(57)【要約】【課題】チャンバ内から気泡を排出し易くしたポンプ装置、処理液供給装置および基板処理装置を提供する。【解決手段】  チャンバには、第１開口５５Ａ、第２開口５５Ｂ、第３開口５５Ｃが形成されている。第２開口５５Ｂは、第１開口５５Ａおよび第３開口５５Ｃよりも高い位置であって、貯留部４８の最高位置ＴＰにある。気泡は、浮力により第３開口５５Ｃよりも高い第２開口５５Ｂ付近に集まり易くなる。また、チャンバは、貯留部４８の最高位置ＴＰに向けて高くなるほど、チャンバ内の横断面積ＳＡ１〜ＳＡ３が小さくなるようにチャンバの上部内壁に上傾斜面５０Ａを有している。上傾斜面５０Ａは、気泡を留まらせず、上傾斜面５０Ａに沿って第２開口５５Ｂに気泡を案内する。したがって、チャンバ内から気泡を排出し易くできる。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理液を収容する内部空間である貯留部と、前記貯留部に接する可動部材とを備え、前記可動部材が変位することにより前記貯留部の容積が変化するチャンバと、
前記可動部材を変位させる駆動部とを備え、
前記チャンバは、前記貯留部に連通する少なくとも３つの開口、即ち、第１開口、第２開口、第３開口が形成されており、
第２開口は、前記第１開口および第３開口よりも高い位置であって、前記貯留部の最も高い位置にあり、
かつ、前記チャンバは、前記貯留部の最も高い位置に向けて高くなるほど前記貯留部の上部の横断面積が小さくなるように前記チャンバの上部内壁に傾斜面を備え、
前記第２開口は、前記傾斜面に沿って案内された前記処理液中の気泡を排出することを特徴とするポンプ装置。
【請求項２】
請求項１に記載のポンプ装置において、
前記第１開口および第３開口は、前記貯留部の底部にあることを特徴とするポンプ装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のポンプ装置において、
前記チャンバの前記貯留部は、鉛直方向に広がる第１平面、前記第１平面よりも面積が小さく、かつ前記第１平面に対して平行な第２平面、および前記第１平面の外縁と前記第２平面の外縁とを結ぶ筒状の周面で囲われた、中心軸が水平姿勢の錐台状を呈しており、
前記第１開口および第３開口は、前記錐台状の貯留部の底部にあり、
前記第２開口は、前記錐台状の貯留部の最も高い位置にあり、
前記傾斜面は、前記筒状の周面の上部に当たる前記チャンバの上部内壁によって形成されていることを特徴とするポンプ装置。
【請求項４】
請求項３に記載のポンプ装置において、
前記可動部材は、前記第１平面上に配置されたダイアフラムであることを特徴とするポンプ装置。
【請求項５】
請求項３または請求項４に記載のポンプ装置において、
前記チャンバの前記貯留部は、鉛直方向に広がる第１円形面、前記第１円形面よりも面積が小さく、かつ前記第１円形面に対して平行な第２円形面、および前記第１円形面の外縁と前記第２円形面の外縁とを結ぶ筒状の周面で囲われた、中心軸が水平姿勢の円錐台状を呈していることを特徴とするポンプ装置。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれかに記載のポンプ装置において、
前記第２開口は、前記チャンバの壁を内側から外側に向かって斜め上方に延びて構成されていることを特徴とするポンプ装置。
【請求項７】
請求項１または請求項２に記載のポンプ装置において、
前記チャンバの前記貯留部の上部は、中心軸が鉛直姿勢の錐体状を呈しており、
前記第２開口は、前記錐体状の貯留部の最も高い位置にあり、
前記傾斜面は、前記錐体状の貯留部の錐体面に当たる前記チャンバの上部内壁によって形成されていることを特徴とするポンプ装置。
【請求項８】
請求項１に記載のポンプ装置において、
前記可動部材は、中心軸が鉛直姿勢に配置され、前記貯留部を取り囲むように設けられた弾性を有するチューブ部材であり、
前記駆動部は、前記チューブ部材の胴部を変位させることにより前記貯留部の容積を変化させ、
前記第１開口および第３開口は前記貯留部の底部に形成されており、
前記チャンバは、前記貯留部の最も高い位置に向けて高くなるほど前記貯留部の上部の横断面積が小さくなる錐体面状の傾斜面を備え、
前記第２開口は、前記傾斜面に沿って案内された前記処理液中の気泡を排出することを特徴とするポンプ装置。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれかに記載のポンプ装置において、
前記第１開口と前記第３開口は、前記可動部材の変位に連動させて流体の流通が制御されることにより、前記第１開口を介して前記貯留部内に処理液を吸引し、前記第３開口を介して前記貯留部内の処理液を送り出すことに用いられることを特徴とするポンプ装置。
【請求項１０】
処理液をろ過するフィルタと、前記フィルタの下流側に設けられて前記フィルタでろ過された処理液を取り込んで送り出す下流側ポンプ装置と、前記下流側ポンプ装置の駆動制御および処理液の流通制御を行う制御部とを備えた処理液供給装置であって、
前記下流側ポンプ装置は、
処理液を収容する内部空間である貯留部と、前記貯留部に接する可動部材とを備え、前記可動部材が変位することにより前記貯留部の容積が変化するチャンバと、
前記可動部材を変位させる駆動部とを備え、
前記チャンバは、前記貯留部に連通する少なくとも３つの開口、即ち、第１開口、第２開口、第３開口が形成されており、
第２開口は、前記第１開口および第３開口よりも高い位置であって、前記貯留部の最も高い位置にあり、
かつ、前記チャンバは、前記貯留部の最も高い位置に向けて高くなるほど前記貯留部の上部の横断面積が小さくなるように前記チャンバの上部内壁に傾斜面を備え、
前記第２開口は、前記傾斜面に沿って案内された前記処理液中の気泡を排出するものであり、
前記制御部は、
前記下流側ポンプ装置の前記可動部材の変位に連動させて前記第１から第３開口における処理液の流通を制御することにより、
下流側ポンプ装置は、
前記フィルタでろ過された処理液を前記第１開口を介して吸引し、
続いて、吸引した処理液を送り出す過程の初期に、前記傾斜面に沿って案内された前記処理液中の気泡を前記第２開口を介して排出し、
その後、前記貯留部内の残りの処理液を第３開口を介して送り出すことを特徴とする処理液供給装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の処理液供給装置と、
前記処理液供給装置の前記第３開口に接続する流路の末端に設けられたノズルと、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項１２】
処理液をろ過するフィルタと、前記フィルタの上流側に設けられて前記フィルタに処理液を送り込む上流側ポンプ装置と、前記フィルタの下流側に設けられて前記フィルタでろ過された処理液を取り込んで送り出す下流側ポンプ装置と、前記上流側および下流側のポンプ装置の駆動制御および処理液の流通制御を行う制御部とを備えた処理液供給装置であって、
前記上流側ポンプ装置と前記下流側ポンプ装置は、それぞれが、
処理液を収容する内部空間である貯留部と、前記貯留部に接する可動部材とを備え、前記可動部材が変位することにより前記貯留部の容積が変化するチャンバと、
前記可動部材を変位させる駆動部とを備え、
前記チャンバは、前記貯留部に連通する少なくとも３つの開口、即ち、第１開口、第２開口、第３開口が形成されており、
第２開口は、前記第１開口および第３開口よりも高い位置であって、前記貯留部の最も高い位置にあり、
かつ、前記チャンバは、前記貯留部の最も高い位置に向けて高くなるほど前記貯留部の上部の横断面積が小さくなるように前記チャンバの上部内壁に傾斜面を備え、
前記第２開口は、前記傾斜面に沿って案内された前記処理液中の気泡を排出するものであり、
前記制御部は、
前記上流側および下流側のポンプ装置の前記可動部材の変位に連動させて、前記上流側および下流側のポンプ装置の前記第１から第３開口における処理液の流通を制御することにより、
前記上流側ポンプ装置は、
処理液を前記第１開口を介して吸引し、
続いて、吸引した処理液を、前記傾斜面に沿って案内された前記処理液中の気泡と共に前記第２開口を介してフィルタへ送り出し、
前記下流側ポンプ装置は、
前記フィルタでろ過された処理液を前記第１開口を介して吸引し、
続いて、吸引した処理液を送り出す過程の初期に、前記傾斜面に沿って案内された前記処理液中の気泡を前記第２開口を介して排出し、
その後、前記貯留部内の残りの処理液を第３開口を介して送り出し、
前記下流側ポンプ装置の前記第２開口から排出された気泡を含む処理液は、前記上流側ポンプ装置の前記第３開口を介して前記上流側ポンプ装置に戻されることを特徴とする処理液供給装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の処理液供給装置と、
