(57)【要約】【課題】基板処理システムにおけるガスの流量を高精度に求める方法を提供する。【解決手段】基板処理システムは、第１のガス流路を有するガス供給部を備える。第１のガス流路には、流量測定システムの第２のガス流路が接続されている。流量測定システムは、第２のガス流路に接続された第３のガス流路、並びに、第３のガス流路の中の圧力及び温度をそれぞれ測定する圧力センサ及び温度センサを更に備える。一実施形態の方法では、ビルドアップ方法により、ガス供給部の流量制御器から出力されたガスの流量が算出される。ガスの流量は、第１のガス流路と第２のガス流路の合計容積、及び、第１のガス流路と第２のガス流路の中の温度を用いずに、算出される。【選択図】図１
2019120617.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流量測定システムを用いて基板処理システムにおけるガスの流量を求める方法であって、
前記基板処理システムは、
複数のチャンバ本体と、
各々が前記複数のチャンバ本体のうち対応のチャンバ本体の内部空間にガスを供給するように構成された複数のガス供給部であり、各々が、
筐体と、
前記筐体内に設けられた複数の流量制御器と、
前記複数の流量制御器の一次側にそれぞれ接続された複数の一次バルブと、
前記複数の流量制御器の二次側にそれぞれ接続された複数の二次バルブと、
複数の第１の端部、第２の端部、及び、第３の端部を含む第１のガス流路であり、該複数の第１の端部が前記複数の二次バルブにそれぞれ接続されており、該複数の第１の端部、該第２の端部、及び、該複数の第１の端部から該第２の端部まで延びる部分が、前記筐体内に設けられており、前記第３の端部が、前記筐体の外部に設けられており、前記対応のチャンバ本体の前記内部空間に開閉バルブを介して接続された、該第１のガス流路と、
を有する、該複数のガス供給部と、
前記複数のチャンバ本体の内部空間に複数の排気流路を介してそれぞれ接続された複数の排気装置と、
を備え、
前記流量測定システムは、
複数の第４の端部及び第５の端部を含む第２のガス流路であり、該複数の第４の端部の各々が前記複数のガス供給部のうち対応のガス供給部の前記第２の端部に接続された、該第２のガス流路と、
第６の端部及び第７の端部を有する第３のガス流路と、
前記第２のガス流路の前記第５の端部と前記第３のガス流路の前記第６の端部との間で接続された第１のバルブと、
前記第３のガス流路の前記第７の端部に接続され、且つ、前記複数の排気装置に接続可能に設けられた第２のバルブと、
前記第３のガス流路内の圧力を測定するように構成された一以上の第１の圧力センサと、
前記第３のガス流路内の温度を測定するように構成された第１の温度センサと、
を備え、該方法は、
前記複数のガス供給部のうち一つのガス供給部の前記第１のガス流路、前記第２のガス流路、及び、前記第３のガス流路を真空引きする工程と、
真空引きする前記工程の実行後、前記一つのガス供給部の前記複数の流量制御器のうち一つの流量制御器から出力されたガスが、前記一つのガス供給部の前記複数の二次バルブのうち該一つの流量制御器の二次側に接続された一つの二次バルブと前記第２のバルブとの間に封入された第１の状態で、前記一以上の第１の圧力センサを用いて、前記第３のガス流路内の圧力の測定値Ｐ１１を取得する工程と、
測定値Ｐ１１を取得する前記工程の実行後、前記一つの流量制御器から前記第１のガス流路、前記第２のガス流路、及び、前記第３のガス流路にガスが供給され、且つ、前記第２のバルブが閉じられた第２の状態を形成することにより、前記第１のガス流路、前記第２のガス流路、及び、前記第３のガス流路の中の圧力を上昇させる工程と、
圧力を上昇させる前記工程の実行後、前記第２のバルブと前記一つの二次バルブが閉じられた第３の状態を形成する工程と、
前記第３の状態において、前記一以上の第１の圧力センサ及び前記第１の温度センサを用いて、前記第３のガス流路内の圧力の測定値Ｐ１２及び該第３のガス流路内の温度の測定値Ｔ１２を取得する工程と、
前記第３の状態から、前記第２のバルブが開かれ、前記第１のバルブが閉じられた第４の状態を形成する工程と、
前記第４の状態から、前記第２のバルブが閉じられた第５の状態を形成する工程と、
前記第５の状態において、前記一以上の第１の圧力センサを用いて、前記第３のガス流路内の圧力の測定値Ｐ１３を取得する工程と、
前記第５の状態から前記第１のバルブが開かれた第６の状態を形成する工程と、
前記第６の状態において、前記一以上の第１の圧力センサを用いて、前記第３のガス流路内の圧力の測定値Ｐ１４を取得する工程と、
以下の（１）式
Ｑ＝（Ｐ１２−Ｐ１１）／Δｔ×（１／Ｒ）×（Ｖ／Ｔ）      …（１）
の演算を実行することにより、前記第２の状態において前記一つの流量制御器から出力された前記ガスの流量Ｑを求める工程と、
を含み、
（１）式において、Δｔは圧力を上昇させる前記工程の実行期間の時間長であり、Ｒは気体定数であり、（Ｖ／Ｔ）は、｛Ｖ３／Ｔ１２×（Ｐ１２−Ｐ１３）／（Ｐ１２−Ｐ１４）｝を含み、Ｖ３は前記第３のガス流路の容積の既定値である、
方法。
【請求項２】
前記第５の状態において前記第３のガス流路内の圧力が、真空引きされた該第３のガス流路内の圧力よりも高くなるように、設定される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記流量測定システムは、
第８の端部、第９の端部、第１０の端部、前記第８の端部と前記第９の端部との間で延びる第１の部分流路、及び、該第１の部分流路から分岐して前記第１０の端部まで延びる第２の部分流路を有する第４のガス流路であり、前記第２のバルブは前記第３のガス流路の前記第７の端部と該第４のガス流路の前記第８の端部との間で接続されている、該第４のガス流路と、
前記第４のガス流路の前記第９の端部と前記複数の排気装置の各々との間で接続された第３のバルブと、
前記第２の部分流路上に設けられた第４のバルブと、
を更に備え、該方法は、
基準器のタンクを前記第１０の端部に接続する工程であり、該基準器は、該タンク、該タンクの内部空間の中の温度を測定する第２の温度センサ、該タンクの該内部空間の中の圧力を測定する第２の圧力センサ、及び、前記第４のバルブと該タンクの該内部空間との間で接続される第５のバルブを有する、該工程と、
前記タンクの前記内部空間にガスが封入された状態で、前記第２の圧力センサ及び前記第２の温度センサを用いて、前記タンクの前記内部空間の中の圧力の測定値Ｐｒ１及び前記タンクの前記内部空間の中の温度の測定値Ｔｒ１を取得する工程と、
前記タンクの内部空間の中に封入された前記ガスを該タンクの該内部空間及び前記第４のガス流路の中で拡散させた状態で、前記第２の圧力センサ及び前記第２の温度センサを用いて、前記タンクの前記内部空間の中の圧力の測定値Ｐｒ２及び前記タンクの前記内部空間の中の温度の測定値Ｔｒ２を取得する工程と、
前記タンクの前記内部空間の既知の容積Ｖｒ、前記測定値Ｐｒ１、前記測定値Ｔｒ１、前記測定値Ｐｒ２、及び、前記測定値Ｔｒ２を用いて、以下の式（２）
Ｖ４＝Ｖｒ×（Ｐｒ１／Ｔｒ１−Ｐｒ２／Ｔｒ２）×Ｔｒ２／Ｐｒ２      …（２）
の演算を実行することにより、前記第４のガス流路の容積の算出値Ｖ４を求める工程と、
前記タンクの前記内部空間及び前記第４のガス流路に拡散された前記ガスを、該タンクの該内部空間、前記第３のガス流路、及び、前記第４のガス流路の中で拡散させた状態で、前記第１の温度センサ、前記第２の圧力センサ、及び、前記第２の温度センサをそれぞれ用いて、前記第３のガス流路内の温度の測定値Ｔ１ｆ、前記タンクの前記内部空間の中の圧力の測定値Ｐｒ３、及び、該タンクの該内部空間の中の温度の測定値Ｔｒ３を取得する工程と、
前記タンクの前記内部空間の既知の容積Ｖｒ、前記測定値Ｐｒ１、前記測定値Ｔｒ１、前記算出値Ｖ４、前記測定値Ｐｒ３、前記測定値Ｔｒ３、及び、前記測定値Ｔ１ｆを用いて、以下の（３）式
Ｖ３Ｃ＝（Ｖｒ×Ｐｒ１／Ｔｒ１−Ｖ４×Ｐｒ３／Ｔｒ３−Ｖｒ×Ｐｒ３／Ｔｒ３）×Ｔ１ｆ／Ｐｒ３
…（３）
の演算を実行することにより、前記第３のガス流路の容積の算出値Ｖ３Ｃを求める工程と、
前記算出値Ｖ３Ｃと前記既定値Ｖ３とを比較する工程と、
を更に含む、
