(57)【要約】  本発明は、化学的に安定なリンカーによってキノロンおよびオキサゾリジノンの薬理作用団が互いに結合した化合物の新規で効率的な合成のための中間体（ＺＰ）に関する。【選択図】  【化１】
2007504262.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（ＺＰ）の化合物：
【化１】
2007504262.tif 000036
［式中、
Ｕは、窒素原子またはＣＨ基であり、
Ｖは、酸素原子、硫黄原子、または式ＣＲ６Ｒ７で表される基であり、
Ｗは、結合、酸素原子、硫黄原子、式ＮＲ８で表される基、または任意に置換されているシクロアルキレン、ヘテロシクロアルキレン、アルキルシクロアルキレン、ヘテロアルキルシクロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン、アラルキレン、またはヘテロアラルキレン基であり、
Ｘは、酸素原子または硫黄原子であり、
Ｙは、以下の基から選択され、
【化２】
2007504262.tif 000037
Ｚは、任意に置換されているアルキレン、アルケニレン、アルキニレン、ヘテロアルキレン、シクロアルキレン、ヘテロシクロアルキレン、アルキルシクロアルキレン、ヘテロアルキルシクロアルキレン、アリーレン、ヘテロアリーレン、アラルキレン、またはヘテロアラルキレン基であり、
ラジカルＲ６およびＲ７は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、またはチオール基、任意に置換されているアルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、アルキルシクロアルキル、ヘテロアルキルシクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アラルキル、またはヘテロアラルキルラジカルであり、
Ｒ８は、水素原子、任意に置換されているアルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキル、アルキルシクロアルキル、ヘテロアルキルシクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アラルキル、またはヘテロアラルキルラジカルである］。
【請求項２】
ＵがＣＨ基である、請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
Ｒ６およびＲ７が水素原子である、請求項１または２に記載の化合物。
【請求項４】
Ｖが酸素原子である、請求項１または２に記載の化合物。
【請求項５】
Ｙが次式で示される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の化合物。
【化３】
2007504262.tif 000038
【請求項６】
Ｗが４、５、６、または７個の環原子を有する環を含み、任意に置換されているヘテロシクロアルキレン基である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項７】
Ｚが、Ｃ１〜４アルキレン基である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項８】
Ｚが、ＣＨ２またはＣＨ２ＣＨ２基である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項９】
Ｚ‐Ｗが、一緒になって次式の基である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の化合物：
【化４】
2007504262.tif 000039
［式中、ｎは１または２であり、ｍは１または２であり、ｏは１または２であり、その基はＯＨ、ＯＰＯ３Ｈ２、ＯＳＯ３Ｈ；あるいは少なくとも１個のＯＨ、ＮＨ２、ＳＯ３Ｈ、ＰＯ３Ｈ２、またはＣＯＯＨ基を有するヘテロアルキル基によって任意に置換されていてよい］
【請求項１０】
Ｗが以下の構造：
【化５】
2007504262.tif 000040
または
【化６】
2007504262.tif 000041
を有する、請求項１〜５、７、または８のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項１１】
式（Ｉ）の化合物：
【化７】
2007504262.tif 000042
［式中、ラジカルは、請求項１〜１０のいずれか一項で定義した通りであり、Ａは窒素原子またはＣＨ基である］
の調製における請求項１〜１０のいずれか一項に記載の化合物の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、化学的に安定なリンカーによってキノロンおよびオキサゾリジノンの薬理作用団が互いに結合した最終産物の新規で効率的な合成のための中間体（ＺＰ）に関する。そのような種類の最終産物はＷＯ０３０３２９６２に記載されており、ヒトや動物の細菌に対する高度な活性によって識別される。本発明はまた、そうした中間体の新規で効率的な合成および最終産物にも関する。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００２】
本発明は、式（ＺＰ）の化合物に関する。
【０００３】
【化８】
2007504262.tif 000003
［式中、
Ｕは、窒素原子またはＣＨ基であり、
Ｖは、酸素原子、硫黄原子、または式ＣＲ６Ｒ７で表される基であり、
Ｗは、結合、酸素原子、硫黄原子、式ＮＲ８で表される基、または任意に置換されているシクロアルキレン(cycloalkylene)、ヘテロシクロアルキレン(heterocycloalkylene)、アルキルシクロアルキレン(alkylcycloalkylene)、ヘテロアルキルシクロアルキレン(heteroalkylcycloalkylene)、アリーレン(arylene)、ヘテロアリーレン(heteroarylene)、アラルキレン(aralkylene)、またはヘテロアラルキレン(heteroaralkylene)基であり、
Ｘは、酸素原子または硫黄原子であり、
