(57)【要約】      （修正有）【課題】所望の色特性、光学特性を有し、電気的、機械的特性が共に向上した透明電極積層体およびタッチセンサーを提供する。【解決手段】透明電極積層体の製造方法において、基材層１０５上に所定の厚さの第１の透明酸化物電極層１６０を形成する。第１の透明酸化物電極層１６０上に第２の透明酸化物電極層１７０を形成する。第２の透明酸化物電極層１７０の厚さを調節して積層体全体の透過率及び色度（ｂ＊）を調節する。第２の透明酸化物電極層１７０の厚さを調節することにより、所望の色特性、光学特性を有し、電気的、機械的特性が共に向上した透明電極積層体およびタッチセンサーを製造することができる。【選択図】図１
2019034548.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材層上に所定の厚さの第１の透明酸化物電極層を形成する段階と、
前記第１の透明酸化物電極層上に第２の透明酸化物電極層を形成する段階とを含み、
前記第２の透明酸化物電極層を形成する段階は、前記第２の透明酸化物電極層の厚さを調節して積層体全体の透過率及び色度（ｂ＊）を調節することを含む、透明電極積層体の製造方法。
【請求項２】
前記第１の透明酸化物電極層は、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）を含むように形成され、前記第２の透明酸化物電極層は、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）を含むように形成される、請求項１に記載の透明電極積層体の製造方法。
【請求項３】
前記第２の透明酸化物電極層の厚さは、１２０〜１５０ｎｍの範囲に調節され、前記積層体全体の色度（ｂ＊）は５以下に調節される、請求項１に記載の透明電極積層体の製造方法。
【請求項４】
前記第２の透明酸化物電極層の厚さは、１２０〜１４０ｎｍの範囲に調節され、前記積層体全体の色度（ｂ＊）は、０．９〜４．７の範囲に調節される、請求項１に記載の透明電極積層体の製造方法。
【請求項５】
前記第１の透明酸化物電極層は、厚さが１０〜２０ｎｍの範囲で固定される、請求項１に記載の透明電極積層体の製造方法。
【請求項６】
前記積層体全体の透過率は８７％以上に調節される、請求項１に記載の透明電極積層体の製造方法。
【請求項７】
前記第１の透明酸化物電極層を形成する前に、前記基材層上に屈折率整合層を形成する段階をさらに含む、請求項１に記載の透明電極積層体の製造方法。
【請求項８】
前記屈折率整合層を形成する段階は、屈折率が互いに異なる第１の屈折率整合層および第２の屈折率整合層を順次形成することを含む、請求項７に記載の透明電極積層体の製造方法。
【請求項９】
基材層と、
前記基材層上に積層されたインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）を含む第１の透明酸化物電極層と、
前記第１の透明酸化物電極層上に積層されたインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）を含む第２の透明酸化物電極層とを含み、
前記第２の透明酸化物電極層の厚さは、１２０〜１５０ｎｍであり、積層体全体の透過率は８７％以上であり、色度（ｂ＊）は５以下である、透明電極積層体。
【請求項１０】
前記第２の透明酸化物電極層の厚さは、１２０〜１４０ｎｍであり、前記積層体全体の色度（ｂ＊）は、０．９〜４．７である、請求項９に記載の透明電極積層体。
【請求項１１】
前記第１の透明酸化物電極層の厚さは１０〜２０ｎｍである、請求項９に記載の透明電極積層体。
【請求項１２】
前記基材層と前記第１の透明酸化物電極層との間に形成される屈折率整合層をさらに含む、請求項１に記載の透明電極積層体。
【請求項１３】
前記屈折率整合層は、前記基材層から順次に積層された第１の屈折率整合層および第２の屈折率整合層を含み、前記第１の屈折率整合層は、前記第２の屈折率整合層よりも大きい屈折率を有する、請求項１２に記載の透明電極積層体。
【請求項１４】
