(57)【要約】      （修正有）【課題】ターゲット材から試料への中性子線照射量の確保と、ターゲット材の冷却効率とを両立することが可能な中性子線照射装置及びターゲット装置を提供する。【解決手段】中性子線照射装置は、粒子加速器の荷電粒子線を受けて裏面２９側に中性子線を出射する板状のターゲット材９を、傾斜姿勢で保持する上部パーツ１３及び下部パーツ１５と、照射中心よりも荷電粒子線の下流側でターゲット材との接触面をもつように試料１１を保持する試料保持穴３１と、を備える。ターゲット材９の冷却水の流路溝５１は、接触面の右端縁よりも右側の位置で、冷却水をターゲット材９の裏面２９に接触させる出口側溝５３と、右端縁よりも左側の位置で、冷却流体をターゲット材の裏面側に接触させる入口側溝５５と、を有する。【選択図】図２
2019144150.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料に中性子線を照射する中性子線照射装置であって、
荷電粒子を加速して荷電粒子線を出射する粒子加速器と、
前記粒子加速器から出射された前記荷電粒子線を受けて当該荷電粒子線の入射面の裏面側に中性子線を出射する板状のターゲット材を、前記荷電粒子線の照射軸に対し傾斜する姿勢で保持するターゲット材保持部と、
前記入射面と前記照射軸との交点である照射中心よりも前記荷電粒子線の下流側の位置の裏面側で前記ターゲット材との接触面をもつように、前記裏面側に配置される前記試料を保持する試料保持部と、
前記ターゲット材を冷却する冷却流体を流通させる冷却流体流路と、を備え、
前記冷却流体流路は、
前記接触面のうち前記荷電粒子線の上流側の端縁よりも前記荷電粒子線の上流側の位置で、前記冷却流体を前記ターゲット材の裏面側に接触させる第１流路部位と、
前記接触面のうち前記荷電粒子線の上流側の端縁よりも前記荷電粒子線の下流側の位置で、前記冷却流体を前記ターゲット材の裏面側に接触させる第２流路部位と、を有する、中性子線照射装置。
【請求項２】
前記第１流路部位は、
前記冷却流体を前記照射中心の位置で前記ターゲット材の裏面側に接触させる部位を含む、請求項１に記載の中性子線照射装置。
【請求項３】
前記冷却流体流路は、前記第１流路部位と前記第２流路部位とを含み前記ターゲット材の前記裏面に沿って前記接触面を除く領域内で延在する裏面流路部を有し、
前記裏面流路部は、
１つの前記第１流路部位と、前記接触面を間に挟んで位置する２つの前記第２流路部位と、を接続する分岐流路部位を含む、請求項１又は２に記載の中性子線照射装置。
【請求項４】
試料に中性子線を照射するターゲット装置であって、
粒子加速器から出射された荷電粒子線を受けて当該荷電粒子線の入射面の裏面側に中性子線を出射する板状のターゲット材を、前記荷電粒子線の照射軸に対し傾斜する姿勢で保持するターゲット材保持部と、
前記入射面と前記照射軸との交点である照射中心よりも前記荷電粒子線の下流側の位置の裏面側で前記ターゲット材との接触面をもつように、前記裏面側に配置される前記試料を保持する試料保持部と、
前記ターゲット材を冷却する冷却流体を流通させる冷却流体流路と、を備え、
前記冷却流体流路は、
前記接触面のうち前記荷電粒子線の上流側の端縁よりも前記荷電粒子線の上流側の位置で、前記冷却流体を前記ターゲット材の裏面側に接触させる第１流路部位と、
前記接触面のうち前記荷電粒子線の上流側の端縁よりも前記荷電粒子線の下流側の位置で、前記冷却流体を前記ターゲット材の裏面側に接触させる第２流路部位と、を有する、ターゲット装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、中性子線照射装置及びターゲット装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、このような分野の技術として、中性子線源から放出された中性子線を検体物へ照射して、検体物の材料分析や非破壊検査を行う中性子線照射装置が知られている（特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平8-234000号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記のような中性子線照射装置における中性子線源としては、例えば、荷電粒子線を出射する粒子加速器と、荷電粒子線が照射されることで中性子線を生成するターゲット材と、を備えるものが考えられる。上記構成によれば、主に荷電粒子線の照射を受ける入射面とは反対側の面（以下「裏面」という）側にターゲット材から中性子線が出射されるので、ターゲット材の裏面側に検体物を配置して当該検体物に中性子線が照射されるようにすることが好ましいと考えられる。
