(57)【要約】      （修正有）【課題】並設方向に沿う磁石アレイによる吸着力を数値として定量的に確実に測定できる吸着力測定装置を提供する。【解決手段】上下方向に着磁された複数の磁石Ｍｐを互いに隣接する当該磁石の下側の磁極が異なるように左右方向に並設してなる金属箔吸着用の磁石アレイＭａに対して少なくともその左右方向に沿う吸着力を測定するための本発明の吸着力測定装置ＭＭは、左右方向をＸ軸方向、同一平面内でＸ軸方向に直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に直交する上下方向をＺ軸方向として、磁石アレイのＺ軸方向上方または下方に配置される、Ｙ軸を対称軸とする線対称な輪郭を持ち且つＸ軸方向の幅Ｗｔが各磁石相互間のピッチＷｍと同等である試験片４と、Ｚ軸方向にのびてその端面で試験片を保持する測定軸３３を備えるフォースゲージ３と、測定軸で保持された試験片と磁石アレイとを少なくともＸ軸方向に相対移動自在な移動手段２とを備える。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
上下方向に着磁された複数の磁石を互いに隣接する当該磁石の下側の磁極が異なるように左右方向に並設してなる金属箔吸着用の磁石アレイに対して少なくともその左右方向に沿う吸着力を測定するための吸着力測定装置であって、
左右方向をＸ軸方向、同一平面内でＸ軸方向に直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に直交する上下方向をＺ軸方向として、磁石アレイのＺ軸方向上方または下方に配置される、Ｙ軸を対称軸とする線対称な輪郭を持ち且つＸ軸方向の幅が各磁石相互間のピッチと同等である試験片と、
Ｚ軸方向にのびてその端面で試験片を保持する測定軸を備えるフォースゲージと、
測定軸で保持された試験片と磁石アレイとを少なくともＸ軸方向に相対移動させる移動手段とを備えることを特徴とする吸着力測定装置。
【請求項２】
前記試験片周辺の磁束密度を測定するガウスメータを更に備えることを特徴とする請求項１記載の吸着力測定装置。
【請求項３】
請求項１または２記載の吸着力測定装置であって、支持体を介して複数個の透孔が開設された金属箔を吸着するための前記磁石ユニットの少なくともそのＸ軸方向の吸着力を測定するものにおいて、
前記試験片として、単位面積当たりの開口率が前記金属箔と同等となるように透孔が開設されたものを用いることを特徴とする吸着力測定装置。
【請求項４】
前記フォースゲージの測定値を試験片の質量で除して当該試験片の加速度を検出し、この検出した加速度から吸着力を評価する吸着力評価手段を更に備えることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の吸着力測定装置。
【請求項５】
支持体を介して複数個の透孔が開設された金属箔を吸着する、上下方向に着磁された複数の磁石を互いに隣接する当該磁石の下側の磁極が異なるように左右方向に並設してなる磁石アレイの吸着力を測定するための吸着力測定方法であって、
左右方向をＸ軸方向、同一平面内でＸ軸方向に直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に直交する上下方向をＺ軸方向として、磁石アレイに対しＺ軸方向から支持板を設置する工程と、
磁石アレイから支持体に向かう方向をＺ軸方向上方として、支持体上にＹ軸を対称軸とする線対称な輪郭を持ちかつ単位面積当たりの開口率が前記金属箔と同等となるように透孔が開設された試験片をセットする工程と、