請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記算出値Ｖ３Ｃと前記既定値Ｖ３との間の差の絶対値が所定の許容範囲に含まれない場合に、前記タンクの前記内部空間の中の圧力の測定値Ｐｒ１及び前記タンクの前記内部空間の中の温度の測定値Ｔｒ１を取得する前記工程、前記タンクの前記内部空間の中の圧力の測定値Ｐｒ２及び前記タンクの前記内部空間の中の温度の測定値Ｔｒ２を取得する前記工程、前記第４のガス流路の容積の算出値Ｖ４を求める前記工程、前記第３のガス流路内の温度の測定値Ｔ１ｆ、前記タンクの前記内部空間の中の圧力の測定値Ｐｒ３、及び、該タンクの該内部空間の中の温度の測定値Ｔｒ３を取得する前記工程、並びに、前記第３のガス流路の容積の算出値Ｖ３Ｃを求める前記工程を繰り返すことにより、前記第３のガス流路の容積の複数の算出値Ｖ３Ｃを取得する工程と、
前記複数の算出値Ｖ３Ｃの平均値を用いて、前記既定値Ｖ３を更新する工程と、
を更に含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記タンクに基準圧力センサを接続する工程と、
前記第３のガス流路、前記第４のガス流路、及び、前記タンクの前記内部空間が真空引きされた状態で、前記一以上の第１の圧力センサ、前記第２の圧力センサ、及び、前記基準圧力センサの各々の測定値のゼロ点を調整する工程と、
前記第３のガス流路の中の圧力、前記第４のガス流路の中の圧力、及び、前記タンクの前記内部空間の中の圧力が互いに同一の圧力になるように、互いに連通した前記第３のガス流路、前記第４のガス流路、及び、前記タンクの前記内部空間の中にガスが封入された状態で、前記一以上の第１の圧力センサの各々の測定値、前記第２の圧力センサの測定値、及び、前記基準圧力センサの測定値を含む測定値群を取得する工程と、
を更に含み、
測定値群を取得する前記工程が複数のサイクルのそれぞれで実行されることにより、複数の測定値群が取得され、
前記複数のサイクルのうちｋ回目のサイクルでは、前記複数のサイクルのうち（ｋ−１）回目のサイクルで前記第４のガス流路の中に封入されていた前記ガスが排出され、該（ｋ−１）回目のサイクルで前記第３のガス流路及び前記タンクの前記内部空間の中に封入されていた前記ガスが前記第４のガス流路に拡散されることにより、前記第３のガス流路、前記第４のガス流路、及び、前記タンクの前記内部空間の中にガスが封入された前記状態が形成され、ここで、ｋは２以上の整数であり、
該方法は、前記複数の測定値群の各々から、前記一以上の第１の圧力センサ及び前記第２の圧力センサのうち、前記基準圧力センサの測定値に対して所定の許容範囲に含まれない誤差を有する測定値を取得したものと特定される圧力センサを較正する工程を更に含む、
請求項３又は４に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示の実施形態は、基板処理システムにおけるガスの流量を求める方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
基板処理では、チャンバ本体の内部空間の中に基板が配置され、当該内部空間にガスが供給され、供給されたガスによって基板が処理される。基板処理では、チャンバ本体の内部空間に供給されるガスの流量が、流量制御器によって制御される。ガスの流量の制御の精度は、基板処理の結果に影響する。したがって、流量制御器によって出力されるガスの流量が測定される。
【０００３】
ガスの流量の測定手法の一つとして、ビルドアップ法が用いられている。ビルドアップ法については、特許文献１に記載されている。特許文献１に記載されたビルドアップ法では、ガス流路の容積が予め求められる。そして、ガス流路内の圧力の上昇速度、ガス流路内の温度、及び、求められた容積から、流量が求められる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１２−３２９８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ビルドアップ法では、その容積が求められたときのガス流路内の温度と、流量の算出に必要な他のパラメータが取得されるときのガス流路内の温度とが異なると、ガスの流量を正確に求めることができない。したがって、ガスの流量を高精度に求める方法が必要である。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
一態様においては、流量測定システムを用いて基板処理システムにおけるガスの流量を求める方法が提供される。基板処理システムは、複数のチャンバ本体、複数のガス供給部、及び、複数の排気装置を備える。複数のガス供給部の各々は、複数のチャンバ本体のうち対応のチャンバ本体の内部空間にガスを供給するように構成されている。複数のガス供給部の各々は、筐体、複数の流量制御器、複数の一次バルブ、複数の二次バルブ、及び、第１のガス流路を有する。複数の流量制御器は、筐体内に設けられている。複数の一次バルブは、複数の流量制御器の一次側にそれぞれ接続されている。複数の二次バルブは、複数の流量制御器の二次側にそれぞれ接続されている。第１のガス流路は、複数の第１の端部、第２の端部、及び、第３の端部を含む。複数の第１の端部は、複数の二次バルブにそれぞれ接続されている。複数の第１の端部、第２の端部、及び、複数の第１の端部から該第２の端部まで延びる部分は、筐体内に設けられている。第３の端部は、筐体の外部に設けられている。第３の端部は、対応のチャンバ本体の内部空間に開閉バルブを介して接続されている。複数の排気装置は、複数のチャンバ本体の内部空間に複数の排気流路を介してそれぞれ接続されている。
【０００７】
流量測定システムは、第２のガス流路、第３のガス流路、第１のバルブ、第２のバルブ、一以上の第１の圧力センサ、及び、第１の温度センサを有する。第２のガス流路は、複数の第４の端部及び第５の端部を含む。複数の第４の端部の各々は、複数のガス供給部のうち対応のガス供給部の第２の端部に接続されている。第３のガス流路は、第６の端部及び第７の端部を有する。第１のバルブは、第２のガス流路の第５の端部と第３のガス流路の第６の端部との間で接続されている。第２のバルブは、第３のガス流路の第７の端部に接続され、且つ、複数の排気装置に接続可能に設けられている。一以上の第１の圧力センサは、第３のガス流路内の圧力を測定するように構成されている。第１の温度センサは、第３のガス流路内の温度を測定するように構成されている。
【０００８】
一態様に係る方法は、
（ｉ）複数のガス供給部のうち一つのガス供給部の第１のガス流路、第２のガス流路、及び、第３のガス流路を真空引きする工程と、
（ｉｉ）真空引きする工程の実行後、一つのガス供給部の複数の流量制御器のうち一つの流量制御器から出力されたガスが、一つのガス供給部の複数の二次バルブのうち一つの流量制御器の二次側に接続された一つの二次バルブと第２のバルブとの間に封入された第１の状態で、一以上の第１の圧力センサを用いて、第３のガス流路内の圧力の測定値Ｐ１１を取得する工程と、
（ｉｉｉ）測定値Ｐ１１を取得する工程の実行後、一つの流量制御器から第１のガス流路、第２のガス流路、及び、第３のガス流路にガスが供給され、且つ、第２のバルブが閉じられた第２の状態を形成することにより、第１のガス流路、第２のガス流路、及び、第３のガス流路の中の圧力を上昇させる工程と、
（ｉｖ）圧力を上昇させる工程の実行後、第２のバルブと一つの二次バルブが閉じられた第３の状態を形成する工程と、
（ｖ）第３の状態において、一以上の第１の圧力センサ及び第１の温度センサを用いて、第３のガス流路内の圧力の測定値Ｐ１２及び第３のガス流路内の温度の測定値Ｔ１２を取得する工程と、
（ｖｉ）第３の状態から、第２のバルブが開かれ、第１のバルブが閉じられた第４の状態を形成する工程と、
（ｖｉｉ）第４の状態から、第２のバルブが閉じられた第５の状態を形成する工程と、
（ｖｉｉｉ）第５の状態において、一以上の第１の圧力センサを用いて、第３のガス流路内の圧力の測定値Ｐ１３を取得する工程と、
（ｉｘ）第５の状態から第１のバルブが開かれた第６の状態を形成する工程と、
（ｘ）第６の状態において、一以上の第１の圧力センサを用いて、第３のガス流路内の圧力の測定値Ｐ１４を取得する工程と、
（ｘｉ）以下の（１）式
Ｑ＝（Ｐ１２−Ｐ１１）／Δｔ×（１／Ｒ）×（Ｖ／Ｔ）      …（１）
の演算を実行することにより、第２の状態において一つの流量制御器から出力されたガスの流量Ｑを求める工程と、
を含む。（１）式において、Δｔは圧力を上昇させる工程の実行期間の時間長であり、Ｒは気体定数であり、（Ｖ／Ｔ）は、｛Ｖ３／Ｔ１２×（Ｐ１２−Ｐ１３）／（Ｐ１２−Ｐ１４）｝を含み、Ｖ３は第３のガス流路の容積の既定値である。
【０００９】
