(57)【要約】【課題】大面積の発光領域を、良好な発光で実現することができる面発光装置を提供することを目的とする。【解決手段】基板１１と、前記基板１１上に配置された複数の面発光素子２１とを備え、前記複数の面発光素子２１が、それぞれ、前記基板１１に近い側の第１電極１３と、前記基板１１から遠い側の第２電極１５と、前記第１電極１３と前記第２電極１５とに挟まれた有機発光層１４とを備え、前記第２電極１５が、透光性を有する薄膜金属層からなり、隣り合う前記面発光素子２１のうちの、一方の面発光素子２１の第２電極１５と、他方の面発光素子の第１電極１３とが、隣り合う前記面発光素子２１の間で接続され、隣り合う前記面発光素子２１の間に存在する、前記一方の面発光素子２１の第２電極１５に接触した状態で、前記第２電極１５と前記基板１１との間に配置された下地層１２を備える面発光装置１０である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板上に配置された複数の面発光素子とを備え、
前記複数の面発光素子が、それぞれ、前記基板に近い側の第１電極と、前記基板から遠い側の第２電極と、前記第１電極と前記第２電極とに挟まれた有機発光層とを備え、
前記第２電極が、透光性を有する薄膜金属層からなり、
隣り合う前記面発光素子のうちの、一方の面発光素子の第２電極と、他方の面発光素子の第１電極とが、隣り合う前記面発光素子の間で接続され、
隣り合う前記面発光素子の間に存在する、前記一方の面発光素子の第２電極に接触した状態で、前記第２電極と前記基板との間に配置された下地層を備えることを特徴とする面発光装置。
【請求項２】
前記下地層が、接触する前記第２電極の膜質を向上させるための層である請求項１に記載の面発光装置。
【請求項３】
前記下地層が、カルシウム、硫化亜鉛、窒素含有化合物、金属酸化物、及びフッ化カリウムからなる群から選ばれる少なくとも１種を含む層である請求項１又は請求項２に記載の面発光装置。
【請求項４】
前記第１電極が、透光性を有する薄膜金属層からなる請求項１〜３のいずれか１項に記載の面発光装置。
【請求項５】
前記下地層が、隣り合う前記面発光素子の間において、前記一方の面発光素子の第２電極、前記一方の面発光素子の有機発光層、及び前記他方の面発光素子の第１電極と接触する請求項１〜４のいずれか１項に記載の面発光装置。
【請求項６】
前記下地層が、隣り合う前記面発光素子の間を２つ以上にわたって存在する請求項１〜５のいずれか１項に記載の面発光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、面発光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅｓ：ＯＬＥＤ）等と呼ばれる有機ＥＬ(Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ)素子が発光素子として知られている。また、有機ＥＬ素子は、面状の発光が得られ、さらに、省電力及び軽量であること等から、ディスプレイ装置や照明装置等に用いられることが検討されている。
【０００３】
また、ディスプレイ装置や照明装置の大面積化の要求等に応えるために、有機ＥＬ素子を用いた面発光装置も、発光する領域の大面積化が求められている。しかしながら、有機ＥＬ素子は、発光領域を大面積化させると、輝度むら等が発生するという課題がある。有機ＥＬ素子は、一般的に、電圧を印加すると発光する機能を有する有機発光層と、この有機発光層を挟持する一対の電極とを備える。このような構成を有する有機ＥＬ素子は、有機発光層に印加される電圧が、有機ＥＬ素子への給電点からの距離に応じて変動するため、発光領域における位置によって、有機発光層から照射される光の強さが異なる傾向がある。そして、有機ＥＬ素子は、有機発光層で発生した光を素子外に放射するため、前記一対の電極のうち、少なくとも一方の電極を透明電極とすることが一般的である。この透明電極は、電気抵抗が高いため、有機ＥＬ素子への給電点からの距離に応じた、有機発光層に印加される電圧の変動が顕著となる。これらのことから、有機ＥＬ素子は、発光領域を大面積化させると、輝度むら等が発生することになる。よって、有機ＥＬ素子を用いた面発光装置は、単一の有機ＥＬ素子を発光素子として用いただけでは、輝度むらの発生等を抑制させ、かつ、発光領域を大面積化させることは困難であった。
【０００４】
そこで、有機ＥＬ素子を用いた面発光装置として、発光領域の大面積化を実現するために、複数の発光領域によって、擬似的に大面積にする方法が知られている。この方法としては、例えば、特許文献１及び特許文献２に記載の方法等が挙げられる。
【０００５】
特許文献１には、複数の発光領域が設けられ、各発光領域は、それぞれ、透明電極及び他の電極に挟持された有機層を備え、物理的に隣接する発光領域の透明電極間には絶縁部が設けられ、複数の発光領域が電気的に直列に接続されている有機電界発光素子が記載されている。
【０００６】
また、特許文献２には、基板と、少なくとも１つの直列接続有機ＥＬ素子群と、少なくとも１つの色変換層とを有する有機ＥＬデバイスであって、前記直列接続有機ＥＬ群は、前記基板側から第１電極、有機ＥＬ層、及び第２電極をこの順に有する複数の有機ＥＬ素子から構成され、第１電極及び第２電極の少なくとも一方は透明電極であり、前記直列接続有機ＥＬ素子群を構成する有機ＥＬ素子のそれぞれの第１電極は、隣接する有機ＥＬ素子の第２電極と電気的に接続されており、前記少なくとも１つの色変換層は有機ＥＬ素子間の少なくとも一部に延在している有機ＥＬデバイスが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−１１６１９３号公報
【特許文献２】特開２００９−１８１７５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１によれば、有機層の各位置における電流密度が実質的に均一であり、不良が極めて生じにくい有機電界発光素子を提供することができる旨が開示されている。また、特許文献２によれば、発光効率に優れ、かつ低コストな光源が可能となる旨が開示されている。すなわち、特許文献１及び特許文献２に記載されているような面発光装置は、基板内に複数の発光素子を設け、隣り合う発光素子の一方の発光素子の第２電極と他方の発光素子の第１電極とを、発光素子間の非発光エリアで電気的に直列に接続することで、発光領域の大面積化を擬似的に実現している。
【０００９】
しかしながら、本発明者が検討したところ、このような複数の面発光素子を用いた場合、良好な発光が実現できない場合があった。このことは、このような面発光装置では、隣接する面発光素子間において確実に電気的に接続しなければならないが、隣接する面発光素子間で、電極が好適に形成されない場合があることによると考えた。基板から遠い側の電極が、透光性を有する薄膜金属層からなる透明電極である場合、すなわち、いわゆるトップエミッション構造の場合であって、隣接する面発光素子間において、それぞれの面発光素子の、基板に近い側の電極同士が離反して設けられる場合がある。このような場合、基板から遠い側の電極である透明電極を、基板に近い側の電極の間に存在する基板や有機発光層等の上に形成することによって、隣り合う面発光素子間を電気的に接続することになる。また、透明電極は、基板上に形成されにくい傾向があり、基板上の狭い箇所や複雑な形状の箇所に透明電極を形成する場合には、その傾向が顕著になることを、本発明者が見出した。このため、隣り合う面発光素子間における、基板の狭い箇所や複雑な形状の箇所での透明電極が好適に形成されず、隣接する面発光素子間において確実に電気的に接続されない場合があった。よって、基板とは反対側から、光を取り出す場合、基板から遠い側の電極である透明電極が、隣接する面発光素子間で好適に形成されず、良好な発光が得られない場合があった。
