(57)【要約】【課題】ペロブスカイト化合物を含む熱耐久性が高い組成物を提供する。【解決手段】（１）成分：Ａ、Ｂ、及びＸを有するペロブスカイト化合物。（Ａは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする６面体の各頂点に位置する成分であって、１価の陽イオンである。  Ｂは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ａを頂点に配置する６面体、及びＸを頂点に配置する８面体の中心に位置する成分であって、金属イオンである。  Ｘは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする８面体の各頂点に位置する成分であって、ハロゲン化物イオン及びチオシアン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも一種のイオンである。）（２）成分：シラザン又はその改質体。（３）成分：式（Ｘ１）等で表される化合物。2019131655.tif 000035  （Ｘ１）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記（１）成分、（２）成分、及び（３）成分を含む組成物。
（１）成分：Ａ、Ｂ、及びＸを有するペロブスカイト化合物。
（Ａは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする６面体の各頂点に位置する成分であって、１価の陽イオンである。
Ｂは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ａを頂点に配置する６面体、及びＸを頂点に配置する８面体の中心に位置する成分であって、金属イオンである。
Ｘは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする８面体の各頂点に位置する成分であって、ハロゲン化物イオン及びチオシアン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも一種のイオンである。）
（２）成分：シラザン又はその改質体。
（３）成分：式（Ｘ１）〜（Ｘ６）でそれぞれ表される化合物及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物。
【化１】
2019131655.tif 000029
（Ｘ１）
【化２】
2019131655.tif 000030
（Ｘ２）
【化３】
2019131655.tif 000031
（Ｘ３）
【化４】
2019131655.tif 000032
（Ｘ４）
【化５】
2019131655.tif 000033
（Ｘ５）
【化６】
2019131655.tif 000034
（Ｘ６）
（式（Ｘ１）中、Ｒ１８〜Ｒ２１はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、それらは置換基を有していてもよい。Ｍ−はカウンターアニオンを表す。
式（Ｘ２）中、Ａ１は単結合又は酸素原子を表す。Ｒ２２は、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
式（Ｘ３）中、Ａ２及びＡ３はそれぞれ独立に、単結合又は酸素原子を表す。Ｒ２３及びＲ２４はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
式（Ｘ４）中、Ａ４は単結合又は酸素原子を表す。Ｒ２５は、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
式（Ｘ５）中、Ａ５〜Ａ７はそれぞれ独立に、単結合又は酸素原子を表す。Ｒ２６〜Ｒ２８はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、又は炭素原子数２〜２０のアルキニル基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
式（Ｘ６）中、Ａ８〜Ａ１０はそれぞれ独立に、単結合又は酸素原子を表す。Ｒ２９〜Ｒ３１はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、又は炭素原子数２〜２０のアルキニル基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
Ｒ１８〜Ｒ３１でそれぞれ表される基に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。）
【請求項２】
前記（３）成分が、式（Ｘ１）で表される化合物及び（Ｘ６）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種である請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の組成物を用いたフィルム。
【請求項４】
請求項３に記載のフィルムを含む積層構造体。
【請求項５】
請求項４に記載の積層構造体を備える発光装置。
【請求項６】
請求項４に記載の積層構造体を備えるディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、組成物、フィルム、積層体構造、発光装置、およびディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
青色ＬＥＤ（発光ダイオード）と、発光性を有する組成物とを備えるＬＥＤバックライトが開発されている。近年、当該組成物に含まれる発光性を有する化合物として、ペロブスカイト化合物に対する関心が高まっている（非特許文献１）。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００３】
【非特許文献１】Ｌ．  Ｐｒｏｔｅｓｅｓｃｕ，  Ｓ．  Ｙａｋｕｎｉｎ，  Ｍ．Ｉ．Ｂｏｄｎａｒｃｈｕｋ，  Ｆ．  Ｋｒｉｅｇ，  Ｒ．  Ｃａｐｕｔｏ，Ｃ．  Ｈ．  Ｈｅｎｄｏｎ，  Ｒ．  Ｘ．  Ｙａｎｇ，  Ａ．  Ｗａｌｓｈ，  ａｎｄ  Ｍ．  Ｖ．  Ｋｏｖａｌｅｎｋｏ，  Ｎａｎｏ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，  １５，  ｐ．３６９２―３６９６  （２０１５）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記非特許文献１に記載のようなペロブスカイト化合物を含む組成物を発光材料として用いる場合、さらなる熱耐久性の向上が求められている。
【０００５】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、ペロブスカイト化合物を含む熱耐久性が高い組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため、本発明者らは鋭意検討した結果、以下の本発明に至った。
【０００７】
すなわち、本発明は、下記［１］〜［６］の発明を包含する。
［１］下記（１）成分、（２）成分、および（３）成分を含む組成物。
（１）成分：Ａ、Ｂ、及びＸを有するペロブスカイト化合物。
（Ａは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする６面体の各頂点に位置する成分であって、１価の陽イオンである。
Ｂは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ａを頂点に配置する６面体、及びＸを頂点に配置する８面体の中心に位置する成分であって、金属イオンである。
Ｘは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする８面体の各頂点に位置する成分であって、ハロゲン化物イオン及びチオシアン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも一種のイオンである。）
（２）成分：シラザン又はその改質体。
（３）成分：式（Ｘ１）〜（Ｘ６）でそれぞれ表される化合物及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物。
【０００８】
【化１】
2019131655.tif 000002
（Ｘ１）
【０００９】
【化２】
2019131655.tif 000003
（Ｘ２）
【００１０】
【化３】
2019131655.tif 000004
（Ｘ３）
【００１１】
【化４】
2019131655.tif 000005
（Ｘ４）
【００１２】
【化５】
2019131655.tif 000006
（Ｘ５）
【００１３】
【化６】
2019131655.tif 000007
（Ｘ６）
（式（Ｘ１）中、Ｒ１８〜Ｒ２１で表される基はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、それらは置換基を有していてもよい。Ｍ−はカウンターアニオンを表す。
式（Ｘ２）中、Ａ１は単結合又は酸素原子を表す。Ｒ２２は、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
式（Ｘ３）中、Ａ２及びＡ３はそれぞれ独立に、単結合又は酸素原子を表す。Ｒ２３及びＲ２４はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
式（Ｘ４）中、Ａ４は単結合又は酸素原子を表す。Ｒ２５は、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
式（Ｘ５）中、Ａ５〜Ａ７はそれぞれ独立に、単結合又は酸素原子を表す。Ｒ２６〜Ｒ２８はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、又は炭素原子数２〜２０のアルキニル基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
式（Ｘ６）中、Ａ８〜Ａ１０はそれぞれ独立に、単結合又は酸素原子を表す。Ｒ２９〜Ｒ３１はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、又は炭素原子数２〜２０のアルキニル基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
Ｒ１８〜Ｒ３１でそれぞれ表される基に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。）［２］前記（３）成分が、式（Ｘ１）で表される化合物および（Ｘ６）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種である［１］に記載の組成物。
［３］［１］又は［２］に記載の組成物を用いたフィルム。
［４］［３］に記載のフィルムを含む積層構造体。
［５］［４］に記載の積層構造体を備える発光装置。
［６］［４］に記載の積層構造体を備えるディスプレイ。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、熱耐久性の高い組成物、並びにこれを用いた、フィルム、積層体構造、発光装置およびディスプレイ提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明に係る積層構造体の一実施形態を示す断面図である。
【図２】本発明に係るディスプレイの一実施形態を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
＜組成物＞
本発明の組成物は、発光性を有する。「発光性」とは、光を発する性質を指す。組成物は、励起により発光する性質を有することが好ましく、励起光による励起により発光する性質であることがより好ましい。励起光の波長は、例えば、２００ｎｍ〜８００ｎｍであってもよく、２５０ｎｍ〜７５０ｎｍであってもよく、３００ｎｍ〜７００ｎｍであってもよい。
【００１７】
本発明の組成物は、下記（１）成分、（２）成分、および（３）成分を含む。
（１）成分：Ａ、Ｂ、およびＸを有するペロブスカイト化合物。
（Ａは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする６面体の各頂点に位置する成分であって、１価の陽イオンである。
Ｂは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ａを頂点に配置する６面体、およびＸを頂点に配置する８面体の中心に位置する成分であって、金属イオンである。
Ｘは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする８面体の各頂点に位置する成分であって、ハロゲン化物イオンおよびチオシアン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも一種のイオンである。）
（２）成分：シラザン又はその改質体。
（３）成分：式（Ｘ１）〜（Ｘ６）でそれぞれ表される化合物およびそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物。
【００１８】
【化７】
2019131655.tif 000008
（Ｘ１）
【００１９】
【化８】
2019131655.tif 000009
（Ｘ２）
【００２０】
【化９】
2019131655.tif 000010
（Ｘ３）
【００２１】
【化１０】
2019131655.tif 000011
（Ｘ４）
【００２２】
【化１１】
2019131655.tif 000012
（Ｘ５）
【００２３】
【化１２】
2019131655.tif 000013
（Ｘ６）
（式（Ｘ１）中、Ｒ１８〜Ｒ２１はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、それらは置換基を有していてもよい。Ｍ−はカウンターアニオンを表す。
式（Ｘ２）中、Ａ１は単結合又は酸素原子を表す。Ｒ２２で表される基は、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
式（Ｘ３）中、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に、単結合又は酸素原子を表す。Ｒ２３およびＲ２４で表される基はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
式（Ｘ４）中、Ａ４は単結合又は酸素原子を表す。Ｒ２５で表される基は、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
式（Ｘ５）中、Ａ５〜Ａ７はそれぞれ独立に、単結合又は酸素原子を表す。Ｒ２６〜Ｒ２８で表される基はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、又は炭素原子数２〜２０のアルキニル基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
式（Ｘ６）中、Ａ８〜Ａ１０はそれぞれ独立に、単結合又は酸素原子を表す。Ｒ２９〜Ｒ３１で表される基はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、又は炭素原子数２〜２０のアルキニル基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
Ｒ１８〜Ｒ３１で表される基に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。）  
【００２４】
本実施形態の組成物において、組成物全体に対する（１）成分、（２）成分、および（３）成分の合計の含有割合は、特に限定されるものではないが、組成物全体に対し９５質量％以上であってもよく、９９質量％以上であってもよく、１００質量％であってもよい。
組成物全体に対する（１）成分の含有割合は、通常、０．０００１質量％〜５０質量％であり、０．０１質量％〜２０質量％であることが好ましく、０．１質量％〜１５質量％以下であることがより好ましく、１質量％〜１０質量％以下であることがさらに好ましい。
組成物全体に対する（２）成分の含有割合は、通常、０．０１質量％〜９９質量％であり、１質量％〜９６質量％であることが好ましく、１０質量％〜９５質量％以下であることがより好ましく、４０質量％〜９４質量％以下であることがさらに好ましい。
組成物全体に対する（３）成分の含有割合は、通常、０．０１質量％〜７０質量％であり、０．１質量％〜６０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜５５質量％以下であることがより好ましく、１質量％〜５３質量％以下であることがさらに好ましい。
（１）成分、（２）成分、および（３）成分の配合に係るそれぞれの範囲が、上記範囲内である組成物は、（１）成分の凝集が生じ難く、高い発光性を発揮する点で好ましい。
【００２５】
本実施形態の組成物は、下記（４）成分および（５）成分からなる群より選ばれる少なくとも一種を含んでいてもよい。
（４）成分：溶媒。
（５）成分：重合性化合物、またはその重合体。
【００２６】
本実施形態において、（１）成分は、（４）成分および（５）成分からなる群より選ばれる少なくとも一種に分散していることが好ましい。
【００２７】
（１）成分、（２）成分、および（３）成分と、（４）成分および（５）成分からなる群より選ばれる少なくとも一種とを含む実施形態の組成物において、組成物全体に対する（１）成分、（２）成分、および（３）成分と、（４）成分および（５）成分からなる群より選ばれる少なくとも一種とを含む組成物の合計は、組成物全体に対し９５質量％以上であってもよく、９９質量％以上であってもよく、１００質量％であってもよい。
組成物全体に対する（１）成分の含有割合は、通常、０．０００１質量％〜５０質量％であり、０．０００１質量％〜１質量％であることが好ましく、０．０００５質量％〜１質量％以下であることがより好ましく、０．００１質量％〜０．５質量％以下であることがさらに好ましく、０．０５質量％〜０．３質量％以下であることがもっとも好ましい。
組成物全体に対する（２）成分の含有割合は、通常、０．０００１質量％〜５０質量％であり、０．０００１質量％〜１質量％であることが好ましく、０．０５質量％〜１０質量％以下であることがより好ましく、１質量％〜７質量％以下であることがさらに好ましい。
組成物全体に対する（３）成分の含有割合は、通常、０．０００１質量％〜５０質量％であり、０．００１質量％〜１０質量％であることが好ましく、０．００５質量％〜５質量％以下であることがより好ましく、０．０１質量％〜３質量％以下であることがさらに好ましい。
組成物全体に対する（４）成分および（５）成分からなる群より選ばれる少なくとも一種の含有割合は、通常、０．０００１質量％〜９９質量％であり、１０質量％〜９９質量％であることが好ましく、３０質量％〜９８．５質量％以下であることがより好ましく、７０質量％〜９８質量％以下であることがさらに好ましい。
上記の上限値および下限値は任意に組み合わせることができる。
（１）成分、（２）成分、および（３）成分と、（４）成分および（５）成分からなる群より選ばれる少なくとも一種の配合に係るそれぞれの範囲が、上記範囲内である組成物は、（１）成分の凝集が生じ難く、高い発光性を発揮する点で好ましい。
【００２８】
本実施形態の組成物は、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および下記（５’）成分を含み、（１）成分、（２）成分、（３）成分および（５’）成分の合計量が、組成物全体に対し９０質量％以上であることが好ましい。
（５’）成分：重合体。
本実施形態の組成物において、（１）成分は、（５’）成分に分散していることが好ましい。
本実施形態の組成物において、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分の合計は、組成物全体に対し９５質量％以上であってもよく、９９質量％以上であってもよく、１００質量％であってもよい。
組成物全体に対する（１）成分の含有割合は、通常、０．０００１質量％〜５０質量％であり、０．０００１質量％〜１質量％であることが好ましく、０．０００５質量％〜１質量％以下であることがより好ましく、０．００１質量％〜０．５質量％以下であることがさらに好ましく、０．０５質量％〜０．３質量％以下であることがもっとも好ましい。
組成物全体に対する（２）成分の含有割合は、通常、０．０００１質量％〜５０質量％であり、０．０００１質量％〜１質量％であることが好ましく、０．０５質量％〜１０質量％以下であることがより好ましく、１質量％〜７質量％以下であることがさらに好ましい。
組成物全体に対する（３）成分の含有割合は、通常、０．０００１質量％〜５０質量％であり、０．００１質量％〜１０質量％であることが好ましく、０．００５質量％〜５質量％以下であることがより好ましく、０．０１質量％〜３質量％以下であることがさらに好ましい。
組成物全体に対する（５’）成分の含有割合は、通常、０．０００１質量％〜９９質量％であり、１０質量％〜９９質量％であることが好ましく、３０質量％〜９８．５質量％以下であることがより好ましく、７０質量％〜９８質量％以下であることがさらに好ましい。
上記の上限値および下限値は任意に組み合わせることができる。
（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分の配合に係るそれぞれの範囲が、上記範囲内である組成物は、（１）成分の凝集が生じ難く、高い発光性を発揮する点で好ましい。
【００２９】
本実施形態の組成物は、下記（６）成分を含んでいてもよい。
（６）成分：アンモニア、アミン、およびカルボン酸、並びにこれらの塩またはイオンからなる群から選ばれる少なくとも１種。
【００３０】
本実施形態の組成物において、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（６）成分の合計は、組成物全体に対し０．１質量％以上であってもよく、９９質量％以上であってもよく、１００質量％であってもよい。
組成物全体に対する（１）成分の含有割合は、通常、０．０００１質量％〜５０質量％であり、０．０１質量％〜２０質量％であることが好ましく、０．１質量％〜１５質量％以下であることがより好ましく、１質量％〜１０質量％以下であることがさらに好ましい。
組成物全体に対する（２）成分の含有割合は、通常、０．０１質量％〜９９質量％であり、１質量％〜９６質量％であることが好ましく、１０質量％〜９５質量％以下であることがより好ましく、４０質量％〜９４質量％以下であることがさらに好ましい。
組成物全体に対する（３）成分の含有割合は、通常、０．０１質量％〜７０質量％であり、０．１質量％〜６０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜５５質量％以下であることがより好ましく、１質量％〜５３質量％以下であることがさらに好ましい。
組成物全体に対する（６）成分の含有割合は、通常、０．０００１質量％〜５０質量％であり、０．０００１質量％〜２０質量％であることが好ましく、０．０１質量％〜１０質量％以下であることがより好ましく、０．１質量％〜５質量％以下であることがさらに好ましい。
上記の上限値および下限値は任意に組み合わせることができる。
（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（６）成分の配合に係るそれぞれの範囲が、上記範囲内である組成物は、（１）成分の凝集が生じ難く、高い発光性を発揮する点で好ましい。
【００３１】
本実施形態の組成物は、上述の（１）成分〜（６）成分以外のその他の成分を有していてもよい。
その他の成分としては、例えば、若干の不純物、並びにペロブスカイト化合物を構成する元素成分からなるアモルファス構造を有する化合物、重合開始剤が挙げられる。
