(57)【要約】【課題】高い硬度と高い透明性を併せ持つ膜を形成できる組成物を提供する。【解決手段】下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ）成分を含有する絶縁材料用組成物。（Ａ）成分：酸の作用によりカルボキシル基を生成する基、酸の作用によりフェノール性水酸基を生成する基、及び酸の作用により−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基を生成する基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基を有する繰り返し単位とアルコキシシリル基とを有する繰り返し単位を含む高分子化合物（Ｂ）成分：水溶液中でのｐＫａが５以下である有機酸及び酸発生剤からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物（Ｃ）成分：溶媒（Ｒｆは、炭素原子数１〜２０のパーフルオロアルキル基を表す。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ）成分を含有する絶縁材料用組成物。
（Ａ）成分：酸の作用によりカルボキシル基を生成する基、酸の作用によりフェノール性水酸基を生成する基、及び酸の作用により−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基を生成する基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基を有する繰り返し単位とアルコキシシリル基とを有する繰り返し単位を含む高分子化合物
（Ｂ）成分：水溶液中でのｐＫａが５以下である有機酸及び酸発生剤からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物
（Ｃ）成分：溶媒
（Ｒｆは、炭素原子数１〜２０のパーフルオロアルキル基を表す。）
【請求項２】
前記酸の作用によりカルボキシル基を生成する基、酸の作用によりフェノール性水酸基を生成する基、及び酸の作用により−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基を生成する基が、式（１）で表される基、式（２）で表される基及び式（３）で表される基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基である請求項１に記載の絶縁材料用組成物。
【化１】
2019112581.tif 000101
（１）
【化２】
2019112581.tif 000102
（２）
【化３】
2019112581.tif 000103
（３）
（式（１）、式（２）及び式（３）中、ＲＡ、ＲＢ及びＲＣは、それぞれ独立に、式（４）で表される基、式（５）で表される基、式（６）で表される基、式（７）で表される基、又は式（８）で表される基を表す。
式（２）中、Ｒ’は、水素原子又は炭素原子数１〜２０の１価の基を表す。ａは、１〜５の整数を表す。式（２）中、ＲＢが複数存在する場合、それらは同一であっても相異なっていてもよい。式（２）中、Ｒ’が複数存在する場合、それらは同一であっても相異なっていてもよい。
式（３）中、二つのＲｆは、それぞれ独立に炭素原子数１〜２０のパーフルオロアルキル基を表す。）
【化４】
2019112581.tif 000104
（４）
【化５】
2019112581.tif 000105
（５）
【化６】
2019112581.tif 000106
（６）
【化７】
2019112581.tif 000107
（７）
【化８】
2019112581.tif 000108
（８）
（式（４）及び（５）中、Ｒ１、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１〜２０の１価の基を表す。Ｒ２は、炭素原子数１〜２０の１価の基を表す。ｒは、３〜２０の整数を表す。式（５）中、複数存在するＲ３は、同一であっても相異なっていてもよい。式（５）中、複数存在するＲ４は、同一であっても相異なっていてもよい。
式（６）及び（７）中、Ｒ５は、炭素原子数１〜２０の１価の基を表す。Ｒ６〜Ｒ２５は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１〜２０の１価の基を表す。ｓは、０〜１０の整数を表す。式（６）中、複数存在するＲ７は、同一であっても相異なっていてもよい。式（６）中、複数存在するＲ８は、同一であっても相異なっていてもよい。
式（８）中、Ｒ２６〜Ｒ２８は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜２０の１価の基を表す。）
【請求項３】
前記アルコキシシリル基が、式（９）で表される基である、請求項１又は２に記載の絶縁材料用組成物。
【化９】
2019112581.tif 000109
（９）
（式中、Ｒ２９及びＲ３０は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜２０の一価の基を表す。ｎは、１〜３の整数を表す。）
【請求項４】
前記（Ａ）成分が、更に、アルコール性水酸基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物である請求項１〜３のいずれか一項に記載の絶縁材料用組成物。
【請求項５】
前記（Ｂ）成分が、式（１０）で表されるスルホン酸化合物である請求項１〜４のいずれか一項に記載の絶縁材料用組成物。
【化１０】
2019112581.tif 000110
（１０）
（式中、Ｒ３１は、炭素原子数１〜２０の一価の基を表す。該炭素原子数１〜２０の一価の基中の水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい。式中、Ｒ３２は、水素原子又は炭素原子数４〜２０の一価の基を表す。）
【請求項６】
前記絶縁材料用組成物が、更に、下記（Ｄ）成分及び（Ｅ）成分からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の絶縁材料用組成物。
（Ｄ）成分：低分子架橋剤
（Ｅ）成分：高分子架橋剤
【請求項７】
前記（Ｄ）成分が、下記（Ｄ−１）成分及び（Ｄ−２）成分からなる群より選ばれる少なくとも一種である請求項６に記載の絶縁材料用組成物。
（Ｄ−１）成分：分子内に２つ以上の水酸基を有する低分子架橋剤
（Ｄ−２）成分：分子内に２つ以上の前記式（４）〜式（８）で表される基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で水素原子が置換された水酸基を有する低分子架橋剤
【請求項８】
前記（Ｅ）成分が、下記（Ｅ−１）成分及び（Ｅ−２）成分からなる群より選ばれる少なくとも一種である請求項６に記載の絶縁材料用組成物。
（Ｅ−１）成分：分子内に２つ以上の水酸基を有し、且つ、（Ａ）成分ではない高分子架橋剤
（Ｅ−２）成分：分子内に２つ以上の前記式（４）〜式（８）で表される基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で水素原子が置換された水酸基を有し、且つ、（Ａ）成分ではない高分子架橋剤
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の絶縁材料用組成物を用いて形成される塗布膜。
【請求項１０】
請求項９に記載の塗布膜を硬化させてなる硬化膜。
【請求項１１】
請求項１０に記載の硬化膜を用いて形成される絶縁層。
【請求項１２】
請求項１１に記載の絶縁層を有するディスプレイ用部材。
【請求項１３】
請求項１２に記載のディスプレイ用部材を含むディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ディスプレイ部材の絶縁層に用いられる絶縁材料用組成物、膜、ディスプレイ部材及びディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のディスプレイ装置にはガラス基板が用いられているが、近年、ディスプレイ装置に対して、軽量化、薄型化、大型化、曲面表示などに加えて、携帯機器における高耐久性などの要求が高まっている。このため、ガラス基板に代わり、プラスチックからなる樹脂基板の実用化が検討されている。樹脂基板を用いたフレキシブルディスプレイにおいては、機械的強度を高める点から、電極保護膜、平坦化膜及び絶縁膜に対して高い硬度が要求される。
【０００３】
特許文献１には、不飽和化合物の共重合体と、１，２−キノンジアジド化合物と、シルセスキオキサンとを含有する感放射線性樹脂組成物が記載されている。この組成物によれば、層間絶縁膜などに好適な高い透明性を有するパターン状薄膜を形成可能である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−２２９８９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、高い硬度と高い透明性を併せ持つ膜を形成できる組成物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
以上の事に鑑み、種々検討を行った結果、本発明に至った。すなわち、本発明は下記［１］〜［１３］を提供する。
【０００７】
［１］  下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ）成分を含有する絶縁材料用組成物。
（Ａ）成分：酸の作用によりカルボキシル基を生成する基、酸の作用によりフェノール性水酸基を生成する基、及び酸の作用により−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基を生成する基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基を有する繰り返し単位とアルコキシシリル基とを有する繰り返し単位を含む高分子化合物
（Ｂ）成分：水溶液中でのｐＫａが５以下である有機酸及び酸発生剤からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物
（Ｃ）成分：溶媒
（Ｒｆは、炭素原子数１〜２０のパーフルオロアルキル基を表す。）
［２］  前記酸の作用によりカルボキシル基を生成する基、酸の作用によりフェノール性水酸基を生成する基、及び酸の作用により−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基を生成する基が、式（１）で表される基、式（２）で表される基及び式（３）で表される基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基である［１］に記載の絶縁材料用組成物。
【０００８】
【化１】
2019112581.tif 000002
（１）
【０００９】
【化２】
2019112581.tif 000003
（２）
【００１０】
【化３】
2019112581.tif 000004
（３）
（式（１）、式（２）及び式（３）中、ＲＡ、ＲＢ及びＲＣは、それぞれ独立に、式（４）で表される基、式（５）で表される基、式（６）で表される基、式（７）で表される基、又は式（８）で表される基を表す。
式（２）中、Ｒ’は、水素原子又は炭素原子数１〜２０の１価の基を表す。ａは、１〜５の整数を表す。式（２）中、ＲＢが複数存在する場合、それらは同一であっても相異なっていてもよい。式（２）中、Ｒ’が複数存在する場合、それらは同一であっても相異なっていてもよい。
式（３）中、二つのＲｆは、それぞれ独立に炭素原子数１〜２０のパーフルオロアルキル基を表す。）
【００１１】
【化４】
2019112581.tif 000005
（４）
【００１２】
【化５】
2019112581.tif 000006
（５）
【００１３】
【化６】
2019112581.tif 000007
（６）
【００１４】
【化７】
2019112581.tif 000008
（７）
【００１５】
【化８】
2019112581.tif 000009
（８）
（式（４）及び（５）中、Ｒ１、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１〜２０の１価の基を表す。Ｒ２は、炭素原子数１〜２０の１価の基を表す。ｒは、３〜２０の整数を表す。式（５）中、複数存在するＲ３は、同一であっても相異なっていてもよい。式（５）中、複数存在するＲ４は、同一であっても相異なっていてもよい。
式（６）及び（７）中、Ｒ５は、炭素原子数１〜２０の１価の基を表す。Ｒ６〜Ｒ２５は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１〜２０の１価の基を表す。ｓは、０〜１０の整数を表す。式（６）中、複数存在するＲ７は、同一であっても相異なっていてもよい。式（６）中、複数存在するＲ８は、同一であっても相異なっていてもよい。
式（８）中、Ｒ２６〜Ｒ２８は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜２０の１価の基を表す。）
［３］  前記アルコキシシリル基が、式（９）で表される基である、［１］又は［２］に記載の絶縁材料用組成物。
【００１６】
【化９】
2019112581.tif 000010
（９）
（式中、Ｒ２９及びＲ３０は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜２０の一価の基を表す。ｎは、１〜３の整数を表す。）
［４］  前記（Ａ）成分が、更に、アルコール性水酸基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物である［１］〜［３］のいずれか一項に記載の絶縁材料用組成物。
［５］  前記（Ｂ）成分が、式（１０）で表されるスルホン酸化合物である［１］〜［４］のいずれか一項に記載の絶縁材料用組成物。
【００１７】
【化１０】
2019112581.tif 000011
（１０）
（式中、Ｒ３１は、炭素原子数１〜２０の一価の基を表す。該炭素原子数１〜２０の一価の基中の水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい。式中、Ｒ３２は、水素原子又は炭素原子数４〜２０の一価の基を表す。）
［６］  前記絶縁材料用組成物が、更に、下記（Ｄ）成分及び（Ｅ）成分からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有する、［１］〜［５］のいずれか一項に記載の絶縁材料用組成物。
（Ｄ）成分：低分子架橋剤
（Ｅ）成分：高分子架橋剤
［７］  前記（Ｄ）成分が、下記（Ｄ−１）成分及び（Ｄ−２）成分からなる群より選ばれる少なくとも一種である［６］に記載の絶縁材料用組成物。
（Ｄ−１）成分：分子内に２つ以上の水酸基を有する低分子架橋剤
（Ｄ−２）成分：分子内に２つ以上の前記式（４）〜式（８）で表される基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で水素原子が置換された水酸基を有する低分子架橋剤
［８］  前記（Ｅ）成分が、下記（Ｅ−１）成分及び（Ｅ−２）成分からなる群より選ばれる少なくとも一種である［７］に記載の絶縁材料用組成物。
（Ｅ−１）成分：分子内に２つ以上の水酸基を有し、且つ、（Ａ）成分ではない高分子架橋剤
（Ｅ−２）成分：分子内に２つ以上の前記式（４）〜式（８）で表される基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で水素原子が置換された水酸基を有し、且つ、（Ａ）成分ではない高分子架橋剤
［９］  ［１］〜［８］のいずれか一項に記載の絶縁材料用組成物を用いて形成される塗布膜。
［１０］  ［９］に記載の塗布膜を硬化させてなる硬化膜。
［１１］  ［１０］に記載の硬化膜を用いて形成される絶縁層。
［１２］  ［１１］に記載の絶縁層を有するディスプレイ用部材。
［１３］  ［１２］に記載のディスプレイ用部材を含むディスプレイ。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の組成物を用いれば、高い硬度と高い透明性を併せ持つ絶縁層を形成できる。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
次に、本発明の実施形態についてさらに詳細に説明する。
【００２０】
なお、本明細書において、「高分子化合物」とは、分子中に互いに異なっていてもよい複数の構造単位（繰り返し単位）を含む化合物を意味しており、いわゆる二量体も「高分子化合物」に含まれる。また、本明細書において、「低分子化合物」とは、分子中に複数の繰り返し単位を含んでいない化合物を意味する。
【００２１】
共通する用語の説明
本明細書で共通して用いられる用語は、特記しない限り、以下の意味である。
【００２２】
「炭素原子数１〜２０の一価の基」は、直鎖状、分岐状、環状のいずれの態様であってもよく、飽和していても不飽和であってもよく、炭素原子上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい。
【００２３】
炭素原子数１〜２０の一価の基としては、例えば、炭素原子数１〜２０の直鎖状炭化水素基、炭素原子数３〜２０の分岐状炭化水素基、炭素原子数３〜２０の環状炭化水素基、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、好ましくは、炭素原子数１〜６の直鎖状炭化水素基、炭素原子数３〜６の分岐状炭化水素基、炭素原子数３〜６の環状炭化水素基、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素基などである。
【００２４】
炭素原子数１〜２０の直鎖状炭化水素基、炭素原子数３〜２０の分岐状炭化水素基、炭素原子数３〜２０の環状炭化水素基、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素基は、これらの基に含まれる水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい。
【００２５】
「ハロゲン原子」は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子であり、ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
【００２６】
炭素原子数１〜２０の直鎖状炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロエチル基、３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ヘプタデカフルオロデシル基が挙げられ、炭素原子数３〜２０の分岐状炭化水素基の具体例としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基が挙げられ、炭素原子数３〜２０の環状炭化水素基の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチニル基、シクロヘキシニル基が挙げられ、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、トリル基、キシリル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、ジエチルフェニル基、トリエチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、メチルナフチル基、ジメチルナフチル基、トリメチルナフチル基、ビニルナフチル基、エテニルナフチル基、メチルアントリル基、エチルアントリル基、ペンタフルオロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基が挙げられる。
【００２７】
炭素原子数１〜２０の一価の基としては、水酸基、カルボニル基、及びアミノ基を有していてもよいが、好ましくはアルキル基である。
【００２８】
水酸基、カルボニル基、及びアミノ基を有する炭素原子数１〜２０の一価の基の具体例としては、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、４−ヒドロキシブチル基、カルボキシル基、カルボキシメチル基、２−カルボキシエチル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル基などが挙げられる。
【００２９】
Ｒｆは、炭素原子数１〜２０のパーフルオロアルキル基であり、具体例としては、トリフルオロメチル基、トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、トリフルオロプロピル基、ペンタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基などが挙げられる。
【００３０】
＜絶縁材料用組成物＞
本発明の絶縁材料用組成物は、（Ａ）成分と（Ｂ）成分と（Ｃ）成分を含む。
（Ａ）成分：酸の作用によりカルボキシル基を生成する基、酸の作用によりフェノール性水酸基を生成する基、及び酸の作用により−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基を生成する基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基を有する繰り返し単位とアルコキシシリル基とを有する繰り返し単位を含む高分子化合物
（Ｂ）成分：水溶液中でのｐＫａが５以下である有機酸と酸発生剤とからなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物
（Ｃ）成分：溶媒
