(57)【要約】【課題】開口率の低下を抑えつつ、斜視混色を抑えることができる液晶表示装置を提供する。【解決手段】第一基板と液晶層と第二基板とを順に備え、上記第一基板及び上記第二基板の少なくとも一方は隣接する異なる色の絵素間に遮光部材を有し、上記第一基板はスリットが設けられた第二の電極を備え、上記スリットは第一の方向に延びるメインスリット部と第二の方向に延びるサブスリット部とを含み、初期配向状態の液晶分子の長軸及び短軸のうち誘電率がより大きい方の軸方向と上記第二の方向とのなす角は、上記軸方向と上記第一の方向とのなす角より大きく、上記遮光部材が上記第一基板上にある場合、上記遮光部材は両側の異なる色の絵素に配置された上記サブスリット部のうちより近いサブスリット部側で拡幅され、より遠いサブスリット部側は拡幅されず、上記遮光部材が上記第二基板上にある場合、上記第一基板の場合とは逆側に拡幅される液晶表示装置。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一基板と、
前記第一基板に対向する第二基板と、
前記第一基板及び前記第二基板の間に挟持され、かつ、液晶分子を含む液晶層と、
複数色の絵素から各々構成される複数の画素と、を備え、
前記第一基板及び前記第二基板の少なくとも一方は、隣接する異なる色の絵素間に少なくとも配置された遮光部材を有し、
前記第一基板は、画素電極及び共通電極の一方の電極である第一の電極と、前記第一の電極上に設けられた層間絶縁膜と、前記層間絶縁膜上に設けられ、かつ、他方の電極である第二の電極とを、前記液晶層側に向かって順に備え、
前記第二の電極には、各絵素において、スリットが設けられており、
前記スリットは、第一の方向に延びるメインスリット部と、前記メインスリット部の端部に繋がり、かつ、第二の方向に延びるサブスリット部と、を含み、
初期配向状態の前記液晶分子の長軸及び短軸のうち、誘電率がより大きい方の軸方向と前記第二の方向とのなす角は、前記軸方向と前記第一の方向とのなす角より大きく、
前記遮光部材が前記第一基板に設けられている場合、平面視において、前記遮光部材は、両側の異なる色の絵素に配置された前記サブスリット部のうち、より近いサブスリット部側で拡幅され、より遠いサブスリット部側は拡幅されず、
前記遮光部材が前記第二基板に設けられている場合、平面視において、前記遮光部材は、両側の異なる色の絵素に配置された前記サブスリット部のうち、より遠いサブスリット部側で拡幅され、より近いサブスリット部側は拡幅されないことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記第一基板は、データ線を有し、
前記遮光部材は、前記データ線であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第一基板は、前記共通電極と接する金属配線を備え、
前記遮光部材は、前記金属配線であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記画素電極は、前記第一の電極であり、
前記共通電極は、前記第二の電極であることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記画素電極は、前記第二の電極であり、
前記共通電極は、前記第一の電極であることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第二基板は、平面視において前記遮光部材と重畳するブラックマトリクスを備え、
前記遮光部材は、平面視において、前記ブラックマトリクスが配置された領域内において拡幅されていることを特徴とする請求項２〜５のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記第二基板は、ブラックマトリクスを備え、
前記遮光部材は、前記ブラックマトリクスであることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関する。特に、水平配向モードの液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、表示のために液晶組成物を利用する表示装置であり、その代表的な表示方式は、一対の基板間に封入された液晶組成物に対して電圧を印加し、印加した電圧に応じて液晶組成物中の液晶分子の配向状態を変化させることにより、光の透過量を制御するものである。このような液晶表示装置は、薄型、軽量及び低消費電力といった特長を活かし、幅広い分野で用いられている。
【０００３】
液晶表示装置の表示方式として、液晶分子の配向を基板面に対して平行な面内で主に回転させることによって制御を行う水平配向モードが、広視野角特性を得やすい等の理由から、注目を集めている。例えば、近年、スマートフォンやタブレット端末向けの液晶表示装置においては、水平配向モードの一種である面内スイッチング（ＩＰＳ：Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードや、フリンジ電界スイッチング（ＦＦＳ：Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードが広く用いられている。
【０００４】
水平配向モードの液晶表示装置に関する技術として、例えば、特許文献１には、画像表示領域中に信号線、走査線及び画素電極が配列され、樹脂膜が備えられたアレイ基板と、対向基板と、これらの間に保持される液晶材料層とを含む液晶表示装置において、アレイ基板上には、画像表示領域内に、信号線を覆うように信号線に沿って延びる突条部が、樹脂膜を形成する樹脂層により一体に設けられ、突条部の頂部は、対向基板の内面から離間されている液晶表示装置が開示されている。
【０００５】
また、特許文献２には、第１の基板と、ゲート電極を有するゲート線と、ソース電極を有するデータ線と、ドレイン電極と、前記ゲート線と、前記データ線及び前記ドレイン電極の上に形成され、第１の開口部を有する有機膜と、前記有機膜の上に形成され、第２の開口部を有する第１の電極と、前記第１の電極の上に形成され、前記ドレイン電極を露出させるコンタクト孔を有する保護膜と、前記保護膜の上に形成される第２の電極と、を備え、前記ゲート電極の周縁のうち前記ゲート線と平行な第１の縁と、前記第１の電極の前記第２の開口部の周縁のうち前記ゲート線と平行で前記第１の縁と隣り合う第２の縁との間の直線間隔が、約０μｍ〜約６μｍである液晶表示装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１６−１４２９４３号公報
【特許文献２】特開２０１５−１３８２６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
図１７は、比較形態の液晶表示装置に関する図であり、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との貼り合わせにおいてＣＦ基板が左側にずれている場合の断面模式図である。比較形態の液晶表示装置１Ｒは、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）を有するＴＦＴ基板１０Ｒと、カラーフィルタ（ＣＦ：Ｃｏｌｏｒ  Ｆｉｌｔｅｒ）を有するＣＦ基板２０Ｒと、ＴＦＴ基板１０Ｒ及びＣＦ基板２０Ｒに挟持された液晶層３０Ｒとを備える。ＴＦＴ基板１０Ｒには、データ線１３１Ｒ、共通電極１５Ｒ、金属配線（３ｒｄメタル配線）１８Ｒ及び画素電極１７Ｒが設けられている。
【０００８】
ＣＦ基板２０Ｒでは、カラーフィルタ２３Ｒの色境界に配置されたブラックマトリクス２２Ｒが開口率確保のために細線化される場合がある。しかしながら、ＴＦＴ基板１０ＲとＣＦ基板２０Ｒとの貼り合わせにずれがある場合、図１７の矢印で示すように斜め方向の光が通過し、斜視から意図しない色が漏れて混色となってしまうことがある。この現象を斜視混色とも言う。斜視混色は、特に、画素電極１７Ｒに設けられたスリットの角度に影響を受ける。この点について、比較形態の液晶表示装置１Ｒを用いて以下に説明する。
【０００９】
図１８は、比較形態の液晶表示装置の平面模式図である。図１９は、比較形態の液晶表示装置に関する図であり、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との貼り合わせにおいて両基板間にずれが発生していない場合の断面模式図である。図２０は、比較形態の液晶表示装置に関する図であり、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との貼り合わせにおいて両基板間にずれが発生している場合の断面模式図である。図１９及び図２０は、図１８におけるａ−ｂ方向に沿った３つの絵素の断面模式図であり、画素電極に設けられた後述のサブスリット部における断面模式図である。
【００１０】
比較形態の液晶表示装置１Ｒが備えるＴＦＴ基板１０Ｒは、複数のデータ線１３１Ｒ、及び、複数のデータ線１３１Ｒと交差する複数の走査線１３２Ｒを有し、スイッチング素子としてのＴＦＴを備える。また、ＴＦＴ基板１０Ｒは、第一の絶縁基板１１Ｒと、第一の絶縁膜１２Ｒと、データ線１３１Ｒと、第二の絶縁膜１４Ｒと、共通電極１５Ｒと、層間絶縁膜１６Ｒと、スリット１７１Ｒが設けられた画素電極１７Ｒと、を液晶層３０Ｒ側に向かって順に備える。比較形態の液晶表示装置１Ｒは、ＦＦＳモードの液晶表示装置である。
【００１１】
