(57)【要約】【課題】加熱を伴う電子デバイス製造関連処理を行うことで、ガラスフィルムと支持ガラスとの固着状態がより強固なものとなったとしても、設備コストの増加を招くことがなく、また周囲の環境に悪影響を及ぼすこともなく、比較的容易に支持ガラスからガラスフィルムを剥離することができるガラスフィルム積層体の製造方法、及び当該ガラスフィルム積層体を用いた電子デバイスの製造方法を提供する。【解決手段】支持ガラス１２における少なくとも一方側の表面、即ちガラスフィルム１１と接触することとなる接触面１２ａを、アルカリ性電解水で処理することで粗面化する準備工程Ｓ０１と、支持ガラス１２の、準備工程Ｓ０１によって前記アルカリ性電解水で処理された接触面１２ａ上に、ガラスフィルム１１を積層する積層工程Ｓ０２とを備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラスフィルムと支持ガラスとが各々の表面を互いに接触しあって積層されるガラスフィルム積層体の製造方法であって、
前記支持ガラスにおける少なくとも一方側の表面を、アルカリ性電解水で処理することで粗面化する準備工程と、
前記支持ガラスの、前記準備工程によって前記アルカリ性電解水で処理された表面上に、前記ガラスフィルムを積層する積層工程と
を備える、
ことを特徴とするガラスフィルム積層体の製造方法。
【請求項２】
前記準備工程において、
前記アルカリ性電解水の液温は、５０℃以上９０℃以下である、
ことを特徴とする、請求項１に記載のガラスフィルム積層体の製造方法。
【請求項３】
前記準備工程において、
前記アルカリ性電解水で前記支持ガラスを処理する時間を、１０分以上とする、
ことを特徴とする、請求項２に記載のガラスフィルム積層体の製造方法。
【請求項４】
前記準備工程において、
前記支持ガラスは、前記アルカリ性電解水に浸漬させることにより、当該アルカリ性電解水で処理され、
前記アルカリ性電解水に前記支持ガラスを浸漬した後、
前記アルカリ性電解水を撹拌する、
ことを特徴とする、請求項１〜請求項３の何れか一項に記載のガラスフィルム積層体の製造方法。
【請求項５】
前記準備工程において、
前記支持ガラスは、前記アルカリ性電解水に浸漬させることにより、当該アルカリ性電解水で処理され、
前記アルカリ性電解水に前記支持ガラスを浸漬した後、
前記アルカリ性電解水の液中にて前記支持ガラスを揺動する、
ことを特徴とする、請求項１〜請求項３の何れか一項に記載のガラスフィルム積層体の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜請求項５の何れか一項に記載された製造方法によって、ガラスフィルム積層体を作製する第一の工程と、
前記ガラスフィルム積層体における前記ガラスフィルムに電子デバイス製造関連処理を行う第二の工程と、
前記電子デバイス製造関連処理後の前記ガラスフィルム積層体から、前記ガラスフィルムに電子デバイス製造関連処理を施して得た電子デバイスを剥離する第三の工程と
を備える、
ことを特徴とする電子デバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラスフィルム積層体の製造方法、及び当該ガラスフィルム積層体を用いた電子デバイスの製造方法の技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、急速に普及しているスマートフォンやタブレット型端末等のモバイル端末においては、更なる薄型化及び軽量化の要望が高まっており、これに付随して、これらのモバイル端末に用いられるガラス基板においても、薄型化の要望が増々高まっている。
このような状況下において、フィルム状にまで薄肉化された超薄型の板ガラスの開発が進められており、例えば、３００μｍ以下の厚みからなる板ガラスが製造されるに至っている。
このような超薄型の板ガラスは、一般的にガラスフィルムと呼ばれ、厚みが極めて薄いことから、可撓性に富む性質を有する。
【０００３】
ここで、ガラスフィルムの表面に、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ、酸化インジウムスズ）等の透明導電膜を形成するなど、成膜処理等を行うための加熱を伴う電子デバイス製造関連処理を施して、モバイル端末に組み込まれるガラス基板を製造する場合においては、可撓性に富むガラスフィルムの取り扱いを容易にするために、支持ガラスの表面上にガラスフィルムを積層してガラスフィルム積層体を形成し、ガラスフィルム積層体の状態で、ガラスフィルムに対して電子デバイス製造関連処理を行う方法が知られている。
【０００４】
単体では強度や剛性に乏しいガラスフィルムであっても、このようなガラスフィルム積層体の状態にすることによって、ガラスフィルムに電子デバイス製造関連処理を行う場合に、位置決めや搬送等を容易に行うことができる。
しかしながら、最終製品として支持ガラスは不要物となるため、電子デバイス製造関連処理を終えた後に、支持ガラスからガラスフィルムを剥離する必要があるが、加熱を伴う電子デバイス製造関連処理を行うことにより、ガラスフィルムと支持ガラスとの固着状態がより強固なものとなり、支持ガラスからガラスフィルムを剥離するのが困難になるという問題があった。
【０００５】
そこで、このような問題を解決するための技術として、例えば「特許文献１」においては、支持ガラスに、表面粗さが相対的に大きい（表面の粗い）領域と相対的に小さい（表面の滑らかな）領域とを設け、ガラスフィルムと支持ガラスとが互いに密接する面積を小さくすることで、これらのガラスフィルムと支持ガラスとの固着度合い（固着力）を低減し、支持ガラスからガラスフィルムを剥離し易くする技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１１−１６２４３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
前記「特許文献１」において示されるように、支持ガラスの接触面に表面粗さが相対的に大きい領域を設けると、たとえ加熱を伴う電子デバイス製造関連処理を終えた後に、ガラスフィルムと支持ガラスとの固着状態が、表面粗さが相対的に小さい領域においてより強固なものとなったとしても、表面粗さが相対的に大きい領域から比較的容易に支持ガラスからガラスフィルムを剥離することができる。
ここで、支持ガラスの表面粗さを大きく（表面を粗く）するための手法について、前記「特許文献１」では、サンドブラストや研磨等の物理的な手段や、フッ酸によるエッチング等の化学的な手段を用いることが記載されている。
しかしながら、サンドブラストや研磨等の物理的な手段を支持ガラスの表面に施すことで、当該表面の表面粗さを大きく（表面を粗く）すれば、研磨処理等を施すための研磨装置等が別途必要となり、設備コストの増加を招くことになる。
また、支持ガラスの表面にフッ酸を吹き付けることで、当該表面の表面粗さを大きく（表面を粗く）すれば、使用後のフッ酸やフッ化水素のガスによって、周囲の環境に悪影響が及ぶ可能性がある。
【０００８】
