(57)【要約】【課題】複層膜のひび割れ追従性を定量的に評価する方法を提供する。【解決手段】複層膜２のひび割れ追従性を評価する方法は、下層膜３が有するひび割れ追従性（ＺＮ）と複層膜２に要求されるひび割れ追従性（ＺＸ）とを比較するステップＳ２０と、ひび割れ追従性（ＺＮ）がひび割れ追従性（ＺＸ）より大きいとき、複層膜２が有するひび割れ追従性（ＺＦ）とひび割れ追従性（ＺＮ）とを比較するステップＳ３０と、を有する。【選択図】図２
2019109202.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上において高分子材料によって形成された第１膜部と、前記第１膜部上において高分子材料によって形成された第２膜部と、を有する複層膜のひび割れ追従性を評価する方法であって、
前記第１膜部が有するひび割れ追従性（ＺＮ）と前記複層膜に要求されるひび割れ追従性（ＺＸ）とを比較し、前記ひび割れ追従性（ＺＮ）が前記ひび割れ追従性（ＺＸ）より小さい場合に、前記第１膜部に起因して前記複層膜が前記ひび割れ追従性（ＺＸ）を満足しないと判定し、又は、前記ひび割れ追従性（ＺＮ）が前記ひび割れ追従性（ＺＸ）より大きい場合に、第２判定ステップに移行する第１判定ステップと、
前記ひび割れ追従性（ＺＮ）が前記ひび割れ追従性（ＺＸ）より大きいとき、前記複層膜が有するひび割れ追従性（ＺＦ）と前記ひび割れ追従性（ＺＮ）とを比較し、前記ひび割れ追従性（ＺＦ）が前記ひび割れ追従性（ＺＮ）より小さい場合に、前記第２膜部に起因して前記ひび割れ追従性（ＺＦ）が前記ひび割れ追従性（ＺＸ）を満足しないと判定し、又は、前記ひび割れ追従性（ＺＦ）が前記ひび割れ追従性（ＺＮ）以上である場合に、前記ひび割れ追従性（ＺＦ）は前記ひび割れ追従性（ＺＸ）を満足すると判定する第２判定ステップと、を有する複層膜のひび割れ追従性を評価する方法。
【請求項２】
前記第２判定ステップは、
前記ひび割れ追従性（ＺＮ）を利用して、前記第２膜部に要求される伸び率（ＥＴＸ）を得るステップと、
前記第２膜部が有する伸び率（ＥＴ）を得るステップと、
前記伸び率（ＥＴ）と前記伸び率（ＥＴＸ）とを比較し、前記伸び率（ＥＴ）が前記伸び率（ＥＴＸ）より小さい場合に、前記ひび割れ追従性（ＺＦ）が前記ひび割れ追従性（ＺＮ）より小さいと判定し、又は、前記伸び率（ＥＴ）が前記伸び率（ＥＴＸ）より大きい場合に、前記ひび割れ追従性（ＺＦ）が前記ひび割れ追従性（ＺＮ）以上であると判定する第３判定ステップと、を有する、請求項１に記載の複層膜のひび割れ追従性を評価する方法。
【請求項３】
前記第１判定ステップの前に、前記第１膜部が有するひび割れ追従性（ＺＮ）を得る第１測定ステップと、
前記第１判定ステップにおいて、前記第１膜部に起因して前記複層膜が前記ひび割れ追従性（ＺＸ）を満たさないと判定されたとき、前記第１膜部を改修すると判定する第１改修判定ステップと、
前記第２判定ステップにおいて、前記第２膜部に起因して前記ひび割れ追従性（ＺＦ）が前記ひび割れ追従性（ＺＸ）を満足しないと判定されたとき、前記第２膜部を改修すると判定する第２改修判定ステップと、をさらに有する、請求項２に記載の複層膜のひび割れ追従性を評価する方法。
【請求項４】
前記第１判定ステップの前に、前記複層膜が有するひび割れ追従性（ＺＦ）を設定する第１設定ステップをさらに有し、
前記ひび割れ追従性（ＺＮ）が前記ひび割れ追従性（ＺＸ）より大きくなる条件を満たすまで、前記第１設定ステップにおいて設定される前記ひび割れ追従性（ＺＦ）を変更しながら、前記第１設定ステップと前記第１判定ステップとを繰り返し、
前記伸び率（ＥＴ）を得るステップでは、前記伸び率（ＥＴ）を前記伸び率（ＥＴＸ）以上となる値に設定する、請求項２に記載の複層膜のひび割れ追従性を評価する方法。
【請求項５】
前記第１測定ステップでは、ナノインデンターを用いて得た実測値を利用して、前記第１膜部における前記ひび割れ追従性（ＺＮ）を得る、請求項３に記載の複層膜のひび割れ追従性を評価する方法。
【請求項６】
前記第１測定ステップでは、
前記第１膜部における前記ひび割れ追従性（ＺＮ）は、前記第１膜部の厚み（ＴＮ）が大きいほど大きくなるという関係と、前記ひび割れ追従性（ＺＮ）と前記第１膜部の厚み（ＴＮ）との関係は、前記第１膜部の伸び率（ＥＮ）から得られる膜厚係数（ΔＴ）によって示されるという関係と、を利用して、前記ナノインデンターを用いて得た実測値を、前記ひび割れ追従性（ＺＮ）に換算する、請求項５に記載の複層膜のひび割れ追従性を評価する方法。
【請求項７】
前記第１測定ステップは、
前記ナノインデンターを用いて前記第１膜部における実測値を得るステップと、
前記実測値を前記伸び率（ＥＮ）に換算するステップと、
前記伸び率（ＥＮ）を用いて、前記膜厚係数（ΔＴ）を得るステップと、
前記第１膜部の厚み（ＴＮ）を得るステップと、
前記膜厚係数（ΔＴ）及び前記第１膜部の厚み（ＴＮ）を利用して、前記ひび割れ追従性（ＺＮ）を得るステップと、を有する、請求項６に記載の複層膜のひび割れ追従性を評価する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複層膜のひび割れ追従性を評価する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
非特許文献１は、伸長形仕上塗材の総合的耐久性能に関する技術を開示する。具体的には、非特許文献１は、主材として伸長形仕上塗材の上にトップコートとして伸長形仕上塗料を塗った試験体を準備し、種々の環境に曝した後に、引張試験を行うことにより、伸長形仕上塗材の総合的耐久性能を確認した結果を示す。非特許文献１では、主材（中塗）とトップコート（上塗）とを有する複層塗膜の性能として伸び率性能（ひび割れ追従性）を用いる。非特許文献１は、複層塗膜のひび割れ追従性には、上塗が影響を及ぼすことを示唆する。特に、上塗の柔軟性が中塗の柔軟性に対して小さい場合に、中塗のみよりも小さいひび割れで複層塗膜のひび割れや上塗のひび割れが生じる可能性を指摘する。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００３】
【非特許文献１】井上照郷 他、「耐久性能試験方法に関する研究（その２９）伸長形複層仕上塗材の耐久性能に及ぼす熱の影響」、日本建築学会大会学術講演梗概集、日本、日本建築学会、昭和６１年８月、３５５〜３５６ページ。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記の非特許文献１は、要するに、複層塗膜の性能が上塗の性能の影響を受けるという定性的な関係を示すにとどまる。従って、当該分野においては、複層膜の性能を定量的に評価する方法が望まれていた。
【０００５】
そこで、本発明は、複層膜のひび割れ追従性を定量的に評価する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一形態は、基材上において高分子材料によって形成された第１膜部と、第１膜部上において高分子材料によって形成された第２膜部と、を有する複層膜のひび割れ追従性を評価する方法であって、第１膜部が有するひび割れ追従性（ＺＮ）と複層膜に要求されるひび割れ追従性（ＺＸ）とを比較し、ひび割れ追従性（ＺＮ）がひび割れ追従性（ＺＸ）より小さい場合に、第１膜部に起因して複層膜がひび割れ追従性（ＺＸ）を満足しないと判定し、又は、ひび割れ追従性（ＺＮ）がひび割れ追従性（ＺＸ）より大きい場合に、第２判定ステップに移行する第１判定ステップと、ひび割れ追従性（ＺＮ）がひび割れ追従性（ＺＸ）より大きいとき、複層膜が有するひび割れ追従性（ＺＦ）とひび割れ追従性（ＺＮ）とを比較し、ひび割れ追従性（ＺＦ）がひび割れ追従性（ＺＮ）より小さい場合に、第２膜部に起因してひび割れ追従性（ＺＦ）がひび割れ追従性（ＺＸ）を満足しないと判定し、又は、ひび割れ追従性（ＺＦ）がひび割れ追従性（ＺＮ）以上である場合に、ひび割れ追従性（ＺＦ）はひび割れ追従性（ＺＸ）を満足すると判定する第２判定ステップと、を有する。
【０００７】
この方法では、第１膜部が有するひび割れ追従性（ＺＮ）と複層膜に要求されるひび割れ追従性（ＺＸ）とを定量的に比較することにより、第１膜部に関する評価を行う。さらに、複層膜のひび割れ追従性（ＺＦ）と第１膜部のひび割れ追従性（ＺＮ）とを定量的に比較する。従って、複層膜のひび割れ追従性を定量的に評価することができる。
【０００８】
