(57)【要約】【課題】シリカ含有水のシリカ処理の後、逆浸透膜処理を行う装置および方法において、後段に流出する濃縮水のシリカの量を低減することができる、シリカ含有水の処理装置および処理方法を提供する。【解決手段】シリカを含む被処理水に、マグネシウム化合物を添加してシリカを不溶化するための反応槽１２と、得られた不溶化物を固液分離する固液分離装置１６と、得られた固液分離液を逆浸透膜で処理して濃縮水と透過水とを得る逆浸透膜処理装置２０と、得られた濃縮水の少なくとも一部を、固液分離手段の前段に返送する返送配管３８と、を備える、シリカ含有水の処理装置１である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリカを含む被処理水に、マグネシウム化合物を添加してシリカを不溶化するための反応槽と、
得られた不溶化物を固液分離する固液分離手段と、
得られた固液分離液を逆浸透膜で処理して濃縮水と透過水とを得る逆浸透膜処理手段と、
得られた濃縮水の少なくとも一部を、前記固液分離手段の前段に返送する返送手段と、
を備えることを特徴とする、シリカ含有水の処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載のシリカ含有水の処理装置であって、
前記返送手段による前記濃縮水の返送先が、前記反応槽であることを特徴とする、シリカ含有水の処理装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載のシリカ含有水の処理装置であって、
前記濃縮水のイオン濃度を測定するイオン濃度測定手段をさらに備え、
その測定値に応じて前記返送手段により返送される前記濃縮水の量を調節することを特徴とする、シリカ含有水の処理装置。
【請求項４】
シリカを含む被処理水に、マグネシウム化合物を添加してシリカを不溶化する不溶化工程と、
得られた不溶化物を固液分離する固液分離工程と、
得られた固液分離液を逆浸透膜で処理して濃縮水と透過水とを得る逆浸透膜処理工程と、
得られた濃縮水の少なくとも一部を、前記固液分離工程の前段に返送する返送工程と、
を含むことを特徴とする、シリカ含有水の処理方法。
【請求項５】
請求項４に記載のシリカ含有水の処理方法であって、
前記返送工程における前記濃縮水の返送先が、前記マグネシウム化合物が添加される反応槽であることを特徴とする、シリカ含有水の処理方法。
【請求項６】
請求項４または５に記載のシリカ含有水の処理方法であって、
前記濃縮水のイオン濃度を測定し、その測定値に応じて前記返送工程において返送する前記濃縮水の量を調節することを特徴とする、シリカ含有水の処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シリカ含有水の処理装置および処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
排水を減容化する方法として、逆浸透膜を用いて排水を濃縮し、透過水を回収することが行われている。近年では、排水量を削減するニーズがさらに高まり、排水の濃縮倍率をできる限り高めることが行われ、中にはＺＬＤ（Ｚｅｒｏ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ）まで行われている工場等も増えている。
【０００３】
そのため、逆浸透膜の濃縮水をさらに逆浸透膜で処理したり、蒸発濃縮等の方法によって濃縮したりする方法が行われている。このように排水の濃縮倍率が高くなると、その分排水中の硬度成分、シリカ等によるスケーリングのリスクが高くなる。スケールが発生すると、逆浸透膜が閉塞して透過水量が減少したり、蒸発濃縮の伝熱面がスケールで覆われて伝熱効率が低下したりする。
【０００４】
そこで、逆浸透膜処理の前に排水中のシリカをできるだけ低減することが望ましい。シリカを含む排水を処理する方法として、特許文献１にあるように、アルカリ条件下でマグネシウム塩を添加して除去する方法が知られている。
【０００５】
このマグネシウム塩を用いたシリカ処理によるシリカ処理水には、シリカが通常は数ｍｇ／Ｌ〜数十ｍｇ／Ｌ程度残留してしまう。これを逆浸透膜処理等で高濃縮すると、シリカが析出してスケーリングが起こる可能性が高くなる。マグネシウム塩の添加量を増やせば、シリカ処理水のシリカ濃度を低減することができるが、コストがかかる上に汚泥の発生量も増大する。
