(57)【要約】【課題】  金属酸化物粒子を含む樹脂層におけるクラックが生じにくい硬化膜を得ることができる転写フィルムを提供すること。【解決手段】  支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた積層体と、を備え、積層体は、支持フィルム上に設けられた第一の樹脂層と、該第一の樹脂層上に設けられた第二の樹脂層と、を含み、第一の樹脂層は感光性樹脂組成物層であり、第二の樹脂層は、第二の樹脂層の全質量を基準として、７５質量％以下の金属酸化物粒子を含み、支持フィルムを剥離した状態で、第一の樹脂層における第二の樹脂層とは反対側から３．５×１０２Ｊ／ｍ２の露光量で積層体に紫外線を照射し、１４０℃で３０分間加熱した後に測定される、第二の樹脂層の押込み弾性率が、５００ＧＰａ以下である、転写フィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた積層体と、を備え、
前記積層体は、前記支持フィルム上に設けられた第一の樹脂層と、該第一の樹脂層上に設けられた第二の樹脂層と、を含み、
前記第一の樹脂層は、感光性樹脂組成物層であり、
前記第二の樹脂層は、前記第二の樹脂層の全質量を基準として、７５質量％以下の金属酸化物粒子を含み、
前記支持フィルムを剥離した状態で、前記第一の樹脂層における前記第二の樹脂層とは反対側から３．５×１０２Ｊ／ｍ２の露光量で前記積層体に紫外線を照射し、１４０℃で３０分間加熱した後に測定される、前記第二の樹脂層の押込み弾性率が、５００ＧＰａ以下である、転写フィルム。
【請求項２】
前記第二の樹脂層が、７０℃以下のガラス転移温度を有するバインダーポリマーを含む、請求項１に記載の転写フィルム。
【請求項３】
前記第二の樹脂層が、エチレン性不飽和基を有し、前記エチレン性不飽和基の数に対する分子量の比が１００以上である重合性化合物を含む、請求項１又は２に記載の転写フィルム。
【請求項４】
前記第二の樹脂層が、下記一般式（１）で表される重合性化合物を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の転写フィルム。
【化１】
2019219631.tif 000021
［一般式（１）中、複数のＲは、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｘは、炭素数１０〜２０のｐ価の有機基を示し、ｐは２〜４の整数を示す。］
【請求項５】
前記第二の樹脂層における重合性化合物の含有量が、前記第二の樹脂層中の有機成分の全質量に対して、６０質量％以下である、請求項３又は４に記載の転写フィルム。
【請求項６】
前記金属酸化物粒子が、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウムスズ、酸化インジウム、酸化アルミニウム、酸化ケイ素及び酸化イットリウムからなる群より選択される少なくとも一種を含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の転写フィルム。
【請求項７】
前記第一の樹脂層が、バインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の転写フィルム。
【請求項８】
前記第二の樹脂層の厚さの前記第一の樹脂層の厚さに対する比が、０．００３以上である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の転写フィルム。
【請求項９】
基材上に、請求項１〜８のいずれか一項に記載の転写フィルムの前記積層体を、前記第二の樹脂層が前記基材に密着するようにラミネートする工程と、
前記基材上の前記積層体の所定部分を露光する工程と、
露光された前記所定部分以外を除去し、パターン状の硬化膜を形成する工程と、を備える硬化膜の形成方法。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の転写フィルムにおける前記積層体の、前記第一の樹脂層及び前記第二の樹脂層を硬化してなる、硬化膜。
【請求項１１】
請求項１０に記載の硬化膜を備える、電子部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、転写フィルム、硬化膜及びその形成方法、並びに、電子部品に関する。
【背景技術】
【０００２】
パソコン、テレビ等の大型電子機器、カーナビゲーション、携帯電話、スマートフォン、電子辞書等の小型電子機器、ＯＡ（Ｏｆｆｉｃｅ  Ａｕｔｏｍａｔｉｏｎ、オフィスオートメーション）・ＦＡ（Ｆａｃｔｏｒｙ  Ａｕｔｏｍａｔｉｏｎ、ファクトリーオートメーション）機器等の表示機器などには液晶表示素子及びタッチパネル（タッチセンサー）が用いられている。
【０００３】
タッチパネルには各種の方式が採用されているが、近年、投影型静電容量方式のタッチパネルの利用が進んでいる。一般に、投影型静電容量方式のタッチパネルでは、Ｘ軸とＹ軸による２次元座標を表現するために、複数のＸ電極と、該Ｘ電極に直交する複数のＹ電極とが、２層構造を形成している。
【０００４】
投影型静電容量方式のタッチパネルでは、センシング領域において電極パターンが画面上に映りこむ、いわゆる「骨見え現象」の問題がある。
【０００５】
骨見え現象を抑制するために、特定の屈折率の範囲に調整された低屈折率の第一の硬化性透明樹脂層及び金属酸化物粒子を含有させた高屈折率の第二の硬化性透明樹脂層とを隣接して有する転写フィルムを用いてタッチパネル上に硬化膜を形成する手法が開示されている（下記特許文献１を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第２０１５／１２５８５３号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、近年、湾曲若しくは折り曲げ可能なディスプレイが普及しつつあり、柔軟性を有する基材上に電極を設けたタッチパネルが用いられることがある。このようなタッチパネルに上記従来の転写フィルムを用いて硬化膜を形成する場合、硬化膜の積層時やタッチパネルの使用時等に硬化膜（特に金属酸化物粒子を含む樹脂層）にクラック（ひび割れ）が発生する場合がある。このようなクラックが発生した場合、基材であるタッチパネルと硬化膜との密着性の低下等の不具合が生じるため、クラックの発生を抑制することが求められる。
【０００８】
そこで、本発明は、金属酸化物粒子を含む樹脂層におけるクラックが生じにくい硬化膜を得ることができる転写フィルム、該転写フィルムを用いて得られる硬化膜及びその形成方法、並びに、該硬化膜を備える電子部品を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一側面は、支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた積層体と、を備える転写フィルムに関する。この転写フィルムにおいて、積層体は、支持フィルム上に設けられた第一の樹脂層と、該第一の樹脂層上に設けられた第二の樹脂層と、を含み、第一の樹脂層は、感光性樹脂組成物層であり、第二の樹脂層は、第二の樹脂層の全質量を基準として、７５質量％以下の金属酸化物粒子を含み、支持フィルムを剥離した状態で、第一の樹脂層における第二の樹脂層とは反対側から３．５×１０２Ｊ／ｍ２の露光量で積層体に紫外線を照射し、１４０℃で３０分間加熱した後に測定される、第二の樹脂層の押込み弾性率が、５００ＧＰａ以下である。
【００１０】
上記転写フィルムによれば、金属酸化物粒子を含む樹脂層におけるクラックが生じにくい硬化膜を得ることができる。
【００１１】
上記第二の樹脂層は、７０℃以下のガラス転移温度を有するバインダーポリマーを含んでいてよい。
【００１２】
上記第二の樹脂層は、エチレン性不飽和基を有し、エチレン性不飽和基の数に対する分子量の比が１００以上である重合性化合物を含んでいてよい。
【００１３】
上記第二の樹脂層は、下記一般式（１）で表される重合性化合物を含んでいてよい。
【化１】
2019219631.tif 000002
［一般式（１）中、複数のＲは、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｘは、炭素数１０〜２０のｐ価の有機基を示し、ｐは２〜４の整数を示す。］
【００１４】
上記第二の樹脂層における重合性化合物の含有量は、第二の樹脂層中の有機成分の全質量に対して、６０質量％以下であってよい。
【００１５】
上記金属酸化物粒子は、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウムスズ、酸化インジウム、酸化アルミニウム、酸化ケイ素及び酸化イットリウムからなる群より選択される少なくとも一種を含んでいてよい。
【００１６】
上記第一の樹脂層は、バインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有してよい。
【００１７】
上記第二の樹脂層の厚さの上記第一の樹脂層の厚さに対する比は、０．００３以上であってよい。
【００１８】
本発明の一側面は、基材上に、上記転写フィルムの積層体を、第二の樹脂層が基材に密着するようにラミネートする工程と、基材上の積層体の所定部分を露光する工程と、露光された所定部分以外を除去し、パターン状の硬化膜を形成する工程と、を備える硬化膜の形成方法に関する。この方法によれば、金属酸化物粒子を含む樹脂層におけるクラックが生じにくい硬化膜が得られる。
【００１９】
本発明の一側面は、上記転写フィルムにおける積層体の、第一の樹脂層及び第二の樹脂層を硬化してなる、硬化膜に関する。この硬化膜は、金属酸化物粒子を含む樹脂層（第二の樹脂層の硬化物）におけるクラックが生じにくい。
【００２０】
本発明の一側面は、上記硬化膜を備える、電子部品に関する。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、金属酸化物粒子を含む樹脂層におけるクラックが生じにくい硬化膜を得ることができる転写フィルム、該転写フィルムを用いて得られる硬化膜及びその形成方法、並びに、該硬化膜を備える電子部品を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の一実施形態の転写フィルムを示す模式断面図である。
【図２】本発明の一実施形態の転写フィルムを用いて形成した硬化膜パターンを透明電極パターン付き基材上に備える透明積層体を示す模式断面図である。
【図３】本発明の一実施形態の電子部品を示す模式平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。なお、本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味する。「Ａ又はＢ」とは、ＡとＢのどちらか一方を含んでいればよく、両方とも含んでいてもよい。