一形態において、第２判定ステップは、ひび割れ追従性（ＺＮ）を利用して、第２膜部に要求される伸び率（ＥＴＸ）を得るステップと、第２膜部が有する伸び率（ＥＴ）を得るステップと、伸び率（ＥＴ）と伸び率（ＥＴＸ）とを比較し、伸び率（ＥＴ）が伸び率（ＥＴＸ）より小さい場合に、ひび割れ追従性（ＺＦ）がひび割れ追従性（ＺＮ）より小さいと判定し、又は、伸び率（ＥＴ）が伸び率（ＥＴＸ）より大きい場合に、ひび割れ追従性（ＺＦ）がひび割れ追従性（ＺＮ）以上であると判定する第３判定ステップと、を有してもよい。
【０００９】
この形態によれば、第２判定ステップにおけるひび割れ追従性（ＺＦ）とひび割れ追従性（ＺＮ）との比較を、良好且つ定量的に行うことができる。
【００１０】
一形態において、複層膜のひび割れ追従性を評価する方法は、第１判定ステップの前に、前記第１膜部が有するひび割れ追従性（ＺＮ）を測定によって得る第１測定ステップと、第１判定ステップにおいて、第１膜部に起因して複層膜がひび割れ追従性（ＺＸ）を満たさないと判定されたとき、第１膜部を改修すると判定する第１改修判定ステップと、第２判定ステップにおいて、第２膜部に起因してひび割れ追従性（ＺＦ）がひび割れ追従性（ＺＸ）を満足しないと判定されたとき、第２膜部を改修すると判定する第２改修判定ステップと、をさらに有してもよい。
【００１１】
この形態によれば、複層膜に要求されるひび割れ追従性（ＺＦ）を満足しない要因が、第１膜部であるか、第２膜部であるかを定量的に判断することができる。
【００１２】
一形態において、複層膜のひび割れ追従性を評価する方法は、第１判定ステップの前に、前記複層膜が有するひび割れ追従性（ＺＦ）を設定する第１設定ステップをさらに有し、ひび割れ追従性（ＺＮ）がひび割れ追従性（ＺＸ）より大きくなる条件を満たすまで、第１設定ステップにおいて設定されるひび割れ追従性を変更しながら、第１設定ステップと第１判定ステップとを繰り返し、伸び率（ＥＴ）を得るステップでは、伸び率（ＥＴ）を伸び率（ＥＴＸ）以上となる値に設定してもよい。
【００１３】
この形態によれば、複層膜に要求されるひび割れ追従性（ＺＦ）を満足し得る第１膜部のひび割れ追従性（ＺＮ）と、第２膜部の伸び率（ＥＴ）とを定量的に設定することができる。
【００１４】
一形態において、第１測定ステップでは、ナノインデンターを用いて得た実測値を利用して、第１膜部におけるひび割れ追従性（ＺＮ）を得てもよい。ナノインデンターを用いた測定は、容易に行うことができる。従って、ひび割れ追従性（ＺＮ）を簡易に得ることができる。
【００１５】
一形態において、第１測定ステップでは、第１膜部におけるひび割れ追従性（ＺＮ）は、第１膜部の厚み（ＴＮ）が大きいほど大きくなるという関係と、ひび割れ追従性（ＺＮ）と第１膜部の厚み（ＴＮ）との関係は、第１膜部の伸び率（ＥＮ）から得られる膜厚係数（ΔＴ）によって示されるという関係と、を利用して、ナノインデンターを用いて得た実測値を、ひび割れ追従性（ＺＮ）に換算してもよい。この形態によれば、ナノインデンターにより得た実測値を用いてひび割れ追従性（ＺＮ）を好適に算出することができる。
【００１６】
一形態において、第１測定ステップは、ナノインデンターを用いて第１膜部における実測値を得るステップと、実測値を伸び率（ＥＮ）に換算するステップと、伸び率（ＥＮ）を用いて、膜厚係数（ΔＴ）を得るステップと、第１膜部の厚み（ＴＮ）を得るステップと、膜厚係数（ΔＴ）及び第１膜部の厚み（ＴＮ）を利用して、ひび割れ追従性（ＺＮ）を得るステップと、を有してもよい。これらのステップによれば、ナノインデンターにより得た実測値を利用してひび割れ追従性（ＺＮ）を好適に導くことができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、複層膜のひび割れ追従性を定量的に評価することが可能な方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】図１は、複層膜を示す断面図である。
【図２】図２は、第１実施形態に係る評価方法を示すフロー図である。
【図３】図３は、第２実施形態に係る評価方法を示すフロー図である。
【図４】図４は、実験例１及び実験例２に係る結果をまとめた表である。
【図５】図５は、実験例１に係る結果を示すグラフである。
【図６】図６は、実験例２に係る結果を示すグラフである。
【図７】図７は、実験例３及び実験例４に係る結果をまとめた表である。
【図８】図８は、実験例３に係る結果を示すグラフである。
【図９】図９は、実験例４に係る結果を示すグラフである。
【図１０】図１０は、実験例５に係る結果をまとめた表である。
【図１１】図１１は、実験例５に係る結果を示すグラフである。
【図１２】図１２は、実験例６に係る結果をまとめた表である。
【図１３】図１３の（ａ）部及び図１３の（ｂ）部は、実験例６に係る結果を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、添付図面を参照しながら本発明を実施するための形態を詳細に説明する。図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
【００２０】
まず、本実施形態に係る複層膜のひび割れ追従性を評価する方法（以下、単に「評価方法」ともいう）によって評価される対象について説明する。そして、第１実施形態として、複層膜の改修工事に評価方法を適用する例を説明する。さらに、第２実施形態として、複層膜の設計に評価方法を適用する例を説明する。そして、いくつかの実験例１〜６を説明する。
【００２１】
本実施形態でいう「ひび割れ追従性」とは、以下の規格に示された試験方法に基づいて得られる数値である。当該規格によれば「ひび割れ追従性」とは、塗膜に貫通穴が生じた際の伸び量とする。ここでは、複層膜２に貫通穴が生じるか、上層膜４にひび割れ・穴が生じるまでの伸び量とした。ひび割れ追従性の評価値は、伸び量（ｍｍ）によって示される。
・日本建築学会、ポリマーセメント系塗膜防水工事施工指針（案）・同解説、参考資料２ ポリマーセメント系塗膜防水材の品質試験方法、4．ゼロスパンテンション伸び量試験。
【００２２】
＜評価対象物＞
複層膜のひび割れ追従性を評価する方法によって評価される対象は、建物に用いられる複層膜である。複層膜（例えば、塗膜）は、コンクリート、パネル等の下地を覆う。複層膜構造は、下層膜（例えば、中塗）と上層膜（例えば、上塗）とを有する。コンクリートやパネルの上に用いられる有機系塗膜は、下地のひび割れや接合部の挙動によりひび割れが生じることがある。ひび割れは、美観の低下や内部躯体の保護能力の低下、あるいは漏水を引き超す可能性を生むので、その発生を抑制する必要がある。そこで、外装塗膜や塗膜防水（複層膜）は、ひび割れ追従性の確保を目的とした仕上塗材などの０．１ｍｍ〜３ｍｍ程度の厚み及び柔軟性を有する中塗（下層膜）と、耐候性、美観性、耐汚染性を目的とした塗料により形成された０．０３ｍｍ〜０．１ｍｍ程度の薄い上塗（上層膜）とを含む。
【００２３】
図１は、複層膜のひび割れ追従性を評価する方法によって評価される対象であるサンプル１の断面を示す。サンプル１は、改修工事の対象となる建物の壁や床の一部を切り出したものである。サンプル１は、例えば、１辺の長さを１ｃｍ以上２ｃｍ以下とする平面視略正方形状をなしている。サンプル１は複層膜２を有する。複層膜２は、下層膜３（第１膜部）と、上層膜４（第２膜部）と、を有する。複層膜２は、下記の規格に示されている材料、及び、これらに類する材料によって形成され、建築資材として利用される高分子材料によって形成される。例えば、塗膜、シート等である。
・ＪＩＳ―Ａ―６９０９「建築用仕上塗材」。
・ＪＩＳ―Ａ―６０２１「建築用塗膜防水材」。
・ＪＩＳ―Ｋ―５６５８「建築用耐候性上塗り塗料」。
・ＪＡＳＳ（日本建築学会 建築工事標準仕様書：Ｊａｐａｎｅｓｅ Ａｒｃｈｉｔｅｃｔｕｒａｌ Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｓｐｅｃｉｆｉｃａｔｉｏｎ）―８「防水工事」。
【００２４】
下層膜３は、下地５（基材）上に形成される。上層膜４は、下層膜３上に形成される。サンプル１において、上層膜４は、下層膜３上における一部に設けられる。つまり、サンプル１においては、上層膜４の一部が下層膜３から剥がされる。この一部とは、例えば、平面視における下層膜３の面積の半分程度である。すなわち、複層膜２において、下層膜３の一部が露出する。下地５は、例えば、コンクリートによって形成される。
