(57)【要約】【課題】線幅均一性の向上の点で有利な露光装置を提供することができる。【解決手段】照明光学系からの光をマスクに照射し、投影光学系を介してマスクのパターンを基板に投影する露光装置であって、マスクを保持し、駆動するマスクステージと、基板を保持し、駆動する基板ステージと、マスクステージおよび基板ステージの駆動を制御する制御部と、を備え、制御部は、露光装置を用いて基板上に転写された第１パターンと、第１パターンとはパターンの長手方向が異なる第２パターンとの線幅の差に基づき、マスクステージまたは基板ステージを基板の表面に平行な方向に振動させて、マスクのパターンを基板に投影する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
照明光学系からの光をマスクに照射し、投影光学系を介して前記マスクのパターンを基板に投影する露光装置であって、
前記マスクを保持し、駆動するマスクステージと、
前記基板を保持し、駆動する基板ステージと、
前記マスクステージおよび前記基板ステージの駆動を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記露光装置を用いて前記基板上に転写された第１パターンと、前記第１パターンとはパターンの長手方向が異なる第２パターンとの線幅の差に基づき、前記マスクステージまたは前記基板ステージを前記基板の表面に平行な方向に振動させて、前記マスクのパターンを基板に投影する、ことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記マスクステージまたは前記基板ステージを、前記基板の表面に平行な第１方向または、前記第１方向と垂直な第２方向に振動するよう加振する、ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記制御部は、振動駆動されていない状態における前記マスクステージまたは前記基板ステージの振動の測定結果、および前記基板上に転写されたパターンの線幅である第１情報に基づき、前記マスクステージまたは前記基板ステージへの加振量を求める、ことを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記制御部は、振動駆動されている状態における前記マスクステージまたは前記基板ステージの振動の測定結果、および前記基板上に転写されたパターンの線幅である第２情報に基づき、前記加振量を求める、ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記第１情報および前記第２情報を用いて、前記加振量を求めるためのデータを生成する、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記マスクステージまたは前記基板ステージの振動の周波数、振幅、または加振の方向を決定する、ことを特徴とする、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
照明光学系からの光をマスクに照射し、投影光学系を介して前記マスクのパターンを基板上に転写する露光装置であって、
前記マスクを保持し、駆動するマスクステージと、
前記基板を保持し、駆動する基板ステージと、
前記露光装置の各部のいずれかに振動を加える少なくとも１つの加振部と、を備え、
前記少なくとも１つの加振部は、前記露光装置を用いて前記基板上に転写された第１パターンと、前記第１パターンとはパターンの長手方向が異なる第２パターンとの線幅の差に基づき、前記投影光学系によって投影される前記マスクのパターンの投影像が前記基板の表面に平行な方向に振動するように前記露光装置の各部を振動させて、前記マスクのパターンを基板に投影する、ことを特徴とする露光装置。
【請求項８】
前記少なくとも１つの加振部は、前記各部が前記基板の表面に平行な第１方向または、前記第１方向と垂直である第２方向に振動するよう加振する、ことを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記少なくとも１つの加振部は、前記各部が振動駆動されていない状態における前記各部の振動の測定結果、および前記基板上に転写されたパターンの線幅である第３情報に基づき、前記各部への加振量を求める、ことを特徴とする請求項７または８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの加振部は、振動駆動されている状態における前記各部の振動の測定結果、および前記基板上に転写されたパターンの線幅である第４情