(57)【要約】      （修正有）【課題】薄膜においても高い位相差を有する等の位相差特性及び相溶性に優れた光学補償フィルムとすることが期待される新規な重合体を提供する。【解決手段】一般式（１）で表される単量体残基単位を含む重合体。2019019184.tif 000012【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）で表される単量体残基単位を含むことを特徴とする重合体。
【化１】
2019019184.tif 000007
（ここで、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立して水素（ただし、Ｒ１、Ｒ２が共に水素である場合を除く）、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、シアノ基、カルボキシ基、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ１または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ２）、アルコキシ基（−ＯＸ３）またはアミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ４）（Ｘ５）または−ＮＸ６Ｃ（＝Ｏ）Ｘ７）（ここで、Ｘ１〜Ｘ３は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ４〜Ｘ７は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、該直鎖状もしくは該分岐状アルキル基中または該環状基中にヘテロ原子を含んでいてもよい。）を示し、Ｒ３は水素またはハロゲンを示し、Ｒ４〜Ｒ８はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホキシ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ８または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ９）、アルコキシ基（−ＯＸ１０）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ１１）（Ｘ１２）または−ＮＸ１３Ｃ（＝Ｏ）Ｘ１４）、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ１５）、アミノ基（−Ｎ（Ｘ１６）（Ｘ１７））またはスルホニル基（−ＳＯＯＸ１８）（ここで、Ｘ８〜Ｘ１０は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ１１〜Ｘ１８は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）を示し、Ｒ４〜Ｒ８の少なくとも１以上がヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホキシ基から選択される１以上を示す。また、Ｒ４〜Ｒ８は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。）
【請求項２】
一般式（１）で表される単量体残基単位におけるＲ１及びＲ２のうち、少なくとも１以上がシアノ基、エステル基、アミド基、アシル基から選択される１以上であることを特徴とする請求項１に記載の重合体。
【請求項３】
一般式（１）で表される単量体残基単位におけるＲ４〜Ｒ８のいずれか１以上がヒドロキシ基であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の重合体。
【請求項４】
一般式（１）で表される単量体残基単位を含み、さらに一般式（２）〜一般式（４）で表される少なくとも１以上の単量体残基単位を含むことを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の重合体。
【化２】
2019019184.tif 000008
（ここで、Ｒ９〜Ｒ１１はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、カルボキシ基、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ１９または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ２０）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ２１）（Ｘ２２）または−ＮＸ２３Ｃ（＝Ｏ）Ｘ２４）またはアシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ２５）（ここで、Ｘ１９〜Ｘ２０は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ２１〜Ｘ２５は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）を示し、Ｒ１２〜Ｒ１６はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基（−ＯＸ２６）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ２７または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ２８）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ２９）（Ｘ３０）または−ＮＸ３１Ｃ（＝Ｏ）Ｘ３２）、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ３３）またはアミノ基（−Ｎ（Ｘ３４）（Ｘ３５））（ここで、Ｘ２６〜Ｘ２８は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ２９〜Ｘ３５は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）を示す。また、Ｒ１２〜Ｒ１６は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。）
【化３】
2019019184.tif 000009
（ここで、Ｒ１７〜Ｒ１９はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、カルボキシ基、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ３６または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ３７）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ３８）（Ｘ３９）または−ＮＸ４０Ｃ（＝Ｏ）Ｘ４１）またはアシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ４２）（ここで、Ｘ３６〜Ｘ３７は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ３８〜Ｘ４２は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）を示し、Ｒ２０〜Ｒ２７はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基（−ＯＸ４３）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ４４または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ４５）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ４６）（Ｘ４７）または−ＮＸ４８Ｃ（＝Ｏ）Ｘ４９）、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ５０）またはアミノ基（−Ｎ（Ｘ５１）（Ｘ５２））（ここで、Ｘ４３〜Ｘ４５は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ４６〜Ｘ５２は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）を示す。また、Ｒ２０〜Ｒ２７は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよく、Ｒ２０とＲ２６およびＲ２１とＲ２７は同一原子で環構造を形成していてもよい。）
【化４】
2019019184.tif 000010
（ここで、Ｒ２８〜Ｒ３０はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状炭化水素基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、エーテル基（−ＯＸ５３）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ５４または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ５５）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ５６）（Ｘ５７）または−ＮＸ５８Ｃ（＝Ｏ）Ｘ５９）、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ６０）またはアミノ基（−Ｎ（Ｘ６１）（Ｘ６２））、または少なくとも炭素原子と窒素原子を含む５〜７員環の環状基を示す（ここで、Ｘ５３〜Ｘ５５は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ５６〜Ｘ６２は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）。Ｒ３１〜Ｒ３４はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基（−ＯＸ６３）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ６４または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ６５）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ６６）（Ｘ６７）または−ＮＸ６８Ｃ（＝Ｏ）Ｘ６９）、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ７０）またはアミノ基（−Ｎ（Ｘ７１）（Ｘ７２））（ここで、Ｘ６３〜Ｘ６５は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ６６〜Ｘ７２は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）を示す。また、Ｒ３１〜Ｒ３４は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよく、Ｒ３１とＲ３２およびＲ３３とＲ３４は同一原子で環構造を形成していてもよい。）
【請求項５】
一般式（１）で表される単量体残基単位５〜５５モル％、および一般式（２）〜（４）のいずれかで表される単量体残基単位９５〜４５モル％を含むことを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれかに記載の重合体。
【請求項６】
一般式（５）で表される単量体を重合してなることを特徴とする請求項１〜請求項５に記載の重合体の製造方法。
【化５】
2019019184.tif 000011
（ここで、Ｒ１、Ｒ２は水素（ただし、Ｒ１、Ｒ２が共に水素である場合を除く）、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、シアノ基、カルボキシ基、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ１または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ２）、アルコキシ基（−ＯＸ３）またはアミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ４）（Ｘ５）または−ＮＸ６Ｃ（＝Ｏ）Ｘ７）（ここで、Ｘ１〜Ｘ３は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ４〜Ｘ７は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）を示し、Ｒ３は水素またはハロゲンを示し、Ｒ４〜Ｒ８は水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホキシ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ８または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ９）、アルコキシ基（−ＯＸ１０）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ１１）（Ｘ１２）または−ＮＸ１３Ｃ（＝Ｏ）Ｘ１４）、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ１５）、アミノ基（−Ｎ（Ｘ１６）（Ｘ１７））またはスルホニル基（−ＳＯＯＸ１８）（ここで、Ｘ８〜Ｘ１０は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ１１〜Ｘ１８は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）を示し、Ｒ４〜Ｒ８の少なくとも１以上がヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホキシ基から選択される１以上を示す。また、Ｒ４〜Ｒ８は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。）
【請求項７】
請求項１〜請求項５のいずれかに記載の重合体を含んでなることを特徴とする光学フィルム。
【請求項８】
フィルム面内の進相軸方向の屈折率をｎｘ、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚み方向の屈折率をｎｚとした場合のそれぞれの関係がｎｘ＜ｎｚまたはｎｙ＜ｎｚの少なくともいずれかであることを特徴とする請求項７に記載の光学フィルムを用いた位相差フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な重合体及びそれの製造法、さらにはそれを用いた光学フィルムに関するものであり、さらに詳細には、薄膜においても高い位相差を有する光学フィルム、特に液晶表示素子用及び有機ＥＬ用の光学補償フィルムに適した新規な重合体及びその製造法、さらにはそれを用いた光学フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピュータ用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。