【００２５】
下層膜３の厚み（ＴＮ）は、複層膜２の積層方向における長さである。下層膜３の厚み（ＴＮ）は、例えば、０．２５ｍｍ以上３．０ｍｍ以下であってもよい。下層膜３の厚み（ＴＮ）は、１．０ｍｍであってもよい。上層膜４の厚み（ＴＵ）は、複層膜２の積層方向における長さである。上層膜４の厚み（ＴＵ）は、例えば、０．０５ｍｍ以上０．１ｍｍ以下であってもよい。上層膜４の厚み（ＴＵ）は、０．１ｍｍであってもよい。なお、厚み（ＴＮ），（ＴＵ）は上記の数値範囲に限定されない。
【００２６】
下層膜３には、以下の規格に示された塗材並びにこれらに類する塗材を適用してよい。
・ＪＩＳ―Ａ―６９０９「建築用仕上塗材」。
・ＪＩＳ―Ａ―６０２１「建築用塗膜防水材」。
・ＪＩＳ−Ａ−６９１６「建築用下地調整塗材」。
・ポリマーセメント系塗膜防水材。
【００２７】
上層膜４には、以下の規格に示された塗材及びこれに類する塗材を適用してよい。
・ＪＩＳ―Ｋ―５６５８「建築用耐候性上塗り塗料」。
【００２８】
＜第１実施形態＞
以下、複層膜のひび割れ追従性を評価する方法（以下「評価方法」ともいう）について説明する。ここでいう「評価」とは、複層膜２に対して所定のひび割れ追従性が要求されたとき、下層膜３のひび割れ追従性の影響を受けた複層膜２のひび割れ追従性が要求値を満足するか否かを判断することである。さらに、上層膜４のひび割れ追従性の影響を受けた複層膜２のひび割れ追従性が要求値を満足するか否かを判断することである。つまり、下層膜３及び上層膜４のひび割れ追従性に基づいて、複層膜２のひび割れ追従性が要求値を満足するか否かを定量的に判断する。また、「評価」とは、下層膜３及び上層膜４のひび割れ追従性が要求値を満足し得るものであるか否かを判断することともいえる。
【００２９】
いま、既設の建物の床や壁といった面に複層膜２が形成されていたとする。これらの複層膜２は、時間が経過するごとに劣化する。従って、定期的に劣化の度合いを確認すると共に、必要に応じて改修を行う。ここで、劣化の度合いは、ひび割れ追従性を用いて確認する。そして、複層膜２のひび割れ追従性が要求値を満たさないとき、改修が必要であると判定される。複層膜２のひび割れ追従性が要求値を満たさない場合、その要因としては以下の３つが想定できる。第１要因として、複層膜２の劣化が下層膜３のひび割れ追従性の劣化に起因することが挙げられる。第２要因として、複層膜２の劣化が上層膜４のひび割れ追従性の劣化に起因することが挙げられる。第３要因として、複層膜２の劣化が下層膜３及び上層膜４の両方のひび割れ追従性の劣化に起因することが挙げられる。
【００３０】
また、ひび割れ追従性を評価するひび割れ追従性試験は専用の試験体が必要である。従って、既設の建物の床や壁にすでに施工された複層膜２のひび割れ評価することは、一般に困難である。
【００３１】
例えば、複層膜２の劣化の要因が上層膜４の劣化に起因するものである場合（第２要因）、改修は上層膜４のみ行えば、改修後の複層膜２は要求値を満たし得る。従って、複層膜２の劣化の要因が上層膜４又は下層膜３のいずれであるかを判別できれば、不要な改修作業を行う必要がなくなる。
【００３２】
そこで、複層膜２の劣化の要因が上層膜４又は下層膜３のいずれであるかの判別に、複層膜のひび割れ追従性を評価する方法を適用する。
【００３３】
図２は、複層膜２の劣化の要因が上層膜４又は下層膜３のいずれであるかを判別し、いずれの膜を改修すべきかの決定を支援するために、評価方法を用いる例を示すフロー図である。このフローは、要求値設定ステップ（ステップＳ１）と、下層膜ひび割れ追従性取得ステップ（ステップＳ１０）（第１測定ステップ）と、第１評価ステップ（ステップＳ２０）と、第１改修判定ステップ（ステップＳ２１）と、第２評価ステップ（ステップＳ３０）と、第２改修判定ステップ（ステップＳ３４）、第３改修判定ステップ（ステップＳ３５）と、を有する。
【００３４】
〔要求値設定ステップ〕
ステップＳ１では、複層膜２に要求されるひび割れ追従性（ＺＸ）を設定する。ひび割れ追従性（ＺＸ）は、複層膜２が構成された建物の箇所、経過年数などに基づいて適宜設定される。また、ひび割れ追従性（ＺＸ）は、実際の壁面で想定されるひび割れ幅に対して、安全率を見込んでもよい。これは、実際の壁面では、ひび割れ幅が一定でないこと、ひび割れ幅が変動し、繰り返しによる効果が生じること、温度に起因する複層膜２の物性値変動、複層膜２の施工誤差を考慮するためである。
【００３５】
〔下層膜ひび割れ追従性取得ステップ〕
次に、ステップＳ１０において、下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）を得る。ステップＳ１０は、ナノインデンターを用いて下層膜３を実測するステップＳ１１と、媒介変数（ＮＮ）を得るステップＳ１２と、伸び率（ＥＮ）を得るステップＳ１３と、ひび割れ追従性の標準値（ＺＮ０）を得るステップＳ１４と、厚み（ＴＮ）を実測するステップＳ１５と、膜厚係数（ΔＴ）を得るステップＳ１６と、ひび割れ追従性（ＺＮ）を得るステップＳ１７と、を有する。
【００３６】
ステップＳ１１では、まず、ナノインデンターを用いて下層膜３を実測する。具体的には、下層膜３に対して、圧子６（図１参照）を押し当てることにより、いくつかの実測値を得る。この実測値には、例えば、マルテンス硬さ（ＨＭ）、押し込みクリープ（ＣＩＴ）、押し込み硬さ（ＨＩＴ）、くぼみの弾性戻り変形仕事（Ｗｅｌａｓｔ）などが挙げられる。そして、これら実測値を換算することにより、ひび割れ追従性（ＺＮ）を得る。
【００３７】
ここで、ナノインデンターとは、ナノインデンテーション試験に用いられる装置をいう。ナノインデンターに関する測定方法、及び材料パラメータは、以下の規格に準拠する。
・ＩＳＯ１４５７７−１「ＭＥＴａｌｌｉｃｍａｔｅｒｉａｌｓ−ＩｎｓｔｒｕｍＥＴｔｅｄ ｉｎｄＥＴｔａｔｉｏｎ ｔｅｓｔ ｆｏｒ ｈａｒｄｎｅｓｓ ａｎｄ ｍａｔｅｒｉａｌｓ ｐａｒａｍＥＴｅｒｓ−」。
【００３８】
本実施形態では、ステップＳ１１の結果として、下層膜３のマルテンス硬さ（ＨＭ）及び押込みクリープ（ＣＩＴ）を得る。ナノインデンターによる実測は、バーコビッチ圧子である圧子６（図１参照）を、下層膜３の表面に押し当てる。この押し当てにあっては、圧子６を下層膜３に押し込む深さ（最大押し込み深さ）を制御する。さらに、下層膜３の測定にあっては、下層膜３の材料パラメータが下地５からの影響を受けないようにする。そのために、圧子６の最大押込み深さが厚み（ＴＮ）の１／６以下となるように、下層膜３における露出している領域から下地５に向けて圧子６を押し込む。
【００３９】
ステップＳ１２では、媒介変数（ＮＮ）を得る。具体的には、押込みクリープ（ＣＩＴ）をマルテンス硬さ（ＨＭ）で除する。その結果として、媒介変数（ＮＮ＝ＣＩＴ／ＨＭ）を取得する。
【００４０】
ステップＳ１３では、下層膜３の材料パラメータを利用して、下層膜３の伸び率（ＥＮ）を得る。具体的には、ステップＳ１２で算出した媒介変数（ＮＮ）を利用して、伸び率（ＥＮ）を得る。式（１）に示されるように、媒介変数（ＮＮ）を独立変数とし、定数Ａ１，Ｂ１，Ｃ１を係数として含む関数（ｆ１）を利用して、伸び率（ＥＮ）を得る。
【数１】
2019109202.tif 000003
ＥＮ：下層膜の伸び率。
ＮＮ：媒介変数。
Ａ１，Ｂ１，Ｃ１：係数。
【００４１】
ステップＳ１４では、下層膜３のひび割れ追従性の標準値（ＺＮ０）を得る。ここで、下層膜３のひび割れ追従性の標準値（ＺＮ０）とは、基準厚み（Ｔ０）を有する下層膜３のひび割れ追従性である。基準厚み（Ｔ０）とは、下層膜３に関する複層膜の積層方向における基準の寸法（厚み）である。
【００４２】
ステップＳ１２で得た媒介変数（ＮＮ）を利用して、ひび割れ追従性（ＺＮ０）を得る。具体的には、式（２）に示されるように、媒介変数（ＮＮ）を独立変数とし、定数Ａ２，Ｂ２を係数として含む関数（ｆ２）を利用して、ひび割れ追従性（ＺＮ０）を得る。
【数２】
2019109202.tif 000004
ＺＮ０：基準厚みである下層膜のひび割れ追従性。
ＮＮ：媒介変数。
Ａ２，Ｂ２，Ｃ２：係数。
【００４３】
ステップＳ１５では、下層膜３の厚み（ＴＮ）を得る。具体的には、マイクロメーター又は顕微鏡による断面観察等により下層膜３の寸法を実測する。この結果として、厚み（ＴＮ）が得られる。下層膜３の厚みに関し、複数回の実測を行って、複数の値を得た場合には、当該複数の値のうち、最小値を厚み（ＴＮ）とする。
