(57)【要約】【課題】大きな反りなどが存在するウエハ等の基板を吸着保持する場合であっても、基板の平坦度を良好に確保することを図りうる真空チャックを提供する。【解決手段】基体１の上面における連通経路１０２の開口部を囲う位置に環状に窪んだ環状凹部１０が形成され、環状の弾性素材からなるシール部材２の下部要素２１が環状凹部１０に配置される一方、シール部材２の上部要素２２は基体１の上面から突出している。上部要素２２は、環状の内側方向に向いながら上方に向って延在する第１の部分２２ａと、環状の外側方向に向いながら上方に延在する第２の部分２２ｂとを有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
連通経路が形成されている基体と、前記基体の上面に開口する前記連通経路の開口部と、を備え、前記連通経路を通じて前記基体の上面と前記基体の上面側に配置される基板との間に負圧領域が形成されることにより前記基体の上面側に前記基板を吸着保持する真空チャックであって、
前記基体の上面における前記連通経路の開口部を囲う位置に環状に窪んだ環状凹部が形成され、環状の弾性素材からなるシール部材の少なくとも下部が前記環状凹部に配置される一方、前記シール部材の上部が前記基体の上面から突出しており、
前記シール部材の上部は、前記環状の内側方向に向いながら上方に向って延在する第１の部分と、前記環状の外側方向に向いながら上方に延在する第２の部分とを有することを特徴とする真空チャック。
【請求項２】
前記第１の部分と前記第２の部分とのうち上方に位置する部分は下方に位置する部分よりも厚みが薄い部分を有することを特徴とする請求項１に記載の真空チャック。
【請求項３】
前記第１の部分と前記第２の部分とのうち少なくとも一方の部分に、貫通穴または切り欠きが形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の真空チャック。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウエハ等の基板を基体の表面に吸着保持する真空チャックに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ウエハ等の基板を、基体に取り付けたシール部材によって支持しながら、基体に形成されている連通経路を通じて形成される負圧によって吸着することにより、基体の表面に基板を保持する真空チャックが知られている。
【０００３】
たとえば、特許文献１には、基体の外縁に、弾性材料（たとえばゴム）からなり、下から上にかけて徐々に外側に広がるように形成されているスカート状のシール部材が設けられた真空チャックが記載されている。特許文献２には、板状部材にシール部材が固定され、複数の当該板状部材が基体に対して取り外し可能に固定される構成の真空チャックが記載されている。
【０００４】
これら特許文献１，２に記載の真空チャックによれば、ウエハに反り、うねりまたは段差が存在する場合でも、シール部材の上端部をその全周にわたって当該ウエハに当接させ、ウエハと吸着面との間隙に密閉領域が形成される。このため、ウエハの反り等によって基体との間に本来的に生じる間隙の影響を解消して、当該密閉領域を負圧として当該ウエハが確実に吸着保持される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平０７−３０８８５６号公報
【特許文献２】特開２０１０−１５３４１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
近年、基板の厚さが薄くなってきており、基板に大きな反り、うねり、段差が存在する場合がある。このような基板を吸着するためには、シール部材が弾性変形して大きく倒れ込むように構成する必要がある。上記特許文献１，２に記載のシール部材をこのように構成した場合、シール部材が倒れ込む際、ウエハと接する上端部が大きく径方向外側に広がる。そのため、吸着過程において基板とシール部材との接点が大きく移動するので、安定的に支持しながら基板を吸着することができず、基板の平坦度を良好に確保することができないおそれがある。
