(57)【要約】【課題】密閉型混練機２に付着した薬品を効率よくしかも十分に除去することができる、密閉型混練機２の洗浄方法の提供。【解決手段】この洗浄方法は、基材ゴム及び薬品を収容する混練室４と、前記混練室４から上方に向かって伸びるラム室６と、前記ラム室６内を上下に動くラム１０と、前記混練室４に投入された基材ゴム及び薬品を混練する一対のローター８とを備え、前記基材ゴム及び前記薬品を前記混練室４に前記ラム１０で押し込む際に当該薬品の一部が飛散し、この飛散した薬品が付着した、密閉型混練機２を洗浄するための方法であって、粒子状のドライアイスを噴射するノズル２２を備えた洗浄装置２０を用いて、前記密閉型混練機２の付着物に向けて、前記ドライアイスを前記ノズル２２から噴射する工程を含む。【選択図】図２
2019206150.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材ゴム及び薬品を収容する混練室と、前記混練室から上方に向かって伸びるラム室と、前記ラム室内を上下に動くラムと、前記混練室に投入された基材ゴム及び薬品を混練する一対のローターとを備え、
前記基材ゴム及び前記薬品を前記混練室に前記ラムで押し込む際に当該薬品の一部が飛散し、この飛散した薬品が付着した、密閉型混練機を洗浄するための方法であって、
粒子状のドライアイスを噴射するノズルを備えた洗浄装置を用いて、前記密閉型混練機の付着物に向けて、前記ドライアイスを前記ノズルから噴射する工程を含む、密閉型混練機の洗浄方法。
【請求項２】
前記ドライアイスの粒径が５ｍｍ以上１０ｍｍ以下である、請求項１に記載の密閉型混練機の洗浄方法。
【請求項３】
前記ドライアイスの噴射量が０．５ｋｇ／分以上１．０ｋｇ／分以下である、請求項１又は２に記載の密閉型混練機の洗浄方法。
【請求項４】
前記ドライアイスの噴射時間が２０分以上４０分以下である、請求項１から３のいずれかに記載の密閉型混練機の洗浄方法。
【請求項５】
前記ドライアイスの噴射時の圧力が０．２ＭＰａ以上０．４ＭＰａ以下である、請求項１から４のいずれかに記載の密閉型混練機の洗浄方法。
【請求項６】
前記付着物が前記ラムの上面に付着した薬品である、請求項１から５のいずれかに記載の密閉型混練機の洗浄方法。
【請求項７】
前記ドライアイスが、前記ラムをその上限位置にセットした状態で前記付着物に向けて噴射される、請求項６に記載の密閉型混練機の洗浄方法。
【請求項８】
前記ノズルの向きが水平方向に対してなす角度が、３０°以上６０°以下である、請求項７に記載の密閉型混練機の洗浄方法。
【請求項９】
前記ノズルの口径が２０ｍｍ以上３０ｍｍ以下である、請求項１から８のいずれかに記載の密閉型混練機の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、密閉型混練機の洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ゴム組成物は、密閉型混練機を用いて、構成成分としての基材ゴム、及び、補強剤等の薬品を混練することにより得られる。この密閉型混練機としては、バンバリーミキサー及びニーダーが知られている。
【０００３】
密閉型混練機は、基材ゴム及び薬品を収容する混練室と、この混練室から上方に向かって伸びる円筒状のラム室と、このラム室内を上下に動くラムと、混練室に投入された基材ゴム及び薬品を混練する一対のローターとを備える。
【０００４】
密閉型混練機を用いたゴム組成物の製造では、基材ゴム及び薬品を混練室内に投入すると、ラムが下降される。基材ゴム及び薬品は、このラムにより混練室内に押し込まれる。ローターが回転され、薬品が基材ゴムに練り込まれる。
【０００５】
基材ゴムに薬品を分散させて高品質なゴム組成物を得るために、密閉型混練機による混練方法については様々な検討が行われている（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１６−１４０９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