【００４４】
ここで、本発明者の知見によれば、ひび割れ追従性（ＺＮ）は厚み（ＴＮ）の影響を受ける。例えば、厚み（ＴＮ）が大きいほどひび割れ追従性（ＺＮ）が大きくなる。そして、ひび割れ追従性（ＺＮ）への厚み（ＴＮ）の影響度合いは、伸び率（ＥＮ）との相関を有する。すなわち、伸び率（ＥＮ）が大きいほど、影響度合いが大きくなる。そのため、伸び率（ＥＮ）と、厚み（ＴＮ）がひび割れ追従性（ＺＮ）に及ぼす影響度合いとの相関関係を示す係数として、伸び率（ＥＮ）に基づく膜厚係数（ΔＴ）を導入する。そして、膜厚係数（ΔＴ）を利用して、厚み（ＴＮ）からひび割れ追従性（ＺＮ）を得る。
【００４５】
ステップＳ１６では、ステップＳ１３において得た伸び率（ＥＮ）を利用して膜厚係数（ΔＴ）を得る。具体的には、式（３）に示されるように、伸び率（ＥＮ）を独立変数とし、定数Ａ３，Ｂ３を係数として含む関数（ｆ３）を利用して、膜厚係数（ΔＴ）を得る。
【数３】
2019109202.tif 000005
ΔＴ：膜厚係数。
ＥＮ：下層膜の伸び率。
Ａ３，Ｂ３：係数。
【００４６】
ステップＳ１７では、ステップＳ１６において得た膜厚係数（ΔＴ）を利用して、ひび割れ追従性（ＺＮ）を得る。具体的には、式（４）に示されるように、厚み（ＴＮ）を独立変数とし、ひび割れ追従性（ＺＮ）を従属変数とすると共に、膜厚係数（ΔＴ）を比例係数として含む関数（ｆ４）を利用して得る。
【数４】
2019109202.tif 000006
ＺＮ：下層膜のひび割れ追従性。
ＺＮ０：基準厚みである下層膜のひび割れ追従性。
ＴＮ：下層膜の厚み。
ΔＴ：膜厚係数。
Ｔ０：基準厚み（１ｍｍ）。
【００４７】
以上のステップＳ１０により、下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）を得る。
【００４８】
〔第１判定ステップ〕
第１判定ステップ（ステップＳ２０）では、ひび割れ追従性（ＺＸ）とひび割れ追従性（ＺＮ）とを比較する。具体的には、ひび割れ追従性（ＺＮ）がひび割れ追従性（ＺＸ）より大きいか否かを判断する。ひび割れ追従性（ＺＮ）がひび割れ追従性（ＺＸ）より小さいとき（ステップＳ２０：ＮＯ）、第１改修判定ステップ（ステップＳ２１）に移行する。ひび割れ追従性（ＺＮ）がひび割れ追従性（ＺＸ）より大きいとき（ステップＳ２０：ＹＥＳ）、第２判定ステップ（ステップＳ３０）に移行する。
【００４９】
〔第１改修判定ステップ〕
ステップＳ２１では、ステップＳ２０の結果に基づいて、複層膜２のひび割れ追従性（ＺＦ）がひび割れ追従性（ＺＸ）を満足しない要因が、下層膜３の劣化にあると判断する。従って、改修工事にあっては、下層膜３を補修すべきであると判断する。この場合には、下層膜３は上層膜４の下にあるので、結果的に下層膜３及び上層膜４を改修する。
【００５０】
〔第２判定ステップ〕
ステップＳ３０では、ひび割れ追従性（ＺＦ）とひび割れ追従性（ＺＮ）とを比較する。つまり、ひび割れ追従性（ＺＮ）がひび割れ追従性（ＺＸ）を満足するにも関わらず、ひび割れ追従性（ＺＦ）がひび割れ追従性（ＺＸ）を満足しないということは、その要因が上層膜４の劣化にあると定性的に推定できる。ステップＳ３０は、ひび割れ追従性（ＺＦ）がひび割れ追従性（ＺＸ）を満足しない要因が上層膜４の劣化であることを定量的に判断する。この判断にあっては、ひび割れ追従性（ＺＦ）とひび割れ追従性（ＺＮ）とを直接に比較せず、別の評価値を用いて間接的な比較を行う。
【００５１】
具体的には、上層膜４の伸び率（ＥＴ）と上層膜４に要求される伸び率（ＥＴＸ）とを比較する。ここで伸び率とは、引張試験における初期状態の長さと破断時の長さと差分と、初期状態の長さとの比率である。また、要求される伸び率（ＥＴＸ）とは、上層膜４を下層膜３上に形成したとき、下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）を損なわない最も小さい値をいう。つまり、上層膜４の伸び率（ＥＴ）が要求される伸び率（ＥＴＸ）より大きければ、下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）を損なわない。
【００５２】
まず、要求される伸び率（ＥＴＸ）を得る（ステップＳ３１）。伸び率（ＥＴＸ）は、例えば、式（５）により得る。式（５）に示されるように、伸び率（ＥＴＸ）は、下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）を独立変数とし、伸び率（ＥＴＸ）を従属変数とする一次関数である。なお、下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）から伸び率（ＥＴＸ）を得る式は、下記式（５）に限定されない。
【数５】
2019109202.tif 000007
ＥＴＸ：要求される伸び率。
ＺＮ：下層膜のひび割れ追従性。
Ａ５，Ｂ５：係数。
【００５３】
次に、上層膜４の伸び率（ＥＴ）を得る（ステップＳ３２）。上層膜４の伸び率（ＥＴ）も、下層膜３のひび割れ追従性（ＺＦ）と同様に、ナノインデンターを用いて得てもよい。例えば、上層膜４を複層膜２から分離し、上層膜４のみをステップＳ１１のように、ナノインデンターを用いて押し込みクリープ（ＣＩＴ）とマルテンス硬さ（ＨＭ）とを得る。次に、ナノインデンター物性値（ＮＮ＝ＣＩＴ／ＨＭ）を得る。そして、ナノインデンター物性値（ＮＮ）を式（６）に代入することにより、上層膜４の伸び率（ＥＴ）を得る。
【数６】
2019109202.tif 000008
ＥＴ：上層膜の伸び率。
ＮＮ：媒介変数。
Ａ６，Ｂ６：係数。
【００５４】
次に、伸び率（ＥＴ）と伸び率（ＥＴＸ）とを比較する（ステップＳ３３：第３判定ステップ）。伸び率（ＥＴ）が伸び率（ＥＴＸ）より小さいとき、複層膜２のひび割れ追従性（ＺＦ）が下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）より小さくなる。この場合には、第２改修判定ステップ（ステップＳ３４）に移行する。一方、伸び率（ＥＴ）が伸び率（ＥＴＸ）より大きいとき、複層膜２のひび割れ追従性（ＺＦ）が下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）より大きくなる。この場合には、第３改修判定ステップ（ステップＳ３５）に移行する。
【００５５】
〔第２改修判定ステップ〕
ステップＳ３４では、複層膜２のひび割れ追従性（ＺＦ）がひび割れ追従性（ＺＸ）を満足しない要因が、上層膜４の劣化にあると判断する。従って、改修工事にあっては、上層膜４を補修すべきであると判断する。この場合には、上層膜４を剥がし、下層膜３はそのまま維持する。そして、下層膜３上に新たな上層膜４を形成する。または、複層膜２を剥がし、下地５の上に新たに複層膜２を形成してもよい。
【００５６】
〔第３改修判定ステップ〕
ステップＳ３５では、複層膜２のひび割れ追従性（ＺＦ）はひび割れ追従性（ＺＸ）を満足すると判断する。従って、この場合には、改修の必要はない。
【００５７】
この方法によれば、複層膜２のひび割れ追従性（ＺＦ）を定量的に評価することができる。また、この方法によれば、ステップＳ３０におけるひび割れ追従性（ＺＦ）と下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）との比較を、良好且つ定量的に行うことができる。さらに、この方法によれば、複層膜２に要求されるひび割れ追従性（ＺＦ）を満足しない要因が、下層膜３であるか、上層膜４であるかを定量的に判断することができる。
【００５８】
＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態として、複層膜の設計に評価方法を適用する例を説明する。つまり、評価方法を適用して、複層膜２に要求されるひび割れ追従性（ＺＸ）を満足することが可能な、下層膜３及び上層膜４の構成を決定する。具体的には、下層膜３の材料及び厚み、上層膜４の材料を決定する。
【００５９】
換言すると、下層膜３（中塗）と上層膜４（上塗）とを有する複層膜２（有機系複層塗膜）について、追従させたいひび割れ幅に対して、それを十分に満たす下層膜３の設計プロセスと、下層膜３のひび割れ追従性を低下させない上層膜４の選定プロセスと、により、ひび割れ追従性の高い複層膜２を合理的（定量的）に設計する。
【００６０】
