(57)【要約】【課題】低コスト化を図りつつ、検出精度を高めることができるエンコーダースケールおよびその製造方法を提供すること、また、このエンコーダースケールを備えるエンコーダー、ロボット、プリンターおよびプロジェクターを提供すること。【解決手段】板状の基材と、前記基材の一方の面に設けられ、第１領域と第２領域とが交互に並んでいる光学パターンと、を備え、前記第１領域は、前記基材の厚さ方向を法線とする第１面を主体に構成され、前記第２領域は、前記第１面に対して傾斜している第２面を主体に構成され、前記第１領域は、第１方向に延びている第１部分と、前記第１方向に交差する第２方向に延びている第２部分と、を有し、前記第１部分の幅と前記第２部分の幅とが互いに等しいことを特徴とするエンコーダースケール。【選択図】図２
2019095316.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状の基材と、
前記基材の一方の面に設けられ、第１領域と第２領域とが交互に並んでいる光学パターンと、を備え、
前記第１領域は、前記基材の厚さ方向を法線とする第１面を主体に構成され、
前記第２領域は、前記第１面に対して傾斜している第２面を主体に構成され、
前記第１領域は、前記基材を平面視したとき、第１方向に延びる第１部分と、前記平面視において、前記第１方向に交差する第２方向に延びる第２部分と、を有し、
前記第１部分の幅と前記第２部分の幅とが互いに等しいことを特徴とするエンコーダースケール。
【請求項２】
前記基材は、異方性エッチングが可能な結晶材料で構成されている請求項１に記載のエンコーダースケール。
【請求項３】
前記結晶材料は、単結晶シリコンである請求項２に記載のエンコーダースケール。
【請求項４】
前記単結晶シリコンの面方位が（１００）である請求項３に記載のエンコーダースケール。
【請求項５】
前記第２面は、前記結晶材料の結晶面に沿って設けられている請求項２ないし４のいずれか１項に記載のエンコーダースケール。
【請求項６】
前記基材の前記一方の面には、前記第２領域に対応して凹部が設けられており、
前記凹部内には、前記第２面を側面として有する複数の凸部が設けられている請求項１ないし５のいずれか１項に記載のエンコーダースケール。
【請求項７】
板状の基材の一方の面に、前記基材の厚さ方向を法線とする第１面を主体に構成されている第１領域と、前記第１面に対して傾斜している第２面を主体に構成されている第２領域とが交互に複数並んでいる光学パターンを形成する光学パターン形成工程を含むエンコーダースケールの製造方法であって、
前記第１領域は、前記基材を平面視したとき、第１方向に延びる第１部分と、前記平面視において、前記第１方向に交差する第２方向に延びる第２部分と、を有しており、
前記光学パターン形成工程は、前記第１部分の幅と前記第２部分の幅とが等しくなるように開口幅を調整したマスクを用いて、前記第２領域を異方性エッチングにより形成することを特徴とするエンコーダースケールの製造方法。
【請求項８】
請求項１ないし６のいずれか１項に記載のエンコーダースケールと、
前記エンコーダースケールに向けて光を出射する光源部と、
前記エンコーダースケールからの前記光の反射光を受光する受光部と、を備えることを特徴とするエンコーダー。
【請求項９】
請求項１ないし６のいずれか１項に記載のエンコーダースケールを備えることを特徴とするロボット。
【請求項１０】
請求項１ないし６のいずれか１項に記載のエンコーダースケールを備えることを特徴とするプリンター。
【請求項１１】
請求項１ないし６のいずれか１項に記載のエンコーダースケールを備えることを特徴とするプロジェクター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エンコーダースケール、エンコーダースケールの製造方法、エンコーダー、ロボット、プリンターおよびプロジェクターに関する。
【背景技術】
【０００２】
エンコーダーの一種として光学式のエンコーダーが知られている（例えば特許文献１参照）。例えば、特許文献１に記載の反射型光学式エンコーダーは、光源および光検出器と、光源および光検出器に対して相対的に移動する光学パターンを有するスケールと、を備え、光源がスケールに向けて光ビームを射出し、光検出器がスケールによって反射・変調された光ビームを検出する。ここで、特許文献１に記載のスケールは、ガラス基板と、ガラス基板の表面に形成された周期的な光学パターンと、を有し、光学パターンが、スケールの移動方向に一次元配列された複数の金属薄膜からなる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−１５９５１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に記載のスケールは、基材としてガラス基板を用いるため、形状の自由度が低く、また、低コスト化が難しいという課題がある。また、特許文献１に記載のスケールは、ガラス基板の金属膜側の面が金属膜の形成されていない部分であっても金属膜の面と同一方向に沿っているため、当該部分で透過せずに反射した光ビームの一部が光検出器で検出されてしまい、その結果、検出精度を高めることが難しいという課題もある。
【０００５】
本発明の目的は、低コスト化を図りつつ、検出精度を高めることができるエンコーダースケールおよびその製造方法を提供すること、また、このエンコーダースケールを備えるエンコーダー、ロボット、プリンターおよびプロジェクターを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の適用例または形態として実現することが可能である。
【０００７】
本適用例のエンコーダースケールは、板状の基材と、
前記基材の一方の面に設けられ、第１領域と第２領域とが交互に並んでいる光学パターンと、を備え、
前記第１領域は、前記基材の厚さ方向を法線とする第１面を主体に構成され、
前記第２領域は、前記第１面に対して傾斜している第２面を主体に構成され、
前記第１領域は、前記基材を平面視したとき、第１方向に延びる第１部分と、前記平面視において、前記第１方向に交差する第２方向に延びる第２部分と、を有し、
前記第１部分の幅と前記第２部分の幅とが互いに等しいことを特徴とする。
【０００８】
