(57)【要約】【課題】インクジェット法で有機ＥＬ発光装置における封止材を作製するために適しており、かつ封止材中の水分に起因する有機ＥＬ発光装置の不良を抑制できる紫外線硬化性樹脂組成物を提供する。【解決手段】紫外線硬化性樹脂組成物は、ポリエチレングリコールジメタクリレートとポリエチレングリコールジアクリレートとのうち少なくとも一方からなり、２３０以上４３０以下の数平均分子量を有する第一アクリル成分（Ａ）、光重合開始剤（Ｄ）、平均粒径２００ｎｍ以下の吸湿剤（Ｅ）、及び塩基性の極性官能基と酸性の極性官能基とのうち少なくとも一方を有する分散剤（Ｆ）を含有する。分散剤（Ｆ）は、沸点が２００℃以上であり、重量平均分子量１０００以上のポリマーを含む。吸湿剤（Ｅ）１００質量部に対する分散剤（Ｆ）の量は、５質量部以上６０質量部以下である。紫外線硬化性樹脂組成物は２５℃において液状であり、インクジェット法で成形される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエチレングリコールジメタクリレートとポリエチレングリコールジアクリレートとのうち少なくとも一方からなり、２３０以上４３０以下の数平均分子量を有する第一アクリル成分（Ａ）、
光重合開始剤（Ｄ）、
平均粒径２００ｎｍ以下の吸湿剤（Ｅ）、及び
塩基性の極性官能基と酸性の極性官能基とのうち少なくとも一方を有する分散剤（Ｆ）を含有し、
前記分散剤（Ｆ）は、沸点が２００℃以上であり、重量平均分子量１０００以上のポリマーを含み、
前記吸湿剤（Ｅ）１００質量部に対する前記分散剤（Ｆ）の量は、５質量部以上６０質量部以下であり
２５℃において液状であり、
インクジェット法で成形される、
紫外線硬化性樹脂組成物。
【請求項２】
前記第一アクリル成分（Ａ）、前記第二アクリル成分（Ｂ）、前記展着剤（Ｃ）及び前記光重合開始剤（Ｄ）の合計量に対する、前記第一アクリル成分（Ａ）の百分比は、７５質量％以上９４質量％以下であり、
前記合計量に対する、前記第二アクリル成分（Ｂ）の百分比は、４質量％以上１０質量％以下であり、
前記合計量に対する、前記展着剤（Ｃ）の百分比は、１質量％以上１５質量％以下であり、
前記合計量に対する、前記光重合開始剤（Ｄ）の百分比は、１質量％以上８質量％以下である、
請求項１に記載の紫外線硬化性樹脂組成物。
【請求項３】
前記展着剤が、アルコキシ化脂肪族ジアクリレート及びアルコキシ化脂肪族ジメタクリレートからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する、
請求項１又は２に記載の紫外線硬化性樹脂組成物。
【請求項４】
前記光重合開始剤（Ｄ）は、アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤を含有する、
請求項１から３のいずれか一項に記載の紫外線硬化性樹脂組成物。
【請求項５】
前記吸湿剤（Ｅ）はゼオライト粒子を含有する、
請求項１から４のいずれか一項に記載の紫外線硬化性樹脂組成物。
【請求項６】
溶剤を含有しない、
請求項１から５のいずれか一項に記載の紫外線硬化性樹脂組成物。
【請求項７】
前記紫外線硬化性樹脂組成物に対する、前記吸湿剤（Ｅ）の割合は、１質量％以上２０質量％以下である、
請求項１から６のいずれか一項に記載の紫外線硬化性樹脂組成物。
【請求項８】
有機ＥＬ素子のための封止材を作製するために用いられる、
請求項１から７のいずれか一項に記載の紫外線硬化性樹脂組成物。
【請求項９】
有機ＥＬ素子と前記有機ＥＬ素子を覆う封止材とを備える有機ＥＬ発光装置を製造する方法であり、
請求項１から８のいずれか一項に記載の紫外線硬化性樹脂組成物をインクジェット法で成形してから、前記紫外線硬化性樹脂組成物に紫外線を照射して硬化させることで前記封止材を作製することを含む、
有機ＥＬ発光装置の製造方法。
【請求項１０】
有機ＥＬ素子と、前記有機ＥＬ素子を覆う封止材とを備え、前記封止材は、請求項１から８のいずれか一項に記載の紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物である、
有機ＥＬ発光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、紫外線硬化性樹脂組成物、有機ＥＬ発光装置の製造方法及び有機ＥＬ発光装置に関し、詳しくは、有機ＥＬ発光装置における封止材を作製するために好適な紫外線硬化性樹脂組成物、この紫外線硬化性樹脂組成物を用いる有機ＥＬ発光装置の製造方法、及びこの封止材を備える有機ＥＬ発光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ発光装置は、照明、ディスプレイなどに適用されており、今後の普及が期待されている。
【０００３】
有機ＥＬ発光装置のうち、トップエミッションタイプと呼ばれるものは、例えば支持基板上に有機ＥＬ素子を配置し、支持基板に対向するように透明基板を配置し、支持基板と透明基板との間に透明な封止材を充填して構成される。この場合、有機ＥＬ素子が発する光は封止材及び透明基板を通過して外部へ出射する。
【０００４】
有機ＥＬ発光装置における封止材を、インクジェット法で作製することが提案されている。例えば特許文献１には、７５〜９５ｗｔ．％のポリエチレングリコールジメタクリレートモノマー等と、４〜１０ｗｔ．％のペンタエリスリトールテトラアクリレート等と、２２℃で約１４から約１８ｃｐｓの範囲内の粘度及び２２℃で約３５から約３９ダイン／ｃｍの範囲内の表面張力を有する１〜１５ｗｔ．％の展着改質剤とを含むインク組成物を用い、インクジェット法で封止材を作製することが、開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特表２０１７−５３１０４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に開示されているポリエチレングリコールジメタクリレートモノマー等の化合物は、吸湿しやすい。その理由は、ポリエチレングリコールジメタクリレートモノマー等の化合物がエーテル結合を有するために水分子と水素結合を形成しやすいからであると、推察される。そのため、ポリエチレングリコールジメタクリレートモノマー等を含有するインク組成物から作製された封止材は、水分を含みやすい。封止材中の水分は、有機ＥＬ素子を劣化させてダークスポットと呼ばれる不良を発生させてしまう。インク組成物中の水分を低減させるためにインク組成物を真空乾燥したとしても、インク組成物中の水分を十分に低減させることは難しい。
【０００７】
本発明の課題は、インクジェット法で有機ＥＬ発光装置における封止材を作製するために適しており、かつ封止材中の水分に起因する有機ＥＬ発光装置の不良を抑制できる紫外線硬化性樹脂組成物、この紫外線硬化性樹脂組成物を用いる有機ＥＬ発光装置の製造方法、及びこの紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる封止材を備える有機ＥＬ発光装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様に係る紫外線硬化性樹脂組成物は、ポリエチレングリコールジメタクリレートとポリエチレングリコールジアクリレートとのうち少なくとも一方からなり、２３０以上４３０以下の数平均分子量を有する第一アクリル成分（Ａ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールテトラメタクリレートとのうち少なくとも一方からなる第二アクリル成分（Ｂ）、２２℃で１４ｍＰａ・ｓ以上１８ｍＰａ・ｓ以下の粘度、及び２２℃で３５ｍＮ／ｍ以上３９ｍＮ／ｍ以下の表面張力を有する展着剤（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）及び平均粒径２００ｎｍ以下の吸湿剤（Ｅ）を含有する。