例えば、下層膜３の構成を決定するには、まず、下層膜３の材料及び厚みを仮定する。次に、仮定した材料及び厚みに基づいて、ひび割れ追従性を得る。そして、ひび割れ追従性が複層膜２に要求されるひび割れ追従性を満足し得るものであるか否かを判定する。複層膜のひび割れ追従性の評価方法は、仮定条件に基づくひび割れ追従性が、要求されるひび割れ追従性を満足し得るものであるか否かを判別する。従って、下層膜３の構成の仮定と、その仮定に基づく判定と、を繰り返すことにより、要求されるひび割れ追従性を有する複層膜２を定量的に設計できる。
【００６１】
図３は、複層膜の設計に評価方法を適用する例を示すフロー図である。このフローは、ひび割れ追従性設定ステップ（ステップＳ１）と、第１設定ステップ（ステップＳ１０Ａ）と、第１判定ステップ（ステップＳ２０Ａ）と、第２判定ステップ（ステップＳ３０Ａ）と、を有する。以下、ステップＳ１０Ａ，Ｓ２０Ａ，Ｓ３０Ａについて説明する。
【００６２】
ステップＳ１０Ａでは、下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）を得る。ステップＳ１０Ａは、材料を選択するステップＳ１８と、伸び率（ＥＮ）を得るステップＳ１３Ａと、厚みを設定するステップＳ１５Ａと、膜厚係数（ΔＴ）を得るステップＳ１６と、ひび割れ追従性（ＺＮ）を得るステップＳ１７と、を有する。
【００６３】
ステップＳ１８において、下層膜３を構成する材料を選択する。材料は、固有の伸び率（ＥＮ）を有するので、材料の選択により、伸び率（ＥＮ）を得る（ステップＳ１３Ａ）。次に、ステップＳ１５Ａにおいて、下層膜３の厚み（ＴＮ）を設定する。次に、ステップＳ１６において、膜厚係数（ΔＴ）を得ると共にステップＳ１７においてひび割れ追従性（ＺＦ）を得る。
【００６４】
つまり、第１実施形態では、下層膜３の伸び率（ＥＮ）及び厚み（ＴＮ）を実測して得た。一方、第２実施形態では、下層膜３の伸び率（ＥＮ）及び厚み（ＴＮ）を設計値とし、設計者が適宜設定する点で、第１実施形態と相違する。従って、伸び率（ＥＮ）及び厚み（ＴＮ）を利用して膜厚係数（ΔＴ）及びひび割れ追従性（ＺＮ）を得るステップＳ１６，Ｓ１７は、第１実施形態及び第２実施形態で共通である。
【００６５】
ところで、ステップＳ１３Ａ，Ｓ１６，Ｓ１７では、材料が新規なものである場合を想定する。ここでいう「新規」とは、材料の特性が時間の経過や周囲環境の影響によって変化していないことをいう。ステップＳ１０Ａでは、施工時点だけではなく、劣化を考慮してひび割れ追従性（ＺＮ）を設定してもよい。すなわち、下層膜３の材料及び厚みを、劣化していない材料特性に基づいて設定するとともに、劣化後の材料特性に基づいて設定する。この構成によれば、所定期間経過後においても、複層膜２のひび割れ追従性（ＺＦ）がひび割れ追従性（ＺＸ）を満足させることが可能となる。
【００６６】
ステップＳ２０Ａでは、ステップＳ１０Ａで得たひび割れ追従性（ＺＦ）が、要求されるひび割れ追従性（ＺＸ）を満足するか否かを判定する。つまり、ステップＳ２０Ａでは、ひび割れ追従性（ＺＸ）とひび割れ追従性（ＺＮ）とを比較する。具体的には、ひび割れ追従性（ＺＮ）がひび割れ追従性（ＺＸ）以上であるか否かを判断する。ひび割れ追従性（ＺＮ）がひび割れ追従性（ＺＸ）より小さいとき（Ｓ２０Ａ：ＮＯ）は、仮定した下層膜３の設計条件が妥当でないことを示す。従って、再びステップＳ１０Ａに戻り、別の材料、厚み等を設定する。一方、ひび割れ追従性（ＺＮ）がひび割れ追従性（ＺＸ）より大きいときは（Ｓ２０Ａ：ＹＥＳ）、仮定した下層膜３の設計条件が妥当であることを示す。従って、上層膜４を設計するステップＳ３０Ａへ移行する。
【００６７】
上記のように、ステップＳ１０ＡとステップＳ２０Ａとは、ステップＳ２０Ａの結果がＹＥＳとなるまで、ステップＳ１０Ａにおいて設計条件を変更しながら繰り返し行われる。
【００６８】
〔第２判定ステップ〕
ステップＳ３０Ａでは、上層膜４の伸び率（ＥＴ）と上層膜４に要求される伸び率（ＥＴＸ）とを比較する。まず、式（５）を用いて要求される伸び率（ＥＴＸ）を得る（ステップＳ３１）。
【００６９】
次に、上層膜４の伸び率（ＥＴ）を設定する（ステップＳ３２Ａ）。具体的には、上層膜４を構成する材料を選択する。材料の選択により、伸び率（ＥＴ）を得る。ここで、材料の選択（つまり伸び率（ＥＴ）の選択）にあっては、上記要求される伸び率（ＥＴＸ）以上の値となる材料を選択する。なお、伸び率（ＥＴ）の設定にあたっては、下層膜３と同様に、劣化を考慮した設定を行ってもよい。
【００７０】
次に、伸び率（ＥＴ）と伸び率（ＥＴＸ）とを比較する（ステップＳ３３）。ステップＳ３３において、伸び率（ＥＴ）は伸び率（ＥＴＸ）以上となる値に設定しているので、このステップＳ３３では判定の結果はＹＥＳとなる。以上のステップＳ２０Ａ，Ｓ３０Ａにより、複層膜２に要求されるひび割れ追従性（ＺＸ）を満足する下層膜３の材料及び厚みと、上層膜４の材料が選択される。
【００７１】
ところで、複層膜２のひび割れ追従性（ＺＦ）は、下層膜３（中塗）のひび割れ追従性（ＺＮ）によって確保されることが参考文献１には示されている。下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）は、一般に、下層膜３を形成する材料の伸び率（ＥＮ）と厚み（ＴＮ）との影響を受ける。従って、伸び率（ＥＮ）と厚み（ＴＮ）との相互作用を考慮して、ひび割れ追従性を評価する必要がある。そこで、本実施形態に係る評価方法は、下層膜３の伸び率（ＥＮ）と厚み（ＴＮ）とに基づいて、下層膜３のひび割れ追従性の定量的な設計を可能とする。
参考文献１：阿知波政史 他、「アクリルゴムポリマーセメント系塗膜防水材のひび割れ追従性に関する検討」、日本建築学会学術講演梗概集、日本、日本建築学会、１９９６年９月、９２５〜９２６ページ。
【００７２】
さらに、下層膜３（中塗）及び上層膜４（上塗）は、日射や熱などにより劣化するので、柔軟性が低下する。柔軟性が低下すると、ひび割れ追従性も低下することが参考文献２には示されている。
参考文献２：瓦家正英 他、「塗膜の光劣化に関する研究」、色材、日本、２０００年、５９４〜６００ページ。
【００７３】
一方、ひび割れ追従性試験は、一般に初期状態で行われ、劣化の影響を考慮していない。促進耐候性試験機などを用いて複層膜２を劣化させてひび割れ追従性を評価する場合、上層膜４の材料、下層膜３の材料、下層膜３の厚み（ＴＮ）といった複数のパラメータがあるので、多数の組み合わせによる試験を要する。ひび割れ追従性は、破壊試験であるので、多数の試験用サンプルを準備する必要が生じる。そこで、本実施形態の評価方法にあっては、下層膜３及び上層膜４の単体での劣化試験を行う。そして、それぞれにおける伸び率（ＥＮ）（ＥＴ）を事前に評価することにより、劣化の性能変化を考慮したひび割れ追従性の設計を可能とする。
【００７４】
また、ひび割れ追従性に関する技術として、特許文献１、２が知られている。
特許文献１：特開平９−１７７２５９号公報。
特許文献２：特開２００５−３５８２７号公報。
【００７５】
特許文献１では、下側の防水層の伸び率を上側の防水層の伸び率よりも５０％以上大きくする。この設計により、高いひび割れ追従性を確保し、表面の強靭性及び耐外傷性とを確保する。特許文献１における実施例３は、ひび割れ追従性が下側４．５ｍｍ、上側１．５ｍｍ、複層３．６ｍｍである例を開示する。この実施例３では、下側の防水層が有するひび割れ追従性が上側の防水層の影響によって、全体（複層膜）として小さくなっている。
【００７６】
特許文献２では、中塗をひび割れ追従性が０．５ｍｍ以上である柔軟塗膜とし、上塗をひび割れ追従性が０．２ｍｍ以下である硬質塗膜とする。そして、下地が０．２ｍｍ程度変動すると上塗塗膜にひび割れが生じ、下地のひび割れを検出する。これは、上塗が硬質であるために、中塗の本来のひび割れ追従性より小さい値において、塗膜の破壊が生じているためである。一方、複合塗膜は、耐候性が高い上塗によって、耐候性が低い中塗を保護する。そうすると、上塗にひび割れが生じると、中塗の急激な劣化が生じて、ひび割れが発生する。従って、上塗にはひび割れを生じさせないようにする必要がある。さらに、特許文献２では、下地に０．２ｍｍのひび割れが発生した際に、上塗にひび割れを発生させる。従って、下地に０．５ｍｍのひび割れが発生した際に、上塗にひび割れを生じさせないような複層塗膜の設計を意図していない。
【００７７】