このようなエンコーダースケールによれば、第１領域が基材の厚さ方向を法線とする第１面を主体に構成され、第２領域が第１面に対して傾斜している第２面を主体に構成されているため、第１領域および第２領域で反射した光の方向を互いに異ならせ、第１領域で反射した光のみを選択的に受光することができる。そのため、基材を透明材料で構成する必要がなく、基材の材料選択の自由度を高めることができ、その結果、より安価でかつ加工性に優れた材料を用いることができる。また、第１領域に光が照射されている状態とそうでない状態との受光量の差を大きくすることができ、その結果、検出精度を高めることができる。ここで、第１領域は、第１方向に延びている第１部分と、第１方向に交差する第２方向に延びている第２部分と、を有し、第１部分の幅と第２部分の幅とが互いに等しい。エンコーダーチップに形成されたフォトダイオードはエンコーダースケールと異なるピッチで配置されており、等間隔で形成されたスケールとの位置の差によりＳｉｎカーブを出力している。スケールの等間隔が崩れることにより、エンコーダーからの出力波形にひずみが入り、精度低下につながる。第１領域と第２領域が等しいことにより、第１領域で反射した光の強度変動による検出精度の低下を低減することができる。
【０００９】
なお、「第１部分の幅と第２部分の幅とが互いに等しい」とは、第１方向と第２方向との交点から等距離の位置における第１部分の幅（第１方向に直交する方向での長さ）と第２部分の幅（第２方向に直交する方向での長さ）とが互いに等しいことを意味し、第１部分の幅と第２部分の幅が完全に等しい場合だけでなく、第１部分の幅と第２部分の幅との差が４μｍ以下（より好ましくは２μｍ以下、さらに好ましくは１μｍ以下）である場合も含む。
【００１０】
本適用例のエンコーダースケールでは、前記基材は、異方性エッチングが可能な結晶材料で構成されていることが好ましい。
【００１１】
これにより、光学パターンを高精度に形成することができる。また、結晶材料の結晶面を利用して第１面および第２面を形成することができる。
【００１２】
本適用例のエンコーダースケールでは、前記結晶材料は、単結晶シリコンであることが好ましい。
【００１３】
単結晶シリコンは、他の結晶材料に比べて安価であり、高精度な加工が容易である。そのため、エンコーダースケールの基材が単結晶シリコンで構成されていることで、エンコーダースケールの低コスト化および高精度化が容易に図れるという利点がある。
【００１４】
本適用例のエンコーダースケールでは、前記単結晶シリコンの面方位が（１００）であることが好ましい。
【００１５】
これにより、単結晶シリコンの［１００］面を利用して第１面を形成することで、第１面のエッチング形状を四角錘にすることができる。そのため、このような単結晶シリコンを用いることで、リニアエンコーダーだけでなく、ロータリーエンコーダーに適したエンコーダースケールを形成することができる。
【００１６】
本適用例のエンコーダースケールでは、前記第２面は、前記結晶材料の結晶面に沿って設けられていることが好ましい。
【００１７】
これにより、第１面に対する傾斜角度のバラつきの少ない第２面を容易に形成することができる。
【００１８】
本適用例のエンコーダースケールでは、前記基材の前記一方の面には、前記第２領域に対応して凹部が設けられており、
前記凹部内には、前記第２面を側面として有する複数の凸部が設けられていることが好ましい。
【００１９】
これにより、第２領域（第２面）をエッチングにより容易に形成することができる。また、第２面を側面として有する複数の凸部を凹部内に設けることで、エッチング量を少なくすることができ、製造時間を短縮し、ひいては製造コストを低減することができる。
【００２０】
本適用例のエンコーダースケールの製造方法は、板状の基材の一方の面に、前記基材の厚さ方向を法線とする第１面を主体に構成されている第１領域と、前記第１面に対して傾斜している第２面を主体に構成されている第２領域とが交互に複数並んでいる光学パターンを形成する光学パターン形成工程を含むエンコーダースケールの製造方法であって、
前記第１領域は、前記基材を平面視したとき、第１方向に延びる第１部分と、前記平面視において、前記第１方向に交差する第２方向に延びる第２部分と、を有しており、
前記光学パターン形成工程は、前記第１部分の幅と前記第２部分の幅とが等しくなるように開口幅を調整したマスクを用いて、前記第２領域を異方性エッチングにより形成することを特徴とする。
【００２１】
このようなエンコーダースケールの製造方法によれば、低コスト化を図りつつ、検出精度を高めることができるエンコーダースケールを得ることができる。
【００２２】
本適用例のエンコーダーは、本適用例のエンコーダースケールと、
前記エンコーダースケールに向けて光を出射する光源部と、
前記エンコーダースケールからの前記光の反射光を受光する受光部と、を備えることを特徴とする。
【００２３】
このようなエンコーダーによれば、低コスト化を図りつつ、検出精度を高めることができる。
【００２４】
本適用例のロボットは、本適用例のエンコーダースケールを備えることを特徴とする。
このようなロボットによれば、エンコーダースケールの低コスト化を図ることで、ロボットの低コスト化を図ることができる。また、エンコーダースケールを用いた高精度な検出結果に基づいて高精度な動作制御を行うことができる。
【００２５】
本適用例のプリンターは、本適用例のエンコーダースケールを備えることを特徴とする。
【００２６】
このようなプリンターによれば、エンコーダースケールの低コスト化を図ることで、プリンターの低コスト化を図ることができる。また、エンコーダースケールを用いた高精度な検出結果に基づいて高精度な動作制御を行うことができる。
【００２７】
本適用例のプロジェクターは、本適用例のエンコーダースケールを備えることを特徴とする。
【００２８】
このようなプロジェクターによれば、エンコーダースケールの低コスト化を図ることで、プロジェクターの低コスト化を図ることができる。また、エンコーダースケールを用いた高精度な検出結果に基づいて高精度な動作制御を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明の実施形態に係るエンコーダーの概略構成を示す縦断面図である。
【図２】図１に示すエンコーダーが備えるエンコーダースケールユニットの平面図である。
【図３】図２中Ａ−Ａ線断面図（エンコーダースケールの断面図）である。
【図４】図３に示す第２領域の一部（複数の凸部）を示す斜視図である。
【図５】図３に示す第２領域に設けられている凸部（第２面）の平面図である。
【図６】単結晶シリコンを異方性エッチングすることで形成した第２領域を示すＳＥＭ写真である。
【図７】単結晶シリコンを異方性エッチングすることで形成した第２領域の光反射特性（回転角度と受光部での受光量との関係）を示すグラフである。
