(57)【要約】【課題】足底の足長や足幅、足弓を計測して精確なデータを獲得する装置の提供【解決手段】  足底計測装置であって、低反発記憶ユニットと、照準ユニットと、目盛ユニットと、を含み、低反発記憶ユニットが、足部を載置させ、足底の痕跡を残すのに用いられ、照準ユニットが、前記低反発記憶ユニットと連接し、足部の照準位置を指示し、目盛ユニットが、前記低反発記憶ユニットと連接し、目盛マークを提供する。本発明は正確に足長や足幅を知ることができ、且つその計測結果により足のタイプを推知することができる。【選択図】  図１
2019055184.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
足底計測装置であって、低反発記憶ユニットと、照準ユニットと、目盛ユニットと、を含み、
前記低反発記憶ユニットが、足部の全体の足底を載置させて、前記全体の足底の足底の痕跡を残すのに用いられ、
前記照準ユニットが、前記低反発記憶ユニットと連接し、前記足部の照準位置を指示し、
前記目盛ユニットが、前記低反発記憶ユニットと接触して連接し、目盛マークを提供することを特徴とする、足底計測装置。
【請求項２】
更にセンサユニットを含み、前記センサユニットが、前記低反発記憶ユニットの上側に設置され、前記足底の痕跡を計測し、足底計測の情報を提供することを特徴とする、請求項１に記載の足底計測装置。
【請求項３】
前記センサユニットが光学センサであることを特徴とする、請求項２に記載の足底計測装置。
【請求項４】
前記センサユニットが距離センサであることを特徴とする、請求項２に記載の足底計測装置。
【請求項５】
前記センサユニットが温度センサであることを特徴とする、請求項２に記載の足底計測装置。
【請求項６】
前記足底計測の情報が、足長の情報、足幅の情報、足弓の情報またはそれらの組合せであることを特徴とする、請求項２に記載の足底計測装置。
【請求項７】
更にプロセッサと、感圧パーツと、を含み、前記プロセッサが前記感圧パーツと接続し、前記感圧パーツが前記低反発記憶ユニットと結合し、且つ前記感圧パーツが前記足部の前記低反発記憶ユニットからの離脱を知った際、前記プロセッサが前記センサユニットに前記足底の痕跡を計測するよう指令することを特徴とする、請求項２に記載の足底計測装置。
【請求項８】
更にプロセッサと、感圧パーツと、計時パーツと、保存パーツと、を含み、前記感圧パーツ、前記計時パーツ、前記保存パーツが、前記プロセッサと接続し、前記感圧パーツが前記低反発記憶ユニットと結合し、前記保存パーツが特定の時間の情報を保存し、前記感圧パーツが前記足部の前記低反発記憶ユニットからの離脱を知った際、且つ前記計時パーツが前記特定の時間との合致を知った際、前記プロセッサが前記センサユニットに前記足底の痕跡を計測するよう指令することを特徴とする、請求項２に記載の足底計測装置。
【請求項９】
更に感圧パーツと、伝送パーツと、を含み、前記感圧パーツが前記低反発記憶ユニットと結合し、且つ前記感圧パーツが前記伝送パーツと接続し、前記伝送パーツが有線または無線によりクラウドコンピューティングシステムと接続し、前記感圧パーツが前記足部の前記低反発記憶ユニットからの離脱を知った際、前記クラウドコンピューティングシステムが前記センサユニットに前記足底の痕跡を計測するよう指令することを特徴とする、請求項２に記載の足底計測装置。
【請求項１０】
更に殻体を含み、前記殻体が、前記低反発記憶ユニットの周辺を囲んで設置、または前記低反発記憶ユニットの上或いは下に設置されることを特徴とする、請求項１に記載の足底計測装置。
【請求項１１】
足底計測装置であって、低反発記憶ユニットと、照準ユニットと、殻体と、目盛ユニットと、を含み、
前記低反発記憶ユニットが、低反発記憶フォーム、低反発記憶の性質の材料、粘弾性を有する液体の内の一つであり、足部を載置させて足底の足底の痕跡を残すのに用いられ、
前記照準ユニットが、前記低反発記憶ユニットと連接し、前記足部の照準位置を指示し、
前記殻体が、前記低反発記憶ユニットの周辺を囲んで設置、または前記低反発記憶ユニットの上または下に設置され、且つ前記低反発記憶ユニットの前記足部を載置させる部分を大気中に露出し、