【０００６】
シリカの溶解度はアルカリ側で高くなるため、後段の逆浸透膜処理等でのｐＨをアルカリ側としてシリカの析出を抑制する方法があるが、アルカリ側であると炭酸カルシウム等の溶解度は逆に低くなるため、被処理水が硬度成分を含む場合、これらが析出するリスクがある（図５，６参照）。また、シリカ処理水の温度を上げてもシリカの溶解度を高くすることができるが、加温のコストがかかるという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平４−３６７７８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、シリカ含有水のシリカ処理の後、逆浸透膜処理を行う装置および方法において、後段に流出する濃縮水のシリカの量を低減することができる、シリカ含有水の処理装置および処理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、シリカを含む被処理水に、マグネシウム化合物を添加してシリカを不溶化するための反応槽と、得られた不溶化物を固液分離する固液分離手段と、得られた固液分離液を逆浸透膜で処理して濃縮水と透過水とを得る逆浸透膜処理手段と、得られた濃縮水の少なくとも一部を、前記固液分離手段の前段に返送する返送手段と、を備える、シリカ含有水の処理装置である。
【００１０】
前記シリカ含有水の処理装置において、前記返送手段による前記濃縮水の返送先が、前記反応槽であることが好ましい。
【００１１】
前記シリカ含有水の処理装置において、前記濃縮水のイオン濃度を測定するイオン濃度測定手段をさらに備え、その測定値に応じて前記返送手段により返送される前記濃縮水の量を調節することが好ましい。
【００１２】
また、本発明は、シリカを含む被処理水に、マグネシウム化合物を添加してシリカを不溶化する不溶化工程と、得られた不溶化物を固液分離する固液分離工程と、得られた固液分離液を逆浸透膜で処理して濃縮水と透過水とを得る逆浸透膜処理工程と、得られた濃縮水の少なくとも一部を、前記固液分離工程の前段に返送する返送工程と、を含む、シリカ含有水の処理方法である。
【００１３】
前記シリカ含有水の処理方法において、前記返送工程における前記濃縮水の返送先が、前記マグネシウム化合物が添加される反応槽であることが好ましい。
【００１４】
前記シリカ含有水の処理方法において、前記濃縮水のイオン濃度を測定し、その測定値に応じて前記返送工程において返送する前記濃縮水の量を調節することが好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明では、シリカ含有水のシリカ処理の後、逆浸透膜処理を行う装置および方法において、後段に流出する濃縮水のシリカの量を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施形態に係るシリカ含有水の処理装置の一例を示す概略構成図である。
【図２】実施例１で用いた処理装置を示す概略構成図である。
【図３】比較例１で用いた処理装置を示す概略構成図である。
【図４】実施例２におけるＭｇ／原水ＳｉＯ２（重量比）に対するＳｉＯ２濃度（ｍｇ／Ｌ）を示すグラフである。
【図５】２５℃の水のｐＨに対するシリカの溶解度（ｍｇＳｉＯ２／Ｌ）を示すグラフである。
【図６】２５℃の水のｐＨに対する炭酸カルシウムの溶解度（ｍｇ／Ｌ）を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明の実施の形態について以下説明する。本実施形態は本発明を実施する一例であって、本発明は本実施形態に限定されるものではない。
【００１８】
本発明の実施形態に係るシリカ含有水の処理装置の一例の概略を図１に示し、その構成について説明する。
【００１９】
シリカ含有水の処理装置１は、シリカを含む被処理水に、マグネシウム化合物を添加してシリカを不溶化するための反応槽１２と、得られた不溶化物を固液分離する固液分離手段として沈殿槽１６と、得られた固液分離液を逆浸透膜で処理して濃縮水と透過水とを得る逆浸透膜処理手段として、逆浸透膜処理装置２０とを備える。シリカ含有水の処理装置１は、被処理水を貯留するための被処理水槽１０と、反応槽１２で得られた反応液に高分子凝集剤を添加して凝集反応を行うための高分子反応槽１４と、沈殿槽１６で得られた固液分離液を貯留するための固液分離液槽１８と、をさらに備えてもよい。
