(57)【要約】【課題】熱処理装置において発生するパーティクルを除去して処理容器内へのパーティクルの拡散を防止することができるウエハボート支持部を提供する。【解決手段】鉛直方向に間隔を空けて複数枚のウエハを配列支持可能なウエハボートを下方から支持するウエハボート２８の支持部であって、ウエハボート２８の底面を接触支持する複数個の支点２７を有し、各支点２７は、ウエハボート支持面２７ｂと、ウエハボート支持面２７ｂの周辺に設けられ、排気系に接続されて吸気によりパーティクルを吸引する吸引開口部２７ｄとを有するウエハボート支持部２７０を提供することにより上記課題を解決する。【選択図】  図３
2019036610.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鉛直方向に間隔を空けて複数枚のウエハを配列支持可能なウエハボートを下方から支持するウエハボートの支持部であって、
前記ウエハボートの底面を接触支持する複数個の支点を有し、
各支点は、
ウエハボート支持面と、
前記ウエハボート支持面の周辺に設けられ、排気系に接続されて吸気によりパーティクルを吸引する吸引開口部とを有する
ウエハボート支持部。
【請求項２】
前記吸引開口部は、前記ウエハボート支持面よりも前記支点の中央側に上向きに設けられている請求項１に記載のウエハボート支持部。
【請求項３】
前記吸引開口部は、前記ウエハボート支持面の側方において横向きに開口している請求項１に記載のウエハボート支持部。
【請求項４】
前記ウエハボートの底面が前記吸引開口部を塞がないように前記吸引開口部の縁部に傾斜部が設けられている請求項２または３に記載のウエハボート支持部。
【請求項５】
前記ウエハボート支持面から前記吸引開口部にわたって表面に溝が形成されている請求項２〜４のいずれか１項に記載のウエハボート支持部。
【請求項６】
前記吸引開口部は、前記ウエハボート支持面よりも前記支点の外周側の前記ウエハボート支持面の一側部に開口している請求項１に記載のウエハボート支持部。
【請求項７】
前記吸引開口部は、前記ウエハボート支持面よりも前記支点の外周側の前記ウエハボート支持面の両側部に開口している請求項１に記載のウエハボート支持部。
【請求項８】
前記吸引開口部は、前記ウエハボート支持面の外周に開口している請求項１に記載のウエハボート支持部。
【請求項９】
前記吸引開口部の縁部に、下方ほど開口領域が小さくなる傾斜部が形成されている請求項２に記載のウエハボート支持部。
【請求項１０】
前記吸引開口部は、前記支点の側面に開口している請求項１に記載のウエハボート支持部。
【請求項１１】
前記吸引開口部の周辺にパーティクル受け部が形成されている請求項１０に記載のウエハボート支持部。
【請求項１２】
前記パーティクル受け部は、平板状である請求項１１に記載のウエハボート支持部。
【請求項１３】
前記パーティクル受け部は、下方ほど開口領域が小さくなる逆テーパー状の内壁面を有する形状である請求項１１に記載のウエハボート支持部。
【請求項１４】
前記ウエハボート支持部は、熱処理装置用処理容器の開閉をするための蓋体に設けられた回転軸の上端に接続して設けられており、
前記吸引開口部は、前記回転軸の内部に形成された流路を通じて前記排気系に接続されている請求項１〜１３のいずれか１項に記載のウエハボート支持部。
【請求項１５】
前記ウエハボート支持部は、前記ウエハボートを支持する機能を有する保温筒の上端に設けられており、
前記保温筒と前記ウエハボート支持部は熱処理装置用処理容器の開閉をするための蓋体に設けられており、
前記吸引開口部は、前記保温筒の内部に形成された流路を通じて前記排気系に接続されている請求項１〜１３のいずれか１項に記載のウエハボート支持部。
【請求項１６】
熱処理装置用処理容器の開閉をするための蓋体に回転テーブルが搭載されており、前記回転テーブルの上に保温筒と一体に形成されたウエハボートが支持されており、
前記保温筒と一体に形成されたウエハボートと前記ウエハボート支持部に相当する前記回転テーブルとの接触面の周辺に、前記吸引開口部が設けられている請求項１〜１３のいずれか１項に記載のウエハボート支持部。
【請求項１７】
前記ウエハボートの底面は、中央に円形の開口を有する円環形状を有し、
前記支点は、前記ウエハボート支持面の内側に前記開口と係止する係止構造部を有する請求項１〜１５のいずれか１項に記載のウエハボート支持部。
【請求項１８】
処理容器と、
前記処理容器の開閉をするための蓋体と、
前記蓋体に搭載されたウエハボート支持部と、
鉛直方向に間隔を空けて複数枚のウエハを配列支持可能であり、前記ウエハボート支持部に下方から支持されたウエハボートを有しており、
前記ウエハボート支持部は、前記ウエハボートの底面を接触支持する複数個の支点を有し、
各支点は、
ウエハボート支持面と、
前記ウエハボート支持面の周辺に設けられ、排気系に接続されて吸気によりパーティクルを吸引する吸引開口部とを有する
熱処理装置。
【請求項１９】
処理容器と、前記処理容器の開閉をするための蓋体と、記蓋体に搭載されたウエハボート支持部と、鉛直方向に間隔を空けて複数枚のウエハを配列支持可能であり、前記ウエハボート支持部に下方から支持されたウエハボートを有しており、前記ウエハボート支持部は、前記ウエハボートの底面を接触支持する複数個の支点を有し、各支点は、ウエハボート支持面と、前記ウエハボート支持面の周辺に設けられ、排気系に接続されて吸気によりパーティクルを吸引する吸引開口部とを有する熱処理装置において、
前記排気系において排気することにより、前記吸引開口部から吸気してパーティクルを吸引する工程を有する熱処理装置のクリーニング方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウエハボート支持部、熱処理装置及び熱処理装置のクリーニング方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、半導体ウエハ（以下ウエハという）に対して成膜処理、酸化処理、拡散処理等の熱処理を施す装置として、縦型熱処理装置が知られている。大気の巻き込みが少ない等の理由から、縦型熱処理装置は広く使用されている。縦型熱処理装置は、加熱炉内に縦長の処理容器を設け、処理容器の下端開口部を開閉する蓋体の上に、鉛直方向に間隔を空けて複数枚のウエハを配列支持可能なウエハボートをウエハボート支持部により支持して搭載し、このウエハボートにウエハを保持して蓋体の上昇によりウエハボートを処理容器内に搬入し、所定の熱処理を行う。
【０００３】
また、特許文献１には、ウエハを処理容器に搬入するときには目標温度より低い第１の温度設定値を出力し、その後目標温度である第２の温度設定値を出力することで、ウエハの温度を速やかに安定させることができる熱処理装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−３３４８４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、熱処理装置においてパーティクルが発生する原因の１つに、ウエハボートなどの反応容器内に搭載される装置部材同士の擦れがある。装置部材同士の擦れによりパーティクルが発生すると、処理容器内に飛散してウエハに付着する場合がある。特に、ウエハボートを載せ換える際にパーティクルが発生しやすく、ウエハボートとウエハボート支持部の接触部は、装置部材同士の擦れによるパーティクル発生の頻度が高い箇所となっている。
【０００６】
ウエハに形成されるパターンの微細化は益々進んでいることから、パーティクルがウエハに付着すると加工不良となる可能性が高くなってきている。熱処理装置において発生するパーティクルを除去して処理容器内へのパーティクルの拡散を防止することが求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様に係るウエハボート支持部は、鉛直方向に間隔を空けて複数枚のウエハを配列支持可能なウエハボートを下方から支持するウエハボートの支持部であって、前記ウエハボートの底面を接触支持する複数個の支点を有し、各支点は、ウエハボート支持面と、前記ウエハボート支持面の周辺に設けられ、排気系に接続されて吸気によりパーティクルを吸引する吸引開口部とを有する。