密閉型混練機によるゴム組成物の製造では、前述したように、基材ゴム及び薬品はラムにより混練室内に押し込まれる。このとき、ゴム組成物の品質に影響を与えない程度ではあるが、薬品の一部が飛散し密閉型混練機に付着する。
【０００８】
ゴム組成物の製造では、混練により基材ゴムは発熱する。薬品の分散を促すために、混練室内が加熱されることもある。このため、密閉型混練機の表面は熱を帯びる傾向にある。密閉型混練機に付着した薬品の融点が密閉型混練機の表面温度よりも低い場合、この薬品が融解し密閉型混練機にこびりつく恐れがある。融点が１１０℃前後にある薬品（例えば、加硫剤）を含むゴム組成物を製造した場合、この薬品が融解し密閉型混練機にこびりつきやすい傾向にある。
【０００９】
密閉型混練機に付着した薬品（以下、付着物）のうち、ラムの上面の付着物は、混練作業中に、ラムから脱落し、混練室内に落下する恐れがある。この場合、付着物がゴム組成物に混入してしまう。付着物の混入はゴム組成物の品質に影響するので、ゴム組成物への付着物の混入を防止するために、密閉型混練機は定期的に洗浄される。
【００１０】
密閉型混練機の洗浄では通常、エアーで付着物を吹き飛ばすことや、金属製の箆で付着物を掻き落とすことにより、密閉型混練機から付着物が除かれる。しかしこれら従来の洗浄方法では、密閉型混練機の熱で付着物が融解していることもあり、付着物を完全に除くことは難しい。密閉型混練機から付着物を十分に除去するには、手間がかかる。付着物の除去が不十分であり、洗浄効果が持続しないので、付着物の混入を防止するには、密閉型混練機を高い頻度で洗浄する必要がある。
【００１１】
高品質なゴム組成物を安定に製造するために、密閉型混練機に付着した薬品を効率よくしかも十分に除去することができる洗浄技術の確立が求められている。
【００１２】
本発明は、このような実状に鑑みてなされたものであり、密閉型混練機に付着した薬品を効率よくしかも十分に除去することができる、密閉型混練機の洗浄方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明に係る密閉型混練機の洗浄方法は、
基材ゴム及び薬品を収容する混練室と、前記混練室から上方に向かって伸びるラム室と、前記ラム室内を上下に動くラムと、前記混練室に投入された基材ゴム及び薬品を混練する一対のローターとを備え、
前記基材ゴム及び前記薬品を前記混練室に前記ラムで押し込む際に当該薬品の一部が飛散し、この飛散した薬品が付着した、密閉型混練機を洗浄するための方法であって、
粒子状のドライアイスを噴射するノズルを備えた洗浄装置を用いて、前記密閉型混練機の付着物に向けて、前記ドライアイスを前記ノズルから噴射する工程を含む。
【００１４】
好ましくは、この密閉型混練機の洗浄方法では、前記ドライアイスの粒径が５ｍｍ以上１０ｍｍ以下である。
【００１５】
好ましくは、この密閉型混練機の洗浄方法では、前記ドライアイスの噴射量が０．５ｋｇ／分以上１．０ｋｇ／分以下である。
【００１６】
好ましくは、この密閉型混練機の洗浄方法では、前記ドライアイスの噴射時間が２０分以上４０分以下である。
【００１７】
好ましくは、この密閉型混練機の洗浄方法では、前記ドライアイスの噴射時の圧力が０．２ＭＰａ以上０．４ＭＰａ以下である。
【００１８】
好ましくは、この密閉型混練機の洗浄方法では、前記付着物は前記ラムの上面に付着した薬品である。この場合、前記ドライアイスは、前記ラムをその上限位置にセットした状態で前記付着物に向けて噴射されるのがより好ましく、前記ノズルの向きが水平方向に対してなす角度は３０°以上６０°以下であるのがさらに好ましい。
【００１９】
好ましくは、この密閉型混練機の洗浄方法では、前記ノズルの口径が２０ｍｍ以上３０ｍｍ以下である。