【０００３】
液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられており、特に位相差フィルムは正面や斜めから見た場合のコントラストの向上、色調の補償など大きな役割を果たしている。従来の位相差フィルムとしては、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンが使用されており、これらの高分子はいずれも正の複屈折を有する高分子である。ここで、複屈折の正負は下記に示すように定義される。
【０００４】
延伸等で分子配向した高分子フィルムの光学異方性は、フィルムを延伸した場合のフィルム面内の進相軸方向の屈折率をｎｘ、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚み方向の屈折率をｎｚとした屈折率楕円体で表すことができる。なお、進相軸とはフィルム面内における屈折率の低い軸方向を指す。
【０００５】
そして、負の複屈折とは延伸方向が進相軸方向となるものであり、正の複屈折とは延伸方向と垂直方向が進相軸方向となるものである。
【０００６】
つまり、負の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸方向の屈折率が小さく（進相軸：延伸方向）、正の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸と直交する軸方向の屈折率が小さい（進相軸：延伸方向と垂直方向）。
【０００７】
多くの高分子は正の複屈折を有する。負の複屈折を有する高分子としてはアクリル樹脂やポリスチレンがあるが、アクリル樹脂は位相差が小さく、位相差フィルムとしての特性は十分でない。ポリスチレンは、低温領域での光弾性係数が大きいためにわずかな応力で位相差が変化するなど位相差の安定性の課題、さらに耐熱性が低いという実用上の課題があり、現状用いられていない。
【０００８】
負の複屈折を示す高分子の延伸フィルムではフィルムの厚み方向の屈折率が高く、従来にない位相差フィルムとなるため、例えば、スーパーツイストネマチック型液晶ディスプレイ（ＳＴＮ−ＬＣＤ）や垂直配向型液晶ディスプレイ（ＶＡ−ＬＣＤ）、面内配向型液晶ディスプレイ（ＩＰＳ−ＬＣＤ）、反射型液晶ディスプレイ（反射型ＬＣＤ）などのディスプレイの視角特性の補償用位相差フィルムや偏向板の視野角補償フィルムとして有用であり、負の複屈折を有する位相差フィルムに対して市場の要求は強い。
【０００９】
正の複屈折を有する高分子を用いてフィルムの厚み方向の屈折率を高めたフィルムの製造方法が提案されている。ひとつは高分子フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムのフィルム厚み方向に収縮力をかける処理方法（例えば、特許文献１〜３参照）である。また、高分子フィルムに電場を印加しながら面内に一軸延伸する方法が提案されている（例えば、特許文献４参照）。
【００１０】
それ以外にも負の光学異方性を有する微粒子とマレイミド系共重合体等の透明性高分子からなる位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献５参照）。
【００１１】
しかし、特許文献１〜４において提案された方法は、製造工程が非常に複雑になるために生産性が劣る課題がある。また位相差の均一性などの制御も従来の延伸による制御と比べると著しく難しくなる。
【００１２】
特許文献５で得られる位相差フィルムは、負の光学異方性を有する微粒子を添加することによって負の複屈折を示す位相差フィルムであり、製造方法の簡便化や経済性の観点から、微粒子を添加する必要のない位相差フィルムが求められている。また、ディスプレイの用途拡大に伴い、より耐熱性の高い位相差フィルムが求められている。
【００１３】
また、フマル酸ジエステル系共重合体及びそれよりなる位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献６〜１２参照）。
【００１４】
特許文献６〜１２で提案されたフマル酸ジエステル系共重合体及びそれよりなるフィルムは高い位相差を有しているものの、現状においては、より薄膜においても高い位相差を有するフィルムが求められている。
【００１５】
さらには、正の複屈折材料と負の複屈折材料の複合化による単膜型位相差フィルム材料が提案されており（例えば、特許文献１３及び１４参照）、より高性能な光学特性を達成するために複合化可能な負の複屈折を示す高分子材料が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１６】
【特許文献１】特許２８１８９８３号公報
【特許文献２】特開平０５−２９７２２３号公報
【特許文献３】特開平０５−３２３１２０号公報
【特許文献４】特開平０６−８８９０９号公報
【特許文献５】特開２００５−１５６８６２号公報
【特許文献６】特開２００８−１１２１４１号公報
【特許文献７】特開２０１２−０３２７８４号公報
【特許文献８】ＷＯ２０１２／００５１２０号公報
【特許文献９】特開２００８−１２９４６５号公報
【特許文献１０】特開２００６-１９３６１６号公報
【特許文献１１】ＷＯ２０１４／０１３９８２号公報
【特許文献１２】ＷＯ２０１４／０８４１７８号公報
【特許文献１３】ＷＯ２０１４／１９６５５２号公報
【特許文献１４】ＷＯ２０１６／０６０１１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、特定の構造の単量体単位とすることで、負の複屈折性を発現させる重合体及びそれを用いて得られる位相差特性及び異種ポリマーとの相溶性に優れた複合化が容易な重合体及びそれからなる光学フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の共重合体が上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１９】
すなわち、本発明は、一般式（１）で表される単量体残基単位を含むことを特徴とする重合体及びその製造法並びにそれを用いた光学フィルムに関するものである。
【００２０】
【化１】
2019019184.tif 000002
【００２１】
（ここで、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立して水素（ただし、Ｒ１、Ｒ２が共に水素である場合を除く）、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、シアノ基、カルボキシ基、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ１または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ２）、アルコキシ基（−ＯＸ３）またはアミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ４）（Ｘ５）または−ＮＸ６Ｃ（＝Ｏ）Ｘ７）（ここで、Ｘ１〜Ｘ３は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ４〜Ｘ７は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、該直鎖状もしくは該分岐状アルキル基中または該環状基中にヘテロ原子を含んでいてもよい。）を示し、Ｒ３は水素またはハロゲンを示し、Ｒ４〜Ｒ８はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホキシ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ８または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ９）、アルコキシ基（−ＯＸ１０）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ１１）（Ｘ１２）または−ＮＸ１３Ｃ（＝Ｏ）Ｘ１４）、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ１５）、アミノ基（−Ｎ（Ｘ１６）（Ｘ１７））またはスルホニル基（−ＳＯＯＸ１８）（ここで、Ｘ８〜Ｘ１０は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ１１〜Ｘ１８は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）を示し、Ｒ４〜Ｒ８の少なくとも１以上がヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホキシ基から選択される１以上を示す。また、Ｒ４〜Ｒ８は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。）
以下、本発明の光学補償フィルムに適した重合体について詳細に説明する。
【００２２】
本発明の重合体は、一般式（１）で表される単量体残基単位を含む重合体である。そして、本発明の重合体は、一般式（１）で表される単量体残基単位を含んでなることにより、負の複屈折性及び異種ポリマーとの相溶性を発現させるものである。
【００２３】
本発明の一般式（１）におけるＲ１、Ｒ２は、それぞれ独立して水素（ただし、Ｒ１、Ｒ２が共に水素である場合を除く）、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、シアノ基、カルボキシ基、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ１または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ２）、アルコキシ基（−ＯＸ３）またはアミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ４）（Ｘ５）または−ＮＸ６Ｃ（＝Ｏ）Ｘ７）（ここで、Ｘ１〜Ｘ３は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ４〜Ｘ７は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、該直鎖状もしくは該分岐状アルキル基中または該環状基中にヘテロ原子を含んでいてもよい。）を示す。
【００２４】
Ｒ１、Ｒ２におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられ、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、２−メトキシエチル基等の炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−メトキシプロピル基等の炭素数１〜１２の分岐状アルキル基が挙げられ、炭素数３〜１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンタニル基、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フリル基、ピラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、インドリル基、カルバゾリル基等の炭素数３〜１４の環状基が挙げられ、具体的なエステル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、アセトキシ基、プロポキシ基等が挙げられ、具体的なアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられ、具体的なアミド基としては、例えば、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基等が挙げられる。
【００２５】
ここで、良好な光学特性を発現するため、Ｒ１及びＲ２のうち、少なくとも１以上がシアノ基、エステル基、アミド基、アシル基から選択される１以上であることが好ましく、Ｒ１、Ｒ２がそれぞれ独立してシアノ基、エステル基、アミド基のいずれかであることがさらに好ましい。
【００２６】
Ｘ１〜Ｘ７における炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数３〜１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００２７】
本発明の一般式（１）におけるＲ３は、水素またはハロゲンを示す。ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられる。
【００２８】
本発明の一般式（１）におけるＲ４〜Ｒ８はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホキシ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ８または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ９）、アルコキシ基（−ＯＸ１０）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ１１）（Ｘ１２）または−ＮＸ１３Ｃ（＝Ｏ）Ｘ１４）、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ１５）、アミノ基（−Ｎ（Ｘ１６）（Ｘ１７））またはスルホニル基（−ＳＯＯＸ１８）（ここで、Ｘ８〜Ｘ１０は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ１１〜Ｘ１８は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）を示す。また、Ｒ４〜Ｒ８の少なくとも１以上がヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホキシ基から選択される１以上を示し、異種ポリマーとの相溶性が良好となるため、Ｒ４〜Ｒ８の少なくとも１以上がヒドロキシ基であることが好ましい。また、Ｒ４〜Ｒ８は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。
【００２９】
