(57)【要約】      （修正有）【課題】電気分解処理後の還元電位を、水質の如何に拘わらず可能な限り長時間保持することにより、殺菌と、優れた機械加工性能を保持した水溶性切削・研削液を得るための生成方法及びその装置を提供すること。【解決手段】水を還元槽１８に入れて還元電極１９に還元電位を印加し、電気分解処理をして還元水とする水溶性切削・研削液の生成方法において、還元する水の性質としての導電率又は全硬度の高さに反比例して還元電極１９に印加するパルス電圧幅を小さくして、所定の還元電位に到達する時間を延ばすようにしたことを特徴とする水溶性切削・研削液の生成方法。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
水を還元槽に入れて還元電極に還元電位を印加し、電気分解処理をして還元水とする水溶性切削・研削液の生成方法において、前記還元電極に印加するパルス電圧幅を、還元する水の性質に応じて調整するようにしたことを特徴とする水溶性切削・研削液の生成方法。
【請求項２】
還元する水の性質としての導電率が高いほど還元電極に印加するパルス電圧幅を小さくしたことを特徴とする請求項１記載の水溶性切削・研削液の生成方法。
【請求項３】
還元する水の性質としての全硬度が高いほど還元電極に印加するパルス電圧幅を小さくしたことを特徴とする請求項１記載の水溶性切削・研削液の生成方法。
【請求項４】
還元する水の性質としての導電率又は全硬度の高さに反比例して還元電極に印加するパルス電圧幅を小さくして、所定の還元電位に到達する時間を延ばすようにしたことを特徴とする請求項１、２又は３記載の水溶性切削・研削液の生成方法。
【請求項５】
水を還元槽に入れて還元電極に還元電位を印加し、電気分解処理をして還元水とする水溶性切削・研削液の生成装置において、
前記還元電極に印加するパルス電圧を得るためのパルス信号を発振するＰＷＭ発振回路と、
このＰＷＭ発振回路に接続され、還元する水の性質としての導電率又は全硬度の高さに反比例して還元電極に印加するパルス電圧幅を小さくして、所定の還元電位に到達する時間を延ばすためのデータを記憶したメモリと、
このＰＷＭ発振回路で発生したパルス信号を、対をなす前記還元電極に印加するために波形整形する波形整形回路と
を具備したことを特徴とする水溶性切削・研削液の生成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、切削・研削機械加工時に用いられる水溶性切削・研削液の生成方法及びその装置に関するもので、さらに詳しくは、水質（導電率、全硬度等）の異なる水を電気分解処理して還元水とする場合において、水質の如何に拘わらず電気分解処理後の還元電位を可能な限り長時間保持して、殺菌と、優れた機械加工性能を保持した水溶性切削・研削液を得るための生成方法及びその装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
切削・研削機械加工には、冷却、潤滑、切屑流しなどを目的として切削・研削液が使用される。
この切削・研削液は、油性と水溶性に大別される。油性液は、鉱物油を基油とし潤滑性に優れるが、火災、廃棄時の環境汚染の問題、使用時のべたつきなどがある。これに対し、水溶性液は、大半が水であり、上記油性の問題点が少なく有利である。
しかし、水溶性液には、ある程度のべたつきがあり、加工機械を汚したり、一定時間の使用により細菌が発生して皮膚にかぶれが発生したり、腐敗して異臭を発生したりして、作業者によっても、また、廃棄の際の環境への悪影響もある。
【０００３】
優れた特性を有する水溶性切削・研削液とするために、水道水、工業用水（地下水）若しくはこれらの軟水化したもの又は使用済み液を、電気分解処理をして還元水にすると、殺菌、腐敗防止、加工性の向上となる。
還元水と鉱物油を比較すると以下の通りである。
１．気化熱：還元水５８６ｃａｌ／ｇ、鉱物油９０ｃａｌ／ｇ以下、エタノール９３ｃａｌ／ｇで、還元水が断然優れている。