【００２４】
また、本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。また、「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。また、数値範囲として個別に記載された上限値及び下限値は、任意に組み合わせることができる。さらに、本明細書において組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。また、例示材料は特に断らない限り単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。また、「Ａ及びＢに由来する構造単位」とは「Ａに由来する構造単位及びＢに由来する構造単位」を意味する。また、本明細書において「厚さ」とは、各層の積層方向における長さを意味する。また、本明細書中、露光量は、ｉ線（波長３６５ｎｍ）における測定値である。
【００２５】
＜転写フィルム＞
図１は、一実施形態の転写フィルムを示す模式断面図である。図１に示される転写フィルム（保護フィルム付き転写フィルム）１は、支持フィルム１０と、該支持フィルム１０上に設けられた第一の樹脂層２０、及び、該第一の樹脂層２０上に設けられた第二の樹脂層３０を含む積層体４０と、を備える、感光性の屈折率調整フィルムである。この転写フィルム１において、第一の樹脂層２０は、感光性樹脂組成物層であり、第二の樹脂層３０は、第二の樹脂層３０の全質量を基準として、７５質量％以下の金属酸化物粒子を含む。なお、転写フィルム１は、図１に示すように第二の樹脂層３０の第一の樹脂層２０とは反対側に設けられた保護フィルム１５を含んでいてよく、保護フィルム１５を含んでいなくてもよい。
【００２６】
第二の樹脂層は、光硬化性であってよい。この場合、光硬化後の第二の樹脂層（例えば硬化反応率７０％以上まで硬化させた後の第二の樹脂層）の押込み弾性率は、５００ＧＰａ以下である。光硬化性の第二の樹脂層は、通常、支持フィルムを剥離した状態で、第一の樹脂層における第二の樹脂層とは反対側から３．５×１０２Ｊ／ｍ２の露光量で積層体に紫外線を照射することで充分に硬化させることができる。すなわち、一実施形態では、支持フィルムを剥離して除去し、第一の樹脂層における第二の樹脂層とは反対側から３．５×１０２Ｊ／ｍ２の露光量で積層体に紫外線を照射した後の第二の樹脂層の押込み弾性率が５００ＧＰａ以下である。なお、光硬化性の第二の樹脂層は、光重合性化合物、光重合開始剤等の光重合成分を必ずしも含む必要はなく、隣接する樹脂層（例えば第一の樹脂層）から移行する光重合成分に起因して光硬化する層であってよい。
【００２７】
第二の樹脂層は、熱硬化性であってもよい。この場合、熱硬化後の第二の樹脂層（例えば硬化反応率７０％以上まで硬化させた後の第二の樹脂層）の押込み弾性率は、５００ＧＰａ以下である。熱硬化性の第二の樹脂層は、通常、支持フィルムを剥離した状態で、積層体を１４０℃で３０分間加熱することで充分に硬化させることができる。すなわち、一実施形態では、支持フィルムを剥離して除去し、積層体を１４０℃で３０分間加熱した後の第二の樹脂層の押込み弾性率が５００ＧＰａ以下である。
【００２８】
このように、第二の樹脂層が硬化性（光硬化性又は熱硬化性）であるか否かに関わらず、支持フィルムを剥離した状態で、第一の樹脂層における第二の樹脂層とは反対側から３．５×１０２Ｊ／ｍ２の露光量で積層体に紫外線を照射し、１４０℃で３０分間加熱した後に測定される、第二の樹脂層の押込み弾性率が５００ＧＰａ以下であればよい。
【００２９】
上記構成を備える実施形態の転写フィルムによれば、金属酸化物粒子を含む樹脂層（第二の樹脂層が硬化性でない場合には第二の樹脂層、第二の樹脂層が硬化性である場合には硬化後の第二の樹脂層）におけるクラックが生じにくい硬化膜を得ることができる。
【００３０】
上記押込み弾性率は、クラックの発生をより抑制できる観点から、好ましくは４５０ＧＰａ以下であり、より好ましくは３００ＧＰａ以下である。押込み弾性率は、樹脂層の形状維持の観点から、１００ＧＰａ以上又は１５０ＧＰａ以上であってよい。
【００３１】
押込み弾性率は、積層体を硬化させた後、第二の樹脂層における第一の樹脂層とは反対側から、例えば、フィッシャースコープ  Ｈ１００ＣＳ（ＦＩＳＣＨＥＲ製）を用いて測定することにより得られる。具体的には、転写フィルムの支持フィルムを剥離して除去した後、第一の樹脂層における第二の樹脂層とは反対側より露光量３．５×１０２Ｊ／ｍ２で紫外線を照射する。これをＳｉＯ２スパッタガラス上に、第一の樹脂層がＳｉＯ２スパッタガラスに接するように積層した後、１４０℃に加熱した箱型乾燥機内に３０分間静置する。このようにして積層体を硬化させ、得られた硬化後の積層体における第二の樹脂層の押込み弾性率を測定する。押込み弾性率の測定は、押込み深さ０．１μｍ、荷重３ｍＮの条件で行う。
【００３２】
押込み弾性率は、例えば、第二の樹脂層に含有させる樹脂、金属酸化物粒子等の種類及び量などによって調整することができる。
【００３３】
また、上記転写フィルムは第二の樹脂層が金属酸化物粒子を含むため、上記転写フィルムにおいては、第二の樹脂層の波長６３３ｎｍにおける屈折率が向上されている。そのため、上記転写フィルムによれば、より優れた透明性を有する硬化膜を得ることができる。そのため、上記転写フィルムを用いることで、例えばタッチパネルにおける透明電極又は額縁領域にある金属配線の保護機能と、透明電極パターンの可視化抑制又はセンシング領域の視認性向上の両機能を満たす硬化膜を一括で形成することができる。
【００３４】
次に、実施形態の転写フィルムを構成する支持フィルム、第一の樹脂層及び第二の樹脂層について詳述する。
【００３５】
（支持フィルム）
支持フィルムとしては、例えば重合体フィルムを用いることができる。重合体フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー等のフィルムが挙げられる。
【００３６】
支持フィルムの厚さは、機械的強度に優れる観点から、５μｍ以上が好ましく、１０μｍ以上がより好ましく、１５μｍ以上が更に好ましい。支持フィルムの厚さは、支持フィルム１０を介して活性光線を照射する際の解像度の低下を抑制する観点から、１００μｍ以下が好ましく、７０μｍ以下がより好ましく、４０μｍ以下が更に好ましく、３５μｍ以下が特に好ましい。
【００３７】
（第一の樹脂層）
第一の樹脂層を形成する樹脂組成物（以下、「第一の樹脂組成物」ともいう）は、感光性の樹脂組成物（感光性樹脂組成物）である。「第一の樹脂組成物」とは、後述する溶剤を含まない状態の組成物をいう。以下の説明において、「第一の樹脂層が〜を含む」との記載は、「第一の樹脂組成物が〜を含む」と言い換えてよい。
【００３８】
第一の樹脂層は、好ましくは、バインダーポリマー（以下、「（Ａ１）成分」ともいう）と、光重合性化合物（以下、「（Ｂ１）成分」ともいう）と、光重合開始剤（以下、「（Ｃ１）成分」ともいう）とを含む。
【００３９】
［（Ａ１）成分：バインダーポリマー］
（Ａ１）成分としては、アルカリ現像によりパターニングを可能とする観点から、カルボキシル基を有するバインダーポリマーを用いることが好ましい。
【００４０】
（Ａ１）成分としては、（メタ）アクリル酸に由来する構造単位、及び、（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位を有する共重合体が好適である。上記共重合体は、上記（メタ）アクリル酸又は（メタ）アクリル酸アルキルエステルと共重合し得るその他のモノマーを構造単位に含有していてもよい。具体的には、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸ベンジル、スチレン等が挙げられる。
【００４１】
（Ａ１）成分は、エチレン性不飽和基を有してもよい。なお、エチレン性不飽和基を有する（Ａ１）成分は、本明細書においては（Ｂ１）成分に含まれないものとする。
【００４２】
上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシルエチル等が挙げられる。
【００４３】
（Ａ１）成分は、アルカリ現像性（特に無機アルカリ水溶液に対するアルカリ現像性）、パターニング性、透明性等の観点から、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸ベンジル、スチレン、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル及び（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルからなる群より選択される少なくとも一種の化合物由来の構造単位を有するバインダーポリマーを含むことが好ましい。
【００４４】
（Ａ１）成分の重量平均分子量は、解像度の観点から、１０，０００以上が好ましく、１５，０００以上がより好ましく、２０，０００以上が更に好ましく、２５，０００以上が特に好ましい。（Ａ）成分の重量平均分子量は、解像度の観点から、１００，０００以下が好ましく、８５，０００以下がより好ましく、７０，０００以下が更に好ましく、５５，０００以下が特に好ましく、４０，０００以下が極めて好ましい。なお、重量平均分子量は、本明細書の実施例を参考にゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定することができる。
【００４５】
（Ａ１）成分の酸価は、所望の形状を有する硬化膜をアルカリ現像で容易に形成する観点から、７５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上とすることが好ましい。（Ａ１）成分の酸価は、硬化膜形状の制御容易性と硬化膜の防錆性との両立を図る観点から、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましい。なお、酸価は、本明細書の実施例を参考に測定することができる。
【００４６】
（Ａ１）成分の含有量は、パターン形成性及び硬化膜の防錆性を維持する観点から、（Ａ１）成分及び（Ｂ１）成分の合計量１００質量部に対し、３５質量部以上が好ましく、４０質量部以上がより好ましく、５０質量部以上が更に好ましく、５５質量部以上が特に好ましい。（Ａ１）成分の含有量は、樹脂組成物の塗工性に優れる観点から、（Ａ１）成分及び（Ｂ１）成分の合計量１００質量部に対し、８５質量部以下が好ましく、８０質量部以下がより好ましく、７０質量部以下が更に好ましく、６５質量部以下が特に好ましい。
