(57)【要約】【課題】インプリントモールド形成用基板を安定して保持することができる上、チャック痕が被転写体に接触することを回避することができる基板を提供する。【解決手段】表面および裏面を有する透明基板を備えるインプリントモールド形成用基板であって、上記透明基板の上記表面側の外縁において対向位置にノッチが設けられたことを特徴とするインプリントモールド形成用基板。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面および裏面を有する透明基板を備えるインプリントモールド形成用基板であって、
前記透明基板の前記表面側の外縁において対向位置にノッチが設けられたことを特徴とするインプリントモールド形成用基板。
【請求項２】
前記透明基板は、前記表面の平坦度が前記裏面以下であることを特徴とする請求項１に記載のインプリントモールド形成用基板。
【請求項３】
前記透明基板は矩形状であり、
前記ノッチが対角に設けられたことを特徴とする請求項１または請求項２に記載のインプリントモールド形成用基板。
【請求項４】
前記透明基板の外縁に方向識別用のノッチが設けられたことを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかに記載のインプリントモールド形成用基板。
【請求項５】
前記透明基板の前記表面に設けられたハードマスク層をさらに備えることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれかに記載のインプリントモールド形成用基板。
【請求項６】
前記透明基板の前記表面側に転写パターンが設けられたことを特徴とする請求項５に記載のインプリントモールド形成用基板。
【請求項７】
表面および裏面を有するインプリントモールド形成用ブランクスであって、
前記表面側に台座構造が設けられ、
前記表面側の外縁において対向位置にノッチが設けられたことを特徴とするインプリントモールド形成用ブランクス。
【請求項８】
矩形状であり、前記ノッチが対角に設けられたことを特徴とする請求項７に記載のインプリントモールド形成用ブランクス。
【請求項９】
前記ノッチの外周部に突出部が設けられたことを特徴とする請求項７または請求項８に記載のインプリントモールド形成用ブランクス。
【請求項１０】
外縁に方向識別用のノッチが設けられたことを特徴とする請求項７から請求項９までのいずれかに記載のインプリントモールド形成用ブランクス。
【請求項１１】
前記裏面側に凹部が設けられたことを特徴とする請求項７から請求項１０までのいずれかに記載のインプリントモールド形成用ブランクス。
【請求項１２】
請求項７から請求項１１までのいずれかに記載のインプリントモールド形成用ブランクスの前記台座構造の表面に転写パターンを有することを特徴とするインプリントモールド。
【請求項１３】
請求項１から請求項５までのいずれかに記載のインプリントモールド形成用基板を準備する基板準備工程と、
前記透明基板の前記表面側の台座構造形成領域にエッチングマスクを形成するエッチングマスク形成工程と、
前記インプリントモールド形成用基板を、対向位置において前記ノッチの外周端および前記裏面が保持具に当接するようにして保持した状態でエッチング液に浸漬させて、前記エッチングマスクを用いてウェットエッチングを行うことによって、前記透明基板の前記表面側に台座構造を形成するエッチング工程と、を有することを特徴とするインプリントモールド形成用ブランクスの製造方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の製造方法により製造されたインプリントモールド形成用ブランクスを準備するブランクス準備工程と、
前記インプリントモールド形成用ブランクスの前記台座構造の表面に転写パターンを形成する転写パターン形成工程と、を有することを特徴とするインプリントモールドの製造方法。
【請求項１５】
請求項６に記載のインプリントモールド形成用基板を準備する基板準備工程と、
前記透明基板の前記表面に前記転写パターンを覆うようにエッチングマスクを形成するエッチングマスク形成工程と、
前記インプリントモールド形成用基板を、対向位置において前記ノッチの外周端および前記裏面が保持具に当接するようにして保持した状態でエッチング液に浸漬させて、前記エッチングマスクを用いてウェットエッチングを行うことによって、前記透明基板の前記表面側に台座構造を形成するエッチング工程と、を有することを特徴とするインプリントモールドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インプリントモールドを形成するために用いられる基板およびブランクス、ならびにそれらを用いたインプリントモールドの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ナノインプリントリソグラフィは、表面に予め所望のパターンを有するインプリントモールドを、被転写体の硬化性樹脂層と密着させ、熱や光等の外部刺激を与えることによって、硬化性樹脂層にパターンを転写する方法である。ナノインプリントリソグラフィは、単純な方法によってパターンを形成することができ、近年、数十ｎｍ〜数ｎｍの超微細なパターンを転写することが可能であることが示されている。そのため、ナノインプリントリソグラフィは、次世代リソグラフィ技術の候補として期待されている。
【０００３】
インプリントモールドとしては、表面側の略中央に設けられた台座構造に転写パターンが形成されたものが用いられる場合が多い。この台座構造は、表面側の転写パターン以外の領域が被転写体の硬化性樹脂層に接触しないようにするために設けられるものである。
【０００４】
上記台座構造を形成する場合には、インプリントモールド形成用基板を保持具により保持した状態でエッチング液に浸漬させて、基板の表面に形成されたエッチングマスクを用いてウェットエッチングを行う方法が用いられる。しかしながら、このような方法では、基板の保持具との当接部分にエッチングレート差に起因して段差が形成され、インプリントモールドを転写装置で転写する時に必要となる平坦性が得られないといった問題があった。
【０００５】
このような問題を解決するために、種々の方法が提案されている。例えば、特許文献１には、インプリントモールド形成用基板を、上記台座構造が形成される表面とは反対側の裏面に保持具が当接するように保持した状態でウェットエッチングが行われた場合において、エッチングレート差に起因する段差が形成された基板の当接部分を座繰り加工により段差を含め切除する方法が記載されている。また、特許文献２には、基板の裏面側に設けられた凹部内の面に保持具を当接させることによって、当接部分に形成される段差による平坦性への影響を回避する方法が記載されている。
【０００６】
しかしながら、基板の表面側に台座構造を形成するウェットエッチングにおいて、基板のエッチング速度の面内均一性を確保するためには、エッチング液を高速で対流、循環させたり、基板を揺動させる必要がある。しかしながら、上述した文献に開示された方法では、基板の保持具との当接部分が、基板の裏面における中心近辺であり、小さいために、エッチング液を高速で対流、循環させたり、基板を揺動させた場合には、基板が保持具から落下してしまう恐れがあった。
【０００７】
これに対し、ウェットエッチング時に保持具から落下しないように基板を安定して保持することできるように、基板の対向位置を表面側および裏面側の両方から保持具で挟むように保持する方法が知られている。しかしながら、このような方法では、基板の表面側の保持具との当接部分にエッチングレート差に起因する凸状のチャック痕が形成される。このようなチャック痕は台座方向に突出しているために、基板から形成されるインプリントモールドを用いてパターンを転写する場合に、被転写体に接触してしまう恐れがあった。このため、パターンの高精度な転写が困難となる恐れがあった。また、基板の表面側を研磨することにより、このようなチャック痕の除去は可能であったが、研磨工程はコストが高く、特に基板が大きい場合にはコストが上昇した。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１６−７２４１５号公報
