(57)【要約】  本発明は、鋼ストリップの一つの面または双方の面に緻密で均一分布したアルミニウム層（２）を有する被覆ステンレス鋼ストリップ製品（１）を提供する。この層は本質的に純アルミニウムからなり、この層の厚みは最大１５μｍであり、この層の許容公差はこの層の厚みの最大プラスマイナス３０％であり、この鋼ストリップの基材のＣｒ含有量は少なくとも１０％であり、且つこの層は剥離等の傾向を示すことなく、このストリップの厚み（３）に最大で等しい半径を覆って、被覆ステンレス鋼ストリップを１８０度に曲げることができるという良好な付着性を有する。このＡｌ被覆ストリップ製品は、屋外生活適用、スポーツと海上生活との適用、家族適用、及び個人介護適用のような、高湿度の環境においてまたは湿潤条件における適用に適切である。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
鋼ストリップの一方の面または双方の面に緻密で均一に分布した層を備えた被覆ステンレス鋼ストリップ製品であって、
前記層が、本質的に純アルミニウムからなり且つ前記鋼ストリップに直接添付され、
前記層の厚みが、最大１５μｍであり、
前記層の許容公差が、前記層の厚みの最大プラスマイナス３０％であり、
前記鋼ストリップの基材のＣｒ含有量が、少なくとも１０％であり、且つ
前記層が、剥離等の傾向を示すことなく前記鋼ストリップの厚みに最大で等しい半径を覆って、被覆ステンレス鋼ストリップを１８０度曲げることが可能であるという良好な付着性を有することを特徴とする被覆ステンレス鋼ストリップ製品。
【請求項２】
前記ストリップ基材の厚みが０．０１５ｍｍ〜３ｍｍの間にあることを特徴とする請求項１に記載の被覆ステンレス鋼ストリップ製品。
【請求項３】
フェライトステンレス鋼、焼入れ可能クロム鋼、オーステナイトステンレス鋼、二相ステンレス鋼、または析出硬化型ステンレス鋼から作られることを特徴とする請求項１または２に記載の被覆ステンレス鋼ストリップ製品。
【請求項４】
前記層が、最大１０層の多層構造を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の被覆ステンレス鋼ストリップ製品。
【請求項５】
個々の層の各々が、０．１〜８μｍの間の厚みを有することを特徴とする請求項４に記載の被覆ステンレス鋼ストリップ製品。
【請求項６】
Ａｌ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｏのような異なる金属被膜の個々の層の多層構造を有し、且つ少なくとも１層が本質的に純アルミニウムからなることを特徴とする請求項５に記載の被覆ステンレス鋼ストリップ製品。
【請求項７】
犠牲陽極として作用する耐食性適用の用途に適切であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の被覆ステンレス鋼ストリップ製品。
【請求項８】
耐食性構成物のコスト効率及び生産性のある製造に適切であり、且つ屋外生活適用、スポーツと海上生活との適用、家族適用、及び個人介護適用のような、高湿度の環境においてまたは湿潤条件において使用されることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の被覆ステンレス鋼ストリップ製品。
【請求項９】
被覆ステンレス鋼ストリップ製品が、少なくとも５メートル／分の最小ストリップ速度を有し且つ直列のエッチング室を含む電子線蒸着を使用するストリップ製造ラインに含まれる連続圧延−圧延間工程において製造されることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の被覆ステンレス鋼ストリップ製品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄くカバーしたアルミニウム層が優秀な付着性をもたらす連続圧延−圧延間工程においてアルミニウムを被覆したステンレス鋼の製造方法に関する。具体的には、本発明は、鋼表面でアルミニウムの薄い層が優秀な付着性を示し、且つ耐食性適用の構成物のコスト効率及び生産性のある製造に対して適切であるアルミニウムを被覆したステンレス鋼に関する。