２．比熱：還元水１．００ｃａｌ／ｇ・ｄｅｇ、鉱物油０．４４ｃａｌ／ｇ・ｄｅｇ、エタノール０．５７ｃａｌ／ｇ・ｄｅｇで、還元水が最も温まりにくく、冷めにくい。
３．熱伝導率：還元水０．５１Ｗ／ｍ／Ｋ、鉱物油０．１２Ｗ／ｍ／Ｋ、エタノール０．１８Ｗ／ｍ／Ｋで、還元水が最も熱を伝えやすい。
このように、還元水は、気化熱、比熱、熱伝導率の何れにおいても鉱物油より数値が大きく切削・研削液として優れた性質を有している。
【０００４】
電気分解により還元水を得る方法として、特許文献１に示す方法が知られている。この特許文献１記載の方法によれば、対象とする水性研削・切削液中に、一対の交流電極板と２つの接地電極板を挿入し、該交流電極に交流電源を通電させて高周波交流により電気分解処理を行うに際し、交流の発振周波数約５〜１００ＫＨｚを中心に変動幅±３〜５ＫＨｚのＦＭ変調をかけ、ランダム信号発生器を内蔵した装置で、ゆるやかな上下周波数変動中に急激に周波数上昇又は下降の変化する部分をもたらすことによって電界干渉を発生させ衝撃波を作り、上記電気分解により発生する水素量を多くするとともにナノバブルまで小さくした酸素を発生させることを特徴としてなる水性研削・切削液の電気分解処理方法としている。
【０００５】
本発明人がフィリピンの水（Ａ）、タイの水（Ｂ）、日本の水道水（Ｃ）に、下記の同一条件で酸化還元電位の経時変化を測定したところ、図２、図３に示すように、フィリピンの水（Ａ１：細い１点鎖線）、タイの水（Ｂ１：細い点線）、日本の水道水（Ｃ：細い実線）の異なる特性曲線で示す結果が得られた。
条件
・容器：アルカリ水製造装置
・水：フィリピンの水（Ａ）、タイの水（Ｂ）、日本の水道水（Ｃ）
・水量：２５７リットル
・室温：２５℃
・パルス波：１０ｋＨｚ、１５Ｖ、７Ａ
【０００６】
これらの特性曲線において、フィリピンの水（Ａ）は、初期値（＋２１６.０ｍＶ）から水溶性切削・研削液として必要な還元電位−２５０ｍＶに達するまでの時間は、特性線（Ａ１）に示すように約５０分であった。その後、電気分解処理を停止すると、特性線（Ａ１）に示すように約９時間で、水溶性切削・研削液として望まれる−１７０ｍＶに戻り、さらに約３０時間で０ｍＶに戻った。
タイの水（Ｂ）は、初期値（＋１４７.０ｍＶ）から水溶性切削・研削液として必要な還元電位−２５０ｍＶに達するまでの時間は、特性線（Ｂ１）に示すように約８０分であった。その後、電気分解処理を停止すると、特性線（Ｂ１）に示すように約２５時間で、水溶性切削・研削液として望まれる−１７０ｍＶに戻り、さらに約４０時間で０ｍＶに戻った。
これに対し、日本の水（Ｃ）は、初期値（＋５２１.０ｍＶ）から水溶性切削・研削液として必要な還元電位−２５０ｍＶに達するまでの時間は、特性線（Ｃ）に示すように約１２０分であった。その後、電気分解処理を停止すると、特性線（Ｃ２）に示すように、水溶性切削・研削液として望まれる−１７０ｍＶを約６５時間継続し、さらに約１９５時間で０ｍＶに戻った。
【０００７】
このように、フィリピンの水（Ａ）とタイの水（Ｂ）は、水質、すなわち、導電率又は全硬度が日本の水より高く、短時間で−２５０ｍＶに達するが、電気分解処理を停止すると、急速に元の電位に戻り、水溶性切削・研削液として望まれる−１７０ｍＶを最低限必要とされる作業時間（例えば、４０時間以上）を持続することができないという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１３−４６９３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明者は、種々研究を重ねた結果、水溶性切削・研削液として望まれる還元電位（例えば、−２５０ｍＶ）までに達する電気分解処理時間をできるだけ長い時間（例えば、日本の水と同程度の１２０分）をかけることで、電気分解処理を停止してからの水溶性切削・研削液として望まれる還元電位を従来の数倍に延長できることを発見した。また、目的の水を水溶性切削・研削液として望まれる還元電位に電気分解処理する時間は、その水の水質、特に、導電率又は全硬度に応じて印加するパルス幅を制御すればよいことが判明した。
