(57)【要約】【課題】初期の低い摩擦係数が長期間に渡って持続する摺動部材を提供する。【解決手段】摺動部材１０は、母材１１と、母材１１の表面に形成された固体潤滑材層１２と、固体潤滑材層１２に材料の欠陥が導入されている欠陥層１３とを有する。欠陥層１３は、固体潤滑材層１２から超低摩擦層１４に変化するよりも、機械的な応力によって超低摩擦層１４に変化しやすい。このため、摺動部材１０としての使用によって、欠陥層１３には、超低摩擦層１４が形成される。この結果、初期の低い摩擦係数が長期間に渡って持続する。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
母材（１１、２１）と、
前記母材の表面に形成された固体潤滑材層（１２、２２）と、
前記固体潤滑材層に材料の欠陥が導入されており、前記固体潤滑材層から超低摩擦層に変化するよりも、機械的な応力によって超低摩擦層に変化しやすい欠陥層（１３、２３）と、
前記欠陥層の表面を覆う超低摩擦層（１４、２４）とを備える摺動部材。
【請求項２】
前記固体潤滑材層は、炭素原子が結合した硬質炭素膜であり、
前記欠陥層は、炭素の結合の欠陥によって形成されている請求項１に記載の摺動部材。
【請求項３】
前記固体潤滑材層は、ダイヤモンドライクカーボンである請求項２に記載の摺動部材。
【請求項４】
前記欠陥層は、ラマン分光法によって、ＩＤ／ＩＧ比において０．０５６以上、ＳＤ／ＳＧ比において０．０４８以上を示す請求項３に記載の摺動部材。
【請求項５】
前記固体潤滑材層は、窒化クロム、窒化ケイ素、または炭化ケイ素である請求項１に記載の摺動部材。
【請求項６】
前記欠陥層の表面に付与された官能基を有する請求項１から請求項５のいずれかに記載の摺動部材。
【請求項７】
母材（１１、２１）を準備する段階（１０１）と、
前記母材の表面に固体潤滑材層（１２、２２）を形成する段階（１０２）と、
前記固体潤滑材層に材料の欠陥を導入し、前記固体潤滑材層から超低摩擦層に変化するよりも、機械的な応力によって前記超低摩擦層に変化しやすい欠陥層（１３、２３）を形成する段階（１０３）と、
前記欠陥層が形成された後に、摺動環境下に置くことにより、機械的な応力によって前記欠陥層を前記超低摩擦層（１４、２４）に変化させる段階（１０４、１０５）とを備える摺動部材の製造方法。
【請求項８】
前記欠陥層を形成する段階（１０３）は、電磁気によって前記固体潤滑材層の表面および内部に前記欠陥を導入する段階を含む請求項７に記載の摺動部材の製造方法。
【請求項９】
前記欠陥層を形成する段階（１０３）は、高エネルギ化された原子の物理的な作用により前記欠陥を導入する段階を含む請求項７または請求項８に記載の摺動部材の製造方法。
【請求項１０】
前記固体潤滑材層は、硬質炭素膜であり、
前記欠陥層を形成する段階は、前記硬質炭素膜を残しながら、前記硬質炭素膜の表面および内部に前記欠陥を導入する段階を含み、
前記超低摩擦層に変化させる段階は、前記欠陥層を残しながら、前記欠陥層を表面から前記超低摩擦層に変化させる段階を含む請求項７から請求項９のいずれかに記載の摺動部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この明細書における開示は、摺動部材およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１は、水素を含む非晶質炭素皮膜を有する摺動部材を開示する。特許文献１は、表面にグラファイトを含む層を有する。特許文献１の構成では、複数の非晶質炭素層が交互に積層されている。特許文献２は、硬質炭素膜をコーティングした摺動部材を開示している。さらに、特許文献２は、液体が存在しない環境での「なじみ」処理の後に、液体が存在する環境で摺動部材を利用することを提案している。従来技術として列挙された先行技術文献の記載内容は、この明細書における技術的要素の説明として、参照により援用される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第５７３０９６０号公報