【０００７】
そこで、本発明は、大きな反りなどが存在するウエハ等の基板を吸着保持する場合であっても、基板の平坦度を良好に確保することを図りうる真空チャックを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、連通経路が形成されている基体と、前記基体の上面に開口する前記連通経路の開口部と、を備え、前記連通経路を通じて前記基体の上面と前記基体の上面側に配置される基板との間に負圧領域が形成されることにより前記基体の上面側に前記基板を吸着保持する真空チャックに関する。
【０００９】
本発明の真空チャックは、前記基体の上面における前記連通経路の開口部を囲う位置に環状に窪んだ環状凹部が形成され、環状の弾性素材からなるシール部材の少なくとも下部が前記環状凹部に配置される一方、前記シール部材の上部が前記基体の上面から突出しており、前記シール部材の上部は、前記環状の内側方向に向いながら上方に向って延在する第１の部分と、前記環状の外側方向に向いながら上方に延在する第２の部分とを有することを特徴とする。
【００１０】
本発明の真空チャックによれば、基板が基体の表面側に載置された際、シール部材の一部が弾性変形して、基板に反りまたはうねりなどがあっても、当該一部を全周またはほぼ全周にわたり基板に対して当接させることができる。
【００１１】
なお、基板の反り態様としては、当該基板が鞍形（もしくはポテトチップス型)またはドーム型に変形している態様があげられる。基板の中央部がその周辺部よりも上方にある中凸態様の変形の他、中央部がその周辺部よりも下方にある中凹態様の変形も含まれる。
【００１２】
さらに、シール部材の上部要素が延在方向が相違する第１の部分と第２の部分とを有するので、上部要素が一方向に延在する部分のみを有する上記特許文献１，２に記載の真空チャックと比較して、上部要素が倒れて弾性変形する際、基板と接する上部要素の上端面は左程水平方向に移動しないので、基板の平坦度を安定的に確保することが可能になる。
【００１３】
本発明の一態様の真空チャックにおいて、前記第１の部分と前記第２の部分とのうち上方に位置する部分は下方に位置する部分よりも厚みが薄い部分を有する。
【００１４】
当該構成の真空チャックによれば、真空吸着初期時における真空吸引力が小さい期間において、厚さが薄い部分が先に倒れ込むので、基板の搖動を柔軟に吸収しながら基板を吸引することが可能になる。さらに、その後、真空吸引力が大きくなると、厚さが厚い部分も倒れ込むので、基板を強固に吸引固定することが可能となる。
【００１５】
本発明の一態様の真空チャックにおいて、前記第１の部分と前記第２の部分とのうち少なくとも一方の部分に、貫通穴または切り欠きが形成されていることを特徴とする。
【００１６】
当該構成の真空チャックによれば、真空吸着初期時の基板とシール部材とが十分に密着されていない段階において、真空排気によって生じる気体の流れが速くなり過ぎることを抑制して、基板の搖動を柔軟に吸収しながら基板を吸引することが可能になる。さらに、その後、真空吸引力が大きくなり、上部要素が倒れ込むと、貫通穴が閉塞されて貫通穴からの気体の流入が抑制されるので、基板を強固に吸引固定することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の一実施形態としての真空チャックの上面図。
【図２】図１のII−II線断面図。
【図３】本発明の一実施形態としての真空チャックの機能に関する説明図。
【図４】シール部材の他の実施形態に関する説明図。
【図５】シール部材の他の実施形態例に関する説明図。
【図６】シール部材の他の実施形態例に関する説明図。
【図７】シール部材の比較例に関する説明図。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
（構成）