【０００５】
また、ターゲット材は、荷電粒子線の照射によって高温となるため冷却する必要がある。この場合、ターゲット材の入射面側に冷却水を接触させてターゲット材を冷却させようとすると、荷電粒子線が冷却水によって減衰してしまうため、ターゲット材での中性子線の生成が好適に行われなくなってしまうおそれがある。そのため、ターゲット材の裏面に冷却水を接触させる方式を採用する方が良いと考えられる。しかしながら、中性子線は水によって遮蔽され易いので、ターゲット材の裏面に冷却水を接触させる方式においては、ターゲット材で発生した中性子線がターゲット材の裏面上に存在する冷却水によって減少し、冷却水よりも更に裏面側に位置する試料（検体物）への照射量が減ってしまい、試料への中性子線の照射が好適に行われない虞がある。また、ターゲット材の側面に冷却水を接触させて冷却を行う方式も考えられるが、ターゲットと冷却水との接触面積が小さくなってしまうため、冷却効率が低くなってしまうおそれがある。本発明は、ターゲット材から試料への中性子線照射量の確保と、ターゲット材の冷却効率とを両立することが可能な中性子線照射装置及びターゲット装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の中性子線照射装置は、試料に中性子線を照射する中性子線照射装置であって、荷電粒子を加速して荷電粒子線を出射する粒子加速器と、粒子加速器から出射された荷電粒子線を受けて当該荷電粒子線の入射面の裏面側に中性子線を出射する板状のターゲット材を、荷電粒子線の照射軸に対し傾斜する姿勢で保持するターゲット材保持部と、入射面と照射軸との交点である照射中心よりも荷電粒子線の下流側の位置の裏面側でターゲット材との接触面をもつように、裏面側に配置される試料を保持する試料保持部と、ターゲット材を冷却する冷却流体を流通させる冷却流体流路と、を備え、冷却流体流路は、接触面のうち荷電粒子線の上流側の端縁よりも荷電粒子線の上流側の位置で、冷却流体をターゲット材の裏面側に接触させる第１流路部位と、接触面のうち荷電粒子線の上流側の端縁よりも荷電粒子線の下流側の位置で、冷却流体をターゲット材の裏面側に接触させる第２流路部位と、を有する。
【０００７】
本発明のターゲット装置は、試料に中性子線を照射するターゲット装置であって、粒子加速器から出射された荷電粒子線を受けて当該荷電粒子線の入射面の裏面側に中性子線を出射する板状のターゲット材を、荷電粒子線の照射軸に対し傾斜する姿勢で保持するターゲット材保持部と、入射面と照射軸との交点である照射中心よりも荷電粒子線の下流側の位置の裏面側でターゲット材との接触面をもつように、裏面側に配置される試料を保持する試料保持部と、ターゲット材を冷却する冷却流体を流通させる冷却流体流路と、を備え、冷却流体流路は、接触面のうち荷電粒子線の上流側の端縁よりも荷電粒子線の上流側の位置で、冷却流体をターゲット材の裏面側に接触させる第１流路部位と、接触面のうち荷電粒子線の上流側の端縁よりも荷電粒子線の下流側の位置で、冷却流体をターゲット材の裏面側に接触させる第２流路部位と、を有する。
【０００８】
上記の中性子線照射装置及びターゲット装置では、ターゲット材の入射面に荷電粒子線が入射されて裏面側に中性子線が出射される。このとき、冷却流体流路の第１流路部位及び第２流路部位において冷却流体とターゲット材とが接することで、ターゲット材の冷却が、荷電粒子線の上下流方向で比較的均等に行われ、ターゲット材の冷却効率が良い。
【０００９】
また、ターゲット材が荷電粒子線の照射軸に対して傾斜しているので、ターゲット材の裏面からの中性子線の出射方向も、当該ターゲット材に対して傾斜した方向に偏る傾向にある。そして、試料は、ターゲット材の照射中心よりも下流側の位置の裏面側の接触面でターゲット材と接触しているので、当該接触面は、照射中心から見て中性子線の出射方向に位置することになる。更に、当該接触面においては試料とターゲット材との間には前述の冷却流体が存在しない。従って、少なくとも上記接触面を通過する中性子線は冷却流体に遮られることなく試料に入射し、その結果、ターゲット材から試料への中性子線照射量が確保される。