【００４７】
［（Ｂ１）成分：光重合性化合物］
（Ｂ１）成分としては、エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物を用いることができる。エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物としては、一官能ビニルモノマー、二官能ビニルモノマー、又は少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーが挙げられる。
【００４８】
上記一官能ビニルモノマーとしては、例えば、上記（Ａ１）成分の好適な例である共重合体の合成に用いられるモノマーとして例示したものが挙げられる。
【００４９】
上記二官能ビニルモノマーとしては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシフェニル）プロパン、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００５０】
上記少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーとしては、従来公知のものを特に制限無く用いることができる。金属配線又は透明電極の腐食防止及び現像性の観点から、上記多官能ビニルモノマーとしては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等のトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート等のテトラメチロールメタン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等のペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等のジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ジグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；又はシアヌル酸由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を用いることが好ましい。
【００５１】
（Ｂ１）成分は、下記一般式（１）で表される化合物を含むことが好ましい。
【化２】
2019219631.tif 000003
［一般式（１）中、複数のＲは、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｘは、炭素数１０〜２０のｐ価の有機基を示し、ｐは２〜４の整数を示す。］
【００５２】
（Ｂ１）成分は、金属配線及び透明電極の腐食抑制の観点では、ジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有するジ（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましく、ジシクロペンタニル構造を有するジ（メタ）アクリレート化合物を含むことがより好ましい。例えば、上記一般式（１）中のＸがジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有し、ｐが２である化合物が好ましく用いられる。その中でも、金属配線及び透明電極の腐食抑制の観点から、ジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有するジ（メタ）アクリレート化合物として、下記一般式（１Ｂ）である化合物がより好ましい。
【００５３】
【化３】
2019219631.tif 000004
［一般式（１Ｂ）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示し、Ｙは、ジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有する２価の基を示し、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に炭素数１〜４のアルキレン基を示し、ｎ及びｍは、それぞれ独立に０〜２の整数を示し、ｑ及びｒはそれぞれ独立に０以上の整数を示し、ｑ＋ｒ＝０〜１０となるように選択される。］
【００５４】
上記一般式（１Ｂ）において、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立にエチレン基又はプロピレン基が好ましく、エチレン基がより好ましい。また、プロピレン基はｎ−イソプロピレン基及びイソプロピレン基のいずれであってもよい。
【００５５】
上記一般式（１Ｂ）において、ｎ及びｍは、メチレン基が、分子中にどの程度付加されているかを示すものである。ｑ及びｒは炭素数１〜４のアルコキシ基が、分子中にどの程度付加されているかを示すものである。ｑ＋ｒが２以上の場合、２つ以上のＲ３及びＲ４は、同一であっても、異なっていてもよい。
【００５６】
上記一般式（１Ｂ）で表される化合物は、Ｙに含まれるジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有する２価の基が、嵩高い構造を有することで、フィルムの低透湿性を実現し、金属配線及び透明電極の腐食抑制性が向上すると考えられる。
【００５７】
ジシクロペンタニル構造及びジシクロペンテニル構造は、それぞれトリシクロデカン骨格及びトリシクロデセン骨格ということもできる。「トリシクロデカン骨格」及び「トリシクロデセン骨格」とは、それぞれ以下の構造（それぞれ、結合手は任意の箇所である）をいう。
【００５８】
【化４】
2019219631.tif 000005
【００５９】
上記一般式（１Ｂ）で表される化合物としては、例えば、下記式（２）で表される、トリシクロデカンジメタノールジアクリレートが挙げられる。これは、Ａ−ＤＣＰ（新中村化学工業株式会社製、製品名）として入手可能である。
【００６０】
【化５】
2019219631.tif 000006
［上記一般式（１Ｂ）において、Ｙがジシクロペンタニル構造を有する２価の基、ｍ＝ｎ＝１、ｑ＝ｒ＝０である化合物］
【００６１】
ジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有するジ（メタ）アクリレート化合物の含有量は、金属配線及び透明電極の腐食抑制の観点から、（Ｂ１）成分の合計量１００質量部に対して、５０質量部以上が好ましく、７０質量部以上がより好ましく、８０質量部以上が更に好ましい。ジシクロペンタニル構造又はジシクロペンテニル構造を有するジ（メタ）アクリレート化合物の含有量は、（Ｂ１）成分の合計量１００質量部に対して、１００質量部であってもよい。
【００６２】
分子内に少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有するモノマーと、一官能ビニルモノマー又は二官能ビニルモノマーを組み合わせて用いる場合、使用する割合に特に制限は無いが、光硬化性及び電極腐食を防止する観点から、分子内に少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有するモノマーの割合が、第一の樹脂組成物に含まれる光重合性化合物の合計量１００質量部のうち、３０質量部以上であってよく、５０質量部以上であってよく、７５質量部以上であってよい。
【００６３】
［（Ｃ１）成分：光重合開始剤］
（Ｃ１）成分としては、光重合開始剤であれば、従来公知のものを特に制限無く用いることができるが、透明性の高い光重合開始剤が好ましい。基材上に、厚さが１０μｍ以下の薄膜であっても充分な解像度で硬化膜パターンを形成する観点では、（Ｃ１）成分はオキシムエステル化合物及びホスフィンオキサイド化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含むことが好ましく、オキシムエステル化合物を含むことがより好ましい。
【００６４】
ホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド等が挙げられる。
【００６５】
オキシムエステル化合物としては、下記式（３）で表される化合物、下記式（４）で表される化合物、及び下記式（５）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも一種が好ましく用いられる。
【００６６】
【化６】
2019219631.tif 000007
【００６７】
式（３）中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立に炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基を示す。炭素数１〜８のアルキル基、炭素数４〜６のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基が好ましく、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数４〜６のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基がより好ましく、メチル基、シクロペンチル基、フェニル基又はトリル基が更に好ましい。Ｒ１３は、−Ｈ、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−Ｏ（ＣＨ２）ＯＨ、−Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、−ＣＯＯ（ＣＨ２）ＯＨ又は−ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨを示す。−Ｈ、−Ｏ（ＣＨ２）ＯＨ、−Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、−ＣＯＯ（ＣＨ２）ＯＨ、又は−ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨが好ましく、−Ｈ、−Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、又は−ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨがより好ましい。
【００６８】
【化７】
2019219631.tif 000008
【００６９】