【０００８】
本発明の他の態様に係る熱処理装置は、処理容器と、前記処理容器の開閉をするための蓋体と、記蓋体に搭載されたウエハボート支持部と、鉛直方向に間隔を空けて複数枚のウエハを配列支持可能であり、前記ウエハボート支持部に下方から支持されたウエハボートを有しており、前記ウエハボート支持部は、前記ウエハボートの底面を接触支持する複数個の支点を有し、各支点は、ウエハボート支持面と、前記ウエハボート支持面の周辺に設けられ、排気系に接続されて吸気によりパーティクルを吸引する吸引開口部とを有する。
【０００９】
本発明の他の態様に係る熱処理装置のクリーニング方法は、処理容器と、前記処理容器の開閉をするための蓋体と、記蓋体に搭載されたウエハボート支持部と、鉛直方向に間隔を空けて複数枚のウエハを配列支持可能であり、前記ウエハボート支持部に下方から支持されたウエハボートを有しており、前記ウエハボート支持部は、前記ウエハボートの底面を接触支持する複数個の支点を有し、各支点は、ウエハボート支持面と、前記ウエハボート支持面の周辺に設けられ、排気系に接続されて吸気によりパーティクルを吸引する吸引開口部とを有する熱処理装置において、前記排気系において排気することにより、前記吸引開口部から吸気してパーティクルを吸引する工程を有する。
【発明の効果】
【００１０】
開示のウエハボート支持部によれば、ウエハボートとウエハボート支持部の擦れにより発生するパーティクルを効率的に除去して処理容器内へのパーティクルの拡散を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の第１実施形態に係る熱処理装置の一例を示した概略図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る熱処理装置の一例を示した要部断面図である。
【図３】本発明の第１実施形態に係る熱処理装置の一例を示した要部断面図である。
【図４】本発明の第１実施形態に係る熱処理装置のウエハボート支持部の一例を示した斜視図（Ａ）と断面図（Ｂ）である。
【図５】本発明の第１実施形態に係る熱処理装置のウエハボート支持部の一例を示した斜視図である。
【図６】本発明の第１実施形態に係る熱処理装置のウエハボート支持部の一例を示した断面図（Ａ）〜（Ｂ）である。
【図７】本発明の第１実施形態に係る熱処理装置のウエハボート支持部の一例を示した斜視図である。
【図８】本発明の第１実施形態に係る熱処理装置の一例を示した要部断面図である。
【図９】本発明の第１実施形態に係る熱処理装置の一例を示した要部断面図である。
【図１０】本発明の第１実施形態に係る熱処理装置の一例を示した要部断面図（Ａ）と、ウエハボート支持部の一例を示した斜視図（Ｂ）である。
【図１１】本発明の第２実施形態に係る熱処理装置の一例を示した要部断面図である。
【図１２】本発明の第２実施形態に係る熱処理装置の一例を示した要部断面図である。
【図１３】本発明の第２実施形態に係る熱処理装置の一例を示した要部断面図である。
【図１４】本発明の第３実施形態に係る熱処理装置の一例を示した要部断面図である。
【図１５】本発明の第３実施形態に係る熱処理装置の一例を示した要部斜視図（Ａ）と、ウエハボート支持部の一例を示した斜視図（Ｂ）〜（Ｃ）である。
【図１６】本発明の第４実施形態に係る熱処理装置の一例を示した要部断面図である。
【図１７】本発明の第４実施形態に係る熱処理装置の保温筒一体型ウエハボートの一例を示した下斜め方向から見た斜視図である。
【図１８】本発明の第４実施形態に係る熱処理装置のウエハボート支持部である回転テーブルの一例を示した斜視図である。
【図１９】本発明の第４実施形態に係る熱処理装置の保温筒一体型ウエハボートの脚部と回転テーブルの吸引開口部の配置の一例を示す平面図（Ａ）〜（Ｃ）である。
【図２０】本発明の第５実施形態に係る熱処理装置と熱処理装置のクリーニング方法の工程の一例を示した模式図（Ａ）〜（Ｃ）である。
【図２１】本発明の第５実施形態に係る熱処理装置の一例を示した模式図である。
【図２２】本発明の第５実施形態に係る熱処理装置の一例を示した模式図である。
【図２３】本発明の第５実施形態に係る熱処理装置の使用方法の工程を示したフローチャートである。
【図２４】本発明の第５実施形態に係る熱処理装置の一例を示した模式図である。
【図２５】本発明の第５実施形態に係る熱処理装置のリークチェック方法の工程を示したフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明を実施するための形態について、以下に説明する。尚、同じ部材等については、同一の符号を付して説明を省略する。
【００１３】
＜第１実施形態＞
〔熱処理装置と、ウエハボート支持部及びウエハボートを含む要部の一例の構成〕
第１実施形態に係る熱処理装置について、図１〜図４を参照して説明する。図１は本実施形態に係る熱処理装置の一例を示した概略図である。図２は本実施形態に係る熱処理装置の一例を示した要部断面図であり、図１における蓋体、回転テーブル、保温筒、ウエハボート支持部及びウエハボートまでの構成に対応する。図３は本実施形態に係る熱処理装置の一例を示した要部断面図であり、蓋体、回転テーブル、保温筒及びボートウエハ支持部までの構成に対応する。図４（Ａ）は本実施形態に係る熱処理装置のウエハボート支持部の一例を示した斜視図であり、図４（Ｂ）は断面図である。
【００１４】
図１に示される熱処理装置は、例えばＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition；化学気相成長法）によりウエハＷにＳｉＮ膜、ＳｉＯ２膜及びそれらの積層膜等を形成する成膜装置である。例えば石英により縦型の円筒状に形成された処理容器４が設けられており、処理容器４内の上部側は、天井板１２により封止されている。処理容器４の下端側には、例えば円筒状に形成されたマニホールド１３が連結されている。マニホールド１３の下端は基板搬入出口１５として開口されており、例えば石英やステンレススチールにより構成された蓋体１４により気密に閉じられるように構成されている。蓋体１４は基板搬入出口１５を開閉できるように、ボートエレベータ３０により昇降自在に構成されている。蓋体１４とマニホールド１３との間に気密に閉じるためのＯリング１４ｐが介在している。
【００１５】
図１及び図２に示されるように、蓋体１４上には回転テーブルの軸脚部２０を介して平面視円形の回転テーブル２４が設けられており、この回転テーブル２４の上には後述する保温筒２６が設けられている。保温筒２６はウエハボートを支持する機能を有しており、保温筒２６の上部にウエハボート支持部２７０が設けられ、その上に基板保持具であるウエハボート２８が搭載されている。ウエハボート２８は、鉛直方向に間隔を空けて複数枚例えば１２５枚の円形の基板であるウエハＷの外縁部を支持して棚状に配列支持可能である。
【００１６】
図１に示されるように、ボートエレベータ３０による蓋体１４の昇降によって、ウエハボート２８は、当該ウエハボート２８が処理容器４内にロード（搬入）され、蓋体１４により処理容器４の基板搬入出口１５が塞がれる処理位置と、処理容器４の下方側の搬出位置との間で昇降自在に構成される。搬出位置とは、図示しない移載機構によりウエハボート２８に対してウエハＷが移載される位置である。
【００１７】
図２に示される熱処理装置では、軸脚部２０の下方に、接続部材２１、回転軸２０ｃが接続されており、回転軸２０ｃとモータ６５がベルト６６で接続されている。
【００１８】
図１に示されるように、処理容器４の側壁には、当該処理容器４内の雰囲気を真空排気するために、上下に細長い排気口１６が形成されている。この排気口１６には、これを覆うようにして例えば石英よりなる断面コ字状に形成された排気カバー部材１７が取り付けられている。排気カバー部材１７は、例えば処理容器４の側壁に沿って上下に伸びて、処理容器４の上方側を覆うように構成されており、例えば当該排気カバー部材１７の天井側にはガス出口１７ｊが形成されている。このガス出口１７ｊには、真空ポンプ及び排気流量を調整するための調整部などにより構成された排気機構１９が接続されている。加熱部をなすヒーター１０が処理容器４の外周を囲むように設けられており、処理容器４内を加熱する。