Ｒ４〜Ｒ８におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられ、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜１２の分岐状アルキル基が挙げられ、炭素数３〜１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンタニル基、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フリル基、ピラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、インドリル基、カルバゾリル基等の炭素数３〜１４の環状基が挙げられ、具体的なエステル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、アセトキシ基、プロポキシ基等が挙げられ、具体的なアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられ、具体的なアミド基としては、例えば、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基等が挙げられ、具体的なアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられ、具体的なアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられ、具体的なスルホニル基としては、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基等が挙げられ、縮合環構造としては、例えば、シクロヘキサン環構造、ベンゼン環構造、フラン環構造等の縮合環構造が挙げられ、縮合環上に任意の置換基を有していてもよい。
【００３０】
Ｘ８〜Ｘ１８における炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数３〜１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００３１】
そして、具体的な一般式（１）で表される単量体残基単位としては、例えば、
２−ヒドロキシ−α，β，β−トリフルオロスチレン残基単位、３−ヒドロキシ−α，β，β−トリフルオロスチレン残基単位、４−ヒドロキシ−α，β，β−トリフルオロスチレン残基単位、２−カルボキシ−α，β，β−トリフルオロスチレン残基単位、３−カルボキシ−α，β，β−トリフルオロスチレン残基単位、４−カルボキシ−α，β，β−トリフルオロスチレン残基単位、４−スルホキシ−α，β，β−トリフルオロスチレン残基単位、２，３−ジヒドロキシ−α，β，β−トリフルオロスチレン残基単位、２，４−ジヒドロキシ−α，β，β−トリフルオロスチレン残基単位、３，４−ジヒドロキシ−α，β，β−トリフルオロスチレン残基単位、２−ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、３−ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、４−ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、２−カルボキシシンナモニトリル残基単位、３−ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、４−ヒドロキシシンナモニトリル残基単位、２−カルボキシシンナモニトリル残基単位、３−カルボキシシンナモニトリル残基単位、４−カルボキシシンナモニトリル残基単位、４−スルホキシシンナモニトリル残基単位、２−ヒドロキシケイ皮酸残基単位、３−ヒドロキシケイ皮酸残基単位、４−ヒドロキシケイ皮酸残基単位、２−カルボキシケイ皮酸残基単位、３−カルボキシケイ皮酸残基単位、４−カルボキシケイ皮酸残基単位、４−スルホキシケイ皮酸残基単位、２−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、３−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、４−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、２−カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、３−カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、４−カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、４−スルホキシケイ皮酸メチル残基単位、２−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、３−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、４−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、２−カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、３−カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、４−カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、４−スルホキシケイ皮酸エチル残基単位、２−ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、３−ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、４−ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、２−カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、３−カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、４−カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、４−スルホキシケイ皮酸プロピル残基単位、４−スルホキシ−α，β，β−トリフルオロ−１−ビニルナフタレン残基単位、２，３−ジヒドロキシ−α，β，β−トリフルオロ−１−ビニルナフタレン残基単位、２，４−ジヒドロキシ−α，β，β−トリフルオロ−１−ビニルナフタレン残基単位、３，４−ジヒドロキシ−α，β，β−トリフルオロ−１−ビニルナフタレン残基単位、２−ヒドロキシ−β−シアノ−１−ビニルナフタレン残基単位、３−ヒドロキシ−β−シアノ−１−ビニルナフタレン残基単位、４−ヒドロキシ−β−シアノ−１−ビニルナフタレン残基単位、２−カルボキシ−β−シアノ−１−ビニルナフタレン残基単位、３−ヒドロキシ−β−シアノ−１−ビニルナフタレン残基単位、４−ヒドロキシ−β−シアノ−１−ビニルナフタレン残基単位、２−カルボキシ−β−シアノ−１−ビニルナフタレン残基単位、３−カルボキシ−��−シアノ−１−ビニルナフタレン残基単位、４−カルボキシ−β−シアノ−１−ビニルナフタレン残基単位、４−スルホキシ−β−シアノ−１−ビニルナフタレン残基単位、β−（２−ヒドロキシ−１−ナフチル）アクリル酸残基単位、β−（３−ヒドロキシ−１−ナフチル）アクリル酸残基単位、β−（４−ヒドロキシ−１−ナフチル）アクリル酸残基単位、β−（２−カルボキシ−１−ナフチル）アクリル酸残基単位、β−（３−カルボキシ−１−ナフチル）アクリル酸残基単位、β−（４−カルボキシ−１−ナフチル）アクリル酸残基単位、β−（４−スルホキシ−１−ナフチル）アクリル酸残基単位、β−（２−ヒドロキシ−１−ナフチル）アクリル酸メチル残基単位、β−（３−ヒドロキシ−１−ナフチル）アクリル酸メチル残基単位、β−（４−ヒドロキシ−１−ナフチル）アクリル酸メチル残基単位、β−（２−カルボキシ−１−ナフチル）アクリル酸メチル残基単位、β−（３−カルボキシ−１−ナフチル）アクリル酸メチル残基単位、β−（４−カルボキシ−１−ナフチル）アクリル酸メチル残基単位、β−（４−スルホキシ−１−ナフチル）アクリル酸メチル残基単位、β−（２−ヒドロキシ−１−ナフチル）アクリル酸エチル残基単位、β−（３−ヒドロキシ−１−ナフチル）アクリル酸エチル残基単位、β−（４−ヒドロキシ−１−ナフチル）アクリル酸エチル残基単位、β−（２−カルボキシ−１−ナフチル）アクリル酸エチル残基単位、β−（３−カルボキシ−１−ナフチル）アクリル酸エチル残基単位、β−（４−カルボキシ−１−ナフチル）アクリル酸エチル残基単位、β−（４−スルホキシ−１−ナフチル）アクリル酸エチル残基単位、β−（２−ヒドロキシ−１−ナフチル）アクリル酸プロピル残基単位、β−（３−ヒドロキシ−１−ナフチル）アクリル酸プロピル残基単位、β−（４−ヒドロキシ−１−ナフチル）アクリル酸プロピル残基単位、β−（２−カルボキシ−１−ナフチル）アクリル酸プロピル残基単位、β−（３−カルボキシ−１−ナフチル）アクリル酸プロピル残基単位、β−（４−カルボキシ−１−ナフチル）アクリル酸プロピル残基単位、β−（４−スルホキシ−１−ナフチル）アクリル酸プロピル残基単位、２−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、３−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、４−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、２−カルボキシシンナムアミド残基単位、３−カルボキシシンナムアミド残基単位、４−カルボキシシンナムアミド残基単位、４−スルホキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−カルボキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−カルボキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−カルボキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−スルホキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジエチル２−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジエチル３−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジエチル４−ヒドロキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジエチル２−カルボキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジ��チル３−カルボキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジエチル４−カルボキシシンナムアミド残基単位、Ｎ，Ｎ−ジエチル４−スルホキシシンナムアミド残基単位、２−ヒドロキシ−β−メチルスチレン残基単位、３−ヒドロキシ−β−メチルスチレン残基単位、４−ヒドロキシ−β−メチルスチレン残基単位、２−カルボキシ−β−メチルスチレン残基単位、３−カルボキシ−β−メチルスチレン残基単位、４−カルボキシ−β−メチルスチレン残基単位、４−スルホキシ−β−メチルスチレン残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、２−カルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、３−カルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、４−カルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、４−スルホキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、３，４−ジカルボキシベンジリデ
ンマロン酸ジブチル残基単位、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸プロピル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸ブチル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸ブチル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸ブチル残基単位、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸ブチル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅ���ｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）残基単位、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）残基単位等が挙げられる。
【００３２】
一般式（１）で表される残基単位のなかでも、より高い負の位相差と異種ポリマーとのより高い相溶性を発現するため、２−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、２−カルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、３−カルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、４−カルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、４−スルホキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、２，３−ジスルホキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−２−スルホキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−３−スルホキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−２−スルホキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−３−スルホキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸プロピル残基単位、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸プロピル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸ブチル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸ブチル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸ブチル残基単位、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸ブチル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸ｔｅ
ｒｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）残基単位、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）残基単位が好ましく、２−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル���基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−２−スルホキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−３−スルホキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸メチル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸プロピル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ブチル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル���基単位、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）残基単位、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）残基単位、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）残基単位がさらに好ましい。これらの残基単位は１種でもよいし２種以上含んでいてもよい。
【００３３】
本発明の一般式（１）で表される単量体残基単位を含む重合体は、良好な光学特性を発現するため、さらに一般式（２）〜一般式（４）で表される少なくとも１以上の単量体残基単位を含むことが好ましい。
【００３４】
【化２】
2019019184.tif 000003
【００３５】
（ここで、Ｒ９〜Ｒ１１はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、カルボキシ基、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ１９または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ２０）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ２１）（Ｘ２２）または−ＮＸ２３Ｃ（＝Ｏ）Ｘ２４）またはアシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ２５）（ここで、Ｘ１９〜Ｘ２０は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ２１〜Ｘ２５は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）を示し、Ｒ１２〜Ｒ１６はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基（−ＯＸ２６）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ２７または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ２８）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ２９）（Ｘ３０）または−ＮＸ３１Ｃ（＝Ｏ）Ｘ３２）、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ３３）またはアミノ基（−Ｎ（Ｘ３４）（Ｘ３５））（ここで、Ｘ２６〜Ｘ２８は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ２９〜Ｘ３５は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）を示す。また、Ｒ１２〜Ｒ１６は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。）
【００３６】
【化３】
2019019184.tif 000004
【００３７】
（ここで、Ｒ１７〜Ｒ１９はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、カルボキシ基、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ３６または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ３７）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ３８）（Ｘ３９）または−ＮＸ４０Ｃ（＝Ｏ）Ｘ４１）またはアシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ４２）（ここで、Ｘ３６〜Ｘ３７は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ３８〜Ｘ４２は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）を示し、Ｒ２０〜Ｒ２７はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基（−ＯＸ４３）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ４４または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ４５）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ４６）（Ｘ４７）または−ＮＸ４８Ｃ（＝Ｏ）Ｘ４９）、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ５０）またはアミノ基（−Ｎ（Ｘ５１）（Ｘ５２））（ここで、Ｘ４３〜Ｘ４５は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ４６〜Ｘ５２は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）を示す。また、Ｒ２０〜Ｒ２７は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよく、Ｒ２０とＲ２６およびＲ２１とＲ２７は同一原子で環構造を形成していてもよい。）
【００３８】
【化４】
2019019184.tif 000005
【００３９】
（ここで、Ｒ２８〜Ｒ３０はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状炭化水素基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、エーテル基（−ＯＸ５３）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ５４または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ５５）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ５６）（Ｘ５７）または−ＮＸ５８Ｃ（＝Ｏ）Ｘ５９）、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ６０）またはアミノ基（−Ｎ（Ｘ６１）（Ｘ６２））、または少なくとも炭素原子と窒素原子を含む５〜７員環の環状基を示す（ここで、Ｘ５３〜Ｘ５５は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ５６〜Ｘ６２は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）。Ｒ３１〜Ｒ３４はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基（−ＯＸ６３）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ６４または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ６５）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ６６）（Ｘ６７）または−ＮＸ６８Ｃ（＝Ｏ）Ｘ６９）、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ７０）またはアミノ基（−Ｎ（Ｘ７１）（Ｘ７２））（ここで、Ｘ６３〜Ｘ６５は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ６６〜Ｘ７２は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）を示す。また、Ｒ３１〜Ｒ３４は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよく、Ｒ３１とＲ３２およびＲ３３とＲ３４は同一原子で環構造を形成していてもよい。）
本発明の一般式（２）におけるＲ９〜Ｒ１１はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、カルボキシ基、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ１９または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ２０）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ２１）（Ｘ２２）または−ＮＸ２３Ｃ（＝Ｏ）Ｘ２４）またはアシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ２５）（ここで、Ｘ１９〜Ｘ２０は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ２１〜Ｘ２５は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）を示す。
【００４０】
Ｒ９〜Ｒ１１におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられ、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜１２の分岐状アルキル基が挙げられ、炭素数３〜１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンタニル基、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フリル基、ピラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、インドリル基、カルバゾリル基等の炭素数３〜１４の環状基が挙げられ、具体的なエステル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、アセトキシ基、プロポキシ基等が挙げられ、具体的なアミド基としては、例えば、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基等が挙げられ、具体的なアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【００４１】
本発明の一般式（２）におけるＲ１２〜Ｒ１６はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基（−ＯＸ２６）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ２７または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ２８）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ２９）（Ｘ３０）または−ＮＸ３１Ｃ（＝Ｏ）Ｘ３２）、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ３３）またはアミノ基（−Ｎ（Ｘ３４）（Ｘ３５））（ここで、Ｘ２６〜Ｘ２８は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ２９〜Ｘ３５は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）を示す。また、Ｒ１２〜Ｒ１６は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。
【００４２】
Ｒ１２〜Ｒ１６におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられ、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜１２の分岐状アルキル基が挙げられ、炭素数３〜１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンタニル基、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フリル基、ピラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、インドリル基、カルバゾリル基等の炭素数３〜１４の環状基が挙げられ、具体的なアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられ、具体的なエステル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、アセトキシ基、プロポキシ基等が挙げられ、具体的なアミド基としては、例えば、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基等が挙げられ、具体的なアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられ、具体的なアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられる。
【００４３】
Ｘ１９〜Ｘ３３における炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数３〜１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００４４】