支持体の表面に沿って試験片を少なくともＸ軸方向に相対移動させ、その端面で試験片を保持する測定軸を備えるフォースゲージにより、磁石アレイの各磁石の磁力で試験片に作用する力を測定する工程と、を含むことを特徴とする吸着力測定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、上下方向に着磁された複数の磁石を互いに隣接する当該磁石の下側の磁極が異なるように左右方向に並設してなる金属箔吸着用の磁石アレイに対して少なくともその左右方向に沿う吸着力を測定するための吸着力測定装置及び吸着力測定方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、有機ＥＬデバイスを製造する方法の一つとして真空蒸着法が知られている。この真空蒸着法では、真空雰囲気の形成が可能な真空チャンバ内に、ガラス基板等の基板と蒸着（処理）範囲を規定するマスクプレートとを重ね合わせて配置し、蒸着源より蒸着物質を昇華または気化させ、この昇華または気化した蒸着物質をマスク越しに基板の一方の面（即ち、成膜面）に付着、堆積させることで、各種の薄膜が所定のパターンで成膜される（例えば、特許文献１参照）。この場合、製品歩留まりを考慮して、数十μｍの板厚を持つ金属箔からなるマスクプレートの下方に蒸着源を配置し、所謂デポアップ式で成膜することが通常である。このとき、所謂マスクボケを可及的に抑制しつつ所定のパターンで成膜するには、真空蒸着による成膜時、基板の一方の面にマスクプレートをその全面に亘って密着させていることが好ましい。
【０００３】
このことから、マスクプレートから基板に向かう方向を上として、基板とマスクプレートとを上下方向で位置合わせして重ね、基板上にタッチプレートを介して保持手段を配置することで当該基板を挟み込むようにしてタッチプレートにマスクプレートを保持させることが知られている。保持手段としては、上下方向に着磁された複数の棒状磁石を互いに隣接する当該磁石の下側の磁極が異なるように左右方向に並設してなる金属箔吸着用の磁石アレイが一般に使用されている。
【０００４】
ここで、上記磁石アレイによって金属箔（マスクプレート）を吸着保持した場合、金属箔内部の磁束密度が常時飽和しているので、例えば、各磁石の磁極付近では比較的吸着力が強く、隣り合う磁石の間の中央位置では比較的吸着力が弱くなるような分布となる。また、各磁石の組付誤差や磁石アレイを構成する各磁石の個体差により吸着力に差ができる場合もある。そして、例えば、吸着力が比較的弱い箇所では、金属箔と基板との間にギャップが生じる場合がある。このギャップは、所謂デポアップ式で成膜する場合、即ち、マスクプレートの上方に磁石アレイが配置されることで上方に向けて重力加速度が作用する構成の際、力の不均衡の結果として顕著に観察される。このため、上記成膜に用いると、マスクプレートと基板との間のギャップによっては、マスクボケが発生して製品歩留まりを低下させてしまう。このため、例えば、磁石アレイを構成する各磁石の種類や配列を最適化できるように、磁石アレイによって金属箔を吸着したときの、各磁石の並設方向に沿う吸着力（及びその分布）を測定するための装置や方法の開発が望まれている。
【０００５】
そこで、本願の発明者らは、磁石アレイ上に、支持体を介して金属箔を設置することで、各磁石からの磁力で支持体上面に金属箔を吸着保持させ、支持体から金属箔に向けて気体圧力を付与し、金属箔に対しその下面の所定範囲全体に亘って同等の抗力を作用させ、この状態で金属箔の変位量を測定し、この測定した変位量から吸着力の分布を得ることを提案している（特願２０１６−２５２４０６号参照）。
【０００６】
支持体としては、上面に窪み部が凹設された基台と、窪み部を覆うように基台の上面に設けられた多孔質板とを備えるものを利用し、窪み部に気体を供給して、多孔質板の各孔を通して金属箔に気体を付与するようにしている。然し、支持体に金属箔を吸着させたときの状態によっては、気体を付与しても金属箔が変位しない部分が局所的に生じる場合があることが判明した。この場合、金属箔が変位しない部分は測定対象とはならず、吸着力の分布を確実に得ることができない。