(57)【要約】本発明は、互いに間隔をおいて配置された複数の吸収素子を有する支持体を備え、検査対象によって散乱された二次放射線を吸収する散乱放射線除去用グリッド又はコリメータに関する。吸収素子（１６，２４，３１）は管状又はピン状に形成され、支持体（１４，２９）に設けられた差込式保持部又はクランプ式の保持部（１５，２１，２３，２８，３０）に固定される。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに間隔をおいて配置された複数の吸収素子を有する支持体を備え、検査対象によって散乱された二次放射線を吸収する散乱放射線除去用グリッド又はコリメータにおいて、
吸収素子（１６，２４，３１）が管状又はピン状に形成され、支持体（１４，２９）に設けられた差込式またはクランプ式の保持部（１５，２１，２３，２８，３０）に固定されていることを特徴とする散乱放射線除去用グリッド又はコリメータ。
【請求項２】
吸収素子（１６，３１）は放射線を吸収する材料からなっていることを特徴とする請求項１に記載の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータ。
【請求項３】
吸収素子（１６，３１）は放射線を透過させる材料からなる支持体素子（２５）を有し、この支持体素子（２５）は少なくとも一側面が放射線を吸収する材料からなる被膜（２６）で被覆されていることを特徴とする請求項１に記載の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータ。
【請求項４】
支持体素子は管状に中空に形成され、その内側面および／または外側面を被覆されていることを特徴とする請求項３に記載の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータ。
【請求項５】
管状の吸収素子（１６，３１）は、断面で見て、中空円筒状または中空多角形状の外形および／または内形を有し、ピン状の吸収素子（２４）は、断面で見て、円筒状または多角形状の形状を有していることを特徴とする請求項１乃至４の１つに記載の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータ。
【請求項６】
吸収素子（１６，２４，３１）は１ｍｍ〜１０ｍｍ、特に２ｍｍ〜６ｍｍ、好ましくは２ｍｍ〜３ｍｍの長さを有していることを特徴とする請求項１乃至５の１つに記載の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータ。
【請求項７】
吸収素子（１６，２４，３１）は０．３ｍｍ〜２ｍｍ、特に０．５ｍｍ〜１ｍｍの外径を有していることを特徴とする請求項１乃至６の１つに記載の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータ。
【請求項８】
管状の吸収素子（１６，３１）は２０μｍ〜５０μｍの壁厚を有していることを特徴とする請求項１乃至７の１つに記載の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータ。
【請求項９】
差込式またはクランプ式の保持部（１５，２１，２３，２８，３０）は支持体（１４，２９）の平面から突出し、又は支持体（１４，２９）の平面内に突入していることを特徴とする請求項１乃至８の１つに記載の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータ。
【請求項１０】
管状の吸収素子（１６）はその吸収素子（１６）の内部に食い込む差込式またはクランプ式の保持部（１５）に装着されていることを特徴とする請求項９に記載の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータ。
【請求項１１】
管状またはピン状の吸収素子（２４，３１）は、外側からつかむ形の少なくとも２つの、好ましくは４つの差込式またはクランプ式の保持部（２３，３０）の間に収められていることを特徴とする請求項９に記載の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータ。
【請求項１２】
管状またはピン状の吸収素子（１６）が、吸収素子（１６）の外形にほぼ一致する窪み（２１）又は貫通孔（２８）として形成された差込式またはクランプ式の保持部の中に収められていることを特徴とする請求項９に記載の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータ。
【請求項１３】