（Ｒｆは、炭素原子数１〜２０のパーフルオロアルキル基を表す。）
【００３１】
＜（Ａ）成分＞
酸の作用によりカルボキシル基を生成する基、酸の作用によりフェノール性水酸基を生成する基、及び酸の作用により−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基を生成する基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基を有する繰り返し単位とアルコキシシリル基を有する繰り返し単位とを含む高分子化合物である。
【００３２】
＜酸の作用によりカルボキシル基を生成する基、酸の作用によりフェノール性水酸基を生成する基、又は酸の作用により−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基を生成する基を有する繰り返し単位＞
前記（Ａ）成分の繰り返し単位に含まれる、酸の作用によりカルボキシル基を生成する基、酸の作用によりフェノール性水酸基を生成する基、又は酸の作用により−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基を生成する基は、下記式（１）で表される基、下記式（２）で表される基、又は下記式（３）で表される基であってもよい。
【００３３】
【化１１】
2019112581.tif 000012
（１）
【００３４】
【化１２】
2019112581.tif 000013
（２）
【００３５】
【化１３】
2019112581.tif 000014
（３）  
（式（１）、式（２）及び式（３）中、ＲＡ、ＲＢ及びＲＣは、それぞれ独立に、式（４）で表される基、式（５）で表される基、式（６）で表される基、式（７）で表される基、又は式（８）で表される基を表す。
式（２）中、Ｒ’は、水素原子又は炭素原子数１〜２０の１価の基を表す。ａは、１〜５の整数を表す。式（２）中、ＲＢが複数存在する場合、それらは同一であっても相異なっていてもよい。式（２）中、Ｒ’が複数存在する場合、それらは同一であっても相異なっていてもよい。
式（３）中、二つのＲｆは、それぞれ独立に炭素原子数１〜２０のパーフルオロアルキル基を表す。）  
【００３６】
【化１４】
2019112581.tif 000015
（４）
【００３７】
【化１５】
2019112581.tif 000016
（５）
【００３８】
【化１６】
2019112581.tif 000017
（６）
【００３９】
【化１７】
2019112581.tif 000018
（７）
【００４０】
【化１８】
2019112581.tif 000019
（８）
（式（４）及び（５）中、Ｒ１、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１〜２０の１価の基を表す。Ｒ２は、炭素原子数１〜２０の１価の基を表す。ｒは、３〜２０の整数を表す。式（５）中、複数存在するＲ３は、同一であっても相異なっていてもよい。式（５）中、複数存在するＲ４は、同一であっても相異なっていてもよい。
式（６）及び（７）中、Ｒ５は、炭素原子数１〜２０の１価の基を表す。Ｒ６〜Ｒ２５は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１〜２０の１価の基を表す。ｓは、０〜１０の整数を表す。式（６）中、複数存在するＲ７は、同一であっても相異なっていてもよい。式（６）中、複数存在するＲ８は、同一であっても相異なっていてもよい。
式（８）中、Ｒ２６〜Ｒ２８は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜２０の１価の基を表す。）
【００４１】
前記酸の作用によりカルボキシル基を生成する基を有する繰り返し単位の原料となる、分子内に不飽和二重結合と式（１）を有する重合性モノマーの製造方法としては、分子内に不飽和二重結合とカルボキシル基を有する化合物中のカルボキシル基を、ＲＡで表される基により保護する方法が挙げられる。
【００４２】
分子内に不飽和二重結合とカルボキシル基を有する化合物としては、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル安息香酸、カルボキシフェニルアクリルアミドが挙げられる。
【００４３】
前記酸の作用によりフェノール性水酸基を生成する基を有する繰り返し単位の原料となる、分子内に不飽和二重結合と式（２）を有する重合性モノマーの製造方法としては、分子内に不飽和二重結合とフェノール性水酸基を有する化合物中の水酸基を、ＲＢで表される基により保護する方法が挙げられる。
【００４４】
分子内に不飽和二重結合とフェノール性水酸基を有する化合物としては、ヒドロキシスチレン、ヒドロキシフェニルアクリレート、ヒドロキシフェニルメタクリレート、ヒドロキシベンジルアクリレート、ヒドロキシベンジルメタクリレート、ヒドロキシフェニルプロピルアクリレート、ヒドロキシフェニルプロピルメタクリレートが挙げられる。
【００４５】
前記酸の作用により−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基を生成する基を有する繰り返し単位の原料となる、分子内に不飽和二重結合と式（３）を有する重合性モノマーの製造方法としては、分子内に不飽和二重結合と−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基を有する化合物中の水酸基を、ＲＣで表される基により保護する方法が挙げられる。
【００４６】
分子内に不飽和二重結合と−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基を有する化合物としては、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−ヒドロキシ−２−プロピルアクリレート、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−ヒドロキシ−２−プロピルメタクリレートが挙げられる。
【００４７】
前記ＲＡ、ＲＢ又はＲＣで表される基を有する保護化剤としては、式（４）、式（５）、式（６）、式（７）、又は式（８）で表される基を有する保護化剤が挙げられる。
【００４８】
式（４）で表される基を有する保護化剤としては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ペンチルビニルエーテルが挙げられ、式（５）で表される基を有する保護化剤としては、例えば、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランが挙げられ、式（６）で表される基を有する保護化剤としては、例えば、１−メチル−１−シクロペンタン、１−メチル−１−シクロペンタノールが挙げられ、式（７）で表される基を有する保護化剤としては、例えば、２−メチレンアダマンタン、２−メチル−２−アダマンタノールが挙げられ、式（８）で表される基を有する保護化剤としては、例えば、イソブチレンが挙げられる。
【００４９】
前記ＲＡ、ＲＢ又はＲＣで表される基としては、式（４）、式（５）、式（６）、式（７）、又は式（８）で表される基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基であることが好ましく、より低温条件で脱保護反応が進行することから、式（４）で表される基と式（５）とで表される基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基であることが好ましい。
【００５０】
式（４）において、Ｒ１は水素原子、又は、炭素原子数１〜２０のアルキル基、Ｒ２は炭素原子数１〜２０のアルキル基であることが好ましく、Ｒ１は炭素原子数１〜２０のアルキル基であることがより好ましい。
【００５１】
前記式（４）で表される基としては、例えば、メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、１−エトキシエチル基、１−ブトキシエチル基、１−メトキシプロピル基、１−エトキシプロピル基が挙げられる。
本発明の一実施形態では、式（４）において、Ｒ１はメチル基であり、Ｒ２はブチル基であることが好ましい。
【００５２】
式（５）において、Ｒ３及びＲ４は、水素原子、又は、炭素原子数１〜２０のアルキル基であり、ｒは３〜２０であることが好ましく、Ｒ３及びＲ４は、水素原子であることがより好ましい。
【００５３】
前記式（５）で表される基の例としては、ヒドロフラニル基、ヒドロピラニル基、が挙げられ、これらの基は置換基を有していてもよい。
【００５４】
ここで、ヒドロフラニル基とは、ジヒドロフラン又はテトラヒドロフランの環を構成する炭素原子に直接結合している水素原子１個を除いた基を意味する。ヒドロフラニル基が有していてもよい置換基の例としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、水酸基が挙げられる。ヒドロフラニル基としては、例えば、ジヒドロフラニル基、テトラヒドロフラニル基が挙げられる。
【００５５】
ヒドロピラニル基とは、ジヒドロピラン又はテトラヒドロピランの環を構成する炭素原子に直接結合している水素原子１個を除いた基を意味する。ヒドロピラニル基が有していてもよい置換基の例としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、水酸基が挙げられる。ヒドロピラニル基としては、例えば、ジヒドロピラニル基、テトラヒドロピラニル基、４−メトキシテトラヒドロピラニル基が挙げられる。
【００５６】
本発明の一実施形態では、式（５）において、Ｒ３及びＲ４は、水素原子であり、ｒは４であることが好ましい。
【００５７】
式（６）において、Ｒ５は、炭素原子数１〜２０のアルキル基であり、Ｒ６〜Ｒ１０は、水素原子又は炭素原子数１〜２０のアルキル基であり、ｓは０〜１０であることが好ましく、Ｒ６〜Ｒ１０は、水素原子であることがより好ましい。
【００５８】
前記式（６）で表される基の例としては、１−メチルシクロプロピル基、１−メチルシクロブチル基、１−メチルシクロペンチル基、１−メチルシクロヘキシル基、１−メチルシクロヘプチル基、１−エチルシクロプロピル基、１−エチルシクロブチル基、１−エチルシクロペンチル基、１−エチルシクロヘキシル基、１−エチルシクロヘプチル基が挙げられ、これらの基は置換基を有していてもよい。
本発明の一実施形態では、式（６）において、Ｒ５は、メチル基であり、Ｒ６〜Ｒ１０は、水素原子であり、ｓは２であることが好ましい。
【００５９】
式（７）において、Ｒ１１は、炭素原子数１〜２０のアルキル基であり、Ｒ１２〜Ｒ２５は、水素原子又は炭素原子数１〜２０のアルキル基であることが好ましく、Ｒ１２〜Ｒ２５は、水素原子であることが好ましい。
【００６０】
前記式（７）で表される基の例としては、２−メチル−２−アダマンチル基、２−エチル−２−アダマンチル基、２−イソプロピル−２−アダマンチル基が挙げられ、これらの基は置換基を有していてもよい。  
本発明の一実施形態では、式（７）において、Ｒ１１は、メチル基であり、Ｒ１２〜Ｒ２５は、水素原子であることが好ましい。
【００６１】
式（８）において、Ｒ２６〜Ｒ２８は、炭素原子数１〜２０のアルキル基であることが好ましい。
【００６２】
前記式（８）で表される基の例としては、ターシャリーブチル基、２−メチル−２−ブチル基、３−メチル−３−ペンチル基、オキセタニル基、２−エチル−２−ブチル基、３−エチル−３−ペンチル基が挙げられ、これらの基は置換基を有していてもよい。
【００６３】
前記式（１）で表される基としては、例えば、メトキシメチルオキシカルボニル基、メトキシエトキシメチルオキシカルボニル基、１−エトキシエチルオキシカルボニル基、１−ブトキシエチルオキシカルボニル基、１−エトキシエチルオキシカルボニル基、１−メトキシプロピルオキシカルボニル基、１−エトキシプロピルオキシカルボニル基、オキシラニル−２−オキシカルボニル基、オキセタニル−２−オキシカルボニル基、２，３−ジヒドロフラニル−２−オキシカルボニル基、テトラヒドロフラニル−２−オキシカルボニル基、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシカルボニル基、３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシカルボニル基、テトラヒドロピラニル−２−オキシカルボニル基、１−メチル−１−シクロプロピルオキシカルボニル基、１−エチル−１−シクロプロピルオキシカルボニル基、１−メチル−１−シクロブチルオキシカルボニル基、１−エチル−１−シクロブチルオキシカルボニル基、１−メチル−１−シクロペンチルオキシカルボニル基、１−エチル−１−シクロペンチルオキシカルボニル基、１−メチル−１−シクロヘキシルオキシカルボニル基、１−エチル−１−シクロヘキシルオキシカルボニル基、２−メチル−２−アダマンチルオキシカルボニル基、２−エチル−２−アダマンチルオキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基が挙げられる。
本発明に用いられる前記式（１）で表される基としては、より低温条件で脱保護反応が進行することから、１−エトキシエチルオキシカルボニル基、１−ブトキシエチルオキシカルボニル基、１−エトキシエチルオキシカルボニル基、１−メトキシプロピルオキシカルボニル基、１−エトキシプロピルオキシカルボニル基、２，３−ジヒドロフラニル−２−オキシカルボニル基、テトラヒドロフラニル−２−オキシカルボニル基、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシカルボニル基、３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシカルボニル基、テトラヒドロピラニル−２−オキシカルボニル基が好ましく、２，３−ジヒドロフラニル−２−オキシカルボニル基、テトラヒドロフラニル−２−オキシカルボニル基、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシカルボニル基、３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシカルボニル基、テトラヒドロピラニル−２−オキシカルボニル基がより好ましい。
【００６４】
前記式（２）で表される基としては、例えば、メトキシメチルオキシフェニル基、メトキシエトキシメチルオキシフェニル基、１−エトキシエチルオキシフェニル基、１−ブトキシエチルオキシフェニル基、１−エトキシエチルオキシフェニル基、１−メトキシプロピルオキシフェニル基、１−エトキシプロピルオキシフェニル基、オキシラニル−２−オキシフェニル基、オキセタニル−２−オキシフェニル基、２，３−ジヒドロフラニル−２−オキシフェニル基、テトラヒドロフラニル−２−オキシフェニル基、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシフェニル基、３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシフェニル基、テトラヒドロピラニル−２−オキシフェニル基、１−メチル−１−シクロプロピルオキシフェニル基、１−エチル−１−シクロプロピルオキシフェニル基、１−メチル−１−シクロブチルオキシフェニル基、１−エチル−１−シクロブチルオキシフェニル基、１−メチル−１−シクロペンチルオキシフェニル基、１−エチル−１−シクロペンチルオキシフェニル基、１−メチル−１−シクロヘキシルオキシフェニル基、１−エチル−１−シクロヘキシルオキシフェニル基、２−メチル−２−アダマンチルオキシフェニル基、２−エチル−２−アダマンチルオキシフェニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシフェニル基が挙げられる。
本発明に用いられる前記式（１）で表される基としては、より低温条件で脱保護反応が進行することから、１−エトキシエチルオキシフェニル基、１−ブトキシエチルオキシフェニル基、１−エトキシエチルオキシフェニル基、１−メトキシプロピルオキシフェニル基、１−エトキシプロピルオキシフェニル基、２，３−ジヒドロフラニル−２−オキシフェニル基、テトラヒドロフラニル−２−オキシフェニル基、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシフェニル基、３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシフェニル基、テトラヒドロピラニル−２−オキシフェニル基が好ましく、２，３−ジヒドロフラニル−２−オキシフェニル基、テトラヒドロフラニル−２−オキシフェニル基、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシフェニル基、３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシフェニル基、テトラヒドロピラニル−２−オキシフェニル基がより好ましい。
【００６５】
前記式（３）で表される基としては、例えば、２−メトキシメチルオキシ−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−メトキシエトキシメチルオキシ−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（１−エトキシエチルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（１−ブトキシエチルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（１−エトキシエチルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（１−メトキシプロピルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（１−エトキシプロピルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（オキシラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（オキセタニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（２，３−ジヒドロフラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（テトラヒドロフラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（テトラヒドロピラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（１−メチル−１−シクロプロピルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（１−エチル−１−シクロプロピルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（１−メチル−１−シクロブチルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（１−エチル−１−シクロブチルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（１−メチル−１−シクロペンチルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（１−エチル−１−シクロペンチルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（１−メチル−１−シクロヘキシルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（１−エチル−１−シクロヘキシルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（２−メチル−２−アダマンチルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（２−エチル−２−アダマンチルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−ｔｅｒｔ−ブトキシ−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基が挙げられる。
本発明に用いられる前記式（３）で表される基としては、より低温条件で脱保護反応が進行することから、２−（１−エトキシエチルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（１−ブトキシエチルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（１−エトキシエチルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（１−メトキシプロピルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（１−エトキシプロピルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（２，３−ジヒドロフラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（テトラヒドロフラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（テトラヒドロピラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基が好ましく、２−（２，３−ジヒドロフラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（テトラヒドロフラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基、２−（テトラヒドロピラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロプロピル基がより好ましい。