Ｙは、以下の基から選択され、
【０００４】
【化９】
2007504262.tif 000004
Ｚは、任意に置換されているアルキレン(alkylene)、アルケニレン(alkenylene)、アルキニレン(alkynylene)、ヘテロアルキレン(heteroalkylene)、シクロアルキレン(cycloalkylene)、ヘテロシクロアルキレン(heterocycloalkylene)、アルキルシクロアルキレン(alkylcycloalkylene)、ヘテロアルキルシクロアルキレン(heteroalkylcycloalkylene)、アリーレン(arylene)、ヘテロアリーレン(heteroarylene)、アラルキレン(aralkylene)、またはヘテロアラルキレン(heteroaralkylene)基であり、
ラジカルＲ６およびＲ７は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ、アミノ、ニトロ、またはチオール基、任意に置換されているアルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル(heteroalkyl)、アリール(aryl)、ヘテロアリール(heteroaryl)、シクロアルキル(cycloalkyl)、アルキルシクロアルキル(alkylcycloalkyl)、ヘテロアルキルシクロアルキル(heteroalkylcycloalkyl)、ヘテロシクロアルキル(heterocycloalkyl)、アラルキル(aralkyl)、またはヘテロアラルキル(heteroaralkyl)ラジカルであり、
Ｒ８は、水素原子、任意に置換されているアルキル、アルケニル(alkenyl)、アルキニル(alkynyl)、ヘテロアルキル(heteroalkyl)、アリール(aryl)、ヘテロアリール(heteroaryl)、シクロアルキル(cycloalkyl)、アルキルシクロアルキル(alkylcycloalkyl)、ヘテロアルキルシクロアルキル(heteroalkylcycloalkyl)、ヘテロシクロアルキル(heterocycloalkyl)、アラルキル(aralkyl)、またはヘテロアラルキル(heteroaralkyl)ラジカルである］
【０００５】
用語アルキルは、飽和の直鎖または分枝炭化水素基を指し、この基は１〜２０個の炭素原子、好ましくは１〜１２個の炭素原子、特に１〜６個の炭素原子を含み、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ‐ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ‐ブチル、ｎ‐ペンチル、ｎ‐ヘキシル、２，２‐ジメチルブチル基を指す。
【０００６】
アルケニルおよびアルキニルの語は、少なくとも部分的に不飽和の直鎖または分枝炭化水素基を指し、この基は２〜２０個の炭素原子、好ましくは２〜１２個の炭素原子、特に２〜６個の炭素原子を含み、例えば、エテニル、アリル、アセチレニル、プロパルギル、イソプレニル、ヘキサ‐２‐エニル基を指す。アルケニル基は１、２個の（特に１個の）二重結合を含み、アルキニル基は１、２個の（特に１個の）三重結合を含むのが好ましい。
【０００７】
また、アルキル、アルケニル、およびアルキニルの語は、１個または複数の水素原子が、他のどれに対してもそれぞれ独立に、ハロゲン原子（好ましくはＦまたはＣｌ）によって置き換えられている基、例えば、２，２，２‐トリクロロエチルやトリフルオロメチル基なども指す。
【０００８】
用語ヘテロアルキルは、アルキル、アルケニル、またはアルキニル基（例えば、ヘテロアルケニル、ヘテロアルキニル）であって、１個または複数の（好ましくは、１、２、または３個の）炭素原子が、他のどれに対してもそれぞれ独立に、酸素、窒素、リン、ホウ素、セレン、シリコン、または硫黄原子（好ましくは、酸素、硫黄、または窒素）によって置き換えられている基を指す。用語ヘテロアルキルはまた、カルボン酸、またはカルボン酸に由来する基、例えば、アシル、アシルアルキル、アルコキシカルボニル、アシルオキシ、アシルオキシアルキル、カルボキシアルキルアミド、アルコキシカルボニルオキシなども指す。
【０００９】
ヘテロアルキル基の例は次式の基：Ｒａ‐Ｏ‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｓ‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｎ（Ｒｂ）‐Ｙａ‐、Ｒａ‐ＣＯ‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｏ‐ＣＯ‐Ｙａ‐、Ｒａ‐ＣＯ‐Ｏ‐Ｙａ‐、Ｒａ‐ＣＯ‐Ｎ（Ｒｂ）‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｎ（Ｒｂ）‐ＣＯ‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｏ‐ＣＯ‐Ｎ（Ｒｂ）‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｎ（Ｒｂ）‐ＣＯ‐Ｏ‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｎ（Ｒｂ）‐ＣＯ‐Ｎ（Ｒｃ）‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｏ‐ＣＯ‐Ｏ‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｎ（Ｒｂ）‐Ｃ（＝ＮＲｄ）‐Ｎ（Ｒｃ）‐Ｙａ‐、Ｒａ‐ＣＳ‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｏ‐ＣＳ‐Ｙａ‐、Ｒａ‐ＣＳ‐Ｏ‐Ｙａ‐、Ｒａ‐ＣＳ‐Ｎ（Ｒｂ）‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｎ（Ｒｂ）‐ＣＳ‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｏ‐ＣＳ‐Ｎ（Ｒｂ）‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｎ（Ｒｂ）‐ＣＳ‐Ｏ‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｎ（Ｒｂ）‐ＣＳ‐Ｎ（Ｒｃ）‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｏ‐ＣＳ‐Ｏ‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｓ‐ＣＯ‐Ｙａ‐、Ｒａ‐ＣＯ‐Ｓ‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｓ‐ＣＯ‐Ｎ（Ｒｂ）‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｎ（Ｒｂ）‐ＣＯ‐Ｓ‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｓ‐ＣＯ‐Ｏ‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｏ‐ＣＯ‐Ｓ‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｓ‐ＣＯ‐Ｓ‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｓ‐ＣＳ‐Ｙａ‐、Ｒａ‐ＣＳ‐Ｓ‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｓ‐ＣＳ‐Ｎ（Ｒｂ）‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｎ（Ｒｂ）‐ＣＳ‐Ｓ‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｓ‐ＣＳ‐Ｏ‐Ｙａ‐、Ｒａ‐Ｏ‐ＣＳ‐Ｓ‐Ｙａ‐であり、その際、Ｒａは水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル、またはＣ２〜Ｃ６アルキニル基であり、Ｒｂは水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル、またはＣ２〜Ｃ６アルキニル基であり、Ｒｃは水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル、またはＣ２〜Ｃ６アルキニル基であり、Ｒｄは水素原子、Ｃ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル、またはＣ２〜Ｃ６アルキニル基であり、Ｙａは直接結合、Ｃ１〜Ｃ６アルキレン、Ｃ２〜Ｃ６アルケニレン、またはＣ２〜Ｃ６アルキニレン基であり、各ヘテロアルキル基は少なくとも１個の炭素原子を含み、１個または複数の水素原子が、フッ素または塩素原子によって置き換えられていてもよい。ヘテロアルキル基の具体例は、メトキシ(methoxy)、トリフルオロメトキシ(trifluoromethoxy)、エトキシ(ethoxy)、ｎ‐プロポキシ(propoxy)、イソプロポキシ(isopropoxy)、ｔｅｒｔ‐ブトキシ(butoxy)、メトキシメチル(methoxymethyl)、エトキシメチル(ethoxymethyl)、メトキシエチル(methoxyethyl)、メチルアミノ(methylamino)、エチルアミノ(ethylamino)、ジメチルアミノ(dimethylamino)、ジエチルアミノ(diethylamino)、イソプロピルエチルアミノ(isopropylethylamino)、メチルアミノメチル(methylaminomethyl)、エチルアミノメチル(ethylaminomethyl)、ジイソプロピルアミノエチル(diisopropylaminoethyl)、エノールエーテル(enol ether)、ジメチルアミノメチル(dimethylaminomethyl)、ジメチルアミノエチル(dimethylaminoethyl)、アセチル(acetyl)、プロピオニル(propionyl)、ブチリルオキシ(butyryloxy)、アセトキシ(acetoxy)、メトキシカルボニル(methoxycarbonyl)、エトキシカルボニル(ethoxycarbonyl)、Ｎ‐エチル(ethyl)‐Ｎ‐メチルカルバモイル(methylcarbamoyl)、Ｎ‐メチルカルバモイル(methylcarbamoyl)である。ヘテロアルキル(heteroalkyl)基のその他の例は、ニトリル(nitrile)、イソニトリル(isonitrile)、シアン酸塩(cyanate)、チオシアン酸塩(thiocyanate)、イソシアン酸塩(isocyanate)、イソチオシアン酸塩(isothiocyanate)、アルキルニトリル(alkylnitrile)基である。ヘテロアルキレン基の一例は、式ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）で表される基である。
【００１０】
用語シクロアルキルは、飽和または部分的不飽和の環状基（例えば１、２個またはそれ以上の二重結合を含む環状基、シクロアルケニル基など）を指し、この基は３〜１４個の環炭素原子、好ましくは３〜１０個の（特に３、４、５、６、または７個の）環炭素原子を有する、１個または複数の（好ましくは１、２個の）環を含む。用語シクロアルキルはまた、１個または複数の水素原子が、他のどれに対してもそれぞれ独立に、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素原子によって、あるいはＯＨ、＝Ｏ、ＳＨ、＝Ｓ、ＮＨ２、＝ＮＨ、またはＮＯ２基によって置き換えられていることに対応する基も指し、従って、例えばシクロヘキサノン、２‐シクロヘキセノン、シクロペンタノンなどの例えば環状ケトンを指す。シクロアルキル基のその他の具体例は、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、スピロ［４，５］デカニル、ノルボルニル、シクロヘキシル、シクロペンテニル、シクロヘキサジエニル、デカリニル、ビシクロ［４．３．０］ノニル、テトラリン、シクロペンチルシクロヘキシル、フルオロシクロヘキシル、シクロヘキサ‐２‐エニル基である。
