(57)【要約】【課題】流路内に部材を特に設置することなく、コンパクトな構成で流路内における旋回流を調整する。【解決手段】旋回流調整装置１００は、第１空間１１を形成する第１空間形成部１０と第２空間３１を形成する第２空間形成部３０と第３空間５１を形成する第３空間形成部５０とを備える。第１空間１１は、第１入口１７および第１出口１８を有する。第２空間は、第１出口に接続する第２入口３３、および第２出口３４を有する。第３空間５１は、第２出口３４に接続する第３入口５７、および第３出口５８を有する。第１入口１７から第１出口１８に向かうベクトルを第３出口５８から流体が流出する方向と垂直な平面へ投影したときのベクトルを第１投影ベクトルとし、第３入口５７から第３出口５８に向かうベクトルを上記平面へ投影したときのベクトルを第２投影ベクトルとした場合、第１投影ベクトルの方向と第２投影ベクトルの方向とが異なる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体が流入する第１入口、および前記第１入口から流入する流体が流出する第１出口を有する第１空間を形成する第１空間形成部と、
前記第１出口に接続する第２入口、および前記第２入口から流入する流体が流出する第２出口を有する第２空間を形成する第２空間形成部と、
前記第２出口に接続する第３入口、および前記第３入口から流入する流体が流出する第３出口を有する第３空間を形成する第３空間形成部と、を備え、
前記第１入口から前記第１出口に向かうベクトルを前記第３出口から流体が流出する方向と垂直な平面へ投影したときのベクトルを第１投影ベクトルとし、前記第３入口から前記第３出口に向かうベクトルを前記平面へ投影したときのベクトルを第２投影ベクトルとした場合、前記第１投影ベクトルの方向と前記第２投影ベクトルの方向とが異なることを特徴とする旋回流調整装置。
【請求項２】
前記第１入口および前記第３出口の少なくとも一方が、前記第２空間の軸線を中心とした円周方向に移動調整可能に構成されていることを特徴とする請求項１に記載の旋回流調整装置。
【請求項３】
前記第１入口は、前記第１空間の上流側に配置されている上流側配管と接続しており、
前記上流側配管は、湾曲した軸線を持つ曲り管を有することを特徴とする請求項１に記載の旋回流調整装置。
【請求項４】
前記第３出口は、前記第３空間の下流側に配置されている下流側配管と接続しており、
前記下流側配管は、真直な軸線を持つ直管であり、
前記直管にオリフィスが設けられていることを特徴とする請求項１に記載の旋回流調整装置。
【請求項５】
前記第１投影ベクトルの方向を前記第２投影ベクトルの方向に一致させる場合の回転方向が、前記第１空間に流入する流体の旋回流の方向と逆方向であることを特徴とする請求項１に記載の旋回流調整装置。
【請求項６】
前記第１空間、前記第２空間、および前記第３空間は、共通の軸線を有する円柱形状を呈しており、
前記第２入口および前記第２出口は、前記第２空間の軸線方向の両端にそれぞれ形成されており、
前記第１入口は、前記第１空間の上流側の端面における前記第２空間の軸線とは偏芯した位置に形成されており、
前記第３出口は、前記第３空間の下流側の端面における前記第２空間の軸線とは偏芯した位置に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の旋回流調整装置。
【請求項７】
前記第１空間および前記第２空間は、共通の軸線を有する円柱形状を呈しており、
前記第３空間は、前記第３出口から流体が流出する方向と垂直な方向に延在する柱形状を呈しており、
前記第２入口および前記第２出口は、前記第２空間の軸線方向の両端にそれぞれ形成されており、
前記第１入口は、前記第１空間の上流側の端面における前記第２空間の軸線とは偏芯した位置に形成されており、
前記第３出口は、前記第３空間の下流側の端面における前記第２空間の軸線とは偏芯した位置に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の旋回流調整装置。
【請求項８】
前記第２空間は、円柱形状を呈しており、
前記第１空間および前記第３空間は、前記第３出口から流体が流出する方向と垂直な方向に延在する柱形状をそれぞれ呈しており、
前記第２入口および前記第２出口は、前記第２空間の軸線方向の両端にそれぞれ形成されており、
前記第１入口は、前記第１空間の上流側の端面における前記第２空間の軸線とは偏芯した位置に形成されており、