報に基づき、前記加振量を求める、ことを特徴とする請求項７乃至９のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記少なくとも１つの加振部は、前記第３情報および前記第４情報を用いて、前記加振量を求めるためのデータを生成する、ことを特徴とする請求項７乃至１０のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記少なくとも１つの加振部は、前記各部の振動の周波数、振幅、または加振の方向を求める、ことを特徴とする、請求項７乃至１１のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記少なくとも１つの加振部は、前記照明光学系、前記投影光学系、前記マスクステージ、または、前記基板ステージに備えられる、ことを特徴とする請求項７乃至１２のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１４】
照明光学系からの光をマスクに照射し、投影光学系を介して前記マスクのパターンを基板に投影する露光方法であって、
前記基板上に転写された第１パターンの線幅及び前記第１パターンとはパターンの長手方向が異なる第２パターンの線幅を測定する工程と、
前記測定された前記第１及び第２パターンの線幅の差に基づき、前記照明光学系、前記投影光学系、前記マスクまたは前記基板を前記基板の表面に平行な方向に振動させて、前記マスクのパターンを基板に投影する工程と、を備える、ことを特徴とする露光方法。
【請求項１５】
請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板上にパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とする物品製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
露光装置、露光方法および、物品製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスや液晶表示装置等の物品を製造する工程の一つであるリソグラフィ工程において、投影光学系を介して基板上の露光領域にマスクのパターンを転写する露光装置が用いられている。近年、露光装置は、上記物品の微細化に伴い、基板に転写されるパターンの線幅(Ｃｒｉｔｉｃａｌ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ：ＣＤ)均一性の改善の要求が高まっている。
【０００３】
線幅均一性を向上させる方法として、特許文献１において、露光開始後および露光終了前に、基板ホルダを投影システムの像表面に対してほぼ直角であるＺ方向に沿って移動させることにより、制御された量のコントラスト損を導入する方法が開示されている。また、特許文献２においては、露光中に周期性パターンの像と被露光物とを投影光学系の光軸方向に関して相対的に移動または振動させる方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−８６２１２号公報
【特許文献２】特開平６−２９１８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１および特許文献２の方法は、露光中に投影光学系または基板をＺ方向に移動または振動させるため、パターンの長手方向がどの方向かを問わず、転写パターンの像に対して一様にデフォーカスに起因した影響が及びうる。
【０００６】
本発明は、例えば、線幅均一性の向上の点で有利な露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明は、照明光学系からの光をマスクに照射し、投影光学系を介してマスクのパターンを基板に投影する露光装置であって、マスクを保持し、駆動するマスクステージと、基板を保持し、駆動する基板ステージと、マスクステージおよび基板ステージの駆動を制御する制御部と、を備え、制御部は、露光装置を用いて基板上に転写された第１パターンと、第１パターンとはパターンの長手方向が異なる第２パターンとの線幅の差に基づき、マスクステージまたは基板ステージを基板の表面に平行な方向に振動させて、マスクのパターンを基板に投影する、ことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、例えば、線幅均一性の向上の点で有利な露光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】第１実施形態に係る露光装置の概略構成を示す斜視図である。
