(57)【要約】【課題】軸方向の一端部と他端部とで感度の差が少ない電子写真感光体が得られる電子写真感光体用導電性支持体を提供すること。【解決手段】アルミニウムを含む円筒状基材と、前記基材の外周面に設けられ、セラミクスとアルミニウムとを含み、厚さが０．２μｍ以上１．４μｍ以下の混合層と、を有する電子写真感光体用導電性支持体。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウムを含む円筒状基材と、
前記基材の外周面に設けられ、セラミクスとアルミニウムとを含み、厚さが０．２μｍ以上１．４μｍ以下の混合層と、
を有する電子写真感光体用導電性支持体。
【請求項２】
前記混合層の厚さが、０．５μｍ以上１．２μｍ以下である請求項１に記載の電子写真感光体用導電性支持体。
【請求項３】
前記混合層の厚さが、０．５μｍ以上１．０μｍ以下である請求項２に記載の電子写真感光体用導電性支持体。
【請求項４】
前記セラミクスが、ガラス、ジルコニア、及びアルミナから選択される少なくとも１種である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体用導電性支持体。
【請求項５】
前記セラミクスが、ガラスである請求項４に記載の電子写真感光体用導電性支持体。
【請求項６】
電子写真感光体用導電性支持体の厚さが、０．２ｍｍ以上０．６ｍｍ以下である請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の電子写真感光体用導電性支持体。
【請求項７】
請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の電子写真感光体用導電性支持体と、
前記電子写真感光体用導電性支持体上に設けられた感光層と、
を有する電子写真感光体。
【請求項８】
前記感光層が、前記電子写真感光体用導電性支持体上に設けられた電荷発生層と、前記電荷発生層上に設けられ、結着樹脂および電荷輸送材料を含む電荷輸送層とを有する請求項７に記載の電子写真感光体。
【請求項９】
前記電荷輸送層の厚さが、１５μｍ以上３５μｍ以下である請求項８に記載の電子写真感光体。
【請求項１０】
請求項７〜請求項９のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【請求項１１】
請求項７〜請求項９のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体用導電性支持体、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電子写真方式の画像形成装置としては、電子写真感光体を用いて帯電、露光、現像、転写、クリーニング等の工程を順次行う装置が広く知られている。
【０００３】
電子写真感光体としては、アルミニウム等の導電性を有する支持体上に、露光により電荷を発生する電荷発生層と、電荷を輸送する電荷輸送層を積層する機能分離型の感光体、電荷を発生する機能と電荷を輸送する機能を同一の層が果たす単層型感光体が知られている。
【０００４】
例えば、特許文献１には、Ｆｅ０．３〜１．０ｗｔ％、Ｓｉ０．２〜０．８ｗｔ％を含有し、かつ、Ｆｅ／Ｓｉ＜３であり、板面の平均結晶粒径が３５μｍ以下であり、絞り比（ブランク径／パンチ径）２で耳率３％以内であることを特徴とする感光ドラム用アルミニウム板材が開示されている。
【０００５】
また、特許文献２には、感光体基材として、インパクト加工した薄肉円筒管の両端部を切り落として得られた円筒管であり、感光体の回転駆動手段が、感光体基材のインパクト加工時におけるスラグが配置された側とは反対側の端部に設けられている画像形成装置が開示されている。
特許文献３には、感光体の作製において、インパクト加工した薄肉円筒管の両端部を切り落とし、加工時のビレットが配置された側と反対側を把持して表面塗料の浸漬塗布を実施することが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開昭６１−０４４１４８号公報
【特許文献２】特許第３６６１４１６号明細書
【特許文献３】特許第３８７１００３号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
電子写真感光体の作製では、例えば、導電性支持体上に、塗布及び乾燥を経て、感光層を形成する。しかし、電子写真感光体の軸方向の一端部と他端部とで感度の差が生じることがある。
【０００８】
そこで、本発明の課題は、アルミニウムを含む円筒状基材の外周面に、セラミクスとアルミニウムを含む混合層が設けられていない、又は混合層の厚さが０．２μｍ未満である場合に比べ、軸方向の一端部と他端部とで感度の差が少ない電子写真感光体が得られる電子写真感光体用導電性支持体（以下、単に「導電性支持体」とも称する）を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題は、以下の手段により解決される。
【００１０】
請求項１に係る発明は、
アルミニウムを含む円筒状基材と、
前記基材の外周面に設けられ、セラミクスとアルミニウムとを含み、厚さが０．２μｍ以上１．４μｍ以下の混合層と、
を有する電子写真感光体用導電性支持体。
【００１１】
請求項２に係る発明は、
前記混合層の厚さが、０．５μｍ以上１．２μｍ以下である請求項１に記載の電子写真感光体用導電性支持体。
【００１２】
請求項３に係る発明は、
前記混合層の厚さが、０．５μｍ以上１．０μｍ以下である請求項２に記載の電子写真感光体用導電性支持体。
【００１３】
請求項４に係る発明は、
前記セラミクスが、ガラス、ジルコニア、及びアルミナから選択される少なくとも１種である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体用導電性支持体。
【００１４】
請求項５に係る発明は、
前記セラミクスが、ガラスである請求項４に記載の電子写真感光体用導電性支持体。
【００１５】
請求項６に係る発明は、
電子写真感光体用導電性支持体の厚さが、０．２ｍｍ以上０．６ｍｍ以下である請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の電子写真感光体用導電性支持体。
【００１６】
請求項７に係る発明は、
請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の電子写真感光体用導電性支持体と、
前記電子写真感光体用導電性支持体上に設けられた感光層と、
を有する電子写真感光体。
【００１７】
請求項８に係る発明は、
前記感光層が、前記電子写真感光体用導電性支持体上に設けられた電荷発生層と、前記電荷発生層上に設けられ、結着樹脂および電荷輸送材料を含む電荷輸送層とを有する請求項７に記載の電子写真感光体。
【００１８】
請求項９に係る発明は、
