(57)【要約】【解決手段】軸方向に延びる電極部と、ワークを保持する保持部と、を備え、前記電極部は、前記ワークのワーク面に対して径方向に対向し、前記保持部は、軸方向に延びる接触壁面を有し、前記接触壁面は、前記ワークの接触周面と接触可能に配置され、軸方向に垂直な平面上における前記ワークの移動を阻止する、プラズマ処理装置。【選択図】図３Ａ
2019067611.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸方向に延びる電極部と、
ワークを保持する保持部と、
を備え、
前記電極部は、前記ワークのワーク面に対して径方向に対向し、
前記保持部は、軸方向に延びる接触壁面を有し、
前記接触壁面は、前記ワークの接触周面と接触可能に配置され、軸方向に垂直な平面上における前記ワークの移動を阻止する、
プラズマ処理装置。
【請求項２】
前記電極部は、少なくとも前記ワークの軸方向に延びる孔の内部において、前記孔の内壁面の少なくとも一部である前記ワーク面に対して径方向に対向する、請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記接触壁面は内壁面であり、前記接触周面は、外周面であり、
前記保持部は、前記接触内壁面の上方に連続して接続されて前記保持部の端面まで延びるテーパ面を有し、
前記テーパ面は、下方へ向かうほど径が小さくなる、請求項２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
下記（１）式および（２）式を満たす、請求項３に記載のプラズマ処理装置。
Ｌ１＞Ｌ２  （１）
但し、Ｌ１：保持された前記ワークの前記接触周面下端から前記テーパ面上端までの軸方向長さ、Ｌ２：保持された前記ワークの下端から前記電極部を含む電極体の上端までの軸方向長さ
Ｇ１＜Ｇ２  （２）
但し、Ｇ１：前記テーパ面の上端と前記接触周面との間のギャップ、Ｇ２：前記孔と前記電極体との間のギャップ
【請求項５】
下記（１）式および（３）式を満たす、請求項３に記載のプラズマ処理装置。
Ｌ１＞Ｌ２  （１）
但し、Ｌ１：保持された前記ワークの前記接触周面下端から前記テーパ面上端までの軸方向長さ、Ｌ２：保持された前記ワークの下端から前記電極部を含む電極体の上端までの軸方向長さ
Ｇ１＋γ＜Ｇ２  （３）
但し、Ｇ１：前記テーパ面の上端と前記接触周面との間のギャップ、Ｇ２：前記孔と前記電極体との間のギャップ、γ：前記孔の真円度
【請求項６】
前記接触壁面は、内壁面であり、前記保持部の上端まで延び、前記接触周面は、外周面であり、下記（４）式および（５）式を満たす、請求項２に記載のプラズマ処理装置。
Ｌ３＞Ｌ４  （４）
但し、Ｌ３：保持された前記ワークの前記接触周面下端から前記接触壁面上端までの軸方向長さ、Ｌ４：保持された前記ワークの下端から前記電極部を含む電極体の上端までの軸方向長さ
Ｇ３＜Ｇ４  （５）
但し、Ｇ３：前記接触壁面と前記接触周面との間のギャップ、Ｇ４：前記孔と前記電極体との間のギャップ
【請求項７】
前記保持部の内部空間におけるガスを排気する排気部を備え、
前記内部空間は、前記孔を介して外気と連通する、請求項２から請求項６のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマ処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、大気圧下でプラズマを発生させる技術が開発されており、近年、様々な形状のワークに対するプラズマを用いた処理が行われている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、大気圧下でプラズマを発生させるプラズマ処理装置の一例が開示されている。このプラズマ処理装置では、放電空間としての筒状空間を有する。筒状空間の内圧は、大気圧である。処理ガス供給源からの処理ガスが筒状空間に導入される。電源から電極に電圧を供給することで、筒状空間内部に大気圧下での放電が形成される。これにより、筒状空間に導入された処理ガスがプラズマ化される。プラズマ化された処理ガスが、筒状空間からワークへ向けて吹き出され、ワークの表面に接触する。これにより、所望の表面処理を行うことができる。
【０００４】
上記特許文献１のプラズマ処理装置は、ワークから離れた空間でプラズマを発生させ、プラズマをワークへ移送して、ワークにおける所望の処理を行う所謂リモート方式の装置である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−２７２１６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ここで、一般に金属ワークに対して孔を開ける加工を行った場合、切削油が孔の内壁面に付着、残留する。残留した切削油は、洗浄液等での除去が行われるものの、特に穴径が小さい場合に十分な洗浄効果を得られず、切削油が残留する場合がある。この場合、洗浄後の孔に接着剤によって部材を固定するとき、切削油による表面汚染により濡れ性が低下し、十分な接着強度を得ることができない虞がある。
【０００７】
そこで、この切削油による表面汚染をプラズマ処理によって除去することが期待される。しかしながら、上記特許文献１のようなリモート方式のプラズマ処理装置を用いた場合、プラズマによる活性種の孔への導入に関して問題があり、ワークの孔のプラズマ処理を効率的に行うことが難しい状況であった。
【０００８】
上記状況に鑑み、本発明は、ワークに対してプラズマ処理を効率的且つ均一に行うことが可能となるプラズマ処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の例示的なプラズマ処理装置は、軸方向に延びる電極部と、ワークを保持する保持部と、を備え、前記電極部は、前記ワークのワーク面に対して径方向に対向し、前記保持部は、軸方向に延びる接触壁面を有し、前記接触壁面は、前記ワークの接触周面と接触可能に配置され、軸方向に垂直な平面上における前記ワークの移動を阻止する構成としている。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の例示的なプラズマ処理装置によれば、ワークに対してプラズマ処理を効率的且つ均一に行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係るプラズマ処理装置の全体構成を示す図である。