一態様に係る方法では、第２のバルブが閉じられた状態で一つの流量制御器からのガスを一つのガス供給部の第１のガス流路、第２のガス流路、及び、第３のガス流路に供給することにより圧力上昇を生じさせる。この圧力上昇の速度、即ち、圧力の上昇速度を、（１）式に用いることにより、一つの流量制御器から出力されたガスの流量が求められる。（１）式において、Ｖ／Ｔは、本来的には、（ＶＥ／ＴＥ）と（Ｖ３／Ｔ１２）との和を含むべきである。ここで、ＶＥは、第１のガス流路の容積と第２のガス流路の容積の和であり、ＴＥは、第３の状態における第１のガス流路及び第２のガス流路の中の温度である。第１のガス流路は筐体内に配置されているので、第１のガス流路内の温度が周囲の環境から受ける影響は少ない。また、第３のガス流路は、第２のガス流路を介して第１のガス流路に接続しているので、第３のガス流路の中の温度が複数のチャンバ本体から受ける影響は少ない。一方、第２のガス流路は、周囲の環境、例えば、複数のチャンバ本体のうち何れかの温度の影響を受け得る。一態様に係る方法では、（ＶＥ／ＴＥ）と（Ｖ３／Ｔ１２）との和の代わりに、Ｖ３／Ｔ１２×（Ｐ１２−Ｐ１３）／（Ｐ１２−Ｐ１４）｝が（１）式に用いられる。即ち、流量の算出において、周囲の環境からの温度の影響を受け難い箇所から取得された測定値を用いることができる。したがって、一態様に係る方法によれば、高精度に流量を求めることが可能となる。また、一態様に係る方法では、第３の状態において第１のガス流路及び第２のガス流路の中に封入されたガスを第３のガス流路に拡散させることで、第６の状態を形成し、当該第６の状態において測定値Ｐ１４が取得される。即ち、測定値Ｐ１２の取得時の状態の形成のために用いられたガスが、測定値Ｐ１４の取得時の状態の形成のために、再利用される。したがって、効率的に流量を求めることが可能となる。
【００１０】
一実施形態においては、第５の状態において第３のガス流路内の圧力が、真空引きされた第３のガス流路内の圧力よりも高くなるように、設定される。この実施形態では、第３の状態において第３のガス流路内に封入されていたガスが、部分的に排出されることにより、即ち、完全に排出されることなく、第５の状態が形成される。したがって、第２の状態から第５の状態を形成するために必要な時間長が短縮される。
【００１１】
一実施形態において、流量測定システムは、第４のガス流路、第３のバルブ、及び、第４のバルブを更に備える。第４のガス流路は、第８の端部、第９の端部、第１０の端部、第８の端部と第９の端部との間で延びる第１の部分流路、及び、第１の部分流路から分岐して第１０の端部まで延びる第２の部分流路を有する。第２のバルブは、第３のガス流路の第７の端部と第４のガス流路の第８の端部との間で接続されている。第３のバルブは、第４のガス流路の第９の端部と複数の排気装置の各々との間で接続されている。第４のバルブは、第２の部分流路上に設けられている。この実施形態において、方法は、
基準器のタンクを第１０の端部に接続する工程であり、基準器は、該タンク、タンクの内部空間の中の温度を測定する第２の温度センサ、タンクの内部空間の中の圧力を測定する第２の圧力センサ、及び、第４のバルブとタンクの内部空間との間で接続される第５のバルブを有する、該工程と、
タンクの内部空間にガスが封入された状態で、第２の圧力センサ及び第２の温度センサを用いて、タンクの内部空間の中の圧力の測定値Ｐｒ１及びタンクの内部空間の中の温度の測定値Ｔｒ１を取得する工程と、
タンクの内部空間の中に封入されたガスをタンクの内部空間及び第４のガス流路の中で拡散させた状態で、第２の圧力センサ及び第２の温度センサを用いて、タンクの内部空間の中の圧力の測定値Ｐｒ２及びタンクの内部空間の中の温度の測定値Ｔｒ２を取得する工程と、
タンクの内部空間の既知の容積Ｖｒ、測定値Ｐｒ１、測定値Ｔｒ１、測定値Ｐｒ２、及び、測定値Ｔｒ２を用いて、以下の式（２）
Ｖ４＝Ｖｒ×（Ｐｒ１／Ｔｒ１−Ｐｒ２／Ｔｒ２）×Ｔｒ２／Ｐｒ２      …（２）
の演算を実行することにより、第４のガス流路の容積の算出値Ｖ４を求める工程と、
タンクの内部空間及び第４のガス流路に拡散されたガスを、タンクの内部空間、第３のガス流路、及び、第４のガス流路の中で拡散させた状態で、第１の温度センサ、第２の圧力センサ、及び、第２の温度センサをそれぞれ用いて、第３のガス流路内の温度の測定値Ｔ１ｆ、タンクの内部空間の中の圧力の測定値Ｐｒ３、及び、タンクの内部空間の中の温度の測定値Ｔｒ３を取得する工程と、
タンクの内部空間の既知の容積Ｖｒ、測定値Ｐｒ１、測定値Ｔｒ１、算出値Ｖ４、測定値Ｐｒ３、測定値Ｔｒ３、及び、測定値Ｔ１ｆを用いて、以下の（３）式
Ｖ３Ｃ＝（Ｖｒ×Ｐｒ１／Ｔｒ１−Ｖ４×Ｐｒ３／Ｔｒ３−Ｖｒ×Ｐｒ３／Ｔｒ３）×Ｔ１ｆ／Ｐｒ３
…（３）
の演算を実行することにより、第３のガス流路の容積の算出値Ｖ３Ｃを求める工程と、
算出値Ｖ３Ｃと既定値Ｖ３とを比較する工程と、
を更に含む。この実施形態では、ボイルシャルルの法則に基づき、第３のガス流路の容積の算出値Ｖ３Ｃが取得される。そして、算出値Ｖ３Ｃと既定値Ｖ３とが比較されることにより、既定値Ｖ３の信頼性が検証される。
【００１２】
一態様において、方法は、
算出値Ｖ３Ｃと既定値Ｖ３との間の差の絶対値が所定の許容範囲に含まれない場合に、タンクの内部空間の中の圧力の測定値Ｐｒ１及びタンクの内部空間の中の温度の測定値Ｔｒ１を取得する工程、タンクの内部空間の中の圧力の測定値Ｐｒ２及びタンクの内部空間の中の温度の測定値Ｔｒ２を取得する工程、第４のガス流路の容積の算出値Ｖ４を求める工程、第３のガス流路内の温度の測定値Ｔ１ｆ、タンクの内部空間の中の圧力の測定値Ｐｒ３、及び、タンクの内部空間の中の温度の測定値Ｔｒ３を取得する工程、並びに、第３のガス流路の容積の算出値Ｖ３Ｃを求める工程を繰り返すことにより、第３のガス流路の容積の複数の算出値Ｖ３Ｃを取得する工程と、
複数の算出値Ｖ３Ｃの平均値を用いて、既定値Ｖ３を更新する工程と、
を更に含む。この実施形態によれば、複数の算出値Ｖ３Ｃの平均値により、既定値Ｖ３が更新されるので、高い信頼性を有する既定値Ｖ３が得られる。ひいては、（１）式に基づく流量の算出の精度がより向上される。
【００１３】
一実施形態において、方法は、
タンクに基準圧力センサを接続する工程と、
第３のガス流路、第４のガス流路、及び、タンクの内部空間が真空引きされた状態で、一以上の第１の圧力センサ、第２の圧力センサ、及び、基準圧力センサの各々の測定値のゼロ点を調整する工程と、
第３のガス流路の中の圧力、第４のガス流路の中の圧力、及び、タンクの内部空間の中の圧力が互いに同一の圧力になるように、互いに連通した第３のガス流路、第４のガス流路、及び、タンクの内部空間の中にガスが封入された状態で、一以上の第１の圧力センサの各々の測定値、第２の圧力センサの測定値、及び、基準圧力センサの測定値を含む測定値群を取得する工程と、
を更に含む。測定値群を取得する工程は、複数のサイクルのそれぞれで実行される。複数のサイクルのうちｋ回目のサイクルでは、複数のサイクルのうち（ｋ−１）回目のサイクルで第４のガス流路の中に封入されていたガスが排出され、（ｋ−１）回目のサイクルで第３のガス流路及びタンクの内部空間の中に封入されていたガスが第４のガス流路に拡散されることにより、第３のガス流路、第４のガス流路、及び、タンクの内部空間の中にガスが封入された上記状態が形成される。ここで、ｋは２以上の整数である。また、方法は、複数の測定値群の各々から、一以上の第１の圧力センサ及び第２の圧力センサのうち、基準圧力センサの測定値に対して所定の許容範囲に含まれない誤差を有する測定値を取得したものと特定される圧力センサを較正する工程を更に含む。この実施形態によれば、一以上の第１の圧力センサ及び第２の圧力センサが適切に較正される。その結果、（１）式に基づく流量の算出の精度がより向上される。
【発明の効果】
【００１４】
以上説明したように、基板処理システムにおけるガスの流量を高精度に求めることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】一実施形態に係るガスの流量を求める方法を示す流れ図である。
【図２】一実施形態に係る基板処理システムを概略的に示す図である。
【図３】一例の圧力制御式の流量制御器の構造を示す図である。
【図４】図１に示す方法の工程ＳＴＡの詳細を示す流れ図である。
【図５】図１に示す方法の工程ＳＴＢの詳細を示す流れ図である。
【図６】図１に示す方法に関連するタイミングチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、図面を参照して種々の実施形態について詳細に説明する。なお、各図面において同一又は相当の部分に対しては同一の符号を附すこととする。