式（４）中、Ｒ１４は、それぞれ炭素数１〜６のアルキル基を示し、プロピル基が好ましい。複数のＲ１４は同一であっても、異なっていてもよい。Ｒ１５は、ＮＯ２又はＡｒＣＯ（ここで、Ａｒは置換もしくは無置換のアリール基を示す。）を示し、Ａｒとしては、トリル基が好ましい。置換基を有する場合の置換基としては、炭素数１〜６のアルキル基が挙げられる。Ｒ１６及びＲ１７は、それぞれ独立に炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基、又はトリル基を示し、メチル基、フェニル基又はトリル基が好ましい。
【００７０】
【化８】
2019219631.tif 000009
【００７１】
式（５）中、Ｒ１８は、炭素数１〜６のアルキル基を示し、エチル基が好ましい。Ｒ１９はアセタール結合を有する有機基であり、後述する式（５−１）に示す化合物が有するＲ１９に対応する置換基が好ましい。Ｒ２０及びＲ２１は、それぞれ独立に炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基又はトリル基を示し、メチル基、フェニル基又はトリル基が好ましく、メチル基がより好ましい。Ｒ２２は、炭素数１〜６のアルキル基を示す。ｎは０〜４の整数を示す。
【００７２】
上記式（３）で表される化合物としては、例えば、下記式（３−１）で表される化合物及び下記式（３−２）で表される化合物が挙げられる。下記式（３−１）で表される化合物はＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦジャパン株式会社製、製品名）として入手可能である。
【００７３】
【化９】
2019219631.tif 000010
【００７４】
【化１０】
2019219631.tif 000011
【００７５】
上記式（４）で表される化合物としては、例えば、下記式（４−１）で表される化合物が挙げられる。下記式（４−１）で表される化合物は、ＤＦＩ−０９１（ダイトーケミックス株式会社製、製品名）として入手可能である。
【００７６】
【化１１】
2019219631.tif 000012
【００７７】
上記式（５）で表される化合物としては、例えば、下記式（５−１）で表される化合物が挙げられる。下記式（５−１）で表される化合物は、アデカオプトマーＮ−１９１９（株式会社ＡＤＥＫＡ製、製品名）として入手可能である。
【００７８】
【化１２】
2019219631.tif 000013
【００７９】
その他のオキシムエステル化合物としては、下記式（６）で表される化合物、下記式（７）で表される化合物等を用いることが好ましい。
【００８０】
【化１３】
2019219631.tif 000014
【００８１】
【化１４】
2019219631.tif 000015
【００８２】
上記の中でも、上記式（３−１）で表される化合物が極めて好ましい。なお、上記式（３−１）で表される化合物が硬化膜に含まれているかどうかは、国際公開第２０１３／０８４８７５号パンフレット記載の硬化膜の熱分解ガスクロマトグラフ質量分析により確認できる。
【００８３】
（Ｃ１）成分の含有量は、光感度及び解像度に優れる観点から、（Ａ１）成分及び（Ｂ１）成分の合計量１００質量部に対し、０．１質量部以上が好ましく、１質量部以上がより好ましい。（Ｃ１）成分の含有量は、光感度及び解像度に優れる観点から、（Ａ１）成分及び（Ｂ１）成分の合計量１００質量部に対し、１０質量部以下が好ましく、５質量部以下がより好ましく、３質量部以下が更に好ましく、２質量部以下が特に好ましい。
【００８４】
［添加剤］
第一の樹脂層は、硬化膜の防錆性をより向上させる観点から、メルカプト基を有するトリアゾール化合物、メルカプト基を有するテトラゾール化合物、メルカプト基を有するチアジアゾール化合物、アミノ基を有するトリアゾール化合物又はアミノ基を有するテトラゾール化合物（以下、これらをまとめて「（Ｄ１）成分」ともいう）を更に含むことが好ましい。メルカプト基を有するトリアゾール化合物としては、例えば、３−メルカプト−トリアゾール（和光純薬工業株式会社製、製品名：３ＭＴ）等が挙げられる。また、メルカプト基を有するチアジアゾール化合物としては、例えば、２−アミノ−５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール（和光純薬工業株式会社製、製品名：ＡＴＴ）等が挙げられる。
【００８５】
上記アミノ基を有するトリアゾール化合物としては、ベンゾトリアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−アセトニトリル、ベンゾトリアゾール−５−カルボン酸、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−メタノール、カルボキシベンゾトリアゾール等にアミノ基が置換した化合物、３−メルカプトトリアゾール、５−メルカプトトリアゾール等のメルカプト基を含むトリアゾール化合物にアミノ基が置換した化合物などが挙げられる。
【００８６】
上記アミノ基を有するテトラゾール化合物としては、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、１−メチル−５−アミノ−テトラゾール、１−メチル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、１−カルボキシメチル−５−アミノ−テトラゾール等が挙げられる。これらのテトラゾール化合物は、その水溶性塩であってもよい。具体例としては、１−メチル−５−アミノ−テトラゾールのナトリウム、カリウム、リチウム等のアルカリ金属塩などが挙げられる。
【００８７】
第一の樹脂組成物が（Ｄ１）成分を含む場合、その含有量は、硬化膜の防錆性をより向上させる観点から、（Ａ１）成分及び（Ｂ１）成分の合計量１００質量部に対し、０．０５質量部以上が好ましく、０．１質量部以上がより好ましく、０．２質量部以上が更に好ましく、０．３質量部以上が特に好ましい。（Ｄ１）成分の含有量は、硬化膜の透明性に優れる観点から、（Ａ１）成分及び（Ｂ１）成分の合計量１００質量部に対し、５．０質量部以下が好ましく、２．０質量部以下がより好ましく、１．０質量部以下が更に好ましく、０．８質量部以下が特に好ましい。
【００８８】
第一の樹脂組成物は、ＩＴＯ電極パターン付き基材に対する密着性と、現像残渣の発生を防ぐ観点から、エチレン性不飽和基を有するリン酸エステル（以下、「（Ｅ１）成分」ともいう）を含むことが好ましい。エチレン性不飽和基を有するリン酸エステルは、上記（Ｂ１）成分と重複する場合があるが、本明細書においては（Ｅ１）成分は（Ｂ１）成分に含まれないものとする。
【００８９】
（Ｅ１）成分であるエチレン性不飽和基を有するリン酸エステルとしては、形成する硬化膜の防錆性を充分確保しつつ、ＩＴＯ電極パターン付き基材に対する密着性と現像性とを高水準で両立する観点から、ユニケミカル株式会社製のＰｈｏｓｍｅｒシリーズ（Ｐｈｏｓｍｅｒ−Ｍ、Ｐｈｏｓｍｅｒ−ＣＬ、Ｐｈｏｓｍｅｒ−ＰＥ、Ｐｈｏｓｍｅｒ−ＭＨ、Ｐｈｏｓｍｅｒ−ＰＰ等）、又は日本化薬株式会社製のＫＡＹＡＭＥＲシリーズ（ＰＭ２１、ＰＭ−２等）が好ましい。
【００９０】
第一の樹脂組成物が（Ｅ１）成分を含む場合、その含有量は、ＩＴＯ電極パターン付き基材に対する密着性を向上しつつ、現像残渣の発生を防ぐ観点から、（Ａ１）成分及び（Ｂ１）成分の合計量１００質量部に対し、０．０５質量部以上が好ましく、０．１質量部以上がより好ましく、０．１５質量部以上が更に好ましい。（Ｅ１）成分の含有量は、ＩＴＯ電極パターン付き基材に対する密着性を向上しつつ、現像残渣の発生を防ぐ観点から、（Ａ１）成分及び（Ｂ１）成分の合計量１００質量部に対し、５．０質量部以下が好ましく、４．０質量部以下がより好ましく、３．０質量部以下が更に好ましい。
【００９１】
第一の樹脂組成物には、その他の添加剤として、必要に応じて、シランカップリング剤等の密着性付与剤、防錆剤、レベリング剤、可塑剤、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、酸化防止剤、香料、熱架橋剤、重合禁止剤などを（Ａ１）成分及び（Ｂ１）成分の合計量１００質量部に対し、各々０．０１〜２０質量部程度含有させることができる。これらは、単独で又は二種以上を組み合わせて使用できる。
【００９２】
第一の樹脂組成物は、金属酸化物粒子（以下、「（Ｆ１）成分」ともいう）を含有していてもよいが、第一の樹脂組成物における（Ｆ１）成分の含有量は、通常、後述する第二の樹脂層を形成する樹脂組成物における金属酸化物粒子の含有量よりも少ない。第一の樹脂組成物における（Ｆ１）成分の含有量は、第一の樹脂組成物の全質量を基準として、１０質量％以下、５質量％以下又は１質量％以下であってよく、０質量％であってもよい。
【００９３】
硬化後の第一の樹脂層の波長６３３ｎｍにおける屈折率は、通常、後述する第二の樹脂層の波長６３３ｎｍにおける屈折率よりも小さい。硬化後の第一の樹脂層の波長６３３ｎｍにおける屈折率は、例えば、１．４０以上であり、また、１．４９以下である。第一の樹脂層の波長６３３ｎｍにおける屈折率は、硬化後の第一の樹脂層の波長６３３ｎｍにおける屈折率が上記範囲となるように適宜設定してよい。例えば、第一の樹脂層の波長６３３ｎｍにおける屈折率は、１．４０〜１．４９であってよい。
【００９４】
第一の樹脂層の厚さ（乾燥後の厚さ）は、硬化膜を屈曲させた際に硬化後の第二の樹脂層に加わる応力が低減される観点から、１５μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、８μｍ以下がより好ましい。第一の樹脂層の厚さ（乾燥後の厚さ）は、保護膜として充分に効果を奏し、かつ透明電極パターン付き基材表面の段差を充分に埋め込む観点から、２μｍ以上が好ましく、３μｍ以上がより好ましい。
【００９５】
（第二の樹脂層）
第二の樹脂層を形成する樹脂組成物（以下、「第二の樹脂組成物」ともいう）は、例えば硬化性（例えば光硬化性又は熱硬化性）の樹脂組成物である。「第二の樹脂組成物」とは、後述する溶剤を含まない状態の組成物をいう。以下の説明において、「第二の樹脂層が〜を含む」との記載は、「第二の樹脂組成物が〜を含む」と言い換えてよい。
【００９６】
第二の樹脂層は、例えば、有機成分と、金属酸化物粒子（以下、「（Ｆ２）成分」ともいう）と、を含む。有機成分は、例えば、バインダーポリマー（以下、「（Ａ２）成分」ともいう）及び重合性化合物（以下、「（Ｂ２）成分」ともいう）を含む。
【００９７】
［（Ａ２）成分：バインダーポリマー］
（Ａ２）成分としては、上記（Ａ１）成分に例示されている化合物（例えばエチレン性不飽和基を有する成分）を用いることができる。なお、エチレン性不飽和基を有する（Ａ２）成分は、本明細書においては（Ｂ２）成分に含まれないものとする。
【００９８】