【図２】図２は、第１実施形態に係る保持部と電極部に関する構成を示す縦断面図である。
【図３Ａ】図３Ａは、図２で示した保持部に対してワークをセットした状態を示す図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、ワークの斜視図である。
【図４】図４は、本発明の第２実施形態に係る保持部と電極部に関する構成を示す縦断面図である。
【図５】図５は、本発明の第３実施形態に係る保持部と電極部に関する構成を示す縦断面図である。
【図６】図６は、本発明の第４実施形態に係る電極部をワークの上方から視た平面図である。
【図７】図７は、本発明の第５実施形態に係る保持部と電極部に関する構成を示す縦断面図である。
【図８】図８は、本発明の第６実施形態に係る保持部と電極部に関する構成を示す縦断面図である。
【図９】図９は、図８に示す構成においてワークをワークホルダに対して保持させた状態の構成を示す図である。
【図１０】図１０は、本発明の第７実施形態に係る保持部と電極部に関する構成を示す縦断面図である。
【図１１】図１１は、本発明の第８実施形態に係る保持部と電極部に関する構成を示す縦断面図である。
【図１２】図１２は、本発明の第９実施形態に係る保持部と電極部に関する構成を示す縦断面図である。
【図１３】図１３は、本発明の第１０実施形態に係る保持部と電極部に関する構成を示す縦断面図である。
【図１４】図１４は、本発明の第１１実施形態に係る保持部と電極部に関する構成を示す縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下に本発明の例示的な実施形態について図面を参照して説明する。なお、以下において、中心軸Ｃの延びる方向を「軸方向」と称し、軸方向のＸ１側を「上側」、軸方向のＸ２側を「下側」とする。また、中心軸周りの方向を「周方向」、中心軸の径方向を「径方向」と称する。
【００１３】
＜プラズマ処理装置の全体構成＞
まず、本発明の例示的な実施形態に係るプラズマ処理装置の全体構成について図１を用いて説明する。図１は、本実施形態に係るプラズマ処理装置１０の全体構成を概略的に示す図である。
【００１４】
図１に示すプラズマ処理装置１０は、大気圧下でプラズマを発生させ、被処理物である金属製のワーク１に対してプラズマ処理を行う装置である。より具体的には、ワーク１に設けられた貫通孔（図１で不図示）に対してプラズマ処理を行う。プラズマ処理装置１０は、保持部２と、電極部３と、高圧電源部４と、タイマー５と、イジェクタ６と、空気供給部７と、流量計８と、ＣＣＤカメラ９と、を備える。
【００１５】
保持部２は、ワーク１を保持する。後述するように、保持部２は、ワーク１とともに半密閉空間を形成する。電極部３は、保持部２に対して位置決めされており、ワーク１を保持部２に保持させた状態で、ワーク１の貫通孔内部に電極部３が挿入された状態となる。
【００１６】
高圧電源部４は、高周波である高電圧を電極部３に印加する。すなわち、電極部３には、交流電圧が印加される。一方、保持部２にグランド電位が印加されることで、金属製のワーク１には保持部２を介してグランド電位が印加される。貫通孔には処理ガスが導かれるので、貫通孔内部において放電が発生して、プラズマが発生する。電極部３と高圧電源部４とからプラズマ発生部が構成される。
【００１７】
高圧電源部４が印加する電圧の周波数は、例えば、１ｋＨｚ〜１００ｋＨｚである。高圧電源部４が印加する電圧の波形は、パルス波形が望ましいが、その他にも正弦波、矩形波等でもよく、大気圧プラズマ放電で用いられる公知の波形を用いればよい。また、高圧電源部４が印加する電圧は、例えば５ｋＶｐｐ〜２０ｋＶｐｐであり、電極部３と貫通孔との間のギャップ等によって適宜設定される。
【００１８】
タイマー５は、高圧電源部４より電極部３に電圧を印加する時間を計測する。すなわち、タイマー５によって、ワーク１に対してプラズマ処理を行う処理時間を制御できる。
【００１９】
イジェクタ６は、保持部２の排気口に接続される負圧発生器である。イジェクタ６は、空気供給部７から供給される空気の高速な気流を生成することで、ベンチュリー効果により、当該気流と直交する方向に負圧を生成する。イジェクタ６により負圧が生成されることで、保持部２の内部空間におけるガスが排気される。すなわち、イジェクタ６は、排気部として機能する。なお、イジェクタ６の代わりに例えば真空ポンプを採用してもよい。
【００２０】
流量計８は、保持部２の排気口とイジェクタ６との間の流路中に配置される。流量計８は、上記流路を流れるガス流の流量を計測する。ＣＣＤカメラ９は、ワーク１の貫通孔内部で発生するプラズマの発光状態を撮像する。
【００２１】
＜保持部および電極部の実施形態＞
＜＜第１実施形態＞＞
以下、上記で説明したプラズマ処理装置１０における保持部２および電極部３の具体的な構成の各実施形態について述べる。なお、以下の実施形態の変形例によっては図１において保持部、電極部、およびワーク等の符号は適宜変更される。ここでは、第１実施形態について図２、図３Ａ、および図３Ｂを用いて述べる。
【００２２】
図２は、第１実施形態に係る保持部２と電極部３に関する構成を示す縦断面図である。図２に示すように、保持部２は、ワークホルダ２１と、ハウジング２２と、を有する。ワークホルダ２１は、略円柱状であり、開口部２１１を有する。開口部２１１は、中心軸Ｃを中心として軸方向に貫通して形成される。ワークホルダ２１は、金属製であり、グランド電位を印加される。
【００２３】
ハウジング２２は、上方が開口した円筒状であり、保持部２を下側から支持する。ワークホルダ２１とハウジング２２とに囲まれて内部空間２Ｓが形成される。すなわち、保持部２は、内部空間２Ｓを有する。また、ハウジング２２の側面には、排気口２２１が形成される。
【００２４】
電極部３は、中心軸Ｃを中心として軸方向に延びる。電極部３は、上方に円柱部３１を有する。円柱部３１の外周面全体は、絶縁材１５により被覆される。すなわち、絶縁材１５は、円筒状である。絶縁材１５は、アルミナ、ジルコニアなどのセラミック材料、または快削性セラミックなどが好適に使用される。
【００２５】
円柱部３１および絶縁材１５はともに、開口部２１１の下側から開口部２１１の上側まで貫通する。
