(57)【要約】【課題】材料の蒸発室への定量供給の安定性、正確性を確保可能な蒸着装置を提供すること。【解決手段】製膜室、及び薄膜形成用材料の蒸気を含む蒸気含有ガスを発生させる蒸発装置を有し、該蒸発装置が、材料保管容器、材料吐出部、及び蒸発室を含み、かつ、蒸発室に薄膜形成用材料を供給する材料供給系を備え、該材料保管容器が、保管中の薄膜形成用材料を脱気する為に減圧する脱気用減圧機構、ガス供給系からのガスの圧入により加圧する加圧機構、及び薄膜形成用材料を攪拌する攪拌機構と、を有し、かつ、該脱気用減圧の状態で該攪拌が可能であり、該材料吐出部が、吐出により蒸発室に薄膜形成用材料を供給し、該蒸発室が、吐出された薄膜形成用材料を蒸気化し、かつ、蒸気含有ガスを製膜室に供給する、蒸着装置。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材を保持可能な基材保持部を備える製膜室、薄膜形成用材料の蒸気を含む蒸気含有ガスを発生させる蒸発装置、ガス供給系、及び排気系を有し、該蒸気含有ガスを基材上に吹き付けることで、該薄膜形成用材料を、該基材上に着膜させる蒸着装置であって、
該蒸発装置が、材料保管容器、材料吐出部、及び蒸発室を含み、かつ、該蒸発室に該薄膜形成用材料を供給する材料供給系を備え、
該材料保管容器が、該薄膜形成用材料を保管する保管空間と、該保管中の該薄膜形成用材料を脱気する為に該保管空間を減圧する脱気用減圧機構、該ガス供給系からのガスの圧入により該保管空間を加圧する加圧機構、及び該薄膜形成用材料を攪拌する攪拌機構と、を有し、かつ、該脱気用減圧の状態で該攪拌が可能であり、
該材料吐出部が、吐出により該蒸発室に該薄膜形成用材料を該供給し、
該蒸発室が、該吐出された該薄膜形成用材料を蒸気化し、かつ、該蒸気含有ガスを該製膜室に供給する、蒸着装置。
【請求項２】
前記蒸発室が、前記ガス供給系より加熱されたキャリアガスを導入可能で有り、かつ、粉体として前記吐出により供給された前記薄膜形成用材料が、該加熱キャリアガスによりフラッシュ蒸発され、該粉体として前記蒸発室の底に滞留しない状態で、前記蒸気化する、請求項１に記載の蒸着装置。
【請求項３】
前記材料吐出部が、その内部を前記排気系により減圧に保持可能な真空室であって、その内部に材料供給装置を備え、かつ、その内面の孔であって、前記蒸発室の内部と連通し、前記蒸発室に前記薄膜形成用材料を前記吐出する孔を吐出口として備える材料下部受け部を含む真空室であり、かつ、
該材料供給装置が、前記材料保管容器より前記薄膜形成用材料を受入れ可能な材料上部受け部、及び、該材料下部受け部に該薄膜形成用材料を払出し可能な材料払出しを有する、請求項１、又は２に記載の蒸着装置。
【請求項４】
前記材料保管容器が、さらに、前記保管中の前記薄膜形成用材料を脱気する為に加熱する脱気用加熱機構、及び少なくとも一種類以上の前記薄膜形成用材料を外部から導入可能な材料導入機構を有する、請求項１〜３のいずれかに記載の蒸着装置。
【請求項５】
複数の前記蒸発装置を備え、かつ、前記排気系により、各々の前記材料供給系の内部を個別に直接排気可能である、請求項１〜４のいずれかに記載の蒸着装置。
【請求項６】
前記基材保持部が、さらに、基材保持部の内部に冷媒を流通する冷媒流通機構、及び前記ガス供給系より供給された吹き付けガスを前記基材方向へ吹き付けるガス吹き付け機構を有する、請求項１〜５のいずれかに記載の蒸着装置。
【請求項７】
前記材料保管容器が、さらに、前記攪拌の状態を把握する状態把握機構を有する請求項１〜６のいずれかに記載の蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着装置に関するものである。本発明は、例えば有機ＥＬ（ＥｌｅｃｔｒｏＬｕｍｉｎｅｓｅｎｃｅ）装置の製造に用いる蒸着装置として好適である。
【背景技術】
【０００２】
近年、蛍光灯やＬＥＤに変わる照明装置として有機ＥＬ装置が注目され、多くの研究がなされている。また、テレビに代表されるディスプレイ部材においても液晶方式やプラズマ方式に変わる方式として有機ＥＬ方式が注目され、製品化されている。
【０００３】
ここで有機ＥＬ装置は、ガラス基板や透明樹脂フィルム等の基材に、有機ＥＬ素子を積層したものである。
【０００４】
また、有機ＥＬ素子は、一方又は双方が透光性を有する２つの電極を対向させ、この電極の間に有機化合物からなる発光層を積層したものである。有機ＥＬ素子は、電気的に励起された電子と正孔との再結合のエネルギーによって発光する。
【０００５】
有機ＥＬ装置は、自発光デバイスであるため、ディスプレイ材料として使用すると高コントラストの画像を得ることができる。また、発光層の材料を適宜選択することにより、種々の波長の光を発光することができる。また蛍光灯に比べて厚さが極めて薄いため、設置場所の制約が少なく、かつ、面状で発光するため、指向性が強いＬＥＤに比べ、影ができにくい。
【０００６】
有機ＥＬ装置の代表的な層構成は、図７の通りである。図７に示される有機ＥＬ装置１００は、ボトムエミッション型と称される構成であり、ガラス基板１１０に、透明電極層１２０と、機能層１３０と、裏面電極層１４０が積層され、これらが封止部１５０によって封止されたものである。
【０００７】
また機能層１３０は、複数の有機化合物の薄膜が積層されたものである。代表的な機能層１３０は、正孔注入層１３１、正孔輸送層１３２、発光層１３３、及び電子輸送層１３４を有している。
【０００８】
有機ＥＬ装置１００は、ガラス基板１１０上に、前記した層を順次製膜することによって製造される。
【０００９】
ここで上記した各層の内、透明電極層１２０は、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）等の透明導電膜であり、主にスパッタ法あるいはＣＶＤ法によって製膜される。
【００１０】
機能層１３０は、前記した様に複数の有機化合物の薄膜が積層されたものであり、各薄膜を真空蒸着法によって製膜することができる。
【００１１】
裏面電極層１４０は、アルミニウム、銀等の金属薄膜であり、真空蒸着法によって製膜することができる。
【００１２】