差込式またはクランプ式の保持部（１５，２１，２３，２８，３０）の長さは、吸収素子（１６，２４，３１）の長さにほぼ一致するか又は吸収素子（１６，２４，３１）より短いことを特徴とする請求項１乃至１２の１つに記載の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータ。
【請求項１４】
差込式またはクランプ式の保持部（１５，２１，２３，２８，３０）の長さは最大でも吸収素子（１６，２４，３１）の長さの半分であることを特徴とする請求項１３に記載の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータ。
【請求項１５】
差込式またはクランプ式の保持部（１５，２１，２３，２８，３０）は、吸収素子（１６，２４，３１）が焦点に向けて収められるように配置されていることを特徴とする請求項１乃至１４の１つに記載の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータ。
【請求項１６】
支持体（１４，２９）はプラスチックからなっていることを特徴とする請求項１乃至１５の１つに記載の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータ。
【請求項１７】
支持体（１４，２９）は高速プロトタイピング技術を用いてステレオリソグラフィによって作られていることを特徴とする請求項１６に記載の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータ。
【請求項１８】
吸収素子（１６，２４，３１）は放射線を透過させる注型材料（１７）によって注型されていることを特徴とする請求項１乃至１６の１つに記載の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータ。
【請求項１９】
互いに間隔をおいて配置された複数の吸収素子を有する支持体を備えた散乱放射線除去用グリッド又はコリメータの製造方法において、自動位置決め手段によって管状またはピン状の吸収素子（１６）が、支持体側に設けられた差込式またはクランプ式の保持部に取付けられることを特徴とする散乱放射線除去用グリッド又はコリメータの製造方法。
【請求項２０】
吸収素子は個々に又は複数同時に取付けられることを特徴とする請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
吸収素子の位置決め後に、吸収素子を埋設する注型材料が設けられることを特徴とする請求項１９又は２０に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、互いに間隔をおいて配置された複数の吸収素子を有する支持体を備え、検査対象によって散乱された二次放射線を吸収する散乱放射線除去用グリッド又はコリメータに関する。
【０００２】
Ｘ線画像技術においては、今日、撮影の画質に高い要求が出されている。この撮影、特に医用Ｘ線診断の際に実施されるような撮影においては、ほぼ点状のＸ線源からのＸ線が検査対象を透過し、Ｘ線の減弱分布が検査対象のＸ線源とは反対側で二次元で検出される。そのほかに、コンピュータ断層撮影においては、検査対象によって減弱されたＸ線が１行ずつ検出される。放射線検出器としては、マトリクス状に配置され受信器として機能する多数の半導体素子を備えた固体検出器がますます用いられるようになっている。得られたＸ線画像は多数の画素からなっている。各画素は、理想的にはＸ線源から検出器面上の各画素に対応する位置に至る直線軸上にいる検査対象を通るＸ線の減弱に対応する。この直線軸上で検出器に入射するＸ線が一次Ｘ線と称される。
【０００３】
しかし、検査対象の透過中、Ｘ線と検査対象との間には相互作用が強制的に生じ、それが散乱作用をもたらす。すなわち、検査対象によって散乱されることなく進行する本来の一次Ｘ線と共に、直線軸からずれて検出器に入射する二次Ｘ線が存在する。この二次Ｘ線は検出器の全信号出力中の非常に大きな部分を占め、そのため付加的なノイズ源となり、微細なコントラスト差の識別性を低下させる。
【０００４】
検出器に入射する散乱放射線を減少させるために、いわゆる散乱放射線除去用グリッドを使用することは公知である。公知の散乱放射線除去用グリッドは、規則正しく配置されＸ線を吸収する構造物を持ち、この構造物間に一次放射線の貫通路または類似物が設けられている。集束グリッドと平行グリッドとが区別されている。集束グリッドでは、貫通路とこれを画成する吸収構造物とがＸ線源の焦点に向けられるが、平行グリッドでは、そのように向けられることはなく、通路は表面に対して垂直に立っている。
【０００５】