【図８】光学センサーの受光による出力（電圧）の最大値および最小値の角度による変遷（包絡線）を示すグラフである。
【図９】図３に示すエンコーダースケールの製造方法を説明するためのフローチャートである。
【図１０】図９に示す準備工程を説明するための断面図である。
【図１１】図９に示す光学パターン形成工程（マスク形成工程）を説明するための断面図である。
【図１２】図１１に示すマスクの平面図である。
【図１３】図１２に示すマスクが有する複数の開口の幅が互いに等しい場合における角度と第１領域および第２領域の幅との関係を示すグラフである。
【図１４】図１２に示すマスクが有する複数の開口の幅の角度ごとの補正量を示すグラフである。
【図１５】図９に示す光学パターン形成工程（異方性エッチング工程）を説明するための断面図である。
【図１６】図１２中の方向ｂ１に延びる開口を通じて異方性エッチングを行った状態を示すＳＥＭ写真である。
【図１７】図１２中の方向ｂ３に延びる開口を通じて異方性エッチングを行った状態を示すＳＥＭ写真である。
【図１８】図１２中の方向ｂ２に延びる開口を通じて異方性エッチングを行った状態を示すＳＥＭ写真である。
【図１９】図９に示すマスク除去工程を説明するための断面図である。
【図２０】本発明のロボットの実施形態を示す斜視図である。
【図２１】本発明のプリンターの実施形態を示す斜視図である。
【図２２】本発明のプロジェクターの実施形態を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下、本発明のエンコーダースケール、エンコーダースケールの製造方法、エンコーダー、ロボット、プリンターおよびプロジェクターを添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
【００３１】
（エンコーダー）
まず、本発明のエンコーダースケールの説明に先立ち、本発明のエンコーダー（本発明のエンコーダースケールを備えるエンコーダー）について簡単に説明する。
【００３２】
図１は、本発明の実施形態に係るエンコーダーの概略構成を示す縦断面図である。図２は、図１に示すエンコーダーが備えるエンコーダースケールユニットの平面図である。なお、以下では、説明の便宜上、図１中の上側を「上」、下側を「下」という。
【００３３】
図１に示すエンコーダー１０は、ロータリーエンコーダーであり、図示しないモーター等が有する回転軸２０の端部に固定されているエンコーダースケールユニット３０と、エンコーダースケールユニット３０の回転状態を検出する光学センサー４０と、を有する。
【００３４】
エンコーダースケールユニット３０は、回転軸２０に固定されているハブ３０１と、ハブ３０１の支持部３０３にエポキシ系接着剤、アクリル系接着剤等の接着剤３０２により接着されているエンコーダースケール１と、を有する。
【００３５】
ハブ３０１は、円板状をなしている支持部３０３と、支持部３０３の一方（図１中下側）の面（下面）から突出している突出部３０４と、支持部３０３の他方（図１中上側）の面（上面）から突出している凸部３０５と、突出部３０４の先端面（図１中下側の面）に開口している凹部３０６と、を有し、これらが軸線ａｘを中心として同軸的に設けられている。ここで、凹部３０６には、回転軸２０の端部が挿入（例えば圧入）された状態で固定されている。このようなハブ３０１の構成材料としては、特に限定されないが、例えば、アルミニウム、ステンレス鋼等の金属材料が挙げられる。なお、凹部３０６に代えて、回転軸２０が挿入される貫通孔をハブ３０１に設けてもよい。また、ハブ３０１は、回転軸２０と一体で構成されていてもよい。
【００３６】
支持部３０３の上面は、エンコーダースケール１が設置される設置面３０７である。この支持部３０３の上面（設置面３０７）には、エンコーダースケール１の面内方向での位置決めを行うための位置決め部として機能する凸部３０５が設けられている。本実施形態では、凸部３０５の外形は、図２に示すように、軸線ａｘに沿った方向から見たとき（以下、「平面視」ともいう）、円形をなしている。この凸部３０５は、その中心軸が回転軸２０の中心軸（軸線ａｘ）に一致するように形成されている。なお、凸部３０５の平面視での外形は、円形に限定されず、例えば、四角形、五角形等の多角形でもよい。
【００３７】
エンコーダースケール１は、板状（円板状）をなしており、その中央部には、厚さ方向（図１中上下方向）に貫通している孔１１が形成されている。この孔１１には、前述した凸部３０５が挿通されている。本実施形態では、孔１１は、図２に示すように、平面視で円形をなしている。ここで、凸部３０５の直径（常温）は、孔１１の直径（常温）より小さく設定されている。なお、孔１１の平面視での外形は、円形に限定されず、例えば、四角形、五角形等の多角形でもよく、また、前述した凸部３０５の平面視の外形と異なっていてもよい。
【００３８】
また、エンコーダースケール１の上面には、図２に示すように、エンコーダースケール１の回転量（角度）、回転速度等を検出し得るパターンとして、軸線ａｘを中心とする周方向に沿って、光ＬＬの反射方向の異なる第１領域１２１および第２領域１２２を交互に並べた光学パターン１２が形成されている。ここで、第１領域１２１および第２領域１２２は、互いに異なる方向を法線とする面で構成されている。なお、エンコーダースケール１については、後に詳述する。
【００３９】
光学センサー４０は、エンコーダースケールユニット３０のエンコーダースケール１に向けて光ＬＬを出射するレーザダイオード、発光ダイオード等の発光素子を含む光源部４２と、エンコーダースケール１からの光ＬＬ（反射光）を受光するフォトダイオード等の受光素子を含む受光部４３と、を有し、これらが基板４１に搭載されている。
【００４０】
このような光学センサー４０は、エンコーダースケール１の上面（照射面）に前述した光学パターン１２が形成されているため、エンコーダースケール１の軸線ａｘまわりの回転に伴って、光学パターン１２で反射した光ＬＬが受光部４３に入射する状態（図１中実線で示す光ＬＬの状態）とそうでない状態（図１中破線で示す光ＬＬの状態）とを交互に繰り返す。そのため、受光部４３からの出力信号（電流値）の波形は、エンコーダースケール１の軸線ａｘまわりの回転に伴って変化する。このような受光部４３からの出力信号に基づいて、エンコーダースケール１の回転状態（回転角度や回転速度等）を検出することができる。
【００４１】