【背景技術】
【０００２】
アルミニウム被膜は、耐食性適用おいて使用できることは既知である。しかしながら、小さな寸法の構成物をコスト効率と生産性のある方法で製造するために、品位と生産性との要求を達成可能な方法を見つけるには困難がある。生産性の理由のためには、連続圧延−圧延間被覆工程が必須であり、且つ品位理由のためには、優秀な付着性を備える薄い層が必要である。
【０００３】
優れた付着性が、最終製品の機能的な品位に対して要求されるが、構成物のコスト効率及び生産性のある製造を可能にすることも要求される。すなわち、付着性が劣った被覆ストリップ材料は、例えば剥離問題が生じ、この剥離問題が低い降伏をもたらし、また、特に製造工程が連続ラインである場合、製造工程中にそれ自体の剥離により生じる障害がもたらされる。さらにその上に、品位の検査及び剥離による製造ラインの清掃のために、頻繁な停止が必要となる。全体的に、被膜の貧弱な付着性が、受け入れることのできない高い製造コストと低い品位をもたらす。
【０００４】
圧延−圧延間工程においてアルミニウムで被覆した鋼の既知の製造方法は、次のとおりである。
−基材鋼材料をアルミニウム箔で被覆すること(cladding)
このクラッド(cladding)工程は金属を「冶金学的」に互いに結合して、連続的にストリップを製造することである。これは、比較的簡単で容易な技術であり、安いコストで高い降伏となる。しかしながら、この方法は、幾つかの大きな欠点がある。先ず第１に、付着性が劣るという問題がある。さらに、このクラッド技術では、均一で薄い優れた被膜を達成することは技術的に困難である。
−浸漬法(dipping)は、溶湯バス内に浸漬を行うことにより、基板材料に低溶融点金属を塗布するために用いることができる。この方法の一つの明白な欠点は、アルミニウムが比較的高い融点（６５８℃）であることである。このことが、工程因子を制御するために非常に複雑となり、且つ良好な付着性を備え均一に分布して薄くカバーした被覆層を達成することが難しい。
【０００５】
幾つかの蒸着方法があり、これはアルミニウムを蒸着するために用いることができる。最も多い方法はバッチ処理のような工程であるが、また幾つかの連続工程がある。
【０００６】
電子線蒸着法を使用する一例としての圧延−圧延間方法が国際特許ＷＯ９８／０８９８６に記載され、この国際特許は、圧延−圧延間工程に基板材料のアルミニウム被膜を成し遂げることによって、フェライトステンレスＦｅＣｒＡｌ−鋼ストリップを製造する方法を開示する。しかしながら、この特許明細書に記載される方法は、高温度の腐食環境の使用のために適切な製品に最適化され、すなわち、良好な高温強度とまた良好な高温耐食性を必要とし、それは例えば耐酸化性である。この明細書内には、また、アルミニウムが酸化物形成元素としての役割をなし、これが高温耐食性に対して有益である。このことが、基板材料が希土類金属と合金化されること、また、アルミニウム被膜がこのストリップの双方の側面に作られることを改良する。その上に、この特許明細書は、フェライト中に均一に分布したアルミニウムを備えるために、この被膜に対して９５０〜１１５０℃の温度で均質化焼鈍を行うことを提言する。したがって、どちらかといえば、これはアルミニウムも含み均一に分布した合金化元素を備えたＦｅＣｒＡｌ−鋼構成物である。さらに、これは、酸化物の存在しない界面及びこの層の良好な付着性についての必要条件が無いことを意味する。例えば、脱イオン化した水で通常の湿潤洗浄化工程よりも、ＰＶＤで被覆する工程前にされる別の洗浄化工程がなされない。アルミニウムの役割は、フェライト中に拡散することであるので、この層についての特別な均一性についての必要条件も無い。この方法は、国際特許ＷＯ９８／０８９８６に記載されるように、本発明に使用することはできない。