その他の成分は、組成物全体に対して１０質量％以下であることが好ましく、５質量％以下であることがより好ましく、１質量％以下であることがさらに好ましい。
【００３２】
以下、本発明における組成物について実施形態を示して説明する。
【００３３】
≪（１）成分≫
（１）成分は、Ａ、Ｂ、およびＸを有するペロブスカイト化合物である。以下、（１）成分について説明する。
【００３４】
本実施形態の組成物に含まれるペロブスカイト化合物は、Ａ、Ｂ、およびＸを有するペロブスカイト化合物である。
（Ａは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする６面体の各頂点に位置する成分であって、１価の陽イオンである。
Ｘは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする８面体の各頂点に位置する成分を表し、ハロゲン化物イオン、およびチオシアン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも１種のイオンである。
Ｂは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ａを頂点に配置する６面体、およびＸを頂点に配置する８面体の中心に位置する成分であって、金属イオンである。）。
【００３５】
Ａ、Ｂ、およびＸを有するペロブスカイト化合物としては、特に限定されず、３次元構造、２次元構造、疑似２次元構造のいずれの構造を有する化合物であってもよい。
３次元構造の場合には、ペロブスカイト化合物は、ＡＢＸ（３＋δ）で表される。
２次元構造の場合には、ペロブスカイト化合物は、Ａ２ＢＸ（４＋δ）で表される。
ここで、δは、Ｂの電荷バランスに応じて適宜変更が可能な数であり、−０．７以上０．７以下である。
【００３６】
ペロブスカイト化合物は、下記一般式（１）で表されるペロブスカイト化合物であることが好ましい。
ＡＢＸ（３＋δ）  （−０．７≦δ≦０．７）  …（１）
［一般式（１）中、Ａは１価の陽イオン、Ｂは金属イオン、Ｘはハロゲン化物イオン、およびチオシアン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも１種のイオンである。］
【００３７】
〔Ａ〕
ペロブスカイト化合物中、Ａは前記ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする６面体の各頂点に位置する成分であって、１価の陽イオンである。１価の陽イオンとしては、セシウムイオン、有機アンモニウムイオン、またはアミジニウムイオンが挙げられる。ペロブスカイト化合物において、Ａがセシウムイオン、炭素原子数が３以下の有機アンモニウムイオン、または炭素原子数が３以下のアミジニウムイオンである場合、一般的にペロブスカイト化合物は、ＡＢＸ（３＋δ）で表される、３次元構造を有する。
ペロブスカイト化合物中のＡはセシウムイオン、または有機アンモニウムイオンが好ましい。
【００３８】
Ａの有機アンモニウムイオンとして具体的には、下記一般式（Ａ３）で表される陽イオンが挙げられる。
【００３９】
【化１３】
2019131655.tif 000014
【００４０】
一般式（Ａ３）中、Ｒ６〜Ｒ９は、それぞれ独立に、水素原子、置換基としてアミノ基を有していてもよいアルキル基、または置換基としてアミノ基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。
【００４１】
Ｒ６〜Ｒ９で表されるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよく、置換基としてアミノ基を有していてもよい。
Ｒ６〜Ｒ９で表されるアルキル基の炭素原子数は、通常１〜２０であり、１〜４であることが好ましく、１〜３であることがより好ましい。
【００４２】
Ｒ６〜Ｒ９で表されるシクロアルキル基は、置換基としてアルキル基を有していてもよく、アミノ基を有していてもよい。
Ｒ６〜Ｒ９で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、通常３〜３０であり、３〜１１であることが好ましく、３〜８であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数も含む。
【００４３】
Ｒ６〜Ｒ９としては、それぞれ独立に、水素原子またはアルキル基であることが好ましい。
一般式（Ａ３）に含まれ得るアルキル基およびシクロアルキル基の数を少なくすること、ならびにアルキル基およびシクロアルキル基の炭素原子数を小さくすることにより、発光強度が高い３次元構造のペロブスカイト型結晶構造を有する化合物を得ることができる。
アルキル基またはシクロアルキル基の炭素原子数が４以上の場合、２次元、および／または擬似二次元（ｑｕａｓｉ―２Ｄ）のペロブスカイト型の結晶構造を一部あるいは全体に有する化合物を得ることができる。２次元のペロブスカイト型結晶構造が無限大に積層すると３次元のペロブスカイト型結晶構造と同等になる（参考文献：Ｐ．Ｐ．Ｂｏｉｘら、Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．２０１５，６，８９８−９０７など）。
Ｒ６〜Ｒ９で表されるアルキル基およびシクロアルキル基に含まれる炭素原子数の合計数は１〜４であることが好ましく、Ｒ６〜Ｒ９のうちの１つが炭素原子数１〜３のアルキル基であり、Ｒ６〜Ｒ９のうちの３つが水素原子であることがより好ましい。
【００４４】
Ｒ６〜Ｒ９のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、１−メチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２，２−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、２，２−ジメチルペンチル基、２，３−ジメチルペンチル基、２，４−ジメチルペンチル基、３，３−ジメチルペンチル基、３−エチルペンチル基、２，２，３−トリメチルブチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基が例示できる。
【００４５】
Ｒ６〜Ｒ９のシクロアルキル基としては、Ｒ６〜Ｒ９のアルキル基で例示した炭素原子数３以上のアルキル基が環を形成したものが挙げられ、一例として、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、１−アダマンチル基、２−アダマンチル基、トリシクロデシル基等を例示できる。
【００４６】
Ａで表される有機アンモニウムイオンとしては、ＣＨ３ＮＨ３＋（メチルアンモニウムイオン）、Ｃ２Ｈ５ＮＨ３＋（エチルアンモニウムイオン） またはＣ３Ｈ７ＮＨ３＋（プロピルアンモニウムイオン）であることが好ましく、ＣＨ３ＮＨ３＋ またはＣ２Ｈ５ＮＨ３＋であることより好ましく、ＣＨ３ＮＨ３＋であることがさらに好ましい。
【００４７】
Ａで表されるアミジニウムイオンとしては、例えば、下記一般式（Ａ４）で表されるアミジニウムイオンが挙げられる。
（Ｒ１０Ｒ１１Ｎ＝ＣＨ−ＮＲ１２Ｒ１３）＋・・・（Ａ４）
【００４８】
一般式（Ａ４）中、Ｒ１０〜Ｒ１３は、それぞれ独立に、水素原子、置換基としてアミノ基を有していてもよいアルキル基、または置換基としてアミノ基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。
【００４９】
Ｒ１０〜Ｒ１３で表されるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよく、置換基としてアミノ基を有していてもよい。
Ｒ１０〜Ｒ１３で表されるアルキル基の炭素原子数は、通常１〜２０であり、１〜４であることが好ましく、１〜３であることがより好ましい。
【００５０】
Ｒ１０〜Ｒ１３で表されるシクロアルキル基は、置換基として、アルキル基を有していてもよく、アミノ基を有していてもよい。
Ｒ１０〜Ｒ１３で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、通常３〜３０であり、３〜１１であることが好ましく、３〜８であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。
【００５１】
Ｒ１０〜Ｒ１３のアルキル基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９において例示したアルキル基が挙げられる。
Ｒ１０〜Ｒ１３のシクロアルキル基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９において例示したシクロアルキル基が挙げられる。
【００５２】
Ｒ１０〜Ｒ１３としては、水素原子またはアルキル基が好ましい。
一般式（Ａ４）に含まれる、アルキル基およびシクロアルキル基の数を少なくすること、ならびにアルキル基およびシクロアルキル基の炭素原子数を小さくすることにより、発光強度が高い３次元構造のペロブスカイト化合物を得ることができる。
【００５３】
アルキル基またはシクロアルキル基の炭素原子数が４以上の場合、２次元、および／または擬似二次元（ｑｕａｓｉ―２Ｄ）のペロブスカイト型結晶構造を一部あるいは全体に有する化合物を得ることができる。また、Ｒ１０〜Ｒ１３で表されるアルキル基およびシクロアルキル基に含まれる炭素原子数の合計数は１〜４であることが好ましく、Ｒ１０が炭素原子数１〜３のアルキル基であり、Ｒ１１〜Ｒ１３が水素原子であることがより好ましい。
【００５４】
〔Ｂ〕
ペロブスカイト化合物中、Ｂは前記ペロブスカイト型結晶構造において、Ａを頂点に配置する６面体、およびＸを頂点に配置する８面体の中心に位置する成分であって、金属イオンである。Ｂ成分の金属イオンは１価の金属イオン、２価の金属イオン、および３価の金属イオンからなる群より選ばれる１種類以上からなるイオンであってよい。Ｂは２価の金属イオンを含むことが好ましく、鉛、またはスズからなる群より選ばれる１種類以上の金属イオンを含むことがより好ましい。
【００５５】
〔Ｘ〕
ペロブスカイト化合物中、Ｘは前記ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする８面体の各頂点に位置する成分を表し、ハロゲン化物イオン、およびチオシアン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも１種のイオンを表す。Ｘは、塩化物イオン、臭化物イオン、フッ化物イオン、ヨウ化物イオン、およびチオシアン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも１種のイオンであってよい。
【００５６】
Ｘは、所望の発光波長に応じて適宜選択することができるが、例えばＸは臭化物イオンを含むことができる。
Ｘが２種以上のハロゲン化物イオンである場合、該ハロゲン化物イオンの含有比率は、発光波長により適宜選ぶことができ、例えば、臭化物イオンと塩化物イオンとの組み合わせ、または、臭化物イオンとヨウ化物イオンとの組み合わせとすることができる。
【００５７】
本明細書において、ペロブスカイト構造は、Ｘ線回折パターンにより確認することができる。
前記３次元構造のペロブスカイト型結晶構造を有する化合物の場合、Ｘ線回折パターンにおいて、通常、２θ＝１２〜１８°の位置に（ｈｋｌ）＝（００１）に由来するピーク、又は２θ＝１８〜２５°の位置に(ｈｋｌ)＝（１１０）に由来するピークが確認される。２θ＝１３〜１６°の位置に、(ｈｋｌ)＝（００１）に由来するピークが、又は２θ＝２０〜２３°の位置に、(ｈｋｌ)＝（１１０）に由来するピークが確認されることがより好ましい。
【００５８】
前記２次元構造のペロブスカイト型結晶構造を有する化合物の場合、Ｘ線回折パターンにおいて、通常、２θ＝１〜１０°の位置に、(ｈｋｌ)＝（００２）由来のピークが確認され、２θ＝２〜８°の位置に、(ｈｋｌ)＝（００２）由来のピークが確認されることがより好ましい。
【００５９】
ペロブスカイト化合物であって、ＡＢＸ（３＋δ）で表される、３次元構造のペロブスカイト型の結晶構造を有する化合物の具体例としては、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＢｒ３、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＣｌ３、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＩ３、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＢｒ（３−ｙ）Ｉｙ（０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＢｒ（３−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ｙ＜３）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ２) ＰｂＢｒ３、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ２) ＰｂＣｌ３、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ２) ＰｂＩ３、
ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＣａａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＳｒａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＬａａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，０＜δ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＢａａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＤｙａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，０＜δ≦０．７）、
ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＬｉａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０）、
ＣｓＰｂ（１−ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０）、ＣｓＰｂ（１−ａ）ＬｉａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０）、
ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ−ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０, ０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＬｉａＢｒ（３＋δ−ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０, ０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０, ０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＬｉａＢｒ（３＋δ−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０, ０＜ｙ＜３）、
（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ２) Ｐｂ（１−ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ２) Ｐｂ（１−ａ）ＬｉａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ２)Ｐｂ（１−ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ−ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０, ０＜ｙ＜３）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ２)Ｐｂ（１−ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０, ０＜ｙ＜３）、
ＣｓＰｂＢｒ３、ＣｓＰｂＣｌ３、ＣｓＰｂＩ３、ＣｓＰｂＢｒ（３−ｙ）Ｉｙ（０＜ｙ＜３）、ＣｓＰｂＢｒ（３−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＢｒ（３−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ｙ＜３）、
ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＺｎａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＡｌａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７、０≦δ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＣｏａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＭｎａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＭｇａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、
ＣｓＰｂ（１−ａ）ＺｎａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣｓＰｂ（１−ａ）ＡｌａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７、０＜δ≦０．７）、ＣｓＰｂ（１−ａ）ＣｏａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣｓＰｂ（１−ａ）ＭｎａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣｓＰｂ（１−ａ）ＭｇａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、
ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＺｎａＢｒ（３−ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＡｌａＢｒ（３＋δ−ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜δ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＣｏａＢｒ（３−ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＭｎａＢｒ（３−ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＭｇａＢｒ（３−ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＺｎａＢｒ（３−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＡｌａＢｒ（３＋δ−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７、０＜δ≦０．７、０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＣｏａＢｒ（３＋δ−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＭｎａＢｒ（３−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＭｇａＢｒ（３−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜３）、
（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ２）ＺｎａＢｒ３）（０＜ａ≦０．７）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ２）ＭｇａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ２）Ｐｂ（１−ａ）ＺｎａＢｒ（３−ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜３）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ２）Ｐｂ（１−ａ）ＺｎａＢｒ（３−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．０＜ｙ＜３）等が好ましいものとして挙げられる。
【００６０】
ペロブスカイト化合物であって、Ａ２ＢＸ（４＋δ）で表される、２次元構造のペロブスカイト型の結晶構造を有する化合物の具体例としては、
(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２ＰｂＢｒ４、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２ＰｂＣｌ４、 (Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２ＰｂＩ４、(Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３)２ＰｂＢｒ４、(Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３)２ＰｂＣｌ４、(Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３)２ＰｂＩ４、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＬｉａＢｒ（４＋δ）（０＜ａ≦０．７、−０．７≦δ＜０）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＮａａＢｒ（４＋δ）（０＜ａ≦０．７、−０．７≦δ＜０）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＲｂａＢｒ（４＋δ）（０＜ａ≦０．７、−０．７≦δ＜０）、
(Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＮａａＢｒ（４＋δ）（０＜ａ≦０．７、−０．７≦δ＜０）、(Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＬｉａＢｒ（４＋δ）（０＜ａ≦０．７、−０．７≦δ＜０）、(Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＲｂａＢｒ（４＋δ）（０＜ａ≦０．７、−０．７≦δ＜０）、