そして、具体的な一般式（２）で表される単量体残基単位としては、例えば、２−メチルスチレン残基単位、３−メチルスチレン残基単位、４−メチルスチレン残基単位、２−ヒドロキシスチレン残基単位、４−ｔｅｒｔ−ブトキシスチレン残基単位、３−ヒドロキシスチレン残基単位、４−ヒドロキシスチレン残基単位、４−シアノスチレン残基単位、４−ニトロスチレン残基単位、２−ビニル安息香酸残基単位、４−ビニル安息香酸残基単位、４−メトキシスチレン残基単位、４−アセトキシスチレン残基単位、４−ビニル安息香酸メチル残基単位、４−ヨードスチレン残基単位、４−ブロモスチレン、４−クロロスチレン等、４−ビニルビフェニル等のスチレン類残基単位、α，β，β−トリフルオロスチレン残基単位等のα，β，β−ハロゲン化スチレン類残基単位、１−ビニルナフタレン残基単位、２−ビニルナフタレン残基単位等のビニルナフタレン類残基単位、α−メチルスチレン類残基単位、ｔｒａｎｓ−スチルベン類残基単位、アネトール類残基単位、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸エチル、４−メトキシケイ皮酸エチル等のケイ皮酸エステル類残基単位、ケイ皮酸、４−メトキシケイ皮酸等のケイ皮酸類残基単位等を挙げることができる。このなかでも、より高い負の位相差と異種ポリマーとのより高い相溶性を発現するため、スチレン類残基単位及びビニルナフタレン類残基単位が好ましく、スチレン残基単位、２−メチルスチレン残基単位、３−メチルスチレン残基単位、４−メチルスチレン残基単位、４−フェニルスチレン残基単位、２−メトキシスチレン残基単位、３−メトキシスチレン残基単位、４−メトキシスチレン残基単位、４−ｔｅｒｔ−ブトキシスチレン残基単位、１−ビニルナフタレン残基単位、２−ビニルナフタレン残基単位がさらに好ましい。
【００４５】
本発明の一般式（３）におけるＲ１７〜Ｒ１９は、それぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、カルボキシ基、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ３６または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ３７）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ３８）（Ｘ３９）または−ＮＸ４０Ｃ（＝Ｏ）Ｘ４１）またはアシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ４２）（ここで、Ｘ３６〜Ｘ３７は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ３８〜Ｘ４２は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）を示す。
【００４６】
Ｒ１７〜Ｒ１９におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられ、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜１２の分岐状アルキル基が挙げられ、炭素数３〜１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンタニル基、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フリル基、ピラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、インドリル基、カルバゾリル基等の炭素数３〜１４の環状基が挙げられ、具体的なエステル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、アセトキシ基、プロポキシ基等が挙げられ、具体的なアミド基としては、例えば、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基等が挙げられ、具体的なアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【００４７】
また、本発明における一般式（３）におけるＲ２０〜Ｒ２７はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基（−ＯＸ４３）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ４４または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ４５）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ４６）（Ｘ４７）または−ＮＸ４８Ｃ（＝Ｏ）Ｘ４９）、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ５０）またはアミノ基（−Ｎ（Ｘ５１）（Ｘ５２））（ここで、Ｘ４３〜Ｘ４５は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ４６〜Ｘ５２は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）を示す。また、Ｒ２０〜Ｒ２７は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよく、Ｒ２０とＲ２６およびＲ２１とＲ２７は同一原子で環構造を形成していてもよい。
【００４８】
Ｒ２０〜Ｒ２７におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられ、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜１２の分岐状アルキル基が挙げられ、炭素数３〜１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンタニル基、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フリル基、ピラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、インドリル基、カルバゾリル基等の炭素数３〜１４の環状基が挙げられ、具体的なアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられ、具体的なエステル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、アセトキシ基、プロポキシ基等が挙げられ、具体的なアミド基としては、例えば、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基等が挙げられ、具体的なアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられ、具体的なアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられる。
【００４９】
Ｘ３６〜Ｘ５２における炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数３〜１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００５０】
そして、具体的な一般式（３）で表される単量体残基単位としては、例えば、Ｎ−ビニルインドール残基単位、Ｎ−メチル−３−ビニルインドール残基単位等のインドール類残基単位、Ｎ−ビニルカルバゾール残基単位、３−メチル−Ｎ−ビニルカルバゾール、３−クロロ−Ｎ−ビニルカルバゾール等のＮ−ビニルカルバゾール類残基単位等を例示することができる。この中でも、より高い負の位相差と異種ポリマーとのより高い相溶性を発現するため、Ｎ−ビニルカルバゾール類残基単位が好ましく、Ｎ−ビニルカルバゾールがさらに好ましい。
【００５１】
本発明における一般式（４）におけるＲ２８〜Ｒ３０は、水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状炭化水素基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、エーテル基（−ＯＸ５３）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ５４または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ５５）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ５６）（Ｘ５７）または−ＮＸ５８Ｃ（＝Ｏ）Ｘ５９）、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ６０）、アミノ基（−Ｎ（Ｘ６１）（Ｘ６２））または少なくとも炭素原子と窒素原子を含む５〜７員環の環状基を示す。（ここで、Ｘ５３〜Ｘ５５は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ５６〜Ｘ６２は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）
Ｒ２８〜Ｒ３０におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられ、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜１２の分岐状アルキル基が挙げられ、炭素数３〜１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンタニル基、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フリル基、ピラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、インドリル基、カルバゾリル基等の炭素数３〜１４の環状基が挙げられ、具体的なエーテル基としては、メチルエーテル基、エチルエーテル基、プロピルエーテル基、イソプロピルエーテル基、ブチルエーテル、イソブチルエーテル基、ｓｅｃ−ブチルエーテル基、ｔｅｒｔ−ブチルエーテル基、シクロヘキシルエーテル基、フェニルエーテル基、ベンジルエーテル基等が挙げられ、具体的なエステル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、アセトキシ基、プロポキシ基等が挙げられ、具体的なアミド基としては、例えば、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基等が挙げられ、具体的なアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられ、具体的なアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられる。
【００５２】
また、本発明における一般式（４）におけるＲ３１〜Ｒ３４はそれぞれ独立して水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、チオール基、アルコキシ基（−ＯＸ６３）、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ６４または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ６５）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ６６）（Ｘ６７）または−ＮＸ６８Ｃ（＝Ｏ）Ｘ６９）、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ７０）またはアミノ基（−Ｎ（Ｘ７１）（Ｘ７２））（ここで、Ｘ６３〜Ｘ６５は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ６６〜Ｘ７２は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）を示す。また、Ｒ３１〜Ｒ３４は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよく、Ｒ３１とＲ３２およびＲ３３とＲ３４は同一原子で環構造を形成していてもよい。
【００５３】
Ｒ３１〜Ｒ３４におけるハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素等が挙げられ、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜１２の分岐状アルキル基が挙げられ、炭素数３〜１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンタニル基、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フリル基、ピラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、インドリル基、カルバゾリル基等の炭素数３〜１４の環状基が挙げられ、具体的なアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられ、具体的なエステル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、アセトキシ基、プロポキシ基等が挙げられ、具体的なアミド基としては、例えば、ジメチルアミド基、ジエチルアミド基等が挙げられ、具体的なアシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられ、具体的なアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられる。
【００５４】
Ｘ５３〜Ｘ７２における炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられ、炭素数３〜１４の環状基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【００５５】
そして、具体的な一般式（４）で表される単量体残基単位としては、例えば、Ｎ−ビニルスクシンイミド残基単位等のＮ−ビニルスクシンイミド類残基単位、Ｎ−ビニルフタルイミド残基単位、４−メチルフタルイミド残基単位、４−クロロメチルフタルイミド残基単位、４−ニトロフタルイミド残基単位等のＮ−ビニルフタルイミド類残基単位、Ｎ−ビニル２，３−ナフタレンジカルボキシイミド残基単位、Ｎ−ビニル１，８−ナフタレンジカルボキシイミド残基単位等のＮ−ビニルナフタレンジカルボキシイミド類等を例示することができる。この中でも、より高い負の位相差と異種ポリマーとのより高い相溶性を発現するため、Ｎ−ビニルフタルイミド類残基単位が好ましく、Ｎ−ビニルフタルイミド残基単位がさらに好ましい。
【００５６】
本発明の重合体の製造方法について特に制限はないが、例えば、一般式（５）で表される単量体を重合する製造方法が挙げられる。
【００５７】
【化５】
2019019184.tif 000006
【００５８】