前記目盛ユニットが、前記殻体と連接し、目盛マークを提供することを特徴とする、足底計測装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は計測の分野に関するものであり、特に足底の計測に用いられる装置である。
【背景技術】
【０００２】
人間は日常での歩行や各種の運動により、長期的に足部に相当の圧力をかけており、この圧力を分散し緩和する適切な靴や中敷き無しには、度々人体の不調を招き、疲労や痛みを感じ易くなり、ひいては足底の病気を引起し、更に脚部、背中下等関節の傷害を招きかねない。
【０００３】
年齢層や個人の身体の形に因り、足部の長さや幅、足弓のタイプは異なる。玄人でなければ十分な専門的知識を有するわけではなく、自分の足長や足幅を計測することが出来ず、足弓のタイプも分からない。そのため、店頭での試着により限られたサイズや種類の中から靴、中敷きを選ぶのがやっとで、精確なデータの獲得により、自分の足底に最適なパラメータを見つけたり、またオーダーメイドの靴や中敷きを製作したりすることが出来ない。
【０００４】
故に、本発明は足底計測装置を提供し、足底の足長や足幅、足弓の情報の測定に適用させることで、上述の問題を解決する。
【発明の概要】
【０００５】
本発明の観点において提案される足底計測装置は、低反発記憶ユニットと、照準ユニットと、目盛ユニットと、を含み、前記低反発記憶ユニットが、足部を載置させて足底の痕跡を残すのに用いられ、前記照準ユニットが、前記低反発記憶ユニットと連接し、前記足部の照準位置を指示し、前記目盛ユニットが、前記低反発記憶ユニットと連接し、目盛マークを提供する。
【０００６】
本発明の好実施例において、前記足底計測装置は更にセンサユニットを含み、前記センサユニットが、前記低反発記憶ユニットの上側に設置され、前記足底の痕跡を計測し、足底計測の情報を提供する。
【０００７】
本発明の好実施例において、前記センサユニットは光学センサとする。
【０００８】
本発明の好実施例において、前記センサユニットは距離センサとする。
【０００９】
本発明の好実施例において、前記センサユニットは温度センサとする。
【００１０】
本発明の好実施例において、前記足底計測の情報は足長の情報、足幅の情報、足弓の情報またはそれらの組合せとする。
【００１１】
本発明の好実施例において、前記足底計測装置は、更にプロセッサと、感圧パーツと、を含み、前記プロセッサが前記感圧パーツと（電気的）接続し、前記感圧パーツが前記低反発記憶ユニットと結合し、且つ前記感圧パーツが前記足部の前記低反発記憶ユニットからの離脱を知った際、前記プロセッサが前記センサユニットに前記足底の痕跡を計測するよう指令する。
【００１２】
本発明の好実施例において、前記足底計測装置は、更にプロセッサと、感圧パーツと、計時パーツと、保存パーツと、を含み、前記感圧パーツ、前記計時パーツ、前記保存パーツが、前記プロセッサと（電気的）接続し、前記感圧パーツが前記低反発記憶ユニットと結合し、前記保存パーツが特定の時間の情報を保存し、前記感圧パーツが前記足部の前記低反発記憶ユニットからの離脱を知った際、且つ前記計時パーツが前記特定の時間との合致を知った際、前記プロセッサが前記センサユニットに前記足底の痕跡を計測するよう指令する。
【００１３】
本発明の好実施例において、前記足底計測装置は、更に感圧パーツと、伝送パーツと、を含み、前記感圧パーツが前記低反発記憶ユニットと結合し、且つ前記感圧パーツが前記伝送パーツと（電気的）接続し、前記伝送パーツが有線または無線によりクラウドコンピューティングシステムと接続し、前記感圧パーツが前記足部の前記低反発記憶ユニットからの離脱を知った際、前記クラウドコンピューティングシステムが前記センサユニットに前記足底の痕跡を計測するよう指令する。
【００１４】
本発明の好実施例において、更に殻体を含み、前記殻体が、前記低反発記憶ユニットの周辺を囲んで設置、または前記低反発記憶ユニットの上或いは下に設置される