前記処理液供給装置の前記下流側ポンプ装置の前記第３開口に接続する流路の末端に設けられたノズルとを備えたことを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体基板、液晶表示器用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の基板に処理液を供給するポンプ装置、処理液供給装置および基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板処理装置は、基板を水平姿勢で保持し、保持された基板を回転させる保持回転部と、保持回転部で保持された基板上に処理液を吐出するためのノズルと、ノズルに処理液を送るポンプ装置とを備えている。
【０００３】
ポンプ装置は、処理液を収容する内部空間である貯留部および、貯留部に接する可動部材を備え、可動部材が変位することにより貯留部の容積が変化するチャンバと、可動部材を変位させる駆動機構とを備えている（例えば、特許文献１参照）。チャンバの下部には、入口が設けられ、チャンバの上部には、出口が設けられている。すなわち、チャンバ下部の流入口から処理液を流入させ、チャンバ上部の流出口から流出させている。これは、処理液に混入する気泡（エア）をチャンバ内から確実に気泡を抜くためである。チャンバ上部の流出口からの処理液は、ノズルに送られる。
【０００４】
また、特許文献２には、第１段階ポンプ、フィルタ、および第２段階ポンプを備えた多段式ポンプが開示されている。第１段階ポンプは、フィルタを通じて、第２段階ポンプに液体を送るように構成されている。また、第２段階ポンプは、液体を排出するためのパージ弁を備えており、パージ弁を通して排出された液体は、第１段階ポンプに戻される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−０４９２２８号公報
【特許文献２】特開２０１３−１００８２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述の構成、すなわち、チャンバ下部の流入口から貯留部に処理液を流入させ、チャンバ上部の流出口から貯留部外に処理液を流出させる構成の場合、処理液と一緒に気泡を流出口から流出させてしまい、気泡をノズルから吐出させてしまう可能性がある。基板上に気泡が混じった処理液がノズルから吐出されると、製品不良を発生させる可能性が生じる。
【０００７】
これを防止するためには、チャンバ上部の流出口からノズルまでの配管に、静電容量センサなどの気泡を検知する機構を設けたり、もしくは気泡をトラップする機構を設けたりすることが必要となる。これはシステムを複雑化させる。また、このような複雑化した構成は、処理液の清浄度（品質）を悪化させる可能性がある。処理液の清浄度を保つために処理液を流すと、処理液の使用量が増加する。したがって、処理液中の気泡をチャンバの流出口から送り出すことを防止する構成が求められている。また、貯留部内から気泡が排出しにくいと、例えば、気泡を流出口から送り出す可能性が高くなる等の問題がある。そのため、貯留部内に滞留する気泡を貯留部内から排出し易い構成が求められている。
【０００８】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、第１の目的は、チャンバ内から気泡を排出し易くしたポンプ装置、処理液供給装置および基板処理装置を提供することである。第２の目的は、処理液中の気泡をチャンバの特定の開口から送り出すことを防止するポンプ装置、処理液供給装置および基板処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわち、本発明に係るポンプ装置は、処理液を収容する内部空間である貯留部と、前記貯留部に接する可動部材とを備え、前記可動部材が変位することにより前記貯留部の容積が変化するチャンバと、前記可動部材を変位させる駆動部とを備え、前記チャンバは、前記貯留部に連通する少なくとも３つの開口、即ち、第１開口、第２開口、第３開口が形成されており、第２開口は、前記第１開口および第３開口よりも高い位置であって、前記貯留部の最も高い位置にあり、かつ、前記チャンバは、前記貯留部の最も高い位置に向けて高くなるほど前記貯留部の上部の横断面積が小さくなるように前記チャンバの上部内壁に傾斜面を備え、前記第２開口は、前記傾斜面に沿って案内された前記処理液中の気泡を排出することを特徴とするものである。
【００１０】
本発明に係るポンプ装置によれば、チャンバには、第１開口、第２開口、第３開口が形成されている。第２開口は、第１開口および第３開口よりも高い位置であって、貯留部の最も高い位置にある。気泡は、浮力により第３開口よりも高い第２開口付近に集まり易くなる。また、チャンバは、貯留部の最高位置に向けて高くなるほど、貯留部内の上部の横断面積が小さくなるようにチャンバの上部内壁に傾斜面を有している。傾斜面は、気泡を留まらせず、傾斜面に沿って第２開口に気泡を案内する。したがって、チャンバ内から気泡を排出し易くできる。
【００１１】
また、上述のポンプ装置において、前記第１開口および第３開口は、前記貯留部の底部にあることが好ましい。これにより、第１開口および第３開口を第２開口に対して大きく離すことができる。そのため、第１開口および第３開口に、浮力により上昇する気泡が近づかないようにする効果を大きく得ることができる。その結果、第２開口以外の開口から気泡を送り出す可能性を大きく低減させることができる。
【００１２】
また、上述のポンプ装置において、前記チャンバの前記貯留部は、鉛直方向に広がる第１平面、前記第１平面よりも面積が小さく、かつ前記第１平面に対して平行な第２平面、および前記第１平面の外縁と前記第２平面の外縁とを結ぶ筒状の周面で囲われた、中心軸が水平姿勢の錐台状を呈しており、前記第１開口および第３開口は、前記錐台状の貯留部の底部にあり、前記第２開口は、前記錐台状の貯留部の最も高い位置にあり、前記傾斜面は、前記筒状の周面の上部に当たる前記チャンバの上部内壁によって形成されていることが好ましい。
【００１３】
これにより、第１平面から第２平面に向かう第１横方向、および第１横方向に直交する第２横方向の計２方向で傾斜する傾斜面を容易に形成することができる。また、最も高い位置に点状に案内する傾斜面を容易に形成することができる。また、可動部材が配置される第１平面よりも第２平面の面積が小さいので、チャンバをコンパクトに構成できる。また、第１開口および第３開口は、錐台状の貯留部の底部にあるので、第２開口に対して大きく離すことができる。
【００１４】
また、上述のポンプ装置において、前記可動部材は、前記第１平面上に配置されたダイアフラムであることが好ましい。これにより、可動部材としてダイアフラムを用いた場合に、チャンバ内から気泡を排出し易くできる。
【００１５】
また、上述のポンプ装置において、前記チャンバの前記貯留部は、鉛直方向に広がる第１円形面、前記第１円形面よりも面積が小さく、かつ前記第１円形面に対して平行な第２円形面、および前記第１円形面の外縁と前記第２円形面の外縁とを結ぶ筒状の周面で囲われた、中心軸が水平姿勢の円錐台状を呈していることが好ましい。例えば、五角形の第１平面の外縁と五角形の第２平面とを結んで筒状の周面を形成したとする。この場合、周面には５本の折り目が入るが、本発明によれば、筒状の周面に折り目を付けないように滑らかに形成できる。
【００１６】
また、上述のポンプ装置において、前記第２開口は、前記チャンバの壁を内側から外側に向かって斜め上方に延びて構成されていることが好ましい。これにより、第２開口の途中、すなわち、チャンバの壁を内側から外側との間で気泡を留めないようにすることができる。
【００１７】
また、上述のポンプ装置において、前記チャンバの前記貯留部の上部は、中心軸が鉛直姿勢の錐体状を呈しており、前記第２開口は、前記錐体状の貯留部の最も高い位置にあり、前記傾斜面は、前記錐体状の貯留部の錐体面に当たる前記チャンバの上部内壁によって形成されていることが好ましい。傾斜面は、気泡を留まらせず、傾斜面に沿って第２開口に気泡を案内する。したがって、チャンバ内から気泡を排出し易くできる。
【００１８】
また、上述のポンプ装置において、前記可動部材は、中心軸が鉛直姿勢に配置され、前記貯留部を取り囲むように設けられた弾性を有するチューブ部材であり、前記駆動部は、前記チューブ部材の胴部を変位させることにより前記貯留部の容積を変化させ、前記第１開口および第３開口は前記貯留部の底部に形成されており、前記チャンバは、前記貯留部の最も高い位置に向けて高くなるほど前記貯留部の横断面積が小さくなる錐状の傾斜面を備え、前記第２開口は、前記傾斜面に沿って案内された前記処理液中の気泡を排出すること好ましい。