【０００７】
連続蒸着工程に使用される装置のもう一つの例は、米国特許第４，６５５，１６８号に記載され、この特許においては、真空チャンバーの内側に特別な制御パネルを使用することで達成される。示された例は軟鋼のＺｎ被膜用であるが、しかし示されたことはアルミニウムがこの発明にしたがって被覆することができることである。しかしながら、この方法は本発明と全く相違する。例えばロールが存在し、このロールに沿ってストリップが案内され、基材を被覆するために溶融点温度以上まで加熱し、アルミニウムである場合はこの温度は６５８℃以上である。この温度は、幾つかのステンレス鋼の組織安定性にはマイナスに影響する温度である。蒸着をなすためのエネルギ源が記載されていなくて、且つイオンエッチングに関しても検討されていない。また、酸化物のない界面または層の良好な付着性についての具体的な必要条件が記載されていない。この層は均一に分布することを記載するが、詳細が示されず且つ許容公差の範囲が規定されていない。蒸着される基材を制御する方法がむしろ複雑である。すなわち、米国特許第４，６５５，１６８号に記載されるような方法は、本発明においては使用することができない。
【０００８】
蒸着メッキ法を用いたアルミニウム被膜のさらにもう一つの例が、米国特許第５，４２９，８４３号に記載され、この特許においては基材が真空雰囲気中で鋼材料の表面に添付される。この鋼材料は、必要な特性、例えば良好な付着性を可能にするために、この表面に活性な点を形成するために１００〜４００℃の間の温度に保持される。また、イオンビーム照射が、この被覆工程に使用されるが、被覆と同じチャンバー内で行われる。この形成された層は、その後のメッキ工程における付着層として使用するためである。おおむね、この発明には二つの異なる被膜組み合わせＡｌ＋Ｚｎ及びＡｌ＋Ｔｉが記載される。しかしながら、この両者の場合においては、本質的に純アルミニウムの被膜がこの対象とする明細書に使用できないことが示される。Ａｌ＋Ｚｎに対しては、最適条件として３〜３０％の間のＺｎ含有量を有するＡｌ／Ｚｎ被膜が製造されるように、ＡｌとＺｎの同時蒸着が行われる。Ａｌ＋Ｔｉに対しては、容認可能な性質を達成するため且つ鋼に隣り合う層がＴｉ層であるという前提条件を有するために、二層の被膜が使用される。実質的にアルミニウムを被覆する場合、被膜中のピンホール開始の孔食にしたがう問題が発生し、すなわち、鋼板材料の腐食を促進するガルバニック電池を作り出すことが示される。本発明との一つの大きな相違は、基板材料が平板であり且ステンレス鋼でなくて、さらにＺｎ添加またはＴｉ層のような抑制剤が、ガルバニック電池の発生を回避するために使用される。また、この方法は、この方法に使用される工程が鋼板のバッチ式被覆であり、本発明のステンレスストリップ材料の圧延−圧延間工程における連続被膜と著し相違する。米国特許第５，４２９，８４３号に記載されるようなこの方法は、したがって本発明に使用することはできない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記を考慮して、本発明の目的は、新しい圧延−圧延間工程を提供し、ステンレス鋼の表面に優れた付着性を供えた薄くて連続したアルミニウム被膜を達成することである。
【００１０】
さらに本発明の目的は、被覆材料の耐食性適用において、構成物のコスト効率と生産性のある製造を可能にすることである。
【００１１】
さらに本発明のもう一つの目的は、可能な限り均一な厚みを備える被膜を提供することである。
【００１２】