本発明は、以上に示した現状の問題点に鑑みてなされたものであり、例えば成膜処理等の加熱を伴う電子デバイス製造関連処理を行うことで、ガラスフィルムと支持ガラスとの固着状態がより強固なものとなったとしても、設備コストの増加を招くことがなく、また周囲の環境に悪影響を及ぼすこともなく、比較的容易に支持ガラスからガラスフィルムを剥離することができるガラスフィルム積層体の製造方法、及び当該ガラスフィルム積層体を用いた電子デバイスの製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、次にこの課題を解決するための手段を説明する。
【００１０】
即ち、本発明に係るガラスフィルム積層体の製造方法は、ガラスフィルムと支持ガラスとが各々の表面を互いに接触しあって積層されるガラスフィルム積層体の製造方法であって、前記支持ガラスにおける少なくとも一方側の表面を、アルカリ性電解水で処理することで粗面化する準備工程と、前記支持ガラスの、前記準備工程によって前記アルカリ性電解水で処理された表面上に、前記ガラスフィルムを積層する積層工程とを備えることを特徴とする。
このような構成からなるガラスフィルム積層体の製造方法によれば、準備工程においてアルカリ性電解水で支持ガラスの表面を処理することで、当該表面を適度な表面粗さに容易に粗す（粗面化する）ことができる。
これにより、例えば後の工程において、支持ガラス上のガラスフィルムに、成膜処理等の加熱を伴う電子デバイス製造関連処理が施され、ガラスフィルムと支持ガラスとの固着状態がより強固になったとしても、比較的容易に支持ガラスからガラスフィルムを剥離することができる。
また、支持ガラスの表面を粗すための別の方法として、例えば、フッ酸やフッ化水素のガスを当該表面に吹き付けたり、あるいは当該表面に研磨処理を施したりする方法が考えられるが、本発明においては、加工された板ガラスに付着した異物を除去するための洗浄液等として既に利用されているアルカリ性電解水を用いて支持ガラスの表面を粗すことから、周囲の環境に悪影響を及ぼすことがなく、また研磨処理を施すための研磨装置等を別途設ける必要がないため、設備コストの増加を招くこともない。
【００１１】
また、本発明に係るガラスフィルム積層体の製造方法は、前記準備工程において、前記アルカリ性電解水の液温は、５０℃以上９０℃以下であることが好ましい。
このような構成を有することにより、アルカリ性電解水による化学反応が促進され、支持ガラスの表面を適度な表面粗さに粗す（粗面化する）までにかかる時間を短縮することができる。
【００１２】
また、本発明に係るガラスフィルム積層体の製造方法は、前記準備工程において、前記アルカリ性電解水で前記支持ガラスを処理する時間を、１０分以上とすることが好ましい。
このような構成を有することにより、支持ガラスの表面を確実に適度な表面粗さに粗す（粗面化する）ことができる。
【００１３】
また、本発明に係るガラスフィルム積層体の製造方法は、前記準備工程において、前記支持ガラスは、前記アルカリ性電解水に浸漬させることにより、当該アルカリ性電解水で処理され、前記アルカリ性電解水に前記支持ガラスを浸漬した後、前記アルカリ性電解水を撹拌することが好ましい。
このような構成を有することにより、アルカリ性電解水による化学反応がさらに促進され、支持ガラスの表面を適度な表面粗さに粗す（粗面化する）までにかかる時間を、より短縮することができる。
【００１４】
また、本発明に係るガラスフィルム積層体の製造方法は、前記準備工程において、前記支持ガラスは、前記アルカリ性電解水に浸漬させることにより、当該アルカリ性電解水で処理され、前記アルカリ性電解水に前記支持ガラスを浸漬した後、前記アルカリ性電解水の液中にて前記支持ガラスを揺動することが好ましい。
このような構成を有することにより、アルカリ性電解水による化学反応がさらに促進され、支持ガラスの表面を適度な表面粗さに粗す（粗面化する）までにかかる時間を、より短縮することができる。
【００１５】
また、本発明に係る電子デバイスの製造方法は、上記本発明の製造方法によって、ガラスフィルム積層体を作製する第一の工程と、前記ガラスフィルム積層体における前記ガラスフィルムに電子デバイス製造関連処理を行う第二の工程と、前記電子デバイス製造関連処理後の前記ガラスフィルム積層体から、前記ガラスフィルムに電子デバイス製造関連処理を施して得た電子デバイスを剥離する第三の工程とを備えることを特徴とする。
このような構成からなる電子デバイスの製造方法によれば、第二の工程において、支持ガラス上のガラスフィルムに成膜処理等の加熱を伴う電子デバイス製造関連処理が施されることにより、ガラスフィルムと支持ガラスとの固着状態がより強固になったとしても、第三の工程において、比較的容易に支持ガラスからガラスフィルム（電子デバイス）を剥離することができるため、電子デバイスの品質向上を図ることができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、以下に示すような効果を奏する。
即ち、本発明に係るガラスフィルム積層体の製造方法によれば、例えば成膜処理等の加熱を伴う電子デバイス製造関連処理を行うことにより、ガラスフィルムと支持ガラスとの固着状態がより強固なものとなったとしても、設備コストの増加を招くことがなく、また周囲の環境に悪影響を及ぼすこともなく、比較的容易に支持ガラスからガラスフィルムを剥離することができるガラスフィルム積層体を得ることができる。
また、本発明に係る電子デバイスの製造方法によれば、このようなガラスフィルム積層体を用いることで、品質向上の図られた電子デバイスを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の一実施形態に係るガラスフィルム積層体の製造方法を示した工程図である。
【図２】積層工程におけるガラスフィルム積層体の積層方法を示した概略斜視図である。
【図３】ガラスフィルムと支持ガラスとの接合メカニズムを説明するための模式図であって、（ａ）は水酸基同士の水素結合の状況を示した図であり、（ｂ）は水分子を介在する水素結合の状況を示した図であり、（ｃ）は加熱に伴う脱水反応による共有結合の増強状況を示した図である。
【図４】本発明の一実施形態に係る電子デバイスの製造方法を示した模式図である。
【図５】支持ガラス付き電子デバイスを示した模式図である。
【図６】支持ガラスの表面粗さについての検証実験において、アルカリ性電解水を用いて支持ガラスの粗面化を行う際の方法を示した概略図である。
【図７】本発明の別実施形態に係るガラスフィルム積層体の製造方法を示した工程図である。
【図８】本発明のガラスフィルム積層体の製造方法に係る別実施形態において、支持ガラスの表面を適度な表面粗さに粗す（粗面化する）ための、噴射装置の概略構成を示した模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
次に、本発明に係るガラスフィルム積層体の製造方法、及び電子デバイスの製造方法の好適な一実施形態について、図１乃至図８を用いて説明する。
【００１９】
［ガラスフィルム積層体１の製造方法］
先ず、本実施形態によって具現化されるガラスフィルム積層体１の製造方法について、図１乃至図３を用いて説明する。
