(57)【要約】【課題】  本開示は、表示装置に向けられている。【解決手段】  表示装置は、基板、複数の部分画素及び被覆層を含む。基板は、表示領域及び周辺領域を含む。周辺領域は表示領域に隣接する。部分画素は、表示領域に配置され、第一方向に沿って配列される。部分画素は第一の色をもち、部分画素のうちの隣接する二つは第一方向に沿って第一の画素ピッチをもつ。被覆層は、周辺領域に配置され、第一凹部をもつ。第一凹部は、第一方向に対して垂直な第二方向に沿って延びる第一部分をもつ。第一部分は、第一方向に沿って第一の幅をもつ。第一の画素ピッチに対する第一の幅の比は、０．０５以上且つ０．７以下である。【選択図】  図１
2019095785.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示装置であって、
表示領域及び前記表示領域に隣接する周辺領域を有する、基板、
前記表示領域に配置され、第一方向に沿って配列された複数の部分画素であり、該複数の部分画素は第一の色をもち、該複数の部分画素のうちの隣接する二つは前記第一方向に沿って第一の画素ピッチをもつ、複数の部分画素、並びに
前記周辺領域に配置され、第一凹部をもつ被覆層であり、前記第一凹部は、前記第一方向に対して垂直な第二方向に沿って延びる第一部分をもつ、被覆層、
を有し、
前記第一部分は前記第一方向に沿って第一の幅をもち、前記第一の画素ピッチに対する前記第一の幅の比は、０．０５以上且つ０．７以下である、
表示装置。
【請求項２】
中央部分及び延長部分を有する第一充填層であり、前記中央部分は前記第一凹部に配置され、前記延長部分は前記被覆層の一部を覆う、第一充填層、
を更に有する、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記第一充填層は、第一フォトレジストを有する、請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第一充填層は、第二フォトレジストを更に有する、請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記第一フォトレジスト及び前記第二フォトレジストは、それぞれ、赤色フォトレジスト又は青色フォトレジストである、請求項４に記載の表示装置。
【請求項６】
前記被覆層上及び前記第一充填層上に配置されている、保護層、
を更に有する、請求項２に記載の表示装置。
【請求項７】
前記第一凹部は、前記表示領域を取り囲む、請求項１に記載の表示装置。
【請求項８】
第一の距離は、前記第一方向に沿って前記第一凹部と前記表示領域との間に形成され、前記第一の距離は、前記第一の画素ピッチよりも大きい、請求項１に記載の表示装置。
【請求項９】
前記第一の幅は、５μｍ以上且つ１００μｍ以下である、請求項１に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記複数の部分画素のうちの隣接する二つは、前記第二方向に沿って第二の画素ピッチをもち、前記第一凹部は、前記第一方向に沿って延びる第二部分を更にもち、前記第二部分は前記第二方向に沿って第二の幅をもち、前記第二の画素ピッチに対する前記第二の幅の比は、０．０５以上且つ０．７以下である、請求項１に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記被覆層は第二凹部を更にもち、前記第一凹部の少なくとも一部は、前記表示領域と前記第二凹部との間に配置されている、請求項１に記載の表示装置。
【請求項１２】
前記第二凹部は、前記第二方向に沿って第三の幅をもち、前記第三の幅は、５μｍ以上且つ１００μｍ以下である、請求項１１に記載の表示装置。
【請求項１３】
前記第二凹部上に配置されている、密封層、
を更に有する、請求項１１に記載の表示装置。
【請求項１４】