前記電荷輸送層の厚さが、１５μｍ以上３５μｍ以下である請求項８に記載の電子写真感光体。
【００１９】
請求項１０に係る発明は、
請求項７〜請求項９のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【００２０】
請求項１１に係る発明は、
請求項７〜請求項９のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の効果】
【００２１】
請求項１に係る発明によれば、アルミニウムを含む円筒状基材の外周面に、セラミクスとアルミニウムを含む混合層が設けられていない、又は混合層の厚さが０．２μｍ未満である場合に比べ、軸方向の一端部と他端部とで感度の差が少ない電子写真感光体が得られる導電性支持体が提供される。
【００２２】
請求項２、又は３に係る発明によれば、混合層の厚さが、０．５μｍ未満である場合に比べ、軸方向の一端部と他端部とで感度の差が少ない電子写真感光体が得られる導電性支持体が提供される。
請求項４、又は５に係る発明によれば、アルミニウムを含む円筒状基材の外周面に、セラミクスとアルミニウムを含む混合層が設けられていない、又は混合層の厚さが０．２μｍ未満である場合に比べ、混合層が、セラミクスとして、ガラス、ジルコニア、及びアルミナから選択される少なくとも１種を含み、軸方向の一端部と他端部とで感度の差が少ない電子写真感光体が得られる導電性支持体が提供される。
請求項６に係る発明によれば、アルミニウムを含む基材の外周面に、セラミクスとアルミニウムを含む混合層が設けられていない、又は混合層の厚さが０．２μｍ未満である場合に比べ、導電性支持体の厚さが０．２ｍｍ以上０．６ｍｍ以下と薄くても、軸方向の一端部と他端部とで感度の差が少ない電子写真感光体が得られる導電性支持体が提供される。
【００２３】
請求項７、又は８に係る発明によれば、アルミニウムを含む円筒状基材の外周面に、セラミクスとアルミニウムを含む混合層が設けられていない、又は混合層の厚さが０．２μｍ未満である導電性支持体を備える場合に比べ、軸方向の一端部と他端部とで感度の差が少ない電子写真感光体が提供される。
請求項９に係る発明によれば、アルミニウムを含む円筒状基材の外周面に、セラミクスとアルミニウムを含む混合層が設けられていない、又は混合層の厚さが０．２μｍ未満である導電性支持体を有する場合に比べ、電荷輸送層の厚さが１５μｍ以上３５μｍ以下と厚膜であっても、軸方向の一端部と他端部とで感度の差が少ない電子写真感光体が提供される。
【００２４】
請求項１０、又は１１に係る発明によれば、アルミニウムを含む円筒状基材の外周面に、セラミクスとアルミニウムを含む混合層が設けられていない、又は混合層の厚さが０．２μｍ未満である導電性支持体を有する電子写真感光体を備える場合に比べ、軸方向の一端部と他端部とで感度の差が少ない電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジ、又は画像形成装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】ブラスト装置の一例を示す概略図である。
【図２】本実施形態に係る電子写真感光体の一例を示す模式断面図である。
【図３】本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
【図４】本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本発明の一例である実施形態について説明する。
【００２７】
［電子写真感光体用導電性支持体］
本実施形態に係る電子写真感光体用導電性支持体は、アルミニウムを含む円筒状基材と、基材の外周面に設けられ、セラミクスとアルミニウムとを含み、厚さが０．２μｍ以上１．４μｍ以下の混合層と、を有する。
【００２８】
電子写真感光体（以下「感光体」とも称する）の作製では、例えば、導電性支持体上に、塗布及び乾燥を経て、感光層（単層型感光層、電荷輸送層等）を形成する。例えば、浸漬塗布を利用して、導電性支持体上に感光層を形成する場合、導電性支持体は、その軸を重力方向に沿うように、塗布液に浸漬された後、引き上げられる。そして、その後、塗膜を乾燥する。そのとき、導電性支持体の軸方向上端部よりも軸方向下端部の塗膜の溶剤の気化が早く、その気化熱で導電性支持体の軸方向下端部が過度に冷えて、結露することがある。その状態で、塗膜の乾燥が進行し、感光層が形成されと、導電性支持体の軸方向下端部側の感光層の感度が、導電性支持体の軸方向上端部側の感光層よりも高くなる。
そのため、電子写真感光体の軸方向の一端部と他端部とで感度の差が生じることがある。
【００２９】
そこで、本実施形態に係る導電性支持体では、基材の外周面に、セラミクスとアルミニウムとを含み、厚さが０．２μｍ以上１．４μｍ以下の混合層を設ける。この厚みで、かつセラミクスを含む混合層（いわゆる、マイグレーション層）は、断熱層として機能する。そのため、感光層の塗布乾燥のときの溶剤の気化により、導電性支持体（その基材）が過度に冷却されることが抑制される。つまり、結露することが抑制される。
【００３０】
そのため、本実施形態に係る導電性支持体は、軸方向の一端部と他端部とで感度の差が少ない電子写真感光体が得られる。
【００３１】
特に、導電性支持体の厚さ（肉厚）及び基材の厚さ（肉厚）が薄いと、導電性支持体の熱容量が小さくなるため、感光層（単層型感光層、電荷輸送層等）の形成時（浸漬塗布及び乾燥時）に、塗膜の溶剤が気化するときの気化熱により導電性支持体の軸方向下端部が過度に冷えて、結露し易くなる。その結果、電子写真感光体の軸方向の一端部と他端部とで感度の差が生じ易くなる。
しかし、本実施形態に係る導電性支持体では、導電性支持体の厚さ（肉厚）及び基材の厚さ（肉厚）が薄くても、断熱層として機能する混合層を設けるため、結露が抑制され、軸方向の一端部と他端部とで感度の差が少ない電子写真感光体が得られる。
【００３２】
この観点から、薄肉の導電性支持体としては、例えば、厚さ（肉厚）０．２5ｍｍ以上０．６ｍｍ以下（好ましくは０．３ｍｍ以上０．５ｍｍ以下、より好ましくは０．３５ｍｍ以上０．４５ｍｍ以下の支持体がよい。
同様に、薄肉の円筒状基材としては、例えば、上記薄肉の導電性支持体の厚さ（肉厚）から混合層の厚さを差し引いた厚さの範囲の基材がよい。
【００３３】
また、形成する感光層（単層型感光層、電荷輸送層等）の厚さが厚いと、感光層（単層型感光層、電荷輸送層等）の形成時（浸漬塗布及び乾燥時）に、塗膜から気化する溶剤量が増え、気化熱も増加する。そのため、気化熱により導電性支持体の軸方向下端部が過度に冷えて、結露し易くなる。その結果、電子写真感光体の軸方向の一端部と他端部とで感度の差が生じ易くなる。
しかし、本実施形態に係る導電性支持体では、感光層（単層型感光層、電荷輸送層等）の厚さが厚くても、結露が抑制され、軸方向の一端部と他端部とで感度の差が少ない電子写真感光体が得られる。
【００３４】
