(57)【要約】      （修正有）【課題】評価対象物の塗布膜の表面に存在する試料粒子ばかりでなく、塗布膜中に存在する試料粒子も含めて、粒度分布を評価することができる技術を提供する。【解決手段】塗布膜評価方法は、試料の粒子の粒度分布を評価する方法であって、前記試料が形成されている評価対象物に対して任意の方向から照射光を照射する照射ステップと、前記照射光が照射されている前記評価対象物の表面及び内部の試料粒子からの散乱光を撮像する散乱光撮像ステップと、撮像された散乱光検出画像を二値化処理して、二値化画像より粒子領域を解析する解析ステップと、解析された粒子領域に基づき、前記試料の粒度分布を評価する評価値を生成する評価値生成ステップとを有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料の粒子の粒度分布を評価する方法であって、
前記試料が形成されている評価対象物に対して任意の方向から照射光を照射する照射ステップと、
前記照射光が照射されている前記評価対象物の表面及び内部の試料粒子からの散乱光を撮像する散乱光撮像ステップと、
撮像された散乱光検出画像を二値化処理して、二値化画像より粒子領域を解析する解析ステップと、
解析された粒子領域に基づき、前記試料の粒度分布を評価する評価値を生成する評価値生成ステップと、
を有することを特徴とする塗布膜評価方法。
【請求項２】
請求項１記載の塗布膜評価方法において、
前記評価値生成ステップは、前記粒子領域の画素数を計数して求めた面積を円形に近似させた場合の直径値を粒子の大きさとして、前記試料の粒度分布を評価する評価値を生成する
ことを特徴とする塗布膜評価方法。
【請求項３】
請求項１記載の塗布膜評価方法において、
前記照射ステップは、前記評価対象物に対して異なる複数の方向から照射光をそれぞれ照射するステップであり、
前記散乱光撮像ステップは、異なる複数の方向から前記照射光が照射された前記評価対象物の表面及び内部の試料粒子からの散乱光をそれぞれ異なる画像に撮像するステップであり、
前記解析ステップは、前記異なる画像に撮像された各散乱光検出画像を二値化処理して、二値化画像より粒子領域を解析し、前記解析された各粒子領域を単一の粒子領域か、複数の粒子領域の重なり領域であるか識別し、前記重なり領域と識別された粒子領域を、前記異なる散乱光検出画像より解析された対応する粒子領域を比較することにより単一の粒子領域に分けるステップであり、
前記評価値生成ステップは、単一粒子領域に基づき、前記試料の粒度分布を評価する評価値を生成するステップである
ことを特徴とする塗布膜評価方法。
【請求項４】
請求項１に記載の塗布膜評価方法において、
前記照射ステップは、前記評価対象物に対して異なる複数の方向から照射光をそれぞれ照射するステップであり、
前記散乱光撮像ステップは、異なる複数の方向から前記照射光が照射された前記評価対象物の表面及び内部の試料粒子からの散乱光をそれぞれ異なる画像に撮像するステップであり、
前記異なる画像に撮像された複数の散乱光検出画像より合成画像を生成する合成ステップを更に有し、
前記解析ステップは、前記合成画像を二値化処理して、二値化画像より粒子領域を解析するステップである
ことを特徴とする塗布膜評価方法。
【請求項５】
請求項４に記載の塗布膜評価方法において、
前記合成ステップは、前記複数の散乱光検出画像に対して、各散乱光検出画像の同一座標の画素値の加算値を合成画像の同一座標の画素値とする演算により前記合成画像を生成するステップである
ことを特徴とする塗布膜評価方法。
【請求項６】
請求項４に記載の塗布膜評価方法において、
前記合成ステップは、前記複数の散乱光検出画像に対して、各散乱光検出画像の同一座標の画素値の平均値を合成画像の同一座標の画素値とする演算により前記合成画像を生成するステップである
ことを特徴とする塗布膜評価方法。
【請求項７】
請求項１に記載の塗布膜評価方法において、
前記照射ステップは、前記照射光の照射角、照射方位、照射量、及び波長のうちの少なくとも一つが可変として、前記試料が形成されている評価対象物に対して任意の方向から照射光を照射するステップである
ことを特徴とする塗布膜評価方法。
【請求項８】
試料が形成されている評価対象物に対して任意の方向から照射光を照射する照明部と、
前記照射光が照射されている前記評価対象物の表面及び内部の試料粒子からの散乱光を撮像する散乱光検出部と、
撮像された散乱光検出画像を二値化処理して、二値化画像より粒子領域を解析する試料粒子解析部と、
解析された粒子領域に基づき、前記試料の粒度分布を評価する評価値を生成する評価値生成部と、
を備えることを特徴とする塗布膜評価装置。
【請求項９】
請求項８に記載の塗布膜評価装置において、
前記評価値生成部は、前記粒子領域の画素数を計数して求めた面積を円形に近似させた場合の直径値を粒子の大きさとして、前記試料の粒度分布を評価する評価値を生成する
ことを特徴とする塗布膜評価装置。
【請求項１０】
請求項８に記載の塗布膜評価装置において、
前記照明部は、前記評価対象物に対して異なる複数の方向から照射光をそれぞれ照射し、
前記散乱光検出部は、異なる複数の方向から前記照射光が照射された前記評価対象物の表面及び内部の試料粒子からの散乱光をそれぞれ異なる画像に撮像し、
濃淡画像処理部は、前記異なる画像に撮像された各散乱光検出画像を二値化処理し、
前記試料粒子解析部は、二値化画像より粒子領域を解析し、前記解析された各粒子領域を単一の粒子領域か、複数の粒子領域の重なり領域であるか識別し、前記重なり領域と識別された粒子領域を、前記異なる散乱光検出画像より解析された対応する粒子領域を比較することにより単一の粒子領域に分け、
前記評価値生成部は、単一粒子領域に基づき、前記試料の粒度分布を評価する評価値を生成する
ことを特徴とする塗布膜評価装置。
【請求項１１】
請求項８に記載の塗布膜評価装置において、
前記照明部は、前記評価対象物に対して異なる複数の方向から照射光をそれぞれ照射し、
前記散乱光検出部は、異なる複数の方向から前記照射光が照射された前記評価対象物の表面及び内部の試料粒子からの散乱光をそれぞれ異なる画像に撮像し、
前記異なる画像に撮像された複数の散乱光検出画像より合成画像を生成する散乱光検出画像合成部を更に備え、
前記試料粒子解析部は、前記合成画像を二値化処理して、二値化画像より粒子領域を解析する
ことを特徴とする塗布膜評価装置。
【請求項１２】
請求項１１に記載の塗布膜評価装置において、
前記散乱光検出画像合成部は、前記複数の散乱光検出画像に対して、各散乱光検出画像の同一座標の画素値の加算値を合成画像の同一座標の画素値とする演算により前記合成画像を生成する
ことを特徴とする塗布膜評価装置。
【請求項１３】
請求項１１に記載の塗布膜評価装置において、