【００６６】
本発明に用いられる（Ａ）成分が有する繰り返し単位が有し得る基としては、本発明の組成物を用いて形成される塗布膜を硬化した膜の透明性の観点から、前記式（１）で表される基、又は、前記式（３）で表される基が好ましく、更に、酸の作用により生成する基のアルカリ性水溶液に対する溶解性の観点から、前記式（１）で表される基がより好ましい。  
【００６７】
（Ａ）成分が有し得る前記式（１）で表される基を有する繰り返し単位の原料となる重合性モノマーとしては、例えば、メトキシメチルアクリレート、メトキシエトキシメチルアクリレート、１−エトキシエチルアクリレート、１−ブトキシエチルアクリレート、１−エトキシエチルアクリレート、１−メトキシプロピルアクリレート、１−エトキシプロピルアクリレート、２−オキシラニルアクリレート、２−オキセタニルアクリレート、２−（２，３−ジヒドロフラニル）アクリレート、２−（テトラヒドロフラニル）アクリレート、２−（３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル）アクリレート、２−（３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル）アクリレート、２−テトラヒドロピラニルアクリレート、１−メチル−１−シクロプロピルアクリレート、１−エチル−１−シクロプロピルアクリレート、１−メチル−１−シクロブチルアクリレート、１−エチル−１−シクロブチルアクリレート、１−メチル−１−シクロペンチルアクリレート、１−エチル−１−シクロペンチルアクリレート、１−メチル−１−シクロヘキシルアクリレート、１−エチル−１−シクロヘキシルアクリレート、２−メチル−２−アダマンチルアクリレート、２−エチル−２−アダマンチルアクリレート、メトキシメチルメタクリレート、メトキシエトキシメチルメタクリレート、１−エトキシエチルメタクリレート、１−ブトキシエチルメタクリレート、１−エトキシエチルメタクリレート、１−メトキシプロピルメタクリレート、１−エトキシプロピルメタクリレート、２−オキシラニルメタクリレート、２−オキセタニルメタクリレート、２−（２，３−ジヒドロフラニル）メタクリレート、２−（テトラヒドロフラニル）メタクリレート、２−（３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル）メタクリレート、２−（３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル）メタクリレート、２−テトラヒドロピラニルメタクリレート、１−メチル−１−シクロプロピルメタクリレート、１−エチル−１−シクロプロピルメタクリレート、１−メチル−１−シクロブチルメタクリレート、１−エチル−１−シクロブチルメタクリレート、１−メチル−１−シクロペンチルメタクリレート、１−エチル−１−シクロペンチルメタクリレート、１−メチル−１−シクロヘキシルメタクリレート、１−エチル−１−シクロヘキシルメタクリレート、２−メチル−２−アダマンチルメタクリレート、２−エチル−２−アダマンチルメタクリレート、4−ビニル安息香酸  メトキシメチルエステル、4−ビニル安息香酸  メトキシエトキシメチルエステル、4−ビニル安息香酸  １−エトキシエチルエステル、4−ビニル安息香酸  １−ブトキシエチルエステル、4−ビニル安息香酸  １−エトキシエチルエステル、4−ビニル安息香酸  １−メトキシプロピルエステル、4−ビニル安息香酸  １−エトキシプロピルエステル、4−ビニル安息香酸  ２−オキシラニルエステル、4−ビニル安息香酸  ２−オキセタニルエステル、4−ビニル安息香酸  ２−（２，３−ジヒドロフラニル）エステル、4−ビニル安息香酸  ２−（テトラヒドロフラニル）エステル、4−ビニル安息香酸  ２−（３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル）エステル、4−ビニル安息香酸  ２−（３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル）エステル、4−ビニル安息香酸  ２−テトラヒドロピラニルエステル、4−ビニル安息香酸  １−メチル−１−シクロプロピルエステル、4−ビニル安息香酸  １−エチル−１−シクロプロピルエステル、4−ビニル安息香酸  １−メチル−１−シクロブチルエステル、4−ビニル安息香酸  １−エチル−１−シクロブチルエステル、4−ビニル安息香酸  １−メチル−１−シクロペンチルエステル、4−ビニル安息香酸  １−エチル−１−シクロペンチルエステル、4−ビニル安息香酸  １−メチル−１−シクロヘキシルエステル、4−ビニル安息香酸  １−エチル−１−シクロヘキシルエステル、4−ビニル安息香酸  ２−メチル−２−アダマンチルエステル、4−ビニル安息香酸  ２−エチル−２−アダマンチルエステル、が挙げられる。
【００６８】
本発明に用いられる（Ａ）成分が有し得る前記式（１）で表される基を有する繰り返し単位の原料となる重合性モノマーとしては、本発明の組成物を用いて形成される塗布膜を硬化した膜の硬度の観点から、メトキシメチルメタクリレート、メトキシエトキシメチルメタクリレート、１−エトキシエチルメタクリレート、１−ブトキシエチルメタクリレート、１−エトキシエチルメタクリレート、１−メトキシプロピルメタクリレート、１−エトキシプロピルメタクリレート、２−オキシラニルメタクリレート、２−オキセタニルメタクリレート、２−（２，３−ジヒドロフラニル）メタクリレート、２−（テトラヒドロフラニル）メタクリレート、２−（３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル）メタクリレート、２−（３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル）メタクリレート、２−テトラヒドロピラニルメタクリレート、１−メチル−１−シクロプロピルメタクリレート、１−エチル−１−シクロプロピルメタクリレート、１−メチル−１−シクロブチルメタクリレート、１−エチル−１−シクロブチルメタクリレート、１−メチル−１−シクロペンチルメタクリレート、１−エチル−１−シクロペンチルメタクリレート、１−メチル−１−シクロヘキシルメタクリレート、１−エチル−１−シクロヘキシルメタクリレート、２−メチル−２−アダマンチルメタクリレート、２−エチル−２−アダマンチルメタクリレートがより好ましい。
【００６９】
（Ａ）成分が有し得る前記式（２）で表される基を有する繰り返し単位の原料となる重合性モノマーとしては、例えば、メトキシメチルオキシスチレン、メトキシエトキシメチルオキシスチレン、１−エトキシエチルオキシスチレン、１−ブトキシエチルオキシスチレン、１−エトキシエチルオキシスチレン、１−メトキシプロピルオキシスチレン、１−エトキシプロピルオキシスチレン、オキシラニル−２−オキシスチレン、オキセタニル−２−オキシスチレン、２，３−ジヒドロフラニル−２−オキシスチレン、テトラヒドロフラニル−２−オキシスチレン、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシスチレン、３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシスチレン、テトラヒドロピラニル−２−オキシスチレン、１−メチル−１−シクロプロピルオキシスチレン、１−エチル−１−シクロプロピルオキシスチレン、１−メチル−１−シクロブチルオキシスチレン、１−エチル−１−シクロブチルオキシスチレン、１−メチル−１−シクロペンチルオキシスチレン、１−エチル−１−シクロペンチルオキシスチレン、１−メチル−１−シクロヘキシルオキシスチレン、１−エチル−１−シクロヘキシルオキシスチレン、２−メチル−２−アダマンチルオキシスチレン、２−エチル−２−アダマンチルオキシスチレンが挙げられる。  
【００７０】
本発明に用いられる（Ａ）成分が有し得る前記式（２）で表される基を有する繰り返し単位の原料となる重合性モノマーとしては、より低温条件で脱保護反応が進行することから、１−エトキシエチルオキシスチレン、１−ブトキシエチルオキシスチレン、１−エトキシエチルオキシスチレン、１−メトキシプロピルオキシスチレン、１−エトキシプロピルオキシスチレン、２，３−ジヒドロフラニル−２−オキシスチレン、テトラヒドロフラニル−２−オキシスチレン、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシスチレン、３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシスチレン、テトラヒドロピラニル−２−オキシスチレンが好ましい。
【００７１】
（Ａ）成分が有し得る前記式（３）で表される基を有する繰り返し単位の原料となる重合性モノマーとしては、例えば、２−メトキシメチルオキシ−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−メトキシエトキシメチルオキシ−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（１−エトキシエチルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（１−ブトキシエチルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（１−エトキシエチルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（１−メトキシプロピルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（１−エトキシプロピルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（オキシラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（オキセタニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（２，３−ジヒドロフラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（テトラヒドロフラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（テトラヒドロピラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（１−メチル−１−シクロプロピルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（１−エチル−１−シクロプロピルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（１−メチル−１−シクロブチルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（１−エチル−１−シクロブチルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（１−メチル−１−シクロペンチルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（１−エチル−１−シクロペンチルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（１−メチル−１−シクロヘキシルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（１−エチル−１−シクロヘキシルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（２−メチル−２−アダマンチルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（２−エチル−２−アダマンチルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレンが挙げられる。
【００７２】
本発明に用いられる（Ａ）成分が有し得る前記式（３）で表される基を有する繰り返し単位の原料となる重合性モノマーとしては、より低温条件で脱保護反応が進行することから、２−（１−エトキシエチルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（１−ブトキシエチルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（１−エトキシエチルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（１−メトキシプロピルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（１−エトキシプロピルオキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（２，３−ジヒドロフラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（テトラヒドロフラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（３，６−ジヒドロ−２Ｈ−ピラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレン、２−（テトラヒドロピラニル−２−オキシ）−１,１,１,３,３,３−ヘキサフルオロ−２−プロピルスチレンが好ましい。
【００７３】
（Ａ）成分における、酸の作用によりカルボキシル基を生成する基、酸の作用によりフェノール性水酸基を生成する基、及び酸の作用により−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基を生成する基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基を有する繰り返し単位の含有量は、（Ａ）成分中の全ての重合性モノマーに対して、５モル％〜９０モル％であり、好ましくは、１０モル％〜８０モル％である。酸の作用により、カルボキシル基、フェノール性水酸基、又は−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基を生成する基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基を有する繰り返し単位の含有量を上記範囲にすることにより、本発明の組成物を用いて形成される塗布膜を乾燥した膜に対してパターンを形成することができ、該塗布膜を硬化した膜の内部に架橋構造が十分に形成されるため、耐溶剤性及び機械的強度が向上する。
【００７４】
（Ａ）成分における、酸の作用によりカルボキシル基を生成する基を有する繰り返し単位の含有量は、（Ａ）成分中の全ての重合性モノマーに対して、３０モル％〜９０モル％であり、好ましくは、４０モル％〜９０モル％であり、より好ましくは、５０モル％〜９０モル％である。
（Ａ）成分における、酸の作用によりカルボキシル基を生成する基を有する繰り返し単位の含有量を上記範囲にすることで、本発明の組成物を用いて形成される塗布膜を乾燥した膜のアルカリ性現像液に対する溶解性が向上する。
【００７５】
本発明の組成物に用いられる（Ａ）成分は、酸の作用によりカルボキシル基を生成する基、酸の作用によりフェノール性水酸基を生成する基、及び酸の作用により−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基を生成する基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基を有する繰り返し単位とアルコキシシリル基を有する繰り返し単位に加え、更に、アルコール性水酸基を有する繰り返し単位を含む高分子化合物であってもよい。
【００７６】
前記アルコール性水酸基を有する繰り返し単位の有し得るアルコール性水酸基としては、１級のアルコール性水酸基、２級のアルコール性水酸基、３級のアルコール性水酸基が好ましく、より好ましくは１級のアルコール性水酸基である。
【００７７】
前記アルコール性水酸基を有する繰り返し単位の原料となる、分子内に不飽和二重結合と１級のアルコール性水酸基を有する重合性モノマーとしては、例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２-ヒドロキシエチルメタクリレート、４-ヒドロキシブチルアクリレート、４-ヒドロキシブチルメタクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノメタクリレート、ポリエチレングリコールモノアクリレート、ポリエチレングリコールモノメタクリレート、ポリプロピレングリコールモノアクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、グリセリンモノアクリレート、グリセリンモノメタクリレート、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミドが挙げられる。
【００７８】
前記アルコール性水酸基を有する繰り返し単位の原料となる、分子内に不飽和二重結合と２級のアルコール性水酸基を有する重合性モノマーとしては、例えば、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、３−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、３−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、３−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレートが挙げられる。
【００７９】
前記アルコール性水酸基を有する繰り返し単位の原料となる、分子内に不飽和二重結合と３級のアルコール性水酸基を有する重合性モノマーとしては、例えば、３−ヒドロキシアダマンチルアクリレート、３−ヒドロキシアダマンチルメタクリレートが挙げられる。
【００８０】
前記アルコール性水酸基を有する繰り返し単位中のアルコール性水酸基は、前記式（４）〜式（８）で表される基で保護されていてもよい。
【００８１】
（Ａ）成分における、前記アルコール性水酸基を有する繰り返し単位の含有量は、（Ａ）成分中のすべての重合性モノマーに対して、０．５モル％〜３０モル％であり、好ましくは、１モル％〜２０モル％である。アルコール性水酸基を有する繰り返し単位の含有量を上記範囲にすることにより、本発明の組成物を用いて形成される塗布膜を硬化した膜の内部に架橋構造が十分に形成されるため、該膜の耐溶剤性及び機械的強度が向上する。  
【００８２】
＜アルコキシシリル基を有する繰り返し単位＞
前記（Ａ）成分が有するアルコキシシリル基は、下記式（９）で表される基であってもよい。
【００８３】
【化１９】
2019112581.tif 000020
（９）
（式中、Ｒ２９及びＲ３０は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜２０の一価の基を表す。ｎは、１〜３の整数を表す。）  
【００８４】
式（９）において、Ｒ２９は炭素原子数１〜２０のアルキル基であり、炭素原子数１〜１０のアルキル基であることが好ましく、より好ましくは、炭素原子数１〜４のアルキル基であり、ｎは１〜３であり、ｎは２〜３であることが好ましく、ｎは３であることがより好ましい。
本発明の一実施形態では、Ｒ２９はエチル基であり、ｎは３であることが好ましい。    
【００８５】
前記アルコキシシリル基を有する繰り返し単位の原料となる、分子内に不飽和二重結合と式（９）を有する重合性モノマーとしては、例えば、３−（トリエトキシシリルプロピル）メタクリレート、３−（トリエトキシシリルプロピル）アクリレート、３−（トリメトキシシリルプロピル）メタクリレート、３−（トリメトキシシリルプロピル）アクリレート、３−（トリエトキシシリルプロピル）アクリルアミド、トリエトキシシリルスチレン、４−（トリエトキシシリルプロピル）フェニルメタクリレート、４−（トリエトキシシリルプロピル）フェニルメチルメタクリレート、４−（トリエトキシシリルプロピル）フェニルアクリレート、４−（トリエトキシシリルプロピル）フェニルメチルアクリレートが挙げられる。
【００８６】
（Ａ）成分における、アルコキシシリル基を有する繰り返し単位の含有量は、（Ａ）成分中のすべての重合性モノマーに対して、５モル％〜６０モル％であり、好ましくは、１０モル％〜５０モル％であり、より好ましくは、２０モル％〜４０モル％である。アルコキシシリル基を有する繰り返し単位の含有量を上記範囲にすることにより、本発明の組成物を用いて形成される塗布膜を硬化した膜の硬度を維持することができ、かつ組成物の保存安定性を保持できる。
【００８７】
前記（Ａ）成分は、式（１）で表される基を有する繰り返し単位の原料となる分子内に不飽和二重結合と式（１）とを有する重合性モノマー、式（２）で表される基を有する繰り返し単位の原料となる分子内に不飽和二重結合と式（２）とを有する重合性モノマー、及び式（３）で表される基を有する繰り返し単位の原料となる分子内に不飽和二重結合と式（３）とを有する重合性モノマー、とからなる群より選ばれる少なくとも一種の重合性モノマーと式（９）で表される基を有する繰り返し単位の原料となる分子内に不飽和二重結合と式（９）を有する重合性モノマーとを光ラジカル重合開始剤又は熱ラジカル重合開始剤の存在下、ラジカル共重合させることにより製造することが出来る。