【特許文献２】特許第６０９５０９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１では、複数の非晶質炭素層が同時に剥離することがある。このため、グラファイトを含む層による低摩擦係数が長続きしない場合がある。また、特許文献２では、実際の利用に先立つ「なじみ」処理が必要である。上述の観点において、または言及されていない他の観点において、摺動部材およびその製造方法にはさらなる改良が求められている。
【０００５】
開示されるひとつの目的は、利用開始初期の低い摩擦係数が長期間に渡って持続する摺動部材およびその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
ここに開示された摺動部材は、母材（１１、２１）と、母材の表面に形成された固体潤滑材層（１２、２２）と、固体潤滑材層に材料の欠陥が導入されており、固体潤滑材層から超低摩擦層に変化するよりも、機械的な応力によって超低摩擦層に変化しやすい欠陥層（１３、２３）と、欠陥層の表面を覆う超低摩擦層（１４、２４）とを備える。
【０００７】
開示される摺動部材によると、固体潤滑材層に材料の欠陥が導入された欠陥層が設けられる。この欠陥層は、固体潤滑材層から超低摩擦層に変化するよりも、機械的な応力によって超低摩擦層に変化しやすい。このため、利用開始初期の低い摩擦係数が長期間に渡って持続される。
【０００８】
ここに開示された摺動部材の製造方法によると、母材（１１、２１）を準備する段階（１０１）と、母材の表面に固体潤滑材層（１２、２２）を形成する段階（１０２）と、固体潤滑材層に材料の欠陥を導入し、固体潤滑材層から超低摩擦層に変化するよりも、機械的な応力によって超低摩擦層に変化しやすい欠陥層（１３、２３）を形成する段階（１０３）と、欠陥層が形成された後に、摺動環境下に置くことにより、機械的な応力によって欠陥層を超低摩擦層（１４、２４）に変化させる段階（１０４、１０５）とを備える。
【０００９】
開示される摺動部材の製造方法によると、固体潤滑材層に材料の欠陥を導入することで、欠陥層が形成される。この欠陥層は、固体潤滑材層から超低摩擦層に変化するよりも、機械的な応力によって超低摩擦層に変化しやすい。このため、摺動により生じる機械的な応力によって欠陥層が超低摩擦層に変化する。よって、利用開始初期の低い摩擦係数が長期間に渡って持続される。
【００１０】
この明細書における開示された複数の態様は、それぞれの目的を達成するために、互いに異なる技術的手段を採用する。請求の範囲およびこの項に記載した括弧内の符号は、後述する実施形態の部分との対応関係を例示的に示すものであって、技術的範囲を限定することを意図するものではない。この明細書に開示される目的、特徴、および効果は、後続の詳細な説明、および添付の図面を参照することによってより明確になる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】第１実施形態に係る母材を示す断面図である。
【図２】母材と固体潤滑材層とを示す断面図である。
【図３】固体潤滑材層に形成された欠陥層を示す断面図である。
【図４】欠陥層に形成された超低摩擦層を示す断面図である。
【図５】摺動部材の製造方法を示すフローチャートである。
【図６】製造装置を示す断面図である。
【図７】製造装置を示す断面図である。
【図８】第２実施形態に係る製造装置を示す断面図である。
【図９】第３実施形態に係る製造装置を示す断面図である。
【図１０】第４実施形態に係る摺動部材を示す断面図である。
【図１１】第５実施形態に係る摺動部材を示す断面図である。
【図１２】第６実施形態に係る摺動部材を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
図面を参照しながら、複数の実施形態を説明する。複数の実施形態において、機能的におよび／または構造的に対応する部分および／または関連付けられる部分には同一の参照符号、または百以上の位が異なる参照符号が付される場合がある。対応する部分および／または関連付けられる部分については、他の実施形態の説明を参照することができる。
