(57)【要約】【課題】エマルション法により厚みが均一な調光層を形成することを含む、調光フィルムの製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の調光フィルムの製造方法は、スロットダイを用いて、透明導電性フィルムに、液晶化合物と樹脂とを含む塗工液を塗工する塗工工程を含む、調光フィルムの製造方法であって、該塗工工程におけるライン速度が、２ｍ／分以上であり、該スロットダイのリップ先端と該透明導電性フィルムとのギャップが１００μｍ以上であり、該調光フィルムが、透過モードと散乱モードとに切換可能切り替え可能であり、該調光フィルムの散乱モードにおけるヘイズ値が、８０％以上である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
スロットダイを用いて、透明導電性フィルムに、液晶化合物と樹脂とを含む塗工液を塗工する塗工工程を含む、調光フィルムの製造方法であって、
該塗工工程におけるライン速度が、２ｍ／分以上であり、
該スロットダイのリップ先端と該透明導電性フィルムとのギャップが１００μｍ以上であり、
該調光フィルムが、透過モードと散乱モードとに切換可能切り替え可能であり、
該調光フィルムの散乱モードにおけるヘイズ値が、８０％以上である、
調光フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記スロットダイのリップ幅が、２ｍｍ以下である、請求項１に記載の調光フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記透明導電性フィルムの厚みが、１０μｍ〜２００μｍである、請求項１または２に記載の調光フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記液晶化合物と前記樹脂との合計量が、前記塗工液１００重量部に対して、３０重量部〜７０重量部である、請求項１から３にいずれかにに記載の調光フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記塗工液の粘度が、前記スロットダイから吐出する時点において、２０ｍＰａｓ〜４００ｍＰａｓである、請求項１から４のいずれかに記載の調光フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、調光フィルム製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ポリマーと液晶材料との複合体による光散乱効果を利用した調光機能を有する高分子分散液晶素子（ＰＤＬＣ調光フィルム）が知られている（例えば、特許文献１、２）。高分子分散液晶素子においては、ポリマーマトリクス内で液晶材料が相分離または分散した構造をとることから、ポリマーと液晶材料の屈折率をマッチングすること、および、該複合体に電圧を印加して液晶材料の配向を変化させることによって、光を透過させる透過モードと光を散乱させる散乱モードとを制御することができる。このような駆動を実現するため、上記高分子分散液晶素子は、通常、上記複合体を含む調光層を、透明導電性フィルムで挾持して構成される。
【０００３】
ポリマーと液晶材料との複合体の製造方法としては、液晶材料とマトリクスポリマーとの相分離状態を形成する相分離法、エマルション化した液晶材料と樹脂とを含む塗工液を塗工するエマルション法等が挙げられる（例えば、特許文献１、３、４）。
【０００４】
エマルション法は、塗工液中にあらかじめ、所定サイズ（例えば、径が１μｍ〜１０μｍ）の液晶の液滴が存在することから、簡便に所望の調光層を形成することができる。また、エマルション法は、ロールトゥロールプロセスに適するという利点もある。一方、液晶材料および樹脂ともにエマルション化された塗工液を用いた場合、高速塗工が困難であり、塗工層の厚みが不均一になるという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特表昭５８−５０１６３１号公報
【特許文献２】特開昭６０−５０２１２８号公報