（ここで、Ｒ１〜Ｒ２は水素（ただし、Ｒ１、Ｒ２が共に水素である場合を除く）、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、シアノ基、カルボキシ基、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ１もしくは−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ２）、アルコキシ基（−ＯＸ３）またはアミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ４）（Ｘ５）または−ＮＸ６Ｃ（＝Ｏ）Ｘ７）（ここで、Ｘ１〜Ｘ３は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ４〜Ｘ７は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）を示し、Ｒ３は水素またはハロゲンを示し、Ｒ４〜Ｒ８は水素、ハロゲン、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、炭素数３〜１４の環状基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホキシ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、エステル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＸ８または−ＣＯ（＝Ｏ）−Ｘ９）、アルコキシ基（−ＯＸ１０）、アミド基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｘ１１）（Ｘ１２）または−ＮＸ１３Ｃ（＝Ｏ）Ｘ１４）、アシル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｘ１５）、アミノ基（−Ｎ（Ｘ１６）（Ｘ１７））またはスルホニル基（−ＳＯＯＸ１８）（ここで、Ｘ８〜Ｘ１０は、それぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示し、Ｘ１１〜Ｘ１８は、それぞれ独立して水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜１４の環状基を示す。）を示し、Ｒ４〜Ｒ８の少なくとも１以上がヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホキシ基から選択される１以上を示す。また、Ｒ４〜Ｒ８は隣接する置換基同士で縮合環構造を形成してもよい。）
本発明の一般式（５）における具体的な単量体としては、例えば、２−ヒドロキシ−α，β，β−トリフルオロスチレン、３−ヒドロキシ−α，β，β−トリフルオロスチレン、４−ヒドロキシ−α，β，β−トリフルオロスチレン、２−カルボキシ−α，β，β−トリフルオロスチレン、３−カルボキシ−α，β，β−トリフルオロスチレン、４−カルボキシ−α，β，β−トリフルオロスチレン、４−スルホキシ−α，β，β−トリフルオロスチレン、２，３−ジヒドロキシ−α，β，β−トリフルオロスチレン、２，４−ジヒドロキシ−α，β，β−トリフルオロスチレン、３，４−ジヒドロキシ−α，β，β−トリフルオロスチレン、２−ヒドロキシシンナモニトリル、３−ヒドロキシシンナモニトリル、４−ヒドロキシシンナモニトリル、２−カルボキシシンナモニトリル、３−ヒドロキシシンナモニトリル、４−ヒドロキシシンナモニトリル、２−カルボキシシンナモニトリル、３−カルボキシシンナモニトリル、４−カルボキシシンナモニトリル、４−スルホキシシンナモニトリル、２−ヒドロキシケイ皮酸、３−ヒドロキシケイ皮酸、４−ヒドロキシケイ皮酸、２−カルボキシケイ皮酸、３−カルボキシケイ皮酸、４−カルボキシケイ皮酸、２−スルホキシケイ皮酸、３−スルホキシケイ皮酸、４−スルホキシケイ皮酸、２−ヒドロキシケイ皮酸メチル、３−ヒドロキシケイ皮酸メチル、４−ヒドロキシケイ皮酸メチル、２−カルボキシケイ皮酸メチル、３−カルボキシケイ皮酸メチル、４−カルボキシケイ皮酸メチル、４−スルホキシケイ皮酸メチル、２−ヒドロキシケイ皮酸エチル、３−ヒドロキシケイ皮酸エチル、４−ヒドロキシケイ皮酸エチル、２−カルボキシケイ皮酸エチル、３−カルボキシケイ皮酸エチル、４−カルボキシケイ皮酸エチル、４−スルホキシケイ皮酸エチル、２−ヒドロキシケイ皮酸プロピル、３−ヒドロキシケイ皮酸プロピル、４−ヒドロキシケイ皮酸プロピル、２−カルボキシケイ皮酸プロピル、３−カルボキシケイ皮酸プロピル、４−カルボキシケイ皮酸プロピル、４−スルホキシケイ皮酸プロピル、２−ヒドロキシ−α，β，β−トリフルオロ−１−ビニルナフタレン、３−ヒドロキシ−α，β，β−トリフルオロ−１−ビニルナフタレン、４−ヒドロキシ−α，β，β−トリフルオロ−１−ビニルナフタレン、２−カルボキシ−α，β，β−トリフルオロ−１−ビニルナフタレン、３−カルボキシ−α，β，β−トリフルオロ−１−ビニルナフタレン、４−カルボキシ−α，β，β−トリフルオロ−１−ビニルナフタレン、４−スルホキシ−α，β，β−トリフルオロ−１−ビニルナフタレン、２，３−ジヒドロキシ−α，β，β−トリフルオロ−１−ビニルナフタレン、２，４−ジヒドロキシ−α，β，β−トリフルオロ−１−ビニルナフタレン、３，４−ジヒドロキシ−α，β，β−トリフルオロ−１−ビニルナフタレン、２−ヒドロキシ−β−シアノ−１−ビニルナフタレン、３−ヒドロキシ−β−シアノ−１−ビニルナフタレン、４−ヒドロキシ−β−シアノ−１−ビニルナフタレン、２−カルボキシ−β−シアノ−１−ビニルナフタレン、３−ヒドロキシ−β−シアノ−１−ビニルナフタレン、４−ヒドロキシ−β−シアノ−１−ビニルナフタレン、２−カルボキシ−β−シアノ−１−ビニルナフタレン、３−カル���キシ−β−シアノ−１−ビニルナフタレン、４−カルボキシ−β−シアノ−１−ビニルナフタレン、４−スルホキシ−β−シアノ−１−ビニルナフタレン、β−（２−ヒドロキシ−１−ナフチル）アクリル酸、β−（３−ヒドロキシ−１−ナフチル）アクリル酸、β−（４−ヒドロキシ−１−ナフチル）アクリル酸、β−（２−カルボキシ−１−ナフチル）アクリル酸、β−（３−カルボキシ−１−ナフチル）アクリル酸、β−（４−カルボキシ−１−ナフチル）アクリル酸、β−（２−スルホキシ−１−ナフチル）アクリル酸、β−（３−スルホキシ−１−ナフチル）アクリル酸、β−（４−スルホキシ−１−ナフチル）アクリル酸、β−（２−ヒドロキシ−１−ナフチル）アクリル酸メチル、β−（３−ヒドロキシ−１−ナフチル）アクリル酸メチル、β−（４−ヒドロキシ−１−ナフチル）アクリル酸メチル、β−（２−カルボキシ−１−ナフチル）アクリル酸メチル、β−（３−カルボキシ−１−ナフチル）アクリル酸メチル、β−（４−カルボキシ−１−ナフチル）アクリル酸メチル、β−（４−スルホキシ−１−ナフチル）アクリル酸メチル、β−（２−ヒドロキシ−１−ナフチル）アクリル酸エチル、β−（３−ヒドロキシ−１−ナフチル）アクリル酸エチル、β−（４−ヒドロキシ−１−ナフチル）アクリル酸エチル、β−（２−カルボキシ−１−ナフチル）アクリル酸エチル、β−（３−カルボキシ−１−ナフチル）アクリル酸エチル、β−（４−カルボキシ−１−ナフチル）アクリル酸エチル、β−（４−スルホキシ−１−ナフチル）アクリル酸エチル、β−（２−ヒドロキシ−１−ナフチル）アクリル酸プロピル、β−（３−ヒドロキシ−１−ナフチル）アクリル酸プロピル、β−（４−ヒドロキシ−１−ナフチル）アクリル酸プロピル、β−（２−カルボキシ−１−ナフチル）アクリル酸プロピル、β−（３−カルボキシ−１−ナフチル）アクリル酸プロピル、β−（４−カルボキシ−１−ナフチル）アクリル酸プロピル、β−（４−スルホキシ−１−ナフチル）アクリル酸プロピル、２−ヒドロキシシンナムアミド、３−ヒドロキシシンナムアミド、４−ヒドロキシシンナムアミド、２−カルボキシシンナムアミド、３−カルボキシシンナムアミド、４−カルボキシシンナムアミド、２−スルホキシシンナムアミド、３−スルホキシシンナムアミド、４−スルホキシシンナムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−ヒドロキシシンナムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−ヒドロキシシンナムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−ヒドロキシシンナムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−２−カルボキシシンナムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−３−カルボキシシンナムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−カルボキシシンナムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−スルホキシシンナムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル２−ヒドロキシシンナムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル３−ヒドロキシシンナムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル４−ヒドロキシシンナムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル２−カルボキシシンナムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル３−カルボキシシンナムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル４−カルボキシシンナムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル４−スルホキシシンナムアミド、２−ヒドロキシ−β−メチルスチレン、３−ヒドロキシ−β−メチルスチレン、４−ヒドロキシ−β−メチルスチレ���、２−カルボキシ−β−メチルスチレン、３−カルボキシ−β−メチルスチレン、４−カルボキシ−β−メチルスチレン、２−スルホキシ−β−メチルスチレン、３−スルホキシ−β−メチルスチレン、４−スルホキシ−β−メチルスチレン、２−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、３−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、４−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、２−カルボキシベンジリデンマロノニトリル、３−カルボキシベンジリデンマロノニトリル、４−カルボキシベンジリデンマロノニトリル、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロノニトリル、４−スルホキシベンジリデンマロノニトリル、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジメチル、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジエチル、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、３−ヒドロキシベンジリデンマロン���ジイソプロピル、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジブチル、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、４
−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、２，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、３，４−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸プロピル、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸プロピル、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸プロピル、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸プロピル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−４−カル���キシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸ブチル、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸ブチル、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸ブチル、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸ブチル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）等が挙げられる。
【００５９】
