(57)【要約】      （修正有）【課題】単純な構成で鏡筒内の光学素子の制振を行うために有利な技術を提供する。【解決手段】鏡筒内に設けられた複数の光学素子のうち第１光学素子の制振を行う制振装置は、前記鏡筒に連結され、前記第１光学素子を保持する保持部材６５と、ダンパ素子６４を介して前記保持部材により支持された質量体６３と、を有し、前記質量体６３は、前記複数の光学素子のうち前記第１光学素子と異なる第２光学素子３２ｂを含む、ことを特徴とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
鏡筒内に設けられた複数の光学素子のうち第１光学素子の制振を行う制振装置であって、
前記鏡筒に連結され、前記第１光学素子を保持する保持部材と、
ダンパ素子を介して前記保持部材により支持された質量体と、を有し、
前記質量体は、前記複数の光学素子のうち前記第１光学素子と異なる第２光学素子を含む、ことを特徴とする制振装置。
【請求項２】
前記鏡筒からの振動を減衰するように前記鏡筒と前記保持部材とを連結する連結部材を更に含む、ことを特徴とする請求項１に記載の制振装置。
【請求項３】
前記保持部材は、前記第１光学素子の保持部分と前記連結部材への接続部分との間に切欠部を有する、ことを特徴とする請求項２に記載の制振装置。
【請求項４】
前記保持部材は、前記第１光学素子の保持部分と前記ダンパ素子への接続部分との間に切欠部を有する、ことを特徴とする請求項２又は３に記載の制振装置。
【請求項５】
前記ダンパ素子で支持された前記質量体の固有振動数は、前記連結部材で支持された前記第１光学素子の固有振動数と異なる、ことを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載の制振装置。
【請求項６】
前記第１光学素子と前記第２光学素子とでは、位置の変動量に対する光学特性の変化量が互いに異なる、ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の制振装置。
【請求項７】
前記第１光学素子と前記第２光学素子とは、互いに異なる質量を有する、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の制振装置。
【請求項８】
前記第１光学素子と前記第２光学素子とは、互いに異なる屈折力を有する、ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の制振装置。
【請求項９】
鏡筒内に設けられた複数の光学素子のうち第１光学素子および第２光学素子の制振を行う制振装置であって、
前記鏡筒に連結され、前記第１光学素子を保持する第１保持部材と、
前記鏡筒に連結され、前記第２光学素子を保持する第２保持部材と、
第１ダンパ素子を介して前記第１保持部材により支持されるとともに、第２ダンパ素子を介して前記第２保持部材により支持された質量体と、
を有することを特徴とする制振装置。
【請求項１０】
前記質量体は、前記複数の光学素子のうち前記第１光学素子および前記第２光学素子と異なる第３光学素子を含む、ことを特徴とする請求項９に記載の制振装置。
【請求項１１】
前記鏡筒からの振動を減衰するように前記鏡筒と前記第１保持部材とを連結する第１連結部材と、
前記鏡筒からの振動を減衰するように前記鏡筒と前記第２保持部材とを連結する第２連結部材と、
を更に含むことを特徴とする請求項９又は１０に記載の制振装置。
【請求項１２】
前記第１ダンパ素子と前記第２ダンパ素子とで支持された前記質量体の固有振動数は、前記第１連結部材で支持された前記第１光学素子の固有振動数、および前記第２連結部材で支持された前記第２光学素子の固有振動数と異なる、ことを特徴とする請求項１１に記載の制振装置。
【請求項１３】
鏡筒内に設けられた複数の光学素子のうち第１光学素子および第２光学素子の制振を行う制振装置であって、
前記鏡筒に連結され、前記第１光学素子を保持する第１保持部材と、
前記鏡筒に連結され、前記第２光学素子を保持する第２保持部材と、を有し、
前記第１保持部材と前記第２保持部材とはダンパ素子によって連結されている、ことを特徴とする制振装置。
【請求項１４】
前記鏡筒からの振動を減衰するように前記鏡筒と前記第１保持部材とを連結する第１連結部材と、
前記鏡筒からの振動を減衰するように前記鏡筒と前記第２保持部材とを連結する第２連結部材と、
を更に含むことを特徴とする請求項１３に記載の制振装置。
【請求項１５】
前記第１連結部材で支持された前記第１光学素子の固有振動数と、前記第２連結部材で支持された前記第２光学素子の固有振動数とは互いに異なる、ことを特徴とする請求項１４に記載の制振装置。