前記散乱光検出画像合成部は、前記複数の散乱光検出画像に対して、各散乱光検出画像の同一座標の画素値の平均値を合成画像の同一座標の画素値とする演算により前記合成画像を生成する
ことを特徴とする塗布膜評価装置。
【請求項１４】
請求項８に記載の塗布膜評価装置において、
前記照明部は、前記照射光の照射角、照射方位、照射量、及び波長のうちの少なくとも一つが可変として、前記試料が形成されている評価対象物に対して任意の方向から照射光を照射する
ことを特徴とする塗布膜評価装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塗布膜評価装置、及び塗布膜評価方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
リチウムイオン電池のセルは、電池の形状が円筒形の場合には、正極電極と負極電極の間にセパレータと呼ばれるリチウムイオンが移動できる多孔質の絶縁フィルムをはさみ、バウムクーヘンの様に正極と負極と絶縁フィルムが幾層にも重なるように巻いて容器に入れられる。
【０００３】
そのセパレータは、リチウムイオンを含んでいる電解質の膜で成膜され、その膜中には、電解質を吸着させるシリカ粒子が充填されている。シリカ粒子は、理想は大きさが例えば１μｍ以下の粒子も含めて小さな粒子を入れることであるが、混ぜ方などにより凝集してしまう。
【０００４】
セパレータの塗布膜の厚さよりシリカ粒子が小さければ、正極と負極がショートすることはないのであるが、塗布膜の厚さよりシリカ粒子が大きいのがあるとショートしてしまう。そのため、塗布膜の厚さより大きな粒子が有るか無いかを評価する技術が必要となっている。
【０００５】
特許文献１は、表面に粒状模様の施された外壁材は、外観品質にバラツキのある外壁材が隣接して施工されると外観デザイン上の問題となることから、製造段階において粒状模様の外観品質を安定化させるための品質測定手段を開示している。
【０００６】
特許文献１には、「本発明の粒状模様測定装置は、板材の表面に施された粒状模様の分布を測定する装置であって、前記板材の表面を撮像する撮像手段と、この撮像手段からの画像情報を二値化処理することによって表面の模様粒子を抽出する抽出手段と、この抽出手段によって抽出された模様粒子に包括された画素数をカウントするカウント手段と、このカウント手段によりカウントされた画素数に応じて前記模様粒子を平方数で区分される数値領域に分類するとともに、各数値領域ごとに累積して前記模様粒子の粒度分布を測定する粒度分布測定手段とを備えた構成とする。」と記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０００−２０６０２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１に記載の方法は、板材の表面上に下地とは異なる色彩の塗粒を散布することにより製造された外壁材の粒状模様の外観を撮像して、二値化画像処理することによって、板材の表面の粒状模様の粒度分布を評価している。
【０００９】
本発明は、評価対象物の塗布膜の表面に存在する試料粒子ばかりでなく、塗布膜中に存在する試料粒子も含めて、粒度分布を評価できるようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の塗布膜評価方法の好ましい例では、試料の粒子の粒度分布を評価する方法であって、前記試料が形成されている評価対象物に対して任意の方向から照射光を照射する照射ステップと、前記照射光が照射されている前記評価対象物の表面及び内部の試料粒子からの散乱光を撮像する散乱光撮像ステップと、撮像された散乱光検出画像を二値化処理して、二値化画像より粒子領域を解析する解析ステップと、解析された粒子領域に基づき、前記試料の粒度分布を評価する評価値を生成する評価値生成ステップとを有するように構成する。
【００１１】
また、本発明の他の特徴として、前記塗布膜評価方法において、前記照射ステップは、前記評価対象物に対して異なる複数の方向から照射光をそれぞれ照射するステップであり、前記散乱光撮像ステップは、異なる複数の方向から前記照射光が照射された前記評価対象物の表面及び内部の試料粒子からの散乱光をそれぞれ異なる画像に撮像するステップであり、前記解析ステップは、前記異なる画像に撮像された各散乱光検出画像を二値化処理して、二値化画像より粒子領域を解析し、前記解析された各粒子領域を単一の粒子領域か、複数の粒子領域の重なり領域であるか識別し、前記重なり領域と識別された粒子領域を、前記異なる散乱光検出画像より解析された対応する粒子領域を比較することにより単一の粒子領域に分けるステップであり、前記評価値生成ステップは、単一粒子領域に基づき、前記試料の粒度分布を評価する評価値を生成するステップである。
【００１２】
また、本発明の更に他の特徴として、前記塗布膜評価方法において、前記照射ステップは、前記評価対象物に対して異なる複数の方向から照射光をそれぞれ照射するステップであり、前記散乱光撮像ステップは、異なる複数の方向から前記照射光が照射された前記評価対象物の表面及び内部の試料粒子からの散乱光をそれぞれ異なる画像に撮像するステップであり、前記異なる画像に撮像された複数の散乱光検出画像より合成画像を生成する合成ステップを更に有し、前記解析ステップは、前記合成画像を二値化処理して、二値化画像より粒子領域を解析するステップである。
【００１３】
また、本発明の塗布膜評価装置の好ましい例では、試料が形成されている評価対象物に対して任意の方向から照射光を照射する照明部と、前記照射光が照射されている前記評価対象物の表面及び内部の試料粒子からの散乱光を撮像する散乱光検出部と、撮像された散乱光検出画像を二値化処理して、二値化画像より粒子領域を解析する試料粒子解析部と、解析された粒子領域に基づき、前記試料の粒度分布を評価する評価値を生成する評価値生成部とを備えて構成する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、評価対象物の塗布膜の表面に存在する試料粒子ばかりでなく、塗布膜中に存在する試料粒子も含めて、粒度分布を評価することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明に係る実施例１の塗布膜評価装置の構成例を示すブロック図である。
【図２】図１の塗布膜評価装置における照明部の可動範囲の例を示す図である。
【図３】評価対象物の構成例を示す断面図である。
【図４】容器に入っている評価対象物の構成例を示す断面図である。
【図５】図３に示す評価対象物の構成例を示す上面図である。
【図６】図４に示す評価対象物の構成例を示す上面図である。
【図７】評価対象物から検出された散乱光から得られる散乱光検出画像の一例を示す図である。
