(57)【要約】【課題】ガス供給装置から筐体内に供給可能なガス量が少なくなって、除染工程が長くなる。【解決手段】本発明のクリーンルーム設備は、筐体と、筐体の一端側に配置され、筐体の内部にガスを供給するガス供給管と、筐体の一端側に配置され、筐体の内部のガスを筐体の外部に排出するガス排出管とを備え、ガス供給管及びガス排出管のいずれかは、筐体の内部に配置された配管部分を有し、配管部分に形成された開口が筐体の他端側に配置される。【選択図】図１
2019039613.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
筐体と、
上記筐体の一端側に配置され、上記筐体の内部にガスを供給するガス供給管と、
上記筐体の一端側に配置され、上記筐体の内部のガスを上記筐体の外部に排出するガス排出管とを備え、
上記ガス供給管及び上記ガス排出管のいずれかは、上記筐体の内部に配置された配管部分を有し、上記配管部分に形成された開口が上記筐体の他端側に配置されることを特徴とするクリーンルーム設備。
【請求項２】
上記ガス供給管は、上記筐体の内部に配置された配管部分を有し、上記配管部分に形成された開口が上記筐体の他端側に配置されると共に、
上記ガス供給管の内部を通過するガスの温度は、上記筐体の内部温度より高いことを特徴とする請求項１に記載のクリーンルーム設備。
【請求項３】
上記筐体内には、ファン及びフィルタをそれぞれ有する複数のファンフィルタユニットが、上記筐体の一端側から他端側に配列されたことを特徴とする請求項１または２に記載のクリーンルーム設備。
【請求項４】
上記配管部分に形成された開口は、上記筐体の他端に配置されたファンフィルタユニットの上方または下方に配置されることを特徴とする請求項３に記載のクリーンルーム設備。
【請求項５】
上記筐体の内部温度は、上記筐体の外部温度より高いことを特徴とする請求項１−３のいずれかに記載のクリーンルーム設備。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば細胞培養関連分野で使用されるクリーンルーム設備に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、細胞培養関連分野において使用されるロボット搬送装置として、例えば筐体内部に設けられた搬送ロボットを用いて、シャーレ等の培養容器を隣接する処理装置としての培養装置との間で受け渡しを行うように構成されたものがある（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１７−９２２３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
細胞培養関連分野では、筐体の内部を除染ガスにより除染処理等を行う必要がある。したがって、筐体には、ガス供給装置からのガスが供給されるガス供給管と、筐体内のガスをガス供給装置に向かって排出するガス排出管とが接続される。ガス供給装置から供給されたガスが筐体内の全体を流れるようにするためには、ガス供給管とガス排出管とを離して配置する方がよい。したがって、ガス供給管を筐体の一端側に配置し、ガス排出管を筐体の他端側に配置すると、筐体の外部に配置されるガス供給管またはガス排出管の長さが長くなって、ガス供給装置と筐体との間の配管部分においてガスの温度が低下してしまう。筐体に供給されるガスの温度が低下したときに、高温時と同量のガス量を供給するとガスの結露が発生するため、ガス供給装置から筐体内に供給可能なガス量が少なくなって、除染工程が長くなる問題がある。
【０００５】
そこで、本発明の目的は、除染工程を短縮できるクリーンルーム設備を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
