞれ形成される境界部の両側に存在する各完全領域７０に含まれる線状凸部１３の延在方向が、各完全領域７０の正方形状の対向する辺に対する垂線の延在方向に対して、所定の角度θをなして傾いており、これにより、不完全領域２０２、２０３の延在方向が、当該不完全領域２０２、２０３により形成される境界部の両側に存在する完全領域７０に含まれる線状凸部１３の延在方向に対して、所定の角度θをなして傾いている。
また、図１８に示す例では、例えば、完全領域７０Ａと完全領域７０Ｃとの境界部を形成する不完全領域２１７も、その延在方向が、完全領域７０Ａに含まれる線状凸部１３の延在方向及び完全領域７０Ｃに含まれる線状凸部１３の延在方向の双方に対して、それぞれ所定の角度をなして傾いている。またさらに、不完全領域２１７の延在方向と平行な方向に延在する不完全領域（例えば不完全領域２１８）も同様に、その延在方向が、当該不完全領域により形成される境界部の両側に存在する完全領域７０に含まれる線状凸部１３の延在方向に対して、所定の角度をなして傾いている。
図１８に示す形態は、図１５に示す形態と比較して、不完全領域２０１〜２０３、不完全領域２１７〜２１８及びこれに平行な不完全領域２０において、線状凸部１３の側面部が連続して露出する領域の割合がより減少するため、境界部としての不完全領域２０を、より目視し難くなる利点がある。
【００６０】
また、図１６においては、不完全領域２１９〜２３１の延在方向が、当該不完全領域２１９〜２３１により形成される境界部の両側に存在する完全領域８０に含まれる線状凸部１３の延在方向に平行である例を示したが、正方形状の完全領域８０Ａ〜８０Ｌを含む形態において、前記不完全領域２１９〜２３１の少なくとも一部の延在方向が、当該不完全領域２１９〜２３１により形成される境界部の両側に存在する完全領域８０のうちの少なくとも一方に含まれる線状凸部１３の延在方向に対して、傾いていることが好ましく、図１９に示すように、前記不完全領域２１９〜２３１の少なくとも一部の延在方向が、当該不完全領域２１９〜２３１により形成される境界部の両側に存在する完全領域８０に含まれる線状凸部１３の延在方向に対して、傾いていることが好ましい。
図１９に示す例では、完全領域８０Ａに含まれる線状凸部１３の延在方向は、完全領域８０Ａの正方形状の対向する辺８０Ａ１及び８０Ａ２に対する垂線の延在方向に対して、所定の角度θをなして傾いており、完全領域８０Ｂに含まれる線状凸部１３の延在方向は、完全領域８０Ｂの正方形状の対向する辺８０Ｂ１及び８０Ｂ２に対する垂線の延在方向に対して、所定の角度θをなして傾いている。これにより、完全領域８０Ａと完全領域８０Ｂとの境界部を形成する不完全領域２１９の延在方向が、完全領域８０Ａに含まれる線状凸部１３の延在方向及び完全領域８０Ｂに含まれる線状凸部１３の延在方向の双方に対して、それぞれ所定の角度θをなして傾いている。
図１９に示す例では、不完全領域２１９以外の不完全領域２２０〜２３１も、不完全領域２１９と同様に、各不完全領域２２０〜２３１によりそれぞれ形成される境界部の両側に存在する各完全領域８０に含まれる線状凸部１３の延在方向が、各完全領域８０の正方形状の対向する辺に対する垂線の延在方向に対して、所定の角度θをなして傾いており、これにより、不完全領域２２０〜２３１の延在方向が、当該不完全領域２２０〜２３１により形成される境界部の両側に存在する完全領域８０に含まれる線状凸部１３の延在方向に対して、所定の角度θをなして傾いている。