【図８】図７の散乱光検出画像を閾値を用いて二値化した画像を、白黒反転させて得られた画像である。
【図９】図１の塗布膜評価装置による第１の評価値生成処理の例を説明するフローチャートである。
【図１０】試料粒子の粒度分布の評価値の例を示す図である。
【図１１】セグメントデータテーブルの一例を示す図である。
【図１２】二値化画像をラスタースキャン方式に探索処理してセグメントデータを抽出する処理を説明する図である。
【図１３】(Ａ)は１つの試料粒子から発した散乱光に基づくと見なせるセグメントの例、(Ｂ)は塗布膜中の上下方向に２個の粒子が一部重なって見えているセグメントの例を示す図である。
【図１４】(Ａ)〜(Ｆ)は、重なりの粒子領域を２つの画像から得た粒子領域で比較して、差分領域から後ろ側の粒子領域を推定する処理を説明する図である。
【図１５】実施例２の塗布膜評価装置の構成例を示すブロック図である。
【図１６】図１５の塗布膜評価装置による第２の評価値生成処理の例を説明するフローチャートである。
【図１７】試料粒子の粒度分布の評価値の例を示す図である。
【図１８】塗布膜評価装置の解析部をコンピュータに実装した構成例を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明に係る複数の実施の形態を図面に基づいて説明する。なお、各実施の形態を説明するための全図において、同一の部材には原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。また、以下の実施の形態において、その構成要素（要素ステップ等も含む）は、特に明示した場合及び原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。また、「Ａからなる」、「Ａよりなる」、「Ａを有する」、「Ａを含む」と言うときは、特にその要素のみである旨明示した場合等を除き、それ以外の要素を排除するものでないことは言うまでもない。同様に、以下の実施の形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは、特に明示した場合及び原理的に明らかにそうでないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似または類似するもの等を含むものとする。
【実施例１】
【００１７】
図１は、本発明に係る実施例１である塗布膜評価装置１０の構成例を示すブロック図である。なお、同図における座標系は、図面の横方向をＹ軸、図面の縦方向をＺ軸、図面に垂直な方向をＸ軸とする。
【００１８】
本発明の実施例１の塗布膜評価装置１０は、載置台６１、照明部６２Ａ、６２Ｂ、照射方向設定部６３Ａ、６３Ｂ、照射量設定部６４Ａ、６４Ｂ、レンズ部５１、散乱光検出部５２、及び解析部２０を有する。
【００１９】
載置台６１は、ＸＹ平面に平行に設置されており、評価対象物７０が載置される。評価対象物７０については、図３乃至図８を参照して詳述する。
【００２０】
照明部６２Ａ、６２Ｂは、載置台６１に載置された評価対象物７０に対して照射光を照射する。照射方向設定部６３Ａ、６３Ｂは、例えば、モータ、ギア、アーム（いずれも不図示）等からなる。照射方向設定部６３Ａ、６３Ｂは、解析部２０の塗布膜評価処理制御部３１からの制御に従い、アームの一端に接続されている照明部６２Ａ、６２Ｂを移動させることによって、評価対象物７０に対する照明部６２Ａ、６２Ｂの照射角（評価対象物７０から照明部６２Ａ、６２Ｂを見た場合の仰角）を設定する。照射量設定部６４Ａ、６４Ｂは、評価対象物７０に対する照明部６２Ａ、６２Ｂの照射量（光量）を設定する。照射方向設定部６３Ａ、６３Ｂ、及び照射量設定部６４Ａ、６４Ｂが設けられていることにより、照明部６２Ａ、６２Ｂは、照射角と照射量が可変とされている。
【００２１】
なお、照明部６２Ａ、６２Ｂは、照射する照射光の波長を変更できるようにしてもよい。例えば、評価対象物７０に形成される粒子７３（図３）の材料に応じて、粒子７３が反射し易い波長の照射光を照射するようにしてもよい。また、粒子以外の材料を透過し易い波長の照射光を照射するようにしてもよい。例えば、粒子７３の材料がシリカである場合、照明部６２Ａ、６２Ｂが照射する照射光の波長を、シリカが反射し易い４８０ｎｍ〜５６０ｎｍとするようにしてもよい。また、レンズ部５１は、焦点深度が大きいものを使用することにより、塗布膜の表面に存在する粒子ばかりでなく、塗布膜中に存在する粒子の散乱光も捉えることができる。
【００２２】
照明部６２Ａ、６２Ｂ、照射方向設定部６３Ａ、６３Ｂ、及び照射量設定部６４Ａ、６４Ｂは、図１ではそれぞれ２組設けられているが、1組だけであっても良い。または、３組以上複数設けてもよい。
【００２３】
図２は、照射方向設定部６３Ａ、６３Ｂによって設定される照明部６２Ａ、６２Ｂの可動範囲（照射角の設定範囲）の例を示す図である。
【００２４】
ＸＹ平面に平行に設定された載置台６１に載置される評価対象物７０に対して、照明部６２Ａは、例えば、載置台６１の中央を通るＹＺ平面上において、照射角を０度（図面左側）〜１８０度（図面右側）までの任意の角度で照射光を照射できる。同様に、照明部６２Ｂは、例えば、該ＹＺ平面上において、照射光を０度（図面右側）〜１８０度（図面左側）までの任意の角度で照射光を照射できる。
【００２５】
図２の例では、照明部６２Ａの照射角を４５度、照明部６２Ｂの照射角を６０度に設定した場合を示している。図２の例のように、照明部６２Ａ、６２Ｂの照射角を異なる角度に設定してもよいし、照明部６２Ａ、６２Ｂの照射角を同じ角度に設定してもよい。また、照明部６２Ａ、６２Ｂの照射量については、同じでもよいし、異なっていてもよい。
【００２６】
図１に戻る。レンズ部５１は、評価対象物７０の散乱光を散乱光検出部５２に集光させる。散乱光検出部５２は、例えば、ＣＭＯＳ(complementary metal oxide semiconductor)イメージセンサ等の検出素子から成り、レンズ部５１を介して入射される評価対象物７０の散乱光より散乱光検出画像を生成する。散乱光検出部５２は、生成した散乱光検出画像を解析部２０に供給する。
【００２７】
解析部２０は、演算部２１、記憶部２２、入力部２３、出力部２４、通信部２５を有する。
演算部２１は、塗布膜評価処理制御部３１、濃淡画像処理部３２、試料粒子解析部３３、評価値生成部３４を有する。
記憶部２２は、制御パラメータ４１、濃淡画像記憶部４２、セグメントデータテーブル４３、評価結果記憶部４４を有する。
【００２８】
塗布膜評価処理制御部３１は、塗布膜評価装置１０の全体を制御する。
入力部２３は、例えば、ユーザからの各種コマンドや、ユーザから予め設定される照射角の設定値等の入力を受け付ける。
出力部２４は、評価値生成部３４によって生成される評価値等を、例えば、他のコンピュータやディスプレイ等に出力する。