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施例における足底計測装置１０００の指示図である。
【図２Ａ】本発明の実施例における足底計測装置１０００の他の態様の指示図である。
【図２Ｂ】本発明の実施例における足底計測装置１０００の他の態様の立体指示図である。
【図３Ａ】本発明の実施例における足底計測装置１０００により足長を計測する際の指示図である。
【図３Ｂ】本発明の実施例における足底計測装置１０００により足長を計測する際の指示図である。
【図３Ｃ】本発明の実施例における足底計測装置１０００により足長を計測する際の指示図である。
【図４Ａ】本発明の実施例における足底計測装置１０００により足幅を計測する際の指示図である。
【図４Ｂ】本発明の実施例における足底計測装置１０００により足幅を計測する際の指示図である。
【図４Ｃ】本発明の実施例における足底計測装置１０００により足幅を計測する際の指示図である。
【図５Ａ】本発明の実施例における足底計測装置１０００により異なる深度を計測する際の指示図である。
【図５Ｂ】本発明の実施例における足底計測装置１０００により足弓を計測する際の指示図である。
【図６】本発明の実施例における足底計測装置１０００の更に異なる態様のブロック図である。
【図７】本発明の実施例における足底計測装置１０００の又更に異なる態様のブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明の実施方法については、以下に例示する実施例及び付属の図面を参照することで詳細な説明を獲得し、本発明の特徴及び効果への理解を深められたい。説明が当発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が理解できる範囲に止まるのは、説明の明瞭さと理解の容易さに資するためであり、雑多な記述と混乱を避けるため、必ずしも全ての部品及びステップを具体的に図示または説明していないことを留意されたい。
【００１７】
図１は、本発明の実施例における前記足底計測装置１０００の指示図である。前記足底計測装置１０００は、低反発記憶ユニット１０１０と、照準ユニット１０３０と、目盛ユニット１０４０と、センサユニット１０５０と、を含み、前記低反発記憶ユニット１０１０が、足部を載置させて足底の痕跡３０００を残すのに用いられ、前記照準ユニット１０３０が、前記低反発記憶ユニット１０１０と連接し、前記足部の照準位置を指示し、前記目盛ユニット１０４０が、前記低反発記憶ユニット１０１０と連接し、目盛マークを提供し、前記センサユニット１０５０が、前記低反発記憶ユニット１０１０の上側に設置され、前記足底の痕跡を計測し、足底計測の情報を提供する。
【００１８】
前記低反発記憶ユニット１０１０は、圧縮性を備え、且つ即座に反発したり形状を回復したりしない材料を用いて実施を行うことで、前記足底の痕跡３０００を記憶する効果を達し、且つ反発後は繰返し使用できる。本発明の好実施例において、低反発記憶フォームを用いて実施を行うことも出来るが、これに限らず、例えばラテックスやシリカゲル、透明袋の有色粘着性液体（即ち粘弾性を有する液体）、高分子素材またはその他の材料等の、低反発記憶の性質を備える他の材料を用いることも出来る。一部の実施例において、前記低反発記憶ユニット１０１０は、図１の示すように、左右対称で二箇所設置することで、左右の脚を同時に載置させることが出来る。但しこれに限らず、一箇所のみ設置することで、左脚または右脚の片方の脚を計測、或いは左右の脚を同時に計測できる。これらは、本発明の精神に基づいて変化を加えることが出来る。更に言えば、前記低反発記憶ユニット１０１０は、足部２０００の全体の足底を載置し、前記全体の足底の、前記足底の痕跡３０００を残すのに用いられる。
【００１９】