一般式（５）で表される単量体のなかでも、より高い負の位相差と異種ポリマーとのより高い相溶性を発現するため、２−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、３−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、４−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、２−カルボキシベンジリデンマロノニトリル、３−カルボキシベンジリデンマロノニトリル、４−カルボキシベンジリデンマロノニトリル、４−スルホキシベンジリデンマロノニトリル、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、２，３−ジカルボキシベンジリデンマロン酸ジメチル、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジメチル、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジエチル、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジエチル、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジブチル、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジブチル、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、２−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、３−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、４−カルボキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、４−スルホキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸、α−シアノ−２−スルホキシケイ皮酸、α−シアノ−３−スルホキシケイ皮酸、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸プロピル、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸プロピル、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸プロピル、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸プロピル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸ブチル、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸ブチル、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸ブチル、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸ブチル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）が好ましく、２−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、３−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、４−ヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロノニトリル、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジメチル、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジエチル、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジプロピル、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソプロピル、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジブチル、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジイソブチル、２−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｓｅｃ−ブチル、２−ヒドロキシベ
ンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、３−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、４−ヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、２，３−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、２，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、３，４−ジヒドロキシベンジリデンマロン酸ジｔｅｒｔ−ブチル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸、α−シアノ−２−カルボキシケイ皮酸、α−シアノ−３−カルボキシケイ皮酸、α−シアノ−４−カルボキシケイ皮酸、α−シアノ−２−スルホキシケイ皮酸、α−シアノ−３−スルホキシケイ皮酸、α−シアノ−４−スルホキシケイ皮酸、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸メチル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸プロピル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソプロピル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ブチル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸イソブチル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル、α−シアノ−２−ヒドロキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）、α−シアノ−３−ヒドロキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸（２−メトキシエチル）がさらに好ましい。これらの単量体を重合することにより、脱保護等の後反応を行うことなく重合体を得ることができる。
【００６０】
該重合体は、本発明の範囲を超えない限り、他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、例えば、α−メチルスチレン残基単位等のα−置換スチレン類残基単位；（メタ）アクリル酸残基単位；（メタ）アクリル酸メチル残基単位、（メタ）アクリル酸エチル残基単位、（メタ）アクリル酸ブチル残基単位等の（メタ）アクリル酸エステル残基単位；アクリロニトリル残基単位；メタクリロニトリル残基単位；エチレン残基単位、プロピレン残基単位等のオレフィン類残基単位；フマル酸ジｎ−ブチル残基単位、フマル酸ビス（２−エチルヘキシル）残基単位等のフマル酸ジエステル類残基単位より選ばれる１種又は２種以上を挙げることができる。
【００６１】
本発明の重合体の組成は、光学補償フィルムとしたときの位相差特性がより優れたものとなることから、一般式（１）で表される単量体残基単位５〜５５モル％及び一般式（２）〜（４）のいずれかで表される単量体残基単位４５〜９５モル％が好ましく、一般式（１）で表される単量体残基単位２０〜５０モル％及び一般式（２）〜（４）のいずれかで表される単量体残基単位５０〜８０モル％がさらに好ましく、一般式（１）で表される単量体残基単位３０〜４５モル％及び一般式（２）〜（４）のいずれかで表される単量体残基単位５５〜７０モル％が特に好ましい。
【００６２】
本発明の重合体は、フィルムとした際の耐熱性がより優れたものとなることから、ガラス転移点が１００℃以上であることが好ましく、１２０℃以上であることがさらに好ましく、１５０℃以上であることが特に好ましい。
【００６３】
本発明の重合体は、機械特性、フィルムとした際の強度、靭性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量が５０００〜５０００００であることが好ましく、８０００〜４０００００であることがさらに好ましく、１００００〜３０００００であることが特に好ましい。
【００６４】
本発明の重合体の具体的な製造方法としては、該共重合体が得られる限りにおいて如何なる方法でもよく、例えば、一般式（５）で表される単量体のラジカル重合を行うことにより製造することができる。
【００６５】
前記ラジカル重合は公知の重合方法、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法のいずれも採用可能である。
【００６６】
ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート等の有機過酸化物；２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−ブチロニトリル）、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）等のアゾ系開始剤などが挙げられる。
【００６７】
そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒；シクロヘキサン；ジオキサン；テトラヒドロフラン；アセトン；メチルエチルケトン；ジメチルホルムアミド；酢酸イソプロピル；水などが挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。
【００６８】
また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、一般的には３０〜１５０℃の範囲で行うことが好ましい。
【００６９】
本発明の重合体は、光学フィルムとして用いることができる。
【００７０】
本発明の重合体を光学フィルムとして用いる場合、画質の特性が良好となるため、ヘーズが２％以下であることが好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。
【００７１】
本発明の重合体を光学フィルムとして用いる場合、画質の特性が良好となるため、全光線透過率が８５％以上であることが好ましい。
【００７２】
本発明の重合体を光学フィルムとして用いる場合、位相差特性に優れるものとなることから、光学補償フィルム（位相差フィルム）とすることが好ましい。
【００７３】
本発明の重合体を用いた光学補償フィルムは、未延伸でも位相差を発現することから、フィルム面内の進相軸方向の屈折率をｎｘ、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚み方向の屈折率をｎｚとした場合のそれぞれの関係がｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚである光学補償フィルムとして用いられる。
【００７４】
本発明の重合体を用いた光学補償フィルムとしては、該重合体のみを用いることもできるだけでなく、他の重合体と混合した組成物とすることに好適である。このとき、混合する他の重合体としては、負の複屈折性を有する重合体であっても、正の複屈折性を有する重合体であっても良い。
【００７５】
本発明の重合体を負の複屈折性を有する光学補償フィルムとして用いる場合、薄膜化が可能となるため、下記式（Ａ）で示される面外位相差（Ｒｔｈ）と膜厚との比（Ｒｔｈ／膜厚）が絶対値で６以上（ｎｍ／μｍ）であることが好ましく、８以上であることがさらに好ましく、９以上であることが特に好ましい。
【００７６】
Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］×ｄ          （Ａ）
（式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
本発明において、重合体を負の複屈折性を有する光学補償フィルムとして用いる場合、三次元屈折率を独立に制御できることから、ｎｘ＜ｎｚまたはｎｙ＜ｎｚの少なくともいずれかとなることが好ましい。
【００７７】
本発明の共重合体を用いた光学フィルムの製造方法としては、特に制限はなく、例えば、溶液キャスト法、溶融キャスト法等の方法により製造することができる。
【００７８】
溶液キャスト法は、該重合体を溶媒に溶解した溶液（以下、ドープと称する。）を支持基板上に流延した後、加熱等により溶媒を除去してフィルムを得る方法である。その際ドープを支持基板上に流延する方法としては、例えば、Ｔダイ法、ドクターブレード法、バーコーター法、ロールコーター法、リップコーター法等が用いられる。特に、工業的にはダイからドープをベルト状又はドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が一般的である。用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレート等のフィルムなどがある。溶液キャスト法において、高い透明性を有し、かつ厚み精度、表面平滑性に優れたフィルムを製膜する際には、ドープの溶液粘度は極めて重要な因子であり、１０〜２００００ｃＰｓが好ましく、１００〜１００００ｃＰｓであることがさらに好ましい。
【００７９】
この際の該重合体を用いたフィルムの塗布厚は、優れた表面平滑性、光学特性が得られることから、乾燥後１〜２００μｍが好ましく、さらに好ましくは５〜１００μｍであり、特に好ましくは１０〜５０μｍである。
【００８０】
また、溶融キャスト法は、該重合体を押出機内で溶融し、Ｔダイのスリットからフィルム状に押出した後、ロールやエアーなどで冷却しつつ引き取る成形法である。
【００８１】
本発明の重合体を用いた光学補償フィルムは、基材のガラス基板や他の光学フィルムから剥離して用いることが可能であり、基材のガラス基板や他の光学フィルムとの積層体としても用いることができる。
【００８２】
本発明の重合体を用いた光学補償フィルムは、延伸して使用することもできる。
【００８３】
本発明の重合体を用いた光学補償フィルムは、偏光板と積層して円または楕円偏光板として用いることが可能であり、ポリビニルアルコール／ヨウ素等を含む偏光子と積層して偏光板とすることも可能である。さらに、該光学補償フィルム同士又は他の光学補償フィルムと積層することもできる。
【００８４】
本発明の重合体を用いた光学補償フィルムは、フィルム成形時又は位相差フィルム自体の熱安定性を高めるために酸化防止剤が配合されていることが好ましい。該酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独又は併用して用いても良い。そして、相乗的に酸化防止作用が向上することから、ヒンダード系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましく、その際には、ヒンダード系酸化防止剤１００重量部に対して、リン系酸化防止剤を１００〜５００重量部で混合して使用することがさらに好ましい。また、酸化防止剤の添加量としては、高い酸化防止効果が得られることから、該位相差フィルムを構成する重合体１００重量部に対して、０．０１〜１０重量部が好ましく、０．５〜１重量部がさらに好ましい。
【００８５】
また、紫外線吸収剤として、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエート等を必要に応じて配合してもよい。
【００８６】
本発明の重合体を用いた光学フィルムは、その他高分子、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等が配合されていてもよい。
【００８７】
本発明によると、液晶ディスプレイのコントラストや視野角特性の補償フィルムや反射防止フィルムとして有用となるフィルムの厚み方向の屈折率が大きく、面内位相差が大きく、波長依存性が小さい等の光学特性に優れた光学補償フィルムに適した重合体を提供することができる。
【発明の効果】
【００８８】
本発明の重合体は、位相差特性及び相溶性に優れる光学補償フィルムに適した重合体であり、特に液晶表示素子用及び有機ＥＬ用の光学補償フィルム用として適したものである。
【実施例】
【００８９】
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００９０】
なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。
