(57)【要約】      （修正有）【課題】信号配線の修理を可能としつつ、開口率の低下を抑制する表示装置を提供する。【解決手段】液晶パネル（表示装置）は、画素電極２４と、画素電極２４に画像信号を供給する複数のソース配線（信号配線）２７と、複数のソース配線２７に対して第１層間絶縁膜（絶縁膜）を介して少なくとも一部ずつが重畳するものの、画素電極２４とは非重畳となるよう配される複数のタッチ配線（配線）３１と、複数のタッチ配線３１同士を接続していてタッチ配線３１の延在方向について間隔を空けて配される複数の配線間接続部４１と、を備える。【選択図】図７
2019184864.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素電極と、
前記画素電極に画像信号を供給する複数の信号配線と、
複数の前記信号配線に対して絶縁膜を介して少なくとも一部ずつが重畳するものの、前記画素電極とは非重畳となるよう配される複数の配線と、
複数の前記配線同士を接続していて前記配線の延在方向について間隔を空けて配される複数の配線間接続部と、を備える表示装置。
【請求項２】
前記画素電極に対して絶縁膜を介して少なくとも一部が重畳するよう配される共通電極と、
前記共通電極を分割してなり、位置入力を行う位置入力体との間で静電容量を形成し、前記位置入力体による入力位置を検出する位置検出電極と、を備えており、
複数の前記配線は、前記位置検出電極に接続されて位置検出信号と前記位置検出電極を基準電位にする共通信号とを時分割して供給する請求項１記載の表示装置。
【請求項３】
複数の前記配線のうち、複数の前記配線間接続部により相互に接続される複数の前記配線は、共通の前記位置検出電極に接続される請求項２記載の表示装置。
【請求項４】
前記信号配線及び前記配線のうちの少なくとも一方は、配線本体と、前記配線本体よりも幅広な幅広部と、から構成される請求項２または請求項３記載の表示装置。
【請求項５】
前記位置検出電極は、前記幅広部を取り囲むよう開口する請求項４記載の表示装置。
【請求項６】
前記配線間接続部は、第１接続部と、前記第１接続部と前記配線とを繋いでいて前記第１接続部よりも幅狭な第２接続部と、から構成される請求項２から請求項５のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項７】
前記位置検出電極は、前記第２接続部を取り囲むよう開口する請求項６記載の表示装置。
【請求項８】
前記配線は、その延在方向について前記配線間接続部を挟み込むよう配される複数の分割配線から構成されており、
前記第２接続部は、前記延在方向について前記配線間接続部に対して隣り合う２つの前記分割配線に対して個別に接続されるよう複数が配される請求項６または請求項７記載の表示装置。
【請求項９】
前記配線は、その延在方向について前記配線間接続部を挟み込むよう配される複数の分割配線と、隣り合う前記分割配線同士を接続する分割配線接続部と、から構成されており、
前記第２接続部は、前記分割配線接続部に接続されている請求項６または請求項７記載の表示装置。
【請求項１０】
前記位置検出電極は、複数が間隔を空けて並んで配されており、
複数の前記配線間接続部は、前記位置検出電極とは非重畳となるよう隣り合う前記位置検出電極の間にそれぞれ選択的に配されている請求項２から請求項９のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記信号配線及び前記配線と交差するよう延在していて間に少なくとも前記画素電極を挟むよう間に間隔を空けて配される複数の走査配線を備えており、
複数の前記配線間接続部は、前記画素電極と前記走査配線との間に挟まれるよう配されており、
前記配線に接続されていて前記位置検出電極と重畳するとともに前記画素電極と前記走査配線との間に挟まれるよう配される電極重畳ダミー接続部を備える請求項１０記載の表示装置。
【請求項１２】
前記位置検出電極は、複数が間隔を空けて並んで配されており、
複数の前記配線間接続部には、前記位置検出電極と重畳するよう配されるものと、前記位置検出電極とは非重畳となるよう隣り合う前記位置検出電極の間に配されるものと、が含まれる請求項２から請求項９のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１３】
前記信号配線及び前記配線と交差するよう延在していて間に少なくとも前記画素電極を挟むよう間に間隔を空けて配される複数の走査配線を備えており、
前記画素電極は、前記信号配線の延在方向について間隔を空けて複数が並んで配されており、
複数の前記配線間接続部は、前記画素電極と前記走査配線との間に挟まれるとともに前記延在方向について前記画素電極及び走査配線と交互に繰り返し並ぶよう配される請求項１２記載の表示装置。
【請求項１４】
前記信号配線及び前記配線と交差するよう延在していて間に少なくとも前記画素電極を挟むよう間に間隔を空けて配される複数の走査配線を備えており、
複数の前記配線間接続部は、前記画素電極と前記走査配線との間に挟まれるよう配されており、
複数の前記配線には、隣り合って配されて前記配線間接続部により相互に接続されるものと、隣り合って配されるものの相互に非接続とされるものと、が含まれており、
隣り合って配されるものの相互に非接続とされる前記配線のいずれか一方に接続されていて前記画素電極と前記走査配線との間に挟まれるよう配されるダミー接続部を備える請求項２から請求項１３のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１５】
前記ダミー接続部は、前記信号配線の延在方向について前記画素電極及び走査配線と交互に繰り返し並ぶよう複数が配される請求項１４記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、表示装置に備わるデータ線に生じた欠陥を修理する技術を開示するものとして下記特許文献１が知られている。特許文献１では、データ線と平行するように画素電極の下側に予備線を設ける。予備線とＣｓ線とは画素毎にコンタクト部にて電気的に接続されており、予備線には通常Ｃｓ線と同じ電圧が印加されている。データ線に断線不良が生じたときには、断線したデータ線と隣り合う予備線を、断線箇所を挟むように位置する２本のＣｓ線との各交差部の配線方向両外側で切断して一部切り離すとともに、断線箇所を挟むように位置する２本のＣｓ線を、データ線および予備線との各交差部の配線方向両外側で切断して一部切り離し、データ線とＣｓ線の切り離し部分とを電気的に接続する。これにより、データ線への電圧印加が維持される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−２３２４１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記した特許文献１では、Ｃｓ線に接続された予備線を利用してデータ線の断線修理を行っている。しかしながら、予備線は、データ線に対して非重畳の配置とされており、データ線との間にゲート線の延在方向について間隔を空けて並ぶ配置とされている。しかも、予備線は、画素電極と重畳する配置とされている。このため、開口率の低下などの問題が生じており、高精細化などを図る上で問題となっていた。
【０００５】
本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、信号配線の修理を可能としつつ開口率の低下を抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の表示装置は、画素電極と、前記画素電極に画像信号を供給する複数の信号配線と、複数の前記信号配線に対して絶縁膜を介して少なくとも一部ずつが重畳するものの、前記画素電極とは非重畳となるよう配される複数の配線と、複数の前記配線同士を接続していて前記配線の延在方向について間隔を空けて配される複数の配線間接続部と、を備える。
【０００７】
画素電極は、信号配線から供給される画像信号に基づいた電位となる。複数の配線は、複数の信号配線に対して絶縁膜を介して少なくとも一部ずつが重畳するとともに、配線の延在方向について間隔を空けて配される複数の配線間接続部によって接続されている。このような構成によれば、いずれかの信号配線に断線が生じた場合には、その断線した信号配線と重畳する配線を利用して信号配線の断線修理を行うことが可能となっている。
【０００８】
修理に際しては、断線した信号配線と絶縁膜を介して重畳する配線のうち、その延在方向について信号配線の断線箇所を挟み込む２箇所にレーザ光照射などの処理を行うことで、その配線と断線した信号配線とを短絡させる。その一方で、断線した信号配線と重畳する配線のうち、その延在方向について信号配線の断線箇所を挟み込む２つの配線間接続部を上記配線から電気的に切り離すため、上記配線やその配線に接続された配線間接続部を適宜に切断する処理を行う。以上により、断線した信号配線と重畳する配線の一部が断線箇所を跨ぐ形で信号配線に短絡されるとともに配線間接続部による接続対象であった配線から電気的に切り離されるから、画像信号は、上記した配線の一部を経由することで信号配線の断線箇所を迂回して画素電極に供給される。一部が信号配線の修理に用いられた配線により元々伝送されていた信号は、その配線に対して配線間接続部によって接続される配線によって伝送される。
【０００９】
そして、配線は、少なくとも一部が信号配線と重畳する配置となっているから、仮に配線が信号配線とは非重畳となるよう配された場合に比べると、配線及び信号配線の配置スペースが削減されて開口率の向上を図る上で好適になるのに加えて、配線と信号配線との短絡箇所に係る配置自由度が高くなる。しかも、配線は、画素電極とは非重畳となるよう配されているから、配線と信号配線とを短絡するためにレーザ光照射などの処理を行う際に、その処理の影響が画素電極に及び難くなる。これにより、レーザ光照射などの処理に伴う二次的な不具合が生じ難くなる。また、断線修理を行わない場合は、複数の配線が複数の配線間接続部により接続される状態に保たれるので、配線抵抗が低くなる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、信号配線の修理を可能としつつ開口率の低下を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施形態１に係る液晶表示装置に備わる液晶パネルのタッチ電極及びタッチ配線などを示す平面図