【００８８】
前記（Ａ）成分において、更に、アルコール性水酸基を有する繰り返し単位を含む高分子化合物は、式（１）で表される基を有する繰り返し単位の原料となる分子内に不飽和二重結合と式（１）とを有する重合性モノマー、式（２）で表される基を有する繰り返し単位の原料となる分子内に不飽和二重結合と式（２）とを有する重合性モノマー、及び、式（３）で表される基を有する繰り返し単位の原料となる分子内に不飽和二重結合と式（３）とを有する重合性モノマーとからなる群より選ばれる少なくとも一種の重合性モノマー、式（９）で表される基を有する繰り返し単位の原料となる分子内に不飽和二重結合と式（９）とを有する重合性モノマー、ならびにアルコール性水酸基を有する繰り返し単位の原料となる重合性モノマーを光ラジカル重合開始剤又は熱ラジカル重合開始剤の存在下、ラジカル共重合させることにより製造することが出来る。
【００８９】
（Ａ）成分の製造に用いられる光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、４−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ベンゾフェノン、メチル（ｏ−ベンゾイル）ベンゾエート、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインオクチルエーテル、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール、ジアセチル等のカルボニル化合物、メチルアントラキノン、クロロアントラキノン、クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン等のアントラキノン又はチオキサントン誘導体、ジフェニルジスルフィド、ジチオカーバメート等の硫黄化合物が挙げられる。
【００９０】
（Ａ）成分の製造に用いられる熱重合開始剤としては、ラジカル重合の開始剤となるものであればよく、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビスイソバレロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、４，４’−アゾビス（４−シアノバレリックアシッド）、１、１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルプロパン）、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）２塩酸塩等のアゾ化合物、メチルエチルケトンパーオキシド、メチルイソブチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、アセチルアセトンパーオキシド等のケトンパーオキシド、イソブチルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキシド、ｏ−メチルベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ｐ−クロロベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド、２，４，４−トリメチルペンチル−２−ヒドロパーオキシド、ジイソプロピルベンゼンパーオキシド、クメンヒドロパーオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシド等のヒドロパーオキシド、ジクミルパーオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルクミルパーオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシド、トリス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）トリアジン等のジアルキルパーオキシド、１，１−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシシクロヘキサン、２，２−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ブタン等のパーオキシケタール、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアゼレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシトリメチルアジペート等のアルキルパーエステル、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ｓｅｃ−ブチルパーオキシジカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート等のパーカーボネートが挙げられる。
【００９１】
（Ａ）成分又は、ポリスチレン換算で重量平均分子量が３０００〜１００００００であることが好ましく、５０００〜５０００００であることがより好ましい。
【００９２】
（Ａ）成分は、直鎖状、分岐状、環状のいずれの態様であってもよい。
【００９３】
また、本発明の組成物は、前記（Ａ）成分を２種以上含んでいてもよい。
【００９４】
本発明の組成物に用いられる（Ａ）成分は、酸の作用によりカルボキシル基を生成する基、酸の作用によりフェノール性水酸基を生成する基、及び酸の作用により−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基を生成する基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基を有する繰り返し単位の原料となる重合性モノマー、アルコキシシリル基を有する繰り返し単位の原料となる重合性モノマー及びアルコール性水酸基を有する繰り返し単位の原料となる重合性モノマーに加え、更にこれら以外の「他の繰り返し単位」の原料となる「他のモノマー」を（Ａ）成分の製造時に添加してもよい。
【００９５】
「他のモノマー」としては、例えば、スチレン及びその誘導体、アクリル酸誘導体、メタクリル酸誘導体、メタアクリロニトリル、アクリロニトリル、有機カルボン酸のビニルエステル及びその誘導体、有機カルボン酸のアリルエステル及びその誘導体、フマル酸のジアルキルエステル及びその誘導体、マレイン酸のジアルキルエステル及びその誘導体、イタコン酸のジアルキルエステル及びその誘導体、マレイミド及びその誘導体、末端不飽和炭化水素及びその誘導体、有機ゲルマニウム誘導体等が挙げられる。
【００９６】
「他のモノマー」であるスチレン及びその誘導体としては、例えば、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、２，５−ジメチルスチレン、２，６−ジメチルスチレン、３，４−ジメチルスチレン、３，５−ジメチルスチレン、２，４，６−トリメチルスチレン、２，４，５−トリメチルスチレン、ｏ−フルオロメチルスチレン、ｍ−フルオロメチルスチレン、ｐ−フルオロメチルスチレン、２，４−ジフルオロメチルスチレン、２，５−ジフルオロメチルスチレン、２，６−ジフルオロメチルスチレン、３，４−ジフルオロメチルスチレン、３，５−ジフルオロメチルスチレン、２，４，６−トリフルオロメチルスチレン、２，４，５−トリフルオロメチルスチレン、ペンタメチルスチレン、ｏ−エチルスチレン、ｍ−エチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｏ−フルオロスチレン、ｍ−フルオロスチレン、ｐ−フルオロスチレン、ｏ−クロロスチレン、ｍ−クロロスチレン、ｐ−クロロスチレン、ｏ−ブロモスチレン、ｍ−ブロモスチレン、ｐ−ブロモスチレン、ｏ−メトキシスチレン、２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン、ｍ−メトキシスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、２−ビニルビフェニル、３−ビニルビフェニル、４−ビニルビフェニル、４−ビニル−ｐ−ターフェニル、ｏ−イソプロペニルトルエン、ｍ−イソプロペニルトルエン、ｐ−イソプロペニルトルエン、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、ジイソプロピルベンゼン、４−アミノスチレン、等が挙げられる。
【００９７】
「他のモノマー」であるアクリル酸誘導体としては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸−ｎ−プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸−ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸−ｓｅｃ−ブチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸デシル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−２−シアノエチル、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールペンタアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルアクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチルアクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチルアクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチルアクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチルアクリレート、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）エチルアクリレート、２−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）エチルアクリレート、２−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）エチルアクリレート、１Ｈ、１Ｈ、３Ｈ−テトラフルオロプロピルアクリレート、１Ｈ、１Ｈ、５Ｈ−オクタフルオロペンチルアクリレート、１Ｈ、１Ｈ、７Ｈ−ドデカフルオロヘプチルアクリレート、１Ｈ、１Ｈ、９Ｈ−ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、１Ｈ−１−（トリフルオロメチル）トリフルオロエチルアクリレート、１Ｈ、１Ｈ、３Ｈ−ヘキサフルオロブチルアクリレート、２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンジルアクリレート、２−フルオロベンジルアクリレート、３−フルオロベンジルアクリレート、４−フルオロベンジルアクリレート、４−トリフルオロメチルベンジルアクリレート等が挙げられる。
【００９８】
「他のモノマー」であるメタクリル酸誘導体としては、例えば、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸−ｎ−プロピル、メタアクリル酸イソプロピル、メタアクリル酸−ｎ−ブチル、メタアクリル酸イソブチル、メタアクリル酸−ｓｅｃ−ブチル、メタアクリル酸ヘキシル、メタアクリル酸オクチル、メタアクリル酸−２−エチルヘキシル、メタアクリル酸デシル、メタアクリル酸イソボルニル、メタアクリル酸シクロヘキシル、メタアクリル酸フェニル、メタアクリル酸ベンジル、メタアクリル酸−２−シアノエチル、エチレングリコールジメタアクリレート、プロピレングリコールジメタアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルメタアクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチルメタアクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチルメタアクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチルメタアクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチルメタアクリレート、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）エチルメタアクリレート、２−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）エチルメタアクリレート、２−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）エチルメタアクリレート、１Ｈ、１Ｈ、３Ｈ−テトラフルオロプロピルメタアクリレート、１Ｈ、１Ｈ、５Ｈ−オクタフルオロペンチルメタアクリレート、１Ｈ、１Ｈ、７Ｈ−ドデカフルオロヘプチルメタアクリレート、１Ｈ、１Ｈ、９Ｈ−ヘキサデカフルオロノニルメタアクリレート、１Ｈ−１−（トリフルオロメチル）トリフルオロエチルメタアクリレート、１Ｈ、１Ｈ、３Ｈ−ヘキサフルオロブチルメタアクリレート、２，３，４，５，６−ペンタフルオロベンジルメタクリレート、２−フルオロベンジルメタクリレート、３−フルオロベンジルメタクリレート、４−フルオロベンジルメタクリレート、４−トリフルオロメチルベンジルメタクリレート、アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルメタアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルフォリン等が挙げられる。
【００９９】
「他のモノマー」である有機カルボン酸のビニルエステル及びその誘導体の例としては、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル、アジピン酸ジビニル等が挙げられる。
【０１００】
「他のモノマー」である有機カルボン酸のアリルエステル及びその誘導体の例としては、酢酸アリル、安息香酸アリル、アジピン酸ジアリル、テレフタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、フタル酸ジアリル等が挙げられる。
【０１０１】
「他のモノマー」であるフマル酸のジアルキルエステル及びその誘導体の例としては、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジイソプロピル、フマル酸ジ−ｓｅｃ−ブチル、フマル酸ジイソブチル、フマル酸ジ−ｎ−ブチル、フマル酸ジ−２−エチルヘキシル、フマル酸ジベンジル等が挙げられる。
【０１０２】
「他のモノマー」であるマレイン酸のジアルキルエステル及びその誘導体としては、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジイソプロピル、マレイン酸ジ−ｓｅｃ−ブチル、マレイン酸ジイソブチル、マレイン酸ジ−ｎ−ブチル、マレイン酸ジ−２−エチルヘキシル、マレイン酸ジベンジル等が挙げられる。
【０１０３】
「他のモノマー」であるイタコン酸のジアルキルエステル及びその誘導体の例としては、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジイソプロピル、イタコン酸ジ−ｓｅｃ−ブチル、イタコン酸ジイソブチル、イタコン酸ジ−ｎ−ブチル、イタコン酸ジ−２−エチルヘキシル、イタコン酸ジベンジル等が挙げられる。
【０１０４】
「他のモノマー」であるマレイミド及びその誘導体の例としては、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。
【０１０５】
「他のモノマー」である末端不飽和炭化水素及びその誘導体の例としては、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、ビニルシクロヘキサン、塩化ビニル、アリルアルコール等が挙げられる。
【０１０６】
「他のモノマー」である有機ゲルマニウム誘導体の例としては、アリルトリメチルゲルマニウム、アリルトリエチルゲルマニウム、アリルトリブチルゲルマニウム、トリメチルビニルゲルマニウム、トリエチルビニルゲルマニウム等が挙げられる。  
【０１０７】
本発明の組成物に用いることができる（Ａ）成分としては、例えば、ポリ（ターシャリー−ブチルアクリレート−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）アクリレート−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）アクリレート−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（ターシャリー−ブチルアクリレート−コ−アクリロニトリル−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）アクリレート−コ−アクリロニトリル−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）アクリレート−コ−アクリロニトリル−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（ターシャリー−ブチルアクリレート−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）アクリレート−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）アクリレート−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（ターシャリー−ブチルアクリレート−コ−スチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）アクリレート−コ−スチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）アクリレート−コ−スチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（ターシャリー−ブチルアクリレート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）アクリレート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（１−メチルアダマンチル）アクリレート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（ターシャリー−ブチルアクリレート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）アクリレート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）アクリレート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（ターシャリー−ブチルメタクリレート−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）メタクリレート−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポ��（（２−テトラヒドロピラニル）メタクリレート−コ−メチルメタクリレート−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）メタクリレート−コ−アダマンチルメタクリレート−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）メタクリレート−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（ターシャリー−ブチルメタクリレート−コ−アクリロニトリル−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）メタクリレート−コ−アクリロニトリル−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）メタクリレート−コ−アクリロニトリル−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（ターシャリー−ブチルメタクリレート−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）メタクリレート−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）メタクリレート−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（ターシャリー−ブチルメタクリレート−コ−スチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）メタクリレート−コ−スチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）メタクリレート−コ−スチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（ターシャリー−ブチルメタクリレート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ− [３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）メタクリレート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（１−メチルアダマンチル）メタクリレート−コ−４−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（ターシャリー−ブチルメタクリレート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）メタクリレート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）メタクリレート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（ターシャリー−ブチル−４−ビニルベンゾエート−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）−４−ビニルベンゾエート−��−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）−４−ビニルベンゾエート−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（ターシャリー−ブチル−４−ビニルベンゾエート−コ−アクリロニトリル−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）−４−ビニルベンゾエート−コ−アクリロニトリル−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）−４−ビニルベンゾエート−コ−アクリロニトリル−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（ターシャリー−ブチル−４−ビニルベンゾエート−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）−４−ビニルベンゾエート−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）−４−ビニルベンゾエート−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（ターシャリー−ブチル−４−ビニルベンゾエート−コ−スチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）−４−ビニルベンゾエート−コ−スチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）−４−ビニルベンゾエート−コ−スチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（ターシャリー−ブチル−４−ビニルベンゾエート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ− [３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）−４−ビニルベンゾエート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（１−メチルアダマンチル）−４−ビニルベンゾエート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（ターシャリー−ブチル−４−ビニルベンゾエート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）−４−ビニルベンゾエート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）−４−ビニルベンゾエート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]）等が挙げられる。
【０１０８】
本発明の組成物に用いることができる（Ａ）成分において、更に、アルコール性水酸基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物としては、例えば、ポリ（ターシャリー−ブチルアクリレート−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート]−コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）アクリレート−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）アクリレート−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（ターシャリー−ブチルアクリレート−コ−アクリロニトリル−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）アクリレート−コ−アクリロニトリル−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）アクリレート−コ−アクリロニトリル−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（ターシャリー−ブチルアクリレート−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）アクリレート−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）アクリレート−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（ターシャリー−ブチルアクリレート−コ−スチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）アクリレート−コ−スチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）アクリレート−コ−スチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（ターシャリー−ブチルアクリレート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）アクリレート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（１−メチルアダマンチル）アクリレート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（ターシャリー−ブチルアクリレート−コ−２，３，４，５，６−ペン���フルオロスチレン−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）アクリレート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）アクリレート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（ターシャリー−ブチルメタクリレート−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）メタクリレート−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）メタクリレート−コ−メチルメタクリレート−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）メタクリレート−コ−アダマンチルメタクリレート−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）メタクリレート−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（ターシャリー−ブチルメタクリレート−コ−アクリロニトリル−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）メタクリレート−コ−アクリロニトリル−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）メタクリレート−コ−アクリロニトリル−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（ターシャリー−ブチルメタクリレート−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）メタクリレート−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）メタクリレート−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（ターシャリー−ブチルメタクリレート−コ−スチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）メタクリレート−コ−スチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシ���チルメタクリレート）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）メタクリレート−コ−スチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（ターシャリー−ブチルメタクリレート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ− [３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）メタクリレート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（１−メチルアダマンチル）メタクリレート−コ−４−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（ターシャリー−ブチルメタクリレート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）メタクリレート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）メタクリレート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（ターシャリー−ブチル−４−ビニルベンゾエート−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）−４−ビニルベンゾエート−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）−４−ビニルベンゾエート−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（ターシャリー−ブチル−４−ビニルベンゾエート−コ−アクリロニトリル−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）−４−ビニルベンゾエート−コ−アクリロニトリル−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）−４−ビニルベンゾエート−コ−アクリロニトリル−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（ターシャリー−ブチル−４−ビニルベンゾエート−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）−４−ビニルベンゾエート−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）−４−ビニルベンゾエート−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（ターシャリー−ブチル−４−ビニルベンゾエート−コ−スチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）−４−ビニルベンゾエート−コ−スチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）−４−ビニルベンゾエート−コ−スチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（ターシャリー−ブチル−４−ビニルベンゾエート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ− [３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）−４−ビニルベンゾエート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（１−メチルアダマンチル）−４−ビニルベンゾエート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（ターシャリー−ブチル−４−ビニルベンゾエート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−テトラヒドロピラニル）−４−ビニルベンゾエート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（（２−メチル−２−アダマンチル）−４−ビニルベンゾエート−コ−２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン−
コ−４−メトキシスチレン−コ−[３−（トリエトキシシリル）プロピル−メタクリレート] −コ−２−ヒドロキシエチルメタクリレート）等が挙げられる。
【０１０９】
＜（Ｂ）成分＞
本発明に用いられる（Ｂ）成分について具体的に説明する。
前記（Ｂ）成分は、水溶液中でのｐＫａが５以下である有機酸と酸発生剤とからなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物である。
【０１１０】
前記水溶液中でのｐＫａが５以下である有機酸は、水溶液中、２５℃におけるｐＫａが５以下である有機酸であり、例えば、有機カルボン酸化合物、有機スルホン酸化合物が挙げられる。
前記有機カルボン酸化合物としては、例えば、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、フルオロ酢酸、クロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、安息香酸、カルボキシメチルベンゼンなどが挙げられる。
前記有機スルホン酸化合物としては、例えば、アルキルスルホン酸、アリールスルホン酸が挙げられる。
前記アルキルスルホン酸としては、例えば、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、カンファースルホン酸などが挙げられる。
前記アリールスルホン酸としては、例えば、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸などが挙げられる。
【０１１１】
前記有機酸のｐＫａとしては、好ましくは、−３〜５であり、より好ましくは−３〜４であり、更に好ましくは、−２〜３である。
前記有機酸のｐＫａが上記範囲にあると、本発明の組成物を用いて形成される塗布膜の硬化工程において、（Ａ）成分中のアルコキシシリル基の架橋反応が促進され、硬化膜の内部に架橋構造が十分に形成されるため、耐溶剤性及び機械的強度が向上する。更に、硬化膜の透明性が向上する。
【０１１２】
本発明に用いられる水溶液中でのｐＫａが５以下である有機酸としては、クロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、カンファースルホン酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸が好ましい。
【０１１３】
前記（Ｂ）成分は、式（１０）で表されるスルホン酸化合物であることが好ましい。
【０１１４】
【化２０】
2019112581.tif 000021
（１０）
（式中、Ｒ３１は、炭素原子数１〜２０の一価の基を表す。該炭素原子数１〜２０の一価の基中の水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい。式中、Ｒ３２は、水素原子又は炭素原子数４〜２０の一価の基を表す。）
【０１１５】
前記式（１０）で表されるスルホン酸化合物中のＲ３１は、本発明の組成物を用いて形成される塗布膜の硬化工程において、（Ａ）成分中のアルコキシシリル基の架橋反応を促進し、（Ａ）成分中の式（１）〜式（３）で表される基の脱保護反応を促進することから、炭素原子数１〜２０のアルキル基、フッ素置換された炭素原子数１〜２０のアルキル基、又は、アリール基が好ましく、より好ましくは、炭素原子数１〜２０のアルキル基、又は、アリール基である。更に、硬化膜の透明性の観点から、炭素原子数１〜２０のアルキル基がより好ましい。
【０１１６】
前記炭素原子数１〜２０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、１−（７，７−ジメチルビシクロ［２．２．１］ヘプチル−２−オン）メチル基が挙げられる。
【０１１７】
前記フッ素置換された炭素原子数１〜２０のアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基、トリフルオロエチル基、パーフルオロブチル基が挙げられる。
アリール基としては、例えば、フェニル基、メチルフェニル基、ナフチル基が挙げられる。  
【０１１８】
前記式（１０）で表されるスルホン酸化合物中のＲ３２は、水素原子、または、炭素原子数４〜２０の一価の基であることが好ましく、組成物の保存安定性の観点から、炭素原子数４〜２０の一価の基であることがより好ましい。
【０１１９】
前記酸発生剤としては、例えば、光酸発生剤及び熱酸発生剤が挙げられる。
前記光酸発生剤は、電磁波の作用により分解して、酸が発生する。
【０１２０】
前記電磁波としては、例えば、赤外線、可視光線、紫外線が挙げられ、好ましくは紫外線である。電磁波の波長は、好ましくは４５０ｎｍ以下であり、より好ましくは２００ｎｍ以上４１０ｎｍ以下である。
【０１２１】
前記光酸発生剤としては、例えば、ジアゾメタン化合物、ナフタルイミジルエステル化合物、スクシンイミジルエステル化合物、イソフタルイミジルエステル化合物、ノルボルネンジカルボキシイミジルエステル化合物、α−イミノベンゼンアセトニトリルエステル化合物、ベンゾインエステル化合物、ニトロベンジルエステル化合物、ヨードニウム塩、スルホニウム塩が挙げられる。紫外線により分解して酸を発生するため、好ましくはナフタルイミジルエステル化合物、スクシンイミジルエステル化合物、イソフタルイミジルエステル化合物、ノルボルネンジカルボキシイミジルエステル化合物、α−イミノベンゼンアセトニトリルエステル化合物、ベンゾインエステル化合物である。
更に、本発明の組成物を用いて形成される塗布膜を硬化した膜の透明性の観点から、α−イミノベンゼンアセトニトリルエステル化合物がより好ましい。
【０１２２】
前記ジアゾメタン化合物としては、例えば、みどり化学株式会社製の
商品名：ＤＡＭ−１０１
2019112581.tif 000022
商品名：ＤＡＭ−１０２
2019112581.tif 000023
商品名：ＤＡＭ−１０３
2019112581.tif 000024
商品名：ＤＡＭ−１０５
2019112581.tif 000025
商品名：ＤＡＭ−２０１
2019112581.tif 000026
が挙げられる。
前記ナフタルイミジルエステル化合物としては、例えば、みどり化学株式会社製の
商品名：ＮＡＩ−１００
2019112581.tif 000027
商品名：ＮＡＩ−１００２
2019112581.tif 000028
商品名：ＮＡＩ−１００３
2019112581.tif 000029
商品名：ＮＡＩ−１００４
2019112581.tif 000030
商品名：ＮＡＩ−１０１
2019112581.tif 000031
商品名：ＮＡＩ−１０５
2019112581.tif 000032
商品名：ＮＡＩ−１０６
2019112581.tif 000033
商品名：ＮＡＩ−１０９
2019112581.tif 000034
が挙げられる。
前記スクシンイミジルエステル化合物としては、例えば、みどり化学株式会社製の
商品名：ＳＩ−１０１、
2019112581.tif 000035
商品名：ＳＩ−１０５、
2019112581.tif 000036
商品名：ＳＩ−１０６、
2019112581.tif 000037
商品名：ＳＩ−１０９
2019112581.tif 000038
が挙げられる。
前記イソフタルイミジルエステル化合物としては、例えば、みどり化学株式会社製の
商品名：ＰＩ−１０５
2019112581.tif 000039
商品名：ＰＩ−１０６
2019112581.tif 000040
商品名：ＰＩ−１０９
2019112581.tif 000041
が挙げられる。
前記ノルボルネンジカルボキシイミジルエステル化合物としては、例えば、みどり化学株式会社製の
商品名：ＮＤＩ−１０１
2019112581.tif 000042
商品名：ＮＤＩ−１０５
2019112581.tif 000043
商品名：ＮＤＩ−１０６
2019112581.tif 000044
商品名：ＮＤＩ−１０９
2019112581.tif 000045
が挙げられる。
前記α−イミノベンゼンアセトニトリルエステル化合物としては、例えば、みどり化学株式会社製の