これらの目的及びさらに他の本発明の目的は、請求項１に定義されるような特徴にしたがう被覆鋼製品を提供することによる驚くべき方法において達成された。さらに、本発明の好ましい実施態様は従属項に定義される。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、連続圧延−圧延間工程においてアルミニウム被覆ステンレス鋼を製造する方法に関し、この工程が薄くカバーしたアルミニウム層に優れた付着性を生じさせる。アルミニウム被覆ステンレス鋼ストリップは薄い層が良好な付着性を有する必要があり、それらは耐食性適用における構成物のコスト効率と生産性のある製造に適切である。アルミニウム被覆ストリップ材料において、最終製品は、高湿度の環境または湿潤条件においてしばしば使用される消費者に関係する適用において、耐食性構成物としての用途に適切である。このアルミニウム被覆ステンレス鋼の構成物は、その後ガルバノ電流による腐食から他の金属部分を保護することができ、すなわち犠牲陽極として作用する。
【００１４】
アルミニウム層は、圧延−圧延間工程中に電子線蒸着（ＥＢ）によって蒸着され、好ましくは１５μｍの厚みを有する均一に分布した層にする。基板材料は、約１０％（重量で）以上のＣｒ含有量と通常３ｍｍ未満のストリップ厚みとを有するステンレス鋼である。第一の工程として、圧延−圧延間工程は、ステンレス鋼に通常存在する以外の酸化層を取り除くために、エッチングチャンバーを備えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明の被膜及び用途の説明
最終製品は、アルミニウムを被覆したストリップ材料の形状から、屋外生活適用、スポーツと海上生活との適用、家族適用、及び個人介護適用のような、消費者に関連する用途に耐食性構成物として使用することが適切である。特に、それらは、高湿度の環境または湿潤条件でほとんど用いられる全ての適用である。同時に、これらの適用形式は、その製品寿命の期間を通して、光沢ある外観、あるいは「高品位の」外観であり、魅力的であることが期待される。光沢の無い表面は、斑点または平坦な錆があり、一般的には適切でない。
【００１６】
最終製品を腐食防止するため、少なくとも一つのアルミニウムを被覆したステンレス鋼から作られた構成物を備えることが適切である。この構成物は、その後ガルバノ電流によって他の金属部分を腐食防止をことができ、すなわち犠牲陽極として作用する。一の面または二つの面の双方を被膜で被覆することができるが、基板材料としステンレス鋼を使用する利点は、ステンレス鋼それ自体が良好な基本耐食性を有するので、耐食性の観点で一つに面の被膜で充分であることである。また、基板材料が防止する部分よりさらに貴である鋼で作られている場合、必要なアルミニウム含有量は、危機的な部分の耐用期間の間を防止するために、最小まで減少することができるので、このことがコスト的にプラス効果をもたらす。
【００１７】
本発明に記載される方法は、基本的に純アルミニウムの１５μｍ以下の厚みの薄い被膜に対して適切であるが、好ましくはさらに薄くする。アルミニウム層は、本来は０．１〜１５μｍ、一般的に０．１〜１２μｍ、さらに一般的に０．１〜１０μｍ、好ましくは０．１〜７μｍ或いはさらに全体で０．１〜５μｍである。さらに厚い層が被覆されることになれば、特性に対してコストの最適条件は１０層以下の多層を用いることで達成することができ、各層は、０．１〜８μｍ、適切には０．１〜６μｍ、さらに適切には０．１〜５μｍ、好ましくは０．１〜３μｍ、の間にあり、さらに好ましくは０．１〜２μｍの間の厚みである。
【００１８】
ＥＢ技術によって達成される許容公差は、一般的に非常に良好である。すなわち、各層の許容公差は、４００μｍ以下のストリップ幅における層の厚みを、最大でプラスマイナス３０％、通常はプラスマイナス２０％、好ましくはプラスマイナス１０％にすることができる。このことは、非常に厳しい許容公差を達成することができることを意味し、これが使用中の精度及び製品の品質に対して利点となる。
【００１９】
この薄い層は、その適用とそれらの用途に関して良好な付着性を備える必要がある。使用する際に、アルミニウムが剥離し始めることは受け入れられない。さらにその上に、本発明にしたがう層／層は、いずれの接合層も無く使用を可能にすべきであり、すなわち基材上に直接添付する必要がある。この被覆層は、いずれの接合層または接合被膜無しに基材上で優れた付着性を有する必要がある。