本発明は、電気分解処理後の還元電位を、水質の如何に拘わらず可能な限り長時間保持することにより、殺菌と、優れた機械加工性能を保持した水溶性切削・研削液を得るための生成方法及びその装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、水を還元槽１８に入れて還元電極１９に還元電位を印加し、電気分解処理をして還元水とする水溶性切削・研削液の生成方法において、前記還元電極１９に印加するパルス電圧幅を、還元する水の性質に応じて調整するようにしたことを特徴とする。
【００１１】
還元する水の性質としての導電率が高い場合、この導電率の高さに応じて還元電極１９に印加するパルス電圧幅を小さくする。
また、還元する水の性質としての全硬度が高い場合、この全硬度の高さに応じて還元電極１９に印加するパルス電圧幅を小さくする。
より具体的には、還元する水の性質としての導電率又は全硬度の高さに反比例して還元電極１９に印加するパルス電圧幅を小さくして、所定の還元電位に到達する時間を延ばすようにする。
【００１２】
水を還元槽１８に入れて還元電極１９に還元電位を印加し、電気分解処理をして還元水とする水溶性切削・研削液の生成装置は、
前記還元電極１９に印加するパルス電圧を得るためのパルス信号を発振するＰＷＭ発振回路１０と、
このＰＷＭ発振回路１０に接続され、還元する水の性質としての導電率又は全硬度の高さに反比例して還元電極１９に印加するパルス電圧幅を小さくして、所定の還元電位に到達する時間を延ばすためのデータを記憶したメモリ２１と、
このＰＷＭ発振回路１０で発生したパルス信号を、対をなす前記還元電極１９に印加するために波形整形する波形整形回路１１と
を具備したことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
請求項１記載の発明によれば、
水を還元槽に入れて還元電極１９に還元電位を印加し、電気分解処理をして還元水とする水溶性切削・研削液の生成方法において、前記還元電極に印加するパルス電圧幅を、還元する水の性質に応じて調整するようにしたので、電気分解処理後の還元電位を、水質の如何に拘わらず可能な限り長時間保持することができ、殺菌と、優れた機械加工性能を保持した水溶性切削・研削液を得ることができる。
【００１４】
請求項２記載の発明によれば、
還元する水の性質としての導電率が高いほど還元電極に印加するパルス電圧幅を小さくしたので、導電率の高い水でも、従来よりも約３倍の電気分解処理後の還元電位を保持することができる。
【００１５】
請求項３記載の発明によれば、
還元する水の性質としての全硬度が高いほど還元電極に印加するパルス電圧幅を小さくしたので、Ｃａイオン、Ｍｇイオンを含む硬度の高い水であっても軟水化の処理をすることなく従来よりも約３倍の電気分解処理後の還元電位を保持することができる。
【００１６】
請求項４記載の発明によれば、
還元する水の性質としての導電率又は全硬度の高さに反比例して還元電極に印加するパルス電圧幅を小さくして、還元電位に到達する時間を軟水とほぼ同程度に延ばすことができ、殺菌と、優れた機械加工性能を保持した水溶性切削・研削液を得ることができる。
【００１７】
請求項５記載の発明によれば、
水を還元槽に入れて還元電極に還元電位を印加し、電気分解処理をして還元水とする水溶性切削・研削液の生成装置において、
前記還元電極に印加するパルス電圧を得るためのパルス信号を発振するＰＷＭ発振回路と、
このＰＷＭ発振回路に接続され、還元する水の性質としての導電率又は全硬度の高さに反比例して還元電極に印加するパルス電圧幅を小さくして、所定の還元電位に到達する時間を延ばすためのデータを記憶したメモリと、
このＰＷＭ発振回路で発生したパルス信号を、対をなす前記還元電極に印加するために波形整形する波形整形回路と