【００１１】
用語ヘテロシクロアルキルは、先に定義したシクロアルキル基であって、１個または複数の（好ましくは、１、２、または３個の）の環炭素原子が、他のどれに対してもそれぞれ独立に、酸素、窒素、シリコン、セレン、リン、または硫黄原子（好ましくは、酸素、硫黄、または窒素）によって置き換えられている基を指す。ヘテロシクロアルキル基は、３〜１０個の（特に３、４、５、６、または７個の）環原子を含む環を１、２個有することが好ましい。用語ヘテロシクロアルキルはまた、１個または複数の水素原子が、他のどれに対してもそれぞれ独立に、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素原子によって、あるいはＯＨ、＝Ｏ、ＳＨ、＝Ｓ、ＮＨ２、＝ＮＨ、またはＮＯ２基によって置き換えられている基も指す。例には、ピペリジル、ピペラジニル、モルホリニル、ウロトロピニル、ピロリジニル、テトラヒドロチオフェニル、テトラヒドロピラニル、テトラヒドロフリル、２‐ピラゾリニル基、およびラクタム、ラクトン、環状イミド、環状無水物もある。
【００１２】
用語アルキルシクロアルキルは、先の定義に従って、シクロアルキル基と、アルキル、アルケニル、またはアルキニル基を含む基を指し、例えば、アルキルシクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルキルシクロアルケニル、アルケニルシクロアルキル、アルキニルシクロアルキル基を指す。アルキルシクロアルキル基は、３〜１０個の（特に３、４、５、６、または７個の）炭素原子を有する環系を１、２個含むシクロアルキル基と、１、２個〜６個の炭素原子を有するアルキル、アルケニル、またはアルキニル基を１、２個含むのが好ましい。
【００１３】
用語ヘテロアルキルシクロアルキルは、１個または複数の（好ましくは、１、２、または３個の）炭素原子が、他のどれに対してもそれぞれ独立に、酸素、窒素、シリコン、セレン、リン、または硫黄原子（好ましくは、酸素、硫黄、または窒素）によって置き換えられている、先に定義したアルキルシクロアルキル基を指す。ヘテロアルキルシクロアルキル基は、３〜１０個の（特に３、４、５、６、または７個の）環原子を有する環系を１、２個と、１、２個〜６個の炭素原子を有するアルキル、アルケニル、アルキニル、またはヘテロアルキル基を１、２個含むのが好ましい。そのような基の例は、アルキルヘテロシクロアルキル、アルキルヘテロシクロアルケニル、アルケニルヘテロシクロアルキル、アルキニルヘテロシクロアルキル、ヘテロアルキルシクロアルキル、ヘテロアルキルヘテロシクロアルキル、ヘテロアルキルヘテロシクロアルケニルであり、この環状基は、飽和、またはモノ、ジ、もしくはトリ不飽和である。
【００１４】
用語アリールまたはＡｒは芳香族基を指し、この基は１個または複数の環と、６〜１４個の環炭素原子、好ましくは６〜１０個の（特に６個の）環炭素原子を含む。用語アリール（またはＡｒ）はまた、１個または複数の水素原子が、他のどれに対してもそれぞれ独立に、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素原子によって、あるいはＯＨ、ＳＨ、ＮＨ２、またはＮＯ２基によって置き換えられている基も指す。例には、フェニル、ナフチル、ビフェニル、２‐フルオロフェニル、アニリニル、３‐ニトロフェニル、４‐ヒドロキシフェニル基がある。
【００１５】
用語ヘテロアリールは、１個または複数の環を有し、５〜１４個の環原子、好ましくは５〜１０個（特に５、６個の）環原子を含み、かつ１個または複数の（好ましくは、１、２、３、または４個の）酸素、窒素、リン、または硫黄環原子（好ましくは、Ｏ、Ｓ、またはＮ）を含む芳香族基を指す。用語ヘテロアリールはまた、１個または複数の水素原子が、他のどれに対してもそれぞれ独立に、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素原子によって、あるいはＯＨ、ＳＨ、ＮＨ２、またはＮＯ２基によって置き換えられている基も指す。例には、４‐ピリジル(pyridyl)、２‐イミダゾリル(imidazolyl)、３‐フェニルピロリル(phenylpyrrolyl)、チアゾリル(thiazolyl)、オキサゾリル(oxazolyl)、トリアゾリル(triazolyl)、テトラゾリル(tetrazolyl)、イソオキサゾリル(isoxazolyl)、インダゾリル(indazolyl)、インドリル(indolyl)、ベンゾイミダゾリル(benzimidazolyl)、ピリダジニル(pyridazinyl)、キノリニル(quinolinyl)、プリニル(purinyl)、カルバゾリル(carbazolyl)、アクリジニル(acridinyl)、ピリミジル(pyrimidyl)、２，３'‐ビフリル(bifuryl)、３‐ピラゾリル(pyrazolyl)、イソキノリニル(isoquinolinyl)基がある。
【００１６】
用語アラルキルは、上記の定義に従って、アリールと、アルキル、アルケニル、アルキニルおよび／またはシクロアルキル基を含む基を指し、例えば、アリールアルキル、アリールアルケニル、アリールアルキニル、アリールシクロアルキル、アリールシクロアルケニル、アルキルアリールシクロアルキル、アルキルアリールシクロアルケニル基などがある。アラルキルの具体例は、トルエン、キシレン、メシチレン、スチレン、ベンジルクロリド、ｏ‐フルオロトルエン、１Ｈ‐インデン、テトラリン、ジヒドロナフタレン、インダノン、フェニルシクロペンチル、クメン(cumene)、シクロヘキシルフェニル、フルオレン、インダン(indan)である。アラルキル基は、６〜１０個の炭素原子を含む芳香環系を１、２個（１または２環）；および１、２個〜６個の炭素原子を含むアルキル、アルケニル、および／またはアルキニル基を１、２個；ならびに／あるいは５、６個の環炭素原子を含むシクロアルキル基を１個含むのが好ましい。
【００１７】