前記照準ユニット１０３０は、図１に示す様な弧型構造とすることができ、前記低反発記憶ユニット１０１０に連接し、図３に示す様に被計測者の前記足部２０００の照準位置を指示するのに用いられ、例えば図２Ｂに示す突起した立体弧型構造、または殻体１０２０の凹入した弧型構造をストッパとし、被計測者が踵を揃えて正確な位置に載置するのに役立つ。選択次第では、前記照準ユニット１０３０は、前記殻体１０２０に設置されて、前記低反発記憶ユニット１０１０に連接することも出来る。その際の連接は、直接連接、または他のユニットを経由した間接連接を含む。前記照準ユニット１０３０は、前記殻体１０２０の一部とし、且つ凹槽とすることができ、且つ前記殻体１０２０は、前記低反発記憶ユニット１０１０の周辺を囲んで設置、または前記低反発記憶ユニット１０１０の上或いは下に設置することが出来る。前記殻体１０２０に関しては、設置は任意であり必須ではなく、収納性や携帯性を考慮して前記殻体１０２０を設置しないという選択も可能であり、且つ前記照準ユニット１０３０は、直接前記低反発記憶ユニット１０１０に連接、またはそれに印刷することも出来る。これ以外に、前記照準ユニット１０３０は弧型に限らず、例えば四角形や台形、Ｌ字型等の他の形状とすることが出来る。
【００２０】
前記目盛ユニット１０４０は、前記低反発記憶ユニット１０１０に連接して、目盛マークを提供する。異なる実施例において、前記目盛ユニット１０４０は、図１の様な縦向きに設置されて、縦方向の目盛マークを提供することができ、また図１の様な横向きに設置されて、横方向の目盛マークを提供することもでき、または斜角や弧状の目盛、或いは不規則な形状の目盛の設置により、足長や足幅、またはそれらの組合せの観測に利することも出来る。前記目盛ユニット１０４０の数量は、前記低反発記憶ユニット１０１０の数量に対応して設置することができ、且つ一個の前記低反発記憶ユニット１０１０が、複数個の前記目盛ユニット１０４０に対応することも出来る。これ以外に、前記目盛ユニット１０４０は、前記殻体１０２０に設置されて、前記低反発記憶ユニット１０１０に連接することも出来る。詳しく言えば、前記殻体１０２０は、前記低反発記憶ユニット１０１０の周辺を囲んで設置、または前記低反発記憶ユニット１０１０の上或いは下に設置することができ、且つ前記低反発記憶ユニット１０１０の前記足部を載置させる部分を大気中に露出する。前記目盛ユニット１０４０は、直接前記低反発記憶ユニット１０１０に連接、またはそれに印刷することも出来る。一部の実施例において、前記目盛ユニット１０４０は、昇華転写、または熱転写印刷により、直接前記低反発記憶ユニット１０１０上に捺染でき、或いはスクリーン印刷や水転写、冷転写等の技術により、前記低反発記憶ユニット１０１０上に捺染できる。他の一部の実施例において、選択次第では、前記目盛ユニット１０４０は、チェック状の標示とし、前記低反発記憶ユニット１０１０上に表示させることも出来る。異なる実施例において、前記目盛ユニット１０４０は、文字や数字、符号、図案、その他、またはこれらの組合せの目盛マークを提供し、識別に利することが出来る。且つ前記目盛ユニット１０４０は、異なる色、または異なる塗料を有することができ、色差や蛍光、燐光、またはその他の追加的情報を通して、識別効果を強化する。
【００２１】
図３Ａから図３Ｃは、本発明の実施例における前記足底計測装置１０００により足長を計測する際の指示図である。図３Ａに示す様に、被計測者の前記足部２０００が前記足底計測装置１０００に接触する際（明瞭な説明のために、図面では前記低反発記憶ユニット１０１０のみを図示し、他のユニットは省略してある）、前記足部２０００が接触するのみで完全に踏込んでいない場合、この時の長さの情報Ｌ０は前記足部２０００の足長の最大数値でないことがわかる。前記足部２０００が完全に踏込んだ場合、この時の長さの情報Ｌ１は、爪先及び踵の縁辺部分をも包括しており、前記足部２０００の足長の最大数値であることがわかる。図３Ｃに示す様に、前記足部２０００が前記低反発記憶ユニット１０１０を離れた時、前記低反発記憶ユニット１０１０の各位置における深度の情報Ｄ１により、凹陥する箇所、即ち前記足底の痕跡３０００の分布を観察できる。凹陥する箇所の両端点間の距離により、前記長さの情報Ｌ１を得ることが出来る。本発明の長所の一つとして、前記低反発記憶ユニット１０１０の凹陥が可能な性質により、爪先及び踵の縁辺を包括する前記長さの情報Ｌ１を計測できる点が挙げられる。もし、剛性があり凹陥が不可能な材料であれば、図３Ａの様に、前記足部２０００と材料との接触点からは、足長の最大数値ではない、つまり足部の実際の長さではない前記長さの情報Ｌ０しか得ることが出来ない。