【発明の効果】
【００２０】
本発明に係る密閉型混練機の洗浄方法では、この密閉型混練機に付着した薬品、すなわち付着物に向けて、洗浄装置のノズルから粒子状のドライアイスが噴射される。ドライアイスは、付着物に衝突する。これにより、付着物は粉砕され除去される。付着物が融解していても、ドライアイスの噴射により付着物は冷却される。冷却により付着物は固まるので、この洗浄方法では、付着物が融解していてもこの付着物の除去が可能である。さらにこの洗浄方法は、粒子状のドライアイスを吹き付けることで付着物を除去できるので、金属製の箆のような物理的手段では取り除くことができない、例えば、ラムとラム室との間の狭い隙間の付着物も取り除くことができる。この洗浄方法では、密閉型混練機に付着した薬品を効率よくしかも十分に取り除くことができる。この洗浄方法は、ゴム組成物への付着物の混入防止に貢献できる。言い換えれば、この洗浄方法は、高品質なゴム組成物の安定な製造に貢献できる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係る密閉型混練機の洗浄方法の対象であるバンバリーミキサーの一例を概略的に示す説明図である。
【図２】図２は、バンバリーミキサーの洗浄状況を説明する図である。
【図３】図３は、ドライアイスを噴射するノズルの向きを説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、適宜図面が参照されつつ、好ましい実施形態に基づいて、本発明が詳細に説明される。
【００２３】
本発明の一実施形態に係る洗浄方法の対象である密閉型混練機では、ゴム組成物が製造される。ゴム組成物は、構成成分として、基材ゴム及び薬品を含む。
【００２４】
［ゴム組成物］
この洗浄方法では、ゴム組成物に含まれる基材ゴムに特に制限はない。この基材ゴムとしては、例えば、天然ゴム（ＮＲ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）、イソプレンゴム（ＩＲ）、エチレンプロピレンゴム（ＥＰＤＭ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、アクリロニトリルブタジエンゴム（ＮＢＲ）及びブチルゴム（ＩＩＲ）が挙げられる。これらは、単独で用いることができるし、２種以上を組み合わせて用いることもできる。ゴム組成物が適用される部材の仕様が考慮され、最適な基材ゴムが選定される。
【００２５】
ゴム組成物には通常、複数種類の薬品が配合される。この洗浄方法では、このゴム組成物に含まれる薬品に特に制限はない。この薬品としては、ゴム組成物の薬品として一般的に用いられる薬品、例えば、補強剤、シランカップリング剤、可塑剤、充填剤、加硫剤、加硫促進剤及び酸化防止剤が挙げられる。ゴム組成物には、このゴム組成物が適用される部材の仕様が考慮され、最適な薬品が最適な量で配合される。詳述しないが、これら薬品の中には、粒子状の薬品や、液状の薬品が存在する。粒子状の薬品には、加熱により融解する薬品（例えば、融点が１２０℃以下の加硫剤）も存在する。
【００２６】
密閉型混練機（以下、混練機）において、薬品は基材ゴムに練り込まれる。これにより、ゴム組成物が得られる。この混練機としては、例えば、バンバリーミキサー及びニーダーが挙げられる。
【００２７】
［混練機］
図１は、混練機２の概要を示す。この図１に示された混練機２は、バンバリーミキサーである。この混練機２は、混練室４と、ラム室６とを備える。
【００２８】
混練室４は、ゴム組成物の構成成分としての基材ゴム及び薬品を収容する。この混練機２は、混練室４内に一対のローター８を備える。それぞれのローター８は、図示されない駆動手段（例えば、電動モーター）により回転させられる。この混練機２では、このローター８の回転により混練室４内に投入された基材ゴム及び薬品が混練される。
【００２９】