【００１０】
また、第１流路部位は、冷却流体を照射中心の位置でターゲット材の裏面側に接触させる部位を含むようにしてもよい。この構成によれば、最も高温になり得る照射中心をターゲット材の裏面側から冷却流体で冷却することができる。
【００１１】
また、冷却流体流路は、第１流路部位と第２流路部位とを含みターゲット材の裏面に沿って接触面を除く領域内で延在する裏面流路部を有し、裏面流路部は、１つの第１流路部位と、接触面を間に挟んで位置する２つの第２流路部位と、を接続する分岐流路部位を含むようにしてもよい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、ターゲット材から試料への中性子線照射量の確保と、ターゲット材の冷却効率とを両立することが可能な中性子線照射装置及びターゲット装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】実施形態に係る中性子線照射装置の断面図である。
【図２】ターゲット装置の要部の分解斜視図である。
【図３】ターゲット材と試料とを拡大して示す分解斜視図である。
【図４】（ａ）〜（ｃ）はそれぞれ変形例を示す図である。
【図５】（ａ）〜（ｃ）はそれぞれ他の変形例を示す図である。
【図６】更に他の変形例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、図面を参照しつつ本発明に係る中性子線照射装置及びターゲット装置の実施形態について詳細に説明する。
【００１５】
図１及び図２を参照しながら中性子線照射装置１について説明する。図１は、中性子線照射装置１の断面図であり、図２は、ターゲット装置７の要部の分解斜視図である。中性子線照射装置１は、粒子加速器３とターゲット装置７とを備えている。中性子線照射装置１は、粒子加速器３からの荷電粒子線をターゲット材９に照射して中性子線を発生させ、発生した中性子線を試料１１に照射する装置である。このように試料１１に中性子線を照射することで、当該試料１１の材料分析や非破壊検査が行われる。ターゲット装置７は、上記のターゲット材９と試料１１とを保持した状態で粒子加速器３のマニホールドに取付けられる。ターゲット材９としては、例えば、ＢｅまたはＬｉ等のターゲット材料をＣｕ基板上に形成したものが採用される。ターゲット材料がＢｅまたはＬｉの場合には、粒子加速器３から１０〜２０ＭｅＶの荷電粒子線が照射される。
【００１６】
粒子加速器３は、荷電粒子を加速し、図１における左方に向けて荷電粒子線を出射する。粒子加速器３としては、例えばサイクロトロン、線形加速器（ライナック）等が使用される。荷電粒子線としては、例えば、陽子線、重陽子線、α線等が使用される。以下では、図に示されるように、粒子加速器３からの荷電粒子線の出射方向をＸ方向、鉛直上方をＺ方向、Ｘ方向及びＺ方向に直交する方向をＹ方向として、ＸＹＺを説明に用いる場合がある。また、以下の説明において、単に「上流側」、「下流側」等の語を用いる場合には、粒子加速器３から出射される荷電粒子線の上流、下流に対応させるものとする。図１における右側が上流側、左側が下流側である。また、「上流側」、「下流側」に代えて「右側」、「左側」等といったように「右」、「左」等の語を用いる場合があり、この場合は、図１の状態の中性子線照射装置１の左右に対応させるものとする。また、「上」、「下」等の語を用いる場合があり、この場合も、図１の状態の中性子線照射装置１の上下に対応させるものとする。また、粒子加速器３から出射される荷電粒子線の照射軸には図中で「Ｂ」の符号を付す。荷電粒子線の照射軸とは、荷電粒子線が進行する方向である。荷電粒子線は照射軸と直交する径方向において所定の大きさを有しており、荷電粒子線の径方向における中心と照射軸Ｂとが一致（略一致）する。
【００１７】