前記第３出口は、前記第３空間の下流側の端面における前記第２空間の軸線とは偏芯した位置に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の旋回流調整装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、流路内における旋回流を調整する旋回流調整装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、水平配置された母管に一端を連通させて鉛直下方に垂設された枝管に設けられた旋回流防止部材が開示されている（請求項１参照）。この旋回流防止部材は、例えば枝管の軸に沿って設置された少なくとも１つの板状部材により構成されている（請求項２参照）。このような構成によれば、セル状渦を崩壊させることで、旋回流の形成を防止することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−２７０７３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
流体を流す配管は、曲り管、直管、分岐管、弁、オリフィス、継ぎ手、その他の配管要素で構成されている。このような配管において、曲り管や分岐管、その他の配管要素の下流では、旋回流が発生することがある。旋回流が存在すると、オリフィス等を含む流量計測部で流量を計測する場合には正確な計測が困難となる。
【０００５】
したがって、曲り管や分岐管、その他の配管要素の下流で流量を計測する場合には、発生する旋回流を減衰させるために、流量計測部の上流側に十分な長さの直管を設置することが行われている。しかし、設置スペースの制約から配管の設置位置や構成が制限されるため、流量計測部の上流側に十分な長さの直管を設置することが困難な場合がある。
【０００６】
前記した特許文献１に記載の技術では、旋回流を低減することは可能であるが、配管の内部に形成される流路内に流れを阻害するものを挿入して設置するため、流動損失が大きくなってしまう。また、管内に設置された板状部材が、腐食等の経時変化によって脱落してしまうおそれもある。
【０００７】
本発明は、前記した事情に鑑みてなされたものであり、流路内に部材を特に設置することなく、コンパクトな構成で流路内における旋回流を調整できる旋回流調整装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を達成するための本発明に係る旋回流調整装置は、第１空間を形成する第１空間形成部と、第２空間を形成する第２空間形成部と、第３空間を形成する第３空間形成部とを備えている。前記第１空間は、流体が流入する第１入口、および前記第１入口から流入する流体が流出する第１出口を有する。前記第２空間は、前記第１出口に接続する第２入口、および前記第２入口から流入する流体が流出する第２出口を有する。前記第３空間は、前記第２出口に接続する第３入口、および前記第３入口から流入する流体が流出する第３出口を有する。ここで、前記第１入口から前記第１出口に向かうベクトルを前記第３出口から流体が流出する方向と垂直な平面へ投影したときのベクトルを第１投影ベクトルとする。また、前記第３入口から前記第３出口に向かうベクトルを前記平面へ投影したときのベクトルを第２投影ベクトルとする。この場合、前記第１投影ベクトルの方向と前記第２投影ベクトルの方向とが異なる。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、流路内に部材を特に設置することなく、コンパクトな構成で流路内における旋回流を調整できる旋回流調整装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の第１実施形態に係る旋回流調整装置を上流側配管および下流側配管とともに示す斜視図である。
【図２】図１に示される旋回流調整装置の拡大斜視図である。
【図３】図１に示される旋回流調整装置の縦断面図である。
【図４】旋回流調整装置による旋回流の調整原理を説明するための図である。
【図５】本発明の第２実施形態に係る旋回流調整装置の拡大斜視図である。
【図６】本発明の第３実施形態に係る旋回流調整装置の拡大斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。
なお、各図において、共通する構成要素や同様な構成要素については、同一の符号を付し、それらの重複する説明を適宜省略する。
【００１２】
（第１実施形態）
まず、図１〜図４を参照して、本発明の第１実施形態について説明する。