【図２】液晶パネルの画素配列を示す平面図
【図３】液晶パネルにおける図２のＡ−Ａ線断面図
【図４】液晶パネルを構成するアレイ基板及びＣＦ基板におけるＴＦＴ付近を示す平面図
【図５】アレイ基板における図４のＢ−Ｂ線断面図
【図６】液晶パネルにおけるソース配線、タッチ電極、タッチ配線及び配線間接続部の概略的な配置を示す平面図
【図７】アレイ基板及びＣＦ基板において１つのタッチ電極を挟み込む２つの配線間接続部付近を示す平面図
【図８】アレイ基板に備わる第３金属膜のパターンを示す平面図
【図９】アレイ基板に備わる第２透明電極膜のパターンを示す平面図
【図１０】アレイ基板における図７のＣ−Ｃ線断面図
【図１１】本発明の実施形態２に係る液晶パネルの画素配列を示す平面図
【図１２】アレイ基板に備わる第３金属膜のパターンを示す平面図
【図１３】アレイ基板に備わる第２透明電極膜のパターンを示す平面図
【図１４】本発明の実施形態３に係る液晶パネルを構成するアレイ基板及びＣＦ基板における配線間接続部付近を示す平面図
【発明を実施するための形態】
【００１２】
＜実施形態１＞
本発明の実施形態１を図１から図１０によって説明する。本実施形態では、表示機能及びタッチパネル機能（位置入力機能）を備える液晶表示装置（位置入力機能付き表示装置）１０について例示する。なお、各図面の一部にはＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸を示しており、各軸方向が各図面で示した方向となるように描かれている。また、図３，図５及び図１０の上側を表側とし、同図下側を裏側とする。
【００１３】
図１は、液晶パネル１１の概略的な平面図である。液晶表示装置１０は、図１に示すように、横長の方形状をなしていて画像を表示可能な液晶パネル（表示装置、表示パネル、位置入力機能付き表示パネル）１１と、液晶パネル１１に対して表示に利用するための光を照射する外部光源であるバックライト装置（照明装置）と、を少なくとも備える。本実施形態では、液晶パネル１１の画面サイズが例えば１６インチ程度（具体的には１６．１インチ）とされるとともに、解像度が「ＦＨＤ」相当とされる。バックライト装置は、液晶パネル１１に対して裏側（背面側）に配置され、白色の光（白色光）を発する光源（例えばＬＥＤなど）や光源からの光に光学作用を付与することで面状の光に変換する光学部材などを有する。なお、バックライト装置の図示は省略している。
【００１４】
液晶パネル１１は、図１に示すように、画面の中央側部分が、画像が表示される表示領域（図１において一点鎖線により囲った範囲）ＡＡとされる。これに対し、液晶パネル１１の画面における表示領域ＡＡを取り囲む額縁状の外周側部分が、画像が表示されない非表示領域ＮＡＡとされる。液晶パネル１１は、一対の基板２０，２１を貼り合わせてなる。一対の基板２０，２１のうち表側（正面側）がＣＦ基板（対向基板）２０とされ、裏側（背面側）がアレイ基板（アクティブマトリクス基板、素子基板）２１とされる。ＣＦ基板２０及びアレイ基板２１は、いずれもガラス基板の内面側に各種の膜が積層形成されてなる。なお、両基板２０，２１の外面側には、それぞれ図示しない偏光板が貼り付けられている。ＣＦ基板２０は、短辺寸法がアレイ基板２１の短辺寸法よりも短くされるのに対し、アレイ基板２１に対して短辺方向（Ｙ軸方向）についての一方の端部が揃う形で貼り合わせられている。従って、アレイ基板２１における短辺方向についての他方の端部は、ＣＦ基板２０に対して側方に突き出していてＣＦ基板２０とは非重畳となるＣＦ基板非重畳部２１Ａとされる。このＣＦ基板非重畳部２１Ａには、次述する表示機能やタッチパネル機能に係る各種信号を供給するためのドライバ（駆動回路部）１２及びフレキシブル基板（信号伝送部）１３が実装されている。ドライバ１２は、内部に駆動回路を有するＬＳＩチップからなり、アレイ基板２１に対してＣＯＧ（Chip On Glass）実装されており、フレキシブル基板１３によって伝送される各種信号を処理する。本実施形態では、液晶パネル１１の非表示領域ＮＡＡに、４つのドライバ１２がＸ軸方向に沿って間隔を空けて並んで配されている。フレキシブル基板１３は、絶縁性及び可撓性を有する合成樹脂材料（例えばポリイミド系樹脂等）からなる基材上に多数本の配線パターン（図示せず）を形成した構成とされる。フレキシブル基板１３は、その一端側が液晶パネル１１の非表示領域ＮＡＡに、他端側が図示しないコントロール基板（信号供給源）に、それぞれ接続されている。コントロール基板から供給される各種信号は、フレキシブル基板１３を介して液晶パネル１１に伝送され、非表示領域ＮＡＡにおいてドライバ１２による処理を経て表示領域ＡＡへ向けて出力される。また、アレイ基板２１の非表示領域ＮＡＡには、表示領域ＡＡをＸ軸方向について両側から挟み込む形で一対のゲート回路部ＧＤＭが設けられている。ゲート回路部ＧＤＭは、後述するゲート配線２６に走査信号を供給するためのものである。
【００１５】
本実施形態に係る液晶パネル１１は、画像を表示する表示機能と、表示される画像に基づいて使用者が入力する位置（入力位置）を検出するタッチパネル機能と、を併有しており、このうちのタッチパネル機能を発揮するためのタッチパネルパターンを一体化（インセル化）している。このタッチパネルパターンは、いわゆる投影型静電容量方式とされており、その検出方式が自己容量方式とされる。タッチパネルパターンは、図１に示すように、液晶パネル１１の板面内においてマトリクス状に並んで配される複数のタッチ電極（位置検出電極）３０から構成されている。タッチ電極３０は、液晶パネル１１の表示領域ＡＡに配されている。従って、液晶パネル１１の表示領域ＡＡは、入力位置を検出可能なタッチ領域（位置入力領域）とほぼ一致しており、非表示領域ＮＡＡが入力位置を検出不能な非タッチ領域（非位置入力領域）とほぼ一致している。そして、使用者が視認する液晶パネル１１の表示領域ＡＡの画像に基づいて位置入力をしようとして液晶パネル１１の表面（表示面）に導電体である図示しない指（位置入力体）を近づけると、その指とタッチ電極３０との間で静電容量が形成されることになる。これにより、指の近くにあるタッチ電極３０にて検出される静電容量には指が近づくのに伴って変化が生じ、指から遠くにあるタッチ電極３０とは異なるものとなるので、それに基づいて入力位置を検出することが可能となる。タッチ電極３０は、表示領域ＡＡにおいてＸ軸方向（タッチ配線３１を挟み込む画素電極２４の並び方向）及びＹ軸方向（タッチ配線３１の延在方向）に沿って複数ずつがマトリクス状に間隔を空けて並んで配されている。タッチ電極３０は、平面に視て略方形状をなしており、一辺の寸法が数ｍｍ（例えば約２ｍｍ〜６ｍｍ）程度とされ、好ましくは５．１ｍｍ程度かそれ以上とされている。従って、タッチ電極３０は、平面に視た大きさが後述する画素部ＰＸよりも遙かに大きくなっており、Ｘ軸方向及びＹ軸方向について複数（例えば数十程度）ずつの画素部ＰＸに跨る範囲に配置されている。複数のタッチ電極３０には、液晶パネル１１に設けられた複数のタッチ配線（配線、位置検出配線）３１が選択的に接続されている。タッチ配線３１は、Ｙ軸方向に沿って延在しており、Ｙ軸方向に沿って並ぶ複数のタッチ電極３０のうちの特定のタッチ電極３０に対して選択的に接続されている。より詳しくは、本実施形態では、タッチ配線３１は、Ｙ軸方向に沿って並ぶ複数のタッチ電極３０からなる列に対して複数本が重畳するよう配されるとともに、その列をなすタッチ電極３０の個々に対して複数本ずつが選択的に接続されている。具体的には、１つのタッチ電極３０に対して重畳するタッチ配線３１の本数は、Ｙ軸方向についてのタッチ電極３０の並び数の２倍程度とされており、１つのタッチ電極３０に対して２本のタッチ配線３１が接続されていて配線抵抗の低下や冗長化が図られている。このような接続形態は、タッチ電極３０の一辺の寸法が一定以上であることが必要であり、本実施形態のような１６．１インチの画面サイズで解像度が「ＦＨＤ」相当の液晶パネル１１では、タッチ電極３０の一辺の寸法が５．１ｍｍ以上であることが必要となっている。詳しくは、本実施形態では、１つのタッチ電極３０に対して重畳するソース配線２７及びタッチ配線３１の本数は、タッチ電極３０の一辺の寸法（本実施形態では５．１ｍｍ）を、画素部ＰＸにおけるＸ軸方向についての配列ピッチ（本実施形態では６２μｍ）にて除した値（本実施形態では８２本）ずつとなる。この値は、Ｙ軸方向に沿って並んで列をなすタッチ電極３０の並び数（本実施形態では４０個）の２倍程度となっている。これにより、本実施形態では、全てのタッチ電極３０に対して２本ずつのタッチ配線３１を接続する構成を採っている。なお、図１では、タッチ電極３０に対するタッチ配線３１の接続箇所を黒丸にて図示している。さらにタッチ配線３１は、図示しない検出回路と接続されている。検出回路は、ドライバ１２に備えられていても構わないが、フレキシブル基板１３を介して液晶パネル１１の外部に備えられていても構わない。なお、図１は、タッチ電極３０の配列を模式的に表したものであり、タッチ電極３０の具体的な設置数、配置、平面形状などについては図示以外にも適宜に変更可能である。
【００１６】
図２は、液晶パネル１１を構成するアレイ基板２１の表示領域ＡＡにおける平面図である。タッチ電極３０には、図２に示すように、タッチ配線３１の一部と重畳するよう配されるタッチ配線重畳開口部（配線重畳開口部、位置検出配線重畳開口部）３０Ａが設けられている。タッチ配線重畳開口部３０Ａは、タッチ配線３１の延在方向であるＹ軸方向に並行する形でそれぞれ延在しており、平面に視て縦長形状（タッチ配線３１の延在方向を長手方向とした長手形状）とされる。また、タッチ配線重畳開口部３０Ａは、その幅寸法（Ｘ軸方向についての寸法）がタッチ配線３１の幅寸法よりも大きい。このように、タッチ配線重畳開口部３０Ａがタッチ配線３１の少なくとも一部ずつと重畳する形で配されることで、タッチ配線３１と、そのタッチ配線３１とは非接続とされるタッチ電極３０と、の間に生じ得る寄生容量が軽減される。これにより、位置検出に係る感度が良好なものとなる。
【００１７】