【請求項１６】
基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置であって、
鏡筒内に設けられた複数の光学素子を有する光学系と、
請求項１乃至１５のいずれか１項に記載の制振装置と、
を含むことを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１７】
請求項１６に記載のリソグラフィ装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された前記基板にエッチング加工を行う工程と、を含み、
エッチング加工が行われた前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、制振装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスなどの製造に用いられるリソグラフィ装置では、基板上に形成すべきパターンの微細化や高集積化に伴い、装置内における光学素子（レンズなど）の振動を低減することが求められている。特許文献１には、光学素子を保持するホルダによりダンパ素子を介してそれぞれ支持された複数の制振質量を、結合素子によって結合した制振装置が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第５０１７４９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
例えば、露光装置に用いられる照明光学系や投影光学系などの光学系では、所望の光学特性を得るために、鏡筒内に多数の光学素子が狭い間隔で配列されうる。そのため、特許文献１に記載されたように、光学素子を保持するホルダに、結合素子で結合された複数の制振質量を設ける構成の制振装置では、配置スペースの観点から、鏡筒内における複数の光学素子の各々に対して設けることが困難である。
【０００５】
そこで、本発明は、単純な構成で鏡筒内の光学素子の制振を行うために有利な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての制振装置は、鏡筒内に設けられた複数の光学素子のうち第１光学素子の制振を行う制振装置であって、前記鏡筒に連結され、前記第１光学素子を保持する保持部材と、ダンパ素子を介して前記保持部材により支持された質量体と、を有し、前記質量体は、前記複数の光学素子のうち前記第１光学素子と異なる第２光学素子を含む、ことを特徴とする。
【０００７】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、例えば、単純な構成で鏡筒内の光学素子の制振を行うために有利な技術を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】露光装置の構成を示す概略図である。
【図２】第１実施形態の制振装置の構成例を示す斜視図である。
【図３】第１実施形態の制振装置の構成例を示す概略断面図である。
【図４】第１実施形態の制振装置における連結部材の構成例を示す図である。
【図５】第１実施形態の制振装置の変形例を示す概略断面図である。
【図６】第２実施形態の制振装置の構成例を示す概略断面図である。
【図７】第２実施形態の制振装置の変形例を示す概略断面図である。
【図８】保持部材に緩和機構を設けた例を示す図である。
【図９】第３実施形態の制振装置の構成例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材ないし要素については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。また、以下の実施形態では、基板上にパターンを形成するリソグラフィ装置として、基板を露光してマスクのパターンを基板上に転写する露光装置を用いて説明するが、それに限られるものではない。例えば、モールドを用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置や、荷電粒子線で基板上にパターンを形成する描画装置などのリソグラフィ装置においても、それに含まれる光学素子の制振を行う場合に本発明を適用することができる。
【００１１】