【００１７】
図１は、一実施形態に係るガスの流量を求める方法を示す流れ図である。図１に示す方法ＭＴは、基板処理システムにおけるガスの流量を求めるために、流量測定システムを用いて実行される。図２は、一実施形態に係る基板処理システムを概略的に示す図である。方法ＭＴは、図２に示す基板処理システム１０に適用することが可能である。
【００１８】
基板処理システム１０は、複数のチャンバ本体１２、複数のガス供給部１４、及び、複数の排気装置１６を備えている。基板処理システム１０において、チャンバ本体１２の個数及び排気装置１６の個数の各々はＮ個である。また、基板処理システム１０において、ガス供給部１４の個数は（Ｎ＋１）個である。「Ｎ」は２以上の整数である。なお、以下の説明及び図面においては、基板処理システム１０のＮ個又は（Ｎ＋１）個の要素のうち一つの要素を参照する場合に、当該要素を表す参照符号の末尾に「ｉ」の下付き文字を付加する。例えば、複数のチャンバ本体１２のうち一つのチャンバ本体を参照する場合には、参照符号「１２ｉ」を用いる。ここで、ｉは、１以上の整数である。基板処理システム１０は、複数のプロセスモジュールを備えている。複数のプロセスモジュールの各々は、同一の番号ｉを有するチャンバ本体１２ｉ、ガス供給部１４ｉ、及び、排気装置１６ｉを含んでいる。
【００１９】
複数のチャンバ本体１２の各々の内部空間の中には、基板処理のために、基板が収容される。複数のガス供給部１４の各々は、複数のチャンバ本体１２のうち対応のチャンバ本体の内部空間にガスを供給するように構成されている。具体的に、基板処理システム１０では、ガス供給部１４１〜１４Ｎはそれぞれ、チャンバ本体１２１〜１２Ｎ内にガスを供給するように構成されている。また、ガス供給部１４Ｎ＋１は、チャンバ本体１２１内にガスを供給するように構成されている。なお、ガス供給部１４Ｎ＋１は、複数のチャンバ本体１２のうちチャンバ本体１２１以外の他のチャンバ本体の内部空間にもガスを供給するように構成されていてもよい。
【００２０】
複数のガス供給部１４の各々は、筐体１７、複数の流量制御器１８、複数の一次バルブ１９、複数の二次バルブ２０、及び、第１のガス流路２１を有している。複数のガス供給部１４の各々は、バルブ２２を更に有し得る。基板処理システム１０では、Ｎ個のガス供給部１４１〜１４Ｎの各々は、Ｍ個の流量制御器１８、Ｍ個の一次バルブ１９、及び、Ｍ個の二次バルブ２０を有している。Ｍは、２以上の整数である。また、ガス供給部１４Ｎ＋１は、二つの流量制御器１８、二つの一次バルブ１９、及び、二つの二次バルブ２０を有している。なお、以下の説明及び図面においては、複数のガス供給部１４の各々の複数の要素のうち一つの要素を参照する場合に、当該要素を表す参照符号の末尾に「ｊ」の下付き文字を付加する。例えば、複数の流量制御器１８のうち一つの流量制御器を参照する場合には、参照符号「１８ｊ」を用いる。ここで、ｊは、１以上の整数である。
【００２１】
筐体１７は、内部空間を提供する容器である。複数の流量制御器１８は、筐体１７内に収容されている。複数のガス供給部１４の複数の流量制御器１８のうち、ガス供給部１４Ｎ＋１の流量制御器１８１以外の流量制御器は、マスフローコントローラ又は圧力制御式の流量制御器である。図３は、一例の圧力制御式の流量制御器の構造を示す図である。図３に示す流量制御器ＦＣは、複数のガス供給部１４の複数の流量制御器１８のうち、ガス供給部１４Ｎ＋１の流量制御器１８１以外の流量制御器として用いられ得る。
【００２２】
流量制御器ＦＣは、コントロールバルブＣＶ、流路ＩＬ、オリフィス部材ＯＦ、圧力センサＦＰ１、温度センサＦＴ、圧力センサＦＰ２を有している。流路ＩＬの一端は一次バルブに接続される。流路ＩＬの他端は二次バルブに接続される。オリフィス部材ＯＦは、流路ＩＬの一端と他端との間において、流路ＩＬの断面積を部分的に縮小させている。オリフィス部材ＯＦの上流側では、流路ＩＬ上にコントロールバルブＣＶが設けられている。圧力センサＦＰ１は、コントロールバルブＣＶとオリフィス部材ＯＦとの間、即ちオリフィス部材ＯＦの一次側において、流路ＩＬ内の圧力を測定するように構成されている。温度センサＦＴは、コントロールバルブＣＶとオリフィス部材ＯＦとの間、即ちオリフィス部材ＯＦの一次側において、流路ＩＬ内の温度を測定するように構成されている。また、圧力センサＦＰ２は、オリフィス部材ＯＦと流路ＩＬの他端との間で、流路ＩＬ内の圧力を測定するように構成されている。
【００２３】
流量制御器ＦＣでは、オリフィス部材ＯＦの一次側（上流側）における圧力がオリフィス部材ＯＦの下流側（二次側）における流路ＩＬの圧力の２倍以上である場合には、圧力センサＦＰ１によって取得された圧力の測定値から求められる流量と設定流量との差を減少させるよう、制御部ＣＵによってコントロールバルブＣＶの開度が制御される。一方、オリフィス部材ＯＦの一次側（上流側）における圧力がオリフィス部材ＯＦの下流側（二次側）における流路ＩＬの圧力の２倍よりも小さい場合には、圧力センサＦＰ１によって取得された圧力の測定値と圧力センサＦＰ２によって取得された圧力の測定値との差から求められる流量と設定流量との差を減少させるよう、制御部ＣＵによってコントロールバルブＣＶの開度が制御される。なお、流量制御器ＦＣは、オリフィス部材ＯＦの一次側（上流側）における圧力がオリフィス部材ＯＦの下流側（二次側）における流路ＩＬの圧力の２倍以上である状態で利用される場合には、圧力センサＦＰ２を有していなくてもよい。
【００２４】
図２を再び参照する。上述したように、複数のガス供給部１４の複数の流量制御器１８のうち、ガス供給部１４Ｎ＋１の流量制御器１８１以外の流量制御器の各々は、マスフローコントローラであってもよい。マスフローコントローラは、圧力制御式の流量制御器と同様に温度センサを有する。ガス供給部１４Ｎ＋１の流量制御器１８１は、マスフローコントローラであり、且つ、液体を気化させる機能を有し得る。
【００２５】
複数の一次バルブ１９はそれぞれ、複数の流量制御器１８の一次側に接続されている。複数の一次バルブ１９は、筐体１７内に設けられている。複数の一次バルブ１９のうちガス供給部１４Ｎ＋１の一次バルブ１９１以外の一次バルブの各々は、その一次側（上流側）に設けられた対応のガスソースに接続されている。ガス供給部１４Ｎ＋１の一次バルブ１９１は、その一次側に設けられた液体ソースに接続されている。複数の二次バルブ２０はそれぞれ、複数の流量制御器１８の二次側に接続されている。複数の二次バルブ２０は、筐体１７内に設けられている。
【００２６】
第１のガス流路２１は、複数の第１の端部２１ａ、第２の端部２１ｂ、及び、第３の端部２１ｃを含んでいる。複数の第１の端部２１ａはそれぞれ、複数の二次バルブ２０に接続されている。即ち、複数の第１の端部２１ａはそれぞれ、複数の二次バルブ２０を介して複数の流量制御器１８の二次側に接続されている。第１のガス流路２１は、複数の第１の端部２１ａから延びる複数の流路を含んでおり、当該複数の流路は共通の流路に接続している。第１のガス流路２１の共通の流路の一端は、第２の端部２１ｂである。複数の第１の端部２１ａから第２の端部２１ｂまで延びる第１のガス流路２１の部分は、筐体１７内に設けられている。第３の端部２１ｃは、筐体１７の外部に設けられている。第３の端部２１ｃを含む流路は第１のガス流路２１の上記の共通の流路に接続している。第３の端部２１ｃは、対応の開閉バルブ３０（３０ｉ）を介して複数のチャンバ本体１２のうち対応のチャンバ本体の内部空間に接続されている。第２の端部２１ｂにはバルブ２２が接続されている。バルブ２２は、筐体１７内に設けられている。
【００２７】
基板処理システム１０は、複数の圧力制御弁３２、複数のターボ分子ポンプ３４、複数の排気流路３６、及び、複数のバルブ３８を備えている。複数の圧力制御弁３２の各々は、例えば自動圧力制御弁である。圧力制御弁３２ｉは、対応のチャンバ本体１２ｉの内部空間の圧力を調整するように構成されている。排気流路３６ｉは、圧力制御弁３２ｉ及びターボ分子ポンプ３４ｉを介して、対応のチャンバ本体１２ｉの内部空間に接続されている。排気流路３６ｉ上には、バルブ３８ｉが設けられている。バルブ３８ｉの下流では、排気装置１６ｉが排気流路３６ｉに接続されている。複数の排気装置１６の各々は、例えばドライポンプであり得る。
【００２８】
図２に示すように、基板処理システム１０には、複数の流量制御器１８の各々によって出力されるガスの流量を測定するために、流量測定システム４０が接続されている。流量測定システム４０は、ビルドアップ法に従ったガスの流量の測定において利用されるガス流路、及び、各種センサを提供している。具体的に、流量測定システム４０は、第２のガス流路４２、第３のガス流路４３、圧力センサ４７、圧力センサ４８、温度センサ４９、第１のバルブ５１、及び、第２のバルブ５２を備えている。
