(57)【要約】【課題】微細穴を有する三次元構造物の三次元ＣＡＤデータをそのまま使用して造形しても、微細穴が余剰硬化物で塞がってしまうことがない積層造形法を提供する。【解決手段】光照射によって硬化した樹脂層（２，３）を積み重ね、微細穴４を有する三次元構造物１を製造するようになっている。三次元構造物１は、微細穴４が形成される微細穴形成樹脂層２と、微細穴４が形成されない微細穴非形成樹脂層３と、を有している。そして、微細穴非形成樹脂層３は、微細穴４を積層面と平行の仮想平面７に投影した形状が微細穴投影形状とすると、仮想平面７への投影形状が微細穴投影形状よりも大きい空間６であって、且つ、仮想平面７への投影形状が微細穴投影形状の全てを含む大きさの空間６が、樹脂層（２，３）の積層方向に沿って形成される。【選択図】図１
2019107874.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光照射によって硬化した樹脂層を積み重ね、微細穴を有する三次元構造物を製造する積層造形法において、
前記三次元構造物は、前記微細穴が形成される微細穴形成樹脂層と、前記微細穴が形成されない微細穴非形成樹脂層と、を有し、
前記微細穴非形成樹脂層は、前記微細穴を積層面と平行の仮想平面に投影した形状が微細穴投影形状とすると、前記仮想平面への投影形状が前記微細穴投影形状よりも大きい空間であって、且つ、前記仮想平面への投影形状が前記微細穴投影形状の全てを含む大きさの空間が、前記樹脂層の積層方向に沿って形成される、
ことを特徴とする積層造形法。
【請求項２】
前記微細穴と前記空間とが一対一で対応するように形成される、
ことを特徴とする請求項１に記載の積層造形法。
【請求項３】
前記微細穴形成樹脂層には、複数の前記微細穴が形成され、
複数の前記微細穴は、前記空間に開口するように形成される、
ことを特徴とする請求項１に記載の積層造形法。
【請求項４】
前記微細穴形成樹脂層には、複数の前記微細穴が形成され、
前記微細穴非形成樹脂層には、前記空間が前記微細穴と一対一で対応するように形成される、
ことを特徴とする請求項１に記載の積層造形法。
【請求項５】
前記微細穴形成樹脂層は、前記三次元構造物の積層方向に沿った上端と下端とに形成される、
ことを特徴とする請求項１に記載の積層造形法。
【請求項６】
前記空間内の前記微細穴に干渉しない位置には、前記三次元構造物の積層方向に沿った上端の前記微細穴形成樹脂層と前記三次元構造物の積層方向に沿った下端の前記微細穴形成樹脂層とを支える支柱が形成される、
ことを特徴とする請求項５に記載の積層造形法。
【請求項７】
前記微細穴形成樹脂層は、前記三次元構造物の積層方向に沿って複数形成される、
ことを特徴とする請求項１に記載の積層造形法。
【請求項８】
前記微細穴形成樹脂層は、前記三次元構造物の積層方向に沿った上端と下端との間に形成される、
ことを特徴とする請求項１に記載の積層造形法。
【請求項９】
光照射によって硬化した樹脂層を積み重ね、微細穴を有する三次元構造物を製造する積層造形法において、
前記三次元構造物は、
第１層の樹脂層から第ｎ層の樹脂層までを上方から下方に向けて積み重ねる場合、上層の樹脂層に微細穴が形成された後、前記上層の樹脂層に積み重ねられる下層の樹脂層の前記微細穴に対向する位置に空間が形成され、
第１層の樹脂層から第ｎ層の樹脂層までを下方から上方に向けて積み重ねる場合、下層の樹脂層に微細穴が形成された後、前記下層の樹脂層に積み重ねられる上層の樹脂層の前記微細穴に対向する位置に空間が形成され、
前記空間は、前記樹脂層の積層面と平行の仮想平面への投影形状が前記微細穴を前記仮想平面に投影した形状である微細穴投影形状よりも大きくなるように形成され、且つ、前記仮想平面への投影形状が前記微細穴投影形状の全てを含む大きさになるように形成される、
ことを特徴とする積層造形法。
【請求項１０】
前記三次元造形物は、格子状構造で形作られる、
ことを特徴とする請求項１乃至９のいずれかに記載の積層造形法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、微細穴を有する三次元構造物の製造に適した積層造形法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から知られている積層造形法の一つである光造形法は、硬化工程において、容器内の液状の光硬化性樹脂に光（例えば、レーザー光）を照射し、光が当たった造形テーブル上（又は下）の１層分の光硬化性樹脂を硬化させ、次に造形テーブルを移動させて硬化した１層目の光硬化性樹脂の上（又は下）に２層目の液状の光硬化性樹脂を供給し、その２層目の液状の光硬化性樹脂に光を照射し、光が当たった２層目の光硬化性樹脂を硬化させ、このような作業をＮ層まで繰り返し行って、所望の光造形物（三次元構造物）を形作るようになっている。
【０００３】
図１６は、従来の光造形法によって形成される微細穴１０１を有する光造形物１００を示す図である。なお、図１６（ａ）は、微細穴１０１を有する光造形物１００の平面図である。また、図１６（ｂ）は、図１６（ａ）のＡ１４−Ａ１４線に沿って切断して示す微細穴１０１を有する光造形物１００の断面図である。また、図１６（ｃ）は、微細穴１０１が余剰硬化物１０２で塞がった状態を示す微細穴１０１を有する光造形物１００の断面図である。
【０００４】
この図１６に示すように、光造形法によって形成される微細穴１０１を有する光造形物１００は、微細穴１０１内に余剰硬化物１０２が形成され、微細穴１０１が余剰硬化物１０２で塞がってしまうという現象を生じることがある。
【０００５】
そこで、このような微細穴１０１が余剰硬化物１０２で塞がれるという不具合の発生を防止する技術として、図１７に示すような微細穴２０１を有する光造形物２００の光造形法が開発された。この図１７に示す光造形法は、光造形物２００の三次元ＣＡＤデータを、微細穴２０１の延びる方向が積層面と平行になるように９０°回転させた光造形用の等高線データ（第１層乃至第Ｎ層のスライスデータ）に変換し、その等高線データに基づいて第１層から第Ｎ層まで順次造形を進行するようになっている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−２４５９８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、光造形用の等高線データに基づいて形成された微細穴２０１は、余剰硬化物によって塞がれることは抑制されるが、積層方向において余剰硬化物が溜まりやすいため、微細穴２０１の真円度が低下するという問題を有している。
【０００８】