本実施形態におけるガラスフィルム積層体１の製造方法は、図１に示すように、準備工程Ｓ０１と積層工程Ｓ０２を有し、具体的には、図２に示すように、ガラスフィルム１１と支持ガラス１２とが各々の表面（接触面１１ａ及び接触面１２ａ）を互いに接触しあって積層されるガラスフィルム積層体１を作製するための方法である。
【００２０】
ここで、ガラスフィルム積層体１とは、可撓性に富む超薄型のガラスフィルム１１の取り扱いを容易にすることを目的として作製されるものである。
即ち、ガラスフィルム積層体１の状態にて、成膜処理等の加熱を伴うデバイス製造関連処理をガラスフィルム１１に施し、その後、支持ガラス１２からガラスフィルム１１を剥離することで、当該ガラスフィルム１１に対するデバイス製造関連処理を精度良く行うことができる。
【００２１】
本実施形態において作製されるガラスフィルム積層体１は、主に、フィルム状にまで薄肉化された超薄型のガラスフィルム１１と、ガラスフィルム１１に比べて厚みのある支持ガラス１２との積層構造からなり、これらのガラスフィルム１１及び支持ガラス１２は、各々の平滑な接触面１１ａ・１２ａ同士を密着させることにより、接着剤等を使用することなく、強固に接合（固着）された状態となっている。
【００２２】
ここで、このような接着剤等を使用することなくガラスフィルム１１と支持ガラス１２とが固着される現象については、詳細には解明されていないが、次のメカニズムによると推察されている。
【００２３】
即ち、図３（ａ）に示すように、ガラスフィルム１１及び支持ガラス１２は、各々の接触面１１ａ・１２ａに形成される水酸基（−ＯＨ）同士の水素結合によって、互いに引き付け合うことにより、強固に固着されると考えられている。
あるいは、図３（ｂ）に示すように、ガラスフィルム１１の接触面１１ａにおける水酸基（−ＯＨ）、及び支持ガラス１２の接触面１２ａにおける水酸基（−ＯＨ）が、ガラスフィルム１１と支持ガラス１２との間の界面１３に存在する水分子（Ｈ２Ｏ）を介在させた状態で、水素結合により結合することにより、ガラスフィルム１１と支持ガラス１２とは、互いに強固に固着されるとも考えられている。
【００２４】
なお、このような状況下において、例えば成膜処理等の電子デバイス製造関連処理がガラスフィルム積層体１（図２を参照）に施されることにより、ガラスフィルム積層体１が加熱されると、図３（ｃ）に示すように、ガラスフィルム１１と支持ガラス１２との間の界面１３においては、
Ｓｉ−ＯＨ  ＋  ＨＯ−Ｓｉ  →  Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ  ＋  Ｈ２Ｏ
の脱水反応が起こり、共有結合が増えることから、ガラスフィルム１１と支持ガラス１２とが、さらに強固に固着されると考えられている。
【００２５】
本実施形態においては、後述するように、支持ガラス１２上にガラスフィルム１１を積層する前に、支持ガラス１２の接触面１２ａをアルカリ性電解水で処理して、当該接触面１２ａの表面粗さＲａを０．２〜０．４ｎｍ程度の適度な大きさに予め粗しておく（粗面化しておく）ことにより、加熱を伴う電子デバイス製造関連処理後において、ガラスフィルム１１と支持ガラス１２との固着状態がより強固なものとなったとしても、比較的容易に支持ガラス１２からガラスフィルム１１を剥離することを可能としている。
ここで、支持ガラス１２の接触面１２ａをアルカリ性電解水で処理する手法としては、本実施形態に示すような、容器に貯溜されたアルカリ性電解水に支持ガラス１２を浸漬させる手法に限らず、例えば、後述する別実施形態に示すような、噴射ノズル２０６（図８を参照）からアルカリ性電解水を噴射させて、支持ガラス１２に対して当該アルカリ性電解水を吹付ける手法等であっても良い。
【００２６】
なお、このようなアルカリ性電解水による処理を行う前の支持ガラス１２において、その接触面１２ａの表面粗さＲａは、後述するオーバーフローダウンドロー法で成形された場合、０．１５ｎｍ前後である。また、本実施形態において、表面粗さＲａは、ＪＩＳ  Ｒ  １６８３：２０１４に準拠している（以下、同様）。
【００２７】
ガラスフィルム１１としては、例えばケイ酸塩ガラスやシリカガラスが用いられ、好ましくはホウ珪酸ガラスが用いられ、最も好ましくは無アルカリガラスが用いられる。
ガラスフィルム１１にアルカリ成分が含有されていると、表面において陽イオンの脱落が発生し、所謂ソーダ吹きの現象が生じることから、構造的に粗となる。この場合、例えばガラスフィルム１１を湾曲させて使用していると、経年劣化により粗となった部分から破損する可能性がある。
このようなことから、ガラスフィルム１１については、無アルカリガラスが用いられることが最も好ましい。
【００２８】
なお、ここで無アルカリガラスとは、アルカリ成分（アルカリ金属酸化物）が実質的に含まれていないガラスのことを意味し、具体的には、アルカリ成分の含有量が３０００ｐｐｍ以下のガラスのことを意味する。
本実施形態におけるガラスフィルム１１のアルカリ成分の含有量は、好ましくは１０００ｐｐｍ以下であり、より好ましくは５００ｐｐｍ以下であり、最も好ましくは３００ｐｐｍ以下である。
【００２９】
ガラスフィルム１１の厚みは、好ましくは３００μｍ以下であり、より好ましくは５〜２００μｍであり、最も好ましくは５〜１００μｍである。
これにより、ガラスフィルム１１の厚みをより薄くして、当該ガラスフィルム１１に対して適切な可撓性を付与することができる。
【００３０】
なお、ガラスフィルム１１の厚みを薄くすると、ガラスフィルム１１の取り扱いが困難となり、例えば電子デバイスの製造工程において、位置決めミスやパターニング時のずれ等の問題が生じ易くなるおそれがあるが、本実施形態においては、ガラスフィルム１１を支持ガラス１２に積層して使用することにより、電子デバイス関連処理を容易に行うことができる。
【００３１】
また、ガラスフィルム１１の厚みが５μｍ未満であると、ガラスフィルム１１の強度が不足がちになり、支持ガラス１２からガラスフィルム１１を剥離しにくくなるおそれがある。
このようなことから、ガラスフィルム１１の厚みは、５μｍ以上であることが好ましい。
【００３２】
支持ガラス１２については、前述したガラスフィルム１１と同様に、ケイ酸塩ガラス、シリカガラス、ホウ珪酸ガラス、及び無アルカリガラス等が用いられる。
【００３３】
ここで、支持ガラス１２については、３０〜３８０℃におけるガラスフィルム１１との熱膨張係数の差が、５×１０−７／℃以内のガラスを使用することが好ましい。
これにより、加熱を伴う電子デバイス製造関連処理を行ったとしても、膨張率の差による熱反りやガラスフィルム１１の割れ等が生じ難く、ガラスフィルム積層体１において、安定した積層状態を維持することができる。
なお、膨張率の差を抑える観点から、支持ガラス１２については、ガラスフィルム１１と同一の組成を有するガラスを使用することが、最も好ましい。
【００３４】
支持ガラス１２の厚みは、４００μｍ以上であることが好ましい。
支持ガラス１２の厚みが４００μｍ未満であると、支持ガラス１２を単体で取り扱う場合に、強度の面で問題が生じるおそれがある。
【００３５】
また、支持ガラス１２の厚みは、４００〜７００μｍであることが好ましく、５００〜７００μｍであることがより好ましい。