前記被覆層は、前記第一凹部と前記第二凹部との間に配置されている第三凹部を更にもつ、請求項１１に記載の表示装置。
【請求項１５】
前記第三凹部に配置されている第二充填層、
を更に有する、請求項１４に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、概して表示装置に関し、より具体的には周辺領域に凹部（溝）設計をもつ表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示品質の高輝度及び高彩度の後の人々の追求は、カラーディスプレイ技術の開発及び用途を支配する。日常生活において、広告ボード、テレビ及び車両ナビゲーションのようなディスプレイの用途は、至る所で見られる。陰極線管（ＣＲＴ）スクリーン、プラズマスクリーンから液晶スクリーンまで、多くの種類のディスプレイスクリーンが提供されている。したがって、どのようにして表示装置に良好な品質又は製造の競争力を提供するかは、産業界にとって突出した課題となっている。米国特許第８，４１０，４８４Ｂ２号明細書において、画像を表示するためのアクティブ区域（region）と、画像を表示しない周辺区域とに分割された表示装置が提供されており、アクティブ区域の周りの周辺区域にダミー画素電極が形成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許第８，４１０，４８４Ｂ２号明細書
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本開示は、表示装置に向けられている。本開示の実施形態の設計によれば、周辺領域の被覆層（the  covering  layer  in  the  peripheral  area）は、周辺領域から表示領域に移動する被覆層の水分又は電荷に干渉し得る凹部をもつ。したがって、表示領域は、電荷又は水分によって受ける干渉をより少なくすることができ、表示フレームの異常が減少させられ得るか、或いは表示装置の寿命が延長され得る。
【０００５】
本開示の一つの実施形態によれば、基板（substrate）、複数の部分画素（a  plurality  of  sub-pixels）及び被覆層（covering  layer）を含む表示装置が提供される。基板は、表示領域及び周辺領域を含む。周辺領域は、表示領域に隣接する。部分画素は、表示領域に配置され、第一方向に沿って配列される（arranged）。部分画素は第一の色をもち、部分画素のうちの隣接する二つ（two  adjacent  ones）は第一方向に沿って第一の画素ピッチをもつ。被覆層は、周辺領域に配置され、第一凹部（first  recess）をもつ。第一凹部は、第一方向に対して垂直な第二方向に沿って延びる（extended  along）第一部分をもつ。第一部分は、第一方向に沿って第一の幅をもつ。第一の画素ピッチに対する第一の幅の比は、０．０５以上且つ０．７以下である。
【０００６】
本開示の上記及び他の態様は、好ましいが非限定的な（複数の）実施形態になるであろう。以下の説明は、添付図面を参照してなされる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】図１は、本開示の一つの実施形態による表示装置の上面図である。
【０００８】
【図２Ａ】図２Ａは、図１の区域２Ａの拡大図である。
【０００９】
【図２Ｂ】図２Ｂは、図２Ａの断面線２Ｂ‐２Ｂ’に沿った断面図である。
【００１０】
【図３Ａ】図３Ａは、図１の区域３Ａの拡大図である。
【００１１】
【図３Ｂ】図３Ｂは、図３Ａの断面線３Ｂ‐３Ｂ’に沿った断面図である。
【００１２】
【図４Ａ】図４Ａは、本開示の他の実施形態による表示装置の上面図である。
【００１３】
【図４Ｂ】図４Ｂは、図４Ａの区域４Ｂの拡大図である。
【００１４】