【特許文献２】特開２０１６−１２２７８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、コスト上昇を招くことなく、インプリントモールドの台座構造を形成するウェットエッチング時にインプリントモールド形成用基板を安定して保持することができ、さらに転写の際に被転写体に接触するようなチャック痕が形成されることを回避することができるインプリントモールド形成用基板、インプリントモールド形成用ブランクス、およびインプリントモールド、ならびにインプリントモールド形成用ブランクスの製造方法およびインプリントモールドの製造方法を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明は、表面および裏面を有する透明基板を備えるインプリントモールド形成用基板であって、上記透明基板の上記表面側の外縁において対向位置にノッチが設けられたことを特徴とするインプリントモールド形成用基板を提供する。
【００１１】
本発明によれば、コスト上昇を招くことなく、インプリントモールド形成用ブランクスとする際に台座構造を形成するウェットエッチング時に上記インプリントモールド形成用基板を安定して保持することができ、さらに転写の際に被転写体に接触するようなチャック痕が、製造される上記ブランクスに形成されることを回避することができる。
【００１２】
上記発明においては、上記透明基板は、上記表面の平坦度が上記裏面以下であることが好ましい（なお、平坦度が小さいとは、平坦度がよい（平坦である）ことを意味する。）。
【００１３】
また、上記発明においては、上記透明基板は矩形状であり、上記ノッチが対角に設けられたものが好ましい。インプリントモールドを転写装置で保持する領域を十分に確保できるからである。
【００１４】
また、上記発明においては、上記透明基板の外縁に方向識別用のノッチが設けられたことが好ましい。インプリントモールドを転写装置に設置する方向が識別可能となるからである。
【００１５】
また、上記発明においては、上記透明基板の上記表面に設けられたハードマスク層をさらに備えることが好ましい。台座構造を形成するウェットエッチングで用いるエッチングマスクを上記ハードマスク層から形成できるからである。
【００１６】
また、上記発明においては、上記透明基板の表面側に転写パターンが設けられたものでもよい。
【００１７】
また、本発明は、表面および裏面を有するインプリントモールド形成用ブランクスであって、上記表面側に台座構造が設けられ、上記表面側の外縁において対向位置にノッチが設けられたことを特徴とするインプリントモールド形成用ブランクスを提供する。
【００１８】
本発明によれば、コスト上昇を招くことなく、上記台座構造を形成するウェットエッチング時にインプリントモールド形成用基板を安定して保持することができ、さらに転写の際に被転写体に接触するようなチャック痕が上記ブランクスに形成されることを回避することができる。
【００１９】
また、上記発明においては、矩形状であり、上記ノッチが対角に設けられたものが好ましい。インプリントモールドを転写装置で保持する領域を十分に確保できるからである。
【００２０】
また、上記発明においては、上記ノッチの外周部に突出部が設けられたことが好ましい。
【００２１】
また、上記発明においては、外縁に方向識別用のノッチが設けられたことが好ましい。インプリントモールドを転写装置に設置する方向が識別可能となるからである。
【００２２】
また、上記発明においては、上記裏面側に凹部が設けられたことが好ましい。転写パターンと被転写体の硬化性樹脂層との間に空気が封入されることを抑制することができるからである。
【００２３】
また、本発明は、上述したインプリントモールド形成用ブランクスの上記台座構造の表面に転写パターンを有することを特徴とするインプリントモールドを提供する。
【００２４】
また、本発明は、上述したインプリントモールド形成用基板を準備する基板準備工程と、上記透明基板の上記表面側の台座構造形成領域にエッチングマスクを形成するエッチングマスク形成工程と、上記インプリントモールド形成用基板を、対向位置において上記ノッチの外周端および上記裏面が保持具に当接するようにして保持した状態でエッチング液に浸漬させて、上記エッチングマスクを用いてウェットエッチングを行うことによって、上記透明基板の上記表面側に台座構造を形成するエッチング工程と、を有することを特徴とするインプリントモールド形成用ブランクスの製造方法を提供する。
【００２５】
本発明によれば、コスト上昇を招くことなく、台座構造を形成するウェットエッチング時にインプリントモールド形成用基板を安定して保持することができ、さらに転写の際に被転写体に接触するようなチャック痕が台座構造時に形成されることを回避することができる。
【００２６】
また、本発明は、上述した製造方法により製造されたインプリントモールド形成用ブランクスを準備するブランクス準備工程と、上記インプリントモールド形成用ブランクスの上記台座構造の表面に転写パターンを形成する転写パターン形成工程と、を有することを特徴とするインプリントモールドの製造方法を提供する。
【００２７】
さらに、本発明は、上述したインプリントモールド形成用基板を準備する基板準備工程と、上記透明基板の上記表面に上記転写パターンを覆うようにエッチングマスクを形成するエッチングマスク形成工程と、上記インプリントモールド形成用基板を、対向位置において上記ノッチの外周端および上記裏面が保持具に当接するようにして保持した状態でエッチング液に浸漬させて、上記エッチングマスクを用いてウェットエッチングを行うことによって、上記透明基板の上記表面側に台座構造を形成するエッチング工程と、を有することを特徴とするインプリントモールドの製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００２８】
本発明においては、コスト上昇を招くことなく、インプリントモールドの台座構造を形成するウェットエッチング時にインプリントモールド形成用基板を安定して保持することができ、さらに転写の際に被転写体に接触するようなチャック痕が形成されることを回避することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明のインプリントモールド形成用基板の一例を示す概略図である。
【図２】本発明のインプリントモールド形成用基板の他の例を示す概略図である。
【図３】本発明のインプリントモールド形成用基板の他の例を示す概略図である。
【図４】本発明のインプリントモールド形成用基板の他の例を示す概略図である。
【図５】本発明のインプリントモールド形成用基板の他の例を示す概略断面図である。
【図６】本発明のインプリントモールド形成用ブランクスの一例を示す概略図である。
【図７】図６（ｂ）に示される領域Ａの拡大図である。
【図８】本発明のインプリントモールド形成用ブランクスの他の例を示す概略図である。
【図９】本発明のインプリントモールドの一例を示す概略図である。
【図１０】本発明のインプリントモールドの他の例を示す概略断面図である。
【図１１】本発明のインプリントモールド形成用ブランクスの製造方法の一例を示す概略工程断面図である。
【図１２】本発明のインプリントモールド形成用ブランクスの製造方法の他の例を示す概略工程断面図である。
【図１３】図１２（ｅ）に示される領域Ａの拡大図である。
【図１４】インプリントモールド形成用基板と保持具の当接の例を示す概略断面図である。
【図１５】第２態様のインプリントモールドの製造方法の一例を示す概略工程断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３０】
以下、本発明のインプリントモールド形成用基板、インプリントモールド形成用ブランクス、およびインプリントモールド、ならびにインプリントモールド形成用ブランクスの製造方法およびインプリントモールドの製造方法について詳細に説明する。
【００３１】
Ａ．インプリントモールド形成用基板
本発明のインプリントモールド形成用基板は、表面および裏面を有する透明基板を備えるインプリントモールド形成用基板であって、上記透明基板の上記表面側の外縁において対向位置にノッチが設けられたことを特徴とする。
【００３２】
本発明のインプリントモールド形成用基板の一例について図面を参照しながら説明する。図１（ａ）は、本発明のインプリントモールド形成用基板の一例を示す概略平面図である。図１（ｂ）は、図１（ａ）に示されるＡ−Ａ線断面図であって、透明基板の対角方向に平行であり、透明基板の表面に垂直な断面を示している。図１（ｃ）は、図１（ａ）に示されるＢ−Ｂ線断面図である。