【０００９】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ発光装置の製造方法は、有機ＥＬ素子と前記有機ＥＬ素子を覆う封止材とを備える有機ＥＬ発光装置を製造する方法であり、前記紫外線硬化性樹脂組成物をインクジェット法で成形してから、前記紫外線硬化性樹脂組成物に紫外線を照射して硬化させることで前記封止材を作製することを含む。
【００１０】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ発光装置は、有機ＥＬ素子と、前記有機ＥＬ素子を覆う封止材とを備え、前記封止材は、前記紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の一態様によれば、インクジェット法で有機ＥＬ発光装置における封止材を作製するために適しており、かつ封止材中の水分に起因する有機ＥＬ発光装置の不良を抑制できる紫外線硬化性樹脂組成物、この紫外線硬化性樹脂組成物を用いる有機ＥＬ発光装置の製造方法、及びこの紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる封止材を備える有機ＥＬ発光装置を、提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、有機ＥＬ発光装置の第一例の概略の断面図である。
【図２】図２は、有機ＥＬ発光装置の第二例の概略の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の一実施形態について説明する。
【００１４】
１．実施形態の概要
本実施形態に係る有機ＥＬ発光装置１は、有機ＥＬ素子４と、有機ＥＬ素子４を覆う封止材５とを備える。
【００１５】
有機ＥＬ発光装置１の構造の第一例を、図１を参照して説明する。この有機ＥＬ発光装置１は、トップエミッションタイプである。有機ＥＬ発光装置１は、支持基板２、支持基板２と間隔をあけて対向する透明基板３、支持基板２の透明基板３と対向する面の上にある有機ＥＬ素子４、及び支持基板２と透明基板３との間に充填されている封止材５とを備える。また、図１に示す例では、有機ＥＬ発光装置１は、支持基板２の透明基板３と対向する面及び有機ＥＬ素子４を覆うパッシベーション層６を備える。
【００１６】
支持基板２は、例えば樹脂材料から作製されるが、これに限定されない。透明基板３は透光性を有する材料から作製される。透明基板３は、例えば、ガラス製基板又は透明樹脂製基板である。有機ＥＬ素子４は有機発光ダイオードとも呼ばれる。有機ＥＬ素子４は、例えば一対の電極と、電極間にある有機発光層とを備える。パッシベーション層６は窒化ケイ素又は酸化ケイ素から作製されることが好ましい。
【００１７】
有機ＥＬ発光装置１の構造の第二例を、図２を参照して説明する。なお、図１に示す第一例と共通する要素については、図１と同じ符号を付して、詳細な説明を適宜省略する。図２に示す有機ＥＬ発光装置１も、トップエミッションタイプである。有機ＥＬ発光装置１は、支持基板２、支持基板２と間隔をあけて対向する透明基板３、支持基板２の透明基板３と対向する面の上にある有機ＥＬ素子４、及び有機ＥＬ素子４を覆う封止材５を備える。
【００１８】
有機ＥＬ素子４は、第一例の場合と同様、例えば一対の電極４１、４３と、電極４１、４３間にある有機発光層４２とを備える。有機発光層４２は、例えば正孔注入層４２１、正孔輸送層４２２、発光層４２３及び電子輸送層４２４を備え、これらの層は前記の順番に積層している。
【００１９】
有機ＥＬ発光装置１は複数の有機ＥＬ素子４を備え、かつ複数の有機ＥＬ素子４が、支持基板２上でアレイ９（以下素子アレイ９という）を構成している。素子アレイ９は、隔壁７も備える。隔壁７は、支持基板２上にあり、隣合う二つの有機ＥＬ素子４の間を仕切っている。隔壁７は、例えば感光性の樹脂材料をフォトグラフィ法で成形することで作製される。素子アレイ９は、隣合う有機ＥＬ素子４の電極４３及び電子輸送層４２４同士を電気的に接続する接続配線８も備える。接続配線８は、隔壁７上に設けられている。
【００２０】
有機ＥＬ発光装置１は、有機ＥＬ素子４を覆うパッシベーション層６も備える。パッシベーション層６は窒化ケイ素又は酸化ケイ素から作製されることが好ましい。パッシベーション層６は、第一パッシベーション層６１と第二パッシベーション層６２とを含む。第一パッシベーション層６１は素子アレイ９に直接接触した状態で、素子アレイ９を覆うことで、有機ＥＬ素子４を覆っている。第二パッシベーション層６２は、第一パッシベーション層６１に対して、素子アレイ９とは反対側の位置に配置され、かつ第二パッシベーション層６２と第一パッシベーション層６１との間には間隔があけられている。第一パッシベーション層６１と第二パッシベーション層６２との間に、封止材５が充填されている。すなわち、有機ＥＬ素子４と、有機ＥＬ素子４を覆う封止材５との間に、第一パッシベーション層６１が介在している。
【００２１】
さらに、第二パッシベーション層６２と透明基板３との間に、第二封止材５２が充填されている。第二封止材５２は、例えば透明な樹脂材料から作製される。第二封止材５２の材質は特に制限されない。第二封止材５２の材質は、封止材５と同じであっても、異なっていてもよい。
【００２２】
封止材５を、本実施形態に係る紫外線硬化性樹脂組成物から作製することができる。すなわち、紫外線硬化性樹脂組成物は、有機ＥＬ素子４のための封止材５を作製するために用いられる。更に言い換えれば、紫外線硬化性樹脂組成物は、好ましくは封止材作製用の組成物、有機ＥＬ素子封止用の組成物、あるいは有機ＥＬ発光装置製造用の組成物である。
【００２３】
２．紫外線硬化性樹脂組成物
紫外線硬化性樹脂組成物（以下、組成物（Ｘ）ともいう）について説明する。
【００２４】
組成物（Ｘ）は、第一アクリル成分（Ａ）、第二アクリル成分（Ｂ）、展着剤（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）及び吸湿剤（Ｅ）を含有する。第一アクリル成分（Ａ）は、ポリエチレングリコールジメタクリレートとポリエチレングリコールジアクリレートとのうち少なくとも一方からなり、２３０以上４３０以下の数平均分子量を有する。第二アクリル成分（Ｂ）は、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールテトラメタクリレートとのうち少なくとも一方からなる。展着剤（Ｃ）は、２２℃で１４ｍＰａ・ｓ以上１８ｍＰａ・ｓ以下の粘度、及び２２℃で３５ｍＮ／ｍ以上３９ｍＮ／ｍ以下の表面張力を有する。吸湿剤（Ｅ）の平均粒径は２００ｎｍ以下である。
【００２５】
組成物（Ｘ）をインクジェット法で成形してから、組成物（Ｘ）に紫外線を照射すると、光重合開始剤（Ｂ）によって第一アクリル成分（Ａ）、第二アクリル成分（Ｂ）が硬化することで、封止材を作製できる。組成物（Ｘ）は、吸湿剤（Ｅ）を含有するため、組成物（Ｘ）が水分を含んでいても、水分は吸湿剤（Ｅ）に吸着されやすい。また、吸湿剤（Ｅ）の平均粒径が２００ｎｍ以下であるため、吸湿剤（Ｅ）を含有するにもかかわらず、封止材は高い透明性を有することができる。
【００２６】
なお、組成物（Ｘ）をインクジェット法以外の方法で成形して封止材を作製することもできる。
【００２７】
以下、組成物（Ｘ）の成分について更に詳しく説明する。
【００２８】
