(57)【要約】【課題】シール部材及びシール面の間の空間に原料粉が溜まることを防止できるロータリキルン設備を提供すること。【解決手段】ロータリキルン設備１は、回転することで、一次側に供給された原料粉４００を処理し、二次側に移動させる円筒状のレトルト１１と、レトルト１１の一次側を覆い、原料粉４００をレトルト１１に供給する供給装置１２と、レトルト１１の二次側を覆い、レトルト１１で処理された原料粉４００を二次側に排出する排出装置１３と、供給装置１２及びレトルト１１の間、並びに、レトルト１１及び排出装置１３の間にそれぞれ設けられ、レトルト１１の外周面に設けられた一対の鏡像形状のシール部材４４、４５、並びに、供給装置１２及び排出装置１３にそれぞれ設けられ、一対のシール部材４４、４５の間に配置されるとともに、一対のシール部材４４、４５が摺動するシール面を両主面に有するシール板４２を有するシール構造１４と、を備える。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転することで一次側に供給された原料粉を処理し、二次側に移動させる円筒状のレトルトと、
前記レトルトの一次側を覆い、前記原料粉を前記レトルトに供給する供給装置と、
前記レトルトの二次側を覆い、前記レトルトで処理された前記原料粉を二次側に排出する排出装置と、
前記供給装置及び前記レトルトの間、並びに、前記レトルト及び前記排出装置の間にそれぞれ設けられ、前記レトルトの外周面に設けられた一対の鏡像形状のシール部材、並びに、前記供給装置及び前記排出装置にそれぞれ設けられ、前記一対のシール部材の間に配置されるとともに、前記一対のシール部材が摺動するシール面を両主面に有するシール板を有するシール構造と、
を備えるロータリキルン設備。
【請求項２】
前記シール構造は、前記レトルトの外周面に固定され、前記一対のシール部材を固定する支持部材を有し、
前記シール部材は、前記支持部材に固定される基部と、前記基部に設けられ、径方向で外方向に向かって傾斜する、前記シール面に摺動するリップを備える、請求項１に記載のロータリキルン設備。
【請求項３】
前記供給装置は、前記レトルトの一端を覆い、内径が前記レトルトの外径よりも大径の第１フードを有し、
前記排出装置は、前記レトルトの他端を覆い、内径が前記レトルトの外径よりも大径の第２フードを有し、
前記シール板は、前記第１フード及び前記第２フードにそれぞれ設けられる、請求項２に記載のロータリキルン設備。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、原料粉を処理するためのロータリキルン設備に関する。
【背景技術】
【０００２】
従前から、粉状の原料粉を処理する設備として、原料粉を加熱して乾燥処理や焼成処理を行うロータリキルンや、原料粉を冷却するロータリクーラ等のロータリキルン設備が知られていた（例えば、特許文献１参照）。また、ロータリキルン設備は、原料粉の乾燥、焼成及び冷却を連続処理するために、複数のロータリキルンやロータリクーラを組み合わせたものも知られている。
【０００３】
ロータリキルン設備は、処理を行う原料粉を内部に収容して回転させる、炉心管と呼ばれるレトルトと、レトルトを加熱する加熱ヒータと、を有する。ロータリキルン設備は、レトルトの回転中心に対して直交するシール面を有するフランジに、リップを密着させることで、レトルト内部と外部とを気密にシールする環状のシール部材を備える。シール部材は、原料粉が外部に漏れることを防止するとともに、異物がレトルト内部に侵入することを防止する。また、リップをシール面に密着させるために、ロータリキルン設備は、レトルトの内部空間の圧力を大気圧よりも減圧している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−３０７３８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述したロータリキルン設備では、以下の問題があった。即ち、シール部材のリップは、フランジのシール面に対して傾斜して延びることで、シール面に密着する構成であり、そして、レトルトは、回転中心が水平方向に沿って配置される。このため、リップとシール面との間に円錐台形状の空間が生じるが、当該空間の下部に、原料粉が進入し、原料粉が溜まる。しかし、一定量の原料粉が当該空間の下部に溜まると、当該原料粉がリップを押しのけて外部に漏れるという虞があった。また、溜まった原料粉がシール面及びリップの間に位置してレトルトが回転すると、リップが摩耗し、シール部材の寿命が低減する虞もあった。