【図５Ａ】図５Ａは、本開示の一つの代替的な実施形態による表示装置の上面図である。
【００１５】
【図５Ｂ】図５Ｂは、図５Ａの区域５Ｂの拡大図である。
【００１６】
【図５Ｃ】図５Ｃは、図５Ｂの断面線５Ｃ‐５Ｃ’に沿った断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本開示のいくつかの実施形態は、添付の図面を参照して以下に開示される。しかしながら、実施形態において開示される構造及び内容は例示及び説明の目的のみのためであり、本開示の保護の範囲は、これらの実施形態に限定されない。添付の図面及び実施形態に共通する呼称（Designations）は、同一又は類似の要素を示すために使用される。本開示の技術分野に熟練した者は、実際の必要性を満たすために、以下に開示される明細書に基づいて適切な変更又は改変を行うことができるであろう。
【００１８】
図１は、本開示の一つの実施形態による表示装置の上面図である。図２Ａは、図１の区域２Ａの拡大図である。図２Ｂは、図２Ａの断面線２Ｂ‐２Ｂ’に沿った断面図である。図３Ａは、図１の区域３Ａの拡大図である。構造的な詳細のいくつかは上面図において省略されているが拡大図において表示されていることが、留意されるべきである。
【００１９】
図１、図２Ａ乃至図２Ｂ及び図３Ａに示されるように、表示装置１０は、基板１００、複数の部分画素及び被覆層３００を含む。基板１００は、表示領域１００Ａ及び表示領域１００Ａに隣接する周辺領域１００Ｂを含む。部分画素２００Ｂは、表示領域１００Ａに配置され、第一方向Ｄ１に沿って配列される。部分画素２００Ｂは第一の色をもち、隣接する部分画素２００Ｂは第一方向Ｄ１に沿って第一の画素ピッチＰ１をもつ。被覆層３００は、周辺領域１００Ｂに配置され、第一凹部３１０をもつ。第一凹部３１０は、第一方向Ｄ１とは異なる第二方向Ｄ２に沿って延びる第一部分３１０Ａをもつ。一つの実施形態において、第二方向Ｄ２は、第一方向Ｄ１に対して垂直である。第一部分３１０Ａは、第一方向Ｄ１に沿って第一の幅Ｗ１をもつ。第一の画素ピッチＰ１に対する第一の幅Ｗ１の比（すなわち、Ｗ１／Ｐ１）は、０．０５以上且つ０．７以下である。本開示の一つの実施形態において、第二方向Ｄ２は第一方向Ｄ１に対して垂直であり、これは、第一方向Ｄ１と第二方向Ｄ２との間の角度が約８５‐９５°であることを意味する。本開示の一つの実施形態において、第一部分３１０Ａは第二方向Ｄ２に沿って延び、これは、第一部分３１０Ａが、第二方向Ｄ２に沿って延びる実質的に直線状の凹部（溝）か、又は第二方向Ｄ２に沿って延びる曲線状の凹部（溝）であることを意味する。
【００２０】
本開示において、表示領域１００Ａは、部分画素の照射領域（illuminating  area）として規定されてもよい。換言すれば、表示領域１００Ａは、（破線によって示され、１００Ａの符号を付けられるような）光を照射し得る部分画素の仮想的な最も外側の境界として規定されてもよい。換言すれば、表示装置１０は、照明することができないが周辺領域１００Ｂに配置されている多数のダミー部分画素（図示されていない）を更に含んでもよい。いくつかの実施形態において、表示装置は、液晶（ＬＣ）、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）、量子ドット（ＱＤ）、蛍光物質（fluorescence  material,）、燐光物質（phosphor  material）、発光ダイオード（ＬＥＤ）、マイクロ発光ダイオード、ミニ発光ダイオード、量子ドット発光ダイオード（ＱＬＥＤ）又は他の表示媒体を有してもよいが、本開示はそれらに限定されない。いくつかの実施形態において、表示装置は、フレキシブルディスプレイ、タッチディスプレイ、曲線状のディスプレイ又はタイルドディスプレイによって実現されてもよいが、本開示はそれらに限定されない。
【００２１】