用語ヘテロアラルキルは、先に定義したアラルキル基であって、１個または複数の（好ましくは、１、２、３、または４個の）炭素原子が、他のどれに対してもそれぞれ独立に、酸素、窒素、シリコン、セレン、リン、ホウ素、または硫黄原子（好ましくは、酸素、硫黄、または窒素）によって置き換えられている基を指し、すなわち上記の定義に従って、アリールもしくはヘテロアリール；およびアルキル、アルケニル、アルキニル、および／またはヘテロアルキル；ならびに／あるいはシクロアルキルおよび／またはヘテロシクロアルキル基を含む基を指す。ヘテロアラルキル基は、５、６〜１０個の環炭素原子を含む芳香環系を１、２個（１または２環）；および１、２個〜６個の炭素原子を含むアルキル、アルケニル、および／またはアルキニル基を１、２個；および／または５、６個の環炭素原子を含むシクロアルキル基を１個含み；１、２、３、もしくは４個、またはそのような炭素原子が、他のどれに対してもそれぞれ独立に、酸素、硫黄、または窒素原子によって置き換えられていることが好ましい。
【００１８】
例には、アリールヘテロアルキル、アリールヘテロシクロアルキル、アリールヘテロシクロアルケニル、アリールアルキルヘテロシクロアルキル、アリールアルケニルヘテロシクロアルキル、アリールアルキニルヘテロシクロアルキル、アリールアルキルヘテロシクロアルケニル、ヘテロアリールアルキル、ヘテロアリールアルケニル、ヘテロアリールアルキニル、ヘテロアリールヘテロアルキル、ヘテロアリールシクロアルキル、ヘテロアリールシクロアルケニル、ヘテロアリールヘテロシクロアルキル、ヘテロアリールヘテロシクロアルケニル、ヘテロアリールアルキルシクロアルキル、ヘテロアリールアルキルヘテロシクロアルケニル、ヘテロアリールヘテロアルキルシクロアルキル、ヘテロアリールヘテロアルキルシクロアルケニルおよびヘテロアリールヘテロアルキルヘテロシクロアルキル基；飽和、またはモノ、ジ、もしくはトリ不飽和の環状基がある。具体例は、テトラヒドロイソキノリル‐、ベンゾイル‐、２‐または３‐エチルインドリル‐、４‐メチルピリジノ‐、２‐、３‐、または４‐メトキシフェニル‐、４‐エトキシフェニル‐、２‐、３‐、または４‐カルボキシフェニル‐アルキル基である。
【００１９】
アルキル、アルケニル、アルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アルキルシクロアルキル、ヘテロアルキルシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキルおよびヘテロアラルキルの語は、そのような基の１個または複数の水素原子が、他のどれに対してもそれぞれ独立に、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素原子によって、あるいはＯＨ、＝Ｏ、ＳＨ、＝Ｓ、ＮＨ２、＝ＮＨ、またはＮＯ２基によって置き換えられている基を指す。
【００２０】
表現「任意に置換されている」とは、１個または複数の水素原子が、他のどれに対してもそれぞれ独立に、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素原子によって、あるいはＯＨ、＝Ｏ、ＳＨ、＝Ｓ、ＮＨ２、＝ＮＨ、またはＮＯ２基によって置き換えられている基を言う。この表現はまた、非置換のＣ１〜Ｃ６アルキル、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル、Ｃ１〜Ｃ６ヘテロアルキル、Ｃ３〜Ｃ１０シクロアルキル、Ｃ２〜Ｃ９ヘテロシクロアルキル、Ｃ６〜Ｃ１０アリール、Ｃ１〜Ｃ９ヘテロアリール、Ｃ７〜Ｃ１２アラルキル、またはＣ２〜Ｃ１１ヘテロアラルキル基によって置換されている基を言う。
【００２１】
本出願に記載されている化合物は、それらにおける置換により１個または複数のキラル中心を含み得る。従って、本発明は、純粋な鏡像異性体全て、および純粋なジアステレオ異性体全て、さらにどんな混合割合であってもそれらの混合物を含む。さらに、本発明は、一般式（Ｉ）の化合物のシス／トランス異性体全て、およびそれらの混合物も含む。さらに、本発明は、記載した化合物の互変異性体全てを含む。
【００２２】
Ｕは、ＣＨ基であることが好ましい。
【００２３】
次いで、Ｒ６およびＲ７は水素原子であることが好ましい。
【００２４】
また、Ｖは酸素原子であることが好ましい。
【００２５】
また、Ｙは次式で示されることが好ましい。
【００２６】
【化１０】
2007504262.tif 000005
【００２７】
さらに、Ｗは、酸素原子、硫黄原子、式ＮＲ８で表される基、または任意に置換されているヘテロシクロアルキレン、ヘテロアルキルシクロアルキレン、ヘテロアリーレン、またはヘテロアラルキレン基であることが好ましく、基Ｗに結合しているＨ原子は酸素原子、硫黄原子、または窒素原子に結合していることが好ましい。
【００２８】
さらに、Ｗは、４、５、６、または７個の環原子を有する環を含み、任意に置換されているヘテロシクロアルキレン基であることが好ましく、Ｗは特にＯＨ基によって置換されている。
【００２９】
次いで、Ｚは、任意に置換されているＣ１〜４アルキレン基であることが好ましい。
【００３０】
Ｚは、ＣＨ２またはＣＨ２ＣＨ２基であることが特に好ましい。
【００３１】
さらに、Ｗは、ピペリジルまたはピロリジニル基であって、それらの基は、ＯＨ、ＯＰＯ３Ｈ２、ＯＳＯ３Ｈ；あるいは少なくとも１個のＯＨ、ＮＨ２、ＳＯ３Ｈ、ＰＯ３Ｈ２、またはＣＯＯＨ基（特にＯＨ基）を有するヘテロアルキル基によって任意に置換されていてよい基であることが好ましい。
【００３２】
Ｚ‐Ｗは一緒になって、次式で表される基であることが特に好ましい。
【化１１】
2007504262.tif 000006
［式中、ｎは１または２であり、ｍは１または２であり、ｏは１または２であり、その基はＯＨ、ＯＰＯ３Ｈ２、ＯＳＯ３Ｈ；あるいは少なくとも１個のＯＨ、ＮＨ２、ＳＯ３Ｈ、ＰＯ３Ｈ２、またはＣＯＯＨ基を有するヘテロアルキル基によって任意に置換されていてよい］
【００３３】
Ｗは以下の構造を有することが特に好ましい。
【００３４】
【化１２】
2007504262.tif 000007
または
【００３５】
【化１３】
2007504262.tif 000008