この観点から、電荷輸送層の厚さとしては、１０μｍ以上４５μｍ以下（好ましくは１５μｍ以上３５μｍ以下、より好ましくは２０μｍ以上３０μｍ以下）がよい。
同様に、単層型感光層の厚さとしては、１０μｍ以上５５μｍ以下（好ましくは１５μｍ以上４０μｍ以下、より好ましくは２０μｍ以上３０μｍ以下）がよい。
【００３５】
以下、本実施形態に係る導電性支持体の詳細について説明する。
【００３６】
（円筒状基材）
円筒状基材は、アルミニウムを含む。アルミニウムは、純アルミニウム以外に、アルミニウム合金であってもよい。
アルミニウム合金としては、アルミニウムが主成分である合金であれば特に制限されず、アルミニウムのほかに、例えば、Ｓｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｔｉ等を含むアルミニウム合金が挙げられる。ここで「主成分」とは、合金に含まれる元素の中で最も含有割合（質量基準）が大きい元素をいう。
円筒状基材は、アルミニウム含有率（質量割合）が９０．０％以上の基材が好ましい。アルミニウム含有率は９５．０％以上がより好ましく、９９．０％以上が更に好ましい。
【００３７】
円筒状基材は、例えば、無切削管、切削管、インパクトプレス管のいずれでもよい。
【００３８】
（混合層）
混合層は、セラミクスとアルミニウムとを含有する。具体的には、混合層としては、セラミクスと、円筒状基材の材料との混合層が挙げられる。つまり、混合層には、セラミクス及びアルミニウム以外に、アルミニウム合金に含まれる合金成分（Ｓｉ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｔｉ等）が含まれていてもよい。
なお、混合層は、アルミナ等のアルミ化合物としてアルミニウムを含むのではなく、少なくとも金属Ａｌを含有する混合層を示す。ただし、混合層は、金属Ａｌと共に、アルミナ等のアルミ化合物としてアルミニウムを含む態様も含む。
【００３９】
混合層において、セラミクスとしては、ガラス、ジルコニア、アルミナ、チタニア等が挙げられる。
これらの中でも、ガラス、ジルコニア、及びアルミナから選択される少なくとも１種が好ましく、ガラスが好ましい。
【００４０】
混合層において、セラミクスの含有量は、軸方向の一端部と他端部とで感光体の感度の差を少なくする観点から、混合層に対して６質量％以上４０質量％以下が好ましく、１０質量％以上３５質量％以下がより好ましい。
なお、混合層中には、複数種のセラミクスが含有されていてもよい。
【００４１】
混合層の厚さは、０．２μｍ以上１．４μｍ以下である。混合層の厚さを０．２μｍ以上にすることで、軸方向の一端部と他端部とで感光体の感度の差が少なくなる。一方、混合層の厚さを１．４以下にすることで、感光体の残留電位を低減する。
混合層の厚さは、軸方向の一端部と他端部とで感光体の感度の差、及び残留電位を少なくする観点から、０．５μｍ以上１．２μｍ以下が好ましく、０．５μｍ以上１．０μｍ以下がより好ましく、０．５μｍ以上０．８μｍ以下がさらに好ましい。
【００４２】
（混合層の形成方法）
混合層の形成方法は、ブラスト処理により混合層を形成する方法が一例として挙げられる。具体的には、次の通りである。
【００４３】
まず、ブラスト処理の対象となる「アルミニウムを含む円筒状基材」を準備する。そして、この基材の外周面に対して、混合層中のセラミクスと同じ材質の研磨材（メディア）を使用してブラスト処理を実施する。ブラスト処理を実施することで、基材の外周面に研磨材が衝突したとき、研磨材の成分（セラミクス）が基材の外周面に付着すると共に基材の成分（アルミニウム）が付着物に取り込まれる。そのため、基材の外周面に、セラミクスとアルミニウムとを含む混合層が形成される。
【００４４】
次に、ブラスト処理について説明する。
図１に、ブラスト装置の一例を示す概略図を示す。図１に示すブラスト装置７６は、サンドブラスト装置である。
図１に示すように、ブラスト装置７６は、圧縮空気を供給する圧縮機（コンプレッサー）４１と、研磨材（不図示）を収容する容器（タンク）４２と、タンク４２から供給管４４を経て供給される研磨材及びコンプレッサー４１から供給される圧縮空気を混合する混合部４８と、この混合部４８から研磨材を圧縮空気で噴射して円筒状基材２００に吹き付けるノズル４６と、を備える。
【００４５】
ブラスト処理では、先ず、図１に示されるように、タンク４２に貯蔵されている研磨材（不図示）が供給管４４を経て混合部４８に供給され、混合部４８で研磨材とコンプレッサー４１から供給される圧縮空気とが混合される。次に、混合部４８からノズル４６を経て研磨材が圧縮空気で噴射されて円筒状基材２００に吹き付けられる。これにより、円筒状基材２００の表面が粗面化される。なお、円筒状基材２００の表面を粗面化する際、円筒状基材２００は図示せぬ駆動源から駆動力が伝達されて回転する。
【００４６】
研磨材は、上述のように、混合層中のセラミクスと同じ材質の研磨材を適用する。
研磨材の大きさは、例えば、好ましくは３０μｍ以上３００μｍ以下、より好ましくは６０μｍ以上２５０μｍ以下である。
研磨材の照射圧力は、例えば、好ましくは０．１ＭＰａ以上０．５ＭＰａ以下、より好ましくは０．１５ＭＰａ以上０．４ＭＰａ以下である。
研磨材の照射時間は、例えば、好ましくは５秒以上６０秒以下、より好ましくは５秒以上４５秒以下、さらに好ましくは１０秒以上３０秒以下である。
【００４７】
ここで、研磨材の大きさ、照射時間により、混合層の厚さが制御される。
【００４８】
なお、圧縮空気の供給源は特に限定されず、例えばコンプレッサー４１でなく遠心送風機（ブロア）でもよいし、圧縮空気を使わなくてもよい。また、噴射媒体は空気以外の気体であってもよい。
【００４９】
＜電子写真感光体＞
本実施形態に係る電子写真感光体は、上記本実施形態に係る導電性支持体と、導電性支持体上に設けられた感光層と、を有する。
本実施形態に係る電子写真感光体は、上記本実施形態に係る導電性支持体を有するため、軸方向の一端部と他端部とで感度の差が少ない電子写真感光体となる。
【００５０】
以下、本実施形態に係る電子写真感光体について図面を参照しつつ詳細に説明する。
図２は、本実施形態の電子写真感光体の一例を示す模式断面図である。
【００５１】
図２に示す電子写真感光体７Ａでは、導電性支持体４上に下引層１が設けられ、その上に電荷発生層２、及び電荷輸送層３が順次形成された構造を有するものである。図２に示す電子写真感光体７Ｂは、導電性支持体４上に下引層１が設けられ、その上に、電荷輸送層３、及び電荷発生層２が順次形成された構造を有するものである。
なお、図２に示す電子写真感光体７Ａは、感光層として、電荷発生層２及び電荷輸送層３を有する機能分離型の電子写真感光体の例を示している。
なお、下引層１は必要に応じて設けられる層である。また、下引層１と感光層（電荷発生層２及び電荷輸送層３）との間に中間層を設けてもよい。さらに、電荷輸送層３上に表面保護層を設けてもよい。
【００５２】