請求項９〜１３のいずれか一項に記載の透明電極積層体を含む、タッチセンサー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明電極積層体及びその製造方法に関する。より詳しくは、複数の透明導電層を含む透明電極積層体及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報化が進展するにつれて、ディスプレイ分野でも多様な形態の要求が増加している。これにより、薄型化、軽量化、低消費電力化、などの特徴を持つ各種のフラットパネルディスプレイ、例えば、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ＥＬディスプレイ、有機発光ダイオードディスプレイ、などが研究されている。
【０００３】
また、前記ディスプレイ上に貼り付けられ、画面に表示される指示内容を人の手や物体で選択し、ユーザの命令を入力する入力装置であるタッチパネル又はタッチセンサーをディスプレイ装置と結合することで、画像表示機能及び情報入力機能を共に実現した電子機器が開発されている。
【０００４】
前記タッチセンサーの場合には、ユーザのタッチセンシングのための透明導電性酸化物を含むセンシング電極を基板上に配列することができる。前記タッチセンサーをディスプレイ装置に挿入すると、前記センシング電極により、ディスプレイ装置によって具現される画像の品質が低下することがある。例えば、前記センシング電極がユーザに視認され、前記画像を乱すことがある。また、前記センシング電極により画像の色感が変化してしまうことがある。
【０００５】
そのため、タッチセンシングのための所定の伝導性および感度を維持しつつ、画像品質の向上のための光学的特性も考慮して、前記センシング電極を設計する必要がある。
【０００６】
最近では、例えば韓国公開特許第２０１４−００９２３６６号に示されるように、様々な画像表示装置にタッチセンサーを結合したタッチスクリーンパネルが開発されているが、前述のように光学的特性が向上したタッチセンサー又はタッチパネルの要求が続いている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】韓国公開特許第２０１４−００９２３６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、向上した色感及び光学的特性を有する透明電極積層体を提供することを目的とする。
【０００９】
また、本発明は、向上した色感及び光学的特性を有する透明電極積層体の製造方法を提供することを目的とする。
【００１０】
さらに、本発明は、前記透明電極積層体を含むタッチセンサーを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
１．基材層上に所定の厚さの第１の透明酸化物電極層を形成する段階と、前記第１の透明酸化物電極層上に第２の透明酸化物電極層を形成する段階とを含み、
前記第２の透明酸化物電極層を形成する段階は、前記第２の透明酸化物電極層の厚さを調節して積層体全体の透過率及び色度（ｂ＊）を調節することを含む、透明電極積層体の製造方法。
【００１２】
２．前記項目１において、前記第１の透明酸化物電極層は、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）を含むように形成され、前記第２の透明酸化物電極層は、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）を含むように形成される、透明電極積層体の製造方法。
【００１３】
３．前記項目１において、前記第２の透明酸化物電極層の厚さは、１２０〜１５０ｎｍの範囲に調節され、前記積層体全体の色度（ｂ＊）は、５以下に調節される、透明電極積層体の製造方法。
【００１４】
４．前記項目１において、前記第２の透明酸化物電極層の厚さは、１２０〜１４０ｎｍの範囲に調節され、前記積層体全体の色度（ｂ＊）は、０．９〜４．７の範囲に調節される、透明電極積層体の製造方法。
【００１５】
５．前記項目１において、前記第１の透明酸化物電極層は、厚さが１０〜２０ｎｍの範囲で固定される、透明電極積層体の製造方法。
【００１６】
６．前記項目１において、前記積層体全体の透過率は、８７％以上に調節される、透明電極積層体の製造方法。
【００１７】
７．前記項目１において、前記第１の透明酸化物電極層を形成する前に、前記基材層上に屈折率整合層を形成する段階をさらに含む、透明電極積層体の製造方法。