そこで、本発明は、微細穴を有する三次元構造物の三次元ＣＡＤデータをそのまま使用して造形しても、微細穴が余剰硬化物で塞がってしまうことがない積層造形法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、光照射によって硬化した樹脂層（２，３）を積み重ね、微細穴４を有する三次元構造物１を製造する積層造形法に関するものである。本発明において、前記三次元構造物１は、前記微細穴４が形成される微細穴形成樹脂層２と、前記微細穴４が形成されない微細穴非形成樹脂層３と、を有している。そして、前記微細穴非形成樹脂層３は、前記微細穴４を積層面と平行の仮想平面７に投影した形状が微細穴投影形状とすると、前記仮想平面７への投影形状が前記微細穴投影形状よりも大きい空間６であって、且つ、前記仮想平面７への投影形状が前記微細穴投影形状の全てを含む大きさの空間６が、前記樹脂層（２，３）の積層方向に沿って形成される。
【００１０】
また、本発明は、光照射によって硬化した樹脂層２ａを積み重ね、微細穴４を有する三次元構造物１を製造する積層造形法に関するものである。
本発明において、前記三次元構造物１は、
第１層の樹脂層２ａから第ｎ層の樹脂層２ａまでを上方から下方に向けて積み重ねる場合、上層の樹脂層２ａに微細穴４が形成された後、前記上層の樹脂層２ａに積み重ねられる下層の樹脂層２ａの前記微細穴４に対向する位置に空間６が形成される。
第１層の樹脂層２ａから第ｎ層の樹脂層２ａまでを下方から上方に向けて積み重ねる場合、下層の樹脂層２ａに微細穴４が形成された後、前記下層の樹脂層２ａに積み重ねられる上層の樹脂層２ａの前記微細穴４に対向する位置に空間６が形成される。
そして、前記空間６は、前記樹脂層２ａの積層面と平行の仮想平面７への投影形状が前記微細穴４を前記仮想平面７に投影した形状である微細穴投影形状よりも大きくなるように形成され、且つ、前記仮想平面７への投影形状が前記微細穴投影形状の全てを含む大きさになるように形成される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明に係る積層造形法によれば、微細穴を有する三次元構造物の三次元ＣＡＤデータをそのまま使用して造形しても、微細穴が余剰硬化物で塞がってしまうことがなく、高精度の微細穴を有する三次元構造物を容易に作成できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の第１実施形態に係る光造形法（積層造形法）によって形成される光造形物（三次元構造物）を示す図であり、図１（ａ）は光造形物の平面図、図１（ｂ）は光造形物の正面図、図１（ｃ）は図１（ａ）のＡ１−Ａ１線に沿って切断して示す光造形物の断面図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る光造形法の硬化工程を説明するための図である。
【図３】本発明の第１実施形態に係る光造形法の硬化工程の後処理を説明するための図であり、図３（ａ）は後処理を実施するための第１の工程の図、図３（ｂ）は後処理を実施するための第２の工程の図、図３（ｃ）は後処理を実施するための第３の工程の図である。
【図４】本発明の第１実施形態に係る光造形法の第１変形例を説明するための図であり、図４（ａ）は本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物の平面図、図４（ｂ）は本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物の正面図、図４（ｃ）は図４（ａ）のＡ２−Ａ２線に沿って切断して示す光造形物の断面図である。
【図５】本発明の第１実施形態に係る光造形法の第２変形例を説明するための図であり、図５（ａ）は本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物の平面図、図５（ｂ）は本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物の正面図、図５（ｃ）は図５（ａ）のＡ３−Ａ３線に沿って切断して示す光造形物の断面図である。
【図６】本発明の第１実施形態に係る光造形法の第３変形例を説明するための図であり、図６（ａ）は本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物の平面図、図６（ｂ）は本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物の正面図、図６（ｃ）は図６（ａ）のＡ４−Ａ４線に沿って切断して示す光造形物の断面図、図６（ｄ）は図６（ｃ）のＢ部を拡大して示す図である。
【図７】本発明の第２実施形態に係る光造形法によって形成される光造形物を示す図であり、図７（ａ）は本実施形態に係る光造形法によって形成される光造形物の平面図、図７（ｂ）は本実施形態に係る光造形法によって形成される光造形物の正面図、図７（ｃ）は図７（ａ）のＡ５−Ａ５線に沿って切断して示す光造形物の断面図、図７（ｄ）は本実施形態に係る光造形法によって形成される光造形物の裏面図である。
【図８】本発明の第２実施形態に係る光造形法の第１変形例を説明するための図であり、図８（ａ）は本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物の平面図、図８（ｂ）は本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物の正面図、図８（ｃ）は図８（ａ）のＡ６−Ａ６線に沿って切断して示す光造形物の断面図、図８（ｄ）は本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物の裏面図である。
【図９】本発明の第２実施形態に係る光造形法の第２変形例を説明するための図であり、図９（ａ）は本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物の平面図、図９（ｂ）は本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物の正面図、図９（ｃ）は図９（ａ）のＡ７−Ａ７線に沿って切断して示す光造形物の断面図、図９（ｄ）は本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物の裏面図である。
【図１０】本発明の第２実施形態に係る光造形法の第３変形例を説明するための図であり、図１０（ａ）は本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物の平面図、図１０（ｂ）は本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物の正面図、図１０（ｃ）は図１０（ａ）のＡ８−Ａ８線に沿って切断して示す光造形物の断面図、図１０（ｄ）は本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物の裏面図である。