【００１０】
また、特許文献１及び特許文献２に記載されているような面発光装置は、基板から近い側の電極が、透明電極である場合、すなわち、いわゆるボトムエミッション構造の場合、基板上等に形成される透明電極の面積が大きくなり、透明電極の形成されにくさが問題になりにくいとも考えられる。しかしながら、基板から近い側の電極が、透明電極ではなく、反射電極等であると、電極が厚く、面発光素子間の距離を広くする必要があると考えられる。面発光素子間の距離が広いと、発光しない領域が増え、面発光装置として、良好な発光が得られにくかった。
【００１１】
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであって、大面積の発光領域を、良好な発光で実現することができる面発光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者は、種々検討した結果、上記目的は、以下の本発明により達成されることを見出した。
【００１３】
本発明の一態様に係る面発光装置は、基板と、前記基板上に配置された複数の面発光素子とを備え、前記複数の面発光素子が、それぞれ、前記基板に近い側の第１電極と、前記基板から遠い側の第２電極と、前記第１電極と前記第２電極とに挟まれた有機発光層とを備え、前記第２電極が、透光性を有する薄膜金属層からなり、隣り合う前記面発光素子のうちの、一方の面発光素子の第２電極と、他方の面発光素子の第１電極とが、隣り合う前記面発光素子の間で接続され、隣り合う前記面発光素子の間に存在する、前記一方の面発光素子の第２電極に接触した状態で、前記第２電極と前記基板との間に配置された下地層を備える。
【００１４】
このような構成によれば、基板上に配置する面発光素子の数を増やすことによって、発光領域の面積を広げることができ、発光面積の大面積化を実現することができる。また、隣り合う面発光素子間において、薄膜金属層である第２電極を、基板上に直接配置されるのではなく、下地層を介して配置することになる。このため、基板から遠い側の第２電極を、第２電極から遠い基板上にまで形成させる必要がなく、下地層上に形成することになる。このことから、隣り合う面発光素子間の距離を短くしても、そこに配置される第２電極である薄膜金属層を好適に形成できる。よって、隣り合う前記面発光素子のうちの、一方の面発光素子の第２電極と、他方の面発光素子の第１電極とが、隣り合う前記面発光素子の間で好適に接続される。よって、隣り合う面発光素子間の距離を短くしても、複数の面発光素子が、隣接する面発光素子間において電気的に好適に接続される。
【００１５】
以上のことから、大面積の発光領域を、良好な発光で実現することができる面発光装置を提供することができる。
【００１６】
また、前記面発光装置において、前記下地層が、接触する前記第２電極の膜質を向上させるための層であることが好ましい。すなわち、前記下地層が、接触する前記薄膜金属層の膜質を、前記基板と接触させたときの薄膜金属層の膜質より向上させるための層であることが好ましい。
【００１７】
このような構成によれば、隣り合う面発光素子間に配置される第２電極である薄膜金属をより好適に形成できるので、複数の面発光素子がより好適に電気的に接続される。よって、大面積の発光領域を、より良好な発光で実現することができる。
【００１８】
また、前記面発光装置において、前記下地層が、カルシウム、硫化亜鉛、窒素含有化合物、金属酸化物及びフッ化カリウムからなる群から選ばれる少なくとも１種を含む層であることが好ましい。
【００１９】
このような構成によれば、このような下地層が、前記基板と前記第２電極の間に介在することにより、前記第２電極である薄膜金属層の膜質を、前記基板と直接接触させたときの薄膜金属層の膜質より向上させることができる。このため、隣り合う面発光素子間に配置される第２電極である薄膜金属層をより好適に形成できるので、複数の面発光素子がより好適に電気的に接続される。よって、大面積の発光領域を、より良好な発光で実現することができる。
【００２０】
また、前記面発光装置において、前記第１電極が、透光性を有する薄膜金属層からなることが好ましい。
【００２１】
このような構成によれば、前記有機発光層で発生した光を、前記第１電極側からも取り出すことができる。
【００２２】
また、前記面発光装置において、前記下地層が、隣り合う前記面発光素子の間において、前記一方の面発光素子の第２電極、前記一方の面発光素子の有機発光層、及び前記他方の面発光素子の第１電極と接触することが好ましい。
【００２３】
このような構成によれば、隣り合う前記面発光素子の間において、前記他方の面発光素子の第１電極だけではなく、前記一方の面発光素子の第２電極や前記一方の面発光素子の有機発光層にも接触するように、下地層を配置する。このため、隣り合う面発光素子間に配置される第２電極である薄膜金属層が下地層に、より確実に接触することになり、前記第２電極が、より好適に形成できる。また、前記第１電極が薄膜金属層である場合、前記第１電極、特に前記第２電極に近いところを、好適に形成することができる。このことにより、前記第１電極と第２電極との電気的な接続をより好適に行うことができる。よって、大面積の発光領域を、より良好な発光で実現することができる。
【００２４】
また、前記面発光装置において、前記下地層が、隣り合う前記面発光素子の間を２つ以上にわたって存在することが好ましい。
【００２５】
このような構成によれば、隣り合う面発光素子間に配置される第２電極である薄膜金属層が下地層に、より確実に接触することになり、前記第２電極が、より好適に形成できる。よって、大面積の発光領域を、より良好な発光で実現することができる。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、大面積の発光領域を、良好な発光で実現することができる面発光装置を提供することを目的とする。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】図１は、本発明の実施形態に係る面発光装置の構成を示す概略断面図である。
【図２】図２は、本発明の実施形態に係る面発光装置の製造方法を説明するための概略断面図である。
【図３】図３は、本発明の実施形態に係る面発光装置の製造方法を説明するための概略上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明に係る実施形態について説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。
【００２９】