【００１８】
８．前記項目７において、前記屈折率整合層を形成する段階は、屈折率が互いに異なる第１の屈折率整合層および第２の屈折率整合層を順次形成することを含む、透明電極積層体の製造方法。
【００１９】
９．基材層と、前記基材層上に積層されたインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）を含む第１の透明酸化物電極層と、前記第１の透明酸化物電極層上に積層されたインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）を含む第２の透明酸化物電極層とを含み、
前記第２の透明酸化物電極層の厚さは、１２０〜１５０ｎｍであり、積層体全体の透過率は８７％以上であり、色度（ｂ＊）は５以下である、透明電極積層体。
【００２０】
１０．前記項目９において、前記第２の透明酸化物電極層の厚さは、１２０〜１４０ｎｍであり、前記積層体全体の色度（ｂ＊）は、０．９〜４．７である、透明電極積層体。
【００２１】
１１．前記項目９において、前記第１の透明酸化物電極層の厚さは１０〜２０ｎｍである、透明電極積層体。
【００２２】
１２．前記項目１において、前記基材層と前記第１の透明酸化物電極層との間に形成される屈折率整合層をさらに含む、透明電極積層体。
【００２３】
１３．前記項目１２において、前記屈折率整合層は、前記基材層から順次に積層された第１の屈折率整合層および第２の屈折率整合層を含み、前記第１の屈折率整合層は、前記第２の屈折率整合層よりも大きい屈折率を有する、透明電極積層体。
【００２４】
１４．前記項目９〜１３のいずれか一項に記載の透明電極積層体を含む、タッチセンサー。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の実施形態に係る透明電極積層体は、例えば、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）を含む第１の透明酸化物電極層、およびインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）を含む第２の透明酸化物電極層を含むことができる。前記第２の透明酸化物電極層の厚さを調節することで、前記透明電極積層体の色度（ｂ＊）を調節することができる。これにより、画像表示装置の構造によって前記透明電極積層体の所望の色度を容易に調節できる。
【００２６】
また、前記色度の範囲内で所定の透過率を有するように前記第２の透明酸化物電極層の厚さを調節することにより、色度および透過率を含む光学的特性を全体的に向上させることができる。
【００２７】
さらに、前記第１の透明酸化物電極層の厚さを所定の範囲内に固定または維持することにより、前記透明電極積層体の機械的安定性を向上させることができる。
【００２８】
前記透明電極積層体を用いて、光学的特性および機械的信頼性が向上したタッチセンサーを製造することができ、画像表示装置内で目的の画像または色度を容易に高解像度で実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】図１は、例示的な実施形態に係る透明電極積層体を示す概略断面図である。
【図２】図２は、例示的な実施形態に係る透明電極積層体を示す概略断面図である。
【図３】図３は、例示的な実施形態に係る透明電極積層体を示す概略断面図である。
【図４】図４は、例示的な実施形態に係るタッチセンサーを示す概略断面図である。
【図５】図５は、第２の透明酸化物電極層の厚さの変化によるｂ＊値の変化を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
本発明の実施形態は、第１の透明酸化物電極層及び第２の透明酸化物電極層を含み、前記第２の透明酸化物電極層の厚さを調節することにより、所定の色度を有する透明電極積層体及びその製造方法を提供する。
【００３１】
以下、図面を参照して、本発明の実施形態をより具体的に説明する。ただし、本明細書に添付される図面は、本発明の好適な実施形態を例示するものであって、発明の詳細な説明とともに本発明の技術思想をさらに理解する一助となる役割を果たすものであるため、本発明は図面に記載された事項のみに限定されて解釈されるものではない。