【０００６】
また、ロータリキルン設備は、シール部材のリップをシール面に密着させるために、レトルトの内部空間の圧力を大気圧よりも減圧する必要があった。このため、大気圧よりも低い環境下でしか、原料粉を処理できなかった。このため、レトルト内の圧力が負圧及び正圧のいずれでもシール部材がシールできるロータリキルンが求められていた。
【０００７】
そこで本発明は、シール部材及びシール面の間の空間に原料粉が溜まることを防止できるとともに、レトルト内の圧力に係わらずシールできるロータリキルン設備を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様によれば、ロータリキルン設備は、回転することで一次側に供給された原料粉を処理し、二次側に移動させる円筒状のレトルトと、前記レトルトの一次側を覆い、前記原料粉を前記レトルトに供給する供給装置と、前記レトルトの二次側を覆い、前記レトルトで処理された前記原料粉を二次側に排出する排出装置と、前記供給装置及び前記レトルトの間、並びに、前記レトルト及び前記排出装置の間にそれぞれ設けられ、前記レトルトの外周面に設けられた一対の鏡像形状のシール部材、並びに、前記供給装置及び前記排出装置にそれぞれ設けられ、前記一対のシール部材の間に配置されるとともに、前記一対のシール部材が摺動するシール面を両主面に有するシール板を有するシール構造と、を備える。
【発明の効果】
【０００９】
本発明は、シール部材及びシール面の間の空間に原料粉が溜まることを防止できるロータリキルン設備を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の一実施形態に係るロータリキルン設備の構成を示す断面図。
【図２】同ロータリキルン設備の一次側の構成を一部側面から示す断面図。
【図３】同ロータリキルン設備の一次側に設けられるシール構造の構成を示す断面図。
【図４】同ロータリキルン設備の二次側の構成を示す断面図。
【図５】同ロータリキルン設備の二次側に設けられるシール構造の構成を示す断面図。
【図６】同ロータリキルン設備の評価試験を行った試験装置の構成を示す断面図。
【図７】同評価試験の結果を示す説明図。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の一実施形態に係るロータリキルン設備１の構成を、図１乃至図５を用いて説明する。  
図１は、本発明の一実施形態に係るロータリキルン設備であるロータリキルン１の構成を模式的に示す断面図である。図２はロータリキルン１の一次側の構成を一部側面から示す断面図、図３はロータリキルン１の一次側に設けられるシール構造１４の構成を拡大して示す断面図である。図４はロータリキルン１の二次側の構成を示す断面図、図５はロータリキルン１の二次側に設けられるシール構造１４の構成を拡大して示す断面図である。なお、本実施形態において、ロータリキルン１で処理する原料粉４００を供給する側を一次側、ロータリキルン１で処理した原料粉４００を排出する側を二次側として以下説明する。
【００１２】
ロータリキルン設備１は、原料粉４００を処理する設備に用いられる。ロータリキルン設備１は、原料粉４００を加熱して乾燥処理や焼成処理を行うロータリキルンや、原料粉４００を冷却するロータリクーラ等である。なお、本実施形態においては、ロータリキルン設備１として、ロータリキルン１を用いて以下説明する。また、ここで、原料粉４００は、粉状の材料であり、例えば、含水粉体又は未焼成粉体であり、ロータリキルン１により、脱水、乾燥又は焼成処理が行われる。一例として、原料粉４００は、水酸化リチウム無水和物である。
【００１３】
図１に示すように、ロータリキルン１は、ベース１０と、レトルト１１と、供給装置１２と、排出装置１３と、シール構造１４と、加熱装置１５とを備えている。また、ロータリキルン１は、レトルト１１を回転させる駆動源を有する。
【００１４】
ベース１０は、上面が平面に構成された、矩形板状に構成される。ベース１０は、ロータリキルン１を設置する工場の床面等に固定される。
【００１５】