【００１３】
第１実施形態
図１において、摺動部材１０は、母材１１を有する。母材１１は、金属、または非金属によって提供される。母材１１は、鉄、アルミニウム、ニッケル、およびそれらの合金によって提供できる。母材１１は、無機化合物を焼き固めたセラミックスによって提供されてもよい。母材１１は、試験片としての球、または円板として提供される。試験片が試験される試験機は、特許文献２を参照することができる。なお、特許文献２の記載は、この開示の一部として参照により導入される。この開示において、摺動の語は、広義に解釈されるべきである。摺動の語は、摩擦を伴う相対的な２つの部材のすべり運動、および２つの部材の相対的な接触位置の移動であるころがり運動の両方を含む。
【００１４】
図２において、摺動部材１０は、固体潤滑材層１２を有する。固体潤滑材層１２は、母材１１の表面上に配置されている。固体潤滑材層１２は、母材１１の表面を覆っている。固体潤滑材層１２は、ダイヤモンドライクカーボン層（Ｄｉａｍｏｎｄ−Ｌｉｋｅ  Ｃａｒｂｏｎ層：ＤＬＣ層）である。固体潤滑材層１２は、炭素原子が結合した硬質炭素膜とも呼ばれる。
【００１５】
硬質炭素膜は、単結晶のダイヤモンド膜、および炭化水素、あるいは、炭素の同素体からなる非晶質（アモルファス）の硬質膜を含む。さらに、硬質炭素膜は、上述の硬質炭素膜の表面に形成されたグラファイト層を含む硬質膜である。固体潤滑材層１２は、窒化クロム（Crome Nitride:CrN）によって提供されてもよい。固体潤滑材層１２は、窒化ケイ素（Ｓilicon Ｎitride：Ｓｉ３Ｎ４）によって提供されてもよい。固体潤滑材層１２は、炭化ケイ素（Ｓilicon Carbide:SiC）によって提供されてもよい。
【００１６】
図３において、摺動部材１０は、固体潤滑材層１２を変化させることによって形成された欠陥層１３を有する。欠陥層１３は、炭素の結合の欠陥によって形成されている。欠陥層１３は、材料における原子結合の構造が、固体潤滑材層１２よりも変化しやすい状態にある。欠陥層１３は、ＤＬＣ層としての構造から、グラファイト層としての構造に変化しやすい状態にある。欠陥層１３は、機械的な応力によって、グラファイト層に変化する。機械的な応力を受けた場合、固体潤滑材層１２がグラファイト層に変化する変化しやすさよりも、欠陥層１３がグラファイト層に変化する変化しやすさのほうが高い。言い換えると、欠陥層１３の炭素の結合構造は、固体潤滑材層１２よりもグラファイト層に変化しやすい。
【００１７】
欠陥層１３の表面の硬度は、固体潤滑材層１２の表面の硬度より低い。欠陥層１３が導入されたことにより、摺動部材１０の表面の硬度は低下する。欠陥層１３が導入される前の固体潤滑材層１２の表面の硬度、および、欠陥層１３の表面の硬度は、ナノインデーションを利用するナノインデンター、またはビッカース硬さを測定するマイクロビッカース試験機によって測定される。
【００１８】
固体潤滑材層１２の内部まで欠陥層１３を導入することは、固体潤滑材層１２への活性点の導入とも呼ばれる。欠陥層１３は、原子レベルでの物理的作用を利用して固体潤滑材層１２の表面および所定の深さ範囲にわたって導入される。欠陥層１３は、元素を用いて導入される。欠陥層１３は、原子に高エネルギを与えて固体潤滑材層１２に作用させる製造方法および製造装置によって形成される。固体潤滑材層１２および欠陥層１３の表面には、摺動部材１０が利用される環境における雰囲気との親和性が高い官能基が付与されている。例えば、摺動部材１０が、水が存在する環境において使用される場合、水との親和性、反応性が高い官能基が付与されている。ここで利用される官能基は、例えば、水酸基である。
【００１９】
欠陥層１３の存在は、固体潤滑材層１２の膜内欠陥によって特定できる。膜内欠陥は、ラマン分光法によって測定することができる。欠陥層１３は、膜内欠陥と相関のあるラマン分光法によって、ＩＤ／ＩＧ比において０．０５６以上、ＳＤ／ＳＧ比において０．０４８以上を示す。
【００２０】