商品名：ＰＡＩ−０１
2019112581.tif 000046
商品名：ＰＡＩ−１０１
2019112581.tif 000047
商品名：ＰＡＩ−１０６
2019112581.tif 000048
商品名：ＰＡＩ−１００１
2019112581.tif 000049
が挙げられる。
前記ベンゾインエステル化合物としては、例えば、みどり化学株式会社製の
商品名：ＭＢＺ−１０１
2019112581.tif 000050
商品名：ＭＢＺ−２０１
2019112581.tif 000051
商品名：ＭＢＺ−３０１
2019112581.tif 000052
が挙げられる。
前記ニトロベンジルエステル化合物としては、例えば、みどり化学株式会社製の
商品名：ＤＮＢ−１０１
2019112581.tif 000053
商品名：ＮＢ−１０１
2019112581.tif 000054
商品名：ＮＢ−２０１
2019112581.tif 000055
が挙げられる。
前記ヨードニウム塩としては、例えば、みどり化学株式会社製の
商品名：ＭＰＩ−１０９
2019112581.tif 000056
商品名：ＢＢＩ−１０５
2019112581.tif 000057
商品名：ＢＢＩ−１０６
2019112581.tif 000058
商品名：ＢＢＩ−１０９
2019112581.tif 000059
商品名：ＢＢＩ−１１０
2019112581.tif 000060
商品名：ＢＢＩ−２０１
2019112581.tif 000061
が挙げられる。
前記スルホニウム塩としては、例えば、みどり化学株式会社製の
商品名：ＴＰＳ−１０５
2019112581.tif 000062
商品名：ＴＰＳ−１０９
2019112581.tif 000063
商品名：ＭＤＳ−１０５
2019112581.tif 000064
商品名：ＭＤＳ−１０９
2019112581.tif 000065
商品名：ＭＤＳ−２０５
2019112581.tif 000066
商品名：ＢＤＳ−１０９
2019112581.tif 000067
商品名：ＤＴＳ−１０５
2019112581.tif 000068
商品名：ＮＤＳ−１０５
2019112581.tif 000069
商品名：ＮＤＳ−１５５
2019112581.tif 000070
商品名：ＮＤＳ−１５９
2019112581.tif 000071
が挙げられる。
【０１２３】
前記熱酸発生剤は、熱の作用により分解して、酸が発生し、酸を発生する温度は、通常６０℃〜２２０℃であり、好ましくは、６０℃〜１５０℃である。
前記熱酸発生剤としては、例えば、トリアジン化合物、ブロック酸化合物が挙げられる。
【０１２４】
前記トリアジン化合物としては、例えば、みどり化学株式会社製の
商品名：ＴＡＺ−１００
2019112581.tif 000072
商品名：ＴＡＺ−１０１
2019112581.tif 000073
商品名：ＴＡＺ−１０２
2019112581.tif 000074
商品名：ＴＡＺ−１０３
2019112581.tif 000075
商品名：ＴＡＺ−１０４
2019112581.tif 000076
商品名：ＴＡＺ−１０６
2019112581.tif 000077
商品名：ＴＡＺ−１０７
2019112581.tif 000078
商品名：ＴＡＺ−１０８
2019112581.tif 000079
商品名：ＴＡＺ−１１０
2019112581.tif 000080
【０１２５】
前記ブロック酸化合物としては、例えば、アミンブロック酸化合物、第４級アンモニウム塩ブロック酸化合物、金属塩ブロック酸化合物が挙げられる。
前記アミンブロック酸化合物としては、例えば、キングインダストリー社製の商品名：ＴＡＧ−２３９６，商品名：ＴＡＧ−２７１３，商品名：ＴＡＧ−２１７２，商品名：ＴＡＧ−２１７９，商品名：ＴＡＧ−２７２２が挙げられる。
前記第４級アンモニウム塩ブロック酸化合物としては、例えば、キングインダストリー社製の商品名：ＴＡＧ−２６７８、商品名：ＴＡＧ−２６８１、商品名：ＴＡＧ−２６９０、商品名：ＴＡＧ−２７００が挙げられる。
前記第金属塩ブロック酸化合物としては、例えば、キングインダストリー社製の商品名：ＣＸＣ−１６１３、商品名：ＣＸＣ−１７５１、商品名：ＣＸＣ−１７６６が挙げられる。
【０１２６】
本発明に用いられる（Ａ）成分が有する、前記ＲＡで表される基により保護された式（１）、前記ＲＢで表される基により保護された式（２）、又は前記ＲＣで表される基により保護された式（３）は、（Ｂ）成分である、水溶液中でのｐＫａが５以下である有機酸の作用により脱保護反応が進行し、それぞれ、カルボキシル基、フェノール性水酸基、又は−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基を生成する。
（Ｂ）成分が、酸発生剤の場合、電磁波又は熱の作用により分解して、酸が発生し、発生した酸により前記脱保護反応が進行する。
【０１２７】
前記酸発生剤のうち、光酸発生剤を用いることが好ましく、光酸発生剤を用いることで本発明の組成物を用いて形成される塗布膜を乾燥した膜に対し、フォトマスクを通して電磁波を照射した際、照射された部分（露光部ということがある）にのみ酸が発生し、該膜中で前記脱保護反応が進行する。これにより、露光部に含まれる（Ａ）成分のアルカリ性現像液に対する溶解性が向上するため、アルカリ性現像液で処理することで、得られた膜にフォトマスクのパターンを転写することが可能となる。
【０１２８】
本発明の組成物に含まれる（Ｂ）成分は、一種のみであってもよいし、二種以上含まれていてもよい。
【０１２９】
＜（Ｃ）成分＞
本発明に用いられる（Ｃ）成分について具体的に説明する。
前記（Ｃ）成分としては、例えば、テトラヒドロフランやジエチルエーテルなどのエーテル溶媒、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素溶媒、シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素溶媒、ペンテン等の不飽和炭化水素溶媒、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶媒、アセトン、２−ヘプタノン、シクロペンタノンなどのケトン溶媒、ブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルアセテート、乳酸エチルなどのアセテート溶媒、エタノール、イソプロパノール、エチレングリコール、シクロペンタノールなどのアルコール溶媒、クロロホルムなどのハロゲン化物溶媒及びこれらの混合溶媒が挙げられる。
【０１３０】
前記（Ｃ）成分としては、大気圧での沸点が８０℃〜２００℃の溶媒が好ましく、沸点が１００℃〜１６０℃の溶媒がより好ましい。
（Ｃ）成分として、上記範囲の溶媒を用いることで均一な塗布膜を製造することができる。
【０１３１】
本発明に用いられる（Ｃ）成分としては、２−ヘプタノン、シクロペンタノン、プロピレングリコールモノメチルアセテート、乳酸エチルが好ましい。
【０１３２】
本発明の組成物において、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の配合比は、（Ａ）成分の重量を１００として、（Ｂ）成分の重量は、好ましくは、０．００１〜１０であり、より好ましくは、０．００５〜５である。
本発明の組成物において、（Ｃ）成分の配合比は、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の総重量を１００として、（Ｃ）成分の重量は、好ましくは、１００〜２０００であり、より好ましくは、１００〜１０００である。
本発明の組成物において、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び、（Ｃ）成分の配合比を上記範囲にすることにより、基材上に良好な塗布膜を形成することができる。
【０１３３】
本発明の組成物は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ）成分に加え、更に、低分子架橋剤である（Ｄ）成分及び高分子架橋剤である（Ｅ）成分からなる群より選ばれる少なくとも一種を含有してもよい。
【０１３４】
＜（Ｄ）成分＞
前記（Ｄ）成分としては、下記（Ｄ−１）成分及び（Ｄ−２）成分からなる群より選ばれる少なくとも一種であってもよい。
（Ｄ−１）成分：分子内に２つ以上の水酸基を有する低分子架橋剤
（Ｄ−２）成分：分子内に２つ以上の前記式（４）〜式（８）で表される基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で水素原子が置換された水酸基を有する低分子架橋剤
【０１３５】
前記（Ｄ−１）成分としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、１,４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，４−ベンゼンジメタノール等が挙げられるが、好ましくは、１,４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，４−ベンゼンジメタノール等が挙げられる。
【０１３６】
前記（Ｄ−２）成分において、分子内に２つ以上の前記式（４）で表される基で保護された水酸基を有する例としては、エチレングリコール−ジ（１−ブトキシエチル）エーテル、プロピレングリコール−ジ（１−ブトキシエチル）エーテル、１,４−ブタンジオール−ジ（１−ブトキシエチル）エーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノール−ジ（１−ブトキシエチル）エーテル、１，４−ベンゼンジメタノール−ジ（１−ブトキシエチル）エーテル等が挙げられるが、好ましくは、１,４−ブタンジオール−ジ（１−ブトキシエチル）エーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノール−ジ（１−ブトキシエチル）エーテル、１，４−ベンゼンジメタノール−ジ（１−ブトキシエチル）エーテル等が挙げられる。
【０１３７】
前記（Ｄ−２）成分において、分子内に２つ以上の前記式（５）で表される基で保護された水酸基を有する例としては、、エチレングリコール−ジ（２−テトラヒドロピラニル）エーテル、プロピレングリコール−ジ（２−テトラヒドロピラニル）エーテル、１,４−ブタンジオール−ジ（２−テトラヒドロピラニル）エーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノール−ジ（２−テトラヒドロピラニル）エーテル、１，４−ベンゼンジメタノール−ジ（２−テトラヒドロピラニル）エーテル等が挙げられるが、好ましくは１,４−ブタンジオール−ジ（２−テトラヒドロピラニル）エーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノール−ジ（２−テトラヒドロピラニル）エーテル、１，４−ベンゼンジメタノール−ジ（２−テトラヒドロピラニル）エーテル等が挙げられる。
【０１３８】
前記（Ｄ−２）成分において、分子内に２つ以上の前記式（６）で表される基で保護された水酸基を有する例としては、、エチレングリコール−ジ（１−メチル−１−シクロペンチル）エーテル、プロピレングリコール−ジ（１−メチル−１−シクロペンチル）エーテル、１,４−ブタンジオール−ジ（１−メチル−１−シクロペンチル）エーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノール−ジ（１−メチル−１−シクロペンチル）エーテル、１，４−ベンゼンジメタノール−ジ（１−メチル−１−シクロペンチル）エーテル等が挙げられるが、好ましくは１,４−ブタンジオール−ジ（１−メチル−１−シクロペンチル）エーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノール−ジ（１−メチル−１−シクロペンチル）エーテル、１，４−ベンゼンジメタノール−ジ（１−メチル−１−シクロペンチル）エーテル等が挙げられる。
【０１３９】
前記（Ｄ−２）成分において、分子内に２つ以上の前記式（７）で表される基で保護された水酸基を有する例としては、、エチレングリコール−ジ（２−エチル−２−アダマンチル）エーテル、プロピレングリコール−ジ（２−エチル−２−アダマンチル）エーテル、１,４−ブタンジオール−ジ（２−エチル−２−アダマンチル）エーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノール−ジ（２−エチル−２−アダマンチル）エーテル、１，４−ベンゼンジメタノール−ジ（２−エチル−２−アダマンチル）エーテル等が挙げられるが、好ましくは１,４−ブタンジオール−ジ（２−エチル−２−アダマンチル）エーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノール−ジ（２−エチル−２−アダマンチル）エーテル、１，４−ベンゼンジメタノール−ジ（２−エチル−２−アダマンチル）エーテル等が挙げられる。
【０１４０】
前記（Ｄ−２）成分において、分子内に２つ以上の前記式（８）で表される基で保護された水酸基を有する例としては、、エチレングリコール−ジ（ターシャリーブチル）エーテル、プロピレングリコール−ジ（ターシャリーブチル）エーテル、１,４−ブタンジオール−ジ（ターシャリーブチル）エーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノール−ジ（ターシャリーブチル）エーテル、１，４−ベンゼンジメタノール−ジ（ターシャリーブチル）エーテル等が挙げられるが、好ましくは１,４−ブタンジオール−ジ（ターシャリーブチル）エーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノール−ジ（ターシャリーブチル）エーテル、１，４−ベンゼンジメタノール−ジ（ターシャリーブチル）エーテル等が挙げられる。
【０１４１】
本発明に用いられる（Ｄ−１）成分又は（Ｄ−２）成分の添加量は、（Ａ）成分中の酸の作用によりカルボキシル基を生成する基、酸の作用によりフェノール性水酸基を生成する基、及び酸の作用により−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基を生成する基のモル数を１として、（Ｄ−１）成分又は（Ｄ−２）成分中の前記式（４）〜式（８）で表される基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で保護された水酸基のモル数比が、好ましくは、０．１〜３であり、より好ましくは、０．５〜１．５である。
（Ｄ−１）成分又は（Ｄ−２）成分の添加量を上記範囲にすることにより、本発明の組成物を用いて形成される塗布膜を硬化した膜の透明性が向上する。更に、（Ｂ）成分として光酸発生剤を用いることで、該塗布膜を乾燥した膜において、電磁波を照射した部分のアルカリ性現像液に対する溶解性が向上し、良好なパターンを形成することが出来る。  
【０１４２】
＜（Ｅ）成分＞
前記（Ｅ）成分としては、下記（Ｅ−１）成分及び（Ｅ−２）成分からなる群より選ばれる少なくとも一種であってもよい。
（Ｅ−１）成分：分子内に２つ以上の水酸基を有し、且つ、（Ａ）成分ではない高分子架橋剤
（Ｅ−２）成分：分子内に２つ以上の前記式（４）〜式（８）で表される基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で水素原子が置換された水酸基を有し、且つ、（Ａ）成分ではない高分子架橋剤
【０１４３】
前記（Ｅ−１）成分としては、例えば、ポリビニルフェノール、ノボラック樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ（２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリ（４−ヒドロキシスチレン−コ−メチルメタクリレート）等が挙げられる。
【０１４４】
前記（Ｅ−２）成分において、分子内に２つ以上の前記式（４）で表される基で保護された水酸基を有する例としては、としては、例えば、ポリ（４−（１−ブトキシ-エトキシ）スチレン、１−ブトキシ−エチルエーテル化ノボラック樹脂、ポリ（１−ブトキシエチルビニルエーテル）、ポリ（２−（１-ブトキシ-エトキシ）エチルメタクリレート）、ポリ（４−（１−ブトキシ−エトキシ）スチレン−コ−メチルメタクリレート）等が挙げられる。
【０１４５】
前記（Ｅ−２）成分において、分子内に２つ以上の前記式（５）で表される基で保護された水酸基を有する例としては、ポリ（４−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）スチレン、２−テトラヒドロピラニル化ノボラック樹脂、ポリ（２−テトラヒドロピラニルビニルエーテル）、ポリ（２−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）エチルメタクリレート）、ポリ（４−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）スチレン−コ−メチルメタクリレート）等が挙げられる。
【０１４６】
前記（Ｅ−２）成分において、分子内に２つ以上の前記式（６）で表される基で保護された水酸基を有する例としては、ポリ（４−（１−メチル−１−シクロペンチルオキシ）スチレン、１−メチル−１−シクロペンチル化ノボラック樹脂、ポリ（１−メチル−１−シクロペンチルビニルエーテル）、ポリ（２−（１−メチル−１−シクロペンチルオキシ）エチルメタクリレート）、ポリ（４−（１−メチル−１−シクロペンチルオキシ）スチレン−コ−メチルメタクリレート）等が挙げられる。
【０１４７】
前記（Ｅ−２）成分において、分子内に２つ以上の前記式（７）で表される基で保護された水酸基を有する例としては、ポリ（４−（２−エチル−２−アダマンチルオキシ）スチレン、２−エチル−２−アダマンチル化ノボラック樹脂、ポリ（２−エチル−２−アダマンチルビニルエーテル）、ポリ（２−（２−エチル−２−アダマンチルオキシ）エチルメタクリレート）、ポリ（４−（２−エチル−２−アダマンチルオキシ）スチレン−コ−メチルメタクリレート）等が挙げられる。
【０１４８】
前記（Ｅ−２）成分において、分子内に２つ以上の前記式（８）で表される基で保護された水酸基を有する例としては、ポリ（４−ターシャリーブチルオキシ）スチレン、ターシャリーブチル化ノボラック樹脂、ポリ（ターシャリーブチルビニルエーテル）、ポリ（２−（ターシャリーブチルオキシ）エチルメタクリレート）、ポリ（４−（ターシャリーブチルオキシ）スチレン−コ−メチルメタクリレート）等が挙げられる。
【０１４９】
本発明に用いられる（Ｅ−１）成分又は（Ｅ−２）成分の添加量は、（Ａ）成分中の、酸の作用によりカルボキシル基を生成する基、酸の作用によりフェノール性水酸基を生成する基、及び酸の作用により−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基を生成する基のモル数を１として、（Ｅ−１）成分又は（Ｅ−２）成分中の前記式（４）〜式（８）で表される基からなる群より選ばれる少なくとも一種の基で保護された水酸基のモル数比が、好ましくは０．１〜３であり、より好ましくは、０．５〜１．５である。
（Ｅ−１）成分又は（Ｅ−２）成分の添加量を上記範囲にすることにより、本発明の組成物を用いて形成される塗布膜を硬化した膜の透明性が向上する。
更に、（Ｂ）成分として光酸発生剤を用いることで、該塗布膜を乾燥した膜において、電磁波を照射された部分のアルカリ性現像液に対する溶解性が向上し、良好なパターンを形成することが出来る。
【０１５０】
本発明の組成物は、混合や粘度調節のための溶媒、高分子化合物を架橋させる際に架橋剤と組み合わせて通常用いられる添加剤などを含んでいてもよい。
溶媒としては、前記（Ｃ）成分のいずれの溶媒を用いることができ、添加剤としては、架橋反応を促進するための触媒、レべリング剤、粘度調節剤などを用いることができる。
【０１５１】
＜膜の製造方法＞
本発明の組成物を用いて形成される塗布膜は、本発明の組成物を、例えば形成対象である基材の表面に塗布して塗布層を形成することにより得られる。  
【０１５２】
前記塗布層の形成は、従来公知のスピンコート法、ダイコート法、スクリーン印刷法、インクジェット法等の塗布法により基材上に塗布、形成することができる。
【０１５３】
前記塗布膜を硬化させてなる硬化膜は、前記塗布層を形成する工程と、塗布層を硬化させる工程（硬化工程）とを含む膜の製造方法により形成することができる。前記膜の製造方法は、塗布層を形成する工程の後に、塗布層に含まれる溶媒を除去して乾燥させる工程（乾燥工程）を含んでもよい。
【０１５４】
前記膜の製造方法における塗布層の乾燥工程は、基材上に形成された塗布層中の溶媒を除去することを目的としている。硬化工程は塗布層中の高分子化合物が有する架橋構造を形成する官能基による架橋反応を進行させて組成物が硬化した硬化物である膜を形成することを目的として行われる。
【０１５５】
＜硬化工程＞
前記硬化工程の一形態は、（Ｂ）成分のうち水溶液中でのｐＫａが５以下である有機酸が、（Ａ）成分中のアルコキシシリル基の加水分解反応を促進し、シラノールを生成した後、シラノール間の縮合反応が進行し、架橋構造を形成する段階を含んでいる。
前記加水分解反応を進行させるために、例えば、大気中で熱を作用させる。
熱を作用させる方法としては、具体的には、ホットプレート、オーブンにより加熱する方法が挙げられ、例えば、６０℃〜２００℃、好ましくは８０℃〜１５０℃の温度で５分間〜２時間、好ましくは１０分間〜１時間程度処理することにより行うことができる。
大気中で加熱することで、大気中の湿気により、加水分解反応が促進される。  
【０１５６】