を具備したので、メモリに、還元する水の性質としての導電率又は全硬度の高さの異なるデータを記録しておくことにより、電気分解処理の際に水質データを入力するだけで、電気分解処理後の還元電位を、可能な限り長時間保持して殺菌と、優れた機械加工性能を保持した水溶性切削・研削液を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明による水溶性切削・研削液生成方法及びその装置における水質（導電率又は全硬度）と印加するパルス幅の関係を表す特性図である。
【図２】３種類の水（フィリピン、タイ、日本）の還元電位の特性図である。
【図３】３種類の水（フィリピン、タイ、日本）の還元電位の実測値を表す図である。
【図４】本発明による水溶性切削・研削液生成方法及びその装置の実施例を示す電気回路ブロック図である。
【図５】図４において、ＰＷＭ発振回路１０でパルス幅を制御したときの各部の出力波形図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明は、
水を還元槽１８に入れて還元電極１９に還元電位を印加し、電気分解処理をして還元水とする水溶性切削・研削液の生成方法において、前記還元電極１９に印加するパルス電圧幅を、還元する水の性質に応じて調整する。
還元する水の性質としての導電率が高さに応じて還元電極１９に印加するパルス電圧幅を小さくする。
また、還元する水の性質としての全硬度が高さに応じて還元電極１９に印加するパルス電圧幅を小さくする。
より具体的には、還元する水の性質としての導電率又は全硬度の高さに反比例して還元電極１９に印加するパルス電圧幅を小さくして、所定の還元電位に到達する時間を延ばすようにする。
【００２０】
水を還元槽１８に入れて還元電極１９に還元電位を印加し、電気分解処理をして還元水とする水溶性切削・研削液の生成装置は、
前記還元電極１９に印加するパルス電圧を得るためのパルス信号を発振するＰＷＭ発振回路１０と、
このＰＷＭ発振回路１０に接続され、還元する水の性質としての導電率又は全硬度の高さに反比例して還元電極１９に印加するパルス電圧幅を小さくして、所定の還元電位に到達する時間を延ばすためのデータを記憶したメモリ２１と、
このＰＷＭ発振回路１０で発生したパルス信号を、対をなす前記還元電極１９に印加するために波形整形する波形整形回路１１と
を具備したものとする。
【実施例１】
【００２１】
図４において、本発明の水溶性切削・研削液の生成方法を実現するための装置は、ＰＷＭ（パルス幅制御）発振回路１０と、波形整形回路１１と、駆動回路１２と、重畳直流電源１３と、駆動直流電源１４と、電流検出回路１５と、増幅回路１６と、切換え回路１７と、還元槽１８と、メモリ２１とからなる。
【００２２】
前記ＰＷＭ発振回路１０は、図５（ａ）に示すようなパルス（脈流）信号を発振し、発振周波数ｆは、５ｋＨｚ〜３０ｋＨｚの範囲で調整でき、かつ、オン、オフのデューティ比ｄは、０から１００％の範囲で調整できるものとする。また、このＰＷＭ発振回路１０に接続されたメモリ２１には、各種、各地、各国の水の水質データが記録されている。この水質データには、導電率データ、全硬度データ（Ｃａイオン濃度とＭｇイオン濃度に基づくデータ）、その他金属イオン濃度等を含み、これらのデータに基づき、図１における特性図からパルス幅を制御する信号が前記ＰＷＭ発振回路１０に出力される。
前記波形整形回路１１は、図５（ｂ）に示すように、前記ＰＷＭ発振回路１０のパルス信号を奇数番目のパルス信号ｂ−１と偶数番目のパルス信号ｂ−２に分離する。
前記重畳直流電源１３は、パルス信号に重畳するための略フラットな直流電圧ｖ１を出力する。
前記駆動直流電源１４は、パルス信号のピーク電圧ｖ１を制御する。
前記駆動回路１２は、駆動直流電源１４で設定したパルス電圧ｖ１に重畳直流電源１３で設定した略フラットな直流電圧ｖ２を重畳して、図５（ｃ）のｃ−１とｃ−２に示すように、互いに１８０度の位相のずれた信号として出力する。
【００２３】