【００３３】
図１に示されるように、インプリントモールド形成用基板１０は、表面１ａおよび裏面１ｂを有し、平面視して矩形状の透明基板１を備える。透明基板１の表面１ａ側の外縁において、対角にノッチ２が設けられている。
【００３４】
このため、インプリントモールド形成用基板１０から透明基板１の表面１ａ側に台座構造が設けられたインプリントモールドを製造する場合において、後述する図１１（ｃ）および図１１（ｄ）に示されるように、インプリントモールド形成用基板１０を、対角においてノッチ２の外周端２ａおよび透明基板１の裏面１ｂが保持具５０に当接するようにして保持した状態でエッチング液（図示せず。）に浸漬させて、エッチングマスク１６を用いてウェットエッチングを行うことによって、透明基板１の表面１ａ側に台座構造２４を形成することができる。この際、チャック痕である突出部２５は、ノッチ２２の外周部に形成される。
【００３５】
したがって、本発明によれば、コスト上昇を招くことなく、インプリントモールドの台座構造を形成するウェットエッチング時にインプリントモールド形成用基板を安定して保持することができる上、透明基板の表面側の保持具との当接部分にチャック痕が形成されたとしても、チャック痕が被転写体に接触することを回避することができる。
【００３６】
１．ノッチ
上記ノッチは、上記透明基板の上記表面側の外縁において対向位置に設けられた切り欠きである。
【００３７】
図２（ａ）は、本発明のインプリントモールド形成用基板の他の例を示す概略平面図である。図２（ｂ）は、図２（ａ）に示されるＡ−Ａ線断面図であって、透明基板の対辺方向に平行であり、透明基板の表面に垂直な断面を示している。
【００３８】
図２に示されるインプリントモールド形成用基板１０においては、平面視して矩形状の透明基板１の表面１ａ側の外縁において、対辺にノッチ２が設けられている。
【００３９】
上記ノッチは、基板を安定して保持できるように対向位置に設けられたものであれば特に限定されるものではなく、図１に示されるように対角に設けられたものでもよいし、図２に示されるように対辺に設けられたものでもよいが、対角に設けられたものが好ましい。インプリントモールドを転写装置で保持する領域を十分に確保できるからである。
【００４０】
なお、上記対角に設けられたノッチとしては、図１に示されるように少なくとも一組の対角に設けられたものであればよく、異なる二組の対角に設けられたものでもよい。また、上記対辺に設けられたノッチとしては、図２に示されるように少なくとも一組の対辺に設けられたものであればよく、異なる二組の対辺に設けられたものでもよい。
【００４１】
上記対角に設けられたノッチの形状は、通常、図１（ａ）においてα１で示される、表面側の辺が対角方向となす角が略９０°の形状となる。
【００４２】
また、上記対角に設けられたノッチの形状は、図１に示されるように、切断面が単一の平面からなる平面形状でもよいし、図１（ｂ）において破線で示されるように、切断面が底面および側面からなる段差形状でもよいが、通常、切断面が単一の平面からなる平面形状となる。形成が容易であるからである。
【００４３】
また、上記対角に設けられたノッチは、図１（ａ）においてＷ１で示される対角方向に垂直な幅が５００μｍ〜９０００μｍの範囲内であることが好ましく、中でも１０００μｍ〜８０００μｍの範囲内、特に６０００μｍ〜７０００μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲の下限以上であることによって、チャック痕が被転写体に接触することを効果的に回避できるからであり、上記範囲の上限以下であることによって、転写装置でインプリントモールドを保持する領域を十分に確保できるからである。また、上記対角に設けられたノッチは、図１においてＤ１で示される対角方向の奥行きが３００μｍ〜３０００μｍの範囲内であることが好ましく、中でも５００μｍ〜２６００μｍの範囲内、特に１７００μｍ〜２４００μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲の下限以上であることによって、チャック痕が被転写体に接触することを効果的に回避できるからであり、上記範囲の上限以下であることによって、転写装置でインプリントモールドを保持する領域を十分に確保できるからである。さらに、図１（ｂ）においてＨ１で示される最外周端の深さが３０μｍ〜１４００μｍの範囲内であることが好ましく、中でも５０μｍ〜１２００μｍの範囲内、特に６００μｍ〜１０００μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲の下限以上であることによって、チャック痕が被転写体に接触することを効果的に回避できるからであり、上記範囲の上限以下であることによって、転写装置でインプリントモールドを保持する領域を十分に確保できるからである。
【００４４】
一方、上記対辺に設けられたノッチの形状は、通常、図２（ａ）においてα２で示される表面側の辺が対辺方向となす角が略９０°の形状となる。
【００４５】
また、上記対辺に設けられたノッチの形状は、図２に示されるように、切断面が単一の平面からなる平面形状でもよいし、図２（ｂ）において破線で示されるように、切断面が底面および側面からなる段差形状でもよいが、通常は、切断面が単一の平面からなる平面形状となる。形成が容易であるからである。
【００４６】
また、上記対辺に設けられたノッチは、図２（ａ）においてＷ２で示される対辺方向に垂直な幅が５０００μｍ〜１００００μｍの範囲内であることが好ましく、中でも６０００μｍ〜９０００μｍの範囲内、特に７０００μｍ〜８０００μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲の下限以上であることによって、チャック痕が被転写体に接触することを効果的に回避できるからであり、上記範囲の上限以下であることによって、転写装置でインプリントモールドを保持する領域を十分に確保できるからである。また、図２においてＤ２で示される対辺方向の奥行きが３００μｍ〜３０００μｍの範囲内であることが好ましく、中でも６００μｍ〜２６００μｍの範囲内、特に１７００μｍ〜２４００μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲の下限以上であることによって、チャック痕が被転写体に接触することを効果的に回避できるからであり、上記範囲の上限以下であることによって、転写装置でインプリントモールドを保持する領域を十分に確保できるからである。さらに、図２（ｂ）においてＨ２で示される最外周端の深さが３０μｍ〜１４００μｍの範囲内であることが好ましく、中でも５０μｍ〜１２００μｍの範囲内、特に６００μｍ〜１０００μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲の下限以上であることによって、チャック痕が被転写体に接触することを効果的に回避できるからであり、上記範囲の上限以下であることによって、転写装置でインプリントモールドを保持する領域を十分に確保できるからである。
【００４７】
また、後述する「Ｄ．インプリントモールド形成用ブランクスの製造方法  ３．エッチング工程」の項目に記載されているように、上記ノッチの当接面の傾斜角は、０°よりも大きく、後述する保持具の当接面の傾斜角よりも小さいことが好ましい。上記ノッチの当接面の傾斜角については、上記項目に記載されているノッチの当接面の傾斜角と同様である。
【００４８】
さらに、上記ノッチの形成方法としては、所望の形状およびサイズのノッチを形成できる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、機械加工等が挙げられるが、上記ノッチの形状およびサイズや上記透明基板の材料等に応じて適宜選択すればよい。
【００４９】
２．インプリントモールド形成用基板
上記インプリントモールド形成用基板は、上記透明基板を備える基板であって、インプリントモールドを形成するために用いられるものである。
【００５０】
（１）透明基板
上記透明基板は、表面および裏面を有する光透過性基板である。
【００５１】
本発明において、「透明基板の表面」とは、透明基板において、インプリントモールドの台座構造が形成される側の面であり、上記ノッチが形成される側の面を意味する。