図１は、露光装置１００の構成を示す概略図である。露光装置１００は、例えば、照明光学系１０と、マスクＭを保持するマスクステージ２０と、投影光学系３０と、基板Ｗを保持する基板ステージ４０と、制御部５０とを含みうる。照明光学系１０は、例えば、鏡筒１１と、その内部に設けられた複数の光学素子１２とを含み、光源１３から射出された光を用いて、マスクステージ２０により保持されたマスクＭを照明する。照明光学系１０の光学素子１２としては、例えば、レンズやミラー、回折格子、平行面プレートなどが用いられうる。投影光学系３０は、例えば、鏡筒３１と、その内部に設けられた複数の光学素子３２とを含み、所定の投影倍率でマスクＭのパターンを基板上に投影する。投影光学系３０の光学素子３２としては、例えば、レンズやミラー、回折格子、平行面プレートなどが用いられうる。基板ステージ４０は、例えば、基板Ｗを保持する基板チャック４１と、基板チャック４１（基板Ｗ）を駆動する基板駆動部４２とを含み、投影光学系３０の光軸と直交する方向（ＸＹ方向）に移動可能に構成される。制御部５０は、例えば、ＣＰＵやメモリなどを有するコンピュータによって構成され、露光装置１００の各部を制御して、マスクＭのパターンを基板Ｗに転写する処理（基板を露光する処理）を実行する。
【００１２】
このように構成された露光装置１００では、基板上に形成すべきパターンの微細化や高集積化に伴い、照明光学系１０および投影光学系３０の光学素子に生じる振動を低減し、基板上にパターンを精度よく形成することが求められている。そのため、露光装置１００では、光学素子の振動を低減するための制振装置が、照明光学系１０や投影光学系３０の鏡筒内に設けられうる。以下に、本発明に係る制振装置について説明する。ここで、以下の説明では、投影光学系３０の光学素子３２の振動を低減するための制振装置について説明するが、該制振装置は、照明光学系１０の光学素子１２に対しても適用することができる。
【００１３】
＜第１実施形態＞
第１実施形態の制振装置６０について、図２および図３を参照しながら説明する。図２は、本実施形態の制振装置６０の構成例を示す斜視図であり、図３は、本実施形態の制振装置６０の構成例を示す概略断面図である。
【００１４】
本実施形態の制振装置６０は、例えば、光学素子３２ａ（第１光学素子）を保持する第１保持部材６１と、第１保持部材６１を鏡筒３１に連結する連結部材６２とを含みうる。また、制振装置６０は、ダンパ素子６４を介して第１保持部材６１により支持された質量体６３を、制振マスとして含みうる。そして、ダンパ素子６４で支持された質量体６３の固有振動数を、連結部材６２で支持された光学素子３２ａの固有振動数（例えば１５０〜２００Ｈｚ）と異ならせることで、鏡筒３１から光学素子３２ａ、３２ｂに伝わった振動を迅速に減少させることができる。本実施形態の質量体６３は、光学素子３２ａ（第１光学素子）とは異なる光学素子３２ｂ（第２光学素子）と、該光学素子３２ｂを保持する第２保持部材６５とを含み、該第２保持部材６５がダンパ素子６４を介して第１保持部材６１によって支持される。このような構成により、例えば、互いに隣り合う光学素子３２ａと光学素子３２ｂとの間の狭い空間に構造体を配置することなく、光学素子３２ａおよび光学素子３２ｂの質量を利用して、それらの制振を行うことができる。
【００１５】
次に、制振装置６０の各要素の構成例について説明する。
第１保持部材６１は、光学素子３２ａの周縁部（例えば、光を透過させる領域以外の領域）を保持するように例えばリング形状に構成された部材である。この第１保持部材６１は、熱膨張係数が１０−６（１／Ｋ）以下の低熱膨張金属やセラミックスなど（低熱膨張材、熱膨張係数が１０−３（１／Ｋ）以下、より好ましくは１０−６（１／Ｋ）以下）によって作製されうる。第１保持部材６１と光学素子３２ａとの接合方法としては、接着、機械的結合、分子間結合のいずれかが用いられうるが、それら以外の接合方法であってもよい。また、第２保持部材６５は、第１保持部材６１と同様に、光学素子３２ｂの周縁部を保持するように例えばリング形状に構成された部材であり、熱膨張係数が１０−６（１／Ｋ）以下の低熱膨張金属やセラミックスによって作製されうる。第２保持部材６５と光学素子３２ｂとの接合方法としては、接着、機械的結合、分子間結合のいずれかが用いられうるが、それら以外の接合方法であってもよい。
【００１６】
ここで、第２保持部材６５で保持される光学素子３２ｂとしては、第１保持部材６１で保持される光学素子３２ａと比べて、位置誤差に対する光学敏感度（例えば、位置の変動量に対する光学特性の変化量）が小さい光学素子が用いられることが好ましい。また、第１保持部材６１で保持される光学素子３２ａと第２保持部材６５で保持される光学素子３２ｂとは、互いに異なる質量を有してもよいし、互いに異なる屈折力を有してもよい。例えば、光学素子３２ｂは、光学素子３２ａより質量が小さく、屈折力が小さい光学素子が用いられるとよい。