【図２】第１実施形態に係る露光装置の概略構成を示す側面図である。
【図３】加振部とその処理について説明する図である。
【図４】第１実施形態に係る感度データの作成処理を示すフロー図である。
【図５】振動測定器による測定結果の一例を示す図である。
【図６】工程Ｓ１における振動測定結果と工程Ｓ２における線幅測定結果の関係の一例を示す図である。
【図７】振動駆動部により対象ユニットを加振した場合における振動測定器による測定結果の一例を示す図である。
【図８】工程Ｓ４における振動測定結果と工程Ｓ５における線幅測定結果の関係の一例を示す図である。
【図９】感度データの一例を示す図である。
【図１０】第１実施形態に係るパターンの線幅を均一化する露光処理を示すフロー図である。
【図１１】感光基板Ｐの転写パターンの一例を示す図である。
【図１２】加振条件に基づく制御の一例を示す図である。
【図１３】加振条件に基づく制御を行った感光基板への転写パターンの一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明を実施するための形態について図面などを参照して説明する。
〔第１実施形態〕
【００１１】
図１、図２は、それぞれ、第１実施形態に係る露光装置の概略構成を示す斜視図、側面図である。なお、図１は、一部を省略している。本図において、露光装置１００は、パターンが形成されたマスクＭを保持して駆動するマスクステージＭＳＴと、感光基板Ｐを保持して駆動する基板ステージＰＳＴと、照明光学系ＩＬと、投影光学系ＰＬと、主制御部６０と、振動測定器ＶＩＭと、加振部ＶＩと、を備える。
【００１２】
マスクステージＭＳＴに保持されているマスクＭと基板ステージＰＳＴに保持されている感光基板Ｐとは、投影光学系ＰＬを介して共役な位置関係に配置される。本実施形態の露光装置１００は、大型凹面鏡を有するいわゆるミラースキャン型露光装置として構成されている。以下では、感光基板Ｐの高さ方向をＺ軸方向、Ｚ軸方向に垂直な方向でマスクＭ及び感光基板Ｐの同期移動方向をＹ軸方向（走査方向）、Ｚ軸方向及びＹ軸方向と直交する方向をＸ軸方向とする。また、Ｘ軸まわり、Ｙ軸まわり、Ｚ軸まわりのそれぞれの方向をθＸ方向、θＹ方向、θＺ方向とする。
【００１３】
照明光学系ＩＬは、マスクステージＭＳＴに支持されたマスクＭを露光光ＥＬで照明する。照明光学系ＩＬは、例えば、光源と、楕円鏡と、コンデンサレンズと、制限スリット板と、ミラーと含みうる。光源は、起高圧水銀ランプ等を含む。楕円鏡は、光源から射出された光束を集光する。コンデンサレンズは、楕円鏡により集光された光束を拡大しかつ平行光束化する。制限スリット板は、コンデンサレンズからの平行光束のうちマスクＭへの照射光として使用しない部分をカットして所定面積の照明領域を定義するためにマスクＭと共役な位置に配置される。ミラーは、制限スリット板からの光束を反射させてマスクＭにスリット状照明光束を照射する。
【００１４】
照明光学系ＩＬが発生する露光光ＥＬとしては、例えば、水銀ランプから射出される紫外域の輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）の他に、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）がある。また、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）などを用いてもよい。照明光学系ＩＬは、所謂ケーラー照明系として構成されうる。
【００１５】
マスクＭを透過した露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬに入射する。投影光学系ＰＬは、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのマスクパターンを基板ステージＰＳＴに保持された感光基板Ｐに投影し転写する。マスクＭの照明領域に存在するマスクパターンの像を感光基板Ｐ上に形成する。図２に示すように、投影光学系ＰＬは、例えば、台形ミラー５２、凸面鏡５３及び凹面鏡５４を介してマスクＭのマスクパターンの像を感光基板Ｐ上に形成しうる。感光基板Ｐ上への投影光学系ＰＬの投影領域は、所定形状（例えば、円弧形状）に設定される。
【００１６】
