(57)【要約】【課題】第２配線の配線抵抗を低くする。【解決手段】アレイ基板（配線基２１は、第１金属膜３２からなるゲート配線（第１配線）２６と、第１金属膜３２との間にゲート絶縁膜（第１絶縁膜）３３が介在するよう配される第２金属膜３５からなりゲート配線２６と交差するよう延在するソース配線（第２配線）２７と、第１金属膜３２からなりゲート配線２６を挟むよう複数が配されてソース配線２７に並行するよう延在してソース配線２７に対して少なくとも一部ずつが重畳する補助配線部４１と、第２金属膜３５との間に、ゲート絶縁膜３３とは反対側に配される第１層間絶縁膜（第２絶縁膜）３６が介在するよう配される第３金属膜３８からなりゲート配線２６を跨ぐよう配されてソース配線２７と複数の補助配線部４１とを電気的に接続するブリッジ配線部４２と、を備える。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１金属膜からなる第１配線と、
前記第１金属膜との間に第１絶縁膜が介在するよう配される第２金属膜からなり前記第１配線と交差するよう延在する第２配線と、
前記第１金属膜からなり前記第１配線を挟むよう複数が配されて前記第２配線に並行するよう延在して前記第２配線に対して少なくとも一部ずつが重畳する補助配線部と、
前記第２金属膜との間に、前記第１絶縁膜とは反対側に配される第２絶縁膜が介在するよう配される第３金属膜からなり前記第１配線を跨ぐよう配されて前記第２配線と複数の前記補助配線部とを電気的に接続するブリッジ配線部と、を備える配線基板。
【請求項２】
前記ブリッジ配線部は、前記第２配線に対して前記第２絶縁膜を介して一部が重畳するとともに前記補助配線部に対して前記第１絶縁膜及び前記第２絶縁膜を介して一部が重畳しており、
前記第２絶縁膜には、前記ブリッジ配線部と前記第２配線との重畳箇所に配されて両者を接続する第１コンタクトホールが開口形成され、前記第１絶縁膜及び前記第２絶縁膜には、前記ブリッジ配線部と前記補助配線部との重畳箇所に配されて両者を接続する第２コンタクトホールが開口形成されている請求項１記載の配線基板。
【請求項３】
前記第３金属膜からなり少なくとも一部が前記第２配線に並行しつつ前記第２配線と重畳する第３配線を備える請求項２記載の配線基板。
【請求項４】
前記第３配線は、前記第２配線と重畳するよう配される第２配線重畳部と、前記ブリッジ配線部における前記第２配線との重畳箇所を迂回すべく前記第２配線とは非重畳とされて前記第１配線を跨ぐよう配される第２配線非重畳部と、を有する請求項３記載の配線基板。
【請求項５】
半導体材料からなるチャネル部を少なくとも有していて前記第１配線及び前記第２配線がそれぞれ接続されるスイッチング素子を備えており、
前記第２配線非重畳部は、前記チャネル部とは非重畳となるよう配される請求項４記載の配線基板。
【請求項６】
前記第１配線が接続されるゲート電極と、前記第２配線が接続されるソース電極と、半導体材料からなり一端側がソース電極に接続されるチャネル部と、前記チャネル部の他端側に接続されるドレイン電極と、を少なくとも有するスイッチング素子を備えており、
前記第２配線非重畳部は、前記ソース電極または前記ドレイン電極と重畳するよう配される請求項４または請求項５記載の配線基板。
【請求項７】
前記第１配線及び前記第２配線がそれぞれ接続されるスイッチング素子と、
前記スイッチング素子に接続される画素電極と、
前記画素電極に対して第３絶縁膜を介して少なくとも一部が重畳するよう配される共通電極と、
前記共通電極を分割してなり、位置入力を行う位置入力体との間で静電容量を形成し、前記位置入力体による入力位置を検出する複数の位置検出電極と、を備える請求項３から請求項６のいずれか１項に記載の配線基板。
【請求項８】
前記第２配線の延在方向について隣り合う前記位置検出電極の間に配されて前記第１金属膜、前記第２金属膜または前記第３金属膜からなる遮光部を備える請求項７記載の配線基板。
【請求項９】
前記遮光部は、前記第３金属膜からなる請求項８記載の配線基板。
【請求項１０】
前記遮光部は、前記第３配線に連なる請求項９記載の配線基板。
【請求項１１】
前記第１配線及び前記画素電極は、組をなしていて前記第２配線の延在方向について複数組並ぶよう配されるのに対し、前記スイッチング素子は、前記第１配線に対して一方側に隣り合う前記画素電極に対して接続され、前記遮光部は、前記第１配線と前記第１配線に対して他方側に隣り合う前記画素電極との間に配されており、
前記第２配線の延在方向について前記遮光部に隣り合う前記第１配線とは異なる前記第１配線と前記第１配線に対して他方側に隣り合う前記画素電極との間で且つ前記位置検出電極と重畳するよう配されて前記第３金属膜からなり前記第３配線に連なるダミー遮光部を備える請求項１０記載の配線基板。
【請求項１２】
前記位置検出電極は、前記第２配線の延在方向について複数が並んで配され、前記第３配線は、複数の前記位置検出電極に接続されるよう複数が配されており、
前記遮光部は、前記第３配線から分離されている請求項９記載の配線基板。
【請求項１３】
前記ブリッジ配線部は、前記第１配線を跨ぐ部分が前記第２配線と重畳するよう配される請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載の配線基板。
【請求項１４】
請求項１から請求項１３のいずれか１項に記載の配線基板と、
前記配線基板と対向状に配される対向基板と、を備える表示装置。
【請求項１５】
前記配線基板に設けられて前記第３金属膜からなり少なくとも一部が前記第２配線に並行しつつ前記第２配線と重畳する第３配線と、
前記配線基板と前記対向基板との間に介在して両基板間の間隔を保持するスペーサと、を備えており、
前記第３配線及び前記ブリッジ配線部は、それぞれの前記第１配線を跨ぐ部分が前記スペーサとは非重畳になるとともに間に前記スペーサを取り囲むよう配される請求項１４記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、配線基板及び表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置の一例として下記特許文献１に記載されたものが知られている。特許文献１に記載された液晶表示装置は、透明な絶縁基板と、前記絶縁基板上に第１方向に形成されているゲート線と、前記ゲート線と同一層に同一物質で第２方向に形成されており、前記ゲート線を境界として分離された多数の部分からなる補助修理線と、前記ゲート線及び前記補助修理線を覆う第１絶縁層と、前記補助修理線に沿って前記第１絶縁層上に第２方向に形成されているデータ線とを含む。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１１−１９４３６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記した特許文献１に記載された液晶表示装置によれば、工程を追加することなく、データ線断線不良を低減することができる補助修理線構造を実現することができる。しかしながら、データ線の断線修理に用いられる補助修理線は、画素電極と同じ透明電極膜からなる。透明電極膜は、ゲート線やデータ線などの金属膜に比べるとシート抵抗が高い材料であることから、透明電極膜からなる補助修理線を用いてデータ線の断線修理を行うと、断線修理したデータ線の配線抵抗が断線修理されないデータ線の配線抵抗よりも高くなるおそれがある。タッチパネル機能を内蔵したインセルタイプの液晶表示装置においては、データ線にデータ信号が伝送される書き込み期間が、タッチパネル機能を実現するためのセンシング期間に起因して短くなるため、データ線に伝送されるデータ信号に生じる電圧降下に伴って表示品位が悪化し易い、という問題があった。
【０００５】
本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、第２配線の配線抵抗を低くすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の配線基板は、第１金属膜からなる第１配線と、前記第１金属膜との間に第１絶縁膜が介在するよう配される第２金属膜からなり前記第１配線と交差するよう延在する第２配線と、前記第１金属膜からなり前記第１配線を挟むよう複数が配されて前記第２配線に並行するよう延在して前記第２配線に対して少なくとも一部ずつが重畳する補助配線部と、前記第２金属膜との間に、前記第１絶縁膜とは反対側に配される第２絶縁膜が介在するよう配される第３金属膜からなり前記第１配線を跨ぐよう配されて前記第２配線と複数の前記補助配線部とを電気的に接続するブリッジ配線部と、を備える。
【０００７】
このようにすれば、第１金属膜からなる第１配線と交差する第２配線は、第１金属膜との間に第１絶縁膜が介在するよう配される第２金属膜からなるので、第１配線との短絡が避けられている。第１配線と同じ第１金属膜からなり第２配線に並行するよう延在して第２配線に対して第１絶縁膜を介して少なくとも一部が重畳する補助配線部は、第１配線を挟むよう複数が配されることで、第１配線との短絡が避けられている。第１配線を跨ぐよう配されるブリッジ配線部は、第２金属膜との間に、第１絶縁膜とは反対側に配される第２絶縁膜が介在するよう配される第３金属膜からなるので、第１配線との短絡が避けられている。そして、ブリッジ配線部は、第２配線と第１配線を挟む複数の補助配線部とを電気的に接続しているから、第２配線に伝送される信号が、複数の補助配線部及びブリッジ配線部にも伝送されることになる。これにより、仮に第２配線に断線が生じた場合でも信号の伝送が可能となって第２配線の冗長性が向上するとともに、第２配線の配線抵抗が低下されて伝送される信号に電圧降下が生じ難くなる。しかも、複数の補助配線部及びブリッジ配線部は、それぞれ第１金属膜及び第３金属膜からなるので、従来のように透明電極膜からなる補助修理線を用いた場合に比べると、複数の補助配線部及びブリッジ配線部における配線抵抗を低くすることができる。また、複数の補助配線部は、第１配線と同じ第１金属膜からなるので、製造コストの低下を図る上でも好適となる。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、第２配線の配線抵抗を低くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の実施形態１に係る液晶表示装置に備わる液晶パネルのタッチ電極及びタッチ配線などを示す平面図