【００１７】
連結部材６２は、６自由度を拘束するように光学素子３２ａ（第１保持部材６１）を支持するための剛性を有するとともに、鏡筒３１と光学素子３２ａ（第１保持部材６１）との間で伝達する振動を減衰させる減衰特性を有するように構成されうる。つまり、連結部材６２は、ばね定数Ｋと減衰係数Ｃとを有する物体で構成され、鏡筒３１から光学素子３２ａ（第１保持部材６１）に伝わる変形伝達を縮小し、光学素子３２ａに発生する歪みを低減することができるように構成されうる。連結部材６２は、鏡筒３１と第１保持部材６１との間における複数個所（例えば４箇所）に設けられうるが、連結部材６２の配置箇所は、連結部材６２の剛性や、制振すべき振動モードに応じて任意に変更されうる。また、連結部材６２を、投影光学系３０の光軸を中心とするリング形状として、鏡筒３１と第１保持部材６１との間に配置してもよい。
【００１８】
連結部材６２としては、金属バネ、セラミックス、樹脂、粘弾性部材（例えばゴム部材、好適にはアウトガスの比較的少ないフッ素ゴム）、繊維状物質の単一部材、またはこれらの組み合わせが用いられうる。繊維状物質の例としては、例えば、金属繊維や炭素繊維を編みこんだものが挙げられる。また、ピエゾ素子などのアクチュエータを連結部材６２として用い、アクティブマスダンパの構成にしてもよい。このような連結部材６２は、鏡筒３１および第１保持部材６１に、接着剤やボルトなどによって直接的に取り付けられてもよいし、例えばゴムシートなどの弾性体を介して間接的に取り付けられてもよい。なお、６自由度とは、Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向に加えて、それらの各方向を軸としたときの回転方向を含みうる。
【００１９】
また、ダンパ素子６４が筒形状になっており、保持部材６１と保持部材６５の間に隙間なく配置され、光学素子３２ａ、光学素子３２ｂの間に密閉空間を構成するような形状（構成）の場合を想定する。この場合、外部気圧とこの密閉空間との間の気圧差（外部気圧が変化した際の外部気圧とこの密閉空間の気圧との差）により光学素子の変形状態が変化し、光学性能に影響が出てしまう懸念がある。この場合、外部との気圧差が発生しないよう、保持部材６１または保持部材６５に貫通穴を設ける構成としてもよい。
【００２０】
図４は、本実施形態の制振装置６０における連結部材６２の構成例を示す図であり、該構成例を上（Ｚ方向）からみた図である。図４では、図を分かりやすくするため、光学素子３２ｂ、第２保持部材６５およびダンパ素子６４の図示を省略している。
【００２１】
図４（ａ）に示す構成例では、両端部が鏡筒３１に接続され且つ中央部が第１保持部材６１に接続された板バネ６２ａが、連結部材６２として設けられている。このような板バネ６２ａは、光学素子３２ａの６自由度を拘束し、光学素子３２ａと鏡筒３１との熱膨張率差に起因する光学素子３２ａの歪みの発生を低減するように、鏡筒３１と第１保持部材６１との間に複数設けられうる。図４（ａ）では、３個の板バネ６２ａを、第１保持部材６１に対して１２０度ピッチで配置することにより、光学素子３２ａ（第１保持部材６１）の６自由度を拘束し、鏡筒３１から光学素子３２ａに伝達する振動を低減することができる。
【００２２】
図４（ｂ）に示す構成例では、鏡筒３１と第１保持部材６１との間に、一端が鏡筒３１に接続され且つ他端が第１保持部材６１に接続された板バネ６２ｂが、連結部材６２として設けられている。板バネ６２ｂは、光学素子３２ａを挟み込むように、光学素子３２ａの±Ｙ方向側に設けられている。これにより、鏡筒３１から光学素子３２ａに伝達する振動を低減することができる。また、鏡筒３１と第１保持部材６１との間には、光学素子３２ａ（第１保持部材６１）を駆動するアクチュエータ６２ｃが連結部材６２として設けられてもよい。アクチュエータ６２ｃは、光学素子３２ａ（第１保持部材６１）に対して少なくともＺ方向に力を加えるように構成されうる。これにより、光学素子３２ａに所望の変形を発生させ、例えば投影光学系３０の非点収差を引き起こすアス形状の補正など、必要な形状補正を行うことができる。アクチュエータ６２ｃとしては、例えば、ピエゾ素子など接触式のものが用いられてもよいし、リニアモータなど非接触式のもの、又は、光学素子３２ａに熱を加えて熱膨張させるものであってもよい。
【００２３】