一つの実施形態において、被覆層が良好な伝動性を備えた材料（例えばブラックマトリックス）を有する場合には、電荷は、周辺領域１００Ｂと表示領域１００Ａとの間の境界に蓄積されてもよい。表示装置１０の液晶は電界によって駆動されて表示フレームの明／暗状態を形成するので、周辺領域１００Ｂにおける電荷の蓄積は、表示領域１００Ａの境界の電界に干渉して（interfere）表示フレームの異常を生じさせ（例えば、表示フレームが暗状態にある場合であっても光が通過し得る）、表示領域１００Ａの液晶の駆動に影響を与え得る。逆に、本開示の一つの実施形態によれば、周辺領域１００Ｂに配置された被覆層３００は、周辺領域１００Ｂから表示領域１００Ａに移動する被覆層３００の電荷に干渉し得る第一凹部３１０をもつ。したがって、表示領域１００Ａの液晶は、周辺領域１００Ｂの電荷によって生成される電界によって受ける干渉がより少なく、表示フレームの異常が低減され得る。
【００２２】
一つの実施形態において、第一凹部３１０は、周辺領域１００Ｂから表示領域１００Ａに入る被覆層の水分に干渉し、従って（有機発光ダイオードディスプレイ装置又は液晶ディスプレイ装置のような）表示装置の寿命を延長し得る。一つの実施形態において、被覆層は、有機絶縁層、無機絶縁層、平坦化（planarization）層、画素規定層（pixel  defined  layer）又はブラックフォトレジストを有してもよいが、本開示はそれらに限定されない。被覆層がブラックフォトレジストである場合、被覆層は光遮断（blocking）効果も提供するが、本開示はそれに限定されない。
【００２３】
図２Ａ乃至図２Ｂに示されるようないくつかの実施形態において、第一の幅Ｗ１は、５μｍ以上且つ１００μｍ以下である（すなわち、５μｍ≦Ｗ１≦１００μｍ）。いくつかの他の実施形態において、第一の幅Ｗ１は、１０μｍ以上且つ５０μｍ以下である（すなわち、１０μｍ≦Ｗ１≦５０μｍ）。
【００２４】
第一凹部３１０の第一の幅Ｗ１が１００μｍよりも大きいか、或いは第一の画素ピッチＰ１に対する第一の幅Ｗ１の比（すなわち、Ｗ１/Ｐ１）が０．７よりも大きい場合には、周辺領域１００Ｂの領域が、狭い縁の表示装置を実現するためには大きくなり過ぎるかも知れず、或いは、画素サイズに比較した第一凹部３１０のサイズが大きくなり過ぎ、人の目に見えるかも知れない。
【００２５】
第一凹部３１０の第一の幅Ｗ１が５μｍよりも小さいか、或いは第一の画素ピッチＰ１に対する第一の幅Ｗ１の比（すなわち、Ｗ１/Ｐ１）が０．０５よりも小さい場合には、第一凹部３１０のサイズが小さ過ぎるかも知れず、周辺領域１００Ｂの水分又は電荷が、第一凹部３１０を越えて渡り（cross  over）、周辺領域１００Ｂと表示領域１００Ａとの間の境界における表示品質に干渉し得る。もし画素サイズと比較した第一凹部３１０のサイズが小さ過ぎるならば、製造工程は、その限界に達して製造工程の困難性を増大させ得る。
【００２６】
本開示の一つの実施形態によれば、第一の画素ピッチＰ１に対する第一の幅Ｗ１の比（すなわち、Ｗ１／Ｐ１）が０．０５以上且つ０．７以下である場合には、第一凹部３１０は、周辺領域１００Ｂから表示領域１００Ａに移動する被覆層３００の水分又は電荷に干渉するか、或いは表示フレームの異常を減少させ得る。第一凹部３１０は、人の目に見えなくてもよく（例えば、第一凹部３１０が人の目に見えないか又は目立たない）、或いは製造工程に適していてもよい（feasible）。
【００２７】
図２Ａ乃至図２Ｂに示されるように、表示装置１０は、第一充填層（filler  layer）４００を更に含む。第一充填層４００の少なくとも一部は、第一凹部３１０に配置されている。第一充填層４００は、第一凹部３１０に光遮断効果を提供してもよい。
【００２８】