（Ａ１）成分として例示した化合物の中でも、クラックの発生をより抑制できる観点から、７０℃以下のガラス転移温度（Ｔｇ）を有するバインダーポリマー（以下、「低Ｔｇポリマー」ともいう）が好ましく用いられる。低Ｔｇポリマーのガラス転移温度は、クラックの発生をより一層抑制できる観点から、８０℃以下又は７０℃以下であってよく、樹脂層の形状維持の観点から、４０℃以上又は５０℃以上であってよい。
【００９９】
（Ａ２）成分（例えば低Ｔｇポリマー）は、好ましくは、下記一般式（Ａ）で表される（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位を有し、且つ、該（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位の含有割合が、全構造単位に対して、６０質量％以上、７０質量％以上又は７５質量％以上である。
【化１５】
2019219631.tif 000016
［式（Ａ）中、Ｒ５は、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ６は、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基を示す。Ｒ６は、好ましくは、メチル基、エチル基又はブチル基である。］
【０１００】
（Ａ２）成分（例えば低Ｔｇポリマー）は、脂環構造及びベンゼン環構造を含まないことが好ましい。（Ａ２）成分（例えば低Ｔｇポリマー）中の脂環構造及び／又はベンゼン環構造を有する構造単位の含有割合は、例えば、（Ａ２）成分を構成する全構造単位に対して、２０質量％以下、１０質量％以下又は５質量％以下である。
【０１０１】
（Ａ２）成分（例えば低Ｔｇポリマー）の重量平均分子量は、（Ａ２）成分のガラス転移温度を低下させクラックの発生をより抑制できる観点から、１００，０００以下が好ましく、８５，０００以下がより好ましく、７０，０００以下が更に好ましく、５５，０００以下が特に好ましく、４０，０００以下が極めて好ましい。（Ａ２）成分の重量平均分子量は、樹脂層の形状維持の観点から、１０，０００以上、２０，０００以上又は２５，０００以上であってよい。なお、（Ａ２）成分の重量平均分子量は、（Ａ１）成分の重量平均分子量測定と同様に測定することができる。
【０１０２】
（Ａ２）成分の酸価は、第二の樹脂層のアルカリ現像性を向上させる観点から、例えば、８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましい。酸価は、硬化膜形状の制御容易性と硬化膜の防錆性との両立を図る観点から、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましい。バインダーポリマーの酸価を向上させる方法として、バインダーポリマーの側鎖にカルボキシル基を付与することが挙げられる。なお、（Ａ２）成分の酸価は、上記（Ａ１）成分の酸価の測定と同様に測定することができる。
【０１０３】
（Ａ２）成分中の低Ｔｇポリマーの含有量は、クラックの発生をより抑制できる観点から、（Ａ２）成分の全質量を基準として、８５質量％以上が好ましく、９０質量％以上がより好ましく、９５質量％以上が更に好ましい。（Ａ２）成分中の低Ｔｇポリマーの含有量は、（Ａ２）成分の全質量を基準として、１００質量％であってよい。すなわち、（Ａ２）成分が低Ｔｇポリマーであってよい。
【０１０４】
第二の樹脂層における（Ａ２）成分の含有量は、第二の樹脂層中の有機成分の全質量に対して、３５質量％以上が好ましく、４０質量％以上がより好ましく、４５質量％以上が更に好ましい。第二の樹脂層における（Ａ２）成分の含有量は、第二の樹脂層中の有機成分の全質量に対して、８０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましい。（Ａ２）成分の含有量を上記範囲にすることで、パターン形成性及び硬化膜の防錆性を向上させることができる。
【０１０５】
［（Ｂ２）成分：重合性化合物］
（Ｂ２）成分は、光重合性化合物であってよく、熱重合性化合物であってもよい。（Ｂ２）成分としては、上記（Ｂ１）成分に例示されているエチレン性不飽和基を有する化合物を用いることができる。
【０１０６】
（Ｂ２）成分は、硬化後の第二の樹脂層の柔軟性を向上させることができ、クラックの発生をより抑制できる観点から、エチレン性不飽和基を有し、エチレン性不飽和基の数に対する分子量の比が１００以上である重合性化合物（重合性化合物Ａ）を含むことが好ましい。重合性化合物Ａにおける、エチレン性不飽和基の数に対する分子量の比は、より好ましくは１１０以上であり、更に好ましくは１２０以上である。重合性化合物Ａにおけるエチレン性不飽和基の数に対する分子量の比は、硬化後の信頼性の観点から、２００以下、１８０以下又は１６０以下であってよい。
【０１０７】
（Ｂ２）成分中、重合性化合物Ａの含有量は、硬化後の第二の樹脂層の柔軟性を向上させることができ、クラックの発生をより抑制できる観点から、（Ｂ２）成分の全質量に対して、７５質量％以上、８５質量％以上又は９５質量％以上であってよい。（Ｂ２）成分中、重合性化合物Ａの含有量は、１００質量％であってよい。すなわち、第二の樹脂層は（Ｂ２）成分として重合性化合物Ａのみを含んでいてよい。
【０１０８】
（Ｂ２）成分は、硬化後の第二の樹脂層の柔軟性を向上させることができ、クラックの発生をより抑制できる観点から、上記一般式（１）で表される化合物（重合性化合物Ｂ）を含むことが好ましい。本実施形態において、重合性化合物Ｂと重合性化合物Ａとは同一であってよい。すなわち、重合性化合物Ｂにおける、エチレン性不飽和基の数に対する分子量の比は１００以上であってよい。
【０１０９】
（Ｂ２）成分は、ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する化合物、ジシクロペンタニル構造を有する化合物、及びジシクロペンテニル構造を有する化合物からなる群より選択される少なくとも一種の化合物を含むことが好ましく、例えば、重合性化合物Ｂとして、上記一般式（１）中のＸがジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する基であり、ｐが４である化合物、又は、上記一般式（１）中のＸがジシクロペンタニル構造（トリシクロデカン骨格）若しくはジシクロペンテニル構造（トリシクロデセン骨格）を有する基であり、ｐが２である化合物を含むことが好ましい。
【０１１０】
一般式（１）中のＸがジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する基であり、ｐが４である化合物としては、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレートが挙げられる。一般式（１）中のＸがジシクロペンタニル構造（トリシクロデカン骨格）又はジシクロペンテニル構造（トリシクロデセン骨格）を有する基であり、ｐが２である化合物としては、上記一般式（１Ｂ）で表される化合物が挙げられる。一般式（１Ｂ）で表される化合物の好ましい例は（Ｂ１）成分と同様である。
【０１１１】
（Ｂ２）成分中、重合性化合物Ｂの含有量は、硬化後の第二の樹脂層の柔軟性を向上させることができ、クラックの発生をより抑制できる観点から、（Ｂ２）成分の全質量に対して、７５質量％以上、８５質量％以上又は９５質量％以上であってよい。（Ｂ２）成分中、重合性化合物Ｂの含有量は、１００質量％であってよい。すなわち、第二の樹脂層は（Ｂ２）成分として重合性化合物Ｂのみを含んでいてよい。
【０１１２】
第二の樹脂層における（Ｂ２）成分の含有量は、硬化後の第二の樹脂層の柔軟性を向上させることができ、クラックの発生をより抑制できる観点から、第二の樹脂層中の有機成分の全質量に対して、６０質量％以下であることが好ましく、５５質量％以下であることがより好ましく、５０質量％以下であることが更に好ましく、４７質量％以下であることが特に好ましい。第二の樹脂層における（Ｂ２）成分の含有量は、硬化後の信頼性の観点から、第二の樹脂層中の有機成分の全質量に対して、３５質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、４４質量％以上であることが更に好ましい。本実施形態では、重合性化合物Ａの含有量が上記範囲であってよく、重合性化合物Ｂの含有量が上記範囲であってよく、重合性化合物Ａの含有量と重合性化合物Ｂの含有量の合計が上記範囲であってもよい。
【０１１３】
［（Ｆ２）成分：金属酸化物粒子］
（Ｆ２）成分としては、第二の樹脂層の波長６３３ｎｍにおける屈折率を制御することが容易となり、より優れた透明性が得られやすい観点から、波長６３３ｎｍにおける屈折率が１．５０以上である金属酸化物粒子が好ましい。（Ｆ２）成分は金属酸化物粒子であってよく、金属酸化物微粒子であってよい。（Ｆ２）成分は、一種の粒子を単独で又は二種以上の粒子を組み合わせて使用できる。
【０１１４】
金属酸化物粒子の平均粒子径Ｄ５０は、例えば、５ｎｍ以上、１０ｎｍ以上又は１５ｎｍ以上であってよく、また、７０ｎｍ以下であってよい。
【０１１５】
金属酸化物粒子は、第二の樹脂層の屈折率の向上の観点から、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウムスズ、酸化インジウム、酸化アルミニウム、酸化ケイ素及び酸化イットリウムからなる群より選択される少なくとも一種を含むことが好ましく、酸化ジルコニウム及び酸化チタンからなる群より選択される少なくとも一種を含むことがより好ましい。
【０１１６】
酸化ジルコニウム粒子としては、透明電極の材料がＩＴＯの場合、屈折率向上と、ＩＴＯ及び透明基材との密着性の観点から、酸化ジルコニウムナノ粒子を用いることが好ましい。酸化ジルコニウムナノ粒子の粒度分布Ｄｍａｘは、ＩＴＯ及び透明基材との密着性の観点から、４０ｎｍ以下が好ましい。酸化ジルコニウムナノ粒子の粒度分布Ｄｍａｘは１０ｎｍ以上であってよい。
【０１１７】
酸化ジルコニウムナノ粒子は、ＯＺ−Ｓ３０Ｋ（日産化学工業株式会社製、製品名）、ＯＺ−Ｓ４０Ｋ−ＡＣ（日産化学工業株式会社製、製品名）、ＳＺＲ−Ｋ（酸化ジルコニウムメチルエチルケトン分散液、堺化学工業株式会社製、製品名）、ＳＺＲ−Ｍ（酸化ジルコニウムメタノール分散液、堺化学工業株式会社製、製品名）等として商業的に入手可能である。
【０１１８】
（Ｆ２）成分として酸化チタンナノ粒子を用いることも可能である。酸化チタンナノ粒子の粒度分布Ｄｍａｘは５０ｎｍ以下が好ましく、また、１０ｎｍ以上が好ましい。
【０１１９】
（Ｆ２）成分以外の成分として、上記金属酸化物粒子のほかに、例えばＭｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｂａ等の原子を含む硫化物（例えば金属硫化物粒子）を用いることもできる。
【０１２０】