前記硬化工程の他の一形態は、（Ｂ）成分のうち水溶液中でのｐＫａが５以下である有機酸が、（Ａ）成分中の前記ＲＡで表される基で保護されたカルボキシル基、前記ＲＢで表される基で保護されたフェノール性水酸基、又は前記ＲＣで表される基で保護された−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基の脱保護反応を促進し、カルボキシル基、フェノール性水酸基、又は−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基を生成する段階、次いで、カルボキシル基とフェノール性水酸基、又はカルボキシル基と−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基とのエステル化反応を促進し、（Ａ）成分において、分子内又は分子間で架橋構造を形成する段階と、カルボキシル基と（Ｄ）成分の有する水酸基、又はカルボキシル基と（Ｅ）成分の有する水酸基とのエステル化反応を促進し、架橋構造を形成する段階とを含んでいる。
前記エステル化反応を進行させるために、例えば、大気中で熱を作用させる方法が挙げられ、具体的には、ホットプレート又はオーブンにより加熱する方法が挙げられる。
加熱は、例えば、６０℃〜２００℃、好ましくは８０℃〜１５０℃の温度で５分間〜２時間、好ましくは１０分間〜１時間程度処理することにより行うことができる。
【０１５７】
前記硬化工程の他の一形態は、（Ｂ）成分のうち酸発生剤が、電磁波又は熱の作用により分解して酸を発生し、発生した酸が、（Ａ）成分中のアルコキシシリル基の加水分解反応を促進し、シラノールを生成した後、シラノール間の縮合反応が進行し、架橋構造を形成する段階を含んでいる。
前記加水分解反応を進行させるために、例えば、大気中で熱を作用させる方法が挙げられ、具体的には、ホットプレート、オーブンにより加熱する方法が挙げられる。
加熱は、例えば、６０℃〜２００℃、好ましくは８０℃〜１５０℃の温度で５分間〜２時間、好ましくは１０分間〜１時間程度処理することにより行うことができる。
大気中で加熱することで、大気中の湿気により、加水分解反応が促進される。    
【０１５８】
前記硬化工程の他の一形態は、（Ｂ）成分のうち酸発生剤が、電磁波又は熱の作用により分解して酸を発生し、発生した酸が、（Ａ）成分中の前記ＲＡで表される基で保護されたカルボキシル基、前記ＲＢで表される基で保護されたフェノール性水酸基、又は前記ＲＣで表される基で保護された−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基の脱保護反応を促進し、カルボキシル基、フェノール性水酸基、又は−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基を生成する段階、次いで、カルボキシル基とフェノール性水酸基、又はカルボキシル基と−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基のエステル化反応を促進し、（Ａ）成分において、分子内又は分子間で架橋構造を形成する段階と、カルボキシル基と（Ｄ）成分の有する水酸基、又はカルボキシル基と（Ｅ）成分の有する水酸基とのエステル化反応を促進し、架橋構造を形成する段階とを含んでいる。
前記エステル化反応を進行させるために、例えば、大気中で熱を作用する方法が挙げられ、具体的には、ホットプレート、オーブンにより加熱する方法が挙げられる。
加熱は、例えば、６０℃〜２００℃、好ましくは８０℃〜１５０℃の温度で５分間〜２時間、好ましくは１０分間〜１時間程度処理することにより行うことができる。
【０１５９】
前記（Ｂ）成分として、電磁波の作用により分解して酸を発生する酸発生剤を含有する本発明の組成物において、該組成物を用いて形成される塗布膜を乾燥した膜上に、フォトマスクを通して電磁波を照射することにより、電磁波が照射された部分（露光部ということがある）にのみ酸を発生させることが出来る。これにより、該膜の露光部に含まれる（Ａ）成分中のＲＡで表される基で保護されたカルボキシル基、ＲＢで表される基で保護されたフェノール性水酸基、又はＲＣで表される基で保護された−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基の脱保護反応が進行し、カルボキシ基、フェノール性水酸基、又は、−Ｃ（Ｒｆ）２ＯＨ基を生成し、アルカリ性現像液に溶解することが可能となる。次いで、露光部をアルカリ性現像液で現像することにより、フォトマスクのパターンを該膜上に転写することが出来る。得られた膜に再度電磁波を照射し、前記硬化工程を経ることにより、得られた硬化膜に絶縁材料のパターンを形成することが出来る。
【０１６０】
電磁波の照射は、例えば、半導体装置の製造に従来使用されている露光装置やＵＶ硬化性樹脂を硬化させるために使用されているＵＶランプを用いて行うことができる。
【０１６１】
前記硬化膜を用いて形成される絶縁層は、有機薄膜トランジスタ、センサーなどの電子デバイスに用いることができる。
【０１６２】
前記絶縁層を有するディスプレイ用部材としては、タッチパネル、カラーフィルター、保護フィルムなどが挙げられる。
【０１６３】
前記ディスプレイ用部材を含むディスプレイとしては、有機ＬＥＤ、液晶ディスプレイ、フレキシブルディスプレイなどが挙げられる。
【０１６４】
電子デバイス
本発明の組成物を用いて形成される塗布膜を硬化させてなる硬化膜を含む電子デバイスについて説明する。
本発明の既に説明した硬化膜は、有機薄膜トランジスタ、有機ＬＥＤ、センサー、タッチパネル、液晶ディスプレイ、フレキシブルディスプレイなどの種々の電子デバイスに用いることができ、特に、フレキシブルディスプレイが好適であり、フレキシブルディスプレイのタッチパネルの絶縁層及び／又はオーバーコート層として含むことが好適である。
【実施例】
【０１６５】
合成例１
テトラヒドロ−２−ピラニルメタクリレート（新中村化学社製）４．００ｇ、３−（トリエトキシシリル）プロピルメタクリレート（東京化成工業社製）２．９３ｇ、１，１’−アゾビス（１−アセトキシ−１−フェニルエタン）（大塚化学社製、商品名：ＯＴａｚｏ−１５）０．０３ｇ、及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート（東京化成工業社製）１６．２４ｇを、５０ｍＬ耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、８０℃のオイルバス中で１０時間重合させて、下記の繰り返し単位及び組成を有する（Ａ）成分（１）が溶解している粘稠なプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート（ＰＧＭＥＡと略すことがある）溶液を得た。
【０１６６】
【化２１】
2019112581.tif 000081
（Ａ）成分（１）
【０１６７】
得られた高分子化合物（１）の標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は、８００００であった（島津製作所製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ（１本）及びＴｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００（１本）を用い、移動相としてＴＨＦを用いた。）。
【０１６８】
合成例２
テトラヒドロ−２−ピラニルメタクリレート（新中村化学社製）４．００ｇ、３−（トリエトキシシリル）プロピルメタクリレート（東京化成工業社製）３．２０ｇ、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（東京化成工業社製）０．２９ｇ、１，１’−アゾビス（１−アセトキシ−１−フェニルエタン）（大塚化学社製、商品名：ＯＴａｚｏ−１５）０．０７ｇ、及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート（東京化成工業社製）１７．６４ｇを、５０ｍＬ耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、８０℃のオイルバス中で１０時間重合させて、下記の繰り返し単位及び組成を有する（Ａ）成分（２）が溶解している粘稠なＰＧＭＥＡ溶液を得た。
【０１６９】
【化２２】
2019112581.tif 000082
（Ａ）成分（２）
【０１７０】
得られた高分子化合物（２）の標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は、６８０００であった（島津製作所製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ（１本）及びＴｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００（１本）を用い、移動相としてＴＨＦを用いた。）。
【０１７１】
合成例３
テトラヒドロ−２−ピラニルメタクリレート（新中村化学社製）２．００ｇ、３−（トリエトキシシリル）プロピルメタクリレート（東京化成工業社製）２．５６ｇ、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（東京化成工業社製）１．１５ｇ、１，１’−アゾビス（１−アセトキシ−１−フェニルエタン）（大塚化学社製、商品名：ＯＴａｚｏ−１５）０．０９ｇ、及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート（東京化成工業社製）１３．５２ｇを、５０ｍＬ耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、８０℃のオイルバス中で１０時間重合させて、下記の繰り返し単位及び組成を有する（Ａ）成分（３）が溶解している粘稠なＰＧＭＥＡ溶液を得た。
【０１７２】
【化２３】
2019112581.tif 000083
（Ａ）成分（３）
【０１７３】
得られた高分子化合物（３）の標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は、６５０００であった（島津製作所製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ（１本）及びＴｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００（１本）を用い、移動相としてＴＨＦを用いた。）。
【０１７４】
合成例４
４−（１−エトキシエトキシ）スチレン（東ソー有機化学社製：商品名  ＰＥＥＳ）４．００ｇ、３−（トリエトキシシリル）プロピルメタクリレート（東京化成工業社製）２．５９ｇ、１，１’−アゾビス（１−アセトキシ−１−フェニルエタン）（大塚化学社製、商品名：ＯＴａｚｏ−１５）０．０３ｇ、及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート（東京化成工業社製）１５．４６ｇを、５０ｍＬ耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、８０℃のオイルバス中で１０時間重合させて、下記の繰り返し単位及び組成を有する（Ａ）成分（４）が溶解している粘稠なＰＧＭＥＡ溶液を得た。
【０１７５】
【化２４】
2019112581.tif 000084
（Ａ）成分（４）
【０１７６】
得られた高分子化合物（４）の標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は、５８０００であった（島津製作所製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ（１本）及びＴｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００（１本）を用い、移動相としてＴＨＦを用いた。）。
【０１７７】
合成例５
４−（１−エトキシエトキシ）スチレン（東ソー有機化学社製：商品名  ＰＥＥＳ）３．００ｇ、３−（トリエトキシシリル）プロピルメタクリレート（東京化成工業社製）２．７２ｇ、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（東京化成工業社製）０．８１ｇ、１，１’−アゾビス（１−アセトキシ−１−フェニルエタン）（大塚化学社製、商品名：ＯＴａｚｏ−１５）０．０７ｇ、及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート（東京化成工業社製）１５．４０ｇを、５０ｍＬ耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、８０℃のオイルバス中で１０時間重合させて、下記の繰り返し単位及び組成を有する（Ａ）成分（５）が溶解している粘稠なＰＧＭＥＡ溶液を得た。
【０１７８】
【化２５】
2019112581.tif 000085
（Ａ）成分（５）
【０１７９】
得られた高分子化合物（５）の標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は、６４０００であった（島津製作所製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ（１本）及びＴｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００（１本）を用い、移動相としてＴＨＦを用いた。）。
【０１８０】
合成例６
ジムロートを付けた１Ｌ四つ口フラスコに、４−ビニル安息香酸（東ソー有機化学社製：商品名  ４ＶＢＡ）１００．１２ｇ、３，４−ジヒドロピラン（東京化成工業社製）１２５．００ｇ、ヘキサン（和光純薬社製）１２２．００ｇ、ピリジニウムトルエンスルホネート（東京化成工業社製）１０．００ｇ、撹拌子を入れた。フラスコを４５℃のオイルバスに浸け、マグネティックスターラーで撹拌しながら、９０分間反応させた。反応混合物を室温まで冷却した後、１Ｌ分液ロートに移し、ヘキサン５００ｍｌを加えた。得られたヘキサン溶液をイオン交換水２００ｍｌで３回水洗し、２０重量％の水炭酸カリウム水溶液２００ｍｌで１回洗浄し、更に、イオン交換水２００ｍｌで３回水洗した。分液後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた後、塩をろ別した。ろ液とヒドロキノン（東京化成工業社製）０．１５ｇを１Ｌナスフラスコに入れ、ロータリーエバポレーターで未反応の３，４−ジヒドロピランならびにヘキサンを留去して、目的物の４-ビニル安息香酸テトラヒドロピラニルエステルを粘調な液体として得た。得量１４７．２６ｇ（収率９４％）
【０１８１】
【化２６】
2019112581.tif 000086
【０１８２】
合成例７
合成例６で合成した４-ビニル安息香酸テトラヒドロピラニルエステル４．００ｇ、３−（トリエトキシシリル）プロピルメタクリレート（東京化成工業社製）２．１４ｇ、１，１’−アゾビス（１−アセトキシ−１−フェニルエタン）（大塚化学社製、商品名：ＯＴａｚｏ−１５）０．０６ｇ、及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート（東京化成工業社製）１４．４８ｇを、５０ｍＬ耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、８０℃のオイルバス中で１０時間重合させて、下記の繰り返し単位及び組成を有する（Ａ）成分（６）が溶解している粘稠なＰＧＭＥＡ溶液を得た。
【０１８３】
【化２７】
2019112581.tif 000087
（Ａ）成分（６）
【０１８４】
得られた高分子化合物（４）の標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は、４８０００であった（島津製作所製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ（１本）及びＴｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００（１本）を用い、移動相としてＴＨＦを用いた。）。
【０１８５】
合成例８
合成例６で合成した４-ビニル安息香酸テトラヒドロピラニルエステル３．５０ｇ、３−（トリエトキシシリル）プロピルメタクリレート（東京化成工業社製）２．６３ｇ、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（東京化成工業社製）０．７８ｇ、１，１’−アゾビス（１−アセトキシ−１−フェニルエタン）（大塚化学社製、商品名：ＯＴａｚｏ−１５）０．０７ｇ、及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート（東京化成工業社製）１６．２８ｇを、５０ｍＬ耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、８０℃のオイルバス中で１０時間重合させて、下記の繰り返し単位及び組成を有する（Ａ）成分（７）が溶解している粘稠なＰＧＭＥＡ溶液を得た。
【０１８６】
【化２８】
2019112581.tif 000088
（Ａ）成分（７）
【０１８７】
得られた高分子化合物（５）の標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は、５９０００であった（島津製作所製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ（１本）及びＴｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００（１本）を用い、移動相としてＴＨＦを用いた。）。
【０１８８】
合成例９
ジムロートを付けた５００ｍｌ四つ口フラスコに、１、４−シクロヘキサンジメタノール（CHDMと略すことがある）（東京化成工業社製）２０．００ｇ、３，４−ジヒドロピラン（東京化成工業社製）１４６．６７ｇ、２−ブタノン（和光純薬社製）１００ｍｌ、ピリジニウムトルエンスルホネート（東京化成工業社製）２．００ｇ、撹拌子を入れた。マグネティックスターラーで撹拌しながら、５時間室温で反応させた。反応終了後、フラスコに２-ブタノン１００ｍｌを加えて希釈し、反応混合物を５００ｍｌ分液ロートに移し、イオン交換水１００ｍｌで３回水洗し、分液後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。塩をろ別し、ろ液をロータリーエバポレーターで濃縮して、未反応の３，４−ジヒドロピランならびに２-ブタノンを留去し、目的物の１、４-シクロヘキサンジメタノールジ（２−テトラヒドロピラニル）エーテルを粘調な液体として得た。得量４０．３５ｇ（収率９３％）
【０１８９】
【化２９】
2019112581.tif 000089
（Ｄ）成分（１）
【０１９０】
合成例１０
ジムロートを付けた５００ｍｌ四つ口フラスコに、１、４−シクロヘキサンジメタノール（東京化成工業社製）２０．００ｇ、ブチルビニルエーテル（東京化成工業社製）５５．５６ｇ、２−ブタノン（和光純薬社製）２００ｍｌ、ピリジニウムトルエンスルホネート（東京化成工業社製）２．００ｇ、撹拌子を入れた。マグネティックスターラーで撹拌しながら、２．５時間水浴中で反応させた。水浴を外し、更に、室温で４．５時間撹拌して反応させた。反応終了後、フラスコに２-ブタノン１００ｍｌを加えて希釈し、反応混合物を５００ｍｌ分液ロートに移し、イオン交換水１００ｍｌで３回水洗し、分液後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。塩をろ別し、ろ液を活性炭で処理した。活性炭をろ別し、ろ液を５００ｍｌナスフラスコに移し、ロータリーエバポレーターで濃縮して、未反応のブチルビニルエーテルならびに２-ブタノンを留去し、目的物の１、４-シクロヘキサンジメタノールジ（１−ブトキシエチル）エーテルを粘調な液体として得た。得量４４．０７ｇ（収率９２％）
【０１９１】
【化３０】
2019112581.tif 000090
（Ｄ）成分（２）
【０１９２】
合成例１１
テトラヒドロ−２−ピラニルメタクリレート（新中村化学社製）５．００ｇ、メチルメタクリレート（東京化成工業社製）１．３９ｇ、１，１’−アゾビス（１−アセトキシ−１−フェニルエタン）（大塚化学社製、商品名：ＯＴａｚｏ−１５）０．０６ｇ、及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート（東京化成工業社製）１５．０５ｇを、５０ｍＬ耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、８０℃のオイルバス中で１０時間重合させて、下記の繰り返し単位及び組成を有する（Ａ）成分（８）が溶解している粘稠なＰＧＭＥＡ溶液を得た。
【０１９３】
【化３１】
2019112581.tif 000091
（Ａ）成分（８）
【０１９４】
得られた高分子化合物（４）の標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は、５６０００であった（島津製作所製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ（１本）及びＴｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００（１本）を用い、移動相としてＴＨＦを用いた。）。
【０１９５】
合成例１２