【図２】液晶パネルの画素配列を示す平面図
【図３】液晶パネルにおける図２のＡ−Ａ線断面図
【図４】アレイ基板に備わる第２透明電極膜のパターンを示す平面図
【図５】液晶パネルを構成するアレイ基板及びＣＦ基板におけるＴＦＴ付近を示す平面図
【図６】アレイ基板における図５のＢ−Ｂ線断面図
【図７】アレイ基板に備わる第１金属膜及び第２金属膜のパターンを示す平面図
【図８】アレイ基板に備わる第３金属膜のパターンを示す平面図
【図９】アレイ基板における図５のＣ−Ｃ線断面図
【図１０】アレイ基板における図５のＤ−Ｄ線断面図
【図１１】本発明の実施形態２に係る液晶パネルの画素配列を示す平面図
【図１２】アレイ基板に備わる第３金属膜のパターンを示す平面図
【図１３】液晶パネルを構成するアレイ基板及びＣＦ基板におけるＴＦＴ付近を示す平面図
【図１４】ＣＦ基板に備わるブラックマトリクス及びスペーサのパターンを示す平面図
【図１５】液晶パネルにおける図１３のＥ−Ｅ線断面図
【図１６】液晶パネルにおける図１３のＦ−Ｆ線断面図
【図１７】本発明の実施形態３に係る液晶パネルの画素配列を示す平面図
【図１８】アレイ基板に備わる第３金属膜のパターンを示す平面図
【発明を実施するための形態】
【００１０】
＜実施形態１＞
本発明の実施形態１を図１から図１０によって説明する。本実施形態では、表示機能及びタッチパネル機能（位置入力機能）を備える液晶表示装置（位置入力機能付き表示装置）１０について例示する。なお、各図面の一部にはＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸を示しており、各軸方向が各図面で示した方向となるように描かれている。また、図３，図６，図９及び図１０の上側を表側とし、同図下側を裏側とする。
【００１１】
図１は、液晶パネル１１の概略的な平面図である。液晶表示装置１０は、図１に示すように、横長の方形状をなしていて画像を表示可能な液晶パネル（表示装置、表示パネル、位置入力機能付き表示パネル）１１と、液晶パネル１１に対して表示に利用するための光を照射する外部光源であるバックライト装置（照明装置）と、を少なくとも備える。本実施形態では、液晶パネル１１の画面サイズが例えば１６インチ程度（具体的には１６．１インチ）とされるとともに、解像度が「ＦＨＤ」相当とされる。バックライト装置は、液晶パネル１１に対して裏側（背面側）に配置され、白色の光（白色光）を発する光源（例えばＬＥＤなど）や光源からの光に光学作用を付与することで面状の光に変換する光学部材などを有する。なお、バックライト装置の図示は省略している。
【００１２】
液晶パネル１１は、図１に示すように、画面の中央側部分が、画像が表示される表示領域（図１において一点鎖線により囲った範囲）ＡＡとされる。これに対し、液晶パネル１１の画面における表示領域ＡＡを取り囲む額縁状の外周側部分が、画像が表示されない非表示領域ＮＡＡとされる。液晶パネル１１は、一対の基板２０，２１を貼り合わせてなる。一対の基板２０，２１のうち表側（正面側）がＣＦ基板（対向基板）２０とされ、裏側（背面側）がアレイ基板（配線基板、アクティブマトリクス基板、素子基板）２１とされる。ＣＦ基板２０及びアレイ基板２１は、いずれもガラス基板の内面側に各種の膜が積層形成されてなる。なお、両基板２０，２１の外面側には、それぞれ図示しない偏光板が貼り付けられている。ＣＦ基板２０は、短辺寸法がアレイ基板２１の短辺寸法よりも短くされるのに対し、アレイ基板２１に対して短辺方向（Ｙ軸方向）についての一方の端部が揃う形で貼り合わせられている。従って、アレイ基板２１における短辺方向についての他方の端部は、ＣＦ基板２０に対して側方に突き出していてＣＦ基板２０とは非重畳となるＣＦ基板非重畳部２１Ａとされる。このＣＦ基板非重畳部２１Ａには、次述する表示機能やタッチパネル機能に係る各種信号を供給するためのドライバ（駆動回路部）１２及びフレキシブル基板（信号伝送部）１３が実装されている。ドライバ１２は、内部に駆動回路を有するＬＳＩチップからなり、アレイ基板２１に対してＣＯＧ（Chip On Glass）実装されており、フレキシブル基板１３によって伝送される各種信号を処理する。本実施形態では、液晶パネル１１の非表示領域ＮＡＡに、４つのドライバ１２がＸ軸方向に沿って間隔を空けて並んで配されている。フレキシブル基板１３は、絶縁性及び可撓性を有する合成樹脂材料（例えばポリイミド系樹脂等）からなる基材上に多数本の配線パターン（図示せず）を形成した構成とされる。フレキシブル基板１３は、その一端側が液晶パネル１１の非表示領域ＮＡＡに、他端側が図示しないコントロール基板（信号供給源）に、それぞれ接続されている。コントロール基板から供給される各種信号は、フレキシブル基板１３を介して液晶パネル１１に伝送され、非表示領域ＮＡＡにおいてドライバ１２による処理を経て表示領域ＡＡへ向けて出力される。また、アレイ基板２１の非表示領域ＮＡＡには、表示領域ＡＡをＸ軸方向について両側から挟み込む形で一対のゲート回路部ＧＤＭが設けられている。ゲート回路部ＧＤＭは、後述するゲート配線２６に走査信号を供給するためのものである。
【００１３】
本実施形態に係る液晶パネル１１は、画像を表示する表示機能と、表示される画像に基づいて使用者が入力する位置（入力位置）を検出するタッチパネル機能と、を併有しており、このうちのタッチパネル機能を発揮するためのタッチパネルパターンを一体化（インセル化）している。このタッチパネルパターンは、いわゆる投影型静電容量方式とされており、その検出方式が自己容量方式とされる。タッチパネルパターンは、図１に示すように、液晶パネル１１の板面内においてマトリクス状に並んで配される複数のタッチ電極（位置検出電極）３０から構成されている。タッチ電極３０は、液晶パネル１１の表示領域ＡＡに配されている。従って、液晶パネル１１の表示領域ＡＡは、入力位置を検出可能なタッチ領域（位置入力領域）とほぼ一致しており、非表示領域ＮＡＡが入力位置を検出不能な非タッチ領域（非位置入力領域）とほぼ一致している。そして、使用者が視認する液晶パネル１１の表示領域ＡＡの画像に基づいて位置入力をしようとして液晶パネル１１の表面（表示面）に導電体である図示しない指（位置入力体）を近づけると、その指とタッチ電極３０との間で静電容量が形成されることになる。これにより、指の近くにあるタッチ電極３０にて検出される静電容量には指が近づくのに伴って変化が生じ、指から遠くにあるタッチ電極３０とは異なるものとなるので、それに基づいて入力位置を検出することが可能となる。タッチ電極３０は、表示領域ＡＡにおいてＸ軸方向（タッチ配線３１を挟み込む画素電極２４の並び方向）及びＹ軸方向（タッチ配線３１の延在方向）に沿って複数ずつがマトリクス状に間隔を空けて並んで配されている。タッチ電極３０は、平面に視て略方形状をなしており、一辺の寸法が数ｍｍ（例えば約２ｍｍ〜６ｍｍ）程度とされる。従って、タッチ電極３０は、平面に視た大きさが後述する画素部ＰＸよりも遙かに大きくなっており、Ｘ軸方向及びＹ軸方向について複数（例えば数十程度）ずつの画素部ＰＸに跨る範囲に配置されている。複数のタッチ電極３０には、液晶パネル１１に設けられた複数のタッチ配線（第３配線、位置検出配線）３１が選択的に接続されている。タッチ配線３１は、Ｙ軸方向に沿って延在しており、Ｙ軸方向に沿って並ぶ複数のタッチ電極３０のうちの特定のタッチ電極３０に対して選択的に接続されている。なお、図１では、タッチ電極３０に対するタッチ配線３１の接続箇所（後述するタッチ配線用コンタクトホール）を黒丸にて図示している。さらにタッチ配線３１は、図示しない検出回路と接続されている。検出回路は、ドライバ１２に備えられていても構わないが、フレキシブル基板１３を介して液晶パネル１１の外部に備えられていても構わない。なお、図１は、タッチ電極３０の配列を模式的に表したものであり、タッチ電極３０の具体的な設置数、配置、平面形状などについては図示以外にも適宜に変更可能である。
【００１４】
図２は、液晶パネル１１を構成するアレイ基板２１の表示領域ＡＡにおける平面図である。タッチ電極３０には、図２に示すように、タッチ配線３１の一部と重畳するよう配されるタッチ配線重畳開口部（第３配線重畳開口部、位置検出配線重畳開口部）３０Ａが設けられている。タッチ配線重畳開口部３０Ａは、タッチ配線３１の延在方向であるＹ軸方向に並行する形でそれぞれ延在しており、平面に視て縦長形状（タッチ配線３１の延在方向を長手方向とした長手形状）とされる。また、タッチ配線重畳開口部３０Ａは、その幅寸法（Ｘ軸方向についての寸法）がタッチ配線３１の幅寸法よりも大きい。このように、タッチ配線重畳開口部３０Ａがタッチ配線３１の少なくとも一部ずつと重畳する形で配されることで、タッチ配線３１と、そのタッチ配線３１とは非接続とされるタッチ電極３０と、の間に生じ得る寄生容量が軽減される。これにより、位置検出に係る感度が良好なものとなる。
【００１５】