(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＮａａＢｒ（４＋δ−ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７、−０．７≦δ＜０、０＜ｙ＜４）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＬｉａＢｒ（４＋δ−ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７、−０．７≦δ＜０、０＜ｙ＜４）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＲｂａＢｒ（４＋δ−ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７、−０．７≦δ＜０、０＜ｙ＜４）、
(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＮａａＢｒ（４＋δ−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７、−０．７≦δ＜０、０＜ｙ＜４）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＬｉａＢｒ（４＋δ−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７、−０．７≦δ＜０、０＜ｙ＜４）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＲｂａＢｒ（４＋δ−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７、−０．７≦δ＜０、０＜ｙ＜４）、
(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２ＰｂＢｒ４、(Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３)２ＰｂＢｒ４、
(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２ＰｂＢｒ（４-ｙ）Ｃｌｙ（０＜ｙ＜４）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２ＰｂＢｒ（４-ｙ）Ｉｙ（０＜ｙ＜４）、
(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＺｎａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＭｇａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＣｏａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＭｎａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、
(Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＺｎａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、(Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＭｇａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、(Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＣｏａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、(Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＭｎａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、
(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＺｎａＢｒ（４-ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜４）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＭｇａＢｒ（４-ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜４）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＣｏａＢｒ（４-ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜４）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＭｎａＢｒ（４-ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜４）、
(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＺｎａＢｒ（４-ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜４）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＭｇａＢｒ（４-ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜４）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＣｏａＢｒ（４-ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜４）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＭｎａＢｒ（４-ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７、０＜ｙ＜４）等が好ましいものとして挙げられる。
【００６１】
・発光スペクトル
ペロブスカイト化合物は、可視光波長領域に蛍光を発することができる発光体である。Ｘが臭化物イオンの場合は、通常４８０ｎｍ以上、好ましくは５００ｎｍ以上、より好ましくは５１０ｎｍ以上であって、かつ、通常７００ｎｍ以下、好ましくは６００ｎｍ以下、より好ましくは５８０ｎｍ以下の波長範囲に発光強度の極大ピークがある蛍光を発することができる。
上記の上限値および下限値は任意に組み合わせることができる。
【００６２】
Ｘがヨウ化物イオンの場合は、通常５２０ｎｍ以上、好ましくは５３０ｎｍ以上、より好ましくは５４０ｎｍ以上であって、かつ、通常８００ｎｍ以下、好ましくは７５０ｎｍ以下、より好ましくは７３０ｎｍ以下の波長範囲に発光強度の極大ピークがある蛍光を発することができる。
上記の上限値および下限値は任意に組み合わせることができる。
【００６３】
Ｘが塩化物イオンの場合は、通常３００ｎｍ以上、好ましくは３１０ｎｍ以上、より好ましくは３３０ｎｍ以上であって、かつ、通常６００ｎｍ以下、好ましくは５８０ｎｍ以下、より好ましくは５５０ｎｍ以下の波長範囲に発光強度の極大ピークがある蛍光を発することができる。
上記の上限値および下限値は任意に組み合わせることができる。
【００６４】
組成物に含まれる、（１）成分の粒径は、特に限定されるものではないが、良好に結晶構造を維持させる観点から、直径が１ｎｍ以上であることが好ましく、２ｎｍ以上であることがより好ましく、３ｎｍ以上であることがさらに好ましい。また、組成物において（１）成分が沈降しにくくなる観点から、１０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以下であることがより好ましく、５００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
上記の上限値および下限値は任意に組み合わせることができる。
【００６５】
組成物に含まれる、（１）成分の粒径は、特に限定されるものではないが、組成物において（１）成分が沈降しにくくなる観点、および良好に結晶構造を維持させる観点から、直径が１ｎｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、２ｎｍ以上１μｍ以下であることがより好ましく、３ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
【００６６】
組成物に含まれる、（１）成分の粒度分布は、特に限定されるものではないが、良好に結晶構造を維持させる観点から、メディアン径のＤ５０が３ｎｍ以上であることが好ましく、４ｎｍ以上であることがより好ましく、５ｎｍ以上であることがさらに好ましい。また、組成物において（１）が沈降しにくくなる観点から、５μｍ以下であることが好ましく、５００ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
【００６７】
≪（２）成分≫
（２）成分は、シラザン、又はその改質体である。
前記シラザンは、Ｓｉ−Ｎ−Ｓｉ結合を有する化合物であり、鎖状、分岐鎖状、または環状のいずれであってもよい。また、シラザンは、低分子であっても、高分子（本明細書では、ポリシラザンと記載することがある。）であってもよい。
例えば、下記の一般式（Ｂ１）または（Ｂ２）で表される低分子のシラザン、および、一般式（Ｂ３）で表される構成単位、または一般式（Ｂ４）で表される構造を有するポリシラザンであることが好ましい。
シラザンは、後述する方法で改質してシリカ変性させて用いてもよい。
【００６８】
実施形態の組成物に含まれるシラザンは、改質されたシラザンの改質体であってもよい。
改質とは、シラザンに含まれる少なくとも一部のＳｉ−Ｎ−Ｓｉ結合において、ＮをＯで置換し、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合が形成させることをいい、シラザンの改質体は、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を含む化合物である。
シラザンの改質体としては、例えば、上述した、一般式（Ｂ１）、または（Ｂ２）に含まれる少なくとも１つのＮが、Ｏで置換された低分子の化合物、および、一般式（Ｂ３）で表される構成単位を有するポリシラザンに含まれる少なくとも１つのＮがＯで置換された高分子の化合物、または一般式（Ｂ４）で表される構造を有するポリシラザンに含まれる少なくとも１つのＮがＯで置換された高分子の化合物が好ましい。
【００６９】
シラザンおよびその改質体に含まれるＳｉ原子数、Ｎ原子数、Ｏ原子数は、核磁気共鳴分光法（ＮＭＲ）、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）、または透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いたエネルギー分散型Ｘ線分析（ＥＤＸ）等で算出することができる。
【００７０】
シラザン、またはその改質体の少なくとも一部は、組成物に含まれるペロブスカイト化合物に吸着していてもよく、組成物中に分散していてもよい。
【００７１】
【化１４】
2019131655.tif 000015
【００７２】
一般式（Ｂ１）中、Ｒ１４、およびＲ１５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数１以上２０以下のアルケニル基、炭素原子数３以上２０以下のシクロアルキル基、炭素原子数６以上２０以下のアリール基、または炭素原子数１以上２０以下のアルキルシリル基を表す。炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数１以上２０以下のアルケニル基、炭素原子数３以上２０以下のシクロアルキル基、炭素原子数６以上２０以下のアリール基、または炭素原子数１以上２０以下のアルキルシリル基は、アミノ基などの置換基を有していてもよい。複数あるＲ１５は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００７３】
一般式（Ｂ１）で表される低分子のシラザンとしては、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、１，３−ジフェニルテトラメチルジシラザン、および１，１，１，３，３，３−ヘキサメチルジシラザンが挙げられる。
【００７４】
【化１５】
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【００７５】
一般式（Ｂ２）中、Ｒ１４、およびＲ１５は上記同様である。
複数あるＲ１４は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
複数あるＲ１５は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
ｎ１は１以上、２０以下を表す。ｎ１は、１以上、１０以下でもよく、１または２でもよい。
一般式（Ｂ２）で表される低分子のシラザンとしては、オクタメチルシクロテトラシラザン、２，２，４，４，６，６−ヘキサメチルシクロトリシラザン、および２，４，６−トリメチル−２，４，６−トリビニルシクロトリシラザンが挙げられる。
【００７６】
低分子のシラザンとしては、オクタメチルシクロテトラシラザン、および１，３−ジフェニルテトラメチルジシラザンが好ましく、オクタメチルシクロテトラシラザンがより好ましい。
【００７７】
ポリシラザンは、Ｓｉ−Ｎ−Ｓｉ結合を有する高分子化合物であり、特に制限されないが、例えば、下記の一般式（Ｂ３）で表される構成単位を有する高分子化合物が挙げられる。ポリシラザンに含まれる一般式（Ｂ３）で表される構成単位は、１種類であっても、複数種類であってもよい。
【００７８】
【化１６】
2019131655.tif 000017
【００７９】
一般式（Ｂ３）中、Ｒ１４、およびＲ１５は、上記同様である。
複数あるＲ１４は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
複数あるＲ１５は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
ｍは、２以上１００００以下の整数を表す。
【００８０】
一般式（Ｂ３）で表される構成単位を有するポリシラザンは、例えば、Ｒ１４、およびＲ１５のすべてが水素原子であるパーヒドロポリシラザンでもよい。
【００８１】
また、一般式（Ｂ３）で表される構成単位を有するポリシラザンは、例えば、少なくとも１つのＲ１５が水素原子以外の基であるオルガノポリシラザンであってもよい。用途に応じて、適宜にパーヒドロポリシラザンとオルガノポリシラザンを選択してよく、混合して使用することもできる。
【００８２】
ポリシラザンは、分子内の一部に環構造を有していてもよく、例えば、一般式（Ｂ４）で表される構造を有していてもよい。
【００８３】
【化１７】
2019131655.tif 000018
【００８４】
ｎ２は、１以上１００００以下の整数を表す。ｎ２は、１以上１０以下でもよく、１または２でもよい。
【００８５】
シラザン、またはその改質体は、特に制限は無いが、分散性を向上させ、凝集を抑制できる観点からオルガノポリシラザン、またはその改質体が好ましい。オルガノポリシラザンは、例えば、一般式（Ｂ３）中のＲ１４、およびＲ１５の少なくとも１つが、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数１以上２０以下のアルケニル基、炭素原子数３以上２０以下のシクロアルキル基、炭素原子数６以上２０以下のアリール基、または炭素原子数１以上２０以下のアルキルシリル基である、一般式（Ｂ３）で表される構成単位を有するオルガノポリシラザンであってもよい。また、一般式（Ｂ４）中の少なくとも１つの結合手がＲ１４またはＲ１５と結合し、当該Ｒ１４、およびＲ１５の少なくとも１つが、炭素原子数１以上２０以下のアルキル基、炭素原子数１以上２０以下のアルケニル基、炭素原子数３以上２０以下のシクロアルキル基、炭素原子数６以上２０以下のアリール基、または炭素原子数１以上２０以下のアルキルシリル基である、一般式（Ｂ４）で表される構造を含むオルガノポリシラザンであってもよい。
【００８６】
オルガノポリシラザンは、一般式（Ｂ３）中のＲ１４、およびＲ１５の少なくとも１つがメチル基である、一般式（Ｂ３）で表される構成単位を有するオルガノポリシラザン、または、一般式（Ｂ４）中の少なくとも１つの結合手がＲ１４またはＲ１５と結合し、当該Ｒ１４、およびＲ１５の少なくとも１つがメチル基である、一般式（Ｂ４）で表される構造を有するポリシラザンであることが好ましい。
く、Ｒ１４、またはＲ１５の少なくとも一部がメチル基であるオルガノポリシラザンが好ましい。
【００８７】
一般的なポリシラザンは、例えば、直鎖構造と、６員環、または８員環等の環構造とが存在した構造である。その分子量は数平均分子量（Ｍｎ）で約６００〜２０００程度（ポリスチレン換算）であり、分子量によって液体または固体の物質でありうる。当該ポリシラザンは、市販品を使用してもよく、市販品としては、ＮＮ１２０−１０、ＮＮ１２０−２０、ＮＡＸ１２０−２０、ＮＮ１１０、ＮＡＸ１２０、ＮＡＸ１１０、ＮＬ１２０Ａ、ＮＬ１１０Ａ、ＮＬ１５０Ａ、ＮＰ１１０、ＮＰ１４０（ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製）ならびに、ＡＺＮＮ−１２０−２０、Ｄｕｒａｚａｎｅ（登録商標）  １５００  Ｓｌｏｗ  Ｃｕｒｅ、Ｄｕｒａｚａｎｅ（登録商標）  １５００  Ｒａｐｉｄ  Ｃｕｒｅ、およびＤｕｒａｚａｎｅ（登録商標）  １８００（メルクパフォーマンスマテリアルズ株式会社製）、およびＤｕｒａｚａｎｅ（登録商標）  １０３３（メルクパフォーマンスマテリアルズ株式会社製）等が挙げられる。
一般式（Ｂ３）で表される構成単位を有するポリシラザンは、好ましくはＡＺＮＮ−１２０−２０、Ｄｕｒａｚａｎｅ（登録商標）  １５００  Ｓｌｏｗ  Ｃｕｒｅ、Ｄｕｒａｚａｎｅ（登録商標）  １５００  Ｒａｐｉｄ  Ｃｕｒｅであり、より好ましくはＤｕｒａｚａｎｅ（登録商標）  １５００  Ｓｌｏｗ  Ｃｕｒｅである。
【００８８】
≪（３）成分≫
（３）成分は、式（Ｘ１）〜（Ｘ６）でそれぞれ表される化合物およびそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物である。
（式（Ｘ１）中、Ｒ１８〜Ｒ２１はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、それらは置換基を有していてもよい。Ｍ−はカウンターアニオンを表す。
式（Ｘ２）中、Ａ１は単結合又は酸素原子を表す。Ｒ２２は、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
式（Ｘ３）中、Ａ２及びＡ３はそれぞれ独立に、単結合又は酸素原子を表す。Ｒ２３及びＲ２４はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
式（Ｘ４）中、Ａ４は単結合又は酸素原子を表す。Ｒ２５は、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は炭素原子数６〜３０のアリール基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
式（Ｘ５）中、Ａ５〜Ａ７はそれぞれ独立に、単結合又は酸素原子を表す。Ｒ２６〜Ｒ２８はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、又は炭素原子数２〜２０のアルキニル基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
式（Ｘ６）中、Ａ８〜Ａ１０はそれぞれ独立に、単結合又は酸素原子を表す。Ｒ２９〜Ｒ３１はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、又は炭素原子数２〜２０のアルキニル基を表し、それらは置換基を有していてもよい。
Ｒ１８〜Ｒ３１でそれぞれ表される基に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。）
【００８９】
【化１８】
2019131655.tif 000019
（Ｘ１）
【００９０】
【化１９】
2019131655.tif 000020
（Ｘ２）
【００９１】
【化２０】
2019131655.tif 000021
（Ｘ３）
【００９２】
【化２１】
2019131655.tif 000022
（Ｘ４）
【００９３】
【化２２】
2019131655.tif 000023
（Ｘ５）
【００９４】
【化２３】
2019131655.tif 000024
（Ｘ６）
【００９５】
＜式（Ｘ１）で表される化合物＞
式（Ｘ１）において、Ｒ１８〜Ｒ２１はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３０のアリール基を表す。
【００９６】
Ｒ１８〜Ｒ２１で表されるアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ１８〜Ｒ２１で表されるアルキル基の炭素原子数は、通常１〜２０であり、５〜２０であることが好ましく、８〜２０であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。  
【００９７】
Ｒ１８〜Ｒ２１で表されるシクロアルキル基は、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ１８〜Ｒ２１で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、通常３〜３０であり、３〜２０であることが好ましく、３〜１１であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。
【００９８】
Ｒ１８〜Ｒ２１で表されるアリール基は、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ１８〜Ｒ２１で表されるアリール基の炭素原子数は、通常６〜３０であり、６〜２０であることが好ましく、６〜１０であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。
【００９９】
Ｒ１８〜Ｒ２１で表される基は、アルキル基であることが好ましい。
【０１００】
Ｒ１８〜Ｒ２１で表されるアルキル基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９で表されるアルキル基において例示したアルキル基が挙げられる。
【０１０１】
Ｒ１８〜Ｒ２１で表されるシクロアルキル基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９で表されるシクロアルキル基において例示したシクロアルキル基が挙げられる。
【０１０２】
Ｒ１８〜Ｒ２１で表されるアリール基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９で表されるアリール基において例示したアリール基が挙げられる。
【０１０３】
Ｒ１８〜Ｒ２１で表される基に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、化学的安定性の観点から、フッ素原子が好ましい。
【０１０４】
式（Ｘ１）で表される化合物において、Ｍ−はカウンターアニオンを表し、Ｂｒ―、Ｃｌ―、Ｉ―、Ｆ―のハロゲン化物イオンや、カルボキシレートイオンなどが好ましい例として挙げられる。
【０１０５】