これにより、支持ガラス１２を用いてガラスフィルム１１を確実に支持することが可能となり、且つ支持ガラス１２からガラスフィルム１１を剥離する際に生じ得るガラスフィルム１１の破損を効果的に抑制することが可能となる。
【００３６】
なお、後述する電子デバイス２の製造工程において、図示しないセッター上に、ガラスフィルム積層体１を載置する場合には、支持ガラス１２の厚みは４００μｍ未満（例えば３００μｍ等、ガラスフィルム１１と同一の厚み）であっても良い。
【００３７】
以上のような構成からなるガラスフィルム１１及び支持ガラス１２を用いた本実施形態におけるガラスフィルム積層体１の製造方法は、図１に示すように、主に、経時的に順に行われる準備工程Ｓ０１及び積層工程Ｓ０２を備えている。
【００３８】
準備工程Ｓ０１は、支持ガラス１２の接触面１２ａ上にガラスフィルム１１を積層する前に、支持ガラス１２における接触面１２ａの表面粗さＲａを、予め適度な大きさに粗しておく（粗面化しておく）ための工程である。
ここで、支持ガラス１２における接触面１２ａの表面粗さＲａは、後述する検証実験の結果に基づき、０．２〜０．４ｎｍに設定されている。
【００３９】
準備工程Ｓ０１においては、図示せぬ容器に貯溜されたアルカリ性電解水に支持ガラス１２を浸漬することによって、当該アルカリ性電解水で支持ガラス１２を処理して、接触面１２ａの粗面化を行う。
この際、支持ガラス１２における少なくとも一方側の表面、即ちガラスフィルム１１と接触することとなる接触面１２ａのみを、アルカリ性電解水で処理（浸漬）して、当該接触面１２ａに対して粗面化を行うこととしても良く、あるいは、支持ガラス１２全体をアルカリ性電解水で処理（浸漬）して、当該支持ガラス１２の表裏両面に対して粗面化を行うこととしても良い。
【００４０】
ここで、アルカリ性電解水については、水素イオン指数がｐＨ１２〜１４である強アルカリ性のものを用いることが好ましい。
このようなアルカリ性電解水を用いることで、支持ガラス１２の接触面１２ａがアルカリ性電解水によって粗面化される際の反応時間を、比較的短くすることができる。
【００４１】
なお、本実施形態においては、例えば、炭酸カリウム（Ｋ２ＣＯ３）：０．１質量％、及び水（Ｈ２Ｏ）：９９．９質量％の組成からなり、水素イオン指数がｐＨ１２.５程度である、無機電解質と水のみからなる強アルカリ性のアルカリイオン水を用いることとしている。
このアルカリイオン水は、例えば加工された板ガラスより異物を除去するための洗浄液等として使用されるものであり、酸化還元反応における物質の電子の放出しやすさ、または受け取りやすさの指標である酸化還元電位（Ｏｘｉｄａｔｉｏｎ−ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ  Ｐｏｔｅｎｔｉａｌ：ＯＲＰ）が−８００〜−２００ｍＶの水溶液である。
【００４２】
このような−８００〜−２００ｍＶの酸化還元電位（ＯＲＰ）を示すアルカリイオン水に対して、微生物は生育困難であることから、当該アルカリイオン水は殺菌効果が高い。
よって、このようなアルカリイオン水をアルカリ性電解水として用いれば、周囲の環境に悪影響を及ぼすことがなく、優れた環境衛生を保持することができる。
【００４３】
ところで、本実施形態において、支持ガラス１２を処理（浸漬）するアルカリ性電解水の液温は、後述する検証実験の結果に基づき、５０℃以上９０℃以下に設定されている。
【００４４】
このような構成を有することにより、アルカリ性電解水による化学反応が促進され、支持ガラス１２の接触面１２ａを適度な表面粗さＲａ（Ｒａ＝０．２〜０．４ｎｍ）に粗す（粗面化する）までにかかる時間を短縮することができる。
【００４５】
また、本実施形態においては、アルカリ性電解水に支持ガラス１２を浸漬した後、当該支持ガラス１２の処理時間を、後述する検証実験の結果に基づき、１０分以上としている。
【００４６】
このような構成を有することにより、アルカリ性電解水による化学反応を十分に起させることができ、支持ガラス１２の接触面１２ａを確実に適度な表面粗さＲａ（Ｒａ＝０．２〜０．４ｎｍ）に粗す（粗面化する）ことができる。
【００４７】
なお、準備工程Ｓ０１において、アルカリ性電解水に支持ガラス１２を浸漬する際には、支持ガラス１２を浸漬した後、前記アルカリ性電解水を撹拌しても良い。
【００４８】
このような構成を有することにより、アルカリ性電解水による化学反応がさらに促進され、支持ガラス１２の接触面１２ａを適度な表面粗さＲａ（Ｒａ＝０．２〜０．４ｎｍ）に粗す（粗面化する）までにかかる時間を、より短縮することができる。
【００４９】
あるいは、準備工程Ｓ０１において、アルカリ性電解水に支持ガラス１２を浸漬する際には、支持ガラス１２を浸漬した後、前記アルカリ性電解水の液中にて支持ガラス１２を揺動することとしても良い。
【００５０】
このような構成を有することで、前述したアルカリ性電解水を撹拌する場合と同じく、アルカリ性電解水による化学反応がさらに促進され、支持ガラス１２の接触面１２ａを適度な表面粗さＲａ（Ｒａ＝０．２〜０．４ｎｍ）に粗す（粗面化する）までにかかる時間を、より短縮することができる。
【００５１】
積層工程Ｓ０２は、準備工程Ｓ０１において適度な表面粗さＲａ（Ｒａ＝０．２〜０．４ｎｍ）に粗された（粗面化された）支持ガラス１２の接触面１２ａ上に、ガラスフィルム１１を積層する工程である。
積層工程Ｓ０２において積層されたガラスフィルム１１及び支持ガラス１２は、各々の接触面１１ａ・１２ａ同士を密着させて、直ちに強固に固着される。
【００５２】
以上のように、本実施形態におけるガラスフィルム積層体１の製造方法は、主に、支持ガラス１２における少なくとも一方側の表面、即ちガラスフィルム１１と接触することとなる接触面１２ａを、アルカリ性電解水で予め処理して粗面化する準備工程Ｓ０１、及び支持ガラス１２の接触面１２ａ（前記準備工程によって前記アルカリ性電解水で処理された表面）上に、ガラスフィルム１１を積層する積層工程Ｓ０２とを備えている。
【００５３】
このような構成からなるガラスフィルム積層体１の製造方法によれば、準備工程Ｓ０１において、アルカリ性電解水で支持ガラス１２の接触面１２ａを処理することにより、当該接触面１２ａを適度な表面粗さＲａ（Ｒａ＝０．２〜０．４ｎｍ）に容易に粗す（粗面化する）ことができる。
これにより、例えば後の工程において、支持ガラス１２上のガラスフィルム１１に、成膜処理等の加熱を伴う電子デバイス製造関連処理が施され、ガラスフィルム１１と支持ガラス１２との固着状態がより強固になったとしても、比較的容易に支持ガラス１２からガラスフィルム１１を剥離することができる。
【００５４】
また、支持ガラス１２の接触面１２ａを粗すための別の方法として、例えば、フッ酸やフッ化水素のガスを当該接触面１２ａに吹き付けたり、あるいは当該接触面１２ａに研磨処理を施したりする方法が考えられるが、本実施形態においては、加工された板ガラスに付着した異物を除去するための洗浄液等として既に利用されているアルカリ性電解水を用いて支持ガラス１２の表面を粗すことから、研磨処理を施すための研磨装置等を別途設ける必要がないため、設備コストの増加を招くことがなく、周囲の環境に悪影響を及ぼすこともない。