【００２６】
図３Ａは、図２で示した保持部２に対してワーク１をセットした状態を示す図である。この状態で、ワーク１と保持部２により半密閉空間が形成される。また、図３Ｂは、ワーク１の斜視図である。ワーク１は、略円柱状の基体１１と、基体１１の下方に位置する円柱状の突部１２と、基体１１の外周面上端部から径方向外側に突出して環状に形成される鍔部１３と、を有する金属部材である。
【００２７】
また、ワーク１は、凹部１Ａ、凹部１Ｂ、および軸方向に貫通する貫通孔１Ｃを有する。円柱状の凹部１Ａの上端位置は、鍔部１３の上端位置と一致する。円柱状の凹部１Ｂは、凹部１Ａの下方に凹部１Ａと連続して配置される。円柱状の貫通孔１Ｃは、凹部１Ｂの下方に凹部１Ｂと連続して配置される。すなわち、凹部１Ａ、凹部１Ｂ、および貫通孔１Ｃは、互いに連通する。
【００２８】
基部１１は、下端において円環状の面である円環面１１１を有する。突部１２は、円環面１１１の径方向内側から下方へ突出する。円環面１１１がワークホルダ２１の上端面の上に載置されることにより、ワーク１は保持部２に保持される。このとき、突部１２は、開口部２１１に嵌合する。
【００２９】
開口部２１１の軸方向に延びる内壁面である接触内壁面２１１Ａは、突部１２の外周面である接触外周面１２１と接触可能に配置され、軸方向に垂直な平面上におけるワーク１の移動を阻止する。
【００３０】
円柱部３１および絶縁材１５はともに、貫通孔１Ｃの下側から貫通孔１Ｃの上側まで貫通孔１Ｃを貫通する。すなわち、円柱部３１および絶縁材１５はともに、貫通孔１Ｃの内壁面の軸方向全体および周方向全体に対して対向する。換言すると、電極部３は、ワーク１の有する貫通孔１Ｃの内部において、貫通孔１Ｃの内壁面の全体に対して径方向に対向する。上記内壁面の全体がワーク面となる。このとき、ワーク１の有する貫通口１Ｃの内壁面と絶縁材１５との距離、すなわち放電ギャップは周方向全体に均等に保たれていることが望ましく、概ね１ｍｍ以下、より好ましくは０．１ｍｍから０．７ｍｍに設定する。これによりプラズマは大気圧下においても安定的に放電が維持できる。
【００３１】
排気口２２１に接続されたイジェクタ６（図１）により内部空間２Ｓにおけるガスが排気口２２１から外部へ排気されると、内部空間２Ａ内部は負圧となる。貫通孔１Ｃより上側は、大気圧下での外気側となる。外気側から貫通孔１Ｃを通じて内部空間２Ｓへ流れるガス流が発生する。このガス流により、外気側から貫通孔１Ｃへ処理ガスが導かれる。本実施形態においては処理ガスは外気となるが、必要であれば図示しないガス供給手段により図３Ａ上方から所望のガスを噴射しても良い。例えば金属製ワークに付着した切削油などの残渣を除去する場合には窒素に対して酸素を微量に添加したガスであることが望ましいが、本発明ではガス種を限定しない。
【００３２】
金属製のワークホルダ２１にグランド電位が印加され、ワーク１はワークホルダ２１に接触するので、金属製のワーク１にはグランド電位が印加される。一方、電極部３には、高電圧電源部４により高周波の高電圧が印加される。円柱部３１と貫通孔１Ｃの内壁面との間のギャップは狭く、大気圧下において円柱部３１と上記内壁面との間で放電が発生し、絶縁材１５と上記内壁面との間のギャップで形成される空間においてプラズマが発生する。プラズマは、上記空間の軸方向全体および周方向全体において発生する。
【００３３】
このように、貫通孔１Ｃ内部で発生したプラズマにより直接、貫通孔１Ｃの内壁面を処理することができる。ここで、仮に上記特許文献１のようなリモート方式のプラズマ処理装置を用いて貫通孔を処理する場合、プラズマによる活性種が貫通孔の内壁面に当たることなくそのまま直進して外部へ抜け出す割合が高くなり、十分な処理を行うことができない虞がある。また、特に深さの長い貫通孔の場合は、貫通孔の奥へ行くほど活性種が失活してゆき、十分な処理が行えない虞がある。このように、リモート方式ではワークの貫通孔のプラズマ処理を効率的に行うことが難しい状況であったが、本実施形態であれば、直接、貫通孔１Ｃの内壁面を処理するので、プラズマ処理を効率的に行うことができる。
【００３４】
例えば、ワーク１に対して貫通孔１Ｃを形成した場合に、貫通孔１Ｃの内壁面に残留した切削油をプラズマ処理により除去することができる。これにより、貫通孔１Ｃの濡れ性を向上させ、貫通孔１Ｃに対して接着剤により部材を固定する際の接着強度を向上できる。なお、貫通孔に対するプラズマ処理は上記のような残留する切削油の除去用途に限らず、例えば、適切な材料ガスを導入して貫通孔の内壁面に薄膜を形成することに用いてもよい。
【００３５】
また、上記ガス流を発生させることにより、貫通孔１Ｃ内部で処理ガスをプラズマ化することで発生するガス（例えば窒素酸化物、オゾン等）の外気側への漏洩を抑制することができる。外気側へのガスの漏洩を防止するためには、概ね１ｍ／秒以上程度の流速を形成すればよい。また、上記放電ギャップは一般に１ｍｍ以下程度と狭いため、放電ギャップを通過する際の流路抵抗が大きくなるために内部空間２Ｓでは負圧が生じ易い。従って、外気との差圧が形成できるために、ワーク１はワークホルダ２１に押し当てられて保持され、ワーク１のばたつきを抑制することもできる。
【００３６】
特に、絶縁材１５と貫通孔１Ｃとの間のギャップを狭くすれば、当該ギャップにより形成される空間の断面積を小さくし、同一の流量であっても当該空間を通るガス流の流速を高速化できる。これにより、上記所定のガスの外気側への漏洩をより抑制することができる。この場合、ガス流が高速化するが、先述のようにワーク１はワークホルダ２１に押し当てられるので、ワーク１のばたつきは抑制される。
【００３７】
円柱部３１の貫通孔１Ｃの内壁面と対向する部分は、絶縁材１５により被覆される。これにより、所謂誘電体バリア放電を行うことができ、円柱部３１と貫通孔１Ｃの内壁面との間のギャップを狭くしても、大気圧下での放電を安定化することができる。また、絶縁材１５と貫通孔１Ｃの内壁面との間のギャップが狭いことにより、ガス流の流速を高速化できる。なお、絶縁材１５を設けることは必須ではない。
【００３８】
電極部３は、貫通孔１Ｃの下側から貫通孔１Ｃの上側まで貫通孔１Ｃを貫通する。すなわち、電極部３は、貫通孔１Ｃの両開口端部より外側へ突出する。なお、貫通孔１Ｃ内部が内側、貫通孔１Ｃ外部が外側である。これにより、貫通孔１Ｃの両開口端部におけるプラズマの生成を安定化することができる。