【００３２】
図１は、例示的な実施形態に係る透明電極積層体を示す概略断面図である。
【００３３】
図１に示すように、透明電極積層体１００は、基材層１０５、並びに前記基材層１０５上に形成された第１の透明酸化物電極層１６０及び第２の透明酸化物電極層１７０を含むことができる。
【００３４】
基材層１０５は、透明酸化物電極層１６０，１７０の形成のためにベース層として用いられるフィルムタイプの基材、または透明酸化物電極層１６０，１７０が形成される対象体を包括する意味で使用される。一部の実施形態では、基材層１０５は、タッチセンサーが形成または積層される表示パネルを指す場合もある。一部の実施形態では、基材層１０５は、画像表示装置のウィンドウ基板を含むこともできる。
【００３５】
例えば、基材層１０５としては、タッチセンサーに通常使用される基板、またはフィルム素材を特に制限することなく使用でき、例えば、ガラス、高分子、及び／又は無機絶縁物質を含むことができる。前記高分子の例としては、環状オレフィン重合体（ＣＯＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリアクリレート（ＰＡＲ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリアリレート（polyallylate）、ポリイミド（ＰＩ）、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、環状オレフィン共重合体（ＣＯＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などが挙げられる。前記無機絶縁物質の例としては、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物、金属酸化物などが挙げられる。
【００３６】
第１の透明酸化物電極層１６０は、基材層１０５上に、例えばスパッタリング（sputtering）工程のような蒸着工程により形成することができる。
【００３７】
例示的な実施形態によると、第１の透明酸化物電極層１６０は、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）を含むように形成することができる。例えば、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）及び酸化亜鉛（ＺｎＯ）の重量比が調節されたターゲットを用いたスパッタリング工程により、第１の透明酸化物電極層１６０を形成することができる。
【００３８】
一実施形態では、第１の透明酸化物電極層１６０において、酸化亜鉛の重量比は約５〜１５重量％であってもよい。
【００３９】
第１の透明酸化物電極層１６０の厚さは、約１０〜２０ｎｍの範囲内で調節できる。
【００４０】
相対的にインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）に比べて機械的安定性および表面特性が向上したＩＺＯを使用して第１の透明酸化物電極層１６０を形成する一方、厚さを前記範囲内に調節することにより、後述する第２の透明酸化物電極層１７０により調節される透過度、色度への影響を抑制または低減できる。
【００４１】
例示的な実施形態によると、第１の透明酸化物電極層１６０は、前述のように、ＩＺＯを用いて、相対的に低温工程により形成できるため、基材層１０５の損傷を防止できる。例えば、第１の透明酸化物電極層１６０は、約２０〜１３０℃の範囲の低温蒸着工程により形成できる。
【００４２】
第１の透明酸化物電極層１６０上には、第２の透明酸化物電極層１７０を形成することができる。第２の透明酸化物電極層１７０は、第１の透明酸化物電極層１６０に比べて相対的に透過率および伝導性が向上した物質を含むように形成できる。
【００４３】
例示的な実施形態では、第２の透明酸化物電極層１７０は、ＩＴＯを含むようにスパッタリング工程のような蒸着工程により形成することができる。
【００４４】
例えば、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）および酸化スズ（ＳｎＯ２）の重量比が調節されたターゲットを用いたスパッタリング工程により、第２の透明酸化物電極層１７０を形成することができる。一実施形態では、第２の透明酸化物電極層１７０における酸化スズの重量比は約５〜１５重量％であってもよい。