液晶パネル１１を構成するアレイ基板２１の表示領域ＡＡにおける内面側には、図２に示すように、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ、スイッチング素子）２３及び画素電極２４が設けられている。ＴＦＴ２３及び画素電極２４は、多数個ずつＸ軸方向及びＹ軸方向に沿って間隔を空けて並んでマトリクス状（行列状）に設けられている。これらＴＦＴ２３及び画素電極２４の周りには、互いに直交（交差）するゲート配線（第１配線、走査配線）２６及びソース配線（第２配線、信号配線、データ配線）２７が配設されている。ゲート配線２６は、概ねＸ軸方向に沿って延在するのに対し、ソース配線２７は、概ねＹ軸方向に沿って延在している。ゲート配線２６とソース配線２７とがそれぞれＴＦＴ２３のゲート電極２３Ａとソース電極２３Ｂとに接続され、画素電極２４がＴＦＴ２３のドレイン電極２３Ｃに接続されている。そして、ＴＦＴ２３は、ゲート配線２６及びソース配線２７にそれぞれ供給される各種信号に基づいて駆動され、その駆動に伴って画素電極２４への電位の供給を制御する。また、ＴＦＴ２３は、画素電極２４（ソース配線２７）に対してＸ軸方向について図２に示す左右に偏在している。ＴＦＴ２３は、画素電極２４（ソース配線２７）に対して左側に偏在するものと、画素電極２４（ソース配線２７）に対して右側に偏在するものと、がＹ軸方向について交互に繰り返し並ぶ配列とされており、ジグザグ状（千鳥状）に平面配置されている。画素電極２４は、平面形状が縦長の略方形（より詳細には、長辺はソース配線２７に沿うように屈曲している）とされており、その短辺方向がゲート配線２６の延在方向と、長辺方向がソース配線２７の延在方向と、それぞれ一致している。画素電極２４は、Ｙ軸方向について両側から一対のゲート配線２６により挟み込まれるとともに、Ｘ軸方向について両側から一対のソース配線２７により挟み込まれている。ゲート配線２６及び画素電極２４は、ＴＦＴ２３を介して接続されるもの同士が１つの組をなしており、その組がＹ軸方向について複数並ぶよう配されている、と言える。同様にソース配線２７及び画素電極２４は、ＴＦＴ２３を介して接続されるもの同士が１つの組をなしており、その組がＸ軸方向について複数並ぶよう配されている、なお、ＣＦ基板２０側には、図２では二点鎖線にて図示されるブラックマトリクス（画素間遮光部）２９が形成されている。ブラックマトリクス２９は、隣り合う画素電極２４の間を仕切るよう平面形状が略格子状をなしており、平面に視て画素電極２４の大部分と重畳する位置に画素開口部２９Ａを有している。この画素開口部２９Ａにより画素電極２４の透過光を液晶パネル１１の外部へ出光させることが可能とされる。ブラックマトリクス２９は、アレイ基板２１側の少なくともゲート配線２６及びソース配線２７（タッチ配線３１も含む）と平面に視て重畳する配置とされる。なお、ＴＦＴ２３及び画素電極２４の配置などに関しては後に改めて説明する。
【００１６】
図３は、液晶パネル１１における画素部ＰＸの中央部付近の断面図である。液晶パネル１１は、図３に示すように、一対の基板２０，２１間に配されて電界印加に伴って光学特性が変化する物質である液晶分子を含む液晶層（媒質層）２２を有している。なお、本実施形態では、図示を省略するが、一対の基板２０，２１の間には、両基板２０，２１間の間隔を保持するためのスペーサが設けられている。液晶パネル１１を構成するＣＦ基板２０の内面側における表示領域ＡＡには、青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）及び赤色（Ｒ）を呈する３色のカラーフィルタ２８が設けられている。カラーフィルタ２８は、互いに異なる色を呈するものがゲート配線２６（Ｘ軸方向）に沿って繰り返し多数並び、それらがソース配線２７（概ねＹ軸方向）に沿って延在することで、全体としてストライプ状に配列されている。これらのカラーフィルタ２８は、アレイ基板２１側の各画素電極２４と平面に視て重畳する配置とされている。Ｘ軸方向について隣り合って互いに異なる色を呈するカラーフィルタ２８は、その境界（色境界）がソース配線２７及びブラックマトリクス２９と重畳する配置とされる。この液晶パネル１１においては、Ｘ軸方向に沿って並ぶＲ，Ｇ，Ｂのカラーフィルタ２８と、各カラーフィルタ２８と対向する３つの画素電極２４と、が３色の画素部ＰＸをそれぞれ構成している。そして、この液晶パネル１１においては、Ｘ軸方向に沿って隣り合うＲ，Ｇ，Ｂの３色の画素部ＰＸによって所定の階調のカラー表示を可能な表示画素が構成されている。画素部ＰＸにおけるＸ軸方向についての配列ピッチは、例えば６０μｍ程度（具体的には６２μｍ）とされ、Ｙ軸方向についての配列ピッチは、例えば１８０μｍ程度（具体的には１８６μｍ）とされる。ブラックマトリクス２９は、隣り合うカラーフィルタ２８間を仕切る形で配されている。カラーフィルタ２８の上層側（液晶層２２側）には、ＣＦ基板２０のほぼ全域にわたってベタ状に配される平坦化膜（図示せず）が設けられている。なお、両基板２０，２１のうち液晶層２２に接する最内面には、液晶層２２に含まれる液晶分子を配向させるための配向膜（本実施形態では図示せず）がそれぞれ形成されている。
【００１７】
続いて、共通電極２５に関して図２から図４を参照しつつ説明する。図４は、アレイ基板２１に備わる共通電極２５（後述する第２透明電極膜４０）のパターンを示す平面図である。アレイ基板２１の表示領域ＡＡにおける内面側には、図２から図４に示すように、全ての画素電極２４と重畳する形で共通電極２５が画素電極２４よりも上層側に形成されている。共通電極２５は、タッチ信号（信号、位置検出信号）が供給されて位置入力体である指による入力位置を検出する期間（センシング期間）を除いて、常にほぼ一定の基準電位が供給されるものであり、表示領域ＡＡのほぼ全域にわたって延在している。共通電極２５のうち、各画素電極２４（詳細には後述する画素電極本体２４Ａ）と重畳する部分には、各画素電極２４の長辺方向に沿って延在する画素重畳開口部（画素重畳スリット、配向制御スリット）２５Ａが複数ずつ開口形成されている。なお、画素重畳開口部２５Ａの具体的な設置本数や形状や形成範囲などは、図示以外にも適宜に変更可能である。画素電極２４が充電されるのに伴って互いに重畳する画素電極２４と共通電極２５との間に電位差が生じると、画素重畳開口部２５Ａの開口縁と画素電極２４との間には、アレイ基板２１の板面に沿う成分に加えて、アレイ基板２１の板面に対する法線方向の成分を含むフリンジ電界（斜め電界）が生じる。従って、このフリンジ電界を利用することで液晶層２２に含まれる液晶分子の配向状態を制御することができる。つまり、本実施形態に係る液晶パネル１１は、動作モードがＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードとされている。そして、この共通電極２５は、既述したタッチ電極３０を構成している。共通電極２５は、既述した画素重畳開口部２５Ａに加えて、隣り合うタッチ電極３０の間を仕切る仕切開口部（仕切スリット）２５Ｂを有する。仕切開口部２５Ｂは、Ｘ軸方向に沿って共通電極２５の全長にわたって横断する部分と、概ねＹ軸方向に沿って共通電極２５の全長にわたって縦断する部分と、からなり、全体としては平面に視て略格子状をなしている。共通電極２５は、仕切開口部２５Ｂによって平面に視て碁盤目状に分割されて相互が電気的に独立した複数のタッチ電極３０からなる。従って、タッチ電極３０に接続されたタッチ配線３１は、表示機能に係る共通信号（基準電位信号）と、タッチ機能に係るタッチ信号と、を異なるタイミングでもって（時分割して）タッチ電極３０に供給する。このうちの共通信号は、同じタイミングで全てのタッチ配線３１に伝送されることで、全てのタッチ電極３０が基準電位となって共通電極２５として機能する。
【００１８】
ＴＦＴ２３及び画素電極２４の構成について図５を参照しつつ詳しく説明する。図５は、アレイ基板２１における所定のＴＦＴ２３付近を拡大した平面図である。ＴＦＴ２３は、図５に示すように、全体としてＸ軸方向に沿って延在する横長形状をなしており、接続対象とされる画素電極２４に対してＹ軸方向について図５に示す下側に隣り合う配置とされる。ＴＦＴ２３は、ゲート配線２６の一部（ソース配線２７などと重畳する部分）からなるゲート電極２３Ａを有する。ゲート電極２３Ａは、Ｘ軸方向に沿って延在する横長形状をなしていて、ゲート配線２６に供給される走査信号に基づいてＴＦＴ２３を駆動し、それによりソース電極２３Ｂとドレイン電極２３Ｃとの間の電流が制御される。ＴＦＴ２３は、ソース配線２７の一部（ゲート配線２６と重畳する部分）からなるソース電極２３Ｂを有する。ソース電極２３Ｂは、ＴＦＴ２３におけるＸ軸方向についての一端側に配されていてそのほぼ全域がゲート電極２３Ａと重畳するとともにチャネル部２３Ｄに接続される。ＴＦＴ２３は、ソース電極２３Ｂとの間に間隔を空けた位置、つまりＴＦＴ２３におけるＸ軸方向についての他端側に配されるドレイン電極２３Ｃを有する。ドレイン電極２３Ｃは、概ねＸ軸方向に沿って延在しており、その一端側がソース電極２３Ｂと対向状をなしてゲート電極２３Ａと重畳するとともにチャネル部２３Ｄに接続されるのに対し、他端側が画素電極２４に接続される。
【００１９】
画素電極２４は、図５に示すように、ブラックマトリクス２９の画素開口部２９Ａと重畳する概ね方形状の画素電極本体２４Ａと、画素電極本体２４ＡからＹ軸方向に沿ってＴＦＴ２３側に突出するコンタクト部２４Ｂと、からなる。このうちのコンタクト部２４Ｂは、ドレイン電極２３Ｃの他端側に対して重畳配置されており、それら重畳箇所同士が第１層間絶縁膜３６に開口形成された画素コンタクトホールＣＨ１を通して接続されている。なお、ゲート配線２６は、コンタクト部２４Ｂ及びドレイン電極２３Ｃの双方と重畳する範囲が切り欠かれている。この切り欠きは、ゲート配線２６と画素電極２４との間の容量を低減するために設けられている。また、ドレイン電極２３Ｃの他端は、ゲート配線２６と重畳している。これは、アレイ基板２１を製造する際に、ゲート配線２６に対してドレイン電極２３Ｃが位置ずれした場合でも、ゲート配線２６とドレイン電極２３Ｃ（すなわち画素電極２４）との間の容量が変動しないようにするために設けられている。ＴＦＴ２３は、後述するゲート絶縁膜３３を介してゲート電極２３Ａと重畳するとともに、ソース電極２３Ｂ及びドレイン電極２３Ｃに接続されるチャネル部２３Ｄを有する。チャネル部２３Ｄは、ゲート電極２３Ａと重畳するとともにＸ軸方向に沿って延在し、その一端側がソース電極２３Ｂに、他端側がドレイン電極２３Ｃに、それぞれ接続されている。そして、ゲート電極２３Ａに供給される走査信号に基づいてＴＦＴ２３がオン状態にされると、ソース配線２７に供給される画像信号（データ信号）は、ソース電極２３Ｂから半導体膜３４からなるチャネル部２３Ｄを介してドレイン電極２３Ｃへと供給される。その結果、画素電極２４が画像信号に基づいた電位に充電される。なお、共通電極２５は、チャネル部２３Ｄと重畳する範囲が切り欠かれている。この切り欠きは、ＴＦＴ２３がオフ状態のときに、共通電極２５（タッチ電極３０）の電位変動に伴い、ソース電極２３Ｂとドレイン電極２３Ｃとの間のリーク電流量が変動することを抑制するために設けられている。
【００２０】
ここで、アレイ基板２１の内面側に積層形成された各種の膜について図６を参照しつつ説明する。図６は、液晶パネル１１におけるＴＦＴ２３付近の断面図である。アレイ基板２１には、図６に示すように、下層側（ガラス基板側）から順に第１金属膜３２、ゲート絶縁膜３３、半導体膜３４、第２金属膜３５、第１層間絶縁膜３６、第１透明電極膜３７、第３金属膜３８、第２層間絶縁膜３９、第２透明電極膜４０が積層形成されている。第１金属膜３２、第２金属膜３５及び第３金属膜３８は、それぞれ銅、チタン、アルミニウム、モリブデン、タングステンなどの中から選択される１種類の金属材料からなる単層膜または異なる種類の金属材料からなる積層膜や合金とされることで導電性及び遮光性を有している。第１金属膜３２は、ゲート配線２６、ＴＦＴ２３のゲート電極２３Ａ、後述する補助配線部４１などを構成する。第２金属膜３５は、ソース配線２７やＴＦＴ２３のソース電極２３Ｂ及びドレイン電極２３Ｃなどを構成する。第３金属膜３８は、タッチ配線３１や後述するブリッジ配線部４２などを構成する。ゲート絶縁膜３３、第１層間絶縁膜３６及び第２層間絶縁膜３９は、それぞれ窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）等の無機材料からなる。ゲート絶縁膜３３は、下層側の第１金属膜３２と、上層側の半導体膜３４及び第２金属膜３５と、を絶縁状態に保つ。第１層間絶縁膜３６は、下層側の半導体膜３４及び第２金属膜３５と、上層側の第１透明電極膜３７及び第３金属膜３８と、を絶縁状態に保つ。第２層間絶縁膜３９は、下層側の第１透明電極膜３７及び第３金属膜３８と、上層側の第２透明電極膜４０と、を絶縁状態に保つ。半導体膜３４は、材料として例えば酸化物半導体、アモルファスシリコン等の半導体材料を用いた薄膜からなり、ＴＦＴ２３においてソース電極２３Ｂとドレイン電極２３Ｃとに接続されるチャネル部（半導体部）２３Ｄなどを構成する。第１透明電極膜３７及び第２透明電極膜４０は、透明電極材料（例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）など）からなる。第１透明電極膜３７は、画素電極２４などを構成する。第１透明電極膜３７及び第３金属膜３８は、共に第１層間絶縁膜３６の上層側に配されていて互いに同層に位置している。従って、第１透明電極膜３７からなる画素電極２４と、第３金属膜３８からなるタッチ配線３１及びブリッジ配線部４２などと、は、互いに同層に配されている、と言える。第２透明電極膜４０は、共通電極２５（タッチ電極３０）を構成する。なお、本実施形態では、タッチ配線３１及びブリッジ配線部４２は、第３金属膜３８からなる単層構造とされているが、例えば第１透明電極膜３７と第３金属膜３８との積層構造とすることも可能である。
【００２１】
続いて、表示領域ＡＡにおけるタッチ配線３１の構成について図２，図３，図５及び図６を参照して説明する。タッチ配線３１は、図２及び図３に示すように、第３金属膜３８からなり、第２金属膜３５からなるソース配線２７の大部分に対して第１層間絶縁膜３６を介して平面に視て重畳するよう配されている。このようにすれば、仮にタッチ配線の全域がソース配線２７とは非重畳となるよう配された場合に比べると、タッチ配線３１及びソース配線２７の配置スペースが削減されて開口率の向上を図る上で好適になっている。また、第３金属膜３８からなるタッチ配線３１と、第１金属膜３２からなるゲート配線２６及び第２金属膜３５からなるソース配線２７と、の短絡が間に介在する第１層間絶縁膜３６などにより避けられる。タッチ配線３１は、その大部分がソース配線２７に並行する形で概ねＹ軸方向に沿って延在しており、Ｙ軸方向に沿って並ぶ多数の画素電極２４に対してＸ軸方向について離間しつつ隣り合う配置とされている。つまり、タッチ配線３１及びそれと重畳するソース配線２７は、共に画素電極２４とは非重畳となる配置とされる。タッチ配線３１は、全てのソース配線２７に対して個別に重畳するよう配されており、その設置数がソース配線２７の設置数と一致している。また、タッチ配線３１と接続対象のタッチ電極３０との重畳箇所は、第２層間絶縁膜３９に開口形成されたタッチ配線用コンタクトホールＣＨ２（図１を参照）を通して接続されている。
【００２２】
より詳しくは、タッチ配線３１は、図２に示すように、ソース配線２７と重畳するソース配線重畳部（第２配線重畳部）３１Ａと、ソース配線２７とは非重畳とされてゲート配線２６を跨ぐよう配されるソース配線非重畳部（第２配線非重畳部）３１Ｂと、を有する。このうちのソース配線重畳部３１Ａは、ソース配線２７のうちの各ゲート配線２６を跨ぐ部分（各ソース電極２３Ｂを構成する部分を含む）を除いた大部分に対して重畳するよう複数が配されている。従って、ソース配線重畳部３１Ａは、Ｙ軸方向についてゲート配線２６と交互に並ぶ形で配されており、その数はゲート配線２６の並び数と同等とされる。つまり、Ｙ軸方向について隣り合うソース配線重畳部３１Ａの間には、ゲート配線２６が介在し、Ｙ軸方向について隣り合うゲート配線２６の間には、ソース配線重畳部３１Ａが介在する配置となる。一方、ソース配線非重畳部３１Ｂは、ソース配線２７のうちの各ゲート配線２６を跨ぐ部分に対してＸ軸方向についてオフセットした配置とされており、ゲート配線２６を跨ぎつつゲート配線２６を挟んだ配置の２つのソース配線重畳部３１Ａの間を繋いでいる。ソース配線非重畳部３１Ｂは、Ｙ軸方向についてソース配線重畳部３１Ａと交互に並ぶ形で配されており、その数はソース配線重畳部３１Ａの並び数と同等とされる。つまり、Ｙ軸方向について隣り合うソース配線非重畳部３１Ｂの間には、ソース配線重畳部３１Ａが介在し、Ｙ軸方向について隣り合うソース配線重畳部３１Ａの間には、ソース配線非重畳部３１Ｂが介在する配置となる。Ｙ軸方向について並ぶ複数のソース配線非重畳部３１Ｂは、いずれもソース配線２７に対してＸ軸方向について図２に示す左側にオフセットした配置とされる。従って、ある列に属するソース配線２７に対して接続対象となるＴＦＴ２３が図２に示す左側に配される行においては、ソース配線非重畳部３１Ｂは、そのＴＦＴ２３の一部に対して重畳する配置とされる。詳しくは、ソース配線非重畳部３１Ｂは、図５及び図６に示すように、ＴＦＴ２３のうちのドレイン電極２３Ｃと重畳するものの、チャネル部２３Ｄとは非重畳となる配置とされる。ここで、仮にソース配線非重畳部がＴＦＴ２３のチャネル部２３Ｄと重畳するよう配されると、バックゲート効果によりＴＦＴ２３に大きなオフリーク電流が生じるおそれがある。その点、上記したようにソース配線非重畳部３１ＢがＴＦＴ２３のチャネル部２３Ｄとは非重畳となるよう配されることで、ＴＦＴ２３に生じ得るオフリーク電流を抑制することができる。その上で、ソース配線非重畳部３１ＢがＴＦＴ２３を構成するドレイン電極２３Ｃと重畳するよう配されることで、配置スペースの削減が図られる。なお、ある列に属するソース配線２７に対して接続対象となるＴＦＴ２３が図２に示す右側に配される行においては、ソース配線非重畳部３１Ｂは、図２に示すように、上記した列に属するソース配線２７と、そのソース配線２７に対して図２に示す左側の列に属するＴＦＴ２３及び画素電極２４と、の間に配されている。
【００２３】
さて、本実施形態に係るアレイ基板２１には、図２に示すように、第１金属膜３２からなりゲート配線２６を挟むよう複数が配されてソース配線２７と重畳する補助配線部４１と、第３金属膜３８からなりゲート配線２６を跨ぐよう配されるブリッジ配線部４２と、が設けられている。これら補助配線部４１及びブリッジ配線部４２が第２金属膜３５からなるソース配線２７に対して電気的に接続されることで、ソース配線２７の複線化が図られている。先に、補助配線部４１の構成について図２及び図７を参照して説明する。図７は、アレイ基板２１に備わる第１金属膜３２及び第２金属膜３５のパターンを示す平面図である。補助配線部４１は、図２及び図７に示すように、ソース配線２７に並行するよう概ねＹ軸方向に沿って延在している。補助配線部４１は、ソース配線２７のうちの各ゲート配線２６を跨ぐ部分（各ソース電極２３Ｂを構成する部分を含む）を除いた大部分に対して重畳するよう複数が配されている。従って、補助配線部４１は、タッチ配線３１を構成するソース配線重畳部３１Ａと同様に、Ｙ軸方向についてゲート配線２６と交互に並ぶ形で配されており、その数はソース配線重畳部３１Ａの並び数と同一とされる。つまり、Ｙ軸方向について隣り合う補助配線部４１の間には、ゲート配線２６が介在し、Ｙ軸方向について隣り合うゲート配線２６の間には、補助配線部４１が介在する配置となる。このような配置により補助配線部４１は、ゲート配線２６と同じ第１金属膜３２からなるものの、ゲート配線２６と短絡することが避けられている。補助配線部４１は、タッチ配線３１を構成するソース配線重畳部３１ＡよりもＹ軸方向についての形成範囲が広くなっていて、Ｙ軸方向についての両端部がソース配線重畳部３１Ａの同両端部よりもゲート配線２６の近くにまで延出している。補助配線部４１は、ソース配線重畳部３１Ａのほぼ全域に対して重畳している。
【００２４】
次に、ブリッジ配線部４２の構成について図２及び図８を参照して説明する。図８は、アレイ基板２１に備わる第３金属膜３８のパターンを示す平面図である。ブリッジ配線部４２は、図２及び図８に示すように、ゲート配線２６を跨ぐよう配されるものの、第３金属膜３８からなるので、ゲート配線２６との間にはゲート絶縁膜３３及び第１層間絶縁膜３６が介在していてゲート配線２６との短絡が避けられている。ゲート配線２６を跨ぐブリッジ配線部４２は、ゲート配線２６を挟んだ配置の２つの補助配線部４１と、ソース配線２７と、に対してそれぞれ接続されている。この接続構造について次の段落にて詳しく説明する。ブリッジ配線部４２は、ゲート配線２６を跨ぐ部分であるブリッジ配線本体４２Ａがソース配線２７に並行するとともにソース配線２７のうちのゲート配線２６を跨ぐ部分に対して重畳するよう配されている。このようにすれば、仮にブリッジ配線本体がソース配線２７とは非重畳となる配置とされる場合に比べると、ソース配線２７及びそれに接続されるブリッジ配線部４２とゲート配線２６との間に生じ得る寄生容量が小さくなる。これにより、ゲート配線２６及びソース配線２７の負荷が軽減される。また、ブリッジ配線部４２がソース配線２７と重畳する分だけ配置スペースが削減されるので、開口率の向上を図る上でも好適である。ブリッジ配線部４２は、Ｙ軸方向について補助配線部４１と交互に並ぶ形で配されており、その数は補助配線部４１の並び数と同等とされる。つまり、Ｙ軸方向について隣り合うブリッジ配線部４２の間には、補助配線部４１が介在し、Ｙ軸方向について隣り合う補助配線部４１の間には、ブリッジ配線部４２が介在する配置となる。
【００２５】