【００９１】
＜重合体の組成＞
核磁気共鳴測定装置（日本電子製、商品名ＪＮＭ−ＥＣＺ４００Ｓ）を用い、プロトン核磁気共鳴分光（１Ｈ−ＮＭＲ）スペクトル分析より求めた。また、１Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析により求めることが困難であるものについては、ＣＨＮ元素分析より求めた。
【００９２】
＜数平均分子量の測定＞
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（東ソー製、商品名ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ（カラムＧＭＨＨＲ―Ｈを装着））を用い、テトラヒドロフランまたはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを溶媒として、４０℃で測定し、標準ポリスチレンまたはプルラン換算値として求めた。
【００９３】
＜フィルムの三次元屈折率の測定＞
全自動複屈折計（王子計測機器製、商品名ＫＯＢＲＡ−ＷＰＲ）を用いて測定した。
【００９４】
実施例１
容量５０ｍｌのガラスアンプルにα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル５．０ｇ、Ｎ−ビニルカルバゾール４．４ｇ、重合溶媒としてテトラヒドロフラン８．５ｇおよび重合開始剤である２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．１７ｇを入れ、窒素置換したのち減圧状態で熔封した。このガラスアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、容器から重合物を取り出し、５００ミリリットルのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル−Ｎ−ビニルカルバゾール共重合体７．７ｇを得た。（収率８２％）
得られたα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル−Ｎ−ビニルカルバゾール共重合体の数平均分子量は２２０００であり、共重合体組成はα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル残基単位／Ｎ−ビニルカルバゾール残基単位＝４２／５８（モル％）であることを確認した。
【００９５】
得られたα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル−Ｎ−ビニルカルバゾール共重合体をテトラヒドロフランに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコーターでコートし、６０℃で１０時間真空乾燥することによりヘーズ０．４％、全光線透過率８７％の良好なフィルム（膜厚１５．２μｍ）が得られた。得られたフィルムの三次元屈折率の測定をおこなったところ、ｎｘ＝１．６８１、ｎｙ＝１．６８１、ｎｚ＝１．７０４であり、Ｒｔｈ／膜厚＝−２３．０（ｎｍ／μｍ）と高い負の位相差を発現した。
【００９６】
得られたα−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル−Ｎ−ビニルカルバゾール共重合体０．５ｇとポリメタクリル酸メチル（東京化成製、数平均分子量２７００００）０．５ｇをテトラヒドロフラン１０ｇに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコーターでコートし、６０℃で１０時間真空乾燥することによりヘーズ０．７％の良好なフィルムとなることから、α−シアノ−４−ヒドロキシケイ皮酸エチル−Ｎ−ビニルカルバゾール共重合体は相溶性に優れるポリマーであった。
【００９７】
実施例２
容量５０ｍｌのガラスアンプルに４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル５．０ｇ、２−ビニルナフタレン４．５ｇ、重合溶媒としてテトラヒドロフラン１０ｇおよび重合開始剤である２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．２１ｇを入れ、窒素置換したのち減圧状態で熔封した。このガラスアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、容器から重合物を取り出し、５００ミリリットルのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルナフタレン共重合体６．２ｇを得た。（収率６５％）
得られた４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルナフタレン共重合体の数平均分子量は１２０００であり、共重合体組成は４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル残基単位／２−ビニルナフタレン残基単位＝４３／５７（モル％）であることを確認した。
【００９８】
得られた４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルナフタレン共重合体０．５ｇおよびポリエチレングリコール（東京化成製、数平均分子量３０００）０．５ｇをテトラヒドロフラン４ｇに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコートし、６０℃で１０時間真空乾燥することによりヘーズ０．４％、全光線透過率８６％の良好なフィルム（膜厚１２．４μｍ）が得られた。得られたフィルムの三次元屈折率の測定をおこなったところ、ｎｘ＝１．６３４、ｎｙ＝１．６３３、ｎｚ＝１．６６８であり、Ｒｔｈ／膜厚＝−３４．３（ｎｍ／μｍ）と高い負の位相差を発現した。
【００９９】
得られた４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルナフタレン共重合体０．８ｇとポリメタクリル酸メチル（東京化成製、数平均分子量２７００００）０．２ｇをシクロヘキサノン９ｇに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコーターでコートし、１００℃で１０時間真空乾燥することによりヘーズ０．８％の良好なフィルムとなることから、４−ヒドロキシベンザルマロノニトリル−２−ビニルナフタレン共重合体は相溶性に優れるポリマーであった。
【０１００】
実施例３
容量５０ｍｌのガラスアンプルに４−カルボキシベンザルマロノニトリル５．３ｇ、Ｎ−ビニルフタルイミド４．７ｇ、重合溶媒としてＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１２．５ｇおよび重合開始剤である２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．１９ｇを入れ、窒素置換したのち減圧状態で熔封した。ガラスアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、容器から重合物を取り出し、２００ミリリットルのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、４−カルボキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体４．５ｇを得た。（収率４５％）
得られた４−カルボキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体の数平均分子量は１３０００であり、共重合体組成は４−カルボキシベンザルマロノニトリル残基単位／Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体残基単位＝３５／６５（モル％）であることを確認した。
【０１０１】
得られた４−カルボキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコートし、６０℃で１８０分真空乾燥することによりヘーズ０．５％、全光線透過率８７％の良好なフィルム（膜厚１３．０μｍ）が得られた。得られたフィルムの三次元屈折率の測定をおこなったところ、ｎｘ＝１．６２６、ｎｙ＝１．６２６、ｎｚ＝１．６４７であり、Ｒｔｈ／膜厚＝−２１．１（ｎｍ／μｍ）と高い負の位相差を発現した。
【０１０２】
得られた４−カルボキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体０．７ｇとポリ酢酸ビニル（Ａｌｄｒｉｃｈ製、数平均分子量５３０００）０．３ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｇに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコーターでコートし、６０℃で１０時間真空乾燥することによりヘーズ０．８％の良好なフィルムとなることから、４−カルボキシベンザルマロノニトリル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体は相溶性に優れるポリマーであった。
【０１０３】
実施例４
容量５０ｍｌのガラスアンプルにＮ，Ｎ−ジメチル−４−スルホキシ−α−シアノケイ皮アミド６．１ｇ、２−ビニルナフタレン８．９ｇ、重合溶媒としてＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０．０ｇおよび重合開始剤である２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．２８ｇを入れ、窒素置換したのち減圧状態で熔封した。このガラスアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、容器から重合物を取り出し、２００ミリリットルのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−スルホキシ−α−シアノケイ皮アミド−２−ビニルナフタレン共重合体３．３ｇを得た。（収率３３％）
得られたＮ，Ｎ−ジメチル−４−スルホキシ−α−シアノケイ皮アミド−２−ビニルナフタレン共重合体の数平均分子量は１００００であり、共重合体組成はＮ，Ｎ−ジメチル−４−スルホキシ−α−シアノケイ皮アミド残基単位／２−ビニルナフタレン共重合体残基単位＝２９／７１（モル％）であることを確認した。
【０１０４】
得られたＮ，Ｎ−ジメチル−４−スルホキシ−α−シアノケイ皮アミド−２−ビニルナフタレン共重合体をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコートし、６０℃で１０時間真空乾燥することによりヘーズ０．５％、全光線透過率８６％の良好なフィルム（膜厚９．７μｍ）が得られた。得られたフィルムの三次元屈折率の測定をおこなったところ、ｎｘ＝１．６３３、ｎｙ＝１．６３４、ｎｚ＝１．６５２であり、Ｒｔｈ／膜厚＝−１８．５（ｎｍ／μｍ）と高い負の位相差を発現した。
【０１０５】
得られたＮ，Ｎ−ジメチル−４−スルホキシ−α−シアノケイ皮アミド−２−ビニルナフタレン共重合体０．８ｇとエチルセルロース（ダウ・ケミカル製エトセルスタンダード１００、数平均分子量５５０００）０．３ｇをテトラヒドロフラン９ｇに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコーターでコートし、６０℃で１０時間真空乾燥することによりヘーズ０．９％の良好なフィルムとなることから、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−スルホキシ−α−シアノケイ皮アミド−２−ビニルナフタレン共重合体は相溶性に優れるポリマーであった。
【０１０６】
比較例１
ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）（Ａｌｄｒｉｃｈ製、数平均分子量３５０００）０．５ｇとポリメタクリル酸メチル（東京化成製、数平均分子量２７００００）０．５ｇをテトラヒドロフラン１０ｇに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコーターでコートし、６０℃で１０時間真空乾燥することによりヘーズ８６．６％の不良なフィルムとなることから、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）は相溶性に劣るポリマーであった。
【０１０７】
比較例２
ポリ（２−ビニルナフタレン）（Ａｌｄｒｉｃｈ製、数平均分子量５００００）０．８ｇとポリメタクリル酸メチル（東京化成製、数平均分子量２７００００）０．２ｇをシクロヘキサノン９ｇに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコーターでコートし、１００℃で１０時間真空乾燥することによりヘーズ９０．３％の不良なフィルムとなることから、ポリ（２−ビニルナフタレン）は相溶性に劣るポリマーであった。
【０１０８】
比較例３
容量５０ｍｌのガラスアンプルにメタクリロニトリル２．８ｇ、Ｎ−ビニルフタルイミド７．２ｇ、重合溶媒としてＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１２．５ｇおよび重合開始剤である２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン０．３０ｇを入れ、窒素置換したのち減圧状態で熔封した。ガラスアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、１８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、容器から重合物を取り出し、２００ミリリットルのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、メタクリロニトリル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体７．８ｇを得た。（収率７８％）
得られたメタクリロニトリル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体の数平均分子量は２１０００であることを確認した。
【０１０９】
得られたメタクリロニトリル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体０．７ｇとポリ酢酸ビニル（Ａｌｄｒｉｃｈ製、数平均分子量５３０００）０．３ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｇに溶解し、溶液をガラス基板上にスピンコーターでコートし、６０℃で１０時間真空乾燥することによりヘーズ９２．１％の不良なフィルムとなることから、メタクリロニトリル−Ｎ−ビニルフタルイミド共重合体は相溶性に劣るポリマーであった。
【産業上の利用可能性】
【０１１０】
本発明は、新規な重合体を提供するものであり、該重合体はフィルム、特に光学補償フィルム等としての利用が期待されるものである。