【００５２】
上記透明基板としては、上記表面の平坦度が上記裏面と同等のものでもよいし、上記表面の平坦度が上記裏面より小さいもの（上記表面が上記裏面より平坦であるもの）でもよいし、上記表面の平坦度が上記裏面より大きいもの（上記裏面が上記表面より平坦であるもの）でもよいが、通常、上記表面の平坦度が上記裏面以下のものである。転写に際して悪影響がないからである。また、上記表面の平坦度が上記裏面と同等のものは作製し易いからである。
ここで、「表面の平坦度が裏面と同等」とは、上記表面の平坦度と上記裏面の平坦度との差が、−０．２μｍ〜＋０．２μｍの範囲内であることをいう。例えば、上記表面の平坦度が０．５μｍであり、上記裏面の平坦度が０．７μｍである場合には、上記表面の平坦度が上記裏面と同等のものとなる。上記平坦度の計測範囲は、例えば、１５２ｍｍ角の石英板では、通常１４２ｍｍ角である。
なお、上記平坦度は、光干渉で測定されるものである。また、本発明において、上記平坦度とは、ＮＩＳＴ規格においてフォトマスク等に用いられる石英の平坦度について規定された平坦度を意味し、レーザー光を斜めから入射する斜入射方式の干渉計で干渉縞を観察するといった測定方法を用いて、エスオーエル株式会社製のＦｌａｔＭａｓｔｅｒ、Ｃｏｒｎｉｎｇ  Ｔｒｏｐｅｌ社製のｔｒｏｐｅｌにより測定されたものを意味する。
【００５３】
上記透明基板を構成する材料としては、例えば、合成石英、ソーダガラス、蛍石、フッ化カルシウム等が挙げられる。中でも、インプリントモールド形成用基板での使用実績が高く品質が安定しており、高精度の微細な転写パターンを形成できるため、合成石英が好適に用いられる。上記透明基板の光透過性としては、波長３００ｎｍ〜４５０ｎｍの範囲内における光線の透過率が８５％以上であることが好ましい。
【００５４】
上記透明基板の形状は、特に限定されないが、通常、矩形状である。この場合、上記透明基板の縦および横の長さは、用途等に応じて異なるものであるが、例えば１４２ｍｍ〜１６２ｍｍ程度である。また、上記透明基板の厚さは、材料や用途等に応じて異なるものであるが、例えば０．５ｍｍ〜１０ｍｍ程度である。
【００５５】
図１（ａ）に示される対角Ｒの曲率半径のような上記透明基板の対角の曲率半径は、通常、１ｍｍ〜３ｍｍ程度である。
【００５６】
（２）インプリントモールド形成用基板
図１に示されるインプリントモールド形成用基板１０においては、透明基板１の表面１ａ側の外縁において方向識別用のノッチ３がさらに設けられている。
【００５７】
上記インプリントモールド形成用基板としては、図１に示されるように、上記透明基板の外縁に方向識別用のノッチが設けられたものが好ましい。上記インプリントモールド形成用基板から形成されるインプリントモールドを転写装置に設置する方向が識別可能となるからである。なお、上記方向識別用のノッチは、上記透明基板の表面側または裏面側のどちらの外縁に設けられたものでもよい。
【００５８】
図３（ａ）は、本発明のインプリントモールド形成用基板の他の例を示す概略平面図である。図３（ｂ）は、図３（ａ）に示されるＡ−Ａ線断面図であり、図３（ｃ）は、図３（ａ）に示されるＢ−Ｂ線断面図である。
【００５９】
図３に示されるインプリントモールド形成用基板１０は、図１に示されるインプリントモールド形成用基板１０とは異なり、透明基板１の表面１ａに設けられたハードマスク層１２をさらに備える。
【００６０】
上記インプリントモールド形成用基板としては、図３に示されるように、上記透明基板の表面に設けられたハードマスク層をさらに備えるものが好ましい。上記透明基板の表面側に台座構造を形成するウェットエッチングで用いるエッチングマスクを上記ハードマスク層から形成できるからである。
【００６１】
上記ハードマスク層を構成する材料としては、クロム系材料を主成分とするものであれば良いが、必要に応じて、クロム系材料以外の材料を含むことができる。クロム系材料は、クロム、窒化クロム、酸化クロム、炭化クロム、炭化窒化クロム等のクロムを含む化合物を含むものである。
【００６２】
上記ハードマスク層の膜厚としては、上記透明基板を精度良く加工できれば特に限定されるものではないが、例えば１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内、中でも５０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。上記ハードマスク層が上記範囲より薄いと上記透明基板を保護できない可能性があり、上記範囲より厚いと膜応力の関係で割れ易くなるからである。
【００６３】
上記ハードマスク層を形成する方法としては、所望のハードマスク層を形成することができる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のＰＶＤ法（ｐｈｙｓｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）や、プラズマＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、光ＣＶＤ法等のＣＶＤ法（ｃｈｅｍｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）等を挙げることができ、中でもスパッタリング法が好ましい。均一なハードマスク層を得ることができるからである。
【００６４】
図４（ａ）は、本発明のインプリントモールド形成用基板の他の例を示す概略平面図である。図４（ｂ）は、図４（ａ）に示されるＡ−Ａ線断面図であり、図４（ｃ）は、図４（ａ）に示されるＢ−Ｂ線断面図である。
【００６５】
図４に示されるインプリントモールド形成用基板１０は、図１に示されるインプリントモールド形成用基板とは異なり、透明基板１の裏面１ｂ側に凹部６が設けられている。
【００６６】
上記インプリントモールド形成用基板としては、図４に示されるように、上記透明基板の上記裏面側に凹部が設けられたものが好ましい。インプリントモールドの転写パターンを被転写体の硬化性樹脂層に密着させる時に、上記凹部内の空気圧を高くしてインプリントモールドを湾曲させることにより、転写パターンと硬化性樹脂層との間に空気が封入されることを抑制することができるからである。
【００６７】
上記凹部については、後述する「Ｂ．インプリントモールド形成用ブランクス  ３．インプリントモールド形成用ブランクス」の項目に記載された凹部と同様であるため、ここでの説明を省略する。
【００６８】
さらに、図５は、本発明のインプリントモールド形成用基板の他の例を示す概略断面図であって、透明基板の対角方向に平行であり、透明基板の表面に垂直な断面を示している。図５に示されるインプリントモールド形成用基板１０は、図１に示されるインプリントモールド形成用基板とは異なり、透明基板１の表面１ａ側の台座構造形成領域１ｃに転写パターン３２が設けられている。
【００６９】
上記インプリントモールド形成用基板としては、図５に示されるように、上記透明基板の表面側に転写パターンが設けられたものでもよい。
【００７０】
Ｂ．インプリントモールド形成用ブランクス
本発明のインプリントモールド形成用ブランクスは、表面および裏面を有するインプリントモールド形成用ブランクスであって、上記表面側に台座構造が設けられ、上記表面側の外縁において対向位置にノッチが設けられたことを特徴とする。
【００７１】
本発明のインプリントモールド形成用ブランクスの一例について図面を参照しながら説明する。図６（ａ）は、本発明のインプリントモールド形成用ブランクスの一例を示す概略平面図である。図６（ｂ）は、図６（ａ）に示されるＡ−Ａ線断面図であって、ブランクスの対角方向に平行であり、ブランクスの表面に垂直な断面を示している。図６（ｃ）は、図６（ａ）に示されるＢ−Ｂ線断面図である。
【００７２】
図６に示されるように、インプリントモールド形成用ブランクス２０は、表面２０ａおよび裏面２０ｂを有し、平面視して矩形状のものである。インプリントモールド形成用ブランクス２０においては、表面２０ａ側の略中央に台座構造２４が設けられている。そして、表面２０ａ側の外縁において対角にノッチ２２が設けられている。
【００７３】