図２Ａ乃至図２Ｂに示されるようないくつかの実施形態において、第一充填層４００は、中央部分４１０及び延長部分４２０を含む。中央部分４１０は、第一凹部３１０に配置され、延長部分４２０に接続されてもよい。延長部分４２０は被覆層３００の一部を覆う。換言すれば、第一凹部３１０に配置される第一充填層４００の部分は中央部分として規定され、被覆層３００上に配置される第一充填層４００の部分は延長部分４２０として規定される。
【００２９】
本開示の一つの実施形態によれば、第一充填層４００の中央部分４１０は第一凹部３１０に配置され、第一充填層４００の延長部分４２０は、第一凹部３１０の外側に延長され、第一凹部３１０の両側上の被覆層３００の一部の上に配置されて、第一充填層４００が第一凹部３１０を完全に満たすことを確かにし、製造工程の偏差又は誤差が第一凹部３１０の内側の光遮断効果に影響を与えない。
【００３０】
いくつかの実施形態において、第一充填層４００が低トランスルーセント物質、低伝導性物質、光吸収物質又は金属物質を有する場合には、第一充填層４００は、光遮断効果をもつか、或いは周辺領域１００Ｂから表示領域１００Ａに移動する被覆層３００の水分又は荷電に干渉し得る。第一充填層４００は、０．１以上且つ３．５以下の光学密度（ＯＤ）を備えた物質（すなわち、０．１≦ＯＤ≦３．５）を有してもよいが、本開示はそれに限定されない。いくつかの実施形態において、もし第一充填層が不十分な光遮断効果を備えた物質を有するならば、（金属層又は金属トレースのような）被覆層が他の層又は反対側の基板の対応する位置上に配置されて、光を遮断することを助けるか或いは第一凹部３１０の人の目への不可視性（invisibility）を高めてもよい。
【００３１】
いくつかの実施形態において、第一充填層４００は、第一フォトレジストを含んでもよい。例えば、第一充填層４００は、赤色のフォトレジスト及び青色のフォトレジストのうちの少なくとも一つを含む。いくつかの実施形態において、第一充填層４００は、第二フォトレジストを更に含んでもよく、すなわち、少なくとも二つのフォトレジストを含んでもよい。例えば、第一フォトレジスト及び第二フォトレジストは、それぞれ赤色のフォトレジスト又は青色のフォトレジストである。いくつかの実施形態において、第一充填層４００及び表示領域１００Ａの部分画素は、同じ製造工程において形成されてもよく又は複数の製造工程において形成されてもよい。
【００３２】
図２Ａ乃至図２Ｂに示されるような一つの実施形態において、表示装置１０は、被覆層３００上及び第一充填層４００上に配置されている保護層５００を更に含む。いくつかの実施形態において、被覆層３００及び第一充填層４００が形成された後に、（配列層（alignment  layer）のような）続く製造工程の役に立つ相対的平坦化層を基板１００がもち得るように、保護層５００は平坦化層として使用されてもよい。いくつかの実施形態において、保護層５００は、水分又は酸素によって影響を受けている表示領域１００Ａの部分画素を減少させるために、有機絶縁層、無機絶縁層又はそれらの組み合わせを有してもよい。
【００３３】
いくつかの実施形態において、第一凹部３１０は、囲い込まれた（enclosed）構造をもち、表示領域１００Ａを取り囲んでもよい。図１に示されるような一つの実施形態において、第一凹部３１０は、電荷又は水分若しくは酸素に干渉するためのより良い効果を提供するために、囲い込まれた、横長の（oblong）構造をもち、表示領域１００Ａを取り囲んでもよい。
【００３４】
図２Ａに示されるように、第一方向Ｄ１に沿って延びる第一の距離Ｓ１は、第一凹部３１０と表示領域１００Ａとの間に形成されている。一つの実施形態において、第一方向Ｄ１は、第一凹部３１０と表示領域１００Ａとの間の最大の距離である。第一の距離Ｓ１は、第一の画素ピッチＰ１よりも大きい。一つの実施形態において、第一の画素ピッチＰ１は、第一方向Ｄ１に沿った同じ色の二つの隣接する部分画素の中心の間の距離、又は（図２Ａに示されるように、第一の部分画素の下側から第二の部分画素の下側までの距離などの）同じ色の二つの隣接する部分画素の同じ側の間の距離、又は（第一の部分画素の左上隅から第二の部分画素の左上隅までの距離などの）同じ色の二つの隣接する部分画素の同じ部分の間の距離を表す。