以下、代表例として図２に示す電子写真感光体７Ａに基づいて、各要素について説明する。なお、以下、符号を省略して説明する。
【００５３】
（下引層）
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
【００５４】
無機粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ωｃｍ以上１０１１Ωｃｍ以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
【００５５】
無機粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ２／ｇ以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。
【００５６】
無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
【００５７】
無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。
【００５８】
表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。
【００５９】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６０】
シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６１】
表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。
【００６２】
表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。
【００６３】
ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物（アクセプター化合物）を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。
【００６４】
電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物；２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物；等の電子輸送性物質等が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
【００６５】
電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。
【００６６】
電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着させる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。
【００６７】
乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。
【００６８】
湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。
【００６９】
なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。
【００７０】
電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下がよく、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下である。
【００７１】
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。
【００７２】
これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
【００７３】
下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
【００７４】
添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００７５】
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００７６】
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００７７】
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００７８】
これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００７９】
下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／（４ｎ）（ｎは上層の屈折率）から１／２までに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
【００８０】
下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。
【００８１】
下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
【００８２】
下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。
【００８３】
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【００８４】
下引層の膜厚は、例えば、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。
【００８５】
（中間層）
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００８６】
これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。
【００８７】
中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【００８８】
中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。
【００８９】
（電荷発生層）
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含む層である。また、電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着層であってもよい。電荷発生材料の蒸着層は、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）イメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合に好適である。