【特許文献３】特開昭６０−２５２６８７号公報
【特許文献４】特表平１１−５００７５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の発明者らは、エマルション法により調光層を形成した場合、該調光層には、光散乱性が異常となる外観欠点が生じやすい傾向にあり、その原因は厚みムラにあることを見いだした。さらに、光散乱性が異常となる箇所は、塗工液を透明導電性フィルムに塗工する際に、透明導電性フィルムの背面（すなわち、透明導電性フィルムの塗工面とは反対側の面であり、透明導電性フィルムと搬送体（例えば、バックロール）との間）に極微小な異物が存在した箇所に対応することを見いだした。
【０００７】
本発明は上記の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、エマルション法により厚みが均一な調光層を形成することを含む、調光フィルムの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の調光フィルムの製造方法は、スロットダイを用いて、透明導電性フィルムに、液晶化合物と樹脂とを含む塗工液を塗工する塗工工程を含む、調光フィルムの製造方法であって、該塗工工程におけるライン速度が、２ｍ／分以上であり、該スロットダイのリップ先端と該透明導電性フィルムとのギャップが１００μｍ以上であり、該調光フィルムが、透過モードと散乱モードとに切換可能切り替え可能であり、該調光フィルムの散乱モードにおけるヘイズ値が、８０％以上である。
１つの実施形態においては、上記スロットダイのリップ幅が、２ｍｍ以下である。
１つの実施形態においては、上記透明導電性フィルムの厚みが、１０μｍ〜２００μｍである。
１つの実施形態においては、上記液晶化合物と前記樹脂との合計量が、前記塗工液１００重量部に対して、３０重量部〜７０重量部である。
１つの実施形態においては、上記塗工液の粘度が、前記スロットダイから吐出する時点において、２０ｍＰａｓ〜４００ｍＰａｓである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、スロットダイを用いて塗工液を塗工し、スロットダイと塗工基材（透明導電性フィルム）とのギャップを１００μｍ以上とすることにより、厚みが均一な調光層を形成することができる。本発明によれば、塗工液として、エマルション化した液晶材料と樹脂とを含む塗工液を用いた場合においても、厚みが均一な調光層を形成することができる。本発明により形成された調光層は、光散乱性異常部分の発生を防止することができ、外観に優れる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の１つの実施形態による製造方法により製造される調光フィルムの概略断面図である。
【図２】本願発明の塗工工程におけるスロットダイのリップ近傍を示す概略断面図である。
【図３】本発明の１つの実施形態による第１の透明導電性フィルムの概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
Ａ．調光フィルムの製造方法の概要
本発明の調光フィルムの製造方法は、スロットダイを用いて、透明導電性フィルムに液晶化合物と樹脂とを含む塗工液を塗工する塗工工程を含む。該塗工工程においては、スロットダイのリップ先端と透明導電性フィルムとのギャップが１００μｍ以上である。また、塗工工程におけるライン速度は、２ｍ／分以上である。上記塗工液においては、液晶化合物および樹脂がともにエマルション化されている。１つの実施形態においては、塗工工程において第１の透明導電性フィルムに塗工液を塗工して調光層を形成した後、該調光層に第２の透明導電性フィルムを貼り合わせて、調光フィルムが得られる。
【００１２】