ダンパ素子６４は、質量体６３（光学素子３２ｂ、第２保持部材６５）を支持するための剛性を有するとともに、第１保持部材６１と質量体６３との間で伝達する振動を減衰させる減衰特性を有するように構成されうる。つまり、ダンパ素子６４は、ばね定数Ｋと減衰係数Ｃとを有する物体で構成され、質量体の固有振動数が、連結部材６２により支持された光学素子３２ａの固有振動数と異なるように構成されうる。ダンパ素子６４は、第１保持部材６１と質量体６３（第２保持部材６５）との間における複数箇所（例えば３箇所）に設けられうるが、ダンパ素子６４の配置個所は、ダンパ素子６４の剛性や、制振すべき振動モードに応じて任意に変更されうる。また、ダンパ素子６４を、投影光学系３０の光軸を中心とするリング形状として、第１保持部材６１と質量体６３（第２保持部材６５）との間に配置してもよい。
【００２４】
ダンパ素子６４としては、連結部材６２と同様に、金属バネ、セラミックス、樹脂、粘弾性部材（例えばゴム部材、好適にはアウトガスの比較的少ないフッ素ゴム）、繊維状物質の単一部材、またはこれらの組み合わせが用いられうる。このようなダンパ素子６４は、第１保持部材６１および第２保持部材６５に、接着剤やボルトなどによって直接的に取り付けられてもよいし、例えばゴムシートなどの弾性体を介して間接的に取り付けられてもよい。
【００２５】
ここで、図２および図３に示す例では、光学素子３２ａおよび光学素子３２ｂが投影光学系３０の光軸（Ｚ方向）に沿って隣り合っているが、それに限られるものではなく、光学素子３２ａと光学素子３２ｂとの間に別の光学素子３２が配置されてもよい。図５は、本実施形態の制振装置６０の変形例を示す概略断面図である。図５に示す例では、光学素子３２ａと光学素子３２ｂとの間に光学素子３２ｃが配置されている。上述したように、光学素子３２ａは、連結部材６２を介して鏡筒３１により支持された第１保持部材６１で保持され、光学素子３２ｂは、ダンパ素子６４を介して第１保持部材６１により支持された第２保持部材６５で保持されている。また、光学素子３２ｃは、連結部材６７を介して鏡筒３１により支持された保持部材６６で保持され、光学素子３２ａおよび光学素子３２ｂの制振機構とは別系統の制振機構が設けられている。
【００２６】
＜第２実施形態＞
第２実施形態の制振装置７０について、図６を参照しながら説明する。図６は、本実施形態の制振装置７０の構成例を示す概略断面図である。本実施形態の制振装置７０は、例えば、光学素子３２ｄ（第１光学素子）を保持する第１保持部材７１ａと、第１保持部材７１ａを鏡筒３１に連結する第１連結部材７２ａとを含みうる。また、制振装置７０は、光学素子３２ｅ（第２光学素子）を保持する第２保持部材７１ｂと、第２保持部材７１ｂを鏡筒３１に連結する第２連結部材７２ｂと、制振マスとしての質量体７３とを更に含む。質量体７３は、第１ダンパ素子７４ａを介して第１保持部材７１ａにより支持されるとともに、第２ダンパ素子７４ｂを介して第２保持部材７１ｂによっても支持されている。
【００２７】
第１保持部材７１ａおよび第２保持部材７１ｂはそれぞれ、第１実施形態の第１保持部材６１と同様に構成することができる。第１連結部材７２ａおよび第２連結部材７２ｂはそれぞれ、第１実施形態の連結部材６２と同様に構成することができる。また、第１ダンパ素子７４ａおよび第２ダンパ素子７４ｂはそれぞれ、第１実施形態のダンパ素子６４と同様に構成することができる。
【００２８】
質量体７３は、光を通過させるための開口が中心部に設けられたリング形状に、熱膨張係数が１０−６（１／Ｋ）以下の低熱膨張金属やセラミックスなどの材質によって構成されている。この質量体７３は、光学素子３２ｄと光学素子３２ｅとに対する共通の制振マスとして、それらの間に配置されうる。第１ダンパ素子７４ａと第２ダンパ素子７４ｂとで支持された質量体７３の固有振動数は、第１連結部材７２ａで支持された光学素子３２ｄの固有振動数、および第２連結部材７２ｂで支持された光学素子３２ｅの固有振動数と異なるように設定される。これにより、鏡筒３１から光学素子３２ｄ、３２ｅに伝わった振動を迅速に減少させることができる。
【００２９】
質量体７３は、上述したように、光を通過させるための開口が中心部に設けられたリング形状に構成されうるが、それに限られず、複数の質量体に分割し、それら複数の質量体をバネ部材などによって連結した構成であってもよい。また、質量体は、図７に示すように、光学素子３２ｄ、３２ｅとは異なる光学素子３２ｆ（第３光学素子）と、該光学素子３２ｆを保持する第３保持部材７５とを含むように構成されてもよい。この場合、該第３保持部材７５が各ダンパ素子７４ａ、７４ｂを介して第１保持部材７１ａおよび第２保持部材７１ｂによってそれぞれ保持されうる。このような構成により、例えば、互いに隣り合う光学素子３２ｄと光学素子３２ｅとの間の狭い空間に構造体を配置することなく、光学素子３２ｄ〜３２ｆの質量を利用して、それらの制振を行うことができる。
