(57)【要約】【課題】スピンホール効果と界面ラシュバ効果の両方を効率的に取り出すと共に消費電力も低減することができる低抵抗スピン軌道トルク配線を提案する。【解決手段】本実施形態に係る記憶素子は、第１磁性層と、スピン軌道トルクを生成可能な第１層と、前記第１磁性層と前記第１層との間に設けられて前記第１層よりも電気抵抗の小さい材料を含んだ第２層と、を含む第１導電層と、を備え、前記第２層の前記第１磁性層側の表面は、前記第１磁性層から露出した部分の少なくとも一部に絶縁層を含む。【選択図】図１Ｂ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１磁性層と、
スピン軌道トルクを生成可能な第１層と、前記第１磁性層と前記第１層との間に設けられて前記第１層よりも電気抵抗の小さい材料を含んだ第２層と、を含む第１導電層と、
を備え、
前記第２層の前記第１磁性層側の表面は、前記第１磁性層から露出した部分の少なくとも一部に絶縁層を含む、記憶素子。
【請求項２】
前記第１層は、前記第２層よりも厚い、請求項１に記載の記憶素子。
【請求項３】
前記第２層の厚さは、前記第２層が有するスピン拡散長以下である、請求項１又は２に記載の記憶素子。
【請求項４】
前記第１導電層の厚さが２０ｎｍ以下である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の記憶素子。
【請求項５】
前記第２層は、空間群Ｐｍ‐３ｍの対称性を有したＮｉＡｌ、ＲｕＡｌ、ＲｈＡｌ、ＩｒＡｌ、ＴｉＮｉ、又は空間群Ｆｍ‐３ｍの対称性を有したＡｌＮ、ＴａＮ、ＹＢｉ、ＴｉＣ、ＴｉＮのいずれかの立方晶構造である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の記憶素子。
【請求項６】
前記第２層は、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃｕ、Ａｇ、ＧａＡｓ、Ｇｅの少なくともいずれか一種の元素を含む材料から構成される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の記憶素子。
【請求項７】
前記第１層は、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｔａ、Ｗ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｂｉのいずれかの元素を含む材料から構成される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の記憶素子。
【請求項８】
前記絶縁層の少なくとも一部は、前記第２層の前記表面から前記第１層に至っている、請求項１〜７のいずれか一項に記載の記憶素子。
【請求項９】
前記第１導電層とともに前記第１磁性層を挟む非磁性層を備えた、請求項１〜８のいずれか一項に記載の記憶素子。
【請求項１０】
前記第１磁性層とともに前記非磁性層を挟む第２磁性層を備えた、請求項９に記載の記憶素子。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の記憶素子を複数備えている、磁気メモリ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記憶素子及び磁気メモリに関する。
【背景技術】
【０００２】
強磁性層と非磁性層の多層膜からなる巨大磁気抵抗（ＧＭＲ）素子及び非磁性層として絶縁層（トンネルバリア層、バリア層）を用いたトンネル磁気抵抗（ＴＭＲ）素子が知られている。一般に、ＴＭＲ素子はＧＭＲ素子と比較して素子抵抗が高いものの、磁気抵抗（ＭＲ）比はＧＭＲ素子のＭＲ比より大きい。そのため、磁気センサ、高周波部品、磁気ヘッド及び不揮発性磁気抵抗ランダムアクセスメモリ（ＭＲＡＭ）用の素子として、ＴＭＲ素子に注目が集まっている。
【０００３】
ＭＲＡＭは、絶縁層を挟む二つの強磁性層の互いの磁化の向きが変化するとＴＭＲ素子の素子抵抗が変化するという特性を利用してデータを読み書きする。ＭＲＡＭの書き込み方式としては、電流が作る磁場を利用して書き込み（磁化反転）を行う方式や磁気抵抗素子の積層方向に電流を流して生ずるスピントランスファートルク（ＳＴＴ）を利用して書き込み（磁化反転）を行う方式が知られている。ＳＴＴを用いたＴＭＲ素子の磁化反転はエネルギーの効率の視点から考えると効率的ではあるが、磁化反転をさせるための反転電流密度が高い。ＴＭＲ素子の長寿命の観点から、この反転電流密度は低いことが望ましい。この点は、ＧＭＲ素子についても同様である。
【０００４】
そこで近年、ＳＴＴとは異なったメカニズムで反転電流を低減する手段としてスピンホール効果により生成された純スピン流を利用した磁化反転方式に注目が集まっている（例えば、非特許文献１）。スピンホール効果によって生じた純スピン流は、スピン軌道トルク（ＳＯＴ）を誘起し、ＳＯＴにより磁化反転を起こす。純スピン流は上向きスピンの電子と下向きスピン電子が同数で互いに逆向きに流れることで生み出されるものであり、電荷の流れは相殺されている。そのため磁気抵抗効果素子に流れる電流はゼロであり、反転電流密度の小さな磁気抵抗効果素子の実現が期待されている。
【０００５】
非特許文献１によると、ＳＯＴ方式による反転電流密度はＳＴＴ方式による反転電流密度と同程度であると報告されている。しかしながら、現在ＳＯＴ方式で報告されている反転電流密度は、高集積化や低消費エネルギー化を実現するためには不十分である。さらなる反転電流密度の低減のためには高いスピンホール効果を生じる材料を使用する必要がある。そのために、重金属をはじめとするスピン生成層からバルク効果として発生するスピンホール効果に加え、異種材料間の界面において生じる界面ラシュバ効果の両方を効果的に取り出す構造が求められている。
【０００６】
また、ＳＯＴ方式の磁気抵抗効果素子のスピン軌道トルク配線（ＳＯＴを誘起して純スピン流を生じさせる配線）に用いられている材料として、非特許文献１で用いられているようなＴａをはじめとする重金属材料が挙げられる。こうした重金属材料は電気抵抗率が高いため、薄膜や細線にした場合、消費電力が高いことも問題となる。
【０００７】