流体が流れる配管は、曲り管、直管、分岐管、弁、オリフィス、継ぎ手、その他の配管要素で構成されている。ここでは、第１実施形態に係る旋回流調整装置１００が、曲り管１１２，１１４を有する上流側配管１１０と、オリフィス１２１が設けられている下流側配管１２０との間に設置されている場合を例に挙げて説明する。
【００１３】
図１は、本発明の第１実施形態に係る旋回流調整装置１００を上流側配管１１０および下流側配管１２０とともに示す斜視図である。
本実施形態では、図１における上下が鉛直方向に相当する場合を例示しているが、これに限定されるものではない。図１における上下は、例えば、水平方向であってもよく、鉛直方向に対して斜め方向であってもよい。
【００１４】
図１に示すように、旋回流調整装置１００は、上流側配管１１０と下流側配管１２０との間に設置されている。上流側配管１１０、旋回流調整装置１００、および下流側配管１２０は、内部に流体が流れる流路が形成されており、互いに連通している。
【００１５】
上流側配管１１０は、湾曲した軸線を持つ２つの曲り管１１２，１１４と、曲り管１１２と曲り管１１４との間に配置され真直な軸線を持つ直管１１３とを有している。また、上流側配管１１０は、曲り管１１２の上流側に接続する直管１１１と、曲り管１１４の下流側に接続する直管１１５とを有している。
【００１６】
下流側配管１２０は、直管である。下流側配管１２０には、オリフィス１２１が設けられている。オリフィス１２１は、下流側配管１２０内に形成される流路を絞るための円孔が中央にあけられた円板である。オリフィス１２１の前後の差圧を測定することで流量が求められる。
【００１７】
上流側配管１１０内を流れる流体は、２つの曲り管１１２，１１４を通過した後、旋回流調整装置１００に入り、その後、直管である下流側配管１２０を通ってオリフィス１２１に流入する。ただし、図１では、曲り管１１２と曲り管１１４とは、同一平面にあるように描かれているが、どちらか一方が、図１の紙面の手前もしくは奥手にずれていてもよい。このとき、下流側配管１２０および旋回流調整装置１００は、図１に示す状態のままである。また、２つの曲り管１１２，１１４をつなぐ直管１１３も、図１の紙面の手前もしくは奥手にずれていたり、図１の紙面の平面内で傾いていたりしてもよい。
【００１８】
このような上流側配管１１０内を流体が流れる場合、曲り管１１４の下流側には、流れ方向に沿った軸（上流側配管１１０の軸線）を中心に回転する旋回流が形成される。仮に曲り管１１４と下流側配管１２０とが直接つながっている場合には、直管である下流側配管１２０の長さを十分に設けないと、形成された旋回流がオリフィス１２１に進入して、流量の計測誤差が生じる可能性がある。
【００１９】
図２は、図１に示される旋回流調整装置１００の拡大斜視図である。図３は、図１に示される旋回流調整装置１００の縦断面図であり、図４のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿う断面図である。
【００２０】
図２、図３に示すように、旋回流調整装置１００は、第１空間１１を形成する第１空間形成部１０、第２空間３１を形成する第２空間形成部３０、および第３空間５１を形成する第３空間形成部５０を備えている。第１空間形成部１０は、上流側配管１１０と接続する。第２空間形成部３０は、第１空間形成部１０の下流側に配置されており、該第１空間形成部１０と接続する。第３空間形成部５０は、第２空間形成部３０の下流側に配置されており、該第２空間形成部３０と接続する。
【００２１】
第１空間形成部１０、第２空間形成部３０、および第３空間形成部５０の各内部には、流路となる第１空間１１、第２空間３１、および第３空間５１がそれぞれ形成されている。すなわち、旋回流調整装置１００は、第１空間１１、第２空間３１、および第３空間５１の３つの空間を備えている。
【００２２】
第１空間形成部１０は、円筒形状を呈する第１円筒部１２と、第１円筒部１２と接続する接続孔１３を有する第１下流側フランジ１４と、上流側配管１１０と接続する接続孔１５を有する第１上流側フランジ１６とを備える。第１円筒部１２の内部に、前記した第１空間１１が形成されている。第１空間１１は、流体が流入する第１入口１７と、第１入口１７から流入する流体が流出する第１出口１８とを有している。第１入口１７は、第１空間１１の上流側に配置されている上流側配管１１０と接続している。
【００２３】
第２空間形成部３０は、円筒形状を呈する第２円筒部３２を有する。第２円筒部３２の内部に、前記した第２空間３１が形成されている。第２空間３１は、第１出口１８に接続する第２入口３３と、第２入口３３から流入する流体が流出する第２出口３４とを有している。
【００２４】