第１の発明にかかるクリーンルーム設備は、筐体と、上記筐体の一端側に配置され、上記筐体の内部にガスを供給するガス供給管と、上記筐体の一端側に配置され、上記筐体の内部のガスを上記筐体の外部に排出するガス排出管とを備え、上記ガス供給管及び上記ガス排出管のいずれかは、上記筐体の内部に配置された配管部分を有し、上記配管部分に形成された開口が上記筐体の他端側に配置される。
【０００７】
このクリーンルーム設備では、ガス供給管及びガス排出管が筐体の一端側に配置されることにより、筐体の外部においてガス供給装置と筐体とを接続する配管長さを短くできる。したがって、筐体の外部において、ガス供給管及びガス排出管内を流れるガスの温度低下が抑制される。よって、本発明では、筐体に供給されるガスの温度を高温に保つことにより、ガス供給装置から筐体内に供給可能なガス量が多くなって、除染工程を短縮できる。
【０００８】
第２の発明にかかるクリーンルーム設備は、第１の発明において、上記ガス供給管は、上記筐体の内部に配置された配管部分を有し、上記配管部分に形成された開口が上記筐体の他端側に配置されると共に、上記ガス供給管の内部を通過するガスの温度は、上記筐体の内部温度より高い。
【０００９】
このクリーンルーム設備では、ガス供給管の配管部分が、筐体の内部の一端側から他端側に延びるように配置され、ガス供給管の内部を通過するガスの温度は筐体の内部温度より高いことから、ガス供給管の外周面からの放熱により筐体内のガスを加熱できる。したがって、筐体内の温度を所定温度に維持するためのヒータの消費電力を低減できる。
【００１０】
第３の発明にかかるクリーンルーム設備は、第１または第２の発明において、上記筐体内には、ファン及びフィルタをそれぞれ有する複数のファンフィルタユニットが、上記筐体の一端側から他端側に配列される。
【００１１】
このクリーンルーム設備では、筐体の内部のガスがフィルタを通過するように循環させることで清浄な雰囲気を保つことができる。
【００１２】
第４の発明にかかるクリーンルーム設備は、第３の発明において、上記配管部分に形成された開口は、上記筐体の他端に配置されたファンフィルタユニットの上方または下方に配置される。
【００１３】
このクリーンルーム設備では、配管部分に形成された開口が筐体の他端に配置されたファンフィルタユニットの上方または下方に配置されることにより、ガス供給管とガス排出管とが離れて配置される。したがって、ガス供給装置から供給されたガスが筐体の全体を流れるようにできる。
【００１４】
第５の発明にかかるクリーンルーム設備は、第１−第４の発明のいずれかにおいて、上記筐体の内部温度は、上記筐体の外部温度より高い。
【００１５】
このクリーンルーム設備では、筐体の内部温度が筐体の外部温度より高いことから、ガス供給管及びガス排出管が筐体の外部に配置されたとき、ガスの温度が低下しやすい。したがって、本発明により、ガス供給管及びガス排出管内を流れるガスの温度低下を効果的に抑制できる。
【発明の効果】
【００１６】
以上の説明に述べたように、本発明によれば、以下の効果が得られる。
【００１７】
第１の発明では、ガス供給管及びガス排出管が筐体の一端側に配置されることにより、筐体の外部においてガス供給装置と筐体とを接続する配管長さを短くできる。したがって、筐体の外部において、ガス供給管及びガス排出管内を流れるガスの温度低下が抑制される。よって、本発明では、筐体に供給されるガスの温度を高温に保つことにより、ガス供給装置から筐体内に供給可能なガス量が多くなって、除染工程を短縮できる。
【００１８】
第２の発明では、ガス供給管の配管部分が、筐体の内部の一端側から他端側に延びるように配置され、ガス供給管の内部を通過するガスの温度は筐体の内部温度より高いことから、ガス供給管の外周面からの放熱により筐体内のガスを加熱できる。したがって、筐体内の温度を所定温度に維持するためのヒータの消費電力を低減できる。
【００１９】
第３の発明では、筐体の内部のガスがフィルタを通過するように循環させることで清浄な雰囲気を保つことができる。
【００２０】
第４の発明では、配管部分に形成された開口が筐体の他端に配置されたファンフィルタユニットの上方または下方に配置されることにより、ガス供給管とガス排出管とが離れて配置される。したがって、ガス供給装置から供給されたガスが筐体の全体を流れるようにできる。