【００５５】
さらに、本実施形態においては、予め貯溜されたアルカリ性電解水に支持ガラス１２を浸漬させることにより処理することから、アルカリ性電解水の使用量が容器等に貯留された量に限定されるため、大量のアルカリ系液剤（アルカリ性電解水）を必要とすることもなく、設備のランニングコストが嵩むこともない。
【００５６】
［電子デバイス２の製造方法］
次に、本実施形態によって具現化される電子デバイス２の製造方法について、図４乃至図５を用いて説明する。
【００５７】
本実施形態における電子デバイス２の製造方法は、図４に示すように、第一の工程と第二の工程と第三の工程を有し、例えば図５に示すような、ガラスフィルム１１上に素子２１が形成された、電子デバイス２を製造するための方法である。
【００５８】
ここで前述したように、ガラスフィルム１１は、可撓性に富む超薄型の板ガラスであることから、ガラスフィルム１１を単体で搬送し、ガラスフィルム１１上に精度良く素子２１を配置することは困難である。
よって、電子デバイス２は、支持ガラス１２の接触面１２ａ上にガラスフィルム１１を積層してガラスフィルム積層体１を形成した後、ガラスフィルム積層体１の状態でガラスフィルム１１を搬送するとともに、ガラスフィルム１１に対して素子２１を形成して電子デバイス２を作製し、その後、作製された電子デバイス２を支持ガラス１２から剥離することにより製造される。
【００５９】
本実施形態における電子デバイス２の製造方法は、図４に示すように、前述したガラスフィルム積層体１の製造方法によってガラスフィルム積層体１を作製する第一の工程、ガラスフィルム積層体１におけるガラスフィルム１１に電子デバイス製造関連処理を行う第二の工程、及び前記電子デバイス製造関連処理後のガラスフィルム積層体１から、ガラスフィルム１１に電子デバイス製造関連処理を施して得た電子デバイス２を剥離する第三の工程を備えている。
【００６０】
ここで、使用されるガラスフィルム１１及び支持ガラス１２は、ダウンドロー法によって成形されていることが好ましく、オーバーフローダウンドロー法によって成形されていることがより好ましい。
【００６１】
特に、オーバーフローダウンドロー法においては、断面が楔型である成形体の下端部から流下するガラスリボンを、複数のアニーラローラによって下方へ引き伸ばしながら徐冷炉（アニーラ）によって徐々に冷却し、所定厚みに達したガラスリボンを所定寸法に切断することにより、ガラスフィルム１１及び支持ガラス１２を夫々成形する。
従って、オーバーフローダウンドロー法は、成形時におけるガラス板の両面が、成形部材と接触しない成形法であることから、得られた板ガラスの両面（透光面）には傷が生じ難く、研磨しなくても高い表面品位を得ることができる。
【００６２】
無論、本実施形態において使用されるガラスフィルム１１及び支持ガラス１２は、フロート法やスロットダウンドロー法、ロールアウト法、アップドロー法、リドロー法等によって成形されたものであっても良い。
【００６３】
図４に示すように、電子デバイス２の製造方法における第一の工程は、上記したガラスフィルム積層体１の製造方法に基づき、アルカリ性電解水で浸漬して処理することで予め粗面化された支持ガラス１２の接触面１２ａ上にガラスフィルム１１を積層して、ガラスフィルム積層体１を作製する工程である。
【００６４】
ここで、ガラスフィルム１１の接触面１１ａ、及び支持ガラス１２の接触面１２ａにおける表面粗さＲａは、ともに０．４ｎｍ以下であることが好ましく、これにより、接着剤等を使用することなく、ガラスフィルム１１と支持ガラス１２とが、十分に固着し易くなる。
【００６５】
一方、ガラスフィルム１１の有効面１１ｂ（接触面１１ａ側との反対側の面）の表面粗さＲａは特には限定されないが、後述する第二の工程において、有効面１１ｂには、成膜処理等の電子デバイス製造関連処理が行われることから、表面粗さＲａが０．２ｎｍ以下であることが好ましく、０．１６ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００６６】
なお、支持ガラス１２の搬送面１２ｂ（接触面１２ａ側との反対側の面）の表面粗さＲａは、特には限定されない。
従って、支持ガラス１２全体をアルカリ性電解水に浸漬して処理した場合は、搬送面１２ｂも接触面１２ａと同様に処理されることから、支持ガラス１２の搬送面１２ｂの表面粗さＲａは、接触面１２ａの表面粗さＲａと同一であっても良い。
【００６７】
また、第一の工程において、支持ガラス１２の接触面１２ａ上にガラスフィルム１１を積層する際、減圧下にて行うこととしても良い。
これにより、ガラスフィルム１１と支持ガラス１２とを積層させる際に、ガラスフィルム１１と支持ガラス１２との間に生じる気泡を、低減させることができる。
【００６８】
電子デバイス２の製造方法における第二の工程は、第一の工程で作製されたガラスフィルム積層体１において、ガラスフィルム１１の有効面１１ｂに加熱を伴う電子デバイス製造関連処理を行い、素子２１を形成した後、封止基板２２を用いて当該素子２１を封止することで、支持ガラス付き電子デバイス２３を作製する工程である。
【００６９】
第二の工程において行われる電子デバイス製造関連処理としては、例えば、ＣＶＤ法やスパッタリング等による成膜処理等が挙げられる。
また、このような成膜処理等により形成される素子としては、液晶素子、有機ＥＬ素子、タッチパネル素子、太陽電池素子、圧電素子、受光素子、リチウムイオン２次電池等の電池素子、ＭＥＭＳ素子、半導体素子等が挙げられる。
【００７０】
そして、素子２１の封止に用いられる封止基板２２としては、前述したガラスフィルム１１と同様、ケイ酸塩ガラス、シリカガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等からなるカバーガラスが用いられる。
【００７１】
封止基板２２として用いられるカバーガラスについては、３０〜３８０℃におけるガラスフィルム１１との熱膨張係数の差が、５×１０−７／℃以内のガラスを使用することが好ましい。
これにより、作製された電子デバイス２の周辺環境の温度が変化したとしても、膨張率の差による熱反りやガラスフィルム１１及びカバーガラス（封止基板２２）の割れ等が生じ難く、破損し難い電子デバイス２を得ることができる。
なお、膨張率の差を抑える観点から、カバーガラス（封止基板２２）は、ガラスフィルム１１と同一の組成を有するガラスを使用することが、最も好ましい。
【００７２】
カバーガラス（封止基板２２）の厚みは、５〜２００μｍであることが好ましく、５〜１００μｍであることがより好ましい。
これにより、ある程度の強度を維持しつつ、カバーガラス（封止基板２２）の厚みをより薄くして、適切な可撓性を付与することができる。
【００７３】
第二の工程において作製される支持ガラス付き電子デバイス２３の一例としては、例えば図５に示すような、有機ＥＬパネルが挙げられる。
有機ＥＬパネルからなる支持ガラス付き電子デバイス２３は、以下の手順に従い作製される。
【００７４】
即ち、ガラスフィルム１１の有効面１１ｂに対して、ＣＶＤ法やスパッタリング等の公知の成膜処理を施して、陽極層２１ａ、正孔輸送層２１ｂ、発光層２１ｃ、電子輸送層２１ｄ、及び陰極層２１ｅを順に積層することにより、前記有効面１１ｂ上に素子２１の一例である有機ＥＬ素子を形成する。