前記還元槽１８は、２個を１対とする還元電極１９が互いに対峙して設けられ、これらの還元電極１９の間にコモン電極２０が設けられる。これらの還元電極１９は、２個１対に限られず、多数個を対としたものであってもよい。
前記駆動回路１２のコモン端子ｃ−０と前記コモン電極２０の間に抵抗などからなる電流検出回路１５が挿入され、この電流検出回路１５の両端に、増幅回路１６が接続され、この増幅回路１６の出力側には、切換え回路１７を介して前記ＰＷＭ発振回路１０と、前記重畳直流電源１３と、前記駆動直流電源１４が選択的に接続され、前記メモリ２１の信号に基づき切換え回路１７により、デューティ比ｄと、電圧値ｖ２と、電圧値ｖ１を選択的に切換える。
【００２４】
まず、フィリピンの水（Ａ）と、タイの水（Ｂ）と、日本の水道水（Ｃ）の特性を調べるために、これらの水の水質の違いに拘わらず、それぞれを還元槽１８に水を入れてすべて同一条件で電気分解を開始する。
具体的には、還元槽１８に２５７リットルの入れ、回路のスイッチを入れて７Ａの電流を流して電気分解を開始する。
ＰＷＭ発振回路１０は、例えば、１０ｋＨｚで、デューティ比８０％のパルス信号を出力するものとする。このパルス信号は、波形整形回路１１にて図５（ｂ）の奇数番目のパルス信号ｂ−１と偶数番目のパルス信号ｂ−２に分離され、駆動回路１２に送られる。パルス電圧の印加は、水に浸透性と親和性を付加するためである。
前記重畳直流電源１３では、１０〜２４Ｖの略フラットな直流電圧ｖ２を設定し、駆動回路１２へ送る。
前記駆動直流電源１４は、前記パルス信号に直流電圧ｖ２を重畳したときのピーク値ｖ１が４８Ｖとなるように設定して駆動回路１２に送る。
この駆動回路１２のパルス信号に略フラットな直流電圧１０〜２４Ｖを重畳した図５（ｃ）のｃ−１とｃ−２に示す電圧が２つの還元電極１９間に印加される。
【００２５】
還元槽１８内の水溶性切削・研削液に、パルス電圧に略フラットな直流電圧１０〜２４Ｖを重畳した電圧が印加されたときの酸化還元電位の経時的変化を測定すると、フィリピンの水（Ａ）、タイの水（Ｂ）、日本の水道水（Ｃ）は、図３に示すデータと図２に示す折れ線グラフのように、フィリピンの水（Ａ１）、タイの水（Ｂ１）、日本の水道水（Ｃ）の特性曲線が得られた。
具体的には、フィリピンの水（Ａ）の特性曲線（Ａ１）は、初期値が＋２１６．０ｍＶからマイナス方向に向かい、水溶性切削・研削液として必要な−２５０．０ｍＶに達するまで約５０分であった。その後、電気分解処理を停止すると、特性線（Ａ１）に示すように約９時間で、水溶性切削・研削液として望まれる−１７０ｍＶに戻り、さらに約３０時間で０ｍＶに戻った。
【００２６】
タイの水（Ｂ）の特性曲線（Ｂ１）は、初期値が＋１４７．０ｍＶからマイナス方向に向かい、水溶性切削・研削液として必要な−２５０．０ｍＶに達するまで約８０分であった。その後、電気分解処理を停止すると、特性線（Ｂ１）に示すように約２５時間で、水溶性切削・研削液として望まれる−１７０ｍＶに戻り、さらに約４０時間で０ｍＶに戻った。
【００２７】
これに対し、日本の水（Ｃ）は、初期値（＋５２１.０ｍＶ）から水溶性切削・研削液として必要な−２５０ｍＶに達するまでは、特性線（Ｃ）に示すように約１２０分であった。その後、電気分解処理を停止すると、特性線（Ｃ２）に示すように、水溶性切削・研削液として望まれる−１７０ｍＶを約６５時間継続し、さらに約１９５時間で０ｍＶに戻った。
【００２８】
次に本発明の作用を説明する。
以上のような原因は、フィリピンの水（Ａ）とタイの水（Ｂ）が、水質、すなわち、導電率又は全硬度が日本の水より高いため、短時間で−２５０ｍＶに達し、電気分解処理を停止すると、急速に元の電位に戻り、水溶性切削・研削液として望まれる−１７０ｍＶを持続することができないということが判明した。
そこで、水溶性切削・研削液として望まれる還元電位を−２５０ｍＶ付近に持続させるためには、還元電位を−２５０ｍＶ付近まで達する電気分解処理時間を長くすれば、それに応じて水溶性切削・研削液として望まれる還元電位を持続させることができることを見出した。