液晶パネル１１を構成するアレイ基板２１の表示領域ＡＡにおける内面側には、図２に示すように、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ、スイッチング素子）２３及び画素電極２４が設けられている。ＴＦＴ２３及び画素電極２４は、多数個ずつＸ軸方向及びＹ軸方向に沿って間隔を空けて並んでマトリクス状（行列状）に設けられている。これらＴＦＴ２３及び画素電極２４の周りには、互いに直交（交差）するゲート配線（走査配線）２６及びソース配線（信号配線、データ配線）２７が配設されている。ゲート配線２６は、概ねＸ軸方向に沿って延在するのに対し、ソース配線２７は、概ねＹ軸方向に沿って延在している。ゲート配線２６とソース配線２７とがそれぞれＴＦＴ２３のゲート電極２３Ａとソース電極２３Ｂとに接続され、画素電極２４がＴＦＴ２３のドレイン電極２３Ｃに接続されている。そして、ＴＦＴ２３は、ゲート配線２６及びソース配線２７にそれぞれ供給される各種信号に基づいて駆動され、その駆動に伴って画素電極２４への電位の供給を制御する。また、ＴＦＴ２３は、画素電極２４（ソース配線２７）に対してＸ軸方向について図２に示す左右に偏在している。ＴＦＴ２３は、画素電極２４（ソース配線２７）に対して左側に偏在するものと、画素電極２４（ソース配線２７）に対して右側に偏在するものと、がＹ軸方向について交互に繰り返し並ぶ配列とされており、ジグザグ状（千鳥状）に平面配置されている。画素電極２４は、平面形状が縦長の略方形（より詳細には、長辺はソース配線２７に沿うように屈曲している）とされており、その短辺方向がゲート配線２６の延在方向と、長辺方向がソース配線２７の延在方向と、それぞれ一致している。画素電極２４は、Ｙ軸方向について両側から一対のゲート配線２６により挟み込まれるとともに、Ｘ軸方向について両側から一対のソース配線２７により挟み込まれている。なお、ＣＦ基板２０側には、図２では二点鎖線にて図示される遮光部（画素間遮光部、ブラックマトリクス）２９が形成されている。遮光部２９は、隣り合う画素電極２４の間を仕切るよう平面形状が略格子状をなしており、平面に視て画素電極２４の大部分と重畳する位置に画素開口部２９Ａを有している。この画素開口部２９Ａにより画素電極２４の透過光を液晶パネル１１の外部へ出光させることが可能とされる。遮光部２９は、アレイ基板２１側の少なくともゲート配線２６及びソース配線２７（タッチ配線３１も含む）と平面に視て重畳する配置とされる。なお、ＴＦＴ２３及び画素電極２４の配置などに関しては後に改めて説明する。
【００１８】
図３は、液晶パネル１１における画素部ＰＸの中央部付近の断面図である。液晶パネル１１は、図３に示すように、一対の基板２０，２１間に配されて電界印加に伴って光学特性が変化する物質である液晶分子を含む液晶層（媒質層）２２を有している。液晶パネル１１を構成するＣＦ基板２０の内面側における表示領域ＡＡには、青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）及び赤色（Ｒ）を呈する３色のカラーフィルタ２８が設けられている。カラーフィルタ２８は、互いに異なる色を呈するものがゲート配線２６（Ｘ軸方向）に沿って繰り返し多数並び、それらがソース配線２７（概ねＹ軸方向）に沿って延在することで、全体としてストライプ状に配列されている。これらのカラーフィルタ２８は、アレイ基板２１側の各画素電極２４と平面に視て重畳する配置とされている。Ｘ軸方向について隣り合って互いに異なる色を呈するカラーフィルタ２８は、その境界（色境界）がソース配線２７及び遮光部２９と重畳する配置とされる。この液晶パネル１１においては、Ｘ軸方向に沿って並ぶＲ，Ｇ，Ｂのカラーフィルタ２８と、各カラーフィルタ２８と対向する３つの画素電極２４と、が３色の画素部ＰＸをそれぞれ構成している。そして、この液晶パネル１１においては、Ｘ軸方向に沿って隣り合うＲ，Ｇ，Ｂの３色の画素部ＰＸによって所定の階調のカラー表示を可能な表示画素が構成されている。画素部ＰＸにおけるＸ軸方向についての配列ピッチは、例えば６０μｍ程度（具体的には６２μｍ）とされ、Ｙ軸方向についての配列ピッチは、例えば１８０μｍ程度（具体的には１８６μｍ）とされる。遮光部２９は、隣り合うカラーフィルタ２８間を仕切る形で配されている。カラーフィルタ２８の上層側（液晶層２２側）には、ＣＦ基板２０のほぼ全域にわたってベタ状に配される平坦化膜（図示せず）が設けられている。なお、両基板２０，２１のうち液晶層２２に接する最内面には、液晶層２２に含まれる液晶分子を配向させるための配向膜（図示せず）がそれぞれ形成されている。
【００１９】
続いて、共通電極２５に関して図２及び図３を参照しつつ説明する。アレイ基板２１の表示領域ＡＡにおける内面側には、図２及び図３に示すように、全ての画素電極２４と重畳する形で共通電極２５が画素電極２４よりも上層側に形成されている。共通電極２５は、タッチ信号（信号、位置検出信号）が供給されて位置入力体である指による入力位置を検出する期間（センシング期間）を除いて、常にほぼ一定の基準電位が供給されるものであり、表示領域ＡＡのほぼ全域にわたって延在している。共通電極２５のうち、各画素電極２４（詳細には後述する画素電極本体２４Ａ）と重畳する部分には、各画素電極２４の長辺方向に沿って延在する画素重畳開口部（画素重畳スリット、配向制御スリット）２５Ａが複数ずつ開口形成されている。なお、画素重畳開口部２５Ａの具体的な設置本数や形状や形成範囲などは、図示以外にも適宜に変更可能である。画素電極２４が充電されるのに伴って互いに重畳する画素電極２４と共通電極２５との間に電位差が生じると、画素重畳開口部２５Ａの開口縁と画素電極２４との間には、アレイ基板２１の板面に沿う成分に加えて、アレイ基板２１の板面に対する法線方向の成分を含むフリンジ電界（斜め電界）が生じる。従って、このフリンジ電界を利用することで液晶層２２に含まれる液晶分子の配向状態を制御することができる。つまり、本実施形態に係る液晶パネル１１は、動作モードがＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードとされている。そして、この共通電極２５は、既述したタッチ電極３０を構成している。共通電極２５は、既述した画素重畳開口部２５Ａに加えて、隣り合うタッチ電極３０の間を仕切る仕切開口部（仕切スリット）２５Ｂを有する。仕切開口部２５Ｂは、Ｘ軸方向に沿って共通電極２５の全長にわたって横断する部分と、Ｙ軸方向に沿って共通電極２５の全長にわたって縦断する部分と、からなり、全体としては平面に視て略格子状をなしている。共通電極２５は、仕切開口部２５Ｂによって平面に視て碁盤目状に分割されて相互が電気的に独立した複数のタッチ電極３０からなる。従って、タッチ電極３０に接続されたタッチ配線３１は、表示機能に係る共通信号（基準電位信号）と、タッチ機能に係るタッチ信号と、を異なるタイミングでもって（時分割して）タッチ電極３０に供給する。このうちの共通信号は、同じタイミングで全てのタッチ配線３１に伝送されることで、全てのタッチ電極３０が基準電位となって共通電極２５として機能する。
【００２０】
ＴＦＴ２３及び画素電極２４の構成について図４を参照しつつ詳しく説明する。図４は、アレイ基板２１における所定のＴＦＴ２３付近を拡大した平面図である。ＴＦＴ２３は、図４に示すように、全体としてＸ軸方向に沿って延在する横長形状をなしており、接続対象とされる画素電極２４に対してＹ軸方向について図４に示す下側に隣り合う配置とされる。ＴＦＴ２３は、ゲート配線２６の一部（ソース配線２７などと重畳する部分）からなるゲート電極２３Ａを有する。ゲート電極２３Ａは、Ｘ軸方向に沿って延在する横長形状をなしていて、ゲート配線２６に供給される走査信号に基づいてＴＦＴ２３を駆動し、それによりソース電極２３Ｂとドレイン電極２３Ｃとの間の電流が制御される。ＴＦＴ２３は、ソース配線２７の一部（ゲート配線２６と重畳する部分）からなるソース電極２３Ｂを有する。ソース電極２３Ｂは、ＴＦＴ２３におけるＸ軸方向についての一端側に配されていてそのほぼ全域がゲート電極２３Ａと重畳するとともにチャネル部２３Ｄに接続される。ＴＦＴ２３は、ソース電極２３Ｂとの間に間隔を空けた位置、つまりＴＦＴ２３におけるＸ軸方向についての他端側に配されるドレイン電極２３Ｃを有する。ドレイン電極２３Ｃは、概ねＸ軸方向に沿って延在しており、その一端側がソース電極２３Ｂと対向状をなしてゲート電極２３Ａと重畳するとともにチャネル部２３Ｄに接続されるのに対し、他端側が画素電極２４に接続される。
【００２１】
画素電極２４は、図４に示すように、遮光部２９の画素開口部２９Ａと重畳する概ね方形状の画素電極本体２４Ａと、画素電極本体２４ＡからＹ軸方向に沿ってＴＦＴ２３側に突出するコンタクト部２４Ｂと、からなる。このうちのコンタクト部２４Ｂは、ドレイン電極２３Ｃの他端側に対して重畳配置されており、それら重畳箇所同士が第１層間絶縁膜３６に開口形成された画素コンタクトホールＣＨ１を通して接続されている。なお、ゲート配線２６は、コンタクト部２４Ｂ及びドレイン電極２３Ｃの双方と重畳する範囲が切り欠かれている。この切り欠きは、ゲート配線２６と画素電極２４との間の容量を低減するために設けられている。また、ドレイン電極２３Ｃの他端は、ゲート配線２６と重畳している。これは、アレイ基板２１を製造する際に、ゲート配線２６に対してドレイン電極２３Ｃが位置ずれした場合でも、ゲート配線２６とドレイン電極２３Ｃ（すなわち画素電極２４）との間の容量が変動しないようにするために設けられている。ＴＦＴ２３は、後述するゲート絶縁膜３３を介してゲート電極２３Ａと重畳するとともに、ソース電極２３Ｂ及びドレイン電極２３Ｃに接続されるチャネル部２３Ｄを有する。チャネル部２３Ｄは、ゲート電極２３Ａと重畳するとともにＸ軸方向に沿って延在し、その一端側がソース電極２３Ｂに、他端側がドレイン電極２３Ｃに、それぞれ接続されている。そして、ゲート電極２３Ａに供給される走査信号に基づいてＴＦＴ２３がオン状態にされると、ソース配線２７に供給される画像信号（データ信号）は、ソース電極２３Ｂから半導体膜３４からなるチャネル部２３Ｄを介してドレイン電極２３Ｃへと供給される。その結果、画素電極２４が画像信号に基づいた電位に充電される。なお、共通電極２５は、チャネル部２３Ｄと重畳する範囲が切り欠かれている。この切り欠きは、ＴＦＴ２３がオフ状態のときに、共通電極２５（タッチ電極３０）の電位変動に伴い、ソース電極２３Ｂとドレイン電極２３Ｃとの間のリーク電流量が変動することを抑制するために設けられている。