図１は、本発明の１つの実施形態による製造方法により製造される調光フィルムの概略断面図である。調光フィルム１００は、第１の透明導電性フィルム１１０と、調光層１２０と、第２の透明導電性フィルム１３０とをこの順に備える。上記調光層は、液晶化合物を含む。液晶化合物を含む調光層は、樹脂マトリクス中に液晶化合物を分散させて構成される。該調光層においては、電圧印加の有無により、液晶化合物の配向度を変化させて、透過モードと散乱モードとを切り替えることができる。１つの実施形態においては、電圧が印加された状態で透過モードとなり、電圧が印加されていない状態で散乱モードとなる（ノーマルモード）。この実施形態においては、電圧無印加時においては液晶化合物が配向しておらず散乱モードとなり、電圧印加時に液晶化合物が配向して透過モードとなる。別の実施形態においては、電圧が印加された状態で散乱モードとなり、電圧が印加されていない状態で透過モードとなる（リバースモード）。この実施形態においては、電圧無印加時には液晶化合物が配向しており、配向状態の液晶化合物が樹脂マトリクスと略同一の屈折率を示し、透過モードとなる。一方、電圧の印加によって該液晶化合物の配向が乱れて散乱モードとなる。
【００１３】
本発明の製造方法により製造される調光フィルムは、散乱モードにおけるヘイズ値が、８０％以上であり、好ましくは８０％〜９９％であり、より好ましくは９０％〜９９％である。ヘイズ値は、ＪＩＳ７１３６に準じて測定される。
【００１４】
上記調光フィルムの透過モードにおけるヘイズ値は、好ましくは５０％未満であり、より好ましくは２０％以下であり、さらに好ましくは１０％以下である。透過モードにおけるヘイズ値の下限は、例えば、１％である。
【００１５】
上記のとおり、本発明の製造方法においては、エマルション化された液晶化合物および樹脂を含む塗工液を用いる。当該塗工液においては、液晶化合物が所定サイズ（例えば、径が１μｍ〜１０μｍ）の液滴状態で存在している。このような塗工液を用いれば、簡便に所望の調光層を形成することができ、また、ロールトゥロールプロセスにより調光層を容易に形成することができる。このような利点がある一方で、エマルション化された塗工液を用いると、塗工する際のライン速度を速くし（２ｍ／分以上）、かつ、散乱モードにおけるヘイズ値が高い（８０％以上）調光フィルムを得る場合に、外観欠点（光散乱性が異常となる箇所）が生じやすい傾向にあることを、本発明の発明者らは見いだした。発明者らが鋭意検討したところ、部分的に生じる塗布層の厚み変動が外観欠点の要因であることが推測され、当該厚み変動による欠点は調光フィルムのヘイズ値が高いほど目視されやすいことが分かった。塗布層の厚み変動は、塗工基材としての透明導電性フィルムの背面（すなわち、透明導電性フィルムの塗工面とは反対側の面であり、透明導電性フィルムと搬送体（例えば、バックロール）との間）に存在する極微小な異物をきっかけとして生じると考えられる。また、塗布層の厚み変動の一因として、透明導電性フィルムの部分的な厚み変動も挙げられる。
【００１６】
外観欠点発生について推測されるメカニズムの詳細は以下のとおりである。スロットダイを用い、エマルション化された塗工液を所定速度以上で透明導電性フィルムに塗工する際、極微小な異物が存在する部分においては、スロットダイ吐出口と透明導電性フィルムとの間の距離が、瞬間的に近くなる。このような瞬間的変動をきっかけに、スロットダイの上流側および／または下流側（特に下流側）のリップ近傍において塗工液のビード（液だまり）が乱れ、所定時間、乱れた状態が継続する。この乱れた状態が収束し再びビードが安定するまでの間、塗布層の厚みが変動すると考えられる。この厚み変動に起因して、異物の大きさよりも格段に大きい外観欠点が生じると考えられる。このような現象は、通常の塗工液（エマルション化していない塗工液、例えば、有機溶剤系の塗工液）を用いる際には生じず、エマルション化された塗工液を用いた際に特有の現象であると考えられる。
【００１７】