次に、公知のレーザー封止等を使用して、カバーガラス（封止基板２２）とガラスフィルム１１とを固着することにより、当該カバーガラス（封止基板２２）によって素子２１を封止する。
こうして、支持ガラス付き電子デバイス２３（ここでは、支持ガラス付有機ＥＬパネル）は作製される。
【００７５】
なお、図５に示す形態においては、カバーガラス（封止基板２２）とガラスフィルム１１とを直接固着する構成としているが、例えば、公知のガラスフリットやスペーサ等を適宜使用して、カバーガラス（封止基板２２）とガラスフィルム１１とを固着しても良い。
【００７６】
図４に示すように、電子デバイス２の製造方法における第三の工程は、第二の工程で作製された支持ガラス付き電子デバイス２３において、支持ガラス１２から電子デバイス２を剥離する工程である。
【００７７】
第三の工程においては、例えば、シート状や剃刃状の樹脂部材からなる剥離治具６を、ガラスフィルム１１と支持ガラス１２との間の界面１３に徐々に挿入させて、両者を引き剥がすことにより、支持ガラス１２から電子デバイス２を剥離する。
【００７８】
なお、支持ガラス１２から電子デバイス２を剥離するための剥離手段の態様については、本実施形態のような剥離治具６に限定されるものではなく、例えば、ウォータージェットやエアー噴射のような、ガラスフィルム１１との間で機械的接触（剥離治具６及びガラスフィルム１１間の接触、または剥離治具６及び支持ガラス１２間の接触のような、部材同士の接触）が生じない流体等の剥離媒体を使用する構成を採用しても良い。
また、界面１３に剥離治具６を挿入する場合、剥離治具６の先端部から、液体や気体等の流体を噴出させながら行うようにしても良い。
【００７９】
ここで上記したように、本実施形態においては、支持ガラス１２の接触面１２ａを、予めアルカリ性電解水に浸漬させることにより処理して適度な表面粗さＲａ（Ｒａ＝０．２〜０．４ｎｍ）に粗している（粗面化している）ことから、ガラスフィルム１１と支持ガラス１２との間の界面１３に剥離治具６を挿入するのに、過大な力を必要とせず、支持ガラス１２から電子デバイス２を容易に剥離することができる。
【００８０】
以上のように、本実施形態における電子デバイス２の製造方法によれば、第二の工程において、支持ガラス１２上のガラスフィルム１１に、成膜処理等の加熱を伴う電子デバイス製造関連処理が施されることにより、ガラスフィルム１１と支持ガラス１２との固着状態がより強固になったとしても、第三の工程において、比較的容易に支持ガラス１２からガラスフィルム１１を剥離することができるため、電子デバイス２の品質向上を図ることができる。
なお前記第三の工程は、第二の工程で電子デバイス製造関連処理が施された２つのガラス積層体１の電子デバイス２のガラスフィルム１１同士を上記カバーガラスとガラスフィルム１１とを固着した手法により固着したものから、互いの支持ガラス１２を剥離する場合にも用いることができる。
【００８１】
［ガラスフィルム積層体１の製造方法（別実施形態）］
次に、別実施形態におけるガラスフィルム積層体１の製造方法について、図７及び図８を用いて説明する。
別実施形態におけるガラスフィルム積層体１の製造方法は、前述した本実施形態におけるガラスフィルム積層体１の製造方法と同じく、図７に示すような、経時的に順に行われる準備工程Ｓ１０１及び積層工程Ｓ１０２を備える一方、当該準備工程Ｓ１０１において、支持ガラス１２の接触面１２ａの表面粗さＲａを、適度な大きさに粗す（粗面化する）ために、当該支持ガラス１２の接触面１２ａをアルカリ性電解水で処理する手法について、本実施形態におけるガラスフィルム積層体１の製造方法と相違する。
よって、以下の説明においては、主に前述した本実施形態におけるガラスフィルム積層体１の製造方法との相違点について記載し、当該製造方法と同等な構成についての記載は省略する。
【００８２】
なお、別実施形態におけるガラスフィルム積層体１の製造方法についても、前述した電子デバイス２の製造方法における第一の工程に適用可能であることは、言うまでもない。
【００８３】
別実施形態におけるガラスフィルム積層体１の製造方法において、準備工程Ｓ１０１における支持ガラス１２の粗面化は、主に噴射装置２００を用いて行われる。
噴射装置２００は、主に図８に示すように、アルカリ性電解水を貯溜する貯溜タンク２０１、貯溜タンク２０１に設けられ、当該貯溜タンク２０１内のアルカリ性電解水を吐出する吐出ポンプ２０２、第一配管部材２０３を介して吐出ポンプ２０２と連通する吐出ヘッダ２０４、吐出ヘッダ２０４から櫛歯状に延設される複数本の配管路２０５・２０５・・・、各配管路２０５の延長方向に沿って当該配管路２０５に配設される複数の噴射ノズル２０６・２０６・・・、及び、底部にオイルパン２０７ａが設けられ、当該オイルパン２０７ａの裏面において、第二配管部材２０８を介して貯溜タンク２０１と連通する保持容器２０７などにより構成される。
【００８４】
複数の噴射ノズル２０６・２０６・・・は、噴射口を下方に向けた状態によって、保持容器２０７の直上に位置するようにして、各々配置されている。
また、貯溜タンク２０１には、電熱ヒーター２０９が設けられており、当該貯溜タンク２０１内のアルカリ性電解水は、電熱ヒーター２０９によって常に所定の液温に保温された状態となっている。
【００８５】
なお、電熱ヒーター２０９によって保持される、アルカリ性電解水の液温については、前述した本実施形態におけるガラスフィルム積層体１の製造方法と同様であるため、説明の記載は省略する。
また、噴射装置２００に用いられるアルカリ性電解水は、前述した本実施形態におけるガラスフィルム積層体１の製造方法に用いられるアルカリ性電解水と同様、例えば加工された板ガラスより異物を除去するための洗浄液等として使用されるものであるため、当該アルカリ性電解水の水素イオン指数や酸化還元電位等についての説明の記載は省略する。
【００８６】
そして、吐出ポンプ２０２によって吐出される貯溜タンク２０１内のアルカリ性電解水は、第一配管部材２０３、吐出ヘッダ２０４、配管路２０５・２０５・・・と順に送られ、複数の噴射ノズル２０６・２０６・・・の噴射口から保持容器２０７の内部に向かって噴射される。
また、保持容器２０７の内部に向かって噴射されたアルカリ性電解水は、オイルパン２０７ａによって集められ、第二配管部材２０８を通って再び貯溜タンク２０１に送られる。
【００８７】
このように、噴射装置２００においては、使用されるアルカリ性電解水が、貯溜タンク２０１と保持容器２０７との間で循環される構成となっている。
従って、例えば、ノズルからアルカリ系液剤（アルカリ性電解水）を連続的に吹き付けるのみで、その後、吹付けたアルカリ系液剤（アルカリ性電解水）を回収することなく排水する場合のように、大量のアルカリ系液剤（アルカリ性電解水）を必要とすることもなく、設備のランニングコストが嵩むこともない。
【００８８】
以上のような構成からなる噴射装置２００によって、支持ガラス１２の接触面１２ａに対して粗面化が行われる。