【００９０】
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料；ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；ペリレン顔料；ピロロピロール顔料；フタロシアニン顔料；酸化亜鉛；三方晶系セレン等が挙げられる。
【００９１】
これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることが好ましい。具体的には、例えば、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン；特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン；特開平５−１４０４７２号公報、特開平５−１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン；特開平４−１８９８７３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより好ましい。
【００９２】
一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；チオインジゴ系顔料；ポルフィラジン化合物；酸化亜鉛；三方晶系セレン；特開２００４−７８１４７号公報、特開２００５−１８１９９２号公報に開示されたビスアゾ顔料等が好ましい。
【００９３】
４５０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下に発光の中心波長があるＬＥＤ，有機ＥＬイメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合にも、上記電荷発生材料を用いてもよいが、解像度の観点より、感光層を２０μｍ以下の薄膜で用いるときには、感光層中の電界強度が高くなり、基体からの電荷注入による帯電低下、いわゆる黒点と呼ばれる画像欠陥を生じやすくなる。これは、三方晶系セレン、フタロシアニン顔料等のｐ−型半導体で暗電流を生じやすい電荷発生材料を用いたときに顕著となる。
【００９４】
これに対し、電荷発生材料として、縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、アゾ顔料等のｎ−型半導体を用いた場合、暗電流を生じ難く、薄膜にしても黒点と呼ばれる画像欠陥を抑制し得る。ｎ−型の電荷発生材料としては、例えば、特開２０１２−１５５２８２号公報の段落［０２８８］〜［０２９１］に記載された化合物（ＣＧ−１）〜（ＣＧ−２７）が挙げられるがこれに限られるものではない。
なお、ｎ−型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをｎ−型とする。
【００９５】
電荷発生層に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、結着樹脂としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ以上であることをいう。
これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。
【００９６】
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、質量比で１０：１から１：１０までの範囲内であることが好ましい。
【００９７】
電荷発生層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【００９８】
電荷発生層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。なお、電荷発生層の形成は、電荷発生材料の蒸着により行ってもよい。電荷発生層の蒸着による形成は、特に、電荷発生材料として縮環芳香族顔料、ペリレン顔料を利用する場合に好適である。
【００９９】
電荷発生層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等が挙げられる。これら溶剤は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いる。
【０１００】
電荷発生層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式等が挙げられる。
なお、この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、更に好ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。
【０１０１】
電荷発生層形成用塗布液を下引層上（又は中間層上）に塗布する方法としては、例えばブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１０２】
電荷発生層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、より好ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１０３】
（電荷輸送層）
電荷輸送層は、例えば、電荷輸送材料と結着樹脂とを含む層である。電荷輸送層は、高分子電荷輸送材料を含む層であってもよい。
【０１０４】
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物；キサントン系化合物；ベンゾフェノン系化合物；シアノビニル系化合物；エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。電荷輸送材料としては、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物も挙げられる。これらの電荷輸送材料は１種を単独で又は２種以上で用いられるが、これらに限定されるものではない。
【０１０５】
電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体が好ましい。
【０１０６】
【化１】
2019061149.tif 000003
【０１０７】
構造式（ａ−１）中、ＡｒＴ１、ＡｒＴ２、及びＡｒＴ３は、各々独立に置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（ＲＴ４）＝Ｃ（ＲＴ５）（ＲＴ６）、又は−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）を示す。ＲＴ４、ＲＴ５、ＲＴ６、ＲＴ７、及びＲＴ８は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
【０１０８】
【化２】
2019061149.tif 000004