【００２１】
第５の発明では、筐体の内部温度が筐体の外部温度より高いことから、ガス供給管及びガス排出管が筐体の外部に配置されたとき、ガスの温度が低下しやすい。したがって、本発明により、ガス供給管及びガス排出管内を流れるガスの温度低下を効果的に抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の実施形態に係るクリーンルーム設備の正面側壁部を取り外した状態の正面図である。
【図２】図２（ａ）は図１のａ−ａ線における断面図、図２（ｂ）は図１のｂ−ｂ線における断面図、図２（ｃ）は図１のｃ−ｃ線における断面図である。
【図３】図１のｄ−ｄ線における断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、図面を参照しつつ本発明に係るクリーンルーム設備について説明する。
【００２４】
図１に示すように、本実施形態のクリーンルーム設備１は、細胞培養関連分野で使用され、筐体２を有している。筐体２は、例えば内部に設けられた搬送ロボットを用いて、シャーレ等の培養容器を隣接する処理装置としての培養装置との間で受け渡しを行うように構成されている。このような細胞培養関連分野におけるクリーンルーム設備１においては、筐体２の内部のガスがフィルタ５を通過するように循環させることで清浄な雰囲気を保つと共に、除染処理等により内部を清浄に維持される。本実施形態のクリーンルーム設備１では、除染処理等を行わない場合、クリーンエアを循環させることにより筐体２の内部を清浄な雰囲気を保つ。筐体２の内部の圧力は、外気圧より高い圧力になっている。
【００２５】
筐体２は、略直方体形状であって、筐体２の内部には、図１−図３に示すように、筐体２の長手方向に沿って、６つのファンフィルタユニット３が配列される。ファンフィルタユニット３は、それぞれ、ファン４及びフィルタ５を有している。ファン４は、フィルタ５の上方に配置され、フィルタ５に向かって風を吹き出すように構成される。したがって、ファンフィルタユニット３は、筐体２の内部において、下方に向かう風の流れを形成する。
【００２６】
筐体２の内部において、ファンフィルタユニット３より上方の空間は、ファンフィルタユニット３より上流側空間Ｃ１であって、ファンフィルタユニット３より下方の空間は、ファンフィルタユニット３より下流側空間Ｃ２である。したがって、ファンフィルタユニット３は、それぞれ、ファンフィルタユニット３より上流側空間Ｃ１のガスを、フィルタ５を通過させた後、ファンフィルタユニット３より下流側空間Ｃ２に流す。
【００２７】
ファンフィルタユニット３には、ＨＥＰＡ（High Efficiency Particulate Air）フィルタや、ＵＬＰＡ（Ultra Low Penetration Air）フィルタなどの高性能なフィルタ５が組み込まれており、通過するガスの内部に含まれる微小なパーティクルの捕集を行うことができる。
【００２８】
筐体２は、図１及び図２に示すように、６つの壁部２ａ（正面側壁部、背面側壁部、左側壁部、右側壁部、上側壁部、下側壁部）と、１４個の柱部材２ｂとを有している。１４個の柱部材２ｂは、４つの壁部２ａ（正面側壁部、背面側壁部、左側壁部及び右側壁部）の内周側に配置される。
【００２９】
筐体２の右側壁部２ａａには、ガス供給装置１０から筐体２の内部にガスを供給するガス供給管６が配置される。図２に示すように、筐体２の正面右側には、処理機器２Ａが配置される。図１では、処理機器２Ａの図示を省略している。処理機器２Ａは、略直方体形状であって、筐体２の内部（ファンフィルタユニット３より下方の下流側空間Ｃ２）と連通している。処理機器２Ａの高さは、筐体２の高さより低い。処理機器２Ａの右側壁部２Ａａは、筐体２の右側壁部２ａａと略同一平面上に配置される。処理機器２Ａの右側壁部２Ａａには、筐体２の内部のガスを、筐体２の外部のガス供給装置１０に向かって排出するガス排出管７が配置される。したがって、ガス供給装置１０と筐体２とは、ガス供給管６及びガス排出管７により接続される。