本発明の実施形態に係る面発光装置１０は、図１に示すように、基板１１と、前記基板１１上に配置された複数の面発光素子２１とを備える。また、前記複数の面発光素子２１は、それぞれ、前記基板１１に近い側の第１電極１３と、前記基板１２から遠い側の第２電極１５と、前記第１電極１３と前記第２電極１５とに挟まれた有機発光層１４とを備える。前記有機発光層１４は、電圧を印加すると発光する機能を有する層である。また、前記面発光素子２１は、前記第２電極１５が、透光性を有する薄膜金属層からなる。すなわち、前記第２電極１５は、可視光を透過可能な厚みの薄膜金属層からなる。前記面発光素子２１は、前記第１電極１３と前記第２電極１５との間に電圧を印加することによって、前記有機発光層１４から光が照射され、基板１１から遠い側の電極である第２電極１５に透光性があるので、少なくとも前記第２電極１５側から、面状の光が取り出される。また、前記面発光装置１０は、隣り合う前記面発光素子２１のうちの、一方の面発光素子２１の第２電極１５と、他方の面発光素子２１の第１電極１３とが、隣り合う前記面発光素子２１の間で接続される。このような面発光装置１０は、基板１１上に配置された複数の面発光素子２１を同時に発光させることができる。このような面発光装置１０において、面状に発光される面発光素子２１を、前記基板１１に配置する数を増やすことによって、各面発光素子２１の発光面積を大きくしなくても、面発光装置１０としての発光領域の面積を広げることができ、発光面積の大面積化を実現することができる。なお、図１は、本実施形態に係る面発光装置の構成を示す概略断面図である。また、図１に示す面発光素子では、左側の面発光素子が、一方の面発光素子に相当し、右側の面発光素子が、他方の面発光素子に相当するが、これに限定されず、面発光素子の第１電極が、隣に位置する面発光素子の第２電極と、隣り合う面発光素子の間で電気的に接続されていればよい。
【００３０】
また、前記面発光装置１０は、隣り合う前記面発光素子２１の間に存在する、前記一方の面発光素子２１の第２電極１５に接触した状態で、前記第２電極１５と前記基板１１との間に配置された下地層１２を備える。このような面発光装置１０は、透光性を有する薄膜金属層からなる透明電極は、前記基板１１上に形成されにくい傾向があっても、隣り合う面発光素子２１間において、薄膜金属層である第２電極１５を、前記基板１１上に直接配置されるのではなく、前記下地層１２を介して配置することになる。このため、基板から遠い側の第２電極１５を、第２電極１５から遠い基板１１上にまで形成させる必要がなく、下地層１２上に形成することになる。このことから、隣り合う面発光素子２１間の距離を短くしても、そこに配置される第２電極１５である薄膜金属層を好適に形成できる。よって、隣り合う前記面発光素子２１のうちの、一方の面発光素子２１の第２電極１５と、他方の面発光素子２１の第１電極１３とが、隣り合う前記面発光素子２１の間で好適に接続される。よって、隣り合う面発光素子２１間の距離を短くしても、複数の面発光素子２１が、隣接する面発光素子２１間において電気的に好適に接続される。これらのことから、前記面発光装置１０は、大面積の発光領域を、良好な発光で実現することができる。
【００３１】
前記基板１１は、有機ＥＬ素子等の面発光素子に用いられる基板であれば、特に限定されない。また、前記面発光素子２１は、基板１１から遠い側の電極である第２電極１５が、透光性を有する薄膜金属層からなるので、基板１１側から光を取り出さず、基板１１とは反対側から光を取り出せばよいので、透光性を有していても有していなくてもよい。前記面発光素子２１が基板１１側から光を取り出す場合には、前記基板１１は、透光性を有する基板、いわゆる透明基板である。また、前記透明基板としては、具体的には、ガラス基板、樹脂フィルム、及び樹脂基板等が挙げられる。
【００３２】
前記ガラス基板は、面発光素子に用いられるガラス基板であれば、特に限定されない。前記ガラス基板としては、例えば、シリカガラス、ソーダ石灰シリカガラス、鉛ガラス、ホウケイ酸塩ガラス、及び無アルカリガラス等からなるガラス基板が挙げられる。
【００３３】
また、樹脂フィルム及び樹脂基板は、面発光素子に用いられる樹脂フィルム及び樹脂基板であれば、特に限定されない。樹脂フィルム及び樹脂基板を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びポリエチレンナフレート等のポリエステル、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、及びエチレン酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、ポリ塩化ビニル及びポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリサルホン（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、及びトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等が挙げられる。
【００３４】
また、前記透明基板は、大気中の酸素や水分等を遮断する目的で、ガスバリア層を備えることが好ましい。前記ガスバリア層を構成する材料としては、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化窒化シリコン、窒化アルミニウム、及び酸化アルミニウム等の、金属酸化物及び金属窒化物等が挙げられる。これらの材料は、水蒸気バリア機能だけではなく、酸素バリア機能も有する。また、これらの材料の中でも、特に、バリア性、耐溶剤性、及び透明性が良好な点から、窒化シリコン及び酸化窒化シリコンが好ましい。また、前記ガスバリア層は、必要に応じて、多層構成にしてもよい。また、ガスバリア層の形成方法は、特に限定されない。また、ガスバリア層の形成方法は、ガスバリア層を構成する材料によって異なるが、例えば、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、及びスパッタリング法等を用いる方法等が挙げられる。
【００３５】
また、前記面発光素子２１は、上述したように、前記基板１１上に複数配置される。この複数の面発光素子２１は、それぞれ、前記基板１１に近い側の第１電極１３と、前記基板１２から遠い側の第２電極１５と、前記第１電極１３と前記第２電極１５とに挟まれた有機発光層１４とを備える。また、前記面発光素子２１は、このような構成を備え、面状の発光が得られる発光素子であれば、特に限定されない。前記面発光素子２１としては、例えば、有機発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅｓ：ＯＬＥＤ）等と呼ばれる有機ＥＬ(Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ)素子等が挙げられる。また、前記面発光素子２１は、前記第１電極１３、前記第２電極１５、及び前記有機発光層１４を覆うように、封止層１６を備えることが一般的であり、封止層１６を備えていてもよい。
【００３６】
前記面発光素子２１において、前記第１電極１３が、陽極であり、前記第２電極１５が、陰極である場合であってもよいし、前記第１電極１３が、陰極であり、前記第２電極１５が、陽極である場合であってもよい。以下、前記第１電極１３が、陽極であり、前記第２電極１５が、陰極である場合であることを前提としての記載もあるが、これに限定されない。
【００３７】