画素電極１７Ｒは、各絵素２Ｒに設けられており、各画素電極１７Ｒには、互いに平行な複数のスリット１７１Ｒが設けられており、各スリット１７１Ｒは、方向Ｄ１Ｒ及びＤ３Ｒにそれぞれ延びる２つのメインスリット部１７１ａＲを有する。方向Ｄ１Ｒに延びる各メインスリット部１７１ａＲの両端部には、方向Ｄ２Ｒに延びる２つのサブスリット部１７１ｂＲが繋がっており、方向Ｄ３Ｒに延びる各メインスリット部１７１ａＲの両端部には、方向Ｄ４Ｒに延びる２つのサブスリット部１７１ｂＲが繋がっている。初期配向状態の液晶分子３１Ｒの長軸３１１Ｒに対して、方向Ｄ１Ｒのなす角と方向Ｄ３Ｒのなす角は互いに等しく、同様に、方向Ｄ２Ｒのなす角と方向Ｄ４Ｒのなす角とは互いに等しい。各スリット１７１Ｒは、各画素電極１７Ｒの中央部に配置された、方向Ｄ２Ｒに延びるサブスリット部１７１ｂＲ及び方向Ｄ４Ｒに延びるサブスリット部１７１ｂＲ間の中心線に対して、線対称な形状を有する。
【００１２】
液晶層３０Ｒは、正の誘電率異方性を有する液晶分子３１Ｒを含み、初期配向状態の液晶分子３１Ｒの長軸３１１Ｒ及び短軸３１２Ｒのうち誘電率がより大きい方の軸（長軸３１１Ｒ）方向と上記方向Ｄ２Ｒ又は上記方向Ｄ４Ｒとのなす角は、上記軸（長軸３１１Ｒ）方向と上記方向Ｄ１Ｒ又は上記方向Ｄ３Ｒとのなす角より大きい。
【００１３】
ＣＦ基板２０Ｒは、第二の絶縁基板２１Ｒと、ブラックマトリクス２２Ｒ及びカラーフィルタ２３Ｒと、オーバーコート層２４Ｒと、を液晶層３０Ｒ側に向かって順に備える。
【００１４】
液晶表示装置１Ｒでは、１つの画素３Ｒが３つの絵素２Ｒから構成され、赤色絵素ＲＲ、緑色絵素ＧＲ及び青色絵素ＢＲが１つの画素３Ｒに配置されている。以下では、緑色絵素ＧＲが点灯状態（白制御）であり、緑色絵素ＧＲの両隣に位置する赤色絵素ＲＲ及び青色絵素ＢＲが非点灯状態（黒制御）である場合を例に挙げて説明する。
【００１５】
比較形態の液晶表示装置１Ｒでは、図１８に示すように、フリンジ電界を付与するために配置した画素電極１７Ｒのスリット１７１Ｒが、垂直（紙面上）方向に対して、一定の角度をもって傾斜している。ＦＦＳモードの液晶表示装置である比較形態の液晶表示装置１Ｒにおいては、初期配向状態の液晶分子３１Ｒの長軸３１１Ｒ（初期配向軸とも言う。）を垂直（紙面上）とし、液晶分子３１Ｒの長軸３１１Ｒに対して、画素電極１７Ｒに設けられたスリット１７１Ｒに角度を持たせることで、液晶分子３１Ｒを一定方向へ回転させることができ、電圧制御によって液晶分子３１Ｒの配向を制御することが可能となっている。なお、本比較形態では、正の誘電率異方性を有する液晶分子３１Ｒを用いるため初期配向軸を垂直（紙面上）とするが、正の誘電率異方性を有する液晶分子３１Ｒに替えて負の誘電率異方性を有する液晶分子３１Ｒを用いることも可能であり、この場合、初期配向軸を水平（紙面横）としてもよい。
【００１６】
画素電極１７Ｒは、同一絵素２Ｒ内を上下に分割してメインスリット部１７１ａＲの角度を２方位備えているので、絵素２Ｒの中央付近で液晶分子３１Ｒの配向の回転方向は逆となり、絵素の中央部Ｘ付近では液晶分子３１Ｒの配向衝突による乱れが生じる。液晶分子３１Ｒの配向衝突による乱れが生じる領域を縮小するために、絵素の中央部Ｘには、メインスリット部１７１ａＲより角度を更に倒したサブスリット部１７１ｂＲ（折れ曲がり部）が設けられる。また、絵素の上端部Ｙ及び絵素の下端部Ｚにおいても、スリット１７１Ｒ端で絵素２Ｒの垂直方向へフリンジ電界がもたらされ、制御したい配向に対して好ましくない電界が発生する。これについても、液晶分子３１Ｒの配向の乱れが生じる領域を縮小するために、メインスリット部１７１ａＲより角度を更に倒したサブスリット部１７１ｂＲが設けられる。このように、ＦＦＳモードの液晶表示装置１Ｒでは、液晶分子３１Ｒの配向が乱れることを抑えるために、絵素２Ｒの設計において、配向制御領域端（開口（スリット１７１）の上下端部および中央部等）にメインスリット部１７１ａＲと異なる角度をもつサブスリット部１７１ｂＲが設けられる。なお、本明細書において、上端部及び下端部は、上下端部とも言う。
【００１７】
サブスリット部１７１ｂＲは、初期配向軸（９０°（垂直））とメインスリット部１７１ａＲとのなす角度よりも、初期配向軸とサブスリット部１７１ｂＲとのなす角度が大きくなるように設定されている。したがって、初期配向軸（黒制御）に対する電界制御角度は、メインスリット部１７１ａＲとサブスリット部１７１ｂＲとで大きく異なり、サブスリット部１７１ｂＲでは僅かな電位差でも液晶分子３１Ｒが動いてしまう。したがって、隣接する絵素２Ｒ間の領域１００Ｒにおいても、サブスリット部１７１ｂＲの周辺でフリンジ電界により液晶分子３１Ｒが回転し易い。そのため、光を透過させることが好ましくない絵素２Ｒの外側の領域１００Ｒにおいても、サブスリット部１７１ｂＲの周辺ではフリンジ電界により液晶分子３１Ｒが回転し、光透過性を示す可能性がある。また、サブスリット部１７１ｂＲが配置された領域は、上述のように液晶分子３１Ｒの配向の乱れが生じやすい領域であり、サブスリット部１７１ｂＲを設けたとしてもサブスリット部１７１ｂＲ近傍は液晶分子３１Ｒの配向制御が困難な領域となる。したがって、絵素２Ｒの外側の領域１００Ｒのサブスリット部１７１ｂＲ近傍では、液晶分子３１Ｒの予期せぬ配向に起因する光透過の可能性もある。
【００１８】
図１９に示すように、ＴＦＴ基板１０ＲとＣＦ基板２０Ｒとの貼り合わせにおいてずれが発生していない液晶表示装置１Ｒを斜め方向から観察する場合、互いに隣接する異なる色の絵素２Ｒのうち一方の絵素（緑色絵素ＧＲ）から他方の絵素（青色絵素ＢＲ）に向けて入射する破線矢印の光は隣接絵素２Ｒ間の領域１００Ｒを通過するが、ブラックマトリクス２２Ｒにより遮光されるため斜視混色は発生しない。
【００１９】
しかしながら、図２０に示すように、ＴＦＴ基板１０ＲとＣＦ基板２０Ｒとの貼り合わせにおいてずれが発生し、ブラックマトリクス２２Ｒが図２０において左側へとずれている液晶表示装置１Ｒを、緑色絵素ＧＲ対して青色絵素ＢＲ側から斜めに見た場合、緑表示が青付いて見える斜視混色が発生する場合がある。これは、点灯状態である緑色絵素ＧＲから、非点灯状態である青色絵素ＢＲに向けて入射する破線矢印の斜め方向の光が隣接絵素２Ｒ間の光透過性を示す領域１００Ｒを通過した後、ブラックマトリクス２２Ｒにより遮光されず透過し、非点灯状態の青色絵素ＢＲから青色の光が抜けるためである。
【００２０】
以上のように、光を透過させることが好ましくない絵素２Ｒの外側の領域１００Ｒにおいて、サブスリット部１７１ｂＲの周辺ではフリンジ電界により液晶分子３１Ｒが回転したり、液晶分子３１Ｒの配向乱れが発生してしまうため、黒制御されている絵素２Ｒの一部分から光が斜めに通り易くなり表示不具合（斜視混色）が発生し、表示品位の低下を招いてしまう。これは高精細画素で隣接絵素２Ｒ間の距離が小さくなってしまった場合、特に顕著となり、更には色境界に配置したブラックマトリクス２２Ｒの幅が小さい場合も同様に発生し易くなる。
【００２１】
ここで、隣接絵素２Ｒ間の領域１００Ｒにおいて液晶分子３１Ｒを黒表示に制御することが可能である場合は、斜め方向の光が液晶層３０Ｒによって遮断されるため、斜視混色は発生しない。例えば、隣接絵素２Ｒ間が充分に離れている場合、画素電極１７Ｒと共通電極１５Ｒとの間に発生するフリンジ電界が及ばない領域を絵素２Ｒ境界に設けることが可能であり、斜め方向の光は液晶層３０Ｒで遮断され透過することができなくなる。この場合、特別な遮光対策は必要とされない。しかしながら、画素電極１７Ｒで制御できない領域が大きくなってしまうので、透過率の低下を招いてしまう。また、画素の精細度が高まってきた場合、隣接絵素２Ｒ間のスペースを狭くして、透過率を確保するケースがある。この時、絵素２Ｒ境界の液晶分子３１Ｒの制御は、画素制御電位の影響を強く受け、混色の懸念が高まってくる。
【００２２】
図２１を用いて、斜視混色について更に説明する。図２１は、比較形態の液晶表示装置の光漏れについて説明した平面模式図である。絵素２Ｒの中央部と同様に、絵素２Ｒの端部においても、画素電極１７Ｒと共通電極１５Ｒとの間で発生するフリンジ電界によって液晶分子３１Ｒが応答したり、液晶分子３１Ｒの配向乱れが発生する。そのため、図２１における二点鎖線で囲まれた外側エリア２００Ｒでは、画素電極１７Ｒ両端（画素制御端）の外部分において、光漏れが発生し得る。
【００２３】
更に、サブスリット部１７１ｂＲ近傍の図２１において丸い点線で囲まれた部分は、外側エリア２００Ｒからブラックマトリクス２２Ｒの隣接絵素２Ｒ側の端部までの距離が特に小さく遮光量が少ない。そのため、図２１において丸い点線で囲まれた部分では斜視混色のリスクが更に高まる。
【００２４】
このような斜視混色を抑えるためにブラックマトリクスを太くして遮光することも考えられるが、大幅な透過率の低下を招いてしまう。
【００２５】
ここまで、ＣＦ基板２０Ｒ側に配置されるブラックマトリクス２２Ｒが細線化される場合の斜視混色について説明した。一方、比較形態の液晶表示装置１Ｒが備えるＴＦＴ基板１０Ｒ側では、開口率確保やクロストーク対策のために、遮光部材であるデータ線１３１Ｒが細線化されることが多い。また、一定の電位が供給される共通電極１５Ｒを電気的に安定化させるために、共通電極１５Ｒと直接接する層に遮光性の金属配線１８Ｒが配置される場合があるが、この場合も同様の理由により細線化されることが多い。このように、ＴＦＴ基板側に配置される遮光部材が細線化される場合も、ブラックマトリクス２２Ｒが細線化される場合と同様の理由により斜視混色が発生し得る。
【００２６】