【００４５】
例示的な実施形態によると、第２の透明酸化物電極層１７０の厚さを調節することにより、透明電極積層体１００の色度及び透過率を調節できる。
【００４６】
一部の実施形態では、第２の透明酸化物電極層１７０の厚さは約１２０〜１５０ｎｍの範囲で調節できる。一部の実施形態では、第２の透明酸化物電極層１７０の前記厚さの範囲で透明電極積層体１００の色度（Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるｂ＊）は、約５以下に調節できる。
【００４７】
一実施形態では、第２の透明酸化物電極層１７０の厚さは、約１２０〜１４０ｎｍの範囲で調節でき、透明電極積層体１００の色度は、約０．９〜４．７の範囲に調節できる。
【００４８】
例えば、透明電極積層体１００が、タッチセンサーのセンシング電極として使用される場合には、前記タッチセンサーは、画像表示装置の中間膜構造として挿入できる。前記画像表示装置の解像度および画像品質、前記タッチセンサーが挿入される画像表示装置内の位置等によって、求められる前記タッチセンサーの色度が異なり得る。
【００４９】
例示的な実施形態によると、透明電極積層体１００内で、例えば、ＩＴＯを含む第２の透明酸化物電極層１７０の厚さを調節することにより、透明電極積層体１００全体の色度を容易に調節できる。また、前記厚さの範囲で色度を約５以下、好ましくは約０．９〜４．７の範囲に調節することにより、色偏差による画像表示装置での画像の変形または攪乱を防止できる。
【００５０】
また、第２の透明酸化物電極層１７０の厚さを前記範囲に調節することにより、透明電極積層体１００全体の透過率を約８７％以上に調節することができる。透明電極積層体１００の透過率が約８７％未満の場合には、タッチセンサーのユーザに電極が視認されることがあり、前記画像表示装置の画像品質が劣化することがある。
【００５１】
第２の透明酸化物電極層１７０は、第１の透明酸化物電極層１６０に比べて伝導性および透過率が向上した物質、例えばＩＴＯを含むように形成され、また第１の透明酸化物電極層１６０よりも大きい厚さを有するように形成することができる。
【００５２】
これにより、第２の透明酸化物電極層１７０によって、タッチセンサーの伝導性、透過率を確保するとともに、色度の微調節を行うことができる。また、第１の透明酸化物電極層１６０は、例えば、基材層１０５側から第２の透明酸化物電極層１７０に浸透する外部の不純物に対するバリアとして提供することができ、タッチセンサーに含まれるセンシング電極の機械的安定性を向上させることができる。
【００５３】
第２の透明酸化物電極層１７０は、第１の透明酸化物電極層１６０よりも相対的に高温工程により形成することができる。例えば、第２の透明酸化物電極層１７０は、約３０〜２３０℃の温度の蒸着工程により形成できる。
【００５４】
一部の実施形態では、第１の透明酸化物電極層１６０及び第２の透明酸化物電極層１７０は、互いに接触しており、この場合、タッチセンサーのセンシング電極は２層構造を有することができる。前記センシング電極において、前述のように、第１の透明酸化物電極層１６０はバリア電極または支持電極で提供され、第２の透明酸化物電極層１７０は伝導性、透過率、色度調整電極で提供され得る。
【００５５】
図２は、例示的な実施形態に係る透明電極積層体を示す概略断面図である。
【００５６】
図２に示すように、第１の透明酸化物電極層１６０と基材層１０５との間に屈折率整合層１４０を形成することができる。屈折率整合層１４０は、例えば、基材層１０５の屈折率と、透明酸化物電極層１６０，１７０の屈折率との間の屈折率を有し、第１の透明酸化物電極層１６０と基材層１０５との間の屈折率の変化を緩衝することができる。
【００５７】
一部の実施形態では、屈折率整合層１４０は、図２に示すように基材層１０５の上面から順次積層され、互いに異なる屈折率を有する第１の屈折率整合層１２０及び第２の屈折率整合層１３０を含むことができる。一実施形態では、第１の屈折率整合層１２０の屈折率を第２の屈折率整合層１３０の屈折率よりも高くしてもよい。
【００５８】