【００３９】
また、円柱部３１が貫通孔１Ｃの内壁面と対向する。すなわち、電極部３の上記内壁面と対向する部分の外周面は、軸方向視において円形である。これにより、貫通孔１Ｃの軸方向視において円形である内壁面と、電極部３との間のギャップを周方向に均一化することができる。従って、貫通孔１Ｃの内壁面の処理を均一化することができる。
【００４０】
また、電極部３の貫通孔１Ｃの内壁面と対向する部分は、円柱部３１により構成されるので、貫通孔１Ｃの径が小さい場合でも電極部３を成型することは容易となる。
【００４１】
また、電極部３は、ワーク１にグランド電位が印加された状態で、高電圧電源部４により高電圧が印加される。これにより、電極部３よりも外側に位置して人が接触し易いワーク１側をグランド電位とすることができ、安全性を向上させることができる。なお、プラズマを発生させるには、ワーク１側に高電圧を印加し、電極部３側にグランド電位を印加してもよい。
【００４２】
また、ワーク１をワークホルダ２１にセットすることで、接触外周面１２１および接触内壁面２１１Ａにより、ワーク１はワークホルダ２１に対して軸方向に垂直な平面上における位置決めがなされる。ワークホルダ２１と電極部３との位置関係は予め決定されるので、ワーク１のセットによりワーク１と電極部３との位置関係も規定される。これにより、貫通孔１Ｃと電極部３の内壁面との間のギャップの管理が容易となる。ギャップの管理により、貫通孔１Ｃの内壁面のプラズマ処理を均一化することができる。また、ワーク１は、ワークホルダ２１に対して軸方向に着脱することができる。
【００４３】
また、排気口２２１とイジェクタ６との間の流路上に流量計８を配置するので、排気口２２１から外部へ排気されるガス流の流量を測定することができる。これにより、ワーク１のワークホルダ２１への差圧による固定状態の異常を検知することが可能となる。
【００４４】
また、ＣＣＤカメラ９は、電極部３およびワーク１の上方に配置され、絶縁材１５と貫通孔１Ｃの内壁面との間に発生するプラズマの発光状態をＣＣＤカメラ９により撮像することができる。これにより、例えばプラズマの発生状態の異常を検知することができる。
【００４５】
＜＜第２実施形態＞＞
図４は、本発明の第２実施形態に係る保持部２と電極部３０１に関する構成を示す縦断面図である。本実施形態に係る構成の第１実施形態（図３Ａ）に係る構成との相違点は、電極部３０１である。
【００４６】
電極部３０１は、円柱部３０１Ａを有する。円柱部３０１Ａは、ワーク１の貫通孔１Ｃの下側から貫通孔１Ｃの軸方向途中まで軸方向に延びて配置される。すなわち、円柱部３０１Ａは、貫通孔１Ｃの内部において、貫通孔１Ｃの内壁面と軸方向一部および周方向全体において対向する。換言すると、電極部３０１は、貫通孔１Ｃの内部において、貫通孔１Ｃの内壁面の一部に対して径方向に対向する。上記内壁面の一部がワーク面となる。
【００４７】
また、絶縁材１５は、円柱部３０１Ａの外周面を被覆し、貫通孔１Ｃの下側から貫通孔１Ｃの上側まで軸方向に貫通して配置される。すなわち、絶縁材１５Ｃは、貫通孔１Ｃの内部において、貫通孔１Ｃの内壁面と軸方向全体および周方向全体において対向する。
【００４８】
これにより、電極部３０１に高周波の高電圧を印加することで、貫通孔１Ｃ内部において円柱部３０１Ａと貫通孔１Ｃの内壁面とが対向する、絶縁材１５と上記内壁面との間の空間Ｓ１内にプラズマが発生する。空間Ｓ１は、絶縁材１５と上記内壁面との間のギャップから構成される空間の一部である。
【００４９】
このような本実施形態によれば、空間Ｓ１に発生するプラズマにより直接、貫通孔１Ｃの内壁面の一部を選択的に処理することが可能となる。例えば上記貫通孔１Ｃに対して接着剤により部材を固定する場合に、貫通口１Ｃの一部に接着剤を使用する場合は本実施形態に従って接着剤を塗布する部位にのみ選択的にプラズマ処理を施しても良い。これによってプラズマ処理時の放電電力を抑えることが可能となる。本実施形態では、その他の効果も第１実施形態と同様に享受できる。
【００５０】
＜＜第３実施形態＞＞
図５は、本発明の第３実施形態に係る保持部２と電極部３０１に関する構成を示す縦断面図である。本実施形態は、第２実施形態の変形例であり、第２実施形態との構成上の相違点は、円柱部３０１Ａの外周面を被覆する絶縁材１５１である。
【００５１】
絶縁材１５１は、貫通孔１Ｃの下側から貫通孔１Ｃの軸方向途中まで軸方向に延びて配置される。すなわち、絶縁材１５１は、貫通孔１Ｃの内部において、貫通孔１Ｃの内壁面と軸方向一部および周方向全体において対向する。
【００５２】
これにより、第２実施形態と同様に、貫通孔１Ｃ内部において円柱部３０１Ａと貫通孔１Ｃの内壁面とが対向する、絶縁材１５１と上記内壁面との間の空間Ｓ１内にプラズマが発生する。
【００５３】
このような本実施形態によれば、空間Ｓ１に発生するプラズマにより直接、貫通孔１Ｃの内壁面の一部を処理することが可能となり、プラズマ処理の効率が向上する。本実施形態では、その他の効果も第１実施形態と同様に享受できる。
【００５４】
＜＜第４実施形態＞＞
図６は、本発明の第４実施形態に係る電極部３０２をワーク１の上方から視た平面図である。電極部３０２は、円柱部３０２Ａと、突出部３０２Ｂと、を有する。
【００５５】
円柱部３０２Ａは、軸方向に延び、ワーク１の貫通孔１Ｃの下側から貫通孔１Ｃの上側まで貫通する。なお、円柱部３０２Ａは、貫通孔１Ｃの下側から貫通孔１Ｃの軸方向途中まで延びてもよい。
【００５６】
四つの突出部３０２Ｂは、円柱部３０２Ａの外周面から径方向外側へ突出し、周方向に等間隔で配置される。例えば、突出部３０２Ｂは、円柱部３０２Ａの軸方向全体に対して軸方向に延びて形成される。これにより、突出部３０２Ｂは、貫通孔１Ｃの下側から貫通孔１Ｃの上側まで貫通するか、または、貫通孔１Ｃの下側から貫通孔１Ｃの軸方向途中まで配置される。換言すると、電極部３０２は、貫通孔１Ｃの内部において、貫通孔１Ｃの内壁面の一部に対して径方向に対向する。
【００５７】
絶縁材１５２は、電極部３０２を被覆して配置される。絶縁材１５２は、円筒状で軸方向に延びる。絶縁材１５２の内周面は、突出部３０２Ｂの円弧状の外周面と接触する。例えば、絶縁材１５２は、突出部３０２Ｂの軸方向全体に対して配置される。これにより、絶縁材１５２は、貫通孔１Ｃの下側から貫通孔１Ｃの上側まで貫通するか、または、貫通孔１Ｃの下側から貫通孔１Ｃの軸方向途中まで配置される。