【００１９】
可動部材としてチューブ部材が用いられる。チューブ部材は、中心軸が鉛直姿勢に配置され、貯留部を取り囲むように設けられ、弾性を有する。第１開口および第３開口は貯留部の底部に形成されており、第２開口は錐体状の貯留部の最も高い位置にある。また、チャンバは、貯留部の最も高い位置に向けて高くなるほど貯留部の上部の横断面積が小さくなる錐体面状の傾斜面を備えている。傾斜面は、気泡を留まらせず、傾斜面に沿って第２開口に気泡を案内する。したがって、チャンバ内から気泡を排出し易くできる。
【００２０】
また、上述のポンプ装置において、前記第１開口と前記第３開口は、前記可動部材の変位に連動させて流体の流通が制御されることにより、前記第１開口を介して前記貯留部内に処理液を吸引し、前記第３開口を介して前記貯留部内の処理液を送り出すことに用いられることが好ましい。すなわち、処理液は、第１開口から貯留部に吸引され、第３開口から貯留部外に送り出される。第２開口は、第１開口および第３開口よりも高い位置であって、貯留部の最も高い位置にある。気泡は、浮力により第３開口よりも高い第２開口付近に集まり易くなる。そのため、処理液中の気泡をチャンバの第３開口から送り出すことを防止することができる。
【００２１】
また、本発明に係る処理液供給装置は、処理液をろ過するフィルタと、前記フィルタの下流側に設けられて前記フィルタでろ過された処理液を取り込んで送り出す下流側ポンプ装置と、前記下流側ポンプ装置の駆動制御および処理液の流通制御を行う制御部とを備えた処理液供給装置であって、前記下流側ポンプ装置は、処理液を収容する内部空間である貯留部と、前記貯留部に接する可動部材とを備え、前記可動部材が変位することにより前記貯留部の容積が変化するチャンバと、前記可動部材を変位させる駆動部とを備え、前記チャンバは、前記貯留部に連通する少なくとも３つの開口、即ち、第１開口、第２開口、第３開口が形成されており、第２開口は、前記第１開口および第３開口よりも高い位置であって、前記貯留部の最も高い位置にあり、かつ、前記チャンバは、前記貯留部の最も高い位置に向けて高くなるほど前記貯留部の上部の横断面積が小さくなるように前記チャンバの上部内壁に傾斜面を備え、前記第２開口は、前記傾斜面に沿って案内された前記処理液中の気泡を排出するものであり、前記制御部は、前記下流側ポンプ装置の前記可動部材の変位に連動させて前記第１から第３開口における処理液の流通を制御することにより、下流側ポンプ装置は、前記フィルタでろ過された処理液を前記第１開口を介して吸引し、続いて、吸引した処理液を送り出す過程の初期に、前記傾斜面に沿って案内された前記処理液中の気泡を前記第２開口を介して排出し、その後、前記貯留部内の残りの処理液を第３開口を介して送り出すことを特徴とするものである。
【００２２】
本発明に係る処理液供給装置によれば、チャンバには、第１開口、第２開口、第３開口が形成されている。第２開口は、第１開口および第３開口よりも高い位置であって、貯留部の最も高い位置にある。気泡は、浮力により第３開口よりも高い第２開口付近に集まり易くなる。また、チャンバは、貯留部の最高位置に向けて高くなるほど、貯留部の上部の横断面積が小さくなるようにチャンバの上部内壁に傾斜面を有している。傾斜面は、気泡を留まらせず、傾斜面に沿って第２開口に気泡を案内する。したがって、処理液中の気泡をチャンバの第３開口から送り出すことを防止しつつ、チャンバ内から気泡を排出し易くできる。
【００２３】
また、制御部は、下流側ポンプ装置の可動部材の変位に連動させて第１から第３開口における処理液の流通を制御する。この制御により、下流側ポンプは、フィルタでろ過された処理液を、第１開口を介して吸引し、続いて、吸引した処理液を送り出す過程の初期に、前記傾斜面に沿って案内された前記処理液中の気泡を、前記第２開口を介して排出し、その後、前記貯留部内の残りの処理液を、第３開口を介して送り出している。これにより、処理液を第３開口から貯留部外に送り出す前に、処理液中の気泡を第２開口から排出することができる。また、処理液中の気泡は傾斜面によって第２開口に案内されるので、気泡を排出するための可動部材の変位量を抑えることができる。そのため、第３開口から送り出す処理液量を増やすことができる。
【００２４】
また、本発明に係る基板処理装置は、上述の処理液供給装置と、前記処理液供給装置の前記第３開口に接続する流路の末端に設けられたノズルとを備えたことを特徴とするものである。
【００２５】
本発明に係る基板処理装置によれば、処理液中の気泡をチャンバの第３開口から送り出して、ノズルから気泡を吐出することを防止することができる。
【００２６】
また、本発明に係る処理液供給装置は、処理液をろ過するフィルタと、前記フィルタの上流側に設けられて前記フィルタに処理液を送り込む上流側ポンプ装置と、前記フィルタの下流側に設けられて前記フィルタでろ過された処理液を取り込んで送り出す下流側ポンプ装置と、前記上流側および下流側のポンプ装置の駆動制御および処理液の流通制御を行う制御部とを備えた処理液供給装置であって、前記上流側ポンプ装置と前記下流側ポンプ装置は、それぞれが、処理液を収容する内部空間である貯留部と、前記貯留部に接する可動部材とを備え、前記可動部材が変位することにより前記貯留部の容積が変化するチャンバと、前記可動部材を変位させる駆動部とを備え、前記チャンバは、前記貯留部に連通する少なくとも３つの開口、即ち、第１開口、第２開口、第３開口が形成されており、第２開口は、前記第１開口および第３開口よりも高い位置であって、前記貯留部の最も高い位置にあり、かつ、前記チャンバは、前記貯留部の最も高い位置に向けて高くなるほど前記貯留部の上部の横断面積が小さくなるように前記チャンバの上部内壁に傾斜面を備え、前記第２開口は、前記傾斜面に沿って案内された前記処理液中の気泡を排出するものであり、前記制御部は、前記上流側および下流側のポンプ装置の前記可動部材の変位に連動させて、前記上流側および下流側のポンプ装置の前記第１から第３開口における処理液の流通を制御することにより、前記上流側ポンプ装置は、処理液を前記第１開口を介して吸引し、続いて、吸引した処理液を、前記傾斜面に沿って案内された前記処理液中の気泡と共に前記第２開口を介してフィルタへ送り出し、前記下流側ポンプ装置は、前記フィルタでろ過された処理液を前記第１開口を介して吸引し、続いて、吸引した処理液を送り出す過程の初期に、前記傾斜面に沿って案内された前記処理液中の気泡を前記第２開口を介して排出し、その後、前記貯留部内の残りの処理液を第３開口を介して送り出し、前記下流側ポンプ装置の前記第２開口から排出された気泡を含む処理液は、前記上流側ポンプ装置の前記第３開口を介して前記上流側ポンプ装置に戻されることを特徴とするものである。
【００２７】
本発明に係る処理液供給装置によれば、チャンバには、第１開口、第２開口、第３開口が形成されている。第２開口は、第１開口および第３開口よりも高い位置であって、貯留部の最も高い位置にある。気泡は、浮力により第３開口よりも高い第２開口付近に集まり易くなる。また、チャンバは、貯留部の最高位置に向けて高くなるほど、チャンバ内の横断面積が小さくなるようにチャンバの上部内壁に傾斜面を有している。傾斜面は、気泡を留まらせず、傾斜面に沿って第２開口に気泡を案内する。したがって、処理液中の気泡をチャンバの第３開口から送り出すことを防止しつつ、チャンバ内から気泡を排出し易くできる。
【００２８】
また、下流側ポンプ装置において、処理液を第３開口から貯留部外に送り出す前に、処理液中の気泡を第２開口から排出することができる。また、下流側ポンプ装置において、処理液中の気泡は傾斜面によって第２開口に案内されるので、気泡を排出するための可動部材の変位量を抑えることができる。そのため、第３開口から送り出す処理液量を増やすことができる。また、上流側ポンプ装置において、処理液中の気泡は傾斜面によって第２開口に案内されるので、第２開口から気泡を除去するフィルタに気泡を送り易くすることができる。
【００２９】
また、本発明に係る基板処理装置は、上述の処理液供給装置と、前記処理液供給装置の前記下流側ポンプ装置の前記第３開口に接続する流路の末端に設けられたノズルとを備えたことを特徴とするものである。
【００３０】
本発明に係る基板処理装置によれば、処理液中の気泡をチャンバの第３開口から送り出して、ノズルから気泡を吐出することを防止することができる。
【発明の効果】
【００３１】
本発明に係るポンプ装置、処理液供給装置および基板処理装置によれば、チャンバ内から気泡を排出し易くできる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】実施例１に係る基板処理装置の概略構成図である。