【００１９】
上記のマニホールド１３の側壁には、複数のガス導入ポートが設けられ、ガス供給路４１の一端（下流端）がナットなどの継手部材によってガス導入ポートに接続されている。また、ガス導入ポートの内側から例えば石英管からなるガスノズル４２が挿入され、Ｏリングなどのシール部材を介してガスノズル４２とガス供給路４１の一端（下流端）が気密に接続されている。処理ガス供給部であるガスノズル４２は処理容器４の側壁に沿って伸び、排気口１６に対向するように設けられている。ガス供給口４３が、ウエハボート２８に保持された各ウエハＷに側方からガスを供給できるように、ガスノズル４２の長さ方向に沿って多数開口されている。
【００２０】
ガス供給路４１の他端側（上流側）は例えば４つに分岐して分岐路４４Ａ〜４４Ｄを形成し、分岐路４４Ａ〜４４Ｄの上流端は、窒素（Ｎ２）ガスの供給源４５Ａ、アンモニア（ＮＨ３）ガスの供給源４５Ｂ、ジクロロシラン（ＤＣＳ：ＳｉＨ２Ｃｌ２）ガスの供給源４５Ｃ、二酸化窒素（ＮＯ２）ガスの供給源４５Ｄに夫々接続されている。ＮＨ３ガス、ＤＣＳガス及びＮＯ２ガスは、成膜を行うための処理ガスであり、Ｎ２ガスは各部をパージするためのパージガスである。分岐路４４Ａ〜４４Ｄの上流側にはマスフローコントローラＭＦＣ１〜ＭＦＣ４が夫々介設され、分岐路４４Ａ〜４４Ｄの下流側にはバルブＶ１〜Ｖ４が夫々介設されている。
【００２１】
また、マニホールド１３の側壁に設けられたガス導入ポートには、クリーニングガス供給部であるガス供給路４６の一端（下流端）が接続されており、ガス供給路４６の上流端は例えば２つに分岐して分岐路４７Ａ、４７Ｂを形成し、分岐路４７Ａ、４７Ｂの上流端は、フッ素（Ｆ２）ガスの供給源４８Ａ、フッ化水素（ＨＦ）ガスの供給源４８Ｂに夫々接続されている。ＨＦガス及びＦ２ガスの混合ガスがクリーニングガスとして用いられる。分岐路４７Ａ、４７Ｂの上流側にはマスフローコントローラＭＦＣ５、ＭＦＣ６が夫々介設され、分岐路４７Ａ、４７Ｂの下流側にはバルブＶ５、Ｖ６が夫々介設されている。
【００２２】
上記の蓋体１４及び回転テーブル２４について、図３も参照しながら、さらに詳しく説明する。蓋体１４の中心部には、当該蓋体１４を垂直に貫通する貫通孔１４ｃが形成されており、当該貫通孔１４ｃ内には、回転軸２０ｃに接続された接続部材２１が下方側から垂直に挿入され、接続部材２１は回転テーブル２４の軸脚部２０に接続されている。回転軸２０ｃの下端部は外方側へ折り返され、平面視リング状の凹部５３を形成している。蓋体１４の下面にはプレート５４が取り付けられている。当該プレート５４は貫通孔を備えており、上記の回転軸２０ｃに接続された接続部材２１は、このプレート５４の貫通孔を貫通して設けられている。
【００２３】
また、プレート５４の貫通孔の周縁部は、上記の凹部５３内に進入するように下方へ延伸されて固定筒５５を形成している。固定筒５５の外側面と凹部５３の側面との隙間にはベアリング５６が設けられており、ベアリング５６の下方には当該隙間をシールするシール部材５７が設けられている。また、プレート５４の下方には、固定筒５５及び回転軸２０ｃを囲うように上方が開口したカップ体５８が設けられ、カップ体５８の上端部は、プレート５４の周縁部に固定されている。
【００２４】
回転軸２０ｃの下端部内には垂直な配管６１の一端が下方から進入するように設けられており、配管６１の他端はカップ体５８を貫通し、バルブ６０ａと真空ポンプ６０ｂとを含む排気系に接続されている。配管６１の外側面と回転軸２０ｃの内側面との隙間には、ベアリング６２が設けられている。また、ベアリング６２の上方及び下方には当該隙間をシールするためのシール部材６３が設けられている。このベアリング６２と上記のベアリング５６とにより、回転軸２０ｃが蓋体１４に対して回転自在に支持される。また、シール部材５７、６３としては回転軸２０ｃの回転を妨げないように、例えば磁性流体により構成される。
【００２５】
カップ体５８の外部には、駆動機構であるモータ６５が蓋体１４に対して固定されて設けられている。カップ体５８に設けられた開口部５９を介してモータ６５と回転軸２０ｃの外方に折り返された部分とはベルト６６で接続されており、モータ６５の回転により回転軸２０ｃが軸周りに回転する。それによって回転軸２０ｃに接続された回転テーブル２４が周方向に回転し、保温筒２６上のウエハボート２８も回転する。そのようにウエハボート２８が回転することで、ウエハＷが周方向に回転する。
【００２６】
図１及び図２に示されるように、回転テーブル２４上には例えば石英により構成される保温筒２６が設けられている。この保温筒２６は、ウエハボート２８の底板３２よりも下方に位置し、処理容器４内におけるウエハボート２８の底板３２よりも上の雰囲気と基板搬入出口１５の雰囲気とを断熱する。保温筒２６は、複数本の垂直な支柱２６ａと複数枚の水平な遮熱板２６ｂとにより構成されている。各支柱２６ａは、回転テーブル２４の周方向に沿って配置されており、その下端部は回転テーブル２４の上面に設けられた凹部２４ｂに差し込まれている。遮熱板２６ｂは円形状に構成され、上下に間隔をおいて互いに重なるように設けられている。つまり、遮熱板２６ｂは、支柱２６ａに沿って棚状に配列されている。図１及び図２に示す上下に互いに隣接する遮熱板２６ｂの間隔は、例えば７ｍｍ〜２５ｍｍであり、この例では１２ｍｍである。
【００２７】
支柱２６ａは、各遮熱板２６ｂの周縁部を支持しており、例えば各遮熱板２６ｂを貫通して支持している。図２と図３に示されるように、複数本の支柱２６ａのそれぞれの上端に支点２７が支柱２６ａと一体に設けられており、複数個の支点２７からウエハボート支持部２７０が構成されている。ウエハボート支持部２７０の支点２７の上に、ウエハボート２８が載置されて用いられる。
【００２８】
図１に示されるように、第１実施形態に係る熱処理装置は、例えばコンピュータにより構成される制御部１００を備えている。制御部１００は、ボートエレベータ３０による蓋体１４の昇降、ヒーター１０の温度、流量調整部ＭＦＣによるガスの供給量、バルブＶの開閉によるガスの給断、排気機構１９による排気量、モータ６５による回転テーブル２４の回転などを制御するように構成されている。より具体的には、制御部１００は、処理容器４内で行われる後述する一連の処理のステップを実行するためのプログラムを備え、当該プログラムの命令を読み出して熱処理装置の各部に制御信号を出力する。なお、このプログラムは、例えばハードディスク、フレキシブルディスク、コンパクトディスク、マグネットオプティカルディスク（ＭＯ）、メモリーカード等の記憶媒体に格納された状態で制御部に格納される。
【００２９】
〔成膜方法〕
続いて、熱処理装置にて実施される成膜処理について説明する。先ず、多数枚のウエハＷをウエハボート２８に棚状に載置し、処理容器４内にその下方より搬入（ロード）して、蓋体１４で基板搬入出口１５を閉じ、処理容器４を密閉する。そして処理容器４内が排気機構１９によって所定の圧力の真空雰囲気となるように真空引きされると共に、ヒーター１０により処理容器４内が所定の温度に加熱される。
【００３０】
そして、モータ６５により回転テーブル２４が回転し、ガスノズル４２から成膜用の処理ガスとしてＤＣＳガス及びＮＨ３ガスの供給が開始される。回転テーブル２４の回転によって、回転するウエハＷの表面にＤＣＳガスとＮＨ３ガスとが供給され、ウエハＷの熱により、これらのガスが互いに反応してＳｉＮが生成し、当該ＳｉＮがウエハＷに堆積する。即ち、ＣＶＤによりＳｉＮ膜がウエハＷ表面に形成される。
【００３１】
〔ウエハボート支持部の支点の一例の構造〕
図４（Ａ）は、本実施形態に係る熱処理装置のウエハボート支持部の一例を示した斜視図であり、図４（Ｂ）は断面図である。ウエハボート支持部２７０を構成する支点２７は、図２に示されるウエハボート２８の底面を接触支持する平坦なウエハボート支持面２７ｂを有する。このウエハボート支持面２７ｂ上にウエハボート２８が戴置される。図２に示されるように、例えば、ウエハボート２８の底面は、中央に円形の開口２８ａを有する円環形状を有し、支点２７は、ウエハボート支持面２７ｂの内側にウエハボート２８の底面の開口２８ａと係止する係止構造部２７ａを有する。図４（Ａ）に示されるように、係止構造部２７ａのウエハボート支持面２７ｂ側の側面は、ウエハボート２８の底面の円形の開口２８ａの形状に合わせた曲面となっている。係止構造部２７ａとウエハボート２８の下端面に形成された開口２８ａとが係合して、ウエハボート２８がウエハボート支持部２７０（支点２７）の上に支持される。