式（Ｘ１）で表される化合物の具体例としては、トリブチル−ｎ−オクチルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムクロリド、トリブチルヘキサデシルホスホニウムクロリド、テトラブチルホスホニウムクロリド、テトラエチルホスホニウムクロリド、テトラ−ｎ−オクチルホスホニウムクロリド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、トリブチルヘキサデシルホスホニウムブロミド、テトラブチルホスホニウムブロミド、テトラエチルホスホニウムブロミド、テトラ−ｎ−オクチルホスホニウムブロミド、トリブチルドデシルホスホニウムブロミド、トリブチル−ｎ−オクチルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムヨージド、トリブチルヘキサデシルホスホニウムヨージド、テトラブチルホスホニウムヨージド、テトラエチルホスホニウムヨージド、テトラ−ｎ−オクチルホスホニウムヨージド、トリブチル−ｎ−オクチルホスホニウムブロミドが挙げられ、組成物の熱耐久性の観点から、トリブチルヘキサデシルホスホニウムブロミド、トリブチルｎオクチルホスホニウムブロミドが好ましく、トリブチル−ｎ−オクチルホスホニウムブロミドがより好ましい。
【０１０６】
式（Ｘ１）で表される化合物の一部もしくは全部が、本発明に係るペロブスカイト化合物の表面に吸着していてもよく、組成物中で分散していてもよい。
【０１０７】
＜式（Ｘ２）で表される化合物＞
式（Ｘ２）で表される化合物において、Ａ１は単結合又は酸素原子を表す。
【０１０８】
式（Ｘ２）で表される化合物において、Ｒ２２は、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３０のアリール基を表す。
【０１０９】
Ｒ２２で表されるアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ２２で表されるアルキル基の炭素原子数は、通常１〜２０であり、５〜２０であることが好ましく、８〜２０であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。  
【０１１０】
Ｒ２２で表されるシクロアルキル基は、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ２２で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、通常３〜３０であり、３〜２０であることが好ましく、３〜１１であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。
【０１１１】
Ｒ２２で表されるアリール基は、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ２２で表されるアリール基の炭素原子数は、通常６〜３０であり、６〜２０であることが好ましく、６〜１０であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。
【０１１２】
Ｒ２２で表される基は、アルキル基であることが好ましい。
【０１１３】
Ｒ２２で表されるアルキル基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９で表されるアルキル基において例示したアルキル基が挙げられる。
【０１１４】
Ｒ２２で表されるシクロアルキル基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９で表されるシクロアルキル基において例示したシクロアルキル基が挙げられる。
【０１１５】
Ｒ２２で表されるアリール基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９で表されるアリール基において例示したアリール基が挙げられる。
【０１１６】
Ｒ２２で表される基に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、化学的安定性の観点から、フッ素原子が好ましい。
【０１１７】
式（Ｘ２）で表される化合物の塩において、陰イオン性基は下記式（Ｘ２−１）で表される。
【０１１８】
【化２４】
2019131655.tif 000025
（Ｘ２−１）
【０１１９】
式（Ｘ２）で表される化合物の塩において、式（Ｘ２−１）対となる陽イオン性基としては、例えば、アンモニウム塩が挙げられる。
【０１２０】
式（Ｘ２）で表される化合物の塩において、式（Ｘ２−１）の対となるカウンターカチオンとしては、例えば、特に制限は無いがＮａ＋、Ｋ＋、Ｃｓ＋、Ｈ＋等の一価のイオンが挙げられる。
【０１２１】
式（Ｘ２）で表される化合物の塩としては、りん酸フェニル、りん酸フェニル二ナトリウム水和物、１−ナフチルりん酸二ナトリウム水和物、１−ナフチルりん酸一ナトリウム一水和物、ラウリルリン酸、ラウリルリン酸ナトリウム、ベンズヒドリルホスホン酸、デシルホスホン酸、ドデシルホスホン酸、エチルホスホン酸、ヘキサデシルホスホン酸、ヘプチルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、メチルホスホン酸、ノニルホスホン酸、オクタデシルホスホン酸、 ｎ−オクチルホスホン酸、ベンゼンホスホン酸、フェニルホスホン酸二ナトリウム水和物、フェネチルホスホン酸、プロピルホスホン酸、ウンデシルホスホン酸、テトラデシルホスホン酸、シンナミルホスホン酸1-ヘキサンスルホン酸ナトリウム、ドデシルホスホン酸、エチルホスホン酸、ヘキサデシルホスホン酸、ヘプチルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、メチルホスホン酸、ノニルホスホン酸、オクタデシルホスホン酸、 n-オクチルホスホン酸が挙げられ、組成物の熱耐久性の観点から、オレイルリン酸、ドデシルホスホン酸、エチルホスホン酸、ヘキサデシルホスホン酸、ヘプチルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、メチルホスホン酸、ノニルホスホン酸、オクタデシルホスホン酸、 ｎ−オクチルホスホン酸、がより好ましく、オクタデシルホスホン酸がさらに好ましい。
【０１２２】
式（Ｘ２）で表される化合物またはその塩の一部もしくは全部が、本発明に係るペロブスカイト化合物の表面に吸着していてもよく、組成物中で分散していてもよい。
【０１２３】
＜式（Ｘ３）で表される化合物＞
式（Ｘ３）で表される化合物において、Ａ２およびＡ３はそれぞれ独立に、単結合又は酸素原子を表す。
【０１２４】
式（Ｘ３）で表される化合物において、Ｒ２３およびＲ２４はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３０のアリール基を表す。
【０１２５】
Ｒ２３およびＲ２４で表されるアルキル基はそれぞれ独立に、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ２３およびＲ２４で表されるアルキル基の炭素原子数は、通常１〜２０であり、５〜２０であることが好ましく、８〜２０であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。  
【０１２６】
Ｒ２３およびＲ２４で表されるシクロアルキル基はそれぞれ独立に、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ２３およびＲ２４で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、通常３〜３０であり、３〜２０であることが好ましく、３〜１１であることがより好ましい。Ｒ２３およびＲ２４で表されるシクロアルキル基は、置換基としてアルキル基、またはアリール基を有していてもよい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。
【０１２７】
Ｒ２３およびＲ２４で表されるアリール基はそれぞれ独立に、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ２３およびＲ２４で表されるアリール基の炭素原子数は、通常６〜３０であり、６〜２０であることが好ましく、６〜１０であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。
【０１２８】
Ｒ２３およびＲ２４はそれぞれ独立に、アルキル基であることが好ましい。
【０１２９】
Ｒ２３およびＲ２４で表されるアルキル基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９で表されるアルキル基において例示したアルキル基が挙げられる。
【０１３０】
Ｒ２３およびＲ２４で表されるシクロアルキル基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９で表されるシクロアルキル基において例示したシクロアルキル基が挙げられる。
【０１３１】
Ｒ２３およびＲ２４で表されるアリール基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９で表されるアリール基において例示したアリール基が挙げられる。
【０１３２】
Ｒ２３およびＲ２４で表される基に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、化学的安定性の観点から、フッ素原子が好ましい。
【０１３３】
式（Ｘ３）で表される化合物の塩において、陰イオン性基は下記式（Ｘ３−１）で表される。
【０１３４】
【化２５】
2019131655.tif 000026
（Ｘ３−１）
【０１３５】
式（Ｘ３）で表される化合物の塩において、式（Ｘ３−１）対となる陽イオン性基としては、例えば、アンモニウム塩が挙げられる。
【０１３６】
式（Ｘ３）で表される化合物の塩において、式（Ｘ３−１）の対となるカウンターカチオンとしては、例えば、特に制限は無いがＮａ＋、Ｋ＋、Ｃｓ＋、Ｈ＋等の一価のイオンが挙げられる。
【０１３７】
式（Ｘ３）で表される化合物の塩としては、ジフェニルホスフィン酸、りん酸ジブチル、りん酸ジデシル、りん酸ジフェニルが挙げられ、組成物の熱耐久性の観点から、ジフェニルホスフィン酸、りん酸ジブチル、りん酸ジデシルが好ましく、ジフェニルホスフィン酸がより好ましい。
【０１３８】
式（Ｘ３）で表される化合物またはその塩の一部もしくは全部が、本発明に係るペロブスカイト化合物の表面に吸着していてもよく、組成物中で分散していてもよい。
【０１３９】
＜式（Ｘ４）で表される化合物＞
式（Ｘ４）で表される化合物において、Ａ４は単結合又は酸素原子を表す。
【０１４０】
式（Ｘ４）で表される化合物において、Ｒ２５で表される基は、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、又は置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３０のアリール基を表す。
【０１４１】
Ｒ２５で表されるアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ２５で表されるアルキル基の炭素原子数は、通常１〜２０であり、５〜２０であることが好ましく、８〜２０であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。  
【０１４２】
Ｒ２５で表されるシクロアルキル基は、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ２５で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、通常３〜３０であり、３〜２０であることが好ましく、３〜１１であることがより好ましい。Ｒ２５で表されるシクロアルキル基は、置換基としてアルキル基、またはアリール基を有していてもよい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。
【０１４３】
Ｒ２５で表されるアリール基は、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ２５で表されるアリール基の炭素原子数は、通常６〜３０であり、６〜２０であることが好ましく、６〜１０であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。
【０１４４】
Ｒ２５で表される基は、アルキル基であることが好ましい。
【０１４５】
Ｒ２５で表されるアルキル基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９で表されるアルキル基において例示したアルキル基が挙げられる。
【０１４６】
Ｒ２５で表されるシクロアルキル基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９で表されるシクロアルキル基において例示したシクロアルキル基が挙げられる。
【０１４７】
Ｒ２５で表されるアリール基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９で表されるアリール基において例示したアリール基が挙げられる。
【０１４８】
Ｒ２５で表される基に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、化学的安定性の観点から、フッ素原子が好ましい。
【０１４９】
式（Ｘ４）で表される化合物の塩において、陰イオン性基は下記式（Ｘ４−１）で表される。
【０１５０】
【化２６】
2019131655.tif 000027
（Ｘ４−１）
【０１５１】
式（Ｘ４）で表される化合物の塩において、式（Ｘ４−１）対となる陽イオン性基としては、例えば、アンモニウム塩が挙げられる。
【０１５２】
式（Ｘ４）で表される化合物の塩において、式（Ｘ４−１）の対となるカウンターカチオンとしては、例えば、特に制限は無いがＮａ＋、Ｋ＋、Ｃｓ＋、Ｈ＋等の一価のイオンが挙げられる。
【０１５３】
式（Ｘ４）で表される化合物の塩としては、１−オクタンスルホン酸ナトリウム、１−デカンスルホン酸ナトリウム、１−ドデカンスルホン酸ナトリウム、ヘキサデシル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム 、ミリスチル硫酸ナトリウム、ラウレス硫酸ナトリウム、ドデシル硫酸ナトリウムが挙げられ、組成物の熱耐久性の観点から、ヘキサデシル硫酸ナトリウム、ドデシル硫酸ナトリウムが好ましく、ドデシル硫酸ナトリウムがより好ましい。
【０１５４】
式（Ｘ４）で表される化合物またはその塩の一部もしくは全部が、本発明に係るペロブスカイト化合物の表面に吸着していてもよく、組成物中で分散していてもよい。
【０１５５】
＜式（Ｘ５）で表される化合物＞
式（Ｘ５）で表される化合物において、Ａ５〜Ａ７はそれぞれ独立に、単結合又は酸素原子を表す。
【０１５６】
式（Ｘ５）で表される化合物において、Ｒ２６〜Ｒ２８はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０のアルケニル基、又は置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０のアルキニル基を表す。
【０１５７】
Ｒ２６〜Ｒ２８で表されるアルキル基はそれぞれ独立に、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ２６〜Ｒ２８で表されるアルキル基の炭素原子数は、通常１〜２０であり、５〜２０であることが好ましく、８〜２０であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。  
【０１５８】
Ｒ２６〜Ｒ２８で表されるシクロアルキル基はそれぞれ独立に、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ２６〜Ｒ２８で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、通常３〜３０であり、３〜２０であることが好ましく、３〜１１であることがより好ましい。Ｒ２６〜Ｒ２８で表されるシクロアルキル基は、置換基としてアルキル基、またはアリール基を有していてもよい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。
【０１５９】
Ｒ２６〜Ｒ２８で表されるアリール基はそれぞれ独立に、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ２６〜Ｒ２８で表されるアリール基の炭素原子数は、通常６〜３０であり、６〜２０であることが好ましく、６〜１０であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。
【０１６０】
Ｒ２６〜Ｒ２８で表されるアルケニル基はそれぞれ独立に、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ２６〜Ｒ２８で表されるアルケニル基の炭素原子数は、通常２〜２０であり、６〜２０であることが好ましく、１２〜１８であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。
【０１６１】
Ｒ２６〜Ｒ２８で表されるアルキニル基はそれぞれ独立に、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ２６〜Ｒ２８で表されるアルキニル基の炭素原子数は、通常２〜２０であり、６〜２０であることが好ましく、１２〜１８であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。
【０１６２】
Ｒ２６〜Ｒ２８で表される基はそれぞれ独立に、アルキル基であることが好ましい。
【０１６３】
Ｒ２６〜Ｒ２８で表されるアルキル基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９で表されるアルキル基において例示したアルキル基が挙げられる。
【０１６４】
Ｒ２６〜Ｒ２８で表されるシクロアルキル基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９で表されるシクロアルキル基において例示したシクロアルキル基が挙げられる。
【０１６５】
Ｒ２６〜Ｒ２８で表されるアリール基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９で表されるアリール基において例示したアリール基が挙げられる。
【０１６６】
Ｒ２６〜Ｒ２８で表されるアルケニル基の具体例としては、ヘキセニル、オクテニル、デセニル、ドデセニル、テトラデセニル、ヘキサデセニル、オクタデセニル、イコセニルが挙げられる。
【０１６７】
Ｒ２６〜Ｒ２８で表されるアルキニル基の具体例としては、ヘキシニル、オクチニル、デシニル、ドデシニル、テトラデシニル、ヘキサデシニル、オクタデシニル、イコシニルが挙げられる。
【０１６８】
Ｒ２６〜Ｒ２８で表される基に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、化学的安定性の観点から、フッ素原子が好ましい。
【０１６９】
式（Ｘ５）で表される化合物としては、亜りん酸トリオレイル、亜りん酸トリブチル、亜りん酸トリエチル、亜りん酸トリヘキシル、亜りん酸トリイソデシル、亜りん酸トリメチル、シクロヘキシルジフェニルホスフィン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルホスフィン、ジシクロヘキシルフェニルホスフィン、ジエチルフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリヘキシルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリ−ｎ−オクチルホスフィン、トリフェニルホスフィン挙げられ、組成物の熱耐久性の観点から、亜りん酸トリオレイル、トリブチルホスフィン、トリヘキシルホスフィン、亜りん酸トリヘキシル、が好ましく、亜りん酸トリオレイルがより好ましい。
【０１７０】
式（Ｘ５）で表される化合物の一部もしくは全部が、本発明に係るペロブスカイト化合物の表面に吸着していてもよく、組成物中で分散していてもよい。
【０１７１】
＜式（Ｘ６）で表される化合物＞
式（Ｘ６）で表される化合物において、Ａ８〜Ａ１０はそれぞれ独立に、単結合又は酸素原子を表す。
【０１７２】
式（Ｘ６）で表される化合物において、Ｒ２９〜Ｒ３１はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数３〜３０のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０のアルケニル基、又は置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０のアルキニル基を表す。
【０１７３】
Ｒ２９〜Ｒ３１で表されるアルキル基はそれぞれ独立に、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ２９〜Ｒ３１で表されるアルキル基の炭素原子数は、通常１〜２０であり、５〜２０であることが好ましく、８〜２０であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。  
【０１７４】
Ｒ２９〜Ｒ３１で表されるシクロアルキル基はそれぞれ独立に、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ２９〜Ｒ３１で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、通常３〜３０であり、３〜２０であることが好ましく、３〜１１であることがより好ましい。Ｒ２９〜Ｒ３１で表されるシクロアルキル基は、置換基としてアルキル基、またはアリール基を有していてもよい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。
【０１７５】
Ｒ２９〜Ｒ３１で表されるアリール基はそれぞれ独立に、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ２９〜Ｒ３１で表されるアリール基の炭素原子数は、通常６〜３０であり、６〜２０であることが好ましく、６〜１０であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。
【０１７６】
Ｒ２９〜Ｒ３１で表されるアルケニル基はそれぞれ独立に、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ２９〜Ｒ３１で表されるアルケニル基の炭素原子数は、通常２〜２０であり、６〜２０であることが好ましく、１２〜１８であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。
【０１７７】
Ｒ２９〜Ｒ３１で表されるアルキニル基はそれぞれ独立に、置換基としてフェニル基、アルキル基、又はアリール基を有することが好ましい。Ｒ２９〜Ｒ３１で表されるアルキニル基の炭素原子数は、通常２〜２０であり、６〜２０であることが好ましく、１２〜１８であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。
【０１７８】
Ｒ２９〜Ｒ３１で表される基はそれぞれ独立に、アルキル基であることが好ましい。
【０１７９】
Ｒ２９〜Ｒ３１で表されるアルキル基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９で表されるアルキル基において例示したアルキル基が挙げられる。
【０１８０】
Ｒ２９〜Ｒ３１で表されるシクロアルキル基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９で表されるシクロアルキル基において例示したシクロアルキル基が挙げられる。