散乱Ｘ線グリッドの機能は、主として吸収構造物を介して二次Ｘ線を吸収すると共に、平行グリッドの場合一次Ｘ線の一部、すなわちＸ線画像を作成する本来のＸ線成分には寄与することなく検出器に入射する一次Ｘ線も吸収することにある。その場合に常に、一方では散乱Ｘ線をできるだけ良好に吸収し、しかし他方では一次Ｘ線のできるだけ大きな部分をグリッドにより減弱することなく進行させなければならないという目標がある。散乱Ｘ線成分を減少させることは大きな縦横比、すなわちグリッドの高さと貫通路の大きさつまり直径との大きな比によって達成することができる。しかし主として通路間に存在する吸収素子の厚さによっては、一次Ｘ線の一部の吸収による画像障害が起こり得る。特にマトリクス型検出器と結びつけてグリッドを用いる場合、グリッドの不均質性がＸ線画像内へのグリッドの写像による画像障害を生じる。ここでは、検出器素子の構造の投影と散乱放射線除去用グリッドとが互いに干渉し合い、それにより障害性のモアレ現象が現れる虞がある。
【０００６】
この問題は後で公開される独国特許出願第１０２４１４２４．６号明細書に記載されているグリッドにおいても提起されている。そこでは新形グリッドが従来の鉛薄片グリッドと比較して述べられている。従来の鉛薄片グリッドは、非常に薄い鉛薄片と、大抵紙から成り薄片間に貫通スリットを形成しＸ線を透過させる要素とが交互に配置されているいわゆる「横置き形グリッド」である。しかし、このグリッドは製造時の精度に関して制約があり、特に固体検出器の場合に問題を生じる。ほかにも独国特許出願公開第１０２４１４２６号明細書により、高速プロトタイピング技術により構造材料の層状の固化によって製造されるグリッドが知られている。この技術によって、吸収構造物を構成するための基体である非常に精細で正確な構造体を構築することができる。このように作られた構造体は続いて構造体側に設けられた貫通路の内面にも反対側の表面にも強く放射線を吸収する材料が被覆される。表面側の被膜は後処理工程で極めて大幅に削除されるか又は完全に除去される。この公知のグリッドによれば、グリッドの写像の識別性は低下するが、写像システムによってほとんど鮮明に写像することができないように高い空間周波数範囲内にずらすことができる。しかし、このグリッドの製造は非常にコスト高となり、生産過程に対して非常に高度の技術的条件が課される。それは特に除去工程の間悪作用を受けてはならずステレオリソグラフィで作られる構造体の端面側の被膜除去に関して言えることである。それにもかかわらず、局部的に異なる吸収特性が生じないように、膜厚の均質な削減又は均質な完全除去が必要である。さらに、貫通路の内側被膜が影響を受けないことが保証されなければならない。
【０００７】
Ｘ線診断の場合と同様の困難は、核医学において特にγ線（ガンマ線）カメラを用いる場合にも存在する。そこでも、できるだけ少ない散乱γ線量子しか検出器に到達しないように留意しなければならない。この検査方式においてはγ線量子の放射線源が検査対象の内部に存在する。不安定な核種の注入後、核種の崩壊により身体から放出された量子を検出することによって器官の画像の作成が行われる。器官内の活性や崩壊の時間的経緯がその器官の機能を推論可能にする。この技術の場合、散乱放射線除去用グリッドと同様に、γ線検出器の前に画像の投影方向を決定するコリメータが配置される。このコリメータの機能および構造は冒頭に述べた散乱放射線除去用グリッドにほぼ一致する。
【０００８】
そこで本発明の課題は、製造を簡単化することができる散乱放射線除去用グリッド又はコリメータを提供することである。
【０００９】
この課題を解決するために本発明によれば、冒頭に述べた型の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータにおいて、吸収素子が管状又はピン状に形成され、支持体に設けられた差込式またはクランプ式の保持部に固定される。
【００１０】
公知の散乱放射線除去用グリッド、特に独国特許出願第１０２４１４２４．６号明細書により公知の散乱放射線除去用グリッドとは異なり、本発明による散乱放射線除去用グリッド又はコリメータにおいて、吸収素子の機械的固定は支持体側に設けられた差込式またはクランプ式の保持部で行われる、つまり吸収素子は保持部に差込式またはクランプ式に固定される。吸収素子自体は管状又はピン状に形成され、差込式またはクランプ式の保持部も必然的に吸収素子の構成に応じて設計される。吸収素子が、一方ではもはや加工する必要もなくその吸収特性をもともと有している予め作られた部品である限り、支持体は吸収素子の機械的固定後に吸収特性に関してもはや後処理する必要がないので、散乱放射線除去用グリッド又はコリメータの製造を明らかに簡単に行うことができる。
【００１１】