また、これまで用いられてきたスピン軌道トルク配線材料では、スピン軌道トルク配線に接合させる強磁性金属層との格子整合をとることが困難であった。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００８】
【非特許文献１】Ｓ．Ｆｕｋａｍｉ，  Ｔ．Ａｎｅｋａｗａ，  Ｃ．Ｚｈａｎｇ，ａｎｄ  Ｈ．Ｏｈｎｏ，  Ｎａｔｕｒｅ  Ｎａｎｏｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，  ＤＯＩ：１０．１０３８／ＮＮＡＮＯ．２０１６．２９．
【非特許文献２】Ｊ．Ｓｉｎｏｖａ，  Ｓ．Ｏ．Ｖａｌｅｎｚｕｅｌａ，  Ｊ．Ｗｕｎｄｅｒｌｉｃｈ，  Ｃ．Ｈ．Ｂａｃｋ，  Ｔ．Ｊｕｎｇｗｉｒｔｈ，  Ｒｅｖｉｅｗｓ  ｏｆ  Ｍｏｄｅｒｎ  Ｐｈｙｓｉｃ，  ８７，  １２１３  （２０１５）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、スピンホール効果と界面ラシュバ効果の両方を効果的に取り出すと共に消費電力も低減することができる低抵抗スピン軌道トルク配線を提案するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、ＳＯＴを発現させる原因として考えられている種々の原理のうち、異種材料間の界面において生じる界面ラシュバ効果及び重金属材料中での大きなスピンホール効果に特に着目し、両効果を効果的に組み合わせると共に、低抵抗の材料を用いる構成に着想するに至った。
そこで、本発明は、上記問題を解決するため、以下の手段を提供する。
【００１１】
（１）第１の態様に係る記憶素子は、第１磁性層と、スピン軌道トルクを生成可能な第１層と、前記第１磁性層と前記第１層との間に設けられて前記第１層よりも電気抵抗の小さい材料を含んだ第２層と、を含む第１導電層と、を備え、前記第２層の前記第１磁性層側の表面は、前記第１磁性層から露出した部分の少なくとも一部に絶縁層を含む。
【００１２】
（２）上記態様に係る記憶素子において、前記第１層は、前記第２層よりも厚くてもよい。
【００１３】
（３）上記態様に係る記憶素子において、前記第２層の厚さは、前記第２層が有するスピン拡散長以下であってもよい。
【００１４】
（４）上記態様に係る記憶素子において、前記第１導電層の厚さが２０ｎｍ以下であってもよい。
【００１５】
（５）上記態様に係る記憶素子において、前記第２層は、空間群Ｐｍ‐３ｍの対称性を有したＮｉＡｌ、ＲｕＡｌ、ＲｈＡｌ、ＩｒＡｌ、ＴｉＮｉ、又は空間群Ｆｍ‐３ｍの対称性を有したＡｌＮ、ＴａＮ、ＹＢｉ、ＴｉＣ、ＴｉＮのいずれかの立方晶構造であってもよい。
【００１６】
（６）上記態様に係る記憶素子において、前記第２層は、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃｕ、Ａｇ、ＧａＡｓ、Ｇｅの少なくともいずれか一種の元素を含む材料から構成されていてもよい。
【００１７】
（７）上記態様に係る記憶素子において、前記第１層は、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｔａ、Ｗ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｂｉのいずれかの元素を含む材料から構成されていてもよい。
【００１８】
（８）上記態様に係る記憶素子において、前記絶縁層の少なくとも一部は、前記第２層の前記表面から前記第１層に至っていてもよい。
【００１９】
（９）上記態様に係る記憶素子において、前記第１導電層とともに前記第１磁性層を挟む非磁性層を備えてもよい。
【００２０】
（１０）上記態様に係る記憶素子において、前記第１磁性層とともに前記非磁性層を挟む第２磁性層を備えてもよい。
【００２１】
（１１）第２の態様に係る磁気メモリは、上記態様に係る記憶素子を複数備えている。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の一態様に係る記憶素子によれば、界面ラシュバ効果及びスピンホール効果の両方の効果を効果的に取り出すと共に消費電力も低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１Ａ】本発明の一実施形態に係るスピン流磁化反転素子を説明するための平面模式図である。
【図１Ｂ】本発明の一実施形態に係るスピン流磁化反転素子を説明するための断面模式図である。
【図２】スピンホール効果について説明するための模式図である。
【図３Ａ】本発明の他の実施形態に係るスピン流磁化反転素子を説明するための平面模式図である。
【図３Ｂ】本発明の他の実施形態に係るスピン流磁化反転素子を説明するための断面模式図である。
【図４】本発明の一実施形態に係る磁気抵抗効果素子を模式的に示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、本発明について、図を適宜参照しながら詳細に説明する。以下の説明で用いる図面は、本発明の特徴をわかりやすくするために便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などは実際とは異なっていることがある。以下の説明において例示される材料、寸法等は一例であって、本発明はそれらに限定されるものではなく、本発明の効果を奏する範囲で適宜変更して実施することが可能である。本発明の素子において、本発明の効果を奏する範囲で他の層を備えてもよい。
【００２５】
（スピン流磁化反転素子）
図１Ａ及び図１Ｂに、本発明の一実施形態に係るスピン流磁化反転素子の一例の模式図を示す。図１Ａは平面図であり、図１Ｂは図１Ａのスピン伝導層３の幅方向の中心線であるＸ−Ｘ線で切った断面図である。
【００２６】
図１Ａ及び図１Ｂに示すスピン流磁化反転素子（記憶素子）１０は、磁化方向が変化する第１強磁性金属層（第１磁性層）１と、第１強磁性金属層１の面直方向である第１方向に対して交差する第２の方向に延在し、第１強磁性金属層１に接合するスピン軌道トルク配線（第１導電層）２と、を備え、スピン軌道トルク配線２は、第１強磁性金属層１に接合するスピン伝導層（第２層）３と、スピン伝導層３に接合し、第１強磁性金属層１の反対側の面に接合するスピン生成層（第１層）４が積層された構造である。