（Ｆ２）成分の含有量は、クラックの発生を抑制する観点から、第二の樹脂層の全質量を基準として、７５質量％以下であり、７０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましく、５５質量％以下が更に好ましい。（Ｆ２）成分の含有量は、第二の樹脂層の屈折率を向上させることができ、より優れた透明性が得られやすい観点から、第二の樹脂層の全質量を基準として、４５質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましく、６０質量％以上が更に好ましく、６４質量％以上が特に好ましい。（Ｆ）成分の含有量は、クラックの発生の抑制と、硬化膜の透明性の両立の観点では、第二の樹脂層の全質量を基準として、６０〜７５質量％が好ましく、６４〜７０質量％がより好ましい。
【０１２１】
［添加剤］
【０１２２】
第二の樹脂層は、その他の添加剤として、第一の樹脂層に用いられる（Ｃ１）〜（Ｅ１）成分及びその他の添加剤を含有してよい。これらの成分の好ましい化合物及び好ましい含有量は、第一の樹脂層と同様である。
【０１２３】
第二の樹脂層の６３３ｎｍにおける屈折率は、例えば、１．５０以上である。そのため、ＩＴＯ等の透明電極パターンが形成されている部分と形成されていない部分での光学的な反射による色差を小さくすることが可能となり、骨見え現象を抑制することができる。また、画面全体の反射光強度を低減することが可能となり、画面上の透過率低下を抑制することができる。なお、屈折率は、本明細書の実施例を参考に測定することができる。
【０１２４】
第二の樹脂層の６３３ｎｍにおける屈折率は、骨見え現象をより充分に抑制できる観点から、１．５５以上又は１．６０以上であってよく、また、１．９０以下、１．８５以下又は１．７５以下であってよい。
【０１２５】
第二の樹脂層の厚さ（乾燥後の厚さ）は、１０ｎｍ以上が好ましく、２０ｎｍ以上がより好ましく、３０ｎｍ以上が更に好ましく、４０ｎｍ以上が特に好ましい。第二の樹脂層３０の厚さ（乾燥後の厚さ）は、１０００ｎｍ以下が好ましく、５００ｎｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以下が更に好ましく、８０ｎｍ以下が更により好ましく、６０ｎｍ以下が特に好ましい。第二の樹脂層の乾燥後の厚さが１０〜１０００ｎｍであることにより、上述の画面全体の反射光強度をより低減することが可能となる。
【０１２６】
第二の樹脂層の厚さの第一の樹脂層の厚さに対する比は、硬化後の第二の樹脂層に加わる応力を低減できる観点から、０．００３以上が好ましく、０．００５以上がより好ましく、０．０１以上が更に好ましい。第二の樹脂層の厚さの第一の樹脂層の厚さに対する比は、０．１以下であってよい。
【０１２７】
（他の層）
実施形態の転写フィルムは、本発明の効果が得られる範囲で、適宜選択した他の層を備えていてもよい。他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、クッション層、酸素遮蔽層、剥離層、接着層等が挙げられる。転写フィルムは、これらの層を一種単独で有していてもよく、二種以上を有してもよい。また、同種の層を２以上有していてもよい。転写フィルムにおいて、第一の樹脂層と第二の樹脂層とは隣接していることが好ましいが、第一の樹脂層と第二の樹脂層との間に、上記他の層が存在していてもよい。また、第一の樹脂層と支持フィルムとは隣接していることが好ましいが、第一の樹脂層と支持フィルムとの間に、上記他の層が存在していてもよい。
【０１２８】
（保護フィルム）
保護フィルムとしては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体のフィルム、及びこれらのフィルムとポリエチレンの積層フィルム等が挙げられる。
【０１２９】
保護フィルムの厚さは、５μｍ以上であってよく、また、１００μｍ以下であってよい。保護フィルム１５の厚さは、ロール状に巻いて保管する観点から、７０μｍ以下が好ましく、６０μｍ以下がより好ましく、５０μｍ以下が更に好ましく、４０μｍ以下が特に好ましい。
【０１３０】
＜転写フィルムの製造方法＞
転写フィルムは、例えば、第一の樹脂層を形成する樹脂組成物（第一の樹脂組成物）を含む塗布液、及び、第二の樹脂層を形成する樹脂組成物（第二の樹脂組成物）を含む塗布液をそれぞれ調製し、これらを各々支持フィルム又は保護フィルム上に塗布し、乾燥し、貼り合わせることにより得ることができる。また、転写フィルムは、支持フィルム上に第一の樹脂層を形成する樹脂組成物を含む塗布液を塗布し、乾燥した後、第一の樹脂層上に、第二の樹脂層を形成する樹脂組成物を含む塗布液を塗布し、乾燥し、必要に応じ保護フィルムを貼り付けることにより形成することもできる。
【０１３１】
塗布液は、上述した本実施形態の第一の樹脂層を形成する樹脂組成物、第二の樹脂層を形成する樹脂組成物を構成する各成分を溶剤に均一に溶解又は分散することにより得ることができる。
【０１３２】
塗布液として用いる溶剤は、特に制限は無く、公知のものが使用できる。塗布液として用いる溶剤は、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチレングリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、クロロホルム、塩化メチレン等が挙げられる。
【０１３３】
塗布方法としては、例えばドクターブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。
【０１３４】
乾燥条件に特に制限は無いが、乾燥温度は、６０〜１３０℃とすることが好ましく、乾燥時間は、０．５〜３０分とすることが好ましい。
【０１３５】
第一の樹脂層及び第二の樹脂層を含む積層体の厚さは、ラミネート時の追従性向上の観点から、３０μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以下が更に好ましい。さらに、防錆性の観点から、基材の突起物によるピンホールが発生する可能性を加味すると、１μｍ以上が好ましく、２μｍ以上が好ましく、２μｍ以上が更に好ましい。３μｍ以上であれば、基材の突起物による影響を抑制し、防錆性を保つことが可能となる。
【０１３６】
＜透明積層体＞
図２は、一実施形態の転写フィルムを透明電極パターン付き基材へ用いた透明積層体を示す模式断面図である。図２において、ＩＴＯ等の透明電極パターン５０ａ付き基材５０上に、パターン５０ａを覆うように第二の樹脂層の硬化物（硬化後の第二の樹脂層、第二の硬化樹脂層）３２が設けられ、その上に第一の樹脂層の硬化物（硬化後の第一の樹脂層、第一の硬化樹脂層）２２が設けられて、透明積層体１００が構成されている。すなわち、図２に示す透明積層体１００は、一実施形態の転写フィルムを用いて形成したパターン状の硬化膜（硬化膜パターン、硬化後の積層体、積層体の硬化物）６０を透明電極パターン５０ａ付き基材５０上に備える。なお、図２には示していないが、基材上には金属配線が設けられており、該金属配線上にも、パターン状の硬化膜（硬化膜パターン、積層体の硬化物）６０が金属配線を覆うように設けられている。
【０１３７】
基材としては、例えばタッチパネルに用いられる、ガラス、プラスチック、セラミック、樹脂製の基材等が挙げられる。樹脂製の基材として、例えばポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、オレフィン系樹脂、ポリブチレンテレフタレート系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂製の基材等が挙げられる。これらの基材は透明であることが好ましい。
【０１３８】
透明電極パターン５０ａを構成する透明電極は、例えばＩＴＯ及びＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ、酸化インジウム−酸化亜鉛）等の導電性金属酸化膜を用いて、形成することができる。また透明電極は、銀繊維、カーボンナノチューブ等の導電性繊維を用いた光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて、形成することもできる。ＩＴＯ等の透明電極の屈折率は、第二の樹脂層による骨見え現象の抑制効果が得られやすい観点から、１．８０以上が好ましく、１．８５以上がより好ましく、１．９０以上が更に好ましく、また、２．１０以下が好ましく、２．０５以下がより好ましく、２．００以下が更に好ましい。
【０１３９】
基材５０上には、金属配線が形成されていてよい。金属配線は、例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｏ、Ｃ等の導電性材料を用いて、スクリーン印刷、蒸着等の方法により形成することができる。基材５０と、透明電極及び金属配線との間には、例えば屈折率調整層、絶縁層等が設けられていてもよい。
【０１４０】
硬化膜６０は、上記積層体４０の硬化物であり、例えば７０％以上の硬化反応率で硬化されている。硬化膜６０は、第一の硬化樹脂層２２と、第二の硬化樹脂層３２とを含む。硬化膜６０の透湿度は、金属配線及び透明電極の腐食抑制の観点から、３５０ｇ／ｍ２・２４ｈ以下が好ましく、３００ｇ／ｍ２・２４ｈ以下がより好ましく、２５０ｇ／ｍ２・２４ｈ以下が更に好ましく、２００ｇ／ｍ２・２４ｈ以下が特に好ましい。なお、透湿度は、下記に示す方法で測定される。
【０１４１】
まず、転写フィルムの保護フィルムを剥離し、これをろ紙（アドバンテック製、Ｎｏ．５Ｃ、φ９０ｍｍの円形、厚さ１３０μｍ）上に、第二の樹脂層が密着するようにロール温度１００℃、基材送り速度０．６ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）０．５ＭＰａの条件でラミネートする。次いで、上記積層体に対し、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ１２０１）を使用して支持フィルム面垂直上より露光量０．６Ｊ／ｍ２で紫外線を照射した後、支持フィルムを剥離して除去し、さらに、積層体の垂直上より露光量１×１０４Ｊ／ｍ２で紫外線を照射する。これにより、ろ紙上に硬化膜（積層体を硬化して得られる硬化膜）が形成された透湿度測定用サンプルを得る。次いで、ＪＩＳ規格（Ｚ０２０８、カップ法）を参考に、透湿度測定を実施する。具体的には、測定カップ（φ６０ｍｍ、深さ１５ｍｍ、株式会社井元製作所製）内に、吸湿剤（２０ｇの塩化カルシウム（無水））を入れ、上記透湿度測定用サンプルから直径７０ｍｍの大きさにはさみで切り取った円形試料片を用いて、上記測定カップに蓋をする。次いで、恒温恒湿槽内にて６０℃、９０％ＲＨの条件で２４時間放置し、放置前後の測定カップ、吸湿剤及び円形試料片の合計質量の変化から透湿度を算出する。