マスクステージＭＳＴは、マスクステージ駆動部ＭＳＴＤを含む。マスクステージＭＳＴは、照明光学系ＩＬに対してマスクＭを走査駆動するように構成され、Ｙ軸方向（走査方向）に長いストロークを有し、走査方向に直交するＸ軸方向に適当なストロークを有する。マスクステージＭＳＴは、マスクＭを保持するための吸着部（不図示）を備えうる。吸着部は、バキューム装置（不図示）に接続されており、マスクＭは、吸着部により真空吸着されて保持される。マスクステージ駆動部ＭＳＴＤは、マスクステージＭＳＴをＸ軸方向及びＹ軸方向に駆動する。マスクステージ駆動部ＭＳＴＤは、後述の主制御部６０により制御されうる。
【００１７】
感光基板Ｐを駆動する基板ステージＰＳＴは、基板ステージ駆動部ＰＳＴＤを含む。感光基板Ｐを駆動する基板ステージＰＳＴは、感光基板Ｐを保持する基板ホルダを有する。基板ステージＰＳＴは、マスクステージＭＳＴと同様に、Ｙ軸方向（走査方向）に走査用のストロークを有し、走査方向に直交するＸ軸方向にステップ移動用のストロークとを有する。更に、基板ステージＰＳＴは、Ｚ軸方向、及びθＸ、θＹ、θＺ方向にも移動可能に構成されている。基板ステージ駆動部ＰＳＴＤは、基板ステージＰＳＴをＸ軸方向及びＹ軸方向に駆動する。基板ステージ駆動部ＰＳＴＤは、主制御部６０により制御されうる。
【００１８】
主制御部６０は、例えば、ＣＰＵやメモリなどを含み、露光装置１００の全体を制御する。主制御部６０は、露光装置１００の各部を制御して感光基板Ｐを露光する露光処理を行う。
【００１９】
振動測定器ＶＩＭは、マスクステージＭＳＴ、基板ステージＰＳＴ、照明光学系ＩＬ、および投影光学系ＰＬ、の各部に設けられ、各部の振動を測定する。振動測定器ＶＩＭは、マスクパターンをＹ方向の同期走査露光により感光基板Ｐに転写する際の、例えば、各Ｙ方向の位置における各部の振動（即ち、Ｘ方向への振幅）を測定する。
【００２０】
加振部ＶＩは、マスクステージＭＳＴ、基板ステージＰＳＴ、照明光学系ＩＬ、および投影光学系ＰＬ、の各部に設けられ、各部に振動を加える。加振部ＶＩは、加振対象であるユニット（対象ユニット）に対し、Ｘ方向またはＹ方向の振動を発生させることができる。また、例えば、投影光学系ＰＬによって基板に投影される像がＸ方向又はＹ方向に振動するように、投影光学系の光学部材を任意の方向に振動させることもできる。マスクＭと台形ミラー５２との間のくさび型の光学部材をＺ方向に振動させることもできる。
【００２１】
図３は、加振部ＶＩとその処理について説明する図である。加振部ＶＩは、データ格納部ＤＳ、加振量計算部ＣＡＬＣ、振動制御部ＶＩＣ、振動駆動部ＶＩＤを含みうる。データ格納部ＤＳは、感光基板Ｐ上に転写されたパターンの線幅の測定結果や、振動測定器ＶＩＭによる測定結果などの加振量を求めるために必要なデータを格納し、感度データを生成する。感度データの詳細については、後述する。加振量計算部ＣＡＬＣは、データ格納部ＤＳに格納されたデータに基づき、感光基板Ｐに転写されるパターンの線幅を均一（目標線幅）に近づけるために必要となる加振量を求める。振動制御部ＶＩＣは、加振量計算部ＣＡＬＣで求められた加振量に基づき、振動駆動部ＶＩＤを制御する。振動駆動部ＶＩＤは、振動制御部ＶＩＣからの制御に応じて、対象ユニットを照明光学系の光軸に垂直な平面方向であるＸ方向またはＹ方向に振動駆動させる。なお、データ格納部ＤＳ、加振量計算部ＣＡＬＣ、振動制御部ＶＩＣは、主制御部６０に備えられていても良い。
【００２２】
次に、データ格納部ＤＳにおける、感度データの生成処理について説明する。なお、以下の全ての処理において、図４は、第１実施形態に係る感度データの作成処理を示すフロー図である。工程Ｓ１において、振動測定器ＶＩＭは、マスクパターンをＹ方向の同期走査露光により感光基板Ｐに転写する際の、各Ｙ方向の位置における各対象ユニットの振動（即ち、Ｘ方向への振幅）を測定する。図５は、振動測定器ＶＩＭによる測定結果の一例を示す図である。この振動測定結果がデータ格納部ＤＳに格納される。なお、ここでは、対象ユニットは振動駆動部ＶＩＤにより、加振されていない状態である。
【００２３】
工程Ｓ２では、感光基板Ｐ上に転写されたパターンの各Ｙ方向位置における線幅を計測機器（例えば、長寸法測定器）によって測定し、線幅の測定結果は振動測定器ＶＩＭによる測定結果と同様にデータ格納部ＤＳに格納される。なお、長寸法測定器は、外部に設けられたものを使用しても良い。以下の工程においても同様である。図６は、工程Ｓ１における振動測定結果と工程Ｓ２における線幅測定結果の関係の一例を示す図である。データ格納部ＤＳにはこのような情報が格納される。
【００２４】
工程Ｓ３では、振動制御部ＶＩＣは、マスクパターンをＹ方向の同期走査露光により感光基板Ｐに転写する際に、振動駆動部ＶＩＤを制御し、対象ユニットに振動を加える（加振する）。振動制御部ＶＩＣは、各Ｙ位置における振動の周波数、振幅、及び、方向により振動駆動部ＶＩＤを制御する。