このように、有機ＥＬ装置は、発光層を含む機能層が、透明導電膜や金属薄膜の第１、及び第２電極層に挟持された構造を有する。
【００１３】
このように、有機ＥＬ装置を製造する際には、その各層を構成する薄膜を製膜する工程に真空蒸着法が多用される。ここで真空蒸着法は、例えば特許文献１に開示された様な蒸着装置を使用して製膜する技術である。
【００１４】
即ち蒸着装置は、一般に真空に保持された製膜室と、薄膜形成用材料を蒸発させる蒸発装置によって構成されるものである。製膜室は、例えばガラス基板等の基材を設置することができるものである。
【００１５】
一般的な蒸発装置は、電気抵抗や電子ビームを利用した加熱装置と、薄膜形成用材料を入れる坩堝とによって構成されている。
【００１６】
また、特許文献２、３には、蒸発装置に薄膜形成用材料を定量供給し、蒸発装置の加熱装置または加熱されたキャリアガスによって薄膜形成用材料の一部または全部を蒸発させ、蒸発した材料を、製膜室に移送し製膜する方法が開示されている。ここで、供給された材料の全部を一気に蒸発させ、蒸発装置内に未蒸発の材料を滞留させない方法が、いわゆるフラッシュ蒸着、又は、フラッシュ蒸発と呼ばれる方法である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１７】
【特許文献１】特開２０１２−５２１８７号公報
【特許文献２】ＷＯ２０１０／１２３０２７号公報
【特許文献３】特開２０１６−９８４１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
本発明の発明者らは、このような蒸発装置から移送された材料蒸気を製膜室で着膜する蒸着方法につき鋭意検討した。その結果、このような蒸着方法においては、前記定量供給の安定性、正確性を確保する為には、保管容器において、材料自体の物性、例えば、粉体であれば粒径や凝集状態、液体であれば粘度等の容器内での分布を小さくし、かつ、経時変化を抑え、また、材料が吸収したり吸着した異物ガス成分の量を減らしたり、容器内での分布を小さくし、かつ、経時変化を抑えることが重要であることを見出した。
【００１９】
そこで本発明は、材料の蒸発室への定量供給の安定性、正確性を確保可能な蒸着装置を提供することを目的とする。
【００２０】
一方で、上記特許文献３によれば、複数種類の薄膜形成用材料を使用して共蒸着を実施する場合の方法として、複数系統の蒸発装置を構成し、それぞれの蒸発装置で個別の薄膜形成用材料を蒸気化することで、混合比率を制御する手法が提案されている。
【００２１】
しかしながら、このような手法を用いた場合、使用する薄膜形成用材料の数量に応じて蒸発装置を構成する必要が有り、装置費用が高価になるという課題があった。
【００２２】
そこで、本発明は、上記目的に加え、好ましくは、この様な従来技術の上記した課題点に着目し、単一の蒸着装置であっても、複数種類の薄膜形成用材料を使用し、所定の混合比率に正確に制御混合された材料を共蒸着可能な蒸着装置を提供することを目的とする。
【００２３】
特に、フラッシュ蒸着による真空蒸着方式において、複数の薄膜形成用材料を使用し、いわゆる共蒸着を実施する場合に製膜される薄膜の物性を安定させる為には、蒸発装置で蒸気化されるそれぞれの薄膜形成用材料の混合比率を正確に制御する必要がある。
【課題を解決するための手段】
【００２４】
上記した課題を解決するための方策を種々の検討し本発明を完成させた。
【００２５】
即ち本発明は、基材を保持可能な基材保持部を備える製膜室、薄膜形成用材料の蒸気を含む蒸気含有ガスを発生させる蒸発装置、ガス供給系、及び排気系を有し、
該蒸気含有ガスを基材上に吹き付けることで、該薄膜形成用材料を、該基材上に着膜させる蒸着装置であって、
該蒸発装置が、材料保管容器、材料吐出部、及び蒸発室を含み、かつ、該蒸発室に該薄膜形成用材料を供給する材料供給系を備え、
該材料保管容器が、
該薄膜形成用材料を保管する保管空間と、
該保管中の該薄膜形成用材料を脱気する為に該保管空間を減圧する脱気用減圧機構、該ガス供給系からのガスの圧入により該保管空間を加圧する加圧機構、及び該薄膜形成用材料を攪拌する攪拌機構と、を有し、かつ、
該脱気用減圧の状態で該攪拌が可能であり、
該材料吐出部が、吐出により該蒸発室に該薄膜形成用材料を該供給し、
該蒸発室が、該吐出された該薄膜形成用材料を蒸気化し、かつ、該蒸気含有ガスを該製膜室に供給する、蒸着装置に関する。
【００２６】
このような蒸着装置によれば、蒸発室に薄膜形成用材料を供給する特定の材料供給系を備えるので、その保管容器内において薄膜形成用材料自体の物性の分布を小さく、かつ、経時変化を抑えることが可能となり、また、材料が吸収したり吸着した異物ガス成分の量を減らしたり、容器内での分布を小さくし、かつ、経時変化を抑えることが可能となるので、蒸発室に正確かつ安定的に薄膜形成用材料を定量供給でき、安定的に精密制御された状態で製膜が可能となる。
【００２７】
また、このような蒸着装置によれば、複数の薄膜形成用材料を使用し共蒸着を実施する場合において、単一の蒸着装置であっても、所定の混合比率に正確に制御混合された材料を共蒸着可能な蒸着装置となり、繰り返し一定の物性の共蒸着薄膜を安定的に製膜可能な安価な蒸着装置となる。
【００２８】
即ち、本発明に係る材料保管容器には、一種類以上の薄膜形成用材料を導入することが可能であり、所定の比率となるように計量した二種類以上の薄膜形成用材料を導入することも可能であり、その場合において、本発明に係る材料保管容器は、例えば回転攪拌子のような攪拌機構を備えているため、内部の薄膜形成用材料同士を混合・均一分散化することが可能である。このような材料保管容器を用いることで、共蒸着に使用する種々の薄膜形成用材料を、事前に、混合し、さらに、蒸発室において、混合した薄膜形成用材料の一部、または、全量を、蒸気化し、基材上に着膜させることが可能である。また、本発明に係る材料保管容器は、保管中の薄膜形成用材料を脱気する為に保管空間を減圧する脱気用減圧機構、ガス供給系からのガスの圧入により該保管空間を加圧する加圧機構を有するので、導入した材料に混入している空気や水分、前記異物ガス成分等の除去を効果的に実施でき、また、ガス供給系からのガス、及び、材料粉体を含むエアロゾルを形成することで安定的に蒸発室に材料を供給でき、また、攪拌と相俟って粉体粒子同士の凝集等による、蒸着安定性の経時劣化を防止でき、脱気用減圧の状態で攪拌が可能なので、前記異物ガス成分等の除去をより効果的に実施できる、高品質の薄膜を安定的に製膜できる。