【００３０】
クリーンルーム設備１では、筐体２の内部にガスを供給するガス供給管６と、筐体２内のガスを筐体２の外部に排出するガス排出管７が、いずれも筐体２の右側（長手方向の一端側）に配置される。ガス供給管６は、筐体２の内部に配置された直線状の配管部分６ａを有し、配管部分６ａに形成されたガス供給口６ｂが筐体２の左側（長手方向の他端側）に配置される。したがって、ガス供給管６の配管部分６ａは、筐体２の内部の一端側から他端側に延びるように配置される。よって、ガス供給管６の配管部分６ａは、筐体２の下側壁部に沿って、筐体２の右側壁部２ａａから左側壁部２ａｂに向かって延在している。本実施形態では、ガス供給管６の配管部分６ａは、ファンフィルタユニット３より下流側空間Ｃ２において、仕切部材１６より下方の走行空間Ｃ２ｂに配置される。ガス供給管６の配管部分６ａの先端部には、ガス供給口６ｂとなる開口が形成される。ガス供給口６ｂは、筐体２の左側の端部（長手方向の他端）に配置されたファンフィルタユニット３の下方に配置される。ガス供給口６ｂは、筐体２の左側壁部２ａｂから所定距離だけ離れて配置され、左側壁部２ａｂに向かってガスを供給する。ガス供給管６の配管部分６ａは、ステンレス（SUS304,316等）の金属製である。
【００３１】
本実施形態では、筐体２の外部には、除染処理等を行うための除染ガスを供給するガス供給装置１０が配置され、ガス供給装置１０からガス供給管６を介して筐体２の内部に除染ガスが供給され、筐体２の内部から排出された除染処理等により汚れた除染ガスは、ガス排出管７を介してガス供給装置１０の内部において触媒により取り除かれる。したがって、除染処理等が行われる場合、除染処理等を行うための除染ガスをガス供給部６から筐体２の内部（ファンフィルタユニット３より下流側空間Ｃ２の走行空間Ｃ２ｂ）に供給し、筐体２の内部の除染処理等を行うと共に、筐体２の内部に供給した除染ガス（除染処理等により汚れた除染ガスを含む）をガス排出部７から筐体２の外部に排出し、筐体２の内部の清浄度を向上させることができる。除染処理等が行われるとき、筐体２の内部温度は、図示しないヒータ等により、筐体２の外部温度より高い温度に制御される。ガス供給装置１０から供給され、ガス供給管６の内部を通過するガスの温度は、筐体２の内部温度より高い。
【００３２】
本実施形態では、除染処理等を行うための除染ガスとして、過酸化水素が使用される。除染処理等を行うための除染ガスは、過酸化水素に限られず、エチレンオキサイド、ホルムアルデヒド、過酢酸、二酸化塩素などを使用してよい。本実施形態において、除染処理とは、筐体２の内部空間の微生物を指定されたレベルまで減少させることである。
【００３３】
筐体２の正面側壁部には、５つの開口を塞ぐ扉２ｃが取り付けられ、背面側壁部には、６つの開口を塞ぐ扉２ｃが取り付けられている。筐体２の内部において、背面側壁部の内周側の柱部材２ｂの下端部には、水平方向に延びたガイド部材８が取り付けられる。ガイド部材８は、搬送ロボット１１を移動可能に支持する部材である。したがって、搬送ロボット１１は、扉２ｃが開放された開口を介して、シャーレ等の培養容器を隣接する処理装置としての培養装置との間で受け渡しを行うことができる。
【００３４】
搬送ロボット１１は、搬送物を保持した状態で搬送する搬送部１１ａと、搬送部１１ａの下方に配置され、ガイド部材８に対し移動可能に支持された走行部１１ｂと、搬送部１１ａと走行部１１ｂとを接続した接続部１１ｃとを有している。搬送部１１ａは、搬送物を保持する部分を有し、走行部１１ｂは、ガイド部材８に対し移動可能に支持された部分を有している。走行部１１ｂの下部には、搬送ロボット１１と制御部とを接続する接続部材１１ｄが取り付けられている。したがって、搬送ロボット１１の走行部１１ｂは、ガイド部材８に沿って移動可能に構成される。
【００３５】