【００２７】
以下、第１強磁性金属層１の面直方向もしくは第１強磁性金属層１とスピン軌道トルク配線２とが積層する方向（第１方向）をｚ方向、ｚ方向と垂直でスピン軌道トルク配線２と平行な方向（第２方向）をｘ方向、ｘ方向及びｚ方向と直交する方向（第３方向）をｙ方向とする。
【００２８】
図１Ａ及び図１Ｂを含めて以下では、スピン軌道トルク配線２が第１強磁性金属層１の面直方向である第１方向に対して交差する方向に延在する構成の例として、第１方向に対して直交する方向に延在する構成の場合について説明する。
【００２９】
本発明のスピン流磁化反転素子１０すなわち、純スピン流によるＳＯＴ効果で強磁性金属層の磁化反転を行う素子は、純スピン流によるＳＯＴのみで強磁性金属層の磁化反転を行う磁気抵抗効果素子において用いることができる。一方、本発明のスピン流磁化反転素子は、従来のＳＴＴを利用する磁気抵抗効果素子において強磁性金属層の磁化反転のアシスト手段あるいは主力手段として用いることもできる。
【００３０】
＜第１強磁性金属層＞
第１強磁性金属層１は、磁化方向が変化するように公知の強磁性材料を含む。第１強磁性金属層１の更なる詳細については、後述の磁気抵抗効果素子の応用における第１強磁性金属層１０１に関連して説明する。
【００３１】
＜スピン軌道トルク配線＞
スピン軌道トルク配線２は、電流が流れると純スピン流が生成され、スピン軌道トルクを誘起するように構成される。本発明のスピン軌道トルク配線２は、スピン伝導層３とスピン生成層４が第１方向に積層された構造を有する。
【００３２】
スピン伝導層３とスピン生成層４との間の界面には、界面ラシュバ効果によりスピン蓄積（上向きスピン又は下向きスピンの一方が多く存在している状態）が生じる。スピン蓄積は純スピン流を生じさせる。
【００３３】
界面ラシュバ効果の詳細なメカニズムについては明らかでないが、以下のように考えられる。異種材料間の界面においては、空間反転対称性が破れていて、面直方向にポテンシャル勾配が存在しているとみなされる。このような面直方向にポテンシャル勾配がある界面に沿って電流が流れる場合、つまり電子が２次元の面内を運動する場合、電子の運動方向と垂直且つ面内の方向において有効磁場がスピンに作用して、その有効磁場の方向にスピンの向きが揃う。これにより、界面にスピン蓄積が形成される。そして、このスピン蓄積は、面外に拡散する純スピン流を生じさせる。
【００３４】
本発明においては、上記界面ラシュバ効果に加えて、スピン軌道トルク配線２内、特にスピン生成層４内において生じるスピンホール効果も利用して、純スピン流を発生させる。
【００３５】
スピンホール効果とは、材料に電流を流した場合にスピン軌道相互作用に基づき、電流の向きに直交する方向に純スピン流が誘起される現象である。
【００３６】
図２は、スピン生成層４を用いて、スピンホール効果について説明するための模式図である。図２は、図１Ｂに示すスピン生成層４をｘ方向に沿って切断した断面図である。図２に基づいてスピンホール効果により純スピン流が生み出されるメカニズムを説明する。尚、スピンホール効果そのものは、スピン生成層４だけではなく、スピン伝導層３においても生じ得ることは留意されたい。この場合、スピン生成層４に誘起されるスピンホール効果は、その材料や構造の選択によって、スピン伝導層３に誘起されるスピンホール効果よりも大きくなる。
【００３７】
図２に示すように、スピン生成層４の延在方向に電流Ｉを流すと、紙面手前側に配向した第１スピンＳ１と紙面奥側に配向した第２スピンＳ２はそれぞれ電流と直交する方向に曲げられる。通常のホール効果とスピンホール効果とは運動（移動）する電荷（電子）が運動（移動）方向を曲げられる点で共通するが、通常のホール効果は磁場中で運動する荷電粒子がローレンツ力を受けて運動方向を曲げられるのに対して、スピンホール効果では磁場が存在しないのに電子が移動するだけ（電流が流れるだけ）で移動方向が曲げられる点で大きく異なる。
【００３８】
非磁性体（強磁性体ではない材料）では第１スピンＳ１の電子数と第２スピンＳ２の電子数とが等しいので、図中で上方向に向かう第１スピンＳ１の電子数と下方向に向かう第２スピンＳ２の電子数が等しい。そのため、電荷の正味の流れとしての電流はゼロである。この電流を伴わないスピン流は特に純スピン流と呼ばれる。
【００３９】
強磁性体中に電流を流した場合は、第１スピンＳ１と第２スピンＳ２が互いに反対方向に曲げられる点は同じである。一方で、強磁性体中では第１スピンＳ１と第２スピンＳ２のいずれかが多い状態であり、結果として電荷の正味の流れが生じてしまう（電圧が発生してしまう）点が異なる。従って、スピン生成層４の材料としては、下記で説明するように、強磁性体だけからなる材料は含まれず、特に非磁性の重金属材料が挙げられる。
【００４０】
ここで、第１スピンＳ１の電子の流れをＪ↑、第２スピンＳ２の電子の流れをＪ↓、スピン流をＪＳと表すと、ＪＳ＝Ｊ↑−Ｊ↓で定義される。図２においては、純スピン流としてＪＳが図中の上方向に流れる。ここで、ＪＳは分極率が１００％の電子の流れである。
【００４１】
図１Ｂにおいて、スピン軌道トルク配線２の上面に強磁性体である第１強磁性金属層１を接触させると、界面ラシュバ効果により界面で生じた純スピン流及びスピンホール効果により生じた純スピン流は、スピン軌道トルク配線２内を拡散して伝わり、遂には第１強磁性金属層１に到達し、第１強磁性金属層１中に拡散して流れ込む。すなわち、第１強磁性金属層１にスピンが注入される。
【００４２】
本発明のスピン流磁化反転素子１０では、このようにスピン軌道トルク配線２に電流を流して純スピン流を生成し、その純スピン流がスピン軌道トルク配線２に接する第１強磁性金属層１に拡散する構成とすることで、その純スピン流によるスピン軌道トルク（ＳＯＴ）効果によって第１強磁性金属層１の磁化反転を起こすものである。
【００４３】
（スピン伝導層）
一実施形態では、スピン伝導層３は、電気抵抗を下げるために電気抵抗率が小さく、且つ、純スピン流を第１強磁性金属層１まで伝導するためにスピン拡散長（スピン蓄積が消失する距離）の長い材料から構成される。例えば、スピン伝導層を構成する材料として、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃｕ、Ａｇ、ＧａＡｓ、Ｇｅの少なくとも一種の元素を含む材料が挙げられる。スピン伝導層３の材料は、単体として用いてもよく、合金、化合物等として組み合わせて用いてもよい。