また、図１９に示す例では、例えば完全領域８０Ａと完全領域８０Ｃとの境界部を形成する不完全領域２３２も、その延在方向が、完全領域８０Ａに含まれる線状凸部１３の延在方向及び完全領域８０Ｃに含まれる線状凸部１３の延在方向の双方に対して、それぞれ所定の角度をなして傾いている。またさらに、不完全領域２３２の延在方向と平行な方向に延在する不完全領域（例えば不完全領域２３３や不完全領域２３４）も同様に、その延在方向が、当該不完全領域により形成される境界部の両側に存在する完全領域８０に含まれる線状凸部１３の延在方向に対して、所定の角度をなして傾いている。
図１９に示す形態は、図１６に示す形態と比較して、不完全領域２１９〜２３１、不完全領域２３２〜２３４及びこれに平行な不完全領域２０において、線状凸部１３の側面部が連続して露出する領域の割合がより減少するため、境界部としての不完全領域２０を、より目視し難くなる利点がある。
【００６１】
本開示のワイヤグリッド偏光子の基材５０としては、光を透過し、且つワイヤ層１０を支持する機能を有すればよく、特に限定されるものではないが、例えば、石英ガラス、合成石英、フッ化マグネシウム等のリジッド材、あるいは、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。
尚、本開示において透明とは、波長２００〜４００ｎｍにおける光線透過率が５０％以上、好ましくは７０％以上であることを意味する。光線透過率の測定は、日本分光（株）製    Ｖ−６５０を用いて行うことができる。
基材５０の厚みは、用途に応じて適宜選択することができ、特に限定されないが、通常、１０μｍ以上１０００μｍ以下程度の範囲である。
【００６２】
本開示のワイヤグリッド偏光子のワイヤ層１０を形成する導電材料としては、例えば、アルミニウム、金、銀、銅、珪素化モリブデン、酸化チタン等の金属、金属化合物等の導電性材料、誘電性材料を挙げることができ、これらのいずれかを単独で、あるいは、組み合わせで使用することができる。ワイヤ層１０の厚みは、特に限定されないが、通常、１０〜１０００ｎｍの範囲で適宜設定することができる。
【００６３】
本開示のワイヤグリッド偏光子のワイヤ層１０によって形成された線状凹凸パターンの大きさとしては、周期が１０ｎｍ〜４００μｍ、凸部の高さ（凹部の深さ）が１０ｎｍ〜１０００μｍであることが挙げられる。
本開示のワイヤグリッド偏光子のワイヤ層１０によって形成されたの線状凹凸パターンとしては、所謂微小凹凸パターンを採用することができ、中でも、周期が９０ｎｍ〜４００ｎｍ、凸部の高さ（凹部の深さ）が８０ｎｍ〜１０００ｎｍである線状凹凸パターンが好適に用いられる。    
【００６４】
後述する本開示のワイヤグリッド偏光子の製造方法において用いる樹脂製モールドの転写に用いられる単位モールドとしては、その大きさは特に限定されないが、通常、２０ｍｍ×２０ｍｍ〜３００ｍｍ×３００ｍｍの範囲内のものを用いることができる。即ち、本開示のワイヤグリッド偏光子の完全領域の大きさは、通常、２０ｍｍ×２０ｍｍ〜３００ｍｍ×３００ｍｍの範囲内である。
但し、前記単位モールドの大きさは、上記した範囲には限定されず、例えば２０ｍｍ×２０ｍｍ未満の大きさのものを用いることが可能である。即ち、本開示のワイヤグリッド偏光子の完全領域の大きさは、必ずしも、２０ｍｍ×２０ｍｍ〜３００ｍｍ×３００ｍｍの範囲内に限られず、例えば２０ｍｍ×２０ｍｍより小さい大きさであってもよい。
本開示のワイヤグリッド偏光子のワイヤ層１０の大きさとしては、一辺の長さを、例えば２０ｍｍ以上とすることができ、更に１００ｍｍ以上、より更に３００ｍｍ以上とすることができる。但し、前記ワイヤ層１０の大きさは、上記した範囲には限定されず、例えば一辺の長さを２０ｍｍ未満とすることも可能である。