【００２９】
フィリピンの水（Ａ）とタイの水（Ｂ）は、水質、すなわち、導電率又は全硬度が日本の水より高いため、短時間で−２５０ｍＶに達するが、電気分解処理を停止すると、急速に元の電位に戻り、水溶性切削・研削液として望まれる−１７０ｍＶを所定時間（例えば、４０時間以上）持続することができないということが判明した。
そこで、種々実験を重ねた結果、図１に示すように、導電率（又は全硬度）Ｘと印加するパルス幅Ｙとは、次式のように、略反比例し、このパルス幅Ｙの電位を印加することで、水溶性切削・研削液として望まれる還元電位（例えば、−２５０ｍＶ）までに達する電気分解処理時間をできるだけ長い時間（例えば、日本の水と同程度の１２０分）をかけることで、水溶性切削・研削液として望まれる還元電位を従来の数倍に延長できることを発見した。
ＸＹ＝Ｃ１（導電率のとき約８０（１±０．２））又は
ＸＹ＝Ｃ２（全硬度のとき約２０（１±０．２））
となる。
なお、水の性質は、導電率又は全硬度だけでは、正確に表されないので、定数Ｃ１又はＣ２を（１±０．２）とした。
【００３０】
この式に基づき、フィリピンの水（Ａ）は、導電率がＸ＝４０８(μ/cm)であるからＰＷＭ発振回路１０で制御してＹ＝約２０％のパルス幅の電位を印加する。全硬度の場合もほぼ同様である。
また、この式に基づき、タイの水（Ｂ）は、導電率がＸ＝３４５(μ/cm)であるからＰＷＭ発振回路１０で制御してＹ＝約２３％のパルス幅の電位を印加する。全硬度の場合もほぼ同様である。
【００３１】
これらの条件に基づき計測したフィリピンの水（Ａ）とタイの水（Ｂ）についてのデータ（図３）と特性曲線（図２）は、それぞれ特性線（Ａ２：太い１点鎖線）と（Ｂ２：太い点線）で表される。
図２及び図３から明らかなように、パルス幅調整後のフィリピンの水の特性線（Ａ２）では、水溶性切削・研削液として必要な−２５０．０ｍＶに達するまで時間が約１１０分に延長され、その後、電気分解処理を停止してから、約４０時間で、水溶性切削・研削液として望まれる−１７０ｍＶに戻り、さらに約９５時間で０ｍＶに戻り、従来の約３倍の時間延長となった。
また、パルス幅調整後のタイの水の特性線（Ｂ２）では、水溶性切削・研削液として必要な−２５０．０ｍＶに達するまで時間が約１２０分に延長され、その後、電気分解処理を停止してから、約４５時間で、水溶性切削・研削液として望まれる−１７０ｍＶに戻り、さらに約１２０時間で０ｍＶに戻り、この例でも従来の約３倍の時間延長となった。
【００３２】
前記実施例では、駆動電流を一定に保つために、パルス信号のデューティ比（パルス幅）のみで制御する方法としたが、（１）パルス信号のデューティ比（パルス幅）で制御する方法と重畳電圧ｖ２で制御する方法の組み合わせの方法、（２）パルス信号のデューティ比（パルス幅）で制御する方法とピーク電圧ｖ１で制御する方法の組み合わせの方法、（３）パルス信号のデューティ比（パルス幅）で制御する方法と重畳電圧ｖ２で制御する方法とピーク電圧ｖ１で制御する方法の３つの組み合わせの方法とすることもできる。
【００３３】
前記実施例では、水は、フィリピンの水（Ａ）、タイの水（Ｂ）、日本の水道水（Ｃ）としたが、水質（導電率又は全硬度）の異なるあらゆる水、例えば、現在切削・研削に使用されているクーラント液、現に使用されている水溶性切削・研削液（水に、エマルジョン、ソリュブル、ソリューション、シンセティックなどを混合希釈したもの）であっても利用できる。
【符号の説明】
【００３４】
１０…ＰＷＭ発振回路、１１…波形整形回路、１２…駆動回路、１３…重畳直流電源、１４…駆動直流電源、１５…電流検出回路、１６…増幅回路、１７…切換え回路、１８…還元槽、１９…還元電極、２０…コモン電極、２１…メモリ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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