ここで、図示しないが、受光部４３は、軸線ａｘを中心とする周方向での異なる位置に設けられている２つの受光素子を有し、一方の受光素子がＡ相信号を出力し、他方の受光素子がＡ相信号とは位相が４５°ずれたＢ相信号を出力する。なお、光源部４２は、受光部４３が有する２つの受光素子に対応する２つの発光素子を有していてもよいし、当該２つの受光素子に対応するようにスリット板等を用いて１つの発光素子からの光を分割してもよい。また、光源部４２および受光部４３は、それぞれ、レンズ等の光学素子を有していてもよい。
【００４２】
以上、エンコーダー１０について簡単に説明した。以下、エンコーダースケール１について詳述する。
【００４３】
（エンコーダースケール）
図３は、図２中Ａ−Ａ線断面図（エンコーダースケールの断面図）である。図４は、図３に示す第２領域の一部（複数の凸部）を示す斜視図である。図５は、図３に示す第２領域に設けられている凸部（第２面）の平面図である。図６は、単結晶シリコンを異方性エッチングすることで形成した第２領域を示すＳＥＭ写真である。図７は、単結晶シリコンを異方性エッチングすることで形成した第２領域の光反射特性（回転角度と受光部での受光量との関係）を示すグラフである。図８は、光学センサーの受光による出力（電圧）の最大値および最小値の角度による変遷（包絡線）を示すグラフである。なお、以下では、図３中上側を「上」、下側を「下」という。
【００４４】
前述したように、エンコーダースケール１の上面には、軸線ａｘを中心とする周方向（光学センサー４０に対する光学パターン１２の相対的な移動方向）に沿って光ＬＬの反射方向の異なる第１領域１２１および第２領域１２２を交互に並べた光学パターン１２が形成されている。この光学パターン１２の第１領域１２１および第２領域１２２は、それぞれ、エンコーダースケール１の半径方向に沿って帯状に延びている。図２では、第１領域１２１および第２領域１２２が軸線ａｘを中心として周方向に並んでいる領域において、平面視で第１領域１２１および第２領域１２２が互いに等しい形状となるように、第１領域１２１および第２領域１２２のそれぞれの幅がエンコーダースケール１の半径方向での内側から外側に向けて大きくなっている。また、第１領域１２１の幅Ｗ１および第２領域１２２の幅Ｗ２がそれぞれ幅Ｗであり、幅Ｗ１と幅Ｗ２とが互いに等しい。なお、第１領域１２１および第２領域１２２の平面視形状は、図２に示す形状に限定されず、例えば、平面視で第１領域１２１または第２領域１２２の幅がエンコーダースケール１の半径方向にわたって一定となっていてもよい。また、幅Ｗ１と幅Ｗ２とが互いに異なっていてもよい。
【００４５】
ここで、エンコーダースケール１は、板状（円板状）の基材２を有する。そして、基材２の上面には、複数の第２領域１２２に対応して複数の凹部２１が設けられている。すなわち、基材２は、平面視で、凹部２１が設けられている領域が第２領域１２２を構成し、凹部２１が設けられていない領域が第１領域１２１を構成している。凹部２１の深さは、特に限定されないが、１μｍ以上１０μｍ以下が好ましく、２μｍ以上４μｍ以下がより好ましい。凹部２１を後述のエッチングで形成する場合、このような深さであると容易に形成することができ、また、凹部２１としての機能を必要かつ十分に発揮することができる。
【００４６】
特に、凹部２１の底面には、複数の凸部２２が形成されている。各凸部２２は、図４に示すように、ピラミッド状（四角すい状）をなしており、基材２の上面２３（第１面）に対して傾斜角度θ２で傾斜した側面として４つの傾斜面２２１（第２面）を有する。また、凹部２１の側壁面（底面と上面２３とを繋ぐ面）も、基材２の上面２３（第１面）に対して傾斜角度θ１で傾斜した傾斜面２１１（第２面）となっている。このような傾斜面２１１、２２１は、それぞれ、光ＬＬに対する反射性を有していてもいなくてもよい。傾斜面２１１、２２１が光ＬＬに対する反射性を有しないようにするには、例えば、これらの面に微細孔アレイを形成する等の処理を行えばよく、これにより、第２領域１２２で反射して受光部４３で受光される光ＬＬの量をより低減することができる。また、このような処理を行わなければ、これらの面が光ＬＬに対する反射性を有することとなり、また、製造工程が簡単化される。また、傾斜面２１１の傾斜角度θ１および傾斜面２２１の傾斜角度θ２は、それぞれ、上面２３と異なる方向に光ＬＬを反射することができればよく、特に限定されないが、例えば、後述するように基材２を単結晶シリコンで構成した場合、傾斜角度θ２は、約５５°（理論値）であり、傾斜角度θ１は、第２領域１２２の延在方向によって異なり、約４８°〜５５°（理論値）である。
【００４７】
また、図示では、複数の凸部２２は、互いに大きさが等しく、かつ、規則的に配置されているが、互いに大きさが異なっていてもよく、また、ランダムに配置されていてもよい。また、各凸部２２は、図５に示すように平面視で四角形をなしており、複数の凸部２２の平面視での向きが揃っている。ここで、複数の凸部２２は、平面視で、いかなる方向を向いていてもよいが、本実施形態では、複数の第２領域１２２間で互いに同じ方向を向いている。
【００４８】
このように、エンコーダースケール１は、板状（円板状）の基材２と、基材２の一方の面（図１および図３中上側）に設けられ、第１領域１２１と第２領域１２２とが交互に並んでいる光学パターン１２と、を備える。そして、第１領域１２１は、基材２の厚さ方向を法線とする上面２３（第１面）を主体に構成され、第２領域１２２は、上面２３に対して傾斜している傾斜面２２１（第２面）を主体に構成されている。また、第１領域１２１は、軸線ａｘを中心とする円の周方向に沿って第２領域１２２と交互に並んで配置されている複数の部分を有しており、これらの部分から選択される２つの部分の幅Ｗ１が互いに等しい。ここで、平面視で、第１領域１２１は、第１方向に延びている第１部分（例えば図２に示す方向Ｂに延びている部分１２１ａ）と、第１方向に交差する第２方向に延びている第２部分（例えば図２に示す方向Ｃに延びている部分１２１ｂ）と、を有し、当該第１部分の幅（例えば部分１２１ａの幅Ｗ１ａ）と当該第２部分の幅（例えば部分１２１ｂの幅Ｗ１ｂ）とが互いに等しい。
【００４９】