【０１４２】
硬化膜６０の、波長４００〜７００ｎｍにおける透過率の最小値は９０％以上が好ましい。より詳しくは、９０．００％以上が好ましく、９０．５０％以上がより好ましく、９０．７０％以上が更に好ましい。一般的な可視光波長域である波長４００〜７００ｎｍにおける透過率が９０％以上であれば、タッチパネルのセンシング領域の透明電極を保護する場合において、センシング領域での画像表示品質、色合い、輝度が低下することを充分抑制することができる。透過率の最大値は、通常１００％以下である。なお、可視光線透過率は、下記に示す方法で測定される。
【０１４３】
まず、転写フィルムの保護フィルムを剥離し、厚さ０．７ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍのガラス基材上に、第二の樹脂層が密着するようにラミネータ（日立化成株式会社製、製品名：ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基材送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａ（線圧は９．８×１０３Ｎ／ｍ）の条件でラミネートして、ガラス基材、第二の樹脂層、第一の樹脂層及び支持フィルムがこの順で積層された積層サンプルを作製する。次いで、得られた積層サンプルに、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、第一の樹脂層（感光性樹脂組成物層）側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２（波長３６５ｎｍにおける測定値）で、紫外線を照射した後、支持フィルムを除去し、１４０℃に加熱した箱型乾燥機（三菱電機株式会社製、型番：ＮＶ５０−ＣＡ）内に３０分間静置し、透過率測定用サンプルを得る。次いで、得られた透過率測定用サンプルをヘーズメーター（日本電色工業株式会社製、製品名：ＮＤＨ  ７０００）を使用して、測定波長域４００〜７００ｎｍで可視光線透過率を測定する。
【０１４４】
硬化膜６０は、以下の方法で形成することができる。すなわち、硬化膜６０の形成方法は、基材５０上に、上記転写フィルム１の積層体４０を、第二の樹脂層３０が基材５０に密着するようにラミネートする工程と、基材５０上の積層体４０の所定部分を露光する工程と、露光された所定部分以外を除去し、パターン状の硬化膜６０を形成する工程と、を備える。この方法によれば、転写フィルムにおける上記積層体４０を硬化してなる、硬化膜６０が得られる。この方法では、第一の樹脂層２０における第二の樹脂層３０とは反対側から３．５×１０２Ｊ／ｍ２の露光量で積層体４０に紫外線を照射し、１４０℃で３０分間加熱することで積層体４０を充分に硬化させる（例えば硬化反応率７０％以上まで硬化させる）ことができるが、積層体４０を充分に硬化させることができれば、積層体４０の硬化条件はこれに限定されない。硬化膜６０の形成方法の詳細を以下に説明する。
【０１４５】
−ラミネート工程−
まず、転写フィルム１の必要に応じて存在する保護フィルム１５を除去した後、転写フィルム１の積層体４０を基材５０（透明電極パターン付き基材）の表面に、第二の樹脂層３０が密着するよう支持フィルム１０側から圧着することにより、ラミネートする。圧着手段としては、圧着ロールが挙げられる。圧着ロールは、加熱圧着できるように加熱手段を備えたものであってもよい。
【０１４６】
加熱圧着する場合の加熱温度は、第二の樹脂層３０と基材５０との密着性と、第一の樹脂層２０及び第二の樹脂層３０の構成成分が熱硬化又は熱分解されにくいようにする観点から、２５〜１６０℃とすることが好ましく、２５〜１５０℃とすることがより好ましく、３０〜１５０℃とすることが更に好ましい。
【０１４７】
加熱圧着時の圧着圧力は、第二の樹脂層３０と基材５０との密着性を充分確保しながら、基材５０の変形を抑制する観点から、線圧で５０〜１×１０５Ｎ／ｍとすることが好ましく、２．５×１０２〜５×１０４Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５×１０２〜４×１０４Ｎ／ｍとすることが更に好ましい。
【０１４８】
転写フィルム１を上記のように加熱圧着すれば、基材５０の予熱処理は必ずしも必要ではないが、第二の樹脂層と基材との密着性を更に向上させる点から、基材５０を予熱処理してもよい。このときの処理温度は、３０〜１５０℃とすることが好ましい。
【０１４９】
−露光工程−
次に、転写後の第二の樹脂層３０及び第一の樹脂層２０の所定部分に、例えばフォトマスクを介して、活性光線（例えば紫外線）をパターン状に照射する。活性光線を照射する際、第一の樹脂層２０上の支持フィルム１０が透明の場合には、そのまま活性光線を照射することができ、不透明の場合には支持フィルム１０を除去してから活性光線を照射する。活性光線の光源としては、公知の活性光源を用いることができる。なお、本明細書においてパターンとは、回路を形成する微細配線の形状にとどまらず、他基材との接続部のみを矩形に除去した形状及び基材の額縁部のみを除去した形状等も含まれる。
【０１５０】
活性光線の照射量は、例えば、１×１０２〜１×１０４Ｊ／ｍ２であり、照射の際に、加熱を伴うこともできる。この活性光線の照射量が、１×１０２Ｊ／ｍ２以上であれば、光硬化を充分に進行させることが可能となり、１×１０４Ｊ／ｍ２以下であれば、第一の樹脂層及び第二の樹脂層の変色を抑制することができる傾向がある。
【０１５１】
−現像工程−
続いて、活性光線照射後の第一の樹脂層２０及び第二の樹脂層３０の未露光部を現像液で除去して、透明電極の一部又は全部を被覆する硬化膜パターンを形成する。なお、活性光線の照射後、第一の樹脂層２０上に支持フィルム１０が積層されている場合にはそれを除去した後、現像工程が行われる。
【０１５２】
現像工程は、アルカリ水溶液を現像液として、スプレー、シャワー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッビング等の公知の方法により行うことが好ましい。中でも、環境、安全性の観点からアルカリ水溶液を用いて、スプレー現像することが好ましい。なお、現像温度及び時間は従来公知の範囲で調整することができる。
【０１５３】
以上説明した透明積層体１００の硬化膜６０上（第一の硬化樹脂層２２側の面上）には透明粘着フィルム（ＯＣＡ、Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｌｅａｒ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ）等が設けられていてもよい。ＯＣＡ等の部材の屈折率は、第二の樹脂層による骨見え現象の抑制効果が得られやすい観点では、１．４５以上が好ましく、１．４７以上がより好ましく、１．４８以上が更に好ましく、また、１．５５以下が好ましく、１．５３以下がより好ましく、１．５１以下が更に好ましい。
【０１５４】
＜電子部品＞
一実施形態の電子部品は、上述した転写フィルム１を用いて形成した硬化膜を備えている。この硬化膜はパターン状に形成されていることが好ましい。電子部品としては、タッチパネル、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッサンス、太陽電池モジュール、プリント配線板、電子ペーパ等が挙げられる。
【０１５５】
図３は、静電容量式のタッチパネルの一例を示す模式上面図である。図３に示されるタッチパネルは、透明基材１０１の片面にタッチ位置座標を検出するためのセンシング領域１０２があり、この領域の静電容量変化を検出するための透明電極１０３及び透明電極１０４が透明基材１０１上に設けられている。
【０１５６】
透明電極１０３及び透明電極１０４はそれぞれタッチ位置のＸ位置座標及びＹ位置座標を検出する。
【０１５７】
透明基材１０１上には、透明電極１０３及び透明電極１０４からタッチ位置の検出信号を外部回路に伝えるための金属配線１０５が設けられている。また、金属配線１０５と、透明電極１０３及び透明電極１０４とは、透明電極１０３及び透明電極１０４上に設けられた接続電極１０６により接続されている。また、金属配線１０５の透明電極１０３及び透明電極１０４との接続部と反対側の端部には、外部回路との接続端子１０７が設けられている。
【０１５８】
図３に示すように、硬化膜パターン１２３を形成することによって、透明電極１０３、透明電極１０４、金属配線１０５、接続電極１０６及び接続端子１０７の保護膜の機能と、透明電極パターンから形成されるセンシング領域１０２の骨見え抑制機能（例えば屈折率調整機能）を同時に奏する。
【実施例】
【０１５９】
以下、実験例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実験例に限定されるものではない。
【０１６０】
＜バインダーポリマー溶液の作製＞
撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、溶媒として、プロピレングリコールモノメチルエーテルを６５重量部仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温した。反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、表１に示す化合物を４時間かけて均一に滴下した。滴下後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、ポリマーＡを含む溶液（バインダーポリマー溶液Ａ、固形分４５質量％）を得た。また、滴下する化合物を表１に示すように変更したこと以外は、上記と同様にして、ポリマーＢを含む溶液（バインダーポリマー溶液Ｂ、固形分４５質量％）及びポリマーＣを含む溶液（バインダーポリマー溶液Ｃ、固形分４５質量％）を得た。
【０１６１】
【表１】
2019219631.tif 000017
【０１６２】
＜重量平均分子量の測定方法＞
重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより導出した。ＧＰＣの条件を以下に示す。
［ＧＰＣ条件］
ポンプ：Ｌ−６０００（株式会社日立製作所製、製品名）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４２０、Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４３０、Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ｒ４４０（以上、日立化成株式会社製、製品名）