例えば、屈折率整合層１４０は、アクリル樹脂、シロキサン樹脂などのような有機絶縁物質、またはシリコン酸化物、シリコン窒化物などのような無機絶縁物質を含むことができる。一実施形態では、屈折率整合層１４０は、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）などの無機粒子をさらに含むことができる。例えば、前記無機粒子は、第１の屈折率整合層１２０に含まれ、相対的に屈折率を増加させることができる。
【００５９】
屈折率整合層１４０の厚さは、透明電極積層体１００ａにおいて、第２の透明酸化物電極層１７０によって調節された色度、透過率に影響を与えないように設定できる。
【００６０】
例えば、第１の屈折率整合層１２０の厚さは、約１０〜８０ｎｍであってもよい。第２の屈折率整合層１３０の厚さは、約１００〜２００ｎｍであってもよい。
【００６１】
図３は、例示的な実施形態に係る透明電極積層体を示す概略断面図である。
【００６２】
図３に示すように、透明電極積層体１００ｂは、基材層１０５の少なくとも一つの面上に形成されたハードコート層を含むことができる。一部の実施形態では、前記ハードコート層は、基材層１０５の底面上に形成された第１のハードコート層１１０ａと、基材層１０５の上面上に形成された第２のハードコート層１１０ｂとを含むことができる。
【００６３】
ハードコート層１１０ａ，１１０ｂは、例えば、光硬化性化合物、光開始剤および溶剤を含むハードコート組成物を使用して形成され、これにより、基材層１０５の柔軟性、耐摩耗性、表面硬度をさらに向上させることができる。
【００６４】
前記光硬化性化合物は、例えばシロキサン系化合物、アクリレート系化合物、（メタ）アクリロイル基またはビニル基を有する化合物などを含むことができる。これらは、単独に又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６５】
一部の実施形態では、基材層１０５は、画像表示装置のウィンドウで提供することができ、基材層１０５の前記底面又は第１のハードコート層１１０ａをユーザの視認側に配置することができる。
【００６６】
図４は、例示的な実施形態に係るタッチセンサーを示す概略断面図である。
【００６７】
図４に示すように、前記タッチセンサーは、基材層１０５上に形成されたセンシング電極１５０を含むことができる。センシング電極１５０は、前述のように、第１の透明酸化物電極層１６０及び第２の透明酸化物電極層１７０の積層構造を含むことができる。
【００６８】
一部の実施形態では、前記タッチセンサーは、相互静電容量（Mutual−Capacitance）方式により駆動できる。この場合には、センシング電極１５０は、ユーザのタッチ位置を検出するために、互いに異なる方向（例えば、Ｘ方向及びＹ方向）に交差するように配列される第１のセンシング電極及び第２のセンシング電極を含むことができる。
【００６９】
例えば、第１のセンシング電極は、単位パターンがつなぎ部によって互に接続されてセンシングライン形状に延長され、複数の前記センシングラインが配列され得る。第２のセンシング電極は、それぞれ物理的に離隔している単位パターンを含むことができる。例えば、前記第１のセンシング電極を間に置いて互いに隣り合う第２のセンシング電極を電気的に接続するブリッジ電極をさらに含むことができる。この場合には、絶縁パターンが、前記つなぎ部及びブリッジ電極の交差部に形成され、前記第１及び第２のセンシング電極を互いに絶縁することができる。
【００７０】
一実施形態では、前記つなぎ部及びブリッジ電極もまた、前述した第１の透明酸化物電極層１６０及び第２の透明酸化物電極層１７０の積層構造を含むことができる。
【００７１】
一部の実施形態では、前記タッチセンサーは、自己静電容量（Self−Capacitance）方式により駆動されるタッチセンサーを含むことができる。この場合には、センシング電極１５０は、それぞれ物理的に離隔している単位パターンを含むことができる。前記単位パターンは、それぞれ、トレースまたは配線ラインにより駆動回路と電気的に接続できる。
【００７２】
絶縁層１８０は、基材層１０５上でセンシング電極１５０を覆うことができる。絶縁層１８０は、例えば、シリコン酸化物のような無機絶縁物質、またはアクリル系樹脂のような透明有機物質で形成することができる。