具体的には、接触面１２ａを上方に向けた状態によって、支持ガラス１２を保持容器２０７内に載置し、その後、当該接触面１２ａに向かって、複数の噴射ノズル２０６・２０６・・・からアルカリ性電解水を噴射させて吹付ける。
これにより、支持ガラス１２の接触面１２ａは、アルカリ性電解水で処理される。
その結果、支持ガラス１２における接触面１２ａの表面粗さＲａは、０．２〜０．４ｎｍ程度の適度な大きさに粗される（粗面化される）こととなる。
【００８９】
なお、支持ガラス１２の接触面１２ａに対して、アルカリ性電解水の吹付けを維持する時間については、任意に設定可能であるが、前述した本実施形態におけるガラスフィルム積層体１の製造方法と同様、１０分以上に設定されることが好ましい。
【００９０】
このように、別実施形態におけるガラスフィルム積層体１の製造方法は、主に、支持ガラス１２における少なくとも一方側の表面、即ちガラスフィルム１１と接触することとなる接触面１２ａに、アルカリ性電解水を吹付け（処理して）粗面化する準備工程Ｓ１０１、及び支持ガラス１２の接触面１２ａ（前記準備工程Ｓ１０１によって前記アルカリ性電解水が吹付けられた（処理された）表面）上に、ガラスフィルム１１を積層する積層工程Ｓ１０２とを備えている。
【００９１】
このような構成からなる、別実施形態におけるガラスフィルム積層体１の製造方法によれば、前述した本実施形態におけるガラスフィルム積層体１の製造方法と同様に、準備工程Ｓ１０１において、支持ガラス１２の接触面１２ａを適度な表面粗さＲａ（Ｒａ＝０．２〜０．４ｎｍ）に容易に粗す（粗面化する）ことができる。
従って、例えば後の工程において、支持ガラス１２上のガラスフィルム１１に、成膜処理等の加熱を伴う電子デバイス製造関連処理が施され、ガラスフィルム１１と支持ガラス１２との固着状態がより強固になったとしても、比較的容易に支持ガラス１２からガラスフィルム１１を剥離することができる。
【００９２】
また、別実施形態におけるガラスフィルム積層体１の製造方法によれば、前述した本実施形態におけるガラスフィルム積層体１の製造方法と同様に、加工された板ガラスに付着した異物を除去するための洗浄液等として既に利用されているアルカリ性電解水を用いて、支持ガラス１２の表面を粗すことから、例えば、研磨処理を施すための研磨装置等を別途設ける必要がないため、設備コストの増加を招くことがなく、周囲の環境に悪影響を及ぼすこともない。
なお、上記別実施形態は、複数本の配管路２０５・２０５・・・に配設される複数の噴射ノズル２０６・２０６・・・で、載置した支持ガラス１２にアルカリ性電解水を吹き付けた実施形態であるが、支持ガラス１２の幅方向もしくは斜め方向に配置された１本の配管路２０５に、複数の噴射ノズル２０６・２０６・・・を配置し、配管路２０５と支持ガラス１２とを相対移動させて、アルカリ性電解水を支持ガラス１２に吹き付けても良い。
【００９３】
［検証実験］
次に、本発明を具現化するガラスフィルム積層体１の製造方法、及び電子デバイス２の製造方法において、その有効性を判断するための検証実験について、図６を用いて説明する。
【００９４】
（表面粗さＲａの測定）
先ず始めに、以下に示す手順に従い、様々な条件下においてアルカリ性電解水による支持ガラスの粗面化を行い、形成された表面粗さＲａの大きさを測定した。
【００９５】
即ち、アルカリ性電解水による支持ガラスの粗面化を行う手順としては、先ず、水素イオン指数がｐＨ１２〜１４であるアルカリ性電解水１０１を用意し、当該アルカリ性電解水１０１をステンレス製の容器１０２内に注ぎ込む。
【００９６】
次に、電気ヒーター等からなる加熱装置１０４を用いて容器１０２を加熱し、容器１０２内に貯溜されたアルカリ性電解水１０１を所定の設定温度（以下、適宜「昇温温度」と記載する）にまで昇温する。
【００９７】
アルカリ性電解水１０１の液温が前記昇温温度に到達したら、サンプルとなる支持ガラス１０５をアルカリ性電解水１０１に浸漬し、その後、所定の時間（以下、適宜「放置時間」と記載する）放置する。
ここで、本検証実験においては、角棒形状の複数のガラス部材１０６・１０６・・・を用いて、支持ガラス１０５を容器１０２内にて嵩上げし、当該支持ガラス１０５の表裏両面をアルカリ性電解水１０１に曝しているが、これに限定されることはない。
例えば、支持ガラス１０５の裏面を容器１０２の底面に密接させた状態にて、当該支持ガラス１０５を容器１０２内に載置し、支持ガラス１０５の表面のみをアルカリ性電解水１０１に曝しても良い。
【００９８】
アルカリ性電解水１０１に支持ガラス１０５を浸漬してから所定の放置時間が経過した後、アルカリ性電解水１０１から支持ガラス１０５を取り出し、純水等を用いて当該支持ガラス１０５を洗浄する。
そして、洗浄された支持ガラス１０５に対して、アルカリ性電解水１０１によって粗面化された表面の表面粗さＲａを測定する。
【００９９】
このような手順に従い、アルカリ性電解水によって粗面化された支持ガラスの表面粗さＲａの大きさを測定した。
なお、サンプルとして用いる支持ガラス１０５については、縦２００ｍｍ、横２００ｍｍ、厚み５００μｍからなる矩形状の無アルカリガラス（日本電気硝子株式会社製、製品名：ＯＡ−１０Ｇ、３０〜３８０℃における熱膨張係数：３８×１０−７／℃、ヤング率７３ＧＰａ）を使用した。
【０１００】
また、アルカリ性電解水１０１については、水素イオン指数がｐＨ１２．５のもの、及び水素イオン指数がｐＨ１３．１のものからなる、二種類のアルカリ性電解水を用意し、夫々のアルカリ性電解水を用いて支持ガラス１０５の粗面化を行った場合の表面粗さＲａを測定した。
【０１０１】
さらに、支持ガラス１０５の表面粗さＲａの測定については、ＳＳＩ・ナノテクノロジー社製ＡＦＭ（Ｎａｎｏ  Ｎａｖｉ）を用い、スキャンサイズ１０μｍ、スキャンレイト０．５Ｈｚ、サンプルライン２５６の条件で測定することとした。
【０１０２】
なお、昇温温度については、６０℃及び８０℃の二種類の温度を設定し、夫々の昇温温度にまでアルカリ性電解水１０１の液温を昇温させた場合の支持ガラス１０５の表面粗さＲａを測定した。
また、加熱装置１０４による加熱を行うことなく、アルカリ性電解水１０１の液温が常温（２０℃）である場合の支持ガラス１０５の表面粗さＲａについても測定した。
【０１０３】
また、放置時間については、アルカリ性電解水１０１の昇温温度が６０℃または８０℃に設定されている場合には、１５分及び３０分とし、アルカリ性電解水１０１の昇温温度が常温（２０℃）である場合には、１５分、３０分、及び２４０分として、夫々の放置時間だけ放置した場合の、支持ガラス１０５の表面粗さＲａについて測定した。
【０１０４】
このような様々な条件下において測定された支持ガラス１０５の表面粗さＲａの測定結果（単位：ｎｍ）を、［表１］に示す。
なお、参考として、未だアルカリ性電解水１０１によって粗面化が行われていない支持ガラス１０５についても表面粗さＲａを測定し、「アルカリ性電解水の処理無し」として、その測定結果を［表１］に示す。
【０１０５】
【表１】
2019104675.tif 000003
【０１０６】
「表１」に示すように、アルカリ性電解水の液温が常温（２０℃）である場合、当該アルカリ性電解水の水素イオン指数が、ｐＨ１２．５またはｐＨ１３．１の何れの場合であっても、２４０分程度放置することで、支持ガラスの表面粗さＲａが、アルカリ性電解水によって粗面化される前の表面粗さＲａ（０．１６ｎｍ）を上回り、０．２０ｎｍ以上となった。