前記第２電極１５は、面発光素子の電極、例えば、陰極として用いることができ、かつ、透光性を有する薄膜金属層からなるものであれば、特に限定されない。前記第２電極１５は、例えば、可視光を透過させることが可能な厚さである薄膜金属層等が挙げられる。また、前記第２電極１５を構成する材料は、薄くすることで、可視光を透過させることが可能な金属、例えば、透明電極に用いられる金属、合金、及びこれらの混合物等を電極材料として含むものが挙げられる。前記第２電極１５を構成する電極材料としては、具体的には、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、及び金（Ａｕ）等が挙げられる。また、前記第２電極１５である薄膜金属層としては、Ａｇ薄膜等の、Ａｇを主成分として含む膜、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）膜、及び酸化インジウム・酸化亜鉛（ＩＺＯ）膜等が挙げられる。また、前記第２電極１５は、電気伝導率が大きい等の点から、Ａｇを主成分として含む膜が好ましい。Ａｇを主成分として含む膜とは、例えば、Ａｇを主成分とする合金（Ａｇを５０質量％以上含む合金）からなる膜等が挙げられる。Ａｇを主成分とする合金としては、例えば、銀マグネシウム、銀銅、銀パラジウム、銀パラジウム銅、銀インジウム、銀アルミニウム、及び銀金等が挙げられる。
【００３８】
前記第２電極１５の膜厚は、可視光を透過させることが可能な厚さであれば、特に限定されない。前記第２電極１５の膜厚は、具体的には、８〜３０ｎｍであることが好ましく、８〜２０ｎｍであることがより好ましく、８〜１５ｎｍであることが好ましい。前記第２電極１５が薄すぎると、電極としての導電性を充分に確保できない傾向がある。また、前記第２電極１５が厚すぎると、可視光の透過性を充分に確保できない傾向がある。よって、前記第２電極１５の膜厚を上記範囲内にすることによって、電極としての導電性を有し、かつ、充分な透光性を有する。
【００３９】
また、前記第２電極１５の形成方法は、前記第２電極を形成することができれば、特に限定されない。前記第２電極１５の形成方法としては、具体的には、塗布法、インクジェット法、コーティング法、ディップ法等のウェットプロセスを用いる方法、及び蒸着法、スパッタ法、化学気相成長（ＣＶＤ）法等のドライプロセスを用いる方法等が挙げられる。前記第２電極１５の形成方法としては、より具体的には、前記電極材料を蒸着やスパッタリング等の方法により、所望の形状のパターンとなるように、薄膜金属層を形成する。パターンを形成する方法としては、例えば、パターン精度をあまり必要としない場合、例えば、幅等が１００μｍ以上の場合等は、前記電極材料の蒸着やスパッタリング時に、所望の形状のマスクを介して、パターンを形成する方法等が挙げられる。
【００４０】
前記第１電極１３は、面発光素子の電極、例えば、陽極として用いられるものであれば、特に限定されない。また、前記第１電極１３は、透光性を有していてもいなくてもよいが、透光性を有する薄膜金属層からなることが好ましい。そうすることによって、前記有機発光層１４で発生した光を、前記第１電極１３側からも取り出すことができる。前記第１電極１３として、前記薄膜金属層を用いる場合は、前記第１電極１３は、上記第２電極１５と同様の電極を用いることができる。
【００４１】
前記有機発光層１４は、電圧を印加すると発光する機能を有する層であって、面発光素子の有機発光層として用いられる層であれば、特に限定されない。前記有機発光層１４は、発光に直接かかわる発光機能層だけではなく、他の層を積層していてもよい。他の層としては、例えば、正孔輸送層、正孔注入層、電子輸送層、及び電子注入層等が挙げられる。この積層状態の例を説明するために、面発光素子の構成として、陽極及び陰極も合わせて記載する。面発光素子の構成としては、具体的には、陽極／発光機能層／陰極、陽極／正孔輸送層／発光機能層／電子輸送層／陰極、陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光機能層／電子輸送層／陰極、陽極／正孔注入層／発光機能層／電子輸送層／電子注入層／陰極、及び陽極／正孔注入層／発光機能層／電子注入層／陰極等が挙げられる。
【００４２】
前記発光機能層は、陰極側から注入された電子と、陽極側から注入された正孔とが再結合して発光する層であれば、特に限定されない。前記発光機能層としては、例えば、面発光素子に用いられる一般的な発光機能層等が挙げられる。また、前記発光機能層は、発光する部分が、発光機能層の層内であっても、発光機能層における隣接する層との界面付近であってもよい。また、発光機能層は、発光材料として、燐光発光材料が含有されていてもよく、蛍光発光材料が含有されていてもよく、また、燐光発光材料及び蛍光発光材料の両方が含有されていてもよい。
【００４３】
前記正孔注入層は、前記発光機能層に正孔を注入する正孔注入性を有する層であれば、特に限定されない。前記正孔注入層としては、例えば、面発光素子に用いられる一般的な正孔注入層等が挙げられる。前記正孔輸送層は、前記発光機能層に正孔を輸送する正孔輸送性を有する層であれば、特に限定されない。前記正孔輸送層としては、例えば、面発光素子に用いられる一般的な正孔注入層等が挙げられる。前記正孔注入層及び前記正孔輸送層は、正孔注入性と正孔輸送性とを併せ持った正孔輸送注入層であってもよい。
【００４４】
前記電子注入層は、前記発光機能層に電子を注入する電子注入性を有する層であれば、特に限定されない。前記電子注入層としては、例えば、面発光素子に用いられる一般的な電子注入層等が挙げられる。前記電子輸送層は、前記発光機能層に電子を輸送する電子輸送性を有する層であれば、特に限定されない。前記電子輸送層としては、例えば、面発光素子に用いられる一般的な電子注入層等が挙げられる。前記電子注入層及び前記電子輸送層は、電子注入性と電子輸送性とを併せ持った電子輸送注入層であってもよい。
【００４５】
また、前記有機発光層１４は、これらの層の他にも、正孔阻止層や電子阻止層等が必要に応じて必要箇所に積層されていてもよい。
【００４６】
前記有機発光層１４の膜厚は、電圧を印加すると発光する機能を発揮できる厚さであれば、特に限定されない。
【００４７】
前記有機発光層１４の形成方法は、前記有機発光層１４を形成することができれば、特に限定されない。前記有機発光層１４の形成方法としては、上記各層を構成する材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法、及び印刷法等の公知の薄膜形成方法により、各層を順次形成する方法等が挙げられる。
【００４８】
前記下地層１２は、隣り合う前記面発光素子２１の間に存在する、前記一方の面発光素子２１の第２電極１５に接触した状態で、前記第２電極１５と前記基板１１との間に配置された層であれば、特に限定されない。
【００４９】
また、前記下地層１２は、図１に示すように、隣り合う前記面発光素子２１の間において、前記一方の面発光素子２１の第２電極１５だけではなく、前記一方の面発光素子２１の有機発光層１４、及び前記他方の面発光素子２１の第１電極１３とも接触することが好ましい。このため、隣り合う面発光素子２１間に配置される第２電極１５である薄膜金属層が下地層１２に、より確実に接触することになり、前記第２電極１５が、より好適に形成できる。また、前記第１電極１３が薄膜金属層である場合、前記第１電極１３、特に前記第２電極１５に近いところを、好適に形成することができる。このことにより、前記第１電極１３と第２電極１５との電気的な接続をより好適に行うことができる。よって、大面積の発光領域を、より良好な発光で実現することができる面発光装置が得られる。