本発明は、スロットダイのリップ先端と透明導電性フィルムとのギャップを１００μｍ以上とすることにより、上記の新規な課題を解決する発明である。図２は、本願発明の塗工工程におけるスロットダイのリップ近傍を示す概略断面図である。図２においては、搬送体（バックロール）３００上で搬送される透明導電性フィルム１１０上に、スロットダイ２００を用いて、塗工液が塗布されている。スロットダイ２００のリップ２１０の先端２１１と透明導電性フィルム１１０とのギャップは、図２のギャップＬに該当する。なお、スロットダイのリップ先端と透明導電性フィルムとのギャップは、透明導電性フィルムの背面に異物等がない状態で測定されたギャップである。本発明においては、当該ギャップＬを１００μｍ以上とすることにより、塗工液のビード（液だまり）の乱れを防止することができ、厚み均一性に優れる塗布層を形成することができる。その結果、外観欠点（光散乱性が異常となる箇所）の発生を防止することができる。スロットダイのリップ先端と透明導電性フィルムとのギャップＬは、好ましくは１００μｍ〜５５０μｍであり、より好ましくは１００μｍ〜３５０μｍである。
【００１８】
Ｂ．塗工工程
上記塗工工程は、調光フィルムを構成する一対の透明導電性フィルムのうちの一方に、エマルション化された液晶化合物および樹脂を含む塗工液を塗工（塗布・乾燥）する工程である。当該塗工工程を経て、樹脂マトリクス中に液晶化合物が分散して存在して構成された調光層を得ることができる。
【００１９】
（塗工液）
上記塗工液は、任意の適切な方法により調製され得る。例えば、液晶化合物と水に溶解させた水溶性高分子（水性相）もしくは樹脂エマルション（ラテックス）とを混合して攪拌することにより得られる。エマルション化された液晶化合物および樹脂を含む塗工液の調製方法の詳細は、例えば、特表５８−５０１６３１号公報、特開昭６０−２５２６８７号公報、特表１１−５００７５７号公報等に記載されている。当該公報は、その全体の記載が本明細書に参考として援用される。
【００２０】
塗工液に含まれる液晶化合物としては、任意の適切な液晶化合物が用いられ得る。例えば、ネマティック型、スメクティック型、コレステリック型液晶化合物が挙げられる。透過モードにおいて優れた透明性を実現できることから、ネマティック型液晶化合物を用いることが好ましい。上記ネマティック型液晶化合物としては、ビフェニル系化合物、フェニルベンゾエート系化合物、シクロヘキシルベンゼン系化合物、アゾキシベンゼン系化合物、アゾベンゼン系化合物、アゾメチン系化合物、ターフェニル系化合物、ビフェニルベンゾエート系化合物、シクロヘキシルビフェニル系化合物、フェニルピリジン系化合物、シクロヘキシルピリミジン系化合物、コレステロール系化合物等が挙げられる。
【００２１】
塗工液に含まれる樹脂としては、任意の適切な樹脂が用いられ得る。例えば、ポリウレタン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリアクリル系樹脂等が挙げられる。また、メタクリレート／アクリロニトリル共重合体、ウレタン／アクリレート共重合体、アクリレート／アクリロニトリル共重合体等の共重合体を用いてもよい。
【００２２】
上記液晶化合物と樹脂との合計量は、塗工液１００重量部に対して、好ましくは３０重量部〜７０重量部であり、より好ましくは４０重量部〜６０重量部である。このような範囲であれば、安定したエマルション塗工液を得ることができる。
【００２３】
上記液晶化合物と樹脂との重量比（樹脂／液晶化合物）は、好ましくは１０／９０〜９０／１０であり、より好ましくは３０／７０〜７０／３０である。液晶化合物の割合が大きすぎる場合、液晶のエマルションが安定せず、経時で液滴サイズが容易に粗大化してしまうおそれがある。一方、液晶化合物の割合が小さすぎる場合、調光フィルムの調光機能が十分に発現しないおそれがある。
【００２４】
上記塗工液は、架橋剤をさらに含んでいてもよい。架橋剤を含む塗工液を用いれば、架橋構造を有する樹脂マトリクスから構成された調光層を形成することができる。架橋剤としては、任意の適切な架橋剤が用いられ得る。例えば、アジリジン系架橋剤、イソシアネート系架橋剤等が挙げられる。架橋剤の含有割合は、塗工液１００重量部に対して、好ましくは０．５重量部〜１０重量部であり、より好ましくは０．８重量部〜５重量部である。
【００２５】