【００２９】
また、前記蒸発室は、前記ガス供給系より加熱されたキャリアガスを導入可能で有ることが好ましく、粉体として前記吐出により供給された前記薄膜形成用材料が、該加熱キャリアガスによりフラッシュ蒸発され、該粉体として前記蒸発室の底に滞留しない状態で、前記蒸気化することが好ましく、配管壁面への粉体の付着が抑えられることにより材料吐出部と蒸発室との間のコンダクタンスが一定となったり、粒径分布による蒸発速度の分布が抑えられたりすることで、特に低速で成膜する場合でも、一定速度で製膜可能となり、また、粉体の蒸発そのものの安定性も向上する。即ち、直接前記蒸発室に供給される加熱されたキャリアガスの温度および流量を一定にすることで、常により安定した蒸発量となるので、基材への成膜速度が安定すること、即ち、加熱されたキャリアガスにより、蒸発室にて、好ましくは前記エアロゾル中の、粉体がフラッシュ蒸発して蒸気を含む蒸気含有ガスとなるので、粉体の粒径分布による蒸発速度の分布が抑えられることとなり、また、少なくともキャリアガスの一部を薄膜形成用材料と共に、好ましくは前記エアロゾルとして、材料吐出部より蒸発室に流送することが好ましく、高温のキャリアガスが材料吐出部に逆流してしまい、供給している薄膜形成用材料が材料供給系の蒸発室上流の低温部で溶着することを防止すること、即ち、低温の材料供給系の前記配管の壁面への粉体の付着が抑えられることにより、材料供給系と蒸発室との間のコンダクタンスが一定となる。言い換えれば、低速成膜する場合であっても、安定的に一定速度で成膜可能とするためには、薄膜形成用材料の粉体を、好ましくはこれを含むエアロゾルとして、安定的に一定のコンダクタンスを有する材料供給系を通じ蒸発室に供給することが必要で、高温の加熱キャリアガスと、フラッシュ蒸発として、気体同士で一気に混合・伝熱せしめることで蒸発させ、その蒸気を含み、かつ、基材上に着膜する蒸気含有ガスとすること重要で、ここで、安定的に一定のコンダクタンスとする為には、材料供給系を、粉体が蒸発しない低温に保持することで、その内部に薄膜形成用材料が付着しないようにする必要があり、また、この高温の加熱キャリアガスは、エアロゾルを構成するキャリアガスとは別に、予め加熱された状態で、蒸発室に直接供給される必要があり、また、フラッシュ蒸発として、好ましくはエアロゾル中の、薄膜形成用材料の粉体を、これとの気体同士の一気の混合・伝熱により、瞬間的に蒸発させることが重要である。
【００３０】
また、前記材料吐出部は、その内部を前記排気系により減圧に保持可能な真空室であって、その内部に材料供給装置を備え、かつ、その内面の孔であって、前記蒸発室の内部と連通し、前記蒸発室に前記薄膜形成用材料を前記吐出する孔を吐出口として備える材料下部受け部を含む真空室であることが好ましく、該材料供給装置が、前記材料保管容器より前記薄膜形成用材料を受入れ可能な材料上部受け部、及び、該材料下部受け部に該薄膜形成用材料を払出し可能な材料払出し部を有することが好ましく、前記材料払出し部、及び前記吐出口との間の薄膜形成用材料が流通する当該真空室内の空間を材料送受経路としたとき、当該材料送受経路の経路断面積が真空室内面の当該断面の面積の１／１０以下であることがより好ましい。
【００３１】
このような蒸着装置では、材料供給装置自体が真空室内に保持されており、かつ該材料供給装置の材料払出し部が、一定雰囲気下で解放された状態であるため、該材料供給装置内部と材料払出し部との間で差圧が生じることがなく、安定した雰囲気で薄膜形成用材料を移送することが可能である。なお、この材料払出し部は、前記材料送受経路の前記料供給装置側の一方の端部である薄膜形成用材料の入り口であり、前記材料送受経路の他方の端部である前記吐出口は、薄膜形成用材料の出口である。
【００３２】
また、前記材料保管容器は、さらに、前記保管中の前記薄膜形成用材料を脱気する為に加熱する脱気用加熱機構を有することが好ましく、前記除去をさらに効果的に実施でき、
より高品質の薄膜をより安定的に製膜できる。
【００３３】
さらに、前記材料保管容器は、少なくとも一種類以上の前記薄膜形成用材料を外部から導入可能な材料導入機構を有することが好ましく、連続的に材料供給できるので、装置全体を停止することなく、長期間亘って製膜を継続でき、本発明に係る上述の脱気用加熱機構や脱気用減圧機構、加圧機構、攪拌機構、本発明に係る後述する状態把握機構等と相俟って、高品質の薄膜を安定的に前記製膜継続可能となる。
【００３４】
また、本発明の蒸着装置は、複数の前記蒸発装置を備えるものとすることができ、その場合は、前記排気系により、各々の前記材料供給系の内部を個別に直接排気可能であることが好ましく、より好ましくは、前記ガス供給系により、各々の前記材料供給系の内部に、例えば、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガス等のガスを、個別に、導入可能とすることであり、蒸発装置内部を、個別に、クリーニング可能となるので、例えば製膜工程終了後に、薄膜形成用材料の残渣が発生した場合であっても、即座に、該残渣を除去することができるため、安定的に高品質の薄膜を製膜できる。
【００３５】
また、本発明の蒸着装置は、前記基材保持部が、さらに、基材保持部の内部に冷媒を流通する冷媒流通機構を有することが好ましく、より好ましくは、前記ガス供給系より供給された吹き付けガスを前記基材方向へ吹き付けるガス吹き付け機構を有することであり、当該吹き付けガスは、前記蒸気含有ガスの温度よりも低い冷却ガスであることが好ましく、このようにすることで、例えば前記製膜室が減圧状態であっても、該吹き付けガスの対流伝熱等により、基材保持部と基材との熱交換が促進され、該基材の温度上昇が抑制され、基材の面内の温度分布を均一に制御可能となり、安定的に高品質の薄膜を製膜できる。