上記特許文献１によれば、遮光領域近傍において、突条部により電気力線の延び広がりが抑えられるとともに、液晶層の厚みの減少により透過率が低下するため、斜視混色をある程度抑えることはできる。しかしながら、上記突条部は透明の樹脂膜であるため光漏れを抑える効果は充分ではなく、斜視混色を抑えるには未だ改良の余地がある。また、上記特許文献２は、ゲート電極の周りで発生する光漏れを防ぐことを目的とするものであり、斜視混色を目的とするものではない。
【００２７】
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、開口率の低下を抑えつつ、斜視混色を抑えることができる液晶表示装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００２８】
本発明者らは、開口率の低下を抑えつつ、斜視混色を抑えることができる液晶表示装置について種々検討した結果、第一基板及び第二基板の少なくとも一方において、隣接する異なる色の絵素間に少なくとも配置される遮光部材の形状に着目した。そして、遮光部材の両側の異なる色の絵素では、一方の絵素に設けられたサブスリット部が平面視において遮光部材により近くに位置し、他方の絵素に設けられたサブスリット部が平面視において遮光部材により遠くに位置するため、基板の貼り合せずれが発生した時に遮光部材の両側で斜め方向の光の漏れ易さが異なることを見出だした。そして、光漏れが発生し易い側で遮光部材を拡幅する一方で、その反対側で遮光部材を拡幅しないことによって、斜め方向の光を効果的に遮光しつつ、開口率の低下を抑えることが可能となることを見出した。これにより、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達した。
【００２９】
すなわち、本発明の一態様は、第一基板と、上記第一基板に対向する第二基板と、上記第一基板及び上記第二基板の間に挟持され、かつ、液晶分子を含む液晶層と、複数色の絵素から各々構成される複数の画素と、を備え、上記第一基板及び上記第二基板の少なくとも一方は、隣接する異なる色の絵素間に少なくとも配置された遮光部材を有し、上記第一基板は、画素電極及び共通電極の一方の電極である第一の電極と、上記第一の電極上に設けられた層間絶縁膜と、上記層間絶縁膜上に設けられ、かつ、他方の電極である第二の電極とを、上記液晶層側に向かって順に備え、上記第二の電極には、各絵素において、スリットが設けられており、上記スリットは、第一の方向に延びるメインスリット部と、上記メインスリット部の端部に繋がり、かつ、第二の方向に延びるサブスリット部と、を含み、初期配向状態の上記液晶分子の長軸及び短軸のうち、誘電率がより大きい方の軸方向と上記第二の方向とのなす角は、上記軸方向と上記第一の方向とのなす角より大きく、上記遮光部材が上記第一基板に設けられている場合、平面視において、上記遮光部材は、両側の異なる色の絵素に配置された上記サブスリット部のうち、より近いサブスリット部側で拡幅され、より遠いサブスリット部側は拡幅されず、上記遮光部材が上記第二基板に設けられている場合、平面視において、上記遮光部材は、両側の異なる色の絵素に配置された上記サブスリット部のうち、より遠いサブスリット部側で拡幅され、より近いサブスリット部側は拡幅されない液晶表示装置であってもよい。
【００３０】
上記第一基板は、データ線を有し、上記遮光部材は、上記データ線であってもよい。
【００３１】
上記第一基板は、上記共通電極と接する金属配線を備え、上記遮光部材は、上記金属配線であってもよい。
【００３２】
上記画素電極は、上記第一の電極であり、上記共通電極は、上記第二の電極であってもよい。
【００３３】
上記画素電極は、前記第二の電極であり、上記共通電極は、前記第一の電極であってもよい。
【００３４】
上記第二基板は、平面視において上記遮光部材と重畳するブラックマトリクスを備え、上記遮光部材は、平面視において、上記ブラックマトリクスが配置された領域内において拡幅されていてもよい。
【００３５】
上記第二基板は、ブラックマトリクスを備え、上記遮光部材は、上記ブラックマトリクスであってもよい。
【発明の効果】
【００３６】
本発明によれば、開口率の低下を抑えつつ、斜視混色を抑えることができる液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】実施形態１の液晶表示装置の平面模式図である。
【図２】実施形態１の液晶表示装置に関する図であり、第一基板と第二基板との貼り合わせにおいて第二基板が右側にずれている場合の、絵素の中央部における断面模式図である。
【図３】実施形態１の液晶表示装置に関する図であり、第一基板と第二基板との貼り合わせにおいて第二基板が左側にずれている場合の、絵素の上端部及び下端部における断面模式図である。
【図４】実施形態１の液晶表示装置をカーブドディスプレイに適用した場合の模式図である。
【図５】実施形態２の液晶表示装置の平面模式図である。
【図６】実施形態３の液晶表示装置の平面模式図である。
【図７】実施形態４の液晶表示装置の平面模式図である。
【図８】実施形態５の液晶表示装置の平面模式図である。
【図９】実施形態５の液晶表示装置の断面模式図である。
【図１０】実施形態３及び５の液晶表示装置における、斜め方向の光の遮光について説明する断面模式図である。
【図１１】実施形態６の液晶表示装置の平面模式図である。
【図１２】実施形態７の液晶表示装置の平面模式図である。
【図１３】実施形態７の液晶表示装置の断面模式図である。
【図１４】実施形態７の液晶表示装置における、斜め方向の光の遮光について説明する断面模式図である。
【図１５】実施形態８の液晶表示装置の平面模式図である。
【図１６】実施形態９の液晶表示装置の平面模式図である。
【図１７】比較形態の液晶表示装置に関する図であり、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との貼り合わせにおいてＣＦ基板が左側にずれている場合の断面模式図である。
【図１８】比較形態の液晶表示装置の平面模式図である。
【図１９】比較形態の液晶表示装置に関する図であり、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との貼り合わせにおいて両基板間にずれが発生していない場合の断面模式図である。
【図２０】比較形態の液晶表示装置に関する図であり、ＴＦＴ基板とＣＦ基板との貼り合わせにおいて両基板間にずれが発生している場合の断面模式図である。
【図２１】比較形態の液晶表示装置の光漏れについて説明した平面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００３８】
以下、本発明の実施形態について説明する。本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の構成を充足する範囲内で、適宜設計変更を行うことが可能である。なお、以下の説明において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を異なる図面間で共通して用い、その繰り返しの説明は省略する。また、実施形態に記載された各構成は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよいし、変更されてもよい。
【００３９】
［実施形態１］
本実施形態では、ＦＦＳモードの液晶表示装置を例に挙げて説明を行う。図１は、実施形態１の液晶表示装置の平面模式図である。図２は、実施形態１の液晶表示装置に関する図であり、第一基板と第二基板との貼り合わせにおいて第二基板が右側にずれている場合の、絵素の中央部における断面模式図である。図３は、実施形態１の液晶表示装置に関する図であり、第一基板と第二基板との貼り合わせにおいて第二基板が左側にずれている場合の、絵素の上端部及び下端部における断面模式図である。図２は、図１におけるａ−ｂ方向に沿った３つの絵素の断面模式図であり、絵素の中央部Ｘに配置されたサブスリット部における断面模式図である。図３は、図１におけるｃ−ｄ方向に沿った３つの絵素の断面模式図であり、絵素の上端部Ｙ及び下端部Ｚに配置されたサブスリット部における断面模式図である。
【００４０】
本実施形態の液晶表示装置（液晶パネルモジュール）１は、第一基板１０と、第一基板１０に対向する第二基板２０と、第一基板１０及び第二基板２０の間に挟持され、かつ、液晶分子３１（ネマチック液晶）を含む液晶層３０と、を備える。
【００４１】
第一基板１０は、複数のデータ線（ソース線）１３１、及び、複数のデータ線１３１と交差する複数の走査線１３２を有し、スイッチング素子としての薄膜トランジスタ１３（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）を備え、ＴＦＴ基板とも言う。
【００４２】
また、第一基板１０は、第一の絶縁基板１１と、第一の絶縁膜１２と、データ線１３１と、第二の絶縁膜１４と、共通電極１５と、層間絶縁膜１６と、画素電極１７とを液晶層３０側に向かって順に備える。本実施形態では、共通電極１５が上記第一の電極であり、画素電極１７が上記第二の電極である。なお、本明細書では、共通電極と画素電極との間（第一の電極と第二の電極との間）に電圧が印加された電圧印加状態を、単に「電圧印加状態」とも言い、共通電極と画素電極との間（第一の電極と第二の電極との間）に電圧が印加されていない電圧無印加状態を、単に「電圧無印加状態」とも言う。
【００４３】
第一基板１０の液晶層３０側の面には、水平配向膜（図示せず）が設けられている。第一基板１０の液晶層３０と反対側の面には、第一基板１０側から順に第一偏光板（図示せず）及びバックライト（図示せず）が設けられている。
【００４４】