本実施形態において、筐体２の内部は、仕切部材１６により、搬送部１１ａが配置された搬送空間Ｃ２ａと、走行部１１ｂが配置された走行空間Ｃ２ｂとが仕切られる。したがって、ファンフィルタユニット３より下流側空間Ｃ２は、搬送空間Ｃ２ａ及び走行空間Ｃ２ｂとを有している。筐体２の内部において、搬送空間Ｃ２ａの圧力は、走行空間Ｃ２ｂの圧力より高い。搬送空間Ｃ２ａの圧力及び走行空間Ｃ２ｂの圧力は、図示しない圧力センサにより検出される。このような圧力を維持するため、搬送空間Ｃ２ａのガスが走行空間Ｃ２ｂに流れやすい。したがって、走行空間Ｃ２ｂからのパーティクルが搬送空間Ｃ２ａに逆流する可能性が低くなり、搬送空間Ｃ２ａの清浄度維持がしやすくなる。
【００３６】
仕切部材１６は、筐体２の正面側壁部及び背面側壁部の内周面から内側に向かってそれぞれ延びた板部材を有している。仕切部材１６は、略水平に延び、ガイド部材８に沿って形成されたスリット１６ａを有している。スリット１６ａは、筐体２の長手方向に沿って形成される。スリット１６ａの内部には、搬送部１１ａと走行部１１ｂとを接続した接続部１１ｃが配置される。したがって、搬送ロボット１１がガイド部材８に沿って移動する場合、搬送部１１ａと走行部１１ｂとを接続した接続部１１ｃがスリット１６ａの内側を移動する。
【００３７】
本実施形態において、筐体２の内部は、仕切部材１６により、搬送部１１ａが配置された搬送空間Ｃ２ａと、走行部１１ｂが配置された走行空間Ｃ２ｂとが仕切られ、搬送空間Ｃ２ａと走行空間Ｃ２ｂとは、仕切部材１６のスリット１６ａの部分だけで連通する。本発明において、搬送空間Ｃ２ａと走行空間Ｃ２ｂとが仕切部材１６により仕切られる場合、搬送空間Ｃ２ａと走行空間Ｃ２ｂとが連通する部分の面積が、仕切部材１６により仕切られない場合と比べ、小さくなる。したがって、筐体２の内部では、ファンフィルタユニット３のファン４により下方に向かってガスが流れるが、搬送空間Ｃ２ａと走行空間Ｃ２ｂとの連通部分の面積が小さくなることにより、連通部分を流れるガス流速が大きくなる。よって、連通部分において、搬送空間Ｃ２ａから走行空間Ｃ２ｂに向かう流速が大きいことから、搬送ロボット１１が移動した場合の走行空間Ｃ２ｂのパーティクルが搬送空間Ｃ２ａに移動するのを防止できる。本実施形態において、仕切部材１６は、筐体２の正面側に配置された処理機器２Ａの内部に延びている。処理機器２Ａの内部に配置された仕切部材１６には、筐体２内の搬送空間Ｃ２ａから処理機器２Ａの内部へのガス流れと、筐体２内の走行空間Ｃ２ｂから処理機器２Ａの内部へのガス流れとを考慮した図示しない穴が形成される。
【００３８】
柱部材２ｂは、図３に示すように、それぞれ、筒状に構成され、鉛直方向に延びている。柱部材２ｂの下端は、ファンフィルタユニット３より下流側空間Ｃ２の走行空間Ｃ２ｂと連通し、柱部材２ｂの上端は、ファンフィルタユニット３より上流側空間Ｃ１と連通している。したがって、筐体２を形成する柱部材２ｂの内部には、ファンフィルタユニット３より下流側空間Ｃ２の走行空間Ｃ２ｂのガスをファンフィルタユニット３より上流側空間Ｃ１に循環させる循環流路Ｄが形成される。
【００３９】
循環流路Ｄの下部にファン４ａが配置され、ファン４ａを駆動させることで、ファンフィルタユニット３より下流側空間Ｃ２の走行空間Ｃ２ｂのガスを循環流路Ｄに取込み、循環流路Ｄ内で上向き気流を作り出すことができる。本実施形態では、ファンフィルタユニット３のファン４と循環流路Ｄの下部のファン４ａとが連動するように制御される。
【００４０】
循環流路Ｄは、図１及び図２に示すように、筐体２の正面側壁部及び背面側壁部の長手方向の両端と、扉２ｃと処理機器２Ａとの連通部との間と、隣接した扉２ｃ間に配置される。循環流路Ｄは、筐体２の正面側壁部の内周側及び背面側壁部の内周側に配置される。したがって、筐体２の正面側壁部に、５つの扉２ｃと７つの循環流路Ｄが配置され、筐体２の背面側壁部に、６つの扉２ｃと７つの循環流路Ｄが配置され、筐体２の正面側壁部の内周側の循環流路Ｄと、背面側壁部の内周側の循環流路Ｄとはそれぞれ対向する。このように、ファンフィルタユニット３は、それぞれ、隣接した４つの柱部材２ｂの内側に配置され、４つの循環流路Ｄは、ファンフィルタユニット３近傍に形成される。