【００２２】
図４Ａから図４Ｃは、本発明の実施例における前記足底計測装置１０００により足幅を計測する際の指示図である。図４Ａは、足底が前記低反発記憶ユニット１０１０に接触したての状況を示しており、それは背景技術の、剛性のある表面を備える足底計測装置と同様であり、足底の表面の、幅の情報Ｗ０しか測定できない。前記低反発記憶ユニット１０１０の凹陥が可能な性質により、足裏で踏込むと、母指球（ｂａｌｌ  ｏｆ  ｆｏｏｔ）の縁辺まで包括する最大数値である足幅の情報Ｗ１を計測することが出来る。これ以降は前段落記載と同様であり、詳述を避ける。
【００２３】
図５Ａは、本発明の実施例における前記足底計測装置１０００により異なる深度を計測する際の指示図である。図５Ａに示す様に、足底は平面でないため、踏圧後に生成される前記足底の痕跡３０００は異なる深度を含み（例えば前記深度の情報Ｄ１等）、足裏を例に取り、且つ厚さのある前記低反発記憶ユニット１０１０を例に取ると、第一深度の足底の痕跡３０１０、第二深度の足底の痕跡３０２０、第三深度の足底の痕跡３０３０、第四深度の足底の痕跡３０４０等が挙げられる。一般的には、最外圏にある前記足底の痕跡３０１０の計算により、前記最大数値である長さの情報Ｌ１及び前記最大数値である足幅の情報Ｗ１を含むことができ、よって前記足部２０００の縁辺位置、即ち足裏の実際の縁辺位置を包括できる。また、踏圧の際の深度の差異により、前記足底の痕跡３０００における足裏と爪先とは、連続しているまたはしていないことがあり、故に、前記長さの情報Ｌ１を獲得する際、爪先及び踵の双方の最外縁を包括することで、両者間の距離を獲得する必要性が理解されるべきである。
【００２４】
図５Ｂは、本発明の実施例における前記足底計測装置１０００により足弓を計測する際の指示図である。被計測者によって足の型はそれぞれ異なり、生成される前記足底の痕跡３０００には、偏平足の足底の痕跡３１００、低アーチの足底の痕跡３２００、中アーチ（正常な足弓に相当）の足底の痕跡３３００、高アーチの足底の痕跡３４００、が挙げられる。これら四種は、三種の足弓タイプへの分類も可能であり、偏平足または低アーチの内の一つを除けばよい。以上より、本発明の実施例における前記足底計測装置１０００により、異なる前記足底の痕跡３０００を獲得し、被計測者の足弓の情報を推知することが出来る。
【００２５】
図６は、本発明の実施例における前記足底計測装置１０００の他の態様のブロック図である。この実施例において、前記足底計測装置１０００は、プロセッサ１１１０と、感圧パーツ１１１２と、計時パーツ１１１４と、前記センサユニット１０５０と、計算パーツ１１１６と、保存パーツ１１１８と、伝送パーツ１１２０と、表示パーツ１１２２と、を含み、前記感圧パーツ１１１２が、前記プロセッサ１１１０と接続且つ前記低反発記憶ユニット１０１０と結合でき、前記計時パーツ１１１４が前記プロセッサ１１１０と接続でき、前記センサユニット１０５０も前記プロセッサ１１１０と接続でき、前記計算パーツ１１１６が前記プロセッサ１１１０と接続でき、前記保存パーツ１１１８が前記プロセッサ１１１０と接続でき、前記伝送パーツ１１２０が前記プロセッサ１１１０と接続でき、前記表示パーツ１１２２が前記プロセッサ１１１０と接続でき、特に、当該接続は電気的接続または光インタコネクトとすることが出来る。
【００２６】
前記感圧パーツ１１１２は、前記足部２０００の、前記低反発記憶ユニット１０１０への踏圧及びそこからの離脱の観測に用いられ、例えば、圧力センサや圧力スイッチ等の各種圧力感知機器とすることが出来るが、これに限らない。前記保存パーツ１１１８は、例えば一秒間等の特定の時間の情報を保存するが、それが設置される理由は、前記感圧パーツ１１１２が前記足部２０００の前記低反発記憶ユニット１０１０からの離脱を知った際、且つ前記計時パーツ１１１４が前記特定の時間との合致を知った際、前記プロセッサ１１１０が前記センサユニット１０５０に前記足底の痕跡３０００を計測するよう指令し、これにより前記低反発記憶ユニット１０１０から離脱する脚を撮影してしまうといった状況を避けるためである。前記計時パーツ１１１４の機能を実施せず、計測する前記足部２０００が離脱してから前記足底の痕跡３０００を計測するよう指令することもできる。