【００２２】
ここで、アレイ基板２１の内面側に積層形成された各種の膜について図５を参照しつつ説明する。図５は、液晶パネル１１におけるＴＦＴ２３付近の断面図である。アレイ基板２１には、図５に示すように、下層側（ガラス基板側）から順に第１金属膜３２、ゲート絶縁膜３３、半導体膜３４、第２金属膜３５、第１層間絶縁膜３６、第１透明電極膜３７、第３金属膜３８、第２層間絶縁膜３９、第２透明電極膜４０が積層形成されている。第１金属膜３２、第２金属膜３５及び第３金属膜３８は、それぞれ銅、チタン、アルミニウム、モリブデン、タングステンなどの中から選択される１種類の金属材料からなる単層膜または異なる種類の金属材料からなる積層膜や合金とされることで導電性及び遮光性を有している。第１金属膜３２は、ゲート配線２６やＴＦＴ２３のゲート電極２３Ａなどを構成する。第２金属膜３５は、ソース配線２７やＴＦＴ２３のソース電極２３Ｂ及びドレイン電極２３Ｃなどを構成する。第３金属膜３８は、タッチ配線３１や後述する配線間接続部４１などを構成する。ゲート絶縁膜３３、第１層間絶縁膜３６及び第２層間絶縁膜３９は、それぞれ窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）等の無機材料からなる。ゲート絶縁膜３３は、下層側の第１金属膜３２と、上層側の半導体膜３４及び第２金属膜３５と、を絶縁状態に保つ。第１層間絶縁膜３６は、下層側の半導体膜３４及び第２金属膜３５と、上層側の第１透明電極膜３７及び第３金属膜３８と、を絶縁状態に保つ。第２層間絶縁膜３９は、下層側の第１透明電極膜３７及び第３金属膜３８と、上層側の第２透明電極膜４０と、を絶縁状態に保つ。半導体膜３４は、材料として例えば酸化物半導体、アモルファスシリコン等を用いた薄膜からなり、ＴＦＴ２３においてソース電極２３Ｂとドレイン電極２３Ｃとに接続されるチャネル部（半導体部）２３Ｄなどを構成する。第１透明電極膜３７及び第２透明電極膜４０は、透明電極材料（例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）など）からなる。第１透明電極膜３７は、画素電極２４などを構成する。第１透明電極膜３７及び第３金属膜３８は、共に第１層間絶縁膜３６の上層側に配されていて互いに同層に位置している。従って、第１透明電極膜３７からなる画素電極２４と、第３金属膜３８からなるタッチ配線３１及び配線間接続部４１などと、は、互いに同層に配されている、と言える。第２透明電極膜４０は、共通電極２５（タッチ電極３０）を構成する。なお、本実施形態では、タッチ配線３１及び配線間接続部４１は、第３金属膜３８からなる単層構造とされているが、例えば第１透明電極膜３７と第３金属膜３８との積層構造とすることも可能である。
【００２３】
続いて、表示領域ＡＡにおけるタッチ配線３１の構成について主に図５を参照し、適宜に図４を参照して説明する。タッチ配線３１は、図５に示すように、第３金属膜３８からなり、第２金属膜３５からなるソース配線２７の概ね全域（大部分）に対して第１層間絶縁膜３６を介して平面に視て重畳するよう配されている。このようにすれば、仮にタッチ配線がソース配線２７とは非重畳となるよう配された場合に比べると、タッチ配線３１及びソース配線２７の配置スペースが削減されて開口率の向上を図る上で好適になっている。タッチ配線３１は、表示領域ＡＡにおいてはソース配線２７に並行する形で概ねＹ軸方向に沿って延在しており、Ｙ軸方向に沿って並ぶ多数の画素電極２４に対してＸ軸方向について離間しつつ隣り合う配置とされている。つまり、タッチ配線３１及びそれと重畳するソース配線２７は、共に画素電極２４とは非重畳となる配置とされる。タッチ配線３１は、全てのソース配線２７に対して重畳するよう配されており、その設置数がソース配線２７の設置数と一致している。タッチ配線３１は、表示領域ＡＡにおいて接続対象となるタッチ電極３０に接続されるパッド部３１Ａを有している。パッド部３１Ａは、タッチ配線３１の側縁からＸ軸方向に沿って部分的に突出し、Ｙ軸方向についてゲート配線２６と画素電極２４との間に挟み込まれつつゲート配線２６の一部と重畳する配置とされる（図４を参照）。パッド部３１Ａと接続対象のタッチ電極３０との重畳箇所は、第２層間絶縁膜３９に開口形成されたタッチ配線用コンタクトホールＣＨ２を通して接続されている。
【００２４】
さて、本実施形態では、図６に示すように、Ｘ軸方向（タッチ配線３１の延在方向と交差（直交）する方向）について隣り合うタッチ配線３１同士を接続する配線間接続部４１が設けられており、それによりタッチ配線３１の一部を利用してソース配線２７の断線修理を行うことが可能となっている。図６は、ソース配線２７、タッチ電極３０、タッチ配線３１及び配線間接続部４１の概略的な配置を示す平面図である。図６では、第２金属膜３５からなるソース配線２７が実線により、第３金属膜３８からなるタッチ配線３１及び配線間接続部４１が破線により、第２透明電極膜４０からなるタッチ電極３０が二点鎖線により、それぞれ示されている。配線間接続部４１は、Ｘ軸方向について１つの画素電極２４を挟んで隣り合う２本のタッチ配線３１に対して接続されている。配線間接続部４１は、Ｙ軸方向（タッチ配線３１の延在方向）について間隔を空けて複数が配されており、接続対象となる各タッチ配線３１におけるＹ軸方向について間隔を空けた複数箇所同士を相互に接続している。そして、配線間接続部４１の接続対象となる２本のタッチ配線３１は、共通のタッチ電極３０に対して接続されている。つまり、同じタッチ電極３０に接続される２本のタッチ配線３１は、Ｘ軸方向について１つの画素電極２４を挟んで隣り合うよう配されるとともに、複数の配線間接続部４１によって相互に接続されている。従って、タッチ電極３０に供給されるタッチ信号や共通信号は、配線間接続部４１により接続されて短絡状態とされる２本のタッチ配線３１により伝送されるので、低い配線抵抗での伝送が可能となり、電圧降下が生じ難くなっている。さらには、複数の配線間接続部４１は、タッチ電極３０とは大部分が非重畳となるようＹ軸方向について隣り合うタッチ電極３０の間にそれぞれ選択的に配されており、タッチ電極３０と大部分が重畳する配置となるものを含んでいない。従って、配線間接続部４１におけるＹ軸方向についての配列ピッチは、タッチ電極３０の一辺の寸法と同等である。
【００２５】
図７は、ＣＦ基板２０及びアレイ基板２１において１つのタッチ電極３０を挟み込む２つの配線間接続部４１付近を示す平面図である。配線間接続部４１は、タッチ配線３１と同じ第３金属膜３８からなり、図７に示すように、第２透明電極膜４０からなる共通電極２５の仕切開口部２５Ｂのうち、Ｙ軸方向について隣り合うタッチ電極３０間を仕切るとともにＸ軸方向に沿って延在する部分に対して大部分が重畳する配置とされる。なお、配線間接続部４１は、その全域がタッチ電極３０に対して非重畳とされているのではなく、ごく一部（両側縁部）がタッチ電極３０に対して重畳している。配線間接続部４１は、Ｙ軸方向についてゲート配線２６と、そのゲート配線２６がＴＦＴ２３を介して接続される画素電極２４とは反対側（図７の下側）の画素電極２４と、の間に挟み込まれる配置とされる。配線間接続部４１は、Ｘ軸方向に沿って延在していてその両端部がそれぞれタッチ配線３１に接続されており、その長さ寸法が画素部ＰＸにおけるＸ軸方向についての配列ピッチと同等である。配線間接続部４１は、その長さ方向（Ｘ軸方向）についての中央に配される第１接続部４１Ａと、長さ方向についての両端に配される複数の第２接続部４１Ｂと、から構成される。第１接続部４１Ａは、Ｙ軸方向について隣り合うタッチ電極３０の間の中間位置に配されており、その幅寸法が第２接続部４１Ｂの幅寸法よりも大きくなっている。第２接続部４１Ｂは、第１接続部４１Ａとタッチ配線３１とを繋いでおり、その幅寸法が第１接続部４１Ａの幅寸法よりも小さくなっている。詳しくは、第２接続部４１Ｂは、第１接続部４１Ａにおける長さ方向についての両端部に対して２つずつ連なるよう合計４つが配されている。つまり、配線間接続部４１は、その長さ方向についての両端部がそれぞれ二股状に分岐しつつ各タッチ配線３１に接続されている、と言える。第１接続部４１Ａにおける同じ端部に接続される２つの第２接続部４１Ｂは、Ｙ軸方向について間隔を空けて並んで配されている。
【００２６】
ここで、タッチ配線３１と重畳するソース配線２７の詳しい構成について図７を用いて説明する。ソース配線２７は、図７に示すように、Ｙ軸方向に沿って延在する配線本体２７Ａと、配線本体２７Ａの途中に配されて配線本体２７Ａよりも幅広な幅広部２７Ｂと、から構成される。幅広部２７Ｂは、配線本体２７Ａのうち、画素電極２４に隣り合う部分と、ＴＦＴ２３を横切る部分と、の境界となる位置にそれぞれ設けられている。つまり、幅広部２７Ｂは、Ｙ軸方向について各ＴＦＴ２３を挟み込む位置に２つずつ配置されている。Ｙ軸方向についてＴＦＴ２３を挟み込む２つの幅広部２７Ｂのうち、ＴＦＴ２３に対してＹ軸方向について配線間接続部４１側に配される幅広部２７Ｂは、Ｙ軸方向について並ぶ２つの第２接続部４１ＢのうちのＴＦＴ２３から遠い側の第２接続部４１Ｂとタッチ配線３１との接続箇所に対して重畳する配置とされる。これに対し、Ｙ軸方向についてＴＦＴ２３を挟み込む２つの幅広部２７Ｂのうち、ＴＦＴ２３に対してＹ軸方向について配線間接続部４１側とは反対側に配される幅広部２７Ｂは、配線間接続部４１側に配される幅広部２７ＢよりもＴＦＴ２３の近くに配されている。幅広部２７Ｂは、平面に視て方形状をなしており、ソース配線２７において最も幅広な部分となっている。なお、配線本体２７Ａは、画素電極２４に隣り合う部分が、ＴＦＴ２３を横切る部分よりもやや幅広とされる。
【００２７】