第３空間形成部５０は、円筒形状を呈する第３円筒部５２と、第３円筒部５２と接続する接続孔５３を有する第２上流側フランジ５４と、下流側配管１２０と接続する接続孔５５を有する第２下流側フランジ５６とを備える。第３円筒部５２の内部に、前記した第３空間５１が形成されている。第３空間５１は、流体が流入する第３入口５７と、第３入口５７から流入する流体が流出する第３出口５８とを有している。第３出口５８は、第３空間５１の下流側に配置されている下流側配管１２０と接続している。
【００２５】
本実施形態では、第１空間１１、第２空間３１、および第３空間５１は、共通の軸線ＣＬを有する円柱形状を呈している。第２入口３３および第２出口３４は、第２空間３１の軸線ＣＬ方向の両端にそれぞれ形成されている。第１入口１７は、第１空間１１の上流側（第２空間３１とは反対側）の端面における第２空間３１の軸線ＣＬとは偏芯した位置に形成されている。また、第３出口５８は、第３空間５１の下流側（第２空間とは反対側）の端面における第２空間３１の軸線ＣＬとは偏芯した位置に形成されている。このように構成すれば、旋回流調整装置１００は、剛性が高く、より強固で安定した構成となる。
【００２６】
第１下流側フランジ１４と第１上流側フランジ１６とは、第１下流側フランジ１４の上流側端面と第１上流側フランジ１６の下流側端面とが当接された状態で、ボルト等のねじ部材７１によって締結されて固定されている。ねじ部材７１が、第１下流側フランジ１４の周縁部に円周方向に沿って延在する円弧形状の長孔１９を挿通して、第１上流側フランジ１６に形成されたねじ孔２０にねじ込まれる。長孔１９は、円周方向に等間隔で複数（ここでは４つ）形成されている。このため、第１下流側フランジ１４と第１上流側フランジ１６とは、円周方向の相対的な位置を変化させることができる。すなわち、第１空間１１の第１入口１７は、第２空間３１の軸線ＣＬを中心とした円周方向に移動調整可能に構成されている。
【００２７】
第２下流側フランジ５６と第２上流側フランジ５４とは、第２下流側フランジ５６の上流側端面と第２上流側フランジ５４の下流側端面とが当接された状態で、ボルト等のねじ部材７１によって締結されて固定されている。ねじ部材７１が、第２下流側フランジ５６の周縁部に円周方向に沿って延在する円弧形状の長孔５９を挿通して、第２上流側フランジ５４に形成されたねじ孔６０にねじ込まれる。長孔５９は、円周方向に等間隔で複数（ここでは４つ）形成されている。このため、第２下流側フランジ５６と第２上流側フランジ５４とは、円周方向の相対的な位置を変化させることができる。すなわち、第３空間５１の第３出口５８は、第２空間３１の軸線ＣＬを中心とした円周方向に移動調整可能に構成されている。
【００２８】
第２空間３１は、上流側の第１空間１１、および下流側の第３空間５１と、それぞれ接続し連通している。本実施形態に係る旋回流調整装置１００を通過する流体の流れは、図２中に矢印で示されており、流れＦ１，Ｆ２，Ｆ３，Ｆ４，Ｆ５の順で進む。
【００２９】
図４は、旋回流調整装置１００による旋回流の調整原理を説明するための図である。
図４中の３つの円は、第１空間１１の第１入口１７および第１出口１８と、第３空間５１の第３入口５７および第３出口５８とを、第３出口５８から流体が流出する方向と垂直な平面へ投影したものである。第３出口５８から流体が流出する方向は、ここでは上方向に相当する。したがって、第３出口５８から流体が流出する方向と垂直な平面は、ここでは水平面に相当している。図４において、第１出口１８と第３入口５７とは重なっている。
【００３０】
図４において、符号「１７ａ」は第１入口１７の中心、符号「１８ａ」は第１出口１８の中心、符号「５７ａ」は第３入口５７の中心、符号「５８ａ」は第３出口５８の中心を示す。第１入口１７の中心１７ａから第１出口１８の中心１８ａに向かうベクトルを水平面へ投影したときのベクトルを第１投影ベクトルＶ１とする。ここで、第１入口１７の中心１７ａから第１出口１８の中心１８ａに向かうベクトルは、図２に示す流れＦ２に対応している。また、第３入口５７の中心５７ａから第３出口５８の中心５８ａに向かうベクトルを水平面へ投影したときのベクトルを第２投影ベクトルＶ２とする。ここで、第３入口５７の中心５７ａから第３出口５８の中心５８ａに向かうベクトルは、図２に示す流れＦ４に対応している。
【００３１】
図４に示すように、第１投影ベクトルＶ１の方向と第２投影ベクトルＶ２の方向とは異なっている。ここで、第１投影ベクトルＶ１の方向を第２投影ベクトルＶ２の方向に一致させる場合の回転方向をＴ２とする。この場合、流体が旋回流調整装置１００を流れることによって、回転方向Ｔ２の方向に回転する旋回流が生成される。