これらの先行技術に対して、第２実施形態に係る複層膜のひび割れ追従性を評価する方法は、複層膜２のひび割れ追従性（ＺＦ）を定量的に評価することができる。また、この方法によれば、ステップＳ３０Ａにおけるひび割れ追従性（ＺＦ）と下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）との比較を、良好且つ定量的に行うことができる。さらに、この方法によれば、複層膜に要求されるひび割れ追従性（ＺＦ）を満足し得る下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）と、上層膜４の伸び率（ＥＴ）とを定量的に設定することができる。
【００７８】
＜実施例＞
上述のとおり、評価方法を用いた複層膜２の設計方法は、初期状態での下層膜３の伸び率（ＥＮ）、下層膜３の厚み（ＴＮ）、上層膜４の伸び率（ＥＴ）による複層膜２のひび割れ追従性（ＺＦ）だけではなく、劣化後の下層膜３の伸び率（ＥＮ’）、上層膜４の伸び率（ＥＴ’）を事前に促進劣化試験などで評価しておくことにより、劣化を考慮した複層膜２のひび割れ追従性（ＺＦ’）を評価してもよい。以下、劣化を考慮した設計方法の実施例を示す。なお、以下の例においては、具体的な数値を示しながら説明するが、実施形態に係る評価方法はそれらの具体的な数値に限定されない。
【００７９】
いま、下層膜を強制的に８０℃１０００時間加熱劣化処理した場合、上層膜を促進耐候性試験１０００時間処理した場合を劣化状態と仮定する。
【００８０】
そして、複層膜２に要求されるひび割れ追従性（ＺＸ）は、１．３ｍｍである。また、下層膜３の厚み（ＴＮ）は、１ｍｍである。下層膜３の材料が図４の表における試験体１Ｅと同じである。そうすると、下層膜３の初期伸び率（ＥＮ）は２９６％である。そして、下層膜３の劣化後（８０℃、１０００時間熱劣化）の伸び率（ＥＮ’）は２５７％（試験体２Ｌ）である。
【００８１】
上記伸び率（ＥＮ），（ＥＮ’）と式（２）よれば、初期状態におけるひび割れ追従性（ＺＮ０）（標準厚み１ｍｍ）が１．５４ｍｍである。また、劣化状態におけるひび割れ追従性（ＺＮ０’）（標準厚み１ｍｍ）が１．３８ｍｍである。続いて、式（４）に上記のひび割れ追従性（ＺＮ０）（ＺＮ０’）と、厚み（ＴＮ）と、を代入する。その結果、実際の厚み（ＴＮ）における下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）は、初期状態で１．５８ｍｍである。また、実際の厚み（ＴＮ）における下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ’）は、劣化状態で１．３４ｍｍである。
【００８２】
ステップＳ２０Ａに規定された比較を行うと、初期状態及び劣化状態の共に、判定式（ＺＸ＜ＺＮ）を満足する。
初期状態：ＺＸ（１．３）＜ＺＮ（１．５４）。
劣化状態：ＺＸ（１．３）＜ＺＮ（１．３８）。
【００８３】
次に、ステップＳ３１において、式（５）に基づく要求される上層膜４の伸び率（ＥＴ），（ＥＴ’）を得る。式（５）にひび割れ追従性（ＺＮ＝１．５４），（ＺＮ＝１．３８）をそれぞれ代入する。その結果、初期状態における要求される上層膜４の伸び率（ＥＴＸ）は、５５．３％である。また、劣化状態における要求される上層膜４の伸び率（ＥＴＸ’）は、４９．７％である。
【００８４】
促進劣化１０００時間後も複層膜２がひび割れ追従性（ＺＸ）を確保できる材料を選定する。つまり、ＥＴ＞ＥＴＸかつＥＴ’＞ＥＴＸ’を満足する材料を選定する。
【００８５】
例えば、上層膜４の材料として「ふっ素ｂ」（図１０の表を参照）を選択したとする。ふっ素ｂは、初期状態の伸び率（ＥＴ）が１６７％（試験体５Ｋ）であり、ＥＴ＞ＥＴＸを満足する。一方、ふっ素ｂは、劣化状態の伸び率（ＥＴ’）が４６％（試験体５Ｎ）である。この数値は、ＥＴ’＞ＥＴＸ’を満足しない。従って、上層膜４の材料としてふっ素ｂは適当でない。
【００８６】
また、例えば、上層膜４の材料として「ウレタンｂ」（図１０の表を参照）を選択したとする。ウレタンｂは、初期状態の伸び率（ＥＴ）が１０１％（試験体５Ｉ）であり、ＥＴ＞ＥＴＸを満足する。さらに、ウレタンｂは、劣化状態の伸び率（ＥＴ’）も６９％（試験体５Ｍ）であり、ＥＴ’＞ＥＴＸ’を満足する。従って、劣化を考慮した複層膜２の設計において、上層膜４の材料としてウレタンｂは適していることがわかる。
【００８７】
以下、上述したいくつかのステップに対応する実験例１〜６を説明する。つまり、実験例１〜６は、上述のステップにおける評価の妥当性を実験により確認するものである。
【００８８】
＜実験例１＞
実験例１では、式（１）の妥当性を確認した。換言すると、実験例１では、ナノインデンターによる実測値から伸び率（ＥＮ）を計算する方法の妥当性を確認した。つまり実験例１は、実施形態におけるステップＳ１１，Ｓ１２，Ｓ１３に対応する。実験例１では、試験体１Ａ〜１Ｌを準備した。そして、試験体１Ａ〜１Ｆは、下記のとおり、互いに異なる材料により構成した。
試験体１Ａ：ＪＩＳ−Ａ−６９０９可とう形改修塗材Ｅ。
試験体１Ｂ：ＪＩＳ−Ａ−６９０９可とう形改修塗材Ｅ。
試験体１Ｃ：ＪＩＳ−Ａ−６９０９可とう形改修塗材ＲＥ。
試験体１Ｄ：ＪＩＳ−Ａ−６９０９防水形複層塗材Ｅ。
試験体１Ｆ：ＪＩＳ−Ａ−６０２１外壁用アクリルゴム系。
【００８９】
さらに、試験体１Ｄに対して加熱劣化処理を行って試験体１Ｇ〜１Ｉを準備した。また、試験体１Ｅに対して加熱劣化処理を行って試験体１Ｊ〜１Ｌを準備した。加熱劣化処理は、所定の温度（６０℃、８０℃、１００℃）の環境に１０００時間放置するものである。図４に示される表は、試験体の番号、材質、状態と、いくつかの実測値及び計算値をまとめたものである。
【００９０】
実験例１では、それぞれの試験体１Ａ〜１Ｌについて、実測値として伸び率（ＥＮ）及び実測値から算出されたナノインデンター物性値（ＮＮ）を得た。伸び率（ＥＮ）は、ＪＩＳ−Ａ６９０９の７．２９に規定される伸び試験に基づいた。具体的には、離型剤を塗布した塩化ビニル板またはガラス板に、乾燥厚みが１ｍｍとなるように下層膜３を均一に塗り付けた。そして、試験体を５０℃の環境下で３日間乾燥養生し、２０℃、６０％ＲＨの条件下で７日以上養生して試験体を作成した。養生後に塗膜を剥がし、ダンベル状の２号型を打ち抜き試験体を完成させた。そして、試験体１Ａ〜１Ｌのそれぞれについて、標点間距離を２０ｍｍとし、２０℃の条件で１分間に５０ｍｍの引張速度で引張試験を行い、破断したときの標点間距離から、伸び率（ＥＮ）を得た。
【００９１】
また、ナノインデンター物性値（ＮＮ）のための実測値は、マルテンス硬さ（ＨＭ）及び押し込みクリープ（ＣＩＴ）とした。ナノインデンター物性値（ＮＮ）は、実施形態における媒介変数（ＮＮ）に対応する。さらに、実験例１では、ナノインデンター物性値（ＮＮ）は、押し込みクリープ（ＣＩＴ）とマルテンス硬さ（ＨＭ）との比（ＣＩＴ／ＨＭ）である。
【００９２】
実験例１において、第１のナノインデンター物性値（ＮＮ）を伸び率（ＥＮ）に変換する変換式として、式（７）を用いた。式（７）は、第１実施形態において示した式（１）に対応する。
【数７】
2019109202.tif 000009
【００９３】
図５は、横軸に伸び率（ＥＮ）の計算値を示す。計算値は、式（７）に基づく値である。縦軸には、試験体１Ａ〜１Ｌの伸び率（ＥＮ）の実測値を示す。図５において、黒塗りひし形で示されるプロットＰ５ａは、初期状態における伸び率（ＥＮ）を示す。一方、白抜き三角形で示されるプロットＰ５ｂは、加熱劣化状態における伸び率（ＥＮ’）を示す。さらに、グラフＧ５は、線形の近似直線である。図５に示されるように、伸び率（ＥＮ）の計算値と実測値との関連の度合いを示すＲ二乗値は、Ｒ２＝０．８３１４であった。従って、伸び率（ＥＮ）の計算値と実測値との間には強い関連があり、式（７）によって得た伸び率（ＥＮ）は、実測により得た伸び率（ＥＮ）に対して妥当な値であることがわかった。さらに、詳細に確認すると、上記式（７）を用いた計算値は、初期状態及び加熱劣化状態のいずれにおいても第１のナノインデンター物性値（ＮＮ）を伸び率（ＥＮ又はＥＮ’）に良好に変換できることが確認された。従って、第１のナノインデンター物性値（ＮＮ）を伸び率（ＥＮ又はＥＮ’）に変換する変換式として、式（７）を用いることは、初期状態及び加熱劣化状態のいずれにおいても妥当であることがわかった。
【００９４】
実験例１によれば、ステップＳ１１，Ｓ１２，Ｓ１３の処理によってナノインデンター物性値（ＮＮ）を伸び率（ＥＮ）に良好に変換できることがわかった。