【図１１】本発明の第２実施形態に係る光造形法の第４変形例を説明するための図であり、図１１（ａ）は本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物の平面図、図１１（ｂ）は本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物の正面図、図１１（ｃ）は図１１（ａ）のＡ９−Ａ９線に沿って切断して示す光造形物の断面図、図１１（ｄ）は本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物の裏面図である。
【図１２】本発明の第２実施形態に係る光造形法の第５変形例を説明するための図であり、図１２（ａ）は本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物の平面図、図１２（ｂ）は本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物の正面図、図１２（ｃ）は図１２（ａ）のＡ１０−Ａ１０線に沿って切断して示す光造形物の断面図、図１２（ｄ）は本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物の裏面図である。
【図１３】本発明の第２実施形態に係る光造形法の第６変形例を説明するための図であり、図１３（ａ）は本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物の平面図、図１３（ｂ）は本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物の正面図、図１３（ｃ）は図１３（ａ）のＡ１１−Ａ１１線に沿って切断して示す光造形物の断面図、図１３（ｄ）は本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物の裏面図である。
【図１４】本発明の第３実施形態に係る光造形法によって形成される光造形物を示す図であり、図１４（ａ）は本実施形態に係る光造形法によって形成される光造形物の平面図、図１４（ｂ）は図１４（ａ）のＡ１２−Ａ１２線に沿って切断して示す光造形物の断面図である。
【図１５】本発明の第４実施形態に係る光造形法によって形成される光造形物を示す図であり、図１５（ａ）は本実施形態に係る光造形法によって形成される光造形物の平面図、図１５（ｂ）は図１５（ａ）のＡ１３−Ａ１３線に沿って切断して示す光造形物の断面図である。
【図１６】従来の光造形法によって形成される微細穴を有する光造形物を示す図であり、図１６（ａ）は微細穴を有する光造形物の平面図、図１６（ｂ）は図１６（ａ）のＡ１４−Ａ１４線に沿って切断して示す微細穴を有する光造形物の断面図、図１６（ｃ）は微細穴が余剰硬化物で塞がった状態を示す光造形物の断面図である。
【図１７】従来の微細穴を有する光造形物の造形方法を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
［第１実施形態］
以下、本発明に係る積層造形法の第１実施形態を図面に基づき詳述する。なお、本実施形態は、積層造形法のうちの光造形法について説明する。
【００１４】
（光造形物）
図１は、本実施形態に係る光造形法によって形成される光造形物（三次元構造物）１を示す図である。なお、図１（ａ）は、光造形物１の平面図である。また、図１（ｂ）は、光造形物１の正面図である。また、図１（ｃ）は、図１（ａ）のＡ１−Ａ１線に沿って切断して示す光構造物１の断面図である。
【００１５】
図１に示すように、光造形物１は、光照射によって硬化した樹脂層を複数層（第１層から第ｎ層まで）積み重ねて形成され、積層方向（−Ｚ方向）に沿った上端の層（第１層）と下端の層（第ｎ層）とが微細穴形成樹脂層２であり、この微細穴形成樹脂層２以外の層（第２層から第ｎ−１層まで）が微細穴非形成樹脂層３である。この光造形物１は、平面視した形状が正方形の直方体になっている。
【００１６】
第１層の微細穴形成樹脂層２と第ｎ層の微細穴形成樹脂層２は、同じ大きさの微細穴４が三行三列のマトリックス状に等間隔で（同一ピッチｐで）９箇所形成されている。この第１層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４は、積層方向と平行に延びる中心軸５に沿って第１層の微細穴形成樹脂層２を貫通している。また、第ｎ層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４は、積層方向と平行に延びる中心軸５に沿って第ｎ層の微細穴形成樹脂層２を貫通している。そして、第１層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４と第ｎ層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４は、積層方向と平行に延びる中心軸５を軸心として一対一に対応するように形成されている。
【００１７】
微細穴非形成樹脂層３は、第１層の微細穴形成樹脂層２に形成された微細穴４と一対一で対応し、且つ、第ｎ層の微細穴形成樹脂層２に形成された微細穴４と一対一で対応する空間６が形成されている。この微細穴非形成樹脂層３に形成された空間６は、積層方向と平行に延びる中心軸５を軸心とする円柱状に形成され、微細穴４を積層面と平行の仮想平面（Ｘ−Ｙ平面）７に投影した形状（円形）が微細穴投影形状とすると、積層面と平行の仮想平面７への投影形状（空間投影形状）が微細穴投影形状よりも大きな形状（円形）に形成され、且つ、積層面と平行の仮想平面７への投影形状（空間投影形状）が微細穴投影形状の全てを含む大きさの形状（円形）に形成されている。すなわち、空間６を積層面と平行の仮想平面７に投影した形状の面積は、微細穴４を積層面と平行の仮想平面７に投影した形状の面積よりも大きい。そして、この微細穴非形成樹脂層３の空間６には、第１層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４と第ｎ層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４とが開口している。
【００１８】
以上のような構造の光造形物１は、第１層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４の穴径ｄ１と第ｎ層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４の穴径ｄｎとが等しく、ｄ１＝ｄｎ＝０．１ｍｍである。また、光造形物１は、空間６の直径ｄが０．３０ｍｍである。そして、この光造形物１は、隣り合う微細穴４，４のピッチｐが０．５ｍｍであり、板厚（第１層から第ｎ層までの積層方向に沿った厚さ）ｔが１ｍｍであり、第１層の微細穴形成樹脂層２の層厚（積層方向に沿った第１層の厚さ）ｔ１が０．０５ｍｍであり、第ｎ層の微細穴形成樹脂層２の層厚ｔｎが０．０５ｍｍである。なお、このような光造形物１の各部の寸法は、本実施形態に係る光造形法及びその光造形法によって製造される光造形物１の理解を容易にするための例示であり、本発明に係る光造形法（積層造形法）及び光造形物（三次元構造物）１を何ら限定するものではない。