通信部２５は、ネットワーク２６を介して散乱光検出部５２で撮像した濃淡画像を受信したり、例えば、生成される評価値を外部コンピュータ５３等に送信する。
【００２９】
濃淡画像処理部３２は、散乱光検出部５２が作成して送信してくる散乱光検出画像（例えば、散乱光の輝度値を各画素に格納した、ｓ画素×ｔ画素のサイズの濃淡画像）を受付けて、濃淡画像記憶部４２に記憶する。記憶した濃淡画像に対するノイズ除去処理、濃度ヒストグラムの作成処理、二値化処理、白黒反転処理などを実行する。
【００３０】
試料粒子解析部３３は、二値化された散乱光検出画像に対してセグメント抽出処理を実行してセグメントデータテーブルを作成して、単一の粒子、または膜中で重なっている粒子の画像であるかの識別を行い、重なっている粒子の場合には、複数の散乱光検出画像から得られたセグメントデータテーブルを照合して、重なった粒子を個別に識別する処理などを実行する。
【００３１】
評価値生成部３４は、試料粒子解析部３３によって抽出された、二値化された散乱光検出画像における単一の粒子を表すセグメントデータに基づき、粒子の粒径を求め、対象物７０における試料の粒度分布を数値化した評価値を生成する。
【００３２】
散乱光検出部５２と、解析部２０との間の画像データの通信は、図１では例えばローカルエリアネットワーク、インターネットなどのネットワーク２６を介するように記載しているが、専用の伝送線を使用することでもよい。また、図１では塗布膜評価処理制御部３１と、照明部６２Ａ、６２Ｂ、照射方向設定部６３Ａ、６３Ｂ、及び照射量設定部６４Ａ、６４Ｂとの制御線の記載は省略している。
【００３３】
次に、載置台６１に載置される評価対象物７０について説明する。
【００３４】
図３は、評価対象物７０の構成例を示す断面図である。評価対象物７０は、例えば、樹脂フィルム上に塗布された塗布膜が想定される。ただし、評価対象物７０は塗布膜に限られない。
【００３５】
評価対象物７０としての塗布膜は、光が照射される面（図中上方）から順に、塗布膜層７１を有し、フィルム７２に積層されて構成される。
塗布膜層７１は、粒度分布評価の実質的な対象となる粒子（本実施例の試料に相当する）７３を含有することにより形成されている。
なお、塗布膜層７１は、粒子７３が存在している領域と、粒子７３が存在していない領域が存在している。
【００３６】
図４は、評価対象物７０の他の構成例を示す断面図である。評価対象物７０は、例えば、塗布液容器７５に入っている塗布液７４が想定される。ただし、評価対象物７０は塗布液に限られない。
塗布液７４は、粒度分布評価の実質的な対象となる粒子（本実施例の試料の相当する）７３を含有することにより形成されている。
なお、塗布液７４は、粒子７３が存在している領域と、粒子７３が存在していない領域が存在している。
【００３７】
図５は、図３に示す評価対象物７０の上面図、図６は、図４に示す評価対象物７０の上面図をそれぞれ示している。
【００３８】
次に図７は、照射光が照射された状態の評価対象物７０から検出された散乱光７６から得られる散乱光検出画像の一例を示している。すなわち、照射光は塗布膜７１を透過し易く、粒子７３の材料には反射し易い波長の光であり、粒子７３の全面から発する散乱光を捉えている画像である。この画像では、粒子は明るい白色となっている。
図２に示す照明部６２Ａ、６２Ｂの照射角を比較的９０度に近づけた上方より照射すると、照射光が塗布膜層７１を透過するので、塗布膜表面に在る粒子と、塗布膜中に在る粒子とが同じ色に見える。また、７７のように上下にある粒子が重なって見える。
これに比して、照明部６２Ａ、６２Ｂの照射角を小さく、浅くすると、塗布膜の表面にしか比較的光が当たらないので、塗布膜表面付近の粒子だけが浮き出てくるように見える｛照明部の照射角を変えることで、塗布膜表面、内部の粒子の見え方が異なる。｝ことが本実施例の特徴である。
【００３９】
次に、図８に示す画像は、図７に示された散乱光検出画像を、濃度ヒストグラムから適宜選択された閾値、または予め制御パラメータに設定された閾値を用いて二値化した画像を、白黒反転させて、背景領域から粒子領域を明確に識別できるように粒子の領域を黒画素で表した画像である。
【００４０】
濃淡画像処理部３２が、散乱光検出部５２から受付けた塗布膜の散乱光検出画像（ｓ画素×ｔ画素）を濃淡画像記憶部４２に格納して、前記した二値化処理、白黒反転処理を実行して、濃淡画像記憶部４２には、図８に示す二値化画像（ｓ画素×ｔ画素）が格納されている。
【００４１】
試料粒子解析部３３が、濃淡画像記憶部４２に格納されている前記二値化画像（ｓ画素×ｔ画素）に対して、各粒子領域をセグメントとして抽出する処理を実行する。セグメント抽出処理は例えば公知である画像をラスタースキャン方式に探索処理して抽出する。図１２において説明する。抽出したセグメントを、図１１に示すセグメントデータテーブル４３に記録する。
【００４２】
セグメント抽出処理は、二値化画像（ｓ画素×ｔ画素）の最上部の第１行から順に、各行の画素列に粒子領域を構成する黒画素の有無を調べる。図１２は二値化画像の一部を示している例であり、第１行から第ｎ行までのラスタースキャン方式の探索処理において、黒画素が見つかっていないことを示す。そして、第(ｎ＋１)行の画素列の探索の際に、(ｎ＋１，ａ)の位置に黒画素が見つかり、図１１のセグメントデータテーブル４３に第１のセグメントとして記録する。続いて、第(ｎ＋１)行の画素列の探索で、(ｎ＋１，ｂ)の位置に黒画素が見つかり、第２のセグメントとして記録する。更に続いて、第(ｎ＋１)行の画素列の探索で、(ｎ＋１，ｃ)、(ｎ＋１，ｃ＋１)の位置に２個の黒画素列｛行方向に連続する黒画素を黒画素列と呼び、（先頭画素の行アドレス、先頭画素の列アドレス、連続画素数）で表す。｝が見つかり、第３のセグメントとして記録する。第(ｎ＋１)行の画素列の探索が終了して、続いて、第(ｎ＋２)行の画素列の探索が継続して、(ｎ＋２，ａ−１，３)の黒画素列が見つかる。しかも、(ｎ＋１，ａ)の黒画素と列方向に接続していることが分かり、第１のセグメントの構成画素列として記録する。｛本実施例では、１つのセグメントを構成する複数の画素同士の接続関係は、行方向、または列方向に接続する４近傍の関係にある場合を接続していると定義する。｝
続いて、第(ｎ＋２)行の画素列の探索で、(ｎ＋２，ｃ−１，４)の黒画素列が見つかり、かつ(ｎ＋１，ｃ，２)の黒画素列と接続していることが分かるので、第３のセグメントの構成画素列として記録する。続いて、第(ｎ＋３)行の画素列の探索に移り、同様に判定して、(ｎ＋３，ａ，１)の黒画素列を第１のセグメントの構成画素列として記録し、(ｎ＋３，ｃ−１，４)の黒画素列を第３のセグメントの構成画素列として記録する。続いて、第(ｎ＋４)行の画素列の探索では、(ｎ＋４，ｃ，２)の黒画素列を第３のセグメントの構成画素列として記録する。