【００２０】
図１のシリカ含有水の処理装置１において、被処理水槽１０の出口と反応槽１２の被処理水入口とは、ポンプ２２を介して配管２６により接続されている。反応槽１２の出口と高分子反応槽１４の入口とは、配管２８により接続されている。高分子反応槽１４の出口と沈殿槽１６の入口とは、配管３０により接続されている。沈殿槽１６の固液分離液出口と固液分離液槽１８の入口とは、配管３２により接続されている。沈殿槽１６の汚泥出口には、汚泥配管５６が接続されている。固液分離液槽１８の出口と逆浸透膜処理装置２０の入口とは、ポンプ２４を介して配管３４により接続されている。逆浸透膜処理装置２０の透過水出口には、透過水配管３６が接続されている。逆浸透膜処理装置２０の濃縮水出口と反応槽１２の返送水入口とは、得られた濃縮水の少なくとも一部を沈殿槽１６の前段に返送する返送手段として返送配管３８によりバルブ５２を介して接続されている。返送配管３８における濃縮水出口とバルブ５２との間にはバルブ５４を介して濃縮水配管４０が接続されている。反応槽１２には、マグネシウム化合物添加手段としてマグネシウム化合物添加配管４２と、ｐＨ調整剤添加手段としてｐＨ調整剤添加配管４４とが接続され、撹拌手段として撹拌羽根を備える撹拌装置４８が設置されている。高分子反応槽１４には、高分子凝集剤添加手段として高分子凝集剤添加配管４６が接続され、撹拌手段として撹拌羽根を備える撹拌装置５０が設置されている。
【００２１】
本実施形態に係るシリカ含有水の処理方法およびシリカ含有水の処理装置１の動作について説明する。
【００２２】
被処理水であるシリカ含有水は、必要に応じて被処理水槽１０に貯留され、ポンプ２２により配管２６を通して反応槽１２へ送液される。反応槽１２において、シリカ含有水に、マグネシウム化合物添加配管４２を通してマグネシウム化合物が添加されてシリカが不溶化される（不溶化工程）。ｐＨ調整剤添加配管４４を通してｐＨ調整剤が反応槽１２に添加されてもよい（ｐＨ調整工程）。反応槽１２では撹拌装置４８により反応液が撹拌されてもよい。
【００２３】
不溶化工程で得られた反応液が反応槽１２から配管２８を通して高分子反応槽１４へ送液される。高分子反応槽１４において、必要に応じて、反応液に、高分子凝集剤添加配管４６を通して高分子凝集剤が添加されて凝集反応が行われる（凝集工程）。高分子反応槽１４では撹拌装置５０により凝集液が撹拌されてもよい。
【００２４】
凝集工程で得られた凝集液が高分子反応槽１４から配管３０を通して沈殿槽１６へ送液される。沈殿槽１６において、得られた不溶化物が自然沈降等により固液分離される（固液分離工程）。
【００２５】
固液分離工程で得られた固液分離液は、沈殿槽１６から配管３２を通して、必要に応じて固液分離液槽１８に送液され、貯留される。一方、固液分離工程で得られた汚泥は、汚泥配管５６を通して排出される。
【００２６】
固液分離液は、ポンプ２４により配管３４を通して逆浸透膜処理装置２０へ送液される。逆浸透膜処理装置２０において、固液分離液が逆浸透膜で処理されて濃縮水と透過水とが得られる（逆浸透膜処理工程）。逆浸透膜処理工程で得られた透過水は、透過水配管３６を通して排出され、回収再利用または廃棄される。逆浸透膜処理工程で得られた濃縮水の少なくとも一部は、返送配管３８を通して沈殿槽１６（固液分離工程）の前段である反応槽１２に返送される（返送工程）。濃縮水の少なくとも一部は、固液分離液槽１８に返送してもよい。
【００２７】
このように、本実施形態に係るシリカ含有水の処理方法および処理装置では、シリカ含有水のシリカ処理（不溶化工程、凝集工程、固液分離工程）の後、シリカを含む固液分離液を逆浸透膜処理で濃縮し、濃縮水の少なくとも一部を固液分離工程の前段に返送する。
【００２８】
これにより、後段に流出する濃縮水のシリカの量を低減することができる。逆浸透膜処理の後段にさらに逆浸透膜処理や蒸発濃縮処理等の濃縮処理を行っても、それらの設備を小型化することができる。また、逆浸透膜処理の後段の逆浸透膜処理や蒸発濃縮処理等の濃縮処理においてシリカの析出が抑制され、システムを安定運転することができ、水回収率を上げることができる。
【００２９】