吸収素子としては種々の形式を用いることができる。本発明の第１実施態様によれば、吸収素子は全体を、放射線を吸収する材料で構成することができる、すなわち吸収素子は金属製の管またはピンの形で提供することができる。実用可能な吸収素子の代替実施態様によれば、各吸収素子は放射線を透過させる材料からなる支持体素子を有し、この支持体素子は少なくとも一側面が放射線を吸収する材料からなる被膜で被覆されている。この吸収素子はまた異なる材料、すなわち、一方では支持体素子の材料から、他方では被膜材料から構成される。しかし、吸収素子が予め作られた部品であることにより、吸収素子を支持体に装着した後には他のいかなる措置を講ずる必要がない、すなわち吸収素子は予め作られた形で用いられる。管状の吸収素子の場合、支持体素子も管状に中空に形成され、その内側面および／または外側面を被覆される、すなわち１つ又は２つの被膜面が設けられている。しかし、端面は被覆されない。管状の吸収素子を用いる代わりに、２部品構造体の場合に外側面のみが被覆された支持体素子を有する上述のピン状の吸収素子を用いることができる。
【００１２】
管状の吸収素子は、断面で見て、異なる形状に形成することができる。管状の吸収素子は中空円筒状であり、又は中空多角形状の外形および／または内形を有していてもよい。あらゆる可能な形状が考えられ、またそれらの併用形状も考えられる。すなわち外形は円筒状であるが、内形は多角形状であってもよい。また、その逆であってもよい。それに応じて、ピン状の吸収素子も断面で見て円筒状または多角形状の形状を有していてもよい。
【００１３】
吸収素子は、好ましくは予め長く作られた線材又は管材からそれを適当に切断して作られる。長い線材又は管材は、全体が放射線を吸収する材料からなる吸収素子の場合には金属線又は金属管であり、それに対して多部品吸収素子の場合には適当な非金属線もしくは内側面および／または外側面に放射線を吸収する被膜を備えている管である。
【００１４】
吸収素子は１ｍｍ〜１０ｍｍ、特に２ｍｍ〜６ｍｍ、好ましくは２ｍｍ〜３ｍｍの長さを有するとよい。これは、管状の吸収素子に対してもピン状の吸収素子に対しても当てはまる。吸収素子の外径は０．３ｍｍ〜２ｍｍ、特に０．５ｍｍ〜１ｍｍの大きさとするとよい。このことは同様に２つの吸収素子形式に対しても言えることである。管状の吸収素子の場合、２０μｍ〜５０μｍの壁厚を有するとよく、２部品部材の場合のこのデータは支持体部材と内面被膜および／または外面被膜とからなる全壁厚を意味するものとする。
【００１５】
既に述べたように吸収素子は支持体側に設けられた差込式またはクランプ式の保持部によって機械的に固定される。差込式またはクランプ式の保持部は支持体の平面から突出するか、それに代わって支持体の平面内に突入することができる。差込式またはクランプ式の保持部の構成、又は吸収素子の固定に関しては、特に用いられる吸収素子の形状に応じて、種々の構造が考えられる。管状の吸収素子は吸収素子の内部に食い込む差込式またはクランプ式の保持部に装着することができる。すなわち、差込式またはクランプ式の保持部の直径または形状は、吸収素子が差込式またはクランプ式の保持部に装着されるか又はクランプされるように、吸収素子の貫通路の直径または形状に一致している。かくして差込式またはクランプ式の保持部は吸収素子の内部に食い込む。その場合、保持部の直径または形状は、確実な機械的保持が保証されると同時に差込プロセスも容易に遂行可能であるように選定される。
【００１６】
保持部上への装着の代わりに、管状またはピン状の吸収素子を、外側からつかむ形の少なくとも２つの、好ましくは４つの差込式またはクランプ式の保持部の間に収めることができる。ここでは、吸収素子は複数の保持部の間に挟み込まれる。
【００１７】
本発明の他の実施態様によれば、管状またはピン状の吸収素子は、吸収素子の外形にほぼ一致する窪み又は貫通孔として形成された差込式またはクランプ式の保持部の中に収められて固定される。ここでは、吸収素子は予め形成された支持体側凹所又は貫通孔の中に収められてそこに保持される。
【００１８】
支持体の放射線透過のため、従って支持体に形成された差込式またはクランプ式の保持部のためにも、吸収素子が、各形式に共通に、ほぼ完全に支持体側に収められるように、差込式またはクランプ式の保持部を吸収素子の長さにほぼ一致させることも可能である。もちろん、それとは異なり、差込式またはクランプ式の保持部を吸収素子より短く、特に最大でも吸収素子の長さの半分にすることも可能である。そうすることによって、支持体材料を節約することができる。
【００１９】
特に好ましくは、差込式またはクランプ式の保持部は、吸収素子が焦点に向けて収められるように配置される。すなわち、差込式またはクランプ式の保持部の対応する配置ないし構造によって、この「差込式またはクランプ式のグリッド又はコリメータ」においても集束を達成することが可能になる。