液晶層３０は、正の誘電率異方性を有する液晶分子３１を含み、初期配向状態の液晶分子３１の長軸３１１は、図１の上下方向（パネル表示面の垂直方向）に設定されている。なお、本明細書では、電圧無印加状態の液晶分子を、初期配向状態の液晶分子とも言う。正の誘電率異方性を有する液晶分子は、例えば、２〜１３の誘電率異方性（Δε）を有する。
【００４５】
液晶層３０は、正の誘電率異方性を有する液晶分子３１に替えて、負の誘電率異方性を有する液晶分子３１を含んでもよい。この場合も、初期配向状態の液晶分子３１の長軸３１１は、図１の左右方向（パネル表示面の水平方向）に設定される。負の誘電率異方性を有する液晶分子は、例えば、−６〜−２の誘電率異方性を有する。
【００４６】
なお、誘電率異方性は、下記式（Ｌ）で定義される。
Δε＝（液晶分子の長軸方向の誘電率）−（液晶分子の短軸方向の誘電率）    （Ｌ）
【００４７】
第二基板２０は、第二の絶縁基板２１と、ブラックマトリクス２２及びカラーフィルタ（ＣＦ：Ｃｏｌｏｒ  Ｆｉｌｔｅｒ）２３と、オーバーコート層２４とを液晶層３０側に向かって順に備える。第二基板２０は、ＣＦ基板とも言う。ブラックマトリクス２２は、隣接する絵素２間に配置された遮光部材である。第二基板２０の液晶層３０側の表面上には、水平配向膜（図示せず）が設けられている。第二基板２０の液晶層３０と反対側の面には、第二偏光板（図示せず）が設けられている。
【００４８】
液晶表示装置１では、１つの画素３内に３つの絵素２（赤色絵素Ｒ、緑色絵素Ｇ及び青色絵素Ｂ）が配置されている。以下では、緑色絵素Ｇが点灯状態（白制御）であり、緑色絵素Ｇの両隣に位置する赤色絵素Ｒ及び青色絵素Ｂが非点灯状態（黒制御）である場合を例に挙げて説明を行う。
【００４９】
第一基板１０について詳細に説明する。第一基板１０は、図１の垂直方向（パネル表示面の垂直方向）に延在する複数のデータ線１３１と、複数のデータ線１３１と交差し、図１の水平方向（パネル表示面の水平方向）に延在する複数の走査線１３２と、複数のＴＦＴ１３と、を備える。複数のデータ線１３１はそれぞれ、隣接する絵素２間に配置された遮光部材である。
【００５０】
各ＴＦＴ１３は、複数のデータ線１３１及び複数の走査線１３２のうちの対応するデータ線１３１及び走査線１３２に電気的に接続され、薄膜半導体１３４、対応するデータ線１３１の一部で構成されるソース電極１３１ａ、対応する走査線１３２の一部で構成されるゲート電極１３２ａ、及び、複数の画素電極１７のうちの対応する画素電極１７と電気的に接続されたドレイン電極１３３ａを有する三端子スイッチである。
【００５１】
互いに隣接する２本のデータ線１３１と、互いに隣接する２本の走査線１３２とに囲まれた各領域には、複数のスリット（開口）１７１が設けられた画素電極１７が配置されている。画素電極１７は半導体１３４を介してデータ線１３１と電気的に接続されており、走査線１３２のＯｎ／Ｏｆｆの電位制御によってソース信号を画素電極１７へ充電し、画素電位を任意に制御することができる。これにより、画素電極１７の下層に層間絶縁膜１６介して配置された共通電極１５との間でフリンジ電界を発生させ、液晶分子３１を動作させ、第二基板２０側で赤色絵素Ｒ／緑色絵素Ｇ／青色絵素Ｂに区画された絵素単位で光を透過させることでカラー表示させることが可能となっている。
【００５２】
画素電極１７は、各絵素２に設けられており、各画素電極１７には、互いに平行な複数のスリット１７１が設けられており、共通電極１５は、スリット１７１に対向している。画素電極１７及び共通電極１５の間に印加される電圧を制御することによって、液晶分子３１の配向、より詳細には回転を制御する。
【００５３】
画素電極１７の構造について更に詳述する。スリット１７１は、各絵素２において、液晶分子３１の短軸３１２に対して互いに線対称な形状を有する上部スリット１７１１及び下部スリット１７１２を有する。本実施形態の液晶表示装置１は、マルチドメイン（２ドメイン）のＦＦＳモードの液晶表示装置である。
【００５４】
上部スリット１７１１は、方向Ｄ１に延びるメインスリット部１７１ａと、方向Ｄ１に延びるメインスリット部１７１ａの両端部に繋がり、かつ、方向Ｄ２に延びる２つのサブスリット部１７１ｂと、を含む。下部スリット１７１２は、方向Ｄ３に延びるメインスリット部１７１ａと、方向Ｄ３に延びるメインスリット部１７１ａの両端部に繋がり、かつ、方向Ｄ４に延びる２つのサブスリット部１７１ｂと、を含む。ここで、方向Ｄ１及びＤ３は上記第一の方向に対応し、方向Ｄ２及びＤ４は上記第二の方向に対応する。各スリット１７１は、各画素電極１７の中央部に配置された、方向Ｄ２に延びるサブスリット部１７１ｂ及び方向Ｄ４に延びるサブスリット部１７１ｂ間の中心線に対して、線対称な形状を有する。
【００５５】
初期配向状態の液晶分子３１の長軸３１１及び短軸３１２のうち誘電率がより大きい方の軸方向（正の誘電率異方性を有する場合は長軸３１１、負の誘電率異方性を有する場合は短軸３１２）とサブスリット部１７１ｂの延在方向Ｄ２、Ｄ４（第二の方向）とのなす角は、上記誘電率がより大きい方の軸方向とメインスリット部１７１ａの延在方向Ｄ１、Ｄ３（第一の方向）とのなす角より大きい。そのため、液晶分子３１は、メインスリット部１７１ａ周辺よりもサブスリット部１７１ｂ周辺において回転し易く、サブスリット部１７１ｂ周辺では僅かな電位差でも回転する。
【００５６】
初期配向状態の液晶分子３１の長軸３１１及び短軸３１２のうち誘電率がより大きい方の軸方向とサブスリット部１７１ｂの延在方向Ｄ２、Ｄ４とのなす角（以下、単に「サブスリット部１７１ｂの角度」とも言う。）は、１０°〜５０°であることが好ましく、２０°〜４０°であることがより好ましい。また、上記誘電率がより大きい方の軸方向とメインスリット部１７１ａの延在方向Ｄ１、Ｄ３とのなす角（以下、単に「メインスリット部１７１ａの角度」とも言う。）は、１°〜２０°であることが好ましく、５°〜１５°であることがより好ましい。サブスリット部１７１ｂの角度は、メインスリット部１７１ａの角度より、１０°〜４５°大きいことが好ましく、１５°〜３５°大きいことがより好ましい。
【００５７】
初期配向状態の液晶分子３１の長軸３１１に対して、方向Ｄ１のなす角と方向Ｄ３のなす角は互いに等しく、同様に、方向Ｄ２のなす角と方向Ｄ４のなす角とは互いに等しい。各スリット１７１は、液晶分子３１の短軸３１２に対して、線対称な形状を有する。
【００５８】
本実施形態の液晶表示装置１では、水平（紙面横）または垂直（紙面縦）方向に初期配向された液晶分子３１が倒れる方向に迷うことが無いよう、一定の傾斜をもってメインスリット部１７１ａのスリット角度が設定されている。また、スリット端ではフリンジ電界の方向が液晶応答について好ましくない方向（縦方向）になってしまうので、液晶分子３１の応答の安定性を確保するためにメインスリット部１７１ａＲよりもさらに角度を持ったサブスリット部１７１ｂ（第一の折れ曲がり部）が形成されている。一方、絵素２の中央部では、初期配向に対する液晶分子３１の動く方向が絵素２の上部と下部とで互いに反対方向となっており、絵素２の中央部において液晶分子３１の配向が衝突する箇所が生じてしまう。液晶分子３１の応答の安定性を確保するため、絵素２の上下端部と同様に、中央部にはメインスリット部１７１ａよりもさらに角度を持ったサブスリット部１７１ｂ（第二の折れ曲がり部）が形成されている。このように、本実施形態の液晶表示装置１は、絵素２の中央部、上端部及び下端部にサブスリット部１７１ｂ（画素電極折れ曲がり部）を有する構成となっている。
【００５９】
色境界に配置された第二基板２０側のブラックマトリクス２２に対して、第一基板１０側のデータ線１３１をセンター合わせに配置することが開口率的に最も効率的な構成である。このとき、上記第一の折れ曲がり部及び第二の折れ曲がり部において、サブスリット部１７１ｂＲがデータ線１３１に近づく方向は互いに異なる。絵素の中央部である第二の折れ曲がり部では、絵素２の境界に位置するデータ線１３１Ｒが、両側の異なる色の絵素２に配置されたサブスリット部１７１ｂのうち右側のサブスリット部１７１ｂにより近く、絵素２の上下端部である第一の折れ曲がり部では、左側のサブスリット部１７１ｂにより近い。
【００６０】
画素電極１７と共通電極１５との間でフリンジ電界を形成し、液晶分子３１の応答を得るＦＦＳモードの液晶表示装置１では、画素電極１７に設けられたスリット１７１とデータ線１３１との距離が近いほど、画素電極１７のエッジが絵素２間の境界に近くなり、画素電極１７のエッジで発生するフリンジ電界が絵素２間の境界にまで及び易くなる。ここで、上述のように、液晶分子３１は、メインスリット部１７１ａ周辺よりもサブスリット部１７１ｂ周辺において回転し易いため、光を透過させることが好ましくない絵素２の外側の領域１００（絵素２の境界）においても、サブスリット部１７１ｂの周辺ではフリンジ電界により液晶分子３１が回転し易く、また、サブスリット部１７１ｂとデータ線１３１との距離が近いほどこの現象は起こり易い。また、サブスリット部１７１ｂが配置された領域は、液晶分子３１の配向の乱れが生じやすい領域であり、サブスリット部１７１ｂを設けたとしてもサブスリット部１７１ｂ近傍は液晶分子３１の配向制御が困難な領域となる。したがって、絵素２の外側の領域１００のサブスリット部１７１ｂ近傍では、液晶分子３１の予期せぬ配向に起因する光透過の可能性もある。そのため、例えば、ある絵素が白（全透過）で制御され、当該絵素に隣接する絵素が黒（透過させない）状況であった場合、サブスリット部１７１ｂの周辺で斜視の混色に対する懸念が高まり、第二基板の貼り合わせ（ブラックマトリクスの位置）が白絵素側にずれた場合、斜視混色の懸念がより高まる。