図示されていないが、この混練機２では、混練室４は油投入部をさらに備える。この油投入部は、可塑剤等の液状の薬品を混練室４内に投入するために用いられる。
【００３０】
ラム室６は、混練室４の上方に位置する。ラム室６は、混練室４から上方に伸びる。このラム室６は、円筒状である。この混練機２は、ラム室６内にラム１０を備える。ラム１０は、ロッド１２で支持される。ロッド１２は、ラム１０の上面１４から上方に伸びる。図示されていないが、ラム室６の上方にはエアシリンダーが設けられる。この混練機２では、このエアシリンダーによりロッド１２が上下に動かされる。これにより、ラム１０がラム室６内を上下に動く。図１の混練機２においては、ラム１０はその下限位置に位置する。この混練機２では、ラム１０をその下限位置にセットすることにより、混練室４は閉ざされる。
【００３１】
この混練機２では、ラム室６は投入口１６を備える。この投入口１６は、基材ゴムや、充填剤、加硫剤等の薬品を混練室４に投入するために用いられる。ゴム組成物に多量に配合される補強剤のような薬品は、このラム室６に設けられた別の投入口（図示されず）から混練室４に投入される。なお、投入口１６から基材ゴム及び薬品を混錬室に投入する場合、ラム１０はその上限位置にセットされる。
【００３２】
この混練機２を用いたゴム組成物の製造では、予め設定された組成にしたがって、基材ゴム及び薬品が計量される。計量後、基材ゴム及び薬品が混練室４に投入される。投入後、ラム１０がその下限位置に押し下げられる。これにより、基材ゴム及び薬品が混練室４内に押し込められるとともに、混練室４が閉ざされる。ローター８を回転させて、混練室４に投入された基材ゴム及び薬品が混練される。
【００３３】
この混練機２は、混練室４の底にドロップドア１８を備える。混練が完了しゴム組成物が得られると、ラム１０が引き上げられる。ドロップドア１８が開けられ、混練室４からゴム組成物が排出される。混練室４から排出されたゴム組成物は、図示されないフィーダー及び圧延ロールを通過してプレート状に加工される。
【００３４】
この混練機２を用いたゴム組成物の製造では、基材ゴム及び薬品を混練室４にラム１０で押し込む際に薬品の一部が飛散する。この飛散した薬品のほとんどは、混練時に回収され混練室４に再投入される。しかし、ゴム組成物の品質に影響を与えない程度ではあるが、飛散した薬品の一部が混練機２に付着してしまう。特に、基材ゴム及び薬品を混練室４に押し込むラム１０の上面１４には、薬品が付着しやすい傾向にある。本発明は、この薬品が付着した混練機２を洗浄するための方法である。以下に、この洗浄方法について説明する。
【００３５】
［洗浄方法］
この洗浄方法では、薬品が付着した混練機２は洗浄装置２０を用いて洗浄される。この洗浄方法では、洗浄装置２０を用いて、混練機２に付着した薬品、すなわち付着物が混練機２から除かれる。この洗浄方法では、混練機２から付着物を除くために、圧縮空気とともに粒子状のドライアイスを噴射するノズル２２を有する洗浄装置２０が用いられる。この洗浄方法は、洗浄能力を考慮して選定した、市販の洗浄装置２０を用いることができる。この市販の洗浄装置２０としては、例えば、ケルヒャー社製の商品名「ＩＢ７／４０」が挙げられる。
【００３６】
この洗浄方法では、混練機２の洗浄に先だって、図２に示されるように、ラム１０が引き上げられ、その上限位置にラム１０がセットされる。この洗浄方法は、ラム１０をその上限位置にセットする工程を含む。なお、このラム１０の上限位置は、混練機２におけるラム１０の昇降範囲において、最も高い位置を意味する。
【００３７】