【００２５】
工程Ｓ４では、振動測定器ＶＩＭは、振動駆動部ＶＩＤにより対象ユニットを加振した状態における、マスクパターンをＹ方向の同期走査露光により感光基板Ｐに転写する際の、各Ｙ方向の位置における各対象ユニットの振動を測定する。図７は、振動駆動部ＶＩＤにより対象ユニットを加振した場合における振動測定器ＶＩＭによる測定結果の一例を示す図である。この加振した場合の振動測定結果も同様にデータ格納部ＤＳに格納される。
【００２６】
工程Ｓ５では、振動駆動部ＶＩＤにより対象ユニットを加振した状態における、感光基板Ｐ上に転写されたパターンの各Ｙ方向位置における線幅が計測機器によって測定され、線幅の計測結果はデータ格納部ＤＳに格納される。図８は、工程Ｓ４における振動測定結果と工程Ｓ５における線幅測定結果の関係の一例を示す図である。データ格納部ＤＳには、このような情報が格納される。
【００２７】
工程Ｓ６では、工程Ｓ１における振動測定器ＶＩＭの測定結果と、工程Ｓ２における線幅の測定結果と、工程Ｓ４における振動測定器ＶＩＭの測定結果と、工程Ｓ５における線幅の測定結果と、を用いて、振動と線幅の感度データを得る。図９は、感度データの一例を示す図である。図９では、ある特定のＸ方向の振幅とその状態における線幅測定結果を起点（０）として、起点からのＸ方向の振幅の増加分を横軸とし、横軸にあげた振幅の増加分と対応した線幅測定結果を縦軸に記している。ここで、Ｘ方向の振幅の増加分をｘ、線幅測定結果をｙとすると、ｙ＝ｆ（ｘ）の関数として表現できる。また、この関数について逆関数ｘ＝ｇ（ｙ）を求めることで、所望の線幅測定結果を得るために必要となるＸ方向の振幅の増加分（加振量）を求めることができる。
【００２８】
本実施形態では、一例として振動の振幅に着目した感度データの生成について述べたが、振幅のほかに振動の周波数や方向に関しても同様に感度データの生成が可能である。
【００２９】
次に、感光基板Ｐに転写されるパターンの線幅を均一化する露光処理について説明する。図１０は、第１実施形態に係るパターンの線幅を均一化する露光処理を示すフロー図である。工程Ｓ１１において、振動測定器ＶＩＭは、マスクパターンをＹ方向の同期走査露光により感光基板Ｐに転写する際の、各Ｙ方向の位置における各対象ユニットの振動（即ち、Ｘ方向への振幅）を測定する。振動測定器ＶＩＭによって測定されたＹ方向の各位置における振動測定結果はデータ格納部ＤＳに格納される。なお、この測定結果は、図５で示した測定結果と同様となる。
【００３０】
工程Ｓ１２では、感光基板Ｐ上に転写されたパターンの各Ｙ方向位置における線幅を計測機器（例えば、長寸法測定器）によって測定し、線幅の測定結果は、振動測定器ＶＩＭによる測定結果と同様にデータ格納部ＤＳに格納される。なお、長寸法測定器は、外部に設けられたものを使用しても良い。以下の工程においても同様である。工程Ｓ１１でデータ格納部ＤＳに格納した振動測定結果と工程Ｓ１２でデータ格納部ＤＳに格納した線幅測定結果の関係図は、図６と同様となる。図１１は、感光基板Ｐの転写パターンの一例を示す図である。図１１では、感光基板Ｐの１つのショット領域Ｓ中に、４つのパターン方向を含む領域Ａが複数、繰り返し形成されている。領域Ａに含まれる４つのパターンが延びる方向（パターンの長手方向）は、それぞれ異なる。図１１では、異なるパターン方向の転写パターンとして、Ｈパターン１１−１、Ｖパターン１１−２、Ｓパターン１１−３、Ｔパターン１１−４を示している。Ｈパターン１１−１の点線部は目標線幅を示し、Ｈパターン１１−１の実線部はデータ格納部ＤＳに格納された線幅測定結果を示している。図１１では、Ｖパターン１１−２、Ｓパターン１１−３およびＴパターン１１−４は、目標線幅となっているのに対し、Ｈパターン１１−１の線幅のみが目標線幅よりも狭い。なお、ここでいずれのパターンにおける目標線幅も同じである。
【００３１】
工程Ｓ１３では、加振量計算部ＣＡＬＣは、感光基板Ｐ上に形成された転写パターンの線幅を測定した結果と目標線幅との差に基づき、線幅を目標線幅に近づけるために必要となる加振量を求める。加振量計算部ＣＡＬＣは、加振量を求めた後、データ格納部ＤＳに格納されている、感度データを用いて、必要となる加振量を満たすＹ方向の各位置における振動の周波数、振幅、または加振の方向（加振条件）を、決定する。例えば、マスクステージＭＳＴを加振する場合、Ｘ方向に２０Ｈｚ程度、Ｙ方向３０Ｈｚ程度の周波数で振動させることができる。基板ステージＰＳＴを加振する場合、Ｘ方向、Ｙ方向それぞれに１０〜１２Ｈｚの周波数で振動させることができる。加振量計算部ＣＡＬＣは、決定した加振条件を振動制御部ＶＩＣに出力する。