【００３２】
このような旋回流調整装置１００によれば、例えば十分な長さの直管等の設置スペースを要する構造を用いることなく、旋回流の調整が可能となる。また、流路内に流れを阻害する部材を設置しないため、流動損失が大きくなったり、流路に設置された部材が腐食等によって脱落してしまったりすることもない。
すなわち、本実施形態によれば、流路内に部材を特に設置することなく、コンパクトな構成で流路内における旋回流を調整できる旋回流調整装置１００を提供することができる。
【００３３】
本実施形態では、上流側配管１１０における曲り管１１４（図１参照）の下流側に、図４に示す方向Ｔ１に旋回する流れである旋回流が形成される。しかし、旋回流調整装置１００によって旋回流の調整が行われることによって、上流側で形成される旋回流の減衰が可能となる。具体的には、旋回流調整装置１００によって生成される旋回流の方向に相当する回転方向Ｔ２は、第１空間１１に流入する流体の旋回流の方向Ｔ１と逆方向である。このようにすれば、旋回流調整装置１００は、上流側配管１１０において生じる旋回流を減衰することが可能となる。
【００３４】
また、本実施形態では、直管である下流側配管１２０にオリフィス１２１が設けられている。上流側配管１１０における旋回流が旋回流調整装置１００によって減衰するため、旋回流の抑制された流体がオリフィス１２１に進入する。したがって、オリフィス１２１を含む流量計測部によって、流量をより正確に計測することができる。
【００３５】
また、本実施形態では、第１空間１１の第１入口１７、および第３空間５１の第３出口５８が、第２空間３１の軸線ＣＬを中心とした円周方向に移動調整可能に構成されている。したがって、図４における第１投影ベクトルＶ１の方向を第２投影ベクトルＶ２の方向に一致させる場合の回転方向Ｔ２および回転角度を調整できる。つまり、旋回流調整装置１００によって生成される旋回流の方向および強さを調整できる。これにより、上流側配管１１０や下流側配管１２０の流路等の状況に応じて、より適確な旋回流の調整が可能となる。
【００３６】
（第２実施形態）
次に、図５を参照して、本発明の第２実施形態について、前記した第１実施形態と相違する点を中心に説明し、共通する点の説明を省略する。第２実施形態において、前記した第１実施形態と共通する構成要素には、同一の符号を付している。
【００３７】
図５は、本発明の第２実施形態に係る旋回流調整装置１００ａの拡大斜視図である。
図５に示すように、旋回流調整装置１００ａは、第１空間形成部１０、第２空間形成部３０、および第３空間形成部５０ａを備えている。第２実施形態では、第３空間形成部５０ａが第１実施形態における第３空間形成部５０と相違している。
【００３８】
第３空間形成部５０ａの内部には、流路となる第３空間５１ａが形成されている。第３空間形成部５０ａは、第３出口５８から流体が流出する方向と垂直な方向、すなわち水平方向に延在する筒形状を呈する第３筒部５２ａを有する。第３筒部５２ａの内部に、前記した第３空間５１ａが形成されている。第３空間５１ａは、水平方向に延在する柱形状を呈している。ここで、第３空間５１ａを鉛直面によって切断した場合の断面形状は、矩形で示されているが、例えば円形等の他の形状であってもよい。
【００３９】
このような第２実施形態に係る旋回流調整装置１００ａは、第１実施形態よりも簡易な構造となり、製造コストを抑えることができ、また装置の体積も小さくすることが可能である。
【００４０】
なお、第２空間形成部３０の内部に形成される第２空間３１と第３空間５１ａとの接続部に、第２空間３１の軸線ＣＬ（図３参照）のまわりで第３空間形成部５０ａを回動可能とするシール構造が適用されてもよい。このように構成すれば、図４における第１投影ベクトルＶ１の方向を第２投影ベクトルＶ２の方向に一致させる場合の回転方向Ｔ２および回転角度を調整できる。
【００４１】
（第３実施形態）
次に、図６を参照して、本発明の第３実施形態について、前記した第２実施形態と相違する点を中心に説明し、共通する点の説明を省略する。第３実施形態において、前記した第２実施形態と共通する構成要素には、同一の符号を付している。
【００４２】
図６は、本発明の第３実施形態に係る旋回流調整装置１００ｂの拡大斜視図である。
図６に示すように、旋回流調整装置１００ｂは、第１空間形成部１０ａ、第２空間形成部３０、および第３空間形成部５０ａを備えている。第２実施形態では、第１空間形成部１０ａが第２実施形態における第１空間形成部１０と相違している。
【００４３】