【００９５】
＜実験例２＞
実験例２では、式（２）の妥当性を確認した。つまり、実験例２は、実施形態におけるステップＳ１４に対応する。具体的には、試験体１Ａ〜１Ｌを作成し、それぞれの伸び率（ＥＮ）及びひび割れ追従性（ＺＮ０）を測定した。つまり、実験例２に用いた試験体は、実験例１と同じ条件に基づいて準備した。次に、伸び率（ＥＮ）を式（８）に導入し、ひび割れ追従性（ＺＮ０）を算出した。式（８）は、式（２）に対応する。そして、実測値であるひび割れ追従性（ＺＮ０）と、計算値であるひび割れ追従性（ＺＮ０）との関係を評価した。
【数８】
2019109202.tif 000010
【００９６】
伸び率（ＥＮ）は、実験例１と同様に、ＪＩＳ−Ａ６９０９の７．２９に規定される伸び試験に基づいた。
【００９７】
図６は、ひび割れ追従性（ＺＮ０）の実測値とひび割れ追従性（ＺＮ０）の計算値との関係を示すグラフである。図６は、横軸がひび割れ追従性（ＺＮ０）の計算値を示し、縦軸がひび割れ追従性（ＺＮ０）の実測値を示す。図６において、黒塗りひし形で示されるプロットＰ６ａは、初期状態におけるひび割れ追従性（ＺＮ０）を示す。一方、白抜き三角形で示されるプロットＰ６ｂは、加熱劣化状態におけるひび割れ追従性（ＺＮ０’）を示す。さらに、グラフＧ６は、線形の近似直線である。
【００９８】
図６に示されるように、ひび割れ追従性（ＺＮ０）の実測値とひび割れ追従性（ＺＮ０）の計算値との間の相関係数は、Ｒ２＝０．９４４であった。従って、式（２）を利用したひび割れ追従性の計算は、実測値とよく対応することがわかった。また、初期状態及び劣化状態のいずれであっても、伸び率（ＥＮ）をひび割れ追従性（ＺＮ０）に良好に換算できることがわかった。従って、伸び率（ＥＮ）をひび割れ追従性（ＺＮ０又はＺＮ０’）に変換する変換式として、式（８）を用いることは、初期状態及び加熱劣化状態のいずれにおいても妥当であることがわかった。
【００９９】
＜実験例３＞
実験例３では、下層膜３の厚み（ＴＮ）とひび割れ追従性（ＺＮ）との関係について確認した。すなわち、実験例３は、実施形態におけるステップＳ１５，Ｓ１６，Ｓ１７に対応する。実験例３では、同じ材料からなり、厚み（ＴＮ）が異なる複数の試験体３Ａ〜３Ｉを準備した。そして、試験体３Ａ〜３Ｉは、下記のとおり、互いに異なる材料により構成した。
試験体３Ａ，３Ｂ，３Ｃ：ＪＩＳ−Ａ−６９０９可とう形改修塗材ＲＥ。
試験体３Ｄ，３Ｅ，３Ｆ，３Ｇ：ＪＩＳ−Ａ−６９０９防水形複層塗材E。
試験体３Ｈ，３Ｉ：ＪＩＳ−Ａ−６０２１外壁用アクリルゴム系。
【０１００】
試験体３Ａ〜３Ｉについて、厚み（ＴＮ）をマイクロメーターを用いて測定した。また、試験体３Ａ〜３Ｉについて、実験例１と同様の構成によりひび割れ追従性（ＺＮ）を測定した。
【０１０１】
図７に示される表は、実測値である試験体３Ａ〜３Ｉにおける下層膜の伸び率（ＥＮ）と下層膜のひび割れ追従性（標準厚）（ＺＮ０）と膜厚係数（ΔＴ）と厚み（ＴＮ）と下層膜のひび割れ追従性（ＺＮ）とを示す。また、図７に示される表は、計算値である試験体３Ａ〜３Ｉにおける膜厚係数（ΔＴ）と厚み（ＴＮ）と下層膜のひび割れ追従性（ＺＮ）とを示す。さらに、図８は、厚み（ＴＮ）を横軸とし、ひび割れ追従性（ＺＮ）を縦軸として示したグラフを示す。図８において、プロットＰ３ａは、試験体３Ａ〜３Ｃに対応する。プロットＰ３ｂは、試験体３Ｄ〜３Ｇに対応する。プロットＰ３ｃは、試験体３Ｈ，３Ｉに対応する。そして、グラフＧ３ａは、プロットＰ３ａの近似直線である。グラフＧ３ｂは、プロットＰ３ｂの近似直線である。グラフＧ３ｃは、プロットＰ３ｃの近似直線である。
【０１０２】
これら近似直線であるグラフＧ３ａ，Ｇ３ｂ，Ｇ３ｃの傾きは、膜厚係数（ΔＴ）である。グラフＧ３ａ，Ｇ３ｂ，Ｇ３ｃに示されるように、材料ごとに膜厚係数（ΔＴ）は、同一の数値を取り得ることがわかった。すなわち、下層膜３のひび割れ追従性（ＺN）は、下層膜３の厚み（ＴＮ）の影響を受け、そして、厚み（ＴＮ）が大きいほどひび割れ追従性（ＺN）が大きくなることがわかった。
【０１０３】
さらに、厚み（ＴＮ）が大きいほどひび割れ追従性（ＺN）が大きくなる割合は、伸び率（ＥＮ）と相関を有し、膜厚係数（ΔＴ）は伸び率（ＥＮ）を独立変数とする関数（式（４））として示すことが可能であることがわかった。
【０１０４】
＜実験例４＞
実験例４では、式（４）を用いた計算によるひび割れ追従性（ＺN）と、実測によるひび割れ追従性（ＺN）とを比較し、式（４）を用いた計算の妥当性を確認した。すなわち、実験例４は、実施形態におけるステップＳ１７に対応する。
【０１０５】
実験例４では試験体３Ａ〜３Ｉを用いた。つまり、実験例４に用いた試験体は、実験例３と同じ条件に基づいて準備した。
【０１０６】
図９は、計算値であるひび割れ追従性（ＺN）を横軸とし、実測値であるひび割れ追従性（ＺN）を縦軸としたグラフを示す。計算値であるひび割れ追従性（ＺＦ）と実測値であるひび割れ追従性（ＺN）との対応の度合いを示すＲ二乗値は、Ｒ２＝０．９３７であった。従って、計算によるひび割れ追従性（ＺN）と、実測によるひび割れ追従性（ＺN）との間には、高い相関があり、式（４）を利用した計算が妥当であることが確認できた。
【０１０７】
＜実験例５＞
実験例５では、式（６）を用いた計算による伸び率（ＥＴ）と、実測による伸び率（ＥＴ）とを比較し、式（６）を用いた計算の妥当性を確認した。すなわち、実験例５は、実施形態におけるステップＳ３２に対応する。
【０１０８】
実験例５では、試験体５Ａ〜５Ｎを準備した。そして、試験体５Ａ〜５Ｋは、図１０の表に示されるように、互いに異なる材料により構成した。また、試験体５Ｅを劣化処理することにより、試験体５Ｌを得た。また、試験体５Ｉを劣化処理することにより、試験体５Ｍを得た。そして、試験体５Ｋを劣化処理することにより、試験体５Ｎを得た。それぞれの劣化処理は、ＪＩＳＫ５６００−７−７に規定される促進耐候性試験キセノンランプ法サイクル（Ａ）に基づいた。
【０１０９】
実験例５では、ナノインデンターを用いてナノインデンター物性値（ＮＮ）を得た。ナノインデンター物性値（ＮＮ）は、押し込みクリープ（ＣＩＴ）とマルテンス硬さ（ＨＭ）の比（ＣＩＴ／ＨＭ）とした。また、実測値としての伸び率（ＥＴ）は、実験例１と同様の方法により得た。そして、計算値としての伸び率（ＥＴ）は、式（９）を利用して得た。
【数９】
2019109202.tif 000011
【０１１０】
さらに、図１１は、計算値である伸び率（ＥＴ）を横軸とし、実測値である伸び率（ＥＴ）を縦軸としたグラフを示す。図１１において、黒塗りひし形で示されるプロットＰ１１ａは、初期状態における伸び率（ＥＴ）を示す。一方、白抜き三角形で示されるプロットＰ１１ｂは、促進劣化状態における伸び率（ＥＴ）を示す。さらに、グラフＧ１１は、線形の近似直線である。計算値である伸び率（ＥＴ）と実測値である伸び率（ＥＴ）との対応の度合いを示すＲ二乗値は、Ｒ２＝０．８２１６であった。従って、計算値である伸び率（ＥＴ）と、実測値である伸び率（ＥＴ）との間には、高い相関があり、式（６）を利用した計算が妥当であることが確認できた。さらに、詳細に確認すると、上記式（９）を用いた計算値は、初期状態及び促進劣化状態のいずれにおいてもナノインデンター物性値（ＮＮ）を伸び率（ＥＴ）に良好に変換できることが確認された。従って、ナノインデンター物性値（ＮＮ）を伸び率（ＥＴ）に変換する変換式として、式（９）を用いることは、初期状態及び促進劣化状態のいずれにおいても妥当であることがわかった。
【０１１１】
＜実験例６＞
実験例６では、ステップＳ３０に関する確認を行った。具体的には、式（５）の導出を示すと共に、式（５）による伸び率（ＥＴＸ）を用いた上層膜４の伸び率（ＥＴ）の設定によれば、複層膜２のひび割れ追従性（ＺＦ）が下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）よりも大きいという条件を満足できることを確認した。
【０１１２】