溶離液：テトラヒドロフラン
測定温度：４０℃
流量：２．０５ｍＬ／分
検出器：Ｌ−３３００（ＲＩ検出器、株式会社日立製作所製、製品名）
【０１６３】
＜酸価の測定方法＞
酸価は下記に示すような、ＪＩＳ  Ｋ００７０に基づいた中和滴定法により測定した。まず、バインダーポリマーの溶液を１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、上記固形分のバインダーポリマー１ｇを精秤した後、このバインダーポリマーにアセトンを３０ｇ添加し、これを均一に溶解し、樹脂溶液を得た。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその樹脂溶液に適量添加して、０．１ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウム水溶液を用いて中和滴定を行った。そして、次式により酸価を算出した。
酸価＝０．１×Ｖ×ｆ１×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ／１００）
（式中、Ｖは滴定に用いた０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウム水溶液の滴定量（ｍＬ）、ｆ１は０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウム水溶液のファクター（濃度換算係数）、Ｗｐは測定した樹脂溶液の質量（ｇ）、Ｉは測定した上記樹脂溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。）
【０１６４】
＜ガラス転移温度Ｔｇの測定方法＞
バインダーポリマー溶液をロータリーエバポレーターを用いて減圧蒸留することにより、測定サンプルを作製した。ＤＭＡ測定装置（セイコーインスツルメント株式会社製）を用いて測定サンプルのガラス転移温度Ｔｇを測定した。２℃／ｍｉｎで昇温し、ｔａｎδのピークが現れる温度をガラス転移点（Ｔｇ）とした。
【０１６５】
＜第一の樹脂層を形成する塗布液の作製＞
表２に示す各成分と、メチルプロピレングリコール（溶剤）を撹拌機によって１５分間混合し、塗布液１を調製した。表２において、各成分の配合量の単位は質量部である。また、各成分の配合量は固形分量である。なお、ポリマーＡはバインダーポリマー溶液の状態で混合し、メチルプロピレングリコールは、塗布液の固形分濃度が２５質量％となる量を添加した。
【０１６６】
【表２】
2019219631.tif 000018
【０１６７】
表２中の成分の記号は以下の意味を示す。
・（Ｂ１）成分
Ａ−ＤＣＰ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（新中村化学工業株式会社製、製品名）
・（Ｃ１）成分
ＯＸＥ０１：１，２−オクタンジオン，１−［（４−フェニルチオ）フェニル−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦジャパン株式会社製、製品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ０１）
・（Ｄ１）成分
Ｂ−６０３０：５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール（千代田ケミカル株式会社製、製品名）
・（Ｅ１）成分
ＰＭ−２１：エチレン性不飽和基を有するリン酸エステル（日本化薬株式会社製、製品名）
【０１６８】
＜第二の樹脂層を形成する塗布液の作製＞
表３に示す各成分と、メチルプロピレングリコール（溶剤）を、撹拌機を用いて１５分間混合し、塗布液ＩＭ−１〜ＩＭ−７を作製した。表３において、各成分の配合量の単位は質量部である。また、各成分の配合量は固形分量である。なお、ポリマーＡ〜Ｃはバインダーポリマー溶液の状態で混合し、メチルプロピレングリコールは、塗布液の固形分濃度が１．０質量％となる量を添加した。
【０１６９】
【表３】
2019219631.tif 000019
【０１７０】
表３中の成分の記号は以下の意味を示す。
・（Ｂ２）成分
Ａ−ＤＣＰ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（新中村化学工業株式会社製、製品名）
Ｔ−１４２０：ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（日本化薬株式会社製、製品名）
Ａ−ＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業株式会社製、製品名）
・（Ｄ２）成分
Ｂ−６０３０：５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール（千代田ケミカル株式会社製、製品名）
・（Ｅ２）成分
ＰＭ−２１：エチレン性不飽和基を有するリン酸エステル（日本化薬株式会社製、製品名）
・（Ｆ２）成分
ＯＺ−Ｓ３０Ｋ：ジルコニア分散液（日産化学工業株式会社製、製品名：ナノユースＯＺ−Ｓ３０Ｋ、固形分量：３０質量％）
【０１７１】
（実施例１）
＜第一の樹脂層を備える単層フィルムＡの作製＞
厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（支持フィルム、東レ株式会社製、製品名：ＦＢ４０）の上に塗布液１を塗布し、１００℃で３分間乾燥させて溶剤を除去し、第一の樹脂層を形成した。乾燥後の厚さが８μｍになるよう、塗布液の量を調整して塗布した。
【０１７２】
＜第二の樹脂層を備える単層フィルムＢの作製＞
厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（保護フィルム、王子エフテックス株式会社製）上に塗布液ＩＭ−１を塗布し、１００℃で３分間乾燥させて溶剤を除去し、第二の樹脂層を形成した。乾燥後の厚さが８０ｎｍになるよう、塗布液の量を調整して塗布した。
【０１７３】
＜樹脂層の厚さの測定＞
上記で作製した単層フィルムＡにおける第一の樹脂層の厚さを、デジタルシックネスゲージ（株式会社ニコン製、製品名：ＤＩＧＩＭＩＣＲＯＳＴＡＮＤ  ＭＳ−５Ｃ）で測定した。また、上記で作製した単層フィルムＢにおける第二の樹脂層の厚さをＦ２０（フィルメトリクス株式会社製、製品名）で測定した。第一の樹脂層の厚さは８μｍであり、第二の樹脂層の厚さは８０ｎｍであった。
【０１７４】
＜第一の樹脂層及び第二の樹脂層を備えた転写フィルムの作製＞
得られた第一の樹脂層を有する単層フィルムＡと、第二の樹脂層を有する単層フィルムＢと、をラミネータ（日立化成株式会社製、製品名ＨＬＭ−３０００型）を用いて、第一の樹脂層と第二の樹脂層とが密着するように、２３℃で張り合わせて、支持フィルム上に、第一の樹脂層と第二の樹脂層と保護フィルムとがこの順に積層されてなる、実施例１の転写フィルム（保護フィルム付き転写フィルム）を得た。
【０１７５】
＜押込み弾性率の測定＞
転写フィルムの支持フィルムを剥離して除去した後、第一の樹脂層における第二の樹脂層とは反対側より露光量３．５×１０２Ｊ／ｍ２で紫外線を照射し、これをＳｉＯ２スパッタガラス上に、第一の樹脂層がＳｉＯ２スパッタガラスに接するように積層した後、１４０℃に加熱した箱型乾燥機内に３０分間静置した。このようにして積層体を硬化させ、得られた硬化後の積層体における第二の樹脂層の押込み弾性率をフィッシャースコープ  Ｈ１００ＣＳ（ＦＩＳＣＨＥＲ製）を用いて測定した。結果を表４に示す。
【０１７６】
＜屈折率の測定＞
塗布液ＩＭ−１を、厚さ０．７ｍｍ、縦１０ｃｍ×横１０ｃｍのガラス基材上にスピンコーターで均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、第二の樹脂層を形成した。次いで、上記で得られた第二の樹脂層を、１４０℃に加熱した箱型乾燥機（三菱電機株式会社製、型番：ＮＶ５０−ＣＡ）内に３０分間静置し、第二の樹脂層を有する屈折率測定用サンプルを得た。次いで、ＥＴＡ−ＴＣＭ（ＡｕｄｉｏＤｅｖＧｍｂＨ株式会社製、製品名）にて得られた屈折率測定用サンプルの波長６３３ｎｍにおける屈折率を測定した。結果を表４に示す。測定に使用した第二の樹脂層の膜厚は、上記転写フィルムにおける第二の樹脂層の膜厚と同じ（８０ｎｍ）とした。
【０１７７】
（実施例２〜３及び比較例１〜４）
第二の樹脂層を備える単層フィルムＢの作製において、塗布液ＩＭ−１に代えて、塗布液ＩＭ−２〜ＩＭ−７をそれぞれ用いたこと以外は、実施例１と同様にして、実施例２〜３及び比較例１〜４の単層フィルムＢをそれぞれ作製した。転写フィルムの作製において、得られた単層フィルムＢを用いたこと以外は、実施例１と同様にして、実施例２〜３及び比較例１〜４の転写フィルムを作製した。また、実施例１と同様にして、押込み弾性率及び屈折率の測定を行った。結果を表４に示す。
【０１７８】
＜評価＞
実施例及び比較例の転写フィルムを用いて以下の手順でひび割れ耐性を評価した。結果を表４に示す。
【０１７９】
［ひび割れ耐性の評価］
保護フィルム付き転写フィルムの保護フィルムを剥離して除去した後、第二の樹脂層側より露光量１０×１０２Ｊ／ｍ２で紫外線を照射した。その後、直径１．０ｍｍの棒を転写フィルムの支持フィルム上（第一の樹脂層とは反対側の面上）に配置し、当該棒に沿って、第二の樹脂層を外向きにして転写フィルムを折り曲げ角１８０度で折り曲げた。転写フィルムをもとの状態に戻した後、同様にして、転写フィルムの折り曲げを更に９回行った。次いで、転写フィルムの第二の樹脂層側から折り曲げ箇所を顕微鏡で観察し、クラックの有無を評価した。なお、保護フィルム付き転写フィルムの支持フィルムを剥離して除去した後、第一の樹脂層における第二の樹脂層とは反対側から露光量３．５×１０２Ｊ／ｍ２で紫外線を照射し、１４０℃に加熱した箱型乾燥機内に３０分間静置することにより硬化させた積層体に対して、上記と同様の方法でひび割れ耐性評価を行った場合にも、上記評価結果と同じ結果が得られることを確認した。
【０１８０】
【表４】
2019219631.tif 000020
【符号の説明】
【０１８１】
１…転写フィルム、１０…支持フィルム、１５…保護フィルム、２０…第一の樹脂層、３０…第二の樹脂層、２２…第一の硬化樹脂層、３２…第二の硬化樹脂層、４０…積層体、５０…透明電極パターンつき基材、５０ａ…透明電極パターン、６０…積層体の硬化物（硬化膜）、１００…透明積層体、１０１…透明基材、１０２…センシング領域、１０３、１０４…透明電極、１０５…金属配線、１０６…接続電極、１０７…接続端子、１２３…硬化膜パターン。
【図１】
2019219631.tif 000022
【図２】
2019219631.tif 000023
【図３】
2019219631.tif 000024