図１および図２に示されている本発明の一実施形態としての真空チャックは、略円板状のセラミックス焼結体からなる基体１を備えている。基体１は、炭化珪素、窒化アルミニウム、アルミナまたは窒化ケイ素などのセラミックス粉末を主原料とする原料粉末の成形体が焼成され、必要な加工が施されることにより作製される。
【００１９】
基体１の表面（上面）側にウエハＷ（基板）が配置される。基体１には、表面に開口する連通経路１０２（貫通穴）の他、ウエハＷを昇降させるためのリフトピン（図示略）が挿通されるリフトピン用貫通穴１０４が形成されている。
【００２０】
基体１の表面に連通経路１０２の開口部１０２ａを囲う環状に窪んでいる環状凹部１０（たとえば深さ１〜１０［ｍｍ］、幅１〜１０［ｍｍ］）が形成されている。環状凹部１０に環状のシール部材２が配置されている。
【００２１】
さらに、基体１の表面には、環状凹部１０を囲う環状に突出している環状凸部１２（たとえば高さ１０〜５００［μｍ］）が形成されている。環状凸部１２の上端部が基体１における「ウエハＷとの当接箇所」を構成する。そのほか、基体１の表面には、当該表面から突出する略円柱状、略半球状または略円錐台状の複数のピン（図示略（たとえば高さ１０〜５００［μｍ］））が、三角格子状、正方格子状または同心円状など、規則的に配置されて形成されていてもよい。複数のピンの上端部が基体１における「ウエハＷとの当接箇所」を構成し、かつ、吸着平面を定義する。吸着平面は、環状凸部１２の上端面および各ピンの上端面により構成される離散的な面の集合である。
【００２２】
シール部材２は、ウレタン、シリコーン樹脂、ニトリルゴム、ＥＰＤＭ（エチレンプロピレンジエンゴム）、ＨＮＢＲ（水素化ニトリルゴム）、ブタジエンゴムまたはフッ素ゴムなどの弾性素材により構成されている。
【００２３】
シール部材２は、環状凹部１０に配置され、少なくとも下部を構成する環状の下部要素２１と、少なくとも一部が環状凹部１０から基体１の表面におけるウエハＷとの当接箇所より上方に突出する環状の上部要素２２と、を備えている（図２参照）。このようにして、シール部材２は、上部要素２２と下部要素２１の２つの要素を備えており、上部要素２２が上方に位置する要素であり、下部要素２１が下方に位置する要素である。
【００２４】
上部要素２２が下部要素２１との間に存在する間隙を狭めるように基体１の表面におけるウエハＷとの当接箇所（吸着平面）と同じ高さまで弾性的に傾倒可能に構成されている（図３参照）。
【００２５】
上部要素２２は、環状の内側方向に向いながら上方に向って延在する第１の部分２２ａと、環状の外側方向に向いながら上方に延在する第２の部分２２ｂとを有し、シール部材２の上部を構成している。
【００２６】
ここでは、第１の部分２２ａは、下部要素２１の環状の外側上面から内側方向（中心方向）に向って斜め上方に直線状に延在している。第２の部分２２ｂは、第１の部分２２ａの環状の上面から外側方向に向って斜め上方に直線状に延在している。これにより、上部要素２２は、その側部断面がくの字状（傾いたＬ字状）になっている。
【００２７】
そして、第１の部分２２ａと第２の部分２２ｂとの接続部分は、下部要素２１の外周端部よりも内側上方に位置している。第２の部分２２ｂの上端部は、下部要素２１の上端面の上方に位置している。
【００２８】
上部要素２２が、荷重がある状態から当該荷重から解放された状態に遷移した際に、元の姿勢に戻るような弾性がシール部材２に必要とされる。この点が勘案されて、シール部材２を構成する素材の弾性率および上部要素２２の撓み箇所または基端の厚みが設計される。ここでは、第１の部分２２ａと第２の部分２２ｂとの厚みは同じであるが、これらの厚みは相違していてもよい。
【００２９】
（機能）
前記構成の真空チャックによれば、ウエハＷが基体１の表面側に載置された際、シール部材２の一部である上部要素２２を、ウエハＷに反り、うねり、段差などがあっても全周または略全周にわたりウエハＷに対して当接させることができる。そして、連通経路１０２を通じてウエハＷと、基体１と、シール部材２とにより囲まれている空間（内側空間）が真空吸引される。