【００３５】
図１、図２Ａ乃至図２Ｂに示されるように、部分画素２０Ｂは、第二方向Ｄ２に沿って第二の画素ピッチＰ２をもつ。一つの実施形態において、第二の画素ピッチＰ２は、第二方向Ｄ２に沿った同じ色の二つの隣接する部分画素の中心の間の距離、又は（第一の部分画素の左側から第二の部分画素の左側までの距離などの）同じ色の二つの隣接する部分画素の同じ側の間の距離、又は（図２Ａに示されるように、第一の部分画素の左上隅から第二の部分画素の左上隅までの距離などの）同じ色の二つの隣接する部分画素の同じ部分の間の距離を表す。一つの実施形態において、第一の画素ピッチＰ１及び第二の画素ピッチＰ２は、実質的に同じであってもよいが、本開示はそれに限定されない。他の実施形態において、第一の画素ピッチＰ１及び第二の画素ピッチＰ２は、異なっていてもよい。また、第一凹部３１０は、表示領域１００Ａの外側にそれぞれ配置された数個の部分を含んでもよく、ここで、それらの部分のうちの二つ又はそれ以上は、別々に配置されてもよく又は互いに接続されてもよい。図２Ｂに示されるように、第一凹部３１０は、第一方向Ｄ１に沿って第二部分３１０Ｂを更にもつ。第二部分３１０Ｂは、第二方向Ｄ２に沿って第二の幅Ｗ２をもつ。第二の画素ピッチＰ２に対する第二の幅Ｗ２の比（Ｗ２／Ｐ２）は、０．０５以上且つ０．７以下である。一つの実施形態において、第一部分３１０Ａは第二部分３１０Ｂに接続してもよい；例えば、図２Ｂにおける第一部分３１０Ａと第二部分３１０Ｂとの間の合流点（junction）は、第一部分３１０Ａ及び第二部分３１０Ｂを接続するために使用される第三部分３１０Ｃを更に含んでもよい。一つの実施形態において、第一部分３１０Ａ及び第二部分３１０Ｂは異なる幅の凹部（溝）として設計されてもよく、第一の幅Ｗ１又は第二の幅Ｗ２は、ある局所的な区域における最小の幅として設計されてもよい。
【００３６】
表示装置１０は、異なる色の部分画素２００Ｂ、２００Ｇ、２００Ｒを含んでもよい。部分画素２００Ｂは、青色の部分画素であってもよい。部分画素２００Ｇは緑色の部分画素であってもよい。部分画素２００Ｒは赤色の部分画素であってもよい。三つの部分画素２００Ｂ、２００Ｇ、２００Ｒが一つの画素単位を形成してもよい。三つの部分画素２００Ｂ、２００Ｇ、２００Ｒは、同一又は異なる大きさ又は形状をもってもよい。第一の画素ピッチＰ１又は第二の画素ピッチＰ２は、三つの部分画素２００Ｂ、２００Ｇ、２００Ｒから選択されたいずれの色の部分画素によって規定されてもよい。いくつかの実施形態において、表示領域１００Ａ内の部分画素は、異なる色の複数のフォトレジストを有してもよいが、本開示はそれに限定されない。他の実施形態において、表示領域１００Ａの部分画素は、有機発光ダイオード、量子ドット、蛍光物質、燐光物質、発光ダイオード、マイクロ発光ダイオード、ミニ発光ダイオード、量子ドット発光ダイオード又は他の表示媒体を有してもよいが、本開示はそれらに限定されない。
【００３７】
図２Ａに示されるように、第二方向Ｄ２に沿って延び、第二の画素ピッチＰ２よりも大きな第二の距離Ｓ２は、第一凹部３１０と表示領域１００Ａとの間に形成される。
【００３８】
図２Ａ乃至図２Ｂに示されるようないくつかの実施形態において、第二の幅Ｗ２は、５μｍ以上且つ１００μｍ以下である（すなわち、５μｍ≦Ｗ２≦１００μｍ）。いくつかの他の実施形態において、第二の幅Ｗ２は、１０μｍ以上且つ５０μｍ以下である（すなわち、１０μｍ≦Ｗ１≦５０μｍ）。本開示の一つの実施形態によれば、第二の幅Ｗ２は第一の幅Ｗ１に類似する機能をもつように設計されてもよく、類似点は再び繰り返されない。
【００３９】