【図２】ポンプ本体の縦断面図である。
【図３】ダイアフラム側から見たチャンバ本体を示す斜視図である。
【図４】（ａ）、（ｂ）は、チャンバ本体の内部および第２開口の位置を説明するための図である。
【図５】（ａ）、（ｂ）は、本発明の効果を説明するための図である。
【図６】実施例２に係る処理液供給装置の概略構成図である。
【図７】（ａ）〜（ｅ）は、実施例２に係る処理液供給装置の動作を説明するための図である。
【図８】チャンバ本体の変形例を示す図である。
【図９】チャンバ本体の変形例を示す図である。
【図１０】チャンバ本体の変形例を示す図である。
【図１１】チャンバ本体の変形例を示す図である。
【図１２】（ａ）は、ポンプの変形例を示す図であり、（ｂ）は、（ａ）中の矢印ＡＲ３から見た第１開口および第３開口の配置を示す図である。
【図１３】（ａ）は、線状の最高位置を含む第２開口を説明するための図であり、（ｂ）は、面状の最高位置を含む第２開口を説明するための図である。
【図１４】ポンプ装置の変形例を示す図である。
【実施例１】
【００３３】
以下、図面を参照して本発明の実施例１を説明する。図１は、実施例１に係る基板処理装置の概略構成図である。
【００３４】
＜基板処理装置１の構成＞
図１を参照する。基板処理装置１は、ノズル２と保持回転部３とを備えている。ノズル２は、基板Ｗに対して処理液を吐出するものである。処理液は、例えば、フォトレジスト液、反射防止膜形成用の薬液、現像液、溶剤や純水（ＤＩＷ）などのリンス液が用いられる。保持回転部３は、基板Ｗを略水平姿勢で保持して回転させるものである。
【００３５】
保持回転部３は、スピンチャック４と回転駆動部５とを備えている。スピンチャック４は、回転軸ＡＸ周りに回転可能に基板Ｗを保持する。スピンチャック４は、例えば、基板Ｗの裏面を真空吸着する。回転駆動部５は、スピンチャック４を回転軸ＡＸ周りに回転させる駆動を行う。回転駆動部５は、電動モータ等で構成されている。
【００３６】
基板処理装置１は、更に、処理液容器７、配管９Ａ，９Ｂ、ポンプ装置Ｐおよび処理液供給装置１１を備えている。処理液容器（例えばボトル）７は、処理液を収容するものである。処理液容器７には、配管９Ａが接続されている。配管９Ａには、ポンプ装置Ｐが設けられている。ポンプ装置Ｐは、処理液容器７から処理液供給装置１１に配管９Ａを通じて処理液を送るものである。ポンプ装置Ｐは、例えば、処理液容器７に窒素ガスなどの不活性ガスを送り込み、送り込んだ不活性ガスによって、処理液容器７から配管９Ａに処理液を押し出すものであってもよい。
【００３７】
また、基板処理装置１は、制御部２１と操作部２２とを備えている。制御部２１は、中央演算処理装置（ＣＰＵ）を備えている。制御部２１は、後述する下流側ポンプ装置２５、処理液供給装置１１および基板処理装置１の各構成を制御する。例えば、制御部２１は、後述する開閉弁Ｖ１〜Ｖ４、および電動モータＭ１を制御する。操作部２２は、表示部、記憶部および入力部を備えている。表示部は、例えば液晶モニタで構成されている。記憶部は、ＲＯＭ（Read-only Memory）、ＲＡＭ（Random-Access Memory）、およびハードディスクのいずれかを少なくとも備えている。入力部は、キーボード、マウス、および各種ボタンの少なくともいずれかを備えている。記憶部には、基板処理の各種条件等および動作プログラムが記憶されている。
【００３８】
＜処理液供給装置１１の構成＞
処理液供給装置１１は、フィルタ２３と下流側ポンプ装置２５とを備えている。下流側ポンプ装置２５は、ポンプ本体２５Ａと開閉弁Ｖ１，Ｖ２，Ｖ３を備えている。
【００３９】
処理液供給装置１１では、処理液は、配管２７Ａ〜２７Ｃを流れる。処理液を濾過するフィルタ２３は、配管２７Ａ，２７Ｂの間に設けられている。下流側ポンプ装置２５（ポンプ本体２５Ａ）は、配管２７Ｂ，２７Ｃの間に設けられている。配管２７Ｂには、開閉弁Ｖ１が設けられ、配管２７Ｃには、開閉弁Ｖ２が設けられている。開閉弁Ｖ１は、配管２７Ｂに処理液を流し、また、処理液の流れを停止させる。同様に、開閉弁Ｖ２は、配管２７Ｃに処理液を流し、また、処理液の流れを停止させる。なお、下流側ポンプ装置２５には、排出配管２９が接続されている。排出配管２９には、開閉弁Ｖ３が設けられている。
【００４０】
フィルタ２３は、処理液供給装置１１に対して着脱自在であり、交換可能に構成されている。フィルタ２３の上面２３Ａには、入口（流入口）２３Ｂ、出口（流出口）２３Ｃおよびベント部２３Ｄが設けられている。入口２３Ｂには、配管２７Ａが接続されており、出口２３Ｃには、配管２７Ｂが接続されている。ベント部２３Ｄには、気泡を排出する排出配管３０が接続されている。排出配管３０には、開閉弁Ｖ４が設けられている。開閉弁Ｖ１〜Ｖ４は、例えば通常閉じているノーマルクローズ式で構成されている。ベント部２３Ｄは、フィルタ２３内の気泡等を排出するための出口である。フィルタ２３は、処理液を実際に濾過するフィルタ本体２３Ｅを備えている。フィルタ本体２３Ｅは、処理液中の気泡等の不純物を取り除く。ベント部２３Ｄは、フィルタ本体２３Ｅを通過する前の気泡または、気泡を含む処理液などを排出する。
【００４１】
図２は、ポンプ本体２５Ａの縦断面図である。図３は、ダイアフラム４３側から見たチャンバ本体４０を示す斜視図である。ポンプ本体２５Ａは、電動モータＭ１（以下「モータＭ１」と呼ぶ）とチャンバ３３とを備えている。モータＭ１は、例えばステッピングモータが用いられる。具体的には、図２のように、モータＭ１は、磁界を内周側に発生させるステータ３５と、ステータ３５の内周側に回転可能に配置され、ステータ３５により回転される筒状のロータ３６と、ロータ３６の中空部に螺合され、ロータ３６の回転により、ロータ３６に対して進退駆動されるシャフト（ねじ軸）３７とを備えている。
【００４２】
モータＭ１には、チャンバ３３が取り付けられている。チャンバ３３は、ガイド部３９と、処理液を収容するチャンバ本体４０とを備えている。チャンバ３３は、後述するダイアフラム４３が変位することにより貯留部４８の容積が変化する。ガイド部３９は、ガイドピン４１が挿通されている。ガイドピン４１の一端は、シャフト３７に連結される。また、ガイドピン４１の他端は、チャンバ本体４０側に設けられたダイアフラム４３の肉厚部４３Ａに連結される。ガイド部３９には、シャフト３７周りに回転させず、ガイドピン４１を図２の矢印ＡＲ１の左右方向に案内する案内孔４５が設けられている。すなわち、ロータ３６のねじとシャフト３７のねじは、噛み合っている。ロータ３６の回転がシャフト３７に伝わると、シャフト３７と連結されるガイドピン４１は、案内孔４５によってシャフト３７周りに回転せずに、矢印ＡＲ１の左右方向に案内される。
【００４３】
チャンバ本体側のガイド部３９には、ダイアフラム４３の中央に位置する肉厚部４３Ａと、ガイドピン４１の他端とを収容する凹部４７が形成されている。ダイアフラム４３は、貯留部４８に接するように設けられている。ダイアフラム４３は、その薄肉部４３Ｂの外縁がガイド部３９とチャンバ本体４０との合わせ面で挟まれるように固定されている。すなわち、ダイアフラム４３の薄肉部４３Ｂの外縁が凹部４７またはチャンバ本体４０の内壁に取り付けられており、チャンバ本体４０の内壁の一部を構成する。ダイアフラム４３は、貯留部４８（チャンバ本体４０内）とガイドピン４１側の空間ＳＰ１とを隔離する。ダイアフラム４３は、樹脂製であり、例えば、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン：polytetrafluoroethylene）で構成されている。
【００４４】
チャンバ本体４０には、凹部４７側に設けられた貯留部４８が設けられている。貯留部４８は、図２、図３のように、円錐台状で形成されている。その円錐台は、中心軸ＣＴ（図４（ａ）参照）が水平姿勢で配置されている。貯留部４８は、チャンバ本体４０の内部空間であり、処理液を収容する。チャンバ本体４０の内部、すなわち貯留部４８は、第１円形面４９Ａ、第２円形面４９Ｂ（図４（ａ）参照）および筒状の周面５０で囲まれて構成されている。
【００４５】
第１円形面４９Ａは、円形の平面で形成されており、鉛直方向に広がっている。第１円形面４９Ａは、貯留部４８と凹部４７との境界面に形成されており、開口部分である。そのため、ダイアフラム４３の肉厚部４３Ａは、第１円形面４９Ａを横切って貯留部４８に進入する。なお、第１円形面４９Ａは、凹部４７の内周面よりも若干大径である。
【００４６】