固体潤滑材層１２は、厚さＴ２を有する。欠陥層１３は、厚さＴ３を有する。厚さＴ３は、厚さＴ２より小さい。欠陥層１３は、母材１１にまで到達していない。欠陥層１３と母材１１との間には、欠陥層１３よりも欠陥が少ない固体潤滑材層１２が残されている。欠陥層１３が形成された状態においても、固体潤滑材層１２は、摺動範囲の全域を覆うように広がっている。
【００２１】
上述の硬質炭素膜、窒化クロム、窒化ケイ素、または炭化ケイ素によって提供された固体潤滑材層１２は、材料の欠陥部分である欠陥層１３をもつことができる。欠陥部分とは、（１）クラスターの不整合等によって、元素の結合が欠けている、または、未結合の部分、および／または（２）ラジカル、クラスターが相対的に小さい部分、および／または（３）原子配列の乱れや結晶構造の乱れによって生じた部分を表す。すなわち、欠陥部分とは、上記（１）、（２）、および（３）の少なくともひとつを表す。欠陥部分とは、上記（１）、（２）、および（３）のふたつ以上を表してもよい。
【００２２】
図４は、摺動部材１０の利用状態を示す。図４は、欠陥層１３に形成された超低摩擦層１４を示す。利用状態において、摺動部材１０は、他の摺動部材２０と摺動される。摺動（すべり、およびころがり）は、欠陥層１３の表面に機械的な応力を与える。この機械的な応力は、欠陥層１３を超低摩擦層１４に変化させる。超低摩擦層１４は、欠陥層１３の表面を覆う。
【００２３】
摺動部材１０が摺動する過程において、欠陥層１３は、その表面、すなわち摺動面に超低摩擦層１４を生成する。言い換えると、摺動部材の製造方法は、摺動部材１０を摺動環境下に置くことによって、欠陥層１３の表面に超低摩擦層１４を形成する。摺動環境は、摺動部材１０が実際に利用される使用環境でよい。欠陥層１３は、固体潤滑材層１２から後述する超低摩擦層１４に変化するよりも、機械的な応力によって超低摩擦層１４に変化しやすい。超低摩擦層１４は、グラファイト層である。
【００２４】
超低摩擦層１４は、厚さＴ４を有する。厚さＴ４は、厚さＴ３より小さい。超低摩擦層１４は、固体潤滑材層１２にまで到達していない。固体潤滑材層１２と超低摩擦層１４との間には、欠陥層１３が残されている。よって、摺動部材１０は、母材１１の上に、固体潤滑材層１２と、欠陥層１３と、超低摩擦層１４とを有する。
【００２５】
超低摩擦層１４は、超潤滑性（Super-lubricity）を発揮する層である。固体潤滑材層１２が硬質炭素膜によって提供される場合、超低摩擦層１４は、ＳＰ２結合がリッチなＤＬＣ層とも呼べる。ＳＰ２結合は、ＳＰ２軌道による原子の結合状態をいう。リッチとは、ＤＬＣ層がグラファイト層としての性状を示していることを表す。摺動部材１０は、相対的に摺動する２つの部材の少なくとも一方に、材料の欠陥層１３、すなわち固体潤滑材層１２よりも超低摩擦層１４へ変化しやすい層が導入された摺動部材を提供する。
【００２６】
図５は、摺動部材１０の製造方法を示す。ステップ１０１では、母材１１を準備する。ステップ１０２では、母材１１に固体潤滑材層１２を形成する。固体潤滑材層１２がＤＬＣ層である場合、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition）法、およびＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法を含む多様な製造方法を利用することができる。
【００２７】
ステップ１０３では、固体潤滑材層１２に材料の欠陥を導入することによって、欠陥層１３を形成する。同時に、固体潤滑材層１２の表面、すなわち欠陥層１３の表面には、官能基が付与される。欠陥層１３は、固体潤滑材層１２から超低摩擦層１４に変化するよりも、機械的な応力によって超低摩擦層１４に変化しやすい。機械的な応力は、欠陥層１３または固体潤滑材層１２に作用する応力である。この機械的な応力は、摺動部材１０をその利用環境、すなわち摺動環境におくことによって生じる応力である。
【００２８】