【００１９】
（光造形法の硬化工程）
図２は、本発明の実施形態に係る光造形法の硬化工程を示す図である。この図２に示すように、本実施形態に係る光造形法は、容器８内に液状の光硬化性樹脂１０（例えば、エポキシ系樹脂、アクリレート系樹脂）を入れ、容器８内を昇降する造形テーブル１１のサポート１２の下に１層分の液状の光硬化性樹脂層１０を位置させる（図２（ａ））。この図２において、光造形法に使用される３Ｄプリンター（積層造形装置）１３は、光造形物１に対応する３Ｄデータ（三次元ＣＡＤデータ）１４がＣＰＵ（制御コントローラ）１５に入力されると、その入力された３Ｄデータ１４が制御コントローラ１５内の作動制御ソフトによって処理され、制御コントローラ１５から造形テーブル１１の昇降用の第１ステッピングモータ１６に制御信号が出力されると共に、制御コントローラ１５から光照射手段１７の移動案内手段１８の駆動部となる第２ステッピングモータ２０に制御信号が出力され、また、制御コントローラ１５から光照射手段１７に光２１（例えば、レーザー光）の照射をコントロールするための制御信号が出力される。
【００２０】
次に、本実施形態に係る光造形法は、造形テーブル１１のサポート１２の下に位置する液状の光硬化性樹脂１０に光照射手段１７から光２１を照射し、光２１が当たった１層分の光硬化性樹脂層１０ａ１を硬化させる（図２（ｂ））。これにより、微細穴４を複数有する第１層としての微細穴形成樹脂層２が形成される。
【００２１】
次に、本実施形態に係る光造形法は、造形テーブル１１を上昇させ、硬化した１層目の光硬化性樹脂層１０ａ１の下に２層目の液状の光硬化性樹脂１０を供給し、その２層目の液状の光硬化性樹脂１０に光２１を照射し、光２１が当たった２層目の光硬化性樹脂層１０ａ２を硬化させる（図２（ｃ））。これにより、第２層である微細穴非形成樹脂層３が形成される。この第２層である微細穴非形成樹脂層３は、第１層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４に一対一で対応するように空間６の一部が形成される。
【００２２】
次に、本実施形態に係る光造形法は、第２層である微細穴非形成樹脂層３の形成と同様の作業を第ｎ−１層まで繰り返し、第２層乃至第ｎ−１層の微細穴非形成樹脂層３を第１層の微細穴形成樹脂層２の下に一体に形成し、微細穴４よりも穴径の大きな円柱状の空間６を形作る。この第２層乃至第ｎ−１層の微細穴非形成樹脂層３の形成工程において、円柱状の空間６の輪郭（内周面）と微細穴４の輪郭（内周面）とが離れて位置しているため、円柱状の空間６の輪郭を形作るためのレーザー光のエネルギーが第１層である微細穴形成樹脂層２の微細穴４の近傍に蓄積されにくく（微細穴形成樹脂層２の微細穴４の近傍に光エネルギーが過剰照射されることを避けることができ）、微細穴４が余剰硬化物によって塞がれることがない。
【００２３】
そして、本実施形態に係る光造形法は、第ｎ−１層の微細穴非形成樹脂層３の下に新たな液状の光硬化性樹脂層２を供給し、その液状の光硬化性樹脂１０に光２１を照射して、液状の光硬化性樹脂１０を硬化させ、第ｎ層の微細穴形成樹脂層２を一体に形成する。この第ｎ層の微細穴形成樹脂層２は、微細穴４が円柱状の空間６と一対一で対応するように空間６と同数形成されている。この第ｎ層の微細穴形成樹脂層２の形成工程において、微細穴４の輪郭（内周面）と直上の第ｎ−１層の微細穴非形成樹脂層３の空間６の輪郭（内周面）とが離れて位置し、第ｎ層の微細穴形成樹脂層２における微細穴４の近傍が空間６に面しているため、微細穴４の輪郭を形作るためのレーザー光のエネルギーが直上のｎ−１層の微細穴非形成樹脂層３に蓄積されにくく、第ｎ層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４が余剰硬化物によって塞がれることがない。
【００２４】
以上のようにして、本実施形態に係る光造形法は、第１層の微細穴形成樹脂層２の下に、第２層乃至第ｎ−１層の微細穴非形成樹脂層３を順次積み重ね、第ｎ−１層の微細穴非形成樹脂層３の下に第ｎ層の微細穴形成樹脂層２を積み重ねることにより、図１に示した光造形物１を形成する。この光造形法の硬化工程において、液状の光硬化性樹脂１０に対する光２１の照射範囲（光硬化させる範囲）は、図１に示した光造形物１の３Ｄデータ７（従来例のような補正をしない３Ｄデータ）に基づいて定められる。
【００２５】
（後処理）
図３は、本発明の実施形態に係る光造形法の硬化工程の後処理を説明するための図である。なお、図３（ａ）は後処理を実施するための第１の工程の図であり、図３（ｂ）は後処理を実施するための第２の工程の図であり、図３（ｃ）は後処理を実施するための第３の工程の図である。
【００２６】
図３（ａ）に示すように、後処理を実施するための第１の工程は、硬化工程が終了した後、造形テーブル１１が上昇し、容器内から光造形物１が取り出されるようになっている。
【００２７】
次に、図３（ｂ）に示すように、後処理を実施するための第２の工程は、造形テーブル１１からサポート１２及び光造形物１が取り外されるようになっている。
【００２８】
次に、図３（ｃ）に示すように、後処理を実施するための第３の工程は、サポート１２と光造形物１とを切り離すようになっている。
【００２９】
（本実施形態の効果）
以上のように本実施形態に係る光造形法によれば、微細穴形成樹脂層２の微細穴４が微細穴４よりも大きな微細穴非形成樹脂層３の空間６に開口するようになっており、微細穴形成樹脂層２の微細穴４の輪郭と微細穴非形成樹脂層３の空間６の輪郭が離れて位置し、微細穴形成樹脂層２及び微細穴非形成樹脂層３に照射されたレーザー光のエネルギーが微細穴４の近傍に蓄積されにくいため、微細穴４が余剰硬化物で塞がれることがない。
【００３０】
また、本実施形態に係る光造形法によれば、微細穴４を有する光造形物１の３Ｄデータ（三次元ＣＡＤデータ）１４をそのまま使用して（従来例のような三次元ＣＡＤデータを造形用の等高線データに変換することなく）造形しても、微細穴４が余剰硬化物で塞がってしまうことがなく、高精度の微細穴４を有する光造形物（三次元構造物）１を容易に作成できる。
【００３１】
（第１変形例）
図４は、第１実施形態に係る光造形法の第１変形例を説明するための図である。なお、図４（ａ）は、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の平面図である。また、図４（ｂ）は、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の正面図である。また、図４（ｃ）は、図４（ａ）のＡ２−Ａ２線に沿って切断して示す光造形物の断面図である。
【００３２】
図４に示すように、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１は、第１層の微細穴形成樹脂層２及び第ｎ層の微細穴形成樹脂層２が第１実施形態の光造形物１と同様に形成される。しかしながら、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１は、第２層乃至第ｎ−１層の微細穴非形成樹脂層３の空間６の形状が第１実施形態に係る光造形物１の空間６の形状と異なる。