【００５８】
電極部３０２に高周波の高電圧を印加することで、貫通孔１Ｃ内部において突出部３０２Ｂと貫通孔１Ｃの内壁面とが対向する、絶縁材１５２と上記内壁面との間の空間Ｓ２内にプラズマが発生する。突出部３０２Ｂが貫通孔１Ｃの下側から貫通孔１Ｃの上側まで貫通する場合、空間Ｓ２は、絶縁材１５２と上記内壁面との間のギャップから構成される空間の周方向一部および軸方向全体である。また、突出部３０２Ｂが貫通孔１Ｃの下側から貫通孔１Ｃの軸方向途中まで配置される場合、空間Ｓ２は、絶縁材１５２と上記内壁面との間のギャップから構成される空間の周方向一部および軸方向一部である。
【００５９】
このような本実施形態によれば、空間Ｓ２に発生するプラズマにより直接、貫通孔１Ｃの内壁面の一部を処理することが可能となり、プラズマ処理の効率が向上する。本実施形態では、その他の効果も第１実施形態と同様に享受できる。
【００６０】
＜＜第５実施形態＞＞
図７は、本発明の第５実施形態に係る保持部２と電極部３０３に関する構成を示す縦断面図である。本実施形態は、第１実施形態（図３Ａ）の変形例であり、第１実施形態との構成上の相違点は、電極部３０３と絶縁材１５３である。
【００６１】
絶縁材１５３は、軸方向に延びる円筒状であり、ワーク１の貫通孔１Ｃの下側から貫通孔１Ｃの上側まで貫通する。電極部３０３は、絶縁材１５３の内周面に形成される金属膜として構成される。電極部３０３は、絶縁材１５３の内周面における周方向全体および軸方向全体を被覆する。換言すると、電極部３０３は、ワーク１の有する貫通孔１Ｃの内部において、貫通孔１Ｃの内壁面の全体に対して径方向に対向する。
【００６２】
このような構成によれば、電極部３０３に高周波の高電圧を印加することで、貫通孔１Ｃ内部において電極部３０３と貫通孔１Ｃの内壁面とが対向する、絶縁材１５３と上記内壁面との間の空間内にプラズマが発生する。発生したプラズマにより直接、貫通孔１Ｃの内壁面を処理することができる。本実施形態では、第１実施形態のように径方向内部まで金属が充填された電極部を必ずしも用いる必要はない。
【００６３】
なお、電極部３０３および絶縁材１５３は、貫通孔１Ｃの下側から貫通孔１Ｃの軸方向途中まで配置されてもよい。この場合、貫通孔１Ｃの内壁面の一部をプラズマ処理することができる。
【００６４】
＜＜第６実施形態＞＞
図８は、本発明の第６実施形態に係る保持部２０１と電極部３０４に関する構成を示す縦断面図である。本実施形態は、後述するように絶縁材で構成されるワークを処理対象とする場合の実施形態である。
【００６５】
保持部２０１は、ワークホルダ２３と、ハウジング２４と、を有する。ワークホルダ２３は、ハウジング２４の上側に配置される。ワークホルダ２３は、金属部２３１と、台部２３２と、を有する。
【００６６】
台部２３２は、ハウジング２４上に固定される。金属部２３１は、台部２３２上に固定される。金属部２３１は、軸方向に延びる略円筒状であり、軸方向に貫通する開口部２３１Ａを有する。台部２３２は、樹脂製であり、絶縁性を有する。台部２３２は、略円板状であり、軸方向に貫通する開口部２３２Ａを有する。開口部２３２Ａは、開口部２３１Ａの下側に位置し、開口部２３１Ａと連通する。
【００６７】
電極部３０４は、軸方向に延びる円柱状であり、開口部２３２Ａの下側から開口部２３１Ａの上側まで貫通する。絶縁材１５４は、電極部３０４の外周面全体を被覆する。
【００６８】
このような図８に示す構成において、ワーク１０１をワークホルダ２３に対して保持させた状態の構成を図９に示す。ワーク１０１は、樹脂材であり、絶縁性を有する。ワーク１０１は、軸方向に延びる円筒状であり、軸方向に貫通する貫通孔１０１Ａを有する。ワーク１０１は、ワーク１０１の外周面１０１Ｂが開口部２３１Ａの外周面と接触して、金属部２３１に保持される。すなわち、開口部２３１Ａの外周面は、軸方向に延びる接触内壁面に相当し、上記接触内壁面は、外周面１０１Ｂに相当する接触外周面と接触可能に配置され、軸方向に垂直な平面上におけるワーク１０１の移動を阻止する。
【００６９】
開口部２３２Ａの径は、開口部２３１Ａの径よりも小さいので、ワーク１０１の下面を台部２３２の上面に載置させることができる。電極部３０４および絶縁材１５４は、開口部２３２Ａを貫通するとともに、貫通孔１０１Ａを貫通する。電極部３０４は、貫通孔１０１Ａの内部において、貫通孔１０１Ａの内壁面全体に対して径方向に対向する。
【００７０】
ワーク１０１と保持部２０１とによって、半密閉空間が形成される。貫通孔１０１Ａより上方が外気側となる。大気圧下において外気側より処理ガスが貫通孔１０１Ａ内部に導入される。ハウジング２４の有する排気口２４１から内部空間２Ｓ内部のガスを排気することにより、内部空間２Ｓ内は負圧となる。これにより、外気側から貫通孔１０１Ａ、開口部２３２Ａを介して内部空間２Ｓへ流れるガス流が生じる。
【００７１】
電極部３０４には高電圧電源部４により高周波の高電圧が印加され、金属部２３１にはグランド電位が印加される。これにより、電極部３０４と金属部２３１との間で絶縁材１５４および絶縁材であるワーク１０１を介した誘電体バリア放電が行われる。従って、絶縁材１５４と貫通孔１０１Ａの内壁面との間に形成される空間においてプラズマが発生する。発生したプラズマにより、貫通孔１０１Ａの内壁面を直接、処理することができる。このように本実施形態では、絶縁材であるワーク１０１に対してプラズマ処理を効率的に行うことができる。
【００７２】
また、ワーク１０１と電極部３０４との間のギャップを狭くして、上記ガス流の流速を高速化できる。これにより、プラズマにより生じる所定のガスが外気側へ漏洩することを抑制できる。また、ガス流が高速化しても、外気と負圧との差圧によってワーク１０１は台部２３２に押し付けられて固定されるので、ワーク１０１のばたつきは抑制される。
【００７３】
また、台部２３２は絶縁材で構成されるので、台部２３２と電極部３０４との間で不要な放電が生じることを抑制できる。
【００７４】
なお、本実施形態において、電極部３０４および絶縁材１５４は、貫通孔１０１Ａの下側から貫通孔１０１Ａの軸方向途中まで延びてもよい。この場合、貫通孔１０１Ａの内壁面の一部をプラズマ処理することができる。