ステップ１０３における欠陥層１３を導入する段階は、後述する製造装置によって行われる。欠陥層１３を形成する段階は、電磁気によって固体潤滑材層１２の表面および内部に欠陥を導入する段階を含む。欠陥層１３を形成する段階は、高エネルギ化された原子の物理的な作用により欠陥を導入する段階を含む。欠陥層１３を形成する段階は、硬質炭素膜である固体潤滑材層１２を残しながら、固体潤滑材層１２の表面および内部に欠陥を導入する段階を含む。
【００２９】
ステップ１０４では、固体潤滑材層１２と欠陥層１３とを有する摺動部材１０を摺動環境下に置く。摺動環境は、摺動部材１０が利用される使用環境である。ステップ１０５では、摺動部材１０の欠陥層１３に、摺動に伴う機械的な応力を与えることによって、欠陥層１３の表面に超低摩擦層１４を形成する。欠陥層１３を超低摩擦層１４に変化させる段階は、欠陥層１３を下部層として残しながら、欠陥層１３を表面から超低摩擦層１４に変化させる段階を含む。ステップ１０５の段階は、摺動部材１０の実際の使用期間の初期によって提供されてもよい。ステップ１０５の段階は、実際の使用とは区別された、ならし期間によって提供されてもよい。ステップ１０６では、摺動部材１０を摺動環境下で継続使用する。
【００３０】
ステップ１０４からステップ１０６の過程は、欠陥層１３が形成された後に、摺動環境下に置くことにより、機械的な応力によって欠陥層１３を超低摩擦層１４に変化させる段階でもある。ステップ１０４からステップ１０６の過程において、欠陥層１３は、摩耗しながら、摺動面を形成してゆく。欠陥層１３は、超低摩擦層１４より硬い硬度を提供して、摺動環境下においても超低摩擦層１４より高い耐久性を発揮する。欠陥層１３は、固体潤滑材層１２より高い弾性を提供して、摺動環境下において高い形状追従性を発揮する。この結果、欠陥層１３は、大きな剥離を生じることなく、徐々に摩耗してゆく。言い換えると、欠陥層１３は、機械的な「なじみ」を提供する。さらに、「なじみ」後の表面には、超低摩擦層１４が生成される。よって、欠陥層１３は、「なじみ」によって局所的な面圧を低減し、さらに、「なじみ」を促進する。
【００３１】
継続使用によって、超低摩擦層１４または欠陥層１３の一部は摩耗する。しかし、摺動によって新たに欠陥層１３が超低摩擦層１４に変化する。欠陥層１３は、固体潤滑材層１２に欠陥を導入することによって表面から所定の深さにわたって形成されている。よって、超低摩擦層１４が持続される。さらに、母材１１の表面には、固体潤滑材層１２、欠陥層１３、および超低摩擦層１４のすべてが存在するから、それらが同時に掘り起こされる事態が抑制される。この結果、超低摩擦層１４による超低摩擦状態が継続的に持続される。
【００３２】
図６および図７は、ステップ１０３における製造段階で利用される製造装置３０を示す。製造装置３０は、摺動部材１０を収容するチャンバ３１と、チャンバ３１内に反応ガスを供給するガス供給器有する場合もある。チャンバ３１は、固体潤滑材層１２を形成した母材１１を有する摺動部材１０を収容する。製造装置３０は、高周波電源４１と、スイッチ４２とを有する。製造装置３０は、高電圧電源４３と、スイッチ４４とを有する。スイッチ４２とスイッチ４４とは、交互に開閉される。製造装置３０は、電磁気的な作用を利用して、場合によっては元素に高エネルギを与え、欠陥層１３を導入する。製造装置３０は、電気的な処理装置であるといえる。製造装置３０は、場合によっては反応ガスの元素を利用して、固体潤滑材層１２の表層から内部における原子の結合を切断し、活性点を導入することにより、欠陥層１３を形成する。
【００３３】
図６に図示されるように、スイッチ４２だけが閉じられている期間において、高周波電源４１は、場合によっては反応ガスに高エネルギを付与し、プラズマ化する。
【００３４】
図７に図示されるように、高電圧パルス電源４３は、場合によってはプラズマ化した元素によって、固体潤滑材層１２の結晶構造を変化させる。
【００３５】
以上に述べた実施形態によると、利用開始初期の低い摩擦係数が長期間に渡って持続する摺動部材１０を提供することができる。
【００３６】
第２実施形態
この実施形態は、先行する実施形態を基礎的形態とする変形例である。上記実施形態では、高電圧を利用して、電磁気的に欠陥層１３を導入する。これに代えて、欠陥層１３は、光エネルギによって導入されてもよい。