返送手段による濃縮水の返送先は、沈殿槽１６（固液分離工程）の前段であればよく、特に制限はない。例えば、被処理水槽１０、反応槽１２、高分子反応槽１４、配管２６，２８，３０のうちの少なくとも１つに濃縮水の少なくとも一部を返送すればよいが、マグネシウム化合物が添加される反応槽１２に返送することによって、反応槽１２内でのシリカ濃度が高くなり、マグネシウムとシリカの共沈反応および吸着反応を促進させることができるため、より好ましい。例えばマグネシウム化合物によるシリカの共沈反応は、被処理水のシリカ濃度が高い方が、単位シリカ重量あたりのマグネシウム化合物の添加量が少なくて済む。
【００３０】
沈殿槽１６（固液分離工程）の前段に返送する濃縮水の量は多くするほど逆浸透膜処理の後段に流出するシリカの負荷を減らすことができるが、被処理水であるシリカ含有水中に塩化ナトリウム（ＮａＣｌ）等の凝集沈殿で除去することが困難であるイオン成分が含まれる場合、これらの成分が系内で濃縮されてしまう場合がある。濃縮倍率が高くなりすぎると、浸透圧が高くなって逆浸透膜での操作圧力が高くなるため、所定量の濃縮水は逆浸透膜処理の後段に送液することが望ましい。逆浸透膜処理の後段に送液する量を調節するために、例えば濃縮水のイオン濃度を測定するイオン濃度測定手段をさらに備え、その測定値に応じて返送手段により返送される濃縮水の量を調節することが好ましい。例えば、濃縮水中の導電率を測定し、導電率が所定の値以下になるように、逆浸透膜処理の後段への濃縮水の送液量を調節する方法が取られる。濃縮水の送液量の調節は、例えば、バルブ５２，５４の開度を調節することに行われる。
【００３１】
濃縮水の導電率を測定し、濃縮水の送液量を調節する場合、その浸透圧が逆浸透膜処理での圧力上限を超えない値とすることが望ましく、３００００μＳ／ｃｍ以下とすることが好ましく、２００００μＳ／ｃｍ以下とすることがより好ましい。濃縮水の導電率が３００００μＳ／ｃｍを超えると、逆浸透膜での浸透圧が高くなり、逆浸透膜の耐圧限界を超えてしまう場合がある。
【００３２】
逆浸透膜処理の後段において、濃縮水をさらに濃縮する手段としては、逆浸透膜処理、加熱蒸発濃縮処理、正浸透膜処理、電気透析処理等が挙げられるが、処理コストを低く抑えるという点から逆浸透膜処理が好ましい。本実施形態に係るシリカ含有水の処理方法および処理装置によれば、逆浸透膜処理の後段がさらなる逆浸透膜処理である場合においても、安定して処理を行うことができる。
【００３３】
処理対象となるシリカ含有水は、例えば、地下水、工業用水、工場排水等である。シリカ含有水中のシリカの量は、例えば、１０〜４００ｍｇ／Ｌである。シリカ含有水が硬度成分を含む場合、シリカ含有水中のカルシウム硬度成分の量は、例えば、５０〜５０００ｍｇ−ＣａＣＯ３／Ｌであり、マグネシウム硬度成分の量は、例えば、１０〜１０００ｍｇ−ＣａＣＯ３／Ｌである。
【００３４】
不溶化工程で用いられるマグネシウム化合物としては、例えば、水酸化マグネシウム（Ｍｇ（ＯＨ）２）、塩化マグネシウム（ＭｇＣｌ２）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）等のマグネシウムの無機塩等が挙げられる。これらのうち、薬品コスト等の点から水酸化マグネシウムが好ましい。
【００３５】
不溶化工程におけるマグネシウム化合物の添加量は、被処理水であるシリカ含有水中のシリカの量（１モル）に対して、０．５モル〜５．０モルの範囲であることが好ましく、１．０モル〜２．５モルの範囲であることがより好ましい。不溶化工程におけるマグネシウム化合物の添加量がシリカ含有水中のシリカの量（１モル）に対して０．５モル未満であると、不溶化反応が十分に進行しない場合があり、５．０モルを超えると、薬品コスト等の点で不利になる場合がある。
【００３６】
ｐＨ調整工程で用いられるｐＨ調整剤としては、例えば、塩酸、硫酸等の酸、または、水酸化ナトリウム等のアルカリ剤が挙げられる。
【００３７】
硬度成分の析出に注意が必要ではあるが、ｐＨ調整工程において、ｐＨを９．５以上のアルカリ性にすることによって、シリカがイオン化し、後段の逆浸透膜処理におけるシリカ成分析出のリスクを低減できることに加え、逆浸透膜での阻止率がさらに上昇するため、好ましい。ｐＨを６以下にすることによっても、シリカの析出速度を抑え、スケールの生成を抑制することができるため、好ましい。
【００３８】