【００４４】
スピン伝導層３の厚さは、好ましくは、そのスピン伝導層３の有するスピン拡散長以下の厚さにされる。これによって、スピン情報を失わずに、第１強磁性金属層１までスピン流を伝えることができる。スピン拡散長は特に用いられる材料に依存する。例えば、単体のＣｕ、Ａｇのスピン拡散長は、室温において１００ｎｍ以上に達することが知られている。非特許文献２を参照すると、単体のＣｕ結晶のスピン拡散長は室温で５００μｍにも達し、単体のＡｇ結晶のスピン拡散長は室温において７００μｍにも達すると報告されている。従って、スピン伝導層３の厚さを、十分にスピン拡散長以下に設定することができる。尚、非特許文献２に記載されているように、各種材料のスピン拡散長は当業者には既知であるか、推定可能なものであり、当業者であれば、本願の開示に基づき、各種材料を用いる場合において、スピン伝導層の厚さをスピン拡散長以下に設定することができる点に留意されたい。
【００４５】
他の実施形態では、代わりに、スピン伝導層３は、空間群Ｐｍ‐３ｍの対称性を有したＮｉＡｌ、ＲｕＡｌ、ＲｈＡｌ、ＩｒＡｌ、ＴｉＮｉ、又は空間群Ｆｍ‐３ｍの対称性を有したＡｌＮ、ＴａＮ、ＹＢｉ、ＴｉＣ、ＴｉＮのいずれかの立方晶構造を有する材料から構成されてもよい。上記結晶構造においては、結晶の対称性は良好であっても二種類の材料の差異から反転対称性が崩れており、空間反転対称性が低いため、スピン伝導層３においても大きなスピン軌道相互作用、つまりは大きなスピンホール効果を生じさせることができる。更に、上記結晶構造を有する材料は、スピン伝導層３に接合する第１強磁性金属層１（例えば、Ｆｅ等）との格子不整合度が５％以下であるため、高い磁気抵抗比を維持することができる。ここで、格子不整合度とは、結晶界面において二つの結晶の整合状態の指標である。格子不整合度が大きくなればなるほど、互いの結晶が整合しておらず、結晶界面で互いの結晶格子が歪む。一般に、格子不整合度が５％以下であると、結晶界面を有していても下の層の結晶構造に合わせたエピタキシャル成長が起こると言われている。
格子不整合が無いほど磁気抵抗比が高くなるため、より好ましい格子不整合度として０％以上５％以下が挙げられ、更に好ましくは０％以上３％以下であり、０％以上２％以下である。
【００４６】
（スピン生成層）
スピン生成層４は、大きなスピンホール効果により大きなスピン軌道トルク（ＳＯＴ）を生じさせる材料から構成される。このような材料としては、非磁性の重金属、例えば、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｔａ、Ｗ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、及びＢｉのうち少なくとも一種の原子を含む材料が挙げられ、スピン生成層４の材料は、単体として用いてもよく、合金、化合物等として組み合わせて用いてもよい。
【００４７】
スピン生成層４についても、そのスピン生成層４に接合するスピン伝導層３との格子不整合度が５％以下であることによって、一方の層の上に他方の層をエピタキシャル成長させることができる。
【００４８】
本発明のスピン軌道トルク配線２は、スピン伝導層３及びスピン生成層４の二層構造を有し、スピン伝導層３の電気抵抗率が小さいため、消費電力を下げることができる。しかしながら、より大きなＳＯＴを得るためには、スピン生成層４により多くの電流を流すことが望まれる。スピン生成層４により多くの電流を流すことは、スピン伝導層３及びスピン生成層４の膜厚を適切に設計することによって達成され得る。以下、この膜厚設計について説明する。
【００４９】
図１Ｂに示されるように、スピン伝導層３は、幅Ｗ、長さＬ、膜厚ｔ１を有し、また、電気抵抗率ρ１を有するものとする。一方、スピン生成層４は、スピン伝導層３と同じ幅Ｗ、同じ長さＬを有する一方、膜厚ｔ２を有し、また、電気抵抗率ρ２を有するものとする。そうすると、スピン伝導層３の電気抵抗Ｒ１＝ρ１×Ｌ／（Ｗ×ｔ１）  （式１）と表され、スピン生成層４の電気抵抗Ｒ２＝ρ２×Ｌ／（Ｗ×ｔ２）  （式２）と表される。
【００５０】
そして、スピン伝導層３及びスピン生成層４の二層構造を有するスピン軌道トルク配線２の延在方向の両端に電圧Ｖを印加する場合、スピン伝導層３及びスピン生成層４は並列回路を構成するものとみなすことができる。そこで、スピン伝導層３を流れる電流をＩ１とし、スピン生成層４を流れる電流をＩ２とすると、並列回路のオームの法則より、Ｉ１Ｒ１＝Ｉ２Ｒ２（＝Ｖ）  （式３）の関係が得られる。従って、式１から式３より、以下の式４が得られる。
Ｉ１／Ｉ２＝Ｒ２／Ｒ１＝（ρ２／ρ１）×（ｔ１／ｔ２）  （式４）
【００５１】
ここで、本発明においては、スピン生成層４に多くの電流を流すため、Ｉ２≧Ｉ１  （式５）という条件を満たす必要がある。最終的に、式４及び式５より、以下の式６が得られる。
（ｔ１／ｔ２）≦（ρ１／ρ２）  （式６）
【００５２】
つまり、本発明においては、スピン伝導層３の膜厚ｔ１とスピン生成層４の膜厚ｔ２の比率ｔ１／ｔ２は、スピン伝導層３の抵抗率ρ１とスピン生成層４の抵抗率ρ２の比率ρ１／ρ２以下となるように設計される。これによって、スピン生成層４により多くの電流を流し、より大きなＳＯＴを得ることができる。
【００５３】
一例として、スピン伝導層３が銅（Ｃｕ）からなり（銅の抵抗率は室温（２０℃）で１．６８×１０−８Ωｍ）、スピン生成層４がタンタル（Ｔａ）からなる（タンタルの抵抗率は室温（２０℃）で１．３１×１０−７Ωｍ）場合、膜厚の比率はｔ１／ｔ２≦約０．１３となるように設計される。
【００５４】
更に好ましくは、スピン伝導層３の厚さ及びスピン生成層４の厚さは、これら二層の積層体であるスピン軌道トルク配線２の厚さが２０ｎｍ以下になるように設定される。スピン軌道トルク配線２の厚さが２０ｎｍを超えて厚くなり過ぎると、スピン軌道トルク配線２とその上に積層される第１強磁性金属層１との間の界面ラフネスが大きくなるため、磁気抵抗効果が安定しなくなる可能性がある。