塗工液の粘度は、スロットダイから吐出する時点において、好ましくは２０ｍＰａｓ〜４００ｍＰａｓであり、より好ましくは３０ｍＰａｓ〜３００ｍＰａｓであり、さらに好ましくは４０ｍＰａｓ〜２００ｍＰａｓである。本発明においては、このような範囲の粘度を有する塗工液を用いる場合において、特に優れた効果を得ることができる。粘度が２０ｍＰａｓ未満の場合、溶媒（水）を乾燥させる際に溶媒の対流が顕著となり、調光層の厚みが不安定となるおそれがある。また、粘度が４００ｍＰａｓを超える場合、塗工液のビードが安定しないおそれがある。塗工液の粘度は、アントンパール社製レオメーターＭＣＲ３０２により測定することができる。ここでの粘度は、２０℃、せん断速度１０００（１／s）の条件でのせん断粘度の値を用いている。
【００２６】
（塗工液の塗布）
塗工液の塗布は、スロットダイを用いて行われる。より詳細には、塗工液の塗布は、搬送体上で透明導電性フィルムを搬送しながら、スロットダイから塗工液を吐出し、該透明導電性フィルムに塗布層を形成するようにして行われ得る。透明導電性フィルムを搬送する搬送体としては、任意の適切な搬送体が用いられ得る。好ましくは、透明導電性フィルムをロール搬送しながら、塗工液の塗布が行われる。スロットダイのリップ先端と透明導電性フィルムとのギャップＬは、上記のとおり、１００μｍ以上である。
【００２７】
ギャップＬと塗布層の厚み（ウエット厚みであり、図２における厚みＴ）Ｔとの比（Ｌ／Ｔ）は、好ましくは１．５〜２０であり、より好ましくは１．７〜１５であり、さらに好ましくは２〜１３である。このような範囲であれば、本発明の効果は顕著となる。
【００２８】
スロットダイのリップ幅（図２における幅Ｗ１）は、好ましくは５ｍｍ以下であり、より好ましくは２ｍｍ以下である。このような範囲であれば、塗工液のビードの乱れを防止することができ、また、ビードの乱れが生じたとしても、乱れた状態が短時間で解消されるため、厚み均一性に優れる塗布層を形成することができる。なお、スロットダイのリップの端面２１１は、吐出方向Ｄに対して略垂直であることが好ましい。また、スロットダイは、上流側リップの端面と下流側の端面とが、同一平面にあるように構成されていてもよく、上流側リップと下流側リップとが段差を有するように構成されていてもよい。好ましくは、図２に示すように、上流側リップの端面と下流側の端面とが、同一平面にあるように構成される。また、上流側リップと下流側リップとが段差を有するように構成されている場合、上記ギャップＬは、透明導電性フィルムに最も近いリップ先端と、透明導電性フィルムとの距離を意味する。
【００２９】
スロットダイの開口幅（図２における幅Ｗ２）は、好ましくは０．１ｍｍ〜５ｍｍであり、より好ましくは０．１ｍｍ〜２ｍｍである。
【００３０】
スロットダイは、任意の適切な材料から構成される。スロットダイを構成する材料としては、例えば、鉄、ステンレス、ニッケルコート鉄等が挙げられる。
【００３１】
上記スロットダイは、吐出方向Ｄが塗工面に対して所定の角度を有するように配置されていてもよい。スロットダイの吐出方向Ｄと塗工面とのなす角度は、好ましくは７０°〜１１０°であり、より好ましくは８０°〜１００°である。なお、透明導電性フィルムがロール搬送される場合、上記塗工面は、搬送ロールの半径方向と吐出方向とが一致する場合に吐出方向に対して垂直となる面（接平面）とする。
【００３２】
塗工液の吐出量は、所望とする塗布層厚み、塗布層の幅、ライン速度等に応じて、任意の適切な吐出量に設定され得る。
【００３３】
塗工液を塗工する際のライン速度は、２ｍ／分以上であり、好ましくは２ｍ／分〜５０ｍ／分である。このようなライン速度は、塗工液のビードの乱れが生じやすいライン速度であるが、本願発明によれば、上記範囲のライン速度で塗工液を塗工しても、塗工液のビードの乱れを防止することができ、厚み均一性に優れる塗布層を形成することができる。また、上記範囲のライン速度であれば、効率よく調光層を形成することができる。
【００３４】
塗工液の塗布は、減圧しながら行ってもよい。好ましくは、ライン方向上流側から減圧する。減圧度は、大気圧に対して、好ましくは０．０５ｋＰａ〜５ｋＰａであり、より好ましくは０．１ｋＰａ〜２ｋＰａである。減圧しながら塗工液を塗布することにより、ビードが安定し、厚み均一性に優れる塗布層を形成することができる。