【００３０】
これにより、当該内側空間に負圧領域が形成され、シール部材２が、その上部要素２２が弾性的にくの字がつぶれるように弾性変形して基体１の吸着平面と同じ高さとなる（図３参照）。その結果、ウエハＷを全体的に基体１の吸着平面に当接させることができ、さらには当該ウエハＷにおいて平坦度が担保される領域の拡張が図られる。
【００３１】
さらに、上部要素２２が下部要素２１の上面から上方に向って一方向に延在する部分を有するものの場合、この部分が倒れて弾性変形する際、ウエハＷと接する前記部分の上端面が大きく移動するので、ウエハＷを良好に支持できないことがある。特に、ウエハＷの厚さが薄く、反り、うねり、段差が大きい場合には、前記部分の倒れ込み量を十分に確保する必要があり、ウエハＷを高い平面度で支持することが困難である。
【００３２】
一方、上部要素２２が第１の部分２２ａと第２の部分２２ｂとを有する場合、これらの部分２２ａ，２２ｂが倒れて弾性変形する際、ウエハＷと接する第２の部分２２ｂの上端面は左程水平方向に移動しないので、ウエハＷの平坦度を良好に確保することが可能になる。ウエハＷの厚さが薄く、反りなどが大きい場合であっても、上部要素２２の倒れ込み量を十分に確保することができ、ウエハＷを高い平面度で支持することが困難である。
【００３３】
（本発明の他の実施形態）
シール部材２および環状凹部１０のそれぞれの形状がさまざまに変更されてもよい。
【００３４】
たとえば、図４に示されているシール部材２Ａのように、上部要素２２Ａは、第１の部分２２Ａａと第２の部分２２Ａｂとを有し、第２の部分２２Ａｂが、下部要素２１Ａの環状の内側上面から外側方向に向って斜め上方に直線状に延在し、第１の部分２２Ａａが、第２の部分２２Ａｂの環状の上面から内側方向に向って斜め上方に直線状に延在していてもよい。
【００３５】
この場合、第１の部分２２Ａａと第２の部分２２Ａｂとの接続部分は、下部要素２１の内周端部よりも外側上方に位置している。第１の部分２２Ａａの上端部は、下部要素２１の上端面の上方に位置している。
【００３６】
上部要素２２Ａが、荷重がある状態から当該荷重から解放された状態に遷移した際に、元の姿勢に戻るような弾性がシール部材２Ａに必要とされる。この点が勘案されて、シール部材２Ａを構成する素材の弾性率および上部要素２２Ａの撓み箇所または基端の厚みが設計される。ここでは、第１の部分２２Ａａと第２の部分２２Ａｂとの厚みは同じであるが、これらの厚みは相違していてもよい。
【００３７】
このように構成された真空チャックは、上記図３に示した真空チャックと同様の効果を奏する。
【００３８】
また、たとえば、図５に示されているシール部材２Ｂのように、上部要素２２Ｂは、第１の部分２２Ｂａと第２の部分２２Ｂｂとを有し、第２の部分２２Ｂｂが、下部要素２１Ｂの環状の内側上面から外側方向に向って斜め上方に直線状に延在し、第１の部分２２Ｂａが、第２の部分２２Ｂｂの環状の上面から内側方向に向って斜め上方に直線状に延在していてもよい。
【００３９】
この場合、第１の部分２２Ｂａと第２の部分２２Ｂｂとの接続部分は、下部要素２１Ｂの上端面の上方に位置している。第１の部分２２Ｂａの上端部は、下部要素２１Ｂの外周端部よりも内側上方に位置している。
【００４０】
そして、第１の部分２２Ｂａの厚みは第２の部分２２Ｂｂの厚みよりも薄くなっている。
【００４１】
このように構成された真空チャックは、上記図３に示した真空チャックと同様の効果を奏する。さらに、このように構成された真空チャックにおいては、真空吸着初期時における真空吸引力が小さい期間において、厚さが薄い第１の部分２２Ｂａのみが倒れ込むので、ウエハＷの搖動を柔軟に吸収しながらウエハＷを吸引することが可能になる。さらに、その後、真空吸引力が大きくなると、厚さが厚い第２の部分２２Ｂｂも倒れ込むので、ウエハＷを強固に吸引固定することが可能となる。
【００４２】