【００３３】
すなわち、本変形例に係る光造形法は、第２層乃至第ｎ−１層の微細穴非形成樹脂層３に、第１層の微細穴形成樹脂層２における微細穴４の全てと第ｎ層の微細穴形成樹脂層２における微細穴４の全てが開口する四角柱状の空間６を形成するようになっている。すなわち、本変形例に係る光造形法によって形成される第２層乃至第ｎ−１層の微細穴非形成樹脂層３は、第１層及び第ｎ層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４を積層面と平行の仮想平面（Ｘ−Ｙ平面）７に投影した形状が微細穴投影形状とすると、仮想平面７への投影形状が微細穴投影形状よりも大きい空間６であって、且つ、仮想平面７への投影形状が微細穴投影形状の全てを含む大きさの空間６が、積層方向（−Ｚ方向）に沿って形成されている。
【００３４】
このような本変形例に係る光造形法によれば、第２層乃至第ｎ−１層の微細穴非形成樹脂層３の空間６を形作る輪郭と第１層及び第ｎ層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４を形作る輪郭とが離れて位置するように光造形物１を形成するため、第１実施形態に係る光造形法と同様の効果を得ることができる。
【００３５】
（第２変形例）
図５は、第１実施形態に係る光造形法の第２変形例を説明するための図である。なお、図５（ａ）は、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の平面図である。また、図５（ｂ）は、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の正面図である。また、図５（ｃ）は、図５（ａ）のＡ３−Ａ３線に沿って切断して示す光造形物１の断面図である。
【００３６】
図５に示すように、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１は、第１変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の空間６と同様の空間６に支柱２６を複数配置し、第１層の微細穴形成樹脂層２と第ｎ層の微細穴形成樹脂層２とを複数の支柱２６で支えるようになっている点を除き、他の構成が第１変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１と同様である。支柱２６は、角柱状に形成され、隣り合う４箇所の微細穴４から等距離の位置に配置されており（微細穴４に干渉しない箇所に配置されており）、空間６内に等間隔で４箇所形成されている。なお、支柱２６は、角柱状に限定されるものでなく、断面が円形やその他の形状の棒状体でもよい。また、支柱２６は、長手方向の一端が第１層の微細穴形成樹脂層２の下面に接続され、長手方向の他端が第ｎ層の微細穴形成樹脂層２の上面に接続されている。
【００３７】
本変形例に係る光造形法は、第１変形例に係る光造形法と同様に、第２層乃至第ｎ−１層の微細穴非形成樹脂層３の空間６を形作る輪郭と第１層及び第ｎ層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４を形作る輪郭とが離れて位置するように光造形物１を形成するため、第１実施形態に係る光造形法と同様の効果を得ることができる。
【００３８】
（第３変形例）
図６は、第１実施形態に係る光造形法の第３変形例を説明するための図である。なお、図６（ａ）は、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の平面図である。また、図６（ｂ）は、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の正面図である。また、図６（ｃ）は、図６（ａ）のＡ４−Ａ４線に沿って切断して示す光造形物１の断面図である。また、図６（ｄ）は、図６（ｃ）のＢ部を拡大して示す図である。
【００３９】
図６に示すように、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１は、第１変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１と同様の形状に形成されているが、第１層の微細穴形成樹脂層２、第２層乃至第ｎ−１層の微細穴非形成樹脂層３、及び第ｎ層の微細穴形成樹脂層２が格子状構造で形作られるようになっている。
【００４０】
本変形例に係る光造形法は、第１変形例に係る光造形法と同様に、第２層乃至第ｎ−１層の微細穴非形成樹脂層３の空間６を形作る輪郭と第１層及び第ｎ層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４を形作る輪郭とが離れて位置するように光造形物１を形成するため、第１実施形態に係る光造形法と同様の効果を得ることができる。
【００４１】
なお、本変形例に係る光造形法は、第２変形例に係る光造形法に適用し、支柱２６を含めた光造形物１の全体を格子状構造にすることができる。
【００４２】
［第２実施形態］
図７は、本発明の第２実施形態に係る光造形法によって形成される光造形物１を示す図である。なお、図７（ａ）は、本実施形態に係る光造形法によって形成される光造形物１の平面図である。また、図７（ｂ）は、本実施形態に係る光造形法によって形成される光造形物１の正面図である。また、図７（ｃ）は、図７（ａ）のＡ５−Ａ５線に沿って切断して示す光造形物１の断面図である。また、図７（ｄ）は、本実施形態に係る光造形法によって形成される光造形物１の裏面図である。
【００４３】
図７に示すように、本実施形態に係る光造形法は、単一の微細穴４を形成した第１層の微細穴形成樹脂層２と、微細穴４が開口する空間６を形成した複数層（第２層乃至第ｎ層）の微細穴非形成樹脂層３と、で直方体状の光造形物１を形作るようになっている。この本実施形態に係る光造形法によって形成される光造形物１は、微細穴４と空間６とが一対一で対応するように形成されている。
【００４４】
すなわち、本実施形態に係る光造形法は、第１層の微細穴４を有する微細穴形成樹脂層２を形成した後、第２層乃至第ｎ層まで微細穴非形成樹脂層３を第１層の微細穴形成樹脂層２の下に順次積み重ねて光造形物１を形作り、第２層乃至第ｎ層の微細穴非形成樹脂層３に積層方向に沿って延びる円柱状の空間６を形成するようになっている。この第２層乃至第ｎ層の微細穴非形成樹脂層３の空間６は、第１層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４を積層面と平行の仮想平面７に投影した形状が微細穴投影形状とすると、仮想平面７への投影形状が微細穴投影形状よりも大きく、且つ、仮想平面７への投影形状が微細穴投影形状の全てを含む大きさになっている。