このようなエンコーダースケール１によれば、第１領域１２１が基材２の厚さ方向を法線とする上面２３で構成され、第２領域１２２が上面２３に対して傾斜している傾斜面２２１を含んで構成されているため、第１領域１２１および第２領域１２２で反射した光の方向を互いに異ならせ、第１領域１２１で反射した光ＬＬのみを選択的に受光部４３で受光することができる。そのため、基材２を透明材料で構成する必要がなく、基材２の材料選択の自由度を高めることができ、その結果、より安価でかつ加工性に優れた材料を用いることができる。また、第１領域１２１に光ＬＬが照射されている状態とそうでない状態との受光部４３での受光量の差を大きくすることができ、その結果、検出精度を高めることができる。より具体的には、第１領域１２１に光ＬＬが照射されている状態での受光部４３の受光量を光源部４２からの光ＬＬの光量に対して５７％以上とし、第２領域１２２に光ＬＬが照射されている状態での受光部４３の受光量を光源部４２からの光ＬＬの光量に対して５％以下とすることができる。なお、エンコーダースケール１では、傾斜面２１１も「第２面」（反射面）を構成しているともいえる。
【００５０】
ここで、「第１領域１２１が上面２３（第１面）を主体に構成されている」とは、平面視で第１領域１２１内における上面２３（第１面）の面積占有率が５０％以上（好ましくは７０％以上、より好ましくは９０％以上）であることを言う。また、「第２領域１２２が傾斜面２２１（第２面）を主体に構成されている」とは、平面視で第２領域１２２内における傾斜面２２１（第２面）の面積占有率が５０％以上（好ましくは７０％以上、より好ましくは９０％以上）であることを言う。また、第２領域１２２は、上面２３と同様に基材２の厚さ方向を法線とする面（第１面）を含んでいてもよいが、その場合、平面視で、第２領域１２２内における当該面の面積占有率が第１領域１２１内における上面２３（第１面）の面積占有率よりも小さければよい。
【００５１】
これに対し、例えば、仮に第２領域１２２が第１領域１２１（上面２３）の法線と平行な法線の平坦面で構成されている場合、当該平坦面に光ＬＬの反射を低減する処理（例えば、光を散乱させるために主に曲面を組み合わせて構成されている凹凸面とする粗面化、光吸収率を高める黒色化等）を施したとしても、第２領域１２２での反射率を十分（５％以下）に小さくすることが難しい。そのため、第２領域１２２に光源部４２からの光ＬＬが照射されている状態において、第２領域１２２で反射して受光部４３に入射する光ＬＬの量を十分に小さくすることができない。
【００５２】
また、エンコーダースケール１では、第１領域１２１の周方向に並ぶ複数の部分（第１部分および第２部分を含む）の幅Ｗ１が互いに等しいため、図８に示すように、光学センサー４０の受光による出力（電圧）の最大値（図８中上側の実線）および最小値（図８中下側の実線）をエンコーダースケール１の角度によらず一定にすることができる。このように、第１部分の幅（例えば部分１２１ａの幅Ｗ１）と第２部分の幅（例えば部分１２１ｂの幅Ｗ２）とを等しくすることで、第１領域１２１で反射した光ＬＬの強度変動による検出精度の低下を低減することができる。これに対し、第１領域１２１の複数の部分の幅Ｗ１が角度によって異なっていると、例えば、図８中の破線で示すように、光学センサー４０の受光による出力（電圧）の最大値（図８中上側の破線）および最小値（図８中下側の破線）が変動し、その結果、検出精度の低下を招いてしまう。
【００５３】
なお、基材２上には、第１領域１２１および第２領域１２２のうちの少なくとも一方に金属膜が設けられていてもよく、この場合、第１領域１２１および第２領域１２２のうちの少なくとも一方の反射率を高めることができる。かかる金属膜は、第１領域１２１および第２領域１２２の双方に設けられていることが好ましい。これにより、金属膜のパターニングが不要となり、製造工程が簡単化される。金属膜の構成材料としては、例えば、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタン、タングステン等の金属またはこれらを含む合金（複合材料）が挙げられる。また、金属膜の形成方法は、例えば、蒸着、スパッタリング等の乾式メッキや、湿式メッキ、さらには、インクジェット、スクリーン印刷のような印刷法、転写法等が挙げられる。金属膜の膜厚は、特に限定されないが、０．００１μｍ以上１００μｍ以下が好ましく、０．０５μｍ以上０．１μｍ以下がより好ましい。
【００５４】
また、基材２は、いかなる材料で構成されていてもよいが、単結晶シリコン、シリコンカーバイト、水晶等の異方性エッチングが可能な結晶材料で構成されていることが好ましい。これにより、後述するように、光学パターン１２を高精度に形成することができる。また、結晶材料の結晶面を利用して上面２３（第１面）および傾斜面２２１（第２面）を形成することができる。
【００５５】
また、基材２に用いる結晶材料は、単結晶シリコンであることが好ましい。単結晶シリコンは、他の結晶材料に比べて安価であり、高精度な加工が容易である。そのため、エンコーダースケール１の基材２が単結晶シリコンで構成されていることで、エンコーダースケール１の低コスト化および高精度化が容易に図れるという利点がある。
【００５６】
特に、基材２に用いる単結晶シリコンの面方位は、（１００）であることが好ましい。これにより、単結晶シリコンの［１００］面を利用して上面２３（第１面）を形成することで、上面２３のエッチング形状を四角錘にすることができる。そのため、このような単結晶シリコンを用いることで、リニアエンコーダーだけでなく、本実施形態のようにロータリーエンコーダーに適したエンコーダースケール１を形成することができる。このように単結晶シリコンを用いて形成したエンコーダースケール１のＳＥＭ写真を図６に示す。また、単結晶シリコンを用いて形成したエンコーダースケール１の第２領域１２２で反射して受光部４３で受光される光ＬＬの量は、図７に示すように、光源部４２からの光ＬＬの光量に対して３％以下とすることができる。
【００５７】
このように、傾斜面２１１、２２１（第２面）は、基材２に用いる結晶材料の結晶面に沿って設けられていることが好ましい。これにより、基材２の上面２３（第１面）に対する傾斜角度θ１、θ２のバラつきの少ない傾斜面２１１、２２１（第２面）を容易に形成することができる。ここで、基材２を単結晶シリコンで構成した場合、傾斜面２２１の傾斜角度θ２は、約５５°（理論値）であり、傾斜面２１１の傾斜角度θ１は、エンコーダースケール１の周方向での位置によって異なる。
【００５８】
また、基材２の一方（図１および図３中上側）の面には、第２領域１２２に対応して凹部２１が設けられている。これにより、後述するように、第２領域１２２（第２面である傾斜面２１１、２２１）をエッチングにより容易に形成することができる。また、凹部２１内には、傾斜面２２１（第２面）を側面として有する複数の凸部２２が設けられている。これにより、エッチング量を少なくすることができ、製造時間を短縮し、ひいては製造コストを低減することができる。これに対し、例えば、第２領域１２２を傾斜面２１１のみで構成する場合、基材２を深くエッチングする必要があり、製造に長時間を要し、その結果、製造コストの増大を招く。