【００６５】
［ワイヤグリッド偏光子の製造方法］
本開示のワイヤグリッド偏光子は、どのような方法で製造してもよく、特に限定されるものではない。本開示のワイヤグリッド偏光子は、例えば、以下のように製造した樹脂製モールドを用いて製造することができる。
図２０、図２１は、本開示のワイヤグリッド偏光子の製造に用いる樹脂製モールドを製造する工程の一例を模式的に示した図である。
まず、図２０（Ａ）に示すように、支持体５１上に、パターンを形成する領域全体に樹脂層４１を有する凹凸パターン形成用基板と、単位モールド５２を準備する。図２０（Ａ）の樹脂層４１は熱可塑性樹脂を含有する樹脂層であり、加熱５３することにより、樹脂層４１を軟化する。樹脂層４１は、パターンを形成する領域全体において、均一の高さを有するように設ける。樹脂層の高さは、そのばらつきが±０．１μｍの範囲内に収まるように設けられることが好ましい。
次に、図２０（Ｂ）に示すように、軟化した樹脂層４１に、単位モールド５２を押圧することにより、単位モールド５２の凹凸パターンを前記樹脂層４１の一部に転写する。
次に、単位モールド５２が圧着された状態で、樹脂層４１を冷却５４することにより、樹脂層４１を硬化させ、樹脂層４１の一部に凹凸パターンを有する領域を形成し、その後、図２０（Ｃ）に示すように、単位モールド５２を剥離する。
次に、図２０（Ｄ）に示すように、次に凹凸パターンを形成する予定の領域（Ｙ）と、前記凹凸パターンを有する領域（Ｘ）のうち、次に凹凸パターンを形成する予定の領域（Ｙ）と隣接する側の一部とを含めて、樹脂層４１の部分加熱５３を行う。当該部分加熱５３により、図２０（Ｅ）に示すように、次に凹凸パターンを形成する予定の領域（Ｙ）と、前記凹凸パターンを有する領域（Ｘ）のうち、次に凹凸パターンを形成する予定の領域（Ｙ）と隣接する側の一部（Ｘ’）の樹脂層は、軟化し、形状が転写可能な状態になる。
【００６６】
次に、図２１（Ｆ）に示すように、軟化した樹脂層４１に、単位モールド５２を押圧することにより、単位モールド５２の凹凸パターンを前記樹脂層４１の一部に転写する。前記凹凸パターンを有する領域（Ｘ）の一部（Ｘ’）は、樹脂層が軟化しているため、単位モールド５２の凹凸パターンを上書きできる。前記領域（Ｘ）の一部（Ｘ’）に単位モールド５２を重ねて、前記単位モールドのパターンを転写することにより、転写されたパターンの間にパターンが形成されていない部分が発生することなく、小面積の単位モールドによるパターン同士をつなげ、単位モールドの繋ぎ目の段差を抑制することが可能となる。
図２１（Ｆ）に示すように、前記領域（Ｘ）の一部（Ｘ’）に単位モールド５２を重ねる際に、単位モールド５２の前記領域（Ｘ）の一部（Ｘ’）上の端部が、新たな凹凸パターンを形成することなく、前記領域（Ｘ）の一部（Ｘ’）に形成された凹凸パターンに含まれる凸部の一部を押圧する場合があり、その場合には、前記（Ｘ’）において、押圧された凸部が潰れて平坦面となるか、又は当該凸部の高さが、前記転写凹凸パターン領域の凸部の成す面の高さよりも低くなり、前記（Ｘ’）の一部に、前記転写凹凸パターン領域の凹部よりも幅広の凹部５５（図２１（Ｇ）参照）が形成される。
次に、単位モールド５２が圧着された状態で、樹脂層４１を冷却５４することにより、樹脂層４１を硬化させ、樹脂層４１の一部に凹凸パターンを有する領域を形成し、その後、図２１（Ｇ）に示すように、単位モールド５２を剥離する。