【００３２】
支点２７には、ウエハボート支持面２７ｂの周辺に吸引開口部２７ｄが設けられている。例えば、ウエハボート支持面２７ｂよりも支点２７の中央側に上向きに吸引開口部２７ｄが設けられている。吸引開口部２７ｄは、図３及び図４（Ｂ）に示されるように、ウエハボート支持部２７０（支点２７）の内部に設けられた流路２７ｅに通じている。図３に示されるように、保温筒２６の各支柱２６ａは筒状であり、支柱２６ａの内部には当該支柱２６ａの長さ方向に沿って流路２６ｃが形成されている。流路２６ｃは一方で流路２７ｅに連通し、他方で真空ポンプ６０ｂを有する排気系に接続されている。排気系で排気を行うと、吸引開口部２７ｄから吸気して、吸引開口部２７ｄの近傍に存在するパーティクルを除去することができる。
【００３３】
図４（Ａ）及び（Ｂ）に示される支点２７は、図２に示されるウエハボート２８の底面が吸引開口部２７ｄを塞がないように、吸引開口部２７ｄの縁部に傾斜部２７ｃが設けられている。平坦なウエハボート支持面２７ｂと平坦な図２に示されるウエハボート２８の底面が接触した時に吸引開口部２７ｄが塞がれてしまうと、吸引開口部２７ｄでの吸気が困難となるが、図４（Ａ）及び（Ｂ）に示されるように傾斜部２７ｃが設けられていることにより、図２に示されるウエハボート２８の底面が吸引開口部２７ｄを塞がないようにすることができる。また、図４（Ａ）及び（Ｂ）に示されるように、上向きに開口するように設けられた吸引開口部２７ｄの縁部の傾斜部２７ｃとして、下方ほど開口領域が小さくなる逆テーパー状の傾斜部を有する形状とすると、重力の作用で落下するパーティクルを吸引しやすくなり、より効率的にパーティクルを除去できる。また、図４（Ａ）及び（Ｂ）に示される支点２７は、ウエハボート支持面２７ｂから吸引開口部２７ｄにわたって表面に溝２７ｆが形成されている。溝２７ｆは、吸引開口部２７ｄによるパーティクル吸引の効率を高めることができる。
【００３４】
吸引開口部２７ｄへのパーティクルの吸引は、吸引開口部からの吸気速度（排気系の排気速度）、パーティクルの大きさと重さ、パーティクルと吸引開口部２７ｄの距離と相対位置に依存する。パーティクルが小さく軽いほど吸引されやすく、大きく重いほど吸引されにくくなる。吸気速度を上げるとパーティクルは吸引されやすく、吸気速度を下げるとパーティクルは吸引されにくくなる。パーティクルが吸引開口部２７ｄから近いほど吸引されやすく、遠いほど吸引されにくくなる。吸引開口部からの吸気速度（排気系の排気速度）を変えることにより、吸引の対象とするパーティクルの大きさと重さ、吸引の対象とする吸引範囲を調節することができる。
【００３５】
ウエハボート２８とウエハボート支持部２７０の接触部（ウエハボート支持面２７ｂ）は、装置部材同士の擦れによるパーティクル発生の頻度が高い箇所となっている。従って、ウエハボート支持面２７ｂの周辺に吸引開口部２７ｄを設けることによって、パーティクルの発生個所により近い位置から吸引することができ、パーティクルを効率的に除去することができる。これにより、処理容器内へのパーティクルの拡散を防止することができる。ここで、吸引開口部２７ｄは、ウエハボート支持面２７ｂに近いほど、ウエハボート支持面２７ｂにおいて発生するパーティクルの除去効率を高めることができる。また、パーティクルは重力の作用で落下することがあるので、パーティクルは吸引開口部２７ｄが上方向に存在する場合よりも下方向に存在する場合の方が吸引されやすくなる。図２〜４に示されるウエハボート支持部２７０では、吸引開口部２７ｄはウエハボート支持面２７ｂの直下に設けられており、パーティクルをより効率的に除去することができる。
【００３６】
〔ウエハボート支持部の支点の他の一例の構造〕
図５は、本実施形態に係る熱処理装置のウエハボート支持部の他の一例を示した斜視図である。図４（Ａ）及び（Ｂ）に示される支点２７と同様に、支点２７は、ウエハボート支持面２７ｂ、係止構造部２７ａ、吸引開口部２７ｄ、傾斜部２７ｃ、溝２７ｆが設けられている。ここで、図５に示される支点２７では、吸引開口部２７ｄは、ウエハボート支持面２７ｂの側方において横向きに開口している。具体的には、例えば、吸引開口部２７ｄは、係止構造部２７ａの側面において横向きに開口しており、傾斜部２７ｃまで延びるように形成されていてもよい。この点を除いて、図４（Ａ）及び（Ｂ）の支点２７と同様である。吸引開口部２７ｄは図４（Ａ）及び（Ｂ）の支点２７と同様に排気系に接続されており、排気系で排気を行うと、吸引開口部２７ｄによりウエハボート支持面２７ｂに対して横方向から吸気して、吸引開口部２７ｄの近傍に存在するパーティクルを除去することができる。
【００３７】
図６（Ａ）は、本実施形態に係る熱処理装置のウエハボート支持部の他の一例を示した断面図である。図４（Ａ）及び（Ｂ）に示される支点２７と同様に、支点２７は、ウエハボート支持面２７ｂ、係止構造部２７ａ、吸引開口部２７ｄ、流路２７ｅが設けられている。ここで、図６（Ａ）に示される支点２７では、吸引開口部２７ｄは、ウエハボート支持面２７ｂよりも支点２７の外周側のウエハボート支持面２７ｂの両側部に開口している。この点を除いて、図４（Ａ）及び（Ｂ）の支点２７と同様である。吸引開口部２７ｄは流路２７ｅを通じて図４（Ａ）及び（Ｂ）の支点２７と同様に排気系に接続されており、排気系で排気を行うと、吸引開口部２７ｄによりウエハボート支持面２７ｂの両側部から吸気して、吸引開口部２７ｄの近傍に存在するパーティクルを除去することができる。
【００３８】
図６（Ａ）に示される支点２７において、吸引開口部２７ｄがウエハボート支持面２７ｂの両側部に開口している代わりに、吸引開口部２７ｄは、ウエハボート支持面２７ｂの外周に開口している構造であってもよい。図６（Ａ）と同様に、排気系で排気を行うと、吸引開口部２７ｄによりウエハボート支持面２７ｂの外周から吸気して、吸引開口部２７ｄの近傍に存在するパーティクルを除去することができる。
【００３９】
図６（Ｂ）は、本実施形態に係る熱処理装置のウエハボート支持部の他の一例を示した断面図である。支点２７は、ウエハボート支持面２７ｂ、係止構造部２７ａ、吸引開口部２７ｄ、流路２７ｅが設けられている。図６（Ａ）に示される支点２７において、吸引開口部２７ｄがウエハボート支持面２７ｂの両側部に開口している代わりに、図６（Ｂ）に示されるように、吸引開口部２７ｄは、ウエハボート支持面２７ｂよりも支点２７の外周側のウエハボート支持面２７ｂの一側部に開口している構造である。図６（Ａ）と同様に、排気系で排気を行うと、吸引開口部２７ｄによりウエハボート支持面２７ｂの一側部から吸気して、吸引開口部２７ｄの近傍に存在するパーティクルを除去することができる。
【００４０】
図７は、本実施形態に係る熱処理装置のウエハボート支持部の他の一例を示した斜視図である。図４（Ａ）及び（Ｂ）に示される支点２７と同様に、支点２７は、ウエハボート支持面２７ｂ、吸引開口部２７ｄが設けられている。ここで、図７に示される支点２７では、ウエハボート支持面２７ｂよりも支点２７の中央側に上向きに吸引開口部２７ｄが設けられている。また、吸引開口部２７ｄの縁部に、下方ほど開口領域が小さくなる傾斜部２７ｇが形成されている。排気系で排気を行うと、吸引開口部２７ｄから吸気して吸引開口部２７ｄの近傍に存在するパーティクルを除去することができ、傾斜部２７ｇが設けられていることで、重力の作用で落下するパーティクルを吸引しやすくなり、より効率的にパーティクルを除去できる。
【００４１】
本実施形態の熱処理装置の一例のウエハボート支持部及びウエハボートの構成について、図８を参照して説明する。図８は本実施形態に係る熱処理装置の一例を示した要部断面図である。図１及び図２におけるウエハボート支持部２７０及びウエハボート２８の部分に相当する。
【００４２】
図１及び図２に示される熱処理装置と共通する部分については説明を省略する。図８に示される熱処理装置のウエハボート支持部では、吸引開口部２７ｄは、ウエハボート支持面２７ｂの直下ではなく、支点２７の側面に開口している点が異なる。上記を除いて、図１及び図２に示される熱処理装置を同様である。吸引開口部２７ｄは、支点２７の内部に設けられた流路２７ｅに接続されている。