レトルト１１は、回転することで、内部に収容した原料粉４００を一次側から二次側に搬送するとともに、搬送過程において収容した原料粉４００を処理する。図２及び図４に示すように、レトルト１１は、例えば炉心管と呼ばれ、供給装置１２、排出装置１３及びシール構造１４とともに、ロータリキルン１の外部空間２００から遮断された、原料粉４００の処理を行う内部空間１００を構成する。ここで、外部空間２００とは、ロータリキルン１が設置される工場内の空間である。
【００１６】
レトルト１１は、円筒状に構成され、その軸心が一次側から二次側に向かって若干下方へ傾斜するように、ベース１０上に支持部材１０ａ等により回転可能に支持される。レトルト１１は、内周面に、軸方向に延びるリフティングプレートを複数有する。
【００１７】
供給装置１２は、ベース１０上に固定される。供給装置１２は、レトルト１１の一次側に設けられる。供給装置１２は、レトルト１１の一次側に原料粉４００を供給可能に構成される。図２に示すように、供給装置１２は、例えば、レトルト１１の一次側の開口する端部を覆う第１フード２１と、第１フード２１に設けられ、原料粉４００を供給する供給フィーダ２２と、レトルト１１内を通過したガスを排気する排気管２３と、を備えている。
【００１８】
第１フード２１の内径は、レトルト１１の外径よりも大径に構成される。第１フード２１は、内周面がレトルト１１の外周面と所定の隙間を空けてベース１０上に固定される。
【００１９】
排出装置１３は、ベース１０上に固定される。排出装置１３は、レトルト１１の二次側に、処理した原料粉４００を排出し、例えば排出した原料粉４００を回収する。図４に示すように、排出装置１３は、例えば、レトルト１１の二次側の開口する端部を覆う有底円筒状の第２フード３１と、第２フード３１に設けられ、原料粉４００を二次側に設けられた排出管３２と、ガスをレトルト１１内に供給する供給管３３と、排出管３２に接続され、処理した原料粉４００を回収する回収装置３４と、を備えている。
【００２０】
第２フード３１の内径は、レトルト１１の外径よりも大径に構成される。第２フード３１は、内周面がレトルト１１の外周面と所定の隙間を空けてベース１０上に固定される。
【００２１】
図２乃至図５に示すように、シール構造１４は、レトルト１１及び供給装置１２の間、並びに、レトルト１１及び排出装置１３の間にそれぞれ設けられる。この２つのシール構造１４は、レトルト１１の内部空間１００と外部空間２００との間を気密にシールする。
【００２２】
具体的には、図５及び図６に示すように、シール構造１４は、第１支持部材４１と、シール板４２と、第２支持部材４３と、第１シール部材４４と、第２シール部材４５とを備えている。
【００２３】
第１支持部材４１は、第１フード２１又は第２フード３１に設けられる。即ち、２つのシール構造１４のうち一方の第１支持部材４１は、第１フード２１の開口に固定され、２つのシール構造１４のうち他方の第１支持部材４１は、第２フード３１の開口に固定される。
【００２４】
第１フード２１に固定された第１支持部材４１は、シール板４２を固定する。第１フード２１に固定された第１支持部材４１は、第１フード２１との間、及び、第１支持部材４１及びシール板４２との間に気密に固定される。
【００２５】
第２フード３１に固定された第１支持部材４１は、シール板４２を固定する。第２フード３１に固定された第１支持部材４１は、第２フード３１との間、及び、第１支持部材４１及びシール板４２との間に気密に固定される。
【００２６】
シール板４２は、環状の板状に構成される。シール板４２の両主面は、第１シール部材４４及び第２シール部材４５とそれぞれ接触し、第１シール部材４４及び第２シール部材４５が摺動するシール面を構成する。シール板４２は、両主面の面方向が、レトルト１１の回転中心に対して直交する方向に沿った姿勢で、第１支持部材４１を介して第１フード２１又は第２フード３１に支持される。
【００２７】
第２支持部材４３は、円筒状に構成され、レトルト１１の端部の外周面に設けられる。即ち、２つのシール構造１４の第２支持部材４３は、レトルト１１の回転に伴って回転可能に、レトルト１１の両端部の外周面にそれぞれ固定される。第２支持部材４３は、外周面に第１シール部材４４及び第２シール部材４５を固定する。第２支持部材４３は、軸方向の中間部位がシール板４２と対向する位置に配置される。第２支持部材４３の外径は、シール板４２の内径よりも小径に構成される。第２支持部材４３は、レトルト１１の外周面に直接、又は、レトルト１１の外周面に設けられた環状のリブに、気密に固定される。