【００４３】
また、第(ｎ＋５)行の画素列の探索において、(ｎ＋５，ｃ−１)の位置の黒画素が見つかるが、(ｎ＋４，ｃ，２)の黒画素列とは接続していないと判定されるので｛本実施例では、８近傍の位置関係は接続しないと定義している。｝、(ｎ＋５，ｃ−１)の黒画素を第４のセグメントとして記録する。
【００４４】
以上のようにして、二値化画像（ｓ画素×ｔ画素）の全ての画素列を探索して、画像内に在る全てのセグメントを構成する画素列を抽出して、セグメントデータテーブル４３に記録する。すなわち、塗布膜評価装置１０の散乱光検出部５２で、１つの視野内に捉えた試料の各粒子から発する散乱光をそれぞれセグメントとして抽出して、記録する。
【００４５】
二値化画像の全面の探索が終了した後、セグメントデータテーブル４３に記録された各セグメントに対して、構成画素列欄８９の総画素数を計算して、面積(画素数)欄８２に格納する。
【００４６】
また、各セグメントの重心位置｛各濃淡画像[二値化画像(ｓ画素×ｔ画素)]には、重心位置を算出するための座標Ｘｇ−Ｙｇが定義され、原点位置は画像の左上隅として、行方向にＸｇ軸、列方向にＹｇ軸が定義される。画素の一辺の長さは例えばｐと表す｝を計算して、セグメントデータテーブル４３の重心位置欄８４に格納する。
【００４７】
図１３(Ａ)には、セグメントデータテーブル４３中のセグメントＮＯ.(８１)＝１００であるセグメントで、１つの試料粒子から発した散乱光に基づくと見なせる黒画素の集合体から得られた比較的円形に近い１つのセグメントの例を示す。
試料粒子はほぼ球体と見なせると仮定して、その二値化画像の黒画素の集合体の外周形状は、散乱光検出部５２の撮像の分解能により円形への近似の程度は異なるが、矩形の画素の集合によって円形に近似される。
【００４８】
それに対し、図１３(Ｂ)には、セグメントデータテーブル４３中のセグメントＮＯ.(８１)＝２００であるセグメントで、塗布膜中の上下方向に２個の粒子が一部重なって見えているセグメントの例を示す。
【００４９】
セグメントデータテーブル４３に記録された各セグメントが、単一の粒子を表すのか、複数の粒子が一部重なっている場合を表すのかを識別するため、本実施例では以下の処理を行う。
【００５０】
１画素の１辺長をｐと表す｛本実施例では画素の縦と横の長さを同じ正方形とする。｝。各セグメントの総画素数を面積(画素数)欄８２に格納している。総画素数がＴpのセグメントが単一の試料粒子に基づくと仮定したとき、そのセグメントの形状は円形に近似されるべきであると想定して、仮想の直径Ｄsは、次式(数１)で表される。
【００５１】
【数１】
2019219310.tif 000003
ここで、Ｃfは予め定めた換算係数である。
【００５２】
算出した仮想の直径Ｄsは、セグメントデータテーブル４３のセグメント直径欄８８に記録する。
【００５３】
次に、図１３(Ａ)に示すセグメントにおいて、行方向の直径Ｄlm９１を、最も左側の列に在る画素から最も右側の列に在る画素までの行方向の画素数をカウントして設定する。ここでは１０と計算され、セグメントデータテーブル４３の行方向直径欄８６に記録する。同様に、列方向の直径Ｄrm９２を、最も上側の行に在る画素から最も下側の行に在る画素までの列方向の画素数をカウントして設定する。ここでは１０と計算され、セグメントデータテーブル４３の列方向直径欄８７に記録する。
【００５４】
同様にして、図１３(Ｂ)に示すセグメントにおいて、行方向の直径Ｄlm９１、および列方向の直径Ｄrm９２を計算して、セグメントデータテーブル４３の行方向直径欄８６、および列方向直径欄８７に記録する。
【００５５】
以上の計算結果より、各セグメントが次式(数２、数３)のいずれも満たすか否かを判定する。
（数２）    Ｃla・Ｄs ≦ Ｄlm・ｐ ≦Ｃua・Ｄs
（数３）    Ｃla・Ｄs ≦ Ｄrm・ｐ ≦Ｃua・Ｄs
ここで、Ｃlaは下限許容係数、Ｃuaは上限許容係数を表す。
【００５６】
すなわち、セグメントの行方向の直径Ｄlm９１、および列方向の直径Ｄrm９２のいずれもが、そのセグメントが円形に近似できると仮定した場合のセグメントの総画素数から推定したセグメントの直径Ｄsに対して、許容できる誤差範囲の下限値(Ｃla・Ｄs)、および上限値(Ｃua・Ｄs)の範囲内に収まっていれば、そのセグメントは単一の試料粒子から発光された散乱光に基づく画像であると判定する。そして、セグメントデータテーブル４３の単一 or 重なり識別フラグ欄８５に「単一」を表すフラグを設定する。
なお、上記した下限許容係数Ｃla、および上限許容係数Ｃuaは、ユーザが予め設定して、制御パラメータ４１に登録しておく。
【００５７】
図１３(Ｂ)に示すセグメントについて、上記の数２、数３の両式を満たすか否かを判定すると、行方向の直径Ｄlm・ｐ、および列方向の直径Ｄrm・ｐのいずれもが、Ｃua・Ｄsより大きいことが分かり、数２、数３の両式を満たしていない。従って、図１３(Ｂ)に示すセグメントは、複数の試料粒子が一部重なっている画像であると判定する。そして、セグメントデータテーブル４３の単一 or 重なり識別フラグ欄８５に「重なり」を表すフラグを設定する。
【００５８】
本実施例の塗布膜評価装置１０では、評価対象物７０に対して、照明部６２Ａ、６２Ｂの照射角を例えば７０度と設定して上方から照射して、塗布膜表面に在る粒子と、塗布膜中に在る粒子とを両方撮像して、試料粒子を解析する第１のステップと、照明部６２Ａ、６２Ｂの照射角を例えば２０度と浅く設定して照射して、塗布膜表面付近の粒子だけを浮き出させて撮像して、試料粒子を解析する第２のステップとを実施する。評価対象物７０を、レンズ部５１を介して散乱光検出部５２は同一視野で固定して、照明部６２Ａ、６２Ｂの照射角（および照射量）のみを２段階に変えて、２回撮像する。
【００５９】
２回撮像した散乱光検出画像は、濃淡画像処理部３２によりそれぞれ二値化処理が成されて、各二値化画像に対して試料粒子解析部３３によりそれぞれセグメントデータテーブルが作成される。塗布膜評価処理の目的としては、画像視野内に収まる塗布膜中に含まれる全ての試料粒子を一括して総合的に評価することである。そのためには、前記第１のステップで照明を上方から照射して粒子からの散乱光を撮像した画像を得ることで、塗布膜中の全ての粒子の散乱光を捉えた画像を解析することができる。ただし、塗布膜中で上下に位置する複数の粒子が重なって見えた場合に、重なった個々の粒子の大きさを評価することが出来ない。
【００６０】
そこで、本実施例では、第２のステップで、評価対象物７０の表面に対して比較的浅い照射角で照明を照射して、塗布膜の表面付近に在る粒子だけを浮き出させて撮像して解析すると、重なりが無い粒子像を得ることができる。
【００６１】