【００７５】
また、絶縁材１５４は必須ではなく、絶縁材１５４を設けなくとも、絶縁材であるワーク１０１により誘電体バリア放電は可能である。
【００７６】
＜＜第７実施形態＞＞
図１０は、本発明の第７実施形態に係る保持部２０２と電極部３に関する構成を示す縦断面図である。本実施形態では、ワーク１は第１実施形態と上下方向を逆として保持部２０２に保持される。
【００７７】
保持部２０２は、ワークホルダ２５と、ハウジング２２と、を有する。ワークホルダ２５は、軸方向に貫通する開口部２５１を有する。ワークホルダ２５は、上方に軸方向視で円環状の載置面２５Ａを有するとともに、載置面２５Ａの径方向内側縁から上側へ突出する円環突部２５２を有する。円環突部２５２の外周面は、軸方向に延びる接触外壁面２５Ｂとなる。
【００７８】
ワーク１は、第１実施形態と上下方向が逆とされるので、貫通孔１Ｃより下側に凹部１Ｂが位置し、凹部１Ｂより下側に凹部１Ａが位置する。凹部１Ｂの外周面は、ワーク１の接触内周面１１３となる。ワーク１は、接触外壁面２５Ｂが接触内周面１１３と接触可能に配置され、載置面２５Ａ上に載置される。これにより、ワーク１は、軸方向に垂直な平面上における移動を阻止される。すなわち、本発明では、先述した実施形態のように接触内壁面と接触外周面との接触によるワークの移動の阻止に限られない。
【００７９】
ワーク１がワークホルダ２５に保持された状態で、電極部３の円柱部３１は、ワーク１の貫通孔１Ｃの下側から貫通孔１Ｃの上側まで貫通する。換言すると、電極部３は、ワーク１の有する貫通孔１Ｃの内部において、貫通孔１Ｃの内壁面の全体に対して径方向に対向する。絶縁材１５は、円柱部３１の外周面全体を被覆する。
【００８０】
貫通孔１Ｃの上方が外気側となる。ハウジング２２の排気口２２１から内部空間２Ｓ内部のガスを排気することで、内部空間２Ｓ内が負圧となる。これにより、外気側から貫通孔１Ｃ、開口部２５１を介して内部空間２Ｓへ流れるガス流が生じる。ワークホルダ２５は、金属製であり、グランド電位が印加される。従って、ワーク１は、ワークホルダ２５を介してグランド電位を印加される。電極部３に高周波の高電圧を印加することで、円柱部３１と貫通孔１Ｃの内壁面との間のギャップにおいて放電が生じ、絶縁材１５と上記内壁面との間の空間においてプラズマが発生する。発生したプラズマにより、上記内壁面を直接、処理することができる。外気と負圧との差圧によって、ワーク１は、ワークホルダ２５に押し付けられて固定される。
【００８１】
＜＜第８実施形態＞＞
図１１は、本発明の第８実施形態に係る保持部２０３と電極部３に関する構成を示す縦断面図である。本実施形態は、第１実施形態の変形例である。
【００８２】
保持部２０３は、ワークホルダ２６と、ハウジング２２と、を有する。ワークホルダ２６は、第１開口部２６１と、第２開口部２６２と、を有する。第１開口部２６１は、ワークホルダ２６の下側に向けて開口し、軸方向に延びる。第２開口部２６２は、第１開口部２６１の上側に配置され、第１開口部２６１と連通し、ワークホルダ２６の上側に向けて開口する。
【００８３】
ワークホルダ２６は、第２開口部２６２の外周面である接触内壁面２６２Ａを有する。接触内壁面２６２Ａは、軸方向に延びる。テーパ面２６２Ｂは、接触内壁面２６２Ａの上方に連続して接続し、ワークホルダ２６の上端面まで延びる。テーパ面２６２Ｂは、下方へ向かうほど径が小さくなる。
【００８４】
ワークホルダ２６は、第１開口部２６１と第２開口部２６２との境界位置に軸方向視で円環状の載置面２６３を有する。ワーク１の円環面１１１を載置面２６３上に載置することで、ワーク１はワークホルダ２６に保持される。このとき、接触内壁面２６２Ａは、ワーク１における基体１１の外周面である接触外周面１１Ａと接触可能に配置され、軸方向に垂直な平面上におけるワーク１の移動を阻止する。
【００８５】
これにより、ワーク１の貫通孔１Ｃの内壁面と電極部３との間のギャップの管理が容易となる。従って、貫通孔１Ｃの内壁面と電極部３との間に発生されるプラズマにより、上記内壁面を均一に処理することが可能となる。
【００８６】
また、ワーク１をワークホルダ２６の上方からワークホルダ２６にセットする際に、テーパ面２６２Ｂにより、接触内壁面２６２Ａと接触外周面１１Ａとが接触可能な位置までワーク１を案内することが容易となる。テーパ面２６２Ｂを設けておけば、例えばワーク１を搬送装置によりセットする場合に、搬送装置による繰り返し位置精度が良好でなくてもワーク１を案内することが可能となるので、搬送装置は安価な装置を選定できる。
【００８７】
また、図１１に示すように、電極部３と絶縁材１５とから電極体Ｅが構成される。そして、保持されたワーク１の接触外周面１１Ａ下端からテーパ面２６２Ｂ上端までの軸方向長さをＬ１とし、保持されたワーク１の下端から電極体Ｅの上端までの軸方向長さをＬ２とすると、Ｌ１＞Ｌ２が満たされる。
【００８８】
さらに、テーパ面２６２Ｂの上端と接触外周面１１Ａとの間のギャップをＧ１とし、貫通孔１Ｃと電極体Ｅとの間のギャップをＧ２とすると、Ｇ１＜Ｇ２が満たされる。
【００８９】
上記のような関係を満たすことにより、ワーク１を電極体Ｅに接触させることなく、ワーク１をワークホルダ２６に対して着脱可能となる。
【００９０】
さらに、厳密に貫通孔１Ｃの形成ばらつきを考慮してもよい。その場合は、貫通孔１Ｃの真円度をγとして、上記Ｇ１，Ｇ２の関係は、Ｇ１＋γ＜Ｇ２を満たすこととなる。これにより、貫通孔の形成ばらつきを考慮し、ワーク１を電極体Ｅに接触させることなく、ワーク１をワークホルダ２６に対して着脱可能となる。
【００９１】
＜＜第９実施形態＞＞
図１２は、本発明の第９実施形態に係る保持部２０４と電極部３に関する構成を示す縦断面図である。本実施形態は、第１実施形態の変形例である。
【００９２】
保持部２０４は、ワークホルダ２７と、ハウジング２２と、を有する。ワークホルダ２７は、第１開口部２７１と、第２開口部２７２と、を有する。第１開口部２７１は、ワークホルダ２７の下側に向けて開口し、軸方向に延びる。第２開口部２７２は、第１開口部２７１の上側に配置され、第１開口部２７１と連通し、ワークホルダ２７の上側に向けて開口する。
【００９３】
ワークホルダ２７は、第２開口部２７２の外周面である接触内壁面２７２Ａを有する。接触内壁面２７２Ａは、ワークホルダ２７の上端まで軸方向に延びる。