【００２８】
第１シール部材４４は、環状に構成され、樹脂材料等からなる。第１シール部材４４は、第２支持部材４３の外周面に気密に固定される。第１シール部材４４は、第２支持部材４３に固定される環状の基部４４ａと、基部４４ａの一方の主面であって、且つ、軸心側の端部に一体に設けられた環状のリップ４４ｂとを有する。
【００２９】
リップ４４ｂは、基部４４ａの軸心側の端部から、径方向で外方に向かって斜め方向に突出する。リップ４４ｂは、第２支持部材４３に第１シール部材４４が固定されたときに、先端がシール板４２のシール面に接触する。
【００３０】
第２シール部材４５は、環状に構成され、樹脂材料等からなる。第２シール部材４５は、第２支持部材４３の外周面に気密に固定される。第２シール部材４５は、第２支持部材４３に固定される環状の基部４５ａと、基部４５ａの軸心側の一方の主面に一体に設けられた環状のリップ４５ｂとを有する。
【００３１】
リップ４５ｂは、基部４４ａの軸心側の端部から、径方向で外方に向かって斜め方向に突出する。リップ４５ｂは、第２支持部材４３に第２シール部材４５が固定されたときに、先端がシール板４２のシール面に接触する。また、リップ４５ｂは、第２支持部材４３に固定され、第１シール部材４４と第２シール部材４５が対向したときに、第１シール部材４４の基部４４ａに設けられたリップ４４ｂと対向する側の基部４５ａの主面に設けられる。
【００３２】
即ち、第１シール部材４４及び第２シール部材４５は、第２支持部材４３に固定した姿勢で、基部４４ａ、４５ａのリップ４４ｂ、４５ｂが設けられる主面が異なる。換言すると、第１シール部材４４及び第２シール部材４５は、鏡像形状に構成される。
【００３３】
このような構成のシール構造１４は、第１シール部材４４及び第２シール部材４５がシール板４２の両主面のシール面にそれぞれ当接することで、レトルト１１、第１フード２１及び第２フード３１により構成される原料粉４００を処理する内部空間１００を外部空間２００と遮断する。また、シール構造１４は、第１シール部材４４が内部空間１００側に配置され、第２シール部材４５が外部空間２００側に配置される。
【００３４】
加熱装置１５は、レトルト１１の周囲に設けられ、レトルト１１を加熱することで、原料粉４００を処理する内部空間１００を加熱する。
【００３５】
このように構成されたロータリキルン１は、シール構造１４の一対の第１シール部材４４及び第２シール部材４５を鏡像形状とし、第１シール部材４４のリップ４４ｂ及び第２シール部材４５のリップ４５ｂを、シール板４２の両主面のシール面にそれぞれ当接させる。このような構成のシール構造１４は、原料粉４００が処理されるロータリキルン１の内部空間１００と、ロータリキルン１の外部空間２００とを遮断する。
【００３６】
例えば、内部空間１００が外部空間２００の気圧よりも低圧に設定された場合には、レトルト１１、第１フード２１及び第２フード３１により構成される原料粉４００が処理される内部空間１００、並びに、第１シール部材４４及び第２シール部材４５の間の空間１１０は負圧となる。これにより、第１シール部材４４のリップ４４ｂは自身の弾性力により、そして、第２シール部材４５のリップ４５ｂは外気圧によって、シール板４２のシール面に当接する。
【００３７】
また、内部空間１００が外部空間２００の気圧よりも高圧に設定された場合、レトルト１１、第１フード２１及び第２フード３１により構成される原料粉４００が処理される内部空間１００、並びに、第１シール部材４４及び第２シール部材４５の間の空間１１０は正圧となる。これにより、第２シール部材４５のリップ４５ｂは、自身の弾性力により、そして、第１シール部材４４のリップ４４ｂは、内部空間１００の内圧によって、シール板４２のシール面に当接する。
【００３８】
結果、ロータリキルン１は、レトルト１１、第１フード２１及び第２フード３１により構成される原料粉４００が処理される内部空間１００を外部空間２００から確実に遮断、且つ、気密にシールすることが可能となる。これにより、原料粉４００を処理する内部空間１００に、外部から異物が混入することを防止できるとともに、内部空間１００から原料粉４００が外部空間２００側へと漏れることを防止できる。
【００３９】