テトラヒドロ−２−ピラニルメタクリレート（新中村化学社製）４．００ｇ、３−（トリエトキシシリル）プロピルメタクリレート（東京化成工業社製）１．３７ｇ、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（東京化成工業社製）２．４５ｇ、１，１’−アゾビス（１−アセトキシ−１−フェニルエタン）（大塚化学社製、商品名：ＯＴａｚｏ−１５）０．０８ｇ、及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート（東京化成工業社製）１８．４１ｇを、５０ｍＬ耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、８０℃のオイルバス中で１０時間重合させて、下記の繰り返し単位及び組成を有する（Ａ）成分（９）が溶解している粘稠なＰＧＭＥＡ溶液を得た。
【０１９６】
【化３２】
2019112581.tif 000092
（Ａ）成分（９）
【０１９７】
得られた高分子化合物（９）の標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は、６８０００であった（島津製作所製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ（１本）及びＴｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００（１本）を用い、移動相としてＴＨＦを用いた。）。
【０１９８】
合成例１３
テトラヒドロ−２−ピラニルメタクリレート（新中村化学社製）２．００ｇ、３−（トリエトキシシリル）プロピルメタクリレート（東京化成工業社製）１．７１ｇ、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（東京化成工業社製）１．５３ｇ、１，１’−アゾビス（１−アセトキシ−１−フェニルエタン）（大塚化学社製、商品名：ＯＴａｚｏ−１５）０．０５ｇ、及びプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート（東京化成工業社製）１２．３４ｇを、５０ｍＬ耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、８０℃のオイルバス中で１０時間重合させて、下記の繰り返し単位及び組成を有する（Ａ）成分（１０）が溶解している粘稠なＰＧＭＥＡ溶液を得た。
【０１９９】
【化３３】
2019112581.tif 000093
（Ａ）成分（１０）
【０２００】
得られた高分子化合物（１０）の標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は、７００００であった（島津製作所製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ（１本）及びＴｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００（１本）を用い、移動相としてＴＨＦを用いた。）。
（Ｂ）成分
（Ｂ）成分（１）：ＭＢＺ−１０１  みどり化学社製
【０２０１】
【化３４】
2019112581.tif 000094
（Ｂ）成分（２）：ＰＡＩ−１０６  みどり化学社製
【０２０２】
【化３５】
2019112581.tif 000095
（Ｂ）成分（３）：ＮＡＣＵＲＥ２５００  楠本化成社製
ｐ−トルエンスルホン酸ブロック酸触媒
（Ｂ）成分（４）：ＬＷ−Ｓ１  サンアプロ社製
【０２０３】
【化３６】
2019112581.tif 000096
（Ｂ）成分（５）：ｐ−トルエンスルホン酸１水和物
（Ｂ）成分（６）：ＰＡＩ−１０１  みどり化学社製
【０２０４】
【化３７】
2019112581.tif 000097
（Ｂ）成分（７）：ＰＡＩ−１００１  みどり化学社製
【０２０５】
【化３８】
2019112581.tif 000098
（Ｄ）成分（３）：１，４−シクロヘキサンジメタノール
【０２０６】
実施例１
前記合成例１で得た高分子化合物（１）２．００ｇ、１，４−シクロヘキサンジメタノール（東京化成工業社製）０．１０ｇ、（Ｂ）成分（１）（みどり化学社製；商品名  ＭＢＺ−１０１）０．０２１ｇ、及びPGMEA１．４９ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（１）を調製した。
得られた塗布液（１）を孔径０．４５μｍのメンブレンフィルターを用いてろ過した。ガラス基板を用意し、スピンコート法により塗布液（１）を塗布した後、大気中、ホットプレート上で１００℃で１分間乾燥させ、塗布層を形成した。
次いで、得られた塗布層に、アライナー（ＰＬＡ−５２１、キャノン株式会社製）を用いて２０００ｍＪ／ｃｍ２のＵＶ光（波長３６５nm）を照射した。次いで、UV光を照射した基板を、大気中、ホットプレート上で１２０℃で６０分間焼成して絶縁層を形成した。
得られた絶縁層の鉛筆硬度をＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４に準拠して測定した。具体的には、鉛筆硬度（加重１Kｇ）を鉛筆引っかき硬度試験機（安田精機製作所製：No.５５３−F）を用いて測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、５Ｈであった。
【０２０７】
実施例２
前記合成例１で得た（Ａ）成分（１）２．００ｇ、合成例９で得た（Ｄ）成分（１）０．２３ｇ、（Ｂ）成分（１）０．０１８ｇ、及びPGMEA１．９８ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（２）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（２）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、４Ｈであった。
【０２０８】
実施例３
前記合成例２で得た（Ａ）成分（２）２．００ｇ、合成例９で得た（Ｄ）成分（１）０．２９ｇ、（Ｂ）成分（１）０．０１３ｇ、及びPGMEA１．３２ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（３）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（３）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、５Ｈであった。
得られた絶縁層の透過率を紫外可視近赤外分光光度計（日本分光製：Ｖ−６７０）を用い、塗布前のガラス基板をリファレンスとして測定し、膜厚２μmに規格化した。結果を下記表２に示す。透過率は、９２．８％であった。
【０２０９】
実施例４
前記合成例２で得た（Ａ）成分（２）２．００ｇ、合成例９で得た（Ｄ）成分（１）０．３９ｇ、（Ｂ）成分（１）０．０１２ｇ、及びPGMEA２．４１ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（４）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（４）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、３Ｈであった。
実施例３と同様にして透過率を測定した。結果を下記表２に示す。透過率は、９２．４％であった。
【０２１０】
実施例５
前記合成例２で得た（Ａ）成分（２）２．００ｇ、合成例１０で得た（Ｄ）成分（２）０．４３ｇ、（Ｂ）成分（１）０．０１２ｇ、及びPGMEA２．５３ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（５）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（５）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、３Ｈであった。
実施例３と同様にして透過率を測定した。結果を下記表２に示す。透過率は、８９．７％であった。
【０２１１】
実施例６
前記合成例２で得た（Ａ）成分（２）２．００ｇ、合成例９で得た（Ｄ）成分（１）０．２９ｇ、（Ｂ）成分（４）（サンアプロ社製；商品名  ＬＷ−Ｓ１）０．０１３ｇ、及びPGMEA０．７２ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（６）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（６）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、４Ｈであった。
実施例３と同様にして透過率を測定した。結果を下記表２に示す。透過率は、８２．３
％であった。
【０２１２】
実施例７
前記合成例２で得た（Ａ）成分（２）２．００ｇ、合成例１０で得た（Ｄ）成分（２）０．３２ｇ、（Ｂ）成分（４）０．０１４ｇ、及びPGMEA０．７９ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（７）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（７）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、５Ｈであった。
実施例３と同様にして透過率を測定した。結果を下記表２に示す。透過率は、８２．５
％であった。
【０２１３】
実施例８
前記合成例２で得た（Ａ）成分（２）２．００ｇ、（Ｂ）成分（１）０．００９ｇ、及びPGMEA０．０２ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（８）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（８）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、５Ｈであった。
実施例３と同様にして透過率を測定した。結果を下記表２に示す。透過率は、８４．６％であった。
【０２１４】
実施例９
前記合成例２で得た（Ａ）成分（２）２．００ｇ、合成例９で得た（Ｄ）成分（１）０．３７ｇ、（Ｂ）成分（１）０．０１５ｇ、及びPGMEA０．８９ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（９）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（２）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、４Ｈであった。
実施例３と同様にして透過率を測定した。結果を下記表２に示す。透過率は、９１．６％であった。
【０２１５】
実施例１０
前記合成例２で得た（Ａ）成分（２）２．００ｇ、（Ｂ）成分（２）（みどり化学社製；商品名  ＰＡＩ−１０６）０．００９ｇ、及びPGMEA０．０２ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（１０）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（１０）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、５Ｈであった。
実施例３と同様にして透過率を測定した。結果を下記表２に示す。透過率は、９７．１％であった。
【０２１６】
実施例１１
前記合成例２で得た（Ａ）成分（２）２．００ｇ、合成例９で得た（Ｄ）成分（１）０．２９ｇ、（Ｂ）成分（３）（楠本化成社製；商品名  ＮＡＣＵＲＥ２５００  有効成分５２．５重量％）０．０２６ｇ、及びシクロペンタノン０．６９ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（１１）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（１１）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、３Ｈであった。
【０２１７】
実施例１２
前記合成例２で得た（Ａ）成分（２）２．００ｇ、合成例９で得た（Ｄ）成分（１）０．２９ｇ、（Ｂ）成分（２）０．００９ｇ、及びPGMEA０．７１ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（１２）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（１２）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、４Ｈであった。
実施例３と同様にして透過率を測定した。結果を下記表２に示す。透過率は、９８．５％であった。
【０２１８】
実施例１３
前記合成例３で得た（Ａ）成分（３）２．００ｇ、（Ｂ）成分（１）０．０１８ｇ、及びPGMEA１．０７ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（１３）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（１３）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、５Ｈであった。
【０２１９】
実施例１４
前記合成例３で得た（Ａ）成分（３）２．００ｇ、合成例９で得た（Ｄ）成分（１）０．１９ｇ、及び、（Ｂ）成分（１）０．０１２ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（１４）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（１４）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、４Ｈであった。
【０２２０】
実施例１５
前記合成例４で得た（Ａ）成分（４）２．００ｇ、及び、（Ｂ）成分（５）の５０重量％エタノール溶液０．０１８ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して塗布液（１５）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（１５）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、３Ｈであった。
【０２２１】
実施例１６
前記合成例５で得た（Ａ）成分（５）２．００ｇ、合成例９で得た（Ｄ）成分（１）０．２９ｇ、（Ｂ）成分（１）０．０１３ｇ、及びPGMEA０．７０ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（１６）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（１６）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、４Ｈであった。
【０２２２】
実施例１７
前記合成例５で得た（Ａ）成分（５）２．００ｇ、及び、（Ｂ）成分（５）の５０重量％エタノール溶液０．０１８ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（１７）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（１７）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、４Ｈであった。
【０２２３】
実施例１８
前記合成例７で得た（Ａ）成分（６）２．００ｇ、（Ｂ）成分（１）０．００９ｇ、及び、ＰＧＭＥＡ０．０２ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（１８）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（１８）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、３Ｈであった。
【０２２４】
実施例１９
前記合成例７で得た（Ａ）成分（６）２．００ｇ、合成例９で得た（Ｄ）成分（１）０．２４ｇ、（Ｂ）成分（１）０．０１３ｇ、及びPGMEA０．５９ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（１９）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（１９）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、３Ｈであった。
【０２２５】
実施例２０
前記合成例８で得た（Ａ）成分（７）２．００ｇ、及び、（Ｂ）成分（１）０．００９ｇ、及びPGMEA０．０２ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（２０）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（２０）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、３Ｈであった。
【０２２６】
実施例２１
前記合成例８で得た（Ａ）成分（７）２．００ｇ、合成例９で得た（Ｄ）成分（１）０．２６ｇ、（Ｂ）成分（１）０．０１３ｇ、及びPGMEA０．６４ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（２１）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（２１）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、３Ｈであった。
【０２２７】
実施例２２
前記合成例１２で得た（Ａ）成分（９）２．００ｇ、（Ｂ）成分（２）（みどり化学社製；商品名  ＰＡＩ−１０６）０．００６ｇ、及びPGMEA１．０２ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（２２）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（２２）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、２Ｈであった。
【０２２８】
実施例２３
前記合成例１３で得た（Ａ）成分（１０）２．００ｇ、（Ｂ）成分（１）（みどり化学社製；商品名  ＭＢＺ−１０１）０．００９ｇ、及びPGMEA１．０４ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（２３）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（２３）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、４Ｈであった。
【０２２９】
実施例２４
前記合成例２で得た（Ａ）成分（２）２．００ｇ、合成例９で得た（Ｄ）成分（１）０．２９ｇ、（Ｂ）成分（７）（みどり化学社製；商品名  ＰＡＩ−１００１）０．０２６ｇ、及びシクロペンタノン０．６９ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（２４）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（２４）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造した。
得られた絶縁層の透過率を実施例３と同様にして測定した。結果を下記表２に示す。透過率は、９１．８％であった。
【０２３０】
実施例２５
前記合成例２で得た（Ａ）成分（２）２．００ｇ、（Ｂ）成分（６）（みどり化学社製；商品名  ＰＡＩ−１０１）０．００９ｇ、及びシクロペンタノン０．０２ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（２５）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（２５）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、５Ｈであった。
得られた絶縁層の透過率を実施例３と同様にして測定した。結果を下記表２に示す。透過率は、８５．１％であった。
【０２３１】
比較例１
前記合成例３で得た（Ａ）成分（３）２．００ｇを塗布液（２２）とした。
塗布層の形成に塗布液（２２）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、ＨＢであった。
【０２３２】
比較例２
前記合成例１１で得た（Ａ）成分（８）２．００ｇ、合成例９で得た（Ｄ）成分（１）０．３９ｇ、有機酸化合物（１）０．０１５ｇ、及びPGMEA０．９５ｇを１０ｍＬサンプル瓶に入れ、攪拌して溶解させることにより均一な塗布液（２３）を調製した。
塗布層の形成に塗布液（２３）を用いた以外は前記実施例１と同様にして、絶縁層を製造し、鉛筆硬度を測定した。結果を下記表１に示す。鉛筆硬度は、ＨＢであった。
【０２３３】
表１に、実施例及び比較例の組成物の構成と鉛筆硬度（加重：１ｋｇ）を記載する。
絶縁層の鉛筆硬度は、２Ｈ〜５Ｈであるものを十分とし、ＨＢであるものを不十分とする。
【０２３４】
【表１】
2019112581.tif 000099
【０２３５】
表２に、実施例及び比較例の組成物の構成と透過率（膜厚２μmに規格化）を記載する。絶縁層の透過率は、７１％〜１００％を十分とし、０％〜７０％を不十分とする。
【０２３６】
【表２】
2019112581.tif 000100
【０２３７】
本発明によれば、高い硬度と高い透明性を併せ持つ膜を形成できる組成物、当該組成物を用いて形成される塗布膜、当該塗布膜を硬化してなる硬化膜、当該硬化膜を用いて形成される絶縁層、当該絶縁層を有するディスプレイ用部材、及び当該ディスプレイ用部材を含むディスプレイを提供することが可能となる。