このことから、各磁石の並設方向に沿う磁石アレイの吸着力を数値として定量的に測定できるものの開発が尚も望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１３−９３２７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、以上の点に鑑み、並設方向に沿う磁石アレイの吸着力を数値として定量的に確実に測定できる吸着力測定装置及び吸着力測定方法を提供することをその課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、上下方向に着磁された複数の磁石を互いに隣接する当該磁石の下側の磁極が異なるように左右方向に並設してなる金属箔吸着用の磁石アレイに対して少なくともその左右方向に沿う吸着力を測定するための本発明の吸着力測定装置は、左右方向をＸ軸方向、同一平面内でＸ軸方向に直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に直交する上下方向をＺ軸方向として、磁石アレイのＺ軸方向上方または下方に配置される、Ｙ軸を対称軸とする線対称な輪郭を持ち且つＸ軸方向の幅が各磁石相互間のピッチと同等である試験片と、Ｚ軸方向にのびてその端面で試験片を保持する測定軸を備えるフォースゲージと、測定軸で保持された試験片と磁石アレイとを少なくともＸ軸方向に相対移動させる移動手段とを備えることを特徴とする。
【００１０】
本発明によれば、例えば、吸着力の測定時には支持体を構成する基板と金属箔（マスクプレート）とを上下方向で位置合わせして重ね、基板上に、同様に支持体を構成するタッチプレートを介して磁石アレイを配置することで当該基板を挟み込むようにしてタッチプレートに金属箔を保持させたものを測定対象物（つまり、成膜時と同様の状態）とする。そして、例えば、金属箔が上側に位置する姿勢にし、磁石ユニットの各磁石表面と試験片との間の間隔を一定に保持した状態（金属箔に試験片を当接させる場合も含む）で金属箔の表面に沿って測定対象物と試験片とを移動手段によりＸ軸方向に相対移動させ、Ｘ軸方向の任意の各測定位置にてフォースゲージにより測定値を得る。このとき、磁石アレイは、そのＸ軸方向において各磁石の磁極付近では吸着力が比較的強く、隣り合う磁石の間の中央位置では吸着力が比較的弱くなるような分布となっているが、Ｘ軸方向の長さが各磁石相互間のピッチと同等である試験片を用いることで、Ｘ軸方向に沿う任意の測定位置における吸着力を数値として定量的に確実に測定することができる。なお、上記において、金属箔を省略し、基板表面に沿って試験片をＸ軸方向に相対移動させ、Ｘ軸方向の任意の各測定位置にてフォースゲージにより測定値を得るようにしてもよい。
【００１１】
ここで、上記の如く、基板を挟み込むようにしてタッチプレートに金属箔を吸着したとき、その吸着力が強すぎると、基板や金属箔を傷つけたりする虞がある。このため、本発明においては、吸着力を測定した箇所にてガウスメータにより磁束密度を測定する構成を採用すれば、どの程度の磁束密度であればどの程度の吸着力で金属箔が吸着されるかを確認でき、基板や金属箔が傷つくことを防止できる磁石ユニットの開発等に利用でき、有利である。
【００１２】
ところで、金属箔として、成膜範囲を規定するマスクプレートのように複数個の透孔が開設されたものを用いる場合、透孔がある部分と透孔がない部分とでは磁石の透磁率が異なり、そこに加わる吸着力も異なることになる。このため、支持体を介して複数個の透孔が開設された金属箔を吸着するための前記磁石ユニットの少なくともそのＸ軸方向の吸着力を測定するような場合には、前記試験片として、単位面積当たりの開口率が前記金属箔と同等となるように透孔が開設されたものを用いることが好ましい。
【００１３】
本発明においては、フォースゲージの測定値を試験片の質量で除して当該試験片の加速度を検出し、この検出した加速度から吸着力を評価する吸着力評価手段を更に備えることが好ましい。これによれば、例えば、マスクプレートとして、板厚方向に貫通する複数の透孔が所定のパターンで開設されてなるパターンマスク部とパターンマスク部の周囲に位置する遮蔽部とを有するような場合、試験片の一回のＸ軸方向への相対移動で、互いに質量が異なる、透孔がある部分と透孔がない部分とを同列に評価でき、有利である。なお、本発明の吸着力測定装置は、大気中に単体で設置できるだけでなく、例えば、大気圧下の基板を真空チャンバ内に搬送するために、この真空チャンバにゲートバルブを介して連設されるロードロックチャンバに組み付け、真空雰囲気で吸着力の測定が実施できるように構成することができる。