【００５０】
また、前記面発光装置１０は、前記基板１１上に前記面発光素子２１が複数備えられている。すなわち、前記面発光装置１０は、隣り合う前記面発光素子２１の間も複数存在する。前記下地層１２は、隣り合う前記面発光素子２１の間の１つにおいて、前記一方の面発光素子２１の第２電極１５と接触して配置されていてもよいし、隣り合う前記面発光素子２１の間を２つ以上において、前記一方の面発光素子２１の第２電極１５と接触して配置されていてもよく、また、前記基板１１上全面に形成していてもよい。また、前記下地層１２は、このような隣り合う前記面発光素子２１の間を２つ以上にわたって存在することが好ましい。このような下地層１２を備えることによって、隣り合う面発光素子２１間に配置される第２電極１５である薄膜金属層が下地層１２に、より確実に接触することになり、前記第２電極１５が、より好適に形成できる。よって、大面積の発光領域を、より良好な発光で実現することができる面発光装置が得られる。
【００５１】
また、前記下地層１２は、接触する前記第２電極１５の膜質を向上させるための層であることが好ましい。すなわち、前記下地層１２は、接触する前記薄膜金属層の膜質を、前記基板と接触させたときの薄膜金属層の膜質より向上させることができる層であることが好ましい。前記下地層１２としては、カルシウム、硫化亜鉛、窒素含有化合物、及びフッ化カリウムからなる群から選ばれる少なくとも１種を含む層であることがより好ましい。このような層であれば、この下地層上に形成される第２電極である薄膜金属層をより好適に形成できる点で好ましい。よって、複数の面発光素子２１がより好適に電気的に接続され、大面積の発光領域を、より良好な発光で実現することができる面発光装置が得られる。
【００５２】
また、前記下地層１２としては、上述したように、カルシウム、硫化亜鉛、窒素含有化合物、金属酸化物及びフッ化カリウムのいずれか１つを含む層であれば好ましく、また、２つ以上を組み合わせて含む層であっても好ましい。
【００５３】
前記下地層１２としてのカルシウムを含む層（カルシウム含有層）としては、例えば、カルシウムを含有していれば、特に限定されない。前記カルシウム含有層としては、カルシウムのみからなる層であってもよいし、カルシウム以外の化合物（他の化合物）を含む層であってもよい。前記他の化合物としては、例えば、酸化カルシウム、及び前記第２電極を構成する材料、例えば、Ａｇ等が挙げられる。また、前記カルシウム含有層としては、カルシウムを主成分とする層（カルシウムを５０質量％以上含む層）であることが好ましく、カルシウムを７０質量％以上含む層であることがより好ましい。
【００５４】
前記カルシウム含有層は、カルシウム原子が１原子層以上の、島状に孤立した膜であってもよいし、複数の孔を有する膜であってもよいし、連続膜であってもよい。また、前記カルシウム含有層の膜厚としては、前記第２電極１５との相互作用が得られる程度、すなわち、接触する前記第２電極１５の膜質を向上させることができる程度の厚みであることが好ましい。このため、前記カルシウム含有層の膜厚としては、具体的には、０．５ｎｍ以上であることが好ましい。また、前記面発光素子２１として、前記有機発光層１４で発生した光を、前記第１電極１３側からも取り出すことができる構成にする場合、前記下地層１２は、透光性を有することが好ましい。このためには、前記カルシウム含有層の膜厚としては、具体的には、２ｎｍ以下であることが好ましい。
【００５５】
また、前記カルシウム含有層の形成方法は、前記カルシウム含有層を形成することができれば、特に限定されず、例えば、真空蒸着法等の蒸着法、スパッタ法、化学気相成長（ＣＶＤ）法等のドライプロセスを用いる方法等が挙げられる。
【００５６】
前記下地層１２としての硫化亜鉛（ＺｎＳ）を含む層（ＺｎＳ含有層）としては、例えば、ＺｎＳを含有していれば、特に限定されない。前記ＺｎＳ含有層としては、ＺｎＳのみからなる層であってもよいし、ＺｎＳ以外の化合物（他の化合物）を含む層であってもよい。前記他の化合物としては、例えば、酸化シリコン等が挙げられる。ＺｎＳとともに酸化シリコンを含有するＺｎＳ含有層は、非晶質になりやすく、柔軟性に優れるという点で好ましい。
【００５７】
また、前記面発光素子２１として、前記有機発光層１４で発生した光を、前記第１電極１３側からも取り出すことができる構成にする場合、前記下地層１２は、透光性を有することが好ましい。このような場合、前記ＺｎＳ含有層は、光取り出し効率を向上させるための光学調整層としても機能しうる。このような場合、前記ＺｎＳ含有層において、ＺｎＳ以外の化合物（他の化合物）としては、前記基板１１の屈折率より高い屈折率を有する材料等が挙げられる。このような材料としては、例えば、金属酸化物等が挙げられ、より具体的には、ＴｉＯ２、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、ＺｎＯ、Ｎｂ２Ｏ５、ＺｒＯ２、ＣｅＯ２、Ｔａ２Ｏ５、Ｔｉ３Ｏ５、Ｔｉ４Ｏ７、Ｔｉ２Ｏ３、ＴｉＯ、ＳｎＯ２、Ｌａ２Ｔｉ２Ｏ７、ＩＺＯ（酸化インジウム・酸化亜鉛）、ＡＺＯ（ＡｌドープＺｎＯ）、ＧＺＯ（ＧａドープＺｎＯ）、ＡＴＯ（ＳｂドープＳｎＯ）、ＩＣＯ（インジウムセリウムオキサイド）、Ｂｉ２Ｏ３、Ｇａ２Ｏ３、ＧｅＯ２、ＷＯ３、ＨｆＯ２、ａ−ＧＩＯ（ガリウム、インジウム、及び酸素からなる非晶質酸化物）等が挙げられる。前記他の化合物としては、上記例示の化合物を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５８】
また、前記ＺｎＳ含有層に、前記他の化合物を含有する場合、ＺｎＳの含有量は、ＺｎＳ含有層を構成する材料に対して、０．１〜９５質量％であることが好ましく、５０〜９０質量％であることがより好ましく、６０〜８５質量％であることがさらに好ましい。ＺｎＳの含有量が上記範囲内であると、前記他の化合物が適量含有されているので、前記ＺｎＳ含有層の割れ等の発生を抑制できる。また、ＺｎＳの含有量が上記範囲内であると、スパッタ速度等の、前記ＺｎＳ含有層の成膜速度を高めることができる。
【００５９】
また、前記ＺｎＳ含有層の膜厚としては、前記第２電極１５との相互作用が得られる程度、すなわち、接触する前記第２電極１５の膜質を向上させることができる程度の厚みであることが好ましい。このため、前記ＺｎＳ含有層の膜厚としては、具体的には、１５ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましい。また、前記面発光素子２１として、前記有機発光層１４で発生した光を、前記第１電極１３側からも取り出すことができる構成にする場合、前記下地層１２は、透光性を有することが好ましい。このためには、前記ＺｎＳ含有層の膜厚としては、具体的には、１５０ｎｍ以下であることが好ましく、８０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００６０】