【００２９】
第２のガス流路４２は、複数の第４の端部４２ａ及び第５の端部４２ｂを含んでおり、複数の第４の端部４２ａから第５の端部４２ｂまで延びている。複数の第４の端部４２ａは、複数のガス供給部１４のうち対応のガス供給部の第１のガス流路２１の第２の端部２１ｂに接続されている。一実施形態では、複数の第４の端部４２ａは、複数のガス供給部１４のうち対応のガス供給部のバルブ２２に接続されている。第２のガス流路４２は、複数の第４の端部４２ａをそれぞれ含む複数の流路、及び、当該複数の流路が接続する共通の流路を含んでいる。第２のガス流路４２の共通の流路は、第５の端部４２ｂを含んでいる。
【００３０】
第３のガス流路４３は、第６の端部４３ａ及び第７の端部４３ｂを含んでおり、第６の端部４３ａから第７の端部４３ｂまで延びている。第１のバルブ５１は、第２のガス流路４２の第５の端部４２ｂと第３のガス流路４３の第６の端部４３ａとの間で接続されている。第２のバルブ５２は、第３のガス流路４３の第７の端部４３ｂに接続されており、且つ、複数の排気装置１６に接続可能に設けられている。圧力センサ４７及び圧力センサ４８の各々は、第３のガス流路４３内の圧力を測定するように構成されている。温度センサ４９（第１の温度センサ）は、第３のガス流路４３内の温度を測定するように構成されている。なお、流量測定システム４０は、圧力センサ４７及び圧力センサ４８のうち少なくとも一方を有していればよい。即ち、流量測定システム４０は、第３のガス流路４３内の圧力を測定する一以上の圧力センサ（一以上の第１の圧力センサ）を有していればよい。
【００３１】
一実施形態において、流量測定システム４０は、第４のガス流路４４、第３のバルブ５３、及び、第４のバルブ５４を更に備えていてもよい。第４のガス流路４４は、第８の端部４４ａ、第９の端部４４ｂ、及び、第１０の端部４４ｃを有している。また、第４のガス流路４４は、第１の部分流路４４ｄ及び第２の部分流路４４ｅを有している。第１の部分流路４４ｄは、第８の端部４４ａと第９の端部４４ｂとの間で延びている。第２の部分流路４４ｅは、第１の部分流路４４ｄから分岐して第１０の端部４４ｃまで延びている。上述の第２のバルブ５２は、第３のガス流路４３の第７の端部４３ｂと第４のガス流路４４の第８の端部４４ａとの間で接続されている。第３のバルブ５３は、第４のガス流路４４の第９の端部４４ｂと複数の排気装置１６の各々との間で接続されている。一実施形態では、複数の排気流路３６には、Ｎ個のバルブ５８がそれぞれ接続されている。第３のバルブ５３は、バルブ５８ｉ及び排気流路３６ｉを介して排気装置１６ｉに接続されている。第４のバルブ５４は、第２の部分流路４４ｅ上に設けられている。
【００３２】
後述する方法ＭＴでは、基準器６０及び基準圧力センサ７０が利用される。基準器６０は、タンク６２、圧力センサ６３（第２の圧力センサ）、温度センサ６４（第２の温度センサ）、及び、バルブ６５（第５のバルブ）を有している。タンク６２は、内部空間を提供する。圧力センサ６３は、タンク６２の内部空間の中の圧力を測定するように構成されている。温度センサ６４は、タンク６２の内部空間の中の温度を測定するように構成されている。バルブ６５は、タンク６２に接続されている。バルブ６５は、基準器６０が第４のガス流路４４の第１０の端部に接続されているときには、第４のバルブ５４とタンク６２の内部空間との間で接続される。
【００３３】
基準圧力センサ７０は、タンク６２に接続可能である。一次形態では、基準器６０は、バルブ６６を更に有し得る。基準圧力センサ７０は、バルブ６６を介して、タンク６２の内部空間に接続され得る。基準圧力センサ７０は、タンク６２の内部空間に接続されているときには、タンク６２の内部空間の圧力を測定するように構成されている。
【００３４】
一実施形態において、基板処理システム１０は、主制御部ＭＵを更に備え得る。主制御部ＭＵは、ＣＰＵといったプロセッサ、メモリといった記憶装置、キーボードといった入力装置、表示装置等を有するコンピュータ装置であり得る。主制御部ＭＵは、記憶装置に記憶されている制御プログラムをプロセッサによって実行し、記憶装置に記憶されているレシピデータに従って基板処理システム１０の各部及び流量測定システム４０の各部を制御する。なお、方法ＭＴは、主制御部ＭＵによる基板処理システム１０の各部及び流量測定システム４０の各部の制御によって実施され得る。
【００３５】
以下、再び図１を参照し、方法ＭＴについて説明する。以下の説明では、一つのガス供給部１４ｉの一つの流量制御器１８ｊから出力されたガスの流量が測定される場合を例として、方法ＭＴの説明を行う。方法ＭＴの実行中には、ガス供給部１４ｉ以外の複数のガス供給部１４のバルブ２２が閉じられる。また、複数のバルブ５８のうち一つのバルブ以外のバルブが閉じられる。以下の説明では、複数のバルブ５８のうちバルブ５８ｉ以外のバルブが閉じられるものとする。さらに、一つのガス供給部１４ｉの流量制御器１８ｊ以外の複数の流量制御器１８に接続された複数の一次バルブ１９及び複数の二次バルブ２０が閉じられる。
【００３６】
方法ＭＴは、工程ＳＴ１〜工程ＳＴ１５を含む。一実施形態において、方法ＭＴは、工程ＳＴ１〜工程  ＳＴ１５に加えて、工程ＳＴＡを更に含み得る。一実施形態において、方法ＭＴは、工程ＳＴＢを更に含み得る。
【００３７】
工程ＳＴＡでは、圧力センサ４７、圧力センサ４８、圧力センサ６３、温度センサ４９、及び、温度センサ６４の較正が行われる。図４は、図１に示す方法の工程ＳＴＡの詳細を示す流れ図である。図４に示すように、工程ＳＴＡは、工程ＳＴＡ１〜工程ＳＴＡ１４を含む。
【００３８】
工程ＳＴＡ１では、基準器６０のタンク６２が第４のガス流路４４の第１０の端部４４ｃに接続される。具体的には、基準器６０のバルブ６５が、第４のガス流路４４の第１０の端部４４ｃに接続される。続く工程ＳＴＡ２では、基準圧力センサ７０が基準器６０のタンク６２の内部空間に接続される。具体的には、基準圧力センサ７０が、バルブ６６に接続される。
【００３９】
続く工程ＳＴＡ３では、第１のガス流路２１、第２のガス流路４２、第３のガス流路４３、第４のガス流路４４、及び、タンク６２の内部空間が真空引きされる。工程ＳＴＡ３では、ガス供給部１４ｉの流量制御器１８ｊに接続された一次バルブ１９ｊが閉じられ、ガス供給部１４ｉの流量制御器１８ｊに接続された二次バルブ２０ｊが開かれる。また、工程ＳＴＡ３では、ガス供給部１４ｉのバルブ２２、第１のバルブ５１、第２のバルブ５２、第３のバルブ５３、第４のバルブ５４、バルブ６５、バルブ６６、及びバルブ５８ｉが開かれる。その結果、工程ＳＴＡ３では、第１のガス流路２１、第２のガス流路４２、第３のガス流路４３、第４のガス流路４４、及び、タンク６２の内部空間が、排気装置１６ｉに接続され、真空引きされる。
【００４０】
続く工程ＳＴＡ４では、第１のガス流路２１、第２のガス流路４２、第３のガス流路４３、第４のガス流路４４、及び、タンク６２の内部空間が真空引きされた状態で、圧力センサ４７、圧力センサ４８、及び、圧力センサ６３の各々の測定値のゼロ点が調整される。即ち、工程ＳＴＡ４では、圧力センサ４７、圧力センサ４８、及び、圧力センサ６３の各々が、その測定値がゼロを示すように、較正される。
【００４１】
続く工程ＳＴＡ５では、ガス供給部１４ｉの流量制御器１８ｊに接続された一次バルブ１９ｊが開かれ、流量制御器１８ｊからガスが出力されている状態で、第３のバルブ５３が閉じられる。続く工程ＳＴＡ６では、ガス供給部１４ｉの流量制御器１８ｊからのガスの供給が停止され、第１のバルブ５１が閉じられる。そして、基準圧力センサ７０の測定値が安定し、且つ、温度センサ６４の測定値が安定するまで待機状態が継続する。基準圧力センサ７０の測定値は、その変動量が所定値以下である場合に、安定しているものと判定される。また、温度センサ６４の測定値は、その変動量が所定値以下である場合に、安定しているものと判定される。
【００４２】