【００１４】
更に、上記課題を解決するために、支持体を介して複数個の透孔が開設された金属箔を吸着する、上下方向に着磁された複数の磁石を互いに隣接する当該磁石の下側の磁極が異なるように左右方向に並設してなる磁石アレイの吸着力を測定するための本発明の吸着力測定方法は、左右方向をＸ軸方向、同一平面内でＸ軸方向に直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に直交する上下方向をＺ軸方向として、磁石アレイに対しＺ軸方向から支持板を設置する工程と、磁石アレイから支持体に向かう方向をＺ軸方向上方として、支持体上にＹ軸を対称軸とする線対称な輪郭を持ちかつ単位面積当たりの開口率が前記金属箔と同等となるように透孔が開設された試験片をセットする工程と、支持体の表面に沿って試験片を少なくともＸ軸方向に相対移動させ、その端面で試験片を保持する測定軸を備えるフォースゲージにより、磁石アレイの各磁石の磁力で試験片に作用する力を測定する工程と、を含むことを特徴とする。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施形態の吸着力測定装置を模式的に示す平面図。
【図２】図１の吸着力測定装置のＩＩ−ＩＩ線に沿う部分断面図。
【図３】本実施形態の吸着力測定方法の変形例を示す部分拡大図。
【図４】本発明の実施形態の吸着力測定方法により試験片の幅を変えて磁石アレイの磁力を測定したときのグラフ。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、図面を参照して、金属箔を、成膜時に使用されるマスクプレートとし、このマスクプレートを、上下方向に着磁された複数の磁石を互いに隣接する当該磁石の下側の磁極が異なるように左右方向に並設してなる磁石アレイによって吸着したときの左右方向に沿う吸着力を測定するための吸着力測定装置及び吸着力測定方法の実施形態を説明する。なお、以下においては、図１を基準に、各磁石が並設された左右方向をＸ軸方向、同一平面内でＸ軸方向に直交する磁石の長手方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に直交する図１の上下方向をＺ軸方向として説明する。
【００１７】
図１及び図２を参照して、本実施形態の吸着力測定装置ＭＭは、平坦な上面を持つステージ１を備え、ステージ１上に測定対象物Ｍｏが位置決めした状態で設置できるようになっている。吸着力測定時の測定対象物Ｍｏは、ガラス基板（以下、「基板Ｓｗ」という）とマスクプレートＭｐとを上下方向で位置合わせして重ね、基板Ｓｗの下面に、タッチプレートＴｐを介して磁石アレイＭａを配置することで基板Ｓｗを挟み込むようにしてタッチプレートＴｐにマスクプレートＭｐを保持させたものが用いられる。
【００１８】
マスクプレートＭｐとしては、常温付近で熱膨張率が小さい金属材料、例えばインバー製であり、数十μｍ〜数百μｍの板厚である箔状のものである。マスクプレートＭｐには、板厚方向に貫通する複数の透孔Ｍｆが所定のパターンで開設されている。この場合、マスクプレートＭｐは、複数の透孔が所定のパターンで開設されてなるパターンマスク部Ｍｐ１とパターンマスク部Ｍｐ１の周囲に位置する遮蔽部Ｍｐ２とを有する。透孔Ｍｆの輪郭は、円形や長円等、成膜しようとするパターンに応じて適宜設定される。タッチプレートＴｐは、透磁率が小さい金属材料でから選択され、例えば、オーステナイト系ステンレスが用いられる。この場合、基板Ｓｗが密着するタッチプレートＴｐの表面は所定の平坦度を有するように加工され、タッチプレートＴｐに基板Ｓｗがその全面に亘って密着したとき、基板Ｓｗを平坦に保持する役割を果たすようにしている。本来の測定対象物である磁石アレイＭａは、板状のヨークＹｏと、ヨークＹｏの上面に、Ｚ軸方向に着磁された同一形状かつ同種のＹ軸方向に長手の棒状磁石Ｂｍを互いに隣接する当該磁石Ｂｍの下側の磁極が異なるようにＸ軸方向に相互に密接させて（または、互いに間隔を存して）並設して構成されている。なお、棒状磁石Ｂｍとしては、一体に形成されたものでも、複数の磁石片をＹ軸方向に所定長さで列設して構成されたものでもよい。