第２円形面（垂直面）４９Ｂは、円形の平面で形成されており、チャンバ本体４０の内壁に沿って形成されている。第２円形面４９Ｂは、第１円形面４９Ａよりも直径が小さく、かつ第１円形面４９Ａと平行である。第２円形面４９Ｂは、第１円形面４９Ａを挟んで凹部４７の反対側に設けられている。第２円形面４９Ｂは、シャフト３７の軸方向（水平方向）に対して直交している。第２円形面４９Ｂに対応するチャンバ本体４０の内壁には、図２のように、貯留部４８と外部とを連通する検査開口部５１が形成されている。検査開口部５１には、貯留部４８内の圧力を測定する圧力センサ５３が取り付けられている。
【００４７】
筒状の周面５０は、第１円形面４９Ａの外縁と第２円形面４９Ｂの外縁とを結んでいる。本実施例では、周面５０は、上傾斜面５０Ａと下傾斜面５０Ｂを有する。上傾斜面５０Ａは、周面５０のうち、図４（ａ）に示す中心軸ＣＴよりも上の部分である。すなわち、上傾斜面５０Ａは、筒状の周面５０の上部に当たるチャンバ３３（チャンバ本体４０）の上部内壁によって形成されているものである。一方、下傾斜面５０Ｂは、周面５０のうち、中心軸ＣＴよりも下の部分である。なお、本発明の傾斜面は、上傾斜面５０Ａに相当する。
【００４８】
チャンバ本体４０には、図２、図３のように、貯留部４８に連通する３つの開口、すなわち、第１開口５５Ａ、第２開口５５Ｂ、および第３開口５５Ｃが設けられている。後述する説明から明らかになるように、実施例１において、第１開口５５Ａは貯留部４８に処理液を取り込むための流入口として作用する。第２開口５５Ｂは貯留部４８内の気泡を含む処理液を排出するための排出口として作用する。第３開口５５Ｃは貯留部４８内の処理液をノズル２へ送り出すための流出口として作用する。
【００４９】
筒状の周面５０の下部（下傾斜面５０Ｂ）には、第１開口５５Ａおよび第３開口５５Ｃが設けられている。第１開口５５Ａおよび第３開口５５Ｃは、ダイアフラム４３側から見た場合に、貯留部４８の中心軸（中心部）ＣＴ（図４（ａ）参照）よりも下方であって、貯留部４８の縦方向の中心軸ＣＴを挟んで左右対称な位置関係で形成されている。つまり、第１開口５５Ａおよび第３開口５５Ｃは、貯留部４８（チャンバ本体４０内）の底部（ほぼ最低位置）に配置されている。また、筒状の周面５０の上部（上傾斜面５０Ａ）には、第２開口５５Ｂが設けられている。第２開口５５Ｂは、ダイアフラム４３側から見た場合に、貯留部４８の中心軸ＣＴよりも上方であって、貯留部４８の鉛直方向の中心軸上の位置に形成されている。すなわち、第２開口５５Ｂは、第１開口５５Ａおよび第３開口５５Ｃよりも高い位置に配置されている。更に、第２開口５５Ｂは、円錐台状の貯留部４８（チャンバ本体４０内）の最も高い位置（最高位置）ＴＰに配置されている。また、第２開口５５Ｂは、貯留部４８の最高位置ＴＰを含むように配置されている。
【００５０】
本実施例において、第１開口５５Ａと第３開口５５Ｃは、ダイアフラム４３の変位に連動させて流体の流通が制御部２１によって制御されることにより、第１開口５５Ａを介して貯留部４８内に液体を吸引し、第３開口５５Ｃを介して貯留部４８内の処理液を送り出すように用いられる。
【００５１】
貯留部４８は、円錐台状で形成されている。そのため、チャンバ本体４０は、貯留部４８の最高位置ＴＰに向けて高くなるほど横断面積が小さくなるようにチャンバ本体４０の上部（上側）の内壁に上傾斜面５０Ａを有している。これにより、気泡を第２開口５５Ｂに導き、貯留部４８に気泡を留まらせないようにしている。
【００５２】
また、図２のように、第１開口５５Ａ、第２開口５５Ｂおよび第３開口５５Ｃは、周面５０に直交して延びるようにチャンバ本体４０に形成されている。第２開口５５Ｂは、チャンバ３３（チャンバ本体４０）の壁を内側から外側に向かって斜め上方に延びて構成されている。これにより、第２開口５５Ｂの途中、すなわち、チャンバ３３の壁を内側から外側との間で気泡を留めないようにすることができる。また、第２開口５５Ｂが斜め上方に延びて構成されていることで、図２の左側から配管を第２開口５５Ｂに接続しやすい。その結果、処理液供給装置１１をコンパクトに構成できる。なお、第２開口５５Ｂは、チャンバ３３の壁を水平方向または下向きに延びて構成していなければよい。また、第２開口５５Ｂは、真上に延びるように構成されてもよい。
【００５３】
配管２７Ｂは、図１のように、第１開口５５Ａに接続されている。排出配管２９は、第２開口５５Ｂに接続されている。配管２７Ｃは、第３開口５５Ｃに接続されている。なお、図２において、図示の都合上、第３開口５５Ｃは、第１開口５５Ａと重なるので、「５５Ａ（５５Ｃ）」と示している。また、ノズル２は、第３開口５５Ｃに接続する配管（流路）２７Ｃ，９Ｂの末端に設けられている。また、本実施例において、配管２７Ｂは、第３開口５５Ｃに接続され、配管２７Ｃは、第１開口５５Ａに接続されてもよい。
【００５４】
なお、駆動機構５７は、貯留部４８の容積を変化させるために、ダイアフラム４３を変位させる。駆動機構５７は、モータＭ１、シャフト３７、ガイド部３９、ガイドピン４１、案内孔４５および凹部４７を備えている。なお、例えば、ダイアフラム４３（肉厚部４３Ａ）を貯留部４８に進入させることで、貯留部４８の容積が減る。ダイアフラム４３（肉厚部４３Ａ）を凹部４７に後退させることで、凹部４７におけるダイアフラム４３と貯留部４８との間の空間によって、貯留部４８の容積が増える。また、駆動機構５７は、本発明の駆動部に相当する。
【００５５】
＜基板処理装置１の動作＞
次に、基板処理装置１の動作について説明する。図１において、図示しない基板搬送機構は、保持回転部３上に基板Ｗを搬送する。保持回転部３は、基板Ｗの下面を吸着して保持する。その後、図示しないノズル移動機構は、基板Ｗ外の待機位置から基板Ｗ中心の上方の所定位置にノズル２を移動させる。ノズル２を移動させた後、基板Ｗを回転または回転を停止させた状態で、処理液供給装置１１は、処理液容器７から送られた処理液をノズル２に送る。これにより、ノズル２から基板Ｗ上に処理液が吐出される。なお、ポンプ装置Ｐは、処理液容器７から処理液供給装置１１に配管９Ａを通じて処理液を送っている。処理液の吐出の際に基板Ｗの回転が停止している場合は、基板Ｗを回転させて、処理液を基板Ｗ上に広げる。
【００５６】
ノズル２から処理液を吐出して、基板処理が終了した後、ノズル移動機構は、基板Ｗ上方の所定位置から待機位置にノズル２を戻す。そして、保持回転部３は、基板Ｗの回転が停止した状態で基板Ｗの保持を解除する。基板搬送機構は、保持回転部３から基板Ｗを搬送する。
【００５７】
＜処理液供給装置１１の動作＞
次に、処理液供給装置１１の動作について説明する。処理液容器７からの処理液は、ポンプ装置Ｐによって、配管９Ａ，２７Ａを通り、フィルタ２３の入口２３Ｂに送られる。フィルタ２３の入口２３Ｂに送られた処理液は、フィルタ本体２３Ｅで気泡等の不純物が取り除かれた後、出口２３Ｃ、配管２７Ｂの順番に送られる。すなわち、開閉弁Ｖ１まで処理液が送られている状態である。
【００５８】
〔ステップＳ０１〕吸引
処理液供給装置１１は、チャンバ本体４０内、すなわち貯留部４８に処理液を吸引する。制御部２１は、開閉弁Ｖ２〜Ｖ４を閉じ、開閉弁Ｖ１を開いた状態で、モータＭ１を駆動してシャフト３７およびガイドピン４１をモータＭ１側（図２における右方向）に後退させる。これにより、ダイアフラム４３の肉厚部４３Ａが凹部４７に収容されて退避された状態となる。この動作により、処理液が貯留部４８に吸引される。
【００５９】
〔ステップＳ０２〕気泡の排出（パージ）
ステップＳ０１の処理液を吸引した後、処理液供給装置１１は、チャンバ本体４０に設けられた第２開口５５Ｂから気泡を排出する。制御部２１は、開閉弁Ｖ１，Ｖ２，Ｖ４を閉じ、開閉弁Ｖ３を開いた状態で、モータＭ１を駆動してシャフト３７およびガイドピン４１をチャンバ本体４０側（図２における左方向）に少し前進させる。この際、後述するステップＳ０３の吐出動作のガイドピン４１等の移動量よりも小さい移動量で、ガイドピン４１等を前進させる。
【００６０】
ここで、貯留部４８の処理液に気泡が混入した場合について説明する。貯留部４８の処理液に気泡が混入すると、気泡は浮力により上昇する。処理液中の気泡は、上傾斜面５０Ａに沿って第２開口５５Ｂに案内される。具体的に説明する。貯留部４８は、縦方向に沿った第１円形面４９Ａと、第１円形面４９Ａよりも直径が小さく、かつ第１円形面４９Ａに対して平行な第２円形面４９Ｂと、第１円形面４９Ａの外縁と第２円形面４９Ｂの外縁とを結ぶ筒状の周面５０（上傾斜面５０Ａ、下傾斜面５０Ｂ）とで囲まれて構成されている。
【００６１】
つまり、図４（ａ）、図４（ｂ）のように、チャンバ本体４０は、貯留部４８の最高位置ＴＰに向けて高くなるほど貯留部４８の上部の横断面積が小さくなるように、チャンバ本体４０の上部内壁に上傾斜面５０Ａを有する。例えば、図４（ａ）、図４（ｂ）において、横断面積ＳＡ１〜ＳＡ３は、ＳＡ１＜ＳＡ２＜ＳＡ３の関係にあり、最高位置ＴＰに向けて高くなるほど、横断面積が小さくなっている。一方、第２開口５５Ｂは、貯留部４８の最高位置ＴＰを含むように配置されている。ここで、第２開口５５Ｂの外縁上に最高位置ＴＰが配置される場合も、「最高位置ＴＰを含む」に該当する。したがって、処理液に混入する気泡は、上傾斜面５０Ａによって案内されながら、浮力や処理液の流れによって上昇する。そのため、第２開口５５Ｂに集まり易いようになっている。