第１空間形成部１０ａの内部には、流路となる第１空間１１ａが形成されている。第１空間形成部１０ａは、第３出口５８から流体が流出する方向と垂直な方向、すなわち水平方向に延在する筒形状を呈する第１筒部１２ａを有する。第１筒部１２ａの内部に、前記した第１空間１１ａが形成されている。第１空間１１ａは、水平方向に延在する柱形状を呈している。ここで、第１空間１１ａを鉛直面によって切断した場合の断面形状は、矩形で示されているが、例えば円形等の他の形状であってもよい。
【００４４】
このような第３実施形態に係る旋回流調整装置１００ｂは、第２実施形態よりもさらに簡易な構造となり、製造コストを抑えることができ、また装置の体積もさらに小さくすることが可能である。
【００４５】
なお、第１空間１１ａと第２空間３１、および第２空間３１と第３空間５１ａの各接続部に、第２空間３１の軸線ＣＬのまわりで第１空間形成部１０ａおよび第３空間形成部５０ａをそれぞれ回動可能とするシール構造が適用されてもよい。このように構成すれば、図４における第１投影ベクトルＶ１の方向を第２投影ベクトルＶ２の方向に一致させる場合の回転方向Ｔ２および回転角度を調整できる。
【００４６】
以上、本発明について実施形態に基づいて説明したが、本発明は前記した実施形態に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、前記した実施形態は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施形態の構成の一部を他の実施形態の構成に置き換えることが可能であり、また、ある実施形態の構成に他の実施形態の構成を加えることも可能である。また、前記した実施形態の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。
【００４７】
例えば、前記した実施形態では、旋回流調整装置１００，１００ａ，１００ｂは、上流側配管１１０において生じる旋回流を減衰する装置として使用する場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。本発明は、例えば旋回流によって洗浄効果や伝熱効果等を向上させる場合などに、旋回流を生成する装置としても使用することが可能である。
【００４８】
また、前記した実施形態では、第１入口１７および第３出口５８が、第２空間３１の軸線ＣＬを中心とした円周方向に移動調整可能に構成されているが、本発明はこれに限定されるものではない。第１入口１７および第３出口５８の一方が、第２空間３１の軸線ＣＬを中心とした円周方向に移動調整可能に構成されていてもよい。この場合でも、図４における第１投影ベクトルＶ１の方向を第２投影ベクトルＶ２の方向に一致させる場合の回転方向Ｔ２および回転角度を調整することが可能である。また、上流側配管１１０での旋回流の方向および強さが設計仕様や実験等で予め得られる場合、第１入口１７および第３出口５８は、第２空間３１の軸線ＣＬを中心とした円周方向における位置が固定されていてもよい。
【００４９】
また、前記した実施形態では、旋回流調整装置１００は、第１空間１１、第２空間３１、および第３空間５１の３つの空間を備えているが（図２等参照）、本発明はこれに限定されるものではない。第１空間１１の上流側あるいは第３空間５１の下流側に、例えば回転方向Ｔ２（図４参照）の方向に回転するように生成される旋回流を増大させる、他の空間をさらに備えていてもよい。
【００５０】
また、前記した実施形態では、第２空間形成部３０の第２円筒部３２は、所定の長さを有しているが（図２等参照）、本発明はこれに限定されるものではない。第２円筒部３２は、さらに短くてもよく、あるいは省略されてもよい。第２円筒部３２が省略される場合には、第２空間３１は、第１空間１１と第３空間５１とを接続する孔部の内側に形成される円盤状の空間となる。
【符号の説明】
【００５１】
１１，１１ａ  第１空間
１７    第１入口
１８    第１出口
３１    第２空間
３３    第２入口
３４    第２出口
５１，５１ａ  第３空間
５７    第３入口
５８    第３出口
１００，１００ａ，１００ｂ  旋回流調整装置
１１０  上流側配管
１１２，１１４  曲り管
１２０  下流側配管
１２１  オリフィス
ＣＬ    軸線
Ｔ１    旋回流の方向
Ｔ２    回転方向
Ｖ１    第１投影ベクトル
Ｖ２    第２投影ベクトル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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