工程ＳＴＡ６において、基準圧力センサ７０の測定値が安定し、且つ、温度センサ６４の測定値が安定すると、第３のガス流路４３の中の圧力、第４のガス流路４４の中の圧力、及び、タンク６２の内部空間の中の圧力が互いに同一の圧力になるように、互いに連通した第３のガス流路４３、第４のガス流路４４、及び、タンク６２の内部空間の中にガスが封入された状態が形成される。かかる状態において、続く工程ＳＴＡ７が実行される。工程ＳＴＡ７では、温度センサ６４の測定値Ｔｒａと温度センサ４９の測定値Ｔ１ａが取得され、測定値Ｔｒａと測定値Ｔ１ａが互いに比較される。具体的には、測定値Ｔｒａと測定値Ｔ１ａとの間の差の絶対値が所定の許容範囲に含まれるか否かが判定される。例えば、｜Ｔ１ａ−Ｔｒａ｜＜ＴＴＨａが満たされるか否かが判定される。ここで、ＴＴＨａは、所定の許容範囲を定める数値である。測定値Ｔｒａと測定値Ｔ１ａとの間の差の絶対値が所定の許容範囲に含まれない場合には、温度センサ４９は、較正されるか、交換される。
【００４３】
続く工程ＳＴＡ８では、工程ＳＴＡ６において形成された上記状態において、測定値群が取得される。工程ＳＴＡ８で取得される測定値群は、圧力センサ４７の測定値ＰＡ（１）、圧力センサ４８の測定値ＰＢ（１）、圧力センサ６３の測定値Ｐｒ（１）、及び、基準圧力センサ７０の測定値ＰＳ（１）を含む。
【００４４】
続く工程ＳＴＡ９では、第２のバルブ５２及びバルブ６５が閉じられ、第３のバルブ５３が開かれる。工程ＳＴＡ９の実行により、第４のガス流路４４内のガスが少なくとも部分的に排出される。続く工程ＳＴＡ１０では、第３のバルブ５３が閉じられ、第２のバルブ５２及びバルブ６５が開かれる。工程ＳＴＡ１０の実行により、第３のガス流路４３及びタンク６２の内部空間の中のガスが、第３のガス流路４３、第４のガス流路４４、及び、タンク６２の内部空間の中で拡散する。そして、基準圧力センサ７０の測定値が安定するまで待機状態が継続する。基準圧力センサ７０の測定値は、その変動量が所定値以下である場合に、安定しているものと判定される。
【００４５】
工程ＳＴＡ１０で基準圧力センサ７０の測定値が安定しているものと判定されると、第３のガス流路４３の中の圧力、第４のガス流路４４の中の圧力、及び、タンク６２の内部空間の中の圧力が互いに同一の圧力になるように、互いに連通した第３のガス流路４３、第４のガス流路４４、及び、タンク６２の内部空間の中にガスが封入された状態が形成される。かかる状態において、続く工程ＳＴＡ１１が実行される。工程ＳＴＡ１１では、測定値群が取得される。工程ＳＴＡ１１で取得される測定値群は、圧力センサ４７の測定値ＰＡ（ｋ）、圧力センサ４８の測定値ＰＢ（ｋ）、圧力センサ６３の測定値Ｐｒ（ｋ）、及び、基準圧力センサ７０の測定値ＰＳ（ｋ）を含む。ここで、ｋは、後述するサイクルの順番を表す数値であり、１以上の整数である。
【００４６】
続く工程ＳＴＡ１２では、停止条件が満たされるか否かが判定される。工程ＳＴＡ１２では、工程ＳＴＡ９〜工程ＳＴＡ１１を含むサイクルの実行回数が所定回数に達している場合に、停止条件が満たされるものと判定される。工程ＳＴＡ１２において、停止条件が満たされないものと判定されると、工程ＳＴＡ９〜工程ＳＴＡ１１が再び実行される。一方、工程ＳＴＡ１２において、停止条件が満たされていると判定されると、工程ＳＴＡ１３に処理が移行する。
【００４７】
工程ＳＴＡでは、上述したように、工程ＳＴＡ８及び工程ＳＴＡ１１の繰り返しが実行される。工程ＳＴＡ８及び工程ＳＴＡ１１の繰り返しにより、測定値群を取得する工程が複数のサイクルのそれぞれで実行される。その結果、複数の測定値群が取得される。複数のサイクルのうちｋ回目のサイクルでは、複数のサイクルのうち（ｋ−１）回目のサイクルで第４のガス流路４４の中に封入されていたガスが排出され、（ｋ−１）回目のサイクルで第３のガス流路４３及びタンク６２の内部空間の中に封入されていたガスが第４のガス流路４４に拡散されることにより、第３のガス流路４３、第４のガス流路４４、及び、タンク６２の内部空間の中にガスが封入された状態が形成される。
【００４８】
工程ＳＴＡ１３では、複数の測定値群の各々から、圧力センサ４７、圧力センサ４８、及び、圧力センサ６３のうち、基準圧力センサ７０の測定値から所定の許容範囲に含まれない誤差を有する測定値を取得したものと特定される圧力センサが、較正される。例えば、｜ＰＡ（ｋ）−ＰＳ（ｋ）｜＜ＰＴＨが満たされない場合には、圧力センサ４７の測定値は、基準圧力センサ７０の測定値から所定の許容範囲に含まれない誤差を有するものと判定され、圧力センサ４７が較正される。また、｜ＰＢ（ｋ）−ＰＳ（ｋ）｜＜ＰＴＨが満たされない場合には、圧力センサ４８の測定値は、基準圧力センサ７０の測定値から所定の許容範囲に含まれない誤差を有するものと判定され、圧力センサ４８が較正される。また、｜Ｐｒ（ｋ）−ＰＳ（ｋ）｜＜ＰＴＨが満たされない場合には、圧力センサ６３の測定値は、基準圧力センサ７０の測定値から所定の許容範囲に含まれない誤差を有するものと判定され、圧力センサ６３が較正される。なお、ＰＴＨは、所定の許容範囲を定める数値である。
【００４９】
続く工程ＳＴＡ１４では、基準圧力センサ７０が取り外される。具体的には、バルブ６６が閉じられ、バルブ６６から基準圧力センサ７０が取り外される。
【００５０】
かかる工程ＳＴＡによれば、圧力センサ４７、圧力センサ４８、及び、圧力センサ６３が適切に較正される。その結果、後述する流量Ｑの算出の精度が向上される。
【００５１】
上述したように、一実施形態において、方法ＭＴは、工程ＳＴＢを更に含む。一実施形態では、工程ＳＴＢは、工程ＳＴＡの実行後に実行される。工程ＳＴＢでは、既定値Ｖ３の信頼性が検証される。既定値Ｖ３は、第３のガス流路４３の容積であり、予め定められている。図５は、図１に示す方法の工程ＳＴＢの詳細を示す流れ図である。図５に示すように、工程ＳＴＢは、工程ＳＴＢ１〜工程ＳＴＢ１４を含む。
【００５２】
工程ＳＴＢ１では、第１のガス流路２１、第２のガス流路４２、第３のガス流路４３、第４のガス流路４４、及び、タンク６２の内部空間が真空引きされる。工程ＳＴＢ１では、ガス供給部１４ｉの流量制御器１８ｊに接続された一次バルブ１９ｊが閉じられ、ガス供給部１４ｉの流量制御器１８ｊに接続された二次バルブ２０ｊが開かれる。また、工程ＳＴＢ１では、ガス供給部１４ｉのバルブ２２、第１のバルブ５１、第２のバルブ５２、第３のバルブ５３、第４のバルブ５４、バルブ６５、及びバルブ５８ｉが開かれ、バルブ６６が閉じられる。その結果、工程ＳＴＢ１では、第１のガス流路２１、第２のガス流路４２、第３のガス流路４３、第４のガス流路４４、及び、タンク６２の内部空間が、排気装置１６ｉに接続され、真空引きされる。
【００５３】
続く工程ＳＴＢ２では、ガス供給部１４ｉの流量制御器１８ｊに接続された一次バルブ１９ｊが開かれ、流量制御器１８ｊからガスが出力されている状態で、第３のバルブ５３が閉じられる。続く工程ＳＴＢ２の実行により、第１のガス流路２１、第２のガス流路４２、第３のガス流路４３、第４のガス流路４４、及び、タンク６２の内部空間にガスが封入される。
【００５４】
続く工程ＳＴＢ３では、ガス供給部１４ｉの流量制御器１８ｊからのガスの供給が停止され、バルブ６５が閉じられ、第３のバルブ５３が開かれる。工程ＳＴＢ３が実行されることにより、タンク６２の内部空間にガスが封入されている状態が形成される。また、工程ＳＴＢ３が実行されることにより、第３のガス流路４３及び第４のガス流路４４の中に封入されていたガスが排出される。
【００５５】
続く工程ＳＴＢ４では、第１のバルブ５１、第２のバルブ５２、及び、第３のバルブ５３が閉じられる。なお、第４のバルブ５４は、開かれたままである。続く工程ＳＴＢ５では、ガスがタンク６２の内部空間に封入されている状態で、圧力センサ６３及び温度センサ６４を用いて、タンク６２の内部空間の中の圧力の測定値Ｐｒ１及びタンク６２の内部空間の中の温度の測定値Ｔｒ１が取得される。
【００５６】
続く工程ＳＴＢ６では、バルブ６５が開かれる。そして、圧力センサ６３の測定値が安定するまで待機状態が継続する。圧力センサ６３の測定値は、その変動量が所定値以下である場合に、安定しているものと判定される。工程ＳＴＢ６において、圧力センサ６３の測定値が安定すると、タンク６２の内部空間に封入されていたガスをタンク６２の内部空間及び第４のガス流路４４の中で拡散させた状態が形成される。続く工程ＳＴＢ７では、工程ＳＴＢ６において形成された状態において、圧力センサ６３及び温度センサ６４を用いて、タンク６２の内部空間の中の圧力の測定値Ｐｒ２及びタンク６２の内部空間の中の温度の測定値Ｔｒ２が取得される。
【００５７】
続く工程ＳＴＢ８では、第４のガス流路４４の容積の算出値Ｖ４が求められる。工程ＳＴＢ８では、算出値Ｖ４を求めるために、以下の式（２）の演算が実行される。式（２）の演算においては、タンク６２の内部空間の既知の容積Ｖｒ、測定値Ｐｒ１、測定値Ｔｒ１、測定値Ｐｒ２、及び、測定値Ｔｒ２が用いられる。