【００２７】
前記プロセッサ１１１０は、例えばマイクロプロセッサや組込型プロセッサ等を用いることができ、各タイプのプロセッサとすることが出来る。前記保存パーツ１１１８は、オペレーティングシステムやアプリケーション等を搭載でき、また組込システムとすることも出来る。前記足底計測装置１０００は、前記伝送パーツ１１２０を用いることで、有線または無線ネットワークを通じて、ＰＣやノートＰＣ、サーバ、ワークステーション、スマートフォン、クラウドコンピューティングシステム等とも接続できる。例えば、スマートフォンからアプリケーションをダウンロードして、前記センサユニット１０５０の代替とし、スマートフォンのカメラ機能を用いて写真を撮影し、画像を取得後、画像を分析させ前記足底の痕跡３０００を計測させ、足底計測の情報を提供させる。または、クラウドコンピューティングシステムを用いて、上記の前記プロセッサ１１１０及び／或いは前記計算パーツ１１１６の機能を実行することも出来る。
【００２８】
詳しく言えば、図７に示す様に、前記センサユニット１０５０、前記感圧パーツ１１１２、前記表示パーツ１１２２は、前記伝送パーツ１１２０と接続できる。前記伝送パーツ１１２０は、クラウドコンピューティングシステム４と接続して、前記クラウドコンピューティングシステム４に、前記保存パーツ１１１８、前記計時パーツ１１１４、前記プロセッサ１１１０及び／または前記計算パーツ１１１６の機能を実行させることが出来る。或いは、前記保存パーツ１１１８、前記計時パーツ１１１４、前記プロセッサ１１１０、前記計算パーツ１１１６の内の少なくとも一つの機能を前記クラウドコンピューティングシステム４が実行し、それ以外を前記足底計測装置１０００に内装するということも出来る。
【００２９】
前記センサユニット１０５０は、光学センサ、距離センサ、温度センサ、またはこれらの組合せを含むことが出来る。ここで言うセンサは、技術の性質と対応して送信機と受信機を含むことができる。例を挙げると、光学センサは、電荷結合素子（Ｃｈａｒｇｅ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅ，ＣＣＤ）センサや、相補型金属酸化膜半導体（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ  Ｍｅｔａｌ−Ｏｘｉｄｅ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ，ＣＭＯＳ）センサ、或いはその他センサ等を含むことができる。距離センサは、超音波センサやレーザーセンサ、またはその他センサを含むことができ、例えばモーションキャプチャ装置Ｋｉｎｅｃｔの深度観測機能を使用する。温度センサは、例えば黒体放射センサ、赤外線サーモグラフィ、ＦＬＩＲ，ＳＥＥＤ等のサーモグラフィといった、赤外線センサ或いはその他センサ等を含むことができる。一部の実施例において、選択次第では、前記センサユニット１０５０は、回転が可能な支持体を利用して前記殻体１０２０と相互に連接できる。且つ前記プロセッサ１１１０により自動で支持体の運動をコントロールすることができる。
【００３０】
これにより、前記センサユニット１０５０は前記足底の痕跡３０００を計測でき、且つ最外縁の前記長さの情報Ｌ１、及び前記最大数値である足幅の情報Ｗ１等、即ち被計測者の前記足部２０００の足長の情報及び足幅の情報の計測を行うよう設定される。もし爪先と足裏が連続していない場合、縦方向の最遠の両端点を計算の基礎とするよう設定される。異なる実施例において、もし映像の差異により判断を行う場合、前記プロセッサ１１１０を利用して目盛マークを識別する。もし前記深度の情報Ｄ１を利用する場合、深度を備える三次元情報を判断して、より豊富な前記足底の痕跡３０００に関する情報を獲得することができる。他の一部の実施例において、前記足部２０００が踏圧後に前記低反発記憶ユニット１０１０から離脱した瞬間を利用する。踏圧時に記憶フォームが圧縮されることによりフォーム内に伝導される体温の熱エネルギをその中に一時的に保存し、前記足部２０００の離脱後、フォーム内に伝導された体温の熱エネルギを、低反発記憶フォームのふわふわしたフォーム内部の空隙中に暫く保存する。よって、例えばＦＬＩＲ、ＳＥＥＤ等のサーモグラフィセンサ機器等とする前記センサユニット１０５０は、低反発記憶フォームに暫く保存された体温の熱エネルギの赤外線画像の信号を観測することで、更に精確に足底の痕跡を判断することが出来る。