続いて、ソース配線２７及び補助配線部４１と、ブリッジ配線部４２と、の接続構造について図５，図９及び図１０を参照して説明する。図９は、アレイ基板２１に備わるブリッジ配線部４２などをＹ軸方向に沿って切断した断面図である。図１０は、アレイ基板２１に備わるブリッジ配線部４２などをＸ軸方向に沿って切断した断面図である。補助配線部４１は、図５に示すように、Ｙ軸方向に沿って延在してソース配線２７と重畳する補助配線本体４１Ａと、補助配線本体４１Ａにおける両端部からＸ軸方向に沿って側方に突出する一対の補助配線側接続部４１Ｂを有している。一対の補助配線側接続部４１Ｂは、いずれも図５に示す右側、つまりソース配線２７に対してソース配線非重畳部３１Ｂがオフセットする側とは反対側に向けて突出しており、後述するブリッジ配線部４２に接続される。ソース配線２７は、Ｙ軸方向に沿って延在するソース配線本体２７Ａと、ソース配線本体２７Ａのうちのタッチ配線３１とは非重畳となる部分、つまりゲート配線２６を跨ぐ部分からＸ軸方向に沿って側方に突出するソース配線側接続部２７Ｂと、を有している。ソース配線側接続部２７Ｂは、ソース配線２７から図５に示す右側、つまり補助配線側接続部４１Ｂと同じ側に向けて突出しており、各補助配線部４１に備わる一対ずつの補助配線側接続部４１Ｂと重畳するよう複数配置されている。ソース配線側接続部２７Ｂは、後述するブリッジ配線部４２に接続される。
【００２６】
ブリッジ配線部４２は、図５に示すように、Ｙ軸方向に沿って延在してゲート配線２６を跨ぎつつソース配線２７と重畳するブリッジ配線本体４２Ａと、ブリッジ配線本体４２Ａにおける両端部からＸ軸方向に沿って側方に突出する一対のブリッジ配線側接続部４２Ｂと、を有する。一対のブリッジ配線側接続部４２Ｂは、ブリッジ配線本体４２Ａからいずれも図５に示す右側、つまり補助配線側接続部４１Ｂ及びソース配線側接続部２７Ｂと同じ側に向けて突出しており、補助配線側接続部４１Ｂ及びソース配線側接続部２７Ｂに対して重畳するよう配置されている。ここで、タッチ配線３１は、互いに重畳するブリッジ配線側接続部４２Ｂ、補助配線側接続部４１Ｂ及びソース配線側接続部２７Ｂを迂回するよう配索されている。つまり、タッチ配線３１は、ソース配線重畳部３１Ａとソース配線非重畳部３１Ｂとの境界位置が、ブリッジ配線側接続部４２Ｂに対してＹ軸方向についてゲート配線２６側とは反対側にオフセットした配置とされている。これにより、同じ第３金属膜３８からなるタッチ配線３１とブリッジ配線部４２との短絡が避けられている。そして、ブリッジ配線部４２のブリッジ配線側接続部４２Ｂとソース配線２７のソース配線側接続部２７Ｂとの重畳箇所には、図９に示すように、間に介在する第１層間絶縁膜３６に開口する形で第１コンタクトホールＣＨ３が形成されている。この第１コンタクトホールＣＨ３を通して第３金属膜３８からなるブリッジ配線側接続部４２Ｂと第２金属膜３５からなるソース配線側接続部２７Ｂとの接続がとられている。一方、ブリッジ配線部４２のブリッジ配線側接続部４２Ｂと補助配線部４１の補助配線側接続部４１Ｂとの重畳箇所には、図１０に示すように、ゲート絶縁膜３３及び第１層間絶縁膜３６に開口する形で第２コンタクトホールＣＨ４が形成されている。この第２コンタクトホールＣＨ４を通して第３金属膜３８からなるブリッジ配線側接続部４２Ｂと第１金属膜３２からなる補助配線側接続部４１Ｂとの接続がとられている。
【００２７】
以上のように、ゲート配線２６を跨いで配されるブリッジ配線部４２は、図９及び図１０に示すように、ソース配線２７と、ゲート配線２６を挟む複数の補助配線部４１と、を電気的に接続しているから、ソース配線２７に伝送される画像信号が、複数の補助配線部４１及びブリッジ配線部４２にも伝送されることになる。これにより、仮にソース配線２７に断線が生じた場合でも、補助配線部４１及びブリッジ配線部４２を介して画像信号を伝送することが可能となるので、ソース配線２７の冗長性が向上するとともに、ソース配線２７の配線抵抗が低下されて伝送される画像信号に電圧降下が生じ難くなる。特に、本実施形態では、アレイ基板２１が画像表示機能に加えてタッチパネル機能を備えた液晶パネル１１を構成しており、センシング期間が存在する分、画素電極２４に画像信号を書き込む書き込み期間が短いために画像信号の電圧降下が表示品位に与える影響が大きい傾向にあることから、表示品位の劣化を抑制する上で有用である。しかも、複数の補助配線部４１及びブリッジ配線部４２は、それぞれ第１金属膜３２及び第３金属膜３８からなるので、従来のように透明電極膜からなる補助修理線を用いた場合に比べると、複数の補助配線部４１及びブリッジ配線部４２における配線抵抗を低くすることができる。これにより、画素電極２４に供給される画像信号に電圧降下がより生じ難くなる。また、複数の補助配線部４１は、ゲート配線２６と同じ第１金属膜３２からなり、またブリッジ配線部４２は、タッチ配線３１と同じ第３金属膜３８からなるので、製造コストの低下を図る上でも好適となる。さらには、本実施形態では、ソース配線２７が補助配線部４１に対してブリッジ配線部４２を介して間接的に接続されているから、コンタクトホールをゲート絶縁膜３３のみに形成するための製造工程やフォトマスクの追加が不要であり、製造コストの低下を図る上で好適となる。また、Ｘ軸方向に沿って側方に突出するソース配線側接続部２７Ｂを設けていることから、仮にソース配線側接続部を設けずに、ソース配線を補助配線部に対してゲート絶縁膜３３に開口形成されたコンタクトホールを通して直接的に接続した場合にソース配線がコンタクトホール内に入ることで膜切れなどの不具合が生じ易くなるのに比べると、ソース配線２７にそのような不具合が生じ難くなるので、ソース配線２７が断線などし難くなる。これにより、画素電極２４に供給される画像信号に電圧降下がさらに生じ難くなる。
【００２８】
上記したブリッジ配線部４２を迂回するよう配索されるタッチ配線３１には、図２及び図８に示すように、Ｙ軸方向について隣り合うタッチ電極３０の間に配される遮光部４３が連なる形で設けられている。遮光部４３は、タッチ配線３１と同じ第３金属膜３８からなり、タッチ配線３１を構成するソース配線非重畳部３１Ｂに対して連ねられている。遮光部４３は、図５に示すように、多数のゲート配線２６のうちの特定の行に属するゲート配線２６と、そのゲート配線２６に対して図５に示す下側に配される画素電極２４と、の間に挟まれるよう配されている。つまり、遮光部４３は、特定のゲート配線２６と、そのゲート配線２６の接続対象とされる画素電極２４とはＹ軸方向について反対側に隣り合う画素電極２４と、の間に介在している。遮光部４３は、共通電極２５の仕切開口部２５ＢのうちのＸ軸方向に沿って延在する部分に隣接するゲート配線２６に対して隣り合うよう選択的に配置されている。この遮光部４３は、第３金属膜３８からなるので、第１金属膜３２からなるゲート配線２６と短絡することが避けられており、それによりゲート配線２６に対する配置自由度が高くなっている。これにより、遮光部４３をゲート配線２６に対してＹ軸方向について極めて近い配置をとることができるので、遮光部４３に起因して開口率が低下する事態を避けることができる。遮光部４３は、ソース配線非重畳部３１Ｂからゲート配線２６に並行するようＸ軸方向に沿って延在しており、その先端部がブリッジ配線部４２におけるブリッジ配線側接続部４２Ｂとの間に所定の間隔を空けた配置とされる。遮光部４３は、共通電極２５の仕切開口部２５Ｂのうち、Ｙ軸方向について隣り合うタッチ電極３０の間を仕切っていてＸ軸方向に沿って延在する部分に対して大部分が重畳するよう配されている。つまり、遮光部４３は、その大部分がタッチ電極３０とは非重畳の配置とされる。なお、遮光部４３においてＸ軸方向に沿って延在する両側縁部は、Ｙ軸方向について隣り合うタッチ電極３０に対して僅かながらも重畳している。このように、第３金属膜３８からなる遮光部４３がＹ軸方向について隣り合うタッチ電極３０の間に配されることで、Ｙ軸方向について隣り合うタッチ電極３０の間において共通電極２５と画素電極２４との間に生じる電界が局所的に不安定になることに起因して生じ得る漏れ光を遮ることができる。これにより、優れた表示品位が得られる。しかも、遮光部４３は、タッチ配線３１に連ねられているので、仮に遮光部をタッチ配線３１から分離した場合に比べると、遮光部４３が遮光機能に加えて、遮光部４３に対して隣り合うゲート配線２６と共通電極２５との間に生じ得る電界を遮蔽する機能を発揮することができる。
【００２９】
上記した構成の遮光部４３は、自身に隣り合うゲート配線２６と共通電極２５との間に生じ得る電界を遮蔽する機能を有する反面、ゲート配線２６に対して図５に示す下側に隣り合う画素電極２４との間に寄生容量を生じさせる。このため、仮にＹ軸方向について並ぶ複数組のゲート配線２６及び画素電極２４のうち、タッチ電極３０の間となる位置のみに選択的に遮光部が存在していると、遮光部と隣り合う画素電極２４と、遮光部とは隣り合わない画素電極２４と、で寄生容量に差が生じ、それに起因して表示ムラが生じるおそれがある。そこで、本実施形態に係るアレイ基板２１には、図２及び図８に示すように、共通電極２５の仕切開口部２５Ｂとは非重畳とされてタッチ電極３０と重畳するよう配されてタッチ配線３１に連なるダミー遮光部４４が設けられている。ダミー遮光部４４は、多数のゲート配線２６のうちの遮光部４３に隣接するゲート配線２６を除いたゲート配線２６と、そのゲート配線２６に対して図５に示す下側に配される画素電極２４と、の間に挟まれるよう配されている。つまり、ダミー遮光部４４は、遮光部４３が非配置とされる行を補完する形で配置されている。ダミー遮光部４４は、タッチ配線３１と同じ第３金属膜３８からなり、タッチ配線３１を構成するソース配線非重畳部３１Ｂに対して連ねられている。ダミー遮光部４４は、ゲート配線２６と、ゲート配線２６に対して図２に示す下側に配される画素電極２４と、の間に挟まれるよう配されている。つまり、ダミー遮光部４４は、ゲート配線２６と、そのゲート配線２６の接続対象とされる画素電極２４とはＹ軸方向について反対側に隣り合う画素電極２４と、の間に介在している。ダミー遮光部４４は、ソース配線非重畳部３１Ｂからゲート配線２６に並行するようＸ軸方向に沿って延在しており、その先端部がブリッジ配線部４２におけるブリッジ配線側接続部４２Ｂとの間に所定の間隔を空けた配置とされる。このように、ダミー遮光部４４は、ゲート配線２６及び画素電極２４に対する位置関係が遮光部４３の同位置関係と同等になっている。以上の構成によれば、遮光部４３とは隣り合わない画素電極２４が、ダミー遮光部４４と隣り合う関係になる。従って、遮光部４３と隣り合う画素電極２４と、遮光部４３とは隣り合わないもののダミー遮光部４４と隣り合う画素電極２４と、で寄生容量に差が生じ難くなるので、表示品位を良好に保つことができる。