【００５９】
以上のように、エンコーダー１０は、前述したエンコーダースケール１を備える。これにより、低コスト化を図りつつ、検出精度を高めることができる。
【００６０】
すなわち、エンコーダー１０は、エンコーダースケール１と、エンコーダースケール１に向けて光ＬＬを出射する光源部４２と、エンコーダースケール１からの光ＬＬの反射光を受光する受光部４３と、を備える。そして、前述したように、エンコーダースケール１は、板状の基材２と、基材２の一方（図１および図３中上側）の面に設けられ、第１領域１２１と第２領域１２２とが交互に並んでいる光学パターン１２と、を備える。ここで、第１領域１２１は、基材２の厚さ方向を法線とする「第１面」である上面２３を主体に構成され、第２領域１２２は、上面２３とは異なる方向に光ＬＬを反射させる「第２面」である傾斜面２１１、２２１を主体に構成されている。このようなエンコーダー１０によれば、低コスト化を図りつつ、検出精度を高めることができる。
【００６１】
（エンコーダースケールの製造方法）
図９は、図３に示すエンコーダースケールの製造方法を説明するためのフローチャートである。
【００６２】
エンコーダースケール１の製造方法は、図９に示すように、準備工程Ｓ１０と、光学パターン形成工程Ｓ２０と、外形形成工程Ｓ３０と、マスク除去工程Ｓ４０と、を有する。以下、各工程を順次説明する。なお、以下では、基材２を（１００）単結晶シリコンで構成する場合を例に説明する。
【００６３】
［準備工程Ｓ１０］
図１０は、図９に示す準備工程を説明するための断面図である。
【００６４】
まず、図１０に示すように、（１００）単結晶シリコン基板である基材２ａを準備する。この基材２ａは、単結晶シリコン基板をそのまま用いてもよいが、必要に応じて、単結晶シリコン基板の一方の面を研削して薄肉化した基板を用いる。
【００６５】
［光学パターン形成工程Ｓ２０］
図１１は、図９に示す光学パターン形成工程（マスク形成工程）を説明するための断面図である。図１２は、図１１に示すマスクの平面図である。図１３は、図１２に示すマスクが有する複数の開口の幅が互いに等しい場合における角度と第１領域および第２領域の幅との関係を示すグラフである。図１４は、図１２に示すマスクが有する複数の開口の幅の角度ごとの補正量を示すグラフである。図１５は、図９に示す光学パターン形成工程（異方性エッチング工程）を説明するための断面図である。図１６は、図１２中の方向ｂ１に延びる開口を通じて異方性エッチングを行った状態を示すＳＥＭ写真である。図１７は、図１２中の方向ｂ３に延びる開口を通じて異方性エッチングを行った状態を示すＳＥＭ写真である。図１８は、図１２中の方向ｂ２に延びる開口を通じて異方性エッチングを行った状態を示すＳＥＭ写真である。
【００６６】
−マスク形成工程−
次に、図１１に示すように、基材２ａの一方の面上に、マスク３を形成する。このマスク３は、例えば、基材２ａの一方の面上に金属膜を一様に形成した後、当該金属膜上にフォトレジストでマスクを形成し、当該マスクを介して当該金属膜をエッチングし、その後、当該マスクを除去することで得られる。
【００６７】
このマスク３は、図１２に示すように、複数の開口３１を有し、後述する異方性エッチング工程においてエッチングマスクとして用いる。ここで、複数の開口３１は、前述したエンコーダースケール１の複数の凹部２１に対応して設けられているが、複数の開口３１の幅が互いに等しいと、例えば、図１３に示すように、得られる第１領域１２１および第２領域１２２の幅Ｗ１、Ｗ２（図１３中の左側の縦軸「Width」で示す）が角度（図１３中の横軸「Angle」）によって異なってしまう。これは、単結晶シリコンの面方位によってエッチングレート（サイドエッチング量）が異なるためである。なお、図１３には、第１領域１２１および第２領域１２２の幅Ｗ１、Ｗ２の合計（Ｗ１＋Ｗ２）が図１３中の右側の縦軸「Width」で示されている。
【００６８】
そこで、このような単結晶シリコンの面方位によるエッチングレートを考慮して各開口３１の幅を調整する（均等の幅からずらす）。より具体的に説明すると、シリコンの結晶方位（１１０）が図１２中の方向ｂ１に沿っている場合、方向ｂ１に沿った開口３１を通じたエッチングのサイドエッチング量が最も小さく、方向ｂ１に対して４５°傾斜した方向ｂ２に沿った開口３１を通じたエッチングのサイドエッチング量が最も大きい。なお、方向ｂ１に対して２２．５°傾斜した方向ｂ３に沿った開口３１を通じたエッチングのサイドエッチング量は、方向ｂ１に沿った開口３１を通じたエッチングのサイドエッチング量と、方向ｂ２に沿った開口３１を通じたエッチングのサイドエッチング量との中間程度である。シリコンの結晶方位の対称性から、方向ｂ１に対して直交する方向ｂ４に沿った開口３１を通じたエッチングのサイドエッチング量は、方向ｂ１に沿った開口３１を通じたエッチングのサイドエッチング量と等しい。また、方向ｂ２と方向ｂ４との間にある開口３１を通じたエッチングのサイドエッチング量は、方向ｂ１と方向ｂ２との間にある開口を通じたエッチングのサイドエッチング量と同じである。そのため、方向ｂ１に沿った開口３１側から方向ｂ２に沿った開口３１側に向けて、開口３１の幅を徐々に小さくする。したがって、方向ｂ１に沿った開口３１の幅Ｗ３１、方向ｂ２に沿った開口３１の幅Ｗ３２、方向ｂ３に沿った開口３１の幅Ｗ３３のうち、幅Ｗ３１が最も広く、幅Ｗ３２が最も狭い。幅Ｗ３３は、幅Ｗ３１と幅Ｗ３２との中間程度である。また、方向ｂ４に沿った開口３１の幅Ｗ３４は、幅Ｗ３１と等しい。
【００６９】
このような開口３１の幅は、理論値を用いた計算により求めてもよいし、実験または試作を行い、図１３に示すような結果を得て、その結果を用いて、図１４に示すように、角度ごとの補正量を求め、この補正量を加味して求めてもよい。この補正量は、例えば、（Ｗ２−Ｗ１）／２または（目標値−Ｗ１）である。
【００７０】
−異方性エッチング工程−
そして、図１５に示すように、マスク３を用いて、基材２ａを異方性エッチングし、必要に応じて、基材２ａを洗浄する。これにより、複数の凹部２１および複数の凸部２２を有する基材２ｂが得られる。凹部２１の壁面付近の断面を図１６〜図１８に示す。なお、図１６は、図１２中の方向ｂ１に沿った凹部２１の断面を示し、図１７は、図１２中の方向ｂ３に沿った凹部２１の断面を示し、図１８は、図１２中の方向ｂ２に沿った凹部２１の断面を示す。