【００４５】
本実施形態に係る光造形法は、第１実施形態に係る光造形法と同様に、第２層乃至第ｎ層の微細穴非形成樹脂層３の空間６を形作る輪郭と第１層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４を形作る輪郭とが離れて位置するように光造形物１を形成するため、微細穴非形成樹脂層３の空間６の輪郭を形作るレーザー光のエネルギーが微細穴４の近傍に蓄積されにくいため、微細穴４が余剰硬化物で塞がれることがない。
【００４６】
また、本実施形態に係る光造形法は、微細穴４を有する光造形物１の３Ｄデータ（三次元ＣＡＤデータ）１４をそのまま使用して（従来例のような三次元ＣＡＤデータを造形用の等高線データに変換することなく）造形しても、微細穴４が余剰硬化物で塞がってしまうことがなく、高精度の微細穴４を有する光造形物（三次元構造物）１を容易に作成できる。
【００４７】
（第１変形例）
図８は、本発明の第２実施形態に係る光造形法の第１変形例を説明するための図である。なお、図８（ａ）は、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の平面図である。また、図８（ｂ）は、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の正面図である。また、図８（ｃ）は、図８（ａ）のＡ６−Ａ６線に沿って切断して示す光造形物１の断面図である。また、図８（ｄ）は、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の裏面図である。
【００４８】
図８に示すように、本変形例に係る光造形法は、第２層乃至第ｎ−１層を微細穴非形成樹脂層３とし、第ｎ層を微細穴形成樹脂層２とした点が上記第２実施形態に係る光造形法と相違する。そして、第ｎ層（積層方向に沿った下端の層）の微細穴形成樹脂層２には、第１層（積層方向に沿った上端の層）の微細穴形成樹脂層２の微細穴４と同一の微細穴４が形成されている。このような本変形例に係る光造形法は、上記第２実施形態に係る光造形法と同様の効果を得ることができる。
【００４９】
（第２変形例）
図９は、本発明の第２実施形態に係る光造形法の第２変形例を説明するための図である。なお、図９（ａ）は、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の平面図である。また、図９（ｂ）は、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の正面図である。また、図９（ｃ）は、図９（ａ）のＡ７−Ａ７線に沿って切断して示す光造形物１の断面図である。また、図９（ｄ）は、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の裏面図である。
【００５０】
図９に示すように、本変形例に係る光造形法は、第１層（積層方向に沿った上端の層）と第ｎ層（積層方向に沿った下端の層）との間に位置する中間層（第ｍ層）を微細穴非形成樹脂層２とし、中間層（第ｍ層）よりも積層方向上方側の層（第１層乃至第ｍ−１層）を微細穴非形成樹脂層３とし、中間層（第ｍ層）よりも積層方向下方側の層（第ｍ＋１層乃至第ｎ層）を微細穴非形成樹脂層３としている。そして、本変形例に係る光造形法は、中間層（第ｍ層）の微細穴形成樹脂層２に微細穴４を形成し、第１層乃至第ｍ−１層の微細穴非形成樹脂層３に第１の空間６を形成し、第ｍ＋１層乃至第ｎ層の微細穴非形成樹脂層３に第２の空間６を形成するようになっている。この本変形例に係る光造形法によって形成された直方体状の光造形物１は、第１の空間６及び第２の空間６が第２実施形態に係る光造形法で形成された光造形物１の空間６を積層方向に沿って２分した形状であり、微細穴４が第２実施形態に係る光造形法で形成された光造形物の微細穴４と同一の形状である。このような本変形例に係る光造形法は、上記第２実施形態に係る光造形法と同様の効果を得ることができる。
【００５１】
（第３変形例）
図１０は、本発明の第２実施形態に係る光造形法の第３変形例を説明するための図である。なお、図１０（ａ）は、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の平面図である。また、図１０（ｂ）は、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の正面図である。また、図１０（ｃ）は、図１０（ａ）のＡ８−Ａ８線に沿って切断して示す光造形物１の断面図である。また、図１０（ｄ）は本、変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の裏面図である。
【００５２】
図１０に示すように、本変形例に係る光造形法は、第１変形例の光造形法と第２変形例の光造形法とを合体させたようになっており、第１層、中間層（第ｍ層）、及び第ｎ層を微細穴形成樹脂層２とし、第１層と中間層（第ｍ層）との間を微細穴非形成樹脂層３とし、中間層（第ｍ層）と第ｎ層との間を微細穴非形成樹脂層３としている。そして、本変形例に係る光造形法によって形成された光造形物１は、微細穴形成樹脂層２に微細穴４が形成され、微細穴非形成樹脂層３に空間６が形成されている。この本変形例に係る光造形法によって形成された直方体状の光造形物１は、空間６が第２実施形態に係る光造形法で形成された光造形物１の空間６の平面形状と同一の形状であり、微細穴４が第２実施形態に係る光造形法で形成された光造形物１の微細穴４と同一の形状である。このような本変形例に係る光造形法は、上記第２実施形態に係る光造形法と同様の効果を得ることができる。
【００５３】
（第４変形例）
図１１は、本発明の第２実施形態に係る光造形法の第４変形例を説明するための図である。なお、図１１（ａ）は、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の平面図である。また、図１１（ｂ）は、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の正面図である。また、図１１（ｃ）は、図１１（ａ）のＡ９−Ａ９線に沿って切断して示す光造形物１の断面図である。また、図１１（ｄ）は、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の裏面図である。
【００５４】
図１１に示すように、本変形例に係る光造形法は、第１層の微細穴４を有する微細穴形成樹脂層２を形成した後、第２層乃至第ｎ層まで微細穴非形成樹脂層３を第１層の微細穴形成樹脂層２の下に順次積み重ねて光造形物１を形作り、第２層乃至第ｎ層の微細穴非形成樹脂層３に積層方向に沿って延びる階段状の空間６を形成するようになっている。この第２層乃至第ｎ層の微細穴非形成樹脂層３の空間６は、平面視した形状が円形状であり、第２層から第ｎ層に向かうに従って階段状に直径が拡大し、第１層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４を積層面と平行の仮想平面７に投影した形状が微細穴投影形状とすると、仮想平面７への投影形状が微細穴投影形状よりも大きく、且つ、仮想平面７への投影形状が微細穴投影形状の全てを含む大きさになっている。このような本変形例に係る光造形法は、上記第２実施形態に係る光造形法と同様の効果を得ることができる。