第一アクリル成分（Ａ）は、上記のとおり、ポリエチレングリコールジメタクリレートとポリエチレングリコールジアクリレートとのうち少なくとも一方からなる。さらに、第一アクリル成分（Ａ）は、２３０以上４３０以下の数平均分子量を有する。
【００２９】
ポリエチレングリコールジメタクリレートは、例えば下記式（１）に示すポリエチレングリコール２００ジメタクリレートを含む。式（１）中のｎは平均４である。ポリエチレングリコールジアクリレートは、例えば下記式（２）に示すポリエチレングリコール２００ジアクリレートを含む。式（２）中のｎは平均４である。
【００３０】
ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＯ−（ＯＣＨ2ＣＨ2）n−ＯＣＯ−Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ2  …（１）
ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−（ＯＣＨ2ＣＨ2）n−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ2  …（２）
第一アクリル成分（Ａ）は、組成物（Ｘ）中の主たる硬化性成分として機能できる。第一アクリル成分（Ａ）、第二アクリル成分（Ｂ）、展着剤（Ｃ）及び光重合開始剤（Ｄ）の合計量に対する、第一アクリル成分（Ａ）の量の百分比は、７５質量％以上９４質量％以下であることが好ましい。
【００３１】
第二アクリル成分（Ｂ）は、上記のとおり、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールテトラメタクリレートとのうち少なくとも一方からなる。
【００３２】
第二アクリル成分（Ｂ）は、組成物（Ｘ）中で、架橋剤として機能できる。第一アクリル成分（Ａ）、第二アクリル成分（Ｂ）、展着剤（Ｃ）及び光重合開始剤（Ｄ）の合計量に対する、第二アクリル成分（Ｂ）の量の百分比は、４質量％以上１０質量％以下であることが好ましい。
【００３３】
展着剤（Ｃ）は、組成物（Ｘ）の展着特性を調整できる。展着剤（Ｃ）は、成形温度において、第一アクリル成分（Ａ）よりも低い表面張力を有する液体であることが好ましい。成形温度とは、組成物（Ｘ）をインクジェット法などの方法で成形する際の組成物（Ｘ）の温度である。
【００３４】
展着剤（Ｃ）は、２２℃で１４ｍＰａ・ｓ以上１８ｍＰａ・ｓ以下の粘度、及び２２℃で３５ｍＮ／ｍ以上３９ｍＮ／ｍ以下の表面張力を有する。展着剤（Ｃ）の粘度はレオメータ（例えばＤＶ−Ｉ  Ｐｒｉｍｅ  Ｂｒｏｏｋｆｉｅｌｄレオメータ）で、回転速度１００ｒｐｍの条件で測定される。展着剤（Ｃ）の表面張力は、例えば（ＳＩＴＡ泡圧張力計）を使用し測定される。
【００３５】
展着剤（Ｃ）は、アクリレート系化合物とメタクリレート系化合物とからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有することが好ましい。例えば展着剤（Ｃ）は、多官能性（例えば二官能性）アクリレートモノマー、多官能性（例えば二官能性）アクリレートオリゴマー、多官能性（例えば二官能性）メタクリレートモノマー、及び多官能性（例えば二官能性）メタクリレートオリゴマーからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含む。この場合、展着剤（Ｃ）は、第一アクリル化合物及び第二アクリル化合物と良好な親和性を有することができるため、組成物（Ｘ）中での展着剤（Ｃ）の沈殿、分離等が生じにくい。さらに、組成物（Ｘ）が硬化する際は、展着剤（Ｃ）は架橋剤として働くこともでき、そのため封止材中に展着剤（Ｃ）がモノマー状態で残留しにくい。
【００３６】
第一アクリル成分（Ａ）、第二アクリル成分（Ｂ）、展着剤（Ｃ）及び光重合開始剤（Ｄ）の合計量に対する、展着剤（Ｃ）の量の百分比は、１質量％以上１５質量％以下であることが好ましい。
【００３７】
展着剤（Ｃ）は、特にアルコキシ化脂肪族ジアクリレート及びアルコキシ化脂肪族ジメタクリレートからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有することが好ましい。
【００３８】
アルコキシ化脂肪族ジアクリレートは、例えば下記式（３）で表される。式（３）において、ｎは３から１２までの数である。アルコキシ化脂肪族ジメタクリレートは、例えば下記式（４）で表される。式（４）において、ｎは３から１２までの数である。
【００３９】
ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯＯ−（ＣＨ2）n−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ2  …（３）
ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＯＯ−（ＣＨ2）n−ＯＣＯ−Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ2  …（４）
アルコキシ化脂肪族ジアクリレートが含有できる成分の具体例は、サートマー社製の品番ＳＲ−２３８Ｂ（１，６ヘキサンジオールジアクリレート。２５℃での表面張力約３５ｍＮ／ｍ）及びサートマー社製の品番ＳＲ−９２０９Ａ（２２℃での表面張力約３５ｍＮ／ｍ、２２℃での粘度約２５ｍＮ／ｍ）を含む。
【００４０】
光重合開始剤（Ｄ）は、紫外線が照射されるとラジカル種を生じさせる化合物であれば、特に制限されない。光重合開始剤（Ｄ）は、例えば芳香族ケトン類、アシルフォスフィンオキサイド化合物、芳香族オニウム塩化合物、有機過酸化物、チオ化合物（チオキサントン化合物、チオフェニル基含有化合物など）、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル化合物、ボレート化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物、活性エステル化合物、炭素ハロゲン結合を有する化合物、及びアルキルアミン化合物からなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有する。
【００４１】
第一アクリル成分（Ａ）、第二アクリル成分（Ｂ）、展着剤（Ｃ）及び光重合開始剤（Ｄ）の合計量に対する、光重合開始剤（Ｄ）の量の百分比は、１質量％以上８質量％以下であることが好ましい。
【００４２】
光重合開始剤（Ｄ）は、特にアシルホスフィンオキシド系光重合開始剤を含有することが好ましい。アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤の例は、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキシド及び２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィネートを含む。アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤の製品名の例は、ＢＡＳＦ社製のＩｒｇａｃｕｒｅＴＰＯ、ＩｒｇａｃｕｒｅＴＰＯ−Ｌ及びＩｒｇａｃｕｒｅ８１９を含む。
【００４３】