【００１９】
ステージ１には、このステージ１上に設置された測定対象物ＭｏをＸ軸方向で跨ぐように門型のフレーム２が設けられている。フレーム２は、ステージ１上にＸ軸方向に沿って敷設された２本のレール２１，２１に摺動自在に係合するスライダ（図示せず）を有し、駆動モータ２１ａを備える送りねじ２１ｂにより所定のピッチでＸ軸方向にフレーム２が所定ピッチで進退できるようになっている。フレーム２には、Ｙ軸方向にのびる送りねじ２２が設けられ、送りねじ２２には、支持台２３の図示省略する取付部が螺合し、駆動モータ２４により支持台２３が所定のピッチでＹ軸方向に進退できるようになっている。支持台２３には、吸着力を測定するためのフォースゲージ３が取り付けられている。この場合、フォースゲージ３は、その側面に設けたレール３１に摺動自在に係合するスライダ３２を介して支持台２３に取り付けられ、図示省略の駆動モータを備える送りねじによりＺ軸方向に進退できるようになっている。フォースゲージ３は、Ｚ軸方向下方に向けてのびる非磁性材料製の測定軸３３と、測定軸３３に連結されるロードセル（図示せず）とを備える公知のものであり、測定軸３３に作用する力（Ｎ）を電気信号に変換して出力できるようになっている。そして、測定軸３３の下端に試験片４が取り付けられる。
【００２０】
試験片４としては、マスクプレートＭｐと同一の材料（例えば、インバー製）で構成され、マスクプレートＭｐと板厚が同一で、かつ、Ｙ軸を対称軸とする線対称な輪郭、例えば正方形や円形の輪郭（図２参照）を持つように形成されたものである。試験片４のＸ軸方向の幅Ｗｔは、各磁石Ｂｍ相互間のピッチＷｍ（即ち、各磁石Ｂｍの中心間距離）と同等に設定されている。また、試験片４には、単位面積当たりの開口率がマスクプレートＭｐと同等となるように透孔４１が開設されている。更に、Ｚ軸方向にのびるフレーム２の支柱下部には、測定軸３３を通るＸ軸線上でかつ試験片４のＺ軸上の高さ位置に一致させてガウスメータ５が設けられ、試験片４周辺の磁束密度（ガウス）を測定することができるようにしている。また、吸着力測定装置ＭＭは、図２に示すように、例えば、フレーム２やフォースゲージ３の移動制御だけでなく、フォースゲージ３及びガウスメータ５からの出力を受けて、例えば測定軸３３に作用する力（Ｎ）や磁束密度を測定値として算出する処理を統括的に行う、マイクロコンピュータや記憶素子等を有するコントローラ６を備える。本実施形態では、コントローラ６が所定のプログラムを有して、フォースゲージ３の測定値を試験片４の質量（コントローラ６に入力可能）で除して試験片４の加速度を検出し、この検出した加速度から吸着力を評価できるようにしている。この場合、コントローラ６が本実施形態の吸着力評価手段を兼用する。以下に、本実施形態の吸着力測定装置ＭＭを用いた吸着力測定方法を具体的に説明する。
【００２１】
先ず、ステージ１上に磁石アレイＭａをその各磁石ＢｍがＹ軸上に位置するように位置決めした状態で設置する。次に、磁石アレイＭａ上にタッチプレートＴｐを設置し、タッチプレートＴｐ上に基板Ｓｗを設置する。そして、基板Ｓｗ上にマスクプレートＭｐを重ねると、マスクプレートＭｐが基板Ｓｗを挟み込むようにしてタッチプレートＴｐに吸着保持され、これにより、測定対象物Ｍｏが準備される。なお、この準備工程を他の場所で行い、測定対象物Ｍｏを搬送して、マスクプレートＭｐが最上側に位置する姿勢でステージ１に位置決めした状態で設置するようにしてもよい。
【００２２】