よって、第１のステップにおいて撮像した画像の解析において、重なりがあると判定されたセグメントは、第２のステップにおいて撮像した画像の解析により得られた該当箇所の塗布膜表面付近の粒子を表すセグメントと比較して、後ろ側に隠れた粒子を識別して、その粒径を推定する。
【００６２】
＜塗布膜評価装置１０による第１の評価値生成処理＞
図９は、以上に説明した塗布膜評価装置１０による第１の評価値生成処理の一例を説明するフローチャートである。該第１の評価値生成処理は、照明部６２Ａ、６２Ｂの照射角を２段階に設定して散乱光を検出するものであり、例えば、ユーザからの開始コマンドに応じて開始される。
【００６３】
ステップＳ１１において、ユーザが載置台６１に評価対象物７０を載置する。
【００６４】
次にステップＳ１２において、照射方向設定部６３Ａ、６３Ｂが、塗布膜評価処理制御部３１からの制御に基づいて照明部６２Ａ、６２Ｂの照射角を設定する。具体的には、制御パラメータ４１に記憶されている照射角の設定値を塗布膜評価処理制御部３１が読み出して照射方向設定部６３Ａ、６３Ｂに通知し、照射方向設定部６３Ａ、６３Ｂが照明部６２Ａ、６２Ｂの照射角を通知された設定値に調整する。本実施例では、第１のステップでは、両証明部の照射角を例えば７０度と設定し、第２のステップでは、両証明部の照射角を例えば２０度と設定する。
ただし、照明部６２Ａ、６２Ｂの照射角は、ユーザが設定するようにしてもよい。その場合、ユーザは入力部２３を用いて照射角の設定値を入力し、入力された照射角の設定値を、塗布膜評価処理制御部３１が照射方向設定部６３Ａ、６３Ｂに通知するようにすればよい。
次に、照射量設定部６４Ａ、６４Ｂが、塗布膜評価処理制御部３１からの制御に基づいて照明部６２Ａ、６２Ｂの照射量を設定し、照明部６２Ａ、６２Ｂが設定された照射量で評価対象物７０を照射する。具体的には、例えば、制御パラメータ４１に記憶されている照射量の初期値を塗布膜評価処理制御部３１が読み出して照射量設定部６４Ａ、６４Ｂに通知し、照射量設定部６４Ａ、６４Ｂが照明部６２Ａ、６２Ｂの照射量を初期値に設定する。そして、照射光が照射されている状態で散乱光検出部５２から得られる散乱光検出画像（いわゆる、スルー画像）に基づき、塗布膜評価処理制御部３１が最適な照射量を決定し、決定した最適な照射量を照射量設定部６４Ａ、６４Ｂに通知し、照射量設定部６４Ａ、６４Ｂが照明部６２Ａ、６２Ｂの照射量を最適な値に設定する。
なお、照明部６２Ａ、６２Ｂの照射量についても、ユーザが設定するようにしてもよい。その場合、ユーザは入力部２３を用いて照射量を入力し、入力された照射量に基づき、塗布膜評価処理制御部３１が照射量設定部６４Ａ、６４Ｂを制御するようにすればよい。
【００６５】
次に、ステップＳ１３において、散乱光検出部５２が、レンズ部５１を介して入射される評価対象物７０から発する散乱光を撮像して、散乱光検出画像(例えば、ｓ画素×ｔ画素のサイズの濃淡画像)を生成し、解析部２０へ送信する。
【００６６】
ステップＳ１４において、散乱光検出画像が供給された解析部２０では、濃淡画像処理部３２が、散乱光検出画像を濃淡画像記憶部４２へ格納する。｛第１のステップの散乱光検出画像と、第２のステップの散乱光検出画像とは異なる記憶領域に格納する。｝そして、濃淡画像処理部３２は、散乱光検出画像に対して、二値化処理、白黒反転処理を実行して、試料粒子の領域を黒画素で表した二値化画像を生成する。
【００６７】
ステップＳ１５において、試料粒子解析部３３が、濃淡画像記憶部４２に格納されている前記二値化画像（ｓ画素×ｔ画素）に対して、各試料粒子領域をセグメントとして抽出する処理を実行する。画像全面を処理した結果をセグメントデータテーブル４３に格納する。｛第１のステップのセグメントデータテーブルと、第２のステップのセグメントデータテーブルとは異なる記憶領域に格納する。｝
全セグメントデータを格納した後、各セグメントの面積(画素数)、重心位置、行方向直径、列方向直径、セグメント直径をそれぞれ計算して、セグメントデータテーブル４３に格納する。
【００６８】
ステップＳ１６において、試料粒子解析部３３は、Ｓ１５で抽出したセグメントデータテーブル４３に格納した各セグメントデータに対して、そのセグメントは、単一の試料粒子から発光された散乱光に基づく画像であるか、または複数の試料粒子が一部重なっている画像であるのかを、前記式(数２、数３)により判定して、判定結果をセグメントデータテーブル４３の単一 or 重なり識別フラグ欄８５に「単一」、又は「重なり」を表すフラグを設定する。
【００６９】
ステップＳ１７において、塗布膜評価処理制御部３１が、照明部の照射角を２段階に設定する処理のうち、第１のステップが終了したのか、または第２のステップが終了したのかを判定する。もし、第１のステップが終了したのであれば、第２のステップを実行するためにＳ１２へ移行する。もし、第２のステップも終了したのであれば、Ｓ１８の処理へ移行する。
【００７０】
ステップＳ１８において、試料粒子解析部３３は、第１のステップで作成したセグメントデータテーブル４３（以下、第１のセグメントデータテーブルと呼ぶ）を検索して、「重なり」を表すフラグが設定された各セグメントデータに対して、塗布膜表面側にある粒子と、後ろ側に一部が隠れた粒子とを区分けして識別する処理を実行する。
【００７１】
第２のステップで作成したセグメントデータテーブル４３（以下、第２のセグメントデータテーブルと呼ぶ）から、前記「重なり」を表すフラグが設定されたセグメント１００（図１４(Ａ)に例示する）の重心位置と、比較的近い位置に重心位置があるセグメント１０１（図１４(Ｂ)に例示する）を検索する。検索されたセグメント１０１（図１４(Ｂ)に例示する）は、第２のステップにおいて、塗布膜の表面付近に在る粒子だけを浮き出させて撮像された散乱光検出画像から求められたセグメントであり、これは塗布膜の表面側に在る粒子に基づくと見なせる。
【００７２】
よって、セグメント１００（図１４(Ａ)に例示する）から、セグメント１０１（図１４(Ｂ)に例示する）による差分を求めると、残されたセグメント１０２（図１４(Ｃ)に例示する）は、後ろ側に一部が隠れた試料粒子に基づくセグメントであると見なせる。
【００７３】
次に、セグメント１０２の重心位置を算出して、図１４(Ｄ)の上でその位置を１０３とプロットして示すと、同様にセグメント１０１の重心位置は１０４の位置にプロットして示され、重心１０３と重心１０４とを通る重なりセグメント１００の中心線１０５が引かれる。そして、セグメント１０２の領域で、中心線１０５の両側に中心線１０５から最も遠い距離にある画素の中心までの距離ベクトル１０６、１０７を求める。図１４(Ｄ)の例では、距離ベクトル１０６の方が距離ベクトル１０７より長い。
【００７４】