【０１０７】
一方、アルカリ性電解水の液温が６０℃または８０℃である場合、当該アルカリ性電解水の水素イオン指数が、ｐＨ１２．５またはｐＨ１３．１の何れであっても、１５分程度の放置時間によって、支持ガラスの表面粗さＲａが０．２０ｎｍ以上となった。
【０１０８】
特に、アルカリ性電解水の水素イオン指数がｐＨ１３．１である場合、当該アルカリ性電解水の液温が８０℃であると、１５分程度の放置時間で、アルカリ性電解水によって粗面化される前の表面粗さＲａ（０．１６ｎｍ）を大きく上回り、その測定値は０．５８ｎｍとなった。
【０１０９】
以上の結果から、アルカリ性電解水に支持ガラスを浸漬して処理することで、支持ガラスの表面を粗面化することができることが分かった。また、アルカリ性電解水を加熱することで、アルカリ性電解水による化学反応が促進され、支持ガラスの表面における粗面化が速められることが分かった。
【０１１０】
（接着力の測定）
次に、前述した表面粗さＲａの測定を終えた各々の支持ガラスを用いて、ガラスフィルム積層体を作製し、加熱処理を行った後の支持ガラスの接着力の大きさを測定した。
【０１１１】
ここで、ガラスフィルム積層体は、表面粗さＲａの測定を終えた各々の支持ガラスに対して、ガラスフィルムを夫々用意し、これらのガラスフィルムを各支持ガラスに２５℃の温度で積層することにより作製した。
【０１１２】
なお、使用するガラスフィルムについては、縦１９５ｍｍ、横１９５ｍｍ、厚み１００μｍからなる矩形状の無アルカリガラス（日本電気硝子株式会社製、製品名：ＯＡ−１０Ｇ、３０〜３８０℃における熱膨張係数：３８×１０−７／℃、ヤング率７３ＧＰａ）を用いた。
【０１１３】
また、作製したガラスフィルム積層体に対する加熱処理は、３５０℃に加熱された電気炉内に投入し、その後、３０分放置した後、当該電気炉から取り出すことにより行った。
【０１１４】
さらに、電気炉から取り出された各々のガラスフィルム積層体に対して、クラックオープニング法により剥離表面エネルギーγ（単位：Ｊ／ｍ２）を算出することにより、支持ガラスの接着力を評価した。
【０１１５】
なお、クラックオープニング法は、ガラスフィルム積層体の界面に、既知の厚みを有する剥離部材を挿入し、ガラスフィルムと支持ガラスの間に生じた剥離の距離ｃ（下記式を参照）から剥離表面エネルギーを算出する方法である。
【０１１６】
ここで、剥離表面エネルギーγは、次の式で算出される。
γ（Ｊ／ｍ２）＝（３ｈ２ＥａＴａ３ＥｂＴｂ３）／｛１６ｃ（ＥａＴａ３＋ＥｂＴｂ３）｝
なお、ｈは剥離部材の厚み（単位：ｍ）、Ｔａはガラスフィルムの厚み（単位：ｍ）、Ｅａはガラスフィルムのヤング率（単位：Ｐａ）、Ｔｂは支持ガラスの厚み（単位：ｍ）、Ｅｂは支持ガラスのヤング率（単位：Ｐａ）、ｃは剥離部材の挿入によって剥離した距離（単位：ｍ）である。
【０１１７】
このようにして得られた、前述した表面粗さＲａの測定を終えた、各々の支持ガラスについての接着力を［表２］に示す。
【０１１８】
【表２】
2019104675.tif 000004
【０１１９】
「表２」に示すように、アルカリ性電解水によって粗面化が行われていない（アルカリ性電解水の処理無し）支持ガラスにおいては、積層されたガラスフィルムが強固に固着された状態にあり、ガラスフィルムと支持ガラスの間（界面）に、剥離部材を挿入すること自体が困難であり、支持ガラスからガラスフィルムを剥離することができない状態（剥離不能）であった。
【０１２０】
これに対して、水素イオン指数がｐＨ１２．５であるアルカリ性電解水によって粗面化が行われた支持ガラスにおいては、アルカリ電解水の液温が常温（２０℃）であった場合、２４０分程度の放置時間によって粗面化が行われた支持ガラスからは、比較的容易にガラスフィルムを剥離することができた。なお、この時の支持ガラスの接着力は０．７２（Ｊ／ｍ２）程度であった。
【０１２１】
また、水素イオン指数がｐＨ１２．５であるアルカリ性電解水によって粗面化が行われた支持ガラスにおいては、アルカリ電解水の液温が６０℃であった場合、１５分や３０分程度の放置時間によって粗面化が行われた支持ガラスであっても、当該支持ガラスから比較的容易にガラスフィルムを剥離することができた。なお、この時の支持ガラスの接着力はともに０．７２（Ｊ／ｍ２）程度であった。
【０１２２】
さらに、水素イオン指数がｐＨ１２．５であるアルカリ性電解水によって粗面化が行われた支持ガラスにおいては、アルカリ電解水の液温が８０℃であった場合も同様に、１５分や３０分程度の放置時間によって粗面化が行われた支持ガラスであっても、当該支持ガラスから比較的容易にガラスフィルムを剥離することができた。なお、この時の支持ガラスの接着力はともに０．６９（Ｊ／ｍ２）程度であった。
【０１２３】
一方、水素イオン指数がｐＨ１３．１であるアルカリ性電解水によって粗面化が行われた支持ガラスにおいては、アルカリ電解水の液温が常温（２０℃）であった場合、２４０分程度の放置時間によって粗面化が行われた支持ガラスからは、比較的容易にガラスフィルムを剥離することができた。なお、この時の支持ガラスの接着力は０．７２（Ｊ／ｍ２）程度であった。
【０１２４】
また、水素イオン指数がｐＨ１３．１であるアルカリ性電解水によって粗面化が行われた支持ガラスにおいては、アルカリ電解水の液温が６０℃であった場合、１５分や３０分程度の放置時間によって粗面化が行われた支持ガラスであっても、当該支持ガラスから比較的容易にガラスフィルムを剥離することができた。なお、この時の支持ガラスの接着力は夫々０．７２（Ｊ／ｍ２）及び０．６９（Ｊ／ｍ２）程度であった。
【符号の説明】
【０１２５】
１    ガラスフィルム積層体
２    電子デバイス
３    成形体
４    冷却ローラ
５    アニーラローラ
６    剥離治具
１１    ガラスフィルム
１１ａ    接触面
１１ｂ    有効面
１２    支持ガラス
１２ａ    接触面
１２ｂ    搬送面
１３    界面
２１    素子
２１ａ    陽極層
２１ｂ    正孔輸送層
２１ｃ    発光層
２１ｄ    電子輸送層
２１ｅ    陰極層
２２    封止基板（カバーガラス）
２３    支持ガラス付き電子デバイス
３１    下端部
１０１    アルカリ性電解水
１０２    容器
１０４    加熱装置
１０５    支持ガラス
１０６    ガラス部材
２００    噴射装置
２０１    貯溜タンク
２０２    吐出ポンプ
２０３    第一配管部材
２０４    吐出ヘッダ
２０５    配管路
２０６    噴射ノズル
２０７    保持容器
２０７ａ    オイルパン
２０８    第二配管部材
２０９    電熱ヒーター
Ｇ    ガラスリボン
【図１】
2019104675.tif 000005
【図２】
2019104675.tif 000006
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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