次に、フォースゲージ３の測定軸３３の下端に試験片４を粘着テープ等を用いて取り付けた後、駆動モータ２４により支持台２３、ひいてはフォースゲージ３を測定対象物Ｍｏ上の所定位置に移動させる。この状態で試験片４の下面がマスクプレートＭｐ表面に接触（または近接）する位置までフォースゲージ３をＺ軸方向下方に移動する。そして、測定対象物ＭｏのＸ軸方向一端から、その他端に向けてフレーム２をＸ軸方向に所定ピッチ（例えば、試験片４のＸ軸方向の幅を１ピッチとする）で間欠走査させ（このとき、試験片４は、パターンマスク部Ｍｐ１と遮蔽部Ｍｐ２との表面を交互に移動することになる）、ステージ１の各停止位置を測定位置として、フォースゲージ３によって磁石アレイＭａの磁力で試験片４に作用する力と、ガウスメータ５により試験片４周辺の磁束密度とを測定する。この場合、フォースゲージ３及びガウスメータ５から出力を受けたコントローラ６は、試験片４に作用する力（ｍＮ）及び磁束密度（ガウス）を測定値として図外のディスプレイ等に表示できるようになっている。また、コントローラ６は、パターンマスク部Ｍｐ１と遮蔽部Ｍｐ２とを同列に評価できるように、予め入力された試験片４の重量とフォースゲージ３の測定値から吸着力が作用したときの試験片４の加速度を検出し、この検出した加速度を図外のディスプレイ等に表示するようになっている。
【００２３】
ここで、以上の吸着力測定方法においては、基板Ｓｗ上にマスクプレートＭｐを重ねてマスクプレートＭｐが基板Ｓｗを挟み込むようにしてタッチプレートＴｐに吸着保持された状態としているが、これに限定されるものではない。図３に示すように、マスクプレートＭｐを省略し、本来マスクプレートＭｐが吸着されている位置を通るように、試験片４をＸ軸方向に相対移動するようにしてもよい。また、試験片４として、マスクプレートＭｐと同等の開口率で透孔４１が開設されたものを用いているが、これに限定されるものではく、透孔４１のない金属箔を用いることができ、パターンマスク部Ｍｐ１における吸着力を測定するような場合には、予め実験的に求めた校正データを基に測定値を補正することもできる。
【００２４】
次に、上記吸着力測定装置ＭＭを用いて以下の実験を行った。本実験では、図３に示すように、磁石アレイＭａ上にタッチプレートＴｐを設置し、タッチプレートＴｐ上に基板Ｓｗを設置した。磁石アレイＭａとして、各磁石Ｂｍ間のピッチＷｍが１０ｍｍのものを用いると共に、試験片４として、一辺が１０ｍｍの試験片を基準試験片と、この基準試験片のＸ軸方向の幅Ｗｔのみを変えた複数の参考試験片１〜５（幅２ｍｍ、４ｍｍ、６ｍｍ、８ｍｍ及び１２ｍｍ）を用意し、上記と同様の操作によりＸ軸方向に吸着力の分布を測定した。なお、各試験片には、単位面積当たりの開口率がマスクプレートＭｐと同等となるように透孔４１を開設した。
【００２５】
図４は、Ｘ軸方向の位置におけるフォースゲージ３の測定値の変化を示すグラフである。これによれば、基準試験片より幅が短い場合には（参考試験片１〜４）、各磁石Ｂｍの磁極付近で吸着力が強く、そこからＸ軸方向にずれるのに従い吸着力が弱くなっていき、隣り合う磁石Ｂｍの間の中央位置付近で吸着力が最も弱くなることが判る。逆に、基準試験片より幅が長い場合には（参考試験片５）、各磁石Ｂｍの磁極付近で吸着力が最も弱くなり、そこからＸ軸方向にずれるのに従い吸着力が強くなっていき、隣り合う各磁石Ｂｍの間の中央位置付近で吸着力が最も強くなることが判る。以上から、基準試験片より幅が短いかまたは長い場合、Ｘ軸方向に沿う吸着力の分布をみた場合、略サイン波を描くように吸着力が変化する。それに対して、基準試験片の場合（即ち、試験片４のＸ軸方向の幅Ｗｔが各磁石Ｂｍ相互間のピッチＰｗと同等の場合）、Ｘ軸方向に沿う吸着力の分布をみた場合、各測定位置での吸着力が略同一線上に位置することが判る。この場合、パターンマスク部Ｍｐ１と遮蔽部Ｍｐ２とを同列に評価するために、測定値から吸着力が作用したときの試験片４の加速度に検出すればよい。これにより、基準試験片を用いてＸ軸方向に沿って複数の測定位置での吸着力を測定すれば、並設方向に沿う磁石アレイＭａによる吸着力を数値として定量的に確実に測定でき、その結果、磁石Ｂｍの個体差や経時変化等により局所的に吸着力が強くなっていたり、弱くなっている位置があれば、容易に特定することができる。また、基準試験片を用いて吸着力を測定し、加速度を検出したとき、同時に磁束密度を測定したところ、２００ガウス程度の磁束密度があれば、基板ＳｗやマスクプレートＭｐを傷つけたりすることなく、重力に打ち勝って上記マスクプレートＭｐをその全面に亘って確実に吸着できることが確認された。