【００３６】
また、前記材料保管容器は、さらに、前記攪拌の状態を把握する状態把握機構を有することが好ましく、例えば、色の異なる複数の薄膜形成用材料を使用し共蒸着を実施する場合において、攪拌中の薄膜形成用材料の色の変化を傾向監視することで、攪拌を終了するタイミングを見計らうことが可能である。
【発明の効果】
【００３７】
本発明の蒸着装置は、蒸発室に薄膜形成用材料を供給する特定の材料供給系を備えるので、蒸発室に正確かつ安定的に薄膜形成用材料を定量供給でき、安定的に精密制御された状態で製膜できる。
【００３８】
また、このような本発明の蒸着装置は、複数の薄膜形成用材料を使用して共蒸着を実施する場合において、単一の蒸着装置であっても、所定の混合比率に正確に制御混合された材料を共蒸着可能な蒸着装置となり、繰り返し一定の物性の共蒸着薄膜を安定的に製膜可能な安価な蒸着装置となる。言い換えれば、単一の蒸発装置で、複数種類の薄膜形成用材料を、常に一定の混合比率で、基材上に製膜することが可能であるため、蒸着装置を構成する蒸発装置の総数を減らすことができるため、設備費用を削減し、蒸着装置を安価に作製することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の蒸着装置１の構成図の一例である。
【図２】図１の製膜室２０１、ガス供給系６、及び排気系７の構成詳細図の一例である。
【図３】冷媒流通機構２５１、およびガス吹き付け機構２７１を備える基材保持部２２１の一例を示す概略図である。
【図４】図１の材料供給装置動力伝達部の構成詳細正面図の一例である。
【図５】図１の材料供給装置動力伝達部の構成詳細側面図の一例である。
【図６】図４の材料供給装置動力伝達部連結時の構成詳細図の一例である。
【図７】有機ＥＬ装置の一般的なデバイス構成を示す断面図である。
【図８】二以上の基材９に同時に製膜することが可能な本発明の蒸着装置１の構造図の一例である。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
以下さらに本発明の実施形態の例について説明する。なお、本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、当業者の技術常識内で種々の変更が可能である。また、以下の記載において、説明の為に、本発明に関する、図１、図２、図３、図４、図５、図６、図７、及び図８における符号を付して記載するが、この符号の記載により、本発明が何らかの制限を受けるものではない。
【００４１】
（蒸着装置１）
本発明の蒸着装置１は、蒸気含有ガスを基材上に吹き付けることで、薄膜形成用材料を基材上に着膜させる装置であって、製膜室２０１、蒸発装置３、ガス供給系６、及び排気系７を含み、一つまたは複数の蒸発装置３を含んでいても良く、図１では一つのみの蒸発装置３を含む例について示しているが、それぞれの蒸発装置の構造や系列数を限定するものではなく、製膜形成する薄膜製品や製膜する薄膜の種類、数に応じて、これらの要素を様々に組み合わせて構成することができ、その好適な適用例としては、例えば、有機ＥＬ装置のような複雑な構造のデバイス薄膜製品が挙げられるが、一つのみ蒸発装置３を含む蒸着装置として構成しても、蒸気含有ガスの着膜による薄膜の必要な全種類の薄膜を製膜可能な装置とすることができる場合がある。このことが本発明の一つの特徴である。
【００４２】
しかしながら、本発明の蒸着装置１は、複数の高品質な薄膜を短いタクトタイムで製膜可能とする観点から、好ましくは複数の蒸発装置３を備え、より好ましくは、各々の材料供給系の内部を、排気系７により個別に直接排気可能であり、材料供給系を個別にクリーニング可能なため、高い膜品質安定性を確保できる。
【００４３】
また、本発明の蒸着装置は、後述する特定の蒸発装置３を含むので、複数種類の材料が均一に混合された共蒸着膜において、その材料の混合比率が常に一定となるため、品質安定性が高い。また、単一の蒸発装置で複数種類の薄膜形成用材料を共蒸着することが可能なため、必要となる蒸発装置の数を削減でき、設備費用を安価にできる。
【００４４】
（製膜室２０１）
本発明に係る製膜室２０１は、基材を保持可能な基材保持部２２１、及び保持された当該基材に対して蒸気含有ガスを吹き付ける蒸着ヘッド２３１を有し、好ましくは、気密性を有し、排気系７に直接的、又は間接的に接続されており、より好ましくは、当該製膜室２０１内に、基材９の搬入、搬出の為のゲートバルブ２４１を有し、排気系７に直接的、に接続されており、さらに好ましくは、ガス供給系６に直接的、又は間接的に接続されており、特に好ましくは、ガス供給系６に直接的に接続されており、即ち、製膜室２０１単独でのガス導入、及び排気が可能であることが好ましい。
【００４５】
本実施形態では、基材９がゲートバルブ２４１を介して製膜室２０１内に導入され、基材保持部２２１に載置される。次に、蒸気含有ガスが蒸着ヘッド２３１を介して基材９に向かって吹き出されることで、製膜が実施される。蒸着ヘッド２３１の吹き出し部は適度な開孔パターンを有し、基材９の製膜面側に均一に蒸気含有ガスを吹き出す機構であることが好ましい。
【００４６】
（基材保持部２２１）
前記基材保持部２２１は、上述の如く製膜室２０１内において基材を保持する機能を有するが、好ましくは、さらに、加熱された蒸着ヘッド２３１の輻射熱等による基材温度の上昇を抑制するため、基材を冷却できる構造（２５１）として、その内部に冷媒を流通する冷媒流通機構を有し、より好ましくは、基材を効率的に冷却できる基材載置面を有する構造であり、冷媒は循環することがさらに好ましい。
【００４７】
また、前記基材保持部２２１は、ガス供給系より供給された吹き付けガス（２６１）を基材方向へ吹き付けるガス吹き付け機構２７１を有することが好ましく、その為に、前記基材配置面が、その表面に適度な開孔パターンを有することが好ましく、基材９の非製膜面側に当該吹き付けガス（２６１）を吹き付けることで、対流伝熱等により基材保持部２２１と基材９との熱交換が促進され、冷却効率を向上でき、また、基材全面での均熱性が高まり、さらに場合によっては、蒸気含有ガスを基材近傍に閉じ込めることで着膜効率向上を図ることができる。