続いて、ソース配線２７と重畳するタッチ配線３１の詳しい構成について主に図８を用いて説明する。図８は、アレイ基板２１に備わる第３金属膜３８のパターンを示す平面図である。タッチ配線３１は、図８に示すように、Ｙ軸方向について配線間接続部４１を挟み込むよう配される複数の分割タッチ配線（分割配線）４２から構成されている。分割タッチ配線４２は、図２及び図８に示すように、Ｙ軸方向に沿って延在していてその長さ方向の両端部が、Ｙ軸方向についてタッチ電極３０を挟み込む２つの配線間接続部４１にそれぞれ接続されている。従って、分割タッチ配線４２は、その長さ寸法が配線間接続部４１におけるＹ軸方向について配列ピッチやタッチ電極３０の一辺の寸法と同等とされる。分割タッチ配線４２は、その幅寸法が全長にわたって概ね一定とされていて、ソース配線２７の配線本体２７ＡにおけるＴＦＴ２３を横切る部分とほぼ同じとされる。従って、ソース配線２７の幅広部２７Ｂは、分割タッチ配線４２よりも幅広であり、一部ずつが分割タッチ配線４２の両側縁からＸ軸方向について両側方にそれぞれ突出している。Ｙ軸方向について配線間接続部４１を挟み込む２つの分割タッチ配線４２は、間に配される配線間接続部４１を構成していてＹ軸方向について隣り合う２つの第２接続部４１Ｂに対してそれぞれ接続されている。従って、配線間接続部４１は、Ｘ軸方向について隣り合う２つのタッチ配線３１同士を接続する機能に加えて、タッチ配線３１を構成していてＹ軸方向について隣り合う２つの分割タッチ配線４２同士を接続する機能をも有している、と言える。
【００２８】
次に、上記したソース配線２７及びタッチ配線３１に関係するタッチ電極３０の詳しい構成について主に図９を用いて説明する。図９は、アレイ基板２１に備わる第２透明電極膜４０のパターンを示す平面図である。タッチ電極３０は、図９に示すように、第１開口部４３及び第２開口部４４を有する。第１開口部４３は、図２及び図９に示すように、配線間接続部４１を構成していてＹ軸方向について隣り合う２つずつの第２接続部４１Ｂを主に取り囲むよう設けられている。従って、第１開口部４３は、Ｘ軸方向についての配列ピッチが配線間接続部４１の長さ寸法と同等となり、Ｙ軸方向についての配列ピッチが配線間接続部４１におけるＹ軸方向についての配列ピッチと同等になるよう、複数ずつ配置されている。より詳しくは、各第１開口部４３は、平面に視て方形状をなしており、Ｙ軸方向について隣り合う２つずつの第２接続部４１Ｂに加えて、Ｙ軸方向についてＴＦＴ２３を挟み込む２つの幅広部２７Ｂのうち、ＴＦＴ２３に対してＹ軸方向について配線間接続部４１側に配される幅広部２７Ｂをも包囲する範囲でもって形成されている。各第１開口部４３は、共通電極２５の仕切開口部２５ＢにおけるＸ軸方向に沿って延在する部分と、タッチ電極３０におけるＴＦＴ２３のチャネル部２３Ｄと重畳する切り欠きと、にそれぞれ連通している。なお、第１開口部４３には、仕切開口部２５ＢにおけるＹ軸方向に沿って延在する部分に連通するものと、タッチ配線重畳開口部３０Ａに連通するものと、が含まれる。第２開口部４４は、Ｙ軸方向についてＴＦＴ２３を挟み込む２つの幅広部２７Ｂのうち、ＴＦＴ２３に対してＹ軸方向について配線間接続部４１側とは反対側に配される幅広部２７Ｂを取り囲むよう設けられている。第２開口部４４は、タッチ電極３０におけるＴＦＴ２３のチャネル部２３Ｄと重畳する切り欠きに連通しており、Ｙ軸方向について同切り欠きに対して第１開口部４３側とは反対側に隣り合う配置とされる。また、第２開口部４４は、タッチ配線重畳開口部３０Ａにも連通している。
【００２９】
ところで、Ｘ軸方向について隣り合う形で繰り返し並ぶ複数のタッチ配線３１には、図２及び図８に示すように、配線間接続部４１により相互に接続されるものと、相互に非接続とされるものと、が含まれている。具体的には、Ｘ軸方向について隣り合っていて共通のタッチ電極３０に接続される２本のタッチ配線３１は、配線間接続部４１により互いに接続されるものの、Ｘ軸方向について隣り合うものの異なるタッチ電極３０に接続される２本のタッチ配線３１は、互いに非接続とされる。この非接続とされる２本のタッチ配線３１のいずれか一方には、第１ダミー接続部（ダミー接続部）４５が接続されている。第１ダミー接続部４５は、Ｙ軸方向についてゲート配線２６と、そのゲート配線２６がＴＦＴ２３を介して接続される画素電極２４とは反対側（図２及び図８の下側）の画素電極２４と、の間に挟み込まれる配置とされる。つまり、第１ダミー接続部４５は、画素電極２４及びゲート配線２６に対するＹ軸方向についての位置関係が、配線間接続部４１における画素電極２４及びゲート配線２６とのＹ軸方向についての位置関係と同等とされる。第１ダミー接続部４５は、配線間接続部４１と同様に、幅広部分と、幅広部分とタッチ配線３１とに接続される幅狭部分と、から構成される。これにより、ゲート配線２６との間に配線間接続部４１が挟まれる画素電極２４と、ゲート配線２６との間に第１ダミー接続部４５が挟まれる画素電極２４と、にそれぞれ生じる寄生容量が同等になるので、表示ムラが生じ難くなる。第１ダミー接続部４５は、Ｙ軸方向について画素電極２４及びゲート配線２６と交互に繰り返し並ぶよう複数が配されている。第１ダミー接続部４５は、Ｙ軸方向についての配列ピッチが、画素部ＰＸにおけるＹ軸方向についての配列ピッチと同等であり、Ｙ軸方向についての並び数が画素部ＰＸやゲート配線２６の設置数とほぼ同じとされる。このように、第１ダミー接続部４５の設置数は、最大限に確保されているから、表示ムラがより生じ難くなる。また、タッチ電極３０に設けられた第１開口部４３は、図２及び図９に示すように、複数の第１ダミー接続部４５のうち、配線間接続部４１と同じ行に配される第１ダミー接続部４５におけるタッチ配線３１との接続箇所をも取り囲んでいる。
【００３０】
一方、Ｘ軸方向について隣り合っていて共通のタッチ電極３０に接続される２本のタッチ配線３１のいずれか一方には、図２及び図８に示すように、第２ダミー接続部（電極重畳ダミー接続部）４６が接続されている。第２ダミー接続部４６は、配線間接続部４１と同じ列に配置されている。第２ダミー接続部４６は、大部分がタッチ電極３０とは非重畳となるよう配される配線間接続部４１とは異なり、全域がタッチ電極３０と重畳するよう配されている。第２ダミー接続部４６は、Ｙ軸方向についてゲート配線２６と、そのゲート配線２６がＴＦＴ２３を介して接続される画素電極２４とは反対側（図２及び図８の下側）の画素電極２４と、の間に挟み込まれる配置とされる。つまり、第２ダミー接続部４６は、画素電極２４及びゲート配線２６に対するＹ軸方向についての位置関係が、配線間接続部４１及び第１ダミー接続部４５における画素電極２４及びゲート配線２６とのＹ軸方向についての各位置関係と同等とされる。第２ダミー接続部４６は、配線間接続部４１や第１ダミー接続部４５と同様に、幅広部分と、幅広部分とタッチ配線３１とに接続される幅狭部分と、から構成される。これにより、ゲート配線２６との間に配線間接続部４１が挟まれる画素電極２４と、ゲート配線２６との間に第１ダミー接続部４５が挟まれる画素電極２４と、ゲート配線２６との間に第２ダミー接続部４６が挟まれる画素電極２４と、にそれぞれ生じる寄生容量が同等になるので、表示ムラがさらに生じ難くなる。第２ダミー接続部４６は、タッチ電極３０と重畳する範囲（Ｙ軸方向について離れた２つの配線間接続部４１により挟まれた領域）において、Ｙ軸方向について画素電極２４及びゲート配線２６と交互に繰り返し並ぶよう複数が配されている。第２ダミー接続部４６は、Ｙ軸方向についての配列ピッチが、画素部ＰＸにおけるＹ軸方向についての配列ピッチと同等であり、Ｙ軸方向についての並び数が画素部ＰＸやゲート配線２６の設置数とほぼ同じとされる。このように、第２ダミー接続部４６の設置数は、最大限に確保されているから、表示ムラが一層生じ難くなる。しかも、タッチ電極３０と重畳する第２ダミー接続部４６は、ゲート配線２６と画素電極２４との間に挟まれるよう配されているので、ゲート配線２６と、画素電極２４またはタッチ電極３０と、の間に生じ得る電界を遮蔽することができる。これと同様に、タッチ電極３０と重畳する配置の第１ダミー接続部４５は、ゲート配線２６と、画素電極２４またはタッチ電極３０と、の間に生じ得る電界を遮蔽することができる。
【００３１】
以上のような構成によれば、ソース配線２７に断線が生じた場合には、その断線したソース配線２７と重畳するタッチ配線３１を利用することで、ソース配線２７の断線修理を行うことが可能となっている。具体的な断線修理について図７及び図１０を用いて説明する。図１０は、タッチ配線３１と２つの配線間接続部４１との接続箇所付近の断面図である。Ｙ軸方向に沿って延在するソース配線２７における所定位置に断線が生じた場合、図７及び図１０に示すように、断線箇所を特定すれば、断線したソース配線２７と重畳するタッチ配線３１に接続される配線間接続部４１の中から断線箇所をＹ軸方向について挟み込む２つの配線間接続部４１を特定することができる。図７及び図１０では、ソース配線２７の断線箇所を「△」印にて図示している。この特定された２つの配線間接続部４１に備わっていて断線したソース配線２７と重畳するタッチ配線３１に接続されている合計４つの第２接続部４１Ｂのうち、断線箇所と重畳する分割タッチ配線４２に接続される２つの第２接続部４１Ｂに対してレーザ光を照射する。すると、レーザ光が照射された２つの第２接続部４１Ｂが切断されることで、断線箇所と重畳する分割タッチ配線４２が、上記した２つの配線間接続部４１と他の分割タッチ配線４２とからそれぞれ電気的に切り離される。このように切断作業を２回行うことで、断線箇所と重畳する分割タッチ配線４２を電気的に孤立させることができるので、作業性に優れる。図７では、レーザ光照射による第２接続部４１Ｂの切断箇所を太い一点鎖線の線分にて図示している。レーザ光の照射により切断される第２接続部４１Ｂは、第１接続部４１Ａよりも幅狭となっているので、レーザ光照射の目印として利用することができるとともに、切断作業に要する作業時間が短くなる。これにより、切断処理に係る作業性が良好になる。しかも、タッチ電極３０は、第２接続部４１Ｂを取り囲む第１開口部４３を有しているので、第２接続部４１Ｂに照射されるレーザ光は、第１開口部４３を通ることになり、レーザ光がタッチ電極３０に照射されることが避けられる。これにより、レーザ光によりタッチ電極３０自体が破壊されたり、その破壊片が液晶層２２に拡散して他の配線や電極を短絡させる、などの二次的な不具合を生じるのを避けることができる。
【００３２】