スピン軌道トルク配線２の厚さの下限値は１ｎｍであることが好ましく、スピン軌道トルク配線２の厚さは２ｎｍ〜１０ｎｍであることがより好ましい。
【００５５】
図３Ａ及び図３Ｂに、本発明の他の実施形態に係るスピン流磁化反転素子の一例の模式図を示す。図３Ａは平面図であり、図３Ｂは図３Ａのスピン伝導層３の幅方向の中心線であるＸ−Ｘ線で切った断面図である。
【００５６】
図３Ａ及び図３Ｂに示される本発明の実施形態においては、スピン流磁化反転素子１０は、低抵抗電極５を更に有する。その他の構成については、図１Ａ及び図１Ｂに示される本発明の実施形態と同じであるため、説明は省略する。
図３Ｂでは符号を示していないが、図１Ｂと同様に、第１強磁性金属層１に接合するスピン伝導層３と、スピン伝導層３に接合し、第１強磁性金属層１の反対側の面に接合するスピン生成層４が積層された構造をスピン軌道トルク配線２とする。
【００５７】
低抵抗電極５は、スピン軌道トルク配線２の両端にそれぞれ接合される。低抵抗電極５は、導電性が高い材料、例えば、アルミニウム、銀、銅、金等を用いることができる。低抵抗電極５と第１強磁性金属層１の対向する側面間の距離Ｄは、スピン伝導層３のスピン拡散長以下になるように設計され、好ましくはスピン拡散長に等しくなるように設計される。ここで、低抵抗電極５と第１強磁性金属層１の対向する側面間の距離Ｄとは、図３Ｂに示されるように、低抵抗電極５の側面を含む平面と、対向する第１強磁性金属層１の側面を含む平面との間の垂直距離である。これによって、第１強磁性金属層１の下に存在する部分以外のスピン生成層４の部分内でスピンホール効果により発生する純スピン流、及び、第１強磁性金属層１の下に存在する部分以外のスピン伝導層３とスピン生成層４との界面で界面ラシュバ効果により発生する純スピン流を、スピン伝導層３を介して最大限第１強磁性金属層１にまで到達させることができる。
【００５８】
スピン軌道トルク配線２の第１強磁性金属層１に接合する面の反対側の面に接合する絶縁層をさらに備えることができる。この構成では、磁気抵抗効果素子やその他の用途に適用する場合に、スピン軌道トルク配線に流す電流が第１強磁性金属層に接合する面の反対側の面から漏れることが防止され、より電流集中効果を高めることができる。
【００５９】
上述した実施形態ではスピン軌道トルク配線は、第１強磁性金属層に直接接続された場合を説明したが、後述のように、第１強磁性金属層とスピン軌道トルク配線との間に、キャップ層のような他の層を介在させてもよい。キャップ層の更なる詳細については、後述の磁気抵抗効果素子の応用におけるキャップ層１０４に関連して説明する。
【００６０】
本発明のスピン流磁化反転素子は後述するように磁気抵抗効果素子に適用することができる。用途としては磁気抵抗効果素子に限られず、他の用途にも適用できる。他の用途としては、例えば、上記のスピン流磁化反転素子を各画素に配設して、磁気光学効果を利用して入射光を空間的に変調する空間光変調器においても用いることができるし、磁気センサにおいて磁石の保磁力によるヒステリシスの効果を避けるために磁石の磁化容易軸に印可する磁場をＳＯＴに置き換えてもよい。
【００６１】
（磁気抵抗効果素子）
本発明の一実施形態に係る磁気抵抗効果素子は、本発明のスピン流磁化反転素子と、磁化方向が固定されている第２強磁性金属層と、第１強磁性金属層と第２強磁性金属層に挟持された非磁性層とを備えるものである。
【００６２】
図４は、本発明のスピン流磁化反転素子の応用例であり、また、本発明の一実施形態に係る磁気抵抗効果素子でもある磁気抵抗効果素子を模式的に示した斜視図である。なお、図４においては、本発明のスピン流磁化反転素子の特徴部分は図示を省略している。
【００６３】
図４に示す磁気抵抗効果素子１００は、本発明のスピン流磁化反転素子（第１強磁性金属層１０１と、スピン軌道トルク配線１２０）と、磁化方向が固定された第２強磁性金属層１０３と、第１強磁性金属層１０１及び第２強磁性金属層１０３に挟持された非磁性層１０２とを有する。第１強磁性金属層１０１は上記第１強磁性金属層１と同じ構成を有し、スピン軌道トルク配線１２０は上記スピン軌道トルク配線２と同じ構成を有する。また、図４に示す磁気抵抗効果素子１００は、磁気抵抗効果素子部１０５とスピン軌道トルク配線１２０とを有するということもできる。
【００６４】
本発明の一実施形態に係る磁気抵抗効果素子は、スピン軌道トルク配線１２０を備えることで、純スピン流によるＳＯＴのみで磁気抵抗効果素子の磁化反転を行う構成（以下、「ＳＯＴのみ」構成ということがある）とすることもできるし、従来のＳＴＴを利用する磁気抵抗効果素子において純スピン流によるＳＯＴを併用する構成とすることもできる。
【００６５】
図４を含めて以下では、スピン軌道トルク配線が磁気抵抗効果素子部の積層方向に対して交差する方向に延在する構成の例として、直交する方向に延在する構成の場合について説明する。
図４においては、磁気抵抗効果素子１００の積層方向に電流を流すための配線１３０と、その配線１３０を形成する基板１１０も示している。また、第１強磁性金属層１０１とスピン軌道トルク配線１２０との間にキャップ層１０４を備える。
【００６６】
＜磁気抵抗効果素子部＞
磁気抵抗効果素子部１０５は、磁化方向が固定された第２強磁性金属層１０３と、磁化方向が変化する第１強磁性金属層１０１と、第２強磁性金属層１０３及び第１強磁性金属層１０１に挟持された非磁性層１０２とを有する。
【００６７】
第２強磁性金属層１０３の磁化が一方向に固定され、第１強磁性金属層１０１の磁化の向きが相対的に変化することで、磁気抵抗効果素子部１０５として機能する。保磁力差型（擬似スピンバルブ型；Ｐｓｅｕｄｏ  ｓｐｉｎ  ｖａｌｖｅ  型）のＭＲＡＭに適用する場合には、第２強磁性金属層１０３の保磁力は第１強磁性金属層１０１の保磁力よりも大きいものであり、また、交換バイアス型（スピンバルブ；ｓｐｉｎ  ｖａｌｖｅ型）のＭＲＡＭに適用する場合には、第２強磁性金属層１０３では反強磁性層との交換結合によって磁化方向が固定される。
【００６８】