図１、図３Ａ乃至図３Ｂに示されるように、被覆層３００は、第二凹部３２０を更にもつ。第一凹部３１０の少なくとも一部は、表示領域１００Ａと第二凹部３２０との間に配置されている。
【００４０】
本開示の一つの実施形態によれば、第二凹部３２０もまた、表示領域１００Ａに移動する電荷又は水分若しくは酸素に干渉し得る。
【００４１】
図３Ａ乃至図３Ｂに示されるようないくつかの実施形態において、第二凹部３２０は、（図３Ａの実施形態における第二方向Ｄ２のような、）延長方向に対して垂直な方向に沿って第三の幅Ｗ３をもつ。第三の幅Ｗ３は、５μｍ以上且つ１００μｍ以下である（すなわち、５μｍ≦Ｗ３≦１００μｍ）。いくつかの他の実施形態において、第二凹部３２０の第三の幅Ｗ３は、１０μｍ以上且つ５０μｍ以下である（すなわち、１０μｍ≦Ｗ３≦５０μｍ）。
【００４２】
いくつかの実施形態において、第二凹部３２０は、囲い込まれた構造をもち、第一凹部３１０を取り囲んでもよい。または、第二凹部３２０は、第一凹部３１０の外側にそれぞれ配置された複数の別々の区分をもってもよい。図１に示されるような一つの実施形態において、第二凹部３２０は、表示領域１００Ａへ移動する電荷又は水分若しくは酸素に干渉する効果を高めるために、囲い込まれた、多角形の構造をもち、第一凹部３１０を取り囲む。
【００４３】
実施形態のいくつかの実施例による表示装置１０の、第一凹部３１０の第一の幅Ｗ１、第二の幅Ｗ２、第一の画素ピッチＰ１、第二の画素ピッチＰ２、第一の距離Ｓ１及び第二の距離Ｓ２、並びに第二凹部３２０の第三の幅Ｗ３が、表１に記載されている。表１における異なる設計の長さ単位は、マイクロメートル（μｍ）である。実施形態の数個の実施例が表１に記載されているが、これらの設計パラメータは本開示を限定するために開示されたものではないことが留意されるべきである。本開示の技術分野に熟練した者は、実際の必要性を満たすために、本開示の精神から逸脱することなく、上に開示される明細書に基づいて適切な変更又は改変を行うことができるであろう。
【００４４】
【表１】
2019095785.tif 000003
【００４５】
表１に示されるように、実施形態１‐２のパラメータ設計は、より低い画素解像度の要求を受ける表示装置において使用されてもよく、実施形態３‐７のパラメータ設計は、より高い画素解像度の要求を受ける表示装置において使用されてもよいが、本開示はそれらに限定されない。
【００４６】
図３Ａ乃至図３Ｂに示されるように、表示装置１０は、第二凹部３２０上に配置されている密封層（sealant  layer）６００を更に含む。
【００４７】
図３Ｂに示されるようないくつかの実施形態において、密封層６００は、複数の充填粒子（filling  particles）６１０及び接着層（adhesive  layer）６２０を含んでもよい。充填粒子６１０は、接着層６２０内に混合される。いくつかの実施形態において、無機粒子などの充填粒子６１０は、より良好な機械的強度をもち、接着層６２０よりも良好な支持を提供する。いくつかの実施形態において、充填粒子６１０又は接着層６２０は、光吸収物質を有する。光吸収効果を備えた密封層６００が第二凹部３２０より上に配置されている場合には、被覆層３００の第二凹部３２０における光遮断効果が高められ得る。
【００４８】
いくつかの実施形態において、保護層５００は、被覆層３００上に、但し第二凹部３２０の内側に配置されており、密封層６００は保護層５００上に配置されている。
【００４９】
図１、図２Ａ乃至図２Ｂ、並びに図３Ａ乃至図３Ｂに示されるようないくつかの実施形態において、表示装置１０は、表示領域１００Ａに配置された光遮断構造９００を更に含んでもよい。光遮断構造９００は、表示領域１００Ａ内の複数の部分画素を分離して、異なる色の部分画素の間での光混合の現象を減少させるために使用される。一つの実施形態において、光遮断構造９００及び被覆層３００は、同じか又は異なる製造工程によって、同じか又は異なる物質を有してもよい。いくつかの実施形態において、光遮断構造９００及び被覆層３００は、同じ製造工程によって形成され、有利には単純化された製造工程をもってもよい。