【０１０９】
構造式（ａ−２）中、ＲＴ９１及びＲＴ９２は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、又は炭素数１以上５以下のアルコキシ基を示す。ＲＴ１０１、ＲＴ１０２、ＲＴ１１１及びＲＴ１１２は各々独立に、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ（ＲＴ１２）＝Ｃ（ＲＴ１３）（ＲＴ１４）、又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）を示し、ＲＴ１２、ＲＴ１３、ＲＴ１４、ＲＴ１５及びＲＴ１６は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。Ｔｍ１、Ｔｍ２、Ｔｎ１及びＴｎ２は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
【０１１０】
ここで、構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び前記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度の観点で好ましい。
【０１１１】
高分子電荷輸送材料としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報等に開示されているポリエステル系の高分子電荷輸送材は特に好ましい。なお、高分子電荷輸送材料は、単独で使用してよいが、結着樹脂と併用してもよい。
【０１１２】
電荷輸送層に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの中でも、結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂が好適である。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上で用いる。
なお、電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は、質量比で１０：１から１：５までが好ましい。
【０１１３】
電荷輸送層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１１４】
電荷輸送層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
【０１１５】
電荷輸送層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、２−ブタノン等のケトン類；塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類；テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状又は直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
【０１１６】
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１１７】
電荷輸送層の膜厚は、例えば、好ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１１８】
（保護層）
保護層は、必要に応じて感光層上に設けられる。保護層は、例えば、帯電時の感光層の化学的変化を防止したり、感光層の機械的強度をさらに改善する目的で設けられる。
そのため、保護層は、硬化膜（架橋膜）で構成された層を適用することがよい。これら層としては、例えば、下記１）又は２）に示す層が挙げられる。
【０１１９】
１）反応性基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に有する反応性基含有電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり当該反応性基含有電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含む層）
２）非反応性の電荷輸送材料と、電荷輸送性骨格を有さず、反応性基を有する反応性基含有非電荷輸送材料と、を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり、非反応性の電荷輸送材料と、当該反応性基含有非電荷輸送材料の重合体又は架橋体と、を含む層）
【０１２０】
反応性基含有電荷輸送材料の反応性基としては、連鎖重合性基、エポキシ基、−ＯＨ、−ＯＲ［但し、Ｒはアルキル基を示す］、−ＮＨ２、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳｉＲＱ１３−Ｑｎ（ＯＲＱ２）Ｑｎ［但し、ＲＱ１は水素原子、アルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表し、ＲＱ２は水素原子、アルキル基、トリアルキルシリル基を表す。Ｑｎは１〜３の整数を表す］等の周知の反応性基が挙げられる。
【０１２１】
連鎖重合性基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基である。具体的には、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、スチリル基（ビニルフェニル基）、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基等が挙げられる。なかでも、その反応性に優れることから、連鎖重合性基としては、ビニル基、スチリル基（ビニルフェニル基）、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基であることが好ましい。
【０１２２】
反応性基含有電荷輸送材料の電荷輸送性骨格としては、電子写真感光体における公知の構造であれば特に限定されるものではなく、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が好ましい。
【０１２３】
これら反応性基及び電荷輸送性骨格を有する反応性基含有電荷輸送材料、非反応性の電荷輸送材料、反応性基含有非電荷輸送材料は、周知の材料から選択すればよい。
【０１２４】
保護層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１２５】
保護層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた保護層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱等の硬化処理することで行う。
【０１２６】