このようにして、図２１（Ｈ）に示すように、表面に単位モールド５２の凹凸パターンが複数回転写されて形成されており、隣り合う２つの転写凹凸パターン領域を接続する部分であり且つ凹部５５を有する転写境界部（Ｚ）を有する樹脂層４０を支持体５１上に備えており、繋ぎ目部分である転写境界部（Ｚ）が目視できないように、転写凹凸パターン領域が繋がれた樹脂製モールド２００Ａを得ることができる。
【００６７】
次いで、図２２（Ｉ）に示すように、ガラス基板３０１上にアルミニウム層３０２とシリカ層３０３が積層された積層体を準備する。
前記ガラス基板３０１上にアルミニウム層３０２とシリカ層３０３が積層された積層体の、シリカ層３０３上に、感光性組成物（レジスト）を塗布してレジスト層３０４を形成する。
次いで、図２２（Ｊ）に示すように、前記レジスト層３０４に、樹脂製モールド２００Ａを押し付け、樹脂製モールド２００Ａを押し付けたまま樹脂製モールド２００Ａ側から露光し、レジスト層３０４を硬化させ、レジスト層３０４に樹脂製モールド２００Ａの凹凸パターンを転写する。
次いで、樹脂製モールド２００Ａを剥離し、図２２（Ｋ）に示すように、表面にレジスト凹凸パターンが形成されている積層体を得る。
次いで、レジスト凹凸パターンの凹部の残膜をエッチングで除去後、更に、図２２（Ｌ）〜（Ｍ）に示すように、レジスト層３０４の凹部においてアルミニウム層３０２が露出するまで、凹部のシリカ層３０３をエッチングする。
前記エッチングとしては、ドライエッチングが用いられ、ドライエッチングとしては、イオンが主として関与する反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）や、ラジカルが主として関与するプラズマエッチング（ＰＥ）等を用いることができる。前記ドライエッチングにおいて用いられるエッチャントガスとしては、ドライエッチングを行う膜の材質に合わせて適宜選択されたエッチャントガスを使用する。
次いで、図２２（Ｎ）に示すように、凸部のシリカ層３０３をマスクとして、凹部に露出されているアルミニウム層３０２をエッチングすることにより、ガラス基板３０１上にアルミニウム層３０２による凸部を有する凹凸パターンを形成する。マスクとして用いられた凸部のシリカ層３０３は、適宜剥離処理かエッチングにより除かれる。このようにして、図２（Ｂ）に示すワイヤグリッド偏光子を得ることができる。
ワイヤグリッド偏光子の製造方法においては、他にも従来公知の他の工程を含んでいても良い。
ここで、前述した樹脂製モールド２００Ａの製造方法によれば、前記樹脂製モールド２００Ａにおいて繋ぎ目部分（Ｚ）が目視できないように単位モールドの凹凸パターンが繋がれていることから、被転写材料のレジストにも同様に、繋ぎ目部分（Ｚ）に対応する部分が目視できない凹凸パターンが、一回の工程により単位モールドの複数個分転写される。そのため、図２２（Ｋ）に示すように、レジスト層３０４に転写された繋ぎ目部分（Ｚ）の平面視形状が、その両側に存在する線状凹凸パターンの平面視形状のいずれとも異なっているにも関わらず、当該レジスト層３０４をマスクとし、シリカ層３０３をエッチングし、そのシリカ層３０３をマスクとして、下層のアルミニウム層３０２をエッチングした時に、前記繋ぎ目部分（Ｚ）に対応するアルミニウム層３０２中の繋ぎ目部分は、目視できない幅であり、欠陥が抑制された光学素子を製造することができる。
また、仮に、レジスト凹凸パターンの凹部の残膜をエッチングする際に、高い部分の凹部に合わせると低い部分の凸部のパターンがなくなってしまうという問題が生じたとしても、目視ができない幅であり、欠陥が抑制された光学素子を製造することができる。