【００３２】
工程Ｓ１４では、振動制御部ＶＩＣは、加振量計算部ＣＡＬＣから出力された加振条件に基づき、振動駆動部ＶＩＤを制御し、投影光学系を用いてマスクのパターンを感光基板Ｐ上へ投影する。具体的には、振動制御部ＶＩＣは、マスクパターンをＹ方向の同期走査露光により感光基板Ｐに投影する際に、振動駆動部ＶＩＤに対し、加振条件に基づく制御を行う。これにより、対象ユニットが加振される。なお、加振駆動する対象ユニットは、少なくとも１つあれば良い。図１２は、加振条件に基づく制御の一例を示す図である。図１２では、振幅により加振の制御をおこなっている。図６の振動測定結果と比較すると、Ｙ方向の所定の位置において、Ｘ方向に加振されていることがわかる。また、これにより、Ｘ方向における線幅が均一化している。
【００３３】
図１３は、加振条件に基づく制御を行った感光基板Ｐへの転写パターンの一例を示す図である。図１１のＨパターン１１−１と比較すると、図１３のＨパターン１３−１は線幅が補正されて理想線幅となっている。この時、Ｘ方向の振動を加えたため、Ｓパターン１３−３およびＴパターン１３−４の線幅に影響はあるが、平均的な線幅は安定することとなる。以上、本実施形態によれば、特定のパターン方向について、線幅を補正することが可能となり、線幅を均一化させることが可能である。
【００３４】
なお、本実施形態においては、一例として、Ｘ方向の線幅を補正したが、Ｙ方向の線幅を補正することも可能である。また、Ｘ方向とＹ方向の加振を組合わせることにより、Ｓパターン１３−３およびＴパターン１３−４の線幅などの線幅を補正することも可能である。
【００３５】
さらに、本実施形態においては、マスクステージＭＳＴ、基板ステージＰＳＴ、照明光学系ＩＬ、および投影光学系ＰＬに加振部ＶＩを設けたが、少なくとも何れか一つのユニットに加振部ＶＩにより制御することで、本発明の効果を得ることができる。また、少なくとも何れか一つのユニットに加振部ＶＩを設けることで、本発明の効果を得ることができる。マスクステージ駆動部ＭＳＴＤまたは基板ステージ駆動部ＰＳＴＤを、振動駆動部ＶＩＤとして用いることでマスクステージＭＳＴまたは基板ステージＰＳＴを加振させても良い。また、マスクステージ駆動部ＭＳＴＤまたは基板ステージ駆動部ＰＳＴＤを、振動駆動部ＶＩＤとして用いる場合、主制御部６０をデータ格納部ＤＳ、加振量計算部ＣＡＬＣ、振動制御部ＶＩＣとして用いる。この場合、新たな機構を設ける必要がない。
【００３６】
（物品製造方法に係る実施形態）
本実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス、表示デバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。例えば、物品として、電気回路素子、光学素子、ＭＥＭＳ、記録素子、センサ、或いは、型等である。電気回路素子としては、ＤＲＡＭ、ＳＲＡＭ、フラッシュメモリ、ＭＲＡＭのような、揮発性或いは不揮発性の半導体メモリや、ＬＳＩ、ＣＣＤ、イメージセンサ、ＦＰＧＡのような半導体素子等が挙げられる。型としては、インプリント用のモールド等が挙げられる。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程（基板を露光する工程）と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。さらに、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。基板は、ガラス、セラミックス、金属、半導体、樹脂等が用いられ、必要に応じて、その表面に基板とは別の材料からなる部材が形成されていてもよい。基板としては、具体的に、シリコンウエハ、化合物半導体ウエハ、石英ガラスなどである。
【００３７】
（その他の実施形態）
以上、本発明の実施の形態を説明してきたが、本発明はこれらの実施の形態に限定されず、その要旨の範囲内において様々な変更が可能である。
【符号の説明】
【００３８】
１００  露光装置
Ｍ      マスク
ＭＳＴ  マスクステージ
Ｐ      感光基板
ＰＳＴ  基板ステージ
ＶＩ    加振部
ＶＩＣ  振動制御部
ＶＩＤ  振動駆動部
ＶＩＭ  振動測定器
【図１】
2019184650.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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