【００２０】
良好な付着性の例は、本発明にしたがう被覆ステンレス鋼ストリップが、剥離などの傾向を示すことなく、ストリップの厚みに最大で等しい半径を覆って、１８０度曲げることができることである（図１及び２を参照）。
【００２１】
被覆層は、この処理された材料によって加えられる摩耗及びせん断に耐えるために、充分な耐性にすべきであり、その一方で、第一の経済的理由のために、あまり厚くすべきでない。耐食性適用のため、この被膜と基板材料との厚みの比率は、０．１％〜１２％、一般的に０．１％〜１０％、普通は０．１％〜７．５％、最も好ましくは０．１％〜５％の間にすべきである。
【００２２】
上記の薄くカバーしたアルミニウム層の被膜の変種は、Ｔｉ、Ｎｉ及び／またはＭｏのようなその他の金属元素の被膜と、アルミニウムの被膜との組み合わせとすることができる。１０多層以下の多層方式を用いることにより、異なる幾つかの金属被膜の組み合わせからなる被膜は、少なくとも一つの層にアルミニウムを含み、且つ注文どおりの腐食特性を可能にして、さらに、非常に厳しい環境においての使用を意図した用途に用いることを好ましくする。
【００２３】
本発明にしたがう被覆ストリップ材料の形状の最終製品は、上記のようなコスト効率と生産性のある製造工程における適用のために、適切な構成物に容易に製造可能であることが必要であり、生産性のある製造工程は、深絞り工程、打ち抜き工程、スタンプ工程などのような形成工程を含む（例えば、図１及び図２）。
【００２４】
被覆する基板材料の説明
被覆される材料は良好な基礎的な耐食性を備えるべきであり、その他の合金化元素の組成に依存して、好ましくは、１２％以上、または少なくとも１１％或いは最低で１０％のクロム含有量とすべきである。使用に適切な材料は、タイプＡＩＳＩ４００系のフェライトクロム鋼、タイプＡＩＳＩ３００系のオーステナイトステンレス鋼のような、または国際公開ＷＯ９３／０７３０３号に記載される合金のような析出硬化型ステンレス鋼のような合金である。例えば、ＡＩＳＩ２００系のような他のステンレス鋼等級が使用できる。
【００２５】
この被覆方法は、上述のタイプのステンレス合金から作られたストリップ、棒、線、箔、ファイバなど、好ましくはストリップまたは箔の形のいずれの種類の製品に添付することができ、それらは優れた熱間加工性を備え、また薄い寸法に冷間加工することができる。この合金は、深絞り工程、打ち抜き工程、スタンプ工程などの形成工程を含む生産性のある製造工程において構成物に容易に製造することもできる。
【００２６】
ストリップ基板材料の厚みは、０．０１５〜３ｍｍ、普通は０．０３〜２．０ｍｍ、好ましくは０．０５〜１．５ｍｍ、さらに好ましくは０．０５〜１．０ｍｍの間にある。
【００２７】
基板材料の厚みは、被膜が予測される切断作業の前後になされるならば、それに依存する。さらに、上述する厚みは、耐食性の適用に使用することを意図する構成物の最終厚みに製造するために適切である厚みにするために好ましく選択される。原則的に、基板材料の厚みは、したがって１〜１５００ｍｍ、適切には１〜１０００ｍｍ、または好ましくは１〜５００ｍｍ、或いはさらに好ましくは５〜５００ｍｍの間である。この基板材料の長さは、適切には１０〜２００００ｍ、好ましくは１００〜２００００ｍの間にある。
【００２８】
高湿度または湿潤条件の環境における使用のために、基板材料は適切な組成である。これは、フェライトステンレス鋼、またはオーステナイトステンレス鋼、または二相ステンレス鋼、または硬質クロム鋼のステンレス鋼を通常意味し、
基本的にこの組成は：０．００１〜１％のＣ、１０〜２６％のＣｒ、０．０１〜８％のＭｎ、０．０１〜２％のＳｉ、０．００１〜２５％のＮｉ、６％以下のＭｏ、０．００１〜０．５％のＮ、１．５％以下のＡｌ、２％以下のＣｕ及び本質的に残部Ｆｅ、或いは