このため、インプリントモールド形成用ブランクス２０を製造する場合において、後述する図１１（ｃ）および図１１（ｄ）に示されるように、インプリントモールド形成用基板１０を、対角においてノッチ２の外周端２ａおよび透明基板１の裏面１ｂが保持具５０に当接するようにして保持した状態でエッチング液（図示せず。）に浸漬させて、エッチングマスク１６を用いてウェットエッチングを行うことによって、透明基板１の表面１ａ側に台座構造２４を形成することができる。この際、チャック痕である突出部２５は、ノッチ２２の外周部に形成される。
【００７４】
したがって、本発明によれば、コスト上昇を招くことなく、インプリントモールドの台座構造を形成するウェットエッチング時にインプリントモールド形成用基板を安定して保持することができる上、透明基板の表面側の保持具との当接部分にチャック痕が形成されたとしても、チャック痕が被転写体に接触することを回避することができる。
【００７５】
１．ノッチ
上記ノッチは、上記インプリントモールド形成用ブランクスの表面側の外縁において対向位置に設けられた切り欠きである。
【００７６】
上記ノッチの位置、形状、サイズ、および形成方法については、上述した「Ａ．インプリントモールド形成用基板  １．ノッチ」の項目に記載されたノッチと同様であるため、ここでの説明を省略する。
【００７７】
２．台座構造
上記台座構造は、上記インプリントモールド形成用ブランクスの表面側に設けられた凸部である。
【００７８】
上記台座構造は、通常、図６に示されるように平面視して矩形状である。図６（ｂ）および図６（ｃ）においてＭで示される台座構造の高さは、用途等に応じて異なるものであるが、例えば３０μｍ程度である。また、平面視した上記台座構造の縦および横の長さは、用途等に応じて異なるものであるが、例えば２０ｍｍ〜３５ｍｍ程度である。
【００７９】
３．インプリントモールド形成用ブランクス
上記インプリントモールド形成用ブランクスは、表面および裏面を有するブランクスであって、インプリントモールドを形成するために用いられるものである。
【００８０】
上記インプリントモールド形成用ブランクスを構成する材料については、上述した「Ａ．インプリントモールド形成用基板  ２．インプリントモールド形成用基板  （１）透明基板」の項目に記載された透明基板を構成する材料と同様であるため、ここでの説明を省略する。
【００８１】
上記インプリントモールド形成用ブランクスの形状、厚さ、および対角の曲率半径については、上述した「Ａ．インプリントモールド形成用基板  ２．インプリントモールド形成用基板  （１）透明基板」の項目に記載された透明基板と同様であるため、ここでの説明を省略する。
【００８２】
図７は、図６（ｂ）に示される領域Ａの拡大図である。図６および図７に示されるインプリントモールド形成用ブランクス２０においては、ノッチ２２の外周部２２ｂに突出部２５が設けられている。
【００８３】
上記インプリントモールド形成用ブランクスとしては、図６および図７に示されるように、上記ノッチの外周部に突出部が設けられていてもよい。上記突出部は上記台座構造を形成するウェットエッチング時に形成されるチャック痕であるから、チャック痕が被転写体に接触することを効果的に回避できたものと言えるからである。
【００８４】
図７においてＰで示される上記突出部の高さは、図６（ｂ）においてＭで示される上記台座構造の高さよりも通常低くなるものであり、具体的には、上記突出部の高さは上記台座構造の高さの５０％〜１００％の範囲内であり、７０％〜８０％の範囲内となることがある。
【００８５】
図６に示されるインプリントモールド形成用ブランクス２０においては、インプリントモールド形成用ブランクス２０の表面２０ａ側の外縁において方向識別用のノッチ２３がさらに設けられている。
【００８６】
上記インプリントモールド形成用ブランクスとしては、図６に示されるように、外縁に方向識別用のノッチが設けられたものが好ましい。上記インプリントモールド形成用ブランクスから形成されるインプリントモールドを転写装置に設置する方向が識別可能となるからである。なお、上記方向識別用のノッチは、上記インプリントモールド形成用ブランクスの表面側または裏面側のどちらの外縁に設けられたものでもよい。
【００８７】
図８（ａ）は、本発明のインプリントモールド形成用ブランクスの他の例を示す概略平面図である。図８（ｂ）は、図８（ａ）に示されるＡ−Ａ線断面図であって、ブランクスの対角方向に平行であり、ブランクスの表面に垂直な断面を示している。図８（ｃ）は、図８（ａ）に示されるＢ−Ｂ線断面図である。
【００８８】
図８に示されるインプリントモールド形成用ブランクス２０は、図６に示されるインプリントモールド形成用ブランクスとは異なり、裏面２０ｂ側に凹部２６が設けられている。凹部２６は、平面視して台座構造２４を含む領域に形成されている。
【００８９】
上記インプリントモールド形成用ブランクスとしては、図６に示されるように上記裏面側に凹部が設けられていないものでもよいし、図８に示されるように上記裏面側に凹部が設けられたものでもよいが、上記裏面側に凹部が設けられたものが好ましい。上記インプリントモールドの転写パターンを被転写体の硬化性樹脂層に密着させる時に、上記凹部内の空気圧を高くしてインプリントモールドを湾曲させることにより、転写パターンと硬化性樹脂層との間に空気が封入されることを抑制することができるからである。
【００９０】
上記凹部は、図８に示されるように、平面視して上記台座構造を含む領域に形成されたものが好ましい。転写パターンと硬化性樹脂層との間に空気が封入されることを効果的に抑制することができるからである。また、平面視した上記凹部の形状は、特に限定されるものではなく、例えば、図８に示されるように円状でもよい。図８（ｂ）および図８（ｃ）においてＣで示される上記凹部の深さは、例えば４ｍｍ〜５．５ｍｍ程度である。
【００９１】
Ｃ．インプリントモールド
本発明のインプリントモールドは、上述した「Ｂ．インプリントモールド形成用ブランクス」の項目に記載されたインプリントモールド形成用ブランクスの上記台座構造の表面に転写パターンを有することを特徴とする。具体的には、本発明のインプリントモールドは、表面および裏面を有するインプリントモールドであって、上記表面側に台座構造が設けられ、上記台座構造の表面に転写パターンが設けられ、上記表面側の外縁において対向位置にノッチが設けられたことを特徴とする。
【００９２】
本発明のインプリントモールドの一例について図面を参照しながら説明する。図９（ａ）は、本発明のインプリントモールドの一例を示す概略平面図である。図９（ｂ）は、図９（ａ）に示されるＡ−Ａ線断面図であって、インプリントモールドの対角方向に平行であり、インプリントモールドの表面に垂直な断面を示している。図９（ｃ）は、図９（ａ）に示されるＢ−Ｂ線断面図である。
【００９３】
図９に示されるように、インプリントモールド３０は、表面３０ａおよび裏面３０ｂを有し、平面視して矩形状のものである。インプリントモールド３０においては、表面３０ａ側の台座構造形成領域１ｃに台座構造２４が設けられており、台座構造２４の表面に転写パターン３２が設けられている。そして、インプリントモールド３０の表面３０ａ側の外縁において対角にノッチ２２が設けられている。また、裏面３０ｂ側に凹部２６が設けられている。凹部２６は、平面視して台座構造２４を含む領域に形成されている。
【００９４】
このため、インプリントモールド３０を製造する場合において、後述する図１１（ｃ）および図１１（ｄ）に示されるように、インプリントモールド形成用基板１０を、対角においてノッチ２の外周端２ａおよび透明基板１の裏面１ｂが保持具５０に当接するようにして保持した状態でエッチング液（図示せず。）に浸漬させて、エッチングマスク１６を用いてウェットエッチングを行うことによって、透明基板１の表面１ａ側に台座構造２４を形成することができる。この際、チャック痕である突出部２５は、ノッチ２２の外周部に形成される。
【００９５】
したがって、本発明によれば、コスト上昇を招くことなく、インプリントモールドの台座構造を形成するウェットエッチング時にインプリントモールド形成用基板を安定して保持することができる上、透明基板の表面側の保持具との当接部分にチャック痕が形成されたとしても、チャック痕が被転写体に接触することを回避することができる。
【００９６】
１．ノッチ
上記ノッチは、上記インプリントモールドの表面側の外縁において対向位置に設けられた切り欠きである。
【００９７】
上記ノッチの位置、形状、サイズ、および形成方法については、上述した「Ａ．インプリントモールド形成用基板  １．ノッチ」の項目に記載されたノッチと同様であるため、ここでの説明を省略する。