また、磁気抵抗効果素子部１０５は、非磁性層１０２が絶縁体からなる場合は、トンネル磁気抵抗（ＴＭＲ：Ｔｕｎｎｅｌｉｎｇ  Ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ）素子であり、非磁性層１０２が金属からなる場合は巨大磁気抵抗（ＧＭＲ：Ｇｉａｎｔ  Ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ）素子である。
【００６９】
本発明が備える磁気抵抗効果素子部１０５としては、公知の磁気抵抗効果素子部の構成を用いることができる。例えば、各層は複数の層からなるものでもよいし、第２強磁性金属層１０３の磁化方向を固定するための反強磁性層等の他の層を備えてもよい。
【００７０】
第２強磁性金属層１０３は固定層、ピン層、参照層等と呼ばれ、第１強磁性金属層１０１は自由層、フリー層、記憶層等と呼ばれる。
【００７１】
第２強磁性金属層１０３及び第１強磁性金属層１０１は、磁化方向が層に平行な面内方向である面内磁化膜でも、磁化方向が層に対して垂直方向である垂直磁化膜でもいずれでもよい。
【００７２】
第２強磁性金属層１０３の材料には、公知のものを用いることができる。例えば、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｆｅ及びＮｉからなる群から選択される金属及びこれらの金属を１種以上含み強磁性を示す合金を用いることができる。またこれらの金属と、Ｂ、Ｃ、及びＮの少なくとも１種以上の元素とを含む合金を用いることもできる。具体的には、Ｃｏ−ＦｅやＣｏ−Ｆｅ−Ｂが挙げられる。
【００７３】
また、より高い出力を得るためにはＣｏ２ＦｅＳｉなどのホイスラー合金を用いることが好ましい。ホイスラー合金は、Ｘ２ＹＺの化学組成をもつ金属間化合物を含み、Ｘは、周期表上でＣｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、あるいはＣｕ族の遷移金属元素又は貴金属元素であり、Ｙは、Ｍｎ、Ｖ、ＣｒあるいはＴｉ族の遷移金属でありＸの元素種をとることもでき、Ｚは、ＩＩＩ族からＶ族の典型元素である。例えば、Ｃｏ２ＦｅＳｉ、Ｃｏ２ＭｎＳｉやＣｏ２Ｍｎ１−ａＦｅａＡｌｂＳｉ１−ｂなどが挙げられる。
【００７４】
また、第２強磁性金属層１０３の第１強磁性金属層１０１に対する保磁力をより大きくするために、非磁性層１０２に接する面の反対側の面において第２強磁性金属層１０３と接する層（ピニング層）として、ＩｒＭｎ，ＰｔＭｎなどの反強磁性材料の層を用いてもよい。さらに、第２強磁性金属層１０３の漏れ磁場を第１強磁性金属層１０１に影響させないようにするため、シンセティック強磁性結合の構造としてもよい。
【００７５】
さらに第２強磁性金属層１０３の磁化の向きを積層面に対して垂直にする場合には、ＣｏとＰｔの積層膜を用いることが好ましい。具体的には、第２強磁性金属層１０３は［Ｃｏ（０．２４ｎｍ）／Ｐｔ（０．１６ｎｍ）］６／Ｒｕ（０．９ｎｍ）／［Ｐｔ（０．１６ｎｍ）／Ｃｏ（０．１６ｎｍ）］４／Ｔａ（０．２ｎｍ）／ＦｅＢ（１．０ｎｍ）とすることができる。
【００７６】
第１強磁性金属層１０１の材料として、強磁性材料、特に軟磁性材料を適用できる。例えば、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｆｅ及びＮｉからなる群から選択される金属、これらの金属を１種以上含む合金、これらの金属とＢ、Ｃ、及びＮの少なくとも１種以上の元素とが含まれる合金等を用いることができる。具体的には、Ｃｏ‐Ｆｅ、Ｃｏ‐Ｆｅ‐Ｂ、Ｎｉ‐Ｆｅが挙げられる。
【００７７】
第１強磁性金属層１０１の磁化の向きを積層面に対して垂直にする場合には、第１強磁性金属層の厚みを２．５ｎｍ以下とすることが好ましい。何故なら、第１強磁性金属層１０１と非磁性層１０２の界面で、第１強磁性金属層１０１に垂直磁気異方性を付加することができる。また、垂直磁気異方性は第１強磁性金属層１０１の膜厚を厚くすることによって効果が減衰するため、第１強磁性金属層１０１の膜厚は薄い方が好ましい。
【００７８】
非磁性層１０２には、公知の材料を用いることができる。例えば、非磁性層１０２が絶縁体からなる場合（つまり、トンネルバリア層である場合）、その材料としては、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、Ｍｇ、及び、ＭｇＡｌ２Ｏ４等を用いることができる。またこれらの他にも、Ａｌ，Ｓｉ，Ｍｇの一部が、Ｚｎ、Ｂｅ等に置換された材料等も用いることができる。これらの中でも、ＭｇＯやＭｇＡｌ２Ｏ４はコヒーレントトンネルが実現できる材料であるため、スピンを効率よく注入できる。また、非磁性層１０２が金属からなる場合、その材料としては、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ等を用いることができる。
【００７９】
また、第１強磁性金属層１０１の非磁性層１０２と反対側の面には、図４に示すようにキャップ層１０４が形成されていることが好ましい。キャップ層１０４は、第１強磁性金属層１０１からの元素の拡散を抑制することができる。またキャップ層１０４は、磁気抵抗効果素子部１０５の各層の結晶配向性にも寄与する。その結果、キャップ層１０４を設けることで、磁気抵抗効果素子部１０５の第２強磁性金属層１０３及び第１強磁性金属層１０１の磁性を安定化し、磁気抵抗効果素子部１０５を低抵抗化することができる。
【００８０】
キャップ層１０４には、導電性が高い材料を用いることが好ましい。例えば、Ｒｕ、Ｔａ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｍｇ、Ａｌ等を用いることができる。キャップ層１０４の結晶構造は、隣接する強磁性金属層の結晶構造に合せて、面心立方（ｆｃｃ）構造、六方最密充填（ｈｃｐ）構造又は体心立方（ｂｃｃ）構造から適宜設定することが好ましい。
【００８１】
また、キャップ層１０４には、Ａｇ、Ｃｕ、Ｍｇ、及び、Ａｌからなる群から選択されるいずれかを用いることが好ましい。詳細は後述するが、キャップ層１０４を介してスピン軌道トルク配線１２０と磁気抵抗効果素子部１０５が接続される場合、キャップ層１０４はスピン軌道トルク配線１２０から伝播するスピンを散逸しないことが好ましい。銀、銅、マグネシウム、及び、アルミニウム等は、スピン拡散長が１００ｎｍ以上と長く、スピンが散逸しにくいことが知られている。