次に、図１４(Ｅ)に示すように、セグメント１０２の画素の中で重心１０３から中心線１０５方向に最も外側にある画素１０８の中心位置から、中心線１０５上に距離ベクトル１０６と同じ長さのベクトル１０９を仮定して、ベクトル１０９の先端位置をセグメント１０２の仮定の中心１１０とする。そして、仮定の中心１１０より、半径がベクトル１０９の長さのセグメント１０２の仮定の外周の円弧１１１をセグメント１０１の領域に引く。
【００７５】
次に、図１４(Ｆ)に示すように、仮定の外周の円弧１１１に掛かる、およびその円弧内に含まれるセグメント１０１の画素が、セグメント１０１の裏側に隠れていたセグメント１０２の画素であると推定して、それらの画素とセグメント１０２の画素とを合わせて、後ろ側に一部が隠れた粒子に基づくセグメント１１２と推定する。推定したセグメント１１２を第１のセグメントデータテーブルに新たなセグメントとして登録する｛例えば、図１１のセグメントデータテーブル４３中のセグメントＮＯ.(８１)＝１５６１であるセグメントとして登録する。｝と共に、「重なり」を表すフラグが設定されたセグメント１００のデータを、塗布膜表面側にある粒子のセグメントデータである第２のセグメントデータテーブルのセグメント１０１のデータによって置き換える。
【００７６】
以上の処理を、第１のセグメントデータテーブルに登録された「重なり」を表すフラグが設定された全てのセグメントデータに対して実行する。
【００７７】
ステップＳ１９において、評価値生成部３４が、第１のセグメントデータテーブルに登録されている単一の試料粒子に基づくと見なせる全てのセグメントを対象として、そのセグメント直径値８８を読み出し、実際の粒径値Ｄｐに換算して、例えば図１０に示す粒径値Ｄｐの範囲ごとの粒子数をカウントして、第１の粒度分布の評価値を生成して出力する。
【実施例２】
【００７８】
次に、図１５は、本発明に係る実施例２の塗布膜評価装置１２０の構成例を示すブロック図である。
塗布膜評価装置１２０は、実施例１の塗布膜評価装置１０（図１）に対して、解析部２０の演算部２１中に散乱光検出画像合成部３５を追加したものである。散乱光検出画像合成部３５以外の構成要素については同一の符号を付し、その説明は省略する。
【００７９】
散乱光検出画像合成部３５は、照明部６２Ａ、６２Ｂの照射角を異なる複数の状態に設定して、評価対象物７０からの散乱光を撮像した複数の散乱光検出画像を合成することにより合成画像を生成する。ここで、合成画像とは、複数の散乱光検出画像における同一座標の画素値の加算値を画素値としたもの、または、複数の散乱光検出画像における同一座標の画素値の平均値を画素値としたものとする。なお、本実施例において、照明部６２Ａ、６２Ｂの照射角を１つだけ設定して、１つの散乱光検出画像だけ入力して、散乱光検出画像合成部３５は実行せずに評価値生成処理を実行する場合も例外として、本実施例に含むものとする。
【００８０】
図１６は、以上に説明した塗布膜評価装置１２０による第２の評価値生成処理の一例を説明するフローチャートである。該第２の評価値生成処理は、照明部６２Ａ、６２Ｂの照射角を複数段階に設定して散乱光を検出するものであり、例えば、ユーザからの開始コマンドに応じて開始される。
【００８１】
ステップＳ２０において、ユーザが載置台６１に評価対象物７０を載置する。
【００８２】
次にステップＳ２１において、Ｓ１２と同様に、照射方向設定部６３Ａ、６３Ｂが、塗布膜評価処理制御部３１からの制御、またはユーザによる設定に基づいて照明部６２Ａ、６２Ｂの照射角を設定する。
次に、照射量設定部６４Ａ、６４Ｂが、塗布膜評価処理制御部３１からの制御、またはユーザによる設定に基づいて照明部６２Ａ、６２Ｂの照射量を設定し、照明部６２Ａ、６２Ｂが設定された照射量で評価対象物７０を照射する。
【００８３】
次に、ステップＳ２２において、散乱光検出部５２が、レンズ部５１を介して入射される評価対象物７０から発する散乱光を撮像して、散乱光検出画像(例えば、ｓ画素×ｔ画素のサイズの濃淡画像)を生成し、解析部２０へ送信する。
【００８４】
ステップＳ２３において、散乱光検出画像が供給された解析部２０では、濃淡画像処理部３２が、散乱光検出画像を濃淡画像記憶部４２に格納する。
【００８５】
ステップＳ２４において、塗布膜評価処理制御部３１が、次に設定すべき照明部の照射角が在るかを判定する。すなわち、制御パラメータ４１に登録されているデータが在るか、またはユーザが設定した照射角データが在ればＳ２１へ移行する。照射角データが無ければＳ２５へ移行する。
【００８６】
ステップＳ２５において、散乱光検出画像合成部３５は、濃淡画像記憶部４２に格納されている複数の散乱光検出画像に対して、各散乱光検出画像の同一座標の画素値の加算値を合成画像の同一座標の画素値とする演算、または各散乱光検出画像の同一座標の画素値の平均値を合成画像の同一座標の画素値とする演算を行う。演算した合成画像を濃淡画像記憶部４２に記憶する。
【００８７】
ステップＳ２６において、濃淡画像処理部３２は、合成濃淡画像に対して、二値化処理、白黒反転処理を実行して、試料粒子の領域を黒画素で表した二値化画像を生成する。
【００８８】
ステップＳ２７において、試料粒子解析部３３が、濃淡画像記憶部４２に格納されている前記二値化画像（ｓ画素×ｔ画素）に対して、各試料粒子領域をセグメントとして抽出する処理を実行する。画像全面を処理した結果をセグメントデータテーブル４３に格納する。
【００８９】
ステップＳ２８において、試料粒子解析部３３が、Ｓ２７で全セグメントデータを格納した後、各セグメントの面積(画素数)、セグメント直径をそれぞれ計算して、セグメントデータテーブル４３に格納する。
【００９０】
ステップＳ２９において、評価値生成部３４は、セグメントデータテーブル４３に登録されている全てのセグメントデータを、単一の粒子に基づくか、または重なっている粒子に基づくセグメントであるかの識別を付けずに、各セグメント直径値８８を読み出し、実際の粒径値Ｄｐに換算して、例えば図１７に示す粒径値Ｄｐの範囲ごとの粒子数をカウントして、第２の粒度分布の評価値を生成して出力する。
【００９１】
ところで、上記した実施例１、２における解析部２０については、ハードウェアにより構成することもできるし、ソフトウェアにより実現することもできる。解析部２０をソフトウェアにより実現する場合には、そのソフトウェアを構成するプログラムが、コンピュータにインストールされる。ここで、コンピュータには、専用のハードウェアに組み込まれているコンピュータや、各種のプログラムをインストールすることで、各種の機能を実行することが可能な、例えば汎用のパーソナルコンピュータ等が含まれる。
【００９２】
図１８は、解析部２０をプログラムにより実現するコンピュータのハードウェアの構成例を示すブロック図である。
【００９３】