【００４８】
このように、冷媒流通機構、及び／又は、ガス吹き付け機構を有する基材保持部２２１とすることで、基材の温度上昇を抑制し、面内温度を一定に保つことが可能であることから、良好な膜物性が得られ、品質安定性が高くなる。
【００４９】
図３は、このような冷媒流通機構２５１、およびガス吹き付け機構２７１を備える基材保持部２２１の一例を示す概略図である。
【００５０】
（基材９）
本発明に係る基材９は、例えばガラス等の透明な材料からなる。基材上の透明電極層１２０は、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）等の透明な導電性材料からなることが好ましい。なお、透明電極層１２０は、例えばスパッタリング法により形成される。
【００５１】
（薄膜形成用材料）
本発明に係る薄膜形成用材料は、加熱により蒸気化し、該蒸気が冷却により基材９上に着膜可能であれば各種材料を使用できるが、常温で固体であり、かつ、粉体として本発明の蒸着装置に導入できる材料であることが、本発明の効果を十分に発揮せしめる観点から好ましく、例えば、有機ＥＬ素子を構成する有機ＥＬ材料等を挙げることができる。
【００５２】
このような本発明に係る薄膜形成用材料は、本発明において、例えば、図１に示すように、材料保管容器３１１より仕切りバルブ５０８、上部材料移送管４０１を通じて材料保持部４７１に補給され、材料保持部４７１内の薄膜形成用材料は、駆動部４９１を駆動させることにより、駆動動力が動力伝達機構４８１を通じて、材料移送部４６１に伝わり、該動力で材料移送部４６１が駆動することにより、材料移送部４６１、材料払出し部４５１、真空室３０１の内部雰囲気である材料受送経路４４１、材料下部受け部４３１、下部材料移送管４１１を通じて蒸発室３５１に移送され、蒸気化され、その後、薄膜形成用材料の蒸気を含む蒸気含有ガスとして製膜室２０１に供給され、基材９上に着膜する。
【００５３】
ここで、導入した薄膜形成用材料の内、当該着膜に寄与する材料の比率を、一般に着膜効率と呼称しており、計算の基準の取り方により様々な値となるが、同一材料のみを長時間蒸着し安定化した場合の定常状態の、そして基材９がこれを載置するステージと同じ面積を有するとして着膜する量の、導入した材料が消費される量に対する割合を、絶対的な着膜効率と定義でき、蒸着装置の性能評価尺度の一つとできる。
【００５４】
（蒸発装置３）
本発明に係る蒸発装置３は、薄膜形成用材料の蒸気を含む蒸気含有ガスを発生させ、発生させた蒸気含有ガスを製膜室に供給する装置であり、蒸発室３５１に薄膜形成用材料を供給する材料供給系４、及び薄膜形成用材料が実際に蒸発する場所である蒸発室３５１を含み、当該材料供給系４は、材料保管容器３１１、材料吐出部５、及び蒸発室３５１を含む。
【００５５】
（材料保管容器３１１）
本発明に係る材料保管容器３１１は、薄膜形成用材料を一時的に保管する容器であり、薄膜形成用材料を保管する保管空間を備える。
【００５６】
このような本発明に係る材料保管容器３１１は、当該保管空間内において保管中の薄膜形成用材料を、脱気する機能、及び、当該脱気用減圧の状態で攪拌する機能を有し、このことが本発明の特徴の一つである。
【００５７】
即ち、本発明に係る材料保管容器３１１は、排気系７により保管空間を減圧する脱気用減圧機構、ガス供給系６から脱気用ガス、好ましくはキャリアガス、を内部に導入する圧入により、保管空間を加圧する加圧機構、薄膜形成用材料を攪拌する攪拌機構３２１を有し、好ましくは保管中の薄膜形成用材料を脱気する為に加熱する脱気用加熱機構を有し、好ましくは後述する状態把握機構を有し、好ましくは少なくとも一種類以上の薄膜形成用材料を導入可能な材料導入機構３８１を有す。好ましくは、材料保管容器３１１は、これと配管やバルブを介して直結された排気系７により、単独で排気可能である。
【００５８】
前記攪拌機構３２１は、例えば、保管空間内部に配置された攪拌子等であり、好ましくは、２種以上の薄膜形成用材料を攪拌・混合する為に用いられる。
【００５９】
前記脱気用加熱機構は、例えばジャケットヒーター等により、外部から材料保管容器３１１を、好ましくは温度調節しながら、加熱する機構である。
【００６０】
前記状態把握機構は、ＣＣＤカメラ等の観測設備であり、攪拌状態、好ましくは前記混合状態を把握する為に用いられ、例えば、混合された１種類以上の薄膜形成用材料の色の変化を監視することで、適切なタイミングで混合を終了する事ができ、薄膜形成用材料の混合状態を管理することが可能となる。
【００６１】
（材料吐出部５）
材料吐出部５は、少なくとも、材料保管容器３１１から薄膜形成用材料を受入れる材料供給装置３３１、及び吐出口を少なくとも含み、当該吐出口から吐出により蒸発室３５１に薄膜形成用材料を供給し、高温となる蒸発室３５１からの熱を遮断する観点から、好ましくは内部を減圧保持可能な真空室３０１である。
【００６２】
即ち、前記材料供給装置３３１は、材料吐出部５である真空室３０１の内部に格納されていることが好ましく、前記吐出口は、好ましくは真空室３０１の内面の、好ましくは底面の孔であり、その場合、当該吐出口は、真空室３０１が有する材料下部受け部４３１に含まれ、このような、材料吐出部５を用いることで、いずれも後述する、材料保持部４７１に保持された薄膜形成用材料を、材料移送部４６１により、材料保持部４７１と材料払出し部４５１を等圧の状態で、移送することができるので、蒸発室３５１に供給される薄膜形成用材料の供給速度を安定させることができる。
【００６３】
この場合、前記材料払出し部、及び前記吐出口との間の薄膜形成用材料が流通する当該真空室内３０１の空間を材料送受経路４４１としたとき、材料受送経路４４１の経路断面積は、真空室３０１内面の当該断面の面積の１／１０以下であれば、材料保持部４７１と材料払出し部４５１とを均圧に維持することが容易であり好ましい。
【００６４】
前記吐出口は、下部材料移送管４１１を通じて蒸発室３５１の内部と連通し、蒸発室３５１に薄膜形成用材料を、好ましくは、粉体として、吐出する。
【００６５】