【００５５】
（第５変形例）
図１２は、本発明の第２実施形態に係る光造形法の第５変形例を説明するための図である。なお、図１２（ａ）は、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の平面図である。また、図１２（ｂ）は、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の正面図である。また、図１２（ｃ）は、図１２（ａ）のＡ１０−Ａ１０線に沿って切断して示す光造形物１の断面図である。また、図１２（ｄ）は、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の裏面図である。
【００５６】
図１２に示すように、本変形例に係る光造形法は、第１層の微細穴４を有する微細穴形成樹脂層２を形成した後、微細穴非形成樹脂層３を第２層乃至第ｎ−１層まで第１層の微細穴形成樹脂層２の下に順次積み重ねて光造形物１を形作り、第ｎ層に微細穴４を有する微細穴形成樹脂層２を形成するようになっている。第１層の微細穴形成樹脂層２及び第ｎ層の微細穴形成樹脂層２には、同一の形状の微細穴４が形成されている。また、第２層乃至第ｎ−１層の微細穴非形成樹脂層３には、平面視した形状が円形状の空間６が形成されている。空間６は、第２層と第ｎ−１層との中間層（第ｍ層）に向かうに従って階段状に直径が拡大するように形成されており、第１層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４を積層面と平行の仮想平面７に投影した形状が微細穴投影形状とすると、仮想平面７への投影形状が微細穴投影形状よりも大きく、且つ、仮想平面７への投影形状が微細穴投影形状の全てを含む大きさになっている。このような本変形例に係る光造形法は、上記第２実施形態に係る光造形法と同様の効果を得ることができる。
【００５７】
（第６変形例）
図１３は、本発明の第２実施形態に係る光造形法の第６変形例を説明するための図である。なお、図１３（ａ）は、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の平面図である。また、図１３（ｂ）は、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の正面図である。また、図１３（ｃ）は、図１３（ａ）のＡ１１−Ａ１１線に沿って切断して示す光造形物１の断面図である。また、図１３（ｄ）は、本変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の裏面図である。
【００５８】
図１３に示すように、本変形例に係る光造形法は、第１層（積層方向に沿った上端の層）と第ｎ層（積層方向に沿った下端の層）との間の中間層（第ｍ層）を微細穴形成樹脂層２とし、第１層乃至第ｍ−１層を微細穴非形成樹脂層３とし、第ｍ＋１層乃至第ｎ層を微細穴非形成樹脂層３とするように、第１層から第ｎ層まで順次積み重ねるように形成することにより、直方体状の光造形物１を形成している。
【００５９】
第１層乃至第ｍ−１層の微細穴非形成樹脂層３には、積層方向に沿って階段状に縮径する第１の空間６が形成されている。また、第ｍ＋１層乃至第ｎ層の微細穴非形成樹脂層３には、積層方向に沿って階段状に拡径する第２の空間６が形成されている。第１の空間６と第２の空間６は、第ｍ層の微細穴形成樹脂層２に対して上下対称（積層方向に沿って上下対称）の形状であり、平面視した形状が円形状であり、第ｍ層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４を積層面と平行の仮想平面７に投影した形状が微細穴投影形状とすると、仮想平面７への投影形状が微細穴投影形状よりも大きく、且つ、仮想平面７への投影形状が微細穴投影形状の全てを含む大きさになっている。このような本変形例に係る光造形法は、上記第２実施形態に係る光造形法と同様の効果を得ることができる。
【００６０】
［第３実施形態］
図１４は、本発明の第３実施形態に係る光造形法によって形成される光造形物１を示す図である。なお、図１４（ａ）は、本実施形態に係る光造形法によって形成される光造形物１の平面図である。また、図１４（ｂ）は、図１４（ａ）のＡ１２−Ａ１２線に沿って切断して示す光造形物１の断面図である。また、図１４に示す本実施形態に係る光造形法によって形成される光造形物１は、第１実施形態に係る光造形法によって形成される光造形物１と同様の構成部分に同一符号を付し、第１実施形態に係る光造形法によって形成される光造形物１の説明と重複する説明を適宜省略する。
【００６１】
図１４に示すように、本実施形態に係る光造形法は、第１層及び第２層の微細穴４を有する微細穴形成樹脂層２にそれぞれ空間６（微細穴４よりも大きな直径の穴）を形成した後、第３層乃至第ｎ−２層まで微細穴非形成樹脂層３を第２層の微細穴形成樹脂層２の下に順次積み重ね、第ｎ−２層の下に第ｎ−１及び第ｎ層の微細穴４を有する微細穴形成樹脂層２にそれぞれ空間６を形成して、第１乃至第ｎ層の樹脂層（２、３）からなる光造形物１を形作るようになっている。
【００６２】
このような本実施形態に係る光造形法は、第１層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４の下方に第２層の微細穴形成樹脂層２の空間６を形成し、第１層の微細穴形成樹脂層２の空間６の下方に第２層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４を形成し、この第２層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４の下方に第３層の微細穴非形成樹脂層３の空間６を形成するようになっている。また、本実施形態に係る光造形法は、第ｎ−２層の微細穴非形成樹脂層３の空間６の下方に第ｎ−１層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４を形成し、第ｎ−１層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４の下方に第ｎ層の微細穴形成樹脂層２の空間６を形成し、第ｎ−１層の微細穴形成樹脂層２の空間６の下方に第ｎ層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４を形成するようになっている。
【００６３】