【００６２】
例えば、チャンバ本体４０の上部内壁に傾斜面がない場合は、図５（ａ）のように、貯留部の隅で気泡Ｂ１が留まってしまう可能性があり、また、水平な面ＦＬ（上部内壁）で気泡Ｂ２が留まってしまう可能性がある。また、図５（ｂ）のように、傾斜面１５０Ａが存在しても、第２開口１５５が貯留部の最高位置を含まなければ、すなわち、水平な面ＦＬが存在すれば、傾斜面１５０Ａと水平な面ＦＬとの境界で気泡Ｂ３が留まってしまう可能性がある。そのため、傾斜面１５０Ａの案内が不十分であり、水平な面ＦＬで気泡Ｂ４が留まってしまう可能性がある。
【００６３】
〔ステップＳ０３〕吐出（送り出し）
ステップＳ０２の気泡を排出した後、制御部２１は、開閉弁Ｖ１，Ｖ３，Ｖ４を閉じ、開閉弁Ｖ２を開いた状態で、モータＭ１を駆動してシャフト３７およびガイドピン４１をチャンバ本体４０側（図２における左方向）に更に前進させる。これにより、ダイアフラム４３の肉厚部４３Ａが第２円形面４９Ｂに近い位置にまで前進した状態となる。この動作により、貯留部４８に貯留されていた処理液が送り出される。そして、下流側ポンプ装置２５から送り出された処理液は、配管２７Ｃ、配管９Ｂ、ノズル２の順番に送られる。ノズル２から処理液が吐出される。
【００６４】
なお、ここで、第１開口５５Ａおよび第３開口５５Ｃの配置の効果について説明する。第１開口５５Ａおよび第３開口５５Ｃは、ダイアフラム４３側から見た場合に、貯留部４８の中心軸ＣＴよりも下方であって、貯留部４８の縦方向の中心軸ＣＴを挟んで左右対称な位置関係で形成されている。つまり、第１開口５５Ａおよび第３開口５５Ｃは、貯留部４８（チャンバ本体４０内）の底部（ほぼ最低位置）に配置されている。
【００６５】
第３開口５５Ｃの配置により、第２開口５５Ｂから大きく離すことができる。そのため、浮力により上昇する気泡が近づきにくい効果を大きく得ることができる。その結果、第３開口５５Ｃから気泡を送り出す可能性を更に低減させることができる。また、第１開口５５Ａおよび第３開口５５Ｃのいずれか一方が底部（ほぼ最低位置）に配置されていることで、貯留部４８に吸引した処理液が貯留部４８の底部付近で留まってしまうことを抑制することができる。
【００６６】
本実施例によれば、チャンバ３３には、第１開口５５Ａ、第２開口５５Ｂ、第３開口５５Ｃが形成されている。第２開口５５Ｂは、第１開口５５Ａおよび第３開口５５Ｃよりも高い位置であって、貯留部４８の最も高い位置にある。気泡は、浮力により第３開口５５Ｃよりも高い第２開口５５Ｂ付近に集まり易くなる。また、チャンバ３３は、貯留部４８の最高位置ＴＰに向けて高くなるほど、チャンバ３３内の貯留部４８内の上部の横断面積ＳＡ１〜ＳＡ３（図４（ａ）、図４（ｂ）参照）が小さくなるようにチャンバ３３の上部内壁に上傾斜面５０Ａを有している。上傾斜面５０Ａは、気泡を留まらせず、上傾斜面５０Ａに沿って第２開口５５Ｂに気泡を案内する。したがって、処理液中の気泡をチャンバ３３の第３開口５５Ｃから送り出すことを防止しつつ、チャンバ３３内から気泡を排出し易くできる。
【００６７】
また、貯留部４８（チャンバ本体４０の内部）は、縦方向に広がる第１円形面４９Ａ、第１円形面４９Ａよりも直径が小さく、かつ第１円形面４９Ａに対して平行な第２円形面４９Ｂおよび、第１円形面４９Ａの外縁と第２円形面４９Ｂの外縁とを結ぶ筒状の周面５０（上傾斜面５０Ａ、下傾斜面５０Ｂ）で囲まれて構成されている。ダイアフラム４３は、第１円形面４９Ａと接するように、第１円形面４９Ａを挟んで第２円形面４９Ｂの反対側に配置されている。
【００６８】
これにより、第１円形面４９Ａから第２円形面４９Ｂに向かう第１横方向（図４（ａ）参照）、および第１横方向に直交する第２横方向（図４（ｂ）参照）の計２方向で傾斜する上傾斜面５０Ａを容易に形成することができる。また、点状の最高位置ＴＰに案内する上傾斜面５０Ａを容易に形成することができる。また、ダイアフラム４３が配置される第１円形面４９Ａよりも第２円形面４９Ｂの面積が小さいので、チャンバ３３をコンパクトに構成できる。また、第１開口５５Ａおよび第３開口５５Ｃは、円錐台状の貯留部４８の底部にあるので、第２開口５５Ｂに対して大きく離すことができる。これにより、更に、第１開口５５Ａおよび第３開口５５Ｃに、浮力により上昇する気泡が近づかないようにする効果を大きく得ることができる。そのため、第２開口５５Ｂ以外の例えば第３開口５５Ｃから気泡を送り出す可能性を大きく低減させることができる。
【００６９】
また、例えば、五角形の第１平面の外縁と五角形の第２平面とを結んで筒状の周面を形成したとする。この場合、周面には５本の折り目が入るが、本実施例によれば、筒状の周面５０に折り目を付けないように滑らかな周面５０を形成できる。また、後述する図８，図１０，図１１よりも加工が容易である。なお、本実施例では、貯留部４８は、円錐台状で形成されているが、円錐状または角錐状であってもよい。
【００７０】
また、制御部２１は、下流側ポンプ装置２５のダイアフラム４３の変位に連動させて第１開口５５Ａ，第２開口５５Ｂ，第３開口５５Ｃにおける処理液の流通を制御する。この制御により、下流側ポンプ装置２５は、フィルタ２３でろ過された処理液を第１開口５５Ａを介して吸引し、続いて、吸引した処理液を送り出す過程の初期に、上傾斜面５０Ａに沿って案内された処理液中の気泡を、第２開口５５Ｂを介して排出する。その後、その制御により、貯留部４８内の残りの処理液を、第３開口５５Ｃを介して送り出す。
【００７１】
これにより、処理液を第３開口５５Ｃから貯留部４８外に送り出す前に、処理液中の気泡を第２開口５５Ｂから排出することができる。また、処理液中の気泡は上傾斜面５０Ａによって第２開口５５Ｂに案内されるので、気泡を排出するためのダイアフラム４３の変位量を抑えることができる。そのため、第３開口５５Ｃから送り出す処理液量を増やすことができる。
【実施例２】
【００７２】
次に、図面を参照して本発明の実施例２を説明する。なお、実施例１と重複する説明は省略する。実施例１の処理液供給装置１１は、単一の下流側ポンプ装置２５を備えていた。この点、実施例２の処理液供給装置７１は、下流側ポンプ装置２５に加えて、更に、上流側ポンプ装置７３を備えている。
【００７３】
図６は、実施例２に係る処理液供給装置７１の概略構成図である。処理液供給装置７１は、上流側ポンプ装置７３、フィルタ２３および下流側ポンプ装置２５を備えている。上流側ポンプ装置７３は、フィルタ２３の上流に設けられており、下流側ポンプ装置２５は、フィルタ２３の下流に設けられている。
【００７４】
下流側ポンプ装置２５は、実施例１および図６のように、ポンプ本体２５Ａと、開閉弁Ｖ１３，Ｖ１４，Ｖ１６を備えている。ポンプ本体２５Ａは、チャンバ本体４０、ダイアフラム４３、駆動機構５７、第１開口５５Ａ、第２開口５５Ｂ、第３開口５５Ｃおよび圧力センサ５３を備えている。チャンバ本体４０の貯留部４８は、その内部空間に処理液を収容する。開閉弁Ｖ１３は、第１開口５５Ａに接続する配管８５Ｃに設けられている。開閉弁Ｖ１４は、第２開口５５Ｂに接続する配管８６に設けられている。開閉弁Ｖ１６は、第３開口５５Ｃに接続する配管８５Ｄに設けられている。駆動機構５７は、貯留部４８の容積を変化させるために、ダイアフラム４３を変位させる。駆動機構５７は、図２のように、モータＭ１、シャフト３７、ガイド部３９、ガイドピン４１、案内孔４５および凹部４７を備えている。下流側ポンプ装置２５の詳細は、実施例１の通りである。
【００７５】
上流側ポンプ装置７３の構成は、図２に示す下流側ポンプ装置２５と基本的に同じである。すなわち、上流側ポンプ装置７３は、図６のように、ポンプ本体７３Ａと開閉弁Ｖ１１，Ｖ１２，Ｖ１４を備えている。ポンプ本体７３Ａは、電動モータＭ２（以下、「モータＭ２」と呼ぶ）、チャンバ本体７５、駆動機構７６、圧力センサ７７、第１開口７８Ａ、第２開口７８Ｂ、第３開口７８Ｃを備えている。開閉弁Ｖ１１は、第１開口７８Ａに接続する配管８５Ａに設けられている。開閉弁Ｖ１２は、第２開口７８Ｂに接続する配管８５Ｂに設けられている。開閉弁Ｖ１４は、第３開口７８Ｃに接続する配管８６に設けられている。なお、開閉弁Ｖ１４は、上流側ポンプ装置７３と下流側ポンプ装置２５とで兼用されている。チャンバ本体７５の貯留部８０は、その内部空間に処理液を収容する。駆動機構７６は、貯留部８０の容積を変化させるために、ダイアフラム８３を変位させる。
【００７６】