【００４３】
ウエハボート２８とウエハボート支持部２７０の接触部（ウエハボート支持面２７ｂ）は、装置部材同士の擦れによるパーティクル発生の頻度が高い箇所となっている。従って、ウエハボート支持面２７ｂの付近に吸引開口部２７ｄを設けることによって、パーティクルにより近い位置から吸引することができ、パーティクルを効率的に除去することができる。これにより、処理容器内へのパーティクルの拡散を防止することができる。ここで、吸引開口部２７ｄは、ウエハボート支持面２７ｂに近いほど、ウエハボート支持面２７ｂにおいて発生するパーティクルの除去効率を高めることができる。
【００４４】
また、パーティクルは重力の作用で落下することがあるので、パーティクルは吸引開口部２７ｄが上方向に存在する場合よりも下方向に存在する場合の方が吸引されやすくなる。ウエハボート支持面２７ｂから比較的サイズの大きめのパーティクルが発生したとき、パーティクルはウエハボート支持面２７ｂの側部へと落ちやすい状況となっていると考えられ、支点２７の側面に設けられた吸引開口部２７ｄは、そのような比較的サイズの大きめのパーティクルを捕集して除去するのに適している。
【００４５】
図９は、本実施形態に係る熱処理装置の一例を示した要部断面図である。吸引開口部２７ｄは支点２７の側面に開口しており、吸引開口部２７ｄの周辺にパーティクル受け部２７ｈが形成された構成である。図９に示す熱処理装置では、パーティクル受け部２７ｈは、平板状である。例えば、ウエハボート支持面２７ｂから比較的サイズの大きめのパーティクルが発生するとウエハボート支持面２７ｂの側部へと落ちやすいが、パーティクルがパーティクル受け部２７ｈ上に落下した場合、吸引開口部から効率よくパーティクルを吸引して除去することができる。
【００４６】
図１０（Ａ）は本実施形態に係る熱処理装置の一例を示した要部断面図であり、図１０（Ｂ）はウエハボート支持部の一例を示した斜視図である。図１０（Ａ）〜（Ｂ）に示される熱処理装置では、吸引開口部２７ｄは支点２７の側面に開口しており、吸引開口部２７ｄの周辺にパーティクル受け部２７ｉが形成された構成である。図１０（Ａ）〜（Ｂ）に示す熱処理装置では、パーティクル受け部２７ｉは、下方ほど開口領域が小さくなる逆テーパー状の内壁面を有する形状である。このような構造のパーティクル受け部であると、パーティクルがパーティクル受け部２７ｉ上に落下した場合、パーティクルは逆テーパー状の底部に集められる。底部近傍に吸引開口部２７ｄが設けられた構成とすることで、吸引開口部２７ｄから効率よくパーティクルを吸引して除去することができる。
【００４７】
上記のように、本実施形態の熱処理装置によれば、ウエハボート２８とウエハボート支持部２７０の擦れにより発生するパーティクルを効率的に除去して処理容器４内へのパーティクルの拡散を防止することができる。
【００４８】
また、吸引開口部２７ｄは、ウエハボート支持面２７ｂの上面と、支点２７の側面との両方に設けられていてもよい。即ち、例えば図４〜７に示される吸引開口部と、図８〜１０に示される吸引開口部を組み合わせて設けることができる。
【００４９】
＜第２実施形態＞
〔ウエハボート支持部及びウエハボートを含む要部の一例の構成〕
第２実施形態に係る熱処理装置について、図１１〜図１３を参照して説明する。図１１は本実施形態に係る熱処理装置の一例を示した要部断面図であり、蓋体からウエハボートまでの構成に対応する。図１２は本実施形態に係る熱処理装置の一例を示した要部断面図であり、図１１中のウエハボート支持部２７０及びウエハボート２８の部分に相当する。図１３は本実施形態に係る熱処理装置の一例を示した要部断面図であり、図１１中のウエハボート支持部の軸脚部２０ｂと蓋体１４の部分に相当する。
【００５０】
図１１は、本実施形態の熱処理装置の蓋体１４、軸脚部２０ｂとウエハボート支持部２７０とを有するボート支持台（ボートサポート）、保温筒２６及びウエハボート２８の部分に相当する要部断面図である。図１１に示される構成を除いては、図１に示される第１実施形態の熱処理装置と実質的に同様の構成である。図１１の熱処理装置では、図１に示される回転テーブル２４は設けられておらず、ボート支持台（ボートサポート）の軸脚部２０ｂの上端にウエハボート支持部２７０が設けられ、その上にウエハボート２８が載置される構成となっている。
【００５１】
熱処理装置用処理容器の開閉をするための蓋体１４の中心部には、当該蓋体１４を垂直に貫通する貫通孔１４ｃが形成されており、当該貫通孔１４ｃ内には、軸脚部２０ｂ、回転軸２０ｃ、軸脚部２０ｂと回転軸２０ｃを接続する接続部材２１が挿入されている。蓋体１４の底面には回転軸２０ｃを取り囲むように磁性流体シール１８が設けられている。回転軸２０ｃの下方はベルト６６によってモータ６５に接続されており、モータの回転によって回転軸２０ｃ、接続部材２１、軸脚部２０ｂが気密状態で回転できるよう構成されている。
【００５２】
軸脚部２０ｂの上端には石英製のウエハボート支持部２７０が設けられている。ウエハボート支持部２７０は、ウエハボートの底面を接触支持する複数個の支点２７を有する。支点２７は、１つのウエハボート支持部２７０において３個以上設けられる。各支点２７は、ウエハボート支持面２７ｂを有し、このウエハボート支持面２７ｂ上にウエハボート２８が戴置される。例えば、ウエハボート２８の底面は、中央に円形の開口２８ａを有する円環形状を有し、支点２７は、ウエハボート支持面２７ｂの内側にウエハボート２８の底面の開口２８ａと係止する係止構造部２７ａを有する。支点２７に形成された係止構造部２７ａとウエハボート２８の下端面に形成された開口２８ａとが係合して、ウエハボート２８がウエハボート支持部２７０の上に支持される。
【００５３】
蓋体１４上には例えば石英により構成される保温筒２６が設けられている。この保温筒２６は、ウエハボート２８の底板よりも下方に位置し、処理容器４内における保温筒２６より上側と下側の雰囲気とを断熱する。保温筒２６は、複数本の垂直な支柱２６ａと複数枚の水平な遮熱板２６ｂとにより構成されている。各支柱２６ａは、当該蓋体１４の周方向に沿って配置されている。遮熱板２６ｂは円形状に構成され、上下に間隔をおいて互いに重なるように設けられており、遮熱板２６ｂは、支柱２６ａに沿って棚状に配列されている。支柱２６ａは、各遮熱板２６ｂの周縁部を支持しており、例えば支柱２６ａに貫通されて支持されている。
【００５４】
図１２に示されるように、ウエハボート支持部２７０の各支点２７においてウエハボート支持面２７ｂの付近に吸引開口部２７ｄが設けられており、吸引開口部２７ｄは、ウエハボート支持部２７０の内部に設けられた流路２７ｅを通じて不図示の排気系に接続されている。排気系で排気を行うと、流路２７ｅを通じて吸引開口部２７ｄから吸気される。このとき、吸引開口部２７ｄからの吸気によって生じる気流により、吸引開口部２７ｄの近傍に存在するパーティクルは吸引開口部２７ｄへ吸引され、パーティクルを除去することができる。
【００５５】
図１３は、第２実施形態に係る熱処理装置の一例を示した要部断面図であり、図１１に示される熱処理装置の軸脚部２０ｂと蓋体１４の部分に相当する。熱処理装置用処理容器の蓋体１４の中心部には、貫通孔１４ｃが形成されており、貫通孔１４ｃ内に回転軸２０ｃが挿通されている。ここで、軸脚部２０ｂの内部に流路２０ａが形成されている。軸脚部２０ｂの上端には、図１１に示されるようにウエハボート支持部２７０が接続されており、図１３の流路２０ａの上端２０ａａは、図５に示されるウエハボート支持部２７０の内部に設けられた流路２７ｅに連通しており、吸引開口部２７ｄに接続される。図１３中の流路２０ａの下端２０ａｂは、蓋体１４に対向する面まで伸びる。また、蓋体１４の内部に流路１４ａが形成されている。流路１４ａの上端１４ａａは、軸脚部２０ｂに対向する面まで伸びており、流路１４ａの下端１４ａｂは、バルブ１５ａと真空ポンプ１５ｂとを含む排気系に接続されている。ここで、流路２０ａの下端２０ａｂと、流路１４ａの上端１４ａａは、軸脚部２０ｂの回転位置が合ったときに対向して接続される。例えば、軸脚部２０ｂの周方向１回転あたり１か所、位置が合って流路２０ａの下端２０ａｂと、流路１４ａの上端１４ａａが接続される。流路２０ａの下端２０ａｂと、流路１４ａの上端１４ａａが接続される位置で軸脚部２０ｂを停止して、バルブ１５ａを開けて真空ポンプ１５ｂを動作させることで、排気系に接続されている吸引開口部２７ｄから吸気され、吸引開口部２７ｄの近傍に存在するパーティクルは吸引開口部２７ｄへ吸引され、パーティクルを除去することができる。図１３の構成の熱処理装置では、パーティクルの除去のための吸気は、軸脚部２０ｂが停止して、流路２０ａの下端２０ａｂと、流路１４ａの上端１４ａａが接続されたときのみ可能となる。図１３に示される熱処理装置は、例えば、熱処理のスタンバイ中、ウエハボートの処理容器への搬入後の熱処理までの間、ウエハボートの搬送搬入中など、耐熱に影響がない温度帯でクリーニングを行う場合に適用可能である。