【００２０】
支持体自体は、好ましくは放射線を透過させるプラスチックで、特に高速プロトタイピング技術を用いてステレオリソグラフィによって作られる。これに関しては、支持体をこの技術によって製造する方法が開示されている既に述べた独国特許出願第１０２４１４２４．６号明細書を参照されたい。ここでは、場合によっては独国特許出願第１０２４１４２４．６号明細書に開示されている特徴を本発明の開示事項の枠内で頼るためにも、当該明細書の開示内容全体が本発明の明細書に取込まれることを明確に示しておく。この方法においては、コンピュータ制御されて紫外線（ＵＶ）レーザ光線によって支持体の３Ｄ立体モデルの個々の膜のそれぞれ予め決定された構造が液状ポリマー樹脂内で「書込み」される。レーザの作用によって、照射された個所または面のポリマー樹脂が硬化する。第１構造面が「書込み」されると、構造が構築されている台板が多少沈下し、その後新たな樹脂膜が被覆され、第２構造面が「書込まれる」。これは、所望の構造が得られるまで繰り返される。この技術を用いて任意に形成された支持体構造を作り出すことができることは明らかである。高速プロトタイピング技術を用いてステレオリソグラフィによって作られた支持体の使用は多くの利点を持っている。一つには、この技術によって、支持体は差込式またはクランプ式の保持部を形成されている表面構造を非常に正確にかつ形状精密に作ることができる。このことは吸収素子の機械的保持に関して非常に好ましいことである。他の利点は、吸収素子の得ようとする集束に関する差込式またはクランプ式の保持部の姿勢または配置を、支持体平面を介して比較的簡単に変えられることである。差込式またはクランプ式の保持部自体は、吸収素子をその保持部に垂直に、又は保持部の中に、又は保持部に平行に位置させると、必然的に集束される。この「集束」は既に述べたようにステレオリソグラフィの場合には極めて正確に行うことができる。
【００２１】
最後に、構造体に一層良好な安定性を付与するために、吸収素子は放射線を透過させる注型材料、例えばＸ線を透過させるプラスチック又は注型樹脂によって注型するのがよい。
【００２２】
吸収素子自体およびその被膜は種々の放射線を吸収する材料で作ることができる。具体的には、例えばＷ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｃｕ，Ｎｉ，Ｃｏ，Ｆｅ，Ｍｎ，Ｃｒ，Ｖ並びにそれらから作られる全ての吸収性合金である。しかし、ここに列挙したものに限定されない。
【００２３】
本発明は、散乱放射線除去用グリッド又はコリメータ自体のほかに、互いに間隔をおいて配置される多数の吸収素子を有する支持体を備えた散乱放射線除去用グリッド又はコリメータの製造方法において、自動位置決め手段によって管状またはピン状の吸収素子が、支持体側に設けられた差込式またはクランプ式の保持部に取付けられる散乱放射線除去用グリッド又はコリメータの製造方法に関する。吸収素子が非常に薄く、かつ例えば４０ｃｍ×４０ｃｍの大きさの散乱放射線除去用グリッド又はコリメータの面上で用いられる場合、数十万個に及ぶ吸収素子が装着されなければならないが、そのため好ましくは、吸収素子を保持部上に差込み又は保持部の間にクランプする自動位置決め手段が用いられる。その場合、位置決め手段によって吸収素子を個々に装着することができる。もちろん、複数の吸収素子を同時に取付けることもできる。吸収素子の位置決め後、これらの吸収素子は注型材料内に埋設されて位置固定される。
【００２４】
次に添付図面に示す実施例を参照して本発明の他の利点、特徴および他の詳細について説明する。
図１はＸ線撮影時の散乱放射線除去用グリッドの作用を説明するための原理図、
図２は核医療撮影時のコリメータの作用を説明するための原理図、
図３はステレオリソグラフィ技術を説明するための原理図、
図４は本発明の第１実施例による散乱放射線除去用グリッド又はコリメータの原理図、
図５は図４の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータの平面図、
図６は吸収素子の他の幾何学的配置を有する図４の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータの平面図、
図７は本発明の第２実施例による散乱放射線除去用グリッド又はコリメータの原理図、
図８は本発明の第３実施例による散乱放射線除去用グリッド又はコリメータの原理図、
図９は本発明の第４実施例による散乱放射線除去用グリッド又はコリメータの原理図、
図１０は図９の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータの平面図、