【００９８】
２．台座構造
上記台座構造は、上記インプリントモールドの表面側に設けられた凸部である。
【００９９】
上記台座構造については、上述した「Ｂ．インプリントモールド形成用ブランクス  ２．台座構造」の項目に記載された台座構造と同様であるため、ここでの説明を省略する。
【０１００】
３．転写パターン
上記転写パターンは、上記台座構造の表面に設けられたものである。本発明において、「転写パターン」とは、ナノインプリントリソグラフィを用いてインプリントモールドから被転写体に転写されるパターンを意味する。
【０１０１】
上記転写パターンの形状としては特に限定されるものではなく、例えばラインアンドスペース、ドット、ホール、アイソレートスペース、アイソレートライン、ピラー、レンズ、段差等の凹凸パターンを挙げることができる。
【０１０２】
４．インプリントモールド
上記インプリントモールドは、表面および裏面を有するインプリント用モールドである。
【０１０３】
上記インプリントモールドを構成する材料については、上述した「Ａ．インプリントモールド形成用基板  ２．インプリントモールド形成用基板  （１）透明基板」の項目に記載された透明基板を構成する材料と同様であるため、ここでの説明を省略する。
【０１０４】
上記インプリントモールドの形状、厚さ、および対角の曲率半径については、上述した「Ａ．インプリントモールド形成用基板  ２．インプリントモールド形成用基板  （１）透明基板」の項目に記載された透明基板と同様であるため、ここでの説明を省略する。
【０１０５】
上記インプリントモールドとしては、図９に示されるように、上述した「Ｂ．インプリントモールド形成用ブランクス」の項目に記載されたインプリントモールド形成用ブランクスと同様に、上記ノッチの外周部に突出部が設けられていてもよい。上記突出部については、上述した「Ｂ．インプリントモールド形成用ブランクス  ３．インプリントモールド形成用ブランクス」の項目に記載された突出部と同様であるため、ここでの説明を省略する。
【０１０６】
上記インプリントモールドとしては、図９に示されるように、上述した「Ｂ．インプリントモールド形成用ブランクス」の項目に記載されたインプリントモールド形成用ブランクスと同様に、外縁に方向識別用のノッチが設けられたものが好ましい。上記方向識別用のノッチについては、上述した「Ｂ．インプリントモールド形成用ブランクス  ３．インプリントモールド形成用ブランクス」の項目に記載された方向識別用のノッチと同様であるため、ここでの説明を省略する。
【０１０７】
図１０は、本発明のインプリントモールドの他の例を示す概略断面図であって、インプリントモールドの対角方向に平行であり、インプリントモールドの表面に垂直な断面を示している。図１０に示されるインプリントモールド３０は、図９に示されるインプリントモールド３０とは異なり、裏面３０ｂ側に凹部２６が設けられていない。
【０１０８】
上記インプリントモールドとしては、上述した「Ｂ．インプリントモールド形成用ブランクス」の項目に記載されたインプリントモールド形成用ブランクスと同様に、図９に示されるように上記裏面側に凹部が設けられたものでもよいし、図１０に示されるように上記裏面側に凹部が設けられていないものでもよいが、上記裏面側に凹部が設けられたものが好ましい。
【０１０９】
Ｄ．インプリントモールド形成用ブランクスの製造方法
本発明のインプリントモールド形成用ブランクスの製造方法は、上述した「Ａ．インプリントモールド形成用基板」の項目に記載されたインプリントモールド形成用基板のうち上記転写パターンが設けられていないインプリントモールド形成用基板を準備する基板準備工程と、上記透明基板の上記表面側の台座構造形成領域にエッチングマスクを形成するエッチングマスク形成工程と、上記インプリントモールド形成用基板を、対向位置において上記ノッチの外周端および上記裏面が保持具に当接するようにして保持した状態でエッチング液に浸漬させて、上記エッチングマスクを用いてウェットエッチングを行うことによって、上記透明基板の上記表面側に台座構造を形成するエッチング工程と、を有することを特徴とする。
【０１１０】
本発明のインプリントモールド形成用ブランクスの製造方法の一例について図面を参照しながら説明する。図１１（ａ）〜図１１（ｆ）は、本発明のインプリントモールド形成用ブランクスの製造方法の一例を示す概略工程断面図である。各断面図は、インプリントモールド形成用基板の対角方向に平行であり、インプリントモールド形成用基板の表面に垂直な断面を示している。
【０１１１】
まず、図１１（ａ）に示されるように、表面１ａおよび裏面１ｂを有し、平面視して矩形状の透明基板１を備えるインプリントモールド形成用基板１０を準備する。透明基板１の表面１ａ側の外縁において、対角にノッチ２が設けられている。
【０１１２】
次に、図１１（ｂ）に示されるように、透明基板１の表面１ａ側の台座構造形成領域１ｃにエッチングマスク１６としてレジストパターン１４を形成する。
【０１１３】
次に、図１１（ｃ）および図１１（ｄ）に示されるように、インプリントモールド形成用基板１０を、対角においてノッチ２の外周端２ａおよび透明基板１の裏面１ｂが保持具５０に当接するようにして保持した状態でエッチング液（図示せず。）に浸漬させて、レジストパターン１４からなるエッチングマスク１６を用いてウェットエッチングを行うことによって、透明基板１の表面１ａ側の略中央に台座構造２４を形成する。この際、チャック痕である突出部２５は、ノッチ２２の外周部に形成される。
【０１１４】
次に、図１１（ｅ）に示されるように、透明基板１の表面１ａからエッチングマスク１６を除去する。
【０１１５】
次に、図１１（ｆ）に示されるように、透明基板１の裏面１ｂ側に凹部２６を形成する。これにより、インプリントモールド形成用ブランクス２０を製造する。
【０１１６】
したがって、本発明によれば、コスト上昇を招くことなく、インプリントモールドの台座構造を形成するウェットエッチング時にインプリントモールド形成用基板を安定して保持することができる上、透明基板の表面側の保持具との当接部分にエッチングレート差に起因するチャック痕が形成されたとしても、チャック痕が被転写体に接触することを回避することができる。
【０１１７】
以下、本発明のインプリントモールド形成用ブランクスの製造方法について各工程を中心に説明する。
【０１１８】
１．基板準備工程
上記基板準備工程においては、上述した「Ａ．インプリントモールド形成用基板」の項目に記載されたインプリントモールド形成用基板のうち上記転写パターンが設けられていないインプリントモールド形成用基板を準備する。
【０１１９】
上記インプリントモールド形成用基板については、上述した「Ａ．インプリントモールド形成用基板」の項目に記載されたインプリントモールド形成用基板と同様であるため、ここでの説明を省略する。
【０１２０】
２．エッチングマスク形成工程
上記エッチングマスク形成工程においては、上記透明基板の上記表面側の台座構造形成領域にエッチングマスクを形成する。
【０１２１】
ここで、製造方法の他の例について図面を参照しながら説明する。図１２（ａ）〜図１２（ｈ）は、本発明のインプリントモールド形成用ブランクスの製造方法の他の例を示す概略工程断面図である。各断面図は、インプリントモールド形成用基板の対角方向に平行であり、インプリントモールド形成用基板の表面に垂直な断面を示している。
【０１２２】
まず、図１２（ａ）に示されるように、表面１ａおよび裏面１ｂを有し、平面視して矩形状の透明基板１を準備する。透明基板１の表面１ａ側の外縁において、対角にノッチ２が設けられている。
【０１２３】
次に、図１２（ｂ）に示されるように、透明基板１の表面１ａにハードマスク層１２を形成する。これにより、透明基板１およびハードマスク層１２を備えるインプリントモールド形成用基板１０を準備する。
【０１２４】
次に、図１２（ｃ）に示されるように、ハードマスク層１２の表面１２ａにレジストパターン１４を形成する。
【０１２５】
次に、図１２（ｄ）に示されるように、レジストパターン１４をマスクとして用いて、ハードマスク層１２のウエットエッチングを行うことによって、透明基板１の表面１ａ側の台座構造形成領域１ｃにエッチングマスク１６を形成する。
【０１２６】