この洗浄方法では、ラム１０をその上限位置にセットすると、洗浄装置２０が準備される。つまり、この洗浄方法は、洗浄装置２０を準備する工程を含む。この洗浄方法では、この洗浄装置２０の準備工程において、洗浄対象箇所の付着物に向けてドライアイスを噴射できるように、ノズル２２がセットされる。例えば、ラム１０の上面１４を洗浄する場合には、図２に示されるように、このラム１０の上側にノズル２２をセットし、このノズル２２の先がこの上面１４の付着物に向けられる。なお、この洗浄装置２０の準備工程では、洗浄対象箇所の付着物に向けてドライアイスを噴射できるようにノズル２２がセットされればよく、例えば、作業者がノズル２２を手にし、このノズル２２の先が洗浄対象箇所の付着物に向けられてもよい。図示されていないが、この図２においては、ノズル２２の向きを調整できるように構成された取付手段を用いてノズル２２は混練機２に取り付けられている。
【００３８】
この洗浄方法では、ノズル２２のセットが完了すると、付着物に向けて、ノズル２２から粒子状のドライアイスが噴射される。つまり、この洗浄方法は、洗浄装置２０を用いて、混練機２の付着物に向けて、粒子状のドライアイスをノズル２２から噴射する工程を含む。
【００３９】
この洗浄方法では、混練機２に付着した薬品、すなわち付着物に向けて、洗浄装置２０のノズル２２から粒子状のドライアイスが噴射される。ドライアイスは、付着物に衝突する。これにより、付着物は粉砕され除去される。付着物が融解していても、ドライアイスの噴射により付着物は冷却される。冷却により付着物は固まるので、この洗浄方法では、付着物が融解していてもこの付着物の除去が可能である。さらにこの洗浄方法は、粒子状のドライアイスを吹き付けることで付着物を除去できるので、金属製の箆のような物理的手段では取り除くことができない、例えば、ラム１０とラム室６との間の狭い隙間の付着物も取り除くことができる。この洗浄方法では、密閉型混練機２に付着した薬品を効率よくしかも十分に取り除くことができる。この洗浄方法は、ゴム組成物への付着物の混入防止に貢献できる。言い換えれば、この洗浄方法は、高品質なゴム組成物の安定な製造に貢献できる。
【００４０】
この洗浄方法では、付着物に向けて噴射されるドライアイスの粒径は５ｍｍ以上が好ましい。この洗浄方法では、ドライアイスが付着物を効果的に粉砕するので、高い洗浄効果が得られる。この洗浄方法では、ドライアイスの粒径は１０ｍｍ以下が好ましい。この洗浄方法は、ドライアイスが大きすぎないので、洗浄対象箇所の隅々をくまなくドライアイスで洗浄することができる。この洗浄方法では、良好な洗浄効果が維持される。なお、本発明においては、ドライアイスの粒径は、ドライアイスをサンプリング後１５秒以内にマイクロスコープ等の撮影手段を用いて撮影されるドライアイスの粒子画像に基づいて特定される。具体的には、１００粒以上のドライアイスについて長径及び短径を計測し、この長径及び短径の平均値が１粒のドライアイスの粒径として求められる。得られた粒径の加算平均値が、このドライアイスの粒径として表わされる。
【００４１】
この洗浄方法では、付着物に向けてノズル２２から噴射されるドライアイスの噴射量は０．５ｋｇ／分以上が好ましい。これにより、ドライアイスが付着物を効果的に粉砕するので、高い洗浄効果が得られる。この洗浄方法では、ドライアイスの噴射量は１．０ｋｇ／分以下が好ましい。これにより、ドライアイスの使用量が適切に維持される。
【００４２】
この洗浄方法では、付着物に向けてノズル２２から噴射されるドライアイスの噴射時間は２０分以上が好ましい。これにより、ドライアイスが付着物を効果的に粉砕するので、高い洗浄効果が得られる。この洗浄方法では、ドライアイスの噴射時間は４０分以下が好ましい。これにより、ドライアイスの使用量が適切に維持される。
【００４３】
この洗浄方法では、付着物に向けてノズル２２から噴射されるドライアイスの噴射時の圧力は０．２ＭＰａ以上が好ましい。この洗浄方法では、ドライアイスが付着物を効果的に粉砕するので、高い洗浄効果が得られる。この洗浄方法では、ドライアイスの噴射時の圧力は０．４ＭＰａ以下が好ましい。噴射時の圧力が適切に抑えられるので、この洗浄方法では、ドライアイスを噴射するノズル２２を作業者は容易に操作することができる。
【００４４】