【０１８１】
Ｒ２９〜Ｒ３１で表されるアリール基の具体例としては、フェニル基、ベンジル基、トリル基、o-キシリル基等が挙げられる。
【０１８２】
Ｒ２９〜Ｒ３１で表されるアルケニル基の具体例としては、ヘキセニル、オクテニル、デセニル、ドデセニル、テトラデセニル、ヘキサデセニル、オクタデセニル、イコセニルが挙げられる。
【０１８３】
Ｒ２９〜Ｒ３１で表されるアルキニル基の具体例としては、ヘキシニル、オクチニル、デシニル、ドデシニル、テトラデシニル、ヘキサデシニル、オクタデシニル、イコシニルが挙げられる。
【０１８４】
Ｒ２９〜Ｒ３１で表される基に含まれる水素原子は、それぞれ独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、化学的安定性の観点から、フッ素原子が好ましい。
【０１８５】
式（Ｘ６）で表される化合物としては、トリ−ｎ−オクチルホスフィンオキシド、トリブチルホスフィンオキシド、メチル（ジフェニル）ホスフィンオキシド、トリフェニルホスフィンオキシド、トリ−ｐ−トリルホスフィンオキシド、シクロヘキシルジフェニルホスフィンオキシド、りん酸トリメチル、りん酸トリブチル、りん酸トリアミル、りん酸トリス（２−ブトキシエチル）、りん酸トリフェニル、りん酸トリ−ｐ−クレジル、りん酸トリ−ｍ−クレジル、りん酸トリ−ｏ−クレジルが挙げられ、組成物の熱耐久性の観点から、トリ−ｎ−オクチルホスフィンオキシド、トリブチルホスフィンオキシドが好ましく、トリ−ｎ−オクチルホスフィンオキシドがより好ましい。
【０１８６】
式（Ｘ６）で表される化合物の一部もしくは全部が、本発明に係るペロブスカイト化合物の表面に吸着していてもよく、組成物中で分散していてもよい。
【０１８７】
≪（４）成分≫
（４）成分は溶媒である。溶媒は、前記（１）成分を分散させることができる媒体であれば特に限定されないが、（１）成分を溶解し難いものが好ましい。
【０１８８】
溶媒としては、例えば、メチルホルメート、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテート等のエステル；γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、アセトン、ジメチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン；ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、４−メチルジオキソラン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール等のエーテル；メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、メトキシプロパノール、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノール、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール等のアルコール；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド基を有する有機溶媒；アセトニトリル、イソブチロニトリル、プロピオニトリル、メトキシアセトニトリル等のニトリル基を有する有機溶媒；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート基を有する有機溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化した炭化水素基を有する有機溶媒；ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素基を有する有機溶媒；ジメチルスルホキシド、１−オクタデセン等が挙げられる。
【０１８９】
これらの中でもメチルホルメート、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテート等のエステル；γ−ブチロラクトン、アセトン、ジメチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン；ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、４−メチルジオキソラン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール等のエーテル、アセトニトリル、イソブチロニトリル、プロピオニトリル、メトキシアセトニトリル等のニトリル基を有する有機溶媒；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート基を有する有機溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化した炭化水素基を有する有機溶媒；ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素基を有する有機溶媒は、極性が低く、（１）成分を溶解し難いと考えられるため好ましく、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化した炭化水素基を有する有機溶媒；ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素基を有する有機溶媒がより好ましい。
【０１９０】
≪（５）成分≫
（５）成分は、重合性化合物、または重合体である。
本実施形態の組成物に含まれる重合性化合物は、特に限定されるものではないが、当該組成物を製造する温度において、重合性化合物に対する（１）成分の溶解度が低いものが好ましい。
【０１９１】
例えば、室温、常圧下において製造する場合、重合性化合物としては、特に制限は無いが、例えば、スチレン、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリロニトリル等の公知の重合性化合物が挙げられる。なかでも、重合性化合物としては、アクリル系樹脂の単量体成分であるアクリル酸エステルおよび／またはメタクリル酸エステルが好ましい。
【０１９２】
本実施形態の組成物に含まれる重合体は、特に限定されるものではないが、当該組成物を製造する温度において、重合体に対する（１）成分の溶解度が低いものが好ましい。
【０１９３】
例えば、室温、常圧下において製造する場合、重合体としては、特に制限は無いが、例えば、ポリスチレン、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂等の公知の重合体が挙げられる。なかでも、重合体としては、アクリル系樹脂が好ましい。アクリル系樹脂は、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルのいずれか一方又は両方に由来する構成単位を含む。
【０１９４】
（４）成分が有する構成単位のうち、アクリル酸エステルまたはメタクリル酸エステルのいずれか一方又は両方、並びにそれらに由来する構成単位は、モル％で表した場合、１０％以上であってもよく、３０％以上であってもよく、５０％以上であってもよく、８０％以上であってもよい。
【０１９５】
≪（６）成分≫
（６）成分は、アンモニア、アミン、およびカルボン酸、並びにこれらの塩またはイオンからなる群から選ばれる少なくとも１種である。
（６）成分としては、アンモニア、アミン、およびカルボン酸並びに、当該化合物がとり得る形態として、これらの塩またはイオンからなる群から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。
すなわち、（６）成分は、アンモニア、アミン、カルボン酸、アンモニアの塩、アミンの塩、カルボン酸の塩、アンモニアのイオン、アミンのイオン、およびカルボン酸のイオンからなる群から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。
【０１９６】
アンモニア、アミン、およびカルボン酸、並びにこれらの塩またはイオンは、通常、キャッピング配位子として作用する。キャッピング配位子とは、（１）成分の表面に吸着して、（１）成分を組成物中に安定して分散させる作用を有する化合物である。アンモニアまたはアミンの、イオン若しくは塩（アンモニウム塩等）としては、後述する一般式（Ａ１）で表されるアンモニウムカチオンと、それを含むアンモニウム塩が挙げられる。カルボン酸のイオンまたは塩（カルボン酸塩等）としては、後述する一般式（Ａ２）で表されるカルボキシレートアニオンと、それを含むカルボン酸塩が挙げられる。本実施形態の組成物は、アンモニウム塩等、およびカルボン酸塩等のいずれか一方を含んでいてもよく、両方を含んでいてもよい。
（６）成分は、一般式（Ａ１）で表されるアンモニウムカチオン、またはそれを含むアンモニウム塩であってもよい。
【０１９７】
【化２７】
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【０１９８】
一般式（Ａ１）中、Ｒ１〜Ｒ３は、水素原子を表し、Ｒ４は、水素原子、または１価の炭化水素基を表す。Ｒ４で表される炭化水素基は、飽和炭化水素基（アルキル基、またはシクロアルキル基）であってもよく、不飽和炭化水素基であってもよい。
【０１９９】
Ｒ４で表されるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。
Ｒ４で表されるアルキル基の炭素原子数は、通常１〜２０であり、５〜２０であることが好ましく、８〜２０であることがより好ましい。
【０２００】
Ｒ４で表されるシクロアルキル基は、置換基としてアルキル基を有していてもよい。シクロアルキル基の炭素原子数は、通常３〜３０であり、３〜２０であることが好ましく、３〜１１であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。
【０２０１】
Ｒ４の不飽和炭化水素基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。
Ｒ４の不飽和炭化水素基の炭素原子数は、通常２〜２０であり、５〜２０であることが好ましく、８〜２０であることがより好ましい。
【０２０２】
Ｒ４は、水素原子、アルキル基、または不飽和炭化水素基であることが好ましい。不飽和炭化水素基としては、アルケニル基が好ましい。Ｒ４は、炭素原子数８〜２０のアルケニル基であることが好ましい。
【０２０３】
Ｒ４のアルキル基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９において例示したアルキル基が挙げられる。
Ｒ４のシクロアルキル基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９において例示したシクロアルキル基が挙げられる。
【０２０４】
Ｒ４のアルケニル基としては、Ｒ６〜Ｒ９において例示した前記直鎖状または分岐鎖状のアルキル基において、いずれか一つの炭素原子間の単結合（Ｃ−Ｃ）が、二重結合（Ｃ＝Ｃ）に置換されたものが例示でき、二重結合の位置は限定されない。
このようなアルケニル基の好ましいものとしては、例えば、エテニル基、プロペニル基、３−ブテニル基、２−ブテニル基、２−ペンテニル基、２−ヘキセニル基、２−ノネニル基、２−ドデセニル基、９−オクタデセニル基が挙げられる。
【０２０５】
アンモニウムカチオンが塩を形成する場合、カウンターアニオンとしては、特に制限は無いがＢｒ―、Ｃｌ―、Ｉ―、Ｆ―のハロゲン化物イオンや、カルボキシレートイオンなどが好ましい例として挙げられる。
一般式（Ａ１）で表されるアンモニウムカチオンと、カウンターアニオンとを有するアンモニウム塩としては、ｎ−オクチルアンモニウム塩、オレイルアンモニウム塩が好ましい例として挙げられる。
【０２０６】
（５）は、一般式（Ａ２）で表されるカルボキシレートアニオン、またはそれを含むカルボン酸塩であってもよい。
Ｒ５―ＣＯ２-・・・（Ａ２）
【０２０７】
一般式（Ａ２）中、Ｒ５は、一価の炭化水素基を表す。Ｒ５で表される炭化水素基は、飽和炭化水素基（アルキル基、シクロアルキル基）であってもよく、不飽和炭化水素基であってもよい。
【０２０８】
Ｒ５で表されるアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。Ｒ５で表されるアルキル基の炭素原子数は、通常１〜２０であり、５〜２０であることが好ましく、８〜２０であることがより好ましい。
【０２０９】
Ｒ５で表されるシクロアルキル基は、置換基としてアルキル基を有していてもよい。シクロアルキル基の炭素原子数は、通常３〜３０であり、３〜２０であることが好ましく、３〜１１であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数も含む。
【０２１０】
Ｒ５で表される不飽和炭化水素基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。
Ｒ５で表される不飽和炭化水素基の炭素原子数は、通常２〜２０であり、５〜２０であることが好ましく、８〜２０であることがより好ましい。
【０２１１】
Ｒ５はアルキル基または不飽和炭化水素基であることが好ましい。不飽和炭化水素基としては、アルケニル基が好ましい。
【０２１２】
Ｒ５のアルキル基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９において例示したアルキル基が挙げられる。
Ｒ５のシクロアルキル基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９において例示したシクロアルキル基が挙げられる。
Ｒ５のアルケニル基の具体例としては、Ｒ４において例示したアルケニル基が挙げられる。
【０２１３】
一般式（Ａ２）で表されるカルボキシレートアニオンは、オレイン酸アニオンが好ましい。
カルボキレートアニオンが塩を形成する場合、カウンターカチオンとしては、特に制限は無いが、プロトン、アルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオン、アンモニウムカチオンなどが好ましい例として挙げられる。
【０２１４】
＜各成分の配合比について＞
実施形態の組成物において、（１）成分と（２）成分との配合比は、（２）成分による、水蒸気に対する耐久性向上の作用が発揮される程度であればよく、（１）成分および（２）成分の種類等に応じて、適宜定めることができる。
実施形態の組成物において、（１）成分のに含まれる金属イオンＢと、（２）成分のＳｉ元素とのモル比［Ｓｉ／Ｂ］は、０．００１〜２０００であってもよく、０．０１〜５００であってもよい。
実施形態の組成物において、（２）成分が、一般式（Ｂ１）または（Ｂ２）で表されるシラザン、およびその改質体である場合、（１）成分に含まれる金属イオンＢと、（２）成分のＳｉとのモル比［Ｓｉ／Ｂ］は、１〜１０００であってもよく、１０〜５００であってもよく、２０〜３００であってもよい。
実施形態の組成物において、（２）成分が、一般式（Ｂ３）で表される構成単位を有するポリシラザンである場合、（１）成分に含まれる金属イオンＢと、（２）成分のＳｉ元素とのモル比［Ｓｉ／Ｂ］は、０．００１〜２０００であってもよく、０．０１〜２０００であってもよく、０．１〜１０００であってもよく、１〜５００であってもよく、２〜３００であってもよい。
（１）成分と（２）成分との配合比に係る範囲が上記範囲内である組成物は、（２）成分による、熱耐久性向上の作用が、特に良好に発揮される点で好ましい。
【０２１５】
実施形態の組成物において、（１）成分と（３）成分との配合比は、（１）成分および下記（３）成分の種類等に応じて、適宜定めることができる。
（３）成分：式（Ｘ１）〜（Ｘ６）で表される化合物およびそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも一種。
実施形態の組成物において、（１）成分に含まれる金属イオンであるＢと、式（Ｘ１）で表される化合物に含まれるＰ元素とのモル比［（Ｘ１）／Ｂ］は、０．００１〜１００であることが好ましく、０．００５〜５であることがより好ましく、０．２〜２であることがさらに好ましい。
実施形態の組成物において、（１）成分に含まれる金属イオンであるＢと式（Ｘ２）で表される化合物に含まれるＰ元素とのモル比、または（１）成分のＢである金属イオンと、式（Ｘ２）で表される化合物の塩に含まれるＰ元素とのモル比［（Ｘ２）／Ｂ］は、０．１〜１００であることが好ましく、１〜３０であることがより好ましく、５〜２０であることがさらに好ましい。
実施形態の組成物において、（１）成分に含まれる金属イオンであるＢと式（Ｘ３）で表される化合物に含まれるＰ元素とのモル比、または（１）成分のＢである金属イオンと式（Ｘ３）で表される化合物の塩に含まれるＰ元素とのモル比［（Ｘ３）／Ｂ］は、０．１〜１００であることが好ましく、１〜３０であることがより好ましく、５〜２０であることがさらに好ましい。
実施形態の組成物において、（１）成分に含まれる金属イオンであるＢと式（Ｘ４）で表される化合物に含まれるＰ元素とのモル比、または（１）成分に含まれる金属イオンであるＢと式（Ｘ４）で表される化合物の塩に含まれるＰ元素とのモル比［（Ｘ４）／Ｂ］は、１〜１００であることが好ましく、５〜５０であることがより好ましく、１０〜３０であることがさらに好ましい。
実施形態の組成物において、（１）成分に含まれる金属イオンであるＢと式（Ｘ５）で表される化合物に含まれるＰ元素とのモル比［（Ｘ５）／Ｂ］は、０．１〜１００であることが好ましく、０．２〜２０であることがより好ましく、０．３〜１５であることがさらに好ましい。
実施形態の組成物において、（１）成分に含まれる金属イオンであるＢと式（Ｘ６）で表される化合物に含まれるＰ元素とのモル比［（Ｘ６）／Ｂ］は、０．１〜１００であることが好ましく、１〜２００であることがより好ましく、２〜１５であることがさらに好ましい。
（１）成分と（３）成分との配合比に係る範囲が上記範囲内である組成物は、熱耐久性の作用が、特に良好に発揮される点で好ましい。
【０２１６】
実施形態の組成物において、（１）と、（４）および（５）の合計との配合比は、（１）による発光作用が良好に発揮される程度であればよく、（１）〜（５）の種類等に応じて、適宜定めることができる。
（１）、（２）、および（３）と、（４）および（５）からなる群より選ばれる少なくとも一種とを含む実施形態の組成物において、（１）と、（４）および（５）の合計との質量比［（１）／（（４）および（５）の合計）］は、０．００００１〜１０であってもよく、０．０００１〜２であってもよく、０．０００５〜１であってもよい。
（１）と、（４）および（５）の合計との配合比に係る範囲が上記範囲内である組成物は、（１）の凝集が生じ難く、発光性も良好に発揮される点で好ましい。
【０２１７】
本実施形態の組成物において、（１）と、（６）との配合比は、（１）による発光作用が良好に発揮される程度であればよく、（１）〜（３）および（６）の種類等に応じて、適宜定めることができる。
（１）、（２）、（３）、および（６）を含む実施形態の組成物において、（１）と（６）とのモル比［（１）／（６）］は、０．０００１〜１０００であってもよく、０．０１〜１００であってもよい。
（１）と（６）との配合比に係る範囲が上記範囲内である樹脂組成物は、（１）の凝集が生じ難く、発光性も良好に発揮される点で好ましい。
【０２１８】
≪組成物の製造方法≫
以下、本発明における組成物の製造方法に関し、実施形態を示して説明する。実施形態の組成物の製造方法によれば、本発明に係る実施形態の組成物を製造可能である。なお、本発明の組成物は、以下の実施形態の組成物の製造方法によって製造されるものに限定されるものではない。
【０２１９】
（１）Ａ、Ｂ、およびＸを有するペロブスカイト化合物の製造方法
ペロブスカイト化合物は、既知文献（Ｎａｎｏ  Ｌｅｔｔ．  ２０１５，  １５，  ３６９２−３６９６、ＡＣＳＮａｎｏ，２０１５，９，４５３３−４５４２）を参考に、以下に述べる方法によって製造することができる。
【０２２０】
（Ａ、Ｂ、およびＸを有するペロブスカイト化合物の製造方法の第１実施形態）
たとえば、本発明に係るペロブスカイト化合物の製造方法としては、Ｂ、Ｘ、およびＡを溶媒ｘに溶解させ溶液ｇを得る工程と、得られた溶液ｇと、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が溶液ｇを得る工程で用いた溶媒ｘよりも低い溶媒ｙとを混合する工程とを含む製造方法が挙げられる。より具体的には、ＢおよびＸを含む化合物と、ＡまたはＡおよびＸを含む化合物とを溶媒ｘに溶解させ、溶液ｇを得る工程と、得られた溶液ｇと、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が溶液ｇを得る工程で用いた溶媒ｘよりも低い溶媒ｙとを混合する工程とを含む製造方法が挙げられる。
【０２２１】
以下、ＢおよびＸを含む化合物と、ＡまたはＡおよびＸを含む化合物とを溶媒ｘに溶解させ、溶液ｇを得る工程と、得られた溶液ｇと、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が溶液ｇを得る工程で用いた溶媒ｘよりも低い溶媒ｙとを混合する工程とを含む製造方法について説明する。
なお、溶解度とは、混合する工程をおこなう温度における溶解度を意味する。
【０２２２】
当該製造方法は、ペロブスカイト化合物を安定して分散できる観点から、キャッピング配位子を加える工程を含んでいることが好ましい。キャッピング配位子は、前述の混合する工程の前に添加することが好ましく、Ａ、Ｂ、およびＸを溶解させた溶液ｇにキャッピング配位子を添加してもよいし、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が溶液ｇを得る工程で用いた溶媒ｘよりも低い溶媒ｙに添加してもよく、溶媒ｘ、および溶媒ｙの両方に添加してもよい。
【０２２３】
当該製造方法は、前述の混合する工程のあと、遠心分離、ろ過などの手法により粗大粒子を除去する工程を含んでいていることが好ましい。当該除去する工程によって除去する粗大粒子のサイズは、１０μｍ以上が好ましく、１μｍ以上がより好ましく、５００ｎｍ以上が特に好ましい。
【０２２４】
前述の、溶液ｇと、溶媒ｙとを混合する工程は、（Ｉ）溶液ｇを、溶媒ｙに滴下する工程であってもよく、（ＩＩ）溶液ｇに、溶媒ｙを滴下する工程であってもよいが、（１）の分散性を高める観点から（Ｉ）であることが好ましい。
滴下する際には攪拌を行うことが（１）成分の分散性を高める観点から好ましい。
溶液ｇと、溶媒ｙとを混合する工程において、温度には特に制限は無いが、（１）成分の析出し易さを確保する観点から、−２０℃以上４０℃以下の範囲であることが好ましく、−５℃以上３０℃以下の範囲であることがより好ましい。
【０２２５】