光重合開始剤（Ｄ）は、光重合開始剤（Ｄ）の一部として増感剤を含有してもよい。増感剤は、光重合開始剤（Ｄ）のラジカル生成反応を促進させて、ラジカル重合の反応性を向上させ、かつ架橋密度を向上させうる。増感剤は、例えば９，１０−ジブトキシアントラセン、９−ヒドロキシメチルアントラセン、チオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、アントラキノン、１，２−ジヒドロキシアントラキノン、２−エチルアントラキノン、１，４−ジエトキシナフタレン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジエチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノベンゾフェノン、ｐ−ジエチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ｐ−ジメチルアミノベンズアルデヒド、及びｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒドからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含有できる。
【００４４】
組成物（Ｘ）中の増感剤の含有量は、例えば組成物（Ｘ）の固形分１００質量部に対して、０．１質量部以上５質量部以下であり、好ましくは０．１質量部以上３質量部以下である。増感剤の含有量がこのような範囲であれば、空気中で組成物（Ｘ）を硬化させることができ、組成物（Ｘ）の硬化を窒素雰囲気等の不活性雰囲気下で行う必要がなくなる。
【００４５】
組成物（Ｘ）は、光重合開始剤（Ｄ）に加えて、重合促進剤を含有してもよい。重合促進剤は、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸−２−エチルヘキシル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸メチル、安息香酸−２−ジメチルアミノエチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸ブトキシエチルといったアミン化合物を含有する。
【００４６】
吸湿剤（Ｅ）について説明する。吸湿剤（Ｅ）は、吸湿性を有する無機粒子であることが好ましく、例えばゼオライト粒子、シリカゲル粒子、塩化カルシウム粒子、及び酸化チタンナノチューブ粒子からなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有することが好ましい。吸湿剤（Ｅ）がゼオライト粒子を含有することが特に好ましい。
【００４７】
平均粒径２００ｎｍ以下のゼオライト粒子は、例えば一般的な工業的用ゼオライトを粉砕することで製造できる。ゼオライト粒子を製造するに当たって、ゼオライトを粉砕してから水熱合成などによって結晶化させてもよく、この場合、ゼオライト粒子は特に高い吸湿性を有することができる。このようなゼオライト粒子の製造方法は、特開２０１６−６９２６６号公報、特開２０１３−０４９６０２号公報などにより公知である。
【００４８】
ゼオライト粒子は、ナトリウムイオンを含有するゼオライトから製造されることが好ましく、ナトリウムイオンのうちＡ型ゼオライト、Ｘ型ゼオライト及びＹ型ゼオライトからなる群から選択される少なくとも一種の材料から製造されることがより好ましい。ゼオライト粒子がＡ型ゼオライトのうち４Ａ型ゼオライトから製造されることが特に好ましい。これらの場合、ゼオライト粒子は、水分の吸着に好適な結晶構造を有する。
【００４９】
平均粒径２００ｎｍ以下のゼオライト粒子の製造方法の一具体例を示す。まず、原料であるゼオライト粉を準備し、このゼオライト粉を物理粉砕する。例えばゼオライト粉を水と混合してスラリーを調製し、このスラリーをビーズミル粉砕機にかけることで、ゼオライト粉を物理粉砕できる。
【００５０】
続いて、水熱合成によりゼオライト粉を結晶化させる。例えば物理粉砕後のゼオライト粉を含むスラリーを、オートクレーブで加熱することで、水熱合成を行うことができる。水熱合成の条件は、例えば加熱温度１５０〜２００℃の範囲内、加熱時間１５〜２４時間の範囲内である。
【００５１】
続いて、ゼオライト粉を乾燥する。乾燥温度は例えば１５０〜２００℃の範囲内であり、乾燥時間は例えば２〜３時間の範囲内である。続いて、必要に応じ、乾燥後のゼオライト粉を乳鉢などを用いて解砕してから篩いにかけることで粒径を整える。
【００５２】
続いて、必要に応じ、ゼオライト粉にイオン交換処理を施す。特にゼオライト粉がＬＴＡなどのナトリウムを含むゼオライトである場合は、ゼオライト粉中のナトリウムをマグネシウムと交換するイオン交換処理を施すことが好ましい。
【００５３】
イオン交換処理は、例えばゼオライト粉を、マグネシウムイオンを含有する水溶液中に分散させて混合物を調製し、この混合物を加熱することで行われる。より具体的には、イオン交換処理は例えば次のように行われる。まずゼオライト粉を、塩化マグネシウム及び水と混合し、得られた混合物を加熱しながら撹拌する処理をする。この処理の間、撹拌を一時的に停止してから混合物の上澄みを捨て、続いて混合物に水を補充してから撹拌を再開するという操作を、適当な間隔をあけて複数回繰り返すことが好ましい。この処理における加熱温度は４０〜８０℃の範囲内、処理時間は６〜８時間の範囲内であることが好ましい。
【００５４】
イオン交換処理を施した場合、続いて、ゼオライト粉を乾燥する。乾燥温度は例えば１５０〜２００℃の範囲内であり、乾燥時間は例えば２〜３時間の範囲内である。続いて、必要に応じ、乾燥後のゼオライト粉を乳鉢などを用いて解砕してから篩いにかけることで粒径を整える。これにより、平均粒径２００ｎｍ以下のゼオライト粒子を得ることができる。
【００５５】
ゼオライト粉の結晶化を、シリケート及びアルカリ金属酸化物の存在下で行うこともできる。その場合の平均粒径２００ｎｍ以下のゼオライト粒子の製造方法の具体例を示す。まず、ゼオライト粉を準備する。ゼオライト粉は、ａＭ１2Ｏ・ｂＳｉＯ2・Ａｌ2Ｏ3・ｃＭｅの組成を有することが好ましい。Ｍ１はアルカリ金属、プロトン、又はアンモニウムイオン（ＮＨ4+）であり、Ｍｅはアルカリ土類金属であり、ａは０．０１〜１の範囲内の数であり、ｂは２０〜８０の範囲内の数であり、ｃは０〜１の範囲内の数である。ゼオライト粉は、ナトリウムイオンを含有するゼオライトを含むことが好ましく、ナトリウムイオンのうちＡ型ゼオライト、Ｘ型ゼオライト及びＹ型ゼオライトからなる群から選択される少なくとも一種の材料を含むことがより好ましい。ゼオライト粉がＡ型ゼオライトのうち４Ａ型ゼオライトを含むことが特に好ましい。このゼオライト粉を物理粉砕する。例えばゼオライト粉をビーズミル粉砕機にかけることで、ゼオライト粉を物理粉砕できる。
【００５６】
物理粉砕後のゼオライト粉を、Ｍ２2Ｏ、ＳｉＯ2及びＨ2Ｏを含有する溶液に分散させ
、スラリーを調製する。Ｍ２はアルカリ金属であり、好ましくはＫ又はＮａである。Ｍ２2Ｏ／Ｈ2Ｏのモル比は例えば０．００３〜０．０１の範囲内であり、ＳｉＯ2／Ｈ2Ｏのモル比は例えば０．００６〜０．０２５の範囲内である。ゼオライト粉の量は、例えば溶液１００ｍｌに対して０．５〜１０ｇである。
【００５７】
このスラリーをオートクレーブで加熱することで、ゼオライト粉の結晶化を行うことができる。その条件は、例えば加熱温度１００〜２３０℃の範囲内、加熱時間１〜２４時間の範囲内である。続いて、ゼオライト粉を洗浄してから乾燥させる。これにより、平均粒径２００ｎｍ以下のゼオライト粒子を得ることができる。
【００５８】
ゼオライト粒子のｐＨは７以上１０以下であることが好ましい。ゼオライト粒子のｐＨが７以上であると、ゼオライト粒子の結晶が破壊されにくくなり、そのためゼオライト粒子を含有する組成物（Ｘ）から作製された封止材が特に高い吸湿性を有することができる。また、ゼオライト粒子のｐＨが１０以下であると、組成物（Ｘ）を硬化させる場合にゼオライト粒子が硬化を阻害しにくい。