Ｖ４＝Ｖｒ×（Ｐｒ１／Ｔｒ１−Ｐｒ２／Ｔｒ２）×Ｔｒ２／Ｐｒ２      …（２）
【００５８】
続く工程ＳＴＢ９では、第２のバルブ５２が開かれる。そして、圧力センサ６３の測定値が安定するまで待機状態が継続する。圧力センサ６３の測定値は、その変動量が所定値以下である場合に、安定しているものと判断される。工程ＳＴＢ９において、圧力センサ６３の測定値が安定すると、タンク６２の内部空間及び第４のガス流路４４の中で拡散されていたガスを、タンク６２の内部空間、第３のガス流路４３、及び、第４のガス流路４４の中で拡散させた状態が形成される。続く工程ＳＴＢ１０では、工程ＳＴＢ９において形成された状態において、温度センサ４９、圧力センサ６３、及び、温度センサ６４をそれぞれ用いて、第３のガス流路４３内の温度の測定値Ｔ１ｆ、タンク６２の内部空間の中の圧力の測定値Ｐｒ３、及び、タンクの内部空間の中の温度の測定値Ｔｒ３が取得される。
【００５９】
続く工程ＳＴＢ１１では、第３のガス流路４３の容積の算出値Ｖ３Ｃが求められる。工程ＳＴＢ１１では、算出値Ｖ３Ｃを求めるために、以下の（３）式の演算が実行される。式（３）の演算においては、タンク６２の内部空間の既知の容積Ｖｒ、測定値Ｐｒ１、測定値Ｔｒ１、算出値Ｖ４、測定値Ｐｒ３、測定値Ｔｒ３、及び、測定値Ｔ１ｆが用いられる。
Ｖ３Ｃ＝（Ｖｒ×Ｐｒ１／Ｔｒ１−Ｖ４×Ｐｒ３／Ｔｒ３−Ｖｒ×Ｐｒ３／Ｔｒ３）×Ｔ１ｆ／Ｐｒ３
…（３）
【００６０】
続く工程ＳＴＢ１２では、算出値Ｖ３Ｃと既定値Ｖ３との間の差の絶対値が所定の許容範囲に含まれるか否かが判定される。例えば、｜Ｖ３Ｃ−Ｖ３｜＜ＶＴＨが満たされるか否かが判定される。｜Ｖ３Ｃ−Ｖ３｜＜ＶＴＨが満たされない場合には、算出値Ｖ３Ｃと既定値Ｖ３との間の差の絶対値が所定の許容範囲に含まれないものと判定される。なお、ＶＴＨは、所定の許容範囲を定める数値である。一方、｜Ｖ３Ｃ−Ｖ３｜＜ＶＴＨが満たされる場合には、算出値Ｖ３Ｃと既定値Ｖ３との間の差の絶対値が所定の許容範囲に含まれるものと判定される。
【００６１】
工程ＳＴＢ１２において、算出値Ｖ３Ｃと既定値Ｖ３との間の差の絶対値が所定の許容範囲に含まれないと判定されると、工程ＳＴＢ１３が実行される。工程ＳＴＢ１３では、工程ＳＴＢ１〜工程ＳＴＢ１１が繰り替えし実行される。その結果、複数の算出値Ｖ３Ｃが取得される。続く工程ＳＴＢ１４では、複数の算出値Ｖ３Ｃの平均値を用いて、既定値Ｖ３が更新される。即ち、複数の算出値Ｖ３Ｃの平均値に、既定値Ｖ３が置き換えられる。
【００６２】
工程ＳＴＢ１４の実行後、或いは、工程ＳＴＢ１２において、算出値Ｖ３Ｃと既定値Ｖ３との間の差の絶対値が所定の許容範囲に含まれるものと判定されると、工程ＳＴＢの実行は終了する。なお、工程ＳＴＢを終了する前に、第４のバルブ５４及びバルブ６５が閉じられて、基準器６０が第１０の端部４４ｃから取り外されてもよい。
【００６３】
かかる工程ＳＴＢでは、ボイルシャルルの法則に基づき、第３のガス流路４３の容積の算出値Ｖ３Ｃが取得される。そして、算出値Ｖ３Ｃと既定値Ｖ３とが比較されることにより、既定値Ｖ３の信頼性が検証される。また、工程ＳＴＢでは、複数の算出値Ｖ３Ｃの平均値により既定値Ｖ３が更新されるので、高い信頼性を有する既定値Ｖ３が得られる。ひいては、後述する流量Ｑの算出の精度が向上される。
【００６４】
再び図１を参照する。また、以下の説明では、図１と共に図６を参照する。図６は、図１に示す方法に関連するタイミングチャートである。図６のタイミングチャートにおいて、横軸は、時間を示している。図６のタイミングチャートにおいて、縦軸は、第３のガス流路４３の圧力の測定値、ガス供給部１４ｉの流量制御器１８ｊに接続された二次バルブ２０ｊの開閉状態、第１のバルブ５１の開閉状態、第２のバルブ５２の開閉状態、及び、第３のバルブ５３の開閉状態を示している。
【００６５】
方法ＭＴの工程ＳＴ１では、第１のガス流路２１、第２のガス流路４２、及び、第３のガス流路４３が真空引きされる。なお、工程ＳＴ１では、第４のガス流路４４も真空引きされる。工程ＳＴ１では、ガス供給部１４ｉの流量制御器１８ｊに接続された一次バルブ１９ｊが閉じられ、ガス供給部１４ｉの流量制御器１８ｊに接続された二次バルブ２０ｊが開かれる。また、工程ＳＴ１では、ガス供給部１４ｉのバルブ２２、第１のバルブ５１、第２のバルブ５２、第３のバルブ５３、及びバルブ５８ｉが開かれる。なお、第４のバルブ５４は閉じられている。その結果、工程ＳＴ１では、第１のガス流路２１、第２のガス流路４２、第３のガス流路４３、及び、第４のガス流路４４が、排気装置１６ｉに接続され、真空引きされる。
【００６６】
続く工程ＳＴ２では、ガス供給部１４ｉの流量制御器１８ｊに接続された一次バルブ１９ｊが開かれ、流量制御器１８ｊからのガスの供給が開始される。続く工程ＳＴ３では、ガス供給部１４ｉの流量制御器１８ｊに接続された二次バルブ２０ｊと第２のバルブ５２が閉じられる。工程ＳＴ３の実行により、ガス供給部１４ｉの流量制御器１８ｊから出力されたガスが、ガス供給部１４ｉの二次バルブ２０ｊと第２のバルブ５２との間で、即ち、ガス供給部１４ｉの第１のガス流路２１、第２のガス流路４２、及び、第３のガス流路４３の中で封入された第１の状態が形成される。
【００６７】
続く工程ＳＴ４では、圧力の測定値Ｐ１１が取得される。測定値Ｐ１１は、第１の状態における第３のガス流路４３内の圧力の測定値である。測定値Ｐ１１は、圧力センサ４７又は圧力センサ４８によって取得された測定値である。測定値Ｐ１１は、圧力センサ４７によって取得された測定値と圧力センサ４８によって取得された測定値の平均値であってもよい。なお、工程ＳＴ４では、圧力センサ４７及び／又は圧力センサ４８によって取得された測定値が安定しているときに、測定値Ｐ１１が取得され得る。圧力センサ４７及び／又は圧力センサ４８によって取得された測定値は、その変動量が所定値以下である場合に、安定しているものと判断される。
【００６８】
続く工程ＳＴ５では、ガス供給部１４ｉの流量制御器１８ｊに接続された二次バルブ２０ｊと第２のバルブ５２が開かれる。続く工程ＳＴ６では、ガス供給部１４ｉの第１のガス流路２１、第２のガス流路４２、及び、第３のガス流路４３の中の圧力が増加される。具体的に、工程ＳＴ６では、第２のバルブ５２が閉じられる。即ち、工程ＳＴ６では、ガス供給部１４ｉの流量制御器１８ｊから、ガス供給部１４ｉの第１のガス流路２１、第２のガス流路４２、及び、第３のガス流路４３にガスが供給され、且つ、第２のバルブ５２が閉じられた第２の状態が形成される。この第２の状態では、ガス供給部１４ｉの第１のガス流路２１、第２のガス流路４２、及び、第３のガス流路４３の中の圧力が上昇する。
【００６９】
続く工程ＳＴ７では、ガス供給部１４ｉの流量制御器１８ｊに接続された二次バルブ２０ｊと第２のバルブ５２が閉じられる。この工程ＳＴ７の実行の結果、第３の状態が形成される。
【００７０】
続く工程ＳＴ８では、測定値Ｐ１２及び測定値Ｔ１２が取得される。測定値Ｐ１２は、第３の状態における第３のガス流路４３内の圧力の測定値である。測定値Ｐ１２は、圧力センサ４７又は圧力センサ４８によって取得された測定値である。測定値Ｐ１２は、圧力センサ４７によって取得された測定値と圧力センサ４８によって取得された測定値の平均値であってもよい。測定値Ｔ１２は、第３の状態における第３のガス流路４３内の温度の測定値である。測定値Ｔ１２は、温度センサ４９によって取得された測定値である。なお、工程ＳＴ８では、圧力センサ４７及び／又は圧力センサ４８によって取得された測定値が安定しており、温度センサ４９によって取得された測定値が安定しているときに、測定値Ｐ１２及び測定値Ｔ１２が取得され得る。圧力センサ４７及び／又は圧力センサ４８によって取得された測定値は、その変動量が所定値以下である場合に、安定しているものと判断される。また、温度センサ４９によって取得された測定値は、その変動量が所定値以下である場合に、安定しているものと判断される。
【００７１】
続く工程ＳＴ９では、第１のバルブ５１及び第３のバルブ５３が閉じられる。続く工程ＳＴ１０では、第２のバルブ５２が開かれる。即ち、工程ＳＴ１０では、第２のバルブ５２が開かれ、第１のバルブ５１が閉じられることにより、第３の状態から第４の状態が形成される。第４の状態では、第３のガス流路４３内のガスが少なくとも部分的に排出される。一実施形態の第４の状態では、第３のガス流路４３内のガスが部分的に第４のガス流路４４に排出される。別の実施形態の第４の状態では、第３のガス流路４３内のガスが第４のガス流路４４を介して完全に排出されてもよい。
【００７２】