このコンピュータ２００において、ＣＰＵ（Central Processing Unit）２０１、ＲＯＭ（Read Only Memory）２０２、ＲＡＭ（Random Access Memory）２０３は、バス２０４により相互に接続されている。
【００９４】
バス２０４には、さらに、入出力インターフェース２０５が接続されている。入出力インターフェース２０５には、入力部２３、出力部２４、記憶部２２、通信部２５、及びドライブ２０６が接続されている。
【００９５】
入力部２３は、キーボード、マウス等の入力デバイスよりなる。出力部２４は、ＬＣＤ（Liquid Crystal Display）、有機ＥＬディスプレイなどの表示装置、各種出力装置等よりなる。記憶部２２は、ハードディスクや不揮発性のメモリ等よりなる。通信部２５は、ネットワークインターフェース等よりなる。ドライブ２０６は、磁気ディスク、光ディスク、光磁気ディスク、又は半導体メモリ等のリムーバブルメディア２０７を駆動する。
【００９６】
以上のように構成されるコンピュータ２００では、CPU２０１が、例えば、記憶部２２に記憶されているプログラムを、入出力インターフェース２０５及びバス２０４を介して、RAM２０３にロードして実行することにより、解析部２０が実現される。
【００９７】
コンピュータ２００（ＣＰＵ２０１）が実行するプログラムは、例えば、パッケージメディア等としてのリムーバブルメディア２０７に記録して提供することができる。また、プログラムは、ローカルエリアネットワーク、インターネット、デジタル衛星放送といった、有線または無線の伝送媒体を介して提供することができる。
【００９８】
コンピュータ２００では、プログラムは、リムーバブルメディア２０７をドライブ２０６に装着することにより、入出力インターフェース２０５を介して、記憶部２２にインストールすることができる。また、プログラムは、有線または無線の伝送媒体を介して、通信部２５で受信し、記憶部２２にインストールすることができる。その他、プログラムは、ROM２０２や記憶部２２に、予めインストールしておくことができる。
【００９９】
なお、コンピュータ２００が実行するプログラムは、本明細書で説明する順序に沿って時系列に処理が行われるプログラムであってもよいし、並列に、あるいは呼び出しが行われたとき等の必要なタイミングで処理が行われるプログラムであってもよい。
【０１００】
本明細書に記載された効果は、あくまで例示であって限定されるものではなく、他の効果があってもよい。
【０１０１】
本発明は、上記した実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記した各実施例は、本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、本発明が、必ずしも説明した全ての構成要素を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施例の構成の一部を、他の実施例の構成に置き換えることが可能であり、ある実施例の構成に、他の実施例の構成を加えることも可能である。また、各実施例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。
【０１０２】
また、上記の各構成、機能、処理部、処理手段等は、それらの一部または全部を、例えば集積回路で設計する等によりハードウェアで実現してもよい。また、上記の各構成、機能等は、プロセッサがそれぞれの機能を実現するプログラムを解釈し、実行することによりソフトウェアで実現されてもよい。各機能を実現するプログラム、テーブル、ファイル等の情報は、メモリや、ハードディスク、ＳＳＤ(Solid State Drive)等の記憶装置、または、ＩＣカード、ＳＤカード、ＤＶＤ等の記録媒体に置くことができる。また、制御線や情報線は説明上必要と考えられるものを示しており、製品上必ずしも全ての制御線や情報線を示しているとは限らない。実際には殆ど全ての構成が相互に接続されていると考えてもよい。
【０１０３】
本発明は、粒度分布評価方法、及び塗布膜評価装置だけでなく、複数の装置から構成されるシステムや、コンピュータ読み取り可能なプログラム等の様々な態様で提供することができる。
【符号の説明】
【０１０４】
１０・・・塗布膜評価装置、２０・・・解析部、２１・・・演算部、２２・・・記憶部、２３・・・入力部、２４・・・出力部、２５・・・通信部、２６・・・ネットワーク、３１・・・塗布膜評価処理制御部、３２・・・濃淡画像処理部、３３・・・試料粒子解析部、３４・・・評価値生成部、３５・・・散乱光検出画像合成部、４１・・・制御パラメータ、４２・・・濃淡画像記憶部、４３・・・セグメントデータテーブル、４４・・・評価結果記憶部、５１・・・レンズ部、５２・・・散乱光検出部、５３・・・外部コンピュータ、６１・・・載置台、６２Ａ、６２Ｂ・・・照明部、６３Ａ、６３Ｂ・・・照射方向設定部、６４Ａ、６４Ｂ・・・照射量設定部、
７０・・・評価対象物、７１・・・塗布膜層、７２・・・フィルム、７３・・・粒子、
７４・・・塗布液、７５・・・塗布液容器、７６・・・検出された散乱光、７７・・・塗布膜中に一部重なって見える粒子領域、９１・・・行方向の直径Ｄlm、９２・・・列方向の直径Ｄrm、
１００・・・「重なり」を表すフラグが設定されたセグメント、１０１・・・セグメント１００と比較的近い位置に重心位置があるセグメント、１０２・・・セグメント１００からセグメント１０１による差分を求めて残されたセグメント、１０３・・・セグメント１０２の重心位置、１０４・・・セグメント１０１の重心位置、１０５・・・重心１０３と重心１０４とを通る重なりセグメント１００の中心線１０５、１０６、１０７・・・セグメント１０２の領域で、中心線１０５の両側に中心線１０５から最も遠い距離にある画素の中心までの距離ベクトル、１０８・・・セグメント１０２の画素の中で重心１０３から中心線１０５方向に最も外側にある画素、１０９・・・画素１０８の中心位置から、中心線１０５上に距離ベクトル１０６と同じ長さのベクトル、１１０・・・ベクトル１０９の先端位置であるセグメント１０２の仮定の中心、１１１・・・仮定の中心１１０より半径がベクトル１０９の長さのセグメント１０２の仮定の外周の円弧、１１２・・・推定した後ろ側に一部が隠れた粒子に基づくセグメント、
１２０・・・実施例２の塗布膜評価装置、２００・・・コンピュータ、２０１・・・ＣＰＵ、２０２・・・ＲＯＭ、２０３・・・ＲＡＭ、２０４・・・バス、２０５・・・入出力インターフェース、２０６・・・ドライブ、２０７・・・リムーバブルメディア
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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