析出硬化型ステンレス鋼の：０．００１〜０．３％のＣ、１０〜１６％のＣｒ、４〜１２％のＮｉ、０．１〜１．５％のＴｉ、０．０１〜１．０％のＡｌ、０．１〜６％のＭｏ、０．００１〜４％のＣｕ、０．００１〜０．３％のＮ、０．０１〜１．５％のＭｎ、０．０１〜１．５％のＳｉ、及び本質的に残部Ｆｅである。
【００２９】
被覆方法の説明
被膜媒体の塗布及び被覆工程のための蒸着方法の変種は、蒸着方法が連続した均一性と付着性の層を備えられる限り使用することができる。典型的な方法として、抵抗過熱、電子線、誘導、アーク抵抗によるスパッタリング及び蒸発のような化学蒸着法（ＣＶＤ）、金属・有機化学蒸着法（ＭＯＣＶＤ）、物理蒸着法（ＰＶＤ）、またはレーザ蒸着法が挙げられるが、本発明のためには、本質的に電子線蒸発法（ＥＢ）が蒸着のために好ましい。任意に、このＥＢ蒸発法は、優れた品位の緻密な層の被膜をさらに確実にするために、プラズマ活性化をすることができる。
【００３０】
本発明に対しては、被覆方法が圧延−圧延間ストリップ製造ラインに組み込まれることが前もって必要である。結果として、このアルミニウム層は、圧延−圧延間工程中に電子線蒸発（ＥＢ）法によって蒸着される。多層を必要とする場合、多層の形成は一列に並んだ幾つかのＥＢ蒸着チャンバーを組立てることにより達成できる。アルミニウムの蒸着は、純アルミニウムの膜を確実にするために、いずれの反応ガスを添加することなく０．０１ミリバールの最大圧力で、減圧雰囲気の基でなされる必要がある。
【００３１】
本発明にしたがう被覆工程は、少なくとも５ｍ／分の速度で、好ましくは少なくとも８ｍ／分、またはさらに好ましくは少なくとも１０ｍ／分の速度で実行される。
【００３２】
優れた付着性を可能にするために、種々のタイプの洗浄化工程が用いられる。先ず第一に、基板材料の表面は、油脂残留物を取り除くために適切な方法で洗浄すべきであり、洗浄しないならば残留物が、被膜工程、及び被覆層の付着性と品位に、マイナスの影響をもたらす。さらにその上に、ステンレス鋼表面に通常常に存在する非常に薄いはじめからの酸化物層が、除去されねばならない。これは、アルミニウムの蒸着前に、この表面の前処理を含むことによって、好ましく行うことができる。したがって、この圧延−圧延間製造ラインにおいては、好ましくは第１の製造工程は、第一のカバーするアルミニウム層の良好な付着性を達成するため、金属ストリップ表面のイオンアシストエッチングである（図４を参照）。例えばＨＦ中の代わりの酸洗い(pickling)として、酸化物を除去するために使用できる。
【００３３】
本発明の好ましい実施態様の説明
本発明の実施態様の二つの例は、ここでさらに詳細に説明する。一つの例はタイプＡＩＳＩ４３０の基板材料を基にし、もう一つの例はタイプＡＩＳＩ３０１の基板材料を基にする。
【００３４】
この基板材料の公称化学組成は、次のとおりである。
ＡＩＳＩ４３０：最大０．１２％のＣ、最大１％のＳｉ、最大１％のＭｎ、１６．０〜１８．０％のＣｒ、及び残部が実質的にＦｅである。
ＡＩＳＩ３０１：最大０．１５％のＣ、最大１％のＳｉ、最大１％のＭｎ、１６．０〜１８．０％のＣｒ、６．０〜８．０％のＮｉ、及び残部が実質的にＦｅである。
【００３５】
先ず基板材料は、上述のような化学組成で作られた普通の冶金学的な鋼によって製造される。これらの鋼はその後中間の大きさに熱間圧延され、さらにその後、圧延段階の間に数回の再結晶段階を備える幾つかの段階で、０．３ｍｍの最終厚みと最大４００ｍｍの幅に冷間圧延される。基板材料の表面は、その後通常の方法で洗浄されて圧延による油脂残留物が除去される。さらにその後、被覆処理が、コイル巻き戻し装置が始まりの連続処理ラインで行われ。圧延−圧延間処理ラインの第１の段階は、真空チャンバーまたはエッチングチャンバーにつながる入口真空錠にすることができ、その中でステンレス基板材料の表面の薄い酸化物層を除去するために、イオンアシストエッチングが行われる。その後、このストリップは電子線蒸発チャンバーに入れられ、その中でアルミニウム蒸着が行われる。通常０．１以上〜１５μｍのアルミニウム層が蒸着され、好ましい厚みはこの適用に依存する。ここに記載する二つの実施例において、２μｍの厚みは一台の電子線蒸発チャンバーで蒸着さした。