図２（Ｂ）及び図３に示すワイヤグリッド偏光子は、前述したように、互いに同一の線状凹凸パターンをそれぞれ有する２以上の完全領域１０Ａ及び１０Ｂと、隣り合う２つの完全領域１０Ａ及び１０Ｂを接続する境界部を形成する部分であり、前述した樹脂製モールド２００Ａの繋ぎ目部分（Ｚ）に対応する部分である不完全領域２０を含んでおり、前記不完全領域２０が、当該境界部の両側に存在する完全領域１０Ａ及び１０Ｂのどちらが有する線状凹凸パターンの平面視形状とも異なる平面視形状を有している。
【００６８】
前述した図２２（Ｉ）〜（Ｎ）では、図２１（Ｆ）〜（Ｈ）に示す工程を経て得られた樹脂製モールド２００Ａを用いた場合を例に説明したが、前記領域（Ｘ）の一部（Ｘ’）に単位モールド５２を重ねる際に、図２３（Ｆ）に示すように、単位モールド５２の前記領域（Ｘ）の一部（Ｘ’）上の端部が、前記領域（Ｘ）の一部（Ｘ’）に形成された凹凸パターンに含まれる凸部の一部を、その側面から押圧する場合があり、その場合には、前記（Ｘ’）において、側面から押圧された凸部が隣の凸部と連結して一体となり、前記（Ｘ’）の一部に、前記転写凹凸パターン領域の凸部よりも幅広の凸部５６が形成される。この場合には、上記した点以外は図２１（Ｆ）〜（Ｈ）で説明したのと同様の手順に沿って、図２３（Ｆ）〜（Ｈ）に示す工程を行うことにより、図２３（Ｈ）に示す樹脂製モールド２００Ｂを得ることができる。
樹脂製モールド２００Ｂは、図２３（Ｈ）に示すように、表面に単位モールド５２の凹凸パターンが複数回転写されて形成されており、隣り合う２つの転写凹凸パターン領域を接続する部分であり且つ凸部５６を有する転写境界部（Ｚ）を有する樹脂層４０を支持体５１上に備えており、繋ぎ目部分である転写境界部（Ｚ）が目視できないように、転写凹凸パターン領域が繋がれている。
【００６９】
図２３（Ｆ）〜（Ｈ）に示す工程により得られた樹脂製モールド２００Ｂを用いる場合には、図２２（Ｉ）〜（Ｎ）で説明したのと同様の手順に沿って、図２４（Ｉ）〜（Ｎ）に示す工程を行うことにより、図４（Ｂ）に示すワイヤグリッド偏光子を得ることができる。
ここで、前述した樹脂製モールド２００Ｂの製造方法によれば、前記樹脂製モールド２００Ｂにおいて、繋ぎ目部分（Ｚ）が目視できないように単位モールドの凹凸パターンが繋がれていることから、被転写材料のレジストにも同様に、繋ぎ目部分（Ｚ）に対応する部分が目視できない凹凸パターンが、一回の工程により単位モールドの複数個分転写される。そのため、図２４（Ｋ）に示すように、レジスト層３０４に転写された繋ぎ目部分（Ｚ）の平面視形状が、その両側に存在する線状凹凸パターンの平面視形状のいずれとも異なっているにも関わらず、当該レジスト層３０４をマスクとし、シリカ層３０３をエッチングし、そのシリカ層３０３をマスクとして、下層のアルミニウム層３０２をエッチングした時に、前記繋ぎ目部分（Ｚ）に対応するアルミニウム層３０２中の繋ぎ目部分は、目視できない幅であり、欠陥が抑制された光学素子を製造することができる。
図４（Ｂ）及び図５に示すワイヤグリッド偏光子は、前述したように、互いに同一の線状凹凸パターンをそれぞれ有する２以上の完全領域１０Ａ及び１０Ｂと、隣り合う２つの完全領域１０Ａ及び１０Ｂを接続する境界部を形成する部分であり、前述した樹脂製モールド２００Ｂの繋ぎ目部分（Ｚ）に対応する部分である不完全領域２０を含んでおり、前記不完全領域２０が、当該境界部の両側に存在する完全領域１０Ａ及び１０Ｂのどちらが有する線状凹凸パターンの平面視形状とも異なる平面視形状を有している。
【００７０】