駆動機構７６は、図２，図６のように、モータＭ２、上流シャフト３７、上流ガイド部３９、ガイドピン８１、上流案内孔４５および上流凹部４７を備えている。なお、モータＭ２、ガイドピン８１およびダイアフラム８３以外は、下流側ポンプ装置２５と同じ符号で示す。ガイドピン８１は、矢印ＡＲ１のように左右方向に案内される。ダイアフラム８３は、肉厚部８３Ａと薄肉部８３Ｂを有する。ダイアフラム８３の中央に位置する肉厚部８３Ａは、ガイドピン８１と連結する。ダイアフラム８３の薄肉部８３Ｂの外縁が上流ガイド部３９または上流のチャンバ本体７５の内壁または上流凹部４７に取り付けられており、上流のチャンバ本体７５の内壁の一部を構成する。ダイアフラム８３は、貯留部８０とガイドピン８１側の空間ＳＰ２とを隔離する。モータＭ２による回転は、図示しないロータ、上流シャフト３７および上流案内孔４５などによって直線移動に変換される。
【００７７】
図６のように、上流のチャンバ本体７５には、第１開口７８Ａ、第２開口７８Ｂおよび第３開口７８Ｃが設けられている。第３開口７８Ｃは、下流側ポンプ装置２５から戻された処理液を流入させる開口である。第１開口７８Ａおよび第３開口７８Ｃは、チャンバ本体７５内、円錐台状の貯留部８０の底部（ほぼ最低位置）に配置されている。第２開口７８Ｂは、第２開口５５Ｂと同様に、第１開口７８Ａおよび第３開口７８Ｃよりも高い位置でかつ、貯留部８０の最高位置ＴＰに配置されている。また、第２開口７８Ｂは、最高位置ＴＰを含むように配置されている。
【００７８】
処理液供給装置７１では、配管８５Ａ〜８５Ｄ、および配管８６を処理液が流れる。配管８５Ａは、図１に示す配管９Ａと、上流側ポンプ装置７３の第１開口７８Ａとを接続する。配管８５Ｂは、上流側ポンプ装置７３の第２開口７８Ｂと、フィルタ２３の入口２３Ｂとを接続する。配管８５Ｃは、フィルタ２３の出口２３Ｃと、下流側ポンプ装置２５の第１開口５５Ａとを接続する。配管８５Ｄは、下流側ポンプ装置２５の第３開口５５Ｃと、図１に示す配管９Ｂとを接続する。ノズル２は、下流側ポンプ装置２５の第３開口５５Ｃに接続する配管８５Ｄ，９Ｂの末端に設けられている。戻り配管８６は、下流側ポンプ装置２５の第２開口５５Ｂと、上流側ポンプ装置７３の第３開口７８Ｃとを接続する。
【００７９】
配管８５Ａには開閉弁Ｖ１１が設けられている。配管８５Ｂには開閉弁Ｖ１２が設けられている。配管８５Ｃには開閉弁Ｖ１３が設けられている。配管８５Ｄには開閉弁Ｖ１６が設けられている。排出配管３０には開閉弁Ｖ１５が設けられている。配管８６には開閉弁Ｖ１４が設けられている。なお、図６は、理解容易のため、第１開口５５Ａ、第２開口５５Ｂ、第３開口５５Ｃの位置を図２と異なる形態で表示している。実際には、第１開口５５Ａ、第２開口５５Ｂ、第３開口５５Ｃの位置は、図２，図３等のように構成されている。この点、図１、図７も同様である。
【００８０】
＜処理液供給装置７１の動作＞
次に、処理液供給装置７１の動作について説明する。図７（ａ）〜図７（ｅ）は、処理液供給装置７１の動作を説明するための図である。
【００８１】
〔ステップＴ０１〕準備完了（Ready）
図７（ａ）に示す準備完了工程から説明する。吸引工程、濾過工程、パージ工程および吐出工程などによって、図７（ａ）のように、制御部２１は、上流側ポンプ装置７３のチャンバ本体内７５および下流側ポンプ装置２５のチャンバ本体４０内に処理液が吸引された状態にする。なお、図７（ａ）において、開閉弁Ｖ１１〜Ｖ１６は閉じている。
【００８２】
〔ステップＴ０２〕吐出
図７（ｂ）は、吐出工程を示している。制御部２１は、開閉弁Ｖ１１〜Ｖ１５を閉じ、開閉弁Ｖ１６を開いた状態で、下流側ポンプ装置２５のガイドピン４１を左方向に前進させる。これにより、下流側ポンプ装置２５のチャンバ本体４０に吸引された処理液は、ノズル２に送られ、ノズル２から処理液が吐出される。
【００８３】
〔ステップＴ０３〕濾過
図７（ｃ）は、濾過工程を示している。図７（ｂ）において、上流側ポンプ装置７３のチャンバ本体７５内には、処理液が吸引されている。この処理液を、フィルタ２３を通じて、下流側ポンプ装置２５のチャンバ本体４０に吸引させる。すなわち、制御部２１は、開閉弁Ｖ１１，Ｖ１４〜Ｖ１６を閉じ、開閉弁Ｖ１２，Ｖ１３を開いた状態で、上流側ポンプ装置７３のガイドピン８１を左方向に前進させると共に、下流側ポンプ装置２５のガイドピン４１を右方向に後退させる。これにより、上流側ポンプ装置７３のチャンバ本体７５内の処理液は、フィルタ２３で気泡などの不純物が取り除かれて、下流側ポンプ装置２５のチャンバ本体４０に送られる。
【００８４】
〔ステップＴ０４〕パージ
図７（ｄ）は、パージ工程を示している。制御部２１は、開閉弁Ｖ１２，Ｖ１３，Ｖ１５，Ｖ１６を閉じ、開閉弁Ｖ１１，Ｖ１４を開いた状態で、下流側ポンプ装置２５のガイドピン４１を左方向に少し前進させる。これにより、実施例１のように、第２開口５５Ｂに集まった気泡を処理液と一緒に戻り配管８６を通じて、上流側ポンプ装置７３のチャンバ本体７５内に戻すことができる。チャンバ本体７５に戻された気泡は、次回以降の濾過工程の際に、フィルタ２３で取り除かれる。
【００８５】
〔ステップＴ０５〕吸引
図７（ｅ）は、吸引工程を示している。制御部２１は、開閉弁Ｖ１２〜Ｖ１６を閉じ、開閉弁Ｖ１１を開いた状態で、上流側ポンプ装置７３のガイドピン８１を右方向に後退させる。これにより、上流側ポンプ装置７３のチャンバ本体７５内に処理液が吸引される。また、図７（ａ）の準備完了工程のようになり、ステップＴ０１〜Ｔ０５は、繰り返し実行される。
【００８６】
連続吐出の場合は、吐出工程と吸引工程が同時に行われる。この場合、例えば、吐出および吸引工程（ステップＴ０２＋Ｔ０５）、濾過工程（ステップＴ０３）、パージ（ステップＴ０４）がこの順番で繰り返される。なお、フィルタ２３のベント２３Ｄから気泡を排出する場合は、制御部２１は、開閉弁Ｖ１１，Ｖ１３，Ｖ１４，Ｖ１６を閉じ、開閉弁Ｖ１２，Ｖ１５を開いた状態で、下流側ポンプ装置２５のガイドピン４１を左方向に前進させる。これにより、フィルタ本体２３Ｅを通過する前の気泡等の不純物を、排出配管３０を通じて排出できる。
【００８７】
本実施例によれば、処理液供給装置７１は、フィルタ２３を挟んで２つのポンプ（上流側ポンプ装置７３および下流側ポンプ装置２５）を備え、戻り配管８６を通じて下流側ポンプ装置２５から上流側ポンプ装置７３に処理液および気泡を戻すことができる。このような構成においても、下流側ポンプ装置２５について、実施例１と同様の効果を得ることができる。
【００８８】
また、制御部２１は、上流側ポンプ装置７３および下流側ポンプ装置２５のダイアフラム４３，８３の変位に連動させて、上流側ポンプ装置７３および下流側ポンプ装置２５の第１開口７８Ａ，５５Ａ、第２開口７８Ｂ，５５Ｂ、第３開口７８Ｃ，５５Ｃにおける処理液の流通を制御する。この制御により、上流側ポンプ装置７３は、第１開口７８Ａを介して処理液を吸引し、続いて、吸引した処理液を上傾斜面５０Ａに沿って案内された処理液中の気泡と共に第２開口７８Ｂを介してフィルタ２３へ送り出す。さらに、下流側ポンプ装置２５は、フィルタ２３でろ過された処理液を第１開口５５Ａを介して吸引し、続いて、吸引した処理液を送り出す過程の初期に、上傾斜面５０Ａに沿って案内された処理液中の気泡を第２開口５５Ｂを介して排出する。その後、貯留部４８内の残りの処理液を第３開口５５Ｃを介して送り出す。下流側ポンプ装置２５の第２開口７８Ｂから排出された気泡を含む処理液は、上流側ポンプ装置７３の第３開口５５Ｃを介して上流側ポンプ装置７３に戻される。
【００８９】
これにより、下流側ポンプ装置２５において、処理液を第３開口５５Ｃから貯留部４８外に送り出す前に、処理液中の気泡を第２開口５５Ｂから排出することができる。また、下流側ポンプ装置２５において、処理液中の気泡は上傾斜面５０Ａによって第２開口５５Ｂに案内されるので、気泡を排出するためのダイアフラム４３の変位量を抑えることができる。そのため、第３開口５５Ｃから送り出す処理液量を増やすことができる。また、上流側ポンプ装置７３において、処理液中の気泡は上傾斜面５０Ａによって第２開口７８Ｂに案内されるので、第２開口７８Ｂから気泡を除去するフィルタ２３に気泡を送り易くすることができる。
【００９０】
本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００９１】
（１）上述した実施例１では、図１のように、チャンバ本体４０に設けられた第２開口５５Ｂから排出配管２９を通じて処理液と一緒に気泡を排出していた。排出配管２９は、フィルタ２３の上流に戻してもよい。例えば、ポンプＰとフィルタ２３との間に設けられる、図示しないトラップタンクに戻してもよい。この場合、トラップタンクまたはフィルタ２３で気泡を除去し、気泡と共に第２開口５５Ｂから排出した処理液を再度、下流側ポンプ装置２５に送ってもよい。