【００３１】
更に、足弓の情報を判断する際、足裏の部分的な面積、即ち爪先部分を含まない面積のみを取得し、取得した画像の足弓の面積と取得した画像の全体の面積により比率数値を計算することが出来る。理解すべきことは、前記高アーチの足底の痕跡３４００の状況において、この比率数値は前記低アーチの足底の痕跡３２００の状況より小さく、学習を経てこの比率数値の大きさを獲得することができ、比率数値の範囲を学習した後は、比率数値によって高アーチ、中アーチ、低アーチ（または偏平足）に区分することができ、使用の際これによって足のタイプを判断することができる。ただしこれに限らず、前記足底の痕跡３０００の輪郭を利用して判断することもでき、またはその他の基準を利用して判断することもできる。
【００３２】
本発明の好実施例において、前記センサユニット１０５０は、前記低反発記憶ユニット１０１０の真上側に設置することができるが、斜め上側に設置することもでき、画像補正アルゴリズムを利用して、斜め上側で獲得した比較的傾斜するデータを正面から獲得したものの様に補正する。且つ前記センサユニット１０５０は一つに限らず、複数個の組合せによって使用し、異なる高度や角度、水平位置等に設置することが出来る。
【００３３】
これにより、本発明の実施例において、高解析度の前記センサユニット１０５０を利用して、高解析度の足底計測の情報を獲得することができる。使用する前記低反発記憶ユニット１０１０はほぼ温度変化の影響を受けない。計測のプロセスは単純で、被計測者の足部に特殊な処理を行う必要が無く、靴下を履いたまま、履かないままでもよく、踏圧後離脱するのみで前記足底の痕跡３０００を残すことができる。且つ前記低反発記憶ユニット１０１０の凹陥が可能な性質を利用して、前記足部２０００の足底の最外縁の情報を計測でき、且つそれは三次元情報とすることができる。更に、前記低反発記憶ユニット１０１０は繰り返しの使用が可能である。
【００３４】
発明は当業者であれば諸般の修飾が可能であるが、いずれも後付の特許請求の範囲の保護範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００３５】
１０００  足底計測装置
１０１０  低反発記憶ユニット
１０２０  殻体
１０３０  照準ユニット
１０４０  目盛ユニット
１０５０  センサユニット
１１１０  プロセッサ
１１１２  感圧パーツ
１１１４  計時パーツ
１１１６  計算パーツ
１１１８  保存パーツ
１１２０  伝送パーツ
１１２２  表示パーツ
２０００  足部
３０００  足底の痕跡
３０１０  第一深度の足底の痕跡
３０２０  第二深度の足底の痕跡
３０３０  第三深度の足底の痕跡
３０４０  第四深度の足底の痕跡
３１００  偏平足の足底の痕跡
３２００  低アーチの足底の痕跡
３３００  中アーチの足底の痕跡
３４００  高アーチの足底の痕跡
４        クラウドコンピューティングシステム
Ｄ１      深度の情報
Ｌ０      長さの情報
Ｌ１      最大数値である長さの情報
Ｗ０      幅の情報
Ｗ１      最大数値である足幅の情報
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６】
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【図７】
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