また、前記ＺｎＳ含有層の形成方法は、前記ＺｎＳ含有層を形成することができれば、特に限定されず、例えば、蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学気相成長（ＣＶＤ）法等の、一般的な気相成膜法を用いる方法等が挙げられる。
【００６１】
前記下地層１２としての窒素含有化合物を含む層（窒素含有化合物含有層）としては、例えば、窒素含有化合物を含有していれば、特に限定されない。また、前記窒素含有化合物は、分子内に窒素原子を含有する化合物であれば、特に限定されない。前記窒素含有化合物としては、例えば、分子内に窒素原子を含有する化合物等が挙げられ、より具体的には、下記式（１）で表される化合物及び下記式（２）で表される化合物等が挙げられる。
【００６２】
【化１】
2019135682.tif 000003
【００６３】
【化２】
2019135682.tif 000004
【００６４】
また、前記窒素含有化合物含有層としては、前記窒素含有化合物のみからなる層であってもよいし、前記窒素含有化合物以外の化合物を含む層であってもよい。また、前記窒素含有化合物含有層としては、前記窒素含有化合物を主成分とする層（前記窒素含有化合物を５０質量％以上含む層）であることが好ましい。
【００６５】
また、前記窒素含有化合物含有層の膜厚としては、前記第２電極１５との相互作用が得られる程度、すなわち、接触する前記第２電極１５の膜質を向上させることができる程度の厚みであることが好ましい。このため、前記窒素含有化合物含有層の膜厚としては、具体的には、１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましい。また、前記面発光素子２１として、前記有機発光層１４で発生した光を、前記第１電極１３側からも取り出すことができる構成にする場合、前記下地層１２は、透光性を有することが好ましい。このためには、前記窒素含有化合物含有層の膜厚としては、具体的には、１５０ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００６６】
また、前記窒素含有化合物含有層の形成方法は、前記窒素含有化合物含有層を形成することができれば、特に限定されない。前記窒素含有化合物含有層の形成方法としては、具体的には、インクジェット法、コーティング法、ディップ法等のウェットプロセスを用いる方法、及び真空蒸着法等の蒸着法、スパッタ法、化学気相成長（ＣＶＤ）法等のドライプロセスを用いる方法等が挙げられる。
【００６７】
前記下地層１２としての金属酸化物を含む層（金属酸化物含有層）としては、例えば、金属酸化物を含有していれば、特に限定されない。また、前記金属酸化物としては、金属の酸化物であれば、特に限定されず、例えば、ＴｉＯ２、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、ＺｎＯ、Ｎｂ２Ｏ５、ＺｒＯ２、ＣｅＯ２、Ｔａ２Ｏ５、Ｔｉ３Ｏ５、Ｔｉ４Ｏ７、Ｔｉ２Ｏ３、ＴｉＯ、ＳｎＯ２、Ｌａ２Ｔｉ２Ｏ７、ＩＺＯ（酸化インジウム・酸化亜鉛）、ＡＺＯ（ＡｌドープＺｎＯ）、ＧＺＯ（ＧａドープＺｎＯ）、ＡＴＯ（ＳｂドープＳｎＯ）、ＩＣＯ（インジウムセリウムオキサイド）、Ｂｉ２Ｏ３、Ｇａ２Ｏ３、ＧｅＯ２、ＷＯ３、ＨｆＯ２、ａ−ＧＩＯ（ガリウム、インジウム、及び酸素からなる非晶質酸化物）等が挙げられる。また、前記金属酸化物としては、上記例示の金属酸化物を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６８】
また、前記金属酸化物含有層としては、前記金属酸化物のみからなる層であってもよいし、前記金属酸化物以外の化合物を含む層であってもよい。また、前記金属酸化物含有層としては、前記金属酸化物を主成分とする層（前記金属酸化物を５０質量％以上含む層）であることが好ましい。
【００６９】
また、前記金属酸化物含有層の膜厚としては、前記第２電極１５との相互作用が得られる程度、すなわち、接触する前記第２電極１５の膜質を向上させることができる程度の厚みであることが好ましい。また、前記面発光素子２１として、前記有機発光層１４で発生した光を、前記第１電極１３側からも取り出すことができる構成にする場合、前記下地層１２は、透光性を有することが好ましい。
【００７０】
また、前記金属酸化物含有層の形成方法は、前記金属酸化物含有層を形成することができれば、特に限定されず、例えば、蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学気相成長（ＣＶＤ）法等の、一般的な気相成膜法を用いる方法等が挙げられる。
【００７１】
前記下地層１２としてのフッ化カリウム（ＫＦ）を含む層（ＫＦ含有層）としては、例えば、ＫＦを含有していれば、特に限定されない。前記ＫＦ含有層としては、ＫＦのみからなる層であってもよいし、ＫＦ以外の化合物を含む層であってもよい。また、前記ＫＦ含有層としては、ＫＦを主成分とする層（ＫＦを５０質量％以上含む層）であることが好ましい。
【００７２】
前記ＫＦ含有層は、フッ化カリウム（ＫＦ）分子が１分子層以上形成されていることが好ましく、島状に孤立した膜であってもよいし、複数の孔を有する膜であってもよいし、連続膜であってもよい。また、前記ＫＦ含有層の膜厚としては、前記第２電極１５との相互作用が得られる程度、すなわち、接触する前記第２電極１５の膜質を向上させることができる程度の厚みであることが好ましい。このため、前記ＫＦ含有層の膜厚としては、具体的には、０．５ｎｍ以上であることが好ましい。また、前記面発光素子２１として、前記有機発光層１４で発生した光を、前記第１電極１３側からも取り出すことができる構成にする場合、前記下地層１２は、透光性を有することが好ましい。このためには、前記ＫＦ含有層の膜厚としては、具体的には、３ｎｍ以下であることが好ましく、２ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００７３】
また、前記ＫＦ含有層の形成方法は、前記ＫＦ含有層を形成することができれば、特に限定されず、例えば、真空蒸着法等の蒸着法等のドライプロセスを用いる方法等が挙げられる。
【００７４】
また、前記下地層１２としては、前記カルシウム含有層、前記ＺｎＳ含有層、前記窒素含有化合物含有層、前記金属酸化物含有層、及び前記ＫＦ含有層等の一層からなる層であってもよいし、これらの層を積層してもよい。前記下地層１２としては、例えば、前記基板１０上に備えた、前記窒素含有化合物含有層の上に、前記カルシウム含有層又は前記ＫＦ含有層を積層したものや、前記基板１０上に備えた、前記金属酸化物含有層の上に、前記カルシウム含有層又は前記ＫＦ含有層を積層したもの等が挙げられる。
【００７５】
前記封止層１６は、透光性を有し、有機ＥＬ素子等の面発光素子に用いられる封止層であって、前記面発光素子２１が発光する領域を覆うように配置されていれば、特に限定されず、凹板状を呈するものであってもよいし、平板状を呈するものであってもよい。また、前記封止層１６としては、具体的には、ガラス基板、樹脂フィルム、及び樹脂基板等が挙げられる。
【００７６】
前記ガラス基板は、面発光素子の封止層に用いられるガラス基板であれば、特に限定されない。前記ガラス基板としては、例えば、ソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等からなるガラス基板が挙げられる。