また、シール構造１４は、第１シール部材４４及び第２シール部材４５の形状を鏡像形状とし、第１シール部材４４のリップ４４ｂ及び第２シール部材４５のリップ４５ｂがシール板４２の両主面と当接する構成である。このため、原料粉４００の処理時に、シール構造１４に移動した原料粉４００がリップ４４ｂ及びシール板４２のシール面の間の空間に溜まることがない。
【００４０】
具体的に説明すると、シール構造１４を上記構成とすることで、内部空間１００側に位置する第１シール部材４４は、リップ４４ｂの基部４４ａと対向する側の主面が内部空間１００側に配置される。
【００４１】
このため、第１シール部材４４は、原料粉４００が第１シール部材４４の上面側に移動してきても、基部４４ａ及びリップ４４ｂの間の空間に移動する。そして、レトルト１１の回転に伴って第１シール部材４４も回転することから、第１シール部材４４に付着した原料粉４００は、レトルト１１の回転時に第１シール部材４４から離間して落下する。このように、原料粉４００は、リップ４４ｂ及びシール面の間の空間に移動せずに、基部４４ａ及びリップ４４ｂに移動し、そして、落下することから、基部４４ａ及びリップ４４ｂの間に溜まることがない。加えて、シール構造１４は、原料粉４００を落下させる構成であることから、リップ４４ｂ及びシール板４２のシール面の間に原料粉４００が侵入することも防止できる。
【００４２】
また、仮に、何らかの要因により基部４４ａ及びリップ４４ｂの間の空間に原料粉４００が溜まったとしても、溜まった原料粉４００は、リップ４４ｂをシール面に向かって押圧、換言すると、第１シール部材４４のシール性能が向上する方向にリップ４４ｂを押圧することになる。
【００４３】
このため、シール構造１４は、内部空間１００から原料粉４００が外部に漏れることを確実に防止できることから、第１シール部材４４及び第２シール部材４５の間の空間１１０に原料粉４００が移動することがなく、結果、シール板４２のシール面とリップ４４ｂとの間の空間に原料粉４００が溜まることを防止できる。
【００４４】
さらに、リップ４４ｂ及びシール面の間に原料粉４００が侵入することが防止できることから、原料粉４００がリップ４４ｂ及びシール面の間に介在した状態で、リップ４４ｂがシール面を摺動することを防止できる。結果、リップ４４ｂの摩耗を抑制できることから、第１シール部材４４の寿命の低下も防止できる。
【００４５】
また、ロータリキルン１は、第１シール部材４４及び第２シール部材４５を有するシール構造１４とすることで、レトルト１１、第１フード２１及び第２フード３１により構成される原料粉４００が処理される内部空間１００の圧力が外部空間２００に対して負圧であっても正圧であってもよい。即ち、従来の一つのシール部材のみを用いるシール構造によれば、内部空間１００は、シール構造の気密性を確保するために外部空間２００に対して負圧である必要があったが、ロータリキルン１によれば、内部空間１００の圧力は適宜設定できる。結果、ロータリキルン１は、内部圧力に対して高い自由度を有する。
【００４６】
このため、ロータリキルン１は、原料粉４００の処理条件に内部空間１００の圧力を任意に設定できるとともに、ロータリキルン１の二次側に用いられるフィルタの逆洗時等の内部圧力変動に対してシール構造１４からの外部漏洩を防止することが可能となる。
【００４７】
次に、このようなロータリキルン設備１の評価試験及び試験結果について図６及び図７を用いて説明する。  
ロータリキルン設備１の評価試験として、図６に示す試験装置３００を用いて、処理前の原料粉をシール構造１４の第１シール部材４４のレトルト１１の内部空間１００側に位置する空間に原料粉を入れて試験装置３００を駆動する。また、比較例として、従来のロータリキルン設備１のように、第２シール部材４５のみを有する構成３１０を試験装置３００に設け、同様に、構成３１０のレトルト１１の内部空間１００側に位置する空間に原料粉４００を入れて同様に試験装置３００を駆動した。なお、用いる原料粉４００は、処理前の原料粉４００でまず試験を行い、試験が５０時間経過後、処理前の原料粉４００を除去し、処理後の原料粉４００をどう空間に充填し、同様に試験装置３００を駆動した。また、試験装置３００の駆動後、定期的に、第１シール部材４４及び第２シール部材４５から漏洩した原料粉４００の重量を計測し、累積の漏れ量（ｇ）を求めた。
【００４８】