保護層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル等のセロソルブ系溶剤；イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
なお、保護層形成用塗布液は、無溶剤の塗布液であってもよい。
【０１２７】
保護層形成用塗布液を感光層（例えば電荷輸送層）上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１２８】
保護層の膜厚は、例えば、好ましくは１μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上１０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１２９】
（単層型感光層）
単層型感光層（電荷発生／電荷輸送層）は、例えば、電荷発生材料と電荷輸送材料と、必要に応じて、結着樹脂、及びその他周知の添加剤と、を含む層である。なお、これら材料は、電荷発生層及び電荷輸送層で説明した材料と同様である。
そして、単層型感光層中、電荷発生材料の含有量は、全固形分に対して０．１質量％以上１０質量％以下がよく、好ましくは０．８質量％以上５質量％以下である。また、単層型感光層中、電荷輸送材料の含有量は、全固形分に対して５質量％以上５０質量％以下がよい。
単層型感光層の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法と同様である。
単層型感光層の膜厚は、例えば、５μｍ以上５０μｍ以下がよく、好ましくは１０μｍ以上４０μｍ以下である。
【０１３０】
［画像形成装置（及びプロセスカートリッジ）］
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記本実施形態に係る電子写真感光体が適用される。
【０１３１】
本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー像の転写後、帯電前の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置；トナー像の転写後、帯電前に電子写真感光体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置；電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。
【０１３２】
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。
【０１３３】
本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式（液体現像剤を利用した現像方式）の画像形成装置のいずれであってもよい。
【０１３４】
なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して着脱されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。
【０１３５】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。
【０１３６】
図３は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図３に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。
【０１３７】
図３におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材の一例）１３１を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード１３１の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード１３１と併用してもよい。
【０１３８】
なお、図３には、画像形成装置として、潤滑材１４を電子写真感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、及び、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。
【０１３９】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。
【０１４０】
−帯電装置−
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
【０１４１】
−露光装置−
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
【０１４２】
−現像装置−
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
【０１４３】
現像装置１１に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。
【０１４４】
−クリーニング装置−
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
【０１４５】
−転写装置−
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０１４６】
−中間転写体−
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
【０１４７】
図４は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図４に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【実施例】
【０１４８】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りがない限り、「部」は、「質量部」を意味する。
【０１４９】
＜導電性支持体の作製＞
（導電性支持体（１）の作製）
引き抜き加工により、円筒管のアルミニウム製の無切削管（肉厚０．２ｍｍ）を準備した。
次いで以下の条件で切削管の表面にブラスト処理を施し、アルミニウム製の導電性支持体（１）を作製した。
ブラスト処理条件  研磨材（メディア）の材質：ガラス（ソーダガラス）、研磨材のサイズ：６０μｍ、研磨材の照射圧力：０．１５ＭＰａ、研磨材の照射時間：３０秒
【０１５０】
（導電性支持体（２）〜（１１）の作製）
導電性支持体（１）の作製において、表１〜表２に従って、無切削管の肉厚、ブラスト処理条件（研磨剤の材質、研磨材のサイズ、研磨材の照射圧力及び研磨材の照射時間）を変更した以外は、導電性支持体（１）と同様にして、導電性支持体（２）〜（１１）を作製した。
【０１５１】
＜実施例１＞