【００３６】
式（ＺＰ）の化合物は、式（１）の化合物の合成に使用することができる。
【００３７】
【化１４】
2007504262.tif 000009
［式中、Ｚは任意に置換されているＣ１〜４アルキレン基であり、Ａは窒素原子またはＣＨ基であり、Ｗは少なくとも１個の窒素原子を含む任意に置換されているヘテロシクロアルキレン基であって、キノリンラジカルがその窒素原子に結合している基である］
【００３８】
式（１）の化合物は、以下のように調製することができる。
【００３９】
【化１５】
2007504262.tif 000010
［式中、化合物（ＸＩ）は本発明による化合物であり、化合物（ＸＩＩ）は、ホウ素錯体の形（例えば、ホウ素ジアセテート錯体の形）で使用されることが好ましい。
【００４０】
この工程に好ましい反応条件は以下の通りである。
：Ｎ‐メチルピロリドン、トリメチルシリルクロリド、ヒューニッヒ塩基、またはＫ２ＣＯ３、８０℃。
【００４１】
本発明による化合物は、例えば、以下の合成経路によって調製することができる。
工程１：
【００４２】
【化１６】
2007504262.tif 000011
工程２：
【００４３】
【化１７】
2007504262.tif 000012
工程３：
【００４４】
【化１８】
2007504262.tif 000013
工程４：
【００４５】
【化１９】
2007504262.tif 000014
工程５：
【００４６】
【化２０】
2007504262.tif 000015
工程６：
【００４７】
【化２１】
2007504262.tif 000016
工程７：
【００４８】
【化２２】
2007504262.tif 000017
工程８：
【００４９】
【化２３】
2007504262.tif 000018
【００５０】
あるいは、式（ＺＰ）、または（ＸＩ）の化合物は以下の合成経路によって調製することができる。
工程１：
【００５１】
【化２４】
2007504262.tif 000019
工程２：
【００５２】
【化２５】
2007504262.tif 000020
工程３：
【００５３】
【化２６】
2007504262.tif 000021
工程４：
【００５４】
【化２７】
2007504262.tif 000022
工程５：
【００５５】
【化２８】
2007504262.tif 000023
工程６：
【００５６】
【化２９】
2007504262.tif 000024
工程７：
【００５７】
【化３０】
2007504262.tif 000025
【００５８】
その合成経路で選択した保護基ＰＧがＣｂｚ保護基である場合、工程６で化合物（ＸＩ）が直接得られるので工程７は不要となる。
【００５９】
上式で：
ＰＧは、それ自体慣用のアミン用保護基、特にベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ）基であり、
Ｒ１は、任意に置換されているベンジル（例えばｐ‐メトキシベンジル）またはアリル基であり、
Ｒ２は、Ｃ１〜４アルキル、アリル、またはベンジル基であり、
Ｒ３は、Ｃ１〜４アルキル基であり、
Ｒ４は、メシルオキシ、トシルオキシ、トリフリルオキシ、もしくはテキシロキシ基、または塩素、臭素、もしくはヨウ素原子であり、
Ｒ５は、メシルオキシ、トシルオキシ、トリフリルオキシ、もしくはテキシロキシ基、または塩素、臭素、もしくはヨウ素原子である。
【００６０】
保護基は、当業者には既知のことであり、例えば、P. J. Kocienski著、「保護基」、Georg Thieme Verlag、シュトゥットガルト、１９９４年、またT. W. Greene、P. G. M. Wuts著、「有機合成における保護基」、John Wiley & Sons社、ニューヨーク、１９９９年に記載されている。一般的なアミノ保護基には、例えば、ｔｅｒｔ‐ブトキシカルボニル（Ｂｏｃ）、ベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ、Ｚ）、ベンジル（Ｂｎ）、ベンゾイル（Ｂｚ）、フルオレニルメトキシカルボニル（Ｆｍｏｃ）、アリルオキシカルボニル（Ａｌｌｏｃ）、トリクロロエトキシカルボニル（Ｔｒｏｃ）、アセチル、トリフルオロアセチル基がある。
【００６１】
次いで、Ｒ１はベンジル基であることが好ましい。
【００６２】
また、Ｒ２はベンジル基であることが好ましい。
【００６３】
また、Ｒ３はｎ‐プロピル基であることが好ましい。
【００６４】
次いで、Ｒ４はメシルオキシ基であることが好ましい。
【００６５】
また、Ｒ５はメシルオキシ基であることが好ましい。
【００６６】
第１の合成経路の好ましい反応条件を以下に示す。
工程１用：ＣＨ２Ｃｌ２、水酸化カリウム、室温
工程２用：水素／Ｐｔ／Ｃ、次いでＣｂｚ‐Ｃｌ、ＮａＨＣＯ３、アセトン／水、共に室温
工程３用：（Ｒ）‐グリシジルブチラート（Ｖ）、ｎ‐ＢｕＬｉ、‐６０℃、またはＬＤＡ、１５℃
工程４用：メチルスルホニルクロリド、トリエチルアミン、ＣＨ２Ｃｌ２
工程５用：ＮａＮ３のＤＭＦ溶液、触媒量のＢｕ４ＮＩ、９０℃
工程６用：水素／Ｐｄ（ＯＨ）２、ＴＨＦ、ＭｅＯＨ、次いでＡｃＯＨ、Ａｃ２Ｏ、共に室温
工程７用：ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、水素化ナトリウム、７０℃
工程８用：Ｈ２／Ｐｄ（ＯＨ）２、ＴＨＦ、メタノール、室温
第２の合成経路の好ましい反応条件を以下に示す。
工程１用：光延反応または塩基（例えばＮａＨ）、ＤＭＦ、ＰＧ‐Ｗ‐Ｚ‐ＯＨのトシラート
工程２用：水素／Ｐｔ／Ｃ、次いでＣｂｚ‐Ｃｌ、ＮａＨＣＯ３、アセトン／水、共に室温、またはＳｎ、ＨＣｌ
工程３用：（Ｒ）‐グリシジルブチラート（Ｖ）、ｎ‐ＢｕＬｉ、‐６０℃、またはＬＤＡ、１５℃
工程４用：メチルスルホニルクロリド、トリエチルアミン、ＣＨ２Ｃｌ２
工程５用：ＮａＮ３のＤＭＦ溶液、触媒量のＢｕ４ＮＩ、９０℃
工程６用：水素／Ｐｄ（ＯＨ）２、ＴＨＦ、ＭｅＯＨ、次いでＡｃＯＨ、Ａｃ２Ｏ、共に室温
【発明を実施するための最良の形態】
【００６７】
式（ＺＰ）の化合物の合成、および式（１）の化合物の合成でのその使用を以下の実施例に記載する。