【００５６】
上記のように、本実施形態の熱処理装置によれば、ウエハボート２８とウエハボート支持部２７０の擦れにより発生するパーティクルを効率的に除去して処理容器４内へのパーティクルの拡散を防止することができる。
【００５７】
＜第３実施形態＞
〔ウエハボート支持部及びウエハボートを含む要部の一例の構成〕
第３実施形態に係る熱処理装置について、図１４及び図１５を参照して説明する。図１４は本実施形態に係る熱処理装置の一例を示した要部断面図であり、蓋体からウエハボートまでの構成に対応する。図１５（Ａ）は、図１４に示される熱処理装置の一例を示した要部斜視図であり、図１５（Ｂ）〜（Ｃ）はウエハボート支持部の一例を示した斜視図である。図１４及び図１５に示される構成を除いては、図１に示される第１実施形態の熱処理装置と実質的に同様の構成である。
【００５８】
図１４及び図１５（Ａ）に示されるように、回転軸２０ｃの上端には回転テーブル２４が固定されており、その上に複数本の垂直な支柱２６ａと複数枚の水平な遮熱板２６ｂとにより構成された、ウエハボートを支持する機能を有する石英製の保温筒２６が搭載される。支柱２６ａと遮熱板２６ｂは組み合わせて棚状に配列して用いるが、図１５（Ａ）では分解して示しており、図１４は組み合わせて示している。保温筒２６の上端に、上面が中央に円形の開口を有する円環形状を有するウエハボート支持部２７０が設けられている。図１５（Ｂ）及び（Ｃ）に示されるように、円環形状の上面において段差がつけられて高い面となる部分が複数設けられており、この高い面がウエハボート２８の底面を接触支持する支点２７のウエハボート支持面２７ｂとなる。このウエハボート支持面２７ｂ上にウエハボート２８が戴置される。
【００５９】
図１４及び図１５（Ａ）に示されるように、ウエハボート２８の底面は中央に円形の開口２８ａを有する円環形状を有し、ウエハボート支持面２７ｂの内側にウエハボート２８の底面の開口２８ａと係止するリング状の係止構造部２７ａが設けられている。係止構造部２７ａとウエハボート２８の下端面に形成された開口２８ａとが係合して、ウエハボート２８がウエハボート支持部２７０の上に支持される。
【００６０】
各支点２７は、段差２７ｊにより高い表面となっているウエハボート支持面２７ｂを有し、その周辺に、吸引開口部２７ｄが設けられている。図１５（Ｃ）に示す熱処理装置では、各支点２７において、段差２７ｊによりウエハボート支持面２７ｂが２つの領域に区切られ、２つのウエハボート支持面２７ｂの領域で挟まれた部分に、吸引開口部２７ｄが設けられている。
【００６１】
図１４及び図１５（Ａ）〜（Ｃ）に示す熱処理装置では、ウエハボート２８の底面がウエハボート支持部２７０上に載置されたときに、各支点２７のウエハボート支持面２７ｂによってウエハボート２８が支持される。ウエハボート支持面２７ｂの周辺に吸引開口部２７ｄが設けられているので、ウエハボート支持面２７ｂで発生するパーティクルを効率よく除去することができる。このとき、段差２７ｊがない場合には、ウエハボート２８の底面で吸引開口部２７ｄが塞がれてしまう場合があるが、段差２７ｊが設けられていることにより、ウエハボート２８の底面で吸引開口部２７ｄが塞がれてしまうのを防止できる。
【００６２】
上記のように、本実施形態の熱処理装置によれば、ウエハボート２８とウエハボート支持部２７０の擦れにより発生するパーティクルを効率的に除去して処理容器４内へのパーティクルの拡散を防止することができる。
【００６３】
＜第４実施形態＞
本実施形態の熱処理装置の一例のウエハボート支持部及びウエハボートの構成について、図１６を参照して説明する。図１６は本実施形態に係る熱処理装置の一例を示した要部断面図である。本実施形態の熱処理装置において、処理容器の開閉をするための蓋体１４に搭載された回転テーブル２４がウエハボート支持部として機能する。ウエハボート支持部に相当する回転テーブル２４が、保温筒２６と一体に形成されたウエハボート２８を保温筒２６の下方から支持する。上記を除いては、第１実施形態と同様である。
【００６４】
図１７は、本実施形態に係る熱処理装置の保温筒一体型ウエハボートの一例を示した下斜め方向から見た斜視図である。保温筒２６と一体に設けられたウエハボート２８の保温筒２６部分の底面に、脚部２６ｄが設けられている。
【００６５】
図１８は、本実施形態に係る熱処理装置のウエハボート支持部である回転テーブルの一例を示した斜視図である。回転テーブルの上面に吸引開口部２４ｃが形成されている。吸引開口部２４ｃは、図１６に示される回転テーブル内部の流路２４ａに連通している。流路２４ａは、蓋体１４の内部の流路に連通しており、さらに不図示の排気系に接続されている。回転テーブル２４の上に、保温筒２６と一体に設けられたウエハボート２８の保温筒２６部分の底面に設けられた脚部２６ｄが接触して、ウエハボート２８と一体に設けられた保温筒２６が支持される。本実施形態の回転テーブル２４は、図１０に示される熱処理装置のウエハボート支持部２７０に相当する。
【００６６】
図１９（Ａ）〜（Ｃ）は、本実施形態に係る熱処理装置の保温筒一体型ウエハボートの脚部２６ｄと回転テーブル２４の吸引開口部２４ｃの配置の一例を示す平面図である。例えば、図１９（Ａ）に示されるように、保温筒一体型ウエハボートの脚部２６ｄが長方形の形状の底面を有し、回転テーブル２４と脚部２６ｄの接触面の周辺において回転テーブル２４の上面に形成された吸引開口部２４ｃは円形形状を有している。ここで、保温筒一体型ウエハボートの脚部２６ｄの底面が吸引開口部２４ｃと重なりを有しながら、円形形状の吸引開口部２４ｃを塞がないレイアウトである。図１９（Ａ）においては、長方形の形状の脚部２６ｄの中心が、円形形状の吸引開口部２４ｃの中心に近い配置となっている。
【００６７】
図１９（Ｂ）は、長方形の形状の脚部２６ｄの底面の中心が、円形形状の吸引開口部２４ｃの中心からずれており、円形形状の吸引開口部２４ｃの略半円部分を脚部２６ｄが覆う配置である。脚部２６ｄの底面が吸引開口部２４ｃと重なりを有しながら、円形形状の吸引開口部２４ｃを塞がないレイアウトである。
【００６８】
図１９（Ｃ）は、２つの円形の吸引開口部２４ｃに対して、１つの略長方形の脚部２６ｄの底面が配置されている。略長方形の脚部２６ｄの短辺が２つの円形の吸引開口部２４ｃの範囲内に入るような配置である。脚部２６ｄの底面が吸引開口部２４ｃと重なりを有しながら、円形形状の吸引開口部２４ｃを塞がないレイアウトである。このように、開口のすべてを塞がない構成とすることにより、確実にパーティクルを吸引することができる。
【００６９】
本実施形態の熱処理装置によれば、保温筒一体型ウエハボートの脚部と回転テーブルの接触部は擦れによってパーティクルが発生しやすくなっているが、この接触部の周辺に吸引開口部２４ｃを設けることによって、パーティクルにより近い位置から吸引することができ、パーティクルを効率的に除去することができる。これにより、処理容器内へのパーティクルの拡散を防止することができる。
【００７０】
図１６に示される熱処理装置は、回転テーブル２４の回転中でも吸引が可能な構造となっている。あるいは、図１３に示される熱処理装置と同様に、蓋体１４と回転テーブル２４のそれぞれの内部に流路が設けられており、回転テーブル２４の周方向１回転あたり１か所、位置が合って回転テーブル２４の流路と蓋体１４の流路が接続されるような構造としてもよい。これら流路が接続される位置で回転軸を停止して、吸引開口部を排気系に接続し、吸気してパーティクルを除去することができる。