酸化亜鉛（商品名：ＭＺ  ３００、テイカ社製）１００質量部、シランカップリング剤としてＮ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシランの１０質量％のトルエン溶液を１０質量部、トルエン２００質量部を混合して攪拌を行い、２時間還流を行った。その後１０ｍｍＨｇにてトルエンを減圧留去し、１３５℃で２時間焼き付けて、シランカップリング剤による酸化亜鉛の表面処理を行った。
表面処理した酸化亜鉛：３３質量部、ブロック化イソシアネート（商品名：スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）：６質量部、下記構造式（ＡＫ−１）で示される化合物：１質量部、メチルエチルケトン：２５質量部を３０分間混合し、その後ブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＭ−１、積水化学工業社製）：５質量部、シリコーンボール（商品名：トスパール１２０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）：３質量部、レベリング剤としてシリコーンオイル（商品名：ＳＨ２９ＰＡ、東レダウコーニングシリコーン社製）：０．０１質量部を添加し、サンドミルにて３時間の分散を行い、下引層形成用塗布液を得た。
さらに、浸漬塗布法にて、下引層形成用塗布液を、導電性支持体（１）上に塗布し、１８０℃、３０分の乾燥硬化を行い、膜厚３０μｍの下引層を得た。
【０１５２】
【化３】
2019061149.tif 000005
【０１５３】
次に、電荷発生材料としてのヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料「ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するＶ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料（６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおける最大ピーク波長＝８２０ｎｍ、平均粒径＝０．１２μｍ、最大粒径＝０．２μｍ、比表面積値＝６０ｍ２／ｇ）」、結着樹脂としての塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（商品名：ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）、およびｎ−酢酸ブチルからなる混合物を、容量１００ｍＬガラス瓶中に、充填率５０％で１．０ｍｍφガラスビーズと共に入れて、ペイントシェーカーを用いて２．５時間分散処理し、電荷発生層用塗布液を得た。ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料と塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂の混合物に対して、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の含有量を５５．０体積％とし、分散液の固形分は６．０質量％とした。含有量は、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の比重を１．６０６ｇ／ｃｍ３、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂の比重１．３５ｇ／ｃｍ３をとして計算した。
得られた電荷発生層形成用塗布液を、下引層上に浸漬塗布し、１３０℃で５分間乾燥して、膜厚０．２０μｍの電荷発生層を形成した。
【０１５４】
次に、電荷輸送材料として、ブタジエン系電荷輸送材料（ＣＴ１Ａ）８質量部と、ベンジジン系電荷輸送材料（ＣＴ２Ａ）３２質量部と、結着樹脂として、ビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（ビスフェノールＺの単独重合型ポリカーボネート樹脂、粘度平均分子量４万）５８質量部と、酸化防止剤として、ヒンダードフェノール系酸化防止剤（ＨＰ−１、分子量７７５）２質量部（全電荷輸送材料合計量１００質量％に対して５質量％）とを、テトラヒドロフラン３４０質量部に加えて溶解し、電荷輸送層形成用塗布液を得た。
得られた電荷輸送層形成用塗布液を、電荷発生層上に浸漬塗布し、１４５℃、３０分の乾燥を行うことにより、膜厚３０μｍの電荷輸送層を形成した。
【０１５５】
以上の工程を経て、感光体を作製した。
【０１５６】
＜実施例２〜９、比較例１〜２＞
表１〜表２に従って、導電性支持体の種類、電荷輸送層の膜厚（厚さ）を変更した以外は、実施例１と同様にして、感光体を作製した。
【０１５７】
＜電気特性評価＞
得られた感光体の上下端から４０ｍｍ位置を電位測定器により７８０ｎｍの波長かつ、２．０ｍＪ／ｃｍ２の露光強度の光に暴露後、７３ｍｓ後に感光体の表面電位を測定し、上下の電位差を電位ムラ△Ｖとした。△Ｖが１０以下であることが好ましい。
また、感光体の上下端から１２５ｍｍ位置を電位測定器により７８０ｎｍの波長かつ、６．０ｍＪ／ｃｍ２の露光強度の光に暴露後、７３ｍｓ後に感光体の表面電位を測定した電位を残留電位Ｒｐとした。Ｒｐが６以下であることが好ましい。
【０１５８】
【表１】
2019061149.tif 000006
【０１５９】
【表２】
2019061149.tif 000007
【０１６０】
上記結果から、本実施例の感光体は、比較例の感光体に比べ、上下の電位差を電位ムラ△Ｖが少ない、つまり、軸方向の一端部と他端部とで感度の差が少ないことがわかる。
また、本実施例の感光体は、残留電位も低減されていることがわかる。
【０１６１】
なお、電荷輸送層の形成に用いた電荷輸送材料、及び酸化防止剤の詳細は以下の通りである。
・ブタジエン系電荷輸送材料：下記構造式で示される化合物（ＣＴ１Ａ）
・ベンジジン系電荷輸送材料：下記構造式で示される化合物（ＣＴ２Ａ）
・ヒンダードフェノール系酸化防止剤：下記構造式で示される化合物（ＨＰ−１）
【０１６２】
【化４】
2019061149.tif 000008
【０１６３】
【化５】
2019061149.tif 000009
【０１６４】
【化６】
2019061149.tif 000010
【符号の説明】
【０１６５】
１  下引層、２  電荷発生層、３  電荷輸送層、４  導電性支持体、７Ａ，７  電子写真感光体、７６  ブラスト装置、８  帯電ロール、９  露光装置、１１  現像装置、１３  クリーニング装置、１４  潤滑材、４０  転写装置、５０  中間転写体、１００  画像形成装置、１２０  画像形成装置、１３１  クリーニングブレード、１３２  繊維状部材、１３３  繊維状部材、３００  プロセスカートリッジ
【図１】
2019061149.tif 000011
【図２】
2019061149.tif 000012
【図３】
2019061149.tif 000013
【図４】
2019061149.tif 000014