【実施例１】
【００６８】
７‐（４‐｛４‐［（５Ｓ）‐５‐（アセチルアミノメチル）‐２‐オキソ‐オキサゾリジン‐３‐イル］‐２‐フルオロフェノキシメチル｝‐４‐ヒドロキシピペリジン‐１−イル）‐１‐シクロプロピル‐６‐フルオロ‐４‐オキソ‐１，４‐ジヒドロキノリン‐３‐カルボン酸：
工程１：（４‐ベンジルオキシ‐３‐フルオロフェニル）‐カルバミン酸ベンジルエステル：
３４．９ｇの１‐ベンジルオキシ‐２‐フルオロ‐４‐ニトロベンゼン（ＷＯ０３０６４４１３）（ＭＷ：２４７．２８、１４１ｍｍｏｌ）および３４０ｍｇの白金（５％活性炭担持）を含む３５０ｍｌの酢酸エチルの混合液を水素雰囲気下、室温常圧で攪拌した。反応過程をＨＰＬＣによってモニタし、２０時間後に反応を停止させた。触媒をろ過除去し、ロータリーエバポレータを使用して減圧下、ろ液を濃縮乾燥した。油性残留物を５００ｍｌのアセトンと２５０ｍｌの飽和炭酸水素ナトリウムの溶液に溶解し、１７．５ｇの炭酸水素ナトリウム（ＭＷ：８４．０１、２０８ｍｍｏｌ）を加えた。混合液を５℃に冷却し２６．０８ｇのベンジルクロロホルマート（ＭＷ：１７０．５９、１５２ｍｍｏｌ）を滴下した。次いで、室温で２時間混合液を攪拌し、反応過程をＴＬＣ（ヘキサン／酢酸エチル＝３：１）によってモニタした。アセトンを減圧下除去し、５００ｍｌの水を残留物に加え、固形物をろ過除去した。結晶を５００ｍｌの水で洗浄し乾燥した。
収量：４８．０５ｇ、９５．８％。ＭＳ：３５２．５（Ｍ＋Ｈ）＋、３５０．８、（Ｍ‐Ｈ）＋。方法：ＥＳＩ＋、ＥＳＩ‐。
【００６９】
工程２：（５Ｒ）‐３‐（４‐ベンジルオキシ‐３‐フルオロフェニル）‐５‐ヒドロキシメチル‐オキサゾリジン‐２‐オン：
１７．５ｇの（４‐ベンジルオキシ‐３‐フルオロフェニル）‐カルバミン酸ベンジルエステル（ＭＷ：３５１．３８、５０ｍｍｏｌ）を含む３０ｍｌの無水テトラヒドロフランの攪拌溶液をドライアイス／アセトン槽を使用し‐７８℃に冷却した。ｎ‐ヘキサン（５２．５ｍｍｏｌ）中に２．３Ｍのｎ‐ブチルリチウム溶液２２．８ｍｌを滴下し、反応混合液を‐７８℃で１５分間攪拌した。７．９２ｇのＲ（‐）‐グリシジルブチラート（ＭＷ：１４４．１７、６０ｍｍｏｌ）を加え、反応混合液を加温して室温にした。反応をＨＰＬＣによってモニタし、次いで飽和塩化アンモニウム溶液によって急冷し１００ｍｌの酢酸エチルで希釈した。２００ｍｌの水および２００ｍｌの飽和塩化ナトリウム溶液で有機相を洗浄した。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。２００ｍｌの酢酸エチル／ヘキサン（１／１）から残留物を結晶化させた。得られた固形物を１５０ｍｌの酢酸エチル／ジクロロメタン（９／１）から再結晶化させた。無色結晶を収集し乾燥した。収量：１０．４ｇ、６５．５％。ＭＳ：３１８．１（Ｍ＋Ｈ）＋。方法：ＥＳＩ＋。
【００７０】
工程３：（５Ｓ）‐５‐アジドメチル‐３‐（４‐ベンジルオキシ‐３‐フルオロフェニル）‐オキサゾリジン‐２‐オン：
１０ｇの（５Ｒ）‐３‐（４‐ベンジルオキシ‐３‐フルオロフェニル）‐５‐ヒドロキシメチルオキサゾリジン‐２‐オン（ＭＷ：３１７．３２、３１．５１ｍｍｏｌ）および４．７８ｇのトリエチルアミン（ＭＷ：１０１．１９、４７．２６ｍｍｏｌ）を含む３００ｍｌのジクロロメタンの混合液に１０℃で攪拌しながら４．３２ｇのメタンスルホニルクロリド（ＭＷ：１１４．５５、３７．８２ｍｍｏｌ）を加えた。反応混合液を室温で１時間攪拌し、反応過程をＴＬＣ（酢酸エチル／ヘキサン１／１）によってモニタした。反応を１００ｍｌの水で急冷し、１００ｍｌの飽和塩化ナトリウム溶液で有機相を洗浄した。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。１００ｍｌのジメチルホルムアミドと５．１２ｇのアジ化ナトリウム（ＭＷ：６５．０１、７８．７ｍｍｏｌ）に残留物を溶解し、触媒量のヨウ化テトラブチルアンモニウムを加えた。懸濁液を終夜９０℃で攪拌した。反応過程をＨＰＬＣによってモニタした。ロータリーエバポレータを使用してジメチルホルムアミドを減圧下除去し、残留物を２００ｍｌのジクロロメタンに溶解し、１００ｍｌの水と１００ｍｌの飽和塩化ナトリウム溶液で有機相を連続洗浄した。ジクロロメタン溶液を硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。１５０ｍｌの酢酸エチル／ヘキサンの１／１から残留物を結晶化させた。収量：１０．４ｇ、９７％。ＭＳ：３４３．１（Ｍ＋Ｈ）＋。方法：ＥＳＩ＋。
【００７１】
工程４：Ｎ‐［（５Ｓ）‐｛３‐（３‐フルオロ‐４‐ヒドロキシフェニル）｝‐２‐オキソ‐オキサゾリジン‐５‐イルメチル］‐アセトアミド：
１０．４ｇの（５Ｓ）‐５‐アジドメチル‐３‐（４‐ベンジルオキシ‐３‐フルオロフェニル）オキサゾリジン‐２‐オン（ＭＷ：３４２．３３、３０．３８ｍｍｏｌ）および１．５ｇのパラジウム（１０％活性炭担持）を含む４００ｍｌの１：１メタノール：酢酸エチル混合液の懸濁液を水素雰囲気下室温で２日間攪拌した。触媒をろ過除去し、ろ液を減圧下蒸発させた。残留物を１００ｍｌの酢酸に溶解し３．７２ｇの酢酸無水物（ＭＷ：１０２．０９、３６．４５ｍｍｏｌ）を加えた。溶媒を減圧下蒸発させ、酢酸エチル：ヘキサンの１：１混合物から残留物を再結晶化させた。収量：６．７６ｇ、８３％。ＭＳ：２６９．４（Ｍ＋Ｈ）＋、２６７．３、（Ｍ‐Ｈ）‐。方法：ＥＳＩ＋、ＥＳＩ‐。
【００７２】
工程５：４‐｛４‐［（５Ｓ）‐５‐（アセチルアミノメチル）‐２‐オキソ‐オキサゾリジン‐３‐イル］‐２‐フルオロフェノキシメチル｝‐４‐ヒドロキシピペリジン‐１‐カルボン酸ベンジルエステル：