次に、図１２（ｅ）および図１２（ｆ）に示されるように、インプリントモールド形成用基板１０を、対角においてノッチ２の外周端２ａおよび透明基板１の裏面１ｂが保持具５０に当接するようにして保持した状態でエッチング液（図示せず。）に浸漬させて、エッチングマスク１６を用いてウェットエッチングを行うことによって、透明基板１の表面１ａ側の略中央に台座構造２４を形成する。この際、チャック痕である突出部２５は、ノッチ２２の外周部に形成される。
【０１２７】
次に、図１２（ｇ）に示されるように、透明基板１の表面１ａからレジストパターン１４およびエッチングマスク１６を除去する。
【０１２８】
次に、図１２（ｈ）に示されるように、透明基板１の裏面１ｂ側に凹部２６を形成する。これにより、インプリントモールド形成用ブランクス２０を製造する。
【０１２９】
上記エッチングマスク形成工程においては、図１１（ｂ）に示されるように、上記エッチングマスクとしてレジストパターンのみからなるものを形成してもよいし、図１２（ｃ）および図１２（ｄ）に示されるように、上記エッチングマスクとして上記ハードマスク層からなるものを形成してもよいが、上記ハードマスク層からなるものを形成することが好ましい。後述するエッチング工程において台座構造を精度良く形成することができるからである。
【０１３０】
上記ハードマスク層からなるエッチングマスクを形成するウエットエッチングにマスクとして用いられるレジストパターンの形成方法としては、上記ハードマスク層を精度良く加工できるレジストパターンを形成できれば特に限定されないが、例えば、フォトリソグラフィー法等の一般的なレジスト形成方法を用いることができる。また、当該ウエットエッチングに用いられるエッチング液としては、上記ハードマスク層を精度良く加工可能であり、上記透明基板にダメージを与えないものあれば特に限定されるものではないが、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウム溶液等を用いることができる。
【０１３１】
上記エッチングマスクとして用いられるレジストパターンの形成方法としては、後述するエッチング工程において所望の台座構造を形成できるレジストパターンを形成できれば特に限定されないが、例えば、一般的なレジスト形成方法を用いることができる。
【０１３２】
３．エッチング工程
上記エッチング工程においては、上記インプリントモールド形成用基板を、対向位置において上記ノッチの外周端および上記裏面が保持具に当接するようにして保持した状態でエッチング液に浸漬させて、上記エッチングマスクを用いてウェットエッチングを行うことによって、上記透明基板の上記表面側に台座構造を形成する。
【０１３３】
上記エッチング工程においては、上記インプリントモールド形成用基板を、図１１および図１２に示されるように、対角において保持具に当接するようにして保持してもよいし、対辺において保持具に当接するようにして保持してもよい。
【０１３４】
また、上記エッチング工程において、上記インプリントモールド形成用基板を上述したように保持した状態においては、上記ノッチは上記保持具と点または辺で当接することが好ましい。面で当接する場合と異なり、上記ノッチの上記保持具との当接部分にチャック痕が大きく形成されることを回避できるからである。
【０１３５】
図１３は、図１２（ｅ）に示される領域Ａの拡大図である。図１３に示されるように、図１２（ｅ）に示されるインプリントモールド形成用基板１０において、ノッチ２の当接面２ｂの傾斜角βは、保持具５０の当接面５０ａの傾斜角γよりも小さくなっている。
【０１３６】
上記インプリントモールド形成用基板においては、図１３においてβで示される上記ノッチの当接面の傾斜角は、０°よりも大きく、図１３においてγで示される上記保持具の当接面の傾斜角よりも小さいことが好ましい。上記ノッチが上記保持具と点または辺で当接することができるので、チャック痕が大きく形成されることを回避できるからである。上記ノッチの当接面の傾斜角は、０°よりも大きく３０°よりも小さいことが好ましく、中でも１５°よりも大きく２５°よりも小さいことが好ましく、特に１８°よりも大きく２２°よりも小さいことが好ましい。
【０１３７】
図１４は、インプリントモールド形成用基板と保持具の当接の例を示す概略断面図であって、図１２（ｅ）に示される領域Ａに対応する領域の拡大図である。図１４に示されるように、透明基板１の裏面１ｂが保持具５０と点で当接している。
【０１３８】
また、上記エッチング工程において、上記インプリントモールド形成用基板を上述したように保持した状態においては、上記透明基板の上記裏面が上記保持具と面、辺、または点で当接するようにできるが、図１４に示されるように辺または点で当接するようにすることが好ましい。上記裏面の当接部分にチャック痕が大きく形成されて、インプリントモールドを転写装置で転写する時に必要となる平坦性が得られなくなることを回避することができるからである。
【０１３９】
上記透明基板のウエットエッチングに用いられるエッチング液としては、所望の台座構造を形成できれば特に限定されるものではないが、例えば、フッ酸、緩衝フッ酸、ＫＯＨ水溶液等を用いることができる。
【０１４０】
４．他の工程
本発明のインプリントモールド形成用ブランクスの製造方法は、図１１（ｆ）および図１２（ｈ）に示されるように、上記透明基板の上記裏面側に凹部を形成する凹部形成工程を有していることが好ましい。インプリントモールドの転写パターンを被転写体の硬化性樹脂層に密着させる時に、上記凹部内の空気圧を高くしてインプリントモールドを湾曲させることにより、転写パターンと硬化性樹脂層との間に空気が封入されることを抑制することができるからである。
【０１４１】
上記凹部形成工程は、図１１および図１２に示されるように、上記エッチング工程後に上記凹部を形成する工程でもよいし、上記エッチング工程前に上記凹部を形成する工程でもよいが、通常、上記エッチング工程後に凹部を形成する工程である。
【０１４２】
上記凹部の形成方法としては、例えば、機械加工等が挙げられるが、上記凹部のサイズ、形状、深さや上記透明基板の材料等に応じて適宜選択すればよい。
【０１４３】
また、本発明のインプリントモールド形成用ブランクスの製造方法は、図１１（ｅ）および図１２（ｇ）に示されるように、上記エッチング工程後に上記エッチングマスクを除去するエッチングマスク除去工程を有していてもよい。上記エッチングマスクの除去方法としては、上記透明基板にダメージを与えない方法であれば特に限定されないが、上記エッチングマスクがクロム系材料を主成分とするハードマスク層から形成されたものである場合には、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウム溶液等を剥離液として用いて剥離する方法が用いられる。また、上記エッチングマスクがレジストパターンからなる場合には、例えば、一般的にフォトリソグラフィー法に用いられる方法と同様の方法が用いられる。
【０１４４】
５．インプリントモールド形成用ブランクスの製造方法
本発明のインプリントモールド形成用ブランクスの製造方法においては、上記基板準備工程において、上記表面および上記裏面の平坦度が異なるインプリントモールド形成用基板を準備する場合には、上記エッチングマスクを形成する上記表面を上記表面および上記裏面の平坦度に基づいて判別することができる。
【０１４５】
Ｅ．インプリントモールドの製造方法
本発明のインプリントモールドの製造方法は、上述した「Ｄ．インプリントモールド形成用ブランクスの製造方法」の項目に記載された製造方法により製造されたインプリントモールド形成用ブランクスを用いて、インプリントモールドを製造する第１態様と、上述した「Ａ．インプリントモールド形成用基板」の項目に記載されたインプリントモールド形成用基板のうち上記転写パターンが設けられたインプリントモールド形成用基板を用いて、インプリントモールドを製造する第２態様と、に大別することができる。以下、第１態様および第２態様をそれぞれ説明する。
【０１４６】
Ｅ−１．第１態様のインプリントモールドの製造方法
第１態様のインプリントモールドの製造方法は、上述した「Ｄ．インプリントモールド形成用ブランクスの製造方法」の項目に記載された製造方法により製造されたインプリントモールド形成用ブランクスを準備するブランクス準備工程と、上記インプリントモールド形成用ブランクスの上記台座構造の表面に転写パターンを形成する転写パターン形成工程と、を有することを特徴とする。
【０１４７】