下層膜３が所定のひび割れ追従性（ＺＮ）を有するとき、当該下層膜３を含む複層膜２のひび割れ追従性（ＺＦ）は、上層膜４の影響を受ける。例えば、上層膜４の伸び率（ＥＴ）が比較的大きい場合には、複層膜２のひび割れ追従性（ＺＮ）は、下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）と同等、或いは、それ以上となり得ると予想される。一方、上層膜４の伸び率（ＥＴ）が比較的小さい場合には、複層膜２のひび割れ追従性（ＺＮ）は、下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）より小さくなると予想される。そうすると、下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）と複層膜２のひび割れ追従性（ＺＦ）とが等しくなるような、上層膜４の伸び率（ＥＴ）が存在し得る。
【０１１３】
そこで、所定のひび割れ追従性（ＺＮ）を有する下層膜３に対して、互いに異なる伸び率（ＥＴ）を有する上層膜４を組み合わせた複層膜２を準備し、当該複層膜２のひび割れ追従性（ＺＦ）を実測する。例えば、図１３の（ａ）部は、横軸に上層膜４の伸び率（ＥＴ）を示し、縦軸に複層膜２のひび割れ追従性（ＺＦ）を示す。このグラフによれば、上層膜４の伸び率（ＥＴ）が異なると、複層膜２のひび割れ追従性（ＺＦ）が変化することがわかる。そして、この試験体における下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）が所定値（４．６５）であった。そうすると、近似直線Ｇ１５ａと下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）を示す直線Ｇ１５ｂとは、交点Ｋを有する。この交点Ｋを示すＸ座標値、つまり上層膜４の伸び率（ＥＴＸ）は、下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）と複層膜２のひび割れ追従性（ＺＦ）とが等しくなる境界値である。換言すると、この境界値を示す伸び率（ＥＴＸ）よりも上層膜４の伸び率（ＥＴ）を大きくすれば、複層膜２のひび割れ追従性（ＺＦ）が下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）よりも大きいという条件を満足できる。また、境界値は、下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）が決まると、境界値を示す上層膜４の伸び率（ＥＴＸ）も一つ決まる。すなわち、境界値を示す上層膜４の伸び率（ＥＴＸ）は、下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）を変数とする関数として示せる。
【０１１４】
別の側面からみると、ひび割れ追従性試験（ひび割れ追従幅の評価試験法）は、試験体を引張りながら試験体を表側から観察し、クラックやピンホールが塗膜に発生したときの長さをひび割れ追従性として規定する。中塗（下層膜）のみでは、中塗にひび割れが発生したときがひび割れ追従性（ＺＮ）と評価される。いま、複層塗膜で伸び率（ＥＴ）＜伸び率（ＥＴＸ）の場合は、上塗が先に破断する。この複層塗膜で伸び率（ＥＴ）＜伸び率（ＥＴＸ）の場合には、ひび割れがひび割れ追従性（ＺＮ）に達した時点で中塗にクラックが発生しているが、外部からは観察できない。さらにひび割れ幅が開いた時点で上塗（上層膜）にクラックが発生し、ひび割れ追従性（ＺＦ）が得られる。そうすると、上塗が伸び率（ＥＴ）＞伸び率（ＥＴＸ）においては、ひび割れ追従性（ＺＦ）＞ひび割れ追従性（ＺＮ）であっても、ひび割れ追従性（ＺＮ）に達した時点で中塗（内部）にひび割れが発生している可能性がある。従って、複層膜のひび割れ追従性（ＺＦ）が下層膜のひび割れ追従性（ＺＮ）よりも大きいこと自体には意味がなく、実質のひび割れ追従性（ＺＮ）とされる。従って、「中塗のひび割れ追従幅（ＺＮ）＞複層塗膜に必要なひび割れ追従幅（ＺＸ）」あり、且つ、「複層のひび割れ追従性（ＺＦ）＞中塗のひび割れ追従性（ＺＮ）」を満たす必要がある。
【０１１５】
そこで、図１２に示されるような確認を種々の条件のもとに実施し、下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）を変数とする関数を導出した。当該関数は、式（５）である。
【０１１６】
図１３の（ｂ）部は、横軸に下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）を示し、縦軸に上層膜４の伸び率（ＥＴ）を示すグラフである。そして、グラフＧ１５ｃは、式（５）により示される直線である。そうすると、上層膜４の伸び率（ＥＴ）を、このグラフＧ１５ｃに示される上層膜４の伸び率（ＥＴ）よりも大きくすることで、複層膜２のひび割れ追従性（ＺＦ）が下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）よりも大きいという条件を満足することができる。
【０１１７】
この点について、図１２の表に示されるように、異なるひび割れ追従性（ＺＮ）を有する複数の下層膜３を準備し、それぞれの下層膜３に対して互いに異なる伸び率（ＥＴ）を有する上層膜４を形成し、試験体６Ａ〜６Ｍを得た。そして、それぞれについて、下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）と、上層膜４の伸び率（ＥＴ）と、複層膜２のひび割れ追従性（ＺＦ）とを実測した。その結果、試験体６Ａ，６Ｂ，６Ｃ，６Ｄ，６Ｆ，６Ｇ，６Ｉ，６Ｊ，６Ｌ，６Ｍについては、複層膜２のひび割れ追従性（ＺＦ）が下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）よりも大きいという条件を満足した。一方、試験体６Ｅ，６Ｈ，６Ｋ（図１３の（ｂ）部：白抜き三角形のプロット（６Ｅ，６Ｈ，６Ｋ））については、複層膜２のひび割れ追従性（ＺＦ）が下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）よりも大きいという条件を満足しなかった。
【０１１８】
そして、図１３の（ｂ）部に示すグラフに、実測値をプロットした。そうすると、条件を満足した試験体６Ａ，６Ｂ，６Ｃ，６Ｄ，６Ｆ，６Ｇ，６Ｉ，６Ｊ，６Ｌ，６Ｍは、すべてグラフＧ１５ｃよりも上の領域にプロットされた。さらに、条件を満足しなかった試験体６Ｅ，６Ｈ，６Ｋは、すべてグラフＧ１５ｃよりも下の領域にプロットされた。従って、上層膜４の伸び率（ＥＴ）を、式（５）により得られる値よりも大きくすることで、複層膜２のひび割れ追従性（ＺＦ）が下層膜３のひび割れ追従性（ＺＮ）よりも大きいという条件を満足できることがわかった。
【０１１９】
本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限られない。
【０１２０】
例えば、上記実施形態において、下層膜３に関する材料パラメータとして、マルテンス硬さ（ＨＭ）、及び、押込みクリープ（ＣＩＴ）を用いた。また、複層膜２に関する材料パラメータとして、マルテンス硬さ（ＨＭ）、及び、押込みクリープ（ＣＩＴ）を用いた。しかしながら、材料パラメータは、ＩＳＯ１４５７７−１において規格された材料パラメータのうち、押し込み硬さ（ＨＩＴ）、及び、くぼみの弾性戻り変形仕事量（Ｗｅｌａｓｔ）を用いてもよい。
【０１２１】
また、上記実施形態では、ナノインデンターによる測定において、制御パラメータとしてバーコビッチ圧子である圧子６の最大押込み深さを用いた。しかしながら、圧子は、バーコビッチ圧子に限定されず、別の圧子でもよい。また、ナノインデンターによる測定における制御パラメータは、最大押込み深さに限定されず、最大押込み荷重などの別の制御要素を用いてもよい。
【符号の説明】
【０１２２】
１…サンプル、２…複層膜、３…下層膜（第１膜部）、４…上層膜（第２膜部）、５…下地、６…圧子。
【図１】
2019109202.tif 000012
【図２】
2019109202.tif 000013
【図３】
2019109202.tif 000014
【図４】
2019109202.tif 000015
【図５】
2019109202.tif 000016
【図６】
2019109202.tif 000017
【図７】
2019109202.tif 000018
【図８】
2019109202.tif 000019
【図９】
2019109202.tif 000020
【図１０】
2019109202.tif 000021
【図１１】
2019109202.tif 000022
【図１２】
2019109202.tif 000023
【図１３】
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