前述した図２２（Ｉ）〜（Ｎ）では、図２１（Ｆ）〜（Ｈ）に示す工程を経て得られた樹脂製モールド２００Ａを用いた場合を例に説明したが、前記領域（Ｘ）の一部（Ｘ’）に単位モールド５２を重ねる際に、図２５（Ｆ）に示すように、前記領域（Ｘ）の一部（Ｘ’）に元々形成されていた凹凸パターンの影響や、軟化されていない前記領域（Ｘ）の部分の影響により、単位モールド５２の前記領域（Ｘ）の一部（Ｘ’）上の端部のみが、次に凹凸パターンを形成する予定の領域（Ｙ）上に比べて十分に樹脂層に押圧できない場合があり、その場合には、前記領域（Ｘ’）における単位モールド５２の押圧が、次に凹凸パターンを形成する予定の領域（Ｙ）における単位モールド５２の押圧と比較して浅くなり、その部分だけ凹部が成す面の高さが、前記転写凹凸パターン領域の凹部が成す平面の高さよりも高くなる。
この場合には、上記した点以外は図２１（Ｆ）〜（Ｈ）で説明したのと同様の手順に沿って、図２５（Ｆ）〜（Ｈ）に示す工程を行うことにより、図２５（Ｈ）に示す樹脂製モールド２００Ｃを得ることができる。
樹脂製モールド２００Ｃは、図２５（Ｈ）に示すように、表面に単位モールド５２の凹凸パターンが複数回転写されて形成されており、隣り合う２つの転写凹凸パターン領域を接続する部分であり且つ凹部が成す面の高さが、前記転写凹凸パターン領域の凹部が成す平面の高さよりも高い転写境界部（Ｚ）を有する樹脂層４０を支持体５１上に備えており、繋ぎ目部分である転写境界部（Ｚ）が目視できないように、転写凹凸パターン領域が繋がれている。
【００７１】
図２５（Ｆ）〜（Ｈ）に示す工程により得られた樹脂製モールド２００Ｃを用いる場合には、図２２（Ｉ）〜（Ｎ）で説明したのと同様の手順に沿って、図２６（Ｉ）〜（Ｎ）に示す工程を行うことにより、図８（Ｂ）に示すワイヤグリッド偏光子を得ることができる。
ここで、前述した樹脂製モールド２００Ｃの製造方法によれば、前記樹脂製モールド２００Ｃにおいて、繋ぎ目部分（Ｚ）が目視できないように単位モールドの凹凸パターンが繋がれていることから、被転写材料のレジストにも同様に、繋ぎ目部分（Ｚ）に対応する部分が目視できない凹凸パターンが、一回の工程により単位モールドの複数個分転写される。そのため、図２６（Ｋ）に示すように、レジスト層３０４に転写された、繋ぎ目部分（Ｚ）に対応する部分の表面凹凸形状の凸部の平均高さが、その両側に存在するどちらの線状凹凸パターンの凸部の成す面の高さよりも低くなっているにも関わらず、当該レジスト層３０４をマスクとし、シリカ層３０３をエッチングし、そのシリカ層３０３をマスクとして、下層のアルミニウム層３０２をエッチングした時に、前記繋ぎ目部分（Ｚ）に対応するアルミニウム層３０２中の繋ぎ目部分は、目視できない幅であり、欠陥が抑制された光学素子を製造することができる。
図８（Ｂ）に示すワイヤグリッド偏光子は、前述したように、互いに同一の線状凹凸パターンをそれぞれ有する２以上の完全領域１０Ａ及び１０Ｂと、隣り合う２つの完全領域１０Ａ及び１０Ｂを接続する境界部を形成する部分であり、前述した樹脂製モールド２００Ｃの繋ぎ目部分（Ｚ）に対応する部分である不完全領域２０を含んでおり、前記不完全領域２０が有する表面凹凸形状の凸部の平均高さが、当該境界部の両側に存在する完全領域１０Ａ及び１０Ｂのどちらが有する線状凹凸パターンの凸部の成す面の高さよりも低くなっている。
【００７２】