シリカはアルカリ領域では溶解度が高いため（図５参照）析出しにくいが、シリカ含有水が硬度成分を含む場合は、硬度成分はアルカリ領域では溶解度が低いため（図６参照）析出しやすいので、上記方法によってシリカを不溶化、除去（固液分離）し、逆浸透膜処理工程では例えばｐＨ９以下で処理すればよい。この場合、逆浸透膜処理の前段、例えば配管３２または固液分離液槽１８において酸等のｐＨ調整剤を用いてｐＨ調整を行えばよい（第２ｐＨ調整工程）。
【００３９】
シリカ含有水が硬度成分を含む場合は、反応槽１２において、または反応槽１２の前段または後段に別の反応槽（第２反応槽）を設け、アルカリ剤および炭酸化合物のうち少なくとも１つを添加して硬度成分を不溶化し、上記固液分離工程により除去してもよい。この場合は、任意のｐＨで逆浸透膜処理を行うことができる。
【００４０】
硬度成分の不溶化に用いられるアルカリ剤としては、例えば、水酸化カルシウム（Ｃａ（ＯＨ）２）、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）、水酸化カリウム（ＫＯＨ）等が挙げられる。これらのうち、薬品コスト等の点から水酸化カルシウム、水酸化ナトリウムが好ましい。硬度成分の不溶化に用いられる炭酸化合物としては、例えば、炭酸ナトリウム（Ｎａ２ＣＯ３）、炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ３）、炭酸ガス等が挙げられる。これらのうち、薬品コスト等の点から炭酸ナトリウムが好ましい。
【００４１】
アルカリ剤および炭酸化合物の添加量は、被処理水中の硬度成分の量（１モル）に対して、１．０モル〜１．２モルの範囲であることが好ましく、１．０モル〜１．１モルの範囲であることがより好ましい。アルカリ剤および炭酸化合物の添加量が被処理水中の硬度成分の量（１モル）に対して１．０モル未満であると、不溶化反応が十分に進行しない場合があり、過剰に添加すると、薬品コスト等の点で不利になる場合がある。
【００４２】
不溶化工程における反応温度は、特に制限はないが、例えば、１５℃〜３０℃の範囲である。
【００４３】
凝集工程で用いられる高分子凝集剤としては、例えば、アクリルアミド系、アクリル酸エステル系等の高分子凝集剤が挙げられる。これらのうち、薬品コスト等の点からアクリルアミド系の高分子凝集剤が好ましい。
【００４４】
凝集工程における高分子凝集剤の添加量は、０．５〜５．０ｍｇ／Ｌの範囲であることが好ましく、１〜２ｍｇ／Ｌの範囲であることがより好ましい。凝集工程における高分子凝集剤の添加量が０．５ｍｇ／Ｌ未満であると、凝集反応が十分に進行しない場合があり、過剰に添加すると、薬品コスト等の点で不利になる場合がある。
【００４５】
凝集工程における反応温度は、特に制限はないが、例えば、１５℃〜３０℃の範囲である。
【００４６】
固液分離工程における固液分離の方法は、特に制限はなく、例えば、自然沈降による沈殿槽の他に、砂ろ過、膜ろ過等の方法が挙げられる。これらのうち、設備費等の点から自然沈降による沈殿槽が好ましい。
【００４７】
逆浸透膜処理において用いられる逆浸透膜は、特に制限はないが、例えば、ポリイミド系の逆浸透膜である。逆浸透膜は、シリカ阻止率が高いものが好ましく、シリカ阻止率が９９．０％以上のものが好ましい。高圧型の逆浸透膜にすると、９９．５％程度のシリカ阻止率が得られ、より好ましい。
【実施例】
【００４８】
以下、実施例および比較例を挙げ、本発明をより具体的に詳細に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。
【００４９】
＜実施例１および比較例１＞
図２（実施例１）、図３（比較例１）に示すフローの実験設備にて、通水試験を行った。実施例１では、濃縮水の一部を反応槽に返送した。
【００５０】
（被処理水）
被処理水：工場放流水（シリカ含有）
ＳｉＯ２＝５０ｍｇ／Ｌ
【００５１】