【００３０】
以上説明したように本実施形態のアレイ基板（配線基板）２１は、第１金属膜３２からなるゲート配線（第１配線）２６と、第１金属膜３２との間にゲート絶縁膜（第１絶縁膜）３３が介在するよう配される第２金属膜３５からなりゲート配線２６と交差するよう延在するソース配線（第２配線）２７と、第１金属膜３２からなりゲート配線２６を挟むよう複数が配されてソース配線２７に並行するよう延在してソース配線２７に対して少なくとも一部ずつが重畳する補助配線部４１と、第２金属膜３５との間に、ゲート絶縁膜３３とは反対側に配される第１層間絶縁膜（第２絶縁膜）３６が介在するよう配される第３金属膜３８からなりゲート配線２６を跨ぐよう配されてソース配線２７と複数の補助配線部４１とを電気的に接続するブリッジ配線部４２と、を備える。
【００３１】
このようにすれば、第１金属膜３２からなるゲート配線２６と交差するソース配線２７は、第１金属膜３２との間にゲート絶縁膜３３が介在するよう配される第２金属膜３５からなるので、ゲート配線２６との短絡が避けられている。ゲート配線２６と同じ第１金属膜３２からなりソース配線２７に並行するよう延在してソース配線２７に対してゲート絶縁膜３３を介して少なくとも一部が重畳する補助配線部４１は、ゲート配線２６を挟むよう複数が配されることで、ゲート配線２６との短絡が避けられている。ゲート配線２６を跨ぐよう配されるブリッジ配線部４２は、第２金属膜３５との間に、ゲート絶縁膜３３とは反対側に配される第１層間絶縁膜３６が介在するよう配される第３金属膜３８からなるので、ゲート配線２６との短絡が避けられている。そして、ブリッジ配線部４２は、ソース配線２７とゲート配線２６を挟む複数の補助配線部４１とを電気的に接続しているから、ソース配線２７に伝送される信号が、複数の補助配線部４１及びブリッジ配線部４２にも伝送されることになる。これにより、仮にソース配線２７に断線が生じた場合でも信号の伝送が可能となってソース配線２７の冗長性が向上するとともに、ソース配線２７の配線抵抗が低下されて伝送される信号に電圧降下が生じ難くなる。しかも、複数の補助配線部４１及びブリッジ配線部４２は、それぞれ第１金属膜３２及び第３金属膜３８からなるので、従来のように透明電極膜からなる補助修理線を用いた場合に比べると、複数の補助配線部４１及びブリッジ配線部４２における配線抵抗を低くすることができる。また、複数の補助配線部４１は、ゲート配線２６と同じ第１金属膜３２からなるので、製造コストの低下を図る上でも好適となる。
【００３２】
また、ブリッジ配線部４２は、ソース配線２７に対して第１層間絶縁膜３６を介して一部が重畳するとともに補助配線部４１に対してゲート絶縁膜３３及び第１層間絶縁膜３６を介して一部が重畳しており、第１層間絶縁膜３６には、ブリッジ配線部４２とソース配線２７との重畳箇所に配されて両者を接続する第１コンタクトホールＣＨ３が開口形成され、ゲート絶縁膜３３及び第１層間絶縁膜３６には、ブリッジ配線部４２と補助配線部４１との重畳箇所に配されて両者を接続する第２コンタクトホールＣＨ４が開口形成されている。このようにすれば、ブリッジ配線部４２は、ソース配線２７に対して重畳する部分が第１層間絶縁膜３６に開口形成された第１コンタクトホールＣＨ３を通してソース配線２７に接続されるとともに、補助配線部４１に対して重畳する部分がゲート絶縁膜３３及び第１層間絶縁膜３６に開口形成された第２コンタクトホールＣＨ４を通して補助配線部４１に接続されている。このように、ソース配線２７が補助配線部４１に対してブリッジ配線部４２を介して間接的に接続されているから、コンタクトホールをゲート絶縁膜３３のみに形成するための製造工程やフォトマスクの追加が不要であり、製造コストの低下を図る上で好適となる。また、仮にソース配線を補助配線部に対してゲート絶縁膜３３に開口形成されたコンタクトホールを通して直接的に接続した場合にソース配線がコンタクトホール内に入ることで膜切れなどの不具合が生じ易くなるのに比べると、ソース配線２７にそのような不具合が生じ難くなるので、ソース配線２７が断線などし難くなる。
【００３３】
また、第３金属膜３８からなり少なくとも一部がソース配線２７に並行しつつソース配線２７と重畳するタッチ配線（第３配線）３１を備える。このようにすれば、タッチ配線３１は、少なくとも一部がソース配線２７に並行しつつソース配線２７と重畳するものの、第２金属膜３５との間に第１層間絶縁膜３６が介在する第３金属膜３８からなるので、ソース配線２７との短絡が避けられている。タッチ配線３１は、ブリッジ配線部４２と同じ第３金属膜３８からなるので、製造コストの低下を図る上でより好適となる。
【００３４】
また、タッチ配線３１は、ソース配線２７と重畳するよう配されるソース配線重畳部（第２配線重畳部）３１Ａと、ブリッジ配線部４２におけるソース配線２７との重畳箇所を迂回すべくソース配線２７とは非重畳とされてゲート配線２６を跨ぐよう配されるソース配線非重畳部（第２配線非重畳部）３１Ｂと、を有する。このようにすれば、タッチ配線３１のソース配線重畳部３１Ａがソース配線２７と重畳するよう配されることで、配置スペースの削減が図られる。タッチ配線３１のソース配線非重畳部３１Ｂがブリッジ配線部４２におけるソース配線２７との重畳箇所を迂回すべくソース配線２７とは非重畳とされてゲート配線２６を跨ぐよう配されることで、タッチ配線３１とブリッジ配線部４２とが短絡するのを避けることができる。
【００３５】
また、半導体材料からなるチャネル部２３Ｄを少なくとも有していてゲート配線２６及びソース配線２７がそれぞれ接続されるＴＦＴ（スイッチング素子）２３を備えており、ソース配線非重畳部３１Ｂは、チャネル部２３Ｄとは非重畳となるよう配される。仮にソース配線非重畳部がＴＦＴ２３のチャネル部２３Ｄと重畳するよう配されると、バックゲート効果によりＴＦＴ２３に大きなオフリーク電流が生じるおそれがある。その点、上記したようにソース配線非重畳部３１ＢがＴＦＴ２３のチャネル部２３Ｄとは非重畳となるよう配されることで、ＴＦＴ２３に生じ得るオフリーク電流を抑制することができる。
【００３６】
また、ゲート配線２６が接続されるゲート電極２３Ａと、ソース配線２７が接続されるソース電極２３Ｂと、半導体材料からなり一端側がソース電極２３Ｂに接続されるチャネル部２３Ｄと、チャネル部２３Ｄの他端側に接続されるドレイン電極２３Ｃと、を少なくとも有するＴＦＴ２３を備えており、ソース配線非重畳部３１Ｂは、ソース電極２３Ｂまたはドレイン電極２３Ｃと重畳するよう配される。このようにすれば、ＴＦＴ２３は、ゲート配線２６により供給される信号に基づいて駆動されると、ソース配線２７により供給される信号がソース電極２３Ｂから半導体材料からなるチャネル部２３Ｄを介してドレイン電極２３Ｃに供給される。ソース配線非重畳部３１ＢがＴＦＴ２３を構成するソース電極２３Ｂまたはドレイン電極２３Ｃと重畳するよう配されることで、配置スペースの削減が図られる。
【００３７】
また、ゲート配線２６及びソース配線２７がそれぞれ接続されるＴＦＴ２３と、ＴＦＴ２３に接続される画素電極２４と、画素電極２４に対して第２層間絶縁膜（第３絶縁膜）３９を介して少なくとも一部が重畳するよう配される共通電極２５と、共通電極２５を分割してなり、位置入力を行う位置入力体との間で静電容量を形成し、位置入力体による入力位置を検出する複数のタッチ電極（位置検出電極）３０と、を備える。このようにすれば、ゲート配線２６及びソース配線２７に供給される信号に基づいて駆動されるＴＦＴ２３により画素電極２４が充電される。画素電極２４と画素電極２４に対して第２層間絶縁膜３９を介して少なくとも一部が重畳する共通電極２５との間には、ＴＦＴ２３により充電された画素電極２４の電位に基づいた電位差が生じ得るものとされ、その電位差を利用して画像の表示がなされる。一方、共通電極２５を分割してなるタッチ電極３０は、位置入力を行う位置入力体との間で静電容量を形成していて位置入力体による入力位置を検出することができる。また、ソース配線２７の延在方向について隣り合うタッチ電極３０の間に配されて第１金属膜３２、第２金属膜３５または第３金属膜３８からなる遮光部４３を備える。ソース配線２７の延在方向について隣り合うタッチ電極３０の間では、タッチ電極３０である共通電極２５と画素電極２４との間に生じる電界が局所的に不安定になることに起因して光漏れが生じることが懸念されるが、遮光部４３は、第１金属膜３２、第２金属膜３５または第３金属膜３８からなり、ソース配線２７の延在方向について隣り合うタッチ電極３０の間に配されることで、ソース配線２７の延在方向について隣り合うタッチ電極３０の間から光が漏れ難くすることができる。しかも、遮光部４３によりゲート配線２６と共通電極２５との間に生じ得る電界を遮蔽することも可能となる。
【００３８】
また、遮光部４３は、第３金属膜３８からなる。仮に遮光部が第１金属膜３２からなる場合には、ゲート配線２６との短絡を避けるためにゲート配線２６に対して一定の間隔を空けた配置を採らざるを得ず、そのため開口率が低下するおそれがある。その点、遮光部４３は、第１金属膜３２に対してゲート絶縁膜３３及び第１層間絶縁膜３６が介在する第３金属膜３８からなるので、ゲート配線２６に対する配置自由度が高くなる。これにより、遮光部４３に起因して開口率が低下する事態を避けることができる。
【００３９】
また、遮光部４３は、タッチ配線３１に連なる。このようにすれば、遮光部４３が遮光機能に加えて、遮光部４３に対して隣り合うゲート配線２６と共通電極２５との間に生じ得る電界を遮蔽する機能を発揮することができる。
【００４０】