【００３５】
塗布層の厚みＴは、好ましくは１０μｍ〜１００μｍであり、より好ましくは２０μｍ〜１００μｍである。このような範囲であれば、散乱モードにおいて高いヘイズ値を示し、かつ、厚みの均一性に優れる調光層を得ることができる。
【００３６】
（塗布層の乾燥）
塗工液を塗布した後、任意の適切な方法により、塗布層を乾燥させて、調光層を形成する。乾燥方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。例えば、加熱乾燥、熱風乾燥等が挙げられる。１つの実施形態においては、塗工液が架橋剤を含む場合、乾燥工程において、樹脂マトリクスの架橋構造が形成される。乾燥温度は、好ましくは３０℃〜８０℃であり、より好ましくは３５℃〜６０℃である。乾燥時間は、好ましくは１分〜１５分であり、より好ましくは２分〜１０分である。乾燥温度および乾燥時間を適切に設定することにより、厚み精度に優れる調光層を得ることができる。
【００３７】
Ｂ．調光フィルム
上記のとおり、１つの実施形態においては、本発明の製造方法により得られる調光フィルムは、第１の透明導電性フィルムと、調光層と、第２の透明導電性フィルムとをこの順に備える。
【００３８】
調光フィルムの厚みは、好ましくは１１０μｍ〜４４０μｍであり、より好ましくは１５０μｍ〜４００μｍである。
【００３９】
（透明導電性フィルム）
図３は、本発明の１つの実施形態による第１の透明導電性フィルムの概略断面図である。第１の透明導電性フィルム１１０は、透明基材１０と、該透明基材１０の両側または片側（図示例では片側）に配置された透明導電層２０とを含む。第２の透明導電性フィルムも、第１の透明導電性フィルムと同様、透明基材と該透明基材の両側または片側に配置された透明導電層とを含み得る。第１の透明導電性フィルムと第２の透明導電性フィルムとは同じ構成であってもよく、異なる構成であってもよい。第１の透明導電性フィルムと第２の透明導電性フィルムとは、それぞれの透明導電層が対向するようにして配置されることが好ましい。以下、第１の透明導電性および第２の透明導電性フィルムを、総称して、透明導電性フィルムと言うこともある。
【００４０】
透明導電性フィルムの厚みは、好ましくは１０μｍ〜２００μｍであり、より好ましくは２０μｍ〜２００μｍである。このような範囲であれば、座屈し難く、座屈による欠点が少ない調光フィルムを得ることができる。厚みの厚いフィルムに塗工液を塗工する場合、噛みこんだ異物の影響が出やすい傾向にあるが、本発明の製造方法によれば、比較的厚みの厚い透明導電性フィルムに塗工液を塗工しても、異物の影響なく、外観決定の少ない調光フィルムを得ることができる。一方、厚みが２００μｍを超える透明導電性フィルムは、ロール搬送しがたい点で不利である。
【００４１】
上記透明導電性フィルムの表面抵抗値は、好ましくは０．１Ω／□〜１０００Ω／□であり、より好ましくは０．５Ω／□〜３００Ω／□であり、特に好ましくは１Ω／□〜２００Ω／□である。
【００４２】
上記透明導電性フィルムのヘイズ値は、好ましくは２０％以下であり、より好ましくは１０％以下であり、さらに好ましくは０．１％〜５％である。
【００４３】
上記透明導電性フィルムの全光線透過率は、好ましくは３０％以上であり、より好ましくは６０％以上であり、特に好ましくは８０％以上である。
【００４４】
透明導電層は、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化錫（ＳｎＯ２）等の金属酸化物を用いて形成され得る。あるいは、透明導電層は、銀ナノワイヤ（ＡｇＮＷ）等の金属ナノワイヤ、カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）、有機導電膜、金属層またはこれらの積層体によって形成され得る。透明導電層は、目的に応じて、所望の形状にパターニングされ得る。
【００４５】
上記透明基材を構成する材料は、任意の適切な材料が用いられ得る。具体的には、例えば、フィルムやプラスチック基材などの高分子基材が好ましく用いられる。平滑性および透明導電層形成用組成物に対する濡れ性に優れ、また、ロールによる連続生産により生産性を大幅に向上させ得るからである。