【００７１】
第４実施形態における回転テーブルと保温筒一体型ウエハボートの接触部の構造は、図１７〜１９に示される形態に限定されるものではなく、熱処理装置の一例として記載したウエハボートとウエハボート支持部の接触部の構造を適用することができる。
【００７２】
＜第５実施形態＞
本実施形態は、上記の各実施形態に係る熱処理装置であってクイックコネクタを用いた構成の熱処理装置とそのクリーニング方法を実施する工程の一例に関する実施形態である。
【００７３】
図２０（Ａ）〜（Ｃ）は、本実施形態に係る熱処理装置と熱処理装置のクリーニング方法の工程の一例を示した模式図である。図２０（Ａ）〜（Ｃ）に示される熱処理装置は、吸引開口部２７ｄがクイックコネクタにより排気系に接続された熱処理装置である。図２０（Ａ）〜（Ｃ）においては吸引開口部２７ｄの図示は省略しているが、例えば図４〜図７に示される吸引開口部２７ｄと同様の構成を有している。
【００７４】
図２０（Ａ）は、蓋体１４が上昇して不図示の処理容器が蓋体１４で閉じられた状態（ウエハボートが処理容器内にロードされた状態）を示している。ウエハボート２８が載置されたウエハボート支持部２７０の支点２７に設けられた吸引開口部２７ｄは、蓋体１４の内部から蓋体１４の下方に引き出されている流路１４ａに接続されている。流路１４ａの先端にクイックコネクタ接続部１７ａが設けられている。クイックコネクタ接続部１７ａに対向して、対応する形状のクイックコネクタ接続部１７ｂが配置され、クイックコネクタ接続部１７ｂは排気系に接続された配管１７ｃが接続されている。ロード状態では、クイックコネクタ接続部１７ａとクイックコネクタ接続部１７ｂはまだ接続されていない。
【００７５】
次に、図２０（Ｂ）に示すように、蓋体１４を下降させ、不図示の処理容器から蓋体１４を離して処理容器４が開けられた状態（アンロード状態）とする。アンロード完了時に、クイックコネクタ接続部１７ａとクイックコネクタ接続部１７ｂを接続して、ウエハボート支持部２７０の吸引開口部２７ｄを排気系に接続する。吸引開口部２７ｄが排気系に接続された状態では、排気系から排気することで、ウエハボート支持部２７０に形成された吸引開口部２７ｄから吸気して、パーティクルを除去することができる。
【００７６】
次に、図２０（Ｃ）に示されるよう、ウエハボート２８を持ち上げて移載する。例えば、ウエハボート２８の移載時に、排気系から排気してウエハボート支持部２７０に形成された吸引開口部２７ｄから吸気して、パーティクルを除去する。ウエハボート２８とウエハボート支持部２７０の接触部（ウエハボート支持面２７ｂ）は、パーティクル発生の頻度が高い箇所であるが、例えば、上記のようなウエハボート２８を移載するタイミングで吸引開口部２７ｄから吸気してパーティクルを除去することで、パーティクルが発生しやすい箇所から効率的にパーティクルを効率的に除去することができる。
【００７７】
図２０（Ａ）〜（Ｃ）の熱処理装置において、クイックコネクタ接続部１７ａとクイックコネクタ接続部１７ｂのどちらがオス型またはメス型であるかはどちらでもよい。クイックコネクタ接続部１７ａとクイックコネクタ接続部１７ｂは、図２０（Ｂ）及び（Ｃ）の状態で接続されていればよく、クイックコネクタ接続部１７ａとクイックコネクタ接続部１７ｂの向きと位置は特に限定されない。
【００７８】
図２１は、本実施形態に係る熱処理装置の一例を示した模式図である。図２０（Ａ）〜（Ｃ）に示される熱処理装置は、ウエハボート２８のアンロード時に吸引開口部２７ｄから吸気して、パーティクルを除去する構成であるのに対して、図２１に示される熱処理装置は、ウエハボート２８のロード時に吸引開口部２７ｄから吸気して、パーティクルを除去する構成である。
【００７９】
図２１は、蓋体１４が上昇して処理容器４が蓋体１４で閉じられた状態（ロードされた状態）を示している。ウエハボート２８が載置されたウエハボート支持部２７０の支点２７に設けられた吸引開口部２７ｄは、蓋体１４の内部から蓋体１４の下方に引き出されている流路１４ａに接続されている。流路１４ａの上端にクイックコネクタ接続部１７ａが上向きで設けられている。クイックコネクタ接続部１７ａに対向して、対応する形状のクイックコネクタ接続部１７ｂが下向きに配置され、クイックコネクタ接続部１７ａとクイックコネクタ接続部１７ｂは接続されている。クイックコネクタ接続部１７ｂは排気系に接続された配管１７ｃが接続されている。
【００８０】
図２１に示される熱処理装置では、ウエハボート２８のアンロード時には、クイックコネクタ接続部１７ａとクイックコネクタ接続部１７ｂの接続を解除した後、蓋体１４を下降させ、処理容器４から蓋体１４を離して処理容器が開けられた状態とする。
【００８１】
図２２は、本実施形態に係る熱処理装置の一例を示した模式図である。図２２に示される熱処理装置は、ウエハボート２８が載置されたウエハボート支持部２７０の支点２７に設けられた吸引開口部２７ｄは流路１４ａに接続されている。流路１４ａはＴ字に分岐してクイックコネクタ接続部１７ａとクイックコネクタ接続部１７ｄが設けられている。クイックコネクタ接続部１７ａに対向して、対応する形状のクイックコネクタ接続部１７ｂが配置され、クイックコネクタ接続部１７ｂは排気系に接続された配管１７ｃが接続されている。また、クイックコネクタ接続部１７ｄに対向して、対応する形状のクイックコネクタ接続部１７ｅが配置され、クイックコネクタ接続部１７ｅは排気系に接続された配管１７ｆが接続されている。ここで、クイックコネクタ接続部１７ａとクイックコネクタ接続部１７ｂはロード時に接続され、アンロード時は接続を解除される。クイックコネクタ接続部１７ｄとクイックコネクタ接続部１７ｅはアンロード時に接続され、ロード時は接続を解除される。従って、ウエハボート２８のロード時には、クイックコネクタ接続部１７ａとクイックコネクタ接続部１７ｂの接続により、配管１７ｃから排気して吸引開口部２７ｄでの吸気をすることができ、一方、ウエハボート２８のアンロード時には、クイックコネクタ接続部１７ｄとクイックコネクタ接続部１７ｅの接続により、配管１７ｆから排気して吸引開口部２７ｄでの吸気をすることができる。ロード時及びアンロード時のいずれの時も吸引開口部２７ｄで吸気してパーティクルを除去することができる。上記の熱処理装置の流路１４ａにおいて、例えばＴ字の分岐点からクイックコネクタ接続部１７ａまでの間とＴ字の分岐点からクイックコネクタ接続部１７ｄまでの間にそれぞれバルブまたは弁が設けられた構成とする。ロード時とアンロード時のそれぞれにおいて、クイックコネクタ接続部が接続されていない側のバルブを閉じて用いる。あるいは、接続されていない側からガスが流入流出しないような弁を有する構成とする。
【００８２】
図２３は、本実施形態に係る熱処理装置の使用方法の工程を示したフローチャートである。図２１〜２２に示される熱処理装置に適用可能なクリーニング方法である。
【００８３】
まず、ウエハを配列支持したウエハボート２８を、蓋体（キャップ）１４の上昇により処理容器４内に搬入する（ボートロード）（ステップＳ１１）。次に、処理容器４が気密封止されるように、蓋体（キャップ）１４を閉める（ステップＳ１２）。次に、吸引開口部２７ｄに接続されたクイックコネクタ接続部１７ａを、排気系に接続されたクイックコネクタ接続部１７ｂに接続して、吸引開口部２７ｄからの排出路を接続する（ステップＳ１３）。次に、クイックコネクタ接続部１７ａとクイックコネクタ接続部１７ｂの接続にリークがないかリークチェックする（ステップＳ１４）。
【００８４】
リークチェック工程（ステップＳ１４）においてリークがないことが確認された場合、次に、処理容器４の内部を排気する、局所排気を開始する（ステップＳ１５）。次に、局所排気終了（ステップＳ１６）の後、ウエハボート２８に保持されたウエハに対して所定の熱処理プロセスを実施する（ステップＳ１７）。熱処理プロセス終了（ステップＳ１８）の後、ウエハボート２８をアンロードする（ステップＳ１９）。以上で、熱処理装置での熱処理が終了する。
【００８５】