【００３７】
図８に図示されるように、製造装置２３０は、線源２５１を有する。線源２５１は、可視光ではない高エネルギの電磁波を、母材１１に形成された固体潤滑材層１２に照射する。電磁波としては、アルファ線、ガンマ線、Ｘ線などを利用可能である。この実施形態では、欠陥層１３は、電磁気波によって導入される。
【００３８】
第３実施形態
この実施形態は、先行する実施形態を基礎的形態とする変形例である。上記実施形態では、高電圧を利用して、電磁気的に欠陥層１３を導入する。これに代えて、欠陥層１３は、熱エネルギによって導入されてもよい。
【００３９】
図９に図示されるように、製造装置３３０は、複数の電気ヒータ３６１を有する。電気ヒータ３６１は、例えば、母材１１に形成された固体潤滑材層１２に熱エネルギＱを付与し、欠陥層１３を導入する。加熱は、真空雰囲気において、大気中の酸素との反応を抑制しながら行うことが望ましい。
【００４０】
第４実施形態
この実施形態は、先行する実施形態を基礎的形態とする変形例である。上記実施形態では、摺動部材１０と摺動する摺動部材２０の構造を特定していない。これに代えて、摺動部材１０と摺動する部材は、多様な部材によって提供することができる。
【００４１】
図１０において、摺動部材１０は、摺動部材４２０と摺動する。摺動部材４２０は、摺動部材１０と同様の構造を有する。すなわち、摺動部材４２０は、母材２１、固体潤滑材層２２、欠陥層２３、および超低摩擦層２４を有する。この実施形態によると、超低摩擦層１４と超低摩擦層２４とが摺動するから、初期の低い摩擦係数が長期間に渡って持続する。
【００４２】
第５実施形態
この実施形態は、先行する実施形態を基礎的形態とする変形例である。
【００４３】
図１１において、摺動部材１０は、摺動部材５２０と摺動する。摺動部材５２０は、母材２１、および固体潤滑材層２２を有する。この実施形態でも、初期の低い摩擦係数が長期間に渡って持続する。
【００４４】
第６実施形態
この実施形態は、先行する実施形態を基礎的形態とする変形例である。
【００４５】
図１２において、摺動部材１０は、摺動部材６２０と摺動する。摺動部材５２０は、母材２１のみを有する。この実施形態でも、初期の低い摩擦係数が長期間に渡って持続する。
【００４６】
他の実施形態
この明細書における開示は、例示された実施形態に制限されない。開示は、例示された実施形態と、それらに基づく当業者による変形態様を包含する。例えば、開示は、実施形態において示された部品および／または要素の組み合わせに限定されない。開示は、多様な組み合わせによって実施可能である。開示は、実施形態に追加可能な追加的な部分をもつことができる。開示は、実施形態の部品および／または要素が省略されたものを包含する。開示は、ひとつの実施形態と他の実施形態との間における部品および／または要素の置き換え、または組み合わせを包含する。開示される技術的範囲は、実施形態の記載に限定されない。開示されるいくつかの技術的範囲は、請求の範囲の記載によって示され、さらに請求の範囲の記載と均等の意味及び範囲内での全ての変更を含むものと解されるべきである。
【符号の説明】
【００４７】
１０  摺動部材、  １１  母材、  １２  固体潤滑材層、
１３  欠陥層、  １４  超低摩擦層、
２０  摺動部材、  ２１  母材、  ２２  固体潤滑材層、
２３  欠陥層、  ２４  超低摩擦層、
３０  製造装置、  ３１  チャンバ、
４１  高周波電源、  ４２  スイッチ、
４３  高電圧パルス電源、  ４４  スイッチ、
１０１、１０２、１０３、１０４、１０５  段階、
２３０  製造装置、  ２５１  線源、
３３０  製造装置、  ３６１  電気ヒータ、
４２０  摺動部材、  ５２０  摺動部材、  ６２０  摺動部材。
【図１】
2019112693.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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