【００９４】
ワークホルダ２７は、第１開口部２７１と第２開口部２７２との境界位置に軸方向視で円環状の載置面２７３を有する。ワーク１を上方から第２開口部２７２へ挿入し、ワーク１の円環面１１１を載置面２７３上に載置することで、ワーク１はワークホルダ２７に保持される。このとき、接触内壁面２７２Ａは、ワーク１における鍔部１３の外周面である接触外周面１３Ａと接触可能に配置され、軸方向に垂直な平面上におけるワーク１の移動を阻止する。
【００９５】
これにより、ワーク１の貫通孔１Ｃの内壁面と電極部３との間のギャップの管理が容易となる。従って、貫通孔１Ｃの内壁面と電極部３との間に発生されるプラズマにより、上記内壁面を均一に処理することが可能となる。
【００９６】
また、図１２に示すように、保持されたワーク１の接触外周面１３Ａ下端から接触内壁面２７２Ａ上端までの軸方向長さをＬ３とし、保持されたワーク１の下端から電極体Ｅの上端までの軸方向長さをＬ４とすると、Ｌ３＞Ｌ４が満たされる。
【００９７】
さらに、接触内壁面２７２Ａと接触外周面１３Ａとの間のギャップをＧ３とし、貫通孔１Ｃと電極体Ｅとの間のギャップをＧ４とすると、Ｇ３＜Ｇ４が満たされる。
【００９８】
上記のような関係を満たすことにより、ワーク１を電極体Ｅに接触させることなく、ワーク１をワークホルダ２７に対して着脱可能となる。
【００９９】
なお、ワーク１をワークホルダ２７から取り外す場合、例えば、空気を吸い込む吸引ノズルによりワーク１を吸引させて上方へ引き上げたり、治具によりワーク１の内壁に径方向外側へ力を加えつつ治具によりワーク１を保持して上方へ引き上げたりすることができる。
【０１００】
＜＜第１０実施形態＞＞
上記で説明した実施形態では、ワークの貫通孔の内壁面が電極部と径方向に対向するワーク面であったが、ここで説明する第１０実施形態では、ワーク面は貫通孔の内壁面ではない。すなわち、本発明では、ワークにおいて貫通孔は必須ではない。
【０１０１】
図１３は、本発明の第１０実施形態に係る保持部２８と電極部３０５に関する構成を示す縦断面図である。保持部２８は、ワーク１を保持する金属部材であり、グランド電位を印加される。保持部２８は、円柱状において上端面に窪み２８Ａを有する形状であり、窪み２８Ａの外周面は接触内壁面２８１となる。
【０１０２】
電極部３０５は、軸方向に延びるリング状であり、電極保持部２９により保持される。電極保持部２９の有する樹脂部２９１は、電極部３０５を保持する。電極部保持部２９は、側面に排気口２９２を有する。
【０１０３】
ワーク１の突部１２の外周面は、接触外周面１２１となる。突部１２を窪み２８Ａ内部に配置することで、ワーク１は保持部２８に保持される。このとき、ワーク１の基体１１の下端部外周面であるワーク面１１Ａは、電極部３０５の内部で電極部３０５の内周面とギャップを介して径方向に対向する。接触内壁面２８１は、接触外周面１２１と接触可能に配置され、軸方向に垂直な平面上におけるワーク１の移動を阻止する。
【０１０４】
排気口２９２から電極保持部２９の内部空間２Ｓのガスの排気を行うことで、内部空間２Ｓ内が負圧となり、外気側から上記ギャップを介して内部空間２Ｓへ流れるガス流が発生する。ワーク１は、保持部２８を介してグランド電位を印加される。高電圧電源部４により電極部３０５に高周波の高電圧を印加することで、上記ギャップにおいてプラズマが発生し、ワーク面１１Ａのプラズマ処理を行うことができる。
【０１０５】
上記のようにワーク１の移動は阻止されるので、上記ギャップが管理され、ワーク面１１Ａを均一にプラズマ処理することが可能となる。
【０１０６】
＜＜第１１実施形態＞＞
また、本発明では、貫通孔に限らず、貫通していない孔にワーク面を設けてもよい。図１４は、本発明の第１１実施形態に係る保持部２と電極部３に関する構成を示す縦断面図である。本実施形態では、ワーク１００をワークホルダ２１に保持させる。
【０１０７】
ワーク１００は、止め孔１００Ａを有する。止め孔１００Ａは、上端の止め部１００Ａ１と、止め部１００Ａ１から下方へ軸方向に延びる内壁面１００Ａ２を有し、下方に開口する。すなわち、止め孔１００Ａは、貫通しない孔である。止め孔１００Ａ内部に電極部３の円柱部３１の先端部および絶縁材１５の先端部が配置される。円柱部３１の上端および絶縁材１５の上端と、止め部１００Ａ１との間にはギャップが設けられる。円柱部３１および絶縁材１５は、内壁面１００Ａ２の一部であるワーク面と径方向に対向する。
【０１０８】
ワーク１００にグランド電位が印加され、電極部３に高周波である高電圧が印加されることにより、絶縁材１５と内壁面１００Ａ２との間のギャップにプラズマが発生し、発生したプラズマによりワーク面が処理される。
【０１０９】
このように、貫通しない孔である止め孔１００Ａのワーク面を効率的にプラズマ処理することが可能となる。また、接触内壁面２１１Ａは、接触外周面１２１と接触可能に配置され、軸方向に垂直な平面上におけるワーク１００の移動を阻止するので、止め孔１００Ａのワーク面と電極部３との間のギャップが管理され、ワーク面の処理を均一化できる。
【０１１０】
なお、先述した第８、第９実施形態（図１１、１２）において、ワークとしてワーク１００を用いてもよい。すなわち、第８、第９実施形態において、ワークは貫通しない孔を有してもよい。
【０１１１】
＜本実施形態による作用効果＞
以上のように、本実施形態に係るプラズマ処理装置（１０）は、軸方向に延びる電極部（３等）と、ワーク（１等）を保持する保持部（２等）と、を備える。前記電極部は、前記ワークのワーク面に対して径方向に対向し、前記保持部は、軸方向に延びる接触壁面（２１１Ａ等）を有し、前記接触壁面は、前記ワークの接触周面（１２１等）と接触可能に配置され、軸方向に垂直な平面上における前記ワークの移動を阻止する。
【０１１２】
このような構成によれば、ワークを保持部に設置することで接触周面および接触壁面により、ワークは保持部に対して軸方向に垂直な平面上における位置決めがなされる。これにより、一旦、保持部と電極部との位置関係が決定されれば、ワークと電極部との位置関係も規定される。従って、ワーク面と電極部との間のギャップの管理が容易となる。また、ワーク面と電極部との間にプラズマを発生させることができるので、発生したプラズマによって直接、ワーク面を処理することができ、処理の高速化が実現される。さらに、上記のようなギャップの管理により、プラズマによるワーク面の処理を均一化できる。