当該製造方法で用いるペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度の異なる２種類の溶媒ｘ、およびｙとしては、特に限定されるものではないが、たとえば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、メトキシプロパノール、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノール、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール等のアルコール；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド基を有する有機溶媒；メチルホルメート、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテート等のエステル；γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、アセトン、ジメチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン；ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、４−メチルジオキソラン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール等のエーテル；アセトニトリル、イソブチロニトリル、プロピオニトリル、メトキシアセトニトリル等のニトリル基を有する有機溶媒；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート基を有する有機溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化した炭化水素基を有する有機溶媒；ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素基を有する有機溶媒、ジメチルスルホキシドからなる群より選ばれる２種の溶媒が挙げられる。
【０２２６】
当該製造方法に含まれる、溶液ｇを得る工程で用いる溶媒ｘとしては、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が高い溶媒が好ましく、例えば、室温（１０℃以上３０℃以下）で当該工程をおこなう場合、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、メトキシプロパノール、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノール、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール等のアルコール；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド基を有する有機溶媒；ジメチルスルホキシドが挙げられる。
【０２２７】
当該製造方法に含まれる、混合する工程で用いる溶媒ｙとしては、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が低い溶媒が好ましく、例えば、室温（１０℃以上３０℃以下）で当該工程をおこなう場合、メチルホルメート、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテート等のエステル；γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、アセトン、ジメチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン；ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、４−メチルジオキソラン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール等のエーテル；アセトニトリル、イソブチロニトリル、プロピオニトリル、メトキシアセトニトリル等のニトリル基を有する有機溶媒；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート基を有する有機溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化した炭化水素基を有する有機溶媒；ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素基を有する有機溶媒が挙げられる。
【０２２８】
溶解度の異なる２種類の溶媒において、溶解度の差は１００μｇ／溶媒１００ｇ以上９０ｇ／溶媒１００ｇ以下であることが好ましく、１ｍｇ／溶媒１００ｇ以上９０ｇ／溶媒１００ｇ以下であることがより好ましい。溶解度の差を１００μｇ／溶媒１００ｇ以上９０ｇ／溶媒１００ｇ以下にする観点から、例えば、室温（１０℃以上３０℃以下）で混合する工程を行う場合、溶液を得る工程で用いる溶媒ｘが、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド基を有する有機溶媒やジメチルスルホキシドであり、混合する工程で用いる溶媒ｙが塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化した炭化水素基を有する有機溶媒；ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素基を有する有機溶媒であることが好ましい。
【０２２９】
得られたペロブスカイト化合物を含む分散液から、ペロブスカイト化合物を取り出す方法としては、固液分離を行うことでペロブスカイト化合物のみを回収する方法が挙げられる。
前述の固液分離方法は、ろ過などの方法や、溶媒の蒸発を利用した方法などが挙げられる。
【０２３０】
（Ａ、Ｂ、およびＸを有するペロブスカイト化合物の製造方法の第２実施形態）
ペロブスカイト化合物の製造方法は、Ｂ、ＸおよびＡを高温の溶媒ｚに添加して溶解させ溶液ｈを得る工程と、得られた溶液ｈを冷却する工程とを含む製造方法であってもよい。より具体的には、ＢおよびＸを含む化合物と、Ａを含む化合物、またはＡおよびＸを含む化合物とを高温の溶媒ｚに添加して溶解させ溶液ｈを得る工程と、得られた溶液ｈを冷却する工程とを含む製造方法が挙げられる。
【０２３１】
ＢおよびＸを含む化合物と、ＡまたはＡおよびＸを含む化合物とを高温の溶媒ｚに添加して溶解させ溶液ｈを得る工程は、ＢおよびＸを含む化合物と、ＡまたはＡおよびＸを含む化合物とを溶媒ｚに添加後、昇温することで溶液ｈを得る工程であってもよい。
当該製造方法では、温度の差による溶解度の差によって本発明に係るペロブスカイト化合物を析出させ、本発明に係るペロブスカイト化合物を製造することができる。
【０２３２】
当該製造方法は、ペロブスカイト化合物を安定して分散できる観点から、キャッピング配位子を加える工程を含んでいることが好ましい。キャッピング配位子は、前述の冷却する工程の前に溶液ｈに含まれていることが好ましい。
当該製造方法は、冷却する工程の後、遠心分離、ろ過などの手法により粗大粒子を除去する工程を含んでいていることが好ましい。上記除去工程によって除去する粗大粒子のサイズは、１０μｍ以上が好ましく、１μｍ以上がより好ましく、５００ｎｍ以上が特に好ましい。
【０２３３】
ここで、高温の溶媒ｚとは、ＢおよびＸを含む化合物と、ＡまたはＡおよびＸを含む化合物とが、溶解する温度の溶媒であればよく、例えば、６０℃以上６００℃以下の溶媒であることが好ましく、８０℃以上４００℃以下の溶媒であることがより好ましい。
冷却する温度としては、−２０℃以上５０℃以下であることが好ましく、−１０℃以上３０℃以下であることがより好ましい。
【０２３４】
当該製造方法に用いる溶媒ｚとしては、ＢおよびＸを含む化合物と、ＡまたはＡおよびＸを含む化合物とを溶解しうる溶媒であれば、特に限定されるものではない。例えば、前記（３）として記載した溶媒を用いることができる。
【０２３５】
得られたペロブスカイト化合物を含む分散液から、ペロブスカイト化合物を取り出す方法としては、固液分離を行うことでペロブスカイト化合物のみを回収する方法が挙げられる。
前述の固液分離方法は、ろ過などの方法や、溶媒の蒸発を利用した方法などが挙げられる。
【０２３６】
（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（４）成分を含む組成物の製造方法
（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（４）成分を含む組成物の製造方法としては、例えば、下記製造方法（ａ１）であってもよく、下記製造方法（ａ２）であってもよい。
製造方法（ａ１）：（１）成分および（４）成分を混合する工程と、（１）成分および（４）成分の混合物と、（２）成分と、（３）成分とを混合する工程と、を含む組成物の製造方法。
製造方法（ａ２）：（１）成分、（２）成分、および（３）成分を混合する工程と、（１）成分、（２）成分、および（３）成分の混合物と、（４）成分とを混合する工程と、を含む組成物の製造方法。
【０２３７】
前記製造方法（ａ１）は、（１）成分を、（４）成分に分散することが好ましい。前記製造方法（ａ１）は、例えば（１）成分を（４）成分に分散させ、分散液を得る工程と、該分散液、（２）成分、および（３）成分を混合する工程と、を含む組成物の製造方法であってよい。
【０２３８】
実施形態において、下記（２’）の改質体を含む組成物を製造する場合、下記製造方法（ａ３）であってもよく、製造方法（ａ４）であってもよい。
（２’）成分：シラザン
製造方法（ａ３）：（１）成分および（４）成分を混合する工程と、
（１）成分および（４）成分の混合物と、（２’）成分と、（３）成分とを混合する工程と、（１）成分、（２’）、（３）成分、および（４）成分を含む混合物に改質処理を施す工程と、を含む組成物の製造方法。
製造方法（ａ４）：（１）成分、（２’）成分、および（３）成分を混合する工程と、
（１）成分、（２’）成分、および（３）成分の混合物と、（４）成分とを混合する工程と、（１）成分、（２’）成分、（３）成分、および（４）成分の混合物に改質処理を施す工程と、を含む組成物の製造方法。
【０２３９】
上述の製造方法に含まれる混合する工程では、攪拌を行うことが分散性を高める観点から好ましい。
上述の製造方法に含まれる混合する工程において、温度には特に制限は無いが、均一に混合する観点から、０℃以上１００℃以下の範囲であることが好ましく、１０℃以上８０℃以下の範囲であることがより好ましい。
組成物の製造方法は、（１）成分の分散性を向上させる観点から、製造方法（ａ１）、または製造方法（ａ３）であることが好ましい。
【０２４０】
シラザンに改質処理を施す方法
上述の製造方法に含まれる改質処理を施す方法は、シラザンに含まれる少なくとも一部のＳｉ−Ｎ−Ｓｉ結合において、ＮがＯで置換され、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合が形成される方法であれば特に限定されない。改質処理を施す方法としては、例えば、紫外線を照射する方法、および、シラザンと水蒸気とを反応させる方法等の公知の方法が挙げられる。
中でもシラザンと水蒸気とを反応させる（以下、加湿処理を施すということがある。）ことによって、改質処理を施すことが、（１）成分の近傍により強固な保護領域を形成する観点から好ましい。
【０２４１】
紫外線を照射する方法で用いられる紫外線の波長は、通常１０〜４００ｎｍであり、１０〜３５０ｎｍが好ましく、１００〜１８０ｎｍがより好ましい。紫外線の発生させる光源としては、例えば、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、キセノンアークランプ、カーボンアークランプ、エキシマランプ、ＵＶレーザー光等が挙げられる。
【０２４２】
加湿処理を施す場合、例えば、後述する温度、および湿度条件下で一定の時間、組成物を静置、または攪拌してもよい。
加湿処理における温度は、十分に改質が進行する温度であればよく、例えば、５〜１５０℃であることが好ましく、１０〜１００℃であることがより好ましく、１５〜８０℃であることがさらに好ましい。
加湿処理における湿度は、組成物中のシラザンを有する化合物に十分に水分が供給される湿度であればよく、例えば３０％〜１００％、好ましくは、４０％〜９５％、より好ましくは６０％〜９０％である。
加湿処理に要する時間は、十分に改質が進行する時間であればよく、例えば１０分以上１週間以下、好ましくは、１時間以上５日以下、より好ましくは１２時間以上３日以下である。
組成物に含まれるシラザンの分散性を高める観点から、攪拌することが好ましい。
【０２４３】
実施形態において、（２）成分、（３）成分および（４）成分は、上述した（１）成分の製造方法に含まれるいずれかの工程で混合させてもよい。例えば、下記製造方法（ａ５）であってもよく、下記製造方法（ａ６）であってもよい。
【０２４４】
製造方法（ａ５）：ＢおよびＸを含む化合物と、ＡまたはＡおよびＸを含む化合物と、（２）成分、（３）成分とを（４）成分に溶解させ、溶液ｇを得る工程と、得られた溶液ｇと、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が、溶液を得る工程で用いた（３）成分よりも低い溶媒ｙとを混合する工程と、を含む製造方法。
製造方法（ａ６）：ＢおよびＸを含む化合物と、ＡまたはＡおよびＸを含む化合物と、（２）成分、（３）成分を高温の（４）成分に添加して溶解させ溶液ｈを得る工程と、
得られた溶液ｈを冷却する工程と、を含む製造方法。
【０２４５】
これらの製造方法に含まれる各工程の条件は、上述の、ペロブスカイト化合物の製造方法の第１および第２実施形態で記載したものと同様である。
【０２４６】
（１）成分、（２）成分、（３）成分、（４）成分、および（６）成分を含む組成物の製造方法
たとえば、（１）成分、（２）成分、（３）成分、（４）成分、および（６）成分を含む組成物の製造方法は、上述した製造方法（ａ１）〜（ａ４）に含まれるいずれかの工程で（６）成分を混合する以外は、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（４）成分を含む組成物の製造方法と同様の方法とすることができる。
本実施形態においては、（１）成分の分散性を高める観点から、（６）成分は、上述の（１）成分のＡ、Ｂ、およびＸを有するペロブスカイト化合物の製造方法に含まれるいずれかの工程で混合されることが好ましい。例えば、下記製造方法（ｂ１）〜（ｂ４）のいずれかにより製造することが好ましい。
【０２４７】
製造方法（ｂ１）：ＢおよびＸを含む化合物と、ＡまたはＡおよびＸを含む化合物と、（２）成分と、（３）成分と、（６）成分とを（４）成分に溶解させ、溶液ｇを得る工程と、得られた溶液ｇと、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が、溶液を得る工程で用いた（３）成分よりも低い溶媒ｙとを混合する工程と、を含む製造方法。
【０２４８】
製造方法（ｂ２）：ＢおよびＸを含む化合物と、ＡまたはＡおよびＸを含む化合物と、（２）成分と、（３）成分と、（６）成分とを高温の（４）成分に添加して溶解させ溶液ｈを得る工程と、得られた溶液ｈを冷却する工程と、を含む製造方法。
【０２４９】
製造方法（ｂ３）：ＢおよびＸを含む化合物と、ＡまたはＡおよびＸを含む化合物と、（２’）成分と、（３）成分と、（６）成分とを（４）成分に溶解させ、溶液ｇを得る工程と、得られた溶液ｇと、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が、溶液を得る工程で用いた（４）成分よりも低い溶媒ｙとを混合する工程と、（１）成分、（２’）成分、（３）成分、（４）成分、および（６）成分の混合物に改質処理を施す工程と、を含む製造方法。
【０２５０】
製造方法（ｂ４）：ＢおよびＸを含む化合物と、ＡまたはＡおよびＸを含む化合物と、（２’）成分、（３）成分と、（６）成分とを高温の（４）成分に添加して溶解させ溶液ｈを得る工程と、得られた溶液ｈを冷却する工程と、（１）成分、（２’）成分、（３）成分、（４）成分、および（６）成分を含み冷却された溶液ｈに改質処理を施す工程と、を含む製造方法。
【０２５１】
（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５）成分を含む組成物の製造方法
（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５）成分を含む組成物の製造方法としては、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５）成分を混合する方法が挙げられる。
（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５）成分を混合する工程は、（１）成分の分散性を高める観点から攪拌しながら行うこと好ましい。
（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５）成分を混合する工程において、温度には特に制限は無いが、均一に混合する観点から、０℃以上１００℃以下の範囲であることが好ましく、１０℃以上８０℃以下の範囲であることがより好ましい。
【０２５２】
（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５）成分を含む組成物の製造方法は、例えば、下記製造方法（ｃ１）〜（ｃ３）が挙げられる。
製造方法（ｃ１）：（５）成分に（１）成分を分散させ、分散体を得る工程と、得られた分散体と、（２）成分と、（３）成分とを混合する工程と、を含む製造方法。
製造方法（ｃ２）：（５）成分に（２）成分および（３）成分を分散させ、分散体を得る工程と、得られた分散体と（１）成分とを混合する工程と、を含む製造方法。
製造方法（ｃ３）：（５）成分に（１）成分、（２）成分、および（３）成分の混合物を分散させる工程を含む製造方法。
【０２５３】
（ｃ１）〜（ｃ３）の製造方法において、（１）成分の分散性を高める観点から（ｃ１）の製造方法であることが好ましい。
【０２５４】
（ｃ１）〜（ｃ３）の製造方法に含まれる各分散体を得る工程においては、（５）成分を、（１）成分、（２）成分および／または（３）成分に滴下してもよいし、（１）成分、（２）成分、または（３）成分のいずれか一方もしくはすべてを（５）成分に滴下してよい。
分散性を高める観点からは、（１）成分、（２）成分、または（３）成分のいずれか一方又はすべてを（５）成分に滴下することが好ましい。
（ｃ１）〜（ｃ３）の製造方法に含まれる各混合する工程においては、（１）成分、（２）成分、または（３）成分を分散体に滴下してもよいし、分散体を（１）成分、（２）成分、または（３）成分に滴下してもよい。
分散性を高める観点からは、（１）成分、（２）成分、または（３）成分を分散体に滴下することが好ましい。
【０２５５】
（５）成分として、重合体を採用する場合、重合体は、溶媒に溶解している重合体であってもよい。
【０２５６】
上述の重合体が溶解している溶媒は、重合体（樹脂）を溶解しうる溶媒であれば特に限定されないが、上述の本発明に用いる（１）成分を溶解し難いものが好ましい。
上述の重合体が溶解している溶媒としては、例えば前記（４）成分として記載した溶媒を使用することができる。
【０２５７】
また、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５）成分を含む組成物の製造方法は、下記製造方法（ｃ４）であってもよく、製造方法（ｃ５）であってもよい。
製造方法（ｃ４）：（１）成分を（４）成分に分散させ分散液を得る工程と、得られた分散液と（５）成分とを混合し混合液を得る工程と、得られた混合液と、（２）成分と、（３）成分とを混合する工程とを有する、組成物の製造方法。
【０２５８】
製造方法（ｃ５）：（１）成分を（４）成分に分散させ、分散液を得る工程と、該分散液と、（２’）成分と、（３）成分とを混合し、混合液を得る工程と、該混合液に改質処理を施し、シラザンの改質体を含む混合液を得る工程と、該改質体を含む混合液と、（４）成分とを混合する工程とを有する、組成物の製造方法であってもよい。
【０２５９】
（１）成分、（２）成分、（３）成分、（５）成分、および（６）成分を含む組成物の製造方法
（１）成分、（２）成分、（３）成分、（５）成分、および（６）成分を含む組成物の製造方法は、（６）成分を添加する以外は、既に説明した、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（４）成分を含む組成物の製造方法と同様の方法とすることができる。
【０２６０】
（６）成分は、上述の（１）成分のＡ、Ｂ、およびＸを有するペロブスカイト化合物の製造方法に含まれるいずれかの工程で添加してもよく、上述の（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（６）成分を含む組成物の製造方法に含まれるいずれかの工程で添加してもよい。
（６）成分は、（１）成分の分散性を高める観点から、（１）成分のＡ、Ｂ、およびＸを有するペロブスカイト化合物の製造方法に含まれるいずれかの工程で添加することが好ましい。
【０２６１】
（１）成分、（２）成分、（３）成分、（５）成分、および（６）成分を含む組成物の製造方法において、（４）成分溶媒を用いてもよく、これにより、例えば、少なくとも一部が（６）成分で被覆されている（１）成分が（４）成分に分散している分散体と、（２）成分、（３）成分が（４）成分に分散している分散体と、（５）成分との混合物、または、少なくとも一部が（６）成分で被覆されている（１）成分、（２）成分、および（３）成分が（４）成分に分散している分散体と、（５）成分との混合物として、本実施形態の組成物を得ることができる。
【０２６２】
（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分を含み、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分の合計が９０質量％以上である組成物の製造方法
（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分を含み、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分の合計が９０質量％以上である組成物の製造方法としては、例えば、下記の製造方法（Ｙ）が挙げられる。
【０２６３】
製造方法（Ｙ）：（１）成分と、（２）成分、（３）成分と、重合性化合物とを混合する工程と、重合性化合物を重合させる工程と、を含む製造方法、並びに、（１）成分と、（２）成分、（３）成分と、溶媒に溶解している重合体とを混合する工程と、溶媒を除去する工程と、を含む製造方法。
【０２６４】
当該製造方法に含まれる、混合する工程には、既に説明した、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５）成分を含む組成物の製造方法と同様の混合方法を用いることができる。
当該製造方法は、例えば、下記製造方法（ｄ１）〜（ｄ６）が挙げられる。
【０２６５】
製造方法（ｄ１）：重合性化合物に、（１）成分を分散させ、分散体を得る工程と、得られた分散体、（２）成分、および（３）成分を混合する工程と、重合性化合物を重合させる工程と、を含む製造方法。
製造方法（ｄ２）：溶媒に溶解している重合体に、（１）成分を分散させ、分散体を得る工程と、得られた分散体、（２）成分、および（３）成分を混合する工程と、溶媒を除去する工程と、を含む製造方法。
製造方法（ｄ３）：  重合性化合物に、（２）成分および（３）成分を分散させ、分散体を得る工程と、得られた分散体および（１）成分を混合する工程と、重合性化合物を重合させる工程と、を含む製造方法。
製造方法（ｄ４）：溶媒に溶解している重合体に、（２）成分および（３）成分を分散させ、分散体を得る工程と、得られた分散体および（１）成分を混合する工程と、溶媒を除去する工程と、を含む製造方法。
製造方法（ｄ５）：  重合性化合物に、（１）成分、（２）成分、および（３）成分の混合物を分散させる工程と、重合性化合物を重合させる工程と、を含む製造方法。
製造方法（ｄ６）：  溶媒に溶解している重合体に、（１）成分、（２）成分、および（３）成分の混合物を分散させる工程と、溶媒を除去する工程と、を含む製造方法。
【０２６６】
当該製造方法に含まれる、溶媒を除去する工程は、室温で静置し、自然乾燥させる工程であってもよいし、真空乾燥機を用いた減圧乾燥や加熱によって溶媒を蒸発させる工程であってもよい。
例えば、０℃以上３００℃以下で、１分間以上７日間以下乾燥させることで、溶媒を除去することができる。
【０２６７】