【００４６】
上記透明基材を構成する材料は、代表的には熱可塑性樹脂を主成分とする高分子フィルムである。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエステル系樹脂；ポリノルボルネン等のシクロオレフィン系樹脂；アクリル系樹脂；ポリカーボネート樹脂；セルロース系樹脂等が挙げられる。なかでも好ましくは、ポリエステル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂またはアクリル系樹脂である。これらの樹脂は、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性などに優れる。上記熱可塑性樹脂は、単独で、または２種以上組み合わせて用いてもよい。また、偏光板に用いられるような光学フィルム、例えば、低位相差基材、高位相差基材、位相差板、輝度向上フィルム等を基材として用いることも可能である。
【００４７】
上記透明基材の厚みは、好ましくは５０μｍ〜２００μｍであり、より好ましくは６０μｍ〜１５０μｍである。
【００４８】
上記透明基材の全光線透過率は、好ましくは３０％以上であり、より好ましくは３５％以上であり、さらに好ましくは４０％以上である。
【００４９】
（調光層）
１つの実施形態において、上記調光層は、液晶化合物を含む。液晶化合物を含む調光層は、樹脂マトリクス中に液晶化合物を分散させて構成される。調光層は上記Ａ項で説明した方法により形成され得る。
【００５０】
上記のような調光層としては、高分子分散型液晶を含む調光層を含む調光層等が挙げられる。高分子分散型液晶は、高分子内において液晶化合物が液滴状態で存在して構成される。
【００５１】
調光層中の液晶化合物の液滴は、径が１μｍ〜１０μｍであることが好ましく、２μｍ〜７μｍであることがより好ましい。
【００５２】
上記液晶化合物としては、特に限定されず、Ａ項で説明した液晶化合物が用いられ得る。
【００５３】
調光層中における液晶化合物の含有量は、調光層１００重量部に対して、好ましくは１０重量部〜９０重量部であり、より好ましくは３０重量部〜７０重量部である。
【００５４】
調光層を構成する樹脂マトリクスを形成する樹脂としては、特に限定されず、例えば、Ａ項で説明した樹脂により、樹脂マトリクスが形成される。
【００５５】
調光層中における樹脂マトリクスの含有量は、調光層１００重量部に対して、好ましくは１０重量部〜９０重量部であり、より好ましくは３０重量部〜７０重量部である。
【実施例】
【００５６】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例になんら限定されるものではない。実施例における評価方法は以下のとおりである。
【００５７】
［製造例１］
（塗工液の調製）
液晶化合物（チッソ社製、商品名「ＪＭ１０００ＸＸ」）５０重量部に、水性脂肪族ポリウレタンラテックス（ゼネカ社製、商品名「Ｎｅｏｒｅｚ  Ｒ−９６７」、ラテックス粒子３５重量％を含む）５０重量部を添加した後、攪拌部を４０℃に保持しつつ、エクセルオートホモジナイザー（日本精機製）を用いて撹拌して、塗工液（エマルション塗工液）を得た。得られた塗工液の粘度は、６５ｍＰａｓであった。
【００５８】
［実施例１］
図２に示すようなスロットダイ（リップの厚み（幅）３ｍｍ）を用いて、製造例１で得られた塗工液を、第１の透明導電性フィルム上に塗工（塗布、乾燥）して、厚みが２０μｍの塗工層（調光層）を形成した。その後、塗工層（調光層）上に第２の透明導電性フィルムを積層して、調光層フィルムを得た。
なお、第１の透明導電性フィルムおよび第２の透明導電性フィルムとしては、ＰＥＴ基材上にＩＴＯ層からなる透明導電層が配置して構成されており、厚みが１８８μｍの透明導電性フィルム（表面抵抗値：１００Ω／□）を用いた。
塗工液の塗布条件は、ライン速度：６ｍ／ｓ、スロットダイのリップ先端と透明導電性フィルムとのギャップＬ：１５０μｍ、上流からのバキューム圧：０．４ｋＰａとした。当該条件の塗布により、ウエット厚み４０μｍの塗布層が形成された。塗布層の乾燥条件は、４０℃、５分とした。