前記材料下部受け部４３１は、材料供給装置３３１より払い出された薄膜形成用材料を効率よく受け入れる観点から、好ましくは、真空室３０１の内側に大開口し、吐出口を小開口とする漏斗状であり、当該吐出口は前記下部材料移送管４１１の材料吐出部５側の入り口であり、この場合、真空室３０１の内部雰囲気を介して薄膜形成用材料は材料下部受け部４３１に向かって吐出される。
【００６６】
さらに好ましくは、ガス供給系６よりキャリアガスの一部を真空室３０１に供給することができる構造であれば、材料移送配管４１１内で薄膜形成用材料が付着することを抑えられ、また、蒸発室３５１で発生する蒸気含有ガスが、真空室３０１に逆流することを防ぐことができ、真空室３０１の汚染が防止できることを通じ、製膜された薄膜の品質が高いレベルで維持され易くなる。
【００６７】
さらに好ましくは、排気系７により、真空室３０１を個別に排気可能とする構造であれば、内部に保管された薄膜形成用材料から脱離した水分等の不純物ガスを排気することが容易となる。
【００６８】
（材料供給装置３３１）
本発明に係る材料供給装置３３１は、蒸発室３５１に定量的に薄膜形成用材料を供給する装置であり、好ましくは真空室３０１内部に収容され、その場合好ましくは、真空室３０１内で材料供給装置支持部３４１により支持される。
【００６９】
材料供給装置３３１が材料供給装置支持部３４１により支持される場合、当該材料供給装置支持部３４１が秤量機構を有することが好ましく、材料供給装置３３１が材料供給装置支持部３４１を介してのみ真空室３０１内で保持される機構であればより好ましく、材料供給装置３３１に保持されている薄膜形成用材料の重量を計測できるので、より正確に薄膜形成用材料の移送量を制御することが可能となり、基材９上に得られる膜厚の制御が容易となる。
【００７０】
このような材料供給装置３３１は、材料供給装置３３１は、材料保管容器３１１より上部材料移送管４０１を介し、好ましくはさらに真空室３０１の内部雰囲気を介し、薄膜形成用材料を受入れ可能な材料上部受け部４２１、受け入れた薄膜形成用材料を一時的に保持する材料保持部４７１、材料保持部４７１に保持された薄膜形成用材料を、後述する材料払出し部に定量的に移送する材料移送部４６１、当該移送された薄膜形成用材料をそのままを吐出口に払出し可能な材料払出し部４５１を有す。
【００７１】
材料吐出部５が真空室３０１である場合に、材料上部受け部４２１は、当該真空室３０１の機密性を維持した状態で、材料保管容器３１１から順に、上部材料移送管４０１、真空室３０１の内部雰囲気を介して、薄膜形成用材料を受け入れることが好ましく、材料下部受け部４３１は、当該真空室３０１の機密性を維持した状態で、材料払出し部４５１から、真空室３０１の内部雰囲気を介して、薄膜形成用材料を受け入れることが好ましい。
【００７２】
材料供給装置３３１は、さらに、材料移送部４６１を駆動するための駆動部４９１、及び駆動部４９１より材料移送部４６１に動力を伝達する動力伝達機構４８１を有する。
【００７３】
動力伝達機構４８１は、例えば図４および図５に示すように、駆動側シャフト６０１と被駆動側シャフト６１１より構成され、駆動側シャフト６０１は、真空室３０１の壁面を、真空室３０１の機密性を維持できる機構で貫通して外部の駆動部４９１と連結し、かつ上下動することで、図６に示すように、被駆動側シャフト６１１と連結し、駆動部４９１を稼動させることで、材料移送部４６１に動力を伝達し、材料保持部４７１内の薄膜形成用材料を、材料払出し部４５１に水平移送することが可能である。
【００７４】
（蒸発室３５１）
本発明に係る蒸発室３５１は、吐出口から、好ましくは、粉体として、吐出され供給された薄膜形成用材料を蒸気化し、生成された蒸気含有ガスを、蒸気含有ガス移送部を介して製膜室２０１に供給する。
【００７５】
前記蒸発室３５１は、ガス供給系６より加熱されたキャリアガスを導入可能であることが好ましく、より好ましくは、粉体として供給された薄膜形成用材料は、粉体として蒸発室３５１の底に滞留しない状態で、前記加熱キャリアガスによりフラッシュ蒸発される。
【００７６】
ここで、蒸発室３５１は、前記加熱キャリアガスと薄膜形成用材料との熱交換を効率よく行う観点から、らせん状の配管で構成されてることが好ましく、当該らせん状の配管は、その内周および外周から均一に加熱されるようシステム構成されていることがより好ましい。
【００７７】
さらに、蒸発室３５１は、これと配管やバルブを介して直結された排気系７により、単独で排気可能であることが好ましく、このようにすることで、例えば蒸発室３５１内部を加熱キャリアガスで個別にクリーニングすることが可能となるため、製膜された膜の中の不純物量が低く維持されるので、膜品質が高レベルで安定維持されるの観点から好ましい。例えば、図１において、蒸発室３５１は、排気バルブ２１５を介し、排気系７に直結している。
【００７８】
またさらに、蒸発室３５１内の圧力は、材料蒸発効率を十分なものに維持せしめる観点から、制御可能であることが好ましく、この制御を可能とする為に、蒸気含有ガス移送部の経路に配された仕切りバルブは、図１おいては仕切りバルブ５１４は、開度調整が可能なものであることが好ましい。
【００７９】
（ガス供給系６）
本発明に係るガス供給系６は、アルゴンや窒素等の不活性ガスやクリーニング用のガス、あるいは、それらを任意の比率で混合した混合ガスを、複数の装置に供給可能な設備であり、仕切りバルブ５０１、５０２，５０３、５０４、５０５、５０６、５０７、５０８、５０９、５１１、５１２、５１３・・・や、マスフローコントローラー３７１、３７２、３７３、３７４、３７５・・・、熱交換器３６１、３６２、３６３・・・を含むことができ、例えば、熱交換器を介すことで加熱されたキャリアガスを供給可能であり、他にも、吹き付けガス（冷却ガス）や脱気用ガス、押出し用ガスとして、各種ガスを供給可能とすることができる。
【００８０】