以上のように、本実施形態に係る光造形法によれば、第１層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４を形作る輪郭と第２層の微細穴形成樹脂層２の空間６を形作る輪郭とが離れて位置し、第２層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４を形作る輪郭と第１層の微細穴形成樹脂層２の空間６を形作る輪郭とが離れて位置し、第２層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４を形作る輪郭と第３層の微細穴非形成樹脂層３の空間６を形作る輪郭とが離れて位置するように光造形物１を形成する。また、本実施形態に係る光造形法によれば、第ｎ−１層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４を形作る輪郭と第ｎ−２層の微細穴非形成樹脂層３の空間６を形作る輪郭とが離れて位置し、第ｎ−１層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４を形作る輪郭と第ｎ層の微細穴形成樹脂層２の空間６を形作る輪郭とが離れて位置し、第ｎ層の微細穴形成樹脂層２の微細穴４を形作る輪郭と第ｎ−１層の微細穴非形成樹脂層３の空間６を形作る輪郭とが離れて位置するように光造形物１を形成する。したがって、本実施形態に係る光造形法によれば、第１実施形態に係る光造形法と同様の効果を得ることができる。
【００６４】
［第４実施形態］
図１５は、本発明の第４実施形態に係る光造形法によって形成される光造形物１を示す図である。なお、図１５（ａ）は、本実施形態に係る光造形法によって形成される光造形物１の平面図である。また、図１５（ｂ）は、図１５（ａ）のＡ１３−Ａ１３線に沿って切断して示す光造形物１の断面図である。
【００６５】
図１５に示すように、本実施形態に係る光造形法は、第１層乃至第ｎ層の樹脂層２ａを順次硬化させて積み重ね、直方体状の光造形物１を形成するようになっている。この光造形物１は、第１層乃至第ｎ層の各樹脂層２ａのそれぞれに複数の微細穴４と複数の空間６が形成されている。なお、第１層乃至第ｎ層の各樹脂層２ａは、微細穴４が形成されている点において、第１実施形態に係る光造形法によって形成される光造形物１の微細穴形成樹脂層２と同様である。
【００６６】
本実施形態に係る光造形法は、第１層の樹脂層２ａから第ｎ層の樹脂層２ａまでを上方から下方に向けて積み重ねる場合、上層の樹脂層２ａに微細穴４を形成した後、その上層の樹脂層２ａに積み重ねる下層の樹脂層２ａの微細穴（上層の樹脂層２ａの微細穴）４に対向する位置に空間６を形成するようになっている。
【００６７】
また、本実施形態に係る光造形法は、第１層の樹脂層２ａから第ｎ層の樹脂層２ａまでを下方から上方に向けて積み重ねる場合、下層の樹脂層２ａに微細穴４を形成した後、その下層の樹脂層２ａに積み重ねる上層の樹脂層２ａの微細穴（下層の樹脂層２ａの微細穴）４に対向する位置に空間６を形成するようになっている。
【００６８】
また、本実施形態に係る光造形法は、第１層の樹脂層２ａと第ｎ層の樹脂層２ａを除く、中間層（第２層乃至第ｎ−１層のいずれか）の樹脂層２ａに微細穴４を形成する場合、その微細穴４を形成する中間層の樹脂層２ａの上下に位置する樹脂層２ａの微細穴４に対向する位置に空間６，６を形成するようになっている。
【００６９】
そして、本実施形態に係る光造形法によって形成される光造形物１において、第１層乃至第ｎ層の樹脂層２ａの空間６は、樹脂層２ａの積層面と平行の仮想平面７への投影形状が微細穴４を仮想平面７に投影した形状である微細穴投影形状よりも大きくなるように形成され、且つ、仮想平面７への投影形状が微細穴投影形状の全てを含む大きさになるように形成されている。
【００７０】
以上のような本実施形態に係る光造形法によれば、微細穴４の輪郭と空間６の輪郭とが離れて位置し、樹脂層２ａの微細穴４の近傍にレーザー光のエネルギーが蓄積されにくいため、微細穴４が余剰硬化物で塞がれることがなく、第１実施形態に係る光造形法と同様の効果を得ることができる。
【００７１】
なお、本発明に係る積層造形法は、上記各実施形態及びその各変形例に係る光造形法に限定されず、粉末状の樹脂層を積層造形装置のレーザー光で焼結させて積み重ね、積み重ねた複数の樹脂層で三次元構造物を作成する粉末焼結法にも適用できる。
【００７２】
また、第２実施形態及びその各変形例に係る光造形法によって形成される光造形物１の微細穴４と空間６は、第１実施形態に係る光造形物１の微細穴４と空間６に適宜置き換えて適用することにより、使用目的に応じた構造の光造形物１（複数の微細穴４と複数の空間６とからなる光造形物１）を形作ることが可能になる。
【００７３】
また、第１乃至第４実施形態と各変形例とに係る光造形法の説明において、微細穴４は、平面形状が円形状のものを例示したが、これに限られず、四角形状、楕円形状、Ｄカット形状、六角形状等の任意の平面形状にしてもよい。また、空間６は、平面形状が円形状又は四角形状のものを例示したが、これに限られず、楕円形状、六角形状等の任意の平面形状にしてもよい。
【００７４】
また、第１乃至第４実施形態と各変形例とに係る光造形法の説明において、光造形物１は、平面形状が四角形状である直方体を例示したが、これに限られず、平面視した形状が円形状の板状体、平面視した形状が六角形状の板状体等、外径形状を適宜変更してもよい。
【００７５】
また、第１実施形態、第１実施形態の各変形例、第３実施形態、及び第４実施形態に係る光造形法の説明において、微細穴４を三行三列の合計９箇所に等ピッチＰで形成する態様を例示したが、第１実施形態、第３実施形態、及び第４実施形態において示した微細穴４と空間６との関係を充足する限り（微細穴４の輪郭と空間６の輪郭とが離れて位置し、微細穴４の近傍にレーザー光のエネルギーが蓄積されにくく、微細穴４が余剰硬化物で塞がれない限り）、複数の微細穴４を微細穴形成樹脂層２の任意の箇所に任意のピッチで形成してもよい。
【００７６】
また、第１実施形態、第２実施形態、第３実施形態、及び各変形例に係る光造形法の説明において、微細穴形成樹脂層２を単一層として例示したが、微細穴４が余剰硬化物で塞がれない限り、微細穴形成樹脂層２を複数層としてもよい。
【００７７】
また、本発明に係る光造形法は、第１実施形態、第２実施形態、第３実施形態、及び各変形例に係る光造形法に例示した方法（第１層乃至第ｎ層の各樹脂層を下方に向けて順次積み重ねる方法）に限定されず、第１層を最下層とし、この最下層である第１層の樹脂層の上に順次樹脂層を積み重ねるようにしてもよい。
【符号の説明】
【００７８】
１……光造形物（三次元構造物）、２……微細穴形成樹脂層（樹脂層）、２ａ……樹脂層、３……微細穴非形成樹脂層（樹脂層）、４……微細穴、６……空間、７……仮想平面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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