さらに、たとえば、図６に示されているシール部材２Ｃのように、図５に示された第１の部分２２Ｂａに相当する第１の部分２２Ｃａに貫通穴２３が形成されていてもよい。なお、貫通穴の代わりに、第１の部分２２ＣａのうちウエハＷとの当接箇所となる先端面に切り欠きが形成されていてもよい。貫通穴２３または切り欠きは、複数、周上に分散して形成されていることが好ましい。貫通穴２３または切り欠きの形状は、たとえば、円状、楕円状、三角形状、矩形状などであるが、これらに限定されない。
【００４３】
このように構成された真空チャックは、上記図５に示した真空チャックと同様の効果を奏する。さらに、このように構成された真空チャックにおいては、真空吸着初期時のウエハＷとシール部材２Ｃとが十分に密着されていない段階において、真空排気によって生じる気体の流れが速くなり過ぎすることを抑制して、ウエハＷの搖動を柔軟に吸収しながらウエハＷを吸引することが可能になる。さらに、その後、真空吸引力が大きくなり、上部要素２２Ｃが倒れ込むと、貫通穴からの気体の流入が抑制されるので、ウエハＷを強固に吸引固定することが可能となる。
【００４４】
なお、本発明の真空チャックは、上述した実施形態のものに限定されず、たとえば、環状凸部１２を省略したものであってもおい。
【００４５】
たとえば、上記の実施形態では、上部要素２２Ａが第１の部分２２Ａａと第２の部分２２Ａｂとの２つの部分からなるものについて説明した。しかし、上部要素は、環状の内側方向に向いながら上方に向って延在する第１の部分と、環状の外側方向に向いながら上方に延在する第２の部分とを有していればよく、たとえば、上方に向って鉛直に延在する部分、または、さらに別の環状の内側または外側方向に向いながら上方に向って延在する部分を１または複数備えるものであってもよい。
【００４６】
また、第１の部分２２Ａａと第２の部分２２Ａｂは直線状に延在していなくてもよく、曲線状または直線と曲線を組み合わせた形状で延在していてもよく、第１の部分２２Ａａと第２の部分２２Ａｂの延在方向に沿った長さは、第２の部分２２Ａｂよりも第１の部分２２Ａａの方が長くてもよく、第１の部分２２Ａａと第２の部分２２Ａｂとが同じであってもよい。
【００４７】
さらに、第１の部分２２Ａａと第２の部分２２Ａｂのうちウエハとの当接箇所を構成する部分に、その内周面と外周面の少なくとも一方に周方向に延在する溝を形成してもよい。溝部の深さ、幅、密度を変更することによってもシール部材２の倒れ込み易さを調節することができる。
【実施例】
【００４８】
（実施例１）
炭化珪素（ＳｉＣ）からなり、外径３００ｍｍ、厚さ７ｍｍの基体１を用意した。そして、この基体１に、幅５ｍｍ、深さ３．５ｍｍの環状凹部１０、直径２ｍｍの連通経路１０２を形成した。
【００４９】
フッ素ゴムからなり、図２に示すシール部材２を用意した。シール部材２は、下部要素２１は内径２７４ｍｍ、外径２８４ｍｍ、厚さ２．５ｍｍであり、上部要素２２の厚さは０．５ｍｍであった。上部要素２２の第１の部分２２ａは、下部要素２１の上端面から内側に３０度の角度で傾斜し、高さが１２ｍｍであった。上部要素２２の第２の部分２２ｂは、第１の部分２２ａの上端面から外側に３０度の角度で傾斜し、高さが６ｍｍであった。
【００５０】
そして、シール部材２の下部要素２１を基体１の環状凹部１０に挿入した。
【００５１】
ウエハＷとして、シリコンウエハからなり、外径３００ｍｍ、厚さが０．７ｍｍおよび０．３ｍｍのものを用意した。ここで、厚さが０．７ｍｍのウエハＷの反りは３ｍｍであり、厚さが０．３ｍｍのウエハＷの反りは７ｍｍであった。
【００５２】
厚さ０．７ｍｍのウエハＷをシール部材２の上端に載置して吸引した。吸着保持されたウエハＷの平坦度は０．８μｍであり、良好であった。また、吸引時にウエハＷの搖動は目視で確認されなかった。
【００５３】
厚さ０．３ｍｍのウエハＷをシール部材２の上端に載置して吸引した。吸着保持されたウエハＷの平坦度は１．０μｍであり、良好であった。ただし、吸引時にウエハＷの搖動が目視で確認された。
【００５４】
（実施例２）