例えば、好ましい本発明の実施態様である図１の蒸着装置１は、バイパスキャリアガス流送部８を備え、このガス供給系６は熱交換器３７４を含み、バイパスキャリアガス流送部８より流送される加熱されたキャリアガスは、蒸発装置３を含む蒸発システム３０の加熱キャリアガス流送系統より供給される加熱キャリアガス、及び薄膜形成用材料の蒸気を含む蒸気含有ガスとは別に、また、これと共に製膜室２０１に供給可能であることが好ましく、さらに、バイパスキャリアガス流送部８より、加熱されたキャリアガス単独でも製膜室２０１に供給可能であることがより好ましい。
【００８１】
（加熱キャリアガス）
本発明に係る加熱キャリアガスは、特に、蒸発室３５１にて薄膜形成用材料を蒸気化する前記加熱されたキャリアガスであり、具体的には例えば、１００℃〜７００℃程度に、加熱された窒素ガス、アルゴンガス等であり、不活性ガスであることが好ましく、より好ましくは窒素ガスである。
【００８２】
図１においては、熱交換器３６２と下部材料移送管４１１を通じて、加熱キャリアガスと薄膜形成用材料が蒸発室３５１に供給され、ここで蒸気含有ガスが生成される。
【００８３】
前記熱交換器としては、スタティックミキサー型のガス配管を用いることが好ましく、配管内部のエレメントとキャリアガスが接触して加熱されるので、熱交換効率が向上できる。
【００８４】
なお、加熱キャリアガスと接触する各機器、配管、バルブ等は、その温度を維持する為、適宜必要なリボンヒーターやジャケットヒーター等によって加熱し、適切な制御方法で調温することが重要であり、特に、蒸気含有ガスを流送したり、これが逆流してくる部位については、蒸発した材料の固着、及び材料劣化を抑制するため、このような温調が重要である。
【００８５】
（排気系７）
本発明に係る排気系７は、ドライポンプ等の真空排気ポンプや、これと製膜室２０１や蒸発装置３、ガス供給系６等とを接続する配管やバルブ等から構成され、接続される設備の用途に応じて、適切な真空排気ポンプを選択する必要があり、それぞのれの設備が個別の排気系７を備えることが好ましい。
【００８６】
このような排気系７に係るバルブとして、図１には、排気バルブ２１３、２１４、２１５が例示されており、これらの各々を通じて材料保管容器３１１、材料吐出部５、及び蒸発室３５１を個別に排気可能な好ましい例となっており、排気バルブ２１１、２１２も例示されており、これらの各々を通じて製膜室２０１、及び蒸気含有ガス供給系を個別に排気可能な好ましい例となっており、このような排気系７は、１つのポンプにより切り替えて複数を排気しても良く、個別のポンプにより排気してもよく、このような排気バルブは、ポンプ性能を十分に発揮せしめ、到達真空度を高め高品質の薄膜を製膜する観点から、仕切りバルブよりコンダクタンスが大きいものであることが好ましい。
【００８７】
またさらに、製膜室２０１、蒸発装置３にそれぞれ単独の排気系７を接続する方が、製膜室２０１と蒸発装置３を個別に排気することができるため好ましい。このような装置構成とすることで、例えば、薄膜形成用材料の蒸発が不安定な間は仕切りバルブ２１２を通じて排気系７に流送し、前記蒸発が安定した後に、仕切りバルブ５１４を通じて蒸着ヘッド２３１へ流送することができる。
【００８８】
またさらに、製膜室２０１と排気系７を繋ぐ排気バルブ２１１は、開度コントロールが可能なバルブである方が、製膜室内部の圧力調整により製膜速度等をコントロールできるため好ましい。
【００８９】
製膜室２０１は、ドライポンプ、ＴＭＰ（ターボ分子ポンプ）やＣＰ（クライオポンプ）を用いて、製膜室２０１内を高真空排気できることが好ましく、例えば製膜室内部の残留水分等を除去可能となり、薄膜の品質向上の観点から好ましい。
【００９０】
（製膜方法）
以下本発明の蒸着装置を用いた製膜方法の具体例を説明する。
【００９１】
まず、材料導入機構３８１を介して材料保管容器３１１に薄膜形成用材料を適量充填し密閉する。なお共蒸着を実施する場合、事前に使用する薄膜形成用材料同士の重量比率を調整する方が好ましい。次に、排気バルブ（１）２１３を開け、排気系７を用いて材料保管用器３１１を真空排気し、材料脱気を実施する。なお、排気バルブ（１）２１３は、排気時に材料保管容器３１１内の急激な圧力変動によって内部の薄膜形成用材料が舞上ることを抑制するため、開度調整が可能であり、減圧速度をコントロールできる方が好ましい。
【００９２】
真空排気は、ドライポンプ、ターボ分子ポンプ、もしくはクライオポンプを用いて高真空排気を実施し、有機ＥＬデバイス等の特性低下に繋がる残留水分等を極力除去することが好ましい。材料脱気は、加熱機構を用いて、材料保管容器３１１を薄膜形成用材料の分解劣化に影響しない範囲で加熱することで、脱気に要する時間を短縮することができる。また、好ましくは加熱中に、攪拌機構３２１を併せて使用することにより、薄膜形成材料の脱気効率を向上させ、脱気に要する時間をさらに短縮することが可能であり、また例えば、複数種類の薄膜形成用材料を充填した場合でも薄膜形成用材料同士を材料保管容器３１１内で混合することができる。
【００９３】
複数種類の薄膜形成用材料を攪拌機構３２１を用いて混合する場合、材料保管容器３１１に備え付けられた観測設備により、例えば混合した薄膜形成用材料の色の変化度合いにより、混合状態を監視することができる。
【００９４】
次に、各部に設置したヒーターで各部を所定温度に昇温する。設定温度は、装置の運用方法や特徴に合わせて適宜設定すればよいが、薄膜形成用材料の沸点を下回らない範囲で、なるべく低い温度に設定すると、蒸発材料の固着、及び材料劣化防止の観点から好ましい。
【００９５】
次に、仕切りバルブ５０８、及び上部材料移送管４０１を通じて、材料保管容器３１１から材料供給装置３３１に薄膜形成用材料を移送する。なお、事前に、排気バルブ（１）２１４を介して排気系７により真空室３０１の圧力を材料保管容器３１１と同等程度にすることで、薄膜形成用材料を移送する際、材料保管容器３１１と真空室３０１の圧力差によって薄膜形成用材料が舞上り、真空室３０１内を汚染することを抑制できるため好ましい。
【００９６】
この場合に、上部材料移送管４０１内で材料詰まりが発生する場合には、仕切りバルブ５０３、５１１を通じてガス供給系６より押出し用ガスを供給し、圧送することができ、また、この場合に、材料供給装置支持部３４１が秤量機構であれば、材料供給装置３３１に供給される薄膜形成用材料の供給量を制御できる。