その一方、断線が生じたソース配線２７のうち断線箇所をＹ軸方向について挟み込む２つの幅広部２７Ｂに対してレーザ光を照射する。すると、レーザ光の照射箇所ではソース配線２７とタッチ配線３１との間に介在する第１層間絶縁膜３６による絶縁状態が破壊されるので、ソース配線２７と断線箇所と重畳する分割タッチ配線４２とが、断線箇所をＹ軸方向について挟み込む２箇所で短絡される。図７及び図１０では、短絡のためのレーザ光の照射箇所を「×」印にて図示している。以上により、断線したソース配線２７と重畳するタッチ配線３１を構成していて断線箇所と重畳する分割タッチ配線４２が、断線箇所を跨ぐ形でソース配線２７に短絡されるとともに、断線したソース配線２７と重畳するタッチ配線３１の他の分割タッチ配線４２（断線箇所とは非重畳とされる分割タッチ配線４２）から電気的に切り離されるから、画像信号は、上記した分割タッチ配線４２を経由することでソース配線２７の断線箇所を迂回して画素電極２４に供給される。断線箇所と重畳する分割タッチ配線４２がソース配線２７の修理に用いられたタッチ配線３１により元々伝送されていたタッチ信号や共通信号は、そのタッチ配線３１に対して配線間接続部４１により接続されるタッチ配線３１によって伝送される。つまり、タッチ配線３１の一部をソース配線２７の断線修理に利用してもそのタッチ配線３１の接続対象とされるタッチ電極３０に対する信号供給を維持することができる。しかも、タッチ配線３１は、画素電極２４とは非重畳となるよう配されているから、タッチ配線３１とソース配線２７とを短絡するためにレーザ光を照射する処理を行う際に、レーザ光が画素電極２４に照射される事態を避けることができる。これにより、レーザ光により画素電極２４自体が破壊されたり、その破壊片が液晶層２２に拡散して他の配線や電極を短絡させる、などの二次的な不具合を生じるのを避けることができる。また、ソース配線２７とタッチ配線３１とを短絡させるためのレーザ光の照射に際しては、ソース配線２７の幅広部２７Ｂが配線本体２７Ａよりも幅広になっているので、幅広部２７Ｂがレーザ光照射の目印となり、作業性に優れる。しかも、タッチ電極３０は、各幅広部２７Ｂを取り囲む第１開口部４３及び第２開口部４４を有しているので、各幅広部２７Ｂに照射されるレーザ光は、第１開口部４３や第２開口部４４を通ることになり、レーザ光がタッチ電極３０に照射されることが避けられる。これにより、レーザ光によりタッチ電極３０自体が破壊されたり、その破壊片が液晶層２２に拡散して他の配線や電極を短絡させる、などの二次的な不具合を生じるのを避けることができる。
【００３３】
以上説明したように本実施形態の液晶パネル（表示装置）１１は、画素電極２４と、画素電極２４に画像信号を供給する複数のソース配線（信号配線）２７と、複数のソース配線２７に対して第１層間絶縁膜（絶縁膜）３６を介して少なくとも一部ずつが重畳するものの、画素電極２４とは非重畳となるよう配される複数のタッチ配線（配線）３１と、複数のタッチ配線３１同士を接続していてタッチ配線３１の延在方向について間隔を空けて配される複数の配線間接続部４１と、を備える。
【００３４】
画素電極２４は、ソース配線２７から供給される画像信号に基づいた電位となる。複数のタッチ配線３１は、複数のソース配線２７に対して第１層間絶縁膜３６を介して少なくとも一部ずつが重畳するとともに、タッチ配線３１の延在方向について間隔を空けて配される複数の配線間接続部４１によって接続されている。このような構成によれば、いずれかのソース配線２７に断線が生じた場合には、その断線したソース配線２７と重畳するタッチ配線３１を利用してソース配線２７の断線修理を行うことが可能となっている。
【００３５】
修理に際しては、断線したソース配線２７と第１層間絶縁膜３６を介して重畳するタッチ配線３１のうち、その延在方向についてソース配線２７の断線箇所を挟み込む２箇所にレーザ光照射などの処理を行うことで、そのタッチ配線３１と断線したソース配線２７とを短絡させる。その一方で、断線したソース配線２７と重畳するタッチ配線３１のうち、その延在方向についてソース配線２７の断線箇所を挟み込む２つの配線間接続部４１を上記タッチ配線３１から電気的に切り離すため、上記タッチ配線３１やそのタッチ配線３１に接続された配線間接続部４１を適宜に切断する処理を行う。以上により、断線したソース配線２７と重畳するタッチ配線３１の一部が、断線箇所を跨ぐ形でソース配線２７に短絡されるとともに、断線したソース配線２７と重畳するタッチ配線３１の他の部分から電気的に切り離されるから、画像信号は、上記したタッチ配線３１の一部を経由することでソース配線２７の断線箇所を迂回して画素電極２４に供給される。一部がソース配線２７の修理に用いられたタッチ配線３１により元々伝送されていた信号は、そのタッチ配線３１に対して配線間接続部４１によって接続されるタッチ配線３１によって伝送される。
【００３６】
そして、タッチ配線３１は、少なくとも一部がソース配線２７と重畳する配置となっているから、仮にタッチ配線がソース配線２７とは非重畳となるよう配された場合に比べると、タッチ配線３１及びソース配線２７の配置スペースが削減されて開口率の向上を図る上で好適になるのに加えて、タッチ配線３１とソース配線２７との短絡箇所に係る配置自由度が高くなる。しかも、タッチ配線３１は、画素電極２４とは非重畳となるよう配されているから、タッチ配線３１とソース配線２７とを短絡するためにレーザ光照射などの処理を行う際に、その処理の影響が画素電極２４に及び難くなる。これにより、レーザ光照射などの処理に伴う二次的な不具合が生じ難くなる。また、断線修理を行わない場合は、複数のタッチ配線３１が複数の配線間接続部４１により接続される状態に保たれるので、配線抵抗が低くなる。
【００３７】
また、画素電極２４に対して第２層間絶縁膜（絶縁膜）３９を介して少なくとも一部が重畳するよう配される共通電極２５と、共通電極２５を分割してなり、位置入力を行う位置入力体との間で静電容量を形成し、位置入力体による入力位置を検出するタッチ電極（位置検出電極）３０と、を備えており、複数のタッチ配線３１は、タッチ電極３０に接続されて位置検出信号とタッチ電極３０を基準電位にする共通信号とを時分割して供給する。このようにすれば、画素電極２４と画素電極２４に対して第２層間絶縁膜３９を介して少なくとも一部が重畳する共通電極２５との間には、ソース配線２７から画素電極２４に供給される画像信号に基づいた電位差が生じ得るものとされ、その電位差を利用して画像の表示がなされる。一方、共通電極２５を分割してなるタッチ電極３０は、位置入力を行う位置入力体との間で静電容量を形成していて位置入力体による入力位置を検出することができる。タッチ配線３１は、接続されたタッチ電極３０に、位置検出信号とタッチ電極３０を基準電位にするための共通信号とを時分割して供給することで、上記した位置検出機能と画像表示機能とを発揮させることができる。
【００３８】
また、複数のタッチ配線３１のうち、複数の配線間接続部４１により相互に接続される複数のタッチ配線３１は、共通のタッチ電極３０に接続される。このようにすれば、複数のタッチ配線３１に含まれるタッチ配線３１の一部がソース配線２７の断線修理に用いられても、そのタッチ配線３１に対して配線間接続部４１により接続されていたタッチ配線３１によって共通のタッチ電極３０に対する位置検出信号や共通信号の供給を行うことができる。
【００３９】
また、ソース配線２７及びタッチ配線３１のうちの少なくとも一方は、配線本体２７Ａと、配線本体２７Ａよりも幅広な幅広部２７Ｂと、から構成される。このようにすれば、ソース配線２７の断線修理に際してタッチ配線３１とソース配線２７とを短絡させるとき、配線本体２７Ａよりも幅広な幅広部２７Ｂを目印にしてレーザ光照射などの処理を行うことができる。これにより、処理に係る作業性が優れたものとなる。
【００４０】
また、タッチ電極３０は、幅広部２７Ｂを取り囲むよう開口する。このようにすれば、ソース配線２７の断線修理に際して幅広部２７Ｂにレーザ光照射などの処理を行った場合に、その処理の影響がタッチ電極３０に及び難くなる。これにより、レーザ光照射などの処理に伴う二次的な不具合が生じ難くなる。
【００４１】
また、配線間接続部４１は、第１接続部４１Ａと、第１接続部４１Ａとタッチ配線３１とを繋いでいて第１接続部４１Ａよりも幅狭な第２接続部４１Ｂと、から構成される。このようにすれば、ソース配線２７の断線修理に際してタッチ配線３１やそのタッチ配線３１に接続された配線間接続部４１を切断するとき、第１接続部４１Ａよりも幅狭な第２接続部４１Ｂを目印にしてレーザ光照射などの処理を行うことができる。しかも、第２接続部４１Ｂは、第１接続部４１Ａよりも幅狭なので、その切断作業を短時間で行うことができる。以上により、処理に係る作業性が優れたものとなる。
【００４２】
また、タッチ電極３０は、第２接続部４１Ｂを取り囲むよう開口する。このようにすれば、ソース配線２７の断線修理に際して第２接続部４１Ｂにレーザ光照射などの処理を行った場合に、その処理の影響がタッチ電極３０に及び難くなる。これにより、レーザ光照射などの処理に伴う二次的な不具合が生じ難くなる。
【００４３】
また、タッチ配線３１は、その延在方向について配線間接続部４１を挟み込むよう配される複数の分割タッチ配線（分割配線）４２から構成されており、第２接続部４１Ｂは、延在方向について配線間接続部４１に対して隣り合う２つの分割タッチ配線４２に対して個別に接続されるよう複数が配される。このようにすれば、配線間接続部４１は、複数のタッチ配線３１同士を接続する機能に加えて、タッチ配線３１を構成する複数の分割タッチ配線４２同士を接続する機能をも有することになる。ソース配線２７の断線修理に際して第２接続部４１Ｂを切断する処理を行うと、特定の分割タッチ配線４２を他の分割タッチ配線４２から電気的に切り離すことができるとともに、特定の分割タッチ配線４２により構成されるタッチ配線３１を他のタッチ配線３１から電気的に切り離すことができる。従って、配線間接続部４１がタッチ配線３１同士の接続機能のみを有する場合に比べると、切断に係る処理回数が削減される。これにより、処理に係る作業性がより優れたものとなる。
【００４４】
また、タッチ電極３０は、複数が間隔を空けて並んで配されており、複数の配線間接続部４１は、タッチ電極３０とは非重畳となるよう隣り合うタッチ電極３０の間にそれぞれ選択的に配されている。このようにすれば、複数の配線間接続部４１には、タッチ電極３０と重畳する配置となるものが含まれないから、ソース配線２７の断線修理に際して配線間接続部４１を切断すべくレーザ光照射などの処理を行った場合に、その処理の影響がタッチ電極３０に及び難くなる。これにより、レーザ光照射などの処理に伴う二次的な不具合が生じ難くなる。また、上記した二次的な不具合の発生を回避するため、例えばタッチ電極３０のうちの配線間接続部４１と重畳する部分を開口させると、その分だけタッチ電極３０の面積が減少する問題が生じる可能性があるが、そのような問題について回避することができる。