前述した図２２（Ｉ）〜（Ｎ）では、図２１（Ｆ）〜（Ｈ）に示す工程を経て得られた樹脂製モールド２００Ａを用いた場合を例に説明したが、前記領域（Ｘ）の一部（Ｘ’）に単位モールド５２を重ねる際に、図２７（Ｆ）に示すように、前記領域（Ｘ）の一部（Ｘ’）に元々形成されていた凹凸パターンの影響や、単位モールド５２に対する押圧力のかけ具合等により、単位モールド５２の前記領域（Ｘ）の一部（Ｘ’）上の端部のみが、次に凹凸パターンを形成する予定の領域（Ｙ）上に比べて強く樹脂層に押圧される場合があり、その場合には、前記領域（Ｘ’）の一部における単位モールド５２の押圧が、次に凹凸パターンを形成する予定の領域（Ｙ）における単位モールド５２の押圧と比較して深くなり、その部分だけ凸部が成す面の高さが、前記転写凹凸パターン領域の凸部が成す平面の高さよりも低くなる（図２７（Ｇ）〜（Ｈ）参照）。
この場合には、上記した点以外は図２１（Ｆ）〜（Ｈ）で説明したのと同様の手順に沿って、図２７（Ｆ）〜（Ｈ）に示す工程を行うことにより、図２７（Ｈ）に示す樹脂製モールド２００Ｄを得ることができる。
樹脂製モールド２００Ｄは、図２７（Ｈ）に示すように、表面に単位モールド５２の凹凸パターンが複数回転写されて形成されており、隣り合う２つの転写凹凸パターン領域を接続する部分であり且つ凸部が成す面の高さが、前記転写凹凸パターン領域の凸部が成す平面の高さよりも低い転写境界部（Ｚ）を有する樹脂層４０を支持体５１上に備えており、繋ぎ目部分である転写境界部（Ｚ）が目視できないように、転写凹凸パターン領域が繋がれている。
【００７３】
図２７（Ｆ）〜（Ｈ）に示す工程により得られた樹脂製モールド２００Ｄを用いる場合には、図２２（Ｉ）〜（Ｎ）で説明したのと同様の手順に沿って、図２８（Ｉ）〜（Ｎ）に示す工程を行うことにより、図２９（Ｂ）に示すワイヤグリッド偏光子を得ることができる。
図２８（Ｉ）〜（Ｎ）に示す工程では、図２８（Ｋ）に示すように、レジスト層３０４に転写された、繋ぎ目部分（Ｚ）に対応する部分の凹部が成す面の高さが、その両側に存在するどちらの線状凹凸パターンの凹部が成す平面の高さよりも高くなっており、当該レジスト層３０４をマスクとし、シリカ層３０３をエッチングし、そのシリカ層３０３をマスクとして、下層のアルミニウム層３０２をエッチングした時には、前記繋ぎ目部分（Ｚ）に対応するアルミニウム層３０２の繋ぎ目部分には、凹部において、ガラス基板３０１が露出する状態までエッチングされずに残膜が残ることがある。この場合、エッチングにより得られたアルミニウム層３０３の凹凸パターンは、図２９（Ｂ）に示すように、前記繋ぎ目部分において、凸部同士が残膜によりつながった部分２６を有することとなる。この場合には、符号２６部分の平面視形状は、凸部と凹部が一連の領域として視認されるため、図３０に示すように、前記繋ぎ目部分は、その両側に存在する完全領域１０Ａ及び１０Ｂのどちらが有する線状凹凸パターンの平面視形状とも異なる平面視形状を有することになる。
ここで、前述した樹脂製モールド２００Ｄの製造方法によれば、前記樹脂製モールド２００Ｄにおいて、繋ぎ目部分（Ｚ）が目視できないように単位モールドの凹凸パターンが繋がれていることから、被転写材料のレジストにも同様に、繋ぎ目部分（Ｚ）に対応する部分が目視できない凹凸パターンが、一回の工程により単位モールドの複数個分転写される。
そのため、前記レジスト層３０４をマスクとし（図２８（Ｋ）参照）、シリカ層３０３をエッチングし、そのシリカ層３０３をマスクとして、下層のアルミニウム層３０２をエッチングした時に、前記繋ぎ目部分（Ｚ）に対応するアルミニウム層３０２中の繋ぎ目部分の平面視形状が、その両側に存在する線状凹凸パターンの平面視形状のいずれとも異なっているにも関わらず、当該繋ぎ目部分は目視できない幅であり、欠陥が抑制された光学素子を製造することができる。