【００６１】
また、本実施形態では、サブスリット部１７１ｂがデータ線１３１に近づく方向が、絵素２の中央部と上下端部とで逆方向であるため、斜視混色の懸念が更に高まる状況は、絵素２の中央部と上下端とで逆方向となる。例えば、第二基板２０が右側へずれる場合は、図２に示すように絵素２の中央部で斜視混色が発生する懸念がより高まり、左側へずれる場合は、図３に示すように絵素２の上下端部で斜視混色が発生する懸念がより高まる。
【００６２】
本実施形態ではこれらの課題を解決するために、異なる色の絵素２間に配置される遮光部材４０としてデータ線１３１に着目し、斜視混色発生する懸念が高まる方向にのみデータ線１３１を拡幅して追加遮光部４１を配置する。より具体的には、第一基板１０に設けられた遮光部材４０としてのデータ線１３１は、データ線１３１の両側の異なる色の絵素２に配置されたサブスリット部１７１ｂのうち、より近いサブスリット部１７１ｂ側で拡幅される。これにより、基板の貼り合せずれが発生した時に斜め方向の光がより漏れ易い側で遮光部材４０を拡幅し、第一基板１０で斜め方向の光を遮光することが可能となり、斜視混色を抑えることができる。更に、データ線１３１は、データ線１３１の両側の異なる色の絵素２に配置されたサブスリット部１７１ｂのうち、より遠いサブスリット部１７１ｂ側で拡幅されないことにより、データ線１３１が両側に拡幅される場合に比べて開口率の低下を抑えることができる。その結果、遮光部材４０としてのデータ線１３１が両側に拡幅される場合に比べて開口率の低下を抑えつつ、斜視混色を抑えることができる。特に、画素電極１７にスリット１７１が設けられた本実施形態では、スリット１７１より外側に画素電極１７のエッジが配置されるため、スリットを設けた共通電極を画素電極上に配置する態様（後述の実施形態７及び８）と比べて、フリンジ電界が絵素２のより外側にまで広がり易く、斜視混色が発生し易いが、データ線１３１を上記のように拡幅させることにより、効果的に斜視混色を抑えることができる。
【００６３】
また、上記特許文献１では、突条部により液晶界面での平滑性が低下し、配向不良等の不具合が発生する場合があるが、本実施形態では上記特許文献１のような突条部を設けないので配向不良の発生を抑えつつ、斜視混色を抑えることができる。
【００６４】
データ線１３１は、平面視において、データ線１３１の両側の異なる色の絵素２に配置されたサブスリット部１７１ｂのうち、より近いサブスリット部１７１ｂ側で拡幅されればよく、拡幅される程度は特に限定されないが、開口率の低下を抑える観点から、重畳するブラックマトリクス２２が配置された領域内において、例えば１〜５μｍ拡幅される（すなわち、追加遮光部４１の幅を１〜５μｍとする）ことが好ましい。
【００６５】
追加遮光部４１を有する遮光部材４０（データ線１３１）が拡幅されていない部分では、遮光部材４０に隣接するメインスリット１７１ａと遮光部材４０との距離は一定であるが、遮光部材４０が拡幅されている部分では、遮光部材４０に隣接するスリット１７１とデータ線１３１との距離が小さくなる。すなわち、遮光部材４０に隣接するメインスリット１７１ａと遮光部材４０との距離に比べて、隣接するスリット１７１との距離が小さい部分において、遮光部材４０が拡幅されているものとし、隣接するスリット１７１との距離が同じであるか（実質的に同じである場合を含む）、大きい部分では、遮光部材４０は拡幅されていないものとする。
【００６６】
データ線１３１が拡幅される領域は、より近いサブスリット部１７１ｂを走査線１３２の延在方向にデータ線１３１上へ投影した領域の少なくとも一部であればよく、例えば、投影した領域の一部であっても、投影した領域の全てであっても、投影した領域の全てを含む更に広い領域であってもよい。
【００６７】
以上、実施形態１における主な特徴である遮光部材４０の構造について説明した。以下、その他の構造、各部材の材料及び製造方法について説明する。
【００６８】
共通電極１５に対しては、一定値に保たれた共通信号が供給される。共通電極１５は、絵素の境界に関わらず、画素電極１７とドレイン電極１３３ａとの接続部等の特定部分を除いて、ほぼ一面に形成されている。
【００６９】
第一の絶縁基板１１及び第二の絶縁基板２１の材料としては、ガラス、プラスチック等の透明な材料が好適に用いられる。
【００７０】
第一の絶縁膜１２及び層間絶縁膜１６は、例えば、無機絶縁膜である。第二の絶縁膜１４は、例えば、有機絶縁膜、又は、有機絶縁膜及び無機絶縁膜の積層体である。上記無機絶縁膜の材料としては、窒化シリコン、酸化シリコン等が挙げられる。上記有機絶縁膜の材料としては、感光性アクリル樹脂等の透明樹脂が挙げられる。
【００７１】
データ線１３１、走査線１３２及びＴＦＴ１３を構成する各種配線及び電極は、スパッタリング法等により、銅、チタン、アルミニウム、モリブデン、タングステン等の金属、又は、それらの合金を、単層又は複数層で成膜し、続いて、フォトリソグラフィ法等でパターニングを行うことで形成することができる。これら各種配線及び電極は、同じ層に形成されるものについては、それぞれ同じ材料を用いることで製造が効率化される。
【００７２】
ＴＦＴ１３の半導体１３４は、例えば、アモルファスシリコン、ポリシリコン等からなる高抵抗半導体層と、アモルファスシリコンにリン等の不純物をドープしたｎ＋アモルファスシリコン等からなる低抵抗半導体層とによって構成される。また、半導体１３４として、酸化亜鉛等の酸化物半導体層を用いてもよい。
【００７３】
画素電極１７及び共通電極１５は、例えば、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ）等の透明導電材料、又は、それらの合金を、スパッタリング法等により単層又は複数層で成膜して形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングを行うことで形成することができる。画素電極１７に設けられるスリット１７１もまた、パターニングの際に同時に形成することができる。
【００７４】
ブラックマトリクス２２の材料は、遮光性を有するものである限り特に限定されないが、黒色顔料を含有した樹脂材料、又は、遮光性を有する金属材料が好適に用いられる。ブラックマトリクス２２は、例えば、黒色顔料を含む感光性樹脂を塗布して成膜し、露光及び現像等を行うフォトリソグラフィ法により形成される。
【００７５】
カラーフィルタ２３の材料としては、各色に対応する光を透過する感光性樹脂（カラーレジスト）が好適に用いられる。カラーフィルタ２３は、例えば、感光性樹脂を塗布して成膜し、露光及び現像等を行うフォトリソグラフィ法により形成される。
【００７６】
オーバーコート層２４は、第二基板２０の液晶層３０側の面を平坦化するものであり、例えば、有機膜（誘電率ε＝３〜４）を用いることができる。オーバーコート層２４は、例えば、光硬化性の樹脂を塗布し、紫外線照射及び焼成を行うことにより形成される。
【００７７】
上記第一偏光板及び上記第二偏光板は、いずれも吸収型偏光子であり、互いに吸収軸が直交したクロスニコルの配置関係にある。
【００７８】
上記バックライトの方式は特に限定されず、例えば、エッジライト方式、直下型方式等が挙げられる。上記バックライトの光源の種類は特に限定されず、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）、冷陰極管（ＣＣＦＬ）等が挙げられる。
【００７９】
本実施形態の液晶表示装置１における第一基板１０は、複数のデータ線１３１に電気的に接続されるソースドライバ（図示省略）、及び、複数の走査線１３２に電気的に接続されるゲートドライバ（図示省略）を更に有する。ゲートドライバは、コントローラ（図示省略）による制御に基づいて、走査線１３２に走査信号を順次供給する。ソースドライバは、ＴＦＴ１３が走査信号によって電圧印加状態となるタイミングで、コントローラによる制御に基づいてデータ線１３１にデータ信号を供給する。画素電極１７は各々、対応するＴＦＴ１３を介して供給されるデータ信号に応じた電位に設定され、画素電極１７と共通電極１５との間でフリンジ電界が発生し、液晶層３０の液晶分子が回転する。このようにして画素電極１７と共通電極１５との間に印加する電圧の大きさを制御し、液晶層３０のリタデーションを変化させ、光の透過、不透過を制御する。
【００８０】
また、液晶表示装置１は、第一基板１０に電気的に接続されたフレキシブルプリント基板（ＦＰＣ：Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  Ｐｒｉｎｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔ）を有する。ＦＰＣは、可撓性のプリント基板であり、信号供給源である外部（ホスト）の制御回路基板（図示省略）と第一基板１０とを電気的に接続する。
【００８１】
液晶表示装置１の精細度は特に限定されないが、高精細化に伴いブラックマトリクス２２が細線化される場合であっても、斜視混色を抑えることが可能であるため、高精細度（例えば、１００〜１０００ｐｐｉ）が必要な用途に好適である。なお、本明細書における精細度（ｐｐｉ：ｐｉｘｅｌ  ｐｅｒ  ｉｎｃｈ）とは、１インチ（２．５４ｃｍ）当たりに配置される画素の数である。
【００８２】