【００５９】
［実施例２］
塗工液の塗布条件において、ギャップＬを２５０μｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、調光フィルムを得た。塗布層のウエット厚みは４５μｍであり、調光層の厚みは２２μｍであった。
【００６０】
［実施例３］
リップの厚みが１ｍｍであるスロットダイを用い、ギャップＬを１５０μｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、調光フィルムを得た。塗布層のウエット厚みは４９μｍであり、調光層の厚みは２５μｍであった。
【００６１】
［実施例４］
塗工液の塗布条件において、ギャップＬを２５０μｍとしたこと以外は、実施例３と同様にして、調光フィルムを得た。塗布層のウエット厚みは５０μｍであり、調光層の厚みは２５μｍであった。
【００６２】
［実施例５］
塗工液の塗布条件において、ギャップＬを３５０μｍとしたこと以外は、実施例３と同様にして、調光フィルムを得た。塗布層のウエット厚みは４４μｍであり、調光層の厚みは２２μｍであった。
【００６３】
［実施例６］
塗工液の塗布条件において、ギャップＬを４００μｍとしたこと以外は、実施例３と同様にして、調光フィルムを得た。塗布層のウエット厚みは３９μｍであり、調光層の厚みは１９μｍであった。
【００６４】
［比較例１］
塗工液の塗布条件において、ギャップＬを５０μｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、調光フィルムを得た。塗布層のウエット厚みは４３μｍであり、調光層の厚みは２１μｍであった。
【００６５】
［比較例２］
塗工液の塗布条件において、ギャップＬを５０μｍとしたこと以外は、実施例３と同様にして、調光フィルムを得た。塗布層のウエット厚みは４５μｍであり、調光層の厚みは２２μｍであった。
【００６６】
［参考例１］
塗工液の塗布条件において、ライン速度を０．５ｍ／ｓとし、ギャップＬを５０μｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして、調光フィルムを得た。塗布層のウエット厚みは４０μｍであり、調光層の厚みは２０μｍであった。
【００６７】
＜評価＞
実施例、比較例および参考例で得られた調光フィルムを以下の評価に供した。結果を表１に示す。
【００６８】
（１）ヘイズ値
得られた調光フィルム（ノーマルモード、電圧無印加時）のヘイズ値をＪＩＳ７１３６に準じて、測定した。
【００６９】
（２）外観１（光散乱異常）
暗室にて、光源に蛍光灯を用いて、調光フィルムに光を透過させ、透過した光を目視にて観察した。膜厚ムラにより部分的に円状の濃淡が観察された部分を光散乱異常とし、その数を測定した。
【００７０】
（３）外観１（塗工スジ）
暗室にて、光源に蛍光灯を用いて、調光フィルムに光を透過させ、透過した光を目視にて観察した。ＭＤ方向に連続的に濃淡が観察された部分を塗工スジとし、その数を測定した。
【００７１】
【表１】
2019005698.tif 000003
【００７２】
表１から明らかなように、本発明によれば、ギャップＬを１００μｍ以上とすることにより、ライン速度が高速であっても、エマルション塗工液による調光層を外観よく形成することができる。外観向上効果は、スロットダイのリップ厚みを小さくすること、また、ギャップＬを３５０μｍ以下とすることにより、さらに顕著となる。
【符号の説明】
【００７３】
１０          透明基材
２０          透明導電層
１００        調光フィルム
１１０        第１の透明導電性フィルム
１２０        調光層
１３０        第２の透明導電性フィルム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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