ウレタンからなり、図４に示すシール部材２Ａを用意した。シール部材２Ａの下部要素２１は、実施例１のシール部材２Ａの下部要素２１と同じ形状であった。そして、上部要素２２Ａの厚さは０．５ｍｍであった。上部要素２２Ａの第２の部分２２Ａｂは、下部要素２１の上端面から外側に３０度の角度で傾斜し、高さが１２ｍｍであった。上部要素２２Ａの第１の部分２２Ａａは、第２の部分２２Ａｂの上端面から内側に３０度の角度で傾斜し、高さが６ｍｍであった。
【００５５】
厚さ０．７ｍｍのウエハＷをシール部材２Ａの上端に載置して吸引した。吸着保持されたウエハＷの平坦度は０．８μｍであり、良好であった。また、吸引時にウエハＷの搖動は目視で確認されなかった。
【００５６】
厚さ０．３ｍｍのウエハＷをシール部材２Ａの上端に載置して吸引した。吸着保持されたウエハＷの平坦度は１．０μｍであり、良好であった。ただし、吸引時にウエハＷの搖動が目視で確認された。
【００５７】
（実施例３）
ウレタンからなり、図５に示すシール部材２Ｂを用意した。シール部材２Ｂの下部要素２１は、実施例１のシール部材２Ａの下部要素２１と同じ形状であった。そして、上部要素２２Ｂの第２の部分２２Ｂｂは、下部要素２１の上端面から外側に３０度の角度で傾斜し、高さが６ｍｍ、厚さが０．８ｍｍであった。上部要素２２Ｂの第１の部分２２Ｂａは、第２の部分２２Ｂｂの上端面から内側に３０度の角度で傾斜し、高さが１２ｍｍ、厚さが０．５ｍｍであった。
【００５８】
厚さ０．７ｍｍのウエハＷをシール部材２Ｂの上端に載置して吸引した。吸着保持されたウエハＷの平坦度は０．７μｍであり、良好であった。また、吸引時にウエハＷの搖動は目視で確認されなかった。
【００５９】
厚さ０．３ｍｍのウエハＷをシール部材２Ｂの上端に載置して吸引した。吸着保持されたウエハＷの平坦度は０．９μｍであり、良好であった。ただし、吸引時にウエハＷの搖動が目視で確認された。
【００６０】
（実施例４）
図６に示すシール部材２Ｃを用意した。シール部材２Ｃは、実施例３のシール部材２Ｂに対して穴径２ｍｍの貫通穴２３を周方向に沿って等間隔で６０個形成したものであった。
【００６１】
厚さ０．７ｍｍのウエハＷをシール部材２Ｃの上端に載置して吸引した。吸着保持されたウエハＷの平坦度は０．８μｍであり、良好であった。また、吸引時にウエハＷの搖動は目視で確認されなかった。
【００６２】
厚さ０．３ｍｍのウエハＷをシール部材２Ｃの上端に載置して吸引した。吸着保持されたウエハＷの平坦度は１．０μｍであり、良好であった。また、吸引時にウエハＷの搖動は目視で確認されなかった。
【００６３】
（比較例）
ウレタンからなり、図７に示すシール部材２Ｄを用意した。シール部材２Ｄの下部要素２１Ｄは、実施例１のシール部材２Ａの下部要素２１と同じ形状であった。そして、上部要素２２Ｄの厚さは０．５ｍｍであった。上部要素２２Ｄは、下部要素２１の上端面から外側に６０度の角度で傾斜し、高さが１２ｍｍであった。
【００６４】
厚さ０．７ｍｍのウエハＷをシール部材２Ｄの上端に載置して吸引した。吸着保持されたウエハＷの平坦度は１．０μｍであり、良好であった。ただし、吸引時にウエハＷの搖動が目視で確認された。
【００６５】
厚さ０．３ｍｍのウエハＷをシール部材２Ｄの上端に載置して吸引した。吸着保持されたウエハＷの平坦度は２．０μｍであり、良好ではなかった。また、吸引時にウエハＷの搖動および吸着保持されたウエハＷの位置ずれが目視で確認された。
【符号の説明】
【００６６】
１…基体、  ２，２Ａ，２Ｂ，２Ｃ…シール部材、  １０…環状凹部、  １２…環状凸部、  ２２ａ，２２Ａａ，２２Ｂａ…第１の部分、  ２２ｂ，２２Ａｂ，２２Ｂｂ…第２の部分、  ２１…下部要素、  ２２…上部要素、  ２３…貫通穴、  １０２…連通経路、  １０２ａ…開口部、  １０４…リフトピン用貫通穴、  Ｗ…ウエハ（基板）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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