この洗浄方法では、ノズル２２の形状は円筒状である。この洗浄方法では、効果的に混練機２を洗浄できる観点から、このノズル２２の内径、すなわち口径は２０ｍｍ以上が好ましく、３０ｍｍ以下が好ましい。
【００４５】
前述したように、基材ゴム及び薬品を混練することにより混練機２には薬品が付着し、特に、基材ゴム及び薬品を混練室４に押し込めるラム１０の上面１４に薬品は付着しやすい。このラム１０の直下には、混練室４がある。ラム１０の上面１４の付着物は混練室４に落下する恐れが高いので、この洗浄方法はラム１０の上面１４の付着物の除去に適用されるのが好ましい。言い換えれば、好ましくは、この洗浄方法が洗浄の対象とする付着物はラム１０の上面１４に付着した薬品である。この場合、ラム１０の上面１４から付着物が除かれるので、ゴム組成物への付着物の混入が効果的に抑えられる。
【００４６】
この洗浄方法が適用される混練機２では、ラム１０はラム室６内に位置する。ラム１０の上面１４の洗浄が容易との観点から、この洗浄方法では、ラム１０をその上限位置にセットした状態で、このラム１０の上面１４に付着した薬品、すなわちラム１０の上面１４の付着物に向けて、ドライアイスがノズル２２から噴射されるのが好ましい。
【００４７】
図２に示されているように、ラム１０の上面１４は傾斜している。投入口１６の反対側から投入口１６側に向かって徐々に下側に位置するように、上面１４は構成されている。このため、この上面１４においては、投入口１６側はこの投入口１６の反対側よりも下側に位置している。
【００４８】
この洗浄方法では、ラム１０の上面１４を洗浄する場合、ラム１０の上面１４の付着物を効果的に除去できる観点から、図２に示されているように、ドライアイスを噴射するノズル２２は投入口１６とは反対側の位置に設けられるのが好ましい。
【００４９】
図３は、混練機２に設置したノズル２２の向きを説明する図である。この図３において、一点鎖線ＬＮはノズル２２の中心線である。この洗浄方法では、この中心線ＬＮの向きにドライアイスはノズル２２から噴射される。この洗浄方法では、この中心線ＬＮの向きがノズル２２の向きである。この図３において、実線ＬＨはノズル２２の向きを特定するための仮想線である。この仮想線ＬＨは、水平方向に伸びる。角度αは、中心線ＬＮが仮想線ＬＨに対してなす角度である。この洗浄方法では、この角度αが、ノズル２２の向きが水平方向に対してなす角度である。
【００５０】
この洗浄方法では、ラム１０の上面１４を効果的に洗浄できる観点から、付着物に向けてドライアイスを噴射するノズル２２の向きが水平方向に対してなす角度αは３０°以上が好ましく、６０°以下が好ましい。
【００５１】
以上の説明から明らかなように、本発明の密閉型混練機２の洗浄方法では、密閉型混練機２に付着した薬品を効率よくしかも十分に除去することができる。
【００５２】
今回開示した実施形態はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の技術的範囲は前述の実施形態に限定されるものではなく、この技術的範囲には特許請求の範囲に記載された構成と均等の範囲内でのすべての変更が含まれる。
【実施例】
【００５３】
以下、実施例などにより、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、かかる実施例のみに限定されるものではない。
【００５４】
［構成成分の準備］
図１に示された混練機を用いてゴム組成物を製造するために、基材ゴムとして、
・ＳＢＲ：旭化成社製の「Ｙ０３１」（スチレン含有量＝２６質量％）
・ＮＲ：ＴＳＲ−２０
及び
・ＢＲ：ＪＳＲ社製の「ＢＲ７３０」（シス含有量＝９５質量％）
を準備した。ブレンド比（ＳＢＲ／ＮＲ／ＢＲ）は、７０／２５／５に設定された。さらにこの基材ゴムに練り込まれる薬品として、
・シリカ：エボニックテグッサ社製の「ウルトラシルＶＮ３」