図１１は本発明の第５実施例による散乱放射線除去用グリッド又はコリメータの原理図、
図１２は図１１の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータの平面図、
図１３は支持体の装着方法に関する原理図である。
【００２５】
図１はＸ線診断時の散乱放射線除去用グリッドの作用を説明するための原理図である。Ｘ線源１の焦点から放出されるＸ線２は検査対象３の方向に直進する。Ｘ線２は検査対象３を透過し、直進する一次Ｘ線２ａとして、検査対象３の後ろ側に配置されたＸ線検出器４に入射する。
【００２６】
しかし、検査対象を透過したＸ線２の一部は検査対象内で散乱させられ、それにより散乱Ｘ線すなわち二次Ｘ線２ｂを生ずる。この二次Ｘ線２ｂは所望の画像情報には寄与せず、検出器に入射すると本来の画像情報の品質を低下させ、信号対ノイズ比（ＳＮ比）を悪くする。検出器側で撮影された画像への二次Ｘ線２ｂの好ましくない影響を改善するために、検査対象３と検出器４との間に散乱放射線除去用グリッド５が配置されている。散乱放射線除去用グリッド５は基本構造体７に形成された放射線通路６を備えている。基本構造体７自体はそこに生ずる二次Ｘ線２ｂを吸収する吸収構造体を形成する。
【００２７】
図１に示されているように放射線通路６はＸ線源１の方向に集束するすなわち向けられている。入射する一次Ｘ線２ａは図１に明示されているように直線経路上を散乱放射線除去用グリッド５を通って検出器４に入射する。その直線経路に対して角度を有する他の全てのＸ線は散乱放射線除去用グリッド５によって吸収され又は相当に減弱させられる。
【００２８】
核医療の分野の画像撮影における状況も同様である。検査対象３の器官３ａ（図２参照）内に、詳細には図示していないγ線放出手段が挿入され、その手段はそこに蓄積し、その崩壊の際にγ線量子８ａを放出すると共に、器官３ａまたは検査対象３内の散乱によって引き起こされるγ線量子８ｂも散乱放射線として放出する。γ線量子８ａの形の一次放射線はコリメータ５を介して検出器４に直接到達し、他方、角度を有するγ線量子８ｂの形の二次放射線はコリメータ５によって吸収される。
【００２９】
図３は、主としてステレオリソグラフィ基づいており高速プロトタイピング技術を用いた本発明による散乱放射線除去用グリッドの製造方法を原理図の形で示す。レーザ光線９が、容器１０内に存在し紫外線（ＵＶ）により網状化可能であるポリマー（重合体）１１の表面上に向けられる。レーザ光線９は二重矢印Ａで示されているようにその表面上を移動させられる。適当な制御用コンピュータを介して行なわれる移動制御は作成すべき基本構造体７の三次元構造モデルに基づいている。今や移動するレーザ光線９を介して作成すべき基本構造体７の言わば原型がポリマー１１内に書込まれ、上述の原型に従って対応する樹脂層が硬化する。この樹脂層は台板１２上に構築される。台板１２は第１平面の「書込み」後に二重矢印Ｂによって示されているように沈下される。その後、第２構造層が書込まれる。レーザによって、特にレーザの良好な焦束性によって、非常に精細な線条細工構造を描き得ることは明白である。それにより任意の構成を有する薄壁構造体を実現することも可能になる。基本構造体７は台板１２上に直接に、又は詳細には図示していない支持板上に構築することができる。
【００３０】
次に説明する図に関して、最初にそれぞれ散乱放射線除去用グリッドが書込まれることを述べておく。ただし、その構造は本発明によるコリメータも同じである。
【００３１】
図４は、放射線を透過させる材料、特にプラスチックからなる支持体１４を備えた本発明による散乱放射線除去用グリッド１３を示す。この支持体は好ましくは高速プロトタイピング法においてステレオリソグラフィによって作られる。上側には複数のマトリクス状に分布された差込式またはクランプ式の受入部１５が設けられ、その受入部１５にそれぞれ吸収素子１６が差し込まれる。吸収素子１６全体は放射線を吸収する材料、例えばタングステンＷまたはタンタルＴａからなっている。この吸収素子１６は管状にすなわち中空に形成されている。差込式またはクランプ式の受入部１５の形状または直径は、そのような管状の吸収素子の内形または内径に一致している。この受入部１５は中空円筒状、長円形状または断面多角形状に形成することができる。吸収素子１６は差込式またはクランプ式の受入部１５に機械的に保持され、それにより位置安定に固定される。全ての吸収素子が装着された後（装着すべき吸収素子の数は数十万に達することがある）、全吸収構造物が注型材料１７、例えば注型樹脂によって注型される。
【００３２】