また、ゲート配線２６及び画素電極２４は、組をなしていてソース配線２７の延在方向について複数組並ぶよう配されるのに対し、ＴＦＴ２３は、ゲート配線２６に対して一方側に隣り合う画素電極２４に対して接続され、遮光部４３は、ゲート配線２６とゲート配線２６に対して他方側に隣り合う画素電極２４との間に配されており、ソース配線２７の延在方向について遮光部４３に隣り合うゲート配線２６とは異なるゲート配線２６とゲート配線２６に対して他方側に隣り合う画素電極２４との間で且つタッチ電極３０と重畳するよう配されて第３金属膜３８からなりタッチ配線３１に連なるダミー遮光部４４を備える。遮光部４３は、遮光部４３に対して隣り合うゲート配線２６と共通電極２５との間に生じ得る電界を遮蔽する機能を有する反面、ゲート配線２６に対して他方側に隣り合う画素電極２４との間に寄生容量を生じさせる。このため、仮にソース配線２７の延在方向について並ぶ複数組のゲート配線２６及び画素電極２４のうち、タッチ電極３０の間となる位置のみに遮光部が存在していると、遮光部と隣り合う画素電極２４と、遮光部とは隣り合わない画素電極２４と、で寄生容量に差が生じ、それに起因して表示ムラが生じるおそれがある。その点、ソース配線２７の延在方向について遮光部４３に隣り合うゲート配線２６とは異なるゲート配線２６とゲート配線２６に対して他方側に隣り合う画素電極２４との間で且つタッチ電極３０と重畳する位置には、第３金属膜３８からなりタッチ配線３１に連なるダミー遮光部４４が配されているから、遮光部４３とは隣り合わない画素電極２４が、ダミー遮光部４４と隣り合う関係になる。従って、遮光部４３と隣り合う画素電極２４と、遮光部４３とは隣り合わないもののダミー遮光部４４と隣り合う画素電極２４と、で寄生容量に差が生じ難くなるので、表示品位を良好に保つことができる。
【００４１】
また、ブリッジ配線部４２は、ゲート配線２６を跨ぐ部分がソース配線２７と重畳するよう配される。このようにすれば、仮にブリッジ配線部におけるゲート配線２６を跨ぐ部分がソース配線２７とは非重畳となる配置とされる場合に比べると、ソース配線２７及びそれに接続されるブリッジ配線部４２とゲート配線２６との間に生じ得る寄生容量が小さくなる。これにより、ゲート配線２６及びソース配線２７の負荷が軽減される。
【００４２】
また、本実施形態に係る液晶パネル（表示装置）１１は、上記記載のアレイ基板（配線基板）２１と、アレイ基板２１と対向状に配されるＣＦ基板（対向基板）２０と、を備える。このような構成の液晶パネル１１によれば、ソース配線２７の配線抵抗が低くなっているので、優れた表示品位が得られる。
【００４３】
＜実施形態２＞
本発明の実施形態２を図１１から図１６によって説明する。この実施形態２では、ブリッジ配線部１４２及び遮光部１４３の構成を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【００４４】
本実施形態に係る遮光部１４３は、図１１及び図１２に示すように、タッチ配線１３１から分離されている。詳しくは、遮光部１４３は、タッチ配線１３１と同じ第３金属膜１３８からなるものの、タッチ配線１３１のソース配線非重畳部１３１Ｂからは切り離されている。遮光部１４３は、上記した実施形態１と同様にＹ軸方向について隣り合うタッチ電極１３０の間に配されることで、Ｙ軸方向について隣り合うタッチ電極１３０の間において共通電極１２５と画素電極１２４との間に生じる電界が局所的に不安定になることに起因して生じ得る漏れ光を遮ることができる。また、遮光部１４３は、特定のゲート配線１２６と画素電極１２４との間に介在するよう平面配置されている。ここで、上記した実施形態１では、遮光部がタッチ配線１３１に連ねられているので、遮光部に対して隣り合うゲート配線１２６と共通電極１２５との間に生じ得る電界を遮蔽する機能を発揮することができるものの、その反面、遮光部と隣り合う特定の画素電極１２４との間に寄生容量が生じるために表示ムラが生じるおそれがある（図５を参照）。これを回避するため、上記した実施形態１では、遮光部１４３とは隣り合わない画素電極１２４に対して隣り合うダミー遮光部を配置し、そのダミー遮光部をタッチ配線１３１に連ねるようにしている。しかしながら、タッチ電極１３０に対して接続対象外となるタッチ配線１３１に連なるダミー遮光部が重畳すると、そのタッチ電極１３０と接続対象外のタッチ配線１３１との間に大きな寄生容量が生じ、それに起因してタッチ感度が低下することが懸念される。その点、本実施形態では、遮光部１４３がタッチ配線１３１から分離されているので、遮光部１４３に対して隣り合うゲート配線１２６と共通電極１２５との間に生じ得る電界を遮蔽する機能については持たなくなるものの、遮光部１４３と隣り合う特定の画素電極１２４との間に寄生容量が生じるのを避けることができる。これにより、遮光部１４３の設置に起因する表示ムラの発生が回避されるので、遮光部１４３とは隣り合わない画素電極１２４に対して隣り合うようダミー遮光部を設置せずに済む。従って、ダミー遮光部の設置に起因するタッチ感度の低下を回避することができる。
【００４５】
本実施形態に係るブリッジ配線部１４２は、図１１及び図１２に示すように、Ｙ軸方向に沿って延在するブリッジ配線本体１４２Ａが、ソース配線１２７とは非重畳となるよう配されている。詳しくは、ブリッジ配線部１４２を構成するブリッジ配線本体１４２Ａは、図１３に示すように、ソース配線１２７に対してＸ軸方向についてタッチ配線１３１のソース配線非重畳部１３１Ｂ側とは反対側（図１３に示す右側）にオフセットした配置とされている。このブリッジ配線本体１４２Ａの配置は、全てのブリッジ配線部１４２に共通している。従って、ゲート配線１２６とソース配線１２７との交差位置と、ゲート配線１２６とタッチ配線１３１との交差位置と、ゲート配線１２６とブリッジ配線部１４２との交差位置と、は、Ｘ軸方向について互いにオフセットしている。ブリッジ配線部１４２を構成する一対のブリッジ配線側接続部１４２Ｂは、ブリッジ配線本体１４２Ａにおける両端部からＸ軸方向についてソース配線１２７側に向けて突出し、ソース配線１２７のソース配線側接続部１２７Ｂと補助配線部１４１の補助配線側接続部１４１Ｂとに対してそれぞれ重畳するよう配されている。このような構成のブリッジ配線部１４２は、同じ第３金属膜１３８からなるタッチ配線１３１のソース配線非重畳部１３１Ｂと共に環状をなしており、その中心付近にゲート配線１２６とソース配線１２７との交差位置（ＴＦＴ１２３のソース電極１２３Ｂ）が存在する配置とされている。
【００４６】
一方、ＣＦ基板１２０には、図１４から図１６に示すように、アレイ基板１２１との間に介在して両基板１２０，１２１間の間隔を保持するスペーサ（基板間保持部）４５が設けられている。スペーサ４５は、例えば感光性樹脂材料からなり、ＣＦ基板１２０の表面からアレイ基板１２１側に向かって所定の突出長で突出する略柱状に形成されており、突出先端面がアレイ基板１２１の内面に当接している。ＣＦ基板１２０及びアレイ基板１２１における液晶層１２２に臨む内面には、液晶分子を配向させるための配向膜４６がそれぞれ設けられている。スペーサ４５は、ＣＦ基板１２０において平面に視て格子状をなすブラックマトリクス１２９のうちの各交差中心付近に平面配置されており、アレイ基板１２１におけるゲート配線１２６とソース配線１２７との交差位置と重畳する平面配置となっている。従って、スペーサ４５は、アレイ基板１２１側に設けられたゲート配線１２６及びソース配線１２７とは重畳するものの、タッチ配線１３１及びブリッジ配線部１４２とは非重畳とされる。そして、スペーサ４５は、環状をなすソース配線非重畳部１３１Ｂとブリッジ配線部１４２とによって周りが取り囲まれている。ここで、スペーサ４５は、その突出先端面がアレイ基板１２１の内面に配された配向膜４６に対して直接当接するため、例えば外力の作用に伴っていずれか一方の基板１２０，１２１に変形が生じると、スペーサ４５が配向膜４６に対して摺動し、その結果配向膜４６の削り滓などの破片が発生する場合がある。この配向膜４６の破片は、微小な輝点欠陥として視認される可能性がある。その点、上記したようにスペーサ４５の周りが環状をなすソース配線非重畳部１３１Ｂとブリッジ配線部１４２とによって取り囲まれているので、スペーサ４５に起因して配向膜４６の破片が生じ、その破片に起因して生じ得る漏れ光を、ソース配線非重畳部１３１Ｂ及びブリッジ配線部１４２によって遮ることができる。これにより、表示品位の向上が図られる。
【００４７】
以上説明したように本実施形態によれば、タッチ電極１３０は、ソース配線１２７の延在方向について複数が並んで配され、タッチ配線１３１は、複数のタッチ電極１３０に接続されるよう複数が配されており、遮光部１４３は、タッチ配線１３１から分離されている。このようにすれば、タッチ配線１３１は、タッチ電極１３０に対して位置検出のための信号と、画像表示のための信号と、を時分割して供給する。遮光部１４３がタッチ配線１３１から分離されることで、電界を遮蔽する機能については持たなくなるものの、次の効果が得られる。仮に、遮光部をタッチ配線１３１に連ねると、電界を遮蔽する機能を発揮することができるものの、その反面、遮光部と隣り合う特定の画素電極１２４との間に寄生容量が生じるために表示ムラが生じるおそれがある。これを回避するには、遮光部とは隣り合わない画素電極１２４に対して隣り合うダミー遮光部を配置し、そのダミー遮光部をタッチ配線１３１に連ねることが考えられる。しかしながら、タッチ電極１３０に対して接続対象外となるタッチ配線１３１に連なるダミー遮光部が重畳すると、そのタッチ電極１３０と接続対象外のタッチ配線１３１との間に大きな寄生容量が生じ、それに起因して位置検出感度が低下することが懸念される。その点、遮光部１４３がタッチ配線１３１から分離されていれば、遮光部１４３と隣り合う特定の画素電極１２４との間に寄生容量が生じるのを避けることができる。これにより、遮光部１４３とは隣り合わない画素電極１２４に対して隣り合うようダミー遮光部を設置せずに済む。
【００４８】
また、本実施形態に係る液晶パネル１１１は、アレイ基板１２１に設けられて第３金属膜１３８からなり少なくとも一部がソース配線１２７に並行しつつソース配線１２７と重畳するタッチ配線１３１と、アレイ基板１２１とＣＦ基板１２０との間に介在して両基板１２０，１２１間の間隔を保持するスペーサ４５と、を備えており、タッチ配線１３１及びブリッジ配線部１４２は、それぞれのゲート配線１２６を跨ぐ部分がスペーサ４５とは非重畳になるとともに間にスペーサ４５を取り囲むよう配される。このようにすれば、アレイ基板１２１とＣＦ基板１２０との間には、スペーサ４５が介在することで、両基板１２０，１２１間の間隔が保持される。タッチ配線１３１は、少なくとも一部がソース配線１２７に並行しつつソース配線１２７と重畳するものの、第２金属膜１３５との間に第１層間絶縁膜１３６が介在する第３金属膜１３８からなるので、ソース配線１２７との短絡が避けられている。タッチ配線１３１は、ブリッジ配線部１４２と同じ第３金属膜１３８からなるので、製造コストの低下を図る上でより好適となる。そして、同じ第３金属膜１３８からなるタッチ配線１３１及びブリッジ配線部１４２は、それぞれのゲート配線１２６を跨ぐ部分がスペーサ４５とは非重畳になるとともに間にスペーサ４５を取り囲むよう配されているから、スペーサ４５に起因して生じ得る漏れ光を、タッチ配線１３１及びブリッジ配線部１４２によって遮ることができる。これにより、表示品位の向上が図られる。