【００８２】
キャップ層１０４の厚みは、キャップ層１０４を構成する材料のスピン拡散長以下であることが好ましい。キャップ層１０４の厚みがスピン拡散長以下であれば、スピン軌道トルク配線１２０から伝播するスピンを磁気抵抗効果素子部１０５に十分伝えることができる。
【００８３】
＜基板＞
基板１１０は、平坦性に優れることが好ましい。平坦性に優れた表面を得るために、材料として例えば、Ｓｉ、ＡｌＴｉＣ等を用いることができる。
【００８４】
基板１１０の磁気抵抗効果素子部１０５側の面には、下地層（図示略）が形成されていてもよい。下地層を設けると、基板１１０上に積層される第２強磁性金属層１０３を含む各層の結晶配向性、結晶粒径等の結晶性を制御することができる。
【００８５】
下地層は、絶縁性を有していることが好ましい。配線１３０等に流れる電流が散逸しないようにするためである。下地層には、種々のものを用いることができる。例えば１つの例として、下地層には（００１）配向したＮａＣｌ構造を有し、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｖ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｂ、Ａｌ、Ｃｅの群から選択される少なくとも１つの元素を含む窒化物の層を用いることができる。
【００８６】
他の例として、下地層にはＸＹＯ３の組成式で表される（００２）配向したペロブスカイト系導電性酸化物の層を用いることができる。ここで、サイトＸはＳｒ、Ｃｅ、Ｄｙ、Ｌａ、Ｋ、Ｃａ、Ｎａ、Ｐｂ、Ｂａの群から選択された少なくとも１つの元素を含み、サイトＹはＴｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｇａ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｔａ、Ｃｅ、Ｐｂの群から選択された少なくとも１つの元素を含む。
【００８７】
他の例として、下地層には（００１）配向したＮａＣｌ構造を有し、かつＭｇ、Ａｌ、Ｃｅの群から選択される少なくとも１つの元素を含む酸化物の層を用いることができる。
【００８８】
他の例として、下地層には（００１）配向した正方晶構造または立方晶構造を有し、かつＡｌ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｍｏ、Ｗの群から選択される少なくとも１つの元素を含む層を用いることができる。
【００８９】
また、下地層は一層に限られず、上述の例の層を複数層積層してもよい。下地層の構成を工夫することにより磁気抵抗効果素子部１０５の各層の結晶性を高め、磁気特性の改善が可能となる。
【００９０】
＜配線＞
配線１３０は、磁気抵抗効果素子部１０５の第２強磁性金属層１０３に電気的に接続され、図４においては、配線１３０とスピン軌道トルク配線１２０と電源（図示略）とで閉回路を構成し、磁気抵抗効果素子部１０５の積層方向に電流が流される。
【００９１】
配線１３０は、導電性の高い材料であれば特に問わない。例えば、アルミニウム、銀、銅、金等を用いることができる。
【００９２】
上述した本実施形態では、磁気抵抗効果素子１００において、積層が後になり基板１１０から遠い側に配置する第１強磁性金属層１０１が磁化自由層とされ、積層が先であり基板１１０に近い側に配置する第２強磁性金属層１０３が磁化固定層（ピン層）とされている、いわゆるボトムピン構造の例を挙げたが、磁気抵抗効果素子１００の構造は特に限定されるものではなく、いわゆるトップピン構造であってもよい。
【００９３】
＜電源＞
磁気抵抗効果素子１００は、磁気抵抗効果素子部１０５の積層方向に電流を流す第１電源１４０と、スピン軌道トルク配線１２０に電流を流す第２電源１５０とを更に備える。
【００９４】
第１電源１４０は、配線１３０とスピン軌道トルク配線１２０とに接続される。第１電源１４０は磁気抵抗効果素子１００の積層方向に流れる電流を制御することができる。
第２電源１５０は、スピン軌道トルク配線１２０の両端に接続されている。第２電源１５０は、磁気抵抗効果素子部１０５の積層方向に対して直交する方向に流れる電流である、スピン軌道トルク配線１２０に流れる電流を制御することができる。
【００９５】
上述のように、磁気抵抗効果素子部１０５の積層方向に流れる電流はＳＴＴを誘起する。これに対して、スピン軌道トルク配線１２０に流れる電流はＳＯＴを誘起する。ＳＴＴ及びＳＯＴはいずれも第１強磁性金属層１０１の磁化反転に寄与する。
【００９６】
このように、磁気抵抗効果素子部１０５の積層方向と、この積層方向に直行する方向に流れる電流量を２つの電源によって制御することで、ＳＯＴとＳＴＴが磁化反転に対して寄与する寄与率を自由に制御することができる。
【００９７】
例えば、デバイスに大電流を流すことができない場合は磁化反転に対するエネルギー効率の高いＳＴＴが主となるように制御することができる。すなわち、第１電源１４０から流れる電流量を増やし、第２電源１５０から流れる電流量を少なくすることができる。
また、例えば薄いデバイスを作製する必要があり、非磁性層１０２の厚みを薄くせざる得ない場合は、非磁性層１０２に流れる電流を少なくことが求められる。この場合は、第１電源１４０から流れる電流量を少なくし、第２電源１５０から流れる電流量を多くし、ＳＯＴの寄与率を高めることができる。
【００９８】
第１電源１４０及び第２電源１５０は公知のものを用いることができる。
【００９９】
上述のように、本発明のＳＴＴ方式及びＳＯＴ方式を併用する構成の場合の磁気抵抗効果素子によれば、ＳＴＴ及びＳＯＴの寄与率を、第１電源及び第２電源から供給される電流量により自由に制御することができる。そのため、デバイスに要求される性能に応じて、ＳＴＴとＳＯＴの寄与率を自由に制御することができ、より汎用性の高い磁気抵抗効果素子として機能することができる。
【０１００】
（製造方法）