図４は、実施形態１の液晶表示装置をカーブドディスプレイに適用した場合の模式図である。本実施形態の液晶表示装置１は、図４に示すように、第一基板１０及び第二基板２０が湾曲変形しているカーブドディスプレイにおいても好適に用いることができる。表示面が湾曲したカーブドディスプレイでは、第一基板１０及び第二基板２０が湾曲変形しているが、両基板１０及び２０間において曲率半径に差が生じるため、第一基板１０に配置された絵素構造と第二基板２０に配置された絵素構造との相対的な位置が湾曲方向にずれて斜視混色が発生する可能性が通常のフラットディスプレイの場合より高い。しかしながら、本実施形態の液晶表示装置１では、遮光部材４０としてのデータ線１３１を特定の側に拡幅することにより、第一基板１０と第二基板２０との間にずれが生じる場合であっても斜視混色を抑えることが可能であるため、本実施形態の液晶表示装置１はカーブドディスプレイにおいても好適に用いることができる。
【００８３】
カーブドディスプレイに適用された場合、実施形態１の液晶表示装置１は、図４に示すように、２つのＦＰＣ１３５Ｌ、１３５Ｒを備え、一方のＦＰＣ１３５Ｌは第一基板１０の下端部の左側に電気的に接続され、他方のＦＰＣ１３５Ｒは第一基板１０の下端部の右側に電気的に接続される。
【００８４】
第一基板１０上には、２つのソースドライバ１３１ＤＬ、１３１ＤＲが実装され、一方のソースドライバ１３１ＤＬは第一基板１０の下端部の左側に設けられ、他方のソースドライバ１３１ＤＲは第一基板１０の下端部の右側に設けられる。ソースドライバ１３１ＤＬは、第一基板１０の左側半分に配置される複数のデータ線１３１と電気的に接続され、ソースドライバ１３１ＤＲは、第一基板１０の右側半分に配置される複数のデータ線１３１と電気的に接続されている。
【００８５】
第一基板１０上には、２つのゲートドライバ１３２ＤＬ、１３２ＤＲが実装され、一方のゲートドライバ１３２ＤＬは第一基板１０の左端部に設けられ、他方のゲートドライバ１３２ＤＲは第一基板１０の右端部に設けられる。
【００８６】
［実施形態２］
本実施形態では、本実施形態に特有の特徴について主に説明し、上記実施形態と重複する内容については説明を省略する。上記実施形態１では、遮光部材４０として第一基板１０上に設けられたデータ線１３１を用いるが、本実施形態では、異なる色の絵素２間に配置される遮光部材４０としてブラックマトリクス２２に着目し、斜視混色に対して上記実施形態１と同様な品位レベルを得るために、第二基板側のブラックマトリクスを拡幅して、追加遮光部を配置し、斜め方向の光を遮光する態様を示す。なお、ブラックマトリクス２２は、同色の絵素２間にも配置される。
【００８７】
図５は、実施形態２の液晶表示装置の平面模式図である。斜視混色を招く斜め方向の光は、隣接する異なる色の絵素２のうち、一方の絵素２の第一基板１０側から、他方の絵素２の第二基板２０側へ向かって進行する。そのため、隣接する異なる色の絵素２の境界を基準にして、第二基板２０上で斜め方向の光が通過する位置は、第一基板１０上で斜め方向の光が通過する位置とは反対側となる。したがって、第二基板２０に追加遮光部４１が設けられる本実施形態では、第一基板１０に追加遮光部４１が設けられる上記実施形態１とは反対側において遮光部材４０を拡幅する。すなわち、本実施形態では、第二基板２０に設けられたブラックマトリクス２２を、追加遮光部４１を有する遮光部材４０として用い、遮光部材４０としてのブラックマトリクス２２は、平面視において、ブラックマトリクス２２の両側の異なる色の絵素２に配置されたサブスリット部１７１ｂのうち、より遠いサブスリット部１７１ｂ側で拡幅される。これにより、基板の貼り合せずれが発生した時に斜め方向の光がより漏れ易い側で遮光部材４０を拡幅し、第二基板２０で斜め方向の光を遮光することが可能となり、斜視混色を抑えることができる。
【００８８】
更に、ブラックマトリクス２２は、ブラックマトリクス２２の両側の異なる色の絵素２に配置されたサブスリット部１７１ｂのうち、より近いサブスリット部１７１ｂ側で拡幅されないことにより、ブラックマトリクス２２が両側に拡幅される場合に比べて開口率の低下を抑えることができる。このように、本実施形態においても、遮光部材４０としてのブラックマトリクス２２が両側に拡幅される場合に比べて開口率の低下を抑えつつ斜視混色を抑えて、表示品位を確保することができる。
【００８９】
図１に示すように、上記実施形態１では、第一基板１０上に設けられた追加遮光部４１の大部分が第二基板２０上に設けられたブラックマトリクス２２と重畳する位置に配置されるため、追加遮光部４１を配置することによる開口率の低下は小さい。一方、本実施形態では、図５に示すように、追加遮光部４１がブラックマトリクス２２を用いて形成されるため、上記実施形態１に比べて、開口率は低下してしまう。
【００９０】
ブラックマトリクス２２は、平面視において、ブラックマトリクス２２の両側の異なる色の絵素２に配置されたサブスリット部１７１ｂのうち、より遠いサブスリット部１７１ｂ側で拡幅されればよく、拡幅される程度は特に限定されないが、基板間のずれを考慮して、例えば１〜５μｍ拡幅される（すなわち、追加遮光部４１の幅を１〜５μｍとする）ことが好ましい。
【００９１】
ブラックマトリクス２２が拡幅される領域は、より遠いサブスリット部１７１ｂを走査線１３２の延在方向にブラックマトリクス２２上へ投影した領域の少なくとも一部であればよく、例えば、投影した領域の一部であっても、投影した領域の全てであっても、投影した領域の全てを含む更に広い領域であってもよい。
【００９２】
［実施形態３］
本実施形態では、本実施形態に特有の特徴について主に説明し、上記実施形態と重複する内容については説明を省略する。上記実施形態１では、１つの絵素２内で配向方向を２方位もって、視野角を補償している構成を示した。本実施形態では、１つの絵素では１方位のメインスリット部の角度を有し、縦の２つの絵素単位で配向方向を２方位有する構成について示す。
【００９３】
図６は、実施形態３の液晶表示装置の平面模式図である。本実施形態では、縦に並ぶ２つの絵素２のうち一方の絵素２に配置された画素電極１７には、方向Ｄ１に延びるメインスリット部１７１ａと、方向Ｄ１に延びるメインスリット部１７１ａの両端部に繋がり、かつ、方向Ｄ２に延びる２つのサブスリット部１７１ｂと、を含むスリット１７１が設けられており、他方の絵素２に配置された画素電極１７には、方向Ｄ３に延びるメインスリット部１７１ａと、方向Ｄ３に延びるメインスリット部１７１ａの両端部に繋がり、かつ、方向Ｄ４に延びる２つのサブスリット部１７１ｂと、を含むスリット１７１が設けられている。初期配向状態の液晶分子３１の長軸３１１に対して、方向Ｄ１のなす角と方向Ｄ３のなす角は互いに等しく、同様に、方向Ｄ２のなす角と方向Ｄ４のなす角とは互いに等しい。縦に並ぶ２つの絵素２に配置されたスリット１７１は、上記２つの絵素２の境界線に対して、線対称な形状を有する。また、縦に並ぶ２つの絵素２に配置されたスリット１７１は、液晶分子３１の短軸３１２に対して、線対称な形状を有する。ここで、方向Ｄ１及びＤ３は上記第一の方向に対応し、方向Ｄ２及びＤ４は上記第二の方向に対応する。
【００９４】
本実施形態では、上述のように、液晶分子３１の配向安定化を目的として、絵素の上端部Ｙ及び絵素の下端部Ｚにおいて、メインスリット部１７１ａよりも角度を倒したサブスリット部１７１ｂが設けられている。更に上記実施形態１と同様に、第一基板１０に設けられた遮光部材４０としてのデータ線１３１は、データ線１３１の両側の異なる色の絵素２に配置されたサブスリット部１７１ｂのうち、より近いサブスリット部１７１ｂ側で拡幅される。これにより、基板の貼り合せずれが発生した時に斜め方向の光がより漏れ易い側で遮光部材４０を拡幅し、第一基板１０で斜め方向の光を遮光することが可能となり、斜視混色を抑えることができる。更に、データ線１３１は、データ線１３１の両側の異なる色の絵素２に配置されたサブスリット部１７１ｂのうち、より遠いサブスリット部１７１ｂ側で拡幅されないことにより、データ線１３１が両側に拡幅される場合に比べて開口率の低下を抑えることができる。したがって、本実施形態では、遮光部材４０としてのデータ線１３１が両側に拡幅される場合に比べて開口率の低下を抑えつつ、斜視混色を抑えることができ、表示品位を確保することができる。
【００９５】
本実施形態では、上記実施形態１と同様の課題を解決するために、斜視から光が透過してしまう方向をフォローできるようにデータ線１３１に追加遮光部４１を配置している。本実施形態における追加遮光部４１の位置は、１つの絵素２で見た場合、対角に備え付けられている。
【００９６】
［実施形態４］
本実施形態では、本実施形態に特有の特徴について主に説明し、上記実施形態と重複する内容については説明を省略する。上記実施形態３では、追加遮光部４１を有する遮光部材４０として第一基板１０上に設けられたデータ線１３１を用いるが、本実施形態では、斜視混色に対して上記実施形態３と同様な品位レベルを得るために、第二基板側のブラックマトリクスを拡幅して、追加遮光部４１を配置し、斜め方向の光を遮光する態様を示す。
【００９７】
図７は、実施形態４の液晶表示装置の平面模式図である。本実施形態では、第二基板２０に設けられたブラックマトリクス２２を、追加遮光部４１を有する遮光部材４０として用いる。遮光部材４０としてのブラックマトリクス２２は、平面視において、ブラックマトリクス２２の両側の異なる色の絵素２に配置されたサブスリット部１７１ｂのうち、より遠いサブスリット部１７１ｂ側で拡幅される。これにより、基板の貼り合せずれが発生した時に斜め方向の光がより漏れ易い側で遮光部材４０を拡幅し、第二基板２０で斜め方向の光を遮光することが可能となり、斜視混色を抑えることができる。更に、ブラックマトリクス２２は、ブラックマトリクス２２の両側の異なる色の絵素２に配置されたサブスリット部１７１ｂのうち、より近いサブスリット部１７１ｂ側で拡幅されないことにより、ブラックマトリクス２２が両側に拡幅される場合に比べて開口率の低下を抑えることができる。このように、本実施形態においても、遮光部材４０としてのブラックマトリクス２２が両側に拡幅される場合に比べて開口率の低下を抑えつつ斜視混色を抑えて、表示品位を確保することができる。