図６に示すように、評価試験に用いる試験装置３００は、疑似レトルト３０１と、疑似レトルト３０１を回転させる駆動機構３０２と、疑似レトルト３０１の外周面に設けられたシール構造１４と、比較例である構成３１０と、を備える。
【００４９】
なお、疑似レトルト３０１に設けるシール構造１４は、第１シール部材４４及び第２シール部材４５に、それぞれシール板４２を設ける構成とした。
【００５０】
評価試験の結果を図７に示す。図７に一点鎖線で示すように、比較例の第２シール部材４５だけを設けた構成３１０においては、試験開始から５０時間で多量の原料粉４００の漏れが確認できた。また、試験開始から５０時間経過した時点で、原料粉４００を処理前から処理後のものへ交換したが、処理後の原料粉４００としたことで、原料粉４００の漏れ量が増加した。
【００５１】
これに対し本実施形態に対応するシール構造１４の場合を、図７において、破線及び三角形のマークで第１シール部材４４を、実線にて第２シール部材４５を示す。図７に示すように、シール構造１４は、第１シール部材４４及び第２シール部材４５の双方において、ほとんど漏れが生じず、第１シール部材４４において、４００時間経過後で０．０３ｇ、第２シール部材４５においては、第１シール部材４４においてほとんど原料粉４００が漏れていないことから０ｇであった。また、試験開始から５０時間経過した時点で、原料粉４００を処理前から処理後のものへ交換したが、いずれにおいても漏れはほとんど生じなかった。
【００５２】
このような評価試験から、本実施形態のシール構造１４を有するロータリキルン設備１は、原料粉４００の漏れを防止できるとともに、第１シール部材４４及び第２シール部材４５の寿命の低下を防止できることが明らかとなった。
【００５３】
上述したように、本発明の一実施形態に係るロータリキルン１によれば、一枚のシール板４２の両主面に一対の第１シール部材４４及び第２シール部材４５の各リップ４４ｂ、４５ｂを当接させる構成とする。これにより、ロータリキルン１は、高い気密性を有し、外部からの異物侵入を防止し、そして、シール板４２のシール面の間の空間に原料粉４００が溜まることを防止できる。
【００５４】
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば、上述した構成では、シール構造１４を備えるロータリキルン設備１として、ロータリキルン１を用いて説明したがこれに限定されない。即ち、ロータリキルン設備１は、回転することで、内部に原料粉４００を収容して処理するとともに、収容した原料粉４００を一次側から二次側に搬送するレトルト１１等の部材を各フード２１、３１で覆うことで、外部空間２００と処理する内部空間１００とをシール構造１４により遮断する構成であれば、同様の他の設備にも用いることができる。即ち、例えば、ロータリキルン設備１は、加熱装置１５を有さないロータリクーラであってもよい。
【００５５】
即ち、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。また、各実施形態は適宜組み合わせて実施してもよく、その場合組み合わせた効果が得られる。更に、上記実施形態には種々の発明が含まれており、開示される複数の構成要件から選択された組み合わせにより種々の発明が抽出され得る。例えば、実施形態に示される全構成要件からいくつかの構成要件が削除されても、課題が解決でき、効果が得られる場合には、この構成要件が削除された構成が発明として抽出され得る。
【符号の説明】
【００５６】
１…ロータリキルン設備（ロータリキルン）、１０…ベース、１０ａ…支持部材、１１…レトルト、１２…供給装置、１３…排出装置、１４…シール構造、１５…加熱装置、２１…第１フード、２２…供給フィーダ、２３…排気管、３１…第２フード、３２…排出管、３３…供給管、４１…第１支持部材、４２…シール板、４３…第２支持部材、４４…第１シール部材、４４ａ…基部、４４ｂ…リップ、４５…第２シール部材、４５ａ…基部、４５ｂ…リップ、１００…内部空間、２００…外部空間、３００…試験装置、３０１…疑似レトルト、３０２…駆動機構、３１０…構成、４００…原料粉。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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