【００５０】
図４Ａは、本開示の他の実施形態による表示装置の上面図である。図４Ｂは、図４Ａの区域４Ｂの拡大図である。構造的な詳細のいくつかは上面図において省略されているが拡大図において図示されていることが、留意されるべきである。上記の複数の実施形態の要素に類似又は同一の本実施形態の要素については、類似又は同一の呼称が使用される。上記の開示を参照して得られ得る類似又は同一の要素の関連のある記述は、再び繰り返されない。
【００５１】
いくつかの実施形態において、第二凹部３２０は、（図１に示されるように）囲い込まれた構造をもち、表示領域１００Ａを取り囲んでもよく、又は、第二凹部３２０は、第一凹部３１０の外側に配置された複数の別々の区分をもってもよい。図１、図４Ａ乃至図４Ｂに示されるように、表示装置２０の被覆層３００の第一凹部３１０は、囲い込まれた構造をもち、表示領域１００Ａを取り囲んでおり、また被覆層３００の第二凹部３２０は二つの別々の区分を含み、両方がアーチ状の構造をもつ。
【００５２】
図５Ａは、本開示の一つの代替的な実施形態による表示装置の上面図である。図５Ｂは、図５Ａの区域５Ｂの拡大図である。図５Ｃは、図５Ｂの断面線５Ｃ‐５Ｃ’に沿った断面図である。構造的な詳細のいくつかは上面図において省略されているが拡大図において表示されていることが、留意されるべきである。上記の複数の実施形態の要素に類似又は同一の本実施形態の要素については、類似又は同一の呼称が使用される。上記の開示を参照して得られ得る類似又は同一の要素の関連のある記述は、ここでは繰り返されない。
【００５３】
図５Ａ乃至図５Ｃに示されるように、被覆層３００は第三凹部３３０を更にもち、第三凹部３３０は、第一凹部３１０と第二凹部３２０との間に配置されている。本開示の一つの実施形態によれば、表示領域１００Ａの外側に配置されている周辺領域１００Ｂの被覆層３００は、（第一凹部３１０、第二凹部３２０及び／又は第三凹部３３０のような）複数の凹部をもち、それぞれ囲い込まれた構造又は複数の別々の区分をもつ。それらの凹部は、周辺領域１００Ｂから表示領域１００Ａに移動する被覆層３００の水分又は電荷に干渉する。したがって、表示領域１００Ａの液晶は、電荷又は水分によって受ける干渉がより少なく、表示フレームの異常が低減され得る。
【００５４】
図５Ｂ乃至図５Ｃに示されるように、表示装置３０は、第三凹部３３０に配置された第二充填層８００を更に含んでもよい。いくつかの実施形態において、第二充填層８００の物質選択及び第三凹部３３０に対する第二充填層８００の配置は、上記の複数の実施形態において開示されたような第一充填層４００及び第一凹部３１０の設計に類似し、類似点は再び繰り返されない。
【００５５】
いくつかの実施形態において、第三凹部３３０の幅Ｗ４は、５μｍ以上且つ１００μｍ以下である（すなわち、５μｍ≦Ｗ４≦１００μｍ）。いくつかの他の実施形態において、第三凹部３３０の幅Ｗ４は、１０μｍ以上且つ５０μｍ以下である（すなわち、１０μｍ≦Ｗ４≦５０μｍ）。
【００５６】
本開示は、例として且つ好ましい（複数の）実施形態に関して説明されているが、本開示はそれらに限定されないことが理解されるべきである。反対に、様々な変更並びに類似の構成及び手順に及ぶことが意図されており、したがって、添付の特許請求の範囲は、全てのそのような変更並びに類似の構成及び手順を包含するように最も広い解釈を与えられるべきである。
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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