【００５９】
なお、ゼオライト粒子のｐＨは、イオン交換水９９．９５ｇにゼオライト粒子０．０５ｇを入れて得られた分散液を、９０℃で２４時間加熱してから、分散液の上澄みのｐＨをｐＨ測定器で測定することで得られる値である。ｐＨ測定器としては、例えば堀場製作所製のコンパクトｐＨメータ＜ＬＡＱＵＡｔｗｉｎ＞Ｂ−７１１を用いることができる。
【００６０】
ゼオライト粒子のｐＨが７以上１０以下であるためには、ゼオライト粒子が、カウンターカチオンとしてプロトンを有するＦＡＵ  Ｙ型のゼオライトからなることが好ましい。
【００６１】
ゼオライト粒子を作製する過程において、ゼオライトの水熱合成を行う場合に、ｐＨの調整のための処理を施してもよい。ｐＨの調整のための処理は、例えば水熱合成のために調製されたゼオライト粉を含むスラリーを加熱する前、スラリーの加熱中、又はスラリーの加熱後に行われる。ｐＨの調整は、例えばスラリーに酸を添加することで行われる。酸は、例えば塩酸、硫酸、硝酸といった無機酸と、ギ酸、酢酸、シュウ酸といった有機酸とからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。
【００６２】
吸湿剤（Ｅ）の平均粒径は、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。この平均粒径が２００ｎｍ以下であれば、硬化物は特に高い透明性を有することができる。また、この平均粒径が１０ｎｍ以上であれば、吸湿剤（Ｅ）の良好な吸湿性を維持できる。なお、この平均粒径は、動的光散乱法による測定結果から算出されるメディアン径、すなわち累積５０％径（Ｄ５０）である。なお、測定装置としては、マイクロトラック・ベル株式会社のナノトラックＮａｎｏｔｒａｃ  Ｗａｖｅシリーズを用いることができる。
【００６３】
吸湿剤（Ｅ）の平均粒径は、１５０ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であれば更に好ましく、７０ｎｍ以下であれば特に好ましい。また、吸湿剤（Ｅ）の平均粒径が２０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であればより好ましい。この場合、硬化物は、特に良好な透明性と吸湿性とを有することができる。
【００６４】
吸湿剤（Ｅ）の累積９０％径（Ｄ９０）が１００ｎｍ以下であることも好ましい。この場合、硬化物は特に高い透明性を有することができる。
【００６５】
組成物（Ｘ）の全量に対する吸湿剤（Ｅ）の割合は、１質量％以上２０質量％以下であることが好ましい。吸湿剤（Ｅ）の割合が１質量％以上であれば硬化物は特に高い吸湿性を有することができる。また、吸湿剤（Ｅ）の割合が２０質量％以下であれば組成物（Ｘ）の粘度を特に低減でき、組成物（Ｘ）がインクジェット法で塗布可能な程度の十分な低粘度を有することもできる。吸湿剤（Ｅ）の割合は、３質量％以上であれば更に好ましく、５質量％以上であれば特に好ましい。また、吸湿剤（Ｅ）の割合は、１５質量％以下であればより好ましく、１３質量％以下であれば特に好ましい。
【００６６】
組成物（Ｘ）は、吸湿剤（Ｅ）以外の無機充填材を更に含有してもよい。特に、組成物（Ｘ）は、ナノサイズの高屈折率粒子を含有することが好ましい。高屈折率粒子の例はジルコニア粒子を含む。組成物（Ｘ）が高屈折率粒子を含有すると、硬化物の良好な透明性を維持しながら、硬化物を高屈折率化することができる。そのため、硬化物を有機ＥＬ発光装置１における封止材５に適用した場合に、封止材５を透過して外部へ出射する光の取り出し効率を向上することができる。高屈折率粒子の平均粒径は、５〜３０ｎｍの範囲内であることが好ましく、１０〜２０ｎｍの範囲内であれば更に好ましい。
【００６７】
組成物（Ｘ）中の高屈折率粒子の割合は、硬化物が所望の屈折率を有するように適宜設計される。特に高屈折率粒子は、硬化物の屈折率が１．４５以上、１．５５未満の範囲内になるように組成物（Ｘ）に含有されることが好ましい。この場合、有機ＥＬ発光装置１の光の取り出し効率が特に向上する。
【００６８】
組成物（Ｘ）は、溶剤を含有しないことが好ましい。この場合、組成物（Ｘ）から硬化物を作製する際に組成物（Ｘ）を乾燥させて溶剤を揮発させるような必要がなくなる。
【００６９】
上述の成分を混合することで、組成物（Ｘ）を調製できる。組成物（Ｘ）は２５℃で液状であることが好ましい。
【００７０】
組成物（Ｘ）は、分散剤（Ｆ）を更に含有してもよい。分散剤（Ｆ）は、吸湿剤（Ｅ）に吸着しうる界面活性剤である。分散剤（Ｆ）は、例えば吸湿剤（Ｅ）の粒子に吸着しうる吸着基（アンカーともいう）と、吸着基が吸湿剤（Ｅ）の粒子に吸着することでこの粒子に付着する鎖状又は櫛形状の分子骨格であるテールとを、有する。分散剤（Ｆ）は、例えばテールがアクリル系の分子鎖であるアクリル系分散剤と、テールがウレタン系の分子鎖であるウレタン系分散剤と、テールがポリエステル系の分子鎖であるポリエステル系分散剤とからなら群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。
【００７１】
組成物（Ｘ）が分散剤（Ｆ）を含有すると、吸湿剤（Ｅ）を組成物（Ｘ）中及び硬化物中で良好に分散させることができる。このため、硬化物及び封止材５が吸湿剤（Ｅ）を含有するにもかかわらず、硬化物及び封止材５の透明性が吸湿剤（Ｅ）によって低下されにくい。また、分散剤（Ｆ）は、組成物（Ｘ）の保管中における吸湿剤（Ｅ）の凝集を効果的に抑制できる。そのため組成物（Ｘ）の保存安定性が吸湿剤（Ｅ）によって低下されにくい。
【００７２】
さらに、硬化物と窒化ケイ素及び酸化ケイ素との間の密着性が分散剤（Ｆ）によって低下されにくい。これは、分散剤（Ｆ）が前記のように吸湿剤（Ｅ）に吸着しやすいため、分散剤（Ｆ）が硬化物と窒化ケイ素及び酸化ケイ素との間の界面に影響を与えにくいからであると、考えられる。このため、封止材５はガラス製の基材との高い密着性を有することができる。また、窒化ケイ素及び酸化ケイ素は有機ＥＬ発光装置１におけるパッシベーション層６の材料として使用されることがある。このため、パッシベーション層６が窒化ケイ素又は酸化ケイ素から作製されている場合、封止材５はパッシベーション層６と高い密着性を有することができる。
【００７３】
分散剤（Ｆ）の沸点は２００℃以上であることが好ましい。この場合、組成物（Ｘ）から分散剤（Ｆ）が揮発しにくいことから、組成物（Ｘ）の保存安定性が更に向上する。
【００７４】
分散剤（Ｆ）は、吸着基として、塩基性の極性官能基と酸性の極性官能基とのうちいずれか一方又は両方を有することが好ましい。この場合、吸湿剤（Ｅ）を組成物（Ｘ）中及び硬化物中で特に良好に分散させることができる。これは、分散剤（Ｆ）が塩基性の極性官能基と酸性の極性官能基とのうちいずれか一方又は両方を有することで、吸湿剤（Ｅ）に吸着しやすく、そのため吸湿剤（Ｅ）を分散させる作用が著しく発現するためと考えられる。
【００７５】
分散剤（Ｆ）は、ポリマーを含んでもよい。ポリマーの重量平均分子量は例えば１０００以上である。ポリマーは、例えば、水酸基含有カルボン酸エステル、長鎖ポリアミノアマイドと高分子量酸エステルとの塩、高分子量ポリカルボン酸の塩、長鎖ポリアミノアマイドと極性酸エステルとの塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリアクリレート、ポリエーテルエステル型アニオン系活性剤、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエステルポリアミン、及びステアリルアミンアセテートからなる群から選択される少なくとも一種の成分を含有する。分散剤（Ｆ）がポリマーを含有すると、ポリマーが吸湿剤（Ｅ）の粒子に吸着した際に生じる立体障害効果が向上することで、吸湿剤（Ｅ）の分散性が向上しうる。