図５は図４の散乱放射線除去用グリッド１３の平面図である。複数の吸収素子１６が縦横にマトリクス状に配置されている。吸収素子１６は互いにできるだけ密接に配置される。すなわち、複数の差込式またはクランプ式の受入部１５の相互間隔は吸収素子１６の壁厚および直径に応じて選定される。入射するＸ線は、吸収素子１６内に形成された貫通路１８を通り、２つの吸収素子１６間に存在する中空空間をも通って透過する。
【００３３】
それに対して図６は他の配置形態を示す。ここでは、実装密度を向上させるために、複数の吸収素子が互いにずらされた列に配置されている。しかし基本構造は図４を参照して説明したものに対応する。
【００３４】
図７は、同様に管状の吸収素子１６を用いた本発明による他の散乱放射線除去用グリッドを示す。吸収素子１６は支持体表面から突出する差込式またはクランプ式の受入部１５に差し込まれる。しかし、この差込式またはクランプ式の受入部１５は支持体１４の表面に対してそれぞれ異なる角度で立っている。この構造は、複数の吸収素子１６を相応する角度で互いに位置決めすることを可能にする。このことは、吸収素子１６を集束させ、又は仮想焦点に向けることを可能にする。この焦点は、散乱放射線除去用グリッド１９に向かって扇状に拡がる一次放射線を発生する放射線源である。集束に基づいて、検査対象を散乱なしに通過する一次放射線がその向きに応じて散乱放射線除去用グリッド１９の領域内に到達する。散乱放射線除去用グリッド１９内では、吸収素子１６が一次放射線に対応して向けられ、集束させられている。この一次放射線は集束させられた吸収素子を減弱されることなく通過することができる。しかし、検査対象によって散乱させられた二次放射線つまり散乱放射線は吸収素子１６によって吸収される。
【００３５】
図７が支持体１４の表面から上方へ立っている差込式またはクランプ式の受入部１５の構成を示しているのに対して、図８は差込式またはクランプ式の受入部が支持体の平面内に突入する窪み２１として形成された本発明による散乱放射線除去用グリッド２０を示す。ここでも窪み２１は、図示の実施例において管状の吸収素子として示されている吸収素子１６が焦点に対してある角度で向けられるように、ある角度をもって形成されている。吸収素子１６は、吸収素子の外径または外形に一致する直径または形状を有する窪み内に差込まれ、そこに機械的に固定される。
【００３６】
図９は本発明の他の実施例による散乱放射線除去用グリッド２２を示す。支持体１４には、表面から突出する多数の差込式またはクランプ式の受入部が突起２３の形に形成されている。突起２３間に吸収素子２４が配置され、そこにクランプ式に保持される。このことは平面図で示された図１０から認めることができる。突起２３の幅つまり形状はここでも吸収素子２４が互いにできるだけ密接に配置されうるように設定されている。
【００３７】
既に述べた実施例とは異なり、吸収素子２４は特に放射線の貫通路を形成し放射線を透過させるプラスチックから成る支持体素子２５から構成されている。支持体素子２５はその外側面に放射線を吸収する材料からなる被膜２６を備えている。ここでも吸収素子２４は突起２３として形成された差込式またはクランプ式の保持部を介して確実に固定される。突起２３は図示されているのとは異なり、もっと長くてもよく、場合によっては吸収素子と同じ長さでもよい。
【００３８】
図１１は本発明のさらに他の実施例による散乱放射線除去用グリッド２７を示す。ここでは支持体１４は差込式またはクランプ式の受入部を形成する多数の貫通孔２８を形成されている。各貫通孔２８には吸収素子（ここでは管状の吸収素子１６）がクランプ式に挿入される。勿論、ここでも、図９のグリッドにおけると同様に、貫通孔２８の対応する向きによって集束を達成することができる。図１２は散乱放射線除去用グリッド２７の平面図を示す。
【００３９】
最後に図１３は、吸収素子を支持体に装着する方法を示す。図示の例では、支持体２９上に長い突起状の差込式またはクランプ式の保持部３０が突出している。複数のこの差込式またはクランプ式の保持部３０間にそれぞれ１つの吸収素子３１（ここでは一例として微小管）が挿入されている。そのため、例示的に示された貯蔵器３３から装着すべき吸収素子３１を導く工具３２が用いられる。吸収素子３１は工具通路３４内に達する。通路３４はそれぞれ吸収素子３１が装着されるべき複数の差込式またはクランプ式の受入部３０間の位置に正確に位置決めされる。この工具通路３４から吸収素子３１が差込式またはクランプ式の保持部３０間の受入位置に滑動する。装着状態を改善するために、吸収素子３１を押し込むように貯蔵器３３を介して軽い過圧をかけることができる。この過圧は、工具３２が正確に位置決めされ吸収素子３１が装着されなければならない時に、それぞれ間欠的に加えることができる。それに対して代替的に又は付加的に、支持体２９に負圧を加えることもできる。そのため場合によっては、各吸収素子位置に、負圧を導く貫通孔３５が設けられる。この貫通孔３５は負圧を記号化した矢印と共にそれぞれ破線で示されている。最後に、吸収素子３１を例えば適当な流体、例えば前述の圧力を作る水によって、貯蔵器３３つまり工具通路３４から流し込むこともできる。