【００７３】
基材層１０５上には、図２を参照して説明したように、屈折率整合層１４０を形成することができる。隣り合うセンシング電極１５０同士の間の領域、例えばセンシング電極１５０が形成されていない領域では、屈折率整合層１４０が露出して、電極領域と非電極領域との間の屈折率差による電極の視認を抑制または低減できる。
【００７４】
本発明の実施形態は、前述した透明電極積層体を含むタッチセンサーまたはタッチスクリーンパネルを提供する。また、本発明の実施形態は、前記タッチセンサーを含む、例えば、ＯＬＥＤ装置またはＬＣＤ装置のような画像表示装置を提供する。
【００７５】
前記画像表示装置において、ＯＬＥＤパネルまたはＬＣＤパネルのようなディスプレイパネル上に、例えば、図４に示すようなタッチセンサーを積層することができる。前記ディスプレイパネルは、ディスプレイ基板上に配列された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を含む画素回路、および前記画素回路と電気的に接続される画素部または発光部を含むことができる。
【００７６】
前記ディスプレイパネルと前記タッチセンサーとの間に、または前記タッチセンサー上に偏光板を積層することもできる。前記タッチセンサー上には、ウィンドウが配置されて保護部材として提供され得る。一部の実施形態では、前記透明電極積層体または前記タッチセンサーの基材層１０５を前記ウィンドウとして提供することもできる。
【００７７】
以下、具体的な実験例により、本発明の光学積層体の特性についてより詳細に説明する。これらの実施例は本発明を例示するものに過ぎず、添付の特許請求の範囲を制限するものではない。これらの実施例に対し、本発明の範疇および技術思想の範囲内で種々の変更および修正を加えることが可能であることは当業者にとって明らかであり、これらの変形および修正が添付の特許請求の範囲に属することも当然のことである。
【００７８】
実験例
上面及び下面に、それぞれ１．３８μｍのアクリル系ハードコート層が形成されたＣＯＰ材質の基材層（Ｚｅｏｎ社製、厚さ４０．５μｍ）を準備した。前記基材層上に順次に、第１の屈折率整合層（厚さ５０ｎｍ）および第２の屈折率整合層（厚さ１７０ｎｍ）を形成した。前記第１の屈折率整合層および第２の屈折率整合層は、それぞれアクリル系樹脂を含み、前記第１の屈折率整合層は、付加的に無機粒子が分散された樹脂を使用して形成した。
【００７９】
前記第２の屈折率整合層上にＩＺＯをスパッタリング工程により蒸着して１０ｎｍの厚さの第１の透明酸化物電極層を形成した。その後、第１の透明酸化物電極層上にＩＴＯをスパッタリング工程により蒸着して第２の透明酸化物電極層を形成することにより、透明電極積層体を製造した。
【００８０】
前記第２の透明酸化物電極層の厚さを変更しながら、前記透明電極積層体全体の透過率及び色度（ａ＊、ｂ＊）を測定した。透過率及び色度は、ＣＭ−３６００Ａ（Ｍｉｎｏｌｔａ社製）を用いて測定した。
【００８１】
測定の結果を下記表１に示す。なお、図５は、第２の透明酸化物電極層の厚さの変化による透過率及びｂ＊値の変化を示すグラフである。
【００８２】
【表１】
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【００８３】
表１及び図５から分かるように、第２の透明酸化物電極層の厚さが増加するほど色度（ｂ＊）の値が増加し、厚さを約１２０〜１５０ｎｍの間で調節することにより、８７％以上の透過率が維持され、かつ色度（ｂ＊）の値が５以下に調節された。また、第２の透明酸化物電極層の厚さを約１２０〜１４０ｎｍの間に調節することにより、色度（ｂ＊）の値を約０．９〜４．７の範囲に維持することができた。
【符号の説明】
【００８４】
１００，１００ａ，１００ｂ：透明電極積層体
１０５：基材層
１２０：第１の屈折率整合層
１３０：第２の屈折率整合層
１４０：屈折率整合層
１５０：センシング電極
１６０：第１の透明酸化物電極層
１７０：第２の透明酸化物電極層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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