リークチェック工程（ステップＳ１４）においてリークがあることが確認された場合、局所排気ＮＧアラームが出され（ステップＳ２０）、以降に予定していたプロセスの続行可否判断がなされる（ステップＳ２１）。続行不可であると判断された場合には、以降の工程は中断され（ステップＳ２２）、熱処理装置での熱処理が終了する。続行可であると判断された場合には、上述のウエハボート２８に保持されたウエハに対して所定の熱処理プロセスを実施する工程（ステップＳ１７）へと進行し、以降は上記と同様の工程を行う。
【００８６】
図２４は、本実施形態に係る熱処理装置の一例を示した模式図である。図２４に示される熱処理装置は、クイックコネクタ接続部のリークチェックが可能な熱処理装置である。ウエハボート２８が載置されたウエハボート支持部２７０の支点２７に設けられた吸引開口部２７ｄは流路１４ａに接続されている。流路１４ａはＴ字に分岐して、一方にクイックコネクタ接続部１７ａが設けられている。他方については図示を省略している。クイックコネクタ接続部１７ａに対向して、対応する形状のクイックコネクタ接続部１７ｂが配置され、クイックコネクタ接続部１７ｂは排気系に接続された配管１７ｃが接続されている。Ｔ字の分岐点よりも処理容器側において、流路１４ａにバルブ１７ｇが設けられている。配管１７ｃの排気系側にバルブ１７ｈが設けられ、クイックコネクタ接続部１７ｂとバルブ１７ｈの間に真空ゲージ１７ｉが接続して設けられている。
【００８７】
次に、上記の図２４に示されたクイックコネクタ接続部のリークチェックが可能な熱処理装置においてリークチェックをする方法について説明する。図２５は、本実施形態に係る熱処理装置のリークチェック方法の工程を示したフローチャートである。
【００８８】
最初に、図２４に示される構成の熱処理装置において、クイックコネクタ接続部１７ａとクイックコネクタ接続部１７ｂが接続された状態とする。このクイックコネクタ接続部１７ａとクイックコネクタ接続部１７ｂの接続部のリークチェックを行うものである。まず、Ｔ字の分岐点より蓋体（キャップ）側に設けられたバルブ１７ｇを閉める（ステップＳ３１）。次に、配管１７ｃの排気配管側に設けられたバルブ１７ｈを開ける（ステップＳ３２）。次に、配管１７ｃに接続された排気系から、一定の圧力に下がるまで排気する（ステップ３３）。ここでは、排気配管側のバルブ１７ｈが開いており、蓋体（キャップ）側のバルブ１７ｇが閉じているので、蓋体（キャップ）側のバルブ１７ｇから、排気配管の部分が排気される。ここで、所定の圧力にまで下がったことが確認されたら、蓋体（キャップ）側のバルブ１７ｇと排気配管側のバルブ１７ｈの両方を閉じる（ステップＳ３４）。次に、蓋体（キャップ）側のバルブ１７ｇと排気配管側のバルブ１７ｈの間の配管において、一定時間圧力ホールドさせる（ステップＳ３５）。このとき、真空ゲージ１７ｉに表示される真空度に圧力上昇がみられるか確認する（ステップＳ３６）。
【００８９】
真空ゲージ１７ｉの表示に圧力上昇なしの場合、リークなしと判断し（ステップＳ３７）、排気配管から排気して吸引開口部からパーティクルを除去するクリーニング工程実施可能と判断する（ステップＳ３８）。リークチェックは上記で終了し、必要に応じて、実際に排気配管から排気して吸引開口部からパーティクルを除去するクリーニング工程を行う。
【００９０】
真空ゲージ１７ｉの表示に圧力上昇ありの場合、リークありと判断し（ステップＳ３９）、排気配管から排気して吸引開口部からパーティクルを除去するクリーニング工程実施不可判断する（ステップＳ４０）。リークチェックは上記で終了し、必要に応じて、リーク箇所の確認などを行う。
【００９１】
本実施形態によれば、クイックコネクタを用いた熱処理装置に上記各実施形態の熱処理装置のクリーニング方法を適用することができ、クイックコネクタを用いる際のリークチェックを行うことができる。
【００９２】
＜第６実施形態＞
〔熱処理装置のクリーニング方法〕
本実施形態の熱処理装置のクリーニング方法は、上記の各実施形態の熱処理装置のクリーニング方法であり、ウエハボート支持部２７０を有する熱処理装置において、排気系において排気することにより、吸引開口部２７ｄから吸気してパーティクルを吸引する。これにより、熱処理装置のクリーニングを行う。
【００９３】
吸引開口部２７ｄでの吸気によるクリーニングは、ウエハボート２８は回転を停止している間、あるいは回転している間に実施することができる。図１３に示される熱処理装置のように、ウエハボートの回転が停止している時のみ、吸引開口部２７ｄが排気系に接続される構成の熱処理装置では、ウエハボート２８の停止中のみ排気して、クリーニング処理を行う。
【００９４】
本実施形態の熱処理装置のクリーニング方法において、吸引開口部２７ｄからの吸引量（吸気量）の調整が必要な場合は、排気系において排気コントロールやエゼクタを用いて、排気量調整を行うことができる。この場合、熱処理装置で行われる熱処理工程に応じて、また、対象とするパーティクルの粒径に応じて、排気量を調整する。
【００９５】
また、図３及び図１３に示されるように、排気系の経路上にバルブ（６０ａ、１５ａ）、あるいはチェックバルブを有する構成とすることで、吸気タイミングを選択することができる。また、バルブ（６０ａ，１５ａ）によって、排気系に接続された配管からのガスの逆流を防止することもできる。
【００９６】
吸引開口部２７ｄから吸気してパーティクルを除去するクリーニング工程を行うタイミングは、例えば以下のタイミングから選択及び組み合わせて行うことが可能である。
（１）常時吸引してクリーニングする。
（２）排気系に設けられたバルブでコントロールして、バルブを開けたときに、吸引してクリーニングする。
（３）常時排気ではなく、ウエハボートを載せ換える工程に合わせて、パーティクル数が増加しやすいときに吸引してクリーニングする。
（４）熱処理装置のメンテナンス中のみクリーニングする。
【００９７】
また、熱処理装置のレシピに合わせて、所定のクリーニング処理を行うように、クリーニング処理の工程のタイミングを調整できる。また、ウエハボートのロード中、あるいはアンロード中にクリーニング処理を行うように指定することもできる。この場合は、例えばメカ動作シークエンスにて指定する。また、排気専用のシーケンサーを設け、その設定に沿って常時排気とすることができる。その他、必要に応じて、手動にて排気を行い、クリーニング処理を行うことができる。
【００９８】
以上、本発明を実施するための形態について詳述したが、本発明は斯かる特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
【符号の説明】
【００９９】
４  処理容器
１０  ヒーター
１２  天井板
１３  マニホールド
１４  蓋体（キャップ）
１４ａ  流路
１４ｃ  貫通孔
１４ｐ  Ｏリング
１５  基板搬入出口
１５ａ  バルブ
１５ｂ  真空ポンプ
１６  排気口
１７  排気カバー部材
１７ｊ  ガス出口
１８  磁性流体シール
１９  排気機構
２０、２０ｂ  軸脚部
２０ｃ  回転軸
２１  接続部材
２４  回転テーブル
２４ａ  流路
２４ｂ  凹部
２４ｃ  吸引開口部
２６  保温筒
２６ａ  支柱
２６ｂ  遮熱板
２６ｃ  流路
２７  支点
２７ａ  係止構造部
２７ｂ  ウエハボート支持面
２７ｃ  傾斜部
２７ｄ  吸引開口部
２７ｅ  流路
２７ｆ  溝
２７ｇ  傾斜部
２７ｈ，２７ｉ  パーティクル受け部
２７ｊ  段差
２８  ウエハボート
２８ａ  開口
３０  ボートエレベータ
３２  底板
４１  ガス供給路
４２  ガスノズル
４３  ガス供給口
４４Ａ，４４Ｂ，４４Ｃ，４４Ｄ  分岐路
４５Ａ，４５Ｂ，４５Ｃ，４５Ｄ  供給源
４６  ガス供給路
４７Ａ，４７Ｂ  分岐路
４８Ａ，４８Ｂ  供給源
５３  凹部
５４  プレート
５５  固定筒
５６  ベアリング
５７  シール部材
５８  カップ体
５９  開口部
６０ａ  バルブ
６０ｂ  真空ポンプ
６１  配管
６２  ベアリング
６３  シール部材
６５  モータ
６６  ベルト
１００  制御部
２７０  ウエハボート支持部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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