【００４０】
勿論、工具通路３４の内壁にその滑動性を改善する被膜を施すこともできる。支持体側の位置への滑動性を改善するために、差込式またはクランプ式の保持部３０がその上部に軽い傾斜部３６を備えることができる。そのほかに、このような傾斜部３６は前述の型の各差込式またはクランプ式の保持部に設けることができる。
【００４１】
既に述べたように散乱放射線除去用グリッドの大きさに応じて、装着されるべき数十万に及ぶ吸収素子（乳房Ｘ線撮影用の散乱放射線除去用グリッドでは、それは１０万〜５０万個の吸収素子でありうる）に従って、複数の吸収素子３１が同時に装着できるようにするのがよい。このために、工具３２はそれに対応するように構成するのがよく、図１３は原理図を示しているにすぎない。例えば、工具３２を、吸収素子が１つ置きに受入部に同時に装着されうるように構成することが考えられる。その場合、工具は１つの装着工程後に１つの位置だけをさらに移動され、その間に存在するまだ装着していない位置に位置決めされる。工具３２をステレオリソグラフィの工程において高速プロトタイピング技術でプラスチックから製造することができる。それによれば、特に複数の吸収素子の同時装着に関して必要な精度が実現されうる。最後に、上述の装着方法は例示にすぎず、他の装着方式も考えられることを指摘しておく。
【００４２】
既に述べたように、吸収素子自体または被膜は使用可能性のあるあらゆる放射線、特にＸ線を吸収する材料で作られる。吸収素子の長さは１ｍｍ〜１０ｍｍ、特に２ｍｍ〜６ｍｍであるほうがよい。外径は、管状の吸収素子またはピン状の吸収素子を用いるかに関係なく、０．３ｍｍ〜２ｍｍ、特に０．５ｍｍ〜１ｍｍであるほうがよい。管状の吸収素子の場合、壁厚は２０μｍ〜５０μｍであるほうがよい。図４は注型材料内への吸収素子の埋設を示しているが、勿論、図示されている全構造体を適当な注型材料内に埋設することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】Ｘ線撮影時の散乱放射線除去用グリッドの作用を説明するための原理図
【図２】核医療撮影時のコリメータの作用を説明するための原理図
【図３】ステレオリソグラフィ技術を説明するための原理図
【図４】本発明の第１実施例による散乱放射線除去用グリッド又はコリメータの原理図
【図５】図４の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータの平面図
【図６】吸収素子の他の幾何学的配置を有する図４の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータの平面図
【図７】本発明の第２実施例による散乱放射線除去用グリッド又はコリメータの原理図
【図８】本発明の第３実施例による散乱放射線除去用グリッド又はコリメータの原理図
【図９】本発明の第４実施例による散乱放射線除去用グリッド又はコリメータの原理図
【図１０】図９の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータの平面図
【図１１】本発明の第５実施例による散乱放射線除去用グリッド又はコリメータの原理図
【図１２】図１１の散乱放射線除去用グリッド又はコリメータの平面図
【図１３】吸収素子を支持体に装着する方法に関する原理図
【符号の説明】
【００４４】
１  Ｘ線源
２ａ  一次Ｘ線
２ｂ  二次Ｘ線
３  検査対象
３ａ  器官
４  Ｘ線検出器
５  散乱放射線除去用グリッド
６  放射線通路
７  基本構造体
８ａ  γ線量子
８ａ  γ線量子
９  レーザ光線
１０  容器
１１  ポリマー
１２  台板
１３  散乱放射線除去用グリッド
１４  支持体
１５  受入部
１６  吸収素子
１７  注型材料
１８  通過通路
１９  散乱放射線除去用グリッド
２０  散乱放射線除去用グリッド
２１  窪み
２２  散乱放射線除去用グリッド
２３  突起
２４  吸収素子
２５  支持体素子
２６  被膜
２７  散乱放射線除去用グリッド
２８  貫通孔
２９  支持体
３０  保持部
３１  吸収素子
３２  工具
３３  貯蔵器
３４  工具通路
３５  貫通孔
３６  傾斜部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【国際調査報告】
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