【００４５】
また、ソース配線２７及びタッチ配線３１と交差するよう延在していて間に少なくとも画素電極２４を挟むよう間に間隔を空けて配される複数のゲート配線（走査配線）２６を備えており、複数の配線間接続部４１は、画素電極２４とゲート配線２６との間に挟まれるよう配されており、タッチ配線３１に接続されていてタッチ電極３０と重畳するとともに画素電極２４とゲート配線２６との間に挟まれるよう配される第２ダミー接続部（電極重畳ダミー接続部）４６を備える。このようにすれば、配線間接続部４１と同様にタッチ配線３１に接続される第２ダミー接続部４６は、ゲート配線２６及び画素電極２４に対する位置関係が配線間接続部４１と同等になる。これにより、ゲート配線２６との間に配線間接続部４１が挟まれる画素電極２４と、ゲート配線２６との間に第２ダミー接続部４６が挟まれる画素電極２４と、にそれぞれ生じる寄生容量が同等になるので、表示ムラが生じ難くなる。しかも、タッチ電極３０と重畳する第２ダミー接続部４６は、ゲート配線２６と画素電極２４との間に挟まれるよう配されているので、ゲート配線２６と、画素電極２４またはタッチ電極３０と、の間に生じ得る電界を遮蔽することができる。
【００４６】
また、ソース配線２７及びタッチ配線３１と交差するよう延在していて間に少なくとも画素電極２４を挟むよう間に間隔を空けて配される複数のゲート配線２６を備えており、複数の配線間接続部４１は、画素電極２４とゲート配線２６との間に挟まれるよう配されており、複数のタッチ配線３１には、隣り合って配されて配線間接続部４１により相互に接続されるものと、隣り合って配されるものの相互に非接続とされるものと、が含まれており、隣り合って配されるものの相互に非接続とされるタッチ配線３１のいずれか一方に接続されていて画素電極２４とゲート配線２６との間に挟まれるよう配される第１ダミー接続部（ダミー接続部）４５を備える。このようにすれば、配線間接続部４１と同様にタッチ配線３１に接続される第１ダミー接続部４５は、ゲート配線２６及び画素電極２４に対する位置関係が配線間接続部４１と同等になる。これにより、ゲート配線２６との間に配線間接続部４１が挟まれる画素電極２４と、ゲート配線２６との間に第１ダミー接続部４５が挟まれる画素電極２４と、に対してそれぞれ生じる寄生容量が同等になるので、表示ムラが生じ難くなる。
【００４７】
また、第１ダミー接続部４５は、ソース配線２７の延在方向について画素電極２４及びゲート配線２６と交互に繰り返し並ぶよう複数が配される。このようにすれば、画素電極２４とゲート配線２６との間に挟まれる配置とされる第１ダミー接続部４５の設置数が最大限に確保されるから、表示ムラがより生じ難くなる。また、複数の第１ダミー接続部４５には、タッチ電極３０と重畳する配置のものが含まれ得るので、そのような第１ダミー接続部４５によれば、ゲート配線２６と、画素電極２４またはタッチ電極３０と、の間に生じ得る電界を遮蔽することができる。
【００４８】
＜実施形態２＞
本発明の実施形態２を図１１から図１３によって説明する。この実施形態２では、配線間接続部１４１の構成などを変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【００４９】
本実施形態に係る複数の配線間接続部１４１には、図１１及び図１２に示すように、大部分がタッチ電極１３０とは非重畳となるよう隣り合うタッチ電極１３０の間に配されるものに加えて、全域がタッチ電極１３０と重畳するよう配されるものが含まれている。つまり、Ｘ軸方向について隣り合っていて共通のタッチ電極１３０に接続される２本のタッチ配線１３１は、Ｙ軸方向について隣り合うタッチ電極１３０の間で大部分がタッチ電極１３０とは非重畳となる配線間接続部１４１により接続されるのに加えて、タッチ電極１３０を縦断する途中でタッチ電極１３０と重畳する配線間接続部１４１により接続されている。タッチ電極１３０と重畳する配線間接続部１４１は、Ｙ軸方向について画素電極１２４とゲート配線１２６との間に挟まれるとともに、Ｙ軸方向について画素電極１２４及びゲート配線１２６と交互に繰り返し並ぶよう複数が配されている。タッチ電極１３０と重畳する配線間接続部１４１は、Ｙ軸方向についての配列ピッチが、画素部ＰＸにおけるＹ軸方向についての配列ピッチと同等であり、Ｙ軸方向についての並び数がタッチ電極１３０と重畳する画素部ＰＸやゲート配線１２６の設置数とほぼ同じとされる。このように、タッチ電極１３０と重畳する配線間接続部１４１の設置数は、最大限に確保されている。なお、本実施形態では、配線間接続部１４１が上記のように設置されるのに伴い、上記した実施形態１において配線間接続部４１と同じ列に配置されていた第２ダミー接続部４６（図２を参照）が省略されている。
【００５０】
ここで、上記した実施形態１のように配線間接続部４１の配置をタッチ電極３０とは大部分が非重畳となるよう限定した場合（図２を参照）には、次の問題が生じるおそれがある。すなわち、断線が生じたソース配線２７と重畳するタッチ配線３１の接続対象となるタッチ電極３０が、断線が生じたソース配線２７と重畳する配置である場合に、断線修理に伴って配線間接続部４１とタッチ配線３１とを電気的に切り離すと、タッチ電極３０への信号の伝送が不可能になってしまう。また、配線間接続部４１から電気的に切り離したタッチ配線３１がタッチ電極３０と接続されるパッド部３１Ａを備えている場合は、断線修理を行うと、ソース配線２７とタッチ電極３０とが短絡してしまう。その点、本実施形態では、図１１及び図１２に示すように、複数の配線間接続部１４１にタッチ電極１３０と重畳する配線間接続部１４１を含ませるようにしている。このようにすれば、断線が生じたソース配線１２７と重畳するタッチ配線１３１の接続対象となるタッチ電極１３０が、断線が生じたソース配線１２７と重畳する配置とされたとき、断線修理に伴って配線間接続部１４１とタッチ配線１３１とを電気的に切り離しても、タッチ電極１３０と重畳する配線間接続部１４１によって複数のタッチ配線１３１同士を接続状態に保つことができる。また、配線間接続部１４１から電気的に切り離したタッチ配線１３１がタッチ電極１３０と接続されるパッド部３１Ａを含まないように、配線間接続部１４１を適宜選択して切断することで、断線修理に伴うソース配線１２７とタッチ電極１３０との短絡を回避することができる。これにより、断線修理による不良救済が可能になるケースが増加するので、良品率を向上させることができる。しかも、画素電極１２４とゲート配線１２６との間に挟まれる配置とされる配線間接続部１４１の設置数が最大限に確保されているから、タッチ電極１３０の形成範囲内に存在する全ての分割タッチ配線１４２を断線修理に利用することが可能になる。これにより、断線修理による不良救済が可能になるケースがさらに増加し、良品率のさらなる向上を図ることができる。なお、本実施形態では、配線間接続部１４１の設置数が上記した実施形態１に比べて増加するのに伴い、図１１及び図１３に示すように、タッチ電極１３０に形成される第１開口部１４３及び第２開口部１４４の設置数が増加するため、上記した実施形態１に比べてタッチ電極１３０の面積が減少している。
【００５１】
以上説明したように本実施形態によれば、タッチ電極１３０は、複数が間隔を空けて並んで配されており、複数の配線間接続部１４１には、タッチ電極１３０と重畳するよう配されるものと、タッチ電極１３０とは非重畳となるよう隣り合うタッチ電極１３０の間に配されるものと、が含まれる。仮に配線間接続部４１の配置をタッチ電極３０とは非重畳となるよう限定した場合には、断線が生じたソース配線２７と重畳するタッチ配線３１の接続対象となるタッチ電極３０が、断線が生じたソース配線２７と重畳する配置であると、断線修理に伴って配線間接続部４１とタッチ配線３１とを電気的に切り離すと、タッチ電極３０への信号の伝送が不可能になる問題がある。また、配線間接続部４１から電気的に切り離したタッチ配線３１がタッチ電極３０と接続されるパッド部３１Ａを備えている場合は、断線修理を行うと、ソース配線２７とタッチ電極３０とが短絡してしまう問題がある。その点、複数の配線間接続部１４１にタッチ電極１３０と重畳する配線間接続部１４１が含まれていると、断線が生じたソース配線１２７と重畳するタッチ配線１３１の接続対象となるタッチ電極１３０が、断線が生じたソース配線１２７と重畳する配置とされたとき、断線修理に伴って配線間接続部１４１とタッチ配線１３１とを電気的に切り離しても、タッチ電極１３０と重畳する配線間接続部１４１によって複数のタッチ配線１３１同士を接続状態に保つことができる。また、配線間接続部１４１から電気的に切り離したタッチ配線１３１がタッチ電極１３０と接続されるパッド部３１Ａを含まないように、配線間接続部１４１を適宜選択して切断することで、断線修理に伴うソース配線１２７とタッチ電極１３０との短絡を回避することができる。これにより、断線修理による不良救済が可能になるケースが増加するので、良品率を向上させることができる。
【００５２】
また、ソース配線１２７及びタッチ配線１３１と交差するよう延在していて間に少なくとも画素電極１２４を挟むよう間に間隔を空けて配される複数のゲート配線１２６を備えており、画素電極１２４は、ソース配線１２７の延在方向について間隔を空けて複数が並んで配されており、複数の配線間接続部１４１は、画素電極１２４とゲート配線１２６との間に挟まれるとともに延在方向について画素電極１２４及びゲート配線１２６と交互に繰り返し並ぶよう配される。このようにすれば、画素電極１２４とゲート配線１２６との間に挟まれる配置とされる配線間接続部１４１の設置数が最大限に確保されるから、断線修理による不良救済が可能になるケースがさらに増加し、良品率のさらなる向上を図ることができる。
【００５３】
＜実施形態３＞
本発明の実施形態３を図１４によって説明する。この実施形態３では、上記した実施形態１からタッチ配線２３１及び配線間接続部２４１の構成を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【００５４】