【００２６】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記のものに限定されるものではなく、本発明の技術思想の範囲を逸脱しない範囲で適宜変更することができる。上記実施形態では、フレーム２が、測定軸３３で保持された試験片４と磁石アレイＭａとを少なくともＸ軸方向に相対移動させる移動手段を構成するものを例に説明したが、例えば、フォースゲージ３を固定配置し、ステージ１をＸ軸方向に移動自在としてもよい。また、マスクプレートＭｐの表面を摺動するように試験片４を相対移動させているが、マスクプレートＭｐと試験片４とをＺ軸方向に間隔を存した状態で吸着力の分布を測定することもできる。
【００２７】
上記実施形態では、マスクプレートＭｐが最上側に位置し、その上方にフォースゲージ３を配置しているが、これに限定されるものではない。例えば、所謂デポアップ式で成膜するために、測定対象物Ｍｏを上下逆転させてマスクプレートＭｐが最下側に位置する姿勢で磁石アレイＭａの吸着力を測定するような場合には、その下方にフォースゲージ３を配置して測定すればよい。この場合、マスクプレートＭｐの吸着状態では、マスクプレートＭｐや基板Ｓｗが鉛直方向下方に湾曲するように撓んでいることがあるため、マスクプレートＭｐの表面に沿ってフォースゲージ３をＺ軸方向に移動しながら、マスクプレートＭｐと試験片４とをＺ軸方向に間隔を一定にすることが好ましい。
【００２８】
なお、上述の如く、試験片４の幅Ｗｔが各磁石ＭｐのピッチＷｍより大きく、または、小さくなると、上記の如く、フォースゲージ３の測定値が略サイン波を描くように変化してしまい、これでは、局所的に吸着力が強くなっていたり、弱くなっている位置が特定できない虞がある。そこで、幅Ｗｔが各磁石ＭｐのピッチＷｍより僅かに大きいか、または、僅かに小さい複数の試験片を用意しておき、各試験片を個々にＸ軸方向に相対移動させ、フォースゲージ３の測定値の変化量が最も小さい試験片を選択すれば、精度よく、Ｘ軸方向に沿う吸着力を数値として定量的に確実に測定することができる。他方、上記実験で示すように、試験片４として、その幅Ｗｔが各磁石ＢｍのピッチＷｍより小さいもの、または、大きいものを用いれば、Ｘ軸方向に沿う吸着力の分布の変化を確認することもできる。また、上記実施形態では、吸着力測定方法の実施が可能な吸着力測定装置ＭＭを単独の装置として構成したものを例に説明したが、これに限定されるものではない。例えば、所謂デポアップ式の成膜装置に、本実施形態の吸着力測定方法を実施する構成を組み込んで吸着力測定装置を持つ成膜装置として構成することができる。この場合、磁石アレイＭａは、最下側に位置されるマスクプレートＭｐを吸着可能な姿勢で成膜装置内に設けられ、マスクプレートＭｐ及び基板Ｓｗを吸着していない状態で、本来マスクプレートＭｐが存在する予定の位置に沿って磁石アレイＭａに対して試験片４を少なくともＸ軸方向に相対移動させることで、例えば、生産ロット間で磁力の変化が無いことを確認することができる。この場合、仮にある生産ロットにおいて問題が発生した場合には、測定した吸着力の２次元マップを良品のロットと比較することで、その問題を容易に把握することもできる。
【符号の説明】
【００２９】
ＭＭ…吸着力測定装置、Ｍａ…磁石アレイ、Ｂｍ…磁石（棒状磁石）、Ｍｏ…測定対象物、Ｓｗ…基板（支持体）、Ｔｐ…タッチプレート（支持体）、Ｍｐ…マスクプレート（金属箔）、Ｗｔ…試験片のＸ軸方向の幅、Ｗｍ…磁石間のピッチ、２…フレーム（移動手段）、３…フォースゲージ、３３…測定軸、４…試験片、５…ガウスメータ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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