２２．７２ｇの１‐オキサ‐６‐アザ‐スピロ［２．５］オクタン‐６‐カルボン酸ベンジルエステル（ＷＯ９８０３５０７）（ＭＷ：２４７．２９、９２ｍｍｏｌ）、２１．４５ｇのＮ‐［（５Ｓ）‐｛３‐（３‐フルオロ‐４‐ヒドロキシフェニル）｝‐２‐オキソ‐オキサゾリジン‐５‐イルメチル］‐アセトアミド（ＭＷ：２６８．２４６、８０ｍｍｏｌ）、および１６．５８ｇの炭酸カリウム（ＭＷ：１３８．２０、１２０ｍｍｏｌ）を含む１５０ｍｌのジメチルホルムアミドの懸濁液を１００℃で７時間攪拌した。反応過程をＴＬＣ（ジクロロメタン／メタノール９：１）によってモニタした。ジメチルホルムアミドを減圧下蒸発させ、６００ｍｌのジクロロメタン：メタノールの９：１混合液に残留物を溶解した。４００ｍｌの水および４００ｍｌの飽和塩化ナトリウム溶液で有機相を洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過し、ろ液を２５０ｍｌの酢酸エチルで希釈した。混合液を減圧下濃縮して最終容量４００ｍｌにした。混合液を終夜室温で攪拌した。次いで、結晶をろ過除去し、１５０ｍｌの酢酸エチルおよび１００ｍｌのペンタンで連続洗浄した。収量：３１．６５ｇ、７６．７％。ＭＳ：５１６．８（Ｍ＋Ｈ）＋、方法：ＥＳＩ＋。
【００７３】
工程６：Ｎ‐［｛（５Ｓ）‐３‐［３‐フルオロ‐４‐（４‐ヒドロキシピペリジン‐４‐イルメトキシ）‐フェニル］‐２‐オキソ‐オキサゾリジン‐５‐イルメチル｝］-アセトアミド：
３１ｇの４‐｛４‐［（５Ｓ）‐５‐（アセチルアミノメチル）‐２‐オキソ‐オキサゾリジン‐３‐イル］‐２‐フルオロフェノキシメチル｝‐４‐ヒドロキシピペリジン‐１‐カルボン酸ベンジルエステル（ＭＷ：５１５．５４、６０．１３ｍｍｏｌ）と２．５ｇのパラジウム（１０％活性炭担持）を３１０ｍｌのメタノールと１５０ｍｌの酢酸エチルに含む懸濁液を水素雰囲気下４時間攪拌した。反応過程をＴＬＣ（酢酸エチル）によってモニタした。懸濁液を３００ｍｌのメタノールで希釈し、４０℃に加熱し、繊維ガラスろ紙によって触媒をろ過除去した。ろ液を濃縮して１５０ｍｌにし、３００ｍｌの酢酸エチルで希釈し、再度濃縮して２００ｍｌにした。２００ｍｌのジエチルエーテルを加え、懸濁液を攪拌しながら０℃に冷却した。固形物を収集し乾燥させた。収量：２１．６ｇ、９４．３％。ＭＳ：３８２．６（Ｍ＋Ｈ）＋、方法：ＥＳＩ＋。
【００７４】
工程７：７‐（４‐｛４‐［（５Ｓ）‐５‐（アセチルアミノメチル）‐２‐オキソ‐オキサゾリジン‐３‐イル］‐２‐フルオロフェノキシメチル｝‐４‐ヒドロキシピペリジン‐１−イル）‐１‐シクロプロピル‐６‐フルオロ‐４‐オキソ‐１，４‐ジヒドロキノリン‐３‐カルボン酸
【００７５】
【化３１】
2007504262.tif 000026
６７．８１ｇの７‐クロロ‐１‐シクロプロピル‐６‐フルオロ‐１，４‐ジヒドロ‐４‐オキソ‐３‐キノリンカルボン酸／ホウ素ジアセテート／錯体（ＭＷ：４１０．５７、０．１６５ｍｏｌ）を、６０ｇのＮ‐［｛（５Ｓ）‐３‐［３‐フルオロ‐４‐（４‐ヒドロキシピペリジン‐４‐イルメトキシ）‐フェニル］‐２‐オキソ‐オキサゾリジン‐５‐イルメチル｝］-アセトアミド（Ｃ１８Ｈ２４ＦＮ３Ｏ５、ＭＷ：３８１．４０、０．１５７ｍｏｌ）および２６．８７ｍｌのエチルジイソプロピルアミン（ＭＷ：１２９．２５、０．１５７ｍｏｌ）を含む３００ｍｌのＮ‐メチルピロリジン‐２‐オン溶液に加え、混合液を８０℃で５時間攪拌した。ロータリーエバポレータを使用してＮ‐メチルピロリジン‐２‐オンを減圧下濃縮し、残留物を３００ｍｌのメタノールに溶解した。乾燥剤の塩化水素を１０℃で３０分間溶液中に通した。溶液を室温で攪拌すると黄色固体が沈殿した。ホウ素錯体の遊離酸への転換をＨＰＬＣによってモニタした。混合液を３００ｍｌの酢酸エチルで希釈した。固形物をろ過除去し、１００ｍｌの酢酸エチル／メタノール（８／２）および１００ｍｌの酢酸エチルで洗浄した。黄色固形物を乾燥させると８６．４ｇの黄色固体が残留した。その固体を４０℃で攪拌しながら２００ｍｌのジメチルスルホキシドに溶解し、その黄色溶液を１０００ｍｌの水に注いだ。黄色固体を収集し水洗し乾燥した。収量：７３ｇ、７４．５％。ＭＳ：６２７．８（Ｍ＋Ｈ）＋、６２５．８（Ｍ＋Ｈ）‐、方法：ＥＳＩ＋、ＥＳＩ‐。
【実施例２】
【００７６】
【化３２】
2007504262.tif 000027
反応条件
工程１：ＣＨ２Ｃｌ２、ＫＯＨ（５０％）、３時間、室温；９７％。工程２：Ｈ２、Ｐｔ／Ｃ、２０時間、室温、次いでＣｂｚ‐Ｃｌ、アセトン／水、ＮａＨＣＯ３、１２時間、室温；９８％。工程３：ｎ‐ＢｕＬｉ、‐６０℃、２４時間；８０％。工程４：ＭｓＣｌ、ＴＥＡ、ＣＨ２Ｃｌ２；１００％。工程５：ＮａＮ３のＤＭＦ溶液、９０℃、触媒Ｂｕ４ＮＩ、５時間；９０％。工程６：Ｈ２、Ｐｄ（ＯＨ）２、ＴＨＦ、ＭｅＯＨ、２４時間、次いでＡｃＯＨ、Ａｃ２Ｏ、室温、２時間；７０％。工程７：ＤＭＦ、ＮａＨ、７０℃、１２時間；７５％。工程８：Ｈ２、Ｐｄ（ＯＨ）２、ＭｅＯＨ、ＴＨＦ、２４時間、室温；１００％。工程９：ｎ‐メチルピロリドン、１‐シクロプロピル‐７‐クロロ‐６‐フルオロ‐１，４‐ジヒドロ‐４‐オキソ‐１，８‐ナフチドリン‐３‐カルボン酸（市販）、ＴＭＳＣｌ、ヒューニッヒ塩基、またはＫ２ＣＯ３、８０℃、５時間；８０％。
【００７７】
これらの工程のいずれにおいてもクロマトグラフィー分離は不要であった。
【００７８】
以下の化合物（ＺＰ）、または（Ｘ）を適当な出発物質を使用し上記方法と同様に調製した。化合物が遊離ＯＨ基を含む場合には、こうしたＯＨ基に保護基（例えば、酢酸塩、安息香酸塩、ＭＯＭエーテル、イソプロピリデン）を付与した化合物も調製した。
【００７９】
【化３３】
2007504262.tif 000028
【００８０】
【化３４】
2007504262.tif 000029
【００８１】
【化３５】
2007504262.tif 000030
【００８２】
【化３６】
2007504262.tif 000031
【００８３】
【化３７】
2007504262.tif 000032
【００８４】
【化３８】
2007504262.tif 000033
【００８５】
【化３９】
2007504262.tif 000034
【００８６】
【化４０】
2007504262.tif 000035
【国際調査報告】
2007504262.tif 000043
2007504262.tif 000044
2007504262.tif 000045
2007504262.tif 000046
2007504262.tif 000047
2007504262.tif 000048