本実施形態に係るタッチ配線２３１は、図１４に示すように、複数の分割タッチ配線２４２に加えて、隣り合う分割タッチ配線２４２同士を接続する分割タッチ配線接続部（分割配線接続部）４７を有する。分割タッチ配線接続部４７は、分割タッチ配線２４２の端部に対してＸ軸方向についてＴＦＴ２２３側とは反対側に突出してからＹ軸方向に沿って延在している。分割タッチ配線接続部４７における中間部分に対して配線間接続部２４１を構成する第２接続部２４１Ｂが接続されている。第２接続部２４１Ｂは、第１接続部２４１Ａの両端部に対して１つずつ連なる形で設けられている。１つの配線間接続部２４１に備わる２つの第２接続部２４１Ｂは、共通のタッチ電極２３０に接続される２本のタッチ配線２３１に備わる各分割タッチ配線接続部４７に対してそれぞれ接続されている。本実施形態では、ソース配線２２７の断線修理に際しては、レーザ光の照射により第２接続部２４１Ｂを切断することで、断線が生じたソース配線２２７と重畳するタッチ配線２３１を他のタッチ配線２３１から電気的に切り離すことができる。その一方、レーザ光の照射により分割タッチ配線接続部４７を切断することで、断線が生じたソース配線２２７と重畳する分割タッチ配線２４２を他の分割タッチ配線２４２から電気的に切り離すことができる。従って、上記した実施形態１のように配線間接続部４１がタッチ配線３１同士の接続機能に加えて分割タッチ配線４２同士の接続機能を併有する場合（図２を参照）に比べると、断線修理に際して切断する第２接続部２４１Ｂ及び分割タッチ配線接続部４７を適宜に選択することができ、断線修理の自由度が高くなる。ここで、ソース配線２２７は、分割タッチ配線接続部４７がＸ軸方向について突出している部分において、分割タッチ配線接続部４７とは逆方向に突出している。この構成により、レーザ光を照射する際の位置マージンを確保し、作業性が優れたものとなっている。なお、第１ダミー接続部２４５は、幅狭部分が、幅広部分と、タッチ配線２３１を構成する分割タッチ配線接続部４７と、にそれぞれ接続されている。この構成は、図示しない第２ダミー接続部も同様である。
【００５５】
以上説明したように本実施形態によれば、タッチ配線２３１は、その延在方向について配線間接続部２４１を挟み込むよう配される複数の分割タッチ配線２４２と、隣り合う分割タッチ配線２４２同士を接続する分割タッチ配線接続部（分割配線接続部）４７と、から構成されており、第２接続部２４１Ｂは、分割タッチ配線接続部４７に接続されている。このようにすれば、ソース配線２２７の断線修理に際しては、第２接続部２４１Ｂを切断することで、特定のタッチ配線２３１を他のタッチ配線２３１から電気的に切り離すことができ、また分割タッチ配線接続部４７を切断することで、特定の分割タッチ配線２４２を他の分割タッチ配線２４２から電気的に切り離すことができる。従って、仮に配線間接続部４１がタッチ配線３１同士の接続機能に加えて分割タッチ配線４２同士の接続機能を併有する場合に比べると、断線修理に際して切断する第２接続部２４１Ｂ及び分割タッチ配線接続部４７を適宜に選択することができ、断線修理の自由度が高くなる。
【００５６】
＜他の実施形態＞
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
（１）上記した実施形態１，２では、ソース配線の断線修理に際して断線箇所を挟み込む２つの配線間接続部における各第２接続部を切断し、タッチ配線については切断しない場合を示したが、ソース配線の断線修理に際して断線箇所を挟み込む２つの配線間接続部については切断せず、タッチ配線における断線箇所を挟み込む２箇所を切断するようにしても構わない。その場合、実施形態３のように、ソース配線をＸ軸方向について突出させて、レーザ光を照射する際の位置マージンを確保することが好ましい。
（２）上記した実施形態２では、タッチ電極と重畳する配線間接続部を最大限に設置した場合を示したが、タッチ電極と重畳する配線間接続部の設置数は、最大限の設置数（タッチ電極と重畳する画素部やゲート配線の設置数）よりも少なくても構わない。その場合は、配線間接続部が非配置とされる部分には、配線間接続部に代替して第２ダミー接続部を配置するのが好ましい。
（３）上記した各実施形態では、ソース配線の１箇所に断線が生じた場合の修理について例示したが、ソース配線に複数の断線箇所が生じた場合であっても修理を行うことは勿論可能である。
（４）上記した各実施形態では、共通のタッチ電極に対して２本のタッチ配線を接続する場合を示したが、共通のタッチ電極に対して３本以上のタッチ配線を接続するようにしても構わない。その場合は、３本以上のタッチ配線同士を配線間接続部により相互に接続する構成を採るのが好ましいが、必ずしもその限りではない。
（５）上記した各実施形態では、１６．１インチの画面サイズで解像度が「ＦＨＤ」相当の液晶パネルにおいて、タッチ電極の一辺の寸法が５．１ｍｍ程度またはそれ以上の大きさとされる場合を例示したが、上記と同じ条件の液晶パネルにおいてタッチ電極の一辺の寸法を５．１ｍｍよりも小さくすることも可能である。その場合、全てのタッチ電極に対して２本ずつのタッチ配線を接続するのは難しくなるので、例えばドライバから遠い位置に配されるタッチ電極については複数本のタッチ配線を接続し、ドライバに近い位置に配されるタッチ電極については１本のタッチ配線のみを接続する、といった構成を採るのが電圧降下を抑制する上で好ましい。
（６）上記した各実施形態以外にも、液晶パネルの具体的な画面サイズや解像度などの条件は適宜に変更可能である。その場合、全てのタッチ電極に対して２本以上ずつのタッチ配線を接続するために必要となるタッチ電極の一辺の寸法の下限値についても変更される。また、液晶パネルにおける画素部の具体的な配列ピッチは適宜に変更可能である。
（７）上記した各実施形態以外にも、配線間接続部を構成する第２接続部の具体的な設置数・平面形状・配置などは適宜に変更可能である。また、第１接続部の平面形状・配置なども適宜に変更可能である。
（８）上記した実施形態３以外にも、分割タッチ配線接続部の具体的な設置数・平面形状・配置などは適宜に変更可能である。
（９）上記した各実施形態以外にも、タッチ電極に形成される第１開口部及び第２開口部の具体的な形成範囲・平面形状・配置などは適宜に変更可能である。
（１０）上記した各実施形態では、タッチ配線が全てのソース配線と重畳するようソース配線と同数設置される場合を示したが、タッチ配線が全てのソース配線と重畳するよう配置されていなくても構わない。その場合は、タッチ配線の設置数がソース配線の設置数よりも少なくなる。
（１１）上記した各実施形態では、ソース配線が配線本体と幅広部とを有する構成の場合を例示したが、タッチ配線が配線本体と幅広部とを有する構成であっても構わない。さらには、ソース配線及びタッチ配線がそれぞれ配線本体と幅広部とを有する構成であっても構わない。
（１２）上記した各実施形態では、配線間接続部がタッチ配線と同じ第３金属膜からなる場合を示したが、配線間接続部がタッチ配線とは異なる層に配される第１金属膜や第２金属膜からなる構成を採ることも可能である。その場合は、配線間接続部とタッチ配線とが間に介在する絶縁膜に開口形成されたコンタクトホールを通して接続されることになる。
（１３）上記した各実施形態では、ソース配線に断線が発生した場合の断線修理について例示したが、断線以外にもソース配線にはゲート配線などと短絡する短絡不良が生じる場合があり、その場合もタッチ配線の一部を利用した修理を行うことが可能である。
（１４）上記した各実施形態では、アレイ基板に４つのドライバが実装される場合を示したが、アレイ基板におけるドライバの実装数は適宜に変更可能である。
（１５）上記した各実施形態では、アレイ基板にゲート回路部が設けられた場合を示したが、ゲート回路部を省略し、アレイ基板にゲート回路部と同様の機能を有するゲートドライバを実装するようにしても構わない。また、ゲート回路部をアレイ基板における片側の辺部のみに設けることも可能である。
（１６）上記した各実施形態以外にも、共通電極に設けられた画素重畳開口部の具体的な平面形状は適宜に変更可能である。画素重畳開口部の平面形状を例えばＶ字型や直線状などにすることも可能である。また、画素重畳開口部の具体的な設置数や配列ピッチなども適宜に変更可能である。
（１７）上記した各実施形態では、アレイ基板においてＴＦＴがジグザグ状に平面配置された場合を示したが、ＴＦＴがマトリクス状に平面配置されていても構わない。
（１８）上記した各実施形態では、遮光部がＣＦ基板側に設けられた場合を示したが、遮光部がアレイ基板側に設けられていても構わない。
（１９）上記した各実施形態以外にも、ＴＦＴのチャネル部を構成する半導体膜は、ポリシリコンであっても構わない。その場合は、ＴＦＴをボトムゲート型とするか、チャネル部の下層（バックライト装置を設置する側）に遮光膜を備えるトップゲート型とするのが好ましい。
（２０）上記した各実施形態では、タッチパネルパターンが自己容量方式とされる場合を示したが、タッチパネルパターンが相互容量方式であっても構わない。
（２１）上記した各実施形態では、透過型の液晶パネルを例示したが、反射型の液晶パネルや半透過型の液晶パネルであっても本発明は適用可能である。
（２２）上記した各実施形態では、液晶表示装置（液晶パネルやバックライト装置）の平面形状が横長の長方形とされる場合を示したが、液晶表示装置の平面形状が縦長の長方形、正方形、円形、半円形、長円形、楕円形、台形などであっても構わない。
【符号の説明】
【００５７】
１１…液晶パネル（表示装置）、２４，１２４…画素電極、２５…共通電極、２６，１２６…ゲート配線（走査配線）、２７，１２７，２２７…ソース配線（信号配線）、２７Ａ…配線本体、２７Ｂ…幅広部、３０，１３０，２３０…タッチ電極（位置検出電極）、３１，１３１，２３１…タッチ配線（配線）、３６…第１層間絶縁膜（絶縁膜）、３９…第２層間絶縁膜（絶縁膜）、４１，１４１，２４１…配線間接続部、４１Ａ，２４１Ａ…第１接続部、４１Ｂ，２４１Ｂ…第２接続部、４２，１４２，２４２…分割タッチ配線（分割配線）、４５，２４５…第１ダミー接続部（ダミー接続部）、４６…第２ダミー接続部（電極重畳ダミー接続部）、４７…分割タッチ配線接続部（分割配線接続部）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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