続く工程ＳＴ１１では、第２のバルブ５２が閉じられることにより、第４の状態から第５の状態が形成される。一実施形態では、上述の第４の状態において第３のガス流路４３内のガスが部分的に排出されることにより、第５の状態における第３のガス流路４３内の圧力が、真空引きされた第３のガス流路４３内の圧力よりも高くなるように、設定されてもよい。この実施形態では、第３の状態において第３のガス流路４３内に封入されていたガスが、部分的に排出されることにより、即ち、完全に排出されることなく、第５の状態が形成される。したがって、第３の状態から第５の状態を形成するために必要な時間長が短縮される。一実施形態では、ＳＴ１１の後に第３のバルブ５３を開放する工程１１ａを追加し、工程ＳＴ９〜工程ＳＴ１１ａを繰り返すことにより、第３のガス流路４３内の圧力を低下させてもよい。
【００７３】
続く工程ＳＴ１２では、圧力の測定値Ｐ１３が取得される。測定値Ｐ１３は、第５の状態における第３のガス流路４３内の圧力の測定値である。測定値Ｐ１３は、圧力センサ４７又は圧力センサ４８によって取得された測定値である。測定値Ｐ１３は、圧力センサ４７によって取得された測定値と圧力センサ４８によって取得された測定値の平均値であってもよい。なお、工程ＳＴ１２では、圧力センサ４７及び／又は圧力センサ４８によって取得された測定値が安定しているときに、測定値Ｐ１３が取得され得る。圧力センサ４７及び／又は圧力センサ４８によって取得された測定値は、その変動量が所定値以下である場合に、安定しているものと判断される。
【００７４】
続く工程ＳＴ１３では、第１のバルブ５１が開かれることにより、第５の状態から第６の状態が形成される。続く工程ＳＴ１４では、圧力の測定値Ｐ１４が取得される。測定値Ｐ１４は、第６の状態における第３のガス流路４３内の圧力の測定値である。測定値Ｐ１４は、圧力センサ４７又は圧力センサ４８によって取得された測定値である。測定値Ｐ１４は、圧力センサ４７によって取得された測定値と圧力センサ４８によって取得された測定値の平均値であってもよい。なお、工程ＳＴ１４では、圧力センサ４７及び／又は圧力センサ４８によって取得された測定値が安定しているときに、測定値Ｐ１４が取得され得る。圧力センサ４７及び／又は圧力センサ４８によって取得された測定値は、その変動量が所定値以下である場合に、安定しているものと判断される。
【００７５】
続く工程ＳＴ１５では、流量Ｑが求められる。流量Ｑは、第２の状態においてガス供給部１４ｉの流量制御器１８ｊから出力されたガスの流量である。工程ＳＴ１５では、流量Ｑを求めるために、以下の式（１）の演算が実行される。
Ｑ＝（Ｐ１２−Ｐ１１）／Δｔ×（１／Ｒ）×（Ｖ／Ｔ）      …（１）
（１）式において、Δｔは工程ＳＴ６の実行期間の時間長であり、Ｒは気体定数であり、（Ｖ／Ｔ）は、｛Ｖ３／Ｔ１２×（Ｐ１２−Ｐ１３）／（Ｐ１２−Ｐ１４）｝を含む。
【００７６】
一実施形態においては、工程ＳＴ１５の具体的な演算は、下記の（１ａ）式の演算である。
Ｑ＝（Ｐ１２−Ｐ１１）／Δｔ×（１／Ｒ）×｛Ｖｓｔ／Ｔｓｔ＋Ｖ３／Ｔ１２×（Ｐ１２−Ｐ１３）／（Ｐ１２−Ｐ１４）｝      …（１ａ）
（１ａ）式において、Ｖｓｔは、ガス供給部１４ｉの流量制御器１８ｊのオリフィス部材と二次バルブ２０ｊの弁体との間の流路の容積であり、予め定められた設計値である。Ｔｓｔは、ガス供給部１４ｉの流量制御器１８ｊのオリフィス部材と二次バルブ２０ｊの弁体との間の流路内の温度であり、流量制御器１８ｊの温度センサによって取得される。なお、Ｔｓｔは、第３の状態において取得される温度であり得る。なお、（１ａ）式において、（Ｖｓｔ／Ｔｓｔ）は省略されてもよい。
【００７７】
方法ＭＴでは、第２のバルブ５２が閉じられた状態で、一つのガス供給部１４ｉの一つの流量制御器１８ｊからのガスを、ガス供給部１４ｉの第１のガス流路２１、第２のガス流路４２、及び、第３のガス流路４３に供給することにより圧力上昇を生じさせる。この圧力上昇の速度、即ち、圧力の上昇速度を、（１）式に用いることにより、流量制御器１８ｊから出力されたガスの流量が求められる。（１）式において、Ｖ／Ｔは、本来的には、（ＶＥ／ＴＥ）と（Ｖ３／Ｔ１２）との和を含むべきである。即ち、（１）式の演算は、本来的には、以下の（１ｂ）式であるべきである。
Ｑ＝（Ｐ１２−Ｐ１１）／Δｔ×（１／Ｒ）×（Ｖｓｔ／Ｔｓｔ＋ＶＥ／ＴＥ＋Ｖ３／Ｔ１２）
…（１ｂ）
ここで、ＶＥは、ガス供給部１４ｉの第１のガス流路２１の容積と第２のガス流路４２の容積の和であり、ＴＥは、第３の状態におけるガス供給部１４ｉの第１のガス流路２１及び第２のガス流路４２の中の温度である。
【００７８】
ここで、ボイル・シャルルの法則から、以下の式（４）が成立する。
Ｐ１２×ＶＥ／ＴＥ＋Ｐ１３×Ｖ３／Ｔ１２＝Ｐ１４×ＶＥ／ＴＥ＋Ｐ１４×Ｖ３／Ｔ１２
…（４）
（４）式から、（ＶＥ／ＴＥ）と（Ｖ３／Ｔ１２）との和は、下記の（５）式に示すように表される。
ＶＥ／ＴＥ＋Ｖ３／Ｔ１２＝Ｖ３／Ｔ１２＋Ｖ３／Ｔ１２×（Ｐ１４−Ｐ１３）／（Ｐ１２−Ｐ１４）
＝Ｖ３／Ｔ１２×（Ｐ１２−Ｐ１３）／（Ｐ１２−Ｐ１４）      …（５）
したがって、（１）式において、（ＶＥ／ＴＥ）と（Ｖ３／Ｔ１２）との和の代わりに、Ｖ３／Ｔ１２×（Ｐ１２−Ｐ１３）／（Ｐ１２−Ｐ１４）｝を用いることができる。
【００７９】
基板処理システムでは、第１のガス流路２１は筐体１７内に配置されているので、第１のガス流路２１内の温度が周囲の環境から受ける影響は少ない。また、第３のガス流路４３は、第２のガス流路４２を介して第１のガス流路２１に接続しているので、複数のチャンバ本体１２から離れた領域に配置され得る。したがって、第３のガス流路４３の中の温度が複数のチャンバ本体１２から受ける影響は少ない。一方、第２のガス流路４２は、周囲の環境、例えば、複数のチャンバ本体１２のうち何れかの温度の影響を受け得る。方法ＭＴでは、（ＶＥ／ＴＥ）と（Ｖ３／Ｔ１２）との和の代わりに、Ｖ３／Ｔ１２×（Ｐ１２−Ｐ１３）／（Ｐ１２−Ｐ１４）｝が（１）式に用いられる。即ち、方法ＭＴでは、流量Ｑの算出において、周囲の環境からの温度の影響を受け難い箇所から取得された測定値を用いることができる。したがって、方法ＭＴによれば、高精度に流量Ｑを求めることが可能となる。
【００８０】
また、方法ＭＴでは、第３の状態において第１のガス流路２１及び第２のガス流路４２の中に封入されたガスを第３のガス流路４３に拡散させることで、第６の状態を形成し、当該第６の状態において測定値Ｐ１４が取得される。即ち、測定値Ｐ１２の取得時の状態の形成のために用いられたガスが、測定値Ｐ１４の取得時の状態の形成のために、再利用される。したがって、効率的に流量Ｑを求めることが可能となる。
【００８１】
なお、流量Ｑは、ガス供給部１４ｉの全ての流量制御器１８について求められてもよい。また、複数のガス供給部１４の全てに対して、方法ＭＴが順に実行されてもよい。ガス供給部１４Ｎ＋１に対して方法ＭＴが実行される場合には、ガス供給部１４Ｎ＋１の流量制御器１８１から出力されるガスの各ガス流路内における圧力は、当該ガスの飽和蒸気圧よりも低い圧力に設定される。なお、飽和蒸気圧よりも低い圧力に設定されるガスの圧力とは、液体の気化によって生成されたガスが単体のガスとして用いられる場合には、当該単体のガスの圧力であり得る。液体の気化によって生成されたガスと他のガスの混合ガスが用いられる場合には、飽和蒸気圧よりも低い圧力に設定されるガスの圧力とは、液体の気化によって生成されたガスの分圧である。
【００８２】
以上、種々の実施形態について説明してきたが、上述した実施形態に限定されることなく種々の変形態様を構成可能である。例えば、変形態様における基板処理システムは、ガス供給部１４Ｎ＋１を備えていなくてもよい。
【符号の説明】
【００８３】
１０…基板処理システム、１２…チャンバ本体、１４…ガス供給部、１７…筐体、１８…流量制御器、１９…一次バルブ、２０…二次バルブ、２１…第１のガス流路、２１ａ…第１の端部、２１ｂ…第２の端部、２１ｃ…第３の端部、３０…開閉バルブ、１６…排気装置、３６…排気流路、４０…流量測定システム、４２…第２のガス流路、４２ａ…第４の端部、４２ｂ…第５の端部、４３…第３のガス流路、４３ａ…第６の端部、４３ｂ…第７の端部、４７，４８…圧力センサ（第１の圧力センサ）、４９…温度センサ（第１の温度センサ）、５１…第１のバルブ、５２…第２のバルブ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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