当該製造方法に含まれる、重合性化合物を重合させる工程は、ラジカル重合などの公知の重合反応を適宜用いることで行うことができる。
例えばラジカル重合の場合は、（１）成分と、（２）成分、（３）成分と、重合性化合物との混合物に、ラジカル重合開始剤を添加し、ラジカルを発生させることで重合反応を進行させることができる。
ラジカル重合開始剤は特に限定されるものではないが、例えば、光ラジカル重合開始剤等が挙げられる。
上記光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシド等が挙げられる。
【０２６８】
（１）成分、（２）成分、（３）成分、（５’）成分、および（６）成分を含み、（１）成分、（２）成分、（３）成分、（５’）成分および（６）成分の合計が９０質量％以上である組成物の製造方法
（１）成分、（２）成分、（３）成分、（５’）成分、および（６）成分を含み、（１）成分、（２）成分、（３）成分、（５’）成分および（６）成分の合計が９０質量％以上である組成物の製造方法は、例えば、（１）成分、（２）成分、（３）成分および（５’）成分を含み、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分の合計が９０質量％以上である組成物の製造方法に含まれるいずれかの工程で、（６）成分を添加する以外は、既に説明した、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分を含み、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分の合計が９０質量％以上である組成物の製造方法と同様の方法とすることができる。
上述のペロブスカイト化合物の製造方法に含まれるいずれかの工程で添加してもよく、
上述の（１）と、（２）成分、（３）成分と、重合性化合物とを混合する工程で添加してもよく、
上述の（１）と、（２）成分、（３）成分と、溶媒に溶解している重合体とを混合する工程で添加してもよい。
（５）成分は、ペロブスカイト化合物の分散性を高める観点から、（１）Ａ、Ｂ、およびＸを成分とするペロブスカイト化合物の製造方法に含まれる下記のいずれかの工程で添加することが好ましい。
【０２６９】
≪ペロブスカイト化合物の構成元素の濃度測定とそれに基づくペロブスカイト化合物の濃度≫
本発明の組成物に含まれるペロブスカイト化合物の構成元素の濃度（μｇ／ｇ）は、誘導結合プラズマ質量分析計ＩＣＰ−ＭＳ（例えば、ＰｅｒｋｉｎＥｌｍｅｒ社製、ＥＬＡＮ  ＤＲＣＩＩ）を用いてＰｂ、及びＣｓを測定し、イオンクロマトグラフ（例えば、サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社製、Ｉｎｔｅｇｒｉｏｎ）を用いて、Ｂｒを測定する。ペロブスカイト化合物の濃度は、上述の各構成元素の合計量から求める。
それぞれの測定は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の良溶媒とペロブスカイト化合物との溶液をもちいて行う。
【０２７０】
≪シラザン又はその改質体に含まれるＳｉ元素の濃度測定≫
本発明の組成物に含まれるシラザン又はその改質体の含有するＳｉ元素の濃度（μｇ／ｇ）は、誘導結合プラズマ質量分析計ＩＣＰ−ＭＳ（例えば、ＰｅｒｋｉｎＥｌｍｅｒ社製、ＥＬＡＮ  ＤＲＣＩＩ）を用いて測定する。
それぞれの測定は、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の良溶媒とシラザン又はその改質体との溶液をもちいて行う。
【０２７１】
≪量子収率の測定≫
本発明の組成物の量子収率は、絶対ＰＬ量子収率測定装置（例えば、浜松ホトニクス株式会社製、Ｃ９９２０−０２）を用いて、励起光４５０ｎｍ、室温、大気下で測定する。
【０２７２】
（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（４）成分を含む組成物においては、組成物に含まれるペロブスカイト化合物の濃度が２０００ｐｐｍ（μｇ／ｇ）となるように調整し、該組成物を1ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板に５０μＬ滴下し、乾燥させたものを測定する。  
【０２７３】
（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５）成分を含む組成物においては、組成物に含まれるペロブスカイト化合物の濃度が２０００ｐｐｍ（μｇ／ｇ）となるように混合比を調整し、該組成物を1ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板に５０μＬ滴下し、乾燥させたものを測定する。（５）成分を（５’）成分に代えた場合も同様である。  
【０２７４】
≪熱耐久性の評価≫
本発明の組成物をホットプレート上で１５０℃、２分間加熱し、加熱前後の量子収率を測定して、下記の式を用いて減少率を評価する。
減少率（％）＝（１−熱耐久試験後の量子収率÷熱耐久試験前の量子収率）×１００。
【０２７５】
実施形態の組成物は、上記のそれぞれの測定方法において、減少率が、５４％以下であってもよく、５０％以下であってもよく、４０％以下であってもよく、２０％以下であってもよく、１０％以下であってもよい。組成物の熱耐久性の作用が高いことから、減少率は低いほうがよい。
【０２７６】
＜フィルム＞
本発明に係るフィルムは、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分を含む組成物であって、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分の合計が９０質量％以上の組成物を用いたフィルムである。当該組成物は、（６）成分を含んでいてもよい。
【０２７７】
フィルム形状は特に限定されるものではなく、シート状、バー状等の任意の形状であることができる。
フィルムの厚みは、０．０１μｍ以上１０００ｍｍ以下であってもよく、０．１μｍ以上１０ｍｍ以下であってもよく、１μｍ以上１ｍｍ以下であってもよい。
【０２７８】
フィルムは、単層であってもよく、複層であってもよい。複層の場合、各層は同一の種類の実施形態の組成物が用いられていてもよく、互いに異なる種類の実施形態の組成物が用いられていてもよい。
【０２７９】
フィルムは、例えば、後述の積層構造体の製造方法（ｉ）〜（ｉＶ）により、基板上に形成されたフィルムを得ることができる。
【０２８０】
＜積層構造体＞
本発明に係る積層構造体は、複数の層を有し、少なくとも一層が、上述のフィルムである。
【０２８１】
積層構造体が有する複数の層のうち、上述のフィルム以外の層としては、基板、バリア層、光散乱層等の任意の層が挙げられる。
積層されるフィルムの形状は特に限定されるものではなく、シート状、バー状等の任意の形状であることができる。
【０２８２】
（基板）
本発明に係る積層構造体が有していてもよい層としては、特に制限は無いが、基板が挙げられる。
基板は、特に制限はないが、フィルムであってもよく、発光した光を取り出す観点から、透明なものが好ましい。基板としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどのポリマーや、ガラスなどの公知の機材を用いることができる。
例えば、積層構造体において、上述のフィルムを、基板上に設けていてもよい。
【０２８３】
図１は、実施形態の積層構造体の構成を模式的に示す断面図である。積層構造体１ａは、基板２０、２１の間に、実施形態のフィルム１０が設けられている。フィルム１０は、封止材２２によって封止されている。
【０２８４】
（バリア層）
本発明に係る積層構造体が有していてもよい層としては、特に制限は無いが、バリア層が挙げられる。外気の水蒸気、および大気中の空気から前述の組成物を保護する観点から、バリア層を含んでいても良い。
バリア層は、特に制限は無いが、発光した光を取り出す観点から、透明なものが好ましい。バリア層としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどのポリマーや、ガラス膜などの公知のバリア層を用いることができる。
【０２８５】
（光散乱層）
本発明に係る積層構造体が有していてもよい層としては、特に制限は無いが、光散乱層が挙げられる。入射した光を有効に利用する観点から、光散乱層を含んでいてもよい。
光散乱層は、特に制限は無いが、発光した光を取り出す観点から、透明なものが好ましい。光散乱層としては、シリカ粒子などの光散乱粒子や、増幅拡散フィルムなどの公知の光散乱層を用いることができる。
【０２８６】
＜発光装置＞
本発明に係る発光装置は、本発明の実施形態の組成物または積層構造体と、光源とを合せることで得ることができる。発光装置は、光源から発光した光を、後段に設置した組成物または積層構造体に照射することで、組成物または積層構造体を発光させ、光を取り出す装置である。該発光装置における積層構造体が有する複数の層のうち、上述のフィルム、基板、バリア層、光散乱層以外の層としては、光反射部材、輝度強化部、プリズムシート、導光板、要素間の媒体材料層等の任意の層が挙げられる。
【０２８７】
（光源）
本発明に係る発光装置を構成する光源は、特に制限は無いが、前述の組成物、または積層構造体中の半導体微粒子を発光させるという観点から、６００ｎｍ以下の発光波長を有する光源が好ましい。光源としては、例えば、青色発光ダイオードなどの発光ダイオード（ＬＥＤ）、レーザー、ＥＬなどの公知の光源を用いることができる。
【０２８８】
（光反射部材）
本発明に係る発光装置を構成する積層構造体が有していてもよい層としては、特に制限は無いが、光反射部材が挙げられる。光源の光を前記の組成物、または積層構造体に向かって照射する観点から、光反射部材を含んでいても良い。光反射部材は、特に制限は無いが、反射フィルムであっても良い。
反射フィルムとしては、例えば、反射鏡、反射粒子のフィルム、反射金属フィルムや反射体などの公知の反射フィルムを用いることができる。
【０２８９】
（輝度強化部）
本発明に係る発光装置を構成する積層構造体が有していてもよい層としては、特に制限は無いが、輝度強化部が挙げられる。光の一部分を、光が伝送された方向に向かって反射して戻す観点から、輝度強化部を含んでいても良い。
【０２９０】
（プリズムシート）
本発明に係る発光装置を構成する積層構造体が有していてもよい層としては、特に制限は無いが、プリズムシートが挙げられる。プリズムシートは、代表的には、基材部とプリズム部とを有する。なお、基材部は、隣接する部材に応じて省略してもよい。 プリズムシートは、任意の適切な接着層（例えば、接着剤層、粘着剤層）を介して隣接する部材に貼り合わせることができる。プリズムシートは、視認側とは反対側（背面側）に凸となる複数の単位プリズムが並列されて構成されている。プリズムシートの凸部を背面側に向けて配置することにより、プリズムシートを透過する光が集光されやすくなる。また、プリズムシートの凸部を背面側に向けて配置すれば、凸部を視認側に向けて配置する場合と比較して、プリズムシートに入射せずに反射する光が少なく、輝度の高いディスプレイを得ることができる。
【０２９１】
（導光板）
本発明に係る発光装置を構成する積層構造体が有していてもよい層としては、特に制限は無いが、導光板が挙げられる。導光板としては、例えば、横方向からの光を厚さ方向に偏向可能となるよう、背面側にレンズパターンが形成された導光板、背面側および／または視認側にプリズム形状等が形成された導光板などの任意の適切な導光板が用いることができる。
【０２９２】
（要素間の媒体材料層）
本発明に係る発光装置を構成する積層構造体が有していてもよい層としては、特に制限は無いが、隣接する要素（層）間の光路上に１つ以上の媒体材料からなる層（要素間の媒体材料層）が挙げられる。
要素間の媒体材料層に含まれる１つ以上の媒体には、特に制限は無いが、真空、空気、ガス、光学材料、接着剤、光学接着剤、ガラス、ポリマー、固体、液体、ゲル、硬化材料、光学結合材料、屈折率整合または屈折率不整合材料、屈折率勾配材料、クラッディングまたは抗クラッディング材料、スペーサー、シリカゲル、輝度強化材料、散乱または拡散材料、反射または抗反射材料、波長選択性材料、波長選択性抗反射材料、色フィルター、または当該技術分野で既知の好適な媒体、が含まれる。
【０２９３】
本発明に係る発光装置の具体例としては、例えば、ＥＬディスプレイや液晶ディスプレイ用の波長変換材料を備えたものが挙げられる。
具体的には、（Ｅ１）本発明の組成物をガラスチューブ等の中に入れて封止し、これを導光板の端面（側面）に沿うように、光源である青色発光ダイオードと導光板の間に配置して、青色光を緑色光や赤色光に変換するバックライト（オンエッジ方式のバックライト）が挙げられる。
【０２９４】
また、（Ｅ２）本発明の組成物をシート化し、これを２枚のバリアーフィルムで挟んで封止したフィルムを、導光板の上に設置して、導光板の端面（側面）に置かれた青色発光ダイオードから導光板を通して前記シートに照射される青色の光を緑色光や赤色光に変換するバックライト（表面実装方式のバックライト）が挙げられる。
【０２９５】
また、（Ｅ３）本発明の組成物を、樹脂等に分散させて青色発光ダイオードの発光部近傍に設置し、照射される青色の光を緑色光や赤色光に変換するバックライト（オンチップ方式のバックライト）が挙げられる。
【０２９６】
さらに、（Ｅ４）本発明の組成物を、レジスト中に分散させて、カラーフィルター上に設置し、光源から照射される青色の光を緑色光や赤色光に変換するバックライトが挙げられる。
が挙げられる。
【０２９７】
また、本発明に係る発光装置の具体例としては、本発明の実施形態の組成物を成形し、光源である青色発光ダイオードの後段に配置して、青色光を緑色光や赤色光に変換して白色光を発する照明が挙げられる。
【０２９８】
＜ディスプレイ＞
図２に示すように、実施形態のディスプレイ３は、液晶パネル４０と、前述の発光装置２とを視認側からこの順に備える。発光装置２は、積層構造体１ｂと光源３０とを備える。積層構造体１ｂは、前述の積層構造体１ａが、プリズムシート５０と、導光板６０と、をさらに備えたものである。ディスプレイは、任意の適切なその他の部材をさらに備えていてもよい。
【０２９９】
（液晶パネル）
上記液晶パネルは、代表的には、液晶セルと、該液晶セルの視認側に配置された視認側偏光板と、該液晶セルの背面側に配置された背面側偏光板とを備える。視認側偏光板および背面側偏光板は、それぞれの吸収軸が実質的に直交または平行となるようにして配置され得る。
【０３００】
（液晶セル）
液晶セルは、一対の基板と、当該基板間に挟持された表示媒体としての液晶層とを有する。一般的な構成においては、一方の基板に、カラーフィルターおよびブラックマトリクスが設けられており、他方の基板に、液晶の電気光学特性を制御するスイッチング素子と、このスイッチング素子にゲート信号を与える走査線およびソース信号を与える信号線と、画素電極および対向電極とが設けられている。上記基板の間隔（セルギャップ）は、スペーサー等によって制御できる。上記基板の液晶層と接する側には、例えば、ポリイミドからなる配向膜等を設けることができる。
【０３０１】
（偏光板）
偏光板は、代表的には、偏光子と、偏光子の両側に配置された保護層とを有する。偏光子は、代表的には、吸収型偏光子である。
上記偏光子としては、任意の適切な偏光子が用いられる。例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらの中でも、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素などの二色性物質を吸着させて一軸延伸した偏光子が、偏光二色比が高く、特に好ましい。
【０３０２】
本発明の組成物の用途としては、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）用の波長変換材料が挙げられる。
＜ＬＥＤ＞
本発明の組成物は、例えば、ＬＥＤの発光層の材料として用いることができる。
本発明の組成物を含むＬＥＤとしては、例えば、本発明の組成物とＺｎＳなどの導電性粒子を混合して膜状に積層し、片面にｎ型輸送層を積層し、もう片面にｐ型輸送層を積層した構造をしており、電流を流すことで、ｐ型半導体の正孔と、ｎ型半導体の電子が接合面の組成物に含まれる（１）成分および（２）成分の粒子中で電荷を打ち消すことで発光する方式が挙げられる。
【０３０３】
＜太陽電池＞
本発明の組成物は、太陽電池の活性層に含まれる電子輸送性材料として利用することができる。
当該太陽電池としては、構成は特に限定されないが、例えば、フッ素ドープされた酸化スズ（ＦＴＯ）基板、酸化チタン緻密層、多孔質酸化アルミニウム層、本発明の組成物を含む活性層、２，２’，７，７’−ｔｅｔｒａｋｉｓ（Ｎ，Ｎ−ｄｉ−ｐ−ｍｅｔｈｏｘｙｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｅ）−９，９−ｓｐｉｒｏｂｉｆｌｕｏｒｅｎｅ  （Ｓｐｉｒｏ−ＭｅＯＴＡＤ）などのホール輸送層、および、銀（Ａｇ）電極をこの順で有する太陽電池が挙げられる。
酸化チタン緻密層は、電子輸送の機能、ＦＴＯのラフネスを抑える効果、および、逆電子移動を抑制する機能を有する。
多孔質酸化アルミニウム層は、光吸収効率を向上させる機能を有する。
活性層に含まれる、本発明の組成物は、電荷分離および電子輸送の機能を有する。
【０３０４】
＜積層構造体の製造方法＞
積層構造体の製造方法としては、例えば、下記の製造方法（ｉ）、（ｉｉ）、（ｉｉｉ）、（ｉｖ）が挙げられる。
製造方法（ｉ）：（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（４）成分を混合する工程と、
得られた混合物を基板上に塗工する工程と、
溶媒を除去する工程と、を含む積層構造体の製造方法。
製造方法（ｉｉ）：（１）成分、（２）成分、（３）成分、および溶媒に溶解している重合体を混合する工程と、
得られた混合物を基板上に塗工する工程と、
溶媒を除去する工程と、を含む積層構造体の製造方法であってもよく、
製造方法（ｉｉｉ）：（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分を含む組成物であって、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分の合計が９０質量％以上である組成物を、基板に張り合わせる工程を含む積層構造体の製造方法であってもよく、
製造方法（ｉｖ）：（１）成分、（２）成分、（３）成分、および重合性化合物を混合する工程と、
得られた混合物を基板上に塗工する工程と、
重合性化合物を重合させる工程とを含む製造方法であってもよい。
【０３０５】
上記（ｉ）の製造方法に含まれる、混合する工程、および、溶媒を除去する工程、
上記（ｉｉ）の製造方法に含まれる、混合する工程、および、溶媒を除去する工程、
上記（ｉｖ）の製造方法に含まれる、混合する工程、
および、重合性化合物を重合させる工程は、
それぞれ、既に説明した、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分を含む組成物であって、（１）成分、（２）成分、（３）成分、および（５’）成分の合計が９０質量％以上である組成物の製造方法に含まれる工程と同様の工程とすることができる。
【０３０６】
（ｉ）、（ｉｉ）、および（ｉｖ）の製造方法に含まれる、基板上に塗工する工程は、特に制限は無いが、グラビア塗布法、バー塗布法、印刷法、スプレー法、スピンコーティング法、ディップ法、ダイコート法などの、公知の塗布、塗工方法を用いることができる。
【０３０７】
（ｉｉｉ）の製造方法に含まれる、基板に張り合わせる工程では、任意の接着剤を用いることができる。
接着剤は、（１）成分、および（２）成分、（３）成分の化合物を溶解しない物であれば特に制限は無く、公知の接着剤を用いることができる。
【０３０８】
積層構造体の製造方法は、（ｉ）〜（ｉｖ）で得られた積層構造体に、さらに、任意のフィルムを張り合わせる工程を含んでいてもよい。
張り合わせる任意のフィルムとしては、例えば、反射フィルム、拡散フィルムが挙げられる。
フィルムを張り合わせる工程では、任意の接着剤を用いることができる。
上述の接着剤は、（１）成分、および（２）成分、（３）成分の化合物を溶解しない物であれば特に制限は無く、公知の接着剤を用いることができる。
【０３０９】
＜発光装置の製造方法＞
たとえば、前述の光源と、光源から後段の光路上に前述の組成物、または積層構造体を設置する工程とを含む製造方法が挙げられる。
【実施例】
【０３１０】
以下、実施例および比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０３１１】
（ペロブスカイト化合物の濃度測定）
実施例１〜１２、および比較例１〜４で得られた組成物におけるペロブスカイト化合物の濃度は下記の方法により測定した。
まず、再分散させることで得られたペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液に、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを添加することでペロブスカイト化合物を溶解させた。
その後、ＩＣＰ−ＭＳ（ＰｅｒｋｉｎＥｌｍｅｒ社製、ＥＬＡＮ  ＤＲＣＩＩ）、およびイオンクロマトグラフ（サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社製、Ｉｎｔｅｇｒｉｏｎ）を用いて測定した。
【０３１２】
（量子収率の測定）
実施例１〜１２、および比較例１〜４で得られた組成物の量子収率を、絶対ＰＬ量子収率測定装置（浜松ホトニクス株式会社製、Ｃ９９２０−０２）を用いて、励起光４５０ｎｍ、室温、大気下で測定した。
【０３１３】
（熱耐久性評価）
実施例１〜１２、および比較例１〜４で得られた組成物をホットプレート上で１５０℃、２分間加熱し、加熱前後の量子収率を測定して、下記の式を用いて減少率をを求めた。こうして求めた減少率が小さいほど熱耐久性が高いと評価できる。
減少率（％）＝（１−熱耐久試験後の量子収率÷熱耐久試験前の量子収率）×１００
【０３１４】
（透過型電子顕微鏡によるペロブスカイト化合物の観察）
ペロブスカイト化合物は透過型電子顕微鏡（日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２２００ＦＳ）を用いて観察した。観察用の試料は、ペロブスカイト化合物を含む分散液組成物からペロブスカイト化合物を支持膜付きグリッドに採取後、加速電圧を２００ｋＶとして観察を行った。
平均のフェレー径は、２０のペロブスカイト化合物のフェレー径の平均値とした。
【０３１５】
（組成物の合成）
［実施例１］
炭酸セシウム０．８１４ｇと、１−オクタデセンの溶媒４０ｍＬと、オレイン酸２．５ｍＬとを混合した。マグネチックスターラーで攪拌して、窒素を流しながら１５０℃で１時間加熱して炭酸セシウム溶液１を調製した。
臭化鉛（ＰｂＢｒ２）０．２７６ｇを１−オクタデセンの溶媒２０ｍＬと混合した。マグネチックスターラーで攪拌して窒素を流しながら１２０℃の温度で１時間加熱した後、オレイン酸２ｍＬ、およびオレイルアミン２ｍＬを添加して臭化鉛分散液を調製した。
臭化鉛分散液を１６０℃の温度に昇温した後、上述の炭酸セシウム溶液を１．６ｍＬ添加した。添加後、反応容器を氷水に漬けることで、室温まで降温し、分散液を得た。
次いで、分散液を１００００ｒｐｍ、５分間遠心分離し、沈殿物を分離することで、沈殿物のペロブスカイト化合物を得た。ペロブスカイト化合物をトルエン５ｍＬに分散させた後、分散液５００μＬを分取して、トルエン４．５ｍＬに再分散させることで、ペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１を得た。
ＩＣＰ−ＭＳ、およびイオンクロマトグラフによって測定したペロブスカイト化合物の濃度は、２０００ｐｐｍ（μｇ／ｇ）であった。