実施例１では、被処理水流量１４０Ｌ／ｈで反応槽へ通水した。反応槽において、ｐＨ調整剤として水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）を添加してｐＨ１０．８〜１１．０に調整し、マグネシウム化合物として水酸化マグネシウム（Ｍｇ（ＯＨ）２）を５０ｍｇ−Ｍｇ／Ｌ添加した。高分子反応槽において、高分子凝集剤としてオルフロックＭ−４０２０（オルガノ株式会社製）２ｍｇ／Ｌを添加した。固液分離装置として沈殿槽により固液分離を行った。固液分離液を流量１８２Ｌ／ｈで固液分離液槽へ通水した。固液分離液を流量７２０Ｌ／ｈで逆浸透膜処理装置として４インチＲＯエレメント（日東電工製、ＬＦＣ−３）に通水した。逆浸透膜処理により透過水を流量１２０Ｌ／ｈで得て、濃縮水を流量５３８Ｌ／ｈで固液分離液槽へ循環し、流量４２Ｌ／ｈで反応槽へ返送し、流量２０Ｌ／ｈで後段の濃縮装置へ送液した。結果を表１に示す。
【００５２】
比較例１では、被処理水流量１４０Ｌ／ｈで反応槽へ通水した。反応槽において、ｐＨ調整剤として水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）を添加してｐＨ１０．８〜１１．０に調整し、マグネシウム化合物として水酸化マグネシウム（Ｍｇ（ＯＨ）２）を５０ｍｇ−Ｍｇ／Ｌ添加した。高分子反応槽において、高分子凝集剤としてオルフロックＭ−４０２０（オルガノ株式会社製）２ｍｇ／Ｌを添加した。固液分離装置として沈殿槽により固液分離を行った。固液分離液を流量１４０Ｌ／ｈで固液分離液槽へ通水した。固液分離液を流量６８４Ｌ／ｈで逆浸透膜処理装置として４インチＲＯエレメント（日東電工製、ＬＦＣ−３）に通水した。逆浸透膜処理により透過水を流量８４Ｌ／ｈで得て、濃縮水を流量５４４Ｌ／ｈで固液分離液槽へ循環し、流量５６Ｌ／ｈで後段の濃縮装置へ送液した。結果を表２に示す。
【００５３】
なお、水中のＳｉＯ２の量は、吸光光度計（日立製作所製、Ｕ−２９００）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ  ０１０１  モリブデン青吸光光度法で測定した。
【００５４】
【表１】
2019042646.tif 000003
【００５５】
【表２】
2019042646.tif 000004
【００５６】
実施例１では、濃縮水の一部を沈殿槽（固液分離槽）の前段である反応槽に返送することによって、ＲＯ濃縮水のＳｉＯ２負荷が低下し、逆浸透膜処理装置の後段へ流出するシリカの量が少なくなった。一方、比較例１では、濃縮水の循環を行わなかったため、逆浸透膜処理装置の後段へ流出するシリカが多かった。
【００５７】
＜実施例２＞
濃縮水の返送先について、検討した。ＭｇによるＳｉＯ２の共沈反応は、原水のＳｉＯ２濃度が高い方が、単位ＳｉＯ２重量あたりのＭｇの添加量が少なくて済むと考えられる。
【００５８】
［ジャーテスト手順］
原水（ＳｉＯ２＝３０、１００，４００ｍｇ／Ｌ）に、塩化マグネシウム（ＭｇＣｌ２）を添加した。水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）でｐＨ１１に調整した。ジャーテスタにて１２０ｒｐｍで反応させた。０．４５μｍフィルタでろ過後、処理水のＳｉＯ２濃度を測定した。
【００５９】
図４に、ジャーテストの結果を示す。図４のグラフは、Ｍｇ／原水ＳｉＯ２（重量比）に対するＳｉＯ２濃度（ｍｇ／Ｌ）を示す。
を示す。
【００６０】
このように、ＳｉＯ２を含む濃縮水を反応槽に返送し、反応槽のＳｉＯ２の濃度が高くなるようにすることで、Ｍｇ−ＳｉＯ２の反応を促進させることができた。
【００６１】
以上のように、実施例により、シリカ含有水のシリカ処理の後、逆浸透膜処理を行う装置および方法において、後段に流出する濃縮水のシリカの量を低減することができた。
【符号の説明】
【００６２】
１  シリカ含有水の処理装置、１０  被処理水槽、１２  反応槽、１４  高分子反応槽、１６  沈澱槽、１８  固液分離液槽、２０  逆浸透膜処理装置、２２，２４  ポンプ、２６，２８，３０，３２，３４  配管、３６  透過水配管、３８  返送配管、４０  濃縮水配管、４２  マグネシウム化合物添加配管、４４  ｐＨ調整剤添加配管、４６  高分子凝集剤添加配管、４８，５０  撹拌装置、５２，５４  バルブ、５６  汚泥配管。
【図１】
2019042646.tif 000005
【図２】
2019042646.tif 000006
【図３】
2019042646.tif 000007
【図４】
2019042646.tif 000008
【図５】
2019042646.tif 000009
【図６】
2019042646.tif 000010