ターゲット装置７は、金属塊からなる上部パーツ１３（ターゲット材保持部）と下部パーツ１５（ターゲット材保持部）とを備えている。上部パーツ１３と下部パーツ１５との間に板状のターゲット材９が挟み込まれるようにして、当該ターゲット材９がターゲット装置７に保持されている。ターゲット材９は、略Ｘ方向に長軸をもつ長円板状をなしている。また、上部パーツ１３及び下部パーツ１５の上流側及び下流側には、それぞれガイドブロック１４が取付けられている。図２では、ガイドブロック１４の図示が省略されている。
【００１８】
下部パーツ１５の上面はターゲット材９を設置する設置座面１７（ターゲット保持部）として機能する。また、下部パーツ１５の上面には長円形の凹部１９が設けられている。そして、凹部１９を上から塞ぐように当該凹部１９よりもやや大きい長円形板状のターゲット材９が設置されている。設置座面１７は照射軸Ｂに対して約６度傾斜している。すなわち、図１中に示される角度αが約６度である。この設置座面１７の傾斜によって、ターゲット装置７では、照射軸Ｂに対して約６度傾斜した姿勢でターゲット材９が保持されている。なお、設置座面１７との間にターゲット材９を挟み込む上部パーツ１３の下面３３も照射軸Ｂに対して約６度傾斜している。また、上部パーツ１３の下面３３には、ターゲット材９が嵌り込む長穴形状の凹部（図示せず）が形成されている。
【００１９】
凹部１９の上流側の側面には、粒子加速器３からの荷電粒子線を通過させる円孔２１が設けられている。凹部１９は円孔２１を通じて粒子加速器３のビーム通路４と連通されており、荷電粒子線の照射時には、凹部１９、円孔２１及びビーム通路４が真空状態にされる。
【００２０】
照射軸Ｂは、設置座面１７に設置されたターゲット材９の下面に交差する。粒子加速器３から左向きに出射された荷電粒子線は、円孔２１を通じてターゲット装置７に入射し、凹部１９内を通過してターゲット材９の下面に入射する。以下では、荷電粒子線が入射するターゲット材９の面（すなわち、ターゲット材９の下面）を「入射面」と呼び、「２７」の符号を付す。また、ターゲット材９の、入射面２７の反対側の面（すなわち、ターゲット材９の上面）を「裏面」と呼び、「２９」の符号を付す。また、照射軸Ｂと入射面２７との交点を「照射中心」と呼び、「Ｃ」の符号を付す。
【００２１】
上部パーツ１３の下流側の側面には、左方から試料１１を挿入し装着するための試料保持穴３１（試料保持部）が形成されている。試料保持穴３１は上部パーツ１３の下流側の側面からＸ方向に延び下面３３まで貫通している。そして、試料保持穴３１に装着された試料１１の先端下面３５は、上部パーツ１３の下面３３から露出し、ターゲット材９の上面（裏面２９）に接触する。
【００２２】
ターゲット材９は、荷電粒子線が照射されることにより高温になるため、冷却する必要がある。このため、上部パーツ１３には、ターゲット材９の冷却水（冷却流体）を流通させるための冷却水路が設けられている。具体的には、上部パーツ１３の左部において当該上部パーツ１３を上下方向に貫通する冷却水供給孔３９（冷却流体流路）が設けられている。また、上部パーツ１３の右部において当該上部パーツ１３を上下方向に貫通する冷却水排出孔４１（冷却流体流路）が設けられている。
【００２３】
冷却水供給孔３９は、試料保持穴３１の上方に設けられた丸凹部４３と、当該丸凹部４３の底面から下面３３まで更に下方に延びる２本の貫通穴４５，４５とを有している。２本の貫通穴４５，４５は、互いの間に試料保持穴３１を挟むように配置されている。冷却水供給孔３９、冷却水排出孔４１には、それぞれ、給水源や排水先との接続を図るためのコネクタ部材が取付けられてもよい。
【００２４】
上記のような上部パーツ１３の冷却水路に対応して、ターゲット材９の裏面２９には上記冷却水を流通させる流路溝５１（冷却流体流路，裏面流路部）が形成されている。流路溝５１に流通する冷却水が、直接ターゲット材９の裏面２９に接触することで、効率良くターゲット材９が冷却される。主に図３を参照しながら、流路溝５１の構成と、当該流路溝５１と試料１１との位置関係について説明する。図３は、ターゲット材９と試料１１とを拡大して示す分解斜視図である。なお、図３では、説明に係る部位の特徴を誇張して描写するため、各部位の寸法比が他の図面と一致しない場合がある。
【００２５】