【００７１】
この異方性エッチング（ウェットエッチング）は、特に限定されないが、例えば、ＫＯＨやＴＭＡＨ等のアルカリエッチング液を用いる。
【００７２】
［外形形成工程］
図示しないが、基材２ａをドライエッチングすることで、エンコーダースケール１の外形（孔１１を含む）を形成する。本工程では、例えば、ドライエッチングの前に、保護膜としてマスク３上にレジスト層を形成し、ドライエッチングの後に、当該レジスト層を除去する。
【００７３】
本工程のドライエッチングとしては、特に限定されないが、例えば、Ｓｉ高速エッチング法、ボッシュプロセス法、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ：Reactive Ion Etching）、ＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma）等が挙げられる。また、エッチングガスとしては、Ｃｌ２＋ＨＢｒ、ＳＦ６等を用いることができる。
【００７４】
［マスク除去工程］
図１９は、図９に示すマスク除去工程を説明するための断面図である。
最後に、図１９に示すように、ドライエッチングまたはウェットエッチングによりマスク３を除去する。なお、マスク３の除去は、異方性エッチング工程の後であれば、外形形成工程の前に行ってもよい。
以上のようにして、エンコーダースケール１を製造することができる。
【００７５】
以上のように、エンコーダースケール１の製造方法は、板状の基材２ａの一方の面に、基材２ａの厚さ方向を法線とする上面２３（第１面）を主体に構成されている第１領域１２１と、上面２３に対して傾斜している傾斜面２２１（第２面）を主体に構成されている第２領域１２２とが交互に複数並んでいる光学パターン１２を形成する光学パターン形成工程Ｓ２０を含む。ここで、第１領域１２１は、第１方向に延びている第１部分と、第１方向に交差する第２方向に延びている第２部分と、を有しており、光学パターン形成工程Ｓ２０は、第１部分の幅と第２部分の幅とが等しくなるように開口幅（開口３１の幅）を調整したマスク３を用いて、第２領域１２２を異方性エッチングにより形成する。このようなエンコーダースケール１の製造方法によれば、低コスト化を図りつつ、検出精度を高めることができるエンコーダースケール１を得ることができる。
【００７６】
（ロボット）
以下、本発明のロボットについて単腕ロボットを例に説明する。
図２０は、本発明のロボットの実施形態を示す斜視図である。
【００７７】
図２０に示すロボット１０００は、精密機器やこれを構成する部品（対象物）の給材、除材、搬送および組立等の作業を行うことができる。このロボット１０００は、６軸ロボットであり、床や天井に固定されるベース１０１０と、ベース１０１０に回動自在に連結されたアーム１０２０と、アーム１０２０に回動自在に連結されたアーム１０３０と、アーム１０３０に回動自在に連結されたアーム１０４０と、アーム１０４０に回動自在に連結されたアーム１０５０と、アーム１０５０に回動自在に連結されたアーム１０６０と、アーム１０６０に回動自在に連結されたアーム１０７０と、これらアーム１０２０、１０３０、１０４０、１０５０、１０６０、１０７０の駆動を制御する制御部１０８０と、を有している。また、アーム１０７０にはハンド接続部が設けられており、ハンド接続部にはロボット１０００に実行させる作業に応じたエンドエフェクター１０９０が装着されている。
【００７８】
また、ロボット１０００が有する複数の関節部のうちの全部または一部には、エンコーダー１０が搭載されており、制御部１０８０は、このエンコーダー１０の出力に基づいて、関節部の駆動を制御する。なお、図示では、エンコーダー１０は、アーム１０４０とアーム１０５０との間の関節部に設けられている。
【００７９】
以上のように、ロボット１０００は、エンコーダースケール１を備える。このようなロボット１０００によれば、エンコーダースケール１の低コスト化を図ることで、ロボット１０００の低コスト化を図ることができる。また、エンコーダースケール１を用いた高精度な検出結果に基づいて高精度な動作制御を行うことができる。
【００８０】
なお、ロボット１０００が有するアームの数は、図示では６本であるが、これに限定されず、１〜５本または７本以上であってもよい。
【００８１】
（プリンター）
図２１は、本発明のプリンターの実施形態を示す斜視図である。
図２１に示すプリンター３０００は、インクジェット記録方式のプリンターである。このプリンター３０００は、装置本体３０１０と、装置本体３０１０の内部に設けられている印刷機構３０２０、給紙機構３０３０および制御部３０４０と、を備えている。
【００８２】
装置本体３０１０には、記録用紙Ｐを設置するトレイ３０１１と、記録用紙Ｐを排出する排紙口３０１２と、液晶ディスプレイ等の操作パネル３０１３とが設けられている。
【００８３】
印刷機構３０２０は、ヘッドユニット３０２１と、キャリッジモーター３０２２と、キャリッジモーター３０２２の駆動力によりヘッドユニット３０２１を往復動させる往復動機構３０２３と、を備えている。ヘッドユニット３０２１は、インクジェット式記録ヘッドであるヘッド３０２１ａと、ヘッド３０２１ａにインクを供給するインクカートリッジ３０２１ｂと、ヘッド３０２１ａおよびインクカートリッジ３０２１ｂを搭載したキャリッジ３０２１ｃと、を有している。往復動機構３０２３は、キャリッジ３０２１ｃを往復移動可能に支持しているキャリッジガイド軸３０２３ａと、キャリッジモーター３０２２の駆動力によりキャリッジ３０２１ｃをキャリッジガイド軸３０２３ａ上で移動させるタイミングベルト３０２３ｂと、を有している。
【００８４】
給紙機構３０３０は、互いに圧接している従動ローラー３０３１および駆動ローラー３０３２と、駆動ローラー３０３２を駆動する給紙モーター３０３３と、給紙モーター３０３３の回転軸の回転状態を検出するエンコーダー１０と、を有している。
【００８５】
制御部３０４０は、例えばパーソナルコンピュータ等のホストコンピュータから入力された印刷データに基づいて、印刷機構３０２０や給紙機構３０３０等を制御する。
【００８６】
このようなプリンター３０００では、給紙機構３０３０が記録用紙Ｐを一枚ずつヘッドユニット３０２１の下部近傍へ間欠送りする。このとき、ヘッドユニット３０２１が記録用紙Ｐの送り方向とほぼ直交する方向に往復移動して、記録用紙Ｐへの印刷が行なわれる。
【００８７】