【０１１３】
また、前記電極部（３等）は、少なくとも前記ワーク（１等）の軸方向に延びる孔（１Ｃ等）の内部において、前記孔の内壁面の少なくとも一部である前記ワーク面に対して径方向に対向する。
【０１１４】
これによれば、孔の内壁面と電極部との間のギャップの管理が容易となり、上記内壁面と電極部との間で発生するプラズマによる上記内壁面のプラズマ処理を均一化することができる。
【０１１５】
また、前記接触壁面（２６２Ａ）は、内壁面であり、前記接触周面（１１Ａ）は、外周面であり、前記保持部（２０３）は、前記接触内壁面の上方に連続して接続されて前記保持部の端面まで延びるテーパ面（２６２Ｂ）を有し、前記テーパ面は、下方へ向かうほど径が小さくなる。
【０１１６】
これによれば、テーパ面により、接触周面と接触壁面とが接触可能な位置までワークを案内することが容易となる。
【０１１７】
また、下記（１）式および（２）式を満たす。
Ｌ１＞Ｌ２  （１）
但し、Ｌ１：保持された前記ワーク（１）の前記接触周面下端から前記テーパ面（２６２Ｂ）上端までの軸方向長さ、Ｌ２：保持された前記ワークの下端から前記電極部（３）を含む電極体（Ｅ）の上端までの軸方向長さ
Ｇ１＜Ｇ２  （２）
但し、Ｇ１：前記テーパ面の上端と前記接触周面との間のギャップ、Ｇ２：前記孔（１Ｃ）と前記電極体との間のギャップ
【０１１８】
これにより、ワークを電極体に接触させることなく、ワークを保持部に対して脱着可能となる。
【０１１９】
または、下記（１）式および（３）式を満たしてもよい。
Ｌ１＞Ｌ２  （１）
但し、Ｌ１：保持された前記ワーク（１）の前記接触周面下端から前記テーパ面（２６２Ｂ）上端までの軸方向長さ、Ｌ２：保持された前記ワークの下端から前記電極部（３）を含む電極体（Ｅ）の上端までの軸方向長さ
Ｇ１＋γ＜Ｇ２  （３）
但し、Ｇ１：前記テーパ面の上端と前記接触周面との間のギャップ、Ｇ２：前記孔（１Ｃ）と前記電極体との間のギャップ、γ：前記孔の真円度
【０１２０】
これにより、孔の形成ばらつきを考慮し、ワークを電極体に接触させることなく、ワークを保持部に対して脱着可能となる。
【０１２１】
また、前記接触壁面（２７２Ａ）は、内壁面であり、前記保持部（２０４）の上端まで延び、前記接触周面（１３Ａ）は、外周面であり、下記（４）式および（５）式を満たす。
Ｌ３＞Ｌ４  （４）
但し、Ｌ３：保持された前記ワーク（１）の前記接触周面下端から前記接触壁面上端までの軸方向長さ、Ｌ４：保持された前記ワークの下端から前記電極部（３）を含む電極体（Ｅ）の上端までの軸方向長さ
Ｇ３＜Ｇ４  （５）
但し、Ｇ３：前記接触壁面と前記接触周面との間のギャップ、Ｇ４：前記孔（１Ｃ）と前記電極体との間のギャップ
【０１２２】
これにより、ワークを電極体に接触させることなく、ワークを保持部に対して脱着可能となる。
【０１２３】
また、前記保持部（２等）の内部空間（２Ｓ等）におけるガスを排気する排気部（６）を備え、前記内部空間は、前記孔（１Ｃ）を介して外気と連通する。
【０１２４】
これにより、排気部による排気により、保持部の内部空間は負圧となり、外気側から孔を介して内部空間へ流れるガス流が発生する。上記ガス流により、プラズマにより発生するガスの外気側への漏洩を抑制できる。このとき、外気と負圧との差圧により、ワークは保持部に固定されるので、ワークのばたつきを抑制できる。
【０１２５】
＜その他＞
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明の趣旨の範囲内であれば、実施形態は種々の変形が可能である。
【産業上の利用可能性】
【０１２６】
本発明は、例えば、ワークの貫通孔に付着した切削油のプラズマ処理に利用することができる。
【符号の説明】
【０１２７】
１・・・ワーク、１１・・・基体、１２・・・突部、１３・・・鍔部、１Ａ・・・凹部、１Ｂ・・・凹部、１Ｃ・・・貫通孔、２・・・保持部、３・・・電極部、４・・・高圧電源部、５・・・タイマー、６・・・イジェクタ、７・・・空気供給部、８・・・流量計、９・・・ＣＣＤカメラ、１０・・・プラズマ処理装置、１５・・・絶縁材、２１・・・ワークホルダ、２２・・・ハウジング、２２１・・・排気口、３１・・・円柱部、３０１・・・電極部、３０１Ａ・・・円柱部、１５１・・・絶縁材、３０２・・・電極部、３０２Ａ・・・円柱部、３０２Ｂ・・・突出部、１５２・・・絶縁材、３０３・・・電極部、１５３・・・絶縁材、２０１・・・保持部、２３・・・ワークホルダ、２３１・・・金属部、２３２・・・台部、３０４・・・電極部、１５４・・・絶縁材、２４・・・ハウジング、２４１・・・排気口、１０１・・・ワーク、１０１Ａ・・・貫通孔、２０２・・・保持部、２５・・・ワークホルダ、２５１・・・開口部、２５２・・・円環突部、２Ｓ・・・内部空間、Ｃ・・・中心軸、Ｅ・・・電極体、２０３・・・保持部、２６・・・ワークホルダ、２６１・・・第１開口部、２６２・・・第２開口部、２６３・・・載置面、１１Ａ・・・接触外周面、２６２Ａ・・・接触内壁面、２６２Ｂ・・・テーパ面、２０４・・・保持部、２７・・・ワークホルダ、２７１・・・第１開口部、２７２・・・第２開口部、２７３・・・載置面、２７２Ａ・・・接触内壁面、１３Ａ・・・接触外周面、２８・・・保持部、２９・・・電極保持部、２９１・・・樹脂部、２９２・・・排気口、３０５・・・電極部、１００・・・ワーク、１００Ａ・・・止め孔
【図１】
2019067611.tif 000003
【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
2019067611.tif 000011
【図９】
2019067611.tif 000012
【図１０】
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【図１１】
2019067611.tif 000014
【図１２】
2019067611.tif 000015
【図１３】
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【図１４】
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