図３に示されるように、裏面２９上の流路溝５１はＸＺ平面に対して対称の形状をなし、Ｙ字状の分岐形状をなす。Ｙ字状の流路溝５１は、２本の入口側溝５５，５５（第２流路部位）と１本の出口側溝５３（第１流路部位）と、を有している。２本の入口側溝５５，５５は、裏面２９の左端部を起点として裏面２９上の左部で略Ｘ方向に延びている。出口側溝５３は、流路溝５１のうち２本の入口側溝５５，５５以外の部分である。出口側溝５３は、入口側溝５５，５５が合流する合流部５７（分岐流路部位）を含んで裏面２９の右端近傍まで略Ｘ方向に延びている。出口側溝５３に含まれる当該合流部５７は、照射中心Ｃの裏面側の位置を含むように配置されている。
【００２６】
前述の冷却水供給孔３９（図２参照）から供給される冷却水は、２本の貫通穴４５，４５（図２参照）を通過して、それぞれ入口側溝５５，５５の左端である流入部５６，５６から流入する。その後冷却水は、各入口側溝５５，５５を右向きに流動し、出口側溝５３の合流部５７で合流する。その後冷却水は、出口側溝５３の右端である流出部５４に達した後、冷却水排出孔４１（図２参照）を通じて排出される。図１及び図２では省略されているが、出口側溝５３の底面には、略Ｘ方向に延在する複数の凸条部５９が設けられている。凸条部５９の存在によって、ターゲット材９と冷却水との接触面積が増加し、冷却効率が向上する。
【００２７】
試料１１の先端下面３５とターゲット材９の裏面２９とは、図中にハッチングを付して示される矩形の接触面６１で接触している。接触面６１は、２本の入口側溝５５，５５にＹ方向に挟まれて位置している。なお、試料１１の先端部は、ターゲット材９の裏面２９に直交する方向から見た場合においても、２本の入口側溝５５，５５によってＹ方向に挟まれ、かつ合流部５７にはみ出さない領域内に収まるように位置している。また、接触面６１の右端縁６１ａよりもやや右側の位置に照射中心Ｃがあり、前述のとおり合流部５７は照射中心Ｃの裏面側の位置を含むように配置されている。
【００２８】
以上説明したターゲット装置７及びこれを備える中性子線照射装置１による作用効果について説明する。ターゲット装置７において、照射軸Ｂに沿って荷電粒子線がターゲット材９の入射面２７に入射すると、ターゲット材９が照射軸Ｂに対して比較的浅い角度（本実施形態の場合は約６度）で傾斜していることから、照射スポットは照射軸Ｂ方向（すなわちターゲット材９の長手方向）に広がり、荷電粒子線はターゲット材９の全体に亘って照射され易くなる。例えば、ターゲット材９の照射軸Ｂに対する傾斜角度αが６度である場合には、ターゲット材９が照射軸Ｂに直交する場合（α＝９０度の場合）に比較して、照射スポットの面積は約１０倍増加する。このように、照射面積が増加することで、ターゲット材９の熱負荷が軽減される。
【００２９】
左向きの荷電粒子線がターゲット材９に入射することから、ターゲット材９から発生する中性子線も左向きに出射される傾向が強い。特に、照射中心Ｃ近傍から出射される中性子線量が多い傾向にある。これに対し、ターゲット装置７においては、ターゲット材９の照射中心Ｃから見て左側の位置に試料１１が位置するので、試料１１に照射される中性子線量を多く確保することができる。また、照射中心Ｃから見て左側の位置に試料１１とターゲット材９との接触面６１が位置している。少なくとも当該接触面６１においてはターゲット材９と試料１１との間に冷却水が存在しない。従って、少なくとも接触面６１を通過する中性子線は、冷却水によって遮られることなく試料１１に入射される。その結果、ターゲット材９から試料１１への中性子線照射量が確保される。
【００３０】
また、ターゲット材９の裏面２９に流路溝５１が存在し、ターゲット材９に直接冷却水が接触するので、効率良くターゲット材９が冷却される。特に、接触面６１の右端縁６１ａよりも右側の部位が出口側溝５３によって冷却されるばかりでなく、接触面６１の右端縁６１ａよりも左側の部位においても、接触面６１をＹ方向に挟むように入口側溝５５，５５が存在している。すなわち、接触面６１を迂回するように入口側溝５５，５５が形成されて、接触面６１の右端縁６１ａよりも左側の部位も冷却されている。従って、冷却水がターゲット材９の長手方向において比較的均等に接触し、効率良くターゲット材９が冷却される。
【００３１】
また、出口側溝５３に含まれる合流部５７は照射中心Ｃの裏面側の位置を含むように配置されている。また、合流部５７においては、入口側溝５５，５５の２本の冷却水が合流して冷却水の量が多くなる。これにより、最も高温になり得る照射中心Ｃの裏面側に合流部５７の冷却水が流動し当該部分を冷却するので、その結果、効率良くターゲット材９が冷却される。