以上のように、プリンター３０００は、エンコーダースケール１を備える。このようなプリンター３０００によれば、エンコーダースケール１の低コスト化を図ることで、プリンター３０００の低コスト化を図ることができる。また、エンコーダースケール１を用いた高精度な検出結果に基づいて高精度な動作制御を行うことができる。
【００８８】
（プロジェクター）
図２２は、本発明のプロジェクターの実施形態を示す概略図である。
【００８９】
図２２に示すプロジェクター４０００は、赤色光を出射する光源４１００Ｒと、緑色光を出射する光源４１００Ｇと、青色光を出射する光源４１００Ｂと、レンズアレイ４２００Ｒ、４２００Ｇ、４２００Ｂと、透過型の液晶ライトバルブ（光変調部）４３００Ｒ、４３００Ｇ、４３００Ｂと、クロスダイクロイックプリズム４４００と、投射レンズ（投射部）４５００と、圧電駆動装置４７００と、を有している。
【００９０】
光源４１００Ｒ、４１００Ｇ、４１００Ｂから出射された光は、各レンズアレイ４２００Ｒ、４２００Ｇ、４２００Ｂを介して、液晶ライトバルブ４３００Ｒ、４３００Ｇ、４３００Ｂに入射する。各液晶ライトバルブ４３００Ｒ、４３００Ｇ、４３００Ｂは、入射した光をそれぞれ画像情報に応じて変調する。
【００９１】
各液晶ライトバルブ４３００Ｒ、４３００Ｇ、４３００Ｂによって変調された３つの色光は、クロスダイクロイックプリズム４４００に入射して合成される。クロスダイクロイックプリズム４４００によって合成された光は、投射光学系である投射レンズ４５００に入射する。投射レンズ４５００は、液晶ライトバルブ４３００Ｒ、４３００Ｇ、４３００Ｂによって形成された像を拡大して、スクリーン（表示面）４６００に投射する。これにより、スクリーン４６００上に所望の映像が映し出される。ここで、投射レンズ４５００は、圧電駆動装置４７００に支持されており、圧電駆動装置４７００の駆動により位置および姿勢の変更（位置決め）が可能となっている。これにより、スクリーン４６００に投射される映像の形状や大きさ等を調整することができる。この圧電駆動装置４７００は、その駆動状態を検出するためのエンコーダー１０を有する。
【００９２】
なお、上述の例では、光変調部として透過型の液晶ライトバルブを用いたが、液晶以外のライトバルブを用いてもよいし、反射型のライトバルブを用いてもよい。このようなライトバルブとしては、例えば、反射型の液晶ライトバルブや、デジタルマイクロミラーデバイス（Digital Micromirror Device）が挙げられる。また、投射光学系の構成は、使用されるライトバルブの種類によって適宜変更される。また、プロジェクターとしては、光をスクリーン上で走査させることにより、表示面に所望の大きさの画像を表示させる走査型のプロジェクターであってもよい。
【００９３】
以上のようなプロジェクター４０００は、エンコーダースケール１を備える。このようなプロジェクター４０００によれば、エンコーダースケール１の低コスト化を図ることで、プロジェクター４０００の低コスト化を図ることができる。また、エンコーダースケール１を用いた高精度な検出結果に基づいて高精度な動作制御を行うことができる。
【００９４】
以上、本発明のエンコーダースケール、エンコーダースケールの製造方法、エンコーダー、ロボット、プリンターおよびプロジェクターを、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、本発明に、他の任意の構成物が付加されていてもよい。
【００９５】
また、本発明は、前述した実施形態のうちの、任意の２以上の構成（特徴）を組み合わせたものであってもよい。
【００９６】
また、本発明のロボットは、アームを有していれば、単腕ロボットに限定されず、例えば、双腕ロボット、スカラーロボット等の他のロボットであってもよい。
【００９７】
また、前述した実施形態ではエンコーダースケールユニットおよびエンコーダーをロボットおよびプリンターに適用した構成について説明したが、エンコーダースケールユニットおよびエンコーダーは、これら以外の各種電子機器にも適用することができる。また、エンコーダーは、プリンターに用いる場合、プリンターの紙送りローラーの駆動源に限定されず、例えば、プリンターのインクジェットヘッドの駆動源等に適用することもできる。
【００９８】
また、本発明のエンコーダーは、ロボット以外の機器に組み込んでもよく、例えば、自動車等の移動体に搭載してもよい。
【符号の説明】
【００９９】
１…エンコーダースケール、２…基材、２ａ…基材、２ｂ…基材、３…マスク、１０…エンコーダー、１１…孔、１２…光学パターン、２０…回転軸、２１…凹部、２２…凸部、２３…上面、３０…エンコーダースケールユニット、３１…開口、３３…反射面、４０…光学センサー、４１…基板、４２…光源部、４３…受光部、１２１…第１領域、１２１ａ…部分、１２１ｂ…部分、１２２…第２領域、２１１…傾斜面、２２１…傾斜面、３０１…ハブ、３０２…接着剤、３０３…支持部、３０４…突出部、３０５…凸部、３０６…凹部、３０７…設置面、１０００…ロボット、１０１０…ベース、１０２０…アーム、１０３０…アーム、１０４０…アーム、１０５０…アーム、１０６０…アーム、１０７０…アーム、１０８０…制御部、１０９０…エンドエフェクター、３０００…プリンター、３０１０…装置本体、３０１１…トレイ、３０１２…排紙口、３０１３…操作パネル、３０２０…印刷機構、３０２１…ヘッドユニット、３０２１ａ…ヘッド、３０２１ｂ…インクカートリッジ、３０２１ｃ…キャリッジ、３０２２…キャリッジモーター、３０２３…往復動機構、３０２３ａ…キャリッジガイド軸、３０２３ｂ…タイミングベルト、３０３０…給紙機構、３０３１…従動ローラー、３０３２…駆動ローラー、３０３３…給紙モーター、３０４０…制御部、４０００…プロジェクター、４１００Ｂ…光源、４１００Ｇ…光源、４１００Ｒ…光源、４２００Ｂ…レンズアレイ、４２００Ｇ…レンズアレイ、４２００Ｒ…レンズアレイ、４３００Ｂ…液晶ライトバルブ、４３００Ｇ…液晶ライトバルブ、４３００Ｒ…液晶ライトバルブ、４４００…クロスダイクロイックプリズム、４５００…投射レンズ、４６００…スクリーン、４７００…圧電駆動装置、Ｂ…方向、Ｃ…方向、ＬＬ…光、Ｐ…記録用紙、Ｓ１０…準備工程、Ｓ２０…光学パターン形成工程、Ｓ３０…外形形成工程、Ｓ４０…マスク除去工程、ａｘ…軸線、ｂ１…方向、ｂ２…方向、ｂ３…方向、ｂ４…方向、θ１…傾斜角度、θ２…傾斜角度
【図１】
2019095316.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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