本発明のスピン流磁化反転素子及びそれを備える磁気抵抗効果素子の製造方法は、特に限定されるものではなく、公知の成膜法を用いることができる。成膜法は、例えば、物理的気相成長（ＰＶＤ）法として、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、分子線エピタキシー（ＭＢＥ）法、イオンプレーティング法、イオンビームデポジション法、スパッタリング法等を用いることができる。あるいは、化学的気相成長（ＣＶＤ）法として、熱ＣＶＤ法、光ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法、有機金属気相成長（ＭＯＣＶＤ）法、原子層堆積（ＡＬＤ）法等を用いることもできる。以下では、スピン軌道トルク型磁化反転素子を適用した磁気抵抗効果素子の製造方法の一例について説明することでスピン軌道トルク型磁化反転素子の製造方法の説明も兼ねる。
【０１０１】
まず、支持体となる基板上にスピン軌道トルク配線を作製する。例えばスパッタリング法を用いて、スピン生成層、スピン伝導層を順次成膜する。次いで、フォトリソグラフィー等の技術を用いて、スピン軌道トルク配線を所定の形状に加工する。
【０１０２】
そして、スピン軌道トルク配線以外の部分は、酸化膜等の絶縁膜で覆う。あるいは、スピン軌道トルク配線の表面を酸化や窒化し、スピン軌道トルク配線の表面を絶縁層、または、高抵抗層としてもよい。この場合では少なくとも高抵抗化されたスピン軌道トルク配線の表面を覆う様に酸化膜等の絶縁膜で覆う。スピン軌道トルク配線及び絶縁膜の露出面は、化学機械研磨（ＣＭＰ）により研磨することが好ましい。
【０１０３】
次いで、磁気抵抗効果素子を作製する。磁気抵抗効果素子を、例えばスパッタリング法を用いて作製する。磁気抵抗効果素子がＴＭＲ素子の場合、例えば、トンネルバリア層は第１強磁性金属層上に最初に０．４〜２．０ｎｍ程度のマグネシウム、アルミニウム、及び複数の非磁性元素の二価の陽イオンとなる金属薄膜をスパッタリングし、プラズマ酸化あるいは酸素導入による自然酸化を行い、その後の熱処理によって形成される。
【０１０４】
得られた積層膜は、アニール処理することが好ましい。反応性スパッタで形成した層は、アモルファスであり結晶化する必要がある。例えば、強磁性金属層としてＣｏ−Ｆｅ−Ｂを用いる場合は、Ｂの一部がアニール処理により抜けて結晶化する。
【０１０５】
アニール処理して製造した磁気抵抗効果素子は、アニール処理しないで製造した磁気抵抗効果素子と比較して、磁気抵抗比が向上する。アニール処理によって、非磁性層のトンネルバリア層の結晶サイズの均一性及び配向性が向上するためであると考えられる。
【０１０６】
アニール処理としては、Ａｒなどの不活性雰囲気中で、３００℃以上５００℃以下の温度で、５分以上１００分以下の時間加熱した後、２ｋＯｅ以上１０ｋＯｅ以下の磁場を印加した状態で、１００℃以上５００℃以下の温度で、１時間以上１０時間以下の時間加熱することが好ましい。
【０１０７】
磁気抵抗効果素子を所定の形状にする方法としては、フォトリソグラフィー等の加工手段を利用できる。まず磁気抵抗効果素子を積層した後、磁気抵抗効果素子のスピン軌道トルク配線と反対側の面に、レジストを塗工する。そして、所定の部分のレジストを硬化し、不要部のレジストを除去する。レジストが硬化した部分は、磁気抵抗効果素子の保護膜となる。レジストが硬化した部分は、最終的に得られる磁気抵抗効果素子の形状と一致する。
【０１０８】
そして、保護膜が形成された面に、イオンミリング、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）等の処理を施す。保護膜が形成されていない部分は除去され、所定の形状の磁気抵抗効果素子が得られる。
【０１０９】
本発明は、上記実施形態にかかるスピン軌道トルク型磁化反転素子の構成及び製造方法に必ずしも限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
【０１１０】
（磁気メモリ）
本発明の磁気メモリ（ＭＲＡＭ）は、本発明の磁気抵抗効果素子を複数備える。
【０１１１】
（磁化反転方法）
磁化反転方法は、本発明の磁気抵抗効果素子において、スピン軌道トルク配線に流れる電流密度が１×１０７Ａ／ｃｍ２未満とすることができる。スピン軌道トルク配線に流す電流の電流密度が大きすぎると、スピン軌道トルク配線に流れる電流によって熱が生じる。熱が第２強磁性金属層に加わると、第２強磁性金属層の磁化の安定性が失われ、想定外の磁化反転等が生じる場合がある。このような想定外の磁化反転が生じると、記録した情報が書き換わるという問題が生じる。すなわち、想定外の磁化反転を避けるためには、スピン軌道トルク配線に流す電流の電流密度が大きくなりすぎないようにすることが好ましい。スピン軌道トルク配線に流す電流の電流密度は１×１０７Ａ／ｃｍ２未満であれば、少なくとも発生する熱により磁化反転が生じることを避けることができる。
【０１１２】
磁化反転方法は、本発明の磁気抵抗効果素子において、ＳＴＴ方式及びＳＯＴ方式を併用する構成の場合、スピン軌道トルク配線の電源に電流を印可した後に、磁気抵抗効果素子の電源に電流を印可してもよい。
【０１１３】
ＳＯＴ磁化反転工程とＳＴＴ磁化反転工程は、同時に行ってもよいし、ＳＯＴ磁化反転工程を事前に行った後にＳＴＴ磁化反転工程を加えて行ってもよい。第１電源１４０と第２電源１５０から電流を同時に供給してもよいし、第２電源１５０から電流を供給後に、加えて第１電源１４０から電流を供給してもよいが、ＳＯＴを利用した磁化反転のアシスト効果をより確実に得るためには、スピン軌道トルク配線の電源に電流が印可した後に、磁気抵抗効果素子の電源に電流を印可することが好ましい。すなわち、第２電源１５０から電流を供給後に、加えて第１電源１４０から電流を供給することが好ましい。
【符号の説明】
【０１１４】
１…第１強磁性金属層、２…スピン軌道トルク配線、３…スピン伝導層、４…スピン生成層、５…低抵抗電極、１０…スピン流磁化反転素子、１００…磁気抵抗効果素子、１０１…第１強磁性金属層、１０２…非磁性層、１０３…第２強磁性金属層、１０４…キャップ層、１０５…磁気抵抗効果素子部、１１０…基板、１２０…スピン軌道トルク配線、１３０…配線、１４０…第１電源、１５０…第２電源
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４】
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