【００３６】
この電子線蒸発後に、被覆されたストリップ材料は、コイル巻取り器に巻き取られる前に、出口真空チャンバーまたは出口真空錠を通過する。この被覆されたストリップ材料は、ここで必要である場合、例えば圧延加工または切断加工によって、さらに処理することができ、構成物の製造に対して好ましい最終寸法を達成する。
【００３７】
例えば、０．３ｍｍのストリップ厚みと、２μｍの薄くカバーしたアルミニウム層と、を有する３０２及び４３０の被覆ストリップ材料の二つの例に記載されるような最終製品は、アルミニウム層が非常に優れた付着性を備え、したがって耐食性適用においてコスト効率と生産性のある構成物の製造とに使用することが適切である。この相の良好な付着性は、さらに図１〜３に示される。本発明にしたがう被覆ストリップ製品を製造するために、薄くカバーした層２を被覆したステンレス鋼ストリップの基板材料１が、ストリップの厚み３に最大で等しい半径を有する形状をした頂部５を有する支持物４の上に置かれる。その後、曲げ試験が、ストリップの厚みに最大で等しい半径５を覆って１８０度にストリップを曲げる方法で実施され、この曲げはストリップの端部６が互いに合わさるまで続けられる。曲げがこのような曲げ試験で完了したとき、試験片は、特に曲げ加工後の層７の品位、曲げ加工後の基板８の品位、及び層と基板との間の付着性を検査する。ここに記載される実施例にしたがう試験片は、剥離などのいずれの傾向も示さない。また、このことは図３の図に示され、この図は図１及び図２に記載されるような曲げ試験において試験された試験片の横断面で撮影した写真である。写真の試験片断面は、曲げが最も激しくなったすなわち曲げの中間部９で撮影された。
【００３８】
上述の圧延−圧延間の電子線蒸発過程は、図４に説明される。このような製造ラインの最初の部分は、真空チャンバー１４内のコイル巻き戻し機１３であり、次は直列のイオンアシストエッチングチャンバー１５であり、その後に一連の電子線蒸発チャンバー（ＥＢ）１６が続き、必要なＥＢ蒸発チャンバーの数は１から１０台の数のチャンバーに変えることができ、必要ならば、多層の構造を達成することができる。ＥＢ蒸発チャンバー１６の全てが、蒸発のためにＥＢガン１７と水冷銅坩堝１８を装備する。これらのチャンバーが、出口真空チャンバー１９及び被覆ストリップ材料のコイル巻き取り機２０に進んだ後、このコイル巻取り機は真空チャンバー１９内に位置している。また、真空チャンバー１４及び１９は、入口真空錠システム及び出口真空錠システムそれぞれによって置き換えることもできる。後者の場合、コイル巻き戻し機１３とコイル巻き取り機２０は開放させた大気中に配置される。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】図１は、本発明にしたがう試験片の説明図を示し、換言すれば、このストリップの厚みに最大で等しい半径を覆って、１８０度に曲げる付着試験前の、良好な付着性を備えた薄くて緻密なアルミニウム層を有する被覆ステンレス鋼ストリップを示す。
【図２】図２は、本発明にしたがう試験片の説明図を示し、換言すれば、図１で示したような曲げ試験において曲げた後の、良好な付着性を備えた薄くて緻密なアルミニウム層を有する被覆ステンレス鋼ストリップを示す。
【図３】図３は、薄い２ミクロンのアルミニウム被膜を有する３ｍｍの厚みを有する被覆ステンレス鋼ストリップの横断面の写真を示し、ストリップは、０．３ｍｍの半径を覆って１８０度に曲げる試験において曲げられが、全く剥離の傾向を示さない。
【図４】図４は、本発明にしたがう圧延−圧延間製造ラインの模式図を示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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2007504364.tif 000009