【００４１】
筐体２の内部において、ファンフィルタユニット３より上流側空間Ｃ１には、送風装置４ｂが配置される。送風装置４ｂは、筐体２の内部において、筐体２の長手方向に沿って、左側壁部２ａｂから右側壁部２ａａに向かうガス流れを形成する。したがって、送風装置４ｂは、筐体２の内部において、ガス供給管６の配管部分６ａの先端部に形成されたガス供給口６ｂから、ガス排出管７側に向かうガス流れを形成するガス流れ形成部として構成される。送風装置４ｂは、ファンフィルタユニット３より上流側空間Ｃ１において、循環流路Ｄの出口近傍に配置される。
【００４２】
＜本実施形態のクリーンルーム設備の特徴＞
本実施形態のクリーンルーム設備では、ガス供給管６及びガス排出管７が筐体２の一端側に配置されることにより、筐体２の外部においてガス供給装置１０と筐体２とを接続する配管長さを短くできる。したがって、筐体２の外部において、ガス供給管６及びガス排出管７内を流れるガスの温度低下が抑制される。よって、本発明では、筐体２に供給されるガスの温度を高温に保つことにより、ガス供給装置１０から筐体２内に供給可能なガス量が多くなって、除染工程を短縮できる。
【００４３】
本実施形態のクリーンルーム設備では、ガス供給管６の配管部分６ａが、筐体２の内部の一端側から他端側に延びるように配置され、ガス供給管６の内部を通過するガスの温度は筐体２の内部温度より高いことから、ガス供給管６の外周面からの放熱により筐体２内のガスを加熱できる。したがって、筐体２内の温度を所定温度に維持するためのヒータの消費電力を低減できる。
【００４４】
本実施形態のクリーンルーム設備では、ガス供給管６の配管部分６ａに形成されたガス供給口６ｂが、筐体２の左側端部に配置されたファンフィルタユニット３の下方に配置されることにより、ガス供給管６のガス供給口６ｂとガス排出管７とが筐体２の長手方向に離れて配置される。したがって、ガス供給装置１０から供給されたガスが筐体２の全体を流れるようにできる。
【００４５】
本実施形態のクリーンルーム設備では、筐体２の内部温度が筐体２の外部温度より高いことから、ガス供給管６及びガス排出管７が筐体２の外部に配置されたとき、ガスの温度が低下しやすい。したがって、本発明により、ガス供給管６及びガス排出管７内を流れるガスの温度低下を効果的に抑制できる。
【００４６】
本実施形態のクリーンルーム設備では、ガス供給管６において、筐体２の内部に配置される配管部分６ａが金属製である。したがって、従来、ガス供給装置と筐体とを接続するガス供給管及びガス排出管としては、取り回しがしやすいように樹脂系（フッ素等）の配管の表面に断熱材を巻いたものが使用されたが、本発明において、筐体２の内部に配置される配管部分６ａとして、樹脂系（フッ素等）の配管を用いた場合、配管の表面にも吸着した過酸化水素ガスを取除くためのエアレーションに時間を要し、作業時間が長くなる問題があるが、金属製の配管を使用することにより、樹脂に比べ表面に吸着する過酸化水素ガスが少なく、エアレーション時間を短縮できる。
【００４７】
以上、本発明の実施形態について図面に基づいて説明したが、具体的な構成は、これらの実施形態に限定されるものでないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれる。
【００４８】
上述の本実施形態では、筐体２の内部にガスを供給するガス供給管６が筐体２の一端側に配置され、筐体２の内部のガスを筐体２の外部に排出するガス排出管７が筐体２の一端側に配置され、ガス供給管６が、筐体２の内部に配置された配管部分６ａを有し、配管部分６ａに形成されたガス供給口６ｂが筐体２の他端側に配置されていたが、ガス排出管７が、筐体２の内部に配置された配管部分を有し、配管部分に形成された開口が筐体２の他端側に配置されたものであってよい。このとき、ガス供給管６は、ガス供給装置１０からのガスを筐体２の内部の一端側に供給するが、筐体２の内部の一端側に供給されたガスは、筐体２の内部を他端側に向かって流れる。その後、ガス排出管７の配管部分に形成された開口が、筐体２の内部の他端側に配置されることから、筐体２の内部の他端側のガスが、ガス排出管７の内部を筐体２の一端側に向かって通過し、筐体２の一端側から筐体２の外部に排出される。