【００９２】
（２）上述した各実施例および変形例（１）では、貯留部４８，８０（チャンバ本体４０，７５内）は、円錐台状で形成されていた。この点、第２開口５５Ｂが貯留部４８，８０の最高位置ＴＰを含むように、貯留部４８，８０は、角錐台状で形成されてもよい。図８は、角錐台状の貯留部９０の一例を示す図である。貯留部９０（チャンバ本体４０，７５の内部）は、縦方向に沿った第１五角形面（正五角形の面）９１Ａと、第１の五角形面９１Ａよりも面積が小さく、かつ第１五角形面９１Ａに対して平行な第２五角形面（正五角形の面）９１Ｂと、第１五角形面９１Ａの外縁と第２五角形面９１Ｂの外縁とを結ぶ筒状の周面９２とで囲まれて構成されている。なお、第１五角形面９１Ａは、開口部分である。また、第１および第２の五角形面９１Ａ，９１Ｂは、正五角形でなくてもよい。なお、本発明の錐台は、円錐台と角錐台を含むものである。
【００９３】
（３）上述した各実施例および各変形例では、図９の二点鎖線で示すように、第１円形面４９Ａの外縁と第２円形面４９Ｂの外縁とを結ぶ筒状の周面５０の断面が直線であった。この点、図９の実線のように、周面５０の断面は、貯留部４８，８０からチャンバ本体４０，７５外に向かう方向に凹むように弧状の曲線であってもよい。
【００９４】
（４）上述した各実施例および各変形例では、例えば図２に示す貯留部４８（８０）において、圧力センサ５３側の第２円形面４９Ｂは、第１円形面４９Ａよりも直径が小さくなるように構成されていた。この点、図１０のように、第２円形面４９Ｂは、第１円形面４９Ａよりも直径が大きくなるように構成されていてもよい。
【００９５】
（５）上述した各実施例および各変形例では、例えば図２に示す貯留部４８（８０）のように、円錐台で形成されていた。この点、貯留部９５は、図１１のように、第１円形面４９Ａを挟んで２つの円錐台で形成されていてもよい。すなわち、貯留部９５は、第１円形面４９Ａと、第２円形面４９Ｂと、第３円形面４９Ｃと、第１円形面４９Ａの外縁と第２円形面４９Ｂの外縁と第３円形面４９Ｃの外縁を結ぶ筒状の周面９４と、で囲まれて構成されている。第３円形面４９Ｃは、第１円形面４９Ａよりも直径が小さく、第１円形面４９Ａに対して平行であって、かつ、第１円形面４９Ａを挟んで第２円形面４９Ｂの反対側に配置されている。そして、第２開口５５Ｂは、貯留部４８，８０の最高位置を含むように配置されている。なお、第３円形面４９Ｃは、開口部分である。このような貯留部９５を有するチャンバ本体４０，７５は、矢印ＡＲ２の位置で分割するように２つの部材で構成されていてもよい。
【００９６】
（６）上述した各実施例および各変形例では、例えば図２に示す下流側ポンプ装置２５（上流側ポンプ装置７３）のように、ガイドピン４１（８１）等が左右方向に移動していた。この点、図１２（ａ）のように、ガイドピン４１（８１）等が上下方向に移動してもよい。この場合、チャンバ本体９６の上部に設けられた円錐面状または角錐面状の傾斜面９７の最高位置、すなわち貯留部９８の最高位置に第２開口５５Ｂが配置される。また、その最高位置を含むように第２開口５５Ｂが配置される。図１２（ｂ）は、図１２（ａ）に示す矢印ＡＲ３から見たチャンバ本体９６の底部に配置された第１開口５５Ａおよび第３開口５５Ｃを示している。なお、本発明の錐体面は、円錐面と角錐面を含むものである。
【００９７】
（７）上述した各実施例および各変形例において、図１３（ａ）のように、貯留部１０１の最高位置ＴＰが線状である場合、あるいは、図１３（ｂ）のように、貯留部１０２の最高位置ＴＰが面状である場合があるとする。この場合、第２開口５５Ｂは、それら線状または面状の最高位置ＴＰを含むように形成されてもよい。すなわち、第２開口５５Ｂは、図１３（ａ）、図１３（ｂ）にそれぞれ示す二点鎖線のように、スリット状の開口で形成されてもよい。
【００９８】
（８）上述した各実施例および各変形例では、処理液供給装置１１，７１は、ノズル２および配管９Ｂを備えていないが、処理液供給装置１１，７１は、ノズル２、配管９Ａ，９Ｂ、ポンプ装置Ｐおよび処理液容器７の少なくともいずれかを備えてもよい。
【００９９】
（９）上述した各実施例および各変形例では、図２のように、ダイアフラム４３は、ローリングダイアフラムが用いられていたが、平板状のフラットダイアフラムなどのその他のダイアフラムであってもよい。
【０１００】
（１０）上述した各実施例および各変形例では、基板Ｗを保持する保持回転部３は、保持した基板Ｗを回転した。基板Ｗの回転が不要な場合、保持回転部３は、基板Ｗを回転させなくてもよい。なお、保持回転部３は、本発明の基板保持部に相当する。
【０１０１】
（１１）上述した各実施例および各変形例では、下流側ポンプ装置２５は、３つの開口（第１開口５５Ａ，第２開口５５Ｂ，第３開口５５Ｃ）を備えていた。この点、下流側ポンプ装置２５は、更に、１または２以上の開口を備えていてもよい。上流側ポンプ装置７３も同様である。
【０１０２】
（１２）上述した各実施例および変形例におけるチャンバ本体４０，７５とダイアフラム４３，８３との組み合わせに代えて、図１４に示すような弾性を有するチューブ部材１１４を用いてもよい。この変形例について説明する。ポンプ装置１１０は、ポンプ本体１１０Ａ、開閉弁Ｖ１〜Ｖ３を備えている。ポンプ本体１１０Ａは、チャンバ本体１１２、チューブ部材１１４、駆動機構１１６、第１開口５５Ａ、第２開口５５Ｂ、第３開口５５Ｃを備えている。なお、開閉弁Ｖ１〜Ｖ３、第１開口５５Ａ、第２開口５５Ｂ、および第３開口５５Ｃは、実施例１の下流側ポンプ装置２５と同じ符号で示している。
【０１０３】
チューブ部材１１４は、中心軸ＣＴが鉛直姿勢に配置され、貯留部１１８（チャンバ本体１１２内）を取り囲むように設けられている。また、チューブ部材１１４は、貯留部１１８に接するように設けられている。駆動機構１１６は、チューブ部材１１４の胴部が変位することにより貯留部１１８の容積を変化させる。第１開口５５Ａおよび第３開口５５Ｃは貯留部１１８の底部に形成されている。第２開口５５Ｂは貯留部１１８の天井部、すなわち、最も高い位置に形成されている。チャンバ（チャンバ本体１１２）は、貯留部１１８の最高位置に向けて高くなるほど貯留部１１８の横断面積が小さくなる円錐状または角錐状の傾斜面１２０を備えている。第２開口５５Ｂは、傾斜面１２０に沿って案内された処理液中の気泡を排出する。
【０１０４】
このような構成によれば、処理液中の気泡をチャンバ３３の第３開口５５Ｃから送り出すことを防止しつつ、傾斜面１２０は、気泡を留まらせず、傾斜面１２０に沿って第２開口５５Ｂに気泡を案内する。したがって、チャンバ３３内から気泡を排出し易くできる。なお、駆動機構１１６は、モータＭ１等で駆動せずに、水圧や空気圧を利用してチューブ部材１１４を変形させるものであってもよい。また、第２開口５５Ｂは、最高位置を含むように形成される。
【０１０５】
（１３）上述した各実施例および各変形例において、図２のように、チャンバ３３は、中心軸ＣＴ（図４（ａ）参照）が水平姿勢の円錐台状の貯留部４８と、ダイアフラム４３と、駆動機構５７を備えている。ダイアフラム４３と駆動機構５７に代えて、図１４のチューブ部材と駆動機構を備えていてもよい。この場合、チューブ部材の両端の開口のうち、第１端の開口は、チャンバ本体４０の第１円形面４９Ａと接するように設けられ、第２端の開口は、塞がれる。そして、駆動機構がそのチューブ部材の胴部を変位させることにより、貯留部４８の容積を変化させてもよい。
【符号の説明】
【０１０６】
１        …  基板処理装置
２        …  ノズル
３        …  保持回転部
１１，７１  …  処理液供給装置
Ｖ１〜Ｖ４，Ｖ１１〜Ｖ１６  …  開閉弁
２１      …  制御部
２３      …  フィルタ
２５      …  下流側ポンプ装置
３７      …  シャフト
４０，７５，９６  …  チャンバ本体
４１，８１  …  ガイドピン
４３，８３  …  ダイアフラム
４８，８０，９０，９５，９８，１０１，１０２，１１８  …  貯留部
４９Ａ    …  第１円形面
４９Ｂ    …  第２円形面
５０，９２，９４      …  周面
５０Ａ    …  上傾斜面
５５Ａ，７８Ａ  …  第１開口
５５Ｂ，７８Ｂ  …  第２開口
５５Ｃ，７８Ｃ  …  第３開口
５７，７６，１１６  …  駆動機構
７３      …  上流側ポンプ装置
９１Ａ    …  第１五角形面
９１Ｂ    …  第２五角形面
９７，１２０  …  傾斜面
１１４    …  チューブ部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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