を準備した。基材ゴム１００質量部に対して６０質量部となるように、シリカは計量された。シリカ以外の薬品として、次の構成成分が準備された。
・シランカップリング剤：Ｍｏｍｅｎｔｉｖｅ社製の「ＮＸＴ−Ｚ４５」
・アロマチックオイル：出光興産社製の「ダイアナプロセスＡＨ−２４」
・酸化亜鉛：三井金属鉱業社製の「酸化亜鉛」
・ステアリン酸：日油社製のステアリン酸「椿」
・老化防止剤：住友化学社製の「アルチゲン６Ｃ」
・ワックス：大内新興化学社製の「サンノックＮ」
・加硫剤（硫黄）：軽井沢硫黄社製の粉末硫黄
・加硫促進剤ａ：大内新興化学社製の「ノクセラーＣＺ」
・加硫促進剤ｂ：大内新興化学社製の「ノクセラーＤ」
これら薬品は、タイヤ用ゴム組成物として一般的に設定される配合量にしたがって計量された。
【００５５】
［実施例１］
前述の構成成分からなるゴム組成物を製造し、ラムの上面に薬品が付着した状態にある混練機（神戸製鋼所社製の密閉型混練機、混練室容量：２４０Ｌ）が準備された。この混練機のラムの上面を、粒子状のドライアイスを噴射するノズルを備えた洗浄装置を用いて洗浄した。この洗浄では、付着物に向けてドライアイス（３０ｋｇ）を４０分噴射した。洗浄後、ラムの上面の状況を目視で確認した。確認後、さらに１週間かけて約８００トンのゴム組成物を製造した。製造後、製造バッチ全数に対する、異物混入が確認されたバッチの数の比率、すなわち、ゴム組成物の異物混入の発生率を計算した。この結果が、製造開始直前におけるラムの上面の状況とともに、下記の表１に示されている。
【００５６】
［比較例１］
実施例１と同じように、ラムの上面に薬品が付着した状態にある混練機（神戸製鋼所社製の密閉型混練機、混練室容量：２４０Ｌ）が準備された。この混練機のラムの上面を洗浄することなく、ラムの上面の状況を目視で確認した上で、１週間かけて約８００トンの、実施例１と同じゴム組成物を製造した。製造後、ゴム組成物の異物混入の発生率を計算した。この結果が、製造開始直前におけるラムの上面の状況とともに、下記の表１に示されている。
【００５７】
［比較例２］
実施例１と同じように、ラムの上面に薬品が付着した状態にある混練機（神戸製鋼所社製の密閉型混練機、混練室容量：２４０Ｌ）が準備された。この混練機のラムの上面を、従来の方法（エアーの吹き付け、及び、金属製の箆による付着物の掻き取り）で洗浄した。洗浄後、ラムの上面の状況を目視で確認した上で、１週間かけて約８００トンの、実施例１と同じゴム組成物を製造した。製造後、ゴム組成物の異物混入の発生率を計算した。この結果が、製造開始直前におけるラムの上面の状況とともに、下記の表１に示されている。
【００５８】
［ラムの上面の状況］
製造開始の直前におけるラムの上面の状況が、次の基準に基づいて格付けされた。この結果が下記の表１に示されている。
・薬品の付着を目視で確認できない場合              Ａ
・薬品の堆積はないが薬品の付着を確認した場合      Ｂ
・薬品の堆積を確認した場合                        Ｃ
【００５９】
【表１】
2019206150.tif 000003
【００６０】
表１に示されているように、実施例では、比較例に比して、洗浄により付着物が十分に除かれており、ゴム組成物への異物の混入の発生率も低いことが確認された。この結果から、本発明の優位性は明らかである。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
以上説明された密閉型混練機の洗浄技術は、種々の混練機の洗浄に適用することができる。
【符号の説明】
【００６２】
２・・・混練機
４・・・混錬室
６・・・ラム室
８・・・ローター
１０・・・ラム
１２・・・ロッド
１４・・・ラム１０の上面
１６・・・投入口
２２・・・ノズル
【図１】
2019206150.tif 000004
【図２】
2019206150.tif 000005
【図３】
2019206150.tif 000006