【００７７】
また、樹脂フィルム及び樹脂基板は、面発光素子の封止層に用いられる樹脂フィルム及び樹脂基板であれば、特に限定されない。樹脂フィルム及び樹脂基板を構成する樹脂としては、例えば、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、及びポリサルフォン等が挙げられる。
【００７８】
また、前記封止層１６は、大気中の酸素や水分等を遮断する目的で、ガスバリア層を備えることが好ましい。前記ガスバリア層を構成する材料としては、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化窒化シリコン、窒化アルミニウム、及び酸化アルミニウム等の、金属酸化物及び金属窒化物等が挙げられる。これらの材料は、水蒸気バリア機能だけではなく、酸素バリア機能も有する。また、これらの材料の中でも、特に、バリア性、耐溶剤性、及び透明性が良好な点から、窒化シリコン及び酸化窒化シリコンが好ましい。また、前記ガスバリア層は、必要に応じて、多層構成にしてもよい。また、ガスバリア層の形成方法は、特に限定されない。また、ガスバリア層の形成方法は、ガスバリア層を構成する材料によって異なるが、例えば、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、及びスパッタリング法等を用いる方法等が挙げられる。
【００７９】
また、前記封止層１６は、酸素透過度が１０−３ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下であって、水蒸気透過度１０−３ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下であることが好ましく、酸素透過度が１０−５ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下であって、水蒸気透過度１０−５ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下であることがより好ましい。
【００８０】
また、前記面発光素子２１は、前記第２電極１５の外側に、前記基板１１とも接する形で前記第２電極１５に被覆する無機物を含む層（無機層）や有機物を含む層（有機層）を形成し、その層を、前記封止層１６とすることも好適にできる。この場合、前記封止層１６を形成する材料としては、水分や酸素など素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有し、透光性を有する材料であればよく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、及び窒化珪素等を用いることができる。さらに、前記封止層１６は、その脆弱性を改良するために、前記無機層と前記有機層との積層構造であることが好ましい。これらの封止層１６の形成方法については、特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、及びコーティング法等が挙げられる。
【００８１】
また、前記封止層１６と、前記面発光素子２１、例えば、第２電極１５等との間に、間隙がある場合には、その間隙に、窒素やアルゴン等の不活性気体、及びフッ化炭化水素やシリコンオイル等の不活性液体を注入することが好ましい。また、前記間隙を真空にすることも好ましい。また、前記間隙に、吸湿性化合物を封入することも好ましい。
【００８２】
また、前記面発光素子２１は、必要に応じて、製膜時に、メタルマスクやインクジェットプリンティング法等でパターニングを施してもよい。パターニングする場合は、電極のみをパターニングしてもよいし、電極と有機発光層とをパターニングしてもよいし、面発光素子全層をパターニングしてもよい。
【００８３】
前記面発光装置１０の製造方法としては、前記面発光装置１０を製造することができれば、特に限定されない。以下、その一例として、図２及び図３に示すような製造方法を説明するが、この方法に限定されない。また、各層の形成方法は、特に限定されず、例えば、上記記載の方法等を用いて、パターニングして、所定の位置に形成できればよい。なお、図２は、本実施形態に係る面発光装置の製造方法を説明するための概略断面図である。また、図３は、本実施形態に係る面発光装置の製造方法を説明するための概略上面図である。また、図２及び図３に示す面発光素子では、図１に示す場合と同様、左側の面発光素子が、一方の面発光素子に相当し、右側の面発光素子が、他方の面発光素子に相当するが、これに限定されず、面発光素子の第１電極が、隣に位置する面発光素子の第２電極と、隣り合う面発光素子の間で電気的に接続されていればよい。
【００８４】
まず、図２（ａ）及び図３（ａ）に示すように、前記基板１１上の所定の位置に、前記下地層１２を形成する。前記下地層１２を形成する位置は、上述したように、隣り合う面発光素子２１の間に存在する、一方の面発光素子２１の第２電極１５に接触する位置である。ここでは、前記下地層１２を形成する位置としては、隣り合う面発光素子２１の間において、一方の面発光素子２１の第２電極１５だけではなく、一方の面発光素子２１の第２電極１５の両端に配置される一方の面発光素子２１の有機発光層１４や他方の面発光素子２１の第１電極１３にも接する位置である。
【００８５】
次に、図２（ｂ）及び図３（ｂ）に示すように、前記下地層１２が形成された前記基板１１上の所定の位置に、前記第１電極１３を形成する。前記第１電極１３を形成する位置は、一方の面発光素子２１の第１電極１３と他方の面発光素子２１との第１電極１３とを離間し、その間において、他方の面発光素子２１の第１電極１３の一部が、前記下地層１２を覆う位置である。
【００８６】
次に、図２（ｃ）及び図３（ｃ）に示すように、前記第１電極１３上の所定の位置に、前記有機発光層１４を形成する。前記有機発光層１４を形成する位置は、前記第１電極１３上であって、一方の面発光素子２１の有機発光層１４が、一方の面発光素子２１の第１電極１３と他方の面発光素子２１との間にも形成され、前記下地層１２に接触する位置である。
【００８７】
次に、図２（ｄ）及び図３（ｄ）に示すように、前記有機発光層１４上の所定の位置に、前記第２電極１５を形成する。前記第２電極１５を形成する位置は、前記有機発光層１４上であって、一方の面発光素子２１の第２電極１５が、一方の面発光素子２１の第１電極１３と他方の面発光素子２１との間にも形成され、前記下地層１２に接触し、他方の面発光素子２１の第１電極１３と接触する位置である。一方の面発光素子２１の第１電極１３と他方の面発光素子２１との間において、一方の面発光素子２１の第２電極１５は、前記下地層１２に接触する。
【００８８】
最後に、図２（ｅ）及び図３（ｅ）に示すように、一方の面発光素子２１と他方の面発光素子２１とを覆うように、前記封止層１６を形成する。そうすることによって、本実施形態に係る面発光装置１０が製造される。
【００８９】
以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【実施例】
【００９０】
［実施例１］
図２及び図３に示すような製造方法によって、面発光装置を製造した。
【００９１】