図２９（Ｂ）及び図３０に示すワイヤグリッド偏光子は、前述したように、互いに同一の線状凹凸パターンをそれぞれ有する２以上の完全領域１０Ａ及び１０Ｂと、隣り合う２つの完全領域１０Ａ及び１０Ｂを接続する境界部を形成する部分であり、前述した樹脂製モールド２００Ｄの繋ぎ目部分（Ｚ）に対応する部分である不完全領域２０を含んでおり、前記不完全領域２０が、当該境界部の両側に存在する完全領域１０Ａ及び１０Ｂのどちらが有する線状凹凸パターンの平面視形状とも異なる平面視形状を有している。
【００７４】
以上説明したワイヤグリッド偏光子の製造方法を用いて製造されたワイヤグリッド偏光子は、繋ぎ目部分が目視できないように凹凸パターンが繋がれているので、転写境界部に起因する欠陥が抑制されたワイヤグリッド偏光子を製造することができる。
なお、本開示のワイヤグリッド偏光子は、前述した製造方法を用いて製造した樹脂製モールドのレプリカモールドを用いて凹凸パターンを形成して、製造するようにしてもよい。
【００７５】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【００７６】
ＩＩ．表示装置
図３１は、本開示の画像表示装置４００を示す断面図である。本開示の画像表示装置４００は、液晶表示装置であり、液晶表示パネル４０２の背面に、バックライト４０３が配置され、液晶表示パネル４０２のバックライト４０３側に、前述した本開示のワイヤグリッド偏光子１００が配置される。ここでバックライト４０３は、エッジライト型、直射型等、種々の構成の面光源装置を広く適用することができる。
液晶表示パネル４０２は、直交ニコル配置又は平行ニコル配置による直線偏光板４０６、ワイヤグリッド偏光子１００により液晶セル４０５を挟持して構成される。液晶セル４０５は、透明電極を形成したガラス基板により液晶材料を挟持して形成される。これにより画像表示装置４００は、液晶セル４０５に設けられた透明電極への印加電圧により画素単位で透過光を光強度変調して出力し、所望の画像を表示する。
【００７７】
ワイヤグリッド偏光子１００は、透過軸方向と直交する偏光面による入射光を選択的に効率良く反射するいわゆる反射型の偏光子である。ワイヤグリッド偏光子１００は、液晶セル４０５の入射面側（バックライト４０３側）に配置され、必要な直線偏光を透過すると同時に直交成分の光を反射、再利用する。これにより、画像表示装置４００は、従来の吸収型偏光板を用いる場合と比較して、バックライト４０３からの照明光の利用効率を向上する。
【００７８】
また、直線偏光板４０６に代えて、液晶セル４０５の出射面にワイヤグリッド偏光子１００を配置するようにしてもよい。
【符号の説明】
【００７９】
１０…ワイヤ層
１１Ａ、１１Ｂ…完全領域の凸部が成す平面  
１３、１３ａ、１３ｂ…線状凸部
１４、１４ａ、１４ｂ…線状凹部
２０、２０１〜２３４…不完全領域
５０…基材
１０Ａ〜１０Ｄ、６０、６０Ａ〜６０Ｍ、７０Ａ〜７０Ｆ、８０Ａ〜８０Ｌ、…完全領域
４１…樹脂層
５１…支持体
５２…単位モールド
５３…部分加熱
５４…冷却
５５…幅広の凹部
５６…幅広の凸部
６１、７１、８１…連結部
１００…ワイヤグリッド偏光子
２００Ａ〜２００Ｃ…樹脂製モールド
Ｚ…繋ぎ目部分
３０１…ガラス基板
３０２…アルミニウム層
３０３…シリカ層
３０４…レジスト層
４００…画像表示装置
４０２…液晶表示パネル
４０３…バックライト
４０５…液晶セル
４０６…直線偏光板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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