【００３２】
以上のように、ターゲット装置７及びこれを備える中性子線照射装置１においては、ターゲット材９から試料１１への中性子線照射量の確保と、ターゲット材９の冷却効率とを両立することができる。
【００３３】
本発明は、上述した実施形態を始めとして、当業者の知識に基づいて種々の変更、改良を施した様々な形態で実施することができる。また、上述した実施形態に記載されている技術的事項を利用して、下記の変形例を構成することも可能である。各実施形態の構成を適宜組み合わせて使用してもよい。
【００３４】
例えば、実施形態では、照射軸Ｂに対するターゲット材９の傾斜角度（図１中の角度α）が約６度であったが、この傾斜角度αは適宜調整されてもよい。但し、上述したようなターゲット装置７による作用効果が効果的に奏されるためには、角度αは５〜３０度であることが好ましい。
【００３５】
また、ターゲット材９に形成される流路溝５１と試料１１及び接触面６１との位置関係は、前述の実施形態に示されたものには限定されない。すなわち、流路溝５１と試料１１及び接触面６１との位置関係は、図４〜図６に示されるようなものであってもよい。図４〜図６の各例は、いずれも、ターゲット材９の裏面２９に直交する方向から見た流路溝５１と試料１１及び接触面６１との位置関係を模式的に示すものであり、図４〜図６のいずれも、図の上下方向がＹ方向に対応する。図４〜図６において符号５４の記号は流出部５４の場所、符号５６の記号は流入部５６の場所を示しており、前述の実施形態と同様に、各ターゲット材９の流路溝５１を流動する冷却水は、流入部５６から流入し流出部５４から排出される。その他、図４〜図６の各例において、前述の実施形態と同一又は同等の構成には同一の符号を付して、重複する説明を省略する。
【００３６】
図４（ａ）に示されるように、試料１１全体及び接触面６１全体が、入口側溝５５，５５の左端より右側の領域に収まる構成であってもよい。また、図４（ｂ）に示されるように、試料１１の一部が合流部５７の上に存在してもよい。また、図４（ｃ）に示されるように、試料１１の一部が合流部５７及び入口側溝５５，５５の上に存在してもよい。
【００３７】
また、図５（ａ）に示されるように、試料１１の一部が入口側溝５５，５５の上に存在してもよい。また、図５（ｂ）に示されるように、試料１１全体及び接触面６１全体が、入口側溝５５，５５の左端よりも左側の領域にはみ出す構成であってもよい。また、図５（ｃ）に示されるように、試料１１及び接触面６１よりも左側の領域において１箇所の流入部５６及び入口側溝６９が設けられ、当該入口側溝６９が試料１１及び接触面６１よりも左側の位置の分岐部７１で分岐して入口側溝５５，５５に接続されるようにしてもよい。この場合、図に示されるように、入口側溝５５，５５と、分岐部７１と、合流部５７とで囲まれる中州状の領域に試料１１全体及び接触面６１全体が収まる配置にしてもよい。
【００３８】
また、図６に示されるように、ターゲット材９が円形である場合、ターゲット材９の中央に１つの流入部５６が設けられ、ターゲット材９の円周縁近傍に複数の流出部５４が設けられる構成であってもよい。この場合、当該流入部５６から各流出部５４に向けて複数の流路溝７３が径方向外側に放射状に延びる構成であってもよい。また、この場合、一部の流路溝７３及び流出部５４が、接触面６１の右端縁６１ａよりも左側の位置まで延びている構成であってもよい。
【符号の説明】
【００３９】
１…中性子線照射装置、３…粒子加速器、７…ターゲット装置、９…ターゲット材、１１…試料、１３…上部パーツ（ターゲット材保持部）、１５…下部パーツ（ターゲット材保持部）、２７…入射面、２９…裏面、３１…試料保持穴（試料保持部）、３９…冷却水供給孔（冷却流体流路）、４１…冷却水排出孔（冷却流体流路）、５１…流路溝（冷却流体流路，裏面流路部）、５３…出口側溝（第１流路部位）、５５…入口側溝（第２流路部位）、５７…合流部（分岐流路部位）、６１…接触面、６１ａ…右端縁（接触面の上流側の端縁）、Ｂ…照射軸、Ｃ…照射中心。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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