【００３０】
ここで、第１連結部材７２ａおよび第１ダンパ素子７４ａによって光学素子３２ｄ（第１保持部材７１ａ）の６自由度を拘束し過ぎると、かえって光学素子３２ｄに意図しない変形が生じることがある。同様に、第２連結部材７２ｂおよび第２ダンパ素子７４ｂによって光学素子３２ｅ（第２保持部材７１ｂ）の６自由度を拘束し過ぎると、かえって光学素子３２ｅに意図しない変形が生じることがある。そのため、このような過拘束を緩和するための緩和機構を、第１保持部材７１ａおよび第２保持部材７１ｂの少なくとも一方に設けてもよい。緩和機構とは、光学素子３２全体の支持固有値を大きく下げることなく、過拘束による光学素子３２への歪みの発生を低減させるように構成された機構である。例えば、緩和機構とは、特定の一方向における光学素子３２の支持剛性を減少させるが、他方向においては光学素子３２の支持剛性を維持させる（高く保つ）ように構成された機構でありうる。
【００３１】
図８は、第１保持部材７１ａおよび第２保持部材７１ｂの各々に緩和機構を設けた例を示す図である。図８に示す第１保持部材７１ａでは、光学素子３２ｄの保持部分７１１と第１連結部材７２ａへの接続部分７１２との間に切欠部７１３が設けられており、この切欠部７１３が、第１連結部材７２ａによる過拘束を緩和するための緩和機構として機能しうる。また、第１保持部材７１ａでは、光学素子３２ｄの保持部分７１１と第１ダンパ素子７４ａへの接続部分７１４との間に切欠部７１５が設けられており、この切欠部７１５が、第１ダンパ素子７４ａによる過拘束を緩和するための緩和機構として機能しうる。第２保持部材７１ｂについても、第１保持部材７１ａと同様の切欠部（緩和機構）が設けられうる。このような緩和機構は、後述する第３保持部材７５に設けられてもよいし、第１実施形態の制振装置６０における第１保持部材６１や第２保持部材６５に設けられてもよい。
【００３２】
＜第３実施形態＞
第３実施形態の制振装置８０について、図９を参照しながら説明する。図９は、本実施形態の制振装置８０の構成例を示す概略断面図である。本実施形態の制振装置８０は、例えば、光学素子３２ｇ（第１光学素子）を保持する第１保持部材８１ａと、第１保持部材８１ａを鏡筒３１に連結する第１連結部材８２ａとを含みうる。また、制振装置８０は、光学素子３２ｈ（第２光学素子）を保持する第２保持部材８１ｂと、第２保持部材８１ｂを鏡筒３１に連結する第２連結部材８２ｂとを含みうる。そして、第１保持部材８１ａと第２保持部材とは、ダンパ素子８４によって互いに連結される。このような構成において、光学素子３２ｇの固有振動数と光学素子３２ｈの固有振動数とが互いに異なるように設定することにより、鏡筒３１から光学素子３２ｇ、３２ｈに伝わった振動を迅速に減少させることができる。
【００３３】
第１保持部材８１ａおよび第２保持部材８１ｂはそれぞれ、第１実施形態の第１保持部材６１と同様に構成することができる。第１保持部材８１ａおよび第２保持部材８１ｂはそれぞれ、第２実施形態で説明した緩和機構を有するように構成されてもよい。また、第１連結部材８２ａおよび第２連結部材８２ｂはそれぞれ、第１実施形態の連結部材６２と同様に構成することができる。ダンパ素子８４は、第１実施形態のダンパ素子６４と同様に構成することができる。このような構成により、例えば、互いに隣り合う光学素子３２ｇと光学素子３２ｈとの間の狭い空間に構造体を配置することなく、光学素子３２ｇ〜３２ｈの質量を利用して、それらの制振を行うことができる。
【００３４】
＜物品の製造方法の実施形態＞
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、上記のリソグラフィ装置（露光装置）を用いて基板を露光する工程と、かかる工程で露光された基板に加工（例えばエッチング加工）を行う工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００３５】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【符号の説明】
【００３６】
３０：投影光学系、３１：鏡筒、３２：光学素子、６０，７０，８０：制振装置、６１，７１，８１：保持部材、６２，７２，８２：連結部材、６３，７３：質量体、６４，７４，８４：ダンパ素子、６５，７５：保持部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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