【００４９】
上述の本実施形態では、筐体２の内部にガスを供給するガス供給管６、及び、筐体２の内部のガスを筐体２の外部に排出するガス排出管７が、筐体２の右側端部である右側壁部２ａａに配置されていたが、ガス供給管６及びガス排出管７が、筐体２の一端側に配置され、ガス供給管６及びガス排出管７のいずれかにおいて、筐体２の内部に配置された配管部分の開口が筐体２の他端側に配置されたものであってよい。本発明において、筐体２の一端側とは、筐体２の長手方向の他方の端部より一方の端部に近い部分を示し、筐体２の他端側とは、筐体２の長手方向の一方の端部より他方の端部に近い部分を示す。
【００５０】
上述の本実施形態では、筐体２の正面右側に、筐体２の内部と連通した処理機器２Ａが配置され、処理機器２Ａの右側壁部２Ａａに、筐体２の内部のガスを筐体２の外部に排出するガス排出管７が配置されていたが、処理機器２Ａを有しないものであってよい。処理機器２Ａを有しないとき、ガス供給管６及びガス排出管７は、筐体２（例えば、筐体２の右側壁部２ａａ）に配置されてよい。処理機器２Ａを有しないとき、筐体２の正面側壁部は、背面側壁部と同様に、扉２ｃ等が配置された構造であったり、他の装置が配置された構造であってよい。上述の本実施形態では、循環流路Ｄが、筐体２の正面側壁部の内周側及び背面側壁部の内周側に配置されていたが、循環流路Ｄが、筐体２の壁部の外周側に配置されてよい。上述の本実施形態では、仕切部材１６が筐体２の内部に配置されていたが、仕切部材１６が筐体２の内部に配置されてなくてよい。
【００５１】
上述の本実施形態では、ガス供給管６において、筐体２の内部に配置された配管部分６ａが、ステンレス（SUS304,316等）の金属製であったが、除染ガスとして過酸化水素ガスを用いるときは、ガス供給管６の配管部分６ａが、アルミの金属製であってよい。また、上記以外にも使用するガスによる耐食性や温度等を考慮すれば、他の金属も用いることができる。上述の本実施形態では、ガス供給管６において、筐体２の内部に配置された配管部分６ａが直線状であったが、筐体２の内部に配置された配管部分６ａは、湾曲するものであって、直線状の配管部分より表面積が大きい配管部分に構成されてよい。上述の本実施形態のように、ガス供給管６の配管部分６ａが、筐体２の内部の一端側から他端側に延びるように配置されることにより、筐体２の内部のガスを加熱するヒータと同様に、ガス供給管６の外周面からの放熱により筐体２内のガスを加熱できるが、ガス供給管６の配管部分６ａの表面積が大きいとき、筐体２の内部のガスを効率的に加熱できる。
【００５２】
上述の本実施形態では、ガス供給管６において、筐体２の内部に配置された配管部分６ａが、ファンフィルタユニット３より下流側空間Ｃ２において、仕切部材１６より下方の走行空間Ｃ２ｂに配置されていたが、ガス供給管６において、筐体２の内部に配置された配管部分６ａの配置は限定されない。したがって、ガス供給管６において、筐体２の内部に配置された配管部分６ａが、ファンフィルタユニット３より上流側空間Ｃ１や、ファンフィルタユニット３より下流側空間Ｃ２において、仕切部材１６より上方の搬送空間Ｃ２ａに配置されてよい。
【符号の説明】
【００５３】
１  クリーンルーム設備
２  筐体
３  ファンフィルタユニット
４  ファン
５  フィルタ
６  ガス供給管
６ａ  配管部分
６ｂ  ガス供給口
７  ガス排出管
【図１】
2019039613.tif 000003
【図２】
2019039613.tif 000004
【図３】
2019039613.tif 000005