第１態様によれば、上記インプリントモールド形成用ブランクスの透明基板の表面側の保持具との当接部分にチャック痕が形成されたとしても、チャック痕が被転写体に接触することを回避することができる。
【０１４８】
１．ブランクス準備工程
上記ブランクス準備工程においては、上述した「Ｄ．インプリントモールド形成用ブランクスの製造方法」の項目に記載された製造方法により製造されたインプリントモールド形成用ブランクスを準備する。
【０１４９】
上記インプリントモールド形成用ブランクスの製造方法については、上述した「Ｄ．インプリントモールド形成用ブランクスの製造方法」の項目に記載された製造方法と同様であるため、ここでの説明を省略する。
【０１５０】
２．転写パターン形成工程
上記転写パターン形成工程においては、上記インプリントモールド形成用ブランクスの上記台座構造の表面に転写パターンを形成する。
【０１５１】
上記転写パターンについては、上述した「Ｃ．インプリントモールド  ３．転写パターン」の項目に記載された転写パターンと同様であるため、ここでの説明を省略する。
【０１５２】
上記転写パターンの形成方法としては、一般的なインプリントモールドの転写パターンの形成方法と同様とすることができる。
【０１５３】
Ｅ−２．第２態様のインプリントモールドの製造方法
第２態様のインプリントモールドの製造方法は、上述した「Ａ．インプリントモールド形成用基板」の項目に記載されたインプリントモールド形成用基板のうち上記転写パターンが設けられたインプリントモールド形成用基板を準備する基板準備工程と、上記透明基板の上記表面に上記転写パターンを覆うようにエッチングマスクを形成するエッチングマスク形成工程と、上記インプリントモールド形成用基板を、対向位置において上記ノッチの外周端および上記裏面が保持具に当接するようにして保持した状態でエッチング液に浸漬させて、上記エッチングマスクを用いてウェットエッチングを行うことによって、上記透明基板の上記表面側に台座構造を形成するエッチング工程と、を有することを特徴とする。
【０１５４】
第２態様のインプリントモールドの製造方法の一例について図面を参照しながら説明する。図１５（ａ）〜図１５（ｉ）は、第２態様のインプリントモールドの製造方法の一例を示す概略工程断面図である。各断面図は、透明基板の対角方向に平行であり、透明基板の表面に垂直な断面を示している。
【０１５５】
まず、図１５（ａ）に示されるように、表面１ａおよび裏面１ｂを有し、平面視して矩形状の透明基板１を準備する。透明基板１の表面１ａ側の外縁において、対角にノッチ２が設けられている。次に、図１５（ｂ）に示されるように、透明基板１の表面１ａ側の台座構造形成領域１ｃに転写パターン３２を形成する。これにより、転写パターン３２が設けられたインプリントモールド形成用基板１０を準備する。
【０１５６】
次に、図１５（ｃ）に示されるように、透明基板１の表面１ａにハードマスク層１２を形成する。
【０１５７】
次に、図１５（ｄ）に示されるように、ハードマスク層１２の表面１２ａにレジストパターン１４を形成する。この時、台座構造形成領域１ｃ上にレジストパターン１４を形成する。
【０１５８】
次に、図１５（ｅ）に示されるように、レジストパターン１４をマスクとして用いて、ハードマスク層１２のウエットエッチングを行う。これにより、台座構造形成領域１ｃに転写パターン３２を覆うようにエッチングマスク１６を形成する。
【０１５９】
次に、図１５（ｆ）および図１５（ｇ）に示されるように、インプリントモールド形成用基板１０を、対角においてノッチ２の外周端２ａおよび透明基板１の裏面１ｂが保持具５０に当接するようにして保持した状態でエッチング液（図示せず。）に浸漬させて、エッチングマスク１６を用いてウェットエッチングを行うことによって、透明基板１の表面１ａ側の略中央に台座構造２４を形成する。この際、チャック痕である突出部２５は、ノッチ２２の外周部に形成される。
【０１６０】
次に、図１５（ｈ）に示されるように、透明基板１の表面１ａからレジストパターン１４およびエッチングマスク１６を除去する。
【０１６１】
次に、図１５（ｉ）に示されるように、透明基板１の裏面１ｂ側に凹部２６を形成する。これにより、インプリントモールド３０を製造する。
【０１６２】
したがって、第２態様によれば、コスト上昇を招くことなく、インプリントモールドの台座構造を形成するウェットエッチング時にインプリントモールド形成用基板を安定して保持することができる上、透明基板の表面側の保持具との当接部分にチャック痕が形成されたとしても、チャック痕が被転写体に接触することを回避することができる。
【０１６３】
以下、第２態様のインプリントモールドの製造方法について各工程を中心に説明する。
【０１６４】
１．基板準備工程
上記基板準備工程においては、上述した「Ａ．インプリントモールド形成用基板」の項目に記載されたインプリントモールド形成用基板のうち上記転写パターンが設けられたインプリントモールド形成用基板を準備する。
【０１６５】
上記インプリントモールド形成用基板については、上述した「Ａ．インプリントモールド形成用基板」の項目に記載されたインプリントモールド形成用基板と同様であるため、ここでの説明を省略する。
【０１６６】
２．エッチングマスク形成工程
上記エッチングマスク形成工程においては、上記透明基板の上記表面に上記転写パターンを覆うようにエッチングマスクを形成する。
【０１６７】
上記エッチングマスク形成工程においては、後述するエッチング工程において、上記転写パターンにダメージが与えられることがないように、上記転写パターンを覆うように上記エッチングマスクを形成する。
【０１６８】
上記エッチングマスクの形成方法としては、上記エッチングマスク形成工程および後述するエッチング工程において、上記転写パターンにダメージが与えられることがない形成方法であれば特に限定されるものではない。
【０１６９】
上記エッチングマスク形成工程は、ここで説明した点を除いて、上述した「Ｄ．インプリントモールド形成用ブランクスの製造方法  ２．エッチングマスク形成工程」の項目と同様である。
【０１７０】
３．エッチング工程
上記エッチング工程においては、上記インプリントモールド形成用基板を、対向位置において上記ノッチの外周端および上記裏面が保持具に当接するようにして保持した状態でエッチング液に浸漬させて、上記エッチングマスクを用いてウェットエッチングを行うことによって、上記透明基板の上記表面側に台座構造を形成する。
【０１７１】
上記エッチング工程については、上述した「Ｄ．インプリントモールド形成用ブランクスの製造方法  ３．エッチング工程」の項目に記載されたエッチング工程と同様であるため、ここでの説明を省略する。
【０１７２】
４．他の工程
第２態様のインプリントモールドの製造方法は、図１５（ｉ）に示されるように、上記透明基板の上記裏面側に凹部を形成する凹部形成工程を有していることが好ましい。上記凹部形成工程については、上述した「Ｄ．インプリントモールド形成用ブランクスの製造方法  ４．他の工程」の項目に記載された凹部形成工程と同様である。また、第２態様のインプリントモールドの製造方法は、図１５（ｈ）に示されるように、上記エッチング工程後に上記エッチングマスクを除去するエッチングマスク除去工程を有していてもよい。上記エッチングマスク除去工程については、上述した「Ｄ．インプリントモールド形成用ブランクスの製造方法  ４．他の工程」の項目に記載されたエッチングマスク除去工程と同様である。
【０１７３】
５．インプリントモールドの製造方法
第２態様のインプリントモールドの製造方法においては、上記基板準備工程において、上記表面および上記裏面の平坦度が異なるインプリントモールド形成用基板を準備する場合には、上記転写パターンを形成する上記表面側を上記表面および上記裏面の平坦度に基づいて判別することができる。
【０１７４】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【符号の説明】
【０１７５】
１０…インプリントモールド形成用基板
１…透明基板
２…ノッチ
２０…インプリントモールド形成用ブランクス
２２…ノッチ
３０…インプリントモールド
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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