【００７６】
分散剤（Ｆ）は、例えば塩基性の極性官能基を有する分散剤（Ｆ１）と酸性の極性官能基を有する分散剤（Ｆ２）とのうち、いずれか一方又は両方を含有できる。
【００７７】
塩基性の極性官能基を有する分散剤（Ｆ１）における塩基性の極性官能基は、例えばアミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、及び含窒素複素環基からなる群から選択される少なくとも一種の基を含む。分散剤（Ｆ１）が塩基性の極性官能基を有すると、分散剤（Ｆ１）は吸湿剤（Ｅ）に吸着しやすいため、吸湿剤（Ｅ）の分散性が向上しうる。塩基性の極性官能基は、分散剤（Ｆ１）の吸湿剤（Ｃ）への吸着能を特に高めることができること、吸湿剤（Ｃ）の分散性を特に向上できること、及び組成物（Ｘ）の粘度を特に低下できることから、アミノ基を含むことが好ましい。
【００７８】
塩基性の極性官能基を有する分散剤（Ｆ１）は、例えば商品名：ソルスパース２４０００（アミン価：４１．６ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：ソルスパース３２０００（アミン価：３１．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：ソルスパース３９０００（アミン価：２５．７ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：ソルスパースＪ１００、商品名：ソルスパースＪ２００等の日本ルーブルリゾール株式会社製のソルスパースシリーズ；商品名：ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ−１０８、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ−２０１３、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ−１８０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０６、ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ−１６２（アミン価：１３ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：ＤｉｓｐｅｒＢＹＫ−１６３（アミン価：１０ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６８（アミン価：１１ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２０５０（アミン価：３０．７ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２１５０（アミン価：５６．７ｍｇＫＯＨ／ｇ）等のビックケミー・ジャパン株式会社製のＤｉｓｐｅｒＢＹＫシリーズ；商品名：ＢＹＫＪＥＴ−９１５１（アミン価：１７．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：ＢＹＫＪＥＴ−９１５２（アミン価：２７．３ｍｇＫＯＨ／ｇ）等のビックケミー・ジャパン株式会社製のＢＹＫＪＥＴシリーズ、；及び商品名：アジスパーＰＢ８２１（アミン価：１１．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：アジスパーＰＢ８２２（アミン価：１８．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）、商品名：アジスパーＰＢ８８１（アミン価：１７．４ｍｇＫＯＨ／ｇ）等の味の素ファインテクノ株式会社製のアジスパーシリーズを含む。
【００７９】
分散剤（Ｆ１）のアミン価は、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましい。また、分散剤（Ｆ１）は、リン酸基を有さないことが好ましい。分散剤（Ｆ１）がリン酸基を有する場合は、リン酸基に由来する酸価がアミン価の値以下であることが好ましい。この場合、分散剤（Ｆ１）が、吸湿剤（Ｅ）を特に良好に分散させることができ、組成物（Ｘ）の保存安定性を特に高めることができ、硬化物の透明性を特に高めることができ、更に硬化物と窒化ケイ素及び酸化ケイ素との間の密着性を特に高めることができる。分散剤（Ｆ１）に含まれうる成分のうち、アミノ基を有しリン酸基を有さない分散剤の例は、ビックケミー社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０８を含む。アミノ基及びリン酸基を有しかつリン酸基に由来する酸価がアミン価の値以下である分散剤の例は、ビックケミー社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−２０１３及びビックケミー社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８０を含む。
【００８０】
酸性の極性官能基を有する分散剤（Ｆ２）における酸性の極性官能基は、例えばカルボキシル基である。分散剤（Ｆ２）は、例えばビックケミー社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−Ｐ１０５を含有する。
【００８１】
吸湿剤（Ｅ）１００質量部に対する分散剤（Ｆ）の量は、５質量部以上６０質量部以下であることが好ましい。分散剤（Ｆ）の量が５質量部以上であれば、分散剤（Ｆ）の利点を特に発揮させることができる。分散剤（Ｆ）の量が６０質量部以下であれば、硬化物と、窒化ケイ素及び酸化ケイ素との間の密着性を、より高めることができる。分散剤（Ｆ）の量は１５質量部以上であればより好ましい。分散剤（Ｆ）の量は５０質量部以下であればより好ましく、４０質量部以下であればより更に好ましく、３０質量部以下であれば特に好ましい。
【００８２】
３．封止材の作製方法及び有機ＥＬ発光装置の製造方法
組成物（Ｘ）を用いる封止材５の作製方法及び有機ＥＬ発光装置１の製造方法について説明する。
【００８３】
本実施形態では、組成物（Ｘ）をインクジェット法で成形してから、組成物（Ｘ）に紫外線を照射して硬化することで、封止材５を作製することが好ましい。本実施形態では組成物（Ｘ）の低粘度化が可能であるため、インクジェット法で組成物（Ｘ）を成形することが可能である。
【００８４】
組成物（Ｘ）をインクジェット法で成形するに当たっては、組成物（Ｘ）が常温で十分に低い粘度を有する場合には、組成物（Ｘ）を加熱せずにインクジェット法で吐出することで成形できる。
【００８５】
組成物（Ｘ）が加熱されることで低粘度化する性質を有する場合、組成物（Ｘ）を加熱してから組成物（Ｘ）をインクジェット法で成形してもよい。組成物（Ｘ）の５０℃における粘度が１ｍＰａ・ｓ以上５０ｍＰａ・ｓ以下である場合、組成物（Ｘ）を加熱して低粘度化させてから、組成物（Ｘ）をインクジェット法で吐出することが好ましい。組成物（Ｘ）の加熱温度は、例えば２０℃以上７０℃以下である。
【００８６】
図１に示す第一例の有機ＥＬ発光装置１の作製方法について説明する。例えばまず、支持基板２を準備する。この支持基板２の一面上に、有機ＥＬ素子４を設ける。有機ＥＬ素子４は、蒸着法、塗布法といった適宜の方法で作製できる。特に有機ＥＬ素子４を、インクジェット法といった塗布法で作製することが好ましい。