まず、前記基板１１として、イソプロピルアルコールで洗浄した、１００ｍｍ×１００ｍｍ、厚さ０．７ｍｍのガラス基板を用いた。この基板１１上に、図２（ａ）及び図３（ａ）に示すような位置に、２ｍｍ×９０ｍｍとなるようにマスクを介して、厚さ５０ｎｍの、窒素含有化合物である上記式（１）で表される化合物からなる窒素含有化合物含有層を真空蒸着法により形成した。さらに、その上に、同様のマスクを介して、厚さ１ｎｍのカルシウムからなるカルシウム含有層を真空蒸着法により形成した。そうすることによって、前記窒素含有化合物含有層及び前記カルシウム含有層を積層した下地層１２を形成した。
【００９２】
次に、下地層１２を形成した基板１１上に、図２（ｂ）及び図３（ｂ）に示すような位置に形成されるようにマスクを介して、厚さ１５０ｎｍの銀からなる第１電極１３を真空蒸着法により形成した。
【００９３】
次に、第１電極１３上に、図２（ｃ）及び図３（ｃ）に示すような位置に形成されるようにマスクを介して、下記製造方法により得られた、正孔輸送注入層、発光機能層、正孔阻止層、及び電子輸送注入層を積層した有機発光層１４を真空蒸着法により形成した。
【００９４】
まず、正孔輸送注入材として、上記式（２）で表される化合物（α−ＮＰＤ）が入った加熱ボードに通電して加熱し、α−ＮＰＤからなる、正孔注入層と正孔輸送層とを兼ねた正孔輸送注入層を、第１電極１３が形成された基板１１上に成膜した。この際、蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒とした。正孔輸送注入層の膜厚は、２０ｎｍとした。
【００９５】
次に、下記式（３）で表される化合物（ホスト材料Ｈ４）の入った加熱ボードと、下記式（４）で表される化合物（燐光発光性化合物Ｉｒ−４）の入った加熱ボードとを、それぞれ独立に通電し、ホスト材料Ｈ４と燐光発光性化合物Ｉｒ−４とからなる発光機能層を、前記正孔輸送注入層上に成膜した。この際、蒸着速度が、ホスト材料Ｈ４：燐光発光性化合物Ｉｒ−４＝１００：６となるように、加熱ボードの通電を調節した。また、発光機能層の膜厚は、３０ｎｍとした。
【００９６】
【化３】
2019135682.tif 000005
【００９７】
【化４】
2019135682.tif 000006
【００９８】
次に、正孔阻止材料として、下記式（５）で表される化合物（ＢＡｌｑ）が入った加熱ボードに通電して加熱し、ＢＡｌｑからなる正孔阻止層を、前記発光機能層上に成膜した。この際、蒸着速度０．１〜０．２ｎｍ／秒とした。正孔阻止層の膜厚は、１０ｎｍとした。
【００９９】
【化５】
2019135682.tif 000007
【０１００】
次に、電子輸送注入材として、上記式（１）で表される化合物が入った加熱ボードと、フッ化カリウムの入った加熱ボードとを、それぞれ独立に通電し、上記式（１）で表される化合物とフッ化カリウムとで構成された、電子注入層と電子輸送層とを兼ねた電子輸送注入層を、前記正孔阻止層上に成膜した。この際、蒸着速度が、上記式（１）で表される化合物：フッ化カリウム＝７５：２５となるように、加熱ボードの通電を調節した。また、電子輸送注入層の膜厚は、３０ｎｍとした。
【０１０１】
上記のようにして得られた積層体を有機発光層とした。
【０１０２】
次に、有機発光層１４上に、図２（ｃ）及び図３（ｃ）に示すような位置に形成されるようにマスクを介して、厚さ１５ｎｍの銀からなる第２電極１５を真空蒸着法により形成した。この第２電極は、透光性を有する薄膜金属層であった。
【０１０３】
最後に、図２（ｅ）及び図３（ｅ）に示すように、一方の面発光素子２１と他方の面発光素子２１とを覆うように、封止層１６を形成した。具体的には、９０ｍｍ×９０ｍｍ、厚さ３００μｍのガラス板と、各面発光素子２１との間に、接着剤としての熱硬化型樹脂（スリーボンド社製のＴＢ１６５５）を介して、貼り合わせ、貼り合わせたものを、１１０℃の炉で、４０分間加熱した。そうすることにより、接着剤が硬化し、各面発光素子が封止された。そうすることによって、実施例１に係る面発光装置１０が得られた。
【０１０４】
なお、基板１１は、１００ｍｍ×１００ｍｍであり、図２（ｅ）及び図３（ｅ）に示すように、その端部まで、各面発光素子を形成させた。これに対し、封止に用いたガラス板は、９０ｍｍ×９０ｍｍであるので、面発光装置１０の端部には、各面発光素子の電極が露出している。
【０１０５】
［実施例２］
カルシウム含有層の代わりに、カルシウム含有層を形成するときと同様のマスクを介して、厚さ１ｍｍのフッ化カリウム（ＫＦ）からなるＫＦ含有層を真空蒸着法により形成したこと以外、実施例１と同様にして、実施例２に係る面発光装置１０を製造した。
【０１０６】
［実施例３］
窒素含有化合物含有層の代わりに、窒素含有化合物含有層を形成するときと同様のマスクを介して、厚さ３０ｎｍの酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）からなる金属酸化物含有層をスパッタ法により形成したこと以外、実施例１と同様にして、実施例３に係る面発光装置１０を製造した。
【０１０７】
［実施例４］
下地層を、９０ｍｍ×９０ｍｍの範囲で形成したこと以外、実施例１と同様にして、実施例４に係る面発光装置１０を製造した。
【０１０８】
［実施例５］
第１電極１３を、酸化インジウム・酸化亜鉛（ＩＺＯ）で形成したこと以外、実施例１と同様にして、実施例５に係る面発光装置１０を製造した。
【０１０９】
［比較例］
下地層を形成しないこと以外、実施例１と同様にして、比較例に係る面発光装置１０を製造した。
【０１１０】
前記各面発光装置１０において、一方の面発光素子２１の第１電極１３と第２電極１５との間に電圧を印加（発光領域１のみ通電）した。また、他方の面発光素子２１の第１電極１３と第２電極１５との間に電圧を印加（発光領域２のみ通電）した。最後に、一方の面発光素子２１の第１電極１３と他方の面発光素子２１の第２電極１５との間に電圧を印加（直列接続で通電）した。各通電における発光状態を目視で確認した。発光していれば、「○」と評価し、発光していなければ、「×」と評価した。
【０１１１】
この結果を、下記表１に示す。
【０１１２】
【表１】
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【０１１３】
表１からわかるように、隣り合う前記面発光素子の間に存在する、前記一方の面発光素子の第２電極に接触するように下地層を設けた場合（実施例１〜５）は、各発光素子単独でも、それぞれの発光素子を直列で接続した場合であっても、発光した。これに対して、下地層を設けなかった場合（比較例）は、各発光素子単独では発光するものの、それぞれの発光素子を直列で接続した場合は、発光しなかった。これは、隣り合う前記面発光素子の間に存在する第２電極が断線していることによると考えられる。
【符号の説明】
【０１１４】
１０  面発光装置
１１  基板
１２  下地層
１３  第１電極
１４  有機発光層
１５  第２電極  
１６  封止層
２１  面発光素子
【図１】
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【図２】
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【図３】
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