【００９７】
次に、ゲートバルブ２４１を介して、製膜室２０１に基材９を投入し、基材支持機構２２１に載置する。また、基材保持部２２１内に冷媒を流通させ（２５１）基材９の冷却を実施する。冷媒には例えばエチレングリコール等が用いられる。さらに、仕切りバルブ５０１、５０２、及びマスフローコントローラー（１）３７５を通じて、基材保持部２２１より基材９の非製膜面側に向けて所定流量に制御された冷却ガスを直接吹き付け可能な構造（２７１）とすることで、基材保持部２２１と基材９の間の対流伝熱により、基材９のより効果的な冷却が期待できるため好ましい。冷却ガスの種類としては、対流伝熱性を高めるため、例えばヘリウム等の熱伝導率が高い気体が好ましい。
【００９８】
次にマスフローコントローラー（１）３７３及び熱交換器（１）３６２等で、キャリアガスを所定流量および温度に制御して蒸発室３５１等に供給する。また、マスフローコントローラー（１）３７２でキャリアガスを所定流量に制御して、仕切りバルブ５０５、５０９を通じて蒸発室３５１に供給する。この場合、マスフローコントローラー（１）３７２で制御されるキャリアガス流量は、蒸発室３５１で蒸発した薄膜形成用材料の蒸気を含む蒸気含有ガスの逆流を抑える程度の少量でよい。
【００９９】
次に、材料供給装置３３１より、所定の供給速度で薄膜形成用材料を、材料送受経路４４１、下部材料移送管４１１を通じて蒸発室３５１に供給する。この場合、仕切りバルブ５０９を、例えばボールバルブとすることで、下部材料移送管４１１を通る薄膜形成用材料が移送管内で詰まることなく、全量を蒸発室３５１に供給可能であるため好ましい。
【０１００】
この場合、例えば、蒸発装置３５１に供給された薄膜形成用材料を全量蒸発させることが可能なキャリアガスの流量、温度、等の諸条件とすることで、薄膜形成用材料の供給速度で、製膜速度を制御することができる。薄膜形成用材料の供給速度は、材料供給装置３３１の機構により制御することもできるが、好ましくは、秤量機構を有する材料供給装置支持部３４１を用いることで、より正確に、所定の供給速度に制御できる。
【０１０１】
また、蒸発室３５１等の内部の圧力は、例えば仕切りバルブ５１４等の開度を調整し、１００００Ｐａ程度に調整することで、能率的に材料蒸発を実施することができる。
【０１０２】
このようにして、蒸発装置３で発生した薄膜形成用材料の蒸気を含む蒸気含有ガスは、キャリアガスと共に、蒸着ヘッド２３１より吐出され、基材９上で冷却され析出することで着膜する。
【０１０３】
この場合、蒸着ヘッド２３１から吐出されるキャリアガスの流量および温度により、基材９への着膜効率及び着膜分布が変化する。
【０１０４】
蒸発装置３のプロセス条件によらず、蒸着ヘッド２３１から吐出されるキャリアガスの流量及び温度を一定とする場合には、バイパスキャリアガス流送部８より、マスフローコントローラー３７４及び熱交換器３６３で、キャリアガスの流量及び温度を適宜制御して製膜室２０１に流送することで実施できる。
【０１０５】
また、基材９への着膜量を精密にコントロールする場合には、最初は、薄膜形成用材料の蒸気含有ガスを排気バルブ２１２を通して排気系７に流送し、薄膜形成用材料の蒸発速度安定後に蒸着ヘッド２３１へ流送する方法が好ましい。
【０１０６】
製膜終了後は、材料供給装置３３１を停止し、適宜バルブを閉めるとよい。
【０１０７】
本発明の蒸着装置１及び、前述した蒸着方法をを用いれば、一つの蒸発装置３で複数種類の薄膜形成用材料を用いた共蒸着膜を製膜可能である。また、例えば図７に示した機能層１３０のような多層積層膜であっても、機能層１３０を形成する層の種類に応じた数の蒸発装置３を設置すれば、本発明の蒸着装置１台で全ての層を製膜可能である。
【０１０８】
また、図８に示すように、複数の製膜室、ガス供給系、及び排気系７と、蒸発装置３、バイパスキャリアガス流送部８とを適宜組み合わせることで、複数の基材に同時に製膜を進め、生産性を向上させることもできる。
【実施例】
【０１０９】
このような本発明の蒸着装置として、図８に示す装置を用いて、加熱キャリアガスの温度が４５０℃、加熱キャリアガス中に含有される薄膜形成材料の濃度が約２００μｇ／ｓｃｃｍ、製膜室２０１内部の圧力が２００Ｐａ、基材９の表面温度が７０℃、の条件で薄膜を製膜したところ、絶対的な着膜効率が０．６と算出できる蒸着が可能であった。従来の抵抗加熱等を用いた真空蒸着や、プラズマ放電等を用いた化学気相蒸着に比べ、極めて高効率で製膜可能であった。
【符号の説明】
【０１１０】
１．蒸着装置
２．製膜室、ガス供給系、および排気系
３．蒸発装置
４．材料供給系
５．材料吐出部
６．ガス供給系
７．排気系
８．加熱キャリアガス流送部
９．基材
３０．蒸発装置３を含む蒸発システム
１０１．有機ＥＬ装置
１１１．ガラス基板
１２１．透明電極層
１３１．機能層
１４１．裏面電極層
１５１．封止部
２０１．製膜室
２１１．排気バルブ（１）
２２１．基材保持部
２３１．蒸着ヘッド
２４１．ゲートバルブ
２５１．冷媒流通機構
２６１．吹き付け（冷却）ガス
２７１．ガス吹き付け機構
３０１．真空室
３１１．材料保管容器
３２１．攪拌機構
３３１．材料協供給装置
３４１．（材料供給装置）支持部
３５１．蒸発室
３６１．熱交換器（１）
３７１．マスフローコントローラー（１）
３８１．材料導入機構
４０１．上部材料移送管
４１１．下部材料移送管
４２１．材料上部受け部
４３１．材料下部受け部
４４１．材料送受経路
４５１．材料吐出部
４６１．材料移送部
４７１．材料保持部
４８１．動力伝達機構
４９１．駆動部
５０１．仕切りバルブ（１）
５１１．仕切りバルブ（２）
５２１．仕切りバルブ（３）
６０１．駆動側シャフト
６１１．被駆動側シャフト
７０１．排気バルブ（２）
７１１．マスフローコントローラー（２）
７２１．熱交換器（２）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2019131869.tif 000009
【図８】
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