【００８７】
次に、パッシベーション層６を設ける。パッシベーション層６は、例えば蒸着法で作製できる。
【００８８】
次に、組成物（Ｘ）をインクジェット法で、支持基板２の一面及び有機ＥＬ素子４を覆うように成形する。なお、パッシベーション層６を設けている場合にはパッシベーション層６を覆うように組成物（Ｘ）を成形する。有機ＥＬ素子４の形成と組成物（Ｘ）の塗布のいずれにもインクジェット法を適用すれば、有機ＥＬ発光装置１の製造効率を特に向上できる。
【００８９】
次に、透明基板３を組成物（Ｘ）に重ねる。透明基板３は、例えばガラス製基板又は透明樹脂製基板である。
【００９０】
次に外部から透明基板３へ向けて紫外線を照射する。紫外線は透明基板３を透過して組成物（Ｘ）へ到達する。これにより、組成物（Ｘ）内でラジカル重合反応が進行して組成物（Ｘ）が硬化し、硬化物からなる封止材５が作製される。封止材５の厚みは例えば５μｍ以上５０μｍ以下である。
【００９１】
なお、組成物（Ｘ）をインクジェット法以外の方法で成形してもよく、例えばキャスティング法で成形してもよい。
【００９２】
図２に示す第二例の有機ＥＬ発光装置１の作製方法について説明する。
【００９３】
まず、支持基板２を準備する。この支持基板２の一面上に隔壁７を、例えば感光性の樹脂材料を用いてフォトグラフィ法で作製する。続いて、支持基板２の一面上に複数の有機
ＥＬ素子４を設ける。有機ＥＬ素子４は、蒸着法、塗布法といった適宜の方法で作製できる。特に有機ＥＬ素子４を、インクジェット法といった塗布法で作製することが好ましい。これにより、支持基板２に素子アレイ９を作製する。
【００９４】
次に、素子アレイ９の上に第一パッシベーション層６１を設ける。第一パッシベーション層６１は、例えばプラズマＣＶＤ法といった蒸着法で作製できる。
【００９５】
次に、第一パッシベーション層６１の上に組成物（Ｘ）を、例えばインクジェット法で成形して、塗膜を作製する。有機ＥＬ素子４の形成と組成物（Ｘ）の塗布のいずれにもインクジェット法を適用すれば、有機ＥＬ発光装置１の製造効率を特に向上できる。続いて、塗膜に紫外線を照射することで硬化させて、封止材５を作製する。封止材５の厚みは例えば５μｍ以上５０μｍ以下である。
【００９６】
次に、封止材５の上に第二パッシベーション層６２を設ける。第二パッシベーション層６２は、例えばプラズマＣＶＤ法といった蒸着法で作製できる。
【００９７】
次に、支持基板２の一面上に、第二パッシベーション層６２を覆うように、紫外線硬化性の樹脂材料を設けてから、この樹脂材料に透明基板３を重ねる。透明基板３は、例えばガラス製基板又は透明樹脂製基板である。
【００９８】
次に外部から透明基板３へ向けて紫外線を照射する。紫外線は透明基板３を透過して紫外線硬化性の樹脂材料へ到達する。これにより、紫外線硬化性の樹脂材料が硬化し、第二封止材５２が作製される。
【実施例】
【００９９】
以下、本発明の具体的な実施例を提示する。ただし、本発明は実施例のみに制限されない。
【０１００】
１．組成物の調製
下記表の「組成物の組成」の欄に示す成分を混合することで、実施例及び比較例の組成物を調製した。
【０１０１】
なお、表中の「硬化性成分組成」及び「組成物の組成」の欄に示される成分の詳細は次のとおりである。
【０１０２】
（１）第一アクリル成分
・ポリエチレングリコール２００ジメタクリレート、分子量３３０、２５℃での粘度１４ｍＰａ・ｓ。
・ポリエチレングリコール２００ジアクリレート、分子量３０８、２５℃での粘度２２ｍＰａ・ｓ。
【０１０３】
（２）第二アクリル成分
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート
（３）展着剤
・ＳＲ−２３８Ｂ：サートマー社製、品番ＳＲ−２３８Ｂ。１，６ヘキサンジオールジアクリレート。２２℃での表面張力約３５ｍＮ／ｍ、２２℃での粘度約８ｍＰａ・ｓ。
・ＳＲ−９２０９Ａ：サートマー社製、品番ＳＲ−９２０９Ａ。２２℃での表面張力約３５ｍＮ／ｍ、２２℃での粘度約１５ｍＰａ・ｓ。
【０１０４】
（４）光重合開始剤
・ＴＰＯ：２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキシド、ＢＡＳＦ社製、品名Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ＴＰＯ。
・増感剤：２，４−ジエチルチオキサントン、日本化薬株式会社製、ＫＡＹＡＣＵＲＥ  ＤＥＴＸ−Ｓ。
【０１０５】
（５）吸湿剤
（５−１）ゼオライト粒子１
ゼオライト粒子１は、下記の方法で製造され、そのＤ５０は２０ｎｍ、そのＤ９０は５０ｎｍ、そのｐＨは１０である。
【０１０６】
出発物質のゼオライト粉として平均粒径５μｍの４Ａ型ゼオライト・ナトリウムイオンを用意し、このゼオライト粉１００ｇとイオン交換水１００ｇとを混合してスラリーを調製した。
【０１０７】
このスラリーに粒径１００μｍのジルコニアビーズ４００ｇを入れてから、ビーズミル粉砕機でスラリー中のゼオライト粉を３時間粉砕することで、Ｎａ系ゼオライトの平均粒径を１２０ｎｍにした。このときのスラリー流量は１０ｋｇ／ｈ、スラリー粘度は１０ｍＰａ・ｓである。
【０１０８】
続いて、スラリーから粒径１００μｍのジルコニアビーズを取り除き、その代わりに粒径５０μｍのジルコニアビーズ４００ｇを入れてから、ビーズミル粉砕機でスラリー中のＮａ系ゼオライトを１時間粉砕することで、ゼオライト粉の平均粒径を７０ｎｍにした。このときのスラリー流量は１０ｋｇ／ｈ、スラリー粘度は６ｍＰａ・ｓである。
【０１０９】
続いて、スラリーから粒径５０μｍのジルコニアビーズを取り除き、その代わりに粒径３０μｍのジルコニアビーズ４５０ｇを入れてから、ビーズミル粉砕機でスラリー中のゼオライト粉を１時間粉砕することで、ゼオライト粉の平均粒径を２０ｎｍにした。このときのスラリー流量は１０ｋｇ／ｈ、スラリー粘度は４ｍＰａ・ｓである。
【０１１０】
続いて、スラリーを、１８０℃の温度下で２〜３時間放置することで、微粉砕されたゼオライト粉を得た。このゼオライト粉を乳鉢で解砕してから、メッシュを通過させることで粒径を整えることで、ゼオライト粒子１を得た。
【０１１１】
なお、ゼオライト粒子のｐＨは次の方法で測定した。ポリエチレン製の瓶にゼオライト粒子０．０５ｇとイオン交換水９９．９５ｇとを入れてから、瓶を恒温槽に入れて、９０℃で２４時間加熱した。続いて、瓶の中の液の上澄みのｐＨを、堀場製作所製のコンパクトｐＨメータ＜ＬＡＱＵＡｔｗｉｎ＞Ｂ−７１１を用いて測定した。
【０１１２】
（５−２）ゼオライト粒子２
ゼオライト粒子２は、下記の方法で製造され、そのＤ５０は６０ｎｍ、そのＤ９０は１１０ｎｍ、そのｐＨは１０である。
【０１１３】
出発物質のゼオライト粉として平均粒径５μｍの４Ａ型ゼオライト・ナトリウムイオンを用意し、このゼオライト粉１００ｇとイオン交換水１００ｇとを混合してスラリーを調製した。このスラリー中のゼオライト粉を、ゼオライト粒子１の場合に準じた方法で、平均粒径が６０ｎｍになるように粉砕した。
【０１１４】
続いて、スラリーを、１８０℃の温度下で２〜３時間放置することで、微粉砕されたゼオライト粉を得た。このゼオライト粉を乳鉢で解砕してから、メッシュを通過させることで粒径を整えることで、ゼオライト粒子１を得た。
【０１１５】
（５−３）ゼオライト粒子３
ゼオライト粒子３は、下記の方法で製造され、そのＤ５０は１５０ｎｍ、そのＤ９０は２５０ｎｍ、そのｐＨは１０である。
【０１１６】