【００９８】
図６に示すように、上記実施形態３では、第一基板１０上に設けられた追加遮光部４１の大部分が第二基板２０上に設けられたブラックマトリクス２２と重畳する位置に配置されるため、追加遮光部４１を配置することによる開口率の低下は小さい。一方、本実施形態では、図７に示すように、追加遮光部４１がブラックマトリクス２２を用いて形成されるため、上記実施形態３に比べて、開口率は低下してしまう。
【００９９】
［実施形態５］
本実施形態では、本実施形態に特有の特徴について主に説明し、上記実施形態と重複する内容については説明を省略する。上記実施形態３では、追加遮光部４１を有する遮光部材４０としてデータ線１３１を用いるが、本実施形態では、遮光部材４０として他の金属配線を用いる。
【０１００】
図８は、実施形態５の液晶表示装置の平面模式図である。図９は、実施形態５の液晶表示装置の断面模式図である。図９は、図８におけるａ−ｂ方向に沿った３つの絵素の断面模式図であり、絵素の中央部に配置されたサブスリット部における断面模式図である。
【０１０１】
本実施形態の液晶表示装置１は、上記実施形態３の液晶表示装置１と同様のＦＦＳ構成画素でありながら、透明電極である共通電極１５と直接接する層に金属配線（３ｒｄメタル配線とも言う。）１８が追加されている構成を示す。ＦＦＳ構成の画素において基準電極となる共通電極はＴＦＴ基板側に形成されており、なおかつ画素開口部の透過率を確保するためにＩＴＯなどの透明電極にて構成されることが一般的であるが、透明導電膜は一般的に抵抗が高く、ソース信号の振幅などによって、基準電位が乱れた場合、正常電位へ充電する時間が長くなって、表示品位の低下を招くことがある。一定電位が供給されている共通電極に対して、電気的に安定化させるために低抵抗化メタル配線である３ｒｄメタル配線によって充電能力を高める構成がある。このとき３ｒｄメタル配線は開口部以外へ配置することが開口率を低下させることが無いという点で好ましい構成となる。図８及び図９では、データ線１３１及び走査線１３２に対応した位置（重畳する位置）に金属配線１８を配置している構成を例示している。すなわち、金属配線１８は、異なる色の絵素２間、及び、同色の絵素２間に配置される。
【０１０２】
本実施形態では、上記実施形態３と同様に、サブスリット部１７１ｂにおいて斜視混色の懸念が高まる。そのため、本実施形態においても、金属配線１８を用いて、上記実施形態３と同様に追加遮光部４１を配置している。
【０１０３】
本実施形態では、第一基板１０に設けられた遮光部材４０としての金属配線１８は、データ線１３１の両側の異なる色の絵素２に配置されたサブスリット部１７１ｂのうち、より近いサブスリット部１７１ｂ側で拡幅される。これにより、基板の貼り合せずれが発生した時に斜め方向の光がより漏れ易い側で遮光部材４０を拡幅し、第一基板１０で斜め方向の光を遮光することが可能となり、斜視混色を抑えることができる。更に、金属配線１８は、データ線１３１の両側の異なる色の絵素２に配置されたサブスリット部１７１ｂのうち、より遠いサブスリット部１７１ｂ側で拡幅されないことにより、金属配線１８が両側に拡幅される場合に比べて開口率の低下を抑えることができる。したがって、本実施形態では、遮光部材４０としての金属配線１８が両側に拡幅される場合に比べて開口率の低下を抑えつつ、斜視混色を抑えることができ、表示品位を確保することができる。
【０１０４】
本実施形態では、上記実施形態３と同様の課題を解決するために、斜視から光が透過してしまう方向をフォローできるように金属配線１８に追加遮光部４１を配置している。本実施形態における追加遮光部４１の位置は、１つの絵素２で見た場合、対角に備え付けられている。
【０１０５】
図１０は、実施形態３及び５の液晶表示装置における、斜め方向の光の遮光について説明する断面模式図である。図１０は、図８におけるａ−ｂ方向に沿った断面を拡大した模式図である。
【０１０６】
図１０は、データ線１３１で遮光した場合と金属配線１８で遮光した場合の斜視混色の遮光状況を比較するために、２種類の追加遮光部４１を一つの図で示している。図１０に示すように、同一角度からの光を遮蔽する効果は、液晶層３０に近い側で遮光する場合により高い効果が得られる。したがって、液晶層３０に近い金属配線１８で遮光する本実施形態の方が、上記実施形態３に比べて遮光幅を縮小することができ、追加遮光部４１の幅をより狭めることが可能であるため、開口率の低下をより抑えながら、斜視混色を抑えて表示品位を確保することができる。
【０１０７】
また、データ線１３１で遮光した場合、データ線１３１の幅が一部大きくなることで、データ線１３１と共通電極１５との間の容量など、画素表示品位確保に好ましくない寄生容量が発生し、クロストークなどの表示品位低下を生じる可能性があるが、本実施形態のように金属配線１８による遮光においては、その懸念も発生しない。
【０１０８】
金属配線１８は、平面視において、金属配線１８の両側の異なる色の絵素２に配置されたサブスリット部１７１ｂのうち、より近いサブスリット部１７１ｂ側で拡幅されればよく、拡幅される程度は特に限定されないが、開口率の低下を抑える観点から、金属配線１８は重畳するブラックマトリクス２２が配置された領域内において、例えば１〜５μｍ拡幅される（すなわち、追加遮光部４１の幅を１〜５μｍとする）ことが好ましい。
【０１０９】
金属配線１８が拡幅される領域は、より近いサブスリット部１７１ｂを走査線１３２の延在方向に金属配線１８上へ投影した領域の少なくとも一部であればよく、例えば、投影した領域の一部であっても、投影した領域の全てであっても、投影した領域の全てを含む更に広い領域であってもよい。
【０１１０】
金属配線１８は、例えば、スパッタリング法等により、銅、チタン、アルミニウム、モリブデン、タングステン等の金属、又は、それらの合金を、単層又は複数層で成膜し、続いて、フォトリソグラフィ法等でパターニングを行うことで形成することができる。
【０１１１】
［実施形態６］
本実施形態では、本実施形態に特有の特徴について主に説明し、上記実施形態と重複する内容については説明を省略する。上記実施形態５では、追加遮光部４１を有する遮光部材４０として第一基板１０上に設けられた金属配線１８を用いるが、本実施形態では、斜視混色に対して上記実施形態５と同様な品位レベルを得るために、第二基板側のブラックマトリクスを拡幅して、追加遮光部４１を配置し、斜め方向の光を遮光する態様を示す。
【０１１２】
図１１は、実施形態６の液晶表示装置の平面模式図である。本実施形態では、第二基板２０に設けられたブラックマトリクス２２を、追加遮光部４１を有する遮光部材４０として用いる。遮光部材４０としてのブラックマトリクス２２は、平面視において、ブラックマトリクス２２の両側の異なる色の絵素２に配置されたサブスリット部１７１ｂのうち、より遠いサブスリット部１７１ｂ側で拡幅される。これにより、基板の貼り合せずれが発生した時に斜め方向の光がより漏れ易い側で遮光部材４０を拡幅し、第二基板２０で斜め方向の光を遮光することが可能となり、斜視混色を抑えることができる。更に、ブラックマトリクス２２は、ブラックマトリクス２２の両側の異なる色の絵素２に配置されたサブスリット部１７１ｂのうち、より近いサブスリット部１７１ｂ側で拡幅されないことにより、ブラックマトリクス２２が両側に拡幅される場合より開口率の低下を抑えることができる。このように、本実施形態においても、遮光部材４０としてのブラックマトリクス２２が両側に拡幅される場合に比べて開口率の低下を抑えつつ斜視混色を抑えて、表示品位を確保することができる。
【０１１３】
図８に示すように、上記実施形態５では、第一基板１０上に設けられた追加遮光部４１の大部分が第二基板２０上に設けられたブラックマトリクス２２と重畳する位置に配置されるため、追加遮光部４１を配置することによる開口率の低下はない、又は、小さい。一方、本実施形態では、図１１に示すように、追加遮光部４１がブラックマトリクス２２を用いて形成されるため、上記実施形態５に比べて、開口率は低下してしまう。
【０１１４】
［実施形態７］
本実施形態では、本実施形態に特有の特徴について主に説明し、上記実施形態と重複する内容については説明を省略する。上記実施形態５では、共通電極１５の上層に配置された画素電極１７にスリット１７１を設けるが、本実施形態では、共通電極と画素電極の配置を入れ替え、画素電極の上層に配置された共通電極にスリットを設ける。すなわち、本実施形態では、画素電極が第一の電極であり、共通電極が第二の電極である。
【０１１５】
図１２は実施形態７の液晶表示装置の平面模式図である。図１３は、実施形態７の液晶表示装置の断面模式図である。図１３は、図１２におけるａ−ｂ方向に沿った３つの絵素の断面模式図であり、絵素の端部に配置されたサブスリット部における断面模式図である。
【０１１６】
本実施形態では、液晶層３０にフリンジ電界を発生させる絵素の構成例として、スリット１７１が設けられた共通電極１５が上層（液晶層３０側）に、層間絶縁膜を挟んで画素電極１７が下層に配置される構成を示す。最上層（液晶層側）の電極にスリットが設けられていれば、ＦＦＳモードの液晶動作に対して、共通電極と画素電極とはどちらが上層側にいても特に問題はないことが一般的に知られている。
【０１１７】