溶媒を自然乾燥させて回収した化合物のＸ線回折パターンをＸ線回折測定装置（ＸＲＤ、Ｃｕ  Ｋα線、Ｘ’ｐｅｒｔ  ＰＲＯ  ＭＰＤ、スペクトリス社製）で測定した所、２θ＝１４°の位置に（ｈｋｌ）＝（００１）由来のピークを有しており、３次元のペロブスカイト型結晶構造を有していることを確認した。 
ＴＥＭで観察したペロブスカイト化合物の平均のフェレー径は１１ｎｍであった。
トルエンでペロブスカイト化合物の濃度が２００ｐｐｍ（μｇ／ｇ）になるように希釈した後、量子収率測定装置によって測定した量子収率は３０％であった。
上述のペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１にトリブチル−ｎ−オクチルホスホニウムブロミドを混合した。分散液において、トリブチル−ｎ−オクチルホスホニウムブロミドに含まれるＰ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比はトリブチル−ｎ−オクチルホスホニウムブロミド／Ｐｂ＝０．５１であった。次いで上述の分散液にオルガノポリシラザン（Ｄｕｒａｚａｎｅ  １５００  Ｓｌｏｗ  Ｃｕｒｅ、メルクパフォーマンスマテリアルズ株式会社製）を混合した。分散液において、オルガノポリシラザンに含まれるＳｉ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比はＳｉ／Ｐｂ＝７６であった。
上述の分散液を２５℃、８０％の湿度条件で、スターラーで攪拌しながら、１日間改質処理した。
上述の分散液５０μＬを１ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板上にキャストし、自然乾燥させることで組成物を得た。
上述の組成物を１５０℃に加熱したホットプレート上で２分間加熱して熱耐久試験を行った。耐久試験前後の量子収率を測定して減少率を算出すると、減少率は７．４％であった。
【０３１６】
［実施例２］
トリブチル−ｎ−オクチルホスホニウムブロミドに含まれるＰ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比をトリブチル−ｎ−オクチルホスホニウムブロミド／Ｐｂ＝０．８５とした以外は、上記実施例１と同様の方法で組成物を得た。
上述の分散液５０μＬを１ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板上にキャストし、自然乾燥させることで組成物を得た。
上述の組成物を１５０℃に加熱したホットプレート上で２分間加熱して熱耐久試験を行った。耐久試験前後の量子収率を測定して減少率を算出すると、減少率は−２．７％であった。
【０３１７】
［実施例３］
実施例１と同様の方法で、ペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１を得た。トルエンでペロブスカイト化合物の濃度が２００ｐｐｍ（μｇ／ｇ）になるように希釈した後、量子収率測定装置によって測定した量子収率は３０％であった。
上述のペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１にトリブチルヘキサデシルホスホニウムブロミドを混合した。分散液において、トリブチルヘキサデシルホスホニウムブロミドに含まれるＰ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比はトリブチルヘキサデシルホスホニウムブロミド／Ｐｂ＝０．４０であった。次いで上述の分散液にオルガノポリシラザン（Ｄｕｒａｚａｎｅ  １５００  Ｓｌｏｗ  Ｃｕｒｅ、メルクパフォーマンスマテリアルズ株式会社製）を混合した。分散液において、オルガノポリシラザンに含まれるＳｉ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比はＳｉ／Ｐｂ＝７６であった。
上述の分散液を２５℃、８０％の湿度条件で、スターラーで攪拌しながら、１日間改質処理した。
上述の分散液５０μＬを１ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板上にキャストし、自然乾燥させることで組成物を得た。
上述の組成物を１５０℃に加熱したホットプレート上で２分間加熱して熱耐久試験を行った。耐久試験前後の量子収率を測定して減少率を算出すると、減少率は１９％であった。
【０３１８】
［実施例４］
トリブチルヘキサデシルホスホニウムブロミドに含まれるＰ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比をトリブチルヘキサデシルホスホニウムブロミド／Ｐｂ＝０．６６とした以外は、上記実施例３と同様の方法で組成物を得た。
上述の分散液５０μＬを１ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板上にキャストし、自然乾燥させることで組成物を得た。
上述の組成物を１５０℃に加熱したホットプレート上で２分間加熱して熱耐久試験を行った。耐久試験前後の量子収率を測定して減少率を算出すると、減少率は１１％であった。
【０３１９】
［実施例５］
実施例１と同様の方法で、ペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１を得た。トルエンでペロブスカイト化合物の濃度が２００ｐｐｍ（μｇ／ｇ）になるように希釈した後、量子収率測定装置によって測定した量子収率は３０％であった。
上述のペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１にトリ−ｎ−オクチルホスフィンを混合した。分散液において、トリ−ｎ−オクチルホスフィンに含まれるＰ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比はトリ−ｎ−オクチルホスフィン／Ｐｂ＝４．５であった。次いで上述の分散液にオルガノポリシラザン（Ｄｕｒａｚａｎｅ  １５００  Ｓｌｏｗ  Ｃｕｒｅ、メルクパフォーマンスマテリアルズ株式会社製）を混合した。分散液において、オルガノポリシラザンに含まれるＳｉ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比はＳｉ／Ｐｂ＝７６であった。
上述の分散液を２５℃、８０％の湿度条件で、スターラーで攪拌しながら、１日間改質処理した。
上述の分散液５０μＬを１ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板上にキャストし、自然乾燥させることで組成物を得た。上述の組成物を１５０℃に加熱したホットプレート上で２分間加熱して熱耐久試験を行った。耐久試験前後の量子収率を測定して減少率を算出すると、減少率は３８％であった。
【０３２０】
［実施例６］
トリ−ｎ−オクチルホスフィンに含まれるＰ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比をトリ−ｎ−オクチルホスフィン／Ｐｂ＝７．５とした以外は、上記実施例５と同様の方法で組成物を得た。
上述の分散液５０μＬを１ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板上にキャストし、自然乾燥させることで組成物を得た。上述の組成物を１５０℃に加熱したホットプレート上で２分間加熱して熱耐久試験を行った。耐久試験前後の量子収率を測定して減少率を算出すると、減少率は３２％であった。
【０３２１】
［実施例７］
実施例１と同様の方法で、ペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１を得た。トルエンでペロブスカイト化合物の濃度が２００ｐｐｍ（μｇ／ｇ）になるように希釈した後、量子収率測定装置によって測定した量子収率は３０％であった。
上述のペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１に亜りん酸トリオレイルを混合した。分散液において、亜りん酸トリオレイルに含まれるＰ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比は亜りん酸トリオレイル／Ｐｂ＝０．７１であった。次いで上述の分散液にオルガノポリシラザン（Ｄｕｒａｚａｎｅ  １５００  Ｓｌｏｗ  Ｃｕｒｅ、メルクパフォーマンスマテリアルズ株式会社製）を混合した。分散液において、オルガノポリシラザンに含まれるＳｉ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比はＳｉ／Ｐｂ＝７６であった。
上述の分散液を２５℃、８０％の湿度条件で、スターラーで攪拌しながら、１日間改質処理した。
上述の分散液５０μＬを１ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板上にキャストし、自然乾燥させることで組成物を得た。上述の組成物を１５０℃に加熱したホットプレート上で２分間加熱して熱耐久試験を行った。耐久試験前後の量子収率を測定して減少率を算出すると、減少率は３８％であった。
【０３２２】
［実施例８］
実施例１と同様の方法で、ペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１を得た。トルエンでペロブスカイト化合物の濃度が２００ｐｐｍ（μｇ／ｇ）になるように希釈した後、量子収率測定装置によって測定した量子収率は３０％であった。
上述のペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１にオクタデシルホスホン酸を混合した。分散液において、オクタデシルホスホン酸に含まれるＰ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比はオクタデシルホスホン酸／Ｐｂ＝２．１であった。次いで上述の分散液にポリシラザン（Ｄｕｒａｚａｎｅ  １５００  Ｓｌｏｗ  Ｃｕｒｅ、メルクパフォーマンスマテリアルズ株式会社製）を混合した。分散液において、オルガノポリシラザンに含まれるＳｉ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比はＳｉ／Ｐｂ＝７６であった。
上述の分散液を２５℃、８０％の湿度条件で、スターラーで攪拌しながら、１日間改質処理した。
上述の分散液５０μＬを１ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板上にキャストし、自然乾燥させることで組成物を得た。上述の組成物を１５０℃に加熱したホットプレート上で２分間加熱して熱耐久試験を行った。耐久試験前後の量子収率を測定して減少率を算出すると、減少率は１４％であった。
【０３２３】
［実施例９］
オクタデシルホスホン酸に含まれるＰ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比をオクタデシルホスホン酸／Ｐｂ＝１０とした以外は、上記実施例８と同様の方法で組成物を得た。
上述の分散液５０μＬを１ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板上にキャストし、自然乾燥させることで組成物を得た。上述の組成物を１５０℃に加熱したホットプレート上で２分間加熱して熱耐久試験を行った。耐久試験前後の量子収率を測定して減少率を算出すると、減少率は１７％であった。
【０３２４】
［実施例１０］
実施例１と同様の方法で、ペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１を得た。トルエンでペロブスカイト化合物の濃度が２００ｐｐｍ（μｇ／ｇ）になるように希釈した後、量子収率測定装置によって測定した量子収率は３０％であった。
上述のペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１にドデシル硫酸ナトリウムを混合した。分散液において、ドデシル硫酸ナトリウムに含まれるＰ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比はドデシル硫酸ナトリウム／Ｐｂ＝２３であった。次いで上述の分散液にオルガノポリシラザン（Ｄｕｒａｚａｎｅ  １５００  Ｓｌｏｗ  Ｃｕｒｅ、メルクパフォーマンスマテリアルズ株式会社製）を混合した。分散液において、オルガノポリシラザンに含まれるＳｉ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比はＳｉ／Ｐｂ＝７６であった。
上述の分散液を２５℃、８０％の湿度条件で、スターラーで攪拌しながら、１日間改質処理した。
上述の分散液５０μＬを１ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板上にキャストし、自然乾燥させることで組成物を得た。上述の組成物を１５０℃に加熱したホットプレート上で２分間加熱して熱耐久試験を行った。耐久試験前後の量子収率を測定して減少率を算出すると、減少率は３８％であった。
【０３２５】
［実施例１１］
実施例１と同様の方法で、ペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１を得た。トルエンでペロブスカイト化合物の濃度が２００ｐｐｍ（μｇ／ｇ）になるように希釈した後、量子収率測定装置によって測定した量子収率は３０％であった。
上述のペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１にトリ-n-オクチルホスフィンオキシドを混合した。分散液において、トリ-n-オクチルホスフィンに含まれるＰ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比はトリ-n-オクチルホスフィンオキシド／Ｐｂ＝４．６であった。次いで上述の分散液にオルガノポリシラザン（Ｄｕｒａｚａｎｅ  １５００  Ｓｌｏｗ  Ｃｕｒｅ、メルクパフォーマンスマテリアルズ株式会社製）を混合した。分散液において、オルガノポリシラザンに含まれるＳｉ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比はＳｉ／Ｐｂ＝７６であった。
上述の分散液を２５℃、８０％の湿度条件で、スターラーで攪拌しながら、１日間改質処理した。
上述の分散液５０μＬを１ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板上にキャストし、自然乾燥させることで組成物を得た。
上述の組成物を１５０℃に加熱したホットプレート上で２分間加熱して熱耐久試験を行った。耐久試験前後の量子収率を測定して減少率を算出すると、減少率は４．５％であった。
【０３２６】
［実施例１２］
トリ-n-オクチルホスフィンオキシドに含まれるＰ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比をトリ-n-オクチルホスフィンオキシド／Ｐｂ＝７．６とした以外は、上記実施例１１と同様の方法で組成物を得た。
上述の分散液５０μＬを１ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板上にキャストし、自然乾燥させることで組成物を得た。
上述の組成物を１５０℃に加熱したホットプレート上で２分間加熱して熱耐久試験を行った。耐久試験前後の量子収率を測定して減少率を算出すると、減少率は−１８．６％であった。
【０３２７】
［比較例１］
実施例１と同様の方法で、ペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１を得た。トルエンでペロブスカイト化合物の濃度が２００ｐｐｍ（μｇ／ｇ）になるように希釈した後、量子収率測定装置によって測定した量子収率は３０％であった。
【０３２８】
上述のペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１を５０μＬを１ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板上にキャストし、自然乾燥させることで組成物を得た。上述の組成物を１５０℃に加熱したホットプレート上で２分間加熱して熱耐久試験を行った。耐久試験前後の量子収率を測定して減少率を算出すると、減少率は５７％であった。
【０３２９】
［比較例２］
実施例１と同様の方法で、ペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１を得た。トルエンでペロブスカイト化合物の濃度が２００ｐｐｍ（μｇ／ｇ）になるように希釈した後、量子収率測定装置によって測定した量子収率は３０％であった。
上述のペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１にトリブチル−ｎ−オクチルホスホニウムブロミドを混合した。分散液において、トリブチル−ｎ−オクチルホスホニウムブロミドに含まれるＰ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比はトリブチル−ｎ−オクチルホスホニウムブロミド／Ｐｂ＝０．８５であった。
上述の分散液５０μＬを１ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板上にキャストし、自然乾燥させることで組成物を得た。上述の組成物を１５０℃に加熱したホットプレート上で２分間加熱して熱耐久試験を行った。耐久試験前後の量子収率を測定して減少率を算出すると、減少率は６８％であった。
【０３３０】
［比較例３］
実施例１と同様の方法で、ペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１を得た。トルエンでペロブスカイト化合物の濃度が２００ｐｐｍ（μｇ／ｇ）になるように希釈した後、量子収率測定装置によって測定した量子収率は３０％であった。
次いで上述のペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１にオルガノポリシラザン（Ｄｕｒａｚａｎｅ  １５００  Ｓｌｏｗ  Ｃｕｒｅ、メルクパフォーマンスマテリアルズ株式会社製）を混合した。分散液において、オルガノポリシラザンに含まれるＳｉ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比はＳｉ／Ｐｂ＝７６であった。
上述の分散液を２５℃、８０％の湿度条件で、スターラーで攪拌しながら、１日間改質処理した。
上述の分散液５０μＬを１ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板上にキャストし、自然乾燥させることで組成物を得た。上述の組成物を１５０℃に加熱したホットプレート上で２分間加熱して熱耐久試験を行った。耐久試験前後の量子収率を測定して減少率を算出すると、減少率は５４％であった。
【０３３１】
［比較例４］
実施例１と同様の方法で、ペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１を得た。トルエンでペロブスカイト化合物の濃度が２００ｐｐｍ（μｇ／ｇ）になるように希釈した後、量子収率測定装置によって測定した量子収率は３０％であった。
上述のペロブスカイト化合物および溶媒を含む分散液１にトリ-n-オクチルホスフィンオキシドを混合した。分散液において、トリ-n-オクチルホスフィンオキシドに含まれるＰ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比はモル比はトリ-n-オクチルホスフィンオキシド／Ｐｂ＝０．４０であった。次いで上述の分散液にテトラメトキシシランを混合した。分散液において、オルガノポリシラザンに含まれるＳｉ元素とペロブスカイト化合物に含まれるＰｂ元素とのモル比はＳｉ／Ｐｂ＝４５であった。
上述の分散液を２５℃、８０％の湿度条件で、スターラーで攪拌しながら、１日間改質処理した。
上述の分散液５０μＬを１ｃｍ×１ｃｍサイズのガラス基板上にキャストし、自然乾燥させることで組成物を得た。
上述の組成物を１５０℃に加熱したホットプレート上で２分間加熱して熱耐久試験を行った。耐久試験前後の量子収率を測定して減少率を算出すると、減少率は７１％であった。
【０３３２】
上記の結果から、本発明の実施例１〜１２に係る組成物は、比較例１〜４の組成物と比較して、高い熱耐久性を示した。
【０３３３】
［参考例１］
実施例１〜１２に記載の組成物を、必要に応じて溶媒を除去した後に、必要に応じて樹脂を混合して、ガラスチューブ等の中に入れて封止した後に、これを光源である青色発光ダイオードと導光板の間に配置することで、青色発光ダイオードの青色光を緑色光や赤色光に変換することができるバックライトを製造する。
【０３３４】
［参考例２］
実施例１〜１２に記載の組成物を、必要に応じて溶媒を除去した後に、必要に応じて樹脂を混合して、シート化する事で樹脂組成物を得ることができ、これを２枚のバリアーフィルムで挟んで封止したフィルムを導光板の上に設置することで、導光板の端面（側面）に置かれた青色発光ダイオードから導光板を通して前記シートに照射される青色の光を緑色光や赤色光に変換することができるバックライトを製造する。
【０３３５】
［参考例３］
実施例１〜１２に記載の組成物を、必要に応じて溶媒を除去した後に、必要に応じて樹脂を混合して、青色発光ダイオードの発光部近傍に設置することで照射される青色の光を緑色光や赤色光に変換することができるバックライトを製造する。
【０３３６】
［参考例４］
実施例１〜１２に記載の組成物を必要に応じて溶媒を除去し、レジストを混合した後に、溶媒を除去する事で波長変換材料を得ることができる。得られた波長変換材料を光源である青色発光ダイオードと導光板の間や、光源であるＯＬＥＤの後段に配置することで、光源の青色光を緑色光や赤色光に変換することができるバックライトを製造する。
【０３３７】
［参考例５］
実施例１〜１２に記載の組成物をＺｎＳなどの導電性粒子を混合して成膜し、片面にｎ型輸送層を積層し、もう片面をｐ型輸送層で積層することでＬＥＤを得る。電流を流すことによりｐ型半導体の正孔と、ｎ型半導体の電子が接合面のペロブスカイト化合物中で電荷を打ち消されることで発光させることができる。
【０３３８】
［参考例６］
フッ素ドープされた酸化スズ（ＦＴＯ）基板の表面上に、酸化チタン緻密層を積層させ、その上から多孔質酸化アルミニウム層を積層し、その上に実施例１〜１２に記載の組成物を積層し、溶媒を除去した後にその上から２，２−，７，７−ｔｅｔｒａｋｉｓ−（Ｎ，Ｎ−ｄｉ−ｐ−ｍｅｔｈｏｘｙｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｅ）９，９−ｓｐｉｒｏｂｉｆｌｕｏｒｅｎｅ  （Ｓｐｉｒｏ−ＯＭｅＴＡＤ）などのホール輸送層を積層し、その上に銀（Ａｇ）層を積層し、太陽電池を作製する。
【０３３９】
［参考例７］
実施例１〜１２に記載の組成物と樹脂を混合した後に、溶媒を除去して成形する事で本発明の組成物を含む樹脂組成物を得ることができ、これを青色発光ダイオードの後段に設置することで、青色発光ダイオードから前記樹脂成形体に照射される青色の光を緑色光や赤色光に変換して白色光を発するレーザーダイオード照明を製造する。
【産業上の利用可能性】
【０３４０】
本発明によれば、熱耐久性の高い、ペロブスカイト化合物を含む組成物をえることができる。さらに、当該組成物を用いて、フィルム、積層構造体、およびディスプレイを提供することが可能である。
【符号の説明】
【０３４１】
１ａ，１ｂ…積層構造体、１０…フィルム、２０，２１…基板、２２…封止材、２…発光装置、３…ディスプレイ、３０…光源、４０…液晶パネル、５０…プリズムシート、６０…導光板
【図１】
2019131655.tif 000036
【図２】
2019131655.tif 000037