出発物質のゼオライト粉として平均粒径５μｍの４Ａ型ゼオライト・ナトリウムイオンを用意し、このゼオライト粉１００ｇとイオン交換水１００ｇとを混合してスラリーを調製した。このスラリー中のゼオライト粉を、ゼオライト粒子１の場合に準じた方法で、平均粒径が１５０ｎｍになるように粉砕した。
【０１１７】
続いて、スラリーを、１８０℃の温度下で２〜３時間放置することで、微粉砕されたゼオライト粉を得た。このゼオライト粉を乳鉢で解砕してから、メッシュを通過させることで粒径を整えることで、ゼオライト粒子１を得た。
【０１１８】
（５−４）ゼオライト粒子４
ゼオライト粒子４は、下記の方法で製造され、そのＤ５０は６０ｎｍ、そのＤ９０は１１０ｎｍ、そのｐＨは１０である。
【０１１９】
出発物質のゼオライト粉として平均粒径５μｍの４Ａ型ゼオライト・ナトリウムイオンを用意し、このゼオライト粉１００ｇとイオン交換水１００ｇとを混合してスラリーを調製した。このスラリー中のゼオライト粉を、ゼオライト粒子１の場合に準じた方法で、平均粒径が６０ｎｍになるように粉砕した。
【０１２０】
処理後のスラリー中のゼオライト粉に、次の方法で水熱合成処理を施した。スラリー５０ｇをフッ素樹脂製容器に入れ、このフッ素樹脂製容器を、オートクレーブのステンレススチール製（ＳＵＳ３１６製）容器に入れた。ステンレススチール製容器は、容量１００ｃｃ、耐熱温度２００℃、耐圧力５０ＭＰａであり、安全弁を備えた蓋により密閉される密閉構造を有する。このステンレススチール製容器を乾燥機に配置して密閉し、１８０℃で２４時間加熱した。次に、乾燥機からステンレススチール製容器を取り出し、これを常温の水の中に入れることで急冷した。
【０１２１】
ステンレススチール製容器からフッ素樹脂製容器を取り出し、これをバットに入れて、１８０℃の温度下で２〜３時間放置することで、フッ素樹脂製容器内のスラリーを乾燥した。これにより、微粉砕されたゼオライト粉を得た。このゼオライト粉をフッ素樹脂製容器から取り出し、乳鉢で解砕してから、メッシュを通過させることで粒度を整えることで、ゼオライト粒子４を得た。
【０１２２】
（５−５）ゼオライト粒子５
ゼオライト粒子５は、表面処理が施されていない粉末品である東ソー製の品番ゼオラム４Ａ、１００メッシュパス品であり、そのＤ５０は１３μｍ、そのＤ９０は３０μｍ、そのｐＨは１０である。
【０１２３】
（６）分散剤
・ソルスパース３２０００：ポリエチレンイミンを主骨格とする脂肪酸アミンの櫛型樹脂分散剤、アミン価：３１．２ｍｇＫＯＨ／ｇ、沸点２００℃以上、ルーブリゾール社製、品名ソルスパース３２０００。
・ＢＹＫ−Ｐ１０５：カルボキシル基を有する顔料分散剤、アミン価０ｍｇＫＯＨ／ｇ、酸価３６５ｍｇＫＯＨ／ｇ、沸点２００℃以上、ビックケミー社製、品番ＢＹＫ−Ｐ１０５。
【０１２４】
２．評価試験
実施例及び比較例について、次の評価試験を実施した。その結果を表に示す。
【０１２５】
（１）水分量
組成物の水分量を、カールフィッシャー水分測定装置（三菱アナリテック社製、型番ＣＡ−２００）及び水分気化装置（三菱アナリテック社製、型番ＶＡ−２００）を用いて測定した。この試験により、組成物中の水分のうち、吸湿材などに吸収されていないものが、測定できる。
【０１２６】
（２）透過率
組成物を塗布して塗膜を作製し、この塗膜を、パナソニック電工株式会社製のＬＥＤ−ＵＶ照射器（ピーク波長３６５ｎｍ）を用いて、約３０ｍＷ／ｃｍ2の条件で５０秒間紫外線照射して光硬化させることで、厚み１０μｍのフィルムを作製した。このフィルムの、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１による全光線透過率を測定した。
【０１２７】
なお、実施例１０で得られたフィルムに指で触れると、若干のタックが感じられたが、それ以外のフィルムにはタックは感じられなかった。
【０１２８】
（３）初期発光特性
ガラス製の基板上に厚み１００ｎｍのＩＴＯ電極を作製した。このＩＴＯ電極上に、真空蒸着法で、厚み６０ｎｍのα−ＮＰＤの層、厚み６０ｎｍのＡｌｑ３の層、厚み０．５ｎｍのフッ化リチウムの層、厚み１０ｎｍのＭｇＡｇの層、及び厚み１００ｎｍのＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）の層を順次作製した。これにより、基板上に、平面視寸法１０ｍｍ×１０ｍｍの有機ＥＬ素子を作製した。次に、基板上に、有機ＥＬ素子を覆う平面視寸法１３ｍｍ×１３ｍｍ、厚み約２５０ｎｍの窒化ケイ素の層を、プラズマＣＶＤ法にて作製した。この窒化ケイ素の層上に組成物を、インクジェットプリンター（マイクロジェット社製、「ＮａｎｏＰｒｉｎｔｅｒ３００」）にて塗布した。続いて、組成物にパナソニック電工株式会社製のＬＥＤ−ＵＶ照射器（ピーク波長３６５ｎｍ）を用いて、約３０ｍＷ／ｃｍ2の条件で５０秒間紫外線照射して光硬化させることで、封止材を作製した。さらに、基板上に、有機ＥＬ素子を覆う平面視寸法１２ｍｍ×１２ｍｍ、厚み約２５０ｎｍの窒化ケイ素の層（パッシベーション層）を、プラズマＣＶＤ法にて作製した。これにより、有機ＥＬ発光装置を得た。
【０１２９】
製造直後の有機ＥＬ素子に３Ｖの電圧を印加して有機ＥＬ素子を発光させた。このときの有機ＥＬ素子の発光状態（ダークスポット及び有機ＥＬ素子周辺消光の有無）を目視で観察した。
【０１３０】
その結果、ダークスポット及び周辺消光が無く均一に発光した場合を「Ａ」と評価した。有機ＥＬ素子全体の２０％以下の領域にダークスポットと周辺消光のいずれかが認められた場合を「Ｂ」と評価した。有機ＥＬ素子全体の２０％以上７０％未満の領域にダークスポットと周辺消光のいずれかが認められた場合を「Ｃ」と評価した。有機ＥＬ素子全体の７０％以上の領域にダークスポットと周辺消光のいずれかが認められた場合を「Ｄ」と評価した。
【０１３１】
（４）耐久性
上記の初期発光特性の試験のために作製した有機ＥＬ発光装置を、８５℃、８５％ＲＨの条件下に１００時間暴露した後、有機ＥＬ素子に３Ｖの電圧を印加して有機ＥＬ素子を発光させた。このときの有機ＥＬ素子の発光状態（ダークスポット及び有機ＥＬ素子周辺消光の有無）を目視で観察した。
【０１３２】
その結果、ダークスポット及び周辺消光が無く均一に発光した場合を「Ａ」と評価した。有機ＥＬ素子全体の２０％以下の領域にダークスポットと周辺消光のいずれかが認められた場合を「Ｂ」と評価した。有機ＥＬ素子全体の２０％以上７０％未満の領域にダークスポットと周辺消光のいずれかが認められた場合を「Ｃ」と評価した。有機ＥＬ素子全体の７０％以上の領域にダークスポットと周辺消光のいずれかが認められた場合を「Ｄ」と評価した。
【０１３３】
（５）インクジェット性
組成物をインクジェットプリンター（マイクロジェット社製、「ＮａｎｏＰｒｉｎｔｅｒ３００」）のカートリッジに入れ、インクジェットプリンターにおけるノズルからカートリッジ内の組成物を吐出しうることを確認してから、ノズルから組成物を吐出させてテストパターンを連続で印刷した。その結果、組成物を１時間吐出できるとともに吐出動作が安定していた場合を「Ａ」、組成物を１時間吐出できたが吐出動作が断続的に不安定になった場合を「Ｂ」、吐出開始から１時間経過前にノズルが詰まって組成物を吐出できなくなった場合を「Ｃ」と、評価した。
【０１３４】
【表１】
2019104921.tif 000003
【０１３５】
【表２】
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【図１】
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【図２】
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