本実施形態では、上記実施形態５と同様に、透明電極で形成された共通電極１５と同層に金属配線１８を配置して低抵抗化している絵素の構成を例示している。このとき、上記実施形態５と同様に、サブスリット部１７１ｂが絵素２の境界センター（ブラックマトリクス２２のセンター／データ線１３１のセンター）に近づいている部分に金属配線１８での追加遮光部４１を配置することで、斜視混色に対する対策が講じられており、この構成によると、開口率の低下なしに、表示品位を確保することができる。
【０１１８】
すなわち、本実施形態では、第一基板１０に設けられた遮光部材４０としての金属配線１８は、データ線１３１の両側の異なる色の絵素２に配置されたサブスリット部１７１ｂのうち、より近いサブスリット部１７１ｂ側で拡幅される。これにより、基板の貼り合せずれが発生した時に斜め方向の光がより漏れ易い側で遮光部材４０を拡幅し、第一基板１０で斜め方向の光を遮光することが可能となり、斜視混色を抑えることができる。更に、金属配線１８は、データ線１３１の両側の異なる色の絵素２に配置されたサブスリット部１７１ｂのうち、より遠いサブスリット部１７１ｂ側で拡幅されないことにより、金属配線１８が両側に拡幅される場合に比べて開口率の低下を抑えることができる。したがって、本実施形態では、遮光部材４０としての金属配線１８が両側に拡幅される場合に比べて開口率の低下を抑えつつ、斜視混色を抑えることができ、表示品位を確保することができる。
【０１１９】
本実施形態では、上記実施形態５と同様の課題を解決するために、斜視から光が透過してしまう方向をフォローできるように金属配線１８に追加遮光部４１を配置している。本実施形態における追加遮光部４１の位置は、１つの絵素２で見た場合、対角に備え付けられている。
【０１２０】
図１４は、実施形態７の液晶表示装置における、斜め方向の光の遮光について説明する断面模式図である。画素電極１７が共通電極１５よりも液晶層３０側に配置される場合に、共通電極１５と接する金属配線１８で遮光する態様（実施形態５）と、共通電極１５が画素電極１７よりも液晶層３０側に配置される場合に、共通電極１５と接する金属配線１８で遮光する態様（実施形態７）とについて、斜視混色の遮光状況を比較するために、図１４の実施形態７の断面模式図において、実施形態５の遮光部材４０である金属配線１８が配置される場所を仮想的に破線で示している。
【０１２１】
図１４に示すように、同一角度からの光を遮蔽する効果は、液晶層３０に近い側で遮光する場合により高い効果が得られる。したがって、液晶層３０に近い金属配線１８で遮光する本実施形態の方が、上記実施形態５に比べて遮光幅を縮小することができ、追加遮光部４１の幅をより狭めることが可能であるため、開口率の低下をより抑えながら、斜視混色を抑えて表示品位を確保することができる。
【０１２２】
また、データ線１３１で遮光した場合、データ線１３１の幅が一部大きくなることで、データ線１３１と共通電極１５との間の容量など、画素表示品位確保に好ましくない寄生容量が発生し、クロストークなどの表示品位低下を生じる可能性があるが、本実施形態５と同様に、本実施形態のように金属配線１８による遮光においては、その懸念も発生しない。
【０１２３】
［実施形態８］
本実施形態では、本実施形態に特有の特徴について主に説明し、上記実施形態と重複する内容については説明を省略する。上記実施形態７では、追加遮光部４１を有する遮光部材４０として第一基板１０上に設けられた金属配線１８を用いるが、本実施形態では、斜視混色に対して上記実施形態７と同様な品位レベルを得るために、第二基板側のブラックマトリクスを拡幅して、追加遮光部４１を配置し、斜め方向の光を遮光する態様を示す。
【０１２４】
図１５は、実施形態８の液晶表示装置の平面模式図である。本実施形態では、第二基板２０に設けられたブラックマトリクス２２を遮光部材４０として用いる。遮光部材４０としてのブラックマトリクス２２は、平面視において、ブラックマトリクス２２の両側の異なる色の絵素２に配置されたサブスリット部１７１ｂのうち、より遠いサブスリット部１７１ｂ側で拡幅される。これにより、基板の貼り合せずれが発生した時に斜め方向の光がより漏れ易い側で遮光部材４０を拡幅し、第二基板２０で斜め方向の光を遮光することが可能となり、斜視混色を抑えることができる。更に、ブラックマトリクス２２は、ブラックマトリクス２２の両側の異なる色の絵素２に配置されたサブスリット部１７１ｂのうち、より近いサブスリット部１７１ｂ側で拡幅されないことにより、ブラックマトリクス２２が両側に拡幅される場合に比べて開口率の低下を抑えることができる。このように、本実施形態においても、遮光部材４０としてのブラックマトリクス２２が両側に拡幅される場合に比べて開口率の低下を抑えつつ斜視混色を抑えて、表示品位を確保することができる。
【０１２５】
図１１に示すように、上記実施形態７では、第一基板１０上に設けられた追加遮光部４１の大部分が第二基板２０上に設けられたブラックマトリクス２２と重畳する位置に配置されるため、追加遮光部４１を配置することによる開口率の低下はない、又は、小さい。一方、本実施形態では、図１５に示すように、追加遮光部４１がブラックマトリクス２２を用いて形成されるため、上記実施形態７に比べて、開口率は低下してしまう。
【０１２６】
［実施形態９］
本実施形態では、本実施形態に特有の特徴について主に説明し、上記実施形態と重複する内容については説明を省略する。本実施形態は、データ線１３１の形状が異なること以外は、上記実施形態１と同様の構成を有する。
【０１２７】
図１６は、実施形態９の液晶表示装置の平面模式図である。上記実施形態１では、画素電極１７のスリット１７１がＶ字状となっている部分において、データ線１３１の形状を調整せずに、ブラックマトリクス２２のセンターに合わせてデータ線１３１を設計するが、本実施形態では、画素電極１７のスリット１７１がＶ字状となっている部分において、画素電極１７のスリット１７１の形状に沿うようにデータ線１３１をＶ字状に屈曲させる。
【０１２８】
本実施形態では、上述のように、液晶分子３１の配向安定化を目的として、絵素の中央部Ｘ、絵素の上端部Ｙ及び絵素の下端部Ｚにおいて、メインスリット部１７１ａよりも角度を倒したサブスリット部１７１ｂが設けられている。更に上記実施形態１と同様に、第一基板１０に設けられた遮光部材４０としてのデータ線１３１は、データ線１３１の両側の異なる色の絵素２に配置されたサブスリット部１７１ｂのうち、より近いサブスリット部１７１ｂ側で拡幅される。これにより、基板の貼り合せずれが発生した時に斜め方向の光がより漏れ易い側で遮光部材４０を拡幅し、第一基板１０で斜め方向の光を遮光することが可能となり、斜視混色を抑えることができる。更に、データ線１３１は、データ線１３１の両側の異なる色の絵素２に配置されたサブスリット部１７１ｂのうち、より遠いサブスリット部１７１ｂ側で拡幅されないことにより、データ線１３１が両側に拡幅される場合に比べて開口率の低下を抑えることができる。したがって、本実施形態では、遮光部材４０としてのデータ線１３１が両側に拡幅される場合に比べて開口率の低下を抑えつつ、斜視混色を抑えることができ、表示品位を確保することができる。
【０１２９】
画素電極１７のスリット１７１のＶ字部に沿わせてデータ線１３１を設ける本実施形態の液晶表示装置１は、画素電極１７のスリット１７１のＶ字部に沿わせず、ブラックマトリクス２２のセンターに合わせてデータ線１３１を設計する実施形態１の液晶表示装置１に比べ、平面視において、遮光性の部材が配置される領域が広くなる可能性があるため、高開口率化の観点からは、実施形態９より実施形態１の液晶表示装置１の方が好ましい態様であると言える。
【符号の説明】
【０１３０】
１、１Ｒ：液晶表示装置
２、２Ｒ：絵素
３、３Ｒ：画素
１０：第一基板（ＴＦＴ基板）
１０Ｒ：ＴＦＴ基板
１１、１１Ｒ：第一の絶縁基板
１２、１２Ｒ：第一の絶縁膜
１３：薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）
１４、１４Ｒ：第二の絶縁膜
１５、１５Ｒ：共通電極
１６、１６Ｒ：層間絶縁膜
１７、１７Ｒ：画素電極
１８、１８Ｒ：金属配線
２０：第二基板（ＣＦ基板）
２０Ｒ：ＣＦ基板
２１、２１Ｒ：第二の絶縁基板
２２、２２Ｒ：ブラックマトリクス
２３、２３Ｒ：カラーフィルタ
２４、２４Ｒ：オーバーコート層
３０、３０Ｒ：液晶層
３１、３１Ｒ：液晶分子
４０：遮光部材
４１：追加遮光部
１００、１００Ｒ：領域
１３１、１３１Ｒ：データ線
１３１ａ：ソース電極
１３１ＤＬ、１３１ＤＲ：ソースドライバ
１３２、１３２Ｒ：走査線
１３２ＤＬ、１３２ＤＲ：ゲートドライバ
１３２ａ：ゲート電極
１３３ａ：ドレイン電極
１３４：薄膜半導体
１３５Ｌ、１３５Ｒ：フレキシブルプリント基板（ＦＰＣ）
１４０：液晶パネル
１７１、１７１Ｒ：スリット
１７１ａ、１７１ａＲ：メインスリット部
１７１ｂ、１７１ｂＲ：サブスリット部
２００Ｒ：外側エリア
３１１、３１１Ｒ：長軸
３１２、３１２Ｒ：短軸
１７１１：上部スリット
１７１２：下部スリット
Ｂ、ＢＲ：青色絵素
Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４、Ｄ１Ｒ、Ｄ２Ｒ、Ｄ３Ｒ、Ｄ４Ｒ：方向
Ｇ、ＧＲ：緑色絵素
Ｒ、ＲＲ：赤色絵素
Ｘ：絵素の中央部
Ｙ：絵素の上端部
Ｚ：絵素の下端部
【図１】
2019144412.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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