【００４９】
＜実施形態３＞
本発明の実施形態３を図１７または図１８によって説明する。この実施形態３では、上記した実施形態１から遮光部２４３の構成を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【００５０】
本実施形態に係る遮光部２４３は、図１７及び図１８に示すように、上記した実施形態２と同様に、タッチ配線２３１から分離されている。遮光部２４３の具体的な構成、作用及び効果は、上記した実施形態２に記載した通りである。本実施形態は、上記した実施形態１のようにブリッジ配線部２４２のブリッジ配線本体２４２Ａがソース配線２２７と重畳する配置であっても、遮光部２４３をタッチ配線２３１から切り離した構成を採ることができ、それによりダミー遮光部の設置を省略することができるものである。
【００５１】
＜他の実施形態＞
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
（１）上記した各実施形態では、ブリッジ配線部がソース配線と補助配線部とにそれぞれ接続される構成を示したが、補助配線部がソース配線とブリッジ配線部とに対してそれぞれ接続される構成であっても構わない。すなわち、補助配線部は、ソース配線に対してゲート絶縁膜を介して少なくとも一部が重畳するとともにブリッジ配線部に対してゲート絶縁膜及び第１層間絶縁膜を介して一部が重畳しており、ゲート絶縁膜には、補助配線部とソース配線との重畳箇所に配されて両者を接続する第１コンタクトホールが開口形成され、ゲート絶縁膜及び第１層間絶縁膜には、補助配線部とブリッジ配線部との重畳箇所に配されて両者を接続する第２コンタクトホールが開口形成される構成であっても構わない。
（２）上記した（１）の構成を採る場合には、補助配線部は、ソース配線と重畳する補助配線本体と、補助配線本体から側方に突出してブリッジ配線部の一部と重畳する補助配線側接続部と、を有するのが好ましい。また、ブリッジ配線部の全域がソース配線とは非重畳の配置であっても構わない。
（３）上記した各実施形態では、ブリッジ配線部がソース配線と補助配線部とにそれぞれ接続される構成を示したが、ソース配線が補助配線部とブリッジ配線部とに対してそれぞれ接続される構成であっても構わない。すなわち、ソース配線は、補助配線部に対してゲート絶縁膜を介して少なくとも一部が重畳するとともにブリッジ配線部に対して第１層間絶縁膜を介して一部が重畳しており、ゲート絶縁膜には、ソース配線と補助配線部との重畳箇所に配されて両者を接続する第１コンタクトホールが開口形成され、第１層間絶縁膜には、ソース配線とブリッジ配線部との重畳箇所に配されて両者を接続する第２コンタクトホールが開口形成される構成であっても構わない。ソース配線は、ブリッジ配線の端部と重畳するようＸ軸方向に沿って側方に突出するパッド部を有する構成とされるのが好ましい。
（４）上記した（３）の構成を採る場合には、ソース配線は、補助配線部と重畳するソース配線本体と、ソース配線本体から側方に突出してブリッジ配線部の一部と重畳するソース配線側接続部と、を有するのが好ましい。また、ブリッジ配線部の全域が補助配線部とは非重畳の配置であっても構わない。
（５）上記した各実施形態では、タッチ配線がソース配線非重畳部を有する構成を示したが、タッチ配線がほぼ全長にわたってソース配線本体と重畳していてソース配線非重畳部を有さない構成であっても構わない。その場合は、タッチ配線と同じ第３金属膜からなるブリッジ配線部がソース配線本体とは非重畳となるよう配置すればよい。なお、ソース配線は、ソース配線本体から側方に突出してタッチ配線とは非重畳とされるもののブリッジ配線部の一部と重畳するソース配線側接続部を有するのが好ましい。
（６）上記した各実施形態では、遮光部が第３金属膜からなる場合を例示したが、遮光部が第１金属膜または第２金属膜からなるようにしても構わない。同様に、上記した実施形態１に記載したダミー遮光部が第１金属膜または第２金属膜からなるようにしても構わない。
（７）上記した実施形態２では、タッチ配線のソース配線非重畳部とブリッジ配線部とによりスペーサを取り囲む構成において、遮光部がタッチ配線から分離される場合を示したが、タッチ配線のソース配線非重畳部とブリッジ配線部とによりスペーサを取り囲む構成において、遮光部がタッチ配線に連なっていても構わない。その場合は、上記した実施形態１と同様にタッチ配線に連なる形でダミー遮光部を設けるのが好ましい。
（８）上記した実施形態２では、タッチ配線のソース配線非重畳部とブリッジ配線部とによりスペーサを取り囲む構成において、ブリッジ配線部のブリッジ配線本体がソース配線とは非重畳となる場合を示したが、タッチ配線のソース配線非重畳部とブリッジ配線部とによりスペーサを取り囲む構成において、ブリッジ配線部のブリッジ配線本体がソース配線と重畳する配置であっても構わない。その場合は、スペーサがソース配線に対してＸ軸方向についてオフセットした配置となる。
（９）上記した実施形態２では、スペーサがゲート配線とソース配線との交差位置に配される場合を示したが、これ以外にもスペーサの具体的な平面配置は適宜に変更可能である。
（１０）上記した各実施形態では、タッチ配線に備わる複数のソース配線非重畳部がソース配線に対してＸ軸方向について一方側にオフセットした配置で統一された場合を示したが、タッチ配線に備わる複数のソース配線非重畳部がソース配線に対してＸ軸方向について一方側と他方側とに交互にオフセットするようジグザグ状の配置であっても構わない。その場合は、全てのソース配線非重畳部を、ＴＦＴのドレイン電極と重畳する配置または非重畳となる配置に統一することが可能となる。
（１１）上記した（１０）の構成を採る場合は、Ｙ軸方向に沿って並ぶ複数のブリッジ配線部は、ソース配線非重畳部との干渉を避けるため、ソース配線に対してＸ軸方向について一方側と他方側とに交互にオフセットするようジグザグ状の配置とされるのが好ましい。
（１２）上記した各実施形態では、ソース配線におけるソース配線本体の一部がソース電極を構成するものにおいて、タッチ配線のソース配線非重畳部がＴＦＴのドレイン電極と重畳する場合を示したが、例えばソース配線におけるソース配線本体から側方に突出する形でソース電極が設けられる構成であれば、タッチ配線のソース配線非重畳部がＴＦＴのソース電極と重畳する配置を採ることも可能である。
（１３）上記した各実施形態以外にも、液晶パネルの具体的な画面サイズや解像度などは適宜に変更可能である。
（１４）上記した各実施形態以外にも、液晶パネルにおける画素部の具体的な配列ピッチは適宜に変更可能である。
（１５）上記した各実施形態では、アレイ基板に４つのドライバが実装される場合を示したが、アレイ基板におけるドライバの実装数は適宜に変更可能である。
（１６）上記した各実施形態では、アレイ基板にゲート回路部が設けられた場合を示したが、ゲート回路部を省略し、アレイ基板にゲート回路部と同様の機能を有するゲートドライバを実装するようにしても構わない。また、ゲート回路部をアレイ基板における片側の辺部のみに設けることも可能である。
（１７）上記した各実施形態以外にも、共通電極に設けられた画素重畳開口部の具体的な平面形状は適宜に変更可能である。画素重畳開口部の平面形状を例えばＶ字型や直線状などにすることも可能である。また、画素重畳開口部の具体的な設置数や配列ピッチなども適宜に変更可能である。
（１８）上記した各実施形態では、アレイ基板においてＴＦＴがジグザグ状に平面配置された場合を示したが、ＴＦＴがマトリクス状に平面配置されていても構わない。
（１９）上記した各実施形態では、遮光部がＣＦ基板側に設けられた場合を示したが、遮光部がアレイ基板側に設けられていても構わない。
（２０）上記した各実施形態以外にも、ＴＦＴのチャネル部を構成する半導体膜は、ポリシリコンであっても構わない。その場合は、ＴＦＴをボトムゲート型とするか、チャネル部の下層（バックライト装置を設置する側）に遮光膜を備えるトップゲート型とするのが好ましい。
（２１）上記した各実施形態では、タッチパネルパターンが自己容量方式とされる場合を示したが、タッチパネルパターンが相互容量方式であっても構わない。
（２２）上記した各実施形態では、透過型の液晶パネルを例示したが、反射型の液晶パネルや半透過型の液晶パネルであっても本発明は適用可能である。
（２３）上記した各実施形態では、液晶表示装置（液晶パネルやバックライト装置）の平面形状が横長の長方形とされる場合を示したが、液晶表示装置の平面形状が縦長の長方形、正方形、円形、半円形、長円形、楕円形、台形などであっても構わない。
【符号の説明】
【００５２】
１１，１１１…液晶パネル（表示装置）、２０，１２０…ＣＦ基板（対向基板）、２１，１２１…アレイ基板（配線基板）、２３，１２３…ＴＦＴ（スイッチング素子）、２３Ａ…ゲート電極、２３Ｂ，１２３Ｂ…ソース電極、２３Ｃ…ドレイン電極、２３Ｄ…チャネル部、２４，１２４…画素電極、２５，１２５…共通電極、２６，１２６…ゲート配線（第１配線）、２７，１２７，２２７…ソース配線（第２配線）、３０，１３０…タッチ電極（位置検出電極）、３１，１３１，２３１…タッチ配線（第３配線）、３１Ａ…ソース配線重畳部（第２配線重畳部）、３１Ｂ，１３１Ｂ…ソース配線非重畳部（第２配線非重畳部）、３２…第１金属膜、３３…ゲート絶縁膜（第１絶縁膜）、３５，１３５…第２金属膜、３６，１３６…第１層間絶縁膜（第２絶縁膜）、３８，１３８…第３金属膜、３９…第２層間絶縁膜（第３絶縁膜）、４１，１４１…補助配線部、４２，１４２，２４２…ブリッジ配線部、４３，１４３，２４３…遮光部、４４…ダミー遮光部、４５…スペーサ、ＣＨ３…第１コンタクトホール、ＣＨ４…第２コンタクトホール
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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